(57)【要約】  【課題】  磁気ディスクカートリッジが外部磁場に晒された場合であっても、磁気ディスクに記録されているデータの消失を低減する。  【解決手段】  磁気ディスクカートリッジが、可撓性を有する磁気ディスク４と、該磁気ディスク４を回転可能に収容したケースＣとを備え、ケースＣが、透磁率が１×１０-5Ｈ／ｍ以上の軟磁性材料からなる。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有する磁気ディスクと、該磁気ディスクを回転可能に収容したケースとを備えた磁気ディスクカートリッジにおいて、
前記ケースが、透磁率が１×１０-5Ｈ／ｍ以上の軟磁性材料からなることを特徴とする磁気ディスクカートリッジ。
【請求項２】
前記軟磁性材料が、ＳＵＳ４３０もしくはケイ素鋼であることを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスクカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、可撓性を有する磁気ディスクを収容した磁気ディスクカートリッジに関するものであり、特に、ケースの材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年デジタルカメラ等のモバイル機器においては、記録媒体としてたとえば「ｃｌｉｋ！（登録商標）」や「Ｐｏｃｋｅｔ  Ｚｉｐ（登録商標）」と呼ばれる超小型の磁気ディスクカートリッジが使用されている。このディスクカートリッジは、たとえば幅５０ｍｍ、奥行き５５ｍｍ、厚さ１．９５ｍｍの扁平な金属薄板からなる上下シェルを備えたハウジング（ケース）内に、４０ＭＢの記憶容量を有する直径約１．８インチ（４６．５ｍｍ）の磁気ディスクからなる情報記録媒体を回転自在に収容したものである。この小型の磁気ディスクカートリッジのハウジングには、たとえばＳＵＳ３０４等の非磁性材料が用いられている。
【０００３】
また、フロッピー（登録商標）ディスク等に代表される従来の磁気ディスクカートリッジは、プラスチック樹脂（たとえばＡＢＳ樹脂等）や熱可塑性樹脂等の非磁性材料からなるケースに磁気ディスクを収容した構造を有している。
【０００４】
ここで、ケースをプラスチック樹脂（たとえばＡＢＳ樹脂等）等により成形した場合、外部磁場の影響によりケース内の磁気ディスクに記録されているデータが壊れて読み出し不能になってしまうという問題がある。そこで、ケースとして熱可塑性樹脂を用いた磁気ディスクカートリッジにおいて、たとえば磁気ディスクカートリッジのケースに熱可塑性樹脂の中に金属微小繊維および／または金属被覆微小繊維を含有することにより、ケースに電磁波遮断機能を持たせた磁気ディスクカートリッジが提案されている（たとえば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開平４−１８２９７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１に示す熱可塑性樹脂に金属微小繊維等を含有したケースを用いたとしても、外部磁場の影響を十分に回避することはできず、ケースに収容されている磁気ディスクに記録されているデータが壊れて読み出し不能になってしまうという問題がある。同様に、ハウジングがＳＵＳ３０４等の非磁性材料からなる小型磁気ディスクカートリッジにおいても、外部磁場の影響によりハウジングに収容されている磁気ディスクに記録されているデータが壊れて読み出し不能になってしまうという問題がある。特に、上述した小型磁気ディスクカートリッジにおいて、たとえば面記録密度が約１５８．７Ｍｂｉｔ／ｃｍ2（１Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ2）以上である高記録密度の磁気ディスクを収容した場合、外部磁場による影響がさらに大きくなる。
【０００６】
そこで、本発明は、磁気ディスクカートリッジが外部磁場に晒された場合であっても、磁気ディスクに記録されているデータが消失しにくい磁気ディスクカートリッジを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の磁気ディスクカートリッジは、可撓性を有する磁気ディスクと、磁気ディスクを回転可能に収容したケースとを備えた磁気ディスクカートリッジにおいて、ケースが、透磁率が１×１０-5Ｈ／ｍ以上の軟磁性材料からなることを特徴とするものである。
【０００８】
ここで、ケースは、透磁率が１×１０-5Ｈ／ｍ以上の軟磁性材料からなるものであればその材料の種類は問わず、たとえば軟磁性材料は、ＳＵＳ４３０もしくはケイ素鋼であってもよい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の磁気ディスクカートリッジによれば、ケースが、たとえばＳＵＳ４３０もしくはケイ素鋼等の透磁率が１×１０-5Ｈ／ｍ以上の軟磁性材料からなることにより、磁気ディスクカートリッジが外部磁場に晒された場合であっても、外部磁場を軟磁性材料からなるケースによって減衰することができるため、ケース内の磁気ディスクの磁化の減少または反転が生じにくくなり、磁気ディスクに記憶されたデータの消失を低減して信頼性の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照して本発明のディスクカートリッジの実施の形態を詳細に説明する。図１は本発明のディスクカートリッジの分解斜視図である。図１のディスクカートリッジ１は、たとえばいわゆる３．５インチタイプのフロッピー（登録商標）ディスクカートリッジであり、上シェル２および下シェル３を接合して形成された扁平なケースＣと、ケースＣ内に回転自在に収容された円盤状の磁気ディスク４と、ケースＣ内の磁気ディスク４に対面する内面に配置された除塵用のライナー６、６とを備えている。
【００１１】
上シェル２および下シェル３は扁平な略矩形状に形成されており、透磁率が１×１０-5Ｈ／ｍ以上、より好ましくは５×１０-5Ｈ／ｍ以上の軟磁性材料からなっている。このような軟磁性材料の好ましい具体例としては、ＳＵＳ４３０、ケイ素鋼を挙げることｇで着る。上シェル２および下シェル３の外周には側壁を構成する外周リブ２ａ、３ａが形成されている。上シェル２および下シェル３の隅角部にはそれぞれ略斜めに内側リブ２ｂ、３ｂが設けられている。また上シェル２および下シェル３には、磁気ディスク４にアクセスするための磁気ヘッド挿入用窓部１０、１１が略長方形状に設けられている。
【００１２】
