(57)【要約】【課題】２次元フォトニック結晶構造を有する層を備えた有機電界発光素子において、有機層から発せられた光の波長以外の光（任意の色の光）を出射する、新規な構成の有機電界発光素子を提供する。【解決手段】一対の電極２、４に挟まれ、両電極２、４間に電圧が印加されることで発光する有機層３を備えた素子１である。この素子１は、有機層３よりも光取出側に２次元フォトニック結晶層５が配置され、２次元フォトニック結晶層５よりも光取出側の一部又は全面に、入射された光の波長をより長い波長の光に変換する波長変換層６が配置されている。【選択図】図１
2005141921.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極に挟まれ、両電極間に電圧が印加されることで発光する有機層を備えた有機電界発光素子であって、
前記素子は、有機層よりも光取出側に２次元フォトニック結晶層が配置され、当該２次元フォトニック結晶層よりも光取出側の一部又は全面に、入射された光の波長をより長い波長の光に変換する波長変換層が配置されたことを特徴とする有機電界発光素子。
【請求項２】
請求項１記載の有機電界発光素子であって、
前記波長変換層は、入射された光の変更後の波長が互いに異なる二以上の部材が、同一層上に並べられて構成されていることを特徴とする有機電界発光素子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の有機電界発光素子であって、
前記２次元フォトニック結晶層は、有機層よりも光取出側に配置される電極としての機能も備えることを特徴とする有機電界発光素子。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の有機電界発光素子が透明基板上に形成された有機電界発光デバイスであって、
前記有機電界発光素子は、透明基板上に形成され、前記有機層から発せられた光を当該透明基板側から外部へ取り出す素子として形成され、
前記２次元フォトニック結晶層は、前記透明基板中に設けられたことを特徴とする有機電界発光デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
一対の電極に挟まれ、両電極間に電圧が印加されることで発光する有機層を備えた有機電界発光素子であって、より詳細には、２次元フォトニック結晶技術を採用した任意の色を表示する有機電界発光素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機電界発光素子（以下、適宜「有機ＥＬ素子」と表記する。）を用いたディスプレイや照明装置などの有機電界発光デバイス（以下、適宜「有機ＥＬデバイス」と表記する。）が提案されている。有機ＥＬ素子は、一対の電極間に、有機発光材料を含有する有機発光領域を有する有機層が狭持された構造をとる。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子は、有機層で発せられた光を十分に利用できていないことが指摘され、この問題を解決するために数多くの提案がなされている。まず、有機層で発せられた光を十分に利用できていない理由について説明し、次いで、この問題を解決するために提案されている従来技術を例示する。
【０００４】
例えば、透明基板上に有機ＥＬ素子が形成され、透明基板側から外部へ光を取り出すボトムエミッション型の有機ＥＬデバイスでは、有機層で発せられて、透明基板に入射した光のすべてが、有機層と平行な平面（光出射面）から外部へ取り出されるわけではない。このように取り出されない光は、臨界角よりも大きな角度で光出射面に入射した光である。この光は、透明基板の端部から外部へ出射されてしまったり、透明基板内や有機ＥＬ素子内を反射しながら進むうちに消光してしまったりする。
また、光出射面から出射された光も、上記デバイスとして出射させたい方向にすべてが出射されるわけではない。例えば、携帯端末等のディスプレイとして用いられるデバイスでは、ユーザが通常いると想定される方向（例えば光出射面の法線方向）に光を出射することが望ましいが、それ以外の方向にも光が出射されてしまう。したがって、後者の光は、光出射面から外部へ取り出されはするが、実質的に利用することのできない光と言える。
【０００５】
以上のような問題を解決するために提案されている従来技術としては、例えば、光取出面上にプリズムシートを設け、光出射面を基準として特定方向への光量を多くする従来技術（例えば、特許文献１を参照。）や、有機層や電極、基板等に凹凸を複数設けて、光の進行方向を変え、従来光出射面から取り出すことのできなかった光を取り出す従来技術（例えば、特許文献２を参照。）などが提案されている。
これらの従来技術は、設計によっては光取出量が従来よりも多くなったり、特定方向へ出射される光の量を多くしたりするなど、光取出効率や光利用効率を高くすることに貢献している。
従来は、これらの方法を用いて光取出効率や光利用効率を高くしようとしていた。
【０００６】
一方、フォトニック結晶を用いた有機ＥＬ素子も提案されている。以下、まずフォトニック結晶について説明し、次いで、フォトニック結晶を用いた有機ＥＬ素子に関する従来技術について説明する。
【０００７】
フォトニック結晶（photonic crystal)とは、光を自由自在に制御することができる、光や電磁波の波長程度の長さの周期構造を持った物質・素子デバイスである。具体的には、フォトニック結晶は、光の波長程度の長さの周期構造を有しており、その中ではある波長範囲の光の存在がゆるされないフォトニックバンドギャップ（photonic band-gap)が現れる。このフォトニックパンドギャップの起源は、固体結晶中での電子に対するバンドギャップ、禁止帯、すなわち、特定のエネルギー範囲の電子の存在が許されないバンドギャップの起源と同じように説明することができる。
【０００８】
固体結晶で原子がある周期で規則正しく配列しているときに電子に対するバンドギャップが現れるのは、電子を波と見た場合の波長がちょうど原子間隔程度の大きさであるため、電子が結晶内の周期ポテンシャルによりブラッグ反射を受け、エネルギーの存在しない状態が形成される。
それと同じにように、光の波長と同程度の長さの周期的な屈折率（誘電率）分布を持つ構造中を光が伝番する場合、ある波長領域の光の伝搬が禁じられるフォトニックバンドギャップが形成される。この周期構造は、１次元、２次元、３次元いずれの場合でもよい。
