(57)【要約】【課題】アレイ基板にカラーフィルタと平坦性に優れた配向膜とを備えた液晶表示装置を比較的低いコストで製造可能とすること。【解決手段】本発明の液晶表示装置１は、透明基板２０と、着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒを含み且つそれらの間の境界に沿って溝を有するカラーフィルタ２５と、着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒに対応して互いから離間して配列した複数の画素電極２６と、上記境界に沿って延在するとともに上記溝を埋め込んだ遮光層２７ＢＭと、画素電極２６及び遮光層２７ＢＭを被覆した配向膜２８とを備えたアレイ基板２と、透明基板３０とその配向膜２８との対向面上に順次設けられた対向電極３６及び配向膜３８とを備えた対向基板３と、基板２，３間であってそれらの周縁部に沿って配置されたシール層４と、基板２と基板３とシール層４とに囲まれた空間を満たした液晶層５とを具備したことを特徴とする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１透明基板と、前記第１透明基板の一主面を被覆するとともに吸収波長域が互いに異なる第１乃至第３着色層を含み且つ前記第１乃至第３着色層間の境界に沿って溝を有するカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上で前記第１乃至第３着色層に対応して互いから離間して配列した複数の画素電極と、前記境界に沿って延在するとともに前記溝を埋め込んだ遮光層と、前記複数の画素電極及び前記遮光層を被覆した第１配向膜とを備えたアレイ基板と、
前記第１配向膜と対向した第２透明基板と、前記第２透明基板の前記第１配向膜との対向面上に設けられた対向電極と、前記対向電極を被覆した第２配向膜とを備えた対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板との間であってそれらの周縁部に沿って配置されたシール層と、
前記アレイ基板と前記対向基板と前記シール層とに囲まれた空間を満たした液晶層とを具備したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記遮光層の材料は、色素及び／または顔料を含有した樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記アレイ基板は、前記カラーフィルタ上に遮光性の柱状スペーサをさらに備え、
前記遮光層の材料と前記柱状スペーサの材料とは同一であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記アレイ基板は、前記主面上に、前記複数の画素電極によって規定される表示領域を取り囲んだ周縁遮光層をさらに備え、
前記遮光層の材料と前記周縁遮光層の材料とは同一であることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
透明基板の一主面上に吸収波長域が互いに異なる第１乃至第３着色層を含み且つ前記第１乃至第３着色層間の境界に沿って溝を有するカラーフィルタを形成する工程と、
前記カラーフィルタ上に前記第１乃至第３着色層に対応して互いから離間して配列した複数の画素電極を形成する工程と、
前記境界に沿って延在するとともに前記溝を埋め込んだ遮光層を形成する工程と、
前記複数の画素電極及び前記遮光層を被覆した配向膜を形成する工程とを含んだことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記遮光層を形成する工程は、前記カラーフィルタ及び前記複数の画素電極上に色素及び／または顔料を含有した感光性樹脂を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を透過部と遮光部と半透過部とを有するフォトマスクを用いたパターン露光に供し、前記パターン露光後の前記塗膜を現像処理することにより、前記遮光層を前記半透過部に対応したパターンで得るとともに、遮光性の柱状スペーサ及び前記複数の画素電極によって規定される表示領域を取り囲んだ周縁遮光層の少なくとも一方を前記透過部または前記遮光部に対応したパターンで得ることを含んだことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記遮光層を形成する工程は、前記カラーフィルタ及び前記複数の画素電極上に色素及び／または顔料を含有した感光性樹脂を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を第１フォトマスクを用いた第１パターン露光及び第２フォトマスクを用いた第２パターン露光に供し、前記第１及び第２パターン露光後の前記塗膜を現像処理することにより、遮光性の柱状スペーサ及び前記複数の画素電極によって規定される表示領域を取り囲んだ周縁遮光層の少なくとも一方を前記第１フォトマスクの透過部または遮光部に対応したパターンで得るとともに、前記遮光層を前記第２フォトマスクの透過部または遮光部に対応したパターンで得ることを含んだことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に係り、特には、カラーフィルタを備えた液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では、セルギャップが不均一であると、光路長のばらつきなどに起因した表示ムラを生じることがある。このような表示ムラは、ＩＰＳ（水平配向：In-Plane Switching）モードやＶＡＮ（Vertically Aligned Nematic）モードなどのＴＮ（Twisted Nematic）モード以外の表示モード，特には複屈折モード，を採用した液晶表示装置において生じやすい。また、最近では、ＴＮモードを採用した液晶表示装置において視野角拡大のために光学補償フィルムを使用することが多くなってきており、この場合には、ＴＮモードを採用した液晶表示装置であっても、先の表示ムラを生じ得る。
【０００３】
ところで、近年、液晶表示装置の製造において、アレイ基板にカラーフィルタを形成する技術が実用化され始めている。この技術によると、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせてセルを形成する際にカラーフィルタを構成する各着色層と画素電極とを位置合わせする必要がなく、大きな開口率を実現することができる。
【０００４】
このようにアレイ基板にカラーフィルタを形成した場合、セルギャップの均一性には、アレイ基板に設ける配向膜の平坦性が大きな影響を与える。したがって、この配向膜の下地には、高い平坦性が要求される。
【０００５】
しかしながら、一般に、カラーフィルタは、着色層間の境界に溝や畝などの凹部或いは凸部を有している。この場合、カラーフィルタの凹凸に対応した凹凸が、その上に形成する配向膜にも生じることとなる。このような配向膜の凹凸は、光路長のばらつきや液晶配向の乱れなどを生じさせるため、これらに起因した表示品位の劣化を生じる。
【０００６】
この問題は、例えば、カラーフィルタ上に透明樹脂からなるオーバーコート層を形成することにより回避可能である。しかしながら、この方法を採用すると、工程数が増加するとともに、オーバーコート層用の材料が必要となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、アレイ基板にカラーフィルタと平坦性に優れた配向膜とを備えた液晶表示装置を比較的低いコストで製造可能とすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１側面によると、第１透明基板と、前記第１透明基板の一主面を被覆するとともに吸収波長域が互いに異なる第１乃至第３着色層を含み且つ前記第１乃至第３着色層間の境界に沿って溝を有するカラーフィルタと、前記カラーフィルタ上で前記第１乃至第３着色層に対応して互いから離間して配列した複数の画素電極と、前記境界に沿って延在するとともに前記溝を埋め込んだ遮光層と、前記複数の画素電極及び前記遮光層を被覆した第１配向膜とを備えたアレイ基板と、前記第１配向膜と対向した第２透明基板と、前記第２透明基板の前記第１配向膜との対向面上に設けられた対向電極と、前記対向電極を被覆した第２配向膜とを備えた対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板との間であってそれらの周縁部に沿って配置されたシール層と、前記アレイ基板と前記対向基板と前記シール層とに囲まれた空間を満たした液晶層とを具備したことを特徴とする液晶表示装置が提供される。
【０００９】
