(57)【要約】【課題】  この出願の大きな目的のひとつは、乾燥剤の劣化を回避した有機ＥＬ表示装置を得ることである。【解決手段】  その解決手段のひとつに、発光層を介在させて形成される一対の電極を含む電子回路を構成する導電率の異なる各種層からなる積層体を介在させて第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板が形成され、前記第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板のうち少なくとも一方の基板は乾燥剤が介在され、前記乾燥剤が、隣接される他の乾燥剤と分離された複数の島状としたものがある。【選択図】図１
2005150100.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光層を介在させて形成される一対の電極を含む電子回路を構成する導電率の異なる各種層からなる積層体を介在させて第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板が形成され、
前記第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板のうち少なくとも一方の基板は乾燥剤が介在され、
前記乾燥剤は、隣接される他の乾燥剤と分離された複数の島状の乾燥剤から構成されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
発光層を介在させて形成される一対の電極を含む電子回路を構成する導電率の異なる各種層からなる積層体を介在させて第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板が形成され、
前記第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板のうち少なくとも一方の基板はガスバリア層および乾燥剤が介在され、
前記ガスバリア層は乾燥剤に対して前記積層体の反対側に位置づけられているとともに、前記乾燥剤は、前記ガスバリア層に対向する面に、隣接される他の乾燥剤と分離された複数の島状の乾燥剤が散在されて構成されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
発光層と該発光層を挟み込んでいる一対の電極とを備えた積層体と、
該積層体を挟み込んでいる一対のフレキシブル基板と、
該フレキシブル基板と該積層体との間には、隣接する他の乾燥剤層とが乾燥剤が含有されていない材料によって分離された乾燥剤層を備えていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記乾燥剤を直接挟んで形成される各材料層のうちいずれの材料層にも乾燥剤が含有されていないことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記乾燥剤を挟んで形成される各材料層のうち一方の材料層が接着剤層であることを特徴とする請求項４記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記乾燥剤を介在するフレキシブル基板は、前記第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板のうちの一方であって、前記発光層側に配置されるフレキシブル基板となっていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記乾燥剤を介在するフレキシブル基板は、前記第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板の双方となっていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記乾燥剤はマトリクス状に配置された複数の乾燥剤からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記乾燥剤はハニカム状に配置された複数の乾燥剤からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
