(57)【要約】【課題】ＩＴＯ等のアノード電極上にある突起を処理し、リーク電流やダークスポットの発生を抑制し、歩留まり率が高く、低コスト化を実現し得る有機ＥＬ素子を提供すること。【解決手段】アノード電極と、カソード電極と、これらの電極間に設けられた１種以上の有機層とを有し、該アノード電極は、補助電極層、一部開口部を有する平坦化層及び透明電極層を積層してなり、該開口部において該補助電極層と該透明電極層が電気的に接続していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。【選択図】      図１
2005050552.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アノード電極と、カソード電極と、これらの電極間に設けられた１種以上の有機層とを有し、該アノード電極は、補助電極層、一部開口部を有する平坦化層及び透明電極層を積層してなり、該開口部において該補助電極層と該透明電極層とが電気的に接続していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
該補助電極層をカラーフィルター層上に設けたことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
該補助電極層と該カラーフィルター層との間に色変換層を設けたことを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
該補助電極層と該カラーフィルター層との間にバリア層を設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
該透明電極層がＩＴＯであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
該透明電極層がＩＺＯであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
該補助電極層が、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ａｌ及びＳｎからなる群から選ばれた金属又はそれらの金属の少なくとも１種を含む合金からなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
該透明電極層の表面に存在する突起の高さが１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機ＥＬ表示装置に関し、特に低電圧、低消費電力で駆動可能な、輝度ムラの小さなフラットパネルディスプレイ型の有機ＥＬ表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、有機ＥＬ素子が盛んに研究されている。これは、アノード電極上にトリフェニルアミン誘導体等のホール輸送材料を薄膜状に蒸着し、さらにＭｇ等の仕事関数の小さいカソード電極を形成した基本構成を有する素子で、１０Ｖ前後の電圧で数百から数万ｃｄ／ｍ２ときわめて高い輝度が得られることで注目されている。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子のアノード電極は、このアノード電極側から発光光を取り出す場合、透明な導電性材料からなる透明電極層であることが必要となる。このような透明電極材料として、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３等が知られている。中でもＩＴＯ電極は、８０％以上の可視光透過率と、１００Ω／□以下のシート抵抗を併せ持つことが可能な透明電極層として、ＬＣＤ、太陽電池等の透明電極層として幅広く使用されており、有機ＥＬ素子のアノード電極としても有望視されている。
【０００４】
ところで、有機ＥＬ素子は所定の発光電流を必要とし、電流密度に比例して発光輝度が増大する。このため、有機ＥＬ素子を応用した有機ＥＬ表示装置では、配線の長さが短い場合には無視できた配線抵抗も、複雑な表示パターンや大画面のディスプレイ、あるいは光輝度の駆動や高デューティー比での駆動を実現しようとする場合、アノード電極等の透明電極層あるいはこれと接合するための電極での電圧降下が問題になってくる。また、発光層から透明電極層までの厚さが厚くなると、取り出される光のスペクトルに視野角依存性が発生することが知られており、透明電極層を厚くして低シート抵抗のアノード電極を形成して電圧降下を改善することが難しい。
【０００５】
これらの問題を解決する手段として、透明電極層に接してＮｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｐｄ及びＳｎ等の金属又はそれらの合金からなる金属電極を補助電極層として設けたものが提案されている（例えば、特許文献１〜６参照。）。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１０−１６２９６１号公報
【特許文献２】
特開平１０−１９９６８０号公報
【特許文献３】
特開平１０−２１４６８４号公報
【特許文献４】
特開平１０−２２３３７４号公報
【特許文献５】
特開平１１−３１５９０号公報
【特許文献６】
特開平１１−１４４８７７号公報
【０００７】
このような電極構成とするには、補助電極層を形成後、透明電極層を形成する場合と、透明電極層を形成後、補助電極層を形成する場合とがある。
【０００８】
補助電極層を形成後、透明電極を形成する場合には、その下地基板がカラーフィルター層、色変換層又はバリア層であり、発光部以外の部位に補助電極層を形成する必要からフォトリソグラフィ法によりパターン状に補助電極層を形成する。その際に下地基板の表面全体に該補助電極層用の金属層を形成し、発光部に対応する部位をエッチングで除去するが下地基板の表面には、金属層が完全に除去されずに金属の残さが発生する。該残さが発生した面に透明電極層を形成すると、電極表面は該残さの影響で凹凸となり電極の平坦性が失われる。
【０００９】
