(57)【要約】【課題】  耐溶剤性に優れる遮光層を形成するための熱転写シート、耐溶剤性に優れる遮光層を有する遮光基板、パターンに欠けが生じ難い遮光層を有するカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。【解決手段】  熱転写シート用基材４１の片面に、遮光性材料とバインダ樹脂とシランカップリング剤とを含む転写層２’を有する熱転写シート４０により、上記課題を解決した。この熱転写シート４０は、バインダ樹脂が１分子中にエポキシ基を２個以上有するエポキシ樹脂であり、転写層２’がエポキシ基との反応性を持つ官能基を有した硬化剤を更に含むことが好ましく、シランカップリング剤がエポキシ基を有することが更に好ましい。【選択図】      図３  
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱転写シート用基材の片面に、遮光性材料とバインダ樹脂とシランカップリング剤とを含む転写層を有することを特徴とする熱転写シート。
【請求項２】
前記バインダ樹脂が１分子中にエポキシ基を２個以上有するエポキシ樹脂であり、前記転写層がエポキシ基との反応性を持つ官能基を有した硬化剤を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の熱転写シート。
【請求項３】
前記シランカップリング剤がエポキシ基を有することを特徴とする請求項２に記載の熱転写シート。
【請求項４】
前記遮光性材料がカーボンブラック又はチタンブラックであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の熱転写シート。
【請求項５】
ガラス基材の片面に、所定パターンの遮光層が設けられている遮光基板であって、前記遮光層が、遮光性材料とバインダ樹脂とシランカップリング剤とを含むことを特徴とする遮光基板。
【請求項６】
前記バインダ樹脂が１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であり、当該エポキシ樹脂が硬化剤により硬化していることを特徴とする請求項５に記載の遮光基板。
【請求項７】
前記シランカップリング剤がエポキシ基を有することを請求項６に記載の特徴とする遮光基板。
【請求項８】
請求項５〜７のいずれか１項に記載の遮光基板を有するカラーフィルタであって、前記遮光層が開口部を有し、当該遮光層の開口部に着色層が設けられていることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項９】
ガラス基材上に遮光層と着色層とをそれぞれ所定パターンで順次形成するカラーフィルタの製造方法であって、
熱転写シート用基材の片面に遮光性材料とバインダ樹脂とシランカップリング剤とを含む転写層を有する熱転写シートを準備する準備工程と、
前記熱転写シートの前記転写層と前記ガラス基材とを接触させる接触工程と、
前記遮光層の所定パターンに応じたパターンにしたがって、前記熱転写シートを前記熱転写シート用基材側から加熱することにより前記ガラス基材上に前記転写層を転写させて遮光層を形成する加熱転写工程と、
前記熱転写シートを前記ガラス基材から剥離する剥離工程と、
前記遮光層が形成された側の前記ガラス基材の表面に所定パターンの前記着色層を形成する着色層形成工程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記バインダ樹脂が１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であり、前記転写層がエポキシ基との反応性を持つ官能基を有した硬化剤を更に含み、
前記剥離工程の後に、前記遮光層を加熱することにより当該遮光層を硬化させる硬化工程を更に含むことを特徴とする請求項９に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
前記シランカップリング剤がエポキシ基を有することを特徴とする請求項１０に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１２】
前記遮光性材料がカーボンブラック又はチタンブラックであることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１３】
前記加熱転写工程の加熱をレーザ光の照射により行うことを特徴とする請求項９〜１２のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱転写シート、遮光基板、カラーフィルタ及びその製造方法に関し、更に詳しくは、カラーフィルタの製造に好ましく用いられる熱転写シート等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイパネルを備えたカラー液晶表示装置が急速に普及してきている。図６は、一般のカラー液晶表示装置に用いられる単純マトリクス駆動型の液晶パネル１００の一例を示す断面図である。液晶パネル１００は、図６に示すように、カラーフィルタ３０とガラス基材１１にパターン電極８が設けられたＴＦＴ基板等の対向基板５０とが対向して１〜１０μｍ程度の間隙部１０が設けられ、その間隙部１０に液晶化合物が充填されている。また、液晶パネル１００は、間隙部１０に図６（Ａ）に示すような一定粒子径を有するパール７が分散されて、カラーフィルタ３０と対向基板５０との間のセルギャップが一定且つ均一に維持されており、更に、カラーフィルタ３０及び対向基板５０の縁部を囲むようにシール材９が設けられて、間隙部１０に充填された液晶化合物が密封されている。
【０００３】
カラーフィルタ３０としては、図６に示すような、ガラス基材１上に、画素間の境界部を遮光するために所定のパターンで形成された遮光層２（一般にはブラックマトリクスといわれる。）と、各画素を形成するために複数の色（通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の光の３原色）を所定順序に配列した着色層３とが形成された構造を有するものが用いられている。また、最近のカラーフィルタ３０としては、着色層３の上に保護膜４と透明電極膜５とがガラス基材１に近い側からこの順に設けられているものや、間隙部１０に充填された液晶化合物と接する側の面に配向膜６が設けられているものもある。更に、カラーフィルタ３０としては、図６（Ｂ）に示すように、間隙部１０にパール７が分散されるかわりに、カラーフィルタ３０の内側の面の遮光層２が形成されている位置と重なり合う領域に、セルギャップに対応した高さを有する柱状スペーサ７’が設けられているものもある。
【０００４】
カラーフィルタ３０が備える遮光層２は、外光を吸収し、液晶ディスプレイのコントラストを向上させる役割を有するので、良好な遮光性が必要とされる。また、カラーフィルタ３０の製造工程において、ガラス基材１に遮光層２が形成された後には、遮光層２上に着色層用塗工液、保護膜用塗工液又は配向膜用塗工液が塗工されたり、ガラス基材１が洗浄液（例えばイソプロピルアルコール、γ−ブチルラクトン、N−メチル−ピロリドン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、温純水等）により洗浄されたりするので、遮光層２には耐溶剤性が必要となる。
