(57)【要約】【課題】  反射領域及び透過領域のリタデーションを調整するためのマルチギャップ構造を構成する凹凸が精度よく形成された液晶表示装置及びそのような液晶表示装置を効率的に製造することができる液晶表示装置の製造方法及びそのような液晶表示装置を含む電子機器を提供する。【解決手段】  第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含むとともに、第１の基板に半透過反射板を備えることにより反射領域及び透過領域を設けた半透過反射型の液晶表示装置において、反射領域と透過領域との境界に沿って段差が形成されるように、第１の基板上の単一層の表面に凹凸が形成してある。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含むとともに、前記第１の基板に半透過反射板を備えることにより反射領域及び透過領域を設けた半透過反射型の液晶表示装置において、
前記反射領域と透過領域との境界に沿って段差が形成されるように、前記第１の基板上の単一層の表面に凹凸が形成してあることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記段差が、リタデーションを調整するためのマルチギャップ構造を構成することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記段差にテーパが設けてあることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含むとともに、前記第１の基板に半透過反射板を備えた半透過反射型の液晶表示装置の製造方法であって、下記工程（Ａ）〜（Ｃ）を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
（Ａ）前記第１の基板上に感光性樹脂を積層するための積層工程
（Ｂ）前記感光性樹脂に対して、反射領域と透過領域とで、照射される露光量の合計量が異なるように露光処理をするための露光工程
（Ｃ）前記感光性樹脂に対して現像処理をすることにより、反射領域と透過領域との境界に沿って段差を備えた凹凸を形成するための現像工程
【請求項５】
前記工程（Ｂ）において、異なるパターンマスクを用いて複数回露光を行うことにより、前記反射領域と透過領域とで、照射される露光量の合計量を異ならせることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記複数回露光を行う際に、それぞれ露光量を変えながら露光処理することを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記工程（Ｂ）において、ハーフトーンマスク又はグレートーンマスクを使用して露光処理することにより、前記反射領域と透過領域とで、照射される露光量の合計量を異ならせることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記感光性樹脂がネガ型の光硬化性樹脂であるとともに、前記工程（Ｃ）の後工程として、当該光硬化性樹脂に対して、さらに露光処理するためのポスト露光工程（Ｄ）を含むことを特徴とする請求項４〜７のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜３のいずれかに記載された液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及び液晶表示装置を含む電子機器に関する。特に、反射領域及び透過領域のリタデーションを調整するためのマルチギャップ構造としての凹凸を精度よく形成できる液晶表示装置、そのような液晶表示装置を効率的に製造することができる液晶表示装置の製造方法及びそのような液晶表示装置を含む電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、画像表示装置として、第１の電極（走査電極と称する場合がある。）を有する第１の基板と、第２の電極（データ電極と称する場合がある。）を有する第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、から構成された液晶表示装置が多用されている。すなわち、互いに対向配置される一対の基板の一方に形成した第１の電極と、他方の基板に形成した第２の電極やそれに接続された画素電極とをドットマトリクス状に交差させることにより複数の画素を形成し、それらの画素に印加する電圧をオン、オフさせることによって、当該画素領域の液晶材料を通過する光を変調させ、偏光板との関係で、文字等の画像を表示する液晶表示装置である。
かかる液晶表示装置において、カラー画像を表示させるためには、いずれか一方の基板にＲＧＢの三色の着色層からなるカラーフィルタが形成される。しかしながら、それぞれの着色層を通過した光の波長が色毎に異なることに起因して、表示される画像の視認性が低下する場合が見られた。
【０００３】
そこで、画素の色に応じて、画素領域上に介在する最終保護層の厚さを部分的に異ならせることにより、ＲＧＢそれぞれの着色層を通過した光の波長の差を調整するためのマルチギャップを形成した液晶表示装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
しかしながら、特許文献１に記載された液晶表示装置は、ＲＧＢの色毎のリタデーションの差を調整することを意図しており、半透過反射型の液晶表示装置における反射領域及び透過領域のリタデーションの差を調整することはできなかった。したがって、半透過反射型の液晶表示装置に適用した場合には、未だ画像の表示特性が低下する場合があった。
【０００４】
一方、反射モード時にも、透過モード時にも、発色が良く、かつ双方のモードにおけるリタデーションの適正化が容易なようにマルチギャップ構造を備えた液晶表示装置が提案されている。すなわち、半透過反射層の光透過部に対応して形成された第１のカラーフィルタにおける液晶層側の表面よりも、半透過反射層の光反射部に対応して形成された第２のカラーフィルタにおける液晶層側の表面が突出するように構成し、マルチギャップ構造としての凹凸が設けてある液晶表示装置である。
【特許文献１】特開２００１−２０１７５０号公報（請求項２４、段落００２４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、液晶表示装置におけるマルチギャップ構造としての凹凸は、図３（ｂ）に示すように、通常、アクリル樹脂等の感光性樹脂を塗布するとともに露光や現像等を行って第一層目３１５ａを積層した後に、同様の方法を繰り返して第二層目３１５ｂを積層することにより形成されている。したがって、第二層目を、第一層目上に形成する際に位置ズレが生じる場合があった。また、第一層目と第二層目の界面が存在するために、当該界面に異物が付着した場合などには、機械的強度が低下する場合があった。その結果、液晶表示装置の歩留まりが低下するという問題が見られた。
