(57)【要約】【課題】  露光装置の投影光学系とウエハの間の空間の露光光路内を安定してパージし、且つレーザ干渉計発生する測長誤差を低減する。【解決手段】  投影光学系５のウエハ１１側下端部からウエハステージ１０近傍に向かって露光光路を囲うカバー９を設け、そのカバー内部に少なくともパージガスを吹き出す供給口６を設けて前記カバー内部にパージガスを供給し、さらに前記カバー下端部にパージガスおよび／またはパージガスよりも不純物濃度が高いガスおよび／または大気を吸い込む回収口１３を設ける。【選択図】      図１
2005150533.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版のパターンを投影光学系を介して基板ステージに載置された感光基板に照射する露光装置において、
前記投影光学系の感光基板側下端部から前記基板ステージ近傍に向かって露光光路および露光エリアを囲うカバーと、
該カバー内部に設けられ該カバー内部にパージガスを吹き出す第１供給口と、
該カバーの下端部に設けられ該カバー下端部近傍のガスを吸い込む第１回収口と
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１回収口は、前記露光エリアの外周を囲むように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１回収口からのガス回収流量は、前記第１供給口からのパージガス供給流量よりも多いことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
請求項２に記載の露光装置であって、前記第１回収口の外側に、前記露光エリアの外周を囲むように第２回収口をさらに備えることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
前記第１回収口からのガス回収流量は、前記第１供給口からのパージガス供給量よりも少なく、且つ前記第１回収口および前記第２回収口からのガス回収流量の総量は、前記第１供給口からのパージガス供給量よりも多いことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
互いに垂直なＸおよびＹ方向に駆動可能な前記基板ステージと、該基板ステージのＸおよびＹ方向の位置を計測するレーザ干渉計とを有し、前記Ｘ方向測長用ミラーとＹ方向測長用ミラーを、それぞれの反射面が前記レーザ干渉計のＸ方向の測長光路およびＹ方向の測長光路それぞれと垂直になるように、前記基板ステージ上に設けた露光装置であって、前記露光エリアの外周のうち前記Ｘ方向測長用ミラーおよび前記Ｙ方向測長用ミラーに近い側とこれらの測長用ミラーとの間にのみ前記第１回収口が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項７】
前記Ｘ方向測長用ミラーの反射面または前記Ｙ方向測長用ミラーの反射面と対向する位置に、気体を吹き込む温調手段をさらに備えることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記温調手段より吹き込まれる気体は、前記パージガスよりも不純物濃度の高い不活性ガスまたは大気であることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記カバー内部において、前記第１供給口と対向する位置にパージガスを吸い込む第３回収口を有し、前記カバー内部でパージガスを一方向に流すことを特徴とする請求項１、２、４および６〜８のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第１回収口よりも内側で、少なくとも前記第１供給口付近のカバー下端部に第２供給口を備えることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項２の露光装置であって、前記カバー内部で第１供給口と対向する位置にパージガスを吸い込む第３回収口を有し、前記カバー内部でパージガスを一方向に流し、前記第３回収口からの回収流量は、前記第１供給口からの供給流量よりも少なく、且つ前記第１回収口および前記第３回収口からの回収流量の総量が、前記第１供給口からの供給流量よりも多いことを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項２の露光装置であって、前記カバー内部で第１供給口と対向する位置にパージガスを吸い込む第３回収口を有し、前記カバー内部でパージガスを一方向に流し、前記第１回収口よりも内側で、前記第１供給口付近のカバー下端部に第２供給口を有し、前記第３回収口からの回収流量は、前記第１供給口および前記第２供給口からの供給流量の総量よりも少なく、且つ前記第１回収口および前記第３回収口からの回収流量の総量が、前記第１供給口および前記第２供給口からの供給流量の総量よりも多いことを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
前記カバー内部、前記カバー外部および前記第１回収口付近の少なくとも１箇所の気圧を計測する手段と、計測された気圧に基づいて前記パージガス供給量およびガス回収量を制御する手段とを有することを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１つに記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第１回収口あるいは前記第３回収口からパージガスおよび／または大気を回収する手段が、スクロールタイプの真空ポンプあるいは真空エジェクタであることを特徴とする実施態様１乃至１３のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第１回収口あるいは前記第３回収口とパージガスおよび／または大気を回収する手段の配管の途中にタンクを設けることを特徴とする実施態様１乃至１４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１つに記載の露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置、特に露光光として紫外光を用いる露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＬＳＩあるいは超ＬＳＩなどの極微細パターンから形成される半導体素子の製造工程において、マスクに描かれた回路パターンを感光剤が塗布された基板上に縮小投影して焼き付け形成する縮小型投影露光装置が使用されている。半導体素子の実装密度の向上に伴いパターンのより一層の微細化が要求され、レジストプロセスの発展と同時に露光装置の微細化への対応がなされてきた。
【０００３】
遠紫外線とりわけ１９３ｎｍ付近の発振波長を有するＡｒＦエキシマレーザや、１５７ｎｍ付近の発振波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザにおいては、これらの発振波長付近の帯域に酸素（Ｏ２）や水分（Ｈ２Ｏ）の吸収帯が存在することが知られている。従って、ＡｒＦエキシマレーザやフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ等の遠紫外線を光源とする投影露光装置の露光光学系の光路においては、窒素等の不活性ガスによるパージ手法によって、光路中に存在する酸素、水分濃度（以下、不純物濃度と称す）をｐｐｍオーダー以下のレベルに抑える必要がある。
【０００４】
このため、露光装置内の露光光路は、不活性ガスを用いて部分的にパージが行われている。部分的にウエハ近傍のパージを行う手段が設けられた従来の露光装置の断面図を図１６〜図１８に示す。
図１６は特許文献１に開示された露光装置のウエハ近傍の断面構成を示す。この装置では、投影光学系５のウエハ側下端部からウエハステージ１０近傍に向かって露光光路を囲うカバー９を設け、カバー９の内部に不活性ガスよりなるパージガスが吹き出す供給口６を設け、パージガスをカバー９内部に供給してパージが行われている。ここで、カバー９外部からカバー９内部へ大気が侵入するのを防ぐため、カバー９内部の圧力を外部の圧力よりも高くし、供給口６よりカバー９内部に供給されたパージガスを、カバー９とウエハ１１の間の隙間よりカバー９外部に流出させている。図１６において、８はパージガスの流れ、２７は投影光学系定盤、２８はウエハステージ定盤である。
【０００５】
図１７は特許文献２に開示された露光装置である。この装置において、ステージ部材２０３は、ステージ部材２０３のウエハ支持表面２１３を包囲して形成されるガスベアリング２１５を含んでいる。ガスベアリング２１５は、ステージ部材２０３に規定されるランド２１６、２１７、２１８、２１９を含み、供給チャンネル２２０はランド２１６と２１７の間に、供給チャンネル２２２は２１８と２１９の間にそれぞれ規定され、不活性ガスが供給される。また排出チャンネル２２１はランド２１７、２１８の間に規定され、ガスを排出している。このガスベアリング２１５により生じる吸引は、ステージ部材２０３を参照部材２０２に対して負荷をかけるまたは付勢するために充分であり、それによりステージ部材２０３は参照部材２０２に実際には接触することなく参照部材２０２に引っ付く傾向がある。したがって、ステージ部材２０３と参照部材２０２との間の近接するが間隔を空けた配置を可能にしている。この間隔によって、ランドの上の流れが比較的高速となり得、周囲の空気がチャンバ２０４に入ることを防止し、チャンバ２０４内で基板Ｗをシールしている。
【０００６】
