(57)【要約】【課題】  表示装置に表示された所定の画像を視認可能とするとともに、ホールの従業員等による拭き取り作業を必要とせずに、付着した汚れ等を除去することができる遊技盤を備えた遊技機を提供する。【解決手段】  遊技球が流下する遊技領域を有する遊技盤と、遊技盤の裏面側に設けられた表示装置とを備えた遊技機において、遊技盤が、所定の透明性を有する第１の合成樹脂によって形成された基盤と、光触媒物質によって形成され、所定の透明性を有する薄膜層とによって構成されていることを要旨とする。【選択図】  図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技球が流下する遊技領域を有する遊技盤と、該遊技盤の裏面側に設けられた表示装置とを備えた遊技機であって、
前記遊技盤は、
所定の透明性を有する第１の合成樹脂によって形成された基盤と、
光触媒物質によって形成され、所定の透明性を有する薄膜層とによって構成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記光触媒物質は、酸化チタンによって構成されていることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記第１の合成樹脂は、ポリカーボネートによって構成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の遊技機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遊技球が流下する遊技領域を有する遊技盤と、該遊技盤の裏面側に設けられた表示装置とを備えた遊技機に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、遊技球が流下する遊技領域を有する遊技盤と、遊技領域に遊技球を発射させるための発射ハンドルとを備えた遊技機が知られている。
【０００３】
このような遊技機は、遊技者が発射ハンドルを操作する（回転させる）ことによって、遊技球が遊技領域に発射されるように構成されている。また、遊技機は、遊技領域に発射された遊技球が所定の入賞口（始動口や大入賞口）に入球することによって、所定数の遊技球が賞球として払い出されるように構成されている。
【０００４】
上述した遊技機に備えられた発射ハンドルは、遊技者によって操作されるものであるため、遊技者の手垢やタバコのヤニなどによって汚れ等が発射ハンドルに付着する。従って、発射ハンドルを清潔に保つために、発射ハンドルに付着した汚れ等を除去する必要があるが、ホールには多数の遊技機が設置されているため、ホールの従業員等が発射ハンドルに付着した汚れ等を拭き取ろうとすると、この拭き取り作業に必要な作業量が多大なものとなる。
【０００５】
そこで、ホールの従業員等による拭き取り作業を必要とせずに、発射ハンドルに付着した汚れ等を除去する方法として、光触媒性物質によって形成された層によって発射ハンドルをコーティングする方法が考えられた（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開２０００−１８５１３８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、近年、所定の透明性を有する遊技盤と、該遊技盤の裏面側に設けられた表示装置とを備えた遊技機が知られている。この遊技機においては、遊技盤が所定の透明性を有するため、遊技盤の裏面側に大きな表示装置を設けることが可能である。従って、この遊技機は、大きな表示装置に所定の画像（識別情報の可変表示や演出画像）を表示することによって、遊技の興趣の向上を図っている。
【０００７】
一方、この遊技機は、所定の透明性を有する遊技盤を介して、表示装置に表示された所定の画像を遊技者が視認できるように構成されているため、遊技盤に汚れ等が付着すると、表示装置に表示された所定の画像を視認することが困難となる恐れがある。
【０００８】
従って、遊技盤に付着した汚れ等を除去する必要があるが、ホールには多数の遊技機が設置されているため、ホールの従業員等が遊技盤に付着した汚れ等を拭き取ろうとすると、この拭き取り作業に必要な作業量が多大なものとなるという問題があった。また、上述した光触媒性物質は非透明な物質であるため、該光触媒性物質によって形成された層を遊技盤に形成すると、遊技盤を介して表示装置に表示された所定の画像を視認することができなくなるという問題があった。
