(57)【要約】【課題】  非ニュートン性の塗布液の使用可能な塗布条件範囲を広げ、長時間の塗布でも塗布故障の発生が無く、塗布性が安定した塗布装置の提供。【解決手段】  バックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該帯状支持体とで形成された前記塗布液流路につながり、且つ気液界面を有する液溜まり部とを有し、前記塗布液流路形成部材と前記バックロール上の該帯状支持体とで形成される部分の間隙のバラツキが３％以下であり、該塗布膜の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。【選択図】        図１
2005111398.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液供給部材と前記塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された該塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
前記塗布液流路の内、前記塗布液流路形成部材と前記バックロール上の該帯状支持体とで形成される部分の間隙の幅方向のバラツキが３％以下であり、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布液流路の高さを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液供給部材と前記塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された該塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
該塗布液供給路の間隙の幅方向のバラツキが３％以下であり、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布液流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液供給部材と前記塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された該塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
前記塗布液流路形成部材は、塗布液流路の間隙を制御可能とする可動式であり、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布液流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液供給部材と前記塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された該塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
該塗布液流路の内、前記塗布液流路形成部材と前記バックロール上の前記帯状支持体とで形成される塗布液流路の間隙は、帯状支持体搬送方向の上流側よりも下流側が狭く形成されており、
該間隙の上流側の高さをＪ、下流側の高さをＫとしたとき、０．５≦Ｋ／Ｊ≦１．０の関係を有し、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布液流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
【請求項５】
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液供給部材と前記塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された該塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
前記塗布液流路形成部材の前記塗布液流路を形成している面の下流側の角部の角度が１〜９０°であり、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布液流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
【請求項６】
前記塗布液流路の内、前記塗布液流路形成部材と前記バックロール上の該帯状支持体とで形成される部分の間隙の幅方向のバラツキが３％以下であることを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【請求項７】
前記塗布液供給路の間隙の幅方向のバラツキが３％以下であることを特徴とする請求項５又は６に記載の塗布装置。
【請求項８】
前記塗布液流路形成部材は、塗布液流路の間隙を制御可能とする可動式であることを特徴とする請求項５〜７の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項９】
前記塗布液流路の内、前記塗布液流路形成部材と前記バックロール上の前記帯状支持体とで形成される塗布液流路の間隙は、帯状支持体搬送方向の上流側よりも下流側が狭く形成されており、
該間隙の上流側の高さをＪ、下流側の高さをＫとしたとき、０．５≦Ｋ／Ｊ≦１．０の関係を有していることを特徴とする請求項５〜８の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項１０】
前記塗布液供給部材は、少なくとも２部材で構成され、且つ該２部材間に塗布液供給路を有し、該塗布液供給路はバックロール上の前記帯状支持体と塗布液流路形成部材とで形成する塗布液流路につながることを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項１１】
前記液溜まり部は塗布液の抜き取り手段を有しており、該抜き取り手段を通じ、液が液面を一定に保ちながら循環することを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項１２】
前記塗布液の粘性指数が０．２〜０．９であることを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項１３】
前記塗布液のみかけ粘度が１〜８Ｐａ・ｓであることを特徴とする請求項１〜１２の何れか１項に記載の塗布装置。
【請求項１４】
前記塗布液が輝尽性蛍光体層塗布液であることを特徴とする請求項１〜１３の何れか１項に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、連続走行するバックロールに支持された帯状支持体に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より連続走行する帯状支持体に塗布液を塗布する方法としては、塗布装置から押し出された塗布液がビードを形成して支持体に塗布するエクストルージョン塗布方法、スライド塗布方法、塗布装置から押し出された塗布液が膜を形成し、自然落下で支持体に塗布するカーテン塗布方法及び塗布装置から塗布液を噴出させ、膜を形成し支持体に塗布する方法、支持体上に過剰に塗布された塗布液をバックロール上にあるナイフ（膜厚規制部材）により一定の膜厚にして塗布するナイフ塗布方法等が知られている。
【０００３】
エクストルージョン塗布方法にはエクストルージョン型塗布装置、スライド塗布方法にはスライド型塗布装置、カーテン塗布方法にはエクストルージョン型塗布装置、又はスライド型塗布装置、ナイフ塗布方法にはナイフ型塗布装置、バー塗布方法にはバー型塗布装置が使用されている。
【０００４】
これら、エクストルージョン型塗布装置、スライド型塗布装置は前計量型塗布装置と呼ばれ、一方、ナイフ型塗布装置又はバー型塗布装置は後計量型塗布装置と呼ばれている。これらの塗布装置は使用する塗布液の物性及び塗布膜厚により使い分けがされている。例えば、一般的にみかけ粘度が０．０５〜１００Ｐａ・ｓの塗布液で塗布膜厚が１０〜５００μｍの場合にはエクストルージョン型塗布装置が使用され、みかけ粘度が０．００１〜０．０３Ｐａ・ｓの塗布液で塗布膜厚が４０μｍ以上の場合にはスライド型塗布装置が使用され、みかけ粘度が０．０２３〜０．１Ｐａ・ｓの塗布液で塗布膜厚が２〜１５０μｍの場合にはバー型塗布装置が使用されている。又、１〜３００Ｐａ・ｓの高粘度の塗布液で塗布膜厚が２０μｍ以上の場合にはナイフ型塗布装置が使用されている。
