(57)【要約】【課題】  基板から基板間隔制御用の樹脂スペーサを突出させた場合でも、基板に対する樹脂スペーサの固定強度が大きい電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。【解決手段】  電気光学装置１ａにおいて、素子基板１０と対向基板２０との間には感光性樹脂からなる多数の樹脂スペーサ９が介在しており、この樹脂スペーサ９は、略角錐台形状の基部９１と、この基部９１の先端部分から略一定の太さで対向基板２０に向けて角柱状に伸びた柱状部９２とを備えている。このため、素子基板１０に対する樹脂スペーサ９の固定強度が大きい。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、該第１の基板に対向配置された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に保持された電気光学物質と、前記第１の基板から突出して前記第２の基板に当接する複数の基板間隔制御用の樹脂スペーサとを有し、
前記樹脂スペーサは、前記第１の基板上での接地面積を前記第２の基板に対する当接面積よりも広い形状とする略錐面状あるいは略球面状の側面部を備えた突起であることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
請求項１において、前記樹脂スペーサは、前記第１の基板側から前記第２の基板に向けて太さが連続的に縮小する略角錐台形状あるいは略円錐台形状の基部と、該基部の先端部分から略一定の太さで前記第２の基板に向けて伸びた柱状部とを備えていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
請求項１において、前記樹脂スペーサは、前記第１の基板から前記第２の基板に向けて略半球状、円錐状あるいは角錐状に突出していることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１において、前記樹脂スペーサは、前記第１の基板から前記第２の基板に向けて略円錐台状あるいは略角錐台状に突出していることを特徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１において、前記第１の基板上には、前記樹脂スペーサとして、前記第２の基板に向けて略半球状、円錐状あるいは角錐状に突き出た第１の突起と、前記第２の基板に向けて略円錐台状あるいは略角錐台状に突き出た第２の突起とが形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、前記樹脂スペーサは、各画素において表示光が出射される表示開口部を避けた領域に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項６において、前記樹脂スペーサは、前記第１の基板において各画素に形成されている画素スイッチング用素子を覆うように形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに規定する電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
【請求項９】
第１の基板と、該第１の基板に対向配置された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に保持された電気光学物質と、前記第１の基板から突出して前記第２の基板に当接する複数の基板間隔制御用の樹脂スペーサとを有する電気光学装置の製造方法であって、
前記第１の基板の表面側に感光性樹脂を塗布した後、露光および現像を行って前記樹脂スペーサを形成する工程では、遮光部から透光部に向けて透光度が連続して変化している部分透光部を備えた露光マスクを介して前記感光性樹脂を露光し、前記部分透光部を介しての露光により、前記樹脂スペーサとして、前記第１の基板上での接地面積を前記第２の基板に対する当接面積よりも広い形状とする略錐面状あるいは略球面状の側面部を備えた突起を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一対の基板間に電気光学物質およびスペーサが介在する電気光学装置、この電気光学装置を備えた電子機器、および電気光学装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
