(57)【要約】    【課題】  本発明は，ディスプレイに用いられる反射防止フィルムの形成に好適に用いられる感光性組成物であって、高屈折率で透明性に優れ、ポリエチレンテレフタレートに代表されるポリエステル系基材に対する密着性に優れる硬化塗膜を形成し得る感光性組成物を提供することを目的とする。    【解決手段】  下記一般式（１）で示される感光性樹脂と、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、アンチモン錫酸化物、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物及び亜鉛アルミニウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性粒子とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。    【化１】2005196066.tif 000010    【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示される感光性樹脂と、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、アンチモン錫酸化物、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物、亜鉛アルミニウム酸化物及びアンチモン酸亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性粒子とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
【化１】
2005196066.tif 000009
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光硬化性を有する感光性組成物に関し、詳しくは高屈折率で透明性に優れる硬化物を形成し得る感光性組成物に関する。さらに詳しくは、ポリエステルフィルム、例えばポリエチレンテレフタレートフィルムに対する密着性に優れ、高硬度の硬化物を形成し得る感光性組成物に関する。
本発明の感光性組成物は、ディスプレイ、レンズ、導波路、光ファイバー、光学フィルター、ホログラムなどの各種光学部材に用いられる。特に本発明の感光性組成物は、ワードプロセッサ、コンピュータ、テレビジョン等のディスプレイ、例えばプラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、液晶ディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の表面を保護する目的で使用される反射防止フィルムの形成に好適に用いられる。本発明の感光性組成物を用いて形成される反射防止フィルムはプラスチックフィルムの干渉縞を防止する効果を奏する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ディスプレイ分野で用いられている反射防止フィルムは、光学特性などの点から三酢酸セルロースなどのセルロース系フィルムを基材に用い、その上にハードコート層、反射防止層を設けた構成が一般的であった。しかし、基材に用いるセルロース系フィルムは光学異方性がないなど、光学特性に優れるものの、耐衝撃性が十分ではなく、またコストが高いという問題があった。
そのため、基材として、耐衝撃性に優れ、安価であるポリエステル系フィルムを用いたハードコートフィルムや反射防止フィルム（特許文献１、２参照）が必要とされてきた。
【０００３】
しかし、基材にポリエステルフィルムを用いると、その上に設けるハードコート層との密着性を良好に保つことは困難である。そこで密着性を向上するために、ポリエステルフィルムにコロナ処理、プラズマ処理等の表面処理を加えたり、あるいはアンカー層を設けたりする等の各種対策が提案されてきた。
しかし、コロナ処理やプラズマ処理だけではハードコート層の十分な密着性を確保することは難しい。また、アンカー層を設ける場合、密着性は向上するものの、光学設計が難しく、干渉縞の発生を抑えることが困難であった。尚、アンカー層を光硬化性の材料で形成すること自体も困難である。
【特許文献１】特開平１１−９２７５０号公報
【特許文献２】特開２０００−２３３４３６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は，ディスプレイに用いられる反射防止フィルムの形成に好適に用いられる感光性組成物であって、高屈折率で透明性に優れ、ポリエチレンテレフタレートに代表されるポリエステル系基材に対する密着性に優れる硬化塗膜を形成し得る感光性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、下記一般式（１）で示される感光性樹脂と、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、アンチモン錫酸化物、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物及び亜鉛アルミニウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性粒子とを含有することを特徴とする感光性樹脂組成物に関する。
【化１】
2005196066.tif 000002
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、高屈折率で透明性に優れ、ポリエチレンテレフタレートに代表されるポリエステル系基材に対する密着性に優れる硬化塗膜を形成し得る感光性樹脂組成物を提供することができるようになった。その結果、本発明の感光性樹脂組成物は、反射防止フィルムの形成に好適に用いられ、得られた反射防止フィルムはディスプレイ、特にプズマディスプレイの分野に好適に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
［一般式（１）で示される本発明の感光性樹脂］
一般式（１）で示される本発明の感光性樹脂は、例えば、下記一般式（４）にて示されるフェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂に、カルボキシル基と感光性不飽和二重結合とを有する化合物を反応させることによって、得ることができる。カルボキシル基とエポキシ樹脂中のグリシジル基とが反応し、グリシジル基が開裂し、水酸基とエステル結合とが生成する。
【０００８】
【化２】
2005196066.tif 000003
【０００９】
一般式（４）にて示されるフェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂は、種々の方法で得ることができる。