【０００５】
本発明に係る非ニュートン性の液体とは、その液体のみかけ粘度がズリ速度と時間に依存する液体で、例えばポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等のポリマーを含有している塗布液や、シリカ、アルミナ、磁性粉、酸化ガドリニウム、硫化ガドリニウム、ポリメチルメタクリレート、輝尽性蛍光体等の分散物を含有している塗布液が挙げられる。
【０００６】
近年、医療業界では輝尽性蛍光体を利用した放射線画像変換パネルにより放射線像を画像化する方法が用いられるようになってきた。これは、例えば、米国特許第３，８５９，５２７号及び特開昭５５−１２１４４号等に開示された様に支持体上に輝尽性蛍光体層を形成した放射線画像変換パネルを使用するものである。この放射線画像変換パネルから可視画像を得るには、輝尽性蛍光体層に被写体を透過した放射線を当てて、被写体各部の放射線透過度に対応する放射線エネルギーを輝尽性蛍光体層に蓄積させて潜像（蓄積像）を形成し、この輝尽性蛍光体層を輝尽励起光（レーザ光が用いられる）で走査することによって各部に蓄積された放射線エネルギーを放射させて光に変換し、この光の強弱を読み取り、ＣＲＴ等各種のディスプレイ上に、又ハードコピーとして再生する方法が挙げられる。支持体上に輝尽性蛍光体層を塗布するのにこれらの塗布液のみかけ粘度、塗布膜厚からナイフ型塗布装置が使用されている。
【０００７】
このように高粘度、厚膜塗布に適しているナイフ型塗布装置が多く使用される様になっている。ナイフ型塗布装置では、例えば、送液ポンプにより送られてきた塗布液がナイフ型塗布装置とバックロール上の支持体とで形成されたダムと称する液溜め部に一旦溜められ、溜められた塗布液はバックロール上にあるナイフ（膜厚規制部材）により規制されて一定の膜厚に塗布される。
【０００８】
このようなナイフ型塗布装置としては、特開昭６３−６９５６８号、同６３−６９５６６号、同６２−２８９２６６号に記載されており、塗布液の供給は一般的には塗布液ダムの上から、又は、塗布液ダムの壁面の所定の位置からパイプにて供給されることが多い。
【０００９】
これら記載されているナイフ型塗布装置の欠点としては、塗布液を供給する時の流速により塗布液ダム内で、流動ムラが生じて膜厚が不均一になったり、また塗布液が固体粒子を分散した分散液である場合、塗布液ダム内で粒子の沈殿・凝集および流動ムラによるみかけ粘度の変化が発生して塗膜の組成が不均一になったり、塗布筋の問題が起こり易いことが知られている。
【００１０】
こうした塗布液ダムでの流動ムラや沈殿の発生問題を解決するため、塗布液ダム内に、帯状支持体の幅方向に往復運動可能な攪拌パドルや塗布液溜め内の塗布液を前記帯状支持体の幅方向に均一に攪拌する為に回転体を設け、塗布液溜まりを攪拌できるような塗布装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。これらのナイフ型塗布装置の一例を図６で説明する。
【００１１】
図６はナイフ型塗布装置を使用した塗布方式の概略図である。
【００１２】
図中、１はナイフ型塗布装置の内のコンマ型の塗布装置を示す。コンマ型の塗布装置１は、コンマ型のナイフ１０１とバックプレート１０２とサイドプレート１０３とバックロール２とを有している。１０４はコンマ型のナイフ１０１とバックプレート１０２とサイドプレート１０３とバックロール２に保持された帯状支持体３により囲まれた塗布液を溜める塗布液ダムを示す。１０１ａはコンマ型のナイフの先端部を示す。塗布液は、バックプレート１０２の幅方向の中央部分に形成されている塗布液供給口１０５から塗布液ダム１０４に供給される。
【００１３】
塗布液ダム１０４に溜められた塗布液はコンマ型のナイフ１０１とバックロール２に保持された帯状支持体３との間隙により、塗布量が規制され、帯状支持体３に塗布される。３０１は塗布膜層を示す。１０６は塗布液ダム１０４に溜められた塗布液の沈殿を防止するために塗布液を撹拌するための回転ロールを示す。４は塗布液供給部を示し、塗布液容器４０１と、送液ポンプ４０２と、送液管４０３とを有している。
【００１４】
しかしながら、ある種の非ニュートン性の塗布液においては回転体を円筒形に近づけると攪拌力が低下する為効果がなくなる場合があるし、回転数を早めると円筒近傍と周辺液溜まり部での剪断性の大きな変化が伴い筋の発生が見られる場合がある。又、回転体を羽根等の攪拌性の高い形状にした場合、羽根の周期の段ムラが発生し易いという欠点を有し、攪拌性の低い形状では塗布液ダムでの流動ムラや沈殿の発生する場合があり、使用する塗布液を予備実験をして適正を有しているか否かを確認してから使用しなければならず使用する塗布液に制限があった。
【特許文献１】特開２００１−７０８６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたもので、その目的としては、非ニュートン性の塗布液の使用可能な塗布条件範囲を広げ、長時間の塗布でも塗布故障の発生が無く、均質な塗布膜を形成し、塗布性が安定した塗布装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的は、下記の構成により達成された。
（請求項１）
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液供給部材と前記塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された該塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
前記塗布液流路の内、前記塗布液流路形成部材と前記バックロール上の該帯状支持体とで形成される部分の間隙の幅方向のバラツキが３％以下であり、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布液流路の高さを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
（請求項２）
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液供給部材と前記塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された該塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
該塗布液供給路の間隙の幅方向のバラツキが３％以下であり、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布液流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
（請求項３）
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液供給部材と前記塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された該塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
前記塗布液流路形成部材は、塗布液流路の間隙を制御可能とする可動式であり、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布液流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
（請求項４）
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液供給部材と前記塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された該塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
