(57)【要約】【課題】  真空成膜室の内外間で基材ホルダが自動的に搬送されるとともに、基材ホルダを成膜室内にセットするための機構や工程を複雑にすることなく基材ホルダを成膜室内で回転駆動できる真空成膜装置を提供することである。【解決手段】  真空成膜装置２０内外間で基材ホルダ６０を自動的に搬送するための基材ホルダ搬送機構を、真空成膜装置２０の内外に設ける。基材ホルダ搬送機構は、基材ホルダ６０を下側で接して支持しつつ搬送する搬送ローラＣＲを備えている。  また、基材ホルダ６０の回転軸を駆動するための基材ホルダ駆動機構３０を設ける。そして、真空成膜室１内の成膜処理時に位置するべき位置に基材ホルダ６０がセットされると、基材ホルダ駆動機構３０を前進させ、基材ホルダ駆動機構３０の先端の駆動軸を基材ホルダ側の機構と結合させるためのエアシリンダーを設ける。【選択図】  図１
2005154800.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸と該回転軸を軸受け機構を介して支持する固定フレーム部材とを備えるとともに成膜される基材を保持する基材ホルダと、前記基材を保持した基材ホルダを内側の空間に配置して前記基材に成膜処理を行うための真空成膜室と、前記基材ホルダを真空成膜室の内外間で搬送するとともに真空成膜室内において前記基材ホルダを支持するための成膜室基材ホルダ搬送機構と、前記基材を基材ホルダの回転軸とともに回転駆動させる基材ホルダ駆動機構と、基材ホルダ駆動機構を前進又は後退させる基材ホルダ駆動機構移動手段とを備え、
前記基材ホルダが、真空成膜室外に配設された基材ホルダ搬送機構を介して、真空成膜室内に搬入されるとともに真空成膜室外に搬出されるようにされた真空成膜装置であって、
前記基材ホルダ駆動機構は、駆動力を発生する動力源と該駆動力を基材ホルダ側に伝達する駆動軸とを備え、前記動力源が真空成膜室外に設置されるとともに、前記駆動軸の先端は真空成膜室内に位置するように設けられており、
前記基材ホルダが真空成膜室内の所定の位置に配置されると、前記基材ホルダ駆動機構移動手段が前記基材ホルダ駆動機構を前進させ、基材ホルダ駆動機構の駆動軸の先端を、基材ホルダの回転軸に連結されて該回転軸を駆動するための基材ホルダ側に付設された機構の基端に結合させることにより、前記基材ホルダの回転軸が前記基材ホルダ駆動機構により駆動されるようにされた真空成膜装置。
【請求項２】
前記基材ホルダの回転軸を駆動するための基材ホルダ側の機構が、該基材ホルダ側の機構の基端に設けられた駆動力受け部材と、該駆動力受け部材が一端側に取り付けられ他端側がロック機構を介して基材ホルダの回転軸に接続される基材ホルダ側駆動軸とを備え、
前記ロック機構は、基材ホルダ側駆動軸に設けられた第一のロック部材と、基材ホルダの固定フレーム部材に設けられた第二のロック部材と、前記第一のロック部材及び第二のロック部材を相対的に係合位置及び非係合位置に変位させる変位手段とを備え、
前記基材ホルダ駆動機構の駆動軸の先端が前記駆動力受け部材に回転駆動力を伝達可能に結合されない場合には、前記変位手段が第一のロック部材及び第二のロック部材を係合状態に保持し、
前記基材ホルダ駆動機構の駆動軸の先端が前記駆動力受け部材に回転駆動力を伝達可能に結合される場合には、前記変位手段が第一のロック部材及び第二のロック部材を非係合状態に保持するとともに、基材ホルダ側駆動軸に駆動力が伝達されるようにされている請求項１に記載の真空成膜装置。
【請求項３】
前記基材ホルダの回転軸が水平方向における該基材ホルダが搬送される方向に沿って配設されてなる請求項１又は２に記載の真空成膜装置。
【請求項４】
前記真空成膜室の一方側に隣接して設置された入口側ロードロック室と前記真空成膜室の他方側に隣接して設置された出口側ロードロック室とをさらに備え、
前記入口側ロードロック室には前記基材ホルダを真空成膜室側に搬送するための入口側基材ホルダ搬送機構が設けられ、前記出口側ロードロック室には真空成膜室より搬送された基材ホルダを搬出するための出口側基材ホルダ搬送機構が設けられており、
当該真空成膜装置に搬送された基材ホルダは入口側ロードロック室に搬入された後に入口側ロードロック室より真空成膜室に搬入され、真空成膜室で成膜処理を終了した基材ホルダは真空成膜室より出口側ロードロック室に搬送された後に出口側ロードロック室より外部に搬出されるようにされた、請求項１乃至３のいずれかに記載の真空成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成膜される基材を保持する基材ホルダが、搬送機構によって搬送される真空成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄膜を応用した各種の製品が用いられている。この薄膜が形成された製品として、例えば自動車のフロントランプやリアランプに用いられるリフレクタがある。これらの製品を製造する工程では、成膜の対象とされる基材が製造され、この基材が成膜処理されることによって薄膜が形成された製品が製造される。
【０００３】
一般に、この成膜処理を行うにあたっては、真空成膜装置が用いられる。そして、真空成膜装置では、基材を保持する基材ホルダを成膜処理を行うための成膜室内に配置し、基材ホルダによって基材を回転させつつ成膜処理を行う。
【０００４】
ここで、真空成膜装置には、真空成膜装置の外部に設けられた搬送機構を介して、基材ホルダが真空成膜装置内へ搬送されるとともに、成膜処理を終えた基材ホルダが真空成膜装置より搬出されるようにされたものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
このように、搬送機構を用いて基材ホルダを真空成膜装置の内外間で自動的に搬送するようにすると、成膜装置への基材ホルダの装着及び取り外しに人手を要することなく、成膜処理を行う作業者の負担を軽減し、作業を容易にすることができる。
【特許文献１】特開２００２−２２２８４６号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、従来の真空成膜装置の内外間で基材ホルダが自動的に搬送されるようにされたものでは、基材ホルダを真空成膜装置内の所定の位置にセットするための機構は複雑であった。
【０００７】
即ち、基材ホルダを回転駆動させるためのモータ等を備える駆動機構は成膜室の外部に設けられており、この駆動機構と該駆動機構に結合する基材ホルダ側の機構との位置を対応させつつ基材ホルダを成膜室内の所定の位置にセットしなければならず、基材ホルダを成膜室内にセットするための機構は複雑であった。
