(57)【要約】【課題】  基板にダウンフローを供給する気体吹出手段が薄型であっても、吹出面にわたって均一な風速の気体を吹出すことができるものを備えた基板処理装置を提供する。【解決手段】  吹出ユニット２２内に遮蔽板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃを備えることで、強制的に吹出ユニット２２内の圧力の不均一を解消し、調圧することができる。さらに、かかる遮蔽板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃによれば、従来のような大きな調圧スペースがなくても調圧することができる。このため、薄型化した吹出ユニット２２であっても、吹出面２４にわたって均一な風速の気体を吹出すことができる。よって、このような吹出ユニット２２を備えた基板処理装置を提供することができる。【選択図】        図３
2005093794.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
扁平な箱状体の中へ水平方向から導入した気体を、前記箱状体の下面にある吹出面を通じて下方に吹出す気体吹出手段と、
前記気体吹出手段の下方に配置され、被処理基板に所定の処理を行う基板処理部と
を備える基板処理装置において、
前記気体吹出手段は、前記箱状体内の気体の水平方向の流路断面積に変化を与える遮蔽部材を前記吹出面に対向するように前記箱状体内部に備えていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記遮蔽部材は、前記箱状体内の気体の流路を部分的に遮蔽することを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置において、
前記遮蔽部材は、気体の導入側から奥側に向けて、気体の流路を遮蔽する面積が徐々に大きくなることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記遮蔽部材は板状部材であることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の基板処理装置において、
前記板状部材は、気体の導入側から奥側にかけて、所定の間隔で複数枚配設されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記装置はさらに、前記気体吹出手段の吹出面に、ＵＬＰＡフィルタまたはケミカルフィルタを備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記装置はさらに、前記気体吹出手段に気体を圧送する空調ユニットと、
前記空調ユニットと前記気体吹出手段とを連通接続する送風管路と
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項７に記載の基板処理装置において、
前記気体吹出手段は、複数個の前記基板処理部のそれぞれに、搭載されており、
前記各気体吹出手段に連通接続される各送風管路は、集約されて前記空調ユニットに連通接続されることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板、液晶表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光ディスク用の基板（以下、単に基板と称する）に対して基板処理を行う基板処理装置に係り、特に、基板に対して気体を供給する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板に対して薬液処理、洗浄処理、熱処理等を適切に行うため、各処理の際に被処理基板に均一な風速のダウンフローが供給されることが望ましい。そのため、この種の装置において、各基板処理部の上方に気体を供給する吹出ユニットを併設して、基板処理ユニットが構成される場合が多い。この吹出ユニットは、側部に気体を導く導入孔と、下面に気体を吹出す吹出面とを備えている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
そして、気体を水平方向から導入し、下方に吹出すように構成される。水平方向から導入された気体は、吹出ユニットの内部空間の奥壁にぶつかって急激に下方へ流路が変えられるので、吹出ユニット内の圧力は不均一な状態になり、吹出される風速も吹出面にわたって不均一になる。そこで、吹出ユニット内の空間を十分大きくして、調圧することにより、かかる不具合を是正している。したがって、吹出ユニットの大きさは、基板処理に必要な吹出面積と、調圧するために必要な高さに応じたものとなる。なお、吹出面には、より清浄なダウンフローを供給するため、ＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air)フィルタ等が設置されることが多い。
