(57)【要約】 【課題】  表示装置、これの製造方法及び有機物滴下装置が開示されている。【解決手段】  表示装置は、第１画素領域を含む第１領域、第１領域と隣接して第２画素領域を含む第２領域及び第２領域と隣接であり、第３画素領域を含む第３領域を有する基板、第１画素領域、第２画素領域、及び第３画素領域にそれぞれ形成された第１電極、第１画素領域に形成された第１有機パターン、第２画素領域うち、一部の第２画素領域に形成された第２有機パターン、第２画素領域のうち、残りの第２画素領域に形成された第３有機パターン、第３画素領域に形成された第４有機パターン及び第１有機パターン乃至第４有機パターンの上面に形成された第２電極を含み、第１有機パターン乃至第３有機パターンから発生した光の輝度均一性を大きく向上させる。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１画素領域を含む第１領域、前記第１領域と隣接して第２画素領域を含む第２領域、及び前記第２領域と隣接して第３画素領域を含む第３領域を有する基板と、
前記第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域にそれぞれ形成された第１電極と、
前記第１画素領域に形成され、光を発生するための第１有機パターンと、
前記第２画素領域のうち、一部の第２画素領域に形成され、光を発生するための第２有機パターンと、
前記第２画素領域のうち、残りの第２画素領域に形成され、光を発生するための第３有機パターンと、
前記第３画素領域に形成され、光を発生するための第４有機パターンと、
前記第１有機パターン乃至第４有機パターンの上面に形成された第２電極と、
を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域は、複数で行方向及び列方向に前記基板にマトリクス形態で配置されたことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記第２有機パターンは、前記第２画素領域のうち、奇数番目の行ごとに形成され、前記第３有機パターンは、前記第２画素領域のうち、偶数番目の行ごとに形成されることを特徴とする請求項２記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２有機パターンは、前記第２画素領域のうち、奇数番目の列ごとに形成され、前記第３有機パターンは、前記第２画素領域のうち、偶数番目の列ごとに形成されることを特徴とする請求項２記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２有機パターンは、前記第２画素領域に相互隣接しないように形成され、第３有機パターンは、前記第２画素領域に相互隣接しないように形成されることを特徴とする請求項２記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１領域、第２領域、及び第３領域は、前記基板に交代に配置されることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項７】
前記基板は、前記第１領域、第２領域及び第３領域を含むメイン領域及び前記メイン領域を囲むサブ領域を更に含むことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項８】
前記サブ領域は、ダミー有機パターンを更に含むことを特徴とする請求項７記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１有機パターン乃至第４有機パターンは、それぞれ正孔注入層及び発光層を含むことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１電極は、インジウムスズ酸化物又はインジウム亜鉛インジウムを含み、前記第２電極は金属を含むことを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項１１】
第１画素領域を含む第１領域、前記第１領域と隣接して第２画素領域を含む第２領域、及び前記第２領域と隣接して第３画素領域を含む第３領域を有する基板を準備する段階と、
前記第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域にそれぞれ第１電極を形成する段階と、
画像を表示するために、前記第１画素領域に第１有機パターン及び前記第２画素領域の一部に第２有機パターンを形成する段階と、
前記第２画素領域のうち、前記第２有機パターンが形成されていない残りの第２画素領域に第３有機パターン及び前記第３画素領域に第４有機パターンを形成する段階と、
