(57)【要約】【課題】表示品位が高く、製造が容易な液晶表示装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】アレイ基板１および対向基板２のいずれか一方にカラーフィルタが形成されている。このカラーフィルタは着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂを有し、各着色層は間隙２６ｂを置いて並んで配置されている。その間隙２６ｂには間隙材を充填して形成された充填部３２を有している。【選択図】      図１
2005084230.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域を有するアレイ基板と、所定の隙間を保持して前記アレイ基板に対向配置された対向基板と、前記アレイ基板および対向基板に狭持された液晶層と、前記アレイ基板および対向基板のいずれか一方に形成されたカラーフィルタと、を備え、
前記カラーフィルタは間隙を置いて並んで配置された複数の各着色層と、前記間隙に間隙材を充填して形成された充填部と、を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記アレイ基板および対向基板の間に配設された複数の柱状スペーサを備え、前記複数の柱状スペーサは前記充填部に重ねて設けられ、前記充填部と同一材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記アレイ基板は表示領域周縁部に配置された遮光部を有し、前記遮光部は前記充填部と同一材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記充填部は、遮光材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記充填部は、透明材料で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記アレイ基板はマトリクス状に配置された複数の第１配線および複数の第２配線と、それぞれ前記着色層上に形成された複数の画素電極と、を有し、前記着色層は、前記第１配線および第２配線で囲まれた領域に配置され、前記着色層の周縁部は前記第１配線および第２配線の一部に重なって設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記着色層は１．０ないし５．０μｍの膜厚に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
表示領域を有するアレイ基板と、所定の隙間を保持して前記アレイ基板に対向配置された対向基板と、前記アレイ基板および対向基板に狭持された液晶層と、前記アレイ基板および対向基板のいずれか一方に形成されたカラーフィルタと、を備えた液晶表示装置の製造方法において、
基板上に複数の着色層を間隙をおいて並べて形成し、
前記間隙に間隙材を充填し、前記着色層の表面と同一平面に位置した表面を有した充填部を形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記充填部と同時に、複数の柱状スペーサを形成することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記表示領域の周縁部に、前記充填部と同時に遮光部を形成することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記表示領域に複数の第１配線および複数の第２配線をマトリクス状に形成し、前記第１配線および第２配線の一部に重ねて、前記第１配線および第２配線で囲まれた領域に前記着色層を形成し、前記着色層に重ねて画素電極を形成することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記柱状スペーサ、および充填部を同時に形成する工程は、同一材料を前記着色層上に塗布するとともに前記間隙に充填することにより同一材料層を形成し、
前記柱状スペーサが形成される領域と対向した第１領域と、前記着色層が形成される領域と対向した第２領域と、前記充填部が形成される領域と対向した第３領域と、を有しているとともに前記第１ないし第３領域の透過率がそれぞれ異なるフォトマスクを前記同一材料層と対向して配置し、前記フォトマスクを介して前記同一材料層を露光した後、前記同一材料層を現像することを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶表示装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示素子は、アレイ基板および対向基板を所定の隙間を置いて対向配置し、これら２枚の基板間に液晶層を挟持して構成されている。これら２枚の基板の周縁部はシール材によって貼り合わされ、そのシール材の一部には液晶封入口が形成されている。この液晶封入口は、熱硬化型または紫外線硬化型のアクリル系若しくはエポキシ系の接着剤等の封止材で封止されている。
