(57)【要約】【課題】大板貼り合わせ方式、及び液晶滴下方式により液晶表示装置を製造する際、セルギャッを均一にすることができ、歩留まりを向上させることができる液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】一方の大板１０Ｍに１つ以上構成された素子基板１０の表面に、液晶充填領域４００を形成するようメインシール４１を連続的かつ枠状に形成する工程と、一方の大板１０Ｍの液晶充填領域４００以外の表面に、連続する形状にダミーシール５１を形成する工程と、を有し、ダミーシール５１を形成する工程は、一方の大板１０Ｍの液晶充填領域４００以外の表面に、連続する形状に第１のシール５１ａを形成する工程、及び一方の大板１０Ｍの液晶充填領域４００以外の表面に、連続する形状に形成された第１のシール５１ａの外周を覆うよう第２のシール５１ｂを形成する工程であることを特徴とする。【選択図】図５
2005266582.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板の少なくとも一方の基板の表面に複数の液晶パネルの液晶充填領域に対応するようにシール材にて枠状のシール形成部を複数形成し、前記一方の基板面上の前記複数の枠状のシール形成部内に液晶を滴下し、減圧下で前記一方の基板と他方の基板とを貼り合せて液晶封入を行う多数個取りの液晶表示装置の製造方法であって、
前記一方の基板または前記他方の基板の表面に、前記複数の枠状のシール形成部を囲むように、連続する形状にダミーシールを形成する工程を有し、
前記ダミーシールを形成する工程は、
前記一方の基板または前記他方の基板の表面に、前記複数の枠状のシール形成部を囲むように、連続する形状の第１のダミーシールを形成する工程と、
前記第１のダミーシールの外周を囲むように第２のダミーシールを形成する工程と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
一対の基板の少なくとも一方の基板の表面に複数の液晶パネルの液晶充填領域に対応するようにシール材にて枠状のシール形成部を複数形成し、前記一方の基板面上の前記複数の枠状のシール形成部内に液晶を滴下し、減圧下で前記一方の基板と他方の基板とを貼り合せて液晶封入を行う多数個取りの液晶表示装置の製造方法であって、
前記一方の基板または前記他方の基板の表面に、前記複数の枠状のシール形成部を囲むように、連続する形状の第１のダミーシールを形成する工程と、
前記第１のダミーシールの外周を囲むように第２のダミーシールを形成する工程と、
前記一方の基板または前記他方の基板の前記液晶充填領域に液晶を滴下する工程と、
前記一方の基板と前記他方の基板とを、前記シール材及び前記第1のダミーシール及び前記第２のダミーシールを介して真空下において貼り合わせる工程と、
前記貼り合わせた前記一方の基板及び前記他方の基板に、大気圧を加えて、前記一方の基板と前記他方の基板との間のギャップを、規定の間隔となるよう加圧する工程と、
前記貼り合わせた前記一方の基板及び前記他方の基板から、前記複数の液晶パネルを分断する工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記ダミーシールを形成する工程は、前記シール形成部が形成された領域の外周を連続的に囲むよう形成することを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記ダミーシールと前記シール形成部との間に、密閉空間が形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記ダミーシールを形成する工程は、上記シール形成部が形成された領域の外周を部分的に囲むよう形成することを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記ダミーシールを構成する前記第１のシールと前記第２のシールとの間に、密閉空間が形成されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記ダミーシールを形成する工程は、前記第１のシールと前記第２のシールとを連結する第３のシールを１または複数形成することにより、前記ダミーシールを梯子状に形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記ダミーシールを構成する前記第１のシールと前記第２のシールと前記第３のシールとの間に、密閉空間が形成されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記ダミーシールを形成する工程は、前記第１のシールと前記第２のシールとの間を前記第３のシールにより充填して形成することにより、前記ダミーシールを表面方向に幅を有した形状に形成することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法に関し、特に大板組立方式及び液晶滴下方式により製造する液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、液晶表示装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称す)等のスイッチング素子及び画素電極をマトリクス状に配置し、他方の基板に共通電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造される。