下シェル３の中央部分には、センターコア５が臨む大きさの円形状のスピンドル孔３ｃが形成されている。上シェル２の内面の中心部には、センターコア５の外周の環状部分より内側に位置する環状突起１２が突設されている。この環状突起１２はセンターコア５の上記環状部分の内側に嵌入して、磁気ディスク４の半径方向への移動を規制するようになっている。
【００１３】
また、上シェル２および下シェル３の情報記録媒体４に対向する内面にはそれぞれライナー６、６がたとえば熱溶着もしくは接着等により取り付けられている。ライナー６、６は互いに同一形状（対称形状）で、窓部１０、１１に重なる部分については切除されており、中心部についても環状突起１２またはスピンドル孔３ｃの外径より大きい円孔が形成されている。
【００１４】
磁気ディスク４は、たとえば円盤状の磁気ディスクであって、中央部においてセンターコア５が固定されている。そして、ディスクカートリッジ１が図示しないドライブ装置に装填されると、センターコア５がドライブ装置の回転スピンドルと係合し、磁気ディスク４が矢印Ｄ方向に回転可能に保持されることになる。
【００１５】
特に、磁気ディスク４は、線記録密度が１００Ｋｂｐｉ以上またはトラック密度が１０Ｋｔｐｉ以上、面記録密度が約１５８．７Ｍｂｉｔ／ｃｍ2（１Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ2）以上、好ましくは５Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ2以上の高容量の磁気情報記録媒体からなっている。この磁気ディスク４は、たとえば書き込みトラック幅１．５μｍ、読み出しトラック幅１．０μｍの複合型ＭＲヘッドを用いて情報の記録再生が行われるものである。このような磁気ディスク４は、支持体と、支持体上に設けられた実質的に非磁性の下地層と、下地層に積層された六方晶系フェライト粉末を結合剤中に分散してなる磁性層とを有している。以下に、磁気ディスク４の各構成について説明していく。
【００１６】
［支持体］
まず、磁気ディスク４に用いられる支持体について説明する。支持体は、非磁性可撓性支持体であることが好ましく、たとえばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカ−ボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリアラミド、芳香族ポリアミド、ポリベンゾオキサゾールなどの公知のフィルムが使用でき、さらにポリエチレンナフタレ−ト、ポリアミドなどの高強度支持体を用いることが好ましい。また必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７号公報に示されるような積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良い。また支持体としてアルミまたはガラス基板を適用することも可能である。
【００１７】
具体的には、ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した中心面平均表面粗さＳＲａは８．０ｎｍ以下、好ましくは４．０ｎｍ以下、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下のものを支持体として使用することが好ましい。これらの支持体は単に中心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーとしては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末があげられる。支持体の最大高さＳＲｍaxは１μｍ以下、十点平均粗さＳＲzは０．５μｍ以下、中心面山高さＳＲpは０．５μｍ以下、中心面谷深さＳＲvは０．５μｍ以下、中心面面積率ＳＳrは１０％以上、９０％以下、平均波長Ｓλaは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロールできるものであり、０．０１μｍから１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ2あたり０個から２０００個の範囲でコントロールすることができる。
【００１８】
さらに、支持体のＦ−５値は好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ2（４９〜４９０ＭＰａ）、また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは０．５％以下、さらに好ましくは０．１％以下である。破断強度は５〜１００Ｋｇ／ｍｍ2（４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2（０．９８〜１９．６ＧＰａ）が好ましい。温度膨張係数は１０-4〜１０-8／℃であり、好ましくは１０-5〜１０-6／℃である。湿度膨張係数は１０-4／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０-5／ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しいことが好ましい。
【００１９】
［下地層］
次に、上述した支持体上に設けられる下地層について説明する。下地層に用いられる無機粉末は非磁性粉末であり、例えば金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長は０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度は０．０５〜２ｇ/ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ/ｍｌである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５質量％、好ましくは０．２〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末のＳBETは１〜１００ｍ2／ｇ、好ましくは５〜８０ｍ2／ｇ、更に好ましくは１０〜７０ｍ2／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ/１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ/１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ/１００ｇである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。