【特許文献１】特開平１１−２１６３１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
近年、基板処理装置は、基板処理ユニットを積層することで処理能力向上に伴うフットプリントの増大を抑え、さらに各ユニットを薄型化してさらに多段に搭載することで高密度化を図る傾向にある。
【０００５】
ここで、各基板処理ユニット内に配設される吹出ユニットの高さは、基板処理ユニット全体の高さに比べて無視できるものではなく、例えば、基板処理ユニット全体の１割から２割を占めている。したがって、基板処理装置を高密度化する傾向のなかで、吹出ユニットも薄型化することが試みられている。また、吹出ユニットを、基板処理部に近接して配置することが検討されている。
【０００６】
しかし、吹出ユニットの高さを低くすると、導入した気体を調圧するスペースを確保できなくなる。それにより、吹出ユニット内の圧力が不均一のまま気体が吹出され、吹出面における吹出風速は不均一になってしまう。
【０００７】
図６は、従来技術に係る吹出ユニットの垂直断面図において、吹出風速の分布を示した模式図である。図６に示すように、吹出ユニット２２は、扁平な箱状態であって、その高さを低くしたものである。例えば、従来の吹出ユニットの高さが８０ｍｍであるところを２８ｍｍに低くしている。吹出ユニット２２の下面は開口であり、吹出面２４を構成している。また、側部に気体を導入するための導入孔２３を備えている。さらに、導入孔２３には、ダクト３１が連通接続されている。また、吹出ユニット２２の下部には、ＵＬＰＡフィルタ２７が設置されている。
【０００８】
図６に示す二点鎖線は、気体が導入孔２３を通じて吹出ユニット２２の内部に導入され、吹出面２４から下方に吹出される様子を表している。ここで二点鎖線の長さは、気体の風速の大きさを示している。すなわち、吹出風速の分布は、吹出ユニット２２の導入孔側２３と奥側との両端で大きく、中央部では一様に小さい。また、奥側では風速が急激に増大し、最大になっている。このように、吹出ユニット２２の高さを低くすると、吹出面２４にわたって均一な風速は得られなくなる。
【０００９】
さらに，このようなダウンフローが基板処理部に至るまでの距離が従来に比べ短いので，この間に風速の偏りを解消することもできず、不均一な風速のまま基板表面に到達してしまう。このように、薄型化した吹出ユニットを搭載した基板処理装置では、均一な風速の気体を基板に供給することができず、基板処理を適切に行うことができないといった問題がある。
【００１０】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、薄型の気体吹出手段であっても、吹出面にわたって均一な風速の気体を吹出すことができるものを備えた基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項1に記載の発明は、扁平な箱状体の中へ水平方向から導入した気体を、前記箱状体の下面にある吹出面を通じて下方に吹出す気体吹出手段と、前記気体吹出手段の下方に配置され、被処理基板に所定の処理を行う基板処理部とを備える基板処理装置において、前記気体吹出手段は、前記箱状体内の気体の水平方向の流路断面積に変化を与える遮蔽部材を前記吹出面に対向するように前記箱状体内部に備えていることを特徴とするものである。
【００１２】
［作用・効果］気体吹出手段が遮蔽部材を備えることよって、箱状体内の気体の水平方向の流路断面積が変化し、気体の流れは強制的に乱される。これにより、気体吹出手段の導入側から奥側にかけて発生する圧力の不均一を緩和し、解消することができる。なお、遮蔽部材によって強制的に調圧するので、従来のように大きな調圧スペースを確保する必要はない。すなわち、気体吹出手段が薄型であっても、吹出面にわたって均一な風速の気体を吹出すことができる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記遮蔽部材は、前記箱状体内の気体の流路を部分的に遮蔽することを特徴とするものである。
【００１４】
［作用・効果］請求項２に記載の発明によれば、箱状体内の気体の流路を遮蔽部材によって部分的に遮蔽することにより、効果的に圧力をほぼ均一にすることができる。
【００１５】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の基板処理装置において、前記遮蔽部材は、気体の導入側から奥側に向けて、気体の流路を遮蔽する面積が徐々に大きくなることを特徴とするものである。
【００１６】
［作用・効果］遮蔽部材を用いない場合には、気体の吹出風速は、気体の導入側から奥側にかけて徐々に増加する傾向があることがわかった。これに対し、請求項３に記載の発明によれば、吹出し風速の大きい奥側の遮蔽面積を大きくし、水平方向の流路断面積を抑えることで、効果的に圧力の不均一を解消することができる。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項１から３のいずれかに記載の基板処理装置において、前記遮蔽部材は板状部材であることを特徴とするものである。
【００１８】
［作用・効果］請求項４に記載の発明によれば、簡単な構造とすることができ、安価に製作することができる。
【００１９】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の基板処理装置において、前記板状部材は、気体の導入側から奥側にかけて、所定の間隔で複数枚配設されることを特徴とするものである。
【００２０】
［作用・効果］請求項５に記載の発明によれば、強制的に導入された気体の流れを複数箇所で乱すことによって、より均一に調圧することができる。
【００２１】
請求項６に記載の発明は、請求項１から５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記装置はさらに、前記気体吹出手段の吹出面に、ＵＬＰＡフィルタまたはケミカルフィルタを備えることを特徴とするものである。
【００２２】
［作用・効果］請求項６に記載の発明によれば、さらに、ＵＬＰＡフィルタまたは有機物・アニオン・カチオン除去用のケミカルフィルタを取り付けることにより、乾燥用の気体に含まれる恐れのある、基板に悪影響を及ぼすパーティクル等を除去することができる。したがって、より清浄に基板を処理することができる。
【００２３】
請求項７に記載の発明は、請求項１から６のいずれかに記載の基板処理装置において、前記装置はさらに、前記気体吹出手段に気体を圧送する空調ユニットと、前記空調ユニットと前記気体吹出手段とを連通接続する送風管路とを備えることを特徴とするものである。
【００２４】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の基板処理装置において、前記気体吹出手段は、複数個の前記基板処理部のそれぞれに、搭載されており、前記各気体吹出手段に連通接続される各送風管路は、集約されて前記空調ユニットに連通接続されることを特徴とするものである。
【００２５】
［作用・効果］請求項８に記載の発明によれば、さらに送風管路のスペースを縮小することができる。したがって、基板処理装置をさらに高密度化することができる。
【発明の効果】
【００２６】
この発明に係る基板処理装置によれば、従来に比べて薄型化した気体吹出手段でありながら、吹出面にわたって均一な風速の気体を吹出すことができる気体吹出手段を備えるものである。そのため、かかる薄型の気体吹出手段を備えた基板処理装置であっても、基板処理を好適に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
【００２８】
図１は、本発明の一実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図である。また、図２は、基板処理装置の概略構成を示した垂直断面図である。
【００２９】
この基板処理装置は、半導体ウエハなどの基板Ｗに薬液処理、熱処理等を行う装置であり、大きく分けて、基板保管部１、処理ユニット部２、及びインターフェイス部３とから構成される。
【００３０】
基板保管部１は、載置台４と第１搬送機構５とを備えている。載置台４には、複数枚の基板Wを多段に収納した複数個のカセットCが並べて載置される。第１搬送機構５は、載置台４に沿って移動可能に構成されている。第1搬送機構５は、基板Ｗを水平姿勢で保持する支持アーム５ａを備え、この支持アーム５ａを昇降および前後移動させることにより、カセットＣに対して基板Ｗを出し入れする。また、処理ユニット部２内に配置される第２搬送機構６に対して基板Ｗの受け渡しを行う。
【００３１】
処理ユニット部２は、このほか、第２搬送機構６が移動するための搬送路７、及びレジスト塗布処理ユニットや現像処理ユニット、加熱処理ユニットや冷却処理ユニット等を備えている。ここで、これら各処理ユニットについては、以後の説明において、特に明示しない限り、基板処理ユニット１０と総称することとする。また、図１，図２においても同符号を付して示している。搬送路７は、第１搬送機構５の搬送路に直交するように、処理ユニット部２の中央部に設けられている。また、基板処理ユニット１０は、搬送路７の両側に、多段に積層して配備されている。そして、複数の基板Ｗに対して所定の処理を並行して行う。第２搬送機構６は、基板Ｗを水平姿勢で保持する支持アーム６ａを備え、この支持アーム６ａを昇降・旋回および前後移動させることにより、第１搬送機構５に対する基板の受け渡しのほか、これら基板処理ユニット１０に対して基板Ｗの搬出入を行う。また、インターフェイス部３に対して基板Ｗの受け渡しを行う。
【００３２】
インターフェイス部３は、処理ユニット部２の、基板保管部１と反対側の側面に付設されている。また、図示しない基板受け渡し機構を備えている。これにより、第２搬送機構６に対する基板Ｗの受け渡しのほか、本基板処理装置に並設される図示しない露光装置に対して基板Ｗの受け渡しを行う。
