(57)【要約】【課題】スペーサ層の膜厚を厚くすることなく記録層を含む各層を良好に初期化し得る多層記録層型光記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】光照射によって初期化される相変化材料層４ｂをそれぞれ含む複数の層Ｌ１，Ｌ０が基材２の一面側に形成されると共に各層Ｌ１，Ｌ０間にスペーサ層５が形成されている光記録媒体１の製造方法であって、中間工程として、その上層としてのスペーサ層５を介して入射される初期化用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において３０％以下となるＬ１層を形成し、そのＬ１層に対して初期化用レーザービームを照射して初期化し、初期化したＬ１層の上にスペーサ層５を形成し、そのスペーサ層５の上にＬ０層を形成し、そのＬ０層に対して初期化用レーザービームを照射して初期化する工程を含む。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光照射によって初期化される記録層をそれぞれ含む複数の層が基材の一面側に形成されると共に当該各層間にスペーサ層が形成されている多層記録層型光記録媒体を製造する製造方法であって、
中間工程として、その上層としての前記スペーサ層を介して入射される初期化用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において３０％以下となる一つの前記層を形成し、
当該形成した一つの層に対して前記初期化用レーザービームを照射して初期化し、
当該初期化した層の上に前記スペーサ層を形成し、
当該形成したスペーサ層の上に他の前記層を形成し、
当該形成した他の層に対して前記初期化用レーザービームを照射して初期化する工程を含む多層記録層型光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
光照射によって初期化される記録層をそれぞれ含む複数の層が基材の一面側に形成されると共に当該各層間にスペーサ層が形成されている多層記録層型光記録媒体を製造する製造方法であって、
中間工程として、その上層としての前記スペーサ層を介して入射される初期化用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において３０％以下となる一つの前記層を形成し、
当該形成した一つの層の上に前記スペーサ層を形成し、
前記形成した一つの層に対して前記形成したスペーサ層を介して前記初期化用レーザービームを照射して初期化し、
前記形成したスペーサ層の上に他の前記層を形成し、
当該形成した他の層に対して前記初期化用レーザービームを照射して初期化する工程を含む多層記録層型光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記一つの層の記録再生用レーザービームに対する光反射率を２０％以上に形成する請求項１または２記載の多層記録層型光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記記録再生用レーザービームとして５００ｎｍ未満の波長の光が用いられ、前記初期化用レーザービームとして波長が５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の光を用いる請求項１から３のいずれかに記載の多層記録層型光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
相変化材料で前記記録層を形成する請求項１から４のいずれかに記載の多層記録層型光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
光照射によって初期化される記録層をそれぞれ含む複数の層が基材の一面側に形成されると共に当該各層間にスペーサ層が形成されている多層記録層型光記録媒体であって、
前記複数の層の内の最上層を除く他の層は、その上層としての前記スペーサ層を介して入射される初期化用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において３０％以下に形成されている多層記録層型光記録媒体。
【請求項７】
前記複数の層の内の最上層を除く他の層は、その上層としての前記スペーサ層を介して入射される記録再生用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において２０％以上に形成されている請求項６記載の多層記録層型光記録媒体。
【請求項８】
前記記録再生用レーザービームとして５００ｎｍ未満の波長の光が用いられ、前記複数の層の内の最上層を除く他の層は、波長が５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の前記初期化用レーザービームで初期化されている請求項６または７記載の多層記録層型光記録媒体。
【請求項９】
