(57)【要約】【課題】サイズまたは特性が異なるモデルの液晶パネルを同一の基板に形成することで生産性を高めるようにした液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】第１モデルと第２モデルが形成される第１領域と第２領域が定義された第１基板の全面に感光性物質を形成する段階と、前記感光性物質の上部に透過領域及び遮断領域、そしてスリット領域に定義されたフォトマスクを整列する段階と、前記フォトマスクをマスクに用いて前記感光性物質を露光及び現像して、第１領域と第２領域にそれぞれ互いに異なる厚さ及び幅を有する第１、第２カラーフィルター層を形成する段階と、前記第１領域に少なくとも一つ以上の第１液晶パネルモデルを形成し、前記第２領域に少なくとも一つ以上の第２液晶パネルモデルを形成する段階とを含んで成ることを特徴とする。【選択図】図５
2005196161.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１領域と第２領域が定義された第１基板の全面に感光性物質を形成する段階と、
前記感光性物質の上部に透過領域及び遮断領域、そしてスリット領域に定義されたフォトマスクを整列する段階と、
前記フォトマスクをマスクに用いて前記感光性物質を露光及び現像して、第１領域と第２領域にそれぞれ互いに異なる厚さ及び幅を有する第１、第２カラーフィルター層を形成する段階と、
前記第１領域に少なくとも一つ以上の第１液晶パネルモデルを形成し、前記第２領域に少なくとも一つ以上の第２液晶パネルモデルを形成する段階と
を含んで成ることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記感光性物質は、赤色感光性物質、緑色感光性物質、青色感光性物質のうちで何れか一つを使用する
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１基板又は第２基板上にカラムスペーサーを形成する段階を更に含む
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１領域に形成されたカラムスペーサーの高さと、前記第２領域に形成されたカラムスペーサーの高さとが互いに異なるように形成される
ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１、第２カラーフィルター層が形成された第１基板と一定のギャップを有するように第２基板を貼り合せる段階を更に含む
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記貼り合わせられた第１、第２基板の間に液晶層を形成する段階を更に含む
ことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１基板と第２基板の間の間隔が第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデル領域で一定する
ことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデルのサイズは互いに異なる
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデルは配向方向が同一な液晶パネルである
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデルは、配向方向が９０゜、１８０゜、 ２７０゜のうち何れか一つの差を有する液晶パネルである
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデルは、物理的配向を実施した液晶パネルである
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデルは、ＵＶ配向を実施した液晶パネルである
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデルは、同一の液晶モードを有する液晶パネルである
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデルは、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ＴＮモード、ＳＴＮモードのうち何れか一つのモードを有する液晶パネルである
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデルは、色再現率が異なる液晶パネルである
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデルは、光透過特性が異なる液晶パネルである
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第１液晶パネルモデルと第２液晶パネルモデルは、応答速度が異なる液晶パネルである