【０００８】
例えば、前記特開２００２−２２２８４６号に開示された装置にあっては、基材ホルダを成膜室内に搬入するためのキャリアや、成膜室内で基材ホルダをキャリアとともに昇降させる昇降機構が設けられていた。そして、成膜室内に搬入された基材ホルダを、これらの機構を駆動して基材ホルダを回転駆動するための機構に結合させる工程も複雑であった。
【０００９】
そこで、本発明は、真空成膜室の内外間で基材ホルダが自動的に搬送されるとともに、基材ホルダを成膜室内にセットするための機構や工程を複雑にすることなく基材ホルダを成膜室内で回転駆動できる真空成膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明は、回転軸と該回転軸を軸受け機構を介して支持する固定フレーム部材とを備えるとともに成膜される基材を保持する基材ホルダと、前記基材を保持した基材ホルダを内側の空間に配置して前記基材に成膜処理を行うための真空成膜室と、前記基材ホルダを真空成膜室の内外間で搬送するとともに真空成膜室内において前記基材ホルダを支持するための成膜室基材ホルダ搬送機構と、前記基材を基材ホルダの回転軸とともに回転駆動させる基材ホルダ駆動機構と、基材ホルダ駆動機構を前進又は後退させる基材ホルダ駆動機構移動手段とを備え、
前記基材ホルダが、真空成膜室外に配設された基材ホルダ搬送機構を介して、真空成膜室内に搬入されるとともに真空成膜室外に搬出されるようにされた真空成膜装置であって、
前記基材ホルダ駆動機構は、駆動力を発生する動力源と該駆動力を基材ホルダ側に伝達する駆動軸とを備え、前記動力源が真空成膜室外に設置されるとともに、前記駆動軸の先端は真空成膜室内に位置するように設けられており、
前記基材ホルダが真空成膜室内の所定の位置に配置されると、前記基材ホルダ駆動機構移動手段が前記基材ホルダ駆動機構を前進させ、基材ホルダ駆動機構の駆動軸の先端を、基材ホルダの回転軸に連結されて該回転軸を駆動するための基材ホルダ側に付設された機構の基端に結合させることにより、前記基材ホルダの回転軸が前記基材ホルダ駆動機構により駆動されるようにされた真空成膜装置である（請求項１）。
【００１１】
本発明の真空成膜装置によると、基材ホルダが基材ホルダ搬送機構により真空成膜室内に搬送され成膜処理時に位置するべき位置にセットされると、基材ホルダ駆動機構移動手段が基材ホルダ駆動機構を前進させる。
【００１２】
これにより、基材ホルダ駆動機構の駆動軸は、基材ホルダ側に付設されて基材ホルダの回転軸を駆動するための機構の基端と結合する。これにより、基材ホルダ駆動機構により基材ホルダの回転軸を回転駆動することができる。
【００１３】
これにより、本発明の真空成膜装置によると、基材ホルダが真空成膜装置の内外間で自動的に搬送されるとともに、基材ホルダを真空成膜室内の成膜処理時に位置するべき位置にセットするための機構や工程を複雑にすることなく、真空成膜室内において基材ホルダを回転駆動することができる。
【００１４】
また、上記真空成膜装置について、前記基材ホルダの回転軸を駆動するための基材ホルダ側の機構が、該基材ホルダ側の機構の基端に設けられた駆動力受け部材と、該駆動力受け部材が一端側に取り付けられ他端側がロック機構を介して基材ホルダの回転軸に接続される基材ホルダ側駆動軸とを備え、
前記ロック機構は、基材ホルダ側駆動軸に設けられた第一のロック部材と、基材ホルダの固定フレーム部材に設けられた第二のロック部材と、前記第一のロック部材及び第二のロック部材を相対的に係合位置及び非係合位置に変位させる変位手段とを備え、
前記基材ホルダ駆動機構の駆動軸の先端が前記駆動力受け部材に回転駆動力を伝達可能に結合されない場合には、前記変位手段が第一のロック部材及び第二のロック部材を係合状態に保持し、
前記基材ホルダ駆動機構の駆動軸の先端が前記駆動力受け部材に回転駆動力を伝達可能に結合される場合には、前記変位手段が第一のロック部材及び第二のロック部材を非係合状態に保持するとともに、基材ホルダ側駆動軸に駆動力が伝達されるようにすることができる（請求項２）。
【００１５】
この発明によると、基材ホルダ側に付設された機構に前記ロック機構が組み込まれており、前記基材ホルダ駆動機構の駆動軸の先端が前記駆動力受け部材に回転駆動力を伝達可能に結合されない場合には、前記ロック機構の第二のロック部材により基材ホルダ側駆動軸及び駆動力受け部材がロックされる。
【００１６】
そして、基材ホルダが真空成膜装置外に搬出された場合には、基材ホルダ駆動機構の駆動軸の先端は前記駆動力受け部材に回転駆動力を伝達可能に結合されない状態にあり、基材ホルダ側駆動軸及び駆動力受け部材は第二のロック部材によりロックされている。
【００１７】
これにより、真空成膜装置外に搬出された基材ホルダに対して基材を取り付け又は成膜処理された基材を取り外す作業を行う場合には、基材ホルダ側駆動軸及び駆動力受け部材は第二のロック部材によりロックされており、第一の基材ホルダ側駆動軸や駆動力受け部材の基材ホルダにおける位置決めを損なうことがない。そして、前記駆動力受け部材は基材ホルダ駆動機構の駆動軸の先端に対する高精度の位置決めが要求されるが、この駆動力受け部材の位置決めを損なうことがない。
【００１８】
また、上記真空成膜装置について、前記基材ホルダの回転軸を水平方向における基材ホルダが搬送される搬送方向に沿って配設することができる（請求項３）。基材ホルダは、回転軸の軸方向に沿って基材を保持する。従って、回転軸を基材ホルダの搬送方向に沿って配設すると、基材を設置するための多くの空間を確保することができ、基材ホルダに多くの基材を設置することが可能になる。
【００１９】
また、以上の真空成膜装置について（請求項１乃至３）、前記真空成膜室の一方側に隣接して設置された入口側ロードロック室と前記真空成膜室の他方側に隣接して設置された出口側ロードロック室とをさらに備え、
前記入口側ロードロック室には前記基材ホルダを真空成膜室側に搬送するための入口側基材ホルダ搬送機構が設けられ、前記出口側ロードロック室には真空成膜室より搬送された基材ホルダを搬出するための出口側基材ホルダ搬送機構が設けられており、
当該真空成膜装置に搬送された基材ホルダは入口側ロードロック室に搬入された後に入口側ロードロック室より真空成膜室に搬入され、真空成膜室で成膜処理を終了した基材ホルダは真空成膜室より出口側ロードロック室に搬送された後に出口側ロードロック室より外部に搬出されるようにすることができる（請求項４）。
【００２０】
