(57)【要約】【課題】  変化に富んだ面白味のあるカラー表示を可能とするカラーフィルタ基板とこれを容易に製造可能な方法及びそのようなカラーフィルタ基板を用いた液晶表示パネルを提供する。【解決手段】  後側ガラス基板２の内面に半透過反射膜６を形成し、その平坦な表面上に赤、緑、青の各色要素７ｒ、７ｇ、７ｂからなるカラーフィルタ層７を積層する。各色要素７ｒ、７ｇ、７ｂは、それぞれ、表面形状が互いに異なると共に層厚が不均一に形成されている。このカラーフィルタ層７の上に透明保護膜８、走査電極９及び配向膜１０が順次積層されている。カラーフィルタ層７と透明保護膜８とは、互いに光屈折率が僅かに異なる材料でそれぞれ形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに異なる色の複数の色要素からなるカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であって、
前記複数の色要素は、それぞれ、基板の一方の主面側の平坦面上に厚さが不均一に形成されていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項２】
互いに異なる色の複数の色要素からなるカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、
基板の一方の主面側の平坦面上に厚さが均一な第１の色の第１色要素膜を形成し、
前記第１色要素膜の表面に凹凸を形成して膜厚を不均一化し、
前記第１色要素膜の色要素として残す部分以外を除去して所定の配置で点在する複数の第１色要素を形成し、
前記第１色要素を形成した工程を繰り返し実施して前記第１色要素膜が除去されたエリアに少なくとも１種類の前記第１色要素とは異なる色の第２色要素を形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項３】
色要素膜の表面に凹凸を形成するために、色要素膜が形成された基板全体をその色要素膜を溶解可能な溶剤中に浸漬させることを特徴とする請求項２に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項４】
色要素膜の表面に凹凸を形成するために、色要素膜の表面にこの要素膜を溶解可能な溶剤を噴霧し付着させることを特徴とする請求項２に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項５】
互いに異なる色の複数の色要素からなるカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、
基板の一方の主面側の平坦面上に厚さが均一な第１の色の第１色要素膜を感光性樹脂材料を用いて形成し、
所定の開口パターンが形成されたフォトマスクを介して前記第１色要素膜の表面に光を照射した後現像することにより、前記第１色要素膜の色要素として残す部分以外を除去すると共に、表面が所定の形状の凹凸をなし所定の配置で点在する複数の第１色要素を形成し、
前記第１色要素を形成した工程を繰り返し実施して前記第１色要素膜が除去されたエリアに少なくとも１種類の前記第１色要素とは異なる色の第２色要素を形成することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項６】
互いに色が異なる複数の色要素を共通のフォトマスクを用いて形成することを特徴とする請求項５に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項７】
表示を観察する側に配置された前側基板とその後側基板との間に液晶が封入されてなる液晶表示パネルであって、
前記後側基板の前記前側基板に対向する側の平坦面上に互いに異なる色の複数の色要素からなるカラーフィルタ層が形成され、
前記複数の色要素は、それぞれ、厚さが不均一に形成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の色要素からなるカラーフィルタ基板とその製造方法及びそのカラーフィルタ基板を用いた液晶表示パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネル等の外部光源を必要とする表示装置においては、カラー表示を行う場合、光源光を所望の色の着色光にするためにカラーフィルタが用いられる。このカラーフィルタは、通常、複数の色要素を所定の配列で並設して成り、各色要素は厚さが均一に形成されている。従って、各色要素を透過した光の色純度や輝度は各色要素毎に略一定である。
【０００３】
