(57)【要約】【課題】  多孔性シリカ薄膜の内部空間を利用する光記録材料を提供する。【解決手段】  ナノメートルサイズの規則構造を有する多孔性シリカの内部に、Ｌ体もしくはＤ体のいずれかのアミノ酸から成るペプチド構造または単糖から成る糖構造を含む界面活性物質、およびフォトクロミック化合物が含有されている複合構造体の薄膜から構成される光記録材料による。この複合構造体薄膜は、前記界面活性物質およびフォトクロミック化合物を含有するゾルゲル反応溶液をゾルゲル反応に供した後、薄膜化することによって製造される。【選択図】  図１
2005241673.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナノメートルサイズの規則構造を有する多孔性シリカの内部に、Ｌ体もしくはＤ体のいずれかのアミノ酸から成るペプチド構造または単糖から成る糖構造を含む界面活性物質、およびフォトクロミック化合物が含有されている複合構造体の薄膜から構成されていることを特徴とする光記録材料。
【請求項２】
フォトクロミック化合物が、キラリティーを呈し得るものであることを特徴とする請求項１に記載の光記録材料。
【請求項３】
界面活性物質が下記の式（１）で表されるペプチド構造を含むものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光記録材料。
【化１】
2005241673.tif 000006
〔式（Ｉ）中、Ｘは親水部を表し、Ｙは疎水部を表し、Ａは下記の式（２）で表されるアミノ酸残基またはその修飾体を表す。〕
【化２】
2005241673.tif 000007
〔式（２）中、Ｒは−ＮＨ−ＣＨ−ＣＯ−とともにアミノ酸残基を構成する官能基または原子団を表し、ｎは１から１０の整数であり、Ｃ＊は不斉炭素原子であることを表す。〕
【請求項４】
多孔性シリカがヘキサゴナル相を呈していることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の光記録材料。
【請求項５】
請求項１の光記録材料を製造する方法であって、Ｌ体またはＤ体のいずれかのアミノ酸から成るペプチド構造または単糖から成る糖構造を含む界面活性物質、フォトクロミック化合物、シリカ源、ゾルゲル反応触媒および水を含有するゾルゲル反応溶液を調製してゾルゲル反応を行なう工程、ならびに、前記ゾルゲル反応により沈殿が生じる前にゾルゲル反応溶液を薄膜化する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項６】
薄膜化工程が、スピンコーティング法、ディップコーティング法またはキャスト法によって行なわれることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多孔性シリカを利用する新規な光記録材料とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の記録材料は、電気・電子的な刺激によって応答するものが主流であったが、情報の多様性や一度に伝達できる情報量の多さから、光によって応答する記録材料の開発が重要視されてきており、そのために、フォトクロミック（ホトクロミック）分子から成る化合物の利用は欠かせない。フォトクロミック分子は、光の照射によって異性化し、その際に紫外可視吸収（UV-Vis）スペクトルが変化することが広く知られおり、このスペクトル変化を利用することによって、情報を書き込んだり、消去したり、読みとったりすることができる光記録材料の開発が検討されている。さらに、キラリティー（不斉）を伴なうフォトクロミック現象（フォトクロミズム）が発現されれば、その現象を円偏光二色性（ＣＤ）スペクトルや旋光度の変化を介して検出することができ、特に、旋光度の測定は、色素（フォトクロミック化合物）による光吸収のない情報読み出しを可能にするものであり、所謂、非破壊読み出しのできる記録材料の開発に資するものと期待されている。
【０００３】