【０００３】
２枚の基板間には、基板間の隙間を一定に保持するため、粒径の均一なスペーサとしてプラスティックビーズが散在されている。このように構成された液晶表示装置によれば、製造時、プラスティックビーズを基板上に散布して製造するためプラスティックビーズが製造ラインを汚染するパーティクルとなり不良の原因となっている。また、表示領域に存在するプラスティックビーズは液晶分子の配向を乱し表示品位低下の原因となる。さらに、散布密度が不均一な場合はギャップ不良を引き起こす。
【０００４】
上記問題に対処する技術として、アレイ基板上に直接複数の柱状スペーサを設けた構成が提案されている。この構成によれば、ギャップ不良および液晶分子の配向に乱れの無い液晶表示素子を提供することができる。また、柱状スペーサと遮光部とを同一基板上に形成する場合、これら柱状スペーサおよび遮光部を同一材料で同時に形成することで製造工程を減らすことが可能である。
【０００５】
液晶表示素子によりカラー表示する場合、アレイ基板および対向基板の一方の基板には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）からなる着色層を有したカラーフィルタが配置されている。アレイ基板側にカラーフィルタを配置する場合、アレイ基板の表示領域にカラーフィルタが形成され、カラーフィルタの周縁部に遮光部が形成されている。また、着色層上に画素電極および配向膜が順次形成されている。
【０００６】
通常、カラーフィルタは、赤色、緑色、および青色の着色層を交互に並ベて構成されている。これらの着色層を形成する場合、まず、一色目の着色層を形成する。この際、着色層のエッジは盛り上がらず、平坦に形成される。続いて、２色目、３色目の着色層を順次形成するが、その際、隣合う他の色の着色層に一部を重ねて形成する。そのため、２色目、３色目の着色層のエッジ、すなわち、着色層が互いに重なった重複部分は盛り上がって形成される。この場合、この重複部分上方の液晶層はセルギャップが狭まり、コントラストの低下や、液晶分子の配向不良が発生しやすくなる。これは、特に、平坦性を要求するＯＣＢモードなどのＥＣＢ形で問題となる。そこで、着色層の重複部分を研磨することで着色層の表面を平坦化する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平９−２３０１２４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記のように着色層を研磨により平坦化する場合、アレイ基板あるいは対向基板の製造工程において研磨工程が別途必要となる。例えば、成膜装置により基板上に着色層を形成した後、この基板を成膜装置から研磨装置に移し替え、着色層の重複部分を研磨する。その後、基板を再び成膜装置に移し替え、平坦化した着色層上に導電膜や配向膜等を形成する。このように、着色層が形成された基板を研磨装置と成膜装置との間で移し替えることが必要となり、製造工程が繁雑となる。
【０００８】
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、表示品位が高く、製造が容易な液晶表示装置およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、この発明に係る液晶表示装置は、表示領域を有するアレイ基板と、所定の隙間を保持して前記アレイ基板に対向配置された対向基板と、前記アレイ基板および対向基板に狭持された液晶層と、前記アレイ基板および対向基板のいずれか一方に形成されたカラーフィルタと、を備え、前記カラーフィルタは間隙を置いて並んで配置された複数の各着色層と、前記間隙に間隙材を充填して形成された充填部と、を有することを特徴としている。
【００１０】
また、本発明の他の態様に係る液晶表示装置の製造方法は、表示領域を有するアレイ基板と、所定の隙間を保持して前記アレイ基板に対向配置された対向基板と、前記アレイ基板および対向基板に狭持された液晶層と、前記アレイ基板および対向基板のいずれか一方に形成されたカラーフィルタと、を備えた液晶表示装置の製造方法において、基板上に複数の着色層を間隙をおいて並べて形成し、前記間隙に間隙材を充填し、前記着色層の表面と同一平面に位置した表面を有した充填部を形成することを特徴としている。
【００１１】
上記のように構成された液晶表示装置およびその製造方法によれば、表示品位が高く、製造が容易な液晶表示装置が得られる。
【発明の効果】
【００１２】
この発明によれば、表示品位が高く、製造が容易な液晶表示装置およびその製造方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面を参照しながらこの発明の実施の形態に係る液晶表示装置について詳細に説明する。  
図１ないし図３に示すように、液晶表示装置は、アレイ基板１と、このアレイ基板に所定の隙間を保持して対向配置された対向基板２と、を備え、これらアレイ基板と対向基板との間に液晶層３が挟持されている。アレイ基板１および対向基板２は、中央部に位置した矩形状の表示領域４と、表示領域周縁部に沿って位置した枠状の非表示領域５とを有している。
