(57)【要約】【課題】薄膜の形成が高速度で達成できるとともに、微細な等ピッチのスジを生じない塗布ヘッド及び塗布装置を提供する。【解決手段】連続走行する帯状の可撓性支持体Ｗの表面に塗布液Ｆを塗布する塗布装置に使用される塗布ヘッド１０。塗布ヘッド１０は、支持体Ｗの幅方向において支持体と対向し、開口部より塗布液Ｆを塗出するスリット１６を備える。スリットの支持体の走行方向の上流側には、支持体と対向するフロントエッジ面２６ａが設けられ、スリットの支持体の走行方向の下流側には支持体と対向するバックエッジ面２８ａが設けられる。更に、バックエッジ面２８ａと所定の角度をなして交わるバックエッジ背面２８ｂが設けられる。バックエッジ背面背面２８ｂの、バックエッジ面２８ａとの交差位置から所定の距離Ｌまでの表面粗さＲａを０. ２μｍ以下とする。【選択図】  図２
2005087883.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に塗布液を塗布する塗布装置に使用される塗布ヘッドにおいて、
前記支持体の幅方向において前記支持体と対向し、開口部より塗布液を吐出するスリットと、
前記スリットの前記支持体の走行方向の上流側に設けられ、前記支持体と対向するフロントエッジ面と、
前記スリットの前記支持体の走行方向の下流側に設けられ、前記支持体と対向するバックエッジ面と、
前記バックエッジ面と所定の角度をなして交わるバックエッジ背面とを備えており、
前記バックエッジ背面の表面粗さＲａが０. ２μｍ以下となっていることを特徴とする塗布ヘッド。
【請求項２】
前記バックエッジ背面には、前記支持体の幅方向に延びる凹部が形成されている請求項１に記載の塗布ヘッド。
【請求項３】
前記バックエッジ背面の、前記バックエッジ面との交差位置から０. ５ｍｍ以上までの部分の表面粗さＲａが０. ２μｍ以下である請求項１に記載の塗布ヘッド。
【請求項４】
前記バックエッジ背面の、前記バックエッジ面との交差位置から前記凹部までの距離が０. ５ｍｍ以上である請求項２に記載の塗布ヘッド。
【請求項５】
前記バックエッジ面及び前記バックエッジ背面が超鋼合金又はセラミックスで形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布ヘッド。
【請求項６】
前記請求項１〜５のいずれか１項に記載の塗布ヘッドを備えたことを特徴とする塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布ヘッド及び塗布装置に係り、特に、ガイドローラなどの走行案内手段により支持されて連続走行する可撓性支持体上に磁気記録層等の塗布膜を塗布するのに好適な塗布ヘッド及び塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、ガイドローラなどの走行案内手段により支持されて連続走行する可撓性支持体上に塗布膜を塗布する方法としては、アプリケーション系では、ローラ塗布方法、ディップ塗布方法、ファウンテン塗布方法等が、計量系では、エアーナイフ塗布方法、ブレード塗布方法、バー塗布方法等が採用できる。また、アプリケーション系と計量系とを同一の部分で担当するものとして、エクストルージョン塗布方法、スライドビード塗布方法、カーテン塗布方法等が採用されている。
【０００３】
このうち、エクストルージョン塗布方法は、薄膜の形成、多層膜の形成等に好適であり、また、生産性（塗布速度）が高いことより、磁気記録媒体、特に磁気テープの製造に導入されている。また、この種の塗布にあたっては、本出願人等により、各種の改良、提案がなされており（特許文献１〜４等参照）、それぞれ所定の効果が得られている。
【０００４】
このうち、特許文献１は、１層のエクストルージョン塗布方法に関し、塗布ヘッドの形状に改良を加えた提案である。特許文献２は、複層のエクストルージョン塗布方法に関し、塗布ヘッドの形状に改良を加えたもの、特に先端曲率半径を規定する提案である。特許文献３は、複層のエクストルージョン塗布方法に関し、プレコートした後に、塗布ヘッドにより２層の塗布を行なう提案である。特許文献４は、エクストルージョン塗布方法において、塗布ヘッドの表面粗さを向上させ、塗布状態を向上させる提案である。
【特許文献１】特公平５−８０６５号公報
【特許文献２】特公平６−７７７１２号公報
【特許文献３】特許第２９４２９３８号公報
