(57)【要約】【課題】作製が比較的容易で低コストであり、且つ薄型、軽量で分離帯域の広帯域化、斜め入射時での偏光分離も可能な偏光分離素子を提供すること。【解決手段】３次元の直交座標ｘ，ｙ，ｚにおいて、ｘ軸方向に周期が１μｍ以下の周期的な凹凸構造を有する偏光分離素子であって、  前記凹凸構造の凸部及び／又は１周期中の凸部を除いた部分が屈折率の異なる２種類以上の透明体の積層体からなり、ｙ軸方向には一様であるか、またはｘ軸方向より大きい長さの周期的若しくは非周期的な構造であることを特徴とする偏光分離素子。【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元の直交座標ｘ，ｙ，ｚにおいて、ｘ軸方向に周期が１μｍ以下の周期的な凹凸構造を有する偏光分離素子であって、
前記凹凸構造の凸部及び／又は１周期中の凸部を除いた部分が屈折率の異なる２種類以上の透明体の積層体からなり、ｙ軸方向には一様であるか、またはｘ軸方向より大きい長さの周期的若しくは非周期的な構造であることを特徴とする偏光分離素子。
【請求項２】
前記積層体を構成する透明体が３種類以上であることを特徴とする請求項１に記載の偏光分離素子。
【請求項３】
前記積層体が高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造であることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光分離素子。
【請求項４】
前記凹凸構造が、表面に凹凸構造を有する透明基板上に透明体を積層したものである請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光分離素子。
【請求項５】
前記積層体のｚ方向の厚さが非周期的であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光分離素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光の特質である偏光現象を利用した光学機器に用いられ、特定方向の直線偏光のみを透過させ直交する方向の直線偏波を反射させる偏光分離素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光分離素子とは、無偏光の電磁波からある特定方向に振動する電磁波だけを透過させて直線偏光にする素子である。用途としては光通信デバイス、光ディスクのピックアップ、液晶ディスプレイ、光応用計測など広くあげることができる。従来から知られている偏光分離素子としては（１）不要な偏波を吸収するタイプと、（２）同一の光路で入射する直交する二つの偏波成分を別々の光路に分離タイプに大別することができる。利用目的により、大きな開口面積、高性能、薄型、広帯域などの特性を実現することが望まれており、産業的には安価に供給できることが重要である。
【０００３】
前記（１）のタイプとしては高分子フィルムにヨウ素などの二色性分子を入れたものが一般的である。これは安価で大面積のものが得られるが、消光比が低く、温度安定性に劣るという欠点がある。この問題を解決するため、安定性の高い材料を用いた偏光子が開発されている。即ち、ガラスなどの透明体の中に金属や半導体などの吸収体を、細線状あるいは薄膜状に一方向に配列したものである。細線あるいは薄膜に平行な偏波成分は吸収あるいは反射され、それに直交する偏波は透過する。この種の偏光子は消光比が高く取れるのが特徴であるが、切断・研磨などの工程が必要となり、製造コストの低減が困難である。また大面積で且つ薄型にすることは困難である。
【０００４】
一方、（２）のタイプとしては、方解石など複屈折率の大きい材料からなる三角プリズムを２個貼り付けたものが一般的である。代表的なものにはグラントムソンプリズムがある。この種の偏光子は一般に高い消光比、高い透過率が得られるが、大面積や薄型にすることが困難であり、材料が高価であるため価格も必然的に高くなる。他には透明体のブリュースター角を利用した誘電体多層膜を用いた偏光ビームスプリッタが挙げられる。これは量産性に富むため低価格ではあるが、高い偏光度は得られない、小型化も困難である、使用波長帯域が狭い、などの問題点があり、限られた用途にしか使用されていない。
