(57)【要約】【課題】ランプやレンズの洗浄や取換の頻度を十分に減らすことができ、大型の露光装置にも空気清浄設備を増やすことなく適用することができる露光工程のケミカル対策用換気装置および露光工程のケミカル対策方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明にかかるケミカル対策用換気装置１００は、露光のためのランプやレンズを納めたランプハウス１０１ａを備える露光装置１０１と、露光装置１０１を設置する露光室１０２と、空気を清浄する空気清浄機１０３と、空気清浄機１０３で清浄した空気（清浄空気）をランプハウス１０１ａの近傍に導くダクト１０４と、で構成される。【選択図】        図１
2005347474.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置を用いてマスクパターンを基板に焼き付ける露光工程のケミカル対策用換気装置において、
ケミカル物質を除去した空気を上記露光装置の照明光学系および／または投影光学系の近傍に直接供給する第１空気供給手段、
を備えたことを特徴とする露光工程のケミカル対策用換気装置。
【請求項２】
上記照明光学系および／または上記投影光学系を覆う筐体を有し、
上記第１空気供給手段は上記空気を上記筐体に供給すること、
を特徴とする請求項１に記載の露光工程のケミカル対策用換気装置。
【請求項３】
ケミカル物質を除去した空気を上記露光装置の空気取入口に供給する第２空気供給手段、
をさらに備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の露光工程のケミカル対策用換気装置。
【請求項４】
空気の温度を所定温度に制御する温度制御手段と、
上記筐体を通過した空気を上記温度制御手段に供給する第３空気供給手段と、
上記温度制御手段で上記所定温度に制御した空気を上記露光装置を設置した露光室に供給する第４空気供給手段と、
をさらに備えたことを特徴とする請求項２または３に記載の露光工程のケミカル対策用換気装置。
【請求項５】
露光装置を用いてマスクパターンを基板に焼き付ける露光工程のケミカル対策方法において、
ケミカル物質を除去した空気を上記露光装置の照明光学系および／または投影光学系の近傍に直接供給すること、
を特徴とする露光工程のケミカル対策方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置を用いてマスクパターンを基板に焼き付ける露光工程においてケミカル物質を除去した空気を露光装置に供給する、露光工程のケミカル対策用換気装置および露光工程のケミカル対策方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルや半導体などの基板の製造工程の１つである露光工程において、その工程を行う露光装置（特許文献１参照）を設置する露光室内は、露光工程を行うことによって仕上げ材その他から発生するガスや露光工程以外の他の工程から露光室へ流入した空気（例えばレジスト塗布工程でレジスト塗布された基板を露光室に搬入する際に流入した空気）など、ケミカル物質（アニオン（例えば硫酸イオン（ＳＯ42-）や窒素酸化物（ＮＯX-）など）やカチオン（例えばアンモニウムイオン（ＮＨ4+））、有機物質など）を多く含む空気で満たされており、露光装置は当該空気を換気している。そして、露光装置が換気する空気にケミカル物質が存在することで、その反応物質が露光装置のランプやレンズの表面に沈着し、その結果、露光光量が低下する。
【０００３】
そのため、一定の露光光量を維持するのに、露光装置を停止して、ランプやレンズの表面を洗浄し、洗浄しても沈着した反応物質を十分に除去できない場合はランプやレンズを取換える必要があった。
【０００４】
しかし、洗浄や取換の頻度が多くなることから、取換えるランプやレンズの費用が高額になることや露光装置の停止により生産量が低下することなどの問題点があった。
【０００５】
そこで、従来、ランプやレンズの洗浄や取換の頻度を減らすために、露光室全体にケミカル物質を除去した空気（清浄空気）を供給して露光装置が当該清浄空気を換気するという対策（以下、ケミカル対策と記す）をとっていた。
【０００６】
図１０は、従来のケミカル対策装置の具体例を示す図である。図１０に示すように、ケミカル対策装置５００は、露光のためのランプやレンズを格納し換気口を有するランプハウス５０１ａや空気取入口５０１ｂなどを備える露光装置５０１と、露光装置５０１を設置する露光室５０２と、空気を清浄する空気清浄機５０３と、当該空気清浄機５０３が排気した空気（清浄空気）を露光室５０２に供給するダクト５０４と、で構成される。当該構成において、空気清浄機５０３を作動させると、空気清浄機５０３は清浄空気を排気し、排気された清浄空気はダクト５０４を通って露光室５０２の天井面から露光室５０２全体に供給される。露光装置５０１は、空気取入口５０１ｂを介して、露光室５０２に供給された清浄空気を換気する。また、ランプハウス５０１ａは、露光室５０２に供給された清浄空気を換気口を介して換気する。