該塗布液流路の内、前記塗布液流路形成部材と前記バックロール上の前記帯状支持体とで形成される塗布液流路の間隙は、帯状支持体搬送方向の上流側よりも下流側が狭く形成されており、
該間隙の上流側の高さをＪ、下流側の高さをＫとしたとき、０．５≦Ｋ／Ｊ≦１．０の関係を有し、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布液流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
（請求項５）
上流から下流に向かって連続搬送されるバックロールに支持された帯状支持体上に、非ニュートン性の塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置であって、
塗布液供給部材と、塗布液流路形成部材と、膜厚規制部材と、サイドプレートとを有してなり、
少なくとも、該塗布液供給部材と、該塗布液流路形成部材と、該膜厚規制部材と該バックロール上の該帯状支持体とで形成された塗布液流路と、
前記塗布液供給部材と前記塗布液流路形成部材との間に形成された塗布液供給路と、
前記塗布液流路形成部材と前記膜厚規制部材との間に形成された該塗布液流路につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部とを有し、
前記塗布液流路形成部材の前記塗布液流路を形成している面の下流側の角部の角度が１〜９０°であり、
該塗布膜の厚みを規制するために前記塗布液流路を介して流出する該塗布液を前記バックロール上の前記帯状支持体と前記膜厚規制部材とで形成する前記塗布液流路の厚みを前記膜厚規制部材で規制して塗布膜を形成することを特徴とする塗布装置。
（請求項６）
前記塗布液流路の内、前記塗布液流路形成部材と前記バックロール上の該帯状支持体とで形成される部分の間隙の幅方向のバラツキが３％以下であることを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
（請求項７）
前記塗布液供給路の間隙の幅方向のバラツキが３％以下であることを特徴とする請求項５又は６に記載の塗布装置。
（請求項８）
前記塗布液流路形成部材は、塗布液流路の間隙を制御可能とする可動式であることを特徴とする請求項５〜７の何れか１項に記載の塗布装置。
（請求項９）
前記塗布液流路の内、前記塗布液流路形成部材と前記バックロール上の前記帯状支持体とで形成される塗布液流路の間隙は、帯状支持体搬送方向の上流側よりも下流側が狭く形成されており、
該間隙の上流側の高さをＪ、下流側の高さをＫとしたとき、０．５≦Ｋ／Ｊ≦１．０の関係を有していることを特徴とする請求項５〜８の何れか１項に記載の塗布装置。
（請求項１０）
前記塗布液供給部材は、少なくとも２部材で構成され、且つ該２部材間に塗布液供給路を有し、該塗布液供給路はバックロール上の前記帯状支持体と塗布液流路形成部材とで形成する塗布液流路につながることを特徴とする請求項１〜９の何れか１項に記載の塗布装置。
（請求項１１）
前記液溜まり部は塗布液の抜き取り手段を有しており、該抜き取り手段を通じ、液が液面を一定に保ちながら循環することを特徴とする請求項１〜１０の何れか１項に記載の塗布装置。
（請求項１２）
前記塗布液の粘性指数が０．２〜０．９であることを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載の塗布装置。
（請求項１３）
前記塗布液のみかけ粘度が１〜８Ｐａ・ｓであることを特徴とする請求項１〜１２の何れか１項に記載の塗布装置。
（請求項１４）
前記塗布液が輝尽性蛍光体層塗布液であることを特徴とする請求項１〜１３の何れか１項に記載の塗布装置。
【発明の効果】
【００１７】
非ニュートン性の塗布液の使用可能な塗布条件範囲を広げ、長時間の塗布でも塗布故障の発生が無く、均質な塗布膜を形成し、塗布性が安定した塗布装置を提供することが出来、製品の歩留まりが向上し、塗布液の改良が容易になり製品の性能改良の期間が短縮された。又、幅方向における塗布膜の均一性が向上し製品の性能が安定した。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態について、図１〜図５を参照しながら説明を行うが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１９】
図１は本発明の塗布装置を用いた塗布方式の概略図である。図１（ａ）は本発明の塗布装置を用いた塗布方式の概略斜視図である。図１（ｂ）は図１（ａ）の塗布装置を構成する各部材の関係を示す概略のブロック図である。
【００２０】
図中、５はバックロール６に支持され上流から下流に向かって（図中の矢印方向）連続搬送される帯状支持体７に塗布液を用い塗布膜を形成する塗布装置を示す。塗布装置５は膜厚規制部材５０１と、塗布液供給部材５０２と、２枚のサイドプレート５０３ａ、５０３ｂと、塗布液流路形成部材５０４とを有している。５０５は塗布液流路形成部材と該膜厚規制部材との間に形成された塗布液流路５０７（図２を参照）につながり、且つ大気に開放された気液界面を有する液溜まり部を示す。
【００２１】
８は塗布液供給部を示し、塗布液供給部８は調製容器（貯蔵容器）８０１と、調製容器（貯蔵容器）８０１内の塗布液を塗布装置５の塗布液供給部材５０２に送液する制御手段の一つである送液手段８０２と送液管８０３とを有している。送液手段８０２としては特に限定はなく、例えばポンプ送液、加圧送液、ヘッド送液等が挙げられる。本図ではポンプ送液の場合を示している。９は塗布装置５の液溜まり部の液面の高さを監視する制御手段の一つである液面高さ監視手段（以下、単に監視手段ともいう）を示す。
【００２２】
５０６は長時間の塗布を行う時、液溜まり部５０５に溜められた液の分散物が沈殿する可能性がある場合、液溜まり部５０５の下部の塗布液の一部を排出するための排出管を示し、液溜まり部５０５の両側に配設されている。排出管５０６から排出された塗布液は調製容器（貯蔵容器）８０１に、送液管５０６ａにより濾過装置５０６ｂを介し循環させることが好ましい。
【００２３】
５０６ｃ、５０６ｄは排出管５０６の途中に配設されている排出手段の一つである電磁弁を示し、電磁弁５０６ｃ、５０６ｄの開閉により塗布液の一部を排出することが可能となっている。排出管を配設する位置は特に限定は無く、例えばＴ字形状にしてＴ字を逆さにした状態で液溜まり部５０５の上部より沈めてよいし、両側のサイドプレートに配設してもかまわない。本図では両側のサイドプレートに配設した場合を示している。
【００２４】
１０は、監視手段９と、送液手段８０２と、電磁弁５０６ｃ、５０６ｄと、駆動手段１１（詳細は図３を参照）とを制御する制御部を示す。尚、塗布液の排出管がサイドプレートに配設されている場合は、塗布液の排出は排出管の途中に配設されている排出手段の一つである電磁弁５０６ｃ、５０６ｄを制御部１０で制御できることが好ましい。塗布液の排出管がＴ字型を逆さにした状態で液溜まり部５０５の上部より沈められている場合は、制御手段の一つである排出手段（不図示）を制御部１０で制御し塗布液の排出を行うことが好ましい。排出手段としては特に限定はなく、例えば吸引ポンプ等が挙げられる。一定期間で液溜まり部５０５の下部の塗布液の一部を排出することで沈殿物に伴う塗布故障が減少した安定した塗布が可能となる。さらに循環をさせることにより、液の滞留を無くし、より塗布故障が減少した安定した塗布が可能となる。
【００２５】
塗布装置を構成している各部材の関係に付き図１（ｂ）を用いて説明する。