前記第１有機パターン乃至第４有機パターンの上面に第２電極を形成する段階と、を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域は、複数で前記基板に行方向及び列方向にマトリクス形成で形成されることを特徴とする請求項１１記載の表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第２有機パターンは、前記第２画素領域のうち、奇数番目の行ごとに形成され、前記第３有機パターンは、前記第２画素領域のうち、偶数番目の行ごとに形成されることを特徴とする請求項１２記載の表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記第２有機パターンは、前記列方向に第２画素領域のうち、奇数番目の列ごとに形成され、前記第３有機パターンは、前記列方向に第２画素領域のうち、偶数番目の列ごとに形成されることを特徴とする請求項１２記載の表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第２有機パターンは、前記第２画素領域に相互隣接しないように配置され、前記第３有機パターンは、前記第２画素領域のうち、前記第２有機パターンの間に配置されたことを特徴とする請求項  １２記載の表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第１有機パターン及び前記第２有機パターンを形成する段階は、前記第１領域及び第２領域の周辺に第１ダミー有機パターンを形成する段階を更に含み、前記第３有機パターン及び前記第４有機パターンを形成する段階は、前記第２領域及び第３領域の周辺に第２ダミー有機パターンを形成する段階を更に含むことを特徴とする請求項１１記載の表示装置の製造方法。
【請求項１７】
行方向及び列方向にマトリクス形態に配置された画素領域を含む基板に対して、前記列方向である第１方向に移動するように一列に配置された複数の第１ノズルを含む第１噴射ヘッド、前記第１方向に移動するように一列配置された複数の第２ノズルを含み、前記第２ノズルの一部が前記第１ノズルの一部と一直線上で整列された第２噴射ヘッドを含む噴射ユニットと、
前記第１ノズル及び第２ノズルに有機物を供給する有機物供給ユニットと、
前記第１噴射ヘッド、第２噴射ヘッド、及び前記基板を前記第１方向に相対移動させる移送ユニットと、を含むことを特徴とする有機物滴下装置。
【請求項１８】
前記第１噴射ヘッド及び第２噴射ヘッドは、前記第１方向に対して傾くように配置されたことを特徴とする請求項１７記載の有機物滴下装置。
【請求項１９】
前記第１ノズル及び第２ノズルは、相互指定された間隔に配置されたことを特徴とする請求項１７記載の有機物滴下装置。
【請求項２０】
前記有機物供給ユニットは、画像を表示するための正孔注入物質又は発光物質を前記第１ノズル及び第２ノズルに供給することを特徴とする請求項１７記載の有機物滴下装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置、これの製造方法及び有機物滴下装置にかかわり、特に、画像の表示品質を向上させた表示装置、これの製造方法及び有機物滴下装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、表示装置は、情報処理装置で処理されたデータを画層に表示する一種のインタフェース装置である。
【０００３】
表示装置は、蛍光層に衝突する電子の流れを制御して画像を表示する陰極線管表示装置（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ、ＣＲＴ）液晶を用いて画像を表示する液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ、ＬＣＤ）、順方向電流によって発光する有機発光層を有する有機電界発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ  ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ、ＥＬ）、プラズマを用いて画像を表示するプラズマ表示パネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ、ＰＤＰ）など非常に多様な種類を開発しつつある。
【０００４】
最近には、非常に薄い厚さで製作が可能であり、輝度が高く、色感が豊かな有機電界発光表示装置の技術開発が急速に行われている。
【０００５】
有機電界発光表示装置は、応答速度が液晶表示装置より非常に速く、フルカラーディスプレイが可能であり、消費電力量が液晶表示装置より小さく、作動温度の範囲が液晶表示装置より広く、生産コストが低い長所を有する。    
【０００６】
