(57)【要約】      （修正有）【課題】小型の液晶セルを治具等に突き当てて位置決めする装置等に対して、液晶セルが目的の位置で正確に位置決めを行うことができる様に、端辺に出っ張り形状のない液晶セルの製造方法を提供すること。【解決手段】２枚のガラス基板１０，１１の間に、液晶の注入口を揃えて枠取りされた複数のセルをライン状に配し、複数列のセル領域３１の間、及びガラス基板の両端に位置するセル領域３１とガラス基板１０，１１の端辺との間に、各セル領域３１の面積よりも大きい面積のダミー領域３３及びダミー領域３４をそれぞれ配設し、第１のスクライブ・ブレーク手段を用いて、セル領域３１とダミー領域３３またはセル領域３１とダミー領域３４を有する複合短冊状セル基板に割断し、次に第２のスクライブ・ブレーク手段を用いてセル領域３１とダミー領域３３または３４間を割断して液晶セルを得る。【選択図】図２
2005140884.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚のガラス基板をシール材により枠取りされた複数個のセルを介して間隙をもって貼り合わせ、スクライブ・ブレーク手段を用いて、複数個の液晶セルを同時に形成する液晶セルの製造方法において、
２枚のガラス基板の間に、液晶の注入口の方向を揃えて枠取りされた複数のセルをライン状に配した複数列のセル領域と、前記各セル領域の間に、前記各セル領域の面積よりも大きい面積の第１のダミー領域を配設するとともに、前記複数列のセル領域の両端に位置する前記セル領域と前記ガラス基板の端辺との間にも前記各セル領域の面積よりも大きい面積の第２のダミー領域を配設して形成する一体基板形成工程と、
前記セル領域と前記ダミー領域を有する複合短冊状セル基板と、前記複合短冊状セル基板の面積よりも大きい面積の分割片とを、第１のスクライブ・ブレーク手段により２片に割断して形成する複合短冊状セル基板形成工程と、
前記複合短冊状セル基板から、一方の長辺に前記注入口が列設する様に、前記ダミー領域を第２のスクライブ・ブレーク手段により割断する短冊状セル基板形成工程と、
を有することを特徴とする液晶セルの製造方法。
【請求項２】
２枚のガラス基板をシール材により枠取りされた複数個のセルを介して間隙をもって貼り合わせ、スクライブ・ブレーク手段を用いて、複数個の液晶セルを同時に形成する液晶セルの製造方法において、
２枚のガラス基板の間に、液晶の注入口の方向を揃えて枠取りされた複数のセルをライン状に配した複数列のセル領域と、前記各セル領域の間に、前記各セル領域の面積よりも大きい面積の第１のダミー領域を配設するとともに、前記複数列のセル領域の両端に位置する前記セル領域と前記ガラス基板の端辺との間にも前記各セル領域の面積よりも大きい面積の第２のダミー領域を配設して形成する一体基板形成工程と、
前記セル領域と前記ダミー領域を有し、一方の長辺に前記注入口が列設された複合短冊状セル基板と、前記複合短冊状セル基板の面積よりも大きい面積の分割片とを、第１のスクライブ・ブレーク手段により２片に割断して形成する複合短冊状セル基板形成工程と、
前記注入口から液晶を注入した後にその注入口を封孔して形成する複合短冊状液晶セル形成工程と、
前記複合短冊状液晶セルから前記ダミー領域を第２のスクライブ・ブレーク手段により割断して形成する短冊状液晶セル形成工程と、
を有することを特徴とする液晶セルの製造方法。
【請求項３】
前記複合短冊状セル基板形成工程は、前記一つのセル領域と前記少なくとも一つのダミー領域を有するように、前記ガラス基板の端辺から第１のスクライブ・ブレーク手段により順次割断して行うことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶セルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶セルの製造方法に関するものであり、特に小型の液晶セルであり、大判のガラス基板で多数個の液晶セルを同時に大量に生産する場合に、スクライブ・ブレーク手段を用いて単個の液晶セルに割段する際の外径ガラス端面からの突出する出っ張り形状となることを防止することができる液晶セルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の製造方法において、図１