(57)【要約】【課題】ガラス基板の大きさを変えることなく大型サイズ化に対応したワーキングマスクの作製が出来、フォトレジストを作製する時の密着が短時間で終了し、位置合わせのピンを有する焼付け機への対応が可能なガラス乾板の提供。【解決手段】ガラス基板上にハロゲン化銀乳剤を塗布し形成された、少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真ガラス乾板において、該ガラス基板は少なくとも２つの孔を有し、該ハロゲン化銀乳剤は塗布面の少なくとも一方の端辺が、該孔を基準にして少なくとも一部が前記孔と接触する位置、または、前記孔の外側の位置に塗布されていることを特徴とするハロゲン化銀写真ガラス乾板。【選択図】        図１
2005003705.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板上にハロゲン化銀乳剤を塗布し形成された、少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真ガラス乾板において、該ガラス基板は少なくとも１つの孔を有し、該ハロゲン化銀乳剤層の塗布面の少なくとも一方の端辺が、該孔を基準にして少なくとも一部が前記孔と接触する位置、または、前記孔の外側の位置になる様に塗布し形成されていることを特徴とするハロゲン化銀写真ガラス乾板。
【請求項２】
少なくとも１つの孔が予め設けられたガラス基板上にハロゲン化銀乳剤を塗布し、少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を形成するハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法において、該孔に蓋をしてハロゲン化銀乳剤を塗布した後、該蓋を取り外すことを特徴とするハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載のハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法において、該孔に蓋をしてハロゲン化銀乳剤を塗布した後、該蓋を取り外すことを特徴とするハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法。
【請求項４】
前記蓋は弾性体であって、孔の直径に対して１００．５〜１０５％の直径と、ガラス基板の厚さに対して８０〜９９％の厚さとを有することを特徴とする請求項２又は３に記載のハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法。
【請求項５】
前記ハロゲン化銀乳剤層の塗布面の少なくとも一方の端辺は、孔を基準にして少なくとも一部が前記孔と接触する位置、または、前記孔の外側の位置に塗布することを特徴とする請求項２〜４の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、位置合わせピン付のレジスト焼付け装置を用いたレジスト焼き付けに好適なフォトマスク用のハロゲン化銀写真ガラス乾板及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトマスク用のハロゲン化銀写真ガラス乾板（以下、単にガラス乾板ともいう）とは、テレビのブラウン管に使用されるシャドウマスク、ＩＣ回路を組み込んだパッケイジのリードフレーム用マスク、液晶パネルに用いられている電極を書き込んだマスク及びワーキングマスク作製に用いる感光材料である。
【０００３】
これらガラス乾板は支持体として、寸法変動や膨張率が小さく、透過率が高いガラスが使用され、支持体の上に画像を形成する感光層が塗設され、ガラス基板の裏面は撮影時のハレーションを防止するためのバッキング層が塗設されている。感光層を形成する材料としては、写真感光材料に使用されている高解像力のハロゲン化銀乳剤を塗設したものが知られている。
【０００４】
リードフレームやシャドーマスクに製造工程は、まずレーザー光源やタングステン光源を使用するプロッターを用いて描画し、現像処理して得られたマスターマスクを密着返ししてワーキングマスクを先ず作製する。その後、ワーキングマスクを介してレジスト塗布した金属板にパターンを複写した後、エッチングしてフォトレジスト（必要なパターン部分が残留した金属板）を作製している。