また、図１８は特許文献３に開示された露光装置であり、投影レンズＰＬの最終要素の下に位置した中央領域５０１を取り囲むカバー５１０、５２０からなる基板ステージの洗浄箱５００の水平断面図を示している。図１８の露光装置では、供給チャンネル５１１、５２３の底面にオリフィス５１７、５２７が設けられ、該オリフィスを介してパージガスが供給され、図１７の露光装置と同様に、カバー５１０、５２０を基板Ｗから分割保護するためのガスベアリング５１８、５２８を形成している。また、供給チャンネル５１１、５２３の外側には排出チャンネル５１２、５２４が設けられ、それらの下面において一連のより大寸法のオリフィス５１９、５２９を有していて、ガスベアリング５１８、５２８からのパージガスを排出し、カバー５１０、５２０の下に漏洩した大気が中央領域５０１へ到達するのを防いでいる。５２１はパージガス供給チャンネル、５１６は供給チャンネル５２１から中央領域５０１へパージガスを供給するためのオリフィス、５４０はカバー５１０、５２０の下から中央領域５０１へ漏洩する空気の流れを制限するためのスカート部である。
【０００７】
図１７および図１８はともに、ガスベアリングを形成してパージを行う手段の例であるが、図１７の露光装置では、ステージ側にチャンネルを設けてガスベアリングを形成しているのに対し、図１８の露光装置では、投影レンズ側にチャンネルを設けてガスベアリングを形成している。
【０００８】
ところで、露光装置の微細化への対応に伴い、ウエハを搭載して位置決めを行うＸＹ位置決め装置にも、１０ｎｍ以下の精度が要求されている。そのため、その位置計測にはレーザ干渉計が用いられている。レーザ干渉計による測長では、その測長光路上の気体の密度変動（屈折率変動）が誤差要因となる。気体の密度は温度、湿度によって変わり、その変動を低減するため、従来この種のＸＹ位置決め装置は空調手段を備え、側面（ＸもしくはＹ方向）から温度、湿度が制御された気体を流すことにより、測長光路上の気体の温度、湿度の変動の低減が図られている。
【０００９】
図１９に図１６の露光装置等で用いられるＸＹ位置決め装置の従来例の平面図を示す。図１９において、１０はウエハステージ、１１はウエハ、１４はＸ方向レーザ干渉計、１５はＸ方向測長光路、１６はＸ方向測長用ミラー、１７はＹ方向レーザ干渉計、１８はＹ方向測長光路、１９はＹ方向測長用ミラー、２０は空調装置、２１は吹き出し気体である。上記の構成において、空調装置２０によって温度、湿度が制御された吹き出し気体２１が吹き出され、ウエハステージ周辺やＸ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１６の温度と湿度の安定化が図られている。
【特許文献１】特開２００１−３５８０５６号公報
【特許文献２】特表２００２−５１３８５６号公報
【特許文献３】特開２００１−２１０５８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上記の通り、遠紫外線を利用した露光装置においては、投影光学系のウエハ側下端部にカバーを設け、前記カバー内部にパージガスを吹き出す供給口を設け、パージガスを前記カバー内部に供給してパージを行っている（図１６）。しかし、前記カバー内部に供給されたパージガスは、前記カバー内部から外部へと流出し、ウエハステージ周辺に拡散するため、ウエハステージ周辺でパージガスの濃度ムラが生じ、レーザ干渉計に測長誤差が生じることが本発明者によって明らかとなった。このため、作製した半導体素子に欠陥品が多くなり、装置の生産性を悪化させる原因となっていた。
【００１１】
ここで図２０および図２１を用いて、前記カバー内部から外部へとパージガスが流出することによって発生するウエハステージ周辺の濃度ムラについて説明する。図２０および図２１はウエハステージ１０近傍の平面図であり、パージガスがカバー９内部から外部へ流出した場合におけるパージガスの濃度分布の等高線模式図を表している。図２０および図２１の等高線模式図では、色が濃い部分ほどパージガスの濃度が高く、薄い部分ほどパージガスの濃度が低いことを示し、また白色はパージガスが存在しないことを示す。
【００１２】
図２０は空調装置を設けなかった場合におけるパージガスの濃度分布を表している。まず図２０を用いて空調装置を設けなかった場合について説明する。図２０（ａ）は、露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７に最も近づいた場合におけるパージガスの濃度分布を、図２０（ｂ）は、露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７から最も離れた場合におけるパージガスの濃度分布をそれぞれ表している。
【００１３】
ウエハステージ１０がレーザ干渉計１４、１７に最も近づいた場合と最も離れた場合とでは、Ｘ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内のパージガスの濃度分布が異なり、ウエハステージ１０の位置によって、Ｘ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内でパージガスの濃度ムラに差異が生じていることがわかる。
【００１４】
大気の屈折率とパージガスの屈折率は異なるため、ウエハステージ１０の位置によってＸ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内でパージガスの濃度ムラが生じるということは、ウエハステージ１０の位置によってＸ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内の気体の屈折率が変動するということである。そのためレーザ干渉計に測長誤差が生じ、作製した半導体素子に欠陥品が多くなり、装置の生産性を悪化させる原因となっていた。
【００１５】
また、図２１はＹ方向測長用ミラーの反射面１９ａと対向する位置に気体を吹き込む空調装置２０を備え、空調装置２０より空調された気体が吹き出された場合の、パージガスの濃度分布の等高線模式図を表している。図２１（ａ）は、露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７に最も近づいた場合におけるパージガスの濃度分布の等高線模式図を、図２１（ｂ）は、露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７から最も離れた場合におけるパージガスの濃度分布の等高線模式図をそれぞれ表している。
【００１６】
空調装置２０を設けると、カバー９から流出したパージガスが吹き出し気体２１の流れに沿って風下へ追いやられる。そのため、ウエハステージ１０がレーザ干渉計１４、１７に最も近づいた場合（図２１（ａ））は、Ｙ方向測長用光路１８内にはパージガスが流出せず、したがってパージガスの濃度ムラは生じていない。しかし、Ｘ方向測長光路１５内にはパージガスの濃度ムラが生じていることがわかる。またウエハステージ１０がレーザ干渉計１４、１７から最も離れた場合（図２１（ｂ））は、Ｘ方向測長用光路１５とＹ方向測長用光路１８内にパージガスの濃度ムラが生じていることがわかる。したがって、空調装置２０を設けた場合でも、ウエハステージ１０がレーザ干渉計１４、１７に最も近づいた場合と最も離れた場合とでは、Ｘ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内で、パージガスの濃度ムラに差異が生じることがわかる。
【００１７】
したがって空調装置２０を設けた場合でも、ウエハステージ１０の位置によってＸ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内の気体の屈折率が変動することとなり、レーザ干渉計に測長誤差が生じ、作製した半導体素子に欠陥品が多くなり、装置の生産性を悪化させる原因となっていた。
【００１８】
上記のような測長誤差を低減するためには、Ｘ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内で発生するパージガスの濃度ムラを小さくすることが必要であり、そのためにはカバー９内部から外部へパージガスが流出することを防ぐか、あるいはカバー９内部から外部へ流出するパージガスの流量を減らすことが必要である。図２０、図２１ではカバー９が矩形形状の場合を例に説明したが、円筒形形状等においても同様のことが言える。
【００１９】
また従来の技術でも述べたが、図１７はガスベアリング２１５を形成してパージを行う手段の例である。図１７のように、ステージ部材２０３および参照部材２０２の近接するが間隔を空けた配置を可能にし、チャンバ２０４内で基板Ｗをシールするためには、基板Ｗを取り囲むようにガスベアリング２１５を形成する必要があり、非常に構造が複雑になっていた。そのためステージ部材２０３の製作には高い加工精度が要求され、装置製作の難易度が高くなり、コストが割高になるという欠点があった。
【００２０】
また図１８の露光装置も図１７と同様に、ガスベアリング５１８、５２８を形成してパージを行う手段の例である。図１８の手段は、供給チャンネル５１１、５２３底面に設けられたオリフィス５１７、５２７を介してパージガスが供給されてガスベアリング５１８、５２８を形成し、供給チャンネル５１１、５２３の外側に設けられた排出チャンネル５１２、５２４下面のオリフィス５１９、５２９より、ガスベアリング５１８、５２８からのパージガスを排出し、カバー５１０、５２０の下に漏洩した大気が中央領域５０１へ到達するのを防ぐという手段である。この発明はカバー５１０、５２０を基板Ｗから分割保護するためのガスベアリング５１８、５２８を形成し、カバー５１０、５２０外部から中央領域５０１へ空気が到達するのを防ぐことを目的とした発明であり、カバー５１０、５２０内部から外部へ流出するパージガスについては何ら考慮されていない。また図１８の手段では、カバー９内部をパージするためには、ほぼ中央領域５０１を取り囲むように供給チャンネル５１１、５２３を設け、さらに、その外側に排出チャンネル５１２、５２４を設ける必要があり、図１７の露光装置同様、非常に構造が複雑になっていた。そのため、供給チャンネル５１１、５２３や排出チャンネル５１２、５２４の製作には、高い加工精度が要求され、装置製作の難易度が高くなり、コストが割高になるという欠点があった。
