(57)【要約】【課題】  垂直配向モードの半透過反射型液晶表示装置において、明るくコントラストが高く、さらには広視野角の表示を得ることが可能な液晶表示装置を提供する。【解決手段】  本発明の液晶表示装置は、一対の基板１０，２５間に液晶層５０を挟持してなり、１つのドット領域Ｄ１内に透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとが設けられ、液晶層５０は初期配向状態が垂直配向を呈する誘電異方性が負の液晶からなり、反射表示領域Ｒには該反射表示領域Ｒの液晶層厚を透過表示領域Ｔの液晶層厚よりも小さくする絶縁膜２６が具備される一方、透過表示領域Ｔには基板１０内面から液晶層５０に突出する凸状部２８が具備され、反射表示領域Ｒに形成された絶縁膜２６には、絶縁膜２６の表面が部分的に窪んでなる凹状部２９が具備されており、絶縁膜２６と凸状部２８とが同一部材にて構成されていることを特徴とする。【選択図】        図３
2005107455.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に液晶層を挟持してなり、１つのドット領域内に透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とが設けられた液晶表示装置であって、
前記液晶層は、初期配向状態が垂直配向を呈する誘電異方性が負の液晶からなり、
前記反射表示領域には、該反射表示領域の液晶層厚を前記透過表示領域の液晶層厚よりも小さくするための液晶層厚調整層が具備される一方、
前記透過表示領域には、前記基板内面から前記液晶層に突出する凸状部が具備され、
前記反射表示領域に形成された液晶層厚調整層には、当該液晶層厚調整層の表面が部分的に窪んでなる凹状部が具備されており、
前記液晶層厚調整層と前記凸状部とが同一部材にて構成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
一対の基板間に液晶層を挟持してなり、１つのドット領域内に透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とが設けられた液晶表示装置であって、
前記液晶層は、初期配向状態が垂直配向を呈する誘電異方性が負の液晶からなり、
前記反射表示領域には、該反射表示領域の液晶層厚を前記透過表示領域の液晶層厚よりも小さくするための液晶層厚調整層が具備される一方、
前記透過表示領域には、前記基板内面から前記液晶層に突出する凸状部が具備され、
前記反射表示領域に形成された液晶層厚調整層には、当該液晶層厚調整層の表面が部分的に窪んでなる凹状部が具備されており、
前記液晶層厚調整層と前記凸状部とが同一層にて構成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
一対の基板間に液晶層を挟持してなり、１つのドット領域内に透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とが設けられた液晶表示装置であって、
前記液晶層は、初期配向状態が垂直配向を呈する誘電異方性が負の液晶からなり、
前記反射表示領域には、該反射表示領域の液晶層厚を前記透過表示領域の液晶層厚よりも小さくするための液晶層厚調整層が具備される一方、
前記透過表示領域には、前記基板内面から前記液晶層に突出する凸状部が具備され、
前記反射表示領域に形成された液晶層厚調整層には、当該液晶層厚調整層の表面が部分的に窪んでなる凹状部が具備されており、
前記液晶層厚調整層と前記凸状部とが同一の製造プロセスにて形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
一対の基板間に液晶層を挟持してなり、１つのドット領域内に透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とが設けられた液晶表示装置であって、
前記液晶層は、初期配向状態が垂直配向を呈する誘電異方性が負の液晶からなり、
前記反射表示領域及び前記透過表示領域には、それぞれ所定のパターンにて構成された絶縁層が形成され、
該絶縁層は、前記反射表示領域においては、該反射表示領域の液晶層厚を前記透過表示領域の液晶層厚よりも小さくするための液晶層厚調整層として構成される一方、前記透過表示領域においては、前記基板内面から前記液晶層に突出する凸状部として構成されてなり、さらに前記反射表示領域に形成された絶縁層には、該絶縁層の表面が部分的に窪んでなる凹状部が具備されてなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記液晶層厚調整層が形成された基板と対向する側の基板には、該液晶層厚調整層に形成された前記凹状部と対向する位置に、前記基板内面から前記液晶層に突出する凸状部が形成されてなることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記液晶層厚調整層が形成された基板と対向する側の基板には、該液晶層厚調整層に形成された前記凹状部と対向する位置において、該基板内面に形成された電極を部分的に切り欠いたスリットが形成されてなることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記凸状部は、前記垂直配向した液晶分子が電界変化に基づいて倒れる方向を規制する構成を具備していることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記凹状部は、前記垂直配向した液晶分子が電界変化に基づいて倒れる方向を規制する構成を具備していることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記一対の基板として上基板と下基板とを含み、前記下基板の液晶層と反対側には透過表示用のバックライトが設けられるとともに、該下基板の液晶層側には反射表示領域のみに選択的に形成された反射膜が設けられ、
前記反射表示領域には、光散乱付与手段として、前記反射膜に凹凸形状を付与するための凹凸付与層が形成されていることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記凸状部が形成された基板の内面側には、該凸状部上に開口を具備する電極が形成されてなることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置および電子機器に関し、特に垂直配向型の液晶を用いた液晶表示装置において高コントラスト、広視野角の表示が得られる技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置として反射モードと透過モードとを兼ね備えた半透過反射型液晶表示装置が知られている。このような半透過反射型液晶表示装置としては、上基板と下基板との間に液晶層が挟持されるとともに、例えばアルミニウム等の金属膜に光透過用の窓部を形成した反射膜を下基板の内面に備え、この反射膜を半透過反射板として機能させるものが提案されている。この場合、反射モードでは上基板側から入射した外光が、液晶層を通過した後に下基板の内面の反射膜で反射され、再び液晶層を通過して上基板側から出射され、表示に寄与する。一方、透過モードでは下基板側から入射したバックライトからの光が、反射膜の窓部から液晶層を通過した後、上基板側から外部に出射され、表示に寄与する。したがって、反射膜の形成領域のうち、窓部が形成された領域が透過表示領域、その他の領域が反射表示領域となる。
