(57)【要約】 【課題】  非常に簡便かつ安価に光学パターンを形成する光学パターン形成方法を提供する。【解決手段】  焼成により硬化するレジストを所定光学パターンで基板上にレジストコートするレジストパターン形成工程（ＳＴ２０１〜ＳＴ２０３）と、前記レジストパターン形成工程で形成されたレジストのパターンを焼成して硬化させる焼成工程（ＳＴ２０４）と、を備える。このような構成によれば、レジストパターンを焼成硬化することによって、このレジストがそのまま光学パターンを形成することになる。【選択図】 図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
焼成により硬化するレジストを所定光学パターンで基板上にレジストコートするレジストパターン形成工程と、
前記レジストパターン形成工程で形成されたレジストのパターンを焼成して硬化させる焼成工程と、を備えた
ことを特徴とした光学パターン形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の光学パターン形成方法において、
前記基板は、長手状のガラススケール基板であり、
前記レジストは、少なくとも焼成硬化した状態で光を遮断する
ことを特徴とする光学パターン形成方法。
【請求項３】
請求項１に記載の光学パターン形成方法において、
前記基板は、長手状であって少なくとも一面において光反射性を有し、
前記レジストは、少なくとも焼成硬化した状態で光を吸収する
ことを特徴とする光学パターン形成方法。
【請求項４】
基板と、
前記基板上に設けられ焼成により硬化するレジストにて形成された光学パターンと、を備える
ことを特徴とする光学スケール。
【請求項５】
請求項４に記載された光学スケールと、
前記光学スケールに向けて光を照射する光源および前記光学スケールからの透過光あるいは反射光を受光する受光手段を有し、前記光学スケールに対して相対移動可能に設けられた検出ヘッドと、
前記受光手段で受光された受光信号に基づいて前記光学スケールと前記検出ヘッドとの相対変位を検出する変位検出部と、を備えた変位測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学パターン形成方法等に関し、例えば、光学式変位測定装置を構成するスケールのパターンを形成する方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、スケールと検出ヘッドとを備え、スケールと検出ヘッドとの相対変位を検出する光学式変位測定装置が知られている。
光学式変位測定装置のスケールは、スケール基材となるガラス基材の一面に光を透過させる透過部と光を遮断する非透過部とを測長方向に所定ピッチで有する。そして、このようなスケールのパターンは、図３に示すような工程によるリソグラフィで形成されるのが一般的である。
図３において、ＳＴ１０１で、スケール基材となるガラス基材の一面に光を透過しない金属による薄膜を形成する。ＳＴ１０２において、金属薄膜上にレジストを薄膜状にコーティングして、ＳＴ１０３において、スケールパターンのマスクを介してレジストを露光する。ＳＴ１０４において、パターン部以外のレジストを除去する現像を行い、ＳＴ１０５において、ベークにより残ったレジスト中の溶剤等を除去する。ＳＴ１０６において、エッチングを行って、レジストが形成されていない領域の金属薄膜を溶かして除去する。ＳＴ１０７において、指定の剥離剤等によりレジストを除去する。すると、ガラス基材上に金属による非透過部のパターンが形成される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記の方法は金属薄膜の成膜およびエッチング等を必要とするため、工程が非常に複雑であり、コスト増や生産性の低下を招く。また、金属薄膜の成膜やエッチングには特殊な設備も必要になるので、かなりのコスト増が避けられないという問題が生じる。
【０００４】
本発明の目的は、非常に簡便かつ安価に光学パターンを形成する光学パターン形成方法等を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の光学パターン形成方法は、焼成により硬化するレジストを所定光学パターンで基板上にレジストコートするレジストパターン形成工程と、前記レジストパターン形成工程で形成されたレジストのパターンを焼成して硬化させる焼成工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
このような構成によれば、レジストパターンを焼成硬化することによって、このレジストがそのまま光学パターンを形成することになる。従って、従来に比べて、金属膜の成膜やエッチング等の処理を必要としないので、簡便かつ安価に光学スケールを製造することができる。
なお、光学パターンは、スケールのパターンとすることが例として挙げられるが、これに限らず、種々の精密な光学パターンであってもよい。
【０００７】
ここで、レジストパターン形成工程は、基板上にレジストを薄膜状に成膜するレジストコート工程と、前記レジストコート工程で成膜されたレジストの薄膜を所定パターンのフォトマスクを介して露光する露光工程と、前記レジストの薄膜を現像する現像工程と、を備えることが好ましい。
あるいは、レジストパターン形成工程は、光学パターンを所定位置に塗布するスクリーン印刷であってもよい。
【０００８】
本発明では、前記基板は、長手状のガラススケール基板であり、前記レジストは、少なくとも焼成硬化した状態で光を遮断することが好ましい。
このような構成によれば、光透過型の光学パターンを簡便かつ安価に製造することができる。