実際に応用できる材料開発のためには、色素を溶液中に溶かし込んだようなものではなく、色素を固体基板に固定化したものを作製することが必要である。従来は、色素そのものの結晶やアモルファスから成る薄膜などが用いられてきた〔例えば、特開２００３−１３０５３号公報（特許文献１）、特開２００２−２９３７８４号公報（特許文献２）など〕が、構造が柔軟ではないので、必ずしも色素の異性化反応が充分に起こるとは限らないと考えられる。一方で、液晶や高分子などの柔らかい素材に色素を取り込ませる方法も試みられている〔例えば、特開２００３−３０５３６１号公報（特許文献３）、特開２０００−１６０１５３号公報（特許文献４）、特開平１１−３０８３５号公報（特許文献５）など〕。この場合には、色素が素材中で不均一に集合したりするなど、記録材料の性能の面でも問題があり、後者の場合には、機械的強度に劣り、実用上での耐久性にも限界があるものと考えられる。
【０００４】
硬い無機質の骨格を持ち、ナノメートルサイズの規則構造から成る自由空間が分散した素材として、多孔性シリカの薄膜がある。この薄膜は、透明度が高いので、その細孔内のを色素の光異性化反応、特に、不斉光異性化（キラリティーを伴なうフォトクロミズム）を起こすための反応場として利用することができれば、光記録に用いられるのに好適な材料が得られるものと考えられる。しかし、この目的で試みられた例は見当たらず、僅かに関連する試みとして、多孔性シリカ薄膜に色素を吸着させて、その光異性化挙動を観察するものが基礎研究レベルで行われている程度であり、この手法は、色素が均一に充填することが困難である等の欠点も指摘されている。多孔性シリカ薄膜内部を利用して色素の光異性化反応のうち不斉光異性化反応に基づく光記録材料については、研究レベルにおいても全く試みられていない。
【特許文献１】特開２００３−１３０５３号公報
【特許文献２】特開２００２−２９３７８４号公報
【特許文献３】特開２００３−３０５３６１号公報
【特許文献４】特開２０００−１６０１５３号公報
【特許文献５】特開平１１−３０８３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、多孔性シリカ薄膜の内部空間を利用して光照射による光異性化反応（フォトクロミック反応）と不斉光反応に基づいた光記録材料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、検討を重ねた結果、不斉構造を含む界面活性物質を鋳型とし、そこに色素（フォトクロミック化合物）をドーピングしながらゾルゲル反応を行わせることによって、上記の目的が達成できることを見出し、本発明を導き出した。
【０００７】
かくして、本発明は、ナノメートルサイズの規則構造を有する多孔性シリカの内部に、Ｌ体もしくはＤ体のいずれかのアミノ酸から成るペプチド構造または単糖から成る糖構造を含む界面活性物質、およびフォトクロミック化合物が含有されている複合構造体の薄膜から構成されていることを特徴とする光記録材料とその製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に従えば、多孔性シリカの内部空間内に、不斉構造を含む界面活性剤とともに色素（フォトクロミック化合物）が均一に分散された光記録材料が得られる。本発明の光記録材料は、従来からよく知られているようにフォトクロミック反応に基づき光の刺激に応じて色（スペクトル）の変化を引き起こすのみならず、光刺激に対して制御下に不斉シグナルを発現することもできるという特性を有する。すなわち、本発明の光記録材料は、多孔性シリカの構造、その内部に固定化されているペプチド等の不斉構造およびフォトクロミック化合物の組み合わせに応じて、ＣＤスペクトルや旋光度の測定を介して検出される可逆的なシグナルを発現することができ、この特性を利用して非破壊読み出しも可能な新しいタイプ光記録材料である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