前記記録層は、相変化材料で形成されている請求項６から８のいずれかに記載の多層記録層型光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光照射によって初期化される記録層をそれぞれ含む複数の層が基材の一面側に積層されると共に各層間にスペーサ層が形成されている多層記録層型光記録媒体の製造方法、およびその多層記録層型光記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光記録媒体は、高密度で大容量である点が注目され、様々な用途で使用されている。特に、記録された情報の消去および再記録が可能な書換可能型光記録媒体は、データの修復や更新が可能であり、しかも繰り返して書換えて使用できるため、光記録媒体の用途拡大に貢献するものとして期待されている。この種の光記録媒体としては、光磁気記録媒体（ＭＯ）や相変化型光記録媒体が開発され、かつ商品化されている。
【０００３】
このうち、相変化を利用した書換え可能な相変化型光記録媒体（以下、単に「光記録媒体」ともいう）として、出願人は、図７に示す層構造の光記録媒体２１を既に開発している。この光記録媒体２１は、基材２の一面（同図中の上面）側に、反射層３、記録層４、および光透過層としてのカバー層７が順次積層されて構成されている。この場合、基材２は、ポリカーボネート等の樹脂材を用いて、射出成形によって所定の厚みの平板形状（一例としてディスク（円板）形状）に成形されている。また、基材２の表面（同図中の上面）には、トラッキングサーボ用のグルーブ等の微細凹凸（図示せず）が成形時に形成されている。反射層３は、Ａｌ、ＡｇまたはＮｉ等の金属を用いて基材２における微細凹凸の形成面上に形成されている。記録層４は、第１保護層４ａ、相変化材料層４ｂおよび第２保護層４ｃを有し、これらの各層４ｃ，４ｂ，４ａがこの順序で反射層３上に積層されて構成されている。このうちの第１保護層４ａおよび第２保護層４ｃは、例えば、酸化アルミやＺｎＳ−ＳｉＯ２等の誘電体を用いて形成され、相変化材料層４ｂは、例えば、ＧｅＴｅＳｂ、ＩｎＳｂＴｅまたはＡｇＧｅＩｎＳｂＴｅ等を用いて形成されている。カバー層７は、光透過性の樹脂材料を用いて第１保護層４ａ上に形成されている。
【０００４】
この光記録媒体２１では、カバー層７側から記録用のレーザービーム（例えば波長が４０５ｎｍのレーザービーム）を記録層４に照射して、相変化材料層４ｂを含む記録層４を非晶質状態と結晶状態との間で可逆的に相変化させることにより、記録マークの形成および消去が行われる。つまり、記録層４（特に相変化材料層４ｂ）では、記録用のレーザービームが照射された際に、その照射部分が融点以上に加熱された後に急速に冷却（急冷）されることによって非晶質化され、記録信号に応じた記録マークが形成される。また、記録層４では、記録用のレーザービームが照射された際に、その照射部分が結晶化温度以上に加熱された後に徐々に冷却（徐冷）されることによって結晶化され、記録マークが消去される。一方、再生時には、再生用のレーザービーム（例えば波長が４０５ｎｍで、記録時よりも低パワーのレーザービーム）を照射した際の非晶質状態と結晶状態との間で光学的定数の変化に伴って変化する光反射率の差を利用して記録マークの有無を判別することにより、データの再生が行われる。
【０００５】
この光記録媒体２１を製造する際には、まず、射出成形によってその表面（一面）にグルーブ等の微細凹凸が形成されたディスク形状に基材２を成形する。次いで、基材２の一面側に反射層３を形成した後に、その反射層３上に記録層４を形成する。この際に、相変化材料層４ｂおよび第１，第２保護層４ａ，４ｃは、一般的にスパッタリング法によって形成される。次いで、例えばスピンコート法によって記録層４上にカバー層７を形成する。この場合、記録層４における相変化材料層４ｂは、その形成直後では、非晶質状態であり、そのままではユーザーが記録することができない。したがって、ユーザーが光記録媒体２１を直ちに使用開始できる初期化状態で光記録媒体２１を出荷するためには、光記録媒体２１の製造工程において、記録層４（特に相変化材料層４ｂ）を初期化する必要がある。このため、カバー層７を形成した後に、記録層４を初期化する。この場合、再生用または記録用のレーザービームの照射方向と同一の方向（カバー層７側からの方向）から高パワーのレーザービーム（以下、「初期化用レーザービーム」ともいう）を照射して記録層４を初期化する。この際に、初期化用レーザービームとしては、効率よく短時間で初期化でき、生産効率を向上させることができるように、記録用や再生用のレーザービームとは異なる波長のレーザービームが使用されている。一般的には、波長が８１０ｎｍのレーザービームが初期化用レーザービームとして使用され、この初期化用レーザービームは、例えば開口数ＮＡ（Numerical Aperture）が値０．４程度（一例として値０．３４）の対物レンズを介して光記録媒体２１に照射される。これにより、記録層４を初期化した光記録媒体２１の製造が完了する。
【０００６】
ところが、さらに大容量の光記録媒体の開発商品化が望まれており、出願人は、光記録媒体２１をベースにしてさらに大容量化した光記録媒体３１を開発している。この光記録媒体３１について、図８を参照して説明する。なお、光記録媒体２１と同一の構成については同じ符号を付し、重複する説明は省略する。
