(57)【要約】【課題】  引き出し構造を採用することにより、メンテナンスを容易に行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】  ユニットベース４７をスライダ４９で進退自在にフレーム５１に対して支持させている。さらに、ユニットベース４７とフレーム５１との間を、伸縮自在の排気ダクト６７と、処理液配管と、排液配管とで連通接続してある。したがって、フレーム５１からユニットベース４７を自在に引き出すことができるので、メンテナンスを容易に行うことができる。その上、ユニットベース４７が機能するようにユニットベース４７とフレーム５１とを接続してあるので、ユニットベース４７を引き出した状態であってもユニットベース４７を通常通りに作動させることができる。【選択図】        図４
2005087944.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、
基板を回転自在に支持する回転支持手段と、基板に処理液を供給する処理液供給手段と、前記回転支持手段の周囲を囲うカップと、このカップで回収された処理液を回収するバットと、前記カップ内の気体を排気する排気通路とを内蔵しているユニットと、
前記ユニットを収容するフレームと、
前記フレームに対して前記ユニットを進退自在に支持する支持手段と、
前記ユニットの排気通路と前記フレームの排気部とを連通接続する伸縮自在の排気ダクトと、
前記ユニットの処理液供給手段と前記フレームの処理液供給部とを連通接続する伸縮自在の処理液配管と、
前記ユニットのバットと前記フレームの排液部とを連通接続する伸縮自在の排液配管と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記支持手段は、前記ユニットの外側面と前記フレームの内側面とに設けられた複数段繰り出し収納型のスライダであることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）等の基板に対して処理を施す基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、基板を支持するスピンチャックと、スピンチャックの周囲を囲う飛散防止カップと、基板に対して処理液を供給するノズルと、回転により飛散した処理液をダウンフローにのせて飛散防止カップ内から排気する排気口とをユニット内に備えたものが挙げられる（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
基板処理装置は要求される生産性の向上に伴い、一つの装置内に配設されるユニットの数が増加している。しかも、占有面積を極力増加させないという要求からも、ユニットの多段化が図られて装置内は高密度になっている。
【特許文献１】特開平１１−３３４６８号公報（図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、従来の装置は、多段化により高さ方向の空間が狭くなっていることに加え、ユニットが装置内に固定されているので、作業が極めてやりにくくメンテナンスが極めて煩雑である問題がある。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、引き出し構造を採用することにより、メンテナンスを容易に行うことができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって、基板を回転自在に支持する回転支持手段と、基板に処理液を供給する処理液供給手段と、前記回転支持手段の周囲を囲うカップと、このカップで回収された処理液を回収するバットと、前記カップ内の気体を排気する排気通路とを内蔵しているユニットと、前記ユニットを収容するフレームと、前記フレームに対して前記ユニットを進退自在に支持する支持手段と、前記ユニットの排気通路と前記フレームの排気部とを連通接続する伸縮自在の排気ダクトと、前記ユニットの処理液供給手段と前記フレームの処理液供給部とを連通接続する伸縮自在の処理液配管と、前記ユニットのバットと前記フレームの排液部とを連通接続する伸縮自在の排液配管と、を備えていることを特徴とするものである。
【０００７】
［作用・効果］回転支持手段と、処理液供給手段と、カップと、バットと、排気通路とを内蔵しているユニットを、進退自在に支持手段でフレームに対して支持させる。さらに、ユニットとフレームとの間を、伸縮自在の排気ダクトと、処理液配管と、排液配管とで連通接続してある。したがって、フレームからユニットを自在に引き出すことができるので、メンテナンスが容易にできる。その上、ユニットが機能するようにユニットとフレームとを接続してあるので、ユニットを引き出した状態であってもユニットを作動させることができる。
【０００８】
また、支持手段は、前記ユニットの外側面と前記フレームの内側面とに設けられた複数段繰り出し収納型のスライダであることが好ましい（請求項２）。側面に設けたスライダで進退自在にすることにより、フレームからほぼユニット全体を引き出すことができ、ユニットの全面にわたりメンテナンスが可能となる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明に係る基板処理装置によれば、ユニットを進退自在に支持手段でフレームに対して支持させる。さらに、ユニットとフレームとの間を、伸縮自在の排気ダクトと、処理液配管と、排液配管とで連通接続してある関係上、フレームからユニットを自在に引き出すことができるので、メンテナンスが容易にできる。その上、ユニットが機能するようにユニットとフレームとを接続してあるので、ユニットを引き出した状態であってもユニットを作動させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