【０００５】
他にも、最近になってフォトニック結晶のバンドギャップを利用したものが幾つか提案されている。（非特許文献１、非特許文献２、特許文献１）。
しかしながら、これらの偏光分離素子は、実際に工業的に作製する方法が見つかっていないものや、周期構造の作成が困難でありコスト高になるという欠点がある。さらに、フォトニック結晶のバンドギャップによって偏光を分離するように設計するので、反射させるべき偏光の反射率を１００％に設計することはできるが、反射させるべき偏光と透過させるべき偏光の反射率差をもっとも大きく設計することは困難であるという欠点がある。
【０００６】
【非特許文献１】浜野哲子、井筒雅之、平山秀樹，”２次元フォトニック結晶を用いた偏光子の可能性，”第５８回応物秋季予稿集，ｐａｐｅｒ２ａ−Ｗ−７，１９９７
【非特許文献２】佐藤晃，竹部雅博、”構造性複屈折による光学異方性多層膜，”Ｏｐｔｉｃｓ Ｊａｐａｎ ’９７，講演予稿集，ｐａｐｅｒ３０ｐＤ０１，１９９７
【特許文献１】特開２０００−５６１３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、このような従来の問題を解消し、作製が比較的容易で低コストであり、且つ薄型、軽量で分離帯域の広帯域化、斜め入射時での偏光分離も可能な偏光分離素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、屈折率が異なる２種類以上の透明体を積層して凹凸構造をすることにより、上記目的を達成しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
かくして本発明よれば、
（１）３次元の直交座標ｘ，ｙ，ｚにおいて、ｘ軸方向に周期が１μｍ以下の周期的な凹凸構造を有する偏光分離素子であって、
前記凹凸構造の凸部及び／又は１周期中の凸部を除いた部分が屈折率の異なる２種類以上の透明体の積層体からなり、ｙ軸方向には一様であるか、またはｘ軸方向より大きい長さの周期的若しくは非周期的な構造であることを特徴とする偏光分離素子、
（２）前記積層体の透明体が３種類以上であることを特徴とする（１）に記載の偏光分離素子、
（３）前記積層体が高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造であることを特徴とする（１）又は（２）に記載の偏光分離素子、
（４）前記凹凸構造が、表面に凹凸構造を有する透明基板上に透明体を積層したものである（１）〜（３）のいずれか１項に記載の偏光分離素子、
及び、
（５）前記積層体のｚ方向の厚さが非周期的であることを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の偏光分離素子、
がそれぞれ提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、薄型・軽量であり、比較的少ない層数で、偏光分離が可能な偏光分離素子を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の偏光分離素子は、３次元の直交座標ｘ，ｙ，ｚにおいて、ｘ軸方向に周期が１μｍ以下の周期的な凹凸構造を有する偏光分離素子であって、
前記凹凸構造の凸部及び／又は１周期中の凸部を除いた部分が屈折率の異なる２種類以上の透明体の積層体からなり、ｙ軸方向には一様であるか、またはｘ軸方向より大きい長さの周期的若しくは非周期的な構造であることを特徴とする。
【００１２】
以下、図面を参照しながら、本発明に係る実施の形態の偏光分離素子について説明する。本実施の形態の偏光分離素子は、例えば図１に示すように透明基板１上に凹凸構造を有し、各凸部が屈折率の異なる透明体２〜４の積層体であって、そのｚ軸方向の厚さが非周期であり、各凹部が大気（ｎ＝１）であって、且つｙ軸方向に一様な構造で構成されている。
このような構成は、その凹凸構造の周期が（使用する光波長）／（積層体を構成する媒質の屈折率の平均）以下では、一様な異方性媒質の積層体と同等とみなすことができ、一様な異方性媒質の積層体は偏光分離機能を有することとなる。以下にその理論的背景を説明する。
