(57)【要約】【課題】本発明は、ガラス材料をプレス成形して製造される光部品及びその製造方法に関し、プレス成形を用いて、屈折率の異なる複数の領域を有する光部品及びその安価な製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】回折格子１は、第１のガラス基板２と、第１のガラス基板２と異なる屈折率を有する第２のガラス基板３とが接合されて形成されている。第１のガラス基板２と第２のガラス基板３との接合面の第１のガラス基板２表面には、プレス成形で形成した複数の凹部２ａが形成されている。一方、当該接合面の第２のガラス基板表面には、第１のガラス基板２の各凹部２ａとそれぞれ嵌合する複数の凸部３ａが形成されている。凸部３ａもプレス成形で形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面にプレス成形で形成した凹部を有する第１のガラス基板と、
表面にプレス成形で形成した凸部を有し、前記凸部を前記凹部に嵌合して前記第１のガラス基板に接合され、前記第１のガラス基板と異なる屈折率を有する第２のガラス基板と
を備えることを特徴とする光部品。
【請求項２】
請求項１記載の光部品において、
前記凹部及び前記凸部により回折格子を構成すること
を特徴とする光部品。
【請求項３】
表面にプレス成形で形成した凹部を有する第１のガラス基板と、
前記第１のガラス基板と異なる屈折率を有する第２のガラス基板表面にプレス成形で形成され、前記凹部に嵌め込まれて接合された凸状部材と、
前記第１のガラス基板とほぼ同一の屈折率を有し、前記凹部に前記凸状部材を嵌め込んだ前記第１のガラス基板表面に接合された第３のガラス基板と
を備えることを特徴とする光部品。
【請求項４】
請求項３記載の光部品において、
前記凸状部材をコアとし、前記第１及び第３のガラス基板をクラッドとする光導波路を構成すること
を特徴とする光部品。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光部品において、
前記凹部は、基板面法線方向に見て、開口端周囲内方に底部が形成されていること
を特徴とする光部品。
【請求項６】
請求項５記載の光部品において、
前記凹部は、基板面に垂直な断面が台形状に形成されていること
を特徴とする光部品。
【請求項７】
第１のガラス基板表面にプレス成形で凹部を形成し、
前記第１のガラス基板と異なる屈折率を有する第２のガラス基板表面にプレス成形で凸部を形成し、
前記凸部を前記凹部に嵌合して前記第１のガラス基板表面と前記第２のガラス基板表面とを接合すること
を特徴とする光部品の製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の光部品の製造方法において、
前記第１のガラス基板表面と前記第２のガラス基板表面との接合は、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板とを加熱しながら行うこと
を特徴とする光部品の製造方法。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の光部品の製造方法において、
前記第２のガラス基板裏面側を研磨して、前記凸部が前記凹部に嵌合された前記第１のガラス基板表面を露出させ、
前記第１のガラス基板とほぼ同一の屈折率を有する第３のガラス基板を前記第１のガラス基板表面に接合すること
を特徴とする光部品の製造方法。
【請求項１０】
請求項９記載の光部品の製造方法において、
前記第１のガラス基板表面と前記第３のガラス基板表面との接合は、前記第１のガラス基板と前記第３のガラス基板とを加熱しながら行うこと
を特徴とする光部品の製造方法。
【請求項１１】
請求項７乃至１０のいずれか1項に記載の光部品の製造方法において、
前記凹部は、基板面法線方向に見て、底部が開口端周囲内方に位置するように形成すること
を特徴とする光部品の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の光部品の製造方法において、
前記凹部は、基板面に垂直な断面が台形状になるように形成すること
