(57)【要約】【課題】  インク吸収性、ひび割れを改良したインクジェット記録用紙とその製造方法を提供する。【解決手段】  少なくとも下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とするインクジェット記録材料。    【化１】2005125691.tif 000014（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ独立に任意の置換基を表す。Ｙは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、燐原子のうち少なくとも一つ以上の原子を有し、これらの原子から硼素原子に電子を供与して錯体を形成しうる化合物を表す。）【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【化１】
2005125691.tif 000010
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ独立に任意の置換基を表す。Ｙは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、燐原子のうち少なくとも一つ以上の原子を有し、これらの原子から硼素原子に電子を供与して錯体を形成しうる化合物を表す。）
【請求項２】
支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料において、該インク受容層が無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも下記一般式（１ａ）で表される化合物の一種以上とを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【化２】
2005125691.tif 000011
（式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基を表す。Ｙは一般式（１）と同義の化合物を表す。）
【請求項３】
支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料において、該インク受容層が無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも下記一般式（２）で表される化合物の一種以上とを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【化３】
2005125691.tif 000012
（式中、Ｙは一般式（１）と同義の化合物を表す。）
【請求項４】
支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料において、該インク受容層が無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも下記一般式（３）で表される化合物の一種以上とを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【化４】
2005125691.tif 000013
（式中、Ｚは窒素原子を少なくとも一つ以上有し、窒素原子から硼素原子に電子を供与して錯体を形成しうる化合物を表す。）
【請求項５】
支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料において、該インク受容層が無機微粒子と、親水性高分子と、ジメチルアミンボランとを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【請求項６】
支持体上に少なくとも２層のインク受容層を有するインクジェット記録材料において、支持体から遠いインク受容層が、無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも前記一般式（１）で表される化合物の一種以上とを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【請求項７】
支持体上に無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも前記一般式（１）で表される化合物の一種以上とを含有するインク受容層を塗工してなるインクジェット記録材料の製造方法において、前記インク受容層を塗工するに際し、前記一般式（１）で表される化合物を塗布直前にインライン添加することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
【請求項８】
支持体上に無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも前記一般式（１）で表される化合物の一種以上とを含有するインク受容層を塗工してなるインクジェット記録材料の製造方法において、無機微粒子及び親水性高分子を含有する塗工液を支持体上に塗工し、該塗布と同時あるいは該塗布後に、前記一般式（１）で表される化合物を含有する液を付与して製造することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット記録材料に関し、詳しくは、インク吸収性が高く、ひび割れ等の品質低下がない記録材料及び該記録材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より高品質なインクジェット記録材料として、支持体上に、無機微粒子、水酸基を有する親水性高分子、硼酸及びまたはその塩を用いて多孔質のインク受容層を形成したインクジェット記録材料が広く知られている。
【０００３】
例えば、インク受容相中の親水性バインダを硼酸またはその塩にて硬膜することによってインク吸収性、造膜性、空隙容量をそれぞれ向上させる技術が開示されて（例えば、特許文献１参照。）いる。しかしながら、近年のインクジェット技術の進歩に伴い印字時間はより短縮されるようになり、インクジェット記録材料としても更なるインク吸収性の向上が求められるようになってきた。
【０００４】
本発明者らが鋭意検討したところ、インク吸収性を更に向上させるべく硼酸またはその塩を増量した場合、著しいひび割れが発生するようになり、硼酸またはその塩によるインク吸収性の向上効果には限界があることがわかった。
【０００５】
また、下層に有機硼素化合物重合体を含有することにより濃度均一性、塗膜強度を向上させる技術が開示されて（例えば、特許文献２参照。）いる。これらの化合物は、硼素含有率が低いため硼素によるインク吸収性向上効果が得られにくいという欠点がある。
【０００６】
更に、硼素化合物として、硼酸及びその塩以外に硼酸トリメチル、硼酸トリエチルが挙げられて（例えば、特許文献３参照。）いる。しかし、これらの化合物は、水との接触によりただちに硼酸とアルコールに加水分解されてしまうため、硼酸とアルコールをそれぞれ添加した場合と同様の効果しか得ることが出来ない。
【特許文献１】特開平１０−１１９４２３号公報  （第５頁）
【特許文献２】特開平６−２４７０３６号公報  （特許請求の範囲）
