(57)【要約】 【課題】  装置が小型であっても、液体などの流体の供給を止めることなく、流体の清浄度を高く保つことができる流体供給装置、その流体を用いた洗浄装置および洗浄方法を提供することを目的とする。【解決手段】  洗浄装置１は、貯留装置である純水製造装置１７から洗浄手段であるシャワ１３まで流路１６を用いて流れてきた純水を用いて、シャワ１３によって、板状部品１１を洗浄する装置である。流路１６には、液体中の微粒子を除去するフィルタである第１段フィルタ１８および第２段フィルタ１９が設置され、１つのフィルタを迂回して流体を流す迂回流路であるバイパスライン２０および２１が設置されている装置である。【選択図】      図１
2005347575.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体を貯留する貯留装置と、
貯留装置から供給先まで流体を流す流路と、
流体中の微粒子を除去するフィルタと、
１つのフィルタを迂回して流体を流す迂回流路とを含み、
流路に複数のフィルタが直列に設置されることを特徴とする流体供給装置。
【請求項２】
液体を貯留する貯留装置と、
液体を用いて被洗浄物を洗浄する洗浄手段と、
貯留装置から洗浄手段まで液体を流す流路と、
液体中の微粒子を除去するフィルタと、
１つのフィルタを迂回して液体を流す迂回流路とを含み、
流路に複数のフィルタが直列に設置されることを特徴とする洗浄装置。
【請求項３】
複数のフィルタは、ろ過精度が異なるものであることを特徴とする請求項２記載の洗浄装置。
【請求項４】
下流側に設置されたフィルタのろ過精度が低いことを特徴とする請求項２または３記載の洗浄装置。
【請求項５】
複数のフィルタは、樹脂フィルタと樹脂以外のフィルタとを用いることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１つに記載の洗浄装置。
【請求項６】
複数のフィルタに液体を通過させて液体から微粒子を除去する除去工程と、
微粒子が除去された液体を用いて被洗浄物を洗浄する洗浄工程とを含むことを特徴とする洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、たとえば、液晶表示装置用ガラス基板、液晶パネルおよび半導体ウエハなどの部品を洗浄するための流体を供給する流体供給装置、その流体を用いた洗浄装置および洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置用ガラス基板、液晶パネルおよび半導体ウエハなどの部品は、その表面に微粒子が付着したまま製品にすると、その製品が不良品になってしまうことがある。製品が不良品となる場合に部品の表面に付着している微粒子の粒径は、部品に形成する配線のサイズおよび機能膜の厚みによって異なるが、たとえば、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）液晶パネルを製造する場合、およそ０．３μｍの微粒子が存在すると、製品不良を生じる可能性がある。
【０００３】
部品の表面に付着している微粒子を除去する洗浄装置として、洗浄液などの液体を用いて、部品の表面に付着している微粒子を除去する装置が知られている。その際、用いられる液体は、微粒子が含まれていないものであることが好ましく、たとえば、純水製造装置によって製造された純水であると、粒径が０．１μｍ以上である微粒子の濃度が１個／ｍｌ以下であり、洗浄に用いるための液体として充分な清浄度を有する。
【０００４】
純水は、純水製造装置から洗浄装置まで配設された配管を流れて、洗浄装置まで供給される。配管が振動することによって、純水中の微粒子濃度が増加し、純水の清浄度が低下してしまう。配管の長さは、装置を設置する場所などによって異なるが、３０ｍ以上であることが多い。そのような場合、洗浄装置まで流れてきた純水は、粒径が０．１μｍ以上である微粒子の濃度が２個／ｍｌ程度まで増加し、清浄度が低下してしまう。つまり、そのような純水を用いても、部品の表面に対して、充分な洗浄を行うことができなくなり、製品が不良品になってしまう可能性がある。したがって、洗浄装置において、液体中の微粒子濃度を下げ、液体の清浄度を高める必要がある。
【０００５】