光の波長と同程度の微細な寸法間隔で異なる幅がｔ１で屈折率がｎ１である領域Ａと幅がｔ２で屈折率がｎ２である領域Ｂとが繰り返されるような媒質を光が伝搬する場合（図２参照）を考える。このとき光が感じる屈折率は、物質固有の屈折率（ｎ１およびｎ２）とは異なる有効屈折率となる。
図２において、例えば屈折率ｎ１の薄膜および屈折率ｎ２の薄膜が積層されたような一次元周期構造の場合、偏光方向が各薄膜に平行な方向の光の屈折率ｎＴＥ（ＴＥ波）と垂直な方向の光の屈折率ｎＴＭ（ＴＭ波）は、各々下記式（１）および（２）で表される（M. Born and E. Wolf, “Principles of Optics”, Pergamon Press, Oxford, 1980）。
式（１）  ｎＴＥ＝√{ｆｎ１２＋（１−ｆ）ｎ２２}
式（２）  ｎＴＭ＝√〔ｎ１２ｎ２２／{ｆｎ２２＋（１−ｆ）ｎ１２}〕
前記式（１）および（２）中、ｆは微細な周期構造の凸部の幅ｔ１と凹部（溝部）の幅ｔ２とのデューティ比であり、下記式（３）で表される。
式（３）  ｆ＝ｔ１／（ｔ１＋ｔ２）
図２のような一次元周期構造の場合、構造が異方性を持っているために有効屈折率も異方性を持つようになる。より一般的にいうと、等方性媒質に微細な異方性形状を作り込むことによって、一様な異方性媒質と同等な性質を付与することが可能となる。
前記式（１）、（２）は構造周期が光の波長に比べて非常に小さいという仮定のもとの近似式であり、より正確な有効屈折率の計算はEffective Medium Theory（ＥＭＴ）理論（A. Yariv and P. Yhe, “Optical Waves in Crystals”, John Wiley & Sons, New York, 1984）や数値計算を用いることにより可能となる。
【００１３】
以上の理由により、図１に示したような構造は屈折率の異なる透明体２〜４の各層に対して前記式（１）、（２）を適用することにより、異方性媒質の積層体と同等とみなすことができるようになる。
【００１４】
一方、誘電体薄膜の積層体の光学特性は各層の特性行列を求めることによって計算できることが知られている（例えば、中村正行、Excel VBAによる光学多層膜のシミュレーション技術と最適化設計、技術情報協会）。このことを利用して反射防止膜や波長フィルターなどが設計できることも一般に知られている技術である。そのことを応用すると、異方性誘電体薄膜の積層体は、ある偏光に対しては反射防止膜として、他方の偏光に対しては波長フィルターとして機能するように設計できる可能性を持つことが考えられる。つまりは偏光分離素子として設計できる可能性があるということである。
以上のことを踏まえると、図１に示したような構造は屈折率の異なる透明体２〜４の各層に対して前記式（１）、（２）を適用することにより、異方性媒質が３層積層された積層体と同等とみなすことができる。さらに各層の屈折率と膜厚、構造周期、デューティ比を最適化することにより、ある偏光に対しては反射防止膜として、他方の偏光に対しては波長フィルターとして機能する異方性膜の積層体と同等のものに設計できる。つまりは偏光分離素子として設計することができる。
【００１５】
実施の形態の偏光分離素子において、その各層の膜厚、デューティ比は、後述の設計例を用いて説明するように、指定した光の波長に対してTE波の反射率とTM波の反射率の差が最も大きくなるような最適解を探すシミュレーションをすることにより設計することができる。シミュレーション手法としては、前記式（１）と式（２）と多層膜の行列計算を組み合わせた計算により各偏光の反射率を計算し、設定した波長帯域においてTE波の反射率とTM波の反射率の差が最も大きくなると思われる解をＧＡ（遺伝的アルゴリズム）を用いて探索する手法を用いる。より正確な反射率の計算には前記式（１）と式（２）の代わりにEMT理論による有効屈折率の計算と多層膜の行列計算を組み合わせた計算を行う必要があり、さらに正確には光を電磁波として取り扱うベクトル回折理論を用いる必要がある。これらの手法は計算コストが非常に増加するが、精度が増加するという利点の他に、変更できるパラメーターが１つ増える（構造の周期）ので、より適切な設計をすることができ、より効果的な偏光分離素子が設計できる。
【００１６】
