(57)【要約】【課題】  有機ＥＬ装置の隔壁を始めとする電気光学装置の各種パターンの形成方法において、工程の簡素化を達成し、低コストの電気光学装置を実現できるパターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置の製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置、及び電子機器を提供する。【解決手段】  液滴吐出法を用いて基板１０上に所定パターンの機能膜１３を形成するパターン形成方法であって、前記機能膜１３の主成分を含有する第１液体材料ＬＢを前記液滴吐出法によって前記所定パターンで塗布する工程と、前記第１液体材料を凝集させる第２液体材料ＬＡを前記液滴吐出法によって前記所定パターンで塗布する工程とを有することを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液滴吐出法を用いて基板上に所定パターンの機能膜を形成するパターン形成方法であって、
前記機能膜の主成分を含有する第１液体材料を前記液滴吐出法によって前記所定パターンで塗布する工程と、
前記第１液体材料を凝集させる第２液体材料を前記液滴吐出法によって前記所定パターンで塗布する工程と、
を有することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２】
前記第１液体材料は高分子材料を含有し、前記第２液体材料は前記高分子材料を凝集させる反応液を含有し、
前記第１液体材料及び前記第２液体材料を塗布する工程によって所定パターンの樹脂膜を形成することを特徴とする請求項１に記載のパターン形成方法。
【請求項３】
前記第２液体材料は、多価金属塩、ポリアリルアミン、及びポリアリルアミンの誘導体のいずれかを含有していることを特徴とする請求項２に記載のパターン形成方法。
【請求項４】
前記第１液体材料又は前記第２液体材料を塗布する前に、前記所定パターンに応じた親液部を形成することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のパターン形成方法。
【請求項５】
前記第２液体材料を塗布した後に、前記第１液体材料を塗布することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項６】
前記機能膜に熱処理を行うことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項７】
複数種類の着色層と、当該複数種類の着色層を隔てる隔壁とを備えたカラーフィルタの製造方法であって、
請求項１から請求項６のいずれかに記載のパターン形成方法を用いることにより、前記隔壁を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
一対の基板間に液晶層を挟持してなる電気光学装置の製造方法であって、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板と前記液晶層との間に光学機能層を具備し、請求項１から請求項６のいずれかに記載のパターン形成方法を用いることにより、前記光学機能層を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
基板上に形成された複数の発光機能層と、当該複数の発光機能層を隔てる隔壁とを備える電気光学装置の製造方法であって、
請求項１から請求項６のいずれかに記載のパターン形成方法を用いることにより、前記隔壁を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項７に記載の製造方法によって製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項１１】
請求項８に記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項９に記載の製造方法によって製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
請求項１０に記載のカラーフィルタを備えることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１４】
請求項１１から請求項１３のいずれかに記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置の製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに替わる自発発光型ディスプレイとして有機物を用いた発光装置の開発が加速している。このような有機物を発光材料として用いた有機エレクトロルミネッセンス装置（本明細書を通じて有機ＥＬ装置と称す）の製造方法においては、真空蒸着法を用いる方法や、インクジェット法（液滴吐出法）等の湿式成膜法を用いる方法が知られている。真空蒸着法を用いる方法は、マスク越しに基板と蒸着源とを対向配置させた状態で、低分子系発光材料を気化させ、マスクパターンに応じた発光層を形成している。これに対し、インクジェット法を用いる方法は、高分子系発光材料を含む液体材料をビットマップ等のパターンデータに応じて吐出（塗布）し、当該ビットマップパターンに応じた発光層を形成している。
【０００３】
このようなインクジェット法においては、異種の発光層材料が混合しないように所定の間隔で発光層を隔てる必要があり、そこで、液体材料を塗布する前に発光層の非形成領域に隔壁を形成する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。このような技術においては、隔壁に囲まれた部分のみに液体材料を塗布して発光層を形成することが可能となるので、異種材料の混合を防止することが可能となる。
【特許文献１】特許第３３２８２９７号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記特許文献１においては、フォトリソグラフィ法や印刷法等の多数の工程を経て隔壁を形成していため、製造コストの増大を招いてしまい、低コストで有機ＥＬ装置を製造することができないという問題があった。
更に、フォトリソグラフィ法を用いて隔壁を形成するには、隔壁パターンを有する高価なフォトマスクが必要であった。従って、隔壁パターンを変更したり、多種多様の隔壁パターンを用意したりする場合には、新たにフォトマスクを作製したり、複数のフォトマスクを用意しなければならず、上記同様に製造コストの増大を招いてしまい、低コストで有機ＥＬ装置を製造することができないという問題があった。
【０００５】
本発明は、上述の課題に鑑み創案されたもので、有機ＥＬ装置の隔壁を始めとする電気光学装置の各種パターンの形成方法において、工程の簡素化を達成し、低コストの電気光学装置を実現できるパターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、電気光学装置の製造方法、カラーフィルタ、電気光学装置、及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明のパターン形成方法は、液滴吐出法を用いて基板上に所定パターンの機能膜を形成するパターン形成方法であって、前記機能膜の主成分を含有する第１液体材料を前記液滴吐出法によって前記所定パターンで塗布する工程と、前記第１液体材料を凝集させる第２液体材料を前記液滴吐出法によって前記所定パターンで塗布する工程とを有することを特徴としている。
