(57)【要約】【課題】  医薬や農薬分野などにおける有機合成の（中間）原料、光学分割剤および不斉合成補助剤などに有用な新規な有機ケイ素化合物を提供することである。特に、不斉環境や不斉識別能を付与することが可能な新規化合物を提供することである。【解決手段】  下記式（１）で表される新規な有機ケイ素化合物が、上記課題を解決することを見出した。【化１】2005154276.tif 000021  式（１）中、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒは分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は同一または異なっても良く、分岐があっても良い炭素数１〜６個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子はたはヨウ素原子を示し、ｎは１〜２０の整数を示す。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される有機ケイ素化合物。
【化１】
2005154276.tif 000020
（式（１）中、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒは分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は同一または異なっても良く、分岐があっても良い炭素数１〜６個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子はたはヨウ素原子を示し、ｎは１〜２０の整数を示す。
【請求項２】
請求項１記載の有機ケイ素化合物の光学活性体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な有機ケイ素化合物に関するものであり、有機合成における合成中間体、特に光学分割剤、不斉合成補助剤として有用な有機ケイ素化合物を提供するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機ケイ素化合物が有機合成において有用な化合物であることはよく知られている（例えば、非特許文献１参照）。アリルシランおよびビニルシランの特異な反応性や、その操作性の高さは代表的な例であり、このため精密有機合成において、欠くことのできないツールとして広く受け入れられている（例えば、非特許文献２参照）。特に、トリメチルシリル基に代表される（トリ）アルキル型の有機ケイ素化合物が多用されている。
【０００３】
また、有機ケイ素化合物は精密有機合成において、水酸基の保護基として特徴ある性質を有しており、確固たる地位を占めている（例えば、非特許文献３参照）。水酸基の保護基でもトリメチルシリル基およびｔ−ブチルジメチルシリル基などの（トリ）アルキル型の有機ケイ素化合物が多く用いられている。
【０００４】
このような状況下であるが、（トリ）アルキル基を有する有機ケイ素化合物において、アルキル基に不斉炭素を有し、かつその立体配置が明らかなものは、下記文献を除いてほとんど知られていない（例えば、非特許文献４参照、特許文献１参照）。これらの文献記載の有機ケイ素化合物は、その合成法による制約からケイ素原子のβ位以遠の炭素原子が不斉炭素である化合物に限定され、ケイ素原子の隣接炭素原子が不斉炭素であるものは合成できない。
【０００５】
ケイ素原子に結合した隣接炭素原子が不斉炭素であり、その立体配置が明らかなアルキルハロゲノシラン類の報告は、下記の不斉ヒドロシリル化反応の研究の中にわずかに見られるだけで、非常に限定されている（例えば、非特許文献５参照、例えば、特許文献２参照）。これらヒドロシリル化反応による合成法によれば、反応基質がオレフィン類に限定されるうえ、その合成法による制約からケイ素原子のβ位炭素原子上には必ず水素原子が１個以上結合したものが合成されることから、得られる有機ケイ素化合物が制約される。
【０００６】
このため、有機ケイ素化合物のキラリティーに起因した不斉誘導反応や光学分割の研究は、医・農薬分野における有機合成の（中間）原料として多様な光学活性化合物が望まれているにもかかわらず、これまでほとんど行われていない（例えば、非特許文献６参照）。
【０００７】
下記式（２）で表されるケイ素原子に結合した隣接炭素原子が不斉炭素である化合物が報告されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００８】
【化１】
2005154276.tif 000002
【０００９】
式（２）中、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒ1は分岐があってもよい低級アルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。
【００１０】
また下記式（３）で表されるケイ素原子に結合した隣接炭素原子が不斉炭素である化合物が報告されている（例えば、特許文献４参照）。
【００１１】
【化２】
2005154276.tif 000003
【００１２】
式（３）中、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒ1は分岐があってもよい低級アルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、Ｙはビニル基、アリル基、水素原子、アジド基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、エノールエーテル基、またはケテンアセタール基のいずれかを示す。
【００１３】
【特許文献１】特開平０６−３０６０８７号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開平０５−１７４９１号公報（実施例）
【特許文献３】国際公開第０３／０７４５３６号パンフレット（請求の範囲）
【特許文献４】国際公開第０３／０７４５４９号パンフレット（請求の範囲）
【非特許文献１】Ｃｏｌｖｉｎ，Ｅ．Ｗ．“Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，”  Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ，  Ｌｏｎｄｏｎ，１９８８．