代表的な電気光学装置である液晶装置では、一対の基板間に電気光学物質としての液晶が保持されており、液晶の層厚を規定するためには基板間隔を制御する必要がある。このため、従来は、一対の基板を貼り合せる際、一方の基板上に多数の粒状スペーサを散布し、これらの粒状スペーサを基板間に介在させることにより、基板間隔を制御している（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、一方の基板に柱状の樹脂スペーサを形成し、この樹脂スペーサの先端部を他方の基板に当接させて基板間隔を制御することもある（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００４−４５７０３号公報
【特許文献２】特開２００３−３４４８３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このようなスペーサのうち、粒状スペーサは、一般的に圧縮強度が小さい。このため、押圧荷重に対する耐性が弱く、押圧荷重がかかると基板間隔が容易に変動するという問題点がある。これに対して、柱状の樹脂スペーサは、一般に圧縮強度が大きい。このため、基板が押圧された場合でも、このような荷重を樹脂スペーサが変形することなく支えるので、押圧荷重に対する耐性が強く、押圧荷重がかかっても基板間隔が維持されるという利点がある。また、柱状の樹脂スペーサは、粉状スペーサと違って、基板上の所定位置に形成することができるので、各画素において表示光が出射される表示開口部で液晶の配向を乱すことがないという利点がある。
【０００５】
しかしながら、柱状の樹脂スペーサの場合、高さ寸法と太さが異なるため、樹脂スペーサが基板から剥離して横向きになると、基板間隔の制御を行えないという問題点がある。かといって、基板への固定強度を強めるために樹脂スペーサを太くすると、各画素において表示光が出射される表示開口部にはみ出してしまい、表示光量が低下するという問題点がある。また、基板への固定強度を強めるために樹脂スペーサを太くすると、環境温度が変化した際に液晶が発泡しやすいという問題点がある。すなわち、柱状の樹脂スペーサは、圧縮強度が大きいため、基板間に液晶を封入した状態で温度が低下して液晶が体積収縮した場合、基板間隔が狭くなろうとするのを妨げてしまうため、基板間が負圧状態になって液晶が発泡しやすいという問題点がある。
【０００６】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、基板から基板間隔制御用の樹脂スペーサを突出させた場合でも、基板に対する樹脂スペーサの固定強度が大きい電気光学装置、およびこの電気光学装置を用いた電子機器を提供することにある。
【０００７】
また、本発明の課題は、基板から基板間隔制御用の樹脂スペーサを突出させて、かつ、基板に対する樹脂スペーサの固定強度を高めても、表示光量が低下することのない電気光学装置、およびこの電気光学装置を用いた電子機器を提供することにある。
【０００８】
さらに、本発明の課題は、上記の樹脂スペーサを効率よく形成可能な電気光学装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明では、第１の基板と、該第１の基板に対向配置された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に保持された電気光学物質と、前記第１の基板から突出して前記第２の基板に当接する複数の基板間隔制御用の樹脂スペーサとを有し、前記樹脂スペーサは、前記第１の基板上での接地面積を前記第２の基板に対する当接面積よりも広い形状とする略錐面状あるいは略球面状の側面部を備えた突起であることを特徴とする。
【００１０】
本発明においては、第１の基板に形成された基板間隔制御用の樹脂スペーサは、略錐面状あるいは略球面状の側面部を備えた突起であり、第１の基板上での接地面積が第２の基板に対する当接面積よりも広い。このため、第１の基板から基板間隔制御用の樹脂スペーサを突出させた場合でも、第１の基板に対する樹脂スペーサの固定強度が大きいので、樹脂スペーサが剥離して基板間隔が変動することを防止することができる。
【００１１】
