(57)【要約】【課題】  電気光学装置において、シール材形成領域と画像表示領域との間をより狭めることにより、小型化・高精細化・画面大型化の要求を満たす。【解決手段】  ＴＦＴアレイ基板（１０）上に、平面視して矩形状となるように、且つ、その角部に隙間（５２３Ｇ）を設けるようにシール材を形成するシール材形成工程と、前記ＴＦＴアレイ基板に対向させるように対向基板を貼り合わせて、これらＴＦＴアレイ基板及び対向基板を圧着させる圧着工程とを備えている。この圧着工程は、前記の隙間を挟んで存在するシール材（５２Ａ及び５２Ｂ）が、当該隙間を埋めるべく移動するように行われる。【選択図】      図７
2005084323.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板及び第２基板がシール材によって接着されるとともに、これら第１基板及び第２基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置の製造方法であって、
前記第１基板上に、平面視して矩形状となるように、且つ、その角部に隙間を設けるように前記シール材を形成するシール材形成工程と、
前記第１基板に対向させるように前記第２基板を貼り合わせて、これら第１基板及び第２基板を圧着させる圧着工程と
を備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記圧着工程は、前記隙間を挟んで存在する前記シール材が、当該隙間を埋めるべく移動するように行われることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記圧着工程の後に、前記第１基板を所定形状に裁断する裁断工程を更に備えてなり、
前記シール材形成工程は、前記裁断工程における裁断位置として予定される前記第１基板における裁断線の内側で前記シール材を形成する工程を含み、
当該工程は更に、
そのそれぞれが前記裁断線の内側からその外側に向けて当該裁断線を所定距離越えて延在するように、且つ、そのそれぞれの間に前記隙間が設けられるように第１シール材及び第２シール材を形成する工程を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記隙間は、前記所定距離にわたって等間隔であることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１基板又は前記第２基板の上に、画素電極がマトリクス状に配列するように形成して、複数の画像表示領域を規定する工程を更に備えてなり、
前記シール材形成工程は、
前記シール材を前記画像表示領域の一つ一つを囲むように形成する工程を含むことを特徴とする請求項３又は４に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記シール材形成工程は、
前記複数の画像表示領域の少なくとも一つ一つにつき前記シール材を一繋がりで形成する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記隙間の形状及び大きさの少なくとも一方は、前記シール材の粘度及び前記シール材中に混入されるギャップ材の径の大きさの少なくとも一方に応じて、定められることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記シール材形成工程は、シールディスペンサ方式によって行われることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記画像表示領域は平面視して矩形状であり、
前記シールディスペンサ方式による前記シール材形成工程は、
前記画像表示領域の第１辺に沿って前記シール材を描画する第１工程と、
該第１工程の後、前記画像表示領域の前記第１辺の端部である角部付近で、前記第１辺と４５〔°〕以上９０〔°〕以下の角度の方向を有する第１進路をとって所定の第１長さだけ前記シール材を描画する第２工程と、
該第２工程の後、前記所定の第１長さを越えた部分において、一定の中心をもつ円の上をなぞるように旋回しながら前記シール材を描画する第３工程と、
該第３工程の後、前記第１辺に相隣接する前記画像表示領域の第２辺と４５〔°〕以上９０〔°〕以下の角度の方向を有するとともに前記角部付近を目指す第２進路をとって、前記シール材を描画する第４工程と、
該第４工程の後、前記角部付近から、前記第２辺に沿って前記シール材を描画する第５工程と
を備えたことを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第３工程における前記円は半円であり、当該第３工程は前記所定の第１長さが終わる時点で開始され、且つ、
前記第４工程における前記第２進路は前記第１進路と正反対の方向を有し、当該第４工程は前記第１長さと同じ第２長さだけ実施されることを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法によって製造された電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばアクティブマトリクス駆動の液晶装置、電子ペーパなどの電気泳動装置、ＥＬ（Electro-Luminescence）表示装置、電子放出素子を備えた装置（Field Emission Display及びSurface-Conduction Electron-Emitter Display）等の電気光学装置の製造方法の技術分野に属する。また、本発明は、かかる製造方法により製造された電気光学装置を具備してなる電子機器の技術分野にも属する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば、素子基板上に、マトリクス状に配列された画素電極及び該電極の各々に接続された薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor；以下適宜、「ＴＦＴ」という。）、該ＴＦＴの各々に接続され、行及び列方向それぞれに平行に設けられたデータ線及び走査線等を備えることで、いわゆるアクティブマトリクス駆動が可能な電気光学装置が知られている。
【０００３】
このような電気光学装置では、上記に加えて、前記素子基板に対向配置される対向基板を備えるとともに、該対向基板上に、画素電極に対向する対向電極等を備え、更には、画素電極及び対向電極間に挟持される電気光学物質の一例たる液晶からなる層等を備えることで、画像表示が行われる。すなわち、液晶層内の液晶分子は、画素電極及び対向電極間に設定された所定の電位差によって、その配向状態が適当に変更され、これにより、当該液晶層を透過する光の透過率が変化することによって画像の表示が行われることになるのである。
【０００４】
ところで、前記の電気光学装置においては、前記の素子基板及び対向基板は、例えば光硬化性樹脂、或いは熱硬化性樹脂等からなるシール材を介して接着されている。このシール材は、前記液晶層を素子基板及び対向基板間に閉じ込めるためのいわば堤防としての機能も有する。このような電気光学装置としては、例えば特許文献１及び２に開示されているようなものが知られている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−２７７８８４号公報
