(57)【要約】【課題】装置コストの増大を可及的に抑制しながら、写真感光材料上に形成する画像の画質を向上させる。【解決手段】レーザ光源ＬＳと、そのレーザ光源ＬＳの出射レーザ光の第２高調波を生成する光導波路型の第２高調波発生素子４１と、その第２高調波発生素子４１の光出射端面近傍に配置されるレンズ４３と、前記第２高調波発生素子４１を設定温度に保持するための加熱装置ＨＴ又は冷却装置ＣＬとが備えられ、前記第２高調波の光ビームを写真感光材料上で走査して写真画像を露光形成するための光源装置において、前記第２高調波発生素子４１を支持するＳＨＧ支持台４６ｂと、前記レンズを支持するレンズ支持部材ＬＨとが、前記加熱装置ＨＴ又は前記冷却装置ＣＬにて一体に加熱又は冷却されるように構成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源と、そのレーザ光源の出射レーザ光の第２高調波を生成する光導波路型の第２高調波発生素子と、その第２高調波発生素子の光出射端面近傍に配置されるレンズと、前記第２高調波発生素子を設定温度に保持するための加熱装置又は冷却装置とが備えられ、前記第２高調波の光ビームを写真感光材料上で走査して写真画像を露光形成するための光源装置であって、
前記第２高調波発生素子を支持するＳＨＧ支持台と、前記レンズを支持するレンズ支持部材とが、前記加熱装置又は前記冷却装置にて一体に加熱又は冷却されるように構成されている光源装置。
【請求項２】
前記レンズ支持部材は、前記レンズが取り付けられて、前記光導波路に対する前記レンズの位置を調整するための位置調整用部材と、その位置調整用部材を支持するレンズ用支持台とを備えて構成され、
前記ＳＨＧ支持台と前記レンズ用支持台とが、単一の部材で一体形成されて構成されている請求項１記載の光源装置。
【請求項３】
前記位置調整用部材は、前記レンズが取り付けられて、光軸と直交する第１調整軸方向で前記光導波路に対するレンズの位置を調整するための第１レンズ支持部材と、その第１レンズ支持部材を支持して、光軸及び前記第１調整軸に直交する第２調整軸方向で前記光導波路に対するレンズの位置を調整するための第２レンズ支持部材とを備えて構成され、
前記ＳＨＧ支持台、前記第２レンズ支持部材及び前記レンズ用支持台が、同一の材質にて構成されている請求項２記載の光源装置。
【請求項４】
前記レンズが、前記第２高調波発生素子から出射される基本波を吸収するように構成されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の光源装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ光源と、そのレーザ光源の出射レーザ光の第２高調波を生成する光導波路型の第２高調波発生素子と、その第２高調波発生素子の光出射端面近傍に配置されるレンズと、前記第２高調波発生素子を設定温度に保持するための加熱装置又は冷却装置とが備えられ、前記第２高調波の光ビームを写真感光材料上で走査して写真画像を露光形成するための光源装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
かかる光源装置は、レーザ光源の出射レーザ光を第２高調波発生素子の光導波路に入射させて、入射レーザ光の１／２の波長の第２高調波を取り出す装置である。
第２高調波発生素子の光導波路から出射された第２高調波は、光導波路の幅に応じたビーム拡がり角で拡がっていくので、これをコリメートレンズや集光レンズ等のレンズにて所定方向に集める。
下記特許文献１にも記載のように、従来、この第２高調波発生素子と、第２高調波発生素子の後段に位置するレンズとは別個に配置されるのが一般的であった。
