(57)【要約】【課題】  マイクロ波を利用した調理装置の連続的な反復使用を可能とする。【解決手段】  マグネトロン１０２から放射されるマイクロ波を回転式の反射板１０４を介してテーブル１０３上の調理対象物１１１に照射することによって加熱調理を行う調理装置において、反射板１０４とテーブル１０３との間に、マイクロ波の通過を許容して霧状物質の通過を防止する遮蔽板１０６を設け、反射板１０４および調理室の上方の空間Ｖ１の内壁の汚れを防止することでテーブル１０３上のコールドスポットの発生を防止し、調理装置１０１の連続的な反復使用を可能とする。【選択図】図１
2005214535.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体内に配備されたマグネトロンから放射されるマイクロ波を回転式の反射板を介してテーブル上の調理対象物に照射することによって加熱調理を行う調理装置であって、前記反射板とテーブルとの間にマイクロ波の通過を許容して霧状物質の通過を防止する遮蔽板を備えたことを特徴とする調理装置。
【請求項２】
前記遮蔽板が断熱性を有することを特徴とした請求項１記載の調理装置。
【請求項３】
前記遮蔽板によって区切られる前記筐体内の空間のうち前記反射板を配備した側の空間に外気を流通させるためのファンを前記筐体に配備したことを特徴とする請求項１または請求項２記載の調理装置。
【請求項４】
前記反射板を配備した側の空間と前記マグネトロンを配備した空間とを前記筐体内で連絡し、前記ファンによって流通する外気が反射板を配備した側の空間とマグネトロンを配備した空間とを経由して流通するようにしたことを特徴とする請求項３記載の調理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調理装置の改良、特に、マイクロ波を利用した調理装置の連続的な反復使用を可能とするための改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
筐体内に配備されたマグネトロンから放射されるマイクロ波をテーブル上の調理対象物に照射することによって加熱調理を行う調理装置には、大きく分けて、マグネトロンから放射されるマイクロ波を回転式の反射板を介してテーブル上の調理対象物に照射するものと、回転式の反射板に代えてターンテーブルを利用するものとがあるが、ターンテーブルを利用した場合にはテーブルの載置面積を有効利用することが困難であるため、大量の調理対象物を同時に加熱調理する業務用の分野では、一般に、回転式の反射板を備えた調理装置が広く用いられている。
【０００３】
また、最近では、非特許文献１等にも開示されるように、加熱による調理に加えて調理対象物を蒸したり焼いたりする機能を備えた調理装置が提案されている。
【０００４】
このうち、あるものは、ＳｎＯ２を塗布した皿の中に水を貯溜し、マイクロ波で皿を加熱して水を蒸発させることで調理対象物を蒸すように構成され、また、あるものは、筐体内に配備したヒーターに貯水タンクから水を供給して蒸発させることで調理対象物を蒸すように構成されており、水の蒸発それ自体にはマイクロ波を利用していない。
【０００５】
一方、調理対象物を焼くための構造としては、前記と同様の技術を適用し、セラミック製のテーブルにＳｎＯ２を塗布し、加熱調理用のマイクロ波の一部でテーブルを加熱して調理対象物に焦げ目を付けるようにしたものが公知であり、また、テーブルに蓄熱型熱源体を併設したものが特許文献１として提案されている。
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−１０８３７３号公報
【非特許文献１】日経メカニカル，日経ＢＰ社，大日本印刷株式会社，２００４年１月１日，第５９２号，８２頁〜８３頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、加熱に加えて蒸す焼く等の調理を同時に行う構成のものにあっては、調理の過程で生じる煙やオイルミスト等が筐体内に充満する場合があり、回転式の反射板の表面に生じる汚れが問題となる。
【０００８】
この反射板は、マグネトロンから放射されるマイクロ波を反射させてテーブル上の調理対象物に照射するためのものであるから、反射板に汚れが付着してしまうと、テーブル上の特定の箇所にマイクロ波が照射されなくなって加熱調理に不都合が生じ、調理装置の連続的な反復使用が困難となる。
【０００９】