【００１４】
アレイ基板１はガラス等の透明な絶縁基板１１を有している。絶縁基板１１上方には、第１配線としての信号線１９、第２配線としての走査線２０および信号線と平行な補助容量線２１がそれぞれ複数本配置されている。第１配線および第２配線はマトリクス状に設けられ、信号線１９と走査線２０との各交差部には、スイッチング素子としてＴＦＴ素子１２が設けられている。
【００１５】
図２および図３に示すように、ＴＦＴ素子１２は、ソース／ドレイン領域を備えているとともにアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）あるいはポリシリコン（ｐ−Ｓｉ）等により形成された半導体膜１３と、走査線２０の一部を延在してなるゲート電極１５と、半導体膜のソース／ドレイン領域にそれぞれ接続された第１電極１７および第２電極１８と、を有している。
【００１６】
詳細に述べると、絶縁基板１１上には、半導体膜１３が形成され、この半導体膜を含む絶縁基板上にはゲート絶縁膜１４が堆積されている。ゲート絶縁膜１４上には、例えば、Ｍｏ−Ｗで形成されたゲート電極１５および走査線２０、並びに補助容量線２１が配設されている。ゲート電極１５、走査線２０、補助容量線２１、およびゲート絶縁膜１４上に重ねて層間絶縁膜１６が堆積されている。
【００１７】
層間絶縁膜１６上には、第１、第２電極１７、１８が形成され、これらの電極は、ゲート絶縁膜１４、および層間絶縁膜に形成された所定のコンタクトホールを介し、半導体膜１３にそれぞれ接続されている。また、層間絶縁膜１６上には、信号線１９およびコンタクト配線２２ａが配設されている。第２電極１８は信号線１９の一部によって形成され、また、第１電極１７は、コンタクト配線２２ａ、および層間絶縁膜１６を貫通したコンタクト電極２２ｂを介し補助容量線２１に接続されている。
【００１８】
図１ないし図３に示すように、表示領域４において、第１、第２電極１７、１８上、即ち信号線１９、およびコンタクト配線２２ａを含み層間絶縁膜１６上には、赤色の着色層２３Ｒ、緑色の着色層２４Ｇ、および青色の着色層２５Ｂが間隙２６ｂを置いて交互に並んで配設され、カラーフィルタを形成している。より詳しくは、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂはそれぞれほぼ矩形状に形成され、信号線１９および補助容量線２１によって囲まれた領域に配設されている。また、各着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５は、その周縁部が信号線１９および補助容量線２１の側縁に重なって設けられている。
【００１９】
着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂ間の間隙２６ｂには、間隙材が充填され充填部３２が形成されている。充填部３２は、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂと同一の高さに形成され、その表面は各着色層の表面と同一平面上に位置している。これにより、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂおよび充填部３２の表面は、重複部がなく平坦に形成されている。また、充填部３２は、信号線１９および補助容量線２１に重なって配設されている。充填部３２上には、その一部に重ねて柱状スペーサ３１が複数設けられている。本実施の形態では、柱状スペーサ３１は充填部３２と同一材料で一体的に形成されている。
【００２０】
着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂ上には、ＩＴＯ（インジウム・ティン・オキサイド）等の透明材料により画素電極２８がそれぞれ形成されている。各画素電極２８は着色層に形成されたスルーホール２６ａを介して対応するＴＦＴ素子１２の第１電極１７に接続されている。そして、画素電極２８および充填部３２上には、配向膜２９が形成されている。  
他方、非表示領域５において、層間絶縁膜１６上には、矩形枠状の遮光部３３が形成され、表示領域４の着色層周縁部に沿って延びている。ここで、遮光部３３は、表示領域４周縁部、ないし後述するベゼル５０内側から漏れる光の遮光に寄与している。
【００２１】
対向基板２は、ガラス等の透明な絶縁基板４１を備え、この絶縁基板上にはＩＴＯ等の透明材料で形成された対向電極４２、および配向膜４３が順次形成されている。  
アレイ基板１および対向基板２は、両基板の周縁部に配置された、例えば、熱硬化型のシール材３０により互いに接合され、複数の柱状スペーサ３１により所定の隙間を保持して対向配置されている。なお、図１および図４に示すように、アレイ基板１および対向基板２は、夫々の配向膜２９、４３に施したラビング方向を平行にして対向配置されている。そして、アレイ基板１および対向基板２の間に液晶層３が狭持されている。シール材３０付近のアレイ基板１および対向基板２には、アレイ基板から対向基板上の対向電極４２に電圧を印加するための図示しない電極転移材が設けられている。