図１は、本実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す縦断面図であり、図２は、図１の平面図である。また、図３は、図２の右側面図であり、図４は、図２の左側面図である。
【００１１】
この基板処理装置は、例えば、基板Ｗに対して現像処理を施す現像装置である。基板Ｗには、予めフォトレジスト被膜が被着されており、さらに所定パターンを焼き付けてある。その基板Ｗに処理液として現像液を供給し、さらにリンス液として純水を供給して現像処理を施すようになっている。また、この装置は、同じ装置または同類の装置を複数段積層して実装されるものであり、例えば、４０ｃｍから６０ｃｍ程度の高さを有する。
【００１２】
中央部には回転モータ１を備え、その回転軸３は、その上端部に吸引式スピンチャック５が嵌め付けられている。回転モータ１は、その周囲がカバー７で覆われている。
【００１３】
なお、上述した吸引式スピンチャック５が本発明における回転支持手段に相当する。本実施例装置では吸引式スピンチャック５としているが、これに代えて基板Ｗの端縁に当接して支持する、いわゆるメカチャックを採用してもよい。
【００１４】
カバー７の下部は、回転モータ１の下部周囲を覆うベース９の外周に取り付けられている。このベース９の下部周囲には、バット１１が設けられている。平皿状を呈するバット１１は、後述する現像液やリンス液等の処理液を回収するためのものである。バット１１は、この現像装置のユニットフレーム１３に取り付けられている。バット１１とユニットフレーム１３の一部位には、ユニットフレーム１３の下部に設けられた排出空間１５に連通する排液口１７が形成されている。
【００１５】
なお、排出空間１５は、本発明における排気通路に相当する。
【００１６】
バット１１の外縁部には、下部カップ１９が立設されている。この下部カップ１９は、筒状を呈し、回転モータ１を囲うように設けられている。その側壁には、離間して二カ所に排気口２１が形成されている。図１では、図示の関係上、排気口２１を一カ所のみ示している。
【００１７】
下部カップ１９の内周側には、やや離間して上部カップ２３が設けられている。この上部カップ２３は、図示しない昇降機構によって下部カップ１９に対して昇降自在に構成されている。なお、昇降高さは、図１及び図２中に実線で示す「待機位置」と、図１及び図２中に二点鎖線で示す「処理位置」である。
【００１８】
図１に示すように、下部カップ１９に隣接する位置（図１の左側）には、待機ポット２５が配置されている。この待機ポット２５は、処理液として現像液を供給するための二つの現像ノズル２７が待機可能に構成されている。待機ポット２５内には、現像ノズル２７の先端部を純水で洗浄するためのノズル洗浄部２９が配備されている。この現像ノズル２７は、現像処理にあたり、吸引式スピンチャック５を挟んだ反対側（図１の右側）にある待避ポット３１まで直線的に移動するように構成されている。
【００１９】
なお、現像ノズル２７が本発明における処理液供給手段に相当する。
【００２０】
待避ポット３１に隣接する外側には、一時貯留タンク３３が配設されている。この一時貯留タンク３３には、現像ノズル２７から現像液を供給した後に、基板Ｗに対してリンス液を供給するリンスノズル３５が待機している。リンス液とは、例えば、純水である。したがって、純水の品質が悪化しないように、一般的に純水の供給目的でなく廃棄目的とした「スローリーク」と呼ばれる動作が行われている。つまり、待機中にリンスノズル３５からリンス液を僅かな流量で一時貯留タンク３３に継続的に流すのである。これによりリンス液がリンスノズル３５内に滞留することがなく、リンス液の品質悪化が防止できる。
【００２１】
上述した排出空間１５は、上方への段差及び上部に向かうに従って高くなる傾斜面を備えた分離機構３７と、分離機構３７から立設された接続筒３９と、接続筒３９の上部に接続された取付部４１とに連通接続されている。図１における分離機構３７の奥側には、液体排出口４３が設けられている。また、接続筒３９に隣接する側方（図１の左側）には、配線類をまとめて収納している配線取り出し部４５が設けられている（図２）。
【００２２】
上述した各構成は、本発明におけるユニットに相当するユニットベース４７に取り付けられている。ユニットベース４７は、その外側面に取り付けられたスライダ４９を介してフレーム５１の内側面に取り付けられている。
【００２３】
本発明の支持手段に相当するスライダ４９は、基端部５３と、先端部５５と、これらを進退自在に支持するとともに、自身を基端部に進退自在に取り付けられた中間部５７とを備えている。先端部５５はユニットベース４７の外側面に取り付けられ、基端部５３はユニットベース４７の内側面に取り付けられている。この構成により、ユニットベース４７は、備えている各構成とともにフレーム５１に対して進退自在に支持されている。また、収納時に、フレーム５１に設けられたカムフォロワ（図示省略）に対してユニットベース４７が荷重を預ける構成を採用し、ユニットベース４７が安定してフレーム５１に収納されるように構成されている。
【００２４】
