(57)【要約】【課題】  毛髪処理剤として使用した時の毛髪の風合いが重くならず不快感もない毛髪処理剤用基剤を提供する。【解決手段】  一般式（１）で示される第４級アンモニウム塩（ａ）を３０〜９０重量％、炭素数１４〜２６の直鎖脂肪族１級モノアルコール（ｂ）を５〜６５重量％、および一般式（２）で示されるエーテル（ｃ）を０．０３〜３０重量％含有することを特徴とする毛髪処理剤用基剤である。  【化７】2005154366.tif 000011 式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちの１個または２個は炭素数１０〜２６のアルキル基または炭素数１０〜２６のヒドロキシアルキル基であり、残りは炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基またはベンジル基である。Ｘはハロゲン原子またはモノアルキル硫酸エステル基である。        Ｒ5−Ｏ−Ｒ6                      （２） 式中、Ｒ5およびＲ6のうちの少なくとも１個は炭素数１４〜２６の直鎖アルキルまたは直鎖アルケニル基、残りは炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１４〜２６の分岐アルキル基、炭素数１〜２６のヒドロキシアルキル基またはベンジル基である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で示される第４級アンモニウム塩（ａ）を３０〜９０重量％、炭素数１４〜２６の直鎖脂肪族１級モノアルコール（ｂ）を５〜６５重量％、および一般式（２）で示されるエーテル（ｃ）を０．０３〜３０重量％含有することを特徴とする毛髪処理剤用基剤。
【化１】
2005154366.tif 000008
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちの１個または２個は炭素数１０〜２６のアルキル基または炭素数１０〜２６のヒドロキシアルキル基であり、残りは炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基およびベンジル基から選ばれる１種以上である。Ｘはハロゲン原子またはモノアルキル硫酸エステル基である。）
【化２】
2005154366.tif 000009
（式中、Ｒ5およびＲ6のうちの少なくとも１個は炭素数１４〜２６の直鎖アルキルまたは直鎖アルケニル基、残りは炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１４〜２６の分岐アルキル基、炭素数１〜２６のヒドロキシアルキル基またはベンジル基である。）
【請求項２】
一般式（２）におけるＲ5およびＲ6がいずれも炭素数１４〜２６の直鎖アルキル基である請求項１記載の基剤。
【請求項３】
炭素数１４〜２６の直鎖脂肪族１級モノアルコール（ｂ）の存在下に、下記一般式（３）で示される３級アミン（ａ１）と４級化剤を反応させて得られ、エーテル（ｃ）の含量が該基剤の重量に基づいて０．０３〜１０重量％である請求項１または２記載の基剤。
【化３】
2005154366.tif 000010
（式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ4のうちの１個または２個は炭素数１０〜２６のアルキル基または炭素数１０〜２６のヒドロキシアルキル基であり、残りは炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基またはベンジル基である。）
【請求項４】
エーテル（ｃ）の含量が基剤の重量に基づいて０．１〜１０重量％である請求項３記載の基剤。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか記載の基剤、並びにアニオン界面活性剤、ノニオン界面活性剤、両性界面活性剤、他のカチオン界面活性剤、炭素数１〜３のアルコール、着色料、香料、防腐剤および水からなる群から選ばれる１種以上をを含有してなる毛髪処理剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は毛髪処理剤用基剤、詳しくは第４級アンモニウム塩を含有する毛髪処理剤用基剤に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、毛髪処理剤（例えばヘアリンス、ヘアトリートメントなど）用の基剤としては第４級アンモニウム塩とイソプロパノール、エタノール、水又はこれらの混液とからなるものがあったが、作業環境の向上の観点から、近年は上記の低級アルコールを使用しない、第４級アンモニウム塩と高級アルコールからなる香粧品基剤が提案されている。（特許文献−１参照）
