(57)【要約】  【課題】  液晶滴下法による適正なセル内圧を確保した高品質な液晶表示パネルの製造方法を提供すること。  【解決手段】  ガラス基板４０上に画像表示セル領域１０と、この画像表示セル領域１０に封入される液晶の内圧を観察するための複数のダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）を画像表示セル領域１０と同一の基板上に設け、画像表示セル領域１０及びダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）に液晶を滴下し、ガラス基板４０と第２の基板とを貼り合わせ、画像表示セル領域１０及びダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）に各々液晶を封入した画像表示セル及びダミーセルを形成し、このように形成されたダミーセルの状態の観察結果に基づき、画像表示セルの状態を予測する液晶表示パネルの製造方法。  【選択図】  図1
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板上に画像表示セル領域と、当該画像表示セル領域の周辺に少なくとも１個のダミーセル領域と、を設け、
前記画像表示セル領域及び前記ダミーセル領域に液晶を滴下し、
前記第１基板と第２基板とを貼り合わせ、
前記画像表示セル領域及び前記ダミーセル領域に各々前記液晶を封入した画像表示セル及びダミーセルを形成し、
前記ダミーセルの状態に基づき、前記画像表示セルの状態を予測することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記画像表示セルの状態は、複数の前記ダミーセルの状態に基づいて予測されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記画像表示セルの状態は、前記ダミーセル中に生じる気泡の有無又は当該ダミーセルに封入された前記液晶の色の変化に基づき予測されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記ダミーセルの状態に基づき、前記画像表示セルに封入される前記液晶の最適量が予測されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記画像表示セル領域は、前記第１基板上の製品エリア部分に形成し、前記ダミーセル領域は、当該第１基板上の前記製品エリア部分以外の切断工程により切り落とす部分に形成することを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記ダミーセル領域は、前記液晶の１ショットが当該ダミーセル領域の塗布量になるような面積を有することを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項７】
第１基板と第２基板とを貼り合わせ、当該第１基板と当該第２基板との間隙に液晶が封入されてなる液晶表示パネル用の部材であって、
前記第１基板及び前記第２基板の略中央部に形成され、前記液晶により画像が表示される画像表示セルと、
前記画像表示セルの周辺部分に形成され、前記液晶が封入された状態を検査するためのダミーセルと、
を有することを特徴とする液晶表示パネル用部材。
【請求項８】
前記ダミーセルは、前記画像表示セルの周囲に複数個設けられることを特徴とする請求項７記載の液晶表示パネル用部材。
【請求項９】
前記ダミーセルの面積が各々異なることを特徴とする請求項７記載の液晶表示パネル用部材。
【請求項１０】
前記画像表示セル及び前記ダミーセルは、両者とも同様な画素設計で形成されることを特徴とする請求項７記載の液晶表示パネル用部材。
【請求項１１】
第１基板と第２基板との間隙に液晶が封入されてなる液晶表示パネル用の部材であって、
前記第１基板及び前記第２基板の略中央部に形成された画像表示セルと、
前記画像表示セル以外の部分に形成され、各々の面積が異なる複数の液晶封入セルと、
を有することを特徴とする液晶表示パネル用部材。
【請求項１２】
