(57)【要約】【課題】反射防止性能及び耐擦傷性に優れ、かつ干渉縞の発生を抑制し得ると共に、製造コストの低い光学用フィルムを提供する。【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に、（Ａ）電離放射線による硬化樹脂を含む厚さ２〜２０μｍのハードコート層、（Ｂ）電離放射線による硬化樹脂と、五酸化アンチモンを含み、屈折率が１.５７〜１.６５の範囲にある厚さ５０〜１３０ｎｍの高屈折率層、及び（Ｃ）屈折率が１.３５〜１.４５の範囲にある厚さ７０〜１５０ｎｍの低屈折率層を順次積層してなる光学用フィルムである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの少なくとも一方の面に、（Ａ）電離放射線による硬化樹脂を含む厚さ２〜２０μｍのハードコート層、（Ｂ）電離放射線による硬化樹脂と、五酸化アンチモンを含み、屈折率が１.５７〜１.６５の範囲にある厚さ５０〜１３０ｎｍの高屈折率層、及び（Ｃ）屈折率が１.３５〜１.４５の範囲にある厚さ７０〜１５０ｎｍの低屈折率層を順次積層したことを特徴とする光学用フィルム。
【請求項２】
（Ａ）ハードコート層が、アンチグレア性ハードコート層である請求項１に記載の光学用フィルム。
【請求項３】
（Ｃ）低屈折率層が、ウェットプロセス法で形成されてなる請求項１又は２に記載の光学用フィルム。
【請求項４】
（Ｃ）低屈折率層が、ウェットプロセス法で形成されたシロキサン系ポリマーを含む層である請求項３に記載の光学用フィルム。
【請求項５】
（Ｃ）低屈折率層が、平均粒径１０〜１００ｎｍのフッ化マグネシウム及び／又は平均粒径３０〜１５０ｎｍの多孔性シリカを１０〜８０重量％含む層である請求項４に記載の光学用フィルム。
【請求項６】
（Ｃ）低屈折率層が、シリコーン系ポリマー３〜５０重量％を含む層である請求項４又は５に記載の光学用フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学用フィルムに関し、さらに詳しくは、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などの画像表示素子の表面の光の反射を効果的に防止しうると共に、干渉縞の発生が抑制され、かつ耐擦傷性に優れる上、製造コストの低い光学用フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤなどのディスプレイにおいては、画面に外部から光があたると視認性を低下させる問題が発生する。一般的に、蛍光灯などの室内光源の映り込みには、防眩処理が効果的であり、また、自然光（日光）による明環境下での視認性改善には、反射防止処理が効果的である。現在では、両者に対する対策として、防眩層の上に反射防止処理を施すことが一般的に行われている。ここで、反射防止処理とは、屈折率の異なる層を積層することによる干渉を利用した方法であり、従来、一般的に真空蒸着やスパッタリングなどのドライプロセス法により、基材フィルム上に、低屈折率の物質（ＭｇＦ2）を薄膜化する方法や、屈折率の高い物質［ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＴｉＯ2など］と屈折率の低い物質（ＭｇＦ2、ＳｉＯ2など）を交互に積層する方法などが行われていた。しかしながら、このようなドライプロセス法で作製された反射防止フィルムは、製造コストが高くつくのを逸れないという問題があった。
そこで、近年、ウェットプロセス法、すなわちコーティングにより反射防止フィルムの開発が盛んに行われ、製品化されてきている。しかしながら、このウェットプロセス法により作製された反射防止フィルムにおいては、前記のドライプロセス法による反射防止フィルムに比べて、（１）表面の耐擦傷性に劣る、（２）干渉ムラ（干渉縞）が強い、という短所を有しており、製造コストに劣るドライプロセス法による反射防止フィルムとは一長一短である。
ウェットプロセス法による反射防止フィルムは、主に、（１）ハードコート層上に低屈折率層を１層設けたタイプと、（２）ハードコート層上に高屈折率層と低屈折率層とを積層したタイプの２つのタイプに分けることができる。前記（１）のタイプの反射防止フィルムにおいては、低屈折率層の屈折率を下げる必要があるために、一般にフッ素含有化合物が用いられ、その結果層自体の強度が弱く、耐擦傷性に劣る。また、強度を優先させることで、屈折率が十分に低下しないと反射防止性能が低下してしまう。さらに、ハードコート層の屈折率を上げると干渉縞が強くなり、実用レベルのものになりにくいという問題がある。一方、前記（２）の２層積層タイプの反射防止フィルムでも、高屈折率層の屈折率を１.６５以上にした場合、干渉縞が強くなり、高屈折率層の屈折率を低くすると、所望の反射防止性能を得るためには、低屈折率層の屈折率も合わせて低下させる必要がある。また、特に高屈折率層／低屈折率層の界面密着性が良好でないと所望の耐擦傷性が得られにくい。