【特許文献−１】特公平５−８６９２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、高級アルコールを使用したものは、毛髪処理剤として使用した時の毛髪の風合いが重くなり、使用者に不快感を与えることがあるという問題を有していた。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記問題を解決すべく、鋭意検討した結果、毛髪処理剤として使用した時の毛髪の風合いが重くならず不快感もない基剤を見出し本発明に至った。
【０００５】
すなわち、本発明は、一般式（１）で示される第４級アンモニウム塩（ａ）を３０〜９０重量％、炭素数１４〜２６の直鎖脂肪族１級モノアルコール（ｂ）を５〜６５重量％、および一般式（２）で示されるエーテル（ｃ）を０．０３〜３０重量％含有することを特徴とする毛髪処理剤用基剤、並びに該基剤を含有する毛髪処理剤である。
【０００６】
【化４】
2005154366.tif 000002
【０００７】
式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4のうちの１個または２個は炭素数１０〜２６のアルキル基または炭素数１０〜２６のヒドロキシアルキル基であり、残りは炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基またはベンジル基である。Ｘはハロゲン原子またはモノアルキル硫酸エステル基である。
【０００８】
【化５】
2005154366.tif 000003
【０００９】
式中、Ｒ5およびＲ6のうちの少なくとも１個は炭素数１４〜２６の直鎖アルキルまたは直鎖アルケニル基、残りは炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１４〜２６の分岐アルキル基、炭素数１〜２６のヒドロキシアルキル基またはベンジル基である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の毛髪処理剤用基剤を含有する毛髪処理剤は、毛髪を処理した後の毛髪の風合いが軽く柔らかである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
一般式（１）で示される第４級アンモニウム塩（ａ）におけるＲ1〜Ｒ4のうちの１個または２個は、炭素数１０〜２６のアルキル基または炭素数１０〜２６のヒドロキシアルキル基であり、好ましいのは炭素数１０〜２６のアルキル基である。（ａ）のうち特に好ましいのはＲ1〜Ｒ4のうちの１個のみが炭素数１０〜２６のアルキル基である第４級アンモニウム塩である。
炭素数１０〜２６のアルキル基には直鎖アルキル基と分岐アルキル基が含まれる。
直鎖アルキル基としてはｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコシル基、ｎ−ヘンエイコシル基、ｎ−ドコシル基、ｎ−トリコシル基、ｎ−テトラコシル基、ｎ−ペンタコシル基およびｎ−ヘキサコシル基などがあげられる。
分岐アルキル基の分岐の位置はα〜ωまでのいずれの位置でもよく、分岐の数も１〜１２個のいずれでもよい。分岐アルキル基としてはイソデシル基、イソウンデシル基、イソドデシル基、イソトリデシル基、イソテトラデシル基、イソペンタデシル基、イソヘキサデシル基、イソヘプタデシル基、イソオクタデシル基、イソノナデシル基、イソエイコシル基、イソドコシル基、イソヘキサコシル基、およびオレフィン（炭素数３〜４：プロピレン、ブテン）オリゴマー由来の合成アルコールの残基などが挙げられる。
また、直鎖アルキル基と分岐アルキル基の混合物としてはオキソアルコールの残基などが挙げられる
炭素数１０〜２６のアルキル基のうち好ましいのは炭素数１６〜２６のアルキル基であり、さらに好ましいのは直鎖アルキル基、特にｎ−ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシル基およびｎ−ヘキサコシル基である。炭素数が１０未満または炭素数が２６を超えると、毛髪処理剤としての風合いの軽さ、及び帯電防止効果が十分に発揮できない。
【００１２】