【特許文献３】特開２００２−１０３８０４号公報  （第３頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、インク吸収性、ひび割れを改良したインクジェット記録用紙とその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
（請求項１）
少なくとも下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【０００９】
【化１】
2005125691.tif 000002
【００１０】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ独立に任意の置換基を表す。Ｙは窒素原子、酸素原子、硫黄原子、燐原子のうち少なくとも一つ以上の原子を有し、これらの原子から硼素原子に電子を供与して錯体を形成しうる化合物を表す。）
（請求項２）
支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料において、該インク受容層が無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも下記一般式（１ａ）で表される化合物の一種以上とを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【００１１】
【化２】
2005125691.tif 000003
【００１２】
（式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基を表す。Ｙは一般式（１）と同義の化合物を表す。）
（請求項３）
支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料において、該インク受容層が無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも下記一般式（２）で表される化合物の一種以上とを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【００１３】
【化３】
2005125691.tif 000004
【００１４】
（式中、Ｙは一般式（１）と同義の化合物を表す。）
（請求項４）
支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料において、該インク受容層が無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも下記一般式（３）で表される化合物の一種以上とを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
【００１５】
【化４】
2005125691.tif 000005
【００１６】
（式中、Ｚは窒素原子を少なくとも一つ以上有し、窒素原子から硼素原子に電子を供与して錯体を形成しうる化合物を表す。）
（請求項５）
支持体上にインク受容層を有するインクジェット記録材料において、該インク受容層が無機微粒子と、親水性高分子と、ジメチルアミンボランとを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
（請求項６）
支持体上に少なくとも２層のインク受容層を有するインクジェット記録材料において、支持体から遠いインク受容層が、無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも前記一般式（１）で表される化合物の一種以上とを含有することを特徴とするインクジェット記録材料。
（請求項７）
支持体上に無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも前記一般式（１）で表される化合物の一種以上とを含有するインク受容層を塗工してなるインクジェット記録材料の製造方法において、前記インク受容層を塗工するに際し、前記一般式（１）で表される化合物を塗布直前にインライン添加することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
（請求項８）
支持体上に無機微粒子と、親水性高分子と、少なくとも前記一般式（１）で表される化合物の一種以上とを含有するインク受容層を塗工してなるインクジェット記録材料の製造方法において、無機微粒子及び親水性高分子を含有する塗工液を支持体上に塗工し、該塗布と同時あるいは該塗布後に、前記一般式（１）で表される化合物を含有する液を付与して製造することを特徴とするインクジェット記録材料の製造方法。
【発明の効果】
【００１７】
本発明により、インク吸収性、ひび割れを改良したインクジェット記録用紙とその製造方法を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明を更に詳しく説明する。本発明の一般式（１）、（１ａ）、（２）、及び（３）で表される化合物について説明する。
【００１９】
一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル基、３−カルボキシプロピル基、４−カルボキシブチル基、スルホメチル基、２−スルホエチル基、３−スルホプロピル基、４−スルホブチル基、３−スルホブチル基、２−ヒドロキシ−３−スルホプロピル基、２−シアノエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、メトキシメチル基、２−エトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−フェノキシエチル基、２−アセチルオキシエチル基、２−プロピオニルオキシエチル基、２−アセチルエチル基、２−カルバモイルエチル基、２−モルホリノカルボニルエチル基、スルファモイルメチル基、２−（Ｎ，Ｎ，−ジメチルスルファモイル）エチル基、ベンジル基、２−（２−ピリジル）エチル基、アリル基、３−アミノプロピル基、ジメチルアミノメチル基、３−ジメチルアミノプロピル基、メチルチオメチル基、２−メチルスルホニルエチル基、メチルスルフィニルメチル基、２−アセチルアミノエチル基、アセチルアミノメチル基、トリメチルアンモニウムメチル基、２−メルカプトエチル基、２−トリメチルヒドラジノエチル基、メチルスルホニルカルバモイルメチル基、（２−メトキシ）エトキシメチル基等）、置換もしくは無置換のシクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル基等）、置換もしくは無置換のヘテロ環基（例えばピロリジン、ピペリジン、アジリジン、アゼチジン、モルホリン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、ピペラジン、オキシラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオフェン、チアゾリジン、オキサゾリドン、ピペリドン、ピロリドン、スクシンイミド誘導体、無水コハク酸誘導体、スルホラン、ピリジン、ピリミジン、フラン、ピロール、キノリン等各々から導かれるヘテロ環基）、置換もしくは無置換のアルケニル基（例えばエチニル基、プロピオニル基、３−クロロプロピオニル基等）、置換もしくは無置換のアリール基（例えばフェニル基、ｐ−ジメチルアミノフェニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ペンタフルオロフェニル基等）、置換もしくは無置換のアシル基（例えばアセチル基、プロピオニル基、３−ヒドロキシプロピオニル基等）、置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、２−ジメチルアミノエトキシ基、プロポキシ基、３−ヒドロキシプロポキシ基、ブトキシ基等）、置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例えばアセチルオキシ、プロピオニルオキシ）、置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例えばフェノキシ基、ｐ−ジメチルアミノフェノキシ基、ｐ−フルオロフェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基等）、置換もしくは無置換のアルキルアミノ基（例えばメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、トリメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、トリエチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基等）、置換もしくは無置換のアリールアミノ基（例えばフェニルアミノ基、ｐ−ジメチルアミノフェニルアミノ基、ｐ−フルオロフェニルアミノ基、ｐ−メトキシフェニルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基等）、置換若しくは無置換のヒドロキシルアミノ基（例えばメチルヒドロキシルアミノ基、エチルヒドロキシルアミノ基、ｎ−プロピルヒドロキシルアミノ基、ｎ−ブチルヒドロキシルアミノ基等）、置換もしくは無置換のカルバモイル基（例えばカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルバモイル基、ピペリジノカルバモイル基）、置換もしくは無置換のスルファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基，モルホリノスルファモイル基、ピペリジノスルファモイル基）、置換もしくは無置換のカルボニル基（例えば２−カルボキシエチル基、カルボキシメチル基、３−カルボキシプロピル基、４−カルボキシブチル基、３−カルボキシブチル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル等）、置換もしくは無置換のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基）、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、プロピルスルホニル基）、置換もしくは無置換のアルキルスルフィニル基（例えばメチルスルフィニル基）、置換もしくは無置換のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基）、置換もしくは無置換のウレイド基（例えばウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド基）、イミド基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子）を表す。また、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は互いに結合し環状構造をとることも可能である。
【００２０】
一般式（１ａ）において、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基を表すが、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は互いに結合し環状構造をとることもできる。
【００２１】
これらの中でも、Ｒ3又はＲ4が水素原子であるものが好ましく、特に好ましいものはＲ1、Ｒ2、Ｒ3又はＲ4、Ｒ5、Ｒ6がいずれも水素原子であるボランである。
【００２２】
Ｙは、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、燐原子のうち少なくとも一つ以上の原子を有し、これらの原子から硼素原子に電子を供与して錯体を形成しうる化合物である。例えば、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｉ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、１，３−ジアミノブタン等のアルキルアミン類、置換基を有していても良いピリジン、モルフォリンなどの含窒素複素環、置換基を有していても良いＮ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどアニリン類、トリフェニルホスフィン、ジメチルスルフィド、テトラヒドロフラン、１，２−ビス（ｔ−ブチルチオ）エタンなどが挙げられる。
【００２３】
一般式（３）において、Ｚは、窒素原子を少なくとも一つ以上有し、窒素原子から硼素原子に電子を供与して錯体を形成しうる化合物を表す。例えば、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｉ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、１，３−ジアミノブタン等のアルキルアミン類、置換基を有していても良いピリジン、モルフォリンなどの含窒素複素環、置換基を有していても良いＮ，Ｎ−ジエチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどアニリン類などが挙げられる。
【００２４】
これらの中でも、ジメチルアミン、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モルフォリンが好ましく用いられる。
【００２５】
一般式（１）、（１ａ）、（２）、及び（３）で表される化合物の具体例としては、ジメチルアミンボラン、トリメチルアミンボラン、ジエチルアミンボラン、トリエチルアミンボラン、ｉｓｏ−プロピルアミンボラン、ｔｅｒｔ−ブチルアミンボラン、ピリジンボラン、モルフォリンボラン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリンボラン、トリエチルボランの１，３−ジアミノプロパン錯体、トリフェニルボランのトリフェニルホスフィン錯体、ジメチルスルフィドボラン、１，２−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルチオ）エタンボラン、テトラヒドロフランボランなどが挙げられる。これらの中でも最も好ましいものは、ジメチルアミンボランである。
【００２６】
次いで、本発明のインクジェット記録材料の構成要素の詳細について説明する。
【００２７】