本発明の第２側面によると、透明基板の一主面上に吸収波長域が互いに異なる第１乃至第３着色層を含み且つ前記第１乃至第３着色層間の境界に沿って溝を有するカラーフィルタを形成する工程と、前記カラーフィルタ上に前記第１乃至第３着色層に対応して互いから離間して配列した複数の画素電極を形成する工程と、前記境界に沿って延在するとともに前記溝を埋め込んだ遮光層を形成する工程と、前記複数の画素電極及び前記遮光層を被覆した配向膜を形成する工程とを含んだことを特徴とする液晶表示装置の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、アレイ基板にカラーフィルタと平坦性に優れた配向膜とを備えた液晶表示装置を比較的低いコストで製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の態様について、図面を参照しながら説明する。なお、各図において、同様または類似する機能を有する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１２】
図１は、本発明の一態様に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図である。図２は、図１に示す液晶表示装置のアレイ基板を概略的に示す平面図である。
【００１３】
この液晶表示装置１は、カラー型液晶表示装置であって、互いに対向したアレイ基板（或いはアクティブマトリクス基板）２と対向基板３とを備えている。これら基板２，３間の周縁部には、液晶材料を注入するための注入口を除いて接着剤などからなるシール層４が設けられており、その注入口は封止剤（図示せず）を用いて封止されている。アレイ基板２と対向基板３とシール層４とに囲まれた空間は、液晶材料で満たされており、この液晶材料は液晶層５を構成している。なお、この液晶表示装置１の両面には図示しない偏光板がそれぞれ貼り付けられており、その背面側には図示しない光源が配置されている。
【００１４】
アレイ基板２は、ガラス基板のような透明基板２０を有している。透明基板２０の一主面上には、配線及びスイッチング素子２１が形成されている。図１では、スイッチング素子２１の一例として、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴという）を描いている。
【００１５】
ＴＦＴ２１のゲート絶縁膜及び層間絶縁膜２２には、ＴＦＴ２１のソース及びドレインに連通する貫通孔が設けられている。絶縁膜２２上にはソース・ドレイン電極２３が形成されており、これらソース・ドレイン電極２３は、それぞれ、絶縁膜２２に設けられた貫通孔を介してＴＦＴ２１のソース及びドレインに接続されている。
【００１６】
絶縁膜２２及びソース・ドレイン電極２３は、パッシベーション膜２４で被覆されている。パッシベーション膜２４上には、緑色着色層２５Ｇと青色着色層２５Ｂと赤色着色層２５Ｒとを含んだカラーフィルタ２５が形成されている。このカラーフィルタ２５は、着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒ間の境界に沿って溝を有している。これらパッシベーション膜２４及びカラーフィルタ２５には、ソース電極２３に連通する貫通孔が設けられている。
【００１７】
なお、この例では、着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒはストライプ状に形成されており、カラーフィルタ２５は着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒ間の境界（図２では一点鎖線で示している）に沿って略Ｖ字型の溝を有している。また、この例では、着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒは、隣り合うもの同士が部分的に重なり合うように形成されている。
【００１８】
カラーフィルタ２５上では、複数の画素電極２６が着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒに対応して互いから離間して配列している。各画素電極２６は、透明電極であり、パッシベーション膜２４及びカラーフィルタ２５に設けられた貫通孔を介してソース電極２３に接続されている。
【００１９】
カラーフィルタ２５上には、着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒ間の境界に沿って遮光層２７ＢＭが形成されている。遮光層２７ＢＭは、カラーフィルタ２５及び画素電極２６を部分的に被覆している。これにより、遮光層２７ＢＭは、カラーフィルタ２５の溝を埋め込むとともに、後述する配向膜２８に対して平坦な下地を提供している。