そこで、洗浄装置内の液体が流れる流路にフィルタを設置することによって、液体をフィルタに通過させて、液体中の微粒子を除去し、液体の清浄度を高めることができる。そうすることによって、部品の表面にある微粒子を充分に除去することができる。
【０００６】
しかしながら、そのような洗浄装置を長時間稼動させると、フィルタに目詰まりが生じてしまい、フィルタを交換する必要がある。フィルタを交換する際には、液体の供給ができなくなるので、その間、部品を洗浄することができなくなってしまう。そこで、フィルタが設置されている流路にフィルタを迂回する迂回流路をさらに設置し、フィルタ交換時には、液体が迂回流路を流れるようにすることによって、洗浄をとめる必要がなくなるが、フィルタを通過しない液体で洗浄を行うことになるので、清浄度が保たれず、製品の歩留り低下を招く原因となってしまう。
【０００７】
上記のような問題点を解決する典型的な従来の技術は、特許文献１に記載されている。特許文献１の洗浄装置は、フィルタを有する循環ライン（流路）によって洗浄液を洗浄槽に循環させて対象物を洗浄する洗浄装置であって、循環ラインは主循環ラインと副循環ラインとが配設され、フィルタ交換時に、洗浄液の流れを主循環ラインから副循環ラインに切替えることができる。
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−２４６３５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従来から、フィルタに通過させた流体を部品などに供給する流体供給装置および流体を用いて部品を洗浄する洗浄装置において、フィルタの寿命を延長させることよって、装置の稼働時間を長期化することおよびフィルタの交換を簡便化することなどが望まれている。
【００１０】
特許文献１の洗浄装置は、通常時には、主循環ラインに洗浄液を流して、被洗浄物を洗浄し、フィルタ交換時には、主循環ラインの洗浄液の流れをとめて、副循環ラインに洗浄液を流して、被洗浄物を洗浄する。したがって、フィルタ交換時であっても、洗浄をとめることなく、連続して洗浄でき、さらに、洗浄液は、副循環ラインを通るので、高い清浄度が保たれ、部品を充分に洗浄することができる。しかし、通常時には、主循環ラインしか使用しないが、フィルタ交換時のために、主循環ラインと同様の副循環ラインを設置しなければならない。したがって、同様のラインを２本設置しなければならないので、装置が大型なものになってしまう。
【００１１】
本発明の目的は、装置が小型であっても、流体の清浄度を高く保ちながら、装置の稼動時間を長くすることができる流体供給装置、その流体を用いた洗浄装置および洗浄方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、流体を貯留する貯留装置と、
貯留装置から供給先まで流体を流す流路と、
流体中の微粒子を除去するフィルタと、
１つのフィルタを迂回して流体を流す迂回流路とを含み、
流路に複数のフィルタが直列に設置されることを特徴とする流体供給装置である。
【００１３】
また本発明は、液体を貯留する貯留装置と、
液体を用いて被洗浄物を洗浄する洗浄手段と、
貯留装置から洗浄手段まで液体を流す流路と、
液体中の微粒子を除去するフィルタと、
１つのフィルタを迂回して液体を流す迂回流路とを含み、
流路に複数のフィルタが直列に設置されることを特徴とする洗浄装置である。
【００１４】
また本発明は、複数のフィルタは、ろ過精度が異なるものであることを特徴とする。
また本発明は、下流側に設置されたフィルタのろ過精度が低いことを特徴とする。
【００１５】
また本発明は、複数のフィルタは、樹脂フィルタと樹脂以外のフィルタとを用いることを特徴とする。
【００１６】
また本発明は、複数のフィルタに液体を通過させて液体から微粒子を除去する除去工程と、
微粒子が除去された液体を用いて被洗浄物を洗浄する洗浄工程とを含むことを特徴とする洗浄方法である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、貯留装置に貯留された流体を複数のフィルタが直列に設置されている流路に流すことによって、微粒子が除去された清浄度の高い流体を供給先に供給することができる。さらに、流路には、１つのフィルタを迂回して流体を流す迂回流路が設置されているので、迂回流路が設置されているフィルタを交換する際には、流体を迂回流路に流すことによって、流体の流れを止めなくてもフィルタを交換することができる。このとき、流路に複数のフィルタが直列に設置されているので、流体は、交換しているフィルタ以外のフィルタを通過することにより、流体中の微粒子を除去することができ、清浄度の高い流体を供給することができる。
