(57)【要約】【課題】特定のセキュリテイ方面に採用されるホログラムの相対的な個別化を許すと共にデータおよびドキュメントを最大限に保護すると同時に基準ホログラムの連続生産をコストダウンする。【解決手段】回折構造を有するマスターを製造する第１のステップと、前記第１のステップ以降で、前記光学的可変素子を製造するステップのうち、一連の前記データキャリアまたは一連の前記データキャリアのサブセットが個別化されるように、前記回折構造で表される前記基準情報の外観が不可逆的に変更されるステップとを含む。【選択図】図１
2005125802.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
識別カード、バリューを持つペーパ等の一連のデータキャリアの製造方法において、
個々の前記データキャリアは、視覚的に認識可能な基準情報を表す回折構造からなる多層構造の光学的可変素子を備え、
前記回折構造を有するマスターを製造する第１のステップと、
前記第１のステップ以降の前記光学的可変素子を製造するステップのうち、一連の前記データキャリアまたは一連の前記データキャリアのサブセットが個別化されるように、前記回折構造で表される前記基準情報の外観を不可逆的に変更する第２のステップと、
を含むことを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
前記基準情報の外観を変更する前記第２のステップは、発光性物質の供給、前記光学的可変素子の一つの層の局部的な変色、前記回折構造の局部的な破壊、前記光学的可変素子の表面領域における変更のうち、少なくとも一つの処理を含むことを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の方法において、
前記光学的可変素子は、反射特性を有することを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法において、
前記光学的可変素子は、エンボス化したトランスファーホログラムとして製造され、前記変更は、トランスファーバンドの製造時および／または前記データキャリアへのトランスファー時に行われることを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項５】
請求項４記載の方法において、
前記変更は、前記トランスファーバンドの製造時に英数文字、パターン、または、機械コードの形式を有する接着層によって行われ、前記データキャリアへ前記光学的可変素子のトランスファー時に、前記接着層のエリアが前記データキャリアにトランスファーされることを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項６】
請求項４記載の方法において、
前記変更は、トランスファーダイによって行われ、前記データキャリアへの前記光学的可変素子のトランスファー時に、前記トランスファーダイの前記光学的可変素子に対する接触エリアが前記データキャリアにトランスファーされることを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法において、
前記データキャリアには、スチール陰刻プリントによりプリントイメージがプリントされ、前記プリントイメージにおける頂部にのみ前記回折構造が形成されることを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法において、
前記データキャリアには、スチール陰刻プリントによりプリントイメージがプリントされ、透過光により前記データキャリアを見る際、前記プリントイメージと前記回折構造とを組み合わせた外観が得られるよう、前記プリントイメージが形成される前記データキャリアの面と反対側の面に前記回折構造が設けられることを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法において、
前記光学的可変素子を設けた後、前記光学的可変素子における少なくとも１つの層が局部的に変色するように、前記データキャリアの前記回折構造のエリアをレーザにて処理することを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法において、
前記光学的可変素子を構成する層は、レーザによって局部的に除去されるとともに、前記データキャリアに隣接する層のうちの１つが前記除去された層の部分で変形され、有形のマイクロレリーフが生成されることを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法において、
前記光学的可変素子における少なくとも１つの層が、穿孔、パンチ、型彫り、または貫通されることを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【請求項１２】
複数の層を有する一連の光学的可変素子をデータキャリアへトランスファーするためのトランスファーバンドの製造方法において、
前記光学的可変素子は、視覚的に認識可能な基準情報を表す回折構造を備え、
前記回折構造を有するマスターを製造する第１のステップと、
前記第１のステップ以降の前記トランスファーバンドを製造するステップのうち、一連の前記光学的可変素子または一連の前記光学的可変素子のサブセットが個別化されるように、前記回折構造で表される前記基準情報の外観を不可逆的に変更する第２のステップと、
を含むことを特徴とするトランスファーバンドの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の方法において、
前記基準情報の外観を変更する前記第２のステップは、発光性物質の供給、前記光学的可変素子の一つの層の局部的な変色、前記回折構造の局部的な破壊、前記光学的可変素子の表面領域における変更のうち、少なくとも一つの処理を含むことを特徴とするトランスファーバンドの製造方法。
【請求項１４】
請求項１２または１３記載の方法において、
前記回折構造は、マスターから成形されたダイプレートによりエンボス層にトランスファーされ、前記変更は、前記マスターからの前記ダイプレートの成形時に前記マスターの選択された表面エリアのみが前記ダイプレートにトランスファーされて行われることを特徴とするトランスファーバンドの製造方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の方法において、
前記ダイプレートにトランスファーされる前記マスターの前記表面エリアは、写真平版により設定されることを特徴とするトランスファーバンドの製造方法。
【請求項１６】
請求項１２または１３記載の方法において、
前記回折構造は、マスターから成形されたダイプレートにより前記エンボス層にトランスファーされ、前記変更は、前記回折構造の所定のエリアを化学的または機械的に除去または変化させることにより前記ダイプレート上に行われることを特徴とするトランスファーバンドの製造方法。
【請求項１７】
請求項１３記載の方法において、
前記光学的可変素子における層のうちの少なくとも一つの層の変色または前記回折構造の破壊は、レーザにて処理されることを特徴とするトランスファーバンドの製造方法。
【請求項１８】
請求項１２〜１７のいずれか１項に記載の方法において、
前記光学的可変素子の層構造は、局部的に完全に除去されることを特徴とするトランスファーバンドの製造方法。
【請求項１９】
請求項１２〜１８のいずれか１項に記載の方法において、
前記変更は、連続的な番号、または、バーコードを含む機械コードの形式により行われることを特徴とするトランスファーバンドの製造方法。
【請求項２０】
請求項１２〜１９のいずれか１項に記載の方法において、
前記トランスファーバンドには接着層が設けられ、前記接着層は、表面エリアを変更するパターンとして設けられることを特徴とするトランスファーバンドの製造方法。
【請求項２１】
視覚的に認識可能な基準情報を表す回折構造を有し、データキャリアに設けられる複数の層を有する一連の光学的可変素子の製造方法において、
前記回折構造を有するマスターを製造する第１のステップと、
前記第１のステップ以降のステップのうち、一連の前記光学的可変素子または一連の前記光学的可変素子のサブセットが個別化されるように、前記回折構造で表される前記基準情報の外観を不可逆的に変更する第２のステップと、
を含むことを特徴とする光学的可変素子の製造方法。
【請求項２２】
請求項２１記載の方法において、
前記基準情報の外観を変更する前記第２のステップは、発光性物質の供給、前記光学的可変素子の一つの層の局部的な変色、前記回折構造の局部的な破壊、前記光学的可変素子の表面領域における変更のうち、少なくとも一つの処理を含むことを特徴とする光学的可変素子の製造方法。
【請求項２３】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法によって製造された複数のデータキャリア。
【請求項２４】
請求項１２〜２０のいずれか１項に記載の方法によって製造されたトランスファーバンド。
【請求項２５】
請求項２１または２２記載の方法によって製造された複数の光学的可変素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一連のデータキャリア、特に識別カード、バリューを持つペーパー等から成っているシステムであって、前記システムに属するデータキャリアが基準情報を含む回折構造を表していることを特徴とするシステムに関し、またこのようなデータキャリアに関すると共にこれらを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
数十年の間にわたって光学的可変素子が各種の実施例で提案されている。これら素子は、視界および発光角度に応じて種々の光学的効果を示すという共通点がある。光学的可変素子のうちのある特定の種類は回折効果に基づいている。これは直線性のまたは構造化された回折グリッド、ホログラフィー記録、シネグラム等を含んでいる。
【０００３】
光学的可変素子は、非常にバラエティな分野に用いられており、例えば、広告や飾り付け等、更にデータキャリアを忠実に特徴づけるために用いられている。従来からこれらはかなり高い光学上の品質を備えているため、ホログラム、シネグラム、折グリッド等の使用がセキュリテイ分野、例えば、クレジットカード、識別カード、銀行券、セキュリティ・ドキュメント等において高まっている。これらの好評性が高いということは本質的に二つの環境による。第１に、このような素子は、人力的に分析可能な確実な主要点、即ち、製造および模造のために係る高い経費、技術利用度の低さおよび更に機能的助力を加えない明瞭な分析能力に対する従来からのセキュリテイ上の要求を満たしている。第２に、このような素子は、技術上の最新状態に基礎をおいているので、これらに対応した製品、モダンで、ハイテクなキャラクタを提供する。
【０００４】
特許文献およびセキュリテイ分野における実用上の応用領域において、このような素子は、種々のバージョンで今日まで知られている。
【０００５】
最初のホログラムの出現の後すぐに、識別カード、クレジットカード等を模造や偽造から保護してカードユーザのパーソナルデータを通例の写真フォームおよび／または書込むフォームのみならずカード上のホログラムにホログラフィー的に記憶する提案がなされた。従来のカードデータとホログラムに記憶されたデータとの間の比較は、その間の正確差を証明することを意図としている。多くの関連した公告の内、ドイツ特許第２５０１６０４号、同第２５１２５５０号および同第２５４５７９９号が一例として示されている。
【０００６】
従来のセキュリテイ哲学は、確実性のある特徴を高度なものにするための労力の消費を必要とされるが、この哲学は、本来必要な製造装置の持つ本来の所要値およびその低利用度に対して適用できる。それでもやはり、確実性のある特徴を多数形成することは、比較的高価な製造装置に対しても経済的である。
【０００７】
各種のホログラムにおいて、最初のホログラムの配設は比較的面倒で高価である。しかしながら、この“主要費用”の端数で複製品を製造することが可能である。
【０００８】
従って、このような実施例は欠点を生ずる。この理由は、ホログラムを非常に高価な技術装置で製造する必要があるだけでなく、個々の情報（パーソナルデータ）を持つ別々のホログラムをカード毎に製造する必要があるので、これらの個々のホログラム（ユニケート）を配設するための技術的な効果は常に割高である。そのコストは、その効果を製造装置に向けることによって最小に抑えることが可能である。これら好ましくない限界条件により、カード特定データをホログラフィー的に記憶したホログラムの利用は、経済的な観点から不合理である。
【０００９】
種々の技術は、データキャリアのあるいはホログラフィー基準エレメントの種類に応じて使用されている。本発明の完了に至るまでの権利を主張せずとも以下工程を説明可能である。
【００１０】
−適度の表面質を持った記録媒体例えば、プラスティック材上にホログラム構造を直接エンボスする工程。
【００１１】
−ペーパあるいはプラスティック表面を備えられる記録媒体、例えば、銀行券、バリューを持つペーパ、識別カード等の上に、中間キャリア上に設けられたホログラムをヒートシーリングあるいは接着する工程。
【００１２】
−中間キャリア上に設けられたホログラムを多層式記録媒体の内部にラミネートするかあるいは取着する工程。
【００１３】
−ペーパ製造工程中、ホログラフィー回折構造を備えた防護用ねじ山またはプランチェットをペーパに埋込む工程。
【００１４】
基準ホログラムを製造しそれをデータキャリアに取付けるための、今日最も頻繁に使用される方法は、識別カードにエンボス化されたホログラムを転送する工程である。 このため、製造工程および個別化手段について一例を挙げて本技術を参照ながら説明するものとする。方法によるステップは本質的にはマスターホログラムの製法、ホログラム・コピーの製造および製造後の製品の応用である。
【００１５】
マスターホログラムは通常非常に高価な装置を用いて手作業による単品製造法によって作製される。それゆえ、マスターホログラムはコスト高となる。ホログラム・コピーは高速で比較的低コストで自動的に製造可能であると共にカードのカバーホイルに適用可能である。このようなコスト構成により、最大数の同一コピーを作製することによってホログラム当りの所定コストを最小限に抑えるこころみが行なわれている。これにより、セキュリテイ分野、特にカード・ブランチでは、大量生産の必要性は偽造に対するホログラフィー的な保護に対して制限を導出してしまうことになる。
【００１６】
ホログラムの製造コストを低減するために、ホログラムは確実性を持った特徴により使用されるがホログラムに記憶されたデータはユーザに対して個別化されずカード発行者（基準ホログラム）に関する特性を表すような実施例が知られている。種々のカードシステムを構成するホログラムは互いに異なっているが、一システムを構成する個々のカードのホログラムは同一である。
【００１７】
カード・システム用に基準ホログラム（即ち、マスタホログラムの複写）を使用することによって、ホログラフィー記録技術に対する比較的高い所要コストを多数のカードに対して分散することが可能となった。連続カードの範囲に応じて、個々のホログラムの価格用に複写コストだけが実質的にブックに示されるような大きいピースナンバーに対して分散することが可能となる。このことにより、ホログラムがセキュリテイ分野において初めて経済的に大量生産される物品として可能になった。
【００１８】
エウロチェック・システム並びにＶＩＳＡおよびマスタカード用クレジットカードの既知の応用例のほかに、これら種々の応用の例がドイツ特許第３３０８８３１号およびヨーロッパ特許第００６４０６７号に示されている。
【００１９】
現在のクレジットカードシステムで使用されるホログラムは所謂“エンボス形ホログラム”として知られており、これはダイプレートによって再生可能となる。製造コストの主要部分はホログラフィー記録技術に係るが、連続製造でホログラムを再生するために計算すべきコストは依然高いので記録技術およびホログラムマスクの製造のための必要コストが非常に多数の連続した加工片間に対して割当て可能である場合だけ経済的生産が可能となる。小ロット、即ち数万から数十万のカードの生産は通常財政上若しくは経済的理由から不可能である。
【００２０】
一連続カード内で同種のホログラムを使用す時、一システムを構成するカードを別システムのカードと明確に異ならせる。しかしながら、このようなホログラムはパンチアウト可能であると共に他のカードに転送可能であるので、カードの偽造は完全に排除される。カードユーザに関するエンボス化されたデータを部分的にまたは完全にホログラム・エリアにシフトすることによってこのような取り扱いが更に困難になる問題が生ずる。しかし前記データは再エンボス化可能であることが知られているので、このような取り扱いは実際上しろうとでなくろうとだけに認識可能である。基準ホログラムのエリアにエンボス化されたカード特定データを入れることは他のカードへの転送に対してデータ保護を確実に行なうことはできない。
【００２１】
このような問題を回避すべく、オーストリア特許第３３４１１７号にはユーザに関連したカードの個別化に対する基準ホログラムの応用が開示されている。この開示によれば、カード個別化は、夫々が所定の固有の情報、例えば文字または番号を含み且つワード、マルチデジット数等を表わすいくつかの基準ホログラムを、一システムを構成する個々のカード上の夫々のコンビネーションを介して、組合せることによって可能となる。一組の標準プレスダイでこのようなホログラムをエンボス化することによっって、個々のホログラフィーカードデータを有するシンプルで安価な製品が得られる。
【００２２】
しかしながら、英数字データが主にこのような変体に適用され且つ特に画像データは容易に再生できないので、このようなホログラムの全体のインプレションは実質上非常に非効果的であり、この種の個別化は今日まで市場においてはあまり賛成されていない分けである。
【００２３】
ホログラムを使用してドキュメントを個別化するための別の変形例はドイツ特許第２５５５２１４号に開示されている。数値若しくは英数字形式の回折構造がドキュメントに適用されるという提案がなされている。熱可塑性インクがペーパ基板上に数字形式で印字された後、回折構造が大表面を持つダイでエンボス化される。
【００２４】
しかしながら、この種の変形例は多層タイプのホログラムには好ましくない。これは、回折構造が内部に配置され保護されるのでデータキャリアを製造するのに特に好ましい。
【００２５】
従来技術では、現在におけるセキュリテイ技術の必要性および経済的に合理化された解決策の実用化はまだ共通の基準を見出していない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２６】
このような一般的な観点および関連従来技術を考慮すると、本発明は、次の課題に基づいている。即ち、回折構造エレメント、特にホログラム変体およびこれらを製造する方法であり、この方法は特定のセキュリテイ方面に採用されるホログラムの相対的な個別化を許すと共にデータおよびドキュメントを最大限に保護すると同時に基準ホログラムの連続生産をコストダウンする利点を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００２７】