前記複数の液晶封入セルは、それぞれ封入された液晶量が等量であることを特徴とする請求項１１記載の液晶表示パネル用部材。
【請求項１３】
前記複数の液晶封入セルの状態に基づき、前記画像表示セルの状態が予測されることを特徴とする請求項１１記載の液晶表示パネル用部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネルの製造方法等に関し、より詳しくは、液晶滴下法（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌｐｒｏｃｅｓｓ：ＯＤＦ）により適正なセル内圧を確保した高品質な液晶表示パネルの製造方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス型カラー液晶表示装置の製造工程は、通常、ガラス基板上に配線パターンやスイッチング素子等を形成するアレイ工程と、スペーサの配置及び対向するガラス基板間に液晶を封入して液晶表示パネルを形成するセル工程と、ドライバＩＣの取付け及びバックライト装着等を行うモジュール工程を有している。このうちセル工程のスペーサの配置プロセスにおいて、対向するガラス基板の一方または双方に柱状スペーサを形成し、対向するガラス基板間のセルギャップ（セル厚）が一定に保たれる。
【０００３】
近年、液晶注入プロセスにおいて滴下注入法（ＯＤＦ）が注目されている。この滴下注入法（ＯＤＦ）は、例えば、アレイ基板周囲に形成したメインシールの枠内の基板面上に規定量の液晶を滴下し、真空中でアレイ基板と対向基板とを貼り合せて液晶を封入する方法である。このような滴下注入法（ＯＤＦ）は、従来、ＴＦＴが形成されたアレイ基板と、それに対向してカラーフィルタ（ＣＦ）等が形成された対向基板とをシール材を介して貼り合わせた後、基板間に液晶を封入する真空注入法と比較して、液晶注入時間を短縮できること等から、液晶表示パネルの製造コストを低減し量産性を向上させる可能性を有している。
【０００４】
この液晶滴下法（ＯＤＦ）により液晶表示パネルを製造する場合、適正なセルギャップを得るために、柱状スペーサを均一に揃え、それに合わせた所定量の液晶を滴下することが重要である。このバランスが崩れると、例えば、液晶の量が過多の場合はセル内の液晶に重力ムラ不良が生じ、一方、液晶の量が過少の場合は、セル内の液晶に低温発泡やＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ方式液晶）特有の黒表示ムラが発生する等の不具合が生じることが知られている。
【０００５】
このような不具合を解消する方法としては、例えば、滴下した液晶の量を測定し、不適の場合は液晶を回収する方法（特許文献１参照）、予め柱状スペーサの高さをレーザ変位計により測定する方法（特許文献２参照）、ＯＤＦプロセス終了後、シールの一部に設けた開口部から過剰な液晶を排出し適正なセル内圧を得る方法（特許文献３、特許文献４参照）が報告されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１０７７４０号公報
【特許文献２】特開２００１−２８１６７８号公報
【特許文献３】特開平６−２３５９２５号公報
【特許文献４】特開２００２−１５６６３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、セル内の液晶の量は、装置の改善により±０．５％程度の精度で制御できるようになったが、一方、液晶の温度変化による比重や粘性の変化や、基板膜面の塗布厚さ等を考慮すると、液晶の量を正確に調整し、セル内圧を適切な圧力に維持することは非常に難しいとされている。このような観点から、例えば、特許文献１に記載されているような、滴下した液晶の量を測定し、不要分を回収する方法は、現実的ではない。
【０００８】
また、特許文献２に記載されているような柱状スペーサの高さを測定する方法は、透明柱状スペーサは白色干渉法等では検出が難しく、また傾斜部を有する柱状スペーサの場合は測定が困難であり、測定の自動化が困難であるため迅速に多数のポイントを測定できない等の問題がある。次に、特許文献３又は特許文献４に記載されているような、ＯＤＦプロセス終了後に、過剰な液晶を排出する方法は、加圧封止等の装置が必要であり、また実際にこれを用いても適正なギャップを得るのは困難である。さらにタクトや封止口の品質の問題も浮上する。
