(57)【要約】【課題】  粘着剤を用いなくとも、その自己粘着性により被洗浄部（被洗浄面を含む）を良好に清浄化することができ、柔軟性、強度、剥離性及び耐熱性に優れたクリーニングフィルム及びクリーニング部材を提供する。【解決手段】  本クリーニングフィルムは、ジエン系ブロック重合体の水素添加物及び極性基変性オレフィン系重合体から選ばれる重合体を含むエラストマー組成物からなる。上記ジエン系ブロック重合体の水素添加物は、共役ジエンのブロック重合体の水素添加物、共役ジエン及び芳香族ビニル化合物からなるブロック共重合体の水素添加物等が好ましい。本フィルムに、凸部、凹部、溝部及び切り込み部から選ばれる部位を備えてもよい。本クリーニング部材２は、クリーニングフィルム１ａが支持層２１上に配設されてなる。【選択図】  図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジエン系ブロック重合体の水素添加物及び極性基変性オレフィン系重合体から選ばれる少なくとも１種の重合体を含むエラストマー組成物からなることを特徴とするクリーニングフィルム。
【請求項２】
上記ジエン系ブロック重合体の水素添加物は、共役ジエンのブロック重合体の水素添加物並びに共役ジエン及び芳香族ビニル化合物からなるブロック共重合体の水素添加物から選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載のクリーニングフィルム。
【請求項３】
上記ジエン系ブロック重合体の水素添加物は、ビニル結合含量が２５％未満であるブタジエン重合体ブロック（Ｉ）と、共役ジエン単位（ａ１）及び他の単量体単位（ａ２）の質量割合が（ａ１）／（ａ２）＝（１００〜５０）／（０〜５０）であり、ビニル結合含量が２５〜９５％である重合体ブロック（ＩＩ）とを、それぞれ分子中に少なくとも１つ有するジエン系ブロック重合体中の、オレフィン性不飽和結合が水素添加されたものである請求項１又は２に記載のクリーニングフィルム。
【請求項４】
上記極性基変性オレフィン系重合体は、極性基変性エチレン・α−オレフィン共重合体及び極性基変性エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体から選ばれる少なくとも１種であり、且つ、上記エラストマー組成物は、金属イオン及び／又は金属化合物を含む請求項１に記載のクリーニングフィルム。
【請求項５】
上記極性基は、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、アルコキシシリル基、スルホン酸基及びニトリル基から選ばれる請求項４に記載のクリーニングフィルム。
【請求項６】
上記エラストマー組成物は、液状材料を含み、該液状材料の含有量は、重合体成分の合計１００質量部に対して、５０〜５０００質量部である請求項１乃至５のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
【請求項７】
上記エラストマー組成物の少なくとも一部が架橋されている請求項１乃至６のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
【請求項８】
更に研磨粒子を含有する請求項１乃至７のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
【請求項９】
厚さが０．１〜２０００μｍである請求項１乃至８のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
【請求項１０】
本クリーニングフィルムの少なくとも１面に、凸部、凹部、溝部及び切り込み部から選ばれる部位を備える請求項１乃至９のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
【請求項１１】
本クリーニングフィルムの少なくとも１面に保護フィルムを備える請求項１乃至１０のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
【請求項１２】
請求項１乃至１０のいずれかに記載のクリーニングフィルムが支持層上に配設されてなることを特徴とするクリーニング部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、その自己粘着性により被洗浄部を良好に清浄化することができ、柔軟性、強度、剥離性及び耐熱性に優れたクリーニングフィルム及びクリーニング部材に関する。更に詳しくは、電子部品及びその検査機器（検査部品）の表面（凸部、側面等を含む）等に付着あるいは形成された不純物、汚れ等を除去するために用いられるクリーニングフィルム及びクリーニング部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェハを用いた半導体装置の製造工程において、例えば、半導体ウェハの製造工程が完成した後、個々のチップに切断される前に、通常、プローブカードでウェハの性能試験が行われ、その機能が正常であるか否かが評価される。この性能試験は、プローブカードに配設された複数の探針をウェハの所定箇所（測定部）に接触させて行われ、電気的特性、動作状況等が評価される。しかし、この性能試験が長期に渡って行われると、探針の先端に金属、酸化物等からなる微粒子等の不純物が付着する。付着した不純物の量が多くなると、性能試験の精度が低下し、最終製品の品質に影響を及ぼすこととなる。従って、プローブカードを一定回数使用した後に、探針の先端部に付着した不純物を除去する必要がある。
また、切断されたチップの表面に微小な切削屑等が堆積した場合にも最終製品の品質に影響を及ぼすこととなる。従って、チップの表面を清浄にする工程が必要となる場合がある。
更に、各種製品の製造工程によっては、熱処理を必要とする場合、発熱を伴う場合等があり、高温状態で、即ち、必ずしも室温周辺温度でない状態で被洗浄部（被洗浄面を含む）の清浄化が求められる場合もある。
従って、電子部品及びその検査機器（検査部品）の表面等に付着あるいは形成された不純物、汚れ等を除去するために、粘着材を用いる方法、洗浄液等による洗浄方法等が行われている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
粘着材として、粘着剤を含む粘着シートを用いる限りにおいては、例えば、上記探針の先端部に付着した不純物を除去した後、その先端部における粘着剤の残存を完全に避けられない場合がある。
また、洗浄液等により洗浄を行う場合には、使用した洗浄液を完全に除去する工程が新たに必要となり、コストの拡大を招く。
本発明の目的は、粘着剤を用いなくとも、その自己粘着性により被洗浄部（被洗浄面を含む）を良好に清浄化することができ、柔軟性、強度、剥離性及び耐熱性に優れたクリーニングフィルム及びクリーニング部材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は以下に示される。
１．ジエン系ブロック重合体の水素添加物及び極性基変性オレフィン系重合体から選ばれる少なくとも１種の重合体を含むエラストマー組成物からなることを特徴とするクリーニングフィルム。
２．上記ジエン系ブロック重合体の水素添加物は、共役ジエンのブロック重合体の水素添加物並びに共役ジエン及び芳香族ビニル化合物からなるブロック共重合体の水素添加物から選ばれる少なくとも１種である上記１に記載のクリーニングフィルム。
３．上記ジエン系ブロック重合体の水素添加物は、ビニル結合含量が２５％未満であるブタジエン重合体ブロック（Ｉ）と、共役ジエン単位（ａ１）及び他の単量体単位（ａ２）の質量割合が（ａ１）／（ａ２）＝（１００〜５０）／（０〜５０）であり、ビニル結合含量が２５〜９５％である重合体ブロック（ＩＩ）とを、それぞれ分子中に少なくとも１つ有するジエン系ブロック重合体中の、オレフィン性不飽和結合が水素添加されたものである上記１又は２に記載のクリーニングフィルム。
４．上記極性基変性オレフィン系重合体は、極性基変性エチレン・α−オレフィン共重合体及び極性基変性エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体から選ばれる少なくとも１種であり、且つ、上記エラストマー組成物は、金属イオン及び／又は金属化合物を含む上記１に記載のクリーニングフィルム。
５．上記極性基は、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、アルコキシシリル基、スルホン酸基及びニトリル基から選ばれる上記４に記載のクリーニングフィルム。
６．上記エラストマー組成物は、液状材料を含み、この液状材料の含有量は、重合体成分の合計１００質量部に対して、５０〜５０００質量部である上記１乃至５のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
７．上記エラストマー組成物の少なくとも一部が架橋されている上記１乃至６のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
８．更に研磨粒子を含有する上記１乃至７のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
９．厚さが０．１〜２０００μｍである上記１乃至８のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