【００２０】
画素電極２６上には、柱状スペーサ２７Ｓが形成されている。柱状スペーサ２７Ｓは、アレイ基板２と対向基板３との距離を一定に保つ役割を果たす。また、柱状スペーサ２７Ｓは、この例では遮光性である。
【００２１】
パッシベーション膜２４上には、周縁遮光層２７ＰＦが形成されている。周縁遮光層２７ＰＦは、画素電極２６を含む領域として規定される表示領域を取り囲んでいる。
【００２２】
画素電極６５及び遮光層２７ＢＭは、配向膜２８で被覆されている。配向膜２８は、ポリイミドなどからなる透明樹脂層である。
【００２３】
対向基板３は、ガラス基板のような透明基板３０を有している。透明基板３０のアレイ基板２との対向面には、透明電極である対向電極３６と配向膜３８とが順次積層されている。なお、配向膜３８は、ポリイミドなどからなる透明樹脂層である。
【００２４】
ところで、着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒで構成されるカラーフィルタ２５を完全に平坦に形成することは極めて難しい。すなわち、通常、カラーフィルタ２５には、着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒ間の境界に沿った溝が生じるか、或いは、着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒ間の境界に沿った畝が生じる。このような溝または畝を生じた場合、遮光層２７ＢＭを設けないと、配向膜２８の下地は先の溝或いは畝を有することとなり、平坦性に優れた配向膜２８を形成することができない。その結果、光路長のばらつきや液晶配向の乱れを生じ、これらに起因した表示品位の劣化，例えば黒表示時の光漏れやその結果として起こるコントラストの低下，を生じる。したがって、このような表示品位の抑制するためには、配向膜２８に対して平坦な下地を提供する必要がある。
【００２５】
カラーフィルタ２５がその表面に畝を有している場合、配向膜２８に対して平坦な下地を提供するためには、隣り合う畝と畝との間の領域を透明材料で埋め込まなければならない。すなわち、上述したオーバーコート層を形成しなければならず、工程数が増加するとともに、オーバーコート層用の材料が必要となる。
【００２６】
他方、カラーフィルタ２５がその表面に溝を有している場合、その溝を埋め込むことにより、配向膜２８に対して平坦な下地を提供することができる。この溝は、着色層２５Ｇ，２５Ｂ，２５Ｒ間の境界，すなわち画素電極２６間の表示に寄与しない領域，に生じるので、これを埋め込む材料は透明材料である必要はない。そのため、配向膜２８に対して平坦な下地を提供すべく、カラーフィルタ２５の溝を、例えば、遮光層２７ＢＭで埋め込むことができる。
【００２７】
この遮光層２７ＢＭには、例えば、柱状スペーサ２７Ｓや周縁遮光層２７ＰＦと同一の材料を使用することができる。それゆえ、配向膜２８に対して平坦な下地を提供するために、新たな材料を入手する必要はない。また、遮光層２７ＢＭに柱状スペーサ２７Ｓや周縁遮光層２７ＰＦと同一の材料を使用すると、遮光層２７ＢＭを柱状スペーサ２７Ｓや周縁遮光層２７ＰＦと同一のプロセスで形成することができる。そのため、遮光層２７ＢＭを設けることによるコストの上昇は殆んどなく、したがって、この液晶表示装置１は比較的低いコストで製造することができる。
【００２８】
この液晶表示装置１は、例えば、以下の方法により製造することができる。  
図３乃至図６は、図１に示す液晶表示装置１の製造に利用可能な方法の一例を概略的に示す断面図である。
【００２９】
この方法では、まず、通常の方法により、透明基板２０の一主面上に、ＴＦＴ２１、絶縁膜２２、ソース・ドレイン電極２３、パッシベーション膜２４などを形成する。なお、パッシベーション膜２４には、ソース電極２３に連通する貫通孔を設けておく。
【００３０】
次に、パッシベーション膜２４上に、緑色のフォトレジストを例えばスピンコート法などにより塗布する。次いで、この塗膜を、フォトリソグラフィ技術を利用してパターニングする。これにより、順テーパ状の断面形状を有するストライプ状の緑色着色層２５Ｇを得る。この際、緑色着色層２５Ｇには、パッシベーション膜２４に設けた貫通孔に繋がる貫通孔を設けておく。
【００３１】
