(57)【要約】【課題】  反射部と透過部との間で着色要素やその他の要素の状態を自由に設定できるカラーフィルタ基板を提供する。【解決手段】  基材９ａ上の平面内に複数の表示用ドットＤが並べられて成るカラーフィルタ基板４ａである。このカラーフィルタ基板４ａは、表示用ドットＤのそれぞれの内部に反射部Ｒ及び透過部Ｔを形成する反射膜１２と、基材９ａ上の平面を表示用ドットＤに対応して区分けする第１バンク１５ａと、反射部Ｒと透過部Ｔとの境界に設けられる第２バンク１５ｂと、第１バンク１５ａ及び第２バンク１５ｂによって区分けされた領域内に設けられた着色要素１６とを有する。反射部Ｒと透過部Ｔとの間で、着色要素１６、反射膜１２、樹脂層１１等の条件を種々に変化させることができる。【選択図】        図１
2005084515.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上の平面内に複数の表示用ドットが並べられて成るカラーフィルタ基板において、
前記表示用ドットのそれぞれの内部に反射部及び透過部を形成する反射膜と、
前記基材上の平面を前記表示用ドットに対応して区分けする第１バンクと、
前記反射部と前記透過部との境界に設けられる第２バンクと、
前記第１バンク及び前記第２バンクによって区分けされた領域内に設けられた着色要素と
を有することを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項２】
請求項１において、前記着色要素は液滴吐出によって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、前記第２バンクを境にして隣り合う２つの着色要素は、同じ色相であって光透過率に関して異なる色材であることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項４】
請求項１又は請求項２において、前記第２バンクを境にして隣り合う２つの着色要素は、同じ色材であって膜厚が異なることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項５】
請求項１又は請求項２において、前記第２バンクを境にして隣り合う２つの着色要素は、異なる色材であって膜厚も異なることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれか１つにおいて、
前記第２バンクによって区分けされた領域であって前記基材と前記反射膜との間に設けられた樹脂層を有し、該樹脂層は液滴吐出によって形成され、その表面に凹凸パターンを有することを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項７】
請求項６において、前記凹凸パターンは、ビーズ入りの樹脂を液的吐出によって吐出することによって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項８】
請求項６において、前記凹凸パターンは、液滴吐出した樹脂材料に焼成によってしわを付けることによって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか１つにおいて、前記反射膜は前記第２バンクによって区画される領域内に液滴吐出によって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項１０】
請求項９において、前記反射膜の中には複数のビーズが含まれることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項１１】
基材上の平面内に複数の表示用ドットが平面的に並べられて成るカラーフィルタ基板を製造するカラーフィルタ基板の製造方法において、
前記表示用ドットのそれぞれの内部に反射膜を形成する反射膜形成工程と、
前記基材上の平面を前記表示用ドットに対応して区分けする第１バンクを形成する第１バンク形成工程と、
前記反射部と前記透過部との境界に第２バンクを形成する第２バンク形成工程と、
前記第１バンク及び前記第２バンクによって区分けされた領域内に着色要素を液滴吐出によって形成する着色要素形成工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記基材上に樹脂層をその表面に凹凸パターンができるように形成する樹脂層形成工程を有し、
前記第１バンク形成工程と前記第２バンク形成工程とを同時に行うバンク形成工程を前記樹脂層形成工程の後に行い、
前記反射膜形成工程は前記バンク形成工程の後に液滴吐出によって行われ、
前記着色要素形成工程は前記反射膜形成工程の後に行われる
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１３】
請求項１１において、
前記第１バンク形成工程と前記第２バンク形成工程とを同時に行うバンク形成工程を有し、
前記基材上に樹脂層をその表面に凹凸パターンができるように液滴吐出によって形成する樹脂層形成工程を前記バンク形成工程の後に行い、
前記反射膜形成工程は前記樹脂層形成工程の後に液滴吐出によって行われ、
前記着色要素形成工程は前記反射膜形成工程の後に行われる
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１４】
請求項１１において、
前記基材上に樹脂層をその表面に凹凸パターンができるように形成する樹脂層形成工程を有し、
前記反射膜形成工程は前記樹脂層形成工程の後に行われ、
前記第１バンク形成工程と前記第２バンク形成工程とを同時に行うバンク形成工程を前記反射膜形成工程の後に行い、
前記着色要素形成工程は前記バンク形成工程の後に行われる
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１５】
前記第１バンク形成工程及び前記第２バンク形成工程は、
熱硬化性の遮光膜材料を一様な厚さで形成する工程と、
その遮光膜材料の上に感光性の撥インク材料を一様な厚さで形成する工程と、
前記遮光膜材料を露光及び現像する工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１６】
請求項１から請求項１０のいずれか１つに記載のカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板上に設けられた電気光学物質の層とを有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項１７】
請求項１６記載の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置等といった電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板及びその製造方法に関する。また、本発明は、そのカラーフィルタ基板を用いて構成される電気光学装置に関する。また、本発明は、その電気光学装置を用いて構成される携帯電話機、携帯情報端末機等といった電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置、有機ＥＬ装置等といった電気光学装置によってカラー表示を行うことは従来から知られている。このような電気光学装置では、その内部にカラーフィルタ基板が組み込まれる。このカラーフィルタ基板は、例えば、透明ガラスから成る基材上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色要素を所定の配列となるように形成することによって形成される。
【０００３】
ところで、液晶装置として次の３種類が知られている。第１は、太陽光、室内光等といった外部光を装置内部で反射させ、その反射光を用いて表示を行う、いわゆる反射型の液晶装置である。第２は、冷陰極管、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）等といった光源から放出されて液晶装置の内部を透過する光を用いて表示を行う、いわゆる透過型の液晶装置である。第３は、反射型及び透過型の２つの機能を併せて持つ半透過反射型の液晶装置である。この半透過反射型の液晶装置においては、１つの表示用ドット領域の中に反射機能を奏する反射部と、透過機能を奏する透過部とが設けられ、これにより、反射型表示と透過型表示とを希望に応じて選択できるようにしている。
【０００４】