【０００９】
さらに、柱状スペーサは、通常、感光性樹脂を用いてフォトリソ技術により作製されるため、柱状スペーサの高さを、小さいばらつきの範囲（例えば、±コンマ数％以内）に制御することは難しく、また基板毎に柱状スペーサの高さを測定することは、測定精度、固体のばらつき、測定頻度の点から実際には困難であり、現実には、サンプリングとして数十枚に１枚程度の頻度で、面内数ポイントの測定の値を代表値として使用しているに過ぎない。また、柱状スペーサの硬さ（弾性／塑性）或いは柱状スペーサの形状を測定し、これらの測定値に基づき、基板間に封入する液晶の量を調整することは未だなされていないのが現状である。このような原因に基づく液晶表示パネルに生じる不具合は、セル工程においてタイムリーに検出することは極めて困難であり、製品を出荷後、不良が発生する可能性があることから改善策が要望されている。
【００１０】
本発明は、かかる技術的課題を解決するためになされたものであって、その目的とするところは、液晶滴下法（ＯＤＦ）による液晶表示パネルの製造工程において、対向するガラス基板間のセルギャップを構成する柱状スペーサの高さ及び硬さに合わせてタイムリーに液晶の滴下量を調整し、適正なセル内圧を確保した高品質な液晶表示パネルの製造方法を提供することにある。
また本発明の他の目的は、適正なセル内圧を確保した高品質な液晶表示パネルを製造するために用いられる液晶表示パネル製造用の中間部材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
かかる目的のもと、本発明は、画像表示セルに封入される液晶の内圧を観察するための複数の液晶封入セルを、画像表示セルと同一の基板上に設けている。
即ち、本発明は、第１基板上に画像表示セル領域と、画像表示セル領域の周辺に少なくとも１個のダミーセル領域と、を設け、画像表示セル領域及びダミーセル領域に液晶を滴下し、第１基板と第２基板とを貼り合わせ、画像表示セル領域及びダミーセル領域に各々液晶を封入した画像表示セル及びダミーセルを形成し、このように形成されたダミーセルの状態に基づき、画像表示セルの状態を予測することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法である。
【００１２】
この場合、画像表示セルの状態は、複数のダミーセルの状態に基づいて予測されることを特徴とすれば、より感度の高い予測を行うことができる。具体的には、画像表示セルの状態を予測するには、ダミーセル中に生じる気泡の有無又はダミーセルに封入された液晶の色の変化に基づき予測されることを特徴とするものである。このようなダミーセルの状態に基づき、画像表示セルに封入される液晶の最適量を予測することが可能となり、次工程における液晶表示パネルの製造の製品管理の質を向上させることができる。
【００１３】
また、画像表示セル領域は、第１基板上の製品エリア部分に形成し、一方、ダミーセル領域は、第１基板上の製品エリア部分以外の切断工程により切り落とす部分に形成することが好ましい。さらに、ダミーセル領域は、液晶の１ショットがそのダミーセル領域の塗布量になるような面積を有することが好ましい。
【００１４】
次に、本発明は、第１基板と第２基板とを貼り合わせ、第１基板と第２基板との間隙に液晶が封入されてなる液晶表示パネル用の部材であって、第１基板及び第２基板の略中央部に形成され、液晶により画像が表示される画像表示セルと、画像表示セルの周辺部分に形成され、液晶が封入された状態を検査するためのダミーセルと、を有することを特徴とする液晶表示パネル用部材として捉えられる。
【００１５】
このような液晶表示パネル用部材に形成されるダミーセルは、画像表示セルの周囲に複数個設けられることが好ましい。また、これらの複数のダミーセルの面積が各々異なることを特徴とすれば、ダミーセルの状態の観察の精度を向上させることができる。さらに、画像表示セル及びダミーセルは、両者とも同様な画素設計で形成されることを特徴とすれば、ダミーセルの状態を観察することにより、画像表示セルの状態を容易に予測し、次工程における画像表示セルに滴下される液晶の滴下量を調整することができる。