【００２１】
そこで、より簡単な構成で、前記カバー内部から外部へパージガスが流出することを防ぐことができるパージ手段、あるいは前記カバー内部から外部へ流出するパージガスの流量を減らすことができるパージ手段の開発が望まれている。
【００２２】
また、従来の技術で述べたように、前記カバー内部は不純物濃度をｐｐｍオーダー以下のレベルに抑えることが必要であり、前記カバー内部のパージを行う最も簡単な構成は、図１６に示されているように、カバー９内部にパージガス供給口を設けてパージガスを供給し、パージガスをカバー９内部から外部へ流出させ、カバー９内部の圧力を、カバー９外部の圧力よりも高くすることである。カバー９内部から外部へ流出するパージガスの流量が多ければ多いほど、カバー９内部の圧力は高くなり、より安定してカバー９内部をパージすることができる。
【００２３】
しかし、カバー９内部から外部へ流出するパージガスの流量が多くなると、Ｘ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内で発生するパージガスの濃度ムラが大きくなり、測長誤差が大きくなる。測長誤差を低減させるためには、カバー９内部から外部へパージガスが流出することを防ぐか、あるいはカバー９内部から外部へ流出するパージガスの流量を減らす必要がある。カバー９内部をパージすることと、測長誤差を低減させることは互いに相反することであり、これら２つ（カバー９内部をパージすること、測長誤差を低減させること）を同時に満たすことは容易なことではない。
【００２４】
本発明は上述の問題点に鑑みてなされたもので、マスク等の原版のパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、前記投影光学系の感光基板側下端部から基板ステージ近傍に向かって露光光路を囲うカバーを設け、前記カバー内部をパージすることができ、且つ前記カバー内部から外部へパージガスが流出することを防ぐことができる装置、あるいは前記カバー内部をパージすることができ、且つ前記カバー内部から外部へ流出するパージガスの流量を減らすことができる装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
上記の目的を達成するために、本発明では、原版のパターンを投影光学系を介して基板ステージに載置された感光基板に照射する露光装置において、前記投影光学系の感光基板側下端部から前記基板ステージ近傍に向かって露光光路および露光エリアを囲うカバーと、該カバー内部に設けられ該カバー内部にパージガスを吹き出す供給口と、該カバーの下端部に設けられ該カバー下端部の近傍のガスを吸い込む回収口とを備えることを特徴とする。
ここで、パージガスは、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスである。また、回収口から吸い込まれるガスは、パージガス、供給口から供給されるパージガスよりも不純物（水，酸素等）濃度の高いパージガス、もしくはカバーの外気（例えば大気）等、またはこれらの２種以上の混合ガスである。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、紫外線とりわけＡｒＦエキシマレーザ光やフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光を用いた露光装置において、極めて簡単な構成で、感光基板近傍の露光光路内を外部の影響を受けずに安定してパージすることができ、さらに基板ステージ周辺で発生するパージガスの濃度ムラを低減することが可能となる。これにより、露光装置の製作コストを抑えることができ、且つＡｒＦエキシマレーザ光や、フッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光の十分な透過率とその均一性とその安定性を得ることができ、さらに基板ステージの位置決めを高精度に行うことができ、したがって投影露光を高精度に行うことが可能になり、微細な回路パターンを良好に投影することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の好ましい実施の態様を列挙する。
[実施態様１]
マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、前記投影光学系のウエハ側下端部からウエハステージ近傍に向かって露光光路を囲うカバーを設け、前記カバー内部に少なくともパージガスを吹き出す第１供給口を設け、さらに前記カバー下端部にパージガスおよび／または前記パージガスよりも不純物濃度が高いパージガスおよび／または大気を吸い込む第１回収口を設けることを特徴とする露光装置。
【００２８】
前記カバー内部に第１供給口を設け、前記カバー内部にパージガスを供給することで、前記カバー内部から前記カバー外部へと向かうパージガスの流れが生じ、前記カバー内部の圧力は前記カバー外部の圧力よりも高くなり、前記カバー内部をパージすることができる。また、前記カバー下端部に第１回収口を設けることで、前記第１回収口からパージガスが回収され、前記カバー内部から外部へ流出するパージガスの流量を減らすことができる。したがって、ウエハステージ周辺で発生するパージガスの濃度ムラを小さくすることができ、レーザ干渉計の測長誤差を低減することができる。
【００２９】
上記構成では、前記カバー内部に第１供給口を１つ設けることで、前記カバー内部をパージすることができ、前記カバー下端部には、第１回収口のみを設けることでレーザ干渉計の測長誤差を低減することができる。上記構成をとる露光装置では、前記第１供給口および前記第１回収口を設ける位置は制限されず、前記カバー内部に前記第１供給口を、前記カバー下端部に前記第１回収口を設けるという極めて簡単な構成で、前記カバー内部をパージし、且つレーザ干渉計の測長誤差を低減することができる。
【００３０】
さらに上記構成では、前記カバー内部より前記カバー外部へと向かうパージガスの流れが生じ、前記カバー内部の圧力は前記カバー外部の圧力よりも高くなっているため、前記カバーとウエハの間隔あるいは前記カバーとウエハステージの間隔は非常に小さくする必要はなく、前記カバーとウエハあるいは前記カバーとウエハステージが干渉することがないように、十分に広い間隔に設定することができる。したがって上記構成では、図１７、図１８の露光装置で構成されているようなガスベアリングを設けずに、前記カバーとウエハあるいは前記カバーとウエハステージが干渉することを防ぐことができ、装置製作のコストを低く抑えることができる。
【００３１】
[実施態様２]
互いに垂直なＸおよびＹ方向に駆動可能なウエハステージと、ＸおよびＹ方向の位置を計測するレーザ干渉計を有し、Ｘ方向測長用ミラーとＹ方向測長用ミラーを、それぞれの反射面が前記レーザ干渉計のＸ方向の測長光路とＹ方向の測長光路それぞれと垂直になるように、前記ウエハステージ上に設け、前記Ｘ方向測長用ミラーと前記Ｙ方向測長用ミラー付近のカバー下端部に、前記第１回収口を設けることを特徴とする実施態様１に記載の露光装置。
【００３２】
ここで図９および図２０を用いて、Ｘ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部に第１回収口１３を設けた場合の効果を説明する。図９はＸ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部に第１回収口１３を設けた場合におけるウエハステージ１０近傍の平面図であり、パージガスの濃度分布の等高線模式図を表している。図９の等高線模式図では、色が濃い部分ほどパージガスの濃度が高く、薄い部分ほどパージガスの濃度が低いことを示す。
【００３３】
図９（ａ）は露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７に最も近づいた場合におけるパージガスの濃度分布の等高線模式図を、図９（ｂ）は、露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７から最も離れた場合におけるパージガスの濃度分布の等高線模式図をそれぞれ表している。図９と従来例である図２０とを比較すると、本実施態様では、Ｘ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部に回収口１３を設けることで、ウエハステージ１０が干渉計１４、１７に最も近づいた場合（図９（ａ）、図２０（ａ））および最も離れた場合（図９（ｂ）、図２０（ｂ））双方において、Ｘ方向測長光路１５とＹ方向測長光路１８内に流出するパージガスの流量が減少し、Ｘ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内のパージガスの濃度ムラが小さくなっていることがわかる。
【００３４】
Ｘ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部に、第１回収口１３を設けることで、Ｘ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内に流出するパージガスの流量を減らすことができる。したがって、Ｘ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内に発生するパージガスの濃度ムラを小さくすることができ、レーザ干渉計の測長誤差を効果的に低減することができる。
【００３５】
したがって、カバー９内部に前記第１供給口１３を設け、Ｘ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部に第１回収口１３を設けるという極めて簡単な構成で、カバー９内部をパージすることができ、さらにレーザ干渉計の測長誤差を低減することができる。
【００３６】
[実施態様３]
前記Ｘ方向測長用ミラーの反射面または前記Ｙ方向測長用ミラーの反射面と対向する位置に、気体を吹き込む温調手段を備えることを特徴とする実施態様２に記載の露光装置。
