(57)【要約】      （修正有）【課題】低コストで製造可能な複数の細孔が形成され、細孔内を流れる流体を効率的に細孔壁に接触させるセラミック構造体を提供する。【解決手段】セラミック構造体１は、孔３に開口端１ａと閉塞端１ｂとが設けられており、開口端１ａから閉塞端１ｂへと向かって延び、互いに所定角度θをもって傾斜する一方の隔壁部１ｃおよび他方の隔壁部１ｄを備えている。一対の隔壁部１ｃと１ｄとが交差することによって閉塞端１ｂを形成している。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の孔が形成されたセラミック構造体であって、
前記孔の開口端と閉塞端とが設けられており、前記開口端から前記閉塞端へと向かって延び、互いに所定角度をもって傾斜する一方の隔壁部および他方の隔壁部を備えており、前記一対の隔壁部が交差することによって前記閉塞端を形成していることを特徴とする、セラミック構造体。
【請求項２】
前記一方の隔壁部と前記他方の隔壁部との間に、隣接する前記孔を区分する区分隔壁が設けられていることを特徴とする、請求項１記載のセラミック構造体。
【請求項３】
流体が透過可能な材質からなることを特徴とする、請求項１または２記載のセラミック構造体。
【請求項４】
表面に触媒が担持されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一つの請求項に記載のセラミック構造体。
【請求項５】
少なくとも前記一方の隔壁部および前記他方の隔壁部の前記孔に面する内壁面に光触媒層を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一つの請求項に記載のセラミック構造体。
【請求項６】
前記光触媒層に対してレーザー光を照射することによって光触媒反応を生じさせることを特徴とする、請求項５記載のセラミック構造体。
【請求項７】
前記孔の前記閉塞端側から前記流体を供給し、前記孔の前記開口端側から処理後の流体を排出することを特徴とする、請求項３〜６のいずれか一つの請求項に記載のセラミック構造体。
【請求項８】
請求項１記載のセラミック構造体を製造する方法であって、
互いに略平行に延びる一方の隔壁部および他方の隔壁部を備えており、前記一方の隔壁部と前記他方の隔壁部との間に孔が設けられているセラミック基体を準備し、前記隔壁部を加圧することによって、前記一方の隔壁部と前記他方の隔壁部とを互いに所定角度をもって傾斜させ、前記閉塞端を形成することを特徴とする、セラミック構造体の製造方法。
【請求項９】
前記セラミック基体を収容する収容部、前記他方の隔壁部を支持する支持面、および前記セラミック構造体の外形に合わせて設計された高さ規制面を備えている治具を使用し、前記収容部内に前記セラミック基体を収容し、前記支持面上に前記他方の隔壁部を載置し、前記高さ規制面上に加圧部材を接触させることによって前記セラミック基体の前記一方の隔壁部を加圧し、変形させることを特徴とする、請求項８記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、セラミック構造体およびその製造方法に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
新しい浄化方法として、光触媒を利用した浄化方法が提案されている。光触媒は、半永久的に有機物質の分解が行えるという利点があるものの、分解反応が紫外線照射部分の表面に限られる為、膜状に被覆した場合、被処理体との接触効率が悪く、吸着剤に比較して除去能力が劣るという問題がある。そこで、特許文献１、特許文献２、特許文献３には、吸着剤の吸着力と光触媒の分解力の双方の機能を利用したハイブリッド型の光触媒が提案されている。
【特許文献１】特開平９−２４９８２４号公報
【特許文献２】特開平１０−９４５８７号公報