更に、マイクロ波の発生源となるマグネトロンは、それ自体が熱に弱いため、周辺の環境が高温になると保護回路の作動によって自動的に非常停止状態となり、調理が中断する問題がある。
【００１０】
そこで、本発明の課題は、前記従来技術の欠点を改善し、連続的な反復使用に耐え得る調理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、筐体内に配備されたマグネトロンから放射されるマイクロ波を回転式の反射板を介してテーブル上の調理対象物に照射することによって加熱調理を行う調理装置であり、前記課題を達成するため、特に、前記反射板とテーブルとの間にマイクロ波の通過を許容して霧状物質の通過を防止する遮蔽板を備えたことを特徴とする構成を有する。
【００１２】
以上の構成により、回転式の反射板を配備した筐体内の空間と調理対象物を載置するテーブルを配備した筐体内の空間とが遮蔽板によって遮蔽される。この遮蔽板は、マイクロ波の通過を許容するから、マグネトロンからのマイクロ波を反射板および筐体各部の内壁を介してテーブル上の調理対象物に照射することにより従来と同様に加熱調理を行うことができる。
しかも、調理の過程で生じる煙やオイルミスト等は遮蔽板によって遮られ、反射板に付着することがない。従って、反射板の汚れが確実に防止され、調理装置の連続的な反復使用が可能となる。
従来、反射板の周辺における筐体内壁の清掃が困難であり、汚れの蓄積によって筐体内壁を利用したマイクロ波の反射効率が時系列的に劣化する傾向があったが、本発明においては回転式の反射板を配備した側の筐体内の空間への煙やオイルミスト等の侵入が確実に防止されるため、反射板の周辺における筐体内壁に汚れが生じる問題も解消され、筐体各部の内壁を利用したマイクロ波の反射効率も改善された。
この際、調理対象物を載置するテーブルを配備した側の空間に面する遮蔽板の表面が煙やオイルミスト等によって汚れることは避けられないが、遮蔽板の表面は平坦であるため清掃作業は極めて容易であって、調理装置の連続的な反復使用で生じるサイクル間のロスタイムの軽減が実現される。
【００１３】
前記遮蔽板は、断熱性を有する素材で形成することが望ましい。マイクロ波の通過を許容して断熱性を発揮する素材、例えば、赤外線の透過を拒むことで断熱性を発揮する素材として、テフロンや石英等のものが知られている。
【００１４】
遮蔽板に断熱効果を持たせることにより、調理対象物を載置するテーブルを配備した筐体内の空間から反射板を配備した筐体内の空間への熱の逆行が抑制され、更には、反射板にマイクロ波を放射するマグネトロンの過度の温度上昇も防止されるので、マグネトロンの温度上昇で生じる異常を防止して調理装置を連続的に反復使用することができる。
【００１５】
また、遮蔽板によって区切られる筐体内の空間のうち反射板を配備した側の空間に外気を流通させるためのファンを筐体に配備するとよい。
【００１６】
反射板を配備した筐体内の空間へ伝播された熱が外気の流通によって運び出されるので、当該空間をマグネトロンとテーブルを配備した筐体内の空間との間の有効な断熱層として利用することができ、マグネトロンの温度上昇で生じる異常を防止して調理装置を連続的に反復使用することができるようになる。
【００１７】
更に、反射板を配備した側の空間とマグネトロンを配備した空間とを筐体内で連絡し、ファンによって流通する外気が反射板を配備した側の空間とマグネトロンを配備した空間とを経由して流通するように構成することが望ましい。
【００１８】
このような構成を適用した場合、マグネトロン自体が直接的に外気によって冷却されるので、冷却効果は更に高まり、マグネトロンの温度上昇を更に確実に防止することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の調理装置は、マグネトロンから放射されるマイクロ波をテーブル上に導く回転式の反射板とテーブルとの間にマイクロ波の通過を許容して霧状物質の通過を防止する遮蔽板を備えているので、調理の過程で生じる煙やオイルミスト等が反射板に付着することを防止して調理装置の連続的な反復使用を実現することができる。
同時に、回転式の反射板を配備した側の筐体内の空間への煙やオイルミスト等の侵入が確実に防止されるため、反射板の周辺における筐体内壁に汚れが生じる問題も解消され、筐体各部の内壁を利用したマイクロ波の反射効率が改善される。この際、調理対象物を載置するテーブルを配備した側の空間に面する遮蔽板の表面が煙やオイルミスト等によって汚れることは避けられないが、遮蔽板の表面は平坦であるため清掃作業は極めて容易である。