【特許文献２】特開２０００−１３７２３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来における電気光学装置には、次のような問題点がある。すなわち、近年、電気光学装置の更なる小型化・高精細化が要求されている一方、画面サイズの大型化が要求されているが、これを実現するためには、具体的には、前記のシール材の形成領域と前記電気光学装置における画像表示領域とに関して、いわゆる狭額縁化（狭額縁化とは、シール材形成領域と画像表示領域との間の間隙を狭くしようとする試みないしは傾向をいう。）が図られねばならない。というのも、画像表示領域は、前記のＴＦＴ、データ線、走査線及び画素電極が形成された領域として規定され、該画像表示領域の周りにはこれを囲むようにシール材を形成しなければならないが、前記の要求を満たすためには、画像表示領域は大きく、しかしながらシール材形成領域及び画像表示領域の両領域全体としては小型化する必要があるからである。ここで、シール材の塗布量は、基本的に、前記素子基板及び対向基板を十分に接着するために必要なものとして定められ、また、画像表示領域の大きさは、基本的に、当該電気光学装置で実現しようとする画像のインチサイズ等によって定められるから、前記の要求を効果的に満足させようとすれば、これらシール材の形成領域と画像表示領域との間のいわば無駄な領域を狭めることが望まれることになるのである。
【０００７】
しかしながら、かかる狭額縁化を達成することは、一般に容易ではない。とりわけ、基板上にシール材を描画する方法として、シールディスペンサ方式を採用する場合には、狭額縁化を達成することが非常に困難である。というのも、該シールディスペンサ方式に用いられるシールディスペンサ装置の機構精度等の関係から、画像表示領域の角部付近に形成されるシール材については、当該角部に沿うような角部をもつものとして形成することが困難だからである。この場合、従来では一般に、シール材は、この画像表示領域の角部付近において、一定の半径をもつ略四半円形状をもつものとして形成されていたが、これによると、必然的に、当該角部を挟む二つの辺部においては、シール材と画像表示領域との間に比較的大きな隙間を設ける必要が出てくる（そうしなければ、画像表示領域の角部にシール材が被さってしまう。）。すなわち、従来においては、前記の一定の半径の大きさに応じて、狭額縁化の限界が設定されてしまっていたのである。
【０００８】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、シール材形成領域と画像表示領域との間をより狭めることにより、小型化・高精細化・画面大型化の要求を満たし得る電気光学装置の製造方法を提供することを課題とする。また、本発明は、かかる製造方法により製造された電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することをも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
〔１〕
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記課題を解決するため、第１基板及び第２基板がシール材によって接着されるとともに、これら第１基板及び第２基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置の製造方法であって、前記第１基板上に、平面視して矩形状となるように、且つ、その角部に隙間を設けるように前記シール材を形成するシール材形成工程と、前記第１基板に対向させるように前記第２基板を貼り合わせて、これら第１基板及び第２基板を圧着させる圧着工程とを備えている。
【００１０】
本発明の電気光学装置の製造方法によれば、まず、シール材形成工程により、第１基板上に、矩形状となるようにシール材が形成される。ここで、「矩形状」とは、四つの線分からなり、そのうちのいずれの線分もこれと隣接する二つの線分とが直角に交わるように順次繋ぎ合わされたときにみられる形状をいうことは勿論、そこからは多少外れるような形状をも含む。例えば、当該矩形状の角部の全部又は一部に直角部を含まない形状（即ち、より一般的に「四辺形状」と呼びうるようなもの）や、四つの線分のうち一つ以上の線分が、途中で「折り曲げ」られている（したがって、当該「線分」は、厳密にはもはや「線分」とは呼べないが）ような形状であってよい。要は、第１基板上に一般に複数形成され得る画像表示領域のそれぞれを取り囲むような形状であれば、基本的には、どのような形状であってもよい。
【００１１】
なお、このシール材の形成にあたっては、いわゆるディスペンサ方式、或いは印刷方式のいずれを採用してもよい。前者（ディスペンサ方式）は、例えば、その外部よりシール材が順次装填されてくるシール材吐出口に、平面的に移動可能にされた基板を対向させる構成を備えてなり、この基板を所定方向及び所定量移動させつつ、シール材吐出口からシール材を吐出することで、所定形状にシール材を塗布する方式である。後者（印刷方式）は、予め、形成しようとする所定形状をもつ版を形成しておき、この版を使って、シール材を基板上に形成する方式である。後者の方式では特に、シール材形成にかかる費用を比較的安価に抑えることが可能であり、また、当該電気光学装置を量産するのに適した方法ということができる。
【００１２】
そして、本発明では特に、前記の矩形状の角部に隙間が形成されるように、シール材が形成されるのである。すなわち、前記の四つの線分の例に従えば、これら四つの線分の各端部のうち隣り合う端部間は、直接的に接続されるのではなく、「隙間」が形成されるようにされているのである。これによると、後に続く、第１基板及び第２基板の圧着工程を経ることにより、当該隙間を挟むシール材がお互いに近づくように、換言すれば当該隙間を埋めるように当該シール材を移動させることが可能であり、最終的には、当該隙間を挟むシール材を互いに接続させることが可能になる。そして、このとき、隙間の形状及び大きさなどが適当なものであれば、該隙間が形成されていた部分で、「角」を有する形状を好ましく形成することができることになる。つまり、最終的なシール材の平面的な形状を、四つの角部を備えた矩形状にしうるのである。
【００１３】
したがって、本発明によれば、画像表示領域が矩形状である場合において、該画像表示領域の角部に合致するような角部をシール材においても形成することが可能である。言い換えると、本発明によれば、背景技術の項で述べたように画像表示領域の角部においてシール材が一定の半径をもって形成されるということがなく、また望むのであれば、シール材形成領域と当該画像表示領域の外形形状とがほぼ完全に相似の関係にあるように、シール材を形成することが可能なのである。
【００１４】
よって、本発明によれば、シール材形成領域と画像表示領域との間をより狭くすることができることになり、もって電気光学装置の小型化・高精細化・画面大型化の要求をもよりよく実現しうることになる。
【００１５】
〔２〕
本発明の電気光学装置の製造方法の一態様では、前記圧着工程は、前記隙間を挟んで存在する前記シール材が、当該隙間を埋めるべく移動するように行われる。