炭素数１０〜２６のヒドロキシアルキル基を構成するアルキル基としては、上記のアルキル基と同様のものが挙げられ、ヒドロキシアルキル基としてはヒドロキシデシル基、ヒドロキシウンデシル基、ヒドロキシドデシル基、ヒドロキシトリデシル基、ヒドロキシテトラデシル基、ヒドロキシペンタデシル基、ヒドロキシヘキサデシル基、ヒドロキシヘプタデシル基、ヒドロキシオクタデシル基、ヒドロキシノナデシル、ヒドロキシエイコシル基、ヒドロキシヘンエイコシル基、ヒドロキシドコシル基、ヒドロキシトリコシル基、ヒドロキシテトラトコシル基、ヒドロキシペンタコシル基およびヒドロキシヘキサコシル基があげられる。これらのうち好ましいのは炭素数１６〜２４のヒドロキシアルキル基であり、特に好ましいのは、ヒドロキシヘキサデシル基、ヒドロキシオクタデシル基、及びヒドロキシテトラコシル基である。
【００１３】
Ｒ1〜Ｒ4のうちの残りは、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基およびベンジル基から選ばれる１種以上である。
炭素数１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル基およびプロピル基が、また炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基およびヒドロキシプロピル基があげられる。これらのうち好ましいのは、炭素数１〜２のアルキル基であり、特に好ましいのはメチル基である。
【００１４】
一般式（１）中のＸとしては、ハロゲン原子、およびモノアルキル硫酸エステルなどがあげられる。
ハロゲン原子には、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が含まれ、好ましいのは塩素、臭素、特に好ましいのは塩素である。
モノアルキル硫酸エステルとしては炭素数１〜１０の飽和モノアルキル硫酸エステル、例えばモノメチル硫酸エステル、モノエチル硫酸エステル、モノプロピル硫酸エステル、モノブチル硫酸エステル等があげられ、好ましいのはモノメチル硫酸エステルおよびモノエチル硫酸エステルである。
【００１５】
第４級アンモニウム塩（ａ）の具体例としては、一般式（１）におけるそれぞれの基が表１に示される基である化合物があげられる。
【００１６】
【表１】
2005154366.tif 000004
【００１７】
これらのうち好ましいのは、ｎ−オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド(No.1)、ｎ−ドコシルトリメチルアンモニウムクロライド（No.2）、およびｎ−ドコシルトリメチルアンモニウムモノメチルサルフェート(No.3）である。
【００１８】
本発明における炭素数１４〜２６の直鎖脂肪族１級モノアルコール（ｂ）には、直鎖飽和脂肪族１級モノアルコール（ｂ１）および直鎖不飽和脂肪族１級モノアルコール（ｂ２）が含まれる。
（ｂ１）の例としては、ｎ−テトラデシルアルコール、ｎ−ヘキサデシルアルコール、ｎ−オクタデシルアルコール、ｎ−エイコシルアルコール、ｎ−ドコシルアルコールおよびｎ−テトラコシルアルコールなどがあげられる。
（ｂ２）の例としては、ｎ−テトラデセニルアルコール、ｎ−ヘキサデセニルアルコールおよびｎ−オクタデセニルアルコール（オレイルアルコールなど）が挙げられる。
これらのうち好ましいのは（ｂ１）、特に炭素数１６〜２２のものである。
【００１９】
一般式（２）で示されるエーテル（ｃ）は、Ｒ5およびＲ6のうちの少なくとも１個が炭素数１４〜２６の直鎖アルキルまたは直鎖アルケニル基であり、直鎖アルキルまたは直鎖アルケニル基としてはそれぞれ前述の（ｂ１）から水酸基を除いた残基［例えば、ｎ−テトラデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−オクタデシル、ｎ−エイコシル、ｎ−ドコシルおよびｎ−テトラコシル基］、および前述の（ｂ２）から水酸基を除いた残基［ｎ−テトラデセニル、ｎ−ヘキサデセニルおよびｎ−オクタデセニル基（オレイル基など）］が挙げられる。
また、残りの基のうち、炭素数１〜１３のアルキル基としてはメチル基およびエチル基、並びに直鎖もしくは分岐のプロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、デシルおよびドデシル基などが挙げられる。
残りの基のうち、炭素数１４〜２６の分岐アルキル基としては前述の（ａ）で挙げた炭素数１０〜２６の分岐アルキル基のうちの炭素数１４〜２６のものが挙げられる。