【０００５】
近年、マスクパターンをワーキングマスクを介し、レジスト塗布した金属板に複写する際の焼付け機においては、その位置合わせを正確かつ、迅速に行なう為に、位置合わせのピンを有する機種が普及するようになってきた。これは、予め、ガラス乾板マスクに孔をあけ、ピンにその孔を通して、位置合わせ固定後、焼付け露光を金属板に行うものである。
【０００６】
レジスト塗布した金属板にパターンを複写する方式として、ワーキングマスクを密着して露光を行うコンタクト露光方式と、ワーキングマスクを密着させず露光を行うプロキシミティー露光方式とが知られている。
【０００７】
ガラス乾板マスクに位置合わせ用の孔（以下、単に孔ともいう。）をあけるのに、ガラス乾板を露光した後、現像をしてパターン形成をした後に、研削機を用いてマスク上に孔を設けていた。しかし、この方法では取扱い中にパターンに傷を付けてしまったり、研削時の削りかすがパターンを傷つけたりするため、時間を掛け、慎重に孔を設け、充分に清掃をして作製していたため非常に生産効率が低くなっていた。
【０００８】
これらの対策として、研削機を用いて予めガラス基板上の両側に２つの孔を設け、乳剤が孔にかからないように孔と孔の間に塗布を行う方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００９】
特許文献１に記載の技術では、研削機を用いて予めガラス基板上に孔を設け、洗浄後に孔と孔の間に乳剤が孔にかからないよう塗布を行っているため従来の問題点に対しては、対応が取られているので以下の対策に対しては不充分となっている。
【００１０】
１）レジスト塗布した金属板にワーキングマスクを密着させてコンタクト露光方式でフォトレジストを作製する際、ガラス基板に設けられた孔からガラス基板の端面には塗布膜が形成されていないため、必要とする密着度を得るのに時間がかかり作業性を悪くしている原因の一つになっている。
【００１１】
２）最近ではテレビも大型化が開発され、例えば３６インチ大型テレビは縦横比が９：２５の様に横長となっている。孔と孔との間にハロゲン化銀乳剤の塗布を行うため塗布面積が限られ、画面サイズが大きくするためにはガラス基板を大きくしなくてはならい。ガラス基板を大きくすることは、フォトレジストを作製する全ての機器を大型化しなければならず設備投資が必要となる。
【００１２】
３）プロキシミティー露光方式により作製するフォトレジストは画面サイズを少しでも大きくすることが最近要望されているのであるが孔により対応が取れなくなっている。例えば、孔部分を含めた部分まで塗布を行う場合、孔の周辺で塗布が乱れ膜が剥がれが生じたり、ピンホール故障の原因となる異物が発生してしまう問題が発生する危険がある。
【００１３】
この様な状況から、ガラス基板の大きさを変えることなく大型サイズ化に対応したワーキングマスクの作製が出来、フォトレジストを作製する時の密着が短時間で終了し、位置合わせのピンを有する焼付け機への対応が可能なガラス乾板の開発が望まれている。
【００１４】
【特許文献１】
特開２０００−３２１７１７号公報
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記状況に鑑み成されたものであり、その目的は、ガラス基板の大きさを変えることなく大型サイズ化に対応したワーキングマスクの作製が出来、フォトレジストを作製する時の密着が短時間で終了し、位置合わせのピンを有する焼付け機への対応が可能なガラス乾板を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。
【００１７】
１）ガラス基板上にハロゲン化銀乳剤を塗布し形成された、少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真ガラス乾板において、該ガラス基板は少なくとも１つの孔を有し、該ハロゲン化銀乳剤層の塗布面の少なくとも一方の端辺が、該孔を基準にして少なくとも一部が前記孔と接触する位置、または、前記孔の外側の位置になる様に塗布し形成されていることを特徴とするハロゲン化銀写真ガラス乾板。
【００１８】