【００３３】
次に、基板処理ユニット１０について詳しく説明する。ここで、レジスト塗布処理ユニット１０ａを例に挙げて、具体的に説明する。
【００３４】
図３を参照する。図３は、レジスト塗布処理ユニット１０ａの概略構成を示した垂直断面図である。
【００３５】
レジスト塗布処理ユニット１０ａは、大きく分けて、塗付処理部１１と気体供給部２１とから構成される。
【００３６】
塗付処理部１１は、基板Ｗを保持する基板保持部１２と、基板保持部１２を回転駆動するモータ１３と、基板Ｗからの処理液の飛散を防止するためのカップ１４を備えている。カップ１４の下面には排気管路１５が形成されている。さらに、基板Ｗにレジスト液を供給するため等の、図示しない種々の部品が配設されている。
【００３７】
気体供給部２１は、基板Ｗに気体を流下させる吹出ユニット２２と、気体中の微細なパーティクルを除去するＵＬＰＡフィルタ２７とを備えている。
【００３８】
図４を、併せて参照する。図４は吹出ユニット２２の平面図である。
【００３９】
吹出ユニット２２は、扁平な箱状体であって、その下面は開口して吹出面２４を構成している。また、側部に気体を導入するための導入孔２３を備えている。吹出ユニット２２の内部には板状部材からなる邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃが、吹出面２４に対向するように配設されている。邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃは、吹出ユニット２２内の気体の水平方向の流れと交差する（例えば、直交する）ように、流路に沿って間隔を置いて３枚配設されている。これら邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃは、吹出ユニット２２内の上面に接するように取り付けられ、導入孔２３側から奥側にかけて徐々に高さを高くしている。これらの邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃによって、導入された気体の水平方向の流路断面積に変化を与える、具体的には気体の流路を部分的に遮蔽するようになっている。
【００４０】
また、吹出ユニット２２の下部には、ＵＬＰＡフィルタ２７が取り付けられている。
【００４１】
一方、装置全体から見た各吹出ユニット２２へ気体を供給する構成は、次のようになっている。図２を参照する。各吹出ユニット２２の導入孔２３に、気体を供給するためのダクト３１が、それぞれ連通接続されている。各ダクト３１の他端部は、より大きなメインダクト３２に連通接続されている。このメインダクト３２は、各ダクト３１を集約しながら、垂直に立ち上げられ、基板処理装置の上部に設置される空調ユニット３３に連通接続されている。
【００４２】
なお、本実施例において、吹出ユニット２２はこの発明における気体吹出手段に、レジスト塗布処理ユニット１０ａはこの発明における基板処理部にそれぞれ相当する。また、邪魔板２５Ａ，２５Ｂ，２５Ｃはこの発明における遮蔽部材としての板状部材に、ダクト３１及びメインダクト３２はこの発明における送風管路にそれぞれ相当する。
【００４３】
次に、上記の構成を有する基板処理装置の動作を説明する。気体（本実施例では空気）は、空調ユニット３３より圧送され、メインダクト３２、ダクト３１を通じて、各吹出ユニット２２に供給される。吹出ユニット２２内に流入した気体は、一部が邪魔板２５Ａによって水平方向の流れを遮断され、進行方向を変えられ、強制的に気流が乱れる。このようななか、気体の一部は邪魔板２５Ａの下側の隙間を通じて奥側へ流れ込み、より大きな邪魔板２５Ｂによって再び乱流となる。このように、強制的に気流を乱しながら、なお奥側へと進むことで、水平方向の圧力の不均一は緩和され、やがて解消される。したがって、吹出ユニット２２の下面である吹出面２４からは、均一な吹出風速の気体が吹出される。吹出された気体は、ＵＬＰＡフィルタ２７を通じて後、基板Ｗ表面に流下し、カップ１４に設けられた排気管路１５から排出される。なお、図３に示す二点鎖線は、気体の流れる方向を示している。
【００４４】
以上より、吹出ユニット２２に邪魔板２５Ａ，２５Ｂ、２５Ｃを備えることにより、供給された気体を強制的に調圧することができるので、吹出面２４にわたって均一な風速の気体を吹出すことができる。また、吹出ユニット２２が従来のような調圧スペースを確保する必要がなくなったため、吹出ユニット２２が薄型であるとないにかかわらず、同様に均一な風速のダウンフローを得ることができる。
【００４５】
＜本発明と従来技術との比較＞
一例として、邪魔板の有無によって吹出風速がどのように変わるかについて検証した結果を表１，２に示す。表１は、邪魔板を有しない吹出ユニットの吹出風速の測定結果を示した表であり、表２は、邪魔板を有する吹出ユニットの場合のものである。