また、残りの基のうち、炭素数１〜２６のヒドロキシアルキル基には、前述の（ａ）で挙げた炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基、前述の（ａ）で挙げた炭素数１０〜２６のヒドロキシアルキル基、並びに炭素数４〜９のヒドロキシアルキル基（例えば、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシヘキシル基およびヒドロキシオクチル基など）が含まれる。
毛髪処理剤としての風合いの軽さの観点から、Ｒ5およびＲ6は、いずれもが炭素数１４〜２４、さらに炭素数１６〜２２のアルキル基、特に炭素数１６〜２２の直鎖アルキル基であることが好ましい。
【００２０】
エーテル（ｃ）の具体例としては、直鎖ジアルキルエーテル（ジｎ−テトラデシルエーテル、ジｎ−ヘキサデシルエーテル、ジｎ−オクタデシルエーテル、ジｎ−エイコシルエーテル、ジｎ−ドコシルエーテル、ｎ−テトラデシル−ｎ−ヘキサデシルエーテル、ｎ−ヘキサデシル−ｎ−オクタデシルエーテル、ｎ−ヘキサデシル−ｎ−ドコシルエーテル、ｎ−オクタデシル−ｎ−ドコシルエーテル、ｎ−オクタデシルメチルエーテル、ｎ−テトラデシルメチルエーテルなど）、直鎖ジアルケニルエーテル（ジｎ−オレイルエーテル、ジｎ−リノールエーテル、ジｎ−リノレンエーテルなど）、および直鎖アルキル分岐アルキルエーテル（ｎ−テトラデシル−イソオクタデシルエーテル、ｎ−オクタデシル−イソオクテニルエーテル、ｎ−オクタデシル−ｓｅｃ−ブチルエーテルなど）が挙げられる。  これらのうち好ましいのは直鎖ジアルキルエーテル、特にジｎ−オクタデシルエーテル、ジｎ−ドコシルエーテル、およびｎ−オクタデシル−ｎ−ドコシルエーテルである。
【００２１】
本発明の毛髪処理剤用基剤は（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を特定の割合で含有するものである。
（ａ）の含有量の下限は、毛髪処理剤用基剤の重量に基づいて通常３０％（以下において、特に限定しない限り％は重量％を表す。）、好ましくは４０％、さらに好ましくは４５％であり、上限は通常９０％、好ましくは８５％、さらに好ましくは８０％である。
（ａ）が３０％未満では毛髪処理後の帯電防止能が低く、髪のまとまりの点で不十分であり、９０％を超えると融点が高くなり、製造が困難となる。
（ｂ）の含有量の下限は、基剤の重量に基づいて通常５％、好ましくは１５％、さらに好ましくは２０％であり、上限は通常６５％、好ましくは６０％、さらに好ましくは５０％である。
（ｂ）が５％未満では毛髪処理中に抵抗感が強くなり、髪を傷め易く、一方、６５％を超えると毛髪処理後の仕上りが油っぽくなり易い。
（ｃ）の含有量の下限は、基剤の重量に基づいて通常０．０３％、好ましくは０．０５％、さらに好ましくは０．１％であり、上限は通常３０％、好ましくは１５％、さらに好ましくは１０％である。
（ｃ）が０．０３％未満では毛髪処理後の仕上り感が重くなり易く、一方、３０％を超えると毛髪処理中に抵抗感が強くなり、髪を傷め易い。
また、（ａ）／（ｂ）／（ｃ）の含有量比率は通常３０〜９０／５〜６５／０．０３〜３０、好ましくは４０〜８５／１５〜６０／０．０５〜１５、さらに好ましくは４５〜８０／２０〜５０／０．１〜１０である。
【００２２】
本発明の毛髪処理剤用基剤の製造方法は、
（ｉ）：（ａ）、（ｂ）および（ｃ）をそれぞれ配合する方法、および
（ｉｉ）：（ｂ）の存在下に、下記一般式（３）で示される３級アミン（ａ１）と４級化剤を反応させて得る方法、が挙げられる。
【００２３】
【化６】
2005154366.tif 000005
【００２４】
式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ4のうちの１個または２個は炭素数１０〜２６のアルキル基または炭素数１０〜２６のヒドロキシアルキル基であり、残りは炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のヒドロキシアルキル基またはベンジル基であり、これらはいずれも前述のＲ1、Ｒ2およびＲ4で挙げたものと同様の基が挙げられる。
（ａ１）の例としては、ｎ−オクタデシルジメチルアミン、ｎ−エイコシルジメチルアミンおよびｎ−ドコシルジメチルアミンなどが挙げられる。
４級化剤としては、炭素数１〜３のアルキルハライド、ベンジルハライドおよびジアルキル硫酸エステルが挙げられる。
【００２５】