さらに、製造時においては、感光性樹脂の積層、露光、現像の各工程を繰り返す必要があるために、液晶表示装置の製造効率が低下するという問題が見られた。
【０００６】
そこで、本発明の発明者は鋭意努力し、半透過反射層を設けた第１の基板において、反射領域と透過領域との境界に沿って段差が形成されるように、単一層の表面に凹凸が形成してあることにより、位置精度が高くなるとともに、機械的強度を向上させることができることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、反射領域及び透過領域のリタデーションを調整するためのマルチギャップ構造としての凹凸を精度よく形成して、表示特性に優れた液晶表示装置、そのような液晶表示装置を効率的に製造することができる液晶表示装置の製造方法、及びそのような液晶表示装置を含む電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によれば、第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含むとともに、第１の基板に半透過反射層を備えることにより反射領域及び透過領域を設けた半透過反射型の液晶表示装置であって、反射領域と透過領域との境界に沿って段差が形成されるように、第１の基板上の単一層の表面に凹凸が形成してある液晶表示装置が提供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、反射領域及び透過領域のリタデーションの差を調整するためのマルチギャップ構造としての凹凸を、二層構造ではなく単一層の表面に形成することにより、配置の精度を高くできるとともに、機械的強度を向上させることができる。
【０００８】
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、段差が、リタデーションを調整するためのマルチギャップ構造を構成することが好ましい。
【０００９】
また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、段差にテーパが設けてあることが好ましい。
【００１０】
また、本発明の別の態様は、第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含むとともに、第１の基板に半透過反射層を備えた半透過反射型の液晶表示装置の製造方法であって、下記工程（Ａ）〜（Ｃ）を含む液晶表示装置の製造方法である。
（Ａ）第１の基板上に感光性樹脂を積層するための積層工程
（Ｂ）感光性樹脂に対して、反射領域と透過領域とで、照射される露光量の合計量が異なるように露光処理をするための露光工程
（Ｃ）感光性樹脂に対して現像処理をすることにより、反射領域と透過領域との境界に沿って段差を備えた凹凸を形成するための現像工程
【００１１】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法を実施するにあたり、工程（Ｂ）において、異なるパターンマスクを用いて複数回露光を行うことにより、反射領域と透過領域とで、照射される露光量の合計量を異ならせることが好ましい。
【００１２】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法を実施するにあたり、複数回露光を行う際に、それぞれ露光量を変えながら露光処理することが好ましい。
【００１３】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法を実施するにあたり、工程（Ｂ）において、ハーフトーンマスク又はグレートーンマスクを使用して露光処理することにより、反射領域と透過領域とで、照射される露光量の合計量を異ならせることが好ましい。
【００１４】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法を実施するにあたり、感光性樹脂がネガ型の光硬化性樹脂であるとともに、工程（Ｃ）の後工程として、当該光硬化性樹脂に対して、さらに露光処理するためのポスト露光工程（Ｄ）を含むことが好ましい。
【００１５】
また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、本発明の液晶表示装置及び液晶表示装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００１７】
［第１実施形態］
第１実施形態は、第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含むとともに、第１の基板に半透過反射層を備えることにより反射領域及び透過領域を設けた半透過反射型の液晶表示装置である。そして、反射領域と透過領域との境界に沿って段差が形成されるように、第１の基板上の単一層の表面に凹凸が形成してあることを特徴とする。
すなわち、液晶表示装置の第１の基板に設けられる、反射領域及び透過領域のリタデーションを調整するためのマルチギャップ構造としての凹凸を、例えば、保護層等の単一層の表面に形成してあることにより、当該凹凸が精度よく形成された液晶表示装置である。
【００１８】
以下、図１〜図８を適宜参照しながら、本発明の第１実施形態の液晶表示装置について、第１の基板（カラーフィルタ基板と称する場合がある。）及び第２の基板（素子基板と称する場合がある。）を用いて構成し、二端子型のアクティブ素子としてのＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えた液晶表示装置を例に採って説明する。
なお、本実施形態においてはＴＦＤ素子（Thin Film Diode）を備えたアクティブマトリクス型の液晶パネルを例にとって説明するが、パッシブマトリクス型構造を有する液晶パネルや、第４実施形態で説明するＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）等の非線形素子を用いたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネルであっても良い。
【００１９】
１．液晶表示装置の基本構造
まず、図１〜図２を参照して、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の基本構造、すなわち、液晶パネル２００や電極１９、２６、あるいは位相差板２４０、２５０、及び偏光板２４１、２５１等について具体的に説明する。
