(57)【要約】【課題】メンテナンスに必要な寸法を減少し専有床面積を減少する。【解決手段】ウエハ移載装置３０が設置されたウエハ移載室２７の天井壁にメンテナンス口６４を開設するとともに、メンテナンス口６４を開閉するメンテナンス扉６５を設ける。ウエハ移載室２７の耐圧筐体２６の真上に迫り出したゲートバルブ収容筐体６２をヒンジ６３により水平面内で回動自在に支承することにより、ゲートバルブ収容筐体６２がウエハ移載室２７の天井壁側からのメンテナンス作業時に障害物になるのを回避する。【効果】ウエハ移載装置のメンテナンス作業を天井壁のメンテナンス口を通じて実施できるので、メンテナンスエリアと通路部分とを省略でき、フットプリントを減少できる。【選択図】  図５
2005093928.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の基板を基板保持体で保持した状態で処理する処理室と、前記基板保持体に前記基板を移載する基板移載装置と、前記基板移載装置を収容する密閉室とを備えており、前記密閉室は前記処理室よりも下方に位置した天井壁に開設されたメンテナンス口と、このメンテナンス口を開閉するメンテナンス扉とを備えていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置に関し、例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという。）の製造方法において、ＩＣが作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に不純物を拡散したり絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形成したりするのに利用して有効なものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のこの種の基板処理装置が述べられた文献としては、例えば、特許文献１がある。この特許文献１には次の縦型拡散・ＣＶＤ装置が開示されている。すなわち、この縦型拡散・ＣＶＤ装置は、複数枚のウエハを収納したカセット（ウエハキャリア）を収納しウエハを出し入れする気密構造のカセット室と、このカセット室内のカセットとボートとの間でウエハを移載するウエハ移載装置を有するロードロック室（ウエハ移載室）と、このロードロック室内のボートが搬入搬出される反応室（処理室）とを備えており、カセット室とロードロック室との間およびロードロック室と反応室との間がそれぞれ仕切弁を介して接続されており、ロードロック室は真空排気せずに窒素ガスによりロードロック室内の雰囲気が置換されるように構成されている。
【特許文献１】特公平７−１０１６７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
前記した縦型拡散・ＣＶＤ装置においては、次のような理由でウエハ移載装置を保守点検に備えてメンテナンスし易い構造に構成しておく必要がある。ウエハ移載装置においてウエハを保持するツィーザは脆弱なセラミックによって製作されているために破損し易い。搬送対象であるウエハは脆弱であるために破損し易い。その結果、衝突や衝撃等による破損等を防ぐために、ウエハ移載装置のアームの誤差等を調整する必要が発生する。
【０００４】
従来のウエハ移載装置のためのメンテナンス扉は、ウエハ移載装置が設置されたロードロック室（ウエハ移載室）の側面に配置されているために、両側の側面部分にメンテナンスエリアと、作業者が出入りするための通路部分（約４００ｍｍ）とが必要になり、縦型拡散・ＣＶＤ装置全体としての専有床面積（フットプリント）が大きくなってしまうという問題点がある。
【０００５】
本発明の目的は、メンテナンスに必要な寸法を減少しフットプリントを減少することができる基板処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る基板処理装置は、複数枚の基板を基板保持体で保持した状態で処理する処理室と、前記基板保持体に前記基板を移載する基板移載装置と、前記基板移載装置を収容する密閉室とを備えており、前記密閉室は前記処理室よりも下方に位置した天井壁に開設されたメンテナンス口と、このメンテナンス口を開閉するメンテナンス扉とを備えていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