【０００９】
そこで、本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであり、表示装置に表示された所定の画像を視認可能とするとともに、ホールの従業員等による拭き取り作業を必要とせずに、付着した汚れ等を除去することができる遊技盤を備えた遊技機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の特徴は、遊技球が流下する遊技領域を有する遊技盤と、遊技盤の裏面側に設けられた表示装置とを備えた遊技機において、遊技盤が、所定の透明性を有する第１の合成樹脂によって形成された基盤と、光触媒物質によって形成され、所定の透明性を有する薄膜層とによって構成されていることを要旨とする。
【００１１】
かかる特徴によれば、薄膜層が、光触媒物質によって形成されていることにより、遊技盤は、ホールの従業員等による拭き取り作業を必要とせずに、該遊技盤に付着した汚れ等を除去することができる。
【００１２】
また、薄膜層が、所定の透明性を有することにより、遊技盤は、表示装置に表示された所定の画像（識別情報の可変表示や演出画像等）を、該遊技盤を介して遊技者に視認させることができる。
【００１３】
本発明の第１の特徴において、光触媒物質は、酸化チタンによって構成されていることが好ましい。
【００１４】
本発明の第２の特徴は、第１の合成樹脂が、ポリカーボネートによって構成されていることを要旨とする。
【００１５】
かかる特徴によれば、第１の合成樹脂が、ポリカーボネートによって構成されていることにより、大入賞口や始動口等を遊技盤に取り付けるための取付孔を、遊技盤を切削することによって形成する場合に、遊技盤を容易に切削することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、表示装置に表示された所定の画像を視認可能とするとともに、ホールの従業員等による拭き取り作業を必要とせずに、付着した汚れ等を除去することができる遊技盤を備えた遊技機を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照しながら具体的に説明する。なお、各図面においては、同一の部材には同一の符号を付しており、以下の説明において、重複した説明は省略されている。
【００１８】
（遊技機の構成）
以下において、本実施形態における遊技機の構成について、図面を参照しながら説明する。図１は、本実施形態における遊技機１の概観を示す斜視図である。
【００１９】
図１に示すように、遊技機１は、遊技機１を遊技場に設置するための外枠１０と、外枠１０の前面側に開閉可能に設けられた内枠２０と、遊技球が流下する遊技領域が設けられた遊技盤３０と、回転操作されることによって遊技領域に遊技球を発射するように構成された発射ハンドル９とを具備する。
【００２０】
また、遊技盤３０上の遊技領域には、誘導部材３と、誘導部材４と、一般入賞口５と、始動口６と、大入賞口７と、アウト口８とが設けられている。なお、図１においては、遊技領域に設けられた釘は省略されている。
【００２１】
誘導部材３は、遊技盤３０上の遊技領域の上方に設けられ、遊技領域に発射された遊技球の流下方向を変化させるものである。また、誘導部材４は、誘導部材３の下方に設けられ、遊技領域に発射された遊技球の流下方向を変化させるものである。
【００２２】
一般入賞口５は、一般入賞口５に遊技球が入球すると、所定数（例えば、１５個）の遊技球が賞球として払い出されるように構成されている。
【００２３】
始動口６は、始動口６内に設けられた始動領域を遊技球が通過すると、遊技状態を大当り状態に移行させるか否かの判定（大当り判定）に用いる乱数が抽出されるように構成されている。また、始動口６は、始動口６に遊技球が入球すると、所定数（例えば、１０個）の遊技球が賞球として払い出されるように構成されている。
【００２４】
大入賞口７は、遊技状態が大当り状態に移行されると、所定の条件に従って開閉するように構成されている。また、大入賞口７は、大入賞口７に遊技球が入球すると、所定数（例えば、１５個）の遊技球が賞球として払出されるように構成されている。
【００２５】