本発明において、前記樹脂スペーサは、前記第１の基板側から前記第２の基板に向けて太さが連続的に縮小する略角錐台形状あるいは略円錐台形状の基部と、該基部の先端部分から略一定の太さで前記第２の基板に向けて伸びた柱状部とを備えていることが好ましい。このように構成すると、全体が円錐台形状あるいは角錐台形状とした場合と比較して、狭い領域内に固定強度の大きな樹脂スペーサを形成することができるので、樹脂スペーサが各画素の表示開口領域にはみ出ることがない。それ故、基板に対する樹脂スペーサの固定強度を高めても、表示光量が低下することがない。
【００１２】
本発明において、前記樹脂スペーサは、前記第１の基板から前記第２の基板に向けて略半球状、円錐状あるいは角錐状に突出している構成、あるいは前記樹脂スペーサは、前記第１の基板から前記第２の基板に向けて略円錐台状あるいは略角錐台状に突出している構成を採用することができる。このように構成した場合も、樹脂スペーサの底面積が広いので、樹脂スペーサが第１の基板から剥離することがない。また、このような構造であれば、樹脂スペーサ自身の圧縮強度が大きいので、画素スイッチング素子を覆うように樹脂スペーサを形成した場合でも、画素スイッチング素子が損傷することがない。従って、画素スイッチング素子の形成領域を樹脂スペーサの形成領域として利用できるので、樹脂スペーサが各画素の表示開口領域にはみ出ることがない。それ故、基板に対する樹脂スペーサの固定強度を高めても、表示光量が低下することがない。
【００１３】
本発明において、前記第１の基板上には、前記樹脂スペーサとして、前記第２の基板に向けて略半球状、円錐状あるいは角錐状に突き出た第１の突起と、前記第２の基板に向けて略円錐台状あるいは略角錐台状に突き出た第２の突起とが形成されていることが好ましい。このような形状の樹脂スペーサであれば、樹脂スペーサの底面積が広いので、樹脂スペーサが第１の基板から剥離することがない。また、このような構造であれば、樹脂スペーサ自身の圧縮強度が大きいので、画素スイッチング素子を覆うように樹脂スペーサを形成した場合でも、画素スイッチング素子が損傷することがない。従って、画素スイッチング素子の形成領域を樹脂スペーサの形成領域として利用できるので、樹脂スペーサが各画素の表示開口領域にはみ出ることがない。それ故、基板に対する樹脂スペーサの固定強度を高めても、表示光量が低下することがない。また、第1の突起（樹脂スペーサ）は、第２の基板に向けて略半球状、円錐状あるいは角錐状に突き出ているため、先端部分は圧縮強度が小さいのに対して、第２の突起（樹脂スペーサ）は略円錐台状あるいは略角錐台状に突き出ているため、圧縮強度が大きい。従って、第1の突起と第２の突起を適正な割合で形成すれば、温度変化により電気光学物質が収縮した際の基板の変形をある程度、許容し、かつ、基板に押圧荷重がかかった場合に基板間隔の所定レベル以上の変動を防止できるので、電極間の短絡を防止できるなど、電気光学装置の信頼性を向上することができる。すなわち、基板間に電気光学物質を保持した状態で温度が低下して電気光学物質が体積収縮した場合、基板間隔が狭くなろうとする分、基板に押されて弾性変形するため、基板間が負圧状態にならないので、電気光学物質が発泡することがない。また、基板が押圧された場合、このような押圧荷重を第２の突起が支える。従って、基板はそれ以上、変形することがないので、押圧荷重に対する耐性が強く、押圧荷重がかかっても基板間隔が維持されることになる。
【００１４】
本発明において、前記樹脂スペーサは、各画素において表示光が出射される表示開口部を避けた領域に形成されていることが好ましい。例えば、表示に直接、寄与しない配線領域などに形成する。また、前記樹脂スペーサは、前記第１の基板において各画素に形成されている画素スイッチング用素子を覆うように形成してもよい。
【００１５】
本発明では、第１の基板と、該第１の基板に対向配置された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に保持された電気光学物質と、前記第１の基板から突出して前記第２の基板に当接する複数の基板間隔制御用の樹脂スペーサとを有する電気光学装置の製造方法であって、前記第１の基板の表面側に感光性樹脂を塗布した後、露光および現像を行って前記樹脂スペーサを形成する工程では、遮光部から透光部に向けて透光度が連続して変化している部分透光部を備えた露光マスクを介して前記感光性樹脂を露光し、前記部分透光部を介しての露光により、前記樹脂スペーサとして、前記第１の基板上での接地面積を前記第２の基板に対する当接面積よりも広い形状とする略錐面状あるいは略球面状の側面部を備えた突起を形成することを特徴とする。透光度が連続して変化している部分透光部を備えた露光マスクを介して感光性樹脂を露光すると、部分透光部を介して露光された感光性樹脂では、現像液に対する溶解性が連続的に変化するので、現像後、錐面や球面を効率よく形成することができる。