有機電界発光表示装置は、基板にマトリクス形態に配置されたアノード電極、基板の全面積に形成され、アノード電極部分が選択的に開口されたキャビティを有する有機膜、キャビティに滴下され、アノード電極上に形成された有機発光層、有機発光層を覆うカソード電極を含む。
【０００７】
このような典型的な構造を有する有機発光層は、正孔注入層（Ｈｏｌｅ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ、ＨＩＬ）、発光層（Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｌａｙｅｒ、ＥＭＬ）及び選択的に電子注入層（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ、ＥＩＬ）で構成される。
【０００８】
有機発光層は、スリットマスク（ｓｌｉｔ  ｍａｓｋ）、スピンコーティング（ｓｐｉｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）、ロールツーロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）、真空蒸着（ｖａｃｕｕｍ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などによって形成される。最近には、有機膜に形成されたキャビティの内部に液滴（ｄｒｏｐｌｅｔ）形態の有機発光物質を滴下する「有機物噴射方式」も用いられている。
【０００９】
有機物噴射方式でキャビティに有機発光層を形成するために、従来では複数のキャビティに液滴形態の有機物を噴射する有機物噴射装置が用いられる。有機物噴射装置はインクジェットプリンタの作動原理と類似である。
【００１０】
しかし、一つの有機物噴射装置で液滴形態を有する有機発光物質をマトリクス形態に配置されたキャビティに同時に噴射しにくいので、従来の有機物噴射装置はスキャン方式で各キャビティに有機物を噴射する。
【００１１】
しかし、有機物噴射装置がスキャン方式で各キャビティに有機物を噴射することで、有機物が各キャビティに噴射される時間が互いに異なるようになり、これによって有機物の乾燥時間が異なるようになって、各キャビティに噴射された有機物のプロファイルすなわち特性が互いに異なる問題点を有する。
【００１２】
各キャビティに噴射された有機物のプロファイルが互いに異なる場合、有機物から形成された各有機層から発生した光の輝度、光の輝度均一性が互いに異なるようになって致命的なディスプレイ不良が発生する問題点を有する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
したがって、本発明はこのような従来の問題点を勘案したものであって、本発明の目的は、有機物の乾燥速度を均一に形成して画像の表示品質が減少することを防止する表示装置を提供することにある。
【００１４】
また、本発明のまた他の目的は、前記表示装置の製造方法を提供することにある。
【００１５】
また、本発明のまた他の目的は、前記表示装置を製造するための有機物滴下装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
このような本発明の一目的を具現するために本発明は、第１画素領域を含む第１領域、第１領域と隣接して第２画素領域を含む第２領域、及び第２領域と隣接して第３画素領域を含む第３領域を有する基板と、第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域にそれぞれ形成された第１電極、第１画素領域に形成された第１有機パターン、第２画素領域のうち、一部の第２画素領域に形成された第２有機パターン、第２画素領域のうち、残りの第２画素領域に形成された第３有機パターン、第３画素領域に形成された第４有機パターン、及び第１有機パターン乃至第４有機パターンの上面に形成された第２電極を含む表示装置を提供する。
【００１７】
また、本発明の他の目的を具現するために、本発明は第１画素領域を含む第１領域、第１領域と隣接して第２画素領域を含む第２領域、及び第２領域と隣接して第３画素領域を含む第３領域を有する基板を準備する段階、第１画素領域、第２画素領域及び第３画素領域にそれぞれ第１電極を形成する段階、画像を表示するために、前記第１画素領域に第１有機パターン及び前記第２画素領域の一部に第２有機パターンを形成する段階、第２画素領域のうち、前記第２有機パターンが形成されていない残りの第２画素領域に第３有機パターン及び第３画素領域に第４有機パターンを形成する段階、及び第１有機パターン乃至第４有機パターンの上面に第２電極を形成する段階、を含む表示装置の製造方法を提供する。
【００１８】
