(57)【要約】【課題】ピンホール欠点等を生じさせることとなる塗布液に存在する気泡を排除しやすくするとともに、塗布液の流量が、ウェブＷの幅方向において略均一になるような塗布ヘッド、塗布装置及び塗布方法を提供する。【解決手段】連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に塗布液を塗布する塗布装置に使用される塗布ヘッド。塗布ヘッドは、支持体の幅方向に延びた液溜め部１４と、液溜め部と連通するとともに、支持体の幅方向において支持体と対向し、開口部より塗布液を塗出するスリット１６と、支持体の幅方向の一端部又は両端部に設けられ、液溜め部へ塗布液を供給する供給口とを備える。液溜め部１４は、上方に凸形状に形成され、液溜め部中の塗布液に存在する気泡が開口部より排出可能となっている。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に塗布液を塗布する塗布装置に使用される塗布ヘッドにおいて、
前記支持体の幅方向に延びた液溜め部と、
該液溜め部と連通するとともに、前記支持体の幅方向において前記支持体と対向し、開口部より塗布液を吐出するスリットと、
前記支持体の幅方向の一端部又は両端部に設けられ、前記液溜め部へ塗布液を供給する供給口と、を備えており、
前記液溜め部は、上方に凸形状に形成され、前記液溜め部中の塗布液に存在する気泡が前記開口部より排出可能となっていることを特徴とする塗布ヘッド。
【請求項２】
前記液溜め部が、前記支持体の幅方向において複数の直線状の空洞部が連結された形状となっている請求項１に記載の塗布ヘッド。
【請求項３】
前記液溜め部が、前記支持体の幅方向において曲線状の空洞部となっている請求項１に記載の塗布ヘッド。
【請求項４】
前記スリットの前記支持体の幅方向における開口縁部に対し、前記液溜め部が０. ２度以上の傾斜角度をなして形成されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布ヘッド。
【請求項５】
前記スリットの前記開口部より吐出する塗布液の流量が、前記支持体の幅方向において略均一になるような形状に前記液溜め部が形成されている請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布ヘッド。
【請求項６】
前記請求項１〜５のいずれか１項に記載の塗布ヘッドを備えることを特徴とする塗布装置。
【請求項７】
連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に塗布液を塗布する塗布方法において、
前記支持体の幅方向に延びた液溜め部と、
該液溜め部と連通するとともに、前記支持体の幅方向において前記支持体と対向し、開口部より塗布液を吐出するスリットと、
前記支持体の幅方向の一端部又は両端部に設けられ、前記液溜め部へ塗布液を供給する供給口と、を備えており、
前記液溜め部は、上方に凸形状に形成され、前記液溜め部中の塗布液に存在する気泡が前記開口部より排出可能となっている塗布ヘッドを使用する塗布方法であって、
前記液溜め部中の塗布液に存在する気泡を前記開口部より排出させた後に塗布液の塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
【請求項８】
前記塗布液に、粘度ηが５Ｐ以下の液体を使用する請求項７に記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布ヘッド、塗布装置及び塗布方法に係り、特に、ガイドローラなどの走行案内手段により支持されて連続走行する可撓性支持体上に磁気記録層を塗布するのに好適に使用される塗布ヘッド、該塗布ヘッドを有する塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
写真感光材料や磁気記録媒体は、連続走行する帯状の支持体（以下、「ウェブ」という）上に磁性液等の所定の塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程を経て製造される。特に、磁気記録テープ等の磁気記録媒体は、近年、放送用やコンピュータ用として急速に容量、記録密度が向上しており、膜厚が極薄く、膜厚分布が均一であり、且つ表面が平滑な磁性層を得ることのできる塗布技術が求められている。
【０００３】
このような市場の要求に対応すべく、本出願人により色ムラや縦スジの発生を効果的に抑えることができ、従来以上に高品質な塗布層が形成でき、電磁変換特性にすぐれた磁気記録媒体を製造可能な塗布装置（特許文献１参照）等の提案がなされている。この技術は、エクストルージョン方式の塗布装置において、塗布ヘッドの構造（液溜りの内径、スリットの深さ、等）を最適化し、これにより塗布欠陥を低減できるとするものである。