本発明者らは、先にＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤなどの画像表示素子の表面の光の反射を効果的に防止し、かつ耐擦傷性に優れ、しかも製造コストの低い、前記（２）のタイプの光学用フィルムを開発し、特許を出願した（例えば、特許文献１参照）。この光学用フィルムは、優れた光の反射防止効果及び耐擦傷性を有しているものの、干渉縞に関しては、必ずしも十分に満足し得るとはいえなかった。
【特許文献１】特開２００２−３４１１０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、このような事情のもとで、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤなどの画像表示素子の表面の光の反射を効果的に防止しうると共に、干渉縞の発生が抑制され、かつ耐擦傷性に優れ、しかも製造コストの低い光学用フィルムを提供することを目的としてなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、前記の優れた機能を有する光学用フィルムを開発すべく鋭意研究を重ねた結果、基材フィルム上に、ウェットプロセス法により、特定の性状と厚さを有するハードコート層と高屈折率層を順次設け、その上にさらにウェットプロセス法又はドライプロセス法により、特定の性状と厚さを有する低屈折率層を設けることにより、その目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）基材フィルムの少なくとも一方の面に、（Ａ）電離放射線による硬化樹脂を含む厚さ２〜２０μｍのハードコート層、（Ｂ）電離放射線による硬化樹脂と、五酸化アンチモンを含み、屈折率が１.５７〜１.６５の範囲にある厚さ５０〜１３０ｎｍの高屈折率層、及び（Ｃ）屈折率が１.３５〜１.４５の範囲にある厚さ７０〜１５０ｎｍの低屈折率層を順次積層したことを特徴とする光学用フィルム、
（２）（Ａ）ハードコート層が、アンチグレア性ハードコート層である上記(１)項に記載の光学用フィルム、
（３）（Ｃ）低屈折率層が、ウェットプロセス法で形成されてなる上記(１)又は(２)項に記載の光学用フィルム、
（４）（Ｃ）低屈折率層が、ウェットプロセス法で形成されたシロキサン系ポリマーを含む層である上記(３)項に記載の光学用フィルム、
（５）（Ｃ）低屈折率層が、平均粒径１０〜１００ｎｍのフッ化マグネシウム及び／又は平均粒径３０〜１５０ｎｍの多孔性シリカを１０〜８０重量％含む層である上記(４)項に記載の光学用フィルム、及び
（６）（Ｃ）低屈折率層が、シリコーン系ポリマー３〜５０重量％を含む層である上記(４)又は(５)項に記載の光学用フィルム、
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤなどの画像表示素子の表面の光の反射を効果的に防止しうると共に、干渉縞の発生が抑制され、かつ耐擦傷性に優れ、しかも製造コストの低い光学用フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の光学用フィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面に、ウェットプロセス法により、（Ａ）ハードコート層及び（Ｂ）高屈折率層を順に設け、さらにその上にウェットプロセス法又はドライプロセス法により、（Ｃ）低屈折率層が設けられた構造を有する反射防止フィルムである。
本発明の光学用フィルムにおける基材フィルムについては特に制限はなく、従来光学用反射防止フィルムの基材として公知のプラスチックフィルムの中から適宜選択して用いることができる。このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム等を挙げることができる。
これらの基材フィルムは、透明、半透明のいずれであってもよく、また、着色されていてもよいし、無着色のものでもよく、用途に応じて適宜選択すればよい。例えば液晶表示体の保護用として用いる場合には、無色透明のフィルムが好適である。
これらの基材フィルムの厚さは特に制限はなく、適宜選定されるが、通常１５〜２５０μｍ、好ましくは３０〜２００μｍの範囲である。また、この基材フィルムは、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。また、片面又は両面にプライマー処理を施したものも用いることができる。
【０００７】
本発明の光学用フィルムにおいては、前記基材フィルムの少なくとも一方の面に、まず（Ａ）電離放射線による硬化樹脂を含むハードコート層が設けられる。このハードコート層はアンチグレア性を有することが好ましく、したがって、該ハードコート層中には、前記電離放射線による硬化樹脂と共に、アンチグレア性を付与する各種充填剤を含有させることができる。