【非特許文献２】Ｌａｎｇｋｏｐｆ，  Ｅ．；Ｓｃｈｉｎｚｅｒ  Ｄ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９９５，９５，ｐ．１３７５−１４０８．
【非特許文献３】Ｇｒｅｅｎ，Ｔ．Ｗ．；Ｗｕｔｓ  Ｐ．Ｇ．Ｍ．  “Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，”３ｒｄ．Ｅｄ．，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９９９，ｐ．１１３−１４８．
【非特許文献４】Ｃｈａｎ，Ｔ．Ｈ．；Ｗａｎｇ，Ｄ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９９２，９２，ｐ．９９５−１００６．
【非特許文献５】Ｈａｙａｓｈｉ，Ｔ．Ｉｎ“Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ．”  Ｊａｃｏｂｓｅｎ，Ｅ．Ｎ．；Ｐｆａｌｔｚ，Ａ．；Ｙａｍａｍｏｔｏ，Ｈ．（Ｅｄ），Ｓｐｒｉｎｇｅｒ  Ｂｅｒｌｉｎ，１９９９，ｐ．３１９−３３３．
【非特許文献６】Ｆｌｅｍｉｎｇ，Ｉ．；Ｂａｒｂｅｒｏ，  Ａ，；  Ｗａｌｔｅｒ，Ｄ．，  Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９９７，９７，ｐ．２０６３−２１９２．
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明の目的は、医薬や農薬分野などにおける有機合成の（中間）原料、光学分割剤および不斉合成補助剤などに有用な新規な有機ケイ素化合物を提供することである。特に、不斉環境や不斉識別能を付与することが可能な新規化合物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、下記式（１）で表される新規な有機ケイ素化合物が、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は下記式（１）で表される化合物およびこれらの光学活性体である。
【００１６】
【化３】
2005154276.tif 000004
【００１７】
式（１）中、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒは分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3は同一または異なっても良く、分岐があっても良い炭素数１〜６個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子はたはヨウ素原子を示し、ｎは１〜２０の整数を示す。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の有機ケイ素化合物は新規であり、ケイ素原子の隣接位に不斉炭素原子を有するうえ、その立体配置がＲ体およびＳ体のどちらも所望の光学活性体を得ることができるという特徴を有する。このため有機合成、特に不斉合成に関わる原料、中間原料、光学分割剤および不斉合成補助剤として有用である。その他に無機化合物の表面処理剤、ポリマーの改質剤、あるいは高分子樹脂の構成成分として用いることも可能である。特に本発明の新規有機ケイ素化合物の光学活性体で表面処理したシリカゲルや樹脂は、光学異性体分離カラムクロマトグラフィー用充填材としても用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
前記式（１）で表される有機ケイ素化合物は、例えば下記式（４）で表される化合物から通常の有機合成手段により製造することができる。
【００２０】
【化４】
2005154276.tif 000005
【００２１】
式（４）中、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒ1は分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す。
【００２２】
式（１）並びに式（４）のＡｒ1、Ａｒ2およびＲの置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基などにおける置換基としては、次のようなものが例示できる。この置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アセトキシ基、シリルオキシ基、ハロゲン原子、アリール基、ビニル基およびアリル基などのアルケニル基、エチニル基、エポキシ基、ジアルキルアミノ基、並びにアシル基などである。そして、置換基としてのアルキル基は好ましくは炭素数１〜２０で特に好ましくは炭素数１〜６個のアルキル基が例示できる。置換基としてのアルコキシ基は好ましくは炭素数１〜２０で特に好ましくは炭素数１〜６のアルコキシ基が例示できる。置換基としてのシリルオキシ基に結合しているアルキル基としては炭素数１〜２０で特に好ましくは炭素数１〜６個のアルキル基が例示できる。置換基としてのハロゲン原子はフッ素原子、塩素原子または臭素原子が例示できる。置換基としてのアリール基は更にアルキル基または／およびアルコキシ基が結合していても良いものが例示できる。このアルキル基およびアルコキシ基は、上記記載のものが例示できる。置換基としてのビニル基およびアリル基などのアルケニル基は炭素数２〜２０で好ましく、炭素数２〜８が例示できる。置換基としてのエポキシ基は炭素数２〜６のものが例示できる。置換基としてのジアルキルアミノ基のアルキル基の炭素数は１〜２０で、特に好ましくは炭素数１〜６個のアルキル基が例示できる。置換基としてのアシル基のアルキル基の炭素数としては１〜２０で、特に好ましくは炭素数１〜６個のアルキル基が例示できる。式（１）のＸ1、Ｘ2およびＸ3で表されるアルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、へキシルオキシ基などが例示され、好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。式（１）のｎは１〜２０であり、好ましくは２〜１６であり、更に好ましくは３〜１０である。しかし、これら記載に限定されるものではない。
【００２３】