例えば、フェノール類／ナフトール類共縮合樹脂中のフェノール性水酸基をグリシジルエーテル化して、一般式（４）にて示されるフェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂を得ることができる。
【００１０】
＜フェノール類／ナフトール類共縮合樹脂＞
フェノール類／ナフトール類共縮合樹脂は、種々の方法で得ることができる。
フェノール類とナフトール類とホルムアルデヒド発生源物質とを酸性触媒の存在下に反応させて下記一般式（３）で示されるフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂を得ることができる。
【００１１】
【化３】
2005196066.tif 000004
【００１２】
一般式（３）で示されるフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂を得る際に用いられるフェノール類としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジメチルフェノール、２，４−ジメチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ｐ−オクチルフェノール等の炭素数１〜１０のアルキル基を有する置換フェノール、臭素化フェノール等のハロゲン原子を有する置換フェノール、２−アリルフェノール等のアリル基を有する置換フェノール等が挙げられ、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾールが好ましい。これらフェノール類は、単独でまたは２種以上を混合して使用することも出来る。
【００１３】
一般式（３）で示されるフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂を得る際に用いられるナフトール類としては、α−ナフトール、アルキル（メチル、エチル、プロピル、ブチル等の炭素数１〜１０のアルキル基）置換α−ナフトール、ハロゲン（塩素、臭素、ヨウ素等）置換α−ナフトール、アリル置換α−ナフトール等、
β−ナフトール、アルキル（メチル、エチル、プロピル、ブチル等の炭素数１〜１０のアルキル基）置換β−ナフトール、ハロゲン（塩素、臭素、ヨウ素等）置換β−ナフトール、アリル置換β−ナフトール等が挙げられ、αナフトール、β−ナフトールが好ましい。
【００１４】
一般式（３）で示されるフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂を得る際に用いられるホルムアルデヒド発生源物質としては、塩基性条件下にホルムアルデヒドを発生する物質であり、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、テトラオキサン等が挙げられる。
【００１５】
フェノール類とナフトール類とホルムアルデヒド発生源物質との反応は、フェノール類とナフトール類とを混合後、その混合物とホルムアルデヒド発生源物質とを酸性条件下に反応させればよい。
フェノール類とナフトール類との割合は、１０：９０〜９０：１０（モル％）であることが重要であり、３０：７０〜７０：３０であることが好ましく、４０：６０〜６０：４０であることが好ましい。ナフトール類が９０モル％を超えると共縮合樹脂を得る際にゲル化し易い。一方、ナフトール類が１０モル％未満だと、共縮合樹脂をグリシジルエーテル化し、次いで感光性不飽和二重結合を導入した感光性樹脂を用いても、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性は確保できない。
【００１６】
ナフトール類由来のナフタレン骨格を有する場合に、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性がなぜ向上するか、以下のよう考察している。エポキシ樹脂中のグリシジル基とカルボキシル基とを反応させると、２級の水酸基が生成する。ナフタレン骨格は平面構造を構成するので、硬化塗膜中に含まれる水酸基がポリエチレンテレフタレートフィルムとの界面に効率的に配向、偏在し、密着性向上に寄与するものと考察される。
【００１７】
フェノール類とナフトール類とアルデヒド発生源物質とを反応させる場合、特開２０００−５３７３９号公報に記載されるように、ナフトール類とアルデヒド発生源物質とを塩基性触媒の存在下に先に反応させ、ナフトールメチロール体を得、次いでナフトールメチロール体とフェノール類とを反応させることもできる。
【００１８】
ナフトール類とアルデヒド発生源物質との反応は、ナフトール類１モルに対して、通常ホルムアルデヒド発生源物質０．９〜１．３モル（ホルムアルデヒドとして）を塩基性条件下、５〜４０℃で、５分〜５時間行う。反応は通常塩基性触媒の存在下に行う。
用いうる塩基性触媒の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられ、水酸化ナトリウムが好ましい。塩基性触媒の使用量はナフトール類１モルに対して通常０．０２〜１．５当量である。反応は、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン等の溶剤中で行うこともでき、この場合の溶剤の使用量は仕込んだ原料の総重量に対して通常３０〜３００重量％である。
反応終了後、塩酸、硫酸等の酸性物質を中和剤として用い、例えば中和剤を含む水溶液で分液抽出操作を反応混合物の洗浄液のｐＨが４〜７、好ましくは５〜７になるまで洗浄を繰り返し、更に必要により溶媒等を留去することにより、目的とする生成物を得ることができる。
【００１９】
こうして得られたナフトール類とホルムアルデヒド発生源物質との反応生成物であるナフトールメチロール体という）と、フェノール類を酸性触媒の存在下において縮合し、フェノール類／ナフトール類共縮合樹脂を得ることができる。ナフトールメチロール体１モルに対して、フェノール類は０．４〜１．１モルであることが好ましく、０．５〜１．０モルであることがより好ましい。
反応温度は通常５〜１８０℃、好ましくは３０〜１３０℃である。反応時間は通常１〜３０時間、好ましくは２〜２５時間である。尚、反応中生成する水を分留管等を用いて反応系外に除去することは、反応を速やかに行う上で好ましい。
【００２０】
共縮合樹脂を得る際の反応においては酸触媒を用いる。
酸触媒としては種々のものが使用できるが塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機あるいは無機酸、三弗化ホウ素、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸が好ましく、特にｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸が好ましい。