【００１６】
この態様によれば、圧着工程が、前記の隙間を埋めるべく行われることから、前記の作用効果をより確実に享受できる。
【００１７】
〔３〕
本発明の電気光学装置の製造方法の他の態様では、前記圧着工程の後に、前記第１基板を所定形状に裁断する裁断工程を更に備えてなり、前記シール材形成工程は、前記裁断工程における裁断位置として予定される前記第１基板における裁断線の内側で前記シール材を形成する工程を含み、当該工程は更に、そのそれぞれが前記裁断線の内側からその外側に向けて当該裁断線を所定距離越えて延在するように、且つ、そのそれぞれの間に前記隙間が設けられるように第１シール材及び第２シール材を形成する工程を含む。
【００１８】
この態様によれば、前述した画像表示領域の角部に合致するような角を有する形状を、当初に所望したとおりのものとして、それに、より忠実に形成することができる。
【００１９】
また、本態様によれば、裁断線を超えてシール材を形成することから次のような作用効果が得られる。すなわち、電気光学装置の小型化を実現するためには、端的に、その外形形状をより小さくすることが望まれるが、そうすると、画像表示領域の外縁と当該外形形状（通常は、前記裁断線により画されると考えることができる。）との間の領域はなるべく狭くされるべきことになる。つまり、通常において、かかる領域は、比較的狭くされる傾向にあると考えてよい。
【００２０】
ここで仮に、シール材の形成をディスペンサ方式によって行う場合には、通常、第１基板上において一筆書きによるシール材描画が行われることになるが、前記のような狭い領域内で、前記隙間を確保しつつ前記一筆書きによるシール材形成を行うことは、ディスペンサ方式に用いられる前記シール材吐出口等の取り回し精度には、自ずと一定の限界があることなどから比較的困難な作業になる。
【００２１】
しかるに、裁断線を超えた、シール材の形成を許容すれば、かかる困難は殆ど完全に解消し、シール材吐出口を自由に取り回していわばシール材のはみ出し部を形成すればよく、したがって、前記隙間の確保も容易になる。
【００２２】
なお、前記のように一筆書きによるシール材描画を行うときには、本態様にいう「第１シール材」及び「第２シール材」は、連続して形成されていてもよい。この場合更に、これら第１及び第２シール材は滑らかな曲線で接続されるように形成されることが好ましい。
【００２３】
〔４〕
この態様では、前記隙間は、前記所定距離にわたって等間隔であるように構成してもよい。
【００２４】
このような構成によれば、前述した画像表示領域の角部に合致するような角を有する形状を、より好適に、或いは当該角を有する形状を、前記にも増して、当初に所望したとおりのものとして、それに、より忠実に形成することができる。
【００２５】
〔５〕
本発明の裁断工程を含む電気光学装置の製造方法の他の態様では、前記第１基板又は前記第２基板の上に、画素電極がマトリクス状に配列するように形成して、複数の画像表示領域を規定する工程を更に備えてなり、前記シール材形成工程は、前記シール材を前記画像表示領域の一つ一つを囲むように形成する工程を含む。
【００２６】
この態様によれば、一挙に複数の電気光学装置を製造することができるから、生産性を高めることができる。しかも、前記に述べた、よりよい狭額縁化は、当然ながら、これら複数の電気光学装置のすべてにおいて享受しうる。したがって、本態様によれば、よりよく小型化等が実現された電気光学装置を、多数一挙に製造することができる。
【００２７】
なお、本態様において、シール材を、画像表示領域を完全に取り囲むように形成すれば、第１基板及び第２基板間に挟持する電気光学物質の一例たる液晶の導入方法として、液晶滴下方式を採用することができる。
【００２８】
〔６〕
この態様では、少なくとも当該画像表示領域の一つ一つにつき当該シール材を一繋がりで形成する工程を含むように構成してもよい。
【００２９】
このような構成によれば、特に、シール材の形成を前記のディスペンサ方式による場合には、画像表示領域を一定の幅を有するシール材で取り囲むことが可能となるし、また、シール材形成工程の短縮化を図ることもできる。
【００３０】
なお、本態様において、「少なくとも当該画像表示領域の一つ一つにつき当該シール材を一繋がりで形成する」とは、具体的には、画像表示領域の一つに着目すればシール材が一繋がりで形成されているが、その他はそうではないとか、或いは画像表示領域の一つ一つについてはシール材が一繋がりで形成されているが、各画像表示領域間では一繋がりになっているわけではないとか、更には、例えば四つずつの画像表示領域に着目するとシール材が一繋がりで形成されているが、当該四つずつの画像表示領域からなるグループ間ではそうではないとか、或いは更に、すべての画像表示領域についてシール材が一繋がりで形成されている、などという各場合を含んでいる。
【００３１】
〔７〕
本発明の電気光学装置の製造方法の他の態様では、前記隙間の形状及び大きさの少なくとも一方は、前記シール材の粘度及び前記シール材中に混入されるギャップ材の径の大きさの少なくとも一方に応じて、定められる。
【００３２】
この態様によれば、隙間を埋めるようにシール材を移動させることに大きく関係する、シール材の粘度、あるいはこの中に混入されるギャップ材の径の大きさに応じて、形成されるべき隙間の形状、あるいは大きさが定められることから、当該隙間をシール材の移動によって消滅させることを、より好適に実現することができる。また、同じ理由により、画像表示領域の角部に合致するような角部を有するシール材の形成を（即ち、シール材形成領域の設定を）、より好適に実行することもできる。
【００３３】
〔８〕
本発明の電気光学装置の製造方法の他の態様では、前記シール材形成工程は、シールディスペンサ方式によって行われる。
【００３４】
この態様によれば、シールディスペンサ方式によってシール材が形成されることから、例えば、前記の印刷方式に比べて、より正確・緻密にシール材を形成することができる。また、前記印刷方式とは異なり、基板にはシール材が非接触で塗布されていることから、当該シール材形成工程において、基板にダメージを与える可能性が小さい。
【００３５】
〔９〕
この態様では、前記画像表示領域は平面視して矩形状であり、前記シールディスペンサ方式による前記シール材形成工程は、前記画像表示領域の第１辺に沿って前記シール材を描画する第１工程と、該第１工程の後、前記画像表示領域の前記第１辺の端部である角部付近で、前記第１辺と４５〔°〕以上９０〔°〕以下の角度の方向を有する第１進路をとって所定の第１長さだけ前記シール材を描画する第２工程と、該第２工程の後、前記所定の第１長さを越えた部分において、一定の中心をもつ円の上をなぞるように旋回しながら前記シール材を描画する第３工程と、該第３工程の後、前記第１辺に相隣接する前記画像表示領域の第２辺と４５〔°〕以上９０〔°〕以下の角度の方向を有するとともに前記角部付近を目指す第２進路をとって、前記シール材を描画する第４工程と、該第４工程の後、前記角部付近から、前記第２辺に沿って前記シール材を描画する第５工程とを備えるように構成してもよい。
【００３６】
このような構成によれば、前記隙間をよりよく形成することができる。すなわち、この場合、隙間は、前記の第２工程、第３工程及び第４工程において形成されたシール材により囲まれた部分として形成しうることになるのである。