ここで、図１は、液晶パネル２００の模式的な概略断面図であり、図２は、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル２００を示す概略斜視図であり、それぞれ説明の便宜上、上側に第１の基板１２を配置してあり、下側に第２の基板１４を配置してある。また、図２に示される液晶パネル２００は、上述したように、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることにより、液晶表示装置となる。
【００２０】
（１）セル構造
図１及び図２に示す液晶パネル２００は、上側に配置された第１のガラス基板１３を基体とする第１の基板１２と、これに対向配置され、下側に配置された第２のガラス基板２７を基体とする第２の基板１４とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられている。そして、第１の基板１２と、第２の基板１４とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶を注入した後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えている。すなわち、第１の基板１２と、第２の基板１４との間に液晶材料２３２が充填されるとともに、密封されていることが好ましい。
【００２１】
（２）電極
また、図１に示すように、第１のガラス基板１３の内面上には、複数の走査電極を含む第１の電極１９を形成し、第２のガラス基板２７の内面上には、データ電極を含む第２の電極２６、画素電極２０及びそれらを電気接続するためのＴＦＤ素子３１を形成することが好ましい。そして、図２に示すように、かかる第１の電極１９が、画素電極２０に重なるように第２の電極２６に交差するとともに、当該第１の電極１９と画素電極２０との交差領域がマトリクス状に配列され、全体として液晶表示領域（Ａ）を構成することになる。
また、第２のガラス基板２７は、第１のガラス基板１３よりも外側に張り出してなる基板張出部１４Ｔを有している。この基板張出部１４Ｔ上には、第２の電極２６や入力端子部（外部接続用端子）２１９が形成されていることが好ましい。そして、これらに対して導電接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体素子（ＩＣ）２６１やフレキシブル配線基板１１０が実装されていることが好ましい。
【００２２】
（３）位相差板及び偏光板
また、図１に示す液晶パネル２００は、第１の基板１２の所定位置に、位相差板（１／４波長板）２５０及び偏光板２５１が配置されていることが好ましい。これらの位相差板（１／４波長板）２４０及び偏光板２４１は、第２の基板１４の外面においても配置されていることが好ましい。
すなわち、これらの位相差板（１／４波長板）２５０、２４０、あるいは偏光板２５１、２４１によって、液晶パネル２００に入射する光及び透過してくる透過光の位相をそれぞれ調整して、鮮明な画像表示を認識することができる。
【００２３】
２．第１の基板
（１）基本的構成
第１の基板は、図１に示すように、基本的に、第１のガラス基板１３と、半透過反射層２１２と、着色層１６と、遮光層１８と、保護層２１５と、第１の電極１９と、から構成してあることが好ましい。
【００２４】
（２）半透過反射層
この半透過反射層２１２は、画素毎に、反射面を有する反射部２１２ｒと、開口部（透過部）２１２ａとが設けられている。すなわち、半透過反射層２１２の開口部２１２ａにおいては、バックライトからの光を透過させて透過モードで画像を表示させるとともに、反射部２１２ｒにおいては、外部からの光を反射させて反射モードで画像を表示させるためである。この半透過反射層２１２は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、から構成することが好ましい。
【００２５】
（３）着色層
また、着色層１６は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
この着色層は、通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術（エッチング法）によって不要部分を欠落させることによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成することができる。そして、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
また、着色層の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
なお、第１実施形態の液晶表示装置の例では、着色層１６が第１のガラス基板１３上に設けてあるが、かかる着色層を、後述する第２の基板１４側に設けることも好ましい。
【００２６】
（４）遮光層
また、遮光層（ブラックマトリクスと称する場合もある。）１８は、画素毎に形成された上述の着色層１６の間の画素間領域に形成されていることが好ましい。
この遮光層１８としては、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。また、カーボン等の黒色材料を使用しなくとも優れた遮蔽効果を得ることができることから、加色法を利用して、Ｒ（赤）層、Ｇ（緑）層、Ｂ（青）層の三層構造とすることも好ましい。
【００２７】
（５）保護層
また、上述の着色層１６や遮光層１８は、保護層２１５により被覆して形成されていることが好ましい。この保護層２１５は、アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなることが好ましい。
これらの着色層１６、遮光層１８、及び保護層２１５によってカラーフィルタが形成されることになる。
【００２８】
（６）凹凸及び段差
図３（ａ）〜（ｂ）は、図１に示す第１実施形態の液晶パネル２００の要部を説明するための図である。なお、図３（ａ）は、本実施形態の液晶表示装置、すなわち、所定の凹凸１１を、一層の保護層２１５の厚さを、反射領域Ｒと透過領域Ｓとで異ならせて形成した例である。また、図３（ｂ）は、所定の凹凸３１１´が、複数の層３１５ａ、３１５ｂを重ねることによって形成された例である。
第１実施形態の液晶パネル２００における第１の基板は、図３（ａ）に示すように、反射領域Ｒと透過領域Ｓとの境界７０に沿って段差１０が形成されるように凹凸１１が形成してあることを特徴とする。すなわち、反射領域Ｒと透過領域Ｓとの境界に沿って段差が形成されるように、第１の基板上の所定箇所に凹凸１１を形成することにより、反射領域Ｒと、透過領域Ｓとのセルギャップを異ならせたマルチギャップ構造を有する液晶表示装置とすることができるためである。したがって、反射領域及び透過領域の双方でリタデーションの最適化を図ることができ、画像表示の視認性を向上させることができるためである。