【００１６】
また、本発明は、第１基板と第２基板との間隙に液晶が封入されてなる液晶表示パネル用の部材であって、第１基板及び第２基板の略中央部に形成された画像表示セルと、画像表示セル以外の部分に形成され、各々の面積が異なる複数の液晶封入セルと、を有することを特徴とする液晶表示パネル用部材として把握される。
【００１７】
このような液晶表示パネル用部材に形成された複数の液晶封入セルは、それぞれ封入された液晶量が等量であることを特徴とすれば、液晶封入セルの状態を観察することにより、画像表示セルの状態を予測することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、柱状スペーサの高さ及び硬さに合わせてタイムリーに液晶の滴下量を調整し、適正なセル内圧を確保した高品質な液晶表示パネルの製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態と記す。）について詳細に説明する。
図１は、本実施の形態が適用される液晶表示パネル用部材を説明する図である。図１に示す液晶表示パネル用部材１００は、ガラス基板４０と、ガラス基板４０上に形成された画像表示セル領域１０と、画像表示セル領域１０の周囲にそれぞれ形成されたダミーセル領域１（１１）、ダミーセル領域２（１２）、ダミーセル領域３（１３）及びダミーセル領域４（１４）と、を有し、画像表示セル領域１０の周囲を囲むシール材２０と、ダミーセル領域１（１１）を囲むシール材２１、ダミーセル領域２（１２）を囲むシール材２２、ダミーセル領域３（１３）を囲むシール材２３及びダミーセル領域４（１４）を囲むシール材２４とを有している。
【００２０】
画像表示セル領域１０は、公知の方法により、カラーフィルタ及び電極を備えたＣＦ基板、または、ＴＦＴ及び画素電極を備えたアレイ基板として機能するように、それぞれ画素設計されている。４つのダミーセル領域１〜４（１１〜１４）は、それぞれの領域外への引出電極を設けないこと以外は、画像表示セル領域１０と同様な画素設計が施されている。尚、図示しないが、ＣＦ基板とアレイ基板とを重ね合わせて成型される液晶表示セルの間隙を保持するため、所定の高さの柱状スペーサが形成されている。画像表示セル領域１０は、後工程においてカットされ製品形態が整えられるガラス基板４０の製品エリアに形成されている。また、４つのダミーセル領域１〜４（１１〜１４）は、ガラス基板４０上の、画像表示セル領域１０が形成された製品エリア以外の部分に設けられている。
【００２１】
ガラス基板４０に使用するガラスは特に限定されないが、例えば、ソーダライムガラス、単板ガラス、曲げガラス、強化ガラス、合わせガラス、複層ガラス、ミラー用ガラス等が挙げられる。また、シール材２０〜シール材２４としては、例えば、紫外線硬化型樹脂が挙げられ、ＣＦ基板とアレイ基板とを重ね合わせる場合の接着剤であり、液晶を、ＣＦ基板及びアレイ基板と画像表示セル領域１０に、又は、ＣＦ基板及びアレイ基板と４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）に封入する空間を区画するためのものである。
【００２２】
４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）は、例えば、一辺の長さが１０ｍｍ〜２０ｍｍ程度の正方形で、それぞれシール材２１〜シール材２４により囲まれた部分の面積がそれぞれ異なるように形成されており、それぞれのセル内には、後述するように、同じ量の液晶が封入される。４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）の面積は、ダミーセル領域１（１１）＜ダミーセル領域２（１２）＜ダミーセル領域３（１３）＜ダミーセル領域４（１４）の順に大きくなっている。尚、４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）の形状は、正方形に限定されず、長方形、円形、その他任意の形状を採用することができる。また、ダミーセル領域の個数は特に限定されず、ガラス基板４０の大きさ及び製品エリアの大きさに応じ、適宜設けることができる。
