(57)【要約】【課題】  ゴムの加硫剤や生理活性等で有用な化合物であるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の新規な製法の提供。【解決手段】Ｎ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物（ロ）を製造する方法において、Ｎ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物（ハ）あるいはスルフェンアミド化合物（ホ）と、アミノ酸エステル化合物（ニ）を反応させる。【化１】2005232086.tif 000021（式中、Ｒ１は、水素原子、アルキル基、アラルキル基などの原子又は基を表す。Ｒ２は、アルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。Ｒ５は、アルキル基、シクロアルキル基などの原子又は基を示す。ｎは、１〜１０の整数である。ｐは、０または１〜４の整数である。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ハ）で表されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と、下記一般式（ニ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
【化１】
2005232086.tif 000015
（式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｐは、０または１〜４の整数である。）
【化２】
2005232086.tif 000016
（式中、Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
Ｒ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｐは、０または１〜５の整数である。
ｑは、０または１〜４の整数である。）
【化３】
2005232086.tif 000017
（式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。）
【請求項２】
上記請求項１において、アミノ酸エステル化合物をアミノ酸エステル塩酸塩とアミン類より合成して、Ｎ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
【請求項３】
下記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ホ）で表されるスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ニ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
【化４】
2005232086.tif 000018
（式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。
ｐは、０または１〜４の整数である。）
【化５】
2005232086.tif 000019
（式中、Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。ｐは、０または１〜５の整数である。）
【化６】
2005232086.tif 000020
（式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。）
【請求項４】
上記請求項３において、アミノ酸エステル化合物をアミノ酸エステル塩酸塩とアミン類より合成して、スルフェンアミド化合物と反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｎ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、Ｎ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物とアミノ酸エステル化合物を反応させることにより、あるいはスルフェンアミド化合物とアミノ酸エステル化合物を反応させることにより、Ｎ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を効率よく製造する方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
アミノ酸の窒素末端を保護することはペプチド合成において重要な反応である。その中の保護基の１つとしてアミノ基にスルフェニル基を導入してＮ−スルフェニルアミノ酸誘導体を合成する反応が知られている（非特許文献１，非特許文献２）。また、スルフェンアミド化合物は、種々の機能性を持つことが報告されている。たとえば、ゴムの加硫化剤（特許文献１，特許文献２）、発芽前処理用除草剤（特許文献３）、殺菌剤（特許文献４）等の従来技術が知られており、前記の機能を有する化合物であることが知られている。
【０００３】
スルフェニル基を保護基として用いる場合は、塩化スルフェニル化合物とアミノ酸を反応させることとなるが、出発物質となる塩化スルフェニル化合物を合成するためには有毒で取り扱いの困難な塩素ガスを用いる必要があった（非特許文献３）。さらに塩化スルフェニル化合物は安定な化合物ではなく保存中に分解物が混入したり、使用する前に精製する必要があるとされている（非特許文献４）。この欠点を克服するためにＮ−スルフェニルサッカリン誘導体の合成が報告されているが（非特許文献４）その合成のためには塩化スルフェニル化合物が用いられていた。一般にスルフェンアミド化合物は、メルカプト基やジスルフィド基を有する化合物を直接塩素ガスと処理をした後に得られる塩化スルフェニル化合物とアミン類を反応させる方法や、クロラミン化合物とメルカプト化合物を反応させる方法により製造されていたが、いずれの方法も出発原料を製造するにあたり有毒で取り扱いの困難な塩素ガスを用いなければならない。したがって安全な方法で合成されるスルフェニル化剤を用いたＮ−スルフェニルアミノ酸誘導体をはじめとしたスルフェンアミド類の合成方法の開発が望まれている。
【０００４】
2005232086.tif 000002
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、Ｎ−スルフェニルアミノ酸エステルの製造に際しては、従来、有毒で取り扱いの困難な塩素ガスを用いられてきたが、製法のみならず、関与する原料物質の製造に際しても塩素ガスを用いることがない、Ｎ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造することができる方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、Ｎ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、Ｎ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物とアミノ酸エステル化合物を反応させることにより、ベンゾイミダゾリル基の部分がアミノ酸のアミン基に置換され、安全かつ容易にＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物が得られることを、新たに見出した。
また、スルフェンアミド化合物とアミノ酸エステル化合物を反応させることによっても、同じく、安全かつ容易にＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物が得られることを、新たに見出した。
この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】
本発明によれば、以下の発明が提供される。
