(57)【要約】【課題】  液晶装置等において、反射膜を剥き出しにする領域を確保しつつ、着色要素の領域も十分に確保する。【解決手段】  透明な基材９ａと、基材９ａ上に形成された反射膜１２と、反射膜１２上に形成された色の異なる複数の着色要素１６と、反射膜１２上であって複数の着色要素１６の境界に形成された複数のバンク１５とを有するカラーフィルタ基板４ａである。バンク１５は透明部１５ａと非透明部１５ｂとを有する。着色要素１６は、バンク１５と遮光部材１３とによって囲まれる領域内にインクジェット技術によって吐出されて固着される。バンク１５自体が反射膜１２の剥き出し領域になる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な基材と、該基材上に形成された反射膜と、該反射膜上に形成された色の異なる複数の着色要素と、前記反射膜上であって前記複数の着色要素の境界に形成された複数のバンクとを有し、前記バンクは透明部と非透明部とを有することを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項２】
請求項１において、前記複数のバンク内の前記透明部の面積は、当該バンクに隣接する前記着色要素の色に対応して異なる値に設定されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項３】
請求項２において、着色要素の第１色に対して面積Ａ１の透明領域が要求され、前記第１色に隣接する第２色に対して面積Ａ２の透明領域が要求されるとき、前記第１色と前記第２色との間に設けられる前記バンクの前記透明部の面積は、（Ａ１／２＋Ａ２／２）であることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項４】
請求項１から請求項３の少なくともいずれか１つにおいて、前記バンクは前記着色要素の縦又は横の辺に対応して設けられ、当該バンクが設けられない横又は縦の辺には遮光部材が設けられることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項５】
請求項１から請求項４の少なくともいずれか１つにおいて、前記複数のバンクの幅は異なる色の前記着色要素間で一定であることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項６】
請求項１から請求項５の少なくともいずれか１つにおいて、前記透明部及び前記非透明部は１つのバンク内で複数個、交互に並べられることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１つにおいて、前記複数の着色要素の色の種類はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色であり、それらはストライプ配列で並べられることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか１つであって、ライン配線を備えた素子基板に対向して用いられるカラーフィルタ基板において、前記バンクは平面的に見て前記ライン配線を包含するようにそのライン配線よりも太く形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項９】
請求項８において、着色要素の第１色に対して面積Ａ１の透明領域が要求され、前記第１色に隣接する第２色に対して面積Ａ２の透明領域が要求され、さらに前記ライン配線の面積がＡＬであるとき、
前記第１色と前記第２色との間に設けられる前記バンクの前記透明部の面積は、（Ａ１／２＋Ａ２／２＋ＡＬ）であることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項１０】
請求項１から請求項９の少なくともいずれか１つにおいて、前記着色要素は液滴吐出によって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項１１】
基材上に反射膜を形成する工程と、
透明部及び非透明部から成るバンクを形成する工程と、
前記バンクによって区画される複数の領域内に液滴吐出によって色の異なる複数の着色要素を所定の配列となるように形成する工程と、
を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１において、前記バンクを形成する工程では、前記バンク内の前記透明部の面積は、当該バンクに隣接する前記着色要素の色に対応して異なる値に設定されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１３】
請求項１２において、着色要素の第１色に対して面積Ａ１の透明領域が要求され、前記第１色に隣接する第２色に対して面積Ａ２の透明領域が要求されるとき、前記バンクを形成する工程では、前記第１色と前記第２色との間に設けられる前記バンク内の前記透明部の面積は（Ａ１／２＋Ａ２／２）に設定されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１４】
請求項１１から請求項１３のいずれか１つにおいて、前記液滴吐出によって複数の着色要素を形成する工程では、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色要素がストライプ状に配列されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１５】
請求項１１から請求項１４のいずれか１つであって、ライン配線を備えた素子基板に対向して用いられるカラーフィルタ基板の製造方法において、前記バンクを形成する工程では、前記バンクは平面的に見て前記ライン配線を包含するようにそのライン配線よりも太く形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１６】
請求項１５において、着色要素の第１色に対して面積Ａ１の透明領域が要求され、前記第１色に隣接する第２色に対して面積Ａ２の透明領域が要求され、さらに前記ライン配線の面積がＡＬであるとき、
前記バンクを形成する工程では、前記第１色と前記第２色との間に設けられる前記バンク内の前記透明部の面積は（Ａ１／２＋Ａ２／２＋ＡＬ）に設定されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１７】
請求項１から請求項１０のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板上に設けられた電気光学物質の層とを有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項１８】
請求項１７記載の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置等といった電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板及びその製造方法に関する。また、本発明は、そのカラーフィルタ基板を用いて構成される電気光学装置に関する。また、本発明は、その電気光学装置を用いて構成される携帯電話機、携帯情報端末機等といった電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置、有機ＥＬ装置等といった電気光学装置によってカラー表示を行うことは従来から知られている。このような電気光学装置では、その内部にカラーフィルタ基板が組み込まれる。このカラーフィルタ基板は、例えば、透明ガラスから成る基材上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色要素を所定の配列となるように形成することによって形成される。
【０００３】