これら酸触媒の使用量は特に限定されるものではないが、ナフトールメチロール体を用いる場合には、ナフトールメチロール体１００重量部に対して０．０５〜５０重量部であることが好ましく、０．１〜２０重量部であることが好ましい。
【００２１】
共縮合反応は、無溶剤下で、あるいは溶剤の存在下で行うことができる。
溶剤を使用する場合の具体例としてはトルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、水などが挙げられ、これらは単独で用いてもよく、２種以上用いてもよい。溶剤の使用量は仕込んだ原料の総重量に対して通常５０〜３００重量％、好ましくは１００〜２５０重量％である。
【００２２】
反応終了後、一般的なフェノール樹脂を得る場合と同様に、反応混合物の水洗浄液のｐＨ値が３〜７、好ましくは５〜７になるまで水洗処理を繰り返す。水洗処理は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、アンモニア、リン酸二水素ナトリウムさらにはジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、アニリン、フェニレンジアミンなどの有機アミンなど様々な塩基性物質等を中和剤として用いて行ってもよい。また水洗処理の場合は常法に従って行えばよい。例えば反応混合物中に上記中和剤を溶解した水を加え分液抽出操作を繰り返す。
得られるフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂の縮合度は、１．５〜２０程度であることが重要であり、２〜１０であることが好ましい。
縮合度が小さすぎると、硬化後の塗膜が脆くなり、一方、２０を超える縮合度の大きな共縮合樹脂は、ゲル化し易く得ること自体が困難である。
【００２３】
＜フェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂＞
一般式（４）にて示されるフェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂は、上記したように種々の方法で得たフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂をグリシジルエーテル化したものである。例えば、フェノール類／ナフトール類共縮合樹脂中のフェノール性水酸基に、エピハロヒドリンを反応させることによって、フェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂が得られる。
この反応に使用されるエピハロヒドリンとしては、エピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン、エピヨードヒドリン等があるが、工業的に入手し易く安価なエピクロルヒドリンが好ましい。この反応は従来公知の方法に準じて行うことが出来る。
【００２４】
例えば、フェノール／ナフトール共縮合樹脂とエピクロルヒドリンの混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体を添加し、または添加しながら２０〜１２０℃で０．５〜１０時間反応させる。この際アルカリ金属水酸化物は水溶液を使用してもよく、その場合は該アルカリ金属水酸化物を連続的に添加すると共に反応混合物中から減圧下、または常圧下、連続的に水及びエピクロルヒドリンを留出せしめ更に分液し水は除去しエピクロルヒドリンは反応混合中に連続的に戻す方法でもよい。
【００２５】
上記の方法において、エピクロルヒドリンの使用量は、フェノール／ナフトール共縮合樹脂中のフェノール性水酸基１当量に対して通常０．５〜２０モル、好ましくは０．７〜１０モルである。アルカリ金属水酸化物の使用量は本発明のナフトール樹脂中の水酸基１当量に対し通常０．５〜１．５モル、好ましくは０．７〜１．２モルである。ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン溶媒を添加することにより下記に定義する加水分解性ハロゲン量の低いエポキシ樹脂が得られ、このエポキシ樹脂は電子材料封止用途に適する。非プロトン性極性溶媒の使用量はエピクロルヒドリンの重量に対し５〜２００％、好ましくは１０〜１００％である。上記の溶媒以外にもメタノール、エタノールとのアルコール類を添加することによっても反応が進み易くなる。また、トルエン、キシレン等も使用することができる。ここで加水分解性ハロゲン量とは、例えば該エポキシ樹脂をジオキサンに入れ、数十分還流しながらＫＯＨ／エタノール溶液で滴定することにより測定することができる。
【００２６】
また、フェノール／ナフトール共縮合樹脂と過剰のエピハロヒドリンの混合物にテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩を触媒として使用し、５０〜１５０℃で１〜１０時間反応させ、得られる本発明のナフトール樹脂のハロヒドリンエーテルに水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体または水溶液を加え、再び２０〜１２０℃で１〜１０時間反応させてハロヒドリンエーテルを閉環させて本発明のエポキシ樹脂を得ることもできる。この場合の第四級アンモニウム塩の使用量は本発明のナフトール樹脂の水酸基１当量に対して通常０．００１〜０．２モル、好ましくは０．０５〜０．１モルである。
【００２７】
通常これらの反応生成物は水洗後、または水洗無しに加熱減圧下、過剰のエピハロヒドリンを除去した後、再びトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて再び反応を行う。この場合アルカリ金属水酸化物の使用量は、フェノール／ナフトール共縮合樹脂のフェノール性水酸基１当量に対して通常０．０１〜０．２モル、好ましくは０．０５〜０．１モルである。反応温度は通常５０〜１２０℃、反応時間は通常０．５〜２時間である。
【００２８】
反応終了後、副生した塩をろ過、水洗などにより除去し、更に加熱減圧下、トルエン、メチルイソブチルケトン等の溶媒を留去することにより加水分解性ハロゲン量の少ない本発明のエポキシ樹脂を得ることができる。
【００２９】
一般式（４）にて示されるフェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂は、市販品としても入手することができ、例えば日本化薬（株）製のＮＣ−７０００Ｌ、ＮＣ−７０００Ｈ等が挙げられる。
【００３０】
＜一般式（１）にて示される感光性樹脂＞
「発明を実施するための最良の形態」の項の冒頭にも記載したように、一般式（１）にて示される感光性樹脂は、フェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂中のグリシジル基を、カルボキシル基と感光性不飽和二重結合とを有する化合物と反応させることによって、得ることができる。
【００３１】