【特許文献１】特開２００１−３１８３９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記従来構成では、光源装置の設置環境の雰囲気温度と第２高調波発生素子の設定動作温度との関係によっては、光源装置から出射した光ビームで写真感光材料上に画像を露光形成したときに、形成画像に濃度ムラ等の画質劣化が発生する場合があった。
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、装置コストの増大を可及的に抑制しながら、写真感光材料上に形成する画像の画質を向上させる点にある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本出願の第１の発明は、レーザ光源と、そのレーザ光源の出射レーザ光の第２高調波を生成する光導波路型の第２高調波発生素子と、その第２高調波発生素子の光出射端面近傍に配置されるレンズと、前記第２高調波発生素子を設定温度に保持するための加熱装置又は冷却装置とが備えられ、前記第２高調波の光ビームを写真感光材料上で走査して写真画像を露光形成するための光源装置において、前記第２高調波発生素子を支持するＳＨＧ支持台と、前記レンズを支持するレンズ支持部材とが、前記加熱装置又は前記冷却装置にて一体に加熱又は冷却されるように構成されている。
【０００５】
すなわち、本発明の発明者は、光源装置の設置環境の雰囲気温度の変化によって、第２高調波発生素子の光導波路と前記レンズとの間に微妙な光軸ズレが発生し、それが写真感光材料上に露光形成する写真画像の画質にまで影響し得ることを見出した。
光源装置の設置環境の雰囲気温度の変動が画質を劣化させてしまうのを防止するには、例えば、前記レンズの周囲をカバー等で覆って、前記レンズの周囲の空気に対して温調をかけるか、あるいは、前記レンズを保持するホルダに専用の加熱装置又は冷却装置を備える構成も考えられる。
しかしながら、このような構成で前記レンズを支持する構成部分の温度を安定化しようとすると、光源装置の構成が複雑化して装置コストの上昇を招いてしまう。
そこで、第２高調波発生素子を加熱又は冷却するための加熱装置又は冷却装置にて、前記レンズを支持するレンズ支持部材も含めて一体に加熱又は冷却することで、第２高調波発生素子と前記レンズとの光軸ズレを抑制しながら、装置コストの増大を抑制できる。
【０００６】
又、本出願の第２の発明は、上記第１の発明の構成に加えて、前記レンズ支持部材は、前記レンズが取り付けられて、前記光導波路に対する前記レンズの位置を調整するための位置調整用部材と、その位置調整用部材を支持するレンズ用支持台とを備えて構成され、前記ＳＨＧ支持台と前記レンズ用支持台とが、単一の部材で一体形成されて構成されている。
従って、第２高調波発生素子を支持するための構成部分と前記レンズを支持するための構成部分との熱的な一体性がより一層高いものとなり、相対的な温度変動がより一層抑制されると共に、構成部品の一体化により部品コストの低減にも寄与する。
【０００７】
又、本出願の第３の発明は、上記第２の発明の構成に加えて、前記位置調整用部材は、前記レンズが取り付けられて、光軸と直交する第１調整軸方向で前記光導波路に対するレンズの位置を調整するための第１レンズ支持部材と、その第１レンズ支持部材を支持して、光軸及び前記第１調整軸に直交する第２調整軸方向で前記光導波路に対するレンズの位置を調整するための第２レンズ支持部材とを備えて構成され、前記ＳＨＧ支持台、前記第２レンズ支持部材及び前記レンズ用支持台が、同一の材質にて構成されている。
従って、第２高調波発生素子を支持するための構成部分と前記レンズを支持するための構成部分とで熱膨張率を一致させることになり、加熱装置又は冷却装置によって設定する温度が変化したような場合でも、第２高調波発生素子と前記レンズとの間の相対的な位置変動を抑制できる。
【０００８】
