(57)【要約】【課題】最表層の反射防止層の反射防止機能に優れ（外光反射の低減、反射色低減）、更には防汚性にも優れた高視認性の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルを提供する。【解決手段】最表層の反射防止層の低屈折率層が、中空のシリカ微粒子と、多官能（メタ）アクリル系化合物と、光重合開始剤とを含む塗膜を光硬化させてなる低屈折率層５４である電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネル。【選択図】図１
2005181546.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも電磁波シールド層と透明基板と、最表層の反射防止層とを積層一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材において、
該反射防止層は、高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた低屈折率層とを備え、
該低屈折率層が、
中空のシリカ微粒子（以下「ポーラスシリカ」と称す。）と、
多官能（メタ）アクリル系化合物と、
光重合開始剤と
を含む塗膜を光硬化させてなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項２】
請求項１において、該多官能（メタ）アクリル系化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される６官能（メタ）アクリル系化合物及び／又は下記一般式（II）で表される４官能（メタ）アクリル系化合物を主成分とすることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【化１】
2005181546.tif 000011
（上記一般式（Ｉ）中、Ａ１〜Ａ６は各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、
ｎ，ｍ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒは各々独立に、０〜２の整数を表し、
Ｒ１〜Ｒ６は各々独立に、炭素数１〜３のアルキレン基、或いは、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜３のフルオロアルキレン基を表す。）
【化２】
2005181546.tif 000012
（上記一般式（II）中、Ａ１１〜Ａ１４は各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、
ｓ，ｔ，ｕ，ｖは各々独立に、０〜２の整数を表し、
Ｒ１１〜Ｒ１４は各々独立に、炭素数１〜３のアルキレン基、或いは、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜３のフルオロアルキレン基を表す。）
【請求項３】
請求項２において、該多官能（メタ）アクリル系化合物は、更に下記一般式(III)で表されるフッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物を含み、全多官能（メタ）アクリル系化合物中の該フッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物の割合が５重量％以上であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
Ａａ−Ｏ−（ＣＨ２）ｘａ−Ｒｆ−（ＣＨ２）ｘｂ−Ｏ−Ａｂ    ……(III)
（上記一般式(III)中、Ａａ，Ａｂは各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、Ｒｆはパーフルオロアルキレン基を表し、ｘａ，ｘｂは各々独立に、０〜３の整数を表す。）
【請求項４】
請求項２又は３において、該多官能（メタ）アクリル系化合物は、更に、１分子中にフッ素原子を６個以上有し、分子量が１０００以下の３〜６官能の（メタ）アクリル系化合物、及び、１分子量にフッ素原子を１０個以上有し、分子量が１０００〜５０００の６〜１５官能の（メタ）アクリル系化合物よりなる群から選ばれる１種又は２種以上のフッ素含有多官能（メタ）アクリル系化合物を含み、全多官能（メタ）アクリル系化合物中の該フッ素含有多官能（メタ）アクリル系化合物の割合が５重量％以上であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、前記ポーラスシリカが、下記一般式(IV)で表される末端（メタ）アクリルシランカップリング剤と、１００〜１５０℃における水熱反応により、或いはマイクロ波照射下での反応により、表面が末端（メタ）アクリル変性された（メタ）アクリル変性ポーラスシリカであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【化３】
2005181546.tif 000013
（上記一般式(IV)中、Ｒ２１は水素原子、フッ素原子又はメチル基を表し、
Ｒ２２は炭素数１〜８のアルキレン基、又は、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜８のフルオロアルキレン基を表し、
Ｒ２３〜Ｒ２５は各々独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【請求項６】
請求項１ないし４のいずれか１項において、前記ポーラスシリカが下記一般式（Ｖ）で表される末端フルオロアルキルシランカップリング剤と、１００〜１５０℃における水熱反応により、或いは、マイクロ波照射下での反応により表面が末端フルオロアルキル変性されたフルオロアルキル変性ポーラスシリカであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【化４】
2005181546.tif 000014
（上記一般式（Ｖ）中、Ｒ３１〜Ｒ３３は各々独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｙａは１〜８の整数を表し、ｙｂは１〜３の整数を表す。）
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項において、前記高屈折率層が高屈折率微粒子と芳香族基を有するバインダー成分とを含むことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項において、前記反射防止層が前記透明基板上に直接形成されていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項９】
請求項１ないし７のいずれか１項において、前記反射防止層は、最表面に貼着された反射防止フィルムであり、該反射防止フィルムは、透明基材フィルム上にハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で積層してなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか１項において、発光色のうち、赤が弱い発光パネルの前面に設けられる電磁波シールド性光透過窓材であって、前記高屈折率層又は低屈折率層の膜厚を厚くすることにより、該電磁波シールド性光透過窓材の最小反射率の波長を長波長側へシフトさせ、該最小反射率の波長を赤色光の波長に合わせることにより赤の透過率を向上させてなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項１１】
請求項１ないし９のいずれか１項において、発光色のうち、青が弱い発光パネルの前面に設けられる電磁波シールド性光透過窓材であって、前記高屈折率層又は低屈折率層の膜厚を薄くすることにより、該電磁波シールド性光透過窓材の最小反射率の波長を短波長側へシフトさせ、該最小反射率の波長を青色光の波長に合わせることにより青の透過率を向上させてなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項１２】
発光パネル本体と、該発光パネル本体の前面に配置された電磁波シールド層と、最表層の反射防止層とを積層一体化してなるガス放電型発光パネルにおいて、
該反射防止層は、高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた低屈折率層とを備え、
該低屈折率層が、
中空のシリカ微粒子（以下「ポーラスシリカ」と称す。）と、
多官能（メタ）アクリル系化合物と、
光重合開始剤と
を含む塗膜を光硬化させてなることを特徴とするガス放電型発光パネル。
【請求項１３】
請求項１２において、該多官能（メタ）アクリル系化合物が、下記一般式（Ｉ）で表される６官能（メタ）アクリル系化合物及び／又は下記一般式（II）で表される４官能（メタ）アクリル系化合物を主成分とすることを特徴とするガス放電型発光パネル。
【化５】
2005181546.tif 000015
（上記一般式（Ｉ）中、Ａ１〜Ａ６は各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、
ｎ，ｍ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒは各々独立に、０〜２の整数を表し、
Ｒ１〜Ｒ６は各々独立に、炭素数１〜３のアルキレン基、或いは、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜３のフルオロアルキレン基を表す。）
【化６】
2005181546.tif 000016
（上記一般式（II）中、Ａ１１〜Ａ１４は各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、
ｓ，ｔ，ｕ，ｖは各々独立に、０〜２の整数を表し、
Ｒ１１〜Ｒ１４は各々独立に、炭素数１〜３のアルキレン基、或いは、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜３のフルオロアルキレン基を表す。）
【請求項１４】
請求項１３において、該多官能（メタ）アクリル系化合物は、更に下記一般式(III)で表されるフッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物を含み、全多官能（メタ）アクリル系化合物中の該フッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物の割合が５重量％以上であることを特徴とするガス放電型発光パネル。
Ａａ−Ｏ−（ＣＨ２）ｘａ−Ｒｆ−（ＣＨ２）ｘｂ−Ｏ−Ａｂ    ……(III)
（上記一般式(III)中、Ａａ，Ａｂは各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、Ｒｆはパーフルオロアルキレン基を表し、ｘａ，ｘｂは各々独立に、０〜３の整数を表す。）
【請求項１５】
請求項１３又は１４において、該多官能（メタ）アクリル系化合物は、更に、１分子中にフッ素原子を６個以上有し、分子量が１０００以下の３〜６官能の（メタ）アクリル系化合物、及び、１分子量にフッ素原子を１０個以上有し、分子量が１０００〜５０００の６〜１５官能の（メタ）アクリル系化合物よりなる群から選ばれる１種又は２種以上のフッ素含有多官能（メタ）アクリル系化合物を含み、全多官能（メタ）アクリル系化合物中の該フッ素含有多官能（メタ）アクリル系化合物の割合が５重量％以上であることを特徴とするガス放電型発光パネル。
【請求項１６】
請求項１２ないし１５のいずれか１項において、前記ポーラスシリカが、下記一般式(IV)で表される末端（メタ）アクリルシランカップリング剤と、１００〜１５０℃における水熱反応により、或いはマイクロ波照射下での反応により、表面が末端（メタ）アクリル変性された（メタ）アクリル変性ポーラスシリカであることを特徴とするガス放電型発光パネル。
【化７】
2005181546.tif 000017
（上記一般式(IV)中、Ｒ２１は水素原子、フッ素原子又はメチル基を表し、
Ｒ２２は炭素数１〜８のアルキレン基、又は、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜８のフルオロアルキレン基を表し、
Ｒ２３〜Ｒ２５は各々独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【請求項１７】
請求項１２ないし１５のいずれか１項において、前記ポーラスシリカが下記一般式（Ｖ）で表される末端フルオロアルキルシランカップリング剤と、１００〜１５０℃における水熱反応により、或いは、マイクロ波照射下での反応により表面が末端フルオロアルキル変性されたフルオロアルキル変性ポーラスシリカであることを特徴とするガス放電型発光パネル。
【化８】
2005181546.tif 000018
（上記一般式（Ｖ）中、Ｒ３１〜Ｒ３３は各々独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｙａは１〜８の整数を表し、ｙｂは１〜３の整数を表す。）
【請求項１８】
請求項１２ないし１７のいずれか１項において、前記高屈折率層が高屈折率微粒子と芳香族基を有するバインダー成分とを含むことを特徴とするガス放電型発光パネル。
【請求項１９】