（１）下記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ハ）で表されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と、下記一般式（ニ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
【化１】
2005232086.tif 000003
（式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である
ｐは、０または１〜４の整数である。）
【化２】
2005232086.tif 000004
（式中、Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｐは０または１〜５の整数である。
Ｒ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｑは、０または１〜４の整数である。）
【化３】
2005232086.tif 000005
（式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。）
（２）  上記（１）において、アミノ酸エステル化合物をアミノ酸エステル塩酸塩とアミン類より合成して、Ｎ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
（３）下記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ホ）で表されるスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ニ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
【化４】
2005232086.tif 000006
（式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。ｐは、０または１〜４の整数である。）
【化５】
2005232086.tif 000007
（式中、Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。ｐは０または１〜５の整数である。）
【化６】
2005232086.tif 000008
（式中、Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる原子又は基を表す。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
ｎは、１〜１０の整数である。）
（４）前記（３）において、アミノ酸エステル化合物をアミノ酸エステル塩酸塩とアミン類より合成して、スルフェンアミド化合物と反応させることを特徴とするＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、Ｎ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を、有毒で取り扱いの困難な塩素ガスを用いることなく、収率よく安全に製造することができる。この方法は、Ｎ−スルフェニル化合物の末端にアミノ基を有する化合物のアミノ基の保護手段となる化合物を提供するものであり、ペプチド合成を行う場合に利用できる。また、ゴムの加硫化剤、発芽前処理用除草剤、殺菌剤などの生理活性物質となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は、特定のＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法である。
下記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を得るために、
下記一般式（ハ）で表されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と、下記一般式（ニ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させる（方法1）
【化７】
2005232086.tif 000009
本発明の製造目的化合物であるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の置換基は、以下の通りである。
（１）Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる基を表す。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基を挙げることができる。
ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基を挙げることができる。
アルコキシアルキル基としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基を挙げることができる。
アルコキシカルボニルアルキル基としては、アルコキシカルボニルメチル基、アルコキシカルボニルエチル基などを挙げることができる。
フェノキシアルキル基としては、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基、フェノキシプロピル基を挙げることができる。
カルバモイルアルキル基としては、カルバモイルメチル基、カルバモイルエチル基を挙げることができる。
インドールアルキル基としては、インドールメチル基、インドールエチル基、インドールプロピル基を挙げることができる。
アルキルチオアルキル基としては、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチルを挙げることができる。
ｎは、１〜１０の整数を示す。
（２）Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基により置換されていてもよい。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等により置換されていてもよい。
（３）Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
ｐは、０又は１〜５の整数である。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などを挙げることができる。
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基などを挙げることができる。
前記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基などを挙げることができる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
【００１０】
本発明の一方の出発物質は、Ｎ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物である。この化合物は、下記一般式（ハ）で示される公知化合物である。
【化８】
2005232086.tif 000010
本発明の一方の出発物質であるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物の置換基は、以下の通りである。
（１）Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、
Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などを挙げることができる。
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
Ｒ６は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、
Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などを挙げることができる.
アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
ｐは、０または１〜５の整数である。
ｑは、０または１〜４の整数を示す。
【００１１】
前記Ｎ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物は、公知の方法によりスルフェンアミド化合物とベンゾイミダゾール化合物を加熱することにより得ることができる。
【００１２】
本発明の他の一方の出発物質は、下記一般式（ニ）で表されるアミノ酸エステル化合物である。
【化９】
2005232086.tif 000011
前記、アミノ酸エステル化合物の置換基は、以下の通りである。
（１）Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、アラルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルチオアルキル基、フェノキシアルキル基、カルバモイルアルキル基、インドールアルキル基から選ばれる基を表す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基を挙げることができる。
前記ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基を挙げることができる。
前記アルコキシアルキル基としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基を挙げることができる。
前記アルコキシカルボニルアルキル基としては、アルコキシカルボニルメチル基、アルコキシカルボニルエチル基などを挙げることができる。
前記フェノキシアルキル基としては、フェノキシメチル基、フェノキシエチル基、フェノキシプロピル基を挙げることができる。
前記カルバモイルアルキル基としては、カルバモイルメチル基、カルバモイルエチル基を挙げることができる。
前記インドールアルキル基としては、インドールメチル基、インドールエチル基、インドールプロピル基を挙げることができる。
前記アルキルチオアルキル基としては、メチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチルを挙げることができる。
ｎは、１〜１０の整数を示す。
（２）Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基又は芳香族炭化水素基を示す。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２、２−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基により置換されていてもよい。
前記芳香族炭化水素基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族炭化水素基は、ハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等により置換されていてもよい。
【００１３】
前記アミノ酸エステル化合物は、公知の方法によりアミノ酸化合物をエステル化することにより得ることができる。
【００１４】
前記一般式（ハ）で表されるＮ−スルフェニルベンゾイミダゾール化合物と、前記一般式（ニ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させる（方法1）では、以下のような反応条件が採用される。
本発明におけるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造は、反応溶媒の存在下に行うことが望ましい。
この反応溶媒には、極性又は非極性溶媒が適宜用いられる。
溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は、単独または混合溶媒として使用することができる。
【００１５】
前記製造方法の条件は以下の通りである。
反応温度は、０〜１２０℃の範囲で行うことができる。この温度未満の条件で行うと、反応が遅くなり、反応時間が長くなる。
また、この温度を超えると、反応温度が高くなりすぎ、分解反応や副反応が多くなる。この温度範囲は、さらに、２０〜１００℃の範囲で行うことが、さらに、好ましい。
反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は２〜８時間で十分である。
【００１６】
前記アミノ酸エステル化合物は、アミノ酸エステル塩酸塩をアミン類により中和することによって得ることができ、この場合アミノ酸エステル化合物を単離して用いてもまた反応系中で生成するものを単離しないで用いてもよい。
具体的なアミン類としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ジエチルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。
【００１７】
前記一般式（ロ）で表されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物を製造する方法において、下記一般式（ホ）で表されるスルフェンアミド化合物と、前記一般式（ニ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製造することができる（方法2）。
【００１８】
本発明の一方の出発物質として、スルフェンアミド化合物を用いることができる。この化合物は、下記一般式（ホ）で示される公知化合物である。
【化１０】
2005232086.tif 000012
本発明の一方の出発物質であるスルフェンアミド化合物の置換基は、以下の通りである。
（１）Ｒ５は、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基から選ばれる原子又は基を示す。
前記アルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、Ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、Ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、Ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、
Ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、Ｎ−ノニル基、イソノニル基、Ｎ−デカニル基、イソデカニル基、Ｎ−ウンデカニル基、イソウンデカニル基、Ｎ−ドデカニル基、イソドデカニル基などを挙げることができる。
前記シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などを挙げることができる.