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記第１液晶パネルモデルは、第２液晶パネルモデルよりサイズが大きい液晶パネルである
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置（Liquid Crystal Display device：ＬＣＤ）の製造方法に関し、特にＭＭＧ（Multi−Model on Glass）の拡大と生産性を向上させるのに適した液晶表示装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報化社会の発達と共に、表示装置に対する要求も多様な形態で求められており、これに応じて最近では、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）、ＥＬＤ（Electro Luminescent Display）、ＶＦＤ（Vacuum Fluorescent Display）など様々な平板表示装置が研究されてきており、一部は既に各種装備の表示装置に活用されている。
【０００３】
その中で、現在、画質が優れており、軽量薄型、低消費電力の特徴及び長所から、移動型画像表示装置の用途でＣＲＴ（Cathode Ray Tube）に替わってＬＣＤが最も多用されており、ノ−トブックパソコンのモニターのような移動型の用途以外にも放送信号を受信してディスプレイするテレビ及びコンピューターのモニターなどで多様に開発されている。
【０００４】
このように液晶表示装置が多様な分野で画面表示装置としての役割を果たすために様々な技術的発展が進んでいるにも拘わらず、画面表示装置として画像の品質を高める作業は上記の長所と背馳する面が多かった。
【０００５】
したがって、液晶表示装置が一般的な画面表示装置として多様な所で使用されるためには、軽量薄型、低消費電力の特長を維持しながらも高精細、高輝度、大面積など上質画像をどれだけ実現できるかにかかっているといっても過言ではない。
【０００６】
かかる液晶表示装置は、画像を表示する液晶パネルと、前記液晶パネルに駆動信号を印加するための駆動部とで大きく区分することができ、前記液晶パネルは、空間を有して貼り合わせられた下部基板及び上部基板と、前記下部基板及び上部基板の間に注入された液晶層とで構成されている。このような前記下部基板と上部基板はスペーサーによって一定の空間を有して液晶注入口を有するシール材によって貼り合わせられ、前記両基板の間に液晶が注入される。
【０００７】
図１は一般的な液晶表示装置を示した分解斜視図である。図１に示したように、液晶表示装置は、一定の空間を有して貼り合わせられた下部基板１及び上部基板２と、前記下部基板１と上部基板２の間に注入された液晶層３とで構成されている。より具体的に説明すると、前記下部基板１は、画素領域（Ｐ）を定義するために一定の間隔を持って一方向に複数のゲート配線４が配列され、前記ゲート配線４に垂直した方向で一定の間隔を持って複数のデータ配線５が配列され、前記ゲート配線４とデータ配線５とが交差する各画素領域（Ｐ）には画素電極６が形成され、前記各ゲート配線４とデータ配線５とが交差する部分に薄膜トランジスター（Ｔ）が形成されている。
【０００８】
そして、前記上部基板２は、前記画素領域（Ｐ）を除いた部分の光を遮断するためのブラックマトリックス層７と、カラー色相を表現するためのＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルター層８と、画像を実現するための共通電極９とが形成されている。ここで、前記薄膜トランジスター（Ｔ）は、前記ゲート配線４から突出したゲート電極と、全面に形成されたゲート絶縁膜（図示せず）と前記ゲート電極の上側のゲート絶縁膜上に形成されたアクティブ層と、前記データ配線５から突出したソース電極と、前記ソース電極に対向するようにドレイン電極とを具備して構成されている。
【０００９】
前記画素電極６は、インジウム−スズ−オキサイド（indium-tin-oxide：ＩＴＯ）のように光の透過率が比較的優れた透明導電性金属を使用する。
上述したように構成される液晶表示装置は、前記上部基板２と下部基板１の間に位置した液晶層３が前記薄膜トランジスター（Ｔ）から印加された信号によって配向され、前記液晶層３の配向程度によって液晶層３を透過する光の量を調節して画像を表現することができる。
【００１０】
上述したような液晶パネルは、上下にかかる電場によって液晶を駆動する方式で、透過率と開口率などの特性が優秀で、上部基板２の共通電極９が接地役割をするようになり、静電気による液晶セルの破壊を防止することができる。
【００１１】
以下、添付の図面を参考にして従来の液晶表示装置のパネル形成方法を説明する。
【００１２】
図２は従来の液晶表示装置を示した概略的な平面図で、図３は図２のII−II´線に沿った液晶表示装置を示した概略的な断面図である。図２に示したように、一つの母基板に一定の間隔を持って同一の特性を有する第１、第２モデル２０、３０を有する複数の液晶パネルが形成されている。
