(57)【要約】【課題】  マスクケース内に収納したフォトマスク基板の係止具がフォトマスク基板の表裏面へ接触しない構造を提供すると共に輸送時等の振動に伴うマスクケース内のフォトマスク基板のずれ家微動を防ぎ、ケース内でのリブ等との接触による塵埃の発生を防止することのできるマスクケースの提供を課題とする。【解決手段】  本体と蓋体とを有するフォトマスク基板を収納するマスクケースの本体内にフォトマスク基板を載置して係止する係止具が、フォトマスク基板の各角部方向で、それぞれ一の角部近傍にて二方向にフォトマスク基板を載置して係止する係止具を有すると共に該係止具がそれぞれフォトマスク基板の稜線面に適合した傾斜面を有するマスクケースによって解決できる。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体１と本体の開口を閉鎖する蓋体２とを有するフォトマスク基板９を収納するマスクケースにおいて、
本体１内のフォトマスク基板９を載置して係止する係止具３が、フォトマスク基板９の各角部方向で、それぞれ一の角部近傍にて二方向にフォトマスク基板９を載置して係止する係止具３を有すると共に、
該係止具３がそれぞれフォトマスク基板９の稜線面９１に適合した傾斜面３０を有することを特徴とするマスクケース。
【請求項２】
本体１の係止具３にフォトマスク基板９を載置係止した後に上部から該フォトマスク基板９を押さえる蓋体２の蓋体係止具４であって、
蓋体係止具基部４１に連設して曲線面４２を有し、該曲線面４２のフォトマスク基板９の稜線面９１と接する部分において肉厚形状４２０とし、これに連設した部分にやや薄肉厚部の撓み部４３を有する蓋体係止具４を蓋体に有することを特徴とするマスクケース。
【請求項３】
本体１と本体の開口を閉鎖する蓋体２とを有するフォトマスク基板９を収納するマスクケースにおいて、
本体１内のフォトマスク基板９を載置して係止する係止具３が、フォトマスク基板９の各角部方向で、それぞれ一の角部近傍にて二方向にフォトマスク基板９を載置して係止する係止具３を有すると共に該係止具３がそれぞれフォトマスク基板９の稜線面９１に適合した傾斜面３０を有し、
蓋体２の蓋体係止具４が、蓋体係止具基部４１に連設して曲線面４２を有し、該曲線面４２のフォトマスク基板９の稜線面９１と接する部分において肉厚形状４２０とし、これに連設した部分にやや薄肉厚部の撓み部４３を有する蓋体２の蓋体係止具を有し、
本体１の係止具３にフォトマスク基板９を載置係止した後に蓋体２を閉鎖することにより該フォトマスク基板９を押さえて収納することを特徴とするマスクケース。
【請求項４】
本体１に該係止具３の傾斜面３０と並列して配設するリブ７を有し、該リブ７のフォトマスク基板９の載置方向の傾斜角が、フォトマスク基板９の稜線面９１に適合した傾斜面３０を有する該係止具３の傾斜面３０の傾斜角よりも急であると共に少なくとも載置位置におけるフォトマスク基板９に該リブ７が接しない位置にリブ７を配設したことを特徴とする請求項１又は３のいずれかに記載のマスクケース。
【請求項５】
該係止具３が略Ｌ字状の係止具３であり、略Ｌ字を構成するそれぞれの突出部の両端部に本体突起押え部３１を有すると共にフォトマスク基板９の稜線面９１に適合した傾斜面３０を有することを特徴とする請求項１，３，４のいずれかに記載のマスクケース。
【請求項６】
該係止具３が略Ｌ字状の係止具３であり、略Ｌ字を構成するそれぞれの突出部の両端部に本体突起押え部３１を有すると共にフォトマスク基板９の稜線面９１に適合した第三の傾斜面３２を有し、該第三の傾斜面３２に連設して第三の傾斜面よりも緩やかな角度の第二の傾斜面３３を有することを特徴とする請求項１，３，４のいずれかに記載のマスクケース。
【請求項７】
該係止具３が第二の傾斜面３３に連設して第二の傾斜面３３よりも角度を有する第一の傾斜面３４を有することを特徴とする請求項６記載のマスクケース。
【請求項８】
該係止具３が第一の傾斜面３４に連設して上面最下面３５を有することを特徴とする請求項７記載のマスクケース。
【請求項９】
略Ｌ字状の係止具３に代え、二つの略棒状の係止具３をほぼ９０度対向させて配設した係止具３を用いたことを特徴とする請求項１，３乃至８のいずれかに記載のマスクケース。
【請求項１０】