本発明のインクジェット記録材料で用いることのできる無機微粒子としては、例えば、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、カオリン、クレー、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、ハイドロタルサイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、水酸化アルミニウム、リトポン、ゼオライト、水酸化マグネシウム等の白色無機顔料を挙げることができる。
【００２８】
本発明においては、インクジェット記録材料で高品位なプリントを得る観点から、無機微粒子としては、シリカまたはアルミナが好ましく、更には、アルミナ、擬ベーマイト、コロイダルシリカ、もしくは気相法により合成された微粒子シリカ等が好ましく、気相法で合成されたシリカが特に好ましい。この気相法で合成されたシリカは、表面がアルミニウムで修飾されたものであっても良い。表面がアルミニウムで修飾された気相法シリカのアルミニウム含有率は、シリカに対して質量比で０．０５〜５％のものが好ましい。
【００２９】
本発明のインクジェット記録材料においては、用いる無機微粒子の平均一次粒子径が、１０ｎｍ以下であることが好ましく、更に好ましく３〜１０ｎｍ、より好ましくは５〜１０ｎｍである。
【００３０】
上記無機微粒子の平均粒子径は、多孔質インク受容層の断面や表面を電子顕微鏡で観察し、１００個の任意の粒子の粒子径を求めて、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで、個々の粒子径は、その投影面積に等しい円を仮定した時の直径で表したものである。
【００３１】
上記無機微粒子は、一次粒子のままで、あるいは二次粒子もしくはそれ以上の高次凝集粒子で多孔質インク受容層に存在していても良いが、上記平均一次粒子径は、電子顕微鏡で観察した時に多孔質インク受容層中で独立の粒子を形成しているものの粒径をいう。
【００３２】
上記無機微粒子の多孔質インク受容層塗布液における含有量は、５〜４０質量％であることが好ましく、特に７〜３０質量％が好ましい。上記無機微粒子は、十分なインク吸収性があり、皮膜のひび割れ等が少ない多孔質インク受容層を形成する必要があり、多孔質インク受容層中には、１０ｇ／ｍ2以上の付き量になることが好ましく、更には１０〜５５ｇ／ｍ2になることが好ましく、特に好ましくは１０〜２５ｇ／ｍ2である。
【００３３】
次いで、親水性バインダーであるポリビニルアルコールについて説明する。
【００３４】
多孔質インク受容層に含有される親水性バインダーとしては、一般に、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等が知られているが、本発明では、その中でも、ケン化度が９５ｍｏｌ％以上のポリビニルアルコールを用いることが特徴である。
【００３５】
ポリビニルアルコールは、無機微粒子と相互作用を有しており、無機微粒子に対する保持力が特に高く、更に、湿度依存性が比較的小さなポリマーであり、塗布乾燥時の収縮応力が小さいため、塗布乾燥時のひび割れに対する適性が優れる。本発明に好ましく用いられるポリビニルアルコールとしては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールやアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。
【００３６】
酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が２５００以上、５０００以下のものが好ましく用いられ、本発明ではケン化度が９５％以上であるのものを用いることが特徴であり、好ましくは９５〜９９．８％のものである。
【００３７】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号に記載されるような、第１〜３級アミノ基や第４級アミノ基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、これらはカチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。
【００３８】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−メチルビニルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（３−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド等が挙げられる。
【００３９】
カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％、好ましくは０．２〜５モル％である。
【００４０】
アニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平１−２０６０８８号に記載されているアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号および同６３−３０７９７９号に記載されているビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、特開平７−２８５２６５号に記載されている水溶性基を有する変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。
【００４１】
また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号に記載されているポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体等が挙げられる。
【００４２】
ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類の違いなど、２種類以上を併用することもできる。特に、重合度が２５００以上のポリビニルアルコールを使用する場合には、予め無機微粒子に対して０．０５〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％添加してから、重合度が２５００以上のポリビニルアルコールを添加すると、著しい増粘が無く好ましい。
【００４３】
本発明のインクジェット記録材料においては、多孔質インク受容層に含有されるポリビニルアルコール（Ｂ）に対する無機微粒子（Ｆ）の比率（Ｆ／Ｂ）が、質量比で５〜３０であることが好ましい。質量比が５倍以上であれば、充分な空隙率の多孔質膜が得られ、充分な空隙容量を得やすくなり、維持できる親水性バインダーによるインクジェット記録時の膨潤によって空隙を塞ぐ状況を招かず、高インク吸収速度を維持できる要因となる。一方、この比率が３０倍以下であれば、多孔質インク受容層を厚膜で塗布した際、ひび割れが生じにくくなる。特に好ましい親水性バインダーに対する無機微粒子の比率Ｆ／Ｂは５〜２０倍、最も好ましくは５〜１５倍である。
【００４４】
本発明のインクジェット記録材料には、記録後の保存による画像のにじみを防止する目的で、カチオン性ポリマーが好ましく用いられる。
【００４５】