【００２２】
対向基板２の外面には、２軸性の光学補償フィルムとしての位相差板４５、および偏光板４６が順次配置されている。アレイ基板１の外面には偏光板４４が配置されている。アレイ基板１の外面側には、バックライト５１が配置されている。このバックライト５１はアレイ基板１に対向配置された導光板５２と、この導光板の一側縁に対向配置された光源５３および反射板５４とを有している。更に、対向基板２の外面側、並びにアレイ基板１および対向基板の非表示領域５の周縁部には、枠状のベゼル５０が配置されている。
【００２３】
次に、上記液晶表示装置の一層詳しい構成を、その製造方法と併せて説明する。  
まず、絶縁基板１１として、例えば、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上に信号線１９、走査線２０、コンタクト配線２２ａ、およびＴＦＴ素子１２等を形成する。次に、信号線１９およびコンタクト配線２２ａを含み層間絶縁膜１６上全面に、赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジスト（以下、赤色レジストと称する）を、例えば、スピンナにて塗布する。続いて、赤色を着色したい部分に光が照射されるフォトマスクを用い、赤色レジストにパターンを露光する。露光する際、赤色レジストには、波長を３６５ｎｍ、露光量を１００ｍＪ／ｃｍ２として紫外線を照射する。
【００２４】
続いて、図５（ａ）に示すように露光された赤色レジストを、ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドライド）の水溶液で５０秒間現像した後、２３０℃で１時間、焼成することで着色層２３Ｒを形成する。このように、フォトリソグラフィ法を用い、表示領域４に着色層２３Ｒを形成する。その後、着色層２３Ｒと同様、フォトリソグラフィ法を用い、着色層２４Ｇ、および着色層２５Ｂを順次形成する。着色層２４Ｇおよび着色層２５Ｂを形成する際、例えば着色層２４Ｇを形成する際、青色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストをエッチングすることで、既に形成された着色層２３Ｒと間隙２６ｂを置いて形成する。同様に、着色層２４Ｇを着色層２３Ｒ、２５Ｂと間隙２６ｂを置いて形成する。各着色層を形成する際、所定のスルーホール２６ａも同時に形成する。
【００２５】
本実施の形態において、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂは、膜厚を３．０μｍ、隣接する着色層間の間隙２６ｂをそれぞれ５．０μｍとした。また、各着色層を形成する際、層間絶縁膜１６上に形成された信号線１９および補助容量線２１の側縁側に、例えば、３．０μｍ程度重ねて形成する。
【００２６】
間隙２６ｂを置いて着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂを形成した後、各着色層および層間絶縁膜１６上に、遮光性を有する材料として、例えば、黒色顔料を２０ｗｔ％添加したネガ型の感光性アクリル性透明樹脂（以下、黒色樹脂と称する）を、例えば、スピンナにて６．０μｍの膜厚に塗布する。この塗布により、間隙材として黒色樹脂が間隙２６ｂに充填される。即ち、間隙２６ｂおよび着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂ上に同一材料層として黒色樹脂層が形成される。その後、黒色樹脂層を９０℃で１０分間乾燥させる。
【００２７】
次に、図５（ｂ）に示すように、フォトマスク６０を黒色樹脂層２７と対向して配置する。そして、フォトマスク６０を介して紫外線を照射し、黒色樹脂層２７を露光する。ここで、フォトマスク６０は階調パターンを有し、柱状スペーサ３１および遮光部３３が形成される領域と対向しているとともに光をほぼ１００％透過する第１領域６１と、スルーホール２６ａを除き各着色層と対向しているとともに光を遮光する第２領域６２と、充填部３２が形成される領域と対向しているとともに光を３０％透過する第３領域６３と、を有している。紫外線の照射条件は、例えば、露光量を５００ｍＪ／ｃｍ２、波長を３６５ｎｍとする。
【００２８】
続いて、露光された黒色樹脂層２７をｐＨ１１．５のアルカリ水溶液により現像し、不要な部分を除去する。その後、現像された黒色樹脂層２７を２００℃で６０分焼成する。これにより、図５ｃに示すように、膜厚５．０μｍ程度の柱状スペーサ３１、充填部３２、および膜厚３．０μｍの遮光部３３を同一材料で同時に形成する。この際、充填部３２の表面、および着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂの表面は同一平面上に位置し、全面に渡って平坦となっている。
【００２９】
