(57)【要約】【課題】塗膜欠陥のない、均一な光学特性を得ることが可能な光学膜の形成方法を提供する。【解決手段】微粒子と結合剤と溶媒とを含む光学膜用塗料Ｌを基材に塗布した後に、その塗膜を乾燥室内で乾燥する工程を有する光学膜の形成方法であって、乾燥室１２内に乾燥により塗膜から蒸発した溶媒蒸気を滞留させて、乾燥室１２内の溶媒の蒸気圧を調整する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
微粒子と結合剤と溶媒とを含む塗料を基材に塗布した後に、その塗膜を乾燥室内で乾燥する工程を有する光学膜の形成方法であって、
前記乾燥室内の溶媒の蒸気圧を、前記乾燥室外の蒸気圧より大とし、溶媒蒸気が基材上で再凝集する蒸気圧より小とすることを特徴とする光学膜の形成方法。
【請求項２】
微粒子と結合剤と溶媒とを含む塗料を基材に塗布した後に、その塗膜を乾燥室内で乾燥する工程を有する光学膜の形成方法であって、
前記乾燥室内に乾燥により塗膜から蒸発した溶媒蒸気を滞留させて、該乾燥室内の溶媒の蒸気圧を調整することを特徴とする光学膜の形成方法。
【請求項３】
微粒子と結合剤と溶媒とを含む塗料を基材に塗布した後に、その塗膜を乾燥室内で乾燥する工程を有する光学膜の形成方法であって、
前記乾燥室内に溶媒を供給して、該乾燥室内の溶媒の蒸気圧を調整することを特徴とする光学膜の形成方法。
【請求項４】
前記溶媒が水であって、前記乾燥室内の蒸気圧を湿度５０〜７０％ＲＨとなるように調整することを特徴とする請求項２または請求項３に記載の光学膜の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微粒子を含有する光学膜の形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、有機樹脂からなる光学膜中に金属酸化物の顔料微粒子を混入させて、光学膜の屈折率を調整する手法が知られており、その光学膜用の塗料をフィルムやレンズ上に塗布することによって、ディスプレイ、モニタ、レンズの表面特性を改良する手法、やその塗料から形成された光学部品が提案されている。
【０００３】
例えば、酸化チタン微粒子と結合剤であるウレタンアクリレートと溶媒からなるイソプロピルアルコールとを含む分散塗料を透明基材上に塗布し、その塗膜を乾燥・硬化させて高屈折率のハードコート層を形成することにより、優れた反射防止性を有する反射防止材料が得られる（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１７１６０３号公報（段落００６１〜００６２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような塗料を用いて光学膜を形成しても、本体期待した機能が十分には発揮されない場合があった。
例えば、シリカ微粒子を分散させた塗料から特定波長の光を選択的に反射する反射膜を形成した場合に、膜表面が白濁したり、膜の反射率が低下したりする不具合が生じていた。
また、酸化チタン微粒子を分散した塗料から高屈折率光反射膜を形成した場合に、局部的に屈折率のむらに起因する反射光波長のむらが発生して色目ムラのある光学膜となる不具合が生じていた。
【０００６】
本発明は、以上の従来技術における問題に鑑みてなされたものであり、塗膜欠陥のない、均一な光学特性を得ることが可能な光学膜の形成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
発明者らは、上述した光学膜の不具合が膜中の微粒子の配列や充填に原因があることを把握した。すなわち、上記シリカ微粒子の場合には膜中のシリカ微粒子の配列がずれているために表面が白濁したり、反射率が低下したりしていた。また、酸化チタン微粒子の場合には膜中の酸化チタン微粒子の充填率に局部的なむらが生じているために局部的な屈折率のむらが発生していた。