本発明の式（１）で表される化合物は、式（４）で表される化合物（これはＷＯ０３／０７４５３６の記載を参照して合成できる）から下記式（５）で表される化合物を合成し（これはＷＯ０３／０７４５３５の記載を参照して合成できる）、これに適当な触媒の存在下トリアルコキシシランと反応させることによって容易に合成することができる。この触媒としてはオレフィンのヒドロシリル化に通常用いられるものが使用でき、例えば遷移金属触媒が使用でき、好ましくは白金触媒である。
【００２４】
【化５】
2005154276.tif 000006
【００２５】
式（５）中、Ａｒ1およびＡｒ2はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒは分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、ｍは０〜１８の整数を示す。ここの置換基とは式（１）および式（４）のもので定義したものである。
【００２６】
式（４）で表される化合物のキラリティーを損なうことなく式（１）で表される化合物を一般に得ることができる。従って、光学活性な式（４）で表される化合物を用いれば、光学活性な式（１）で表される化合物を得ることができる。なお、式（１）で表される本発明の新規な有機ケイ素化合物は、キラルカラムを用いたＨＰＬＣ分析により両異性体を識別することが可能であり、その光学純度を決定することができる。
【００２７】
またラセミ体の式（４）で表される化合物を用いて上記の各反応を行って得られた前記式（１）で表される化合物のラセミ体を、例えばキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分取によって光学分割して、両光学異性体（エナンチオマー）を得ることもできる。
【００２８】
式（１）で表される化合物は、式（４）の化合物に適当なグリニヤール試薬を反応させることによって合成することもできる。例えば式（１）においてｎ＝１である化合物の１例である［ジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シリル］メチルトリエトキシシランは、クロロメチルトリエトキシシランにマグネシウムを作用させて調製したグリニヤール試薬を、式（４）の１例であるクロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランに反応させることによって得ることができる。この反応においても式（４）の化合物のキラリティーを損なうことはない。従って、光学活性な式（４）の化合物を用いれば、光学活性な式（１）の化合物を得ることができる。またラセミ体のクロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランを用いて本反応を行って得られた前記式（１）の化合物のラセミ体を、例えばキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分取によって光学分割して、両光学異性体（エナンチオマー）を得ることもできる。本反応は［ジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シリル］メチルトリエトキシシランに限ったものではなく、種々の前記式（１）で表される化合物の合成に適用できる。
【００２９】
本発明の式（１）で表される化合物の合成について、１−トリエトキシシリル−３−［ジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シリル］プロパン（下記式（６））を例として説明する。
【００３０】
【化６】
2005154276.tif 000007
【００３１】
上記式（６）の化合物（１−トリエトキシシリル−３−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル］プロパン）は、アリルグリニヤール試薬（ハロゲン化アリルとマグネシウムとから調製）と式（４）で表される化合物であるクロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランとからアリルジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランを合成し、これに適当な触媒の存在下トリエトキシシランと反応させることによって容易に合成することができる。この触媒としてはオレフィンのヒドロシリル化に通常用いられるものが使用でき、例えば遷移金属触媒が使用でき、好ましくは白金触媒であり、特に好ましくは塩化白金（ＩＶ）酸および白金（０）−１，３−ジビニル１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体である。
【００３２】
以上の反応は１−トリエトキシシリル−３−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル］プロパンに限ったものでなく、前記式（１）で表される有機ケイ素化合物（ただし、ｎ＝１である場合を除く）に適用できる。
【００３３】
○使用例
式（１）で表される化合物としては、例えば実施例１で合成した（Ｒ）−１−トリエトキシシリル−３−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル］プロパンなどが例示でき、そしてこのものは例えばシリカゲルやガラス、ガラス繊維、樹脂、繊維などと反応させることにより、これを光学異性体分離剤として用いることができる。例えば、（Ｒ）−１−トリエトキシシリル−３−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル］プロパンを担持したシリカゲルは、光学異性体分離クロマトグラフィー用充填剤として用いることができる。また、これを各種反応系に存在させれば不斉合成補助剤として用いることもできる。
【００３４】
以上、式（１）における使用法を例示したが、これらの例に限定されるものではない。また、式（１）を合成するときに用いる式（４）は、光学分割が容易にできることから、必要に応じてそれぞれの光学活性体を用いることができる。式（１）に誘導したものを用いて、例えばキラルカラムを用いたＨＰＬＣにより光学分割して、光学活性体を得ることもできる。
【００３５】
＜実施例＞