上述したような厚さが均一な色要素からなるカラーフィルタを採用した液晶表示パネルによる場合、正確なカラー表示を行えるからパーソナルコンピュータのディスプレイのようなデータのモニター表示には好適であるが、表示が単調で多様性に欠ける。
【０００４】
近年、特に若者にとって携行必需品となりつつある携帯電話のディスプレイとしてもカラー液晶表示パネルが採用されている。このモバイル機器である携帯電話のディスプレイとしては、低消費電力であることが求められるため、反射表示と透過表示の双方が可能な特許文献１に示されるような半透過反射型カラー液晶表示パネルが多用されている。
【０００５】
しかるに、近年の携帯電話は、通信機器としての面の他にアクセサリー的なアミューズメント機器としての面も要求されてきており、そのためにディスプレイの表示にも「面白味」が必要とされる。特に、自然光のような外光を光源とする反射表示においては、輝度が低いために表示が地味になりがちであり、アミューズメント機器のディスプレイとして面白味に欠ける。
【特許文献１】特開２００２−１０７７２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、変化に富んだ面白味のあるカラー表示を可能とするカラーフィルタ基板とこれを容易に製造可能な方法及びそのようなカラーフィルタ基板を用いた液晶表示パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明のカラーフィルタ基板は、互いに異なる色の複数の色要素からなるカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板であって、前記複数の色要素は、それぞれ、基板の一方の主面側の平坦面上に厚さが不均一に形成されていることを特徴とするものである。
【０００８】
また、上記課題を解決するため、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、互いに異なる色の複数の色要素からなるカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、基板の一方の主面側の平坦面上に厚さが均一な第１の色の第１色要素膜を形成し、  前記第１色要素膜の表面に凹凸を形成して膜厚を不均一化し、前記第１色要素膜の色要素として残す部分以外を除去して所定の配置で点在する複数の第１色要素を形成し、前記第１色要素を形成した工程を繰り返し実施して前記第１色要素膜が除去されたエリアに少なくとも１種類の前記第１色要素とは異なる色の第２色要素を形成することを特徴とするものである。
【０００９】
更に、上記課題を解決するため、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、互いに異なる色の複数の色要素からなるカラーフィルタ層を有するカラーフィルタ基板の製造方法であって、基板の一方の主面側の平坦面上に厚さが均一な第１の色の第１色要素膜を感光性樹脂材料を用いて形成し、所定の開口パターンが形成されたフォトマスクを介して前記第１色要素膜の表面に光を照射した後現像することにより、前記第１色要素膜の色要素として残す部分以外を除去すると共に、表面が所定の形状の凹凸をなし所定の配置で点在する複数の第１色要素を形成し、前記第１色要素を形成した工程を繰り返し実施して前記第１色要素膜が除去されたエリアに少なくとも１種類の前記第１色要素とは異なる色の第２色要素を形成することを特徴とするものである。
【００１０】
加えて、本発明の液晶表示パネルは、上記課題を解決するため、表示を観察する側に配置された前側基板とその後側基板との間に液晶が封入されてなる液晶表示パネルであって、前記後側基板の前記前側基板に対向する側の平坦面上に互いに異なる色の複数の色要素からなるカラーフィルタ層が形成され、前記複数の色要素は、それぞれ、厚さが不均一に形成されていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のカラーフィルタ基板とそれを用いた液晶表示パネルによれば、カラーフィルタを構成する複数の色要素が、個々に層厚が不均一に形成されているから、１個の同じ色要素を透過する光同士でも色純度や輝度が異なる光となる。従って、同じ色でも色純度や輝度が異なる多種類の透過光が得られ、表示が多彩となり、反射表示においても変化に富んだ面白味のあるカラー表示が可能となる。
【００１２】
本発明の一方のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、基板全体に色要素膜を一様に成膜した状態で色要素膜表面を凹凸化した後、所定の配置で点在する色要素に成形するから、微小な個々の色要素表面に凹凸を容易に形成することができ、所望のカラーフィルタ基板を少ない工数で製造することができる。