【００１６】
本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった電子機器に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。なお、参照する各図において、図面上で認識可能な大きさとするために縮尺が各層や各部材ごとに異なる場合がある。
【００１８】
［実施の形態１］
（電気光学装置の全体構成）
図１は、本発明を適用した電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。図２（Ａ）、（Ｂ）は、本発明を適用した電気光学装置を素子基板の側からみた概略斜視図、および電気光学装置を画素電極を通る部分でＹ方向に切断したときの断面を模式的に示す説明図である。図３は、本発明に係る電気装置の画素構成を示す断面図である。なお、図３では、各画素に形成されている各要素が表れるように、後述する図４（Ａ）のＡ−Ａ′線に示す画素の対角線に沿って電気光学装置を切断したときの断面図で表してある。
【００１９】
図１に示す電気光学装置１ａは、画素スイッチング素子としてＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）を用いたアクティブマトリクス型液晶装置であり、交差する２方向をＸ方向およびＹ方向としたとき、複数の走査線５１ａがＸ方向（行方向）に延びており、複数のデータ線５２ａがＹ方向（列方向）に延びている。走査線５１ａとデータ線５２ａとの各交差点に対応する位置には画素５３ａが形成され、この画素５３ａでは、液晶層５４ａと、画素スイッチング用のＴＦＤ素子５６ａ（非線形素子）とが直列に接続されている。各走査線５１ａは走査線駆動回路５７ａによって駆動され、各データ線５２ａはデータ線駆動回路５８ａによって駆動される。
【００２０】
このような電気光学装置１ａを構成するにあたって、本形態では、図２（Ａ）、（Ｂ）に示すように、素子基板１０（第１の基板）と対向基板２０(第２の基板)とをシール材３０によって貼り合わせるとともに、両基板とシール材３０とによって囲まれた領域内に電気光学物質としての液晶１９を封入してある。シール材３０は、対向基板２０の縁辺に沿って略長方形の枠状に形成されるが、液晶を封入するために一部が開口している。このため、液晶１９の封入後にその開口部分が封止材３１によって封止される。
【００２１】
素子基板１０は、対向基板２０とシール材３０によって貼り合わされた状態で対向基板２０の端縁から一方の側に張り出した張り出し領域１０ａを有しており、この張り出し領域１０ａに向けて、データ線５２ａおよび走査線５１ａに接続する配線パターン８（信号線）が延びている。シール材３０には導電性を有する多数の導通粒子が分散されており、この導通粒子は、例えば金属のメッキが施されたプラスチックの粒子や、導電性を有する樹脂の粒子であり、素子基板１０および対向基板２０の各々に形成された配線パターン同士を基板間導通させる機能を備えている。このため、本形態では、データ線５２ａに対して画像信号を出力する第１のＩＣ４、および走査線５１ａに走査信号を出力する２つの第２のＩＣ５が素子基板１０の張り出し領域１０ａにＣＯＧ実装され、かつ、この素子基板１０の張り出し領域１０ａの端縁に対して可撓性基板７が接続されている。
【００２２】
なお、電気光学装置１ａと対向するように偏光板や位相差板などが配置されるが、本発明とは直接の関係がないため、それらの図示および説明を省略する。
【００２３】
