(57)【要約】【課題】ガイドベーンへの被処理物の付着や再溶融及びガイドベーンの摩耗を防止できる粉体処理装置を提供する。【解決手段】粉体処理装置本体１は、処理容器８と、処理容器８の回転を支持する軸受１４と、軸受１４を固定支持する支持部材１５と、処理容器８に回転力を伝える回転軸９と、回転軸９の回転を支持する軸受１０と、処理容器８の回転駆動源であるモーター１１と、処理容器８の上蓋２と、上蓋２と処理容器８との間に配置されているアッパープレート３と、アッパープレート３に取り付けられているガイドベーン１３と、アッパープレート３に回転力を伝える回転軸１６と、回転軸１６の回転を支持する軸受ハウジング４と、アッパープレート３の回転駆動源であるモーター１７と、モーター１７を固定支持する台１８とを備えてなる。【選択図】図１
2005111401.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物と処理媒体を収容して回転する処理容器の内壁に沿って配置され、前記処理容器の回転に伴って連れ回る前記処理媒体を前記処理容器内壁から分離してその運動方向を変化させるガイドベーンを有し、前記処理容器と前記ガイドベーンとが同回転中心軸線周りに別々に回転する粉体処理装置であって、
前記回転中心軸線方向の前記処理容器の一方側に配置され、前記処理容器を回転させる処理容器駆動用電動機と、
前記回転中心軸線方向の前記処理容器の他方側に配置され、前記ガイドベーンを前記処理容器と同方向に速度差をつけて回転させるガイドベーン駆動用電動機と
を備えることを特徴とする粉体処理装置。
【請求項２】
前記処理容器駆動用電動機の回転負荷を検出し、前記回転負荷の値に基づいて、前記ガイドベーン駆動用電動機の起動または停止を制御するガイドベーン駆動制御手段を備えていることを特徴とする請求項１記載の粉体処理装置。
【請求項３】
前記ガイドベーン駆動制御手段は、前記処理容器駆動用電動機の回転負荷が、所定の値を超えたとき、または、所定時間中の回転負荷の平均値より所定の値に増大したときに、前記ガイドベーン駆動用電動機を起動させ、前記起動後所定時間中に、前記処理容器駆動用電動機の回転負荷が増大しない場合には、前記処理容器駆動用電動機を停止させるように制御するものであることを特徴とする請求項２記載の粉体処理装置。
【請求項４】
前記処理容器駆動用電動機の回転負荷を検出し、前記回転負荷の値に基づいて、前記ガイドベーン駆動用電動機または前記処理容器駆動用電動機の少なくとも一方の回転数を制御する回転数制御手段を備えている請求項１から請求項３までのいずれか一項記載の粉体処理装置。
【請求項５】
前記回転数制御手段は、前記処理容器駆動用電動機の回転負荷が、所定の値を超えたとき、または、所定時間中の回転負荷の平均値より所定の値に増大したときに、前記ガイドベーン駆動用電動機を前記処理容器駆動用電動機よりも速く回転させ、所定時間経過後に前記処理容器駆動用電動機よりも遅く回転するように制御するものであることを特徴とする請求項４記載の粉体処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガイドベーン及び処理容器が同回転中心軸線周りに回転させられる粉体処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、粉体処理装置は公知となっている。
例えば、下記特許文献１に開示されるものがある。この特許文献１のものは、粉砕媒体と、該粉砕媒体を収容して回転する粉砕筒と、粉砕筒の内部にあって、粉砕媒体を粉砕筒の内壁から分離し、粉砕媒体の運動方向を変化させる案内板とを必須とするものである。
【特許文献１】特開平６−３２００３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、上記特許文献１の構成では、案内板の先端は非常に薄く、被処理物及び粉砕媒体との摺動による摩擦が激しいので、案内板が摩耗して性能低下したり、破損したりする場合もある。
【課題を解決するための手段及び効果】
【０００４】
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。
【０００５】
