(57)【要約】【課題】  光学系の限界を越えるような細い線幅のパターンでも、生産性を低下せずに形成することが可能な露光装置を提供する【解決手段】  光源２より発生した光を、所定のパターンの開口が形成されたマスク４を介して、被加工物６に照射し、被加工物６に所定のパターンを転写させる露光装置１において、マスク４を移動させる手段９を設けるようにする。【選択図】      図１
2005093720.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源より発生した光を、所定のパターンの開口が形成されたマスクを介して、被加工物に照射し、前記被加工物に前記所定のパターンを転写させる露光装置において、
前記マスクを移動させる手段が設けられている
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記マスクを移動させる手段は、前記マスクを振動させることが可能な構成とされていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記マスクに対して、前記被加工物の向きを変えることが可能な構成とされていることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記マスクと前記被加工物との間に、縮小レンズが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
所定のパターンの開口が形成されたマスクを介して、被加工物に光を照射して、前記被加工物に前記所定のパターンを転写させる際に、
前記マスクを移動させる
ことを特徴とする露光方法。
【請求項６】
前記被加工物に前記所定のパターンを転写させる際に、前記マスクを振動させることを特徴とする請求項５に記載の露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より用いられている露光装置では、光学系の性能の限界から、基板（ウェーハ）上に形成されたフォトレジストに転写されるパターンの線幅を細くすることが困難であった。
このような露光装置において、光学系の性能の限界を超えるような細さの線幅を得ようとする場合は、例えば、光源の波長を短くする方法や、ＮＡ（レンズの開口数）の大きな光学系にする方法等を用いなければならなかった。すなわち、光学系の性能をさらに強化する必要があった。
【０００３】
一方、基板上に形成されるフォトレジストとして、例えば、ポジ型のフォトレジストを用いることを前提とする場合においては、例えば２回の露光工程を行うことで、光が照射されない範囲を狭くして、最終的にウェーハ上に得られるパターンの線幅を、光学系の性能の限界を超えるような細さにする方法も知られている（非特許文献１参照）。
【０００４】
具体的には、先ず、１回目の露光工程が行われるチャンバー内において、図７Ａに示すように、フォトレジスト４２が塗布されたウェーハ４１上に、所定のパターンのマスク４３を設けた後、図７Ｂに示すように、このマスク４３の全面を露光して、１回目の露光による所定のパターンをフォトレジスト４２に転写する。
なお、フォトレジスト４２において、白抜き部分４４は、１回目の露光により光が照射された部分を示している。
【０００５】
次に、図示しない搬送系により、１回目の露光による所定パターンが転写されたウェーハ４１を、マスク４３が１回目とはずれた位置に設けられている２回目の露光工程が行われるチャンバーへと搬送し、再度全面を露光することにより、図７Ｃに示すように、２回目の露光による所定のパターンをフォトレジスト４２に転写する。
なお、フォトレジスト４２において、斜線で示す部分４５は、２回目の露光により光が照射された部分を示している。
【０００６】
これにより、フォトレジスト４２においては、１回目の露光工程で露光された部分４４と２回目の露光工程で感光された部分４５とにより、露光された範囲が広がり、露光されない範囲４６が狭くなる。
【０００７】