【００１８】
また、流路に１つのフィルタを迂回するだけの迂回流路を設置することで、従来のように同様の流路を２本設置する場合に比べ、装置を小型化することができる。
【００１９】
以上のことにより、装置が小型であっても、流体の清浄度を高く保ちながら、装置の稼動時間を長くすることができる。
【００２０】
また本発明によれば、貯留装置に貯留された液体を複数のフィルタが直列に設置されている流路に流すことによって、微粒子が除去された清浄度の高い液体を洗浄手段に供給することができ、洗浄手段によって、清浄度の高い液体を用いて被洗浄物を洗浄することができる。さらに、流路には、１つのフィルタを迂回して液体を流す迂回流路が設置されているので、迂回流路が設置されているフィルタを交換する際には、液体を迂回流路に流すことによって、液体の流れを止めなくてもフィルタを交換することができる。このとき、流路に複数のフィルタが直列に設置されているので、液体は、交換しているフィルタ以外のフィルタを通過して液体中の微粒子を除去することができ、清浄度の高い流体を用いて被洗浄物を洗浄することができる。
【００２１】
また、流路に１つのフィルタを迂回するだけの迂回流路を設置することで、従来のように同様の流路を２本設置する場合より、装置を小型化することができる。
【００２２】
以上のことにより、装置が小型であっても、清浄度を高い液体を用いて洗浄することができ、さらに装置の稼動時間を長くすることができる。
【００２３】
また本発明によれば、フィルタが複数あり、それらのろ過精度が異なり、好ましくは、下流側に設置されたフィルタのろ過精度を低くする。
【００２４】
下流側に設置されたフィルタのろ過精度を高くすると、液体中の微粒子をより除去することができる。これに対して、下流側に設置されたフィルタのろ過精度を低くすると、上流側に設置されたフィルタによって液体中の微粒子が除去されるので、下流側に設置されたフィルタは、目詰まりを起こしにくくなり、フィルタの交換が少なくなる。したがって、上流側に設置されたフィルタのみに迂回流路を設置すればよいので、さらに装置を小型化することができる。
【００２５】
また本発明によれば、フィルタが複数あり、樹脂フィルタと樹脂以外のフィルタを用いる。樹脂フィルタは、ろ過面積を容易に広くすることができるので、ろ過精度を高いまま、流量も大きくすることができるが、圧力が変動すると伸び縮みして精密なろ過ができない。これに対して、樹脂以外のフィルタ、たとえばセラミックスフィルタは、圧力の変動によるろ過精度の変動が小さいが、大流量を通過させるためには、樹脂フィルタよりも大きなスペースが必要となるので、大流量を確保することが困難である。したがって、それらのフィルタを組み合わせることによって、ろ過精度および流量を充分に確保することができ、被洗浄物を充分に洗浄することができる。
【００２６】
また本発明によれば、除去工程によって、複数のフィルタに液体を通過させて液体から微粒子を除去し、洗浄工程によって、微粒子の除去された液体を用いて被洗浄物を洗浄する。除去工程において、複数のフィルタを用いて行うので、フィルタ交換により使用することができないフィルタがあっても、洗浄を継続することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下に本発明を実施の形態によって詳細に説明する。本発明はその要旨を超えない限り本実施の形態に限定されるものではない。以下、液晶表示装置用ガラス基板、液晶パネルおよび半導体ウエハなどの板状部品を洗浄する洗浄装置について説明する。
【００２８】
図１は、本発明の第１の実施形態である洗浄装置１の構成を簡略化して示す概略図である。洗浄装置１は、流体である液体を供給する流体供給装置９と洗浄手段１０とからなる洗浄装置である。
【００２９】