１０．本クリーニングフィルムの少なくとも１面に、凸部、凹部、溝部及び切り込み部から選ばれる部位を備える上記１乃至９のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
１１．本クリーニングフィルムの少なくとも１面に保護フィルムを備える上記１乃至１０のいずれかに記載のクリーニングフィルム。
１２．上記１乃至１０のいずれかに記載のクリーニングフィルムが支持層上に配設されてなることを特徴とするクリーニング部材。
【発明の効果】
【０００５】
本発明のクリーニングフィルムによると、その自己粘着性により、粘着剤を用いなくとも、被洗浄部（被洗浄面を含む）を良好に清浄化することができる。
本クリーニングフィルムが特定の重合体を架橋してなるフィルムである場合には、特に柔軟性、強度、剥離性等に優れる。
また、本クリーニングフィルムが研磨粒子を含有する場合には、強固に付着した汚れ等を研磨粒子により剥ぎ落とすと同時に汚れかすをフィルムの粘着力により吸着、除去することができる。
更に、被洗浄部が針状等複雑形状である場合には、凸部、凹部、溝部及び切り込み部から選ばれる部位を備えたクリーニングフィルムを用いることにより、効率的に清浄化することができる。
本発明のクリーニング部材によると、自己粘着性を有するクリーニングフィルムにより、被洗浄部を良好に清浄化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下、本発明を詳しく説明する。
本発明のクリーニングフィルムは、ジエン系ブロック重合体の水素添加物及び極性基変性オレフィン系重合体から選ばれる少なくとも１種の重合体を含むエラストマー組成物からなることを特徴とするものである。
【０００７】
まず、ジエン系ブロック重合体の水素添加物について説明する。
上記ジエン系ブロック重合体の水素添加物は、ジエン系ブロック重合体の水素添加物であれば特に限定されない。このジエン系ブロック重合体は、共役ジエンのブロック共重合体であってもよいし、共役ジエンと１種以上の他の単量体とからなるブロック共重合体であってもよい。従って、上記ジエン系ブロック重合体のブロック構造としては、（Ａ−Ｂ）ｍＡ、（Ｂ−Ａ）ｍＢ、（Ａ−Ｂ−Ａ）ｍ、（Ｂ−Ａ−Ｂ）ｍ等が挙げられ、更に、（Ａ−Ｂ）ｍＸ、（Ｂ−Ａ）ｍＸ、（Ａ−Ｂ−Ａ）ｍＸ、（Ｂ−Ａ−Ｂ）ｍＸ等のように、カップリング剤残基Ｘを介して重合体分子鎖が延長又は分岐されたものでもよい。各一般式において、「Ａ」は共役ジエン単位を主体とするブロック、「Ｂ」は他の共役ジエン単位又は他の単量体単位を主体とするブロック、ｍは１以上の整数である。
【０００８】
上記共役ジエンとしては、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン、４，５−ジエチル−１，３−オクタジエン、クロロプレン等が挙げられる。これらのうち、１，３−ブタジエン、イソプレン及び１，３−ペンタジエンが好ましく、特に１，３−ブタジエン及びイソプレンが好ましい。尚、上記例示した化合物は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの共役ジエンを用いたブロック共重合体としては、２つ以上のブタジエン重合体ブロックを有するポリブタジエン、２つ以上のイソプレン重合体ブロックを有するポリイソプレン等が挙げられる。
【０００９】
また、共重合体とする場合の他の単量体としては、スチレン、ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、α−クロロスチレン、ｐ−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノスチレン等の芳香族ビニル化合物；（メタ）アクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物；ビニルピリジン等の窒素原子含有ビニル化合物等が挙げられる。これらのうち、芳香族ビニル化合物が好ましく、中でも、スチレン及びα−メチルスチレンが好ましい。尚、上記例示した化合物は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。上記ジエン系ブロック重合体が共役ジエンと他の単量体とからなるブロック共重合体である場合、共役ジエン単位は、ランダム、テーパー（分子鎖に沿って共役ジエン単位の割合が増加又は減少するもの）及び一部ブロックから選ばれる分布であってよい。
【００１０】
共役ジエンと１種以上の他の単量体とからなるブロック共重合体としては、スチレン・ブタジエンブロック共重合体、スチレン・イソプレンブロック共重合体、イソブチレン・イソプレンブロック共重合体、アクロルニトリル・ブタジエンブロック共重合体、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体等が挙げられる。
【００１１】
本発明に関わるジエン系ブロック重合体の水素添加物とするためのジエン系ブロック重合体としては、ビニル結合含量が２５％未満であるブタジエン重合体ブロック（Ｉ）と、共役ジエン単位（ａ１）及び他の単量体単位（ａ２）の質量割合が（ａ１）／（ａ２）＝（１００〜５０）／（０〜５０）であり、ビニル結合含量が２５〜９５％である重合体ブロック（ＩＩ）とを、それぞれ分子中に少なくとも１つ有するジエン系ブロック重合体（以下、「重合体（Ｐ）」という。）が好ましい。
【００１２】
上記ブタジエン重合体ブロック（Ｉ）において、ビニル結合（１，２−ビニル結合）の含量は、好ましくは２５％未満、より好ましくは５〜２０％、更に好ましくは７〜１９％である。従って、上記ブタジエン重合体ブロック（Ｉ）は、水素添加によりエチレン・ブテン共重合体に類似した構造を示す結晶性のブロックとなる。ビニル結合含量を上記範囲とすることにより、成形体の力学的性質及び形状保持性を向上させることができる。
【００１３】
また、上記重合体ブロック（ＩＩ）は、共役ジエン単位のみからなるブロックであってもよいし、共役ジエン単位（ａ１）と他の単量体単位（ａ２）とからなるブロックであってもよい。共役ジエン単位（ａ１）及び他の単量体単位（ａ２）の質量割合（ａ１）／（ａ２）は、好ましくは（１００〜５０）／（０〜５０）であり、より好ましくは（１００〜７０）／（０〜３０）、更に好ましくは（１００〜９０）／（０〜１０）である。このような範囲とすることにより、粘弾性に優れた成形体を得ることができる。
尚、上記重合体ブロック（ＩＩ）において、ビニル結合（１，２−ビニル結合及び３，４−ビニル結合）の含量は、好ましくは２５〜９５％であり、より好ましくは２５〜９０％、更に好ましくは３０〜８５％である。
【００１４】
従って、上記重合体（Ｐ）としては、ブタジエン重合体ブロック（Ｉ）を「Ａ１」、重合体ブロック（ＩＩ）を「Ｂ１」とした場合、（Ａ１−Ｂ１）ｍ１、（Ａ１−Ｂ１）ｍ２−Ａ１、（Ｂ１−Ａ１）ｍ３−Ｂ１等で表されるものを用いることができる。各一般式において、ｍ１〜ｍ３は１以上の整数を示す。
また、上記重合体（Ｐ）は、トリブロック以上のブロックを有する共重合体であれば、水素添加物とした場合に形状保持性及び力学的性質により優れる成形体を得ることができる。従って、上記一般式において、ｍ１は、２以上の整数であることが好ましい。
【００１５】
尚、上記重合体（Ｐ）は、上記ブタジエン重合体ブロック（Ｉ）及び上記重合体ブロック（ＩＩ）をそれぞれ分子中に少なくとも１つ有していればよく、これら以外に、他のブロック、例えば、共役ジエン単位以外の他の単量体単位からなるブロックを有する重合体であってもよい。
【００１６】
上記重合体（Ｐ）を構成する上記ブタジエン重合体ブロック（Ｉ）及び上記重合体ブロック（ＩＩ）の含有割合（Ｉ）／（ＩＩ）は、好ましくは（７０〜１０）／（３０〜９０）、より好ましくは（５０〜１０）／（５０〜９０）、更に好ましくは（４０〜１５）／（６０〜８５）である。上記各ブロックの含有割合を上記範囲とすることにより、形状保持性及び力学的性質に特に優れた成形体を得ることができる。
【００１７】
尚、上記重合体（Ｐ）においても、（Ａ１−Ｂ１）ｎＸ、（Ｂ１−Ａ１）ｎＸ、（Ａ１−Ｂ１−Ａ１）ｎＸ、（Ｂ１−Ａ１−Ｂ１）ｎＸ等のように、カップリング剤残基Ｘを介して重合体分子鎖が延長又は分岐されたものでもよい。各一般式において、ｎは２以上の整数を示す。また、上記各一般式において、ｎが３以上の場合、形状保持性、ホットメルト粘・接着性に優れた成形体を得ることができる。
上記カップリング剤としては、１，２−ジブロモエタン、メチルジクロロシラン、トリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、テトラクロロシラン、テトラメトキシシラン、ジビニルベンゼン、アジピン酸ジエチル、アジピン酸ジオクチル、ベンゼン−１，２，４−トリイソシアナート、トリレンジイソシアナート、エポキシ化１，２−ポリブタジエン、エポキシ化アマニ油、テトラクロロゲルマニウム、テトラクロロスズ、ブチルトリクロロスズ、ブチルトリクロロシラン、ジメチルクロロシラン、１，４−クロロメチルベンゼン、ビス（トリクロロシリル）エタン等が挙げられる。
【００１８】
上記重合体（Ｐ）の水素添加物の形成にあたっては、特開平２−１３３４０６号公報、特開平３−１２８９５７号公報、特開平５−１７０８４４号公報等に開示される方法等によって得ることができる。得られる水素添加物の水添率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは８５％以上、特に好ましくは９０％以上である。水添率が高いほど、成形体とした場合の形状保持性及び力学的性質を向上させることができる。
【００１９】