を特徴とする光部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス材料をプレス成形して製造される光部品及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光部品の低価格化及び高性能化に伴い、半導体レーザや発光ダイオード、あるいはフォトダイオード等の発光受光デバイスの適用範囲は止まることなく拡大し続けている。発光受光デバイスを用いた電子機器では、光を導波、反射、吸収、あるいは分離させるために様々な光部品が使用される。ある媒体における光の性質は屈折率で決まり、光部品では屈折率の異なる部材を接合したり組み合わせたりして所望の機能を実現している。一般に屈折率の異なる部分を有する光部品の代表例として光導波路や回折格子等が挙げられる。
【０００３】
これらの光部品は、屈折率の異なる領域を数μｍの精度で形成する必要がある。このため、半導体プロセスで用いられるフォトリソグラフィ法を用いた微細加工技術が用いられている。フォトリソグラフィ法では、まず、各種真空成膜装置を用いて基板上に薄膜を形成する。次いで、薄膜上にフォトレジスト層を形成する。次いで、露光装置を用いて、微細パターンが描画されたフォトマスク（あるいはレチクル）を介して紫外線を照射してフォトレジスト層を露光し、フォトレジスト層にフォトマスクの微細パターンを転写する。フォトレジスト層を現像して微細パターン形状のフォトレジスト層を形成し、これをエッチングマスクとして薄膜をエッチングすることにより所望形状の薄膜パターンが得られる。このフォトリソグラフィ法を用いると数μｍ精度のパターンが容易に得られるという利点を有するものの、真空装置、露光機、フォトマスクといった高価な精密機器を使用するため低価格化に限界がある。
【０００４】
一方、ガラスを主材料として用いる光部品では、ガラスの温度による粘度変化という特徴を生かし、型成形による光部品の製造方法が用いられることも多い（例えば、特許文献１参照）。型を用いた光部品製造の場合、精密金型を一度作製してしまえば、微細なパターンもプレス（モールド）成形により正確に転写されるため量産性が極めて高く低価格化にも有利である。
【０００５】
【特許文献１】特許第２７２９７０２号公報
【特許文献２】特表２００３−５１１７１４号公報
【特許文献３】米国特許第６０４４１９２号明細書
【特許文献４】特開２００１−３３７２４１号公報
【特許文献５】特開２０００−２５８６４９号公報
【特許文献６】特開２００３−１６１８５１号公報
【特許文献７】特開平８−３０４６４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、プレス成形による光部品製造は、異なる屈折率領域の形成が困難になるという問題を有している。一方、フォトリソグラフィ法を用いた光部品製造では異なる屈折率領域の形成は比較的簡単に行なうことができる。例えば、光導波路は屈折率がその周囲よりわずかに大きな矩形状のコアが周囲のクラッドで埋め込まれた構造であり、この埋め込み構造は、コアパターン形成後に一様に被覆堆積されたクラッドを高温で軟化リフローしたり（例えば、特許文献２又は特許文献３参照）、あるいはスパッタエッチングしながら埋め込み層を形成したり（例えば、特許文献４参照）することによって得られる。
【０００７】
例えば特許文献５に開示されたプレス成形では、そもそも材料の軟化を利用して成形を行なっているので、狭いギャップへの屈折率の違う材料の埋め込みに際しては注意を払う必要がある。埋め込むべき材料が十分に軟化している状態では埋め込まれる方の構造はその構造が保持されるだけ十分硬くなければならない（例えば、特許文献６又は特許文献７参照）。これは導波路の構造に則していうと、埋め込まれる側のコアと埋め込む側の上部クラッドの軟化温度ができるだけ大きく異なっていることを必要とする。したがって、成形材料の選択に制約があり、高特性や低価格の光部品を製造することができなかった。
【０００８】
本発明の目的は、プレス成形を用いて、屈折率の異なる複数の領域を有する光部品及びその安価な製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的は、表面にプレス成形で形成した凹部を有する第１のガラス基板と、表面にプレス成形で形成した凸部を有し、前記凸部を前記凹部に嵌合して前記第１のガラス基板に接合され、前記第１のガラス基板と異なる屈折率を有する第２のガラス基板とを備えることを特徴とする光部品光部品によって達成される。