【特許文献３】特開２０００−１０２７３６号公報
【０００３】
また、排ガス中の固形分を除去するためのフィルターとして、セラミックハニカムフィルターが用いられている。セラミックハニカム構造体は押出し成形法によって成形される。
【発明の開示】
【０００４】
しかし、押出成形法では、各細孔をハニカム端面で直接封止することはできないので、手作業で端面封止を行う必要がある。このため、封止に手間がかかり、高コストとなる。また、この封止方法では、細孔内を流れる流体を細孔壁に接触させる際の効率を、ある程度以上高くすることが難しい。例えば細孔壁に触媒を担持させた場合には、細孔壁上の触媒と流体との接触効率を向上させることが望まれる。
【０００５】
本発明の課題は、複数の孔が形成されたセラミック構造体において、低コストで製造可能であり、細孔内を流れる流体を細孔壁に接触させる際の効率を向上させ得るようなセラミック構造体を提供することである。
【０００６】
本発明は、複数の孔が形成されたセラミック構造体であって、孔に開口端と閉塞端とが設けられており、孔の開口端から閉塞端へと向かって延び、互いに所定角度をもって傾斜する一方の隔壁部および他方の隔壁部を備えており、一対の隔壁部が交差することによって閉塞端を形成していることを特徴とする。
【０００７】
本発明によれば、孔を形成する少なくとも一対の隔壁部について、一対の隔壁部を所定角度をもって交差させ、これによって、孔の一端を閉鎖させている。このように一対の隔壁部を所定角度をもって交差させることによって孔の閉塞端を形成することは、手作業によって各孔を一つ一つ封止する必要がなく、孔の封止作業を低コストで実施可能である。その上、各隔壁部の内壁面を傾斜させることによって、隔壁部の表面積を増大させ、流体を細孔壁に接触させる際の効率を向上させ得る。
【０００８】
また、本発明は、複数の孔が形成されたセラミック構造体を製造する方法であって、互いに略平行に延びる一方の隔壁部および他方の隔壁部を備えており、一対の隔壁部の間に孔が設けられているセラミック基体を準備し、隔壁部に対して略垂直の方向に向かってセラミック基体を加圧することによって、一方の隔壁部と他方の隔壁部とを互いに所定角度をもって傾斜させ、孔の閉塞端を形成することを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明のセラミック構造体の用途は特に限定されないが、以下を例示できる。
（１）  流体に含有される固形分を取り除くためのフィルター。
この場合には、セラミック構造体の一方の側へと流体を流し、隔壁部を通過させ、他方の側から流体を流出させる。固形分は多孔質セラミックスによって除去される。この場合には、各孔から流体を流出させることができるし、あるいは、各孔へと流体を流入させ、反対側から放出させることができる。
（２）  光触媒反応を利用し、排ガス中の有害物質を分解する際、直進性に優れたレーザー光を、孔の開口部より入射させることによって、光軸に対して傾斜した隔壁部内壁面にレーザー光を照射することができる。これによって、光触媒反応が可能な表面積を増大させ、光触媒反応の効率を向上させることができる。
【００１０】
更に具体的には、以下の用途を例示できる。
（１）−（ａ）：  液体から固体を分離するフィルター（水中の異物除去など）
（１）−（ｂ）：  気体から固体を分離するフィルター（排気ガス中の固体除去など）
（１）−（ｃ）：  高温排ガス、焼却炉排ガスの集塵
（１）−（ｄ）：  排ガス中の窒素酸化物を除去する脱硝触媒（五酸化バナジウム）を担持させた高温集塵フィルター
（２）−（ａ）：  気体−気体分離（光触媒反応）
【００１１】
以下、図面を参照しつつ、本発明を更に詳細に説明する。
図１（ａ）は、本発明の一実施形態に係るセラミック構造体１を概略的に示す断面図であり、図１（ｂ）は、構造体１を矢印Ｉｂ方向から見た正面図であり、図１（ｃ）は、構造体１を矢印Ｉｃ方向から見た正面図である。