２）少なくとも１つの孔が予め設けられたガラス基板上にハロゲン化銀乳剤を塗布し、少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を形成するハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法において、該孔に蓋をしてハロゲン化銀乳剤を塗布した後、該蓋を取り外すことを特徴とするハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法。
【００１９】
３）１）に記載のハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法において、該孔に蓋をしてハロゲン化銀乳剤を塗布した後、該蓋を取り外すことを特徴とするハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法。
【００２０】
４）前記蓋は弾性体であって、孔の直径に対して１００．５〜１０５％の直径と、ガラス基板の厚さに対して８０〜９９％の厚さとを有することを特徴とする２）又は３）に記載のハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法。
【００２１】
５）前記ハロゲン化銀乳剤層の塗布面の少なくとも一方の端辺は、孔を基準にして少なくとも一部が前記孔と接触する位置、または、前記孔の外側の位置に塗布することを特徴とする２）〜４）の何れか１項に記載のハロゲン化銀写真ガラス乾板の製造方法。
【００２２】
尚、本願発明において、孔の数は２つが好ましい。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図１、図２参照して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２４】
図１はガラス基板上に設けられた孔と塗布面の端辺との位置関係を示す概略図である。図１の（ａ）は２つの孔の間に塗布面の端辺が接触しない状態に塗布された場合を示す概略図である。図１の（ｂ）は２つの孔の周辺に塗布面の端辺が接触する状態に塗布された場合を示す概略図である。図１の（ｃ）は２つの孔の中央部まで、塗布面の端辺が塗布された場合を示す概略図である。図１の（ｄ）は塗布面の端辺が２つの孔の外側になる状態に塗布された場合を示す概略図である。図１の（ｅ）は２つの孔が上下となるようにガラス基板の向きを変えて塗布した場合を示す概略図である。図１の（ｆ）は塗布面の一方の端辺が孔の外側にあり、他の一方の端辺が孔と接触しない状態に塗布された場合を示す概略図である。
【００２５】
図中、１はガラス乾板を示す。１０１はガラス基板を示し、１０２はガラス基板１０１上に塗布されたハロゲン化銀乳剤の塗布面を示し、１０２ａ、１０２ｂは塗布面１０２の端辺を示す。１０３ａはガラス基板１０１上に予め設けられたレジスト焼き付け機への取り付け用の孔を示し、孔は位置ずれを防ぐ為に少なくとも２つ設ける必要がある。本図では孔１０３ａと対向する位置に孔１０３ｂが設けられている。孔の位置はレジスト焼き付け機のマスク取り付け用ピンの位置に合わせ適宜変更することが可能である。図中の矢印は塗布方向を示す。孔の直径は、取り扱い作業性と位置合わせ精度の点で、使用されるレジスト焼き付け機のマスク取り付け用ピン先端部の径に対して＋０．２〜＋０．４ｍｍが好ましく、形状としては円形が最も好ましい。
【００２６】
図１の（ａ）で示されるガラス乾板の場合は、孔１０３ａ、１０３ｂの間に塗布がなされ、塗布面１０２の両端辺１０２ａ、１０２ｂが孔１０３ａ、１０３ｂに接触しない状態で塗布されている。従来のガラス乾板の場合を示している。図１の（ｂ）で示されるガラス乾板の場合は、孔１０３ａ、１０３ｂの一部に塗布面１０２の両端辺１０２ａ、１０２ｂが接触する状態で塗布されている。図１の（ｃ）で示されるガラス乾板の場合は、塗布面１０２の両端辺１０２ａ、１０２ｂが孔１０３ａ、１０３ｂの中央部に掛かる状態に塗布されている。図１の（ｄ）で示されるガラス乾板の場合は、塗布面１０２の両端辺１０２ａ、１０２ｂが孔１０３ａ、１０３ｂの外側になる状態に塗布されている。図１の（ｅ）で示されるガラス乾板の場合は、孔１０３ａ、１０３ｂの位置が上下になるようにガラス基板の向きを変えた状態で塗布されている。図１の（ｆ）で示されるガラス乾板の場合は、塗布面の一方の端辺１０２ｂが孔１０３ｂの外側にあり、他の一方の端辺１０２ａが孔１０３ａと接触しない状態で塗布されている。本図において図１の（ｂ）〜（ｆ）に示されるガラス乾板が本発明のガラス乾板に該当する。
