(57)【要約】【課題】フォトリソグラフィ法によってガラス基板上にカラーフィルタの着色画素を形成する際に、一括露光法によってフォトマスクを介し基板に近接露光を行っても、四隅は丸みを帯びず、すなわち、角状部７が形成されず、直角形状の矩形の着色画素を形成することのできるカラーフィルタ用フォトマスクを提供すること。【解決手段】矩形の光透過部１１の四隅近傍に遮光パターンｈを設けたこと。遮光パターンが、フォトマスクの中央部の光透過部にはなく、周縁部の光透過部には設けられ、光透過部の位置が中央部から周縁部の方向へ離れるに従い、フォトマスクの撓みに準じ、その距離に比例して順次に面積を微増させた遮光パターンあること。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネガ型フォトレジストを用いて矩形の着色画素を形成する際に使用するカラーフィルタ用フォトマスクにおいて、矩形の光透過部の四隅近傍に遮光パターンを設けたことを特徴とするカラーフィルタ用フォトマスク。
【請求項２】
前記遮光パターンが、フォトマスクの中央部の光透過部には設けられておらず、フォトマスクの周縁部の光透過部には設けられており、光透過部の位置が該中央部から周縁部の方向へ離れるに従い、フォトマスクの撓みに準じ、その距離に比例して順次に面積を微増させた遮光パターンあることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ用フォトマスク。
【請求項３】
請求項１、又は請求項２に記載のカラーフィルタ用フォトマスクを用いて矩形の着色画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用カラーフィルタに関するものであり、特に、矩形の着色画素の四隅を直角に形成することのできるカラーフィルタ用フォトマスク及びそれを用いたカラーフィルタの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図４は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図５は、図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図４、及び図５に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ（４）は、ガラス基板（４０）上にブラックマトリックス（４１）、着色画素（４２）、及び透明導電膜（４３）が順次に形成されたものである。
図４、及び図５はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（４２）は１２個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１０インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００３】
ブラックマトリックス（４１）は、遮光性を有するマトリックス状のものであり、着色画素（４２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものである。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定位置に、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。また、液晶を駆動するＴＦＴ素子への光を遮蔽する機能も兼ねている。
【０００４】
液晶表示装置は自発光の表示装置ではないので、例えば、透過型液晶表示装置には、液晶パネルの後方に照明が設けられており、後方からの照明光によって液晶表示装置を観視する。
そして、透過型液晶表示装置の多くに、上記構造のブラックマトリックスを具備したカラーフィルタが用いられている。
【０００５】
このブラックマトリックス（４１）は、ガラス基板（４０）上に、例えば、クロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX ）などの金属、もしくは金属化合物を用いて薄膜を成膜し、成膜した薄膜上に、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行いブラックマトリックスとして形成されたものである。クロム（Ｃｒ）などの金属を用いて形成されたブラックマトリックスをクロム・ブラックマトリックスと称し広く用いられている。
【０００６】