【００１０】
上記本発明の光部品において、前記凹部及び前記凸部により回折格子を構成することを特徴とする。
【００１１】
また、上記目的は、表面にプレス成形で形成した凹部を有する第１のガラス基板と、前記第１のガラス基板と異なる屈折率を有する第２のガラス基板表面にプレス成形で形成され、前記凹部に嵌め込まれて接合された凸状部材と、前記第１のガラス基板とほぼ同一の屈折率を有し、前記凹部に前記凸状部材を嵌め込んだ前記第１のガラス基板表面に接合された第３のガラス基板とを備えることを特徴とする光部品によって達成される。
【００１２】
上記本発明の光部品において、前記凸状部材をコアとし、前記第１及び第３のガラス基板をクラッドとする光導波路を構成することを特徴とする。
【００１３】
上記本発明の光部品において、前記凹部は、基板面法線方向に見て、開口端周囲内方に底部が形成されていることを特徴とする。
【００１４】
上記本発明の光部品において、前記凹部は、基板面に垂直な断面が台形状に形成されていることを特徴とする。
【００１５】
さらに、上記目的は、第１のガラス基板表面にプレス成形で凹部を形成し、前記第１のガラス基板と異なる屈折率を有する第２のガラス基板表面にプレス成形で凸部を形成し、前記凸部を前記凹部に嵌合して前記第１のガラス基板表面と前記第２のガラス基板表面とを接合することを特徴とする光部品の製造方法によって達成される。
【００１６】
上記本発明の光部品の製造方法において、前記第１のガラス基板表面と前記第２のガラス基板表面との接合は、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板とを加熱しながら行うことを特徴とする。
【００１７】
上記本発明の光部品の製造方法において、前記第２のガラス基板裏面側を研磨して、前記凸部が前記凹部に嵌合された前記第１のガラス基板表面を露出させ、前記第１のガラス基板とほぼ同一の屈折率を有する第３のガラス基板を前記第１のガラス基板表面に接合することを特徴とする。
【００１８】
上記本発明の光部品の製造方法において、前記第１のガラス基板表面と前記第３のガラス基板表面との接合は、前記第１のガラス基板と前記第３のガラス基板とを加熱しながら行うことを特徴とする。
【００１９】
上記本発明の光部品の製造方法において、前記凹部は、基板面法線方向に見て、底部が開口端周囲内方に位置するように形成することを特徴とする。
【００２０】
上記本発明の光部品の製造方法において、前記凹部は、基板面に垂直な断面が台形状になるように形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、プレス成形を用いて、屈折率の異なる複数の領域を有する光部品を安価に製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の一実施の形態による光部品及びその製造方法について図１乃至図３を用いて説明する。図１は本実施の形態による光部品の例として回折格子１の一部断面を示している。図１に示す回折格子１は、第１のガラス基板２と、第１のガラス基板２と異なる屈折率を有する第２のガラス基板３とが接合されて形成されている。第１のガラス基板２と第２のガラス基板３との接合面の第１のガラス基板２表面には、プレス成形で形成した複数の凹部２ａが形成されている。一方、当該接合面の第２のガラス基板表面には、第１のガラス基板２の各凹部２ａとそれぞれ嵌合する複数の凸部３ａが形成されている。凸部３ａもプレス成形で形成されている。
【００２３】
複数の凹部２ａは、所定のピッチで紙面に垂直方向に延び、深さが２Ｄの凹状ストライプパターンに形成されている。また、複数の凹部２ａは、第１のガラス基板２表面の法線方向に見て、開口端周囲２Ｔの内方に底部２Ｂが形成されており、基板面に垂直な図示の断面において台形状に形成されている。
【００２４】
同様に、複数の凸部３ａは、複数の凹部２ａのピッチと同ピッチで紙面に垂直方向に延び、高さが３Ｈの凸状ストライプパターンに形成されている。凸部３ａの高さ３Ｈは、凹部２ａの深さ２Ｄとほぼ同じ長さを有している。また、複数の凸部３ａは、第２のガラス基板３表面の法線方向に見て、基部周囲３Ｂの内方に頂部３Ｔが形成されており、基板面に垂直な図示の断面において凹部２ａの台形状と合同の台形状に形成されている。