続いて、パッシベーション膜２４上に、青色のフォトレジストを例えばスピンコート法などにより塗布する。次いで、この塗膜を、フォトリソグラフィ技術を利用してパターニングする。これにより、順テーパ状の断面形状を有するストライプ状の青色着色層２５Ｂを得る。この際、青色着色層２５Ｂには、パッシベーション膜２４に設けた貫通孔に繋がる貫通孔を設けておく。また、この際、青色着色層２５Ｂは、これに隣接する緑色着色層２５Ｇの傾斜した端面の下部を被覆するように形成する。これにより、互いに隣接する緑色着色層２５Ｇと青色着色層２５Ｂとの境界に沿って略Ｖ字型の断面を有する溝を生じさせる。
【００３２】
さらに、パッシベーション膜２４上に、赤色のフォトレジストを例えばスピンコート法などにより塗布する。次いで、この塗膜を、フォトリソグラフィ技術を利用してパターニングする。これにより、順テーパ状の断面形状を有するストライプ状の赤色着色層２５Ｒを得る。この際、赤色着色層２５Ｒには、パッシベーション膜２４に設けた貫通孔に繋がる貫通孔を設けておく。また、この際、赤色着色層２５Ｒは、これに隣接する緑色着色層２５Ｇ及び青色着色層２５Ｂの傾斜した端面の下部を被覆するように形成する。これにより、互いに隣接する緑色着色層２５Ｇと赤色着色層２５Ｒとの境界及び互いに隣接する青色着色層２５Ｂと赤色着色層２５Ｒとの境界に沿って略Ｖ字型の断面を有する溝を生じさせる。
【００３３】
次に、このようにして得られたカラーフィルタ２５上に画素電極２６を形成する。画素電極２６は、カラーフィルタ２５の表面のうち隣り合う溝と溝との間に位置する各帯状領域上で互いから離間して一列に配列するように、及び、画素電極２６がカラーフィルタ２５に設けた貫通孔上にそれぞれ位置するように形成する。画素電極２６は、例えば、マスクスパッタリング法により形成することができる。また、画素電極２６は、スパッタリング法により連続膜を形成した後、この連続膜をフォトリソグラフィ技術によりパターニングすることでも得ることができる。以上のようにして、図３に示す構造を得る。
【００３４】
次に、基板２０の画素電極２６を形成した面に、色素及び／または顔料を含有した感光性樹脂として黒色のフォトレジストを例えばスピンコート法などにより塗布する。これにより、図４に示す塗膜２７を形成する。なお、ここでは、一例として、ネガ型のフォトレジストを使用することとする。
【００３５】
次いで、図５に示すように、塗膜２７と対向するようにフォトマスク６を配置する。このフォトマスク６は、透明基板６０と、その一主面に形成された遮光パターン６１及び半透明パターン６２を備えている。すなわち、このフォトマスク６は、透過部６Ｔと遮光部６Ｓと半透過部６ＳＴとを有している。なお、ここでは、ネガ型のフォトレジストを使用しているので、透過部６Ｔを柱状スペーサ２７Ｓ及び周縁遮光層２７ＰＦに対応させているが、ポジ型のフォトレジストを使用する場合は、遮光部６Ｓを柱状スペーサ２７Ｓ及び周縁遮光層２７ＰＦに対応させる。
【００３６】
次に、このフォトマスク６を介して塗膜２７を露光，例えば紫外線露光，する。これにより、塗膜２７の透過部６Ｔ及び半透過部６ＳＴに対応した領域内で架橋反応を生じさせる。
【００３７】
続いて、塗膜２７を、例えばアルカリ水溶液などの現像液を用いて現像する。塗膜２７の遮光部６Ｓに対応した領域は露光されておらず、塗膜２７の半透過部６ＳＴに対応した領域は、塗膜２７の透過部６Ｔに対応した領域よりも露光量が少ない。したがって、各領域の露光量を適宜設定することにより、図６に示す構造を得ることができる。
【００３８】
その後、基板２の画素電極２６などを形成した面に配向膜２８を形成する。配向膜２８は、例えば、ポリイミドなどの樹脂をスピンコートすることや、そのようにして得られる樹脂膜にラビング処理などの配向処理を行うことなどにより形成することができる。以上のようにして、アレイ基板２を完成する。
【００３９】
上述した方法でアレイ基板２を作製する一方で、例えば、以下の方法により対向基板３を作製する。すなわち、まず、透明基板３０の一主面上に、例えばスパッタリング法などにより対向電極３６を形成する。次いで、対向電極３６上に、配向膜２８に関して説明したのと同様の方法により、配向膜３８を形成する。以上のようにして、対向基板３を完成する。
【００４０】
次に、アレイ基板２の配向膜２８を形成した面のうち、注入口に対応した部分を除く周縁部に接着剤を塗布する。或いは、対向基板３の配向膜３８を形成した面のうち、注入口に対応した部分を除く周縁部に接着剤を塗布する。この接着剤としては、例えば、熱硬化性の接着剤を使用することができる。