【００２０】
非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍｏｌ／ｍ2、好ましくは２〜１５μｍｏｌ/ｍ2、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ/ｍ2である。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。これらの非磁性無機粉末の表面には表面処理によりＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｙ2Ｏ3が存在するが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2であるが、更に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカを存在させる方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００２１】
下地層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
【００２２】
下地層にカーボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。また、下地層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。下地層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
【００２３】
下地層のカーボンブラックのＳBETは１００〜５００ｍ2／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ/１００ｇ、好ましくは３０〜４００ｍｌ/１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は５〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。
【００２４】
カーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コンロンビアカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機化合物に対して５０質量％を越えない範囲、下地層（非磁性層）総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。なお、カーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００２５】
また下地層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号公報、特開昭６０−２５５８２７号公報に記されているようなものが使用できる。
【００２６】
下地層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００２７】
［磁性層］
次に、下地層に積層された磁性層について説明する。磁性層は、六方晶系フェライト粉末を結合剤中に分散した磁性塗料を下地層に塗布した後乾燥することにより形成されている。この六方晶系フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライト、及びこれらの置換体、例えば、Ｃｏ置換体等が挙げられる。具体的にはマグネートプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネートプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネートプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。
【００２８】
六方晶系フェライト粉末の平均板径が１２ｎｍ以上、５０ｎｍ以下、平均板厚が５ｎｍ以上、１５ｎｍ以下、抗磁力が１８００Ｏｅ（１４４ｋＡ／ｍ）以上、５０００Ｏｅ（４００ｋＡ／ｍ）以下であることが好ましく、２０００Ｏｅ（１６０ｋＡ／ｍ）以上、３５００Ｏｅ（２８０ｋＡ／ｍ）以下が特に好ましい。
【００２９】
平均板径が１０ｎｍ未満または平均板厚が５ｎｍ以下になると、磁気異方性を維持することが困難になり、抗磁力が低下したり、熱安定性が低下し好ましくない。
【００３０】
抗磁力は１８００Ｏｅ（１４４ｋＡ／ｍ）未満になると、記録減磁を受けやすく出力が低下する。５０００Ｏｅ（４００ｋＡ／ｍ）を越えるとヘッドによる記録が困難になり出力が低下する。板状比（板径／板厚）は２〜５が好ましい。板状比が小さいと磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得られない。大きいと粒子間のスタッキングによりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積（ＳBET）は２０〜２００ｍ2／ｇを示す。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。
【００３１】
これらは粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
【００３２】
Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ2／ｋｇである。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネートプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶系フェライトを用いることも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して０．１〜１０％である。表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2以下になり好ましい。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常、４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選ばれる。六方晶系フェライトの製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後、洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが製法を選ばない。