【００２３】
通常、ガラス基板４０には、製品エリア以外の余白が生じることが多い。このような余白の部分に、各々シール材で囲まれた面積が異なる多数のダミーセル領域を設けることにより、液晶表示パネル製品に対するギャップマージンの感度が大きくなる。また、余白の部分の幅が狭い場合は、ダミーセル領域の形状を細長くしたり、ダミーセル領域の面積を数枚毎に変えたものを設ける方法も可能である。なお、ガラス基板４０に余白の部分がない場合は、例えば、スペックアウトになった不良基板の製品エリア内にこのような小さいダミーセル領域を形成し、適宜、サンプリングを行うこともできる。
【００２４】
後述するように、製品エリアに形成された画像表示セル領域１０と、４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）とには、液晶ディスペンサ等により液晶が滴下され、その後、ＣＦ基板とアレイ基板とを真空中において貼り合わすことにより、それぞれ液晶が封入された画像表示セル及びダミーセルが形成される。画像表示セル領域１０と１つのダミーセル領域（例えば、ダミーセル領域２（１２））とには、それぞれ、単位面積当たり等量の液晶が滴下され塗布される。また、残り３つのダミーセル領域（ダミーセル領域１（１１）、ダミーセル領域３（１３）及びダミーセル領域４（１４）には、それぞれ、ダミーセル領域２（１２）と等量の液晶が滴下され塗布される。そして、液晶が封入されて形成された４つのダミーセルの状態が観察される。各々のダミーセルでは、液晶の滴下量が少ないものは気泡が残っており、液晶の滴下量が多いものはイエローモードもしくはブルーモードによりギャップ不良が容易に確認できる。
【００２５】
図２は、本実施の形態が適用される液晶表示パネルの製造方法を説明する図である。先ず、図２（ａ）シール材塗布工程において、画像表示セル領域１０と４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）とが設計されたガラス基板上に、ＰＩ印刷、焼成、ラビング、洗浄等の公知の方法により、カラーフィルタ及び電極を備えたＣＦ基板４１（または、ＴＦＴ及び画素電極を備えたアレイ基板）を形成し、ディスペンサ５１により光硬化性のシール材２０を塗布して、画像表示セル領域１０を囲み、同様に、シール材２１〜シール材２４を塗布して、４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）をそれぞれ囲む。この場合、製品エリアに形成された画像表示セル領域１０とその周囲に形成された４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）とは、両者とも同様な画素設計が行われ、且つ、同様な段差が表現されている。尚、ダミーセルは駆動する必要がないため、引出電極は設けない。また、画像表示セル領域及びダミーセル領域には、同様に柱状スペーサを形成する。次に、図２（ｂ）の液晶滴下工程において、液晶ディスペンサ５２により、画像表示セル領域１０と４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）とに液晶を滴下する。この場合、画像表示セル領域１０とダミーセル領域２（１２）とには、それぞれ、単位面積当たり等量の液晶が滴下される。また、ダミーセル領域１（１１）、ダミーセル領域３（１３）及びダミーセル領域４（１４）には、それぞれ、ダミーセル領域２（１２）と等量の液晶が滴下される。
【００２６】