また、透明電極層を形成後、補助電極層を形成する場合には、その下地基板がカラーフィルター層、色変換層又はバリア層であり、発光部以外の部位に補助電極層を形成する必要からフォトリソグラフィ法によりパターン状に補助電極層を形成する。その際に透明電極層の表面全体に該補助電極層用の金属層を形成し、発光部に対応する部位をエッチングで除去するが透明電極層の表面には、金属層が完全に除去されずに金属の残さが発生する。電極層表面は該残さの影響で凹凸となり電極の平坦性が失われる。
【００１０】
表面状態のよくない透明電極層が成膜された基板を用いて有機ＥＬ素子を製造すると、リーク電流を生じる確率が高く、このような不具合の生じた素子は不良品として排除されてしまう。このため、製品の歩留まりが悪く、有機ＥＬ素子を応用した製品を高価なものとする原因の一つになっている。
【００１１】
このようなリーク電流の発生原因である膜表面の突起の発生の対応策として、有機層成膜前に逆スパッターを行い、透明電極表面の突起等を除去する試みもあるが、逆スパッターにより突起等を完全に除去することは困難である。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、ＩＴＯ等のアノード電極上にある突起を処理し、リーク電流やダークスポットの発生を抑制し、歩留まり率が高く、低コスト化を実現し得る有機ＥＬ素子を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、前記の課題を解決するために種々検討を重ねた結果、アノード電極と、カソード電極と、これらの電極間に設けられた１種以上の有機層とを有し、該アノード電極は、補助電極層、一部開口部を有する平坦化層及び透明電極層を積層してなり、該開口部において該補助電極層と該透明電極層とが電気的に接続してい形成することにより、所望の有機ＥＬ表示装置が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
請求項１の発明は、アノード電極と、カソード電極と、これらの電極間に設けられた１種以上の有機層とを有し、該アノード電極は、補助電極層、一部開口部を有する平坦化層及び透明電極層を積層してなり、該開口部において該補助電極層と該透明電極層とが電気的に接続していることを特徴とする有機ＥＬ表示装置に関するものである。
【００１５】
請求項２の発明は、該補助電極層をカラーフィルター層上に設けたことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置に関するものである。
【００１６】
請求項３の発明は、該補助電極層と該カラーフィルター層との間に色変換層を設けたことを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置に関するものである。
【００１７】
請求項４の発明は、該補助電極層と該カラーフィルター層との間にバリア層を設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示装置に関するものである。
【００１８】
請求項５の発明は、該透明電極層がＩＴＯであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置に関するものである。
【００１９】
請求項６の発明は、該透明電極層がＩＺＯであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置に関するものである。
【００２０】
請求項７の発明は、該補助電極層が、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ａｌ及びＳｎからなる群から選ばれた金属又はそれらの金属の少なくとも１種を含む合金からなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置に関するものである。
【００２１】
請求項８の発明は、該透明電極層の表面に存在する突起の高さが１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置に関するものである。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
図１は、カラーフィルター層を設けた本発明の有機ＥＬ表示装置用カラー化基板であって、補助電極層を形成後、透明電極層を形成するタイプのものの正面断面図を示す。図２は、色変換層及びカラーフィルター層を設けた本発明の有機ＥＬ表示装置用カラー化基板であって、透明電極層を形成後、補助電極層を形成するタイプのものの正面断面図を示す。本発明の有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示装置用カラー化基板の透明電極層側にさらに有機ＥＬと背面基板とを設けたものである。
【００２３】
有機ＥＬ素子は、原理的には、アノード電極とカソード電極の間に有機ＥＬ発光層をはさんだ構造を有するものであるが、実際に、有機ＥＬ素子を用いてカラー表示の可能な有機ＥＬディスプレイとするには、（１）三原色の各色をそれぞれ発光する有機ＥＬ素子同士を配列する方式、（２）白色光に発光する有機ＥＬ素子を三原色のカラーフィルター層と組み合わせる方式、並びに（３）青色発光する有機ＥＬ素子と、青→緑、及び青→赤にそれぞれ色変換する色変換層（ＣＣＭ層）とを組み合わせるＣＣＭ方式等がある。
【００２４】
中でも、（３）のＣＣＭ方式では、同じ色に発光する有機ＥＬ素子を一種類使用すればよいので、上記（１）の方式の有機ＥＬディスプレイにおけるように、各色の有機ＥＬ素子の特性を揃える必要が無く、また、（２）の方式の有機ＥＬディスプレイにおけるように、三原色のカラーフィルターで色分解する際の白色光の利用率が低い欠点が解消され、ＣＣＭ層の変換効率を高めることにより、ディスプレイの輝度を向上させることが可能で注目されている。
【００２５】
上記（２）の三原色カラーフィルター層と組み合わせる方式においては、透明な基板の上にカラーフィルター層を設けた後に、保護層を介して、カソード電極層、発光層、及びアノード電極層を形成し、（３）の色変換層（ＣＣＭ）と組み合わせる方式においては、透明基板上にカラーフィルター層及び色変換層を順に設けた後に、保護層を介して、カソード電極層、発光層、及びアノード電極層を形成することにより有機ＥＬディスプレイを構成することができる。また、上記（１）の方式の場合にも、通常はカラーフィルター層を伴うので、上記（２）の場合と同様の方法で、有機ＥＬディスプレイを構成することができる。ここで、発光層の形成を、カラーフィルター層や色変換層の形成よりも後に行うのは、他の層を形成する際の、発光層への悪影響を排除するためである。