又、本出願の第４の発明は、上記第１〜第３のいずれかの発明の構成に加えて、前記レンズが、前記第２高調波発生素子から出射される基本波を吸収するように構成されている。
すなわち、第２高調波発生素子の光導波路からは、生成された第２高調波と共に、第２高調波に変換されなかった基本波の波長成分も出射される。
この基本波をそのまま出力してしまうと後段の光学系において擾乱光となってしまうので、この基本波を遮断するためのフィルタを設ける必要がある。
基本波を遮断するフィルタとしては、干渉フィルタで基本波を反射したのではその反射光が擾乱光となってしまうので、基本波を吸収する吸収フィルタにて構成するのが好ましい。
ところが、十分に基本波を吸収するには吸収フィルタが光軸方向で相当程度の厚みを有することが必要となり、光源装置の小型化を妨げる要因の１つになる。
そこで、元々ある程度の厚さを有するレンズに、基本波吸収フィルタの機能をも併せ持たせることで、別途に基本波吸収フィルタを設けることを不要にするか、あるいは、設けるにしても薄型のもので済ませることが可能となる。
【発明の効果】
【０００９】
上記第１の発明によれば、第２高調波発生素子を加熱又は冷却するための加熱装置又は冷却装置にて、前記レンズを支持するレンズ支持部材も含めて一体に加熱又は冷却することで、装置構成の複雑化を回避しながら、第２高調波発生素子と前記レンズとの光軸ズレを抑制する。
もって、装置コストの増大を可及的に抑制しながら、温度変動による光軸ズレを抑制して写真感光材料上に形成する画像の画質を向上させることができる。
【００１０】
又、上記第２の発明によれば、第２高調波発生素子を支持するための構成部分と前記レンズを支持するための構成部分との間の相対的な温度変動がより一層抑制されると共に、構成部品の一体化により部品コストの低減にも寄与するので、より一層装置コストの抑制と形成画像の画質向上とを図れる。
又、上記第３の発明によれば、加熱装置又は冷却装置によって設定する温度が変化したような場合でも、第２高調波発生素子と前記レンズとの間の相対的な位置変動を抑制でき、更に形成画像の画質向上を図れる。
又、上記第４の発明によれば、元々ある程度の厚さを有するレンズに、基本波吸収フィルタの機能をも併せ持たせることで、別途に基本波吸収フィルタを設けることを不要にするか、あるいは、設けるにしても薄型のもので済ませることが可能となって、装置コストの低減と装置の小型化とを図れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の光源装置を写真プリントシステムにおける露光用の光源として備えた場合の実施の形態を図面に基づいて説明する。
本実施の形態で例示する写真プリントシステムＤＰは、いわゆるデジタルミニラボ機として知られているものであり、図６のブロック構成図に示すように、各種の画像データ入力機器から写真プリントを作製するための画像データを入力する画像入力装置ＩＲと、画像入力装置ＩＲにて入力した画像データに基づいて写真感光材料ＰＳの１例である印画紙２に露光処理する露光・現像装置ＥＰとから構成されている。
【００１２】
〔画像入力装置ＩＲの概略構成〕
画像入力装置ＩＲには、図６に概略的に示すように、写真フィルムの駒画像を読み取ってデジタル画像データとして出力するフィルムスキャナ３と、メモリーリーダ，ＭＯドライブ及びＣＤ−Ｒドライブ等の画像データ入力機器を備えた外部入出力装置４と、パーソナルコンピュータにて構成されてフィルムスキャナ３や外部入出力装置４の制御のほか写真プリントシステムＤＰ全体の管理を実行する主制御装置５とが備えられ、更に、主制御装置５には、仕上がりプリント画像をシミュレートしたシミュレート画像や各種の制御用の情報を表示するモニタ５ａと、露光条件の手動設定等や制御情報の入力操作をするための操作卓５ｂとが接続されている。
