(57)【要約】【課題】測定光束を分岐又は統合するために干渉計内に配置されるビームスプリッタの壁面での反射に起因するノイズを低減する。【解決手段】ビームスプリッタ（１５）の壁面のうち、測定光束の通過する４つの壁面（ａ，ａ’，ｂ，ｂ’）が半透過面１５Ｃと成す角度を、４５°から外れた互いに等しい値に設定する。このように角度が４５°から外れた壁面のビームスプリッタ（１５）を適用すれば、それら壁面（ａ，ａ’，ｂ，ｂ’）での反射に起因して干渉計の測定信号に重畳していたノイズは、低減される。また、それら角度が互いに等しい値なので、そのビームスプリッタの周辺の各光学素子の配置関係が複雑になることはない。【選択図】      図１
2005003420.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定光束を出射する投光光学系と、
前記投光光学系から射出した前記測定光束の光軸に対し４５°の角度で交差する半透過膜を内在した角柱状のプリズムからなるビームスプリッタと、
前記半透過膜の反射光路に対し１８０°の角度でその半透過膜から射出する射出光束を受光する受光光学系と
を備えた干渉計において、
前記測定光束の光路、前記半透過膜の透過光路又は前記反射光路、前記射出光束の光路のそれぞれに位置する前記ビームスプリッタの３つの面が前記半透過膜と成す角度は、４５°を除く互いに等しい値である
ことを特徴とする干渉計。
【請求項２】
請求項１に記載の干渉計において、
前記測定光束の光路、前記透過光路、前記反射光路、前記射出光束の光路のそれぞれに位置する前記ビームスプリッタの４つの面が前記半透過膜と成す角度は、４５°を除く互いに等しい値である
ことを特徴とする干渉計。
【請求項３】
請求項１又は請求項２の何れか一項に記載の干渉計において、
前記ビームスプリッタは、
前記半透過膜として偏光分離膜を内在した偏光ビームスプリッタである
ことを特徴とする干渉計。
【請求項４】
二等辺三角形状の断面を有した２つのプリズムをその底辺に相当する側面同士で半透過膜を介し接合してなるビームスプリッタにおいて、
前記２つのプリズムの断面の頂角は、９０°を除く互いに等しい値である
ことを特徴とするビームスプリッタ。
【請求項５】
請求項４に記載のビームスプリッタにおいて、
前記半透過膜は、偏光分離膜である
ことを特徴とするビームスプリッタ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、干渉計、及びビームスプリッタに関する。
【０００２】
【従来の技術】
光学素子の被検面の測定には、測定精度が高いことで知られる干渉計が適用される（特許文献１など）。
干渉計は、光源からの射出光束を被検面及び所定の参照面に導くと共に、被検面で反射した被検光束と参照面で反射した参照光束とを所定の観察面に導き、その観察面に生じる干渉縞の光強度分布を撮像素子で検出するものである。
【０００３】
その撮像素子の出力信号に基づけば、参照面を基準とした被検面の形状が求まる。
この干渉計には、光源からの射出光束を被検面及び参照面に導くと共に、それら被検面及び参照面から戻る光束を所定の観察面に導くキューブ型のビームスプリッタが用いられる。
【０００４】
キューブ型のビームスプリッタは、２つの二等辺直角プリズムをその底辺に相当する側面同士で接合し、その接合面に半透過膜を介在させたものである。その外観は、立方体型（キューブ型）をしている。
このビームスプリッタは、その接合面が入射光束に対し４５°の角度を成す（入射角度＝４５°となる）姿勢で配置されることにより、その入射光束に対し半透過作用を示す。
【０００５】