【００３７】
この場合、例えば第２工程と第３工程との間や第３工程と第４工程との間には、更に何らかの意味で特徴付け得るシール材描画工程が挟まっていてもよいが、好ましくは、以下のような構成を採用するとよい。
【００３８】
〔１０〕
すなわち、このような構成では更に、前記第３工程における前記円は半円であり、当該第３工程は前記所定の第１長さが終わる時点で開始され、且つ、前記第４工程における前記第２進路は前記第１進路と正反対の方向を有し、当該第４工程は前記第１長さと同じ第２長さだけ実施されるように構成してもよい。このような構成によれば、前述したような等間隔をもつ隙間を好適に形成することができるからである。
【００３９】
〔１１〕
本発明の電子機器は、上記課題を解決するために、上述した本発明の製造方法により製造された電気光学装置（但し、その各種態様を含む。）を具備してなる。
【００４０】
本発明の電子機器によれば、上述の本発明の電気光学装置を具備してなるので、より小型化を達成可能な、投射型表示装置、液晶テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。
【００４１】
本発明のこのような作用及び他の利得は、次に説明する実施の形態から明らかにされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下では、本発明の実施の形態について図１乃至図４を参照しつつ説明する。以下の実施形態は、本発明の電気光学装置を液晶装置に適用したものである。図１は、ＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た電気光学装置の平面図であり、図２は、図１のＨ−Ｈ’断面図である。また、図３は、電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。さらに、図４は、シール材形成領域の角部の平面図であり、（ａ）は、本実施形態に係り図１の符号Ｃ１を付した円内部分に対応する拡大平面図であり、（ｂ）はその比較例である。
【００４３】
〔電気光学装置の全体構成〕
まず、電気光学装置の全体構成について、図１及び図２を参照して説明する。ここでは、電気光学装置の一例である駆動回路内蔵型のＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例にとる。
【００４４】
図１及び図２において、本実施形態に係る電気光学装置では、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間には液晶層５０が封入されている。ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０とが対向しあう部分のほぼ真ん中の領域には、画素電極９ａがマトリクス状に配列されることで規定される画像表示領域１０ａが位置している（図中大きな丸いドットが連なっているのは該画素電極９ａが全面的に配列されることを表している。）。前記の液晶層５０が存在する領域はこの画像表示領域１０ａに略一致し、画像表示は、当該画像表示領域１０ａないしは液晶層５０を光が透過することで行われる。
【００４５】
画像表示領域１０ａの周囲には、シール材形成領域（図中ドットによるハッチングのある部分。以下参照する各図において同じ。）が位置しており、該シール材形成領域にはシール材５２が設けられている。このシール材５２には、画像表示領域１０ａないしはＴＦＴアレイ基板１０の四つの角部に対応するようにして、はみ出し部５２３Ｚが含まれている。このはみ出し部５２３Ｚその他本実施形態において特徴的な構成については、後に（シール材の構成及び作用・効果）及び（電気光学装置の製造方法）なる項を立てて、改めて詳しく述べることとする。
【００４６】
シール材５２が配置されたシール材形成領域の内側に並行して、画像表示領域１０ａの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜（不図示）が、対向基板２０側に設けられている。但し、このような額縁遮光膜の一部又は全部は、ＴＦＴアレイ基板１０側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。この額縁遮光膜より以遠の周辺領域のうち、シール材５２が配置されたシール材形成領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２がＴＦＴアレイ基板１０の一辺に沿って設けられている。また、この周辺領域には、走査線駆動回路１０４が、ＴＦＴアレイ基板１０の２辺に沿うようにして設けられている。更に、このように画像表示領域１０ａの両側に設けられた二つの走査線駆動回路１０４間をつなぐため、ＴＦＴアレイ基板１０の残る一辺に沿い、且つ、前記額縁遮光膜５３に覆われるようにして複数の配線１０５が設けられている。また、対向基板２０の４つのコーナー部には、両基板間の上下導通端子として機能する上下導通材１０６が配置されている。他方、ＴＦＴアレイ基板１０にはこれらのコーナーに対向する領域において上下導通端子が設けられている。これらにより、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間で電気的な導通をとることができる。
【００４７】
図２において、ＴＦＴアレイ基板１０上には、画素スイッチング用のＴＦＴや走査線、データ線等の配線の上に形成された画素電極９ａ上に、配向膜が形成されている。他方、対向基板２０上には、対向電極２１の他、格子状又はストライプ状の遮光膜２３、更には最上層部分に配向膜が形成されている。また、液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、これら一対の配向膜間で、所定の配向状態をとる。
【００４８】
なお、図１及び図２に示したＴＦＴアレイ基板１０上には、これらのデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０４等に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。
【００４９】
（画像表示領域の回路構成）
前記の図１に示す画像表示領域１０ａには、図３に示すようなマトリクス状に形成された複数の画素が構成されている。これら画素には、それぞれ、画素電極９ａと当該画素電極９ａをスイッチング制御するためのＴＦＴ３０とが形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に順次供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線６ａ同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。
【００５０】
また、ＴＦＴ３０のゲートにゲート電極３ａが電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線１１ａ及びゲート電極３ａにパルス的に走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍを、この順に順次印加するように構成されている。画素電極９ａは、ＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。