カチオン性ポリマーの例としては、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン、ジシアンジアミドポリアルキレンポリアミン縮合物、ポリアルキレンポリアミンジシアンジアミドアンモニウム塩縮合物、ジシアンジアミドホルマリン縮合物、エピクロルヒドリン・ジアルキルアミン付加重合物、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド重合物、ジアリルジメチルアンモニウムクロライド・ＳＯ2共重合物、ポリビニルイミダゾール、ビニルピロリドン・ビニルイミダゾール共重合物、ポリビニルピリジン、ポリアミジン、キトサン、カチオン化澱粉、ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド重合物、（２−メタクロイルオキシエチル）トリメチルアンモニウムクロライド重合物、ジメチルアミノエチルメタクリレート重合物等が挙げられる。
【００４６】
また、化学工業時報平成１０年８月１５、２５日に述べられるカチオン性ポリマー、三洋化成工業株式会社発行「高分子薬剤入門」に述べられる高分子染料固着剤が例として挙げられる。
【００４７】
また、本発明のインクジェット記録材料では、画像の耐水性や、耐湿性を改良するため、多価金属イオンを含有させることが好ましい。多価金属イオンは２価以上の金属イオンであれば特に限定されるものでは無いが、好ましい多価金属イオンとしては、アルミニウムイオン、ジルコニウムイオン、チタニウムイオン等が挙げられる。
【００４８】
これらの多価金属イオンは、水溶性または非水溶性の塩の形態で多孔質インク受容層に含有させることができる。アルミニウムイオンを含む塩の具体例としては、フッ化アルミニウム、ヘキサフルオロアルミン酸（例えば、カリウム塩）、塩化アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム（例えば、ポリ塩化アルミニウム）、テトラクロロアルミン酸塩（例えば、ナトリウム塩）、臭化アルミニウム、テトラブロモアルミン酸塩（例えば、カリウム塩）、ヨウ化アルミニウム、アルミン酸塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩）、塩素酸アルミニウム、過塩素酸アルミニウム、チオシアン酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、硫酸アルミニウムカリウム（ミョウバン）、硫酸アンモニウムアルミニウム（アンモニウムミョウバン）、硫酸ナトリウムアルミニウム、燐酸アルミニウム、硝酸アルミニウム、燐酸水素アルミニウム、炭酸アルミニウム、ポリ硫酸珪酸アルミニウム、ギ酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、蓚酸アルミニウム、アルミニウムイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセトネート）等を挙げることができる。
【００４９】
これらの中でも、塩化アルミニウム、塩基性塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウム、塩基性硫酸珪酸アルミニウムが好ましく、塩基性塩化アルミニウム、塩基性硫酸アルミニウムが最も好ましい。
【００５０】
また、ジルコニウムイオンを含む塩の具体例としては、二フッ化ジルコニウム、三フッ化ジルコニウム、四フッ化ジルコニウム、ヘキサフルオロジルコニウム酸塩（例えば、カリウム塩）、ヘプタフルオロジルコニウム酸塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩やアンモニウム塩）、オクタフルオロジルコニウム酸塩（例えば、リチウム塩）、フッ化酸化ジルコニウム、二塩化ジルコニウム、三塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウム、ヘキサクロロジルコニウム酸塩（例えば、ナトリウム塩やカリウム塩）、酸塩化ジルコニウム（塩化ジルコニル）、二臭化ジルコニウム、三臭化ジルコニウム、四臭化ジルコニウム、臭化酸化ジルコニウム、三ヨウ化ジルコニウム、四ヨウ化ジルコニウム、過酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、硫化ジルコニウム、硫酸ジルコニウム、ｐ−トルエンスルホン酸ジルコニウム、硫酸ジルコニル、硫酸ジルコニルナトリウム、酸性硫酸ジルコニル三水和物、硫酸ジルコニウムカリウム、セレン酸ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、硝酸ジルコニル、リン酸ジルコニウム、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニウム、酢酸ジルコニル、酢酸ジルコニルアンモニウム、乳酸ジルコニル、クエン酸ジルコニル、ステアリン酸ジルコニル、リン酸ジルコニル、シュウ酸ジルコニウム、ジルコニウムイソプロピレート、ジルコニウムブチレート、ジルコニウムアセチルアセトネート、アセチルアセトンジルコニウムブチレート、ステアリン酸ジルコニウムブチレート、ジルコニウムアセテート、ビス（アセチルアセトナト）ジクロロジルコニウム、トリス（アセチルアセトナト）クロロジルコニウム等が挙げられる。
【００５１】
これらの化合物の中でも、炭酸ジルコニル、炭酸ジルコニルアンモニウム、酢酸ジルコニル、硝酸ジルコニル、塩化ジルコニル、乳酸ジルコニル、クエン酸ジルコニルが好ましく、特に、炭酸ジルコニルアンモニウム、塩化ジルコニル、酢酸ジルコニルが好ましい。
【００５２】
これらの多価金属イオンは、単独で用いても良いし、異なる２種以上を併用してもよい。多価金属イオンを含む化合物は、多孔質インク受容層を形成する塗布液に添加してもよいし、あるいは多孔質インク受容層を一旦塗布した後、特に多孔質インク受容層を一旦塗布乾燥した後に、多孔質インク受容層にオーバーコート法により供給してもよい。前者のように多価金属イオンを含む化合物をインク吸収層を形成する塗布液に添加する場合、水や有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に均一に溶解して添加する方法、あるいはサンドミルなどの湿式粉砕法や乳化分散などの方法により微細な粒子に分散して添加する方法を用いることができる。多孔質インク受容層が複数の層から構成される場合には、１層のみ添加してもよく、また２層以上の層、あるいは全ての構成層の塗布液に添加することもできる。また、後者のように多孔質インク受容層を一旦形成した後、オーバーコート法で添加する場合には、多価金属イオンを含む化合物を溶媒に均一に溶解した後、多孔質インク受容層に供給するのが好ましい。
【００５３】
これらの多価金属イオンは、インクジェット記録材料１ｍ2当り、概ね０．０５〜２０ミリモル、好ましくは０．１〜１０ミリモルの範囲で用いられる。
【００５４】
本発明のインクジェット記録材料では、多孔質インク受容層を形成する親水性バインダーであるポリビニルアルコールの硬膜剤を添加することが好ましい。
【００５５】