請求項１２ないし１８のいずれか１項において、前記発光パネル本体の前面側に透明基板が設けられており、前記反射防止層が該透明基板上に直接形成されていることを特徴とするガス放電型発光パネル。
【請求項２０】
請求項１２ないし１８のいずれか１項において、前記反射防止層は、最表面に貼着された反射防止フィルムであり、該反射防止フィルムは、透明基材フィルム上にハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で積層してなることを特徴とするガス放電型発光パネル。
【請求項２１】
請求項１２ないし２０のいずれか１項において、該発光パネル本体は発光色のうち、赤が弱い発光パネル本体であり、前記高屈折率層又は低屈折率層の膜厚を厚くすることにより、該反射防止層の最小反射率の波長を長波長側へシフトさせ、該最小反射率の波長を赤色光の波長に合わせることにより赤の透過率を向上させてなることを特徴とするガス放電型発光パネル。
【請求項２２】
請求項１２ないし２０のいずれか１項において、該発光パネル本体は発光色のうち青が弱い発光パネル本体であり、前記高屈折率層又は低屈折率層の膜厚を薄くすることにより、該反射防止層の最小反射率の波長を短波長側へシフトさせ、該最小反射率の波長を青色光の波長に合わせることにより青の透過率を向上させてなることを特徴とするガス放電型発光パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルに係り、特に、最表面に、反射防止性能に優れた塗工型反射防止層が形成された電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）には、電磁波カット、近赤外線カット、ネオンカット等の目的のために電磁波シールド光透過窓材（ＰＤＰ前面フィルタ）が用いられている。また、視認性向上を目的としたガス放電パネル直貼りタイプの開発も進んでいる。いずれのものも、外光反射を低減させるために表面に反射防止機能が付与されている。
【０００３】
図２（ａ）は、特開２００２−３４１７７９で提案されている電磁波シールド性光透過窓材１を示す断面図であり、この電磁波シールド性光透過窓材１は、最表層の反射防止フィルム３、電磁波シールド性フィルムとしての銅／ＰＥＴ積層エッチングフィルム１０、透明基板２及び最裏層の近赤外線カットフィルム５を、接着剤となる接着用中間膜４Ａ、透明粘着剤４Ｂ及び粘着剤４Ｃを用いて積層一体化し、この積層体の端面とそれに近接する表裏の縁部とに導電性粘着テープ７を付着させて一体化したものである。なお、電磁波シールド性フィルム１０は、透明基板２とほぼ同等の大きさであり、その縁部に一方の面から他方の面に回り込むように導電性粘着テープ８が付着されている。
【０００４】
３Ａは透明基材フィルム、３Ｂは反射防止層であり、通常、ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層が、透明基材フィルム上にこの順で積層されて構成される。５Ａは透明基材フィルム、５Ｂは近赤外線吸収層である。８Ａ，７Ａは金属箔、８Ｂ，７Ｂは粘着層である。１１は銅箔、１２は光吸収層、１３は透明基材フィルム、１４は透明接着剤である。
【０００５】
また、図２（ｂ）は特開２００２−３４１７８１で提案されるガス放電型発光パネルを示す断面図であり、図２（ｂ）において、図２（ａ）と同一機能を奏する部材には同一符号を付してある。このガス放電型発光パネル３０は、最表層の反射防止フィルム３、電磁波シールド性フィルムとしての銅／ＰＥＴ積層エッチングフィルム１０、近赤外線カットフィルム５と、発光パネル本体２０とを、接着剤となる接着剤用中間膜４Ａ，４Ｂ，４Ｃを用いて積層一体化し、この積層体の端面とそれに近接する表裏の縁部とに導電性粘着テープ７を付着させて一体化したものである。
【０００６】
なお、反射防止フィルムの反射防止層を構成する高屈折率層及び低屈折率層としては、蒸着やスパッタによる乾式成膜法で成膜されたものも多く提案されているが、乾式法では成膜に時間がかかり、コストが高くつくため、塗工法による湿式成膜法が主流となってきている。
【特許文献１】特開２００２−３４１７７９
【特許文献２】特開２００２−３４１７８１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このようにＰＤＰ等の表示面には、外光の反射を低減させるために反射防止フィルムが用いられているが、特に、ＰＤＰの場合、反射防止層には消灯時の色彩、点灯時の色純度向上が必須となっている。しかし、プラズマディスプレイは希ガスの放電で発光させるため、色調整が非常に難しい。特に、塗工型反射防止フィルムの場合、低屈折率層の低屈折率化、高屈折率層の高屈折率化には限界があり（例えば、低屈折率層でｎ＝１．４６程度、高屈折率層でｎ＝１．６８程度が限界である。）、また、反射色の色が強く、色純度向上のためには可視光領域でフラットな反射率特性が必要となっている。また、最表層としての反射防止フィルムには、防汚性も必要とされる。
【０００８】
本発明は、最表層の反射防止層の反射防止機能に優れ（外光反射の低減、反射色低減）、更には防汚性にも優れた高視認性の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、少なくとも電磁波シールド層と透明基板と、最表層の反射防止層とを積層一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材において、該反射防止層は、高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた低屈折率層とを備え、該低屈折率層が、中空のシリカ微粒子（以下「ポーラスシリカ」と称す。）と、多官能（メタ）アクリル系化合物と、光重合開始剤とを含む塗膜を光硬化させてなることを特徴とする。
【００１０】
本発明のガス放電型発光パネルは、発光パネル本体と、該発光パネル本体の前面に配置された電磁波シールド層と、最表層の反射防止層とを積層一体化してなるガス放電型発光パネルにおいて、該反射防止層は、高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた低屈折率層とを備え、該低屈折率層が、中空のシリカ微粒子（以下「ポーラスシリカ」と称す。）と、多官能（メタ）アクリル系化合物と、光重合開始剤とを含む塗膜を光硬化させてなることを特徴とする。
【００１１】
本発明で用いるポーラスシリカは、屈折率が低く、低屈折率層の材料として有効である。また、バインダー成分としての多官能（メタ）アクリル系化合物を選択することにより、耐擦傷性、耐薬品性、防汚性を付与することができ、良好な低屈折率層を形成することができる。しかも、本発明に係る低屈折率層は、紫外線の照射により硬化させるため、熱を加えることなく、従って、基材として透明樹脂フィルムを用いた場合であっても、これを劣化させることなく、連続生産にて低屈折率層を形成することができる。