【０００７】
この光記録媒体３１は、いわゆる片面多層（一例として２層）記録層型光記録媒体（以下、「多層記録層型光記録媒体」ともいう）であって、同図に示すように、基材２の一面（同図中の上面）側に、反射層３および記録層４を含んで構成されるＬ１層、光透過層としてのスペーサ層５、記録層６（以下、「Ｌ０層」ともいう）、および光透過層としてのカバー層７が順次積層されて構成されている。この場合、スペーサ層５は、その厚みＴＨが通常２０μｍ程度に設定され、Ｌ０層側の表面にはグルーブ等の微細凹凸が形成されている。記録層６は、第１保護層６ａ、相変化材料層６ｂおよび第２保護層６ｃを有し、これら各層６ｃ，６ｂ，６ａがこの順序でスペーサ層５の微細凹凸形成面上に積層されて構成されている。この場合、各層６ａ，６ｂ，６ｃは、それぞれ対応する各層４ａ，４ｂ，４ｃとは厳密にはそれぞれ異なる材料や膜厚で形成されるが同じ機能を有している。カバー層７は、樹脂材料を用いてＬ０層上に形成されている。
【０００８】
この光記録媒体３１でも、その製造工程中において、記録層４，６を初期化する必要がある。この場合、図９に示すように、光記録媒体２１と同様にして、カバー層７を形成した後に、光記録媒体２１に対する初期化時と同様にして、対物レンズ１１を使用して初期化する。具体的には、対物レンズ１１から出射させた初期化用レーザービームＬINをカバー層７側からＬ１層に照射して記録層４を含むＬ１層を初期化し、次いで、同図に示すように、初期化用レーザービームＬINをＬ０層に照射してＬ０層を初期化する。これにより、Ｌ１層およびＬ０層を初期化した光記録媒体３１の製造が完了する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、この多層記録層型光記録媒体の製造方法には、以下の改善すべき点がある。すなわち、この製造方法では、図９に示すように、スペーサ層５上に形成されたＬ０層を初期化する際に、Ｌ０層に照射された初期化用レーザービームＬINのうちの一部のレーザービームＬPEが、Ｌ０層およびスペーサ層５を通過してＬ１層に達し、さらにレーザービームＬPEの一部のレーザービームＬREがＬ１層によって反射される。この場合、反射されたレーザービームＬREとＬ０層に照射された初期化用レーザービームＬINとの間で、スペーサ層５の膜厚ムラに起因する干渉が発生する。このため、Ｌ０層で吸収される光量が部分的に相違し、この結果、Ｌ０層の各部分毎に発熱量が相違する（Ｌ０層に発熱ムラが生ずる）。したがって、この反射したレーザービームＬREの再照射に起因して、Ｌ０層、特に記録層６における相変化材料層６ｂの結晶状態にムラが生じてＬ０層が良好に初期化されないおそれがあり、この点を改善するのが好ましい。一方、Ｌ０層を形成した後にＬ１層を初期化することも考えられる。この場合、初期化用レーザービームＬINとしては、Ｌ０層を通過する際の吸収量を考慮して高パワーに規定する必要がある。しかし、現状では、このような高パワーの初期化用レーザービームＬINを出力可能なレーザー素子を製造するのは技術的に困難である。
【００１０】
一方、このレーザービームＬREの上述した影響を小さくするために、初期化用レーザービームＬINが対物レンズ１１で絞られた非平行光であることを利用する製造方法が考えられる。具体的には、この製造方法では、スペーサ層５の膜厚をより厚く形成することによってＬ０層に初期化用レーザービームＬINを合焦した状態におけるＬ１層に照射されたレーザービームのビーム径を大きくすることにより、Ｌ１層によって反射されてＬ０層に照射されるレーザービームＬREのビーム径をより大きく規定する。この製造方法によれば、反射によってＬ０層に照射されたレーザービームＬREの単位面積当りの光量が低下するため、レーザービームＬREの照射によるＬ０層の発熱が抑制される結果、レーザービームＬREの照射に起因するＬ０層（特に記録層６内の相変化材料層６ｂ）の結晶状態のムラの発生を回避することができる。しかしながら、光透過層としてのスペーサ層５の膜厚は、光記録媒体３１の規格やドライブ装置の仕様などに依存しているため、自由に設計することができないため、この製造方法を採用することは困難である。
【００１１】
本発明は、かかる改善すべき点に鑑みてなされたものであり、スペーサ層の膜厚を厚くすることなく記録層を含む各層を良好に初期化し得る多層記録層型光記録媒体の製造方法を提供することを主目的とする。また、各層が良好に初期化された多層記録層型光記録媒体を提供することを他の目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく本発明に係る多層記録層型光記録媒体の製造方法は、光照射によって初期化される記録層をそれぞれ含む複数の層が基材の一面側に形成されると共に当該各層間にスペーサ層が形成されている多層記録層型光記録媒体を製造する製造方法であって、中間工程として、その上層としての前記スペーサ層を介して入射される初期化用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において３０％以下となる一つの前記層を形成し、当該形成した一つの層に対して前記初期化用レーザービームを照射して初期化し、当該初期化した層の上に前記スペーサ層を形成し、当該形成したスペーサ層の上に他の前記層を形成し、当該形成した他の層に対して前記初期化用レーザービームを照射して初期化する工程を含んでいる。