この発明の真空成膜装置によると、入口側ロードロック室及び出口側ロードロック室が設けられるので、基材ホルダを真空成膜室の内外で出し入れするにあたり、真空成膜室内を大気状態に戻さなくともよい。
【００２１】
これにより、真空成膜室内を定常的にある程度以上の真空レベルに維持することができ、成膜処理時に要求される真空雰囲気に回復させるための時間のロスを防ぐことができる。
【００２２】
これにより、一つの基材ホルダに対する成膜処理が終わると、速やかに他の基材ホルダに対する成膜処理を開始することもできる。これにより、複数の基材ホルダに対する成膜処理を連続して行うことができ、多数の基材に対する成膜処理を作業効率良く行うことができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明は以上説明したような形態で実施され、以下に記載されるような効果を奏する。本発明によると、真空成膜装置の内外間で基材ホルダが自動的に搬送されるとともに、基材ホルダを成膜室内にセットするための機構や工程を複雑にすることなく、基材ホルダを成膜室内で回転駆動することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明の実施の形態について、図１乃至図８に基づいて説明する。図１及び図２は、本発明の一実施形態である真空成膜装置２０を示す図である。図１は、真空成膜装置２０を上方から眺めた状態を表す図である。
【００２５】
図２は、真空成膜装置２０を、成膜室扉５が設けられる正面側を眺める正面方向から眺めた状態を表す図である。図３は、真空成膜室１内に設けられる成膜室基材ホルダ搬送機構を示す図であり、成膜室基材ホルダ搬送機構を上方から眺めた状態を表している。
【００２６】
真空成膜装置２０は、真空成膜室１と入口側ロードロック室１１と出口側ロードロック室１２を備えている。真空成膜室１では、成膜室１内に搬入された基材ホルダ６０によって保持される基材に対する成膜処理が行われる。
【００２７】
成膜室１内には、膜の原料を蒸発させて基材に成膜するための蒸発源２が設けられている。蒸発源２は、膜の原料を保持しつつ蒸発させるための図示されない抵抗ボートを有している。
【００２８】
また、蒸発源２には、回転駆動軸が設けられている。この回転駆動軸を回転させて抵抗ボートを回転させることにより、抵抗ボートを成膜処理時の所要の位置に位置決めするようにされている。蒸発源２の回転駆動軸は、成膜室１外に設けられる蒸発源駆動用モータ３によって回転駆動される。
【００２９】
また、真空成膜室１には、成膜室基材ホルダ搬送機構が設けられている。成膜室基材ホルダ搬送機構は、後に説明する入口側ロードロック室１１より成膜室１内に搬送された基材ホルダ６０を成膜室１内の成膜処理時にセットされるべき所定の位置である正位置へ搬送するとともに、基材に成膜処理を行っている際に基材ホルダ６０を下側から支持する。
【００３０】
また、成膜室基材ホルダ搬送機構は、成膜室１において成膜処理が終了すると、基材ホルダ６０を成膜室１から後に説明する出口側ロードロック室１２へ搬送する。成膜室基材ホルダ搬送機構は、図３に示されるように、搬送ローラＣＲ、搬送シャフトＣＳ及びプーリＰＬを備えている。
【００３１】
成膜室基材ホルダ搬送機構の搬送ローラＣＲは、真空成膜室１内の蒸発源２に対する上方に設けられている。この搬送ローラＣＲは、図３に示されるように、基材ホルダ６０の搬送方向に対する幅方向で一対が対向するように設けられている。
【００３２】
この例では、図３に示されるように、前記対向する二つの搬送ローラＣＲを一対とする四対の搬送ローラＣＲが設けられている。そして、入口側ロードロック室１１に最も近い位置に設けられる一対の搬送ローラＣＲは、基材ホルダ６０の幅方向に沿って設けられる搬送ローラシャフトＣＳに取り付けられている。
【００３３】
また、出口側ロードロック室１２に最も近い位置に設けられる一対の搬送ローラＣＲは、基材ホルダ６０の幅方向に沿って設けられる搬送ローラシャフトＣＳに取り付けられている。
【００３４】
搬送ローラシャフトＣＳに取り付けられた搬送ローラＣＲは、搬送ローラシャフトＣＳと回転中心が一致するように取り付けられている。搬送ローラシャフトＣＳは、真空成膜室１外に設けられるプーリＰＬに連結されており、プーリＰＬとともに回転駆動される。プーリＰＬは、基材ホルダ６０を搬送する際には、特に図示しない電動機によって駆動される。
【００３５】
なお、プーリＰＬと搬送ローラシャフトＣＳとを連結するジョイントシャフトが真空成膜室１の内外を貫通して設けられており、ジョイントシャフトが配される真空成膜室１のチャンバ壁１ｂにはジョイントシャフトを支持する真空シールされた軸受け機構が設けられている。
【００３６】
また、各搬送ローラＣＲには、搬送ローラＣＲより成膜室１内の外方にあたる位置に設けられたスプロケットＳＰが搬送シャフトＣＳを介して連結されている。連結されたスプロケットＳＰと搬送ローラＣＲとは、回転の中心が一致するように連結されている。
【００３７】
そして、基材ホルダ６０の搬送方向に隣合う二つのスプロケットＳＰにはチェーンＣＡが掛けられている。これにより、プーリＰＬの駆動力は、チェーンＣＡを介してプーリＰＬに直接連結されていないスプロケットＳＰ及び搬送ローラＣＲに伝達される。
【００３８】
また、スプロケットＳＰより成膜室１内の外方にあたる位置に支持ブラケットＢＬが設けられており、搬送ローラＣＲ、スプロケットＳＰ及びチェーンＣＡを支持している。支持ブラケットＢＬは、図３に示されるように、基材ホルダ６０の搬送方向に対する幅方向で一対が対向するように設けられている。
【００３９】
支持ブラケットＢＬの一対は、入口側ロードロック室１１側に位置する二対の搬送ローラＣＲに対して設けられている。支持ブラケットＢＬの他の一対は出口側ロードロック室１２側に位置する二対の搬送ローラＣＲに対して設けられている。
【００４０】
以上に説明した成膜室基材ホルダ搬送機構の搬送ローラＣＲは、後に説明する基材ホルダ６０の下支持ベース６２に下側で接し、基材ホルダ６０を下側から支持する。成膜室１内の搬送ローラＣＲは、成膜処理時には停止している。
【００４１】
また、搬送ローラＣＲは基材ホルダ６０を成膜室１内へ搬入する際や成膜室１内から搬出する際には回転駆動されており、搬送ローラＣＲの回転によって基材ホルダ６０が搬送される。
【００４２】
成膜室１には入口側ロードロック室１１との境界に、図示されない搬入用バルブ機構が設けられている。そして、この搬入用バルブ機構が開くと、入口側ロードロック室１１内の空間と真空成膜室１内の空間とが連通する。一方、搬入用バルブ機構が閉じると、入口側ロードロック室１１内の空間と真空成膜室１内の空間は遮断される。