前記アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基等が挙げられる。
前記ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
ｐは、０または１〜５の整数である。
ｑは０または１〜４の整数を示す。
【００１９】
前記スルフェンアミド化合物は、公知の方法によりチオール化合物とヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸より得ることができる。
【００２０】
下記一般式（ホ）で表されるスルフェンアミド化合物と、前記一般式（ニ）で表されるアミノ酸エステル化合物を反応させる方法は、以下の通りである。
反応は、反応溶媒の存在下行うことが望ましく、極性又は非極性溶媒が適宜用いられる。
溶媒としては、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われる。また、これらの溶媒は、単独または混合溶媒として使用することができる。
前記製造方法の条件は以下の通りである。
反応温度は、０〜１２０℃の範囲で行うことができる。この温度未満の条件で行うと、反応が遅くなり、反応時間が長くなる。
また、この温度を超えると、反応温度が高くなりすぎ、分解反応や副反応が多くなる。この温度範囲は、さらに、２０〜１００℃の範囲で行うことが、さらに、好ましい。
反応時間は反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は２〜８時間で十分である。
【００２１】
前記の原料物質を用い、本発明の目的生成物を製造する新規な合成反応は以下の通りである。
【化１１】
2005232086.tif 000013
【００２２】
本発明のＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物の製法について、以下の化学式（１）から（１１）で示される化合物を合成する方法により、以下の実施例で説明する。
【化１２】
2005232086.tif 000014
【００２３】
この実施例は、本発明の理解を容易にするためにあげた一例であり、本発明は、これに限定されるものではない。
下記実施例によって製造されるＮ−スルフェニルアミノ酸エステル化合物（１）〜（１１）は、前記で示した化合物（１）〜（１１）に対応するもので、その物性値としては、既知のものについては融点および各種スペクトルデータを比較することより、また、未知のものについては各種スペクトルの測定値および元素分析値に基づいて、その構造を同定した。
【実施例１】
【００２４】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）とグリシンメチルエステル塩酸塩（６３ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（１）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)グリシンメチルエステルを収量７６．０ｍｇ（収率８５％）で得た。この化合物は酢酸エチル−ヘキサンより再結晶を行うことによりさらに精製することができた。
融点 190-191 ℃ (酢酸エチル-へキサン). 1H NMR (CDCl3) δ3.19 (1H,t, J = 6.1 Hz),3.76 (2H, d, J = 6.1 Hz), 3.77 (3H, s), 3.91 (3H, s),7.16 (1H, td, J = 7.6, 1.2 Hz), 7.54(1H,ddd, J = 8.2, 7.3, 1.5 Hz), 7.87(1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 8.01 (1H, dd,J = 7.6, 1.5 Hz).13C NMR(CDCl3) δ 52.2, 52.2, 53.0, 122.3, 123.8, 123.9, 131.3, 132.7, 148.2,166.9,172.1. IR (KBr) νmax 3351, 2953, 1744, 1707, 1460, 1435, 1273, 1252, 1208,1144, 1101,1055, 747 cm-1. 元素分析 C11H13NO4S としての計算値: C, 51.75;H, 5.13; N, 5.49. 実測値: C, 51.83; H, 5.14; N, 5.31.
【実施例２】
【００２５】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）とグリシンエチルエステル塩酸塩（７０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（２）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)グリシンエチルエステルを収量６８．８ｍｇ（収率７３％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.29 (3H,t, J = 7.0 Hz), 3.18 (1H, t, J = 6.1 Hz), 3.74 (2H, d, J = 6.1Hz), 3.91 (3H, s), 4.23 (2H, q, J = 7.0 Hz), 7.16 (1H, ddd, J = 8.2, 7.3, 0.6 Hz), 7.54 (1H,ddd, J = 8.2, 7.3, 1.5 Hz), 7.88 (1H, dd, J = 8.2, 0.6 Hz), 8.01 (1H, dd, J = 8.2, 1.5 Hz).13C NMR(CDCl3) δ 13.9, 51.8, 52.9, 60.9, 122.1, 123.5, 123.5, 130.9, 132.4,148.1, 166.5,171.4. IR (KBr) νmax 3341, 2984, 2953, 1740, 1707, 1588, 1562, 1460, 1435,1273, 1252,1198, 1101, 1055, 747 cm-1.
【実施例３】
【００２６】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）とアラニンメチルエステル塩酸塩（７０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（３）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)アラニンメチルエステルを収量８２．０ｍｇ（収率８７％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.44 (3H,d, J = 7.0 Hz), 3.32 (1H, d, J = 7.3 Hz), 3.62 (1H, quint, J =7.3 Hz), 3.75 (3H, s), 3.89 (3H, s),7.13 (1H, td, J = 7.6, 1.2 Hz), 7.51(1H, ddd, J = 8.2,7.0, 1.5 Hz), 7.94(1H, dd, J = 8.2, 1.2 Hz), 7.98 (1H, dd,J = 7.6, 1.5 Hz). 13CNMR(CDCl3) δ 18.9, 52.1, 52.2, 59.1, 122.7, 123.8, 123.8, 131.1, 132.6,148.7, 166.8, 174.9. IR(KBr) νmax 3337, 2984, 2953, 1740, 1707, 1588, 1562, 1460, 1435,1271, 1208, 1142, 1101,1055, 747 cm-1.