【０００７】
このようにすれば、液滴吐出法を用いることにより、第１液体材料と第２液体材料を各々所定パターンで塗布することで、第１液体材料と第２液体材料が混合される。そして、同一の所定パターン上において第１液体材料は凝集し、基板上に所定パターンの機能膜が形成される。従って、液滴吐出法を用いて所定パターンの機能膜を形成することができる。また、従来ではフォトリソグラフィ法や印刷法等の多数の工程を経て機能膜を形成していたが、本発明においては、容易に機能膜を形成することができるので、製造コストの削減を達成し、低コストで機能膜を形成することができる。
【０００８】
更に、液滴吐出法においては、第１液体材料及び第２液体材料の塗布によって形成された所定パターンは、液滴吐出装置に記憶されたビットマップパターン等の電子データに基づいて形成されるので、電子データを作製することによって、所望の位置に第１液体材料及び第２液体材料を塗布することができる。従って、フォトリソグラフィ法で用いていた高価なフォトマスクが不要になるので、上記同様に製造コストの削減を達成し、低コストで機能膜を形成することができる。
【０００９】
また、前記パターン形成方法においては、前記第１液体材料は高分子材料を含有し、前記第２液体材料は前記高分子材料を凝集させる反応液を含有し、前記第１液体材料及び前記第２液体材料を塗布する工程によって所定パターンの樹脂膜を形成することを特徴としている。
このようにすれば、反応液が高分子材料の分子を架橋するので、当該高分子材料が凝集し、樹脂膜を形成することができる。
【００１０】
また、前記パターン形成方法においては、前記第２液体材料は、多価金属塩、ポリアリルアミン、及びポリアリルアミンの誘導体のいずれかを含有していることを特徴としている。
ここで、多価金属塩、ポリアリルアミン、及びポリアリルアミンの誘導体は、高分子材料を架橋し、当該高分子材料を凝集する性質を有している。従って、好適に高分子材料を凝集させることができる。
【００１１】
また、前記パターン形成方法においては、前記第１液体材料又は前記第２液体材料を塗布する前に、前記所定パターンに応じた親液部を形成することを特徴としている。
ここで、親液部とは、当該親液部が形成されていない部位よりも相対的に親液性が高い部位を意味している。従って、所定パターンに応じた親液部を形成することにより、当該所定パターンを除く部位よりも相対的に親液性が高くなっている。
このようにすれば、親液部に塗布された液体材料を好適に濡れ広がらせることができる。また、親液部を除く部分に液体材料が塗布された場合に、当該液体材料が親液部の側に流動するので、親液部のみに液体材料を留まらせることができる。従って、親液部において第１液体材料に含まれる材料を凝集させることができ、所定パターンの機能膜を形成することができる。
【００１２】
また、所定パターンの線幅が狭い場合においては、パターンの非形成部分に液体材料が塗布され易くなるが、親液部を形成することでパターンの非形成部分に対する液体材料の塗布を防止し、確実に親液部内に液体材料を留めることができる。従って、高精細なパターンで機能膜を形成することができる。
【００１３】
また、前記パターン形成方法においては、前記第２液体材料を塗布した後に、前記第１液体材料を塗布することを特徴としている。
このようにすれば、基板上に第２液体材料が塗布された状態で、第１液体材料が第２液体材料上に塗布される。これによって、第１液体材料が第２液体材料に着弾すると同時に第１液体材料の凝集が始まり、当該第１液体材料が濡れ広がりながら凝集し、機能膜を形成することができる。
【００１４】
また、前記パターン形成方法においては、前記機能膜に熱処理を行うことを特徴としている。
このようにすれば、機能膜自体を乾燥させることができると共に、機能膜を構成する高分子材料の粒子同士を融着することができる。
【００１５】
また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、複数種類の着色層と、当該複数種類の着色層を隔てる隔壁とを備えたカラーフィルタの製造方法であって、先に記載のパターン形成方法を用いることにより、前記隔壁を形成することを特徴としている。
このようにすれば、上記のパターン形成方法によって形成された機能膜が隔壁となるので、所定パターンの隔壁を形成することができる。更に、液滴吐出法によって隔壁が形成されるので、従来のようにフォトリソグラフィ法や印刷法等を用いることなく隔壁を形成することができ、製造コストの削減を達成し、低コストでカラーフィルタを製造することができる。
【００１６】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、一対の基板間に液晶層を挟持してなる電気光学装置の製造方法であって、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板と前記液晶層との間に光学機能層を具備し、先に記載のパターン形成方法を用いることにより、前記光学機能層を形成することを特徴としている。
ここで、光学機能層とは、半透過反射型液晶装置にける反射表示領域と前記透過表示領域とで液晶層の層厚を異ならせる液晶層厚調整層として機能したり、反射型液晶装置における光散乱膜として機能したり等、各種光学的作用を有する層膜である。
このようにすれば、上記のパターン形成方法によって形成された機能膜が隔壁となるので、所定パターンの隔壁を形成することができる。更に、液滴吐出法によって隔壁が形成されるので、従来のようにフォトリソグラフィ法や印刷法等を用いることなく隔壁を形成することができ、製造コストの削減を達成し、低コストで電気光学装置を製造することができる。
【００１７】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上に形成された複数の発光機能層と、当該複数の発光機能層を隔てる隔壁とを備える電気光学装置の製造方法であって、先に記載のパターン形成方法を用いることにより、前記隔壁を形成することを特徴としている。
このようにすれば、上記のパターン形成方法によって形成された機能膜が隔壁となるので、所定パターンの隔壁を形成することができる。更に、液滴吐出法によって隔壁が形成されるので、従来のようにフォトリソグラフィ法や印刷法等を用いることなく隔壁を形成することができ、製造コストの削減を達成し、低コストで電気光学装置を製造することができる。
【００１８】
また、本発明のカラーフィルタは、先に記載の製造方法によって製造されたことを特徴としている。
このようにすれば、先に記載のカラーフィルタの製造方法と同様の効果が得られ、低コストのカラーフィルタとなる。
【００１９】