【００１２】
本発明において、バインダー成分としての多官能（メタ）アクリル系化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される６官能（メタ）アクリル系化合物及び／又は下記一般式（II）で表される４官能（メタ）アクリル系化合物を主成分とすることが好ましい。なお、ここで、主成分とするとは、全バインダー成分の５０重量％以上を含むことを指す。
【００１３】
【化９】
2005181546.tif 000003
（上記一般式（Ｉ）中、Ａ１〜Ａ６は各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、
ｎ，ｍ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒは各々独立に、０〜２の整数を表し、
Ｒ１〜Ｒ６は各々独立に、炭素数１〜３のアルキレン基、或いは、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜３のフルオロアルキレン基を表す。）
【００１４】
【化１０】
2005181546.tif 000004
（上記一般式（II）中、Ａ１１〜Ａ１４は各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、
ｓ，ｔ，ｕ，ｖは各々独立に、０〜２の整数を表し、
Ｒ１１〜Ｒ１４は各々独立に、炭素数１〜３のアルキレン基、或いは、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜３のフルオロアルキレン基を表す。）
【００１５】
また、本発明に係るバインダー成分としての多官能（メタ）アクリル系化合物は、更に下記一般式(III)で表されるフッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物を含み、全多官能（メタ）アクリル系化合物中に５重量％以上含むことが好ましく、これにより低屈折率層の耐擦傷性及び防汚性が向上し、また、低屈折率化を図ることもできる。
Ａａ−Ｏ−（ＣＨ２）ｘａ−Ｒｆ−（ＣＨ２）ｘｂ−Ｏ−Ａｂ    ……(III)
（上記一般式(III)中、Ａａ，Ａｂは各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、Ｒｆはパーフルオロアルキレン基を表し、ｘａ，ｘｂは各々独立に、０〜３の整数を表す。）
【００１６】
また、本発明に係るバインダー成分としての多官能（メタ）アクリル系化合物は、更に、１分子中にフッ素原子を６個以上有し、分子量が１０００以下の３〜６官能の（メタ）アクリル系化合物、及び、１分子量にフッ素原子を１０個以上有し、分子量が１０００〜５０００の６〜１５官能の（メタ）アクリル系化合物よりなる群から選ばれる１種又は２種以上のフッ素含有多官能（メタ）アクリル系化合物を全多官能（メタ）アクリル系化合物中の５重量％以上含むことが好ましく、これにより、低屈折率層の低屈折率化及び防汚性の向上を図ることができる。
【００１７】
また、ポーラスシリカは下記一般式(IV)で表される末端（メタ）アクリルシランカップリング剤と、好ましくは１００〜１５０℃の水熱反応により、或いはマイクロ波照射下での反応により、表面が末端（メタ）アクリル変性された（メタ）アクリル変性ポーラスシリカであることが好ましく、これにより低屈折率層の耐擦傷性を向上させることができる。
【００１８】
【化１１】
2005181546.tif 000005
（上記一般式(IV)中、Ｒ２１は水素原子、フッ素原子又はメチル基を表し、
Ｒ２２は炭素数１〜８のアルキレン基、又は、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜８のフルオロアルキレン基を表し、
Ｒ２３〜Ｒ２５は各々独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【００１９】
また、ポーラスシリカは下記一般式（Ｖ）で表される末端フルオロアルキルシランカップリング剤と、好ましくは１００〜１５０℃の水熱反応により、或いはマイクロ波照射下での反応により、表面が末端フルオロアルキル変性されたフルオロアルキル変性ポーラスシリカであることが好ましく、これにより低屈折率層の防汚性を向上させることができる。
【００２０】
【化１２】
2005181546.tif 000006
（上記一般式（Ｖ）中、Ｒ３１〜Ｒ３３は各々独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｙａは１〜８の整数を表し、ｙｂは１〜３の整数を表す。）
【００２１】
本発明において、反射防止層の高屈折率層は、高屈折率微粒子と芳香族基を有するバインダー成分とを含むことが好ましい。
【００２２】
本発明の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルにおいて、反射防止層は透明基板上に直接形成されていても良い。また、本発明の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルにおいて、反射防止層は、電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルの最表面に貼着された、透明基材フィルム上にハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層をこの順で積層してなる反射防止フィルムであっても良い。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、最表層の反射防止層の反射防止機能に優れ（外光反射の低減、反射色低減）、更には防汚性にも優れた高視認性の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下に本発明の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルの実施の形態を説明する。
【００２５】
本発明の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルの全体構成自体は従来の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルと同様の構成とすることができ、例えば、図２（ａ）に示されるような電磁波シールド性光透過窓材や、図２（ｂ）に示されるようなガス放電型発光パネルにおいて、反射防止フィルムとして、本発明に係る低屈折率層を採用した反射防止フィルムを用いた電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルが挙げられる。