ところで、液晶装置として次の３種類が知られている。第１は、太陽光、室内光等といった外部光を装置内部で反射させ、その反射光を用いて表示を行う、いわゆる反射型の液晶装置である。第２は、冷陰極管、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等といった光源から放出されて液晶装置の内部を透過する光を用いて表示を行う、いわゆる透過型の液晶装置である。第３は、反射型及び透過型の２つの機能を併せて持つ半透過反射型の液晶装置である。
【０００４】
上記の反射型液晶装置及び半透過反射型液晶装置においては、反射光を用いて表示を行う際に、外部光がカラーフィルタの着色要素を２回通過するので光の吸収が多くなって表示の明るさが低下するという問題があった。この問題を解消するため、画素領域の中に着色要素を形成しない領域、すなわち反射膜が剥き出しの領域を形成するようにした反射型液晶装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この液晶装置では、反射膜が剥き出しの部分を通して明るい光を通過させることにより、カラー表示の明るさが低下することを防止している。
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−１８６３４７号公報（第３〜４頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示された液晶装置では、反射膜剥き出し部分がブラックマスクの内側領域、すなわち、ブラックマスクとは別の領域に設けられるので、着色要素の面積が狭くなるという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、反射膜を剥き出しにする領域を確保しつつ、着色要素の領域も十分に確保できるカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置、及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するため，本発明に係るカラーフィルタ基板は、透明な基材と、該基材上に形成された反射膜と、該反射膜上に形成された色の異なる複数の着色要素と、前記反射膜上であって前記複数の着色要素の境界に形成された複数のバンクとを有し、前記バンクは透明部と非透明部とを有することを特徴とする。ここで、上記バンクについて『透明』とは、着色要素よりも光透過率が高いということであり、具体的には、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの光に対して光透過率が５０％以上、望ましくは８０％以上のことである。
【０００９】
このカラーフィルタ基板によれば、着色要素を区画するバンクに透明部を設けたので、バンクそのものが反射膜剥き出し部として機能する。そのため、従来のようにブラックマスクの内側に反射膜剥き出し部を設けた場合と比較して、着色要素の領域を大きくとることが可能となり、十分な彩度を確保できる。
【００１０】
なお、バンクに非透明部を設けることなく、バンクの全体を透明部にするという考えもある。しかしながらこの場合には、着色要素の特性に鑑みてそれ程大きな透明部が必要とされないときに、バンクの幅が狭くなってしまい、そのバンクを境として隣り合う２つの着色要素間で混色が発生するおそれがある。混色が発生すれば、カラーフィルタ基板の品質が低下する。これに対し、バンクに透明部と非透明部の両方を設けるようにすれば、仮に、要求される透明部の面積が狭くて済むような場合であってもバンクの線幅を太く設定することができ、それ故、隣り合う２つの着色要素間に十分な広さのバンクを設けることができる。そしてこれにより、それら２つの着色要素間で混色が発生することを防止できる。
【００１１】
また、本発明のカラーフィルタ基板によれば、バンクによって区画される領域内に着色要素を配置する構成なので、着色要素を液滴吐出技術、すなわちインクジェット技術を利用して形成できる。ここで、インクジェット技術とは、着色要素の材料をインク滴としてノズルから吐出して希望の個所に吐着させる技術である。インクの吐出方法としては、通電に応じて振動する圧電素子を用いてノズルの内部容積を変化させてインクを吐出する方法や、ノズル内部のインクを熱膨張させて吐出する方法や、その他任意の液滴吐出技術を採用できる。このインクジェット技術を用いれば、フォトリソグラフィ技術を用いた従来の方法に比べて、簡単な工程で且つ安価に着色要素を形成できる。
【００１２】
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記複数のバンク内の前記透明部の面積は、当該バンクに隣接する前記着色要素の色に対応して異なる値に設定されることが望ましい。本出願人は、特願２００２−２３０２９１号において、個々の画素領域内にバンク層や島状バンク領域等といった無着色反射領域を設けることにより、無着色の明るい反射光を得ることができるカラーフィルタ基板を提案した。ここで用いられる無着色反射領域の大きさは着色要素の色と密接に関連している。例えば、着色要素としてＲ，Ｇ，Ｂの３色を用いる場合、無着色反射領域の大きさをＲ，Ｇ，Ｂのそれぞれに対応して変化させれば、カラー表示における色のバランスを観察者の希望に応じて自由に設定できる。このことは本願発明についても同様である。つまり、本願発明においては、バンク内の透明部の面積を着色要素の色に対応して変化させることにより、各色の明るさを個別に調節でき、これにより、カラー表示における色のバランスを希望に応じて調節できる。
【００１３】
上記構成のカラーフィルタ基板において、着色要素の第１色に対して面積Ａ１の透明領域が要求され、前記第１色に隣接する第２色に対して面積Ａ２の透明領域が要求されるとき、前記第１色と前記第２色との間に設けられる前記バンクの前記透明部の面積は、（Ａ１／２＋Ａ２／２）であることが望ましい。つまり、この場合には、１つのバンク内の透明部の面積が、そのバンクの両隣の着色要素のそれぞれに必要とされる透明領域の面積の半分ずつを合計した値に設定される。換言すれば、１つの着色要素に関しては、その着色要素の色に対して要求される透明領域の面積の半分がその着色要素の両側に振り分けられることになる。
【００１４】
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記バンクは前記着色要素の縦又は横の辺に対応して設けられ、当該バンクが設けられない横又は縦の辺には遮光部材が設けられることが望ましい。つまり、透明部を備えたバンクは着色要素の横辺に対応して形成し、着色要素の縦辺に対応する部分には遮光部材を設けることができる。また、逆に、着色要素の縦辺に対応して透明部を備えたバンクを設け、着色要素の横辺に対応する部分に遮光部材を設けることもできる。なお、ここにいう遮光部材は、いわゆるブラックマスクとして機能してカラー表示を鮮明にする。
【００１５】
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記複数のバンクの幅は前記各着色要素間で一定であることが望ましい。本発明のカラーフィルタ基板では、バンクの透明部の面積が当該バンクの両隣の着色要素の色に対応して異なる値に設定されることがある。この場合でもバンク自体の幅は全てのバンクに関して互いに同じ値であることが望ましい。つまりこの場合には、異なるバンク間で非透明部の面積が異なる値に設定されることになる。本発明の実施態様のように全てのバンクの幅を一定値に決めれば、着色要素を液滴吐出、すなわちインクジェット法によって形成する際に液滴吐出のタイミング制御及び液滴量制御が簡単になる。また、バンクの両隣りの着色要素間の混色を有効に防止できる。
【００１６】