以下、本発明を合成例、参考例および実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。特に断りがない限り、アルゴン雰囲気下、市販の脱水溶媒を用いて各反応を実施した。また、シリカゲルカラムクロマトグラフィーは和光純薬工業（株）製ワコーゲルＣ−２００を使用して実施した。化学式中の「＊」は、光学活性体であることを示す。Ｍはモル濃度（ｍｏｌ／ｌ）を示す。
また、1Ｈ−ＮＭＲは、重クロロホルム溶媒中、テトラメチルシランを内部標準として用いて測定し、そのケミカルシフト（δ／ｐｐｍ）を示した。
【００３６】
○キラルＨＰＬＣの条件
分析装置：Ｗａｔｅｒｓ社製ＬＣ−Ｍｏｄｕｌｅ  １ｐｌｕｓ
分析カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＤ−Ｈ（ダイセル化学工業（株）製カラム）
（４．６ｍｍＩ．Ｄ．×２５０ｍｍ＋ガードカラム５０ｍｍ）．
移動相：ｎ−ヘキサン／クロロホルム（ｖ／ｖ）＝９６／４または９８／２
流速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ
カラム温度：２５℃
【００３７】
＜合成例１＞
○（１−ナフチル）フェニルメタンの合成
１−ブロモナフタレン（１．０８ｍｏｌ）、マグネシウム（１．２ｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ，１．５Ｌ）より調製した１−ナフタレンマグネシウムブロミド溶液をベンジルクロリド（１．２ｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（５ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（５００ｍＬ）溶液に３０分間かけて滴下し、更に室温で１終夜攪拌した。この反応液に蒸留水（５０ｍＬ）を加え反応を停止させた後、ここから溶媒を減圧留去した。ここに１Ｍ塩酸（５００ｍＬ）を加え、ジエチルエーテル（５００ｍＬで３回）で抽出した。抽出層は合一し、これを１Ｍ塩酸（５００ｍＬ）、蒸留水（５００ｍＬで２回）、飽和食塩水（５００ｍＬ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液から溶媒を減圧留去して得られた残渣を減圧蒸留（２７ｐａ）した。減圧蒸留の１４０〜１５０℃の留分（２２０ｇ）をエタノールから結晶化して（１−ナフチル）フェニルメタン（１６３．９ｇ，ｍｐ６１．５℃，収率７０％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
【００３８】
【化７】
2005154276.tif 000008
【００３９】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０５−７．９５（ｍ，１Ｈ），７．９０−７．８２（ｍ，１Ｈ），７．７９−７．７２（ｍ，１Ｈ），７．５１−７．３７（ｍ，３Ｈ），７．３５−７．１４（ｍ，６Ｈ），４．４３（ｓ，２Ｈ）．
【００４０】
＜合成例２＞
○クロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランの合成
合成例１で合成した（１−ナフチル）フェニルメタン（０．７５ｍｏｌ）のＴＨＦ（８００ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却した。この溶液に１０Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（０．８２５ｍｏｌ）を３０分間かけて滴下した。滴下終了後そのままの温度で３０分間攪拌した後、室温まで昇温して、更に１時間攪拌してリチウム塩を調製した。別途、ジクロロジメチルシラン（２．２５ｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（１Ｌ）に溶解し−７８℃に冷却した。この溶液中に先のリチウム塩溶液を加え、その後、室温に昇温して１終夜攪拌した。生成した塩化リチウムをろ別し、ろ液から溶媒を減圧留去した。得られた残渣を減圧蒸留してクロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シラン（１９９．４ｇ，ｂｐ１５３−１５５℃／２７ｐａ、収率８５％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
【００４１】
【化８】
2005154276.tif 000009
【００４２】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１５−８．０２（ｍ，１Ｈ），７．８７−７．６７（ｍ，３Ｈ），７．５３−７．０５（ｍ，８Ｈ），４．５５（ｓ，１Ｈ），０．５１（ｓ，３Ｈ），０．４８（ｓ，３Ｈ）．
【００４３】
＜合成例３＞
○Ｏ−ジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルの合成
Ｅｂｂｅｒｓらの報告（Ｅｂｂｅｒｓ，Ｅ．Ｊ．；Ａｒｉａａｎｓ，Ｇ．Ｊ．Ａ．；Ｂｒｕｇｇｉｎｋ，Ａ．；Ｚｗａｎｅｎｂｕｒｇ，Ｂ．、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１９９９，１０，３７０１−３７１８．）を参考に合成した（Ｓ）−マンデル酸メチルエステル（［α］D26＋１４４．３゜（ｃ１．５，ＣＨ3ＯＨ），０．７０ｍｏｌ）とイミダゾール（０．８０ｍｏｌ）とを含むＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ，１Ｌ）溶液に、合成例２で合成したクロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シラン（０．６４ｍｏｌ）を投入し、室温で１終夜攪拌した。この反応液を氷浴で冷却した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１Ｌ）中に入れて中和し、ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（１／１（ｖ／ｖ），１Ｌで１回，５００ｍＬで３回）で抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）、蒸留水（５００ｍＬで２回）、飽和食塩水（５００ｍＬで２回）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これをろ過した後、ろ液から溶媒を減圧留去し、Ｏ−ジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（ジアステレオマー混合物，粗精製品２８０ｇ）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