上記の半透過反射型の液晶装置として、従来、１つの表示用ドットに対応する領域をバンクによって区画し、この区画された領域内に着色要素を液滴吐出、すなわちインクジェット技術を用いて形成するようにしたものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１２１６３５号公報（第４頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示された液晶装置では、バンクは着色要素を仕切るために設けられていた。そして、反射部と透過部との間には特別の隔壁は存在せず、それ故、反射部と透過部との間には同じ色材から成る着色要素が設けられていた。ところで最近、反射部と透過部との間で着色要素の特性に変化を持たせたいという要求がある。例えば、反射表示時のカラー表示と透過表示時のカラー表示との間で色表示が均一になるようにするために、反射部の着色要素の状態と透過部の着色要素の状態とを別々に設定したいという要求がある。
【０００７】
このような要求があるにも拘わらず、従来の液晶装置では、反射部と透過部との間で着色要素の色材としては同一のものを使わざるを得ず、そのため、反射部と透過部との間で着色要素の状態に変化を持たせることが難しかった。
【０００８】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、反射部と透過部との間で着色要素やその他の要素の状態を自由に設定できるカラーフィルタ基板及びその製造方法、電気光学装置並びに電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するため、本発明に係るカラーフィルタ基板は、基材上の平面内に複数の表示用ドットが並べられて成るカラーフィルタ基板において、前記表示用ドットのそれぞれの内部に反射部及び透過部を形成する反射膜と、前記基材上の平面を前記表示用ドットに対応して区分けする第１バンクと、前記反射部と前記透過部との境界に設けられる第２バンクと、前記第１バンク及び前記第２バンクによって区分けされた領域内に設けられた着色要素とを有することを特徴とする。
【００１０】
前記反射部は前記反射膜が存在する領域に形成される。また、前記透過部は前記反射膜に設けた開口や、その反射膜の膜厚を薄く形成した部分等によって形成される。前方から到来する光は反射部で反射して前方へ進む。また、後方から到来する光は透過部を透過して前方へ進む。着色要素は、例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色や、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３色等によって構成される。前記の反射光及び透過光は着色要素を通過するときに特定波長の光が選択される。
【００１１】
着色要素は第１バンクと第２バンクとによって区画される領域に設けられる。第２バンクは反射部と透過部との境界に設けられるので、着色要素はこの第２バンクによって反射部と透過部との間で分けられる。これにより、反射部と透過部との間で着色要素やその他の要素、例えば反射膜の状態を自由に設定できる。
【００１２】
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記着色要素は液滴吐出、すなわちインクジェット技術を用いて形成されることが望ましい。本発明では反射部と透過部とが第２バンクによって区分けされるので、着色要素を反射部と透過部との間でそれぞれ独自の条件で形成できる。ここで、インクジェット技術とは、着色要素の材料をインク滴としてノズルから吐出して希望の個所に吐着させる技術である。インクの吐出方法としては、通電に応じて振動する圧電素子を用いてノズルの内部容積を変化させてインクを吐出する方法や、ノズル内部のインクを熱膨張させて吐出する方法や、その他任意の液滴吐出技術を採用できる。このインクジェット技術を用いれば、フォトリソグラフィ技術を用いた従来の方法に比べて、簡単な工程で且つ安価に着色要素を形成できる。
【００１３】
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記第２バンクを境にして隣り合う２つの着色要素は、同じ色相であって光透過率に関して異なる色材であることが望ましい。こうすれば、反射部での反射光と透過部での透過光との間で、明るさと色の濃さを簡単に調節できる。
【００１４】
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記第２バンクを境にして隣り合う２つの着色要素は、同じ色材であって膜厚が異なることが望ましい。こうすれば、反射部での反射光と透過部での透過光との間で、明るさと色の濃さを簡単に調節できる。
【００１５】
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記第２バンクを境にして隣り合う２つの着色要素は、異なる色材であって膜厚も異なることが望ましい。こうすれば、反射部での反射光と透過部での透過光との間で、明るさと色の濃さを簡単に調節できる。
【００１６】
上記構成のカラーフィルタ基板において、前記第２バンクによって区分けされた領域であって前記基材と前記反射膜との間に設けられた樹脂層を有し、該樹脂層は液滴吐出によって形成され、その表面に凹凸パターンを有することが望ましい。この構成によれば、樹脂層の表面に形成した凹凸パターンに従って反射膜にも凹凸パターンが形成される。この反射膜の凹凸パターンにより、反射光が散乱光となり、反射表示の品質が向上する。このように樹脂層を用いるとき、本発明のように反射部と透過部との間に第２バンクを設ければ、樹脂層に凹凸パターンを形成する作業が容易になる。
【００１７】
樹脂層を用いる構成の上記カラーフィルタ基板において、前記凹凸パターンは、ビーズ入りの樹脂を液的吐出によって吐出することによって形成されることが望ましい。この構成によれば、１回の液滴吐出によって、樹脂層の形成と同時に凹凸パターンの形成ができる。
【００１８】
樹脂層を用いる構成の上記カラーフィルタ基板において、前記凹凸パターンは、液滴吐出した樹脂材料に焼成によってしわを付けることによって形成されることが望ましい。液滴吐出された樹脂は、一般に、焼成によって乾燥される。この焼成処理を利用して樹脂層の表面に凹凸パターンを形成することができる。この場合にも、樹脂層が吐出される領域が第２バンクによって区画されていれば、凹凸パターンを安定して形成できる。
【００１９】
本発明に係るカラーフィルタ基板において、前記反射膜は前記第２バンクによって区画される領域内に液滴吐出によって形成されることが望ましい。従来、反射膜はフォトリソグラフィ処理によって形成されることが多かった。しかしながら、本発明のように反射部と透過部とを第２バンクによって区画すれば、液滴吐出によって反射部のみに反射膜を容易に形成できる。
【００２０】
液滴吐出によって反射膜を形成するようにしたカラーフィルタ基板において、前記反射膜の中には複数のビーズが含まれることが望ましい。こうすれば、反射膜の下に樹脂層を介在させなくても、反射膜それ自体によってその表面に凹凸パターンを形成できる。
【００２１】
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、基材上の平面内に複数の表示用ドットが平面的に並べられて成るカラーフィルタ基板を製造するカラーフィルタ基板の製造方法において、前記表示用ドットのそれぞれの内部に反射膜を形成する反射膜形成工程と、前記基材上の平面を前記表示用ドットに対応して区分けする第１バンクを形成する第１バンク形成工程と、前記反射部と前記透過部との境界に第２バンクを形成する第２バンク形成工程と、前記第１バンク及び前記第２バンクによって区分けされた領域内に着色要素を液滴吐出によって形成する着色要素形成工程とを有することを特徴とする。この製造方法によれば、以上に記載した構成のカラーフィルタ基板を確実に製造できる。
【００２２】
本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記基材上に樹脂層をその表面に凹凸パターンができるように形成する樹脂層形成工程を有し、前記第１バンク形成工程と前記第２バンク形成工程とを同時に行うバンク形成工程を前記樹脂層形成工程の後に行い、前記反射膜形成工程は前記バンク形成工程の後に液滴吐出によって行われ、前記着色要素形成工程は前記反射膜形成工程の後に行われることが望ましい。
【００２３】
この構成のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、１回のバンク形成工程によって第１バンクと第２バンクとが形成されるので、工程が簡略化される。また、着色要素が液滴吐出によって形成されると共に、反射膜も液滴吐出によって形成されるので、それらをフォトリソグラフィ処理によって形成する場合に比べて、工程が非常に簡略化される。