アウト口８は、一般入賞口５、始動口６及び大入賞口７等の何れにも入球しなかった遊技球を受け入れるものである。
【００２６】
図２は、本実施形態における遊技機１に設けられた遊技盤３０、スペーサ４０及び液晶表示装置５０の配置関係を示す斜視図である。図２に示すように、遊技盤３０の裏面側には、スペーサ４０が配置され、該スペーサ４０の裏面側には、液晶表示装置５０が配置されている。
【００２７】
具体的には、遊技盤３０は、所定の透明性（例えば、光の透過率が５０％以上）を有する合成樹脂（例えば、ポリカーボネート）によって構成されている。また、遊技盤３０には、誘導部材３を取り付けるための取付孔３１と、誘導部材４を取り付けるための取付孔３２と、始動口６を取り付けるための取付孔３３と、大入賞口７を取り付けるための取付孔３４とが設けられている。さらに、遊技盤３０には、遊技領域に発射された遊技球の流下方向を変化させる複数の釘２（図２では、１本のみを図示）を取り付けるための釘下孔３５が設けられている。
【００２８】
スペーサ４０は、遊技盤３０に取り付けられた始動口６や大入賞口７の裏機構（ソレノイド等）が液晶表示装置５０に接触しないようにするためのスペースを、遊技盤３０と液晶表示装置５０との間に形成するためのものである。
【００２９】
液晶表示装置５０は、識別情報（例えば、特別図柄）の可変表示、遊技を盛り上げるための演出画像等を表示する。なお、遊技者は、液晶表示装置５０に表示された所定の画像を、所定の透明性を有する遊技盤３０を介して視認することができる。
【００３０】
図３は、本実施形態における遊技盤３０の拡大斜視図である。図３に示すように、遊技盤３０には、上述した取付孔３１、取付孔３２、取付孔３３、取付孔３４及び釘下孔３５が設けられている。
【００３１】
具体的には、誘導部材３は、取付孔３１に嵌め込まれるとともに、誘導部材３に設けられた所定の爪（不図示）が遊技盤３０の裏面側に係止されることによって、遊技盤３０に固定される。なお、誘導部材３は、ねじ止めされることによって、遊技盤３０に固定されてもよい。
【００３２】
誘導部材４は、取付孔３２に嵌め込まれるとともに、誘導部材４に設けられた所定の爪（不図示）が遊技盤３０の裏面側に係止されることによって、遊技盤３０に固定される。なお、誘導部材４は、ねじ止めされることによって、遊技盤３０に固定されてもよい。
【００３３】
始動口６は、取付孔３３に嵌め込まれるとともに、始動口６に設けられた所定の爪（不図示）が遊技盤３０の裏面側に係止されることによって、遊技盤３０に固定される。なお、始動口６は、ねじ止めされることによって、遊技盤３０に固定されてもよい。
【００３４】
大入賞口７は、取付孔３４に嵌め込まれるとともに、大入賞口７に設けられた所定の爪（不図示）が遊技盤３０の裏面側に係止されることによって、遊技盤３０に固定される。なお、大入賞口７は、ねじ止めされることによって、遊技盤３０に固定されてもよい。
【００３５】
釘２は、螺旋状に形成された凸部（ねじ山）を有し、螺旋状に形成された凹部（ねじ谷）を内側に有する釘下孔３５にねじ込まれることによって、遊技盤３０に固定される。
【００３６】
（遊技盤の形成方法）
以下において、本実施形態における遊技盤３０の形成方法について、図面を参照しながら説明する。図４は、本実施形態における遊技盤３０の形成方法を示すフロー図である。
【００３７】
図４に示すように、ステップ１００において、所定の透明性（例えば、光の透過率が５０％以上）を有する合成樹脂（粒上の材料）を、板状の合成樹脂板（第１段階）を形成する押出し成形機に投入する。なお、所定の透明性を有する合成樹脂とは、ポリカーボネート、アクリル系樹脂、ポリエチレン等の合成樹脂である。
【００３８】
ステップ１１０において、押出し成形機は、投入された合成樹脂を加工することによって、板状の合成樹脂板（第１段階）を成形する。具体的には、押出し成形機は、投入された合成樹脂に熱を加えることによって、該合成樹脂を溶融するとともに、溶融された合成樹脂（溶融樹脂）を、金型を通じて押出す。また、押出し成形機は、金型を通じて押出された溶融樹脂を冷却し、板状の合成樹脂板（第１段階）を成形する。
【００３９】
なお、合成樹脂板（第１段階）は、１枚の合成樹脂板（第１段階）から所定枚数（本実施形態では４枚）分の基盤（遊技盤３０）を切り出すことができる大きさ（例えば、８８０ｍｍ×９２５ｍｍ×１０．５ｍｍ）を有するものとする。また、押出し成形機によって成形された合成樹脂板（第１段階）は、該合成樹脂板（第１段階）を切り離すダイシング装置に搬送される。