このようなハードコート層は、例えば電離放射線硬化性化合物と、所望により、アンチグレア性を付与する充填剤や光重合開始剤などを含むハードコート層形成用塗工液を、基材フィルム上にコーティングして塗膜を形成させ、電離放射線を照射して、該塗膜を硬化させることにより、形成することができる。
前記の電離放射線硬化性化合物としては、例えば光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマーを挙げることができる。上記光重合性プレポリマーには、ラジカル重合型とカチオン重合型があり、ラジカル重合型の光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系などが挙げられる。ここで、ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、(メタ)アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。さらに、ポリオールアクリレート系プレポリマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を(メタ)アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０００８】
一方、カチオン重合型の光重合性プレポリマーとしては、エポキシ系樹脂が通常使用される。このエポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノール樹脂やノボラック樹脂などの多価フェノール類にエピクロルヒドリンなどでエポキシ化した化合物、直鎖状オレフィン化合物や環状オレフィン化合物を過酸化物などで酸化して得られた化合物などが挙げられる。
また、光重合性モノマーとしては、例えば１,４−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの多官能アクリレートが挙げられる。これらの光重合性モノマーは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、前記光重合性プレポリマーと併用してもよい。
さらに、電離放射線硬化性化合物として、無機微粒子表面に(メタ)アクリロイル基などの光重合性基を有する有機物を結合させたものを用いることができる。無機微粒子としては、シリカ、チタニア、アルミナなどが挙げられる。
【０００９】
一方、所望により用いられる光重合開始剤としては、ラジカル重合型の光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２,２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−[４−(メチルチオ)フェニル]−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−(２−ヒドロキシエトキシ)フェニル−２(ヒドロキシ−２−プロプル)ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４,４'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２,４−ジメチルチオキサントン、２,４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。また、カチオン重合型の光重合性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、光重合開始剤の配合量は、前記光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマー１００重量部に対して、通常０.２〜１０重量部の範囲で選ばれる。
一方、所望により用いられるアンチグレア性を付与する充填剤としては、従来アンチグレア性を付与するための充填剤として知られているものの中から任意のものを適宜選択して用いることができる。このような充填剤としては、例えば平均粒径１.５〜７μｍ程度のシリカ粒子、コロイド状シリカ粒子のアミン化合物による凝集物であって、平均粒径が０.５〜１０μｍ程度のもの、あるいは平均粒径０.５〜５μｍ程度のシリカ粒子と平均粒径１〜６０ｎｍ程度の金属酸化物微粒子との混合物などを挙げることができる。これらの充填剤のハードコート層における含有量は、得られる光学用フィルムの防眩性能や耐擦傷性などを考慮して、適宜選定するのがよい。
【００１０】
本発明において用いられるハードコート層形成用塗工液は、必要に応じ、適当な溶剤中に、前記の電離放射線硬化性化合物及び所望により用いられる前記の充填剤や光重合開始剤、さらには各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させることにより、調製することができる。