【００２０】
しかも、遮蔽板が断熱性を備えているので、調理対象物を載置するテーブルを配備した筐体内の空間から反射板を配備した筐体内の空間への熱の逆行も抑制され、更には、反射板にマイクロ波を放射するマグネトロンの過度の温度上昇も防止されるので、マグネトロンの温度上昇で生じる異常を防止して調理装置を連続的に反復使用することができる。
【００２１】
また、反射板を配備した側の空間に外気を流通させるためのファンを筐体に配備したので、当該空間をマグネトロンとテーブルを配備した筐体内の空間との間の有効な断熱層として利用することができ、マグネトロンの温度上昇で生じる異常を防止して調理装置を連続的に反復使用することができるようになった。
【００２２】
更に、反射板を配備した側の空間とマグネトロンを配備した空間とを筐体内で連絡し、ファンによって流通する外気が反射板を配備した側の空間とマグネトロンを配備した空間とを経由して流通するようにしたので、マグネトロン自体を直接的に外気によって冷却することが可能となり、マグネトロンの温度上昇を確実に防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図１は本発明を適用した調理装置の実施の形態の一例について内部構造を簡略化して示した断面図である。
【００２４】
この調理装置１０１は、マイクロ波を放射するマグネトロン１０２とマグネトロン１０２からのマイクロ波を反射してテーブル１０３上に導く回転式の反射板１０４とを筐体１０５の内部に備え、反射板１０４を配備した筐体１０５内の空間Ｖ１と調理対象物１１１を載置するテーブル１０３を配備した筐体１０５内の空間Ｖ２とが遮蔽板１０６によって遮蔽されている。
【００２５】
遮蔽板１０６は、マイクロ波の通過を許容して煙やオイルミスト等の霧状物質の通過を防止する遮蔽機能と、筐体１０５内の空間Ｖ２から筐体１０５内の空間Ｖ１への熱の逆行を抑制する断熱性とを兼ね備えたもので、その材料としては、例えば、テフロンや石英等のものが好適であるが、通常のガラス板やプラスチック板等でもよい。
【００２６】
テーブル１０３の下面には、加熱用のヒーター１０７が付設され、マイクロ波の照射状態とは関わりなくテーブル１０３の温度を独立的に制御できるようになっている。テーブル１０３およびヒーター１０７はマイクロ波の影響を受けて発熱する部材ではない。
【００２７】
筐体１０５内の空間Ｖ２におけるテーブル１０３の上方の中央位置には、テーブル１０３上に水を滴下するためのノズル１０８が配備され、筐体１０５に併設された貯水タンク１０９とノズル１０８との間に流量制御弁１１０が設けられて、ノズル１０８から滴下される単位時間当たりの水の量が調整される。
【００２８】
更に、マグネトロン１０２を配備した空間Ｖ３と反射板１０４を配備した側の空間Ｖ１とは連絡口１１５を介して筐体１０５内で連絡され、筐体１０５の左端部に穿設された給気口１１２と前述の連絡口１１５および筐体１１５の上面に穿設された排気口１１４を介して外気が流通するようになっている。
【００２９】
排気口１１４は給気口１１２に比べて相対的に上方に位置し、空間Ｖ１もしくは空間Ｖ３内で加熱された空気は体積を増大して比重を減少させることで自然に上方に移動するので、これらの給気口１１２，連絡口１１５，排気口１１４を設けることで空間Ｖ１と空間Ｖ３を経由して外気を流通させることが可能であるが、図１の例では、排気口１１４の上面にファン１１３を配備して空間Ｖ１と空間Ｖ３内の空気を強制的に吸い出すことで空間Ｖ１と空間Ｖ３に強制的に外気を流通させるようにしている。外気の流れを図１中に矢印で示す。
【００３０】
加熱に加えて蒸す焼くの操作を同時に行う必要のある調理対象物１１１を調理する場合、マグネトロン１０２を作動させて反射板１０４を回転させながら、テーブル１０３上の調理対象物１１１に満遍なくマイクロ波を照射して加熱処理を行うと共に、加熱用のヒーター１０７を適度な温度設定で作動させて調理対象物１１１の下面に焦げ目を付け、更に、流量制御弁１１０で流量を適正に調整した状態でノズル１０８からテーブル１０３上に水を滴下させて蒸発させることで調理対象物１１１を蒸す。
【００３１】
但し、加熱，蒸す，焼くの操作を全調理工程に亘って必ずしも重複して行う必要なく、１調理工程における加熱，蒸す，焼くの各操作の開始タイミングや終了タイミングおよび各操作の実施時間をプログラム制御することが可能である。
【００３２】
