(57)【要約】【課題】クリーンルーム内のケミカル汚染を防ぐことの出来る半導体製造装置を提供する。【解決手段】冷媒は冷媒循環装置２０１の冷媒タンク２０８に回収させる。また、冷媒が大気に接する部分には排気機構を設置している。更にクリーンルームに窒素供給装置３０１を装置の側に設置させることにより、階上での作業で冷媒循環ラインに窒素を供給し、冷媒を回収することができる。また、窒素を供給した際に、冷媒タンク及び配管が陽圧にならないように、冷媒タンク２０８の冷媒供給口２０５が開放する機構を設けている。この機構は冷媒循環配管に窒素を供給すると同時に、窒素用配管２２３を通じて、冷媒供給口２０５に圧力をかける。この窒素の圧力で冷媒供給口２０５が開放する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷媒タンクを備える半導体製造装置において、
冷媒の供給と回収を同一の前記冷媒タンクで行うことを特徴とする半導体製造装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体製造装置において、
前記冷媒が接する部分に排気機構を有することを特徴とする半導体製造装置。
【請求項３】
請求項１記載の半導体製造装置において、
前記冷媒タンクの冷媒供給口が開放することを特徴とする半導体製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体製造装置（例えばドライエッチング装置）では、ウェハ処理室の側壁部に要求される温度の均一性がより精度の高いものになってきている。その一例として通常のウェハ処理室のクリーニング時に取り外しを行うパーツ内部に冷媒を循環させチャンバー内部の温度を均一化する方法が用いられている。
【０００３】
図２は従来の技術の一実施形態における半導体製造装置を説明するための構成図である。
【０００４】
冷媒循環装置２０１から半導体製造装置本体１０１へ冷媒を供給する部分の開閉バルブ２０３と半導体製造装置本体１０１から冷媒循環装置２０１へ回収される部分の開閉バルブ２０２を閉の状態にし、冷媒ドレイン用開閉バルブ２１１を開の状態にし、窒素供給バルブ２１０を開にする。そして回収タンク２１２を冷媒ドレイン部２１３に設置し、冷媒を回収タンク２１２に回収する。再度、冷媒循環装置２０１を起動させる際には冷媒供給口２０５から回収タンク２１２に回収された冷媒を供給する（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−６８２４９号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従来技術ではクリーニング毎に配管内の冷媒を回収する必要があり、結果として配管内の冷媒を回収する割合が、１〜２回／年から１〜２回／月と約１０倍に増えている。
【０００７】
その為、作業者がクリーンルームとメカニカルブース、すなわち階上階下を往復して作業する、もしくは２名以上で行うなど作業性が好ましくない。
【０００８】
また、回収時及び再度起動させるために冷媒を供給する際に、冷媒によってクリーンルームもしくはその階下がケミカル汚染される可能性が非常に高い。
【０００９】
特に近年は冷媒には通常フッ素系不活性液体が使用されている。このフッ素系不活性液体が気化した際に、Ｃ５Ｆ８やＣ４Ｆ６などのフロロカーボン系のガス検知器を誤動作させる可能性が高いため、冷媒回収作業中にガス検知器を停止させなくてならないこともあり、安全面からも好ましくないという課題も有している。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明に係わる半導体製造装置は、冷媒タンクを備える半導体製造装置であり、冷媒の供給と回収を同一の冷媒タンクで行うことを特徴とするものである。
【００１１】
なお、本発明の半導体製造装置において、冷媒が接する部分に排気機構を有することがより好ましい。
【００１２】
なお、本発明の半導体製造装置において、冷媒タンクの冷媒供給口が開放することがより好ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の一実施形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１４】
図１は本発明の一実施形態における半導体製造装置を説明するための構成図である。
【００１５】
１０１は半導体製造装置本体であるエッチング装置、２０１は冷媒循環装置、３０１は窒素供給装置である。上下階に分けて設置する際には、半導体製造装置本体１０１と窒素供給装置３０１を階上のクリーンルーム、冷媒循環装置２０１を階下のメカニカルブースに設置する。
【００１６】
１０６はウェハ、１０２はウェハ処理室、１０３はウェハ処理室側壁部、１０４は冷媒循環部、１０５は冷媒循環配管と装置本体との接合部である。
【００１７】
２０２、２０３は開閉バルブ、２０４は窒素供給用開閉バルブ、２０５は冷媒供給口、２０６は供給口カバー、２０７はモーター、２０８は冷媒タンク、２０９は冷媒タンクの液面センサー、２２１は冷媒循環配管（復路）、２２２は冷媒循環配管（往路）、２２３は窒素用配管である。
【００１８】
３０２は圧力計、３０３は三方弁、３０４は窒素供給用開閉バルブ、３０５は三方弁、３０６はエア抜き用ドレインタンク、３０７は冷媒循環装置の運転状態表示器、３０８は冷媒タンクの液面センサー表示器、４０１は窒素供給機構、４０２ａ、４０２ｂは排気機構である。