この問題点は、発明の主クレームの前文に述べた特徴によって解決される。改良点は、他の独立および従属クレームに記載されている。
【００２８】
本発明の本質は次の通りである。常にいくつかの個々のステップから成る、ホログラムまたはホログラムカード等の製造は適当な段階で中断され、連続生産に全く制限を生ぜずにまたは障害もなく種々の手段を選択的に区別化することによってその製品は変更または個人専用化される。変更が行なわれる生産ステップに応じて、非常に異なったホログラム実施態様が、同種のホログラムマスタの使用にもかかわらず最終製品（ホログラムカード）で得られる。個別化のスペクトラムは、小ロットにとって重要な基準ホログラムとは外見上異なる同種のホログラムのサブセット部分から、基準ホログラムを改造して適切なユニケートにする全個人専用化部分まで延在する。
【００２９】
ホログラムの製造は、ホログラフィー記録、連続した半製品、データキャリアへの結合または導入等の種々の技術を利用している。ホログラム製造を実施する際ある技術から他の技術に切替える方法ステップに対してもし個別化手段が適合すると、これらの手段は比較的に簡単に集積化されホログラム製造の連続性を可能にし、実際の製造工程およびその製造装置に何ら支障もなくこの処理を常に可能にする。
【００３０】
本発明の基本原理について、例えば、エンボス化ホログラムを参照して以下に説明する。このエンボス化ホログラムは、所謂“転送バンド”上に半製品として製造され且つ転送方法によって実データキャリアに転送される。マスタホログラム、基準ホログラム（複写）、保護すべきデータキャリアおよびデータキャリアへ転送されるホログラムの製造に必要な種々の技術的領域が、特に他の者とはっきりと区別される。しかしながら、容積ホログラム、シネグラム等を使用する際、アナログ的に本発明の基本的な考えを利用することも可能である。但し、常に可能ではないが可変範囲はエンボス化されたトランスファーホログラムで可能である。
【００３１】
本発明により提案された方法は、特に、単独で個別化されたホログラムおよび小ロットの同種ホログラムの両方に対する産業規模的製造における経済的な有利点をすべて利用可能にする。同時に、個別化手段を集積して製造工程化すると個別化を不可逆化させる。生産順序の障害タイプおよび種々の個別化手段の組合せのタイプに応じて、同じマスターで開始する多数種のエレメントを作製可能である。最後に上記方法は、標準化された半製品をあらかじめおよび後で製造することを可能にしおよび／または適用例の場合に準じて後に続く方法ステップで製造終了に至らせる。
【００３２】
更に、本発明の利点および特徴は図面および下記に例示された実施例により理解し得る。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、特定のセキュリテイ方面に採用されるホログラムの相対的な個別化を許すと共にデータおよびドキュメントを最大限に保護すると同時に基準ホログラムの連続生産をコストダウンさせることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
（エンボス化したトランスファーホログラムを製造するための方法）
第１図は、転送方法に基づくエンボス化したホログラムの製造およびそのデータキャリアへの利用における重要なステージを示しており、前記ステージは現在の技術状態では通例用いられている。
【００３５】
この方法は、下記の如く四つに分割される。
【００３６】
−エンボスマスターの製造工程（Ｐｏｓ．１，第１図）。
【００３７】
−同一のダイブレートのモールド化工程（Ｐｏｓ．２，第１図）。
【００３８】
−転送バンド上にホログラムをエンボス化する工程（Ｐｏｓ．３，第１図）。
【００３９】
−ホログラムを製品に転送する工程（Ｐｏｓ．４，第１図）。
【００４０】
個々の方法ステップは技術的に明らかに互いに異なっているので、これらは完全に異なった製造エリアで実施される。これらステップの複雑性により、これらは完全に分離された生産工場内でしばしば行なわれる。一つの生産エリアから他への移行は、中間製品が所定の半製品の形で存在する技術的な交差点で行なわれる。
【００４１】
第１図に示したこれら四つのステップの各々は技術的中心点を有する。従って、ステップ１ではエンボスマスターの製法、ホトグラフィまたはホログラフィ技術が主となる。このエリアでは、それは構造上、フィルムスタジオと比較できる。ホログラムはホログラフィ化すべきオブジェクト（対象物）であり、モデル（通常１：１のスケール）として製造される。フィルム材をホログラフィ的に露光してホログラム（フィルム）を異なったフィルム材上にコピーし現像等を行ないそして第１のエンボスマスタが生成される。このエンボスマスタ上には、ホログラムが、十分に滑らかで変形可能な材料で機械的型押によって複写可能である表面の細かいレリーフ構造体の形で存在する。レリーフ構造体がエンボスされると、これは高い機械加重を受けて高い摩耗を受けるので、通常、エンボスマスタ自身でなくそこから派生されるダイプレートを用いたホログラムを複製（再生）する。オリジナル（エンボスマスター）からのダイブレートの成形のみは限界内では繰返し得るので、これらは、所謂“サブマスター”または“サブ−サブマスター”等を介してマルチ・ステージ法で製造される。
【００４２】
ダイプレートは、通常エンボスマスター、サブマスター等から電鋳法で成形される。このための必要なステップは周知でありまたここではその詳細の説明は省略する。この文脈において説明する価値がある唯一のことは次の通りである。この第２製造工程（Ｐｏｓ．２，第１図）に必要な製造条件は化学産業におけるものと同等である。このステップで使用される製造装置は、直流電流の作用下で適切な金属塩の電界質溶液および化学添加剤にマスタレリーフをさらすために、主として、金属層が生成されるガルバーニバスから成っている。
【００４３】
ダイプレートが存在する時、マスタレリーフをプラスチック面等にトランスファーするために第３ ステップではそれらはエンボッサーで使用される。本発明の方法に対して好適な変形例では、レリーフ構造はエンボス化されて標準化された“トランスファー（転送）バンド”となりこれは半製品として中間ストレージ内に置かれ且つ多種の方法でこの後に製造される“製品”上で使用される。
【００４４】
基本的にはワンーステップまたはツーステップ法でホログラフィーレリーフを製品に加えることが可能である。ワンステップ法では、ホログラムのレリーフは、構造上、ホログラムを備え付けるために製品の表面上に直にエンボス化される。しかしながら、エンボス化は、高い表面圧の作用下で滑らかで変形可能な表面上でのみ可能であるため、製品の品質によっては、多くの場合、この処理は成就できないが、通常、高可撓性により、実際上ツーステップ法を選択しこれによってそのレリーフをまず中間媒体、例えば、トランスファーバンドに形成しこの形式で製品に接着、シールまたは同様に固着する。本発明の原理は両バージョンに使用可能であるが、この実施例は広い範囲のバリエーションを許すのでこのツーステップ法による変形例は好適である。特に、このことはトランスファーバンドが中間媒体として使用される時に効力がある。
【００４５】
同様にトランスファーバンドは、必要な構造またはホログラムの所望品質およびセキュリテイ基準に応じていくつかの個々のステップで製造される。このプロセスでは、中間の多層箔ストリップが製造されその中にホログラムがエンボスされ一列に設定される。次に、エンボス化されたストリップは後コーティングを加え微細なレリーフ構造を機械的損傷から保護するのみならずすべての人為的操作からも保護する。この第３ステップ（Ｐｏｓ．３，第１図）では、製造すべき構造の必要な品質および精度により精密で完全な機械製造装置が必要である。このステップで使用される技術装置は、本質的には通例精密機械および印刷およびプラスティツク技術におけるものに相当する。
【００４６】
第４ステップ（Ｐｏｓ．４，第１図）では、完成ホログラムはトランスファーバンドから後製品にトランスファーされる。この場合、製品としては識別カード、バリューを持つペーパー、銀行券等が好ましい。しかしながら、またホログラムをビデオテープレコーダ、レコード、服飾産業のラベル等にトランスフファーすることも有益であり、考えられる。ホログラムのトランスファーは、第３ステップのように高度の自動化製造装置で行なわれる。この第３ステップ（Ｐｏｓ．８，第１図）に対比すると、製品−単位アスペクト、例えばバリューを持つペーパーのアスペクトまたはカード技術もここでは含み入れる必要がある。従って、トランスファーがホログラムおよび／または製品の品質を損なうのを防止するために、荷重等の作用下で、二つのエレメントの相互作用する特定のパラメータ、例えば、物質の特性、処理温度、機械的安定度等を考慮する必要がありあるいは互いに統合する必要がある。従って、異なった製品にはホログラムを加えるための非常に異なった方法が必要である。通常、ホログラムのトランスファーは製品製造業者自身かまたは製品のための包装、ラベル等を製造する請負い業者のいずれかによって行なわれる。
【００４７】
第１図に示された方法ブロック（工程）について第２図を参照して以下更に詳しく説明する。
【００４８】
（エンボスマスタの製造）
通常、三次元モデルは後述するオブジェクト（対象物）から製造されるので、モデルは、現在用いられているホログラフィー技術では１：１のスケールでなければならない。このための必要なステップは第２図のＰｏｓ．５でマークされている。モデルが存在する時は、レーザ再構成可能型ホログラムを中間ステップ６でシルバー被膜化されたフィルム上に形成する。また“一次ホログラム”と称せられるこのホログラムは、所謂“レインボ技術”によって第２ホログラムフィルム上にコピーされるので、ホログラフィーイメージを（レーザ無しの）白色光でのぞくことが可能となる。このコピー操作で好んで使用される感光材はフォトレジスト層である。この方法は、ハーフトーン構成である、一次ホログラムにあるホログラムを表面レリーフに変換する。このように生成されたホログラムは、通例“二次ホログラム”と称せられる。この方法ステップ１における最終の中間ステップ７では、“エンボスマスター”は電鋳法で第二次ホログラムから製造される。同様にホログラフィー情報が同様に表面レリーフの形でマスターに存在する。
【００４９】
（ダイプレートの成形）
中間ステップ７で生成されたエンボスマスターは高価なユニケートでありまた通常損傷および摩耗の危険性からホログラムをエンボス化するのには用いられない。その代わり、ツーステージまたはマルチステージ法を使用して再度電鋳法でマスターから“サブマスター”を成形し（中間ステップ８）、それらから実ダイプレートを成形する（中間ステップ９）。マスターで開始すると、サブマスターはネガレリーフとして存在する。実ダイブレートをサブマスターからポジレリーフとして生成し、このダイプレートは表面レリーフをエンボス化してプラスチック材にするのに使用される。ダイプレートの寿命は、かなりの数のダイプレートを一期間の生産運転で製造しなければならないのでめったに１０，０００ 回のエンボス化を越えることはない。
【００５０】
（トランスファーバンドの生成）
トランスファーバンドは多層式構造体を有し且つ少なくともキャリア層および多層式エンボス層から成っている。このトランスファーバンドはいくつかの方法ステップで製造され、このステップは第２図に示すように準備ステップ１０、ホログラムエンボスステップ１１および仕上相１２に分割される。
【００５１】
準備ステップ１０では、キャリアバンドは、圧力および熱の作用下で後のトランスファー操作における障害のない分離を許すように、エンボス可能な材料で被覆される。最も簡単なケースでは、これは、キャリアバンドとエンボス可能なプラスチック層との間にワック層を設けることによって得られる。ホログラムを反射によって認識可能となる場合、高反射能を持つ金属層を更にエンボス層上またはその下に設ける。
【００５２】
製造ステップ１１では、中間ステップ９で製造されたダイプレートを用いてレリーフ構造を押圧して、エンボス可能なプラスチックで被覆する。次にこのように生成された表面レリーフは少なくとも一つの保護層で覆われそのレリーフを機械的損傷から保護する。この保護層は、ホログラムの光学的性質への害ができるだく少なくなるようにエンボス層の材料と調和させる必要がある。ここではその種々の理由の説明は省略する。ホログラムを保護するために必要な層を更に第１の保護層の上に施す。最後に、形成された最終層は、真のトランスファーおよび後製品へのホログラムの接着を確保するためのヒートシール層である。
【００５３】
（製品へトランスファー）
製品、例えば、カード、バリューを持つペーパー等へのホログラムのトランスファーは、既に述べたように、ステップ４で行なわれる。トランスファーバンドの製造のように、中間の半製品を中間ステップ１３で生成する。識別カードの場合、これは、プリントカードインレイが既にカバーフォイルで被覆された完成カードブランクであり、必要なら、磁気ストリップ、サインストリップ等を構えても良い。しかしながら、この形で存在するカードブランクは、通常カード所有者のパーソナルデータを表さない。
【００５４】
ホログラムは、中間ステップ１４においてトランスファーバンドから転送され、ホログラムは、カード内の適切なエリア上で位置決めされると共に所謂“箔押し装置”におけるホットプレスダイの力でカード上で押圧される。キャリアバンドが除去されると、ホログラムを有する多層式構造は、プレスダイの輪郭線上で引き離されトランスファーバンドが取れる。このようにホログラムを備えたカードには、中間ステップ１５において、ユーザーに関係するデータが、例えば、レーザ式個人専用化法によって備えられる。
【００５５】
この製造方法による結果、第２図に概略が示されているように、完成カード１６が得られ、これは、適切に配置されたホログラム１７と、ユーザー関連・中間データから成るデータ記録１８とを備えている。
【００５６】
第３図はトランスファーバンド１９の断面図を示す。これは、ワックスからなる分離層２１が加えられたキャリアバンド２０から構成される。その上に、それは、保護層２２とこの分離層２１より若干熱感応性の低い熱可塑性材２３からなる層とを有している。熱可塑性材２３は好ましくは真空蒸着されたアルミニウムから構成され且つ少なくとも厚さ５，０００オングストローム以下である薄く弱い金属層２４でカバーされている。透明なホログラムを製造する際、金属層２４を取除く。層２０から２４は、半製品（原バンド）であり、そこにはレリーフ構造がエンボスされている。
【００５７】
表面レリーフパターンでエンボス化を行なうために加熱されたダイプレートを金属層２４上に押圧する。熱および圧力の作用下で、熱可塑性材２３は、レリーフパターンがアルミニウム層２４にエンボスされるように排除される。次に第２保護層２５およびヒートシール層２６は、金属層２４に加えられる。特殊な変形例では、層２５および２６が結合して一つの層になる。このように製造されたものは中間製品であり、これは同様に半製品として容易に貯蔵および移送することが可能である。
【００５８】
ホログラムの製品への利用として、第４図に示すように、トランスファーバンド１９を、基板３０、例えば、カード上にヒートシール層２６と共に配設し且つその上に押圧する。加熱トランスファーダイ３４でまたはその代わりにトランスファーロールでプレスを行なう。熱および圧力の作用下で、ヒートシール層２６に基板３０を結合させる。同時に分離層２１を溶融してキャリア材２０の除去を行なう。基板３０との結合およびキャリア材２０の分離は、分離層２１が加熱される表面エリア内、即ち、トランスファーダイ３４のすぐ下方においてのみ行なう。その他の表面領域では、層構造体およびキャリア材は、強固に相互結合したままである。キャリアフィルムが基板から除去される時に層構造体２２から２６は、トランスファーダイ３４の外形エッジに沿って裂けるので、このようにトランスファーされたホログラムの外形は常にプレスダイのものに対応している。これにより、一層複雑な形状構造体もこのようにして実現可能となる。ヒートシールのプロセスは知られているが、例えばドイツ特許第３３０８８３１号に開示されている。
【００５９】
（トランスファーされるエンボス化ホログラムを個別化する方法）
第５図は、ホログラムを製造すると共に可能な個別化方法で同ホログラムをデータキャリアに供給するための全製造順序をフローチャートで示している。第２図で説明した図と対比すると、第５図に示した方法ステップ１から４は、通常、実際上と同じように、同時製造工程として示されており、基準ホログラムを個別化するための本発明の着想に特に適合したこれら方法ステップのみ説明する。比較してより理解させるために、ここでは同じ位置に同じ位置番号を付してある。
【００６０】
エンボス化ホログラムを個別化するための発明上の介在可能性は、矢印AからＧによって第５図に示されている。
【００６１】
発明の介在可能性は下記の如く示される。
【００６２】
−ダイプレートの製造中（Ａ）。
【００６３】
−ロー（原）バンドの作成中（Ｂ）。
【００６４】
−トランスファーバンドの完了時（Ｃ）。
【００６５】
−完成されたトランスファーバンド上（Ｄ）。
【００６６】
−基板の作成中（Ｅ）。
【００６７】
−ホログラムを基板へトランスファー中（Ｆ）。
【００６８】
−最終製品上（Ｇ）。
【００６９】
矢印ＡからＧで示された発明の介在可能性について次に説明する。
【００７０】
［個別化変形例Ａ（ダイプレートの製造中）］：
通常、ダイプレートはレリーフ構造体のガルバーニックコピーによって製造される。これを実行するには、種々の等価的な、一層式または多層式法がある。しばしば適用されるツーステッププロセスでは、例えば、エポキシ樹脂等の硬化可能なプラスチック配合物をマスターの表面に添加する。硬化後、そのプラスチックをマスターから分離して、レリーフ構造体の雌型を形成する。電気めっきによって、ニッケル層をこの雌型に加える。マスターのポジティブコピーであるニッケル層は、更にプレスダイの製造の基礎となる。
【００７１】
成形中、選択されたマスターの表面積のみをトランスファーすることによって、第６図に示されるように後述のホログラフィックイメージを個々の外観要素に与えることができる。これは、レター（文字）、番号、会社マーク等を構成するエリアの輪郭において、ダイプレートだけにホログラフィックイメージをトランスファーするかあるいはレリーフ構造体だけがプレスダイのエリア上に形成されるようにダイプレートを予処理することによって達成される。
【００７２】
従って、第６図に示された個別化ホログラムを生成するためには非常に多数の等価的なアプローチがあげられる。特殊の変形例では、マスターの所定の表面積を写真平版によってカバーする。このため、ポジティブ作用するフォトレジストラッカーをマスターの表面に加える。次にこれを、レターあるいは会社マークの形状が見えたままであるマスクを介して露光する。前記ラッカーの展開中、露出面は、むきだしのままとなる一方非露出面はカバーされたままとなる。プレスダイは、既知の方法で個別化されたマスタから成形され、これによりホログラフィックレリーフ構造体だけが前記開いたままの表面積内にトランスファーされる。
【００７３】