続いて、図２（ｃ）真空貼り合せ工程において、真空中でＣＦ基板４１とアレイ基板４２とを貼り合わせる。次に、図２（ｄ）ＵＶキュア工程において、ＵＶ照射によりシール材を硬化させる。尚、ＵＶ照射は、真空中又は大気中、不活性ガス中で行われる。ＵＶ照射の際には、画像表示セル領域１０及び４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）の部分は、ＵＶ遮光マスクにより覆われる。さらに、図２（ｅ）熱処理工程において、シール材を硬化させるために熱処理が行われ、画像表示セル領域１０に画像表示セルが形成され、４つのダミーセル領域１（１１）〜ダミーセル領域４（１４）には、それぞれ４つのダミーセルが形成される。後述するように、工程検査により、液晶が封入されたこれら４つのダミーセルの状態の観察結果は、液晶の滴下量を調整するためにフィードバックされ、液晶滴下工程における液晶の滴下量を最適化するアクションが取られる。最後に、図２（ｆ）切断工程において、画像表示セル３０が形成された製品エリアと、４つのダミーセル１（３１）〜ダミーセル４（３４）が形成された部分とが切断される。
【００２７】
図３は、ダミーセルの状態を説明する図である。図３（ａ）は、ダミーセル１（３１）であり、図３（ｂ）は、ダミーセル２（３２）であり、図３（ｃ）は、ダミーセル３（３３）であり、図３（ｄ）は、ダミーセル４（３４）である。図３（ａ）に示したダミーセル１（３１）は、シール材２１により囲まれた部分の面積に対して、セルに滴下された液晶の量が過多の場合の状態を示している。図３（ａ）に示すように、ダミーセル１（３１）に封入された液晶の量が過多のために、セル内の内圧が変化し、ギャップ不良が発生している。図３（ｂ）に示したダミーセル２（３２）は、シール材２２により囲まれた部分の面積に対して、セルに滴下された液晶の量が適量の場合の状態を示している。図３（ｂ）に示すように、セル内の内圧が適正な状態に保たれている。図３（ｃ）に示したダミーセル３（３３）は、シール材２３により囲まれた部分の面積に対して、セルに滴下された液晶の量が過少の場合の状態を示している。図３（ｃ）に示すように、ダミーセル３（３３）に封入された液晶の量が過少のために、セル内の内圧が変化し、気泡が発生している。図３（ｄ）に示したダミーセル４（３４）は、シール材２４により囲まれた部分の面積に対して、セルに滴下された液晶の量が、さらに過少の場合の状態を示している。図３（ｄ）に示すように、ダミーセル４（３４）には、大きな気泡が発生している。
【００２８】
図３（ａ）〜図３（ｄ）に示すように、それぞれのダミーセルに封入された液晶量は同じであるが、シール材により囲まれた面積がそれぞれ異なるため、ダミーセルの内圧が変化する。このため、図３（ａ）のダミーセル１（３１）のような液晶量過多の場合の状態と、図３（ｃ）のダミーセル３（３３）及び図３（ｄ）のダミーセル４（３４）のような液晶量不足の場合の状態とが観察される。
【００２９】
このような複数のダミーセルの状態と実際の製品の画像表示セルのギャップマージン品質との関係を、予め、製品立ち上げ時に事前に求め、実際の量産時においては、このようなダミーセルの状態を確認することにより、液晶の滴下量を調整し、製品の品質を推測することができる。例えば、適正な画像表示セルの製品が得られるときのダミーセルの状態が図３（ｂ）のダミーセル２（３２）のようであったが、量産時にダミーセル２（３２）にギャップ不良が発生し、一方、図３（ｃ）のダミーセル３（３３）に生じていた気泡が消失した場合は、この場合は滴下する液晶の量が少し過多になったと判断し、液晶の滴下量を減少するアクションを施すことができる。尚、ダミーセルの状態を観察する感度を向上させるには、シール材で囲まれた面積が異なる複数個のダミーセルを設けることが好ましい。
【００３０】
また、例えば、ＣＦ基板とアレイ基板との間に設けられる柱状スペーサの高さのばらつき、ＣＦ基板及びアレイ基板のそれぞれに形成される膜面の塗布厚さのばらつき、液晶の滴下量のばらつきが存在するが、これらのばらつき経事変化は比較的緩やかである。このため、液晶表示パネル製品の量産工程において、ダミーセルの状態を観察した結果に応じて液晶の滴下量を適宜調整することにより、品質不良な製品を作りこむことなく、タイムリーな製品管理が可能となる。尚、このようなダミーセルの状態を観察する方法は、サンプリング検査としてマニュアルで行ってもよいし、画像処理を用いて自動で液晶の滴下量を調整するシステムも可能である。
【００３１】