流体供給装置９は、流路１６と、純水製造装置１７と、第１段フィルタ１８と、第２段フィルタ１９と、迂回流路であるバイパスライン２０，２１とを含んで構成する。純水製造装置１７は、液体である純水を製造して貯留する貯留装置であり、流路１６に純水を供給する。流路１６は、純水製造装置１７から供給先である洗浄手段１０まで純水を流す。第１段フィルタ１８および第２段フィルタ１９は、流路１６を流れる純水をろ過して純水中の微粒子を除去する。第１段フィルタ１８および第２段フィルタ１９は、流路１６に直列に設置されており、第１段フィルタ１８が上流側に、第２段フィルタ１９が下流側に設置されている。バイパスライン２０および２１は、流路１６に設置されており、バイパスライン２０は、第１段フィルタ１８を迂回する迂回流路であり、バイパスライン２１は、第２段フィルタ１９を迂回する迂回流路である。流路１６には、第１段フィルタ１８の上流側、下流側、第２段フィルタ１９の上流側、下流側にそれぞれバルブ２２，２３，２５，２６が設置されている。バイパスライン２０には、バルブ２４が設置されており、バイパスライン２１には、バルブ２７が設置されている。各バルブは、流路１６、バイパスライン２０および２１に流れる純水の流量を調整する。
【００３０】
洗浄手段１０は、ローラ１２と、シャワ１３と、エアナイフ１４と、コンプレッサ１５とを含んで構成される。ローラ１２は、被洗浄物である板状部品１１を搬送する。シャワ１３は、板状部品１１に純水を吹き付ける。エアナイフ１４は、板状部品１１に空気を吹き付けて表面を乾燥させる。コンプレッサ１５は、エアナイフ１４に圧縮空気を供給する。
【００３１】
まず、板状部品１１がローラ１２の上に置かれて、矢符２８の方向に搬送される。板状部品１１が搬送されると、シャワ１３から純水が吹き付けられ、板状部品１１が洗浄される。その後、板状部品１１は、ローラ１２によってさらに搬送されて、エアナイフ１４から空気が吹き付けられることによって、板状部品１１は、表面が乾燥され、洗浄装置から図示しないロボットによって搬出される。
【００３２】
純水は、純水製造装置１７からおよそ０．２ＭＰａの圧力で流路１６に供給され、流路１６を流れる。その際、純水は、流路１６に設置されている第１段フィルタ１８および第２段フィルタ１９を通過する。そうすることによって、純水は、微粒子が除去され、清浄度の高いものになる。したがって、洗浄装置１は、清浄度の高い純水を用いて洗浄することができるので、板状部品１１は充分に洗浄することができる。
【００３３】
バイパスライン２０および２１は、第１段フィルタ１８および第２段フィルタ１９の交換の際に使用する。具体的には、第１段フィルタ１８を交換する場合、バイパスライン２０にあるバルブ２４を開いて、純水の流れを確保する。その後、バルブ２２および２３を閉じてから、第１段フィルタ１８を交換する。そうすることによって、フィルタ交換の際に、純水の流れは確保されており、洗浄をとめる必要がなくなる。また、第２段フィルタ１９を交換する場合、第１段フィルタ１８の交換と同様に、バルブ２７を開け、バルブ２５および２６を閉じて、バイパスライン２１を使用することによって、洗浄をとめることなく、フィルタを交換することができる。第１段フィルタ１８および第２段フィルタ１９のろ過精度は、どちらか一方だけを用いても純水が充分な清浄度を確保できるものとする。そうすることによって、フィルタ交換時も、フィルタ交換していないフィルタで微粒子を除去することができるので、液体の清浄度は、高いままに保つことができ、板状部品を充分洗浄することができる。ここで、フィルタのろ過精度とは、フィルタの前後で比較して９０％以上ろ過できる最小の粒子サイズのことをいう。
【００３４】
洗浄手段は、シャワ１３以外に、ノズル、高圧スプレおよびスリットシャワなどを用いてもよい。板状部品１１を乾燥する方法としては、エアナイフなどの乾燥手段を用いた乾燥方法以外に、スピン乾燥方法およびＩＰＡ（イソプロピルアルコール）ベーパ乾燥方法などによって乾燥させてもよい。
【００３５】
第１段フィルタ１８と第２段フィルタ１９とのろ過精度が異なることで、以下のような効果がある。第２段フィルタ１９が、第１段フィルタ１８より高いろ過精度であれば、供給する純水の微粒子濃度をより低下させることができ、清浄度のより高い純水を用いて板状部品１１を洗浄することができる。これに対して、第１段フィルタ１８が、第２段フィルタ１９より高いろ過精度であれば、純水中の微粒子は、第１段フィルタ１８によって除去されるので、第２段フィルタ１９は、目詰まりが発生しにくくなり、交換する頻度が少なくてすむので、好ましい。
【００３６】