本発明で使用する透明体としては、透明基板、高屈折率層、及び低屈折率層が挙げられる。
透明基板に用いる材料として、透明材料であれば特に制限されず、具体的には、光学ガラスや透明プラスチックが挙げられる。
光学ガラスとしては、石英ガラス、ホウケイ酸塩系のクラウンガラス、鉛を含有するフント系ガラス、バリウムを含有するバリウム系ガラス、ランタン等の希土類元素を含有するランタン系ガラス、カルコゲンガラス等を挙げることができる。これらの中でも、石英ガラスが好適である。
透明プラスチックとしては、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系共重合体；ポリスチレン等のスチレン系重合体；ポリプロピレン、ポリ−４−メチルペンテン−１等の鎖状オレフィン系重合体；脂環式構造を有する重合体（脂環式構造含有重合体とも称される。）；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類；ポリカーボネート重合体；ポリエーテルサルフォン；ポリアミド；等を挙げることができる。これらの中でも、脂環式構造を有する重合体が好適である。
【００１７】
高屈折率層とは、使用する光線（波長３００〜１６００ｎｍ）を用いて測定される屈折率が低屈折率層よりも大きい層のことをいう。高屈折率層と低屈折率層との屈折率差は、通常０．０１以上、好ましくは０．０５以上、さらに好ましくは０．１以上である。
高屈折率層を構成する物質の具体例としては、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、酸化タンタル、酸化チタン、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化セリウム、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化ガドリニウム、酸化イットリウムなどから選ばれる無機化合物が挙げられる。
低屈折率層を構成する物質の具体例としては、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、酸化ケイ素などから選ばれる無機化合物が挙げられる。
高屈折率層及び低屈折率層の形成方法としては、特に制限されず、真空蒸着、スパッタリングやイオンプレーティングなどの物理気相析出（ＰＶＤ）法や化学気相析出（ＣＶＤ）法などが挙げられる。
【００１８】
本発明においては、凹凸構造のｘ軸方向の周期は１μｍ以下、好ましくは１μｍ〜２０ｎｍ、好ましくは７００ｎｍ〜２０ｎｍである。凹凸構造の周期が１μｍを大きく超えるようになると、凹凸構造は一様媒体とはみなされず、０次回折光以外の高次回折光が発現するようになる。逆に前記周期が２０ｎｍより小さくなると製造が困難になる。
【００１９】
本発明においては、積層体のｙ軸方向の構造は、ほぼ一様であるか、またはｘ軸方向より大きい長さの周期的若しくは非周期的である。積層体のｙ軸方向の構造が、一様でないか又はｘ軸方向と同じか小さい長さの周期的若しくは非周期的であると偏光分離性能が劣化するもしくは消失すると考えられる。
【００２０】
本発明においては、積層体のｚ方向における各層の厚さは、周期的でも非周期的でもよいが、非周期的である方が最適化できるパラメーターが増えることになるので、より適切な設計が可能になり、高性能、広帯域化、広入射角化が可能になるという点で好ましい。各層の厚さは、使用する光の波長以下の範囲である。
【００２１】
本発明においては、凹凸構造の断面（ｘｚ平面に平行な面）形状としては、特に制限されず、矩形、三角形、台形などが挙げられる。
【００２２】
本発明においては、前記積層体を構成する透明体が３種類以上であることが好ましい。積層数が増えれば最適化できるパラメーターが増えることになるので、より適切な設計が可能になり、高性能、広帯域化、広入射角化が可能になる。
【００２３】
本発明においては、前記積層体が高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造であることが好ましい。積層体がこのような構造であることにより、より高精度の偏光分離が可能となる。この場合、透明基板も高屈折率層又は低屈折率層と成りうる。
【００２４】