液溜まり部に配設された監視手段９は液面の高さを監視し、監視手段９からの情報は制御部１０のＣＰＵ１０ａに入力される。入力された情報に従い、予め液溜まり部の液面の高さと送液量の関係が記憶されているメモリ１０ｂにより送液量が決定され、ＣＰＵ１０ａを介して送液手段８０２による送液量が制御される様になっている。又、駆動手段１１により塗布液流路形成部材５０４を上下方向に移動させることが可能となっており、塗布液流量に応じて塗布液流路５０７の間隙を制御することが可能となっている（詳細は図３を参照）。液溜まり部の塗布液の排出は、排出管の途中に配設されている電磁弁５０６ｃ、５０６ｄの開閉により行われ、電磁弁５０６ｃ、５０６ｄの開閉は予め使用する塗布液の停滞時間と沈殿物の量の関係が記憶されているメモリ１０ｂにより決定され、制御部１０により制御されている。本図に示される様に排出管がサイドプレートに配設されている場合は、電磁弁５０６ｃ、５０６ｄが開くことで塗布液が排出される。
【００２６】
又、塗布液の排出管がＴ字型を逆さにした状態で液溜まり部５０５の上部より沈められている場合の排液手段（不図示）の稼働は、電磁弁の制御と同じように制御部１０により制御されている。
【００２７】
塗布液を排出することにより低下する液溜まり部５０５の液面は、監視手段９により監視され、得られた情報は制御部１０で処理され、送液手段８０２により塗布液の送液量を多くすることで液溜まり部５０５の気液界面の高さを一定に制御することが可能となっている。
【００２８】
制御手段により液溜まり部の気液界面の高さを一定に制御する効果として、膜厚規制部材と帯状支持体との間隙に形成されている塗布液流路に掛かる液圧を一定にし，塗布膜厚を安定にすることが挙げられる。
【００２９】
本発明に係る制御手段は、監視手段９と、制御部１０と、送液手段８０２と、排液手段と、駆動手段１１（図３を参照）とこれらの各手段を制御する制御部とを有している。
【００３０】
尚、使用する監視手段の種類は特に限定はなく、例えば、接触式、非接触式センサが挙げられる。接触式センサとしては、例えばフロート式、圧力センサ、光学センサ、電極式センサ等が挙げられる。非接触式センサとしては、例えばレーザーセンサ、静電容量センサ、超音波センサ等が挙げられる。監視手段９を配設する位置は使用する監視手段の種類により異なっており、例えば接触式センサの場合は塗布液ダム面に接触するように塗布液流路形成部材又は膜厚規制部材に配設してもよく、レーザーセンサの場合は液溜まり部の上部に配設することが好ましい。本図の場合は塗布装置のフレーム（不図示）に配設した場合を示している。
【００３１】
図２は図１のＡ−Ａ′に沿った概略断面図である。図２の（ａ）は断面形状が角形のポケット部を有する塗布液供給部材を用いた場合の概略断面図である。図２の（ｂ）は断面形状が円形のポケット部を有する塗布液供給部材を用いた場合の概略断面図である。図２の（ｃ）は二つの部材からなり断面形状が円形のポケット部を有する塗布液供給部材を用いた場合の概略断面図である。
【００３２】
図中、５０７は塗布液供給部材５０２と、塗布液流路形成部材５０４と、膜厚規制部材５０１とバックロール６上の帯状支持体７とで形成された塗布液流路を示す。５０２ａは送液管８０３で送られてくる塗布液の供給口を示し、５０２ｂは塗布液供給部材５０２に設けられた断面形状が角形のポケット部を示す。５０２ｂ１は塗布液供給部材５０２に設けられた断面形状が円形のポケット部を示す。ポケット部５０２ｂ、５０２ｂ１は送液管８０３より送られてくる塗布液を塗布装置の幅方向に均一に供給するために塗布液供給部材５０２の幅方向に溝で設けられている。溝の形状は特に限定はなく、例えば半円であっても良い。本図では断面の形状が角形と円形の場合を示している。
【００３３】
５０２ｃは塗布液供給部材５０２と塗布液流路形成部材５０４との間に形成された塗布液供給路を示し塗布液供給部材５０２の幅方向に設けられており、塗布液流路５０７につながっている。
【００３４】
５０２ｄはポケット部５０２ｂ１に設けられたスリットを示し、塗布液供給路５０２ｃにつながっている。スリット５０２ｄを設けることで塗布液を更に均一に塗布液供給路５０２ｃに供給することが可能となる。
【００３５】
送液管８０３から送られてくる塗布液は、塗布液供給部材５０２の幅方向に設けられているポケット部５０２ｂ、５０２ｂ１から塗布液供給路５０２ｃを介して塗布液流路５０７に供給され、一部は液溜まり部５０５に溜められ、他は膜厚規制部材５０１により、塗布量が規制され、帯状支持体７上に塗布膜７０１を形成する。膜厚規制部材５０１は、塗布装置５のサイドプレートに上下移動（図中の矢印方向）が可能に配設されていることが好ましい。５０２ｅは塗布液供給部材５０２の先端部を示す。５０２ｆは塗布液供給部材５０２の下部面を示す。
【００３６】
５０８は塗布液供給部材を示し、塗布液供給部材５０８は少なくとも２つの部材５０８ａ、５０８ｂより構成されている。５０８ｃは送液管８０３で送られてくる塗布液の供給口を示し、５０８ｄは塗布液供給部材５０８に設けられた断面形状が円形のポケット部を示す。５０８ｅは塗布液供給部材５０８を構成している２つの部材５０８ａ、５０８ｂにより形成された塗布液供給路を示し、塗布液供給部材５０８の幅方向に設けられており、塗布液流路５０７につながっている。ポケット部５０８ｄは送液管８０３より送られてくる塗布液を塗布装置の幅方向に均一に供給するために塗布液供給部材５０８の幅方向に溝で設けられている。溝の形状は特に限定はなく、例えば半円、角形であっても良い。本図では断面の形状が円形の場合を示している。他の符号は図１と同義である。
【００３７】
尚、図２の（ａ）、図２の（ｂ）の塗布液供給部材５０２の下部面５０２ｆ、の図２の（ｃ）の塗布液供給部材５０８の下部面５０８ｆの幅方向に塗布液供給部材の先端部とバックロール上の帯状支持体との間隙からの塗布液の漏れ、及び塗布速度を上げた時でも空気の入り込みを防止するために可撓性部材を配設することが好ましい。使用する可撓性部材としては、厚さが２０〜１００μｍのポリエチレンテレフタレートのフィルムが好ましい。可撓性部材を配設することで塗布速度の下限と上限を広げることが可能となる。
【００３８】
又、図２の（ａ）、図２の（ｂ）の塗布液供給部材５０２の下部面５０２ｆ、の図２の（ｃ）の塗布液供給部材５０８の下部面５０８ｆの幅方向に減圧装置を配設してもかまわない。減圧装置により塗布液供給部材の先端部とバックロールの帯状支持体との間隙の近傍を減圧することで、塗布速度を上げた時でも間隙からの空気の入り込みを防止することが可能となる。これにより、入り込んだ空気による泡故障の発生を防止することで安定した塗布、及び塗布速度を上げることが可能となる。減圧装置による減圧度は使用する塗布液及び塗布条件により適宜決設定して使用することが可能である。
【００３９】
図３は図２の（ａ）において塗布液流路形成部材が可動式の場合の概略断面図である。
【００４０】
図中、５０４ｂは塗布液流路形成部材５０４に設けられたガイド部材を示し、５０２ｇは塗布液供給部材５０２に設けられたガイド溝を示し、ガイド部材５０４ｂはガイド溝５０２ｇに沿って移動可能に嵌め込まれている。１１は塗布液流路形成部材５０４を上下方向（図中の矢印方向）に移動させる駆動手段を示す。駆動手段としては数ミリ単位で移動させることが可能であれば特に限定はなく、例えば、ステッピングモータ、シリンダ等が上げられる。これらガイド部材、ガイド溝、駆動源は塗布装置５の大きさに応じて幅方向に設けられており、塗布液流路形成部材を幅方向で均等に移動させるために、少なくとも両端に設けることが好ましい。１１ａは駆動手段１１の力を伝える伝達軸を示し、ガイド部材５０２ｇに繋がっている。この様にすることで、塗布液流路形成部材５０４を上下方向（図中の矢印方向）に移動させることが可能となり、塗布液流量に応じて塗布液流路５０７の間隙を制御することが可能となっている。
【００４１】
本図に示す様に塗布液流路５０７の間隙を塗布液流量に応じて変えることが可能になることで、塗布液流量に対して塗布液流路５０７の間隙が広い場合は、気泡の混入が発生及び塗布液流路５０７の間隙が狭い場合は、圧力が高くなり塗布装置の側面から塗布液のが漏れの発生を防止することが出来、塗布故障の発生が無く、均質な塗布膜を形成し、安定した塗布が可能となった。
【００４２】
図４は図２の（ａ）のＥで示される部分の拡大概略図である。
【００４３】
図中、５０２ｇは塗布液供給路５０２ｃからの塗布液の吐出口を示す。５０１ａは膜厚規制部材５０１のバックロール６と対向する先端面を示す。５０７ａは吐出口５０２ｇから吐出された塗布液の塗布液流路５０７への塗布液供給部を示し、塗布液流路５０７の一部を形成している。