また、本発明のまた他の目的を具現するために本発明は、行方向及び列方向にマトリクス形態に配置された画素領域を含む基板に対して、前記列方向である第１方向に移動するように一列に配置された複数の第１ノズルを含む第１噴射ヘッド、第１方向に移動するように一列配置された複数の第２ノズルを含み、第２ノズルの一部が第１ノズルの一部と一直線上で整列された第２噴射ヘッドを含む噴射ユニット、第１ノズル及び第２ノズルに有機物を供給する有機物供給ユニット、及び第１噴射ヘッド及び第２噴射ヘッドを第１方向に相対移動させる移送ユニットを含む有機物滴下装置を提供する。
【００１９】
本発明によると、表示装置のうち、電子と正孔の結合によって光を発生させる有機膜を形成する過程で発生する工程不良を大きく現象させて表示装置から発生した画像の表示品質の低下を防止する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、添付した図面を参照して本発明の望ましい実施例を詳細に説明する。
【００２１】
表示装置
第１実施例
図１は、本発明の第１実施例による表示装置の基板を示した平面図である。
【００２２】
本実施例で説明される表示装置は、望ましくは有機電界発光表示装置である。
【００２３】
図１を参照すると、基板１００は、第１領域１１０、第２領域１２０及び第３領域１３０を含むメイン領域１４０及びメイン領域１４０の周辺に配置されたサブ領域１５０を含む。
【００２４】
第１領域１１０、第２領域１２０、及び第３領域１３０は、基板１００の同じ面に形成される。本実施例で、第１領域１１０及び第２領域は隣接して配置され、第３領域１３０は第２領域に隣接して配置される。また、第２領域１２０は第１領域１１０と第３領域１３０との間に介在される。
【００２５】
本実施例において、第１領域１１０、第２領域１２０及び第３領域１３０は基板１００に反復して形成することができる。
【００２６】
第１領域１１０、第２領域１２０及び第３領域１３０は、それぞれ画像を表示するための画素領域を含む。本実施例で、第１領域１１０に配置された画素領域は第１画素領域１１１に定義され、第２領域１２０に配置された画素領域は第２画素領域１２１に定義され、第３領域１３０に配置された画素領域は第３画素領域１３１に定義される。
【００２７】
第１画素領域１１１乃至第３画素領域１３１は、複数で基板１００に行方向及び列方向にマトリクス形態に配置される。
【００２８】
図２は、図１のＡ１−Ａ２に沿って見た断面図である。
【００２９】
図２を参照すると、第１電極１６０は基板１００の第１画素領域１１１、第２画素領域１２１及び第３画素領域１３１にそれぞれ形成される。第１電極１６０は透明ながら導電性であるインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などを含む。  
【００３０】
参照符号１７０は隔離部材である。隔離部材１７０は、第１画素領域１１１、第２画素領域１２１及び第３画素領域１３１に形成された各第１電極１６０の間に配置され、第１電極１６０を電気的に絶縁する。本実施例で隔離部材１７０は有機物、例えば、感光物質を含むことができる。
【００３１】
図３は、図１に示した基板に有機パターンが形成された状態を示した平面図である。
【００３２】
図３を参照すると、有機パターンは基板１００の第１画素領域乃至第３画素領域１１１、１２１、１３１にそれぞれ形成される。ここで、有機パターンは正孔注入層及び発光層の複層構造を有する。本実施例で、第１画素領域１１１に配置された有機パターンは第１有機パターン１１３と定義され、第２画素領域１２１の一部に配置された有機パターンは第２有機パターン１２３と定義され、第２画素領域１２１の残りに配置された有機パターンは第３有機パターン１２５と定義され、第３画素領域１３１に配置された有機パターンは第４有機パターン１３３と定義される。
【００３３】
本実施例で第１有機パターン１１３、第２有機パターン１２３、第３有機パターン１２５、第４有機パターン１３３は全て同じ物質で構成されるが、説明の便宜上、基板１００においての配置によって互いに異なる名称を付与する。
【００３４】
本実施例で、第２有機パターン１２３は、第２画素領域１２１の個数が、例えば、１００個である場合、５０個の第２画素領域１２１に配置され、第３有機パターン１２５は第２画素領域１２１のうち、残りの５０個の第２画素領域１２１に配置される。
【００３５】
本実施例で、第２有機パターン１２３は、第２画素領域１２１に行単位に形成される。例えば、第２有機パターン１２３は奇数番目の行ごとに反復して形成される。また、第３有機パターン１２５は第３画素領域１３１に行単位に形成され、第３有機パターン１２５は偶数番目の行ごとに反復して形成される。
【００３６】
したがって、第２画素領域１２１に形成された第２有機パターン１２３及び第３有機パターン１２５は行単位に交代に反復して形成される。
【００３７】