【００１２】
この構造体１は、一対の平板状の隔壁部１ｃと１ｄとを備えている。各隔壁部１ｃと１ｄとは、互いに所定角度θをもって交差しており、隔壁部１ｃと１ｄとの間に閉塞部１ｂが形成されている。５は交差線である。この結果、隔壁部１ｃの内壁面４Ａと隔壁部１ｄの内壁面４Ｂとの間も、角度θをもって傾斜している。１ａは構造体１の開口端部である。隔壁部１ｃと１ｄとの間には複数の区分隔壁３０が設けられており、これによって複数個の孔３が形成されている。孔３の一方には開口２が設けられており、他方は閉塞部１ｂによって封止されている。
本例の構造体１においては、更に、図１（ｂ）に示すように、各孔３内において、横方向の両方の内壁面３１がいずれも傾斜しており、孔３の横幅が、閉塞部１ｂへと向かって徐々に小さくなっている。これによって、レーザー光を照射可能な表面積を一層増大させることができる。
【００１３】
図２（ａ）は、本発明の他の実施形態に係るセラミック構造体１１を概略的に示す断面図であり、図２（ｂ）は、構造体１１を矢印１Ｉｂ方向から見た正面図である。
構造体１１は、図１の構造体１を複数個連結したものであり、これによって例えば３行×３列の孔３を形成したものである。構造体１１の各部分は、隔壁部１１ｃと１１ｄとから構成されており、隔壁部１１ｃと１１ｄとは、互いに所定角度θをもって交差しており、隔壁部１１ｃと１１ｄとの間で封鎖部１１ｂが形成されている。１１ａは構造体１１の開口端部である。なお、図２の例においても、孔３の横幅が、閉塞部１ｂへと向かって徐々に小さくなるようにできる。
【００１４】
図３（ａ）は、本発明の更に他の実施形態に係るセラミック構造体７を概略的に示す断面図であり、図３（ｂ）は、構造体７を矢印IIIｂ方向から見た正面図であり、図３（ｃ）は、構造体７を矢印IIIｃ方向から見た正面図である。
本例では、図１の構造体１において、更に、各隔壁部１ｃ、１ｄの各内壁面４Ａ、４Ｂ上に、それぞれ膜８が形成されている。膜８は、各隔壁部の外壁面上に形成することもできる。
本例の構造体７においては、更に、図３（ｂ）に示すように、各孔３内において、横方向の両方の内壁面３１がいずれも傾斜しており、孔３の横幅が、閉塞部１ｂへと向かって徐々に小さくなっている。これによって、レーザー光を照射可能な表面積を一層増大させることができる。
【００１５】
本発明の観点からは、隔壁部のなす角度θは、０．５  °以上が好ましく、1．０°以上が更に好ましい。また、θが大きくなりすぎると、単位体積当たりの表面積が小さくなり、効率が低下するので、θは１２０°以下が好ましく、１０．０°以下が更に好ましい。
【００１６】
好適な実施形態においては、例えば図１〜３に示すように、一方の隔壁部と他方の隔壁部との間に、隣接する孔を区分する区分隔壁が延びている。更に好適な実施形態においては、セラミック構造体がいわゆるハニカム構造体である。
【００１７】
好適な実施形態においては、セラミック構造体が気密質材料からなる。この場合には、例えば孔に面する内壁面に触媒を担持させることによって、表面積の大きい触媒として利用できる。このような気密質材料は限定されないが、セラミックス、ガラス、金属、セラミックス−金属複合体であってよい。特に好ましくはセラミック焼結体であり、コージェライト、アルミナ、ジルコニアを例示できる。
【００１８】
好適な実施形態においては、セラミック構造体が、流体が透過可能な材質からなる。これによって、本発明のセラミック構造体を、流体中の異物を除去するフィルターとして使用できる。このような材質としては、セラミックス、ガラス、金属、セラミックス−金属複合体の各多孔質体が好ましく、特に好ましくはセラミック焼結体であり、コージェライト、アルミナ、ジルコニアを例示できる。
【００１９】