【００２６】
以下にこの反射防止フィルムについて図１を参照して説明する。
【００２７】
この反射防止フィルム５０は、透明基材フィルム５１上に、ハードコート層５２、高屈折率層５３及び低屈折率層５４をこの順で積層してなり、この積層面とは反対側の面に接着剤層５５を形成し、離型フィルム５６を貼り合せたものである。この反射防止フィルム５０を図２（ａ）に示す電磁波シールド性光透過窓材や図２（ｂ）に示すガス放電型発光パネルに適用する場合には、反射防止フィルム５０の離型フィルム５６を剥して接着剤層５５により、電磁波シールド性光透過窓材又はガス放電型発光パネルの最表面に貼着すれば良い。
【００２８】
本発明において、基材フィルム５１としては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくはＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡの透明フィルムが挙げられる。
【００２９】
基材フィルム５１の厚さは通常の場合、１００〜１８８μｍの範囲とされる。
【００３０】
ハードコート層５２としては、合成樹脂系のものが好ましく、特に、紫外線硬化型合成樹脂、とりわけ多官能アクリル樹脂と、シリカ微粒子との組み合わせが好適である。このハードコート層５２の厚みは２〜２０μｍが好ましい。
【００３１】
高屈折率層５３は、金属酸化物微粒子と芳香族基を有するバインダー成分を含む紫外線硬化型のものが好ましく、芳香族基を有するバインダー成分としてはエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ビスフェノールＡ含有アクリレート樹脂等が挙げられる。また、金属酸化物微粒子としては、ＩＴＯ、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＣｅＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３及びＨｏ２Ｏ３よりなる群から選ばれる１種又は２種以上の高屈折率金属酸化物微粒子、特に好ましくは、ＴｉＯ２微粒子、ＩＴＯ微粒子が好ましい。
【００３２】
高屈折率層５３における、金属酸化物微粒子とバインダー成分との割合は、金属酸化物微粒子が過度に多くバインダー成分が不足すると高屈折率層の膜強度が低下し、逆に金属酸化物微粒子が少ないと屈折率を十分に高めることができないことから、金属酸化物微粒子とバインダー成分との合計に対する金属酸化物微粒子の割合が１０〜６０体積％、特に２０〜５０体積％とするのが好ましい。
【００３３】
このような高屈折率層５３の厚みは８０〜１００ｎｍ程度が好ましい。また、この高屈折率層５３は屈折率１．６５以上、特に１．６６〜１．８５であることが好ましく、この場合において、低屈折率層５４の屈折率を１．３９〜１．４７とすることで、表面反射率の最小反射率１％以下の反射防止性能に優れた反射防止フィルムとすることができる。特に、低屈折率層５４の屈折率を１．４５以下とした場合には、更に反射防止性能を高め、表面反射率の最小反射率０．５％以下の反射防止フィルムとすることも可能である。
【００３４】
低屈折率層５４は、ポーラスシリカと多官能（メタ）アクリル系化合物よりなるバインダー成分と光重合開始剤とを含む塗膜に、酸素濃度が０〜１００００ｐｐｍの雰囲気下で紫外線を照射することにより硬化させてなるものである。
【００３５】
ポーラスシリカは、中空殻状のシリカ微粒子であり、その平均粒径は１０〜２００ｎｍ、特に１０〜１５０ｎｍであることが好ましい。このポーラスシリカの平均粒径が１０ｎｍ未満では、ポーラスシリカの屈折率を下げることが困難であり、２００ｎｍを超えると光を乱反射し、また形成される低屈折率層の表面粗さが大きくなるなどの問題が出る。
【００３６】
ポーラスシリカは、中空内部に屈折率の低い空気（屈折率＝１．０）を有しているため、その屈折率は、通常のシリカ（屈折率＝１．４６）と比較して著しく低い。ポーラスシリカの屈折率は、その中空部の体積割合により決定されるが、通常１．２０〜１．４０程度であることが好ましい。
【００３７】
なお、ポーラスシリカの屈折率：ｎ（ポーラスシリカ）は、中空微粒子の殻部を構成するシリカの屈折率：ｎ（シリカ）、内部の空気の屈折率：ｎ（空気）から、次のようにして求められる。
ｎ（ポーラスシリカ）＝ｎ（シリカ）×シリカの体積分率
【００３８】
前述の如く、ｎ（シリカ）は約１．４７であり、ｎ（空気）は１．０と非常に低いため、このようなポーラスシリカの屈折率は非常に低いものとなる。
【００３９】
また、このようなポーラスシリカを用いた本発明に係る低屈折率層の屈折率：ｎ（低屈折率層）は、ポーラスシリカの屈折率：ｎ（ポーラスシリカ）とバインダー成分の屈折率：ｎ（バインダー）とから、次のようにして求められる。
ｎ（低屈折率層）＝
ｎ（ポーラスシリカ）×低屈折率層中のポーラスシリカの体積割合＋ｎ（バインダー）×低屈折率層中のバインダーの体積割合
【００４０】
ここで、バインダーの屈折率は特殊なフッ素含有アクリル系バインダー以外では、おおむね１．５０〜１．５５程度であるため、低屈折率層中のポーラスシリカの体積分率を増やすことが、低屈折率層の屈折率の低減に重要な要件となる。
【００４１】
本発明において、低屈折率層中のポーラスシリカの含有量は、多い程、低屈折率の低屈折率層を形成することができ、反射防止性能に優れた反射防止フィルムを得ることができるが、相対的にバインダー成分の含有量が減ることにより、低屈折率層の膜強度が低下し、耐擦傷性、耐久性が低下する。しかし、ポーラスシリカの配合量を増やすことによる膜強度の低下は、ポーラスシリカの表面処理で補うことが可能であり、また、配合するバインダー成分の種類を選択することによっても膜強度を補うことができる。
【００４２】
本発明においては、ポーラスシリカの表面処理やバインダー成分の選択により、低屈折率層中のポーラスシリカ含有量を２０〜５５重量％、特に３０〜５０重量％として、低屈折率層の低屈折率化を図り、屈折率１．３９〜１．４５程度とすると共に、耐擦傷性を確保することが好ましい。
【００４３】
次に、本発明に係る低屈折率層のバインダー成分である多官能（メタ）アクリル系化合物について説明する。
【００４４】
この多官能（メタ）アクリル系化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される６官能（メタ）アクリル系化合物及び／又は下記一般式（II）で表される４官能（メタ）アクリル系化合物を主成分として、全バインダー成分中に５０重量％以上、特に９０重量％以上含むことが好ましい。