第６図の例は、このようにして仕上げられたエンボス化ホログラム４０を示している。基準ホログラム４１と対比すると、レリーフ構造体またはホログラフィック情報が、エンボス化ホログラム４０において、レターＨによってシンボル化され選択された表面積４２内にのみ存在している。残りの表面積では、金属層の非エンボス化表面だけが見えるだけであるので、ホログラフィック情報が、エリア４２において所定の視角をもって全反射面４０から視覚視認状態でくっきりと現れる。
【００７４】
もしカバーされた領域が、適当な溶剤および他のマスクで繰返される個別化操作を利用して再度むきだし状態にされるならば、個別化コピーを生成するのにマスターを操返えして使用可能である。
【００７５】
この方法もまた同様にサブマスターまたはダイプレート自身に適用可能である。
【００７６】
エンボスマスターと比較すると、ダイプレートの寿命の限界によりダイプレートに対して不可逆方法も適用可能である。個別化のために、例えば、レリーフ構造体は、化学的または精密機械処理によって所定の領域内において除去若しくは変更可能である。精密機械装置を使用してレリーフ構造体を選択的に除去若しくは破壊することも可能である。
【００７７】
このように個別化されたダイプレートは、一プレート当たりの数千の個別化ホログラムをエンボスするのに使用可能である。もし非常に多数の個数が必要ならば、いくつかのダイプレートを同一状態で個別化する必要がある。
【００７８】
［個別化変形例Ｂ（ローバンドの作成中）］：
トランスファーバンドの製造は幾つかの相内で行なわれる。準備層では、第７図に示すロー（原）バンド２８をまず形成して、分離層２１、続いて保護用ラッカーから成る層そして最後に熱可塑性層２３をキャリア材２０、例えば、ポリエステルフォイルに加える。通例、金属層２４は、後記するエンボス化ホログラムが反射ホログラムになる場合最上部層に真空蒸着される。トランスミションホログラムに関しては、金属層２４が省略される。このように説明された層構造体はローバンド２８を構成することになる。
【００７９】
ローバンドは、層構造体の適切な変更を行なうことによって、即ち、各層自身を変更するか、例えば様々な着色を行なったりこれら層のうちの一層またはそれ以上を変更したり、あるいは別なエレメント、例えば、基準ホログラム（後に生成される製品）上に最終状態において視覚視認可能な形で重畳されるプリントパターンを選択的に導入したりして個別化される。
【００８０】
基準ホログラムの産業上の生産規模に関しては、非常に多数のローバンドが必要となる。層構造体の適確な変更によって、どんな技術的な手段をもとらずに基準ホログラムを製造できる。これらホログラムはその色と全体の凹凸模様の両方によって著しく異なっている。これら手段とは個々のローバンドかあるいはローバンドのバッチのいずれかに関連している。
【００８１】
ローバンドを個別化するための最初の変形例は、保護用ラッカー２２の層および／または熱可塑性層２３を個々に染色することにある。第８図に示すように、これら二つの層はレリーフ構造体の上方の製品の上に形成されるので、このため透明色を使用するのが好ましい。よって、完成製品、例えば、カード３０（第８図）における個別化ホログラムをそれら自身の主要な色効果によって区別することが可能となる。
【００８２】
別な変形例では、異なった固有の色を持つ種々の金属２４を熱可塑性層２３上に真空蒸着している。例えば、銅、銀または金を使用して、三つの異色ホログラムをこれら金属で生成する。各金属層の色は、カードレイアウトの全体のカラーインプレション（模様）と十分に選択的に調和可能であると共に例えば、異なった表題の範囲を持ったカードにマークを付けるのに使用できる。
【００８３】
三番目の変形例では、従来の印刷機によってローバンドを構成する層２２、２３のうちの一つに個別化用のプリントパターンを施す。好適な印刷技術としては、オフセット印刷、スクリーン印刷または他の既知の印刷技術があげられる。小ロット個別化方式に関しては、プリントパターンは所定数のホログラムに対して一定のままにすることができる。このプリントパターンは、ホログラフィックイメージと調和することが好ましいので、このパターンは、グラフィック構成の感覚に関するホログラフィック情報を表すために縁、中心図柄等を構成している。このような個別化ホログラムの全体模様は、ホログラフィック記録およびプリントパターンによって均一に最終状態で決定される。
【００８４】
更に別な変形例では、ホログラムからホログラムへ変わるパターンまたはデータをプリントパターンに設定する。この一例には連続番号付けがあり、この番号は数字プリントユニット等を用いて発生可能である。
【００８５】
ホログラムに対して所定のアライメント状態でプリントパターンが次のデータキャリア上に現れようとするならば、プリントパターンおよび次のホログラムは、一方が他方に正確にレジスターするように設計されることを確認する必要がある。この正確なレジスターに関する処理については、周辺の孔あけ、レジスターマーク等の、印刷技術で知られている手段を使用可能である。
【００８６】
非常に多数の実行可能な変更要素としては、所定の光学的インプレション（効果）を引き起こすと共に特殊形式の個別化を実現するために種々のプリント技術、染料、インクおよび金属層の使用が挙げられる。この関係において特に必要なもとのして、特殊なイルミネーションにのみ認識可能な特定の個別化手段を成しうる発光性若しくは燐光性物質の利用が挙げられる。
【００８７】
第７図及至第９図は、上記に述べたように保護用ラッカー２２から成る個別的なプリント層を備えたエンボス化ホログラム１７を示している。プリントパターン２７は、保護用ラッカー２２の層面に施され且つ熱可塑性層２３でカバーされ、この層の上に金属層２４が形成された。既に述べたように、ホログラムのレリーフ構造体はこのローバンド２８上でエンボス化される。更に層２５、２６がエンボス化された後、トランスファーバンドの製造が完了される。
【００８８】
第８図は、後の製品、即ちカード３０の上に配置されるような個別化された層構造体を示している。この代表例によれば、プリントパターン２７はまず金属層２４上に配置されると共にホログラムのレリーフ構造体上に配置される。通常のビューアによって視角とは無関係のプリント情報を表すプリントパターン２７がのぞけ、これは、金属光沢を有するバックグランド上に配置され、このバックグランド上にはホログラフイック情報２９が所定の角度内における広いエリアにわたって認識できる。第９図に示されたプリントパターン２７は、一連の個別化ホログラムでは同一であるデータ４７およびホログラムからホログラムへ変わるデータ４８を備えている。
【００８９】
［個別化変形例Ｃ（トランスファーバンドの完了時）］：
次の製造相１１では、ホログラフィックレリーフパターンが熱および圧力の作用下で真空蒸着層２４にエンボス化される。これにより、製造方法に応じてエンボス化および金属化を当然逆の順序で実行することができる。最終相１２では、保護用ラッカー２５およびその上に配置された接着層２６が積層複合体のエンボス側に加えられる。最終トランスファーバンド１９の断面は第３図に示す通りである。
【００９０】
個別化に関しては、方法ステップ１２において個別化用プリントパターンが直接エンボス化金属層２４または保護層２５上に設けられ、次にこれはホット−メルト接着層２６によってカバーされる。プリント方法およびプリントパターンは個別化変形Ｂにおけるものと同じにすることができる。しかしながら、プリント操作がエンボス層２３、２４に存在するホログラムのレリーフ構造体に損傷をあたえないことを確認する必要がある。
【００９１】
このように製造されたトランスファーバンドは第１０図に示す通りである。この実施例では、プリントパターンはホット−メルト接着層２６と保護層２５との間に存在する。
【００９２】
ホログラムがカード本体にトランスファーされた後、第１１図から明らかなように、プリントパターンは、カード本体３０と金属層２４との間に形成されることになる。ビューア用に反射金属層２４の下方にプリントパターン２７が配置されるので、このプリントパターンを視覚的にまたは機械で認識可能にさせるために特殊な方法が必要である。
【００９３】
ホログラム構造体の金属層２４を省くならば、レリーフエンボス化後に施されたプリントパターンを視認可能にさせることは明らかに至極簡単である。この場合、“トランスミションホログラム”について説明する。これは、個別化方法Ｅに関連して討議される各方法のおかげで非常に役立つことができる。
【００９４】
完全に省略する代わりに、十分な透明度でプリントパターンを認識可能にさせる部分透過度を得るために数十オングストロームの範囲で層圧を低減することもできる。種々の金属が極めて薄い層内に存在する時、それらは入射光および透過光において種々のカラー効果を表すので、特殊な金属を使用して、更にカラー効果を達成できる。
【００９５】
これに代わるものとして、金属層の代わりに誘電体層を真空蒸着することが可能である。層構造に応じて、このような層は、同様に透過光および入射光に使用できる特殊なスペクトル特性を有している。多数の光学的方式から採用した例には、部分的に透過可能でワイドバンドなミラーコーティングおよび視角が変更される時の遊色を備えたスペクトル的に精密な反射バンドが挙げられる。これらの変形例では、プリントパターンは同様に所定の視覚でのみ認識可能である。更に別の変形例では、金属層２４が、例えば、並んで配置された金属的な反射および透明エリアから成る精密スクリーンとして設計される。透明なエリアは、１／１０ｍｍの範囲およびそれ以下のスクリーン幅で与えるのが好ましいので、スクリーンは、視覚によって解像できずまたそれらのギャップにもかかわらず部分的に等均質な反射面として現れる。この場合、プリントパターン２７は視角毎に認識可能である。プリントパターン２７が自動的検出用に単独で使用される場合、長波スペクトル範囲内では反射可能に作用するが短波領域では透明に作用する誘電体層構造体を使用するのでこの実施例では有益である。ＵＶ光および可視光との間の領域でフィルタエッジが設定されるならば、マーキングは視覚から隠れたままとなるがＵＶ検知器で識別可能である。
【００９６】
同様に、金属層２４がＩＲ透過層として形成される場合、赤外線領域内でのみ読出し可能な書込ホログラムが得られる。これは、例えば、可視スペクトル領域内で不透明なブラック（暗色）が現れ且つＩＲ領域では透明で透過可能である保護ラッカー２５によってカバーされる。この場合、プリントパターン２７は、ＩＲ反射色から構成されまた上記に述べたように保護用ラッカーの層２５と接着層２６との間に配置される。後記のカード上では、ホログラフィックイメージが部分的に金属化され見掛上暗色である背景に対して視覚上はっきりと認識可能である。同時に第１２図の点線によって示されたＩＲプリントパターン５０は適当なセンサを使用して読出し可能である。
【００９７】
プリントパターンの設計に応じて、所定期間運転中は不変であり即ち連続的に変化するマーキングを実現することが可能である。もしプリントパターン２７が、非可視スペクトル領域内で読出し可能である情報を表すものとして形成される場合、これら必要に応じて更に最適化可能である。但し、プリントパターンが、英数字記録としてでなく機械コード、例えば、バーコード等の形で形成される場合である。
【００９８】
更に、ホログラムの形式を変える個別化の可能性は、トランスファーバンドの完了中に接着層２６を形成することにある。ここでは、接着層は、パターンの形で積層複合体に加えられる。圧力および熱の作用下で広い表面がホットプレスダイを介してカバーされる場合でも、基板３０へトランスファー中、そのエリアだけを、ホット−メルト接着層２６で被覆される基板３０に粘着できる。ホット−メルト接着層２６の形状および表面積に応じて、ホログラムの所定のエリアだけが選択的にトランスファーされる。この場合、プレスダイの形状とは実質上独立している。このような方法がトランスファーバンドの製造中の最終操作時に適用され且つトランスファーバンドの製造における比較的後段で取入れられるので、前記方法は特に有利な個別化の変形例となる。トランスファーバンドを、接着層２６を加えないで半製品として中間配置場所に設けることが可能であるので、同様に、この変形例は、急に所定の蓄積場所で所望数の単位で個別化しようとするトランスファーバンドを可能にする。
【００９９】
［個別化方法Ｄ（完成したトランスファーバンド上）］
例えば第３図に示されたトランスファーバンド１９の最終仕上の後には、他の種々の実行可能な個別化法がある。一方、この実施例ではトランスファーバンドが完成中間製品として存在するのでこの段階における個別化は特に有利である。他方、トランスファーバンドはこの段階で存在する保護層によって損傷から比較的良く保護される。
【０１００】
個別化方法は、主に、トランスファーバンドの一つまたはそれ以上の層に個々のデータを記入すること、または層材の不可逆変換若しくはその除去に基づいている。
【０１０１】
データはレーザによる記入法を使用して記入される。レーザ記入装置は、キャリアシート２０または保護ラッカーの層２６を介して不可逆変化または例えば、ブラックニング、回折構造体の破壊、金属層の除去等の層構造体の破壊を発生させるのに使用される。層構造体の位置の応じて、記入されたパターンは、完成ホログラムカード上で直接視認できまたは金属層２４の下に隠蔽される。
【０１０２】
レーザ記入法は、記入すべき媒体によるレーザ放射の吸収に基づいている。通常の反射ホログラムは一般にこのような記入に対し非常に適していることがわかっている。レーザ記入能力が十分でない場合、それは特にトランスミションホログラムの場合に当てはまる。トランスファーバンドを構成する一つ若しくはそれ以上の層に吸収色または添加剤を加えることによって記入品質を高めることが可能となる。このように、もしレーザエネルギが正しく計測されるなら、特殊層が分離可能に感化されるように特にトランスファーバンドの前記特殊層に感光性を与えることができる。
【０１０３】
高レーザパワーで、通常、個々の層の薄い厚さによりその構成材は全層構造体にわたって完全に気化状態またはプラズマ形成に至る。このようにして、トランスファーバンドの記入文字が得られ、これらが加えられる側に関係なく、これらの記入文字は常に完成した製品上で明確に認識できまた後で変更することはできない。もし導入されたデータが非模造形式で存在するならば、このような点は特に重要となる。
【０１０４】
レーザ記入法の代わりとして、トランスファーバンドに機械的に形成される穿孔を設けることが考えられる（第１３図）。このため、ホログラムのエリア内のフォイルに一種のマトリクスプリンタを使用して構成される穿孔を形成しまたはハードな組打抜きダイによって形成されたパンチパターンを設ける。ホログラムからホログラムへ変わる特に複雑な穿孔に関しては、Ｘ−Ｙ制御式型彫り工具で構成材を除去する彫刻盤を使用することが可能である。
【０１０５】
レーザによる文字記入または構成材の機械的除去に使用可能である装置は当業者には既知であるので、ここではその詳しい説明は省略する。
【０１０６】
［個別化方法Ｅ（基板の生成中）］
使用するホログラムに匹敵しうる選択方法を基板上に講じることによって一層の効果が得られる。このため、ホログラムエリア内で基板の表面にマーキングが施され、このマーキングは、ホログラムによって全体的にまたは部分的に後でカバーされ且つそれを介して認識可能である。
【０１０７】
第１４図及至第１６図は、これらの方法を構成する第１の変形例を断面図と正面図とで示している。第１４図は、トランスファーホログラム１７が配置されたプリントパターン６０を備えたカード３０を示している。プリントパターン６０は、ホログラム１７によって一部だけカバーされるのでプリントパターン６０によって表される情報は一部だけアクセス可能である。第１５図は、第１４図の断面で示したカードを正面図で示している。透明なホログラムが使用される時、ホログラム１７の下に配置登録するデータは依然均一に認識可能である。これは、ホログラフィック効果が無い視角で、ホログラムが透明シートに対して略等価的であるためである。その認識性能にもかかわらず、ホログラム１７の下に配置されたデータは、その上のホログラム１７によりアクセスまたは人為的操作から保護される。このように、カードの重要な情報は視覚的にチェック可能であるが直接アクセスから免かれ、ここで、重要性の低いデータは自由にアクセスし得るままである。従って、ホログラムの下方に位置するデータは、外部に位置するものと直接関係することが可能であり、同じ若しくは類似の情報を備え、あるいは完全に異なった事柄に関係している。更にまた、反射ホログラムの使用はまたビジュアルアクセシビリティを防止するので、ホログラム１７の下に位置するデータ６０は装置によってのみチェック可能である。
【０１０８】
データキャリアの構成部材は、種々様々な材料、例えば、多層式カード構造体を構成するインレイ、全プラスチック式カードブランク、包装用部材等でも良い。第１４図に示されるように、基板上に配置されるホログラムがプリントパターンの直ぐ上方に形成されるように、もしプリントパターンを基板上に配置するならば、この個別化変形例は特に効果を表わす。このように、種々に設計できることのみならずホログラムの下に位置するデータをも保護することが可能となる、これは、ホログラムを破壊せずにこれらのデータを変更したり除去したりすることはできないからである。このようなデータ保護は、例えば、バリューを有するペーパーに特に有効である。これにより、バリューを持つペーパーに関する特に重要なデータは、一方ではホログラムとの重畳によって光学的に強調され且つ他方ではアクセスから保護可能である。
【０１０９】
先の変形例のように、プリントパターン６０は、非常に多数のデータキャリアにより一定のままであるモチーフ、会社マーク等を表すことができ、あるいはデータキャリアからデータキャリアへと変わる情報を有することができる。プリント後、ホログラム１７はデータキャリア上に載置される。ホログラム・デザインに応じて、プリントパターンの認識可能性は変わる。透明なあるいは一部透明なホログラムはプリントパターンを視覚的に認識させる。ＩＲ−あるいはＵＶ−透過性ホログラムは、装置によってのみ読出される隠れ記入文字用に設ける必要がある。一部あるいは全部の透明なＩＲ−および／またはＵＶ−透過性ホログラムの設計の実現性については既に上記説明で述べた。またここではこれを利用する。
【０１１０】
第１６図に示された更に別な変形例では、金属光沢を持つ背景を、本ケースの場合紋章を表すが会社略符、キャラクタあるいは類似のマークでも良いプリントパターン７２であるホログラムエリア内のデータキャリア７０に加える。このように生成されたデータキャリア上において、ホログラムを載置し、このホログラムは、反射層を含まないかあるいは光沢面が認識できる一部反射式金属ミラーを備えているかのいずれかである。従って、マークは、ホログラムを補ったりあるいは、ホログラム上に接着されたものを介して少なくともビジュアル的に認識可能である。これにより、プリントパターン７２は、もし透明なホログラムが使用されるなら優位にあり、もし半透明なホログラムが使用されるなら、基準ホログラム７０のホログラフィック情報７１が光学的なインプレションの点から優位を占める。
【０１１１】