[実施態様４]
前記温調手段より吹き込まれる気体は、大気あるいは前記パージガスよりも不純物濃度の高い不活性ガスからなることを特徴とする実施態様３に記載の露光装置。
【００３７】
ここで図１１を用いて、ミラーの反射面と対向する位置に気体を吹き込む温調手段を備えることの効果を説明する。図１１はＸ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部に第１回収口１３を設け、さらにＹ方向測長用ミラー１９の反射面１９ａと対向する位置に気体を吹き込む空調装置２０を設け、空調装置２０より吹き出し気体２１をウエハステージ１０周辺に向かって吹き出した場合における、カバー９内部およびカバー９周辺のパージガスの濃度分布の等高線模式図を表している。図１１の等高線模式図では、色が濃い部分ほどパージガスの濃度が高く、薄い部分ほどパージガスの濃度が低いことを示し、さらに白色はパージガスが存在しないことを示す。
【００３８】
図１１（ａ）は露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７に最も近づいた場合におけるパージガスの濃度分布の等高線模式図を、図１１（ｂ）は、露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７から最も離れた場合におけるパージガスの濃度分布の等高線模式図をそれぞれ示している。図１１より、ウエハステージ１０が干渉計１４、１７に最も近づいた場合（図１１（ａ））および最も離れた場合（図１１（ｂ））双方において、Ｘ方向測長光路１５とＹ方向測長光路１８内でパージガスはほとんど存在せず、したがってパージガスの濃度分布も生じていないことがわかる。
【００３９】
このように、Ｘ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部に第１回収口１３を設け、さらにＹ方向測長用ミラー１９の反射面１９ａと対向する位置に気体を吹き込む空調装置２０を設け、空調装置２０より吹き出し気体２１をウエハステージ周辺に向かって吹き出した場合は、ウエハステージの位置にかかわらず、Ｘ方向測長光路１５とＹ方向測長光路１８内にパージガスの濃度ムラが発生することを防ぐことができる。したがって、レーザ干渉計に測長誤差が生じることを防ぐことができる。
【００４０】
図１１では、Ｙ方向測長用ミラー１９の反射面１９ａと対向する位置に空調装置２０を設けた場合について示したが、空調装置２０は、Ｘ方向測長用ミラー１６の反射面１６ａと対向する位置に設けても良い。それによって同様の効果を得ることができる。
【００４１】
本実施態様によれば、上記実施態様２の構成に、Ｘ方向測長用ミラー１６の反射面１６ａまたはＹ方向測長用ミラー１９の反射面１９ａと対向する位置に空調装置２０を設けるという極めて簡単な構成で、カバー９内部をパージすることができ、さらにはレーザ干渉計に測長誤差が生じることを防ぐことができる。
【００４２】
[実施態様５]
前記第１回収口は、露光エリアの外周を囲むように設けることを特徴とする実施態様１に記載の露光装置。
[実施態様６]
前記第１回収口からの回収流量は、前記第１供給口からの供給流量よりも多いことを特徴とする実施態様５に記載の露光装置。
[実施態様７]
実施態様５に記載の露光装置であって、前記第１回収口の外側に、露光エリアの外周を囲むように第２回収口を設けることを特徴とする露光装置。
[実施態様８]
前記第１回収口からの回収流量は、前記第１供給口からの供給量よりも少なく、且つ前記第１回収口および前記第２回収口からの回収流量の総量が、前記第１供給口からの供給量よりも多いことを特徴とする実施態様７に記載の露光装置。
【００４３】
[実施態様９]
前記カバー内部において、前記第１供給口と対向する位置にパージガスを吸い込む第３回収口を設け、前記カバー内部でパージガスを一方向に流すことを特徴とする実施態様１〜５および７のいずれかに記載の露光装置。
[実施態様１０]
実施態様５の露光装置であって、前記カバー内部で第１供給口と対向する位置にパージガスを吸い込む第３回収口を設けて前記カバー内部でパージガスを一方向に流し、前記第３回収口からの回収流量は、前記第１供給口からの供給流量よりも少なく、且つ前記第１回収口および前記第３回収口からの回収流量の総量が、前記第１供給口からの供給流量よりも多いことを特徴とする露光装置。
【００４４】
[実施態様１１]
前記カバー内部において、前記第１供給口と対向する位置にパージガスを吸い込む第３回収口を設けて前記カバー内部でパージガスを一方向に流し、前記第１回収口よりも内側で、少なくとも前記第１供給口付近のカバー下端部に第２供給口を設けることを特徴とする実施態様１〜５および７のいずれかに記載の露光装置。
［実施態様１２］
実施態様５の露光装置であって、前記カバー内部で第１供給口と対向する位置にパージガスを吸い込む第３回収口を設けて前記カバー内部でパージガスを一方向に流し、前記第１回収口よりも内側で、少なくとも前記第１供給口付近のカバー下端部に第２供給口を設け、前記第３回収口からの回収流量は、前記第１供給口および前記第２供給口からの供給流量の総量よりも少なく、且つ前記第１回収口および前記第３回収口からの回収流量の総量が、前記第１供給口および前記第２供給口からの供給流量の総量よりも多いことを特徴とする露光装置。
【００４５】
［実施態様１３］
前記第１回収口あるいは前記第３回収口からパージガスおよび／または大気を回収する手段が、スクロールタイプの真空ポンプあるいは真空エジェクタであることを特徴とする実施態様１乃至１２のいずれかに記載の露光装置。
［実施態様１４］
前記第１回収口あるいは前記第３回収口とパージガスおよび／または大気を回収する手段の配管の途中にタンクを設けることを特徴とする実施態様１乃至１３のいずれかに記載の露光装置。
【００４６】
［実施態様１５］
前記カバー内部に前記カバー内部の圧力を測定する第１圧力センサを１つ以上設け、および／または前記カバー外部に前記カバー外部の圧力を測定する第２圧力センサを１つ以上設け、および／または前記第１回収口付近のカバー下端部に前記第１回収口付近の圧力を測定する第３圧力センサを１つ以上設け、前記第１圧力センサおよび／または第２圧力センサおよび／または第３圧力センサの測定結果に基づいて、前記カバー内部の圧力が前記カバー外部の圧力よりも高くなるように、および／または前記カバー内部の圧力が前記第１回収口付近の圧力よりも高くなるように、前記第１供給口からの供給流量および／または前記第１回収口からの回収流量および／または前記第２供給口からの供給流量および／または前記第３回収口からの回収流量および／または前記第３回収口からの回収流量を制御することを特徴とする実施態様１乃至１４のいずれかに記載の露光装置。
【実施例】
【００４７】
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
［実施例１］
図１は、本発明の一実施例に係るステップ・アンド・スキャン型の投影露光装置の要部の構成を示す。図１において、不図示の紫外光源から露光装置内の照明系１に導かれた紫外光はレチクルステージ４上に載置されたレチクル３を照射する。照射されたレチクル３上のパターンは、投影光学系５によって、ウエハステージ１０上に載置されたウエハ１１上に塗布された感光剤上に縮小結像し、転写される。
【００４８】
投影光学系５のウエハ側下端部からウエハステージ１０近傍に向かって紫外光光路を囲うカバー９を設け、カバー９内部にはパージガスを吹き出す一対の第１供給口６を互いに対向して設け、さらに、カバー９の下端部にはパージガスおよび／または大気を吸い込む第１回収口１３が、露光エリアの外周を囲むように設けられている。ここで、パージガスとしては、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスが用いられる。なお第１回収口１３の回収流量によっては、カバー９外部の大気が第１回収口１３より回収される場合もあるため、第１回収口１３ではパージガスおよび／または大気を吸い込むと表現した。以下簡単のため、第１回収口１３からはパージガスが回収されると表現するが、このパージガスには第１供給口６より供給されるパージガスおよび／またはカバー９外部の大気が含まれるものとする。
【００４９】
図１の構成において、パージガスはパージガス供給装置３０から配管６０を通して第１供給口６よりカバー９内部へ供給される。またパージガス供給装置３０と第１供給口６の間には流量制御装置４０が設けられ、不図示の主制御系からの制御情報に応じた流量で、第１供給口６よりカバー９内部へパージガスが供給される。第１回収口１３には配管６３を介して、パージガスを回収するための真空ポンプ３３が設けられ、第１回収口１３と真空ポンプ３３の間には流量制御装置４３が設けられ、主制御系からの制御情報に応じた流量で、第１回収口１３よりパージガスを回収する。ここで、流量制御装置４０および流量制御装置４３は、主制御系からの制御情報に基づいて、それぞれバルブ５０およびバルブ５３が所定のタイミングで開閉するようになっている。
【００５０】
また図１において、１７はＹ方向の位置計測をするＹ方向レーザ干渉計、１８はＹ方向測長光路、１９はウエハステージ１０に固設されたＹ方向測長用ミラーである。図１では図示していないが、Ｘ方向にも同様に、図１９に示すような、Ｘ方向の位置計測をするＸ方向レーザ干渉計１４、Ｘ方向測長光路１５、ウエハステージ１０に固設されたＸ方向測長用ミラー１６が設けられている。図１において、２はシートガラス、８はパージガスの流れ、２７は投影光学系定盤、２８はウエハステージ定盤である。
【００５１】