（ｉｉ）の製造方法は、（ａ）の製造時に低級アルコールを不使用もしくは少量の使用で済み、臭気などの作業環境上の問題が少ないという点で好ましい。しかも反応時間中の少なくとも一部の時間を１３５〜１５５℃で反応させることにより、主生成物（第４級アンモニウム塩）の反応系内での流動性が良好になり、かつ製造と同時に工程中で（ｃ）を副生させることができるという観点から好ましい。反応時間中の少なくとも一部の時間を１３５〜１５５℃で反応させることにより、工程中で（ｃ）を基剤の重量に基づいて０．０３〜１０％の割合で副生させることができる。
反応中の好ましい温度は、反応開始時は１００〜１２５℃、さらに好ましくは１１０〜１２２℃で、反応系内の流動性向上の観点から、反応終了時は１３５〜１５５℃、さらに好ましくは１３５〜１４５℃である。
また、反応温度を１３５〜１５５℃にする時間は少なくとも１５分間以上、さらに好ましくは３０分間〜４時間であり、４時間以内であれば主生成物の分解が少ないので好ましい。４時間を超えた場合は、着色が激しく毛髪処理剤用としては使用できない点で好ましくない。
なお、必要により、（ｉｉ）の方法で製造した後、さらに（ｂ）および／または（ｃ）を添加してもよく、これらの添加量は上記の（ａ）、（ｂ）および（ｃ）の割合の範囲内である。
【００２６】
本発明の毛髪処理剤用基剤は通常は固体または液体であり、好ましいのは固体、特にワックス状固体であり、必要により破砕してブロック状または粉砕して粉末状にしてもよい。固体の場合の融点は通常６０〜１５０℃、好ましくは７０〜１４０℃である。
また、粉末状の場合の重量平均粒子径は通常０．３〜１０mm、好ましくは０．８〜８である。重量平均粒子径の測定方法は、特には限定されないが、第１４改日本薬局方一般試験法「粉体粒度測定法」の第２法ふるい分け法等で測る方法が等があげられる。
【００２７】
本発明の毛髪処理剤は上記の基剤、および必要により、水、並びに添加剤としてのノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、両性界面活性剤、他のカチオン界面活性剤、炭素数１〜６のアルコール、着色料、香料および防腐剤からなる群から選ばれる１種以上をを含有してなる。
ノニオン界面活性剤としては、脂肪族系アルコール（炭素数８〜２４）アルキレンオキサイド（炭素数２〜８）付加物（重合度＝１〜１００）、（ポリ）オキシアルキレン（炭素数２〜８、重合度＝１〜１００）高級脂肪酸（炭素数８〜２４）エステル［モノステアリン酸ポリエチレングリコール（重合度＝２０）、ジステアリン酸ポリエチレングリコール（重合度＝３０）等］、多価（２価〜１０価またはそれ以上）アルコール脂肪酸（炭素数８〜２４）エステル［モノステアリン酸グリセリン、モノステアリン酸エチレングリコール、モノラウリン酸ソルビタン等］、（ポリ）オキシアルキレン（炭素数２〜８，重合度＝１〜１００）多価（２価〜１０価またはそれ以上）アルコール高級脂肪酸（炭素数８〜２４）エステル［モノラウリン酸ポリオキシエチレン（重合度＝１０）ソルビタン、ポリオキシエチレン（重合度＝５０）ジオレイン酸メチルグルコシド等］、脂肪酸アルカノールアミド［１：１型ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド、１：１型ラウリン酸ジエタノールアミド等］、（ポリ）オキシアルキレン（炭素数２〜８、重合度＝１〜１００）アルキル（炭素数１〜２２）フェニルエーテル、（ポリ）オキシアルキレン（炭素数２〜８、重合度＝１〜１００）アルキル（炭素数８〜２４）アミノエーテルおよびアルキル（炭素数８〜２４）ジアルキル（炭素数１〜６）アミンオキシド［ラウリルジメチルアミンオキシド等］等が挙げられる。
【００２８】
アニオン界面活性剤としては、炭素数８〜２４の炭化水素系エーテルカルボン酸またはその塩、［（ポリ）オキシエチレン（重合度＝１〜１００）ラウリルエーテル酢酸ナトリウム、（ポリ）オキシエチレン（重合度＝１〜１００）ラウリルスルホコハク酸２ナトリウム等］、炭素数８〜２４の炭化水素系硫酸エステル塩［ラウリル硫酸ナトリウム、（ポリ）オキシエチレン（重合度＝１〜１００）ラウリル硫酸ナトリウム、（ポリ）オキシエチレン（重合度＝１〜１００）ラウリル硫酸トリエタノールアミン、（ポリ）オキシエチレン（重合度＝１〜１００）ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド硫酸ナトリウム、］、炭素数８〜２４の炭化水素系スルホン酸塩［ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等］及び炭素数８〜２４の炭化水素系リン酸エステル塩［ラウリルリン酸ナトリウム、（ポリ）オキシエチレン（重合度＝１〜１００）ラウリルエーテルリン酸ナトリウム等］、脂肪酸塩［ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸トリエタノールアミン等］、アシル化アミノ酸塩［ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナトリウム、ヤシ油脂肪酸ザルコシンナトリウム、ヤシ油脂肪酸ザルコシントリエタノールアミン、Ｎ−ヤシ油脂肪酸アシル−Ｌ−グルタミン酸トリエタノールアミン、Ｎ−ヤシ油脂肪酸アシル−Ｌ−グルタミン酸ナトリウム、ラウロイルメチル−β−アラニンナトリウム等］が挙げられる。