発明者らはこの知見を元に検討を進め、膜中の微粒子の配列や充填には塗膜の乾燥段階の状態が影響を及ぼしていることを見出した。
【０００８】
すなわち、ディップコート法などにより微粒子を含んだ薄膜を塗布形成するとき、塗膜の乾燥過程では微粒子間の溶媒が蒸発乾燥するにつれ、その微粒子同士が塗料液の表面張力で引き寄せられ、相互に密着して配列する作用が生じる（自己組織化作用）。この作用が十分に高く塗膜全体に及ぶ場合には、種々の機能膜に応用が期待される、微粒子が相互に緻密に密着配列された構造（細密充填構造）の薄膜を得ることができる。
【０００９】
微粒子が細密充填構造に配列された膜の効率のよい製造には、上記自己組織化作用を利用するのが好ましいが、塗膜の乾燥速度が速い場合には乾燥塗膜中の微粒子は相互に密着して自己組織化するほどの十分な移動時間が確保できない。そのため、乾燥した塗膜内には微粒子の配列がずれたような配列欠陥が多数存在することとなり、マクロの薄膜としては本来期待した機能が十分に発揮できないものとなるのである。上述したシリカ微粒子を含む膜や酸化チタン微粒子を含む膜における問題は、このような現象に起因していた。
【００１０】
また、十分に乾燥速度を抑制したとしても乾燥過程に乾燥気体の移動（気流）が存在する場合、塗膜近傍の溶媒蒸気が搬送流出することにより、蒸気濃度が降下し局部的に乾燥速度が速まる現象が生じる。その結果、乾燥は塗膜上を一方向に直線的に進行することができず、乾燥ドメインの境界に整列配列できていない欠陥が集中的に発生するというのが現実であった。
発明者らは、さらに検討を進め、特定の乾燥条件により自己組織化作用をコントロールすることができ、光学膜中の微粒子の配列や充填を向上させることが可能であることを見出し、本発明を成すに至った。
【００１１】
すなわち、前記課題を解決するために提供する請求項１の発明に係る光学膜の形成方法は、微粒子と結合剤と溶媒とを含む塗料を基材に塗布した後に、その塗膜を乾燥室内で乾燥する工程を有する光学膜の形成方法であって、前記乾燥室内の溶媒の蒸気圧を、前記乾燥室外の蒸気圧より大とし、溶媒蒸気が基材上で再凝集する蒸気圧より小とすることを特徴とする。
【００１２】
前記課題を解決するために提供する請求項２の発明に係る光学膜の形成方法は、微粒子と結合剤と溶媒とを含む塗料を基材に塗布した後に、その塗膜を乾燥室内で乾燥する工程を有する光学膜の形成方法であって、前記乾燥室内に乾燥により塗膜から蒸発した溶媒蒸気を滞留させて、該乾燥室内の溶媒の蒸気圧を調整することを特徴とする。
【００１３】
前記課題を解決するために提供する請求項３の発明に係る光学膜の形成方法は、微粒子と結合剤と溶媒とを含む塗料を基材に塗布した後に、その塗膜を乾燥室内で乾燥する工程を有する光学膜の形成方法であって、前記乾燥室内に溶媒を供給して、該乾燥室内の溶媒の蒸気圧を調整することを特徴とする。
【００１４】
前記課題を解決するために提供する請求項４の発明に係る光学膜の形成方法は、請求項２または請求項３の発明において、前記溶媒が水であって、前記乾燥室内の蒸気圧を湿度５０〜７０％ＲＨとなるように調整することを特徴とする。
【００１５】
本発明により、基材上の塗膜の乾燥速度は、通常の場合よりも小さくなるため、塗膜中の微粒子同士が自己組織化作用により相互に密着して充填・配列できるだけの十分な移動時間が確保できるようになり、塗膜欠陥のない、均一な光学特性を有する光学膜とすることが可能となる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の効果として、請求項１〜４の発明によれば、塗膜中の微粒子同士が自己組織化作用により相互に密着して充填・配列できるだけの十分な移動時間が確保できるようになり、塗膜欠陥のない、均一な光学特性を有する光学膜とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、本発明に係る光学膜の形成方法の第１の実施の形態について説明する。なお、以下に示す実施の形態は例示であり、これに限定されるものではない。