【００２５】
このように、回折格子１は、第１のガラス基板２と第２のガラス基板３との接合面の凹凸が容易に嵌合するように、凹凸ストライプパターンの側面部にテーパが設けられている。このような構造を有することにより、回折格子１の製造段階で容易に第１のガラス基板２と第２のガラス基板３とを接合することができる。
【００２６】
図２は、本実施の形態による光部品の別の例として光導波路１’の一部断面を示している。図２に示す光導波路１’は、表面にプレス成形で形成した複数の凹部２ａを有する第１のガラス基板２を有している。また、光導波路１’は、第１のガラス基板２と異なる屈折率を有する第２のガラス基板３表面にプレス成形で形成され、各凹部２ａに嵌め込まれて接合された複数の凸状部材４と、第１のガラス基板２とほぼ同一の屈折率を有し、凹部２ａに凸状部材４を嵌め込んだ第１のガラス基板２表面に接合された第３のガラス基板５とを備えている。光導波路１’において、複数の凸状部材４でそれぞれコアが構成され、それらを埋め込むように取り囲む第１及び第３のガラス基板２、５でクラッドが構成されている。
【００２７】
複数の凹部２ａは、所定のピッチで紙面に垂直方向に延びて、深さが２Ｄの凹状ストライプパターンに形成されている。また、複数の凹部２ａは、第１のガラス基板２表面の法線方向に見て、開口端周囲２Ｔの内方に底部２Ｂが形成されており、基板面に垂直な図示の断面において台形状に形成されている。
【００２８】
同様に、複数の凸状部材４は、複数の凹部２ａのピッチと同ピッチで紙面に垂直方向に延びて、高さが４Ｈの凸状ストライプパターンに形成されている。凸状部材４の高さ４Ｈは、凹部２ａの深さ２Ｄとほぼ同じ長さを有している。また、複数の凸状部材４は、第１のガラス基板２表面の法線方向に見て、基部周囲４Ｂの内方に頂部４Ｔが形成されており、基板面に垂直な図示の断面において凹部２ａの台形状と合同の台形状に形成されている。
【００２９】
このように、光導波路１’は、第１のガラス基板２表面に形成された凹部２ａと凸状部材４とが容易に嵌合するように、凹凸ストライプパターンの側面部にテーパが設けられている。このような構造を有することにより、光導波路１’の製造段階において、凹部２ａが形成された第１のガラス基板２と凸状部材４が形成された第２のガラス基板３とを容易に接合することができる。
【００３０】
次に、本実施の形態による光部品の製造方法について、図２に示した光導波路１’の製造を例にして図３を用いて具体的に説明する。前提として、導波路はシングルモードとするため凸状部材４の高さ４Ｈ（すなわち、凹部２ａの深さ２Ｄ）を６〜８μｍとし、また、凸状部材４の基部周囲４Ｂの幅（すなわち、凹部２ａの開口端周囲２Ｔの幅）を６〜８μｍとし、単純なストライプ状（直線状）パターンとした。
【００３１】
図３（ａ）は、電鋳法を用いて母型から金型を作製する方法を示している。図３（ａ）右側は、コア形成領域が突出した凸型の金型の作製を示している。まず、石英ガラス基材の表面に通常のフォトリソグラフィ技術を用いて凹状のコアパターンを形成して第１の母型１０を作製する。第１の母型１０の複数の凹部１１は、所定のピッチで紙面に垂直方向に延び、深さが８μｍの凹状ストライプパターンに形成される。また、複数の凹部１１は、第１の母型１０表面の法線方向に見て、開口端周囲の幅が８μｍでその内方に底部の幅が６μｍに形成され、基板面に垂直な図示の断面において台形状に形成される。
【００３２】
次に、第１の母型１０の凹状コアパターン形成面に無電解鍍金法あるいはスパッタリング法を用いて下地導電膜を形成する。次いで、電解鍍金法を用いて下地導電膜上にニッケル（Ｎｉ）と燐（Ｐ）の合金を５００μｍの厚さに鍍金して鍍金部を形成する。鍍金部には、第１の母型１０の凹部１１のパターンに対応して凸部１１’が形成される。第１の母型１０から鍍金部を剥がして、第１の母型１０の凹部１１のコアパターンに対応する凸部１１’が形成されたコア嵌合パターン形成用電鋳金型１２が完成する。コア嵌合パターン形成用電鋳金型１２の複数の凸部１１’は、高さが８μｍの凸状ストライプパターンに形成される。また、複数の凸部１１’は、コア嵌合パターン形成用電鋳金型１２表面の法線方向に見て、基部周囲の幅が８μｍでその内方に頂部の幅が６μｍに形成され、基板面に垂直な図示の断面において台形状に形成される。
