(57)【要約】【課題】  低分子の紫外線吸収剤をフィルム中に配合したり、フィルム表面に塗布処理を施したりすることなく、ＵＶレーザー法等によるビアホール加工の適性に優れたマスキングテープ用ポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】  ナフタレンジカルボン酸をカルボン酸成分とするポリエステルを含有するポリエステルフィルムからなることを特徴とするマスキングテープ用基材であり、３６５ｎｍの光線透過率が３０％以下であることが好ましい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナフタレンジカルボン酸をカルボン酸成分とするポリエステルを含有するポリエステルフィルムからなることを特徴とするマスキングテープ用基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＵＶ(紫外線)レーザー法によるビアホール加工時のマスキングテープ用として好適なポリエステルフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体の小型化に伴い、半導体を搭載するプリント配線板やパッケージ等も小型化が進み、基板やパッケージに設けるビアホールについても小径化が進んでいる。従来、プリント基板に対するビアホール加工の方法としては、フォトビア法が一般的であったが、ビアホールの小径化に伴い、最近ではＣＯ２レーザーやＵＶレーザーを用いるビアホール加工法が一般的となりつつある。プリント基板をビアホール加工した後、このビアホール内に導電性ペーストを充填してプリント配線板やパッケージ等の層間導通を行うが、導電性ペーストを充填する際に導電性ペーストの付着を防止しなくてはいけない部分を被覆してマスキング（保護）するために、マスキングテープが一般に使用されている。フィルムの強度が強く、かつ粘着加工時の寸法安定性が優れることから、マスキングテープの基材層としては、ポリエステルフィルムが適している。
【０００３】
マスキングテープは、基材層に粘着剤を設けた構成であり、ビアホール加工は、マスキングテープを粘着層によって被覆部分に貼り付けた状態で行われるので、マスキングテープ自体もビアホール加工時に最適な穴が空かなければならない。ＵＶレーザーを用いる方法の場合、通常の基材層では、ＵＶ（紫外線）光が透過してしまうため、マスキングテープ自体へのビアホール加工が困難であるという問題点が生ずるが、この解決策として、基材に紫外線吸収剤を配合する方法、基材表面に紫外線吸収剤をコートする方法が提案されている（特許文献１）。しかし、この方法では、基材の生産時や、マスキングテープの加工時に紫外線吸収剤で系内が汚れたり、ビアホール加工時に紫外線吸収剤による基板の汚れが発生したりする恐れがあり、改善が求められている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３２２４３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記実情に鑑みなされたものであって、その解決課題は、低分子の紫外線吸収剤をフィルム中に配合したり、フィルム表面に塗布処理を施したりすることなく、ＵＶレーザー法等によるビアホール加工の適性に優れたマスキングテープ用ポリエステルフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定の構成からなるフィルムによれば、上記課題を容易に解決できることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明の要旨は、ナフタレンジカルボン酸をカルボン酸成分とするポリエステルを含有するポリエステルフィルムからなることを特徴とするマスキングテープ用基材に存する。
【０００８】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、ナフタレンジカルボン酸をカルボン酸成分とするポリエステルとは、２，６―ナフタレンジカルボン酸、２，７―ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸から選ばれる少なくとも１種のナフタレンジカルボン酸を酸成分とするポリエステルである。このポリエステルの酸成分としては、ナフタレンジカルボン酸の他に、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、セバシン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸のようなジカルボン酸の１種以上を含んでいても構わない。
【０００９】
本発明において、ポリエステルに使うグリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等を挙げることができる。
【００１０】