【００１３】
上記のように形成される第１、第２モデル２０、３０は、ＴＦＴアレイ基板及びカラーフィルター基板では、数回の成膜とフォトリソグラフィー工程を経て基板上に形成される。即ち、前記第１、第２モデル２０、３０を有する液晶パネルは、図３に示したように、互いに一定したギャップを持って形成される第１、第２基板２１、３１と、前記第１基板２１上の一定の領域に一定の間隔を持って同一の厚さで形成される第１、第２カラーフィルター層２２、３２と、前記第１基板２１と第２基板３１の間のギャップを一定に維持するために形成される第１、第２カラムスペーサー２３、３３とを含んで構成されている。
【００１４】
ここで、前記第２基板３１には、一定の間隔を持って一方向に配列される複数のゲートラインと、前記各ゲートラインと垂直した方向に一定の間隔で配列される複数のデータラインと、前記各ゲートラインとデータラインとが交差して定義された各画素領域にマトリックス形態で形成される複数の画素電極と、前記ゲートラインの信号によってスイッチングされ前記データラインの信号を前記各画素電極に伝逹する複数の薄膜トランジスターが形成されている。
【００１５】
また、前記第１基板２１には前記第２基板３１の画素領域を除いた部分の光を遮断するためのブラックマトリックス層と、カラー色相を表現するためのＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルター層２２、３２と画像を実現するための共通電極とが形成されている。勿論、横電界方式の液晶表示装置では共通電極が第２基板３１に形成される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
しかしながら、上記のような従来の液晶表示装置において、液晶パネルのサイズは、それを製造する装置によって限定され、液晶パネルを製造する一つの製造ラインで、特性の異なる複数の種類の液晶パネルを製造することは殆ど不可能である。また、液晶パネルを製造する装置は相当高額で、固有面積も広いため、様々な種類の基板サイズ用で複数の製造ラインを作ることも難しい。これによって、ＭＭＧで進行可能なモデルが極めて制限的で、ＭＭＧ選定が難しいため生産性の向上が難しかった。
【００１７】
本発明は上記のような従来の問題点を解決するために案出したもので、サイズ又は特性が異なるモデルの液晶パネルを同一の基板に形成することで生産性を高めるようにした液晶表示装置の製造方法を提供するのにその目的がある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記目的を達成するための本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、第１モデルと第２モデルが形成される第１領域と第２領域が定義された第１基板の全面に感光性物質を形成する段階と、前記感光性物質の上部に透過領域及び遮断領域、そしてスリット領域に定義されたフォトマスクを整列する段階と、前記フォトマスクをマスクとして用いて前記感光性物質を露光及び現像して、第１領域と第２領域にそれぞれ互いに異なる厚さ及び幅を有する第１、第２カラーフィルター層を形成する段階と、前記第１領域に少なくとも一つ以上の第１液晶パネルモデルを形成し、前記第２領域に少なくとも一つ以上の第２液晶パネルモデルを形成する段階とを含んで成ることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明に係る液晶表示装置の製造方法には次のような効果がある。
【００２０】
即ち、遮断領域及びスリット領域、そして透過領域を有するフォトマスクを通じて互いに異なる厚さ及び幅を有するカラーフィルター層及びカラムスペーサーを形成することで、色再現率、透過率、応答速度が異なり、サイズが異なる複数のモデルを一つの基板上に形成することができる。
従って、一つの基板上に外郭サイズ及び特性が相違した様々な種類のモデルを混合形成することによって基板の利用効率を極大化させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付の図面に基づいて本発明に係る液晶表示装置の製造方法を詳細に説明する。
【００２２】
図４は、本発明に係る液晶表示装置を示した概略的な平面図で、図５は図４のIV−IV´線による液晶表示装置の概略的な断面図である。図４に図示したように、一つの母基板に一定の間隔で互いに異なる特性及びサイズを持つ第１、第２モデル１００、２００からなる複数の液晶パネルが形成されている。
【００２３】
上記のように形成される液晶パネルは、ＴＦＴアレイ基板及びカラーフィルター基板では、数回の成膜とフォトリソグラフィー工程を経て形成される。即ち、前記第１、第２モデル１００、２００を有する液晶パネルは、図５に示したように、互いに一定したギャップを持って形成される第１、第２基板１０１、２０１と、前記第１基板１０１上の一定の領域に一定の間隔を持って互いに異なる厚さで形成される第１、第２カラーフィルター層１０２、２０２と、前記第１基板１０１と第２基板２０１の間のギャップを一定に維持するために形成される第１、第２カラムスペーサー１０３、２０３とを含んで構成されている。
