(57)【要約】【課題】  パターンデータ作成装置から離れた場所にある描画装置の作業者に対し、煩雑な作業を伴うことなく描画パターンを容易に確認させ、基板を正しい置き方で搭載させる。【解決手段】  ホストコンピュータ１０、描画制御部２０、描画装置３０を備えた描画システムにおいて、ホストコンピュータ１０がＣＡＤデータなどのベクタデータである描画パターンデータを画像データに変換し、離れた場所に配置された描画制御部２０へパターンデータとともに画像データを送信する。描画制御部２０は、送られてきた画像データに基づき、モニタ２０Ａ、４０にパターン像を表示する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベクタデータである描画用パターンデータを保存するパターンデータ作成装置と、
前記パターンデータ作成装置から送られてくるパターンデータを描画処理用描画データに変換する描画制御部と、
基板を支持するステージを有し、前記描画処理用データに基づいて描画処理を行う描画装置とを備え、
前記パターンデータ作成装置が、
前記パターンデータを画素配列に応じた画像データに変換するデータ変換処理手段と、
前記画像データを前記パターンデータとともに前記描画制御部へ送信するデータ送信手段とを有し、
前記描画制御部が、
前記画像データに基づいてパターン像を表示する表示手段を有することを特徴とする描画システム。
【請求項２】
前記データ送信手段が、前記パターンデータとともに、少なくともアライメントデータ、基板サイズデータを付随させて送信するとともに、前記画像データを前記パターンデータに関連させて送信することを特徴とする請求項１に記載の描画システム。
【請求項３】
ベクタデータである描画用パターンデータを保存するパターンデータ作成装置であって、
前記パターンデータを画素配列に応じた画像データに変換するデータ変換処理手段と、
前記画像データを前記パターンデータとともに送信するデータ送信手段とを備えたことを特徴とするパターンデータ作成装置。
【請求項４】
請求項３に記載されたパターンデータ作成装置と接続され、前記パターンデータ作成装置から送られてくるパターンデータを描画処理用描画データに変換する描画制御部であって、
前記画像データに基づいてパターン像を表示する表示手段を備えたことを特徴とする描画制御部。
【請求項５】
パターンデータ作成装置において作成されたベクタデータである描画用パターンデータを、画素配列に応じた画像データに変換し、
前記パターンデータとともに前記画像データを、前記パターンデータ作成装置と離れた場所にある描画制御部へ送信する
ことを特徴とする描画データ処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスク（レチクル）や直接基板へ回路パターンを描画する描画システムに関し、特に、描画処理前における描画パターンのデータ処理に関する。
【背景技術】
【０００２】
描画システムでは、ＣＡＤ／ＣＡＭの設計用パターンデータがワークステーションなどにおいて作成され、描画装置側へ出力される。描画装置では、送られてきたパターンデータをラスタデータなどの描画用データに変換する。作業者は、パターンの形成されていないブランクスである基板を描画装置内の所定位置に配置し、その後、描画装置を動作させる。描画装置は、ラスタデータに基づいてレーザビームを走査し、その結果、基板に回路パターンが形成される。
【０００３】
描画処理前にパターンデータの検証を行う方法として、部分一括露光方式による描画装置において、アパーチャマスクの断面形状を表示する方法が知られている（例えば特許文献１参照）。描画データに存在しないアパーチャマスクの情報を利用することにより、パターンの検証が可能となる。
【特許文献１】特開平７−１３０５９６号公報（図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基板のパターン形成位置は作成されたパターンデータに従い、描画装置内へ搭載する基板の向きもパターンデータに従う。一方、描画パターンを作成するワークステーション本体が配置された場所と描画装置のある作業工程場所は互いに離れており、描画装置側にいる作業者は、描画パターンを直接確認することができない。したがって、直接描画装置内に基板を設置する場合、オペレータは、パターンが形成されていない状態で基板の装着向きを確認しなければならない。特に、直接描画する描画システムにおいては、露光装置と異なりマスクが存在しないため、パターン情報を作業者が得ることができない。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の描画システムは、ワークステーションなどにおけるコンピュータシステムおいて設計された描画パターンを、コンピュータシステムから離れた場所にある描画装置の作業者に表示可能なシステムである。
【０００６】
描画システムは、ベクタデータである描画用パターンデータを保存するパターンデータ作成装置と、前記パターンデータ作成装置から送られてくるパターンデータを描画処理用描画データに変換する描画制御部と、前記描画処理用データに基づいて描画処理を行う描画装置とを備える。描画装置および描画制御部は、作業工程場所に配置されており、パターンデータ作成装置とは離れた場所に配置されている。描画装置では、基板を搭載するステージが設けられており、例えばステージが所定方向へ移動するように構成されている。
【０００７】
パターンデータ作成装置は、前記パターンデータを画素配列に応じた画像データに変換するデータ変換処理手段と、前記画像データを前記パターンデータとともに描画制御部へ送信するデータ送信手段とを有する。例えば、ビットマップデータとして画像データに変換される。前記描画制御部は、前記画素データに基づいてパターン像を表示する表示手段を有する。
【０００８】