また、本発明の電気光学装置は、先に記載の製造方法によって製造されたことを特徴としている。また、先に記載のカラーフィルタを備えることを特徴としている。
このようにすれば、先に記載の電気光学装置の製造方法、及びカラーフィルタと同様の効果が得られ、低コストの電気光学装置となる。
【００２０】
また、本発明の電子機器は、先に記載の電気光学装置を備えることを特徴としている。
このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、移動体情報端末、時計、ワープロ、パソコンなどの情報処理装置等を例示することができる。また、大型の表示画面を有するテレビや、大型モニタ等を例示することができる。このように電子機器の表示部に、本発明の電気光学装置を採用することによって、好適な電子機器を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明を詳しく説明する。
なお、この実施の形態は、本発明の一部の態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
【００２２】
（パターン形成方法）
以下、本発明のパターンの形成方法について図面を参照しながら説明する。
図１（ａ）〜（ｅ）は、本発明のパターン形成方法を用いて樹脂膜を形成するための工程図である。
まず、図１（ａ）に示すように、基板１０を用意し、当該基板１０上に撥液膜１１を形成する。
基板１０は、例えばガラス基板、金属基板、樹脂基板等からなる。
撥液膜１１は、自己組織化膜等の単分子膜である。当該撥液膜１１の形成方法は、湿式成膜法や、気相成膜法等が採用される。
湿式成膜法においては、例えば、パーフロロアルキルトリメトキシシランを含有する液体材料をディッピングで塗布する方法が挙げられる。なお、カップリング剤はシラン系を含めて、チタン系、シラン系等の金属のアルキレートで、撥液性の基、例えばアルキル基、アリル基、或いはこれらに芳香族が置換しているフッ化物が好ましい。
また、気相成膜法においては、チャンバ内に基板１０と自己組織化膜の材料を収容する容器を配置し、これらを放置することにより行われる。自己組織化膜としては、フルオロアルキルシラン（ＦＡＳ）等が好適に採用される。
なお、撥液膜１１を形成する方法は、プラズマ処理法により形成したフッ化処理膜であってもよい。この場合、常圧又は真空中で基板１０に対して、４フッ化メタン、パーフルオロヘキサン、パーフルオロデカン等の処理ガスのプラズマを照射することによって行われる。
【００２３】
次に、図１（ｂ）に示すように、親液パターン（親液部）１２を形成する。
ここでは、撥液膜１１に紫外線を照射することで、当該紫外線が照射された部分の撥液膜１１を分解、除去し、親液パターン１２を形成している。具体的には、親液パターン１２に対応した開口部を有するマスクを基板１０上に配置し、当該マスクを介して、紫外線照射を施すことで行われる。このようにすることにより、マスク開口部を通過した紫外線が撥液膜１１を照射し、局所的に撥液膜１１を除去し、マスク開口部に応じた親液パターン１２が形成される。
なお、本実施形態では、撥液膜１１を除去することで相対的に親液パターン１２を形成しているが、基板１０上に親液性を有する層膜を部分的かつ付加的に形成して、親液パターン１２を形成してもよい。
【００２４】
次に、図１（ｃ）に示すように、インクジェット法（液滴吐出法）を用いて、反応液（第２液体材料）ＬＡを親液パターン１２に塗布する。
ここで、反応液ＬＡは、多価金属塩を含有しており、後に塗布される樹脂分散液を凝集させる機能を有している。
【００２５】
ここで、反応液ＬＡに用いることが可能な多価金属塩とは、二価以上の多価金属イオンとこれら多価金属イオンに結合する陰イオンとから構成され、水に可溶な塩が挙げられる。多価金属イオンの具体例としては、Ｃａ２＋、Ｃｕ２＋、Ｎｉ２＋、Ｍｇ２＋、Ｚｎ２＋、Ｂａ２＋、等の二価金属イオン、Ａｌ３＋、Ｆｅ３＋、Ｃｒ３＋、等の三価金属イオンが挙げられる。陰イオンとしては、Ｃｌ−、Ｎｏ３−、Ｉ−、Ｂｒ−、ＣｌＯ３−およびＣＨ３ＣＯＯ−等が挙げられる。とりわけ、Ｃａ２＋又はＭｇ２＋から構成される金属塩は、反応液のｐＨ、得られる印刷物の品質という二つの観点から好適である。
【００２６】
これらの多価金属塩の樹脂分散液ＬＢ中における濃度は吐出性能、目詰まり防止の効果が得られる範囲で適宜決定されてよいが、好ましくは０．１〜４０重量％程度であり、より好ましくは５〜２５重量％程度である。
【００２７】
また、多価金属塩は、二価以上の多価金属イオンと、これら多価金属イオンに結合する硝酸イオンまたはカルボン酸イオンとから構成され、水に可溶なものであるのが好ましい。ここで、カルボン酸イオンは、好ましくは炭素数１〜６の飽和脂肪酸モノカルボン酸または炭素数７〜１１の炭素環式モノカルボン酸から誘導されるものである。炭素数１〜６の飽和脂肪族モノカルボン酸の好ましい例としては、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸、ヘキサン酸などが挙げられる。特に蟻酸、酢酸が好ましい。このモノカルボン酸の飽和脂肪族炭化水素基上の水素原子は水酸基で置換されていてもよく、そのようなカルボン酸の好ましい例としては、乳酸が挙げられる。更に、炭素数６〜１０の炭素環式モノカルボン酸の好ましい例としては、安息香酸、ナフト酸等が挙げられ、安息香酸がより好ましい。
【００２８】
本実施形態の反応液ＬＡとしては、イオン交換水に硝酸マグネシウム（Ｍｇ（ＮＯ３）２）を２５重量％、トリエチレングリコールモノブチルエーテルを１０重量％、グリセリンを１０重量％、サーフィノール４６５（Air Products and chemicals Inc.製）を１．０重量％、各々含有させた液体材料を採用している。
【００２９】
また、インクジェット法においては、基板１０に対して相対移動可能な吐出ヘッドＨを親液パターン１２に対向配置させた状態で、吐出ヘッドＨに充填された反応液ＬＡを液滴化し、親液パターン１２上に吐出する。ここで、吐出ヘッドＨから吐出された液滴は、親液パターン１２上に塗布された後に、当該親液パターン１２内に濡れ広がる。また、親液パターン１２の周囲には撥液膜１１が形成されているので、例えば、吐出ヘッドＨから吐出された液滴に飛行曲がりが生じて撥液膜１１に塗布されても、当該撥液膜１１上の液滴は親液パターン１２内に流れ込む。従って、確実に親液パターン１２の形状に応じて反応液ＬＡを留まらせることが可能となる。
【００３０】