この際、反射板１０４で反射されたマイクロ波は遮蔽板１０６を容易に通過するので、遮蔽板１０６が加熱調理の妨げとなることはない。
【００３３】
調理対象物１１１を入れ替えながら調理工程を連続的に反復して繰り返した場合、特に、調理対象物１１１が水や油を含んでいる場合、もしくは、ノズル１０８から水を供給して蒸しの調理を行うような場合においては、煙やオイルミスト等の霧状物質の発生量は調理装置１０１の運転時間に応じて積算的に増大するが、これらの霧状物質がテーブル１０３を配備した筐体１０５内の空間Ｖ２から反射板１０４を配備した筐体１０５内の空間Ｖ１に侵入することは遮蔽板１０６によって遮られるので、反射板１０４に汚れが付着することはなく、反射板１０４の汚れに起因するコールドスポットの発生が防止され、調理装置１０１の連続的な反復使用が実現される。
【００３４】
しかも、回転式の反射板１０４を配備した側の空間Ｖ１への煙やオイルミスト等の侵入が確実に防止されるため、反射板１０４の周辺における筐体内壁、つまり、空間Ｖ１の内壁に汚れが生じる問題も解消され、この内壁を利用したマイクロ波の反射効率も改善される。
【００３５】
この際、調理対象物１１１を載置するテーブル１０３を配備した側の空間Ｖ２に面する遮蔽板１０６の表面、つまり、図１の遮蔽板１０６の下面側が煙やオイルミスト等によって汚れることは避けられないが、遮蔽板１０６の表面は平坦であるため清掃作業は極めて容易であり、当該部分の汚れは簡単な清掃作業によって直ちに回復可能である。
【００３６】
また、遮蔽板１０６は、テーブル１０３を配備した筐体１０５内の空間Ｖ２から反射板１０４を配備した筐体１０５内の空間Ｖ１への熱の逆行も抑制するので、マグネトロン１０２への過剰な熱の伝播も防止され、マグネトロン１０２の温度上昇で生じる異常を防止して調理装置１０１を連続的に反復使用することができる。
【００３７】
遮蔽板１０６によって区切られる筐体１０５内の空間のうち反射板１０４を配備した側の空間Ｖ１には定常的に外気が流通し、空間Ｖ１をマグネトロン１０２とテーブル１０３を配備した空間Ｖ２との間の有効な断熱層として利用することができるので、マグネトロン１０２の温度上昇で生じる異常を防止して調理装置１０１を連続的に反復使用することが可能である。
【００３８】
特に、この例では、マグネトロン１０２を配備した空間Ｖ３と反射板１０４を配備した側の空間Ｖ１とが連絡口１１５を介して連絡されており、給気口１１２と連絡口１１５および排気口１１４を介して流通する外気によってマグネトロン１０２が直接的に空冷されるので、マグネトロン１０２の温度上昇を防止する効果が高い。
【００３９】
更に、テーブル１０３は加熱用のヒーター１０７によって独立的に温度を制御されるので、ＳｎＯ２を塗布したり蓄熱型熱源体を併設したテーブルとは相違し、加熱調理用のマイクロ波によって加熱されるものではないので、調理装置１０１を連続的に反復使用してもテーブル１０３の温度が過剰に上昇するといった問題が発生しない。
【実施例１】
【００４０】
図２は本発明を適用した一実施例の調理装置１の具体的な構造について示した透視図である。
【００４１】
調理装置１の外装を構成する筐体２の内部は、マイクロ波を反射する金属板３，４によって中央部の調理室５と左右両側に位置する電気部品室６および貯水タンク室７とに分割されている。
そして、中央部の調理室７は更に遮蔽板８によって上下に分割され、上方側の空間Ｖ１にはモータＭ１で駆動される回転式の反射板９が設けられる一方、下方側の空間Ｖ２には、調理対象物１０を載置するためのテーブル１１が略水平な状態で配備されている。
【００４２】
筐体２の手前側の面には、テーブル１１を引き出すための矩形状の開口部１２が設けられ、調理室５の下方側の空間Ｖ２内でガイドレール１３によって略水平に保持されたテーブル１１の引き出し操作を許容している。テーブル１１は調理対象物１０を載置したままの状態で出し入れされるものであるから、開口部１２の上下幅は、テーブル１１に載置される調理対象物１０や後述のインナーカバー３１の高さに応じて設計されている。
【００４３】
マイクロ波の発生源となるマグネトロン１４は、調理室５の上方側の空間Ｖ１と隣接するかたちで筐体２の電気部品室６内に配備される。マグネトロン１４は、電気部品室６と空間Ｖ１とを仕切る金属板３に穿設されたスリット付きの連絡口１５を介して空間Ｖ１内にマイクロ波を照射し、回転式の反射板９がマイクロ波を反射して、空間Ｖ２内に設置されているテーブル１１の上面に遮蔽板８を介してマイクロ波を満遍なく照射する。