【０００７】
この装置により、ランプやレンズの表面への反応物質の沈着を抑えることができ、その結果、ランプやレンズの洗浄や取換の頻度を減らすことができた。そして、取換えるランプやレンズの費用が高額になることや露光装置の停止により生産量が低下することなどの問題点を改善していた。
【０００８】
【特許文献１】特開平７−１３０６０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来のケミカル対策では、ランプやレンズの洗浄や取換の頻度を減らすことができたが、必ずしも十分ではなかったという問題点があった。
【００１０】
また、大型の露光装置（例えば大きな基板を扱う露光装置）を設置する場合、設置する露光室も必然的に大きくなる。そのため、従来のケミカル対策を広い露光室に適用する場合、空気清浄設備を増やさなければならず、設備投資費用の増大を招いてしまうという問題点があった。
【００１１】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたもので、ランプやレンズの洗浄や取換の頻度を十分に減らすことができ、大型の露光装置を設置する広い露光室にも空気清浄設備を増やすことなく適用することができる、露光工程のケミカル対策用換気装置および露光工程のケミカル対策方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
このような目的を達成するために、請求項１に記載の露光工程のケミカル対策用換気装置は、露光装置を用いてマスクパターンを基板に焼き付ける露光工程のケミカル対策用換気装置において、ケミカル物質を除去した空気を上記露光装置の照明光学系および／または投影光学系の近傍に直接供給する第１空気供給手段を備えたことを特徴とする。
【００１３】
このような特徴を有する本装置は、ケミカル物質を除去した空気を露光装置の照明光学系および／または投影光学系の近傍に直接供給するので、ランプを含む照明光学系やレンズを含む投影光学系の近傍に存在するケミカル物質やその反応物質を十分に減らすことができる。つまり、照明光学系および／または投影光学系の近傍の空気を十分に清浄することができる。その結果、本装置は、ランプやレンズの表面への反応物質の沈着をさらに抑えることができる。つまり、ランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。これにより、ランプやレンズの洗浄および取換えの頻度を十分に減らすことができ、ランプやレンズの洗浄に必要な洗剤や用具などの費用および取換え用のランプやレンズの費用をより削減することができる。つまり、ランニングコストをより削減することができる。また、ランプやレンズの洗浄および取換えの頻度が減ることで露光装置を停止する頻度も減るため、露光装置の停止による生産量低下をより防ぐことができる。
【００１４】
また、本装置は、ケミカル物質を除去した空気を局所的に直接供給するので、露光室の大きさの影響を受けずにランプやレンズの近傍に存在するケミカル物質やその反応物質を十分に減らすことができる。その結果、露光室の大きさの影響を受けずにランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。また、従来のケミカル対策では、露光室が広い場合、多くの空気清浄機を設置する必要があった。しかし、本装置は、ケミカル物質を除去した空気を局所的に直接供給するので、それを必要とせず、設備投資費用を削減することができる。
【００１５】
また、請求項２に記載の露光工程のケミカル対策用換気装置は、請求項１に記載の露光工程のケミカル対策用換気装置において、上記照明光学系および／または上記投影光学系を覆う筐体を有し、上記第１空気供給手段は上記空気を上記筐体に供給することを特徴とする。
【００１６】
このような特徴を有する本装置は、照明光学系および／または投影光学系を覆う筐体を有し、ケミカル物質を除去した空気を筐体に供給するので、清浄空気を供給する空間を筐体内部に限定している分、ランプやレンズの近傍の空気をさらに十分に清浄することができ、ランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。また、筐体内部が外部より正圧になり、筐体へのケミカル物質を含んだ空気の流入を防ぐことができる。
【００１７】
また、本装置は、清浄空気を供給する空間を筐体内部に限定しているので、少ない風量の清浄空気でもランプやレンズの近傍の空気を十分に清浄することができ、ランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。これにより、送風能力の低い安価な空気清浄機を使用することができ、イニシャルランニングコストをより削減することができる。また、風量を少なくすることで、空気清浄機が消費する電気代を抑え、フィルターの交換頻度も減らすことができるので、ランニングコストをより削減することができる。
【００１８】