【００２６】
上記の説明中、有機ＥＬディスプレイ用色変換フィルター及び有機ＥＬディスプレイの各層を構成する素材、並びに、それらの積層方法等について、以降に詳しく説明する。
【００２７】
透明基板は、有機ＥＬディスプレイ用色変換フィルターを支える支持体であり、有機ＥＬディスプレイを構成した際には、多くはその観察側に位置させるもので、有機ディスプレイ全体を支える支持体ともなり得るものである。透明基板の観察側には、必要に応じて、擦傷防止のためのハードコート層、帯電防止層、汚染防止層、反射防止層、防眩層等が直接積層されるか、若しくは透明フィルム上に積層されて適用されていてもよく、あるいは、タッチパネルのような機能が付加されていてもよい。
【００２８】
透明基板は、大別すると、ガラスや石英ガラス等の無機質の板状透明基材、若しくはアクリル樹脂等の有機質の板状透明基材、又は、合成樹脂製の透明フィルム状基材である。厚みのごく薄いガラスも透明フィルム状基材として利用することができる。透明基板としては、色変換層等を形成する側の表面の平滑性が高い、平均粗さ（Ｒａ）が、０．５ｎｍ〜３．０ｎｍ（５μｍ□領域）であるものを用いることが好ましい。
【００２９】
透明基板を構成する合成樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、メタクリル酸メチル樹脂等のアクリル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、又は環状オレフィン樹脂若しくは環状オレフィン共重合樹脂等を挙げることができる。
【００３０】
ブラックマトリックス層は、各画素毎に発光する区域を区画すると共に、発光する区域どうしの境界における外光の反射を防止し、画像、映像のコントラストを高めるためのもので、通常は、黒色の細線で構成された、縦横の格子状等、若しくは一方向のみの格子状等の、開口部を有するパターン状に形成されたものである。有機ＥＬディスプレイの発光は、このブラックマトリックス層２の開口部を経由し、観察側に到達する。
【００３１】
ブラックマトリックス層を形成するには、まず、透明基板を十分に洗浄したのち、ＣｒＯｘ／Ｃｒ（ｘは任意の正数、「／」は積層を表す。）の積層構造からなる２層クロムブラックマトリックス層、あるいはさらに反射率を低減させたＣｒＯｘ／ＣｒＮｙ／Ｃｒ（ｘ、ｙは任意の正数）の積層構造からなる３層クロムブラックマトリックス層等を、蒸着、イオンプレーティング、若しくはスパッタリング等の各種の方法で必要に応じ金属、金属酸化物、若しくは金属窒化物等の薄膜を形成する。この場合、十分に遮光し得る光学濃度、耐洗浄性及び加工特性等を考慮すると、金属クロムを含有する上記材料からなる積層薄膜が好ましい。形成された金属薄膜からブラックマトリックス層２を形成するためには、通常のフォトリソグラフィー法等を利用することができ、例えば、形成された金属薄膜の表面にフォトレジストを塗布し、パターンマスクで被覆して露光、現像、エッチング、及び洗浄等の各工程を経て、ブラックマトリックス層を形成することができる。また、ブラックマトリックス層は、無電界メッキ法、若しくは黒色のインキ組成物を用いた印刷法等を利用しても形成することができる。ブラックマトリックス層の厚みは、薄膜で形成する場合には、０．２μｍ〜０．４μｍ程度であり、印刷法によるときは０．５μｍ〜２μｍ程度である。
【００３２】
なお、ブラックマトリックス層を形成する方法の一つとして挙げたフォトリソグラフィー法は、カラーフィルター層の各層の形成や、クリア層を含めた色変換層の各層の形成にも利用でき、各々の層を形成するための形成用組成物を一面に適用して、一旦固化させた後、フォトレジストを適用して行うか、若しくは、各々の層を形成するための形成用組成物を感光性樹脂組成物を用いて調製したものを適用して、直接、行ってもよい。
【００３３】
カラーフィルター層は、ブラックマトリクスの開孔部に対応して設けられ、各画素に対応して、通常は、青色用、緑色用、及び赤色用の三種類が規則的に配列したものである。カラーフィルター層の各色の部分は、ブラックマトリクスの開孔部毎に設けたものであってもよいが、便宜的には、図２における手前側から奥側の方向に帯状に設けたものであってもよい。
【００３４】
ＣＣＭ方式の有機ＥＬディスプレイにおいては、有機ＥＬ素子から発した青色光が、色変換層により変換されて、青色光、緑色光、及び赤色光の三原色の光が生じるので、色変換層の存在により、カラー映像の再現が可能で、カラーフィルター層を省略することが可能であるが、色変換層により変換された光をさらに補正して、所定の帯域内の光のみを透過させ、有機ＥＬディスプレイの演色性を高める意味で、カラーフィルター層を設けることが好ましい。
【００３５】
カラーフィルター層を形成するには、顔料若しくは染料等の着色剤、好ましくは顔料の配合により着色した感光性樹脂組成物の層をフォトリソグラフィー法によってパターン化するか、若しくは、所定の色に着色したインキ組成物を調製して、各色毎に所定の位置に印刷することによって行う。カラーフィルター層の厚みは、１μｍ〜２μｍ程度である。
【００３６】
赤色カラーフィルター層形成用の顔料としては、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、若しくはイソインドリン系顔料等から選択された顔料の１種若しくは２種以上、緑色カラーフィルター層形成用の顔料としては、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料若しくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、若しくはイソインドリノン系の顔料の１種若しくは２種以上、また、青色カラーフィルター層形成用の顔料としては、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、若しくはジオキサジン系顔料の１種若しくは２種以上が好ましい。
【００３７】