【実施例４】
【００２７】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とアラニンメチルエステル塩酸塩（７０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：酢酸エチル＝１０：１）で精製することにより、化合物（４）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)アラニンメチルエステルを収量９２．５ｍｇ（収率９６％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.39 (3H,t, J = 7.0 Hz), 1.45 (3H, d, J = 7.0 Hz), 3.26 (1H, d, J = 7.6Hz), 3.61 (1H, quint, J = 7.0 Hz), 3.76 (3H, s), 4.37 (2H, q, J = 7.0 Hz), 7.15 (1H, t, J =7.6 Hz), 7.52 (1H, t, J = 7.6 Hz), 7.94 (1H, d, J = 8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 7.9 Hz). 13CNMR (CDCl3)δ 14.3, 19.0,52.3, 59.2, 61.1, 122.7, 123.7, 124.1, 131.1, 132.5,148.6,166.5, 174.9. IR(KBr) νmax 3337, 2890, 1740, 1701, 1269, 1250, 1142, 1101,1053, 747cm-1. HRMS C13H17NO4S としての計算値:283.0878. 実測値: 283.0863.
【実施例５】
【００２８】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）とフェニルグリシンメチルエステル塩酸塩（１０１ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、化合物（５）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルグリシンメチルエステルを収量８０．０ｍｇ（収率６９％）で得た。この化合物は酢酸エチル−ヘキサンより再結晶を行うことによりさらに生成することができた。
融点 78-80 ℃ (酢酸エチル-へキサン). 1H NMR (CDCl3)  δ3.69 (1H, d, J= 8.2 Hz), 3.70(3H, s), 3.86 (3H, s), 4.56 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.12 (1H, td, J =7.3, 1.2 Hz), 7.30-7.40 (5H,m), 7.47 (1H, ddd, J = 8.8, 7.3, 1.5 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 7.97 (1H, dd, J=7.9, 1.2 Hz). 13C NMR (CDCl3) δ 52.1, 52.6, 67.9,122.8, 123.8, 123.9, 127.4, 128.5, 128.9,131.2, 132.7, 137.7, 148.2, 166.9,172.9. IR (KBr) νmax 3339, 3069, 2953, 1732, 1709,1586, 1454, 1433, 1310, 1269,1250, 1217, 1144, 1100, 1057, 1040, 741, 704 cm-1. 元素析 C17H17NO4Sとしての計算値: C, 61.61; H, 5.17; N, 4.23. 実測値: C, 61.63;H, 5.01; N,4.10.
【実施例６】
【００２９】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とフェニルグリシンメチルエステル塩酸塩（１０１ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、化合物（６）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルグリシンメチルエステルを収量９６．３ｍｇ（収率８２％）で得た。この化合物は酢酸エチル−ヘキサンより再結晶を行うことによりさらに生成することができた。
融点 96.7-99.7 ℃ (酢酸エチル-へキサン). 1H NMR (CDCl3)  δ1.37 (3H, t, J= 7.0 Hz),3.66 (1H, d, J = 7.0Hz), 3.73 (3H, s), 4.35 (2H, q, J =7.0 Hz), 4.57 (1H, d, J = 8.2 Hz),7.14(1H, td, J = 7.6, 0.9 Hz), 7.29-7.43(5H, m), 7.48 (1H, ddd, J = 8.2, 7.3,1.5 Hz), 7.89(1H, dd, J = 8.2, 0.9Hz), 8.01 (1H, dd, J = 7.6, 1.5 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ 14.3, 52.6,61.1, 67.9, 122.8, 123.8, 124.2, 127.4, 128.5,128.9, 131.1, 132.5, 137.8, 148.1, 166.4,172.9. IR (KBr) νmax 3328, 3067, 2980, 2959, 1736, 1701, 1588, 1458,1435, 1370, 1329,1302, 1273, 1213, 1175, 1142, 1103, 1053, 972, 837, 741, 700cm-1. 元素分析C18H19NO4S としての計算値: C, 62.59;H, 5.54; N, 4.06. 実測値: C, 62.75; H, 5.47; N,3.90.