図２（Ｂ）および図３において、素子基板１０および対向基板２０は、ガラスや石英などの光透過性を有する板状部材である。素子基板１０の内側（液晶１９の側）表面には、上述した複数のデータ線５２ａ、後述する画素スイッチング用のＴＦＤ素子（図示せず）、画素電極３４ａ、および配向膜１２などが形成されている。対向基板２０の内側（液晶１９の側）の面上には、画素電極３４ａと対向する領域を避けるようにブラックマトリクスあるいはブラックストライプと称せられる遮光膜２１が形成され、画素電極３４ａと対向する領域には、Ｒ（レッド）、Ｇ（グリーン）、Ｂ（ブルー）のカラーフィルタ２２が所定の配列で形成されている。また、対向基板２０において、遮光膜２１およびカラーフィルタ２２を形成した面には、その平坦化および保護のために平坦化層２３がコーティングされている。平坦化層２３の表面には走査線５１ａが形成され、さらにそれらの表面に配向膜２４が形成されている。
【００２４】
（ＴＦＤ素子の構成）
図４（Ａ）、（Ｂ）は、図２に示す電気光学装置において画素スイッチング素子として用いたＴＦＤ素子の説明図である。
【００２５】
図４（Ａ）、（Ｂ）において、素子基板１０は、表面に下地層１４が形成され、ＴＦＤ素子５６ａは、この下地層１４の上に形成された第１ＴＦＤ素子３３ａおよび第２ＴＦＤ素子３３ｂからなる２つのＴＦＤ素子要素によって、いわゆるＢａｃｋ−ｔｏ−Ｂａｃｋ構造として構成されている。このため、ＴＦＤ素子５６ａは、電流−電圧の非線形特性が正負双方向にわたって対称化されている。下地層１４は、例えば、厚さが５０〜２００ｎｍ程度の酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）によって構成され、ＴＦＤ素子５６ａの密着性を向上させ、さらに素子基板１０からの不純物の拡散を防止するために設けられている。第１ＴＦＤ素子３３ａおよび第２ＴＦＤ素子３３ｂは、第１金属層３２ａと、この第１金属層３２ａの表面に形成された絶縁層３２ｂと、絶縁膜３２ｂの表面に互いに離間して形成された第２金属層３２ｃ、３２ｄとによって構成されている。第１金属層３２ａは、例えば、厚さが１００〜５００ｎｍ程度タンタル単体膜、タンタル合金膜等によって形成され、絶縁層３２ｃは、例えば、陽極酸化法によって第１金属層３２ａの表面を酸化することによって形成された厚さが１０〜３５ｎｍの酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）である。第２金属層３２ｃ、３２ｄは、例えばクロム（Ｃｒ）等といった金属膜によって５０〜３００ｎｍ程度の厚さに形成されている。第２金属層３２ｃは、そのままデータ線５２ａとなり、他方の第２金属層３２ｄは、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等といった透明導電材からなる画素電極３４ａに接続されている。
【００２６】
（基板間隔の制御）
図５は、本発明を適用した電気光学装置の効果を示す説明図である。
【００２７】
本形態の電気光学装置１ａにおいて、液晶１９の層厚は素子基板１０と対向基板２０との基板間隔によって制御される。このため、本形態では、図３および図４（Ａ）、（Ｂ）に示すように、素子基板１０において、画素電極５３ａを避けた領域、例えば、データ線５２ａが通っている位置のうち、対向基板２０の遮光膜２１と対向する位置に樹脂スペーサ９が形成されており、配向膜１２は樹脂スペーサ９の上層側に形成されている。
【００２８】
本形態において、樹脂スペーサ９は、素子基板１０側から対向基板２０に向けて太さが連続的に縮小する略角錐台形状の基部９１と、この基部９１の先端部分から略一定の太さで対向基板２０に向けて角柱状に伸びた柱状部９２とを備えている。
【００２９】
このため、本形態では、素子基板１０から基板間隔制御用の樹脂スペーサ９を突出させた場合でも、素子基板１０に対する樹脂スペーサ９の固定強度が大きいので、樹脂スペーサ９が剥離して基板間隔が変動するような不具合の発生を防止することができる。
【００３０】
（本形態と変形例、並びに従来例との比較）
本形態では、図５に示すように、樹脂スペーサ９としては、略角錐台状の基部９１と角柱状の柱状部９２とを備えているものを説明したが、基部９１が円錐台状であってもよく、柱状部９２が円柱状であってもよい。また、樹脂スペーサ９としては、角柱状の柱状部９２の太さが相違する２種類以上の樹脂スペーサ９を同一の素子基板１０上に形成してもよい。
【００３１】