ブラックマトリックスには樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスもある。これは、ブラックマトリックス形成用の材料として、例えば、遮光性フォトレジスト（感光性着色樹脂組成物）を用いてフォトリソグラフィ法によって形成されたもである。クロム（Ｃｒ）などの金属に代わり樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスを樹脂ブラックマトリックスと称している。
【０００７】
樹脂ブラックマトリックスは、例えば、テレビなどのように、高輝度なバックライトを用いた際に、クロムなどの金属をブラックマトリックスとして用いたときに起こる液晶表示装置での内部反射を抑制するために、低反射の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合、或いは、例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式に用いたと
きに起こる液晶表示装置での電界の乱れを抑制するために、高絶縁性の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合などに採用される。
【０００８】
一方、反射型液晶表示装置は、モバイル機器用の表示装置として開発が活発になされている。
この反射型液晶表示装置には、液晶パネルの後方に照明が設けられておらず、液晶表示装置を観視する環境における観視側周辺からの光によって液晶表示装置を観視するものである。
反射型液晶表示装置においては、透過型液晶表示装置と同様に、上記構造のブラックマトリックスを具備したカラーフィルタが用いられたものもあるが、反射型液晶表示装置は、元来、画像のコントラストが透過型液晶表示装置に比べ著しく劣るものなので、ブラックマトリックスを具備した際の画像のコントラスト向上効果と経済性（コスト）との兼ね合いで、ブラックマトリックスを具備させないカラーフィルタを用い、その普及を目指す方向にある。
【０００９】
上記のように、クロム・ブラックマトリックスを形成する場合、樹脂ブラックマトリックスを形成する場合、いずれの場合もブラックマトリックスの形成にはフォトリソグラフィ法が広く用いられている。
【００１０】
また、ガラス基板上に着色画素を形成する方法としては顔料分散法が主流となっている。顔料分散法は感光性着色樹脂組成物を用い、フォトリソグラフィ法によって着色画素を形成する方法である。
着色画素の形成に用いる感光性着色樹脂組成物は、例えば、高分子樹脂に顔料を分散剤を用いて分散させ、この分散液に重合性モノマー、光重合開始剤、増感剤、溶剤などを添加して調製される。
【００１１】
予め、ブラックマトリックスが形成されたガラス基板上に第一色目の、例えば、赤色の感光性着色樹脂組成物を塗布し、第一色目のフォトマスクを介しての露光、及び現像、ポストベークを行い第一色目の赤色着色画素を形成する。
同様にして、第二色目として、緑色の感光性着色樹脂組成物、第二色目のフォトマスクを用いて第二色目の緑色着色画素を形成する。同様に、第三色目の青色着色画素を形成するといった方法である。
この顔料分散法は、高品位の着色画素を安定して廉価に製造することができることが大きな特徴となっている。
【００１２】
図４、及び図５に示すカラーフィルタ（４）は、１基の液晶表示装置に対応した１枚のカラーフィルタを表しており、カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したカラーフィルタを大サイズのガラス基板に面付けした状態で製造する。
【００１３】
図３は、例えば、対角１０インチのカラーフィルタ（４）を４００ｍｍ×５００ｍｍ程度の大サイズのガラス基板（３０）に４面付けして、或いは、例えば、対角１７インチのカラーフィルタを６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造する一例を示した平面図である。
【００１４】
液晶表示装置に用いられるカラーフィルタを、例えば、顔料分散法によって大サイズのガラス基板上に多面付けして製造する際には、カラーフィルタの多面全体が描画されている大サイズのガラス基板と同程度の大サイズの一枚のフォトマスクを用いて、大サイズのガラス基板上に塗布されたフォトレジストに一回の露光により多面全体を露光する方法が広く採用されている。この露光法は、一括露光法と称している方法である。
【００１５】
これは、ＩＣ製造におけるウエファー基板上に塗布されたフォトレジストに、例えば、一個のＩＣが描画されているフォトマスクを用いて、ウエファー基板上の位置を変えて、多回数の露光をし、多数のＩＣを面付けした状態に露光する方法、すなわちステップアンドリピート露光法に対する称しかたである。
従来、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタを製造する際の露光法として、コストの面から一括露光法が広く採用されている。