前記した手段によれば、基板移載装置のメンテナンス作業は基板移載装置が設置された密閉室の天井壁に開設されたメンテナンス口を通じて実施することができるので、基板移載装置が設置された密閉室の側面にメンテナンス扉が設置された場合に密閉室の側方に必要であるメンテナンスエリアと、作業者が出入りするための通路部分とを省略することができ、その結果、フットプリントを減少させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
【０００９】
本実施の形態において、本発明に係る基板処理装置は、ＩＣの製造方法にあってウエハに不純物を拡散したり絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形成したりする工程に使用されるバッチ式縦型拡散・ＣＶＤ装置（以下、バッチ式ＣＶＤ装置という。）として構成されている。このバッチ式ＣＶＤ装置１においてはウエハ搬送用のキャリアとしてはＦＯＵＰ（front opening unified pod 。以下、ポッドという。）が使用されている。なお、以下の説明において、前後左右は図１を基準とする。すなわち、フロント筐体５１側が前側、その反対側である耐圧筐体３側が後側、ボートエレベータ２０側が左側、その反対側であるシールキャップ２３側が右側とする。
【００１０】
バッチ式ＣＶＤ装置１は略直方体形状に構築された筐体２を備えており、筐体２の下側には大気圧未満の圧力（以下、負圧という。）を維持可能な気密性能を有する筐体（以下、耐圧筐体という。）３が設置されており、この耐圧筐体３によりボートを収納可能な容積を有するロードロック方式の待機室４が形成されている。なお、ロードロック方式とは、ゲートバルブ等の隔離バルブを用いて処理室と搬入搬出室とを隔離し、処理室への空気の流入を防止したり、温度や圧力等の外乱を小さくして処理を安定化させる方式、である。耐圧筐体３の前面壁にはウエハ搬入搬出口５が開設されており、耐圧筐体３の一対の側壁には待機室４へ窒素（Ｎ2 ）ガスを給気するためのガス供給管６と、待機室４を負圧に排気するための排気管７とがそれぞれ接続されている。
【００１１】
図３および図４に示されているように、待機室４の天井壁にはボート搬入搬出口８が開設されており、ボート搬入搬出口８はボート搬入搬出口８よりも大径の円板形状に形成されたゲートバルブ９によって開閉されるように構成されている。耐圧筐体３の前面壁における上端部にはゲートバルブ出入り口６１が、ゲートバルブ９の直径および厚さよりも大きめの横長の長方形に開設されており、耐圧筐体３の前面壁の外側にはゲートバルブ９をボート搬入搬出口８の開放時に収容するゲートバルブ収容筐体６２がゲートバルブ出入り口６１を閉塞するように取り付けられている。図５に示されているように、ゲートバルブ収容筐体６２は厚さおよび横幅がゲートバルブ出入り口６１の高さおよび間口よりも大きい容積を有する半円形であって、半円形の弦に相当する側壁が開口した筐体形状に形成されており、開口した側壁の右端がゲートバルブ出入り口６１の右側端に設置されたヒンジ６３によって水平面内で回動するように支承されている。ゲートバルブ収容筐体６２は通常のゲートバルブ出入り口６１の閉鎖時には、シールリングを介して耐圧筐体３の前面に当接された状態で締結具によって締結されており、耐圧筐体３の前面から前方に迫り出した状態になっている。
【００１２】
耐圧筐体３の上に構築された筐体２の内部にはヒータユニット１０が垂直方向に設置されており、ヒータユニット１０の内部には処理室１１を形成するプロセスチューブ１２が設置されている。プロセスチューブ１２は石英（ＳｉＯ2 ）が使用されて上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されたアウタチューブ１３と、石英または炭化シリコン（ＳｉＣ）が使用されて上下両端が開口した円筒形状に形成されたインナチューブ１４とを備えており、アウタチューブ１３がインナチューブ１４に同心円に被せられている。アウタチューブ１３とインナチューブ１４との間には環状の排気路１５が両者の間隙によって形成されている。プロセスチューブ１２は耐圧筐体３の天井壁の上にマニホールド１６を介して支持されており、マニホールド１６はボート搬入搬出口８に同心円に配置されている。なお、図示は省略するが、バッチ式ＣＶＤ装置１は処理室１１に原料ガスやパージガス等を導入するためのガス導入管と、プロセスチューブ１２の内部を排気するための排気管１８と、プロセスチューブ１２の内部の温度を測定してヒータユニット１０をフィードバック制御する熱電対とを備えている。