【０００３】
ところが、従来の半透過反射型液晶装置には、透過表示での視角が狭いという課題があった。これは、視差が生じないよう液晶セルの内面に半透過反射板を設けている関係で、観察者側に備えた１枚の偏光板だけで反射表示を行わなければならないという制約があり、光学設計の自由度が小さいためである。そこで、この課題を解決するために、Jisakiらは、下記の非特許文献１において、垂直配向液晶を用いる新しい液晶表示装置を提案した。その特徴は、以下の３つである。
（１）誘電異方性が負の液晶を基板に垂直に配向させ、電圧印加によってこれを倒す「ＶＡ（Vertical Alignment）モード」を採用している点。
（２）透過表示領域と反射表示領域の液晶層厚（セルギャップ）が異なる「マルチギャップ構造」を採用している点。
（３）透過表示領域を正八角形とし、この領域内で液晶が全方向に倒れるように対向基板上の透過表示領域の中央に突起を設けている点。すなわち、「配向分割構造」を採用している点。
【０００４】
一方、このような垂直配向液晶を用いた場合の液晶分子の配向規制手段として、例えば特許文献１には、上述した突起の他、電極に対してスリットを形成する手法、或いは樹脂層を形成して該樹脂層に窪みを形成する手法が開示されている。
【特許文献１】特開平１１−２４２２２５号公報
【非特許文献１】"Development of transflective LCD for high contrast and wide viewing angle by using homeotropic alignment", M.Jisaki et al., Asia Display/IDW'01, p.133-136(2001)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記非特許文献１では、透過表示領域において液晶分子の倒れる方向を、その中央に設けた突起を用いて制御している。このように構成するためには、製造プロセスが１回余分に必要であり、コスト高となる。かと言って、液晶分子の倒れる方向を制御せず、無秩序な方向に倒すと、異なる液晶配向領域間の境界にディスクリネーションと呼ばれる不連続線が現れ、残像等の原因となり得る。また、液晶の各々の配向領域は異なる視角特性を有するため、斜め方向から液晶装置を見たときに、ざらざらとしたしみ状のむらとして見えるという問題も生じる。
【０００６】
また、特許文献１においても、液晶分子の倒れる方向を、突起を用いて制御したり、基板内面に樹脂層を形成して、この樹脂層に窪みを形成することで制御しているが、この場合も、これら突起又は樹脂層を構成するためには、製造プロセスが１回余分に必要であり、コスト高となる。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、垂直配向モードの半透過反射型の液晶表示装置において、液晶分子の倒れる方向を簡便に制御することが可能な構成を提供することを目的としている。また、その結果、残像やしみ状のむら等の表示不良が抑えられ、さらには広視野角の表示が可能な液晶表示装置を提供することを目的とする。また、特に透過表示を行う領域において液晶が倒れる方向を制御するための簡便で且つ好適な手法を提供し、反射表示及び透過表示の双方において表示が均一で且つ視角の広い液晶表示装置を提供することを目的とする。さらに、本発明は、このような液晶表示装置を備える電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、一対の基板間に液晶層を挟持してなり、１つのドット領域内に透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とが設けられた液晶表示装置であって、前記液晶層は、初期配向状態が垂直配向を呈する誘電異方性が負の液晶からなり、前記反射表示領域には、該反射表示領域の液晶層厚を前記透過表示領域の液晶層厚よりも小さくするための液晶層厚調整層が具備される一方、前記透過表示領域には、前記基板内面から前記液晶層に突出する凸状部が具備され、前記反射表示領域に形成された液晶層厚調整層には、当該液晶層厚調整層の表面が部分的に窪んでなる凹状部が具備されており、前記液晶層厚調整層と前記凸状部とが同一部材にて構成されていることを特徴とする。
【０００９】
本発明の液晶表示装置は、半透過反射型液晶表示装置に垂直配向モードの液晶を組み合わせたものであって、特に垂直配向モードの液晶における電界印加時の配向方向を制御するための好ましい構成を見い出したものである。垂直配向モードを採用した場合には一般にネガ型液晶を用いるが、初期配向状態で液晶分子が基板面に対して垂直に立っているものを、電界印加により倒すわけであるから、何も工夫をしなければ（プレチルトが付与されていなければ）液晶分子の倒れる方向を制御できず、配向の乱れ（ディスクリネーション）が生じて光抜け等の表示不良が生じ、表示特性を落としてしまう。そのため、垂直配向モードの採用にあたっては、電界印加時の液晶分子の配向方向の制御が重要な要素となる。
【００１０】
そこで、本発明の液晶表示装置においては、特に透過表示領域について、液晶層の挟持面に対し凸状部（挟持面凸形状付与手段）により凸形状を付与したため、液晶分子が初期状態で垂直配向を呈した上で、この凸形状に応じたプレチルトを持つようになる。その結果、液晶分子の倒れる方向を規制ないし制御することが可能となり、配向の乱れ（ディスクリネーション）が生じ難く、光抜け等の表示不良を回避することが可能となり、残像やしみ状のむら等の表示不良が抑えられ、さらには視野角の広い液晶表示装置を提供することが可能となる。
【００１１】
また、反射表示領域に液晶層厚調整層を設けたことによって、反射表示領域におけるリタデーションと透過表示領域におけるリタデーションを略等しくすることができ、これによりコントラストの向上を図ることが可能となる。そして、この液晶層厚調整層に対して、当該液晶層厚調整層の表面が部分的に窪んでなる凹状部を形成したことにより、液晶分子が初期状態で垂直配向を呈した上で、この凹形状に応じたプレチルトを持つようになる。その結果、液晶分子の倒れる方向を規制ないし制御することが可能となり、配向の乱れ（ディスクリネーション）が生じ難く、光抜け等の表示不良を回避することが可能となり、残像やしみ状のむら等の表示不良が抑えられ、さらには視野角の広い液晶表示装置を提供することが可能となる。