【００５１】
画素電極９ａを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、対向基板２０に形成された対向電極２１との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射する。
【００５２】
ここで保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極９ａと対向電極２１との間に形成される液晶容量と並列に保持容量７０を付加する。この保持容量７０は、走査線１１ａに並んで設けられ、固定電位側容量電極を含むとともに定電位に固定された容量線３００を含んでいる。
【００５３】
〔シール材の構成及び作用・効果〕
以下では、本実施形態において特徴的な構成を有するシール材５２について、より詳しく説明する。まず、シール材５２は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を貼り合わせるため、例えば紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂等からなり、製造プロセスにおいてＴＦＴアレイ基板１０上に塗布された後、紫外線照射、加熱等により硬化させられたものである。また、シール材５２の中には、ＴＦＴアレイ基板１０と対向基板２０との間隔（基板間ギャップ）を所定値とするためのグラスファイバ或いはガラスビーズ等のギャップ材（不図示）が散布されている。
【００５４】
そして、本実施形態においては特に、かかるシール材５２は、図１に示すように、平面視して矩形状を有する画像表示領域１０ａを囲むように、且つ、該画像表示領域１０ａと略相似の関係にある矩形状に形成されている。特に、この矩形状であるシール材５２の角部は、図４（ａ）によく示されているように直角部分５２３Ａとなっている。したがって、図１及び図４（ａ）において、シール材５２が形成されているシール材形成領域と画像表示領域１０ａとの間には、殆ど間隙が設けられていない（図４（ａ）中符号Ｄｐ参照）。
【００５５】
このようなことが可能となるのは、画像表示領域１０ａの四つの角部に対応するようにして、シール材５２にはみ出し部５２３Ｚが含まれていることに強く関係するが、このことは当該電気光学装置の製造方法に関わることから、後の〔電気光学装置の製造方法〕において詳しく説明することとする。
【００５６】
以上のように、本実施形態によれば、シール材５２が形成されている領域の角部が前記のようにほぼ直角に形成されていることから、シール材形成領域と画像表示領域１０ａとの間に殆ど間隙が設けられておらず、したがって、いわゆる狭額縁化をよりよく実現することが可能となる。
【００５７】
この点、従来の電気光学装置においては、図４（ｂ）に示すように、画像表示領域１０ａの角部付近におけるシール材５２´の角部５２´Ｃは、印刷方式で用いられる版作成精度の限界、或いは特にシールディスペンサ方式で用いられるＸＹテーブル（後の記述あるいは図６参照）の機構精度の限界により、一定の半径Ｒをもつ略四半円形状をもつものとして形成されていた。したがって、シール材形成領域と画像表示領域１０ａとの間の間隙Ｄｃは、本実施形態に係る間隙Ｄｐに比べて大きくならざるをえない。図４（ｂ）では、シール材形成領域の角部５２´Ｃにおいて、画像表示領域１０ａとシール材５２´との間の間隙Ｄａが可能な限り狭くなるようにされているが、それでも前記一定の半径Ｒの存在により、間隙Ｄｐは大きくなってしまうのである。ちなみに、このような図４（ｂ）において仮に、間隙Ｄｃを実現しようとすれば、シール材５２´ないしは当該シール材形成領域は、図から明らかなように、画像表示領域１０ａの角部に大きく被さってしまうことになる。
【００５８】
しかるに、本実施形態においては、既に述べたように、そのようなことは生ぜず、シール材形成領域と画像表示領域１０ａとの間の間隙Ｄｐを非常に小さく抑えることが可能となり、いわゆる狭額縁化をよりよく達成することができるのである。ちなみに、本願発明者らの研究によれば、本実施形態における間隙Ｄｐの値は、従前における間隙Ｄｃに比べて９５〔％〕程度も減少させうること（即ち、従前の間隙Ｄｃの大きさが例えば１〔ｍｍ〕であれば、間隙Ｄｐを５０〔μｍ〕程度にしうること）が確認されている。このように、本実施形態では、狭額縁化をよりよく達成することができ、したがって当該電気光学装置の小型化・高精細化・画面大型化の要求をよりよく実現することができる。
【００５９】
〔電気光学装置の製造方法〕
以下では、上記の電気光学装置の製造方法について、図５乃至図８を参照して説明する。ここに図５は、本実施形態に係る電気光学装置の製造方法のフローチャートであり、図６は、シール材形成工程におけるシール描画の様子を詳細に説明するための説明図であり、図７は、製造工程途中の一個の電気光学装置についての全体平面図である。図８は、図７の符号Ｃ２を付した円内部分に対応する拡大平面図であって、（ａ）はシール材描画直後の様子、（ｂ）は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の圧着開始後の様子をそれぞれ示している。
【００６０】
まず、ＴＦＴアレイ基板１０上に、図３に示したＴＦＴ３０、データ線６ａ、走査線１１ａ及び画素電極９ａ等の各種の構成要素を構築する（図５のステップＳ１０）。この工程は、例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等による成膜工程、或いはリソグラフィ及びエッチング法によるパターニング工程等の公知となる各種の半導体製造技術を利用して行われる。ここで、前記の各種の構成要素のうち画素電極９ａ（及びＴＦＴ３０）は、マトリクス状に配列するように形成されて、一つの画像表示領域１０ａを規定する（図１或いは図７等参照）。本実施形態では、共通のＴＦＴアレイ基板１０上に、この画像表示領域１０ａが複数規定されるように、前記画素電極９ａ（及びＴＦＴ３０）が形成される（図６参照）。これら複数の画像表示領域１０ａは、後に説明する図６のスクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙに沿った裁断によって、個別の電気光学装置に含まれることになる。
【００６１】
なお、本実施形態においては、前記の各要素に加えて、ＴＦＴアレイ基板１０上に、画素電極９ａにおける電位保持特性を向上させるための容量線３００を含む保持容量７０（図３参照）や配向膜、或いは走査線駆動回路１０４並びにデータ線駆動回路１０１及び外部回路接続端子１０２（図１参照）その他の構成を、前述と同様、公知となる各種の半導体製造技術を利用して構築してよいことはいうまでもない。
【００６２】