カルボキシル基と感光性不飽和二重結合とを共に有する化合物としては、アクリル酸、ないしメタクリル酸が挙げられ、両者を併用することもできる。
これらカルボキシル基と感光性不飽和二重結合とを共に有する化合物は、グリシジル基とカルボキシル基とが、グリシジル基：カルボキシル基＝１００：３０〜１００となるように反応させることが好ましい。即ち、一般式（１）にて示される感光性樹脂は、Ｄ1、Ｄ2として示されるような種々の基を有する化合物が複数種混ざり合った状態にあるが、Ｄ1、Ｄ2の１００個のうち、少なくとも３０個以上は感光性の官能基を有するものであることが重要である。感光性の官能基が少ないと、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性が低下すると共に、低硬度となる。つまり、一般式（１）にて示される感光性樹脂には、下記一般式（２）で示される感光性樹脂が主成分として含まれることが好ましい。
【００３２】
【化４】
2005196066.tif 000005
【００３３】
＜触媒＞
フェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂中のグリシジル基と、カルボキシル基とを反応させる場合には、アミン類等の触媒を添加して行なっても良い。使用される触媒としては、公知の触媒を使用することができる。触媒は、以下の化合物が挙げられる。触媒の好ましい具体例を以下に示すが、本発明は、これらに何ら限定されるものではない。
【００３４】
（１）３級アミン類及び／又はその塩類トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、Ｎ−メチルピペラジン等
（２）イミダゾール類及び／又はその塩類２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−６−[２−メチルイミダゾリル−（１）]−エチル−Ｓ−トリアジン等
【００３５】
（３）ジアザビシクロ化合物類
1,5−ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］−５−ノネン、1,4−ジアビシクロ［2.2.2］オクタン等
（４）ホスフィン類
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン、トリス（シアノエチル）ホスフィン等
（５）ホスホニウム塩類
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等
【００３６】
本発明で用いられるエポキシ樹脂と触媒の配合割合は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、触媒が０.０１〜１０重量部であることが好ましい。触媒が０.０１重量部未満であると反応が遅くなり、１０重量部を越えると硬化物の耐水性が低下するため好ましくない。
【００３７】
グリシジル基とカルボキシル基とを反応させるときには、用いるエポキシ樹脂の軟化温度が反応温度範囲よりも低い場合には無溶剤にて行うことができる。また、用いるエポキシ樹脂の軟化温度に関わらず適当な溶剤を用いて行うこともできる。この時用いる溶剤としては、グリシジル基、水酸基、カルボキシル基と反応しないものであれば特に制限なく用いることができる。例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、アセトン、ベンゼン等の公知の溶剤を使用できる。
【００３８】
［感光性樹脂組成物］
本発明の感光性樹脂組成物は、上記一般式（１）で示される感光性樹脂と、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、アンチモン錫酸化物、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物及び亜鉛アルミニウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも１種の導電性粒子とを含有するものである。
本発明の感光性樹脂組成物には、上記感光性樹脂以外の他の感光性成分（以下、その他の感光性成分という）、光重合開始剤、有機溶剤等を適宜含有することができる。
【００３９】
＜導電性粒子＞
一般に感光性樹脂組成物には種々の無機粒子を充填剤として含有することができる。硬化塗膜の硬度を高め、硬化塗膜表面の傷付きを防止する観点からも無機粒子を含有することが好ましい。
ところで、防塵の観点から各種ディスプレイに用いられる反射防止フィルムには帯電防止性を具備することが要求される。反射防止フィルムは、ポリエステル系基材／上記一般式（１）で示される感光性樹脂を含有する感光性組成物から形成される硬化塗膜／各種の反射防止層が順次積層された構成を基本とする。そこで、ポリエステル系基材と反射防止層との間に位置する硬化塗膜に帯電防止性が要求される。そのため、本発明の感光性樹脂組成物は導電性粒子を含有する必要がある。
【００４０】
導電性粒子としては、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、アンチモン錫酸化物、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物、亜鉛アルミニウム酸化物、チタン酸亜鉛、錫酸化物，インジウム錫酸化物、水酸化アルミニウム、チタン酸カリウムアンチモン酸亜鉛、カーボンブラック等種々のものが挙げられる。
【００４１】
各種ディスプレイに用いられる反射防止フィルムには、当然のことながら着色がなく透明であることも要求され、上記導電性粒子にも着色がなく透明であることが要求される。
そこで、導電性、無着色、透明性の観点から各種無機粒子を検討すると、酸化アンチモン、アンチモン酸亜鉛、アンチモン錫酸化物、チタンアンチモン酸化物、チタン錫酸化物、リン錫酸化物、亜鉛アルミニウム酸化物が反射防止フィルム向けには好ましいことが分かった。以下、本発明においてはこれら７種の導電性粒子を酸化アンチモン等の導電性粒子という。
【００４２】
これら導電性粒子の粒子径は１〜１００ｎｍであることが好ましく、３〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。１ｎｍ未満では帯電防止性能が低下し、１００ｎｍを超えると透過光、反射光の散乱が起こり、濁度（ヘイズ）が上昇するため好ましくない。また、
導電性粒子を粉体のまま他の成分と混合し、本発明の感光性組成物を得ることもできるし、分散性を考慮して、予め分散体としておいて、他の成分と混合し、本発明の感光性組成物を得ることもできる。
【００４３】