【００４１】
次いで、アレイ基板２と対向基板３とを配向膜２８，３８が向き合うように貼り合わせる。この状態で接着剤を加熱して接着剤を硬化させることによりシール層４を得る。
【００４２】
次に、このようにして得られた空のセル中に、通常の方法により液晶材料を注入して液晶層５を形成する。続いて、液晶注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。さらに、セルの両主面に偏光板を貼り付ける。以上のようにして、液晶表示装置１を完成する。
【００４３】
この方法では、遮光層２７ＢＭと柱状スペーサ２７Ｓと周縁遮光層２７ＰＦとに同一の材料を使用している。それゆえ、配向膜２８に対して平坦な下地を提供するために、新たな材料を入手する必要はない。また、この方法では、遮光層２７ＢＭと柱状スペーサ２７Ｓと周縁遮光層２７ＰＦとを同時に形成している。しかも、この方法では、透過部６Ｔと遮光部６Ｓと半透過部６ＳＴとを有するフォトマスク６を使用することにより、１回のパターン露光で、高さがより低い遮光層２７ＢＭと、高さがより高い柱状スペーサ２７Ｓ及び周縁遮光層２７ＰＦとを形成可能としている。そのため、この方法によると、低い製造コストを実現することができる。
【実施例】
【００４４】
以下、本発明の実施例について説明する。  
（実施例）
図１に示す液晶表示装置１を以下の方法により作製した。
【００４５】
まず、通常の方法により、ガラス基板２０の一主面上に、ＴＦＴ２１、絶縁膜２２、ソース・ドレイン電極２３、パッシベーション膜２４などを形成した。パッシベーション膜２４には、ソース電極２３に連通する貫通孔を設けた。
【００４６】
次に、パッシベーション膜２４上に、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液をスピンコートした。次いで、この塗膜を、約９０℃で約５分間プリベークし、さらに、フォトマスクを用いた紫外線露光に供した。この際、露光量は１５０ｍＪ／ｃｍ2とした。その後、この塗膜を約０．１質量％のＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムハイドライド）水溶液を用いて約６０秒間現像処理し、続いて、水洗及び約２００℃で約１時間のポストベークを順次行った。これにより、順テーパ状の断面形状を有するストライプ状の緑色着色層２５Ｇを得た。なお、この緑色着色層２５Ｇには、画素電極２６とソース電極２３との導通のための貫通孔を設けた。また、この貫通孔の開口は、直径１５μｍの円形形状とした。
【００４７】
次いで、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液の代わりに紫外線硬化型アクリル系青色レジスト液を使用したこと以外は緑色着色層２５Ｇに関して説明したのと同様の方法により、順テーパ状の断面形状を有するストライプ状の青色着色層２５Ｂを形成した。この際、青色着色層２５Ｂは、これに隣接する緑色着色層２５Ｇの傾斜した端面の下部を被覆するように形成し、これにより、互いに隣接する緑色着色層２５Ｇと青色着色層２５Ｂとの境界に沿って略Ｖ字型の断面を有する溝を生じさせた。
【００４８】
さらに、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液の代わりに紫外線硬化型アクリル系赤色レジスト液を使用したこと以外は緑色着色層２５Ｇに関して説明したのと同様の方法により、順テーパ状の断面形状を有するストライプ状の赤色着色層２５Ｒを形成した。この際、赤色着色層２５Ｒは、これに隣接する緑色着色層２５Ｇ及び青色着色層２５Ｂの傾斜した端面の下部を被覆するように形成し、これにより、互いに隣接する緑色着色層２５Ｇと赤色着色層２５Ｒとの境界及び互いに隣接する青色着色層２５Ｂと赤色着色層２５Ｒとの境界に沿って略Ｖ字型の断面を有する溝を生じさせた。
【００４９】
次に、このようにして得られたカラーフィルタ２５上に、スパッタリング法によりＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜を形成した。このＩＴＯ膜をフォトリソグラフィ技術によりパターニングし、画素電極２６を得た。
【００５０】
次に、基板２０の画素電極２６を形成した面に、紫外線硬化型の黒色アクリル樹脂レジストをスピンコートすることにより、図４に示す塗膜２７を形成した。この塗膜２７は、６μｍの厚さに形成した。次いで、この塗膜２７を約９０℃で約１０分間乾燥させた。