【００４６】
吹出ユニット内の有効高さは２８ｍｍであり、その下にＵＬＰＡフィルタが設置されている。表中に示した吹出風速（ｍ／ｓ）の値は、ＵＬＰＡフィルタ下面において測定されたものである。また、吹出面を４２ブロックに分割し、各ブロックの中心点で測定している。導入孔側から奥側にかけては７分割し、表中において、それぞれのブロックを導入孔側から順にＡ〜Ｇで示している。また、幅方向は、６分割し、それぞれ１〜６としている。
【００４７】
表２に対応する吹出ユニットには、３枚の邪魔板を備えている。全ての邪魔板は、吹出ユニット内部の上面に接するように取り付けられており、気体の水平方向の流路を邪魔板の下側に残している。邪魔板の高さは、導入口側から奥側に向かって、それぞれ１５ｍｍ、２０ｍｍ、２５ｍｍとしている。
【００４８】
表１をみると、邪魔板を設けない場合は、吹出風速は吹出ユニットの導入孔側（表１のＡ列）でやや大きくなっているが、全体的には奥側にかけて大きくなっていることがわかる。そして、最も奥側（同Ｇ列）の吹出風速が、最大になっており、中央部（同Ｃ、Ｄ、Ｅ列）の約３倍に達している。なお、平均風速は、０．２２０ｍ／ｓであった。
【００４９】
【表１】
2005093794.tif 000003
【００５０】
一方、表２をみると、吹出ユニットの中央部に風速が大きいポイントが２箇所（表２のＢ列、Ｄ列）あり、端部にかけて風速は小さくなっていることがわかる。なお、平均風速は、０．２３５ｍ／ｓであった。
【００５１】
【表２】
2005093794.tif 000004
【００５２】
表１、表２を比較すると、吹出風速が０．２０ｍ／ｓ〜０．２５ｍ／ｓであるポイントは、邪魔板がない場合では１０ポイントしかないのに対し、邪魔板を有する場合は２２ポイントもある。また、吹出風速が０．１５ｍ／ｓ未満または、０．３５ｍ／ｓより大きいポイントは、邪魔板がない場合では１５ポイントもあるのに対し、邪魔板を有する場合は３ポイントしかない。
【００５３】
このように、邪魔板を有する場合には、平均風速に近い吹出風速となったポイント数は、全体の半分以上に達し、邪魔板を有しない場合の２倍以上である。また、平均風速と大きく異なる風速となったポイント数は、邪魔板を有しない場合に比べて著しく少なく、全体の1割に満たない。
【００５４】
よって、表１、表２より、遮蔽部材を有しない吹出ユニットでは、吹出風速が不均一になること、及び邪魔板を設けた吹出ユニットとすることで、吹出風速の不均一が改善され、吹出面にわたってほぼ均一な風速の気体を吹出すことができることが確認される。
【００５５】
また、この結果より、吹出ユニットの有効高さを２８ｍｍにまで低くすると、従来のように気体の自然な流れに任せて調圧作用が働くことを期待できないことが確認できる。従来の吹出ユニットの高さは、これに比べて高いものであり、例えば、８０ｍｍであった。そうすると、従来の高さの約１／３にまで薄型化した吹出ユニットでありながら、邪魔板を備えることにより、吹出面にわたってほぼ均一な風速の気体を吹出すことができると言える。
【００５６】
また、上述したように、邪魔板等の遮蔽部材を備えていない場合は、導入孔側から奥側にかけて風速が大きくなる傾向がある。このような場合には、導入孔側から奥側に行くにしたがって、邪魔板等の遮蔽部材の遮蔽面積を大きくすることで、効果的に吹出風速を均一化できる。
【００５７】
さらに、この実験において、遮蔽板を備える吹出ユニットの方が、吹出面からの総風量が大きく、全体の圧力損失が低くなる結果が得られた。したがって、吹出ユニットに遮蔽部材を備えることにより、節電効果、または省エネ効果を生じ得ると言える。
【００５８】
次に、本実施例のその他の効果を以下に列挙する。まず、実施例に示す薄型化した吹出ユニット２２を用いれば、基板処理ユニット１０も薄型化することができる。例えば、基板処理部１１の改良を伴って、６００ｍｍから４００ｍｍに縮められる。
【００５９】
さらに、このようにして薄型化した基板処理ユニット１０であれば、より多くの積層することができ、例えば、４段から６段に積層することも可能である。したがって、基板処理装置の高密度化に寄与する。
【００６０】
また、邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃであれば、安価に製作でき、簡単な構造とすることができる。ここで、取り付け方法は、固定できればよく、例えば、螺子止めや溶接等でもかまわない。本実施例では、長孔を形成した邪魔板２５Ａ、２５Ｂ，２５Ｃと、吹出ユニット２２の上面に形成した、図示しない止め板とをボルトにより接合している。これにより、邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃに形成された長孔の分だけ、邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃの高さを伸縮自在に調整できるようにしている。
【００６１】