上記エラストマー組成物がジエン系ブロック共重合体の水素添加物を主とする場合、成形体の柔軟性に影響を与えないものであれば、他の重合体を含有してもよい。他の重合体は樹脂であってもよいし、エラストマー（ゴムを含む）であってもよい。更には、樹脂及びエラストマーを組み合わせてもよい。他の重合体としては、水添重合体ではない、即ち水素添加されていないジエン系重合体、アクリル系重合体、ウレタン系重合体、ポリアミド系重合体、ポリエステル系重合体、塩化ビニル系重合体、フッ素系重合体、シリコーン系重合体等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２０】
上記ジエン系重合体としては、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・イソプレン共重合体、イソブチレン・イソプレン共重合体、アクロルニトリル・ブタジエン共重合体、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２１】
尚、上記イソブチレン・イソプレン共重合体は、一般に「ブチルゴム（ＩＩＲ）」として知られるものであるが、イソブチレン及びイソプレンと、更に他の単量体、例えば極性基を有する化合物（以下、「極性基含有化合物」ともいう。）との共重合体あるいはこれらの部分架橋共重合体であってもよい。
【００２２】
上記極性基含有化合物としては、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、ニトリル基等から選ばれる少なくとも１種を有する有機化合物を用いることができる。
また、上記部分架橋共重合体は、これらの極性基含有化合物に多官能性不飽和結合を有する化合物を共重合することにより得られるが、この化合物としては、多価アリル化合物、多価（メタ）アクリレート化合物、ジビニル化合物、ビスマレイミド化合物、ジオキシム化合物等が挙げられる。
【００２３】
上記ブチルゴムとしては、イソブチレン・イソプレン共重合体等がハロゲン化された塩素化イソブチレン・イソプレン共重合体、臭素化イソブチレン・イソプレン共重合体等であってもよい。
【００２４】
上記アクリル系重合体としては、アクリル酸アルキルエステルを含む単量体から得られる重合体等が挙げられる。
上記アクリル酸アルキルエステルとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、イソアミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、２−メチルペンチルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−ドデシルアクリレート、ｎ−オクタデシルアクリレート、シアノメチルアクリレート、１−シアノエチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、１−シアノプロピルアクリレート、２−シアノプロピルアクリレート、３−シアノプロピルアクリレート、４−シアノブチルアクリレート、６−シアノヘキシルアクリレート、２−エチル−６−シアノヘキシルアクリレート、８−シアノオクチルアクリレート等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２５】
上記アクリル系重合体は、アクリル系アクリルエステルと他の単量体との共重合体、例えば、アクリルゴムであってもよく、その場合には、アクリル酸アルコキシアルキルエステル、エチレン性不飽和化合物、架橋性化合物等を他の単量体として用いることができる。
上記アクリル酸アルコキシアルキルエステルとしては、２−メトキシエチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−（ｎ−プロポキシ）エチルアクリレート、２−（ｎ−ブトキシ）エチルアクリレート、３−メトキシプロピルアクリレート、３−エトキシプロピルアクリレート、２−（ｎ−プロポキシ）プロピルアクリレート、２−（ｎ−ブトキシ）プロピルアクリレート等が挙げられる。
【００２６】
上記エチレン性不飽和化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２−ペンテン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等のカルボキシル基を有する化合物；１，１−ジヒドロペルフルオロエチル（メタ）アクリレート、１，１−ジヒドロペルフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１，１，５−トリヒドロペルフルオロヘキシル（メタ）アクリレート、１，１，２，２−テトラヒドロペルフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１，１，７−トリヒドロペルフルオロヘプチル（メタ）アクリレート、１，１−ジヒドロペルフルオロオクチル（メタ）アクリレート、１，１−ジヒドロペルフルオロデシル（メタ）アクリレート等の含フッ素アクリル酸エステル；１−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物；ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジブチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の第３級アミノ基を有する単量体；メチルメタクリレート、オクチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル；メチルビニルケトン等のアルキルビニルケトン；ビニルエチルエーテル、アリルメチルエーテル等のビニル及びアリルエーテル；スチレン、α−メチルスチレン、クロロスチレン、ビニルトルエン等のビニル芳香族化合物；アクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物；エチレン、プロピレン、ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、アルキルフマレート等が挙げられる。
【００２７】
上記架橋性化合物としては、ジエン系化合物、ジヒドロジシクロペンタジエニル基を有する（メタ）アクリル酸エステル、エポキシ基を有するエチレン性不飽和化合物、活性ハロゲン含有エチレン性不飽和化合物、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物、活性水素基を有するエチレン性不飽和化合物等が挙げられる。
【００２８】
上記ウレタン系重合体としては、有機ジイソシアネート、高分子ジオール及び鎖伸長剤を反応させて得られるもの等が挙げられる。
上記有機ジイソシアネートとしては、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート類；ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート等の脂肪族又は脂環式ジイソシアネート類等が挙げられる。これらの有機ジイソシアネートは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２９】
また、上記高分子ジオールとしては、ポリエステルジオール、ポリエーテルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリエステルポリカーボネートジオール、ポリエステルポリエーテルジオール等が挙げられる。
これらのうち、ポリエステルジオールとしては、脂肪族ジオールと脂肪族ジカルボン酸又はこれらのエステル形成性誘導体の反応により得られた脂肪族ポリエステルジオール、脂肪族ジオールと芳香族ジカルボン酸又はそれらのエステル形成性誘導体の反応により得られた芳香族ポリエステルジオール等が挙げられる。また、ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール又はそれらのブロック共重合体等が挙げられる。更に、ポリカーボネートジオールとしては、脂肪族ジオールとカーボネート化合物との反応により得られたポリカーボネートジオール、ビスフェノールＡ等の芳香族ジオールとカーボネート化合物との反応により得られたポリカーボネートジオール等が挙げられる。これらの高分子ジオールは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３０】
上記鎖伸長剤としては、従来から公知の鎖伸長剤を用いることができ、イソシアネート基と反応し得る活性水素原子を分子中に２個以上有する分子量３００以下の低分子化合物、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−ビス（β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、１，４−シクロヘキサンジオール、ビス−（β−ヒドロキシエチル）テレフタレート、キシリレングリコール等のジオール類；ヒドラジン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、キシリレンジアミン、イソホロンジアミン、ピペラジン及びその誘導体、フェニレンジアミン、トリレンジアミン、キシレンジアミン、アジピン酸ジヒドラジン、イソフタル酸ジヒドラジン等のジアミン類、アミノエチルアルコール、アミノプロピルアルコール等のアミノアルコール類等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３１】