【００４４】
５０７ｂは塗布液流動均質化部を示す。塗布液流動均質化部５０７ｂは塗布液流路形成部材５０４のバックロール６と対向する先端面５０４ａとバックロール６上の帯状支持体７との間に形成された間隙で構成され、塗布液流路５０７の一部を形成している。塗布液流動均質化部５０７ｂ内にある塗布液は帯状支持体７の搬送（図中の矢印方向）に伴い、剪断力が掛けられることで流動の均質化及び流動を促進されるため停滞することが無くなり、塗布液中の分散物が沈殿することを防止する機能を有している。
【００４５】
塗布液流動均質化部５０７ｂの幅は１０〜８０ｍｍが好ましく、更に好ましくは２０〜４０ｍｍである。１０ｍｍ未満の場合は、塗布液の種類によっては流動均質化が不良になり、塗布スジが発生する場合がある。８０ｍｍを超えた場合は、塗布液流路形成部材の材質によっては加工精度を保つことが困難になり、塗布液の種類によっては塗布膜厚が安定しなくなる場合がある。
【００４６】
５０５ａは塗布液流路形成部材５０４と膜厚規制部材５０１との間に形成された液溜まり部５０５の下部の間隙を示し、塗布液流路５０７につながっている。間隙５０５ａの幅は３〜１５ｍｍが好ましい。３ｍｍ未満の場合は、塗布液の種類によっては液溜まり部への緩衝効果が低下するため、塗布膜厚規制部５０７ｄにかかる液圧が変動し塗布ムラが発生する場合がある。１５ｍｍを超えた場合は、塗布液の種類によっては間隙５０５ａ内で停滞部が発生し、長時間の塗布を行った場合塗布液中に沈殿が生じ、塗布スジ故障となる場合がある。
【００４７】
５０７ｃは塗布液流路５０７の一部を形成している塗布液緩衝部を示す。塗布液緩衝部５０７ｃは、塗布液の送液で発生する脈動、帯状支持体７の搬送時に生じる搬送ムラにより塗布液が揺れることで発生する液圧の変動を間隙５０５ａを介して液溜まり部５０５に逃がすことで緩和する機能を有している。
【００４８】
５０７ｄは塗布膜厚規制部を示す。塗布膜厚規制部５０７ｄはバックロール６上の前記帯状支持体７と膜厚規制部材５０１の先端面５０１ａとで形成された間隙で構成され、塗布液流路５０７の一部を形成している。塗布膜厚規制部５０７ｄの高さにより塗布量が規制される。
【００４９】
塗布膜厚規制部５０７ｄの長さは１〜５ｍｍが好ましい。１ｍｍ未満の場合は、塗布液の種類によっては、間隙に掛かる液圧を均一化することが困難になり、塗布膜厚が不安定となる場合がある。５ｍｍを超えた場合は、膜厚規制部材の材質によっては、バックロールの表面の曲率に合わせた設置精度を得ることが困難となり、塗布膜厚が不安定となる場合がある。
【００５０】
塗布膜厚規制部５０７ｄの間隙の高さは帯状支持体上に形成される塗布膜の厚さにより適宜変更することが好ましい。
【００５１】
５０２ｈは塗布液供給部材５０２の先端部５０２ｅとバックロール６上の帯状支持体７との間隙を示す。間隙５０２ｈの高さは０．０５〜１ｍｍが好ましい。０．０５ｍｍ未満の場合は、塗布装置の設置状態によっては支持体へ接触する危険があり、塗布スジや擦れによる異物発生に伴う故障が発生する場合がある。１ｍｍを超えた場合は塗布液の種類によっては間隙５０２ｈより塗布液が漏れ、塗布装置の周辺を汚す場合がある。
【００５２】
本図で示される塗布液流路５０７は塗布液供給部５０７ａと、塗布液流動均質化部５０７ｂと、塗布液緩衝部５０７ｃと、塗布膜厚規制部５０７ｄとを有している。塗布液流路５０７の内、塗布液流動均質化部５０７ｂが塗布液の流れに最も影響を与える部分であり、塗布液流動均質化部５０７ｂの幅方向における間隙の精度を確保することにより、幅方向の塗布液の流れが均一になり安定な塗布が可能となる。
【００５３】
塗布液流動均質化部５０７ｂの間隙の幅方向のバラツキは３％以下である。尚、本発明において３％以下とは、０〜３％を意味する。３％を越えた場合は、幅方向で圧力損失が不均一となるため、幅方向における流動均質化が困難となり、塗布筋故障が生じたり、塗布膜の分布不良が生じるおそれがあるため好ましくない。
【００５４】
塗布液流動均質化部５０７ｂの間隙の幅方向のバラツキは、幅方向における平均間隙をｘ、任意の幅方向の位置での間隙をｈとしたとき、（｜ｈ−ｘ｜）／ｘ×１００により計算で求めた値の有効数字２ケタで取った値である。
【００５５】
Ｊは塗布液流動均質化部５０７ｂの支持体７の搬送方向の上流側の間隙の距離を示し、Ｋは塗布液流動均質化部５０７ｂの支持体７の搬送方向の下流側の間隙の距離を示す。
【００５６】
また塗布液流動均質化部５０７ｂの間隙において、帯状支持体７の搬送方向上流の間隙の距離Ｊよりも帯状支持体７の搬送方向下流の間隙の距離Ｋを狭くし、間隙の距離Ｊと間隙の距離Ｋとの関係は０．５≦Ｋ／Ｊ≦１である。幅方向で均一でより高い剪断がかかり、塗布液をより均一に供給することができる。
【００５７】
距離Ｊは、０．５〜５．０ｍｍで、距離Ｋは、０．５〜５．０ｍｍである。距離Ｊは０．５ｍｍ未満の場合は、塗布液の種類によっては塗布液流路の液圧が高くなり、塗布装置の側面から塗布液が漏れる場合がある。５．０ｍｍを越えた場合は、塗布液の流動均質化が不良になり、塗布筋故障が発生する危険がある。
【００５８】
距離Ｋは０．５ｍｍ未満の場合は、塗布液の種類によっては液圧が高くなり、塗布装置の側面から塗布液が漏れる場合がある。５．０ｍｍを越えた場合は、塗布液の流動均質化が不良になり、塗布筋故障が発生する危険がある。
【００５９】
又、距離Ｊと間隙の距離Ｋとの関係において、０．５≦Ｋ／Ｊの場合、流れに渦が生まれ、滞留などが生じてしまい、塗布故障につながる恐れがある。Ｋ／Ｊ≦１の場合でも、流れに渦が生まれ、滞留などが生じてしまい、塗布故障につながる恐れがある。
【００６０】
塗布液流動均質化部５０７ｂの塗布液の流れを安定にし、筋、面荒れなどの塗布故障につながる液の滞留などを抑えるために、塗布液流動均質化部５０７ｂを形成している塗布液流路形成部材５０４の先端面５０４ａの帯状支持体７の搬送方向下流側の角部の角度θ１を１〜９０°にすることが好ましい。さらに好ましくは３０〜８０°である。
【００６１】
１°未満の場合は、材質によっては加工が難しく、加工が出来たとしても耐性に欠ける場合がある。９０°を越えた場合は、塗布液の種類によっては液溜まり部の下部において渦が生じ易く、塗布故障が発生するおそれがある。
【００６２】
塗布液流路形成部材５０４は、塗布液の流量によって上下移動（図中の矢印方向）が可能に配設されている。塗布液流路形成部材５０４を動かす手段としては特に限定はないが、流量に合わせて上下移動が可能になっている。
【００６３】
塗布液流動均質化部５０７ｂにおける塗布液の流れを安定にする他の要因として塗布液供給部５０７ａへの安定した塗布液の供給が必須であり、このために塗布液供給路５０２ｃの間隙の幅方向におけるバラツキを少なくすることで幅方向に均一に塗布液を供給できる。
【００６４】
塗布液供給路５０２ｃの間隙の幅は０．１〜０．５ｍｍが好ましい。０．１ｍｍ未満の場合は、塗布液供給部材と塗布液流路形成部材の材質によっては加工が困難になり、塗布液供給路の幅方向に対して均一性を保持することが困難となる場合がある。０．５ｍｍを超えた場合は、塗布液の種類によっては塗布液供給路の幅方向に対して均一な供給が不良になり、塗布膜厚が不均一になる場合がある。
【００６５】
塗布液供給路５０２ｃの間隙の幅方向におけるバラツキは３％以下である。６％を越えた場合は、幅方向における流動均質化が困難となり、塗布筋故障が生じたり、塗布膜の分布不良が生じるおそれがあるため好ましくない。塗布液供給路５０２ｃの間隙の幅方向のバラツキは、幅方向における平均間隙をｙ、幅方向の位置での間隙をｍとしたとき、（｜ｍ−ｙ｜）／ｙ×１００により計算で求めた値の有効数字２ケタで取った値である。
【００６６】
５０５ａは塗布液流路形成部材５０４と膜厚規制部材５０１との間に形成された液溜まり部５０５の下部の間隙を示し、塗布液流路５０７につながっている。
【００６７】
５０７ｃは塗布液流路５０７の一部を形成している塗布液緩衝部を示す。塗布液緩衝部５０７ｃは、塗布液の送液で発生する脈動、帯状支持体７の搬送時に生じる搬送ムラにより塗布液が揺れることで発生する液圧の変動を間隙５０５ａを介して液溜まり部５０５に逃がすことで緩和する機能を有している。