０に示すように、最初に大判のガラス基板間にシール材によって構成された空セルをマトリックス状に複数個配置して形成する一体基板形成工程（Ｓ１）と、その一体基板に配設された空セルを行毎に、第１のスクライブ・ブレーク手段により切り出して、ライン状に複数個の空セルを有する短冊状セル基板を形成する短冊状セル基板形成工程（Ｓ２）と、この短冊状の構成を利用して行方向に並んだ複数個の空セル内に液晶を同時に注入して形成する短冊状液晶セル形成工程（Ｓ３）と、その後この短冊状液晶セルから第２のスクライブ・ブレーク手段により液晶表示装置用の単個の液晶セルを得る液晶セル分離工程（Ｓ４）の手順を踏んで、大判のガラス基板から一度に多数個の液晶セルを形成する方法が知られている（特許文献１参照）。
【０００３】
この液晶セルの製造方法について更に詳細に説明する。
図１１は、一体基板形成工程（Ｓ１）に従って形成された一体基板１００１の平面図及び断面図が記載され、第１のスクライブ・ブレーク手段によって短冊状セル基板を切り出す短冊状セル基板形成工程を示している。
この一体基板形成工程（Ｓ１）では、一方のガラス基板１０に、予め透明電極、配向膜（図示せず）、及びシール材４５を所定の形状所定の位置に形成する。また、同様に他方のガラス基板１１にも、予め透明対向電極及び配向膜（図示せず）を形成する。そしてこの一対のガラス基板１０，１１を、前述したシール材４５を介して貼り合わせることによって、一対のガラス基板１０，１１で構成される空セルを複数個有する（図中においては、１６個の空セルが形成されている一例を示している。）一体基板１００１を形成する。
【０００４】
さらに、２枚のガラス基板１０、１１の間には液晶の注入口４６を揃えて枠取りされた複数のセルをライン状に配したセル領域３１が、複数列で最密配置されている。そしてセル領域３１の外側にのみ、ダミー領域３２ａ，ｂが配設してある。
【０００５】
そして、ライン状に配した複数個の空セルを、第１のスクライブ・ブレーク手段により切断するために、符合４０１〜４０５の切断予定線に沿って、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板１０には切り込み４１１〜４１５を入れ、同様にガラス基板１１には、切り込み４２１〜４２５を入れ、ブレイカ装置等（図示せず）を用いて破断力を加えて短冊状に割断する。
ここで、ガラス基板１０を、切り込み４１１〜４１５の順に割断し、ガラス基板１１については、符合４２１〜４２５の順に割断して、図１２に示す短冊状セル基板１００２を作成する。
【０００６】
図１２は、短冊状セル基板形成工程（Ｓ２）に従って形成された短冊状セル基板１００２の平面図及び断面図が記載され、その右側に示した断面図では、割断面の断面形状を強調して記載してある。
上記の手順により短冊状セル基板１００２を形成すると、一方の割断面は出っ張り形状（符合１５参照）を、他方の割断面は窪み形状（符合１６参照）を有する形状となってしまう。例えば、この短冊状液晶セル１００２における出っ張り量は、大きいもので１００
μｍ程度となってしまうことがある。
【０００７】
図１３は、短冊状液晶セル形成工程（Ｓ３）に従って形成された短冊状液晶セル１００３の平面図及び断面図が記載され、第２のスクライブ・ブレーク手段によって各液晶セル１００４を切り出す液晶セル分離工程（Ｓ４）を示している。
シール材４５で形成され、ライン状に配置された各液室に、シール材４５により設けた注入口４６より図では４個の空セルに同時に液晶を注入し、その注入口４６を封孔材４９で封孔して短冊状液晶セル１００３を形成する。そして、図１３に示すように、第２のスクライブ・ブレーク手段により、符合５０１〜５０５の切断予定線に沿って、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板１０には切り込み５１１〜５１５を入れ、ガラス基板１１には、切り込み５２１〜５２５を入れ、ブレイカ装置等（図示せず）を用いて破断力を加えて割断して、図１４示す単個の液晶セル１００４を形成する。
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−５２３９８号公報（第２頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
