(57)【要約】【課題】  各画素内にて発光輝度が均一になることで表示品位が向上する電気光学装置の製造方法及びそのような製造方法にて製造された電気光学装置を具備してなる電子機器を提供する。【解決手段】  画素電極１０が形成された表示領域を備えた基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上の各画素電極１０上に親液性部材Ａを形成した。【選択図】    図３
2005266682.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置の製造方法において、
複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程と、
前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程と、
前記区画形成された各画素形成領域の前記画素電極上に電気光学層を形成する工程と
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記画素電極が形成された領域を除く前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程は、前記複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程の後に行うようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程は、前記画素電極が形成された領域を除く前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程の後に行うようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記基板上全面にプラズマ処理及び撥液化処理を行う工程を含んだことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記親液性部材が前記各画素電極上全面に形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記親液性部材が前記画素電極上に点在して形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１乃至４のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記親液性部材が前記画素電極上に格子状に形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記親液性部材は、酸化珪素であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記酸化珪素は膜状であってその膜厚は、５ｎｍ以下であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法を用いて製造された電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、小型化・薄型化の観点から、電気光学装置として液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス装置等が注目されている。特に、有機エレクトロルミネッセンス装置（以下、有機ＥＬディスプレイという）は、液晶装置に比べて高速応答化及び広視野角化が可能であるため、その開発が盛んに行われている。
【０００３】
また、有機ＥＬディスプレイは、その表示領域上に、画素電極と、該画素電極に対向する対向電極と、画素電極と対向電極との間に形成される少なくとも発光層を備える電気光学層とを有した画素を複数備えている。
【０００４】
さて、このような構造を有する有機ＥＬディスプレイの製造方法の一つに、電気光学層を構成する電気光学材料を所定の溶媒に溶解または分散した液滴状の溶液（インク滴）に形成し、そのインク滴をインクジェットヘッドから所定の画素電極上へ吐出するようにして製造するインクジェット法がある。
【０００５】
このインクジェット法では、フルカラー表示が可能な有機ＥＬディスプレイを製造する場合、赤色用、緑色用または青色用の異なった種類の電気光学材料を使用して、対応する画素電極毎にその対応する色用のインク滴を吐出する。その際、吐出された各色用のインク滴が他の隣接する画素電極上に吐出された他の色用のインク滴と混じり合いを回避するために、画素電極を区画隔離する隔壁が形成されている。そして、各画素電極には親液化処理を、隔壁には撥液化処理を、それぞれ施すことで、吐出されたインク滴を画素電極に密着させるとともに、隣接する他の画素電極へ吐出されたインク滴との混じり合いを回避するようにしている（たとえば、特許文献１）。
【特許文献１】特開２００３−２７２８７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記インクジェット法による有機ＥＬディスプレイの製造方法においては、隔壁を撥液化処理する際に画素電極も撥液化処理されてしまう。この結果、画素電極上表面が撥液化されてしまうため、吐出されたインク滴が所望の画素電極上に配置されても、その画素電極上全面に均一に濡れ広がらない。この結果、乾燥処理して形成される薄膜の膜厚が、各画素内においてばらついてしまう。すると、この膜厚のばらつきに起因して、各画素内における発光輝度が均一にならず、表示不良が発生してしまうという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、各画素内にて発光輝度が均一になることで表示品位が向上する電気光学装置の製造方法及びそのような製造方法にて製造された電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の電気光学装置の製造方法は、複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程と、前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程と、前記区画形成された各画素形成領域の前記画素電極上に電気光学層を形成する工程とを含む。
【０００９】
これによれば、画素電極上に親液性部材が形成されるので、画素電極上表面の濡れ性を向上させることができる。このことより、電気光学層を構成する材料を画素電極上に広がって形成されるので、各画素形成領域内に形成される電気光学層の膜厚のバラツキを無くすことができる。