図１の露光装置において、不図示のレーザ干渉計光源から発せられた光がＹ方向レーザ干渉計１７に導入される。そして、Ｙ方向レーザ干渉計１７に導入された光は、Ｙ方向レーザ干渉計１７内のビームスプリッタ（不図示）によってＹ方向レーザ干渉計１７内の固定鏡（不図示）に向かう光とＹ方向測長用ミラー１９に向かう光とに分けられる。Ｙ方向測長用ミラー１９に向かう光は、Ｙ方向測長光路１８を通ってウエハステージ１０に固設されたＹ方向測長用ミラー１９に入射し、その反射面１９ａで反射する。ここで反射された光は再びＹ方向測長光路１８を通ってＹ方向レーザ干渉計１７内のビームスプリッタに戻り、固定鏡で反射された光と重ね合わされる。このときの光の干渉の変化を検出することによりＹ方向の移動距離を測定する。Ｘ方向の移動距離の測定もＹ方向と同様にして行われる。このようにして計測された移動距離情報は、不図示のＸＹ駆動装置にフィードバックされ、ウエハステージ１０の位置決め制御が行われる。
【００５２】
図１の露光装置において、カバー９内部のパージを行う場合、まず不図示の主制御系から流量制御装置４０に制御情報が伝達されてバルブ５０が開き、所定の流量でパージガスが第１供給口６よりカバー９内部へ供給される。その後、流量制御装置４３に制御情報が伝達されてバルブ５３が開き、所定の流量でパージガスが第１回収口１３より回収される。
【００５３】
この時、露光時においてカバー９内部の不純物濃度が所望の値以下になるように、すなわちカバー９内部をパージできるように、パージガスが所定の流量で第１供給口６からカバー９内部に供給される。カバー９内部をパージするために必要なパージガスの流量は、カバー９の形状やカバー９とウエハ１１の隙間の間隔によって異なるが、例えば、カバー９が矩形形状で、カバー９とウエハ１１の隙間の間隔が１．５ｍｍのときは、第１供給口より１ｓｌｍ（standard Litter/min）以上の流量でパージガスを供給すれば、カバー９内部をパージすることができる。このようなカバー９内部をパージするために必要な流量は、事前に、第１回収口１３よりパージガスを回収していない状態で、第１供給口からの供給流量を変化させて、カバー９内部の不純物濃度を測定し、所望の不純物濃度以下に達した場合の流量を求めればよい。あるいはシミュレーション計算で求めても良い。
【００５４】
ここで、露光エリアの外周を囲むように第１回収口１３を設けた図１の露光装置において、カバー９内部の圧力とカバー９外部の圧力およびウエハステージ１０近傍のパージガスの濃度分布について説明する。
【００５５】
まず、図２および図３を用いて、第１供給口６より供給されるパージガスの流量が第１回収口１３より回収されるパージガスの流量よりも多くなるように流量を制御した場合について説明する。図２（ａ）は、カバー９内部中央断面での流れの模式図を表している。図２（ｂ）は図２（ａ）と同じ場所での圧力分布の等圧線模式図を表している。図２（ｂ）の等圧線模式図では色が濃い部分ほど圧力が高く、薄い部分ほど圧力が低いことを示す。第１供給口６より供給されるパージガスの流量が第１回収口１３より回収されるパージガスの流量よりも多い場合、図２（ａ）に示すように、第１供給口６より供給されたパージガスの一部は第１回収口１３より回収され、残りはカバー９外部へと流出する。そのため、図２（ｂ）に示すように、カバー９内部の圧力Ｐ１はカバー９外部の圧力Ｐ２よりも高くなり、カバー９内部をパージすることができる。
【００５６】
また図３は、露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７に最も近づいた場合におけるパージガスの濃度分布の等濃度線模式図（図３（ａ））と、露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７から最も離れた場合におけるパージガスの濃度分布の等濃度線模式図（図３（ｂ））を表している。それぞれの等濃度線模式図では色が濃い部分ほどパージガス濃度が高く、薄い部分ほどパージガス濃度が低いことを示す。第１供給口６より供給されたパージガスの一部は第１回収口１３より回収されるため、カバー９外部へ流出するパージガスの流量を減らすことができ、ウエハステージ１０が干渉計１４、１７に最も近づいた場合（図３（ａ））および最も離れた場合（図３（ｂ））双方において、第１回収口１３を設けなかった場合（図２０）よりも、Ｘ方向測長光路１５とＹ方向測長光路１８内のパージガスの濃度ムラが小さくなっていることがわかる。したがって、レーザ干渉計に生じる測長誤差を低減することができる。
【００５７】
このように、第１供給口６より供給されるパージガスの流量が第１回収口１３より回収されるパージガスの流量よりも多い場合は、カバー９内部の圧力Ｐ１はカバー９外部の圧力Ｐ２よりも高くなり、カバー９内部をパージすることができる。さらに、カバー９外部へ流出するパージガスの流量を減らすことができ、レーザ干渉計に生じる測長誤差を低減することができる。
【００５８】
次に図４および図５を用いて、第１回収口１３より回収されるパージガスの流量が、第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも多くなるように流量を制御した場合について説明する。この場合、第１回収口１３より回収されるパージガスの回収流量によっては、カバー９内部の圧力Ｐ１がカバー９外部の圧力Ｐ２よりも低くなってしまう。ここでは、カバー９内部の圧力Ｐ１がカバー９外部の圧力Ｐ２よりも低くなった場合について説明する。
【００５９】
図４（ａ）はカバー９内部中央断面での流れの模式図を表している。図４（ｂ）は図４（ａ）と同じ場所での圧力分布の等圧線模式図を表している。図４（ｂ）の等圧線模式図では色が濃い部分ほど圧力が高く、薄い部分ほど圧力が低いことを示す。第１回収口１３より回収されるパージガスの流量が、第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも多い場合、図４（ａ）に示すように、カバー９内部から第１回収口１３に向かうパージガスの流れと、カバー９外部より第１回収口１３に向かう大気の流れが生じる。カバー９外部より第１回収口１３に向かう大気の流量が多いと、図４（ｂ）に示すようにカバー９内部の圧力Ｐ１はカバー９外部の圧力Ｐ２よりも低くなる。
【００６０】
しかしこの時、カバー９周辺で最も圧力が低いのは第１回収口１３近傍である。そのため、カバー９内部の圧力Ｐ１がカバー９外部の圧力Ｐ２より低い状況でも、カバー９内部から回収口１３へと向かうパージガスの流れが生じる。したがって、カバー９外部より第１回収口１３をまたいでカバー９内部に大気が侵入することを防ぐことができ、カバー９内部をパージすることができる。
【００６１】
また図５は、露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７に最も近づいた場合におけるパージガスの濃度分布の等濃度線模式図（図５（ａ））と、露光時においてウエハステージ１０がＸ方向レーザ干渉計１４およびＹ方向レーザ干渉計１７から最も離れた場合におけるパージガスの濃度分布の等濃度線模式図（図５（ｂ））を表している。それぞれの等濃度線模式図では色が濃い部分ほどパージガス濃度が高く、薄い部分ほどパージガス濃度が低いことを示し、さらに白色はパージガスが存在しないことを示す。第１供給口６より供給されたパージガスは全て第１回収口１３より回収される。そのため、カバー９外部へはパージガスが流出しない。したがって、ウエハステージ１０が干渉計１４、１７に最も近づいた場合（図５（ａ））および最も離れた場合（図９（ｂ））双方において、Ｘ方向測長光路１５とＹ方向測長光路１８内でパージガスの濃度ムラは発生しないことがわかる。よって、レーザ干渉計に測長誤差が生じることを防ぐことができる。
【００６２】
以上のように、露光エリアの外周を囲むように第１回収口１３を設けた図１の露光装置では、第１供給口６より供給されたパージガスが第１回収口１３で回収されるため、カバー９内部よりカバー９外部へ流出するパージガスの流量を減らすことができる。したがって、Ｘ方向測長光路１５とＹ方向測長光路１８内に発生するパージガスの濃度ムラを小さくすることができ、レーザ干渉計に生じる測長誤差を低減することができる。
【００６３】
さらに、Ｘ方向測長光路１５とＹ方向測長光路１８内にパージガスの濃度ムラが生じることを防ぎ、レーザ干渉計に測長誤差が生じることを防ぐためには、第１回収口１３より回収されるパージガスの流量が第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも多くなるように流量を制御することが望ましい。この時、第１回収口１３より回収されるパージガスの流量によっては、カバー内部の圧力Ｐ１がカバー外部の圧力Ｐ２よりも低くなる場合もあるが、上述したようにこの場合でもカバー９内部をパージすることができる。またこのとき、第１回収口１３からの回収流量が多くなりすぎると、カバー９外部から第１回収口１３へと向かう大気の流速が速くなり、大気がカバー９内部へ侵入してくる場合も考えられる。大気がカバー９内部へ侵入してくる場合の第１回収口からの回収流量は、カバー９の形状やカバー９とウエハ１１の隙間の間隔によって異なるが、例えば、カバー９が短形形状で、カバー９とウエハ１１の隙間の間隔が１．５ｍｍのときは、第１回収口１３からの回収流量は第１供給口６からの供給流量の５倍以下であれば、カバー９内部へ大気は侵入しない。このような第１回収口１３からの回収流量の上限を求めるためには、事前に第１回収口１３からの回収流量を変化させて、カバー９内部の不純物濃度を測定し、所望の不純物濃度以上に達した場合の流量を求めればよい。あるいはシミュレーション計算で求めても良い。そして、この事前に求めた第１回収口よりの回収流量の上限以下となるように、第１回収口１３からの回収流量を制御すればよい。
【００６４】
このように、図１の露光装置では、カバー９内部に第１供給口６を設け、カバー９の下端部に、露光エリアの外周を囲むように第１回収口１３を設けるという極めて簡単な構成で、カバー９内部をパージすることができ、レーザ干渉計に測長誤差が生じることを防ぐことができる。
【００６５】
［実施例１の変形例］