一方、吹出ユニット２２の下部にＵＬＰＡフィルタ２７を備えることにより、気体に含まれる微細なパーティクルを除去することができ、清浄な気体を基板に流下させることができる。
【００６２】
また、メインダクト３２を用いて各ダクト３１を集約することにより、ダクトスペースも縮小することができ、基板処理装置の高密度化に寄与する。
【００６３】
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００６４】
（１）遮蔽部材として邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃを用いているが、ブロック等、気流の障害となるものであればよい。また、邪魔板であっても、パンチングメタル等で代用してもよい。
【００６５】
図５を参照する。図５は、ブロックを遮蔽部材として用いた変形例に係る吹出ユニットの概略構成を示した垂直断面図である。図５に示すように、断面３角形状のブロック部材２５Ｄが吹出ユニット２２内の上部に配置される。このブロック部材２５Ｄにより、気体の水平方向の流路断面積が、導入孔２３から奥側に向けて、徐々に小さくなっている。これにより、気体の流路が奥側に向かって次第に遮蔽されるので、気流の一部が、進行方向を水平から下方へと変えられたり、または乱流となる。このようにして、吹出ユニット２２内の圧力の不均一を緩和し、解消することができる。
【００６６】
（２）邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃとして３枚使用しているが、１枚でも、複数枚でもよい。また、複数枚の邪魔板を使用するときに、サイズは奥に行くほど大きなものとする必要はなく、吹出ユニット２２の形状や導入孔２３の数、または使用する気体の特性等に応じて任意に選択できる。
【００６７】
（３）邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃは垂直に設置されていたが、これに限られず、傾斜姿勢、または水平姿勢で設置されるものでもよい。また、邪魔板２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃは吹出ユニット２２の上面に接するように取り付けられているが、これに限られない。例えば、吹出ユニット２２の下面に接するように取り付けて、邪魔板の上方を気体の流路として残してもよい。
【００６８】
（４）吹出ユニット２２の下部にＵＬＰＡフィルタ２７を備えているが、清浄な気体が供給できれば、備える必要はない。また、ＵＬＰＡフィルタに替えて、ケミカルフィルタとしてもよい。ケミカルフィルタであれば、有機物・アニオン・カチオンなどの除去が可能となる。
【００６９】
（５）ダクト３１、またはメインダクト３２は、特に詳細に説明していないが、気体の流量を調整するダンパーを適宜設けてもよい。これにより、並行処理が行われる各基板処理ユニット１０のうち必要な基板Ｗにのみ、気体を供給することができる。また、気体を適切な流量で供給することができる。
【００７０】
（６）空調ユニット３３は、特に詳細に説明していないが、圧送する気体の清浄化、温度、湿度を管理する機能を有していてもよい。また、圧送する気体も、クリーンルームエアのほか、不活性ガス等、基板処理に適切な気体でよい。さらには、空調ユニット３３自体を基板処理装置に備える必要はない。
【００７１】
（７）基板処理ユニットとして、レジスト塗布処理ユニット１０ａを例に挙げて説明したが、当然これに限られず、現像処理ユニット、洗浄処理ユニット、熱処理ユニット等であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図である。
【図２】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した垂直断面図である。
【図３】レジスト塗布処理ユニットの概略構成を示した垂直断面図である。
【図４】吹出ユニットの概略構成を示した平面図である。
【図５】変形例に係る吹出ユニットの概略構成を示した垂直断面図である。
【図６】従来技術に係る吹出ユニットの垂直断面図において、吹出風速の分布を示した模式図である。
【符号の説明】
【００７３】
１１  …塗布処理部
２２  …吹出ユニット
２４  …吹出面
２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃ  …邪魔板
２７  …ＵＬＰＡフィルタ
３１  …ダクト
３２  …メインダクト
３３  …空調ユニット
Ｗ  …基板
【図１】
2005093794.tif 000005
【図２】
2005093794.tif 000006
【図３】
2005093794.tif 000007
【図４】
2005093794.tif 000008
【図５】
2005093794.tif 000009
【図６】
2005093794.tif 000010