図２は、本発明の第２の実施形態である洗浄装置２の構成を簡略化して示す概略図である。洗浄装置２は、第２段フィルタ１９に対するバイパスライン２１、バルブ２５，２６および２７を設置しないこと以外、上記の洗浄装置１と同様である。
【００３７】
洗浄装置２は、第１段フィルタ１８を、第２段フィルタ１９よりろ過精度の高いものにする。そうすることによって、第２段フィルタ１９は、目詰まりを発生しにくくなり、第２段フィルタ１９を交換する必要がほとんどなくなるので、第２段フィルタ１９に、バイパスラインを設ける必要がなくなり、装置をより小型化することができる。
【００３８】
また、第１段フィルタ１８は、樹脂フィルタが好ましく、第２段フィルタ１９は、樹脂以外のフィルタが好ましい。樹脂フィルタは、ろ過面積を容易に広くすることができるので、ろ過精度を高いまま、流量も大きくすることができるが、圧力が変動すると伸び縮みして精密なろ過ができない。これに対して、樹脂以外のフィルタは、圧力の変動によるろ過精度の変動が小さいが、大流量を通過させるためには、樹脂フィルタよりも大きなスペースが必要となるので、大流量を確保することが困難である。したがって、第１段フィルタ１８に樹脂フィルタを用い、第２段フィルタ１９に樹脂以外のフィルタを用いることによって、ろ過精度および流量を充分に確保することができるので、被洗浄物を充分に洗浄することができる。
【００３９】
樹脂フィルタとは、ポリプロピレン、ポリスルホン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニル共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリスチレンなどの樹脂およびそれらの樹脂に適当な添加剤を混ぜた樹脂で構成されたフィルタをいう。樹脂以外のフィルタとは、酸化アルミニウムおよび酸化ケイ素などを焼き固めたセラミックフィルタ、ステンレスを焼き固めた焼結フィルタ、ステンレスおよびタングステンなどで微細の孔を形成させたフィルタである。
【００４０】
図３は、本発明の第３の実施形態である洗浄装置３の構成を簡略化して示す概略図である。洗浄装置３は、洗浄に用いた洗浄液を回収して再び洗浄液として利用して、板状部品１１を洗浄する装置である。洗浄装置３は、洗浄装置１と同様に、流体供給装置９と洗浄手段１０とからなる洗浄装置である。
【００４１】
流体供給装置９は、回収ライン３１と、カスケードタンク３２と、ポンプ３３と、流路３４，３５と、排水ライン３６と、排水処理装置３７と、プレフィルタ３８と、第１段フィルタ３９と、第２段フィルタ４０と、バイバスライン４１、４２とを含んで構成する。回収ライン３１は、板状部品１１の洗浄に用いた液体である洗浄液を回収してカスケードタンク３２へ流す。カスケードタンク３２は、回収された洗浄液を貯留する貯留装置である。流路３４は、カスケードタンク３２からポンプ３３まで洗浄液を流す。ポンプ３３は、流路３４から流れてきた洗浄液を流路３５に供給する。流路３５は、ポンプ３３から供給先であるノズル３０まで洗浄液を流す。プレフィルタ３８は、流路３４に設置されている。第１段フィルタ３９および第２段フィルタ４０は、流路３５に直列に設置されており、第１段フィルタ３９が上流側に、第２段フィルタ４０が下流側に設置されている。バイパスライン４１および４２は、流路３５に設置されており、バイパスライン４１は、第１段フィルタ３９を迂回する迂回流路であり、バイパスライン４２は、第２段フィルタ４０を迂回する迂回流路である。流路３５には、第１段フィルタ３９の上流側、下流側、第２段フィルタ４０の上流側、下流側にそれぞれバルブ４３，４４，４６，４７が設置されている。バイパスライン４１には、バルブ４５が設置されており、バイパスライン４２には、バルブ４８が設置されている。排水ライン３６は、カスケードタンク３２に貯留された洗浄液を排水処理装置３７まで流す。排水処理装置３７は、洗浄液を排水する。
【００４２】
洗浄手段１０は、ローラ１２と、ノズル３０と、エアナイフ１４と、コンプレッサ１５とを含んで構成される。ローラ１２は、被洗浄物である板状部品１１を搬送する。ノズル３０は、板状部品１１に洗浄液を吹き付ける。エアナイフ１４は、板状部品１１を乾燥させる。コンプレッサ１５は、エアナイフ１４に空気を供給する。
【００４３】