【００６８】
５０７ｄは塗布膜厚規制部を示す。塗布膜厚規制部５０７ｄはバックロール６上の前記帯状支持体７と膜厚規制部材５０１の先端面５０１ａとで形成された間隙で構成され、塗布液流路５０７の一部を形成している。塗布膜厚規制部５０７ｄの高さにより塗布量が規制される。
【００６９】
図５は図２の（ｃ）のＦで示される部分の拡大概略図である。
【００７０】
図中、５０８ｆは塗布液供給路５０８ｅからの塗布液の吐出口を示す。５０８ｇは塗布液供給部材５０８を構成する部材５０８ａのバックロール６上の帯状支持体７と対向する先端面を示す。５０８ｈは先端面５０８ｇとバックロール６上の帯状支持体７の間隙を示し、高さは０．１〜０．７ｍｍが好ましい。０．１ｍｍ未満の場合は、塗布装置の設置状態によっては支持体へ接触する危険があり、塗布スジやこすれによる異物発生に伴う故障が発生する場合がある。０．７ｍｍを超えた場合は塗布液の種類によっては、塗布液が漏れ塗布装置の周辺を汚す場合がある。
【００７１】
５０８ｉは塗布液供給部材５０８を構成する部材５０８ｂのバックロール６上の帯状支持体７と対向する先端面を示す。
【００７２】
５０７ｅは吐出口５０８ｆから吐出された塗布液の塗布液流路５０７への塗布液供給部を示し、塗布液供給部材５０８を構成している片方の部材５０８ｂの底面５０８ｉとバックロール６上の帯状支持体７との間に形成された間隙で構成され、塗布液流路５０７の一部を形成している。
【００７３】
塗布液供給部５０７ｅの間隙の高さは０．１〜０．７ｍｍが好ましい。０．１ｍｍ未満の場合は、塗布装置の設置状態によっては支持体へ接触する危険があり、塗布スジやこすれによる異物発生に伴う故障が発生する場合がある。０．７ｍｍを超えた場合は塗布液の種類によっては、幅方向で安定な供給が出来なくなる場合がある。
【００７４】
又、塗布液供給部５０７ｅの長さは５ｍｍ以内が好ましい。５ｍｍを超えた場合は、塗布液の種類によっては塗布液の流動に伴う圧損抵抗が大きくとなり、塗布液供給部材５０８を構成している部材５０８ａの先端面５０８ｇとバックロール６上の帯状支持体７との間に形成された間隙より塗布液が漏れる場合がある。
【００７５】
本図で示される塗布液流路５０７は塗布液供給部５０７ｅと、塗布液流動均質化部５０７ｂと、塗布液緩衝部５０７ｃと、塗布膜厚規制部５０７ｄとを有している。
【００７６】
塗布液流動均質化部５０７ｂにおける塗布液の流れを安定にする他の要因として塗布液供給部５０７ｅへの安定した塗布液の供給が必須であり、このために塗布液供給路５０８ｅの間隙の幅方向におけるバラツキを少なくすることで幅方向に均一に塗布液を供給できる。
【００７７】
塗布液供給路５０８ｅの間隔の幅は０．１〜０．５ｍｍが好ましい。０．１ｍｍ未満の場合は、塗布液供給部材の材質によっては加工が困難になり、塗布液供給路の幅方向に対して均一性を保持することが困難となる場合がある。０．５ｍｍを超えた場合は、塗布液の種類によっては塗布液供給路の幅方向に対して均一な供給が不良になり、塗布膜厚が不均一になる場合がある。
【００７８】
塗布液供給路５０８ｅの間隙の幅方向におけるバラツキは３％以下である。３％を越えた場合は、幅方向における流動均質化が困難となり、塗布筋故障が生じるおそれがあるため好ましくない。塗布液供給路５０２ｃの間隙の幅方向のバラツキは、幅方向における平均間隙をｗ、幅方向の位置での間隙をｎとしたとき、（｜ｎ−ｗ｜）／ｗ×１００により計算で求めた値の有効数字２ケタで取った値である。他の符号は図３と同義である。
【００７９】
尚、本図で示される塗布装置の塗布液流動均質化部５０７ｂの幅、液溜まり部５０５の下部の間隙５０５ａの幅、塗布膜厚規制部５０７ｄの長さ、塗布膜厚規制部５０７ｄの間隙の高さ、塗布液流動均質化部５０７ｂの間隙の高さ、塗布液流動均質化部５０７ｂの間隙の幅方向のバラツキ、間隙の距離Ｊと間隙の距離Ｋとの関係は全て図３に示される塗布装置と同じである。
【００８０】
図１〜図５に示す塗布装置を用いて塗布液の供給から塗布終了までの概略の段階を以下に説明する。
【００８１】
第１段階：塗布量に対して大過剰の塗布液を送液管より塗布液供給部材に供給する。塗布液の供給に合わせ帯状支持体の搬送が開始される。又、監視手段による液溜まり部の監視が開始される。
【００８２】
第２段階：供給された塗布液は、ポケット部より塗布液供給路を介し吐出口より塗布液流路の一部を形成している塗布液供給部に供給され、一部は塗布膜厚規制部より膜厚が規制され帯状支持体上に塗布膜が形成され、他は液溜まり部に溜められる。
【００８３】
第３段階：監視手段により液溜まり部の規定の高さに塗布液が達した時点で、制御部により送液量の調整が行われ、塗布が開始される。
【００８４】
第４段階：塗布が終了まで監視手段による液溜まり部の塗布液の高さの監視が行われ、高さを一定に保つ様に送液手段（送液ポンプ）の制御を行い送液量を制御する。尚、塗布が長時間の場合、塗布への沈殿物の混入を避けるために液溜まり部に設けられた塗布液の排出管の電磁弁を一定時間毎に開き塗布液を排出する様に制御部により制御することが好ましい。塗布液を排出することで低下する液溜まり部の塗布液の高さは監視手段により監視され、制御部により送液手段（送液ポンプ）を制御し、送液量を増加し液溜まり部を規定の高さを維持するように制御される。塗布を行っている間、液溜まり部を規定の高さに維持することで塗布膜厚規制部に掛かる液圧が安定し、膜厚が安定した塗布が行われる。
【００８５】
図１〜図４に示される本発明の塗布装置における塗布液流路形成部材の底面とバックロール上の帯状支持体との間に形成された塗布液流動均質化部の効果を以下に示す。
【００８６】
１）塗布液流動均質化部の間隙の幅方向のバラツキを規制したことで幅方向の塗布液の流れが均一になり、且つ帯状支持体の搬送方向の塗布液流動均質化部の間隙を上流側に対して下流側を狭くしたことで、塗布液流動均質化部内にある塗布液は帯状支持体の搬送に伴い、幅方向で均一でより高い剪断がかかり、塗布液をより均一に供給することができる。高い剪断力が掛けられることで流動の均質化及び流動が促進されるため停滞することが無くなり、塗布液中の分散物が沈殿することなく安定した状態を保持し塗布を行うことが可能となる。
【００８７】
２）塗布液供給路の間隙の幅方向におけるバラツキを規制したことで塗布液供給部への安定した塗布液の供給が可能となり、塗布液流動均質化部への塗布液の供給が安定化した。
【００８８】
３）常に塗布量に合った塗布液が供給されるため停滞に伴う塗布液中の分散物が沈殿することなく安定した状態を保持し塗布を行うことが可能となる。
【００８９】
塗布液流路形成部材と該膜厚規制部材との間に形成された気液界面を有する液溜まり部の効果を以下に示す。
【００９０】
１）塗布膜厚規制部に掛かる液圧を一定にする機能を有し、塗布膜厚を安定にする。
【００９１】
２）液溜まり部には底部に近い箇所に塗布液の排出管を配設してあるため、長時間の塗布の場合は塗布液を一部排出することで沈殿物を除去することができ、沈殿物による塗布故障を防止することができ安定した塗布が可能となる。
【００９２】
３）塗布液の送液で発生し易い脈動を緩和し、塗布の段ムラをなくし安定した塗布が可能となる。
【００９３】
４）帯状支持体の搬送時に生じる搬送ムラにより塗布液が揺れることで発生する塗布膜厚規制部に掛かる液圧の変動を緩和することで塗布の段ムラをなくし安定した塗布が可能となる。
【００９４】
本発明に係る塗布液は、非ニュートン性塗布液であれば特に限定はなく、例えばセラミックスシートのセラミックス層、感光材料における感光層、下塗層、保護層、バックコート層等の塗布液、磁気記録媒体における磁性層、下塗層、潤滑層、保護層、バックコート層等の塗布液、放射線画像変換パネルの輝尽蛍光体層用の塗布液、アブレーション感光材料の画像形成層と受像シートとを接着する接着層、看板壁装飾、ノート、アルバム等に画像を貼り付けるシールプリントの支持体裏面の接着層、熱現像感光材料の画像保存用の粘着シートの接着層等の塗布液が挙げられる。
【００９５】