【００４０】
ステップ１２０において、ダイシング装置は、押出し成形機によって成型された合成樹脂板（第１段階）を、所定枚数（本実施形態では４枚）の基盤（遊技盤３０）に切り離す。なお、１枚の基盤の大きさは、４２８ｍｍ×４５０ｍｍ×１０．５ｍｍであるものとする。また、ダイシング装置によって切り離された各基盤は、基盤の表面に薄膜層を形成する装置（溶剤を塗布する塗布装置や塗布された溶剤を乾燥させる遠赤処理装置等）に搬送される。
【００４１】
ステップ１３０において、塗布装置は、光触媒物質（例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２））等を含む溶剤を基盤の表面側に噴射（スプレー）することによって、該溶剤を基盤の表面側に塗布する。また、遠赤処理装置は、基盤に塗布された溶剤を乾燥させることによって、基盤の表面側に薄膜層を形成する（薄膜層形成工程）。なお、この薄膜層形成工程の詳細については、後述ずる（図５を参照）。
【００４２】
なお、表面側及び裏面側に薄膜層が形成された基盤（合成樹脂板（第２段階））は、取付孔３１〜取付孔３４及び釘下孔３５を形成するルータ加工装置に搬送される。
【００４３】
ステップ１４０において、ルータ加工装置は、所定の加工データに基づいて、合成樹脂板（第２段階）を切削することによって、取付孔３１〜取付孔３４及び釘下孔３５を形成する。
【００４４】
以下において、上述した薄膜層形成工程について、図面を参照しながら説明する。図５は、本実施形態における薄膜層形成工程を示すフロー図である。
【００４５】
図５に示すように、ステップ１３１において、前処理装置は、基盤の表面側に熱を加える処理（前処理）を行う。具体的には、前処理装置は、前処理装置に備えられたバーナー等によって基盤の表面側に熱を加えることによって、基盤の表面側にケイ素皮膜を形成する。
【００４６】
ステップ１３２において、除塵・除電装置は、基盤の表面側に付着している塵や基盤の表面に帯電している静電気を取り除く処理（塵除・除電処理）を行う。
【００４７】
ステップ１３３において、塗布装置は、光触媒物質（酸化チタン（ＴｉＯ２））を含む溶剤を、基盤の表面側に噴射（スプレー）することによって、該溶剤を基盤の表面側に塗布する処理（塗布処理）を行う。例えば、塗布装置は、チタンアルコシキドを加水分解した後に、少量の塩酸等を加えた溶剤を、基盤の表面側に噴射する。
【００４８】
なお、塗布装置は、溶剤の入った溶剤槽に基盤を浸漬することによって、該溶剤を基盤の表面側に塗布してもよい（ディッピング）。
【００４９】
ステップ１３４において、遠赤処理装置は、基盤の表面側に塗布された溶剤を乾燥させる処理（遠赤処理）を行う。具体的には、遠赤処理装置は、基盤の表面側に塗布された溶剤（光触媒物質（酸化チタン（ＴｉＯ２））を含む溶剤）を乾燥させることによって、粒子の直径が１μｍ以下の酸化チタン（ＴｉＯ２）によって構成された薄膜層を、基盤の表面側に形成する（ゾルゲル法）。
【００５０】
（遊技盤の構成）
以下において、本実施形態における遊技盤３０の構成について説明する。図６は、本実施形態における遊技盤３０の構成を示す断面図である。
【００５１】
図６に示すように、遊技盤３０は、所定の透明性を有する合成樹脂（ポリカーボネート）によって形成された基盤６０と、光触媒物質（酸化チタン（ＴｉＯ２））によって基盤６０の表面側に形成され、所定の透明性を有する薄膜層６１とによって構成されている。
【００５２】
基盤６０は、ポリカーボネートによって形成され、所定の透明性（光の透過率が５０％以上）を有する。また、薄膜層６１は、粒子の直径が１μｍ以下の酸化チタン（ＴｉＯ２）によって形成され、所定の透明性（光の透過率が５０％以上）を有する。
【００５３】
上述した薄膜層６１は、ホール内の照明やホール外からの太陽光等に含まれる紫外線（波長が４００ｎｍ以下）が照射されることによって、薄膜層６１（遊技盤３０）の表面側に付着した汚れ等（手垢やタバコのヤニ）を分解する。
【００５４】