略Ｌ字状の係止具３に代え、略四角形状の係止具３を用いたマスクケースであって、略四角形状の隣り合う二辺が本体突起押え部３１を構成し、これに連設する傾斜面３０がフォトマスク基板９の稜線面９１に適合した傾斜面３０であることを特徴とする請求項１，３乃至９のいずれかに記載のマスクケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体素子や液晶表示素子等を製造するために用いられるフォトマスク基板を保存又は運搬するためのケースであって、きっちりと定置できると共にフォトマスク面即ちマスクパターンを施した面又はパターニング前の表面に接触することなくケース内に保管可能なマスクケースに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体集積回路等の製造工程で用いられるマスク基板、例えば半導体素子や液晶表示素子等を製造するためのフォトリソグラフィ工程等において用いられるフォトマスク基板に関しては、基板表面の汚染を極端に嫌い、その保存又は運搬に際してこれを収納するマスクケースに関してはフォトマスク基板に塵埃の付着や傷等を防止することを主目的として用いられているものである。
即ち、フォトマスク基板に塵埃の付着や傷等は、フォトマスクの欠陥となるものであり、フォトレジスト上に再現してしまい、そのままマイクロエレクトロニクスデバイスに組み込むとデバイスの正常な機能を破壊してしまうものであり、これらを防ぐために種々の方策がとられている。
例えば、フォトマスク基板の取扱上、端面以外の面には触れない事等の取扱い上の決まりや、収納時にフォトマスク基板に塵埃が付かないように気を付けて取り扱い、更にはマスクケース内に塵埃が入り込まないように気を付けて収納し、更には収納後のマクスケース内への塵埃が入らない構成をとっているものである。
【０００３】
更には、マスクパターンを施したフォトマスク基板に、ペリクル即ちニトロセルローズに代表される光学的に透明な薄い膜をフレームにより支えてマスクパターン面への塵埃の付着や傷付きを防止しているものである。
この場合、マスクパターン面との接触を極力避けるために例えば特開２００１−３０１８７７の第７図及び第８図に示す構成のものがある。
この係止具であるマスク支持体は、本体及び蓋体の内表面から必要数の保持枝部が突出して、この部分でフォトマスク基板を載置するものであり、この保持枝部については、幹部に傾斜平面を有する台板部を有する保持枝部又は幹部に帽子部を有する保持枝部からなっているものである。
又、フォトマスクは合成石英板等を用いることからマスクケース内に収納して運搬する際の衝撃に伴うマスクケース内のフォトマスク基板とその係止具であるマスク支持体とのずれにより、該マスク支持体と擦れてしまい、この係止具が削られることにより塵埃が生じてしまうこととなり、ケース内に微細な塵埃を発生させて、フォトマスク基板に付着し重大な損傷を与えてしまう虞れもある。
【０００４】
このため、フォトマスク基板との接触を防止すると共にフォトマスク基板の収納時のずれを防止するための構成としては特開２００３−２２２９９２がある。  この構成は、この係止具に関し、傾斜面を有する係止具を用い、本体の開口部方向の係止具は傾斜面をケース中心部に向かって徐々に低くなるように配設し、奥方向の係止具は傾斜面をケース開口部方向に向かって徐々に低くなるように配設し、更には蓋体の開口部方向の係止具は傾斜面をケース奥方向に向かって徐々に低くなるよう配設し、蓋体の奥方向の係止具は傾斜面をケース中央部に向かって徐々に低くなるよう配設し、蓋体を閉めた際にフォトマスクの稜線部分を上下方向と共に前後左右方向から押さえるマスクケースである。
【特許文献１】特開２００１−３０１８７７
【特許文献２】特開２００３−２２２９９２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
まず、特開２００１−３０１８７７に関しては、フォトマスクとの接触部分を帽子部として接触面を極力小さくしたものであるが、少なくともこの部分でフォトマスクの面と接してしまうものであり、この部分の汚染や傷付きはさけられないものである。
即ち、例えばマスクパターンを施したフォトマスク基板のペリクルを配した以外の箇所のインデックスマーク部分等に触れてしまうことが生じてしまうものであった。
更に帽子部の点での支持であり、運搬時等の衝撃で内部のフォトマスクが揺さぶられ、保持枝部からずれてしまう虞れがある。
従って、ずれにより帽子部の接触面が拡大すると共に破損の虞れもあるばかりでなく、フォトマスク基板を位置決めしている位置決め部材例えばリブ等や保持枝部等と接触してしまい、この部分が擦れて削られることにより塵埃が生じてしまう虞があった。
【０００６】