酸化アンチモン等の導電性粒子は、加えることで帯電防止効果を出すとと共に、屈折率の調整を兼ねることもできる。これらの配合量は、基材と硬化塗膜との屈折率の関係や帯電防止性能を考慮して決定される。具体的には、本発明の感光性樹脂組成物は、一般式（１）で示される感光性樹脂／上記導電性粒子＝１００／１０〜９９０（重量比）であることが好ましく、１００／３０〜９００（重量比）であることがより好ましい。上記導電性粒子が９９０重量部を超えると硬化物の物性が低下する傾向にある。一方、上記導電性粒子が１０重量部未満となると帯電防止性能が低下する傾向にある。
さらに具体的には、これら導電性粒子のうち酸化アンチモン（五酸化アンチモン）を用いた場合、感光性樹脂／五酸化アンチモン＝１００／１００〜９００（重量比）であることが好ましい。
尚、これら導電性粒子を加えただけでは、屈折率の調整が不十分である場合は、後述の屈折率調整剤をさらに用いてもよい。この場合、一般式（１）で示される感光性樹脂１００重量部に対して、上記導電性粒子と後述の屈折率調整剤との合計が９９０重量部を超えない程度であればよい。
【００４４】
＜その他の感光性成分＞
本発明の被覆剤に用いられるその他の感光性成分としては、感光性不飽和二重結合を有する化合物を例示することができる。感光性不飽和二重結合を有する化合物は、一分子中に感光性不飽和二重結合を２つ以上有する多官能のものも、１つ有する単官能のものも適宜使用することができる。
感光性不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリル系化合物、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物などが挙げられる。これら感光性不飽和二重結合を有する化合物は、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基などの官能基をさらに有してもいてもよい。
【００４５】
（メタ）アクリル系化合物としては、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート、カルボキシル基と不飽和二重結合とを有する化合物、水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物等がある。
【００４６】
更に具体的に例示すると、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数1〜２２のアルキル（メタ）アクリレートがあり、極性の調節を目的とする場合には好ましくは炭素数2〜10、さらに好ましくは炭素数2〜8のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートが挙げられる。レベリング性の調節等を目的とする場合には炭素数６以上が好ましい。
【００４７】
また、アルキレングリコール系(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）等、末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、
メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、
フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレートなど末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系アクリレートまたは対応するメタアクリレートがある。
【００４８】
さらに、カルボキシル基及び不飽和二重結合含有化合物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、テレフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等を例示することが出来る。
【００４９】
水酸基含（メタ）アクリル系化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４-ヒドロキシビニルベンゼンなどが挙がられる。
【００５０】
窒素含有（メタ）アクリル系化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミドなどのモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミドなどのジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートメチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物および対イオンとしてＣｌ-，Ｂｒ-，Ｉ-等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ３-（Ｑ：炭素数1〜12アルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の4級アンモニウム塩を例示できる。
【００５１】
更にその他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類；パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３、４-エポキシシクロヘキシルアクリレートなどのグリシジル基含有アクリレートなどを挙げることができ、これらの群から複数用いることができる。
【００５２】
脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ヘキサン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリル酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン等が挙げられる。
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン、クロロスチレン、などが挙げられる。
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。これらは単独もしくは２種類以上を併用して使用することもできる。
【００５３】
本発明の感光性樹脂組成物が、その他の感光性成分を含有する場合には、一般式（１）で示される感光性樹脂／他の感光性成分／上記導電性粒子＝１００／１〜１００／１０〜９９０（重量比）であることが好ましく、１００／５〜５０／３０〜９００（重量比）でることがより好ましい。
【００５４】
＜光重合開始剤＞
光重合開始剤は、紫外線により硬化させる場合に添加される。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤は特に必要ではない。
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。
【００５５】