即ち、本発明の粉体処理装置は、被処理物と処理媒体を収容して回転する処理容器の内壁に沿って配置され、前記処理容器の回転に伴って連れ回る前記処理媒体を前記処理容器内壁から分離してその運動方向を変化させるガイドベーンを有し、前記処理容器と前記ガイドベーンとが別々に同回転中心軸線周りに回転する粉体処理装置であって、前記回転中心軸線方向の前記処理容器の一方側に配置され、前記処理容器を回転させる処理容器駆動用電動機と、前記回転中心軸線方向の前記処理容器の他方側に配置され、前記ガイドベーンを前記処理容器と同方向に速度差をつけて回転させるガイドベーン駆動用電動機とを備えることを特徴とする。
これにより、被処理物の層及び処理媒体とガイドベーンとの衝突速度や表面摺動速度を低下させ、被処理物の付着や再溶融を防止できる。また、ガイドベーンの摩耗を低減できるので、被処理物に不純物（ガイドベーンの摩耗物）が混入することを低減することができる。
【０００６】
また、本発明の粉体処理装置は、前記処理容器駆動用電動機の回転負荷を検出し、前記回転負荷の値に基づいて、前記ガイドベーン駆動用電動機の起動または停止を制御するガイドベーン駆動制御手段を備えていることを特徴とする。
これにより、処理容器駆動用電動機の回転負荷を抑えることができる。また、処理容器駆動用電動機の回転負荷が低下した場合には、最初の安定時の状態に戻すためにガイドベーン駆動用電動機を停止させて、ガイドベーンを停止させることができる。
【０００７】
また、本発明の粉体処理装置は、前記ガイドベーン駆動制御手段は、前記処理容器駆動用電動機の回転負荷が、所定の値を超えたとき、または、所定時間中の回転負荷の平均値より所定の値増大したときに、前記ガイドベーン駆動用電動機を起動させ、前記起動後所定時間中に、前記処理容器駆動用電動機の回転負荷が増大しない場合には、前記処理容器駆動用電動機を停止させるように制御するものであることを特徴とする。
これにより、ガイドベーンの先端に付着した被処理物によって処理容器駆動用電動機の回転負荷が増大した場合に限定して、ガイドベーンを回転させて、回転負荷を抑えることができる。
【０００８】
また、本発明の粉体処理装置は、前記処理容器駆動用電動機の回転負荷を検出し、前記回転負荷の値に基づいて、前記ガイドベーン駆動用電動機または前記処理容器駆動用電動機の少なくとも一方の回転数を制御する回転数制御手段を備えていることを特徴とする。
これにより、ガイドベーンと処理容器の回転の相対速度の制御ができ、被処理物及び処理媒体に付与するエネルギの低下を抑えた粉体処理ができる。
【０００９】
また、本発明の粉体処理装置は、前記回転数制御手段は、前記処理容器駆動用電動機の回転負荷が、所定の値を超えたとき、または、所定時間中の回転負荷の平均値より所定の値増大したときに、前記ガイドベーン駆動用電動機を前記処理容器駆動用電動機よりも速く回転させ、所定時間経過後に前記処理容器駆動用電動機よりも遅く回転するように制御するものであることを特徴とする。
これにより、ガイドベーンの先端に付着した被処理物によって、処理容器駆動用電動機の回転負荷が増大した場合に限定して、ガイドベーン駆動用電動機を処理容器駆動用電動機よりも速く回転させて、ガイドベーン先端に付着した被処理物を分離する清掃効果を得ることができる。そして、その後にガイドベーン駆動用電動機を処理容器駆動用電動機よりも遅く回転するように制御することで、回転負荷の検出により上記清掃が十分に行われたかを確認できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
次に、発明の実施の形態を説明する。
図１は本発明に係る粉体処理装置の一実施形態を示す図、図２は処理容器内の粉体処理の様子を示す図である。
【００１１】
粉体処理装置Ａは、粉体処理装置本体１と、後述する上蓋２、アッパープレート３、軸受ハウジング４、ガイドベーン１３、回転軸１６、モーター１７及び台１８とからなる部位Ｍを昇降自在な昇降装置５と、粉体処理装置本体１と昇降装置５とを配置することができる基台６と、基台６を支える土台７とを備えてなる。
【００１２】
