(57)【要約】【課題】基板上に形成された透明導電膜の電気抵抗値を測定する際に、透明導電膜の表面にキズ、ピンホールなどを発生させず、基板の全数について、連続的に効率よく測定する電気抵抗値の測定方法及び測定装置を提供すること。【解決手段】基板１０の面上方で一定の距離Ｄを保った、基板面と平行な面内で、基板の搬送路Ｘと直角な方向を走査路Ｙとし、基板の両側端間Ｗ上方の該走査路上に非接触型の電気抵抗測定装置２を往復動させ透明導電膜の電気抵抗値を測定すること。【選択図】図１
2005241261.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された透明導電膜の電気抵抗値を非接触型の電気抵抗測定装置を用いて測定する電気抵抗値の測定方法において、搬送路上の基板の、透明導電膜が形成された面上方で一定の距離を保った、基板面と平行な面内で、基板の搬送路と直角な方向を走査路とし、基板の両側端間上方の該走査路上に前記非接触型の電気抵抗測定装置を往復動させ透明導電膜の電気抵抗値を測定することを特徴とする電気抵抗値の測定方法。
【請求項２】
前記基板が、基板上に着色画素が形成された液晶表示装置用カラーフィルタであることを特徴とする請求項１記載の電気抵抗値の測定方法。
【請求項３】
基板上に形成された透明導電膜の電気抵抗値を非接触型の電気抵抗測定装置を用いて測定する電気抵抗値の測定装置において、
１）透明導電膜の成膜工程から、後工程へと基板を水平に直線上を搬送するコロ・コンベア、
２）該コロ・コンベア上を搬送される基板の、透明導電膜が形成された面と一定の距離を保って設けられた非接触型の電気抵抗測定装置、
３）該非接触型の電気抵抗測定装置を、基板の搬送路と直角な方向にガラス基板の両側端間上方を往復動させる横送り台、及びフレームに固定されたサドル、
を具備することを特徴とする電気抵抗値の測定装置。
【請求項４】
前記基板が、ガラス基板上に着色画素が形成された液晶表示装置用カラーフィルタであることを特徴とする請求項３記載の電気抵抗値の測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に形成された透明導電膜の電気抵抗値の測定に関するものであり、特に、非接触で効率よく測定することのできる電気抵抗値の測定方法及び測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図３は、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。また、図４は、図３に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
図３、及び図４に示すように、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタは、ガラス基板（３０）上にブラックマトリックス（３１）、着色画素（３２）、オーバーコート層（３３）、透明導電膜（３４）が順次に形成されたものである。
図３、及び図４はカラーフィルタを模式的に示したもので、着色画素（３２）は９個表されているが、実際のカラーフィルタにおいては、例えば、対角１４インチの画面に数百μｍ程度の着色画素が多数個配列されている。
【０００３】
ブラックマトリックス（３１）は、遮光性を有し、開口部をマトリックス状に配置したものであり、着色画素（３２）は、例えば、赤色、緑色、青色のフィルタ機能を有するものである。
ブラックマトリックスは、カラーフィルタの着色画素の位置を定め、大きさを均一なものとし、また、表示装置に用いられた際に、好ましくない光を遮蔽し、表示装置の画像をムラのない均一な、且つコントラストを向上させた画像にする機能を有している。
【０００４】
このブラックマトリックス（３１）は、ガラス基板（３０）上にブラックマトリックスの材料としてのクロム（Ｃｒ）、酸化クロム（ＣｒＯX ）などの金属、もしくは金属化合物を薄膜状に成膜し、成膜された薄膜上に、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いてエッチングレジストパターンを形成し、次に、成膜された金属薄膜の露出部分のエッチング及びエッチングレジストパターンの剥膜を行い、Ｃｒ、ＣｒＯX などの金属薄膜からなるブラックマトリックス（３１）に形成されたものである。
【０００５】
また、着色画素（３２）の形成は、このブラックマトリックス（３１）に形成されたガラス基板（３０）上に、例えば、顔料などの色素を分散させたネガ型のフォトレジストを用いて塗布膜を設け、この塗布膜への露光、現像によって着色画素を形成するといった方法がとられている。