【００１３】
本発明の他方のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、一つの工程で一定の厚さの色要素膜から表面が所定の凹凸形状をなし所定の配置で点在する色要素を形成するから、微小な個々の色要素表面に所望の形状の凹凸が形成されたカラーフィルタ基板を少ない工数で製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明の一方のカラーフィルタ基板の製造方法においては、色要素膜の表面に凹凸を形成するために、色要素膜が形成された基板全体をその色要素膜を溶解可能な溶剤中に浸漬させることが好ましく、これにより、互いに表面の凹凸形状がランダムに異なる複数の色要素を容易に形成することができる。
【００１５】
また、本発明の一方のカラーフィルタ基板の製造方法においては、色要素膜の表面に凹凸を形成するために、色要素膜の表面にこの色要素膜を溶解可能な溶剤を噴霧し付着させることが好ましく、これにより、表面に細かい凹凸がランダムに形成された複数の色要素を容易に形成することができる。
【００１６】
さらに、本発明の他方のカラーフィルタ基板の製造方法においては、互いに色が異なる複数種類の色要素を共通のフォトマスクを用いて形成することが好ましく、これにより、全ての色要素表面に同じ形状の凹凸を容易に形成することができる。
【００１７】
以下、本発明の好適な実施形態について説明する。
図１は本発明の第１実施形態としての単純マトリクス式半透過反射型液晶表示パネルを示す模式的断面図である。
【００１８】
図１において、一対のガラス基板１、２が枠状に配置されたシール材(不図示)を介し所定の間隙を保って接合されている。これら一対のガラス基板１、２間には、液晶Ｌｃが封入されている。
【００１９】
一対のガラス基板１、２のうちの表示を観察する前側に位置するガラス基板(以下、前側ガラス基板という)１の内面には、複数の表示電極３が紙面垂直方向に向けて互いに平行に配設されている。これら表示電極３の間には、樹脂ブラック等の遮光材料からなるブラックマトリクス４が配設されている。そして、それら表示電極３とブラックマトリクス４を被って、配向膜５が一様に被着されている。この配向膜５には、液晶分子の配向を規制するために所定の方向に配向処理が施されている。
【００２０】
一方、前側ガラス基板１に対向配置された後側ガラス基板２の内面には、半透過反射膜６が設置されている。この半透過反射膜６は、アルミニウムや銀とパラジウムと銅の合金等の高光反射率金属材料を用いて、スパッタリング法や蒸着法により０．０１μｍ〜０．０５μｍの膜厚に形成した、極薄金属膜からなり、その光反射率は約７０％、光透過率は約１０％程度である。
【００２１】
半透過反射膜６の表面には、表面が凹凸をなし層厚が不均一なカラーフィルタ層７が積層されている。カラーフィルタ層７は、赤、緑、青の各色の色要素７ｒ、７ｇ、７ｂが所定の配列で並設されてなる。ここで、本発明に係わる各色要素７ｒ、７ｇ、７ｂは、それぞれ、個々の色要素の範囲内で膜厚が不均一である。
【００２２】
上述したように、カラーフィルタ層７を構成する個々の色要素７ｒ、７ｇ、７ｂを、それぞれの色要素内において層厚が不均一になるように形成することにより、同一の色要素を透過した光であっても、色純度や輝度を微妙に異ならせることができる。
【００２３】
カラーフィルタ層７の上には透明保護膜８が積層されている。本実施形態においては、透明保護膜８の材料として、カラーフィルタ層７の材料とは光屈折率が僅かに異なる材料が用いられている。例えば、カラーフィルタ層７の材料として光屈折率が１．６程度のアクリル樹脂を用いた場合は、透明保護膜８の材料として光屈折率が１．５程度のポリカーボネイト樹脂を用いればよい。
【００２４】
透明保護膜８の上には、複数の走査電極９が前述した表示電極３と直交する方向(紙面方向)に平行に配設されている。そして、これら走査電極９を被って、配向膜１０が一様に被着されている。配向膜１０には、所定の方向に配向処理が施されている。
【００２５】
以上のように構成された本実施形態の液晶表示パネルにおいては、充分な明るさの外光が得られる環境下ではその外光を利用したカラー反射表示が行われ、充分な明るさの外光が得られない環境下では、図示しないバックライトからの照射光を用いたカラー透過表示が行われる。
【００２６】