粉体処理装置本体１は、回転する処理容器８と、この処理容器８の回転を支持する軸受１４と、この軸受１４を固定支持する支持部材１５と、処理容器８に回転力を伝える回転軸９と、この回転軸９の回転を支持する軸受１０と、処理容器８の回転駆動源であるモーター１１と、回転軸９とモーター１１とを連結する連結部１２と、処理容器８の上蓋２と、この上蓋２と処理容器８との間に配置されているアッパープレート３と、このアッパープレート３に取り付けられているガイドベーン１３と、アッパープレート３に回転力を伝える回転軸１６と、この回転軸１６の回転を支持する軸受ハウジング４と、アッパープレート３の回転駆動源であるモーター１７と、このモーター１７を固定支持する台１８と、回転軸１６とモーター１７とを連結する連結部１９とを備えてなる。
【００１３】
処理容器８は、被処理物及び処理媒体を内部に収容し、モーター１１によって回転させられることにより粉体処理を行う容器である。
軸受１４は、基台６上部の台部分に設けられた支持部材１５に固定支持され、処理容器８の回転を支持するものである。
【００１４】
回転軸９は、処理容器８にモーター１１の回転力を連結部１２を介して伝達するものである。
軸受１０は、基台６上部の台部分から内部に向かって固定配置され、回転軸９を回転自在に支持するものである。
【００１５】
モーター１１は、モーター１１の回転負荷を検出して、モーター１１の回転数を制御することができる図示しない回転数制御手段を備えている。
【００１６】
上蓋２は、軸受ハウジング４によって回転自在に支持されていて、処理容器８の上端面を密閉するものである。この上蓋２は、粉体処理時には、処理容器８と一体化して回転するものである。
【００１７】
アッパープレート３は、同じ回転中心軸である回転軸１６と一体化するように固定して設けられている。
ガイドベーン１３は、処理容器８の内壁に沿うようにアッパープレート３に設けられていて、処理容器８の回転に伴って連れ回る処理媒体を、処理容器８内壁から分離してその運動方向を変化させるものである。
【００１８】
回転軸１６は、軸受ハウジング４中心部で回転自在に支持されていて、モーター１７の回転力を連結部１９を介して伝達するものである。
【００１９】
軸受ハウジング４は、後述する連結部２５によって昇降装置５に連結固定されていて、上述したように上蓋２及び回転軸１６を回転自在に支持することができるものである。
【００２０】
モーター１７は、モーター１１の回転負荷を検出して、モーター１７の起動または停止を制御する図示しないガイドベーン駆動制御手段を備えている。また、モーター１１の回転負荷を検出して、モーター１７の回転数を制御することができる図示しない回転数制御手段をも備えている。
なお、モーター１７には、モーター１１の駆動に対し連れ回りしないようにブレーキが設けられている。
【００２１】
台１８は、軸受ハウジング４の上部に配置され、固定されており、モーター１７を上部で固定支持している。また、後述する連結部２４によって昇降装置５に連結固定されている。さらに、連結部１９でモーター１７と回転軸１６とを連結できるように、貫通穴１８ａが設けられている
【００２２】
昇降装置５は、粉体処理装置本体１の部位Ｍの上昇に利用する重り２０と、この重り２０の昇降空間を有する容器２１と、昇降操作部２６と重り２０とに一端と他端それぞれがつながれているワイヤー２２と、このワイヤー２２がかけられている滑車２３と、台１８と連結されている連結部２４と、軸受ハウジング４と連結されている連結部２５と、昇降の操作を行う昇降操作部２６とからなる。
【００２３】
昇降操作部２６によって、滑車２３を介してワイヤー２２でつながっている重り２０を下降させれば、連結部２４、２５で昇降装置５と連結されている粉体処理装置本体１の部位Ｍは上昇する。逆に、重り２０を上昇させれば、昇降装置５と連結されている粉体処理装置本体１の部位Ｍは下降することとなる。
【００２４】
次に、粉体処理装置Ａの動作について説明する。
まず、昇降装置５により粉体処理装置本体１の部位Ｍを上昇させ、処理容器８に被処理物と処理媒体を収容する。そして、昇降装置５により粉体処理装置本体１の部位Ｍを下降させ、処理容器８の上蓋２を密着させて密閉する。
【００２５】
次に、モーター１１を駆動させ、その回転力を連結部１２を介して回転軸９に伝達し、処理容器８を回転させる。処理容器８のみを回転させると、図２（ａ）に示すように、処理容器８の回転に伴って連れ回る被処理物２７の一部及び処理媒体２８を、ガイドベーン１３が処理容器８内壁から分離させてその運動方向を変化させ、被処理物２７の層に衝突させる。