具体的にモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4-メチル-ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、4-(4-メチルフェニルチオ)フェニル-エネタノン、3,3'-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4-(1,3-アクリロイル-1,4,7,10,13-ペンタオキソトリデシル)ベンゾフェノン、3,3'4,4'-テトラ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-N,N,N-トリメチルベンゼンメタアンモニウムクロリド、2-ヒドロキシ-3-(4-ベンゾイル-フェノキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、4-ベンゾイル-N,N-ジメチル-N-[2-(1-オキソ-2-プロペニルオキシエチル)メタアンモニウム臭酸塩、2-/4-iso-プロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメチル-9-オキソ-9Hチオキサントン-2-イロキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン-3-メチルナフト(1,2-d)チアゾリン等が挙げられる。
ジカルボニル化合物としては、1,7,7-トリメチル-ビシクロ[2.1.1]ヘプタン-2,3-ジオン、ベンザイル、2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、メチル-α-オキソベンゼンアセテート、4-フェニルベンザイル等が挙げられる。
【００５６】
アセトフェノン化合物としては、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-ジ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-スチリルプロパン-1-オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,2-ジエトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノ-フェニル)ブタン-1-オン、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム、3,6-ビス(2-メチル-2-モルホリノ-プロパノニル)-9-ブチルカルバゾール等が挙げられる。
【００５７】
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-n-プロピルフェニル-ジ(2,6-ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
アミノカルボニル化合物としては、メチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、エチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-nブトキシエチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4'-ビス-4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4'-ビス-4-ジエチルアミノベンゾフェノン、2,5'-ビス-(4-ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン等が挙げられる。
【００５８】
これらは上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独使用または併用することができ、使用量に制限はないが、被硬化物の乾燥重量の合計１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲で添加されるのが好ましい。また、増感剤として公知の有機アミンを加えることもできる。
尚、本発明の被覆剤には、ラジカル重合用の上記光重合開始剤の他に、さらにカチオン重合用の光重合開始剤も併用することができる。
【００５９】
＜有機溶剤＞
有機溶剤を含まない感光性樹脂組成物としても、有機溶剤を含む感光性樹脂組成物も、いずれも本発明の被覆剤として用いることができる。
有機溶剤を含む場合には、各種基材に塗布し、前記有機溶剤を揮発させた後に硬化に必要な紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射すればよい。
本発明の被覆剤に用いられる有機溶剤としては、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルプロピレングリコールアセテート等が挙げられる。
【００６０】
本発明の感光性樹脂組成物には、この他、本発明の目的、即ちポリエチエレンテレフタレートに対する密着性を損なわない範囲で任意成分として、さらに染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤等を適宜添加することができる。
【００６１】
本発明の感光性樹脂組成物は、公知のラジエーション硬化方法により硬化させ硬化物とすることができ、活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、４００〜５００ｎｍの可視光を使用することができる。
照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。また、紫外線および４００〜５００ｎｍの可視光の線源（光源）には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプが用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪの範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい５０〜１０００ｍＪの範囲であることが好ましい。
また、これら紫外線または電子線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
【００６２】
本発明の感光性樹脂組成物は、基材に塗工後、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行っても良いし、塗工に続いてラジエーション硬化させた後に自然または強制乾燥しても構わないが、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化した方が好ましい。電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害又は有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行うのが好ましい。ラジエーション硬化のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。