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記透明部及び前記非透明部は１つのバンク内で複数個、交互に並べられることが望ましい。こうすれば、透明部をバンク内の１つの個所に局所的に設ける場合に比べて、平面的に満遍なく明るい反射光を得ることができる。
【００１７】
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記複数の着色要素の色の種類はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）や、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）等の３色であり、それらはストライプ配列で並べられることが望ましい。ここで、ストライプ配列とは、例えば図７（ａ）に示すように、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれの色が縦方向に１列に並び、横方向に順番に１つずつ繰り返して変化する配列である。
【００１８】
なお、着色要素の配列としては、ストライプ配列以外に種々採用でき、例えば、図７（ｂ）に示すモザイク配列や、図７（ｃ）に示すデルタ配列等が考えられる。モザイク配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが縦列と横列の両方で順番に繰り返して並べられる配列である。また、デルタ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが三角形の頂点に相当する位置に配列されると共に横列方向でＲ，Ｇ，Ｂが順番に繰り返して並べられる配列である。
【００１９】
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板は、ライン配線を備えた素子基板に対向して配置されることがある。この場合には、前記バンクは平面的に見て前記ライン配線を包含するようにそのライン配線よりも太く形成されることが望ましい。素子基板側に設けられるライン配線は光を透過させない領域であるので、ブラックマスクとして機能する。透明なバンクをライン配線よりも太く形成すれば、バンクを通過する無着色反射光を有効に利用できる。
【００２０】
平面的に見て透明バンクの中にライン配線が包含される構造のカラーフィルタ基板において、着色要素の第１色に対して面積Ａ１の透明領域が要求され、前記第１色に隣接する第２色に対して面積Ａ２の透明領域が要求され、さらに前記ライン配線の面積がＡＬであるとき、前記第１色と前記第２色との間に設けられる前記バンクの面積は、（Ａ１／２＋Ａ２／２＋ＡＬ）であることが望ましい。こうすれば、透明バンクを通過する無着色反射光を有効に利用できる。
【００２１】
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、基材上に反射膜を形成する工程と、透明部及び非透明部から成るバンクを形成する工程と、前記バンクによって区画される複数の領域内に液滴吐出によって色の異なる複数の着色要素を所定の配列となるように形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２２】
この製造方法によれば、着色要素を区画するバンクに透明部が設けられるので、バンクそのものが反射膜剥き出し部として機能する。そのため、従来のようにブラックマスクの内側に反射膜剥き出し部を設けた場合と比較して、着色要素の領域を大きくとることが可能となり、十分な彩度を確保できる。
【００２３】
なお、バンクに非透明部を設けることなく、バンクの全体を透明部にするという考えもある。しかしながらこの場合には、着色要素の特性に鑑みてそれ程大きな透明部が必要とされないときに、バンクの幅が狭くなってしまい、そのバンクを境として隣り合う２つの着色要素間で混色が発生するおそれがある。混色が発生すれば、カラーフィルタ基板の品質が低下する。これに対し、バンクに透明部と非透明部の両方を設けるようにすれば、仮に、要求される透明部の面積が狭くて済むような場合であってもバンクの線幅を太く設定することができ、それ故、隣り合う２つの着色要素間に十分な広さのバンクを設けることができる。そしてこれにより、それら２つの着色要素間で混色が発生することを防止できる。
【００２４】
また、本発明の製造方法では、液滴吐出技術、すなわちインクジェット技術を利用して着色要素が形成されるので、フォトリソグラフィ技術を用いた従来の方法に比べて、作業が簡単になり、インクの消費量を節約できる等といった効果が得られる。
【００２５】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記バンクを形成する工程では、前記バンク内の前記透明部の面積は、当該バンクに隣接する前記着色要素の色に対応して異なる値に設定されることが望ましい。こうすれば、各色の明るさを個別に調節できるので、カラー表示における色のバランスを希望に応じて調節できる。
【００２６】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法において、着色要素の第１色に対して面積Ａ１の透明領域が要求され、前記第１色に隣接する第２色に対して面積Ａ２の透明領域が要求されるとき、前記バンクを形成する工程では、前記第１色と前記第２色との間に設けられる前記バンク内の前記透明部の面積は（Ａ１／２＋Ａ２／２）に設定されることを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。こうすれば、１つの着色要素に対して要求される透明領域の面積は、その着色要素の両側に振り分けて配置されることになる。
【００２７】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法において、前記液滴吐出によって複数の着色要素を形成する工程では、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色要素がストライプ状に配列されることが望ましい。
【００２８】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法であって、ライン配線を備えた素子基板に対向して用いられるカラーフィルタ基板の製造方法において、前記バンクを形成する工程では、前記バンクは平面的に見て前記ライン配線を包含するようにそのライン配線よりも太く形成されることが望ましい。
【００２９】
上記構成のカラーフィルタ基板の製造方法において、着色要素の第１色に対して面積Ａ１の透明領域が要求され、前記第１色に隣接する第２色に対して面積Ａ２の透明領域が要求され、さらに前記ライン配線の面積がＡＬであるとき、前記バンクを形成する工程では、前記第１色と前記第２色との間に設けられる前記バンク内の前記透明部の面積は（Ａ１／２＋Ａ２／２＋ＡＬ）に設定されることが望ましい。
【００３０】
次に、本発明に係る電気光学装置は、以上に記載した構成のカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板に接触するように形成された電気光学物質の層とを有することを特徴とする。このような電気光学装置としては、例えば、液晶装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置、その他各種の装置が考えられる。
【００３１】
この電気光学装置においては、内蔵するカラーフィルタ基板において着色要素を区画するバンクを透明としたので、バンクそのものが反射膜剥き出し部として機能する。そのため、従来のようにブラックマスクの内側に反射膜剥き出し部を設けた場合と比較して、着色要素の領域を大きくとることが可能となり、十分な彩度を確保できる。これにより、電気光学装置に関する各種の表示を鮮やかな色彩で表示することができる。
【００３２】