このように、第２画素領域１２１に第２有機パターン１２３及び第３有機パターン１２５を交代に反復して形成することで、第１画素領域１１１と第３画素領域１３１との間に配置された第２有機パターン１２３及び第３有機パターン１２５の乾燥速度をより均一に調節可能になる。
【００３８】
また、メイン領域１４０を囲む周辺領域１５０には、ダミー有機パターン１８０が更に形成される。ダミー有機パターン１８０は第１画素領域１１１、第２画素領域１２１、第３画素領域１３１に配置された第１有機パターン１１３、第２有機パターン１２３、第３有機パターン１２５、第４有機パターン１３３の乾燥速度をより均一にする。
【００３９】
第２電極１９０は、第１有機パターン１１３、第２有機パターン１２３、第３有機パターン１２５、第４有機パターン１３３の上面に形成される。本実施例で、第２電極１９０はアルミニウム又はアルミニウム合金で製作され、基板１００の全面積にかけて形成される。
【００４０】
実施例２
図４は、本発明の第２実施例による表示装置を示した平面図である。本発明の第２実施例による表示装置は実施例１の第２有機パターン及び第３有機パターンの構造を除くと、実施例１の表示装置と同じである。したがって、同じ部材に対しては実施例１と同じ参照番号を付与し、その重複された説明は省略する。
【００４１】
図４を参照すると、第２有機パターン１２３は第２画素領域１２１のうち、一部に形成され、第３有機パターン１２５は第２画素領域１２１の残りに形成される。例えば、第２有機パターン１２３は１００個の第２画素領域１２１のうち、５０個に形成され、第３有機パターン１２５は１００個の第３画素領域１３１のうち、残りの５０個に形成される。
【００４２】
具体的に、第２有機パターン１２３は、行方向及び列方向にマトリクス配列された第２画素領域１２１のうち、奇数番目の列に規則的に配置される。
【００４３】
第３有機パターン１２５は、行方向及び列方向にマトリクス配列された第２画素領域１２１のうち、偶数番目の列に規則的に配置される。
【００４４】
したがって、第２有機パターン１２３及び第３有機パターン１２５は、第２画素領域１２１に規則的に配置される。
【００４５】
このように、第２画素領域１２１に第２有機パターン１２３及び第３有機パターン１２５を列方向に交代に反復して形成するのは、第１画素領域１１１と第３画素領域１３１との間に配置された第２画素領域１２１に配置された第２有機パターン１２３及び第３有機パターン１２５の乾燥速度をより均一に調節するためである。
【００４６】
実施例３
図５は、本発明の第３実施例による表示装置を示した平面図である。本発明の第３実施例による表示装置は実施例１の第２有機パターン及び第３有機パターンの構造を除くと実施例１の表示装置と同じである。したがって、同じ部材に対しては実施例１と同じ参照番号を付与し、その重複された説明は省略する。
【００４７】
図５を参照すると、第２有機パターン１２３は第２画素領域１２１の一部に形成され、第３有機パターン１２５は第２画素領域１２１の残りに形成される。例えば、第２有機パターン１２３は１００個の第２画素領域１２１のうち、５０個に形成され、第３有機パターン１２５は１００個の第３画素領域１３１のうち、残りの５０個に形成される。
【００４８】
具体的に、第２有機パターン１２３は行方向及び列方向にマトリクス配列された第２画素領域１２１のうち、相互隣接しないように形成される。
【００４９】
第３有機パターン１２５は、第２画素領域１２１のうち、第２有機パターン１２３が形成していない第２画素領域１２１に形成される。
【００５０】
したがって、第２有機パターン１２３及び第３有機パターン１２５は第２画素領域１２１で規則的に配置される。
【００５１】
このように、第２画素領域１２１に第２有機パターン１２３及び第３有機パターン２１５を行方向及び列方向に交代に反復して形成するのは、第１画素領域１１１と第３画素領域１３１との間に配置された第２画素領域１２１に配置された第２有機パターン１２３及び第３有機パターン１２５の乾燥速度をより均一に調節するためである。
【００５２】
表示装置の製造方法
実施例４
図６は、本発明の第４実施例による表示装置の基板を示した平面図である。図７は、図６のＣ１−Ｃ２に沿って見た断面図である。
【００５３】
図６及び図７を参照すると、表示装置を製造するためには、まず、第１画素領域１１１を有する第１領域１１０、第２画素領域１２１を有する第２領域１２０及び第３画素領域１３１を有する第３領域１３０が形成された基板１００を準備する段階が遂行される。
【００５４】
第１領域１１０、第２領域１２０及び第３領域１３０は、基板１００に順次形成され、第２領域１２０は、第１領域１１０と第３領域１３０との間に介在される。
【００５５】
第１画素領域１１１、第２画素領域１２１、及び第３画素領域１３１は、基板１００に行方向及び列方向にマトリクス形態に配置される。
【００５６】