すなわち、反射表示のときは、実線で示されるように、表示の観察側である前側からガラス基板１に入射した光線イは、表示電極３、配向膜５、液晶層Ｌｃ、配向膜１０、走査電極９、透明保護膜８、カラーフィルタ層７を順次透過して半透過反射膜６に入射し、半透過反射膜で反射された後は、透過してきた上述の各層膜を逆順に透過して前側に出射される。この場合、図２(ａ)のＱ部拡大図に示されるように、同じ画素(表示電極３と走査電極９が対向する１区画)に同じ方向から平行に入射した光線イ、イ´は、同じ赤色要素７ｒに入射するが、赤色要素７ｒの表面が凹凸をなし且つ透明保護層８と赤色要素７ｒの各光屈折率が僅かではあるが異なっているため、赤色要素７ｒ入射後の各光線イ、イ´の進行方向が互いに近づく方向にずれる。なお、二点鎖線は、透明保護層８と赤色要素７ｒの各光屈折率が等しい場合の各光線イ、イ´の進行方向を示している。
【００２７】
半透過反射膜６で正反射された後は、赤色要素７ｒを出射して透明保護膜８に入射する際に、再び光屈折作用を受け、今度は互いに遠ざかる方向にずれる。その結果、光線イ、イ´の赤色要素７ｒを出射する際の各方向のずれは、赤色要素７ｒへの入射時と出射時とで打ち消しあい、僅かにずれるだけである。この場合の出射光の進行方向のズレは、凹凸をなす色要素(カラーフィルタ)表面に対する各光線の入射位置と出射位置により異なる。従って、このカラーフィルタ層７は、光拡散部材としての機能もある程度果たしていおり、これにより反射表示のギラツキが緩和される。
【００２８】
図１に戻って、同じ色の別個の赤色要素７ｒに入射した光線ロは、入射方向は光線イと同じであってもそれぞれが入射したそれぞれの赤色要素７ｒ、７ｒの凹凸形状及び層厚が異なるため、各出射光の方向と色純度及び輝度が微妙に異なっている。その結果、反射のギラツキが緩和されると共に、同じ色であっても色純度や輝度が異なる多彩な光による変化に富んだカラー反射表示が得られる。
【００２９】
一方、透過表示の場合は、破線で示されるように、図示しないバックライトから出射された照射光が後側からガラス基板２に入射し、半透過反射６、カラーフィルタ層７、透明保護膜８、走査電極９、配向膜１０、液晶層Ｌｃ、配向膜５、表示電極３、前側ガラス基板１を順次透過して前側に出射される。この場合は、図２(ｂ)に示されるように、同じ赤色カラーフィルタ層７ｒに入射した光線ハ、ハ´は、赤色カラーフィルタ層７ｒを出射して透明保護層に入射する際に１度だけ光屈折作用を受け、互いに近づく方向に出射される。この場合も、出射光の進行方向のズレは凹凸をなす色要素表面の出射位置により異なるから、カラーフィルタ層７は光拡散部材としての機能もある程度果たしており、光源に起因する照射光の輝度のバラツキが緩和される。
【００３０】
図１に戻って、同じ色で別の赤色要素７ｒに入射した光線ニは、入射方向は光線ハと同じ(ガラス基板２表面に垂直)であってもそれぞれが入射した赤色要素７ｒ、７ｒの凹凸形状及び層厚が異なるため、各出射光の方向と色純度及び輝度が微妙に異なっている。その結果、輝度分布のバラツキが緩和されると共に、同じ色であっても色純度や輝度が異なる多彩な光による変化に富んだカラー透過表示が得られる。
【００３１】
なお、カラーフィルタ層７と透明保護層８の光屈折率の差を過度に大きくすると、混色等が発生して正確なカラー表示に支障を来たすから、両者の光屈折率の差は０．３以下であることが好ましく、ガラス基板１、２の外側に拡散部材を設けて充分な光拡散効果が得られる場合は、両者の光屈折率は同一であってもよい。
【００３２】
次に、カラーフィルタ層７等の各層膜を形成した後側ガラス基板２の組立体(以下、カラーフィルタ基板という)の製造方法について説明する。図３(ａ)〜(ｅ)は、それぞれ、本発明のカラーフィルタ基板製造方法の第１実施形態によって製造されるカラーフィルタ基板の変遷を段階別に示す模式的断面図で、図４はその第１実施形態の製造方法における凹凸表面処理工程を示す説明図である。
【００３３】
まず、図３(ａ)に示すように、ガラス基板２の一方の主面に半透過反射膜６を表面が平坦で均一な厚さに形成する。この半透過反射膜６上に、均一な厚さの例えば赤色の色要素層７ｒ0を一様に積層して、赤色要素層基板Ｓ0を得る。そして、上述のようにして得られた複数の赤色要素層基板Ｓ0を、図４に示すように、色要素層を溶解可能な溶剤ｓ中に、平行に立てた状態で全体を浸漬させる。そして、浸漬させた赤色要素層基板Ｓ0を緩やかに揺動させるか、或いは溶剤ｓを貯留した処理槽ｔの底部に散気管(不図示)を配置して気泡を吐出させる等の方法により、溶剤ｓを赤色要素層基板Ｓ0に対し相対的に移動させる。これにより、図３(ｂ)に示すように、表面に緩やかに凹凸が形成された赤色要素膜７ｒ´を有する赤色要素膜基板Ｓ1が、複数枚づつ一括して効率良く得られる。この場合の、浸漬時間や基板の揺動速度或いは散気量等のプロセス条件は、得ようとする色要素膜表面の凹凸の程度に応じて適正に設定される。