このとき、ガイドベーン１３の先端に被処理物が付着し、成長したことによる一定の回転負荷の増大が検出されたときには、モーター１７を駆動させ、その回転力を連結部１９を介して回転軸１６に伝達し、ガイドベーン１３が取り付けられているアッパープレート３を回転させる。
そして、ガイドベーン１３は図２（ｂ）に示すように、処理容器８と同方向に処理容器８内壁に沿って、内壁との隙間及び一定の角度を保持したまま回転する。
ガイドベーン１３を処理容器８よりも速く回転させれば、ガイドベーン１３に付着した被処理物２７を除去できる。
また、モーター１１、１７には回転数制御手段がそれぞれ設けられており、モーター１１の回転負荷を検出して、モーター１１、１７の回転数を制御することができる。
【００２６】
ここで、上記モーター１１、１７の回転制御における具体的なモーター１１の回転負荷の回避動作について説明する。
まず、処理容器８が設定回転数N0で回転しているときに、モーター１７に設けられているガイドベーン駆動制御手段またはモーター１１、１７に設けられている回転数制御手段によって、一定時間毎にガイドベーン１３へ付着した被処理物２７の成長によるモーター１１の回転負荷Ｐを絶対値で検出して図示しない記憶部で記憶する。また、この記憶した回転負荷Ｐの値を用いて、回転負荷Ｐを検出した時間ＴのＴ1秒前からＴ2秒前の間の平均回転負荷Ｐaviを計算し、回転負荷Ｐが平均回転負荷Ｐaviの１．２倍を超えていないか比較する。これと同時に、回転負荷Ｐがモーター１１の使用限度である定格回転負荷Ｐ0を超えていないかも比較する。ここで、ｉ＝０、１、２、・・・である。
現在の回転負荷Ｐが平均回転負荷Ｐaviの１．２倍または定格回転負荷Ｐ0を超えていると判断されると、モーター１７がガイドベーン１３を処理容器８と同方向に回転させ、モーター１１の回転負荷を軽減させる。このとき、所定時間、ガイドベーン１３を処理容器８より速く回転させることで、ガイドベーン１３の先端に付着した被処理物２７を取り除く。
【００２７】
ここで、図３を参照しながら、具体的に回転負荷の回避動作を説明する。図３はモーター１１の回転負荷回避動作時におけるモーター１１の回転負荷と時間の関係及び処理容器８とガイドベーン１３の回転数と時間の関係を示すグラフであって、回転負荷回避動作後の一定時間内に回転負荷の増大または回転負荷の増大がなかった場合を示すものである。
図３（ａ）の時間Ｔaにおいて、回転負荷Ｐが平均回転負荷Ｐaviの１．２倍を超えていないが、回転負荷Ｐは定格回転負荷Ｐ0を超えていると判断され、モーター１７によりガイドベーン１３の回転を開始させる。
このとき図３（ｂ）に示すように、時間ＴaからＴ3秒間、ガイドベーン１３を処理容器８よりもΔNｒｐｍ速く回転させて、ガイドベーン１３に付着した被処理物２７を除去する。その後、処理容器８の回転の半回転数でＴ4秒間回転させたときに、回転負荷Ｐの異常な増大が見られないときは、ガイドベーン１３の回転を停止し、最初の安定時のときと同様の状態に戻す。十分にガイドベーン１３の先端から被処理物２７が除去されたと考えられるからである。
ここで、Ｔ1＝６０、Ｔ2＝７０、Ｔ3＝１０、Ｔ4＝６００、ΔN＝１００である。
このように動作させることで、ガイドベーン１３に付着した被処理物２７を取り除き、モーター１１の回転負荷を軽減することができる。図３（ａ）から回転負荷が、もとの回転負荷の平均値Ｐav0とほぼ同値に戻って安定していることが分かる。なお、何らの処置も取らない場合には、一点鎖線で示したように回転負荷は上昇し、モータートリップしてしまう。
【００２８】
次に、図３（ａ）におけるＴ4秒間以内に、モーター１１の回転負荷が再び増大した場合についての回転負荷の回避動作について説明する。
上記Ｔ4秒間以内に、ガイドベーン１３を未だ回転させていない場合の平均回転負荷Ｐav0または定格回転負荷Ｐ0またはガイドベーン１３の前回転後の平均回転負荷Ｐavi（Ｔ1秒以内では無視）の１．２倍の値のいずれか以上に回転負荷Ｐが増大する場合は、この条件に当てはまるごとに、処理容器８の速度を設定回転数N0の２５％刻みで減速させる。ただし、下限として処理容器８の臨界回転数Ｎaを設け、この臨界回転数Ｎaで回転負荷Ｐが増大する場合には、処理容器８の回転を停止させることとする。臨界回転数Ｎa以下に処理容器８の回転数を減速させると、被処理物２７を処理する際に必要な遠心力を発生させることができないからである。