これに対して、特開２００３−２２２９９２に関してはこれと異なり、フォトマスクの稜線部分を上下方向から傾斜面を有する係止具で前後左右方向に押さえる構成であることからフォトマスクの表面部分には接しないものであり、上下方向から前後左右方向に押さえる事から運搬時等の衝撃では内部のフォトマスクが揺さぶられ難くなり、更には仮にずれたとしてもフォトマスクの稜線部分との接触部分がずれることからフォトマスクの面と接することがないものである。
しかし、上下方向から前後左右方向の計８点で定位置に位置決めするものであり、程々の衝撃に対してはフォトマスクのずれは防げるが、極めて多大な力で揺さぶられた場合にはどうしてもフォトマスクのずれが生じてしまう虞れがある。  又、前後方向に対する押さえは上下面で計４か所、左右方向に対する押さえは上下面で計４か所となり、フォトマスクの一稜線に対して、他の対向する反対面の一稜線にそれぞれ２か所ずつの押さえを入れたものであり、傾斜方向へのずれに対しては若干生ずる虞れを有していたものである。
【０００７】
従って、極端に揺すられた場合等においては、フォトマスク基板を位置決めしている位置決め部材例えばリブ等や係止具等と接触してしまい、リブ等や係止具等が削られ塵埃の生ずる余地もあった。
更には傾斜面を有する係止具にフォトマスクの稜線部分を押さえた場合に、この係止具に軟質部材を用いた場合には、この傾斜面が蓋体を閉めた押圧力で凹み、フォトマスクの面に若干ではあるが傾斜面が接する虞れもある。
従って、フォトマスクの表面の端の部分に施されるインデックスマークと接触しないとも限らない虞があった。
【０００８】
特に、フォトマスクに関しては、半導体素子や液晶表示素子等の製造に際して、極めて細かいパターニングが要求されており、それに応じて従来に比べ極めて微細な塵埃の存在も問題となり、更にはフォトマスクの面への接触を極力なくすことが要求されることとなっている。
即ち、フォトマスク基板上にマスクパターンを施したものにあっては、パターン面の汚染はあってはならないものであり、更にはフォトマスク基板のパターニング前のマスク基板であるブランクスに関しては、その表面は平坦性と平滑性が要求され、汚染はあってはならないものである。
特にＬＳＩ用のブランクスには、その遮光膜にクロム単層構造の他に、表面反射構造、表裏面低反射構造のものがあり、低反射膜は酸化クロムでできおり、干渉による反射率を下げている。
この様なクロムブランクス基板にあっては、表面の汚染を極度に嫌うことから端面以外の部分には触れてはならないものとされている。
【０００９】
従って、この様な基板のマスクケースへの収納には厳しいクリーンルームの中で承認済みのフィンガーカバーや手袋を着用して、端面以外には触れずに作業をすることが必要であり、収納後においても基板の端面以外には接しないことが要求されると共に、輸送時の振動に伴う基板の微動に基づく容器の一部が削られて生ずる塵埃を生じさせないように何等かの措置が必要であり、これらによりブランクスの状態及びマスクパターンを施した状態のいずれのフォトマスク基板についても容器内での塵埃の発生を極力避けることが要求されるものである。
更にはブランクス及びマスクパターンを施したフォトマスク基板のペリクル配設部分のみならずインデックスマークを施す又は施した部分を含むフォトマスク基板の端面以外の表裏面には一切触れることがない構造が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は上記課題を解決するものであり、フォトマスク基板の表面部分には触れずに収納可能であって、収納時のフォトマスク基板の微動を制御する事が可能なマスクケースの提供を可能とするものである。
係るため請求項１に係る発明は、本体と本体の開口を閉鎖する蓋体とを有するフォトマスク基板を収納するマスクケースの本体内のフォトマスク基板を載置して係止する係止具が、フォトマスク基板の各角部方向で、それぞれ一の角部近傍にて二方向にフォトマスク基板を載置して係止する係止具を有すると共に、該係止具がそれぞれフォトマスク基板の稜線面に適合した傾斜面を有するマスクケースであり、係る発明によって前記課題を解決できる。
又、請求項２に係る発明は、本体の係止具にフォトマスク基板を載置係止した後に上部から該フォトマスク基板を押さえる蓋体の蓋体係止具であって、蓋体係止具基部に連設して曲線面を有し、該曲線面のフォトマスク基板の稜線面と接する部分において肉厚形状とし、これに連設した部分にやや薄肉厚部の撓み部を有する蓋体の蓋体係止具を蓋体に有するマスクケースであり、係る発明によって前記課題を解決できる。
【００１１】