一の乾燥剤とこの乾燥剤に隣接する他の乾燥剤との離間距離が１００μｍ以上となっていることを特徴とする請求項１、２、３、７、８のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機ＥＬ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置は、基板の一方の面にそのｘ方向に延在しy方向に並設されるゲート信号線とｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン信号線とで囲まれた領域である画素領域を備えている。
【０００３】
この画素領域に、ゲート信号線からの走査信号線によってオンする薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介して供給されるドレイン信号線からの映像信号に対応する電流を流す発光層（有機ＥＬ層）を備えている。
【０００４】
一般に、該発光層は、酸化、あるいは湿気によってその特性が劣化することから、前記基板とは異なる他の基板であって、発光層を外気と遮蔽するための基板を備えさせ、このように外気と遮蔽された空間内に乾燥剤を配置させているのが通常である。
【０００５】
また、これら各基板としてはたとえばガラス基板からなるものもあるが、たとえば樹脂からなるものも知られるに至り、有機ＥＬ表示装置自体にフレキシブル性を有するようになってきているものがある。
【０００６】
この場合、前記乾燥剤はフレキシブル性を有する基板に介在させ、該基板が乾燥剤を一つの層とした多層構造としたものが知られ、特許文献１乃至４に記載されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平２００２−２６０８４７号公報
【特許文献２】特開２０００−３４８８４９号公報
【特許文献３】特開２００１−１０２１６７号公報
【特許文献４】特開２０００−１７３７６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、このように構成された有機ＥＬ表示装置は、他の部材と比較して特に乾燥剤が劣化し易いことが指摘されるに至った。
【０００９】
この原因を追求した結果、乾燥剤が形成されている部分のたとえば一箇所において湿気が侵入した場合にも、その湿気は周囲に伝達され、該乾燥剤の全域におよんで水分を過剰に含むこととなって、該乾燥剤の機能を喪失することになることが判明した。
また、乾燥剤への湿気の侵入は、該乾燥剤の基板から露出された周辺から、あるいは基板に予期なく形成されたピンホール等を通してもなされることが判明した。
このように、乾燥剤の劣化が生じると発光層が劣化し、発光特性が変動してしまうことがあった。
【００１０】
本発明は、このような事情に基づいてなされたもので、その目的は、乾燥剤の劣化を抑え、発光特性の変動を抑えた有機ＥＬ表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【００１２】
（１）本発明による有機ＥＬ表示装置は、たとえば、発光層を介在させて形成される一対の電極を含む電子回路を構成する導電率の異なる各種層からなる積層体を介在させて第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板が形成され、前記第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板のうち少なくとも一方の基板は乾燥剤が介在され、
前記乾燥剤は、隣接される他の乾燥剤と分離された複数の島状の乾燥剤から構成されていることを特徴とするものである。
【００１３】
（２）本発明による有機ＥＬ表示装置は、たとえば、発光層を介在させて形成される一対の電極を含む電子回路を構成する導電率の異なる各種層からなる積層体を介在させて第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板が形成され、
前記第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板のうち少なくとも一方の基板はガスバリア層および乾燥剤が介在され、