また、請求項３に記載の露光工程のケミカル対策用換気装置は、請求項１または２に記載の露光工程のケミカル対策用換気装置において、ケミカル物質を除去した空気を上記露光装置の空気取入口に供給する第２空気供給手段をさらに備えたことを特徴とする。
【００１９】
このような特徴を有する本装置は、ケミカル物質を除去した空気を露光装置の空気取入口に供給するので、露光装置本体を外部より正圧に保つことができる。これにより、例えば露光装置のメンテナンス時、露光装置へのケミカル物質の流入を防ぐことができる。
【００２０】
また、請求項４に記載の露光工程のケミカル対策用換気装置は、請求項２または３に記載の露光工程のケミカル対策用換気装置において、空気の温度を所定温度に制御する温度制御手段と、上記筐体を通過した空気を上記温度制御手段に供給する第３空気供給手段と、上記温度制御手段で上記所定温度に制御した空気を上記露光装置を設置した露光室に供給する第４空気供給手段とをさらに備えたことを特徴とする。
【００２１】
このような特徴を有する本装置は、照明光学系および／または投影光学系を覆う筐体を通過した空気を温度制御手段に供給し、供給した空気の温度を温度制御手段で所定温度に制御し、所定温度に制御した空気を露光装置を設置した露光室に供給するので、筐体に供給した清浄空気を再利用して露光室内の空気も清浄することができる。また、露光室内を室外より正圧に保つことができる。これにより、例えば露光装置のメンテナンス時、露光室へのケミカル物質の流入を防ぐことができる。
【００２２】
また、本発明は露光工程のケミカル対策方法に関するものであり、請求項５に記載の露光工程のケミカル対策方法は、露光装置を用いてマスクパターンを基板に焼き付ける露光工程のケミカル対策方法において、ケミカル物質を除去した空気を上記露光装置の照明光学系および／または投影光学系の近傍に直接供給することを特徴とする。
【００２３】
このような特徴を有する本方法は、ケミカル物質を除去した空気を露光装置の照明光学系および／または投影光学系の近傍に直接供給するので、ランプを含む照明光学系やレンズを含む投影光学系の近傍に存在するケミカル物質やその反応物質を十分に減らすことができる。つまり、照明光学系および／または投影光学系の近傍の空気を十分に清浄することができる。その結果、本方法は、ランプやレンズの表面への反応物質の沈着をさらに抑えることができる。つまり、ランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。これにより、ランプやレンズの洗浄および取換えの頻度を十分に減らすことができ、ランプやレンズの洗浄に必要な洗剤や用具などの費用および取換え用のランプやレンズの費用をより削減することができる。つまり、ランニングコストをより削減することができる。また、ランプやレンズの洗浄および取換えの頻度が減ることで露光装置を停止する頻度も減るため、露光装置の停止による生産量低下をより防ぐことができる。
【００２４】
また、本方法は、ケミカル物質を除去した空気を局所的に直接供給するので、露光室の大きさの影響を受けずにランプやレンズの近傍に存在するケミカル物質やその反応物質を十分に減らすことができる。その結果、露光室の大きさの影響を受けずにランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。また、従来のケミカル対策では、露光室が広い場合、多くの空気清浄機を設置する必要があった。しかし、本方法は、ケミカル物質を除去した空気を局所的に直接供給するので、それを必要とせず、設備投資費用を削減することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明は、ケミカル物質を除去した空気を露光装置の照明光学系および／または投影光学系の近傍に直接供給するので、ランプを含む照明光学系やレンズを含む投影光学系の近傍に存在するケミカル物質やその反応物質を十分に減らすことができる。つまり、照明光学系および／または投影光学系の近傍の空気を十分に清浄することができる。その結果、本発明は、ランプやレンズの表面への反応物質の沈着をさらに抑えることができる。つまり、ランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。これにより、ランプやレンズの洗浄および取換えの頻度を十分に減らすことができ、ランプやレンズの洗浄に必要な洗剤や用具などの費用および取換え用のランプやレンズの費用をより削減することができる。つまり、ランニングコストをより削減することができる。また、ランプやレンズの洗浄および取換えの頻度が減ることで露光装置を停止する頻度も減るため、露光装置の停止による生産量低下をより防ぐことができる。
【００２６】
また、本発明は、ケミカル物質を除去した空気を局所的に直接供給するので、露光室の大きさの影響を受けずにランプやレンズの近傍に存在するケミカル物質やその反応物質を十分に減らすことができる。その結果、露光室の大きさの影響を受けずにランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。また、従来のケミカル対策では、露光室が広い場合、多くの空気清浄機を設置する必要があった。しかし、本発明は、ケミカル物質を除去した空気を局所的に直接供給するので、それを必要とせず、設備投資費用を削減することができる。