【００４３】
入口側ロードロック室１１内に搬入された基材ホルダ６０を成膜室１内へ搬送する際には、搬入用バルブ機構が開けられる。そして、成膜室１内への基材ホルダ６０の搬入が終了すると、搬入用バルブ機構は閉じられる。
【００４４】
また、成膜室１には出口側ロードロック室１２との境界に、図示されない搬出用バルブ機構が設けられている。そして、この搬出用バルブ機構が開くと、出口側ロードロック室１２内の空間と真空成膜室１内の空間とが連通する。一方、搬出用バルブ機構が閉じると、出口側ロードロック室１２内の空間と真空成膜室１内の空間は遮断される。
【００４５】
真空成膜室１内の基材ホルダ６０を出口側ロードロック室１２へ搬送する際には、搬出用バルブ機構が開けられる。そして、出口側ロードロック室１２への基材ホルダ６０の搬出が終了すると、搬出用バルブ機構は閉じられる。
【００４６】
入口側ロードロック室１１は、真空成膜室１に対する一方側に設けられている。入口側ロードロック室１１の室内には、入口側基材ホルダ搬送機構が設けられている。入口側基材ホルダ搬送機構は、搬送ローラＣＲと搬送シャフトＣＳを備えて構成されている。
【００４７】
入口側ロードロック室１１内では、基材ホルダ６０の搬送方向に対する幅方向に対向する一対の搬送ローラＣＲは、搬送シャフトＣＳに取り付けられている。入口側ロードロック室１１内に設けられる搬送ローラＣＲは、真空成膜室１に設けられた搬送ローラＣＲと同様、プーリＰＬを介して駆動される。また、入口側基材ホルダ搬送機構の搬送ローラＣＲは前記成膜室基材ホルダ搬送機構の搬送ローラＣＲと高さが一致するように設けられている。
【００４８】
また、入口側ロードロック室１１の一方側の側面には入口バルブ機構が設けられている。入口バルブ機構が閉じると、入口側ロードロック室１１の室内が大気に対して閉じられる。一方、入口バルブ機構が開くと、入口側ロードロック室１１の室内が大気に対して開放される。
【００４９】
そして、真空成膜装置２０の外部から入口側ロードロック室１１に搬送されてきた基材ホルダ６０は、開いた入口バルブ機構を通ってロードロック室１１内に搬入される。基材ホルダ６０がロードロック室１１に搬入されると、入口バルブ機構は閉じられる。
【００５０】
出口側ロードロック室１２は、真空成膜室１に対する他方側に設けられている。出口側ロードロック室１２の室内には、出口側基材ホルダ搬送機構が設けられている。出口側基材ホルダ搬送機構は、搬送ローラＣＲと搬送シャフトＣＳを備えて構成されている。
【００５１】
出口側ロードロック室１２内では、基材ホルダ６０の搬送方向に対する幅方向に対向する一対の搬送ローラＣＲは、搬送シャフトＣＳに取り付けられている。出口側ロードロック室１２内に設けられる搬送ローラＣＲは、真空成膜室１に設けられた搬送ローラＣＲと同様、プーリＰＬを介して駆動される。また、出口側基材ホルダ搬送機構の搬送ローラＣＲは前記成膜室基材ホルダ搬送機構の搬送ローラＣＲと高さが一致するように設けられている。
【００５２】
また、出口側ロードロック室１２の他方側の側面には出口バルブ機構が設けられている。出口バルブ機構が閉じると、出口側ロードロック室１２の室内が大気に対して閉じられる。一方、出口バルブ機構が開くと、出口側ロードロック室１２の室内が大気に開放される。
【００５３】
そして、出口側ロードロック室１２内に搬入された基材ホルダ６０は、開いた出口バルブ機構を通って出口側ロードロック室１２より、真空成膜装置２０の外部へ搬出される。基材ホルダ６０がロードロック室１２外に搬出されると、出口バルブ機構は閉じられる。
【００５４】
なお、以上に説明した真空成膜室１は、図示しない真空ポンプ等を備える排気手段に接続されている。この排気手段として、真空成膜室１内を成膜処理時に要求される所要の真空雰囲気とする排気能力を備えるものが設けられている。
【００５５】
また、真空成膜室１は、図示しないガス供給手段に接続されている。そして、このガス供給手段により、成膜処理時に要求される所要のガスを真空成膜室１内に供給することができる。そして、前記排気手段とガス供給手段とにより真空成膜室１内を所要のガス圧の雰囲気とすることができる。
【００５６】
また、前記入口側ロードロック室１１は図示されない排気手段に接続されており、ロードロック室１１内を所定の真空雰囲気とできるようにされている。基材ホルダ６０をロードロック室１１から真空成膜室１へ搬送するためにロードロック室１１内を真空成膜室１内に連通させた際に、真空成膜室１内を排気する排気手段に大きな負荷が生じないようにロードロック室１１内は排気される。
【００５７】
また、前記出口側ロードロック室１２についても、入口側ロードロック室１１と同様に図示されない排気手段に接続されており、ロードロック室１２内を所定の真空雰囲気とできるようにされている。そして、ロードロック室１２を真空成膜室１に連通させた際に真空成膜室１内を排気する排気手段に大きな負荷が生じないようにロードロック室１２内は排気される。
【００５８】
この真空成膜装置２０のように、入口側ロードロック室１１及び出口側ロードロック室１２を設けると、基材ホルダ６０を真空成膜室１の内外で出し入れするにあたり、真空成膜室１内を大気状態に戻さなくともよい。これにより、真空成膜室１内をある程度以上の真空レベルに維持できるので、成膜処理時に要求される真空雰囲気に回復させるための時間のロスを防ぐことができる。
【００５９】
これにより、一つの基材ホルダ６０に対する成膜処理の作業が終わると、速やかに他の基材ホルダ６０に対する成膜処理を開始することができる。これにより、複数の基材ホルダ６０に対する成膜処理を連続して行うことができ、多数の基材に対する成膜処理を作業効率良く行うことができる。
【００６０】
次に、図４も参酌しつつ、基材ホルダ駆動機構３０について説明する。図４は基材ホルダ駆動機構３０の構造を詳しく示す図である。図４には、基材ホルダ駆動機構３０の内部の構造の一部が示されている。
【００６１】
基材ホルダ駆動機構３０は、図１及び図２に示されるように、真空成膜室１の正面に配されるチャンバ壁１ａに沿って設置されている。
【００６２】
基材ホルダ駆動機構３０は、図４に示されるように、駆動モータ２９、駆動軸３１及び３２、スライドベース３６、先端外側ケーシング４１、先端内側ケーシング４５、中間ケーシング４２及び後側ケーシング４３を備えている。
【００６３】
ケーシング４１、４２、４３、４５は駆動軸３１及び３２を内側に収納する。先端内側ケーシング４５は、第二の駆動軸３２の最先端部分３２ａと基端部分とを除く先端側の部分を内側に収納している。