【００１３】
待機室４にはボートを昇降させるためのボートエレベータ２０が設置されており、ボートエレベータ２０は送りねじ装置やベローズ等によって構成されている。ボートエレベータ２０の昇降台２１の側面にはアーム２２が水平に突設されており、アーム２２の先端にはシールキャップ２３が水平に据え付けられている。シールキャップ２３はプロセスチューブ１２の炉口になる耐圧筐体３のボート搬入搬出口８を気密シールするように構成されているとともに、ボート２４を垂直に支持するように構成されている。ボート２４は複数枚（例えば、２５枚、５０枚、１００枚、１２５枚、１５０枚）のウエハＷをその中心を揃えて水平に支持した状態で、ボートエレベータ２０によるシールキャップ２３の昇降に伴ってプロセスチューブ１２の処理室１１に対して搬入搬出するように構成されている。また、ボート２４はシールキャップ２３に設置されたロータリーアクチュエータ２５によって回転されるように構成されている。
【００１４】
耐圧筐体３の前面壁の中間高さには負圧を維持可能な気密性能を有する第二の耐圧筐体２６が連設されており、この第二の耐圧筐体２６によって第二密閉室としてのウエハ移載室２７が形成されている。ウエハ移載室２７にはウエハ搬入搬出口２８が待機室４側のウエハ搬入搬出口５に対応するように開設されており、ウエハ搬入搬出口２８およびウエハ搬入搬出口５はゲートバルブ（以下、第二ゲートバルブという。）２９によって開閉されるように構成されている。ウエハ移載室２７には負圧下でウエハＷを移載するウエハ移載装置３０が水平に設置されている。ウエハ移載装置３０はスカラ形ロボット（selective compliance assembly robot arm 。ＳＣＡＲＡ）によって構成されており、ウエハＷをツィーザ３０ａによって下から掬いとって搬送するように構成されている。異物がウエハ移載室２７および待機室４に侵入するのを防止するために、ウエハ移載装置３０の駆動部であるモータ３１はウエハ移載室２７の底壁の外部に設置されている。第二の耐圧筐体２６の側壁にはウエハ移載室２７を負圧に排気する排気管３２が接続されている。
【００１５】
ウエハ移載室２７のウエハ移載装置３０と反対側には、基板保持体としての一対のストッカ３３Ａ、３３Ｂが前後に並べられて設置されている。一対のストッカ３３Ａ、３３Ｂはボート２４と同様な構造に構成されており、複数枚のウエハＷを保持溝によって水平に保持するようになっている。ウエハ移載室２７における前側ストッカ３３Ａと後側ストッカ３３Ｂとの間には遮蔽手段としての遮蔽板３４が垂直に設置されており、遮蔽板３４は前側ストッカ３３Ａと後側ストッカ３３Ｂとの間の熱を遮断するように構成されている。前側ストッカ３３Ａおよび後側ストッカ３３Ｂのウエハ移載装置３０と反対側の近傍のそれぞれには、窒素ガスを吹き出す前側ガス吹出管３５Ａおよび後側ガス吹出管３５Ｂが設置されており、前側ガス吹出管３５Ａおよび後側ガス吹出管３５Ｂは前側ストッカ３３Ａおよび後側ストッカ３３Ｂに窒素ガスをそれぞれ吹き付けるように構成されている。
【００１６】
第二の耐圧筐体２６の天井壁にはメンテナンス口６４が長方形に大きく開設されており、天井壁の外面にはメンテナンス口６４を閉塞するメンテナンス扉６５が取り付けられている。メンテナンス扉６５はメンテナンス口６４よりも大きい面積を有する長方形の板体に形成されており、前端辺がメンテナンス口６４の前端に設置されたヒンジ６６によって垂直面内で回動するように支承されている。メンテナンス扉６５は通常のメンテナンス口６４の閉鎖時には、シールリングを介して第二の耐圧筐体２６に締結具によって締結されており、耐圧筐体３の前面から前方に迫り出したゲートバルブ収容筐体６２に干渉しない状態になっている。
【００１７】
第二の耐圧筐体２６の正面壁にはウエハ搬入搬出口３６が開設されており、ウエハ搬入搬出口３６はウエハＷをウエハ移載室２７に対して搬入搬出し得るように構成されている。第二の耐圧筐体２６の正面壁にはポッドオープナ４０が設置されている。ポッドオープナ４０はウエハ搬入搬出口３６に対向するウエハ搬入搬出口４２が開設された筐体４１と、ウエハ搬入搬出口４２を開閉するゲートバルブ４３と、筐体４１の正面に敷設されてウエハ搬入搬出口４５が開設されたベース４４と、ベース４４の正面のウエハ搬入搬出口４５の下端辺に水平に突設されてポッドＰを載置する載置台４６と、載置台４６に載置されたポッドＰのキャップを着脱するキャップ着脱機構４７とを備えており、載置台４６に載置されたポッドＰのキャップをキャップ着脱機構４７によって着脱することにより、ポッドＰのウエハ出し入れ口を開閉するようになっている。