次に請求項３に係る発明は、請求項１及び２に係る発明の組み合わせであり、本体内のフォトマスク基板を載置して係止する係止具が、フォトマスク基板の各角部方向でそれぞれ一の角部近傍にて二方向にフォトマスク基板を載置して係止する係止具を有すると共に該係止具がそれぞれフォトマスク基板の稜線面に適合した傾斜面を有し、更に蓋体の蓋体係止具が、蓋体係止具基部に連設して曲線面を有し、該曲線面のフォトマスク基板の稜線面と接する部分において肉厚形状とし、これに連設した部分にやや薄肉厚部の撓み部を有する蓋体の蓋体係止具を蓋体に有し、本体の係止具にフォトマスク基板を載置係止した後に蓋体を閉鎖することにより該フォトマスク基板を押さえて収納するマスクケースであり、係る発明により収納したフォトマスク基板のずれや微動などを防止できる。
この場合、請求項４に係る発明は、本体に該係止具の傾斜面と並列して配設するリブを有し、該リブのフォトマスク基板の載置方向の傾斜角が、フォトマスク基板の稜線面に適合した傾斜面を有する該係止具の傾斜面の傾斜角よりも急であると共に少なくとも載置位置におけるフォトマスク基板に該リブが接しない位置にリブを配設したマスクケースであり、係る発明によって収納時のフォトマスク基板とリブとの接触を防止できる。
【００１２】
これらの他、請求項５に係る発明のように該係止具が略Ｌ字状の係止具であり、略Ｌ字を構成するそれぞれの突出部の両端部に本体突起押え部を有すると共にフォトマスク基板の稜線面に適合した傾斜面を有するマスクケースであっても請求項６に係る発明のように突出部の両端部に本体突起押え部を有し、フォトマスク基板の稜線面に適合した第三の傾斜面を有し、該第三の傾斜面に連設して第三の傾斜面よりも緩やかな角度の第二の傾斜面を有するものでもよく、請求項７に係る発明のように第二の傾斜に連設して第二の傾斜面よりも角度を有する第一の傾斜面を有するものでも、更には請求項８に係る発明のように該係止具が第一の傾斜に連設して上面最下面を有するマスクケースを用いてもよい。
或いは請求項９に係る発明のように略Ｌ字状の係止具に代え、二つの略棒状の係止具をほぼ９０度対向させて配設した係止具を用いたものでもよい。
又、請求項１０に係る発明のように略Ｌ字状の係止具に代え、略四角形状の係止具を用いたマスクケースであって、略四角形状の隣り合う二辺が本体突起押え部を構成し、これに連設する傾斜面がフォトマスク基板の稜線面に適合した傾斜面であるものであってもよい。
【発明の効果】
【００１３】
この様に構成したことにより、係止具はフォトマスク基板の稜線面と接して保持係止することから、フォトマスク基板の面に係止具が触れることがなくフォトマスク基板を載置して係止することができるものであり、パターニング前のマスク基板であるいわゆるブランクスやパターニングを施したフォトマスクのいずれの場合にもフォトマスク基板の面が係止具の接触によって傷付き又は汚れることを防ぐことができるという第一の効果を有する。
更に、本発明に係る係止具を用いたマスクケースを使用することにより、収納したフォトマスク基板を一の角部方向で二方向から押さえることができ、一のフォトマスク基板に対して八方向から押さえることができることとなって、収納時のフォトマスク基板のずれや微動を防止できるという第二の効果を有する。
【００１４】
この事は、フォトマスク基板のずれや微動によって容器本体の一部に接触し、この部分を削ってしまうことにより生ずる塵埃の発生を防止できることとなり、マスクケース内の塵埃をフォトマスク基板に付着させてしまうことを極めて高い確率で防止でき、フォトマスク基板の重大なる損傷を防ぐことができる。
更に本発明に係る蓋体に蓋体係止具を用いたマスクケースを用いることにより、蓋体閉鎖時の蓋体係止具におけるフォトマスク基板の押さえの際に生ずるフォトマスク基板の稜線面と接する部分近傍における蓋体係止具の変形を防止でき、蓋体係止具の変形部分による該フォトマスク基板の面への接触を防止できるという第三の効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
次に本発明の最良の一形態の例を図１に示す。
まず、半導体素子や液晶表示素子等を製造するために用いられるフォトマスク基板９を保存又は運搬するためのフォトマスクケース１であって、本図はフォトマスク９を収納した状態を示す図である。
即ち、半導体集積回路等の製造工程で用いられるマスク基板、例えば半導体素子や液晶表示素子等を製造するためのフォトリソグラフィ工程等において用いられるフォトマスク基板であり、パターニング前のマスク基板であるいわゆるブランクスやパターニングを施したフォトマスクを収納して運搬等するためのフォトマスクケースである。