図４（ａ）、（ｂ）は、この実施形態に係るものである。図４（ａ）の例では、セラミック構造体１を気密性の隔壁１２に取り付けて固定する。このセラミック構造体１の閉鎖端１ｂ側の空間６から矢印Ａのように流体を供給すると、流体は構造体１を透過し、各隔壁部１ｃ、１ｄの内壁面４Ａ、４Ｂから排出される。このとき、流体中の固形分や異物は多孔質体中に保持される。次いで、この流体が矢印Ｂのように孔３内を流れ、開口端２から放出される。また、図４（ｂ）のフィルターにおいては、更に、各隔壁部１ｃ、１ｄの各内壁面４Ａ、４Ｂ上に、それぞれ膜８が形成されている。この膜は、触媒を担持していてよい。あるいは、膜８は、セラミック構造体１を構成する多孔質材料とは粒径、気孔率、気孔径の異なる材質からなっていてよい。一般的には、膜８を構成する多孔質材料の気孔径を、構造体１を構成する多孔質材料の気孔径よりも小さくし、密にすることによって、一種の膜フィルターを構成できる。
【００２０】
好適な実施形態においては、セラミック構造体の表面に触媒が担持されている。この触媒は限定されず、光触媒、脱硝触媒、脱硫触媒を例示できる。特に好適な実施形態においては、少なくとも一方の隔壁部および他方の隔壁部の孔に面する内壁面に光触媒層を設ける。
【００２１】
本発明のセラミック構造体を光触媒として使用する場合には、光触媒用の光源には、低圧水銀灯、ブラックライト等の一般的な拡散光源を使用できる。ただし、拡散光源を用いた場合には、光強度が距離の二乗に反比例する。このため、奥行きが例えば５ｃｍ以上ある光触媒反応装置では、光が反応装置の奥の方にある光触媒層に充分に届かない。このため、光触媒反応装置の奥行きを大きくして、光触媒層の表面積を大きくし、反応効率を向上させることが難しい。
【００２２】
好適な実施形態においては、光触媒用の光源として、セラミック構造体の孔の奥まで充分に進入するレーザー光を使用する。本実施形態によれば、セラミック構造体の細孔中にレーザー光を照射することによって光触媒反応を生じさせるの共に、レーザー光の光軸を光触媒層の表面に対して傾斜させるように構成できる。この結果、レーザー光の直進性を有効に利用し、ハニカム構造体の細孔内において、長い距離にわたって光触媒層へと有効に照射することができる。これによって、光触媒部材における光触媒反応の効率を向上させることが可能となった。
【００２３】
図５、図６は、この実施形態に係るものである。図５の例においては、構造体１７には例えば２列の孔３が形成されている。各孔３は、それぞれ一対の平板状の隔壁部１１ｃと１１ｄとによって挟まれている。各隔壁部１１ｃと１１ｄとは、互いに所定角度θをもって交差しており、隔壁部１１ｃと１１ｄとの間で閉塞部１１ｂが形成されている。５は交差線である。この結果、隔壁部１１ｃの内壁面４Ａと隔壁部１１ｄの内壁面４Ｂとの間も、角度θをもって傾斜している。１１ａは構造体１７の開口端部である。隔壁部１１ｃと１１ｄとの間には複数の区分隔壁が設けられている。孔３の一方には開口２が設けられており、他方は閉塞部１１ｂによって封止されている。
【００２４】
図５の例においては、閉鎖端１１ｂの側から矢印Ａのように流体を供給する。この流体は、矢印Ａのように隔壁部１１ｃ、１１ｄの表面に沿って流れ、隔壁部１１ｃ、１１ｄを通過する。この際流体から異物が除去される。異物が除去された後の流体が矢印Ｂのように孔３の中を流れ、開口２から矢印Ｂのように排出される。ここで、本実施形態においては、レーザー光を矢印Ｃのように孔３内に照射し、内壁面４Ａ、４Ｂ上の光触媒層８で光触媒反応を生じさせ、流体中の汚染物質を分解する。
【００２５】
図６の例においては、流体を、矢印Ａのように開口２から孔３内に供給し、流体を隔壁部に透過させ、矢印Ｂのように排出する。そして、レーザー光の照射側から流体を供給している。
【００２６】