因みにこの状態で、ビームスプリッタの各壁面は入射光束に対し９０°の角度を成す（入射角度＝０°となる）ので、その入射光束に対しては何ら作用しないとされている。
【特許文献１】
特開平５−１５７５３１号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、実際には、壁面で若干の反射光が生じている。その反射光は、直接、或いは、他の面での反射を繰り返した後、観察面に入射し、撮像素子の出力信号にノイズを重畳させている。また、光源の方向に入射し、光源の出力を不安定にさせることもある。
【０００７】
そこで本発明は、ビームスプリッタの壁面での反射に起因するノイズを低減可能な干渉計、及び壁面での反射に起因するノイズを低減可能なビームスプリッタを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の干渉計は、測定光束を出射する投光光学系と、前記投光光学系から射出した前記測定光束の光軸に対し４５°の角度で交差する半透過膜を内在した角柱状のプリズムからなるビームスプリッタと、前記半透過膜の反射光路に対し１８０°の角度でその半透過膜から射出する射出光束を受光する受光光学系とを備えた干渉計において、前記測定光束の光路、前記半透過膜の透過光路又は前記反射光路、前記射出光束の光路のそれぞれに位置する前記ビームスプリッタの３つの面が前記半透過膜と成す角度は、４５°を除く互いに等しい値であることを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載の干渉計は、請求項１に記載の干渉計において、前記測定光束の光路、前記透過光路、前記反射光路、前記射出光束の光路のそれぞれに位置する前記ビームスプリッタの４つの面が前記半透過膜と成す角度は、４５°を除く互いに等しい値であることを特徴とする。
請求項３に記載の干渉計は、請求項１又は請求項２の何れか一項に記載の干渉計において、前記ビームスプリッタは、前記半透過膜として偏光分離膜を内在した偏光ビームスプリッタであることを特徴とする。
【００１０】
請求項４に記載のビームスプリッタは、二等辺三角形状の断面を有した２つのプリズムをその底辺に相当する側面同士で半透過膜を介し接合してなるビームスプリッタにおいて、前記２つのプリズムの断面の頂角は、９０°を除く互いに等しい値であることを特徴とする。
請求項５に記載のビームスプリッタは、請求項４に記載のビームスプリッタにおいて、前記半透過膜は、偏光分離膜であることを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
［第１実施形態］
図１、図２、図３を参照して本発明の第１実施形態について説明する。
本実施形態は、トワイマン・グリーン型干渉計に本発明を適用した実施形態である。
【００１２】
図１は、本実施形態の干渉計の構成図である。
干渉計には、投光光学系１１、受光光学系１６が備えられる。
ビームスプリッタ１５は、投光光学系１１からビームスプリッタ１５へと入射する測定光束Ｌ０の光路に対し、その接合面１５Ｃが４５°の角度で交差する姿勢で配置される。
【００１３】
投光光学系１１において、光源１１ａから射出する測定光束Ｌ０は、集光レンズ１１ｂにて一旦集光され、その集光点の近傍に配置されたピンホール板１１ｃを介してコリメータレンズ１１ｄに入射した後、平行光束化した状態でビームスプリッタ１５に入射する。
なお、ピンホール板１１ｃの開口部（ピンホール）１１ｃ’は、集光点を通過する光線しか透過しない。それ以外の光線はピンホール板１１ｃの非開口部でカットされる。
【００１４】
この投光光学系１１からビームスプリッタ１５へと入射した測定光束Ｌ０は、ビームスプリッタ１５の接合面１５Ｃにおいて反射及び透過する。