実施例１の露光装置では、カバー９の下端部に露光エリアの外周を囲むように、第１回収口１３を一重に設けたが、第１回収口１３は二重に設けても良い。二重に設けることで、カバー９外部がカバー９内部に与える影響をさらに小さくすることができる。例えば、図６は第１回収口１３のさらに外側に第２回収口１３’を設けた場合の、露光装置の概略構成を示す図である。図６は実施例１の変形例であるため、カバー９付近のみの概略構成を示す。また図６において、図１に示されている符号と同一のものは、図１と同様の構成要素を示している。
【００６６】
図６において、第２回収口１３’には配管６３’を介して、パージガスを回収するための真空ポンプ３３’が設けられ、第２回収口１３’と真空ポンプ３３’の間には流量制御装置４３’が設けられ、不図示の主制御系からの制御情報に応じた流量で第２回収口１３’よりパージガスを回収する。ここで、流量制御装置４３’は、主制御系からの制御情報に基づいて、バルブ５３’が所定のタイミングで開閉するようになっている。
【００６７】
実施例１の露光装置（図１）において、カバー９外部へパージガスが流出することを防ぐためには、第１回収口１３より回収されるパージガスの流量を第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも多くする必要があるが、図６の変形例の場合、第１回収口１３および第２回収口１３’より回収されるパージガスの総流量が第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも多ければよい。ここで、第１回収口１３より回収されるパージガスの流量が第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも少なく、かつ第１回収口１３および第２回収口１３’より回収されるパージガスの総流量が第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも多い場合のカバー９近傍の流れについて図７を用いて説明する。
【００６８】
図７はカバー９内部中央断面での流れの模式図を表している。図７に示されているように、第１回収口１３より回収されるパージガスの流量は第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも少ないため、第１供給口６より供給されたパージガスの一部は第１回収口１３では回収されず、カバー９外部へと向かう流れとなる。この流れのためカバー９内部の圧力Ｐ１は、図２（ｂ）で示されているカバー９内部の圧力Ｐ１と同程度にまで高くなる。また、第１回収口１３によって回収されなかったパージガスは第２回収口１３’によって回収される。したがって、ウエハステージ周辺でパージガスの濃度ムラは発生せず、レーザ干渉計に測長誤差が生じることを防ぐことができる。
【００６９】
図６の構成では、カバー９の構成が多少複雑になるが、上述のように第１回収口を二重に設けることで、カバー９内部の圧力Ｐ１を高く保つことができ、さらにレーザ干渉計に測長誤差が生じることを防ぐことができ、これら２つの効果を同時に得ることができる。
【００７０】
また、実施例１の露光装置では、カバー９の下端部に露光エリアの外周を囲むように、第１回収口１３を設けたが、露光装置を構成する各種ユニットの配置取り合いによっては、露光エリアの外周を囲むように第１回収口１３を設けることができない場合も考えられる。例えば、ウエハ面の高さを検知するため、光斜入射方式のフォーカスセンサが設けられている場合は、カバー９内部の一方から計測光を入射させ、他方でＣＣＤやＰＳＤなどの位置センサを用いて反射光を検出する。このため、第１回収口１３はこの計測光の光路上には設けることができず、カバー９の下端部の一部に設けることとなる。しかし、この場合でも第１回収口１３よりパージガスが回収されるため、カバー９外部へ流出するパージガスの流量を減らすことができ、ウエハステージ１０周辺で発生するパージガスの濃度ムラを低減することができる。
【００７１】
またカバー９の下端部の一部に第１回収口１３を設けた場合、カバー９内部をパージするためには、カバー９内部の圧力Ｐ１をカバー９外部の圧力Ｐ２よりも高くする必要がある。そのため、第１供給口６より供給されるパージガスの流量が、第１回収口１３より回収されるパージガスの流量よりも多くなるように流量が制御される。
【００７２】
また上記制御においては、カバー９内部の圧力を測定する第１圧力センサＳ１と、カバー９外部の圧力を測定する第２圧力センサＳ２とを設け、Ｓ１およびＳ２の測定結果に基づいて、カバー９内部の圧力Ｐ１がカバー９外部の圧力Ｐ２よりも高くなるように、第１供給口６より供給されるパージガスの流量、および／または第１回収口１３より回収されるパージガスの流量を制御しても良い。
【００７３】
例えば、Ｘ方向に光斜入射方式のフォーカスセンサが設けられている場合、Ｙ方向の露光エリアの前後に第１回収口１３を設けることとなる。この時、カバー９内部にカバー９内部の圧力Ｐ１を測定する第１圧力センサＳ１を１つ設け、カバー９外部にはカバー９外部の圧力Ｐ２を測定する第２圧力センサＳ２を１つ設け、Ｓ１およびＳ２の測定結果に基づいて、カバー９内部の圧力Ｐ１がカバー９外部の圧力Ｐ２よりも高くなるように、第１供給口６より供給されるパージガスの流量を制御すればよい。
【００７４】
例えば、露光装置外部の急激な気圧変動による過度適な圧力変化の結果として、カバー９外部の圧力Ｐ２が内部の圧力Ｐ１よりも高くなった場合、主制御系は第１供給口６より供給されるパージガスの流量を多くする。これによって、カバー９内部の圧力Ｐ１は上昇し、外部の圧力Ｐ２よりも高くなるため、カバー９内部をパージすることができる。もちろんこの時、カバー９の内側と外側にそれぞれ複数個の圧力センサを設けて複数点で圧力を測定し、その結果に基づいて、第１供給口６より供給されるパージガスの流量、および／または第１回収口１３より回収されるパージガスの流量を制御しても良い。複数点で圧力を測定することで、より一層安定してカバー９内部をパージすることができる。
【００７５】
なお、実施例１に示されている露光装置のように、カバー９の下端部に露光エリアの外周を囲むように第１回収口１３が設けられている場合、このような圧力センサを第１回収口１３付近に設け、第１回収口１３付近の圧力よりもカバー９内部の圧力が高くなるように第１供給口６からの供給流量および／または第１回収口１３からの回収流量を制御すればよいことは言うまでもない。またこのような圧力センサおよび流量制御方法は、後述する実施例２から５に示されている露光装置に適用可能であることが明らかである。
【００７６】
また実施例１の露光装置では、カバー９外部が大気の場合について示されているが、カバー９外部の不純物濃度を低減するため、カバー９外部を、カバー９内部に供給されるパージガスよりも不純物濃度が高いパージガスでパージする場合がある。この場合でもＸ方向測長光路１５およびＹ方向測長光路１８内で、パージガスの濃度ムラが生じ、レーザ干渉計に測長誤差が生じる。この場合にも実施例１の露光装置が適用できることは明らかである。後述する実施例２または４、または５で示されている露光装置についても同様である。
【００７７】
［実施例２］
図８は本発明の実施例２に係る露光装置のウエハステージ部分の構成を示す。実施例１は、第１回収口１３をカバー９の下端部、露光エリアの外周の四方を囲むように設けた。実施例２は、カバー下端部のＸ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９に近い二辺にだけ回収口１３を設けた場合の実施例である。
【００７８】
断面図である図８（ａ）、平面図である図８（ｂ）において、図１に示されている符号と同一のものは、図１と同様の構成要素を示しており、その流量制御とウエハステージ１０の位置決め方法は実施例１で示されているためここでの説明は省略する。
【００７９】
実施例２の露光装置において、カバー９内部のパージを行う場合、まず不図示の主制御系から流量制御装置４０に制御情報が伝達されてバルブ５０が開き、所定の流量でパージガスが第１供給口６よりカバー９内部へ供給される。その後、流量制御装置４３に制御情報が伝達されてバルブ５３が開き、所定の流量でパージガスが第１回収口１３より回収される。このとき、第１供給口６より供給されるパージガスの流量が第１回収口より回収されるパージガスの流量よりも多くなるようにそれぞれの流量が制御される。
【００８０】
実施例２の露光装置では、カバー下端部のＸ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９側の二辺にだけ第１回収口１３を設けているため、図９に示すように、Ｘ方向測長光路１５とＹ方向測長光路１８内に流出するパージガスの流量を減らすことができる。したがって、Ｘ方向の測長光路１５およびＹ方向の測長光路１８内に発生するパージガスの濃度ムラを低減することができ、レーザ干渉計に発生する測長誤差を低減することができる。
【００８１】
このように実施例２の露光装置では、カバー９内部に第１供給口６を、Ｘ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部に第１回収口１３を設けるという極めて簡単な構成で、カバー９内部をパージすることができ、さらにレーザ干渉計の測長誤差を低減することができる。
【００８２】
［実施例３］
図１０は本発明の実施例３に係る露光装置の要部構成を示す。実施例２は、Ｘ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部に回収口１３を設けた。実施例３はさらにＹ方向測長用ミラー１９の反射面１９ａと対向する位置に気体を吹き込む空調装置２０を設け、空調装置２０より、温度制御された吹き出し気体２１をウエハステージ周辺に向かって吹き出した場合の実施例である。ここで、吹き出し気体２１は空気、あるいは、カバー９内部に供給されるパージガスよりも不純物濃度が高いパージガスが用いられる。こうすることで、露光装置で使用する不活性ガスの総流量を小さくすることができ、装置の運転コストを低くすることができる。