【０００６】
また、オーバーコート層（３３）は、例えば、着色画素からの微量なイオンの溶出を防ぐために設けられるものである。また、透明導電膜（３４）は、電極となるものであり、酸化インジュウム、酸化錫、酸化インジュウム錫、酸化亜鉛又はこれらの積層体等である。
【０００７】
また、図５は、図３に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図であるが、ブラックマトリックスの材料として樹脂を用いた例を示すものである。
このカラーフィルタは、図４に示すカラーフィルタと同様に、ガラス基板（３０）上にブラックマトリックス（５１）、着色画素（５２）、オーバーコート層（５４）、透明導電膜（５５）が順次に形成されたものである。
このブラックマトリックス（５１）は、ガラス基板（３０）上に、例えば、ブラックマトリックス形成用の黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によって形成されたものであり、樹脂を用いて形成されたブラックマトリックスを樹脂ブラックマトリックス（５
１）と称している。
【０００８】
樹脂ブラックマトリックスは、例えば、テレビなどのように、高輝度なバックライトを用いた際に、クロムなどの金属をブラックマトリックスとして用いたときに起こる液晶表示装置での内部反射を抑制するために、低反射の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合、或いは、例えば、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式に用いたときに起こる液晶表示装置での電界の乱れを抑制するために、高絶縁性の樹脂ブラックマトリックスが要望される場合などに採用されていた。しかし、ブラックマトリックスは、クロムなどの金属を用いたブラックマトリックスから、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。
【０００９】
カラーフィルタを大量に製造する際には、一基の液晶表示装置に対応したカラーフィルタを大サイズのガラス基板に面付けした状態で製造する。例えば、対角１４インチのカラーフィルタを５５０ｍｍ×６５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けし、或いは、対角１７インチのカラーフィルタを６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度の大サイズのガラス基板に４面付けして製造する。
【００１０】
カラーフィルタを面付けして大量に製造する際の、大サイズのガラス基板が、例えば、６５０ｍｍ×８５０ｍｍ程度から９００ｍｍ×１１００ｍｍ程度へと大サイズ化するに伴い、ブラックマトリックスの材料としてクロムなどの金属を用い真空装置で薄膜を成膜するブラックマトリックスよりも、黒色感光性樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によって形成する樹脂ブラックマトリックスの方が価格的に有利なものとなり、次第に樹脂ブラックマトリックスへと移行が進んでいる。
また、環境に配慮してクロムなどの金属を用いることを回避する傾向もある。
【００１１】
樹脂ブラックマトリックスは、クロムなどの金属を用いたブラックマトリックスのように、膜厚１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の薄膜では高濃度を得ることはできず、例えば、０．５μｍ〜２．０μｍ程度の厚さにして必要な高濃度を得るようにしている。
樹脂ブラックマトリックスの膜厚が、例えば、１．０μｍ程度と厚くなると、図５に示すように、樹脂ブラックマトリックス（５１）上にその周縁部を重ねて形成された着色画素（５２）は、周縁部が樹脂ブラックマトリックス（５２）上にて突起（５３）となる。
【００１２】
この突起（５３）は、カラーフィルタの表面を凹凸のあるものとし、平坦性を悪化させる。このような突起（５３）のある、表面の平坦性が悪化したカラーフィルタを液晶表示装置に用いると、突起の影響によって液晶分子の配向が乱され、表示ムラなど表示品質を低下させることになる。
この突起の影響をなくすために、十分な厚さのオーバーコート層（５４）を設け、カラーフィルタの表面を平坦性のあるものとする。この際のオーバーコート層（５４）は、前記微量なイオンの溶出防止を兼ねたものである。