より具体的には、半透過反射型の液晶表示装置では、透過モードで表示を行う際には、液晶パネルに入射した光が、液晶層を１回のみ通過して外部に出射されるのに対して、反射モードで表示を行う際には、液晶パネルに入射した光が、半透過反射層の反射部によって反射される前後２回にわたり液晶層を通過して外部に出射される。そして、画像表示の視認性を向上させるためには、液晶層における屈折率の差と、液晶層の層厚の積であるリタデーションを適正化することが効果的である。しかし、反射領域と透過領域とでは、液晶層を通過する回数が異なるために、すべての領域においてセルギャップを均一化した構造では、双方のリタデーションを最適化することができない。したがって、反射領域と透過領域とでセルギャップが異なるマルチギャップ構造とすることにより、双方の領域のリタデーションを同時に最適化することができる。
【００２９】
また、上述の凹凸１１を、例えば保護層２１５等の単一層の表面に形成してあることを特徴としている。すなわち、図３（ａ）に示すように、保護層２１５において、反射領域Ｒの層の厚さと、透過領域Ｓの層の厚さと、を異ならせることにより形成されていることが好ましい。
この図３（ａ）に示す例では、凹凸１１が一層の保護層２１５の表面に形成されるために、所定形状にパターニングされたパターンマスクを使用することにより、当該凹凸１１を所望の位置に精度よく形成することができる。また、二層構造の凹凸３１１´と比較して、層間の界面が存在しないために、機械的強度を向上させることができる。さらに、第２実施形態で説明するように、二層構造で形成する場合と比較して、製造工程を一部省略することができ、液晶表示装置を効率的に提供できる。
それに対して、図３（ｂ）に示す例では、例えば、まず感光性樹脂を積層、露光、現像して保護層３１５ａを形成した後に、再度積層、露光、現像を繰り返すことにより凹凸３１１´を形成することが必要とされる。したがって、一層目（保護層）３１５ａと、二層目３１５ｂを別工程で形成する際に、位置ずれが生じ、配置の精度が低下する場合がある。また、二層目３１５ｂを積層する際に、積層位置に異物が付着した場合などには、一層目３１５ａと二層目３１５ｂとの界面の機械的強度が低下して、剥離等を生じる場合がある。さらに、工程数が多いために、液晶表示装置の製造が非効率となる。
よって、本実施形態の液晶表示装置であれば、精度よく形成され、かつ、機械的強度を向上させた凹凸によるマルチギャップ構造を備えた液晶表示装置を効率的に提供することができる。
【００３０】
また、上述の段差１０は、図４に例示するように、テーパが設けてあることが好ましい。この理由は、このような段差とすることにより、段差上に電極を形成する場合においても、断線等が生じることを防止することができるためである。逆に言うと、テーパが設けられておらず、段差が垂直壁であるとすると、電極を精度良く、かつ優れた密着力を有するように形成することが困難なためである。また、当該段差に重なるように、電極のギャップを形成する場合においても、当該ギャップを形成するためのレジストを精度良く形成することが困難なためである。
したがって、段差にテーパを設けることにより、電極を精度よく形成することができ、結果として、表示特性を向上させることができる。
なお、テーパを設けるにあたって、より具体的には、テーパの角度を４５〜８５°の範囲内の値とすることが好ましく、テーパの角度を５０〜８０°の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００３１】
（７）段差と電極間ギャップとの位置関係
また、図５に、第１実施形態の液晶表示装置の変形例としての液晶表示装置３００の部分断面図を示す。この液晶表示装置３００は、保護層３３０の表面に設けられる凹凸１１による段差１０と、後述の第１の電極３１９のギャップ３１９ａとを、部分的に一致させて構成されている。すなわち、セル構造の内部の段差に起因して、液晶材料に配向不良が生じた場合であっても、かかる段差と、第１の電極のギャップと、が一致しているために、画像非認識領域であるギャップが、かかる液晶材料の配向不良を覆い隠して、その認識面積を低下することができるためである。したがって、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができ、その結果、コントラスト性に優れた液晶表示装置を提供することができる。
なお、図５中、上述した図１等に関連して説明した部材と同一の部材であっても異なる符合を付してある場合があるが、それらについては説明が重複するために、ここでの説明は省略する。
【００３２】
また、図６に、第１実施形態の液晶表示装置の変形例としての液晶表示装置における、第１の基板の部分断面図を示す。この第１の基板は、保護層３１６の表面に設けられる凹凸１１による段差１０と、第１の電極３１７に設けたスリット３１７ａとを、全面的又は部分的に一致させて構成されている。すなわち、保護層の表面に設けられる段差と、第１の電極に設けたスリットと、を全面的又は部分的に一致させることにより、段差部分に起因して液晶材料の配向不良が発生した場合であっても、本来的に画像が表示されない電極のスリットを利用して、当該配向不良を視認させないようにできるためである。そして、有効な表示領域での配向不良の認識面積を相対的に低減させることができ、結果として、コントラスト性に優れた液晶表示装置を提供することができる。
この図６においては、第１の基板３１４に凹凸１１及び段差１０が形成されるとともに、当該段差１０と、第１の電極３１７に設けたスリット３１７ａとを一致させた例を示しているが、当該段差１０と、第２の基板における画素電極に設けたスリット（図示せず。）とを一致させることも好ましい。すなわち、第１の基板上に形成された第１の電極、及び第２の基板上に形成された第２の電極、あるいはいずれか一方の電極に設けたスリットと、配向不良の原因となる段差と、を一致させることにより、コントラスト性に優れた液晶表示装置を提供することができる。
なお、図６中においても、上述した図１等に関連して説明した部材と同一の部材であっても異なる符合を付してある場合があるが、それらについては説明が重複するために、ここでの説明は省略する。
【００３３】
（８）第１の電極
また、図１に示すように、上述の保護層２１５上に、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電材料からなる第１の電極１９を形成することが好ましい。すなわち、かかる第１の電極１９は、図７（ａ）に示すように、複数の透明電極を並列させ、ストライプ状に構成されていることが好ましい。
【００３４】
（９）配向膜
また、図１に示すように、第１の電極１９の上には、ポリイミド樹脂等からなる第１の配向膜２１７が形成されていることが好ましい。この理由は、このような第１の配向膜２１７を設けることにより、カラーフィルタ基板１２を液晶表示装置等に使用した場合に、液晶材料２３２の配向性を電圧印加によって容易に実施することができるためである。