本図に示す構成は、フォトマスク９を収納した状態で蓋体２を閉めた状態を示す。
この場合、フォトマスクケース内のマスクは、本体１の略Ｌ字状の係止具３によってフォトマスク９の四隅が載置しており、更にこの係止具３は傾斜面３０を有することから、その傾斜面３０にてフォトマスク９の稜線部分９１が接しているものである。
【００１６】
従って、本体１においては、フォトマスク９の四隅がそれぞれに二方向即ち側部方向から中心部方向に向かって押さえられると共に開口部或いはヒンジ方向から中心部方向に向かって該係止具３によってフォトマスク９が位置規制されているものである。
尚、リブ７をも本体に有している。
更に蓋体２においては、蓋体係止具４が開口部を有する壁部及びヒンジ部を有する壁部の両壁部に平行に配設され、これが蓋体を閉めた際に、フォトマスク９を上部方向から押さえることとなる。
この場合蓋体係止具４も同様に傾斜面４０を有することからその傾斜面４０にてフォトマスク９の稜線部分９１が接しているものである。
従って、フォトマスク９の表裏面に関してはいずれも係止具３及び蓋体係止具４に触れておらず、フォトマスク９の稜線部９１においてのみ接するものとなる。
【００１７】
これにより、一切フォトマスク９の表裏面に触れずにケース内に収納及び保持できるものとなる。
この事は、フォトマスク９のパターニングの前後を問わず、フォトマスクを用いる場合に是非とも必要な事ではあるが、従来は係止具との関係においてパターニングをする部分のみを極力触れない構成を要求されていたが、現状においてインデックスマークも施されるものであり、このインデックスマークは、パターンニングと異なり、フォトマスクの面の四隅等に施されることから、これらの部分にも何等かの接触物を設けることは避けることが必要である。
特にフォトマスクの大きさやブランクスを施した範囲、パターニング面の範囲等は多種あり、更には製造上の誤差等を考えるとフォトマスクの表裏面全ての部分に付いてケースの係止具等を接触させてはならないものであり、本構成により、これが達成できる。
更に本体係止具３はフォトマスク９の稜線９１を中心部方向に向かって８方向から押さえることを可能とするものであり、ケース内のフォトマスク９は、その場所に固定され、ずれ動く事を防止できる。
【００１８】
この事は、ケース内のフォトマスク９が若干でも動くことを防止するものである。
即ち、その収納時や保管時のケース自体の取扱い上の揺れによる収納マスク基板９の微動により、ケースの係止具３、４やリブ７等と収納マスク基板９が接触してしまい、これによりケースの係止具３、４やリブ７等が削られて発生する塵埃を防止しなければならないが、本構成によりこれらを全て防止できることとなる。
現在、視認できない程度の細かい塵埃も、フォトマスクの面に付着することを防止することに腐心している現状下において、フォトマスクの振動により削り出される極めて微細な塵埃の発生を防止することはフォトマスクの遮光膜面上、ペリクル上への微細な塵埃の付着によるフォトレジストフィルム上の再現に際しての欠陥を防止できることとなる。
【００１９】
図２は、本マスクケースの蓋体２を開き、本体１を視認した状態を示す図であり、本体１の係止具３の配設状態を示す図である。
本体１の閉鎖スライダー６を有する開口部方向であって、マスク基板９を載置する場合のマスク基板９の両角部にそれぞれ係止具３を配設してあり、更にヒンジ５を有する方向であってマスク基板９を載置する場合のマスク基板９の両角部にもそれぞれ係止具３を配設している。
この場合、該マスク基板９は略Ｌ字の該係止具３により係止されており、この略Ｌ字の該係止具３は、それぞれの突出部の上部面を傾斜面３０で構成していることから、その傾斜面３０で該マスク基板９の稜線部分９１と接することとなり、マスク基板９を該稜線部分９１で係止できることとなる。
更に、この様に構成することにより該マスク基板９の４隅においてそれぞれ２か所ずつ押えられ位置決めされる事となり、定位置にきっちりと載置できることとなる。
この場合計８か所にて押えられることからケースを揺すった場合にも該マスク基板９は係止具３上でずれや揺れ等を生じさせることがない。
【００２０】
尚、本体１の各壁部方向から中央部に向かって、該マスク基板９の両端部方向にそれぞれリブ７を有し、計８か所のリブ７によって、該マスク基板９の載置箇所を確認的に示しているものである。
従って、本図に示すリブ７は収納時のマスク基板９に接しないよう配設されており、特にマスク基板９の挿入及び取り出しの便宜を図るものであり、更に本体の強度を増すものである。