【００２４】
本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記第１バンク形成工程と前記第２バンク形成工程とを同時に行うバンク形成工程を有し、前記基材上に樹脂層をその表面に凹凸パターンができるように液滴吐出によって形成する樹脂層形成工程を前記バンク形成工程の後に行い、前記反射膜形成工程は前記樹脂層形成工程の後に液滴吐出によって行われ、前記着色要素形成工程は前記反射膜形成工程の後に行われることが望ましい。
【００２５】
この構成のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、１回のバンク形成工程によって第１バンクと第２バンクとが形成されるので、工程が簡略化される。また、着色要素が液滴吐出によって形成されると共に、反射膜及び樹脂膜の両方も液滴吐出によって形成されるので、それらをフォトリソグラフィ処理によって形成する場合に比べて、工程が非常に簡略化される。
【００２６】
本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法においては、前記基材上に樹脂層をその表面に凹凸パターンができるように形成する樹脂層形成工程を有し、前記反射膜形成工程は前記樹脂層形成工程の後に行われ、前記第１バンク形成工程と前記第２バンク形成工程とを同時に行うバンク形成工程を前記反射膜形成工程の後に行い、前記着色要素形成工程は前記バンク形成工程の後に行われることが望ましい。
【００２７】
本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法において、前記第１バンク形成工程及び前記第２バンク形成工程は、熱硬化性の遮光膜材料を一様な厚さで形成する工程と、その遮光膜材料の上に感光性の撥インク材料を一様な厚さで形成する工程と、前記遮光膜材料を露光及び現像する工程とを有することが望ましい。この構成によれば、撥インク製を有するバンクを簡単な工程で短時間に安価に形成できる。
【００２８】
次に、本発明に係る電気光学装置は、以上に記載した構成のカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板上に設けられた電気光学物質の層とを有することを特徴とする。このような電気光学装置としては、例えば、液晶装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置、その他各種の装置が考えられる。
【００２９】
次に、本発明に係る電子機器は、上記の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする。このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、その他各種の機器が考えられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
（カラーフィルタ基板及び電気光学装置の第１実施形態）
以下、本発明に係るカラーフィルタ基板をそれが用いられる電気光学装置と共に一例を挙げて説明する。なお、以下の説明では、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置であって、半透過反射型の液晶装置を例に挙げるものとする。なお、本発明がその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。
【００３１】
図７において、電気光学装置としての液晶装置１は、液晶パネル２と、それに組みつけられる照明装置３とを有する。液晶パネル２は、第１基板４ａと第２基板４ｂとを矢印Ａ方向から見て環状のシール材６によって貼り合わせることによって形成されている。第１基板４ａはカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板であり、第２基板４ｂはＴＦＤ素子が形成される素子基板である。図８は、図７の液晶パネル２における１つの表示用ドットＤ部分を拡大して示している。図８に示すように、第１基板４ａと第２基板４ｂとの間には、スペーサ７によって維持される隙間、いわゆるセルギャップＧが形成され、このセルギャップＧ内に液晶が封入されて液晶層８が形成されている。
【００３２】
図１（ａ）は、図７の第１基板４ａの１画素領域を図７の矢印Ａ方向、すなわち観察側方向から見た場合の平面的な構成を示している。また、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ線に従った第１基板４ａの断面構造を示している。図１（ａ）及び図１（ｂ）において、第１基板４ａは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第１基材９ａを有する。その第１基材９ａの液晶側表面には樹脂層１１が形成され、その上に反射膜１２が形成される。樹脂層１１は、例えばフォトリソグラフィ技術を用いて形成される。また、反射膜１２は、例えば、インクジェット技術を用いて形成される。
【００３３】
また、図１（ａ）において、樹脂層１１の上に図の横方向へ延びる複数の帯状の第１バンク１５ａが設けられている。また、第１バンク１５ａに直交する図の上下方向へ延びる複数の帯状の第２バンク１５ｂが設けられている。第１バンク１５ａ及び第２バンク１５ｂにより格子状のバンクが形成され、このバンクによって囲まれる複数の方形状の領域が基材９ａ上にドットマトリクス状に形成される。図１（ｂ）において、第２バンク１５ｂは、遮光部材１３と、それに積層された撥インク層１４とによって構成されている。第１バンク１５ａも同様に遮光部材１３と撥インク層１４の２層構造になっている。遮光部材１３は、例えば、黒色の熱硬化性樹脂によって形成される。また、撥インク層１４は、後述するインクジェット技術によって吐出される着色要素の材料を撥ねる性質を有する感光性樹脂によって形成される。
【００３４】
図１（ａ）において、第１バンク１５ａ及び第２バンク１５ｂによって囲まれる方形状の領域内には着色要素１６が形成される。この着色要素１６にはＲ，Ｇ，Ｂの３色があり、それらが、バンク１５によって囲まれる１つの領域に１色ずつ形成される。なお、図１（ａ）に示すように、Ｒ色の着色要素を１６ｒ又は１６ｒ’、Ｇ色の着色要素を１６ｇ又は１６ｇ’、Ｂ色の着色要素を１６ｂ又は１６ｂ’と呼ぶことにする。
【００３５】
図１（ｂ）において、バンク１５ａ，１５ｂ及び着色要素１６の上にはオーバーコート層１７が形成され、その上に帯状の透明電極１８ａが形成され、その上に配向膜１９ａが形成される。配向膜１９ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜１９ａの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第１基材９ａの外側表面には、図７に示すように偏光板２１ａが貼着等によって装着されている。１本の帯状の透明電極１８ａは、図１（ｂ）の紙面垂直方向へ延びており、隣り合う電極１８ａの間には適宜の間隔が設けられている。これにより、複数の電極１８ａは、矢印Ａ方向から見てストライプ状に形成されている。
【００３６】
図８において、液晶層８を挟んで第１基板４ａに第２基板４ｂが対向する。図６（ａ）は、その第２基板４ｂの１画素領域の平面構造を図７の矢印Ａ方向から見た状態を示している。また、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＣ−Ｃ線に従った第２基板４ｂの断面構造を示している。図６（ｂ）において、第２基板４ｂは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第２基材９ｂを有する。その第２基材９ｂの液晶側表面には、線状のライン配線２２、アクティブ素子としてのＴＦＤ素子２３及び透明なドット電極１８ｂが形成される。さらに、それらの要素の上に配向膜１９ｂが形成され、その配向膜１９ｂに配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜１９ｂの近傍の液晶分子の配向が決められる。図８の第１基板４ａ側の配向膜１９ａのラビング方向と第２基板４ｂ側の配向膜１９ｂのラビング方向は、液晶の特性に応じて適宜の角度で交差するようになっている。また、第２基材９ｂの外側表面には、図７において偏光板２１ｂが貼着等によって装着されている。
【００３７】