次に、ＴＦＴアレイ基板１０上に、図示しないスペーサを散布などした後、ディスペンサ方式によってシール材５２を描画する（図５のステップＳ１２）。すなわち、まず、図６に示すように、画素電極９ａ等が構築され複数の画像表示領域１０ａが規定されたＴＦＴアレイ基板１０を、図中Ｘ方向及びＹ方向に動作可能なＸＹテーブル６０２の上に載置する。続いて、該ＸＹテーブル６０２に対向するように配置されたシール材吐出口６０１を、ＴＦＴアレイ基板１０の所定位置に配置した後、該ＴＦＴアレイ基板１０を載せたＸＹテーブル６０２を、所定方向及び所定量移動させる。この際、シール材吐出口６０１に、相応の粘性率を有するシール材を順次供給するとともに、その吐出口先端部６０１ａからシール材をＴＦＴアレイ基板１０に向かって吐出させる。これにより、シール材は、ＴＦＴアレイ基板１０上に所定の軌道を描きながら描画されることになる。なお、シール材吐出口６０１に供給されるシール材には、ギャップ材を混入しておく。
【００６３】
ここで前記の所定の軌道とは、本実施形態において具体的に次のようである。すなわち、図７に示すように、まず、シール材吐出口６０１を、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙの外側である余剰領域１０ｓの上、且つ、ある一つの画像表示領域１０ａの図中左下隅付近の所定位置に位置付ける。次にシール材吐出口６０１が当該所定位置に位置付けられたら、その吐出口先端部６０１ａからシール材の吐出を開始する。これにより、ＴＦＴアレイ基板１０上に当該シール材からなるスタートポイント５２１が現される。また、これと同時に、ＸＹテーブル６０２を、最初は図６又は図７中＋Ｙ方向に暫く移動させた後、一転して−Ｘ方向及び−Ｙ方向の合成した方向に移動させる。これにより、シール材吐出口６０１は、ＴＦＴアレイ基板１０との相対的な関係において、最初は図６中下方向に移動した後、一転して右斜め上方向に移動するようなかたちになる。ちなみに、前記のスタートポイント５２１ではシール材の吐出始めということもあり、該スターポイント５２１の幅は、その後続くシール材の描画ラインの幅よりも一般に大きくなる。
【００６４】
後は、図６及び図７に示すように、基本的には、画像表示領域１０ａを囲むようにシール材吐出口６０１を移動させて、シール材の描画を実行すればよい。最後は、前記のスタートポイント５２１の近くに、シール材吐出口５２１を導いてエンドポイント５２４を現し、ここでシール材吐出口６０１の吐出口先端部６０１ａからのシール材の吐出をストップする。これにより、最終的に形成される当該シール材５２の平面的な形状は概ね矩形状となる。また、本実施形態においては、一つ一つの画像表示領域１０ａにつき、一繋がりで或いは一筆書きのシール材５２が形成されることになる。以後、各々の画像表示領域１０ａにつき、同じ手順を踏んで、シール材５２を形成していけばよい。ちなみに、図６においては、図中右上の画像表示領域１０ａについてシール材形成の最中であり、ＸＹテーブル６０２が図中−Ｙ方向に向かって進んでいることにより、シール材吐出口６０１は図中左上に向かって進んでいるかの如き様子が示されている。
【００６５】
このように、好ましくは一筆書きによってシール材を形成しうるディスペンサ方式を採用することによれば、印刷方式に比べて、より正確・緻密なシール材形成を実現することができるし、また、印刷方式とは異なり、ＴＦＴアレイ基板１０にはシール材が非接触で塗布されていくようになっていることから、当該シール材形成工程において、ＴＦＴアレイ基板１０にダメージを与える可能性が小さい。また、ディスペンサ方式を採用して一筆書きを実施すれば、シール材形成領域の殆どどの部分においても一定の幅とすることができ、ばらつきのない電気光学装置の製造も可能となる。
【００６６】
さて、ところで前記のような一筆書きによるシール材形成工程において、本実施形態では特に、画像表示領域１０ａの角部に対応する部分、即ち前記矩形状の角部には隙間５２３Ｇが形成されるようにして、シール材５２の形成が行われることに特徴がある。より詳しくは、例えば図７の右上隅の部分、即ち図８（ａ）において、まず、画像表示領域１０ａの図中上辺に沿うように図中右方向に進んできたシール材吐出口６０１は、画像表示領域１０ａの角部付近で図中右斜め上方向に進路（以下、「第１進路」という。）を変更する。続いて、シール材吐出口６０１は、スクライブライン５０１Ｘを所定距離Ｄｅｑだけ越えた部分まで、この第１進路を保つ。次に、シール材吐出口６０１は、所定距離Ｄｅｑを越えた部分で、略半円を描きながら移動することで、いままで保っていた第１進路とは正反対の方向に進路（以下、「第２進路」という。）をとった後、前記所定距離Ｄｅｑ及びスクライブライン５０１Ｙの内側の所定の地点まで、当該第２進路を保つ。この際、第１進路を進行中に描画されたシール材５２Ａと、第２進路を進行中に形成されたシール材５２Ｂとの間には、これら両シール材５２Ａ及び５２Ｂが延在する限り等間隔の距離Ｇｅｑが保たれるような隙間５２３Ｇが形成されるようにする。最後に、シール材吐出口６０１は、スクライブライン５０１Ｙ内側の所定の地点に至った後、画像表示領域１０ａの図中右辺に沿うように図中下方向に移動する。
【００６７】
以上のような描画手順を踏むことにより、画像表示領域１０ａの角部付近においては、図６乃至図８（ａ）に示すようなはみ出し部５２３とともに、隙間５２３Ｇが形成されることになる。なお、各々の画像表示領域１０ａの図中左下隅部分においては、このはみ出し部５２３及び隙間５２３Ｇの形成手順とほぼ同様にして、やはり隙間５２３Ｇ´が形成されている。このようなことが可能であるのは、図に示すスタートポイント５２１及びエンドポイント５２４の配置関係から明らかに読み取れるであろう。
【００６８】
さて、以上のように、シール材形成工程が完了したら次に、当該ＴＦＴアレイ基板１０を所定の清浄性・真空度等が保たれた所定の雰囲気下においた上で、画像表示領域１０ａ上に液晶滴下を実施する（図５のステップＳ１４）。すなわち、便宜上、図６に併せて示したように、シール材５２によって囲われた画像表示領域１０ａ上に、液晶滴下筒７０１を用いて、液晶滴５０Ｄを滴下するのである。この液晶滴下は、複数の画像表示領域１０ａのすべてについて行われるが、これを実現するためには、図６に示すようなＸＹテーブル６０２と同様な構成を備えたＸＹテーブルの上にＴＦＴアレイ基板１０を載置して、前記液晶滴下筒７０１と各々の画像表示領域１０ａとの適当な位置決めを実施しながら、液晶滴下を実施すればよい。なお、シール材形成工程の後、液晶滴下工程の前には、シール材５２に対するプレベーク工程を挟んでおくとよい。
【００６９】
続いて、このようなＴＦＴアレイ基板１０に対して、図示しない対向基板２０を対向させた上で、これらＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を圧着する（図５のステップＳ１６）。なお、対向基板２０については、この圧着工程以前の適当な段階において、該対向基板２０上に、対向電極２１、額縁遮光膜等の各種の構成要素を構築しておく（図５のステップＳ２０）。
【００７０】
この圧着工程ではまず、前記の液晶滴５０Ｄは、各画像表示領域１０ａの全面に行き渡るように周囲に広がる。ここで、シール材５２は、このように広がる液晶滴５０Ｄに対していわば堤防として機能することになる。
【００７１】