また、樹脂スペーサ９において、素子基板１０上での底面積を広くしてその固定強度を高めるという観点からすれば、図５（Ｂ）に示すように、角錐台形状あるいは円錐台形状の樹脂スペーサ９Ａ、あるいは、図５（Ｃ）に示すように、角錐形状あるいは円錐形状の樹脂スペーサ９Ｂであってもよい。また、図５（Ｄ）に示すように、半球状の樹脂スペーサ９Ｃであってもよい。これらいずれの樹脂スペーサ９、９Ａ、９Ｂ、９Ｃを用いた場合でも、図５（Ｅ）に示すように、太さが一定の樹脂スペーサ９Ｘと比較して、素子基板１０上での底面積を広くしてその固定強度を確保しながら、側面形状に応じて樹脂スペーサの圧縮強度を適正な値に設定できるという利点がある。すなわち、図５（Ｅ）に実線で示す樹脂スペーサ９Ｘの場合、素子基板１０上での底面積が狭いので、固定強度が小さい。かといって、図５（Ｅ）に一点鎖線で示すように太くすると、素子基板１０への固定強度が大きくできるが、圧縮強度が大きくなり過ぎる。その結果、基板間に液晶１９を封入した状態で温度が低下して液晶１９が体積収縮した場合、基板間隔が狭くなろうとするのを妨げてしまうため、基板間が負圧状態になって液晶１９が発泡するおそれがある。
【００３２】
また、図５（Ａ）に示す本形態の樹脂スペーサ９は、図５（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）に示す樹脂スペーサ９Ａ、９Ｂ、９Ｃ（本形態の変形例）と比較して以下の利点がある。まず、図５（Ａ）に示す樹脂スペーサ９の場合、柱状部９２の途中位置から基部９１が広がっているので、基部９１の側面部のテーパ角を同一にした場合、図５（Ｂ）に示すものと比較して、基部９１を必要以上に広げる必要がない。それ故、基部９１を広げた場合でも、基部９１は、画素の表示開口領域（画素電極３４ａ上）にはみ出ることがない。また、図５（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）に示す樹脂スペーサ９Ａ、９Ｂ、９Ｃの場合、素子基板１０への固定強度をそのままにして圧縮強度をさらに高めようとすると、相似関係を維持したまま拡大した形態、あるいは、テーパを緩くした形態を採用することになり、その結果、素子基板１０上での底面積が拡大してしまう。しかるに、図５（Ａ）に示す樹脂スペーサ９の場合、基部９１と柱状部９２を各々独立して形状を変えることができるので、素子基板１０への固定強度をそのままにして、圧縮強度をさらに高めるには、基部９１の形状についてはそのままにして、柱状部９２を太くすればよいなど、設計の自由度が高い。それ故、柱状部９２のみを太くして圧縮強度を高める場合でも、基部９１については大きくする必要がないので、樹脂スペーサ９が画素の表示開口領域にはみ出ることがないという利点がある。
【００３３】
（電気光学装置１ａの製造方法）
図６は、図２に示す電気光学装置の製造方法を示す工程図である。図７は、本形態の電気光学装置の製造工程のうち、樹脂スペーサ形成工程の工程断面図である。なお、図７には、素子基板上の各種構成要素を省略して表してある。
【００３４】
本形態の電気光学装置１ａを製造するにあたっては、図６に示す能動素子形成工程Ｐ１１〜シール材印刷工程Ｐ１６からなる素子基板形成工程と、走査線形成工程Ｐ２１〜粒状スペーサ散布工程Ｐ２４からなる対向基板形成工程とは別々に行われる。また、以下に説明する工程の多くは、素子基板１０および対向基板２０を多数取りできる大面積の元基板の状態で行われ、元基板同士を貼り合わせた後、切断されるが、以下の説明では、所定サイズに切断した素子基板１０および対向基板２０を用いた例で説明する。
【００３５】
まず、素子基板形成工程のうち、能動素子形成工程ＳＰ１１では、成膜工程、フォトエッチング工程、および陽極酸化工程など、周知の方法でデータ線５２ａ、配線パターン８、およびＴＦＤ素子５６ａなどを形成する。
【００３６】
次に、画素電極形成工程Ｐ１２では、ＩＴＯによって画素電極２３ａを形成するとともに、配線パターン８の端部にＩＴＯ膜を形成してパッドを形成する。
【００３７】
次に、樹脂スペーサ形成工程Ｐ１３において、フォトリソグラフィ技術を用いて図３を参照して説明した樹脂スペーサ９を形成する。ここで、感光性樹脂としてはネガタイプおよびポジタイプのいずれを用いてもよいが、ネガタイプの感光性樹脂を用いて、樹脂スペーサ９を製造する一例を方法を図７を参照して説明する。
【００３８】