【０００５】
このような遮光層２は、エッチング方式により形成されるのが一般的である。エッチング方式による遮光層２の形成は、遮光性材料とバインダ樹脂とが含有された塗工液をガラス基材１上に塗工し、フォトリソグラフィを用いてパターンを形成することにより行われる。通常、薄膜である遮光層２の遮光性を高めるためには、遮光性材料の含有量を比較的多くする必要がある。しかし、フォトリソグラフィで用いられる光（例えば紫外線等）は、遮光性材料の含有量が高い樹脂内に浸透し難いので、パターンどおりの遮光層２を得ることが困難であった。これに対し、パターンどおりの遮光層２を得るために遮光性材料の含有量を少なくした場合には、遮光層２の遮光性が低くなるという問題があった。
【０００６】
このような問題を解決するために、遮光層２の形成に転写方式を用いることが提案されている（例えば、特許文献１を参照。）。転写方式とは、遮光層２を転写するための遮光性材料及びバインダ樹脂からなる全面ベタ状の層（以下、転写層という。）を有する熱転写シートを用い、この熱転写シートの転写層側の面をガラス基材１に接触させ、遮光層２の形成パターンに応じたパターンにしたがってレーザ光等を照射する等して熱転写シートに熱を加え、転写層を溶融させることにより、溶融した転写層をガラス基材１上に転写させて遮光層２を形成する方法である。なお、ここでいう「溶融」とは、固体状の物質が加熱されることにより柔らかくなり変形することをいう。この方式によると、遮光性を低下させることなく、所望のパターンどおりの遮光層２を形成し易い。このような転写方式は、着色層３の形成において利用されていたものである（例えば、特許文献２及び３を参照。）。
【特許文献１】特表２００３−５０２６８５号公報
【特許文献２】特開平７−１０４１１３号公報
【特許文献３】特開平１０−２０６６２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、一般に、遮光層はバインダー樹脂等の有機質材料で形成されているので、無機質材料で形成されたガラス基材との接着性が低い。特に、エッチング方式では液体状の塗工液を塗工することによりガラス基材上に遮光層となる塗膜を形成するのに対し、転写方式では溶融させた半固体状の転写層をガラス基材上に転写させる。そのため、転写方式における溶融した転写層とガラス基材とのぬれ性は、エッチング方式における塗工液とガラス基材とのぬれ性よりも低い。したがって、転写方式により形成された遮光層は、エッチング方式により形成された遮光層と比較して、ガラス基材との接着性が低くなってしまう。
【０００８】
その結果、カラーフィルタの製造工程において、転写方式により遮光層がガラス基材上に形成された場合には、このガラス基材が洗浄液により洗浄されたり遮光層上に着色層用塗工液等が塗工されたりすると遮光層が剥がれ易くなってしまい、得られるカラーフィルタの遮光層にパターンの欠けが生じ易いという問題があった。
【０００９】
本発明は、上述の問題を解決するためになされたものであって、その第１の目的は、耐溶剤性に優れる遮光層を形成するための熱転写シートを提供することにある。本発明の第２の目的は、耐溶剤性に優れる遮光層を有する遮光基板を提供することにある。本発明の第３の目的は、パターンの欠けが生じ難い遮光層を有するカラーフィルタを提供することにある。また、本発明の第４の目的は、パターンの欠けが生じ難い遮光層を有するカラーフィルタの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記第１の目的を達成するための本発明の熱転写シートは、熱転写シート用基材の片面に、遮光性材料とバインダ樹脂とシランカップリング剤とを含む転写層を有することを特徴とする（以下、この熱転写シートを「熱転写シートＩ」ということがある。）。
【００１１】
この発明によれば、有機質との相溶性を示す官能基及び無機質との反応性を示す官能基を有するシランカップリング剤が転写層に含まれているので、この熱転写シートＩを用いた転写方式により遮光層を形成した場合に、転写時の熱で溶融した有機質の転写層と無機質のガラス基材とが接着し易くなる。その結果、この熱転写シートＩを用いて形成された遮光層は、ガラス基材との接着性が高くなり耐溶剤性が向上する。
【００１２】
本発明の熱転写シートは、上記の熱転写シートＩにおいて、前記バインダ樹脂が１分子中にエポキシ基を２個以上有するエポキシ樹脂であり、前記転写層がエポキシ基との反応性を持つ官能基を有した硬化剤を更に含むことが好ましい（以下、この熱転写シートを「熱転写シートII」ということがある。）。
【００１３】
この発明によれば、転写層にエポキシ樹脂とその硬化剤とが含まれているので、この熱転写シートIIを用いて転写層をガラス基材に転写させて遮光層を形成した後に、その遮光層を硬化させて強固な層とすることができる。その結果、この熱転写シートIIを用いて形成された遮光層は、耐溶剤性と耐熱性が向上する。
【００１４】
本発明の熱転写シートは、上記の熱転写シートIIにおいて、前記シランカップリング剤がエポキシ基を有することが好ましい（以下、この熱転写シートを「熱転写シートIII」ということがある。）。
【００１５】
この発明によれば、転写層にバインダ樹脂であるエポキシ樹脂及びエポキシ基を有するシランカップリング剤が含有されているので、バインダ樹脂とシランカップリング剤との相溶性が向上する。その結果、この熱転写シートIIIを用いて形成された遮光層は、ガラス基材との接着性が高くなり耐溶剤性が更に向上する。
【００１６】
本発明の熱転写シートは、上記の熱転写シートＩ〜IIIにおいて、前記遮光性材料がカーボンブラック又はチタンブラックであることが好ましい。
【００１７】
上記第２の目的を達成するための本発明の遮光基板は、ガラス基材の片面に、所定パターンの遮光層が設けられている遮光基板であって、前記遮光層が、遮光性材料とバインダ樹脂とシランカップリング剤とを含むことを特徴とする（以下、この遮光基板を「遮光基板Ｉ」ということがある。）。
【００１８】
この発明によれば、遮光層にシランカップリング剤が含まれているので、有機質である遮光層と無機質であるガラス基材との接着性が向上する。その結果、耐溶剤性に優れ、後に洗浄液により洗浄されたり、着色層塗工液等が塗布されたりしても遮光層がガラス基材から剥がれ難くなる。
【００１９】
本発明の遮光基板は、上記の遮光基板Ｉにおいて、前記バインダ樹脂が１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であり、当該エポキシ樹脂が硬化剤により硬化していることが好ましい（以下、この遮光基板を「遮光基板II」ということがある。）。
【００２０】
本発明の遮光基板は、上記の遮光基板IIにおいて、前記シランカップリング剤がエポキシ基を有することが好ましい（以下、この遮光基板を「遮光基板III」ということがある。）。
【００２１】
上記第３の目的を達成するための本発明のカラーフィルタは、上述の遮光基板Ｉ〜IIIを有するカラーフィルタであって、前記遮光層が開口部を有し、当該遮光層の開口部に着色層が設けられていることを特徴とする。
【００２２】