【特許文献４】特開２０００−３４３０１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記のエクストルージョン塗布方法には、時折、塗布膜に微細なスジ欠点を生じるという、固有の問題点がある。このスジ欠点は、部分的に数百μｍピッチの微細な等ピッチのスジであり、製品品質を低下させる場合もある。そして、特許文献１〜３においても、この問題点が完全には解消されていないのが現状である。
【０００６】
一方、特許文献４に記載の提案のように、上記のように塗布装置に改良を施し、この問題点の対策としているものもある。ところが、このような装置、たとえば、所定部分の表面粗さＲａを５μｍ以下、最小で０. ７μｍとする構成であっても、塗布厚さが湿潤状態で１０μｍ以下の薄膜塗布の場合には、数百μｍピッチの微細な等ピッチのスジが現れてしまい、効果が十分には得られていない。
【０００７】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、薄膜の形成が高速度で達成できるとともに、微細な等ピッチのスジを生じない塗布ヘッド及び塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記目的を達成するために、連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に塗布液を塗布する塗布装置に使用される塗布ヘッドにおいて、前記支持体の幅方向において前記支持体と対向し、開口部より塗布液を吐出するスリットと、前記スリットの前記支持体の走行方向の上流側に設けられ、前記支持体と対向するフロントエッジ面と、前記スリットの前記支持体の走行方向の下流側に設けられ、前記支持体と対向するバックエッジ面と、前記バックエッジ面と所定の角度をなして交わるバックエッジ背面とを備えており、前記バックエッジ背面の表面粗さＲａが０. ２μｍ以下となっていることを特徴とする塗布ヘッドを提供する。
【０００９】
本発明によれば、可撓性支持体の表面とバックエッジ面との間の塗布液は、バックエッジ面と所定の角度をなして交わるバックエッジ背面の所定位置より離れる。したがって、バックエッジ背面の、バックエッジ面との交差位置から所定の距離までの部分を平滑に、具体的には、表面粗さＲａを０. ２μｍ以下とすれば、塗布膜の乱れは非常に少なくなり、微細な等ピッチのスジを生じることはない。
【００１０】
なお、表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定する算術平均粗さＲａによる。
【００１１】
本発明において、前記バックエッジ背面には、前記支持体の幅方向に延びる凹部が形成されていることが好ましい。バックエッジ背面の表面仕上加工は、研削加工によるのが好ましいが、その際、このような幅方向に延びる凹部が形成されていれば、研削砥石（研削ホイール）が他の部分と干渉することがなく、バックエッジ背面の被加工部分の仕上状態を良好にでき、本発明の効果が発揮できる。
【００１２】
また、本発明において、前記バックエッジ背面の、前記バックエッジ面との交差位置から０. ５ｍｍ以上までの部分の表面粗さＲａが０. ２μｍ以下であることが好ましい。少なくとも、表面粗さの良好な部分をこのような距離とすることにより、本発明の効果が発揮できる。
【００１３】
また、本発明において、前記バックエッジ背面の、前記バックエッジ面との交差位置から前記凹部までの距離が０. ５ｍｍ以上であることが好ましい。表面粗さの良好な部分を、少なくともこのような距離とすることにより、本発明の効果が発揮できる。
【００１４】
また、本発明において、前記バックエッジ面及び前記バックエッジ背面が超鋼合金又はセラミックスで形成されていることが好ましい。バックエッジ面及びバックエッジ背面をこのような材質とすることにより、加工後の表面粗さを良好にでき、本発明の効果がより発揮できる。
【発明の効果】
【００１５】
以上説明したように、本発明によれば、塗布ヘッドは、スリットと、フロントエッジ面と、バックエッジ面と、このバックエッジ面と所定の角度をなして交わるバックエッジ背面とを備えており、バックエッジ背面の表面粗さＲａが０. ２μｍ以下となっている。この構成により、塗布膜の乱れは非常に少なくなり、微細な等ピッチのスジを生じることはない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様の例について説明する。図１は、本発明に適用される塗布装置のうち、塗布ヘッド１０の一部を切断して示す斜視図である。図２は、塗布ヘッド１０の先端部と可撓性支持体（以下、「ウェブ」と称する）Ｗとの位置関係を示す概略断面図であり、ウェブＷを塗布ヘッド１０に対してセットし、塗布液を塗布している状態を示す。