【００３３】
一方、図３（ａ）左側は、コア形成領域が凹んだ凹型の金型の作製を示している。まず、石英ガラス基材の表面に通常のフォトリソグラフィ技術を用いて凸状のコアパターンを形成して第２の母型２０を作製する。第２の母型２０の複数の凸部２１は、高さが８μｍの凸状ストライプパターンに形成される。また、複数の凸部２１は、第２の母型２０表面の法線方向に見て、基部周囲の幅が８μｍでその内方に頂部の幅が６μｍに形成され、基板面に垂直な図示の断面において台形状に形成される。
【００３４】
次に、第２の母型２０の凸状コアパターン形成面に無電解鍍金法あるいはスパッタリング法を用いて下地導電膜を形成する。次いで、電解鍍金法を用いて下地導電膜上にＮｉとＰの合金を５００μｍの厚さに鍍金して鍍金部を形成する。鍍金部には、第２の母型２０の凸状コアパターンに対応して凹部２１’が形成される。第２の母型２０から鍍金部を剥がして、第２の母型２０の凸状コアパターンに対応する凹部２１’が形成されたコアパターン形成用電鋳金型２２が完成する。コアパターン形成用電鋳金型２２の複数の凹部２１’は、所定のピッチで紙面に垂直方向に延び、深さが８μｍの凹状ストライプパターンに形成される。また、複数の凹部２１’は、コアパターン形成用電鋳金型２２表面の法線方向に見て、開口端周囲の幅が８μｍでその内方に底部の幅が６μｍに形成され、基板面に垂直な図示の断面において台形状に形成される。なお、本実施形態によれば電鋳法を用いて金型を作製するので、低コストで高精度の金型が得られる。
【００３５】
次に、図３（ｂ）の右側に示すように、コア嵌合パターン形成用電鋳金型１２の型形成面をガラスシート１４表面にプレスして、コア嵌合パターン形成用電鋳金型１２の凸部１１に対応した位置のガラスシート１４表面にプレス成形による凹部２ａを形成する。ガラスシート１４のガラス材料としては、ガラス転移温度が３００℃程度のフツ燐酸系の多成分ガラスを使用するのが望ましい。フツ燐酸系ガラス以外のガラス材料としては、プレス成形できるケイ酸塩系ガラスや燐酸系ガラス等を用いることができる。ガラスシート１４は、屈折率が１．４６８５（波長λ＝１μｍの場合）でシート厚が１ｍｍである。プレス条件は、真空雰囲気で成形温度は３４０℃、成形圧力は５０ｋｇｆであり、成形時間は６０ｓｅｃである。これにより、図３（ｃ）の右側に示すように、表面にプレス成形で形成した凹部２ａを有する第１のガラス基板２が作製される。複数の凹部２ａは、所定のピッチで紙面に垂直方向に延び、深さが８μｍの凹状ストライプパターンに形成される。また、複数の凹部２ａは、第１のガラス基板２表面の法線方向に見て、開口端周囲の幅が８μｍでその内方に底部の幅が６μｍに形成され、基板面に垂直な図示の断面において台形状に形成される。
【００３６】
一方、図３（ｂ）の左側に示すように、コアパターン形成用電鋳金型２２の型形成面をガラスシート２４表面にプレスして、コアパターン形成用電鋳金型２２の凹部２１に対応した位置のガラスシート２４表面にプレス成形による凸部３ａを形成する。ガラスシート２４のガラス材料は、上記ガラスシート１４と同様のガラス転移温度が３００℃程度のフツ燐酸系の多成分ガラスである。ガラスシート２４は、屈折率がガラスシート１４とは異なる１．４７４２（波長λ＝１μｍの場合）でシート厚が１ｍｍである。プレス条件は、真空雰囲気で成形温度は３４０℃、成形圧力は５０ｋｇｆであり、成形時間は６０ｓｅｃである。これにより、図３（ｃ）の左側に示すように、表面にプレス成形で形成した凸部３ａを有する第２のガラス基板３が作製される。複数の凸部３ａは、複数の凹部２ａのピッチと同ピッチで紙面に垂直方向に延び、高さが８μｍの凸状ストライプパターンに形成される。また、複数の凸部３ａは、第２のガラス基板３表面の法線方向に見て、基部周囲の幅が８μｍでその内方に頂部の幅が６μｍに形成され、基板面に垂直な図示の断面において凹部２ａの台形状と合同の台形状に形成される。
【００３７】
次に、ＸＹθ微動ステージからなる治具を用いて、図３(ｄ)に示すように、第１のガラス基板２と第２のガラス基板３とをそれぞれの凹部２ａと凸部３ａとを位置合わせして嵌め合わせる。コアパターン断面を台形状に形成してあるため、凹部２ａの開口端周囲の幅（＝８μｍ）に対して凸部３ａの頂部の幅（＝６μｍ）が２μｍ程度小さくなっており、嵌め合わせ要求精度が緩和されている。このような構造を有することにより製造段階で容易に第１のガラス基板２と第２のガラス基板３との接合面の凹凸を容易に嵌合することができる。