【００２４】
ここで、前記第２基板２０１には、一定の間隔を持って一方向に配列される複数のゲートラインと、前記各ゲートラインと垂直な方向に一定の間隔で配列される複数のデータラインと、前記各ゲートラインとデータラインとが交差して定義された各画素領域にマトリックス形態で形成される複数の画素電極と、前記ゲートラインの信号によってスイッチングされて前記データラインの信号を前記各画素電極に伝逹する複数の薄膜トランジスターが形成されている。
【００２５】
また、前記第１基板１０１には、前記第２基板２０１の画素領域を除いた部分の光を遮断するためのブラックマトリックス層と、カラー色相を表現するためのＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルター層と、画像を実現するための共通電極が形成されている。勿論、横電界方式の液晶表示装置では共通電極が第２基板２０１に形成される。
【００２６】
また、前記第１基板１０１と第２基板２０１の間の一定したギャップを維持するために形成される第１、第２カラムスペーサー１０３、２０３の高さは、前記互いに異なる厚さを有して形成される第１、第２カラーフィルター層１０２、２０２によって異なるように形成されている。
【００２７】
ここで、前記第１モデル１００の液晶パネルは、前記第２モデル２００の液晶パネルより更に厚い第１カラーフィルター層１０２を有し、高さの低い第１カラムスペーサー１０３を有して形成される。
【００２８】
反対に、前記第２モデル２００の液晶パネルは、前記第１モデル１００の液晶パネルより更に薄い第２カラーフィルター層２０２を有し、高さの高い第２カラムスペーサー２０３を有して形成される。
【００２９】
したがって、前記第１モデル１００の液晶パネルは、前記第２モデル２００の液晶パネルより色再現率が高くかつ透過率は低く、応答速度は早いという特性を有しており、反対に、前記第２モデル２００の液晶パネルは、第１モデル１００の液晶パネルより色再現率は低くかつ透過率は高く、応答速度が遅いという特性を有している。
【００３０】
図６Ａ乃至図６Ｄは、本発明に係る液晶表示装置の製造方法を示した概略的な工程断面図である。図６Ａに示したように、第１基板１０１上に一定の色相を持つ感光性物質３００を形成し、前記感光性物質３００の上部に光を完全に遮断する遮断領域（Ａ）、光が透過する透過領域（Ｂ）、そして光が一定量だけ照射されるスリット領域（Ｃ）に定義されたフォトマスク４００を整列する。
【００３１】
ここで、前記感光性物質３００は、現像時に露光した部分が残るネガティブ感光性物質を使う。しかし、本発明においては、ネガティブ感光性物質に限定せず、逆にポジティブ感光性物質を使うこともできる。この時は前記フォトマスク４００の位置を適切に調節して、残したい部分に遮断領域（Ａ）が位置するようにする。
【００３２】
次いで、前記フォトマスク４００をマスクに利用して、前記露出した感光性物質３００を選択的にＵＶを照射して露光する。
【００３３】
次に、図６Ｂに示したように、前記ＵＶが照射された感光性物質３００を現像して、厚さ及び幅の異なる第１、第２カラーフィルター層１０２、２０２を同時に形成する。ここで、前記フォトマスク４００のうち遮断領域（Ａ）に当たる部分は、露光工程時にＵＶが照射されず、前記透過領域（Ｂ）に当たる部分はＵＶが照射され、前記スリット領域（Ｃ）は選択的にＵＶが照射される。
【００３４】
したがって、上記のようにＵＶが照射されて露光した感光性物質３００を現像すると、前記透過領域（Ｂ）に対応する部分は第１カラーフィルター層１０２が形成され、前記遮断領域（Ａ）に該当する感光性物質３００は除去され、前記スリット領域（Ｃ）に該当する感光性物質３００は部分的に除去されて前記第１カラーフィルター層１０２より薄い厚さを有する第２カラーフィルター層２０２が形成される。ここで、前記感光性物質３００は、赤色感光性フィルム、緑色感光性フィルム、及び青色感光性フィルムのうち何れか一つを使う。
【００３５】
次に、図６Ｃに示したように、前記第１、第２カラーフィルター層１０２、２０２を含む第１基板１０１の全面に絶縁膜を形成し、フォト及び食刻工程を通じて前記絶縁膜を選択的に除去して前記第１、第２カラーフィルター層１０２、２０２上の両側端部に第１、第２カラムスペーサー１０３、２０３を形成する。ここで、前記第１、第２カラムスペーサー１０３、２０３は、前記第１、第２カラーフィルター層１０２、２０２の厚さが異なるため、その高さもまた異なるように形成される。
【００３６】
図６Ｄに示したように、前記第１、第２カラムスペーサー１０３、２０３が形成された第１基板１０１に第２基板２０１を貼り合せる。ここで、前記第２基板２０１には一定の間隔を持って一方向に配列される複数のゲートラインと、前記各ゲートラインと垂直した方向に一定の間隔で配列される複数のデータラインと、前記各ゲートラインとデータラインとが交差して定義された各画素領域にマトリックス形態で形成される複数の画素電極と、前記ゲートラインの信号によってスイチングされて前記データラインの信号を前記各画素電極に伝逹する複数の薄膜トランジスターとが形成されている。