前述した様に、背景技術に示した手段を採用し、大量の液晶セルを同時に形成した場合は、各セルを枠取りするシール材４５によりなる空セルをマトリックス状に最密充填して配置した状態で、第１のスクライブ・ブレーク手段により短冊状セル基板を切り出しているので、図１４の断面図（右図）に示す様に、液晶セル１００４の一方の割断面が１００μｍもの出っ張り形状１５を有する構造となってしまう。この出っ張り形状１５は、液晶表示用の特に大型の液晶セルとして用いる場合はさして問題となるものではないが、小型の液晶セル、例えば５ｍｍ角程度の小さい外径の液晶セルとして用いる場合は無視できないものとなる。その小型の液晶セルをレーザー光学系に適用した一例を更に詳細に説明をする。
【００１０】
例えば、光ファイバー間に液晶セルを配置し、この液晶セルに入射される偏光成分を液晶により位相変調させるようにこの液晶セルを光スイッチに適用する場合や、レーザー光源から出射される直線偏光成分が液晶セルを通過し、さらに集光レンズにより光スポットを記録媒体に集光し、その記録媒体からの反射光を光検知機で検知することで、記録媒体に記録された情報や記録媒体に情報を書き込む光ピックアップ装置がある。ここでの液晶セルは、記録媒体からの反射光による収差を補正するために配置したものである。
【００１１】
これらレーザー光学系等に使用される小型の液晶セルは、通常いずれも液晶セルのガラス端面を治具等に押しつけて、液晶セルに入射する直線偏光成分を基準にして位置決めされることになるが、上述した様に、外形形状が設計値（ここでの例では５ｍｍ角）から１００μｍも突出した出っ張り形状１５を有する面が治具への突き当て面となる場合、光スイッチの場合は、所望の位相変調量を得ることができなくなるし、光ピックアップ装置の場合は、所望の収差補正を得ることができない等の不具合が生じてしまう。
【００１２】
そこで本発明が解決しようとする目的は、治具等に突き当てて小型の液晶セルを位置決めする装置等に用いたとしても、液晶セルが目的の位置で正確に位置決めを行うことができる様にした液晶セルの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、上記課題を解決するために次の手段を用いた。
本発明の液晶セルの製造方法は、２枚のガラス基板をシール材により枠取りされた複数個のセルを介して間隙をもって貼り合わせ、スクライブ・ブレーク手段を用いて、複数個の液晶セルを同時に形成する液晶セルの製造方法において、２枚のガラス基板の間に、液
晶の注入口の方向を揃えて枠取りされた複数のセルをライン状に配した複数列のセル領域と、各セル領域の間に、各セル領域の面積よりも大きい面積の第１のダミー領域を配設するとともに、複数列のセル領域の両端に位置するセル領域とガラス基板の端辺との間にも各セル領域の面積よりも大きい面積の第２のダミー領域を配設して形成する一体基板形成工程と、セル領域とダミー領域を有する複合短冊状セル基板と、複合短冊状セル基板の面積よりも大きい面積の分割片とを、第１のスクライブ・ブレーク手段により２片に割断して形成する複合短冊状セル基板形成工程と、複合短冊状セル基板から、一方の長辺に注入口が列設する様に、ダミー領域を第２のスクライブ・ブレーク手段により割断する短冊状セル基板形成工程とを有する方法である。
【００１４】
これらの工程を経て得られた短冊状セル基板により形成されたライン状に並んだ空セルに同時に液晶の注入と封孔を施して、短冊状液晶セルを形成する工程と、この短冊状液晶セルを単個の液晶セルに分離することで、目的の両割断面が窪み形状とした液晶セルを形成することができる。
【００１５】
さらに、本発明の液晶セルの製造方法は、２枚のガラス基板をシール材により枠取りされた複数個のセルを介して間隙をもって貼り合わせ、スクライブ・ブレーク手段を用いて、複数個の液晶セルを同時に形成する液晶セルの製造方法において、２枚のガラス基板の間に、液晶の注入口の方向を揃えて枠取りされた複数のセルをライン状に配した複数列のセル領域と、各セル領域の間に、各セル領域の面積よりも大きい面積の第１のダミー領域を配設するとともに、複数列のセル領域の両端に位置するセル領域とガラス基板の端辺との間にも各セル領域の面積よりも大きい面積の第２のダミー領域を配設して形成する一体基板形成工程と、セル領域とダミー領域を有し、一方の長辺に注入項が列設された複合短冊状セル基板と、複合短冊状セル基板の面積よりも大きい面積の分割片とを、第１のスクライブ・ブレーク手段により２片に割断して形成する複合短冊状セル基板形成工程と、注入口から液晶を注入した後にその注入口を封孔して形成する複合短冊状液晶セル形成工程と、複合短冊状液晶セルからダミー領域を第２のスクライブ・ブレーク手段により割断して形成する短冊状液晶セル形成工程とを有する方法である。