【０００４】
図７及び図８は、上記従来例のエクストルージョン方式の塗布ヘッド１を示すもので、図７は、斜視図であり、図８は、図７の８−８線断面図である。ウェブＷは、バックアップロール２により支持されて（巻き掛けられて）一定速度で移送される。塗布ヘッド１の先端は、ウェブＷの表面（下面）に対し僅少の間隙をもって配されている。
【０００５】
塗布ヘッド１には、塗布液を供給できるような液供給系が設けられている。すなわち、塗布ヘッド１の本体には、長手方向（ウェブＷの幅方向）に延びた液溜め部４と、液溜め部４と連通するとともに、長手方向（ウェブＷの幅方向）においてウェブＷと対向し、開口部より塗布液を吐出するスリット６と、液溜め部４へ塗布液Ｑ１を供給する液供給口３と、液溜め部４から塗布液Ｑ２を引き抜く液排出口５とを備えている。
【０００６】
液溜め部４に供給された塗布液Ｑ１は、図８の矢印に示されるような流れで、所定量Ｑ３がスリット６の先端部分より吐出され、残りの量Ｑ２が液排出口５より排出され、定量送液手段に回収される。
【０００７】
また、液溜め部４は、スリット６の開口部より吐出する塗布液Ｑ３の流量が、ウェブＷの幅方向において略均一になるように、塗布液の圧損を考慮して、傾斜角度θ１をもって形成されている。
【特許文献１】特許第２５２０７５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記のような従来の技術においても、解決しきれていない問題点があった。すなわち、エクストルージョン方式の塗布装置においては、図８に示されるようなポケット状部７Ａ、７Ｂが存在する。そして、塗布液Ｑに存在する気泡がポケット状部７Ａ、７Ｂに滞留し、製造の最中にこの気泡が、スリット６の開口部より吐出される塗布液Ｑ３に混入してウェブＷに塗布され、ピンホール欠点等を生じさせる。
【０００９】
このうち、左側のポケット状部７Ａに滞留する気泡は、傾斜角度θ１の存在により、運転開始時の捨て生産（安定するまでダミーのウェブＷを流す）の際に除去される可能性が高く、あまり問題になることはない。
【００１０】
一方、右側のポケット状部７Ｂに滞留する気泡は、傾斜角度θ１の存在により、運転開始時の捨て生産の際に除去されにくく、製造中に、何らかのきっかけによりスリット６の開口部より排出され、ピンホール欠点等を生じさせることとなる。そして、これにより、歩留りの低下をきたすこととなる。
【００１１】
また、既述した従来の技術において、スリット６の開口部より吐出する塗布液Ｑ３の流量が、ウェブＷの幅方向において略均一になるような構成が採用されているが、より一層、塗布液の流量が、ウェブＷの幅方向において略均一になるような技術が求められていた。
【００１２】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ピンホール欠点等を生じさせることとなる塗布液に存在する気泡を排除しやすくするとともに、塗布液の流量が、ウェブＷの幅方向において略均一になるような塗布ヘッド、塗布装置及び塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、前記目的を達成するために、連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に塗布液を塗布する塗布装置に使用される塗布ヘッドにおいて、前記支持体の幅方向に延びた液溜め部と、該液溜め部と連通するとともに、前記支持体の幅方向において前記支持体と対向し、開口部より塗布液を吐出するスリットと、前記支持体の幅方向の一端部又は両端部に設けられ、前記液溜め部へ塗布液を供給する供給口と、を備えており、前記液溜め部は、上方に凸形状に形成され、前記液溜め部中の塗布液に存在する気泡が前記開口部より排出可能となっていることを特徴とする塗布ヘッド及び該塗布ヘッドを使用した塗布方法を提供する。
【００１４】
本発明によれば、液溜め部は、上方に凸形状に形成されており、これにより液溜め部中の塗布液に存在する気泡が開口部より容易に排出可能となっている。したがって、気泡によるピンホール欠点等を生じさせることはなく、これにより、歩留りの向上が図れる。
【００１５】
本発明において、前記液溜め部が、前記支持体の幅方向において複数の直線状の空洞部が連結された形状となっていることが好ましい。また、本発明において、前記液溜め部が、前記支持体の幅方向において曲線状の空洞部となっていることが好ましい。また、本発明において、前記スリットの前記支持体の幅方向における開口縁部に対し、前記液溜め部が０. ２度以上の傾斜角度をなして形成されていることが好ましい。このような液溜め部の構成とすることにより、本発明の効果が好適に達成できる。
【００１６】
