(57)【要約】【課題】短いパターン原版で長尺の光学式スケールを作成する方法を提供すること。【解決手段】パターン原版５は光が透過する透光部と光を遮光する遮光部とを交互に形成するとともに、全ての透光部５ａの巾と、全ての遮光部５ｂの巾とは夫々同一に形成し、上記パターン原版５を通して露光機１０の光をフィルム２に露光する際、上記パターン原版５と露光機１０とを密着させるとともに、上記フィルム２と上記パターン原版５とを密着させ、上記フィルム２へのスリットパターンの露光後、パターン原版５とフィルム２との密着状態を解除し、露光機１０とパターン原版５との密着状態を維持したまま、露光機１０とパターン原版５とをスライド移動させ、既に形成したスリットパターンに連続する位置にパターン原版５を移動させた後、パターン原版５とフィルム２とを再び密着させて露光した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
短いパターン原版で長尺の光学式スケールを作成する作成方法であって、
パターン原版は光が透過する透光部と光を遮光する遮光部とを交互に形成するとともに、全ての透光部の巾と、全ての遮光部の巾とは夫々同一に形成し、上記パターン原版を通して露光機の光をフィルムに露光する際、上記パターン原版と露光機とを密着させるとともに、上記フィルムと上記パターン原版とを密着させ、上記フィルムへのスリットパターンの露光後、パターン原版とフィルムとの密着状態を解除し、露光機とパターン原版との密着状態を維持したまま、露光機とパターン原版とを所定の距離スライド移動させた後、パターン原版とフィルムとを再び密着させて露光することを特徴とする、光学式スケールの作成方法。
【請求項２】
前記所定の距離は、前回露光した最後尾のスリットパターンと、新規に露光する最前部のスリットパターンとの間隔が前記パターン原版の遮光部の巾に等しくなる距離である、請求項１記載の光学式スケールの作成方法。
【請求項３】
前記露光機と前記パターン原版及び該パターン原版と前記シートとの密着は真空吸着である、請求項１記載の光学式スケールの作成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学式スケールの作成方法、詳しくは短いパターン原版で長尺の光学式スケールを作成する光学式スケールの作成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造装置、工作機械、あるいは各種の精密測定装置などには正確に位置を検出するための位置決めに光学式スケールが用いられている。この光学式スケールは精度が要求されるために、精度の高いパターン原版を予め作成し、このパターン原版を用いて光学式スケールを作成している（例えば、特許文献１）。
【０００３】
この光学式スケールの作成方法は、予め所定のピッチに格子を形成したパターン原版を作成し、このパターン原版を、射出成形機あるいは押し出し成形機などの成形装置に、別途準備した適宜の透光性スケール基板と所定間隔をおいて配設し、この間隙部に紫外線硬化樹脂などの樹脂を充填して硬化させ、充分に硬化した後パターン原版を離型させればスケールの素材ができるので、凹凸面の何れかの面に遮光膜を形成することにより透過型の光学式スケールを形成することができるものであった。
【特許文献１】特開平１−１１３６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明が解決しようとする問題点は、上述のパターン原版を用いて光学式スケールを作成する場合、所要の長さの光学式スケールを作成する場合、パターン原版も所要の長さのものが必要になり、長尺の光学式スケールを作成する場合には長尺のパターン原版を用意しなければならない点であった。
【０００５】
本発明は、上記問題点を解決し、短いパターン原版で長尺の光学式スケールを作成する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するために本発明に係る光学式スケールの作成方法は、短いパターン原版で長尺の光学式スケールを作成する作成方法であって、パターン原版は光が透過する透光部と光を遮光する遮光部とを交互に形成するとともに、全ての透光部の巾と、全ての遮光部の巾とは夫々同一に形成し、上記パターン原版を通して露光機の光をフィルムに露光する際、上記パターン原版と露光機とを密着させるとともに、上記フィルムと上記パターン原版とを密着させ、上記フィルムへのスリットパターンの露光後、パターン原版とフィルムとの密着状態を解除し、露光機とパターン原版との密着状態を維持したまま、露光機とパターン原版とを所定の距離スライド移動させた後、パターン原版とフィルムとを再び密着させて露光することを特徴とする。