【００３７】
一方、前記第１基板１０１上に第１、第２カラムスペーサー１０３、２０３を形成しているが、これに限定せず、第２基板２０１上に第１、第２カラムスペーサー１０３、２０３を形成することもできる。次いで、前記第１基板１０１と第２基板２０１の間に液晶を注入して、複数の液晶パネルを形成する。したがって、本発明は、互いに異なる特性またはサイズを持つ第１モデル１００と第２モデル２００を有する複数の液晶パネルを一つの母基板上に形成している。
【００３８】
この際、一つの基板に互いに異なる大きさまたは特性を有するモデルを混合形成する時に考慮すべき事項としは、液晶モード、主視野角、配向方向、配向方法、色再現率を考慮して形成する。即ち、本発明で基板上に外形サイズ及び特性が相違している第１、第２モデル１００、２００を形成する場合、第１、第２モデル１００、２００間の配向方向も異なるようにして形成することができる。
【００３９】
前記配向方向が０゜の第１モデル１００の液晶パネルと、１８０゜の第２モデル２００を有する液晶パネルを形成する場合、回転するドラムに附着したラビング布で基板を一定の方向に擦り、一定方向の直線溝を作る。この際、ＬＣＤの使用用途によって主視野角の形成が必要であり、このためにラビングドラムの角度を調整して基板に形成される直線溝の方向を変えることにより、基板内のパネルに対して希望の配向方向を有することができるようになる。
【００４０】
また、母基板上に多様なサイズまたは特性を有する第１、第２モデル１００、２００は、物理的配向を適用せずにＵＶ配向を実施したり、ラビング工程を必要としない液晶モード、例えばＶＡ（Vertical Alignment）のような液晶モードを適用することで、パネル形成時に主視野角に対する制限を解消することができる。ここで、一つの母基板内に第１、第２モデル１００、２００を混合形成する時、配向と混合形成、物理的な配向をする場合に制約を持つ理由は、前記母基板上に第１、第２モデル１００、２００を混合形成する場合、母基板上にある第１、第２モデル１００、２００に同一の方向の直線溝を有するようになるが、この時、もし第１、第２モデル１００、２００が同一の方向、或いは１８０°反転して形成されている場合には結果的に同一の直線溝を有するようになり、希望の配向、つまり主視野角を持つようになる。しかし、第１、第２モデル１００、２００の間に互いに方向が異なって形成されるようにすることもできる。
【００４１】
例えば、０°及び１８０°を除いた残りの角で第１、第２モデル１００、２００が互いにずれている場合、第１、第２モデル１００、２００に形成される直線溝が互いに異なる方向で形成され、結局、ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルター基板とが貼り合わせられた時に望まない主視野角を持つようになる。
【００４２】
このような理由によって既存の物理的な配向方法では、同一の方向（０°、１８０°）を持つように第１、第２モデル１００、２００を形成する場合だけ混合形成が可能で、それ以外の形成（９０°、２７０°捩じれた形成）は対応が難しいことがある。したがって、本発明は、ラビング工程が省略された液晶モードを適用することで、一つの基板上に第１、第２モデル１００、２００を有する複数の液晶パネルを混合形成時に主視野角に対する制限を解消することができる。
【００４３】
ここで、液晶モード、つまりＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡなどは、それぞれ製作する工程条件及び工程プロセスが異なる。ところが、一つの基板内に第１、第２モデル１００、２００を有する複数の液晶パネルを混合して形成するようになれば同一のプロセスで進めるしかない。
【００４４】
よって、互いに異なるサイズ及び特性を有する第１、第２モデル１００、２００の混合形成時に必ず同一の液晶モードを有するパネルを形成しなければならない。もし、一つはＴＮモード、もう一つはＩＰＳモードであれば、基板単位で製作されるＬＣＤ工程で完成したパネルを製作することは不可能になるからである。
【００４５】
また、本発明で第１、第２モデル１００、２００を混合形成する時、第１、第２モデル１００、２００の配向方向がそれぞれ同一、９０゜、１８０゜、２７０゜ということは主視野角を異なるように形成するという意味ではなく、主視野角の方向は等しく形成しなければならないが、混合形成をする時に、第１、第２モデル１００、２００の形成する方向がどこまで可能なのかという問題である。即ち、物理的な配向を適用すれば０゜と１８０゜のみ可能である。しかし、ＵＶ配向やＶＡ液晶モードなどを適用する場合、混合形成時の第１、第２モデル１００、２００間の形成可能な方向はそれ以外の角度も可能になるということである。
【００４６】