複数の基板とそれに合わせた複数のパターンデータが存在する場合、データ送信手段は、前記パターンデータとともに、少なくともアライメントデータ、基板サイズデータを付随させて送信するとともに、前記画素データを前記パターンデータに関連させて送信するのがよい。描画制御部では、用意された基板に応じたパターン像が表示される。
【０００９】
本発明の描画データ処理方法は、パターンデータ作成装置において作成されたベクタデータである描画用パターンデータを、画素配列に応じた画像データに変換し、前記パターンデータとともに前記画像データを、前記パターンデータ作成装置と離れた場所にある描画制御部へ送信することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、パターンデータ作成装置から離れた場所にある描画装置の作業者も、煩雑な作業を伴うことなく描画パターンを容易に確認することができ、基板を正しい置き方で搭載することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下では、図面を参照して本発明の実施形態である描画装置について説明する。
【００１２】
図１は、本実施形態である描画システムを模式的に示した図である。図２は、基板を示した図である。図３は、表示されるパターンを示した図である。
【００１３】
描画システムは、ワークステーションの本体であるホストコンピュータ１０と、描画制御部２０と、描画装置３０とを備える。描画制御部２０および描画装置３０は、ホストコンピュータ１０とは異なり、作業工程場所に配置されており、ネットワークでホストコンピュータ１０と接続されている。モニタ４０は描画制御部２０に接続されており、描画装置３０に隣接して設置されている。
【００１４】
ホストコンピュータ１０には、ＣＡＤデータとして設計されたパターンデータが保存されている。パターンデータはベクタデータであり、パターンの位置座標（始点、終点、輪郭などの座標）によってデータが表されている。ホストコンピュータ１０は、ベクタデータに基づいて、設計した回路パターンの画像をモニタ１０Ａに表示する。
【００１５】
パターンデータは、基板に形成される位置決め用穴などのアライメントに関するアライメントデータや基板サイズのデータなどとともに、描画用データとして描画制御部２０へ送信される。さらに後述するように、パターンデータは表示用の２次元画像データに変換され、パターンデータとともに関連付けられて送信される。
【００１６】
描画制御部２０では、送られてきたパターンデータが描画処理用のラスタデータに変換される。また、アライメントデータや基板サイズのデータに基づいて、描画処理用の設定項目が定められる。そして、作業者が所定の操作を行うことにより、基板ＳＷに形成すべきパターン像ＢＤが、描画制御部２０のモニタ２０Ａおよび描画装置３０に隣接して設置されたモニタ４０に表示される。
【００１７】
図２に示すように、基板ＳＷの四隅にはアライメント穴Ｐ１〜Ｐ４が形成され、また、アライメントマークＡＭ１〜ＡＭ３がプリントされている。パターン像ＢＤからわかるように、パターンＰ１、Ｐ２、Ｐ３がそれぞれアライメントマークＡＭ１〜ＡＭ３に従って位置決めされている。このパターン像ＢＤにより、基板ＳＷの搭載向きが確認される。すなわち、基板ＳＷの長手方向Ｌが進入方向に平行であって、アライメントマークＡＭ１、ＡＭ２が進入方向に沿って左側に位置する端片Ｍと反対側の端片Ｎが進入方向を向くように、基板ＳＷの配置方向が定められている。描画装置３０の配置された作業工程場所では、モニタ２０Ａ（４０）に表示されたパターン像ＰＤを確認した上で、作業者が基板ＳＷを所定の向きで搭載する。
【００１８】
図４は、ホストコンピュータ１０におけるデータ処理を示したフローチャートである。図５は、描画制御部におけるパターン表示処理を示した図である。
【００１９】
ステップＳ１０１では、ベクタデータが画像データに変換される。ここでは、ビットマップデータなどパターンを画素の２次元配列に対応する画像データが生成される。そしてステップＳ１０２では、パターンデータ、アライメントデータとともに画像データが描画制御部２０へ送信される。このとき、画像データはＪＰＥＧなど圧縮データにして送信される。また、画像データは対応するパターンデータと関連付けるようにファイル編集処理されて送信される。具体的には、画像データに対応するパターンに応じた名前が設定されている。
【００２０】
ステップＳ２０１では、オペレータによって表示すべきパターン像の選択操作が行われたか否かが判断される。作業者は、キーボード操作等により、基板に形成すべきパターンの選択操作を行うことができ、パターンが選択されると、ステップＳ２０２において、それに応じた画像データが設定される。そして、ステップＳ２０３では、画像データに基づいてパターン像がモニタ２０Ａ、４０に表示される。
【００２１】
このように本実施形態では、ホストコンピュータ１０、描画制御部２０、描画装置３０を備えた描画システムにおいて、ホストコンピュータ１０がＣＡＤデータなどのベクタデータである描画パターンデータを画像データに変換し、離れた場所に配置された描画制御部２０へパターンデータとともに画像データを送信する。描画制御部２０は、送られてきた画像データに基づき、モニタ２０Ａ、４０にパターン像を表示する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本実施形態である描画システムを模式的に示した図である。
【図２】基板を上から見た平面図である。
【図３】表示されるパターン像を示した図である。
【図４】ホストコンピュータにおけるデータ処理を示したフローチャートである。
【図５】描画制御部におけるパターン表示処理を示した図である。
【符号の説明】
【００２３】
１０  ホストコンピュータ（パターンデータ作成装置）
２０  描画制御部
２０Ａ  モニタ
３０  描画装置
４０  モニタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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