【００１８】
（光学膜の形成方法）
本発明に係る光学膜の形成方法は、図１に示すディップコート槽１１と乾燥室１２とを備えたディップコート装置１０を使用し、微粒子と結合剤と溶媒とを含む光学膜用塗料Ｌを用いて、塗布工程、乾燥工程、成膜工程により基材Ｐ上に光学膜を形成する。以下に、各工程について説明する。
【００１９】
（ｓ１）塗布工程
ここでは、ディップコート法による塗布を例に説明する。
ディップコート法では、一般に図２（ａ）に示す直方体のディップコート槽１１が使用される。この場合、図２（ａ），（ｂ）に示すように板状基材Ｐを降下させ、一旦ディップコート槽１１内の光学膜用塗料Ｌに鉛直方向に、かつそのほぼ全体を浸漬させ、一定時間保持した後、図２（ｃ）に示すように、ゆっくりとした一定速度で鉛直方向に引き上げる。これにより、基材Ｐの両面にそれぞれ所定量の光学膜用塗料Ｌが付着する。この基材Ｐ表面への光学膜用塗料Ｌの付着量は、基材Ｐの引き上げ速度、光学膜用塗料Ｌの物性（粘度・塗料密度・塗料の表面張力など）、基材Ｐ表面の特性などより決まり、最終的に目標膜厚の光学膜となるように付着量はコントロールされる。
【００２０】
ここで使用される光学膜用塗料Ｌは、結合剤が溶解した溶媒中に微粒子が分散された塗布型塗料であり、基材Ｐあるいは薄膜上に塗布された後に硬化反応により、所定の機能を有する光学膜となるものである。光学膜用塗料Ｌに含まれる各構成物の詳細は次の通りである。
【００２１】
微粒子は、例えば成膜された後の光学膜の屈折率を調整するために添加される所定の屈折率を有する微粒子であり、構成成分としてTi、Zr、Al、Ce、Sn、La、In、Y、Sb、等の酸化物、In- Sn等の合金酸化物、SiO2、MgF2、あるいはフッ素系樹脂が挙げられる。また、微粒子の粒径は、数ｎｍ〜数百ｎｍの範囲で適宜用いられる。
【００２２】
溶媒は、水あるいは有機溶剤である。有機溶剤の場合は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、乳酸エチル、エチレングリコールアセテート等のエステル系溶媒等を用いる。
【００２３】
結合剤は、熱硬化性樹脂、紫外線（ＵＶ）硬化型樹脂、電子線（ＥＢ）硬化型樹脂等があげられる。熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化型樹脂、ＥＢ硬化型樹脂の例としてはポリスチレン樹脂、スチレン共重合体、ポリカーボネート、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリアミン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂環式等）基を有するポリマーでもよい。また、炭素鎖中にフッ素、シラノール基の入った樹脂でも構わない。
【００２４】
なお、光学膜用塗料Ｌは、微粒子を分散させるための分散剤を含有していてもよく、結合剤の硬化促進剤などが含まれていてもよい。
【００２５】
（ｓ２）乾燥工程
乾燥工程は本発明の根幹を成すものであり、図１の乾燥室１２内に乾燥により基材Ｐ上の光学膜用塗料Ｌ（塗膜）から蒸発した溶媒蒸気を滞留させて、乾燥室１２内の溶媒の蒸気圧を調整し、基材Ｐ上の塗膜の乾燥速度を抑制制御するものである。
【００２６】
乾燥工程の具体的内容について、図１を参照しながら説明する。
ディップコート装置１０は、光学膜用塗料Ｌで満たされた直方体のディップコート槽１１と、ディップコート槽１１の上部に設けられた乾燥室１２とを備えた構成となっている。
【００２７】