これらの酸成分とグリコール成分とからなるポリエステルは、通常行われている方法を任意に使用して製造することができる。例えば、芳香族ジカルボン酸の低級アルキルエステルとグリコールとの間でエステル交換反応をさせるか、あるいは芳香族ジカルボン酸とグリコールとを直接エステル化させるかして、実質的に芳香族ジカルボン酸のビスグリコールエステル、またはその低重合体を形成させ、次いでこれを減圧下、加熱して 重縮合させる方法が採用される。その目的に応じ、脂肪族カルボン酸を共重合しても構わない。
【００１１】
本発明では、ナフタレンジカルボン酸をカルボン酸成分とするポリエステルを単独で用いてフィルムとしてもよく、また、その他のポリエステルに配合してフィルムとしてもよい。その他のポリエステルは、上記に記載の同様の手法で得ることができる。
【００１２】
本発明のナフタレンジカルボン酸をカルボン酸成分とするポリエステルとしては、ポリエチレン−２，６−ナフタレートを挙げることができる。また、本発明のポリエステルフィルムの例としては、ポリエチレン−２，６−ナフタレートそのもののフィルムや、ポリエチレン−２，６−ナフタレートとポリエチレンテレフタレートを混合したフィルムや、ポリエチレン−２，６−ナフタレートとポリエチレンテレフタレートを積層したフィルムを挙げることができる。その他に、上記の酸成分やグリコール成分を共重合したポリエステルであってもよく、また、ナフタレンジカルボン酸を成分とするポリエステル化合物を含有するポリエチレンテレフタレートフィルムであってもよい。必要に応じて他の成分や添加剤を含有していてもよい。
【００１３】
これらポリエステルには、フィルムの走行性を向上する等の目的で、炭酸カルシウム、カオリン、シリカ、酸化アルミニウム、酸化チタン、アルミナ、硫酸バリウム等の無機粒子やアクリル樹脂、グアナミン樹脂等の有機粒子や触媒残差を粒子化させた析出粒子を含有させることが出来る。また、カーボンブラックや顔料や染料で着色してもよい。表面の光沢を消すために、多量の粒子を配合してもよく、これら粒子の粒径や量は目的に応じ適宜決めることが出来る。また、適宜 各種安定剤、潤滑剤、帯電防止剤等を加えることもできる。
【００１４】
本発明のフィルムは通常その片面に粘着層を設層して、基板やパッケージに貼り合わされるが、本発明フィルムの粘着層面に接着性を向上する目的で、コロナ処理を施したり、プライマー処理を施したりしても構わない。また、粘着層と反対面に帯電防止コート層を設けても良い。
【００１５】
ポリエステルフィルムのビアホール加工適性は、ＵＶレーザーの強度、フィルムの厚み、粘着剤のついたマスキングテープの光線透過率にもよるが、上記のポリエステルフィルムの３６５ｎｍの光線透過率を３０％以下に設計しておくことが好ましい。
【００１６】
本発明のポリエステルフィルムを製膜する方法としては、通常知られている製膜法でよく特に制限はない。例えば、まず、ロール延伸法により、６０〜１５０℃で２〜６倍に延伸して、一軸延伸ポリエステルフィルムを得、次いで、テンター内で先の延伸方向とは直角方向に８０〜１５０℃で２〜６倍に延伸し、さらに１５０〜２５０℃で１〜６００秒間熱処理を行う製膜方法でよい。
【００１７】
前記のプライマーコート層や帯電防止層を設ける方法としては、二軸延伸フィルムに従来技術でコートしてもよく、また、ポリエステルフィルムを製造する工程中で、従来技術でコートしてもよい。例えば、逐次二軸延伸法においては、縦一軸延伸後のフィルムにコートした後、横に延伸する方法、または、二軸延伸フィルム後にコートし乾燥する方法がある。方法に制約はないが、一軸延伸フィルムにコートし、次いで横延伸し、熱処理する方法は、コート層を均一に薄くできる等の特徴があり好ましい。
【００１８】
ポリエステルフィルムにコートする方法としては、例えば、原崎勇次著、槙書店、１９７９年発行、「コーティング方式」に示されるような塗布技術を用いることができる。具体的には、エアドクターコーター、ブレードコーター、ロッドコーター、ナイフコーター、スクイズコーター、含浸コーター、リバースロールコーター、トランスファロールコーター、グラビアコーター、キスロールコーター、キャストコーター、スプレイコーター、カーテンコーター、カレンダコーター、押出コーター、バーコーター等のような技術が挙げられる。
【００１９】
本発明のポリエステルフィルムの厚みは、６〜５０μｍの範囲が好ましい。フィルムが薄いと作業性が悪くなる傾向があり、厚いとＵＶレーザー法によるビアホール加工適性等が悪くなる傾向がある。
【発明の効果】
【００２０】
本発明のポリエステルフィルムは、それ自体がＵＶレーザー法によるビアホール加工適性に優れることから、このフィルムを基材として使うことにより、ビアホール適性の良いマスキングテープを作ることができ、本発明の工業的価値は高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例および比較例における評価方法やサンプルの処理方法は下記のとおりである。また、実施例及び比較例中の「部」は「重量部」を示す。
【００２２】
（１）ポリマーの極限粘度［η］（ｄｌ／ｇ）の測定方法