【００１０】
この電気光学装置の製造方法において、前記画素電極が形成された領域を除く前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程は、前記複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程の後に行うようにしてもよい。
【００１１】
これによれば、親液性部材を、例えば基板に対して全面に形成するようにすることによって、各画素電極上に形成される親液性部材の密度を均一にすることができる。
この電気光学装置の製造方法において、前記複数の画素電極が形成された表示領域を備えた基板上の前記各画素電極上に親液性部材を形成する工程は、前記前記画素電極が形成された領域を除く前記表示領域上に複数の画素形成領域を区画形成するための隔壁を形成する工程の後に行うようにしてもよい。
【００１２】
これによれば、親液性部材を、隔壁を形成した後に画素電極上に形成することができる。隔壁により区画された膜形成領域に電気光学層を形成する液体材料を配置することにより電気光学層を形成する場合、隔壁材料はアクリル、ポリイミドなどの有機材料にて形成される。特にこのような場合、隔壁を形成した後親液性部材を形成するため、隔壁材料が親液性部材に接しないため、隔壁材料の残さによる液体材料の濡れ不良を防止できる。
【００１３】
この電気光学装置の製造方法において、前記基板上全面にプラズマ処理及び撥液化処理を行う工程を含んでもよい。
これによれば、プラズマ処理を行うことで画素電極上に形成された親液性部材の親液性をさらに向上させるとともに画素電極の上面の改質処理を行うことができる。また、撥液化処理を行うことで隔壁を撥液化させることができる。この結果、目的の画素形成領域に電気光学層を構成する材料を配置させ、しかも、その画素形成領域の画素電極上に電気光学層を構成する材料を密着させることができる。
【００１４】
この電気光学装置の製造方法において、前記親液性部材が前記各画素電極上全面に形成されていてもよい。
これによれば、画素電極上全面に親液性部材を形成したので、画素電極全面の濡れ性を均一に向上させることができる。このことより、電気光学層を構成する材料を画素電極全面に広がって形成させることができるので、各画素形成領域内に形成される電気光学層の膜厚のバラツキを無くすことができる。
【００１５】
この電気光学装置の製造方法において、前記親液性部材が前記画素電極上に点在して形成されてもよい。
これによれば、画素電極上に島状に親液性部材を形成したので、画素電極と電気光学層とが直接接する。従って、たとえ親液性部材が絶縁性材料であっても、画素電極と電気光学層との電気的接続を良好にすることができる。
【００１６】
この電気光学装置の製造方法において、前記親液性部材が前記画素電極上に格子状に形成されてもよい。
これによれば、画素電極上に格子状に親液性部材を形成したので、画素電極と電気光学層とが直接接する。従って、たとえ親液性部材が絶縁性材料であっても、画素電極と電気光学層との電気的接続を良好にすることができる。
【００１７】
この電気光学装置の製造方法において、前記親液性部材は、酸化珪素であってもよい。
これによれば、酸化珪素は、プラズマ処理を施すことによって容易にその濡れ性を向上させることができるので、前記画素電極が、たとえばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で構成されていたとしても、その上に形成される電気光学層の膜厚のバラツキを無くすことができる。
【００１８】
この製造方法において、前記酸化珪素は膜状であってその膜厚は、５ｎｍ以下であってもよい。
これによれば、酸化珪素の膜厚は５ｎｍ以下と非常に薄い。従って、画素電極と電気光学層とは実質的に電気的に接続される。
【００１９】
本発明の電子機器は、上記記載の電気光学装置の製造方法により製造された電気光学装置を具備した。
これによれば、各画素内にて発光輝度が均一になることで表示品位が向上した電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の電気光学装置を有機ＥＬディスプレイに適用した第１及び第２実施形態をそれぞれ図面に従って説明する。本発明の有機ＥＬディスプレイは、各画素を形成する正孔輸送層及び発光層といった電気光学層がインクジェット方式によって製造されたディスプレイである。ここで、インクジェット方式による製造方法とは、電気光学層を構成する有機化合物材料（たとえば、正孔輸送層材料／発光層材料）を所定の溶媒に溶解または分散させたインク滴をインクジェットヘッドから吐出させて画素電極上にパターニング塗布する方法をいう。尚、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
（第１実施形態）
図１は、本発明の有機ＥＬディスプレイの上面図である。図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１は、ディスプレイ部ＤＳと、該ディスプレイ部ＤＳの下側（図１中反Ｙ矢印方向側）に接続されたフレキシブル回路基板ＦＣとから構成されている。図１に示すように、ディスプレイ部ＤＳは、その略中央に表示領域Ｒを、また、表示領域Ｒを囲む表示領域Ｒ以外の領域に非表示領域Ｑをそれぞれ備えている。
【００２１】
表示領域Ｒには、図１中Ｘ，Ｙ矢印方向にそれぞれ延設された隔壁Ｂが設けられ、その隔壁Ｂによって画素形成領域２が升目状に区画形成されている。各画素形成領域２は、１個の赤、緑または青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが形成される領域である。赤色用画素３Ｒからは赤色の光が、緑色用画素３Ｇからは緑色の光が、青色用画素３Ｂからは青色の光がそれぞれ出射される。
【００２２】