【００１８】
図１および図２に示されているように、ポッドオープナ４０の前側には大気圧を維持可能な気密性能を有するフロント筐体５１が構築されており、フロント筐体５１によって第三の密閉室としてのポッド保管室５２が形成されている。フロント筐体５１の正面壁にはポッド搬入搬出口５３が開設されており、フロント筐体５１のポッド搬入搬出口５３の手前にはポッドステージ５４が構築されている。ポッドステージ５４にはポッドＰがＲＧＶ等の工程内搬送装置によって供給および排出されるようになっている。フロント筐体５１内の上部には前側ポッド棚５５と後側ポッド棚５６とがそれぞれ設置されており、これらポッド棚５５、５６は複数台のポッドＰを一時的に保管し得るように構成されている。フロント筐体５１の前側部分にはリニアアクチュエータやエレベータおよびスカラ形ロボット等によって構成されたポッド搬送装置５７が設置されており、ポッド搬送装置５７はポッドステージ５４、前後のポッド棚５５、５６およびポッドオープナ４０の載置台４６の間でポッドＰを搬送するように構成されている。フロント筐体５１の左側壁にはポッドオープナ用メンテナンス口５８が開設されており、ポッドオープナ用メンテナンス口５８にはメンテナンス扉５９が開閉自在に取り付けられている。図１に想像線で示されているように、ポッドオープナ４０はポッドオープナ用メンテナンス口５８から左側方に引き出されてフロント筐体５１の外部でメンテナンスされるようになっている。
【００１９】
以下、前記構成に係るバッチ式ＣＶＤ装置を使用したＩＣの製造方法における成膜工程を説明する。なお、本実施の形態においては、一台のポッドＰに収納された二十五枚以内のプロダクトウエハＷをバッチ処理（一括処理）する場合について説明する。
【００２０】
成膜すべきプロダクトウエハＷは二十五枚以内がポッドＰに収納された状態で、バッチ式ＣＶＤ装置１のポッドステージ５４へ工程内搬送装置によって搬送されて来る。搬送されて来たポッドＰはポッドステージ５４から前側ポッド棚５５または後側ポッド棚５６の指定された場所にポッド搬送装置５７によって搬送されて保管される。
【００２１】
プロダクトウエハＷが収納されたポッドＰは、ポッドオープナ４０の載置台４６の上へポッド搬送装置５７によって搬送されて載置される。載置されたポッドＰのキャップがポッドオープナ４０のキャップ着脱機構４７によって取り外され、ポッドＰのウエハ出し入れ口が開放される。ウエハ搬入搬出口４２、３６がゲートバルブ４３によって開放される。このとき、ウエハ移載室２７には窒素ガスが充満（窒素ガスパージ）されている。
【００２２】
ポッドＰがポッドオープナ４０により開放されると、ウエハＷはポッドＰからウエハ移載装置３０によってウエハ搬入搬出口４２、３６を通してピックアップされ、ウエハ移載室２７に搬入される。ウエハ移載室２７に搬入されたウエハＷはウエハ移載室２７の一方のストッカである前側ストッカ３３Ａへウエハ移載装置３０によって移載される。ポッドＰの全てのウエハＷが前側ストッカ３３Ａへ移載されて装填（ウエハチャージング）されると、ウエハ搬入搬出口４２、３６がゲートバルブ４３によって閉じられる。ちなみに、空になったポッドＰはポッドオープナ４０の載置台４６からポッド棚５５または５６にポッド搬送装置５７によって一時的に戻される。
【００２３】
ウエハ搬入搬出口４２、３６がゲートバルブ４３によって閉じられると、ウエハ移載室２７は排気管３２によって真空引きされることにより、ウエハ移載室２７の圧力が待機室４の圧力と等しく減圧される。この際、ウエハ移載室２７の容積は待機室４のそれに比べて小さいので、減圧時間は短くて済む。ウエハ移載室２７が待機室４と等しく減圧されると、ウエハ搬入搬出口２８、５がゲートバルブ２９によって開放される。続いて、前側ストッカ３３Ａに装填されたウエハＷがウエハ移載装置３０によってピックアップされて、待機室４にウエハ搬入搬出口２８、５を通じて搬入され、待機室４のボート２４へ移載される。以降、ウエハＷのポッドＰからボート２４へのウエハ移載装置３０による移載作業が繰り返される。この間、ウエハ移載室２７および待機室４は負圧に減圧されているので、装填途中のウエハＷが自然酸化される現象を防止することができる。また、ボート搬入搬出口８がゲートバルブ９によって閉鎖されることにより、プロセスチューブ１２の高温雰囲気が待機室４に流入することは防止されている。このため、装填途中のウエハＷおよび装填されたウエハＷが高温雰囲気に晒されることはなく、ウエハＷが高温雰囲気に晒されることによる自然酸化等の弊害の派生は防止されることになる。