次に、本発明に係る電子機器は、上記の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする。このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、その他各種の機器が考えられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
（カラーフィルタ基板及び電気光学装置の実施形態）
以下、本発明に係るカラーフィルタ基板をそれが用いられる電気光学装置と共に一例を挙げて説明する。なお、以下の説明では、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置であって、半透過反射型の液晶装置を例に挙げるものとする。なお、本発明がその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。
【００３４】
図４において、電気光学装置としての液晶装置１は、液晶パネル２と、それに組みつけられる照明装置３とを有する。液晶パネル２は、第１基板４ａと第２基板４ｂとを矢印Ａ方向から見て環状のシール材６によって貼り合わせることによって形成されている。第１基板４ａはカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板であり、第２基板４ｂはＴＦＤ素子が形成される素子基板である。図５は、図４の液晶パネル２における１つの表示用ドット部分を拡大して示している。図５に示すように、第１基板４ａと第２基板４ｂとの間には、スペーサ７によって維持される隙間、いわゆるセルギャップＧが形成され、このセルギャップＧ内に液晶が封入されて液晶層８が形成されている。
【００３５】
図１は、図４の第１基板４ａの１画素領域を図４の矢印Ａ方向、すなわち観察側方向から見た場合の平面的な構成を示している。また、図２（ａ）は図１のＡ−Ａ線に従った第１基板４ａの断面構造を示している。また、図２（ｂ）は図１のＢ−Ｂ線に従った第１基板４ａの断面構造を示している。図２（ａ）及び図２（ｂ）において、第１基板４ａは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第１基材９ａを有する。その第１基材９ａの液晶側表面には樹脂層１１が形成され、その上に反射膜１２が形成される。
【００３６】
また、図２（ｂ）において、反射膜１２の上にはバンク１５が図の左右方向に設けられ、さらに、遮光部材１３が図の紙面垂直方向に設けられる。バンク１５は、非透明部１５ａと透明部１５ｂとを図２（ｂ）の左右方向へ交互に設けることによって構成されている。非透明部１５ａは、例えば、黒色の感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成される。また、透明部１５ｂは、例えば、透明で撥インク性を有する感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成される。ここで、撥インク性というのは、後述するインクジェット技術によって吐出される着色要素の材料を撥ねる特性である。
【００３７】
遮光部材１３と非透明部１５ａとは同じ工程において同じ材料によって同時に形成される。また、図２（ｂ）に示すように、透明部１５ｂを構成する材料は非透明部１５ａ及び遮光部材１３の上に積層されている。透明部１５ｂの材料は撥インク性を有するので、その材料を非透明部１５ａ及び遮光部材１３の上に積層することにより、非透明部１５ａ及び遮光部材１３に撥インク性を持たせることができる。これ以降、遮光部材１３及び非透明部１５ａと言ったときには、それらの上に積層された撥インク性の透明部１５ｂの材料も含むものとする。
【００３８】
図１において、遮光部材１３は図の上下方向へ延びるように形成される。そして、バンク１５は図の左右方向、すなわち遮光部材１３に直交する方向へ延びるように形成されている。バンク１５と遮光部材１３とによって囲まれる方形状の領域内には着色要素１６が形成される。この着色要素１６にはＲ，Ｇ，Ｂの３色があり、それらが、バンク１５と遮光部材１３とによって囲まれる１つの領域に１色ずつ形成される。なお、図１に示すように、Ｒ色の着色要素を１６ｒ、Ｇ色の着色要素を１６ｇ、Ｂ色の着色要素１６ｂを１６ｂと呼ぶことにする。本実施形態では、これらのＲ，Ｇ，Ｂ各色の着色要素１６を図７（ａ）のストライプ配列で並べるものとし、これらの着色要素１６によってカラーフィルタが構成される。
【００３９】
図２（ａ）及び図２（ｂ）において、遮光部材１３、バンク１５及び着色要素１６の上にはオーバーコート層１７が形成され、その上に帯状の透明電極１８ａが形成され、その上に配向膜１９ａが形成される。配向膜１９ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜１９ａの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第１基材９ａの外側表面には、図４に示すように偏光板２１ａが貼着等によって装着されている。
【００４０】
図２（ａ）及び図２（ｂ）において、樹脂層１１の表面には凹凸が形成され、その樹脂層１１に積層された反射膜１２の表面にも凹凸が形成される。この凹凸パターンは、矢印Ａ方向から見て平面内でランダムに形成されている。この凹凸の存在により、反射膜１２に入射した光は散乱光となって反射する。１本の帯状の透明電極１８ａは、図２（ａ）及び図２（ｂ）の紙面垂直方向へ延びており、隣り合う電極１８ａの間には遮光部材１３の幅にほぼ一致する間隔が設けられている。これにより、複数の電極１８ａは、矢印Ａ方向から見てストライプ状に形成されている。
【００４１】
図５において、液晶層８を挟んで第１基板４ａに第２基板４ｂが対向する。図３（ａ）は、その第２基板４ｂの１画素領域の平面構造を図４の矢印Ａ方向から見た状態を示している。また、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＣ−Ｃ線に従った第２基板４ｂの断面構造を示している。図３（ｂ）において、第２基板４ｂは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第２基材９ｂを有する。その第２基材９ｂの液晶側表面には、線状のライン配線２２、アクティブ素子としてのＴＦＤ素子２３及び透明なドット電極１８ｂが形成される。さらに、それらの要素の上に配向膜１９ｂが形成され、その配向膜１９ｂに配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜１９ｂの近傍の液晶分子の配向が決められる。図５の第１基板４ａ側の配向膜１９ａのラビング方向と第２基板４ｂ側の配向膜１９ｂのラビング方向は、液晶の特性に応じて適宜の角度で交差するようになっている。また、第２基材９ｂの外側表面には、図４において偏光板２１ｂが貼着等によって装着されている。
【００４２】
図３（ａ）において、ドット電極１８ｂは正方形又は長方形に近いドット形状に形成されており、ＴＦＤ素子２３を介してライン配線２２に接続されている。なお、参考のために、第１基板４ａ側に形成される帯状電極１８ａを鎖線で示している。ドット電極１８ｂと帯状電極１８ａとが平面的に重なる領域が１つの表示用ドット領域Ｄを構成する。この１つの表示用ドット領域ＤがＲ，Ｇ，Ｂの１つの色に対応する領域である。カラー表示を行う本実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応する３つの表示用ドット領域Ｄによって１つの画素が構成される。図５において、反射膜１２には、個々の表示用ドットＤに対応して光通過用の開口２４が設けられている。これらの開口２４は、反射膜１２に光を透過させる機能を持たせるための構成であるが、この開口２４を設ける代わりに反射膜１２の厚さを薄くして、光を反射する機能と光を透過させる機能の両方を持たせるようにすることもできる。