【００２９】
ここで、図４を参照しながら、具体的に回転負荷の回避動作を説明する。図４はモーター１１の回転負荷回避動作時におけるモーター１１の回転負荷と時間の関係及び処理容器８とガイドベーン１３の回転数と時間の関係を示すグラフであって、回転負荷回避動作後のＴ4秒間以内に回転負荷が増大した場合を示すものである。
図４の時間Ｔbにおいて、回転負荷Ｐは定格回転負荷Ｐ0に達しているので、図３の場合と同様に、ガイドベーン１３の回転を開始させ、時間ＴbからＴ3秒間、ガイドベーン１３を処理容器８よりもΔNｒｐｍ速く回転させる。その後、処理容器８の回転の半回転数で回転させるが、被処理物２７が十分に取り除かれていないため、時間ＴbからＴ3秒後からＴ4秒間以内の時間Ｔcにおいて、定格回転負荷Ｐ0に回転負荷Ｐが達している。このため、図４（ｂ）に示すように、処理容器８の設定回転数N0を２５％減速させる。これと同時に、図４（ｂ）に示すように、時間ＴcからＴ3秒間、ガイドベーン１３の先端に付着した被処理物２７を取り除くためにガイドベーン１３の回転数を、処理容器８の設定回転数N0を２５％減速させた回転数０．７５N0よりもΔNｒｐｍ速く回転させる。その後、ガイドベーン１３を、この処理容器８の回転の半回転数（０．７５N0／２）で回転させる。
その後、一時的に回転負荷Ｐは落ち着いて増大していないが、被処理物２７が十分に取り除かれていないために、一定時間経過後再び増大し、時間Ｔdにおいて回転負荷Ｐは、ガイドベーン１３の前回転後の平均回転負荷Ｐav2の１．２倍の値に達している。このため、図４（ｂ）に示すように、処理容器８の回転数を設定回転数N0の５０％とする。これと同時に、図４（ｂ）に示すように、時間ＴdからＴ3秒間、ガイドベーン１３の回転数を、処理容器８の設定回転数N0を５０％減速させた回転数０．５N0よりもΔNｒｐｍ速く回転させる。その後、ガイドベーン１３を、このときの処理容器８の回転の半回転数０．５N0／２で回転させる。
このように動作させることで、ガイドベーン１３に付着した被処理物２７を確実に取り除き、モーター１１の回転負荷を軽減することができる。
なお、図４（ｂ）に示すような処理容器の回転数の低減を繰り返しても、回転負荷が増大し、処理容器の回転数を臨界回転数Ｎa以下にせざるを得ない場合は、処理容器８の回転は停止する。
【００３０】
次に、処理容器８の回転数を減速させて、ガイドベーン１３に付着した被処理物２７を取り除いた後、処理容器８の回転数を設定回転数Ｎ0に復帰させる動作について説明する。
上記で示したものと同様の回転負荷回避動作を行った後、Ｔ4秒間以内に回転負荷Ｐが増大しない場合には、現在の処理容器８の回転数を減速する１つ前の回転数に戻す。このとき、ガイドベーン１３も同様に１つ前の回転数に戻す。次のＴ4秒間以内に回転負荷が増大しない場合には、再び同様の動作を行い、これを順次繰り返す。そして、処理容器８の回転数が設定回転数Ｎ0に復帰した後、さらにＴ4秒間以内に回転負荷が増大しない場合には、ガイドベーン１３の回転を停止させて、復帰動作を終えることとなる。
【００３１】
ここで、図５を参照しながら、具体的に処理容器８の回転数の復帰動作を説明する。図５は、回転負荷回避動作が行われた後、Ｔ4秒間回転負荷が増大しなかった場合に、処理容器８の回転数を徐々に復帰させる動作をしたときの、モーター１１の回転負荷と時間の関係及び処理容器８とガイドベーン１３の回転数と時間の関係を示すグラフである。
図５に示すように、回転負荷回避動作を３回、時間Ｔeまで行った場合であって、時間ＴeからＴ4秒間以内に回転負荷が増大しない場合には、現在の処理容器８の回転数０．５Ｎ0を減速する１つ前の回転数０．７５Ｎ0に戻す。このとき、ガイドベーン１３は０．５Ｎ0／２を維持させる。次に、時間ＴfからＴ4秒間以内に回転負荷が増大しない場合には、再び同様の動作を行い、処理容器８の回転数をＮ0に戻す。このように、時間Ｔgにおいて処理容器８の回転数を設定回転数Ｎ0に復帰させた後、さらにＴ4秒間以内に回転負荷が増大しない場合には、時間Ｔhにおいてガイドベーン１３の回転を停止させて、復帰動作を終える。このとき、図５から回転負荷が、最初の回転負荷の平均値Ｐav0とほぼ同値に戻って安定していることが分かる。