乾燥室１２は、壁面上部がふさがれた密閉構造となっており、ディップコート槽１１内の光学膜用塗料Ｌから蒸発した溶媒蒸気及び基材Ｐ上の塗膜から蒸発した溶媒蒸気が、乾燥室１２内に滞留するようになっていて、乾燥工程の際には、乾燥室１２内の当該溶媒の蒸気圧は、乾燥室１２外部の蒸気圧より大で、溶媒蒸気が基材Ｐ上で再凝集する蒸気圧より小となっている。溶媒の蒸気圧を乾燥室１２外部の蒸気圧より大とするのは、基材Ｐ上の塗膜の乾燥を乾燥室１２外部の蒸気圧雰囲気下での乾燥、いわゆる通常の乾燥よりも遅くするためである。また、溶媒の蒸気圧を溶媒蒸気が基材Ｐ上で再凝集する蒸気圧より小とするのは、再凝集した溶媒により塗膜中の微粒子の充填・配列が阻害されることを防ぐためである。
なお、乾燥室１２の密閉構造は、乾燥プロセス中に乾燥室１２の外部からの気流の流入による基材Ｐ表面で乱流が発生することを阻止し、塗膜が基材Ｐ上で均一に乾燥することにも寄与する。
【００２８】
乾燥工程において、ステップｓ１の塗布工程で基材Ｐがディップコート槽１１に浸漬後引き上げられると共に、基材Ｐの塗膜が形成された部分は上述の蒸気圧の状態となっている乾燥室１２内に導入されることとなる。その際に基材Ｐ上の塗膜から溶媒が蒸発していく速度（蒸発速度）、すなわち乾燥速度は、塗膜に隣接する乾燥気体内の溶媒蒸気圧が乾燥室１２外部に置かれた場合の溶媒蒸気圧よりも高いため、通常の場合よりも小さくなり、塗膜中の微粒子同士が自己組織化作用により相互に密着して充填・配列できるだけの十分な移動時間が確保されるようになる。
【００２９】
また、この乾燥は、基材Ｐの幅方向（図１において紙面垂直方向）には同じ高さ位置で起こり、塗膜の乾燥部分と未乾燥部分との境界線は基材Ｐ上で水平直線状態となっており、その境界線は基材Ｐの引き上げに伴って、基材Ｐの上部から下部にかけて一方向に徐々に進行していくことになる。
【００３０】
以上の乾燥工程を経ることにより、微粒子が塗膜中で適正に充填・配列された、塗膜欠陥のない状態とすることが可能となる。
なお、この場合の乾燥には自然乾燥だけではなく、加熱乾燥も含まれる。
【００３１】
（ｓ３）成膜工程
つぎに乾燥工程を経た基材Ｐ上の塗膜には硬化処理が施され、所定の光学膜となる。この場合の硬化は、熱硬化、紫外線硬化、電子線硬化など光学膜用塗料Ｌで設定されている適切な方法で行えばよい。
以上の方法により、均一な光学特性を有する光学膜を形成することが可能である。
【００３２】
なお、複数の基材Ｐを順次投入して、連続して上記塗布、乾燥を行う連続生産では、乾燥室１２内に滞留する溶媒蒸気量が増加していくことがあるが、この場合には、例えば乾燥室１２の側壁を開口しておき、その開度を調整することにより、乾燥室１２内の溶媒蒸気圧を調整するようにすればよい。
【００３３】
また、ここでは塗布方法としてディップコート法の場合を例にとり説明したが、この他にグラビアオフセットコータ―、マイクログラビアコータ―、表面張力を応用したＣＡＰコータ―、ダイコータ―などによる塗布の場合においても、本発明に係る光学膜の形成方法を適用することができ、上述したように乾燥速度を抑制することにより、塗膜内の微粒子の充填率や配列率を向上させることが可能となる。
【００３４】
また、溶媒が爆発性の有機溶媒である場合、その溶媒蒸気が乾燥室内の空気と混合し爆発下限界濃度以上に達すると、静電気や金属衝突などによるスパーク火花で着火、爆発する危険性が生じる。そのため、窒素等の不活性ガスのパージにより乾燥室内を低酸素雰囲気として、溶媒蒸気濃度が爆発下限界を超えないようにするとよい。
【００３５】
つぎに、本発明に係る光学膜の形成方法の第２の実施の形態について説明する。なお、以下に示す実施の形態は例示であり、これに限定されるものではない。
（光学膜の形成方法）
本発明に係る光学膜の形成方法は、第１の実施の形態で示した光学膜の形成方法のうち、（ｓ１）塗布工程及び（ｓ３）成膜工程は同様であり、（ｓ２）乾燥工程のみ態様が異なる。以下に、第２の実施の形態における乾燥工程について、図３を用いて説明する。
【００３６】
本実施の形態における乾燥工程は、図３の乾燥室２２内に光学膜用塗料Ｌを構成する溶媒を供給して、乾燥室２２内の溶媒の蒸気圧を調整し、基材Ｐ上の塗膜の乾燥速度を抑制制御するものである。
【００３７】
乾燥工程の具体的内容について、図３を参照しながら説明する。