【００６４】
先端内側ケーシング４５は、その先端部分がチャンバ壁１ａを貫通する孔を介して真空成膜室１内に位置するように設けられている。先端内側ケーシング４５の内面と第二の駆動軸３２との間には、オイルシール及び第二の駆動軸３２を支持する軸受けが設けられている。先端内側ケーシング４５は、後に説明する中間ケーシング４２に取り付けられている。
【００６５】
先端外側ケーシング４１は、中心Ｃ１に対して先端内側ケーシング４５の外方に設けられ、先端内側ケーシング４５を内側に収納するように設けられている。先端外側ケーシング４１は、真空成膜室１のチャンバ壁１ａに取り付けられている。
【００６６】
中間ケーシング４２は、第二の駆動軸３２の基端部分及び第一の駆動軸３１の先端部分を収納している。後側ケーシング４３は、第一の駆動軸３１の後端部分を収納している。ケーシング４２、４３は後に説明するスライドベース３６に取り付けられている。
【００６７】
なお、後に説明するスライドベース３６がエアシリンダ５５により駆動されると、ケーシング４２、４３、４５は、駆動モータ２９、駆動軸３１及び３２とともに駆動される。
【００６８】
駆動モータ２９は、後に説明する基材ホルダ６０を駆動するための駆動力を発生する動力源にあたる。駆動モータ２９は、図４に示されるように、真空成膜室１外に設けられている。駆動モータ２９の駆動力は、図示されない減速機構を介して、駆動モータ２９の下方に配設される第一の駆動軸３１に伝達される。
【００６９】
第一の駆動軸３１に対する先端側には第二の駆動軸３２が配設されている。第一の駆動軸３１と第二の駆動軸３２とは、カップリング３３によって軸方向に連結されている。そして、第一の駆動軸３１及び第二の駆動軸３２は、駆動モータ２９により、チャンバ壁１ａに対する垂直方向に沿った回転中心Ｃ１を中心として回転駆動される。
【００７０】
また、第一の駆動軸３１の後端には検出片３９が取り付けられている。また、検出片３９を検出するための傾き検出センサ３５が第一の駆動軸３１の後端の近傍でスライドベース３６に取り付けられている。傾き検出センサ３５及び検出片３９は、第一の駆動軸３１とともにケーシング４３内に収納されている。
【００７１】
この傾き検出センサ３５により、検出片３９を介して駆動軸３１及び３２の姿勢が検出される。これにより、駆動軸３１及び３２が本来の中心軸Ｃ１から傾いているか否か検出される。
【００７２】
スライドベース３６は、以上に説明した基材ホルダ駆動機構３０を下側から支持している。スライドベース３６の下面にはスライダ３６ｂが設けられている。スライダ３６ｂが後に説明するスライド用ガイド３８に摺接することにより、スライダ３６は前後方向に導かれる。スライドベース３６は、以下に説明するエアシリンダ５５に連結されており、エアシリンダ５５によりチャンバ壁１ａに対する前後方向に駆動される。
【００７３】
真空成膜室１のチャンバ壁１ａの正面部分には、エアシリンダ５５を設置するための取り付けベース３７が取り付けられている。取り付けベース３７には、チャンバ壁１ａに対する後方に延びるように設けられたスライド用ガイド３８が取り付けられている。スライド用ガイド３８は、スライドベース３６に対する下方に設けられている。
【００７４】
そして、スライド用ガイド３８の下面にエアシリンダ５５の本体５５ａが取り付けられている。エアシリンダ５５は、その空気圧により駆動される基本シャフト５５ｂがチャンバ壁１ａの前後方向に駆動されるように設けられている。
【００７５】
そして、基本シャフト５５ｂに対する先端側には取り付けシャフト５５ｃが設けられており、基本シャフト５５ｂと取り付けシャフト５５ｃはジョイント５５ｄにより連結されている。取り付けシャフト５５ｃは、スライドベース３６の後端に下方に延びるように設けられたスライドベース連結アーム３６ａに取り付けられている。
【００７６】
基材ホルダ駆動機構３０は、エアシリンダ５５により以下のように駆動される。エアシリンダ５５の基本シャフト５５ｂが、本体５５ａ側に後退すると、スライドベース３６は基本シャフト５５ｂ及び取り付けシャフト５５ｃとともに真空成膜室１側に移動する。
【００７７】
これにより、駆動軸３１及び３２は駆動モータ２９とともに前進し、駆動軸３２の先端３２ａは真空成膜室１内の成膜処理時に位置するべき所定の動作位置に位置決めされる。
【００７８】
駆動軸３２の先端３２ａが成膜処理時に位置するべき所定の動作位置は、成膜処理を行うための正位置にセットされた基材ホルダ６０の駆動力受け部材７５と駆動軸３２とが結合するとともに、後に説明する第一の基材ホルダ側駆動軸７１の第二のロック部材７４によるロックが解除される位置である。
【００７９】
一方、エアシリンダ５５の基本シャフト５５ｂが、本体５５ａ側に対して伸びると、スライドベース３６は基本シャフト５５ｂ及び取り付けシャフト５５ｃとともに真空成膜室１に対する後方へ移動する。これにより、駆動軸３２は駆動モータ２９とともに後方へ移動し、駆動軸３２の先端は、真空成膜室１内において、成膜処理時に位置するべき動作位置より後方に位置する。
【００８０】
以上に説明したエアシリンダ５５は、基材ホルダ駆動機構３０の駆動軸３２を前進又は後退させて、駆動軸３２を基材ホルダ６０側の基端に設けられる駆動力受け部材７５に結合させ又は結合を解除するものであり、基材ホルダ駆動機構移動手段にあたる。
【００８１】
次に、基材ホルダ６０について、図５乃至図８を参酌しつつ説明する。図５は、基材ホルダ６０を上方から眺めた状態を示す図である。図６は、基材ホルダ６０を回転中心Ｃ０に垂直をなす側方から眺めた状態を示す図である。図７は、図５に示した基材ホルダ６０の一部拡大図であり、基材ホルダ側動力伝達機構を詳しく示す図である。図８は、図７におけるVII−VII線矢視図である。
【００８２】
図５及び図６に示されるように、基材ホルダ６０は、下支持ベース６２、基端側縦プレート６３、先端側縦プレート６４及び回転軸６１を備えている。下支持ベース６２は、基材ホルダ６０の最下部に配されており、基材ホルダ６０の他の部材を下側から支持している。
【００８３】
回転軸６１は、基材ホルダ６０の搬送方向に沿った中心Ｃ０に沿って配設されており、中心Ｃ０を回転中心として回転駆動される。回転軸６１の基端の近傍には円板状をなす基端側縦プレート６３が取り付けられている。回転軸６１の先端の近傍には円板状をなす先端側縦プレート６４が取り付けられている。
【００８４】