ＴＦＴ基板及び対向基板は、例えば大板のガラス又は石英基板上に、所定のパターンを有する半導体薄膜、絶縁性薄膜又は導電性薄膜を積層することによって１つ以上構成される。層毎に各種膜の成膜工程とフォトリソグラフィ工程を繰り返すことによって、形成されるのである。
【０００４】
このようにして形成されたＴＦＴ基板及び対向基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされる。このパネル組立工程は、先ず、各基板の製造工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板との液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。
【０００５】
その後、焼成を行い、さらに電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、大板上に構成された、例えばＴＦＴ基板上の周縁に、接着剤となるシール材を枠状に規定の高さになるように描画または印刷により形成し、このシール材の内側の基板上の領域（以下、液晶充填領域と称す）に、規定量の液晶を滴下する。
【０００６】
その後、大板組立方式の場合は、ＴＦＴ基板が構成された大板を、対向基板が構成された大板に、ＴＦＴ基板と対向基板が対向配置されるよう、シール材を介して真空下において貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後、貼り合わされた大板から、対向配置されたＴＦＴ基板及び対向基板の組毎に分断することにより、液晶表示装置はそれぞれ製造されるのである。
【０００７】
ところで、上述した液晶表示装置の製造方法において、ＴＦＴ基板が構成された大板と、対向基板が構成された大板とを貼り合わせる際、いずれかの大板に反りが発生していると、分断されたＴＦＴ基板と対向基板との間の間隔（以下、セルギャップと称す）が均一にならないといった問題がある。
【０００８】
上記事情に鑑みて、大板同士を貼り合わせる際、一方の大板の液晶充填領域外に、枠状のダミーシールを描画または印刷により形成し、シール材及びダミーシールを介して大板同士を貼り合わせ、シール材とダミーシール間においてまたはダミーシールにおいて密閉空間を形成する技術の提案がなされている（例えば特許文献１参照）。
【０００９】
真空下において大板同士を貼り合わせた後、大気開放することにより、上記密閉空間は、該空間体積が縮小することから、上記大板間に大気圧である一定の圧力を加えることができる。このことにより、貼り合わされた大板同士から分断されたＴＦＴ基板と対向基板間のセルギャップを均一にすることが実現できる。
【特許文献１】特開２００２−２４４１４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、ダミーシールは描画または印刷により形成されるため、一方の大板に反りが発生していたり、また描画中のダミーシールに気泡が混入していたりすると、ダミーシールが途切れてしまう場合がある。
【００１１】
その結果、貼り合わされた大板間に密閉空間が形成されないため、大板間に大気圧が加わらず、ＴＦＴ基板及び対向基板間のセルギャップの均一性が悪くなり、歩留まりが低下してしまうといった問題があった。
【００１２】
本発明は上記問題点に着目してなされたものであり、その目的は、大板貼り合わせ方式、及び液晶滴下方式により液晶表示装置を製造する際、セルギャッを均一にすることができ、歩留まりを向上させることができる液晶表示装置の製造方法を提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するために本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、一対の基板の少なくとも一方の基板の表面に複数の液晶パネルの液晶充填領域に対応するようにシール材にて枠状のシール形成部を複数形成し、前記一方の基板面上の前記複数の枠状のシール形成部内に液晶を滴下し、減圧下で前記一方の基板と他方の基板とを貼り合せて液晶封入を行う多数個取りの液晶表示装置の製造方法であって、前記一方の基板または前記他方の基板の表面に、前記複数の枠状のシール形成部を囲むように、連続する形状にダミーシールを形成する工程を有し、前記ダミーシールを形成する工程は、前記一方の基板または前記他方の基板の表面に、前記複数の枠状のシール形成部を囲むように、連続する形状の第１のダミーシールを形成する工程と、前記第１のダミーシールの外周を囲むように第２のダミーシールを形成する工程と、を備えることを特徴とする。