上記第４の目的を達成するための本発明のカラーフィルタの製造方法は、ガラス基材上に遮光層と着色層とをそれぞれ所定パターンで順次形成するカラーフィルタの製造方法であって、熱転写シート用基材の片面に遮光性材料とバインダ樹脂とシランカップリング剤とを含む転写層を有する熱転写シートを準備する準備工程と、前記熱転写シートの前記転写層と前記ガラス基材とを接触させる接触工程と、前記遮光層の所定パターンに応じたパターンにしたがって、前記熱転写シートを前記熱転写シート用基材側から加熱することにより前記ガラス基材上に前記転写層を転写させて遮光層を形成する加熱転写工程と、前記熱転写シートを前記ガラス基材から剥離する剥離工程と、前記遮光層が形成された側の前記ガラス基材の表面に所定パターンの前記着色層を形成する着色層形成工程とを含むことを特徴とする（以下、この製造方法を「製造方法Ｉ」ということがある。）。
【００２３】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記のカラーフィルタの製造方法Ｉにおいて、前記バインダ樹脂が１分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂であり、前記転写層がエポキシ基との反応性を持つ官能基を有した硬化剤を更に含み、前記剥離工程の後に、前記遮光層を加熱することにより当該遮光層を硬化させる硬化工程を更に含むことが好ましい（以下、この製造方法を「製造方法II」ということがある。）。
【００２４】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記のカラーフィルタの製造方法IIにおいて、前記シランカップリング剤がエポキシ基を有することが好ましい（以下、この製造方法を「製造方法III」ということがある。）。
【００２５】
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記のカラーフィルタの製造方法Ｉ〜IIIにおいて、（ａ）前記遮光性材料がカーボンブラック又はチタンブラックであること、（ｂ）前記加熱転写工程の加熱を、レーザ光の照射により行うこと、が好ましい。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の熱転写シートによれば、ガラス基材との接着性が高く、耐溶剤性に優れる遮光層を形成することができる。
【００２７】
本発明の遮光基板によれば、遮光層の耐溶剤性が向上する。その結果、この遮光基板は、後に施されるカラーフィルタを製造するための処理（着色層の形成処理等）において塗工液が塗布されたり洗浄液により洗浄されたりしても、遮光層が剥がれ難い。
【００２８】
本発明のカラーフィルタによれば、遮光層の耐溶剤性が向上し、遮光層にパターンの欠けが生じ難い。
【００２９】
本発明のカラーフィルタの製造方法によれば、耐溶剤性に優れ、パターンの欠けが生じ難い遮光層を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下、本発明の熱転写シート、遮光基板、カラーフィルタ及びその製造方法について、図面に基づき詳細に説明する。
【００３１】
本発明の遮光基板２０は、図１に示すように、ガラス基材１上に所定パターンの遮光層２が形成された構造を有する。また、本発明のカラーフィルタ３０は、図２に示すように、上記の遮光基板２０に、各画素を形成するために複数の色（通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の光の３原色）を所定順序に配列した着色層３が形成された構造を有する。遮光層２は、各画素間の境界部を遮光するために、各画素を形成する着色層３を囲むように配置されている。以下、遮光基板２０及びカラーフィルタ３０の構成について説明する。
【００３２】
（ガラス基材）
ガラス基材１の材料としては、各種の無機物質からなるガラスを用いることができ、例えば、ケイ酸塩ガラス、リン酸塩ガラス、ホウ酸塩ガラス、石英ガラス等を用いることができる。ガラス基材１は、カラーフィルタ用の基材に通常求められる程度の透明性を有することが好ましい。ガラス基材１の厚さは、通常０．１〜５．０ｍｍである。
【００３３】
（遮光層）
遮光層２は、ガラス基材１上の画素間の境界部に設けられて、外光を吸収し、液晶ディスプレイのコントラストを向上させる働きを有する。本発明の遮光基板２０及びカラーフィルタ３０の遮光層２は、図３に示すような熱転写シート用基材４１の片面に全面ベタ状の転写層２’を有する熱転写シート４０を用い、ガラス基材１上に転写層２’をパターン状に転写させることにより形成される。
【００３４】
図４は、遮光層２がパターン状に形成された遮光基板２０の一例を示す平面図である。図示の遮光層２は、アクティブマトリクス駆動型の液晶パネルに用いられるカラーフィルタの１つの隅部に形成されており、着色層３が形成されるための部位３’を囲むように設けられた直線の格子状パターンで形成されている。この遮光層２は、アクティブ素子の光劣化を防止するために、格子状パターンを形成する直線の交点から突出した領域２ａを多数有している。また、遮光層２のパターン外周部は、液晶ディスプレイの縁部から外光が入射するのを防ぐために、遮光層２のパターン内部（パターン外周部以外の部位）の線幅よりも太くなっている。なお、ガラス基材１の遮光層２及び着色層３が形成されない部位には、アライメントマーク３５が形成されていてもよい。アライメントマーク３５は、ガラス基材１上の適正な位置に着色層３等の形成を行うための基準となるマークである。
【００３５】
図５は、遮光層２の形成工程の一例を示す工程図である。遮光層２は、熱転写シート４０の転写層２’側の面とガラス基材１とを接触させる接触工程（図５（Ａ））と、熱転写シート４０を熱転写シート用基材４１側から遮光層２のパターンに応じたパターンにしたがって加熱することによりガラス基材１上に転写層２’を転写させる加熱転写工程（図５（Ｂ））と、熱転写シート４０とガラス基材１とを剥離する剥離工程（図５（Ｃ））とにより形成される。また、この遮光層２の形成工程は、剥離工程の後に、必要に応じて、遮光層２を硬化させる硬化工程（図５（Ｄ））を含んでいてもよい。なお、図５（Ｂ）の矢印は熱転写シート４０がパターンにしたがって加熱されている様子を示す。以下、熱転写シート、接触工程、加熱転写工程及び硬化工程について詳細に説明する。
【００３６】
（１）熱転写シート：
本発明の熱転写シート４０は、図３に示すように、熱転写シート用基材４１上に全面ベタ状の転写層２’が一様に形成されているシートである。熱転写シート４０には、図３（Ｂ）に示すように、光を吸収し熱変換させる光熱変換層４２が、熱転写シート用基材４１と転写層２’との間に設けられていてもよい。また、転写層２’の下には、図３（Ｂ）に示すように、転写層２’の転写性を向上させる目的で、離型層４３が設けられていてもよい。更に、同様の目的で、転写層２’の下には離型層４３の代わりに剥離層が設けられていてもよい。
【００３７】
熱転写シート用基材４１としては、ポリエステルフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアリレートフィルム等が挙げられる。熱転写シート用基材４１は、加熱転写工程においてレーザ光による光熱変換法を用いる場合に、レーザ光のレーザ波長における光線透過率が６０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【００３８】