【００４３】
図３（ａ）のＴＦＤ素子２３は、図６に示すように、第１ＴＦＤ要素２３ａと第２ＴＦＤ要素２３ｂとを直列に接続することによって形成されている。このＴＦＤ素子２３は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、ＴａＷ（タンタルタングステン）によってライン配線２２の第１層２２ａ及びＴＦＤ素子２３の第１金属２６を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線２２の第２層２２ｂ及びＴＦＤ素子２３の絶縁膜２７を形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）によってライン配線２２の第３層２２ｃ及びＴＦＤ素子２３の第２金属２８を形成する。
【００４４】
第１ＴＦＤ要素２３ａの第２金属２８はライン配線２２の第３層２２ｃから延びている。また、第２ＴＦＤ要素２３ｂの第２金属２８の先端に重なるように、ドット電極１８ｂが形成される。ライン配線２２からドット電極１８ｂへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に沿って、第１ＴＦＤ要素２３ａでは第２電極２８→絶縁膜２７→第１金属２６の順に電気信号が流れ、一方、第２ＴＦＤ要素２３ｂでは第１金属２６→絶縁膜２７→第２金属２８の順に電気信号が流れる。
【００４５】
つまり、第１ＴＦＤ要素２３ａと第２ＴＦＤ要素２３ｂとの間では電気的に逆向きの一対のＴＦＤ要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック（Back-to-Back）構造と呼ばれており、この構造のＴＦＤ素子は、ＴＦＤ素子を１個のＴＦＤ要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。
【００４６】
図４において、第２基板４ｂは第１基板４ａの外側に張り出す張出し部２９を有し、その張出し部２９の第１基板４ａ側の表面には配線３１及び端子３２が形成されている。これらの配線３１及び端子３２が集まる領域に１つの駆動用ＩＣ３３ａ及び２つの駆動用ＩＣ３３ｂが図示しないＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）によって実装されている。
【００４７】
配線３１及び端子３２は第２基板４ｂ上にライン配線２２やドット電極１８ｂを形成するときに同時に形成される。なお、ライン配線２２は張出し部２９の上にそのまま延び出て配線３１となって、駆動用ＩＣ３３ａに接続されている。また、第１基板４ａと第２基板４ｂとを接着するシール材６の内部には球形又は円筒形の導通材（図示せず）が混入されている。第１基板４ａ上に形成された帯状電極１８ａは第１基板４ａの上でシール材６の所まで引き回された後、シール材６中の導通材を介して第２基板４ｂ上の配線３１に接続されている。これにより、第１基板４ａ上の帯状電極１８ａは第２基板４ｂ上の駆動用ＩＣ３３ｂに接続されている。
【００４８】
図４において、液晶パネル２を構成する第１基板４ａの外側表面に対向して配設された照明装置３は、例えば、透明なプラスチックによって形成された方形状で板状の導光体３６と、点状光源としてのＬＥＤ３７とを有する。導光体３６のうち液晶パネル２と反対側の面には光反射シート（図示せず）を装着することができる。また、導光体３６のうち液晶パネル２に対向する面には光拡散シート（図示せず）を装着することができる。また、光拡散シートの上に、さらに、プリズムシート（図示せず）を装着することもできる。ＬＥＤ３７は本実施形態では３個使用されているが、ＬＥＤ３７は必要に応じて１個とすることもでき、あるいは、３個以外の複数個とすることもできる。また、ＬＥＤ等といった点状光源に代えて、冷陰極管等といった線状光源を用いることも出来る。
【００４９】
以下、上記構成より成る液晶装置に関してその動作を説明する。
【００５０】
太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合、図５に矢印Ｆで示すように、外部光が第２基板４ｂを通して液晶パネル２の内部へ取り込まれ、この外部光が液晶層８を通過した後に反射膜１２で反射して液晶層８へ供給される。他方、外部光が不十分である場合には、図４の照明装置３を構成するＬＥＤ３７を点灯する。このとき、ＬＥＤ３７から点状に出た光は導光体３６の入光面３６ａから該導光体３６の内部へ導入され、その後、液晶パネル２に対向する面、すなわち光出射面３６ｂから面状に出射する。このようにして光出射面３６ｂの各所から出射する光が、図５において矢印Ｇで示すように反射膜１２に形成した開口２４を通って面状の光として液晶層８へ供給される。
【００５１】
以上のようにして液晶層８へ光が供給される間、液晶パネル２に関しては、図４の駆動用ＩＣ３３ａ及び３３ｂによって制御されて、ライン配線２２に例えば走査信号が供給され、同時に、帯状電極１８ａに例えばデータ信号が供給される。このとき、走査信号とデータ信号との電位差に応じて特定の表示用ドットに付属するＴＦＤ素子２３（図３（ａ）参照）が選択状態（すなわち、オン状態）になると、その表示用ドット内の液晶容量に映像信号が書き込まれ、その後、当該ＴＦＤ素子２３が非選択状態（すなわち、オフ状態）になると、その信号は当該表示ドットに蓄えられて当該表示ドット内の液晶層を駆動する。
【００５２】
こうして、液晶層８内の液晶分子が表示用ドットＤごとに制御され、それ故、液晶層８を通過する光が表示用ドットＤごとに変調される。そして、このように変調された光が図４の第２基板４ｂ側の偏光板２１ｂを通過することにより、液晶パネル２の有効表示領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。図５の反射膜１２で反射する外部光を利用して行われる表示が反射型表示である。また、照明装置３からの光を利用して行われる表示が透過型表示である。本実施形態では、それらの反射型表示及び透過型表示を使用者の希望に応じて、あるいは外部環境の変化に応じて自動的に選択する。
【００５３】
図１に示したように、本実施形態では、複数の着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂの境界にバンク１５が設けられ、このバンク１５の内部に透明部１５ａが設けられる。この透明部１５ａの所では図２（ａ）及び図２（ｂ）の反射膜１２が外部に剥き出しの状態になっている。そのため、液晶パネル２の内部に外部光が入射した場合、着色要素１６が存在する領域ではその着色要素１６の色に対応する色光が反射光となるが、バンク１５の透明部１５ａの所では反射膜１２で反射した無着色で明るい光が反射光となる。このように透明部１５ａの所で無着色の明るい反射光が得られることにより、反射型表示時の際に明るいカラー表示を行うことができる。
【００５４】
従来の一般的な液晶装置では、本実施形態におけるバンク１５の所には、遮光部材１３と同様の遮光部材がその全域に設けられて、ブラックマスクとして機能していた。そして、反射表示時における明るさを確保するための無着色光反射領域、すなわち反射膜の剥き出し領域は、特開平１０−１８６３４７号公報や特願２００２−２３０２９１号に記載されたように、ブラックマスクによって囲まれる領域内にブラックマスクとは別個に設けられていた。これに対し本実施形態では、バンク１５のそのものに透明部１５ａを形成したので、着色要素１６を十分な面積で形成できるようになった。このため、本実施形態の液晶装置では、明るい反射光が得られるにも関わらず、十分な彩度の色光が得られるようになった。
【００５５】