【００２９】
（ａ）以外のカチオン界面活性剤としては、アルキル（炭素数１〜４）硫酸高級脂肪酸アミノアルキル（炭素数２〜４）トリアルキル（炭素数１〜４）アンモニウム塩［（エチル硫酸ラノリン脂肪酸アミノプロピルエチルジメチルアンモニウム等）］、アミン塩型［ステアリン酸ジエチルアミノエチルアミド乳酸塩、ジラウリルアミン塩酸塩、オレイルアミン乳酸塩等］等が挙げられる。
【００３０】
両性界面活性剤としては、ベタイン型両性界面活性剤［ヤシ油脂肪酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタイン、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、２−アルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、ラウリルヒドロキシスルホベタイン、ラウロイルアミドエチルヒドロキシエチルカルボキシメチルベタインヒドロキシプロピルリン酸ナトリウム等］、アミノ酸型両性界面活性剤［β−ラウリルアミノプロピオン酸ナトリウム等］が挙げられる。
これらの１種または２種以上が使用出来る。
【００３１】
炭素数１〜６のアルコールとしては、１価アルコール（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコールなど）および２〜４価の多価アルコール（エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−ブタンジオール、グリセリンおよびジグリセリンなど）が挙げられる。
着色料としては、特には限定されないが、青色１号、青色２号、緑色３号、赤色１号等が挙げられ、化粧品に使用することができるものは、全て使用可能である。
香料としては、ｄ−リモネン、β−カリオフィレン、シス−３−ヘキセノール、リナロール、ファルネソール、β−フェニルエチルアルコール，２，６−ノナジエナール、シトラール、α−ヘキシルシンナミックアルデヒド、β−イオノン、ｌ−カルボン、シクロペンタデカノン、リナリルアセテート、ベンジルベンゾエート、γ−ウンデカラクトン、オイゲノール、ローズオキサイド、インドール、フェニルアセトアルデヒドジメチルアセタール、オーランチオール、シンアミックアルデヒド、メチルヨノン等が挙げられる。
防腐剤としては安息香酸、安息香酸塩類、サリチル酸、サリチル酸塩類、フェノール、ソルビン酸、ソルビン酸塩類、パラオキシ安息香酸エステル、クロルクレゾール、デヒドロ酢酸、デヒドロ酢酸塩、レゾルシン、ヘキサクロロフェン、イソプロピルメチルフェノール、オルトフェニルフェノール、塩化ベンザルコニウム、塩酸クロルヘキシジン、ビサボロール、ハロカルバン、トリクロロカルバニド、グルコン酸クロルヘキシジン、臭化アルキルイソキノリニウム、フェノキシエタノール、塩酸アルキルジアミノエチルグリシンなどが挙げられる。
【００３２】
本発明の毛髪処理剤の固形分（水以外の成分）の重量に基づく上記添加物の含量は以下の通りである。
ノニオン界面活性剤の含有量は、好ましくは２０％以下、さらに好ましくは１５％以下、また、アニオン性界面活性剤は、好ましくは１５％以下、さらに好ましくは１０％以下である。他のカチオン性界面活性剤は、好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２５％以下である。両性界面活性剤は、好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２５％以下である。
炭素数１〜６のアルコールの含有量は、好ましくは２０％以下、さらに好ましくは１５％以下である。
着色料、香料および防腐剤の含有量は、それぞれ好ましくは１０％以下、さらに好ましくは５％以下である。
【００３３】
本発明の毛髪処理剤は、基剤を水で好ましくは５〜１００倍、さらに好ましくは１０〜１００倍に希釈し、さらに上記添加剤を添加する方法で調製される。