本発明においては、前記凹凸構造が、表面に凹凸構造を有する透明基板上に透明体を積層したものであることが好ましい。凹凸構造をこのようにすることにより、積層させる透明体の層数がより少ない数で高精度の偏光分離が可能であり低コスト化が可能となる。
【００２５】
本発明における微細な凸凹構造の実際の作製については半導体プロセスなどで広く用いられている光／電子線リソグラフィ技術とドライ／ウエットエッチング技術を用いることで容易に作成できる。
【実施例】
【００２６】
次に、本発明を設計例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
本設計例のシミュレーションにおいては、前述のシミュレーション手法を用いて、設定できる屈折率は１．４〜２．４の範囲で０．０１刻みに、各層の厚さは５〜７００ｎｍの範囲で５ｎｍ刻みに、デューティ比ｆは０．０１〜０．９９の範囲で０．０１刻みに、基板表面の凹凸形状の高さは各層の厚さの和＋０〜１０００ｎｍの範囲で５ｎｍ刻みに限定する。また、入射側の屈折率は１．０、出射側の屈折率は１．５に固定する（一般的な光学ガラスもしくは透明プラスチックを想定）。入射光は素子に対して垂直に入射する場合のみを考慮する。しかし、本発明は垂直入射に限られるものではなく、任意の入射角に対して偏光分離の効果が得られる。一般に入射角が付いた場合の光学薄膜の反射率・透過率特性は垂直入射の反射率・透過率特性が短波長側にシフトしたような形式になる（偏光によって差があるが）ことが知られている。つまり、反射帯域の広帯域化は広入射角化とほぼ同様の効果である。
【００２７】
今回の設計例に用いたシミュレーション手法については、近似や仮定が使われていることから、その結果の妥当性を検証する必要がある。そこで、参考例として、ベクトル回折理論の１つであるFDTD法（時間領域差分法）の市販コード（FullWAVE Version 3.0.3.，Rsoft Design Group, Inc.）を用いた結果と比較することで、今回のシミュレーション手法の妥当性を検証する。
【００２８】
（設計例１）
図３に示すような透明基板１−１（屈折率１．５、膜厚は波長に比べ、無限に厚いとする）、高屈折率の透明薄膜層１−２（屈折率２．４、膜厚＝３０５ｎｍ）とからなる凹凸構造（デューティ比ｆ＝０．８５、構造周期は波長に比べ、無限に小さいとする）を設計した。この凹凸構造の波長５５０ｎｍにおける反射率は、ＴＥ波が３１％、ＴＭ波が２．７％となり、偏光分離素子として利用することができることがわかる。
【００２９】
（設計例２）
図４に示すような透明基板２−１（屈折率１．５、膜厚は波長に比べ、無限に厚いとする）、低屈折率の透明薄膜層２−２（屈折率１．４、膜厚＝２９５ｎｍ）、高屈折率の透明薄膜層２−３（屈折率２．４、膜厚＝５２５ｎｍ）、低屈折率の透明薄膜層２−４（屈折率１．４、膜厚＝６９０ｎｍ）、高屈折率の透明薄膜層２−５（屈折率２．４、膜厚＝６４０ｎｍ）とからなる凹凸構造（デューティ比ｆ＝０．９６、構造周期は波長に比べ、無限に小さいとする）を設計した。この凹凸構造の波長５５０ｎｍにおける反射率は、ＴＥ波が７２％、ＴＭ波が０．２５％となり、偏光分離素子として利用することができることがわかる。
【００３０】
（設計例３）
設計例２において、低屈折率の透明薄膜層２−２の膜厚を１０５ｎｍ、高屈折率層２−３の膜厚を１９０ｎｍ、低屈折率の透明薄膜層２−４の膜厚を１００ｎｍ、高屈折率の透明薄膜層２−５の膜厚を１８５ｎｍとし、凹凸構造のデューティ比ｆを０．７９とした他は同様にして凹凸構造を設計した。この凹凸構造の波長５２５から５７５ｎｍにおける１０ｎｍ間隔の反射率を示したグラフを図５に示す。グラフにおいて実線はＴＭ波、破線はＴＥ波に対する反射率を示す。この図から、偏光分離素子として利用することができることがわかる。
【００３１】
（設計例４）
図６に示すような凹凸構造を有する透明基板３−１（屈折率１．５、膜厚は波長に比べ、無限に厚いとする、凸部の高さｄ０＝１５９０ｎｍ、構造周期は波長に比べ、無限に小さいとする）、高屈折率の透明薄膜層３−２（屈折率２．４、膜厚＝５９０ｎｍ）とからなる凹凸構造（デューティ比ｆ＝０．３７）を設計した。この凹凸構造の波長５５０ｎｍにおける反射率は、ＴＥ波が４７％、ＴＭ波が０．８５％となり、偏光分離素子として利用することができることがわかる。