【００２７】
図２は図１の（ｄ）で示されるガラス乾板の製造の概略フロー図である。
図中、１０４はハロゲン化銀乳剤をガラス基板１０１上に塗布する際、孔１０３ａ、１０３ｂを塞ぐ蓋を示す。
【００２８】
Ｓ１では、塗布する前のガラス基板が用意される。使用されるガラス基板はガラス組成に関して特に制限はないが、ソーダ石灰ガラスやソーダ石灰アルミガラスなどが好ましく、平面性の点から、フロート法で製造するものが好ましい。ガラス基板はあらかじめ洗浄などで脱グリースされている方が好ましい。また、基板の端面は研磨されていることが好ましい。
【００２９】
Ｓ２では、ガラス基板上にレジスト焼き付け機のマスク取り付け用ピンの位置に合わせ２つの孔１０３ａ、１０３ｂが空けられる。ガラス基板上に孔を設ける方法としては任意であるが、ドリル、回転型研削機、グラインダーなどを用いることが出来る。この時、異物の付着や熱の発生を抑える為、流水下もしくは機械油などの不活性溶媒下で研削するのが好ましい。
【００３０】
孔の端面は、安全上および強度上、幅で０．２〜２ｍｍ程度の面取りをする方が好ましい。面取りは、孔のエッジ先端に対し、好ましくは４５度方向の面であるが、直線状の面であっても複合面または曲面であってもかまわない。
【００３１】
孔を空けた後、ガラス基板は表面に付着している研削くず、異物を除去するために洗浄が行われる。
【００３２】
ガラス基板の洗浄はブラシ等で物理的に摩擦する方法や、アルカリ溶液に浸漬する化学処理が良いが、併用することもできる。ガラス基板の洗浄は孔を設けた後の乳剤塗布前までに実施するのが好ましいが、孔を設ける前にも合せて行なってもよい。
【００３３】
Ｓ３では、２つの孔１０３ａ、１０３ｂに蓋１０４がガラス基板の平面と同一平面になるように嵌め込められる。孔に蓋をガラス基板の平面と同一平面になるように孔の周面と密着し嵌め込むことで、塗布に際して孔による塗布の乱れがなくなり均一な安定した塗布が可能となる。又、従来は孔により塗布の幅が規制されていたため、大型サイズ化の対応が取ることが困難であったが孔に蓋をすることでガラス基板の幅一杯に塗布が可能となる。蓋は弾性体であって、ＪＩＳ−６３０１に準じてタイプＣ硬度計で測定したゴム硬度が２０〜９０度であることが好ましい。蓋の組成は特に限定はないが、シリコンゴム、ネオプレンゴム、天然ゴムなどのゴム類や発泡ポリウレタン、発泡ポリエチレン等のポリマー素材が挙げられる。
【００３４】
蓋の大きさは孔の直径に対して１００．５〜１０５％の直径と、ガラス基板の厚さに対して８０〜９９％の厚さとを有していることが好ましく、特に孔の直径に対して１０２〜１０４％の直径と、ガラス基板の厚さに対して９０〜９４％の厚さとを有していることが好ましい。
【００３５】
蓋の大きさが孔の直径に対して１００．５％未満の場合は、取り扱いによっては孔から落下し、塗布幅によっては塗布ムラが発生する場合がある。１０５％を越えた場合は、蓋の材質によっては、孔にはめ込んだ時に蓋の表面が盛り上がり使用する塗布液によっては塗布ムラが発生する場合がある。
【００３６】
蓋の厚さがガラス基板の厚さに対してガラス基板の厚さに対して８０％未満の場合は、蓋の直径と使用する材質によっては、孔を塞ぐことが出来なくなり、使用する塗布液によっては塗布ムラが発生する場合がある。９９％を越えた場合は、蓋の直径と使用する材質によってはガラス基板の表面から飛び出し、使用する塗布液によっては塗布ムラが発生する場合がある。
【００３７】
Ｓ４では、２つの孔１０３ａ、１０３ｂに蓋１０４がはめ込まれたガラス基板１０１上にハロゲン化銀乳剤がガラス基板の幅一杯に塗布され、ハロゲン化銀乳剤層（感光層）が形成される。この後、非感光性コロイド層（保護層）を塗設してもよい。尚、非感光性コロイド層（保護層）を塗設する場合は、ハロゲン化銀乳剤層（感光層）が形成された後でも良いし、同時に塗設してもかまわない。又、ハロゲン化銀乳剤層とは反対側にバッキング層が塗布される。ハロゲン化銀乳剤の塗布幅は可能な限り広く、未塗布部分の幅が狭い方が好ましい。