【００１２】
さらに、本発明の液晶表示装置では、透過表示領域の液晶層挟持面に凸形状を付与する手段たる凸状部（挟持面凸形状付与手段）を、反射表示領域に設けた液晶層厚調整層と同一部材にて構成するものとしたため、凸状部として別途部材を設ける必要もなく、液晶層厚調整層と同一プロセスにて製造可能で、その凸形状を簡便に付与することが可能となり、製造コスト削減に繋がるものとなる。つまり、本発明によると、液晶層厚調整層により反射表示領域と透過表示領域の液晶層厚の調整を行うとともに、該調整層に凹状部を形成することで広視野角の反射表示を実現し、該調整層と同一部材にて透過表示領域の液晶層挟持面に凸形状を付与することで、広視野角の透過表示を実現できる液晶表示装置を提供することが可能となるのである。なお、前記液晶層厚調整層と前記凸状部とは例えば同一層にて構成することによっても、凸状部と液晶層厚調整層とを同一プロセスにて製造可能で、同一部材で且つ同一層にて構成することによっても、凸状部と液晶層厚調整層とを同一プロセスにて製造可能となる。
【００１３】
一方、本発明の液晶表示装置は、その異なる態様として、一対の基板間に液晶層を挟持してなり、１つのドット領域内に透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とが設けられた液晶表示装置であって、前記液晶層は、初期配向状態が垂直配向を呈する誘電異方性が負の液晶からなり、前記反射表示領域及び前記透過表示領域には、それぞれ所定のパターンにて構成された絶縁層が形成され、該絶縁層は、前記反射表示領域においては、該反射表示領域の液晶層厚を前記透過表示領域の液晶層厚よりも小さくするための液晶層厚調整層として構成される一方、前記透過表示領域においては、前記基板内面から前記液晶層に突出する凸状部として構成されてなり、さらに前記反射表示領域に形成された絶縁層には、該絶縁層の表面が部分的に窪んでなる凹状部が具備されてなることを特徴とする。
【００１４】
この場合も、上記同様、絶縁層を一の製造プロセスで所定パターンに形成し、これを反射表示領域及び透過表示領域のそれぞれにおいて、液晶層厚調整層及び凸状部（挟持面凸形状付与手段）とすることが可能となる。つまり、基板内面の全面にベタ状に絶縁層を形成し、反射表示領域においては凹状部を備える形にて液晶層厚調整層を形成し、透過表示領域においては凸状部を形成するように、エッチング等により所定の形状にパターニングすることができる。
【００１５】
上述した本発明の液晶表示装置において、前記液晶層厚調整層が形成された基板と対向する側の基板には、該液晶層厚調整層に形成された前記凹状部と対向する位置に、前記基板内面から前記液晶層に突出する凸状部を形成することができる。この場合、液晶層厚調整層に形成された凹状部と、それに対向して形成された凸状部との相乗効果により、該反射表示領域における液晶分子の配向規制を一層高めることが可能となり、ひいては配向の乱れ（ディスクリネーション）が一層生じ難く、光抜け等の表示不良を一層回避することが可能となり、残像やしみ状のむら等の表示不良が抑えられ、さらには一層視野角の広い液晶表示装置を提供することが可能となる。
【００１６】
前記液晶層厚調整層が形成された基板と対向する側の基板には、該液晶層厚調整層に形成された前記凹状部と対向する位置において、該基板内面に形成された電極を部分的に切り欠いたスリットが形成されてなることを特徴とする。この場合、液晶層厚調整層に形成された凹状部と、それに対向して形成された電極へのスリットとの相乗効果により、該反射表示領域における液晶分子の配向規制を一層高めることが可能となる。このような電極へのスリット形成により液晶分子の配向規制が行われるのは、電極の一部を切り欠いてスリットを形成することで斜め電界が生じ、該斜め電界に応じて、初期状態で垂直配向した液晶分子の電圧印加時の傾倒方向が規制されることに基づくものである。また、このような液晶層厚調整層と対向する側の基板に形成する配向規制手段として、上述した凸状部よりも凹状部を形成することが好ましい。これは、反射表示領域には液晶層厚調整層を設けた関係で、液晶層厚が小さくなっており、十分な液晶配向規制を行うことが可能な高さの凸状部を形成することが困難な場合があるためである。
【００１７】
本発明において前記凸状部は、垂直配向した液晶分子が電界変化に基づいて倒れる方向を規制する構成を具備しているものとすることができる。具体的には、円錐状、多角錘状の突起物として構成することが好ましく、凸形状の表面（傾斜面）を液晶分子の垂直配向方向に対して所定の角度だけ傾斜するように構成することが好ましい。凸状部の傾斜面については、その最大傾斜角が５°〜４０°であることが好ましい。この場合の傾斜角とは、基板と凸状部の傾斜面とのなす角度で、凸形状が曲表面を有している場合には、その曲表面に接する面と基板とのなす角度を指すものとする。この場合の最大傾斜角が５°未満の場合、液晶分子の倒れる方向を規制するのが困難となる場合があり、また最大傾斜角が４０°を超えると、その部分から光漏れ等が生じコントラスト低下等の不具合が生じる場合がある。
【００１８】
また、本発明において前記凹状部は、垂直配向した液晶分子が電界変化に基づいて倒れる方向を規制する構成を具備しているものとすることができる。具体的には、液晶層厚調整層から円錐状、多角錘状に窪んだ凹状物として構成することが好ましく、凹形状の内面（傾斜面）を液晶分子の垂直配向方向に対して所定の角度だけ傾斜するように構成することが好ましい。凹状部の内面に形成する傾斜面については、その最大傾斜角が５°〜４０°であることが好ましい。この場合の傾斜角とは、基板と凹状部の傾斜面とのなす角度で、凹形状が曲表面を有している場合には、その曲表面に接する面と基板とのなす角度を指すものとする。この場合の最大傾斜角が５°未満の場合、液晶分子の倒れる方向を規制するのが困難となる場合があり、また最大傾斜角が４０°を超えると、その部分から光漏れ等が生じコントラスト低下等の不具合が生じる場合がある。
【００１９】
また、上述した各液晶表示装置において、一対の基板として上基板と下基板とを含み、前記下基板の液晶層と反対側には透過表示用のバックライトが設けられるとともに、該下基板の液晶層側には前記反射表示領域のみに選択的に形成された反射膜が設けられ、前記反射表示領域には、光散乱付与手段として、前記反射膜に凹凸形状を付与するための凹凸付与層を形成することができる。この場合、反射膜の凹凸形状により反射光が効果的に散乱されることとなる。
【００２０】