【００３３】
六方晶系フェライト粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ppｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。
【００３４】
［カーボンブラック、研磨剤］
次に、磁気ディスク４の磁性層中に分散されているカーボンブラックおよび研磨剤について説明する。磁気ディスク４の磁性層に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。ＳBETは５〜５００ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５μｍ〜３００μｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌ、が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、９０５、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００，＃１０００＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  １５０、５０，４０，１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェンブラックＥＣ、などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。
【００３５】
これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体に対する量の０．１〜３０％でもちいることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層磁性層、下地層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ＰＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００３６】
また、研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイヤモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわりはない。
【００３７】
これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましく、特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜２g/ｍl、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、ＳBETは１〜３０ｍ2／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、レイノルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製ＵＢ２０、日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製Ｂ−３、東名ダイヤ社製ＭＤ１５０、ランズ社製ＬＳ−６００Ｆなどが挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することもできる。非磁性層に添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【００３８】
［添加剤］
上述した下地層および磁性層には添加剤が含まれており、この添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果等をもつものが使用される。たとえば二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。
【００３９】
これらの具体例としては脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレイル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００４０】
上述した潤滑剤、界面活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。下地層（非磁性層）、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁性粉体に対し、０．１％〜５０％、好ましくは２％〜２５％の範囲で選択される。
【００４１】
また添加剤のすべてまたはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない。例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダ−した後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。なお、有機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開平６−６８４５３号公報に記載の溶剤を用いることができる。
【００４２】
［結合剤］
結合剤としては従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１,０００〜２００,０００、好ましくは１０,０００〜１００,０００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。
【００４３】
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、電子線硬化型樹脂を各層に使用すると、塗膜強度が向上し耐久性が改善されるだけでなく、表面が平滑化し電磁変換特性もさらに向上する。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号公報に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものが挙げられる。
【００４４】