【００３８】
Ｓ５では、塗布されたハロゲン化銀乳剤層、非感光性コロイド層（保護層）及びバッキング層が乾燥された後、蓋１０４が２つの孔１０３ａ、１０３ｂから取り外され、図１の（ｄ）で示されるガラス乾板が作製される。尚、蓋１０４を外すタイミングとしては特に制約はないが、塗布後から露光までの間が好ましい。蓋１０４を外す方法は、ハロゲン化銀乳剤層側から蓋の部分を押すことで外すことが好ましい。勿論、バッキング層側から押して外してもかまわない。
【００３９】
Ｓ１〜Ｓ５に示す手順で図１の（ａ）、（ｂ）に示すガラス乾板の作製も可能である。本発明の製造方法により作製されたガラス乾板による効果としては次の事項が挙げられる。
【００４０】
１）位置合わせのピンを有する焼付け機への対応がとれ、且つガラス基板の大きさを変えることなく大型サイズ化（例えば、縦横が９：２５で３６インチのブラウン管テレビ、プラズマディスプレイのテレビ）に対応したワーキングマスクの作製が可能となった。
【００４１】
２）塗布面積が広がり、フォトレジストを作製する時の密着が短時間で終了し作業効率の向上が可能となった。
【００４２】
３）プロキシミティー露光方式に使用するガラス乾板の対応が容易になり、画面サイズが大きいフォトマスクの提供が可能となった。
【００４３】
本発明で使用される、ハロゲン化銀乳剤、非感光性コロイド層およびバッキング層は任意であり、特開平３−２５３８４４、特開平４−２４２２４０、特開平７−２１９１１６、特願平９−３１９４０、特願２００１−４６３９５、特願２００１−３０８５８４等に記載されているもの等を挙げることができる。
【００４４】
本発明のハロゲン化銀乳剤には当業界公知の各種技術、添加剤等を用いることができる。例えば、本発明で用いるハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層には、各種の化学増感剤、色調剤、硬膜剤、界面活性剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現像抑制剤、紫外線吸収剤、イラジェーション防止剤染料、重金属、マット剤等を各種の方法で更に含有させることができる。又、本発明ハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層中にはポリマーラテックスを含有させることができる。
【００４５】
これらの添加剤は、より詳しくは、リサーチディスクロージャ第１７６巻Ｉｔｅｍ／７６４３（１９７８年１２月）及び同１８７巻Ｉｔｅｍ／８７１６（１９７９年１１月）に記載されており、その該当個所を下記にまとめて示した。
【００４６】
2005003705.tif 000003
本発明の乾板の現像処理は公知の方法を用いることが出来る。例えば、特開平３−２５３８４４、特開平４−２４２２４０、特開平７−２１９１１６、特願平９−３１９４０、特願２００１−３０８５８４等に記載されている方法を挙げることができる。
【００４７】
【実施例】
以下に、本発明の効果を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４８】
実施例１
（ガラス基板の準備）
市販の９１０ｍｍ（幅）×７１４ｍｍ（長さ）×４．９ｍｍ（厚さ）のフロートガラスの各辺を１ｍｍ、各コーナーに１０ｍｍの面取りを施した後、図２に示す様に、ガラス基板の両側に２７ｍｍφの真円をダイヤモンドホルソーで開け、孔の周辺部に１ｍｍの面取りを施した。この後、純水中でブラシによりガラス基板の両面の洗浄を行なった。
【００４９】
（乳剤の調製）
４０℃に保温されたゼラチン及び塩化ナトリウムを含む溶液Ａ中に硝酸を加え、ｐＨ３．０とし、ｐＡｇ６．５に保ちながら、Ｂ及びＣを同時に関数的に８分間にわたって加え、更に１０分撹拌した。この後、炭酸ナトリウム水溶液でｐＨを５．６に調整し、ゼラチンを２．３ｇと２０％硫酸マグネシウム水溶液１４０ｍｌ及びポリナフタレンスルホン酸の５％水溶液２００ｍｌを加え、乳剤を４０℃にてフロキュレート化し、デカンテーションを行い水洗して過剰の水溶液中の塩を除去した。次いでそれに１３００ｍｌの水を加えて分散させ、再び２０％の硫酸マグネシウム水溶液５０ｍｌを加えて同様に過剰の水溶液中の塩を除去する。更にそれに１３００ｍｌの水を加えて分散させ、再び２０％の硫酸マグネシウム水溶液４０ｍｌを加えて同様に過剰の水溶液中の塩を除去する。それに２００ｍｌの水とゼラチン１６．７ｇを加えて、６０℃で６０分間分散させ、塩化銀１００モル％、平均粒径０．０９μｍ単分散度９の立方体粒子を有する乳剤を得た。