上記の着色剤を配合するバインダー樹脂としては、透明な、好ましくは、可視光透過率が５０％以上である電離放射線硬化性樹脂、特に紫外線硬化性樹脂が仕様され、「フォトレジスト」用として市販されているものも使用でき、このようなバインダー樹脂中に、上記の着色剤を、形成されるカラーフィルター層中に５〜５０％含有されるように配合して、着色した感光性樹脂の塗布用の組成物を調製する。
【００３８】
色変換層は、ブラックマトリックスの開孔部、及びカラーフィルター層に対応して設けられるもので、やはり、各画素毎に、青色用、緑色用、及び赤色用に三種類が規則的に配列したものである。なお、青色用の色変換層については、有機ＥＬ素子が、青色光、若しくは青色光及び緑色光を発光する場合には、色変換を行う必要がないので、省略できるが、他の色用の色変換層と同じ厚みのクリア層をダミー層として形成しておくことが好ましい。
【００３９】
色変換層の各部分は、カラーフィルター層の各色の部分と同様、ブラックマトリクスの開孔部のみに設けたものであってもよいが、図２における手前側から奥側の方向に帯状に設けたものであってもよい。
【００４０】
赤色変換層、及び緑色変換層は、それぞれ、青色を赤色に変換する赤色変換蛍光体、及び青色を緑色に変換する緑色変換蛍光体を樹脂中に溶解若しくは分散した組成物で構成される。
【００４１】
赤色変換蛍光体としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリジウム−パークロレート等のピリジン系色素、ローダミンＢ、若しくはローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、又はオキサジン系色素等を例示することができる。
【００４２】
緑色変換蛍光体としては、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン、３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン、若しくは３−（２’−ベンズイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染料、又は、ソルベントイエロー１１、若しくはソルベントイエロー１１６等のナフタルイミド系色素等を例示することができる。
【００４３】
赤色変換蛍光体、若しくは緑色変換蛍光体を溶解、若しくは分散させる樹脂としては、透明保護層２を構成するための樹脂として後記するものと同様な透明な樹脂が好ましい。
【００４４】
色変換層の形成は、フォトリソグラフィー法によって行うほか、上記の赤色変換蛍光体若しくは緑色変換蛍光体、及び樹脂を、必要に応じ、溶剤、希釈剤、若しくは適宜な添加剤と共に混合して、インキ組成物を調製し、印刷することによって行ってもよい。青色用のクリア層の形成は、上記の方法に準じて行うが、ただし、使用する組成物若しくはインキ組成物から赤色変換蛍光色素若しくは緑色変換蛍光色素を除いたものを用いて行う。色変換層における樹脂と、赤色変換蛍光体、若しくは緑色変換蛍光体の割合は、例えば、樹脂／蛍光体＝１００／０．５〜１００／５（質量基準）程度が好ましく、色変換層の厚みは５μｍ〜２０μｍ程度であることが好ましい。
【００４５】
カラーフィルター層又は色変換層の表面には、透明保護層を設けることができる。
【００４６】
透明保護層は、透明樹脂により形成することができる。透明樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。また、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂、イソネート系、エポキシ系の硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。平坦化層の形成には、透明樹脂を必要に応じ、溶剤、希釈剤、もしくはモノマー等、さらには、適宜な添加剤と共に混合して、適宜なコーティング手段により一様に塗布し、乾燥させるか、又は、電離放射線照射又は加熱により硬化させることによって形成することができる。
【００４７】
上記の透明保護層２の形成は、上記の樹脂材料が液体の場合、スピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、光硬化型樹脂は紫外線照射後に必要に応じて熱硬化させ、熱硬化型樹脂は成膜後そのまま硬化させる。また、使用材料がフィルム状に成形されている場合、直接、あるいは、粘着剤を介して貼着することができる。
【００４８】
透明保護層２上には、透明なバリア層７が積層されていてもよい。バリア層７は、無機酸化物の薄膜から構成されることが好ましく、上層に配置される有機ＥＬ素子への下方からの空気、特に、水蒸気が透過するのをより有効に遮断することができる。無機酸化物としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、若しくは窒化ケイ素等、又は酸化ケイ素と窒化ケイ素の合金等を使用することが好ましい。また、バリア層の材料として、ポリシロキサンオリゴマー等からなるゾルゲル材料若しくはポリシロキサンオリゴマー等と有機ポリマー等とからなる有機−無機ハイブリッド材料を使用することもでき、更に上記無機酸化物の薄膜に積層して使用することもできる。バリア層の厚みとしては、０．０３μｍ〜３μｍ程度である。
【００４９】
電極層は、アノード電極の場合とカソード電極の場合とがある、アノード電極を構成する素材、およびカソード電極を構成する素材とも、通常の有機ＥＬ素子に用いられるものであれば特に限定されないが、アノード電極の場合であれば、特に正孔を注入しやすいよう、仕事関数の大きい透明もしくは半透明な導電性材料が好ましく、具体的には、例えば酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、金、もしくは酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）が挙げられる。厚みは、１０ｎｍ〜５００ｎｍ程度であり、必要に応じて、フォトエッチング等によりパターン化されたものであってもよい。また、カソード電極の場合であれば、電子を注入しやすいように仕事関数の小さい導電性材料が好ましく、具体的には、マグネシウム合金（ＭｇＡｇ）、アルミニウム、銀等が挙げられる。厚みは、１０ｎｍ〜１μｍ程度が好ましく、より好ましくは、５０〜２００ｎｍ程度である。やはり、必要に応じて、フォトエッチング等によりパターン化されたものであってもよい。