上記ポリアミド系重合体としては、ポリアミドからなるハードセグメントと、ポリエステル、ポリエーテル、ポリエステル・ポリエーテル等からなるソフトセグメントとから構成される共重合体等が挙げられる。
【００３２】
上記ポリアミドセグメントとしては、ω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、１１−アミノウンデカン酸、１２−アミノドデカン酸等の炭素数が６以上のアミノカルボン酸から誘導されるセグメント；カプロラクタム、ラウリロラクタム等のラクタムから誘導されるセグメント；エチレンジアミン、１，２−プロピレンジアミン、１，３−プロピレンジアミン、１，４−ブタンジアミン、１，５−ペンタンジアミン、３−メチル−１，５−ペンタンジアミン、１，６−ヘキサンジアミン、１，７−ヘプタンジアミン、１，８−オクタンジアミン、２−メチル−１，８−オクタンジアミン、１，９−ノナンジアミン、１，１０−デカンジアミン、１，１１−ウンデカンジアミン、１，１２−ドデカンジアミン、シクロヘキサンジアミン等のジアミン成分と、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、ジフェニル−４，４’−ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸等のジカルボン酸成分とから誘導されるセグメント等が挙げられる。
【００３３】
上記ポリエステルセグメントとしては、ω−オキシカプロン酸等のヒドロキシカルボン酸から誘導されるセグメント；ε−カプロラクトン等のラクトンから誘導されるセグメント；グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、ジフェニル−４，４’−ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸等のジカルボン酸成分と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール等のジオール成分とから誘導されるセグメント等が挙げられる。
【００３４】
また、上記ポリエーテルセグメントとしては、ポリメチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール等のセグメント等が挙げられる。
【００３５】
更に、上記ポリエステルポリエーテルセグメントとしては、上記したポリエステルセグメントのジカルボン酸成分と、ポリメチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール等のジオール成分とから誘導されるセグメント等が挙げられる。
【００３６】
上記ポリエステル系重合体としては、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステルをハードセグメントとし、ポリテトラメチレングリコールエーテル（ＰＴＭＧ）、ＰＴＭＥＧＴ（ＰＴＭＧとテレフタル酸との縮合物）等のポリエーテルをソフトセグメントとするポリエステル・ポリエーテル型重合体；ポリエステルをハードセグメントとし、ポリカプロラクトン等の脂肪族ポリエステルをソフトセグメントとするポリエステル・ポリエステル型重合体等が挙げられる。
【００３７】
上記フッ素系重合体としては、フッ化ビニリデンを含む単量体から得られる重合体等が挙げられる。他の単量体としては、パーフルオロビニルエーテル、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、エチレン、プロピレン、架橋性化合物等が挙げられる。
上記以外に、エチレン・酢酸ビニル共重合体、スチレン系重合体、ポリカーボネート、ポリアセタール、エポキシ系重合体等の重合体を用いることもできる。
【００３８】
これら他の重合体を用いる場合の含有量は、上記ジエン系ブロック重合体の水素添加物１００質量部に対し、好ましくは１〜１００質量部、より好ましくは１〜９０質量部、更に好ましくは１〜８０質量部である。
【００３９】
本発明のクリーニングフィルムが、上記ジエン系ブロック共重合体の水素添加物を主とするエラストマー組成物からなるものである場合、このジエン系ブロック共重合体の水素添加物を含む重合体は架橋されていてもよいし、されていなくてもよい。架橋させる場合の方法としては、公知の架橋剤を用いる方法、紫外線、電子線等の放射線照射による方法等が挙げられる。
【００４０】
架橋剤を用いる場合には、例えば、有機過酸化物、硫黄、硫黄含有化合物等を用いることができる。
有機過酸化物としては、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１−ジ−ｔ−ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロドデカン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）オクタン、１，１−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン、１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ−イソプロピル）ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ベイゾイルパーオキサイド、ｍ−トルイルパーオキサイド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ−イソプロピルカーボナート、ｔ−ブチルパーオキシアリルカーボナート等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４１】
上記ジエン系ブロック共重合体の水素添加物が架橋されている場合には、エラストマー組成物の少なくとも一部がその架橋構造による三次元骨格を形成することとなり、柔軟性、強度、剥離性及び耐熱性に優れた成形体を形成することができ、粘着剤を含有させることなく、被洗浄部を良好に清浄化することができる。
【００４２】
次に、極性基変性オレフィン系重合体について説明する。上記極性基変性オレフィン系重合体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、エチレン・α−オレフィン共重合体、エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体等に極性基を有するもの等が挙げられ、これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。上記極性基としては、カルボキシル基、ヒドロキシル基、エポキシ基、アミノ基、アルコキシシリル基、スルホン酸基、ニトリル基等が挙げられる。これらの極性基は１分子に１種のみ有してもよいし、２種以上有してもよい。
【００４３】
尚、上記エチレン・α−オレフィン共重合体及びエチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体におけるα−オレフィンは、エチレンを除くα−オレフィンであるものとする。このα−オレフィンとしては、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、１−オクテン、１−デセン、１−ウンデセン等が挙げられ、炭素数が３〜１２であるα−オレフィンが好ましく、特に、プロピレン及び１−ブテンが好ましい。尚、上記例示したα−オレフィンは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
エチレン・α−オレフィン共重合体としては、エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・１−ブテン共重合体、エチレン・１−ペンテン共重合体、エチレン・３−メチル−１−ブテン共重合体、エチレン・１−ヘキセン共重合体、エチレン・３−メチル−１−ペンテン共重合体、エチレン・４−メチル−１−ペンテン共重合体、エチレン・３−エチル−１−ペンテン共重合体、エチレン・１−オクテン共重合体、エチレン・１−デセン共重合体、エチレン・１−ウンデセン共重合体等が挙げられる。これらのうち、エチレン・プロピレン共重合体及びエチレン・１−ブテン共重合体が好ましい。尚、上記例示したエチレン・α−オレフィン共重合体は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４４】
また、エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体とする場合の非共役ジエンとしては、１，４−ペンタジエン、１，４−ヘキサジエン、１，５−ヘキサジエン、１，７−オクタジエン、１，９−デカジエン、３，６−ジメチル−１，７−オクタジエン、４，５−ジメチル−１，７−オクタジエン、５−メチル−１，８−ノナジエン、ジシクロペンタジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−ビニル−２−ノルボルネン、２，５−ノルボルナジエン等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体としては、エチレン・プロピレン・ジシクロペンタジエン共重合体、エチレン・プロピレン・５−エチリデン−２−ノルボルネン共重合体、エチレン・１−ブテン・ジシクロペンタジエン共重合体、エチレン・１−ブテン・５−エチリデン−２−ノルボルネン共重合体等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４５】