表示領域Ｒには、１行当りｍ個の赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂがｎ行、また、１列当りｎ個の赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂがｍ列形成されている。そして、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、それぞれ図１中Ｘ矢印方向（行方向）に沿って赤色用画素３Ｒ→緑色用画素３Ｇ→青色用画素３Ｂ→赤色用画素３Ｒ→…の順に繰り返して配置されている。また、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、それぞれ図１中Ｙ矢印方向（列方向）に沿って同色の画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが配置されている。
【００２３】
また、図１中Ｘ矢印方向に互いに並んだ赤色用画素３Ｒ、緑色用画素３Ｇ及び青色用画素３Ｂで１組の画素３を形成している。
非表示領域Ｑには、表示領域Ｒを挟むようにして一対の走査線駆動回路４が形成されている。各走査線駆動回路４は、図示しない走査線を介して１行の各色用画素３Ｒ，３Ｇ，
３Ｂ群毎に接続されている。そして、各走査線駆動回路４は、ｎ行ある各色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ群を１行毎に順次選択する走査信号を出力するための回路である。
【００２４】
また、非表示領域Ｑ上であって、表示領域Ｒの上側（図１中Ｙ矢印方向側）には検査回路５が形成されている。検査回路５は、各赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと図示しない信号線を介して接続されている。そして、検査回路５は、有機ＥＬディスプレイ１を出荷される前に駆動され、各赤、緑または青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが正常に駆動するか否かを検査するための回路である。
【００２５】
一方、フレキシブル回路基板ＦＣ上にはデータ線駆動回路６と制御回路７とが形成されている。データ線駆動回路６は、図示しないデータ線を介して１列の各色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ毎に接続されている。そして、データ線駆動回路６は、前記走査線駆動回路４によって選択された各色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂに対応するデータ信号を出力するための回路である。このデータ信号は輝度情報がプログラムされた信号であって、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの発光輝度を決定する。
【００２６】
制御回路７は、各走査線駆動回路４及びデータ線駆動回路６に図示しない制御線を介して接続され、各駆動回路４，６の駆動を制御するための各種制御信号を生成し、その生成した制御信号を各駆動回路４，６にそれぞれ出力するための回路である。
【００２７】
そして、前記制御回路７から出力される各種制御信号によって走査線駆動回路４が前記走査信号を出力するとともに、前記走査信号のタイミングでデータ線駆動回路６からデータ信号が出力される。このような構成により、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、出力されたデータ信号に応じた輝度で各色の光を出射し、その結果、表示領域Ｒ上に所望の画像が表示される。
【００２８】
図２は、ディスプレイ部ＤＳの図１中ａ−ａ線での断面図である。ディスプレイ部ＤＳは、光透過性を有するガラスや高分子フィルムで構成された基板Ｓを備えている。基板Ｓ上には、回路形成層Ｓｂが形成されている。回路形成層Ｓｂには、前記データ線駆動回路６（図１参照）からのデータ信号に応じた駆動電流を制御する薄膜トランジスタＴＦＴといった各種回路素子が形成されている。また、回路形成層Ｓｂには、前記走査線駆動回路４または検査回路５を構成する回路素子の一部または全部が形成されている。
【００２９】
回路形成層Ｓｂ上の略中央には前記表示領域Ｒが形成されている。表示領域Ｒ内の回路形成層Ｓｂ上には、それぞれが略矩形状を成した複数個（本実施形態では、３ｍ×３ｎ個）の画素電極１０が配置されている。
【００３０】
画素電極１０は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファスといった透明導電材料で構成されている。各画素電極１０は、コンタクトホールＨを介して対応する薄膜トランジスタＴＦＴに電気的に接続されている。そして、画素電極１０には、薄膜トランジスタＴＦＴから供給される前記駆動電流の電流密度に応じたキャリアが供給される。
【００３１】
また、前記表示領域Ｒ内の回路形成層Ｓｂ上には複数個（本実施形態では、３ｍ×３ｎ個）の画素形成領域２を区画形成するための前記隔壁Ｂが形成されている。隔壁Ｂは、有機絶縁材料からなり、有機絶縁膜としては、その目的を達するものであればいかなる材料から構成されたものであってもかまわないが、製造工程の簡便性から感光性を有する材料が好ましい。たとえば、ポジ型のパターニングを与える有機絶縁材料としては、フェノール樹脂・ポリアクリル・ポリアミド樹脂・ポリアミック酸などのアルカリ可溶性の高分子誘導体にナフトキノンジアジドなどの感光性化合物を添加し、露光・アルカリ現像により
ポジパターンを得られるような材料が挙げられる。ネガ型のパターニングを与える有機絶縁膜としては化学線の照射により現像液への溶解速度が遅くなる感光性組成物、たとえば化学線照射により架橋する官能基を有する感光性組成物が挙げられる。化学線照射により架橋するたとえばエポキシ基を有する化合物を含有する感光性組成物、等の材料が挙げられる。そして、隔壁Ｂは、その全体若しくは表面上が撥液化されている。
【００３２】
前記区画形成された各画素形成領域２内の前記画素電極１０上には正孔輸送層１１、及び赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂからなる電気光学層１３が配置されている。正孔輸送層１１、及び赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、それぞれ前記回路形成層Ｓｂ側（基板Ｓ側）から図２中Ｚ矢印方向に沿って正孔輸送層１１、赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの順に積層されている。そして、本実施形態の有機ＥＬディスプレイ1においては、この各層１１，１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ
がインクジェット法にて形成される層である。
【００３３】
正孔輸送層１１は、例えばポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体など、またはそれらのドーピング体といった有機材料で構成されている。正孔輸送層１１は、対応する画素電極１０から供給されるキャリアを該画素電極１０の上層に形成された赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂへ効率良く注入させるための層である。
【００３４】
赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、それぞれ有機材料で構成されている。詳しくは、赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の有機物発光材料で構成されている。具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリジアルキルフルオレン（ＰＤＡＦ）、ポリフルイオレンベンゾチアジアゾール（ＰＦＢＴ）、ポリアルキルチオフェン（ＰＡＴ）や、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適である。
【００３５】
また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いてもよい。
【００３６】
そして、赤色用発光層１２Ｒは赤色の光を、緑色用発光層１２Ｇは緑色の光を、青色用発光層１２Ｂは青色の光をそれぞれ対応する正孔輸送層１１から注入されたキャリア密度に応じた輝度で出射する。出射された各色の光は、前記回路形成層Ｓｂ及び基板Ｓを介して外部へ出射される。
【００３７】
また、電気光学層１３を介して前記各画素電極１０と対向する位置には、各画素電極１０の対向電極としての陰極１４が形成されている。陰極１４は、隔壁Ｂ上を渡って非表示領域Ｑの回路形成層Ｓｂ上に至るまで形成されている。
【００３８】
陰極１４は、１層からなる金属層であっても２層あるいは３層からなる金属層であってもよい。具体的には、陰極１４は、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）などの単体材料や、マグネシウム（Ｍｇ）−アルミニウム（Ａｌ）（Ｍｇ：Ａｌ＝１０：１）合金で構成されている。また、酸化リチウムＬｉ２Ｏ／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化マグネシウム（Ｍｇ）／アルミニウム（Ａｌ）といった積層膜が好適である。
【００３９】
このようにして、画素電極１０、陰極１４、前記画素電極１０及び陰極１４の間に形成
された正孔輸送層１１及び赤色用発光層１２Ｒで赤色用画素３Ｒが構成されている。また、画素電極１０、陰極１４、前記画素電極１０及び陰極１４の間に形成された正孔輸送層１１及び緑色用発光層１２Ｇで緑色用画素３Ｇが構成されている。同様に、画素電極１０、陰極１４、前記画素電極１０及び陰極１４の間に形成された正孔輸送層１１及び青色用発光層１２Ｂで青色用画素３Ｂが構成されている。
【００４０】
また、前記回路形成層Ｓｂの外周縁部には陰極１４全面を覆うように、乾燥した空間Ｆを介して、エポキシ樹脂よりなる封止部材ＦＢが接着されている。
このように、画素電極１０が形成された表示領域Ｒを備えた基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上の前記各画素電極１０上には、親液性部材Ａが配置されている。具体的には、本実施形態においては、各画素電極１０と正孔輸送層１１との間に親液性を有する島状の親液性部材Ａが形成されている。
【００４１】
次に、本発明の特徴である親液性部材Ａについてその詳細を図３に従って説明する。図３（ａ）は、図２において、ディスプレイ部ＤＳを封止部材ＦＢ側から反Ｚ矢印方向へ、その封止部材ＦＢ、陰極１４、各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ、及び、正孔輸送層１１を透視した場合の平面図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）中のｂ−ｂ線での要部断面図である。
【００４２】
図３（ａ），（ｂ）に示すように、親液性部材Ａは、各画素電極１０上、及び各画素電極１０間に形成される回路形成層Ｓｂ上に渡って一定の密度で点在している。つまり、本実施形態においては、基板Ｓ上全面に対して親液性部材Ａが形成されている。親液性部材Ａは、たとえば、酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）といった親液性を有する材料で構成されている。
【００４３】
親液性部材Ａは、インクジェット法によって前記正孔輸送層１１を形成する際の、正孔輸送層１１を構成する正孔輸送層材料が溶解または分散した液滴状のインク滴を、画素電極１０上に引き寄せる機能を有する。そして、図３（ｂ）に示すように、前記正孔輸送層１１は、画素電極１０上の全面に渡って形成されている。また、前記正孔輸送層１１は、その膜厚が画素電極１０上の全面に渡って均一になるように形成されている。
【００４４】
また、正孔輸送層１１の膜厚は、画素電極１０上全面に渡って均一であるので、その正孔輸送層１１の上面、即ち、正孔輸送層１１と該正孔輸送層１１上に積層される各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂとの界面の平坦度が高い。そして、各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂのそれぞれの膜厚は各画素形成領域２内にて均一に形成されている。従って、各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂから出射される各色の光の輝度は、各画素形成領域２内で偏ることなく均一になる。
【００４５】
また、親液性部材Ａを構成する酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）は、光透過性の有する絶縁性材料である。従って、本実施形態のように、各画素電極１０間にまたがるように各画素電極１０間に位置する回路形成層Ｓｂ上にも親液性部材Ａが形成された構造を成す有機ＥＬディスプレイ１においては、画素電極１０に供給されたキャリアが、回路形成層Ｓｂ上に形成された親液性部材Ａを介して隣接する画素電極１０に供給されることはない。