ところで、個々の着色要素１６に設ける反射膜の剥き出し部の面積、すなわち透明領域の面積は、Ｒ，Ｇ，Ｂの色のバランスを適正に合わせるために、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色間で異ならせることが望ましい。例えば、１つの表示用ドットの面積が１５１２３μｍ２であるときに、Ｒ色着色要素１６ｒに必要とされる透明領域の面積はＡｒ＝６８１μｍ２、Ｇ色着色要素１６ｇに必要とされる透明領域の面積はＡｇ＝２００３μｍ２、そして、Ｂ色着色要素１６ｂに必要とされる透明領域の面積はＡｂ＝１０１４μｍ２のように異なった値に設定される。
【００５６】
本実施形態では、図１において、反射膜剥き出し面積、すなわち透明領域の必要量がＲ，Ｇ，Ｂの各色間で異なることから、バンク１５内の透明部１５ａの面積はそれに隣接する着色要素１６の色に対応して異なった値とされている。つまり、Ｒ色着色要素１６ｒとＧ色着色要素１６ｇとの境界にある透明部１５ａの合計の面積をＡｒｇとし、Ｇ色着色要素１６ｇとＢ色着色要素１６ｂとの境界にある透明部１５ａの合計の面積をＡｇｂとし、Ｂ色着色要素１６ｂとＲ色着色要素１６ｒとの境界にある透明部１５ａの面積をＡｂｒとするとき、
Ａｒｇ≠Ａｇｂ≠Ａｂｒ
に設定してある。
【００５７】
具体的には、Ｒ，Ｇ，Ｂの各領域に対して必要とされる反射膜剥き出し面積を上記のようにＡｒ，Ａｇ，Ａｂとしたとき、
Ａｒｇ＝Ａｒ／２＋Ａｇ／２
Ａｇｂ＝Ａｇ／２＋Ａｂ／２
Ａｂｒ＝Ａｂ／２＋Ａｒ／２
のように設定する。このことは、１つの着色要素について考えれば、その着色要素に関して必要とされる反射膜剥き出し面積の半分の量を、その１つの着色要素の両側に振り分けたことに相当する。
【００５８】
ところで、図１と図３（ａ）とを見れば分かるように、第１基板４ａと第２基板４ｂとを組み合わせて液晶パネル２（図４参照）を形成すると、図４の矢印Ａ方向から見た場合、第２基板４ｂ上のライン配線２２は第１基板４ａ上の透明バンク１４に重なり合う。この場合、ライン配線２２は一種のブラックマスクとして機能し、この領域では光が直接的には観察者の眼に入らない。このことを考慮して、バンク１５の透明部１５ａの面積は、ライン配線２２の面積よりも大きくなるように形成することが望ましい。さらには、ライン配線２２の面積をＡＬとしたとき、各着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂの間に設けられる透明部１５ａの面積は、それぞれ、
Ａｒｇ＝Ａｒ／２＋Ａｇ／２＋ＡＬ
Ａｇｂ＝Ａｇ／２＋Ａｂ／２＋ＡＬ
Ａｂｒ＝Ａｂ／２＋Ａｒ／２＋ＡＬ
のように設定する。こうすれば、各着色要素１６に必要とされる反射膜剥き出し面積がブラックマスクとして機能するライン配線２２の外側に完全に配置されるので、反射表示時の希望する明るさを希望通りに得ることができる。
【００５９】
ところで、バンク１５の内部に透明部１５ａを設けることを考えた場合、本実施形態のようにバンク１５に部分的に透明部１５ａを設けることに代えて、バンク１５それ自体の全域を透明材料によって形成することが考えられる。つまり、バンク１５の内部に非透明部１５ｂを設けない構成にすることも考えられる。この構成によっても、本実施形態と同様に、明るい反射表示を行うことが可能である。
【００６０】
しかしながら、この場合には、各着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂに対して必要とされる反射部剥き出し領域の面積が小さい場合に、バンク１５の幅が狭くなることが考えられる。バンク１５の幅が狭くなり過ぎると、着色要素１６をインクジェット技術に基づいて液滴吐出によって形成する際に、異なる色の着色要素１６間で混色が発生するおそれがある。また、バンク１５の機械的な強度が不十分になるおそれもある。
【００６１】
このことに関し、本実施形態のように、バンク１５の全体を透明材料によって形成するのではなく、バンク１５を透明部１５ａと非透明部１５ｂとによって形成すれば、必要とされる透明部１５ａの合計面積が小さい場合であっても、バンク１５の幅を広くすることができる。これにより、バンク１５に十分大きな機械的強度及び十分大きな撥インク性を持たせることができる。
【００６２】
なお、本実施形態では、図１において複数のバンク１５の幅Ｗを各色着色要素１６の間で一定の寸法、例えばＷ＝１０μｍ〜１８μｍの範囲内の一定値に設定した。しかしながら、バンク１５の幅Ｗは必要に応じて各色着色要素１６間で異ならせても良い。
【００６３】
（変形例）
図１に示した実施形態では、着色要素１６の横辺、すなわち長辺に対応して透明部１５ａを設けた。これに代えて、図８に示すように、着色要素１６の縦辺、すなわち短辺に対応して透明部１５ａを設けることもできる。この場合、各透明部１５ａの長さＬｒ，Ｌｇ，Ｌｂは対応する着色要素１６ｒ、１６ｇ，１６ｂに関して必要とされる無着色反射領域、すなわち反射膜剥き出し領域の面積に応じて、その値が決められる。なお、透明部１５ａは、必要に応じて、縦辺及び横辺の両方に設けても良い。
【００６４】
また、以上の実施形態では２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式で半透過反射型の液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、３端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、反射型の液晶装置にも適用できる。さらに、本発明は，液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置等にも適用できる。
【００６５】
（カラーフィルタ基板の製造方法の実施形態）
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を図１及び図２に示したカラーフィルタ基板４ａを製造する場合を例に挙げて説明する。
【００６６】
図９は、そのようなカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を示している。まず、工程Ｐ１において、図２の樹脂層１１の材料、本実施形態では感光性樹脂を基材９ａ上に一様にコート、すなわち塗布する。次に、工程Ｐ２において、その樹脂層の材料層を露光及び現像して樹脂層１１を形成する。このとき、その樹脂層１１の表面にランダムな凹凸パターンを形成する。以上により、表面にランダムな凹凸を備えた樹脂層１１が基材９ａ上に形成される。
【００６７】
次に、工程Ｐ３において、図２の反射膜１２の材料、例えばＣｒをスパッタによって樹脂層１１の上に一様に塗布する。次に、工程Ｐ４において、レジスト材料をその反射膜材料層の上に一様に塗布し、さらに露光現像して所望のパターンのレジスト膜を形成する。次に、工程Ｐ５において、そのレジスト膜をマスクとして上記の反射膜材料層を露光及び現像し、さらに工程Ｐ６でエッチング処理を行うことにより、樹脂層１１上に反射膜１２を形成する。このとき、個々の表示用ドットＤに対して反射膜１２に光透過用の開口２４を形成する。以上により、個々の表示用ドットＤに対して開口２４を備えた反射膜１２が形成される。
【００６８】
次に、工程Ｐ７において、反射膜１２の上に、バンク１５の非透明部１５ｂ及び遮光部材１３の材料、例えば黒色等の感光性樹脂を一様にコートする。次に、工程Ｐ８において、その材料を露光及び現像して、図１に示すように、ストライプ状の遮光部材１３及び遮光部材１３と直角な非透明部１５ｂを形成する。なお、非透明部１５ｂは間欠的、すなわち櫛歯状に形成される。
【００６９】