【００５０】
透明電極層表面に存在する突起の高さは、１００ｎｍ以下であるのが好ましい
【００５１】
基板上、もしくはアノード電極上には、部分的に絶縁層を有していてもよい。絶縁層は、好ましくは紫外線硬化性樹脂などの光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を含む材料の硬化物で構成され、カーボンブラックなどを配合して、ブラックマトリックスとして利用することもできる。
【００５２】
補助電極としては、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ａｌ及びＳｎからなる群から選ばれた金属又はそれらの金属の少なくとも１種を含む合金からなる材料を使用することができる。
【００５３】
平坦化層は、透明樹脂により形成することができる。透明樹脂としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等を使用することができる。また、アクリレート系、メタクリレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂、イソネート系、エポキシ系の硬化型樹脂、熱硬化型樹脂を使用することができる。平坦化層の形成には、透明樹脂を必要に応じ、溶剤、希釈剤、もしくはモノマー等、さらには、適宜な添加剤と共に混合して、適宜なコーティング手段により一様に塗布し、乾燥させるか、又は、電離放射線照射又は加熱により硬化させることによって形成することができる。
【００５４】
上記の平坦化層２の形成は、上記の樹脂材料が液体の場合、スピンコート、ロールコート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、光硬化型樹脂は紫外線照射後に必要に応じて熱硬化させ、熱硬化型樹脂は成膜後そのまま硬化させる。また、使用材料がフィルム状に成形されている場合、直接、あるいは、粘着剤を介して貼着することができる。
【００５５】
有機ＥＬ素子は、各画素に対応して、アノード電極層（透明電極層）、有機ＥＬ発光層、及びカソード電極層（背面電極層）とが積層されたものから基本的に構成され、駆動方式としては、パッシブマトリクス、若しくはアクティブマトリクスのいずれのものであってもよい。必要に応じて、さらに封止材が積層され得る。
【００５６】
有機ＥＬ発光層は、先に挙げたように、（１）三原色を配列する方式においては、赤色発光用、緑色発光用、及び青色発光用の各色発光用の有機ＥＬ発光層を並べたものであり、（２）白色光に発光する有機ＥＬ素子を三原色のカラーフィルター層と組み合わせる方式においては、白色発光用の有機ＥＬ発光層であり、また、（３）ＣＣＭ方式においては、青色発光用、若しくは青色及び緑色発光用の有機ＥＬ発光層である。
【００５７】
有機ＥＬ発光層は、代表的には、（１）有機ＥＬ発光層単独から構成されたもの、（２）有機ＥＬ発光層の透明電極層側に正孔注入層を設けたもの、（３）有機ＥＬ発光層の背面電極層側に電子注入層を設けたもの、若しくは（４）有機ＥＬ発光層の透明電極層側に正孔注入層を設け、背面電極層側に電子注入層を設けたもの、等種々の構造のものがあり得る。
【００５８】
有機ＥＬ発光層は、例えば、色素系、金属錯体系、若しくは高分子系の有機蛍光体で構成され得る。
【００５９】
色素系のものとしては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、若しくはピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
【００６０】
金属錯体系のものとしては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等又は、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、若しくはキノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。
【００６１】
高分子系のものとしては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、若しくはポリビニルカルバゾール誘導体、又は前記の色素系のもの、若しくは金属錯体系のものを高分子化したもの等を挙げることができる。
【００６２】
上記した有機蛍光体には、発光効率の向上、若しくは発光波長を変化させる目的でドーピングを行うことができる。このドーピング材料としては例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィレン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等を挙げることができる。
【００６３】
ＣＣＭ方式において使用する、青色から青緑色の発光を得ることが可能な有機蛍光体としては、特開平８−２７９３９４号公報に例示されている、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、特開昭６３−２９５６９５号公報に開示されている金属キレート化オキシノイド化合物、欧州特許第０３１９８８１号明細書や欧州特許第０３７３５８２号明細書に開示されたスチリルベンゼン系化合物、特開平２−２５２７９３号公報に開示されているジスチリルピラジン誘導体、若しくは欧州特許第０３８８７６８号明細書や特開平３−２３１９７０号公報に開示された芳香族ジメチリディン系化合等物を例示することができる。
【００６４】
具体的には、ベンゾチアゾール系としては、２−２’−（ｐ−フェニレンジビニレン）−ビスベンゾチアゾール等、ベンゾイミダゾール系としては、２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、若しくは２−［２−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾール等、ベンゾオキサゾール系としては、２，５−ビス（５，７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−１，３，４−チアジアゾール、４，４’−ビス（５，７−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベン、若しくは２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト［１，２−ｄ］オキサゾール等を例示することができる。