【００１６】
この一括露光法において、露光装置内では、ガラス基板にフォトマスクが密着することによって生じるキズを防止するため、また、フォトマスクに塵埃が付着した際に画素が欠陥となってしまうのを防止するためフォトレジスト（感光性着色樹脂組成物）が塗布されたガラス基板と、略ガラス基板大のフォトマスクとは、例えば、５０μｍ〜８０μｍ程度の間隙を保ってのプロキシミティ（近接）露光を行っている。
【００１７】
図６（ａ）は、略大サイズのガラス基板大のフォトマスクに描画されたパターンの一例を拡大して示す平面図である。また、図６（ｂ）、（ｃ）は、図６（ａ）に示すフォトマスクを用いて形成された着色画素を拡大して示す平面図である。図６（ｂ）は、図３に示す大サイズのガラス基板（３０）の中央部（Ａ）に形成された着色画素を、また、図６（ｃ）は、図３に斜線で示す大サイズのガラス基板（３０）の周縁部に形成された着色画素を表している。
【００１８】
図６（ａ）に示すように、このフォトマスクは光透過部（１）と遮光部（２）で構成され、光透過部（１）は縦（ａ）約１００μｍ、横（ｂ）約５０μｍ程度の矩形で、所望する着色画素の形状となっている。
矩形の光透過部（１）の四隅（ｃ）は直角になっている。また、このフォトマスクは光透過部（１）を透過した光が基板上に設けられたフォトレジスト膜を硬化させるネガ型フォトレジスト用のものとなっている。
【００１９】
このようなフォトマスクを介し、ガラス基板上に設けられたネガ型フォトレジスト（ネガ型感光性着色樹脂組成物）膜に露光を行い、現像処理を行うと、図６（ｂ）に示すように、大サイズのガラス基板（３０）の中央部（Ａ）において得られる着色画素（３）の四隅（ｃ’）は略直角になる。
しかし、図６（ｃ）に示すように、大サイズのガラス基板（３０）の周縁部においては四隅（ｃ’’）に丸みを帯びた着色画素（６）がガラス基板（５）上に得られる。
【００２０】
図７は、図６（ｃ）に示す着色画素（６）の、（ｃ’’）で表わす一隅を拡大した説明図である。図７に示すように、着色画素（６）の隅には、着色画素が延長された丸みを帯びた角状部（７）が形成されている。
前記フォトマスクの光透過部（１）の矩形の大きさが、縦（ａ）約１００μｍ、横（ｂ）約５０μｍの場合、この角状部（７）の、着色画素（６）の上辺及び右辺からの突出（ｄ）は１μｍ〜２μｍ程度のものである。
このように、フォトマスクの光透過部（１）の四隅（ｃ）は直角であっても、大サイズのガラス基板（３０）の周縁部において得られる着色画素（６）の四隅（ｃ’’）が丸みを帯びたものとなるのは、主としてプロキシミティ（近接）露光における光の回折の影響によるものである。
【００２１】
図８は、プロキシミティ（近接）露光が行われる際の、露光装置におけるフォトマスクとネガ型フォトレジスト（ネガ型感光性着色樹脂組成物）膜が設けられた基板との位置関係を断面で示す説明図である。図８は、フォトマスクに描画されたパターンの光透過部（１）と遮光部（２）の境界部分を拡大して示したものである。
また、図８（ａ）は、大サイズのガラス基板（３０）の中央部（Ａ）における位置関係を
、図８（ｂ）は、大サイズのガラス基板（３０）の周縁部における位置関係を表している。
【００２２】
図８に示すように、ネガ型フォトレジスト（ネガ型感光性着色樹脂組成物）膜（５１）が設けられたガラス基板（５０）の上方に、マスク基板（５３）上にクロム膜（５２）が設けられたフォトマスク（５４）がプロキシミティ間隙を保って配置されている。
ガラス基板（３０）の中央部（Ａ）のプロキシミティ間隙（Ｄ１）と、ガラス基板（３０）の周縁部のプロキシミティ間隙（Ｄ２）とは、Ｄ１＜Ｄ２の関係にある。これは、ガラス基板の中央部と周縁部とでプロキシミティ間隙に差（Ｄ３、Ｄ３＝Ｄ２−Ｄ１）があることであり、この差は主に、フォトマスクの自重による撓みによって生じるものと推量される。
【００２３】
尚、露光装置におけるプロキシミティ間隙は、中央部のプロキシミティ間隙（Ｄ１）を所望の値に設定する。すなわち、周縁部のプロキシミティ間隙は設定値より大きなものとなっている。
【００２４】
図８（ａ）に示すように、ガラス基板の中央部においては、フォトマスク（５４）の光透過部（１）に照射される光（５５）は、マスク基板（５３）、プロキシミティ間隙（Ｄ１）を経てネガ型フォトレジスト（ネガ型感光性着色樹脂組成物）膜（５１）に至る。
照射される光は、回折によりフォトマスク（５４）の光透過部（１）と遮光部（２）の境界より遮光部（２）側の（Ｗ１）で表す幅まで光が達する。
【００２５】
また、図８（ｂ）に示すように、ガラス基板の周縁部においては、フォトマスク（５４）の光透過部（１）と遮光部（２）の境界に照射される光（５６）は、マスク基板（５３）を経てクロム膜（５２）の端で回折し、プロキシミティ間隙（Ｄ２）を経て図中の斜め下方のネガ型フォトレジスト（ネガ型感光性着色樹脂組成物）膜（５１）に至る。