【００１４】
また、一対の基板の少なくとも一方の基板の表面に複数の液晶パネルの液晶充填領域に対応するようにシール材にて枠状のシール形成部を複数形成し、前記一方の基板面上の前記複数の枠状のシール形成部内に液晶を滴下し、減圧下で前記一方の基板と他方の基板とを貼り合せて液晶封入を行う多数個取りの液晶表示装置の製造方法であって、前記一方の基板または前記他方の基板の表面に、前記複数の枠状のシール形成部を囲むように、連続する形状の第１のダミーシールを形成する工程と、前記第１のダミーシールの外周を囲むように第２のダミーシールを形成する工程と、前記一方の基板または前記他方の基板の前記液晶充填領域に液晶を滴下する工程と、前記一方の基板と前記他方の基板とを、前記シール材及び前記第1のダミーシール及び前記第２のダミーシールを介して真空下において貼り合わせる工程と、前記貼り合わせた前記一方の基板及び前記他方の基板に、大気圧を加えて、前記一方の基板と前記他方の基板との間のギャップを、規定の間隔となるよう加圧する工程と、前記貼り合わせた前記一方の基板及び前記他方の基板から、前記複数の液晶パネルを分断する工程と、を有することを特徴とする。
【００１５】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、一対の基板の内、表面に複数の液晶パネルが構成された一方の基板と、該一方の基板に対向配置される他方の基板とを貼り合わす際、シール材のみならず、第１のシール及び第２のシールにより構成されたダミーシール材を介して大気圧を用いて加圧して貼り合わした。
【００１６】
よって、加圧の際、ダミーシールが途切れることを防ぐことができるため、上記素子基板と該素子基板に対向する基板間に確実に圧力を加えることができることから、貼り合わされた一対の基板から、液晶パネルを分断した際、液晶パネルのセルギャップを均一に製造することができ、歩留まりを向上させることができるという効果を有する。
【００１７】
さらに、前記ダミーシールを形成する工程は、前記シール形成部が形成された領域の外周を連続的に囲むよう形成することを特徴とする。また、前記ダミーシールと前記シール形成部との間に、密閉空間が形成されることを特徴とする。
【００１８】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、貼り合わされた一対の基板間の二重のダミーシールとシール形成部との間に密閉空間が形成されることにより、大気圧によって、一対の基板間のギャップを、規定の間隔となるよう加圧した際、前記密閉空間は、該空間体積が縮小する。
【００１９】
このことにより、一対の基板間に確実に圧力を加えることができることから、切断後に形成された液晶パネルのセルギャップを均一に製造することができ、歩留まりを向上させることができるという効果を有する。
【００２０】
さらに、前記ダミーシールを形成する工程は、前記シール形成部が形成された領域の外周を部分的に囲むよう形成することを特徴とする。
【００２１】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、二重のダミーシールを形成する際、前記シール形成部が形成された領域の外周を連続的に囲むよう形成するよりも、コストを削減してダミーシールを形成することができ、また大板から容易に一対の基板から液晶パネルを切断しやすいという効果を有する。
【００２２】
また、前記ダミーシールを構成する前記第１のシールと前記第２のシールとの間に、密閉空間が形成されることを特徴とする。
【００２３】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、貼り合わされた一対の基板間に密閉空間が形成されることにより、大気圧によって、一対の基板間のセルギャップを、規定の間隔となるよう加圧した際、前記密閉空間は、該空間体積が縮小する。
【００２４】
このことにより、前記一対の基板間に確実に圧力を加えることができることから、切断後に形成された液晶パネルのセルギャップを均一に製造することができ、歩留まりを向上させることができるという効果を有する。
【００２５】
さらに、前記ダミーシールを形成する工程は、前記第１のシールと前記第２のシールとを連結する第３のシールを１または複数形成することにより、前記ダミーシールを梯子状に形成することを特徴とする。
【００２６】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、ダミーシールを梯子状に形成することにより、大気圧による加圧の際、ダミーシールが途切れることをより効果的に防ぐことができる。
【００２７】