これらの非ニュートン性塗布液の中でも特に粘性指数が０．２〜０．９である非ニュートン性塗布液が好ましく、更に特に固体粒子分散液の場合が特に好ましい。固体粒子分散液に分散されている固体粒子としては、例えばシリカ、アルミナ、磁性粉、酸化ガドリニウム、硫化ガドリニウム、輝尽性蛍光体等が挙げられる。
【００９６】
又、本発明の塗布装置で粘性指数が０．２〜０．９である非ニュートン性塗布液を塗布する場合は、塗布時の膜厚として１００〜７００μｍの高膜厚に塗布する場合に効果が発現し、塗布膜厚が均一で、平滑な塗布液面状を得ることが可能である。
【００９７】
粘性指数は式１）で表すことができる。
【００９８】
式１）ｎ＝（ｌｏｇη／μ）／（ｌｏｇＤ）＋１
式中、ｎ：粘性指数
η：塗布液の粘度
Ｄ：剪断速度
μ：粘性係数
式中の塗布液の粘性指数ｎは、ＴＡインスツルメント（株）製のレオメータにより、角度２°のコーンプレートを使用し、最大シアレート５０／ｓ、到達時間１０分で、シェアに対する粘度を測定し得られた結果よりシアレート２／ｓ〜５０／ｓを直線近似し算出した値である。
【００９９】
本発明に係る塗布液を、図１〜図３に示される塗布装置を使用して塗布する場合の塗布速度は０．３〜１．０ｍ／分が好ましい。０．３ｍ／分未満の場合は、塗布液の種類によっては、塗布液供給部材の底面とバックロール上の帯状支持体との間隙より塗布液の漏れが発生する場合がある。１．０ｍ／分を超えた場合は、塗布液の種類によっては、塗布液供給部材の底面とバックロール上の帯状支持体との間隙より空気が入り込み泡故障を発生させる場合がある。
【０１００】
本発明に用いる塗布液のみかけ粘度は１〜８Ｐａ・ｓが好ましく、さらに好ましくは２〜６Ｐａ・ｓである。塗布液のみかけ粘度が１Ｐａ・ｓ未満の場合、比較的厚い膜を塗布する時に、僅かな外乱で塗布膜の流動が起こりやすいため、塗膜表面にムラが生じやすくなることがある。８Ｐａ・ｓを超えた場合、比較的高速で塗布する時に、塗布直後に塗布膜の均一化（レベリング）が起こり難いために塗布が困難となることがある。
【０１０１】
尚、みかけ粘度は東京精密（株）製  Ｂ型粘度計を使用して２５℃における測定値である。
【０１０２】
本発明に使用される帯状支持体としては、紙、プラスチックフィルム、金属、レジンコーテッド紙、合成紙等がある。プラスチックフィルムの材質は、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレンなどのビニル重合体、６，６−ナイロン、６−ナイロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、セルロースアセテート、セルロースダイアセテート等のセルロースアセテート等が使用される。また、レジンコーテッド紙に用いる樹脂としては、ポリエチレンをはじめとするポリオレフィンが代表的であるが、必ずしもこれに限定されない。また、金属帯状支持体としては、例えばアルミニウム帯状支持体がある。
【０１０３】
以下、本発明の効果を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【０１０４】
実施例１
《輝尽性蛍光体シートの作製》
〈支持体〉
幅６００ｍｍ、厚さ１８８μｍの発泡ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製  １８８Ｅ６０Ｌ）を使用。
【０１０５】
〈蛍光体の合成〉
ユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウムの輝尽性蛍光体前駆体を合成するために、ＢａＩ2水溶液（３．６ｍｏｌ／Ｌ）２７８０ｍｌとＥｕＩ3水溶液（０．２ｍｏｌ／Ｌ）２７ｍｌを反応器に入れた。この反応器中の反応母液を撹拌しながら８３℃で保温した。弗化アンモニウム水溶液（８ｍｏｌ／Ｌ）３２２ｍｌを反応母液中にローラーポンプを用いて注入し、沈澱物を生成させた。注入終了後も保温と撹拌を２時間続けて沈澱物の熟成を行なった。次に沈澱物をろ別後、エタノールにより洗浄した後真空乾燥させてユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウムの結晶を得た。焼成時の焼結により粒子形状の変化、粒子間融着による粒子サイズ分布の変化を防止するために、アルミナの超微粒子粉体を０．２質量％添加し、ミキサーで充分に撹拌を行い、結晶表面にアルミナの超微粒子粉体を均一に付着させた。これを石英ボートに充填して、チューブ炉を用いて水素ガス雰囲気中、８５０℃で２時間焼成してユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウム蛍光体粒子を得た。次に上記蛍光体粒子を分級することにより平均粒径７μｍの粒子を得た。
【０１０６】
（輝尽性蛍光体層塗布液の調製）
上記調製したユーロピウム賦活弗化ヨウ化バリウム蛍光体４２７ｇを、ポリウレタン樹脂（住友バイエルウレタン社製、デスモラック４１２５）１５．８ｇ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂２．０ｇをメチルエチルケトン−トルエン（１：１）混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散し、２５℃におけるみかけ粘度が３．０Ｐａ・Ｓ、みかけ粘度指数が０．５、液比重が２．５である塗布液を調製した。
【０１０７】
尚、みかけ粘度とは、東京精密（株）製のＢ型粘度計にて各粘度域に応じてＮｏ．１〜Ｎｏ．４ロータを使用し測定した値とした。粘性指数は、ＴＡインスツルメント社製のレオメータにより、角度２度のコーンプレートを使用し最大シエアレート５０／Ｓ、到達時間１０分でシェアに対する粘度を測定し、得られた結果よりシェアレート２／Ｓ〜５０／Ｓを直線近似し算出した値である。
【０１０８】
〈塗布装置の準備〉
図２の（ａ）に示される塗布装置を用いて、表１に示す様に塗布液流動均質化部の間隙の幅方向のバラツキ及び塗布液供給路の間隙の幅方向のバラツキを変えた塗布装置を準備し１−１〜１−９とした。
【０１０９】
尚、塗布装置の塗布液流動均質化部の幅を５００ｍｍ、塗布液流路形成部材とバックロール上の前記帯状支持体とで形成される塗布液流路の間隙（塗布液流動均質化部）の帯状支持体搬送方向の上流側の高さに対する下流側の高さの比を０．６７（上流側の高さが３ｍｍ及び下流側の高さが２ｍｍ）、液溜まり部の下部の間隙の幅を５．０ｍｍ、塗布膜厚規制部の長さを０．５ｍｍ、塗布膜厚規制部の間隙の高さを０．４ｍｍ、塗布液供給路の間隙の幅を２．５ｍｍ、塗布液供給部材の先端部とバックロール上の帯状支持体との間隙を０．２ｍｍ、塗布液流路形成部材の塗布液流路を形成している先端面の帯状支持体搬送方向の下流側の角部の角度を６０度とした。
【０１１０】
塗布液流動均質化部の間隙の幅方向のバラツキは幅方向における平均間隙をｘ、任意の幅方向の位置での間隙をｈとしたとき、（｜ｈ−ｘ｜）／ｘ×１００により計算で求めた値の有効数字２ケタで取った値である。
【０１１１】
塗布液供給路の間隙の幅方向のバラツキは、幅方向における平均間隙をｙ、幅方向の位置での間隙をｍとしたとき、（｜ｍ−ｙ｜）／ｙ×１００により計算で求めた値の有効数字２ケタで取った値である。
【０１１２】
【表１】
2005111398.tif 000003
【０１１３】
〈輝尽性蛍光体層塗布液の塗布〉
上記の塗布液を脱気脱泡後、上記支持体２００ｍに、準備した塗布装置１−１〜１−９を使用して乾燥後の膜厚が１８０μｍとなるように塗布した後、１００℃で１５分間乾燥させて輝尽性蛍光体層を形成して輝尽性蛍光体シートを作製し試料１０１〜１０９とした。
【０１１４】
尚、各試料１０１〜１０９を作製するときの塗布速度は０．７ｍ／分とし、塗布開始１時間後に液溜まり部から排出管より５０ｍｌの塗布液を排出し、塗布を行っている間は液溜まり部の気液界面の高さを一定になるように監視手段と制御部とによる制御を行った。
【０１１５】
（評価）
作製した各試料１０１〜１０９の塗布開始から１５０ｍまでについて、塗布膜の厚さの分布測定及び目視によるスジ故障の有無を下記の評価ランクに従い評価した結果を表２に示す。
【０１１６】