また、本実施形態では特に、この圧着工程により、前記のはみ出し部５２３及び隙間５２３Ｇについて、以下のような変化が生じることになる。すなわち、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の圧着により、液晶滴５０Ｄが画像表示領域１０ａに広がったのと同様に、隙間５２３Ｇを挟んで存在する前記のシール材５２Ａ及び５２Ｂは、この隙間５２３Ｇを埋めるように広がる、ないしは移動することになる。そして、これらのシール材５２Ａ及び５２Ｂは、図８（ｂ）に示すように、やがて相互に接続されるようなかたちになる。この後、最終的には隙間５２３Ｇは完全に消滅し、それとほぼ同時に、シール材５２の画像表示領域１０ａの角部に対応する部分に、直角部分５２３Ａが形作られることになる。この場合特に、本実施形態では、はみ出し部５２３が所定距離Ｄｅｑだけ延在していること、及び、この所定距離Ｄｅｑにわたって隙間５２３Ｇが等間隔の距離Ｇｅｑを保っていることから、前記の直角部分５２３Ａは、より好適に形作られることになる。これは、この場合における隙間５２３Ｇの形状及び大きさが直角部分５２３Ａを形作るにあたって好ましいからであるが、この点については、後に図９乃至図１２に示される変形形態を参照しながら改めて説明することとする。
【００７２】
以上のように、本実施形態では、シール材５２に直角部分５２３Ａが好適に形作られることにより、画像表示領域１０ａの図中上下の辺及び左右の辺に沿って形成されるべきシール材５２は、当初から（即ち、図５のステップＳ１２におけるシール材形成工程の段階で既に）、当該上下の辺及び左右の辺に非常に近くに位置するように形成することができるのである。
【００７３】
この点、従来においては、画像表示領域１０ａの図中上下の辺及び左右の辺に非常に近接してシール材を形成するわけにはいかない。これは、既に図４（ｂ）を参照して述べたように、主に図６に示したＸＹテーブル６０２の機構精度或いはＸ方向及びＹ方向への動作に伴う誤差の発生により、シール材５２を連続して形成するためには、画像表示領域１０ａの角部に対応する部分において、一定の半径Ｒを確保する必要があったからである。このことにより、画像表示領域１０ａとシール材形成領域との間には、図４（ａ）に示す間隙Ｄｐに比べて遥かに広い間隙Ｄｃ（或いは、それ以上の間隙）を設けておかなければならなかったのである。
【００７４】
以上、圧着工程が完了したら最後は、シール材５２の硬化処理（シール材５２が光硬化性樹脂なら光照射処理、熱硬化性樹脂なら加熱処理等）を行った後（図５のステップＳ１７）、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙに沿ってＴＦＴアレイ基板１０を裁断する（図５のステップＳ１８。また、図６及び図７等参照）。この裁断工程により、はみ出し部５２３のうち、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙの内部のみが残存するような「はみ出し部５２３Ｚ」が形成されることになる（図４（ａ）参照）。
【００７５】
なお、上記の電気光学装置の製造方法では、画像表示領域１０ａの一つ一つにつき、シール材が一筆書きで形成されるようになっているが、本発明は、このような形態に限定されない。図６等にいうスタートポイント５２１及びエンドポイント５２４の位置を工夫すれば、例えば、複数の画像表示領域１０ａについて一挙に一筆書きでシール材の形成を行うことも可能である。具体的には、四つの画像表示領域１０ａの各角部が相互に向き合う余剰領域１０ｓに、スタートポイント及びエンドポイントを取れば、これら四つの画像表示領域１０ａについて一挙にシール材の形成を行うことができる。その他これ以外にも、種々の描画方法が考えられることは言うまでもない。いずれにせよ、そのすべては、本発明の範囲内にある。
【００７６】
また、上記では、シール材の形成はＴＦＴアレイ基板１０の上になされているが、対向基板２０の側にシール材を形成した後、この対向基板２０とＴＦＴアレイ基板１０とを圧着させる工程を実施してもよい。この場合、図５においては、ちょうどステップＳ１０及びステップＳ２０を交換したかの如きフローチャートを想定すればよい（ステップＳ１２に「ＴＦＴアレイ基板」とあるのは、「対向基板」と読み替える。）。
【００７７】
〔変形形態〕
以下では、上記の電気光学装置ないしはその製造方法とは異なる変形形態について、図９乃至図１２を参照して説明する。ここに図９乃至図１２は、それぞれ、図８（ａ）と同趣旨の図であって、同図とは異なる形態となるものを示す平面図である。
【００７８】
まず、図９は、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙを越えた部分において、シール材が略円形を描くように形成されており、その結果、略円形の隙間Ｇ１が形成されている。他方、図１０は、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙを越えた部分において、シール材が略三角形を描くように形成されており、その結果、略三角形の隙間Ｇ２が形成されている。さらに、図１１は、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙを越えた部分において、シール材が略四角形を描くように形成されており、その結果、略四角形の隙間Ｇ３が形成されている。
【００７９】
これらの図では、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙを越えた部分に、シール材が形成されていることについては同様であるが、図８（ａ）の隙間５２３Ｇのように、それぞれの隙間Ｇ１乃至Ｇ３に等間隔の部分が存在しない。したがって、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０を圧着させる工程において、この隙間Ｇ１乃至Ｇ３を完全に埋めるようにシール材を移動させることは図８（ａ）に比べて困難ということがいえる。したがって、これらの場合においては、圧着工程等において、特別な注意が必要とされる場合があり得、また、図８（ａ）に示すような極めて綺麗な直角部分５２３Ａを形作ることは比較的困難ということができる。
【００８０】
ただし、隙間Ｇ１乃至Ｇ３、或いは図８（ａ）における隙間５２３Ｇが埋まるかどうかは、これらの形状及び大きさが関係してくるのに加えて、シール材５２の粘度及び当該シール材５２中に混入されるギャップ材の径にも大きく依存する。したがって、このような条件が程よく満たされるのであれば、隙間Ｇ１乃至Ｇ３のような形状及び大きさをもつものであっても、これらを完全に埋めるように、シール材を移動させることはできる。なお、図８（ａ）に関していえば、シール材の粘度が２００００〜５００００〔ｃＰ（センチポアズ）〕、ギャップ材が径４．０〜５．０〔μｍ〕の金メッキグラスファイバとすると、隙間５２３Ｇの距離Ｄｅｑは、３〔ｍｍ〕程度としておくのが最も好ましい一例である。
【００８１】