【００４６】
また、親液性部材Ａは、前記したように、酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）といった光透過性を有する材料で構成されている。このことから、たとえ、その親液性部材Ａの密度が高くても、各発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂから出射される各色の光は親液性部材Ａによって減衰されない。この結果、各画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、それぞれ親液性部材Ａを形成してもその開口率が低下することなく前記データ信号に応じた所望の輝
度で対応する色の光が出射される。
【００４７】
さらに、図３（ａ）に示すように、本実施形態の親液性部材Ａは島状の形態を成しており、各親液性部材Ａの面積は、画素電極１０の表面積よりも小さい。従って、画素電極１０上には親液性部材Ａが形成されない領域Ｗが形成される。そして、この領域Ｗには前記正孔輸送層１１が直接画素電極１０の表面上に接して形成される。従って、画素電極１０と正孔輸送層１１とは電気的に接続される。このため、画素電極１０に供給されたキャリアはその画素電極１０上に形成された正孔輸送層１１へ確実に注入される。
【００４８】
次に、前記のような構成を成した有機ＥＬディスプレイ１の製造方法の一例を図４〜図7に従って説明する。図４〜図7は、それぞれ有機ＥＬディスプレイ１の製造方法を説明するための、表示領域Ｒにおけるディスプレイ部ＤＳの断面図である。
【００４９】
まず、図４（ａ）に示すように、光透過性を有するガラスや高分子フィルムで構成された基板Ｓ上に、公知の方法を用いて薄膜トランジスタＴＦＴ等といった各種回路素子を形成し、続いて、その各種回路素子上にさらに光透過性を有する酸化珪素（ＳｉＯ２）等からなる層間絶縁膜１５を成膜する。その後、先に形成した薄膜トランジスタＴＦＴのソースまたはドレインに至るまで開口するコンタクトホールＨを形成して前記回路形成層Ｓｂを形成する。続いて、層間絶縁膜１５上の表示領域Ｒ（図２参照）であって、先に形成されたコンタクトホールＨと、その下側（反Ｚ矢印方向側）に薄膜トランジスタＴＦＴが形成されていない領域とを含む位置に略矩形状の画素電極１０を形成する。各画素電極１０は、前記したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファスといった透明導電材料を、例えば化学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いてパターニングして形成する。このとき、画素電極１０の一部がコンタクトホールＨ内を埋め込むようにして形成することで、画素電極１０が薄膜トランジスタＴＦＴのソースまたはドレインに電気的に接続される。
【００５０】
次に、図４（ｂ）に示すように、画素電極１０が形成された表示領域Ｒを備えた基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上の各画素電極１０上に親液性部材Ａを形成する。即ち、画素電極１０及び各画素電極１０間に露出した回路形成層Ｓｂ上の全面に渡って親液性部材Ａを形成する。言い換えると、本実施形態においては、基板Ｓ上全面に対して親液性部材Ａを形成する。親液性部材Ａが酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）といった無機材料で構成されている場合においては、例えば化学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いて形成する。また、親液性部材Ａが酸化珪素（ＳｉＯ２）で構成されている場合においては、原料としてＴＥＯＳ（ｔｅｔｒａｅｔｈｙｌｏｒｔｈｏｓｉｌｉｃａｔｅ）を用いて形成する。この結果、親液性部材Ａは画素電極１０上全面に渡ってその密度が均一になるように形成される。また、親液性部材Ａの図４中Ｚ矢印方向への高さ（膜厚）ｈが、例えば５ｎｍ以下となるように形成することで親液性部材Ａは島状の形態を成し、画素電極１０及び各画素電極１０間に露出した回路形成層Ｓｂ上の全面に渡って点在するように形成される。
【００５１】
次に、図５（ａ）に示すように、前記表示領域Ｒ上に画素形成領域２を区画形成するための前記隔壁Ｂを形成する。即ち、各画素電極１０間の回路形成層Ｓｂ上に形成された親液性部材Ａ上に、感光性ポリイミド樹脂を塗布し、露光、現像により例えば２μｍの隔壁Ｂを形成する。このとき、隔壁Ｂを、その一部が画素電極１０の周囲に乗り上げるようにして形成する。このようにして、隔壁Ｂの横側壁Ｂｓ及び画素電極１０で構成される凹状の前記画素形成領域２が区画形成される。
【００５２】
続いて、各画素形成領域２内の画素電極１０及び親液性部材Ａに酸素プラズマ処理を行う。酸素プラズマ処理を行うことで画素電極１０上に形成された親液性部材Ａの親液性をさらに向上させる。また、各画素電極１０の上面の改質処理を行うことができる。その後
、前記基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上全面、即ち、隔壁Ｂ、画素電極１０及び親液性部材Ａの各表面上を撥液化処理する。本実施形態の撥液化処理は、フッ素系ガス（たとえば、ＣＦ4）によるプラズマ処理によって行う。この際、たとえば、 ＣＦ4ガス流量１００ｍｌ
／ｍｉｎ、ヘリウムガス流量１０ｌ／ｍｉｎ、テーブル搬送速度３ｍｍ/ｓの往復で行う
。
【００５３】
この結果、横側壁Ｂｓを含む隔壁Ｂ表面が撥液化される。このとき、画素形成領域２内の画素電極１０の表面及び親液性部材Ａの表面も撥液化されるが、親液性部材Ａは画素電極１０に比べて撥液化されにくく親液性が保持される。
【００５４】
次に、図５（ｂ）に示すように、インクジェット方式によって前記区画形成された各画素形成領域２の前記画素電極１０上に正孔輸送層材料を溶媒に溶解または分散させたインク滴Ｉ１を第１のインクジェットヘッドから吐出させて、その画素電極１０上に配置する。このとき、各画素形成領域２内では、その画素電極１０上に親液性部材Ａが形成されているので、吐出されたインク滴Ｉ１が親液性部材Ａに引き寄せられる。このとき、親液性部材Ａは、画素形成領域２内の画素電極１０上全面に渡ってその密度が均一に形成されるので、画素電極１０上に配置されたインク滴Ｉ１は、画素電極１０上全面に均一に濡れ広がる。