したがって、この後、ウェーハ４１を現像液に浸すことで、１回目の露光工程で露光された部分４４と２回目の露光工程で露光された部分４５とが除去されると、図７Ｄに示すように、ウェーハ４１上に、線幅の細いパターンのフォトレジスト４７を形成することができる。
【０００８】
このように、マスク４３をずらして２回の露光工程を行うことにより、光学系の性能の限界を超えるような細さの線幅をも形成できるようにしている。
【非特許文献１】日経産業新聞（日経テレコン２１），２００３年７月１０日，朝刊，６面，「半導体露光、位置ずらし照射、東京電気大、線幅８０ｎｍを視野に」
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、このような２回の露光工程を行う方法を用いた場合（上記非特許文献１参照）、例えば、１回目の露光工程を行ったチャンバーから２回目の露光工程を行うチャンバーまでのウェーハ４１の搬送時間や、各露光工程において、マスクとウェーハとの位置合わせに要する時間等が発生してしまうので、スループット（単位時間当たりの処理量）を上げることができず、生産性を低下させてしまう。
【００１０】
そこで、このような２回の露光工程を行う方法以外で、光学系の性能の限界を超えるような細い線幅のパターンでも、生産性を低下させずに形成できるようにすることが求められていた。
【００１１】
また、一般的な露光装置の場合において、その厚さが変化するパターン（例えばレンズ形状）を形成するような場合では、マスクをずらして、それぞれの時間を変えて何回も露光しなければならず、上述した２回の露光工程を行う方法の場合と同様に、スループットを上げることができず、生産性を低下させてしまう。
【００１２】
本発明は、上述した点に鑑み、光学系の限界を越えるような細い線幅のパターンでも、生産性を低下させずに形成することが可能な露光装置及び露光方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、光源より発生した光を、所定のパターンの開口が形成されたマスクを介して、被加工物に照射し、被加工物に所定のパターンを転写させる露光装置において、マスクを移動させる手段が設けられている構成とする。
【００１４】
上述した、本発明に係る露光装置によれば、マスクを移動させる手段が設けられているので、露光を行うときに、このマスクを移動させる手段を駆動させることによって、マスクを移動させることができる。
そして、マスクを移動させることにより、露光される領域を動かすことができるため、例えば、１回の露光工程で、露光されない領域を狭めることや、場所により露光光量を変化させること等が可能になる。
【００１５】
本発明に係る露光方法は、所定のパターンの開口が形成されたマスクを介して、被加工物に光を照射して、被加工物に所定のパターンを転写させる際に、マスクを移動させるようにする。
【００１６】
上述した、本発明に係る露光方法によれば、所定のパターンの開口が形成されたマスクを介して、被加工物に光を照射して、被加工物に所定のパターンを転写させる際に、マスクを移動させるようにしたので、マスクの移動に応じて、露光される領域を動かすことができる。これにより、例えば、１回の露光工程で、露光される領域を狭めることや、場所により露光光量を変化させること等が可能になる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の露光装置によれば、光学系の性能の限界を超えるような細い線幅のパターンを形成する場合でも、スループットを低下させずに行うことが可能になるので、高性能で、生産性の高い露光装置を提供することができる。
【００１８】
本発明の露光方法によれば、光学系の性能を超えるような細い線幅のパターンを形成する場合でも、スループットを低下させずに形成することができるので、半導体装置等の素子の微細化や生産性の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面と共に、本発明の実施の形態を説明する。
【００２０】
先ず、本発明の露光装置の一実施の形態を、図１を用いて説明する。