よって、前記一対の基板間に確実に圧力を加えることができることから、切断後に形成された液晶パネルのセルギャップを均一に製造することができ、歩留まりを向上させることができるという効果を有する。
【００２８】
また、前記ダミーシールを構成する前記第１のシールと前記第２のシールと前記第３のシールとの間に、密閉空間が形成されることを特徴とする。
【００２９】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、貼り合わされた一対の基板間においてダミーシールを構成する第１のシールと第２のシールと第３のシールとの間に密閉空間が形成されることにより、大気圧によって、一対の基板間のセルギャップを、規定の間隔となるよう加圧した際、前記密閉空間は、該空間体積が縮小する。
【００３０】
このことにより、前記一対の基板間に確実に圧力を加えることができることから、切断後に形成された液晶パネルのセルギャップを均一に製造することができ、歩留まりを向上させることができるという効果を有する。
【００３１】
さらに、前記ダミーシールを形成する工程は、前記第１のシールと前記第２のシールとの間を前記第３のシールにより充填して形成することにより、前記ダミーシールを前記表面方向に幅を有した形状に形成することを特徴とする。
【００３２】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、前記ダミーシールを表面方向に幅を有した形状に形成することにより、大気圧による加圧の際、ダミーシールが途切れることをより効果的に防ぐことができる。
【００３３】
よって、前記一対の基板間に確実に圧力を加えることができることから、一対の基板間のセルギャップを均一に製造することができ、歩留まりを向上させることができるという効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。尚、本実施の形態は、液晶表示装置に用いる一対の基板の内、一方の基板は、素子基板であるＴＦＴ基板となり、また他方の基板は、ＴＦＴ基板に対向する基板（以下、対向基板と称す）となる。
【００３５】
先ず、図１、図２を参照して、本実施の形態の液晶表示装置の製造方法によって、製造される液晶表示装置の構成について説明する。  
図１は、液晶表示装置のＴＦＴ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図、図２は、ＴＦＴ基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶表示装置を、図１中のＩＩ−ＩＩ線に沿って切断した横断面図である。
【００３６】
同図に示すように、本発明における液晶パネルである液晶表示装置１００は、ＴＦＴ基板１０とそれに対向して設けられる対向基板２０との間に液晶５０を封入して構成される。ＴＦＴ基板１０上に画素を構成する画素電極９ａ等がマトリクス状に配置される。
【００３７】
対向基板２０に表示領域を区画する額縁としての遮光膜（ＢＭ）４２が設けられている。遮光膜４２は、例えば遮光性材料によって形成される。
【００３８】
遮光膜４２の外側の領域に、液晶を封入するシール形成部であるシール材（以下、メインシールと称す）４１がＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間に形成されている。メインシール４１は、例えばＴＦＴ基板１０の輪郭形状に略一致するように配置され、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とを相互に固着する。また、メインシール４１に、ギャップ材７０（図６参照）が混入されており、該ギャップ材７０により液晶表示装置１００のセルギャップは規定される。
【００３９】
ＴＦＴ基板１０のメインシール４１の外側の領域に、データ線駆動回路６１及び実装端子６２がＴＦＴ基板１０の一辺に沿って設けられており、この一辺に隣接する２辺に沿って、走査線駆動回路６３が設けられている。
【００４０】
ＴＦＴ基板１０の残る一辺に、画面表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路６３間を接続する複数の配線６４が設けられている。また、対向基板２０のコーナー部の少なくとも１箇所においては、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間を電気的に導通させる導通材６５が設けられている。
【００４１】
次に、このように構成される液晶表示装置１００の製造方法について、図３〜図１１を用いて説明する。尚、本実施の形態における液晶表示装置は、１または複数個のＴＦＴ基板１０が構成された一方の大板と、１または複数個の対向基板２０が構成された他方の大板とが対向配置するよう貼り合わせた後、対向配置されたＴＦＴ基板１０及び対向基板２０を分断することにより液晶表示装置１００を製造する、所謂多数個取りの大板組立方式により製造される。