界面活性物質（界面活性剤）の集合構造（例えば、棒状ミセル）を鋳型として、その周辺（表面）で適当なシリカ源を原料としてゾル‐ゲル反応を行わせてシリカを合成し、その後に鋳型を除く（一般的には焼成による）ことによって多孔性シリカ（ナノメートルサイズの規則構造を有するシリカ、所謂メソポーラスシリカ）を作製することは従来より行なわれていた。
【００１０】
本発明は、このような多孔性シリカの作製過程を根本から変える手法により実現されたものである。すなわち、多孔性シリカを作製するための鋳型として従来の単なる界面活性剤を用いるのではなく、不斉構造を有する多くの分子が有する特性を利用してそれ自体を界面活性作用のある鋳型分子として多孔性シリカを作製する。この場合、本発明においては、ゾル−ゲル反応で作製された多孔性シリカと不斉分子の複合体を焼成することなくそのまま溶液状態から製膜化し、これによって、不斉分子を多孔性シリカ内に充填した目的の構造体、すなわち、ナノメートルサイズの規則構造から成る自由空間内に、不斉構造が密で均一に固定化された複合構造体が得られる（図１参照）。この過程で、目的の光異性化反応を行う色素分子（フォトクロミック化合物）を鋳型分子に混合することによって、多孔性シリカ薄膜中に色素分子を均一に分散させられる。
【００１１】
以下、本発明の光記録材料を構成する複合構造体を薄膜の各成分およびその複合構造体薄膜を製造するための各工程に沿って本発明の実施の形態を説明する。
なお、本明細書、特許請求の範囲および図面に示す化学構造式においては慣用的な表現法に従い炭素原子や水素原子を省略していることがある。
また、本明細書において「不斉」という語は、「キラリティー」と同義、すなわち、鏡像異性体が存在する現象を指称するものとして用いている。
【００１２】
さらに、本明細書および特許請求の範囲において、「ナノメーターサイズの規則構造を有する多孔性シリカ」とは、当該分野でよく知られているように、界面活性物質の集合構造を鋳型としてゾルゲル反応によって生成するヘキサゴナル相やラメラ相などの規則的な構造を有し、その内部空間を定めるサイズ（例えば、ヘキサゴナル相の場合は、細孔の直径、ラメラ相の場合は層間距離）がナノメートルから数十ナノメートル（一般的には1〜50nm）の大きさを有するシリカを指称する。
【００１３】
界面活性物質
本発明において鋳型分子として用いられる界面活性物質（界面活性剤）は、多孔性シリカの内部空間内で不斉環境を供し得るものであり、Ｌ体もしくはＤ体のいずれかのアミノ酸から成るペプチド構造、または、Ｌ体もしくはＤ体のいずれかの単糖から成る糖構造を含む界面活性物質である。このような界面活性物質は、一般に下記の式（１）で表すことができる。
【００１４】
【化１】
2005241673.tif 000003
【００１５】
式（Ｉ）において、Ｘは親水部を表し、Ｙは疎水部を表し、Ａが、Ｌ体もしくはＤ体のいずれかのアミノ酸から成るペプチド構造、または、Ｌ体もしくはＤ体のいずれかの単糖から成る糖構造を表す。本発明の原理は、式（１）で表されるような界面活性物質において、Ａとして、以上のような不斉ペプチド構造または不斉糖構造を含むいずれかの界面活性剤を用いる場合に適用されるが、入手や合成の容易さから好ましいのは不斉ペプチド構造を含む界面活性剤であり、この場合は、Ａは下記の式（２）で表されるアミノ酸残基またはその修飾体を表す。
【００１６】
【化２】
2005241673.tif 000004
【００１７】
ここで、修飾体とは、生体内でよく見られるようなタンパク質の変化を引き起こすような各種の反応に因りアミノ酸が変化したものであり、例えば、リン酸化、メチル化、アセチル化等に因るものが挙げられる。本発明においては、（１）式で表わされる界面活性物質に導入されているアミノ酸としてそのような修飾体を用いることもできる。
【００１８】