基板１００が準備された状態で、第１画素領域１１１、第２画素領域１２１、及び第３画素領域１３１には、第１電極１６０が形成される。ここで、図示していないが、第１電極１６０が形成される前に、基板１００には、各電極１６０に駆動信号を印加するための駆動回路（図示せず）が形成される。一つの第１電極１６０を駆動するために、駆動回路は二つの薄膜トランジスタ、一つのキャパシタンス及び信号線を含む。
【００５７】
第１電極１６０は、第１画素領域１１１、第２画素領域１２１及び第３領域１３１ごとに形成される。第１電極１６０は、基板１００に形成された透明導電膜をパターニングして形成される。
【００５８】
その後、基板１００には隔離部材１７０が形成される。隔離部材１７０は、第１電極１６０が形成された基板１００の全面積にかけて形成された有機膜をパターニングして形成される。ここで、有機膜は感光物質を含んだり、又は感光物質を含まないようにすることができる。
【００５９】
ここで、隔離部材１７０は、第１電極１６０の間に配置される。第１電極１６０がマトリクス形態に配置されるため、隔離部材１７０は格子形状に形成される。したがって、第１電極１６０は、隔離部材１７０によって囲まれ、第１電極１６０の上面には空く空間であるキャビティ１７５が形成される。
【００６０】
図８は、図６に示した表示装置の基板に第１有機パターン及び第２有機パターンを形成したことを示した平面図である。
【００６１】
図７及び図８を参照すると、基板１００に隔離部材１７０が形成された状態で、第１領域１１０に含まれた第１画素領域１１１及び第２領域１２０に含まれた第２画素領域１２１の一部に第１有機パターン１１３及び第２有機パターン１２３が形成される。
【００６２】
第１有機パターン１１３を形成するために、列方向に沿って第１領域１１０に含まれた第１画素領域１１１には、液体状態の有機物が液滴状態に滴下される。
【００６３】
また、第１有機パターン１２３を形成するために、第１画素領域１１１に有機物が滴下される途中、第２画素領域１２１の一部にも液体状態の有機物が液滴状態に滴下される。こごで、第２有機パターン１２３は第２画素領域１２１のうち、奇数番目の行ごとに選択的に形成される。このように、第２画素領域１２１の一部に、第２有機パターン１２３を形成することで、第１画素領域１１１及び第２画素領域１２１の境界部分で第１有機パターン１１３及び第２有機パターン１２３の乾燥不良による厚さの不均一を防止することができる。
【００６４】
参照符号１８０ａは、基板１００の第１領域１１０、第２領域１２０の周辺に形成された第１ダミー有機パターンである。第１ダミー有機パターン１８０ａは、第１画素領域１１１及び第２画素領域１２１に形成された第１有機パターン１１３及び第２有機パターン１２３の乾燥不良による厚さの不均一を防止する。
【００６５】
図９は、図８に示した表示基板に第３有機パターン及び第４有機パターンを形成した状態を示した平面図である。
【００６６】
図９を参照すると、基板１００の第１画素領域１１１及び第２画素領域１２１の一部に第１有機パターン１１３及び第２有機パターン１２３が形成された状態で、第２画素領域１２１の残りには第３有機パターン１２５が形成され、第３画素領域１３１には第４有機パターン１３３が形成される。
【００６７】
第４有機パターン１３３は、第３画素領域１３１に列方向に全部形成される。また、第３有機パターン１２５は第２画素領域１２１のうち、第２有機パターン１２３が形成されていない全ての部分に形成される。具体的に、第３有機パターン１２５は、第２画素領域１２１のうち、偶数番目の行ごとに反復して形成される。
【００６８】
参照符号１８０ｂは、基板１００の第２領域１２０、第３領域１３０の周辺に形成された第２ダミー有機パターンである。第２ダミー有機パターン１８０ｂは、第２画素領域１２１及び第３画素領域１３１に形成された第３有機パターン１２５及び第４有機パターン１３３の乾燥不良による厚さの不均一を防止する。
【００６９】
ここで、第１有機パターン１１３乃至第４有機パターン１３３を形成する過程によって正孔注入層及び発光層が形成されるので、第１有機パターン１１３乃至第４有機パターン１３３を形成する過程は二回にかけて行われる。
【００７０】
その後、基板１００の前面積にかけて第２電極が形成される。第２電極は基板１００の全面積にかけてアルミニウム又はアルミニウム合金を蒸着して形成される。これによって、第１有機パターン乃至第２有機パターン１１３、１２３、１２５、１３３の上面には全面積にかけて第２電極が形成される。  
【００７１】
実施例５
図１０は、本発明の第５実施例によって基板に第１有機パターン及び第２有機パターンを形成した状態を示した平面図である。図１１は、本発明の第５実施例によって基板に第３有機パターン及び第４有機パターンを形成した状態を示した平面図である。本発明の第５実施例による表示装置の製造方法は、実施例４の第１有機パターン及び第２有機パターンの形成方法を除くと、実施例４の表示装置と同じである。したがって、同じ部材に対しては、実施例４と同じ参照符号を付与し、その重複された説明は省略する。