【００４２】
図３は、本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート、図４は、図３の部分工程図、図５は、図４の工程ａを示す分断前の複数個のＴＦＴ基板が構成された大板の平面図、図６は、図５のＶＩ−ＶＩ線に沿う横断面図、図７は、図５のダミーシールを構成する第２のシールが途切れてしまったことを示す概略平面図、図８は、図５のダミーシールを梯子状に形成したことを示す平面図、図９は、図８のダミーシールを構成する第１のシール及び第２のシールが途切れてしまったことを示す概略平面図、図１０は、図５のダミーシールを大板の表面方向に幅を有した形状に形成したことを示す平面図、図１１は、図５のダミーシールをメインシールが形成された領域の外周を部分的に覆うよう形成したことを示す平面図である。
【００４３】
図３に示すように、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０（いずれも図２参照）とは、前述したように別々に製造される。先ず、ＴＦＴ基板１０を複数個構成する本発明における一方の大板１０Ｍの製造方法を説明する。
【００４４】
先ず、大板１０Ｍに、図４に示すように、既知の成膜工程により画素電極９ａ（図２参照）等の構成要素が形成されたＴＦＴ基板１０を複数個構成して、ステップＳ２に移行する。尚、大板１０Ｍは、図５に示すように、例えば四角状を有しており、透過型または反射型の石英、ガラス、シリコンウエハ（ＬＣＯＳ）等から構成されている。ステップＳ２では、大板１０Ｍの一方の面（以下、表面と称す）の全面に配向膜を約数十ナノメータの厚さで形成してステップＳ３に移行する。
【００４５】
ステップＳ３では、ステップＳ２において形成された配向膜に、液晶表示装置１００の電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施してステップＳ４に移行し、さらにステップＳ４では、上記ラビング処理によって生じた塵埃を除去するための洗浄を行ってステップＳ５に移行する。
【００４６】
ステップＳ５では、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０を貼り合わせるための接着剤の役割をする、例えば主成分がＵＶ熱併用型樹脂により構成されたメインシール４１を、図５に示すように、大板１０Ｍの表面の配向膜上であって、ＴＦＴ基板１０の周縁部を囲むよう連続的かつ枠状に、例えば９μｍ〜１５μｍの高さに、例えばディスペンサによりそれぞれ描画する（図４−ａ）。このことにより、ＴＦＴ基板１０のメインシール４１に囲まれた領域は、後述する液晶５０が滴下される液晶充填領域４００となる。
【００４７】
尚、メインシール４１に、図６に示すように、ガラスボールまたはガラスファイバにより形成された、略球状を有する既知のスペーサービーズ（以下、ギャップ材と称す）７０が混入されており、製造される液晶表示装置１００のセルギャップは、ギャップ材７０により所望の高さに規定される。また、メインシール４１を形成するとともに、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０を電気的に導通させる導通材６５（図２参照）も塗布する、その後、ステップＳ６に移行する。
【００４８】
ステップＳ６では、一方の大板１０Ｍ及び後述する他方の大板２０Ｍを貼り合わせるための接着剤の役割をする、例えば主成分がＵＶ熱併用型樹脂により構成されたダミーシール５１を、メインシール４１と同じかやや高い高さに、例えばディスペンサにより描画する（図４−（ａ））。  
詳しくは、図５に示すように、大板１０Ｍの表面上であって、液晶充填領域４００以外に、複数構成されたＴＦＴ基板１０が形成された領域の外周を囲むよう、連続的かつ枠状に、第１のシール５１ａを描画し、さらに、該第１のシール５１ａをある一定の任意の間隔を有して囲むよう、第２のシール５１ｂを描画してダミーシール５１を形成する。その後、ステップＳ７に移行する。
【００４９】
尚、ダミーシール５１にも、図６に示すように、ガラスボールまたはガラスファイバにより形成された、既知の略球状を有するギャップ材７０が混入されており、ギャップ材７０により、貼り合わされた一対の大板１０Ｍと大板２０Ｍとのギャップは所望の高さに規定される。
【００５０】
ステップＳ７では、既知の液晶滴下方式により、規定量の液晶５０を、液晶充填領域４００にそれぞれ滴下して（図４−（ｂ））、ステップＳ８に移行し、該ステップＳ８では、大板１０Ｍを真空雰囲気下に移動させてステップＳ１４に移行する。
【００５１】
次に、対向基板２０を複数個構成する本発明における他方の大板２０Ｍの製造方法を説明する。  
先ず、ステップＳ９において、他方の基板である大板２０Ｍに、既知の成膜工程により図示しない画素電極等の構成要素を一方の面（以下、表面と称す）の全面に形成して、ステップＳ１０に移行する。尚、大板２０Ｍは、透過型または反射型の石英、ガラス、シリコンウエハ（ＬＣＯＳ）等から構成されている。