第１７図および第１８図に示された更に別な変形例では、基準ホログラム１７が、スチール陰刻プリント情報と共に一種の半透明レジスタを形成する、バリューを持つペーパーに使用される。バリューを持つペーパー７５にはスチール陰刻プリントパターンが形成され、これは、インキ側にポジティブ・レリーフを設けインキに調和したバック側にネガティブ・レリーフ７８を設けることが知られている。スチール陰刻プリントのエリア内でバリューを持つペーパーのバック側にホログラム１７を加える。これにより、ホログラムの大表面をトランスファーした後、ネガティブ・レリーフ７８は依然はっきりしている。これは、ホログラムの接着性がデプレションエリア内で防止されるように後者は固有の強度を有していないからである。そのため、ホログラム１７の表面では、スチール陰刻情報が割込としてホログラム内に存在する。本ケースの場合、プリントパターン７７は、ペーパー７５を介して認識可能でありまた偽造化されてないオリジナル・ケースにおけるホログラムのくぼみに調和して検出可能であるので、バリューを持つペーパー７５の表裏をのぞくことによって且つ透過光でプリントパターン７７の識別点とくぼみ７８とを比較することが可能である。
【０１１２】
第１７図と第１８図で説明した方法の変形例では、第１９図に示すように、当然ホログラムは前記ペーパーの前面に施すことが可能である。これにより、本ケースでは、スチール陰刻レリーフの先端だけには対応するホログラム１７のパッチが被覆される。この方法は、所謂“ブラインディング”あるいはブラインド・ストッキングとのコンビネーションで特に有効である。この場合、インキ７７が省略されるのでホログラムだけがレリーフ構造体をカバーする。
【０１１３】
ホログラムは、常に、極めて簡単に調和してデータキャリアのレリーフにトラスファーされるので第１７図及至第１９図で説明した変形例は特に利点がある。またこのような応用例（スチール陰刻プリントあるいはブラインド・ストッキング）は従来のペーパー設計に十分に適合すると共に極めて簡単に集積化して典型的な生産方法を産みだすことが可能となる。
【０１１４】
［個別化方法Ｆ（基板へのホログラムのトランスファー中）］
この方法ステップでは、ホログラムは、加熱トランスファーダイによってトランスファーバンドから基板へ転送される。この転送はトランスファーダイの即時接触面の下方においてのみ行なわれる。トランスファーダイの除去後、ホログラムは、トランスファーバンドが除去された時接触面のエッジに沿って裂ける。従って、基板に接着するホログラムはトランスファーダイの実輪郭形状を持つことになる。
【０１１５】
このステップでは、トランスファーダイの接触面の輪郭を選択的に変えることによってホログラムを個別化可能である。従って、ホログラムは、プレスダイとして同じ輪郭が夫々与えられる。このように、ホログラムは、特殊なモチーフ、会社略符、キャラクタ等の形で設計可能である。モチーフは、ポジティブプリントおよびネガティブプリントの両方で表示することになっている。第２０図は、このような応用例の概略図を示す。これにより、元の基準ホログラム１７は、実際上プレスダイによってのみ、円８０の外側の輪郭形状を持ってトランスファーされ、また一組のライン８１は、この円形エリアの内部において紋章の形で開いたままとなる。元の基準ホログラム１７の印影表面エリア８２はトランスファ中無視される。
【０１１６】
単に一個のホットプレスダイを製造することによっていかなる個数の個別化ホログラムをもトランスファすることがこの変形例によって可能になるということは当業者にとって明らかである。グラフィック構造体は、実質上かなり精密設計でありまたプリントパターンの全エリアまたは一部を置換えたり補ったりすることも可能である。トランスファーダイは、簡単な画像シンボルあるいはキャラクターのみならず複雑なラインの方式または縄編み模様の構造体もまた表示するように設計可能である。精巧に設計されたこのような“ホログラム・エンボス”は印刷インキのように他方面に使用可能である。このような応用例は、ホログラムを集積し“突出”の小さい全プリントパターンを形成し且つ大表面のホログラム表示が美観理由のため前もって使用できない場合にも使用可能である。このような“ホログラム構造体”を集積化する時、ホログラフィック効果およびホログラフィック的に描写された細部は、ホログラム面の縮小に例して減少することを単に確認する必要がある。複雑なホログラフィック情報は、ラインエリアのみ存在するホログラムにも描写することができない。
【０１１７】
これら個別化方法を構成する更に別な変形例では、トランスファーダイはマトリクス式型押装置によって置換えられる。市販で入手可能なこれら装置は、トランスファ層で常時ダイの形状を変更することを可能にするので、ホログラムからホログラムへ変わる輪郭構造体もまたこの方法ステップで製造可能である。
【０１１８】
［個別化方法Ｃ（最終製品上）］
この方法ステップでは、基板に送られたホログラムは点の除去、適当な層の変更または破壊によって修正される。
【０１１９】
最初の変形例は、レーザペンシルを使用して情報を記入することによる個別化法である。レーザパラメータおよびフォイル構造体に応じて、種々の記入効果を得ることができ、この効果はレーザビームおよびホログラム構造体の種々の相互作用に基づいている。このように、ホログラムの層構造体における非突出材および色変化並びにホログラムの層構造体の所定エリアの局部分破壊はまた完全な除去を達成可能である。
【０１２０】
第２１図は、二つの典型的な文字記入変形例に関連してカード本体３０を断面で示している。ホログラム１７は、レーザビームの高エネルギによって完全に破壊されるだけでなくカード基板もまた、マイクロレリーフ８５が天井エリア内に存在するように変形する。通例、カード基板は、このようなレーザ記入法で局部的に焼け付くので、記入エリアは、このようにして形成されたキャラクタの良好な可読性を確保するブラックカラーを備えている。マイクロレリーフは、更に、他の記入変形例と元のレーザ記入法とを区別する信頼性の基準を提供する。
【０１２１】
しかしながら、レーザエネルギを低減することによって、ホログラム層を局部的に除去することができるので、極端な場合、データがくぼみ８６によってホログラム内に形成される。上記方法Ｄに述べたように、理論上、同じ技術能力を個別化方法に適用できる。しかしながら、最終トランスファーバンド（方法Ｄ）上における個別化に対比すると、ここで述べた個別化の形式は、基本的にどんなホログラムの個別化にも対応する最終製品に適用される。技術的方法が個別化処理に使用されまたカードの個人専用データを提供するのに使用される時、このようなことは特に有利となる。このため正確には、レーザ記入システムの使用は特に推薦できるものである。しかしながら、原理的には、他の方法もまた適用できる。個別化方法が元に戻らないようにこれら方法が不可逆状態でホログラムに作用することを確認する必要がある。
【０１２２】
（個別化方法の組合せ）
上記個別化方法ＡからＧは、ダイプレート製造、トランスファーバンド製造および製品製造の種々のステップに基づいてホログラムの個別化を可能にする。これにより、単一の方法は、膨大な範囲の設計を提供し且つ特定の方法ステップのためにそれ自身独特の方式を備えている。基準ホログラムを着手する際、同じエンボスマスタの使用にもかかわらず、非常に様々なホログラムを製造するための色々な変更を行なう様々なやり方が示される。最終製品におけるこれらホログラムは、個々の特徴化に対してだけでなく製品に設けられたデータの保議に対しても適用可能である。
【０１２３】
個別化方法ＡからＧは、常法により個々に使用できるだけでなく、個別化方法の所望の組合せによって設計の可能性の増大もひき起こすということは当業者にとって明らかである。非常に多数の可能性について例えば、いくつかの変形例について以下に説明する。ここで、先の例で使用した参照番号は可能な限り使用する。
【０１２４】
第２２図は、ホログラフィック情報３９が矩形７０の全体面にわたって存在する一方反射金属層２４が紋章の形でのみ存在するような個別化ボログラム１７を示している（個別化方法Ｂ）。紋章のエリアには、プリントパターン２７（方法Ｂ）およびレーザペンシルで記入された完成製品上のホログラム−特定データ８５（方法Ｃ）がある。ホログラムの外部保護層はイエロー（方法Ｃ）であるので、紋章はビューアに対しイエローが現れる。ホログラムは、製品上にプリントされるブルーエリア６０に加えられる（方法Ｅ）。
【０１２５】
上記実施例では、所定角で所望のホログラフィック効果をはっきりと表すイエロー付けされたホログラムがビューアに対して紋章のエリア内に現れる。紋章を囲むホログラムエリアはグリーン（ブルーおよびイエローからの第２カラー）となる。これにより、鋭さは鈍いけれど、ホログラフィック情報は、このエリアで認識可能である。見掛け上緑がかったイエローで矩形状のホログラム・フィールドは、ホログラフィック効果はないがホログラフィック表示の色を補うブルーフレームによって制限される。
【０１２６】
第２３図は、矩形状のバーに立つ円の輪郭形状を備えた個別化ホログラム４２が使用される更に別の実施例を示す。ホログラム４２の形状は、ホットプレスダイの輪郭形状によってエンボス化される（方法Ｆ）。矩形状のバーのエリアには、レーザペンシルによって生成され且つホログラムエリアにくぼみとして存在する数値データがある（方法Ｇ）。ホログラムの円形エリアには、プリントパターン２７が、トランスファーバンドの仕上中、軽ブルーのインキを備えたレター“Ａ”の形で形成される（方法Ｃ）。円の輪郭に存在するシルバー金属層２４は、半透明ミラーとしてのプリントパターン２７の上方に配置される。全層構造体は、カード基板上に設けられたイエロー背景プリント６０上に配置されている（方法Ｅ）。
【０１２７】
円の輪郭に形成されたホログラムは、ブループリントパターン２７が認識できるシルバー面としてビューアに対して現れる。所定の視覚範囲において、プリントパターン２７上に重畳されるホログラフィック的に記憶された情報は、全表面４２内に現れる。数字８６だけが、視角とは関係なく、周囲と良好なコントラストで認識可能である。全体の構成はイエロー背景エリアによってフレーム化される。
【０１２８】
第２４図は、バリュを持つペーパーが半透明エレメントを備えた更に別な実施例を示している。そのペーパーは、スチール陰刻プリントによって施されたプリントパターン１０１を備えている（方法Ｅ）。そのペーパーの裏には、トランスミションホログラムが、プリントパターン１０１の円形形状で形成され、その円形輪郭は開いたままである（方法Ｆ）。ホログラム自身は、金属層が形成されてなく且つ二つの外部保護層（層２２，２８）が透明なレッドで色付けされたトランスミションホログラムとして設計されている（方法Ｃ）。
【０１２９】
ビューアに関しては、二つの部分からなる半透明なエレメントは、スチールプリントモチーフ１０１としての表側とレッド付けされたホログラムとしての裏側とから認識可能であり、陰輪郭１０１は開いたままである。透過光においては、表側上に形成されたプリントパターン１０１がギャップ無しでホログラムのくぼみに嵌合するように二つのエレメントが互いに補う。
【０１３０】
（容積フィルム・ホログラムの個別化）
序論に述べたように、発明の個別化方法は、トランスファーされるエンボス化ホログラムには特に有益であり、また完全に集積されて製造工程を提供することができる。しかしながら、本発明の利用はこの種のホログラムに限定されない。発明の着想の利用について容積フィルム・ホログラムに関連して以下説明する。
【０１３１】
容積ホログラムの一連の生産の重要なステージは以下を含む：
−一次ホログラムの生成。
【０１３２】
−コピーによるホログラムの再生。
【０１３３】
−ホログラムの基板への利用。
【０１３４】
方法ステップについて第２５図を参照して以下詳細に説明する。第２図および第５図で述べた詳細を基礎として二つの方法の間の差だけについて主として扱う。
【０１３５】
方法ステップ１０１では、ホログラムは感光性材上のモデルより記録される。これは、オブジェクト光線を持つ基準光線を写真乾版上に重畳させる通常の技術によってなされる。現像および定着後、この写真乾版は一次ホログラムを表わす。
【０１３６】
二次ホログラムのコピーは、機械的には一次ホログラムに荷重を課さない厳密な光学工程であるので、エンボス化ホログラムに必要な中間サブマスタステップを必要とせずにエンボスマスターに対応する一次ホログラムから幾つものコピーを作りせる。
【０１３７】
しかしながら、特に、もし多量のコピーが一次ホログラムから異なった時間で生成されるならば、方法ステップ１１１において、最終ホログラムフィルムの露出用に使用される工作物としての一次ホログラムから二次ホログラムを生成することによってあらゆる種類のダメージ、特にひっかききず等を回避することが推奨できる。
【０１３８】
フォトレジスト材は使用されないが通常のホログラムフィルムは使用される場合を除いてサブマスターあるいはダイプレート（Ｐｏｓ．２，第５図）の製造にほぼ匹敵しうるような従来技術によって、二次ホログラムは中間ステップ１０２において生成される。
【０１３９】
中間ステップ１０１では、容積ホログラムに必要なフィルムが生成される。写真技術では通例であるように、ホログラフィックフィルムは、少なくとも二つの層、即ち、キャリア材、例えば、ポリエステルフィルムや感光性エマルションから構成される。
【０１４０】
方法ステップ１１１では、このように製造されたフィルムは、製品上で使用すべきホログラムを製造するための方法ステップ１０２におけるように、正確に露光される。これは、オブジェクトが現在ホログラムフィルムで置換えられる場合を除き一次ホログラムを露光するのに用いられる元のホログラフィック構造体を使用することによって公知の方法で行われる。共役基準光線（時間と方向が逆）が二次ホログラムに指向される。このことは、オブジェクトの元の位置で実像を形成する。第２の基準光線により、虚像がホログラムフィルム上に記録される。自動的にコピー操作を操返えすことによって、連続生産で幾つものホログラムを生成可能である。
【０１４１】
露光後、中間ステップ１１２ではフィルムは現像され定着される。保護層、接着層等の付加層を加えることも可能である。
【０１４２】
中間ステップ１１７では完成フィルム上にいかなる方法をも設けられる。これは、エンボス化ホログラムのトランスファーバンドの処理と全く類似している。
【０１４３】
基板は方法ステップ１１３で作製される。これらの方法もエンボス化ホログラムのものと類似している。
【０１４４】
方法ステップ１１４では、ホログラムが基板に付加される。基板および目的に応じて、ホログラムを基板に固定するための種々の実行可能な取付装置がある。この関係において共通の技術は、ホログラムを基板に接着したりあるいは識別カード等の、多層基板を構成する層構造体にホログラムを積層したりすることである。いずれの場合でも、ホログラムはフィルムを打抜き基板上に配置する。
【０１４５】
最終製品は方法ステップ１１５で処理される。ここで行なわれる方法は、エンボス化ホログラム用に必要なステップと類似している。
【０１４６】
（容積フィルムホログラムのための個別化方法）
同様に容積ホログラムを個別化するのに使用すべき個別化方法はエンボス化ホログラムに関連して説明したものと非常に似ている。
【０１４７】
最初の実現可能性（方法Ｈ）は、方法ステップ１０２で与えられる。このステップでは、マスクまたは再生装置をビームパースの適当な位置に挿入することによって個々の外観がホログラフィックコピーによって与えられるので、ホログラフィックイメージが、選択された表面エリア内のホログラムフィルム上で変更されたりあるいはそのイメージだけがそこに記録される。このように、ホログラフィックイメージを特定の輪郭形状、例えば、ブロック字体のものに与えることができあるいはホログラフィックイメージからこのような形状を除外することも可能である。方法ステップ１１１におけるホログラムの複製は実質上方法ステップ１０２におけるものと同等であるので、個別化変形例１では同一または類似の処置が可能である。
【０１４８】
ホログラフィックフィルムの製造中（中間ステップ１１０）、キャリア材またはエマルション層を適当な染料で色付けしたりあるいはキャリア材の上方または下方に別な染色された層を設けるかによって個別化方法を共通の写真にアナログ的に講ずることが可能となる。同様に、この個別化変形例Ｋにおける一方の側または両側にフィルム材をプリントすることが可能である。容積ホログラムが使用される時、フィルム層が通例キャリア材と共にその後の基板（製品）に施されるので、これに応じてキャリアフィルムにマークを付すことも可能となる。ホログラフィックフィルムを作製する時の別な個別化方法とは、番号、略符等の適当な画像モチーフでフィルムを予め露出させることである。
【０１４９】
個別化方法Ｌ、Ｍ、Ｎ、ＯおよびＰに関しては、類似した実現可能性により第５図で説明した方法に言及する。異なったホログラフィックフィルム材により、いくつかの適応構造が必要となる。もし本発明の基本的な着想が知られているなら、これらの適応構造は当業者にとって明らかになるのでここではその説明は必要としなくなる。
【０１５０】
当業者も理解されるように、さらに複雑な変形例を得ようとしたい時は種々の個別化方法ＨからＰを互いに組合せることが可能である。
【０１５１】
（応用の範囲）
個別化ホログラムは、このホログラムが最終製品上に如何に存在するかによって下記の如く区別される幅広い応用分野を有している。ホログラムをデータキャリアの表面に加えることは一般に行なわれている。データキャリアはペーパー面を有するこができ、この対象となるものは銀行券、識別ドキュメント、バリューを持つペーパー等がありあるいはそのほかにプラスチック面を有することも出来、この対象となるものは識別カード、プラスチック式銀行券、ビデオテープカセット等がある。特殊な実施例では、ホログラムは製品の所定部分に制限を加えることが可能である一方製品の全表面をカバーする。
【０１５２】
識別カードおよびクレジットカードの分野では、これら異なった変形例が現在一般的になってきている。しかしながら、ホログラフィックエレメントはまた製品に埋込むことが可能である。従って、ホログラムを多層式プラスチックカードに積層することが知られている。ホログラムは、略符、集積された画像モチーフ等の形で、例えば、セーフガード用スレッドとして多くの実施例に現れている。これは、接着すべきホログラム用の多層式カードのフォイル層に開口部を形成するような一種の取付技術によって導入することも可能である。
【０１５３】
同様に、ホログラフィックエレメントを直にペーパーに埋込むことが可能である。ホログラフィック材をバンド、ストリップあるいは貨幣地板にカットすることによってこれを作製するのが好ましい。これらのエレメントはペーパーの製造中に加えることが好ましい。これにより、例えば、“窓付きセーフガード用スレッド”の形でペーパーに存在するならば、保護技術は特に有効である。
【０１５４】
多数の可能な変形例により、本発明は、基準ホログラムでスタートする技術的要求および／または設計に関係した要求に最終製品を正確に適合させる可能性を当業者に与えることになる。同様なホログラフィック記録がスタート基準として用いられても、本発明は、最終製品を種々の態様に完全に適合させるという可能性を提供する。多数の実行可能な光学的変形例に加えて、本発明の教示はまた経済的要件を考慮しているので、すべての要求に製品を適合させることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１５５】