具体的には、薄膜層６１は、紫外線が照射されることによって、電子及び正孔を生成し、生成された電子及び正孔は、水や酸素等と反応することによって、ＯＨラジカルやスーパーオキサイドアニオン（Ｏ２−）等の活性酸素を生成する。ここで、活性酸素のエネルギーは、１２０ｋｃａｌ／ｍｏｌであるのに対し、有機物等（薄膜層６１の表面側に付着した汚れ等）を構成する分子（炭素−炭素、炭素−窒素、酸素−水素、窒素−水素）の結合エネルギーは、１００ｋｃａｌ／ｍｏｌ前後である。従って、生成された活性酸素は、有機物等を構成する分子の結合を切り離すことができる。すなわち、薄膜層６１は、紫外線の照射によって生成された活性酸素の酸化力・還元力によって、薄膜層６１（遊技盤３０）の表面側に付着した汚れ等を分解することができる。
【００５５】
なお、基盤６０の表面側に塗布される溶剤は、クロムやバナジウム等の金属イオンを加えた酸化チタン（ＴｉＯ２）によって構成されていてもよい。このような溶剤によって形成された薄膜層６１は、紫外線（波長が４００ｎｍ以下）だけではなく、可視光線（波長が４００ｎｍ以上）が照射されることによっても、活性酸素を生成し、薄膜層６１の表面側に付着した汚れ等（有機物等）を分解することができる。
【００５６】
なお、薄膜層６１は、ＴｉＯ２に代えて、ＴｉＯ２よりも酸素の含有比率が低い酸化チタン（ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ３Ｏ５等）によって形成されていてもよい。また、薄膜層６１は、ＴｉＯ２に代えて、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｈｆ等を主体とする酸化物無機物質によって形成されていてもよい。
【００５７】
さらに、薄膜層６１は、基盤６０の表面側に加えて、基盤６０の裏面側に形成されていてもよい。
【００５８】
（遊技盤の作用、及び、効果）
本実施形態における遊技盤３０によれば、光触媒物質（ＴｉＯ２）によって形成された薄膜層６１が基盤６０の表面側に形成されていることにより、遊技盤３０は、ホール内の照明やホール外からの太陽光の照射によって、遊技盤３０の表面側に付着した汚れ（手垢やタバコのヤニ等）を、ホールの従業員等による拭き取り作業を必要とせずに除去することができる。
【００５９】
また、基盤６０の表面側に、所定の透明性を有する薄膜層６１が形成されていることにより、遊技盤３０は、液晶表示装置５０に表示された所定の画像（識別情報の可変表示や演出画像等）を、該遊技盤３０を介して遊技者に視認可能とすることができる。
【００６０】
さらに、基盤６０が、ポリカーボネートによって構成されていることにより、始動口６、大入賞口７及び釘２を遊技盤３０に取り付けるための取付孔３１〜取付孔３４及び釘下孔３５を、遊技盤を切削することによって形成する場合に、遊技盤３０を容易に切削することができる。
【００６１】
また、遠赤処理装置が、基盤６０に塗布された溶剤（光触媒物質（ＴｉＯ２）等を含む）を遠赤処理（ステップ１３４）によって乾燥させるため、遠赤処理装置は、該溶剤を短時間で乾燥させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本実施形態における遊技機１の概観を示す斜視図である。
【図２】本実施形態における遊技機１に設けられた遊技盤３０、スペーサ４０及び液晶表示装置５０の配置関係を示す斜視図である。
【図３】本実施形態における遊技盤３０の拡大斜視図である。
【図４】本実施形態における遊技盤３０の形成方法を示すフロー図である。
【図５】本実施形態における薄膜層形成工程を示すフロー図である。
【図６】本実施形態における遊技盤３０の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６３】
１・・・遊技機、２・・・釘、３・・・誘導部材、３ａ、３ｂ・・・誘導口、４・・・誘導部材、４ａ、４ｂ・・・誘導口、５・・・一般入賞口、６・・・始動口、７・・・大入賞口、８・・・アウト口、９・・・発射ハンドル、１０・・・外枠、２０・・・内枠、３０・・・遊技盤、３１〜３４・・・取付孔、３５・・・釘下孔、４０・・・スペーサ、５０・・・表示装置、６０・・・基盤、６１・・・薄膜層
【図１】
2005296471.tif 000003
【図２】
2005296471.tif 000004
【図３】
2005296471.tif 000005
【図４】
2005296471.tif 000006
【図５】
2005296471.tif 000007
【図６】
2005296471.tif 000008