また、マグネトロン１４から照射されるマイクロ波の一部は、調理室５の上方側の空間Ｖ１の内壁を構成する金属板によっても反射され、このマイクロ波もテーブル１１の上面に照射される。
【００４４】
遮蔽板８は、マイクロ波の通過を許容して煙やオイルミスト等の霧状物質の通過を防止する遮蔽機能と、筐体２内の空間Ｖ２から筐体２内の空間Ｖ１への熱の逆行を抑制する断熱性とを兼ね備えたもので、テフロンや石英等によって構成される。
【００４５】
筐体２の電気部品室６内には調理装置１の各部を制御するための制御基板１６が配備され、電気部品室６の側面には、これらの電気部品やマグネトロン１４を冷却するための外気を取り込むために必要とされるスリット付きの給気口１７が設けられている。給気口１７から取り込まれた外気は、マグネトロン１４を配備した電気部品室６，電気部品室６と空間Ｖ１とを連絡する連絡口１５，空間Ｖ１，筐体２の上面に穿設されたスリット付きの排出口４８を経由して流通した後、この排出口４８の上方に設置されたファン１８によって外部に吸い出され、この過程で、制御基板１６やマグネトロン１４等の電気部品を強制的に空冷すると共に、電気部品室６や空間Ｖ１に溜まっている熱をも運び出す。
【００４６】
図３にテーブル１１の構造の一例を示す。テーブル１１の下面には、図４に示されるようにして電熱線２０を張り巡らせた加熱用のヒーター１９が一体に付設されている。
また、テーブル１１の引き出し側の端部には、テーブル１１に対して姿勢変化可能な開閉部材２１の一端がヒンジ２２を介して揺動自在に取り付けられ、更に、開閉部材２１の他端には、ヒンジ２３を介して操作ハンドル２４が揺動可能に取り付けられている。開閉部材２１の寸法および形状は筐体２における開口部１２の寸法および形状に合わせる。
【００４７】
図５はテーブル１１が筐体２の調理室５内に置かれているときの開閉部材２１と操作ハンドル２４の状態を示した側面図であり、この状態で、テーブル１１が遮蔽板８の直下に位置し、筐体２の開口部１２が開閉部材２１によって塞がれるようになっている。
また、図６は調理室５からテーブル１１を引き出したときの開閉部材２１と操作ハンドル２４の状態を示した側面図である。
開閉部材２１はテーブル１１に対して図５の状態から時計方向に９０°の範囲で回転可能とされ、また、操作ハンドル２４は開閉部材２１に対して図５の状態から反時計方向に９０°の範囲で回転可能とされている。そして、少なくとも、開閉部材２１とテーブル１１との間には、図５の揺動限界位置を保持するための一時固定手段がクリックストップもしくは支点越えバネ等によって設けられ、開閉部材２１によって筐体２の開口部１２が塞がれた状態が維持され得るようになっている。
これに対し、図６のようにしてテーブル１１を引き出し、開閉部材２１を時計方向の揺動限度に揺動させると共に操作ハンドル２４を反時計方向の揺動限度にまで揺動させた状態においては、開閉部材２１と操作ハンドル２４とがテーブル１１に対して略同一面となる。
【００４８】
また、筐体２内の空間Ｖ２におけるテーブル１１の上方の中央位置には、テーブル１１上に水を滴下するためのノズル２５が配備され、筐体２の貯水タンク室７に装着された貯水タンク２６から、自動開閉弁２７，カプラー２８，給水パイプ２９および流量制御弁３０を介してノズル２５に水が供給されるようになっている。
【００４９】
流量制御弁３０はノズル２５から滴下される単位時間当たりの水の量を調整するためのもので、流路の断面積を調整するもの、あるいは、弁の開閉時間のデューティ比を制御して結果的に単位時間当たりの水の流量を調整するものによって構成され得る。
【００５０】
貯水タンク２６は貯水タンク室７に対して着脱自在とされており、貯水タンク室７から貯水タンク２６を取り外した状態では、自動開閉弁２７が閉じて貯水タンク２６からの水漏れを防止する。なお、符号４７は貯水タンク２６の着脱に際して利用されるハンドルである。
また、貯水タンク２６を貯水タンク室７に装着することによって貯水タンク２６側の自動開閉弁２７が貯水タンク室７側のカプラー２８に嵌合すると、自動開閉弁２７が開かれてノズル２５への水の供給が可能な状態となる。流量制御弁３０は開閉弁としての機能も備え、貯水タンク２６が貯水タンク室７に装着された状態においては、流量制御弁３０を閉じることでノズル２５からの水漏れを防止する。
【００５１】
インナーカバー３１はテーブル１１上に載置された調理対象物１０を簡略的に密閉するためのもので、マイクロ波の通過を許容する耐熱プラスチック等によって構成される。インナーカバー３１の中央部には、擂鉢状の凹部３２が形成され、更に、凹部３２の中央部に水通し穴３３が穿設されている。ノズル２５から滴下された水は凹部３２の水通し穴３３を通ってテーブル１１上に落下する。