【０００９】
また、完全な周期構造をとっているフォトニック結晶に欠陥が導入された場合、バンド端がフォトニックバンドギャップ中に裾をひき、バンド内に欠陥準位（局在準位）が出現する。この欠陥準位を利用することで、発光物質の発光特性を増強させることも可能となる。また、バンド端では光の群速度が極めて小さくなり、その結果、素子全体としての発光特性を増強させることも可能となる（例えば、非特許文献１を参照。）
【００１０】
そして、このフォトニック結晶技術を有機ＥＬ素子に応用した研究も発表されている（例えば、非特許文献２、非特許文献３を参照。）。これらの研究では、以上に説明したフォトニック結晶技術を有機ＥＬ素子に用いれば、有機ＥＬ素子から発せられる光の強度が増したり、ブロードな光をシャープな光に変換したりすることができたと報告されている。
【００１１】
しかし、以上の説明からも明らかなように、フォトニック結晶技術は、単波長の光にしか作用しない。すなわち、有機層から発せられた光におけるごく一部の光にしかフォトニック結晶は作用できない。
【００１２】
また、フォトニック結晶技術を用いたディスプレイの作成も極めて困難である。サブピクセルごとに、それぞれで発する色に対応したフォトニクス結晶技術を用いた層を積層しなければならないため、極めて構造が複雑となり、製造も困難なものとなる。このため、歩留まりが悪くなったり、製造工程数が極めて多くなってしまったりするなどの問題の発生も当然に考えられる。
【００１３】
つまり、有機ＥＬ素子にフォトニック結晶技術を適用し、任意の色を表現することは実質的に不可能か、極めて困難である。
【特許文献１】特開２００２−６７７６号公報
【特許文献２】特開２００１−７６８６４号公報
【非特許文献１】「フォトニック結晶による光の場の制御」、表面科学Ｖｏｌ.２２Ｎｏ．１１、ｐｐ７０２−７０９、２００１年）
【非特許文献２】「フォトニック結晶有機ＥＬ素子の特性評価」、第６４回応用物理学会学術講演会講演予稿集、ｐ９３８
【非特許文献３】「有機半導体フォトニック結晶の作成と光学特性」、第６４回応用物理学会学術講演会講演予稿集、ｐ９３８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記課題に鑑みなされたもので、２次元フォトニック結晶構造を有する層を備えた有機電界発光素子において、有機層から発せられた波長以外の光（任意の色の光）を出射する、新規な構成の有機電界発光素子を提供することを目的とする。
また、本発明の別の目的は、上記有機電界発光素子が透明基板上に形成され、透明基板側から外部に光を取り出す、ボトムエミッション型の有機電界発光デバイスを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために、本発明に係る有機電界発光素子は、一対の電極に挟まれ、両電極間に電圧が印加されることで発光する有機層を備えた素子であって、素子は、有機層よりも光取出側に２次元フォトニック結晶層が配置され、２次元フォトニック結晶層よりも光取出側の一部又は全面に、入射された光の波長をより長い波長の光に変換する波長変換層が配置されている。
【００１６】
また、波長変換層は、入射された光の変更後の波長が互いに異なる二以上の部材（２次元フォトニック結晶層）を、同一層上に並べられて構成してもよい。なお、このように並べて構成する場合には、各部材を一体構成にしてもよい。
【００１７】
有機層よりも光取出側の電極は、上記２次元フォトニック結晶構造を備えるようにし、２次元フォトニック結晶層として機能させてもよい。
【００１８】
本発明に係る有機電界発光デバイスは、上記有機電界発光素子が透明基板上に形成され、有機層から発せられた光を当該透明基板側から外部へ取り出す素子として形成されている。そして、透明基板が２次元フォトニック結晶構造を備え、２次元フォトニック結晶と機能する。
【００１９】
なお、本明細書において「透明」とは、有機層で発せられた光の少なくとも一つの波長の光、若しくはこの波長を含めた一定の領域内にある波長の光に対する透過性を有することを意味し、特に断り書きのない限り、好ましくは５０％以上の透過率、望ましくは７０％以上の透過率を有する。「光を透過する」という語についても「透明」と同等の意味合いで適宜用いる。
【００２０】
また、本明細書において「２次元フォトニック結晶層」とは、前記した２次元のフォトニック結晶構造を備えた層のことを意味し、層状の透明部材（第一の誘電体）中に、その面とは垂直な方向、すなわち厚さ方向に、上記部材とは屈折率の異なる部位（第二の誘電体）が周期的に多数導入された部材である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、有機層から発せられた波長以外の光（任意の色の光）を発する、新規な構成の有機電界発光素子を提供できる。
また、特定の色の表示が可能な、すなわちカラー表示可能な、新規な構成の有機電界発光素子を提供することもできる。
【００２２】
さらに、上記有機電界発光素子が透明基板上に形成され、透明基板側から外部に光を取り出す、ボトムエミッション型の有機電界発光デバイスを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態に係る有機ＥＬデバイスについて、図を用いて詳細に説明し、あわせて本実施の形態に係る有機ＥＬ素子についても説明する。この有機ＥＬデバイスはボトムエミッション構造をとるものとするが、トップエミッション構造としたり、有機層を基準として両電極側から光を取り出す構造としたりするなど、適宜変更することは当然に可能である。
なお、図１〜図３において、それぞれ同等・類似の構成要素については、同一の符号を付した。また、図１〜図３は、上記有機ＥＬ素子の構造を説明するための図であり、一又は複数の構成要素については、実際の有機ＥＬ素子におけるものとは極端に異なる寸法で示している。
まず、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子の基本構造について、図１を参照しながら説明する。
【００２４】
〈基本構造〉
本実施の形態に係る有機ＥＬデバイスは、透明基板９上に、有機ＥＬ素子１が形成されている。有機ＥＬ素子１は、図１に示すように、一対の電極２、４に挟まれ、両電極間に電圧が印加されることで発光する有機層３を備えた素子である。上記電極のうち、有機層３を基準として光取出側に設けられた電極４は透明であり（透明電極）、透明電極４側から光が取り出される。