尚、本図に示すリブ７の配設位置等は一例であり、本図の位置等に限定されるものではないが、少なくとも収納時のマスク基板９に接しないよう配設することが必要である。
又、マスク基板９の表面中央部にはマスクパターンを施した部分９２があり、この部分にはペリクルが配設しているものであり、更に四隅にはインデックスマーク９３が付されている。
図３は、蓋体２の蓋体係止具４の配設状態の一例を示す図であり、本マスクケースの蓋体２を開いて蓋体内表面を表出させた状態を示す図である。
まず、蓋体２を閉めた場合に本体に載置したマスク基板９の稜線９１に接する位置にそれぞれ蓋体係止具４を配設してあり、この蓋体係止具４は内置するマスク基板９の稜線９１に対向方向に配設されている。
【００２１】
この蓋体係止具４は、その上部面を傾斜面４０で構成しており、その傾斜面４０がマスク基板９の稜線９１に接することとなる。
本図に示す蓋体係止具４は、蓋体２の閉鎖スライダー導通路６１を有する開口部方向の壁部と平行であって該ケースの両側壁方向にそれぞれ一つづ配設していると共に、蓋体２のヒンジを有するヒンジ方向の壁部と平行であって該ケースの両側壁方向にそれぞれ一ずつ配設している。
従って、計四箇所において蓋体２に蓋体係止具４を配設し、蓋体２を閉じた場合には、上部方向から該蓋体係止具４でマスク基板９の稜線９１を押えて、マスク基板９のずれや微動を防止するものである。
本図に示す蓋体係止具４の配設箇所や向き等に関しては本発明の一例を示すものであり、本図に示す形態に限定するものではない。
図４は、マスク基板９が本体１の係止具３と蓋体２の蓋体係止具４により係止されている状態を示す断面図であり、まず本体１の係止具３の傾斜面３０にマスク基板９が載置され、上部より蓋体係止具４によりマスク基板９が押えられている状態を示す。
【００２２】
まずマスク基板９は、表裏面を有すると共に側面９０を有する。
この側面９０とそれぞれの表裏面の間には稜線９１を有している。
これに対して、本体１の係止具３においては本体突起押え部３１に連設している第三の傾斜面３２とこれに連設している第二の傾斜面３３と更にこれに連設している第一の傾斜面３４と上面最下面３５とから構成されている。
まず上面最下面３５を基準にして考えると、該上面最下面３５は、係止具３の本体を構成する最も下部に位置する面であり、平面であると傾斜面であるとを問わない。
例えば、奥側即ちヒンジ５を有する方向の係止具３はマスク基板９を載置する際に、マスク基板９を該係止具３に滑り込まる際に、該マスク基板９の稜線９１がこの面に触れた上で、この面に沿って、第一の傾斜面３４乃至第三の傾斜面３２と順次沿って、定位置にマスク基板９を導く事を可能とする。
この上面最下面３５に続く第一の傾斜面３４はやや傾斜角のある傾斜面よりなり、該マスク基板９の稜線がこの面に沿って、更に第二の傾斜面３３、第三の傾斜面３２と順次沿って、定位置にマスク基板９を導く事を可能とする。
【００２３】
本図に示す第一の傾斜面３４の構成は約２０度であるが、この角度に限定されるものではない。
少なくともマスク面に触れずに該マスク基板９を定位置に導ける角度を有するものであればよい。
この第一の傾斜面３４に続く第二の傾斜面３３は第一の傾斜面３４よりも緩やかな傾斜面であり、少なくともマスク載置時にマスク面に触れない程度の角度であればよく、必要に応じてマスク面の稜線９１を下部から支える事の可能な角度であればよい。
本図ではこの第二の傾斜面３３は５度の傾斜角を有して構成しているが、この角度に限るものではなく、適宜最適な角度を有していればよい。
尚、第三の傾斜面３２で全てマスク面の稜線面を支える場合には、下部から支える必要はない。
次にこの第二の傾斜面３３に続いて第三の傾斜面３２を有するが、この傾斜面はマスク基板９の稜線面９１に接する面であり、略マスク基板９の稜線面９１の角度と同様の角度を有していることが最適である。
【００２４】
例えば両者の角度が一致する場合にはまさに第三の傾斜面３２とマスク基板９の稜線面９１とが面で接し、この部分においてマスク基板９を支えるものとなる。
尚、若干異なる角度であっても、第三の傾斜面３２とマスク基板９の稜線面９１の一部又は稜線面の角部でマスク基板９を支える事が可能であり、若干の相違は十分に許容されるものである。
本図に示す第三の傾斜面３２の傾斜角度は約５０度として構成した一例を示すが、もとより４０度乃至６０度程度の傾斜角を有するものであればよく、例えば４５度等の角度であってもよいのはもちろんである。