【図１】第１図は、エンボス化ホログラムの製造中および同ホログラムのデータキャリアへのトランスファー中の主要な方法ステップを示した図である。
【図２】第２図は、第１図に示した方法セクションの細区分を示した図である。
【図３】第３図は、トランスファーバンドの層構造体を示した図である。
【図４】第４図は、基板上の完成ホログラムの層構造体を示した図である。
【図５】第５図は、エンボス化ホログラムを製造して同ホログラムをデータキャリアにトランスファーする製造順序を示した図である。
【図６】第６図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図７】第７図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図８】第８図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図９】第９図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１０】第１０図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１１】第１１図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１２】第１２図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１３】第１３図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１４】第１４図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１５】第１５図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１６】第１６図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１７】第１７図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１８】第１８図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１９】第１９図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２０】第２０図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２１】第２１図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２２】第２２図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２３】第２３図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２４】第２４図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２５】第２５図は、容積フィルムホログラムを製造する製造順序を示した図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
2005125802.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
2005125802.tif 000021
【図２０】
2005125802.tif 000022
【図２１】
2005125802.tif 000023
【図２２】
2005125802.tif 000024
【図２３】
2005125802.tif 000025
【図２４】
2005125802.tif 000026
【図２５】
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【手続補正書】
【提出日】平成17年2月24日(2005.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
視覚的に認識可能な情報を表す回折構造を備え、データキャリアに用いられる多層構造からなる光学的可変素子において、
当該光学的可変素子は、プラスチック層の全面がエンボス加工されることで前記回折構造が形成され、前記プラスチック層の上または下に金属層が形成され、前記金属層が前記プラスチック層より狭い連続する領域を有することを特徴とする光学的可変素子。
【請求項２】
請求項１記載の光学的可変素子において、
層構造の１つまたはそれ以上の層を変化させることで個別化情報が記録されることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項３】
請求項２記載の光学的可変素子において、
前記個別化情報は、レーザ記録手段により記録されることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項４】
請求項３記載の光学的可変素子において、
前記個別化情報は、前記レーザ記録手段により当該光学的可変素子の少なくとも１つの層を黒化し、または、破壊することで記録されることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項５】
請求項２〜４のいずれか１項に記載の光学的可変素子において、
前記個別化情報は、数値情報の形式で記録されることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学的可変素子において、
当該光学的可変素子の少なくとも１つの層が、レーザを吸収する色素または添加剤を含むことを特徴とする光学的可変素子。
【請求項７】
請求項５記載の光学的可変素子において、
前記数値情報は、印字手段により記録されることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学的可変素子において、
前記金属層は、アルミニウム、銅、銀または金からなることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学的可変素子において、
エンボス加工された前記回折構造であるホログラムの少なくとも１つの層が染料または色素添加剤により着色されることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項１０】
請求項９記載の光学的可変素子において、
前記染料または前記色素添加剤は、透明体、発光体、または、吸収体として形成されることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項１１】
請求項１記載の光学的可変素子において、
前記金属層は、不透明体または半透明体からなり、プリントイメージは、前記金属層の下に形成されることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項１２】
請求項１１記載の光学的可変素子において、
前記プリントイメージは、透明インク、発光性インク、若しくは、赤外光または紫外光を反射するインクからなることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項１３】
請求項１２記載の光学的可変素子において、
赤外光を反射する前記プリントイメージは、赤外領域の光を透過する黒色層で覆われていることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項１４】
請求項１１〜１３のいずれか１項に記載の光学的可変素子において、
前記プリントイメージは、バーコード形式の機械コードからなることを特徴とする光学的可変素子。
【請求項１５】
支持部材及び前記支持部材に形成される層構造を有し、複数の光学的可変素子を製品に転写する転写バンドにおいて、
前記層構造は、製品に転写される前記光学的可変素子に対応し、
前記光学的可変素子は、プラスチック層の全面がエンボス加工されることで回折構造が形成され、前記プラスチック層の上または下に金属層が形成され、前記金属層が前記プラスチック層より狭い連続する領域を有することを特徴とする転写バンド。
【請求項１６】
請求項１５記載の転写バンドにおいて、
前記支持部材と前記光学的可変素子との間には、ホット−メルト接着層が配設されることを特徴とする転写バンド。
【請求項１７】
請求項１６記載の転写バンドにおいて、
前記接着層は、構造化パターンからなることを特徴とする転写バンド。
【請求項１８】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学的可変素子を備えることを特徴とするデータキャリア。
【請求項１９】
請求項１８記載のデータキャリアにおいて、
光学的可変素子の表面には、プリントイメージが形成されることを特徴とするデータキャリア。
【請求項２０】
請求項１９記載のデータキャリアにおいて、
前記プリントイメージは、金属光沢を有することを特徴とするデータキャリア。
【請求項２１】
視覚的に認識可能な情報を表す回折構造を備えた光学的可変素子の製造方法において、
当該光学的可変素子は、プラスチック層の全面がエンボス加工されることで前記回折構造が形成され、前記プラスチック層の上または下に金属層が形成され、前記金属層が前記プラスチック層より狭い連続する領域を有することを特徴とする光学的可変素子の製造方法。
【請求項２２】
請求項２１記載の方法において、
前記領域の外周部は、レーザ記録手段により形成されることを特徴とする光学的可変素子の製造方法。
【請求項２３】
請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の転写バンドを使用してデータキャリアを製造することを特徴とするデータキャリアの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一連のデータキャリア、特に識別カード等から成っているシステムであって、前記システムに属するデータキャリアが基準情報を含む回折構造を表していることを特徴とするシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
数十年の間にわたって光学的可変素子が各種の実施例で提案されている。これらの素子には、視角および発光角度に応じて種々の光学的効果を示すという共通点がある。光学的可変素子のうちのある特定の種類は回折効果に基づいている。これは直線状または構造化された回折グリッド、ホログラフィー記録、シネグラム等を含んでいる。
【０００３】
光学的可変素子は、非常に様々な分野に用いられており、例えば、広告や飾り付け等、更にデータキャリアを忠実に特徴づけるために用いられている。従来からこれらはかなり高い光学上の品質を備えているため、ホログラム、シネグラム、回折グリッド等の使用がセキュリテイ分野、例えば、クレジットカード、識別カード、銀行券、セキュリティ・ドキュメント等において高まっている。これらの好評性が高いということは本質的に二つの環境による。第１に、このような素子は、製造および模造のためにかかる高い経費、技術利用度の低さおよび更に機能的助力を加えない明瞭な分析能力に対する従来からのセキュリテイ上の要求を満たしている。第２に、このような素子は、最新技術に基礎をおいているので、対応した製品に対して、モダンで高度な特徴を提供する。
【０００４】
特許文献およびセキュリテイ分野における実用上の応用領域において、このような素子は、種々の態様で今日まで知られている。
【０００５】
最初のホログラムの出現の後すぐに、識別カード、クレジットカード等を模造や偽造から保護してカードユーザのパーソナルデータを通例の写真フォームおよび／または書込みフォームのみならず、カード上のホログラムにホログラフィー的に記憶する提案がなされた。従来のカードデータとホログラムに記憶されたデータとの間の比較は、その間の正しさを証明する。多くの関連した公報の内、ドイツ特許第２５０１６０４号、同第２５１２５５０号および同第２５４５７９９号が一例として示されている。
【０００６】
従来のセキュリテイ哲学は、確実性のある特徴を高度なものにするための労力の消費を必要とするが、この哲学は、本来必要な製造装置の持つ低利用度に対して適用できる。
【０００７】
各種のホログラムにおいて、最初のホログラムの配設は比較的面倒で高価である。しかしながら、この"主要費用"の端数で複製品を製造することが可能である。
【０００８】
このような実施例は欠点を生ずる。この理由は、ホログラムを非常に高価な技術装置で製造する必要があるだけでなく、個々の情報（パーソナルデータ）を持つ別々のホログラムをカード毎に製造する必要があるので、これらの個々のホログラム（ユニケート）を配設するための技術的な効果は常に割高である。これら好ましくない限界条件により、カードを特定するデータをホログラフィー的に記憶したホログラムの利用は、経済的な観点から不合理である。
【０００９】
種々の技術は、データキャリアあるいはホログラフィーの基準エレメントの種類に応じて使用されている。本発明の完了に至るまでの権利を主張せずとも以下の工程を説明可能である。
【００１０】
−適度な表面質を持った記録媒体、例えば、プラスチック材上にホログラム構造を直接エンボス加工する工程。
【００１１】
−ペーパーあるいはプラスチックの表面を備える記録媒体、例えば、銀行券、識別カード等の上に、中間キャリア上に設けられたホログラムをヒートシーリングあるいは接着する工程。
【００１２】
−中間キャリア上に設けられたホログラムを多層式記録媒体の内部にラミネートあるいは取着する工程。
【００１３】
−ペーパー製造工程中、ホログラフィー回折構造を備えたプランチェット（硬貨地板：Ｐｌａｎｃｈｅｔ）をペーパーに埋込む工程。
【００１４】
基準ホログラムを製造し、それをデータキャリアに取付けるための、今日最も頻繁に使用される方法は、識別カードにエンボス化されたホログラムを転写する方法である。その製造工程および個別化手段について一例を挙げて説明するものとする。方法ステップは本質的にはマスターホログラムの製法、ホログラムのコピーの製造および製造後の製品への応用である。
【００１５】
マスターホログラムは通常非常に高価な装置を用いて手作業による単品製造法によって作製される。それゆえ、マスターホログラムはコスト高となる。ホログラムのコピーは高速で比較的低コストで自動的に製造可能であると共に、カードのカバーホイルに適用可能である。最大数の同一コピーを作製することによってホログラム当りのコストを最小限に抑える試みが行なわれている。これにより、セキュリテイ分野、特にカード分野では、大量生産の必要性が偽造に対するホログラムによる保護を制限することになる。
【００１６】
ホログラムの製造コストを低減するために、ホログラムは確実性を持った特徴により使用されるが、ホログラムに記憶されたデータはユーザに対して個別化されず、カード発行者（基準ホログラム）に関する特性を表すような実施例が知られている。種々のカードシステムを構成するホログラムは互いに異なっているが、一システムを構成する個々のカードのホログラムは同一である。
【００１７】
カード・システム用に基準ホログラム（即ち、マスターホログラムの複写）を使用することによって、ホログラフィー記録技術に対する比較的高いコストを多数のカードに対して分散することが可能となった。一連のカードの範囲に応じて、個々のホログラムの価格用に複写コストだけが実質的に大きい数に対して分散することが可能となる。このことにより、ホログラムがセキュリテイ分野において初めて経済的に大量生産される物品として可能になった。
【００１８】
エウロチェック・システム（Ｅｕｒｏｃｈｅｃｋ  ｓｙｓｔｅｍ）並びにＶＩＳＡおよびマスターカード用クレジットカードの既知の応用例のほかに、これら種々の応用の例がドイツ特許第３３０８８３１号およびヨーロッパ特許第００６４０６７号に示されている。
【００１９】
現在のクレジットカードシステムで使用されるホログラムは、所謂"エンボス形ホログラム"として知られており、これはダイプレートによって再生可能となる。製造コストの主要部分はホログラフィー記録技術に係るが、連続製造でホログラムを再生するために計算すべきコストは依然高く、記録技術およびホログラムマスクの製造のための必要コストが非常に多数の連続した加工片間に対して割当て可能である場合だけ経済的生産が可能となる。小ロット、即ち数万から数十万のカードの生産は、通常財政上若しくは経済的理由から不可能である。
【００２０】
一連のカード内で同種のホログラムを使用する時、一システムを構成するカードを別システムのカードと明確に異ならせる。しかしながら、このようなホログラムはパンチアウト可能であると共に、他のカードに転写可能である。カードユーザに関するエンボス化されたデータを、部分的にまたは完全にホログラム領域にシフトすることによってこのような取り扱いが更に困難になる。しかし、前記データは再エンボス化可能であることが知られているので、このような取り扱いは実際上、専門家に認識可能である。基準ホログラムの領域にエンボス化されたカード特定データを入れることは他のカードへの転写に対してデータ保護を確実に行なうことはできない。
【００２１】
このような問題を回避すべく、オーストリア特許第３３４１１７号には、ユーザに関連したカードの個別化に対する基準ホログラムの応用が開示されている。この開示によれば、カード個別化は、夫々が所定の固有の情報、例えば文字または番号を含み、且つワード、マルチデジット数等を表わすいくつかの基準ホログラムを、一システムを構成する個々のカード上の夫々のコンビネーションを介して、組合せることによって可能となる。一組の標準プレスダイでこのようなホログラムをエンボス化することによって、個々のホログラフィーカードデータを有するシンプルで安価な製品が得られる。
【００２２】
しかしながら、英数字データが主にこのような変体に適用され、且つ特に画像データは容易に再生できないので、このようなホログラムの全体の印象は実質上非常に非効果的であり、この種の個別化は今日まで市場においてはあまり賛成されていない。
【００２３】
ホログラムを使用してドキュメントを個別化するための別の変形例は、ドイツ特許第２５５５２１４号に開示されている。数値若しくは英数字形式の回折構造がドキュメントに適用されるという提案がなされている。熱可塑性インクがペーパー基板上に数字形式で印字された後、回折構造が大表面を持つダイでエンボス加工される。
【００２４】
しかしながら、この種の変形例は、多層タイプのホログラムには好ましくない。これは、回折構造が内部に配置され保護されるので、データキャリアを製造するのに特に好ましい。
【００２５】
従来技術では、現在におけるセキュリテイ技術の必要性および経済的に合理化された解決策の実用化に対し、いまだ共通の基準を見出していない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２６】