この際用いる溶剤としては、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、イソホロンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。
このようにして調製された塗工液の濃度、粘度としては、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。
次に、基材フィルムの一方の面に、上記塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、これに電離放射線を照射して該塗膜を硬化させることにより、ハードコート層が形成される。
電離放射線としては、例えば紫外線や電子線などが挙げられる。上記紫外線は、高圧水銀ランプ、ヒュージョンＨランプ、キセノンランプなどで得られる。一方電子線は、電子線加速器などによって得られる。この電離放射線の中では、特に紫外線が好適である。なお、電子線を使用する場合は、重合開始剤を添加することなく、硬化膜を得ることができる。
【００１１】
このようにして形成されたハードコート層の厚さは２〜２０μｍの範囲である。この厚さが２μｍ未満では得られる光学用フィルムの耐擦傷性が十分に発揮されないおそれがあるし、また２０μｍを超えるとハードコート層にクラックが発生することがある。このハードコート層の好ましい厚さは３〜１５μｍの範囲であり、特に３〜１０μｍの範囲が好適である。
本発明の光学用フィルムにおいては、この（Ａ）ハードコート層の屈折率は、通常１.４７〜１.６０、好ましくは１.４９〜１.５５の範囲である。
本発明の光学用フィルムにおいては、前記ハードコート層上に、（Ｂ）高屈折率層が形成される。
前記（Ｂ）高屈折率層は、電離放射線による硬化樹脂と、五酸化アンチモンを含み、屈折率が１.５７〜１.６５の範囲にあり、かつ厚さが５０〜１３０ｎｍの範囲にある。該屈折率が１.５７未満では反射防止性能に優れる光学用フィルムが得られにくいし、屈折率が１.６５を超えると干渉縞の発生を十分に抑制した光学用フィルムが得られにくい。好ましい屈折率は１.６０〜１.６４の範囲である。
【００１２】
当該（Ｂ）高屈折率層が五酸化アンチモンを含むことにより、この上にウェットプロセス法で、（Ｃ）層としてシロキサン系ポリマーを含む低屈折率層を設けた場合、（Ｂ）層と（Ｃ）層との密着性が優れたものとなる。
この五酸化アンチモンとしては、平均粒径が、通常０.０２〜０.１５μｍ、好ましくは０.０５〜０.１μｍの範囲にあるものが好適である。また、当該（Ｂ）高屈折率層には、必要に応じ、五酸化アンチモン以外の金属酸化物、例えばアンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、酸化チタン、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化タンタル、酸化錫などの中から選ばれる少なくとも１種を含有させることができる。この場合、全金属酸化物中の五酸化アンチモンの含有量は５０重量％以上であることが好ましく、６０重量％以上であることがより好ましい。五酸化アンチモンの含有量が５０重量％未満では、ウェットプロセス法により、（Ｃ）層としてシロキサン系ポリマーを含む低屈折率層を設けた場合、当該（Ｂ）層と前記（Ｃ）層との密着性が不十分となるおそれが生じる。
当該（Ｂ）層における前記全金属酸化物の含有量としては特に制限はなく、当該（Ｂ）層の所望の膜厚及び屈折率などに応じて適宜選定されるが、通常６０〜７５重量％程度である。
この（Ｂ）層は、以下のようにして形成することができる。まず、必要に応じ、適当な溶剤中に、電離放射線硬化性化合物、五酸化アンチモン及び所望により用いられる他の金属酸化物、光重合開始剤や各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、レベリング剤、消泡剤などを、それぞれ所定の割合で加え、溶解又は分散させて塗工液を調製する。次に、この塗工液を、（Ａ）ハードコート層上にコーティングして塗膜を形成させ、電離放射線を照射して、該塗膜を硬化させることにより、（Ｂ）高屈折率層を形成することができる。
ここで、電離放射線硬化性化合物、光重合開始剤、塗工液の調製に用いられる溶剤、塗工液のコーティング方法及び電離放射線などは、前述の（Ａ）ハードコート層についての説明で示したとおりである。
本発明においては、前記（Ａ）ハードコート層及び（Ｂ）高屈折率層の形成は、以下に示す方法で行うこともできる。