【０００７】
なお、前記所定の距離は、前回露光した最後尾のスリットパターンと、新規に露光する最前部のスリットパターンとの間隔が前記パターン原版の遮光部の巾に等しくなる距離であればよい。
【０００８】
また、前記露光機と前記パターン原版及び該パターン原版と前記シートとの密着は真空吸着であることが好ましい。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１の発明によれば、大掛かりな装置を使用することなく短いパターン原版で長尺の光学式スケールを作成することができる。
【００１０】
請求項２の発明によれば、一度露光した部分に再度露光する二重露光が回避され、精度の高い光学式スケールを実現することができる。
【００１１】
請求項３の発明によれば、露光機とパターン原版及びパターン原版とシートとの密着を簡単に行なうことができるので装置の簡素化が図れるとともに、作業効率を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
パターン原版は光が透過する透光部と光を遮光する遮光部とを交互に形成するとともに、全ての透光部の巾と、全ての遮光部の巾とは夫々同一に形成し、上記パターン原版を通して露光機の光をフィルムに露光する際、上記パターン原版と露光機とを密着させるとともに、上記フィルムと上記パターン原版とを密着させ、上記フィルムへのスリットパターンの露光後、パターン原版とフィルムとの密着状態を解除し、露光機とパターン原版との密着状態を維持したまま、露光機とパターン原版とをスライド移動させ、既に形成したスリットパターンに連続する位置にパターン原版を移動させた後、パターン原版とフィルムとを再び密着させて露光し、パターン原版の移動、露光を繰り返し行なうことにより長尺の光学式スケールを作成する。
【実施例１】
【００１３】
以下、図面によって本発明の光学式スケールの作成方法について説明する。
【００１４】
図１において、符号１は本発明に係る光学式スケールの作成方法で作成する光学式スケールの一例を示す。この光学式スケール１は工業用写真フィルムによって構成された基材フィルム２の表面にスリットパターン３を形成したものである。
【００１５】
光学式スケール１は、図２に示されるように、基材フィルム２の表面にパターン原版５を密着させて露光し、さらに現像処理して前記基材フィルム２上にスリットパターン３を形成すればよい。
【００１６】
上記基材フィルム（工業用写真フィルム）２は透明な合成樹脂フィルム（通常はポリエステルフィルム）２ａ上に感光膜２ｂを形成したもので、ネガフィルムに限定されず、ポジフィルムでもよい。
【００１７】
パターン原版５はガラス、フィルムシート、金属シート等にスリットを形成したもので、本実施例ではパターン原版としてガラスを使用した場合について説明する。このガラスの裏面に形成されたスリットパターン３は、透光部５ａのスリットの巾Ｗ１は全て等しく、遮光部５ｂのスリットの巾Ｗ２は全て等しくなるように微細で高精度のスリットパターン３が得られればよい。
【００１８】
なお、本発明では透光部５ａのスリットの巾Ｗ１と遮光部５ｂのスリットの巾Ｗ２とは同一の巾にしたが、必ずしも同じ巾である必要はない。
【００１９】
そして、基材フィルム２の表面にパターン原版５を密着させてこのパターン原版５の上から露光し、さらに現像処理する。基材フィルム２を現像液に漬け、現像を停止し、定着させ、さらに水洗、乾燥等の所定の工程を経ることにより、感光膜２ｂが露光した部分は黒、露光しない部分は透明となる（ポジフィルムの場合はこの逆）から、図１に示すように、透明な合成樹脂フィルム２ａ上の感光膜２ｂに所定のスリットパターン３が形成することができる。
【００２０】
上述のパターン原版５を使って長尺のスケール１を作成する場合は、図３に示すように、長尺の基材フィルム２の表面にパターン原版５を対応させてこのパターン原版５の上から露光機１０で露光し、露光が終了したらパターン原版５と露光機１０とを移動し、再び基材フィルム２の表面にパターン原版５を対応させてこのパターン原版５の上から露光機１０で露光する作業を繰り返し、全ての露光作業が終了した後に現像処理を行なえばよい。
【００２１】
この際、移動前の露光済みの最後尾のスリットパターン３と、移動後のパターン原版５の最前部の透光部５ａとの間隔Ｌ１が、遮光部５ｂのスリットの巾Ｗ２と等しくなるようにパターン原版５を移動させ（図４参照）、再び露光することにより、図５に示すように、基材フィルム２に連続してスリットパターン３を形成することができる。
【００２２】