【００１３】
また、本発明に係る多層記録層型光記録媒体の製造方法は、光照射によって初期化される記録層をそれぞれ含む複数の層が基材の一面側に形成されると共に当該各層間にスペーサ層が形成されている多層記録層型光記録媒体を製造する製造方法であって、中間工程として、その上層としての前記スペーサ層を介して入射される初期化用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において３０％以下となる一つの前記層を形成し、当該形成した一つの層の上に前記スペーサ層を形成し、前記形成した一つの層に対して前記形成したスペーサ層を介して前記初期化用レーザービームを照射して初期化し、前記形成したスペーサ層の上に他の前記層を形成し、当該形成した他の層に対して前記初期化用レーザービームを照射して初期化する工程を含んでいる。
【００１４】
この場合、前記一つの層の記録再生用レーザービームに対する光反射率を２０％以上に形成するのが好ましい。
【００１５】
また、前記記録再生用レーザービームとして５００ｎｍ未満の波長の光が用いられ、前記初期化用レーザービームとして波長が５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の光を用いるのが好ましい。さらに、相変化材料で前記記録層を形成するのが好ましい。
【００１６】
また、本発明に係る多層記録層型光記録媒体は、光照射によって初期化される記録層をそれぞれ含む複数の層が基材の一面側に形成されると共に当該各層間にスペーサ層が形成されている多層記録層型光記録媒体であって、前記複数の層の内の最上層を除く他の層は、その上層としての前記スペーサ層を介して入射される初期化用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において３０％以下に形成されている。
【００１７】
この場合、その上層としての前記スペーサ層を介して入射される記録再生用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において２０％以上となるように前記複数の層の内の最上層を除く他の層が形成されているのが好ましい。
【００１８】
また、前記記録再生用レーザービームとして５００ｎｍ未満の波長の光が用いられ、前記複数の層の内の最上層を除く他の層は、波長が５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の前記初期化用レーザービームで初期化されているのが好ましい。また、前記記録層が相変化材料で形成されているのが好ましい。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明に係る多層記録層型光記録媒体とその製造方法の好適な実施の形態について説明する。なお、前述した光記録媒体２１，３１と同一構造の構成要素については、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
【００２０】
まず、本発明における多層記録層型光記録媒体（以下、「光記録媒体」ともいう）１の構成について、図１を参照して説明する。
【００２１】
光記録媒体１は、図１に示すように、基材２の微細凹凸形成面（同図中の上面）側に、Ｌ１層、スペーサ層５、Ｌ０層、およびカバー層７が順次積層されて構成されている。
【００２２】
この場合、Ｌ１層は、反射層３および記録層４で構成され、初期化用レーザービーム（５００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内の波長で、以下、一例として８１０ｎｍとする）に対する光反射率が３％以上３０％以下、より好ましくは、５％以上２５％以下となるように形成されている。なお、本発明における光反射率とは、層（一例としてＬ１層）の上にスペーサ層５が上層として形成され、かつその層（この例ではＬ１層）が初期化された状態において、スペーサ層５側から初期化用レーザービームを照射した際の反射率を意味する。つまり、この層（この例ではＬ１層）の反射率は、最も入射光側の層（具体的には第１保護層４ａ）の上にどのような層が存在するかで変化する。これは、最も入射光側の層に接する層によって屈折率差が異なることに起因する。具体的に数値を挙げて説明すれば、記録層（第１保護層４ａ）の屈折率が２．２５、スペーサ層５の屈折率が約１．６、空気の屈折率が１．０のため、記録層（第１保護層４ａ）とスペーサ層５との屈折率差が約０．６５で、記録層（第１保護層４ａ）と空気との屈折率差が約１．２５となる。したがって、反射率の測定方法によっては、スペーサ層５の表面反射の影響を含むため、層（Ｌ１層）自体の反射率が例えば３０％のときであっても、反射率の実際の測定値が３０％を超えてしまうこともある。例えば、上記した例では、スペーサ層５の屈折率が１．６のため、表面反射が５％程度となり、実際の測定値が３５％程度となる。このため、表面反射を含む測定方法では、スペーサ層５の屈折率が既知のときには、測定値から表面反射分を差し引く必要がある。一方、表面反射の影響を受けないようにしてＬ１層にフォーカスして測定することもでき、この測定に関しては、その層（Ｌ１層）にフォーカスが可能な光学系を持つ光度計や評価装置によって測定することができる。