尚、上記エチレン・α−オレフィン共重合体及び上記エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体が上記極性基を有するものとするためには、各重合体の形成において、上記極性基を有する不飽和化合物を単量体として用いればよい。このような不飽和化合物は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。また、上記不飽和化合物の使用量は、単量体全量に対して、好ましくは０．０１〜１０モル％、より好ましくは０．１〜５モル％である。
【００４６】
カルボキシル基を有する不飽和化合物としては、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸、下記一般式（１）で表される環式化合物等を用いることができる。
【化１】
2005218968.tif 000003
（上記一般式（１）において、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基又は−ＣＯＯＨであり、Ｙ１、Ｙ２及びＹ３のうち少なくとも１つは−ＣＯＯＨであり、また、Ｙ１、Ｙ２及びＹ３のうち２つ以上が−ＣＯＯＨである場合は、それらは互いに連結して形成された酸無水物（−ＣＯ−（Ｏ）−ＣＯ−）であってもよい。ｐは０〜２の整数であり、ｑは０〜５の整数である。）
【００４７】
上記環式化合物としては、５，６−ジメチル−５，６−ジカルボキシ−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５，６−ジエチル−５，６−ジカルボキシ−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５，６−ジメチル−５，６−ビス（カルボキシメチル）−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５，６−ジエチル−５，６−ビス（カルボキシメチル）−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５−メチル−５−カルボキシ−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５−エチル−５−カルボキシ−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５−カルボキシ−５−カルボキシメチル−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５−メチル−５−カルボキシメチル−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、５−エチル−５−カルボキシメチル−ビシクロ［２．２．１］−２−ヘプテン、８，９−ジメチル−８，９−ジカルボキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、８，９−ジエチル−８，９−ジカルボキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、８−メチル−８−カルボキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、８−エチル−８−カルボキシ−テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４８】
上記一般式（１）で表される化合物を用いる場合のその使用量は、単量体全量に対して、好ましくは０．０１〜５モル％、より好ましくは０．０１〜４モル％である。
上記一般式（１）で表される化合物を共重合させることにより得られた極性基変性エチレン・α−オレフィン共重合体又は極性基変性エチレン・α−オレフィン・非共役ジエン共重合体は、ランダム共重合体であることが好ましい。また、これらのランダム共重合体の、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗは、好ましくは１，０００〜３，０００，０００、より好ましくは３，０００〜１，０００，０００、更に好ましくは５，０００〜７００，０００である。
【００４９】
上記エラストマー組成物が極性基変性オレフィン系重合体を主とする場合、成形体の柔軟性に影響を与えないものであれば、他の重合体を含有してもよい。他の重合体は樹脂であってもよいし、エラストマー（ゴムを含む）であってもよい。更には、樹脂及びエラストマーを組み合わせてもよい。他の重合体としては、上記において例示したものを用いることができる。
これら他の重合体を用いる場合の含有量は、上記極性基変性オレフィン系重合体１００質量部に対し、好ましくは１〜１００質量部、より好ましくは１〜９０質量部、更に好ましくは１〜８０質量部である。
【００５０】
本発明のクリーニングフィルムが、上記極性基変性オレフィン系重合体を主とするエラストマー組成物からなるものである場合、この極性基変性オレフィン系重合体は架橋されていることが好ましい。
【００５１】
上記一般式（１）で表される環式化合物を用いて得られた共重合体に化学的架橋構造又はそれと類似した拘束点を有する構造を形成させる場合には、金属イオン、金属化合物等を用いることができる。この金属イオンは、以下に例示する元素のイオン及びこの元素を含む金属化合物のイオンも意味する。この金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、アルミニウム、マグネシウム、カルシウム、バリウム、セシウム、ストロンチウム、ルビジウム、チタン、亜鉛、銅、鉄、錫、鉛、ジルコニウム等周期表第Ｉ〜ＶＩＩＩ族の元素等が挙げられる。これらの元素を含むイオンは、上記で得られたランダム共重合体中の官能基に対するイオン結合あるいは静電的な結合により共重合体どうしの間に架橋構造を形成することもできる。尚、上記金属化合物のイオンとするための物質としては、各金属の酸化物、水酸化物、塩、錯体（金属カルボキシレート、金属アセチルアセトナート等）、金属元素を含む有機化合物（炭素数が１〜８から選ばれ、且つ、金属元素を含むアルコキシド等）等が挙げられる。
【００５２】
上記イオンとするための物質の使用量は、上記一般式（１）で表される環式化合物を用いて得られた共重合体を構成する環式化合物より形成された単位の１当量に対し、好ましくは０．０１〜５０当量、より好ましくは０．０５〜１０当量、特に好ましくは０．０５〜５当量である。上記イオンとするための物質の使用量が少なすぎると、得られる成形体は、架橋密度又は拘束点密度が低く、機械的強度及び耐熱性に劣る傾向がある。一方、使用量が多すぎると、得られる成形体は、架橋密度又は拘束点密度が高くなり、硬度が高すぎて脆いものとなることがある。
【００５３】
更に、上記一般式（１）で表される環式化合物を用いて得られた共重合体に対する、上記イオンとするための物質の混和性及び得られる成形体の耐熱性を向上させるために、上記イオンとするための物質以外に、活性剤としてカルボン酸等の有機酸の金属塩を添加してもよい。このカルボン酸の金属塩としては、炭素数３〜２３の１価あるいは２価のカルボン酸の金属塩を用いることが好ましい。
また、活性剤として用いられる金属塩における金属元素としては、上記イオンとするための物質を構成する金属元素から選択すればよいが、上記イオンとするための物質を構成する金属元素と同種の元素を含む金属塩を用いることが好ましい。
【００５４】
上記極性基変性オレフィン系重合体を用いる場合、金属イオン、金属化合物等で架橋させるほか、更に、紫外線、電子線等を照射する方法、有機過酸化物を用いる方法等によって共有結合による架橋を形成させてもよい。
上記極性基変性オレフィン系重合体が架橋されている場合には、エラストマー組成物の少なくとも一部がその架橋構造による三次元骨格を形成することとなり、柔軟性、強度、剥離性及び耐熱性に優れた成形体を形成することができ、粘着剤を含有させることなく、被洗浄部を良好に清浄化することができる。
【００５５】
本発明に関わるエラストマー組成物が、ジエン系ブロック共重合体の水素添加物を主とする場合、及び、極性基変性オレフィン系重合体を主とする場合のいずれにおいても、エラストマー組成物を構成する他の成分（軟化剤あるいは金属イオン等）との含有割合を変化させることにより、得られるクリーニンングフィルムの柔軟性、自己粘着性等を調節することができる。
【００５６】
本発明においては、より柔軟性が向上した成形体とするために、上記エラストマー組成物に、液状材料を含むことが好ましい。この液状材料としては特に限定されないが、４０℃における動粘度が５００ｍｍ２／ｓ（１ｍｍ２／ｓ＝１ｃＳｔ）以下であるものが好ましい。より好ましい動粘度は４００ｍｍ２／ｓ以下、更に好ましくは０．１〜１００ｍｍ２／ｓである。このような液状材料としては、軟化剤、可塑剤、滑剤、液状重合体等を好適に用いることができる。
【００５７】
軟化剤としては、パラフィン系油等の石油系軟化剤、鉱油、エチレン・α−オレフィン系オリゴマー、ギルソナイト等の鉱物油系軟化剤、オレイン酸、リシノール酸等の脂肪酸等が挙げられる。
可塑剤としては、フタル酸誘導体、イソフタル酸誘導体、テトラヒドロフタル酸誘導体、アジピン酸誘導体、セバシン酸誘導体、フマル酸誘導体、クエン酸誘導体、アゼライン酸誘導体、リン酸誘導体、マレイン酸誘導体等の各種脂肪酸の誘導体等が挙げられる。