本実施形態においては、レーザー光の光軸を光触媒層の表面に対して傾斜させる。この傾斜角度は、本発明の作用効果の観点からは、0.1°以上であることが好ましく、0.25°以上であることが更に好ましい。一方、傾斜角度が大きくなりすぎると、反応装置の単位体積あたりの表面積を大きくすることが困難となる。従って、傾斜角度は、本発明の作用効果の観点からは、20°以下であることが好ましく、10°以下であることが更に好ましい。
【００２７】
光触媒を構成する物質の種類は特に限定されず、TiO2、SnO2、WO3、ZnO、SrTiO3等の光触媒物質を例示できる。アナターゼ型酸化チタンが特に好ましい。
光触媒層内にはパインダーを更に含有させることができる。このようなバインダーとしては、アルコキシシラン、シリカゾル等の無機バインダーが好ましい。
光触媒層には吸着剤を添加することができる。このような吸着剤としては、ゼオライトや活性炭等を例示できる。
【００２８】
光触媒層を製造するには、例えば、基体上に、光散乱粒子、および光触媒機能を持つ光触媒粒子を含む塗布液からなる塗膜を形成し、この塗膜を少なくとも乾燥させる。この塗布液の分散媒は特に限定されず、水であってよく、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコールなどの有機溶媒であってよく、水と有機溶媒との混合物であってよい。また、塗布液の塗布方法は特に限定されず、ディップコート、スピンコート、スプレーコートなどであってよい。
【００２９】
ゾルゲル法の場合には、例えばチタンアルコキシドをアルコール等の溶媒に溶かし、アミン類を安定化分散剤として用い、酸を解膠作用の目的に添加して調整する。又、上記光触媒の担持方法としてゾルゲル法を用いる場合、触媒活性の高いアナターゼ型にするためには、焼成を３００〜７００℃で行うこともできる。
【００３０】
また、光触媒層を、物理的気相成長法、化学的気相成長法、有機金属化学的気相成長法などの気相法によって成膜することもできる。
【００３１】
前記の流体は特に限定されない。被処理物質は、例えば、有害成分や汚染成分を含むガスであってよく、液体であってよい。汚染物質ないし有害物質としては、ＶＯＣ、ＮＯｘ、ダイオキシン、色度成分、COD、トリハロメタン、環境ホルモン、ＰＯＰｓなどであってよい。
【００３２】
レーザー光の種類、波長、出力は特に限定されず、目的とする光触媒作用に応じて選定される。レーザー光源としては、例えば赤色半導体レーザーと光学非線形素子の一種であるSHGを組み合わせた全固体紫外レーザーを例示できる。また、レーザー光の波長は、例えば、DVD-R用に市販されている発振波長660nmの赤色レーザー光をSHG素子で変換した330nmである。
【００３３】
本発明によるセラミック構造体の製造方法は特に限定されない。好ましくは、互いに略平行に延びる一方の隔壁部および他方の隔壁部を備えており、一対の隔壁部の間に前記孔が設けられているセラミック基体を準備し、隔壁部に対して略垂直の方向に向かって前記セラミック基体を加圧することによって、一方の隔壁部と他方の隔壁部とを互いに所定角度をもって傾斜させ、一方の隔壁部と他方の隔壁部とを接合させて孔に閉塞端を形成することができる。
一対の隔壁部の間に孔が設けられているセラミック基体は比較的低コストで量産でき、このようなセラミック基体を加圧することによって、本発明のセラミック構造体を製造できることから、量産に適した方法である。
【００３４】
この発明においては、特に好ましくは、セラミック基体を収容する収容部、他方の隔壁部を支持する支持面、およびセラミック構造体の外形に合わせて設計された高さ規制面を備えている治具を使用する。そして、収容部内にセラミック基体を収容し、支持面上に他方の隔壁部を載置し、高さ規制面上に加圧部材を接触させることによってセラミック基体の一方の隔壁部を加圧し、変形させる。以下、図７〜図１２を参照し、この発明の実施形態について述べる。