【００６５】
金属キレート化オキシノイド化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒドロキシキノリン系金属錯体、若しくはジリチウムエピントリジオン等、スチリルベンゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−メチルベンゼン、若しくは１，４−ビス（２−メチルスチリル）−２−エチルベンゼン等を例示することができる。
【００６６】
ジスチリルピラジン誘導体としては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（１−ナフチル））ビニル］ピラジン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジン、若しくは２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラジン等、並びに、芳香族ジメチリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメチリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメチリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４’−ビス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル、４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等、若しくはそれらの誘導体を例示することができる。
【００６７】
ＣＣＭ方式において使用する、青色発光する有機蛍光体としては、特開平５−２５８８６２号公報等に記載されている一般式（Ｒｓ−Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌであらわされる化合物を例示することができる（一般式中、Ｌはベンゼン環を含む炭素原子６〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート環置換基を表す。）。具体的には、ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラ−フェニルフェノラート）アルミニウム（ＩＩＩ）、若しくはビス（２−メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウム（ＩＩＩ）等を例示することができる。
【００６８】
以上のような材料からなる、若しくは含有する有機ＥＬ発光層の厚みとしては、特に制限はないが、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
【００６９】
正孔注入層を構成する材料としては、従来、非伝導材料の正孔注入材料として使用されているものや、有機ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている公知の物の中から任意に選択して使用することができ、正孔の注入、若しくは電子の障壁性のいずれかを有するものであって、有機物、若しくは無機物のいずれであってもよい。
【００７０】
具体的に正孔注入層を構成する材料としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系、アニリン系共重合体、若しくはチオフェンオリゴマー等の導電性高分子オリゴマー等を例示することができる。さらに正孔注入層の材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、若しくはスチリルアミン化合物等を例示することができる。
【００７１】
具体的には、ポルフィリン化合物としては、ポルフィン、１，１０，１５，２０−テトラフェニル−２１Ｈ，２３Ｈ−ポルフィン銅（ＩＩ）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、若しくは銅オクタメチルフタロシアニン等、芳香族第三級アミン化合物としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−４，４’−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４’−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル］スチルベン、３−メトキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、若しくは４，４’，４”−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等、を例示することができる。
【００７２】
以上に例示したような材料からなる正孔注入層の厚みとしては、特に制限はないが、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
【００７３】
電子注入層を構成する材料としては、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、若しくはオキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、若しくはジスチリルピラジン誘導体等を例示することができる。
【００７４】
以上に例示したような材料からなる電子注入層の厚みとしては、特に制限はないが、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。
【００７５】
【実施例】
次に本発明の実施例を示すが、本発明はこれらの実施例によって限定して解釈されるべきではない。
【００７６】
実施例１
ブラックマトリックスの形成