本発明の感光性樹脂組成物は、ポリエステル系以外の各種基材に適用することも可能ではあるが、ポリエステル系基材に塗布することが好適である。ポリエステル系基材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：屈折率１．６０〜１．６７）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ：屈折率１．６８〜１．７２）等が挙げられる。
また、これらはコロナ処理、プラズマ処理などの前処理を施しても良い。前処理をすると本発明の感光性樹脂組成物から形成される硬化塗膜の密着性がさらに向上する。
【００６３】
次に本発明の感光性樹脂組成物の利用の一態様として、反射防止フィルムについて簡単に説明する。
反射防止フィルムは、ポリエステル系基材／本発明の感光性樹脂組成物から形成される硬化塗膜／反射防止層とを順次積層してなる構成を基本とする。
反射防止層は、高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層を交互に積層したものや、前記低屈折率材料と高屈折率材料の中間の屈折率を有する中屈折率材料と低屈折率材料からなる層を順次積層したもの、低屈折率材料からなる層単層を用いることができる。
具体的な例としては、例えば低屈折率層単層、高屈折率層／低屈折率層、高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層などがあり、光学設計により、平均反射率が低く、反射防止性能、視認性の優れたものであればよい。
【００６４】
低屈折率層には、屈折率の低いＭｇＦ（屈折率：約１．４）、ＳｉＯ2（屈折率：約１．２〜１．５）等を含有することができる。
これらを各種マトリックス材料に分散させた後、塗工し、乾燥や硬化を経て低屈折率層を形成することができる。
あるいは、真空蒸着やスパッタリング法等を利用して、ＭｇＦやＳｉＯ2からなる低屈折率層を形成することもできる。
【００６５】
高屈折率層には、屈折率の高いＴｉＯ2（屈折率：２．３〜２．７）、Ｙ2Ｏ3（屈折率：１．９）、Ｌａ2Ｏ3（屈折率：２．０）等を用いることができる。これらを用い上記低屈折率層の場合と同様に種々の方法で高屈折率層を形成することができる。
【００６６】
中屈折率層の場合は、上記した低屈折率材料と高屈折率材料の中間の屈折率を有するものを使用し、同様に種々の方法で得ることができる。
【実施例】
【００６７】
以下に製造例、実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６８】
合成例１（樹脂A)
撹拌機、還流冷却管、空気導入管、温度計を備えた４口フラスコに、NC−７０００L（エポキシ当量２２８，軟化点約８９（℃）、１５０℃における粘度：０．７３（Ｐａ・ｓ）、日本化薬株式会社製）１５２ｇ、上記ＮＣ−７０００Ｌ中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として１００モル％のアクリル酸４８ｇ、４−メトキシフェノール０．１ｇ、シクロヘキサノン２００ｇ，ジメチルベンジルアミン２ｇを仕込んだ。空気を吹き込みながら，８５℃まで昇温して溶解し，次いで１１０℃で８時間撹拌して反応をおこなった。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は８．３（mgKOH／g）であった。この樹脂を，樹脂Aとする。
【００６９】
合成例２（樹脂B）
NC−７０００Lの代わりに，NC−７０００H（エポキシ当量２３２，軟化点約９６（℃）、１５０℃における粘度：１．５３（Ｐａ・ｓ）、日本化薬株式会社製）を用いた以外は，実施例１と同様の操作を行った。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は７．９（mgKOH／g）であった。この樹脂を樹脂Bとする。
【００７０】
合成例３（樹脂C）
ＮＣ−７０００Ｌ中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として７５モル％のアクリル酸３６ｇを用いた以外は，実施例１と同様の操作を行った。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は３．５（mgKOH／g）であった。この樹脂を樹脂Cとする。
【００７１】
合成例４（樹脂D）
ＮＣ−７０００Ｌ中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として５０モル％のアクリル酸２４ｇを用いた以外は，実施例１と同様の操作を行った。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は３．３（mgKOH／g）であった。この樹脂を樹脂Dとする。
【００７２】
比較合成例１（樹脂X）
ＮＣ−７０００Ｌ中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として２５モル％のアクリル酸１２ｇを用いた以外は，実施例１と同様の操作を行った。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は１．０（mgKOH／g）であった。この樹脂を樹脂Xとする。
【００７３】
比較合成例２（樹脂Y）
撹拌機、還流冷却管、空気導入管、温度計を備えた４口フラスコに下記構造を有するナフタレン骨格のジグリシジルエーテル「HP−４０３２D」（大日本インキ化学工業株式会社製）６６．４ｇ、上記「HP−４０３２D」中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として１００モル％のアクリル酸３３．６ｇ、４−メトキシフェノール０．０５ｇ、トルエン２００ｇ，ジメチルベンジルアミン１ｇを仕込んだ。空気を吹き込みながら，８５℃まで昇温して溶解し，次いで１１０℃で６時間撹拌して反応をおこなった。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は９．７（mgKOH／g），固形分４５％であった。この樹脂を樹脂Yとする。
【００７４】
【化５】
2005196066.tif 000006
【００７５】
比較合成例３（樹脂Z）
HP−４０３２Dの代わりに下記構造を有するジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂「EPICLON  EXA−７２００HH」（大日本インキ化学工業株式会社製）７９．５ｇを用い、上記「EPICLON  EXA−７２００HH」中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として１００モル％のアクリル酸２０．５ｇを用いた以外は，実施例１と同様の操作を行った。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は９．３（mgKOH／g）であった。この樹脂を樹脂Zとする。