図６（ａ）において、ドット電極１８ｂは正方形又は長方形に近いドット形状に形成されており、ＴＦＤ素子２３を介してライン配線２２に接続されている。なお、参考のために、第１基板４ａ側に形成される帯状電極１８ａを鎖線で示している。ドット電極１８ｂと帯状電極１８ａとが平面的に重なる領域が１つの表示用ドット領域Ｄを構成する。この１つの表示用ドット領域ＤがＲ，Ｇ，Ｂの１つの色に対応する領域である。カラー表示を行う本実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応する３つの表示用ドット領域Ｄによって１つの画素が構成される。
【００３８】
図８において、反射膜１２には、個々の表示用ドットＤに対応して光通過用の開口２４が設けられている。これらの開口２４は、反射膜１２に光を透過させる機能を持たせるための構成であるが、この開口２４を設ける代わりに反射膜１２の厚さを薄くして、光を反射する機能と光を透過させる機能の両方を持たせるようにすることもできる。反射膜１２が設けられた領域が反射部Ｒである。また、開口２４に相当する領域が透過部Ｔである。図１（ａ）において、第１バンク１５ａは、図の上下方向に関して表示用ドットＤを区画する。また、第２バンク１５ｂは、図の横方向に関して反射部Ｒと透過部Ｔとを区画する。
【００３９】
図１（ｂ）において、第２バンク１５ｂによって区画される反射部Ｒ内に存在する樹脂層１１の表面には凹凸パターンが形成され、その樹脂層１１に積層された反射膜１２の表面にその凹凸パターンに対応した凹凸パターンが形成される。この凹凸パターンは、矢印Ａ方向から見て平面内でランダムとなるように形成されている。この凹凸の存在により、反射膜１２に入射した光は散乱光となって反射する。
【００４０】
図１（ａ）において、１つの表示用ドットＤは、その中央部に透過部Ｔを有し、その両側に反射部Ｒを有する。そして、透過部Ｔに着色要素１６ｒ’，１６ｇ’，１６ｂ’が形成され、反射部Ｒに着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂが形成される。着色要素１６ｒと着色要素１６ｒ’は同じ色材であるが、それらの膜厚が図１（ｂ）に示すように１６ｒ＜１６ｒ’、つまり透過部Ｔの膜厚が反射部Ｒの膜厚よりも厚くなっている。また、同様に、着色要素１６ｇと着色要素１６ｇ’は同じ色材であるが、それらの膜厚が１６ｇ＜１６ｇ’になっている。さらに、同様に、着色要素１６ｂと着色要素１６ｂ’は同じ色材であるが、それらの膜厚が１６ｂ＜１６ｂ’になっている。
【００４１】
本実施形態では、１つの表示用ドットＤにおいて反射部Ｒと透過部Ｔとの間で着色要素１６の性質に変化を持たせてあるが、色相自体は両者間で同じである。例えば、１６ｒ，１６ｒ’の表示用ドットＤはＲ（赤）であり、１６ｇ，１６ｇ’の表示用ドットＤはＧ（緑）であり、１６ｂ，１６ｂ’の表示用ドットＤはＢ（青）である。本実施形態では、これらのＲ，Ｇ，Ｂの各色を図１０（ａ）のストライプ配列で並べるものとし、これらの着色要素１６によってカラーフィルタが構成される。ストライプ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂのそれぞれの色が縦方向に１列に並び、横方向に順番に１つずつ繰り返して変化する配列である。
【００４２】
なお、着色要素の配列としては、ストライプ配列以外に種々採用でき、例えば、図１０（ｂ）に示すモザイク配列や、図１０（ｃ）に示すデルタ配列等が考えられる。モザイク配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが縦列と横列の両方で順番に繰り返して並べられる配列である。また、デルタ配列とは、Ｒ，Ｇ，Ｂが三角形の頂点に相当する位置に配列されると共に横列方向でＲ，Ｇ，Ｂが順番に繰り返して並べられる配列である。
【００４３】
図６（ａ）のＴＦＤ素子２３は、図９に示すように、第１ＴＦＤ要素２３ａと第２ＴＦＤ要素２３ｂとを直列に接続することによって形成されている。このＴＦＤ素子２３は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、ＴａＷ（タンタルタングステン）によってライン配線２２の第１層２２ａ及びＴＦＤ素子２３の第１金属２６を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線２２の第２層２２ｂ及びＴＦＤ素子２３の絶縁膜２７を形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）によってライン配線２２の第３層２２ｃ及びＴＦＤ素子２３の第２金属２８を形成する。
【００４４】
第１ＴＦＤ要素２３ａの第２金属２８はライン配線２２の第３層２２ｃから延びている。また、第２ＴＦＤ要素２３ｂの第２金属２８の先端に重なるように、ドット電極１８ｂが形成される。ライン配線２２からドット電極１８ｂへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に沿って、第１ＴＦＤ要素２３ａでは第２電極２８→絶縁膜２７→第１金属２６の順に電気信号が流れ、一方、第２ＴＦＤ要素２３ｂでは第１金属２６→絶縁膜２７→第２金属２８の順に電気信号が流れる。
【００４５】
つまり、第１ＴＦＤ要素２３ａと第２ＴＦＤ要素２３ｂとの間では電気的に逆向きの一対のＴＦＤ要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック（Back-to-Back）構造と呼ばれており、この構造のＴＦＤ素子は、ＴＦＤ素子を１個のＴＦＤ要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。
【００４６】
図７において、第２基板４ｂは第１基板４ａの外側に張り出す張出し部２９を有し、その張出し部２９の第１基板４ａ側の表面には配線３１及び端子３２が形成されている。これらの配線３１及び端子３２が集まる領域に１つの駆動用ＩＣ３３ａ及び２つの駆動用ＩＣ３３ｂが図示しないＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）によって実装されている。
【００４７】
配線３１及び端子３２は第２基板４ｂ上にライン配線２２やドット電極１８ｂを形成するときに同時に形成される。なお、ライン配線２２は張出し部２９の上にそのまま延び出て配線３１となって、駆動用ＩＣ３３ａに接続されている。また、第１基板４ａと第２基板４ｂとを接着するシール材６の内部には球形又は円筒形の導通材（図示せず）が混入されている。第１基板４ａ上に形成された帯状電極１８ａは第１基板４ａの上でシール材６の所まで引き回された後、シール材６中の導通材を介して第２基板４ｂ上の配線３１に接続されている。これにより、第１基板４ａ上の帯状電極１８ａは第２基板４ｂ上の駆動用ＩＣ３３ｂに接続されている。
【００４８】
図７において、液晶パネル２を構成する第１基板４ａの外側表面に対向して配設された照明装置３は、例えば、透明なプラスチックによって形成された方形状で板状の導光体３６と、点状光源としてのＬＥＤ３７とを有する。導光体３６のうち液晶パネル２と反対側の面には光反射シート（図示せず）を装着することができる。また、導光体３６のうち液晶パネル２に対向する面には光拡散シート（図示せず）を装着することができる。また、光拡散シートの上に、さらに、プリズムシート（図示せず）を装着することもできる。ＬＥＤ３７は本実施形態では３個使用されているが、ＬＥＤ３７は必要に応じて１個とすることもでき、あるいは、３個以外の複数個とすることもできる。また、ＬＥＤ等といった点状光源に代えて、冷陰極管等といった線状光源を用いることも出来る。
【００４９】
以下、上記構成より成る液晶装置に関してその動作を説明する。
【００５０】
太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合、図８に矢印Ｆで示すように、外部光が第２基板４ｂを通して液晶パネル２の内部へ取り込まれ、この外部光が液晶層８を通過した後に反射膜１２で反射して液晶層８へ供給される。他方、外部光が不十分である場合には、図７の照明装置３を構成するＬＥＤ３７を点灯する。このとき、ＬＥＤ３７から点状に出た光は導光体３６の入光面３６ａから該導光体３６の内部へ導入され、その後、液晶パネル２に対向する面、すなわち光出射面３６ｂから面状に出射する。このようにして光出射面３６ｂの各所から出射する光が、図８において矢印Ｇで示すように反射膜１２に形成した開口２４を通って面状の光として液晶層８へ供給される。
【００５１】