次に、工程Ｐ９において、反射膜１２の上にバンク１５の透明部１５ａの材料、例えば透明な感光性樹脂を一様にコートし、さらに工程Ｐ１０において、その透明材料を露光及び現像して、図１に示すように、非透明部１５ｂの間を埋めるように透明部１５ａを形成する。また、非透明部１５ｂの上及び遮光部材１３の上に透明部１５ａと同じ材料、すなわち撥インク性の材料を積層する。ここで、透明部１５ａにおける透明というのは、着色要素１６よりも光透過率が高いということであり、望ましくは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの光に対して光透過率が５０％以上であり、さらに望ましくは８０％以上のことである。後で行われるインクジェット工程を考慮して、このバンク１４は撥インク性の材料、例えばフッ素系の材料によって形成されるのが望ましい。
【００７０】
なお、各バンク１５内の透明部１５ａの合計の面積Ａｒｇ，Ａｇｂ，Ａｂｒは、それに隣り合う着色要素１６の色に対応して異なった値となるように決められるが、具体的な決め方は、上記のカラーフィルタ基板の実施形態の説明の場合と同じであるので、その説明は省略する。
【００７１】
以上により、図１において、基材９ａ上には、遮光部材１３とバンク１５とによって囲まれる方形状の領域が複数個、ドットマトリクス状に形成されることになる。このとき、遮光部材１３及び非透明部１５ｂが在る所はその下の反射膜１２が見えない状態にある。一方、バンク１５の透明部１５ａが在る所は、その下の反射膜１２が外部へ剥き出した状態、すなわち透明な状態になる。なお、透明部１５ａの面積は、上述したカラーフィルタ基板の実施形態で述べたように、各着色要素１６で必要とされる反射膜剥き出し領域の面積に対応して決められる。また、必要に応じて対向基板側のライン配線の面積が加味されて決められる。
【００７２】
次に、図９の工程Ｐ１１において、遮光部材１３とバンク１５とによって囲まれるドット領域内にインクジェット技術を用いて、着色要素１６の材料を液滴として吐出する。ここで、インクジェット方式による膜形成は、例えば、図１０に示すインクジェットヘッド４１を矢印Ｘ及び矢印Ｙで示すように平面的に走査移動させることにより行われる。このインクジェットヘッド４１は、ほぼ長方形状のケーシング４２を有し、そのケーシング４２の底面には複数のノズル４３が設けられている。これらのノズル４３は、直径約０．０２〜０．１ｍｍ程度の微小な開口を有する。
【００７３】
本実施形態では、複数のノズル４３は２列にわたって設けられ、これにより、２本のノズル列４４，４４が形成されている。個々のノズル列４４において、ノズル４３は一定の間隔で直線上に設けられている。これらのノズル列４４には、矢印Ｈで示す方向から液状材料が供給される。供給された液状材料は圧電素子の振動に従って各ノズル４３から微小な液滴として吐出される。なお、ノズル列４４の個数は、１本又は３本以上であっても良い。３本以上とすれば、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色要素材料を１つのインクジェットヘッド４１の各ノズル列４４から別々に吐出することも可能である。
【００７４】
インクジェットヘッド４１は、図１１に示すように、例えばステンレス製のノズルプレート４６と、それに対向して配置された振動板４７と、その両者を互いに接合する複数の仕切り部材４８とを有する。また、ノズルプレート４６と振動板４７との間には、液状材料を貯留するための複数の貯留室４９と、液状材料が一時的に溜る個所である液溜り５１とが、各仕切り部材４８によって形成されている。さらに、複数の貯留室４９と液溜り５１とが通路５２を介して互いに連通している。また、振動板４７の適所に液状材料の供給孔５３が形成されており、この供給孔５３にパイプ５４を介して材料容器５６が接続されている。容器５６内には着色要素の材料が収容されており、この容器５６から供給された液状材料Ｍ０は、液溜り５１に充填され、さらに、通路５２を通って貯留室４９に充填される。
【００７５】
インクジェットヘッド４１の一部を構成するノズルプレート４６には、液状材料を貯留室４９からジェット状に噴射するためのノズル４３が設けられている。このノズル４３が複数個並べられてノズル列４４を構成することは図１０に関連して既述した通りである。また、振動板４７において貯留室４９に対応する面には液状材料を加圧するための加圧体５７が取り付けられている。この加圧体５７は、図１２に示すように、圧電素子５８及びこれを挟持する一対の電極５９ａ及び５９ｂを有している。
【００７６】
圧電素子５８は、電極５９ａ及び５９ｂへの通電によって矢印Ｊで示す外側へ突出するように撓み変形し、これにより貯留室４９の容積を増大させる機能を有する。そして、貯留室４９の容積が増大すると、その増大した容積分に相当する液状材料Ｍ０が液溜り５１から通路５２を通って貯留室４９内へ流入する。
【００７７】
一方、圧電素子５８への通電を解除すると、圧電素子５８と振動板４７とが共に元の形状に戻り、貯留室４９も元の容積に戻る。そのため、貯留室４９の内部にある液状材料の圧力が上昇し、ノズル４３から液状材料が液滴６１となって吐出される。なお、液滴６１は、液状材料に含まれる溶剤等の種類にかかわらず、微小な液滴としてノズル４３から安定して吐出される。
【００７８】
なお、インクジェットヘッド４１はＲ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素１６に対して専用のものが用意され、製造ライン上の異なるステージに設置される。そして、これら３色用のインクジェットヘッド４１によって別々に各色の着色要素１６が形成される。なお、場合によっては、１つのインクジェットヘッド４１に３色の着色要素材料の供給系を組み込み、その１つのインクジェットヘッド４１だけによって３色の着色要素を吐出することも可能である。
【００７９】
以上のようなインクジェット方式のインク吐出技術を用いて着色要素１６を形成すれば、従来のフォトリソグラフィ処理によるパターニング手法に比べて、着色要素材料の消費量を大幅に低減できる。また、フォトリソグラフィ処理に比べて工程が著しく簡単になる。
【００８０】
インクジェット方式によって着色要素１６が形成された後、図９の工程Ｐ１２において、図２のオーバーコート層１７が形成される。さらに、工程Ｐ１３において、図２の帯状電極１８ａがＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった透明導電材料を材料としてフォトリソグラフィ及びエッチングによって形成される。さらに、工程Ｐ１４において、配向膜１９ａがポリイミド等によって形成される。以上により、カラーフィルタ基板４ａが製造される。
【００８１】
本実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、図１及び図２に示したカラーフィルタ基板をインクジェット技術を用いることにより、非常に簡単に且つ経済的に製造できる。また、バンク１５そのものに透明部１５ａを形成したので、反射表示時に無着色の明るい反射光を利用して明るいカラー表示を行うことができ、しかも着色要素１６の面積を大きくとれるので彩度を高く維持することもできる。
【００８２】
（変形例）
以上の実施形態では、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式で半透過反射型の液晶装置を製造する場合に本発明を適用したが、本発明の方法は、３端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を製造する場合にも適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置を製造する場合にも適用できる。また、本発明は、反射型の液晶装置を製造する場合にも適用できる。さらに、本発明は，液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置、電子放出素子（Field Emission Display   及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display等）等を製造する場合にも適用できる。