前記ガスバリア層は乾燥剤に対して前記積層体の反対側に位置づけられているとともに、前記乾燥剤は、前記ガスバリア層に対向する面に、隣接される他の乾燥剤と分離された複数の島状の乾燥剤が散在されて構成されていることを特徴とするものである。
【００１４】
（３）本発明による有機ＥＬ表示装置は、たとえば、発光層と該発光層を挟み込んでいる一対の電極とを備えた積層体と、該積層体を挟み込んでいる一対のフレキシブル基板と、
該フレキシブル基板と該積層体との間には、隣接する他の乾燥剤層とが乾燥剤が含有されていない材料によって分離された乾燥剤層を備えていることを特徴とするものである。
【００１５】
（４）本発明による有機ＥＬ表示装置は、たとえば、（１）〜（３）のいずれかの構成を前提とし、前記乾燥剤を直接挟んで形成される各材料層のうちいずれの材料層にも乾燥剤が含有されていないことを特徴とするものである。
【００１６】
（５）本発明による有機ＥＬ表示装置は、たとえば、（４）の構成を前提とし、前記乾燥剤を挟んで形成される各材料層のうち一方の材料層が接着剤層であることを特徴とするものである。
【００１７】
（６）本発明による有機ＥＬ表示装置は、たとえば、（１）〜（３）のいずれかの構成を前提とし、前記乾燥剤を介在するフレキシブル基板は、前記第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板のうちの一方であって、前記発光層側に配置されるフレキシブル基板となっていることを特徴とするものである。
【００１８】
（７）本発明による有機ＥＬ表示装置は、たとえば、（１）〜（３）のいずれかの構成を前提とし、前記乾燥剤を介在するフレキシブル基板は、前記第１のフレキシブル基板および第２のフレキシブル基板の双方となっていることを特徴とするものである。
【００１９】
（８）本発明による有機ＥＬ表示装置は、たとえば、（１）〜（３）のいずれかの構成を前提とし、乾燥剤はマトリクス状に配置された複数の乾燥剤からなることを特徴とするものである。
【００２０】
（９）本発明による有機ＥＬ表示装置は、たとえば、（１）〜（３）のいずれかの構成を前提とし、乾燥剤はハニカム状に配置された複数の乾燥剤からなることを特徴とするものである。
【００２１】
（１０）本発明による有機ＥＬ表示装置は、たとえば、（１）、（２）、（３）、（７）、（８）のいずれかの構成を前提とし、一の乾燥剤とこの乾燥剤に隣接する他の乾燥剤との離間距離が１００μｍ以上となっていることを特徴とするものである。
【００２２】
なお、本発明は以上の構成に限定されず、本発明の技術思想を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、乾燥剤の劣化を回避した有機ＥＬ表示装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明による有機ＥＬ表示装置の実施例を図面を用いて説明する。
図４は、本発明による有機ＥＬ表示装置の画素の構成の一実施例を示した構成図である。
図４（ａ）は有機ＥＬ表示装置の一画素とその近傍の個所を示す平面図である。有機ＥＬ表示装置の各画素はたとえば透明基板の表面にマトリックス状に形成され、そのうちの一つを図４（ａ）に示している。各画素は、所定のパターンに形成された導電層、半導体層、絶縁層等が積層されることによって微細な回路が組み込まれている。
【００２５】
すなわち、一つの画素は、図４(ａ)中上側において当該画素を選択駆動するゲート信号線ＧＬによって画され、左側において当該画素に映像信号を供給するドレイン信号線ＤＬによって画され、右側において当該画素に電流を供給する電流供給線ＰＬによって画され、下側において当該画素と隣接する他の画素を選択駆動するゲート信号線ＧＬによって画されている。
【００２６】
この一つ画素の領域は図中上側と下側とに区分され、下側の領域には有機ＥＬ層からなる発光層が形成され、上側の領域には前記映像信号対応した電流を形成するための回路が形成されている。発光層が形成された前記領域には、基板側からたとえば透光性の導電層からなる一方の電極（陽極；図中ＩＴＯで示す）、発光層、他方の電極（陰極）が順次積層されている。