本発明で用いることのできる硬化剤としては、ポリビニルアルコールと硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、ホウ酸及びその塩が好ましいが、その他にも公知のものが使用でき、一般的にはポリビニルアルコールと反応し得る基を有する化合物あるいはポリビニルアルコールが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、ポリビニルアルコールの種類に応じて適宜選択して用いられる。硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤（ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等）、アルデヒド系硬化剤（ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬化剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、アルミニウム明礬等が挙げられる。
【００５６】
ホウ酸またはその塩とは、硼素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびそれらの塩が挙げられる。
【００５７】
硬化剤としてのホウ素原子を有するホウ酸およびその塩は、単独の水溶液でも、また、２種以上を混合して使用しても良い。特に好ましいのはホウ酸とホウ砂の混合水溶液である。
【００５８】
ホウ酸とホウ砂の水溶液は、それぞれ比較的希薄水溶液でしか添加することができないが、両者を混合することで濃厚な水溶液にすることができ、塗布液を濃縮化することが出来る。また、添加する水溶液のｐＨを比較的自由にコントロールすることができる利点がある。上記硬化剤の総使用量は、上記ポリビニルアルコール１ｇ当たり１〜６００ｍｇが好ましい。
【００５９】
本発明のインクジェット記録材料には、上記説明した構成要素の他に、各種の公知の添加剤を添加することができる。例えば、ポリスチレン、ポリアクリル酸エステル類、ポリメタクリル酸エステル類、ポリアクリルアミド類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、またはこれらの共重合体、尿素樹脂、またはメラミン樹脂等の有機ラテックス微粒子、カチオン界面活性剤、特開昭５７−７４１９３号、同５７−８７９８８号及び同６２−２６１４７６号に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号、同５７−８７９８９号、同６０−７２７８５号、同６１−１４６５９１号、特開平１−９５０９１号及び同３−１３３７６号等に記載されている退色防止剤、特開昭５９−４２９９３号、同５９−５２６８９号、同６２−２８００６９号、同６１−２４２８７１号及び特開平４−２１９２６６号等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、増粘剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有させることもできる。
【００６０】
本発明に用いる支持体は、従来インクジェット記録材料用として公知のものを適宜使用でき、吸水性支持体であってもよいが、非吸水性支持体であることが好ましい。
【００６１】
本発明で用いることのできる吸水性支持体としては、例えば、一般の紙、布、木材等を有するシートや板等を挙げることができる。紙支持体としては、ＬＢＫＰ、ＮＢＫＰ等の化学パルプ、ＧＰ、ＣＧＰ、ＲＭＰ、ＴＭＰ、ＣＴＭＰ、ＣＭＰ、ＰＧＷ等の機械パルプ、ＤＩＰ等の古紙パルプ等の木材パルプを主原料としたものが使用可能である。又、必要に応じて合成パルプ、合成繊維、無機繊維等の各種繊維状物質も原料として適宜使用することができる。
【００６２】
上記紙支持体中には必要に応じて、サイズ剤、顔料、紙力増強剤、定着剤等、蛍光増白剤、湿潤紙力剤、カチオン化剤等の従来公知の各種添加剤を添加することができる。
【００６３】
紙支持体は、前記の木材パルプなどの繊維状物質と各種添加剤を混合し、長網抄紙機、円網抄紙機、ツインワイヤー抄紙機等の各種抄紙機で製造することができる。また、必要に応じて抄紙段階または抄紙機にスターチ、ポリビニルアルコール等でサイズプレス処理したり、各種コート処理したり、カレンダー処理したりすることもできる。
【００６４】
本発明で用いることのできる非吸水性支持体には、透明支持体または不透明支持体がある。透明支持体としてはポリエステル系樹脂、ジアセテート系樹脂、トリアテセート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリイミド系樹脂、セロハン、セルロイド等の材料を有するフィルム等が挙げられ、中でもＯＨＰとして使用されたときの輻射熱に耐える性質のものが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。このような透明な支持体の厚さとしては、５０μｍ〜２００μｍが好ましい。
【００６５】
又、不透明支持体としては、例えば、基紙の少なくとも一方に白色顔料等を添加したポリオレフィン樹脂被覆層を有する樹脂被覆紙（いわゆるＲＣペーパー）、ポリエチレンテレフタレートに硫酸バリウム等の白色顔料を添加してなるいわゆるホワイトペットが好ましい。
【００６６】
前記各種支持体と多孔質インク受容層の接着強度を大きくする等の目的で、多孔質インク受容層の塗布に先立って、支持体にコロナ放電処理や下引処理等を行うことが好ましい。更に、本発明に係るインクジェット記録材料は必ずしも無色である必要はなく、着色された記録シートであってもよい。
【００６７】
本発明のインクジェット記録材料では、原紙支持体の両面をポリエチレンでラミネートした紙支持体を用いることが、記録画像が写真画質に近く、しかも低コストで高品質の画像が得られるために特に好ましい。
【００６８】
そのようなポリエチレンでラミネートした紙支持体について以下に説明する。
【００６９】
紙支持体に用いられる原紙は木材パルプを主原料とし、必要に応じて木材パルプに加えてポリプロピレンなどの合成パルプ或いはナイロンやポリエステルなどの合成繊維を用いて抄紙される。木材パルプとしてはＬＢＫＰ、ＬＢＳＰ、ＮＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＤＰ、ＮＤＰ、ＬＵＫＰ、ＮＵＫＰのいずれも用いることが出来るが短繊維分の多いＬＢＫＰ、ＮＢＳＰ、ＬＢＳＰ、ＮＤＰ、ＬＤＰをより多く用いることが好ましい。但し、ＬＢＳＰ及びまたはＬＤＰの比率は１０質量％〜７０質量％が好ましい。
【００７０】
上記パルプは、不純物の少ない化学パルプ（硫酸塩パルプや亜硫酸塩パルプ）が好ましく用いられ、又、漂白処理を行って白色度を向上させたパルプも有用である。
【００７１】
原紙中には、高級脂肪酸、アルキルケテンダイマー等のサイズ剤、炭酸カルシウム、タルク、酸化チタンなどの白色顔料、スターチ、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等の紙力増強剤、蛍光増白剤、ポリエチレングリコール類等の水分保持剤、分散剤、４級アンモニウム等の柔軟化剤などを適宜添加することが出来る。
【００７２】
