(57)【要約】【課題】  水または水系溶媒にさらされた状態で使用しても長期間に亘り安定な構造を維持することができ細胞培養基材やバイオセンサーの材料として好適に使用できる高分子複合体を提供する。【解決手段】  基材とこの基材の少なくとも一部に設けられた高分子膜とを有すると共に、前記高分子膜が少なくとも親水性を有しかつ水または水系溶媒にさらされた状態で使用される高分子複合体であって、前記高分子膜を、水溶性高分子を主成分とする感光性樹脂組成物を光架橋させた樹脂膜とし、前記感光性樹脂組成物の架橋時に当該感光性樹脂膜の感光性基の一部が前記基材表面に固定されたアミノ基と結合することにより、前記樹脂膜が前記基板と固定されている。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材とこの基材の少なくとも一部に設けられた高分子膜とを有すると共に、前記高分子膜が少なくとも親水性を有しかつ水または水系溶媒にさらされた状態で使用される高分子複合体であって、前記高分子膜を、水溶性高分子を主成分とする感光性樹脂組成物を光架橋させた樹脂膜とし、前記感光性樹脂組成物の架橋時に当該感光性樹脂組成物の感光性基の一部が前記基材表面に固定されたアミノ基と結合することにより、前記樹脂膜が前記基板と固定されていることを特徴とする高分子複合体。
【請求項２】
請求項１において、前記樹脂膜は、前記基材上に塗布された感光性樹脂組成物を全面露光して架橋されたものであることを特徴とする高分子複合体。
【請求項３】
請求項１において、前記樹脂膜は、前記基材上に塗布された感光性樹脂組成物をパターン露光および現像により未露光領域を除去して当該基材の一部に設けられていることを特徴とする高分子複合体。
【請求項４】
請求項３において、前記現像後、前記未露光領域の前記基材表面の前記感光性樹脂組成物の痕跡を除去したものであることを特徴とする高分子複合体。
【請求項５】
請求項４において、前記未露光領域の前記基材表面の前記アミノ基が除去されていることを特徴とする高分子複合体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかにおいて、前記感光性樹脂組成物が、
（ａ）前記感光性基としてアジド基を有する水溶性高分子を含有する組成物、
（ｂ）前記感光性基としてアジド基を有する水溶性光架橋剤と感光性基を有さない水溶性高分子とを含有する組成物、
（ｃ）前記感光性基としてアジド基を有する水溶性高分子と感光性基を有さない水溶性高分子と感光性基としてアジド基を有する水溶性光架橋剤とを含有する組成物
のいずれかであることを特徴とする高分子複合体。
【請求項７】
請求項６において、前記感光性基が下記（１）式または（２）式のいずれかの構造を有することを特徴とする高分子複合体。
【化１】
2005280076.tif 000003
（Ｒ１およびＲ２は、それぞれ水素原子、スルホン酸基またはスルホン酸塩基を表す。）
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかにおいて、前記水系溶媒が、生理条件緩衝液、タンパク質含有水溶液、ＤＮＡ含有水溶液、ＲＮＡ含有水溶液、糖類含有水溶液、液体培地および細胞縣濁液からなる群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする高分子複合体。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかの高分子複合体において、バイオセンサーのマトリクス材料または細胞培養基材であることを特徴とする高分子複合体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材上に親水性高分子膜が設けられており、水または水系溶媒にさらされた状態で使用される高分子複合体およびその用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基材上に親水性高分子膜が設けられ、水または水系溶媒にさらされた状態で使用される高分子複合体が、バイオセンサーの構成要素として使用されている（特許文献１参照）。その複合体のうち、ポリ酢酸ビニルけん化物系の化合物と熱架橋材としてのグルタルアルデヒドと生理活性物質の混合水溶液とを基材上に塗布し、熱によって架橋することにより製造されているものについては、高温を嫌う生理活性物質を使用する場合、低温で２４時間程度時間をかけて架橋することが必要であるなどプロセス上の問題点があった。
【０００３】
また、バイオセンサーに使用する高分子複合体として、基板上にＰＶＡ−ＳｂＱ（スチルバゾリウム基を有するポリビニルアルコール）溶液を光架橋させた高分子膜を有するものが知られている（特許文献２参照）。しかしながら、この高分子複合体は、水または水系溶媒にさらされた場合、短時間で基板からの高分子膜の剥離、あるいは高分子膜のクラック等の発生による崩壊が生じるなどの問題点がある。また、特許文献１に記載されている光架橋剤を使用した高分子複合体についても、同様の問題点がある。
【０００４】
一方、水系溶媒にさらされた状態で使用される細胞培養基材があり、これについては、高加湿下で疎水性高分子有機溶媒溶液から有機溶媒を蒸発させる過程で、溶液表面に凝集した水滴を鋳型として高分子を析出させた高分子パターンを基材上に乗せたものが知られている（非特許文献１参照）。しかしながら、この高分子パターンは疎水性であるために、接着性タンパク質の非特異的な吸着を抑制することができず、目的の細胞以外の細胞が接着するなど、精密な培養ができないなどの問題点がある。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−１２７０４１号公報  （段落番号［００２８］等）
【特許文献２】特開平７−１１３７７３号公報  （段落番号［００２０］〜［００２１］等）
【非特許文献１】高分子加工  Vol.50 No.1 (2001) P. 10-15