まず、板状部品１１がローラ１２の上に置かれて、矢符２８の方向に搬送される。板状部品１１が搬送されると、ノズル３０から洗浄液が吹き付けられ、板状部品１１が洗浄される。その後、板状部品１１は、ローラ１２によってさらに搬送されて、乾燥手段であるエアナイフ１４から板状部品１１に空気を吹き付けられることによって、板状部品１１は、乾燥され、洗浄装置から図示しないロボットによって搬出される。
【００４４】
洗浄液は、板状部品１１を洗浄した後、回収ライン３１を流れて、カスケードタンク３２に貯留される。その後、プレフィルタ３８の設置された流路３４をポンプ３３まで流れ、ポンプ３３によって圧力が加えられて、流路３５を流れて供給先であるノズル３０に供給される。カスケードタンク３２に貯留された洗浄液は、清浄度が低く、目視で確認できるほどの異物が浮遊していることがあり、そのような洗浄液をポンプ３３に吸引させると、ポンプ３３が破損したり、傷ついたりするものである。そのような洗浄液が流路３４に設置されたプレフィルタ３８を通過することによって、大きな異物が除去され、さらに流路３５に設置された第１段フィルタ３９および第２段フィルタ４０を通過することによって、洗浄液中の微粒子が除去され、清浄度の高いものとなる。したがって、洗浄装置３は、板状部品１１の洗浄に用いられた洗浄液を回収して再び洗浄液として利用することによって、板状部品１１を充分に洗浄することができる。
【００４５】
また、カスケードタンク３２に一定量の洗浄液が貯まると、排水ライン３６を通って、排水処理装置３７によって、洗浄液が排水として処理される。
【００４６】
さらに、洗浄装置１と同様に、バイパスライン４１および４２が設置されているので、フィルタ交換の際、洗浄をとめることなく、板状部品１１を洗浄することができる。第１段フィルタ３９および第２段フィルタ４０のろ過精度は、どちらか一方だけを用いても純水が充分な清浄度を確保できるものとする。
【００４７】
図４は、本発明の第４の実施形態である洗浄装置４の構成を簡略化して示す概略図である。洗浄装置４は、第２段フィルタ４０に対するバイパスライン４２、バルブ４６，４７および４８を設置しないこと以外、上記の洗浄装置３と同様である。
【００４８】
洗浄装置４は、第１段フィルタ３９を、第２段フィルタ４０よりろ過精度の高いものにする。そうすることによって、第２段フィルタ４０は、目詰まりなどによって、交換する必要が少なくなるので、第２段フィルタ４０に対して、バイパスラインを設ける必要がなくなり、装置をさらに小型化することができる。
【００４９】
図５は、本発明の第５の実施形態である洗浄装置５の構成を簡略化して示す概略図である。洗浄装置５は、純水を板状部品１１に供給して洗浄する洗浄装置１および洗浄に用いた洗浄液を再び洗浄液として利用して、板状部品１１を洗浄する洗浄装置３を組み合わせた洗浄装置である。
【００５０】
板状部品１１は、ローラ１２によって矢符２８の方向に搬送される。板状部品１１が搬送されると、シャワ１３から純水が供給され、板状部品１１が洗浄される。その後、板状部品１１は、ローラ１２によってさらに搬送されて、シャワ１３から純水を供給して板状部品１１を洗浄される。そうすることによって、板状部品１１上の微粒子をより多く除去することができる。
【００５１】
図６は、本発明の第６の実施形態である洗浄装置６の構成を簡略化して示す概略図である。洗浄装置６は、第２段フィルタ１９に対するバイパスライン２１、バルブ２５，２６および２７を設置しないこと以外、上記の洗浄装置５と同様である。
【００５２】
洗浄装置６は、第１段フィルタ１８を、第２段フィルタ１９よりろ過精度の高いものにする。そうすることによって、第２段フィルタ１９は、目詰まりなどによって、交換する必要が少なくなるので、第２段フィルタ１９に、バイパスラインを設ける必要がなくなり、装置をさらに小型化することができる。
【００５３】
図７は、本発明の第７の実施形態である洗浄装置７の構成を簡略化して示す概略図である。洗浄装置７は、第２段フィルタ４０に対するバイパスライン４２、バルブ４６，４７および４８を設置しないこと以外、上記の洗浄装置５と同様である。
【００５４】
洗浄装置７は、第１段フィルタ３９を、第２段フィルタ４０よりろ過精度の高いものにする。そうすることによって、第２段フィルタ４０は、目詰まりなどによって、交換する必要が少なくなるので、第２段フィルタ４０に、バイパスラインを設ける必要がなくなり、装置をさらに小型化することができる。