従って、少なくともマスク基板９の稜線面９１の角度に適合する角度即ちマスク基板９の稜線面９１の角度と同じ或いは該角度のプラスマイナス１５度前後程度の範囲内の角度を有する傾斜角度を有するものであればよい。
次に、蓋体２の蓋体係止具４は、蓋体係止具基部４１に連設して曲線面４２を有し、該曲線面のマスク基板の稜線面と接する部分４２０において肉厚形状とし、これに連設した部分にやや薄肉厚部の撓み部４３を有して構成されている。
【００２５】
従って、マスク基板９の稜線面９１と接する部分においては、該蓋体係止具４は、変形しにくいものとなり、これに続く撓み部４３により、弾力を以て上部からマスク基板９の稜線面９１を押さえるものとなる。
この事は、押さえ部材として蓋体係止具４を用いた場合に例えばやや軟質の樹脂部材を用いると、マスク基板９の稜線面９１と接する部分において押さえ部材が凹む事から、この凹み部分の両端部方向面が変形して突出形状となりやすく、不用意にマスク基板９の面に接する可能性があり、これによりマスク面を汚してしまう又は傷を付けてしまう恐れがないわけではなかったことから、係る弊害を防止できることとなる。
従って、マスク基板９の四隅にインデックスマーク９３を施した場合にも何等蓋体係止具４が接しないこととなる。
図５は、図４に示す本体１の係止具３の上面図である。
【００２６】
本図に示すように図４に示した係止具３は略Ｌ字形状をなしており、該略Ｌ字の両突出部においてそれぞれ一定方向に傾斜面３０即ち本体突起押え部３１、第三の傾斜面３２、第二の傾斜面３３、第一の傾斜面３４、上面最下面３５を有し、その方向において載置したガラス基板９の稜線面９１を係止することができる。
図６は、図４の側面図であり、略Ｌ字形状のそれぞれの突出部において、その両端部方向から本体突起押え部３１と第三の傾斜面３２と第二の傾斜面３３と第一の傾斜面３４と上面最下面３５を有している。
従って、マスク基板９の角部が丁度この両本体突起押え部３１の間に載置されることとなり、マスク面９が該係止具３に触れる事がないと共に一の係止具３で二方向の位置規制が行えることとなる。
図７は、図４に示す本体１の係止具３の底部方向の形状を示す図であり、本係止具の一例を示す図である。
【００２７】
例えば本体に係止嵌入用の係止突起を有した場合には、係止具３の底部に嵌入孔３８を有する事により、係止具３を本体１に配設可能となると共に本図に示すように三か所にて嵌入すれば、係止具３のずれや微動を防止できる。
図８は、本体の係止具の断面図であり、図９は、図４の他の側面図を示す。
図１０は、本体１の係止具３の他の例を示す図であり、略Ｌ字形状のそれぞれの突出部において、その両端部方向から本体突起押え部３１と第三の傾斜面３２と第二の傾斜面３３と上面最下面３５とからなる構成である。
この様に構成しても、マスク基板９を有効に保持でき、更にはマスク面に触れる事がない。
図１１は、本体１の係止具３の他の例を示す図であり、略Ｌ字形状のそれぞれの突出部において、その両端部方向から本体突起押え部３１と第三の傾斜面３２と第二の傾斜面３３とからなる構成である。
この様に構成しても、マスク基板９を有効に保持でき、更にはマスク面に触れる事がない。
【００２８】
従って、図４に示す構成は最適であるがこの形態に限定されるものではなく、少なくともマスク基板９を有効に保持するための本体突起押え部３１と、マスク基板９に稜線面に接するべき第三の傾斜面３２とを有するものであればよい。
図１２は、略Ｌ字形状の係止具のそれぞれの突出部に代え、それぞれを分断して二つの略棒状の係止具３をほぼ９０度対向させて配設した状態を示す図である。
略Ｌ字形状の係止具は、製造コストや製造工程上より簡単に製造できるが、この構成に限定されるものではなく、本図に示す様に分断した二つの係止具３をほぼ９０度対向させて配設したものであってもよい。
この場合も同様にそれぞれの係止具３には本体突起押え部３１と第三の傾斜面３２と第二の傾斜面３３と第一の傾斜面３４と上面最下面３５とを有するものが最適であるが、これに限定されず、本体突起押え部３１と第三の傾斜面３２と第二の傾斜面３３と上面最下面３５からなるものであっても、或いは本体突起押え部３１と第三の傾斜面３２とを有するものであってもよい。
【００２９】
図１３は、図１２の側面図であり、本体突起押え部３１と第三の傾斜面３２と第二の傾斜面３３と第一の傾斜面３４と上面最下面３５とを有している構成を示す。
図１４は、略Ｌ字形状の係止具３それぞれの突出部に代え、上面視略四角形状にて構成した他の例を示す図である。
この様に構成しても、同様に本体突起押え部３１と第三の傾斜面３２と第二の傾斜面３３と第一の傾斜面３４と上面最下面３５とを有しており、マスク基板９の稜線９１にて係止できる。