以上のようにして液晶層８へ光が供給される間、液晶パネル２に関しては、図７の駆動用ＩＣ３３ａ及び３３ｂによって制御されて、ライン配線２２に例えば走査信号が供給され、同時に、帯状電極１８ａに例えばデータ信号が供給される。このとき、走査信号とデータ信号との電位差に応じて特定の表示用ドットに付属するＴＦＤ素子２３（図６（ａ）参照）が選択状態（すなわち、オン状態）になると、その表示用ドット内の液晶容量に映像信号が書き込まれ、その後、当該ＴＦＤ素子２３が非選択状態（すなわち、オフ状態）になると、その信号は当該表示ドットに蓄えられて当該表示ドット内の液晶層を駆動する。
【００５２】
こうして、液晶層８内の液晶分子が表示用ドットＤごとに制御され、それ故、液晶層８を通過する光が表示用ドットＤごとに変調される。そして、このように変調された光が図７の第２基板４ｂ側の偏光板２１ｂを通過することにより、液晶パネル２の有効表示領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。図８の反射膜１２で反射する外部光を利用して行われる表示が反射型表示である。また、照明装置３からの光を利用して行われる表示が透過型表示である。本実施形態では、それらの反射型表示及び透過型表示を使用者の希望に応じて、あるいは外部環境の変化に応じて自動的に選択する。
【００５３】
本実施形態では、図１（ａ）において１つの表示用ドットＤにおいて、反射部Ｒと透過部Ｔとの間に第２バンク１５ｂが設けられている。そして、第２バンク１５ｂを境にして着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂと着色要素１６ｒ’、１６ｇ’，１６ｂ’との間で何等かの性質が異なっている。具体的には、本実施形態では、色材が同じで膜厚が図１（ｂ）に示すように、１６ｒ＜１６ｒ’，１６ｇ＜１６ｇ’，１６ｂ＜１６ｂ’のように設定されている。つまり、着色要素１６の膜厚が透過部Ｔで厚く、反射部Ｒで薄くなっている。これにより、反射膜１２を用いた反射表示時に明るい表示を行うことができ、反射膜１２の開口２４を用いた透過表示時に色の濃い表示を行うことができ、それ故、反射表示時と透過表示時との間で均一な表示を行うことができる。
【００５４】
なお、１６ｒ＜１６ｒ’，１６ｇ＜１６ｇ’，１６ｂ＜１６ｂ’に設定したのは、反射光が明るく、透過光の色が濃くなるようにするためである。この場合、反射光の明るさの程度及び透過光の色の濃さの程度は、膜厚の差、例えば（１６ｒ’−１６ｒ）の値によって決まる。この差はＲ，Ｇ，Ｂの各色それぞれに対して適宜の値に設定することが望ましい。こうすれば、カラー表示の色のバランスを希望に応じた状態に設定できる。
【００５５】
本実施形態において、図１の着色要素１６は、フォトリソグラフィ技術を用いて形成したり、インクジェット技術を用いて形成したりすることができる。しかしながら、反射部Ｒと透過部Ｔとの間を第２バンク１５ｂによって区画するようにした本実施形態では、特に、インクジェット技術を用いる場合に好都合である。何故ならば、インクジェット技術における液滴吐出条件を反射部Ｒと透過部Ｔとの間で適宜に変更することにより、反射部Ｒと透過部Ｔとの間で着色要素１６の光学的条件を異ならせることができるからである。また、さらには、第２バンクが隔壁となるのでそれら異なった光学的条件の着色要素１６が互いに影響を及ぼし合うことがなくなり、それ故、その光学的条件に変化が生じるという問題の発生がなくなるからである。
【００５６】
（変形例）
以上の実施形態では、図１（ｂ）において、反射部Ｒ内の着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂと、透過部Ｔ内の着色要素１６ｒ’，１６ｇ’，１６ｂ’との間で、同じ色材で膜厚を異ならせた。これに代えて、反射部Ｒ内の着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂと、透過部Ｔ内の着色要素１６ｒ’，１６ｇ’，１６ｂ’との間で、同じ色相であって光透過率に関して異なる色材を用いることもできる。例えば、反射部Ｒ内の着色要素１６ｒと透過部Ｔ内の着色要素１６ｒ’との間で、色相は「赤」で同じであるが、光透過率が反射部Ｒで高く透過部Ｔで低いという色材を用いることができる。
【００５７】
また、反射部Ｒ内の着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂと、透過部Ｔ内の着色要素１６ｒ’，１６ｇ’，１６ｂ’との間で、色材も異なるし、膜厚も異なる着色要素材料を用いることもできる。
【００５８】
また、以上の実施形態では２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式で半透過反射型の液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、３端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、反射型の液晶装置にも適用できる。さらに、本発明は，液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置、電子放出素子（Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display等）等にも適用できる。
【００５９】
（カラーフィルタ基板の製造方法の第１実施形態）
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を図１に示したカラーフィルタ基板４ａを製造する場合を例に挙げて説明する。
【００６０】
図２は、そのようなカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を示している。まず、工程Ｐ１において、図３（ａ）の基材９ａ上に樹脂層１１の材料１１’、本実施形態では感光性樹脂を一様にコート、すなわち塗布する。次に、工程Ｐ２において、その樹脂材料層１１’を露光及び現像して図３（ｂ）のように樹脂層１１を形成する。このとき、その樹脂層１１の表面にランダムな凹凸パターンを形成する。以上により、表面にランダムな凹凸を備えた樹脂層１１が基材９ａ上に形成される。
【００６１】
次に、工程Ｐ３において、図３（ｃ）に示すように、熱硬化性の遮光膜材料１３’を一様な厚さにコートする。次に、工程Ｐ４において、図３（ｄ）に示すように、撥インク材料１４’を一様な厚さで重ねてコートする。次に、工程Ｐ５において、図４（ｄ）の樹脂積層体を露光し、さらに現像して、図４（ｅ）に示すように、遮光部材１３及び撥インク層１４の積層構造である第２バンク１５ｂ及び同じ積層構造である第１バンク１５ａを形成する。
【００６２】
次に、工程Ｐ６において、図４（ｆ）に示すように、反射膜１２をインクジェット技術を用いて形成する。ここで、インクジェット方式による膜形成は、例えば、図２１に示すインクジェットヘッド４１を矢印Ｘ及び矢印Ｙで示すように平面的に走査移動させることにより行われる。このインクジェットヘッド４１は、ほぼ長方形状のケーシング４２を有し、そのケーシング４２の底面には複数のノズル４３が設けられている。これらのノズル４３は、直径約０．０２〜０．１ｍｍ程度の微小な開口を有する。
【００６３】
本実施形態では、複数のノズル４３は２列にわたって設けられ、これにより、２本のノズル列４４，４４が形成されている。個々のノズル列４４において、ノズル４３は一定の間隔で直線上に設けられている。これらのノズル列４４には、矢印Ｈで示す方向から液状材料が供給される。供給された液状材料は圧電素子の振動に従って各ノズル４３から微小な液滴として吐出される。なお、ノズル列４４の個数は、１本又は３本以上であっても良い。
【００６４】
インクジェットヘッド４１は、図２２に示すように、例えばステンレス製のノズルプレート４６と、それに対向して配置された振動板４７と、その両者を互いに接合する複数の仕切り部材４８とを有する。また、ノズルプレート４６と振動板４７との間には、液状材料を貯留するための複数の貯留室４９と、液状材料が一時的に溜る個所である液溜り５１とが、各仕切り部材４８によって形成されている。さらに、複数の貯留室４９と液溜り５１とが通路５２を介して互いに連通している。また、振動板４７の適所に液状材料の供給孔５３が形成されており、この供給孔５３にパイプ５４を介して材料容器５６が接続されている。容器５６内には反射膜の材料が収容されており、この容器５６から供給された液状材料Ｍ０は、液溜り５１に充填され、さらに、通路５２を通って貯留室４９に充填される。
【００６５】