【００３２】
（設計例５）
図７に示すような凹凸構造を有する透明基板４−１（屈折率１．５、膜厚は波長に比べ、無限に厚いとする、凸部の高さｄ０は１１０５ｎｍ、構造周期は波長に比べ、無限に小さいとする）、高屈折率の透明薄膜層４−２（屈折率２．４、膜厚＝４４０ｎｍ）、低屈折率の透明薄膜層４−３（屈折率１．４、膜厚１０５ｎｍ）、高屈折率の透明薄膜層４−４（屈折率は２．４、膜厚は４３５ｎｍ）とからなる凹凸構造（デューティ比ｆは０．３３）を設計した。この凹凸構造の波長５５０ｎｍにおける反射率は、ＴＥ波が８３％、ＴＭ波が０．３８％となり、偏光分離素子として利用することができることがわかる。
【００３３】
（設計例６）
設計例５において、凹凸構造を有する透明基板４−１の凸部の高さｄ０を４９０ｎｍ、高屈折率の透明薄膜層４−２の膜厚を２０５ｎｍ、低屈折率の透明薄膜層４−３の膜厚を１０５ｎｍ、及び高屈折率の透明薄膜層４−４の膜厚を７０ｎｍとし、凹凸構造のデューティ比ｆを０．６５とした他は同様にして凹凸構造を設計した。この凹凸構造の波長５２５から５７５ｎｍにおける１０ｎｍ間隔の反射率を示したグラフを図８に示す。グラフにおいて実線はＴＭ波、破線はＴＥ波に対する反射率を示す。この図から、偏光分離素子として利用することができることがわかる。
【００３４】
（参考例）
FDTD法（時間領域差分法）の市販コード（FullWAVE Version 3.0.3.，Rsoft Design Group, Inc.）を用いて図９に示すような凹凸構造を有する透明基板５−１（屈折率１．５、膜厚は波長に比べ、無限に厚いとする、凸部の高さｄ０は４４０ｎｍ、構造周期Ａは５０ｎｍ）、高屈折率の透明薄膜層５−２（屈折率３．０、膜厚＝５０ｎｍ）、低屈折率の透明薄膜層５−３（屈折率１．０７、膜厚１２０ｎｍ）、高屈折率の透明薄膜層５−４（屈折率は３．０、膜厚は１８０ｎｍ）とからなる凹凸構造（デューティ比ｆは０．６７）を設計した。この凹凸構造の波長５００から６００ｎｍにおける２０ｎｍ間隔の反射率を示したグラフを図１０に示す。グラフにおいて実線はＴＭ波、破線はＴＥ波に対する反射率を示す。この図から、偏光分離素子として利用することができる。またこれにより、本実施例におけるシミュレーション手法が妥当であることが証明された。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の偏光分離素子の一態様を示す概略図である。
【図２】二種類の等方性誘電体の平板を平行に張り合わせた１次元周期構造を示す図である。
【図３】本発明の偏光分離素子の他の態様を示す概略図である。
【図４】本発明の偏光分離素子の他の態様を示す概略図である。
【図５】設計例３における波長と反射率の関係を示すグラフである。
【図６】本発明の偏光分離素子の他の態様を示す概略図である。
【図７】本発明の偏光分離素子の他の態様を示す概略図である。
【図８】設計例６における波長と反射率の関係を示すグラフである。
【図９】本発明の偏光分離素子の他の態様を示す概略図である。
【図１０】参考例における波長と反射率の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００３６】
１・・・透明基板、２，３，４・・・透明体、１−１，２−１，３−１，４−１，５−１・・・透明基板、１−２，２−３，２−５，３−２，４−２，４−４，５−２，５−４・・・高屈折率の透明薄膜層、２−２，２−４，４−３，５−３・・・低屈折率の透明薄膜層、Ａ・・・屈折率がｎ１である領域、Ｂ・・・屈折率がｎ２である領域
【図１】
2005275092.tif 000002
【図２】
2005275092.tif 000003
【図３】
2005275092.tif 000004
【図４】
2005275092.tif 000005
【図５】
2005275092.tif 000006
【図６】
2005275092.tif 000007
【図７】
2005275092.tif 000008
【図８】
2005275092.tif 000009
【図９】
2005275092.tif 000010
【図１０】
2005275092.tif 000011