式（２）において、Ｒは、以上の説明からも既に明らかなように、式（２）に示す−ＮＨ−ＣＨ−ＣＯ−とともにアミノ酸残基を構成する官能基または原子団を表わす。すなわち、Ｒは、例えば、ＣＨ3（アラニンの場合）、ＣＨ2Ｐｈ（フェニルアラニンの場合：Ｐｈはフェニル基）、(ＣＨ3)2ＣＨ（バリンの場合）、(ＣＨ3)2ＣＨＣＨ2（ロイシンの場合）、ＣＨ2ＯＨ（セリンの場合）、ＣＨ3(ＯＨ)ＣＨ（トレオニンの場合）、ＣＨ2−ＳＨ（システインの場合）等を表わす。アミノ酸（アミノ酸残基）の数を定めるｎは、原理的には特に制限はないが、得られる複合構造体の安定性の点から、一般に１〜１０が好ましく、１〜６が特に好ましい。なお、導入されるアミノ酸（アミノ酸残基）は、必ずしも同一のアミノ酸でなく、複数種のアミノ酸であってもよく、式（２）はそのような態様も含むものとして表現している。Ｃ＊は不斉炭素原子であることを表している。
【００１９】
本発明で用いられる界面活性物質を表わす式（１）において、Ｘは、カチオン性、アニオン性または非イオン（ノニオン）性親水部を表わすが、安定な構造体を得る点からはカチオン性の官能基または原子団から成るものが好ましい。図２に、式（１）で表わされる本発明で用いられる界面活性物質の親水部を構成するのに好ましい官能基または原子団の例を示しているが、これらに限定されるものではない。
【００２０】
本発明で用いられる式（１）の界面活性剤において、Ｙは、界面活性物質の構成成分として従来より知られた各種の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基から成る疎水部を表わす。図３に、本発明で使用される界面活性物質の疎水部を構成するのに好ましい官能基または原子団の例を示しているが、これらに限定されるものではない。
【００２１】
色素分子（フォトクロミック化合物）
本発明の光記録材料においては、色素分子そのものは、多孔性シリカ構造を規定する役割を担わないため、制限なく広い範囲のフォトクロミック化合物を用いることができる。ここで、フォトクロミック（ホトクロミック）化合物とは、よく知られているように、光の照射によってスペクトル（色）変化を起こし、且つ、その生成物が他の光の照射または熱によって元に戻る可逆的な変化を起こす化合物を指称する。本発明の原理は、無機のフォトクロミック化合物を用いる場合にも適用可能であるが、一般的には有機のフォトクロミック化合物に好ましく適用される。好ましい有機のフォトクロミック化合物としては、スピンピラン系化合物、ジアリールエテン系化合物、アゾベンゼン系化合物、ベンズアルドキシム系化合物、アゾメチン系化合物、スチルベン系化合物などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００２２】
本発明において用いられるのに特に好ましいフォトクロミック化合物は、キラリティーを呈し得るものであり、このようなフォトクロミック化合物を使用することにより、不斉シグナルを発現し得る光記録材料が得られる。図４に、キラリティーを呈し得る色素（フォトクロミック化合物）の好ましい例としてスピロピランおよびジアリールエテンを示すが、色素の選択はこれらに限定されるものではない。図４に示されるように、スピロピランは紫外光（UV）照射により開環型のメタロシアニン型になり、可視光（Vis）照射によって閉環型のスピロピラン型になり、後者の構造においては不斉構造（キラルティー）が発現される。また、ジアリールエテンは、紫外光照射により、不斉構造が発現される閉環型に変化し、可視光照射により元の開環型に復帰する。
【００２３】
複合構造体の製造
本発明の光記録材料を構成する複合構造体薄膜を製造するには、先ず、如上の不斉構造含有界面活性物質および色素分子（フォトクロミック化合物）、シリカ源、ゾル−ゲル反応触媒および水を含む反応溶液を調製してゾル−ゲル反応を行わせる。フォトクロミック化合物の含有量は、5−10%程度が標準的であるが、界面活性剤との組み合わせを適当に選ぶことによって、含有量は自由に変えることができる。シリカ源としては、アルコキシド、水溶性珪酸塩、コロイダルシリカなどの種々のものが使用可能であるが、好ましいのは、テトラエトキシシラン（オルト珪酸テトラエチル：TEOS）、テトラメトキシシラン（TMOS）、メチルトリエトキシシランなどのアルコキシドである。ゾル−ゲル反応触媒とは、アルコキシド等のシリカ源を加水分解し、重縮合させる反応の触媒であり、塩酸のような酸、水酸化ナトリウムのようなアルカリ、アミン等を使用することができる。