【００２７】
また、本発明は、照明光学系および／または投影光学系を覆う筐体を有し、ケミカル物質を除去した空気を筐体に供給するので、清浄空気を供給する空間を筐体内部に限定している分、ランプやレンズの近傍の空気をさらに十分に清浄することができ、ランプやレンズの曇りをさら抑えることができる。また、筐体内部が外部より正圧になり、筐体へのケミカル物質を含んだ空気の流入を防ぐことができる。
【００２８】
また、本発明は、清浄空気を供給する空間を筐体内部に限定しているので、少ない風量の清浄空気でもランプやレンズの近傍の空気を十分に清浄することができ、ランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。これにより、送風能力の低い安価な空気清浄機を使用することができ、イニシャルランニングコストをより削減することができる。また、風量を少なくすることで、空気清浄機が消費する電気代を抑え、フィルターの交換頻度も減らすことができるので、ランニングコストをより削減することができる。
【００２９】
また、本発明は、ケミカル物質を除去した空気を露光装置の空気取入口に供給するので、露光装置本体を外部より正圧に保つことができる。これにより、例えば露光装置のメンテナンス時、露光装置へのケミカル物質の流入を防ぐことができる。
【００３０】
さらに、本発明は、照明光学系および／または投影光学系を覆う筐体を通過した空気を温度制御手段に供給し、供給した空気の温度を温度制御手段で所定温度に制御し、所定温度に制御した空気を露光装置を設置した露光室に供給するので、筐体に供給した清浄空気を再利用して露光室内の空気も清浄することができる。また、露光室内を室外より正圧に保つことができる。これにより、例えば露光装置のメンテナンス時、露光室へのケミカル物質の流入を防ぐことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下に、本発明にかかる露光工程のケミカル対策用換気装置および露光工程のケミカル対策方法の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。まず、本発明の実施例を説明するに先立ち、図１〜６を参照して、本発明の概要を説明する。
【００３２】
図１〜６は、順に、本発明にかかる露光工程のケミカル対策用換気装置（以下、ケミカル対策用換気装置と記す）の構成例１〜６を示す図である。図１に示すように、本発明の構成例１のケミカル対策用換気装置１００は、露光のためのランプやレンズを納めたランプハウス１０１ａを備える露光装置１０１と、露光装置１０１を設置する露光室１０２と、空気を清浄する空気清浄機１０３と、空気清浄機１０３で清浄した空気（清浄空気）をランプハウス１０１ａの近傍に導くダクト１０４と、で構成される。空気清浄機１０３は、空気を取込み、排気するファンと、取込んだ空気を濾過してケミカル物質を除去するフィルターと、で構成される。空気清浄機１０３は、空気の温度を所定温度に制御する温調機能を有し、所定温度の清浄空気を排気してもよい。ダクト１０４は、図示の如く、その一端を空気清浄機１０３に接続し、他端をランプハウス１０１ａの近傍の空間に配置する。
【００３３】
以上の構成において、空気清浄機１０３を作動させると、図１の矢印で示すように、空気清浄機１０３は清浄空気を排気し、排気した清浄空気はダクト１０４を通ってランプハウス１０１ａの近傍に直接供給される。
【００３４】
以上説明したように、図１に示す、本発明の構成例１のケミカル対策用換気装置１００によれば、ケミカル物質を除去した空気を露光装置１０１のランプハウス１０１ａの近傍に直接供給するので、ランプハウス１０１ａの近傍に存在するケミカル物質やその反応物質を十分に減らすことができる。つまり、ランプハウス１０１ａに納めているランプやレンズの近傍の空気を十分に清浄することができる。その結果、本装置は、ランプやレンズの表面への反応物質の沈着をさらに抑えることができる。つまり、ランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。これにより、ランプやレンズの洗浄および取換えの頻度を十分に減らすことができ、ランプやレンズの洗浄に必要な洗剤や用具などの費用および取換え用のランプやレンズの費用をより削減することができる。つまり、ランニングコストをより削減することができる。また、ランプやレンズの洗浄および取換えの頻度が減ることで露光装置１０１を停止する頻度も減るため、露光装置１０１の停止による生産量低下をより防ぐことができる。
【００３５】
また、本装置は、ケミカル物質を除去した空気を局所的に直接供給するので、露光室１０２の大きさの影響を受けずにランプやレンズの近傍に存在するケミカル物質やその反応物質を十分に減らすことができる。その結果、露光室１０２の大きさの影響を受けずにランプやレンズの曇りをさらに抑えることができる。また、従来のケミカル対策では、露光室１０２が広い場合、多くの空気清浄機１０３を設置する必要があった。しかし、本装置は、ケミカル物質を除去した空気を局所的に直接供給するので、それを必要とせず、設備投資費用を削減することができる。