【００３５】
３．第２の基板
図１及び図２に示すように、第２の基板１４は、基本的に、第２のガラス基板２７と、第２の電極２６と、画素電極２０と、それらを電気接続するためのＴＦＤ素子３１と、第１の基板上の第１の電極１９に接続される電気配線（引き回し配線）２８と、から構成してあることが好ましい。
【００３６】
この第２の基板１４には、図７（ｂ）に示すように、第２の電極２６を設けることが好ましい。かかる第２の電極２６は、ＴＦＤ素子３１を介して複数の画素電極２０が接続されるとともに、ストライプ状に構成してあることが好ましい。そして、第２の電極２６は、シール材２３０の外側であって、第１のガラス基板２７における基板張出し部１４Ｔまで延設されるとともに、外部接続用端子２１９とされることが好ましい。
ＴＦＤ素子３１は、図８にその概略平面図を示すように、素子動作が安定するため、第１のＴＦＤ素子３１ａと、第２のＴＦＤ素子３１ｂとが逆向きに直列配列された、いわゆるバックトウバック構造のＴＦＤ素子３１であることが好ましい。そして、これらのＴＦＤ素子３１の一方の端子に第２の電極２６が接続されるとともに、他方の端子には画素電極２０が接続してあることが好ましい。
【００３７】
この第２の基板１４における第２の電極２６や画素電極２０等の上においても、第１の基板と同様に、ポリイミド樹脂等からなる第２の配向膜２２４が形成されており、液晶材料の配向性の制御がなされている。
【００３８】
［第２実施形態］
第２実施形態は、第１の電極を備えた第１の基板と、第２の電極を備えた第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された液晶材料と、を含むとともに、第１の基板に半透過反射層を備えた半透過反射型の液晶表示装置の製造方法であって、下記工程（Ａ）〜（Ｃ）を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
（Ａ）第１の基板上に感光性樹脂を積層するための積層工程
（Ｂ）感光性樹脂に対して、反射領域と透過領域とで、照射される露光量の合計量が異なるように露光処理をするための露光工程
（Ｃ）感光性樹脂に対して現像処理をすることにより、反射領域と透過領域との境界に沿って段差を備えた凹凸を形成するための現像工程
以下、図９〜図１２を参照しながら、第１実施形態の液晶表示装置の製造方法について、ＴＦＤ素子を備えたアクティブマトリクス型構造の液晶表示装置を例に採り、第１の基板における保護層の表面に所定の凹凸を形成する場合を例に採って、詳細に説明する。
【００３９】
１．第１の基板の製造
（１）カラーフィルタの形成
図９（ａ）に示すように、第１のガラス基板上には、画像表示領域に相当する箇所に、開口部２１２ａを備えた半透過反射層２１２、及び着色層１６、遮光層１８を順次形成することが好ましい。すなわち、半透過反射型の液晶表示装置として、将来的に開口部２１２ａを介して、透過モードでカラー画像表示するとともに、反射部２１２ｒを利用して、反射モードでカラー画像表示するためである。
ここで、開口部２１２ａを備えた半透過反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を第１のガラス基板１３上に形成した後、フォトリソグラフィ技術及びエッチング法を用いてパターニングすることにより形成される。
次いで、例えば、顔料や染料等の着色剤を分散させた感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって、カラーフィルタを形成することが好ましい。すなわち、複数の着色層１６及び遮光層１８を形成して、カラーフィルタ２１４とすることができる。
また、遮光層１８を形成するにあたって、複数の着色層（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を重ね合わせて構成しても良く、あるいは、カーボン等の黒色材料を使用して形成することも好ましい。
なお、カラー画像表示が可能なように、複数の色の着色層（Ｒ、Ｇ、Ｂ）を配列してカラーフィルタを構成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すことになる。
【００４０】
（２）工程（Ａ）
次いで、図９（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板１２上に全面的に感光性樹脂２１５Ｘを塗布する。かかる感光性樹脂２１５Ｘは、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布されるが、塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
なお、感光性樹脂材料としてネガ型レジストを使用した場合を例に採って、以下説明するが、ポジ型レジストを使用するとともに、層の厚さを比較的薄くしたい反射領域に対しては、露光量の合計量を多くすることによっても、反射領域と透過領域との境界に沿って段差が形成されるように凹凸を形成することができる。
【００４１】
（３）工程（Ｂ）
（３）−１  第１露光工程
次いで、図９（ｃ）に示すように、塗布した感光性樹脂２１５Ｘに対して露光処理をする。すなわち、通常の保護層としての機能を果たす部分を形成するために、反射領域及び透過領域を含む、基板上の表示領域に相当する領域に対して露光できるようなパターンマスク８５を使用して、露光処理をすることが好ましい。
ここで、かかる第１露光工程においては、露光量を３０〜１００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、露光量を比較的低い値とすることにより、後述する第２露光工程において露光処理をする領域に対して、厚さを薄くすることができ、単一層の表面に凹凸を形成することができるためである。
【００４２】
（３）−２  第２露光工程
次いで、図９（ｄ）に示すように、塗布した感光性樹脂２１５Ｘに対して、反射領域の形状と一致するパターン形状を有するマスク８７を介して露光処理する。すなわち、反射領域における保護層の厚さを厚くして、所定の凹凸を形成するためである。
ここで、かかる第２露光工程においては、露光量を８０〜１２０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましい。すなわち、第２露光工程において露光処理する反射領域のみが、先の第１露光工程に次いで二度目の露光処理をされることにより、比較的厚さの厚い部分を形成することができるためである。
【００４３】