基端側縦プレート６３及び先端側縦プレート６４は、上下方向に沿うように設けられている。また、基端側縦プレート６３及び先端側縦プレート６４は、これらの円板状をなすプレート６３、６４の中心が中心Ｃ０に一致するように回転軸６１に取り付けられている。
【００８５】
基端側縦プレート６３及び先端側縦プレート６４は、回転軸６１が回転駆動されると、回転軸６１とともに回転する。なお、回転軸６１に沿った基端側縦プレート６３に対する外側の位置及び先端側縦プレート６４に対する外側の位置には、各々に軸受けが設けられている。これらの軸受けにより回転軸６１が支持されている。
【００８６】
そして、成膜される基材が基材ホルダ６０に保持されるにあたり、回転軸６１に沿って基端側縦プレート６３と先端側縦プレート６４とに囲まれた領域内に配置される。そして、成膜処理される場合には、基材は回転軸６１とともに回転駆動される。
【００８７】
次に、基材ホルダ６０に設けられる基材ホルダ側動力伝達機構７０について、図７及び図８も参酌しつつ説明する。基材ホルダ側動力伝達機構７０は、基材ホルダ６０の搬送方向における基端に付設されている。
【００８８】
基材ホルダ側動力伝達機構７０は、ケーシング８０、第一の基材ホルダ側駆動軸７１、第二の基材ホルダ側駆動軸７２、第一のロック部材７３、第二のロック部材７４、駆動力受け部材７５、ラチェット機構７６、第二の傘歯車７８、及び第一の傘歯車７７を備えている。
【００８９】
ケーシング８０は、基材ホルダ側動力伝達機構７０の各部材を内側に収納している。ケーシング８０は、下支持ベース６２に取り付けられている。ケーシング８０は、前記下支持ベース６２等とともに固定フレーム部材を構成する。
【００９０】
第一の基材ホルダ側駆動軸７１の基端には、駆動力受け部材７５が取り付けられている。また、第一の基材ホルダ側駆動軸７１の先端には第一のロック部材７３が取り付けられている。
【００９１】
第一の基材ホルダ側駆動軸７１、駆動力受け部材７５及び第一のロック部材７３の各々は、基材ホルダ駆動機構３０により駆動される場合には、Ｃ２を共通の回転中心として駆動されるように設けられている。
【００９２】
第一の基材ホルダ側駆動軸７１の軸方向における第一のロック部材７３より基端側にあたる位置には、第二のロック部材７４が設けられている。第二のロック部材７４は、ケーシング８０に取り付けられている。
【００９３】
第二のロック部材７４には、中心Ｃ２に沿って軸方向に貫通する開口が形成されている。そして、第二のロック部材７４は、この開口によって第一の基材ホルダ側駆動軸７１を囲むように設けられている。
【００９４】
第二のロック部材７４と第一のロック部材７３とは、軸方向に嵌り合うように形成されている。第二のロック部材７４の先端には、突出片７４ａが設けられている。第一のロック部材７３の基端には、第二のロック部材７４の突出片７４ａと嵌め合い得る嵌合孔７３ａが形成されている。嵌合孔７３ａは、第一のロック部材７３の基端から先端方向に切り欠いて形成された孔により構成されている。
【００９５】
第一のロック部材７３と第二のロック部材７４とは、駆動力受け部材７５が基材ホルダ駆動機構３０により駆動される際に位置するべき動作位置に位置していない場合には、嵌合孔７３ａと突出片７４ａとが嵌ることにより、互いに嵌め合った状態とされる。これにより、第一のロック部材７３、第一の基材ホルダ側駆動軸７１及び駆動力受け部材７５は、基材ホルダ６０の固定フレーム部材にロックされた状態となる。
【００９６】
図８から判るように、嵌合孔７３ａは三つ形成されている。また、三つの嵌合孔７３ａに対応させて、第二のロック部材７４にも三つの突出片７４ａが設けられている。
【００９７】
このように、第一のロック部材７３と第二のロック部材７４とを三点で嵌め合うようにすると、第一のロック部材７３を中心Ｃ２に対して傾かせることなく第二のロック部材７４に嵌めておくことができる。
【００９８】
これにより、第一のロック部材７３が取り付けられる第一の基材ホルダ側駆動軸７１、及び第一の基材ホルダ側駆動軸７１に取り付けられている駆動力受け部材７５が中心Ｃ２に対して傾くことを防ぐことができる。
【００９９】
これにより、基材ホルダ駆動機構３０と基材ホルダ側動力伝達機構７０とが係合していない時に、駆動力受け部材７５に中心Ｃ２に対する傾きを生ずることを防ぐことができる。
【０１００】
これにより、基材ホルダ６０を基材ホルダ駆動機構３０により駆動する時に、基材ホルダ駆動機構３０の駆動軸３２の先端と駆動力受け部材７５とを精度良く結合させることができる。
【０１０１】
駆動力受け部材７５と第二のロック部材７４との間には、第一の基材ホルダ側駆動軸７１に沿ってバネ部材にあたるスプリング７９が設けられている。スプリング７９の一方の端部は、駆動力受け部材７５の先端に取り付けられている。スプリング７９の他方の端部は、第二ロック部材７４の基端に取り付けられている。
【０１０２】
このスプリング７９により、第一の基材ホルダ側駆動軸７１、第一のロック部材７３、駆動力受け部材７５及び後に説明するラチェット機構７６のツメ７６ｂが基端方向に付勢されている。
【０１０３】
このスプリング７９及び前記第一の基材ホルダ側駆動軸７１により、第一のロック部材７３と第二のロック部材７４とが互いに嵌り合う相対的な係合位置に第一のロック部材７３を位置させて第一のロック部材７３及び第二のロック部材７４を係合状態とすることができる。また、スプリング７９及び前記第一の基材ホルダ側駆動軸７１により、第一のロック部材７３と第二のロック部材７４とが嵌り合わない相対的な非係合位置に第一のロック部材７３を位置させて第一のロック部材７３及び第二のロック部材７４を非係合状態とすることができる。
【０１０４】
このスプリング７９及び第一の基材ホルダ側駆動軸７１は、第一のロック部材７３と第二のロック部材７４とを相対的に前記係合位置及び非係合位置に変位させる変位手段にあたる。
【０１０５】
また、第一の基材ホルダ側駆動軸７１に対する先端側には第二の基材ホルダ側駆動軸７２が設けられている。第二の基材ホルダ側駆動軸７２の基端には、ラチェット機構７６のギア７６ａが取り付けられている。
【０１０６】
ラチェット機構７６のツメ７６ｂは、第一のロック部材７３の先端に取り付けられている。即ち、ラチェット機構７６のツメ７６ｂに対する揺動中心となる支点軸が中心Ｃ２に対する外径方にあたる位置で中心Ｃ２方向に沿って第一のロック部材７３に取り付けられている。そして、ツメ７６ｂは、ツメ７６ｂの先端がギア７６ａの外周近傍でギア７６ａの先端と噛み合うように配置されている。
【０１０７】
また、ギア７６ａの中心Ｃ２方向の厚さは、第一のロック部材７３とともに移動するツメ７６ｂの中心Ｃ２方向に沿った移動距離と対応させた厚さとされている。