【００３６】
なお、本発明の構成例１〜６において、ダクト１０４は必須の構成ではない。また、本発明の構成例１〜４においては、さらに露光室１０２も必須の構成ではない。例えば、ランプハウス１０１ａの近傍に清浄空気を送ることができる位置に空気清浄機１０３を設置してもよい。これにより、ダクト１０４を用いずに、清浄空気をランプハウス１０１ａの近傍に直接供給することができる。また、従来のケミカル対策では露光室全体に清浄空気を供給していたが、本装置はランプハウス１０１ａの近傍に清浄空気を直接供給するため、状況に応じて露光室１０２を準備しなくてもよい。これにより、イニシャルランニングコストを削減することができる。
【００３７】
ここで、図２に示すように、本発明の構成例２のケミカル対策用換気装置１００は、ランプハウス１０１ａを覆う筐体１０５をさらに備えてもよい。これにより、清浄空気を筐体１０５内の空間に限定して供給することができるので、ランプハウス１０１ａの近傍を十分に清浄空気で満たすことができる。また、筐体１０５の内部は外部より正圧であるため、筐体１０５へのケミカル物質の流入を防ぐことができる。ここで、筐体１０５は、ダクト１０４を介して排気される清浄空気を取込むことができるように、ダクト１０４と接続する。なお、筐体１０５におけるダクト１０４を接続する位置は、特に限定されるものではない。また、筐体１０５の形状は、特に限定されるものではなく、例えば図３に示す本発明の構成例３のようにドーム形状でもよい。また、空気清浄機１０３は、筐体１０５内に設置してもよい。これにより、ダクト１０４を用いずに筐体１０５内部に清浄空気を供給することができる。
【００３８】
また、本発明のケミカル対策用換気装置１００は、さらに、露光装置１０１の空気取入口にも清浄空気を供給してもよい。具体的には、図４に示す本発明の構成例４のケミカル対策用換気装置１００のように、ダクト１０４を筐体１０５および露光装置１０１の空気取入口に延長して、空気清浄機１０３が排気する清浄空気を筐体１０５と露光装置１０１の空気取入口とに供給してもよい。これにより、露光装置１０１を外部より正圧に保つことができるので、例えば露光装置１０１のメンテナンス時、露光装置１０１へのケミカル物質の流入を防ぐことができる。また、図４に示した本発明の構成例４においては、一台の空気清浄機１０３を用いて筐体１０５と露光装置１０１の空気取入口とに清浄空気を供給するので、空気取入口に清浄空気を供給するための空気清浄機を新たに準備しなくてもよい。これにより、設備投資費用を削減することができる。なお、空気清浄機と当該空気清浄機が排気した清浄空気を露光装置１０１の空気取入口に導くダクトとを新たに設け、新たに設けた空気清浄機が排気した清浄空気をダクトを介して露光装置１０１の空気取入口に供給してもよい。また、新たに設けた空気清浄機が排気した清浄空気を露光装置１０１の空気取入口にダクトを介さず供給してもよい。ここで、本発明の構成例４において、ダクト１０４の分岐位置は、図示の如くに限定されるものではない。
【００３９】
また、本発明のケミカル対策用換気装置１００は、筐体１０５を通過した空気を排気し、排気した空気の温度を所定温度に制御し、所定温度に制御した空気を露光室１０２に再度供給してもよい。具体的には、図５に示す本発明の構成例５のように、ケミカル対策用換気装置１００は、空気を取り込み、取込んだ空気の温度を所定温度に制御して排気する、露光室１０２外に設置した温調機１０６と、温調機１０６と筐体１０５とを接続するダクト１０７と、温調機１０６で所定温度に制御した清浄空気を露光室１０２に導くダクト１０８と、をさらに備えてもよい。これにより、筐体１０５に供給した清浄空気を再利用して露光室１０２の空気も清浄することができる。また、露光室１０２内は室外より正圧になるため、例えば露光装置１０１のメンテナンス時、露光室１０２へのケミカル物質の流入を防ぐことができる。なお、温調機１０６は、ダクト１０７を介さずに筐体１０５内の清浄空気を直接取込めるように露光室１０２内に設置してもよい。これにより、ダクト１０７およびダクト１０８を介さず温調機１０６で所定温度に制御した清浄空気を露光室１０２に直接排気することができる。また、温調機１０６は、空気清浄機能をさらに備えてもよい。
【００４０】
さらに、図６に示す本発明の構成例６のように、ケミカル対策用換気装置１００は、図４および図５に示した本発明の構成例４および５を共に実施する構成でもよい。これにより、ランプハウス１０１ａ、露光装置１０１および露光室１０２に清浄空気を供給することができる。ここで、本発明の構成例６において、ダクト１０４の分岐位置は、図示の如くに限定されるものではない。
【実施例１】
【００４１】
次に、図７を参照して、本発明にかかるケミカル対策用換気装置の実施例１を詳細に説明する。
【００４２】