尚、オーバーコート層（５４）上には透明導電膜（５５）が設けられる。
【００１３】
電極となる、この透明導電膜（３４、５５）の電気抵抗値に変動があると、液晶表示装置に表示不良、表示ムラなどが発生するので、オーバーコート層上の透明導電膜（３４、５５）に対し電気抵抗値の測定が行われる。
透明導電膜の電気抵抗値の測定装置としては、４探針法があげられる。４探針法において使用するプローブには、先端が直径２ｍｍ程度の平坦なプローブと、先端が０．３７ｍｍＲ程度の尖ったプローブとがあるが、平坦なプローブによる測定値にはバラツキが大きいために、ガラス基板上に形成された透明導電膜のように、堅い基板上の試料の測定には尖ったプローブが使用されている。
しかし、先端が尖ったプローブを使用することによって、透明導電膜の表面にキズ、ピン
ホールなどを発生させてしまうことがある。
【００１４】
また、透明導電膜の電気抵抗値の別な測定装置としては、うず電流を利用した測定装置があげられる。この測定装置は、試料にプローブを接触させずに、試料の上方から電気抵抗値を測定することができるので、透明導電膜の表面にキズ、ピンホールなどを発生させてしまうことはない。
【００１５】
また、ガラス基板上に形成された透明導電膜の電気抵抗値の変動測定は、一般には、枚葉状のガラス基板の全数について行うのではなく、抜き取りによる変動測定となる。
また、電気抵抗値の変動測定の工程は、透明導電膜を成膜する工程とは別ラインになっている。すなわち、透明導電膜の電気抵抗値の変動測定は、手間と時間がかかり、迅速かつ簡単なものではない。
【特許文献１】特開平１０−８２８１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、基板上に形成された透明導電膜の電気抵抗値の変動を測定する際に、或いは、ガラス基板上にブラックマトリックス、着色画素、オーバーコート層、透明導電膜が順次に形成されたカラーフィルタの、該透明導電膜の電気抵抗値の変動を測定する際に、透明導電膜の表面にキズ、ピンホールなどを発生させることなく、また、枚葉状のガラス基板、或いは、カラーフィルタの全数について、透明導電膜の成膜する装置と連結させた測定装置を用い、電気抵抗値の変動の測定を連続的に効率よく、また更に、大サイズ化したガラス基板、或いは、カラーフィルタにおいても、製造ラインの途中において容易に測定することのできる電気抵抗値の測定方法及び測定装置を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は、基板上に形成された透明導電膜の電気抵抗値を非接触型の電気抵抗測定装置を用いて測定する電気抵抗値の測定方法において、搬送路上の基板の、透明導電膜が形成された面上方で一定の距離を保った、基板面と平行な面内で、基板の搬送路と直角な方向を走査路とし、基板の両側端間上方の該走査路上に前記非接触型の電気抵抗測定装置を往復動させ透明導電膜の電気抵抗値を測定することを特徴とする電気抵抗値の測定方法である。
【００１８】
また、本発明は、上記発明による電気抵抗値の測定方法において、前記基板が、ガラス基板上に着色画素が形成された液晶表示装置用カラーフィルタであることを特徴とする電気抵抗値の測定方法である。
【００１９】
また、本発明は、基板上に形成された透明導電膜の電気抵抗値を非接触型の電気抵抗測定装置を用いて測定する電気抵抗値の測定装置において、
１）透明導電膜の成膜工程から、後工程へと基板を水平に直線上を搬送するコロ・コンベア、
２）該コロ・コンベア上を搬送される基板の、透明導電膜が形成された面と一定の距離を保って設けられた非接触型の電気抵抗測定装置、
３）該非接触型の電気抵抗測定装置を、基板の搬送路と直角な方向に基板の両側端間上方を往復動させる横送り台、及びフレームに固定されたサドル、
を具備することを特徴とする電気抵抗値の測定装置である。
【００２０】
また、本発明は、上記発明による電気抵抗値の測定装置において、前記基板が、ガラス
基板上に着色画素が形成された液晶表示装置用カラーフィルタであることを特徴とする電気抵抗値の測定装置である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明は、搬送路上の基板の、透明導電膜が形成された面上方で一定の距離を保った、ガラス基板面と平行な面内で、ガラス基板の搬送路と直角な方向を走査路とし、ガラス基板の両側端間上方の該走査路上に前記非接触型の電気抵抗測定装置を往復動させ透明導電膜の電気抵抗値を測定するので、透明導電膜の表面にキズ、ピンホールなどを発生させることなく、また、枚葉状のガラス基板、或いは、カラーフィルタの全数について、連続的に効率よく、また更に、大サイズ化したガラス基板、或いは、カラーフィルタにおいても、製造ラインの途中において容易に測定することのできる電気抵抗値の測定方法となる。