【００２４】
前側ストッカ３３Ａに装填された全てのウエハＷがボート２４へ装填されると、ボート搬入搬出口８がゲートバルブ９によって開放される。このとき、ゲートバルブ９はゲートバルブ出入り口６１からゲートバルブ収容筐体６２の内部に搬入されて収容される。続いて、シールキャップ２３がボートエレベータ２０の昇降台２１によって上昇されて、図４に想像線で示されているように、シールキャップ２３に支持されたボート２４がプロセスチューブ１２の処理室１１に搬入（ボートローディング）される。ボート２４が上限に達すると、ボート２４を支持したシールキャップ２３の上面の周辺部がボート搬入搬出口８をシール状態に閉塞するため、処理室１１は気密に閉じられた状態になる。ボート２４の処理室１１への搬入に際して、待機室４は負圧に維持されているため、ボート２４の処理室１１への搬入に伴って外部の酸素や水分が処理室１１に侵入することは確実に防止される。しかも、前側ストッカ３３ＡのウエハＷをボート２４に装填した後に、待機室４を真空引きしたり窒素ガスパージしたりせずに、ボート２４を処理室１１へ搬入することができるので、スループットを大幅に向上させることができる。
【００２５】
その後、プロセスチューブ１２の処理室１１は気密に閉じられた状態で、所定の圧力となるように排気管１８によって排気され、ヒータユニット１０によって所定の温度に加熱され、所定の原料ガスがガス導入管１７によって所定の流量だけ供給される。これにより、予め設定された処理条件に対応する所望の膜がウエハＷに形成される。
【００２６】
翻って、前側ストッカ３３Ａに装填された全てのウエハＷがボート２４へ装填されると、ウエハ搬入搬出口２８、５がゲートバルブ２９によって閉鎖され、ウエハ移載室２７がガス吹出管３５Ａ、３５Ｂによって窒素ガスパージされる。一方、次のバッチのプロダクトウエハＷが収納されたポッドＰは、ポッドオープナ４０の載置台４６の上へポッド搬送装置５７によって搬送されて載置される。その後に、載置されたポッドＰのキャップがポッドオープナ４０のキャップ着脱機構４７によって取り外され、ポッドＰのウエハ出し入れ口が開放される。続いて、ウエハ搬入搬出口４２、３６がゲートバルブ４３によって開放される。
【００２７】
ポッドＰがポッドオープナ４０により開放されると、ウエハＷはポッドＰからウエハ移載装置３０によってウエハ搬入搬出口４２、３６を通してピックアップされ、ウエハ移載室２７に搬入される。ウエハ移載室２７に搬入されたウエハＷはウエハ移載室２７の他方のストッカである後側ストッカ３３Ｂへウエハ移載装置３０によって移載される。ポッドＰの全てのウエハＷが後側ストッカ３３Ｂへ移載されて装填されると、ウエハ搬入搬出口４２、３６がゲートバルブ４３によって閉じられる。ウエハ搬入搬出口４２、３６がゲートバルブ４３によって閉じられると、ウエハ移載室２７は排気管３２によって真空引きされることにより、ウエハ移載室２７の圧力が待機室４の圧力と等しく減圧される。以上の次のバッチのポッドＰに対するウエハＷ群の後側ストッカ３３Ｂへの装填ステップおよび窒素ガスパージステップは、前回のバッチの成膜ステップと同時進行することができるので、スループットの低下を防止することができる。
【００２８】
他方、前回のバッチに対するウエハＷに対しての成膜ステップについて設定された処理時間が経過すると、図３および図４に示されているように、ボート２４がボートエレベータ２０によって下降されることにより、処理済みウエハＷを保持したボート２４が待機室４に搬出（ボートアンローディング）される。
【００２９】
ボート２４が待機室４に排出されると、ボート搬入搬出口８がゲートバルブ９によって閉鎖され、待機室４のウエハ搬入搬出口５がゲートバルブ２９によって開放される。続いて、搬出されたボート２４の処理済みウエハＷが、ウエハ移載装置３０によって脱装（ディスチャージング）されて、予め減圧されたウエハ移載室２７に搬入され、前側ストッカ３３Ａへ装填される。ボート２４の全ての処理済みウエハＷが前側ストッカ３３Ａへウエハ移載装置３０によって装填されると、続いて、後側ストッカ３３Ｂに予め装填された次のバッチのウエハＷが、ボート２４にウエハ移載装置３０によって移載されて装填される。このようにして、大きな容量を有する待機室４を窒素ガスパージしないで、処理室１１から待機室４に搬出された処理済みウエハＷを待機室４と同圧に減圧されたウエハ移載室２７へ待機室４に搬出された直後に移送して前側ストッカ３３Ａに装填し、続いて、次のバッチのウエハＷをウエハ移載室２７の後側ストッカ３３Ｂから待機室４のボート２４に装填すると、大きな容量を有する待機室４を窒素ガスパージする時間を省略することができるので、スループットを大幅に高めることができる。