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テルポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネートポリウレタン、ポリエステルポリカ−ボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ，−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、−ＮＲ2、−Ｎ+Ｒ3（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇである。
【００４５】
これらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカ−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭ/ML，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、大日精化社製ダイフェラミン４０２０，５０２０，５１００，５３００，９０２０，９０２２、７０２０，三菱化成社製ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０などがあげられる。
【００４６】
非磁性層、磁性層に用いられる結合剤は非磁性粉体または磁性体に対し、５〜５０質量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は通常、０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ2（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ2（０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。
【００４７】
上述のように磁気ディスク４は少なくとも二層からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁性層、磁性層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることができる。
【００４８】
ここで、ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ，等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも用いることができる。
【００４９】
［製造方法］
次に、上述した材料を用いた磁気ディスク４の製造方法について説明する。磁気ディスクの磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉体、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。
【００５０】
例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニ−ダを用いる場合は磁性体または非磁性粉体と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および磁性体１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、磁性層液および非磁性層液を分散させるにはガラスビーズを用いることができるが、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。
【００５１】
重層構成の非磁性塗料および磁性塗料を塗布する場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下地層を塗布し、下地層がウェット状態のうちに特公平１−４６１８６号公報や特開昭６０−２３８１７９号公報，特開平２−２６５６７２号公報に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布する方法。第二に特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７９７１号公報，特開平２−２６５６７２号公報に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下地層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特開平２−１７４９６５号公報に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により上下地層をほぼ同時に塗布する方法である。
【００５２】
なお、磁性粒子の凝集による磁気ディスク媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−９５１７４号公報や特開平１−２３６９６８号公報に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４７１号公報に開示されている数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実現するには下地層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性層を設ける逐次重層塗布を用いてもよい。
【００５３】
磁気ディスクの場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直方向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダムとすることも可能である。またスピンコ−トを用い、円周配向しても良い。
【００５４】
また、乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるようにすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ/分〜１０００ｍ/分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい、また磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥を行なうこともできる。
【００５５】
カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロールまたは金属ロールで処理するが、特に両面磁性層とする場合は金属ロール同志で処理することが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好ましくは２００ｋg/ｃｍ以上（１９６ｋＮ／ｍ）、さらに好ましくは３００ｋg/ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）以上である。また、アルミナ、酸化クロム、ダイヤモンド等からなる研磨テープで表面処理を行うと、突起や異物が除去できて好ましい。
【００５６】
［層構成］
本発明の磁気ディスクの厚み構成は支持体が２μｍ〜１５０μｍ、好ましくは２０μｍ〜８０μｍである。支持体と非磁性層また磁性層の間に密着性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは０．０１μｍ〜０．５μｍ、好ましくは０．０２μｍ〜０．５μｍである。磁気ディスクは通常支持体両面に非磁性層と磁性層を設けてなるものであっても、片面のみに設けてもかまわない。この場合、帯電防止やカール補正などの効果を出すために非磁性層、磁性層側と反対側にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは０．１μｍ〜４μｍ、好ましくは０．３μｍ〜２．０μｍである。これらの下塗層、バックコート層は公知のものが使用できる。
【００５７】
磁性層の厚みは２００ｎｍ以下であるが、３０ｎｍ〜１５０ｎｍが好ましい。厚み変動率は±２０％以内が好ましく、さらに好ましくは±５％以内である。磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【００５８】
下地層である非磁性層の厚みは０．２μｍ以上５．０μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以上３．０μｍ以下、さらに好ましくは１．０μｍ以上２．５μｍ以下である。なお、下地層は実質的に非磁性層であればその効果を発揮するものであり、たとえば不純物としてあるいは意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を示すものであり、本発明と実質的に同一の構成と見なすことができることは言うまでもない。実質的に非磁性層とは下地層の残留磁束密度が５０ｍＴ以下または抗磁力が５００Ｏｅ（４０ｋＡ／ｍ）以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力をもたないことを示す。
【００５９】
[ライナー]
ライナー６を形成する材料としては、磁気ディスクメディアに付着した塵埃等を払拭、捕捉する効果がより大きいものを適用することが望ましい。そのような材料として具体的には、例えば東レ株式会社製の「トレシー」（登録商標）等のポリエステル極細長繊維からなる織布、例えば旭化成株式会社製の「エルタス（ポリエステル）」（登録商標）等のポリエステル長繊維からなる不織布、例えば旭化成株式会社製の「エルタス（ポリプロピレン）」（登録商標）等のポリプロピレン長繊維からなる不織布、例えば旭化成株式会社製の「エルタス（ポリエステルＥＨ５０４５、ＥＨ５０４５Ｃ）」（登録商標）等のポリエステル長繊維からなる不織布の全面に圧力を掛けたもの、熱融着性繊維及び非熱融着性繊維の混合体からなる繊維ウェブを熱融着させて形成される不織布が挙げられる。なお特開２０００−３４６６３号に詳しく示されているように、上記熱融着性繊維としては、単一型繊維、低融点成分及び高融点成分からなる並列構造又は芯鞘構造の複合繊維が挙げられる。
【００６０】
上記複合繊維を構成する成分の具体例としては、下記の成分等が挙げられる。尚、単一型繊維の場合の成分は、下記低融点成分に加えて、通常のポリプロピレン（ＰＰ）なども用いることができる。低融点成分としては、融点が１００〜２２０℃の低融点成分が好ましく、具体的にはポリエチレン（ＰＥ）、ポリブテン及びエチレン及び／又はブテンとα−オレフィンとの共重合体；プロピレンとα−オレフィンとの共重合体として知られるブロックコポリマー、ランダムコポリマー若しくはグラフトコポリマー等の低融点のＰＰ；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又はポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）における、テレフタル酸ユニットのうち少なくとも１部分がジカルボン酸に置換された低融点ポリエステル等の成分が好ましく挙げられる。上記低融点成分は、２つ以上の成分をブレンドすることも可能である。また、高融点成分としては、融点が１６０〜２６０℃である成分が好ましく、具体的には例えば、ＰＥＴ、ＰＢＴ等のポリエステル；ＰＰ；メチルペンテン共重合体が好ましく挙げられる。一方、上記非熱融着性成分としては、ＰＥＴ及びＰＢＴ等のポリエステル系成分、アセテート及びトリアセテート等のアセテート系成分、フッ素系成分等が挙げられる。
【実施例】
【００６１】
以下、実施例を用いてさらに本発明の詳細について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。尚、後述する「部」は「質量部」を示す。
【００６２】
［実施例１］
下記磁性塗料と非磁性塗料それぞれについて、各成分をニ−ダで混練したのち、磁性塗料についてはサンドミルをもちいて回転数２０００ｒｐｍで１２時間分散し、非磁性塗料についてはサンドミルを用いて回転数２０００ｒｐｍで３時間分散した。得られた磁性液と非磁性塗料の分散液にポリイソシアネ−トを磁性塗料の塗布液には３部、非磁性塗料の塗布液には６部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン３０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層形成用および非磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調整した。
【００６３】
得られた非磁性層塗布液を、厚さ５３μｍで中心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンナフタレート支持体上に乾燥後の厚さが１．５μｍになるように塗布し乾燥後に、磁性層の厚さが０．１μｍになるように塗布を行い、乾燥後、７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ/ｃｍにて処理を行い、１．８吋に打ち抜き、さらに５５℃の恒温糟内で２４時間熱処理することにより、磁気ディスク４を作成した。そして、この磁気ディスク４をライナーが内側に貼り付けられた、１．８インチディスク用の透磁率が5×１０-5Ｈ／ｍのＳＵＳ４３０からなるケースＣに収容し、１．８インチの磁気ディスクを収容した磁気ディスクカートリッジ１を作成した。