なお、本実施の形態の露光装置は、光縮小投影型の露光装置の場合を示している。
この露光装置１は、所定の波長の光を出射する光源（例えば水銀ランプ）２と、この光源２から出射された光を集光して平行光線に変換するレンズ（コンデンサレンズ）３と、所定のパターンの開口が形成されたマスク（ガラスマスク）４と、マスク４を透過した光を所定の倍率で縮小する投影レンズ５と、この投影レンズ５と対応するように設けられた、被加工物、すなわち基板（ウェーハ）６を載置するステージ７等から構成されている。ステージ７には、このステージ７を動かすローダー（図示せず）等が設けられている。
なお、マスク４に形成された所定パターンの開口の寸法は実際の寸法の例えば２倍〜１０倍とされ、投影レンズ５により１／２〜１／１０倍に縮小されるように構成されている。
【００２１】
このような構成の露光装置１では、光源２から出射された光は、コンデンサレンズ３により平行に変換されてマスク４を照射し、マスク４で遮断されず透過した光のみが、投影レンズ５で縮小されて、ステージ７上に載置されたウェーハ６上を照射する。なお、８は、投影レンズ５を透過した光がウェーハ６上を照射した際のショット部を示している。
【００２２】
そして、本実施の形態の露光装置１においては、特に、マスク４に、このマスク４を移動させる手段９を設けるようにする。
本実施の形態では、このマスク４を移動させる手段９は、振動を発生させる例えばアクチュエータ１０と、このアクチュエータ１０で発生した振動をマスク４に伝える駆動軸１１等から構成され、マスク４が振動されるように構成されている。
【００２３】
具体的には、図１Ｂに示すように、マスク４がセットされるマスクホルダー２３の両端に駆動軸１１がそれぞれ接続され、一方の駆動軸１１の一端にはアクチュエータ１０が、他方の駆動軸の一端には軸押さえ２４が設けられた構成となっている。なお、図示せざるも、アクチュエータ１０内にも軸押さえが設けられている。また、マスクホルダー２３は、得ようとするパターンに応じて、マスク４を交換できるようにするために、マスク４を出し入れできる構成となっている。
【００２４】
ここで、軸押さえ２４は、マスク４（マスクホルダー２３）を振動させた際に、ガタツキが発生しないように、図示せざるも、精度の良いベアリングを用いた構成とする。
【００２５】
また、マスク４とマスクホルダー２３とは、ガタツキが無いように固定されている必要がある。すなわち、マスク４とマスクホルダー２３との間でガタツキがある場合、得られるパターンの形状が歪んでしまう虞がある。このような問題を解決するには、マスク４がマスクホルダー２３にセットされた後、マスク４を機械的に固定する手段を、マスクホルダー２３に備えるようにすることが望ましい。このような手段としては、例えば、従来の露光装置の場合と同じような手段を用いても構わないが、振動に耐えられることが必要条件となる。
【００２６】
また、マスクホルダー２３と駆動軸１１とも、ガタツキが無いように固定されている必要がある。すなわち、振動時の機械的なストレスにより、マスクホルダー２３と駆動軸１１との間にズレが生じないように、マスクホルダー２３と駆動軸１１とを、機械的に固定する必要がある。この場合、例えばネジを用いて固定する方法や、マスクホルダー２３と駆動軸１１とが一体となるように構成することもできる。
【００２７】
このような構成としたことで、図示しない駆動機構を作動させることにより、アクチュエータ１０を振動させた場合、この振動が駆動軸１１を伝ってマスクホルダー２３へと伝わり、マスクホルダー２３が振動する。そして、このマスクホルダー２３の振動に合わせて、マスクホルダー２３にセットされたマスク４も振動する。
この際、駆動軸１１は軸押さえ２４により片方が固定されているため、アクチュエータ１０を駆動した際のブレ等が生じることはない。
【００２８】
振動方向は、得ようとするパターンの向きによって変化させる。例えば、パターンが縦長形状である場合は、横方向に振動させ、パターンが横長形状である場合は、縦方向に振動させる。
【００２９】