【００８３】
断面図である図１０（ａ）、平面図である図１０（ｂ）において、図８に示されている符号と同一のものは、図８と同様の構成要素を示しており、その流量制御とカバー９内部のパージ方法およびウエハステージ１０の位置決め方法は実施例１および２で示されているためここでの説明は省略する。
【００８４】
実施例３の露光装置では、Ｙ方向測長用ミラー１９の反射面１９ａと対向する位置に気体を吹き込む空調装置２０を設けているため、図１１に示すように吹き出し気体２１の流れによってカバー９内部から流出したパージガスを風下に追いやることができる。したがってＸ方向測長光路１５とＹ方向測長光路１８内にパージガスの濃度ムラが発生することを防ぐことができ、レーザ干渉計に測長誤差が発生することを防ぐことができる。
【００８５】
実施例３の露光装置では、Ｙ方向測長用ミラー１９の反射面１９ａと対向する位置に空調装置２０を設けたが、空調装置２０は、Ｘ方向測長用ミラー１６の反射面１６ａと対向する位置に設けても良い。それによって実施例３と同様の効果を得ることができる。
【００８６】
このように実施例３の露光装置では、上記実施例２の構成に、Ｘ方向測長用ミラー１６の反射面１６ａまたはＹ方向測長用ミラー１９の反射面１９ａと対向する位置に空調装置２０を設けるという極めて簡単な構成で、カバー９内部をパージすることができ、さらにはレーザ干渉計に測長誤差が生じることを防ぐことができる。
【００８７】
［実施例４］
実施例１〜３では、カバー９内部のパージ方法として、第１供給口６を対向に配置してパージガスをカバー９内部に供給するパージ方法について示した。カバー９内部をパージする方法については多くの公知例があり、本実施例はそれら全てに対して適用することができる。例えば本出願人はすでに、カバー９内部でパージガスを一方向に流してカバー９内部のパージを行う方法について、特願２００３−５３８９２で種々の方法を提案している。特願２００３−５３８９２で示されているパージ方法全ては、実施例１〜３に示されている露光装置に対して適用することができる。
【００８８】
例えば、図１２は特願２００３−５３８９２で示されているパージ方法の１つを実施例１で示されている露光装置に適用した例である。カバー９内部のパージ方法を変更したこと以外は実施例１と同様であるため、図１２ではカバー９付近のみの概略構成を示す。また図１２において、図１に示されている符号と同一のものは、図１と同様の構成要素を示し、その流量制御は実施例１で示されているため、ここでの説明は省略する。
【００８９】
図１２において、第３回収口７には配管６１を介して、カバー９内部のパージガスを回収するための真空ポンプ３１が設けられ、第３回収口７と真空ポンプ３１の間には流量制御装置４１が設けられ、不図示の主制御系からの制御情報に応じた流量で、第３回収口７よりパージガスを回収する。また流量制御装置４１は、主制御系からの制御情報に基づいて、バルブ５１が所定のタイミングで開閉するようになっている。
【００９０】
図１２の構成においては、カバー９内部の一方にパージガスを供給する第１供給口６を設け、他方にパージガスを回収する第３回収口７を設けた構成が、特願２００３−５３８９２で示されている構成である。このような構成をとることで、カバー９内部にはパージガスが一方向に流れ、露光時にウエハ上に塗布された感光剤より各種生成物（脱ガス）が生じたとしても、効率よくこれらを回収することができ、光学素子の表面が汚染されることを防ぐことができる。
【００９１】
特願２００３−５３８９２では、第３回収口７から回収されるパージガスの流量を、第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも少なくすることで、カバー９内部から外部へとパージガスを流出させ、カバー９内部の圧力Ｐ１をカバー９外部の圧力Ｐ２よりも高くし、カバー９内部のパージを行っていた。
【００９２】
また、実施例１で示されている露光装置では、第１回収口１３より回収されるパージガスの回収流量を第１供給口６より供給されるパージガスの供給流量よりも多くすることで、カバー９外部へパージガスが流出することを防ぎ、ウエハステージ１０周辺でパージガスの濃度ムラが生じることを防ぎ、レーザ干渉計に測長誤差が発生することを防いでいる。
【００９３】
したがって、実施例４で示されている露光装置では、第３回収口７より回収されるパージガスの流量を、第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも少なくし、且つ第１回収口１３および第３回収口７より回収されるパージガスの総流量は、第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも多くなるようにそれぞれ流量が制御される。
【００９４】
第３回収口７より回収されるパージガスの流量を、第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも少なくすることで、カバー９内部から露光エリアの外周を囲むように設けた第１回収口１３へと向かうパージガスの流れが生じる。そのため、カバー９外部より第１回収口１３をまたいでカバー９内部に大気が侵入することを防ぐことができ、したがって図１８の従来例で示されているような、供給チャンネル５１１、５２３底面に設けられたオリフィス５１７、５２７は必要とせず、より簡単な構成でカバー９内部をパージすることが可能となる。
【００９５】
また、第１回収口１３および第３回収口７よりから回収されるパージガスの総流量を、第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも多くすることで、カバー９内部からカバー９外部へパージガスが流出することを防ぐことができる。したがって、ウエハステージ周辺でパージガスの濃度ムラは発生せず、レーザ干渉計に測長誤差が発生することを防ぐことができる。
【００９６】
実施例４は特願２００３−５３８９２で示されているパージ方法の１つを、実施例１で示されている露光装置に適用した例であるが、実施例２または実施例３で示されている露光装置に適用しても良い。この場合、第１回収口１３はＸ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部に設けられるため、カバー９内部をパージするには、カバー９内部の圧力Ｐ１がカバー外部の圧力Ｐ２よりも高くなるように流量を制御する必要がある。そのため、カバー９内部のパージを行うときは、第１回収口１３および第３回収口７より回収されるパージガスの総流量は、第１供給口６より供給されるパージガスの流量よりも少なくなるように流量が制御される。
【００９７】
［実施例５］
実施例５は、特願２００３−５３８９２で示されている、前記実施例４で適用したものとは別の、他のパージ方法を実施例１に適用した例である（図１３）。
図１３において、図１および図１２に示されている符号と同一のものは、図１および図１２と同様の構成要素を示し、その流量制御は実施例１および実施例４で示されているため、ここでの説明は省略する。
【００９８】
図１３において、第２供給口１２は、第１供給口６付近のカバー下端部で、第１回収口１３よりも内側に設けられている。また第２供給口１２には配管６２を介してパージガス供給装置３２が設けられており、所定の流量で第２供給口１２からウエハに向かってパージガスが供給される。第２供給口１２とパージガス供給装置３２の間には流量制御装置４２が設けられ、不図示の主制御系からの制御情報に応じた流量で、第２供給口１２からウエハに向かってパージガスが供給される。また流量制御装置４２は、主制御系からの制御情報に基づいて、バルブ５２が所定のタイミングで開閉するようになっている。
【００９９】
図１３の構成において、カバー９内部の一方にパージガスを供給する第１供給口６を設け、他方にパージガスを回収する第３回収口７を設け、さらに第１供給口６付近のカバー下端部に第２供給口１２を設けるが、第１回収口１３は設けない構成が、特願２００３−５３８９２で示されている構成である。実施例４（図１２）の構成に対し、第１供給口６付近のカバー下端部に第２供給口１２を設けることで、第１供給口６の下側近傍で渦が発生することを防ぐことができ、第２供給口１２を設けなかった場合と比較して、より一層安定してカバー９内部をパージすることができる。
【０１００】
特願２００３−５３８９２では、第３回収口７から回収されるパージガスの流量を、第１供給口６および第２供給口１２より供給されるパージガスの総流量よりも少なくすることで、カバー９内部から外部へとパージガスを流出させ、カバー９内部の圧力Ｐ１をカバー９外部の圧力Ｐ２よりも高くし、カバー９内部のパージを行っていた。
【０１０１】
また、実施例１で示されている露光装置では、第１回収口１３より回収されるパージガスの回収流量を第１供給口６より供給されるパージガスの供給流量よりも多くすることで、カバー９外部へパージガスが流出することを防ぎ、ウエハステージ１０周辺でパージガスの濃度ムラが生じることを防ぎ、レーザ干渉計に測長誤差が発生することを防いでいる。
【０１０２】
したがって、実施例５の露光装置では、第３回収口７より回収されるパージガスの流量は、第１供給口６および第２供給口１２より供給されるパージガスの総流量よりも少なく、且つ第１回収口１３および第３回収口７より回収されるパージガスの総流量は、第１供給口６および第２供給口１２より供給されるパージガスの総流量よりも多くなるようにそれぞれ流量が制御される。
【０１０３】
第３回収口７より回収されるパージガスの流量を、第１供給口６および第２供給口１２より供給されるパージガスの総流量よりも少なくすることで、カバー９内部から露光エリアの外周を囲むように設けた第１回収口１３へと向かうパージガスの流れが生じる。このため、カバー９外部より第１回収口１３をまたいでカバー９内部に大気が侵入することを防ぐことができる。またこの時、第２供給口１２は第１供給口６の下側近傍に渦が発生することを防ぐために設けられている。したがって、図１８の従来例で示されているような、中央領域５０１を取り囲むように設けられている供給チャンネル５１１、５２３底面のオリフィス５１７、５２７は必要とせず、より簡単な構成でカバー９内部をパージすることが可能となる。