塗布膜の厚さの分布はアンリツ（株）製のフィルムシックネステスタを用い、塗布幅方向５００ｍｍ間を５ｍｍ間隔で測定し、以下の計算式より求めた。
【０１１７】
塗布膜の厚さの分布（％）＝（最大値−最小値）／平均値×１００
塗布膜の厚さの分布の評価ランク
◎：塗布膜の厚さの分布２％未満
○：塗布膜の厚さの分布２〜４％未満
△：塗布膜の厚さの分布４〜６％
×：塗布膜の厚さの分布６％を超える
スジ故障の評価ランク
○：塗布開始から１５０ｍまでにスジ故障なし
△：塗布開始から５０ｍでスジ故障が認められる
×：塗布開始から５０ｍ未満でスジ故障が認められる
【０１１８】
【表２】
2005111398.tif 000004
【０１１９】
本発明の有効性が確認された。
【０１２０】
実施例２
〈塗布装置の準備〉
図２の（ａ）に示される塗布装置を用いて、表３に示す様に塗布液流路形成部材とバックロール上の前記帯状支持体とで形成される塗布液流路の間隙（塗布液流動均質化部）の帯状支持体搬送方向の上流側の高さ及び下流側の高さを変えた塗布装置を準備し２−１〜２−７とした。
【０１２１】
尚、塗布装置の塗布液流動均質化部の幅を５００ｍｍ、塗布液流動均質化部の間隙の幅方向のバラツキを１．０％、塗布液供給路の間隙の幅方向のバラツキを１．０％、液溜まり部の下部の間隙の幅を５．０ｍｍ、塗布膜厚規制部の長さを０．５ｍｍ、塗布膜厚規制部の間隙の高さを０．４ｍｍ、塗布液供給路の間隙の幅を２．５ｍｍ、塗布液供給部材の先端部とバックロール上の帯状支持体との間隙を０．２ｍｍ、塗布液流路形成部材の塗布液流路を形成している先端面の帯状支持体搬送方向の下流側の角部の角度を６０度とした。
【０１２２】
【表３】
2005111398.tif 000005
【０１２３】
〈輝尽性蛍光体層塗布液の塗布〉
実施例１で使用した塗布液を脱気脱泡後、実施例１で準備した支持体２００ｍに、準備した塗布装置２−１〜２−９を使用して乾燥後の膜厚が１８０μｍとなるように塗布した後、１００℃で１５分間乾燥させて輝尽性蛍光体層を形成して輝尽性蛍光体シートを作製し試料２０１〜２０９とした。
【０１２４】
尚、各試料２０１〜２０９を作製するときの塗布速度は０．７ｍ／分とし、塗布開始１時間後に液溜まり部から排出管より５０ｍｌの塗布液を排出し、塗布を行っている間は液溜まり部の気液界面の高さを一定になるように監視手段と制御部とによる制御を行った。
【０１２５】
（評価）
作製した各試料２０１〜２０９に付き実施例１と同じ評価項目を同じ評価方法で行い、同じ評価ランクに従い評価した結果を表４に示す。
【０１２６】
【表４】
2005111398.tif 000006
【０１２７】
本発明の有効性が確認された。
【０１２８】
実施例３
〈塗布装置の準備〉
図２の（ａ）に示される塗布装置を用いて、表５に示す様に塗布液流路形成部材の塗布液流路を形成している先端面の帯状支持体搬送方向の下流側の角部の角度を変えた塗布装置を準備し３−１〜３−７とした。
【０１２９】
尚、塗布装置の塗布液流動均質化部の幅を５００ｍｍ、塗布液流動均質化部の間隙の幅方向のバラツキを１．０％、塗布液供給路の間隙の幅方向のバラツキを１．０％、塗布液流路形成部材とバックロール上の前記帯状支持体とで形成される塗布液流路の間隙（塗布液流動均質化部）の帯状支持体搬送方向の上流側の高さを３ｍｍ及び下流側の高さを２ｍｍ、液溜まり部の下部の間隙の幅を５ｍｍ、塗布膜厚規制部の長さを０．５ｍｍ、塗布膜厚規制部の間隙の高さを０．４ｍｍ、塗布液供給路の間隙の幅を２．５ｍｍ、塗布液供給部材の先端部とバックロール上の帯状支持体との間隙を０．２ｍｍとした。
【０１３０】
【表５】
2005111398.tif 000007
【０１３１】
〈輝尽性蛍光体層塗布液の塗布〉
実施例１で使用した塗布液を脱気脱泡後、実施例１で準備した支持体２００ｍに、準備した塗布装置３−１〜３−７を使用して乾燥後の膜厚が１８０μｍとなるように塗布した後、１００℃で１５分間乾燥させて輝尽性蛍光体層を形成して輝尽性蛍光体シートを作製し試料３０１〜３０７とした。
【０１３２】
尚、各試料３０１〜３０７を作製するときの塗布速度は０．７ｍ／分とし、塗布開始１時間後に液溜まり部から排出管より５０ｍｌの塗布液を排出し、塗布を行っている間は液溜まり部の気液界面の高さを一定になるように監視手段と制御部とによる制御を行った。
【０１３３】
（評価）
作製した各試料３０１〜３０７に付き実施例１と同じ評価項目を同じ評価方法で行い、同じ評価ランクに従い評価した結果を表６に示す。
【０１３４】
【表６】
2005111398.tif 000008
【０１３５】
本発明の有効性が確認された。
【０１３６】
実施例４
〈塗布液の調製〉
実施例１で使用した塗布液の粘性指数とみかけ粘度を表７に示すように変え塗布液４−１〜４−８として使用した。
【０１３７】
【表７】
2005111398.tif 000009
【０１３８】
〈塗布装置の準備〉
塗布液流動均質化部の幅を５００ｍｍ、塗布液流動均質化部の間隙の幅方向のバラツキを１．０％、塗布液供給路の間隙の幅方向のバラツキを１．０％、塗布液流路形成部材とバックロール上の前記帯状支持体とで形成される塗布液流路の間隙（塗布液流動均質化部）の帯状支持体搬送方向の上流側の高さを３ｍｍ及び下流側の高さを２ｍｍ、塗布液流路形成部材の塗布液流路を形成している先端面の帯状支持体搬送方向の下流側の角部の角度を６０度、液溜まり部の下部の間隙の幅を５ｍｍ、塗布膜厚規制部の長さを０．５ｍｍ、塗布膜厚規制部の間隙の高さを０．４ｍｍ、塗布液供給路の間隙の幅を２．５ｍｍ、塗布液供給部材の先端部とバックロール上の帯状支持体との間隙を０．２ｍｍとした図２の（ａ）に示される塗布装置を準備した。
【０１３９】
〈輝尽性蛍光体層塗布液の塗布〉
準備した塗布装置を使用して、調製した塗布液４−１〜４−８を脱気脱泡後、実施例１で準備した支持体２００ｍに、乾燥後の膜厚が１８０μｍとなるように塗布した後、１００℃で１５分間乾燥させて輝尽性蛍光体層を形成して輝尽性蛍光体シートを作製し試料４０１〜４０８とした。
【０１４０】
尚、各試料４０１〜４０８を作製するときの塗布速度は０．７ｍ／分とし、塗布開始１時間後に液溜まり部から排出管より５０ｍｌの塗布液を排出し、塗布を行っている間は液溜まり部の気液界面の高さを一定になるように監視手段と制御部とによる制御を行った。
【０１４１】
（評価）
作製した各試料４０１〜４０８に付き実施例１と同じ評価項目を同じ評価方法で行い、同じ評価ランクに従い評価した結果を表８に示す。
【０１４２】
【表８】
2005111398.tif 000010
【０１４３】
本発明の有効性が確認された。
【図面の簡単な説明】
【０１４４】
【図１】本発明の塗布装置を用いた塗布方式の概略図である。
【図２】図１のＡ−Ａ′に沿った概略断面図である。
【図３】図２の（ａ）において塗布液流路形成部材が可動式の場合の概略断面図である。
【図４】図２の（ａ）のＥで示される部分の拡大概略図である。
【図５】図２の（ｃ）のＦで示される部分の拡大概略図である。
【図６】ナイフ型塗布装置を使用した塗布方式の概略図である。
【符号の説明】
【０１４５】
１、５  塗布装置
１０１  ナイフ
１０２  バックプレート
１０３、５０３ａ、５０３ｂ  サイドプレート
１０４  塗布液ダム
２、６  バックロール
３、７  帯状支持体
４、８  塗布液供給部
５０１  膜厚規制部材
５０２、５０８  塗布液供給部材
５０２ｂ、５０８ｄ  ポケット部
５０２ｃ、５０８ｅ  塗布液供給路
５０２ｇ  吐出口
５０４  塗布液流路形成部材
５０５  液溜まり部
５０６  排出管
５０７  塗布液流路
５０７ａ  塗布液供給部
５０７ｂ  塗布液流動均質化部
５０７ｃ  塗布液緩衝部
５０７ｄ  塗布膜厚規制部
９  液面高さ監視手段（監視手段）
１０  制御部
１１  駆動手段
【図１】
2005111398.tif 000011
【図２】
2005111398.tif 000012
【図３】
2005111398.tif 000013
【図４】
2005111398.tif 000014
【図５】
2005111398.tif 000015
【図６】
2005111398.tif 000016