これにより、例えば、光源２から光（露光光）を照射させた際にマスク４を合わせて振動させるようにすれば、マスク４の振動に応じて、ウェーハ６上のフォトレジスト（図示せず）に転写されるパターンを変化させることができる。つまり、マスク４の振動の動きに応じて、露光される領域を動かすことができる。
【００３０】
このように、本実施の形態の露光装置１によれば、マスク４を振動させる手段９を設けたので、この手段９を構成するアクチュエータ１０を振動させることにより、マスク４を振動させることができる。
これにより、光（露光光）を照射させる際にマスク４を合わせて振動させれば、マスク４の振動の動きに応じて、露光される領域を動かすことができる。そして、マスク４の振動の動きを制御することにより、例えば、１回の露光工程で、露光される領域を動かして、露光されない領域を狭くすることも可能になる。
【００３１】
したがって、このような露光装置１において、例えば、光学系の性能の限界を超えるような細い線幅のパターンを得ようとする場合は、１回目及び２回目と、それぞれマスクをずらして２回の露光工程（図７参照）を行わなくとも、１回の露光工程で、露光される領域を動かして、露光されない領域を狭くすることが可能になる。
この場合、２回の露光工程を行った場合に生じていた、例えば、１回目の露光を行った場所から２回目の露光を行う場所までのウェーハの搬送時間や、２回目の露光工程が行われる分の、マスクとウェーハとの位置合わせに要する時間等を削減させることができるので、スループットを低下させずに、細い線幅のパターンを得ることができる。
【００３２】
次に、このような露光装置１を用いた本発明に係る露光方法の一実施の形態を、図面を用いて説明する。
【００３３】
先ず、図示しないキャリアからローディングされたウェーハ６が、図示しない搬送系を
介して、上述した構成の露光装置１が設けられたチャンバー内に搬送され、露光装置１のステージ７上に載置される。この際、既に、所定パターンの開口が形成されたマスク４が所定の位置にセットされており、図示しない制御部が駆動することにより、マスク４とウェーハ６とが位置合わせされる。
【００３４】
そして、このように、ステージ７上にウェーハ６が載置されて、光源２から光（露光光）が照射された際に、本実施の形態においては、図示しない駆動機構を作動させて、マスク４を移動させる手段９を駆動させるようにする。すなわち、アクチュエータ１０を振動させることにより、振動を駆動軸１１よりマスク４へと伝えて、マスク４を振動させるようにする。
【００３５】
ここで、どのようにマスク４を振動させるかを、図２を用いて説明する。
なお、図２Ａは、最終的にウェーハ６上に得ようとするパターンの形状を示し、図２Ｂは、このような形状を得ようとするための、マスク４の振動量と振動時間との関係を示している。また、図２Ｂ中、点Ｘは、振動の中心位置を示している。また、図１と対応する部分には同一符号を付している。
例えば、図２Ａに示すように、断面が四角形状のパターン１５をウェーハ６上に得ようとする場合は、図２Ｂに示すように、マスク４を例えば水平方向に所定の振動量Ｗで振動させ、このような振動を所定時間Ｈの間繰り返すようにする。
なお、振動量Ｗは、例えば、得ようとするパターンの形状から、あらかじめ算出される。
【００３６】
以下、このようにマスク４を振動させた場合の具体的な動作を、図３を用いて説明する。
なお、露光された領域は白塗りで示している。
最初は、図３Ａに示すように、マスク４が一端（例えば左端）にあり、所定の振動量＋Ｗとなっている。ここで、一定時間の間露光が行われる。この際、フォトレジスト１６において、マスク４に覆われてない領域１７が露光される。
【００３７】
そして、一定時間が過ぎると、図３Ｂに示すように、マスク４が他端（例えば右端）に振動し（移動し）、所定の振動量−Ｗに達した時点で、図３Ｃに示すように、マスク４の振動が再び停止して、一定時間の間露光工程が行われる。この際、フォトレジスト１６において、マスク４に覆われていない領域１８が露光される。
【００３８】
この後は、再びマスク４が左端へ所定の振動量＋Ｗに達するまで振動し、このような左端及び右端への振動が、所定時間Ｈの間繰り返される。