【００１３】
〔露光・現像装置ＥＰの全体構成〕
露光・現像装置ＥＰは、筐体内部に、画像露光装置ＥＸと、画像露光装置ＥＸにて露光された印画紙２を現像処理する現像処理装置ＰＰと、印画紙マガジン６から引き出された印画紙２を多数の搬送ローラ９等にて現像処理装置ＰＰへ搬送する印画紙搬送系ＰＴとが設けられている。
図示を省略するが、露光・現像装置ＥＰの筐体外部には、現像処理装置ＰＰにて現像処理及び乾燥処理された印画紙２をオーダ毎に分類するためのソータが備えられ、現像処理装置ＰＰの印画紙排出口から排出された印画紙２をこのソータへ搬送するコンベア１０が筐体上面に備えられている。
更に、印画紙搬送系ＰＴの搬送経路の途中には、印画紙マガジン６から引き出された長尺の印画紙２を設定プリントサイズに切断するカッタ１１と、印画紙２の搬送列を複数の搬送列に振り分けるための振り分け装置１２とが備えられている。
【００１４】
〔画像露光装置ＥＸの構成〕
画像露光装置ＥＸは、印画紙２に画像を露光形成する露光ユニット１３と、露光ユニット１３を制御する露光制御装置１４とを主要部として構成されている。
〔露光ユニット１３の構成〕
露光ユニット１３は、強度変調された光ビームを印画紙２上で走査して、印画紙２上に画像を露光形成するいわゆるレーザビーム露光式を採用しており、その概略構成を図５のブロック構成図に示す。
露光ユニット１３には、赤色光源装置２１と、緑色光源装置２２と、青色光源装置２３と、緑色光源装置２２及び青色光源装置２３から出射した光ビームを強度変調するための音響光学変調素子２４（以下、「ＡＯＭ素子２４」と略記する）と、光ビームの光路を屈曲させるミラー２５と、球面レンズ２６と、シリンドリカルレンズ２７と、図示を省略するモータにて回転駆動されるポリゴンミラー２８と、ｆ−θ特性と面倒れ補正機能とを有するレンズ群２９とが備えられている。
【００１５】
〔光源装置２１，２２，２３の構成〕
赤色光源装置２１は、図示を省略するが、赤色半導体レーザ素子と赤色半導体レーザ素子の出射光を集光する集光レンズとが備えられ、緑色光源装置２２及び青色光源装置２３と異なり、半導体レーザ素子の駆動電流を直接変調することによって出射レーザビームを強度変調している。
緑色光源装置２２と青色光源装置２３とは基本的な構成は共通であり、これらの構成を緑色光源装置２２によって代表して説明する。
図１の側面図及び図４の斜視図に示すように、緑色光源装置２２には、近赤外半導体レーザ装置２２ａと、近赤外半導体レーザ装置２２ａの出射レーザ光の第２高調波を生成する第２高調波発生装置２２ｂと、ビームスプリッタユニット２２ｃと、ビームスプリッタユニット２２ｃを通過した第２高調波の光ビームをＡＯＭ素子２４の受光開口に集光するための集光レンズユニット２２ｄとが備えられている。
近赤外半導体レーザ装置２２ａ，第２高調波発生装置２２ｂ及びビームスプリッタユニット２２ｃは、支持板６５上に取り付けられ、更に、その支持板６５と集光レンズユニット２２ｄとが基礎支持板６６上に取り付けられている。
【００１６】
近赤外半導体レーザ装置２２ａには、図１に示すように、レーザ光源ＬＳである半導体レーザ素子３１を収納したレーザ筐体３２と、レーザ筐体３２の光出射開口側に取り付けられて光ファイバ３６の一端を支持するファイバ支持部材３３と、レーザ筐体３２を支持するレーザ支持台３４と、半導体レーザ素子３１の温度調整をするための熱電冷却装置３５とが備えられ、半導体レーザ素子３１の出射光は、半導体レーザ素子３１の光出射位置に正確に位置決めされた光ファイバ３６にて第２高調波発生装置２２ｂへ導かれる。
この光ファイバ３６は、コアの部分において光軸方向に一定周期で屈折率を変化させた、いわゆるファイバブラッググレーティングを形成しており、このファイバブラッググレーティングの作用によって半導体レーザ素子３１の発光波長及び光出力を安定化している。