照射される光は、回折によりフォトマスク（５４）の光透過部（１）と遮光部（２）の境界より遮光部（２）側の（Ｗ２）で表す幅まで光が達する。
【００２６】
遮光部（２）側の（Ｗ１）で表す幅まで達した光の影響は殆どなく、前記図６（ｂ）に示すように、着色画素の四隅は直角になっている。
しかし、ガラス基板の周縁部においては、遮光部（２）側の（Ｗ２）で表す幅まで達した光は、四隅において四隅を挟む両辺からの回折光の重なりにより、図６（ｃ）に示すように、着色画素は丸みを帯びた、すなわち、角状部（７）が形成されたものとなる。
【００２７】
このように、着色画素の矩形の四隅において、その形状が所望する形状の直角でなく、丸みを帯びた形状に形成されると、前記のように、カラーフィルタにブラックマトリックスが具備した際には、ブラックマトリックスは着色画素の位置を定位置に、大きさを均一なものとするものの、より微細な着色画素を形成する場合には支障をきたすことになり好ましいものではない。
また、前記のように、特に、反射型液晶表示装置において、カラーフィルタにブラックマトリックスを具備させない場合には、着色画素の形状が不正確なものとなり好ましいものではない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２８】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、フォトリソグラフィ法によってガラス基板上にカラーフィルタの着色画素を形成する際に、一括露光法によってフォトマスクを介し基板に近接露光を行っても、四隅は丸みを帯びず、すなわち、角状部が形成されず、直角形状の矩形の着色画素を形成することのできるカラーフィルタ
用フォトマスクを提供することを課題とするものである。
また、そのカラーフィルタ用フォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２９】
本発明は、ネガ型フォトレジストを用いて矩形の着色画素を形成する際に使用するカラーフィルタ用フォトマスクにおいて、矩形の光透過部の四隅近傍に遮光パターンを設けたことを特徴とするカラーフィルタ用フォトマスクである。
【００３０】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタ用フォトマスクにおいて、前記遮光パターンが、フォトマスクの中央部の光透過部には設けられておらず、フォトマスクの周縁部の光透過部には設けられており、光透過部の位置が該中央部から周縁部の方向へ離れるに従い、フォトマスクの撓みに準じ、その距離に比例して順次に面積を微増させた遮光パターンあることを特徴とするカラーフィルタ用フォトマスクである。
【００３１】
また、本発明は、請求項１、又は請求項２に記載のカラーフィルタ用フォトマスクを用いて矩形の着色画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００３２】
本発明は、矩形の光透過部の四隅近傍に遮光パターンを設けたカラーフィルタ用フォトマスクであるので、ネガ型フォトレジストを用いてカラーフィルタの着色画素を形成する際に、一括露光法によってフォトマスクを介し基板に近接露光を行っても、四隅は丸みを帯びず、すなわち、角状部が形成されず、直角形状の矩形の着色画素を形成することのできるカラーフィルタ用フォトマスクとなる。
【００３３】
また、本発明は、遮光パターンが、フォトマスクの中央部の光透過部には設けられておらず、フォトマスクの周縁部の光透過部には設けられており、光透過部の位置が該中央部から周縁部の方向へ離れるに従い、フォトマスクの撓みに準じ、その距離に比例した面積を有する遮光パターンあるので、ネガ型フォトレジストを用いてカラーフィルタの着色画素を形成する際に、大サイズのガラス基板上に多面付けされて製造されるカラーフィルタは、その面内において着色画素の四隅には角状部が残らず、且つ丸みが入り込まない、すなわち、着色画素の四隅はすべて直角な着色画素を有するカラーフィルタ用フォトマスクとなる。
【００３４】
また、本発明は、矩形の光透過部の四隅近傍に遮光パターンを設けたカラーフィルタ用フォトマスクを用いてカラーフィルタの着色画素を形成、更には、遮光パターンが、フォトマスクの中央部の光透過部には設けられておらず、フォトマスクの周縁部の光透過部には設けられており、光透過部の位置が該中央部から周縁部の方向へ離れるに従い、フォトマスクの撓みに準じ、その距離に比例した面積を有する遮光パターンのカラーフィルタ用フォトマスクを用いてカラーフィルタの着色画素を形成するので、ネガ型フォトレジストを用いてカラーフィルタの着色画素を形成する際に、或いは、大サイズのガラス基板上に多面付けされて製造されるカラーフィルタは、その面内において着色画素の四隅には角状部が残らず、且つ丸みが入り込まない、すなわち、着色画素の四隅はすべて直角な着色画素を有するカラーフィルタとなる。