【００５５】
一方、各画素形成領域２内では、横側壁Ｂｓを含む隔壁Ｂの全表面が撥液化処理されているので前記インク滴Ｉ１は、隔壁Ｂを介して隣接する他の画素形成領域２へ流れ込むことなく所定の画素形成領域２内に配置される。
【００５６】
その後、各画素電極１０上に配置されたインク滴Ｉ１を乾燥させる。この乾燥は、真空及びまたは熱処理あるいは窒素ガスフローにより行われ、その結果、インク滴Ｉ１から溶媒が除去される。例えば、本実施形態においては、真空中（１ｔｏｒｒ（１３３．３Ｐａ））、室温、２０分という条件で溶媒を除去する。このとき、各画素電極１０上全面に均一にインク滴Ｉ１が濡れ広がっているので、乾燥処理後の各画素電極１０上には、図６（ａ）に示すように、前記正孔輸送層材料で構成された正孔輸送層１１が画素電極１０上全面に渡って形成される。また、形成される正孔輸送層１１の膜厚は均一なものとなるので、同正孔輸送層１１上の表面の平坦度は高い。
【００５７】
また、本実施形態においては、親液性部材Ａ間の画素電極１０上には正孔輸送層１１が直接接するようにして形成される。
次に、図６（ｂ）に示すように、インクジェット方式によって赤色用発光層材料を溶媒に溶解または分散させたインク滴ＩＲを赤色用のインクジェットヘッドから対応する所定の画素形成領域２の正孔輸送層１１に吐出する。同様に、緑色用発光層材料を溶媒に溶解または分散させたインク滴を緑色用のインクジェットヘッドから対応する所定の画素形成領域２の正孔輸送層１１に吐出する。また、同様に、青色用発光層材料を溶媒に溶解または分散させたインク滴ＩＢを青色用のインクジェットヘッドから、対応する所定の画素形成領域２の正孔輸送層１１に吐出する。
【００５８】
このとき、前記と同様に、横側壁Ｂｓを含む隔壁Ｂの全表面が撥液化処理されているのでインクジェットヘッドから吐出された前記各色のインク滴ＩＲ，ＩＢは、隔壁Ｂを介して隣接する他の画素形成領域２へ流れ込むことなく所定の画素形成領域２内に配置される。
【００５９】
その後、前記各色のインク滴ＩＲ，ＩＢを乾燥させる。この乾燥は、前記と同様に、真空及びまたは熱処理あるいは窒素ガスフローにより行われ、その結果、各色のインク滴ＩＲ，ＩＢから溶媒が除去される。この結果、各画素電極１０上に形成された正孔輸送層１
１上に赤、緑及び青色用発光層材料で構成される赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂが定着される（図７（ａ）参照）。
【００６０】
このとき、前記正孔輸送層１１上の表面の平坦度は高いので、該正孔輸送層１１上に形成される各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの膜厚は均一となる。
続いて、図7（ｂ）に示すように、隔壁Ｂ及び赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ
，１２Ｂ上全面に渡って陰極１４として、２ｎｍのＬｉＦ層、２０ｎｍのＣａ層及び２００ｎｍのＡｌ層を、例えば真空加熱蒸着で積層形成する。陰極１４は、非表示領域Ｑ（図２参照）の回路形成層Ｓｂ上にも形成される。
＊図２などで、陰極１４はバンクあるいは発光層などの形状に沿った形状にして下さい。（場合により、今後の出願に影響する虞があるため。）
その後、乾燥した空間Ｆを介して、最後にエポキシ樹脂で構成された封止部材ＦＢにより封止を行う。これにより、ディスプレイ部ＤＳが製造される。最後に、そのディスプレイ部Ｄと、別途作製されたデータ線駆動回路６及び制御回路７を備えたフレキシブル回路基板ＦＣとを接続して、有機ＥＬディスプレイ１を製造する。
【００６１】
こうして、各画素形成領域２内に形成される正孔輸送層１１及び各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの膜厚のバラツキが無い有機ＥＬディスプレイ１を製造することができた。
【００６２】
尚、特許請求の範囲に記載の電気光学装置は、本実施形態においては、有機ＥＬディスプレイ１に対応している。
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、画素電極１０が形成された表示領域Ｒを備えた基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上の各画素電極１０上に親液性部材Ａを形成した。従って、画素電極１０上表面の親液性を向上させることができる。この結果、正孔輸送層材料が溶解または分散した液滴状のインク滴Ｉ１が、画素電極１０上全面に渡って均一に濡れ広がるので、各画素形成領域２内に形成される正孔輸送層１１は、その上面の平坦度が高くなる。従って、正孔輸送層１１上に形成される赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、その膜厚のバラツキが無く、均一となる。この結果、各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂから出射される各色の光の輝度は、各画素形成領域２内で偏ることなく均一になるので、表示品位を向上させることができる。
（２）本実施形態によれば、各画素形成領域２内の画素電極１０及び親液性部材Ａに酸素プラズマ処理を行った。この結果、画素電極１０表面及び親液性部材Ａ表面を洗浄・活性化するとともに親液化することができる。この結果、各画素形成領域２の画素電極１０上に正孔輸送層１１を構成する正孔輸送層材料を密着させることができる。
（３）本実施形態によれば、隔壁Ｂ、画素電極１０及び親液性部材Ａの各表面上をプラズマ処理及び撥液化処理した。従って、正孔輸送層材料が溶解または分散した液滴状のインク滴Ｉ１または各色用のインク滴ＩＲ，ＩＢは、それぞれ隔壁Ｂを介して隣接する他の画素形成領域２へ吐出されたインク滴との混じり合いを回避するようにしている。