【００２４】
ゾル−ゲル反応溶液には、必要に応じて混合を円滑にするため有機溶媒を添加してもよい。また、ゾル−ゲル反応は、軽く加熱した後、冷却してゲル生成を促進するように行ってもよいが、一般的には、２０〜３０℃の常温下に実施することができる。
【００２５】
以上のようにして、界面活性物質の集合構造を鋳型として、その周囲（表面）でゾルゲル反応が起こり鋳型に応じた構造のシリカが生成する。本発明は、原理的には、使用する界面活性物質や作製条件に従い、棒状ミセル、層状二分子膜構造、球状ミセル等の界面活性物質の各種の集合構造を鋳型とし、それに応じて各種の構造の多孔性シリカを作製するのに適用できるが、一般的には、シリンダー状の細孔が蜂の巣状に配列した所謂ヘキサゴナル（六方晶）相の多孔性シリカを得るのに好適である。これらの構造は、Ｘ線回折分析（XRD）、電子顕微鏡、赤外分光法（FT-IR）、ＮＭＲなどの手段を用いる解析により確認することができる。
【００２６】
また、ゾルゲル反応に基づく構造体の調製は、通常、生成したゲルが沈殿するまで反応を進めた後、そのゲルを利用するものであるが、本発明の複合構造体の製造における特徴は、ゾルゲル反応により沈殿が生じる前にゾルゲル反応溶液から薄膜を調製することにある。すなわち、ゾルゲル反応の進行に伴いゾルゲル反応溶液は粘稠になっているが未だ沈殿は生じていない段階（一般にゾルゲル反応の開始から10分〜1時間後）でゾルゲル反応溶液を薄膜化する。
【００２７】
かくして、本発明に従えば、ゾルゲル反応溶液を適当な手段を用いて基板上に薄膜化することによって、多孔性シリカの透明な薄膜を作ることができる。透明な薄膜を作製するための手段としては、一般に、スピンコーティング法の他、ディップコーティング法やキャスト法を用いることができる。また、基板としては、ガラスや種々のプラスチックフィルム、金属板など多様なものを用いることができる。
【００２８】
本発明に従い、以上のようにして得られる多孔性シリカは、ヘキサゴナル相やラメラ相のような規則性を有し、且つ、その内部に不斉ペプチド構造（または不斉糖構造）およびフォトクロミック化合物を含有した複合構造体であることが確認されている（後述の実施例参照）。また、本発明の光記録材料を構成する複合構造体は、従来の多孔性シリカにおけるように焼成を伴うことなく溶液状態から薄膜化した透明なフィルム状を呈しながら、きわめて安定である。
【００２９】
かくして、本発明に従う複合構造体は、多孔性シリカの内部空間内でフォトクロミック分子をペプチド構造などに由来する不斉の環境に固定化した薄膜状の光記録材料として、多孔性シリカの構造、ペプチドなどに由来する不斉の型およびフォトクロミック化合物の種類に応じて光応答の形式を変えることができるという特性を有する。
【００３０】
例えば、Ｌ体またはＤ体から成るアラニン型のペプチドを含む界面活性剤を鋳型としフォトクロミック化合物としてスピロピランを用いてゾルゲル反応を行ない薄膜化して得られたヘキサゴナル相の多孔性シリカに可視光／紫外光を交互照射すると可逆的なスペクトル変化が観察され、さらに、この薄膜のＣＤスペクトル（または旋光度）の測定を行なうと、可視光照射によるスピロピラン型の場合のみ、顕著なＣＤバンド（または旋光性）が観察される。そして、このＣＤバンドの符号（または旋光の回転方向）は、ペプチドの不斉構造（Ｌ体かＤ体か）に応じて反転する。このような光応答は可逆的に繰り返して観察される。しかし、多孔性シリカの構造がラメラ相になると、可視光／紫外光の交互照射に対する可逆的なスペクトル変化は起こるが、ＣＤスペクトルや旋光度の測定によって検出される不斉光応答は生じない（後述の実施例参照）。
以下に、本発明の特徴をさらに具体的に明らかにするため実施例を示すが、本発明はこれらの実施例によって制限されるものではない。
【実施例１】
【００３１】
界面活性物質の合成