【００２３】
次に、光記録媒体１の製造方法について説明する。
【００２４】
まず、射出成形によってその表面（一面）にグルーブ等の微細凹凸が形成されたディスク形状に基材２を成形する。次いで、基材２の一面側に反射層３を形成した後に、その反射層３上に記録層４を形成する。この際に、相変化材料層４ｂを例えばスパッタリング法によって形成する。また、スペーサ層５を介して入射される初期化用レーザービームＬINに対する光反射率が初期化状態において３０％以下となるようにＬ１層を形成する。具体的には、Ｌ１層の第１保護層４ａを例えば酸化アルミやＺｎＳ−ＳｉＯ２等の誘電体を用いてその膜厚が後述する厚みとなるように形成する。
【００２５】
次に、形成したＬ１層に対して、記録再生用レーザービームの照射方向と同一の方向から初期化用レーザービームＬINを照射して、記録層４を含むＬ１層（詳細には相変化材料層４ｂを含むＬ１層）を初期化する。なお、この時点でＬ１層を初期化せずに、後述するように、Ｌ１層の上にスペーサ層５を形成した後にＬ１層を初期化することもできる。
【００２６】
次に、例えば透明スタンパを用いた２Ｐ法により、厚みＴＨが例えば２０μｍのスペーサ層５をＬ１層上に形成する。この際に、透明スタンパの表面に形成されている微細凹凸によってスペーサ層５の上面に微細凹凸が形成される。なお、この時点で、上記したように、Ｌ１層を初期化することもできる。次いで、スペーサ層５の微細凹凸形成面上にＬ０層を形成する。この際に、例えばスパッタリング法によってＬ０層を形成する。
【００２７】
次に、形成したＬ０層に対して、記録再生用レーザービームの照射方向と同一の方向から初期化用レーザービームＬINを照射して、記録層６を含むＬ０層を初期化する。この際に、図２に示すように、レンズ１１からＬ０層に照射された初期化用レーザービームＬINのうちの一部のレーザービームＬPEは、Ｌ０層およびスペーサ層５を通過してＬ１層に達する。そして、さらにＬ１層に達したレーザービームＬPEの一部のレーザービームＬREが、Ｌ１層（特にＬ１層内の反射層３）によって反射されてＬ０層を照射する。この場合、初期化されたＬ１層のレーザービームＬPEに対する光反射率が３０％以下のため、Ｌ０層を照射するレーザービームＬREの光量は、Ｌ０層を通過したレーザービームＬPEの光量を基準として少なくとも３０％以下に低減される。ここで、Ｌ１層の形成、Ｌ１層の初期化、スペーサ層５の形成、Ｌ０層の形成、およびＬ０層の初期化が、本発明における中間工程に相当する。
【００２８】
最後に、初期化されたＬ０層上に例えばスピンコート法によってカバー層７を形成する。これにより、光記録媒体１の製造が完了する。なお、Ｌ０層の形成後にカバー層７を形成し、その後にＬ０層の初期化を行う製造方法を採用することもできる。
【００２９】
この場合、発明者は、Ｌ１層を構成する第１保護層４ａの膜厚を変更して初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率を変化させたときの光記録媒体１についてのＬ０層の初期化の良否をシミュレーションした。このシミュレーション結果を図３に示す。また、このシミュレーションを行った際のスペーサ層５、Ｌ１層における第１保護層４ａを所定膜厚で製造した一例、Ｌ１層における相変化材料層４ｂ、Ｌ１層における第２保護層４ｃ、反射層３、および基材２についての各屈折率、各光学的消衰係数および各膜厚を図４に示す。
【００３０】
図３に示すシミュレーション結果によれば、初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率を３０％以下に設定したときに初期化状態が良の判定結果となり、この光透過率を３１％以上に設定したときに初期化状態が不良の判定結果となる。したがって、このシミュレーション結果から明らかなように、初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率を３０％以下に設定することにより、記録層６における初期化している部分およびその周辺の既に初期化されている部分に対するレーザービームＬREの再照射に基づく上記の干渉に起因する結晶状態のムラの発生を確実に回避することができ、この結果、記録層６を含むＬ０層を均一かつ良好に初期化することができる。
【００３１】