（４）本実施形態によれば、親液性部材Ａは、酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）といった無機材料で構成されているので酸素プラズマ処理を施すことによって容易にその親液性を向上させることができる。従って、画素電極１０が、たとえばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）で構成されていたとしても、その上に形成される正孔輸送層１１や各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂのそれぞれの膜厚のバラツキを無くすことができる。（５）本実施形態によれば、親液性部材Ａは、その高さが５ｎｍ以下となるように形成したので、親液性部材Ａは島状の形態となる。この結果、画素電極１０上には親液性部材Ａが形成されない領域Ｗが形成されるので、この領域Ｗを介して正孔輸送層１１が直接画素電極１０の表面上に接して形成される。従って、画素電極１０に供給されたキャリアはその画素電極１０上に形成された正孔輸送層１１へ確実に注入される。
（第２実施形態）
次に、本発明を具体化した第２実施形態を図８〜図１０に従って説明する。この第２実施形態の有機ＥＬディスプレイは、親液性部材Ａの形成位置及びその製造方法が上記第１実施形態に記載の有機ＥＬディスプレイと異なっている。また、同じ構成部材については符号を等しくし、その詳細な説明を省略する。
【００６３】
図８（ａ）は、本実施形態のディスプレイ部ＤＳをその各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ、及び、陰極１４を透視した場合の平面図であり、図８（ｂ）は、図８（ａ）中のｃ−ｃ線での断面図である。
【００６４】
図３（ａ），（ｂ）に示すように、本実施形態の親液性部材Ａは、各画素形成領域２内の画素電極１０上にのみ形成され、画素形成領域２外の他の領域（たとえば、各画素電極１０間に位置する回路形成層Ｓｂ上の領域）には、親液性部材Ａは形成されていない。
【００６５】
従って、インクジェット法によって前記正孔輸送層１１を形成する際の、正孔輸送層１１を構成する正孔輸送層材料が溶解または分散した液滴状のインク滴を、画素電極１０上全面に均一に濡れ広がらせることができる。この結果、上記第１実施形態と同様に、各画素形成領域２内に形成される正孔輸送層１１及び各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの膜厚のバラツキが無い有機ＥＬディスプレイ１ａを実現することができる。
【００６６】
また、各画素電極１０間に位置する回路形成層Ｓｂ上の領域には、親液性部材Ａは形成されていないので、画素電極１０に供給されたキャリアが、隣接する画素電極１０に供給されることはない。従って、親液性部材Ａを構成する材料は絶縁性材料である必要はなく、導電性材料で構成されていてもよいので、その分、親液性部材Ａを構成する材料選択の範囲が広がる。
【００６７】
次に、前記のような構成を成した第２実施形態の有機ＥＬディスプレイ１ａの製造方法の一例を図９及び図１０に従って説明する。図９及び図１０は、それぞれ有機ＥＬディスプレイ１ａの製造方法を説明するための、第２実施形態のディスプレイ部ＤＳの要部断面図である。
【００６８】
まず、図９（ａ）に示すように、上記第１実施形態と同様にして、層間絶縁膜１５上の表示領域Ｒ（図２参照）であって、先に形成されたコンタクトホールＨと、その下側（反Ｚ矢印方向側）に薄膜トランジスタＴＦＴが形成されていない領域とを含む位置に略矩形状の画素電極１０を形成する。
【００６９】
次に、図９（ｂ）に示すように、前記画素電極１０が形成された領域を除く前記表示領域Ｒ上に画素形成領域２を区画形成するための、有機絶縁材料で構成された前記隔壁Ｂを形成する。即ち、各画素電極１０間の回路形成層Ｓｂ上に、感光性ポリイミド樹脂を塗布し、露光、現像により例えば２μｍの隔壁Ｂを形成する。このとき、隔壁Ｂを、その一部が画素電極１０の周囲に乗り上げるようにして形成する。このようにして、隔壁Ｂの横側壁Ｂｓ及び画素電極１０で構成される凹状の前記画素形成領域２が区画形成される。
【００７０】
続いて、図１０（ａ）に示すように、横側壁Ｂｓを含む隔壁Ｂの表面上にマスクＭを形成して、各画素形成領域２内の画素電極１０のみを露出させる。そして、この状態で露出された画素電極１０上に親液性部材Ａを形成する。親液性部材Ａが酸化珪素（ＳｉＯ２）や酸化チタン（ＴｉＯ２）といった無機材料で構成されている場合においては、上記第１実施形態と同様に、例えば化学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いて形成する。このとき、親液性部材Ａは画素電極１０上全面に渡ってその密度が均一になるように形成される。また、親液性部材Ａの図１０中Ｚ矢印方向への高さ（膜厚）が、例えば５ｎｍ以下となるよう
に形成することで画素電極１０上全面に島状の親液性部材Ａが点在するようにして形成される。また、この親液性部材Ａは、隔壁Ｂに接触しない。
【００７１】
その後、各画素形成領域２内の画素電極１０及び親液性部材Ａに酸素プラズマ処理を行い、続いて、前記基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上全面、即ち、隔壁Ｂ、画素電極１０及び親液性部材Ａの各表面上をプラズマ処理及び撥液化処理する。
【００７２】
次に、図１０（ｂ）に示すように、インクジェット方式によって前記区画形成された各画素形成領域２の前記画素電極１０上に正孔輸送層材料を溶媒に溶解または分散させたインク滴Ｉ１を第１のインクジェットヘッドから吐出させて、その画素電極１０上に配置する。このとき、各画素形成領域２内では、その画素電極１０上に親液性部材Ａが形成されているので、吐出されたインク滴Ｉ１が親液性部材Ａに引き寄せられる。このとき、親液性部材Ａは、画素形成領域２内の画素電極１０上全面に渡ってその密度が均一に形成されるので、画素電極１０上に配置されたインク滴Ｉ１は、画素電極１０上全面に均一に濡れ広がる。
【００７３】
一方、各画素形成領域２内では、横側壁Ｂｓを含む隔壁Ｂの全表面が撥液化処理されているので前記インク滴Ｉ１は、隔壁Ｂを介して隣接する他の画素形成領域２へ流れ込むことなく所定の画素形成領域２内に配置される。その後、乾燥させ溶媒を除去することで、画素電極１０上に正孔輸送層１１を形成する。画素電極１０上に配置されたインク滴Ｉ１は、画素電極１０上全面に均一に濡れ広がっているので、正孔輸送層１１の膜厚は均一になる。
【００７４】
その後は、上記第１実施形態と同様にして、正孔輸送層１１上にインクジェット法によって各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂを形成し、続いて、陰極１４及び封止部材ＦＢを形成する。