熱転写シート用基材４１の厚さは、３〜２００μｍであることが好ましく、５０〜１２５μｍであることがより好ましい。熱転写シート用基材４１の厚さが３μｍ未満であると、接触工程において真空密着法を用いた場合にガラス基材１との接着性が悪くなり、転写感度が低下する。また、熱転写シート用基材４１の厚さが２００μｍを超えると、熱転写シート用基材４１の搬送性が悪くなる。熱転写シート４０に光熱変換層４２又は離型層４３が設けられる場合には、熱転写シート用基材４１の表面に、易接着処理やコロナ処理を施すことが好ましい。このような処理をすると、熱転写シート用基材４１と隣接する光熱変換層４２又は離型層４３との接着性が向上し、転写層２’の転写性が向上する。
【００３９】
転写層２’は、遮光基板２０及びカラーフィルタ３０の製造において、遮光層２のパターンに応じたパターンにしたがって加熱されて溶融することにより、ガラス基材１に転写されて遮光層２となる層である。本発明の熱転写シート４０の転写層２’は、遮光性材料と、バインダ樹脂及びシランカップリング剤を含む結着材とを主体として形成されている。
【００４０】
遮光性材料としては、カーボンブラック、チタンブラック等の無機物粒子が好ましく用いられる。カーボンブラック、チタンブラックは、遮光性材料であると共にレーザ光線を吸収する赤外線吸収材料でもあるので、加熱転写工程においてレーザ光による光熱変換法を用いる場合に、レーザ光をよく吸収し、効率的に熱変換できる。したがって、このような材料を用いて形成された転写層２’は、熱転写シート４０に光熱変換層４２が設けられていなくても効率的に溶融する。遮光性材料の粒子径は、０．０１〜１．０μｍであることが好ましく、０．０３〜０．３μｍであることがより好ましい。
【００４１】
結着材は、バインダ樹脂とシランカップリング剤とを主体として構成される。
【００４２】
バインダ樹脂としては、熱によって溶融する樹脂が用いられる。そのような樹脂としては、熱可塑性樹脂のほか未硬化の硬化性樹脂を用いることができ、なかでも未硬化の硬化性樹脂を用いることが好ましい。結着材に未硬化の硬化性樹脂が含まれていると、転写層２’を溶融させ転写させて形成した遮光層２を硬化させることにより、遮光層２を強固な層とすることができるので、遮光層２の耐溶剤性が向上する。また、遮光層２が強固な層となることにより遮光層２の耐熱性が向上するので、例えばカラーフィルタ３０の製造工程において、透明電極５の成膜・焼成時にガラス基材１が加熱されても遮光層２が剥がれ難くなる。
【００４３】
熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合樹脂、ポリアリレート樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂等、又は、これらの混合物、これらの共重合樹脂、これらの変性樹脂が挙げられる。
【００４４】
未硬化の硬化性樹脂としては、未硬化の熱硬化性樹脂、未硬化の電離放射線硬化性樹脂等が挙げられる。ここで、熱硬化性樹脂とは、反応性官能基を有し、硬化剤の存在下で加熱により硬化する樹脂である。また、電離放射線硬化性樹脂とは、多官能モノマーとオリゴマーとからなり、紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化する樹脂である。
【００４５】
熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、熱硬化性アクリル樹脂、ウレタン樹脂等を挙げることができ、なかでもエポキシ樹脂を用いることが好ましい。エポキシ樹脂とは、１分子中にエポキシ基を２個以上有する樹脂であり、ここでいうエポキシ基は、オキシラン環構造を有する構造であればよく、例えば、グリシジル基、オキシエチレン基、エポキシシクロヘキシル基等を挙げることができる。
【００４６】
エポキシ樹脂としては、エポキシ基を有するモノマーの重合体や共重合体、又は、エポキシ基を有するモノマーの少なくとも１種とエポキシ基を有さないモノマーとの共重合体等のエポキシ系高分子化合物が挙げられる。
【００４７】
エポキシ基を有するモノマーの具体例としては、グリシジルアクリレート，グリシジルメタクリレート，アクリルグリシジルエーテル，４−ビニルシクロヘキサンモノエポキシド等が挙げられる。エポキシ基を有さないモノマーの具体例としては、スチレン，ビニルトルエン，エチレン，ｔ‐ブチルスチレン，メチルメタクリレート，メチルアクリレート，エチルメタクリレート，エチルアクリレート，ヘキシルメタクリレート，ヘキシルアクリレート，シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、パラ‐ｔ‐ブチルシクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ステアリルアクリレート、アクリロニトリル，メタクリロニトリル，ジビニルベンゼン，Ｎ．Ｎ‐メチレンビス（アクリルアミド），エチレンジアクリレート，エチレンジメタクリレート等が挙げられる。エポキシ基を有するモノマーとエポキシ基を有さないモノマーの重合比（エポキシ基を有するモノマー／エポキシ基を有さないモノマー）は、各モノマーの仕込み時の重量比で、１／９〜９／１の範囲にあるのが好ましい。
【００４８】
エポキシ樹脂は、上記に例示したエポキシ系高分子化合物に、１分子中にエポキシ基を２個以上有するエポキシ系骨格型樹脂が混合された樹脂であることが好ましい。上記のエポキシ系高分子化合物にこのようなエポキシ系骨格型樹脂が混合されていると、エポキシ樹脂の架橋密度が高くなり、遮光層２の耐溶剤性及び耐熱性が向上する。このようなエポキシ系骨格型樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、３官能型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ含核ポリオール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、グリオキザール型エポキシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【００４９】
エポキシ系高分子化合物にエポキシ系骨格型樹脂を混合して用いる場合には、重量比（エポキシ系高分子化合物／エポキシ系骨格型樹脂）が、２０／１〜１／２０であることが好ましい。この範囲内でエポキシ系高分子化合物の混合割合を大きくすると、転写層２’が溶融し易くなり転写層２’の転写性を高くすることができる。また、エポキシ系骨格型樹脂の混合割合を大きくすると、遮光層２の架橋密度が向上し、遮光層２の耐溶剤性・耐熱性を高くすることができる。
【００５０】
このようなエポキシ樹脂は、１分子中にエポキシ基を２個以上有する。１分子中のエポキシ基の数が２個以上であると、エポキシ樹脂が充分に架橋して遮光層２の耐溶剤性・耐熱性が向上する。１分子中のエポキシ基の数の上限は、得られる遮光層２が硬化により収縮しすぎない程度に適宜設定される。
【００５１】