参照物２は、接合面１５Ｃを透過した測定光束Ｌ０が参照面２Ａに対し垂直入射する（入射角度＝０°となる）姿勢で配置される。
被検物３は、接合面１５Ｃを反射した測定光束Ｌ０が被検面３Ａに対し垂直入射する（入射角度＝０°となる）姿勢で配置される。
【００１５】
参照面２Ａにおいて反射した測定光束Ｌ０（以下、参照光束Ｌｒとする。）、被検面３Ａにおいて反射した測定光束Ｌ０（以下、被検光束Ｌｗとする。）は、ビームスプリッタ１５に再入射し、接合面１５Ｃにて透過及び反射する。
受光光学系１６は、接合面１５Ｃにて透過及び反射して同一方向に進行する参照光束Ｌｒ及び被検光束Ｌｗ（以下、干渉光束Ｌｒｗとする。）を受光可能な姿勢で配置される。
【００１６】
この干渉光束Ｌｒｗは、受光光学系１６内の集光レンズ１６ａにより一旦集光され、その集光点の近傍に配置された絞り機構１６ｂを介してコリメートレンズ１６ｃに入射する。その後、撮像素子１６ｄ上に入射し干渉縞を形成する。
集光レンズ１６ａ、絞り機構１６ｂ、コリメートレンズ１６ｃを一体として光軸方向に移動することにより、被検面３Ａと撮像素子１６ｄとが共役になるようにフォーカシングが可能である。
【００１７】
なお、絞り機構１６ｂの開口部１６ｂ’は、集光点を通過する光線しか透過しない。それ以外の光線は絞り機構１６ｂの非開口部でカットされる。
図２は、ビームスプリッタ１５を説明する図である。
ビームスプリッタ１５は、図２（ａ）又は図２（ｂ）に示すように、二等辺三角形状の断面を有した第１のプリズム部材１５Ａ及び第２のプリズム部材１５Ｂを、その二等三角形の底辺を成す側面１５Ｃ同士で半透過膜を介して接合したものである。
【００１８】
ここで、第１のプリズム部材１５Ａの断面の頂角、第２のプリズム部材１５Ｂの断面の頂角は、非直角の互いに等しい値をとる。このとき、ビームスプリッタ１５の４つの壁面ａ，ａ’，ｂ，ｂ’が接合面１５Ｃと成す角度は、４５°以外の互いに等しい値をとる。
なお、第１のプリズム部材１５Ａの断面のサイズと、第２のプリズム部材１５Ｂの断面のサイズとは、等しい。
【００１９】
以下、このようなビームスプリッタ１５の壁面での代表的な光束の反射を、壁面ａ，ａ’，ｂ，ｂ’のそれぞれについて考える。
図３は、ビームスプリッタ１５の周辺を拡大した図である。
なお、ビームスプリッタ１５の壁面ｂに図の下方から入射する光束は測定光束Ｌ０であり、壁面ｂ’に図の右方から入射する光束は被検光束Ｌｗであり、壁面ａ’に図の上方から入射する光束は参照光束Ｌｒであり、壁面ａに図の右方から入射する光束は干渉光束Ｌｒｗである。
【００２０】
（壁面ｂについて）
上述したように、ビームスプリッタ１５の接合面１５Ｃは、投光光学系１１からビームスプリッタ１５へと入射する測定光束Ｌ０の光路に対し４５°の角度で交差する。
また、上述したように、壁面ｂは、その接合面１５Ｃと４５°以外の角度を成す。
【００２１】
よって、壁面ｂは、測定光束Ｌ０（図の下方から上方に向かう光束）に対して９０°以外の角度を成す（入射角度≠０°となる）。
したがって、その入射時に壁面ｂで発生する反射光は、点線で示すごとく、その入射光路から逸れた方向に進行する。
逸れた方向に進行した反射光は、たとえ投光光学系１１のコリメータレンズ１１ｄに入射したとしても、ピンホール板１１ｃの開口部（ピンホール）１１ｃ’からずれた位置に集光するので、ピンホール板１１ｃの非開口部でカットされ、光源１１ａに影響を与えることはない。
【００２２】
また、反射光のうち様々な部材で反射を繰り返した光がたとえ受光光学系１６内の集光レンズ１６ａに入射したとしても、絞り機構１６ｂの開口部１６ｂ’からずれた位置に集光するので、絞り機構１６ｂの非開口部でカットされ、撮像素子１６ｄには入射しない。
（壁面ｂ’について）