【００３０】
後側ストッカ３３Ｂに装填された次のバッチのウエハＷがボート２４へ全て装填されると、ボート搬入搬出口８がゲートバルブ９によって開放される。続いて、シールキャップ２３がボートエレベータ２０の昇降台２１によって上昇されて、図４に想像線で示されているように、シールキャップ２３に支持されたボート２４がプロセスチューブ１２の処理室１１に搬入される。ボート２４が上限に達すると、ボート２４を支持したシールキャップ２３の上面の周辺部がボート搬入搬出口８をシール状態に閉塞するため、プロセスチューブ１２の処理室１１は気密に閉じられた状態になる。このボート２４の処理室１１への搬入に際しても、待機室４は負圧に維持されているため、ボート２４の処理室１１への搬入に伴って外部の酸素や水分が処理室１１に侵入することは確実に防止される。また、後側ストッカ３３ＢのウエハＷをボート２４に装填した後に、待機室４を真空引きしたり窒素ガスパージしたりせずに、ボート２４を処理室１１へ搬入することができるので、スループットを大幅に向上させることができる。
【００３１】
その後に、前回のバッチのウエハＷに対する場合と同様にして、プロセスチューブ１２の処理室１１は気密に閉じられた状態で、所定の圧力となるように排気管１８によって排気され、ヒータユニット１０によって所定の温度に加熱され、所定の原料ガスがガス導入管１７によって所定の流量だけ供給される。これにより、前回のバッチのウエハＷに対する処理条件に対応する所望の膜がウエハＷに形成される。
【００３２】
後側ストッカ３３Ｂに装填された全てのウエハＷがボート２４へ装填されると、ウエハ搬入搬出口２８、５がゲートバルブ２９によって閉鎖され、冷却媒体としての冷えた新鮮な窒素ガスが前側ストッカ３３Ａに装填された処理済みウエハＷにガス吹出管３５Ａによって直接的に吹き付けられる。この窒素ガスの吹き付けにより、前側ストッカ３３Ａに装填された高温のウエハＷはきわめて効果的に強制冷却される。この前側ストッカ３３Ａに装填された処理済みウエハＷに対する強制冷却時間は、次のバッチに対する成膜ステップの処理時間に対応して充分に確保することができるので、処理済みウエハＷを充分に冷却することができる。しかも、この処理済みウエハＷの強制冷却ステップは次回のバッチのウエハＷについての成膜ステップと同時に進行されていることにより、冷却待ち時間は吸収されることになるため、バッチ式ＣＶＤ装置１の全体としてのスループットを低下させることにはならない。この際、前側ストッカ３３Ａと後側ストッカ３３Ｂとの間には遮蔽板３４が介設されているので、後側ストッカ３３Ｂに装填された処理前のウエハＷが、前側ストッカ３３Ａの処理済みの高温のウエハＷによって加熱されるのを防止することができる。
【００３３】
前側ストッカ３３Ａに装填された処理済みウエハＷが窒素ガスの吹き付けによって強制的に冷却されて、ポッドＰに収納可能な温度（例えば、室温の２５℃）に降温したところで、ウエハ搬入搬出口４２、３６がゲートバルブ４３によって開放される。このとき、ウエハ移載室２７には窒素ガスが充満（窒素ガスパージ）されている。続いて、ポッドオープナ４０の載置台４６に載置された空のポッドＰがポッドオープナ４０のキャップ着脱機構４７によって取り外され、ポッドＰのウエハ出し入れ口が開放される。空のポッドＰが開放されると、前側ストッカ３３Ａの処理済みのウエハＷはポッドオープナ４０の空のポッドＰにウエハ移載装置３０によって収納される。この際、処理済みウエハＷはポッドＰに収納可能な温度に降温されているため、ポッドＰが樹脂によって製作されている場合であっても、処理済みウエハＷをポッドＰに安全に収納することができる。
【００３４】
前側ストッカ３３Ａに装填された処理済みウエハＷがポッドＰに全て収納されると、ポッドＰはポッドオープナ４０のキャップ着脱機構４７によってキャップを装着された後に、載置台４６から前側ポッド棚５５または後側ポッド棚５６にポッド搬送装置５７によって搬送される。その後に、処理済みウエハＷを収納したポッドＰは前側ポッド棚５５または後側ポッド棚５６からポッドステージ５４に搬送され、ポッドステージ５４から次の処理工程へ工程内搬送装置によって搬送されて行く。この処理済みウエハＷの空のポッドＰへの収納作業は、次のバッチのウエハＷに対する成膜ステップの間に同時に進行することができる。