下記の式（３）で表される界面活性物質Ｘを次のように合成した。まず、Ｌ−アラニンを1当量のヘキサデシルアルコールと1.2当量のｐ−トルエンスルホン酸存在下にトルエン中で数時間環流することにより、アラニンのヘキサデシルエステルを得た。この化合物をジクロロメタンに溶解させ、2当量のトリエチルアミンと縮合剤の存在下で、Boc化Ｌ−アラニンさせ、トリフルオロ酢酸で処理した。この化合物をジクロロメタンに再び溶解させ、2当量のトリエチルアミン存在下で1当量のブロモ酢酸ブロミドと室温下にて反応させ、Ｎ−ブロモアセチルアラニルアラニンヘキサデシルエステルを得た。この化合物をエタノールに溶解させ、室温下で過剰量（３〜５当量）のジメチルブチルアミンと１昼夜反応させることにより、界面活性剤Ｘを得た。各段階の収率は90%前後である。界面活性剤の構造の同定は、元素分析法やNMR 法などによって行った。界面活性剤Ｘの分析データは次の通りである。
＜元素分析＞  実測値：C, 59.02；H, 9.93；N, 6.85。計算値（C30H60BrN3O4）：C, 59.39；H, 9.97；N, 6.93。
＜ＮＭＲ＞δH(500MHz、DMSO-d6) 8.77(d,J=6.7Hz,1H)、8.46(d,J=7.3Hz,1H)、4.34(m,1H)、4.24(m,1H)、4.05-3.97(m,2H)、4.02(d,J=6.7Hz,2H)、3.41-3.38(m,2H)、3.15(s,3H)、3.14(s,3H)、1.68-1.64(m,2H)、1.54-1.51(m,2H)、1.27(d,J=7.3Hz,3H)、1.25(d,J=7.3Hz,3H)、1.31-1.23(m,28H)、0.91(t,J=7.3Hz,3H)、0.84(t,J=7.0Hz,3H)。
【００３２】
2005241673.tif 000005
【実施例２】
【００３３】
孔性シリカ薄膜の作製（ヘキサゴナル型）
濃塩酸(0.0053g)、水(0.20g)、メタノール(1.7g)、TMOS(1.0g)を混合し、室温下で10分間撹拌した。この溶液のうち(0.43g)をとって、ペプチド型界面活性剤Ｘ(0.061g)と色素(スピロピラン、5.0μmol)を加えて、室温下にて20分さらに反応した。得られた溶液を、ガラス基板上にスピンコートすることによって、多孔性シリカ薄膜を得ることができた。この薄膜がヘキサゴナル構造を有することは、透過型電子顕微鏡観察（TEM）（図５）およびＸ線回折分析（XRD）（図６）によって確認することができた。TEM観察およびXRDにおけるピーク位置から、ヘキサゴナル相の細孔の直径は2〜3nmであることが理解される。
【実施例３】
【００３４】
光（紫外可視）応答（ヘキサゴナル型）
実施例２で作製した多孔性シリカ薄膜に紫外光（280
nm、10分間）を照射したところ、開環型の異性体（メロシアニン型、図７(a)）に、また、可視光（420 nm、10分間）照射したところ閉環型の異性体（スピロピラン型、図７(b)）に変化することが、紫外可視吸収スペクトルの変化から確認された。このスペクトル変化は、紫外光と可視光の交互照射によって何回でも繰り返しおこなうことができた。これは、この多孔性シリカ薄膜が、光を使った情報の書き込みと消去に使うことができる光記録材料として応用できることを示している。
【実施例４】
【００３５】
不斉光応答（ヘキサゴナル型）
実施例３で示した光応答を不斉信号の見地からとらえるために、円偏光二色性（CD）スペクトルを同時に測定した。色素が開環型のメロシアニン型にある場合には、不斉中心が存在しないのでCD信号はほとんど観測されなかった（図８(a)）。一方、閉環型のスピロピラン型にある場合には、不斉中心の存在によりCD信号が明らかに観測された（図８(b)）。CD信号は可視光と紫外光の交互照射により、書き込み消去ができた（挿入図）。また、マトリックスのペプチドの不斉構造をＤ体に変えると、CD信号の符号が逆転した。これらの不斉光応答は、記録信号の非破壊読み出しに利用できる。