上述したように、壁面ｂ’は、接合面１５Ｃと４５°以外の角度を成す。
【００２３】
よって、壁面ｂ’は、接合面１５Ｃにて反射した測定光束Ｌ０（図の左方から右方に向かう光束）に対して９０°以外の角度（入射角度≠０°）を成す。
したがって、その測定光束Ｌ０の入射時に壁面ｂ’で発生する反射光は、点線で示すごとく、その入射光路から逸れた方向に進行する。
逸れた方向に進行した反射光は、反射を繰り返した後にたとえ投光光学系１１のコリメータレンズ１１ｄに入射したとしても、ピンホール板１１ｃの開口部（ピンホール）１１ｃ’からずれた位置に集光するので、ピンホール板１１ｃの非開口部でカットされ、光源１１ａに影響を与えることはない。また、たとえ受光光学系１６内の集光レンズ１６ａに入射したとしても、絞り機構１６ｂの開口部１６ｂ’からずれた位置に集光するので、絞り機構１６ｂの非開口部でカットされ、撮像素子１６ｄには入射しない。
【００２４】
また、上述したように、被検物３は、接合面１５Ｃにて反射した測定光束Ｌ０（図の左方から右方に向かう光束）が被検面３Ａに対し垂直入射する（入射角度＝０°となる）姿勢で配置される。
よって、被検物３にて反射して壁面ｂ’に入射する被検光束Ｌｗ（図の右方から左方に向かう光束）は、壁面ｂ’に対し９０°以外の角度（入射角度≠０°）を成す。
【００２５】
したがって、その入射時に壁面ｂ’で発生する反射光は、点線で示すごとく、その入射光路から逸れた方向に進行する。
逸れた方向に進行した反射光は、反射を繰り返した後にたとえ投光光学系１１のコリメータレンズ１１ｄに入射したとしても、ピンホール板１１ｃの開口部（ピンホール）１１ｃ’からずれた位置に集光するので、ピンホール板１１ｃの非開口部でカットされ、光源１１ａに影響を与えることはない。また、たとえ受光光学系１６内の集光レンズ１６ａに入射したとしても、絞り機構１６ｂの開口部１６ｂ’からずれた位置に集光するので、絞り機構１６ｂの非開口部でカットされ、撮像素子１６ｄには入射しない。
【００２６】
（壁面ａ’について）
上述したように、壁面ａ’は、接合面１５Ｃと４５°以外の角度を成す。
よって、壁面ａ’は、接合面１５Ｃを透過した測定光束Ｌ０（図の下方から上方に向かう光束）に対して９０°以外の角度（入射角度≠０°）を成す。
したがって、その測定光束Ｌ０の入射時に壁面ａ’で発生する反射光は、点線で示すごとく、その入射光路から逸れた方向に進行する。
【００２７】
逸れた方向に進行した反射光は、反射を繰り返した後にたとえ投光光学系１１のコリメータレンズ１１ｄに入射したとしても、ピンホール板１１ｃの開口部（ピンホール）１１ｃ’からずれた位置に集光するので、ピンホール板１１ｃの非開口部でカットされ、光源１１ａに影響を与えることはない。また、たとえ受光光学系１６内の集光レンズ１６ａに入射したとしても、絞り機構１６ｂの開口部１６ｂ’からずれた位置に集光するので、絞り機構１６ｂの非開口部でカットされ、撮像素子１６ｄには入射しない。
【００２８】
また  上述したように、参照物２は、接合面１５Ｃにて透過した測定光束Ｌ０（図の下方から上方に向かう光束）が参照面２Ａに対し垂直入射する（入射角度＝０°となる）姿勢で配置される。
よって、参照物２にて反射して壁面ａ’に入射する参照光束Ｌｒ（図の上方から下方に向かう光束）は、壁面ａ’に対し９０°以外の角度（入射角度≠０°）を成す。
【００２９】
したがって、その入射時に壁面ａ’で発生する反射光は、点線で示すごとく、その入射光路から逸れた方向に進行する。