【００５２】
ステップＳ１０では、大板２０Ｍの表面の全面に、配向膜を約数十ナノメータの厚さで形成してステップＳ１１に移行し、ステップＳ１１では、ステップＳ１０で形成された配向膜に、液晶表示装置１００の電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施してステップＳ１２に移行する。
【００５３】
さらにステップＳ１２では、上記ラビング処理によって生じた塵埃を除去するための洗浄を行ってステップＳ１３に移行し、該ステップＳ１３では、大板２０Ｍを真空雰囲気下に移動させてステップＳ１４に移行する。
【００５４】
ステップＳ１４では、上述したように形成された大板１０Ｍに大板２０Ｍを、図４−（ｃ）に示すように、メインシール４１及びダミーシール５１を押しつぶすようにして、メインシール４１及びダミーシール５１を介して貼り合わせる。
【００５５】
このことにより、ダミーシール５１とメインシール４１との間には、密閉空間７００が形成され、また、ダミーシール５１を構成する第１のシール５１ａと第２のシール５１ｂとの間にもまた密閉空間８００が形成される。その後、ステップＳ１５に移行する。
【００５６】
ステップＳ１５では、真空雰囲気下から大気圧に開放する。このことにより、貼り合わされた大板１０Ｍ及び大板２０Ｍには、図４−（ｄ）に示すように、大気圧Ｆが加わる。詳しくは、密閉空間７００及び８００は、大気開放後も依然として真空状態が保持された状態である。
【００５７】
このため、大気圧より低い気圧の密閉空間７００及び８００は、その空間の気圧を大気圧に近づけるよう体積を縮小する。これにより、密閉空間７００及び８００を中心として、一対の大板１０Ｍ及び２０Ｍを縮小するように作用する強い加圧力が発生する。
【００５８】
ここで、メインシール４１及びダミーシール５１に、ギャップ材７０が混入されている。従って、一対の大板１０Ｍ及び２０Ｍは、ギャップ材７０の高さまで押しつぶされる。その後、ステップＳ１６に移行する。
【００５９】
ステップＳ１６では、メインシール４１及びダミーシール５１にＵＶ光を照射し、その後、一対の大板１０Ｍ及び２０Ｍを高温下に移動させる。このことにより、主成分がＵＶ熱併用型樹脂により構成されたダミーシール５１及びメインシール４１は硬化する。その後、ステップＳ１７に移行する。
【００６０】
ステップＳ１７では、一対の大板１０Ｍ及び２０Ｍから複数メインシール４１を介して対向配置されたＴＦＴ基板１０及び対向基板２０を切り出すことにより分割する。このことにより、続くステップＳ１８において、図４−（ｅ）に示すように、液晶表示装置１００が実装される。
【００６１】
このように、本発明の一実施の形態においては、液晶表示装置１００を製造する際、ＴＦＴ基板１０が複数構成された大板１０Ｍと、対向基板２０が複数構成された大板２０Ｍを貼り合わせるために用いるダミーシール５１を、大板１０Ｍの表面に、連続的かつ枠状に第１のシール５１ａと、第２のシール５１ｂとにより二重に形成した。
【００６２】
このことにより、貼り合わされた後のダミーシール５１とメインシール４１との間に密閉空間７００が形成され、また、第１のシール５１ａと第２のシール５１ｂとの間に密閉空間８００が形成される。
【００６３】
よって、図７に示すように、仮に、ダミーシール５１の第１のシール５１ａまたは第２のシール５１ｂの一部が、大板１０Ｍまたは大板２０Ｍに反りが発生していたり、また描画中の第２のシール５１ｂに気泡が混入していたりすることに起因して途切れてしまい、密閉空間８００は密閉が保たれなくなってしまったとしても、ダミーシール５１を二重に形成することにより、第１のシール５１ａまたは第２のシール５１ｂとメインシール４１との間の密閉空間７００を密閉に保つことができる。
【００６４】
このことにより、一対の大板１０Ｍと大板２０Ｍに確実に大気圧を加えることができることから、切断されたＴＦＴ基板１０と対向基板２０とのセルギャップを均一に製造することができ、歩留まりを向上させることができる。
【００６５】
尚、本実施の形態においては、ダミーシール５１は、図５に示すように、大板１０Ｍの表面上であって、液晶充填領域４００以外に、複数構成されたＴＦＴ基板１０の外周を囲むよう、連続的かつ枠状に、第１のシール５１ａを描画し、さらに、該第１のシール５１ａをある一定の任意の間隔を有して囲むよう、第２のシール５１ｂを描画して形成すると示した。
【００６６】
これに限らず、ダミーシール５１を、図８に示すように、第１のシール５１ａと第２のシール５１ｂとを、第３のシール５１ｃを１または複数形成することにより連結し、ダミーシール５１を梯子状に形成してもよい。
【００６７】
この場合、大板１０Ｍに大板２０Ｍを、図４−（ｃ）に示すように、メインシール４１及びダミーシール５１を介して貼り合わせた際、ダミーシール５１を構成する第１のシール５１ａと第２のシール５１ｂと第３のシール５１ｃとの間に密閉空間８００が形成される。