前記透過表示領域に形成された凸状部は、その突出高さが０．５μｍ〜２．５μｍ程度であることが好ましい。突出の高さが０．５μｍよりも小さいと液晶分子の倒れる方向を規制することが困難となる場合があり、また突出の高さが２．５μｍよりも大きいと凸状部の近傍からの光漏れが大きくなって表示特性を損なう惧れがある。この凸状部の高さは、好ましくは１．０μｍ〜１．５μｍ程度とするのが良く、この場合、一層良好な表示を提供することが可能となる。
【００２１】
また、前記凸状部が形成された基板の内面側には、該凸状部上に開口を具備する電極が形成されてなるものとすることができる。この場合、凸状部上には電極が存在しないため、該凸状部により液晶の倒れる方向と、電気力線の方向が逆方向に傾くため、液晶の倒れる方向が定まり易く、一層安定した液晶分子の配向規制を行うことが可能とる。
【００２２】
次に、本発明の電子機器は、上記記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする。このような電子機器によると、残像やしみ状のむら等の表示不良が抑えられ、さらには視野角の広い表示特性に優れた表示部を備えた電子機器を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
［第１の実施の形態］
以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、各図において、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００２４】
以下に示す本実施の形態の液晶表示装置は、スイッチング素子として薄膜ダイオード（Thin Film Diode, 以下、ＴＦＤと略記する）を用いたアクティブマトリクス型の液晶表示装置の例であり、特に反射表示と透過表示とを可能にした半透過反射型の液晶表示装置である。
図１は、本実施の形態の液晶表示装置１００についての等価回路を示している。この液晶表示装置１００は、走査信号駆動回路１１０及びデータ信号駆動回路１２０を含んでいる。液晶表示装置１００には、信号線、すなわち複数の走査線１３と、該走査線１３と交差する複数のデータ線９とが設けられ、走査線１３は走査信号駆動回路１１０により、データ線９はデータ信号駆動回路１２０により駆動される。そして、各画素領域１５０において、走査線１３とデータ線９との間にＴＦＤ素子４０と液晶表示要素１６０（液晶層）とが直列に接続されている。なお、図１では、ＴＦＤ素子４０が走査線１３側に接続され、液晶表示要素１６０がデータ線９側に接続されているが、これとは逆にＴＦＤ素子４０をデータ線９側に、液晶表示要素１６０を走査線１３側に設ける構成としても良い。
【００２５】
次に、図２に基づいて、本実施の形態の液晶表示装置１００に具備された電極の平面構造（画素構造）について説明する。図２に示すように、本実施の形態の液晶表示装置１００では、走査線１３にＴＦＤ素子４０を介して接続された平面視矩形状の画素電極３１がマトリクス状に設けられており、該画素電極３１と紙面垂直方向に対向して共通電極９が短冊状（ストライプ状）に設けられている。共通電極９はデータ線からなり走査線１３と交差する形のストライプ形状を有している。本実施の形態において、各画素電極３１が形成された個々の領域が１つのドット領域であり、マトリクス状に配置された各ドット領域毎にＴＦＤ素子４０が具備され、該ドット領域毎に表示が可能な構造になっている。
【００２６】
ここでＴＦＤ素子４０は走査線１３と画素電極３１とを接続するスイッチング素子であって、ＴＦＤ素子４０は、Ｔａを主成分とする第１導電膜と、第１導電膜の表面に形成され、Ｔａ２Ｏ３を主成分とする絶縁膜と、絶縁膜の表面に形成され、Ｃｒを主成分とする第２導電膜とを含むＭＩＭ構造を具備して構成されている。そして、ＴＦＤ素子４０の第１導電膜が走査線１３に接続され、第２導電膜が画素電極３１に接続されている。
【００２７】
次に、図３に基づいて本実施の形態の液晶表示装置１００の画素構成について説明する。図３（ａ）は、液晶表示装置１００の画素構成、特に画素電極３１の平面構成を示す模式図、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＡ−Ａ’断面を示す模式図である。本実施の形態の液晶表示装置１００は、図２に示したようにデータ線９及び走査線１３等にて囲まれた領域の内側に画素電極３１を備えてなるドット領域を有している。このドット領域内には、図３（ａ）に示すように一のドット領域に対応して３原色のうちの一の着色層が配設され、３つのドット領域（Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３）で各着色層２２Ｂ（青色），２２Ｇ（緑色），２２Ｒ（赤色）を含む画素を形成している。
【００２８】
一方、図３（ｂ）に示すように、本実施の形態の液晶表示装置１００は、上基板（素子基板）２５とこれに対向配置された下基板（対向基板）１０との間に初期配向状態が垂直配向をとる液晶、すなわち誘電異方性が負の液晶材料からなる液晶層５０が挟持されている。
【００２９】
下基板１０は、石英、ガラス等の透光性材料からなる基板本体１０Ａの表面にアルミニウム、銀等の反射率の高い金属膜からなる反射膜２０が絶縁膜２４を介して部分的に形成された構成をなしている。ここで、反射膜２０の形成領域が反射表示領域Ｒとなり、反射膜２０の非形成領域、すなわち反射膜２０の開口部２１内が透過表示領域Ｔとなる。このように本実施の形態の液晶表示装置１００は、垂直配向型の液晶層５０を備える垂直配向型の液晶表示装置であって、反射表示及び透過表示を可能にした半透過反射型の液晶表示装置である。
【００３０】
基板本体１０Ａ上に形成された絶縁膜２４は、その表面に凹凸形状２４ａを具備してなり、その凹凸形状２４ａに倣って反射膜２０の表面は凹凸を有する。このような凹凸により反射光が散乱されるため、外部からの映り込みが防止され、広視野角の表示を得ることが可能とされている。なお、このような凹凸形状２４ａを具備する絶縁膜２４は、例えば樹脂レジストをパターニングし、その上にもう一層の樹脂を塗布することで得られる。また、パターニングした樹脂レジストに熱処理を加えて形状を調整しても良い。
【００３１】
また、反射表示領域Ｒ内に位置する反射膜２０上、及び透過表示領域Ｔ内に位置する基板本体１０Ａ上には、これら反射表示領域Ｒ及び透過表示領域Ｔに跨って形成されるカラーフィルタ２２（図３（ｂ）では赤色着色層２２Ｒ）が設けられている。ここで、着色層２２Ｒの周縁は金属クロム等からなるブラックマトリクスＢＭにて囲まれ、ブラックマトリクスＢＭにより各ドット領域Ｄ１，Ｄ２、Ｄ３の境界が形成されている（図３（ａ）参照）。
【００３２】