【０１０８】
即ち、駆動力受け部材７５が基材ホルダ駆動機構３０により駆動される際に位置するべき動作位置に位置しておらず、ツメ７６ｂが中心Ｃ２方向における最も基端側に位置した状態と、駆動力受け部材７５が動作位置に位置してツメ７６ｂが最も先端側に位置した状態のいずれの状態においても、ツメ７６ｂがギア７６ａに噛み合うようにギア７６ａの厚さが選択される。
【０１０９】
このラチェット機構７６が設けられることにより、第一の基材ホルダ側駆動軸７１、第二の駆動ホルダ側駆動軸７２及び回転軸６１は、一方向にのみ回転させることができる。
【０１１０】
第二の基材ホルダ側駆動軸７２の先端には、第二の傘歯車７８が取り付けられている。第二の基材ホルダ側駆動軸７２、ラチェット機構７６のギア７６ａ、及び第二の傘歯車７８の各々は、基材ホルダ駆動機構３０により駆動される場合には、前記第一の基材ホルダ側駆動軸７１とともにＣ２を共通の回転中心として回転駆動される。
【０１１１】
第一の傘歯車７７は、回転軸６１の基端に取り付けられている。第一の傘歯車７７は、基材ホルダ駆動機構３０により駆動される場合には、回転軸６１とともにＣ０を回転中心として駆動される。
【０１１２】
第一の傘歯車７７は、その回転中心Ｃ０が第二の傘歯車７８の回転中心Ｃ２と直交するように設けられている。そして、第一の傘歯車７７と第二の傘歯車７８とは、互いに噛合するように設けられている。
【０１１３】
なお、以上に説明した基材ホルダ側動力伝達機構７０は、基材ホルダ駆動機構３０により駆動される場合に、その中心Ｃ２が駆動軸３１及び３２の中心Ｃ１と一致するように設けられている。
【０１１４】
この基材ホルダ６０は、基材ホルダ駆動機構３０と以下のように係合して以下のように駆動される。基材ホルダ６０が真空成膜室１内の成膜処理時にセットされるべき正位置にセットされると、エアシリンダ５５が基材ホルダ駆動機構３０を前方に移動させる。
【０１１５】
そして、駆動軸３２の先端が駆動力受け部材７５に結合するとともに、第一の基材ホルダ側駆動軸７１がスプリング７９のバネ力に抗して先端側に移動し、駆動軸３２の先端及び駆動力受け部材７５が動作位置に位置決めされる。そして、第一のロック部材７３が先端方向に移動し、第二のロック部材７４による第一のロック部材７３のロックが解除される。
【０１１６】
そして、基材ホルダ駆動機構３０の駆動モータ２９を動作させると、駆動力受け部材７５と駆動軸３２とが結合しており、第一の基材ホルダ側駆動軸７１は中心Ｃ２の回りに回転駆動される。そして、第一の基材ホルダ側駆動軸７１が駆動されると、第二の傘歯車７８及び第一の傘歯車７７を介して回転軸６１が回転駆動される。
【０１１７】
また、基材ホルダ６０はラチェット機構７６が設けられることにより、以下の利点がある。成膜処理の工程を終了した基材ホルダ６０は、真空成膜装置２０外に搬出され、成膜装置２０の外部に設置される図示されない作業台に搬送される。この作業台は、基材ホルダ６０に対して成膜しようとする基材を取り付ける作業を行い、又は成膜処理を終えた基材を基材ホルダ６０より取り外す作業を行うために設けられるものである。
【０１１８】
この作業台において基材ホルダ６０より成膜処理された基材を取り外し、又は基材ホルダ６０に成膜しようとする基材を取り付ける作業を行うにあたり、基材ホルダ６０を所定の冶具に固定し、作業者の人手によって行われる。
【０１１９】
この基材ホルダ６０に対する作業を行うにあたり、基材ホルダ６０によると、回転軸６１を基材Ｗの取り外しや取り付けの容易な角度位置まで回転させることができる。即ち、基材ホルダ６０には動力伝達機構７０にラチェット機構７６が組み込まれるので、回転軸６１を任意の角度位置まで一方向に回転させることができる。
【０１２０】
そして、基材ホルダ６０の第一の基材ホルダ側駆動軸７１、第一のロック部材７３及び駆動力受け部材７５は第二のロック部材７４によりロックされている。これにより、真空成膜装置２０の外部において基材ホルダ６０の回転軸６１を回転させる作業を行っても、駆動軸３２と結合させる上で位置決め精度を要求される駆動力受け部材７５の位置決めを損なうことがない。
【０１２１】
また、以上の基材ホルダ６０は、基材ホルダ６０の回転軸６１が基材ホルダ６０の搬送方向に一致させて設けられている。そして、この回転軸６１の軸方向に沿って基材を保持する。これにより、基材ホルダ６０によると、基材を設置するための多くの空間を確保でき、多くの基材を設置することができる。
【０１２２】
そして、回転軸６１を駆動するための基材ホルダ側に付設される駆動軸７１及び７２が、回転軸６１と直交するように配置されている。これにより、回転軸６１を駆動するための機構を基材ホルダ６０に付設するにあたり、必要以上の空間を占有することなく、配置効率良く設けることができる。これにより、基材ホルダ６０の全体をコンパクトにすることができる。
【０１２３】
以上に説明した真空成膜装置２０外部の周辺のエリアには、基材ホルダ６０を真空成膜装置２０へ搬入するべく搬送するための、また真空成膜装置２０より搬出された基材ホルダ６０を搬送するための、図示されない基材ホルダ搬送機構が設置されている。
【０１２４】
真空成膜装置２０の外部に設置される基材ホルダ搬送機構は、以上に説明した搬送ローラＣＲや搬送シャフトＣＳ及びプーリＰＬを備えて構成されており、この搬送機構上を基材ホルダ６０を搬送できるようにされている。そして、この外部の基材ホルダ搬送機構の途中には、前記基材ホルダに対する作業を行うための作業台が設置されている。
【０１２５】
次に、以上に説明した真空成膜装置２０を使用する例について説明する。基材が取り付けられていない基材ホルダ６０を、真空成膜装置２０外に設置される作業台に搬送する。
【０１２６】
そして、この作業台上にて、作業者の人手により基材ホルダ６０に基材を取り付ける作業を行う。基材を取り付けるにあたり、基材ホルダ６０の回転軸６１を容易に作業を行える角度位置まで回転させる。この作業を行っている時、基材ホルダ６０の第一の基材ホルダ側駆動軸７１はロックされており、駆動力受け部材７５の位置決めを損なわない。
【０１２７】
この基材ホルダ６０に基材を取り付ける作業を行っている間に、真空成膜装置２０の真空成膜室１を所定の真空雰囲気に調整しておく。
【０１２８】
次に、基材を保持した基材ホルダ６０を、前記作業台から真空成膜装置２０の入口側ロードロック室１１へ搬送する。そして、基材ホルダ６０を入口側ロードロック室１１内に搬入する。
【０１２９】