逸れた方向に進行した反射光は、反射を繰り返した後にたとえ投光光学系１１のコリメータレンズ１１ｄに入射したとしても、ピンホール板１１ｃの開口部（ピンホール）１１ｃ’からずれた位置に集光するので、ピンホール板１１ｃの非開口部でカットされ、光源１１ａに影響を与えることはない。また、たとえ受光光学系１６内の集光レンズ１６ａに入射したとしても、絞り機構１６ｂの開口部１６ｂ’からずれた位置に集光するので、絞り機構１６ｂの非開口部でカットされ、撮像素子１６ｄには入射しない。
【００３０】
（壁面ａについて）
上述したように、壁面ａは、接合面１５Ｃと４５°以外の角度を成す。
よって、壁面ａは、接合面１５Ｃを射出した干渉光束Ｌｗｒ（図の右方から左方に向かう光束）に対して９０°以外の角度（入射角度≠０°）を成す（入射角度≠０°となる）。
【００３１】
したがって、その入射時に壁面ａで発生する反射光は、点線で示すごとく、その入射光路から逸れた方向に進行する。
逸れた方向に進行した反射光は、反射を繰り返した後にたとえ投光光学系１１のコリメータレンズ１１ｄに入射したとしても、ピンホール板１１ｃの開口部（ピンホール）１１ｃ’からずれた位置に集光するので、ピンホール板１１ｃの非開口部でカットされ、光源１１ａに影響を与えることはない。また、たとえ受光光学系１６内の集光レンズ１６ａに入射したとしても、絞り機構１６ｂの開口部１６ｂ’からずれた位置に集光するので、絞り機構１６ｂの非開口部でカットされ、撮像素子１６ｄには入射しない。
【００３２】
以上のとおり、本実施形態のビームスプリッタ１５は、壁面ａ，ａ’，ｂ，ｂ’と接合面１５Ｃとの成す角度が４５°から外れた値に設定されているので、光束が壁面ａ，ａ’，ｂ，ｂ’にて生じさせる反射光は、ノイズにならない。
【００３３】
また、それ以外の光束（代表的な光束の各面での反射光など）が壁面ａ，ａ’，ｂ，ｂ’にて生じさせる反射光も、ノイズにはならない。
なお、本実施形態のビームスプリッタ１５の４つの壁面ａ，ａ’，ｂ，ｂ’が接合面１５Ｃと成す角度の４５°からのズレ量は、それら壁面ａ，ａ’，ｂ，ｂ’にて生じた各反射光がピンホール板１１ｃの非開口部や絞り機構１６ｂの非開口部にて確実にカットされるよう、実測や設計データなどに基づき、十分に大きい値に選定される。
【００３４】
また、壁面ａ，ａ’，ｂ，ｂ’と接合面１５Ｃとの成す角度が互いに等しい大きさに設定されているので、壁面ａ，ａ’，ｂ，ｂ’に対する各光束の屈折角度は互いに等しくなり、投光光学系１１、受光光学系１６、被検物３、参照物２の各光軸を互いに垂直又は水平にすることができる。したがって、干渉計内の各光学要素の配置関係の複雑化が抑えられる。
【００３５】
また、第１のプリズム部材１５Ａの断面のサイズと第２のプリズム部材１５Ｂの断面のサイズとが等しいので、干渉計内の参照光束Ｌｒの光路と被検光束Ｌｗの光路とを等価にすることができる。
（その他）
なお、図１に示した干渉計において、被検物３と参照物２の位置を交換しても、同様の測定を行うことが可能である。
【００３６】
また、図１に示した干渉計では、撮像素子１６ｄの検出対象が、コリメートレンズ１６ｃの後段に形成される干渉縞となっているが、その干渉縞の形成位置にスクリーンを配置し、そのスクリーン上の干渉縞を結像レンズを介して間接的に撮像素子１６ｄにて検出することもできる。
また、本実施形態の干渉計では、ビームスプリッタ１５の接合面１５Ｃに半透過膜が設けられたが、半透過膜に代えて偏光分離膜を設けてもよい。
【００３７】
その場合、ビームスプリッタ１５は、偏光ビームスプリッタとなる。この偏光ビームスプリッタに１／４波長板などを組み合わせて用いれば、干渉計における光量ロスを低減させることができる。なお、この光量ロスの低減方法は周知なので、説明を省略する。
また、図１では、被検面３Ａが平面である様子を示したが、球面や非球面などの曲面としてもよい。その場合、図１中（Ａ）に示すように、ビームスプリッタ１５と被検面３Ａとの間に、平行光束を被検面３Ａの各位置に対し垂直入射する光束に変換する光学素子１９が挿入される。