さらに、カラーフィルタ２２上には、反射表示領域Ｒに対応する位置に絶縁膜２６が形成されている。すなわち、カラーフィルタ２２を介して反射膜２０の上方に位置するように選択的に絶縁膜２６が形成され、該絶縁膜２６の形成に伴って液晶層５０の層厚を反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとで異ならしめている。絶縁膜２６は例えば膜厚が０．５〜２．５μｍ程度のアクリル樹脂等の有機膜からなり、反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの境界付近において、自身の層厚が連続的に変化するべく傾斜面を備えている。絶縁膜２６が存在しない部分の液晶層５０の厚みが１〜５μｍ程度とされ、反射表示領域Ｒにおける液晶層５０の厚みは透過表示領域Ｔにおける液晶層５０の厚みの約半分とされている。このように絶縁膜２６は、自身の膜厚によって反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとの液晶層５０の層厚を異ならせる液晶層厚調整層（液晶層厚制御層）として機能するものである。
【００３３】
また、絶縁膜２６の平面視略中央には、該絶縁膜２６を逆円錐状に窪ませて構成した凹状部２９が形成されている。この凹状部２９は、絶縁膜２６の表面が部分的に窪んで構成されたものであって、液晶層５０の挟持面に傾斜面を付与する傾斜面付与手段として機能しており、具体的には絶縁膜２６の表面から所定の深さ（例えば０．５μｍ〜２．５μｍ、好ましくは１．０μｍ〜１．５μｍ程度）窪んだ谷状の傾斜面を具備して構成されている。この凹状部２９は、例えば絶縁膜２６を形成した後に、該絶縁膜２６の表面の一部をエッチング等により部分的に除去することで、部分的な窪みとして得ることができる。
【００３４】
一方、カラーフィルタ２２上には、透過表示領域Ｔに対応する位置に絶縁膜２６と同一部材にて構成される凸状部２８が形成されている。すなわち、液晶層厚調整層たる絶縁膜２６と同一の製造プロセスで形成され、同一の材料であるアクリル樹脂等の有機膜からなる樹脂製の凸状部２８が透過表示領域Ｔに形成されている。この凸状部２８は、下基板１０の内面から液晶層５０に凸形状を付与する挟持面凸形状付与手段として機能しており、具体的にはカラーフィルタ２２上から液晶層５０に所定の高さ（例えば０．５μｍ〜２．５μｍ、好ましくは１．０μｍ〜１．５μｍ程度）突出した山状の傾斜面を具備して構成されている。
【００３５】
このように本実施形態では、絶縁膜２６及び凸状部２８は同一層にて形成されており、つまり反射表示領域Ｒ及び透過表示領域Ｔのそれぞれに所定パターンの絶縁層（樹脂層）が形成され、該絶縁層が、反射表示領域Ｒにおいては液晶層厚調整層たる絶縁膜２６として構成される一方、透過表示領域Ｔにおいては基板内面（一対の基板の対向面、液晶層の挟持面）から液晶層５０に凸形状を付与する凸状部２８として構成されている。なお、凸状部２８及び凹状部２９は、それぞれ透過表示領域Ｔ及び反射表示領域Ｒの略中心付近に形成されている。
【００３６】
さらに、絶縁膜２６及び凸状部２８を含むカラーフィルタ２２上には、インジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide, 以下、ＩＴＯと略記する）からなるストライプ状の共通電極９が形成され、共通電極９上にはポリイミド等からなる配向膜２７が形成されている。配向膜２７は液晶分子を膜面に対して垂直に配向させる垂直配向膜として機能するものであって、ラビングなどの配向処理は施されていない。なお、図３において共通電極９は、紙面垂直方向に延びる形のストライプ状に形成されており、該紙面垂直方向に並んで形成されたドット領域の各々に共通の電極として構成されている。なお、本実施の形態では、反射膜２０と共通電極９とを別個に形成したが、反射表示領域Ｒにおいては金属膜からなる反射膜を共通電極の一部として用いることも可能である。
【００３７】
次に、上基板２５側においては、ガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体２５Ａ上（基板本体２５Ａの液晶層側）に、ＩＴＯ等の透明導電膜からなるマトリクス状の画素電極３１と、ポリイミド等からなる下基板１０と同様の垂直配向処理がなされた配向膜３３とが形成されている。
【００３８】
また、下基板１０の外面側（液晶層５０を挟持する面とは異なる側）には位相差板１８及び偏光板１９が、上基板２５の外面側にも位相差板１６及び偏光板１７が形成されており、基板内面側（液晶層５０側）に円偏光を入射可能に構成されており、これら位相差板１８及び偏光板１９、位相差板１６及び偏光板１７が、それぞれ円偏光板を構成している。偏光板１７（１９）は、所定方向の偏光軸を備えた直線偏光のみを透過させる構成とされ、位相差板１６（１８）としてはλ／４位相差板が採用されている。このような円偏光板としては、その他にも偏光板とλ／２位相差板とλ／４位相差板を組み合わせた構成のもの（広帯域円偏光板）を用いることが可能で、この場合、黒表示をより無彩色にすることができるようになる。また、偏光板とλ／２位相差板とλ／４位相差板、及びｃプレート（膜厚方向に光軸を有する位相差板）を組み合わせた構成のものを用いることも可能で、一層広視角化を図ることができるようになる。なお、下基板１０に形成された偏光板１９の外側には透過表示用の光源たるバックライト１５が設けられている。
【００３９】
ここで、本実施の形態の液晶表示装置１００においては、液晶層５０の液晶分子を配向規制するために、つまり初期状態において垂直配向にある液晶分子について、電極間に電圧を印加した際の傾倒方向を規制するために、透過表示領域Ｔにおいては、下基板１０の内面側（液晶層側）に誘電体からなる突起として凸状部２８が形成されている。具体的に、図３の例においては、透過表示領域Ｔ内であって、下基板１０に形成されたカラーフィルタ２２の内面側（液晶層側）に、液晶層５０内部に突出する形の凸状部２８が形成されている。
【００４０】
また、反射表示領域Ｒにおいては、液晶分子の傾倒方向を規制するために、液晶層厚調整層たる絶縁膜２６に凹状部２９が形成されている。具体的には、図３の例においては、反射表示領域Ｒ内であって、下基板１０に形成された絶縁膜２６の表面を部分的に窪ませた形の凹状部２９が形成されている。
【００４１】
以上のように形成された凸状部２８は、図４に示すように、その傾斜面に沿って液晶分子の傾倒方向を規制するもので、同じく凹状部２９も、その内面に形成された傾斜面に沿って液晶分子の傾倒方向を規制するものである。すなわち、電極間に電圧が印加されていない初期状態において垂直配向にある液晶分子は、電圧が印加されると、その電界方向に交わる方向に傾倒しようとするが、本実施の形態によると、その電圧印加時の液晶分子の傾倒方向が凸状部２８及び凹状部２９の傾斜面に沿って規制されるのである。
【００４２】
以上のような構成を具備した液晶表示装置１００によれば、以下のような好ましい作用・効果を発現することができるようになる。