【００５０】
得られた乳剤を６０℃に保ち、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンの１％水溶液３．５ｍｌ加え、２０分後、チオ硫酸ナトリウムの０．５％溶液を７．５ｍｌ加え、５８℃で６０分間熟成し、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン１．７ｇとゼラチンを５５ｇ加え、４５℃に冷却し、熟成を終了した。
【００５１】
2005003705.tif 000004
（乳剤塗布液の調製）
熟成後の乳剤に下記量となるように添加剤を加えた後、水を加えて２０００ｍｌとし乳剤塗布液を調製した。
【００５２】
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール        ６００ｍｇ／Ａｇモル
化合物Ｚ−１                                    ８００ｍｇ／Ａｇモル
化合物Ｚ−２                                    ８００ｍｇ／Ａｇモル
染料Ｆ−１                                              ５０ｍｇ／ｍ２
染料Ｆ−２                                            １００ｍｇ／ｍ２
硬膜剤Ｈ−１                                            ３０ｍｇ／ｍ２
シランカップリング剤Ｈ−２                            ２５０ｍｇ／ｍ２
コロイダルシリカ（平均粒径０．００５μｍ）            ２５０ｍｇ／ｍ２
平均粒径３μｍのＰＭＭＡマット剤                        ６０ｍｇ／ｍ２
【００５３】
【化１】
2005003705.tif 000005
【００５４】
（バッキング層塗布液の調製）
下記組成の溶液を調製した。
【００５５】
化合物（Ｐ）                                                ４０ｇ
染料（Ｆ−３）                                                ５ｇ
エタノール                                              ４５０ｍｌ
メタノール                                              ４５０ｍｌ
【００５６】
【化２】
2005003705.tif 000006
【００５７】
〈ガラス乾板の作製〉
（バッキング層の塗布）
準備したガラス基板上にバッキング層塗布液を流量８ｍｌ／ｍｉｎ、塗布幅８８０ｍｍとなるようにフェルト塗布方式で塗布しバッキング層を設けた。
【００５８】
（乳剤層の塗布）
バッキング層を塗布したガラス基板の孔に蓋を嵌め込んだ後、反対側に図１の（ｂ）〜（ｆ）に示す塗布パターンになるように乳剤塗布液をカーテンコーターで塗布し感光層を形成した後、４５℃で２分間乾燥しガラス乾板を各１０枚作製し１−１〜１−１０とした。孔に蓋をしない他は全て同じ条件で塗布を行いガラス乾板を比較として各１０枚作製し１−１１〜１−１５とした。又、孔に蓋をしない状態で図１の（ａ）示す塗布パターンになるようにした他は全て同じ条件で塗布を行いガラス乾板を比較として１０枚作製し１−１６とした。
【００５９】
乳剤塗布液はＡｇ量が３．５ｇ／ｍ２になるように塗布した。
尚、使用した蓋は孔の直径に対して３％大きく、ガラス基板の厚さに対し９０％の厚さのゴム硬度５０度のシリコンゴム（Ａ）製、ゴム硬度６０度のネオプレンゴム（Ｂ）製を使用した。尚、ゴム硬度はＪＩＳ−６３０１に準じてタイプＣ硬度計を使用して測定した値である。
【００６０】