【００４５】
【化１３】
2005181546.tif 000007
（上記一般式（Ｉ）中、Ａ１〜Ａ６は各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、
ｎ，ｍ，ｏ，ｐ，ｑ，ｒは各々独立に、０〜２の整数を表し、
Ｒ１〜Ｒ６は各々独立に、炭素数１〜３のアルキレン基、或いは、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜３のフルオロアルキレン基を表す。）
【００４６】
【化１４】
2005181546.tif 000008
（上記一般式（II）中、Ａ１１〜Ａ１４は各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、
ｓ，ｔ，ｕ，ｖは各々独立に、０〜２の整数を表し、
Ｒ１１〜Ｒ１４は各々独立に、炭素数１〜３のアルキレン基、或いは、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜３のフルオロアルキレン基を表す。）
【００４７】
前記一般式（Ｉ）で表される６官能（メタ）アクリル系化合物としては、例えばジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリストールヘキサアクリレートのエチレンオキサイド付加物、もしくはエチレンオキサイドのＨをフッ素置換したものが挙げられ、これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００４８】
また、前記一般式（II）で表される４官能（メタ）アクリル系化合物としては、例えばペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリストールテトラアクリレートのエチレンオキサイド付加物（１〜８）、もしくは、エチレンオキサイドのＨをフッ素置換したもの等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００４９】
バインダー成分としては、前記一般式（Ｉ）で表される６官能（メタ）アクリル系化合物の１種又は２種以上と前記一般式（II）で表される４官能（メタ）アクリル系化合物の１種又は２種以上を併用しても良い。
【００５０】
前記一般式（Ｉ），（II）で表される多官能（メタ）アクリル系化合物、特に前記一般式（Ｉ）で表される６官能（メタ）アクリル系化合物は高硬度で耐擦傷性に優れ、耐擦傷性の高い低屈折率層の形成に有効である。
【００５１】
また、本発明においては、バインダー成分として、前記一般式（Ｉ）で表される６官能（メタ）アクリル系化合物及び／又は前記一般式（II）で表される４官能（メタ）アクリル系化合物と共に、下記一般式(III)で表されるフッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物、或いは、特定のフッ素含有多官能（メタ）アクリル系化合物を併用することが好ましく、これらのバインダー成分を用いることにより、低屈折率層に耐擦傷性や防汚性を付与することが可能となる。また、これらのバインダー成分は、前記一般式（Ｉ）で表される６官能（メタ）アクリル系化合物や前記一般式（II）で表される４官能（メタ）アクリル系化合物よりも屈折率が低いため、ポーラスシリカの配合量を低減しても屈折率の低い低屈折率層を形成することができる。
Ａａ−Ｏ−（ＣＨ２）ｘａ−Ｒｆ−（ＣＨ２）ｘｂ−Ｏ−Ａｂ    ……(III)
（上記一般式(III)中、Ａａ，Ａｂは各々独立に、アクリロイル基、メタクリロイル基、α−フルオロアクリロイル基、又はトリフルオロメタクリロイル基を表し、Ｒｆはパーフルオロアルキレン基を表し、ｘａ，ｘｂは各々独立に、０〜３の整数を表す。）
【００５２】
上記一般式(III)で表されるフッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物としては、例えば、２，２，３，３，４，４−ヘキサフルオロペンタングリコール・ジアクリレート等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００５３】
また、上記特定の多官能（メタ）アクリル系化合物、即ち、１分子中にフッ素原子を６個以上有し、分子量が１０００以下の３〜６官能の（メタ）アクリル系化合物、１分子量にフッ素原子を１０個以上有し、分子量が１０００〜５０００の６〜１５官能の（メタ）アクリル系化合物についても、１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００５４】
上記フッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物の１種又は２種以上とフッ素含有多官能（メタ）アクリル系化合物の１種又は２種以上とを併用しても良い。
【００５５】
上記フッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物を用いることにより、低屈折率層の低屈折率化、防汚性の向上を図ることができるが、その配合量が過度に多いと耐擦傷性が低下する。従って、フッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物は全バインダー成分中に５重量％以上、特に５〜１０重量％配合することが好ましい。
【００５６】
また、上記フッ素含有多官能（メタ）アクリル系化合物を用いることによっても低屈折率層の低屈折率化、防汚性の向上を図ることができるが、その配合量が過度に多いと耐擦傷性が低下する。従って、多官能（メタ）アクリル系化合物は全バインダー成分中に５重量％以上、特に５〜１０重量％配合することが好ましい。
【００５７】
なお、フッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素含有多官能（メタ）アクリル系化合物とを併用する場合、フッ素含有２官能（メタ）アクリル系化合物とフッ素含有多官能（メタ）アクリル系化合物との合計で全バインダー成分中に５重量％以上、特に５〜１０重量％配合することが好ましい。
【００５８】
本発明で用いるポーラスシリカは、従来の低屈折率層に配合される一般的なシリカ微粒子（粒径５〜２０ｎｍ程度）に比べて粒径が大きいため、同一のバインダー成分を用いた場合でも、シリカ微粒子を配合する場合に比べて、形成される低屈折率層の膜強度が弱くなる傾向があるが、このポーラスシリカに適当な表面処理を施すことにより、バインダー成分との結合力を高め、形成される低屈折率層の膜強度を高めて耐擦傷性を向上させることができる。
【００５９】