【００６８】
よって、ダミーシール５１を梯子状に形成することにより、仮に、ダミーシール５１の第１のシール５１ａ及び第２のシール５１ｂの一部が、大板１０Ｍまたは大板２０Ｍに反りが発生していたり、また描画中の第１のシール５１ａ及び第２のシール５１ｂに気泡が混入していたりすることに起因して第１のシール５１ａ及び第２のシール５１ｂが途切れてしまったとしても、図９に示すように、ダミーシール５１とメインシール４１との間の密閉空間７００の密閉を保つことができる。
【００６９】
このことから、一対の大板１０Ｍと大板２０Ｍにより確実に大気圧を加えることができることから、切断されたＴＦＴ基板１０と対向基板２０とのセルギャップを均一に製造することができ、歩留まりを向上させることができる。
【００７０】
また、ダミーシール５１は、第１のシール５１ａと第２のシール５１ｂとの間を、図１０に示すように、第３のシール５１ｃにより充填して形成することにより、上記表面方向に幅を有した形状に形成してもよい。
【００７１】
このことにより、大気圧による加圧の際、ダミーシール５１が途切れることをより効果的に防ぐことができる。よって、一対の大板１０Ｍと大板２０Ｍにより確実に大気圧を加えることができることから、切断されたＴＦＴ基板１０と対向基板２０とのセルギャップを均一に製造することができ、歩留まりを向上させることができる。
【００７２】
さらに、ダミーシール５１は、図１１に示すように、メインシール４１が形成された領域の外周を部分的に囲むよう形成してもよい。このことにより、ダミーシール５１を形成する際、メインシール４１が形成された領域の外周を連続的に囲むよう形成するよりも、コストを削減して形成することができ、また一対の大板から容易に一対のＴＦＴ基板１０及び対向基板２０を切断しやすくなる。
【００７３】
また、メインシール４１及びダミーシール５１は、複数のＴＦＴ基板１０を構成した大板１０Ｍに形成すると示したが、これに限らず、複数の対向基板２０を構成した大板２０Ｍに形成してもよい。さらに、大板１０Ｍ及び大板２０Ｍには、それぞれ１つのＴＦＴ基板１０及び対向基板２０を形成しても本実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００７４】
さらに、大板１０Ｍにメインシール４１を描画してからダミーシール５１を描画すると示したが、ダミーシール５１を描画した後、メインシール４１を描画してもよい。さらに、メインシール４１を一方の基板に描画し、貼り合わせた際、液晶を液晶充填領域に位置するよう他方の基板に滴下してもよい。また、メインシール及びダミーシールは、描画に限らず、印刷により形成してもよい。
【００７５】
本実施の形態において製造される液晶表示装置には、例えばＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例に挙げて示したが、これに限らず、ＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に適用しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】液晶表示装置のＴＦＴ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図。
【図２】図１中のＩＩ−ＩＩ線に沿って切断した断面図。
【図３】本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の製造方法を示すフローチャート。
【図４】図３の部分工程図。
【図５】図４の工程ａを示す分断前の複数個のＴＦＴ基板が構成された大板の平面図。
【図６】図５のＶＩ−ＶＩ線に沿う横断面図。
【図７】図５のダミーシールを構成する第２のシールが途切れてしまったことを示す概略平面図。
【図８】図５のダミーシールを梯子状に形成したことを示す平面図。
【図９】図８のダミーシールを構成する第１のシール及び第２のシールが途切れてしまったことを示す概略平面図。
【図１０】図５のダミーシールを大板の表面方向に幅を有した形状に形成したことを示す平面図。
【図１１】図５のダミーシールをメインシールが形成された領域の外周を部分的に覆うよう形成したことを示す平面図。
【符号の説明】
【００７７】
１０…ＴＦＴ基板、１０Ｍ…一方の大板、２０…対向基板、２０Ｍ…他方の大板、４１…メインシール、５１…ダミーシール、５１ａ…第１のシール、５１ｂ…第２のシール、５１ｃ…第３のシール、１００…液晶表示装置、４００…液晶充填領域、７００…密閉領域、８００…密閉領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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