抄紙に使用するパルプの濾水度はＣＳＦの規定で２００〜５００ｍｌが好ましく、又、叩解後の繊維長がＪＩＳ−Ｐ−８２０７に規定される２４メッシュ残分の質量％と４２メッシュ残分の質量％との和が３０〜７０％が好ましい。尚、４メッシュ残分の質量％は２０質量％以下であることが好ましい。原紙の坪量は３０〜２５０ｇが好ましく、特に５０〜２００ｇが好ましい。原紙の厚さは４０〜２５０μｍが好ましい。原紙は抄紙段階または抄紙後にカレンダー処理して高平滑性を与えることも出来る。原紙密度は０．７〜１．２ｇ／ｃｍ3（ＪＩＳ−Ｐ−８１１８）が一般的である。更に、原紙剛度はＪＩＳ−Ｐ−８１４３に規定される条件で２０〜２００ｇが好ましい。原紙表面には表面サイズ剤を塗布しても良く、表面サイズ剤としては前記原紙中添加できるサイズと同様のサイズ剤を使用できる。原紙のｐＨはＪＩＳ−Ｐ−８１１３で規定された熱水抽出法により測定された場合、５〜９であることが好ましい。
【００７３】
原紙表面及び裏面を被覆するポリエチレンは、主として低密度のポリエチレン（ＬＤＰＥ）及び／または高密度のポリエチレン（ＨＤＰＥ）であるが他のＬＬＤＰＥやポリプロピレン等も一部使用することが出来る。
【００７４】
多孔質インク受容層側のポリエチレン層には、写真用印画紙で広く行われているようにルチルまたはアナターゼ型の酸化チタンをポリエチレン中に添加し、不透明度及び白色度を改良したものが好ましい。酸化チタン含有量は、ポリエチレンに対して通常３質量％〜２０質量％、好ましくは４質量％〜１３質量％である。
【００７５】
ポリエチレン被覆紙は光沢紙として用いることも、又、ポリエチレンを原紙表面上に溶融押し出してコーティングする際に、いわゆる型付け処理を行って通常の写真印画紙で得られるようなマット面や絹目面を形成したものも本発明で使用できる。上記ポリエチレン被覆紙においては紙中の含水率を３質量％〜１０質量％に保持するのが特に好ましい。
【００７６】
本発明のインクジェット記録材料は、多孔質インク受容層を含む各構成層を、各々単独にあるいは同時に、公知の塗布方式から適宜選択して、支持体上に塗布、乾燥して製造することができる。塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第２，７６１，４１９号、同第２，７６１，７９１号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。
【００７７】
同時重層塗布を行う際の各塗布液の粘度としては、スライドビード塗布方式を用いる場合には、５〜１００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは１０〜５０ｍＰａ・ｓの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲である。
【００７８】
また、塗布液の１５℃における粘度としては、１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００〜３０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、さらに好ましくは３，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓであり、最も好ましいのは１０，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓである。
【００７９】
塗布および乾燥方法としては、塗布液を３０℃以上に加温して、塗布を行った後、形成した塗膜の温度を１〜１５℃に一旦冷却し、１０℃以上で乾燥することが好ましく、より好ましくは、乾燥条件として、湿球温度５〜５０℃、膜面温度１０〜５０℃の範囲の条件で行うことである。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜均一性の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
【００８０】
また、インクジェット記録材料を保管する際には、本発明係るインクジェット記録材料は、オーバーコートして乾燥した後、ロールに保管したまま、あるいはシート状に断裁した後、保管することが好ましい。３０℃以上で一定時間、例えば、１日〜１ヶ月間保管すると、インク吸収速度が更に改善されてマダラ状のムラの軽減に役立つ。好ましい保管条件は、３０〜５０℃で１〜３０日である。
【実施例】
【００８１】
以下、本発明の実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。なお、実施例中で「％」は、特に断りの無いかぎり質量％を表す。
【００８２】
実施例１
《分散液の調製》
〔シリカ分散液Ｄ−１の調製〕
予め均一に分散されている、平均一次粒子径が約０．００７μｍの気相法シリカ（日本アエロジル社製；アエロジル３００）を２５％含むシリカ分散液Ｂ−１（ｐＨ２．６、エタノール０．５％含有）の４００Ｌを、カチオン性ポリマーＰ−１を１２％、ｎ−プロパノールを１０％およびエタノールを２％含有する水溶液Ｃ−１（ｐＨ２．５、サンノプコ社製の消泡剤ＳＮ−３８１を２ｇ含有）の１１０Ｌに、室温で３０００ｒｐｍで攪拌しながら添加した。次いで、硼酸とホウ砂の１：１質量比の混合水溶液Ａ−１（各々３％の濃度）の５４Ｌを攪拌しながら、徐々に添加した。
【００８３】
次いで、三和工業株式会社製の高圧ホモジナイザーで３ｋＮ／ｃｍ2の圧力で分散し、全量を純水で６３０Ｌに仕上げて、ほぼ透明なシリカ分散液Ｄ−１を得た。
【００８４】
〔シリカ分散液Ｄ−２の調製〕
上記シリカ分散液Ｂ−１の４００Ｌを、カチオン性ポリマーＰ−２を１２％、ｎ−プロパノール１０％およびエタノールを２％含有する水溶液Ｃ−２（ｐＨ＝２．５）の１２０Ｌに、室温で３０００ｒｐｍで攪拌しながら添加し、次いで、上記混合水溶液Ａ−１の５２Ｌを攪拌しながら徐々に添加した。次いで、三和工業株式会社製の高圧ホモジナイザーで、３ｋＮ／ｃｍ2の圧力で分散し、全量を純水で６３０Ｌに仕上げて、ほぼ透明なシリカ分散液Ｄ−２を得た。
【００８５】
上記シリカ分散液Ｄ−１、Ｄ−２を３０μｍの濾過精度を有するアドバンテック東洋社製のＴＣＰ−３０タイプのフィルターを用いて濾過を行った。
【００８６】
【化５】
2005125691.tif 000006
【００８７】
《インクジェット記録材料１の作製》
〔多孔質インク受容層の各塗布液の調製〕
上記調製した各分散液を使用して、以下に記載の各添加剤を順次混合して、多孔質インク受容層用の各塗布液を調製した。なお、各添加量は、塗布液１Ｌ当りの量で表示した。
【００８８】
（第１層用塗布液：最下層）
シリカ分散液Ｄ−１                                                ６２５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３５００  ケン化度９９．７％、クラレ社製
ＰＶＡ２３５）５％水溶液                                            ３６３ｍｌ
エタノール                                                        ８．５ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げた。