ここで、インクジェット法の吐出技術としては、帯電制御方式、加圧振動方式、電気熱変換方式、静電吸引方式、電気機械変換方式等が挙げられる。帯電制御方式は、材料に帯電電極で電荷を付与し、偏向電極で材料の飛翔方向を制御して吐出ノズルから吐出させるものである。また、加圧振動方式は、材料に３０ｋｇ／ｃｍ２程度の超高圧を印加してノズル先端側に材料を吐出させるものであり、制御電圧をかけない場合には材料が直進して吐出ノズルから吐出され、制御電圧をかけると材料間に静電的な反発が起こり、材料が飛散して吐出ノズルから吐出されない。また、電気熱変換方式は、材料を貯留した空間内に設けたヒータにより、材料を急激に気化させてバブル（泡）を発生させ、バブルの圧力によって空間内の材料を吐出させるものである。静電吸引方式は、材料を貯留した空間内に微小圧力を加え、吐出ノズルに材料のメニスカスを形成し、この状態で静電引力を加えてから材料を引き出すものである。電気機械変換方式は、ピエゾ素子（圧電素子）がパルス的な電気信号を受けて変形する性質を利用したもので、ピエゾ素子が変形することによって材料を貯留した空間に可撓物質を介して圧力を与え、この空間から材料を押し出して吐出ノズルから吐出させるものである。このような電気機械変換方式においては、液体材料の一滴の量は例えば１〜３００ナノグラムで制御することが可能である。この他に、電場による流体の粘性変化を利用する方式や、放電火花で飛ばす方式などの技術も適用可能である。液滴吐出法は、材料の使用に無駄が少なく、しかも所望の位置に所望の量の材料を的確に配置できるという利点を有する。
また、インクジェット装置においては、ビットマップパターン等の電子データに基づいて基板上に所定のパターンで液滴を吐出するための制御装置が設けられている。従って、インクジェット法においては、制御装置に記憶された電子データに応じて、液滴を吐出し、所定のパターンを形成するようになっている。
本実施形態においては、インクジェット装置としてＭＭＰ８０００ＲＴ（スターマインド社製）を用いた。
【００３１】
次に、図１（ｄ）に示すように、上記同様のインクジェット法を用いて、樹脂膜（機能膜）の主成分を含有する樹脂分散液（第１液体材料）ＬＢを反応液ＬＡ上に塗布する。
ここで、樹脂分散液ＬＢは、上記の反応液ＬＡと混合することで凝集する性質を有している。当該樹脂分散液ＬＢとしては、例えば、スチレン・アクリル酸分散液が採用される。
【００３２】
ここで、スチレン・アクリル酸分散液の合成方法について説明する。
まず、攪拌機、温度計、還流コンデンサ付きセパラブルフラスコにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）６６７部を入れ、攪拌下で窒素置換しながら７０℃まで昇温する。そして、温度を７０℃に保ちつつ、メタクリル酸１５０部、スチレン５９０部、２−エチルヘキシルアクリレート１１０部、メチルアクリレート１５０部、及びＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）１０部の混合物を２時間かけて添加し、反応させる。添加終了後、４及び８時間後にＡＩＢＮ２部、また１２及び１６時間後にＡＩＢＮ１部を添加して反応を継続させる。モノマー添加終了後２２時間後に内温を下げて、反応を終了させ、ＭＥＫ３３３部を追加し、スチレン−アクリル酸エステル系共重合体のＭＥＫ溶液を得た。この溶液の固形分は５０重量％であり、得られたスチレン−アクリル酸エステル共重合体の酸価は１００であり、重量平均分子量はポリスチレン換算で２７０００であった。これによって、樹脂が合成される。
【００３３】
次に、スチレン−アクリル酸エステル共重合体のＭＥＫ溶液（固形分５０重量％）２０部、トリエタノールアミン３．０部、及びイソプロピルアルコール８部の樹脂混合液を攪拌しながらグリセリン２０部とイオン交換水１２５部との混合液を毎分５ｍｌの速度で前記樹脂混合液に滴下することにより、樹脂乳化物を得た。得られた樹脂乳化物から、メチルエチルケトンとイソプロピルアルコールとを、ロータリーエバポレーターを用いて留去した。引き続き、トリエチレングリコールモノブチルエーテル２０部とサーフィノール４６５（Air Products and chemicals Inc.製）２．０部を加え、攪拌し、樹脂分散液ＬＢを得た。
【００３４】
このような樹脂分散液ＬＢをインクジェット法によって反応液ＬＡ上に吐出すると、樹脂分散液ＬＢが反応液ＬＡに着弾すると同時に、樹脂分散液ＬＢに含まれる高分子が架橋して凝集する。このような高分子の架橋、凝集は、樹脂分散液ＬＢが濡れ広がりながら凝行われる。また、撥液膜１１上を濡らすことなく親液パターン１２上のみにおいて樹脂分散液ＬＢの高分子が架橋、凝集し、樹脂膜１３が形成される。
【００３５】
また、図１（ｃ）、（ｄ）に示したインクジェット法においては、反応液ＬＡ及び樹脂分散液ＬＢを塗布する場合に、反応液ＬＡと樹脂分散液ＬＢが各々充填された専用の吐出ヘッドＨを用意し、各専用の吐出ヘッドＨが各液体材料を吐出、塗布している。
なお、このように液体材料毎の専用吐出ヘッドＨを用いることなく、一つの吐出ヘッドを用いて反応液ＬＡ及び樹脂分散液ＬＢを塗布してもよい。この場合、一つの吐出ヘッド内に設けられた複数のキャビティに反応液ＬＡ及び樹脂分散液ＬＢを各々充填し、当該複数のキャビティに対応したノズルもしくはノズル列から反応液ＬＡと樹脂分散液ＬＢを各々吐出することで行われる。
【００３６】
次に、図１（ｅ）に示すように、親液パターン１２上の樹脂膜１３に対して熱処理を施し、乾燥及び融着させる。
ここで、熱処理条件としては、２００℃、５分間が好ましい。このような熱処理を施すことにより、樹脂膜１３が乾燥すると共に、高分子材料の粒子同士が融着する。
【００３７】
上述したように、本実施形態においては、基板１０の親液パターン１２上に、樹脂膜１３の主成分を含有する樹脂分散液ＬＢをインクジェット法によって塗布し、更に、樹脂分散液ＬＢの高分子を凝集させる反応液ＬＡをインクジェット法によって塗布するので、反応液ＬＡと樹脂分散液ＬＢが混合し、樹脂分散液ＬＢに含まれる高分子が架橋、凝集する。これによって、樹脂膜１３を形成することができる。また、反応液ＬＡには、多価金属塩が含まれているので、樹脂分散液ＬＢ内の高分子材料を好適に架橋し、凝集させることができる。
【００３８】
また、従来ではフォトリソグラフィ法や印刷法等の多数の工程を経て樹脂膜１３を形成していたが、本実施形態においては容易に樹脂膜１３を形成することができる。従って、製造コストの削減を達成し、低コストで樹脂膜１３を形成することができる。
更に、インクジェット法においては、反応液ＬＡと樹脂分散液ＬＢの塗布によって形成された樹脂膜１３のパターンは、インクジェット装置に記憶されたビットマップパターン等の電子データに基づいて形成されるので、電子データを作製することによって、所望の位置に反応液ＬＡと樹脂分散液ＬＢを塗布することができる。従って、フォトリソグラフィ法で用いていた高価なフォトマスクが不要になるので、上記同様に製造コストの削減を達成し、低コストで機能膜を形成することができる。
【００３９】
また、反応液ＬＡや樹脂分散液ＬＢを塗布する前に、親液パターン１２を形成しているので、親液パターン１２に塗布された反応液ＬＡや樹脂分散液ＬＢを好適に濡れ広がらせることができる。また、親液パターン１２を除く部分に反応液ＬＡや樹脂分散液ＬＢが塗布された場合に、親液パターン１２の側に反応液ＬＡや樹脂分散液ＬＢが流動するので、親液パターン１２のみに反応液ＬＡや樹脂分散液ＬＢを留まらせることができる。従って、親液パターン１２のみにおいて樹脂分散液ＬＢの高分子を凝集させることができ、所定パターンの樹脂膜１３を形成することができる。
【００４０】