【００３５】
これにより、より大サイズのガラス基板上に多面付けしてカラーフィルタを製造する場合においても、或いは、より微細な着色画素を形成する場合にも支障をきたすことがなくなる。また、反射型液晶表示装置において、カラーフィルタにブラックマトリックスを具備させない場合においても、着色画素の形状が正確なものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
本発明を一実施の形態に基づいて以下に説明する。
【００３７】
図１（ａ）は、本発明によるカラーフィルタ用フォトマスクの一実施例のパターンの一部を拡大して示す平面図である。
このカラーフィルタ用フォトマスクは、着色画素を形成するためのものであり、また、着色画素を形成するフォトレジストとしてネガ型感光性着色樹脂組成物を用いた際のものである。
【００３８】
また、図１（ｂ）、（ｃ）は、図１（ａ）に示すフォトマスクを用いて形成された着色画素を拡大して示す平面図である。図１（ｂ）は、大サイズのガラス基板の中央部に形成された着色画素を、また、図１（ｃ）は、大サイズのガラス基板の周縁部に形成された着色画素を表している。
【００３９】
図１（ａ）に示すように、このフォトマスクは光透過部（１１）と遮光部（１２）で構成され、光透過部（１１）は縦（ｅ）約１００μｍ、横（ｆ）約５０μｍ程度の矩形で、所望する着色画素の形状となっている。
矩形の光透過部（１１）の四隅（ｇ）は直角になっている。また、矩形の光透過部（１１）の四隅近傍に遮光パターン（ｈ）が設けられている。
【００４０】
このようなフォトマスクを介し、ガラス基板上に設けられたネガ型フォトレジスト（ネガ型感光性着色樹脂組成物）膜に近接露光を行い、現像処理を行うと、図１（ｂ）に示すように、大サイズのガラス基板の中央部において得られる着色画素（１３）の四隅（ｇ’）は略直角になる。
また、大サイズのガラス基板の周縁部においては、フォトマスクの光透過部（１１）の四隅近傍に設けられた遮光パターン（ｈ）が四隅における透過光を抑制し、図１（ｃ）に示すように、四隅（ｇ’’）が略直角な着色画素（１６）が得られる。
【００４１】
図２は、図１（ａ）に示すフォトマスクの光透過部（１１）の一隅を拡大した説明図である。
フォトマスクの光透過部（１１）の四隅近傍における透過光を制御する際に、本発明における遮光パターン（ｈ）が小さ過ぎると、透過光の抑制が不十分なため、着色画素には角状部が残り四隅は直角にならない。
また、遮光パターン（ｈ）が大き過ぎると、透過光の抑制が過度なものとなり、着色画素の四隅に丸みが入り込んだものとなってしまう。
【００４２】
フォトマスクの光透過部（１１）が縦（ｅ）約１００μｍ、横（ｆ）約５０μｍ程度の矩形の際には、例えば、遮光パターン（ｈ）の一辺（Ｗ３、Ｗ４）が数μｍ〜数十μｍの正方形であり、且つ遮光パターン（ｈ）に対応した矩形の隅を挟む二辺（ｌ、ｍ）の各々と遮光パターンとの間隔（Ｄ４、Ｄ５）が数μｍ〜数十μｍであるとき、着色画素の四隅には角状部が残らず、且つ丸みが入り込まない、すなわち、着色画素の四隅は直角になる。
【００４３】
しかし、この遮光パターン（ｈ）の大きさ、及び二辺の各々と遮光パターンとの間隔（Ｄ４、Ｄ５）の大きさは、用いるネガ型フォトレジスト（ネガ型感光性着色樹脂組成物）の感度、露光量、及びフォトマスクとガラス基板との近接間隔などによって異なったものとなるので、適宜に設定される。
【００４４】
また、図９は、請求項２に係わる発明の説明図である。図９において、（９３）は、大サイズのガラス基板に着色画素を形成する際に用いるマスク基板であり、このマスク基板
の大きさは略大サイズのガラス基板の大きさである。
（９４）は、着色画素を形成するパターン（光透過部（１１））が設けられる有効エリアを表している。この有効エリア内に一基の液晶表示装置に対応したカラーフィルタ用パターンが多面付けされた状態で設けられる。
【００４５】
本発明は、フォトマスクの中央部の光透過部には設けられておらず、フォトマスクの周縁部の光透過部には設けられており、光透過部の位置が該中央部から周縁部の方向へ離れるに従い、フォトマスクの撓みに準じ、その距離に比例した面積を有する遮光パターンあることを特徴とするものである。
【００４６】
すなわち、カラーフィルタの多面付けの数、マスク基板（９３）上の位置に関係なく、フォトマスクの中心からの距離、例えば、図９に示すＬ１、Ｌ２、Ｌ３のように、フォトマスクの中心（Ｏ）から離れるに従い、フォトマスクの撓みに準じ、その距離に比例して順次にフォトマスクの光透過部内の遮光パターンの面積を微増させたフォトマスクである。