【００１６】
また、上記工程を経て得られた短冊状液晶セル基板を単個の液晶セルに分離することで、これも同様に目的の両割断面が窪み形状とした液晶セルを形成することができる。
【００１７】
またさらに、本発明の液晶セルの製造方法は、複合短冊状セル基板形成工程は、一つのセル領域と少なくとも一つのダミー領域を有するように、ガラス基板の端辺から第１のスクライブ・ブレーク手段により順次割断して行う方法である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明により製造された液晶セルは、スクライブ・ブレーク手段による液晶セルの割断の寸法精度を向上させることができ、例え、治具等に突き当てて正確に位置決めする必要がある装置等に液晶セルを用いたとしても、この液晶セルが目的の位置で正確に位置決めを行うことができる。
【００１９】
また、本発明により製造された小型の液晶セルを用い、しかもこの液晶セルの位置決め精度が要求されて、液晶セルの外形を治具に押しつけて用いる必要がある、液晶光スイッチや、光ピックアップ装置等のみならず、外形寸法を正確に得たい液晶セル全般に適用することができる技術であることは言うまでもない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態について説明する。
図１にこの発明の製造方法のフローチャートを示して、本発明の製造方法の手順につい
て説明をする。
本発明の第一の製造方法は、大判のガラス基板間にシール材によって構成された複数個の空セルをライン状に配したセル領域を複数行配置して、マトリックス状に空セルを配置する。そして、各セル領域との間に第１のダミー領域を、最上部、最下部のセル領域とガラス基板端面との間にそれぞれ第２のダミー領域を設けて形成する一体基板形成工程（Ｓ１）を採用する。そして、第１のスクライブ・ブレーク手段により、セル領域と前述した少なくとも一つのダミー領域を有するように形成する複合短冊状セル基板形成工程（Ｓ２）と、第２のスクライブ・ブレーク手段によりこの複合短冊状セル基板を２片に割断して形成する短冊状セル基板形成工程（Ｓ３−１）と、この短冊状セル基板における各セルに液晶を注入して形成する短冊状液晶セル形成工程（Ｓ４）を有する。
【００２１】
そして、この短冊状液晶セル形成工程（Ｓ４）を経た後に、第３のスクライブ・ブレーク手段により、単個の液晶セルに分離する液晶セル分離工程（Ｓ５）により、液晶セルの割断面に出っ張り形状を有さない液晶セルを同時に多数個製造することができる。
【００２２】
また、本発明の第二の製造方法は、上記したと同様に一体基板形成工程（Ｓ１）と、複合短冊状セル基板形成工程（Ｓ２）を経た後に、第１のスクライブ・ブレーク手段により、セル領域と第１または第２のダミー領域とを分離する前に、液晶を注入して形成する複合短冊状液晶セル形成工程（Ｓ３−２）と、次に第２のスクライブ・ブレーク手段により、この複合短冊状液晶セルを２片に割断して形成する短冊状液晶セル形成工程（Ｓ４）を有する。
【００２３】
そして、第一の製造方法と同様に、第３のスクライブ・ブレーク手段により単個の液晶セルに分離する液晶セル分離工程（Ｓ５）により、これも液晶セルの割断面に出っ張り形状を有さない液晶セルを同時に多数個製造することができる。
【００２４】
図２は、一体基板形成工程（Ｓ１）に従って形成された一体基板１の平面図及び断面図が記載され、この一体基板１を第１のスクライブ・ブレーク手段によって複合短冊状セル基板２を割断する複合短冊セル基板形成工程（Ｓ２）を説明するための図面である。