透明基材として、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ、厚み０．７ｍｍのソーダガラス（セントラル硝子社製Ｓｎ面研磨品）を準備した。この透明基材を定法にしたがって洗浄した後、透明基材の片側全面にスパッタリング法により酸化窒化複合クロムの薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、この複合クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、複合クロム薄膜のエッチングを行って、８４μｍ×２８４μｍの長方形状の開口部を１００μｍピッチでマトリックス状に備えたブラックマトリックスを形成した。
【００７７】
カラーフィルター層の形成
赤色、緑色、青色の３種の着色層用感光性塗料を調製した。
次に、上記の３種の着色層用感光性塗料を用いて各色の着色層を形成した。すなわち、ブラックマトリックスが形成された上記の透明基材全面に、緑色着色層用の感光性塗料をスピンコート法により塗布し、プリベーク（８０℃、３０分間）を行った。その後、所定の着色層用フォトマスクを用いて露光した。次いで、現像液（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行って、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に帯状（幅９０μｍ）の緑色着色層（厚み１．５μｍ）を形成した。
同様に、赤色着色層の感光性塗料を用いて、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に帯状（幅９０μｍ）の赤色着色層（厚み１．５μｍ）を形成した。さらに、青色着色層の感光性塗料を用いて、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置に帯状（幅９０μｍ）の青色着色層（厚み１．５μｍ）を形成した。
【００７８】
透明保護層の形成
平均分子量が約１０００００であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ社製ＡＲＴＯＮ）をトルエンで希釈した透明保護層用塗布液を使用し、スピンコート法により透明基材上に塗布した後、ベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、上記の色変換蛍光体層を覆うように透明保護層（厚み７μｍ）を形成した。形成した透明保護層は、透明かつ均一な膜であった。
【００７９】
バリア層の形成
次に、上記の透明保護層上にスパッタリング法により酸化窒化珪素膜（厚み０．３μｍ）を成膜してバリア層（ＳｉＯＮ膜；Ｏ／（Ｏ＋Ｎ）＝０．６））を形成した。
【００８０】
このバリア層の表面の尖度をデジタルインストロメント社製ＳＰＭ：Ｄ−３０００により測定した結果、３（観察範囲５μｍ平方）であった。また、バリア層の最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）をデジタルインストロメント社製ＳＰＭ：Ｄ−３０００により測定した結果、７μｍ（観察範囲５μｍ平方）であった。
【００８１】
補助電極層の形成
次に、上記の透明電極層を覆うようにバリア層上の全面にスパッタリング法によりクロム薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、このクロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム薄膜のエッチングを行って、補助電極層を形成した。この補助電極層は、透明基材上から色変換蛍光体層上に乗り上げるように透明電極層上に形成されたストライプ状のパターンであり、色変換蛍光体層上では幅１４μｍでブラックマトリックスの遮光部上に位置し、透明基材周縁部の端子部では幅が６０μｍのものとした。
【００８２】
平坦化層の形成
平坦化層として、アクリル系の光硬化及び熱硬化型樹脂（新日鉄化学社製、Ｖ２５９ＰＡ）をパターニングされた補助電極層の上にコーティングし、８０℃でベーク後、該補助電極を後から形成される透明電極と接続するためのスルーホールが形成されるようにするべく、発光部以外の部位に該平坦化層を覆わないパターンが得られ、かつ、発光部に該平坦化層を覆うパターンが得られるようなフォトマスクを介して、３００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、次いで、０．１重量％の炭酸ナトリウム水溶液で現像して、非露光部を除去し、１６０℃で熱処理を施した。
【００８３】
透明電極層の形成
次いで、上記のバリア層上にイオンプレーティング法により膜厚１５０ｎｍの酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。ここで、この透明電極層は、上記平坦化層のスルーホールで下層の補助電極層と接続した幅６０μｍの帯状パターンであり、カラーフィルター層上の各着色層上に位置するものであった。
【００８４】
絶縁層と隔壁部の形成
平均分子量が約１０００００であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ社製ＡＲＴＯＮ）をトルエンで希釈した透明保護層用塗布液を使用し、スピンコート法により透明電極層を覆うようにバリア層上に塗布した後、ベーク（１００℃、３０分間）を行って絶縁膜（厚み１μｍ）を形成した。次に、この絶縁膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、絶縁膜のエッチングを行って絶縁層を形成した。この絶縁層は、透明電極層と直角に交差するストライプ状（幅２０μｍ）のパターンであり、ブラックマトリックスの遮光部上に位置するものとした。
【００８５】
次に、隔壁部用塗料（日本ゼオン社製フォトレジスト  ＺＰＮ１１００）をスピンコート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベーク（７０℃、３０分間）を行った。その後、所定の隔壁部用フォトマスクを用いて露光し、現像液（日本ゼオン社製ＺＴＭＡ−１００）にて現像を行い、次いで、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、絶縁層上に隔壁部を形成した。この隔壁部は、高さ１０μｍ、下部（絶縁層側）の幅１５μｍ、上部の幅２６μｍである形状を有するものであった。