このような一般的な観点および関連する従来技術を考慮すると、本発明は、次の課題に基づいている。即ち、回折構造要素、特にホログラム変体およびこれらを製造する方法であり、この方法は特定のセキュリテイ方面に採用されるホログラムの相対的な個別化を許すと共に、データおよびドキュメントを最大限に保護すると同時に、基準ホログラムの連続生産に対するコストダウンを実現する利点を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００２７】
この問題点は、発明の主クレームの前文に述べた特徴によって解決される。改良点は、他の独立および従属クレームに記載されている。
【００２８】
本発明の本質は次の通りである。常にいくつかの個々のステップから成る、ホログラムまたはホログラムカード等の製造は適当な段階で中断され、連続生産に全く制限を生ぜずに、または障害もなく種々の手段を選択的に区別化することによって、その製品が変更または個人専用化される。変更が行なわれる生産ステップに応じて、非常に異なったホログラム実施態様が、同種のホログラムマスターの使用にも関わらず最終製品（ホログラムカード）で得られる。個別化の範囲は、小ロットにとって重要な基準ホログラムとは外見上異なる同種のホログラムのサブセット部分から、基準ホログラムを改造して適切なユニケートにする個人専用化部分まで広がる。
【００２９】
ホログラムの製造は、ホログラフィー記録、一連の半製品、データキャリアへの結合または導入等の種々の技術を利用している。ホログラムの製造を実施する際、ある技術から他の技術に切替える方法ステップに対して個別化手段が適合すると、これらの手段は比較的に簡単に集積化され、ホログラム製造の連続性を可能にし、実際の製造工程およびその製造装置に何ら支障を与えることがない。
【００３０】
本発明の基本原理について、例えば、エンボス化ホログラムを参照して以下に説明する。このエンボス化ホログラムは、所謂"転写バンド"上に半製品として製造され、データキャリアに転写される。マスターホログラム、基準ホログラム（複写）、保護すべきデータキャリアおよびデータキャリアへ転写されるホログラムの製造に必要な種々の技術的領域が、データキャリアを他のものとはっきりと区別させる。容積ホログラム、シネグラム等を使用する際、本発明の基本的な考えを利用することが可能である。但し、常に可能ではないが可変範囲はエンボス化された転写ホログラムで可能である。
【００３１】
本発明により提案された方法は、特に、単独で個別化されたホログラムおよび小ロットの同種ホログラムの両方に対して、産業規模での製造における経済的に有利な点をすべて利用可能である。個別化手段を集積して製造工程とすると、個別化されたものを不可逆なものとすることができる。生産順序の障害および種々の個別化手段の組合せに応じて、同じマスターホログラムで開始される多数種の要素を作製可能である。
【００３２】
更に、本発明の利点および特徴は、図面および下記に例示された実施例により理解し得る。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、特定のセキュリテイ分野に採用されるホログラムの相対的な個別化を可能にすると共にデータおよびドキュメントを最大限に保護すると同時に基準ホログラムの連続生産をコストダウンさせることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
（エンボス化した転写ホログラムを製造するための方法）
第１図は、転写方法に基づくエンボス化したホログラムの製造およびそのデータキャリアへの利用における重要なステージを示しており、前記ステージは現在の技術状態では通例用いられている。
【００３５】
この方法は、下記の如く四つの工程に分割される。
【００３６】
−エンボスマスターの製造工程（Ｐｏｓ．１，第１図）。
【００３７】
−同一のダイプレートの成形工程（Ｐｏｓ．２，第１図）。
【００３８】
−転写バンド上にホログラムをエンボス化する工程（Ｐｏｓ．３，第１図）。
【００３９】
−ホログラムを製品に転写する工程（Ｐｏｓ．４，第１図）。
【００４０】
個々の方法ステップは技術的に明らかに互いに異なっているので、これらは完全に異なった製造エリアで実施される。これらのステップは、その複雑性ゆえに、完全に分離された生産工場内でしばしば行なわれる。一つの製造エリアから他への移行は、中間製品が所定の半製品の形で存在する技術的な接点で行なわれる。
【００４１】
第１図に示したこれら四つのステップの各々は、技術的な特徴を有する。ステップ１（Ｐｏｓ．１）ではエンボスマスターの製法、ホトグラフィまたはホログラフィー技術が主となる。この製造エリアは、構造上、フィルムスタジオと比較できる。ホログラムはホログラフィー化すべきオブジェクト（対象物）であり、モデル（通常１：１のスケール）として製造される。フィルム材をホログラフィー的に露光して、ホログラム（フィルム）を異なったフィルム材上にコピーして現像等を行ない、エンボスマスターが生成される。このエンボスマスター上には、ホログラムが、十分に滑らかで変形可能な材料で機械的型押によって複写可能である表面の細かいレリーフ構造の形で存在する。レリーフ構造がエンボス加工れると、高い機械加重による摩耗を受けるので、通常、エンボスマスター自身でなく、そこから派生されるダイプレートを用いたホログラムを複製（再生）する。エンボスマスターからのダイプレートの成形は限界内で繰返し得るので、これらは、所謂"サブマスター"または"サブ−サブマスター"等を介してマルチ・ステージ法で製造される。
【００４２】
ダイプレートは、通常エンボスマスター、サブマスター等から電鋳法で成形される。このための必要なステップは周知であり、その詳細な説明は省略する。ここで説明する価値がある唯一のことは次の通りである。ステップ２（Ｐｏｓ．２，第１図）に必要な製造条件は、化学産業におけるものと同等である。このステップ２で使用される製造装置は、直流電流の作用下で適切な金属塩の電界質溶液および化学添加剤にマスターレリーフをさらすために、主として、金属層が生成されるガルバーニバスを備える。
【００４３】
ダイプレートが存在する時、マスターレリーフをプラスチック面等に転写するために、ステップ３ではエンボッサーが使用される。本発明の方法に対して好適な変形例では、レリーフ構造はエンボス化されて標準化された"転写バンド"となり、これは半製品として中間ストレージ内に置かれ、且つ多種の方法でこの後に製造される"製品"上で使用される。
【００４４】
基本的にはワンステップ法またはツーステップ法でホログラムのレリーフを製品に加えることが可能である。ワンステップ法では、ホログラムのレリーフ構造は、製品の表面上に直にエンボス加工される。しかしながら、エンボス加工は、高い表面圧の作用下において滑らかで変形可能な表面上でのみ可能であるため、製品の品質によっては、多くの場合、この処理は成就できない。通常、高可撓性により、実際上ツーステップ法を選択し、レリーフ構造をまず中間媒体、例えば、転写バンドに形成して製品に接着、シールまたは固着する。本発明の原理は、いずれの方法も使用可能であるが、このツーステップ法による変形例が好適である。特に、転写バンドが中間媒体として使用される時に効力がある。
【００４５】
転写バンドは、必要な構造またはホログラムの所望品質およびセキュリテイ基準に応じて、いくつかのステップで製造される。このプロセスでは、中間の多層箔ストリップが製造され、その中にホログラムがエンボス加工され一列に設定される。次に、エンボス化されたストリップは、後コーティングを加え、微細なレリーフ構造を機械的損傷から保護するとともに、すべての人為的操作からも保護する。ステップ３（Ｐｏｓ．３，第１図）では、製造すべき構造の必要な品質および精度により精密で完全な機械製造装置が必要である。このステップ３で使用される技術装置は、通例、精密機械、印刷およびプラスチック技術におけるものに相当する。
【００４６】
ステップ４（Ｐｏｓ．４，第１図）では、完成したホログラムが転写バンドから製品に転写される。この場合、製品としては識別カード、ペーパー、銀行券等が好ましい。また、ホログラムをビデオテープレコーダ、レコード、服飾産業のラベル等に転写することも有益であると考えられる。ホログラムの転写は、ステップ３のように高度の自動化製造装置で行なわれる。ステップ３（Ｐｏｓ．８，第１図）に対比すると、転写がホログラムおよび／または製品の品質を損なうのを防止するために、荷重等の作用下で、二つの要素が相互作用する特定のパラメータ、例えば、物質の特性、処理温度、機械的安定度等を考慮する必要がある。異なった製品には、ホログラムを加えるための非常に異なった方法が必要である。通常、ホログラムの転写は、製品の製造業者自身かまたは製品のための包装、ラベル等を製造する請負業者のいずれかによって行なわれる。
【００４７】
第１図に示された方法ステップ（工程）について第２図を参照して以下更に詳しく説明する。
【００４８】
（エンボスマスターの製造）
通常、ホログラムは後述するオブジェクト（対象物）から製造されるので、モデルは、現在用いられているホログラフィー技術では、１：１のスケールでなければならない。このための必要な中間ステップ５は、第２図のＰｏｓ．５で示されている。モデルが存在する時は、レーザ再構成可能なホログラムを中間ステップ６で銀被膜化されたフィルム上に形成する。また"一次ホログラム"と称せられるこのホログラムは、所謂"レインボウ技術"によって第２ホログラムフィルム上にコピーされるので、ホログラフィーイメージを（レーザを使用しない）白色光で見ることが可能となる。このコピー操作で好んで使用される感光材はフォトレジスト層である。この方法では、網点構造からなる一次ホログラムを表面のレリーフ構造に変換する。このようにして生成されたホログラムは、通例"二次ホログラム"と称せられる。ステップ１における最終の中間ステップ７では、"エンボスマスター"が電鋳法で二次ホログラムから製造される。ホログラフィー情報は表面のレリーフ構造の形でマスターに存在する。
【００４９】
（ダイプレートの成形）
中間ステップ７で生成されたエンボスマスターは、高価なユニケートであり、また通常損傷および摩耗の危険性からホログラムをエンボス化するのには用いられない。その代わり、ツーステージ法またはマルチステージ法を使用して、再度電鋳法でエンボスマスターから"サブマスター"を成形し（中間ステップ８）、それらからダイプレートを成形する（中間ステップ９）。エンボスマスターで開始すると、サブマスターはネガレリーフ構造として生成される。ダイプレートをサブマスターからポジレリーフ構造として生成し、このダイプレートが表面のレリーフ構造をプラスチック材にエンボス加工するのに使用される。ダイプレートの寿命は、１０，０００回のエンボス化を越えることが殆どないため、かなりの数のダイプレートを製造する必要がある。
【００５０】
（転写バンドの生成）
転写バンドは多層構造を有し且つ少なくともキャリア層および多層エンボス層から成っている。転写バンドはいくつかの方法ステップで製造され、第２図に示すように、準備ステップ１０、ホログラムエンボスステップ１１および仕上ステップ１２に分割される。
【００５１】
準備ステップ１０では、キャリアバンドが、圧力および熱の作用下で後の転写操作における障害のない分離を許すように、エンボス可能な材料で被覆される。最も簡単なケースでは、キャリアバンドとエンボス可能なプラスチック層との間にワックス層を設けることによって得られる。ホログラムを反射によって認識可能とする場合、高反射能を持つ金属層を更にエンボス層上またはその下に設ける。
【００５２】
ホログラムエンボスステップ１１では、中間ステップ９で製造されたダイプレートを用いてレリーフ構造を押圧して、エンボス可能なプラスチック層で被覆する。次にこのように生成された表面のレリーフ構造は、少なくとも一つの保護層で覆われ、そのレリーフ構造を機械的損傷から保護する。この保護層は、ホログラムの光学的性質への害ができるだけ少なくなるようにエンボス層の材料と調和させる必要がある。ここではその種々の理由の説明は省略する。ホログラムを保護するために必要な層を保護層の上に施す。最後に形成された最終層は、転写および製品へのホログラムの接着を確保するためのヒートシール層である。
【００５３】
（製品への転写）
製品、例えば、カード、ペーパー等へのホログラムの転写は、既に述べたように、ステップ４で行なわれる。転写バンドの製造のように、中間の半製品を中間ステップ１３で生成する。識別カードの場合、これは、プリントカード上の刻印が既にカバーホイルで被覆されたカードブランクであり、必要なら、磁気ストリップ、サインストリップ等を構えても良い。しかしながら、この形で存在するカードブランクは、通常カード所有者のパーソナルデータを表さない。
【００５４】
ホログラムは、中間ステップ１４において転写バンドから製品の適切なエリア上に位置決めされ、所謂"箔押し装置"におけるホットプレスダイの力でカード上に押圧される。キャリアバンドが除去されると、ホログラムを有する多層構造は、ホットプレスダイの輪郭線上で引き離され転写バンドがとられる。ホログラムを備えたカードには、中間ステップ１５において、ユーザに関係するデータが、例えば、レーザ式個人専用化法によって備えられる。
【００５５】
この製造方法による結果、第２図に概略が示されているように、完成カード１６が得られ、これは、適切に配置されたホログラムと、ユーザに関連する中間データから成るデータ記録とを備えている。
【００５６】
第３図は転写バンド１９の断面図を示す。転写バンド１９は、ワックスからなる分離層２１が加えられたキャリアバンド２０から構成される。分離層２１の上には、保護層２２と、分離層２１より若干熱感応性の低い熱可塑性材からなる熱可塑性層２３とが形成される。熱可塑性層２３は、好ましくは真空蒸着された少なくとも厚さ５，０００オングストローム以下である薄く弱いアルミニウムからなる金属層２４でカバーされている。透明なホログラムを製造する際、金属層２４を取除く。キャリアバンド２０および層２５から２４は、半製品（原バンド）であり、そこにはレリーフ構造がエンボス加工される。
【００５７】
レリーフ構造のエンボス化を行なうために加熱されたダイプレートを金属層２４上に押圧する。熱および圧力の作用下で、熱可塑性層２３は、レリーフ構造が金属層２４にエンボス加工されるように排除される。次に第２保護層２５およびヒートシール層２６が、金属層２４上に加えられる。特殊な変形例では、層２５および２６が結合して一つの層になる。このように製造されたものは中間製品であり、これは同様に半製品として容易に貯蔵および移送することが可能である。
【００５８】
ホログラムの製品への利用として、第４図に示すように、転写バンド１９を、基板３０、例えば、カード上にヒートシール層２６を介して配設し且つその上に押圧する。加熱した転写ダイ３４または転写ロールでプレスを行なう。熱および圧力の作用下で、ヒートシール層２６に基板３０を結合させる。同時に分離層２１を溶融してキャリアバンド２０の除去を行なう。基板３０との結合およびキャリアバンド２０の分離は、分離層２１が加熱されるキャリアバンド２０の表面エリア内、即ち、転写ダイ３４のすぐ下方においてのみ行なう。その他の表面エリアでは、層構造体およびキャリアバンド２０とは、強固に相互結合したままである。キャリアバンド２０が基板３０から除去される時、層２２から２６は、転写ダイ３４の外形エッジ３３に沿って裂けるので、このように転写されたホログラムの外形は、常に転写ダイ３４に対応している。これにより、一層複雑な形状が実現可能となる。ヒートシールのプロセスは知られているが、例えばドイツ特許第３３０８８３１号に開示されている。
【００５９】
（転写されるエンボス化ホログラムを個別化する方法）
第５図は、ホログラムを製造すると共に、可能な個別化方法で同ホログラムをデータキャリアに供給するための全製造順序をフローチャートで示している。基準ホログラムを個別化するための本発明の着想に特に適合した方法ステップのみ説明する。第２図と比較したとき、第５図がより理解しやすくなるように、ここでは同じステップに同じ番号を付してある。
【００６０】
エンボス化ホログラムを個別化するための発明上の介在可能性は、矢印ＡからＧによって第５図に示されている。
【００６１】
発明の介在可能性は下記の如く示される。
【００６２】
−ダイプレート製造中（Ａ）。
【００６３】
−原バンド（層２０乃至２４）作成中（Ｂ）。
【００６４】
−転写バンド１９作成中（Ｃ）。
【００６５】
−完成された転写バンド１９上（Ｄ）。
【００６６】
−基板３０作成中（Ｅ）。
【００６７】
−ホログラムを基板３０へ転写中（Ｆ）。
【００６８】
−最終製品（完成カード１６）上（Ｇ）。
【００６９】
矢印ＡからＧで示された発明の介在可能性について次に説明する。
【００７０】
［個別化方法Ａ（ダイプレートの製造中）］
通常、ダイプレートはレリーフ構造のガルバーニックコピーによって製造される。製造方法として、ワンステージ法またはツーステージ法がある。しばしば適用されるツーステージ法では、例えば、エポキシ樹脂等の硬化可能なプラスチック配合物をマスター（エンボスマスターまたはサブマスター）の表面に添加する。硬化後、そのプラスチックをマスターから分離して、レリーフ構造の雌型を形成する。電気めっきによって、ニッケル層をこの雌型に加える。マスターのポジティブコピーであるニッケル層は、プレスダイの製造の基礎となる。
【００７１】
成形中、選択されたマスターの表面のみをダイプレートに転写することによって、第６図に示されるようなホログラフィックイメージからなる個々の外観形状をダイプレートに与えることができる。これは、文字、番号、会社マーク等を構成するエリアの輪郭において、ダイプレートだけにホログラフィックイメージを転写するかあるいはレリーフ構造体だけがプレスダイのエリア上に形成されるように処理することによって達成される。
【００７２】
従って、第６図に示された個別化ホログラムを生成するためには、非常に多数の等価的なアプローチがあげられる。特殊な変形例では、マスターの所定の表面を写真平版によってカバーする。このため、ポジティブに作用するフォトレジストラッカーをマスターの表面に加える。次に、これを文字あるいは会社マークの形状が見えたままであるマスクを介して露光する。前記ラッカーの露光中、露出面は、むきだしのままとなる一方、非露出面はカバーされたままとなる。プレスダイは、既知の方法で個別化されたマスターから成形され、これによりホログラフィックレリーフ構造がダイプレートの表面に転写される。
【００７３】
第６図の例は、このようにして仕上げられたエンボス化ホログラム４０を示している。基準ホログラム４１と対比すると、レリーフ構造またはホログラフィック情報３９が、エンボス化ホログラム４０において、文字Ｈによってシンボル化され選択された表面エリア４２内にのみ存在している。残りの表面エリアでは、金属層２４の非エンボス化表面エリア４３のみが見えるだけであるので、ホログラフィック情報３９が、表面エリア４２において所定の視角をもって非エンボス化表面エリア４３からくっきりと現れる。
【００７４】
もしカバーされた領域が、適当な溶剤および他のマスクで繰返される個別化操作を利用して再度むきだし状態にされるならば、個別化コピーを生成するのにマスターを繰返えして使用可能である。
【００７５】
この方法もまた同様にサブマスターまたはダイプレート自身に適用可能である。