本形態では、図７（Ａ）に示すように、素子基板１０上にスピンコート法などを用いてアクリル樹脂などといったネガタイプの感光性樹脂９８を分厚く塗布した後、露光マスク９３０で感光性樹脂９８を露光する。ここで、露光マスク９３０は、感光性樹脂９８を除去したい部分に遮光部９３１を備え、感光性樹脂９８を柱状部９２として残したい領域に透光部９３３を備えている。また、露光マスク９３０は、遮光部９３１と透光部９３３との間には部分透光部９３２を備えており、部分透光部９３２では、遮光部９３１から透光部９３３に向けて透光度が連続的に高くなっている。このため、露光マスク９３０で感光性樹脂９８を露光すると、部分透光部９３２では、露光量が連続的に変化している。従って、感光性樹脂９８を現像した際、部分透光部９３２を介して露光部分では、露光量によって、感光性樹脂９８の溶解速度が異なるので、図７（Ｂ）に示すように、錐面を備えた基部９１から柱状部９２が伸びた樹脂スペーサ９が形成される。このような方法であれば、感光性樹脂の塗布工程、露光工程および現像工程が１回で済むので、生産性を向上することができる。また、露光マスクが１枚で済むという利点もある。さらに、部分透光部９２の透光パターンを変更するだけで、図５（Ａ）〜（Ｄ）に示すいずれの形態の樹脂スペーサ９を形成することができる。
【００３９】
このようにして多段の樹脂スペーサ９を形成した後は、再び図６に示すように、配向膜形成工程Ｐ１４において配向膜２１を形成した後、ラビング処理工程Ｐ１５において、配向膜２１に対してラビング処理その他の配向処理を行う。
【００４０】
次に、シール材印刷工程Ｐ１６において、図２に示すように、ディスペンサーやスクリーン印刷等によってシール材３０を環状に塗布する。なお、シール材３０の一部分に液晶注入用の開口を形成しておく。
【００４１】
以上の素子基板形成工程とは別に、対向基板形成工程では、まず、対向電極形成工程Ｐ２１において、遮光膜２１およびカラーフィルタ２２などに続いて走査線５１ａ（対向電極）を形成した後、配向膜形成工程Ｐ２２で配向膜２４を形成し、次に、ラビング処理工程Ｐ２３において配向膜２４に対してラビング処理その他の配向処理を行う。
【００４２】
そして、貼り合わせ工程Ｐ３１において、素子基板１０と対向基板２０とを位置合わせした上でシール材３０を間に挟んで、基板１０、２０同士を貼り合わせ、次に、シール材硬化工程Ｐ３２で、紫外線硬化その他の方法でシール材３０を硬化させる。これにより、空のパネル構造体を形成した後、液晶注入工程Ｐ３３において、液晶注入用の開口からパネルの内側に液晶を減圧注入し、次に、注入口封止工程Ｐ３４において、封止材３１で開口を封止する。しかる後に、実装工程Ｐ３５において、素子基板１０に対して、ＩＣ４、５、および可撓性基板７を異方性導電材で実装し、電気光学装置１ａを完成させる。
【００４３】
［実施の形態２］
本形態の電気光学装置は、基本的な構成が実施の形態１と共通しており、樹脂スペーサの形態のみが相違するので、共通する部分については説明を省略する。
【００４４】
図８（Ａ）、（Ｂ）は、本形態の電気光学装置における樹脂スペーサの形成位置を示す平面図、およびそのＢ−Ｂ′線での断面図である。図９は、本形態の電気光学装置に形成した樹脂スペーサを拡大して示す説明図である。
【００４５】
図８（Ａ）、（Ｂ）、および図９に示すように、本形態の電気光学装置１ａでは、素子基板１０上の画素電極５３ａを避けた領域として、ＴＦＤ素子５６ａの形成領域に樹脂スペーサ９Ａ、９Ｃが形成され、配向膜１２は樹脂スペーサ９の上層側に形成されている。
【００４６】
ここで、素子基板１０上には、半球状の樹脂スペーサ９Ｃ(第１の突起)、および角錐台形状あるいは円錐台形状の樹脂スペーサ９Ａ（第２の突起）の双方が形成されている。
【００４７】
このような樹脂スペーサ９Ａ、９Ｃは、いずれも素子基板１０上での底面積が大きいので、素子基板１０に対する固定強度が大きい。従って、樹脂スペーサ９が剥離して基板間隔が変動するような不具合の発生を防止することができる。
【００４８】
また、角錐台形状あるいは円錐台形状の樹脂スペーサ９Ａ、および半球状の樹脂スペーサ９Ｃであれば、樹脂スペーサ９Ａ、９Ｃ自身の圧縮強度が大きいので、ＴＦＤ素子５６ａを覆うように樹脂スペーサ９Ａ、９Ｃを形成した場合でも、ＴＦＤ素子５６ａが損傷することがない。従って、ＴＦＤ素子５６ａの形成領域を樹脂スペーサ９Ａ、９Ｃの形成領域として利用できるので、樹脂スペーサ９Ａ、９Ｃが画素電極３４ａ上（各画素の表示開口領域）にはみ出ることがない。それ故、素子基板１０に対する樹脂スペーサ９Ａ、９Ｃの固定強度を高めても、表示光量が低下することがない。
【００４９】