図７は、本発明にかかるケミカル対策用換気装置の実施例１の構成を示す図である。実施例１のケミカル対策用換気装置２００は、ランプハウス２０１ａを備える露光装置２０１と、露光装置２０１を設置する露光室２０２と、ケミカルフィルターおよびＵＬＰＡフィルターを備え、露光室２０２外に設置する空気清浄機２０３と、ランプハウス２０１ａを覆う、複数の平板で作製した筐体２０４と、露光装置２０１の空気取入口を覆うチャンバー２０５と、空気清浄機２０３、筐体２０４およびチャンバー２０５を図示の如く接続するダクト２０６と、で構成される。なお、ランプハウス２０１ａは換気口を有する。ダクト２０６の一端は、図示の如く、清浄空気がランプハウス２０１ａのほぼ真上に吹出される位置で、筐体２０４と接続する。また、チャンバー２０５は露光装置２０１の空気取入口に対して間接的に（約１０ｍｍの間隔を設けて）配置する。つまり、チャンバー２０５と露光装置２０１との間には、約１０ｍｍの隙間を設ける。ここで、図７では、本構成を説明するにあたり、筐体２０４を構成する平板の一部（上面および前側面）を便宜上記載していない。しかし、本実施例１を実施する際には、筐体２０４は図７では記載していない平板を備える。
【００４３】
以上の構成において、空気清浄機２０３を作動させると、空気清浄機２０３はケミカルフィルターおよびＵＬＰＡフィルターで濾過した清浄空気を排気し、当該清浄空気はダクト２０６を通過して筐体２０４およびチャンバー２０５に直接供給される。ランプハウス２０１ａは換気口から筐体２０４内の清浄空気を換気する。露光装置２０１はチャンバー２０５に供給された清浄空気を空気取入口から取込み、換気する。
【００４４】
以上説明したように、本実施例１によれば、ランプハウス２０１ａを覆う筐体２０４を設けたので、筐体２０４へのケミカル物質を含んだ空気の流入を十分に防ぐことができる。また、筐体２０４内という比較的限定した空間に清浄空気を供給するので、ランプハウス２０１ａの近傍の空気を十分に清浄することができる。これにより、ランプハウス２０１ａに納めているランプやレンズの曇りの進行を十分に遅延することができる。また、露光装置２０１の空気取入口に清浄空気を供給するので、例えば露光装置２０１のメンテナンス時、露光装置２０１へのケミカル物質の流入を防ぐことができる。また、ダクト２０６を介して排気される清浄空気を、露光装置２０１の空気取入口に直接供給するのではなく、露光装置２０１と隙間を設けて配置したチャンバー２０５を介して露光装置２０１の空気取入口に供給するので、例えば空気清浄機２０３を停止した時に発生するダクト２０６の振動が露光装置２０１に伝播する事態を防ぐことができ、振動伝播による露光装置２０１への悪影響（例えば、部品の破損、部品配置位置のずれなど）を防止することができる。
【実施例２】
【００４５】
次に、図８を参照して、本発明にかかるケミカル対策用換気装置の実施例２を詳細に説明する。
【００４６】
図８は、本発明にかかるケミカル対策用換気装置の実施例２の構成を示す図である。図８に示すように、実施例２のケミカル対策用換気装置３００は、空気取入口３０１ａ１および排気口３０１ａ２を有するランプハウス３０１ａ、露光機本体３０１ｂ、メイン機械室３０１ｃ、サブ機械室３０１ｄおよび空気取入口３０１ｅから成る露光装置３０１と、露光装置３０１を設置する露光室３０２と、空気中のケミカル物質を除去し、空気の湿度および温度を制御する湿式加湿器３０３と、空気中のカチオンやアニオン、有機物質などを除去するケミカルフィルターを有する空気清浄機３０４と、空気取入口３０１ａ１を覆うチャンバー３０５と、ダクト３０６およびダクト３０７と、で構成される。ダクト３０６は、図示の如く配置しており、湿式加湿器３０３が排気した清浄空気を露光室３０２および空気清浄機３０４に導く。ダクト３０７は、図示の如く配置しており、空気清浄機３０４が排気した清浄空気を空気取入口３０１ｅ、サブ機械室３０１ｄおよびチャンバー３０５に導く。露光室３０２の床面は、複数の換気口を有する。
【００４７】
以上の構成において、湿式加湿器３０３および空気清浄機３０４を作動させると、湿式加湿器３０３はケミカル物質を除去した所定温度および所定湿度の清浄空気を排気し、排気した清浄空気はダクト３０６を通過して露光室３０２および空気清浄機３０４に供給される。空気清浄機３０４は供給された清浄空気をさらに清浄して排気し、さらに清浄した清浄空気はダクト３０７を通過して空気取入口３０１ｅ、サブ機械室３０１ｄおよびチャンバー３０５に供給される。チャンバー３０５内の清浄空気は、空気取入口３０１ａ１を介してランプハウス３０１ａに取込まれ、排気口３０１ａ２から露光室３０２内に排気される。露光室３０２内に排気された清浄空気は、露光室３０２の床面に設けた換気口を通って露光室３０２の隅々に行き渡る。
【００４８】