このポーラスシリカの表面処理としては、下記一般式(IV)で表される末端（メタ）アクリルシランカップリング剤を用いて、ポーラスシリカの表面を末端（メタ）アクリル変性することが好ましい。
【００６０】
【化１５】
2005181546.tif 000009
（上記一般式(IV)中、Ｒ２１は水素原子、フッ素原子又はメチル基を表し、
Ｒ２２は炭素数１〜８のアルキレン基、又は、水素原子の１個以上がフッ素原子に置換された炭素数１〜８のフルオロアルキレン基を表し、
Ｒ２３〜Ｒ２５は各々独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【００６１】
このような末端（メタ）アクリルシランカップリング剤としては、例えばＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００６２】
このような末端（メタ）アクリルシランカップリング剤によりポーラスシリカの表面を末端（メタ）アクリル変性するには、ポーラスシリカと末端（メタ）アクリルシランカップリング剤との混合液を１００〜１５０℃で水熱反応させるか、或いは、この混合液にマイクロ波を照射して反応させることが好ましい。即ち、末端（メタ）アクリルシランカップリング剤とポーラスシリカとを単に混合したのみでは、末端（メタ）アクリルシランカップリング剤による表面化学修飾を行うことはできず、目的とする表面改質効果を得ることができない。水熱反応による場合も、反応温度が低いと十分な末端（メタ）アクリル変性を行えない。ただし、この反応温度が高過ぎると逆に反応性が低下することから、水熱反応温度は１００〜１５０℃であることが好ましい。なお、水熱反応時間は、反応温度にもよるが、通常０．１〜１０時間程度である。一方、マイクロ波による場合にも設定温度が低過ぎると十分な末端（メタ）アクリル変性を行えないため、上記と同様の理由から、設定温度は９０〜１５０℃とすることが好ましい。このマイクロ波としては振動数２．５ＧＨｚのものを好適に用いることができ、マイクロ波照射であれば、通常１０〜６０分程度の短時間で末端（メタ）アクリル変性を行うことができる。なお、この反応に供する混合液としては、例えばポーラスシリカ３．８重量％、アルコール溶媒（イソプロピルアルコールとイソブチルアルコールの１：４（重量比）混合溶媒）９６重量％、酢酸３重量％、水１重量％、シランカップリング剤０．０４重量％で調製した反応溶液が挙げられる。
【００６３】
このような末端（メタ）アクリルシランカップリング剤によりポーラスシリカの表面を化学修飾することにより、ポーラスシリカとバインダー成分とを強固に結合させて、ポーラスシリカの配合量が多い場合であっても、耐擦傷性に優れた低屈折率層を形成することができ、ポーラスシリカの配合量を高めて低屈折率層の低屈折率化を図ることができる。
【００６４】
また、ポーラスシリカは、下記一般式（Ｖ）で表される末端フルオロアルキルシランカップリング剤により、表面が末端フルオロアルキル変性されたものであっても良く、この場合において、末端フルオロアルキルシランカップリング剤による末端フルオロアルキル変性は、前述の末端（メタ）アクリルシランカップリング剤による末端（メタ）アクリル変性と同様な条件で水熱法又はマイクロ波照射により行うことが好ましい。
【００６５】
【化１６】
2005181546.tif 000010
（上記一般式（Ｖ）中、Ｒ３１〜Ｒ３３は各々独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｙａは１〜８の整数を表し、ｙｂは１〜３の整数を表す。）
【００６６】
なお、上記末端フルオロアルキルシランカップリング剤としては例えばＣ８Ｆ１７−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３、Ｃ６Ｆ１３−（ＣＨ２）２−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３等が挙げられ、これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。
【００６７】
このような末端フルオロアルキルシランカップリング剤を用いてポーラスシリカの表面を化学修飾することにより、形成される低屈折率層の防汚性を高めることができる。
【００６８】
本発明の低屈折率層は、前述のバインダー成分を光重合開始剤の存在下に紫外線照射して硬化させて形成されるものであるが、この光重合開始剤としては、例えば、チバスぺシャリティ・ケミカルズ社製のイルガキュア１８４，８１９，６５１，１１７３，９０７等の１種又は２種以上を用いることができ、その配合量は、バインダー成分に対して３〜１０ｐｈｒとすることが好ましい。光重合開始剤の配合量がこの範囲よりも少ないと十分な架橋硬化を行えず、多いと低屈折率層の膜強度が低下する。
【００６９】
本発明に係る低屈折率層は、ポーラスシリカ、バインダー成分としての多官能（メタ）アクリル系化合物及び光重合開始剤を所定の割合で混合してなる組成物を高屈折率層又は導電性高屈折率ハードコート層上に塗工し、酸素濃度が０〜１００００ｐｐｍの雰囲気下で紫外線を照射することにより硬化させることにより形成されるが、ここで、紫外線照射雰囲気中の酸素濃度が１０００ｐｐｍを超えると耐擦傷性が大幅に低下することから、１０００ｐｐｍ以下、好ましくは２００ｐｐｍ以下とする。
【００７０】
このような低屈折率層の厚みは、８５〜１１０ｎｍ、特に１００ｎｍ程度であることが好ましい。
【００７１】
本発明において、基材フィルム５１上にハードコート層５２、高屈折率層５３及び低屈折率層５４を形成するには、未硬化の樹脂組成物（必要に応じ上記の微粒子を配合したもの）を塗工し、次いで紫外線を照射するのが好ましい。この場合、各層を１層ずつ塗工して硬化させても良く、また、３層又は２層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００７２】
塗工の具体的な方法としては、バインダー成分等をトルエン等の溶媒で溶液化した塗布液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線によりキュアする方法が例示される。この湿式塗工法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。この塗工後に紫外線を照射してキュアすることにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が奏され、加熱を必要とすることなく、反射防止フィルムの連続生産が可能となる。
【００７３】
なお、基材フィルム５１裏面側に形成する接着剤層５５の接着剤としては、アクリル系等の透明接着剤が好ましく、通常この接着剤層５５の厚さは１〜１００μｍ程度、特に２５μｍ程度であることが好ましい。