滑剤としては、パラフィン系滑剤、炭化水素系滑剤、金属セッケン等が挙げられる。
また、液状重合体としては、液状ポリブタジエン、液状スチレン・ブタジエンゴム等の液状ゴム、ポリイソブチレン、シリコーンオイル等が挙げられる。
上記例示した液状材料は、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの液状材料は、上記エラストマー組成物がジエン系ブロック共重合体の水素添加物を主とする場合、特に柔軟性に優れた成形体とすることができる。
【００５８】
上記液状材料を用いる場合のその使用量は、上記エラストマー組成物に含有される重合体の全量を１００質量部とした場合、好ましくは５０〜５０００質量部、より好ましくは５０〜４０００質量部、更に好ましくは５０〜３０００質量部、特に好ましくは５０〜２０００質量部である。上記液状材料の配合量が５０質量部未満であると、所望の弾性率を有する成形体が得られない場合がある。一方、上記液状材料の配合量が５０００質量部を超えると、成形体から液状材料がにじみ出ることがある。
【００５９】
尚、本発明に関わるエラストマー組成物は、それによって形成されるフィルムの力学的性質及び形状保持性を損なわない範囲で各種添加剤等を含有するものであってもよい。
この添加剤としては、酸化防止剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、難燃剤、熱安定剤、抗菌剤、防かび剤、耐候剤、粘着付与剤、造核剤、充填剤、研磨粒子、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、着色剤（顔料、染料）等が挙げられる。
【００６０】
上記老化防止剤としては、例えば、ナフチルアミン系、ジフェニルアミン系、ｐ−フェニレンジアミン系、キノリン系、ヒドロキノン誘導体系、モノ、ビス、トリス、ポリフェノール系、チオビスフェノール系、ヒンダードフェノール系、亜リン酸エステル系、イミダゾール系、ジチオカルバミン酸ニッケル塩系、リン酸系の老化防止剤等が挙げられる。これらは１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６１】
上記紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、サリチル酸エステル類、金属錯塩類等が挙げられる。これらは、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６２】
上記研磨粒子としては、無機粒子、有機粒子及び有機・無機複合粒子を、それぞれ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
無機粒子としては、ダイヤモンド粉、Ｓｉ等の金属、ＳｉＣ等の炭化物、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｅ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｚｒ等から選ばれる少なくとも１種の元素を含む酸化物、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ等から選ばれる少なくとも１種の元素を含む窒化物、ＢａＣＯ３等の炭酸塩等からなるものを用いることができる。
有機粒子としては、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、スチレン系共重合体、ポリアセタール、飽和ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ−１−ブテン、ポリ−４−メチル−１−ペンテン等のポリオレフィン、オレフィン系共重合体、フェノキシ樹脂、ポリメチルメタクリレート等の（メタ）アクリル系樹脂等の熱可塑性樹脂や、スチレン、メチルメタクリレート等と、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジメタクリレート等とを共重合させて得られる架橋構造を有する共重合樹脂、更に、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂等からなるものを用いることができる。
【００６３】
有機・無機複合粒子としては、無機粒子と有機粒子とが、研磨中に容易に分離しない程度に一体化されていればよく、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート等の重合体粒子の存在下、アルコキシシラン、アルミニウムアルコキシド、チタンアルコキシド等を重縮合させ、重合体粒子の少なくとも表面に、ポリシロキサン等が結合されてなるものを使用することができる。尚、生成する重縮合体は、重合体粒子が有する官能基に直接結合されていてもよいし、シランカップリング剤等を介して結合されていてもよい。
上記有機・無機複合粒子としては、重合体粒子等の有機粒子の表面にシリカ、アルミナ等の無機微粒子を付着させたものを用いることもできる。これらは静電気的に保持されていてもよいし、無機微粒子が有するヒドロキシル基等の官能基とシランカップリング剤等により有機粒子に化学的に結合されていてもよい。
上記有機・無機複合粒子としては、符号の異なるゼータ電位を有する有機粒子と無機粒子とを含む水分散体において、これら粒子が静電力により結合されてなるものを使用することもできる。
また、上記研磨粒子としては、天然のガーネット（ざくろ石）、エメリー、フリント（珪石）等を粉砕したものを用いることもできる。
【００６４】
上記研磨粒子の平均粒子径は、好ましくは０．０５〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜１０μｍ、更に好ましくは０．１〜５μｍである。
この研磨粒子は、目的、用途に応じて、その種類（構成材料、平均粒子径等）を選択すればよい。
本クリーニングフィルムが上記研磨粒子を含む場合、本クリーニングフィルムに対する研磨粒子の体積比率は、好ましくは１〜８０％、より好ましくは１〜７０％、更に好ましくは１０〜７０％質量部である。
尚、本クリーニングフィルムに研磨粒子を含む場合、フィルム表面における研磨粒子の露出率は、好ましくは８０％以下、より好ましくは７０％以下、更に好ましくは５０％以下である。研磨粒子の露出率が高すぎると、本クリーニングフィルムの使用時に研磨粒子が脱離して被洗浄部に付着してしまう場合、あるいは、被洗浄部を傷付けてしまう場合がある。一方、研磨粒子の露出率が低すぎると、被洗浄部にこびりついた汚れが十分に除去されない場合がある。
【００６５】
上記エラストマー組成物を用い、射出成形、押出成形、中空成形、圧縮成型、真空成形、積層成形、カレンダー成形、キャスト成形、コーター成形、ロール成形、Ｔダイコーター、Ｔダイ押出成形、注入成形等の公知の方法によって、所望の形状を有する成形体（クリーニングフィルム）を得ることができる。
【００６６】
本発明のクリーニングフィルムの概略図を図１に示す。図１に示すクリーニングフィルム１は、均一な厚さであり、且つ、表面が平坦なフィルムである。
また、本発明のクリーニングフィルムは、目的、用途等に応じて、多様な表面構造又は断面構造を有するものとすることができる。例えば、本クリーニングフィルムの少なくとも１面に、凸部、凹部、溝部、切り込み部等の部位を、それぞれ、１種単独であるいは２種以上の組み合わせで備えるものとすることができる。これらの各部位の形状は特に限定されず、凸部及び凹部の場合は、円形、角形（三角形、四角形等の多角形）、星形、ランダム形状等とすることができる。これらの形状とした場合の開口部の長さ（最大長さ等）や、凸部の場合では高さ等、凹部の場合では深さ等も特に限定されない。また、溝部の場合は、直線状、曲線状等から任意に選択又は組み合わせた形状とすることができる。溝部の断面形状も角形、Ｕ字形等目的、用途に応じた形状とすることができる。更に、溝部の幅、深さ等も特に限定されない。
切り込み部の場合は、点であってもよいし、線（直線、曲線、十字型等）であってもよい。また、切り込みは、フィルム本体に対し、垂直方向でもよいし、斜め方向でもよい。
尚、上記部位を複数備える場合にも、各部位の形状、サイズ等は同一であってもよいし、異なるものの組み合わせであってもよい。更には隣り合う部位どうしの間隔等も特に限定されない。
【００６７】
上記部位を備えるクリーニングフィルムを、断面図（図２〜図６）をもって例示する。図２のクリーニングフィルム１は、１面が波線状となった平面を有する態様を示す概略図である。図３は、１面がジグザグ平面を有するクリーニングフィルムを示す概略図である。図４は、１面に複数の凸部１１を有するクリーニングフィルムを示す概略図である。図５は、１面に複数の凹部（又は溝部）１２を有するクリーニングフィルムを示す概略図である。また、図６は、１面に複数の切り込み部１３を有するクリーニングフィルムを示す概略図である。
【００６８】
本発明のクリーニングフィルムは、優れた強度及び柔軟性を有し、３０℃、１Ｈｚの条件下、動的粘弾性測定により得られる剪断貯蔵弾性率（Ｇ’）は、好ましくは１〜１０１０ｄｙｎ／ｃｍ２、より好ましくは１〜５×１０９ｄｙｎ／ｃｍ２、更に好ましくは１〜１０９ｄｙｎ／ｃｍ２とすることができる。
また、本発明のクリーニングフィルムは、耐熱性にも優れており、好ましくは−８０〜１００℃、より好ましくは−５０〜７０℃において、柔軟性及び形状保持性を併せ持つ。