【００３４】
この後は、通常のフォトリソグラフィーを実施し、図３(ｃ)に示されるように表面形状が個々に異なる複数の赤色要素７ｒを所定の配置で点在させた赤色要素基板Ｓ2を得る。
【００３５】
次いで、緑色要素と青色要素を上述した赤色要素と同様の製造プロセスにより形成する。すなわち、緑色要素と青色要素についても、図３(ａ)〜(ｃ)の段階を経る製造プロセスをそれぞれ実施する。これにより、図３(ｄ)に示す様に、表面形状が個々に異なる赤、緑、青の各色要素７ｒ、７ｇ、７ｂが所定の配列で並設されてなるカラーフィルタ層７が積層された色要素基板Ｓ3が得られる。
【００３６】
この後、カラーフィルタ層７上に透明保護膜８、走査電極９、及び配向膜１０を順次積層形成することにより、図３(ｅ)に示されるカラーフィルタ基板Ｓ4が得られる。
【００３７】
以上の様に、本実施形態の製造方法によれば、均一な厚さの色要素層表面に溶剤ｓを緩やかに流動接触させて凹凸を形成するから、比較的大きい周期で起伏する凹凸面が形成され、表面形状が個々に明確に異なる色要素７ｒ、７ｇ、７ｂが得られる。従って、本実施形態の方法で製造されたカラーフィルタ基板Ｓ4を用いた液晶表示パネルは、同じ色でも色純度や輝度が明確に異なる高コントラストで多彩な光によるカラー表示を行うことができる。また、凹凸表面処理を複数の色要素層基板を溶剤ｓが貯溜された処理槽ｔ中に一括浸漬して行うから、１枚当たりの処理時間が短縮され、製造効率をアップさせることができる。
【００３８】
次に、カラーフィルタ基板の製造方法の第２実施形態について、図５(ａ)〜(ｃ)に基づき説明する。
【００３９】
まず、(ａ)に示すように、表面が平坦な例えば赤色要素層７ｒ0が形成された色要素層基板Ｓ0を準備し、その赤色要素層７ｒ0の平坦な表面に向けて、色要素膜を溶解可能な溶剤ｓを均一に噴霧する。
【００４０】
これにより、(ｂ)に示すように、赤色要素層７ｒ0の表面に凹凸が形成される。この場合の凹凸は、起伏の大きさ及び周期が共に小さく略一定した凹凸である。
【００４１】
この後は、第１実施形態の方法と同様に、フォトリソグラフィーを実施し、他の緑色要素及び青色要素についても同一のプロセスを実施する。これにより、(ｃ)に示すカラーフィルタ基板Ｓ4が得られる。
【００４２】
以上のように、本実施形態の製造方法によれば、色要素層の平坦な表面に溶剤ｓを噴霧し微小な霧滴にして均一に付着させるから、略同じ形状の微小な凹凸を略一定の周期で形成することができる。従って、本実施形態の方法で製造されたカラーフィルタ基板Ｓ4を用いた液晶表示パネルは、同じ色で色純度や輝度が微妙に異なった多様な光による味わい深いカラー表示を行うことができる。
【００４３】
次に、第３実施形態としてのカラーフィルタ基板の製造方法について、図６に基づき説明する。
【００４４】
本実施形態においては、色要素層の材料としてポジタイプの感光性樹脂材料を用いる。まず、ガラス基板２の半透過反射膜６上に表面が平坦な赤色要素層７ｒ0を形成する。この平坦な赤色要素層７ｒ0が形成された色要素層基板Ｓ0に対して、(ａ)に示すように、ハードマスクｍを介して露光を行う。このハードマスクｍには、複数個の幅の異なる微細なスリットｍoが穿設されている。このハードマスクｍを介して露光することにより、スリットｍｓのパターン構成に対応した表面形状の色要素が得られる。すなわち、幅の大きいスリットｍo1に対応する位置には大きな凸部が形成され、幅が最も小さいスリットｍo2に対応する位置には、スリットｍo2を通る光が回折して複数の小さな凸部が形成される。
【００４５】
本実施形態においては、１回の露光毎にハードマスクｍの位置を所定量ずらし、次の露光を行う。この後、溶剤で現像することにより、赤色要素７ｒが所定の配置で点在する赤色要素基板(不図示)が得られる。
【００４６】
緑色要素と青色要素を形成するときも、上述した露光と現像の各工程を同一のハードマスクｍを使用して繰り返し実施する。これにより、(ｂ)に示す色要素基板Ｓ3が得られる。この色要素基板Ｓ3では、同一の凹凸形状をなす赤、緑、青の各色要素７ｒ、７ｇ、７ｂが所定の配列で並設されてなるカラーフィルタ層７が、半透過反射膜６上に積層されている。この後は、透明保護膜８、走査電極９及び配向膜１０を順次積層することにより、(ｃ)に示すカラーフィルタ基板Ｓ4が得られる。
【００４７】