【００３５】
例えば図７に示すようなセラミック基体２０を準備する。図７（ａ）は基体２０の縦断面図であり、図７（ｂ）は基体２０を矢印VIIｂ側から見た正面図である。本例の基体２０には、一対の隔壁部２０ｃ、２０ｄおよび区分隔壁３０が設けられており、これらの間に貫通孔２０ｅが形成されている。２０ａ、２０ｂは、貫通孔２０ｅの各開口である。このような基体２０に矢印Ｅ方向へと適切に圧力を加えることによって、図１に示すようなセラミック構造体を成形することができる。
【００３６】
このためには、例えば図８（ａ）、（ｂ）に示すような治具２１を使用することが好適である。図８（ａ）は治具２１の側面図であり、図８（ｂ）は治具２１の上面図である。治具２１は、基体２０の支持部２１ａ、支持部２１ａの両側から上方へと突出する細長い側壁部２１ｄを備えている。側壁部２１ｄおよび支持部２１ａによって、基体２０の収容部２１ｇが形成されている。収容部２１ｇ内にセラミック基体２０を収容し、基体２０の他方の隔壁部２０ｄを支持面２１ｂによって支持する。２１ｅ、２１ｆはそれぞれ端部である。治具２１には、成形すべきセラミック構造体の外形に合わせて設計された高さ規制面２１ｃが設けられている。本例では、高さ規制面２１ｃは、細長い傾斜面として成形されている。
【００３７】
そして、図９（ａ）、図９（ｂ）に示すように、収容部２１ｇ内にセラミック基体２０を収容し、支持面２１ｂ上に他方の隔壁部２０ｄを載置する。図１０（ａ）は、図９（ａ），図９（ｂ）において矢印Ｘａ側から見た正面図であり、図１０（ｂ）は、矢印Ｘｂ側から見た正面図である。端部２１ｅ側（図１０（ａ））では、高さ規制面２１ｃと基体２０の上面とはほぼ同一平面上にある。しかし、端部２１ｆ側（図１０（ｂ））では、高さ規制面２１ｃに対して基体２０が突出する。
【００３８】
この状態で、高さ規制面２１ｃ上に加圧部材を接触させることによって、セラミック基体２０の一方の隔壁部２０ｃを加圧し、変形させる。例えば、図１１（ａ）、図１１（ｂ）に示すように、加圧部材（例えばローラー）２３を矢印Ｄのように高さ規制面２０ｃ上で転がし、隔壁部２０ｄを加圧変形させる。この結果、図１１（ｂ）、図１２（ｂ）、図１２（ｃ）に示すようなセラミック成形体１Ａを成形することができる。この成形体１Ａは、図１に示すように傾斜した内壁面を有している。
【実施例】
【００３９】
図７〜図１２を参照しつつ説明した方法に従い、図１に示すようなセラミック構造体１を製造した。ただし、原料として、粒子径57.0±3.0ミクロンのアルミナ９０重量％と、ガラス成分１０重量％との混合物を使用した。この混合物に１０〜２０重量％の水分、および７重量％のメチルセルロース「＃4000（信越化学製）」を添加し、ニーダーを用いて、5〜10℃で30分混練した。
【００４０】
この混練物を、宮崎鉄工株式会社製「ＰＭ−３０型」（スクリュー径φ30mm）を用いて押出成形し、成形寸法縦35ｍｍ×厚さ8ｍｍ×横340mm、壁厚み1.0mmの基体を得た。この基体を、図８に示す治具２１を用いて加圧成形し、図12に示す成形体１Ａを作製した。この成形体１Ａを焼成し、図１に示す焼結体１を得た。この端部１ａ側の高さは        ｍｍであり、１ｂ側の高さは７．０ｍｍであり、傾斜角度θは１．８°であった。
【００４１】
この基体の各孔中に、酸化チタン光触媒ゾルを平均膜厚0.2μmになるようディップコートし、乾燥後、400℃で5時間、焼成を行ない、光触媒層を製造した。この部材を反応管に入れ、無機接着剤で封口した。光源は、半導体赤色レーザーにSHG素子を組み合わせた波長360nm出力50mWの紫外光レーザーを200個組み合わせ、総出力10Wのシステムを使用した。この反応装置に、処理ガスとしてアセトアルデヒド100ppmを含む空気を流量1Nm3/minで通し、処理特性を計測した。光の照射方向Ｃに対して、図５に示すようにガスを対向で流した（Ａ、Ｂ）。この結果、レーザー光が有効に利用されていることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】（ａ）は、本発明の一実施形態に係るセラミック構造体１を示す縦断面図であり、（ｂ）は、構造体１を矢印Ｉｂの方向から見た正面図であり、（ｃ）は、構造体１を矢印Ｉｃの方向から見た正面図である。