【実施例７】
【００３０】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３５ｍｍｏｌ）とフェニルアラニンメチルエステル塩酸塩（１０８ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（７）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルアラニンメチルエステルを収量９７．９ｍｇ（収率８１％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ2.97 (1H,dd, J = 13.7, 8.2 Hz), 3.08 (1H, d, J = 9.4 Hz), 3.20 (1H, dd,J = 13.7, 5.2 Hz), 3.70-3.74 (1H, m),3.74 (3H, s), 3.88 (3H, s), 7.06 (1H, td, J= 7.3, 1.2Hz), 7.2２−7.36 (6H, m), 7.38 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 7.94 (1H, dd, J= 7.9, 1.2 Hz).13C NMR (CDCl3) δ 39.9, 52.1, 52.2,65.9, 122.7, 123.6, 123.7, 127.0, 128.6, 129.6, 131.1,132.6, 136.9, 148.3,166.9, 174.0. IR (KBr) νmax 3333, 3063, 3029, 2951, 2845, 1736,1703, 1453, 1435, 1306,1273, 1208, 1101, 1055, 747 cm-1. 
【実施例８】
【００３１】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とフェニルアラニンメチルエステル塩酸塩（１０８ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（８）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルアラニンメチルエステルを収量１０５．１ｍｇ（収率８６％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.37 (3H,t, J = 7.0 Hz), 2.98 (1H, dd, J = 14.0, 8.2 Hz), 3.07 (1H, d, J= 9.4 Hz), 3.20 (1H, dd, J = 14.0, 5.2 Hz), 3.70-3.75 (1H, m),3.74 (3H, s), 4.35 (2H, q, J= 7.0 Hz),7.07 (1H, td, J = 7.6, 1.2 Hz), 7.08-7.36(6H, m), 7.39 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz),7.96(1H, dd, J = 7.6, 1.2 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ 14.3, 39.8, 52.2, 61.1, 65.8, 122.6,123.6, 123.9, 126.9,128.5, 129.5, 130.9, 132.5, 136.8, 148.2, 166.5, 173.9. IR (KBr) νmax3331, 2953, 1742, 1701, 1458, 1435, 1269, 1100,1055, 747 cm-1.
【実施例９】
【００３２】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とセリンメチルエステル塩酸塩（７８ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：アセトン：メタノール＝１００：５：１）で精製することにより、化合物（９）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)セリンメチルエステルを収量９７．７ｍｇ（収率９６％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.40 (3H,t, J = 7.0 Hz), 2.18 (1H, brs),3.63-3.65 (1H, m), 3.68 (1H, d,J = 5.8Hz), 3.82 (3H, s), 3.90-3.94 (1H, m), 3.98-4.02 (1H, m), 4.38 (2H, q, J = 7.0 Hz),7.18 (1H, t, J = 7.3 Hz), 7.53 (1H, td, J = 7.3, 0.6 Hz), 7.81 (1H, dd, J = 8.2, 0.6 Hz), 8.03(1H, d, J = 8.2 Hz). 13C NMR (CDCl3)
δ 14.3, 52.6,61.3, 62.8, 64.6, 122.3, 124.0, 124.5,131.3, 132.7, 147.9, 166.5, 172.4. IR(KBr) νmax 3515, 3347, 2982, 2955, 1738, 1701,1458, 1437,1271, 1128, 1101, 1055, 747 cm-1. HRMS C13H17NO5Sとしての計算値:299.0827. 実測値: 299.0840.
【実施例１０】
【００３３】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とアスパラギン酸ジメチルエステル塩酸塩（９９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（１０）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)アスパラギン酸ジメチルエステルを収量５３．４ｍｇ（収率４６％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.39 (3H,t, J = 7.3 Hz), 2.88 (1H, dd, J = 16.4, 5.8 Hz), 2.93 (1H, dd,J = 16.4, 5.2 Hz), 3.60 (1H, d, J = 7.0 Hz), 3.69 (3H, s), 3.80 (3H, s),3.89 (1H, ddd, J =7.0, 5.8, 5.2 Hz),4.37 (2H, q, J = 7.3 Hz), 7.15 (1H, ddd,J = 7.9, 7.6, 0.9 Hz), 7.50 (1H,ddd, J = 8.2, 7.6, 1.5 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.2, 0.9 Hz), 8.01 (1H, dd, J = 7.9, 1.5 Hz).13C NMR(CDCl3) δ 14.3, 37.1, 51.9, 52.6, 60.3, 61.2, 122.7, 123.9, 124.2,131.1, 132.5,148.1, 166.5, 171.1, 172.7. IR (KBr) νmax 3320, 2953, 1738, 1701, 1437, 1368, 1269,1101,1055, 748 cm-1. HRMS C15H19NO6Sとしての計算値: 341.0933. 実測値: 341.0933.