【００４４】
【化９】
2005154276.tif 000010
【００４５】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１３−８．０３（ｍ，１Ｈ），７．８６−７．６６（ｍ，３Ｈ），７．５１−７．０２（ｍ，１３Ｈ），４．９９（ｓ，０．５Ｈ），４．９６（ｓ，０．５Ｈ），４．３８（ｓ，０．５Ｈ），４．３４（ｓ，０．５Ｈ），３．６１（ｓ，１．５Ｈ），３．５８（ｓ，１．５Ｈ），０．２１（ｓ，１．５Ｈ），０．１８（ｓ，１．５Ｈ），０．１７（ｓ，１．５Ｈ），０．１５（ｓ，１．５Ｈ）．
得られた粗精製品はｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（９５／５（ｖ／ｖ），１．５Ｌ）から結晶化し、１０７．８ｇの高純度品（４００ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲによるジアステレオマー過剰率８８．４％ｄｅ）を得た。更にこの結晶をｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（９０／１０（ｖ／ｖ），１Ｌ）から再結晶化し、９５．４ｇの高純度ジアステレオマー（４００ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲによるジアステレオマー過剰率９９％ｄｅ、クロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランに対する収率３４％）を得た。下記に機器データを示す。
ｍｐ１１３℃．
比旋光度：［α］D23＋３８．６°（ｃ１．０３，ＣＨＣｌ3）．
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１２−８．０３（ｍ，１Ｈ），７．８８−７．６７（ｍ，３Ｈ），７．４９−７．０２（ｍ，１３Ｈ），４．９９（ｓ，１Ｈ），４．３４（ｓ，１Ｈ），３．６１（ｓ，３Ｈ），０．２１（ｓ，３Ｈ），０．１５（ｓ，３Ｈ）．
【００４６】
＜参考例１＞
○Ｏ−ジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（高純度ジアステレオマー）の玉尾酸化反応による絶対配置の決定
合成例３で得たＯ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルの高純度ジアステレオマー（４００ＭＨｚ、1Ｈ−ＮＭＲによるジアステレオマー過剰率９９％ｄｅ，５ｍｍｏｌ）、炭酸水素カリウム（１５ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（１５ｍｍｏｌ）を含むメタノール／ＴＨＦ（１／１（ｖ／ｖ），４０ｍＬ）懸濁液を０℃に冷却した。この懸濁液に３０％過酸化水素水を０．５ｍＬずつ６回（２５ｍｍｏｌ）に分けて加え、室温に昇温して２日間攪拌した。その後、反応液を０℃に冷却し、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を１ｍＬずつ１０回に分けて加え、そのままの温度で３０分間攪拌した。この反応液はセライトを通してろ過し、セライトをジエチルエーテル（２５ｍＬで４回）で洗浄した。集めたろ液を飽和食塩水（５０ｍＬ）、蒸留水（５０ｍＬ）、飽和食塩水（５０ｍＬ）で順次洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。これをろ過後、ろ液から溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝１０／１（ｖ／ｖ））で精製して、（１−ナフチル）フェニルメタノール（０．９５ｇ，収率８１％）を得た。この反応については、下記反応式を参照。
【００４７】
【化１０】
2005154276.tif 000011
【００４８】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０５−８．００（ｍ，１H），７．８９−７．７７（ｍ，２H），７．６２（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５２−７．３７（ｍ，５H），７．３５−７．２２（ｍ，３H），６．５１（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），２．３７（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ）．
得られたアルコールの比旋光度は［α］D28＋５８．７°（ｃ０．８２，Ｃ6Ｈ6）であり、文献値｛［α］D25＋５９．５°（ｃ０．８２，Ｃ6Ｈ6），Ｓｅｅｂａｃｈ  Ｄ．；Ｂｅｃｋ，Ａ．Ｋ．；Ｒｏｇｇｏ，Ｓ．；Ｗｏｎｎａｃｏｔｔ，Ａ．Ｃｈｅｍ．  Ｂｅｒ．，１９８５，１１８，３６７３−３６８２．｝との比較から、得られた（１−ナフチル）フェニルメタノールがＲ配置であることが判った。この反応、いわゆる玉尾酸化反応は立体保持で進行することが広く知られている（玉尾皓平，有機合成化学協会誌，１９８８，４６，８６１−８７８．）。従って，用いた高純度ジアステレオマーのＯ−ジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルはＲ配置であると決定した。
【００４９】
＜合成例４＞
○（Ｒ）−クロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランの合成