そして、有機層３よりも光取出側には、２次元フォトニック結晶層５が配置されている。図１に示す構成おいては、透明電極４における有機層３と対向する面とは反対側の面上に２次元フォトニック結晶層５が設けられている。
２次元フォトニック結晶層５よりも光取出側の一部又は全面には、入射された光の波長をより長い波長の光に変換する波長変換層６が配置されている。図１に示す構成においては、２次元フォトニック結晶層５における透明電極４と対向する面とは反対側の面上に波長変換層６が設けられている。
【００２５】
有機層３は、両電極２、４に電圧が印加された際に、少なくとも一つの波長の光を発する、有機発光材料を含有する層である。
２次元フォトニック結晶層５は、有機層３から入射された光に含まれる一つの波長、若しくはこの波長とこの波長と概略同一の波長を強める層である。この層の原理及び効果については前記した説明を参照されたい。
波長変換層６は、２次元フォトニック結晶層５から入射された光の波長を変換する層であり、より具体的には、入射された光を、波長のピークを長波長側にずらして出射する層である。
なお、電極２のことを、以下、背面電極２と表記する。
【００２６】
本実施の形態に係る有機ＥＬデバイス及び有機ＥＬ素子１は、上記構成を備えているために、次の作用を備える。
（１）２次元フォトニック結晶層５を備えるため、有機層３から出射された光の強度を強める。特定の波長の強度が、隣接する波長の強度と比べて極めて強い、いわゆるシャープな光を出射する。
（２）波長変換層６が、２次元フォトニック結晶層５から出射された光を任意の波長に変換する。
【００２７】
したがって、本実施の形態に係る有機ＥＬデバイス及び有機ＥＬ素子１は、フォトニック結晶技術を採用しているにも係わらず、任意の色を出射することができる。当然、フォトニック結晶技術を用いているため、光の強度（光量）は従来よりも大きくなる。さらに、特定方向における輝度を高くできる。つまり、特定方向の輝度が極めて高い、任意の色を出射できる有機ＥＬデバイス及び有機ＥＬ素子１となる。
また、シャープな光を出射する面状光源である有機ＥＬ素子１及び有機ＥＬデバイスを提供できる。
【００２８】
また、２次元フォトニック結晶層において、２次元フォトニック結晶を設ける場所と設けない場所とを作る（２次元フォトニック結晶を全面ではなく一部に設ける）ことで、有機層から発せられた色の光と、波長変換層６で変換された色の光とを有機ＥＬデバイス（有機ＥＬ素子１）外部へ出射できる。つまり、これらの光の加色として、白色等、種々の色を表現することができる。
当然、前記した効果も得られるため、特定方向の輝度が極めて高い、任意の色を表現できる有機ＥＬデバイス及び有機ＥＬ素子１となる。出射される光も、その波長がシャープなものとなる。また、輝度も高くできる。
【００２９】
２次元フォトニック結晶層として、入射された波長の変換後の波長が互いに異なる二以上の部材が同一層上に並べて構成された層を採用してもよい。これにより、有機層から発せられた光を、上記複数の部材がそれぞれ異なる波長の光に変換して外部へ出射する。したがって、上記部材（２次元フォトニック結晶）を適当に設計すれば、有機層から発せられる光の波長に限定されない任意の色を表現することができる。
なお、表現上「上記部材を同一層状に並べて」と記載しているが、字句通りに異なるフォトニック結晶を並べて配置してもよく、同一部材において異なる構造のフォトニック結晶を作り込んでもよく、複数のフォトニック結晶を貼り合わせるなどして一体にしてもよいことは当然である。
【００３０】
〈２次元フォトニック結晶層５〉
図２（ａ）に示すように、２次元フォトニック結晶層５は、有機層３から発せられた光の波長に対して透明な層状（板状）の材料（第一の誘電体）５１中に、厚さ方向、すなわち当該層の法線方向が長手方向とされた、上記光に対して透明で、上記材料とは屈折率（誘電率）が異なる部位（第二の誘電体）５２が周期的に配列している層である。なお、図２（ａ）においては、説明のため、第一の誘電体５１中の第二の誘電体５２も実線で図示した。
【００３１】
２次元フォトニック結晶層５は、有機層３で発せられた光に含まれる一つの波長、若しくは当該波長を中心とする所定範囲内の波長に対して、前記したように強度を強める構造をとればよい。すなわち、第一の誘電体５１並びに第二の誘電体５２の屈折率、及び第二の誘電体の配置方法（周期性）については、公知のフォトニック結晶技術を利用して算出し、これに応じて作製すればよい。
【００３２】
また、第二の誘電体の周期構造としては、図２（ｂ）に示すような正方配列や（ｃ）に示すような三角格子配列などが挙げられる。このような構造の中でも、（ｃ）に示すような六方向対称で、ハニカム状に規則的に配列した三角格子配列の構造が好ましい。
【００３３】
第一の誘電体５１及び第二の誘電体５２を構成する材料としては、互いに異なる屈折率であればよく、例えば任意のガラス材料、半導体材料、酸化物材料、有機材料などが適用可能である。
また、大気や真空などを一つの材料とみなすこともできる。すなわち、第一の誘電体５１に孔を空け、この孔に空気や窒素等のガスを封入したり、真空にしたりして２次元フォトニック結晶層５を作成してもよい。なお、このような構造を採用する場合には、この孔に封入する気体は、有機層３等を劣化させない、若しくは劣化させにくい気体であることが好ましく、例えば窒素や希ガスなどを封入することが好ましい。
また、以下のようにして２次元フォトニック結晶層を作製することもできる。
【００３４】
・キャピラリ・プレート型フォトニック結晶の作製方法
コアが鉛ガラスでできている光ファイバーを規則的に配列させ引き伸ばした後に、コア部分のみを塩酸で溶かしさることで作成できる、エアロッド型３方晶結晶である。ファイバーに垂直な面が２次元面、すなわち光取出面と概略平行な面となる。大きなサイズの２次元フォトニック結晶層５を作成する場合に有用な製造法である。
【００３５】
・光硬化媒質を用いた光吸収法
光吸収法は、レーザー光の１光子吸収、あるいは２光子吸収で変質する（硬化）特殊な有機材料を用いて、たとえば３次元ホログラフィー法で硬化した部分を作り、その部分を溶かして作製する。
【００３６】
〈波長変換層６〉