【００１７】
図１及び図２に示されるように、塗布ヘッド１０は、塗布液を供給できるような下記の液供給系が設けられている。塗布ヘッド１０の本体１２には、長手方向（ウェブＷの幅方向）に延びた液溜め部１４と、液溜め部１４と連通するとともに、長手方向（ウェブＷの幅方向）においてウェブＷと対向し、開口部より塗布液を吐出するスリット１６と、液溜め部１４へ塗布液を供給する液供給口１８と、液溜め部１４から塗布液を引き抜く液排出口２０と、を備えている。
【００１８】
液溜め部１４は、「ポケット」又は「マニホールド」とも称され、その断面が略円形をなし、図１に示されるように、ウェブＷの幅方向に略同一の断面形状をもって延長された液溜め機能を有する空洞部である。その有効長さは、通常、塗布幅と同等又は若干長く設定される。液溜め部１４の貫通した両端開口部は、図１に示されるように、本体１２の両端部に取付けられる閉鎖板２２、２４により閉止されている。なお、既述の液供給口１８は閉鎖板２２に、液排出口２０は閉鎖板２４にそれぞれ設けられている。
【００１９】
スリット１６は、液溜め部１４からウェブＷに向け、通常、０. ０１〜０. ５ｍｍの開口幅をもって塗布ヘッド１０の本体１２内部を貫通し、かつ液溜め部１４と同じようにウェブＷの幅方向に延長された比較的狭隘な流路であり、ウェブＷの幅方向の開口長さは塗布幅と略同等に設定される。なお、スリット１６におけるウェブＷに向けた流路の長さは、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液がウェブＷの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスリット１６から供給できればよい。
【００２０】
次に、塗布ヘッド１０の先端部分について、図２を参照しながら説明する。スリット１６は、塗布ヘッド１０の本体１２（図１参照）のフロントエッジ２６とバックエッジ２８とにより形成される。塗布ヘッド１０の本体１２の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面２６ａ、バックエッジ面２８ａがそれぞれ形成されている。また、バックエッジ面２８ａと所定の角度をなして交わるバックエッジ背面２８ｂが形成されている。更に、バックエッジ背面２８ｂのバックエッジ面２８ａとの交差部（エッジ部）より距離Ｌの位置には、ウェブＷの幅方向（図２では、紙面に垂直方向）に延びる凹部２８ｃが形成されている。
【００２１】
図２に示されるように、フロントエッジ面２６ａは断面が略直線状に、バックエッジ面２８ａは、断面が山型に形成されている。また、フロントエッジ面２６ａの後端エッジ部とバックエッジ面２８ａの先端エッジ部とには所定の段差が設けられ、塗布液Ｆの所定厚さの膜が形成できるようになっている。
【００２２】
なお、図２に示されるフロントエッジ面２６ａ、バックエッジ面２８ａの断面形状は一例であり、他の断面形状、たとえば円弧状、放物線状等、各種の形状が採用できる。また、バックエッジ面２８ａとバックエッジ背面２８ｂとがなす所定の角度も、図２の形状は一例であり、これよりも鈍角のもの、又は、これよりも鋭角なもののいずれも採用できる。
【００２３】
次に、塗布ヘッド１０、特に、本体１２の加工方法について説明する。塗布ヘッド１０の材質としては、塗布液Ｆを汚染、変質させず、所定以上の機械的な強度を持ち、かつ、加工が容易な材質が好ましく、各種金属材料（ステンレス鋼、真鍮、等）が好ましく採用できる。また、易加工性のセラミックス等の無機材料、更には、エンジニアリングプラスチックスも、用途に応じては採用できる。なお、本体１２を単一の材料で形成せず、特に表面粗さ等を要求される部分に、超鋼合金又はセラミックス等の材料を機械的固定、又は接着等により嵌め込むこともできる。
【００２４】