ユニットベース４７に搭載された現像ノズル２７は、上部手前側（図２の下側）に配設された配管５９を通して現像液が供給される。この配管５９には、フレーム５１の右側面に配設された処理液配管６１を通して現像液が供給される。処理液配管６１は、フレーム５１の右側底面に形成された処理液供給部６３に連通接続され、処理液供給部６３から一旦奥側に向けられた後、上部に半円を描いて手前側に向けられている。処理液供給部６３からユニットベース４７の後部には、複数個の空洞片を屈曲自在に連結してなる連結誘導管６５が配設されている。上記の処理液配管６１は、他の配管とともに連結誘導管６５に挿通され、それらの長さは、ユニットベース４７がフレーム５１から手前側に引き出された状態であっても多少の余裕がある。なお、リンスノズル３５への純水供給系については現像液と同様の構成で供給可能であるので、その図示を省略してある。
【００２５】
上述した分離機構３７の接続筒３９に連通された取付部４１は、奥側に向けられた開口に排気ダクト６７の一端側が取り付けられている。その他端側は、フレーム５１の後部に設けられた排気部６９に連通接続されている。蛇腹構造を備えた排気ダクト６７は、ユニットベース４７がフレーム５１から手前側に引き出された状態であっても、蛇腹に多少の余裕がある長さに設定されている。排気部６９は、下面に導出管７１が設けられており、ここから図示しない排気経路を通してフレーム５１から排気を行う。
【００２６】
排気ダクト６７の左側には、配線取り出し部４５からフレーム５１の手前側に設けられた配線ターミナル７３にわたって連結誘導管７５が取り付けられている。この連結誘導管７５は、上述した連結誘導管６５と大きさや内径が異なるもののほぼ構造的には同様のものである。連結誘導管７５の長さは、ユニットベース４７がフレーム５１から手前側に引き出された状態であっても余裕がある程度である。連結誘導管７５は、配線ターミナル７３に連結され、ここから一旦奥側に向けられた後、上部に半円を描いて手前側に向けられている。
【００２７】
ユニットベース４７の下部に設けられた液体排出口４３は、フレーム５１の右手前側に設けられた排液部７７に、排液配管７９で連通接続されている。排液配管７９は、伸縮自在であって、ユニットベース４７がフレーム５１から手前側に引き出された場合でも、余裕がある長さに設定されている。具体的には、図２に示すように、排液部７７の奥側に接続された排液配管７９は、一旦奥側に向けて付設された後、弧を描いてフレーム５１の後端部に沿って直線的に付設され、次にユニットベース４７の液体排出口４３に連結されている。
【００２８】
このように、上述した基板処理装置では、ユニットベース４７をスライダ４９で進退自在にフレーム５１に対して支持させている。さらに、ユニットベース４７とフレーム５１との間を、伸縮自在の排気ダクト６７と、処理液配管６１と、排液配管７９とで連通接続してある。したがって、フレーム５１からユニットベース４７を自在に引き出すことができるので、メンテナンスを容易に行うことができる。その上、ユニットベース４７が機能するようにユニットベース４７とフレーム５１とを接続してあるので、ユニットベース４７を引き出した状態であってもユニットベース４７を通常通りに作動させることができる。したがって、引き出した状態でオペレータが目視しながらメンテナンスを行うことができ、より詳細なメンテナンスが可能である。
【００２９】
また、ユニットベース４７を側面に設けたスライダ４９で進退自在に支持させているので、ユニットベース４７の大半をフレーム５１から手前側に引き出すことができる。したがって、例えば、フレーム５１の底面に設けたリニアガイドによりユニットベース４７を進退自在に支持させる構成に比較して、ユニットベース４７のメンテナンスが容易に行える。
【００３０】
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００３１】
（１）上述した実施例では、現像装置を例に採って説明したが、本発明は現像装置に限定されるものではなく、例えば、塗布装置にも適用することができる。
【００３２】
（２）排気ダクト６７は、実施例のように蛇腹構造のものに限定されるのではなく、例えば、上述した排液配管７９と同様に、配管を単に湾曲させただけの構成を採用してもよい。
【００３３】
（３）連結誘導管６５，７５は、複数本の配線や配管を束ねて誘導するのに好適であるので採用しているが、数本の配線や配管だけである場合には、それらを介することなく余裕をもたせて湾曲させるだけでもよい。
【００３４】
（４）上記の実施例では、複数段の装置を積層するタイプの装置として説明したが、本発明はこれに限定されることなく、単体で基板処理装置として使用されるものにも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示す縦断面図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】図２の右側面図である。
【図４】図２の左側面図である。
【符号の説明】
【００３６】
Ｗ  …  基板
１  …  基板モータ
５  …  吸引式スピンチャック（回転支持手段）
１５  …  排出空間（排気通路）
１７  …  排液口
１９  …  下部カップ
２３  …  上部カップ
４７  …  ユニットベース（ユニット）
４９  …  スライダ（支持手段）
５１  …  フレーム
６１  …  処理液配管
６５  …  連結誘導管
７９  …  排液配管
【図１】
2005087944.tif 000003
【図２】
2005087944.tif 000004
【図３】
2005087944.tif 000005
【図４】
2005087944.tif 000006