さらに、本形態では、圧縮強度の異なる樹脂スペーサ９Ａ、９Ｃが形成されている。すなわち、樹脂スペーサ９Ｃは、略半球状であるため、先端部分の圧縮強度が小さいのに対して、樹脂スペーサ９Ａは略円錐台状あるいは略角錐台状に突き出ているため、樹脂スペーサ９Ｃと比較して圧縮強度が大きい。従って、樹脂スペーサ９Ａ、９Ｃを適正な割合で形成すれば、樹脂スペーサ９Ａのみ、あるいは樹脂スペーサ９Ｃのみを形成した場合と違って、温度変化により液晶１９が収縮した際の基板の変形をある程度、許容し、かつ、基板に押圧荷重がかかった場合に基板間隔の所定レベル以上の変動を防止できる。すなわち、基板間に液晶１９を保持した状態で温度が低下して液晶１９が体積収縮した場合、基板間隔が狭くなろうとする分、基板に押されて弾性変形するため、基板間が負圧状態にならないので、液晶１９が発泡することがない。また、基板が押圧された場合、このような押圧荷重を樹脂スペーサ９Ａが支える。従って、基板はそれ以上、変形することがないため、押圧荷重に対する耐性が強く、押圧荷重がかかっても基板間隔が維持されることになるので、電極間の短絡を防止できるなど、電気光学装置１ａの信頼性を向上することができる。
【００５０】
なお、本形態では、圧縮強度が小さな樹脂スペーサ(第１の突起)として半球状の樹脂スペーサ９Ｃを用い、圧縮強度が大きな樹脂スペーサ(第２の突起)として略円錐台状あるいは略角錐台状の樹脂スペーサ９Ａを用いたが、圧縮強度が小さな樹脂スペーサ(第１の突起)として、図５（Ｃ）に示すような略円錐状あるいは略角錐状の樹脂スペーサ９Ｃを樹脂スペーサ９Ｃと併用してもよい。
【００５１】
［その他の実施の形態］
上記形態は、ＴＦＤを非線形素子として用いたアクティブマトリクス型液晶装置に本発明を適用した例であるが、ＴＦＴを非線形素子として用いたアクティブマトリクス型液晶装置、あるいは非線形素子を用いないパッシブマトリクス型液晶装置に本発明を適用してもよい。また、液晶装置に限らず、一対の基板間に電気光学物質を保持し、かつ、これらの基板間隔を制御する必要のある電気光学装置であれば、いかなる電気光学装置にも本発明を適用することができる。
【００５２】
［電子機器への適用例］
本発明を適用した電気光学装置は、携帯電話機やモバイルコンピュータなどといった各種の電子機器において表示部として用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明を適用した電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図２】（Ａ）、（Ｂ）は、本発明を適用した電気光学装置を素子基板の側からみた概略斜視図、および電気光学装置を画素電極を通る部分でＹ方向に切断したときの断面を模式的に示す説明図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る電気装置の画素構成を示す断面図である。
【図４】図２に示す電気光学装置において画素スイッチング素子として用いたＴＦＤ素子の説明図である。
【図５】本発明を適用した電気光学装置の変形例、および実施の形態１の特有の効果を示す説明図である。
【図６】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の製造方法を示す工程図である。
【図７】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の製造工程のうち、樹脂スペーサ形成工程の工程断面図である。
【図８】本発明の実施の形態２に係る電気光学装置における樹脂スペーサの形成位置を示す平面図、およびそのＢ−Ｂ′線での断面図である。
【図９】本発明の実施の形態２に係る電気光学装置に形成した樹脂スペーサを拡大して示す説明図である。
【符号の説明】
【００５４】
１ａ  電気光学装置、９  樹脂スペーサ、９Ａ  樹脂スペーサ（第２の突起）、９Ｂ  樹脂スペーサ(第１の突起)、９Ｃ  樹脂スペーサ(第１の突起)、１０  素子基板（第１の基板）、１９  液晶（電気光学物質）、２０  対向基板（第２の基板）、９１  基部、９２  柱状部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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