【００３９】
このようにして、ウェーハ６上には、マスク４を左端に振動させた際に露光された領域１７と、マスク４を右端に振動させた際に露光された領域１８とにより、線幅の細い露光されない領域１９を形成することができる。
【００４０】
この後は、図示しない搬送系により、ウェーハ６が、現像処理が行われるチャンバーへと搬送されて現像処理が行われる。そして、現像処理において、上述したマスク４を左端に振動させた際に露光された領域１７と、マスク４を右端に振動させた際に露光された領域１８とが除去されることで、図２Ａ及び図３Ｄに示すように、ウェーハ６上のフォトレジスト１６に、線幅の細い四角形状のパターン１５を形成することができる。
【００４１】
なお、上述したように、振動量（振幅）は、最終的に得ようとするパターンの線幅によって異なるが（例えば、パターンの線幅が太い場合は小さく、細い場合は大きい）、振動の振幅が大きくなり過ぎると、ウェーハ６上の全面が露光されてしまう。
このような場合、最終的にウェーハ６上のフォトレジスト１６に形成されるパターンの形状が歪んでしまう虞があるので、振動の振動量（振幅）はウェーハ６上で、例えば数十ｎｍ程度で行うことが望ましい。
【００４２】
また、振動数が大きいと、光学系全体を揺らしてしまうことになり、このような場合においても、最終的にウェーハ６上のフォトレジスト１６に形成されるパターンの形状が歪んでしまう虞があるので、振動数はできる限り小さくすることが望ましい。
具体的には、光源２からの光の照射時間内に１回以上の振動があればよく、例えば、光の照射時間を２秒とした場合は、周波数は０．５Ｈｚ以上となるようにする。
【００４３】
また、振動回数が少ないと、例えば、図２Ａ及び図５Ａに示すようなパターン（１５，２０）を形成する場合において、振動の立ち上がり部分及び立ち下がり部分で、鈍った短形波状の振動（動き）となってしまう。
このような場合、フォトレジスト１６において、充分に光が照射されない部分等が形成されてしまい、現像処理を行った後に、ウェーハ６上のフォトレジスト１６に形成されるパターンの下部にフォトレジスト１６が残存してしまうことになる。
このような問題を回避するには、例えば、振動の立ち上がり部分及び立ち下がり部分において、光が照射される時間を充分に長くするようにしたり、マスク４が動いている間は光源２からの光の照射を停止するようにする。また、振動回数を増やすようにすることもできる。
【００４４】
また、振動の途中の位置で、光源２からの光の照射を終わらせてしまうと、最終的にウェーハ６上に形成されるパターンの形状が歪んできてしまう虞がある。このような問題を回避するためには、光の照射時間内に、整数回の振動を行うようにすればよい、例えば、上述したように、光の照射時間が２秒の場合は、０．５Ｈｚ以上の整数倍の周波数で光の照射を行えばよい。
【００４５】
また、光の照射時間は、ウェーハ６上のフォトレジスト１６において、得ようとするパターン以外のフォトレジスト１６が完全に照射される時間とする。これは、それよりも照射時間が短いと、現像処理を行った後に、ウェーハ６上に必要のないフォトレジスト１６が残存してしまう虞があるからである。
【００４６】
このように、本実施の形態の露光方法によれば、マスク４に描かれた所定パターンを、ウェーハ６上のフォトレジスト１６に転写させる際に、マスク４を振動させるようにしたので、マスク４の振動の動きに応じて、露光される領域を動かすことができる。
これにより、１回の露光工程で、露光される領域を動かして、露光されない領域を狭くすることができる。
【００４７】
したがって、このような露光装置１において、例えば、光学系の性能の限界を超えるような細い線幅のパターンを得ようとする場合は、１回目及び２回目と、それぞれマスクをずらして２回の露光工程（図７参照）を行わなくとも、１回の露光工程で、露光される領域を動かして、露光されない領域を狭くすることが可能になる。
【００４８】