【００３５】
以降、前述した作用が繰り返されて、ウエハＷが例えば２５枚ずつ、バッチ式ＣＶＤ装置１によってバッチ処理されて行く。
【００３６】
ところで、例えば、ウエハ移載装置３０のセラミック製のツィーザ３０ａが破損した場合には、ツィーザ３０ａを交換する必要がある。このような場合には、図５（ｂ）に示されているように、まず、ゲートバルブ収容筐体６２がヒンジ６３を中心にして前方に水平に回動されることにより、ゲートバルブ収容筐体６２がメンテナンス扉６５の真上から干渉しない位置へ退避され、次に、図３の想像線に示されているように、メンテナンス扉６５がヒンジ６６を中心に前方に回動されることにより、図５（ｂ）に示されているように、メンテナンス口６４が開かれる。その後に、ウエハ移載室２７のウエハ移載装置３０のツィーザ３０ａの交換作業が、メンテナンス口６４を通して実施される。
【００３７】
前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。
【００３８】
1)  ウエハ移載室２７の筐体２６の側壁２６ａにメンテナンス扉を設ける場合には、例えば、メンテナンス作業中に他の作業者が通路を通る際に、メンテナンス扉と誤って接触しメンテナンス扉が閉じてしまうことがあり、メンテナンス作業中の作業者が閉じ込められる可能性がある。しかし、メンテナンス扉６５をウエハ移載室２７の筐体２６の天井壁に設けることにより、このような可能性はなくなる。
【００３９】
2)  ウエハ移載室２７の筐体２６の側壁２６ａにメンテナンス扉を設ける場合には、メンテナンス扉は自重を支えるように構成し、また、大気時にも減圧時にも均等にリークしないようにヒンジ等を補強する等の工夫する必要があるので、構成が複雑になる。しかし、メンテナンス扉６５をウエハ移載室２７の筐体２６の天井壁に設けると、メンテナンス扉６５は特に閉じている際は自重により安定し、ヒンジ等は少なくとも自重のすべてを支えるように構成しなくても済み、移動を防止する程度でよくなるので、簡略化することができる。
【００４０】
3)  ウエハ移載室２７は図１および図３に示されているように垂直方向を短く、水平方向を長くしている構造としている。これは、二つのストッカ３３Ａ、３３Ｂとウエハ移載装置３０の配置を水平方向に配置することにより、効率の良いウエハＷの移載を可能にするために水平方向を長くする必要があるのと、減圧と大気との置換を素早くするために垂直方向を短くしているためである。このウエハ移載室２７の構造、すなわち垂直方向を短く水平方向を長くしている構造下において、メンテナンス扉６５およびメンテナンス口６４をウエハ移載室２７の筐体２６の天井壁に設けることは、メンテナンス時に効率良くメンテナンス可能とすることになる。これにより、二つのストッカ３３Ａ、３３Ｂおよびウエハ移載装置３０やツィーザ３０ａおよびガス吹出管３５Ａ、３５Ｂ等に容易にアクセスが可能になり、特に、ツィーザ３０ａが破損した際の片付けや清掃する時、ウエハ移載室２７内の略全エリアにわたってアクセスが容易となるため、容易にメンテナンスすることができる。
【００４１】
4)  ゲートバルブ収容筐体６２を耐圧筐体３の背面壁３ａに設ける場合、ボート２４のメンテナンスの際、メンテナンス扉３ｂを開閉し、ボート２４を取外してメンテナンスすることがあるが、その際、ゲートバルブ収容筐体６２の設置高さはボート２４の高さと略近似し、とりわけ、ゲートバルブ収容筐体６２の下面とボート２４の上面との高さは近似するため、取外しが困難となる。また、ゲートバルブ収容体の設置高さは人間の接触し易い高さとなり、普通に通行するだけでも、体を痛打してしまうことがある。ましてや、メンテナンス作業中に他の作業者が通路を通る際に、ゲートバルブ収容筐体６２と誤って接触し閉じてしまうことがある。しかし、ゲートバルブ収容筐体６２をウエハ移載室２７側の側面に配置することで、このような作業者が危険にさらされることが回避可能となる。さらに、耐圧筐体３の背面壁３ａに突き出していたゲートバルブ収容筐体６２のスペースを抑えフットプリントを減少することができる。
【００４２】