また、発明者は、Ｌ１層を構成する第１保護層４ａの膜厚と初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率との関係もシミュレーションしており、そのシミュレーション結果を図５に示す。このシミュレーション結果によれば、Ｌ１層を構成する第１保護層４ａの主材料として例えばＺｎＳ−ＳｉＯ２等の誘電体を用いた場合、Ｌ１層における第１保護層４ａの膜厚を約９６ｎｍ〜約１５９ｎｍの範囲（同図中のＡで示す範囲）内に設定することにより、Ｌ１層の初期化状態（結晶状態）において、初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率を３０％以下に設定することができる。
【００３２】
また、光記録媒体１としては、ユーザーによって使用される記録再生装置（開口数ＮＡが約０．８５の対物レンズから記録再生用レーザービームが出射される）を使用して、Ｌ１層に記録されたデータを良好に記録および再生できる必要がある。この場合、発明者は、記録再生装置側の特性によって多少のばらつきがあるものの、その波長が３９５ｎｍ以上４１５ｎｍ以下（例えば４０５ｎｍ）の記録再生用レーザービームに対するＬ１層の光反射率を２０％（好ましくは３０％）以上確保することによって良好なフォーカス特性を得ることができ、かつＬ１層に記録されたデータを良好に記録および再生することができることを検証している。なお、この場合の「Ｌ１層の光反射率」とは、上記したように、スペーサ層５よりも記録再生用レーザービームの入射側の層（例えば、Ｌ０層やカバー層７）の影響を排除可能な状態において、スペーサ層５を介してＬ１層にフォーカスを合わせたときに測定される光反射率であって、Ｌ０層を透過する際の光の減衰の影響を考慮しない光反射率を意味する。そこで、発明者は、記録再生用レーザービームに対するＬ１層の光反射率を２０％以上確保するためのＬ１層内の第１保護層４ａの膜厚条件を見出すべく、その膜厚と記録再生用レーザービームに対するＬ１層の光反射率との関係をシミュレーションした。そのシミュレーション結果を図６に示す。このシミュレーション結果によれば、Ｌ１層内の第１保護層４ａの膜厚を約０ｎｍ〜約１２ｎｍの範囲内（同図中のＢ１で示す範囲内）、約３６ｎｍ〜約１０２ｎｍの範囲内（同図中のＢ２で示す範囲内）、および約１２６ｎｍ〜約１９２ｎｍの範囲内（同図中のＢ３で示す範囲内）のいずれかに設定することにより、Ｌ１層の初期化状態（結晶状態）において、記録再生用レーザービームに対するＬ１層の光反射率を２０％以上確保できるのが理解される。
【００３３】
したがって、光記録媒体１の製造時における初期化用レーザービームＬINを使用して良好に初期化でき、かつ、ユーザーが使用する記録再生装置によってデータを良好に記録および再生できるためには、Ｌ１層を構成する第１保護層４ａの膜厚を、図５における範囲Ａと、図６における範囲Ｂ１、範囲Ｂ２または範囲Ｂ３との重複範囲内のいずれかに設定すればよい。すなわち、範囲Ａと範囲Ｂ１との重複部分が存在しないため、範囲Ａと範囲Ｂ２との重複部分である約９６ｎｍ〜約１０２ｎｍの範囲Ｃ１内の任意の膜厚、または範囲Ａと範囲Ｂ３との重複部分である約１２６ｎｍ〜約１５９ｎｍの範囲Ｃ２内の任意の膜厚に設定すればよい。さらに、図５，６によれば、この範囲Ｃ１，Ｃ２内であっても、初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率がより低く、かつ記録再生用レーザービームに対するＬ１層の光反射率がより高いことが好ましいという観点からは、Ｌ１層を構成する第１保護層４ａの膜厚を１３７ｎｍ以上１４５ｎｍ以下の範囲内、好ましくは１４０ｎｍ前後に設定するのが最も好適であるといえる。なお、このような重複する範囲が他に存在するときには、他の範囲の内で、初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率がより低く、かつ記録再生用レーザービームに対するＬ１層の光反射率がより高い任意の膜厚に設定することもできる。
【００３４】
このように、この光記録媒体１の製造方法によれば、初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率を３０％以下に設定したことにより、Ｌ０層の初期化に際して、Ｌ０層を通過したレーザービームＬPEの内のＬ１層によって反射されるレーザービームＬREの光量を、Ｌ０層を通過した際のレーザービームＬPEの光量に対して３０％以下に低減させることができる。したがって、スペーサ層５の膜厚を厚くすることなく、Ｌ０層におけるレーザービームＬREの再照射に起因する結晶状態のムラの発生を確実に回避できる結果、Ｌ０層を均一かつ良好に初期化することができる。また、記録再生用レーザービームに対するＬ１層の光反射率を２０％以上確保することにより、Ｌ１層に記録されたデータを良好に記録および再生することができる。
【００３５】