【００４７】
例えば、フォトマスクの撓みの状態を略同心円状と見なすと、点線の同心円（Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３）で示すように、略同心円状に遮光パターンの面積を微増させたフォトマスクとなる。
本発明によるカラーフィルタ用フォトマスクを用いることにより、大サイズのガラス基板上に多面付けされて製造されるカラーフィルタは、その面内において着色画素の四隅には角状部が残らず、且つ丸みが入り込まない、すなわち、着色画素の四隅はすべて直角な着色画素を有するカラーフィルタとなる。且つ、多面付けされて製造されるカラーフィルタの全面が均一な着色画素を有するカラーフィルタとなる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】（ａ）は、本発明によるカラーフィルタ用フォトマスクの一実施例のパターンの一部を拡大して示す平面図である。（ｂ）は、（ａ）に示すカラーフィルタ用フォトマスクを用いてガラス基板の中央部に形成された着色画素を拡大して示す平面図である。（ｃ）は、（ａ）に示すカラーフィルタ用フォトマスクを用いてガラス基板の周縁部に形成された着色画素を拡大して示す平面図である。
【図２】図１（ａ）に示すフォトマスクの一隅を拡大したものであり、光透過部の大きさ、位置を示す説明図である。
【図３】カラーフィルタを大サイズのガラス基板に４面付けして製造する一例を示した平面図である。
【図４】液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図５】図４に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図６】（ａ）は、略大サイズのガラス基板大のフォトマスクに描画されたパターンの一例を拡大して示す平面図である。（ｂ）は、（ａ）に示すフォトマスクを用いてガラス基板の中央部に形成された着色画素を拡大して示す平面図である。（ｃ）は、（ａ）に示すフォトマスクを用いてガラス基板の周縁部に形成された着色画素を拡大して示す平面図である。
【図７】図６（ｃ）に示す着色画素の、（ｃ’’）で表わす一隅を拡大した説明図である。
【図８】（ａ）は、露光装置におけるフォトマスクとネガ型フォトレジスト膜が設けられた基板との中央部の位置関係を断面で示す説明図である。（ｂ）は、露光装置におけるフォトマスクとネガ型フォトレジスト膜が設けられた基板との周縁部の位置関係を断面で示す説明図である。
【図９】請求項２に係わる発明の説明図である。
【符号の説明】
【００４９】
１、１１…フォトマスクの光透過部
２、１２…フォトマスクの遮光部
３、６、１３、１６、４２…着色画素
４…カラーフィルタ
５、１５、３０、４０、５０…ガラス基板
７…角状部  
４１…ブラックマトリックス
４３…透明導電膜
５１…ネガ型フォトレジスト膜
５２…クロム膜
５３、９３…マスク基板
５４…フォトマスク
５５…ガラス基板の中央部に照射される光
５６…ガラス基板の周縁部に照射される光
９４…パターン（光透過部）が設けられる有効エリア
Ａ…ガラス基板の中央部
Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３…フォトマスクの撓みを略同心円状と見なしたときの同心円
Ｄ１、Ｄ２…プロキシミティ間隙
Ｄ３…プロキシミティ間隙の差
Ｄ４、Ｄ５…矩形の隅を挟む二辺の各々と遮光パターンとの間隔
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３…光透過部のフォトマスクの中心からの距離
Ｏ…フォトマスクの中心
Ｗ１、Ｗ２…照射される光が回折される幅
Ｗ３、Ｗ４…遮光パターンの一辺
ａ、ｅ…フォトマスクの光透過部縦
ｂ、ｆ…フォトマスクの光透過部横
ｃ、ｇ…フォトマスクの四隅
ｃ’、ｃ’’、ｇ’、ｇ’’…着色画素の四隅
ｄ…突出
ｈ…遮光パターン
ｌ、ｍ…四隅を挟む二辺
【図１】
2005084492.tif 000003
【図２】
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【図３】
2005084492.tif 000005
【図４】
2005084492.tif 000006
【図５】
2005084492.tif 000007
【図６】
2005084492.tif 000008
【図７】
2005084492.tif 000009
【図８】
2005084492.tif 000010
【図９】
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