まず、基材フィルムの一方の面にハードコート層形成用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、電離放射線を照射してハーフキュア状態に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合には、光量は、通常５０〜１５０ｍＪ／cm2程度である。次いで、このようにして形成されたハーフキュア状態の硬化層上に、（Ｂ）層形成用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、電離放射線を十分に照射し、前記（Ａ）層と共に完全に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合、光量は、通常４００〜１０００ｍＪ／cm2程度である。
このようにして、基材フィルム上に、（Ａ）層と（Ｂ）層間の密着性に優れる（Ａ）ハードコート層及び（Ｂ）高屈折率層が順次形成される。
【００１３】
本発明の光学用フィルムにおいては、このようにして形成された（Ｂ）高屈折率層上に、（Ｃ）低屈折率層が形成される。この低屈折率層は、屈折率が１.３５〜１.４５の範囲にあり、かつ厚さが７０〜１５０ｎｍの範囲である。該屈折率や厚さが上記範囲を逸脱すると反射防止性能及び耐擦傷性に優れる光学用フィルムが得られにくい。
当該（Ｃ）低屈折率層の形成方法については特に制限はなく、ウェットプロセス法で形成してもよく、ドライプロセス法で形成してもよい。
まず、ウェットプロセス法による（Ｃ）低屈折率層について説明する。
ウェットプロセス法で形成された低屈折率層は、前記（Ｂ）高屈折率層との密着性の点から、シロキサン系ポリマーを含む層であることが好ましい。
このシロキサン系ポリマーを含む層としては、例えば無機シリカ系化合物（ポリケイ酸も含む）、ポリオルガノシロキサン系化合物、あるいはこれらの混合系を含む層を挙げることができる。この層を形成する無機シリカ系化合物やポリオルガノシロキサン系化合物は従来公知の方法によって製造することができる。
例えば、一般式［１］
Ｒ1nＳｉ(ＯＲ2)4-n          ・・・［１］
［式中のＲ1は非加水分解性基であって、アルキル基、置換アルキル基（置換基：ハロゲン原子、水酸基、チオール基、エポキシ基、(メタ)アクリロイルオキシ基など）、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基、Ｒ2は低級アルキル基であり、ｎは０又は１〜３の整数である。Ｒ1及びＯＲ2がそれぞれ複数ある場合、複数のＲ1は同一でも異なっていてもよく、また複数のＯＲ2は同一でも異なっていてもよい。］
で表されるアルコキシシラン化合物を、塩酸や硫酸などの無機酸、シュウ酸や酢酸などの有機酸を用いて部分又は完全加水分解し、重縮合させる方法が好ましく用いられる。
【００１４】
この場合、ｎが０の化合物、すなわちテトラアルコキシシランを完全加水分解すれば無機シリカ系の化合物が得られるし、部分加水分解すれば、ポリオルガノシロキサン系化合物又は無機シリカ系化合物とポリオルガノシロキサン系化合物との混合系が得られる。一方、ｎが１〜３の化合物では、非加水分解性基を有するので、部分又は完全加水分解により、ポリオルガノシロキサン系化合物が得られる。この際、加水分解を均一に行うために、適当な有機溶媒を用いてもよい。
前記一般式［１］で表されるアルコキシシラン化合物の例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、トリビニルメトキシシラン、トリビニルエトキシシランなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１５】
また、この際、必要ならば、アルミニウム化合物、例えば塩化アルミニウムやトリアルコキシアルミニウムなどを適当量添加することができる。
さらに、別の方法として、原料のケイ素化合物にメタケイ酸ナトリウム、オルソケイ酸ナトリウム又は水ガラス（ケイ酸ナトリウム混合物）を用い、塩酸、硫酸、硝酸などの酸又は塩化マグネシウム、硫酸カルシウムなどの金属化合物を作用させ、加水分解処理する方法を用いることができる。この加水分解処理により、遊離のケイ酸が生成するが、このものは重合しやすく、原料の種類によって異なるが、鎖状、環状、網目状のものの混合物である。水ガラスから得られたポリケイ酸は、一般式［２］
【化１】
2005257840.tif 000002
（式中のｍは重合度を示し、Ｒは水素原子、ケイ素又はマグネシウムやアルミニウムなどの金属である。）
で表される鎖状構造のものが主体となる。
このようにして、完全な無機シリカ系化合物が得られる。なお、無機シリカ系化合物として、シリカゲル（ＳｉＯX・ｎＨ2Ｏ）も使用することができる。
本発明においては、このシロキサン系ポリマーを含む低屈折率層には、平均粒径１０〜１００ｎｍのフッ化マグネシウム及び／又は平均粒径３０〜１５０ｎｍの多孔性シリカを１０〜７０重量％の割合で含ませることができる。このような平均粒径を有するフッ化マグネシウムや多孔性シリカを含ませることにより、所望の屈折率を有する（Ｃ）層を容易に形成することができる。