なお、本発明は、上記した発明の実施の形態に限らず、適宜変更が可能である。例えば、本発明の実施の形態では、Ｌ１層における第１保護層４ａの膜厚を変えてＬ１層の光反射率を変更する例を挙げて説明したが、これに限られない。例えば、第１保護層４ａの材質を適宜選定してその屈折率を所定値に設定することにより、Ｌ１層の光反射率を上述した規定値に設定することもできる。この場合、Ｌ１層の光反射率はＬ１層を構成する各層間の光の干渉条件に左右され、また、この光の干渉条件は各層の光路長に左右され、さらに、この光路長は層の屈折率と膜厚とを乗算した値と等しくなる関係にある。このため、第１保護層４ａの膜厚を一定に維持して、例えば材質を変えてその屈折率を変化させたときの光反射率も、上述した第１保護層４ａの屈折率を一定に維持してその膜厚を変化させたときとほぼ同じように変化する。したがって、上記したシミュレーションと同様にして、最適な屈折率を求めることができ、この屈折率となるように第１保護層４ａを形成することにより、記録層６におけるレーザービームＬREの再照射に起因する結晶状態のムラの発生を確実に回避できるため、記録層６を含むＬ０層を均一かつ良好に初期化することができる。また、第２保護層４ｃの膜厚や材質を適宜変更して、つまり屈折率を適宜変更しても、第１保護層４ａの屈折率を変更した場合と同様の作用効果を得ることができる。さらに、Ｌ１層の光反射率は、スペーサ層５の材質（屈折率）にも影響される。したがって、スペーサ層５の材質を変えることによってＬ１層の光反射率を変更してもよい。
【００３６】
また、本発明の実施の形態では、２層の記録層４，６を有する２層記録層型光記録媒体の光記録媒体１を製造する例について説明したが、スペーサ層５の形成、記録層６の形成、およびこの記録層６に対する初期化を繰り返すことにより、３層以上の記録層を備えて各記録層が均一に初期化された多層記録層型光記録媒体を製造することもできる。例えば、光記録媒体１のＬ１層とほぼ同一構造のＬ２層、Ｌ１層およびＬ０層を基材２上に順次積層した３層記録層型光記録媒体を製造する場合、その製造方法では、基材２上へのＬ２層の形成、Ｌ２層の初期化、スペーサ層５の形成、Ｌ１層の形成、Ｌ１層の初期化、スペーサ層５の形成、Ｌ０層の形成、Ｌ０層の初期化、カバー層７の形成の各工程、または、基材２上へのＬ２層の形成、スペーサ層５の形成、Ｌ２層の初期化、Ｌ１層の形成、スペーサ層５の形成、Ｌ１層の初期化、Ｌ０層の形成、カバー層７の形成、Ｌ０層の初期化の各工程が順次実施される。この場合、Ｌ１層の初期化については、初期化用レーザービームＬINに対するＬ２層の光反射率を３０％以下に設定することで、Ｌ１層を均一かつ良好に初期化することができる。また、Ｌ０層の初期化については、初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率を３０％以下に設定することで、Ｌ０層を均一かつ良好に初期化することができる。この場合、入射光から最も遠い層を除く他の層（２層の場合のＬ０層、３層の場合のＬ０層およびＬ１層）の第１保護層（４ａまたは６ａ）および第２保護層（４ｃまたは６ａ）の一部に金属層を用いることが可能であり、この構成にも本発明を適用するのが可能である。さらに、本発明に係る多層記録層型光記録媒体における複数の層にＲＯＭ層を含ませることができるし、複数の層のすべてを初期化する必要はなく、いずれか任意の層を初期化してもよい。
【００３７】
一方、Ｌ０層の初期化については、Ｌ０層に対して、Ｌ１層のみならず、Ｌ２層によって反射される初期化用レーザービームＬINも照射される。しかしながら、Ｌ２層による反射光の光量は、Ｌ０層とＬ２層との間の離間距離がＬ０層とＬ１層との離間距離のほぼ２倍になるため、Ｌ１層による反射光に対して１／４に低減される。加えて、Ｌ２層による反射光は、Ｌ０層を通過してからＬ２層で反射されてＬ０層に到達するまでにＬ１層を２回通過する。このため、Ｌ２層による反射光の光量は、１／４に低減された値に対してＬ１層の透過率の２乗の係数がさらに乗算された値となる。したがって、Ｌ２層による反射光の光量は、Ｌ１層による反射光に対して無視できる程度に僅かとなり、Ｌ０層の初期化に際しては、Ｌ１層による反射光のみを考慮すればよい。すなわち、多層記録層型光記録媒体において１つの層を初期化する場合、この初期化対象層よりも１つ入射光から遠い層による反射光の影響のみを考慮すればよく、したがって、この１つ入射光から遠い層における初期化用レーザービームＬINに対する光反射率を３０％以下に設定すればよい。
【００３８】
また、本発明の実施の形態では、初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率を具体的な所定値に規定したが、初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率はより低いのが好ましく、かつ記録再生用レーザービームに対するＬ１層の光反射率はより高いのが好ましいという観点からは、初期化用レーザービームＬINに対するＬ１層の光反射率を記録再生用レーザービームに対するＬ１層の光反射率よりも低率に形成する構成を採用することもできる。
【００３９】
【発明の効果】