図４は、ダミーセルの状態を観察することにより液晶の滴下量を調整する流れを示したフローチャートである。先ず、基板上に、画像表示セル領域及びダミーセル領域を設計する（ステップ１０１）。通常、液晶表示パネル（ＬＣＤ）モニターは、基板サイズに対する画像表示セル領域の割り付けで、製品エリアである画像表示セル領域の周囲に余白がある場合が多い。そこで、ダミーセル領域は、画像表示セル領域の周囲の余白の部分に割り付ける。次に、基板を作成する（ステップ１０２）。即ち、公知の方法により、カラーフィルタ及び電極を備えたＣＦ基板とＴＦＴ及び画素電極を備えたアレイ基板とを形成する。この場合、製品エリアに形成された画像表示セル領域とその周囲に形成されたダミーセル領域とは、両者とも同様な画素設計が行われている。尚、ダミーセルは駆動する必要がないため、引出電極は設けない。また、画像表示セル領域と同様な段差が表現されている。また、画像表示セル領域及びダミーセル領域には、同様に柱状スペーサを形成する。次に、ＣＦ基板上に光硬化性のシール材を塗布して、画像表示セル領域とダミーセル領域とをそれぞれ囲む（ステップ１０３）。次に、画像表示セル領域とダミーセル領域とにそれぞれ液晶を滴下する（ステップ１０４）。複数のダミーセル領域の１つには、画像表示セル領域の単位面積当たり等量の液晶が滴下され、残りのダミーセル領域には、その１つのダミーセル領域と等量の液晶が滴下される。尚、ダミーセル領域の面積は、画像表示セル領域及びダミーセル領域に滴下される液晶の１ショットが、ダミーセル領域に塗布される液晶の塗布量になるような、適当な面積に設計することが好ましい。
【００３２】
続いて、真空中でＣＦ基板とアレイ基板とを貼り合わせる（ステップ１０５）。２つの基板を重ね合わせることにより、画像表示セル領域及びダミーセル領域において、シール材に囲まれた領域全体に液晶が広がり、それぞれのセル領域に液晶が封入され、それぞれ画像表示セルとダミーセルとが形成される。その後、ＵＶ照射によりシール材を硬化させる（ステップ１０６）。ＵＶ照射は、真空中において行なってもよいし、大気中又は不活性ガス中において行ってもよい。また、必要に応じて、さらに加熱処理を行ってもよい。次に、工程検査により画像表示セルの周囲に形成されたダミーセルの状態を観察する（ステップ１０７）。即ち、ダミーセルの状態を観察した結果、ダミーセルに封入された液晶の量が過多のためにギャップ不良が生じている場合、または、液晶の量が不足のため気泡が発生している場合は、液晶の滴下量を調整するためのフィードバックを行い、液晶滴下量を減少又は増大させる。最後に、画像表示セル領域が形成された製品エリア以外の部分を切断する（ステップ１０８）。
【００３３】
このように、製品エリアの画像表示セル領域と同様な設計・材料・プロセス条件により形成されたダミーセルの状態を観察することにより、液晶表示パネルの製造工程において、製品の品質をタイムリーに確認・保証することが可能である。また、これらの工程は、基板コストには反映されず、わずかなシール材および液晶の部材コストと、これに要するわずかな時間だけで達成できるため、実際の量産工程に実現可能である。
【００３４】
尚、複数個のダミーセルは、例えば、柱状スペーサの本数を変化させたり、画素設計を変化させたり等、必要に応じて種々の異なる態様をとることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】液晶表示パネル用部材を説明する図である。
【図２】液晶表示パネルの製造方法を説明する図である。
【図３】ダミーセルの状態を説明する図である。
【図４】ダミーセルの状態を観察することにより液晶の滴下量を調整する流れを示したフローチャートである。
【符号の説明】
【００３６】
１０…画像表示セル領域、１１…ダミーセル領域１、１２…ダミーセル領域２、１３…ダミーセル領域３、１４…ダミーセル領域４、２０，２１，２２，２３，２４…シール材、３１…ダミーセル１、３２…ダミーセル２、３３…ダミーセル３、３４…ダミーセル４、４０…ガラス基板、４１…ＣＦ基板、４２…アレイ基板、５１…ディスペンサ、５２…液晶ディスペンサ、１００…液晶表示パネル用部材
【図１】
2005107175.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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