また、特に樹脂膜１３の線幅が狭い場合においては、樹脂膜１３のパターンの非形成部分に反応液ＬＡや樹脂分散液ＬＢが塗布され易くなるが、親液パターン１２を形成することでパターンの非形成部分に対する反応液ＬＡや樹脂分散液ＬＢの塗布を防止し、確実に親液パターン１２内に反応液ＬＡや樹脂分散液ＬＢを留めることができる。従って、高精細パターンで樹脂膜１３を形成することができる。
【００４１】
また、前記パターン形成方法においては、反応液ＬＡを塗布した後に、樹脂分散液ＬＢを塗布しているので、樹脂分散液ＬＢが反応液ＬＡに着弾すると同時に樹脂分散液ＬＢに含まれる高分子が架橋、凝集が始まり、更に、樹脂分散液ＬＢが濡れ広がりながら架橋、凝集し、樹脂膜１３を形成することができる。
【００４２】
また、樹脂膜１３を形成した後に、樹脂膜１３に熱処理を行うので、樹脂膜１３を乾燥させることができると共に、樹脂膜１３を構成する高分子材料の粒子同士を融着することができる。
【００４３】
（パターン形成方法の変形例）
次、上記パターン形成方法の変形例について説明する。
ここでは、反応液ＬＡ及び樹脂分散液ＬＢの各々を構成する材料を異ならせた場合について説明する。
【００４４】
（反応液）
反応液ＬＡとしては、化合物１〜３として示す、ポリアリルアミンやポリアリルアミン誘導体を含む液体材料を採用することができる。これらは水に可溶で、水中でプラスに荷電するカチオン系高分子である。化合物１〜３の式中、Ｘ−は塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、硝酸イオン、燐酸イオン、硫酸イオン、酢酸イオン等を表している。これら以外にもアリルアミンとジアリルアミンが共重合したポリマーやジアリルメチルアンモニウムクロライドと二酸化硫黄との共重合体を使用することもできる。
【００４５】
【化１】
2005241854.tif 000003
【００４６】
【化２】
2005241854.tif 000004
【００４７】
【化３】
2005241854.tif 000005
【００４８】
また、実際に反応液ＬＡを使用する場合には、純水に、上記ポリアリルアミンを２５重量％、トリエチレングリコールモノブチルエーテルを１０重量％、グリセリンを２０重量％、各々含有させた液体材料が採用される。
【００４９】
（樹脂分散液ＬＢ）
樹脂分散液ＬＢとしては、アクリレートモノマーやオリゴマーを含有する液体材料を採用することができる。アクリレートモノマーやオリゴマーとして具体的にはアクリルアミド、フェノキシエチルアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート等のモノマー、オリゴマーが挙げられる。
【００５０】
モノマーおよびオリゴマーの添加量は樹脂分散液ＬＢ中に０．３〜３０重量％となるように添加するのが好ましい。また、モノマーとオリゴマーの添加比は重合効率、重合速度、重合後の体積収縮率、重合皮膜強度等から適宜選択できる。また、樹脂分散液ＬＢは、少なくとも水を含んでいることが好ましく、樹脂エマルジョンを含んでなるのが好ましい。ここで、樹脂エマルジョンとは連続相が水であり、分散相が次のような樹脂成分であるエマルジョンを意味する。分散相の樹脂成分としては、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ブタジエン系樹脂、スチレン系樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋スチレン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。
【００５１】
また、これらの樹脂は親水性部分と疎水性部分とを併せ持つ重合体であるのが好ましい。また、これらの樹脂成分の粒子径はエマルジョンを形成する限り特に限定されないが、１５０ｎｍ程度以下が好ましく、より好ましくは５〜１００ｎｍ程度である。
これらの樹脂エマルジョンは、樹脂モノマーを、場合によって界面活性剤とともに水中で分散重合することによって得ることができる。例えば、アクリル系樹脂またはスチレン−アクリル系樹脂のエマルジョンは、（メタ）アクリル酸エステル、または（メタ）アクリル酸エステルおよびスチレンを、界面活性剤とともに水中で分散重合させることによって得ることができる。樹脂成分と界面活性剤との混合の割合は、通常１０：１〜５：１程度とするのが好ましい。界面活性剤の使用量が前記範囲にあることでより良好な耐水性や浸透性が得られる。界面活性剤の好ましい例としては、アニオン性界面活性剤（例えばドデシルベンゼルスルホン酸ナトリウム、ラウリル酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートのアンモニウム塩など）、非イオン性界面活性剤（例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミドなど）が挙げられ、これらを単独または二種以上を混合して用いることができる。また、アセチレングリコール（オレフィンＹ、ならびにサーフィノール８２、１０４、４４０、４６５および４８５（いずれもAir Products and Chemicals Inc.製））を用いることも可能である。
【００５２】
また、分散相成分としての樹脂と水との割合は、樹脂１００重量部に対して水６０〜４００重量部、好ましくは１００〜２００の範囲が適当である。このような樹脂エマルジョンとして、公知の樹脂エマルジョンを用いることも可能であり、例えば特公昭６２−１４２６号、特開平３−５６５７３号、特開平３−７９６７８号、特開平３−１６００６８号、特開平４−１８４６２号各公報などに記載の樹脂エマルジョンをそのまま用いることができる。また、市販の樹脂エマルジョンを使用することも可能であり、例えばマイクロジェルＥ−１０００２、Ｅ−５００２（スチレン−アクリル系樹脂エマルジョン、日本ペイント株式会社製）、ボンコート４００１（アクリル系樹脂エマルジョン、大日本インキ化学工業株式会社製）ボンコート５４５４（スチレン−アクリル系樹脂エマルジョン、大日本インキ化学工業株式会社製）ＳＡＥ−１０１４（スチレン−アクリル系樹脂エマルジョン、日本ゼオン株式会社製）、サイビノールＳＫ−２００（アクリル系樹脂エマルジョン、サイデン化学株式会社製）、等が挙げられる。また、樹脂分散液ＬＢは、樹脂エマルジョンを、その樹脂成分が０．１〜４０重量％となるよう含有するのが好ましく、より好ましくは１〜２５重量％の範囲である。
【００５３】
樹脂エマルジョンは、反応液、特に多価金属イオンまたはポリアリルアミンもしくはポリアリルアミンの誘導体との相互作用により、着色成分の浸透を抑制し、さらに記録媒体への定着を促進する効果を有する。また、樹脂エマルジョンの種類によっては記録媒体上で皮膜を形成し、印刷物の耐擦性をも向上させる効果も有する。
【００５４】