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑み、水または水系溶媒にさらされた状態で使用しても長期間に亘り安定な構造を維持することができ、細胞培養基材やバイオセンサーの材料として好適に使用できる高分子複合体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決する本発明の第１の態様は、基材とこの基材の少なくとも一部に設けられた高分子膜とを有すると共に、前記高分子膜が少なくとも親水性を有しかつ水または水系溶媒にさらされた状態で使用される高分子複合体であって、前記高分子膜を、水溶性高分子を主成分とする感光性樹脂組成物を光架橋させた樹脂膜とし、前記感光性樹脂組成物の架橋時に当該感光性樹脂組成物の感光性基の一部が前記基材表面に固定されたアミノ基と結合することにより、前記樹脂膜が前記基板と固定されていることを特徴とする高分子複合体にある。
【０００８】
本発明の第２の態様は、第１の態様において、前記樹脂膜は、前記基材上に塗布された感光性樹脂組成物を全面露光して架橋されたものであることを特徴とする高分子複合体にある。
【０００９】
本発明の第３の態様は、第１の態様において、前記樹脂膜は、前記基材上に塗布された感光性樹脂組成物をパターン露光および現像により未露光領域を除去して当該基材の一部に設けられていることを特徴とする高分子複合体にある。
【００１０】
本発明の第４の態様は、第３の態様において、前記現像後、前記未露光領域の前記基材表面の前記感光性樹脂組成物の痕跡を除去したものであることを特徴とする高分子複合体にある。
【００１１】
本発明の第５の態様は、第４の態様において、前記未露光領域の前記基材表面の前記アミノ基が除去されていることを特徴とする高分子複合体にある。
【００１２】
本発明の第６の態様は、第１〜５のいずれかの態様において、前記感光性樹脂組成物が、
（ａ）前記感光性基としてアジド基を有する水溶性高分子を含有する組成物、
（ｂ）前記感光性基としてアジド基を有する水溶性光架橋剤と感光性基を有さない水溶性高分子とを含有する組成物、
（ｃ）前記感光性基としてアジド基を有する水溶性高分子と感光性基を有さない水溶性高分子と感光性基としてアジド基を有する水溶性光架橋剤とを含有する組成物
のいずれかであることを特徴とする高分子複合体にある。
【００１３】
本発明の第７の態様は、第６の態様において、前記感光性基が下記（１）式または（２）式のいずれかの構造を有することを特徴とする高分子複合体にある。
【００１４】
【化１】
2005280076.tif 000002
【００１５】
（Ｒ１およびＲ２は、それぞれ水素原子、スルホン酸基またはスルホン酸塩基を表す。）
【００１６】
本発明の第８の態様は、第１〜７のいずれかの態様において、前記水系溶媒が、生理条件緩衝液、タンパク質含有水溶液、ＤＮＡ含有水溶液、ＲＮＡ含有水溶液、糖類含有水溶液、液体培地および細胞縣濁液からなる群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする高分子複合体にある。
【００１７】
本発明の第９の態様は、第１〜８のいずれかの態様の高分子複合体において、バイオセンサーのマトリクス材料または細胞培養基材であることを特徴とする高分子複合体にある。
【発明の効果】
【００１８】
本発明により、水または水系溶媒にさらされた状態において長期間安定な水溶性高分子複合体を提供できる。この高分子複合体は、水または水系溶媒にさらして使用することが想定される水溶性高分子によるゲル化剤、表面改質材など、具体的には、バイオセンサーのマトリクスや細胞培養基材などとして好適に使用することができるため、ライフサイエンス分野、環境分野などのデバイス構築に貢献できるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の高分子複合体は、基材とこの基材の少なくとも一部に設けられた高分子膜とを有し、高分子膜が少なくとも親水性を有しかつ水または水系溶媒にさらされた状態で使用されるものである。基材の少なくとも一部に設けられた高分子膜は水溶性高分子を主成分とする感光性樹脂組成物を光架橋させた樹脂膜であり、この樹脂膜は、感光性樹脂組成物の架橋時に、当該感光性樹脂組成物の感光性基の一部が基材表面に固定されたアミノ基と結合することにより、基板と固定されている。
【００２０】
本発明に使用する感光性樹脂組成物は、水溶性高分子を主成分として含有しかつ感光性基を有する組成物であるが、感光性基を有する水溶性高分子を含有する組成物でもよく、水溶性光架橋剤、すなわち感光性基を有する化合物と、感光性基を有さない水溶性高分子とを含有する組成物でもよい。また、感光性基を有する水溶性高分子と感光性基を有さない水溶性高分子と水溶性光架橋剤とを含有する組成物でもよい。なお、水溶性高分子の含有率は、感光性樹脂組成物の固形分中７０ｗｔ％以上であることが好ましく、８５ｗｔ％以上であることが特に好ましい。
【００２１】
樹脂膜を形成するための感光性樹脂組成物が有する感光性基は特に限定されず、感光性の基として公知のものでよいが、特にアジド基を有する感光性基が好ましい。感光性であるアジド基と基材表面に固定されたアミノ基とで光照射により安定した共有結合を形成し、高分子複合体をより安定に維持させることができるためである。
【００２２】
アジド基を有する感光性基は、上記（１）式または（２）式のいずれかの構造を有していることが特に好ましい。なお、（１）式は１価の基を、（２）式は２価の基を示しており、式中スルホン酸塩基は−ＳＯ３Ｍで表されるが、Ｍとしては例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属等が挙げられる。また、感光性基は水溶性光架橋剤または水溶性高分子と直接結合していてもよく、アルキレンなどのスペーサーやアミド結合を介して結合していてもよい。
【００２３】
水溶性高分子としては、感光性樹脂組成物の成分として公知のものを使用することができ、例えば、ポリ酢酸ビニルけん化物、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリルアミド−ダイアセトン（メタ）アクリルアミド共重合体、ポリＮ−ビニルホルムアミド、ポリＮ−ビニルアセトアミドなどが挙げられる。これらのうち、ポリ酢酸ビニルけん化物を好適に使用することができる。ポリ酢酸ビニルけん化物の重合度とけん化度は特に限定されないが、平均重合度２００〜５０００、けん化度６０〜１００％のものが好適に使用することができる。平均重合度が２００より小さい場合には、十分な感度が得られ難く、また、平均重合度が５０００より大きい場合には、感光性樹脂組成物の粘度が高くなり、塗布性が悪くなるという不具合が発生し易く、さらに、粘度を下げるために濃度を低くすると、所望の塗布膜厚を得るのが困難となる。また、けん化度が６０％より小さいと十分な水溶性および水現像性が得られ難い。