波長変換層６は、２次元フォトニック結晶層５よりも光取出側に設けられる、短波長光（青色光等）を吸収して長波長光（赤色光、緑色光等）を放出する層であり、例えば、発光層から発せられた光を他の低エネルギー波長の光に変換する蛍光変換物質を含有する。
【００３７】
波長変換層６としては、例えば、蛍光色素及び樹脂からなる層や、蛍光色素のみからなる層として形成できる。前者の層は、具体的には、顔料樹脂及び／又はバインダー樹脂中に蛍光色素を溶解又は分散させた固体状態の層を挙げることができる。
以下に、波長変換層６に含有できる具体的な蛍光色素を例示する。
【００３８】
近紫外光からは紫色の有機ＥＬ素子の発光から青色発光に変換する蛍光色素としては、例えば、１、４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン（Ｂｉｓ−ＭＳＢ）、トランス−４、４’−ジフェニルスチルベン（ＤＰＳ）の等スチルベン系色素、７−ヒドロキシ−４−メチルクマリン（クマリン４）等のクマリン系色素、４、４′−ビス（２、２−ジフェニルビニル）ビフェニル等の芳香族ジメチリディン系色素などを挙げることができる。
【００３９】
青色や青緑色の発光から緑色発光に変換する蛍光色素としては、例えば、２、３、５、６−１Ｈ、４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフロルメチルキノリジノ（９、９ａ、１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）、３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２’−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）等のクマリン色素、他クマリン色素系染料であるがベーシックイエロー５１、また、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド色素などを挙げることができる。
【００４０】
青色から緑色まで発光から、橙色から赤色までの発光に変換する蛍光色素としては、例えば、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチルリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）、４−（ジシアノメチレン）−２−フェニル−６−（２−（９−ユロリジル）エテニル）−４Ｈ−ピラン、４−（ジシアノメチレン）−２、６−ジ（２−（９−ユロリジル）エテニル）−４Ｈ−ピラン、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（２−（９−ユロリジル）エテニル）−４Ｈ−ピラン、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（２−（９−ユロリジル）エテニル）−４Ｈ−チオピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−（４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１、３−ブタジエニル）−ピリジニウム−パークロレート（ピリジン１）等のピリジン系色素、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン系色素などを挙げることができる。
【００４１】
また、直接染料や酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料も蛍光性があれば採用することが可能である。
【００４２】
顔料樹脂は、例えば、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等を挙げることができる。このような顔料樹脂を採用する場合には、当該樹脂中に前記したような蛍光色素をあらかじめ練りこんで顔料化したものを採用してもよい。
【００４３】
バインダー樹脂は、透明な材料が好ましい。例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂（高分子）が挙げられる。
【００４４】
なお、波長変換層６を平面的に分離配置する場合には、フォトリソグラフィー法が適用できる感光性樹脂も選ばれる。すなわち、波長変換層６が、互いに異なる波長用の波長変換部材を分散配置し、加色として任意の色を表現したり、ディスプレイを構成したりする場合である。
このような構成において好適に採用されるバインダー樹脂材料としては、例えば、アクリル酸系、メタクリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応性ビニル基を有する光硬化型レジスト材料が挙げられる。
【００４５】
また、印刷法を用いて複数の波長変更部材を設けて波長変換層６を構成する場合には、透明な樹脂を用いた印刷インキ（メジウム）が選ばれる。例えば、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂のモノマー、オリゴマー、ポリマーまた、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等の透明樹脂を用いることができる。
【００４６】
波長変換層６が主に蛍光色素からなる場合は、所望の波長変換層６パターンのマスクを介して真空蒸着又はスパッタリング法で成膜される。蛍光色素と樹脂からなる場合は、蛍光色素と樹脂と適当な溶剤とを混合、分散又は可溶化させて液状とし、スピンコート、ロールコート、キャスト法等の方法で成膜し、フォトリソグラフィー法で所望の波長変換層パターンでパターニングしたり、スクリーン印刷等の方法で所望の波長変換層パターンでパターニングしたりするのが一般的である。
【００４７】
上記した蛍光色素や顔料、バインダー樹脂は、必要に応じて、単独又は混合して用いてもよい。
【００４８】
波長変換層６の膜厚は、有機ＥＬ素子の発光を十分に受光（吸収）し、蛍光を発生する機能を妨げるものでなければ制限はないが、１０ｎｍ〜１ｍｍ、好ましくは、１μｍ〜５００μｍ、より好ましくは１０μｍ〜１００μｍとされる。
蛍光色素はカラーフィルタ色素に比べて濃度に敏感で、顔料樹脂又はバインダー樹脂中により低濃度で分散又は可溶化させたほうがより蛍光性が高いが、一方、有機ＥＬ素子１の発光を十分に吸収しなければならないので、カラーフィルタ並の吸光度が必要である。したがって、Ｌａｍｂｅｒｔ−Ｂｅｅｒの法則下記（式１）により、色素の吸光係数を一定とするならば、波長変換層６は、厚膜となるのが好ましいことになる。