【００５５】
図８は、本発明の第８の実施形態である洗浄装置８の構成を簡略化して示す概略図である。洗浄装置８は、第２段フィルタ１９および４０に対するバイパスライン２１、４２およびバルブ２５，２６，２７、４６，４７，４８を設置しないこと以外、上記の洗浄装置５と同様である。
【００５６】
洗浄装置８は、第１段フィルタ１８を、第２段フィルタ１９よりろ過精度の高いものにし、さらに、第１段フィルタ３９を、第２段フィルタ４０よりろ過精度の高いものにする。そうすることによって、第２段フィルタ１９および４０は、目詰まりなどによって、交換する必要が少なくなるので、第２段フィルタ１９および４０に、バイパスラインを設ける必要がなくなり、装置をさらに小型化することができる。
【００５７】
以下に、洗浄装置８を用いた実施例を示す。
実施例は、洗浄装置８のプレフィルタ３８、第１段フィルタ３９および第２段フィルタ４０に表１に示したろ過精度を有したフィルタを使用した。プレフィルタ３８は、ステンレス網を利用した。第１段フィルタ３９は、長さ２５０ｍｍのポリプロピレン製プリーツタイプのものを使用した。第２段フィルタ４０は、長さ１００ｍｍのステンレス焼結フィルタを使用した。表１には、ノズル３０から噴出される純水の流量および圧力を示した。
【００５８】
【表１】
2005347575.tif 000003
【００５９】
シャワ１４から噴出される純水は、部品１１の乾燥前に噴出する純水であるため、ノズル３０から噴出する純水より高い清浄度が必要になる。表２には、シャワ１４から噴出される純水の流量および圧力を示した。
【００６０】
【表２】
2005347575.tif 000004
【００６１】
表１および２に示すように、実施例は、充分な流量および圧力で板状部品１１を洗浄することができ、３０００時間以上ノズル３０に目詰まりが発生せず、洗浄装置の稼動時間を増加させることができた。
【００６２】
各実施形態および実施例では、１つの流路に２個のフィルタを設置しているが、設置するフィルタの数は、２個に限らず、３個以上であってもよい。
【００６３】
さらに、洗浄手段１０は、上記のような液体を噴出させて洗浄する洗浄手段以外に、液槽と超音波発生装置とを有する洗浄手段であってもよい。本発明である流体供給装置によって、そのような洗浄手段の液槽内に清浄度の高い流体を供給し、その流体中に板状部品を浸漬させて、超音波発生装置によって発生させた超音波によって洗浄する。
【００６４】
また、被洗浄物は、上記のような板状部品に限られず、本発明である洗浄装置は、部品の形状に関係なく洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の第１の実施形態である洗浄装置１の構成を簡略化して示す概略図である。
【図２】本発明の第２の実施形態である洗浄装置２の構成を簡略化して示す概略図である。
【図３】本発明の第３の実施形態である洗浄装置３の構成を簡略化して示す概略図である。
【図４】本発明の第４の実施形態である洗浄装置４の構成を簡略化して示す概略図である。
【図５】本発明の第５の実施形態である洗浄装置５の構成を簡略化して示す概略図である。
【図６】本発明の第６の実施形態である洗浄装置６の構成を簡略化して示す概略図である。
【図７】本発明の第７の実施形態である洗浄装置７の構成を簡略化して示す概略図である。
【図８】本発明の第８の実施形態である洗浄装置８の構成を簡略化して示す概略図である。
【符号の説明】
【００６６】
１，２，３，４，５，６，７，８  洗浄装置
９  流体供給装置
１０  洗浄手段
１１  板状部品
１２  ローラ
１３  シャワ
１４  エアナイフ
１５  コンプレッサ
１６，３４，３５  流路
１７  純水製造装置
１８，３９  第１段フィルタ
１９，４０  第２段フィルタ
２０，２１，４１，４２  バイパスライン
２２，２３，２４，２５，２６，２７，４３，４４，４５，４６，４７，４８  バルブ
２８  矢符
３０  ノズル
３１  回収ライン
３２  カスケードタンク
３３  ポンプ
３６  排水ライン
３７  排水処理装置
３８  プレフィルタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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