図２に示した、一体基板１は、一体基板成形工程（Ｓ１）に従い、２枚のガラス基板１０，１１の間に液室と液晶の注入口４６を備えたセルをシール材４５で形成してある。そして、この一体基板１には、複数のセル（図中では４個のセルを配設した例を示している。）をライン状に配した複数のセル領域３１を配しているが、本発明の液晶セルの製造方法によれば、各セル領域３１（図中においては２行に配した空セルのみを示している。）の間には、セル領域３１の面積よりも大きい面積の第１のダミー領域３３が配してある。
【００２５】
さらに複数列のセル領域３１の両端には、セル領域３１と一体基板の端辺との間に第２のダミー領域３２ａ，ｂ（図中では、上端面に配置した第２のダミー領域３２ａのみを示している。）をそれぞれ配してある。
【００２６】
本願発明の液晶セルの製造方法は、上述した各セル領域３１と、第１、第２のダミー領域３２ａ，ｂ、３３の幅の設定、及び短冊状液晶セルを形成する手順に特徴があり、この手順にて形成した全ての液晶セルの両割断面を窪み形状とすることができるものである。この方法について以下に詳細に説明する。
【実施例１】
【００２７】
まず、本発明の第一の製造方法について説明する。
上述した様に、図２における第１、第２のダミー領域３２ａ，ｂ、３３のそれぞれの面積は、セル領域３１の面積より大きくなるように設定してあり、第１のスクライブ・ブレーク手段により分割する際の２片の内、残りの基板である分離片３４は、ダミー領域３３
とセル領域３１の面積と合わせたものより大きくなる様に２片を割断してゆくことが必須となる。また、本実施例においては、各第１、第２のダミー領域３２ａ，ｂ、３３の面積を全て同じとなるようにしている。
【００２８】
具体的には、図２に示すように、第１のスクライブ・ブレーク手段により、符合１０１、１０２の切断予定線に沿って、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板１０には切り込み１１１、１１２を入れ、ガラス基板１１には、切り込み１２１、１２２を入れブレイカ装置等（図示せず）を用いて破断力を加えて、図中の上側から順にダミー領域とセル領域３１とが一対となる様に割断して、ガラス基板１０，１１の端辺から、図３に示す複合短冊状セル基板２を形成する。
ここでは、ガラス基板１０では、切り込み１１１〜１１２の順に割断して、ガラス基板１１については、１２１〜１２２の順に割断して、図３に示す複合短冊状セル基板２を作成している。
【００２９】
この場合において、割断した複合短冊状セル基板２の片の面積は、残った一体基板１片の面積（前述した分離片３４に相当する。）より小さくすることにより、セル領域３１側の割断面の形状を図３に示すように窪み形状１６にすることができる。なお、この段階で、第１のダミー領域３３側の割断面は、出っ張り形状１５となっている。
【００３０】
上述した、液晶セルの両方の割断が窪み形状１６と出っ張り形状１５となる現象をより具体的に説明すると、一対のガラス基板１０，１１を２片に割断した場合、この２片の内、面積の少ない方の割断面は、窪み形状１６となる。それに対し、面積の大きい方の割断面は、出っ張り形状１５となる。この現象を応用して、必ず面積が小さい片となる割断面がセル領域３１側となるように、複数個のセルを一体基板１を形成する段階で配置をするとともに、複数個のセル領域３１を短冊状に割断する際においても、この現象を考慮して２片に割断することが肝要である。
【００３１】
次に、複合短冊状セル基板形成工程（Ｓ２）に従って形成された複合短冊状セル基板２の形成方法について説明をする。
図３は、複合短冊状セル基板形成工程（Ｓ２）に従って形成された複合短冊状セル基板２の平面図及び断面図が記載され、右側に示す断面図では、割断面の断面形状を強調して記載してある。ここで、一方の割断面は出っ張り形状（符合１５を参照）を、他方の割断面は窪み形状（符合１６を参照）を有している。
【００３２】
この図３に示す様に、第２のスクライブ・ブレーク手段により、符合２０１の切断予定線に沿って、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板１０には切り込み２１１を入れ、ガラス基板１１には切り込み２２１を入れ、ブレイカ装置等（図示せず）を用いて破断力を加えて、図４に示す短冊状セル基板３に割断する。
【００３３】