蛍光色素の顔料樹脂及び／又はバインダー樹脂を含めた波長変換層６中の濃度は、蛍光色素によって異なるが、１〜１０−４ｍｏｌ／ｋｇ、好ましくは０．１〜１０−３ｍｏｌ／ｋｇ、より好ましくは、０．０５〜１０−２ｍｏｌ／ｋｇである。
【００４９】
Ｌａｍｂｅｒｔ−Ｂｅｅｒの法則
Ａ＝εｃｌ・・・（式１）
Ａ：吸光度
ε：吸光係数（色素に固有）
ｃ：色素濃度
ｌ：膜厚
【００５０】
波長変換層６の有機層側表面の凹凸を平坦化するには、各波長変換層６の膜厚を揃えることが有利であるので、各波長変換層６の膜厚は蛍光性を考慮して１０μｍ以上とすることが好ましい。
【００５１】
なお、赤色に発光する波長変換層６は、発光部材の波長からより大きく長波長側にシフトした蛍光を発する（ストークスシフトが大きい）層なので、一般に複数種の蛍光色素を混合して含む。よって蛍光色素の濃度が大きくなる。したがって、先に記載したように発光部材の発光を十分に吸収して、かつ蛍光性を高めるためには赤色波長変換層の膜厚は大きくなる。そこで、赤色を発する波長変換層６を設ける場合には、その一部又は全部を、隣接する層（図１の場合には透明基板９など）に埋め込むとよい。他の色を発する波長変換層６も、波長変換層６よりも光取出側に設けられていればよいので、基板等の他の部材にその一部又は全部が埋め込まれていてもよいことは当然である。
次に、有機層３について説明する。
【００５２】
〈有機層３〉
有機層３は、透明電極４と背面電極２との間に設けられる、両電極に電圧が印加されることで発光する有機発光材料を含有する層であり、公知の有機ＥＬ素子における公知の層構成及び公知の材料の層にすればよく、公知の製造方法によって製造できる。なお、発光波長は、前記した理由により、２次元フォトニック結晶層５が透過する波長の光に設計される。
【００５３】
有機層３は、少なくとも以下の機能を実現できればよく、積層構造とし、各層にそれぞれいずれかの機能を担わせてもよく、単層により下記機能を実現してもよい。
・電子注入機能
電極（陰極）から電子を注入される機能。電子注入性。
・正孔注入機能
電極（陽極）から正孔（正孔）を注入される機能。正孔注入性。
・キャリア輸送機能
電子及び正孔の少なくとも一方を輸送する機能。キャリア輸送性。
電子を輸送する機能は電子輸送機能（電子輸送性）と言い、正孔を輸送する機能は正孔輸送機能（正孔輸送性）と言う。
・発光機能
注入・輸送された電子及びキャリアを再結合させて励起子を発生させ（励起状態となり）、基底状態に戻る際に光を発する機能。
【００５４】
透明電極４を陽極とする場合、有機層３は、例えば、透明電極４側から正孔注入輸送層、発光層、電子注入輸送層の順に層を設けて構成してもよい。
【００５５】
正孔注入輸送層は、陽極から発光層へ正孔を輸送する層である。正孔輸送層形成用の材料としては、例えば、銅フタロシアニン、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、１、１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１、１’−ビフェニル−４、４’−ジアミン、Ｎ、Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−１、１’−ビフェニル−４、４’−ジアミン等の芳香族アミンなどの低分子材料や、ポリチオフェン、ポリアニリン等の高分子材料、ポリチオフェンオリゴマ−材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。
【００５６】
発光層は、陽極側から輸送された正孔と陰極側から輸送された電子とを再結合させて励起状態となり、励起状態から基底状態へ戻る際に光を発する層である。発光層の材料としては、蛍光材料や燐光材料を採用することができる。また、ホスト材中にド−パント（蛍光材料や燐光材料）を含有させてもよい。
【００５７】
発光層形成用の材料としては、例えば、９、１０−ジアリ−ルアントラセン誘導体、ピレン誘導体、コロネン誘導体、ペリレン誘導体、ルブレン誘導体、１、１、４、４−テトラフェニルブタジエン、トリス（８−キノリノラ−ト）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノリノラ−ト）アルミニウム錯体、ビス（８−キノリノラ−ト）亜鉛錯体、トリス（４−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラ−ト）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−５−シアノ−８−キノリノラ−ト）アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラ−ト）［４−（４−シアノフェニル）フェノラ−ト］アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリノラ−ト）［４−（４−シアノフェニル）フェノラ−ト］アルミニウム錯体、トリス（８−キノリノラ−ト）スカンジウム錯体、ビス〔８−（パラ−トシル）アミノキノリン〕亜鉛錯体及びカドミウム錯体、１、２、３、４−テトラフェニルシクロペンタジエン、ペンタフェニルシクロペンタジエン、ポリ−２、５−ジヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレン、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポルフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、Ｎ、Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、Ｎ、Ｎ’−ジアリ−ル置換ピロロピロ−ル系蛍光体等の低分子材料や、ポリフルオレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン等の高分子材料、その他既存の発光材料を用いることができる。ホスト／ゲスト型の構成を採用する場合には、これらの材料の中から適宜ホスト及びゲスト（ド−パント）を選択すればよい。
【００５８】