【００８９】
（第２層用塗布液）
シリカ分散液Ｄ−１                                                ６２５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３５００  ケン化度９９．７％、クラレ社製
ＰＶＡ２３５）５％水溶液                                            ３６３ｍｌ
エタノール                                                            ８ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げた。
【００９０】
（第３層用塗布液）
シリカ分散液Ｄ−２                                                ６２５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３５００  ケン化度９９．７％、クラレ社製
ＰＶＡ２３５）５％水溶液                                            ３６３ｍｌ
エタノール                                                            ３ｍｌ
尿素  １０％水溶液                                                  ３６ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げた。
【００９１】
（第４層用塗布液：最上層）
シリカ分散液Ｄ−２                                                ６２５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３５００  ケン化度９９．７％、クラレ社製
ＰＶＡ２３５）５％水溶液                                            ３６３ｍｌ
カチオン性界面活性剤−１の４％水溶液                                  ３ｍｌ
サポニンの２５％水溶液                                                ２ｍｌ
エタノール                                                            ３ｍｌ
尿素  １０％水溶液                                                  ３６ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げた。
【００９２】
【化６】
2005125691.tif 000007
【００９３】
上記の様に調製した各塗布液を、２０μｍの濾過精度を持つアドバンテック東洋社製のＴＣＰＤ−３０フィルターで濾過した後、ＴＣＰＤ−１０フィルターで濾過した。
【００９４】
上記調製した各塗布液を下記に記載の湿潤膜厚となるよう、４０℃で両面にポリエチレンを被覆した紙支持体上に、スライドホッパー型コーターを用いて４層同時塗布して、インクジェット記録材料１を作製した。
【００９５】
（湿潤膜厚）
第１層：４０μｍ
第２層：４０μｍ
第３層；４０μｍ
第４層：４０μｍ
なお、上記紙支持体は、幅が約１．５ｍ、長さが約４０００ｍのロール状に巻かれた下記の支持体を用いた。
【００９６】
使用した紙支持体は、含水率が８％で、坪量が１７０ｇ／ｍ2の写真用原紙表面を、アナターゼ型酸化チタンを６％含有するポリエチレンを厚さ３５μｍで押し出し溶融塗布し、裏面には厚さ４０μｍのポリエチレンを厚さ３５μｍで押し出し溶融塗布した。表面側はコロナ放電した後、ポリビニルアルコール（クラレ社製  ＰＶＡ２３５）をインクジェットインクジェット記録材料１ｍ2当り０．０５ｇになるように下引き層を塗布し、裏面側にはコロナ放電した後、Ｔｇが約８０℃のスチレン−アクリル酸エステル系ラテックスバインダー約０．４ｇ、帯電防止剤（カチオン性ポリマー）０．１ｇおよび約２μｍのシリカ０．１ｇをマット剤として含有するバック層を塗布した。
【００９７】
多孔質インク受容層塗布液を支持体上に塗布した後の乾燥は、５℃に保った冷却ゾーンを１５秒間通過させて膜面の温度を１３℃にまで低下させた後、複数設けた乾燥ゾーンにて２０〜４０℃の温風を６〜７分間吹付けて乾燥を行った後、ロール状に巻き取ってインクジェット記録材料１を得た。
【００９８】
上記作製したインクジェット記録材料１のＵ／Ｂは０．１０、Ｆ／Ｂは５．５である。
【００９９】
〔インクジェット記録材料２〜１１の作製〕
本発明の一般式（１）、（１ａ）、（２）又は（３）で表される化合物を、表１に記載溶媒に溶解し、上記のようにして得られたインクジェット記録材料１の最上層の上に０．３ｇ／ｍ2になるように塗布し、インクジェット記録材料２〜１１を得た。
【０１００】
《インクジェット記録材料の評価》
得られたインクジェット記録材料１〜１２について、以下のインク吸収性の評価を行った。
【０１０１】
（インク吸収性の評価）
各インクジェット記録材料に、セイコーエプソン社製インクジェットプリンターＰＭ９００Ｃで、純正のグリーンインクにより、緑のベタ印字を行い、印字直後の印字部分を指でこすって画像の乱れを目視観察し、下記の基準に則りインク吸収性の評価を行った。
【０１０２】
◎：指で擦ってもほとんど画像の乱れがない
○：指で擦ると、やや画像がこすれて汚れが発生する
△：指で擦ると、画像がこすれてやや汚れが多く発生する
×：指で擦ると、画像がこすれてひどく汚れる
以上により得られた結果を、表１に示す。
【０１０３】
【表１】
2005125691.tif 000008
【０１０４】
表１より明らかなように、本発明のインクジェット記録材料は、比較例に対し、インク吸収性に優れることが分かる。
【０１０５】
実施例２
実施例１のインクジェット記録材料１の作製の際、表２に示す本発明の化合物を表２に示す溶媒に溶解し、インライン添加又は塗布液に添加しインクジェット記録材料２１〜２５を作製した。添加量は１層当たり０．１ｇ／ｍ2とした。
【０１０６】
《インクジェット記録材料の評価》
得られたインクジェット記録材料１、２１〜２５について、実施例１と同様にインク吸収性及びひび割れ耐性を評価し、得られた結果を表２に示す。
【０１０７】
（ひび割れ耐性の評価）
各インクジェット記録材料の多孔質インク受容層塗設面を０．１ｍ2にわたってルーペでひび割れの発生の状態を観察し、以下の基準に則りひび割れ耐性の評価を行った。
【０１０８】
○：ひび割れがほとんど観察されない
△：０．５ｍｍ未満の微小なひび割れが数点観察される
×：０．５ｍｍ以上の粗大なひび割れが全面に観察される
【０１０９】
【表２】
2005125691.tif 000009
【０１１０】
表２より明らかなように、本発明のインクジェット記録材料は、比較例に対し、インク吸収性及びひび割れ耐性に優れることが分かる。