ここで、光を遮断するレジストとは、例えば、着色されていて光を吸収あるいは反射するレジストであり、例えば、黒色に着色されブラックマトリックス用レジストとして知られたレジストを用いることができる。
【０００９】
本発明では、前記基板は、長手状であって少なくとも一面において光反射性を有し、前記レジストは、少なくとも焼成硬化した状態で光を吸収することが好ましい。
このような構成によれば、反射型の光学スケールを簡便かつ安価に製造することができる。
ここで、基板は、例えば、ガラス基板の一面において光反射性の金属による薄膜が成膜されていてもよい。あるいは、基板は、光反射性の金属から形成されていてもよい。
【００１０】
本発明の光学スケールは、基板と、前記基板上に設けられ焼成により硬化するレジストにて形成された光学パターンと、を備えることを特徴とする。
本発明の変位測定装置は、前記光学スケールに向けて光を照射する光源および前記光学スケールからの透過光あるいは反射光を受光する受光手段を有し、前記光学スケールに対して相対移動可能に設けられた検出ヘッドと、前記受光手段で受光された受光信号に基づいて前記光学スケールと前記検出ヘッドとの相対変位を検出する変位検出部と、を備えることが好ましい。
このような構成によれば、上記発明と同様の作用効果を奏し、簡便かつ安価な光学スケールあるいは変位測定装置とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を図示するとともに図中の各要素に付した符号を参照して説明する。
本発明の光学パターン形成方法に係る一実施形態を図１のフローチャートおよび図２の各工程図を参照して説明する。
ここで、光学パターンとして、透過型光学式変位測定装置のスケール（光学スケール）に用いられる光学パターンを例にして説明する。
まず、図２（Ａ）に示されるように、光学パターンを形成する基板となるガラス基板１を用意する。ガラス基板１としては、長手状に形成され、少なくとも光学パターンが形成される一面が鏡面研磨されていることが好ましい。
【００１２】
つぎに、ＳＴ２０１において、ガラス基板１上にレジスト２を薄膜状に塗布する（図２（Ｂ）参照、レジストコート工程）。このようにレジスト２を薄膜に塗布する方法としては、特に限定されず、スピンコート等の手段が例としてあげられる。
ここで、レジスト２について説明する。レジスト２は、露光されて感光すると硬化する樹脂であり、さらに、焼成（キュアリング）により焼成硬化する性質を有する。そして、レジスト２は、着色材を含有しており、光を透過しない性質を有する。このようなレジストとしては、ブラックマトリックス用レジストとして知られたレジストを利用することが例として挙げられる。
【００１３】
ＳＴ２０２において、所定パターンのフォトマスク３を介してレジスト２を露光して感光させる（図３（Ｃ）参照、露光工程）。すると、フォトマスク３のパターンがレジスト２に転写される。
ＳＴ２０３において、現像処理を行い、光が当たらなかったレジストを除去する（図３（Ｄ）参照、現像工程）。ここで、ＳＴ２０１〜ＳＴ２０３によりレジストパターン形成工程が構成される。
ＳＴ２０４において、焼成（キュアリング）を行い（焼成工程）、光学パターン４を焼成硬化させる。すると、図３（Ｅ）に示されるように、光透過部と光非透過部とが交互に配列した光学パターンが形成される。
【００１４】
このような構成によれば、レジスト２のパターンを焼成硬化することによって、このレジスト２がそのまま光学パターン４を形成することになる。従って、従来に比べて、金属膜の成膜やエッチング等の処理を必要としないので、簡便かつ安価に光学スケールを製造することができる。また、金属膜の成膜やエッチング等の処理設備を必要としないので、大きなコスト削減効果を奏する。
【００１５】
（変形例）
上記実施形態では、透過型の光学式変位測定装置に用いられる透過型スケールの光学パターンを形成したが、反射型の光学式変位測定装置に用いられる反射型スケールの光学パターンを形成してもよい。
この場合には、ガラス基材の上面に光を反射する金属膜を形成する。そして、この金属膜の上面に光を反射しない着色剤を含有したレジストをコートする。以下、上記実施形態と同様である（ＳＴ２０２〜ＳＴ２０４）。
このような構成においても、従来に比べて金属膜のエッチングを必要としないので、反射型の光学スケールを簡便かつ安価に製造することができる。
【００１６】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されず、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
例えば、上記の方法で製造した光学スケールを用いて変位測定装置を構成してもよい。このような変位測定装置は、光学スケールに向けて光を照射する光源および光学スケールからの透過光あるいは反射光を受光する受光手段を有し、光学スケールに対して相対移動可能に設けられた検出ヘッドと、受光手段で受光された受光信号に基づいて光学スケールと検出ヘッドとの相対変位を検出する変位検出部と、を備えて構成される。
【産業上の利用可能性】
【００１７】
本発明は、光学パターンの形成に利用できる。例えば、光学式変位測定装置を構成する光学スケールの製造に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態を示すフローチャート。
【図２】前記実施形態の各工程を示す図。
【図３】従来の光学パターンの形成方法を示すフローチャート。
【符号の説明】
【００１９】
１…ガラス基板、２…レジスト、３…フォトマスク、４…光学パターン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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