【図２】（ａ）は他の実施形態に係る構造体１１を示す縦断面図であり、（ｂ）は、構造体１１を矢印ＩＩｂ側から見た正面図である。
【図３】（ａ）は、更に他の実施形態に係るセラミック構造体７を示す縦断面図であり、（ｂ）は、構造体１を矢印IIIｂの方向から見た正面図であり、（ｃ）は、構造体１を矢印IIIｃの方向から見た正面図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）は、それぞれ流体Ａを透過させるためのフィルターを示す断面図である。
【図５】光触媒部材１７を模式的に示す断面図である。
【図６】光触媒部材１７を模式的に示す断面図であり、流体Ａとレーザー光Ｃとが同方向から供給されている。
【図７】（ａ）は、加圧前のセラミック基体２０を示す縦断面図であり、図７（ｂ）はその正面図である。
【図８】（ａ）は、加圧用の治具２１を示す側面図であり、（ｂ）は、治具２１の上面図である。
【図９】（ａ）は、治具２１に基体２０を固定した状態を示す側面図であり、（ｂ）は、（ａ）の治具２１および基体２０の上面図である。
【図１０】（ａ）は、図９の治具２１および基体２０を矢印Ｘａ側から見た正面図であり、（ｂ）は、図９の治具２１および基体２０を矢印Ｘｂ側から見た正面図である。
【図１１】（ａ）は、図９の治具２１および成形体１Ａの側面図であり、（ｂ）は、図１１（ａ）の治具２１および成形体１Ａの上面図である。
【図１２】（ａ）は加圧部材２３を示す斜視図であり、（ｂ）は、図１１（ｂ）の治具２１および成形体１Ａを矢印ＸＩＩｂ側から見た正面図であり、（ｃ）は、図１１（ｂ）の治具２１および成形体１Ａを矢印ＸＩＩｃ側から見た正面図である。
【符号の説明】
【００４３】
１、７  セラミック構造体        １Ａ  成形体        １ａ、１１ａ  開口端        １ｂ、１１ｂ  閉鎖端        １ｃ、１１ｃ、２０ｃ  一方の隔壁部        １ｄ、１１ｄ、２０ｄ  他方の隔壁部        ２  開口        ３  孔        ４Ａ、４Ｂ  隔壁部の内壁面        ８  膜        １７  光触媒部材        ２０  セラミック基体        ２１  治具        ２１ｂ  基体の支持面        ２１ｃ  高さ規制面        ２１ｄ  側壁部        ２１ｇ  収容部        ３０  区分隔壁        Ａ  未透過の流体          Ｂ  透過後の流体        Ｃ  レーザー光        θ  隔壁部の傾斜角度
【図１】
2005125551.tif 000003
【図２】
2005125551.tif 000004
【図３】
2005125551.tif 000005
【図４】
2005125551.tif 000006
【図５】
2005125551.tif 000007
【図６】
2005125551.tif 000008
【図７】
2005125551.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
2005125551.tif 000012
【図１１】
2005125551.tif 000013
【図１２】
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