【表１】
2005003705.tif 000007
【００６１】
（ワーキングマスクの作製）
得られた各ガラス乾板１−１〜１−１６に孔径１００μｍのシャドーマスクパターンと、位置合わせ用アライメントマークを有するマスターマスクを原画とし、位置合わせのピンを有する焼付け機を用いて各試料に３６５ｎｍ、強度４．０ｍＪ／ｃｍ２のコンタクト露光方式による露光を行なった後、現像処理しワーキングマスクを作製し試料１０１〜１１６とした。
【００６２】
尚、現像処理は下記に示す条件で皿現像にて行なった。
現像  コニカ（株）製    ＤＥ−１００  ２０℃  １８０ｓｅｃ
停止    ３％  酢酸溶液    常温  １０秒
定着  コニカ（株）製    ＣＦＬ−８８１  常温  １８０ｓｅｃ
水洗  流水（イオン交換水）  常温  １５分
（評価）
得られた各試料１０１〜１１６につき、コンタクト露光方式による露光に要した密着時間、ワーキングマスク中の異物付着およびピンホールの個数に付き評価した結果を表２に示す
尚、各評価項目は次の方法により評価を行った。
【００６３】
密着時間
ワーキングマスク作製時のコンタクト露光方式による露光において、吸引密着開始からニュートンリングがパターン内から消えるまでの時間を密着時間としてストップウォッチで計測した。
【００６４】
異物付着及びピンホール
各試料１０枚につき、光学顕微鏡（倍率１００倍）を使用し、５０μｍ以上の異物およびピンホールについて観察し、１枚あたりの発生個数に換算した。
【００６５】
【表２】
2005003705.tif 000008
【００６６】
本発明の試料１０１〜１１０は、比較試料１１１、１１２、１１６に比べ、いずれも有効塗布面積が広く大型サイズ化に対応したワーキングマスクの作製に対応が取れるガラス乾板の作製が可能となった。又、ワーキングマスクを作製するに当たり密着時間が短く、生産効率に優れることがわかる。また異物付着個数、ピンホール個数の何れにおいても少なく、優れていることが確認された。尚、比較試料１１３〜１１５は塗布の乱れにより密着が出来ず、撮影が不良となり評価が出来なかった。
【００６７】
実施例２
実施例１のガラス乾板１−３を作製するときに表３に示す様に蓋の大きさ、厚さ変えた他は全て実施例１と同じ条件でガラス乾板を作製し２−１〜２−９とした。尚、蓋の大きさは孔の直径に対する比率（％）を示し、厚さはガラス乾板に対する薄さ（％）を示す。蓋には実施例１と同じシリコンゴムを使用した。
【００６８】
【表３】
2005003705.tif 000009
【００６９】
（ワーキングマスクの作製）
得られた各ガラス乾板２−１〜２−９に、実施例１と同じ方法、同じ条件で露光及び現像処理を行い、ワーキングマスクを作製し試料２０１〜２０９とした。
【００７０】
（評価）
得られた各試料２０１〜２０９につき、コンタクト露光方式による露光に要した密着時間、ワーキングマスク中の異物付着およびピンホールの個数に付き実施例１と同じ方法で評価を行った結果を表４に示す。
【００７１】
【表４】
2005003705.tif 000010
【００７２】
孔に蓋をして塗布することで有効塗布面積が広く、且つ異物付着個数、ピンホール個数の何れにおいても少なく品質に問題がないガラス乾板が得られることを確認した。又、ワーキングマスクを作製するに当たり密着時間が短く、生産効率に優れることが確認され、本発明の有効性が確認された。
【００７３】
【発明の効果】
ガラス基板の大きさを変えることなく大型サイズ化に対応したワーキングマスクの作製が出来、フォトレジストを作製する時の密着が短時間で終了し、位置合わせのピンを有する焼付け機への対応が可能なガラス乾板を提供することができ、作業効率の向上及び大型サイズ化に対応したワーキングマスクの供給が容易になった。
【図面の簡単な説明】
【図１】ガラス基板上に設けられた孔と塗布面の端辺との位置関係を示す概略図である。
【図２】図１の（ｄ）で示されるガラス乾板の製造の概略フロー図である。
【符号の説明】
１  ガラス乾板
１０１  ガラス基板
１０２  塗布面
１０２ａ、１０２ｂ  端辺
１０３ａ、１０３ｂ  孔
１０４  蓋
【図１】
2005003705.tif 000011
【図２】
2005003705.tif 000012