【００７６】
ダイプレートに対して不可逆方法も適用可能である。個別化のために、例えば、ダイプレートに形成されたレリーフ構造は、化学的または精密機械処理によって、所定の領域内において除去若しくは変更可能である。精密機械装置を使用してレリーフ構造を選択的に除去若しくは破壊することも可能である。
【００７７】
このようにしてダイプレートを個別化することによりダイプレート当たり数千の個別化ホログラムをエンボス加工することができる。非常に多数の個別化ホログラムが必要な場合には、複数のダイプレートを個別化する。
【００７８】
［個別化方法Ｂ（原バンド（層２０乃至２４）の作成中）］
転写バンド１９の製造は幾つかのステップで行なわれる。準備ステップ１０では、分離層２１、続いて保護用ラッカーから成る保護層２２、そして最後に熱可塑性層２３をキャリアバンド２０、例えば、ポリエステルホイルに加え、第７図に示す原バンド２８を形成する。通例、金属層２４は、後記するエンボス化ホログラムが反射ホログラムになる場合、最上部層に真空蒸着される。透過型ホログラムに関しては、金属層２４が省略される。
【００７９】
原バンド２８は、層構造の適切な変更を行なうことによって、即ち、各層自身を変更するか、例えば、様々な着色を行なったり、これら層のうちの一層またはそれ以上を変更したり、あるいは別な要素、例えば、基準ホログラム（後に生成される製品）上に最終状態において視認可能な形で重畳されるプリントパターン２７を選択的に導入したりして個別化される。
【００８０】
基準ホログラムの産業上の生産規模に関しては、非常に多数の原バンド２８が必要となる。層構造の適確な変更によって基準ホログラムを製造できる。これらの基準ホログラムはその色と全体の凹凸模様の両方によって著しく異なっている。
【００８１】
原バンド２８を個別化するための最初の変形例は、保護用ラッカー（保護層）２２の層および／または熱可塑性層２３を個々に染色することである。第８図に示すように、これら二つの層はレリーフ構造の上方である製品の上部に形成されるので、透明色を使用するのが好ましい。よって、完成製品、例えば、カードとしての基板３０（第８図）における個別化ホログラムをそれら自身の主要な色効果によって区別することが可能となる。
【００８２】
別な変形例では、異なった固有の色を持つ種々の金属層２４を、熱可塑性層２３上に真空蒸着している。例えば、銅、銀または金を使用して、三つの異色ホログラムをこれら金属で生成する。金属層２４の色は、カード全体の色模様と調和可能であり、例えば、異なった範囲のカードを識別するのに使用できる。
【００８３】
三番目の変形例では、従来の印刷機によって原バンド２８を構成する層２２、２３のうちの一つに個別化用のプリントパターンを施す。好適な印刷技術としては、オフセット印刷、スクリーン印刷または他の既知の印刷技術があげられる。小ロットを単位として個別化する場合には、プリントパターンを所定数のホログラムに対して一定とすればよい。このプリントパターンは、ホログラフィックイメージと調和することが好ましい。このプリントパターンは、グラフィック構成の感覚に関するホログラフィック情報を表すために縁、中心図柄等を構成している。このような個別化ホログラムの全体模様は、ホログラフィック記録およびプリントパターンによって均一に最終状態で決定される。
【００８４】
更に別な変形例では、プリントパターンにホログラム間で異なる模様やデータを設定する。この一例には連続番号付けがあり、この番号は数字プリントユニット等を用いて発生可能である。
【００８５】
ホログラムに対して所定のアライメント状態でプリントパターンを次のデータキャリア上に現す場合、プリントパターンおよび次のホログラムは、一方が他方に正確に位置決めされるように設計する必要がある。この正確な位置決めに関する処理については、周辺の孔あけ、レジスターマーク等の、印刷技術で知られている手段を使用可能である。
【００８６】
非常に多数の実行可能な変更要素としては、所定の光学的効果を引き起こすと共に、特殊形式の個別化を実現する種々のプリント技術、染料、インクおよび金属層の使用が挙げられる。特に、特殊な照明によって認識可能な個別化手段である発光性若しくは燐光性物質の利用が挙げられる。
【００８７】
第８図乃至第９図は、上記に述べたように保護用ラッカーの保護層２２から成る個別的なプリント層を備えたエンボス化ホログラム１７を示している。プリントパターン２７は、保護用ラッカーの保護層２２の層面に施され、且つ熱可塑性層２３でカバーされ、この層の上に金属層２４が形成される。既に述べたように、ホログラムのレリーフ構造は、この原バンド２８上でエンボス化される。更に層２５、２６が形成された後、転写バンドの製造が完了する。
【００８８】
第８図は、後の製品、即ちカード等の基板３０の上に配置されて個別化された製品を示している。この代表例によれば、プリントパターン２７は金属層２４上であってホログラムのレリーフ構造上に配置される。視角とは無関係のプリント情報を表すプリントパターン２７が覗ける。プリントパターン２７は、金属光沢を有する背景上に配置され、この背景にはホログラフイック情報３９が所定の角度内における広いエリアにわたって認識できる。第９図に示されたプリントパターン２７は、一連の個別化ホログラムで同一であるデータ４７と、ホログラム間で異なるデータ４８とを備えている。
【００８９】
［個別化方法Ｃ（転写バンド１９の作成中）］
次のホログラムエンボスステップ１１では、ホログラフィックレリーフ構造が、熱および圧力の作用下で真空蒸着層である金属層２４にエンボス化される。製造方法に応じてエンボス化および金属層２４の形成を当然逆の順序で実行することができる。最終ステップ１２では、保護用ラッカーの第２保護層２５およびその上に配置されたヒートシール層２６が加えられる。最終形態としての転写バンド１９の断面は第３図に示す通りである。
【００９０】
個別化に関しては、仕上ステップ１２において、個別化用プリントパターンが直接金属層２４または第２保護層２５上に設けられ、次にホット−メルト接着層であるヒートシール層２６によってカバーされる。プリント方法およびプリントパターンは、個別化変形例Ｂにおけるものと同じにすることができる。なお、プリント操作がエンボス層である熱可塑性層２３および金属層２４に存在するホログラムのレリーフ構造に損傷を与えないことを確認する必要がある。
【００９１】
このように製造された転写バンド１９は、第１０図に示す通りである。この実施例では、プリントパターン２７はホット−メルト接着層であるヒートシール層２６と第２保護層２５との間に存在する。
【００９２】
ホログラムが基板３０に転写されることにより、第１１図に示すように、プリントパターン２７が基板３０と金属層２４との間に形成されることになる。金属層２４の下方にプリントパターン２７が配置されるので、このプリントパターン２７を視覚的にまたは機械的に認識可能にさせるために特殊な方法が必要である。
【００９３】
金属層２４を省くならば、レリーフ構造をエンボス加工した後に施されたプリントパターン２７を視認可能にさせることは至極簡単である。この場合、"透過型ホログラム"について説明する。これは、後述する個別化方法Ｅに関連して討議される各方法において非常に役に立つ。
【００９４】
金属層２４を完全に省略する代わりに、十分な透明度でプリントパターン２７を認識可能にするため、数十オングストロームの範囲に金属層２４の層厚を低減させる。種々の金属が極めて薄い層内に存在する時、それらは入射光および透過光において種々の色効果を表すので、特殊な金属を使用して、更に色効果を達成できる。
【００９５】
金属層２４の代わりに誘電体層を真空蒸着することが可能である。層構造に応じて、誘電体層は、透過光および入射光を利用した特殊なスペクトル特性を出現する。多数の光学的方式から採用される例として、部分的に透過可能なミラーコーティング層、視角によって色の変わる反射層が挙げられる。これらの変形例では、プリントパターン２７は所定の視角でのみ認識可能である。更に別の変形例では、金属層２４が、例えば、並んで配置された金属的な反射および透明エリアから成る精密スクリーンとして設計される。透明エリアは、１／１０ｍｍの範囲およびそれ以下のスクリーン幅で与えるのが好ましい。スクリーンは、視覚的に分解能以下となるため、ギャップが有るにも関わらず部分的に均質な反射面として現れる。この場合、プリントパターン２７はどの視角からも認識可能である。プリントパターン２７を自動検出する場合、長波スペクトル範囲内では反射可能に作用するが、短波領域では透明に作用する誘電体層を使用することが有益である。紫外光および可視光との間の領域に誘電体層のフィルタエッジが設定されるならば、プリントパターン２７は視覚から隠れたままとなるが、紫外光検知器で識別可能である。
【００９６】
同様に、金属層２４が赤外光透過層として形成される場合、赤外領域内でのみ読出し可能な書込ホログラムが得られる。例えば、可視スペクトル領域内で不透明なブラック（暗色）として現れ、且つ赤外領域では透明で透過可能である金属層２４が保護ラッカー層である第２保護層２５によってカバーされる。この場合、プリントパターン２７は、赤外光反射色から構成され、また上記に述べたように、保護用ラッカーの第２保護層２５と接着層であるヒートシール層２６との間に配置される。後記のカード上では、ホログラフィックイメージが部分的に金属化され、見掛上暗色である背景に対して視覚上はっきりと認識可能である。同時に第１２図の点線によって示された赤外プリントパターン５０は、適当なセンサを使用して読出し可能である。
【００９７】
プリントパターン２７の設計に応じて、所定期間中は不変であり、あるいは連続的に変化するマーキングを実現することが可能である。もしプリントパターン２７が、非可視スペクトル領域内で読出し可能である情報を表すものとして形成される場合、プリントパターン２７を、英数字記録としてでなく機械コード、例えば、バーコード等の形で形成することにより、更に最適化が可能となる。
【００９８】
更に、ホログラムの個別化は、転写バンド１９の作成中に接着層であるヒートシール層２６を形成することにより可能となる。ヒートシール層２６は、１つのパターンの形で基板３０に加えられる。圧力および熱の作用下で広い表面が転写ダイ３４によってカバーされる場合でも、基板３０への転写の際、ホット−メルト接着層であるヒートシール層２６だけを基板３０に粘着できる。ヒートシール層２６の形状に応じたホログラムの所定のエリアだけが基板３０に選択的に転写される。この場合、転写ダイ３４の形状とは実質上独立している。このような方法が転写バンド１９の製造中の最終作成時に適用され、且つ転写バンドの製造における比較的後段で取入れられるので、前記方法は特に有利な個別化の変形例となる。転写バンド１９を、ヒートシール層２６を加えないで半製品として中間配置場所に設けることが可能であるので、同様に、この変形例は、急に所定の蓄積場所で所望数の単位で個別化しようとする転写バンド１９の作成を可能にする。
【００９９】
［個別化方法Ｄ（完成した転写バンド１９上）］
例えば、第３図に示された転写バンド１９の最終仕上の後には、他の種々の実行可能な個別化方法がある。この実施例では、転写バンド１９が完成中間製品として存在するので、この段階における個別化は特に有利である。転写バンド１９は、この段階で存在する保護層によって、損傷から比較的良く保護される。
【０１００】
個別化方法は、主に、転写バンド１９の一つまたはそれ以上の層に個々のデータを記入すること、または層材の不可逆変換若しくはその除去に基づいている。
【０１０１】
データはレーザによる記入法を使用して記入される。レーザ記入装置は、キャリアバンド２０または保護ラッカーのヒートシール層２６を介して不可逆変化、または、例えば、ブラックニング、回折構造の破壊、金属層の除去等の層構造体の破壊を発生させるのに使用される。層構造体の位置に応じて、記入されたパターンは、完成カード１６上で直接視認でき、または金属層２４の下に隠蔽される。
【０１０２】
レーザ記入法は、記入すべき媒体によるレーザ放射の吸収に基づいている。通常の反射ホログラムは一般にこのような記入に対し非常に適していることが分かっている。レーザ記入能力が十分でない場合、それは特に透過型ホログラムの場合に当てはまる。転写バンド１９を構成する一つ若しくはそれ以上の層に吸収色または添加剤を加えることによって、記入品質を高めることが可能となる。もし、レーザエネルギが正しく計測されるなら、特殊層が分離可能に感光されるように転写バンド１９の前記特殊層に感光性を与えることができる。
【０１０３】
通常、個々の層の厚みは薄いので、高レーザパワーは、全層にわたる構成材の完全な気化状態またはプラズマ状態を導く。このようにして、転写バンド１９の記入文字が得られ、これらが加えられる側に関係なく、これらの記入文字は常に完成した製品上で明確に認識でき、また後で変更することはできない。もし導入されたデータが偽造不可能な形式で存在するならば、このような点は特に重要となる。
【０１０４】
レーザ記入法の代わりとして、転写バンド１９に機械的に形成される穿孔５２を設けることが考えられる（第１３図）。ホログラムのエリア内に一種のマトリクスプリンタを使用して穿孔５２を形成し、またはハードな組打抜きダイによってパンチパターンを形成する。ホログラム間で異なる特に複雑な穿孔５２に関しては、Ｘ−Ｙ制御式型彫り工具で構成材を除去する彫刻盤を使用することが可能である。
【０１０５】
レーザによる文字記入または構成材の機械的除去に使用可能である装置は、当業者には既知であるので、ここではその詳しい説明は省略する。
【０１０６】
［個別化方法Ｅ（基板３０の作成中）］
ホログラムに使用した方法を基板３０上に選択的に適用することによって一層の効果が得られる。基板３０の表面にマーキングが施され、このマーキングは、ホログラムによって全体的にまたは部分的にカバーされ、ホログラムを介して認識可能である。
【０１０７】
第１４図乃至第１６図は、これらの方法を構成する第１の変形例を断面図と正面図とで示している。第１４図は、ホログラム１７が配置されたプリントパターン６０を備えたカードを示している。プリントパターン６０は、ホログラム１７によって一部だけカバーされるので、プリントパターン６０によって表される情報は、一部だけアクセス可能である。第１５図は、第１４図の断面で示したカードを正面図で示している。透明なホログラム１７が使用される時、ホログラム１７の下に配置されるデータは、ホログラフィック効果が無い視角でアクセス可能であるが、それ以外の視角ではアクセスできず、または人為的操作から保護される。このように、カードの重要な情報は視覚的にチェック可能であるが、直接的なアクセスから免れ、また、重要性の低いデータは自由にアクセスし得るままである。また、反射ホログラム（金属層２４を有するホログラム）の使用は、視覚的なアクセスを防止し、ホログラム１７の下に配置されるプリントパターン６０を装置によってのみチェック可能とする。
【０１０８】
データキャリアの構成部材は、種々様々な材料、例えば、多層式カード構造体、プラスチック式カードブランク、包装用部材等でも良い。第１４図に示されるように、基板３０上に配置されるホログラム１７が、プリントパターン６０の直ぐ上方に形成されるようにするならば、この個別化変形例は特に効果を表わす。このように、種々に設計できることのみならず、ホログラム１７の下に位置するデータをも保護することが可能となる。これは、ホログラム１７を破壊せずにこれらのデータを変更したり除去したりすることはできないからである。例えば、ペーパーに記録された重要なデータは、ホログラムとの重畳によって光学的に強調される一方、アクセスから保護可能である。
【０１０９】
先の変形例のように、プリントパターン６０は、非常に多数のデータキャリア上で一定のモチーフ、会社マーク等を表すことができ、あるいはデータキャリア間で異なる情報とすることができる。プリントパターン６０をプリント後、ホログラム１７はデータキャリア上に載置される。ホログラム１７のデザインに応じて、プリントパターン６０の認識可能性は変わる。透明なあるいは一部透明なホログラム１７は、プリントパターン６０を視覚的に認識可能とする。赤外−あるいは紫外−透過性ホログラムは、装置によってのみ読出される隠れ記入文字用として設けることが望ましい。一部あるいは全部が赤外−および／または紫外−透過性ホログラムの設計の実現性については、既に上記説明で述べた。
【０１１０】
第１６図に示された更に別な変形例では、金属光沢を持つ背景を、本ケースの場合紋章を表すが、会社略符、文字あるいは類似のマークでも良いプリントパターン７２をホログラムエリア内のデータキャリア７０に加える。このように生成されたデータキャリア７０上において、ホログラムは、反射層を含まないかあるいは光沢面が認識できる一部反射式金属ミラーを備えているかのいずれかである。従って、マークは、ホログラムを補ったりあるいは、ホログラム上に接着されたものを介して少なくとも視覚的に認識可能である。これにより、プリントパターン７２は、もし透明なホログラムが使用されるなら、プリントパターン７２が優位となり、もし半透明なホログラムが使用されるなら、ホログラフィック情報７１が優位となる。
【０１１１】
第１７図および第１８図に示された更に別な変形例では、ホログラム１７が、スチール陰刻プリント情報と共に、一種の半透明レジスタを形成するペーパー７５に使用される。ペーパー７５にはスチール陰刻プリントパターンが形成され、インキ側にポジティブ・レリーフを設け、インキに調和した裏側にネガティブ・レリーフ７８を設ける。スチール陰刻プリントのエリア内でネガティブ・レリーフ７８にホログラム１７を加える。ホログラム１７を転写した後、ネガティブ・レリーフ７８は依然はっきりしている。これは、ホログラム１７の接着性がネガティブ・レリーフ７８において低下しているからである。そのため、ホログラム１７の表面では、スチール陰刻情報が割込情報としてホログラム１７内に存在する。本ケースの場合、プリントパターン７７は、ホログラム１７のくぼみ（ネガティブ・レリーフ７８）に調和して検出可能である。
【０１１２】
第１７図と第１８図で説明した方法の変形例では、第１９図に示すように、当然ホログラム１７は前記ペーパー７５の表面に施すことが可能である。本ケースでは、スチール陰刻レリーフの先端だけにホログラム１７のパッチが被覆される。この方法は、所謂"ブラインディング"あるいはブラインド・ストッキングとのコンビネーションで特に有効である。この場合、プリントパターン７７が省略されるので、ホログラム１７だけがネガティブレリーフ７８をカバーする。
【０１１３】
ホログラムは、常に、極めて簡単に調和してデータキャリアのレリーフに転写されるので、第１７図乃至第１９図で説明した変形例は、特に利点がある。またこのような応用例（スチール陰刻プリントあるいはブラインド・ストッキング）は従来のペーパー設計に十分に適合すると共に、極めて簡単に集積化して典型的な生産方法を産みだすことが可能となる。
【０１１４】
［個別化方法Ｆ（基板３０へのホログラムの転写中）］
この方法ステップでは、ホログラム１７は、加熱された転写ダイ３４によって転写バンド１９から基板３０へ転写される。この転写は転写ダイ３４の接触面の下方においてのみ行なわれる。転写ダイ３４の除去後、ホログラム１７は、転写バンド１９が除去される時、転写ダイ１９の接触面のエッジに沿って裂ける。従って、基板３０に接着するホログラム１７は、転写ダイ１９の輪郭形状を持つことになる。