【００７５】
こうして、各画素形成領域２内に形成される正孔輸送層１１及び各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの膜厚のバラツキが無い有機ＥＬディスプレイ１ａを製造することができた。
【００７６】
尚、特許請求の範囲に記載の電気光学装置は、本実施形態においては、有機ＥＬディスプレイ１ａに対応している。
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、隔壁Ｂを形成した後に、同隔壁Ｂ上にマスクＭを形成して、画素電極１０上にのみ親液性部材Ａを形成した。従って、隔壁Ｂが親液性部材Ａに接触しないため、隔壁Ｂを構成する有機絶縁材料の残さによる各種インク滴Ｉ１，ＩＲ，ＩＢの濡れ不良を防止できる。
（２）本実施形態によれば、各画素電極１０間に位置する回路形成層Ｓｂ上の領域には、親液性部材Ａは形成されていないので、画素電極１０に供給されたキャリアが、隣接する画素電極１０に供給されることはない。従って、親液性部材Ａを構成する材料は絶縁性材料である必要はなく、導電性材料で構成されていてもよいので、その分、親液性部材Ａを構成する材料選択の範囲が広がる。
（第３実施形態）
次に、各第１及び第２実施形態で説明した有機ＥＬディスプレイ１，１ａの電子機器の適用について図１１に従って説明する。
【００７７】
図１１は、電子機器の一例たる携帯電話の表示部に適用した例を示す携帯電話の斜視構成図である。図１１において、この携帯電話６０は、有機ＥＬディスプレイ１，１ａを用いた表示ユニット６４と、複数の操作ボタン６１とを備えている。この場合でも、有機Ｅ
Ｌディスプレイ１，１ａを用いた表示ユニット６４は、出射される各色の光の輝度は、各画素形成領域２内で偏ることなく均一になることでその表示品位が向上する。
【００７８】
尚、発明の実施形態は、上記各実施形態に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。
○上記第１及び第２実施形態では、親液性部材Ａは、島状の形態を成していたが、そうではなく、親液性を有するものであれば、他の形態を成していてもよい。たとえば、図１２に示すように、格子状を成す形態であってもよい。この場合、各画素形成領域２内（赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ）内の画素電極１０上には、親液性部材Ａが形成されない領域Ｗが形成されるので、親液性部材Ａ上に形成される正孔輸送層１１が画素電極１０に直接接するので、画素電極１０に供給されたキャリアが正孔輸送層１１に確実に供給される。
【００７９】
○上記第１及び第２実施形態では、親液性部材Ａは、島状の形態を成していたが、そうではなく、その膜厚が薄い親液性を有する膜状の形態を成していてもよい。この場合、図１３に示すように、画素電極１０上全面に親液性部材Ａが形成されるが、その膜厚が、例えば、膜厚５ｎｍ以下であれば、画素電極１０と正孔輸送層１１とは実質的に電気的に接続されるので、画素電極１０に供給されたキャリアが正孔輸送層１１に注入可能となる。
【００８０】
○上記第１及び第２実施形態では、電気光学層１３は、正孔輸送層１１と赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂで構成されていたが、これに限定されるものではなく、例えば、正孔輸送層１１、及び、赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂに加えて、正孔注入層、電子輸送層または電子注入層で構成されていてもよい。
【００８１】
○上記各実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１，１ａに適応したが、これ限定されるものではなく、インクジェット方式を用いて製造されるディスプレイであればどのようなものに適応してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明のインクジェット法によって製造された有機ＥＬディスプレイの上面図である。
【図２】ディスプレイ部の断面図である。
【図３】（ａ）は、第１実施形態のディスプレイ部の平面図であり、（ｂ）は、その要部断面図である。
【図４】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ第１実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。
【図５】同じく、（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。
【図６】同じく、（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。
【図７】同じく、（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。
【図８】（ａ）は、第２実施形態のディスプレイ部の平面図であり、（ｂ）は、その要部断面図である。
【図９】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ第２実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。
【図１０】（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ第２実施形態の有機ＥＬディスプレイの製造方法の一例を説明するための図である。
【図１１】電子機器の一例たる携帯電話の表示部に適用した例を示す携帯電話の斜視構成図である。
【図１２】別例の有機ＥＬディスプレイのディスプレイ部の平面図である。
【図１３】同じく、別例の有機ＥＬディスプレイのディスプレイ部の平面図である。
【符号の説明】
【００８３】
Ａ…親液性部材、Ｂ…隔壁、Ｒ…表示領域、Ｓ…基板、１，１ａ…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、１０…画素電極、１３…電気光学層、６０…電子機器としての携帯電話。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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