続いて、スルーホール２６ａ、および着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂを含み層間絶縁膜１６上に、ＩＴＯ（インジウム・ティン・オキサイド）等の導電性を有する透明材料を、例えば、スパッタリング法により１５００Åの膜厚に堆積する。堆積されたＩＴＯをパターニングし、それぞれ着色層に重なった複数の画素電極２８を形成する。次いで、表示領域４を含むアレイ基板１の全面に、膜厚を５００Åとして配向膜材料を塗布し、配向膜２９を形成する。そして、配向膜２９には、所定のラビング方向にラビング処理をする。
【００３０】
他方、対向基板２の製造においては、透明な絶縁基板４１として、例えば、厚さ０．７ｍｍのガラス基板を用いる。そして、対向電極４２および配向膜４３を順次絶縁基板４１上に形成し、対向基板２を完成する。  
上記のように形成されたアレイ基板１および対向基板２は、複数の柱状スペーサ３１により所定の隙間を保持して対向配置し、両基板をその周縁部に配置したシール材３０により貼り合せる。そして、シール材３０に形成された図示しない液晶注入口により両基板の間に液晶を注入し、その後、液晶注入口を紫外線硬化型樹脂等の封止材で封止する。これにより、アレイ基板１および対向基板２の間に液晶が封入され、液晶層３が形成される。
【００３１】
以上のように構成された液晶表示装置およびその製造方法によれば、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂはそれぞれ間隙２６ｂを置いて交互に並んで配置され、間隙２６ｂには間隙材を充填することで各着色層の表面と同一平面上に位置した充填部３２が形成されている。これにより、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂのそれぞれは隣接する他の着色層と重なることがなく平坦となり、充填部３２を合わせて、凹凸のない平坦なカラーフィルタが得られる。このため、アレイ基板１に形成される配向膜を平坦化し、一部ギャップが異なることにより起こるコントラストの低下や、液晶分子の配向不良等の発生を抑制することができる。
【００３２】
また、充填部３２は、柱状スペーサ３１および遮光部３３と同一の遮光材料で同時に形成されるため、工程を増やさずに充填部３２を得ることができる。柱状スペーサ３１、充填部３２、および遮光部３３はそれぞれ膜厚が異なるが、所定の階調パターンを有したフォトマスクを用いることにより、同一材料で同時に形成することができる。そのため、研磨により着色層を平坦化する場合に比較して、製造効率の向上を図ることができる。すなわち、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂを平坦化する際、成膜装置と研磨装置との間で基板を移し替える必要がなく、成膜装置のみで行うことができる。そのため、研磨装置を用いた研磨工程を省略し、製造効率を向上することができる。
【００３３】
また、信号線１９および補助容量線２１上に位置した間隙２６ｂに遮光材料からなる充填部３２を形成することにより、アレイ基板１に対して斜入射されるバックライトの光を充填部３２によって遮光することができる。そのため、液晶表示装置を斜めから見た場合の視覚特性が格段に向上し、視野角が高く表示品位に優れた液晶表示装置が得られる。また、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂは、信号線１９および補助容量線２１の一部に重ねて、かつ信号線および補助容量線で囲まれた領域に配置されているため、高い開口率の実現と、液晶表示装置正面からの表示品位の向上とが可能となる。
【００３４】
また、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂを挟み信号線１９および補助容量線２１、並びに画素電極が形成された場合、着色層の膜厚は１．０ないし５．０μｍに形成されている。各着色層を１．０μｍ以上に形成することにより、配線部と画素電極との距離を離し、配線容量を適正に保持することができる。他方、各着色層を５．０μｍ以内に形成することにより、透過率の確保及びフォトリソグラフィプロセスにおける加工性の確保を実現することができる。なお、各着色層を１．０ないし５．０μｍに形成した場合、充填部３２の表面は各着色層の表面と同一平面上に位置することは言うまでもない。
【００３５】
更に、本実施の形態に係る液晶表示装置の製造方法によれば、各着色層間の間隙２６ｂに、少なくとも充填部３２が形成されているため、間隙を有したことで起こる、現像、洗浄、およびラビング等の製造工程での着色層の剥離を抑制することができる。
【００３６】
本実施の形態によれば、コントラスト比が４００と高く、表示品位の良い液晶表示装置が得られた。また、着色層のエッジ部分が隣接する他の着色層に重なった従来の液晶表示装置を作製し、着色層の膜厚を３．０μｍ、重複部の膜厚を６μｍとした場合、コントラスト比は１５０と低下した。
【００３７】