なお、第２実施形態では、第１露光工程において、表示領域全面に対して露光処理をした後、第２露光工程において、反射領域のみに対して露光処理をする例を示している。ただし、それに限られるものではなく、例えば、第１露光工程において、透過領域の形状と一致するパターン形状を有するマスクを介して、例えば、３０〜１００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の露光量で露光処理をするとともに、第２露光工程において、反射領域の形状と一致するパターン形状を有するマスクを介して、例えば、１８０〜２００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の露光量で露光処理をすることにより、反射領域と透過領域との境界に沿って段差が形成されるように、保護層の表面に凹凸を形成することも好ましい。
さらに、マルチギャップ構造としての凹凸による段差と、フォトスペーサによる段差等の目的が異なる別の段差と、を形成する必要がある場合には、露光工程を所望の回数繰り返すことにより形成することができる。
【００４４】
（４）工程（Ｃ）
次いで、部分的に異なる露光量で露光処理された感光性樹脂２１５Ｘ全体に対して、アルカリ溶液を用いて現像処理を行うことにより、図９（ｅ）に示すように、反射領域Ｒと透過領域Ｓとの境界に沿って段差を備えた凹凸１１を有する保護層２１５が形成される。すなわち、上述した露光工程において露光処理されなかった非表示領域の感光性樹脂と、比較的露光量の合計量の少ない反射領域の感光性樹脂と、最も露光量の合計量が多い透過領域の感光性樹脂と、の間での、現像処理の進行速度の差を利用することにより、それぞれの領域での保護層の厚さを異ならせて、表面に所定の凹凸を有する保護層を得ることができるためである。
【００４５】
ここで、使用するアルカリ溶液の濃度を８〜１１ｐＨの範囲内の値とすることが好ましく、９〜１０ｐＨの範囲内の値とすることがさらに好ましい。この理由は、アルカリ溶液の濃度が８ｐＨ未満の値となると、現像処理が不十分となって、凹凸を精度よく形成することが困難な場合があるためである。一方、アルカリ溶液の濃度が１１ｐＨを越えると、過度に現像処理が進行して、やはり、凹凸を精度よく形成することが困難な場合があるためである。
また、使用するアルカリ溶液の温度を２５〜３０℃の範囲内の値とすることが好ましく、２７〜２９℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。この理由は、アルカリ溶液の温度が２８℃未満の値となると、現像処理に時間がかかるために、生産効率が低下する場合があるためである。一方、アルカリ溶液の温度が３０℃を越えると、過度に現像処理が進行して、凹凸を精度よく形成することが困難となるためである。
さらに、現像時間を３０〜１２０秒の範囲内の値とすることが好ましく、６０〜８０秒の範囲内の値とすることがさらに好ましい。この理由は、現像時間が３０秒未満の値となると、現像処理が不十分となって、凹凸を精度よく制御することが困難となる場合があるためである。一方、現像時間が１２０秒を越えると、過度に現像処理が進行して、凹凸を精度よく制御することが困難となるためである。
【００４６】
（５）工程（Ｄ）
次いで、図示しないが、ネガ型の感光性樹脂を使用した場合においては、現像処理された結果、表面に所定の凹凸が形成された保護層に対して、再度、露光処理することが好ましい。すなわち、かかるポスト露光処理することにより、保護層全体をさらに硬化させて、機械的強度を高くして、剥離等の発生を防止するためである。
また、かかるポスト露光処理するに際し、露光量を８０〜１２０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましく、９０〜１１０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることがさらに好ましい。この理由は、露光量が８０ｍＪ／ｃｍ2未満の値となると、保護層全体を十分に硬化させることができない場合があるためである。一方、露光量が１２０ｍＪ／ｃｍ2を超えたとしても、効果が格別に変化することがなくなるために、効率が悪くなるためである。
【００４７】
（６）第１の電極の形成
次いで、図１０（ａ）に示すように、保護膜２１５上に、全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体材料からなる透明導電層１９Ｘを形成することが好ましい。この透明導電層１９Ｘは、一例として、スパッタリング法により成膜することができる。そして、フォトリソグラフィ技術を用いて、透明導電層１９Ｘにパターニングを施し、図１０（ｂ）に示すように第１の電極１９を形成し、第１の基板１２とすることが好ましい。
【００４８】
２．第２の基板の製造
図１１〜図１２を参照して、アクティブ素子（ＴＦＤ素子）の形成を含めて、第２の基板１４の製造方法を説明する。
まず、図１１（ａ）に示すように、ガラス基板２７上に、全面的に導電性の金属膜材料２６´をスパッタリング法等により積層する。このとき、図示しないが、ガラス基板と、金属膜材料との密着性を向上させることができることから、第２のガラス基板２７上に、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。
次いで、図１１（ｂ）に示すように、その上からレジスト材料８２を全面的に塗布する。その後、図１１（ｃ）に示すように、開口部８３ｂを有するフォトマスク８３を介して、例えば、開口部８３ｂに対応した位置のみに光を照射し、パターン露光した後、図１１（ｄ）に示すように現像して、マスクの開口部８３ｂに対応した箇所のみにレジスト８２´を残す。
【００４９】
次いで、図１２（ａ）に示すように、エッチング法により、レジスト８２´に被覆されていない箇所の導電性の金属膜材料２６´を除去した後、さらに図１２（ｂ）に示すように、レジスト８２´を除去して、パターン化された電気配線２６を形成する。
次いで、図１２（ｃ）に示すように、かかる電気配線２６の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜２３を形成する。より具体的には、電気配線２６が形成されたガラス基板２７を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、電気配線２６との間に所定電圧を印加して、電気配線２６の表面を酸化させることができる。なお、酸化膜２３の厚さは適宜変更することができるが、通常、１０〜５０ｎｍの範囲内の値とすることが好ましい。
次いで、図１２（ｄ）に示すように、酸化膜２３を有する電気配線２６の上に、パターン化された電気配線２２を形成した後、例えば、透明導電体材料からなる画素電極２０を形成することにより、第２の電極等を形成し、第２の基板１４とすることができる。
【００５０】
３．貼り合わせ工程
次いで、第２の基板に、例えば、エポキシ樹脂等を主成分とするシール材を、スクリーン印刷やディスペンサにより、表示領域を囲むようにパターニングする。