次に、入口側ロードロック室１１内を排気して一定の真空度に達すると、基材ホルダ６０を入口側ロードロック室１１から真空成膜室１内へ搬送する。そして、真空成膜室１内を入口側ロードロック室１１から遮断するとともに、基材ホルダ６０を真空成膜室１内の成膜処理時に位置するべき所定の正位置にセットする。
【０１３０】
次に、エアシリンダ５５により駆動モータ２９とともに駆動軸３１及び３２を前方に移動させ、駆動軸３２を駆動力受け部材７５に結合させるとともに動作位置に位置決めする。これにより、基材ホルダ６０の第一の基材ホルダ側駆動軸７１、第一のロック部材７３及び駆動力受け部材７５のロックが解除される。
【０１３１】
次に、駆動モータ２９を動作させて基材ホルダ６０の回転軸６１を回転駆動して基材を回転させるとともに、蒸発源２を動作させて膜の原料を蒸発させる。これにより、基材ホルダ６０によって回転されつつ保持される基材が成膜処理される。
【０１３２】
この真空成膜室１において基材の成膜処理を行っている間に、出口側ロードロック室１２内を一定の真空度となるように排気しておく。
【０１３３】
そして、基材ホルダ６０により保持される全ての基材に対する成膜処理を終了すると、蒸発源２及び駆動モータ２９を停止させる。
【０１３４】
そして、エアシリンダ５５により駆動モータ２９とともに駆動軸３１及び３２を後方に移動させる。これにより、基材ホルダ６０の第一の基材ホルダ側駆動軸７１は、第一のロック部材７３及び駆動力受け部材７５とともに基端方向に復帰してロックされる。
【０１３５】
次に、成膜処理を終了した基材ホルダ６０を真空成膜室１内から出口側ロードロック室１２内へ搬送する。次に、真空成膜室１内を出口側ロードロック室１２から遮断し、出口側ロードロック室１２内の圧力を大気圧に回復させる。
【０１３６】
次に、基材ホルダ６０を出口側ロードロック室１２より外部に搬出する。そして、成膜処理を終了した基材ホルダ６０を、前記作業台まで搬送する。
【０１３７】
そして、作業台上にて、基材ホルダ６０より成膜処理を終えた基材を取り外す。基材ホルダ６０より基材を取り外すにあたり、基材ホルダ６０の回転軸６１を作業を容易に行える角度位置まで回転させる。この作業を行っている時、基材ホルダ６０の第一の基材ホルダ側駆動軸７１はロックされており、駆動力受け部材７５の位置決めを損なわない。
【０１３８】
以上に説明した真空成膜装置２０によると、基材ホルダ６０は基材ホルダ搬送機構によって真空成膜装置２０内に自動的に搬送され、成膜室１内の成膜処理時にセットされるべき所定の正位置にセットされる。また、成膜処理を終了した基材ホルダを基材ホルダ搬送機構によって自動的に搬送し、真空成膜装置２０の外部に搬出することもできる。
【０１３９】
そして、基材ホルダ６０が真空成膜室１内に搬入されると、エアシリンダ５５により基材ホルダ駆動機構３０を前進させ、基材ホルダ駆動機構３０の先端に設けられる駆動軸３２を基材ホルダ６０側の基端に設けられる駆動力受け部材７５に結合させる。これにより、基材ホルダ６０の回転軸６１を基材ホルダ駆動機構３０により駆動できる。
【０１４０】
このように、真空成膜装置２０によると、基材ホルダ６０が自動的に搬送される真空成膜装置２０において、基材ホルダ６０を成膜室１内にセットするための機構や工程を複雑にすることなく、成膜室１内で基材ホルダ６０を駆動することができる。
【０１４１】
また、真空成膜装置２０によると、真空成膜装置２０外部において基材ホルダ６０に基材を取り付け、又は基材ホルダ６０より基材を取り外す作業が容易である。即ち、前記作業を行うにあたり、基材ホルダ６０の回転軸６１を前記作業を行い易い角度位置まで回転させて行うことができる。
【０１４２】
そして、真空成膜装置２０外において、基材ホルダ６０に対して回転軸６１の回転を伴う作業を行っても、基材ホルダ駆動機構３０と係合する基材ホルダ６０側の基端の機構はロックされており、その位置決めを損なうことがない。
【図面の簡単な説明】
【０１４３】
【図１】本発明の一実施形態である真空成膜装置を示す図であり、真空成膜装置を上方から眺めた状態を示す図である。
【図２】図１に示される真空成膜装置を正面方向から眺めた状態を示す図である。
【図３】基材ホルダを搬送するための成膜室内基材ホルダ搬送機構を示す図である。
【図４】基材ホルダ駆動機構を示す図である。
【図５】基材ホルダを上方から眺めた状態を示す図である。
【図６】基材ホルダを搬送方向に対する側方から眺めた状態を示す図である。
【図７】基材ホルダ側の機構を示す図である。
【図８】VII−VII線矢視図である。
【符号の説明】
【０１４４】
１    真空成膜室
２    蒸発源
３    蒸発源駆動用モータ
５    成膜室扉
１１    入口側ロードロック室
１２    出口側ロードロック室
２０    真空成膜装置
２９    駆動モータ
３０    基材ホルダ駆動機構
３１    第一の駆動軸
３２    第二の駆動軸
３３    カップリング
３５    傾き検出センサ
３６    スライドベース
３６ａ  スライドベース連結アーム
３６ｂ  スライダー
３７    取り付けベース
３８    スライド用ガイド
３９    検出片
４１、４２、４３、４５    ケーシング
５５    エアシリンダ
５５ａ  エアシリンダの本体
５５ｂ  基本シャフト
５５ｃ  取り付けシャフト
５５ｄ  ジョイント
６０    基材ホルダ
６１    回転軸
６２    下支持ベース
６３    基端側縦プレート
６４    先端側縦プレート
７０    基材ホルダ側動力伝達機構
７１    第一の基材ホルダ側駆動軸
７２    第二の基材ホルダ側駆動軸
７３    第一のロック部材
７３ａ  嵌合孔
７４    第二のロック部材
７４ａ  突出片
７５    駆動力受け部材
７６    ラチェット機構
７６ａ  ラチェットのギア
７６ｂ  ラチェットのツメ
７７    第一の傘歯車
７８    第二の傘歯車
７９    スプリング
【図１】
2005154800.tif 000003
【図２】
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【図３】
2005154800.tif 000005
【図４】
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【図５】
2005154800.tif 000007
【図６】
2005154800.tif 000008
【図７】
2005154800.tif 000009
【図８】
2005154800.tif 000010