【００１９】
ウェハを処理するためにウェハ処理室の側壁の温度を恒温化させるためにウェハ処理室側壁部１０３の冷媒循環部１０４に冷媒を一定の速度で流す。冷媒は冷媒循環装置の冷媒タンク２０８からモーター２０７の力により、冷媒タンク２０８→冷媒循環配管（往路）２２２→ウェハ処理室側壁部の冷媒循環部１０４→冷媒循環配管（復路）２２１→冷媒タンク２０８へと流れる。通常運転時は、三方弁３０５はＡ→Ｃ開（Ｂ閉）の状態、つまり冷媒循環装置から半導体製造装置本体へ流れる状態である。
【００２０】
ウェハ処理室をクリーニングする際にウェハ処理室側壁部を取り外すために、冷媒循環配管と装置本体との接合部１０５を切り離す必要がある。取り外す際に冷媒が漏れるために冷媒を配管から回収する必要がある。
【００２１】
冷媒を回収するために、まず冷媒循環装置２０１を停止させる。モーター２０７が回転している場合は、冷媒循環装置の運転状態表示器３０７の“運転”が点灯している。停止した場合は“停止”が点灯するように回路を設けている。冷媒循環装置の運転状態表示器３０７により冷媒循環装置のモーター２０７が停止したことを確認することができる。
【００２２】
次に開閉バルブ３０４を開、三方弁３０３をＡ→Ｃ開（Ｂ閉）、三方弁３０５をＢ→Ｃ開（Ａ閉）にすることより冷媒循環配管に窒素を供給する。三方弁３０５からウェハ処理側壁部の冷媒循環部１０４へ窒素が流れ、冷媒循環配管（復路）２２１を通じて、冷媒タンク２０８に冷媒が回収される。冷媒タンクの圧力が上昇しないように三方弁３０３をＡ→Ｃ開（Ｂ閉）にすると同時に冷媒供給口２０５に窒素が供給されることによって冷媒供給口２０５が開く。これにより冷媒タンク２０８の圧力が窒素によって上昇することを防止する。
【００２３】
冷媒タンク２０８に冷媒が回収されたことを確認する方法として、冷媒タンクの液面センサー表示器３０８の変動がないことを確認する。もしくは圧力計３０２の圧力が窒素供給時は上昇するが、回収後下がることを確認する。
【００２４】
回収確認後、三方弁３０３をＢ→Ｃ開（Ａ閉）にすることにより、配管内のエア抜きをする。確認方法として、圧力計３０２が０ｋＰａになることを確認する。
【００２５】
配管内のエア抜きが終了した時点で回収作業は終了し、冷媒循環配管と装置本体との接合部１０５を切り離すことができる。この時点でバルブ３０４を閉める。
【００２６】
再度冷媒を循環させる場合は、三方弁３０５をＡ→Ｃ開（Ｂ閉）にし、冷媒循環装置を起動させる。
【００２７】
冷媒が気化し、大気に触れる部分、エア抜きドレインタンク３０６と冷媒供給口の供給口カバー２０６に、排気機構４０２ａ、４０２ｂを設置することにより、大気へのケミカル汚染を防止する。
【００２８】
以上のような構成からなる本発明の半導体製造装置は、冷媒を冷媒循環装置２０１の冷媒タンク２０８に回収させることを特徴とする。
【００２９】
また、冷媒が大気に接する部分には排気機構を設置している。更にクリーンルームに窒素供給装置３０１を装置の側に設置させることにより、階上での作業で冷媒循環ラインに窒素を供給し、冷媒を回収することを特徴とする。
【００３０】
また、窒素を供給した際に、冷媒タンク及び配管が陽圧にならないように、冷媒タンク２０８の冷媒供給口２０５が開放する機構を設けている。この機構は冷媒循環配管に窒素を供給すると同時に、窒素用配管２２３を通じて、冷媒供給口２０５に圧力をかける。この窒素の圧力で冷媒供給口２０５が開放する。この構成によって、大気のケミカル汚染を防止することができ、また階上のみの作業で冷媒を回収することができる。
【００３１】
【発明の効果】
以上のように、本発明の半導体製造装置は冷媒が大気に触れる量を大幅に減らし、且つ冷媒が大気に触れる部分に排気機構を設けることにより、大気のケミカル汚染量を大幅に減らすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態を説明する模式図
【図２】従来の実施形態を説明する模式図
【符号の説明】
１０１  半導体製造装置本体
１０２  ウェハ処理室
１０３  ウェハ処理室側壁部
１０４  冷媒循環部
１０５  冷媒循環配管と装置本体との接合部
１０６  ウェハ
２０１  冷媒循環装置
２０２  開閉バルブ
２０３  開閉バルブ
２０４  窒素供給用開閉バルブ
２０５  冷媒供給口
２０６  供給口カバー
２０７  モーター
２０８  冷媒タンク
２０９  冷媒タンクの液面センサー
２１０  窒素供給用開閉バルブ
２１１  冷媒ドレイン用開閉バルブ
２１２  回収タンク
２１３  冷媒ドレイン部
２２１  冷媒循環配管（復路）
２２２  冷媒循環配管（往路）
２２３  窒素用配管
３０１  窒素供給装置
３０２  圧力計
３０３  三方弁
３０４  窒素供給用開閉バルブ
３０５  三方弁
３０６  エア抜き用ドレインタンク
３０７  冷媒循環装置の運転状態表示器
３０８  冷媒タンクの液面センサー表示器
４０１  窒素供給機構
４０２ａ  排気機構
４０２ｂ  排気機構
【図１】
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【図２】
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