インクジェットヘッド４１の一部を構成するノズルプレート４６には、液状材料を貯留室４９からジェット状に噴射するためのノズル４３が設けられている。このノズル４３が複数個並べられてノズル列４４を構成することは図２１に関連して既述した通りである。また、振動板４７において貯留室４９に対応する面には液状材料を加圧するための加圧体５７が取り付けられている。この加圧体５７は、図２３に示すように、圧電素子５８及びこれを挟持する一対の電極５９ａ及び５９ｂを有している。
【００６６】
圧電素子５８は、電極５９ａ及び５９ｂへの通電によって矢印Ｊで示す外側へ突出するように撓み変形し、これにより貯留室４９の容積を増大させる機能を有する。そして、貯留室４９の容積が増大すると、その増大した容積分に相当する液状材料Ｍ０が液溜り５１から通路５２を通って貯留室４９内へ流入する。
【００６７】
一方、圧電素子５８への通電を解除すると、圧電素子５８と振動板４７とが共に元の形状に戻り、貯留室４９も元の容積に戻る。そのため、貯留室４９の内部にある液状材料の圧力が上昇し、ノズル４３から液状材料が液滴６１となって吐出される。なお、液滴６１は、液状材料に含まれる溶剤等の種類にかかわらず、微小な液滴としてノズル４３から安定して吐出される。
【００６８】
以上のようなインクジェット方式のインク吐出技術を用いて反射膜１２を形成すれば、従来のフォトリソグラフィ処理によるパターニング手法に比べて、反射膜材料の消費量を大幅に低減できる。また、フォトリソグラフィ処理に比べて工程が著しく簡単になる。また、バンク１５ａ，１５ｂは撥インク層１４を含むので、反射膜１２の材料がバンク１５ａ，１５ｂに付着することを防止できる。
【００６９】
図４（ｆ）のように反射膜１２がインクジェット技術によって形成されると、次に、図２の工程Ｐ７において、図４（ｇ）のように、着色要素１６をインクジェット技術を用いて形成する。ここで用いるインクジェット技術は、上述した反射膜１２の形成に用いた図１０〜図１２に示したインクジェットヘッド４１を用いて行うことができる。
【００７０】
この場合、図２２の材料容器５６には、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色の着色要素材料が収容される。また、インクジェットヘッド４１はＲ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素１６に対して専用のものが用意され、製造ライン上の異なるステージに設置される。そして、これら３色用のインクジェットヘッド４１によって別々に各色の着色要素１６が形成される。なお、場合によっては、１つのインクジェットヘッド４１に３色の着色要素材料の供給系を組み込み、その１つのインクジェットヘッド４１だけによって３色の着色要素を吐出することも可能である。
【００７１】
このように、インクジェット方式のインク吐出技術を用いて着色要素１６を形成すれば、従来のフォトリソグラフィ処理によるパターニング手法に比べて、着色要素材料の消費量を大幅に低減できる。また、フォトリソグラフィ処理に比べて工程が著しく簡単になる。なお、バンク１５ａ，１５ｂは撥インク層１４を含むので、着色要素１６の材料がバンク１５ａ，１５ｂに付着することを防止でき、それ故、着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂ間で混色が発生することを防止できる。
【００７２】
図４（ｇ）のように着色要素１６がインクジェット技術によって形成されると、次に、図２の工程Ｐ８において、図５（ｈ）のようにオーバーコート層１７が形成される。さらに、工程Ｐ９において、図５（ｉ）のように、帯状電極１８ａがＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった透明導電材料を材料としてフォトリソグラフィ及びエッチングによって形成される。さらに、工程Ｐ１０において、図５（ｊ）のように、配向膜１９ａがポリイミド等によって形成される。以上により、カラーフィルタ基板４ａが製造される。
【００７３】
（変形例）
以上の実施形態では、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式で半透過反射型の液晶装置を製造する場合に本発明を適用したが、本発明の方法は、３端子型のスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を製造する場合にも適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置を製造する場合にも適用できる。また、本発明は、反射型の液晶装置を製造する場合にも適用できる。さらに、本発明は，液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置等を製造する場合にも適用できる。
【００７４】
（カラーフィルタ基板の第２実施形態）
図１１は、本発明に係るカラーフィルタ基板の他の実施形態を示している。この実施形態が図１に示した先の実施形態と異なるのは樹脂層１１の構成であり、その他の構成は図１の実施形態の場合と同じである。
【００７５】
図１の実施形態では、樹脂層１１が基材９ａの表面の全域に設けられ、さらに、反射部Ｒに対応する部分の樹脂層１１の表面に凹凸パターンが形成されている。これに対し、図１１に示す本実施形態では、樹脂層１１は基材９ａの全域に設けられるのではなく、反射部Ｒに相当する領域だけに樹脂層１１が設けられる。この構成は、樹脂層１１を第２バンク１５ｂの間でインクジェット技術を用いて形成する場合に好適である。
【００７６】
（カラーフィルタ基板の製造方法の第２実施形態）
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の他の実施形態を図１１に示したカラーフィルタ基板４ａを製造する場合を例に挙げて説明する。
【００７７】
図１２は、そのようなカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を示している。まず、工程Ｐ１１において、図１３（ａ）に示すように、基材９ａ上に熱硬化性の遮光膜材料１３’を一様な厚さにコートする。次に、工程Ｐ１２において、図１３（ｂ）に示すように、撥インク材料１４’を一様な厚さで重ねてコートする。次に、工程Ｐ１３において、図１３（ｂ）の樹脂積層体を露光し、さらに現像して、図１３（ｃ）に示すように、遮光部材１３及び撥インク層１４の積層構造である第２バンク１５ｂ及び同じ積層構造である第１バンク１５ａを形成する。
【００７８】
次に、図１２の工程Ｐ１４において、図１４（ｄ）に示すように、第１バンク１５ａ及び第２バンク１５ｂによって囲まれる領域内にインクジェット技術を用いて樹脂層１１を形成する。このインクジェット工程は、例えば、図２１、図２２、図２３に示したインクジェットヘッド４１を平面内で走査移動させながら、ノズル４３から樹脂層１１の材料を液滴として吐出することによって行われる。樹脂層１１を形成するのは、第１バンク１５ａと第２バンク１５ｂとによって囲まれる領域だけなので、材料の消費量を著しく低減できる。
【００７９】
この場合、樹脂層１１の材料の中に適宜の大きさのビーズを多数個含ませておき、そのビーズ入り樹脂材料をインクジェットヘッド４１から吐出することにより、基材９ａ上に供給された樹脂層１１の表面にランダムな凹凸パターンを形成することができる。こうすれば、表面に凹凸パターンを有する樹脂層１１を１回のインクジェット工程によって希望の領域に形成できるので、工程が著しく短縮化され、経費が大きく低減される。なお、ビーズの形状は、球形、円柱形、その他必要に応じて適宜の立体的な形状が選択される。
【００８０】
また、インクジェット技術に従って吐出される樹脂材料にビーズを混入させることに代えて、次の方法を採用することもできる。すなわち、ビーズ等といった混入物を含まない樹脂材料をインクジェット技術に従って基材９ａ上に吐出し、その後、その樹脂材料を焼成する際にその焼成条件を適宜に選定することにより、焼成後の樹脂材料の表面にしわを発生させて、そのしわによってランダムな凹凸パターンを形成することができる。この方法によっても、表面に凹凸パターンを有する樹脂層１１を１回のインクジェット工程によって希望の領域に形成できる。
【００８１】
以上により、凹凸パターンを有する樹脂層１１が基材９ａ上に形成されると、次に、図１２の工程Ｐ１５において、図１４（ｅ）のように、反射膜１２をインクジェット技術を用いて形成する。ここにおけるインクジェット方式による膜形成も、例えば、図２１、図２２、図２３に示したインクジェットヘッド４１を平面内で走査移動させながら、ノズル４３から反射膜１２の材料を液滴として吐出することによって行われる。このようにインクジェット方式のインク吐出技術を用いて反射膜１２を形成すれば、従来のフォトリソグラフィ処理によるパターニング手法に比べて、反射膜材料の消費量を大幅に低減できる。また、フォトリソグラフィ処理に比べて工程が著しく簡単になる。また、バンク１５ａ，１５ｂは撥インク層１４を含むので、反射膜１２の材料がバンク１５ａ，１５ｂに付着することを防止できる。