本体１２の加工方法としては、材質に応じて、切削加工、研削加工、放電加工等の各種加工法が選択できる。このうち、特に表面粗さを要求されるフロントエッジ面２６ａ、バックエッジ面２８ａ、バックエッジ背面２８ｂ等の加工は研削加工、研磨加工等の砥粒加工が好ましい。本実施態様では、カップホイール（Straight Cup Wheel）によるバックエッジ背面２８ｂの研削加工について説明する。
【００２５】
図３は、塗布ヘッド１０のバックエッジ背面２８ｂと研削砥石（カップホイール）５０との位置関係を示す概略断面図である。研削砥石５０は、カップ状の台座５２と、台座５２の背面の中心に延設された回転軸５４と、台座５２の先端に延設された円環状の砥石部５６とより構成される、砥石はダイヤモンド（Synthetic Diamond ）又はｃＢＮ（cubic Boron Nitride ）等の超砥粒（Superabrasive ）よりなるボンド砥石である。仕上加工に使用する研削砥石５０の場合、砥石部５６は、番手で数千〜１万数千番の超砥粒よりなるメタルボンドホイールが好ましい。このような研削砥石５０で加工することにより、被加工面（バックエッジ背面２８ｂ）の表面粗さＲａを０. ２μｍ以下とできる。
【００２６】
研削加工の際、図３に示されるように、バックエッジ背面２８ｂのバックエッジ面２８ａとの交差部（エッジ部）より距離Ｌ（図２参照）の位置には、ウェブＷの幅方向に延びる凹部２８ｃが形成されており、研削砥石５０の外周縁がこの凹部２８ｃの上に位置している。このように、研削砥石５０の加工面が被加工部であるバックエッジ背面２８ｂを全て覆っているので、被加工面の表面粗さを向上させるのに好ましい。すなわち、研削砥石５０の加工面が被加工部以外の所にも接していると、この部分の影響を受け、研削砥石５０に振動、面ブレ等を生じ、その結果被加工面の仕上性状を悪化させるおそれがある。ところが、凹部２８ｃの存在により、このような不具合は生じない。
【００２７】
このような凹部２８ｃの効果を発揮させ、また、塗布膜の乱れを少なくし、微細な等ピッチのスジをなくすには、図２の距離Ｌは、０. ５ｍｍ以上であることが好ましい。距離Ｌが０. ５ｍｍ未満であった場合、粘度の低い塗布液Ｆの場合に、接液箇所が凹部２８ｃに掛かる場合もあり、不適だからである。
【００２８】
なお、図示の研削砥石（カップホイール）５０による加工法以外にも、平面研削盤（特に、横軸角テーブル形平面研削盤）と平形砥石（１Ｈ１形砥石等）による平面研削等も適用できる。
【００２９】
次に、本発明に使用される可撓性支持体（ウェブ）Ｗについて説明する。ウェブＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましく使用できる。
【００３０】
これらのウェブＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。ウェブＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００３１】
次に、塗布ヘッド１０を主体として、塗布装置の作用について説明する。塗布液Ｆは、連続的に、かつ一定の流量で送液可能な定量送液手段、一般的には定量ポンプ（図示略）により、図１に示されるように、液供給口１８を経て液溜め部１４に供給される。定量ポンプとしては、たとえば、プランジャポンプ、歯車ポンプ等の流量可変の送液手段が好ましく使用できる。
【００３２】
液溜め部１４に供給された塗布液Ｆは、所定量がスリット１６の開口部より吐出され、残りの量が液排出口２０より排出され、定量送液手段に回収される。このような運転を行うことにより、塗布液Ｆが液溜め部１４内で著しく滞留することを防止できる。このような運転方法は、揺変性を有しかつ凝集し易い磁性塗布液に対しては極めて有効である。但し、液排出口２０を具備しない構造であり、スリット１６の開口部より吐出される所定量を液供給口１８より供給する構造であってもよい。
【００３３】
ガイドローラなどの走行案内手段（図示略）により支持されて連続走行するウェブＷは、ガイドローラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもって、かつその厚さ方向に若干湾曲可能な状態に装架され、図２に示されるように、塗布ヘッド１０の上面（ウェブＷと対向する面）に押し付けられながら図の矢印方向に所定速度で移動する。これにより、スリット１６の開口部より吐出された塗布液Ｆは、ウェブＷの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもって所定厚さに塗布される。