また、本発明に用いられる樹脂分散液ＬＢは、無機酸化物コロイドを含んでいてもよい。無機酸化物コロイドの好ましい例としては、コロイダルシリカ、アルミナコロイドが挙げられる。これらは、一般的には、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の超微粒子を水または有機溶媒中に分散したコロイド溶液である。市販されている無機酸化物コロイドとしては、分散媒が水、メタノール、２−プロパノール、ｎ−プロパノール、キシレンなどであり、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の粒子の粒径が５〜１００ｎｍであるものが一般的である。
【００５５】
また、無機酸化物コロイド溶液のｐＨは中性領域ではなく酸性またはアルカリ性に調整されているものが多い。これは、無機酸化物コロイドの安定分散領域が酸性側かアルカリ性側に存在するためであり、樹脂分散液ＬＢに添加する場合には、無機酸化物コロイドの安定分散領域のｐＨと樹脂分散液ＬＢのｐＨとを考慮して添加する必要がある。樹脂分散液ＬＢ中の無機酸化物コロイドの添加量は、０．１〜１５重量％となるように添加するのが好ましく、二種以上の添加も可能である。なお、樹脂分散液ＬＢには、必要に応じて、湿潤剤、ｐＨ調製剤、防腐剤、防かび剤等を添加してもよい。
【００５６】
上述したように、本変形例に示した材料を反応液ＬＡ及び樹脂分散液ＬＢに含有させた場合においても先の実施形態と同様の効果を奏する。特に、反応液ＬＡにポリアリルアミン又はポリアリルアミンの誘導体が含有されていることにより、樹脂分散液ＬＢに含まれる高分子を架橋、凝集させるので、好適な樹脂膜１３を形成することができる。
【００５７】
（電気光学装置の製造方法の第１実施形態）
次に、本発明の電気光学装置の製造方法について説明する。
図２は、電気光学装置の第１実施形態として示した有機ＥＬ装置の側断面図である。
当該有機ＥＬ装置においては、構成要素の一部が先に記載したパターン形成方法によって形成されている。以下に、図２を参照して有機ＥＬ装置（電気光学装置）を製造する手順について説明する。
【００５８】
図２に示すように、有機ＥＬ装置３０は、基板３１、回路素子部３２、画素電極３３、隔壁部３４、発光素子３５、陰極３６、及び封止基板３７から構成された有機ＥＬ素子３８に、フレキシブル基板（図示略）の配線および駆動ＩＣ（図示略）を接続したものである。回路素子部３２は基板３１上に形成され、複数の画素電極３３が回路素子部３２上に整列している。そして、各画素電極３３間には隔壁部３４が格子状に形成されており、隔壁部３４により生じた凹部開口３９に、発光素子３５が形成されている。陰極３６は、隔壁部３４および発光素子３５の上部全面に形成され、陰極３６の上には封止基板３７が積層されている。
【００５９】
ここで、隔壁部３４は、無機隔壁３４ａと、その上に積層される樹脂隔壁（機能膜）３４ｂとから構成されている。また、樹脂隔壁部３４ｂは、本発明に係る機能膜に相当している。
【００６０】
このような有機ＥＬ装置３０の製造プロセスは、隔壁部３４を形成する隔壁部形成工程と、発光素子３５を適切に形成するためのプラズマ処理工程と、発光素子３５を形成する発光素子形成工程と、陰極３６を形成する対向電極形成工程と、封止基板３７を陰極３６上に積層して封止する封止工程とを備えている。
以下に、各工程について説明する。
【００６１】
隔壁部形成工程は、無機隔壁３４ａを形成する工程と、樹脂隔壁３４ｂを形成する工程とからなる。そして、樹脂隔壁３４ｂを形成する工程において、先に記載したパターン形成方法が用いられている。即ち、多価金属塩を含む反応液ＬＡを無機隔壁３４ａ上に塗布した後に、当該反応液ＬＡ上にスチレン・アクリル酸分散液からなる樹脂分散液ＬＢを塗布している。このように反応液ＬＡ上に樹脂分散液ＬＢを塗布することにより、樹脂分散液ＬＢに含まれる高分子は架橋、凝集し、樹脂隔壁３４ｂが形成される。更に、適宜熱処理を施して、樹脂隔壁３４ｂを構成する高分子同士を融着させる。
また、当該隔壁部形成工程においては、ＳｉＯ２等の無機材料を用いて無機隔壁３４ａを形成している。ＳｉＯ２は親液性が高い材料であるため、無機隔壁３４ａは、本発明の親液部として機能する。従って、無機隔壁３４ａ上に塗布された反応液ＬＡや樹脂分散液ＬＢは好適に濡れ広がり、樹脂隔壁３４ｂが形成される。
【００６２】
プラズマ処理工程は、樹脂隔壁３４ｂ及び画素電極３３に対して撥液性及び親液性を付与するために行われる。具体的には、画素電極３３に親液性を付与するためにＯ２プラズマを照射し、樹脂隔壁３４ｂに撥液性を付与するためにＣＦ４プラズマを照射する。
【００６３】
発光素子形成工程は、凹部開口３９、即ち画素電極３３上に正孔注入層３５ａおよび発光層３５ｂを形成することにより発光素子３５を形成するもので、正孔注入層形成工程と発光層形成工程とを具備している。そして、正孔注入層形成工程は、正孔注入層３５ａを形成するための第１機能液を各画素電極３３上に吐出する第１吐出工程と、吐出された第１機能液を乾燥させて正孔注入層３５ａを形成する第１乾燥工程とを有し、発光層形成工程は、発光層３５ｂを形成するための第２機能液を正孔注入層３５ａの上に吐出する第２吐出工程と、吐出された第２機能液を乾燥させて発光層３５ｂを形成する第２乾燥工程とを有している。このような発光素子形成工程においては、インクジェット法が好適に採用される。
【００６４】
対向電極形成工程は、蒸着法を用いることにより陰極３６を形成するものである。当該陰極３６は複数層の薄膜から構成されるのが一般的であり、このような積層構造を有する対向電極形成工程においては、発光層３５ｂ側にＣａ、封止基板３７側にＡｌを順次積層することで行われる。なお、陰極３６と発光層３５ｂの間に低仕事関数の材料からなる電子注入層を形成してもよい。この場合、ＬｉＦ等の弗化物が好適に採用される。
【００６５】
封止工程は、基板３１の周囲に不図示の封止剤を塗布した後に、当該封止剤を挟持するように基板３１と封止基板３７を封止することで行われる。当該封止工程においては、発光層３５ｂの劣化に起因する酸素や水分を除去する必要があるため、不活性ガス雰囲気において行われる。
【００６６】
上述したように、本実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法においては、隔壁部形成工程に先に記載のパターン形成方法が採用されているので、当該パターン形成方法と同様の効果が得られる。
【００６７】
（電気光学装置の製造方法の第２実施形態）
次に、本発明の電気光学装置の製造方法について説明する。
図３は、電気光学装置の第２実施形態として示した液晶装置の画素構造を示した側断面図である。当該液晶装置においては、構成要素の一部が先に記載したパターン形成方法によって形成されている。
【００６８】
図３に示すように、この液晶装置１００は、スペーサ１５１を介して対向する一対の基板１１０、１２５の間に、初期配向状態が垂直配向をとる液晶、即ち誘電異方性が負の液晶材料からなる液晶層１５０が挟持された構成となっている。
下基板１１０は、基板本体１１０Ａの表面にアルミニウム、銀等の反射率の高い金属膜からなる反射膜１２０が絶縁膜１２４を介して部分的に形成された構成をなしている。ここで、反射膜１２０の形成領域が反射表示領域Ｒとなり、反射膜１２０の非形成領域、即ち反射膜１２０の開口部１２１内が透過表示領域Ｔとなる。このように本実施形態の液晶装置１００は、垂直配向型の液晶層１５０を備える垂直配向型の液晶装置であって、反射表示及び透過表示を可能にした半透過反射型の液晶装置である。