バインダ樹脂の軟化点は、５０℃以上１５０℃以下の範囲内にあることが好ましく、６０℃以上１２０℃以下の範囲内にあることがより好ましい。バインダ樹脂の軟化点が５０℃より低いと、転写層２’の粘着性が高くなり熱転写シート４０の保管時にブロッキングが発生して熱転写シート４０の保存安定性が低下し、また、転写層２’が転写される際にガラス基材１に地汚れや黒欠陥等が発生し易くなる。また、バインダ樹脂の軟化点が１５０℃より高いと、加熱転写工程時の熱で溶融し難いので転写層２’の転写感度が低下する。なお、ここでの軟化点は、熱機械的分析装置（理学電気株式会社製、型番：ＴＭＡ８３１０）を用い、ＪＩＳ‐Ｋ７１９６‐１９９１に準じて測定される。
【００５２】
また、バインダ樹脂は、重量平均分子量が、３０００〜１０００００の範囲にあることが好ましく、特に５０００〜２００００の範囲にあることが好ましい。バインダ樹脂の重量平均分子量が３０００より小さいと、塗膜強度が弱くなるので、熱転写シート４０の保管時にブロッキングが発生し易くなり、また、転写の際にガラス基材１に地汚れや黒欠陥等が発生し易くなる。一方、バインダ樹脂の重量平均分子量が１０００００より大きいと、塗膜強度が強くなるので転写性が悪くなる。
【００５３】
シランカップリング剤は、一般にＸ−Ｓｉ（ＯＲ）３の化学式で表される化合物であり、分子中に有機官能基（−Ｘ基）と無機質と反応するアルコキシシリル基（−ＯＲ基）を有する。シランカップリング剤の−Ｘ基は、有機質である転写層２’のバインダ樹脂との相溶性を示す官能基で、例えばエポキシ基、アミノ基、ビニル基、スチリル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、メルカプト基、スルフィド基等である。また、−ＯＲ基は、加水分解してシラノール基となり、ガラス基材１上に存在する水酸基と水素結合や脱水縮合する官能基である。−ＯＲ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる。転写層２’にはこのようなシランカップリング剤が含有されているので、シランカップリング剤の有する２種の官能基により、有機質である転写された転写層２’（遮光層２）と無機質であるガラス基材１とが強固に接着する。
【００５４】
具体的なシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド等を挙げることができる。転写層２’のバインダ樹脂がエポキシ樹脂である場合には、シランカップリング剤として、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等の−Ｘ基がエポキシ基であるシランカップリング剤を用いることが好ましい。バインダ樹脂がエポキシ樹脂である場合に、−Ｘ基がエポキシ基であるシランカップリング剤を用いると、バインダ樹脂とシランカップリング剤との相溶性が向上するので、遮光層２とガラス基材１との接着性を高くすることができる。
【００５５】
シランカップリング剤の結着材中の配合比は、結着材中の重量％として、３％以上２０％以下であることが好ましく、特に好ましくは５％以上１０％以下である。シランカップリング剤の配合比が３％未満であると、遮光層２とガラス基材１との充分な接着性が得られず、耐溶剤性が低下する。シランカップリング剤の配合比が２０％を超えると、バインダ樹脂の量が少なすぎて塗膜強度が弱くなり、熱転写シート４０の保管時にブロッキングが発生し易くなってしまい、また、転写層２’を転写させる際にガラス基材１に地汚れが発生し易くなってしまう。
【００５６】
結着材には、バインダ樹脂が熱硬化性樹脂である場合に、硬化剤が添加されていることが好ましい。例えば、バインダ樹脂がエポキシ樹脂である場合の硬化剤としては、アミン系硬化剤やカルボン酸系硬化剤を挙げることができる。
【００５７】
硬化剤としては、潜在性硬化剤を用いることが好ましい。潜在性硬化剤とは、所定の温度未満では熱硬化性樹脂との反応性を有さないが、加熱により所定の温度（以下、活性化温度という。）に達すると、その分子構造が変化して熱硬化性樹脂との反応性を発揮する硬化剤である。硬化剤としてこのような潜在性硬化剤を含有する熱転写シート４０を用いると、耐溶剤性及び耐熱性に優れた遮光層２を所望のパターンどおりに形成し易くなる。すなわち、この熱転写シート４０を用いて遮光層２を形成する際に、加熱転写工程における加熱温度を活性化温度未満にすることで、転写層２’を硬化させることなく溶融させることができるので、所望のパターンどおりに転写層２’を転写させ易くなる。また、硬化工程における加熱温度を活性化温度以上にすることで、硬化反応を活性化させ、遮光層２を強固な層とすることができる。
【００５８】
潜在性硬化剤としては、バインダ樹脂である熱硬化性樹脂との反応性を有する酸性化合物又は塩基性化合物のブロック化合物（以下、ブロック化合物という。）が好ましく挙げられる。ブロック化合物とは、熱硬化性樹脂の持つ反応性官能基との反応性を有する官能基に所定の温度以上で解離するブロック剤が結合している化合物であり、ブロック剤が結合していることにより硬化剤の熱硬化性樹脂との反応性が一時的に抑制されている。また、潜在性硬化剤として、熱硬化性樹脂との反応性を有する酸性化合物又は塩基性化合物の中性塩、そのような化合物の錯体、そのような化合物の高融点体、又は、そのような化合物のマイクロカプセル封入物等を挙げることもできる。
【００５９】
例えば、バインダ樹脂がエポキシ樹脂である場合の潜在性硬化剤としては、所定の温度以上で解離するブロック剤が結合したカルボキシル基を１分子中に２個以上有する化合物（以下、カルボキシル基ブロック化合物という。）が挙げられる。カルボキシル基ブロック化合物としては、多価カルボン酸をアルキルビニルエーテル類（ブロック剤）によりヘミアセタール体としたものが挙げられる。多価カルボン酸としては、イソフタル酸、１，２，４‐トリメリット酸、ピロメリット酸、トリス（２‐カルボキシルエチル）イソシアヌレート酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、１，２‐シクロヘキサンジカルボン酸、１，４‐シクロヘキサンジカルボン酸又は１，２，３，４‐ブタンテトラカルボン酸等が挙げられる。アルキルビニルエーテルとしては、エチルビニルエーテル、ｎ‐プロピルビニルエーテル、ｉ‐プロピルビニルエーテル、ｎ‐ブチルビニルエーテル、ｉ‐ブチルビニルエーテル、ｔ‐ブチルビニルエーテル又は２‐エチルへキシルビニルエーテル等が挙げられる。
【００６０】
硬化剤は、結着材中の硬化剤の有する官能基の合計とバインダ樹脂である熱硬化性樹脂の有する反応性官能基の合計との当量比が０．２〜２．０となるように配合されていることが好ましく、特にこの当量比が０．４〜０．８となるように配合されていることが好ましい。この当量比が０．２より小さいと、遮光層２の架橋密度が小さくなり、遮光層２を硬化させることによる効果（耐溶剤性・耐熱性の向上）が充分に得られない。また、この当量比が２．０より大きいと、未反応の硬化剤により熱転写シート４０の保管時にブロッキングが発生し易くなってしまう。
【００６１】
転写層２’には、本発明の効果を損なわない範囲で添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、離型剤、接着補助剤、酸化防止剤、分散剤等が挙げられる。また、バインダ樹脂が紫外線により硬化する樹脂である場合には、転写層２’に光重合開始剤が含有される。
【００６２】