前記フッ化マグネシウムは、市販品のフッ化マグネシウムゾルを用いることができる。また、前記多孔性シリカとしては、比重が１.７〜１.９、屈折率が１.３０〜１.３６の範囲にあるものを好ましく用いることができる。
このフッ化マグネシウム及び／又は多孔性シリカが、（Ｃ）低屈折率層中に１０〜８０重量％の範囲で含まれていれば、成膜性や耐擦傷性があまり損なわれずに、所望の屈折率を有する低屈折率層が得られる。好ましい含有量は３０〜７５重量％、より好ましくは３５〜７０重量％の範囲である。
【００１６】
さらに、当該（Ｃ）低屈折率層には、防汚性を付与するために、シリコーン系ポリマーを３〜５０重量％の割合で含ませることができる。このシリコーン系ポリマーの含有量が上記範囲内にあれば、他の物性をあまり損なうことなく、当該（Ｃ）層における表面の水に対する接触角を１００度以上とすることができ、防汚性を付与することができる。したがって、指紋拭き取り性などが良好となる。前記シリコーン系ポリマーの好ましい含有量は５〜４０重量％、より好ましくは１０〜３０重量％の範囲である。
前記シリコーン系ポリマーとしては、例えばポリオルガノシロキサンの少なくとも片末端にラジカル重合性官能基が結合してなる単量体から得られた（共）重合体であるセグメントＡと、(メタ)アクリル酸エステルなどのラジカル重合性単量体から得られた（共）重合体であるセグメントＢとからなるＡ−Ｂ型ブロック共重合体を挙げることができる。そして、前記セグメントＡを形成するポリオルガノシロキサンの少なくとも片末端に結合してなるラジカル重合性官能基及びセグメントＢを形成するラジカル重合性単量体を適宜選択することにより、得られるＡ−Ｂ型ブロック共重合体に、有機溶剤に対する溶解性や水性媒体に対する分散性などの性質を付与することができる。
本発明においては、ウェットプロセス法により（Ｃ）低屈折率層を形成する場合、例えばシロキサン系ポリマー又はその前駆体と、必要に応じてフッ化マグネシウム及び／又は多孔性シリカ、シリコーン系ポリマーを含む塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、（Ｂ）高屈折率層上にコーティングし、塗膜を形成させ、８０〜１５０℃程度の温度で加熱処理することにより、形成することができる。
このようにして形成されたシロキサン系ポリマーを含む低屈折率層において、該シロキサン系ポリマーが、シラノール基やその他親水性基を有する場合には、帯電防止性能が付与され、得られる光学用フィルムにほこりなどが付着しにくくなり、好ましい。
【００１７】
本発明の光学用フィルムにおいては、ウェットプロセス法で形成された前記（Ｃ）層にシリコーン系ポリマーを含有させない場合には、所望により、当該（Ｃ）層上に（Ｄ）防汚コート層を設けることができる。この防汚コート層は、一般にフッ素系樹脂を含む塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、（Ｃ）低屈折率層上にコーティングし、塗膜を形成させ、乾燥処理することにより、形成することができる。
この防汚コート層の厚さは、通常１〜１０ｎｍ、好ましくは３〜８ｎｍの範囲である。該防汚コート層を設けることにより、得られる光学用フィルムは、表面の滑り性が良くなると共に、汚れにくくなる。
次に、ドライプロセス法による（Ｃ）低屈折率層について説明する。
ドライプロセス法で形成された低屈折率層は、フッ化マグネシウム及び／又はシリカを含む層であることが好ましい。この場合、前記（Ｂ）高屈折率層上に、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの物理的気相蒸着法（ＰＶＤ法）により、屈折率が１.３５〜１.４５の範囲にある厚さ７０〜１５０ｎｍのフッ化マグネシウム及び／又はシリカを含む薄膜からなる（Ｃ）低屈折率層を形成させる。この際、必要に応じ、低屈折率物質、例えばＣａＦ2、ＢａＦ2、ＮａＦ、ＬｉＦなどを、前記（Ｃ）低屈折率層に含ませることができる。
本発明においては、このようにして、ドライプロセス法により形成された（Ｃ）低屈折率層上に、前述のウェットプロセスによる（Ｃ）低屈折率層についての説明において示した（Ｄ）防汚コート層を設けることが好ましい。
【００１８】
本発明の光学用フィルムにおいては、基材フィルムのハードコート層とは反対側の面に、液晶表示体などの被着体に貼着させるための粘着剤層を形成させることができる。この粘着剤層を構成する粘着剤としては、光学用途用のもの、例えばアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤が好ましく用いられる。この粘着剤層の厚さは、通常５〜１００μｍ、好ましくは１０〜６０μｍの範囲である。
さらに、この粘着剤層の上に、剥離フィルムを設けることができる。この剥離フィルムとしては、例えばグラシン紙、コート紙、ラミネート紙などの紙及び各種プラスチックフィルムに、シリコーン樹脂などの剥離剤を塗付したものなどが挙げられる。この剥離フィルムの厚さについては特に制限はないが、通常２０〜１５０μｍ程度である。