ディップコート装置２０は、光学膜用塗料Ｌで満たされた直方体のディップコート槽２１と、ディップコート槽２１の上部に設けられた乾燥室２２と、乾燥室２２内部に光学膜用塗料Ｌを構成する溶媒を噴霧して供給する噴霧供給装置２３とを備えた構成となっている。
【００３８】
噴霧供給装置２３は、乾燥室２２の下部に設けて、ディップコート槽２１から基材Ｐが引き上げられた直後の空間の溶媒蒸気圧を調整するとよい。
また、溶媒が水の場合には加湿器で相対湿度の指標で乾燥室２２内の溶媒蒸気圧を制御してもよい。
【００３９】
乾燥室２２内には、乾燥室２２内に噴霧供給された溶媒が蒸発した溶媒蒸気、ディップコート槽１１内の光学膜用塗料Ｌから蒸発した溶媒蒸気及び基材Ｐ上の塗膜から蒸発した溶媒蒸気が滞留するようになっていて、乾燥工程の際には、乾燥室１２内の当該溶媒の蒸気圧は、乾燥室１２外部の蒸気圧より大で、溶媒蒸気が基材Ｐ上で再凝集する蒸気圧より小となっている。乾燥室２２内の溶媒蒸気圧は、乾燥室２２内部への噴霧量により調整すればよい。
なお、溶媒の蒸気圧の範囲を規定するのは第１の実施の形態の場合と同じ理由である。
【００４０】
本乾燥工程においても、ステップｓ１の塗布工程で基材Ｐがディップコート槽２１に浸漬後引き上げられると共に、基材Ｐの塗膜が形成された部分は所定の蒸気圧の状態となっている乾燥室２２内に導入されることとなる。その際に基材Ｐ上の塗膜の乾燥速度は、第１の実施の形態の場合と同様に、塗膜に隣接する乾燥気体内の溶媒蒸気圧が乾燥室１２外部に置かれた場合の溶媒蒸気圧よりも高いため、通常の場合よりも小さくなり、塗膜中の微粒子同士が自己組織化作用により相互に密着して充填・配列できるだけの十分な移動時間が確保されるようになる。
また、基材Ｐ上の乾燥の進行状態は第１の実施の形態と同じである。
【００４１】
以上の乾燥工程を経ることにより、微粒子が塗膜中で適正に充填・配列された、塗膜欠陥のない状態とすることが可能となる。とくに、本発明の態様は、生産開始直後の乾燥室内に十分な溶媒蒸気が存在していない場合に有効である。
また、乾燥室２２を、第１の実施の形態と同様に、壁面上部がふさがれた密閉構造とすると、さらに基材Ｐ上の塗膜の乾燥速度の制御に有効である。
【００４２】
なお、乾燥室２２内への溶媒供給は、この他に乾燥室２２の内壁に光学膜用塗料Ｌ、あるいは光学膜用塗料Ｌを構成する溶媒を付着させるようにしてもよい。このときの乾燥室２２内の溶媒蒸気圧の調整は、内壁に溶媒を塗布する面積を変えることで行えばよい。
【００４３】
上記第１及び第２の実施の形態では塗布方法としてディップコート法の場合を例にとり説明したが、この他にグラビアオフセットコータ―、マイクログラビアコータ―、表面張力を応用したＣＡＰコータ―、ダイコータ―などによる塗布の場合においても、本発明に係る光学膜の形成方法を適用することができ、上述したように乾燥速度を抑制することにより、塗膜内の微粒子の充填率や配列率を向上させることが可能となる。
【００４４】
また、本発明に係る光学膜の形成方法により作製される光学膜としては、反射防止膜（特に多層型反射防止膜）、反射防止フィルム（特に多層型反射防止フィルム）、帯電防止膜、透明導電膜、防汚膜、撥水膜、配向膜、プライマー膜、カラーフィルタ、蛍光膜、偏光膜などの機能性膜が挙げられる。
【実施例】
【００４５】
上記実施の形態に基づいて実施した例を以下に説明する。
（実施例１）
実施例１における光学膜用塗料の組成と実験方法とを以下に示す。
１．塗料
・溶媒：水                      １００重量部
・微粒子：シリカ微粒子              １重量部
【００４６】
２．実験方法
（ｓ１１）図２に示すディップコート装置２０において、噴霧供給装置２３である加湿器による水の噴霧量を調整して、予め乾燥室２２内部の湿度を４０〜７０％ＲＨの範囲で１０％刻みで変化させる。