【００３４】
そして、塗布液Ｆがバックエッジ２８から離れる際には、塗布液は、バックエッジ面２８ａとバックエッジ背面２８ｂとの交差位置から所定の距離の位置より離れる。したがって、この部分を平滑に、具体的には、表面粗さＲａを０. ２μｍ以下とすれば、塗布膜の乱れは非常に少なくなり、微細な等ピッチのスジを生じることはない。
【００３５】
次に、図４により、本発明の他の実施態様の例について説明する。図４は、塗布ヘッド１０’の先端部と可撓性支持体（ウェブ）Ｗとの位置関係を示す概略断面図である。なお、図１及び図２に示される構成と同一、類似の部材については、同様の符号を附し、その詳細な説明を省略する。
【００３６】
図４に示されるように、塗布ヘッド１０’は、２種類の塗布液を供給できるように独立した液供給系が２組設けられている。すなわち、第１の塗布液Ｆ１及び第２の塗布液Ｆ２を連続して塗布できるような、いわゆる「ウェット・オン・ウェット」の装置である。図１及び図２に示される塗布ヘッド１０と相異する点は、第１の塗布液Ｆ１及び第２の塗布液Ｆ２用にスリットがそれぞれ（１６Ａ、１６Ｂ）設けられている。
【００３７】
すなわち、スリット１６Ａは、塗布ヘッド１０’の本体１２のフロントエッジ２６と中間エッジ３０とにより形成される。スリット１６Ｂは、塗布ヘッド１０の本体１２の中間エッジ３０とバックエッジ２８とにより形成される。また、塗布ヘッド１０の本体１２の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面２６ａ、中間エッジ面３０ａ、バックエッジ面２８ａがそれぞれ形成されている。
【００３８】
図４に示されるように、フロントエッジ面２６ａは断面が略直線状に、中間エッジ面３０ａは断面が短い略直線状に、バックエッジ面２８ａは断面が所定の局率半径Ｒの円弧状に形成されている。また、フロントエッジ面２６ａの後端エッジ部と中間エッジ面３０ａの先端エッジ部とには所定の段差が設けられ、中間エッジ面３０ａの後端エッジ部とバックエッジ面２８ａの先端エッジ部とには所定の段差が設けられ、いずれも塗布液Ｆ１、Ｆ２の所定厚さの膜が形成できるようになっている。
【００３９】
なお、図示は省略したが、スリット１６Ａ、１６Ｂのそれぞれに連通する液溜め部１４Ａ、１４Ｂが設けられており、液溜め部１４Ａ、１４Ｂには定量送液手段により、液供給口１８Ａ、１８Ｂを経て塗布液Ｆ１、Ｆ２が供給され、液溜め部１４Ａ、１４Ｂより塗布液Ｆ１、Ｆ２がスリット１６Ａ、１６Ｂの開口部より吐出され、残りの量が液排出口２０Ａ、２０Ｂより排出され、定量送液手段に回収される。
【００４０】
図４に示される塗布ヘッド１０’においても、ガイドローラなどの走行案内手段（図示略）により支持されて連続走行するウェブＷは、ガイドローラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもって、かつその厚さ方向に若干湾曲可能な状態に装架され、塗布ヘッド１０’の上面（ウェブＷと対向する面）に押し付けられながら図の矢印方向に所定速度で移動する。これにより、スリット１６Ａの開口部より吐出された塗布液Ｆ１は、ウェブＷの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもって所定厚さに塗布され、更に、スリット１６ｂの開口部より吐出された塗布液Ｆ２は、ウェブＷの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもって、いわゆるウェット・オン・ウェットで所定厚さに塗布される。
【００４１】
そして、塗布液Ｆ２がバックエッジ２８から離れる際には、塗布液Ｆ２は、バックエッジ面２８ａとバックエッジ背面２８ｂとの交差位置の近傍より離れる。したがって、この部分を平滑に、具体的には、表面粗さＲａを０. ２μｍ以下とすれば、塗布膜の乱れは非常に少なくなり、微細な等ピッチのスジを生じることはない。
【００４２】
以上、本発明に係る塗布ヘッド及び塗布装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００４３】
たとえば、本実施形態の例では、液溜め部１４（１４Ａ、１４Ｂも）を円筒状の空洞部としたが、このような円筒状のものに限らず、角形、船底形、等の各種の態様が採用できる。要は、ウェブＷの幅方向に液圧分布を均一可能とする形状であれば、特に限定されない。