【００３８】
［第２実施形態］
図４を参照して本発明の第２実施形態について説明する。
本実施形態は、フィゾー型干渉計に本発明を適用した実施形態である。ここでは、第１実施形態との相違点についてのみ説明する。
図４は、本実施形態の干渉計の構成図である。
【００３９】
第１実施形態との相違点は、参照物２がビームスプリッタ２５と被検物３との間に配置された点にある。このような参照物２は、平行光束を透過するフィゾー部材からなる。
なお、ここでは、被検物３の被検面３Ａが曲面であり、参照物２がフィゾーレンズとして構成されている場合を説明する。フィゾーレンズ２は、平行光束を被検面３Ａの各位置に対し垂直入射する光束に変換する作用を有する。
【００４０】
また、本実施形態の干渉計では、ビームスプリッタ２５として偏光ビームスプリッタが用いられる。
偏光ビームスプリッタ２５の接合面２５Ｃには、半透過膜として偏光分離膜が形成される。
この偏光ビームスプリッタ２５のうち、受光光学系１１に対向する壁面ｂ、被検物３及びフィゾーレンズ２に対向する壁面ｂ’、受光光学系１６に対向する壁面ａのそれぞれが接合面２５Ｃと成す角度は、４５°以外の互いに等しい大きさである。
【００４１】
一方、残りの壁面ａ’が成す角度については、他の壁面ａが成す角度と同じである必要は無く、任意の角度である。
但し、測定光束Ｌ０のうち接合面２５Ｃを透過した光束が垂直入射しない角度にする必要がある。
つまり、偏光ビームスプリッタ２５を構成する２つのプリズム部材２５Ａ，２５Ｂのうち、一方のプリズム部材２５Ａの断面については、二等辺三角形状である必要は無い。
【００４２】
また、本実施形態の干渉計において、偏光ビームスプリッタ２５は、投光光学系１１から偏光ビームスプリッタ２５へと入射する測定光束Ｌ０の光路に対しその接合面２５Ｃが４５°の角度で交差する姿勢で配置される。
また、フィゾーレンズ２及び被検物３は、接合面２５Ｃにおいて反射した測定光束Ｌ０が参照面２Ａ及び被検面３Ａに対し垂直入射する（入射角度＝０°となる）姿勢で配置される。
【００４３】
また、偏光ビームスプリッタ２５を有効利用して光量ロスを抑えるため、本実施形態の干渉計には１／４波長板２１、１１ｆ、偏光素子１１ｅが組み合わされている。
すなわち、投光光学系１１内の光源１１ａの射出側には、偏光素子１１ｅ、１／４波長板１１ｆが順に配置され、偏光ビームスプリッタ２５と投光光学系１１との間、及び偏光ビームスプリッタ２５とフィゾーレンズ２との間に、１／４波長板２１がそれぞれ配置される。
【００４４】
なお、図４では、受光光学系１６内のコリメートレンズ１６ｃの後段に形成される干渉縞がスクリーン１６ｅ及び結像レンズ１６ｆを介して撮像素子１６ｄにて間接的に検出される様子を示した。また、図４において、符号２２で示すのは、平行光束の径を変換するビームエキスパンダである。
【００４５】
以上の干渉計において、投光光学系１１の光源１１ａから射出し、偏光素子１１ｅを透過した直線偏光の測定光束Ｌ０は、１／４波長板１１ｆを透過することで円偏光となり投光光学系１１から射出する。
その測定光束Ｌ０は、１／４波長板２１を介して紙面に垂直な直線偏光（ｓ偏光）に変換され、偏光ビームスプリッタ２５の接合面２５Ｃに入射する。
【００４６】
その測定光束Ｌ０は、偏光ビームスプリッタ２５の接合面２５Ｃにて反射し、１／４波長板２１，ビームエキスパンダ２２を介してフィゾーレンズ２，及び被検物３へ入射する。