【００２４】
感光性基を有する水溶性高分子を得るには、例えば感光性基を持つ化合物（感光基ユニット）を水溶性高分子と反応させればよい。水溶性高分子に感光性基を導入するための感光性基を持つ化合物としては、例えば、３−（４−アジドフェニル）−Ｎ−（４，４′−ジメトキシブチル）−２−フェニルカルボニルアミノ−プロパ−２−エンアミド）（以下「感光性化合物１」という）、２−（３−（４−アジドフェニル）プロプ−２−エノイルアミノ）−Ｎ−（４，４−ジメトキシブチル）−３−（３−ピリジル）プロプ−２−エンアミド）（以下「感光性化合物２」という）、３−（４−アジドフェニル）−Ｎ−（４，４′−ジメトキシブチル）−２−［（３−ピリジル）カルボニルアミノ］−プロパ−２−エンアミド（以下「感光性化合物３」という）などの特開２００３−２９２４７７号公報などに記載される感光基ユニットや、３−（２−ジメトキシブチル）−（４−アジドベンジリデン−２−スルホン酸ナトリウム）ロダニン（以下「感光性化合物４」という）、３−（２−ジメトキシエチル）−（４−アジドベンジリデン−２−スルホン酸ナトリウム）ロダニンなどの特許第３１６３０３６号明細書などに記載される感光基ユニットなどが挙げられる。なお、特開２００３−２９２４７７号公報、特許第３１６３０３６号明細書は主にレジスト材料として使用されるものであり、長期間水または水系溶媒にさらされた状態で使用することを想定したものではない。
【００２５】
水溶性光架橋剤としては、感光性基をもつものであれば特に限定されないが、上述のように、アジド基を感光性基として有することが好ましい。例えば、４，４′−ジアジドスチルベン−２，２′−ジスルホン酸（以下「感光性化合物５」という）、４，４′−ジアジドベンザルアセトフェノン−２−スルホン酸、４，４′−ジアジドスチルベン−α−カルボン酸およびこれらのアルカリ金属塩、アンモニウム塩、有機アミン塩などが挙げられる。
【００２６】
また、感光性樹脂組成物は溶液状態とすることが好ましい。感光性樹脂組成物の溶媒としては、組成物に含有される成分を溶解可能であれば特に限定されないが、水または水と相溶性のある有機溶媒との混合溶液を使用することができる。水と相溶性のある有機溶媒の、非限定的な例として、アセトンなどのケトン類、メタノールなどの低級アルコール類、アセトニトリル、テトラヒドロフランなどが挙げられる。なお、固形分濃度は１０ｗｔ％以下であることが好ましい。
【００２７】
さらに、感光性樹脂組成物にその光硬化性を損なわない範囲で添加物を混合することもできる。例えば、本発明の高分子複合体をセンサー用途に使用する際に必要な基質、例えばグルコースオキシダーゼなどの酵素およびイムノグロブリン−Ｇ（Ｉｇ−Ｇ）などの抗体、プローブとして使用するＤＮＡ、ＲＮＡ、タンパク質、多糖類などを添加することができる。
【００２８】
感光性樹脂組成物を光架橋させた樹脂膜を設ける基材は、表面にアミノ基を有している必要がある。この基材表面に存在するアミノ基については、安定に存在することができれば特に限定されない。基材表面へのアミノ基の付与方法としては、アンモニアまたは有機塩基雰囲気下でのプラズマ処理、アミノ基を有する高分子材料の表面コート、表面修飾剤による基材表面の改質や基材自体がアミノ基を有していて表面に露出しているものなど公知の方法を使用することが可能である。基材表面にアミノ基を付与する材料としては特に限定されないが、好ましくはポリ−Ｌ−リジンを使用することができる。
【００２９】
なお、基材の形状および材質は特に制限されない。基材の材質として非限定的に例を挙げれば、ガラス、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、シリコン、ダイヤモンド、金属、セラミックが挙げられる。また基材の形状としては、板状、曲面を持った板状、繊維状、ミクロポーラスな表面構造を有する基材、キャピラリー形状、管状などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらのうち、材質としてはガラスが、形状としては板状のものが、好適に使用することができる。マスクを介してパターン構造物を作成するのに好適に使用することが可能だからである。
【００３０】
本発明の高分子複合体は、基材上に感光性樹脂組成物を塗布して感光性樹脂組成物塗膜を形成する工程と、この感光性樹脂組成物塗膜に露光を施し高分子膜を形成する工程と、必要に応じて水または水系現像液によって現像して高分子膜を形成する工程により得ることができる。
【００３１】
基材上に塗布された感光性樹脂組成物の厚みは塗布可能であれば特に限定されないが、好適な膜厚は５ｎｍ〜５μｍである。膜厚が５ｎｍ未満では、均一に膜形成されているか確認するのが困難であり、膜厚が５μｍを超えると、使用する感光性樹脂溶液の粘度を高くする必要があり、塗布性が悪くなるという工程上の問題が発生しやすくなるためである。
【００３２】
基材上に感光性樹脂組成物を塗布後、必要に応じて加熱処理を行ってもよい。加熱処理は任意であり特に条件はないが、通常は３０〜１５０℃で１分〜１０時間程度、好ましくは３５℃〜１２０℃で３分〜１時間程度である。
【００３３】
また、基材上に塗布された感光性樹脂組成物の全面を露光しても、所望のパターンに露光してもよい。パターン露光をした場合は、露光後現像して未露光領域を除去することにより任意のパターン形状を有する高分子複合体を得ることができる。
【００３４】
パターン露光をする場合は、マスクを介して露光を行えばよい。任意のパターンを形成させるためのマスクとしては、所望のパターンが切り抜かれているマスクまたは所望のパターンのみから構成されるマスクを使用することができる。マスクの種類は、感光性樹脂がネガ型の場合、硬化させたい部位を光が透過するように設計すればよい。なお、マスクとしては、露光の際に使用する光をできるだけ透過しないものが好ましい。
【００３５】