【００２７】
前記発光層は前記一方の電極の上層に形成されたバンク層の開口部（図中ＢＭＰ，ＯＰＮ）に埋設されて形成され、この部分が実質的に発光部として構成される。また、前記他方の電極は前記バンク層の上面をも被って各画素に共通に形成されている。
【００２８】
前記一方の電極を陽極、他方の電極を陰極として、その間の発光層に電流が流れることによって、該発光層は電流に応じた強度で発光がなされるようになっている。なお、前記バンク層は当該画素からの発光を隣接する画素内に伝達されるのを回避するため、あるいは、製造の工程において当初流動性をもつ発光層を所定の輪郭を有するように形成するために設けられている。
【００２９】
前記回路に形成された前記領域には、スイッチング素子ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３、スイッチング素子ＳＷ２をオン・オフするコントロール信号線ＣＬ１、スイッチング素子ＳＷ３をオン・オフするコントロール信号線ＣＬ２、ドライブ・トランジスタＤＴ、容量素子Ｃ１−ＣＳｉ、ＣＳｉ−Ｃ２が形成されている。
【００３０】
この回路は、ゲート信号線ＧＬからの走査信号によって、ドレイン信号線ＤＬから映像信号を取り込み、この映像信号の強弱（電圧）に応じて、電流供給線ＰＬからの電流を前記発光層が形成された領域の一方の電極に供給するようになっている。
【００３１】
ここで、前記スイッチング素子ＳＷ２、ＳＷ３、および容量素子Ｃｓｉ−Ｃ２は、ドライブ・トランジスタＤＴの閾値電圧が各画素毎にばらつきがある場合において、そのばらつき補正をするために設けられている。
【００３２】
図４（ｂ）は前記一画素における等価回路を示し、図４（ａ）における幾何学的配置にほぼ対応させて描いている。
【００３３】
ゲート信号線ＧＬからの走査信号によって、スイッチング素子ＳＷ１がオンし、ドレイン信号線ＤＬからの映像信号が該スイッチング素子ＳＷ１を介して容量素子Ｃ１−ＣＳｉの一方の電極Ｃ１に供給される。このとき、該容量素子Ｃ１−ＣＳｉの他方の電極はフローティング状態となっている。
【００３４】
なお、容量素子Ｃ１−ＣＳｉは、その他方の電極と導電位となるゲート電極を有するドライブ・トランジスタＤＴのゲート電位を所定の期間に亘り所望の値に維持させる機能を有する。
このような状態で、まず、コントロール信号線ＣＬ１を通して伝送された制御信号がスイッチング素子ＳＷ２をターン・オンさせる。このとき、ドライブ・トランジスタＤＴはターン・オンされないものの、そのノードＣＨ２側はフローティング状態から有機ＥＬ素子ＬＥＤを通して基準電位に接続され、その電位は所定の値に上がる。
【００３５】
次にコントロール信号線ＣＬ２を通して伝送された制御信号が、これに対応するスイッチング素子ＳＷ３をターン・オンさせる。これにより、フローティング状態にあった容量素子ＣＳｉ−Ｃ２の一方の電極ＣＳｉは、スイッチング素子ＳＷ３を通してドライブ・トランジスタＤＴのノードＣＨ２側と接続され、その電位は上記所定の値に上がる。このとき、ドライブ・トランジスタＤＴのゲート電位（ノードＣＨ１の電位）はその出力側（ノードＣＨ２）と同じため、ドライブ・トランジスタＤＴのチャネル層は電荷の流れを遮断する。
【００３６】
電流供給線ＰＬには、ドレイン信号線ＤＬで伝送される映像信号に関係なく所定の電流が流れるため、その電位も概ね一定である。したがって、２つのスイッチング素子ＳＷ２、ＳＷ３を順次ターン・オンする（それぞれのチャネル層を順次導通状態にする）ことにより、いずれの画素の容量素子ＣＳｉ−Ｃ２にも概ね同じ量の電荷が蓄えられる。
【００３７】
この状態で、スイッチング素子ＳＷ３のチャネル層を閉ざし、次にスイッチング素子ＳＷ１がターン・オンされると、容量素子Ｃ１−ＣＳｉの一方の電極Ｃ１に印加される電圧（映像信号）に応じて、ノードＣＨ１の電位（ドライブ・トランジスタＤＴのゲート電位）とその出力側（ノードＣＨ２側）の電位との間に差が生じる。
この電位差により、ドライブ・トランジスタＤＴをターン・オンし、またターン・オンされたチャネルに流れる電荷量を制御して有機ＥＬ素子ＬＥＤを所望の輝度で光らせる。