【００７２】
図１０を参照すると、基板１００に隔離部材が形成された状態で、第１領域１１０に含まれた第１画素領域１１１には第１有機パターン１１３が形成され、第２領域１２０に含まれた第２画素領域１２１の一部には第２有機パターン１２３が形成される。
【００７３】
第１有機パターン１１１を形成するために、列方向に沿って第１領域１１０に含まれた第１画素領域１１１には液体状態の有機物が液滴形態に滴下される。また、第２有機パターン１２３を形成するために、第１画素領域１１１に有機物が滴下される途中、第２画素領域１２１の一部にも液体状態の有機物が液滴形態に滴下される。ここで、第２有機パターン１２３は、第２画素領域１２１のうち、奇数番目の列ごとに選択的に形成される。このように、第２画素領域１２１の一部に第２有機パターン１２３を形成されることで、第１画素領域１１１及び第２画素領域１２１の境界部分で、第１有機パターン１１３及び第２有機パターン１２３の乾燥不良による厚さの不均一を防止することができる。
【００７４】
図１１を参照すると、基板１００の第１画素領域１１１及び第２画素領域１２１の一部に第１有機パターン１１３及び第２有機パターン１２３が形成された状態で、第２画素領域１２１の残りには第３有機パターン１２５が形成され、第３画素領域１３１には第４有機パターン１３３が形成される。
【００７５】
第４有機パターン１３３は、第３画素領域１３１に列方向に沿って形成される。また、第３有機パターン１２５は、第２画素領域１２１のうち、第２有機パターン１２３が形成されていない第２画素領域１２１に形成される。具体的に、第３有機パターン１２５は第２画素領域１２１のうち、偶数番目の列ごとに反復して形成される。
【００７６】
実施例６
図１２は、本発明の第６実施例によって、基板に第１有機パターン及び第２有機パターンを形成した状態を示した平面図である。図１３は、本発明の第６実施例によって、基板に第３有機パターン及び第４有機パターンを形成した状態を示した平面図である。本発明の第６実施例による表示装置の製造方法は実施例４の第１有機パターン及び第２有機パターンの形成方法を除くと、実施例４の表示装置と同じである。したがって、同じ部材に対しては、実施例４と同じ参照符号を付与し、その重複された説明は省略する。
【００７７】
図１２を参照すると、基板１００に隔離部材が形成された状態で、第１領域１１０に含まれた第１画素領域１１１には第１有機パターン１１３が形成され、第２領域１２０に含まれた第２画素領域１２１の一部には第２有機パターン１２３が形成される。
【００７８】
第１有機パターン１１３を形成するために、列方向に沿って第１領域１１０に含まれた第１画素領域１１１には液体状態の有機物が液滴状態に滴下される。また、第２有機パターン１２３を形成するために、第１画素領域１１１に有機物が滴下される途中、第２画素領域１２１の一部にも液体状態の有機物が液滴形態に滴下される。ここで、第２有機パターン１２３は、第２画素領域１２１のうち、相互隣接しないように形成される。このように、第２画素領域１２１の一部に第２有機パターン１２３を形成することで、第１画素領域１１１及び第２画素領域１２１の境界部分での第２有機パターン１２３の乾燥不良による厚さの不均一を防止することができる。
【００７９】
図１３を参照すると、基板１００の第１画素領域１１１及び第２画素領域１２１の一部に第１有機パターン１１３及び第２有機パターン１２３がそれぞれ形成された状態で、第２画素領域１２１の残りには第３有機パターン１２５が形成され、第３画素領域１３１には第４有機パターン１３３が形成される。
【００８０】
第４有機パターン１３３は、第３画素領域１３１に列方向に沿って形成される。また、第３有機パターン１２５は、第２画素領域１２１のうち、第２有機パターン１２３が形成されていない部分に形成される。具体的に、第３有機パターン１２５は第２画素領域１２１のうち、有機物が滴下されていない位置に選択的に形成される。
【００８１】
ここで、第１有機パターン１１３及び第４有機パターン１３３を形成する過程によって正孔注入層及び発光層が形成されるので、第１有機パターン１１３及び第４有機パターン１３３を形成する過程は二回にかけて形成される。
【００８２】
有機物滴下装置
実施例７
図１４は、本発明の第７実施例による有機物噴射装置を示した概念図である。
【００８３】
以下で説明される有機物滴下装置は、有機物を含む表示装置、例えば、有機電界発光表示装置、プラズマ表示装置などに用いることができる。
【００８４】
図１４を参照すると、有機物滴下装置２００は、噴射ユニット２３０、有機物供給ユニット２４０及び移送ユニットを含む。
【００８５】