発光層は、以上のような材料の内の一つ又は複数を用い、２次元フォトニック結晶層５に透過させる波長の光を発するように設計すればよい。
【００５９】
電子注入輸送層は、陰極（本例では背面電極２）から発光層へ電子を輸送する層である。電子輸送層形成用の材料としては、例えば、２−（４−ビフィニルイル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１、３、４−オキサジアゾ−ル、２、５−ビス（１−ナフチル）−１、３、４−オキサジアゾ−ル及びオキサジアゾ−ル誘導体やビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリノラ−ト）ベリリウム錯体、トリアゾ−ル化合物等が挙げられる。
【００６０】
なお、有機層３には、バッファ層や正孔ブロック層、電子注入層、正孔注入層等の公知の有機エレクトロルミネッセンス層に採用されうる層を設けることも当然に可能である。これらの層も、公知の材料を用いて公知の製法によって設けることができる。例えば電子注入輸送層を、電子注入機能を担う電子注入層と電子輸送機能を担う電子輸送層とに機能分離して積層してもよい。これらの各層を構成する材料は、各層の機能に応じて、公知の材料から適宜選択すればよく、上記した電子注入輸送層形成用の材料の中から選択することもできる。
次に透明電極４及びその背面電極２についてあわせて説明する。
【００６１】
〈電極〉
透明電極４及び背面電極２は、一方が陽極として機能し、他方が陰極として機能する。本実施の形態においては、いずれの電極が陽極であっても（陰極であっても）構わない。まず、陽極について説明する。
【００６２】
（陽極）
陽極は、有機層３に正孔（ホ−ル）を注入する電極である。
陽極形成用の材料は、上記した性質を陽極に付与する材料であればよく、一般には金属、合金、電気伝導性の化合物及びこれらの混合物等、公知の材料が選択され、陽極と接する面（表面）の仕事関数が４ｅＶ以上になるように製造される。
【００６３】
陽極形成用の材料としては、例えば以下のものを挙げることができる。
ＩＴＯ（インジウム−スズ−オキサイド）、ＩＺＯ（インジウム−亜鉛−オキサイド）、酸化スズ、酸化亜鉛、亜鉛アルミニウム酸化物、窒化チタン等の金属酸化物や金属窒化物；
金、白金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、コバルト、鉛、クロム、モリブデン、タングステン、タンタル、ニオブ等の金属；
これらの金属の合金やヨウ化銅の合金等、
ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロ−ル、ポリフェニレンビニレン、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリフェニレンスルフィド等の導電性高分子
など。
【００６４】
透明電極４を陽極とする場合には、一般に、取り出す光に対する透過率が１０％よりも大きくなるように設定される。可視光領域の光を取り出す場合には、可視光領域で透過率の高いＩＴＯが好適に用いられる。
【００６５】
背面電極２を陽極とする場合には、好ましくは反射性電極として構成される。この場合、以上のような材料の内、外部へ取り出す光を反射する性能を備えた材料が適宜選択され、一般には金属や合金、金属化合物が選択される。
また、コントラスト等を防止したり、外光の反射を防止したりするために、背面電極２に吸収性能を持たせてもよい。背面電極２に吸収性能を持たせるには、前記したような材料の中から、電極を形成した際に吸収性能を発揮する材料を適宜選択すればよい。
【００６６】
陽極は、上記したような材料一種のみで形成してもよく、複数を混合して形成してもよい。また、同一組成又は異種組成の複数層からなる複層構造であってもよい。
【００６７】
陽極の膜厚は、使用する材料にもよるが、一般に５ｎｍ〜１μｍ程度、好ましくは１０ｎｍ〜１μｍ程度、さらに好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍ程度、特に好ましくは１０ｎｍ〜３００ｎｍ程度、望ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲で選択される。
【００６８】
陽極は、上記したような材料を用いて、スパッタリング法やイオンプレ−ティング法、真空蒸着法、スピンコ−ト法、電子ビ−ム蒸着法などの公知の薄膜形成法によって形成される。
陽極のシ−ト電気抵抗は、好ましくは、数百Ω／□以下、より好ましくは、５〜５０Ω／□程度に設定される。
【００６９】
また、陽極の表面を、ＵＶオゾン洗浄やプラズマ洗浄してもよい。
有機ＥＬ素子の短絡や欠陥の発生を抑制するためには、粒径を微小化する方法や成膜後に研磨する方法により、表面の粗さを二乗平均値として２０ｎｍ以下に制御するとよい。
【００７０】
（陰極）
陰極は、有機層３（上記層構成では電子注入輸送層）に電子を注入する電極である。
陰極形成用の材料としては、電子注入効率を高くするために仕事関数が例えば４．５ｅＶ未満、一般には４．０ｅＶ以下、典型的には３．７ｅＶ以下の金属や合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物が採用される。
【００７１】
以上のような電極物質としては、例えば、リチウム、ナトリウム、マグネシウム、金、銀、銅、アルミニウム、インジウム、カルシウム、スズ、ルテニウム、チタニウム、マンガン、クロム、イットリウム、アルミニウム−カルシウム合金、アルミニウム−リチウム合金、アルミニウム−マグネシウム合金、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、リチウム−インジウム合金、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム／銅混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム混合物などが挙げられる。また、陽極に用いられる材料として採用できる材料も使用できる。
【００７２】
その背面電極２が陰極とされる場合には、以上のような材料の内、外部へ取り出す光を反射する性能を備えた材料が好ましく選択され、一般には金属や合金、金属化合物が選択される。
【００７３】