次に、本発明の他の実施の形態に係る液晶表示装置をその製造方法と併せて説明する。前述した実施の形態では、充填部３２を遮光材料で形成したが、本実施の形態では充填部３２を透明材料で形成している。つまり、充填部３２および柱状スペーサ３１を同時に形成する際、透明材料として、例えば、ポジ型の感光性アクリル性透明樹脂を用いて同一材料層を形成し、階調パターンを有したフォトマスクを介して紫外線を照射し、同一材料層を露光する。その後、同一材料層を現像および焼成する。ここでフォトマスクは、例えば、柱状スペーサ３１が形成される領域への光を遮光する第１領域と、スルーホール２６ａを除く各着色層への光を透過する第２領域と、充填部３２が形成される領域への光を６０％透過する第３領域と、を有している。また、遮光部３３は遮光性の遮光材料により、対向基板２の表示領域４周縁部に形成する。
【００３８】
以上のように、柱状スペーサ３１、および充填部３２を透明材料で形成した場合、充填部および着色層の表面は同一平面上に位置している。充填部３２は柱状スペーサ３１と同一材料で同時に形成できるため、製造工程を増やさずに形成することができる。上記の構成によれば、コントラスト比が３８０と高く、表示品位の良い液晶表示装置が得られた。上記液晶表示装置において、他の構成は上述した実施の形態と同一であり、その詳細な説明を省略する。
【００３９】
また、この発明は、上述した実施の形態に限定されることなく、この発明の範囲内で種々変形可能である。例えば、図６に示すように、充填部３２の膜厚を、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂと同等以上の膜厚に形成しても良い。この液晶表示装置によれば、着色層２３Ｒ、２５Ｂは、例えば、膜厚３．０μｍに形成され、充填部３２は、信号線１９としての第２電極１８上部に、例えば、膜厚５．０μｍに形成されている。着色層２３Ｒ、２５Ｂ上には画素電極２８が形成され、充填部３２の側面に接している。画素電極２８、および充填部３２上には、配向膜２９が形成されている。この場合、信号線１９および補助容量線２１と、画素電極２８との間へ斜入射されるバックライトの光は、充填部３２により一層遮光することが可能となる。上記液晶表示装置において、充填部３２以外の構成は上述した実施の形態と同一であり、同一の部分には同一の参照符号を付してその詳細な説明を省略した。
【００４０】
その他、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂの有するカラーフィルタは、アレイ基板１に限らず、アレイ基板および対向基板２のいずれか一方に形成されれば良い。また、前述した実施の形態では、第１配線を信号線１９、第２配線を補助容量線２１として説明したが、この第２配線は走査線２０でも良い。この場合、着色層２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂは信号線１９および走査線２０によって囲まれた領域に配置され、その周縁部は、信号線および走査線の一部に重なって設けられている。  
また、カラーフィルタは信号線１９に平行なストライプ状であってもよい。この場合は信号線１９上が充填部となる。
【００４１】
上述した実施の形態では、充填部３２を柱状スペーサ３１、および遮光部３３と同時に形成したが、この充填部は柱状スペーサ３１、および遮光部３３のいずれか一方と同時に形成すれば良い。そして、遮光部３３は遮光性の遮光材料により、アレイ基板１および対向基板２のいずれか一方の表示領域４周縁部に形成すれば良い。また、それぞれ膜厚の異なる柱状スペーサ３１、充填部３２、および遮光部３３を同一材料で同時に形成する際、同一材料層を階調マスクを用いて露光する構成としたが、階調マスクを用いる代わりに、柱状スペーサが形成される領域と、充填部が形成される領域と、遮光部が形成される領域と、着色層が形成される領域と、にそれぞれ露光強度の異なる光を照射する照射装置を用いても良い。
【００４２】
また、柱状スペーサ３１は充填部３４上に限らず、他の領域に形成することも可能である。この場合、遮光部３３と柱状スペーサ３１が形成される領域の露光量は等しくてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の断面図。
【図２】図１に示した液晶表示装置の平面図。
【図３】図２に示したアレイ基板のＡ１−Ａ２断面図。
【図４】図１に示した液晶表示装置の構成を示す模式図。
【図５】図１に示した液晶表示装置においてスルーホールを除き充填部、およびスペーサを形成する工程を詳細に示す断面図。
【図６】図１、２に示した液晶表示装置の充填部が着色層と同等以上の膜厚に構成されたアレイ基板の一部を示す拡大図。
【符号の説明】
【００４４】
１…アレイ基板，２…対向基板，３…液晶層，１１、４１…絶縁基板，１２…ＴＦＴ素子，１９…信号線，２０…走査線，２３Ｒ、２４Ｇ、２５Ｂ…着色層，２６ｂ…間隙，２８…画素電極，３１…柱状スペーサ，３２…充填部，３３…遮光部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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