露光する際の光源は、使用する感光性基を感光可能な光源であれば特に限定されない。例えば、光源としてＸ線、電子線、エキシマレーザー（Ｆ２、ＡｒＦ、ＫｒＦレーザーなど）および高圧水銀灯を使用することができる。これらの光源のうち、感光効率のよい波長を適宜選択できる。露光エネルギーは感光性基の構造、使用する光源のエネルギーに応じて適宜設定できる。通常０．１ｍＪ／ｃｍ２〜１０Ｊ／ｃｍ２であり、１ｍＪ／ｃｍ２〜１Ｊ／ｃｍ２程度が好ましい。
【００３６】
全面露光した場合、必要に応じて加熱後、水による洗浄を行ってもよい。加熱処理は任意であり特に条件はないが、通常は３０〜１５０℃で１分〜１０時間程度、好ましくは３５〜１２０℃で３分〜１時間程度である。また、パターン露光により感光性樹脂組成物塗膜の物性が変化した後、必要に応じて加熱後、現像処理を行う。この加熱処理も任意であり特に条件はないが、通常は３０〜１５０℃で１分〜１０時間程度、好ましくは３５〜１２０℃で３分〜１時間程度である。
【００３７】
現像する際の現像液については、未露光領域と露光領域との溶解度差を十分に有しているものであれば特に限定されない。水溶性高分子の未露光領域を溶解できる溶媒としては、水または水と相溶性のある有機溶媒との混合溶液を使用することができる。水と相溶性のある有機溶媒の、非限定的な例として、アセトンなどのケトン類、メタノールなどの低級アルコール類、アセトニトリル、テトラヒドロフランなどが挙げられる。これらを使用する場合には、特に現像残りの無い良好なパターンを好適に作製できる。また、現像液は上述したように混合溶液としてもよく、その濃度は未露光領域を溶解する限り特に限定的ではないが、例えば、現像液が水とメタノールとの混合溶液であれば、メタノールの濃度が１００ｗｔ％未満の任意の値を取ることができる。
【００３８】
現像は、露光後の被処理物を現像液に浸漬する方法、被処理物に現像液を塗付・スプレーする方法などにより行える。現像によるパターン形成後は、必要に応じてリンス、乾燥工程などを加えることもできる。
【００３９】
パターン状の高分子複合体の場合、現像により未露光領域の感光性樹脂組成物を除去した後も、物理的な吸着により数分子層程度の感光性樹脂組成物が基材上に残存している場合もある。そのため、必要に応じて現像後の未露光領域に残存する感光性樹脂組成物の痕跡、すなわち、極薄い感光性樹脂組成物層を除去して使用することもできる。除去する方法は限定されないが、プラズマ照射によるアッシング、ケミカルエッチングなどが非限定的に例示できる。特に酸素プラズマによるアッシングを好適に使用することができる。感光性樹脂組成物の痕跡を除去することにより、その影響を排除することが可能となる。感光性樹脂組成物の影響としては、タンパク質吸着の抑制や細胞接着抑制などが挙げられる。本発明で得られる高分子複合体を例えばパターン培養などの精密な細胞培養基材として使用する場合、高分子膜上では細胞の接着が起きず、未露光領域に相当する基材が露出している部位では細胞が接着する必要がある。従って、本発明の高分子複合体が形成する構造体を細胞培養基材として使用する場合は、これらの吸着・接着抑制が、細胞接着が必要な現像後の未露光領域にまで起きることは好ましくないため、残存する感光性樹脂組成物の痕跡を除去することが好ましい。
【００４０】
また、未露光領域の感光性樹脂組成物の痕跡だけでなく、さらに未露光領域の基材表面のアミノ基を除去して使用することもできる。この基材表面のアミノ基の除去は、感光性樹脂組成物の痕跡の除去と同様の方法で行うことができる。未露光領域に相当する基材の露出部位への細胞の接着は、主に未露光領域の周囲に存在する高分子膜よりも疎水性が強いため、フィブロネクチンなど接着性のタンパク質の吸着が引きがねとなって惹起するものと考えられる。そのため基材表面のカチオン性基であるアミノ基を除去することにより、静電的な相互作用で吸着する種々タンパク質や表面が負に帯電している細胞の吸着による非特異的な生体反応を抑制することが可能となる。なお、水溶性高分子のみを除去し、基材表面のアミノ基、特にポリ−Ｌ−リジンを残存させた状態の場合には、このアミノ基を有するポリ−Ｌ−リジンにより特定の細胞に特異的な刺激を与えることが可能な細胞培養基材とすることができる。
【００４１】
本発明の高分子複合体は、水または水系溶媒にさらされた状態で長期間、例えば１日以上安定に構造を維持し、好適に使用することができる。水または水系溶媒によってさらされた状態で長期間安定に構造を維持できる原理は明らかではないが、基材表面に存在するアミノ基と感光性樹脂組成物中に存在する感光性基とが、光照射された際に一部が化学反応を起こし、共有結合を形成することに起因するものと考えられる。例えば、ポリ酢酸ビニルけん化物に感光性基としてアジド基が導入されたものを含有する感光性樹脂組成物を使用した場合、光照射によりポリ酢酸ビニルけん化物中のアジド基は、その大部分が架橋反応に消費されると考えられるが、その一部が基材表面と多点で共有結合することで、水または水系溶媒の湿潤による剥離耐性が向上したと推測される。実際に表面にアミノ基を有していない基材上で同様に高分子複合体を作成した場合、１日水中に浸漬したのみでも、基材上の高分子膜の剥離が顕著に見られることからも明らかである。
【００４２】
水系溶媒は、水を含有している溶液であれば、特に限定されない。非限定的な例示として、アセトンなどのケトン類、メタノールなどの低級アルコール類、アセトニトリル、テトラヒドロフランなど水と相溶する有機溶媒と水との混合物、ビス（シュウ酸）三水素カリウム水溶液、フタル酸水素カリウム水溶液、リン酸ニ水素カリウム・リン酸水素ニナトリウム水溶液、四ホウ酸ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム・炭酸ナトリウム水溶液などの緩衝液、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化アンモニウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化アンモニウムなどの無機・有機塩水溶液、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンモノアシルエステル、ソルビタンモノアシルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノエステル、脂肪酸モノグリセリドなどの非イオン性界面活性剤水溶液、オレイン酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、コール酸、デオキシコール酸、ケノデオキシコール酸、ラウリルアミン酢酸塩、４級アンモニウム塩、ラウリル−β−アラニン、アルキルベタイン、アルキルアミノポリオキシエチレンサルファートなどのイオン性界面活性剤水溶液、アロース、アルトロース、グルコース、マンノース、ギュロース、イド−ス、ガラクトース、タロース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソース、エリトロース、トレオース、プシコース、フルクトース、ソルボース、タガト−ス、フコース、デオキシ糖、アミノ糖、ウロン酸、硫黄糖、アルジトール、サイクリトール、ウロース、分岐糖、ブドウ糖、澱粉、ヘパリン、ヘパラン硫酸などの、単糖、オリゴ糖、多糖を含む糖類水溶液、タンパク質水溶液、ＤＮＡ、ＲＮＡ水溶液、液体培地、さらにはそれらの混合物を挙げることができる。また水中または水系溶媒中に溶解せず分散するものを含んでいてもよく、非限定的に例示すると、クレイなどの鉱物類、金ナノ粒子などの金属微粒子、ポリスチレンビーズ、ラテックス粒子などの高分子微粒子、動物細胞、植物細胞、微生物、ウイルスなど、またはこれらの混合物を挙げることができる。
【００４３】
また本発明に係る高分子複合体を使用することができる温度は、構造体が不安定にならない限り特に限定されないが、４℃〜８０℃の間で好適に使用することができ、１０℃から６０℃の間で特に好適に使用することができる。４℃未満では一部水が凍結して高分子複合体の安定性を損なう可能性があり、８０℃を超えると水溶性高分子に結合している感光性基または光架橋剤が分解され構造物を保持し得なくなる可能性があるからである。
【００４４】
これら高分子複合体は、水または水系溶媒にさらされた状態で使用する際にも、長時間に亘り安定にその構造を保つことができる。しかも、通常では１日程度で溶解、または崩壊を余儀なくされ、特別の工程を含めることで改善されていた構造物の水中での長期安定性が、表面にアミノ基を有する基材を使用するという比較的簡便な方法のみで対水安定性を持つ高分子複合体を得ることが可能となる。
【００４５】
従って、例えば本発明に係る高分子複合体を、バイオセンサーの検出部位にマトリクスとして使用することができる。例えばグルコース濃度を検出するバイオセンサーの場合、グルコースを還元して過酸化水素を発生することができるグルコースオキシダーゼを感光性樹脂組成物に含有させて、アミノ基を有する検出基材上で光硬化することにより、水中または水溶液中で長期間出力低下のないグルコースセンサーが構築できる。
【００４６】
また同様に、例えばビオチンを含有する感光性樹脂組成物を使用して、アミノ基を有する金表面上でビオチンを含有する高分子複合体を形成することにより、アクチンを検出することが可能な表面プラズモン共鳴（ＳＰＲ）バイオセンサーの構築も可能となる。
【００４７】
さらには、活性汚泥などの浄化システムにおいて、有用菌を含有したまま光硬化することにより、菌の活性を落とすことなく長期間浄化に利用することもできる。
【００４８】
また、アミノ基を有する培養基材を使用して高分子複合体を作成することにより、親水性の表面、または親水性の表面と疎水性の表面を任意に設計することが可能となり、パターン培養用途など新しい培養系に使用することが簡便に行える。
【００４９】
この細胞培養基材は、例えば、基材としてアミノ基を有するガラス、あるいは親水化処理ポリスチレンなどを使用し、その上で感光性樹脂組成物をホール、あるいはストライプなどの形状を有するようにパターンを形成した高分子複合体である。これにより、高分子膜上には細胞が接着せず、基材が露出した部位のみに細胞が接着し、結果パターン状に細胞が配置されるような細胞培養基材が実現できる。
【実施例】
【００５０】
以下、本発明について実施例に基づき説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００５１】
（実施例１）
表面にアミノ基を有する基材として、ポリ−Ｌ−リジンコートスライドグラス（松浪硝子工業（株）製。以下「ＰＬＬコートガラス」と略す）を使用した。アジド基を有する感光性化合物である感光性化合物２を０．７５モル％導入してなるポリ酢酸ビニルけん化物の水溶液（感光性樹脂組成物Ａ）（東洋合成工業（株）製：商標「ＡＷＰ」）を調整した。この感光性樹脂組成物Ａ（固形分濃度：５ｗｔ％）をＰＬＬコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥を行った後室温まで冷却した。得られた膜厚は０．８４μｍであった。このものを高圧水銀灯によって全面露光（露光量：３０ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に感光性樹脂組成物が光硬化し、高分子膜が形成された高分子複合体を得た。
【００５２】
（実施例２）
実施例１で使用したスピンコート条件を１０００ｒｐｍから２５００ｒｐｍに変更した以外は実施例１と同様にして、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。光硬化する前に得られた膜厚は０．３９μｍであった。
【００５３】
（実施例３）
実施例１で使用した感光性樹脂組成物Ａの固形分濃度を５ｗｔ％から３ｗｔ％に変更した以外は実施例１と同様にして、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。光硬化する前に得られた膜厚は０．２５μｍであった。
【００５４】
（実施例４）
実施例１において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は実施例１と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００５５】
（実施例５）
実施例２において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は実施例２と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００５６】