【００３８】
なお、本発明に適用される有機ＥＬ表示装置の画素は必ずしも上述した構成に限らず、たとえば、ドライブ・トランジスタＤＴの閾値電圧の各画素毎のばらつきを補正する回路がないもの、あるいは前記バンク層がないものにあっても適用できるものである。
【００３９】
図１は、上述した画素が形成される有機ＥＬ表示装置の断面図を示すもので、前記発光層の断面を含んで描いたものである。
【００４０】
この有機ＥＬ表示装置は、大別して、パターン化された導電体層、半導体層、絶縁体層等（導電率の異なる各種層）を所定の順序で積層させ、これにより、図４（ｂ）に示す電子回路が形成された積層体ＰＬＳと、この積層体ＰＬＳの一方の面に接着剤層ＡＤＨ１によって接着された第１のフレキシブル基板ＦＢ１と、該積層体ＰＬＳの他方の面に接着剤層ＡＤＨ２によって接着された第２のフレキシブル基板ＦＢ２、前記積層体ＰＬＳに形成された端子ＴＭに接続されたフレキシブル配線基板ＦＷＢとで構成されている。
【００４１】
《積層体ＰＬＳ》
この積層体ＰＬＳは、たとえば後述の発光層ＥＬが重畳されて形成される陽極ＮＤを最下層として図中上側方向に導電率の異なる各種層を積層させて形成した後に、該陽極ＮＤが形成されている面側に前記発光層ＥＬさらにその上に陰極ＣＤを形成して構成されるものとなっている。
【００４２】
なお、陽極ＮＤを最下層として導電率の異なる各種層を積層させて形成する場合、表面が平坦な基板を必要とするが、この基板は製造の工程で取り外され、図には顕れていないものとなっている。
【００４３】
上記のように、導電率の異なる各種層を積層させることによって、図４（ｂ）に示したゲート信号線ＧＬ、ドレイン信号線ＤＬ、コントロール信号線ＣＬ１、ＣＬ２、電流供給線ＰＬ、スイッチング素子ＳＷ１ないしＳＷ３、ドライブ・トランジスタＤＴ、容量素子Ｃ１−ＣＳｉ、ＣＳｉ−Ｃ２、および前記陽極ＮＤが形成される。
【００４４】
この場合、異なる層間における上記各回路部材の接続は絶縁膜に形成したコンタクトホールを通してなされるとともに、外部から信号を供給しなければならない部分においてはやはり絶縁膜に形成したコンタクトホールを通して前記陽極ＮＤが形成された面に引き出され、該面の周辺の一部に形成された端子ＴＭ（端子群）に接続されている。後述するフレキシブル配線基板ＦＷＢと接続させるためである。
【００４５】
また、前記陽極ＮＤが形成されている面側に発光層ＥＬさらにその上に陰極ＣＤを形成する場合において、これまでに形成された積層体ＰＬＳを第１のフレキシブル基板ＦＢ１に貼り付け、このフレキシブル基板ＦＢ１を製造の際の基板として用いてもよいし、また、他の比較的剛性の大きな基板を用いるようにしてもよい。
【００４６】
また、前記発光層ＥＬは、必要に応じて陽極ＮＤ側にホール輸送層を、陰極ＣＤ側に電子輸送層、電子注入層を介在させる場合があるが、この明細書においてはこれらの各層を含めた概念とする。
【００４７】
《第１のフレキシブル基板ＦＢ１》
この第１のフレキシブル基板ＦＢ１はフィルム基体ＦＳの一方の面にガスバリア層ＧＢ１が形成されて構成されている。このガスバリア層ＧＢ１としては、たとえば、アルミニゥムの蒸着膜あるいはシリカ・アルミナ共蒸着膜からなり、このガスバリア層ＧＢ１によって外部からの酸素等の侵入を回避させるようになっている。
また、このガスバリア層ＧＢ１の上面には該ガスバリア層ＧＢ１を外的障害から保護するための保護膜ＰＶＡが形成されている。
【００４８】
そして、このように構成された第１のフレキシブル基板ＦＢ１は、そのフィルム基体ＦＳの面に接着剤ＡＤＨ１が塗付され、この接着剤ＡＤＨ１を介して前記積層体ＰＬＳの陰極ＣＤが形成された面と反対側の面に接着されている。
【００４９】
《第２のフレキシブル基板ＦＢ２》
この第２のフレキシブル基板ＦＢ２は、上記第１のフレキシブル基板ＦＢ１と異なり、乾燥剤層ＤＳＣが介層された基板からなり、外部からの湿気の侵入をこの乾燥剤層ＤＳＣによって吸着させ、該湿気が前記発光層ＥＬに到達し得ないように構成されている。
【００５０】