このようにして得られた本発明の光学用フィルムは、以下に示す効果を奏する。
（１）ハードコート層上に設けられる高屈折率層に五酸化アンチモンを使用することで、屈折率を１.６５以下に抑え、干渉縞の発生を抑制することができる。また、その上にウェットプロセス法で低屈折率層を設ける場合、該低屈折率層中のシロキサン系ポリマーと十分な密着性を発現することから、耐擦傷性などの表面硬度に優れた光学用フィルムが得られる。
（２）五酸化アンチモン使用による高屈折率層の屈折率低下を補い、反射率を下げるために、その上に設けられるウェットプロセス法による低屈折率層においては、シロキサン系ポリマーと共にフッ化マグネシウムや多孔性シリカを含ませることが効果的である。また、ドライプロセス法による低屈折率層においては、フッ化マグネシウム及び／又はシリカを含む薄膜の蒸着が効果的である。
（３）ウェットプロセス法による低屈折率層においては、シリコーン系ポリマーを含ませることで、該低屈折率層の表面張力を下げ、防汚性を付与することができる。
【実施例】
【００１９】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、各例で得られた光学用フィルムの物性は、以下に示す方法に従って測定した。
（１）ボトム反射率
分光光度計［(株)島津製作所製「ＵＶ−３１０１ＰＣ」］により測定し、最も反射率が低い波長における反射率をボトム反射率とした。
（２）耐擦傷性
スチールウール＃００００を用い、光学用フィルムの低屈折率層表面を荷重９.８×１０-3Ｎ／ｍｍ2で５往復擦った後に目視観察し、下記の判定基準で評価した。
○：傷が付かない
×：傷が付く
（３）干渉縞（色ムラ度合い）
光学用フィルムのサンプルを黒色のアクリル樹脂板上に、低屈折率層面を上にして置き、三波長蛍光灯により色ムラ度合いを、下記の基準で評価した。
○：ほとんどムラが見えない
×：はっきりとムラが見える
（４）防汚性能（水の接触角）
２３℃、相対湿度５０％の環境下において、低屈折率層表面に１０μｌの純水を滴下し、１分後の水の接触角を、接触角計［協和界面科学(株)製「ＣＡ−Ｘ型」］を用いて測定した。
（５）帯電防止性能
光学用フィルムを室内に１ケ月間放置し、ほこりの付着の有無を観察し、下記の判定基準で評価した。
○：ほこりの付着なし
×：ほこりの付着あり
【００２０】
実施例１
（１）厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［東洋紡績(株)製、商品名「Ａ４１００」］の易接着面（プライマー処理面）に、電離放射線硬化性化合物と光重合開始剤を含有する紫外線硬化型アクリル系ハードコート剤［ジェイエスアール(株)製、商品名［デソライトＺ７５２４］、固形分濃度７６重量％］を、希釈溶剤としてメチルエチルケトンを使用し、固形分濃度が５０重量％になるように調整した。この液を完全硬化後の厚さが３μｍになるようにマイヤーバーにて塗布し、８０℃で１分間乾燥したのち、これに紫外線を光量３００ｍＪ／ｃｍ2で照射して、ハードコート層を形成した。
（２）高屈折率層形成用の液として、紫外線硬化型樹脂中に平均粒径０.０８μｍの五酸化アンチモンを含む紫外線硬化型コート剤「触媒化成工業(株)製、品名「ＥＬＣＯＭ  Ｐ４５０１−９」、固形分濃度３０重量％、五酸化アンチモン：樹脂分重量比７０：３０］を、希釈溶剤としてエチルセロソルブ：メチルイソブチルケトン重量比＝１：１の混合溶剤を使用して、固形分濃度が４重量％になるように調整した。
この液を、前記（１）の工程で形成したハードコート層上に、完全硬化後の厚さが９０ｎｍになるようにマイヤーバーにて塗布し、１００℃で１分間乾燥したのち、これに窒素雰囲気下で紫外線を光量５００ｍＪ／ｃｍ2照射して硬化させ、高屈折率層を形成し、ＰＥＴフィルム上に、屈折率１.５０８のハードコート層及び屈折率１.６０５の高屈折率層を順次形成させた。
（３）シロキサン系帯電防止剤［コルコート(株)製、商品名「コルコートＰ」、固形分濃度２重量％］１００重量部とフッ化マグネシウムの分散液［シーアイ化成(株)製、品名「ＭＦＤＮＢ  １５ＷＴ％・Ｇ２６」平均粒径３０ｎｍのフッ化マグネシウム含有率１５重量％］１０重量部を混合して、低屈折率層用コート剤を調製した。
次に、前記（２）の工程で形成した高屈折率層上に、このコート剤をマイヤーバーを用いて塗布し、１３０℃で２分間熱処理して、厚さ１０５ｎｍ、屈折率１.４２０の低屈折率層を形成した。
このようにして作製した光学用フィルムの物性を第１表に示す。なお、各コート層の厚さは、松下インターテクノ(株)製「フィルメトリクスＦ−２０」により測定し、屈折率は、(株)アタゴ製アッベ屈折計により測定した。（以下、同様）
実施例２
実施例１（３）の工程において、低屈折率層用コート剤の調製を以下のように変えた以外は、実施例１と同様な操作を行い、光学用フィルムを作製した。その物性を第１表に示す。低屈折率層の膜厚は１１０ｎｍ、屈折率は１.４０５であった。