【実施例１１】
【００３４】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中にＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)ベンゾイミダゾール（１００ｍｇ，０．３４ｍｍｏｌ）とグルタミン酸ジメチルエステル塩酸塩（１０６ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１００ｍｇ，０．９９ｍｍｏｌ）を加えて還流下３時間反応させた。反応終了後、メタノールを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：酢酸エチル＝１００：１）で精製することにより、化合物（１１）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)グルタミン酸ジメチルエステルを収量９０．６ｍｇ（収率７５％）で得た。
1H NMR (CDCl3) δ1.39 (3H,t, J = 7.0 Hz), 2.04-2.11 (1H, m),2.17-2.21 (1H, m),2.47-2.57 (2H, m), 3.30 (1H, d, J = 8.5 Hz), 3.56 (1H, q, J =7.0 Hz), 3.68 (3H, s), 3.77(3H, s), 4.36 (2H, q, J = 7.0 Hz), 7.15 (1H, ddd, J= 8.2, 7.3, 1.2 Hz), 7.52 (1H, ddd, J=8.2, 7.3, 1.5 Hz), 7.86 (1H, d, J =8.2 Hz), 8.01 (1H, d, J = 7.9 Hz). 13CNMR (CDCl3) δ 14.3, 28.3, 30.2, 51.8, 52.4, 61.2, 63.3, 122.6, 123.9,124.3, 131.1, 132.5, 148.1, 166.4,173.2, 174.0. IR (KBr) νmax 3320, 2953, 1738, 1701, 1437, 1368, 1269, 1101,748 cm-1.HRMS C16H21NO6S としての計算値:355.1090. 実測値: 355.1076.
【実施例１２】
【００３５】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中に２−スルフェナモイル安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）とグリシンエチルエステル塩酸塩（１１５ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１０１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で８時間反応させた。反応終了後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（２）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)グリシンエチルエステルを収量３７．０ｍｇ（収率２５％）で得た。
【実施例１３】
【００３６】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中に２−スルフェナモイル安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）とアラニンメチルエステル塩酸塩（１１６ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１０１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で８時間反応させた。反応終了後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（３）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)アラニンメチルエステルを収量６２．２ｍｇ（収率４２％）で得た。
【実施例１４】
【００３７】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中に２−スルフェナモイル安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）とフェニルグリシンメチルエステル塩酸塩（１６６ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１０１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で８時間反応させた。反応終了後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、化合物（５）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルグリシンメチルエステルを収量７４．７ｍｇ（収率４１％）で得た。
【実施例１５】
【００３８】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中に２−スルフェナモイル安息香酸エチル（１００ｍｇ，０．５１ｍｍｏｌ）とフェニルグリシンメチルエステル塩酸塩（１５３ｍｇ，０．７６ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１０１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で３時間反応させた。反応終了後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、化合物（６）のＮ−(２−エトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルグリシンメチルエステルを収量１２１．５ｍｇ（収率６９％）で得た。
【実施例１６】
【００３９】
内容積５０ｍｌのガラス製容器中に２−スルフェナモイル安息香酸メチル（１００ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）とフェニルアラニンメチルエステル塩酸塩（１７９ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０ｍｌ）に溶解させ、トリエチルアミン（１０１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えて１００℃で８時間反応させた。反応終了後、トルエンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：塩化メチレン）で精製することにより、化合物（７）のＮ−(２−メトキシカルボニルベンゼンスルフェニル)フェニルアラニンメチルエステルを収量５８．９ｍｇ（収率３１％）で得た。