また、本発明において、前記スリットの前記開口部より吐出する塗布液の流量が、前記支持体の幅方向において略均一になるような形状に前記液溜め部が形成されていることが好ましい。このような構成とすることにより、塗布液に存在する気泡の排出効果のみならず、塗布膜の膜厚均一化の効果も得られる。
【００１７】
また、本発明において、前記塗布液に、粘度ηが５Ｐ（０. ５Ｐａ・ｓ）以下の液体を使用することが好ましい。このような低粘度の塗布液を使用した際に、気泡によるピンホール欠点等が顕著であることが確認されている。したがって、このような低粘度の塗布液の塗布において、本発明の好適な効果が得られる。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように、本発明によれば、支持体の幅方向に延びた液溜め部と、開口部より塗布液を吐出するスリットと、支持体の幅方向の一端部又は両端部に設けられ、液溜め部へ塗布液を供給する供給口とを備えた塗布ヘッドにおいて、液溜め部は、上方に凸形状に形成されており、これにより液溜め部中の塗布液に存在する気泡が開口部より容易に排出可能となっている。したがって、気泡によるピンホール欠点等を生じさせることはなく、これにより、歩留りの向上が図れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様の例について説明する。図１は、本発明に適用される塗布装置のうち、塗布ヘッド１０の一部を切断して示す斜視図である。図２は、塗布ヘッド１０の先端部分と可撓性支持体（以下、「ウェブ」と称する）Ｗとの位置関係を示す概略断面図であり、ウェブＷを塗布ヘッド１０に対してセットし、塗布液を塗布している状態を示す。
【００２０】
図１及び図２に示されるように、塗布ヘッド１０は、塗布液を供給できるような下記の液供給系が設けられている。すなわち、塗布ヘッド１０の本体１２には、長手方向（ウェブＷの幅方向）に延びた液溜め部１４と、液溜め部１４と連通するとともに、長手方向（ウェブＷの幅方向）においてウェブＷと対向し、開口部より塗布液を吐出するスリット１６と、液溜め部１４へ塗布液を供給する液供給口１８と、液溜め部１４から塗布液を引き抜く液排出口２０と、を備えている。
【００２１】
液溜め部１４は、「ポケット」又は「マニホールド」とも称され、その断面が略円形をなし、図１に示されるように、ウェブＷの幅方向に略同一の断面形状をもって延長された液溜め機能を有する空洞部である。その有効長さは、通常、塗布幅と同等又は若干長く設定される。液溜め部１４の貫通した両端開口部は、図１に示されるように、本体１２の両端部に取付けられる閉鎖板２２、２４により閉止されている。なお、既述の液供給口１８は閉鎖板２２に、液排出口２０は閉鎖板２４にそれぞれ設けられている。
【００２２】
スリット１６は、液溜め部１４からウェブＷに向け、通常、０. ０１〜１ｍｍの開口幅をもって塗布ヘッド１０の本体１２内部を貫通し、かつ液溜め部１４と同じようにウェブＷの幅方向に延長された比較的狭隘な流路であり、ウェブＷの幅方向の開口長さは塗布幅と略同等に設定される。なお、スリット１６におけるウェブＷに向けた流路の長さは、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液がウェブＷの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスリット１６から供給できればよい。
【００２３】
次に、塗布ヘッド１０の先端部分について、図２を参照しながら説明する。スリット１６は、塗布ヘッド１０の本体１２（図１参照）のフロントエッジ２６とバックエッジ２８とにより形成される。塗布ヘッド１０の本体１２の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面２６ａ、バックエッジ面２８ａがそれぞれ形成されている。
【００２４】
図２に示されるように、フロントエッジ面２６ａは断面が略直線状に、バックエッジ面２８ａは、断面が山型に形成されている。また、フロントエッジ面２６ａの後端エッジ部とバックエッジ面２８ａの先端エッジ部とには所定の段差が設けられ、塗布液Ｆの所定厚さの膜が形成できるようになっている。なお、図２に示されるフロントエッジ面２６ａ、バックエッジ面２８ａの断面形状は一例であり、他の断面形状、たとえば円弧状、放物線状等、各種の形状が採用できる。
【００２５】
次に、液溜め部１４が、スリット１６の開口部に対し所定の傾斜角度をなして形成されており、これにより液溜め部１４中の塗布液Ｆに存在する気泡が開口部より排出可能となっている構成について説明する。
【００２６】