【００８６】
青色有機ＥＬ素子層の形成
次いで、上記の隔壁部をマスクとして、真空蒸着法により正孔注入層、発光層、電子注入層からなる青色有機ＥＬ素子層を形成した。すなわち、まず、４，４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］トリフェニルアミンを、画像表示領域に相当する開口部を備えたフォトマスクを介して２００ｎｍ厚まで蒸着して成膜し、その後、４，４′−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、隔壁部がマスクパターンとなり、各隔壁部間のみを正孔注入層材料が通過して透明電極層上に正孔注入層が形成された。同様にして、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニルを５０ｎｍまで蒸着して成膜することにより発光層とした。その後、トリス（８−キノリノール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層とした。このようにして形成された青色有機ＥＬ素子層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして各隔壁部間に存在するものであり、隔壁部の上部表面にも同様の層構成でダミーの青色有機ＥＬ素子層が形成された。
【００８７】
背面電極層の形成
次に、画像表示領域よりも広い所定の開口部を備えたフォトマスクを介して上記の隔壁部が形成されている領域に真空蒸着法によりマグネシウムと銀を同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速度＝１．３〜１．４ｎｍ／秒、銀の蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜した。
これにより、隔壁部がマスクとなって、マグネシウム／銀混合物からなる背面電極層（厚み２００ｎｍ）が青色有機ＥＬ素子層上に形成された。この背面電極層は、幅２８０μｍの帯状パターンとして青色有機ＥＬ素子層上に存在するものであり、隔壁部の上部表面にもダミーの背面電極層が形成された。
【００８８】
以上により、有機ＥＬ表示装置を得た。この有機ＥＬ表示装置の透明電極層と背面電極層に直流８．５Ｖの電圧を１０ｍＡ／ｃｍ２の一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の青色有機ＥＬ素子層を発光させた。そして、色変換層で色変換、あるいは、そのまま透過し、カラーフィルター層で色補正された後、透明基材の反対面側で観測される各色の発光について、ダークエリアによる不良発生率を測定した結果、０．５％であり、高品質の三原色画像表示が可能なものであった。
【００８９】
実施例２
実施例２も実施例１とほぼ同様に行った。
ただし、下記の数点で実施例１と異なる。
【００９０】
カラーフィルター層の形成の後、色変換層の形成を下記のように行う。
青色変換ダミー層用塗布液（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製カラーモザイクＣＢ−７００１）をスピンコート法により着色層上に塗布し、プリベーク（８０℃、３０分間）を行った。次いで、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行い、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、青色着色層上に帯状（幅９０μｍ）の青色変換ダミー層（厚み１０μｍ）を形成した。
次いで、緑色変換蛍光体（アルドリッチ社製クマリン６）を分散させたアルカリ可溶性ネガ型レジストを緑色変換蛍光体層用塗布液とし、これをスピンコート法により着色層上に塗布し、プリベーク（８０℃、３０分間）を行った。次いで、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行い、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、緑色着色層上に帯状（幅９０μｍ）の緑色変換蛍光体層（厚み１０μｍ）を形成した。
さらに、赤色変換蛍光体（アルドリッチ社製ローダミン６Ｇ）を分散させたアルカリ可溶性ネガ型レジストを赤色変換蛍光体層用塗布液とし、これをスピンコート法により着色層上に塗布し、プリベーク（８０℃、３０分間）を行った。次いで、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行い、ポストベーク（１００℃、３０分間）を行った。これにより、赤色着色層上に帯状（幅９０μｍ）の赤色変換蛍光体層（厚み１０μｍ）を形成した。
【００９１】
補助電極層の形成の前に透明電極層の形成を行い、補助電極層の形成の後に平坦化層の形成、続いて透明電極層の形成を行う。
【００９２】
実施例１及び２によるといずれも、有機ＥＬ素子の劣化が押さえられ、発光状態がよくて、得られた有機ＥＬ表示装置は、高品質の画像表示が可能であった。
【００９３】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、有機ＥＬ素子の劣化が押さえられ、発光状態がよくて、高品質の画像表示が可能な有機ＥＬ表示装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】カラーフィルター層を設けた本発明の有機ＥＬ表示装置用カラー化基板であって、補助電極層を形成後、透明電極層を形成するタイプのものの正面断面図を示す。
【図２】色変換層及びカラーフィルター層を設けた本発明の有機ＥＬ表示装置用カラー化基板であって、透明電極層を形成後、補助電極層を形成するタイプのものの正面断面図を示す。
【符号の説明】
１  透明基板
２  透明保護層
３  平坦化層
４  透明電極層
５  色変換層
６  カラーフィルター層
７  バリア層
８  補助電極層
【図１】
2005050552.tif 000003
【図２】
2005050552.tif 000004