【００６９】
基板本体１１０Ａ上に形成された絶縁膜１２４は、その表面に凹凸形状１２４ａを具備してなり、その凹凸形状１２４ａに倣って反射膜１２０の表面は凹凸部を有している。このような凹凸により反射光が散乱されるため、外部からの映り込みが防止され、広視野角の表示を得ることが可能とされている。
【００７０】
また、基板本体１１０Ａの上には、反射表示領域Ｒに対応する位置に絶縁膜１２６が形成されている。即ち、反射表示領域Ｒには、反射膜１２０の上方に位置するように選択的に絶縁膜１２６が形成され、該絶縁膜１２６の形成に伴って液晶層１５０の層厚を反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとで異ならせている。また、絶縁膜１２６は、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界付近において、自身の層厚が連続的に変化するべく傾斜面を備えている。絶縁膜１２６が存在しない部分の液晶層１５０の厚みが１〜５μｍ程度とされ、反射表示領域Ｒにおける液晶層１５０の厚みは透過表示領域Ｔにおける液晶層１５０の厚みの約半分とされている。このように絶縁膜１２６は、自身の膜厚によって反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの液晶層１５０の層厚を異ならせる液晶層厚調整層（液晶層厚制御層）として機能するものである。
【００７１】
ここで、上記の絶縁膜１２４、１２６は、本発明の機能膜及び光学機能層に相当する部材であり、先に記載したパターン形成方法によって形成されている。即ち、多価金属塩を含む反応液ＬＡを無機隔壁３４ａ上に塗布した後に、当該反応液ＬＡ上にスチレン・アクリル酸分散液からなる樹脂分散液ＬＢを塗布することにより、樹脂分散液ＬＢに含まれる高分子が架橋、凝集し、絶縁膜１２４、１２６が形成される。更に、適宜熱処理を施すことにより絶縁膜１２４、１２６を構成する高分子同士を融着させている。
【００７２】
このように構成された基板本体１１０Ａの表面には、絶縁膜１２６を覆う形でインジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide, 以下、ＩＴＯと略記する）からなる共通電極９上にはポリイミド等からなる配向膜１２７が形成されている。
共通電極１０９は、紙面垂直方向に延びる形のストライプ状に形成されており、該紙面垂直方向に並んで形成されたドット領域の各々に共通の電極として構成されている。この共通電極１０９には反射表示領域Ｒに液晶配向制御用の開口部を設けることが好ましい。このような開口部を設けると、該開口部形成領域において各電極１０９、１３１間に斜め電界が生じ、該斜め電界に応じて、初期状態で垂直配向した液晶分子の電圧印加に基づく傾倒方向が規制される。従って、透過表示領域Ｔと同様に反射表示領域Ｒでも液晶分子の配向制御を行うことが可能となる。特に反射表示領域Ｒでは透過表示領域Ｔに比してセル厚が薄い分だけ横電界が大きくなるため、液晶分子に対する配向規制力は強くなる。
なお、本実施の形態では、反射膜１２０と共通電極１０９とを別個に形成したが、反射表示領域Ｒにおいては金属膜からなる反射膜を共通電極の一部として用いることも可能である。
【００７３】
配向膜１２７は感光性ポリイミド等の感光性材料からなり、この配向膜１２７には、透過表示領域Ｔに対応する位置に凸状部（突起部）１２８が一体に設けられている。この凸状部１２８は液晶の傾倒方向を制御する液晶配向制御手段として機能するものであり、凸状部１２８は例えばカラーフィルタ１２２上から液晶層１５０に所定の高さで突出する形でドット中央部に配置されている。
なお、配向膜１２７は液晶分子を膜面に対して垂直に配向させる垂直配向膜として機能するものであって、ラビングなどの配向処理は施されていない。
【００７４】
一方、上基板１２５側には、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体１２５Ａの表面にカラーフィルタ１２２が配置されている。そして、このカラーフィルタ１２２の表面にはＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極３１がマトリクス状に配列形成され、更にこの画素電極１３１を覆うように下基板１１０と同様の垂直配向処理がなされたポリイミド等からなる配向膜１３３が形成されている。
画素電極１３１は各ドットに対して１つずつ設けられており、それぞれのドットに設けられたＴＦＤによって独立に電圧印加されるようになっている。
【００７５】
更に、下基板１１０の外面側（液晶層１５０を挟持する面とは異なる側）には位相差板１１８及び偏光板１１９が、上基板１２５の外面側にも位相差板１１６及び偏光板１１７が形成されており、基板内面側（液晶層１５０側）に円偏光を入射可能に構成されており、これら位相差板１１８及び偏光板１１９、位相差板１１６及び偏光板１１７が、それぞれ円偏光板を構成している。偏光板１１７（１１９）は、所定方向の偏光軸を備えた直線偏光のみを透過させる構成とされ、位相差板１１６（１１８）としてはλ／４位相差板が採用されている。このような円偏光板としては、その他にも偏光板とλ／２位相差板とλ／４位相差板を組み合わせた構成のもの（広帯域円偏光板）を用いることが可能で、この場合、黒表示をより無彩色にすることができるようになる。また、偏光板とλ／２位相差板とλ／４位相差板、及びｃプレート（膜厚方向に光軸を有する位相差板）を組み合わせた構成のものを用いることも可能で、一層広視角化を図ることができるようになる。なお、下基板１１０に形成された偏光板１１９の外側には透過表示用の光源たるバックライト１１５が設けられている。
【００７６】
上述したように、本実施形態の液晶装置においては、絶縁膜１２４、１２６を形成する際に先に記載のパターン形成方法が採用されているので、当該パターン形成方法と同様の効果が得られる。
【００７７】
なお、本実施形態においては、半透過反射型液晶装置について説明したが、これを限定するものではない。他の形態として反射型液晶装置においても適用可能である。反射型液晶装置の場合、凹凸形状１２４ａを有する絶縁膜１２４の表面に反射膜を形成することで、光散乱膜として機能させることができる。
【００７８】
（カラーフィルタ）
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。
図４は、本発明のカラーフィルタの製造方法を説明するための工程図である。
以下に、図４を参照してカラーフィルタを製造する手順について説明する。
【００７９】