図３は、図１の３−３線断面図であり、液溜め部１４等の形状を現している。図３に示される塗布ヘッド１０のうち、（ａ）は、従来例の直線状の液溜め部１４をなすものであり、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）は、本発明に係るものであり、液溜め部１４が山型形状をなすものである。このうち、（ｂ）は、略台形状をなし、（ｃ）は、略三角形状をなし、（ｄ）は、円弧状をなしている。なお、（ａ）の従来例の直線状の液溜め部１４は、スリット１６の開口部と平行に形成されているが、図８に示されるように、スリット６の開口部に対し所定の傾斜角度θ１をなして形成されているものもある。
【００２７】
図３（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）のいずれも、液溜め部１４がスリット１６の開口部（ウェブＷの幅方向における開口縁部）に対し所定の傾斜角度（図３（ｃ）において例示するθ２、θ３）をなして形成されており、閉鎖板２２、２４に設けられる貫通孔も、この延長線上の形状となっている。したがって、従来例（図３（ａ）及び図８の構成）のように気泡によるピンホール欠点等を生じさせることはない。
【００２８】
この、図３（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）の構成は、別の見方よりすれば、いずれも、スリット１６の、液溜め部１４との境界部から開口部までの距離がウェブＷの幅方向において変化して形成され、ウェブＷの幅方向両端部近傍における距離がウェブＷの幅方向の他の部分の距離よりも大となっていることになる。したがって、この構成により、スリット１６の開口部より吐出する塗布液の流量が、ウェブＷの幅方向において略均一になる。すなわち、塗布液に存在する気泡の排出効果のみならず、塗布膜の膜厚均一化の効果をも得られる。
【００２９】
この距離差の最大値（図３（ｂ）において例示するｔ）は、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件により異なるが、３〜１０ｍｍ程度あれば本発明の効果が得られる。
【００３０】
なお、スリット１６の、液溜め部１４との境界部から開口部までの距離（ウェブＷに向けた流路の長さ）は、スリット１６のウェブＷの幅方向の開口長さ、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件により異なるが、スリット１６のウェブＷの幅方向の開口長さ（図３（ｃ）において例示するＬ）が１０００〜１２００ｍｍ程度の場合には３０〜８０ｍｍの範囲が好ましく採用できる。
【００３１】
次に、本発明に使用される各種材料について説明する。ウェブＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましく使用できる。
【００３２】
ウェブＷの幅としては、０. １〜３ｍが、ウェブＷの長さとしては、１０００〜１０００００ｍが、ウェブＷの厚さとしては、０. ５〜１００μｍのものがそれぞれ一般的に採用される。但し、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。
【００３３】
これらのウェブＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。ウェブＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００３４】
また、ウェブＷには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。
【００３５】
磁性体を含む塗布液を使用し、磁性層を形成する場合には、磁性層に使用する強磁性粉末としては、特に制限されるべきものではないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末、六方晶フェライト粉末が好ましい。これらの強磁性金属粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことが更に好ましい。
【００３６】
強磁性粉末には少量の水酸化物、又は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末は公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。１）複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、２）酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅ又はＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、３）金属カルボニル化合物を熱分解する方法、４）強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩又はヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、５）金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法、などである。