転写層２’は、透過濃度が２．５以上、特に３．０以上の遮光性を有することが好ましい。透過濃度とは、転写層２’に入射する光の強度を、転写層２’を透過した光の強度で割った値の対数である。転写層２’すなわち遮光層２の透過濃度が高いと、この遮光層２を有するカラーフィルタ３０が用いられた液晶ディスプレイのコントラストが高くなり性能が向上する。なお、ここでの透過濃度は、ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製の透過濃度計Ｄ２００−II（偏光フィルターなし）により測定した値である。遮光濃度（遮光性）は、転写層２’の遮光性材料と結着材との比率や転写層２’の厚さを調整することにより決定される。
【００６３】
遮光性材料と結着材との重量比（遮光性材料／結着材）は、３／７〜２／１であることが好ましい。この重量比が３／７より小さいと、遮光性材料の割合が少なすぎて遮光層２の遮光性が充分でなくなる。一方、この重量比が２／１より大きいと、加熱転写工程時に溶融する樹脂の割合が減るので、転写層２’の転写性、特に高速で転写する際の転写性が低下する。また、バインダ樹脂が硬化性樹脂である場合には、硬化工程時に硬化する樹脂の割合が減るので、遮光層２を硬化させることによる効果（耐溶剤性・耐熱性の向上）が充分に得られない。
【００６４】
転写層２’の厚さは、０．５〜１０．０μｍで、好ましくは０．８〜５．０μｍである。転写層２’の厚さが０．５μｍより小さいと、遮光層２の遮光性が充分でなくなる。また、転写層２’の厚さが１０．０μｍより大きいと、転写層２’の塗膜強度が大きくなりすぎて、加熱転写後にガラス基材１から熱転写シート４０を剥離する際（図５（Ｃ）を参照。）、溶融した転写層２’と溶融していない転写層２’とが分離され難くなってしまう。その結果、転写後の転写層２’の縁部が曲がってしまうので、直線パターン状の遮光層２を形成できず、転写性が悪くなる。
【００６５】
転写層２’は、上記の遮光性材料と結着材とを溶媒に溶解又は分散させた転写層用塗工液を、熱転写シート用基材４１の片面に塗工し、その塗膜の溶媒を乾燥させて形成される。溶媒としては、メチルエチルケトン、イソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等を用いることができ、これらは単独で用いられてもよく、また、適宜の配合比で混合されて用いられてもよい。また、塗工方法としては、バーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等を用いることができる。
【００６６】
光熱変換層４２は、加熱転写工程で光熱変換法を用いる場合に、熱転写シート用基材４１と転写層２’との間に設けられる。光熱変換層４２は、光（例えばレーザ光）を吸収し熱変換させ、転写層２’に熱を伝えて、転写層２’を効率的に溶融させる役割を有する。光熱変換層４２は、例えば加熱転写工程でレーザ光による光熱変換法を用いる場合には、レーザ波長の光線を吸収するレーザ光線吸収材料と結着材とにより構成される。
【００６７】
レーザ光線吸収材料としては、赤外線吸収剤等が挙げられ、特にカーボンブラックやチタンブラック等の無機物粒子が好ましく用いられる。結着材としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアリレート樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース樹脂等やこれらの共重合樹脂若しくはこれらの変性樹脂、熱硬化性樹脂、又は、電離放射線硬化性樹脂が用いられてもよい。これらの樹脂のなかでも特に熱分解温度が２００℃以上である樹脂を用いることが好ましい。このような樹脂により形成された光熱変換層４２は、耐熱性が高いので転写時にアブレーションが生じ難い。
【００６８】
光熱変換層４２は、レーザ波長における吸光度が０．３以上であることが好ましく、より好ましくは０．４〜２．０である。吸光度とは、光熱変換層４２に入射する光の強度を、光熱変換層４２を透過した光の強度で割った値の対数である。光熱変換層４２の吸光度が０．３より低いと、光熱変換の効率が低くなりエネルギーのロスが大きくなる。吸光度が２．０より高いと、最適な転写エネルギー範囲が狭くなるので、描画精度が悪くなり、転写層２’を所望のパターンどおりに転写させることが困難となる。なお、ここでの吸光度は、株式会社島津製作所製の分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣにより測定した値である。吸光度は、光熱変換層４２のレーザ光線吸収材料と結着材との比率や光熱変換層４２の厚さを調整することにより決定される。
【００６９】
レーザ光線吸収材料と結着材との重量比（レーザ光線吸収材料／結着材）は、１／２０〜２／１であることが好ましく、特に１／１０〜１／１であることが好ましい。この重量比が１／２０より小さいと、光線吸収効率が低くなるので、レーザ光を充分に吸収できず転写性が低下する。また、この重量比が２／１より大きいと、結着材の割合が減るので塗膜強度が低下し、アブレーションが発生し易くなる。その結果、光熱変換層４２ごとガラス基材１に転写されてしまい、ガラス基材１が汚染され易くなる。
【００７０】
光熱変換層４２の厚さは、通常０．３〜５．０μｍであり、好ましくは１．０〜３．０μｍである。光熱変換層４２の厚さが０．３μｍより薄いと、吸光度が低くなるのでエネルギーのロスが大きくなる。また、光熱変換層４２の厚さが５．０μｍより厚いと、熱伝導性が低くなるので、転写層２’の転写感度が低下したり、所望の線幅を有する転写層２’を転写できず転写精度が低下したりする。
【００７１】
光熱変換層４２は、上記の材料を溶媒に溶解又は分散させた光熱変換層用塗工液を、熱転写シート用基材４１の上に塗工し、その塗膜の溶媒を乾燥させ、必要に応じて硬化させて形成される。溶媒としては、メチルエチルケトン、イソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等を用いることができ、これらは単独で用いられてもよく、また、適宜の配合比で混合されて用いられてもよい。また、塗工方法としては、バーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等を用いることができる。
【００７２】
離型層４３は、転写層２’の下に隣接して設けられ、転写層２’との接着性が比較的低く、また、加熱転写工程において溶融し転写されることなく熱転写シート４０に残る樹脂層である。このような離型層４３は、加熱転写工程において、転写層２’との界面で剥離が生じ易く、溶融した転写層２’をガラス基材１に転写させ易くすることができる。
【００７３】
離型層４３は、耐熱性の高い樹脂を主体として形成されていることが好ましい。離型層４３が耐熱性の高い樹脂で形成されていると、加熱転写工程で転写されないで熱転写シート４０に残り、且つ、形成される遮光層２の表面形状を平坦にすることができる。そのような樹脂としては、ポリアリレート樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース樹脂、シリコーン樹脂等、これらの共重合樹脂、又は、これらの変性樹脂が挙げられる。また、離型層４３は、熱硬化性樹脂硬化物や、多官能モノマーとオリゴマーとからなる電離放射線硬化性樹脂硬化物で形成されていてもよい。これらの樹脂の中でも、特に軟化点が２００℃以上である樹脂が好ましく用いられる。なお、離型層４３の厚さは、通常０．０１〜３．０μｍである。