【００４４】
また、エクストルージョン塗布方法を採用する場合であっても、ウェブＷを塗布ヘッド１０又は１０’に押し付ける構成とせず、図５に示されるように、ウェブＷをバックアップローラ５０に巻き掛け、ウェブＷの表面と塗布ヘッド１０’’の先端面との間に所定のクリアランスをもって塗布する構成も採用できる。
【００４５】
この図５に示される塗布ヘッド１０’’においては、バックエッジ面２８ａと、バックエッジ背面２８ｂと、凹部２８ｃが形成されているのみならず、フロントエッジ２６において、フロントエッジ面２６ａと所定の角度をなして交わるフロントエッジ背面２６ｂが形成されており、更に、フロントエッジ背面２６ｂのフロントエッジ面２６ａとの交差部（エッジ部）より所定距離の位置には、ウェブＷの幅方向（図５では、紙面に垂直方向）に延びる凹部２６ｃが形成されている。このような、フロントエッジ背面２６ｂによっても、バックエッジ背面２８ｂよりは効果が少ないものの、所定の効果が得られる。
【００４６】
また、バックエッジ背面２８ｂに凹部２８ｃが形成されていない構成であっても、研削加工の難易度は高くなるものの、加工仕上げ状態が良好であれば、既述したように本発明の効果が得られる。
【００４７】
更に、塗布ヘッド１０（又は１０’、１０’’）の構成は、エクストルージョン塗布方法に限られず、カーテン塗布方法等も採用できる。
【実施例】
【００４８】
次に、本発明の実施例を、比較例と対比して説明する。なお、以下の各例において、「部」の表示は「重量部」 を意味する。以下の各例（実施例１、実施例２）において、磁性体を含む塗布液Ａ、及び、磁性体を含まない塗布液Ｂ組成は以下のように共通とした。
【００４９】
（１）磁性体を含む塗布液Ａ
強磁性金属微粉末  組成：Ｆｅ／Ｃｏ＝８０／２０  １００部
Ｈｃ  １８３ｋＡ／ｍ（２３００  Ｏｅ）
ＢＥＴ法による比表面積  ５４ｍ2 ／ｇ
結晶子サイズ  １６. ５ｎｍ
表面被覆化合物  Ａｌ2 Ｏ3 
粒子サイズ（長軸径）  ０. １０μｍ
針状比  ８  
σｓ  １５０Ａ・ｍ2 ／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）
塩化ビニル系重合体                                  ５部
日本ゼオン社製  ＭＲ−１１０
ポリエステルポリウレタン樹脂                        ３部
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０. ９／２. ６／１
−ＳＯ3 Ｎａ基  １×１０−４ｅｑ／ｇ含有
αアルミナ（粒子サイズ  ０. １μｍ）                ５部
カーボンブラック（粒子サイズ  ０. １０μｍ）    ０. ５部
ブチルステアレート                              １. ５部
ステアリン酸                                    ０. ５部
メチルエチルケトン                                ９０部
シクロヘキサノン                                  ３０部
トルエン                                          ６０部
（２）磁性体を含まない塗布液Ｂ
非磁性粉体  α−Ｆｅ2 Ｏ3                         ８０部
平均長軸長  ０．１μｍ
ＢＥＴ法による比表面積  ４８ｍ2 ／ｇ
ｐＨ８、 Ｆｅ2 Ｏ3 含有量  ９０％以上
ＤＢＰ吸油量  ２７〜３８ｍｌ／１００ｇ
表面被覆化合物  Ａｌ2 Ｏ3 
カーボンブラック                                  ２０部
平均１次粒子径  １６μｍ
ＤＢＰ吸油量  ８０ｍｌ／１００ｇ
ｐＨ８
ＢＥＴ法による比表面積  ２５０ｍ2 ／ｇ
揮発分  １. ５％
塩化ビニル共重合体                                １０部
日本ゼオン社製  ＭＲ−１１０
ポリエステルポリウレタン樹脂                        ５部
分子量  ３．５万
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１
−ＳＯ3 Ｎａ基  １×１０−４ｅｑ／ｇ含有  