【００３７】
このようにして得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００３８】
塗布液の液組成としては、目的に応じて公知の各種の組成が選択できる。
【００３９】
磁性体を含まない塗布液を使用し、非磁性層を形成する場合には、塗布液に含まれる非磁性の構成は制限されないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、たとえば、無機粉末又は有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末であるが、この層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用され得る。
【００４０】
非磁性粉末としては、たとえば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としてはたとえばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組合せで使用される。
【００４１】
これらの非磁性粉末の表面には表面処理が施され、Ａｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ、Ｙ2 Ｏ3 が存在することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 であるが、更に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで処理する方法、又はその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００４２】
次に、塗布ヘッド１０を主体として、塗布装置の作用について説明する。塗布液Ｆは、連続的に、かつ一定の流量で送液可能な定量送液手段、一般的には定量ポンプ（図示略）により、図１に示されるように、液供給口１８を経て液溜め部１４に供給される。定量ポンプとしては、たとえば、プランジャポンプ、歯車ポンプ等の流量可変の送液手段が好ましく使用できる。
【００４３】
液溜め部１４に供給された塗布液Ｆは、所定量がスリット１６の開口部より吐出され、残りの量が液排出口２０より排出され、定量送液手段に回収される。このような運転を行うことにより、塗布液Ｆが液溜め部１４内で著しく滞留することを防止できる。このような運転方法は、揺変性を有しかつ凝集し易い磁性塗布液に対しては極めて有効である。但し、液排出口２０を具備しない構造であり、スリット１６の開口部より吐出される所定量を液供給口１８より供給する構造であってもよい。また、液供給口をウェブＷの幅方向の両端部に設け、両方の液供給口より略等量の塗布液を供給する構造であってもよい。この場合に、液排出口を他の箇所に設ける構成であっても、液排出口を設けない構成であっても可能である。
【００４４】
ガイドローラなどの走行案内手段（図示略）により支持されて連続走行するウェブＷは、ガイドローラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもって、かつその厚さ方向に若干湾曲可能な状態に装架され、図２に示されるように、塗布ヘッド１０の上面（ウェブＷと対向する面）に押し付けられながら図の矢印方向に所定速度で移動する。これにより、スリット１６の開口部より吐出された塗布液Ｆは、ウェブＷの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもって所定厚さに塗布される。
【００４５】
ウェブＷの走行速度としては、一般的に３０〜１５００ｍ／分の広い範囲で選択できるが、この範囲に限られるものではない。ウェブＷの、塗布ヘッド１０の上面に押し付けられる圧力が均一になるように、各走行案内手段の間でウェブＷに所定の張力を加える構成が好ましい。加えられる張力としては、ウェブＷの幅１ｍあたり４９〜４９０Ｎ（５〜５０ｋｇｆ）が好ましく採用できる。この値は、塗布条件により、適宜調整することが好ましい。
【００４６】
このような塗布状態を実現するためには、既述したように、塗布ヘッド１０の上下流側にそれぞれガイドローラなどの走行案内手段を設け、ウェブＷの塗布面の反対側の面を走行案内手段に巻き掛けて走行させる。この走行案内手段と塗布ヘッド１０との距離は５０〜３００ｍｍ程度に設定するのが好ましい。また、この走行案内手段は、ウェブＷの塗布ヘッド１０への進入角度や離脱角度を調整できるように、図２の上下方向に移動調整できる構成とすることが好ましい。
【００４７】