【００５１】
その後、図５に示すように、塗膜２７と対向するようにフォトマスク６を配置し、このフォトマスク６を介して塗膜２７を紫外線露光した。この際、波長が３６５ｎｍの紫外線を使用し、透過部６Ｔに対応した領域の露光量は２００ｍＪ／ｃｍ2とした。また、この際、フォトマスク６としては、半透過部ＳＴの光透過率が透過部６Ｔの光透過率の５０％であるものを使用した。
【００５２】
次に、この塗膜２７をｐＨ１１．５のアルカリ水溶液を用いて約６０秒間現像処理した。次いで、この塗膜２７を２２０℃に昇温することで樹脂のメルトを生じさせ、さらに、この温度に６０分間維持することにより樹脂を完全に硬化させた。これにより、遮光層２７ＢＭと柱状スペーサ２７Ｓと周縁遮光層２７ＰＦとを得た。すなわち、図６に示す構造を得た。
【００５３】
次に、基板２の画素電極２６などを形成した面にポリイミド膜を成膜し、これをラビング処理に供することにより配向膜２８を形成した。以上のようにして、アレイ基板２を完成した。
【００５４】
上述した方法でアレイ基板２を作製する一方で、以下の方法により対向基板３を作製した。すなわち、まず、透明基板３０の一主面上に、スパッタリング法により、ＩＴＯからなる厚さ約１００ｎｍの対向電極３６を形成した。次いで、対向電極３６上に、配向膜２８に関して説明したのと同様の方法により、配向膜３８を形成した。以上のようにして、対向基板３を完成した。
【００５５】
次に、対向基板３の配向膜３８を形成した面のうち、注入口に対応した部分を除く周縁部に、ファイバを混入した熱硬化性の接着剤を塗布した。次いで、アレイ基板２と対向基板３とを配向膜２８，３８が向き合うように貼り合わせ、この状態で接着剤を加熱して接着剤を硬化させることによりシール層４を得た。
【００５６】
次に、このようにして得られた空のセル中に、通常の方法により液晶材料を注入して液晶層５を形成した。続いて、液晶注入口を紫外線硬化樹脂で封止し、さらに、セルの両主面に光学補償フィルムを有する偏光板を貼り付けた。以上のようにして、ＴＮモードの液晶表示装置１を完成した。
【００５７】
次に、この液晶表示装置１で画像を表示し、この表示画像を観察した。その結果、この液晶表示装置１は、視野角が広く、高いコントラストで画像を表示し得ることを確認することができた。
【００５８】
（比較例）
遮光層２７ＢＭを形成しなかったこと以外は実施例で説明したのと同様の方法により液晶表示装置を作製した。  
次に、この液晶表示装置１で画像を表示し、この表示画像を観察した。その結果、この液晶表示装置１は、視野角が広かったものの、実施例の液晶表示装置１ほど高いコントラストで画像を表示することはできなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の一態様に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図。
【図２】図１に示す液晶表示装置のアレイ基板を概略的に示す平面図。
【図３】図１に示す液晶表示装置の製造に利用可能な方法の一例を概略的に示す断面図。
【図４】図１に示す液晶表示装置の製造に利用可能な方法の一例を概略的に示す断面図。
【図５】図１に示す液晶表示装置の製造に利用可能な方法の一例を概略的に示す断面図。
【図６】図１に示す液晶表示装置の製造に利用可能な方法の一例を概略的に示す断面図。
【符号の説明】
【００６０】
１…液晶表示装置、２…アレイ基板、３…対向基板、４…シール層、５…液晶層、６…フォトマスク、６ａ…フォトマスク、６ｂ…フォトマスク、６Ｔ…透過部、６Ｔａ…透過部、６Ｔｂ…透過部、６Ｓ…遮光部、６Ｓａ…遮光部、６Ｓｂ…遮光部、６ＳＴ…半透過部、２０…透明基板、２１…スイッチング素子、２２…絶縁膜、２３…ソース・ドレイン電極、２４…パッシベーション膜、２５…カラーフィルタ、２５Ｇ…緑色着色層、２５Ｂ…青色着色層、２５Ｒ…赤色着色層、２６…画素電極、２７…塗膜、２７ＢＭ…遮光層、２７Ｓ…柱状スペーサ、２７ＰＦ…周縁遮光層、２８…配向膜、３０…透明基板、３６…対向電極、３８…配向膜、６０…透明基板、６０ａ…透明基板、６０ｂ…透明基板、６１…遮光パターン、６１ａ…遮光パターン、６１ｂ…遮光パターン、６２…半透明パターン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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