（実施例６）
実施例３において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は実施例３と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００５７】
（実施例７）
実施例１において露光する際１００μｍ／２００μｍのライン／スペースパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は実施例１と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面に１００μｍ／２００μｍのライン／スペースパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００５８】
（実施例８）
表面にアミノ基を有する基材として、アミノシランコートスライドガラス（松浪硝子工業（株）製。以下「ＡＰＳコートガラス」と略す）を使用した。感光性樹脂組成物Ａ（固形分濃度：５ｗｔ％）を、ＡＰＳコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は０．９０μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：３０ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００５９】
（実施例９）
実施例８において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は実施例８と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００６０】
（実施例１０）
表面にアミノ基を有する基材として、ポリスチレン製ポリ−Ｌ−リジンコート９６穴プレート（住友ベークライト（株）製：商標「スミロンセルタイトＰＬプレート９６Ｆ」、０．３２ｃｍ２／ウェル。以下「ＰＬＬコート樹脂プレート」と略す）を使用した。感光性樹脂組成物Ａ（固形分濃度：１ｗｔ％）を、ＰＬＬコート樹脂プレート上に２５μｌ滴下後、４０℃、２時間乾燥して製膜した。その後高圧水銀灯によって全面露光（露光量：２００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００６１】
（実施例１１）
実施例１において感光性樹脂組成物Ａの代わりに、アジド基を有する感光性化合物である感光性化合物１を０．７５モル％導入してなるポリ酢酸ビニルけん化物を、水／メタノール＝７０／３０（ｗｔ比）で希釈した感光性樹脂組成物Ｂ（固形分濃度：５ｗｔ％）を使用した以外は実施例１と同様にして、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。光硬化する前に得られた膜厚は１．０μｍであった。
【００６２】
（実施例１２）
実施例１において感光性樹脂組成物Ａの代わりに、アジド基を有する感光性化合物である感光性化合物３を導入してなるポリ酢酸ビニルけん化物を、水で希釈した感光性樹脂組成物Ｃ（固形分濃度：５ｗｔ％）を使用した以外は実施例１と同様にして、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。光硬化する前に得られた膜厚は１．０μｍであった。
【００６３】
（実施例１３）
アジド基を有する感光性化合物である感光性化合物４を１．１モル％導入してなるポリ酢酸ビニルけん化物を水で希釈した感光性樹脂組成物Ｄ（東洋合成工業（株）製：商標「ＲＴＰ−１００１」）を調製した。この感光性樹脂組成物Ｄ（固形分濃度：５ｗｔ％）をＰＬＬコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は０．９２μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：３０ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００６４】
（実施例１４）
実施例１３において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は、実施例１３と同様にして基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００６５】
（実施例１５）
光架橋剤としてのアジド基を持つ感光性化合物５と、ポリ（メタ）アクリルアミド−ダイアセトン（メタ）アクリルアミド共重合体とを、１：９（重量比）の割合で含有する水溶液（感光性樹脂組成物Ｅ）（東洋合成工業（株）製：商標「ＰＡＤ２３５」）を調製した。この感光性樹脂組成物Ｅ（固形分濃度：５ｗｔ％）をＰＬＬコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は１．９８μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：４５ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００６６】
（実施例１６）
実施例１５において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は、実施例１５と同様にして基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００６７】
（実施例１７）
光架橋剤としてのアジド基を持つ感光性化合物５と、ポリビニルピロリドンとを１：９（重量比）の割合で含有する水溶液（感光性樹脂組成物Ｆ）（東洋合成工業（株）製：商標「ＰＶＰ−１８」）を調製した。この感光性樹脂組成物Ｆ（固形分濃度：５ｗｔ％）をＰＬＬコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は０．５８μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：４５ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００６８】