【０１０４】
また、第１回収口１３および第３回収口７よりから回収されるパージガスの総流量を、第１供給口６および第２供給口１２より供給されるパージガスの総流量よりも多くすることで、カバー９内部からカバー９外部へパージガスが流出することを防ぐことができる。したがって、ウエハステージ周辺でパージガスの濃度ムラは発生せず、レーザ干渉計に測長誤差が発生することを防ぐことができる。
【０１０５】
実施例５は特願２００３−５３８９２で示されているパージ方法の１つを、実施例１で示されている露光装置に適用した例であるが、実施例２または実施例３で示されている露光装置に適用しても良い。この場合、第１回収口１３はＸ方向測長用ミラー１６とＹ方向測長用ミラー１９付近のカバー下端部にのみ回収口１３が設けられるため、カバー９内部をパージするには、カバー内部の圧力Ｐ１がカバー外部の圧力Ｐ２よりも高くなるように流量を制御する必要がある。そのため、カバー９内部のパージを行うときは、第１回収口１３および第３回収口７より回収されるパージガスの総流量は、第１供給口６および第２供給口１２より供給されるパージガスの総流量よりも少なくなるように流量が制御される。
【０１０６】
上記実施例４および実施例５は、特願２００３−５３８９２で示されている２つのカバー９内部のパージ方法に対して、実施例１〜３で示されている露光装置を適用した例である。特願２００３−５３８９２では他にもカバー９内部のパージ方法について開示されており、それらに実施例１から３で示されている露光装置が適用できることは言うまでもない。
【０１０７】
また実施例１〜５において、第１あるいは第３回収口からパージガスや大気を回収する手段として真空ポンプを用いたが、パージ性能に影響を与えない点で、できればこの真空ポンプはできるだけ脈動（圧力変動）のないタイプを採用すべきである。例えばスクロールタイプの真空ポンプや圧力気体を利用して真空を発生させる真空エジェクタ等が好適であり、あるいはタンクを用いて脈動を抑制させても良い。
【０１０８】
以上、説明したように、上述の実施例によれば、紫外線とりわけＡｒＦエキシマレーザ光やフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光を用いた露光装置において、極めて簡単な構成で、ウエハ近傍の露光光路内を外部の影響を受けずに安定してパージすることができ、さらにウエハステージ周辺で発生するパージガスの濃度ムラを低減することが可能となった。これにより、露光装置の製作コストを抑えることができ、且つＡｒＦエキシマレーザ光や、フッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光の十分な透過率とその均一性とその安定性を得ることができ、さらにウエハステージの位置決めを高精度に行うことができ、したがって投影露光を高精度に行うことが可能になり、微細な回路パターンが良好に投影できるようになった。
【０１０９】
本発明の露光装置は、上記実施例のものに制限されるものではない。マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置、特に露光光として紫外光を用いるものであれば、公知のものに本発明は適用することができる。
また、本発明の露光装置に好適に用いられる露光光としての紫外光は制限されないが、従来技術で述べたように、遠紫外線とりわけ１９３ｎｍ付近の波長を有するＡｒＦエキシマレーザや、１５７ｎｍ付近の波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光に対して有効である。
【０１１０】
［実施例６］
次に、上記説明した露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図１４は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行う。ステップ２（マスク製作）では設計したパターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【０１１１】
図１５は上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。本実施例の生産方法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】本発明の実施例１に係る投影露光装置の概略構成図である。
【図２】図１の装置のウエハ付近のパージガスの流れの模式図および圧力分布の説明図である。
【図３】図１の装置のウエハステージ付近のパージガスの濃度分布の説明図である。
【図４】図１の装置のウエハ付近の流れの模式図および圧力分布の説明図である。
【図５】図１の装置のウエハステージ付近のパージガスの濃度分布の説明図である。
【図６】実施例１の変形例に係る投影露光装置の概略構成図である。
【図７】図６の装置のウエハ付近の流れの模式図である。
【図８】本発明の実施例２に係る投影露光装置のウエハ付近の概略構成図である。
【図９】図８の装置におけるウエハステージ付近のパージガスの濃度分布の説明図である。
【図１０】本発明の実施例３に係る投影露光装置のウエハ付近の概略構成図である。
【図１１】図１０の装置におけるウエハステージ付近のパージガスの濃度分布の説明図である。
【図１２】本発明の実施例４に係る投影露光装置のウエハ付近の概略構成図である。
【図１３】本発明の実施例５に係る投影露光装置のウエハ付近の概略構成図である。
【図１４】デバイスの製造の流れを示す図である。
【図１５】図１４におけるウエハプロセスの詳細な流れを示す図である。
【図１６】パージ手段を有する従来の露光装置の構成を示す図である。
【図１７】他の従来例の構成を示す図である。
【図１８】さらに他の従来例の構成を示す図である。
【図１９】従来のＸＹ位置決め装置の平面図である。
【図２０】図１９のＸＹ位置決め装置を用いた場合におけるウエハステージ付近のパージガスの濃度分布説明図である。
【図２１】空調装置を備えた場合におけるウエハステージ付近のパージガスの濃度分布説明図である。
【符号の説明】
【０１１３】
１：照明光学系、２：シートガラス、３：レチクル、４：レチクルステージ、５：投影光学系、６：第１供給口、７：第３回収口、８：パージガスの流れ、９：カバー、１０：ウエハステージ、１１：ウエハ、１２：第２供給口、１３：第１回収口、１３’：第２回収口、１４：Ｘ方向レーザ干渉計、１５：Ｘ方向測長光路、１６：Ｘ方向測長用ミラー、１６ａ：Ｘ方向測長用ミラーの反射面、１７：Ｙ方向レーザ干渉計、１８：Ｙ方向測長光路、１９：Ｙ方向測長用ミラー、１９ａ：Ｙ方向測長用ミラーの反射面、２０：空調装置、２１：吹き出し気体、２２：隔壁、２３：隔壁、２４：投影光学系定盤、２５：ウエハステージ定盤、２６：整流板、２７：投影光学系定盤、２８：ウエハステージ定盤、３０：パージガス供給装置、３１：真空ポンプ、３２：パージガス供給装置、３３：真空ポンプ、３３’：真空ポンプ、４０：流量制御装置、４１：流量制御装置、４２：流量制御装置、４３：流量制御装置、４３’：流量制御装置、５０：開閉バルブ、５１：開閉バルブ、５２：開閉バルブ、５３：開閉バルブ、５３’：開閉バルブ、６０：配管、６１：配管、６２：配管、６３：配管、６３’：配管、１０５：投影光学系、１０６：供給口、１０８：パージガスの流れ、１０９：カバー、１１０：ウエハステージ、１１１：ウエハ、１２７：投影光学系定盤、１２８：ウエハステージ定盤、２０２：参照部材、２０３：ステージ部材、２０４：チャンバ、２０７：供給チャンネル、２１０：排出チャンネル、２１３：ウエハ支持表面、２１５：ガスベアリング、２１６：ランド、２１７：ランド、２１８：ランド、２１９：ランド、２２０：供給チャンネル、２２１排出チャンネル、２２２：供給チャンネル、５００：洗浄箱、５０１：中央領域、５１０：カバー、５１１：供給チャンネル、５１２：排出チャンネル、５１６：オリフィス、５１７：オリフィス、５１８：ガスベアリング、５１９：オリフィス、５２０：カバー、５２１：排出チャンネル、５２３：オリフィス、５２４：排出チャンネル、５２７：オリフィス、５２８：ガスベアリング、５２９：オリフィス、５４０：外部スカート部、Ｐ１：カバー９内部の圧力、Ｐ２：カバー９外部の圧力、ＰＬ：投影レンズ、Ｗ：基板。
【図１】
2005150533.tif 000003
【図２】
2005150533.tif 000004
【図３】
2005150533.tif 000005
【図４】
2005150533.tif 000006
【図５】
2005150533.tif 000007
【図６】
2005150533.tif 000008
【図７】
2005150533.tif 000009
【図８】
2005150533.tif 000010
【図９】
2005150533.tif 000011
【図１０】
2005150533.tif 000012
【図１１】
2005150533.tif 000013
【図１２】
2005150533.tif 000014
【図１３】
2005150533.tif 000015
【図１４】
2005150533.tif 000016
【図１５】
2005150533.tif 000017
【図１６】
2005150533.tif 000018
【図１７】
2005150533.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
2005150533.tif 000021
【図２０】
2005150533.tif 000022
【図２１】
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