そして、この乾燥剤層ＤＳＣは第２のフレキシブル基板ＦＢ２の全域にわたって形成されているが、複数の分散された乾燥剤層ＤＳＣから構成され、これにより、各乾燥剤層ＤＳＣは隣接する他の乾燥剤層ＤＳＣと物理的に分離された島状の乾燥剤層ＤＳＣとなっている。このようにした理由は、後に詳述するが、たとえば一の乾燥剤層ＤＳＣが湿気を含んでも、その湿気が隣接する他の乾燥剤層ＤＳＣに至るのを回避せんがためである。
【００５１】
すなわち、まず第２のフレキシブル基板ＦＢ２を構成する一部材とし第１フィルム基体ＦＳ１がある。この第１フィルム基体ＦＳ１は該第２のフレキシブル基板ＦＢ２のうち前記積層体ＰＬＳ側に位置づけられるフィルムとなる。
【００５２】
そして、この第１フィルム基体ＦＳ１の上面に乾燥剤層ＤＳＣが形成されている。この乾燥剤層ＤＳＣは島状のパターンからなり、それらは、図２の平面図に示すように、ハニカム状に配置されている。そして、これら各乾燥剤層ＤＳＣは、その一の乾燥材層ＤＳＣとこの一の乾燥剤層ＤＳＣに隣接する他の乾燥剤層ＤＳＣとの離間距離がたとえば１００μｍ以上となるように配置されている。この場合、各乾燥剤１のフィルム２への形成はたとえば印刷法が好適となる。
【００５３】
乾燥剤層ＤＳＣとしては、たとえば金属アルコラート、ゼオライトペースト、無水金属ハロゲン化物、あるいは金属水素化物等が用いられ、それを有機溶剤に分散させ、あるいは溶液にしたりしてインク状にし、乾燥環境下で前記第１フィルム基体ＦＳ１に印刷する。
【００５４】
ここで、金属アルコラートは、溶媒に対して可溶なため、バインダなしで印刷インキができ、また、その塗付後に溶媒を乾燥させることによってフィルム上の乾燥剤（膜）が形成できる。溶液状態でも外気に触れさせてはならないため、ドライボックスを用い、乾燥は溶媒が蒸発し得る程度（≦１２０℃）に止め、アルコラート分解による吸水性損失を防ぐ。不可逆反応で吸水し、これよる膨張は１割以下であることから、隣接する島状の乾燥剤との間隔（アイランド間隔）はさほど制限されることはない。
【００５５】
ゼオライトペーストは、ゼオライトを分散させた樹脂溶液を塗付して焼成して形成される。ゼオライトは樹脂バインダにフィラとして混ざり、可逆的な吸水を示す（ただし、再生には１５０℃以上の温度を要する）。ゼオライトの表面吸着による吸湿で、吸水量は比較的多くないが微量の水分も除去でき、体積膨張しない特性を有する。
【００５６】
乾燥剤層ＤＳＣの印刷としては、たとえばスクリーン印刷法を用いるのが好適である。該乾燥剤層ＤＳＣを比較的厚くかつ選択的に形成できるからである。
【００５７】
また、他のフィルム基体(第２フィルム基体ＦＳ２)があり、この第２フィルム基板ＦＳ２の一方の側にはガスバリア層ＧＢ２が形成されている。このガスバリア層ＧＢとしては、たとえば、アルミニゥムの蒸着膜あるいはシリカ・アルミナ共蒸着膜からなっている。このガスバリア層ＧＢは外部からの酸素等の侵入を回避させる層である。
【００５８】
そして、この第２フィルム基体ＦＳ２のガスバリア層ＧＢ側の面と前記第１フィルム基体ＦＳ１の乾燥剤層ＤＳＣ側の面を接着剤層ＡＤＨ３を用いて張り合わせることにより前記第２のフレキシブル基板ＦＢ２を構成している。
【００５９】
この場合の接着剤層ＡＤＨ３の材料としてはたとえばポリプロプレンあるいはポリエチレンが用いられる。そして、この材料中には乾燥剤が含有されていないことが必要になる。接着剤層ＡＤＨ３に乾燥剤の含有量が少量であっても、この乾燥剤を介在して物理的に離間されて形成された乾燥剤層ＤＳＣどうしで湿気分の伝達がなされるからである。
【００６０】
なお、このように構成された第２のフレキシブル基板ＦＢ２は前記第１フレキシブル基体ＦＳ１の乾燥剤層ＤＳＣが形成された面と反対側の面に接着剤層ＡＤＨ２を塗付し、前記積層体ＰＬＳの陰極ＣＤが形成された面に接着されている。この場合、前記第２のフレキシブル基板ＦＢ２は積層体ＰＬＳの端子ＴＭ（端子群）が形成された部分を露出させるように接着される。
【００６１】
なお、この第２のフレキシブル基板ＦＢ２としては、必ずしも上述に示した構成に限らず、たとえば、フィルム基体にガスバリア層を形成し、このガスバリア層の上面に上述した構成の乾燥剤層ＤＳＣを形成することによって構成し、この乾燥剤層ＤＳＣの形成された面を接着剤層を介して積層体ＰＬＳに接着させるようにしてもよいことはもちろんである。