従って、本発明のクリーニングフィルムは、常温のみならず、０℃以下の低温時における使用にも好適である。
【００６９】
本発明のクリーニングフィルムは、被洗浄部の汚染防止等のために、そのフィルム内に含有される金属成分（イオンを含む）、陰イオン等の濃度が小さいことが好ましい。金属成分としては、ナトリウムイオン等の陽イオンが挙げられる。また、陰イオンとしては、塩素イオン等が挙げられる。これらの濃度は、好ましくは１０００ｐｐｍ以下、より好ましくは５０ｐｐｍ以下、更に好ましくは２０ｐｐｍ以下である。但し、架橋されたエラストマー組成物を用いる場合のように、架橋の目的で配合された金属イオン等は上記濃度に含まれないものとする。
【００７０】
本発明のクリーニングフィルムの厚さは、好ましくは０．１〜２０００μｍ、より好ましくは１〜１０００μｍ、特に好ましくは５〜６００μｍである。
本発明のクリーニングフィルムによると、柔軟性、強度及び耐熱性に優れるため、それ自身が有する自己粘着性を利用して被洗浄部を良好に清浄化することができる。
また、本クリーニングフィルムの有する自己粘着性は、一般的な、無機材料（金属、合金、セラミックス等）、有機材料等からなる物体と粘着させた後に、容易に且つ形状を維持したまま（変形せずに）剥離することができる程度のものであり、粘着剤を含まないことから、物体との接触から剥離する際、あるいは、被洗浄部を清浄化させた後にも、被接触部における糊残り等は全く発生しない。
【００７１】
本発明のクリーニングフィルムは、その少なくとも１面に保護フィルムを備えるものとすることができる。即ち、片面あるいは両面に保護フィルムを備えてもよい。この保護フィルムは、使用の際に剥離する等のために備えるものである。この保護フィルムの構成材料は特に限定されないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体、ポリブテン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エチル共重合体、アイオノマー等のα−オレフィンの単独重合体又は共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、熱可塑性エラストマー等とすることができる。
この保護フィルムのクリーニングフィルムとの接触面は、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理等の化学処理がされていてもよい。更に、剥離を容易にするために、シリコーン系、フッ素系の剥離コート層を設けてもよい。また、凹凸を有してもよい。
上記保護フィルムは、単一層でも多層でもよい。また、この保護フィルムの厚さは、通常、１０〜３０００μｍ、好ましくは１０〜２０００μｍ、より好ましくは１０〜５００μｍである。
【００７２】
本発明のクリーニングフィルムの形状は特に限定されず、長尺状であってもよいし、ロール状であってもよいし、円形、角形（三角形、四角形等の多角形）、星形、ランダム形状等の所定形状に調整されたものであってもよい。
【００７３】
本発明のクリーニング部材は、上記クリーニングフィルムが支持層上に配設されてなることを特徴とする。本クリーニング部材の概略図を、図７の断面図をもって例示する。図７のクリーニング部材２は、支持層２１の１面に、クリーニングフィルム１ａが配設された構造を有する。
本発明のクリーニング部材２ａは、図８のように、所定形状に調整されたクリーニングフィルム１ｂが、支持層２１の表面に配設されたものであってもよい。
【００７４】
上記支持層は、どんな材料から構成されるものであってもよく、無機材料（金属、合金、セラミックス等を主とするもの）であってもよいし、有機材料（紙、布、樹脂組成物等からなるもの）であってもよい。また、目的、用途に応じて、更に、クリーニングフィルムと支持層との粘着力を考慮して支持層の構成材料を選択すればよい。好ましい材料は有機材料（紙、布、樹脂組成物等からなるもの）であり、樹脂組成物等からなるフィルムが特に好ましい。
【００７５】
上記支持層は、上記構成材料からなる中実体であってもよいし、発泡体であってもよい。
上記支持層は、単一層でも多層でもよい。また、上記支持層の厚さは、好ましくは１０〜１０００μｍ、より好ましくは１０〜５００μｍである。
【００７６】
本発明のクリーニングフィルム及びクリーニング部材は、半導体ウェハ等の基板、該基板等の表面に形成された配線部、形成後の未配線部、該基板等に配設される実装部品（チップ等）等の電子部品及びその電極あるいは端子、各種電子部品の性能評価に用いる検査機器（検査部品）等の表面（プローブ等探針又は触針の先端部や、凸部、凹部、側面等）、磁気ディスク表面等に付着あるいは形成された不純物、汚れ等の除去、拭き取り（ワイピング）に好適に用いることができる。
【００７７】
本発明のクリーニングフィルム及びクリーニング部材は、それ自身で用いることもできるし、装置に配設して用いることもできる。
本発明のクリーニングフィルム及びクリーニング部材を用いたクリーニング方法としては、汚れ等が付着している部分（あるいは面）に接触させればよい。接触の程度は、汚れ等の量、固着度等を考慮すればよく、加圧して一定時間保持する方法、フィルムが変形、劣化あるいは溶融しない程度に加熱する方法等が挙げられる。また、クリーニングフィルムに研磨粒子を含む場合には、研磨粒子により汚れを剥ぎ落とすことができる。また、被洗浄部が対称形状である場合には、被洗浄部又はこの被洗浄部を備える物体を、あるいは、クリーニングフィルム又はクリーニング部材を回転させる等動的方法とすることができる。
【００７８】
本発明のクリーニングフィルムの使用方法を例示するが、使用方法は、これらに限定されない。
（１）汚れが、検査機器等に配設された針状の探針に付着している場合
半導体ウェハ等の性能試験に用いられるプローブカードは、使用回数、時間が蓄積すると、プローブカードに配設された探針の特に先端部に不純物が付着する。この不純物を除去するために、例えば、図９のような凹部１２を有するクリーニングフィルム１を用いる。探針３をクリーニングフィルム１の凹部１２に挿入し、一定時間保持した後、引き上げることにより、探針３に付着した不純物を除去する。不純物がこびりついている場合には、探針３を凹部１２内で回転させる方法を適用することもできる。この場合には、探針３の先端部のみならず、側面部のクリーニングも行うことができる。
尚、不純物の付着の程度が小さい等の場合には、探針３を凹部等のない平面に押し当てるようにしてもよい。
【００７９】
（２）汚れが、平面形状の電子部品等の表面に付着している場合
実装部品が配設されていない配線基板の表面に汚れがある場合には、例えば、図１０のような装置を用いて汚れを除去することができる。図１０のクリーニング装置は、回転支持体４と、その外周に配設されたクリーニングフィルム１ｃとを備える。配線基板３ａは、コンベア等により図１０の矢印の方向に送られ、配線基板３ａの表面と、クリーニングフィルム１ｃとが接触することで汚れを除去するものである。尚、配線基板３ａとクリーニングフィルム１ｃとの間には圧力がかかってもよい。
【実施例】
【００８０】
以下、本発明について、実施例を挙げて具体的に説明する。尚、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。また、実施例中の「％」及び「部」は、特に断らない限り質量基準である。
１．エラストマー組成物の調製
以下に示す重合体及び液状材料を用いて表１に記載の割合で混合し、エラストマー組成物（ｉ）〜（ｉｘ）を調製した。
１−１．重合体
（１）ジエン系ブロック共重合体の水素添加物（Ａ１）
窒素置換された内容積５０リットルの反応容器に、シクロヘキサン２５ｋｇ、テトラヒドロフラン１ｇ、１，３−ブタジエン１５００ｇ及びｎ−ブチルリチウム３．９ｇを投入し、７０℃で重合を開始した。反応完結後、反応溶液の温度を４０℃とし、テトラヒドロフラン１００ｇを、次いで、１，３−ブタジエン３５００ｇを添加して更に断熱重合した。３０分後、メチルジクロロシラン２．７ｇを添加し、１５分間反応を行い、反応を完結させた。
次に、水素ガスを０．４ＭＰａ−Ｇの圧力で供給し、反応溶液を撹拌しながら、リビングアニオンとして生きているポリマー末端リチウムと２０分間反応させ、水素添加リチウムとした。その後、反応溶液を８０℃とし、水添触媒であるチタノセンジクロリドを加え、水素ガスの圧力を１．０ＭＰａで維持しながら２時間反応させた。反応後、反応溶液を常温、常圧に戻して反応容器より抜き出した。次いで、反応溶液を水中に撹拌投入して溶媒を水蒸気蒸留により除去することによって、目的とするジエン系ブロック共重合体の水素添加物Ａ１を得た。得られたジエン系ブロック共重合体の水素添加物Ａ１の水素添加率は９９％、ＧＰＣによる重量平均分子量は３４万、水素添加前ポリマーの１段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は１４％、水素添加前ポリマーの２段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は４９％であった。
【００８１】
（２）ジエン系ブロック共重合体の水素添加物（Ａ２）
窒素置換された内容積５０リットルの反応容器に、シクロヘキサン２５ｋｇ、テトラヒドロフラン１ｇ、１，３−ブタジエン１５００ｇ及びｎ−ブチルリチウム４．１ｇを投入し、７０℃で重合を開始した。反応完結後、反応溶液の温度を３５℃とし、テトラヒドロフラン２７ｇを、次いで、１，３−ブタジエン３５００ｇを添加して更に断熱重合した。３０分後、メチルジクロロシラン２．９ｇを添加し、１５分間反応を行い、反応を完結させた。