【００７４】
剥離層は、転写層２’の下に隣接して設けられ、熱転写シート用基材４１（光熱変換層４２が設けられているときは光熱変換層４２）との接着性が比較的低く、また、加熱転写工程において転写層２’と共に溶融し転写される樹脂層である。このような剥離層は、熱転写工程において、転写層２’と共に溶融し、熱転写シート用基材４１等との界面で剥離が生じ易いので、溶融した転写層２’をガラス基材１に転写させ易くすることができる。なお、剥離層は、そのまま転写後の転写層２’の上に形成されて遮光基板２０を構成する。剥離層は、転写性の観点から転写層２’の形成に用いられる結着材で形成されていることが好ましい。なお、剥離層の厚さは、通常０．０１〜３．０μｍである。
【００７５】
（２）接触工程：
接触工程は、ロール等による加圧法又は真空密着法等を用いて、熱転写シート４０とガラス基材１とを密着させることにより行われる。
【００７６】
（３）加熱転写工程：
加熱転写工程は、ガラス基材１に密着された熱転写シート４０を、遮光層２のパターンに応じたパターンにしたがって加熱することにより、転写層２’を溶融させてガラス基材１に転写させる工程である。なお、この工程では、上記したアライメントマーク３５（図４を参照。）をガラス基材１上に形成することができる。アライメントマーク３５の形成は、具体的には、アライメントマークの形成パターンにしたがって、ガラス基材１に密着された熱転写シート４０を加熱し、転写層２’をガラス基材１に転写させることにより行う。
【００７７】
加熱方法としては、光を照射し光エネルギーを熱エネルギに変換させて加熱する光熱変換法、発熱素子を設けたサーマルヘッドを接触させて加熱する方法、又は、ホットスタンピング法等を挙げることができ、これらのうちレーザ光を用いた光熱変換法を好ましく挙げることができる。レーザ光を用いた光熱変換法（以下、レーザ転写法という。）により加熱転写を行うと、転写の解像性が向上し転写速度が高速化する。
【００７８】
レーザ転写法による加熱は、光径を遮光層２のパターンの線幅に設定したレーザ光で、ガラス基材１に密着された熱転写シート４０に、所望のパターンを描画するマスクイメージング法により行う。また、所望のマスクを介して照射することにより行うこともできる。
【００７９】
レーザ転写法で用いられるレーザ光としては、波長７８０ｎｍの半導体レーザや、波長１０８４ｎｍのＹＡＧレーザ等が挙げられる。
【００８０】
レーザ光のエネルギーは、加熱転写工程の加熱が、転写層２’の結着材に含まれるバインダ樹脂の軟化点以上の温度で行われるように決定されることが好ましい。また、転写層２’に硬化剤が含有されている場合には、レーザ光のエネルギーは、加熱転写工程の加熱が、硬化剤の活性化温度未満の温度で行われるように決定されることが好ましい。この温度範囲で転写が行われると、転写層２’が硬化せずに溶融するので転写性が向上する。レーザ光のエネルギーは、レーザ光の描画速度、照射出力、照射時間を調整することにより決定される。
【００８１】
（４）硬化工程：
硬化工程は、転写層２’が硬化性樹脂で形成されている場合に、ガラス基材１上に形成された遮光層２を硬化させて、得られる遮光層２の耐溶剤性や耐熱性を向上させるための処理である。硬化工程は、転写層２’の結着材が熱硬化性樹脂を含む場合には加熱工程となり、転写層２’の結着材が電離放射線硬化性樹脂を含む場合には電離放射線の照射工程となる。この工程が加熱工程である場合には、加熱温度は、転写層２’に含有された硬化剤の活性化温度以上であることが好ましい。このようにして形成された遮光層２は、硬化剤の作用により強固な層となる。
【００８２】
（着色層）
着色層３は、遮光性基板２０の遮光層２の開口部（画素部）に形成された赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の層である。着色層３は、通常マトリクス状のパターンで形成され、その配置形態としては、赤色パターン、緑色パターン及び青色パターンがモザイク型、ストライプ型、トライアングル型、４画素配置型等が挙げられる。着色層３の形成には、例えば、遮光層２の形成と同様の転写方式、顔料分散方式又はインクジェット方式を用いることができる。
【００８３】
顔料分散方式による着色層３の形成は、光硬化性樹脂組成物に着色顔料を分散させた着色層用塗工材料を遮光性基板２０の遮光層２上に塗布し、フォトマスクを介して紫外線を照射させることにより塗膜を所望のパターン状に露光し、アルカリ現像後、クリーンオーブン等で加熱硬化させることにより行われる。インクジェット方式による着色層３の形成は、光硬化性樹脂組成物又は熱硬化性樹脂組成物に着色顔料を分散させた水系インク液を遮光性基板２０の遮光層２の開口部（画素部）に吐出させ、塗膜を乾燥硬化させることにより行われる。この場合、遮光層２の開口部における遮光基板２０の露出面が親水性となり、遮光層２の上面が疎水性となるように、予め遮光基板２０を処理しておくことが好ましい。着色層３の厚さは、通常１．０〜５．０μｍ程度である。
【００８４】
（カラーフィルタ）
本発明のカラーフィルタ３０は、上記のようにして製造されるので、ガラス基板１との接着性が高い遮光層２を有する。その結果、この遮光層２は、耐溶剤性に優れているので、カラーフィルタ３０の製造工程中にガラス基材１から剥がれ難く、パターンに欠けが生じ難い。
【００８５】
本発明のカラーフィルタ３０は、液晶表示装置等の表示装置のカラーフィルタとして用いられる。液晶表示装置のカラーフィルタとして用いられる場合には、図６（Ａ）及び（Ｂ）に示したように、遮光層２と着色層３とを覆うように保護膜４、透明電極５や配向膜６が形成されていてもよく、また、図６（Ｂ）に示したような柱上スペーサ７’が形成されていてもよい。
【実施例】
【００８６】
以下に、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。なお、文中、部とは固形分の重量基準のことである。
【００８７】
（実施例１）
（１）熱転写シートの作製：
まず、熱転写シート４０を作製した。熱転写シート用基材４１として、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ株式会社製、商品名：ルミラーＴ−６０）を用い、その熱転写シート用基材４１の一方の面に、下記組成の離型層用塗工液Ａをバーコート法によって塗布し、９０℃２分間加熱することにより乾燥させた後、紫外線照射を行い硬化させ、厚さ１．０μｍの離型層４３を形成した。
【００８８】
次に、下記組成の転写層用塗工液Ｂをバーコート法によって塗布し、９０℃２分間加熱することにより乾燥させて、厚さ１．５μｍの転写層２’を形成した。なお、転写層２’が形成された時点での熱転写シート用基材４１の透過濃度は３．０であった。
【００８９】
〔離型層用塗工液Ａ〕
・３官能アクリレート樹脂（日本化薬株式会社製、製品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ）２０部
・光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ株式会社製、製品名：ＩＲＵＧＡＣＵＲＥ９０４）２部
・メチルエチルケトン／メチルイソブチルケトン（重量比：１／１）７８部
【００９０】