【００６４】
＜磁性塗料Ａ＞
六方晶バリウムフェライト                                          １００部
表面処理：Al2O3 ５重量％、SiO2 ２重量％
Hc：２５００Ｏｅ
板径：３０ｎｍ
板状比：3
σｓ：56emu/g
塩化ビニル共重合体
ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）                                    ６部
ポリウレタン樹脂  
ＵＲ８３００（東洋紡社製）                                      ３部
ダイヤモンド（平均粒径１５０ｎｍ）                                    ２部
カ−ボンブラック    
＃５０（旭カーボン社製）                                        １部
イソヘキサデシルステアレート                                          ５部
ステアリン酸                                                          １部
オレイン酸                                                            １部
メチルエチルケトン                                                  ８０部
シクロヘキサノン                                                  １２０部
＜非磁性塗料＞  
α−Ｆｅ2Ｏ3  ヘマタイト                                           １００部
長軸長  ０．０７μm、短軸長  ０．０１４μｍ
ＢＥＴ法による比表面積  ５５m2/g   
ｐＨ  ９、表面処理剤Ａｌ2Ｏ3  ８重量％
カ−ボンブラック（平均粒径20ｎｍ）
コンダクテックスＳＣ−Ｕ(コロンビアンカーボン社製)          ２５部
塩化ビニル共重合体
ＭＲ１０４（日本ゼオン社製）                                １５部
ポリウレタン樹脂
ＵＲ８３００（東洋紡社製）                                    ７部
フェニルホスホン酸                                                    ４部
イソヘキサデシルステアレート                                          ６部
オレイン酸                                                        １．３部
ステアリン酸                                                      １．３部
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤）            ２５０部
［実施例２］
実施例１において、ケースＣの材質を１×１０-３Ｈ／ｍのケイ素鋼とした。
【００６５】
［比較例１］
実施例１において、ケースＣの材質を１×１０-６Ｈ／ｍのＡＢＳ樹脂とした。
【００６６】
［比較例２］
実施例１において、ケースＣの材質を１×１０-６Ｈ／ｍのＳＵＳ３０４とした。
【００６７】
＜評価方法＞ 
米ＧＵＺＩＫ社製のＲＷＡ１６０１型ディスク評価装置および協同電子システム（株）製スピンスタンドＬＳ−９０にて、書き込みトラック幅１．５μｍ、読み出しトラック幅１μｍの複合型ＭＲヘッドを用い、回転数３６００ｒｐｍで半径２０ｍｍの位置において記録波長１５０ｋｆｃｉで記録した後、ヘッド増幅器の再生出力を横河電機製デジタルオシロスコープＤＬ１５４０Ｌで測定した。外部磁場印加前の出力を１００％とし、１０ｋＡ／ｍの外部磁場を印加したときの出力結果を表１に示す。
【表１】
2005267760.tif 000003
【００６８】
この表１において、実施例１および２に示すように、ケースＣの透磁率が１×１０-３Ｈ／ｍ以上のとき、外部磁場印加後の磁気ディスク４からの出力は９０％以上を維持している。一方、比較例１および２に示すように、ケースＣの透磁率が１×１０-5Ｈ／ｍより小さいときには外部磁場印加後の磁気ディスク４からの出力が６０％まで落ちてしまう。以上により、ケースＣが、透磁率が１×１０-5Ｈ／ｍ以上の軟磁性材料からなることにより、磁気ディスク４に記録されたデータの消失が低減されることがわかる。よって、磁気ディスクカートリッジの持ち運び時や保管時に磁気ディスクカートリッジが外部磁場に晒された場合であっても、外部磁場を軟磁性材料からなるケースによって減衰することができるため、ケース内の磁気ディスクの磁化の減少または反転が生じにくくなる。よって、磁気ディスクに記憶されたデータが消失しにくくなり、信頼性の向上を図ることができる。
【００６９】
なお、本発明の実施の形態は、上記実施の形態に限定されない。たとえば、図１においていわゆる３．５インチタイプのフロッピー（登録商標）ディスクカートリッジに本発明を適用したものであるが、本発明はその種のディスクカートリッジ１に限らず、特表２００１−５２３０３３号公報に記載されているような、たとえば幅５０ｍｍ、奥行き６、６ｍｍ、厚さ１．９５ｍｍの扁平な金属薄板からなる上下シェルを備えたハウジング（ケース）内に、直径約１．８インチ（４６．５ｍｍ）の磁気ディスク等の可撓性を有する磁気ディスクを回転自在に収容した超小型の磁気ディスクカートリッジに適用してもよい。このとき、ハウジングは、ディスクドライブが磁気ディスクにアクセスするための開口部と、開口部を開閉するロータリシャッターとを有しており、この上下シェルおよびロータリシャッターが、たとえばＳＵＳ４３０やケイ素鋼等の透磁率が１×１０-5Ｈ／ｍ以上の軟磁性材料からなることにより、磁気ディスク４に記録されたデータの消失を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の磁気ディスクカートリッジの好ましい実施の形態を示す分解斜視図
【符号の説明】
【００７１】
１    ディスクカートリッジ
４    磁気ディスク
Ｃ    ケース
【図１】
2005267760.tif 000004