この様に本実施例においては、各第１、第２のダミー領域３２ａ，ｂ、３３の面積を全て同じとし、１つのダミー領域と１つのセル領域３１とが必ず一対となる様に２片に分離して複合短冊状セル基板２を得る方法を採用している。そのため、最後に残る片は、２つのダミー領域（第１のダミー領域３３と第２のダミー領域３２ｂ）と１つのセル領域３１の複合短冊状セル基板２となる。この最後の片からセル領域３１を切り出す際も、最初に設定したダミー領域とセル領域３１との面積比の関係が成り立ち、短冊状セル基板形成工程（Ｓ３−１）において形成される、全ての短冊状セル基板３のセル領域３１側の割断面を、窪み形状とすることができるのである。
【００３４】
図４には、短冊状セル基板形成工程（Ｓ３−１）に従って形成された短冊状セル基板３の平面図及び断面図が記載され、右側に示す断面図では、割断面の断面形状を強調して記
載してある。ここで、両端の割断面は窪み形状（符合１６を参照）となっている。
この図面に示す様に、ダミー領域３３の面積はセル領域３１の面積より大きくして配置してあるので、前述した様に、複合短冊状セル基板２からダミー領域３２，３３を除いたセル領域３１の両方の割断面は共に窪み形状１６となる。
このように両端の割断面を窪み形状として割断することにより、液晶セルにおける割断面の寸法精度を向上させることができる。
【００３５】
そして、この短冊状セル基板３のままシール材４５より形成された注入口４６より各液室に液晶を同時に注入し、この注入口４６を封止材４９にて封孔して、図５に示す短冊状液晶セル４を形成する。
【００３６】
図５には、短冊状液晶セル形成工程（Ｓ４）にしたがって形成された短冊状液晶セル４の平面図及び断面図が記載され、第３のスクライブ・ブレーク手段によって液晶セル切り出す液晶セル分離工程（Ｓ５）を示している。
そして、第３のスクライブ・ブレーク手段によって、符合５０１〜５０５の切断予定線に沿って、硬質工具（図示せず）によりガラス基板１０には切り込み５１１〜５１５を入れ、ガラス基板１１には切り込み５２１〜５２５を入れ、ブレイカ装置等（図示せず）を用いて破断力を加えて割断して、図６に示す液晶セル５を形成する。
【００３７】
以上の一連の工程により形成された液晶セル５は、背景技術で説明した液晶セル１００４（液晶セルの割断面の一方が出っ張り形状１５であり、他方が窪み形状１６の液晶セル）とは異なり、両割断面に窪み形状１６を有する構造となる。
【００３８】
上記の説明における液晶セル５の製造方法は、一体基板１から複合短冊状セル基板２を形成し、そしてこの複合短冊状セル基板２からダミー領域（図３の符合３３に示す領域）を割断している分だけ背景技術に示した工程よりも製造工程が長くなり、しかも一度に製造できる液晶セル５の取り個数が少なくなるが、背景技術で示した製造方法により形成した液晶セル１００４よりも外形寸法精度の良い液晶セル５を製造することができる。
【００３９】
また、本実施例においては、各第１、第２のダミー領域３２ａ，ｂ、３３の面積を全て同じとし、１つのダミー領域と１つのセル領域３１とが必ず一対となる様に２片に分離して短冊状セル基板を得る手順について説明をしてきたが、ダミー領域の面積および割断する手順は、上記手段に限定されるものではなく、複合短冊状セル基板２の面積を他方の分離片よりも必ず小さくすることを考慮して、複数行のセル領域３１およびダミー領域３２ａ，ｂ、３３を割断して形成した複合短冊状セル基板２を得る他の手段においても、本発明は適用可能である。
【実施例２】
【００４０】
以下に説明する第二の製造方法は、実施例１の第１のスクライブ・ブレーク手段による、セル領域３１と第１または第２のダミー領３１ａ，ｂ，３２を有する複合短冊状セル基板２から２片に割断して形成する短冊状セル基板形成工程（Ｓ３−１）に代えて、複合短冊状セル基板２の状態で、ライン状に配置された各液室に液晶を注入し、注入口を封孔した後に、第２のスクライブ・ブレーク手段により、実施例１と同じ短冊状液晶セル４とし、第３のスクライブ・ブレーク手段により、単個の液晶セル５を得る製造方法である。
この一連の手段について、以下に詳細に説明する。
【００４１】
まず、図７に示す様に、実施例１と同様に一体基板形成工程（Ｓ１）と複合短冊状セル基板形成工程（Ｓ２）により複合短冊状セル基板２を得る。そして、この複合短冊セル基板２のままシール材４５より形成された注入口４６よりライン状に配置された各液室に液晶を同時に注入し、この注入口４６を封止材４９にて封孔して、図９に示す複合短冊状液