【００８２】
以上のように反射膜１２がインクジェット技術によって形成されると、次に、図１２の工程Ｐ１６において、図１４（ｅ）のように、着色要素１６をインクジェット技術を用いて形成する。ここで用いるインクジェット技術は、上述した樹脂層１１や反射膜１２の形成に用いた図２１〜図２３に示したインクジェットヘッド４１を用いて行うことができる。
【００８３】
この場合、図２２の材料容器５６には、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色の着色要素材料が収容される。また、インクジェットヘッド４１はＲ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素１６に対して専用のものが用意され、製造ライン上の異なるステージに設置される。そして、これら３色用のインクジェットヘッド４１によって別々に各色の着色要素１６が形成される。なお、場合によっては、１つのインクジェットヘッド４１に３色の着色要素材料の供給系を組み込み、その１つのインクジェットヘッド４１だけによって３色の着色要素を吐出することも可能である。
【００８４】
このように、インクジェット方式のインク吐出技術を用いて着色要素１６を形成すれば、従来のフォトリソグラフィ処理によるパターニング手法に比べて、着色要素材料の消費量を大幅に低減できる。また、フォトリソグラフィ処理に比べて工程が著しく簡単になる。なお、バンク１５ａ，１５ｂは撥インク層１４を含むので、着色要素１６の材料がバンク１５ａ，１５ｂに付着することを防止でき、それ故、着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂ間で混色が発生することを防止できる。
【００８５】
図１４（ｆ）のように着色要素１６がインクジェット技術によって形成されると、次に、図１２の工程Ｐ１７において、図１５（ｇ）のようにオーバーコート層１７が形成される。さらに、工程Ｐ１８において、図１５（ｈ）のように、帯状電極１８ａがＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった透明導電材料を材料としてフォトリソグラフィ及びエッチングによって形成される。さらに、工程Ｐ１９において、図１５（ｉ）のように、配向膜１９ａがポリイミド等によって形成される。以上により、カラーフィルタ基板４ａが製造される。
【００８６】
（カラーフィルタ基板の製造方法の第３実施形態）
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法のさらに他の実施形態を図１に示したカラーフィルタ基板４ａを製造する場合を例に挙げて説明する。
【００８７】
図１６は、そのようなカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を示している。まず、工程Ｐ２１において、図１７（ａ）の基材９ａ上に樹脂層１１の材料１１’、本実施形態では感光性樹脂を一様にコート、すなわち塗布する。次に、工程Ｐ２２において、その樹脂材料層１１’を露光及び現像して図１７（ｂ）のように樹脂層１１を形成する。このとき、その樹脂層１１の表面にランダムな凹凸パターンを形成する。以上により、表面にランダムな凹凸を備えた樹脂層１１が基材９ａ上に形成される。
【００８８】
次に、図１６の工程Ｐ２３において、図１７（ｃ）に示すように反射膜１２の材料１２’をスパッタによって成膜し、さらに、工程Ｐ２４において、図１７（ｄ）に示すようにレジスト３９を一様な厚さで塗布する。次に、工程Ｐ２５において、そのレジスト３９を露光及び現像してレジストパターンを形成し、さらに、工程Ｐ２６においてエッチングすることにより、図１８（ｅ）のように反射膜１２を形成する。以上により、反射膜１２が基材９ａ上に形成される。このとき、反射膜１２の表面には樹脂層１１上の凹凸パターンに従った凹凸パターンが形成される。
【００８９】
次に、工程Ｐ２７において、図１８（ｆ）に示すように、熱硬化性の遮光膜材料１３’を一様な厚さにコートする。次に、工程Ｐ２８において、図１８（ｇ）に示すように、撥インク材料１４’を一様な厚さで重ねてコートする。次に、工程Ｐ２９において、図１８（ｇ）の樹脂積層体を露光し、さらに現像して、図１８（ｈ）に示すように、遮光部材１３及び撥インク層１４の積層構造である第２バンク１５ｂ及び同じ積層構造である第１バンク１５ａを形成する。
【００９０】
次に、図１６の工程Ｐ３０において、図１９（ｉ）のように、着色要素１６をインクジェット技術を用いて形成する。ここで用いるインクジェット技術は、記述した図２１〜図２３に示したインクジェットヘッド４１を用いて行うことができる。
【００９１】
この場合、図２２の材料容器５６には、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色の着色要素材料が収容される。また、インクジェットヘッド４１はＲ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素１６に対して専用のものが用意され、製造ライン上の異なるステージに設置される。そして、これら３色用のインクジェットヘッド４１によって別々に各色の着色要素１６が形成される。なお、場合によっては、１つのインクジェットヘッド４１に３色の着色要素材料の供給系を組み込み、その１つのインクジェットヘッド４１だけによって３色の着色要素を吐出することも可能である。
【００９２】
このように、インクジェット方式のインク吐出技術を用いて着色要素１６を形成すれば、従来のフォトリソグラフィ処理によるパターニング手法に比べて、着色要素材料の消費量を大幅に低減できる。また、フォトリソグラフィ処理に比べて工程が著しく簡単になる。なお、バンク１５ａ，１５ｂは撥インク層１４を含むので、着色要素１６の材料がバンク１５ａ，１５ｂに付着することを防止でき、それ故、着色要素１６ｒ，１６ｇ，１６ｂ間で混色が発生することを防止できる。
【００９３】
図１９（ｉ）のように着色要素１６がインクジェット技術によって形成されると、次に、図１６の工程Ｐ３１において、図１９（ｊ）のようにオーバーコート層１７が形成される。さらに、工程Ｐ３２において、図１９（ｋ）のように、帯状電極１８ａがＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等といった透明導電材料を材料としてフォトリソグラフィ及びエッチングによって形成される。さらに、工程Ｐ３３において、図１９（ｌ）のように、配向膜１９ａがポリイミド等によって形成される。以上により、カラーフィルタ基板４ａが製造される。
【００９４】
（カラーフィルタ基板の第３実施形態）
図２０は、本発明に係るカラーフィルタ基板のさらに他の実施形態を示している。この実施形態が図１に示した先の実施形態と異なるのは、主に、樹脂層１１が設けられず、反射膜１２がインクジェット技術を用いて基材９ａ上に直接に形成されていることである。図２０におけるその他の構成は図１の実施形態の場合と同じである。本実施形態では、反射膜１２の材料の中に多数のビーズ３８を混入したものをインクジェット技術によって、第１バンク１５ａと第２バンク１５ｂとによって囲まれる反射部Ｒ内に吐出し、さらに焼成する。焼成後、ビーズ３８に対応した凹凸パターンを表面に有する反射膜１２が反射部Ｒ内に形成される。この実施形態によれば、図１の樹脂層１１が不要になるので、工程がさらに一層簡略化され、材料費もさらに安くなる。
【００９５】
（電子機器の実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
【００９６】
図２４は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１０１、表示情報処理回路１０２、電源回路１０３、タイミングジェネレータ１０４及び液晶装置１０５によって構成される。そして、液晶装置１０５は液晶パネル１０７及び駆動回路１０６を有する。
【００９７】
表示情報出力源１０１は、ＲＡＭ(Random Access Memory)等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１０４により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０２に供給する。