このように動作させることで、処理容器８を設定した回転数に戻し、設定回転数時の運動エネルギを処理媒体２８が再び有することとなり、回転負荷が生じる前の状態で粉体処理を行うことができる。
なお、本実施形態の粉体処理装置Ａは、例えば、図５の時間ＴfからＴ4秒間以内に回転負荷が増大した場合には、図３、図４で示したように、回転負荷回避動作を行うこともできる。このとき、ガイドベーンを、Ｔ3秒間処理容器の回転数よりΔＮｒｐｍ速く回転させた後、処理容器の回転数の半回転数で回転させる。
【００３２】
粉体処理を終えるには、モーター１１、１７の駆動を停止させ、処理容器８及びガイドベーン１３の回転を停止させる。そして、昇降装置５により部位Ｍを上昇させ、処理容器８内部から粉体処理された被処理物２７と処理媒体２８とを取り出す。
【００３３】
本実施形態によれば、被処理物２７の層及び処理媒体２８とガイドベーン１３との衝突速度や表面摺動速度を低下させ、ガイドベーン１３の先端への被処理物の付着や再溶融を防止する。また、ガイドベーン１３の摩耗を防止できるので、被処理物２７に不純物（ガイドベーン１３の摩耗物）が混入することを防ぐことができる。
また、ガイドベーン１３の先端に付着した被処理物２７によって、モーター１１の回転負荷Ｐが増大した場合に限定してガイドベーン１３を回転させて、回転負荷Ｐを抑えることができる。
さらに、モーター１１の回転負荷Ｐが低下した場合には、最初の安定時の状態に戻すためにモーター１７を停止させて、ガイドベーン１３を停止させることができる。
加えて、ガイドベーン１３と処理容器８の回転の相対速度の制御ができ、被処理物２７及び処理媒体２８に付与するエネルギの低下を抑えた粉体処理ができる。
また、ガイドベーン１３の先端に付着した被処理物２７によって、モーター１１の回転負荷Ｐが増大した場合に限定して、モーター１７をモーター１１よりも速く回転させて、ガイドベーン１３先端に付着した被処理物２７を分離する清掃効果が得られる。そして、その後にモーター１７をモーター１１よりも遅く回転するように制御することで、回転負荷Ｐの検出により上記清掃が十分に行われたかを確認できる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明に係る粉体処理装置の一実施形態を示す図。
【図２】処理容器内の粉体処理の様子を示す図。
【図３】モーター１１の回転負荷回避動作時におけるモーター１１の回転負荷と時間の関係及び処理容器８とガイドベーン１３の回転数と時間の関係を示すグラフであって、回転負荷回避動作後の一定時間内に回転負荷が増大しなかった場合を示すもの。
【図４】モーター１１の回転負荷回避動作時におけるモーター１１の回転負荷と時間の関係及び処理容器８とガイドベーン１３の回転数と時間の関係を示すグラフであって、回転負荷回避動作後のＴ4秒間以内に回転負荷が増大した場合を示すもの。
【図５】回転負荷回避動作が行われた後、Ｔ4秒間回転負荷が増大しなかった場合に、処理容器８の回転数を徐々に復帰させる動作をしたときの、モーター１１の回転負荷と時間の関係及び処理容器８とガイドベーン１３の回転数と時間の関係を示すグラフ。
【符号の説明】
【００３５】
１  粉体処理装置本体
２  上蓋
３  アッパープレート
４  軸受ハウジング
５  昇降装置
６  基台
７  土台
８  処理容器
９  回転軸
１０  軸受
１１  モーター
１２、１９、２４、２５  連結部
１３  ガイドベーン
１４  軸受
１５  支持部材
１６  回転軸
１７  モーター
１８  台
１８ａ  貫通穴
２１  容器
２２  ワイヤー
２３  滑車
２６  昇降操作部
２７  被処理物
２８  処理媒体
Ａ  粉体処理装置
【図１】
2005111401.tif 000003
【図２】
2005111401.tif 000004
【図３】
2005111401.tif 000005
【図４】
2005111401.tif 000006
【図５】
2005111401.tif 000007