（実施例１８）
実施例１７において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は、実施例１７と同様にして基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００６９】
（実施例１９）
光架橋剤としての重クロム酸ナトリウム（和光純薬工業（株）製）とポリ酢酸ビニルけん化物（日本合成化学工業（株）製、商標「ＥＧ−３０」）とを、５：９５（重量比）の割合で含有する水溶液を調整した（感光性樹脂組成物Ｇ）。この感光性樹脂組成物Ｇ（固形分濃度：６ｗｔ％）をＰＬＬコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、４０℃で３分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は０．８１μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：６０ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００７０】
（実施例２０）
実施例１９において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は、実施例１９と同様にして基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００７１】
（比較例１）
表面にアミノ基を有していない基材として、ソーダライム製スライドグラス（松浪硝子工業（株）製。以下「ノンコートガラス」と略す）を使用した。感光性樹脂組成物Ａ（固形分濃度：５ｗｔ％）を、ノンコートコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は０．８０μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：３０ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００７２】
（比較例２）
比較例１でのスピンコート条件を１０００ｒｐｍから２５００ｒｐｍに変更した以外は比較例１と同様にして、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。光硬化する前に得られた膜厚は０．４５μｍであった。
【００７３】
（比較例３）
比較例１で使用した感光性樹脂組成物Ａの固形分濃度を５ｗｔ％から３ｗｔ％に変更した以外は比較例１と同様にして、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。光硬化する前に得られた膜厚は０．１６μｍであった。
【００７４】
（比較例４）
比較例１において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は比較例１と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００７５】
（比較例５）
比較例２において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は比較例２と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００７６】
（比較例６）
比較例３において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は比較例３と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００７７】
（比較例７）
比較例１において露光する際１００μｍ／２００μｍのライン／スペースパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は比較例１と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にライン／スペースパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００７８】
（比較例８）
表面にアミノ基を有していない基材として、ポリスチレン製９６穴プレート（住友ベークライト（株）製：商標「スミロンマルチプレート９６Ｆ」、０．３２ｃｍ２／ウェル。以下「ノンコート樹脂プレート」と略す）を使用した。感光性樹脂組成物Ａ（固形分濃度：１ｗｔ％）を、ノンコート樹脂プレート上に２５μｌ滴下後、４０℃、２時間乾燥して製膜した。その後高圧水銀灯によって全面露光（露光量：２００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００７９】
（比較例９）
表面にアミノ基を有していない基材としてノンコートガラスを使用し、感光性樹脂組成物Ｂ（固形分濃度：５ｗｔ％）をノンコートコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は１．０μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：３０ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００８０】
（比較例１０）
表面にアミノ基を有していない基材としてノンコートガラスを使用し、感光性樹脂組成物Ｃ（固形分濃度：５ｗｔ％）をノンコートコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は１．０μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：３０ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００８１】
（比較例１１）
表面にアミノ基を有していない基材としてノンコートガラスを使用し、感光性樹脂組成物Ｄ（固形分濃度：５ｗｔ％）をノンコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は０．９１μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：３０ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００８２】