噴射ユニット２３０は、一実施例として、第１噴射ヘッド２１０及び第２噴射ヘッド２２０を含む。
【００８６】
本実施例では、望ましくは、第１噴射ヘッド２１０は、直六面体プレートの形状を有し、複数の第１ノズル２１５を含む。本実施例で、複数の第１ノズル２１５は、第１噴射ヘッド２１０上で一列に配置される。第１噴射ヘッド２１０は第１方向に移動され、第１噴射ヘッド２１０は、第１方向に対して所定角度に傾くように配置される。ここで、第１噴射ヘッド２１０は、基板１００と平行に配置される。
【００８７】
第２噴射ヘッド２２０は、直六面体の形状を有し、複数の第２ノズル２２５を含む。本実施例で、複数の第２ノズル２２５は、第２噴射ヘッド２２０上に一列に配置される。第２噴射ヘッド２２０は第１噴射ヘッド２１０と同様に第１方向に移動され、第１方向に対して所定角度に傾くように配置される。第２噴射ヘッドは、第１噴射ヘッドと平行に配置され、基板１００に対して平行に配置される。
【００８８】
第１噴射ヘッド２１０の第１ノズル２１５の一部及び第２噴射ヘッド２２０の第２ノズル２２５の一部は一直線上で整列される。
【００８９】
有機物供給ユニット２４０は、第１噴射ヘッド２１０の第１ノズル２１５及び第２噴射ヘッド２２０の第２ノズル２２５にそれぞれ有機物、例えば、正孔注入層を構成する正孔物質又は発光層を構成する発光物質を提供する。
【００９０】
移送ユニットは、第１噴射ヘッド２１０及び第２噴射ヘッド２２０を第１方向に移送させる。移送ユニットは、第１噴射ヘッド２１０及び第２噴射ヘッド２２０を移送するためのＸＹテーブルなど多様な移送器具を用いることができる。
【００９１】
また、移送ユニット１００を移送したり、第１噴射ヘッド２１０及び第２噴射ヘッド２２０を相対移送可能であるようにすることが望ましい。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
以上での詳細な説明によると、表示装置、例えば、有機電界発光表示装置を製造するために基板に液滴形態に滴下される有機物の滴下方法を変更して有機物の乾燥速度を均一に調節して有機物の厚さの均一性を向上させて表示装置で表示される画像の表示品質をより向上させる。
【００９３】
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離脱することなく、本発明を修正または変更できる。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】本発明の第１実施例による表示装置の基板を示した平面図である。
【図２】図１のＡ１−Ａ２にそって見た断面図である。
【図３】図１に示した基板に有機パターンが形成された状態を示した平面図である。
【図４】本発明の第２実施例による表示装置を示した平面図である。
【図５】本発明の第３実施例による表示装置を示した平面図である。
【図６】本発明の第４実施例による表示装置の基板を示した平面図である。
【図７】図６のＣ１−Ｃ２に沿って見た断面図である。
【図８】図６に示した表示装置の基板に第１有機パターン及び第２有機パターンを形成した状態を示した平面図である。
【図９】図８に示した表示基板に第３有機パターン及び第４有機パターンを形成した状態を示した平面図である。
【図１０】本発明の第５実施例によって基板に第１有機パターン及び第２有機パターンを形成した状態を示した平面図である。
【図１１】本発明の第５実施例によって基板に第３有機パターン及び第４有機パターンを形成した状態を示した平面図である。
【図１２】本発明の第６実施例によって基板に第１有機パターン及び第２有機パターンを形成した状態を示した平面図である。
【図１３】本発明の第６実施例によって基板に第３有機パターン及び第４有機パターンを形成した状態を示した平面図である。
【図１４】本発明の第７実施例による有機物滴下装置を示した概念図である。
【符号の説明】
【００９５】
１００    基板
１１０    第１領域
１１１    第１画素領域
１１３    第１有機パターン
１２０    第２領域
１２１    第２画素領域
１２３    第２有機パターン
１２５    第３有機パターン
１３０    第３領域
１３１    第３画素領域
１３３    第４有機パターン
１４０    メイン領域
１５０    サブ領域
１６０    第１電極
１７０    隔離部材
１７５    キャビティ
１９０    第２電極
２００    有機物滴下装置
２１０    第１噴射ヘッド
２１５    第１ノズル
２２０    第２噴射ヘッド
２２５    第２ノズル
２３０    噴射ユニット
２４０    有機物供給ユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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