更に、剛性の低いウェブＷの場合には、ツレシワの発生を抑止できるように、ウェブＷの走行経路中にエキスパンダーロールや、クラウンロール、コンケーブロール等を設けることも好ましい。
【００４８】
ウェブＷを走行させながら塗布を行う製造開始の際には、先ず、捨て生産（安定するまでダミーのウェブＷを流す）を行い、このときに、液溜め部１４中の塗布液に存在する気泡をスリット１６の開口部より排出させ、その後に本生産に移行することが好ましい。
【００４９】
以上、本発明に係る塗布ヘッド、塗布装置及び塗布方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００５０】
たとえば、本実施形態の例では、図１及び図２に示されるエクストルージョン塗布方法を採用したが、このような塗布方法に限らず、各種の態様が採用できる。この例として、１種類の塗布液を供給できるような液供給系のエクストルージョン塗布ヘッドを２台直列に配して、第１の塗布液と第２の塗布液を連続して塗布する構成、３種類の塗布液を供給できるように独立した液供給系が３組設けられているエクストルージョン塗布ヘッドを使用して塗布液を連続して塗布する構成、連続して走行するウェブＷにあらかじめ上流側で第１の塗布液を塗布しておき、その第１の塗布液の一部を塗布ヘッドの先端エッジで掻き落としながら、第２の塗布液を連続して塗布する構成等広く適用できる。
【００５１】
また、ウェブＷを塗布ヘッド１０に押し付ける構成とせず、ウェブＷをバックアップローラに巻き掛け、ウェブＷの表面と塗布ヘッド１０の先端面との間に所定のクリアランスをもって塗布する構成も採用できる。
【００５２】
更に、実施形態の例では、塗布液として磁性体を含む塗布液を使用し、磁気記録媒体を製造する態様として説明したが、本発明は、磁気記録媒体の製造のみならず、これ以外の用途にも広く適用できる。
【００５３】
更に、本実施形態の例では、液溜め部１４を円筒状の空洞部としたが、このような円筒状のものに限らず、角形、船底形、等の各種の態様が採用できる。要は、ウェブＷの幅方向に液圧分布を均一可能とする形状であれば、特に限定されない。
【００５４】
更に、塗布ヘッド１０の構成は、エクストルージョン塗布方法に限られず、バーコート方法、カーテン塗布方法等も採用できる。
【実施例】
【００５５】
次に、本発明の実施例を、比較例と対比して説明する。なお、以下の例において、「部」の表示は「重量部」 を意味する。以下の例において、磁性体を含む塗布液Ａ、Ｂ及びＣの原液として、以下の組成の原液ａ、ｂを調合した。
【００５６】
（１）原液ａ
強磁性金属微粉末                                ３００部
組成：Ｃｏ置換Ｂａｆｅ
平均粒子径  ０. １０μｍ
板状比  ８. ３  
平均厚さ  ０. ０３μｍ
Ｈｃ  ６６０  Ｏｅ
塩化ビニル系重合体                                ４５部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体−無水マレイン酸共重合体
ステアリン酸アルミ                                １０部
レシチン                                            ３部
酸化クロム                                          ５部
メチルエチルケトン                              ２００部
シクロヘキサノン                                ２００部
（２）原液ｂ
強磁性金属微粉末                                １００部
組成：Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／４／４
平均長軸長  ０．０８μｍ
針状比  ８. ０  
Ｈｃ  ２０００  Ｏｅ
塩化ビニル系重合体                                ２０部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体−無水マレイン酸共重合体
メチルエチルケトン                                ５０部
シクロヘキサノン                                  ５０部
上記の原液ａ、ｂについては、各成分を連続ニーダーで混練し、その後サンドミルを使用して分散処理を行った。得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、その後、所望の固形分濃度が得られるように、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンを加えて調整した。
【００５７】