【００７６】
【化６】
2005196066.tif 000007
【００７７】
（樹脂J）ペンタエリストールトリアクリレート／トリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（共栄社化学製のUA３０６T）。
【００７８】
（樹脂K）旭電化製のアデカKRX５５９−７。
【００７９】
（無機粒子Q）五酸化アンチモンゾル（固形分３０％、メチルイソブチルケトン分散体）
【００８０】
＜ポリエチレンテレフタレートフィルム＞
実施例，比較例ともに２５マイクロメーター厚の東洋紡（株）製E５１００（片面コロナ処理）を使用し，コロナ処理面に塗工した。
【００８１】
＜実施例１＞
合成例１の樹脂Ａ溶液中の樹脂Ａの固形分２０部に対して、五酸化アンチモンゾル（固形分３０％、メチルイソブチルケトン分散体）を固形分で７５部，ペンタエリストールトリアクリレート／トリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー（樹脂J）を２．５部，樹脂Kを２．５部，ラジカル重合用の光開始剤であるイルカギュア（チバガイギー社製）９０７を２重量部及びイルカギュア（チバガイギー社製）１８４を２重量部加えた。
この感光性樹脂組成物を，乾燥後の塗膜厚が約４μｍになるように記ポリエチレンテレフタレートフィルムのコロナ処理面に、バーコーターで塗工した。６０℃で２分間乾燥して溶剤を除去し、メタルハライドランプで積算光量５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射することでポリエチレンテレフタレート積層体を作製した。室温で１日経過したポリエチレンテレフタレート積層体について，後述する密着性等の評価をおこなった。
【００８２】
＜実施例２〜４＞、＜比較例１〜３＞
実施例１で用いた樹脂Ａの代わりに、それぞれ合成例２〜４、比較合成例１〜３で得た樹脂Ｂ〜Ｄ、Ｘ〜Ｚを用いた以外は、実施例１と同様にして感光性組成物を得、同様に評価した。
【００８３】
＜実施例５＞
合成例１の樹脂溶液中の樹脂Ａ固形分１００部に対して、五酸化アンチモンゾル（固形分３０％、メチルイソブチルケトン分散体）を固形分で７５部，ラジカル重合用の光開始剤であるイルカギュア（チバガイギー社製）９０７を２重量部，及びイルカギュア（チバガイギー社製）１８４を２重量部加えた。
この感光性樹脂組成物を用い，以下実施例１同様に塗工物を得、評価した。
【００８４】
＜比較例４〜７＞
合成例１、２及び比較合成例２、３の各樹脂溶液中の樹脂固形分１００部に対して、ラジカル重合用の光開始剤であるイルカギュア（チバガイギー社製）９０７を２重量部，及びイルカギュア（チバガイギー社製）１８４を２重量部加えた。
この感光性樹脂組成物を用い，以下実施例１同様に塗工物を得、評価した。
【００８５】
＜密着性＞
塗膜面にカッターナイフで１ｍｍ間隔の線を縦横各１１本引き，計１００個の升目を作った。その上にセロハンテープを密着させ，素早くテープを１８０度方向に強制剥離し，残存する升目の数により以下の通り評価した。
剥がれた升目が０〜５のものを５点
剥がれた升目が６〜２０のものを４点
剥がれた升目が２１〜４０のものを３点
剥がれた升目が４１〜７０のものを２点
剥がれた升目が７１〜９９のものを１点
剥がれた升目が１００のものを０点
【００８６】
＜鉛筆硬度＞
JIS K 5400 8.4.2に従って試験した。
鉛筆硬度が
Ｈ以上のものを○
Ｈより低いものを×
として評価した。
【００８７】
＜ヘイズ＞
積層体を濁度計３００Ａ （日本電色工業株式会社製）を用いて測定した。
ヘイズが、
１．０より低いものを○
１．０以上のものを×
として評価した。
＜屈折率＞
屈折率をアッベ屈折率計１T（株式会社アタゴ製）を用いて測定した。
＜表面抵抗値＞
表面抵抗値をハルスター（三菱化学株式会社製）を用いて測定した。
表面抵抗値が，１．０×１０10Ω／□以下を〇
表面抵抗値が，１．０×１０10Ω／□を超えるものを×
として評価した。
【００８８】
【表１】
2005196066.tif 000008
【００８９】
表１の結果より，本発明の感光性樹脂は，鉛筆硬度が高く，１．６６以上の屈折率を有し，１．０×１０10Ω／□以下の表面抵抗値を示すことから帯電防止性能に優れることに加えて，ポリエチレンテレフタレートに対する密着性に優れていることが判る。
これに対し、ナフタレン骨格を有してはいても、感光性不飽和二重結合が少ない比較例１は、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性が劣る。
また、ナフタレン骨格は有するがフェノール骨格を有しない比較例２は、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性が著しく劣る。またフェノール骨格は有してはいても、ナフタレン骨格を有してはいない比較例３は、ポリエチレンテレフタレートに対して全く密着しない。
さらに，無機粒子を含まない比較例４〜７は，屈折率が１．６未満と低く，表面抵抗値は１．０×１０10Ω／□を超え，帯電防止性能に劣る。
【００９０】
＜実施例６＞
（反射防止層用塗液）
シリカゾル（屈折率：１．３、固形分３０wt％、エタノール分散体）２２重量部に、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１０重量部、イソプロピルアルコール２００重量部、イルガキュア１８４を０．８重量部加え、低屈折率層用塗液を得た。
【００９１】
実施例１で得た硬化塗膜の上に、反射防止用の低屈折率層用塗液を硬化塗膜の厚さが約０．１μｍになるように塗布、乾燥し、窒素雰囲気下で積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ2となるように紫外線を照射し、反射防止層を形成し、反射防止フィルムを得た。
【００９２】
得られた反射防止フィルムについて、以下の方法に従って反射率、干渉縞の発生の有無を評価したところ、反射率は約１．２％、干渉縞は全くなかった。
【００９３】
＜反射率＞
塗布面の裏面（基材フィルムの裏面）をサンドペーパーで荒らしたサンプルを作成。このサンプルの反射防止面測定面とし、日立製作所製  自動分光光度計Ｕ−４０００を用い、５°の正反射で反射スペクトルを測定した。このスペクトルデータから反射率が最も低い値を読みとり、最低反射率の値とした。
【００９４】
＜干渉縞＞
塗布面の裏面（基材フィルムの裏面）をサンドペーパーで荒らした裏面反射防止処理を行った。このサンプルについて２０Ｗ蛍光灯の直近２０ｃｍの距離から干渉縞の有無を目視評価した。