ブチルステアレート                                  １部
ステアリン酸                                        １部
メチルエチルケトン                              １００部
シクロヘキサノン                                  ５０部
トルエン                                          ５０部
上記のＡ液及びＢ液については、各成分を連続ニーダーで混練し、その後サンドミルを使用して分散処理を行った。得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、その後、メチルエチルケトンを１００部加えてそれぞれＡ液及びＢ液の塗布液とした。
［実施例１］
図１及び図２に示される塗布ヘッド１０を使用して、ウェブＷの表面にＡ液の塗布液Ｆを塗布し、乾燥後の塗布膜を評価した。塗布ヘッド１０のバックエッジ背面２８ｂの加工状態を変化させたものを７種作製し、それぞれ比較した。バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａは、０. １〜０. ７μｍの範囲で変化させ、距離Ｌ（図６の表では、「平滑部長さ」と表示）は、０. ３〜１. ０ｍｍの範囲で変化させた。なお、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａは、ＷＹＣＯ社製の測定器（機種名：ＴＯＰＯ−３Ｄ）により評価した。
【００５０】
ウェブＷとして、厚さ６０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）を使用した。ウェブＷの走行速度を２００ｍ／分とした。そして、塗布液Ｆの層の厚さが湿潤状態で５μｍになるように、塗布液Ｆの吐出量を制御した。
【００５１】
塗布後の試料について、目視による官能検査により、微細な等ピッチのスジ（図６の表では、「微細リブスジ」と表示）の有無を評価した。結果を図６の表に示す。
【００５２】
表の条件１は、比較例であり、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. ７μｍ（０. ２μｍより大）であり、平滑部長さが１. ０ｍｍである。この条件では、微細リブスジが発生した。
【００５３】
表の条件２は、比較例であり、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. ４μｍ（０. ２μｍより大）であり、平滑部長さが１. ０ｍｍである。この条件では、微細リブスジが発生した。
【００５４】
表の条件３は、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. ２μｍであり、平滑部長さが１. ０ｍｍである。この条件では、微細リブスジが発生しなかった。
【００５５】
表の条件４は、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. ２μｍであり、平滑部長さが０. ５ｍｍである。この条件では、微細リブスジが発生しなかった。
【００５６】
表の条件５は、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. ２μｍであり、平滑部長さが０. ３ｍｍ（好ましい範囲である「０. ５ｍｍ以上」より小）である。この条件では、微細リブスジが発生した。
【００５７】
表の条件６は、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. １μｍであり、平滑部長さが０. ５ｍｍである。この条件では、微細リブスジが発生しなかった。
【００５８】
表の条件７は、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. １μｍであり、平滑部長さが０. ３ｍｍ（好ましい範囲である「０. ５ｍｍ以上」より小）である。この条件では、微細リブスジが発生した。
【００５９】
以上の結果より、本発明の効果が確認できた。
［実施例２］