晶セル６を形成する。
【００４２】
図９には、複合短冊状液晶セル形成工程（Ｓ３−２）に従って形成された複合短冊状液晶セル６の平面図及び断面図が記載されている。
【００４３】
次に、第２のスクライブ・ブレーク手段により、符合３０１の切断予定線に沿って、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板１０には切り込み３１１を入れ、ガラス基板１１には切り込み３２１を入れて、ブレイク装置等（図示せず）を用いて破断力を加えて２片に割断する。
【００４４】
さらに続けて、第３のスクライブ・ブレーク手段により、符合５０１〜５０５の切断予定線に沿って、硬質工具（図示せず）によりガラス基板１１には切り込む５１１〜５１５を入れ、ガラス基板１０には切り込み５２１〜５２５を入れ、ブレイク装置等（図示せず）を用いて破断力を加えて割断して、図６に示す、割断面の両側を窪み形状１６とした液晶セル５を形成することができる。
【００４５】
上記の説明の如く、実施例２に記載の本発明の液晶セルの製造方法によれば、一体基板１から複合短冊状セル２を割断して、第１または第２のダミー領域３２ａ，ｂ、３３とセル領域３１を有する複合短冊状セル２を形成した段階で液晶を注入している。ゆえに、本実施例で示した手段は、一体基板形成工程（Ｓ１）の段階で、ダミー領域の大きさを調整することにより、特に実施例１で説明した図４に示す短冊状セル基板４セル領域３１の短辺の幅が小さすぎることにより、その後に行われる短冊状液晶セル形成工程（Ｓ４）における取り扱いが困難となる場合に特に有効な手段となる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の液晶セルの製造方法を示すフローチャートである。
【図２】本発明の液晶セルの製造方法により形成された一体基板の平面図及び断面図である。（実施例１）
【図３】本発明の液晶セルの製造方法により形成された複合短冊状セル基板の平面図及び断面図である。（実施例１）
【図４】本発明の液晶セルの製造方法により形成された短冊状セル基板の平面図及び断面図である。（実施例１）
【図５】本発明の液晶セルの製造方法により形成された短冊状液晶セル基板の平面図及び断面図である。（実施例１）
【図６】本発明の液晶セルの製造方法により形成された液晶セルの平面図及び断面図である。
【図７】本発明の液晶セルの製造方法により形成された一体基板の平面図及び断面図である。（実施例２）
【図８】本発明の液晶セルの製造方法により形成された複合短冊状セル基板の平面図及び断面図である。（実施例２）
【図９】本発明の液晶セルの製造方法により形成された複合短冊状液晶セル基板の平面図及び断面図である。（実施例２）
【図１０】背景技術における液晶セルの製造方法を示すフローチャートである。
【図１１】背景技術における液晶セルの製造方法により形成された一体基板の平面図及び断面図である。
【図１２】背景技術における液晶セルの製造方法により形成された短冊状セル基板の平面図及び断面図である。
【図１３】背景技術における液晶セルの製造方法により形成された短冊状液晶セルの平面図及び断面図である。
【図１４】背景技術における液晶セルの製造方法により形成された液晶セルの平面図及び断面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１  一体基板
２  複合短冊状セル基板
３  短冊状セル基板
４  短冊状液晶セル
５  液晶セル
６  複合短冊状液晶セル
１０、１１  ガラス基板
１５  出っ張り形状
１６  窪み形状
３１、セル領域
３２ａ，ｂ、３３  ダミー領域
３４  分割片
４５  シール材
４６  注入口
４９  封止材
１０１，１０２，２０１，５０１〜５０５  切断予定線
１１１，１１２，１２１，１２２，２１１，２２１，３１１，３２１，５１１〜５１５，５２１〜５２５  切り込み
【図１】
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【図２】
2005140884.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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