このとき、シール材が印刷された第２のガラス基板を低温処理（プリベーク）して、シール材中の溶剤を蒸発させることが好ましい。すなわち、シール材の硬化温度よりも低い温度条件で、減圧しながらプリベークすることが好ましい。例えば、３５〜７０℃程度の温度条件、５０〜９０ｋＰａの圧力条件の下で、実施することが好ましい。
さらに、シール材が積層された第２の基板と、第１の基板とを重ね合わせて接合させた後、加熱しながら加圧保持することにより、シール材を硬化させることにより、第１の基板と、第２の基板を貼合せることが好ましい。
次いで、第１の基板及び第２の基板が形成する空間であって、シール材の内側部分に対して、液晶材料（液晶）を注入した後、封止材にて封止することにより、図１及び図２に例示する液晶パネル２００とすることができる。
【００５１】
［第３実施形態］
第３実施形態は、第２実施形態における工程（Ｂ）において、反射領域と透過領域とで、感光性樹脂に対して照射される露光量の合計量を異ならせる方法として、ハーフトーンマスク又はグレートーンマスクを用いた液晶表示装置の製造方法である。
第３実施形態においては、第２実施形態と異なる工程（Ｂ）についてのみ説明し、その他については、第２実施形態で説明した内容と同様であるために説明を省略する。
【００５２】
図１３（ａ）〜（ｃ）に示すように、本実施形態では、部分的に光透過率が異なるハーフトーンマスク又はグレートーンマスク８９を介して、塗布した感光性樹脂２１５Ｘに対して露光処理することを特徴とする。すなわち、このように実施することにより、一定の露光量で、一度の露光処理をすることにより、感光性樹脂に対して、反射領域と透過領域とで異なる露光量で露光処理することができるためである。したがって、より効率的に所定の凹凸を形成することができる。
ここで、かかる露光工程においては、露光量を、例えば、１８０〜２２０ｍＪ／ｃｍ2の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、このように実施することにより、マスクパターンにおいて、光透過率の低い部分に該当する反射領域においては、露光量が減少され、保護層としての機能を果たす所定の厚さの層領域を形成することができるためである。一方で、厚さを厚くする必要のある透過領域に関しては、マスクパターンにおける光の透過率が高い部分を透過した、高い露光量で露光されることにより、より厚膜の層領域を形成することができるためである。したがって、一回の露光処理によって、保護層において、効率的に所定の凹凸を形成することができる。
【００５３】
［第４実施形態］
第４実施形態は、三端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置である。
なお、第４実施形態の説明において、第１実施形態と共通する内容については、適宜省略する。
【００５４】
（１）基本的構造
まず、図１４に例示する液晶装置６４１は、第１の基板６０２ｂと、第２の基板６０２ａとをそれらの周辺部においてシール材によって貼り合わせ、さらに、第１の基板６０２ｂ、第２の基板６０２ａ及びシール材によって囲まれる間隙すなわちセルギャップ内に液晶材料を封入して液晶層６０３を設けることによって形成することができる。
ここで、第２の基板６０２ａには、三端子型のスイッチング素子として機能するＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子６４２と、有機絶縁膜６４８を挟んで、ドレイン電極６４３に電気接続された画素電極６０５とを備えている。この画素電極６０５の上には、配向膜６１０ａが形成され、この配向膜６１０ａに対してラビング処理が施されている。また、画素電極６０５は、例えばＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）等といった光反射性の導電材料によって形成されていることが好ましい。
【００５５】
また、第１の基板６０２ｂ上には、着色層６２３と、その着色層６２３の上に形成された対向電極６２４と、その対向電極６２４の上に形成された配向膜６１０ｂとを備えている。
このうち、対向電極６２４は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料によって、第１の基板６０２ｂの表面全域に形成された面状電極である。また、着色層６２３は、第２の基板６０２ａ側の画素電極６０５に対向する位置にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）又はＣ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）等といった各色のいずれかの色フィルタエレメントを備えて構成されている。そして、画像表示の際のコントラストを向上させるために、着色層６２３の間隙であって、画素電極６０５と垂直方向に重ならない箇所に、遮光膜６２２が設けられていることが好ましい。
そして、第４実施形態においても、反射領域及び透過領域におけるリタデーションの調整をするために、反射領域と透過領域との境界に沿って段差が形成されるように凹凸が形成されている場合にも、当該凹凸が単一層の表面に形成してあるために、製造工程の短縮化を図り、表示特性に優れた液晶表示装置を効率的に提供することができる。
【００５６】
（２）ＴＦＴ素子
次いで、図１５を参照して、三端子型のスイッチング素子としてのＴＦＴ素子６４２の構造を説明する。
かかるＴＦＴ素子６４２は、第２の基板６０２ａ上に形成されたゲート電極６４６と、このゲート電極６４６の上で第２の基板６０２ａの全域に形成されたゲート絶縁膜６４７を備えている。そして、このゲート絶縁膜６４７を挟んで、ゲート電極６４６の上方位置に形成された半導体層６４９と、その半導体層６４９の一方の側にコンタクト電極６４５を介して形成されたソース電極６４４と、さらに半導体層６４９の他方の側にコンタクト電極６４４を介して形成されたドレイン電極６４３と、を備えている。
また、図１５に示すように、ゲート電極６４６はゲートバス配線６２９から延設されているとともに、ソース電極６４４は、ソースバス配線６２８から延設されている。かかるゲートバス配線６２９は、第１の基板６０２ａの横方向に延びていて、縦方向へ等間隔で平行に複数本形成されている。また、ソースバス配線６２８は、ゲート絶縁膜６４７を挟んでゲートバス配線６２９と交差するように縦方向へ延びており、横方向へ等間隔で平行に複数本形成されている。
そして、ゲートバス配線６２９は、駆動用半導体素子（図示せず）に接続されており、例えば、走査線として作用するとともに、ソースバス配線６２８は、他の駆動用半導体素子（図示せず）に接続されて、例えば信号線として作用している。