この場合、例えば曲折部３９が角を以て構成した場合でも、或いはアール角を以て構成したものであってもよく、マスク基板の角部のアール角度に応じたアール角度を有するものであれば、載置時に体裁よく設置できると共にずれや微動を防ぐ事ができる。
元よりマスク基板の角部のアール角度と異なるアール角度を有するものであってもよい。
【００３０】
更に、例えばマスク基板が角部をアール形状にて構成した場合には、角部の一部には接しない部分が生ずる事もあるが、他の部分で第三の傾斜面と接する部分にて保持できることから定位置に不動状態で保持可能である。
本図に示す場合にも少なくとも本体突起押え部３１と第三の傾斜面３２とを有するものであればよい。
図１５は、図１４の側面図を示す。
この様に構成することにより、第三の傾斜面３２にてマスク基板９の稜線面９１と接した状態で保持できると共に、マスク基板９の表裏面には何等触れることがないものとなる。
この場合例えば図１６に示す様にマスク基板９の角部のアール形状とは別に全体に略弧状の形状にて本体突起押え部３１と傾斜面３０とを構成したものであってもよい。
図１７は、本体のリブ７と本体１の係止具３との位置関係の一例を示す図である。
【００３１】
マスク基板９の稜線面９１は本体１の係止具３の第三の傾斜面３２に接し、第二の傾斜面３３によってマスク基板９との間に一定の間隔を有していることとなる。
この場合、本体突起押え部３１とマスク基板９とは一定の間隔を有している。  更に、リブ７を明示するがこのリブ７はマスク基板９の載置箇所の明示となると共に、マスク基板９の容器内への載置の際の便宜が図れるが、従来はこのリブ７が振動等によりずれ動くマスク基板９と接触して削られ、塵埃となる削り滓が出てしまうこととなり、ペリクル等に付着する虞が高かったものである。
本図に示す様にリブ７は約８５度の角度を有するのに対し本図の第三の傾斜面３２は略４５度乃至５０度程度の角度を有しており、両者の上部部分においてはマスク載置方向の一点で一致する部分を有するが、マスク基板９が載置される高さにおいては角度の急なリブ７は、マスク基板９から距離を有し、仮にマスク基板９が振動等によりずれ動いても、第三の傾斜面３２によってリブ方向に動く事を押さえる事からマスク基板９の載置時にはリブ７と接することはないものであり、塵埃が生ずる事を防げる。
尚、第三の傾斜面３２によってマスク基板９の製造時の大きさの誤差等を十分に許容できるものであるばかりでなく、この場合にもリブ７との接触を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明に係るマスクケースの蓋体を閉じた状態の一実施の形態を示す図
【図２】図１のマスクケースの蓋体を開き、本体を視認した状態を示す図
【図３】図１の蓋体を開き、蓋体を視認した状態を示す図
【図４】マスク基板が本体の係止具と蓋体の蓋体係止具により係止されている状態の一例を示す断面図
【図５】図４に示す本体の係止具の上面図
【図６】図４に示す本体の係止具の側面図
【図７】図４に示す本体の係止具の底部方向の形状を示す図
【図８】図４に示す本体の係止具の断面図
【図９】図４に示す本体の係止具の他の側面図
【図１０】本体の係止具の他の一例を示す図
【図１１】本体の係止具の他の一例を示す図
【図１２】本体の係止具の他の一例を示す図
【図１３】図１２に示す本体の係止具の側面図
【図１４】本体の係止具の他の一例を示す図
【図１５】図１２に示す本体の係止具の側面図
【図１６】本体の係止具の他の一例を示す図
【図１７】本体のリブと係止具との位置関係の一例を示す図
【符号の説明】
【００３３】
１      本体
２      蓋体
３      係止具
３０    傾斜面
３１    本体突起押え部
３２    第三の傾斜
３３    第二の傾斜
３４    第一の傾斜
３５    上面最下面
３９    曲折部
４      蓋体係止具
４０    傾斜面
４１    蓋体係止具基部
４２    曲線面
４２０  肉厚部
４３    撓み部
５      ヒンジ
６      閉鎖スライダー
６１    閉鎖スライダー導通路
７      リブ
９      フォトマスク基板
９０    側面
９１    稜線面
９２    マスクパターンを施した部分
９３    インデックスマーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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