（ｓ１２）ＰＥＴフィルム（厚み１８８μｍ、東レ社製、商品名Ｕ４２６）を基材Ｐとし、ディップコート装置２０においてＰＥＴフィルムの主面に塗料を塗布し、塗膜を形成する。
（ｓ１３）塗膜が形成されたＰＥＴフィルムを引き上げながら乾燥室２２に導入し、塗膜を乾燥させる。ＰＥＴフィルム上の塗膜の乾燥の状況を目視で観察し、その観察結果に基づいて微粒子の充填・配列状態を評価した。
【００４７】
以上の結果、乾燥室２２内部が湿度５０〜７０％ＲＨの場合に、ＰＥＴフィルム上の塗膜の乾燥部（白色の領域）と未乾燥部（黒色の領域）との境界線は水平直線状となり、その境界線はＰＥＴフィルムの引き上げに伴って、ＰＥＴフィルムの上部から下部にかけて一方向に徐々に進行していく状況が観察され、シリカ粒子が塗膜中で適正に充填・配列された、塗膜欠陥のない状態となっていることが確認された。
これに対して、乾燥室２２内部が湿度４０％ＲＨの場合には、上記境界線が水平直線状とはならず、塗膜欠陥のある状態となっていることが伺われた。
なお、乾燥室２２内部が湿度７０％ＲＨを超える場合には、乾燥室２２内部及びＰＥＴフィルムの塗膜上に結露が確認された。
【００４８】
（実施例２）
図１のディップコート装置２０を使用し、塗布型ＡＲパネル基板を作製するため，幅１００ｃｍ、高さ７０ｃｍ、厚み２．５ｍｍのポリカーボネート基材（板状基材）の両面に膜厚０．１μｍの薄膜を形成した。
【００４９】
１．塗料
まず、以下に示す材料（１），（２），（３）を、（１）＝１００重量部、（２）＝６．７重量部、（３）＝１０００重量部の割合で混合して反射防止膜用塗料を調製した。
（１）微粒子：中空シリカ系ゾル液（溶媒：メチルエチルケトン、固形分：２０ｗｔ％）中空シリカは平均粒径が６０ｎｍで、外殻厚み：空洞半径＝１：５、外殻厚みは５ｎｍ程度、屈折率は１．２
（２）結合剤：フッ化エチレン共重合体樹脂液（溶媒：酢酸ブチル、固形分：５０ｗｔ％）フッ化エチレン共重合体は屈折率が１．４２，官能基含有量は２０モル％、官能基付き単量体はＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 ＯＨで、官能基なし単量体はＣＦ2 ＝ＣＦ2 
（３）溶媒：メチルイソブチルケトン
なお、上述の組成混合を分散させる所定の分散液を添加した。
【００５０】
２．実験方法
第１の実施の形態に示す光学膜の形成方法に従い、上記基材２０枚を用いて、連続して浸漬塗布、乾燥、成膜処理を行った。なお、基材表面の塗膜を１００℃で乾燥・硬化させた結果、膜厚０．１μｍの反射防止膜が得られた。
この反射防止膜の反射・透過特性について分光光度計（ＪＡＳＣＯ  Ｖ−５６０型）で測定し、塗膜強度に関しては耐傷性等を示す鉛筆硬度の測定（ＪＩＳ規格参照）を行った。
【００５１】
その結果、基材両面に膜厚９７〜１０９ｎｍのシリカ粒子膜が正常に形成されていることが確認された。この膜厚は、膜厚均一性に関する規格：９５〜１０５ｎｍをほぼ満足している。また、基材表面を観察したところ、その表面は何ら損傷を受けていないことがわかった。さらに、塗膜形成後の２０枚の基材から任意に抽出した複数枚のサンプルについて塗膜の品質を検査したところ、塗布液には劣化（化学的または物理的変化）が生じていなかった。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明に係る光学膜の形成方法の第１の実施の形態で使用するディップコート装置の構成図である。
【図２】ディップコート装置における光学膜用塗料の塗布方法を示す概略図である。
【図３】本発明に係る光学膜の形成方法の第２の実施の形態で使用するディップコート装置の構成図である。
【符号の説明】
【００５３】
１０，２０…ディップコート装置、１１，２１…ディップコート槽、１２，２２…乾燥室、２３…噴霧供給装置、Ｌ…光学膜用塗料、Ｐ…基材
【図１】
2005125197.tif 000003
【図２】
2005125197.tif 000004
【図３】
2005125197.tif 000005