この場合、例えば、２回の露光工程を行う方法のように、１回目の露光を行った場所から２回目の露光を行う場所までのウェーハの搬送時間や、２回目の露光工程を行うことによる、マスクとウェーハとの位置合わせに要する時間等を削減することができるので、スループットを低下させずに、光学系の性能の限界を超えるような細い線幅のパターンをも形成することができる。
【００４９】
本実施の形態では、図２Ａに示すように、最終的に得ようとするパターンとして、断面形状が四角形状のパターン１５を挙げて説明を行ったが、図４Ａに示すように、この四角形状の線幅がさらに細い形状のパターン２０の場合は、以下に示すようにマスク４を振動させる。
すなわち、図４Ｂに示すように、マスク４を例えば水平方向に所定の振動量（振幅）Ｗで振動させ、このような振動を所定時間Ｈの間繰り返すようにする。そして、この際、振動量（振幅）Ｗを、図２Ｂに示す場合に比べて大きくする。
【００５０】
このように、図２Ｂに示す場合よりも振動量Ｗを大きくすることで、露光されない領域をさらに狭くすることができ、現像処理により、露光された部分が除去された場合に、より細い線幅のパターンを形成することが可能になる。
【００５１】
また、図２Ａ及び図４Ａに示す形状とは異なり、図５Ａ及び図６Ａに示すように、厚さが変形するパターンを形成する場合は、以下に示すようにマスク４を振動させる。
例えば、図５Ａに示すように、上部が平らで両側が丸く膨らんだ断面形状のパターン２１を形成する場合は、図５Ｂに示すように、マスク４を所定の振動量Ｗで振動させ、このような振動を所定時間Ｈの間繰り返すようにする。そして、この際、一定の速度でマスク４を振動させるようにする。
【００５２】
具体的には、振動量＋Ｗから振動量−Ｗに達する状態まで、一定の速度でマスクを振動させ、所定の振動量−Ｗに達して、反対の方向にマスク４の振動が始まってから再び所定の振動量＋Ｗに達する状態まで、一定の速度でマスク４を振動させるようにする。
そして、このような振動の動きを所定時間Ｈの間繰り返すようにする。
【００５３】
また、図６Ａに示すように、台形の断面形状のパターン２２の場合においても、図６Ｂに示すように、マスク４を所定の振動量Ｗで振動させ、このような振動を所定時間Ｈの間繰り返すようにする。そして、この際、振動の速度を変化させてマスク４を振動させるようにする。
【００５４】
具体的には、振動量＋Ｗから振動量−Ｗに達する状態まで、マスク４の振動の速度を除々に速くし、中央の位置を通過してから、所定の振動量−Ｗに達する前で、マスク４の振動の速度を除々に遅くする。
次に、所定の振動量−Ｗに達して、反対の方向にマスク４の振動が始まってから再び所定の振動量＋Ｗに達する状態まで、マスク４の振動の速度を除々に速くし、中央の位置を通過してから、所定の振動量＋Ｗに達する前で、マスク４の振動の速度を除々に遅くする。
そして、このような振動の動きを所定時間Ｈの間繰り返すようにする。
【００５５】
なお、このように、最終的にウェーハ６上に得られるパターンの厚さを変形させる場合は、その形状によってマスク４の振動量（振幅）は異なるが、例えば数十ｎｍ〜数μｍ程度でマスク４を振動させるようにすることが望ましい。
【００５６】
このように、得ようとするパターンの厚さが変化する場合であっても、マスク４の振動の動きを可変させることで、従来のように、マスクをずらして、それぞれの光の照射時間を可変させて何回も露光工程を行わずに、１回の露光工程で形成することが可能になる。
この場合、複数の露光工程を行う場合に生じていた、例えばウェーハの搬送時間や、マスクとウェーハとの位置合わせに要する時間等を削減させることができ、スループットを低下させずに、厚さが変形されたパターン形状を形成することができる。
【００５７】
上述した実施の形態では、マスク４の移動は、マスク４を振動させることで行われるようにしたが、マスク４を振動せずに、単にマスク４を移動するだけでも、マスク４を振動させた場合と同様に、１回の露光工程で露光される領域を狭くする作用を得ることができる。
【００５８】
このように、マスク４を移動する場合は、図３Ａに示す工程から図３Ｃに示す工程を１回だけ行うようにする。すなわち、マスク４が、左端の所定の振動量＋Ｗとなっている状態から、右端の所定の振動量−Ｗに達するまで単に移動させるようにする。