図６は、上記光学式スケールを作成する作成装置Ａの一例を示し、この作成装置Ａは基台１１上に露光機１０を左右方向にスライド移動できるように配置し、露光機１０にはパターン原版５が密着して固定できるようになっており、基台１１の上面のステージ１２にフィルム２が密着して固定できるようになっていればよい。
【００２３】
露光機１０にパターン原版５を密着して固定する固定方法の概念は、露光機１０の底面とパターン原版５との間を真空状態にしてパターン原版５が露光機１０の底面に固定されるようにすればよい。
【００２４】
この為には、図７（ａ）に示すように、露光機１０の枠体１５の下部に複数の第１のエア通路１６を形成し、この第１のエア通路１６の下端側の開口部を枠体１５の底面側に開口させ、上端の開口部を枠体１５の外周面に開口させ、その開口部にはパイプ１７を介して真空ポンプ１８に接続しておけばよい。そして、露光機１０をパターン原版５に押し付けた状態で、真空ポンプ１８で第１のエア通路１６内部の空気を吸引し、露光機１０とパターン原版５との間を真空状態にすることにより露光機１０の枠体１５に固定された透明なガラス板１９にパターン原版５が密着した状態を作り出すことができる。
【００２５】
露光機１０の底面にパターン原版５を固定させた状態で、パターン原版５にステージ１２上のフィルム２を密着できるようにすればよい。そのためには、露光機１０の枠体１５の下部周面にゴムパッキンのような弾性部材２０を周設し、この弾性部材２０の下端と露光機１０の下端との間に空間を設けこの空間の一部に第２のエア通路２１を形成し、第１のエア通路１６と同様に、パイプ２２を介して真空ポンプ２３に接続しておけばよい。そして、真空ポンプ１８を作動させて露光機１０にパターン原版５を固定した状態で、真空ポンプ２３を作動させ第２のエア通路２１を真空状態にすることによりパターン原版５にフィルム２を吸着させ、真空密着した状態を作り出すことができる。
【００２６】
このようにして、露光機１０にパターン原版５を固定し、パターン原版５にフィルム２を真空密着させた状態で露光し、パターン原版５のスリットパターンをフィルム２に焼き付ければよい。
【００２７】
フィルム２への焼付けが終わったら、フィルム２とパターン原版５との真空密着状態を解除し（バルブ２４を開き）、フィルム２とパターン原版５とが乖離した状態にした後に、露光機１０をステージ１２から離反させ（図７（ｂ）参照）、基台１１上をスライド移動させる。
【００２８】
露光機１０が所定量移動したら、露光機１０を停止させるとともに下降させてパターン原版５をフィルム２に押し付けた状態にし、バルブ２４を閉じてパターン原版５とフィルム２とを真空密着させた後、再び露光すればよい（図７（ｂ）参照）。
【００２９】
その露光が終了したら、同様にパターン原版５とフィルム２との真空密着状態を解除し、露光機１０を移動させた後、パターン原版５とフィルム２とを再び真空密着させ、露光する行程を繰り返せばよい。
【００３０】
なお、露光の工程中は真空ポンプ２５を作動させ、ステージ１２の上面に開口させたエア通路２７内を真空状態にしてステージ１２にフィルム２を吸着させ、ステージ１２にフィルム２が固定された状態を維持すればよい。
【００３１】
上述のように、基材フィルム２の表面にパターン原版５を密着させてこのパターン原版５の上から露光する工程を繰り返し、ステージ１２上の基材フィルム２全体に露光した後、現像処理すればよい。基材フィルム２を現像液に漬け、現像を停止し、定着させ、さらに水洗、乾燥等の所定の工程を経ることにより、感光膜２ｂが露光した部分は黒、露光しない部分は透明となる（ポジフィルムの場合はこの逆）から、図１のように透明なフィルム２上の感光膜２ｂに所定のスリットパターン３を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】光学式スケールの斜視図
【図２】原版とフィルムとを説明する斜視図
【図３】本発明の光学式スケールの作成方法の概念図
【図４】原版とフィルムとの位置関係の説明図
【図５】光学式スケールの平面図
【図６】本発明の光学式スケールの作成方法に適用される装置の一例を示す説明図
【図７】（ａ）〜（ｃ）は露光機と、原版と、フィルムとの関係を説明する要部断面図
【符号の説明】
【００３３】
１    光学式スケール
２    基材フィルム
３    スリットパターン
５    パターン原版
５ａ    透光部
５ｂ    遮光部
１０    露光機
【図１】
2005274218.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2005274218.tif 000007
【図６】
2005274218.tif 000008
【図７】
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