次に、紫外光（280nm、5分間）と可視光（420nm、5分間）を多孔性シリカ薄膜に交互に照射しながら、CDシグナル（測定波長268nm）を測定し、光記録デバイスとしての繰り返し耐久性を評価した。その結果を図９に示す。最初の光照射時に、シグナルの現象がやや見られるものの、可視光照射時に負のCDシグナルが測定され、紫外光照射時にはそのシグナルがほぼ0になった。この挙動は、少なくとも40回以上にわたって繰り返すことができた。このことは、不斉記録の書き込みと消去が、望みの回数何度でも行なわれ、その耐久性に優れていることを示している。
【実施例５】
【００３６】
多孔性シリカ薄膜の作製（ラメラ型）
実施例２の溶液組成を、（ペプチド／色素／水／塩酸／TEOS／エタノール＝0.2／0.01／2.9／0.04／1／35、モル比）に変え、反応時間を長くすることによって、層状のラメラ構造を得た。構造をTEM観察（図１０）およびXRD（図１１）により確認した。TEM観察およびXRDにおけるピーク位置から、ラメラ相の層間隔は2〜3nmであることが理解される。
【実施例６】
【００３７】
光応答（ラメラ型）
ラメラ構造の多孔性シリカ薄膜においても、可視光と紫外光の吸収による紫外可視スペクトルの変化が確認された。
一方、CDシグナルにおいては、全く応答が観測されなかった（図１２参照）。この結果は、前述の実施例とともに考えあわせると、シリカ骨格の構造の設定により、二種類の信号応答の活性が選択できることになり、ロジックデバイスへの応用に適した系であると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明の光記録材料は、不斉シグナルに因る非破壊読み出しを含む光応答性記録材料として各種の産業分野において利用が期待される。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の光記録材料を構成する多孔性シリカの複合構造体を模式的に示す。
【図２】本発明で用いられる界面活性物質の親水部を構成するのに好ましい官能基または原子団の例の化学構造式を示す。
【図３】本発明で用いられる界面活性物質の疎水部を構成するのに好ましい官能基または原子団の例の化学構造式を示す。
【図４】本発明で用いられるフォトクロミック化合物の好ましい例を示す。
【図５】本発明の光記録材料を構成する複合構造体のヘキサゴナル型多孔性シリカの透過型電子顕微鏡写真である。
【図６】本発明の光記録材料を構成する複合構造体のヘキサゴナル型多孔性シリカについてのＸ線回折分析データを示す。
【図７】本発明の光記録材料を構成する複合構造体のヘキサゴナル型多孔性シリカについての紫外可視吸収スペクトルデータを示す。
【図８】本発明の光記録材料を構成する複合構造体のヘキサゴナル型多孔性シリカについてのＣＤスペクトルデータを示す。
【図９】本発明の光記録材料を構成する複合構造体のヘキサゴナル型多孔性シリカについて測定した不斉シグナルサイクルテストの結果を示すＣＤスペクトルデータを示す。
【図１０】本発明の光記録材料を構成する複合構造体のラメラ型多孔性シリカの透過型電子顕微鏡写真である。
【図１１】本発明の光記録材料を構成する複合構造体のラメラ型多孔性シリカについてのＸ線回折分析データを示す。
【図１２】本発明の光記録材料を構成する複合構造体のラメラ型多孔性シリカについてのＣＤスペクトルデータを示す。
【図２】
2005241673.tif 000008
【図３】
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【図４】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１】
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【図５】
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【図１０】
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