（比較例１２）
比較例１１において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は比較例１１と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００８３】
（比較例１３）
表面にアミノ基を有していない基材としてノンコートガラスを使用し、感光性樹脂組成物Ｅ（固形分濃度：５ｗｔ％）をノンコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は１．８２μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：４５ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００８４】
（比較例１４）
比較例１３において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は比較例１３と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００８５】
（比較例１５）
表面にアミノ基を有していない基材としてノンコートガラスを使用し、感光性樹脂組成物Ｆ（固形分濃度：５ｗｔ％）をノンコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、６０℃で１０分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は０．５８μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：４５ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００８６】
（比較例１６）
比較例１５において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は比較例１５と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００８７】
（比較例１７）
表面にアミノ基を有していない基材としてノンコートガラスを使用し、感光性樹脂組成物Ｇ（固形分濃度：６ｗｔ％）をノンコートガラス上に滴下後、スピンコート法（１０００ｒｐｍ×３０秒）により製膜し、４０℃で３分間乾燥後、室温まで冷却した。得られた膜厚は０．８１μｍであった。高圧水銀灯によって全面露光（露光量：６０ｍＪ／ｃｍ２）を行った。その後２５℃の水中で１分間洗浄を行った後、６０℃で１０分間乾燥を行い、基材上に光硬化により形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００８８】
（比較例１８）
比較例１７において露光する際直径１００μｍのホールが多数配設されたパターンが得られるようにマスクを介して露光する以外は比較例１７と同様にして、基材上に光硬化により形成されかつ表面にホールパターンが形成された高分子膜を有する高分子複合体を得た。
【００８９】
（実施例２１）アッシング処理
実施例４で作成したホールパターンを有する高分子複合体を、Ｏ２プラズマ照射（３００Ｗ、２０秒間）することによりアッシングを行った。その結果、露光部の膜厚は、０．３μｍ減少した。また、アッシング後未露光領域に高エネルギー電子線照射し生じるガスをＩＣＰ−ＭＳに導入したところ、有機成分に起因するピークは検出されず、未露光域の基材表面の感光性樹脂組成物の痕跡が除去されていることを確認した。
【００９０】
（試験例１）水系溶媒暴露試験
実施例１〜２１および比較例１〜１８で得られた高分子複合体を、３７℃で水中または各種水系溶媒中に浸漬し、３日後および１０日後の各高分子複合体を観察して水中または各種水系溶媒中での高分子複合体の安定性を評価した。使用した溶媒は、純水、リン酸ニ水素カリウム・リン酸水素ニナトリウム水溶液（リン酸緩衝液、ｐＨ７．４）、１０％アセトン水溶液、５％ドデシル硫酸ナトリウム水溶液、１０％牛胎児血清含有ダルベッコ変法イーグル培地（日水製薬（株）製：Ｄｏｕｌｂｅｃｃｏ’ｓ  Ｍｏｄｉｆｉｅｄ  Ｅａｇｌｅ’ｓ  Ｍｅｄｉｕｍ）である。また、水およびリン酸緩衝液については６０℃での浸漬試験も行い、３日後および１０日後の各高分子複合体を観察した。なお、一例として、３７℃で１０％牛胎児血清含有ダルベッコ変法イーグル培地に浸漬した実施例４および比較例４の高分子複合体について、浸漬前後の高分子複合体の状態を図１に示す。
【００９１】
実施例１〜２１の高分子複合体はすべての試験において、浸漬前後で表面形状は変化が無く、膨潤による高分子膜の剥離、あるいは崩壊が見られない安定な状態であった。一方、比較例１〜１８の高分子複合体は、すべての試験において高分子膜が基材から剥離して残っていない状態、あるいは完全には剥離していないが、膨潤が激しく一部は基材から浮き上がっている状態になった。
【００９２】
これらのことから、表面をアミノ基で改質された基材上に高分子膜を形成した本発明に係る高分子複合体が、水または水系溶媒中で安定にその構造を維持することを確認した。
【００９３】
（試験例２）細胞パターン培養試験
実施例２１で得られた高分子複合体を細胞培養基材として使用し、細胞パターン培養試験を行った。基材をオートクレーブで滅菌した後、牛血管内皮細胞を１０日間培養した。なお、１０％牛胎児血清含有ダルベッコ変法イーグル培地を使用した。
【００９４】
培養期間中、高分子複合体は培地中で安定に構造を維持していた。また細胞は、水溶性高分子膜上には接着せず、ガラスが露出した部位にのみ接着していた。細胞パターン培養評価中の培養開始後２４時間時点での状態を図２に示す。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】安定性評価試験後の高分子複合体の状態の一例を示す図である。
【図２】パターン細胞培養評価中の培養の状態の一例を示す図である。
【図１】
2005280076.tif 000004
【図２】
2005280076.tif 000005