一方、ＵＶ配向をする場合、主視野角の制限がなくなる具体的な理由は次の通りである。前記ＵＶ配向は、ロールを用いた物理的な配向方法ではなく、ＵＶ光源から出る光をレンズを通じて均一化させ、その光を偏光子に通過させ、希望の角度で立てておいた基板にＵＶを照射することによってＵＶ照射を受けた部分でのみ材料の変化が発生して、希望の直線溝を有するようにする方法である。これは、混合形成された基板全体の領域ではなく、部分的な領域（同一の方向のパネル領域）にＵＶを照射して１次的に配向を形成する。
【００４７】
次いで、それと異なるパネルには基板を回転させ、再びＵＶを照射することで、一基板内でも異なる方向の配向を形成させることができるので、混合形成時にパネルの方向を異なるように形成しても最終的に希望の主視野角の方向を得ることができる。
【００４８】
一方、ＶＡ液晶モードだけパネル形成時に主視野角の問題を解決できるのではなく、配向工程を必要としない液晶モードを適用することで可能である。本発明で言及したいのは、配向工程自体が必要ない液晶モードを適用することで配向工程の制限性を解決しようとすることである。その代表的な例がＶＡ液晶モードである。
【００４９】
即ち、一般的に、ＴＮ液晶モードは、横になっている液晶に物理的な配向を通じてプレチルト角を形成し、電圧が印加されるとそのプレチルト角に沿って液晶が立つ方式であるが、ＶＡ液晶モードでは、突出部、スリットが周辺電界を用いて液晶ドメインが形成されるようにする役割をする。
【００５０】
即ち、ＶＡ液晶モードではネガティブ液晶を使用するので、初めから立っている形態を有し、突出部の付近では電圧が印加されなかった時、液晶が勾配方向に対して垂直配向になってチルト成分を有するようになるので、追加的に配向工程を進めなくともよいラビングフリーモード（rubbing free mode）と言う。電圧が印加されると、突出部とスリットを境界にして互いに異なるドメインを形成するようになる。
【００５１】
したがって、本発明は、外形サイズが同じか異なる複数のモデル、及び互いに異なる配向方向を有するモデルを一つの母基板に形成することが可能になるので、基板利用効率を極大化することができる。
【００５２】
また、一般的に、一つの母基板上に外形サイズが同じか相異しているモデルの形成時、上記で言及された内容の外に最も重要視されるべきことは、形成されるモデルが同一の液晶モードを有さなければならないということである。その理由は、駆動される液晶モードの種類によって製造工程度が変わるために、液晶モードが異なるモデルを同一の基板上に形成して製造することは難しい。
【００５３】
しかし、本発明のように感光性物質を塗布し、前記感光性物質を選択的にパターニングする時、スリット領域及び透過領域を有するフォトマスク４００を使用することで、一つのフォトマスクを通じて互いに異なる厚さ及び幅を持つ第１、第２カラーフィルター層１０２、２０２を形成するため、色再現率の異なる第１、第２モデル１００、２００を有する複数の液晶パネルを形成することができる。
【００５４】
一方、以上で説明した本発明は、上述した実施の形態及び添付の図面に限定されるわけではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲内で様々な置き換え、変形、及び変更が可能なことは本発明の属する技術分野で通常の知識を持った者には明白である。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】一般的な液晶表示装置を示した分解斜視図である。
【図２】従来の液晶表示装置を示した概略的な平面図である。
【図３】図２のII−II´線に沿った液晶表示装置を示した概略的な断面図である。
【図４】本発明に係る液晶表示装置を示した概略的な平面図である。
【図５】図４のIV−IV´線に沿う液晶表示装置の概略的な断面図である。
【図６Ａ】本発明に係る液晶表示装置の製造方法を示した概略的な工程を説明する断面図である。
【図６Ｂ】図６Ａに続く工程断面図である。
【図６Ｃ】図６Ｂに続く工程断面図である。
【図６Ｄ】図６Ｃに続く工程断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１００  第１モデル、２００  第２モデル、１０１  第１基板、２０１  第２基板、１０２  第１カラーフィルター層、２０２  第２カラーフィルター層、１０３  第１カラムスペーサー、２０３  第２カラムスペーサー、３００  感光性物質、４００  フォトマスク。
【図１】
2005196161.tif 000003
【図２】
2005196161.tif 000004
【図３】
2005196161.tif 000005
【図４】
2005196161.tif 000006
【図５】
2005196161.tif 000007
【図６Ａ】
2005196161.tif 000008
【図６Ｂ】
2005196161.tif 000009
【図６Ｃ】
2005196161.tif 000010
【図６Ｄ】
2005196161.tif 000011