まず、本実施形態の液晶表示装置１００では、反射表示領域Ｒに対して選択的に絶縁膜２６を設けたことによって反射表示領域Ｒの液晶層５０の厚みを透過表示領域Ｔの液晶層５０の厚みの略半分と小さくすることができるので、反射表示に寄与するリタデーションと透過表示に寄与するリタデーションを略等しくすることができ、これによりコントラストの向上が図られている。
【００４３】
また、一般的には、ラビング処理を施さない垂直配向膜上に配向した負の誘電異方性を有する液晶分子に電圧を印加すると、液晶の倒れる方向に規制がないので無秩序な方向に倒れ、配向不良が生じることとなる。しかしながら、本実施の形態では、液晶分子の倒れる方向を規制する手段として、透過表示領域Ｔでは共通電極９上に凸状部２８を形成し、反射表示領域Ｒでは絶縁膜２６に凹状部２９を形成したため、凸状部２８の傾斜面（山状傾斜面）による配向規制、凹状部２９の傾斜面（谷状傾斜面）による配向規制が生じ、初期状態で垂直配向した液晶分子の、電圧印加により倒れる方向が規制されることとなる。その結果、液晶配向不良に基づくディスクリネーションの発生が抑制されるため、ディスクリネーションの発生に伴う残像や、当該液晶表示装置１００の表示面を斜め方向から観察したときにざらざらとしたしみ状のムラ等が発生し難い高品質な表示が得られるようになる。
【００４４】
そして、本実施の形態の液晶表示装置１００では、透過表示領域Ｔに凸状部２８を、反射表示領域Ｒに凹状部２９を形成しており、これら凸状部２８と凹状部２９とにおいて、図４に示したように凸状部２８及び凹状部２９の中心（中心軸）から見て、液晶分子の倒れる方向が互いに逆方向となる。つまり、凸状部２８においては、該凸状部２８の中心軸線を対称軸として外側に向かうように液晶分子が傾倒する一方、凹状部２９においては、該凹状部２９の中心軸線を対称軸として内側に向かうように液晶分子が傾倒する。したがって、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒとにおいて液晶分子の傾倒方向が連続的に変化することとなり（図４参照）、これら凸状部２８及び凹状部２９のみで、具体的には上基板（素子基板）２５側に別途配向規制手段を形成することなく、凸状部２８と凹状部２９との中間領域でディスクリネーションの発生を防止ないし抑制することが可能となる。
【００４５】
つまり、反射表示領域Ｒにおいて絶縁膜２６の表面を窪ませて凹状部２９を形成する代わりに、絶縁膜２６上に凸状部を形成することも可能であるが、その場合、透過表示領域Ｔの凸状部２８との間で液晶分子の傾倒方向の不連続部分が形成されることとなる。しかしながら、反射表示領域Ｒの絶縁膜２６において凹状部２９を形成し、透過表示領域Ｔにおいて凸状部２８を形成して液晶分子の配向規制を行う本実施の形態の手法は、そのような不連続部分が両者の間に形成されないため、極めて効率の良い液晶分子の配向分割を行うことができるのである。
【００４６】
また、本実施の形態では、凸状部２８及び凹状部２９の形成位置が、それぞれ透過表示領域Ｔ及び反射表示領域Ｒの中心付近であるため、仮にディスクリネーションが発生したとしても、その発生領域は透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒの境界付近に固定されるため、均一な配向分割を行うことが可能となる。
【００４７】
さらに、本実施の形態では、透過表示領域Ｔにおける液晶分子の配向規制手段たる凸状部２８を、反射表示領域Ｒにおける液晶層厚調整手段たる絶縁膜２６と同一プロセスにて形成するものとしたため、余分な製造プロセスを増やすことなく効率良く製造することができ、コスト削減の寄与することも可能となる。
【００４８】
なお、液晶層５０の挟持面に形成される凸状部２８の凸形状、及び／又は凹状部２９の凹形状は、その縦断面が略左右対称の形をなしている。具体的には、透過表示領域Ｔに形成した凸状部２８は円錘台状に構成されているため、液晶分子が倒れる際には四方八方に倒れることとなり、表示面の上下左右とも広い視角特性を得ることができる。このような広い視角特性を得るためには、凸状部が、円錐状若しくは楕円錘状、又は多角錐状、円錐台状、楕円錘台状、多角錘台状、半球状に構成されていることが好ましい。なお、凹状部２９についても同様で、円錐状若しくは楕円錘状、多角錘状に窪んだ構成のものが好ましい。
【００４９】
［第２の実施の形態］
以下、本発明の第２の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。
図５は、第２の実施の形態の液晶表示装置２００について、平面図及び断面図を示すもので第１の実施の形態の図３に相当する模式図である。本実施の形態の液晶表示装置の基本構成は第１の実施の形態と同様であり、反射表示領域Ｒに形成した絶縁膜２６が上基板２５側に形成されている点が異なっている。したがって、図５においては図３と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００５０】
図５に示すように、第２の実施の形態の液晶表示装置２００においては、上基板２５の基板本体２５Ａ上（液晶層５０側、つまり内面側）に、カラーフィルタ２２（２２Ｒ）が形成され、さらにその内面側に液晶層厚調整層たる絶縁膜２６と、該絶縁膜２６と同層の凸状部２８とが、それぞれ反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとに形成されている。また、この場合も、絶縁膜２６には、その表面を窪ませた形の凹状部２９が形成されている。
【００５１】
このような液晶表示装置２００においても、第１の実施の形態の液晶表示装置１００と同様、液晶分子の配向制御を効率良く行うことが可能である。そして、特に本実施の形態の液晶表示装置２００においては、液晶層厚調整層たる絶縁膜２６を上基板２５側に形成してなるため、反射膜２０に対して凹凸を付与するための絶縁膜２４の凹凸形状に影響されることなく、所望の形状の凹形状及び凸形状を形成し易くなる。つまり、第１の実施の形態に比して相対的に平坦な面に対して絶縁膜２６及び凸状部２８を形成できるため、その形成加工が容易となるのである。
【００５２】
［第３の実施の形態］
以下、本発明の第３の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。
図６は、第３の実施の形態の液晶表示装置３００について、平面図及び断面図を示すもので第１の実施の形態の図３に相当する模式図である。本実施の形態の液晶表示装置の基本構成は第１の実施の形態と同様であり、透過表示領域Ｔに複数の凸状部２８が形成されているとともに、上基板２５側にも凸状部３０が形成されている点が異なっている。したがって、図６においては図３と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００５３】