【００５２】
インナーカバー３１は調理対象物１０を簡略的に密閉して水蒸気による蒸し効果を向上させるためのものに過ぎず、煙やオイルミスト等の霧状物質が水通し穴３３から調理室５に侵入することを防止する機能は備えていない。
【００５３】
図７に示されるように、制御基板１６にはマイクロプロセッサ３４や制御プログラム格納用のＲＯＭ３５およびバラメータ記憶用のＲＡＭ３６等を始めとする各種の電気部品が実装され、このマイクロプロセッサ３４が、筐体２の各部に設置された温度センサ群３７やドアスイッチ３８等からの信号を確認しつつ、ユーザーによって選択されたプログラムに従って、反射板９の駆動源であるモータＭ１やマグネトロン１４、更には、ファン１８やヒーター１９ならびに流量制御弁３０を駆動制御する。
【００５４】
ＲＯＭ３５には加熱，蒸す，焼くの処理操作を組み合わせた各種の調理を実現するために必要とされる目的別の制御プログラムが予め幾つか格納されており、ユーザーによるプログラムの選択操作や調理時間の設定操作は、筐体２の前面に設けられた操作盤３９を介して行われれる。
【００５５】
調理時間の設定に際してユーザーが入力したパラメータはインターフェイス４０を介してマイクロプロセッサ３４に読み込まれ、マイクロプロセッサ３４が当該パラメータをＲＡＭ３６に設定し、ユーザーによって選択された制御プログラムと各種のパラメータとに基いて、入出力回路４１およびドライバ４２〜４６を介して前記各制御対象を駆動制御する。
【００５６】
加熱調理に関わるマグネトロン１４およびモータＭ１のＯＮ／ＯＦＦタイミングや駆動時間、焼き上げ調理に関わるヒーター１９のＯＮ／ＯＦＦタイミングや駆動時間および駆動電力、蒸す調理に関わるヒーター１９のＯＮ／ＯＦＦタイミングや駆動時間および駆動電力と流量制御弁３０の開度調整は調理の種別によって様々に変化するが、ファン１８は、調理の種別に関わりなく調理装置１の作動中は定常的にＯＮの状態に保持される。ドアスイッチ３８は開閉部材２１の不用意な開放を検出するためのもので、このスイッチによって開閉部材２１の開放が検知された場合は、少なくとも、マグネトロン１４の作動が非常停止される。また、マグネトロン１４は其の周辺温度を検出する温度センサ群３７のセンサが設定値以上の温度を検出した場合にも強制的に停止される。
【００５７】
以上の構成において、調理対象物１０を調理する場合、ユーザーは、まず、テーブル１１の操作ハンドル２４を図５に示されるように把持して手前に引き、テーブル１１をガイドレール１３上で滑らせて開口部１２から引き出す。これにより、筐体２の開口部１２を塞いでいた開閉部材２１は筐体２から手前に大きく離間し、開口部１２を完全に開放することになる。
【００５８】
そして、テーブル１１が図２に示されるような引き出し限界位置にまで引き出されるとテーブル１１の移動が停止し、ユーザーの手による引っ張り力が其のまま操作ハンドル２４に作用し続ける結果、開閉部材２１がテーブル１１に対してヒンジ２２を中心に図５の時計方向に回転する一方、操作ハンドル２４は、開閉部材２１に対してヒンジ２３を中心に図５の反時計方向に回転する。この結果、開閉部材２１と操作ハンドル２４が図６に示されるようにしてテーブル１１に対して略同一面となる状態にまで展開される。これにより、テーブル１１上の調理対象物１０の出し入れに際して邪魔になる開閉部材２１がテーブル１１上から完全に退避させられる。
【００５９】
次いで、ユーザーは、生地完成状態にある調理対象物１０をテーブル１１の上に並べ、更に、其の上にインナーカバー３１を被せる。前述した通り、この状態ではテーブル１１は開閉部材２１および操作ハンドル２４を含めて完全にフラットな状態となっているので、調理対象物１０の出し入れは極めて容易であり、また、インナーカバー３１を被せる際にインナーカバー３１の端部が開閉部材２１や操作ハンドル２４に干渉するといった心配もなくなる。
【００６０】
その後、ユーザーはテーブル１１の操作ハンドル２４を把持してテーブル１１を押し込む。テーブル１１は調理室５に完全に押し込まれた状態で移動を停止し、ユーザーの手による押圧力が其のまま操作ハンドル２４に作用し続けるので、前記とは逆に、開閉部材２１がテーブル１１に対してヒンジ２２を中心に図６の反時計方向に回転する一方、操作ハンドル２４は、開閉部材２１に対してヒンジ２３を中心に図６の時計方向に回転する。この結果、開閉部材２１と操作ハンドル２４が図５に示されるようにして折り畳まれ、開閉部材２１が筐体２の開口部１２を塞ぎ、クリックストップもしくは支点越えバネ等によって構成される一時固定手段によって開閉部材２１の姿勢が閉鎖状態に保持される。また、ドアスイッチ３８が開閉部材２１の閉鎖を検知し、調理装置１の作動が許容される状態となる。