次に、水素ガスを０．４ＭＰａ−Ｇの圧力で供給し、反応溶液を撹拌しながら、リビングアニオンとして生きているポリマー末端リチウムと２０分間反応させ、水素添加リチウムとした。その後、反応溶液を８０℃とし、水添触媒であるチタノセンジクロリドを加え、水素ガスの圧力を１．０ＭＰａで維持しながら２時間反応させた。反応後、反応溶液を常温、常圧に戻して反応容器より抜き出した。次いで、反応溶液を水中に撹拌投入して溶媒を水蒸気蒸留により除去することによって、目的とするジエン系ブロック共重合体の水素添加物Ａ２を得た。得られたジエン系ブロック共重合体の水素添加物Ａ２の水素添加率は９８％、ＧＰＣによる重量平均分子量は２９万、水素添加前ポリマーの１段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は１４％、水素添加前ポリマーの２段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は３５％であった。
【００８２】
（３）ジエン系ブロック共重合体の水素添加物（Ａ３）
窒素置換された内容積５０リットルの反応容器に、シクロヘキサン２５ｋｇ、テトラヒドロフラン１ｇ、１，３−ブタジエン１５００ｇ及びｎ−ブチルリチウム４．１ｇを加え、７０℃で重合を開始した。反応完結後、反応溶液の温度を３５℃とし、テトラヒドロフラン３５０ｇを、次いで、１，３−ブタジエン３５００ｇを添加して更に断熱重合した。３０分後、メチルジクロロシラン２．９ｇを添加し、１５分間反応を行い、反応を完結させた。
次に、水素ガスを０．４ＭＰａ−Ｇの圧力で供給し、反応溶液を撹拌しながら、リビングアニオンとして生きているポリマー末端リチウムと２０分間反応させ、水素添加リチウムとした。その後、反応溶液を８０℃とし、水添触媒であるチタノセンジクロリドを加え、水素ガスの圧力を１．０ＭＰａで維持しながら２時間反応させた。反応後、反応溶液を常温、常圧に戻して反応容器より抜き出した。次いで、反応溶液を水中に撹拌投入して溶媒を水蒸気蒸留により除去することによって、目的とするジエン系ブロック共重合体の水素添加物Ａ３を得た。得られたジエン系ブロック共重合体の水素添加物Ａ３の水素添加率は９９％、ＧＰＣによる重量平均分子量は３０万、水素添加前ポリマーの１段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は１４％、水素添加前ポリマーの２段目のブタジエン重合体ブロックのビニル結合含量は７８％であった。
【００８３】
（４）極性基変性オレフィン系重合体（Ａ４）
エチレンに由来する構造単位を７５．１モル％、プロピレンに由来する構造単位を２２．８モル％、５−エチリデン−２−ノルボルネンに由来する構造単位を１．８モル％、及び８−メチル−８−カルボキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセンに由来する構造単位を０．３モル％含み、重量平均分子量（Ｍｗ）が１６．０×１０４である官能基含有オレフィン系共重合体１００部をトルエン１０００部に溶解した後、官能基含有オレフィン系共重合体中の官能基１モル％に対して、０．２５モル％のジルコニウム（ＩＶ）ブトキシド（８５％の１−ブタノール溶液（和光純薬工業社製）を使用）を用いて架橋し、トルエンを乾燥除去して、極性基変性オレフィン系重合体Ａ４を得た。
（５）熱可塑性ポリウレタンエラストマー（Ａ５）
比較用として、熱可塑性ポリウレタンエラストマー（クラレ社製、商品名「クラミロンＵ１１９０」）を用いた。
【００８４】
１−２．液状材料
「Ｂ１」；４０℃における動粘度が３０．８５ｍｍ２／ｓである鉱物油系軟化剤（出光興産社製、商品名「ＰＷ−３２」）である。
「Ｂ２」；４０℃における動粘度が９５．５４ｍｍ２／ｓである鉱物油系軟化剤（出光興産社製、商品名「ＰＷ−９０」）である。
「Ｂ３」；４０℃における動粘度が３８１．６ｍｍ２／ｓである鉱物油系軟化剤（出光興産社製、商品名「ＰＷ−３８０」）である。
１−３．架橋剤
「Ｃ１」；有機過酸化物（日本油脂社製、商品名「パーヘキサ３Ｍ」）。
【００８５】
【表１】
2005218968.tif 000004
【００８６】
２．クリーニングフィルムの作製及びその評価
実施例１〜８及び比較例１
上記エラストマー組成物（ｉ）〜（ｉｘ）を用い、コーター成形により厚さ５００μｍのフィルムを作製し、これをクリーニングフィルムとした。このクリーニングフィルムを以下の方法で評価した。その結果を表２に示す。
（１）粘弾性
動的粘弾性測定装置（レオロジー社製、型式「ＭＲ−５００」）により、温度３０℃及び周波数１Ｈｚの条件でフィルム（厚さ５００μｍ）の剪断貯蔵弾性率（Ｇ’）を測定した。このＧ’値の低いものほど柔軟であり、被洗浄部を傷付けることがない。表２において、「○」は、Ｇ’値が２，０００，０００ｄｙｎ／ｃｍ２以下であったことを、「×」は、Ｇ’値が３，０００，０００ｄｙｎ／ｃｍ２よりも大きかったことを示す。
（２）強度
ＪＩＳ  Ｋ−７１２７に準拠して、引張速度５００ｍｍ／分でフィルムの引張強度及び引張伸びを測定した。
（３）耐熱性
上記動的粘弾性測定装置を用い、温度７０℃及び周波数１Ｈｚ並びに温度−５０℃及び周波数１Ｈｚの条件でフィルム（厚さ５００μｍ）の剪断貯蔵弾性率をそれぞれ測定し、Ｇ７０’及びＧ−５０’を得た。そして、測定温度３０℃及び７０℃におけるＧ’の変化量δＧ’〔ｌｏｇ（−５０℃におけるＧ−５０’／７０℃におけるＧ７０’）〕を計算した。このδＧ’が小さいほど耐熱性に優れる。表２において、「○」は、δＧ’が３．５以下であったことを、「×」は、δＧ’が３．５より大きかったことを示す。
（４）イオン濃度
誘導結合プラズマ発光分光分析装置（ＩＣＰ−ＡＥＳ）を用い、ナトリウムイオンの濃度を、また、イオンクロマトグラフィーにより、塩素イオンの濃度を測定した。表２において、「○」は、これらの濃度がいずれも１０００ｐｐｍ以下であったことを、「×」は、少なくとも一方が１０００ｐｐｍを超えたことを示す。
（５）糊残り
半導体ウェハの性能試験として、複数の探針が配設されたプローブカードを用いた通電試験を行った。その後、探針の先端を上記で得られたクリーニングフィルムに接触させ、すぐに引き上げた。探針の先端を目視で観察し、糊残りの有無を評価した。表２において、「○」は、糊残りが認められなかったことを、「×」は、糊残りが認められたことを示す。
【００８７】
【表２】
2005218968.tif 000005
【００８８】
３．評価結果について
表２より、比較例１のクリーニングフィルムは、柔軟性が十分ではないため、探針の先端等被洗浄部を傷付けてしまうことがある。耐熱性に劣る（低温で硬くなる）ため、特に、０℃以下の低温で被洗浄部の傷付きが著しくなる。また、ナトリウムイオン等の濃度が高いため、接触により被洗浄部に汚れを付着させることがある。
一方、実施例１〜８は、柔軟性、引張強度及び引張伸びに優れ、更に、剪断貯蔵弾性率の温度変化が少ないことから、低温から高温に至るまでの幅広い温度範囲において、探針の先端等の被洗浄部を傷めることがない。また、ナトリウムイオン等の濃度が小さく、糊残りが無いことから、クリーニングによる汚染の発生が少ない。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明のクリーニングフィルム及びクリーニング部材は、半導体ウェハ等の基板、該基板等の表面に形成された配線部、形成後の未配線部、該基板等に配設される実装部品（チップ等）等の電子部品及びその電極あるいは端子、各種電子部品の性能評価に用いる検査機器（検査部品）等の表面（プローブ等探針の先端部や、凸部、凹部、側面等）、磁気ディスク表面等に付着あるいは形成された不純物、汚れ等の除去に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】クリーニングフィルムの１例を示す概略断面図である。
【図２】クリーニングフィルムの他の１例を示す概略断面図である。
【図３】クリーニングフィルムの他の１例を示す概略断面図である。
【図４】クリーニングフィルムの他の１例を示す概略断面図である。
【図５】クリーニングフィルムの他の１例を示す概略断面図である。
【図６】クリーニングフィルムの他の１例を示す概略断面図である。
【図７】クリーニング部材の１例を示す概略断面図である。
【図８】クリーニング部材の１例を示す概略斜視図である。
【図９】探針（被洗浄部）の汚れをクリーニングフィルムにより除去する方法を示す説明概略図である。
【図１０】配線基板（被洗浄面）の汚れをクリーニングフィルムにより除去する装置及び除去方法を示す説明概略図である。
【符号の説明】
【００９１】
１，１ａ，１ｂ及び１ｃ；クリーニングフィルム、１１；凸部、１２；凹部又は溝部、１３；切り込み部、２及び２ａ；クリーニング部材、２１；支持層、３；探針（被洗浄部）、３ａ；配線基板（被洗浄面）、４；回転支持体。
【図１】
2005218968.tif 000006
【図２】
2005218968.tif 000007
【図３】
2005218968.tif 000008
【図４】
2005218968.tif 000009
【図５】
2005218968.tif 000010
【図６】
2005218968.tif 000011
【図７】
2005218968.tif 000012
【図８】
2005218968.tif 000013
【図９】
2005218968.tif 000014
【図１０】
2005218968.tif 000015