図６に示すように、第３の実施の形態の液晶表示装置３００においては、透過表示領域Ｔであって下基板１０の内面側には、液晶分子の配向規制を行う凸状部２８が１つのドット内に複数（本実施の形態では２つ）形成され、その対向側、つまり上基板２５側には、隣合う凸状部２８，２８の間に位置するように凸状部３０が形成されている。つまり、透過表示領域Ｔにおいて、上基板２５と下基板１０とで互い違いの位置となるように凸状部２８，３０，２８が交互に形成されている。なお、この場合、透過表示領域Ｔのセル厚（液晶層厚）は約４μｍとし、上基板２５側に形成した凸状部３０の高さ（基板内面から液晶層５０内部に突出する高さ）は約１．５μｍとしている。
【００５４】
このような液晶表示装置３００においても、第１の実施の形態の液晶表示装置１００と同様、液晶分子の配向制御を効率良く行うことが可能である。そして、特に本実施の形態では、一対の基板１０，２５のうち双方の基板において、液晶分子の配向規制手段たる凸状部２８，２８，３０を形成し、それぞれ平面的に互い違いの位置となるように、つまり下基板１０上の隣合う凸状部２８，２８の間に平面的に位置するように、上基板２５の内面に凸状部３０を形成したため、一層高効率に配向分割化を行うことが可能となる。
【００５５】
このような平面的に互い違いの位置に配設された凸状部２８，３０，２８により、図７に示すように、各凸状部２８，３０，２８にて配向規制される液晶分子の傾倒方向が、隣合う凸状部同士の間で同一方向となり、液晶分子の不連続となる部分が形成されないようになるのである。なお、下基板１０側に形成した凸状部２８，２８は、絶縁膜２６と同一の製造プロセスにて形成するものとしており、上基板２５側に形成した凸状部３０は、電極３１上にフォトリソグラフィー法等により単独で形成するものとしている。
【００５６】
［第４の実施の形態］
以下、本発明の第４の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。
図８は、第４の実施の形態の液晶表示装置４００について、平面図及び断面図を示すもので第１の実施の形態の図３に相当する模式図である。本実施の形態の液晶表示装置の基本構成は第１の実施の形態と同様であり、透過表示領域Ｔに複数の凸状部２８が形成されているとともに、上基板２５側にも凸状部３０が形成され、さらに反射表示領域Ｒの凹状部２９の対向側の電極３１にスリット４８が形成されている点が異なっている。したがって、図８においては図３と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００５７】
図８に示すように、第４の実施の形態の液晶表示装置４００においては、透過表示領域Ｔであって下基板１０の内面側には、液晶分子の配向規制を行う凸状部２８が１つのドット内に複数（本実施の形態では２つ）形成され、その対向側、つまり上基板２５側には、隣合う凸状部２８，２８の間に位置するように凸状部３０が形成されている。つまり、透過表示領域Ｔにおいて、上基板２５と下基板１０とで互い違いの位置となるように凸状部２８，３０，２８が交互に形成されている。なお、透過表示領域Ｔのセル厚（液晶層厚）は約４μｍとし、上基板２５側に形成した凸状部３０の高さ（基板内面から液晶層５０内部に突出する高さ）は約１．５μｍとしている。
【００５８】
また、反射表示領域Ｒの絶縁膜２６には、第１の実施の形態の液晶表示装置１００と同様に凹状部２９が形成され、その対向側、つまり上基板２５の内面側に形成された電極３１には、液晶分子の配向規制を目的としてスリット４８が形成されている。このスリット４８は、絶縁膜２６の凹状部２９に対向して形成され、電極３１の一部を部分的に切り欠いた形状のものである。
【００５９】
このような液晶表示装置４００においても、第１の実施の形態の液晶表示装置１００と同様、液晶分子の配向制御を効率良く行うことが可能である。そして、特に本実施の形態では、一対の基板１０，２５のうち双方の基板において、液晶分子の配向規制手段たる凸状部２８，２８，３０を形成し、それぞれ平面的に互い違いの位置となるように、つまり下基板１０上の隣合う凸状部２８，２８の間に位置するように、上基板２５の内面に凸状部３０を形成したため、第３の実施の形態と同様、一層高効率に配向分割化を行うことが可能となる。
【００６０】
さらに、本実施の形態の液晶表示装置４００では、電極３１にスリット４８を形成したことにより電極３１，９間の電界が歪んで斜め電界が生じ、該斜め電界に応じて、初期状態で垂直配向した液晶分子の電圧印加に基づく傾倒方向が規制されることとなる。しかも、この斜め電界に基づく液晶分子の傾倒方向は、対向して形成された凹状部２９により規制される液晶分子の傾倒方向と同一の方向であるため、一層確実に液晶分子の配向制御を行うことが可能となる。なお、反射表示領域Ｒでは絶縁膜２６を形成して液晶層厚を小さくしている関係で、凸状部を形成するのが比較的困難となるため、本実施の形態のように電極に対してスリットを形成することで簡便且つ確実に液晶分子の配向規制を行うことが可能となる。
【００６１】
［第５の実施の形態］
以下、本発明の第５の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。
図９は、第５の実施の形態の液晶表示装置５００について、平面図及び断面図を示すもので第１の実施の形態の図３に相当する模式図である。本実施の形態の液晶表示装置の基本構成は第１の実施の形態と同様であり、透過表示領域Ｔに複数の凸状部２８ａが形成されているとともに、上基板２５側にも凸状部３０ａが形成され、さらに反射表示領域Ｒの凹状部２９の対向側の電極３１にスリット４８が形成されており、且つ凸状部２８ａ，２８ａ，３０ａが電極に形成された開口部内に配設されている点が異なっている。したがって、図９においては図３と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００６２】
図９に示すように、第５の実施の形態の液晶表示装置５００においては、透過表示領域Ｔであって下基板１０の内面側には、液晶分子の配向規制を行う凸状部２８ａが１つのドット内に複数（本実施の形態では２つ）形成され、その対向側、つまり上基板２５側には、隣合う凸状部２８ａ，２８ａの間に位置するように凸状部３０ａが形成されている。つまり、透過表示領域Ｔにおいて、上基板２５と下基板１０とで互い違いの位置となるように凸状部２８ａ，３０ａ，２８ａが交互に形成されている。
【００６３】
また、反射表示領域Ｒの絶縁膜２６には、第１の実施の形態の液晶表示装置１００と同様に凹状部２９が形成され、その対向側、つまり上基板２５の内面側に形成された電極３１には、液晶分子の配向規制を目的としてスリット４８が形成されている。このスリット４８は、絶縁膜２６の凹状部２９に対向して形成され、電極３１の一部を部分的に切り欠いた形状のものである。
【００６４】