【００６１】
そして、ユーザーが操作盤３９を操作して調理目的に応じた制御プログラムを選択し、調理時間等のパラメータを設定すると、制御基板１６のマイクロプロセッサ３４はこのパラメータをＲＡＭ３６に格納して、マグネトロン１４，モータＭ１，ヒーター１９，流量制御弁３０等の駆動制御を開始する。
【００６２】
この実施例では調理装置１の連続的な反復使用を前提としており、リセット操作や再設定操作が行われない限り、制御プログラムの選択状況や各種パラメータの値はＲＡＭ３６に其のまま保持される。そして、半自動運転モードを選択した際には、ＲＡＭ３６に記憶された制御プログラムの選択状況や各種パラメータの値に基いて同様の調理工程が繰り返し実行されるようになっており、その場合には、開口部１２の閉鎖信号の立ち上がりをドアスイッチ３８が検出することによって、次の１サイクルの調理工程が自動的に起動される。
【００６３】
従って、初期設定の操作完了後、ユーザーに必要とされる作業は、テーブル１１の引き出し操作とインナーカバー３１の着脱操作および調理済みの調理対象物１０の取り出し操作、ならびに、生地完成の調理対象物１０の並べ替えとテーブル１１の押し込み操作のみである。
【００６４】
前述した通り、開口部１２の開閉とテーブル１１の引き出し操作および押し込み操作は実質的にワンタッチで実現され、また、テーブル１１を引き出した状態では開口部１２が完全に開放されると共にテーブル１１上からは調理対象物１０の出し入れの邪魔になる開閉部材２１や操作ハンドル２４が完全に退避させられるので、調理対象物１０の入れ替え所要時間は大幅に短縮され、調理装置１の連続的な反復使用で生じるサイクル間のロスタイムが軽減される。
つまり、開閉部材２１や操作ハンドル２４とテーブル１１との接合に際して図３のような構造を適用しているのは、開閉部材２１の開閉操作とテーブル１１の引き出し操作のワンタッチ化と、テーブル１１上の干渉物の排除を目的としたもので、この固有の構造によって、開閉および引き出し操作のワンタッチ化と調理対象物１０の並べ替え作業の高速化が達成されている。
【００６５】
調理対象物１０を入れ替えながら調理工程を連続的に反復して繰り返した場合、煙やオイルミスト等の霧状物質の発生量は調理装置１の運転時間に応じて積算的に増大し、これらの霧状物質がインナーカバー３１の水通し穴３３を通って調理室５の空間Ｖ２に侵入することになるが、回転式の反射板９を配備した筐体２内の空間Ｖ１と空間Ｖ２との間を遮蔽する遮蔽板８によって空間Ｖ１への霧状物質の侵入は完全に防止されるので、反射板９に汚れが付着することはなく、反射板９の汚れに起因するコールドスポットの発生の問題は確実に解消される。
また、このようにして空間Ｖ１への煙やオイルミスト等の侵入が確実に防止されるため、反射板９の周辺、つまり、清掃作業が困難な部分の内壁の汚れも未然に防止され、空間Ｖ１の内壁を利用したマイクロ波の反射効率が改善されてエネルギーロスが軽減される。
この際、テーブル１１を配備した空間Ｖ２には煙やオイルミスト等の霧状物質が付着するが、空間Ｖ２内には突起物は存在せず、遮蔽板８の表面も平坦であるから、当該部分の清掃作業は極めて容易であって、当該部分の汚れを簡単な清掃作業によって直ちに回復することが可能であり、遮蔽板８に汚れが蓄積することでマイクロ波の透過率が劣化するといった問題も発生しない。
【００６６】
また、遮蔽板８は、筐体２内の空間Ｖ２から筐体２内の空間Ｖ１への熱の逆行を抑制するので、マグネトロン１４への過剰な熱の伝播も防止され、マグネトロン１４の温度上昇で生じる異常を未然に防止して調理装置１を連続的に反復使用することができるようになる。
【００６７】
特に、本実施例においては、調理装置１の作動中に定常的にファン１８を駆動して電気部品室６に外部からの冷気を吸い込み、この冷気でマグネトロン１４や制御基板１６を直接的に冷却し、電気部品室６および反射板９を配備した筐体２内の空間Ｖ１内で温まった空気を排出口４８から強制的に外部に排出するようにしているので、マグネトロン１４の温度上昇で生じる異常や制御基板１６の温度上昇で生じる異常を確実に防止することができる。