【００６２】
《フレキシブル配線基板ＦＷＢ》
フレキシブル配線基板ＦＷＢは有機ＥＬ表示装置に信号を供給するための配線基板であり、その一端は前記積層体ＰＬＳの第２フレキシブル基板ＦＢ２から露出された面に形成された前記端子ＴＭ（端子群）に電気的に接続されている。
【００６３】
該端子ＴＭとフレキシブル配線基板ＦＷＢとの接続は異方性導電膜ＡＣＦを介してなされている。また、このフレキシブル配線基板ＦＷＢと第２のフレキシブル基板ＦＢ２との間の隙間には樹脂膜ＲＧＮが充填され、これにより湿気の侵入等を防止している。
【００６４】
このように構成された有機ＥＬ表示装置は、その第２のフレキシブル基板ＦＢ２に介層される乾燥剤層ＤＳＣにおいて、それをたとえば膜状若しくは線状の連続パターンで形成した場合、フレキシブル基板ＦＢ２のたとえば端部のようなところで該乾燥剤層ＤＳＣが露出しそこから乾燥剤層ＤＳＣを通して吸湿し乾燥剤層ＤＳＣが短時間のうちに反応してしまい除湿ができなくなる。
【００６５】
これに対して、本実施例のように、乾燥剤層ＤＳＣをそれぞれ島状の孤立パターンで形成するとそのうちの一つの乾燥剤層ＤＳＣが露出して吸湿がなされても、その吸湿は周囲の分離された乾燥剤層ＤＳＣにまでは至ることはなく、乾燥剤層ＤＳＣの大部分はその機能を維持するようになる。そして、ガスバリア層ＧＢ２にたとえばピンホール等が形成されてしまっていた場合に、このピンホールを通して吸湿がなされても、該ピンホールに近接して配置される乾燥剤層ＤＳＣのみがその機能を喪失し、他の大部分はその機能を維持するようになる。
【００６６】
そして、個々の乾燥剤層ＤＳＣの厚さはある程度の範囲では制限されるものではないことから、その吸湿性の度合いを高めることができるようになる。
【００６７】
たとえば第１フィルム基体ＦＳ１の材料をポリエチレンテレフタレートとした場合に、その水蒸気透過量は、厚さ１００μｍ、常温２５℃の飽和水蒸気条件で、約４．２ｇ／ｍ２・２４ｈｒである。ポリエチレンテレフタレートの厚さ５０μｍでここを主とて湿気が通ると考えられる。乾燥剤層ＤＳＣのパターンの一辺を０．５ｍｍ、間隔を１００μｍとすると、１日２４時間あたりの水分の透過量は５×１０−１２ｇである。乾燥剤の厚さが２０μｍとすると乾燥剤の一つのパターン当たりの重量は１×１０−７ｇで吸水率１割として１×１０−８ｇを吸水できる。それ故、乾燥剤１列で約２０００日分の除湿を行なうことができる。また、ガスバリア層にたとえばピンホールがあった場合もその影響はこの計算のように孤立したパターンの外周へ広がることになるので部分的な欠陥を抑えることができる。
【００６８】
上述した実施例では、第１フィルム基体ＦＳ１の表面に形成する乾燥剤層ＤＳＣは、図２に示すようにハニカム状に配置させたものであるが、たとえば図３に示すようにマトリックス状に配置させるようにしてもよいことはいうまでもない。
【００６９】
また、上述した実施例では、乾燥剤ＤＳＣは第２のフレキシブル基板側にのみ設けたものであるが、第１のフレキシブル基板側にも設けてもよいことはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明による有機ＥＬ表示装置の一実施例を示す断面図である。
【図２】本発明による有機ＥＬ表示装置に用いられる乾燥剤層の一実施例を示す平面図である。
【図３】本発明による有機ＥＬ表示装置に用いられる乾燥剤層の他の実施例を示す平面図である。
【図４】本発明による有機ＥＬ表示装置の画素の構成の一実施例を示す図である。
【符号の説明】
【００７１】
ＰＬＳ……積層体、ＦＢ１……第１のフレキシブル基板、ＦＢ２……第２のフレキシブル基板、ＦＷＢ……フレキシブル配線基板、ＡＤＨ１、ＡＤＨ２……接着剤層、ＥＬ……発光層、ＮＤ……陽極、ＣＤ……陰極、ＦＳ……フィルム基体、ＧＢ……ガスバリア層、ＰＶＡ……保護膜、ＤＳＣ……乾燥剤層、ＦＳ１……第１フィルム基体、ＡＣＦ……異方性導電膜
【図１】
2005150100.tif 000003
【図２】
2005150100.tif 000004
【図３】
2005150100.tif 000005
【図４】
2005150100.tif 000006