以上説明したように、本実施例２によれば、空気取入口３０１ｅ、サブ機械室３０１ｄおよびチャンバー３０５に供給した清浄空気は、湿式加湿器３０３および空気清浄機３０４で濾過したものであるので、露光装置３０１およびチャンバー３０５をより一層清浄な空気で満たすことができる。これにより、ランプハウス３０１ａに納めたランプやレンズを、より一層清浄な空気で晒すことができる。また、ランプハウス３０１ａ内部は外部より正圧になるため、露光室３０２からランプハウス３０１ａへの空気の流入を防ぐことができる。また、空気清浄機３０４に供給した空気は湿式加湿器３０３で処理したものであるので、空気清浄機３０４のケミカルフィルターの交換頻度を少なくすることができる。これにより、ランニングコストを削減することができる。また、ランプハウス３０１ａは排気口３０１ａ２を有するので、チャンバー３０５に供給した清浄度の高い清浄空気を、排気口３０１ａ２を介して、露光室３０２に供給することができる。すなわち、清浄度の高い清浄空気を再利用して露光室３０２内の空気も清浄することができる。これにより、露光室３０２内は室外より正圧になるため、露光室３０２外からの空気の流入を防ぐことができる。
【実施例３】
【００４９】
次に、図９を参照して、本発明にかかるケミカル対策用換気装置の実施例３を詳細に説明する。
【００５０】
図９は、本発明にかかるケミカル対策用換気装置の実施例３の構成を示す図である。図９に示すように、実施例３のケミカル対策用換気装置４００は、排気口を有するランプハウス４０１ａを備えた露光装置４０１と、クリーンルーム４０２ａを備えた、露光装置４０１を設置する露光室４０２と、空気を取込むファン、空気を濾過してケミカル物質を除去するケミカルフィルターおよび空気の温度を所定温度に制御する温調機能を備えた空気清浄機４０３と、ランプハウス４０１ａを覆うチャンバー４０４と、露光装置４０１の空気取入口を覆うチャンバー４０５と、空気清浄機４０３が排気した清浄空気をチャンバー４０４およびチャンバー４０５に導くダクト４０６と、チャンバー４０４に隣接し、ランプハウス４０１ａの排気口から排気された清浄空気を溜めるチャンバー４０７と、チャンバー４０７に溜めた清浄空気を排気するファン４０８と、空気を排気するファンを有し、空気の温度を所定温度に制御する温調機４０９と、ファン４０８が排気した清浄空気を温調機４０９に導くダクト４１０と、温調機４０９が排気した清浄空気をクリーンルーム４０２ａに導くダクト４１１と、で構成される。露光室４０２の床面は、複数の換気口を有する。チャンバー４０５は、露光装置４０１との間に隙間を設けて配置する。また、図示の如く、露光装置４０１の空気取入口およびチャンバー４０５を覆い、複数の換気口を有するチャンバー４１２を露光室４０２内に設ける。露光室４０２の床下空間には、露光室４０２内の空気を室外に一方向に排気する排気弁４１３が備えられている。また、クリーンルーム４０２ａは、クリーンルーム４０２ａ内の空気を一方向に排気する排気弁４１４と複数の換気口とを備え、図示の如く、クリーンルーム４０２ａの換気口とチャンバー４１２の一部の換気口とが重なり合うように、チャンバー４１２に隣接して設置される。
【００５１】
以上の構成において、空気清浄機４０３および温調機４０９を作動させると、空気清浄機４０３はケミカル物質を除去した清浄空気を排気し、排気した清浄空気は、ダクト４０６を介してチャンバー４０４およびチャンバー４０５に供給される。チャンバー４０４内の清浄空気は、ランプハウス４０１ａの換気口を通ってチャンバー４０７に流れる。チャンバー４０７内の清浄空気は、図示の如く、露光室４０２の床面に設けた換気口を通って露光室４０２の床下空間に排気されるか、ファン４０８に吸引されてダクト４１０を介して温調機４０９に導かれる。チャンバー４０５内の清浄空気は、露光装置４０１の空気取入口を通過して露光装置４０１に流入する。露光装置４０１に流入した清浄空気は、図示の如く、露光室４０２の床面に設けた換気口を通って露光室４０２の床下空間に排気される。ファン４０８に吸引されてダクト４１０を介して温調機４０９に導かれた清浄空気は、温調機４０９で所定温度に制御される。所定温度に制御した清浄空気は、ダクト４１１を介してクリーンルーム４０２ａに供給される。クリーンルーム４０２ａ内の清浄空気の一部は、排気弁４１４を介して露光室４０２内に流入する。排気弁４１４を通って露光室４０２に流入した清浄空気は、チャンバー４１２の換気口を通ってチャンバー４１２内に流入する。チャンバー４１２に流入した清浄空気は、図示の如く、露光室４０２の床面に設けた換気口から露光室４０２の床下空間に排気されるか、再度クリーンルーム４０２ａ内に流入する。露光装置４０２の床下空間に流入した清浄空気は、図示の如く、チャンバー４１２内に流入し、換気口を通ってクリーンルーム４０２ａに移動するか、排気弁４１３を介して露光室４０２外に排気される。
【００５２】