図４に示される塗布ヘッド１０’を使用して、ウェブＷの表面にＢ液の塗布液Ｆ１を塗布し、未乾燥の塗布液Ｆ１の上にＡ液の塗布液Ｆ２を塗布し、乾燥後の塗布膜を評価した。塗布ヘッド１０’のバックエッジ背面２８ｂの加工状態を変化させたものを７種作製し、それぞれ比較した。バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａは、０. １〜０. ７μｍの範囲で変化させ、距離Ｌ（図７の表では、「平滑部長さ」と表示）は、０. ３〜１. ０ｍｍの範囲で変化させた。なお、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａは、ＷＹＣＯ社製の測定器（機種名：ＴＯＰＯ−３Ｄ）により評価した。
【００６０】
ウェブＷとして、厚さ６μｍのＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）を使用した。ウェブＷの走行速度を５００ｍ／分とした。そして、塗布液Ｆ１の層の厚さが湿潤状態で６. ０μｍになるように、塗布液Ｆ２の層の厚さが湿潤状態で１. ２μｍになるように、塗布液Ｆ１、Ｆ２の吐出量をそれぞれ制御した。
【００６１】
塗布後の試料について、目視による官能検査により、微細な等ピッチのスジ（図７の表では、「微細リブスジ」と表示）の有無を評価した。結果を図７の表に示す。
【００６２】
表の条件８は、比較例であり、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. ７μｍ（０. ２μｍより大）であり、平滑部長さが１. ０ｍｍである。この条件では、微細リブスジが発生した。
【００６３】
表の条件９は、比較例であり、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. ４μｍ（０. ２μｍより大）であり、平滑部長さが１. ０ｍｍである。この条件では、微細リブスジが発生した。
【００６４】
表の条件１０は、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. ２μｍであり、平滑部長さが１. ０ｍｍである。この条件では、微細リブスジが発生しなかった。
【００６５】
表の条件１１は、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. ２μｍであり、平滑部長さが０. ５ｍｍである。この条件では、微細リブスジが発生しなかった。
【００６６】
表の条件１２は、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. ２μｍであり、平滑部長さが０. ３ｍｍ（好ましい範囲である「０. ５ｍｍ以上」より小）である。この条件では、微細リブスジが発生した。
【００６７】
表の条件１３は、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. １μｍであり、平滑部長さが０. ５ｍｍである。この条件では、微細リブスジが発生しなかった。
【００６８】
表の条件１４は、バックエッジ背面２８ｂの表面粗さＲａが０. １μｍであり、平滑部長さが０. ３ｍｍ（好ましい範囲である「０. ５ｍｍ以上」より小）である。この条件では、微細リブスジが発生した。
【００６９】
以上の結果より、本発明の効果が確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】塗布装置のうち、塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図
【図２】塗布ヘッドの先端部と可撓性支持体との位置関係を示す概略断面図
【図３】塗布ヘッドのバックエッジ背面と研削砥石との位置関係を示す概略断面図
【図４】塗布ヘッドの先端部と可撓性支持体との位置関係を示す概略断面図
【図５】塗布ヘッドの先端部と可撓性支持体との位置関係を示す概略断面図
【図６】実施例１の結果を示す表
【図７】実施例２の結果を示す表
【符号の説明】
【００７１】
１０…塗布ヘッド、１２…本体、１４…液溜め部、１６…スリット、１８…液供給口、２０…液排出口、２２、２４…閉鎖板、２６…フロントエッジ、２８…バックエッジ、２８ａ…バックエッジ面、２８ｂ…バックエッジ背面、２８ｃ…凹部、Ｆ…塗布液、Ｗ…可撓性支持体（ウェブ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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