5)  ゲートバルブ収容筐体６２を図５（ａ）（ｂ）に示すようにヒンジ６３を図中下側にし、開閉を図中、上側にすることにより、図５中、ウエハ移載室２７の上側（図１で言えばウエハ移載室２７の左側面）に作業者は立って、メンテナンスが可能となる。また、メンテナンス扉６５およびメンテナンス口６４においても、ウエハ移載室２７の上面で、図５（ａ）（ｂ）において、上側（図１で言えばウエハ移載室２７の左側面）にメンテナンス扉６５およびメンテナンス口６４を位置させることにより、図５中、ウエハ移載室２７の上側（図１で言えばウエハ移載室２７の左側面）に作業者は立って、メンテナンスが可能となる。これにより、比較的頻度の高いゲートバルブ９の周辺のメンテナンスと、ウエハ移載室２７内のメンテナンスとを同位置でメンテナンス可能となる。つまり、ゲートバルブ収容筐体６２を開いて、ゲートバルブ９の周辺のメンテナンスおよび、ウエハ移載室２７内のメンテナンスを同一箇所でできるため、作業性が向上し、効率が向上する。また、メンテナンス器具等を同じ箇所にて作業が可能となり、作業性や効率が向上する。ひいては、ウエハ移載室２７の上面のエリアを有効活用することができる。
【００４３】
6)  ウエハ移載装置が設置されたウエハ移載室の天井壁にメンテナンス口を開設するとともに、このメンテナンス口を開閉するメンテナンス扉を設けることにより、ウエハ移載装置のメンテナンス作業をメンテナンス口を通じて実施することができるので、メンテナンス扉がウエハ移載室の側面に設置された場合にウエハ移載室の側方に必要であるメンテナンスエリアと、作業者が出入りするための通路部分とを省略することができ、その結果、フットプリントを減少させることができる。例えば、メンテナンス扉がウエハ移載室の側面に設置された場合のフットプリントの指数を「１００」とすると、本実施の形態の場合の指数は「８３．６」になる。
【００４４】
7)  ウエハ移載室の真上に迫り出したゲートバルブ収容筐体を水平面内で移動可能に構成することにより、ゲートバルブ収容筐体がウエハ移載室の天井壁側からのメンテナンス作業時に障害物になるのを回避することができるので、ウエハ移載室の天井壁にメンテナンス口およびメンテナンス扉を設けてのメンテナンス作業を実現することができる。
【００４５】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【００４６】
前記実施の形態ではバッチ式ＣＶＤ装置の場合について説明したが、本発明はこれに限らず、基板処理装置全般に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の一実施の形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す平面断面図である。
【図２】前側部分を示す側面断面図である。
【図３】後側部分を示す側面断面図である。
【図４】図１のVI−VI線に沿う断面図である。
【図５】（ａ）は図３のＶ−Ｖ線に沿う断面図、（ｂ）はメンテナンス作業時の状態を示す平面図である。
【符号の説明】
【００４８】
Ｗ…ウエハ（基板）、１…バッチ式ＣＶＤ装置（基板処理装置）、２…筐体、３…耐圧筐体、３ａ…背面壁、３ｂ…メンテナンス扉、４…待機室、５…ウエハ搬入搬出口、６…ガス供給管、７…排気管、８…ボート搬入搬出口、９…ゲートバルブ、１０…ヒータユニット、１１…処理室、１２…プロセスチューブ、１３…アウタチューブ、１４…インナチューブ、１５…排気路、１６…マニホールド、１７…ガス導入管、１８…排気管、１９…熱電対、２０…ボートエレベータ、２１…昇降台、２２…アーム、２３…シールキャップ、２４…ボート、２５…ロータリーアクチュエータ、２６…耐圧筐体、２６ａ…側壁、２７…ウエハ移載室、２８…ウエハ搬入搬出口、２９…ゲートバルブ、３０…ウエハ移載装置、３０ａ…ツィーザ、３１…モータ、３２…排気管、３３Ａ、３３Ｂ…ストッカ（基板保持体）、３４…遮蔽板（遮蔽手段）、３５Ａ、３５Ｂ…ガス吹出管（ガス吹出手段）、３６…ウエハ搬入搬出口、４０…ポッドオープナ、４１…筐体、４２…ウエハ搬入搬出口、４３…ゲートバルブ、４４…ベース、４５…ウエハ搬入搬出口、４６…載置台、４７…キャップ着脱機構、５１…フロント筐体、５２…ポッド保管室、５３…ポッド搬入搬出口、５４…ポッドステージ、５５、５６…ポッド棚、５７…ポッド搬送装置、５８…ポッドオープナ用メンテナンス口、５９…メンテナンス扉、６１…ゲートバルブ出入り口、６２…ゲートバルブ収容筐体、６３…ヒンジ、６４…メンテナンス口、６５…メンテナンス扉、６６…ヒンジ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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