以上説明したように、本実施例３によれば、チャンバー４０４およびチャンバー４０５に供給した清浄空気は空気清浄機４０３で濾過したものであるので、チャンバー４０４およびチャンバー４０５内を清浄空気で満たすことができる。これにより、ランプハウス４０１ａに納めたランプやレンズに清浄空気を供給することができる。また、チャンバー４０４に供給した清浄空気はランプハウス４０１ａの排気口を通ってチャンバー４０７に流入するので、チャンバー４０７内の清浄空気を再利用する際、当該清浄空気をケミカルフィルターで再度濾過しなくてもよい。また、チャンバー４０７に溜めた清浄空気は、温調機４０９で所定温度に制御してから、再度露光室４０２に供給するので、チャンバー４０７に溜めた清浄空気を再利用して露光室４０２内の空気を清浄し、かつ室内の温度も一定に保つことができる。また、露光室の床面には複数の換気口が設けられているので、チャンバー４０４およびチャンバー４０５に供給した清浄空気を露光室４０２内で循環させることができる。また、露光室４０２の床下空間に移動した清浄空気の一部は、排気弁４１３を介して一方向に露光室４０２外に排気されるので、空気の過剰供給による露光室４０２内の気圧の上昇を防ぐことができ、露光室４０２内の気圧を一定に保つことができる。なお、クリーンルーム４０２ａは、ダクト４１１からの清浄空気を取込むための空気取入口および換気弁４１４を含む領域Ａと、換気口を含む領域Ｂとに平板を用いて分割してもよい。これにより、ダクト４１１を介してクリーンルーム４０２ａの領域Ａに流入した清浄空気は、排気弁４１４を介して露光室４０２に流入する。そして、露光室４０２に移動した清浄空気は、チャンバー４１２の換気口を通ってチャンバー４１２内に流入し、さらにチャンバー４１２と領域Ｂとが隣接する部分にある換気口を通って領域Ｂに流入する。つまり、空気の流れを一方向にすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
以上のように、本発明にかかる露光工程のケミカル対策用換気装置および露光工程のケミカル対策方法は、露光装置を用いてマスクパターンを基板に焼き付ける露光工程においてケミカル物質を除去した空気を露光装置に供給することができる。
【００５４】
また、本発明にかかる露光工程のケミカル対策用換気装置および露光工程のケミカル対策方法は、ランプやレンズの洗浄や取換の頻度を効果的に減らすことができ、大型の露光装置にも空気清浄設備を増やすことなく適用することができる。
【００５５】
また、本発明にかかる露光工程のケミカル対策用換気装置および露光工程のケミカル対策方法は、特に液晶パネルや半導体など扱う製造業で好適に実施することができ、極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明にかかるケミカル対策用換気装置の構成例１を示す図である。
【図２】本発明にかかるケミカル対策用換気装置の構成例２を示す図である。
【図３】本発明にかかるケミカル対策用換気装置の構成例３を示す図である。
【図４】本発明にかかるケミカル対策用換気装置の構成例４を示す図である。
【図５】本発明にかかるケミカル対策用換気装置の構成例５を示す図である。
【図６】本発明にかかるケミカル対策用換気装置の構成例６を示す図である。
【図７】本発明にかかるケミカル対策用換気装置の実施例１の構成を示す図である。
【図８】本発明にかかるケミカル対策用換気装置の実施例２の構成を示す図である。
【図９】本発明にかかるケミカル対策用換気装置の実施例３の構成を示す図である。
【図１０】従来のケミカル対策の具体例を示す図である。
【符号の説明】
【００５７】
１００  ケミカル対策用換気装置
１０１  露光装置
１０１ａ  ランプハウス
１０２  露光室
１０３  空気清浄機
１０４  ダクト
１０５  筐体
１０６  温調機
１０７、１０８  ダクト
２００  ケミカル対策用換気装置
２０１  露光装置
２０１ａ  ランプハウス
２０２  露光室
２０３  空気清浄機
２０４  筐体
２０５  チャンバー
２０６  ダクト
３００  ケミカル対策用換気装置
３０１  露光装置
３０１ａ  ランプハウス
３０１ａ１  空気取入口
３０１ａ２  排気口
３０１ｂ  露光機本体
３０１ｃ  メイン機械室
３０１ｄ  サブ機械室
３０１ｅ  空気取入口
３０２  露光室
３０３  湿式加湿器
３０４  空気清浄機
３０５  チャンバー
３０６  ダクト
３０７  ダクト
４００  ケミカル対策用換気装置
４０１  露光装置
４０１ａ  ランプハウス
４０２  露光室
４０２ａ  クリーンルーム
４０３  空気清浄機
４０４  チャンバー
４０５  チャンバー
４０６  ダクト
４０７  チャンバー
４０８  ファン
４０９  温調機
４１０  ダクト
４１１  ダクト
４１２  チャンバー
４１３  排気弁
４１４  排気弁
５００  ケミカル対策装置
５０１  露光装置
５０１ａ  ランプハウス
５０１ｂ  空気取入口
５０２  露光室
５０３  空気清浄機
５０４  ダクト
【図１】
2005347474.tif 000003
【図２】
2005347474.tif 000004
【図３】
2005347474.tif 000005
【図４】
2005347474.tif 000006
【図５】
2005347474.tif 000007
【図６】
2005347474.tif 000008
【図７】
2005347474.tif 000009
【図８】
2005347474.tif 000010
【図９】
2005347474.tif 000011
【図１０】
2005347474.tif 000012