透明電極４が陰極とされる場合には、一般に、取り出す光に対する透過率が１０％よりも大きくなるように設定され、例えば、超薄膜のマグネシウム−銀合金に透明な導電性酸化物を積層化して形成された電極などが採用される。また、この陰極において、導電性酸化物をスパッタリングする際に発光層などがプラズマにより損傷するのを防ぐため、銅フタロシアニンなどを添加したバッファ層を陰極と有機層３との間に設けるとよい。
【００７４】
陰極は、以上のような材料単独で形成してもよいし、複数の材料によって形成してもよい。例えば、マグネシウムに銀や銅を５％〜１０％添加させれば、陰極の酸化を防止でき、また陰極の有機層３との接着性も高くなる。
【００７５】
また、陰極は、同一組成又は異種組成の複数層からなる複層構造であってもよい。
例えば以下のような構造にしてもよい。
・陰極の酸化を防ぐため、陰極の有機層３と接しない部分に、耐食性のある金属からなる保護層を設ける。
この保護層形成用の材料としては例えば銀やアルミニウムなどが好ましく用いられる。
【００７６】
・陰極の仕事関数を小さくするために、陰極と有機層３との界面部分に仕事関数の小さな酸化物やフッ化物、金属化合物等を挿入する。
例えば、陰極の材料をアルミニウムとし、界面部分にフッ化リチウムや酸化リチウムを挿入したものも用いられる。
【００７７】
陰極は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオンプレ−ティング法、電子ビ−ム蒸着法などの公知の薄膜成膜法によって形成できる。
陰極のシ−ト電気抵抗は、数百Ω／□以下に設定することが好ましい。
【００７８】
〈その他の層や部材〉
有機ＥＬ素子１には、上記した以外にも、公知の有機ＥＬ素子に用いられる公知の層構成や材料を適宜採用できる。以下に、採用することが好ましい層や材料について説明する。
（絶縁層）
透明電極４と背面電極２とが短絡しないようにするために、有機層３の外周に絶縁層を設けるとよい。
絶縁層形成用の材料としては、公知の有機ＥＬ素子に採用される絶縁部形成用の材料を適宜採用することができる。形成方法も公知の形成方法を採用でき、例えばスパッタ法、電子線蒸着法、ＣＶＤ法等を採用することができる。
【００７９】
（補助電極）
補助電極を設けることも当然に可能である。補助電極は、陽極及び／又は陰極に電気的に接続するように設けられ、接続する電極よりも体積抵抗率の低い材料で構成される。このような材料により補助電極を形成すれば、補助電極が設けられた電極全体の体積抵抗率を下げることが可能となり、有機層３を構成する各点に流れる電流の大きさの最大差を、補助電極を設けない場合と比べて小さくできる。
【００８０】
補助電極形成用の材料としては、例えば、タングステン（Ｗ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、金（Ａｕ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ネオジウム（Ｎｄ）、およびこれらの合金を挙げることができる。
また、これらの合金の具体例としては、Ｍｏ−Ｗ、Ｔａ−Ｗ、Ｔａ−Ｍｏ、Ａｌ−Ｔａ、Ａｌ−Ｔｉ、Ａｌ−Ｎｄ、Ａｌ−Ｚｒ等の合金を挙げることができる。さらに、補助配線層の構成材料としては、金属とケイ素の化合物である、ＴｉＳｉ２、ＺｒＳｉ２、ＨｆＳｉ２、ＶＳｉ２、ＮｂＳｉ２、ＴａＳｉ２、ＣｒＳｉ２、ＷＳｉ２、ＣｏＳｉ２、ＮｉＳｉ２、ＰｔＳｉ、Ｐｄ２Ｓｉなども好ましい。また、これらの金属や・ケイ素化合物をそれぞれ積層した構成であってもよい。
【００８１】
なお、補助電極は、上記したような材料による単層の膜であってもよいが、膜の安定性を高める上で二種以上の多層膜とすることも好ましい。このような多層膜としては、上記金属またはそれらの合金を用いて形成することができる。例えば、三層の場合、Ｔａ層とＣｕ層とＴａ層、およびＴａ層とＡｌ層とＴａ層、二層の場合、Ａｌ層とＴａ層、Ｃｒ層とＡｕ層、Ｃｒ層とＡｌ層、およびＡｌ層とＭｏ層の組合せを挙げることができる。
ここで、膜の安定性とは、低体積抵抗率を維持しうるとともに、エッチングの際、その処理に用いる液等により腐食されにくい性質をいう。たとえば、補助電極をＣｕやＡｇで構成した場合には、補助電極の体積抵抗率自体は低いものの、腐食しやすい場合がある。それに対して、ＣｕやＡｇからなる金属膜の上部及び下部、あるいはいずれか一方に、耐食性に優れた金属、例えばＴａ、Ｃｒ、Ｍｏ等の膜を積層することにより、補助電極の安定性を高めることができる。
【００８２】
補助電極の膜厚は、一般には１００ｎｍ〜数１０μｍの範囲内の値とすることが好ましく、特に好ましくは２００ｎｍ〜５μｍの範囲内の値とすることである。
この理由は、かかる膜厚が１００ｎｍ未満となると、抵抗値が大きくなり、補助電極として好ましくなく、一方、かかる膜厚が数１０μｍを超えると平坦化しにくくなり、有機ＥＬ素子１の欠陥が生じるおそれがあるためである。
【００８３】
補助電極の幅は、例えば、２μｍ〜１、０００μｍの範囲内の値とすることが好ましく、５μｍ〜３００μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。
この理由は、かかる幅が２μｍ未満となると、補助電極の抵抗が大きくなる場合があるであり、一方、かかる幅が１００μｍを超えると、外部への光の取り出しを妨害する場合があるためである。
【００８４】
（保護層：パッシベ−ション膜、封止缶）
有機層３等を外気から保護するために、有機ＥＬ素子１をパッシベ−ション膜や封止缶によって保護してもよい。
【００８５】
パッシベ−ション膜は、有機ＥＬ素子１が酸素や水分と接触するのを防止するために基板９と反対側に設けられる保護層（封止層）である。パッシベ−ション膜に使用する材料としては、例えば、有機高分子材料、無機材料、さらには光硬化性樹脂などを挙げることができ、保護層に使用する材料は、単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。保護層は、一層構造であってもよく、また多層構造であってもよい。パッシベ−ション膜の膜厚は、外部からの水分やガスを遮断できる厚さであればよい。
【００８６】