このうちフィゾーレンズ２の最終面である参照面２Ａにて反射した測定光束Ｌ０（以下、参照光束Ｌｒとする。）、被検物３の被検面３Ａにて反射した測定光束Ｌ０（以下、被検光束Ｌｗとする。）は、入射光路を反対向きに辿り、干渉光束Ｌｒｗとして共に１／４波長板２１を介して偏光ビームスプリッタ２５の接合面２５Ｃに入射する。
【００４７】
この干渉光束Ｌｒｗは、１／４波長板２１を往復しているのでｐ偏光に変換されており、したがって接合面２５Ｃを透過し、受光光学系１６に入射して撮像素子１６ｄ上に干渉縞を形成する。
以上の本実施形態の干渉計において、偏光ビームスプリッタ２５の壁面ａ，ｂ，ｂ’と測定光束Ｌ０，被検光束Ｌｗ，干渉光束Ｌｒｗとの間の関係は、第１実施形態のビームスプリッタ１５の壁面ａ，ｂ，ｂ’と測定光束Ｌ０，被検光束Ｌｗ，干渉光束Ｌｒｗとの間の関係と同じである。
【００４８】
また、本実施形態の干渉計において、壁面ａ，ｂ，ｂ’と参照光束Ｌｒとの間の関係は、壁面ａ，ｂ，ｂ’と被検光束Ｌｒと間の関係と同じである。
したがって、本実施形態の干渉計においても、代表的な光束が偏光ビームスプリッタ２５の壁面ａ，ｂ，ｂ’で生じさせる反射光は、ノイズにならない。
【００４９】
また、壁面ａ，ｂ，ｂ’と接合面１５Ｃとの成す角度が互いに等しい大きさに設定されているので、壁面ａ，ｂ，ｂ’に対する各光束の屈折角度は互いに等しくなり、投光光学系１１、受光光学系１６、被検物３、参照物２の各光軸を互いに垂直又は水平にすることができる。したがって、干渉計内の各光学要素の配置関係の複雑化が抑えられる。
【００５０】
（その他）
なお、本実施形態の干渉計を、スクリーン１６ｅに形成される干渉縞が撮像素子１６ｄによって直接検出されるよう変更してもよい。
また、図４では、被検面３Ａが曲面である様子を示したが、図４中（Ａ）に示すように平面としてもよい。
【００５１】
［その他］
図１、図２、図３、図４では、ビームスプリッタを構成するプリズム部材の断面の頂角（二等辺三角形の頂角）が鈍角である場合を示したが、図５に示すように鋭角としても同様の効果が得られる。
また、上記各実施形態のビームスプリッタにおいて、干渉計において必要な光束の光路に関係しない部分の形状・材質については、任意としてよいことは言うまでもない。但し、迷光をなるべく発生させないような形状・材質であることが望ましい。
【００５２】
【発明の効果】
以上説明したとおり本発明によれば、ビームスプリッタの壁面での反射に起因するノイズを低減可能な干渉計、及び壁面での反射に起因するノイズを低減可能なビームスプリッタが実現する。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態の干渉計の構成図である。
【図２】（ａ）は、ビームスプリッタ１５の構成を説明する断面図であり、（ｂ）は、ビームスプリッタ１５の構成を説明する斜視図である。
【図３】ビームスプリッタ１５の周辺を拡大した図である。
【図４】第２実施形態の干渉計の構成図である。
【図５】他のビームスプリッタを説明する断面図である。
【符号の説明】
１１  投光光学系
１１ａ  光源
１１ｂ  集光レンズ
１１ｃ  ピンホール板
１１ｃ’  開口部（ピンホール）
１６  受光光学系
１６ａ  集光レンズ
１６ｃ  コリメートレンズ
１６ｂ  絞り機構
１６ｂ’  開口部
１６ｄ  撮像素子
１６ｅ  スクリーン
１６ｆ  結像レンズ
１５  ビームスプリッタ
２５  ビームスプリッタ（偏光ビームスプリッタ）
２  参照物
２Ａ  参照面
３  被検物
３Ａ  被検面
２２  ビームエキスパンダ
１１ｅ  偏光素子
１１ｆ，２１  １／４波長板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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