【０１１５】
このステップでは、転写ダイ３４の接触面の輪郭を選択的に変えることによってホログラム１７を個別化可能である。従って、ホログラム１７には、転写ダイ３４と同じ輪郭が夫々与えられる。このように、ホログラム１７は、特殊なモチーフ、会社略符、文字等の形で設計可能である。モチーフは、ポジティブプリントおよびネガティブプリントの両方で表示することができる。第２０図は、このような応用例の概略図を示す。元のホログラム１７は、円８０の外形形状を有する転写ダイ３４によって基板３０に転写される。なお、ライン８１、８２で囲まれた紋章形状を表すホログラム１７の部分は転写されないようにする。
【０１１６】
一個の転写ダイ３４を製造することによって、いかなる個数の個別化ホログラムを転写形成可能になるということは、当業者にとって明らかである。図形的な構造を実質上かなり精密に設計することができ、またプリントパターンの全エリアまたは一部を置換えたり補ったりすることも可能である。転写ダイ３４は、簡単な画像シンボルあるいは文字のみならず、複雑な線または縄編み模様の構造体もまた表示するように設計可能である。精巧に設計されたこのような"ホログラム・エンボス"形状は、多方面に使用可能である。このような応用例として、大表面のホログラム表示ができない場合において、複数のホログラムを全プリントパターン上に集積して形成することができる。
【０１１７】
これら個別化方法を構成する更に別な変形例では、転写ダイ３４はマトリクス式型押装置によって置換えられる。市販で入手可能なこれら装置は、転写ダイ３４の形状を変更することを可能にするので、ホログラム間で変わる輪郭構造体もまた、この方法ステップで製造可能である。
【０１１８】
［個別化方法Ｇ（最終製品上）］
この方法ステップでは、基板３０に転写されたホログラム１７が一部除去され、あるいは、適当な層の変更または破壊によって修正される。
【０１１９】
最初の変形例は、レーザペンシルを使用して情報を記入することによる個別化方法である。レーザパラメータやホログラム１７の構造に応じて、種々の記入効果を得ることができる。この効果はレーザビームやホログラム構造の種々の相互作用に基づいている。このように、ホログラム１７における小さな突起、色変化、ホログラム１７の所定エリアの局部的破壊、あるいは、完全な除去を達成可能である。
【０１２０】
第２１図は、二つの典型的な文字記入変形例を断面で示している。ホログラム１７は、レーザビームの高エネルギによって完全に破壊されるだけでなく、基板３０もまた、マイクロレリーフ８５が記入エリア内に存在するように変形する。通例、基板３０は、このようなレーザ記入法で局部的に焼かれるため、記入エリアに形成された文字は、良好に読むことのできるように黒化される。マイクロレリーフ８５は、更に、他の記入変形例とレーザ記入法とを区別する。
【０１２１】
レーザエネルギを低減することによって、ホログラム１７を局部的に除去することができるので、極端な場合、データがくぼみ８６によってホログラム１７内に形成される。上記方法Ｄに述べたように、理論上、同じ技術を個別化方法に適用できる。しかしながら、転写バンド１９（方法Ｄ）上における個別化に対比すると、ここで述べた個別化の形式は、基本的にどんなホログラムの個別化にも対応する最終製品に適用される。技術的方法が個別化処理に使用され、またカードの個人専用データを提供するのに使用される時、特に有利となる。レーザ記入システムの使用は特に推薦できるものである。しかしながら、原理的には、他の方法もまた適用できる。個別化方法による結果が元に戻らないように、これら方法が不可逆状態でホログラム１７に作用することを確認する必要がある。
【０１２２】
（個別化方法の組合せ）
上記個別化方法ＡからＧは、ダイプレート製造、転写バンド製造および製品製造の種々のステップに基づいてホログラムの個別化を可能にする。基準ホログラムを作成する際、同じエンボスマスターの使用にも関わらず、非常に様々な基準ホログラムを製造するための色々な変更を行なう方法を提供できる。最終製品におけるこれらホログラム１７は、個々の特徴化に対してだけでなく、製品に設けられたデータの保護に対しても適用可能である。
【０１２３】
個別化方法ＡからＧは、個々に使用できるだけでなく、個別化方法の所望の組合せによって設計の可能性の増大もひき起こすということは、当業者にとって明らかである。非常に多数の可能性について、例えば、いくつかの変形例について以下に説明する。ここで、先の例で使用した参照番号を可能な限り使用する。
【０１２４】
第２２図は、ホログラフィック情報３９が矩形のデータキャリア７０の全体面にわたって存在する一方、金属層２４が紋章の形でのみ存在するような個別化されたホログラム１７を示している（個別化方法Ｂ）。紋章のエリアには、プリントパターン２７（方法Ｂ）およびレーザペンシルで記入された完成製品上のホログラム１７を特定するデータを表すマイクロレリーフ８５（方法Ｇ）がある。ホログラム１７の外部の保護層２２をイエロー（方法Ｃ）とすることで、紋章にイエローが現れる。ホログラム１７は、製品上にプリントされるブルーエリアのプリントパターン６０上に加えられる（方法Ｅ）。
【０１２５】
上記実施例では、所定の角度で所望のホログラフィック効果をはっきりと表すイエローに着色されたホログラム１７が紋章のエリア内に現れる。紋章を囲むホログラム１７のエリアはグリーン（ブルーおよびイエローからの第２カラー）となる。これにより、鋭さは鈍いけれど、ホログラフィック情報３９は、このエリアで認識可能である。見掛け上、緑がかったイエローからなる矩形状のホログラム・フィールドであるデータキャリア７０は、ホログラフィック効果はないがホログラフィック表示の色を補うブルーエリアからなるプリントパターン６０によって囲まれる。
【０１２６】
第２３図は、矩形状のバーの上に円の輪郭形状を備えた個別化ホログラム４２が使用される更に別の実施例を示す。個別化ホログラム４２の形状は、ホットプレスダイである転写ダイ３４の輪郭形状によってエンボス化される（方法Ｆ）。矩形状のバーのエリアには、レーザペンシルによって生成され、且つホログラムエリアにくぼみ８６として存在する数値データがある（方法Ｇ）。ホログラム４２の円形エリアには、プリントパターン２７が、転写バンド１９の作成中、ライトブルーのインキを備えたレター"Ａ"の形で形成される（方法Ｃ）。円の輪郭内に存在するシルバーの金属層２４は、半透明ミラーとしてプリントパターン２７の上方に配置される。個別化ホログラム４２は、基板３０上に設けられたイエローからなるプリントパターン６０上に配置されている（方法Ｅ）。
【０１２７】
円の輪郭内に形成されたホログラム情報３９は、ライトブルーのプリントパターン２７が認識できる銀色面として現れる。所定の視角範囲において、プリントパターン２７上に重畳されるホログラフィック的に記憶された情報は、ホログラム４２の全表面に現れる。くぼみ８６だけが視角とは関係なく、周囲と良好なコントラストで認識可能である。全体の構成はイエローのプリントパターン６０によって囲まれる。
【０１２８】
第２４図は、半透明のペーパー１０２からなる別な実施例を示している。そのペーパー１０２は、スチール陰刻プリントによって施されたプリントパターン１０１を備えている（方法Ｅ）。ペーパー１０２の裏には、透過型ホログラム１００が、プリントパターン１０１の円形形状で形成される（方法Ｆ）。ホログラム１００自身には、金属層が形成されていなく、且つ二つの保護層（保護層２２，第２保護層２５）が透明な赤色に着色された透過型ホログラムとして設計されている（方法Ｃ）。
【０１２９】
スチールプリントモチーフであるプリントパターン１０１と、赤色に着色された透過型ホログラム１００とがペーパー１０２の両側から認識可能である。
【０１３０】
（容積フィルム・ホログラムの個別化）
序論に述べたように、発明の個別化方法は、転写されるエンボス化ホログラムには特に有益である。しかしながら、本発明の利用はこの種のホログラムに限定されない。発明の利用について、容積フィルム・ホログラムに関連して以下に説明する。
【０１３１】
容積ホログラムの一連の生産の重要なステージは以下を含む。
【０１３２】
−一次ホログラムの生成。
【０１３３】
−コピーによるホログラム（二次ホログラム）の再生。
【０１３４】
−ホログラムの基板への利用。
【０１３５】
各ステップについて第２５図を参照して以下詳細に説明する。第２図および第５図で述べた詳細な内容を基礎として、二つの方法の間の差だけについて主として扱う。
【０１３６】
方法ステップ１０１では、ホログラムが感光材上のオブジェクトから作成される。これは、オブジェクト光線を持つ基準光線を写真乾版上に重畳させる通常の技術によってなされる。現像および定着後、この写真乾版は一次ホログラムとなる。
【０１３７】
一次ホログラムのコピーは、一次ホログラムに機械的な荷重を課さない完全に光学的な工程であるので、エンボス化ホログラムに必要な中間サブマスターステップを必要とせずにエンボスマスターに対応する一次ホログラムから幾つものコピーを作り出すことができる。
【０１３８】
しかしながら、特に、もし多量のコピーが一次ホログラムから異なった時間で生成されるならば、方法ステップ１１１において、最終ホログラムフィルムの露出用に使用される工作物としての一次ホログラムから二次ホログラムを生成することによって、あらゆる種類のダメージ、特にひっかききず等を回避することが期待できる。
【０１３９】
フォトレジスト材は使用されないが、通常のホログラムフィルムを使用する場合を除いてサブマスターあるいはダイプレート（Ｐｏｓ．２，第５図）の製造にほぼ匹敵しうるような従来技術によって、二次ホログラムが中間ステップ１０２において生成される。
【０１４０】
中間ステップ１０２では、容積ホログラムに必要なフィルムが生成される。写真技術では通例であるように、ホログラフィックフィルムは、少なくとも二つの層、即ち、キャリアバンド、例えば、ポリエステルフィルムや感光性エマルションから構成される。
【０１４１】
方法ステップ１１１では、このように製造されたフィルムが、製品上で使用すべきホログラムを製造するための方法ステップ１０２におけるように、正確に露光される。これは、オブジェクトがホログラムフィルムで置換えられる場合を除き、一次ホログラムを露光するのに用いられる元のホログラフィック構造体を使用することによる公知の方法で行われる。共役基準光線（時間と方向が逆）が二次ホログラムに照射される。この場合、オブジェクトの元の位置で実像を形成する。第２の基準光線により、虚像がホログラムフィルム上に記録される。自動的にコピー操作を操返すことによって、連続生産で幾つものホログラムを生成可能である。
【０１４２】
露光後、中間ステップ１１２では、フィルムが現像され定着される。保護層、接着層等の付加層を加えることも可能である。
【０１４３】
完成フィルム上には、種々の方法で中間ステップ１１７を適用することができる。これは、エンボス化ホログラムの転写バンドの処理と全く類似している。
【０１４４】
基板は方法ステップ１１３で作製される。これらの方法もエンボス化ホログラムのものと類似している。
【０１４５】
方法ステップ１１４では、ホログラムが基板に付加される。基板および目的に応じて、ホログラムを基板に固定するための種々の実行可能な取付装置がある。この関係において共通の技術は、ホログラムを基板に接着したり、あるいは識別カード等の、多層基板を構成する層構造体にホログラムを積層したりすることである。いずれの場合でも、ホログラムはフィルムを打抜き、基板上に配置する。
【０１４６】
最終製品は方法ステップ１１５で処理される。ここで行なわれる方法は、エンボス化ホログラム用に必要なステップと類似している。
【０１４７】
（容積フィルムホログラムのための個別化方法）
容積ホログラムを個別化するのに使用すべき個別化方法は、エンボス化ホログラムに関連して説明したものと非常に似ている。
【０１４８】
最初の実現可能性（方法Ｈ）は、方法ステップ１０２で与えられる。このステップでは、マスクまたは再生装置を光路中の適当な位置に挿入することによって個々の外観がホログラフィックコピーに与えられるので、ホログラフィックイメージが、選択された表面エリア内のホログラムフィルム上で変更されたり、あるいはそのイメージだけがそこに記録される。このように、ホログラフィックイメージを特定の輪郭形状、例えば、ブロック字体のものに与えることができ、あるいはホログラフィックイメージからこのような形状を除外することも可能である。方法ステップ１１１におけるホログラムの複製は実質上方法ステップ１０２におけるものと同等であるので、個別化変形例Ｉでは同一または類似の処置が可能である。
【０１４９】
ホログラフィックフィルムの製造中（中間ステップ１１０）、キャリアバンドまたはエマルション層を適当な染料で色付けしたり、あるいはキャリアバンドの上方または下方に別な染色された層を設けるかによって、個別化方法を共通のフィルムに処理することが可能となる。同様に、この個別化変形例Ｋにおける一方の側または両側にフィルム材をプリントすることが可能である。容積ホログラムが使用される時、フィルム層が通例キャリアバンドと共にその後の基板（製品）に施されるので、これに応じてキャリアフィルムにマークを付すことも可能となる。ホログラフィックフィルムを作製する時の別な個別化方法とは、番号、略符等の適当な画像モチーフでフィルムを予め露出させることである。
【０１５０】
個別化方法Ｌ、Ｍ、Ｎ、ＯおよびＰに関しては、類似した実現可能性により、第５図で説明した方法に言及する。異なったホログラフィックフィルム材により、いくつかの適応構造が必要となる。もし本発明の基本的な着想が知られているなら、これらの適応構造は当業者にとって明らかになるので、ここではその説明は必要ではない。
【０１５１】
当業者も理解されるように、さらに複雑な変形例を得ようとしたい時は、種々の個別化方法ＨからＰを互いに組合せることが可能である。
【０１５２】
（応用の範囲）
個別化ホログラムは、このホログラムが最終製品上に如何に存在するかによって下記の如く区別される幅広い応用分野を有している。ホログラムをデータキャリアの表面に加えることは、一般に行なわれている。データキャリアとしてはペーパーを用いることができる。この対象となるものは、銀行券、識別ドキュメント等がある。また、プラスチックを用いることもできる。この対象となるものは、識別カード、プラスチック式銀行券、ビデオテープカセット等がある。特殊な実施例では、ホログラムが製品の所定部分に制限を加えることが可能である。また、他の特殊な実施例では、ホログラムは製品の全表面をカバーする。
【０１５３】
識別カードおよびクレジットカードの分野では、これら異なった変形例が現在一般的になってきている。ホログラフィック要素は、製品に埋込むことが可能である。ホログラムを多層式プラスチックカードに積層することが知られている。ホログラムは、略符、集積された画像モチーフ等の形で、例えば、セーフガード用スレッドとして多くの実施例に現れている。これは、接着すべきホログラム用の多層式カードの層に開口部を形成するような一種の取付技術によって導入することも可能である。
【０１５４】
同様に、ホログラフィック要素を直にペーパーに埋込むことが可能である。ホログラフィック材をバンド、ストリップあるいは貨幣地板に切り開いて作製するのが好ましい。これらのエレメントはペーパーの製造中に加えることが好ましい。これにより、例えば、"窓付きセーフガード用スレッド"の形でペーパーに存在するならば、保護技術は特に有効である。
【０１５５】
多数の可能な変形例により、本発明は、基準ホログラムでスタートする技術的要求および／または設計に関係した要求に最終製品を正確に適合させる可能性を当業者に与えることになる。同様なホログラフィック記録がスタートの基準として用いられても、本発明は、最終製品を種々の態様に完全に適合させるという可能性を提供する。多数の実行可能な光学的変形例に加えて、本発明の教示はまた経済的要件を考慮しているので、すべての要求に製品を適合させることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１】第１図は、エンボス化ホログラムの製造中および同ホログラムのデータキャリアへの転写中の主要な方法ステップを示した図である。
【図２】第２図は、第１図に示した方法ステップの細区分を示した図である。
【図３】第３図は、転写バンドの層構造体を示した図である。
【図４】第４図は、転写ダイにより基板上に層構造体を転写する説明図である。
【図５】第５図は、エンボス化ホログラムを製造して同ホログラムをデータキャリアに転写する製造順序を示した図である。
【図６】第６図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図７】第７図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図８】第８図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図９】第９図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１０】第１０図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１１】第１１図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１２】第１２図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１３】第１３図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１４】第１４図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１５】第１５図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１６】第１６図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１７】第１７図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１８】第１８図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図１９】第１９図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２０】第２０図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２１】第２１図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２２】第２２図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２３】第２３図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２４】第２４図は、個別化ホログラムの種々の実施例を示した図である。
【図２５】第２５図は、容積ホログラムを製造してデータキャリアに転写する製造順序を示した図である。