まず、図４（ａ）に示すように透明基板５０の一方の面に対し、ブラックマトリックス（隔壁、機能膜）５２を形成する。このブラックマトリックス５２は、カラーフィルタ形成領域を区画するものであり、本発明に係るパターン形成方法によって形成される。即ち、透明基板５０上に親液パターンを形成した後、当該親液パターン上に多価金属塩を含む反応液ＬＡを無機隔壁３４ａ上に塗布した後に、当該反応液ＬＡ上にスチレン・アクリル酸分散液からなる樹脂分散液ＬＢを塗布する。このように反応液ＬＡ上に樹脂分散液ＬＢを塗布することにより、樹脂分散液ＬＢに含まれる高分子は架橋、凝集し、樹脂隔壁３４ｂが形成される。更に、適宜熱処理を施して、樹脂隔壁３４ｂを構成する高分子同士を融着させる。また、樹脂分散液ＬＢには、ブラックマトリクス５２を着色させるための染料や顔料が含有されている。
【００８０】
染料としては、直接染料、酸性染料、食用染料、塩基性染料、反応性染料、分散染料、建染染料、可溶性建染染料、反応分散染料、など通常インクジェット記録に使用される各種染料を使用することができる。
【００８１】
また、顔料としては、特別な制限なしに無機顔料、有機顔料を使用することができる。無機顔料としては、酸化チタンおよび酸化鉄に加え、コンタクト法、ファーネス法、サーマル法などの公知の方法によって製造されたカーボンブラックを使用することができる。また、有機顔料としては、アゾ顔料（アゾレーキ、不溶性アゾ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料などを含む）、多環式顔料（例えば、フタロシアニン顔料、ペリレン顔料、ペリノン顔料、アントラキノン顔料、キナクリドン顔料、ジオキサジン顔料、チオインジゴ顔料、イソインドリノン顔料、キノフラロン顔料など）、染料キレート（例えば、塩基性染料型キレート、酸性染料型キレートなど）ニトロ顔料、ニトロソ顔料、アニリンブラックなどを使用できる。
【００８２】
本実施形態においては、これらの顔料は分散剤または界面活性剤で水性媒体中に分散させて得られた顔料分散液として樹脂分散液ＬＢに添加されるのが好ましい。好ましい分散剤としては、顔料分散液を調製するのに慣用されている分散剤、例えば高分子分散剤を使用することができる。なお、本実施形態においては、この顔料分散液に含まれる分散剤および界面活性剤を樹脂分散液ＬＢの分散剤および界面活性剤として機能させてもよい。また、インクへの顔料の添加量は、０．５〜２５重量％程度が好ましく、２〜１５重量％程度が好適である。
【００８３】
次に、図４（ｂ）に示すように、インクジェット法を用いてカラーフィルタ用の機能液の液滴５４を吐出し、これをフィルタエレメント５３に着弾させる。吐出する機能液５４の量については、加熱工程（乾燥・焼成工程）における機能液の体積減少を考慮した十分な量とする。
【００８４】
このようにして透明基板５０上のすべてのフィルタエレメント５３に液滴５４を充填した後に、ヒータを用いて透明基板５０が所定の温度（例えば７０℃程度）となるように加熱処理する。この加熱処理により、機能液の溶媒が蒸発して機能液の体積が減少する。この体積減少の激しい場合には、カラーフィルタとして十分な膜の厚みが得られるまで、液滴吐出工程と加熱工程とを繰り返す。この処理により、機能液に含まれる溶媒が蒸発して、最終的に機能液に含まれる固形分（機能性材料）のみが残留して膜化し、図４（ｃ）に示すようにカラーフィルタ５５が形成される。
【００８５】
次に、透明基板５０を平坦化し、且つカラーフィルタ５５を保護するため、図４（ｄ）に示すようにカラーフィルタ５５やブラックマトリックス５２を覆って透明基板５０上に保護膜５６を形成する。この保護膜５６の形成にあたっては、スピンコート法、ロールコート法、リッピング法等の方法を採用することもできるが、カラーフィルタ５５の場合と同様に、インクジェット法を用いて行うこともできる。
【００８６】
このようなカラーフィルタ５５は、液晶装置に組み込むことによって用いられる。例えば、先に記載した液晶装置１００にカラーフィルタ５５組み込む場合、保護膜５６上に画素電極１３１及び配向膜１３３を形成することにより、当該カラーフィルタ５５を備えた液晶装置１００を提供することができる。
【００８７】
上述したように、本実施形態のカラーフィルタの製造方法においては、ブラックマトリクス５２を形成する際に、先に記載のパターン形成方法が採用されているので、当該パターン形成方法と同様の効果が得られる。
【００８８】
（電子機器）
以下、上記の電気光学装置（液晶装置、有機ＥＬ表示装置）やカラーフィルタを備えた電子機器の適用例について説明する。図５（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図５（ａ）において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の電気光学装置を用いた表示部を示している。図５（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図５（ｂ）において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記の電気光学装置を用いた表示部を示している。図５（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図５（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の電気光学装置を用いた表示部を示している。図５（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、上記実施形態の電気光学装置やカラーフィルタを備えているので、低コストで実現できる。
【００８９】
なお、上述した例に加えて、他の例として、液晶テレビ、ビューファインダ型やモニタ
直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、
ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、電子ペーパー、タッ
チパネルを備えた機器等が挙げられる。本発明の電気光学装置は、こうした電子機器の表
示部としても適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明のパターン形成方法を説明するための工程図。
【図２】本発明の電気光学装置の第１実施形態として示した有機ＥＬ装置の側断面図。
【図３】本発明の電気光学装置の第２実施形態として示した液晶装置の側断面図。
【図４】本発明のカラーフィルタの製造方法を説明するための図。
【図５】本発明の電気光学装置又はカラーフィルタを備える電子機器を示す図。
【符号の説明】
【００９１】
１０、３１、１１０…基板
１２…親液パターン（親液部）
１３…樹脂膜（機能膜）
３０…有機ＥＬ装置（電気光学装置）
３４ｂ…樹脂隔壁（機能膜、隔壁）
５０…透明基板（基板）
５２…ブラックマトリックス（機能膜、隔壁）
５５…カラーフィルタ
１００…液晶装置（電気光学装置）
１２４、１２６…絶縁膜（機能膜、光学機能層）
ＬＡ…反応液（第２液体材料）
ＬＢ…樹脂分散液（第１液体材料）
【図１】
2005241854.tif 000006
【図２】
2005241854.tif 000007
【図３】
2005241854.tif 000008
【図４】
2005241854.tif 000009
【図５】
2005241854.tif 000010