【００６８】
また、テーブル１１は加熱用のヒーター１９によって独立的に温度を制御されるので、ＳｎＯ２を塗布したり蓄熱型熱源体を併設してマイクロ波の照射でテーブルを加熱する従来のものとは相違し、調理装置１を連続的に反復使用しても、マイクロ波のエネルギーの蓄積によってテーブル１１の温度が過剰に上昇する心配がなく、特に、連続的な反復使用に際して有利である。つまり、テーブル１１を加熱用のヒーター１９によって独立的に温度制御するのは、調理装置１の連続的な使用でテーブル１１や筐体２の温度が過剰となることを防止することを目的としたもので、その効果は、テーブル１１を設定温度に保持したまま調理装置１を連続的に使用できる点にある。
【００６９】
以上、一実施例として、筐体２の上面に排出口４８とファン１８とを設けファン１８によって筐体内の空間Ｖ１から空気を吸い出すことによってマグネトロン１４を配備した電気部品室６と回転式の反射板９を配備した筐体内の空間Ｖ１とを経由して外気を流通させる例について述べたが、これとは逆に、排出口４８上のファン１８をなくし、これに代えて、外気を圧送するためのファンを給気口１７の側に設け、このファンで電気部品室６に外気を送り込むことによって電気部品室６と筐体内の空間Ｖ１とを経由して外気を流通させるようにすることもできる。
また、電気部品室６と筐体内の空間Ｖ１とを連絡する連絡口１５を閉鎖し、空間Ｖ１の外壁を形成する筐体２の部分に給気口を穿設して前述の排出口４８とファン１８、もしくは、この給気口に配備した圧送式のファンによって筐体内の空間Ｖ１にのみ外気を流通させるようにしてもよい。
更には、筐体内の空間Ｖ１と電気部品室６の各々に独立した給気口と排出口とを設け、筐体内の空間Ｖ１と電気部品室６の夫々において、その給気口もしくは排気口の何れか一方に設けた圧送式のファンもしくは吸い出し式のファンによって、筐体内の空間Ｖ１と電気部品室６の各々に独立的に外気を流通させて冷却を行うようにすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明を適用した調理装置の実施の形態の一例について内部構造を簡略化して示した断面図である。
【図２】一実施例の調理装置の具体的な構造について示した透視図である。（実施例１）
【図３】同実施例の調理装置におけるテーブルの構造を示した斜視図である。（実施例１）
【図４】テーブルに付設された加熱用のヒーターの構造の概略を示した平面図である。（実施例１）
【図５】テーブルが筐体の調理室に置かれているときの開閉部材と操作ハンドルの状態を示した側面図である。（実施例１）
【図６】テーブルが筐体の調理室から引き出されたときの開閉部材と操作ハンドルの状態を示した側面図である。（実施例１）
【図７】同実施例の調理装置に実装された制御基板の概略について示した機能ブロック図である。（実施例１）
【符号の説明】
【００７１】
１  調理装置
２  筐体
３  金属板
４  金属板
５  調理室
６  電気部品室
７  貯水タンク室
８  遮蔽板
９  回転式の反射板
１０  調理対象物
１１  テーブル
１２  開口部
１３  ガイドレール
１４  マグネトロン
１５  連絡口
１６  制御基板
１７  給気口
１８  ファン
１９  ヒーター
２０  電熱線
２１  開閉部材
２２  ヒンジ
２３  ヒンジ
２４  操作ハンドル
２５  ノズル
２６  貯水タンク
２７  自動開閉弁
２８  カプラー
２９  給水パイプ
３０  流量制御弁
３１  インナーカバー
３２  凹部
３３  水通し穴
３４  マイクロプロセッサ
３５  ＲＯＭ
３６  ＲＡＭ
３７  温度センサ群
３８  ドアスイッチ
３９  操作盤
４０  インターフェイス
４１  入出力回路
４２〜４６  ドライバ
４７  ハンドル
４８  排出口
１０１  調理装置
１０２  マグネトロン
１０３  テーブル
１０４  反射板
１０５  筐体
１０６  遮蔽板
１０７  ヒーター
１０８  ノズル
１０９  貯水タンク
１１０  流量制御弁
１１１  調理対象物
１１２  給気口
１１３  ファン
１１４  排気口
１１５  連絡口
Ｖ１  回転式の反射板を配備した筐体内の空間
Ｖ２  調理対象物を載置するテーブルを配備した筐体内の空間
Ｍ１  モータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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