さらに、共通電極９に対し、透過表示領域Ｔに配設された凸状部２８ａ，２８ａ上に対応して開口部を設け、つまり、透過表示領域Ｔの凸状部２８ａ，２８ａ上に共通電極９が存在しない構成とした。また、画素電極３１に対しても凸状部３０ａ上に当該画素電極３１が存在しない構成とした。なお、このように凸状部２８ａ，３０ａ上に電極が存在しない構成を得るためには、例えば電極を形成する際に該凸状部の形成位置にマスクを形成するものとすればよい。
【００６５】
このような液晶表示装置５００においても、第１の実施の形態の液晶表示装置１００と同様、液晶分子の配向制御を効率良く行うことが可能である。特に、本実施の形態では、一対の基板１０，２５のうち双方の基板において、液晶分子の配向規制手段たる凸状部２８，２８，３０を形成し、それぞれ平面的に互い違いの位置となるように、つまり下基板１０上の隣合う凸状部２８，２８の間に位置するように、上基板２５の内面に凸状部３０を形成したため、第３の実施の形態と同様、一層高効率に配向分割化を行うことが可能となる。
【００６６】
また、電極３１にスリット４８を形成したことにより電極３１，９間の電界が歪んで斜め電界が生じ、該斜め電界に応じて、初期状態で垂直配向した液晶分子の電圧印加に基づく傾倒方向が規制されることとなる。しかも、この斜め電界に基づく液晶分子の傾倒方向は、対向して形成された凹状部２９により規制される液晶分子の傾倒方向と同一の方向であるため、一層確実に液晶分子の配向制御を行うことが可能となる。
【００６７】
さらに、本実施の形態では、凸状部２８ａ，２８ａ，３０ａ上に電極を形成しない構成としたために、以下のような効果を奏することとなる。つまり、図１０（ａ）に模式的に示したように、凸状部２８，３０上に電極９，３１を形成すると、液晶分子の倒れる方向と電気力線の方向が同じ側に傾くため、液晶分子を配向制御する力が小さくなる。しかしながら、図１０（ｂ）に模式的に示したように、凸状部２８ａ，３０ａ上に電極９，３１を形成しない場合には、液晶分子の倒れる方向と電気力線の方向が逆側に傾くため、液晶分子の倒れる方向が定まり易く、一層安定した液晶分子の配向規制を行うことが可能となる。
【００６８】
［第６の実施の形態］
以下、本発明の第６の実施の形態を図面を参照しつつ説明する。
図１１は、第６の実施の形態の液晶表示装置６００について、平面図及び断面図を示すもので第１の実施の形態の図３に相当する模式図である。本実施の形態の液晶表示装置の基本構成は第１の実施の形態と同様であり、絶縁膜２６上に形成された共通電極９に対してスリット４９ａ，４９ｂが形成されている点が異なっている。したがって、図１１においては図３と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００６９】
図１１に示すように、第６の実施の形態の液晶表示装置６００においては、反射表示領域Ｒに形成された絶縁膜２６に、第１の実施の形態の液晶表示装置１００と同様に凹状部２９が形成される一方、その凹状部２９の周りにおいて、絶縁膜２６上に配設された共通電極９に対してスリット４９ａ，４９ｂが形成されている。
【００７０】
このような本実施の形態の液晶表示装置６００では、反射表示領域Ｒにおいては、凹状部２９と電極スリット４９ａ，４９ｂによって液晶分子の傾倒方向が規制されることとなるが、凹状部２９と電極スリット４９ａ，４９ｂとにおいて、それぞれの中心から見て液晶分子の倒れる方向が互いに逆方向となる。したがって、凹状部２９と電極スリット４９ａ，４９ｂとにおいて液晶分子の傾倒方向が連続的に変化することとなり、液晶分子の配向規制が一層高効率にて行われるようになる。
【００７１】
なお、図１２に示した液晶表示装置７００のように、反射表示領域Ｒの絶縁膜２６に対して２つの凹状部２９ａ，２９ｂを形成し、その凹状部２９ａ，２９ｂの間に電極スリット４９を形成した場合にも、反射表示領域Ｒにおいて上記と同様に液晶分子の配向規制を一層高効率にて行うことが可能となる。
【００７２】
［電子機器］
次に、本発明の上記実施の形態の液晶表示装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図１３は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１３において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記液晶表示装置を用いた表示部を示している。このような携帯電話等の電子機器の表示部に、上記実施の形態の液晶表示装置を用いた場合、使用環境によらずに明るく、コントラストが高く、広視野角の液晶表示部を備えた電子機器を実現することができる。
【００７３】
なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば上記実施の形態ではＴＦＤをスイッチング素子としたアクティブマトリクス型液晶表示装置に本発明を適用した例を示したが、スイッチング素子としてＴＦＴを用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置の他、パッシブマトリクス型液晶表示装置などに本発明を適用することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の第１の実施の形態の液晶表示装置の等価回路図。
【図２】同、液晶表示装置の電極構成を示す平面模式図。
【図３】同、液晶表示装置の要部を示す平面模式図及び断面模式図。
【図４】第１の実施の形態の液晶表示装置の作用を示すための説明図。
【図５】第２の実施の形態の液晶表示装置の要部を示す平面模式図及び断面模式図。
【図６】第３の実施の形態の液晶表示装置の要部を示す平面模式図及び断面模式図。
【図７】第３の実施の形態の液晶表示装置の作用を示すための説明図。
【図８】第４の実施の形態の液晶表示装置の要部を示す平面模式図及び断面模式図。
【図９】第５の実施の形態の液晶表示装置の要部を示す平面模式図及び断面模式図。
【図１０】第５の実施の形態の液晶表示装置の作用を示すための説明図。
【図１１】第６の実施の形態の液晶表示装置の要部を示す平面模式図及び断面模式図。
【図１２】図１２の液晶表示装置の変形例を示す平面模式図及び断面模式図。
【図１３】本発明の電子機器の一例を示す斜視図。
【符号の説明】
【００７５】
９…共通電極、１０…ＴＦＴアレイ基板（基板）、１０Ａ…基板本体（基板）、２０…反射膜、２２…カラーフィルタ層、２４…絶縁膜、２５…対向基板、２５Ａ…基板本体（基板）、２６…絶縁膜（液晶層厚調整層）、２８…凸状部、２９…凹状部、３１…画素電極、５０…液晶層、Ｒ…反射表示領域、Ｔ…透過表示領域、Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３…ドット領域
【図１】
2005107455.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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