合成例３で合成して得たＯ−（Ｒ）−ジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（０．２１６ｍｏｌ）にアセチルクロリド（１．１３ｍｏｌ）を加えた懸濁液を０℃に冷却し、０．５Ｍの塩化亜鉛ＴＨＦ溶液（０．４３ｍｍｏｌ）を加えた。これを室温に昇温して1時間攪拌し、反応液は均一となった。さらに１終夜攪拌した。過剰に用いた塩化アセチルを反応液から減圧留去した後、ｎ−ヘキサン（５０ｍＬ）とアセトン（５ｍＬ）を加え、４５分間攪拌した。ここから、溶媒を減圧留去した後、残渣を減圧蒸留して、（Ｒ）−クロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シラン（６０．９ｇ，収率９１％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この下記に機器分析データを示す。
【００５０】
【化１１】
2005154276.tif 000012
【００５１】
ｂｐ１５８−１６０℃／４０Ｐａ．
ｍｐ７３．５−７６．０℃．
比旋光度：［α］D 23−１０．６°（ｃ１．０２，ＣＨＣｌ3）．
【００５２】
＜参考例２＞
○クロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランの鏡像体過剰率の算出
クロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランをメタノールと反応させてメトキシジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランを調製し、このキラルＨＰＬＣ分析により鏡像体過剰率を求めた。このようにして求めたメトキシジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランの鏡像体過剰率を元のクロロシランの鏡像体過剰率とした。
【００５３】
・（Ｒ）−メトキシジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランの調製とキラルＨＰＬＣ分析
合成例４で合成した（Ｒ）−クロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シラン（０．１３ｍｍｏｌ）に、別にイミダゾール８３．７ｍｇ、メタノール０．０６５ｍＬ、クロロホルム６．４ｍＬから調製した溶液１ｍＬを室温で加え、しばらく攪拌した後、そのまま１終夜静置して、（Ｒ）−メトキシジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランを調製した。この合成は、下記反応式を参照。また、この1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
【００５４】
【化１２】
2005154276.tif 000013
【００５５】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１５−８．０６（ｍ，１Ｈ），７．８７−７．６９（ｍ，３Ｈ），７．５１−７．０２（ｍ，８Ｈ），４．３４（ｓ，１Ｈ），３．３５（ｓ，３Ｈ），０．１８（ｓ，３Ｈ），０．１８（ｓ，３Ｈ）．
この反応液５０μＬにヘキサン４５０μＬを加えてよく良く振盪した後、ろ液をキラルＨＰＬＣ分析に供した（移動相：ｎ−ヘキサン／クロロホルム（ｖ／ｖ）＝９６／４）。その結果、Ｓ体の保持時間は１３．６ｍｉｎ、Ｒ体のそれは１７．４ｍｉｎであり、鏡像体過剰率は９９．８％ｅｅであった。
【００５６】
＜合成例５＞
○（Ｒ）−アリルジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランの合成
アリルブロミド（２２０ｍｍｏｌ）、マグネシウム（４７５ｍｍｏｌ）およびジエチルエーテル（２００ｍＬ）から調製したアリルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液を、合成例４で得た（Ｒ）−クロロジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シラン（１０９ｍｍｏｌ，９９．８％ｅｅ）のジエチルエーテル（１００ｍＬ）溶液中に室温で加え、そのまま２時間攪拌した後、１終夜静置した。この反応液を氷の入った飽和塩化アンモニウム溶液（５００ｍＬ）に注加してから分液し、さらに水層からジエチルエーテル抽出を行った（２００ｍＬで２回）。このジエチルエーテル層を合一し、飽和食塩水で洗浄し（５００ｍＬで２回）、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ液から溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１（ｖ／ｖ））で精製し、アリルジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シラン２９．６４ｇ（収率８６％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、（Ｒ）−アリルジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シランの1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
【００５７】
【化１３】
2005154276.tif 000014
【００５８】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１６−８．０７（ｍ，１Ｈ），７．８６−７．６７（ｍ，２Ｈ），７．６３−７．５５（ｍ，１Ｈ），７．５２−７．３５（ｍ，３Ｈ），７．３２−７．１５（ｍ，４Ｈ），７．１０−７．０３（ｍ，１Ｈ），５．７６−５．５６（ｍ，１Ｈ），４．８７−４．６９（ｍ，２Ｈ），４．３８（ｓ，１Ｈ），１．６１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），０．１４（ｓ，３Ｈ）．０．１２（ｓ，３Ｈ）．
【００５９】
＜実施例１＞
○（Ｒ）−１−トリエトキシシリル−３−［ジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シリル］プロパンの合成