この際、フォトレジスト１６は、例えば、所定の振動量＋Ｗとなっている状態と、所定の振動量−Ｗに達した状態で露光されることになる。これにより、ウェーハ６上には、移動前に露光された領域１７１と、移動後に露光された領域１８１とにより、線幅の細い露光されない領域１９１を形成することができる。
【００５９】
したがって、マスク４を振動させた場合と同様に、１回の露光工程で、露光される領域を動かして、露光されない領域を狭くすることができるので、スループットを低下させずに、光学系の性能の限界を超えるような細い線幅のパターンを形成することができる。
【００６０】
また、上述した実施の形態では、露光装置１として、例えば、マスク４に形成された所定パターンの開口の寸法が実際の寸法の２倍〜１０倍とされ、投影レンズ５により１／２〜１／１０倍に縮小するようにした構成の光縮小投影型の露光装置１の場合を挙げて説明したが、露光装置１においてはこのような構成に限定されず、例えば、マスク４に形成された所定のパターンの開口の寸法が実際の寸法とされ、投影レンズ５がない構成の露光装置においても適用することができる。
【００６１】
また、上述した実施の形態の露光装置１では、マスク４を、水平方向のみに振動させる構成を示したが、得ようとするパターンの形状が複雑なパターンの場合には、マスク４に対してウェーハ６の向きを変えるように構成することもできる。
【００６２】
すなわち、得ようとするパターンが、例えば縦長形状と横長形状とを有しているような場合は、縦長形状のパターンの部分は、そのままマスク４を水平方向に振動させることで形成し、横長形状の部分は、ウェーハ６を、マスク４に対して例えば９０度水平方向に回転させることで向きを変えてから、マスク４を水平方向に振動させることで形成するようにする。
【００６３】
このように、マスク４に対してウェーハ６の向きを変えるように構成することにより、得ようとするパターンが複雑なパターンであっても、１回の露光工程で、露光されない領域を狭くすることが可能になる。
これにより、マスク４を水平方向のみに振動させる構成の場合と同様に、スループットを低下させずに、光学系の性能の限界を越えるような細い線幅のパターンを形成することができる。
【００６４】
なお、本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】Ａ、Ｂ  本発明に係る露光装置の一実施の形態を示す概略構成図と、要部の具体的な斜視図である。
【図２】Ａ、Ｂ  最終的に得ようとするパターンの一形態を示す図と、このパターンを形成するための、マスクの振動量と振動時間との関係を示す図である。
【図３】Ａ〜Ｄ  マスクの振動の動きの具体的な説明図である。
【図４】Ａ、Ｂ  最終的に得ようとするパターンの他の形態を示す図と、このパターンを形成するための、マスクの振動量と振動時間との関係を示す図である。
【図５】Ａ、Ｂ  最終的に得ようとするパターンのさらに他の形態を示す図と、このパターンを形成するための、マスクの振動量と振動時間との関係を示す図である。
【図６】Ａ、Ｂ  最終的に得ようとするパターンのさらに他の形態を示す図と、このパターンを形成するための、マスクの振動量と振動時間との関係を示す図である。
【図７】Ａ〜Ｄ  ２回の露光工程を行う方法の説明図である。
【符号の説明】
【００６６】
１・・・露光装置、２・・・光源、３・・・コンデンサレンズ、４・・・マスク、５・・・投影レンズ、６・・・ウェーハ、７・・・ステージ、９・・・マスクを移動させる手段、１０・・・アクチュエータ、１１・・・駆動軸、２３・・・マスクホルダー、２４・・・軸押さえ
【図１】
2005093720.tif 000003
【図２】
2005093720.tif 000004
【図３】
2005093720.tif 000005
【図４】
2005093720.tif 000006
【図５】
2005093720.tif 000007
【図６】
2005093720.tif 000008
【図７】
2005093720.tif 000009