以上のように、本発明に係る多層記録層型光記録媒体の製造方法によれば、多層記録層型光記録媒体を製造する際に、中間工程として、スペーサ層を介して入射される初期化用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において３０％以下となる一つの層を形成し、形成した一つの層に対して初期化用レーザービームを照射して初期化し、この初期化した層の上にスペーサ層を形成し、この形成したスペーサ層の上に他の層を形成し、この形成した他の層に対して初期化用レーザービームを照射して初期化することにより、１つの層で反射した初期化用レーザービームと他の層を通過した初期化用レーザービームとの間での上記した干渉に起因する他の層における初期化状態のムラの発生を確実に回避することができる。この結果、スペーサ層の膜厚を厚くすることなく、記録層を含む各層を均一かつ良好に初期化した高品質の多層記録層型光記録媒体を製造することができる。
【００４０】
また、本発明に係る多層記録層型光記録媒体の製造方法によれば、多層記録層型光記録媒体を製造する際に、中間工程として、スペーサ層を介して入射される初期化用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において３０％以下となる一つの層を形成し、形成した一つの層の上にスペーサ層を形成し、この形成した一つの層に対してスペーサ層を介して初期化用レーザービームを照射して初期化し、この形成したスペーサ層の上に他の層を形成し、この形成した他の層に対して初期化用レーザービームを照射して初期化することにより、１つの層で反射した初期化用レーザービームと他の層を通過した初期化用レーザービームとの間での上記した干渉に起因する他の層における初期化状態のムラの発生を確実に回避することができる。この結果、スペーサ層の膜厚を厚くすることなく、記録層を含む各層を均一かつ良好に初期化した高品質の多層記録層型光記録媒体を製造することができる。
【００４１】
また、本発明に係る多層記録層型光記録媒体の製造方法によれば、一つの層の記録再生用レーザービームに対する光反射率を２０％以上に形成することにより、ユーザー所有の記録再生装置によるデータの記録時および再生時のエラー発生を有効に防止することができる。
【００４２】
さらに、本発明に係る多層記録層型光記録媒体によれば、光照射によって初期化される記録層をそれぞれ含む複数の層が基材の一面側に形成されると共に各層間にスペーサ層が形成されている多層記録層型光記録媒体における複数の層の内の最上層を除く他の層のスペーサ層を介して入射される初期化用レーザービームに対する光反射率が初期化状態において３０％以下に形成したことにより、初期化対象層よりも１つ遠い層によって反射された初期化用レーザービームによる照射光量を十分に低減することができるため、スペーサ層の膜厚如何に拘わらず記録層を含む各層を均一かつ良好に初期化した高品質の多層記録層型光記録媒体を提供することができる。
【００４３】
また、本発明に係る多層記録層型光記録媒体によれば、一つの層の記録再生用レーザービームに対する光反射率を２０％以上に形成したことにより、ユーザー所有の記録再生装置によってデータを良好に記録することができると共に記録されたデータを良好に再生することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る多層（２層）記録層型の光記録媒体１の概略構成を示す断面図である。
【図２】Ｌ１層およびＬ０層が形成された光記録媒体１を初期化する際にＬ１層によって反射されたレーザービームＬREの照射によるＬ０層に対する影響を説明するための説明図である。
【図３】光記録媒体１におけるＬ１層の光反射率を種々変更して、その各光記録媒体１におけるＬ０層に対する初期化の良否をシミュレーションした際のシミュレーション結果を示すシミュレーション結果説明図である。
【図４】図３に示すシミュレーション結果に対応するシミュレーションの際の条件を示す説明図である。
【図５】光記録媒体１におけるＬ１層の膜厚を種々変更して、Ｌ１層が初期化状態（結晶状態）のときの初期化用レーザービームＬIN（波長：８１０ｎｍ）に対するＬ１層の光反射率の特性をシミュレーションした際のシミュレーション結果を示すシミュレーション結果説明図である。
【図６】光記録媒体１におけるＬ１層の膜厚を種々変更して、Ｌ１層が初期化状態（結晶状態）のときと未初期化状態（非晶質状態）のときの双方について記録再生用レーザービーム（波長：４０５ｎｍ）に対するＬ１層の光反射率の特性をシミュレーションした際のシミュレーション結果を示すシミュレーション結果説明図である。
【図７】従来の単層記録層型の光記録媒体２１の概略構成を示す断面図である。
【図８】出願人が既に開発している多層（２層）記録層型の光記録媒体３１の概略構成を示す断面図である。
【図９】Ｌ１層およびＬ０層が形成された光記録媒体３１を初期化する際にＬ１層によって反射されたレーザービームＬREの照射によるＬ０層に対する影響を説明するための説明図である。
【符号の説明】
１  光記録媒体
２  基材
３  反射層
４  記録層
４ａ  第１保護層
４ｂ  相変化材料層
４ｃ  第２保護層
５  スペーサ層
６  記録層
７  カバー層
Ｌ０  Ｌ０層
Ｌ１  Ｌ１層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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