合成例５で得た（Ｒ）−アリルジメチル［（１−ナフチル）フェニルメチル］シラン（１０．０ｍｍｏｌ）をトルエン２０ｍＬに溶解し、ここに白金（０）−１，３−ジビニル１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体の０．１Ｍポリジメチルシロキサン溶液をトルエンで１０倍に希釈した溶液８３μＬ（アリルシランに対して１００ｐｐｍ）を加えた。反応系を７０℃に加熱し、ここにトリエトキシシラン１．９４ｍＬ（１０．５ｍｍｏｌ）を滴下し、７０℃で４時間攪拌した。さらに同様にして白金（０）−１，３−ジビニル１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン錯体をアリルシランに対して１００ｐｐｍ追加し、７０℃でさらに４時間攪拌した。反応液から溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１（ｖ／ｖ））で精製し、（Ｒ）−１−トリエトキシシリル−３−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル］プロパン２．８０ｇ（収率５８％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、（Ｒ）−１−トリエトキシシリル−３−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル］プロパンの1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
【００６０】
【化１４】
2005154276.tif 000015
【００６１】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１２−８．１０（ｍ，１Ｈ），７．８１−７．７９（ｍ，１Ｈ），７．７１−７．６９（ｍ，１Ｈ）７．６０−７．５７（ｍ，１Ｈ），７．４７−７．３７（ｍ，３Ｈ），７．２３−７．１７（ｍ，４Ｈ），７．０７−７．０３（ｍ，１Ｈ），４．３３（ｓ，１Ｈ），３．７２（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，６Ｈ），１．４８−１．２８（ｍ，２Ｈ），１．１７（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，９Ｈ），０．７５−０．７０（ｍ，２Ｈ），０．６３−０．５８（ｍ，２Ｈ），０．１１１（ｓ，３Ｈ）．０．１０７（ｓ，３Ｈ）．
このものをキラルＨＰＬＣ分析した結果（移動相：ｎ−ヘキサン／クロロホルム（ｖ／ｖ）＝９８／２）、Ｒ体の保持時間は１６．９ｍｉｎ、Ｓ体のそれは２１．７ｍｉｎであり、鏡像体過剰率は、９９．８％ｅｅであった。
【００６２】
＜合成例６＞
○１−ブロモ−２−メトキシナフタレンの合成
水素化ナトリウム（６０〜７２％含有，１４．７８ｇ）を石油エーテルで洗浄し、ＴＨＦ（１００ｍＬ）に懸濁した。これに１−ブロモ−２−ナフトール（３３６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１００ｍＬ）を室温で１．５時間かけて滴下し、そのまま１時間かき混ぜた。ここにヨウ化メチル（６７５ｍｍｏｌ）を室温で加えて攪拌した後、そのまま１終夜静置し、さらに６時間加熱還流した。この反応液に純水と酢酸エチルエステルとを加えて抽出し、この有機層（１．６Ｌ）を飽和食塩水で洗浄した。その後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過し、ろ液から溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）に供し、１−ブロモ−２−メトキシナフタレン（８０．６ｇ，収率１００％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
【００６３】
【化１５】
2005154276.tif 000016
【００６４】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．２２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８１−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．５７−７．５３（ｍ，１Ｈ），７．４０−７．３６（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ）．
【００６５】
＜合成例７＞
○（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタンの合成
合成例６で合成し１−ブロモ−２−メトキシナフタレン（３７９ｍｍｏｌ）、マグネシウム（７５９ｍｍｏｌ）、１，２−ジブロモエタン（１１．６ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（７００ｍＬ）より調製した２−メトキシ−１−ナフチルマグネシウムブロミド溶液をベンジルブロミド（７５７ｍｍｏｌ）およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（５．０９ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（１００ｍＬ）溶液に４２分間かけて滴下し、７１時間加熱還流した後、室温で更に２日間攪拌した。この反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液に注加し、ジエチルエーテルで抽出した。この有機層（１．４Ｌ）を、飽和塩化アンモニウム水溶液、純水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液から溶媒を減圧留去して得られた残渣にｎ−ヘキサンを加えて攪拌した後（１５０ｍＬで２回）、固体をろ取した。この固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）に供し、（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタン（５１．８ｇ，収率５５％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
【００６６】
【化１６】
2005154276.tif 000017
【００６７】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８１−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．４２−７．１１（ｍ，８Ｈ），４．４８（ｓ，２Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ）．