塗布に使用する塗布液（塗布液Ａ〜Ｃ）は、図４の表に示されるような組成等とした。このうち、各塗布液について、ブルックフィールド型粘度計により粘度ηを測定し、表に示す。
【００５８】
実施例として、図１及び図２に示される塗布ヘッド１０を使用して、ウェブＷの表面に塗布液を塗布し、乾燥後の塗布膜のピンホール数を目視により評価した。評価したウェブＷの面積は５ｍ2 と統一した。塗布ヘッド１０の液溜め部１４の形状は、図３（ｃ）の形状で、θ２、θ３を変化させたものを５種作製し、図３（ａ）の形状のもの（θが０度のもの）を１種作製し、それぞれ比較した。
【００５９】
液溜め部１４の断面形状は、内形１０ｍｍの円形であり、スリット１６のウェブＷの幅方向の開口長さ（図３（ｃ）において例示するＬ）は５００ｍｍである。また、閉鎖板２２、２４の幅（板厚）は２５ｍｍである。ウェブＷの走行速度は１００ｍ／分とし、スリット１６から吐出される塗布液の流量は５００ｇ／分とした。結果を図６の表に示す。
【００６０】
比較例として、図７及び図８に示される塗布ヘッド１を使用して、ウェブＷの表面に塗布液を塗布し、乾燥後の塗布膜のピンホール数を目視により評価した。評価方法は、実施例と同一とした。塗布ヘッド１の液溜め部４の形状は、図８の形状で、θ１を変化させたものを３種作製し、それぞれ比較した。他の条件（塗布ヘッド１の各寸法、塗布条件）は、実施例と同一とした。結果を図５の表に示す。
【００６１】
次に、図５の比較例と図６の実施例とを比較検討する。先ず、図４に示される、原液ａからなる塗布液Ａを使用した比較例（図５の例１１から１３）と実施例（図６の例１から３）とを比較検討する。
【００６２】
塗布液Ａの粘度ηは非常に低く、極めて気泡が発生しやすい状態である。比較例の例１１〜１３では、θ１の値（０. １〜０. ５度）に拘らず、いずれもピンホールを生じさせている。これに対し、実施例の例３（θ２、θ３が０. １度）では、ピンホールを３個生じさせており、比較例と大差がないが、例２（θ２、θ３が０. ２度）では、ピンホールを１個と、比較例より多少の効果が見られ、例１（θ２、θ３が０. ３度）では、ピンホールを生じさせず、明らかな効果が確認できる。
【００６３】
次に、原液ｂからなる塗布液Ｂを使用した比較例（図５の例１４、１５）と実施例（図６の例４、６）とを比較検討する。
【００６４】
塗布液Ｂの粘度ηはかなり高く、気泡が発生しにくい状態である。比較例の例１４（θ１が０. ３度）、例１５（θ１が０. ５度）では、いずれもピンホールを生じさせていない。実施例の例４（θ２が０. １度、θ３が０. １５度）でも、ピンホールを生じさせていない。また、実施例の例６（θ２、θ３が０度）は、従来例と同様の液溜め部形状であるが、やはりピンホールを生じさせていない。以上より、塗布液Ｂは、気泡が発生しにくい状態であり、本発明の効果が確認できない状態であるといえる。  
【００６５】
次に、原液ｂからなる塗布液Ｃを使用した比較例（図５の例１６）と実施例（図６の例５、７）とを比較検討する。
【００６６】
塗布液Ｃの粘度ηはかなり低く、気泡が発生しやすい状態である。比較例の例１６（θ１が０. ５度）では、ピンホールを６個生じさせている。これに対し、実施例の例５（θ２が０. ３度、θ３が０. ２５度）では、ピンホールを生じさせていない。また、実施例の例７（θ２、θ３が０度）は、従来例と同様の液溜め部形状であるが、ピンホールを２個生じさせている。以上の３者を比較した場合、本発明の構成及び溜め部に所定の傾斜（θ２、θ３）を設ける効果が確認できる。
【００６７】
以上の結果より、本発明の効果が確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】塗布装置のうち、塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図
【図２】塗布ヘッドの先端部分と可撓性支持体との位置関係を示す概略断面図
【図３】図１の３−３線断面図
【図４】塗布液の組成等を示す表
【図５】比較例の結果を示す表
【図６】実施例の結果を示す表
【図７】従来例の塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図
【図８】従来例の塗布ヘッドの先端部分と可撓性支持体との位置関係を示す概略断面図
【符号の説明】
【００６９】
１０…塗布ヘッド、１２…本体、１４…液溜め部、１６…スリット、１８…液供給口、２０…液排出口、２２、２４…閉鎖板、２６…フロントエッジ、２８…バックエッジ、２８ａ…バックエッジ面、Ｆ…塗布液、Ｗ…可撓性支持体（ウェブ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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