＜コート剤の調製＞
シロキサン系帯電防止剤［コルコート(株)製、商品名「コルコートＰ」、固形分濃度２重量％］１００重量部とシリコーン系ポリマーとして多孔性シリカの分散液［触媒化成工業(株)製、品名「ＥＬＣＯＭ  Ｐ−特殊品３」、固形分濃度１０重量％、シリカ比重約１.８、シリカ平均粒径約８０ｎｍ］４０重量部を混合し、さらに全体の固形分濃度が３重量％になるようにイソブチルアルコールで希釈して調製した。
実施例３
実施例１（３）の工程において、低屈折率層用コート剤の調製を以下のように変えた以外は、実施例１と同様な操作を行い光学用フィルムを作製した。その物性を第１表に示す。低屈折率層の膜厚は１１０ｎｍ、屈折率は１.４５０であった。
＜コート剤の調製＞
シロキサン系帯電防止剤［コルコート(株)製、商品名「コルコートＰ」、固形分濃度２重量％］１００重量部とシリコーン系ポリマーとしてシリコーン−アクリル系ブロックコポリマー［日本油脂(株)製、商品名「モディパーＦＳ−７２０」、固形分濃度１５重量％］１.３重量部を混合し、さらに全体の固形分濃度が３重量％になるようにイソブチルアルコールで希釈して調製した。
実施例４
実施例１（１）の工程において、ハードコート剤の調製を以下のように変更した以外は、実施例１と同様な操作を行い、ハードコート層がアンチグレア性ハードコート層である光学用フィルムを作製した。その物性を第１表に示す。ハードコート層の膜厚は３μｍ、屈折率は１.５１０であった。
＜コート剤の調製＞
紫外線硬化型ハードコート剤［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）］固形分濃度１００％］１００重量部に対し、シリカゲル含有紫外線硬化型ハードコート剤［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＢＳ）」、固形分濃度１００％］３５重量部を加え、さらに希釈溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルにて固形分濃度を４０重量％とした。
実施例５
実施例１（２）の工程において、高屈折率層形成用の液を以下のように変更した以外は、実施例１と同様な操作を行い、光学用フィルムを作製した。その物性を第１表に示す。高屈折率層の膜厚は９０ｎｍ、屈折率は１.６４０であった。
＜高屈折率層形成用の液の調製＞
実施例１（２）で用いた高屈折率層形成用の液７０重量部、酸化チタンの分散液［大日本インキ化学工業(株)製、商品名「ＴＦ−１４Ｄ」、固形分濃度１０重量％］９重量部及び紫外線硬化型ハードコート剤［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分濃度１００％］０.２７重量部を混合し、さらに希釈溶剤としてイソブチルアルコールを加え、全体の固形分を４重量％とした。この液に含まれる全金属酸化物（五酸化アンチモンと酸化チタン）中の五酸化アンチモンの含有量は６８.５重量％であった。
比較例１
実施例１（２）の工程において、高屈折率層用コート剤の調製を以下のように変更した以外は、実施例１と同様な操作を行い、光学用フィルムを作製した。その物性を第１表に示す。高屈折率層の膜厚は９０ｎｍ、屈折率は１.６７０であった。
＜コート剤の調製＞
アンチモンドープ酸化錫の分散液［石原テクノ(株)製、商品名「ＳＮ−１００Ｐイソブタノール分散体」、固形分濃度３０重量％］１００重量部に、紫外線硬化型ハードコート剤［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分濃度１００％］６重量部を加え、さらにイソブチルアルコールで全体の固形分濃度が４重量％になるように希釈してコート剤を調製した。
比較例２
実施例１（２）の工程において、高屈折率層用コート剤の調製を以下のように変更した以外は、実施例１と同様な操作を行い、光学用フィルムを作製した。その物性を第１表に示す。高屈折率層の膜厚は９０ｎｍ、屈折率は１.７２０であった。
＜コート剤の調製＞
酸化チタンの分散液［大日本インキ化学工業(株)製、商品名「ＴＦ−１４Ｄ」、固形分濃度１０重量％］１００重量部に、紫外線硬化型ハードコート剤［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分濃度１００％］３重量部を加え、さらにイソブチルアルコールで全体の固形分濃度が４重量％になるように希釈してコート剤を調製した。
【００２１】
【表１】
2005257840.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００２２】
本発明の光学用フィルムは、反射防止性能に優れ、かつ干渉縞の発生を抑制しうると共に、製造コストが低く、例えばＰＤＰ、ＣＲＴ、ＬＣＤなどの画像表示素子の反射防止フィルムとして好適に用いられる。