【００２２】
本発明は、１）基板を水平に直線上を搬送するコロ・コンベア、２）基板の、透明導電膜が形成された面と一定の距離を保って設けられた非接触型の電気抵抗測定装置、３）非接触型の電気抵抗測定装置を、基板の搬送路と直角な方向に基板の両側端間上方を往復動させる横送り台、及びフレームに固定されたサドル、を具備するので、透明導電膜の表面にキズ、ピンホールなどを発生させることなく、また、枚葉状のガラス基板、或いは、カラーフィルタの全数について、連続的に効率よく、また更に、大サイズ化したガラス基板、或いは、カラーフィルタにおいても容易に測定することのできる電気抵抗値の測定装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、本発明による電気抵抗値の測定方法において用いられる測定装置の一例を示す平面図である。また、図２は、図１のＸ−Ｘ線での断面図である。
図１、及び図２に示すように、この測定装置は、コロ・コンベア（１）、非接触型の電気抵抗測定装置（２）、横送り台（３）、サドル（４）で構成されている。
【００２４】
白太矢印で示すように、コロ・コンベア（１）は、図中左方の前工程である透明導電膜の成膜装置から、図中右方の後工程へとガラス基板を水平に直線上を搬送する。図中、Ｘはガラス基板の搬送路を表している。
非接触型の電気抵抗測定装置（２）は、コロ・コンベア上を搬送されるガラス基板の、透明導電膜が形成された面と一定の距離（Ｄ）を保って搬送路の上方に設けられている。
【００２５】
一定の距離（Ｄ）を保った非接触型の電気抵抗測定装置（２）は、ガラス基板の搬送路（Ｘ）と直角な方向を走査路（Ｙ）とし、ガラス基板の両側端間（Ｗ）の上方の該走査路上を往復動する。
この走査路上の往復動を行いながら、透明導電膜の電気抵抗値を測定するようになっている。非接触型の電気抵抗測定装置（２）は、横送り台（３）と一体的に連結されており、横送り台（３）は、フレームに固定されたサドル（４）上を矢印で示すように往復動する。
【００２６】
非接触型の電気抵抗測定装置は、測定装置から磁場を発し、導体である透明導電膜内にうず電流を生起させる。そこで消費されるうず電流損は、測定装置の電流をＩ、うず電流損に基づく抵抗値をＲとすると、ＲＩ2 の関係にあることを利用し透明導電膜の電気抵抗値を測定するものである。
尚、測定装置と試料とは一定の距離を保つ。
【００２７】
非接触型の電気抵抗測定装置としては、例えば、ナプソン（株）製：ＮＣ−１１０非接触測定器があげられる。透明導電膜の電気抵抗値の測定は、測定装置と試料との一定の距
離（Ｄ）を０．１〜１０ｍｍ、ガラス基板の搬送速度を１〜２００ｍｍ／ｓｅｃとした際に、測定装置の走査速度２〜４００ｍｍ／ｓｅｃにて好適に測定することができる。
【００２８】
上記のように、本発明による電気抵抗値の測定方法によれば、透明導電膜の電気抵抗値の変動を測定する測定装置として非接触型の電気抵抗測定装置を用いるので、透明導電膜の表面にキズ、ピンホールなどを発生させることはない。また、ガラス基板の全数について、連続的に効率よく測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明による電気抵抗値の測定方法において用いられる測定装置の一例を示す平面図である。
【図２】図１のＸ−Ｘ線での断面図である。
【図３】カラーフィルタの一例を模式的に示した平面図である。
【図４】図３に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【図５】図３に示すカラーフィルタのＸ−Ｘ’線における断面図である。
【符号の説明】
【００３０】
１・・・コロ・コンベア
２・・・非接触型の電気抵抗測定装置
３・・・横送り台
４・・・サドル
１０、３０・・・ガラス基板
３１・・・ブラックマトリックス
３２、５２・・・着色画素
５１・・・樹脂ブラックマトリックス
５３・・・突起
３３、５４・・・オーバーコート層
３４、５５・・・透明導電膜
Ｄ・・・一定の距離
Ｗ・・・ガラス基板の両側端間
Ｘ・・・ガラス基板の搬送路
Ｙ・・・電気抵抗測定装置の走査路
【図１】
2005241261.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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