〔転写層用塗工液Ｂ〕
・バインダ樹脂：エポキシ基含有アクリル樹脂（日本油脂株式会社製、製品名：ブレンマーＣＰ−５０Ｍ、ガラス転移点：７１℃）１０部
・シランカップリング剤：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学株式会社製、製品名：ＫＢＭ４０３）１部
・遮光性材料：カーボンブラック１２部
・硬化剤１部
・メチルエチルケトン／トルエン（重量比：１／１）７６部
【００９１】
（２）遮光基板の作製：
次に、レーザ描画装置を用いて、熱転写シート４０の転写層２’のガラス基材１への転写を行った。ガラス基材１には厚さ０．７ｍｍのガラス基材（コーニング社製、製品名：１７３７ガラス）を用い、レーザ描画装置にはマスクイメージング法を使用して構成された装置を用いた。このレーザ描画装置は、図７に示すような描画システムを有し、レーザ発振器７１としてレーザ波長が１０８４ｎｍのＹＡＧレーザを備えている。
【００９２】
まず、レーザ描画装置内のＸＹステージ７７上にガラス基材１を載置し、そのガラス基材１の上に、転写層２’が内側になるようにして熱転写シート４０を積層し、ガラス基材１が熱転写シート４０に覆われるように真空密着させた。
【００９３】
次に、ＸＹステージをＹ軸方向に３００ｍｍ／秒のステージ速度で走査させながら、結像焦点でのレーザ光の断面が１辺２０μｍの略正方形状（この略正方形状を□２０μｍと表す。）となるように、熱転写シート４０が積層されたガラス基材１の熱転写シート４０側にレーザ光を照射した。このとき、結像焦点におけるレーザ光の断面積当たりのレーザ出力を４０ｍＷとした。なお、ここで照射されるレーザ光は、図７に示すように、レーザ発振器７１から出射されたレーザ光Ｌが、ビームエキスパンダー用レンズ７２，７３により広げられ、テレセントリック光学系用レンズ７４に入射した後、ビーム形状成形用マスク７５によりトップハット形状のビームに成形され、レンズ７６により転写シート４０の転写層２’が結像焦点となるように集光されたものである。
【００９４】
このようにして、平面視上で、格子状（線幅２０μｍ）のパターンを有する転写層２’が形成されたガラス基材１を得た。
【００９５】
次に、得られた転写層２’が転写されたガラス基材１を、加熱炉により２３０℃３０分間加熱し、転写層２’を硬化させて遮光層２（透過濃度３．０）とし、遮光基板２０を得た。
【００９６】
（３）カラーフィルタの作製：
次に、下記のようにして、得られた遮光基板２０上に着色層３を形成し、カラーフィルタ３０を作製した。
【００９７】
まず、遮光基板２０上に、下記組成のＲ層用塗工液Ｃをスピンコート法により塗布し、塗膜を乾燥させた。その後、フォトリソグラフィにより、Ｒ層が２列おきに形成される様に塗膜をパターニングした。次に、この遮光基板２０を２３０℃の加熱炉に入れて塗膜を硬化させてＲ層を形成した。
【００９８】
同様にして、下記組成のＧ層用塗工液Ｄを用いて、Ｒ層が形成されていない列に、２列おきにＧ層を形成し、また、下記組成のＢ層用塗工液Ｅを用いて、Ｒ層及びＢ層が形成されていない列にＢ層を形成して、Ｒ層、Ｇ層、Ｂ層がストライプ状に配置された着色層３を有するカラーフィルタ３０を作製した。
【００９９】
〔Ｒ層用塗工液Ｃ〕
・赤顔料１０部
・紫外線硬化樹脂２０部
・光重合開始剤１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７９部
【０１００】
〔Ｇ層用塗工液Ｄ〕
・緑顔料１０部
・紫外線硬化樹脂２０部
・光重合開始剤１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７９部
【０１０１】
〔Ｂ層用塗工液Ｅ〕
・青顔料１０部
・紫外線硬化樹脂２０部
・光重合開始剤１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７９部
【０１０２】
（実施例２）
実施例１の熱転写シートの作製において、転写層用塗工液Ｂにおけるシランカップリング剤に代えて３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（信越化学株式会社製、製品名：ＫＢＭ４０２）を用いた以外は、実施例１と同様にして熱転写シートを作製した。
【０１０３】
次に、実施例１の遮光基板の作製において、この熱転写シートを用いた以外は実施例１と同様にして遮光基板を作製した。
【０１０４】
（比較例１）
実施例１の熱転写シートの作製において、転写層用塗工液Ｂにシランカップリング剤を含有させず、メチルエチルケトン／トルエンを７７部とした以外は、実施例１と同様にして熱転写シートを作製した。
【０１０５】
次に、実施例１の遮光基板の作製において、この熱転写シートを用いた以外は実施例１と同様にして遮光基板を作製した。
【０１０６】
（転写性の評価）
実施例及び比較例において作製した遮光基板を目視で観察することにより、実施例及び比較例の熱転写シートの転写性を評価した。その結果、実施例１、２及び比較例１の遮光基板は、パターンどおりの遮光層が形成されており、実施例１、２及び比較例１の熱転写シートは転写性が良好であった。
【０１０７】
（耐溶剤性の評価）
実施例及び比較例において作製した遮光基板を、イソプロピルアルコール、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、温純水（６０℃）のそれぞれの溶剤に３０分間浸漬した後、遮光層の剥がれの有無を目視で観察することにより、遮光基板の耐溶剤性を評価した。
【０１０８】
その結果、実施例１及び２の遮光基板は、いずれの溶剤に浸漬しても遮光層の剥がれは見られず耐溶剤性に優れていた。一方、比較例１の遮光基板は、いずれの溶剤に浸漬しても一部遮光層の剥がれが見られ、実施例１及び２の遮光基板と比較して耐溶剤性に劣るものであった。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】本発明の遮光基板の一例を示す断面図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの一例を示す断面図である。
【図３】図３（Ａ）は本発明の熱転写シートの一例を示す断面図であり、図３（Ｂ）は本発明の熱転写シートの他の一例を示す断面図である。
【図４】本発明の遮光基板の一例を示す平面図である。
【図５】図５（Ａ）〜（Ｄ）は、本発明のカラーフィルタの製造方法の一部工程を説明するための工程図である。
【図６】図６（Ａ）は液晶パネルの一例を示す断面図であり、図６（Ｂ）は液晶パネルの他の一例を示す断面図である。
【図７】レーザ描画装置のレーザ光線描画システムの一例を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１１０】
１  ガラス基材
２  遮光層
２’  転写層
３  着色層
４  保護層
５  透明電極
６  配向膜
７’  柱上スペーサ
２０  遮光基板
３０  カラーフィルタ
４０  熱転写シート
４１  熱転写シート用基材
４２  光熱変換層
４３  離型層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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