有機高分子材料の例としては、クロロトリフルオロエチレン重合体、ジクロロジフルオロエチレン重合体、クロロトリフルオロエチレン重合体とジクロロジフルオロエチレン重合体との共重合体等のフッ素系樹脂、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリアクリレ−ト等のアクリル系樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、エポキシシリコ−ン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリパラキシレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂などを挙げることができる。
【００８７】
無機材料としては、ポリシラザン、ダイヤモンド薄膜、アモルファスシリカ、電気絶縁性ガラス、金属酸化物、金属窒化物、金属炭素化物、金属硫化物などを挙げることができる。
【００８８】
封止缶は、外部からの水分や酸素を遮断するための、封止板、封止容器等の封止部材により構成される部材である。封止缶は、背面側の電極側（基板９とは反対側）のみに設置しても、有機ＥＬ素子１全体を覆ってもよい。封止部材の厚さは、有機ＥＬ素子１を封止でき外部の空気を遮断することができれば、封止部材の形状、大きさ、厚さ等は特に限定されない。封止部材に用いる材料としては、ガラス、ステンレススチ−ル、金属（アルミニウム等）、プラスチック（ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリエステル、ポリカ−ボネ−ト等）、セラミック等が使用できる。
【００８９】
封止部材を有機ＥＬ素子１に設置する際には、適宜封止剤（接着剤）を用いてもよい。有機ＥＬ素子１全体を封止部材で覆う場合は、封止剤を用いずに封止部材同士を熱融着してもよい。封止剤としては紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、二液型硬化樹脂等が使用可能である。
【００９０】
なお、パッシベ−ション膜や封止缶と有機ＥＬ素子１との間の空間に水分吸収剤を挿入してもよい。水分吸収剤は特に限定されず、具体例としては酸化バリウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、五酸化リン、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、塩化銅、フッ化セシウム、フッ化ニオブ、臭化カルシウム、臭化バナジウム、モレキュラ−シ−ブ、ゼオライト、酸化マグネシウム等が挙げられる。
【００９１】
また、パッシベ−ション膜や封止缶内に不活性なガスを封入してもよい。不活性なガスとは、有機ＥＬ素子１と反応しないガスのことをいい、例えばヘリウム、アルゴン等の希ガスや窒素ガスを採用することができる。
次に基板９について説明する。
【００９２】
〈基板９〉
基板９は、有機ＥＬ素子１を支える、主として板状の部材である。有機ＥＬ素子１は、構成する各層が非常に薄いため、一般に基板９によって支えられた有機ＥＬデバイスとして作製される。
【００９３】
基板９は、有機ＥＬ素子１が積層される部材であるため、平面平滑性を有していることが好ましい。
また、基板９は、有機層３よりも光取り出し側にある場合には取り出す光に対して透明とされる。有機ＥＬ素子１はボトムエミッション型の素子であるため、基板９は、透明であり、また、基板９の有機ＥＬ素子１と接する平面とは反対側の平面９０が光取出面とされる。
【００９４】
基板９としては、上記した性能を有していれば公知のものを用いることができる。一般には、ガラス基板やシリコン基板、石英基板などのセラミックス基板や、プラスチック基板が選択される。また、金属基板や支持体に金属箔を形成した基板なども用いられる。さらに、同種又は異種の基板を複数組み合わせた複合シ−トからなる基板を用いることもできる。
【００９５】
なお、上記例では、基板９上に透明電極４、有機層３及びその背面電極２を順次積層したボトムエミッション型の有機ＥＬデバイスを示したが、有機ＥＬデバイスとして構成せず、基板９を有しない有機ＥＬ素子１として構成してもよいことは当然である。この場合には、はじめから基板９を用いずに有機ＥＬ素子１を製造してもよく、又は、有機ＥＬデバイス作製後に基板９をエッチング等の公知の基板削剥技術により削除して有機ＥＬ素子１を製造してもよい。
また、トップエミッション型デバイスとして構成しても、両側から光を取り出すデバイスとして構成してもよいことは前記したとおりである。
【００９６】
すなわち、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子１を製造するには、基板９上に、透明電極４、有機層３及び背面電極２を、前記したそれぞれの成膜方法を用いて成膜すればよい。トップエミッション型の有機ＥＬ素子を製造するには、基板９上に、背面電極２、有機層３及び透明電極４を順次成膜すればよい。
次いで、有機ＥＬ素子１及び有機ＥＬデバイスの変形例について説明する。
【００９７】
〈変形例〉
上記した有機ＥＬ素子１及び有機ＥＬデバイスは、２次元フォトニック結晶層６が他の機能を備えていてもよい。
例えば、図３（ａ）に示すように、２次元フォトニック結晶層５が透明基板９の役割を担っていてもよい。すなわち、透明基板９に、前記したような方法によって２次元フォトニック結晶構造を設けてもよい。
また、図３（ｂ）に示すように、２次元フォトニック結晶層５が透明電極４の役割を担っていてもよい。すなわち、透明電極４に、前記したような方法によって２次元フォトニック結晶構造を設けてもよい。
【００９８】
また、上記有機ＥＬデバイスをバックライトや照明装置などの全面発光素子として用いてもよいが、各サブピクセル若しくは各画素に上記構成をそれぞれ採用したディスプレイとしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９９】
【図１】本実施の形態に係る有機ＥＬ素子１及び有機ＥＬデバイスの構成を説明するための要部断面図である。
【図２】２次元フォトニック結晶層５の構造を説明するための図である。
【図３】本実施の形態に係る有機ＥＬ素子１及び有機ＥＬデバイスの他の構成例を説明するための要部断面図である。
【符号の説明】
【０１００】
１：有機ＥＬ素子
２：背面電極
２１：第一の誘電体
２２：第二の誘電体
３：有機層
４：透明電極
５：２次元フォトニック結晶層
６：波長変換層
９：基板
【図１】
2005141921.tif 000003
【図２】
2005141921.tif 000004
【図３】
2005141921.tif 000005