ポリマー１ｇをフェノール／テトラクロロエタン＝５０／５０（重量比）の混合溶媒１００ｍｌ中に溶解させ、ウベローデ型粘度計にて３０℃で測定した。
【００２３】
（２）３６５ｎｍの光線透過率の測定方法
島津製作所社製 分光光度計ＵＶ３１００により、スキャン速度を低速、サンプリングピッチを２ｎｍ、波長３００〜７００ｎｍ領域で連続的に光線透過率を測定し、３６５ｎｍ波長での光線透過率を検出した。
【００２４】
（３）積層ポリエステル層の厚みの測定方法
フィルム小片をエポキシ樹脂にて固定成形した後、ミクロトームで切断し、フィルムの断面を透過型電子顕微鏡写真にて観察した。その断面のうちフィルム表面とほぼ平行に２本、明暗によって界面が観察される。その２本の界面とフィルム表面までの距離を１０枚の写真から測定し、平均値を積層厚さとした。
【００２５】
（４）ビアホール加工適性の評価方法
（４．１）マスキングテープの作成
ポリエステルフィルムの片面に、アクリル樹脂系粘着剤（商品名「ＢＰＳ５１２５」、東洋インキ製造社製）１００重量部に対して硬化剤（商品名「ＢＸＸ５１３４」、東洋インキ製造社製）０．２重量部を配合した塗布液を塗布し、１２０℃で３分間乾燥して、粘着剤層厚みが５μｍのマスキングテープを得た。このものは、２３℃で１週間保管した後、評価に使った。
（４．２）ＵＶレーザー法によるビアホール加工適性
マスキングテープを銅張積層板のガラスエポキシ板側に貼り付け、ＵＶレーザー（波長３５５ｎｍ）によりビアホール加工を行った。加工適性の評価基準は以下のとおりとした。
○：マスキングテープのビアホール加工が良好
×：マスキングテープのビアホール加工が困難
【００２６】
以下の実施例および比較例にて使ったポリエステル原料は次の方法にて製造した。
＜ポリエチレンナフタレートの製造＞
ナフタレン−２，６−ジカルボン酸ジメチル１００部、エチレングリコール６０部および酢酸マグネシウム四水塩０．１部を反応器にとり、反応開始温度１８０℃から４時間かけて２３０℃まで昇温し、実質的にエステル交換反応を終了させた。このものへ、平均粒径 ２．５μmの非晶質シリカ０．２部をエチレングルコールのスラリーにして添加し、次いで、リン酸０．０４部、および、三酸化アンチモン０．０４部を添加した後、常法により重縮合反応を行った。こうして固有粘度０．５８のポリエチレンナフタレートを得た。 このものをチップ化し、２３５℃にて減圧として固相重合を行い、固有粘度０．６８のポリエチレンナフタレートを得た。
【００２７】
＜ポリエチレンテレタレートの製造＞
上記と同様な溶融宿重合法にて、平均粒径２．５μｍの非晶質シリカを０．２部含有する 溶融粘度０．６６のポリエチレンテレフタレートを得た。
【実施例１】
【００２８】
上記で得たポリエチレンナフタレート原料を乾燥し、３００℃で押出機よりシート状に押し出し、急冷して無定形シートを得た。このものを縦方向に３．０倍延伸し、次いで横方向に３．５倍延伸し、２４０℃で熱固定して、厚み１６μｍの二軸延伸ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムを得た。このフィルムの３６５ｎｍの透過率は０％だった。ビアホール加工適性の評価結果は、○であった。
【実施例２】
【００２９】
上記で得た、ポリエチレンテレフタレート８５部にポリエチレンナフタレート１５部を配合し２９５℃で押出機よりシート状に押し出し急冷して無定形シートを得た。このものを縦方向に３．０倍延伸し、次いで横方向に３．５倍延伸し、２３０℃で熱固定して厚み１６μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。３６５ｎｍの透過率は１８％であり、ビアホール加工適性の評価結果は、○であった。
【実施例３】
【００３０】
上記で得たポリエチレンナフタレートとポリエチレンテレフタレートをそれぞれ乾燥し、２台別々の押出機から３層となる様に多層ダイへ導き、芯層がポリエチレンテレフタレート、両表面層がポリエチレンナフタレートとなるようにして押出し、急冷して無定型シートを得た。このものを縦方向に３．５倍延伸し、次いで横方向に３．５倍延伸し、２３０℃で熱固定して、芯層が１２μｍで全厚み１６μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。このフィルムの３６５ｎｍの光線透過率は５％だった。ビアホール加工適性の評価結果は、○であった。
【００３１】
（比較例１）
上記で得たポリエチレンテレフタレートのみを使って、縦方向に３．５倍延伸し、次いで横方向に３．５倍延伸し、２３０℃で熱固定して、厚み１６μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。このフィルムの３６５ｎｍの光線透過率は７８％だった。ビアホール加工適性の評価結果は、×であった。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明のフィルムは、ＵＶ(紫外線)レーザー法によるビアホール加工時のマスキングテープ用として好適に利用することができる。