ただ、これら図９乃至図１１に示すように、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙを超えて、シール材を形成する方法によれば、それらに共通して次のような作用効果が得られる。すなわち、電気光学装置の小型化を実現するためには、端的に、その外形形状をより小さくすることが望まれるが、そうすると、画像表示領域１０ａの外縁と当該外形形状（図では、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙにより画されると考えることができる。）との間の領域はなるべく狭くされるべきことになる。つまり、通常において、かかる領域は、比較的狭くされる傾向にあると考えてよい。しかし、この場合、このような狭い領域内でシール材吐出口６０１を取り回し（即ち、ＸＹテーブル６０２を移動させ）、図９乃至図１１のようなはみ出し部の形状を形作ることは極めて困難なことになる。しかるに、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙを超えて、余剰領域１０ｓ（図６及び図７参照）に至るように、シール材を形成することを許容すれば、かかる困難は殆ど完全に解消し、シール材吐出口６０１を自由に取り回して、はみ出し部を形成すればよいことになる。なお、図９乃至図１１においては、本発明にいう「所定距離」として、具体的には例えば、これら各図にそれぞれ示すような距離Ｄｏｓを観念すればよい。
【００８２】
このように、スクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙを所定距離越えてシール材を形成することによれば、電気光学装置の小型化をよりよく実現し得るのである。ただし、本発明においては、シール材が必ずスクライブライン５０１Ｘ及び５０１Ｙを越えて形成されていなければならないわけではない。例えば図１２に示すように、画像表示領域１０ａの角部に対応する部分において、単に、隙間Ｇ４が形成されているというような形態も、本発明の範囲内にある。このような場合であっても、前記で述べたのと略同様な作用効果が得られることは明白である。ただ、この図１２においては、シール材の吐出をいったん停止した後、再び吐出を始めるという手順を踏む必要があり、そうすると、その再吐出の時点においては、図６等に示したような比較的幅広のスタートポイントを現させる可能性が高い。したがって、図１２のような形態は、かかる問題点を克服した上で実施することが好ましい。
【００８３】
（電子機器）
次に、以上詳細に説明した電気光学装置をライトバルブとして用いた電子機器の一例たる投射型カラー表示装置の実施形態について、その全体構成、特に光学的な構成について説明する。ここに、図１３は、投射型カラー表示装置の図式的断面図である。
【００８４】
図１３において、本実施形態における投射型カラー表示装置の一例たる液晶プロジェクタ１１００は、駆動回路がＴＦＴアレイ基板上に搭載された液晶装置を含む液晶モジュールを３個用意し、それぞれＲＧＢ用のライトバルブ１００Ｒ、１００Ｇ及び１００Ｂとして用いたプロジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ１１００では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプユニット１１０２から投射光が発せられると、３枚のミラー１１０６及び２枚のダイクロックミラー１１０８によって、ＲＧＢの三原色に対応する光成分Ｒ、Ｇ及びＢに分けられ、各色に対応するライトバルブ１００Ｒ、１００Ｇ及び１００Ｂにそれぞれ導かれる。この際特に、Ｂ光は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ１１２２、リレーレンズ１１２３及び出射レンズ１１２４からなるリレーレンズ系１１２１を介して導かれる。そして、ライトバルブ１００Ｒ、１００Ｇ及び１００Ｂによりそれぞれ変調された三原色に対応する光成分は、ダイクロックプリズム１１１２により再度合成された後、投射レンズ１１１４を介してスクリーン１１２０にカラー画像として投射される。
【００８５】
かかる投射型カラー表示装置では、ライトバルブ１００Ｒ、１００Ｇ及び１００Ｂに前述した電気光学装置が用いられているため、その小型化を実現することができる。
【００８６】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨、あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置の製造方法及び電子機器もまた、本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】ＴＦＴアレイ基板をその上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た電気光学装置の平面図である。
【図２】図１のＨ−Ｈ’断面図である。
【図３】電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路である。
【図４】シール材形成領域の角部の平面図であり、（ａ）は、本実施形態に係り、図１の符号Ｃ１を付した円内部分に対応する拡大平面図であり、（ｂ）はその比較例である。
【図５】本実施形態に係る電気光学装置の製造方法のフローチャートである。
【図６】シール材形成工程におけるシール描画の様子を説明するための説明図である。
【図７】製造工程途中の一個の電気光学装置についての全体平面図である。
【図８】図７の符号Ｃ２を付した円内部分に対応する拡大平面図であって、（ａ）はシール材描画直後の様子、（ｂ）は、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の圧着開始後の様子をそれぞれ示している。
【図９】図８（ａ）と同趣旨の図であって、同図とは異なる形態（はみ出し部が円形）となるものを示す平面図である。
【図１０】図８（ａ）と同趣旨の図であって、同図とは異なる形態（はみ出し部が三角形）となるものを示す平面図である。
【図１１】図８（ａ）と同趣旨の図であって、同図とは異なる形態（はみ出し部が四角形）となるものを示す平面図である。
【図１２】図８（ａ）と同趣旨の図であって、同図とは異なる形態（はみ出し部が存在しない）となるものを示す平面図である。
【図１３】本発明の電子機器の実施形態である投射型カラー表示装置の一例たるカラー液晶プロジェクタを示す図式的断面図である。
【符号の説明】
【００８８】
１０…ＴＦＴアレイ基板、１０ａ…画像表示領域、１１ａ…走査線、６ａ…データ線、３０…ＴＦＴ、９ａ…画素電極、２０…対向基板
５２…シール材、５２３、５２３Ｚ…はみ出し部
５０１Ｘ、５０１Ｙ…スクライブライン
【図１】
2005084323.tif 000003
【図２】
2005084323.tif 000004
【図３】
2005084323.tif 000005
【図４】
2005084323.tif 000006
【図５】
2005084323.tif 000007
【図６】
2005084323.tif 000008
【図７】
2005084323.tif 000009
【図８】
2005084323.tif 000010
【図９】
2005084323.tif 000011
【図１０】
2005084323.tif 000012
【図１１】
2005084323.tif 000013
【図１２】
2005084323.tif 000014
【図１３】
2005084323.tif 000015