なお、画素電極６０５は、図１５に示すように、互いに交差するゲートバス配線６２９と、ソースバス配線６２８とによって区画される領域のうち、ＴＦＴ素子６４２と垂直方向に重ならない箇所に形成されている。
【００５７】
ここで、ゲートバス配線６２９及びゲート電極６４６は、電気特性や耐腐食性を考慮して、それぞれクロムやタンタル等の金属材料によって構成してあることが好ましい。また、ゲート絶縁膜６４７は、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮＸ）、酸化シリコン（ＳｉＯＸ）等によって構成してあることが好ましい。
また、半導体層６４９は、例えば、不純物をドープしたアモルファスシリコン（ドープトａ−Ｓｉ）、多結晶シリコン、ＣｄＳｅ等によって構成してあることが好ましい。また、コンタクト電極６４５は、例えば、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）等によって構成してあることが好ましい。
さらに、ソース電極６４４及びそれと一体的なソースバス配線６２８、並びにドレイン電極６４３は、それぞれチタン、モリブデン、アルミニウム等によって構成してあることが好ましい。
【００５８】
なお、有機絶縁膜（図示せず）は、ゲートバス配線６２９、ソースバス配線６２８及びＴＦＴ素子６４２を覆って第１の基板６０２ａ上の全域に形成されていることが好ましいが、ドレイン電極６４３に対応する箇所にはコンタクトホール６２６が形成してあることが好ましい。すなわち、このコンタクトホール６２６を介して、画素電極６０５と、ＴＦＴ素子６４２のドレイン電極６４３と、の間の導通を採るためである。
また、有機絶縁膜６４８のうち画素電極６０５が形成される領域には、山部と谷部との規則的な又は不規則的な繰り返しパターンから成る凹凸パターンを形成することが好ましい。この理由は、下地としての有機絶縁膜６４８の上に積層される画素電極６０５にも、凹凸パターンを形成することができるためである。したがって、画素電極６０５を、適度に光散乱する反射パターンとして構成することができる。
すなわち、以上のようなＴＦＴ素子６４２を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置を構成することにより、走査信号及びデータ信号によって選択される画素電極６０５と、対向電極６２４との間に印加される電圧によって、画素毎に液晶材料の配向性を的確かつ高速で制御することができ、観察者側に文字、数字等といった画像表示を認識させることができる。
【００５９】
［第５実施形態］
本発明に係る第５実施形態として、第１実施形態又は第４実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器について、図１６を参照しながら具体的に説明する。
図１６は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル２００と、これを制御するための制御手段１２００とを有している。また、図１６中では、液晶パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２００Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示処理回路１２２０に供給するように構成されていることが好ましい。
【００６０】
また、表示処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ電極駆動回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器によれば、反射領域と透過領域との境界に沿って段差が形成されるように、第１の基板上の単一層の表面に形成された所定の凹凸が精度よく配置されていることにより、表示特性に優れた電子機器とすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明によれば、反射領域と透過領域との境界に沿って段差が形成されるように、第１の基板上の単一層の表面に形成された所定の凹凸が精度よく配置されているために、反射モードであっても透過モードであっても、優れた画像表示を実現できる液晶表示装置を得ることができる。
したがって、本発明の液晶表示装置を、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器等に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】第１実施形態の液晶パネルを模式的に示す概略断面図である。
【図２】第１実施形態の液晶表示装置を構成する液晶パネルの概略斜視図である。
【図３】（ａ）〜（ｂ）は、第１実施形態の液晶パネルの要部を説明するために供する図である。
【図４】凹凸の断面形状を説明するために供する図である。
【図５】段差と、電極ギャップの位置を説明するために供する図である。
【図６】段差と、電極のスリットの位置を説明するために供する図である。
【図７】（ａ）は、液晶表示装置に使用する第１の基板を示す概略平面図であり、（ｂ）は、液晶表示装置に使用する第２の基板を示す概略平面図である。
【図８】ＴＦＤ素子の構造を説明するために供する図である。
【図９】（ａ）〜（ｅ）は、第２実施形態に係る第１の基板の製造工程を示す断面図である（その１）。
【図１０】（ａ）〜（ｂ）は、第２実施形態に係る第１の基板の製造工程を示す断面図である（その２）。
【図１１】（ａ）〜（ｄ）は、第２の基板の製造工程を示す断面図である（その１）。
【図１２】（ａ）〜（ｅ）は、第２の基板の製造工程を示す断面図である（その２）。
【図１３】（ａ）〜（ｃ）は、第３実施形態に係る第１の基板の製造工程を示す断面図である。
【図１４】第４実施形態の液晶パネルを模式的に示す概略断面図である。
【図１５】ＴＦＴ素子の構造を説明するために供する図である。
【図１６】本発明に係る電子機器の実施形態の概略構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
【００６３】
１０：段差、１１：凹凸、１２：第１の基板、１３：第１のガラス基板、１４：第２の基板、２７：第２のガラス基板、１９：第１の電極（走査電極）、２０：画素電極、２６：第２の電極（データ電極）、２８：電気配線、３１：二端子型非線形素子（ＴＦＤ素子）、８５・８７・８９：マスクパターン、２００・３００・６４１：液晶パネル、２３０：シール材、２３２：液晶材料、６４２：三端子型非線形素子（ＴＦＴ素子）、６４６：ゲート電極、６４７：ゲート絶縁膜、６４９：半導体層、６４５：コンタクト電極、６４４：ソース電極、６４３：ドレイン電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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