【００１７】
第２高調波発生装置２２ｂには、図１及び図２の斜視図に示すように、細長い薄板状の第２高調波発生素子４１と、光ファイバ３６における第２高調波発生素子４１側の先端近くを保持するファイバ支持部材４２と、第２高調波発生素子４１の光出射端面近傍に配置されて第２高調波発生素子４１の出射光をコリメートするレンズ４３と、レンズ４３を保持する第１レンズ支持部材４４と、その第１レンズ支持部材４４を支持する第２レンズ支持部材４５とが備えられ、ファイバ支持部材４２，第２高調波発生素子４１及び第２レンズ支持部材４５を共通の支持台４６にて支持している。すなわち、支持台４６は、ファイバ支持部材４２を支持するファイバ端支持台４６ａと、第２高調波発生素子４１を支持するＳＨＧ支持台４６ｂと，第２レンズ支持部材４５を支持するレンズ用支持台４６ｃとが単一の部材で一体形成されて構成されている。
第１レンズ支持部材４４及び第２レンズ支持部材４５は、緑色光源装置２２の組み立て時において、光導波路４１ａに対するレンズ４３の位置を調整するための位置調整用部材ＰＡとして設けられており、レンズ４３は、この位置調整用部材ＰＡと支持台４６の一部であるレンズ用支持台４６ｃとからなるレンズ支持部材ＬＨに支持されている。
【００１８】
支持台４６は、更に、熱電冷却装置４７に支持され、その熱電冷却装置４７によって、支持台４６の構成部分であるファイバ端支持台４６ａ，ＳＨＧ支持台４６ｂ及びレンズ用支持台４６ｃを一体に加熱又は冷却する。熱電冷却装置４７は、第２高調波発生素子４１を設定温度に保持するために備えられるもので、通電方向によって加熱及び冷却の双方が可能であり、加熱装置ＨＴ並びに冷却装置ＣＬとして機能するが、通常、第２高調波発生素子４１は室温より高温側に温度設定され、加熱装置ＨＴとして働いている。
支持台４６，第１レンズ支持部材４４及び第２レンズ支持部材４５は、同一の材質にて構成されている。この材質としては、例えば真鍮やアルミニウム等を用いることができる。
【００１９】
第２高調波発生素子４１は、光導波路型の第２高調波発生素子であり、図３の斜視図に示すように、その光導波路４１ａに周期分極反転構造４１ｂが形成されている。この光導波路４１ａの一端（光入射端）に光ファイバ３６の先端がファイバ支持部材４２に支持された状態で位置決めされている。尚、図３は、光導波路４１ａ及び周期分極反転構造４１ｂの形成状態を分り易くするために、それらを模式的に示すものであり、実際の外形形状は、図２に示すように、細長い薄板状に形成されている。
本実施の形態では、第２高調波発生素子４１の基板としてＬｉＮｂＯ３を用いており、光導波路４１ａはプロトン交換法等により形成し、周期分極反転構造４１ｂは、電界印加法あるいはＴｉ拡散法等で周期的に分極を反転させることにより形成する。
【００２０】
第２高調波発生素子４１の光導波路４１ａから出射した第２高調波をコリメートするレンズ４３は赤外線吸収材料にて形成され、第２高調波発生素子４１から出射される基本波の波長成分を吸収する。
レンズ４３が取り付けられる第１レンズ支持部材４４は、光軸（光導波路４１ａの導波路方向）と直交する第１調整軸方向（本実施の形態では、支持板６５に対して垂直方向（図２において矢印Ａで示す））で光導波路４１ａに対するレンズ４３の位置を調整するために、略コの字状に形成された第２レンズ支持部材４５の溝部分に嵌合しており、第２レンズ支持部材４５に固定する前は、第２レンズ支持部材４５に対して前記第１調整軸方向に移動可能となっている。
第１レンズ支持部材４４と第２レンズ支持部材４５との嵌め合い公差は、すきまばめ〜中間ばめの程度としてある。
【００２１】
第１レンズ支持部材４４を支持する第２レンズ支持部材４５は、光軸及び前記第１調整軸に直交する第２調整軸方向（本実施の形態では、光軸と直交し且つ支持板６５に対して平行となる方向（図２において矢印Ｂで示す））で光導波路４１ａに対するレンズ４３の位置を調整するために、支持台４６のレンズ用支持台４６ｃの部分に固定する前は、レンズ用支持台４６ｃの縦壁部分に当てつけた状態でレンズ用支持台４６ｃ上で前記第２調整軸方向に移動自在となっている。
【００２２】
緑色光源装置２２の組み立て工程におけるレンズ４３の位置調整は、第２高調波発生素子４１を設定温度に加熱すると共に、半導体レーザ素子３１を発光させておき、レンズ４３の出射光量が最大となるように、第１レンズ支持部材４４及び第２レンズ支持部材をマニピュレータ等により移動調整する。
この調整手順としては、第１レンズ支持部材４４を仮に位置決めした状態で、第２レンズ支持部材４５を前記第２調整軸方向に移動させて、レンズ４３からの出射光量が最大となる位置を探し、その位置で、接着あるいは溶接によって第２レンズ支持部材４５をレンズ用支持台４６ｃ上に固定する。
この後、第１レンズ支持部材４４を前記第１調整軸方向に移動させて、レンズ４３からの出射光量が最大となる位置を探し、その位置で、接着あるいは溶接によって第１レンズ支持部材４４を第２レンズ支持部材４５に固定する。
【００２３】
ビームスプリッタユニット２２ｃは、ビームスプリッタ５１が備えられ、そのビームスプリッタ５１を支持台５２にて支持している。
ビームスプリッタ５１の光入射面には、第２高調波発生素子４１から出射される第２高調波の波長成分の光の反射率を低下させる反射防止膜が形成され、光入射面と反対側の光出射面には、第２高調波発生素子４１から出射される第２高調波の波長成分の光の一部を、半導体レーザ素子３１の出力調整用のフォトダイオード５５に向けて反射する反射膜が形成されている。
【００２４】
支持台５２には、第２高調波発生装置２２ｂから出射された光をビームスプリッタ５１へ向けて通過させるための入射側貫通孔５２ａと、ビームスプリッタ５１の前記光出射面で反射された第２高調波をフォトダイオード５５へ向けて通過させるための反射側貫通孔５２ｂとが形成されている。
緑色光源装置２２の実使用時においては、ビームスプリッタ５１で反射された第２高調波の一部をフォトダイオード５５が検出すると、その検出信号は、図示を省略するＡＰＣ回路へ入力されて、フォトダイオード５５の検出信号が一定値となるように半導体レーザ素子３１の駆動電流が調節される。
【００２５】
集光レンズユニット２２ｄには、図１に示すように、集光レンズ６１と、集光レンズ６１を支持するレンズホルダ６２と、レンズホルダ６２を支持するレンズ支持台６３とが備えられ、レンズ支持台６３には、ビームスプリッタ５１を透過した第２高調波を通過させるための貫通孔６３ａが形成されている。
以上、緑色光源装置２２の構成として説明したが、上述のように、青色光源装置２３の構成要素は緑色光源装置２２の構成要素と共通であり、使用する半導体レーザ素子の発振波長や、第２高調波発生素子の周期分極反転構造の周期等の、光の波長に関する部分が異なる。
【００２６】
〔露光制御装置１４の構成〕
露光制御装置１４には、図５に概略的に示すように、上記構成の露光ユニット１３を制御するために、画像入力装置ＩＲから入力される赤色，緑色及び青色夫々の露光用画像データを露光ユニット１３の露光特性を考慮した画像データに補正するルックアップテーブル７１と、ルックアップテーブル７１にて補正された画像データを赤色，緑色及び青色の各色毎に記憶する画像データメモリ７２と、赤色，緑色及び青色の各色毎に備えられて画像データメモリ７２の出力データをＤ／Ａ変換するＤ／Ａコンバータ７３と、緑色及び青色についてＤ／Ａコンバータ７３からの入力信号に応じて変調されたＡＯＭ素子２４の駆動信号を生成するＡＯＭ制御回路７４と、赤色についてＤ／Ａコンバータ７３からの入力信号に応じて赤色光源装置２１の半導体レーザ素子の駆動電流を変調するＬＤ駆動回路７５とが備えられている。