【００６８】
＜合成例８＞
○アリルジメチル［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］シランの合成
合成例７で合成した（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタン（３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍＬ）溶液を０℃に冷却した。この溶液に１．５８Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（３．１４ｍｍｏｌ）を加えた後、そのままの温度で１時間攪拌してリチウム塩を調製した。別にジクロロジメチルシラン（９．０７ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（３ｍＬ）に溶解し０℃に冷却した。この溶液に先のリチウム塩溶液を加えた後、そのままの温度で１時間攪拌した。デカンテーションにより得た上澄み液から溶媒を減圧留去してクロロジメチル［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］シランを得た。このクロロジメチル［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］シランのＴＨＦ溶液（３ｍＬ）に、別にアリルクロリト゛（６ｍｍｏｌ）、マグネシウム（１２．２ｍｍｏｌ）、少量のヨウ素およびＴＨＦ（６ｍＬ）から調製したアリルマグネシウムクロリドのＴＨＦ溶液を室温で加え、３０分間攪拌した後、室温で３日間静置した。この反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液とジエチルエーテルとを加えて分液し、さらに水層からジエチルエーテル抽出した。ジエチルエーテル抽出液を合一し、飽和塩化アンモニウム水溶液（３回）、純水（２回）、および飽和食塩水（１回）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。ろ過したろ液から溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５（ｖ／ｖ））で精製し、アリルジメチル［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］シラン０．８２８ｇ（収率７９％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
【００６９】
【化１７】
2005154276.tif 000018
【００７０】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．７８−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．４１−７．１５（ｍ，７Ｈ），７．０６−７．０２（ｍ，１Ｈ），５．７５−５．６４（ｍ，１Ｈ），４．８１−４．７８（ｍ，１Ｈ），４．７６５−４．７５９（ｍ，１Ｈ），４．３２（ｓ，１Ｈ），３．９８（ｓ，３Ｈ），１．６１−１．５９（ｍ，２Ｈ），０．０５（ｓ，３Ｈ），−０．０２（ｓ，３Ｈ）．
【００７１】
＜実施例２＞
○１−トリエトキシシリル−３−［ジメチル［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］シリル］プロパンの合成
合成例８で得たアリルジメチル［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］シラン（１ｍｍｏｌ）をトルエン２ｍＬに溶解し、ここに塩化白金（ＩＶ）酸六水和物の０．１Ｍベンゾニトリル溶液０．０１ｍＬ（アリルシランに対して０．１ｍｏｌ％）を加えて攪拌した。ここにトリエトキシシラン（１．１９ｍｍｏｌ）を滴下し、均一になった後、室温で１終夜攪拌した。反応液から溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１（ｖ／ｖ））で精製し、１−トリエトキシシリル−３−［ジメチル［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］シリル］プロパン０．２５０ｇ（収率４９％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、１−トリエトキシシリル−３−［ジメチル［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］シリル］プロパンの1Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
【００７２】
【化１８】
2005154276.tif 000019
【００７３】
1Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０２−７．９９（ｍ，１Ｈ），７．７６−７．７４（ｍ，２Ｈ），７．３９−７．００（ｍ，８Ｈ），４．２８（ｂｒｓ，１Ｈ），３．９６（ｓ，３Ｈ），３．７２（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，６Ｈ），１．４７−１．２０（ｍ，２Ｈ），１．１７（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，９Ｈ），０．６９−０．５９（ｍ，４Ｈ），０．０３（ｓ，３Ｈ）．−０．０３（ｓ，３Ｈ）．
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明の有機ケイ素化合物は新規であり、ケイ素原子の隣接位に不斉炭素原子を有するうえ、その立体配置がＲ体およびＳ体のどちらも所望の光学活性体を得ることができるという特徴を有する。このため有機合成、特に不斉合成に関わる中間原料、光学分割剤および不斉合成補助剤として有用である。その他に無機化合物の表面処理剤、ポリマーの改質剤、あるいは高分子樹脂の構成成分として用いることも可能である。特に本発明の新規有機ケイ素化合物の光学活性体で表面処理したシリカゲルや樹脂は、光学異性体分離カラムクロマトグラフィー用充填材としても用いることができる。