【００３４】
本発明の毛髪処理剤の固形分濃度（水以外の成分の割合）は通常１〜７０重量％、好ましくは３〜５０％である。
【００３５】
本発明の毛髪処理剤はヘアーシャンプー、ヘアーリンスまたはヘアーコンディショナーとして使用できる。またその形態は、液体、ペースト、固体または粉末など特に限定されないが、液体およびペーストが使いやすく好ましい。
【００３６】
毛髪処理剤の配合処方（ヘアーリンス）は例えば以下の通りである。
・本発明の毛髪処理剤用基剤          ０．１〜２０％
・油分（シリコーン等）              ０．１〜２０％
・保湿剤（アルコール類）          ０．０３〜１５％
・香料                              ０．０１〜５％
・色素                              ０．０１〜５％
・防腐剤                            ０．０１〜５％
・水                                  １０〜８０％
本発明の毛髪処理剤の使用方法は特に限定されず、例えば５〜１５ｇを一旦、湯に溶解後、毛髪に処理する方法、濡らした毛髪に直接塗布する方法などが挙げられる。
【００３７】
本発明の毛髪処理剤は、さらに皮膚洗浄剤（ボディシャンプーなど）としても好適に使用され、さらには、食器用洗剤、衣料用洗剤などの家庭用洗剤としても用いることができる。
【００３８】
＜実施例＞
以下、実施例を以て本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。以下、部は重量部を、％は重量％を意味する。
【００３９】
実施例１〜４、並びに比較例１及び２
１Ｌガラス製耐圧反応装置に表２記載の（ａ１）および（ｂ）を仕込み、６０℃で気相部を窒素に置換した後、撹拌下１１０℃にて表２記載の４級化剤を４時間かけて滴下し、かつ反応温度を１３０℃まで４時間かけて上げた。同温度で２時間撹拌した後に、過剰の４級化剤を減圧下に除去し、さらに１４０℃に温度を上げて表２記載の時間反応した後、取り出した。冷却した後、粉砕機にて粉砕し、実施例および比較例の基剤を得た。
得られた基剤の組成、融点および重量平均粒子径を表２に示す。
【００４０】
表２中の記号は以下の通りである。
１８ＭＡ：ｎ−オクタデシルジメチルアミン
２２ＭＡ：ｎ−ドコシルジメチルアミン
１８ＡＬ：ｎ−オクタデシルアルコール
２２ＡＬ：ｎ−ドコシルアルコール
18/22Ｅ：ｎ−オクタデシル−ｎ−ドコシルエーテル
Ｄ２２Ｅ：ジｎ−ドコシルエーテル
Ｄ１８Ｅ：ジｎ−オクタデシルエーテル
18ＴＡCl：ｎ−オクタデシルトリメチルアンモニウムクロライド
22ＴＡCl：ｎ−ドコシルトリメチルアンモニウムクロライド
22ＴＡＳ：ｎ−ドコシルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート
【００４１】
【表２】
2005154366.tif 000006
【００４２】
実施例５〜８、並びに比較例３及び４
上記の基剤を用いてヘアーリンスを作製し、評価した。
評価用ヘアーリンスの調整：上記の基剤を、４級アンモニウム塩（ａ）に換算して３重量％となるように水で稀釈し、評価用のヘアーリンスとした。評価試験法は次の通りである。
官能評価：パネラー１０人が毛髪処理剤を実使用試験して、毛髪処理剤使用中の感触、使用後のまとまり感、仕上がり感について下記の判定基準で評価した。
○、△および×の評価を与えたパネラーの人数を表３に示す。
判定基準
使用中の感触：
指と毛髪の間の抵抗感を感じないと判断    ：  ○
指と毛髪の間の抵抗感を若干感じる判断    ：  △
指と毛髪の間の抵抗感を感じると判断      ：  ×
使用後のまとまり感：
使用後まとまり感を感じると判断          ：  ○
使用後あまりまとまり感を感じないと判断  ：  △
使用後まとまり感を感じないと判断        ：  ×
仕上り感：
仕上りの重さを感じないと判断            ：  ○
仕上りの重さを若干感じると判断          ：  △
仕上りの重さを感じると判断              ：  ×
【００４３】
【表３】
2005154366.tif 000007
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明の毛髪処理剤用基剤は、ヘアコンディショナー、ヘアリンス、ヘアトリートメント、ヘアーシャンプーなどの毛髪処理剤の基材として好適に使用できる。