以上の様に、本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、色要素層の平坦な表面を凹凸化する手法として、フォトリソグラフィーを応用したから、所望の凹凸形状が正確に再現性良く形成される。従って、全ての色要素膜７ｒ、７ｇ、７ｂが同じ凹凸形状をなすカラーフィルタ基板Ｓ4を正確且つ容易に安定して製造することができる。そして、このカラーフィルタ基板Ｓ4を用いた液晶表示パネルは、同じ色でも視角によって色純度や輝度が異なる面白味のあるカラー表示を行うことができる。
【００４８】
本実施形態の製造方法においては、各色要素膜７ｒ、７ｇ、７ｂを、それぞれ、異なる開口パターンが形成された別個のハードマスクを用いて形成してもよい。この場合、形成された各色要素膜７ｒ、７ｇ、７ｂの凹凸形状が異なるから、上述した全ての色要素膜７ｒ、７ｇ、７ｂが同じ凹凸形状をなしているカラーフィルタ基板Ｓ4を用いる場合よりも、より変化に富む視角特性を備えたカラー表示を行うことができる。
【００４９】
なお、本発明は、上述した種々の実施形態に限定されるものではない。たとえば、カラーフィルタ層を後側基板ではなく前側基板に形成する場合にも、本発明は有効に適用可能である。
【００５０】
また、上述した本発明のカラーフィルタ基板製造方法の各実施形態においては赤色要素を最初に形成したが、これに限らず、赤、緑、青の各色要素を形成する順序は任意に設定できる。
【００５１】
加えて、本発明は、半透過反射式に限らず、反射式或いは透過式の液晶表示パネルに、或いは、単純マトリクス型に限らず、セグメント型やアクティブマトリックス型等の他の種々の液晶表示パネルに、それぞれ適用可能であることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の第１実施形態としての単純マトリクス型液晶表示パネルを示す模式的断面図である。
【図２】上記液晶表示パネルにおける光の進行経路を示すＱ部拡大説明図で、(ａ)は反射表示の場合を示し、(ｂ)は透過表示の場合を示している。
【図３】本発明のカラーフィルタ基板製造方法の第１実施形態によって製造されるカラーフィルタ基板の変遷を段階別に示す模式的断面図で、 (ａ)は凹凸表面処理を行う前の赤色要素膜基板を示す模式的断面図、(ｂ)は凹凸表面処理された赤色要素膜基板を示す模式的断面図、(ｃ)は赤色要素が形成された赤色要素基板を示す模式的断面図、(ｄ)は全ての色要素が形成された色要素基板を示す模式的断面図、(ｅ)は出来上がったカラーフィルタ基板を示す模式的断面図である。
【図４】本発明のカラーフィルタ基板製造方法の第１実施形態における凹凸表面処理工程を示す説明図である。
【図５】本発明のカラーフィルタ基板製造方法の第２実施形態によって製造されるカラーフィルタ基板の変遷を段階別に示す模式的断面図で、(ａ)は凹凸表面処理中の赤色要素膜基板を示す模式的断面図、(ｂ)は凹凸表面処理された赤色要素膜基板を示す模式的断面図、(ｃ)は出来上がったカラーフィルタ基板を示す模式的断面図である。
【図６】本発明のカラーフィルタ基板製造方法の第３実施形態によって製造されるカラーフィルタ基板の変遷を段階別に示す模式的断面図で、 (ａ)は露光工程中の色要素膜基板を示す模式的断面図、(ｂ)は全ての色要素が形成された色要素基板を示す模式的断面図、(ｃ)は出来上がったカラーフィルタ基板を示す模式的断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１                  前側ガラス基板
２                  後側ガラス基板
３                  表示電極
４                  ブラックマトリクス
５、１０            配向膜
６                  半透過反射膜
７                  カラーフィルタ層
７ｒ0               赤色要素層
７ｒ´              赤色要素膜
７ｒ                赤色要素
７ｇ                緑色要素
７ｂ                青色要素
８                  透明保護膜
９                  走査電極
Ｓ0                 色要素層基板
Ｓ1                 色要素膜基板
Ｓ2、Ｓ3            色要素基板
Ｓ4                 カラーフィルタ基板
【図１】
2005241895.tif 000003
【図２】
2005241895.tif 000004
【図３】
2005241895.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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