【００２７】
オペレータが、フィルムスキャナ３あるいは外部入出力装置４からプリント対象の画像データを入力すると、適宜に画像処理等が施され、画像処理後の露光用画像データがルックアップテーブル７１へ送信される。
画像入力装置ＩＲから入力された赤色，緑色及び青色の露光用画像データに基づいて、ＡＯＭ素子２４及びＬＤ駆動回路７５にて強度変調された赤色，緑色及び青色の光ビームは、各光学部品を通過してポリゴンミラー２８の反射面に照射され、回転駆動されているポリゴンミラー２８の反射面で反射された光ビームは、レンズ群２９によって印画紙２上に集光される。光ビームの走査方向（主走査方向）は印画紙２の搬送方向（副走査方向）と直交しており、光ビームの走査と印画紙２の搬送移動によって、印画紙２上にプリントする写真画像が潜像として露光形成される。これが現像処理装置ＰＰで現像処理されて写真プリントとして仕上がる。
【００２８】
〔別実施形態〕
以下、本発明の別実施形態を列記する。
（１）上記実施の形態では、第２高調波発生素子４１を支持するＳＨＧ支持台４６ｂと、レンズ４３用の第２レンズ支持部材４５を支持するレンズ用支持台４６ｃとを支持台４６として一体形成する場合を例示しているが、これらを分離した状態で備えて、両者を熱電冷却装置４７上に取り付けるように構成しても良い。
（２）上記実施の形態では、光源装置２２，２３から出射した光ビームをポリゴンミラー２８にて走査する場合を例示しているが、例えばホログラムスキャナ等の各種の走査手段を用いても良い。
（３）上記実施の形態では、レーザ光源ＬＳが半導体レーザ素子３１である場合を例示しているが、ＹＡＧレーザ等の各種のレーザ光源を用いる場合にも本発明を適用できる。
【００２９】
（４）上記実施の形態では、写真感光材料ＰＳとして印画紙２を例示しているが、感光フィルムや感光ドラム等の各種の写真感光材料に写真画像を露光形成する場合に本発明を適用できる。
（５）上記実施の形態では、第２高調波発生素子４１を加熱又は冷却するために熱電冷却装置４７を備えて、加熱及び冷却の双方が可能な場合を例示しているが、これらのうちのいずれか一方の機能のみを有する加熱装置ＨＴあるいは冷却装置ＣＬを備えるように構成しても良い。
（６）上記実施の形態では、第２高調波発生素子４１の光出射端面近傍に配置されるレンズ４３がコリメートレンズである場合を例示しているが、レンズ４３が集光レンズである場合にも本発明を適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の実施の形態にかかる光源装置の側面図
【図２】本発明の実施の形態にかかる第２高調波発生装置の斜視図
【図３】本発明の実施の形態にかかる第２高調波発生素子の斜視図
【図４】本発明の実施の形態にかかる光源装置の斜視図
【図５】本発明の実施の形態にかかる画像露光装置の概略構成図
【図６】本発明の実施の形態にかかる写真プリントシステムの概略構成図
【符号の説明】
【００３１】
ＣＬ    冷却装置
ＨＴ    加熱装置
ＬＳ    レーザ光源
ＰＡ    位置調整用部材
４１    第２高調波発生素子
４３    レンズ
４４    第１レンズ支持部材
４５    第２レンズ支持部材
４６ｂ  ＳＨＧ支持台
４６ｃ  レンズ用支持台
【図１】
2005274880.tif 000003
【図２】
2005274880.tif 000004
【図３】
2005274880.tif 000005
【図４】
2005274880.tif 000006
【図５】
2005274880.tif 000007
【図６】
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