【００８３】
（電子機器の実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
【００８４】
図１３は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１０１、表示情報処理回路１０２、電源回路１０３、タイミングジェネレータ１０４及び液晶装置１０５によって構成される。そして、液晶装置１０５は液晶パネル１０７及び駆動回路１０６を有する。
【００８５】
表示情報出力源１０１は、ＲＡＭ(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１０４により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０２に供給する。
【００８６】
次に、表示情報処理回路１０２は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０６へ供給する。ここで、駆動回路１０６は、走査線駆動回路（図示せず）やデータ線駆動回路（図示せず）と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１０３は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。液晶装置１０５は、例えば、図４に示した液晶装置１と同様に構成できる。
【００８７】
図１４は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機１２０は、本体部１２１と、これに開閉可能に設けられた表示体部１２２とを有する。液晶装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置１２３は、表示体部１２２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１２２にて表示画面１２４によって視認できる。本体部１２１の前面には操作ボタン１２６が配列して設けられる。
【００８８】
表示体部１２２の一端部からアンテナ１２７が出没自在に取付けられている。受話部１２８の内部にはスピーカが配置され、送話部１２９の内部にはマイクが内蔵されている。表示装置１２３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１２１又は表示体部１２２の内部に格納される。
【００８９】
図１５は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるデジタルカメラであって、液晶装置をファインダとして用いるものを示している。このデジタルカメラ１３０におけるケース１３１の背面には液晶表示ユニット１３２が設けられる。この液晶表示ユニット１３２は、被写体を表示するファインダとして機能する。この液晶表示ユニット１３２は、例えば図４に示した液晶装置１を用いて構成できる。
【００９０】
ケース１３１の前面側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニット１３３が設けられている。撮影者が液晶表示ユニット１３２に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン１３４を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３５のメモリに転送されてそこに格納される。
【００９１】
ケース１３１の側面には、ビデオ信号出力端子１３６と、データ通信用の入出力端子１３７とが設けられている。ビデオ信号出力端子１３６にはテレビモニタ１３８が必要に応じて接続され、また、データ通信用の入出力端子１３７にはパーソナルコンピュータ１３９が必要に応じて接続される。回路基板１３５のメモリに格納された撮像信号は、所定の操作によって、テレビモニタ１３８や、パーソナルコンピュータ１３９に出力される。
【００９２】
以上の各電子機器に用いられる液晶装置では、図１に関連して説明したように、着色要素１６を区画するバンク１５それ自体に透明部１５ａが含まれるので、そのバンク１５の所に反射膜の剥き出し領域が形成され、この領域で反射する光により、反射表示時にも明るいカラー表示を達成できる。しかも、バンク１５それ自体が透明領域として機能するので、着色要素１６の領域には反射剥き出し領域を形成しなくて済み、それ故、彩度の高いカラー表示を達成できる。
【００９３】
（変形例）
電子機器としては、以上に説明した携帯電話機や、デジタルカメラの他に、パーソナルコンピュータ、腕時計型電子機器、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。
【００９４】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明に係るカラーフィルタ基板は、液晶装置、有機ＥＬ装置等といった電気光学装置にカラー表示機能を持たせるために用いられる。また、本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器の表示部として好適に用いられる。また、本発明に係る電子機器は、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器であって、特に、種々の情報を視覚的に表示できる機能を備えた電子機器として構成される。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】本発明に係るカラーフィルタ基板の一実施形態の１つの画素部分を示す平面図である。
【図２】（ａ）は図１のＡ−Ａ線に従ってカラーフィルタ基板の断面構造を示す断面図であり、（ｂ）は図１のＢ−Ｂ線に従ってカラーフィルタ基板の断面構造を示す断面図である。
【図３】（ａ）は本発明に係る電気光学装置の一例である液晶装置に含まれる素子側基板の１つの画素部分を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線に従った断面図である。
【図４】本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶装置を示す斜視図である。
【図５】図４の液晶装置における１つの表示用ドット領域の断面構造を拡大して示す図である。
【図６】図４の液晶装置で用いられるスイッチング素子の１つを示す斜視図である。
【図７】図１のカラーフィルタ基板に形成されるＲ，Ｇ，Ｂの着色要素の配列パターンの例を示す図であり、（ａ）はストライプ配列、（ｂ）はモザイク配列、（ｃ）はデルタ配列を示している。
【図８】本発明に係るカラーフィルタ基板の他の実施形態の１つの画素部分を示す平面図である。
【図９】本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図１０】図９の製造方法で用いるインクジェットヘッドを示す斜視図である。
【図１１】図１０のインクジェットヘッドの内部構造を示す分解斜視図である。
【図１２】図１１のＤ−Ｄ線に従った断面図である。
【図１３】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図１４】本発明に係る電子機器の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。
【図１５】本発明に係る電子機器の実施形態であるデジタルカメラを示す斜視図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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