【００９８】
次に、表示情報処理回路１０２は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０６へ供給する。ここで、駆動回路１０６は、走査線駆動回路（図示せず）やデータ線駆動回路（図示せず）と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１０３は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。液晶装置１０５は、例えば、図７に示した液晶装置１と同様に構成できる。
【００９９】
図２５は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機１２０は、本体部１２１と、これに開閉可能に設けられた表示体部１２２とを有する。液晶装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置１２３は、表示体部１２２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１２２にて表示画面１２４によって視認できる。本体部１２１の前面には操作ボタン１２６が配列して設けられる。
【０１００】
表示体部１２２の一端部からアンテナ１２７が出没自在に取付けられている。受話部１２８の内部にはスピーカが配置され、送話部１２９の内部にはマイクが内蔵されている。表示装置１２３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１２１又は表示体部１２２の内部に格納される。
【０１０１】
図２６は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるデジタルカメラであって、液晶装置をファインダとして用いるものを示している。このデジタルカメラ１３０におけるケース１３１の背面には液晶表示ユニット１３２が設けられる。この液晶表示ユニット１３２は、被写体を表示するファインダとして機能する。この液晶表示ユニット１３２は、例えば図７に示した液晶装置１を用いて構成できる。
【０１０２】
ケース１３１の前面側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニット１３３が設けられている。撮影者が液晶表示ユニット１３２に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン１３４を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３５のメモリに転送されてそこに格納される。
【０１０３】
ケース１３１の側面には、ビデオ信号出力端子１３６と、データ通信用の入出力端子１３７とが設けられている。ビデオ信号出力端子１３６にはテレビモニタ１３８が必要に応じて接続され、また、データ通信用の入出力端子１３７にはパーソナルコンピュータ１３９が必要に応じて接続される。回路基板１３５のメモリに格納された撮像信号は、所定の操作によって、テレビモニタ１３８や、パーソナルコンピュータ１３９に出力される。
【０１０４】
（変形例）
電子機器としては、以上に説明した携帯電話機や、デジタルカメラの他に、パーソナルコンピュータ、腕時計型電子機器、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。
【０１０５】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【産業上の利用可能性】
【０１０６】
本発明に係るカラーフィルタ基板は、液晶装置、有機ＥＬ装置等といった電気光学装置にカラー表示機能を持たせるために用いられる。また、本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器の表示部として好適に用いられる。また、本発明に係る電子機器は、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等といった電子機器であって、特に、種々の情報を視覚的に表示できる機能を備えた電子機器として構成される。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】本発明に係るカラーフィルタ基板の一実施形態の１つの画素部分を示す平面図である。
【図２】図１のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図３】図２の工程図に対応してカラーフィルタ基板の製造過程を示す図である。
【図４】図３に引き続くカラーフィルタ基板の製造過程を示す図である。
【図５】図４に引き続くカラーフィルタ基板の製造過程を示す図である。
【図６】（ａ）は本発明に係る電気光学装置の一例である液晶装置に含まれる素子側基板の１つの画素部分を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線に従った断面図である。
【図７】本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶装置を示す斜視図である。
【図８】図７の液晶装置における１つの表示用ドット領域の断面構造を拡大して示す図である。
【図９】図７の液晶装置で用いられるスイッチング素子の１つを示す斜視図である。
【図１０】図１のカラーフィルタ基板に形成されるＲ，Ｇ，Ｂの着色要素の配列パターンの例を示す図であり、（ａ）はストライプ配列、（ｂ）はモザイク配列、（ｃ）はデルタ配列を示している。
【図１１】本発明に係るカラーフィルタ基板の他の実施形態の１つの画素部分を示す平面図である。
【図１２】図１１のカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図１３】図１２の工程図に対応してカラーフィルタ基板の製造過程を示す図である。
【図１４】図１３に引き続くカラーフィルタ基板の製造過程を示す図である。
【図１５】図１４に引き続くカラーフィルタ基板の製造過程を示す図である。
【図１６】図１のカラーフィルタ基板の製造方法の他の実施形態を示す工程図である。
【図１７】図１６の工程図に対応してカラーフィルタ基板の製造過程を示す図である。
【図１８】図１７に引き続くカラーフィルタ基板の製造過程を示す図である。
【図１９】図１８に引き続くカラーフィルタ基板の製造過程を示す図である。
【図２０】本発明に係るカラーフィルタ基板のさらに他の実施形態の１つの画素部分を示す平面図である。
【図２１】本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法で用いるインクジェットヘッドを示す斜視図である。
【図２２】図２１のインクジェットヘッドの内部構造を示す分解斜視図である。
【図２３】図２１のＤ−Ｄ線に従った断面図である。
【図２４】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図２５】本発明に係る電子機器の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。
【図２６】本発明に係る電子機器の実施形態であるデジタルカメラを示す斜視図である。
【符号の説明】
【０１０８】
１．液晶装置（電気光学装置）、  ２．液晶パネル、  ３．照明装置、
４ａ，４ｂ．基板、  ６．シール材、  ７．スペーサ、  ８．液晶層、
９ａ，９ｂ．基材、  １１．樹脂層、  １２．反射膜、  １３．遮光部材、
１４．撥インク層、  １５ａ．第１バンク、  １５ｂ．第２バンク、  １６．着色要素、
１７．オーバーコート層、  １８ａ．透明電極、  １８ｂ．ドット電極、
１９ａ，１９ｂ．配向膜、  ２１ａ，２１ｂ．偏光板、  ２２．ライン配線、
２３．ＴＦＤ素子、  ２４．開口、  ２９．基板の張出し部、  ３１．配線、
３２．端子、  ３３ａ，３３ｂ．駆動用ＩＣ、  ３６．導光体、  ３７．ＬＥＤ、
３８．ビーズ、  ３９．レジスト、４１．インクジェットヘッド、  ４３．ノズル、
５８．圧電素子、  １２０．携帯電話機（電子機器）、
１３０．デジタルカメラ（電子機器）、  Ｄ．表示用ドット、  Ｇ．セルギャップ、
Ｒ．反射部、  Ｔ．透過部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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