【００７４】
また、離型フィルム５６としては、前述の基材フィルムと同様な材質よりなる厚さ２０〜１７５μｍ程度、特に３５μｍ程度のフィルムに表面離型処理を施したものを用いることができる。
【００７５】
本発明の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルは、例えば図２（ａ）に示す電磁波シールド性光透過窓材や図２（ｂ）に示すガス放電型発光パネルで用いられている反射防止フィルムとして、図２に示すような反射防止フィルムを用いることにより製造することができるが、その他、例えば、最表面にガラス基板等の透明基板が設けられている電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルであれば、この透明基板に直接前述の高屈折率層と低屈折率層とを積層、成膜して製造することもできる。また、最表面のガラス基板等の透明基板に反射防止フィルムを貼着する場合、この反射防止フィルムは、図１において、ハードコート層を省略したものであっても良い。
【００７６】
本発明の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルでは、例えば、前記反射防止フィルムや、高屈折率層と低屈折率層との積層膜よりなる反射防止層において、以下のような調整を行うことにより、より一層反射防止性能や防汚性に優れた高視認性の電磁波シールド性光透過窓材及びガス放電型発光パネルを実現することができる。
【００７７】
(1)  透明基材フィルムとハードコート層との間に易接着層を設ける。易接着層は、基材フィルムへのハードコート層の密着性を良くするためのものであり、通常、共重合ポリエステル樹脂とポリウレタン系樹脂等の熱硬化性樹脂に、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３等の金属酸化物微粒子、好ましくは平均粒径１〜１００ｎｍ程度の金属酸化物微粒子を配合して、屈折率を調整したものが用いられる。なお、金属酸化物微粒子の配合で高コストになる場合には、フェニル基や、臭素原子、硫黄原子を構造中に多く含んだポリマーを０〜５０重量％配合して屈折率を調整することもできる。
【００７８】
この場合において、このハードコート層の屈折率は１．４８〜１．５５の範囲であり、易接着層の屈折率をｎａ、透明基材フィルムの屈折率をｎｂ、ハードコート層の屈折率をｎＨＣとした場合、
（ｎｂ＋ｎＨＣ）／２  −０．０２≦ｎａ≦（ｎｂ＋ｎＨＣ）／２  ＋０．０２
とりわけ  （ｎｂ＋ｎＨＣ）／２  −０．０１≦ｎａ≦（ｎｂ＋ｎＨＣ）／２  ＋０．０１
であり、易接着層２の膜厚Ｔが
(５５０／４)×(１／ｎａ)  −１０ｎｍ≦Ｔ≦(５５０／４)×(１／ｎａ)  ＋１０ｎｍ
とりわけ
(５５０／４)×(１／ｎａ)  −５ｎｍ≦Ｔ≦(５５０／４)×(１／ｎａ)  ＋５ｎｍ
の範囲であるときに著しく優れた反射防止性能が得られるため、好ましい。
【００７９】
これは、５５０ｎｍの光波長に対して、実質上基材フィルムの屈折率がハードコート層の屈折率と等しくなる効果があり、ハードコート層／基材フィルム間の反射が無くなることによる効果である。本発明において、この易接着層は、透明基材フィルムの成形時に透明基材フィルム上に形成されたものであることが好ましい。
【００８０】
(2)  高屈折率層の高屈折率微粒子として、ＳｎＯ２及びＩＴＯよりなる導電性高屈折率微粒子と、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２及びＣｅＯ２よりなる超高屈折率微粒子とからなる微粒子群より選ばれる少なくとも１種の高屈折率微粒子とを用い、高屈折率微粒子は平均一次粒子径が３０〜４０ｎｍであり、この平均一次径を中心として、粒子径は幅広く分布し、全微粒子中の、一次粒子径が３０ｎｍ以下の微粒子の累積個数が２０％以上例えば２０〜５０％で、一次粒子径が４５ｎｍ以上の微粒子の累積個数が２０％以上例えば２０〜５０％であるように、異なる粒径の高屈折率微粒子を組み合わせて用いる。
【００８１】
即ち、高屈折率層には、高屈折率微粒子をなるべく多く含有させることが重要であるが、このように、異なる粒子径の高屈折率微粒子を併用することにより、高屈折率層への高屈折率微粒子充填量を上げ、高密度充填で屈折率の非常に高い高屈折率層を形成することができる。
【００８２】
なお、高屈折率微粒子としては、導電性高屈折率微粒子と超高屈折率微粒子とを併用することが、屈折率の向上と高屈折率層の帯電防止性の維持の面で好ましく、特に、導電性高屈折率微粒子：超高屈折率微粒子＝５０〜７０：５０〜３０（体積比）、とりわけ２７：１８（体積比）とすることが好ましい。この範囲よりも導電性高屈折率微粒子が多いと高屈折率層の屈折率が低下し、超高屈折率微粒子が多いと帯電防止効果が得られなくなる。
【００８３】
(3)  低屈折率層のバインダー成分として、前述のフッ素含有バインダー成分を用いることにより、防汚性を高める。
【００８４】
(4)  高屈折率層の膜厚と低屈折率層の膜厚を調整することにより、可視領域の平均反射率、低反射化が必要な波長での低反射化などを図る。例えば、発光色として赤が弱い場合は、高屈折率層の膜厚を厚くするか、低屈折率層の膜厚を厚くすることで、最小反射率の波長（ボトム波長）を長波長側へシフトさせ、ボトム波長を赤色光の波長に合わせることにより赤の透過率を向上させ、逆に青が弱い場合は、高屈折率層の膜厚を薄くするか、低屈折率層の膜厚を薄くすることで、ボトム波長を短波長側へシフトさせ、ボトム波長を青色光の波長に合わせることにより青の透過率を向上させる等の手法を用い、目的に適した反射特性を有する反射防止層を形成する。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明で用いる反射防止フィルムの構成例を示す模式的な断面図である。
【図２】図２（ａ）は従来の電磁波シールド性光透過窓材の一例を示す模式的な断面図であり、図２（ｂ）の従来のガス放電型発光パネルの一例を示す模式的な断面図である。
【符号の説明】
【００８６】
１  電磁波シールド性光透過窓材
２  透明基板
３  反射防止フィルム
４Ａ  接着用中間膜
４Ｂ  透明粘着剤
４Ｃ  粘着剤
５  近赤外線カットフィルム
７，８  導電性粘着テープ
１０  電磁波シールド性フィルム（銅／ＰＥＴ積層エッチングフィルム）
２０  発光パネル本体
３０  発光パネル
５０  反射防止フィルム
５１  基材フィルム
５２  ハードコート層
５３  高屈折率層
５４  低屈折率層
５５  接着剤層
５６  離型フィルム
【図１】
2005181546.tif 000019
【図２】
2005181546.tif 000020