【００３８】
次に、嵌め合わされた第１のガラス基板２と第２のガラス基板３とを、大きな形状変化が生じない程度の温度まで加熱して両者を接合する。この段階で、図１に示した回折格子１と同様の構造の光学素子を製造することができる。
【００３９】
次に、第２のガラス基板３の裏面側から研磨を開始して、第１のガラス基板２表面を深さ１μｍ程度まで研磨して第１のガラス基板２表面を露出させる。これにより、図３（ｅ）に示すように、凹部２ａに嵌め合わされた、高さが７μｍの凸状部材４が形成される。図３（ｅ）と共に図２を参照して、複数の凹部２ａは、所定のピッチで紙面に垂直方向に延び、深さ２Ｄが７μｍの凹状ストライプパターンに形成される。また、複数の凹部２ａは、第１のガラス基板２表面の法線方向に見て、開口端周囲２Ｔの幅が約７μｍでその内方に底部２Ｂの幅が６μｍに形成され、基板面に垂直な図示の断面において台形状に形成される。
【００４０】
複数の凸状部材４は、複数の凹部２ａのピッチと同ピッチで紙面に垂直方向に延び、高さ３Ｈが７μｍの凸状ストライプパターンに形成される。また、複数の凸状部材４は、第１のガラス基板２表面の法線方向に見て、基部周囲４Ｂの幅が約７μｍでその内方に頂部４Ｔの幅が６μｍに形成され、基板面に垂直な図示の断面において凹部２ａの台形状と合同の台形状に形成される。
【００４１】
次に、第１のガラス基板２と同一の屈折率（＝１．４６８５（波長λ＝１μｍの場合））でシート厚が１ｍｍの第３のガラス基板５表面を第１のガラス基板２の研磨面に接触させ、形状変化が生じない程度の２００℃まで加熱して第１のガラス基板２と第３のガラス基板５とを接合する。これにより、図２に示す光導波路１’が完成する。
材料の屈折率は、成形時の応力などで微妙に変わる場合があるが、第１及び第２のガラス基板２、３の屈折率の相対的な関係が、光部品として機能する程度に維持されていればよく、必要であれば、接合時の加熱条件を調整することにより応力を緩和して、屈折率を所望の値に修正することも可能である。
【００４２】
このように作製された光導波路１’の端面より、波長１．５５μｍの光を入力した。直線パターンの損失を評価したところ１．２ｄＢ／ｃｍが得られ、設計通りの光伝搬特性が得られていることを確認した。
【００４３】
このように本実施の形態によれば、軟化温度がそれほど異ならない複数の材料を所望の形状に組み合わせることができる。異なる屈折率を持つガラスからなる光部品において、形状の変形が生じない製造が可能となる。
【００４４】
本発明は、上記実施の形態に限らず種々の変形が可能である。
例えば、上記実施の形態では、ガラス材料からなる母型から金型を作製しているが、本発明はこれに限られない。例えば、切削加工により、金属材料を加工して型を成形してももちろんよい。金型材料は、ニッケル合金や超硬金型等ももちろん使用することができる。
【００４５】
また、上記実施の形態では、回折格子（ホログラムやグレーティングを含む）１及び光導波路１’の構成及びその製造方法を例にとって説明したが、本発明はこれに限られない。例えば、複合プリズム等の異なる屈折率を有するあらゆる光部品に対して本発明を適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の一実施の形態による光部品の例としての回折格子の概略断面を示す図である。
【図２】本発明の一実施の形態による光部品の他の例としての光導波路の概略断面を示す図である。
【図３】本発明の一実施の形態による光部品の製造方法を示す図である。
【符号の説明】
【００４７】
１  回折格子
１’  光導波路
２  第１のガラス基板
２ａ  凹部
２Ｂ  凹部２ａの底部
２Ｄ  凹部２ａの深さ
２Ｔ  凹部２ａの開口端周囲
３  第２のガラス基板
３ａ  凸部
３Ｂ  凸部３ａの基部周囲
３Ｔ  凸部３ａの頂部
３Ｈ  凸部３ａの高さ
４  凸状部材
４Ｂ  凸状部材４の基部周囲
４Ｔ  凸状部材４の頂部
４Ｈ  凸状部材４の高さ
５  第３のガラス基板
１０  第１の母型
１１  ２１’  凹部
１１’２１  凸部
１２  コア嵌合パターン形成用電鋳金型
１４、２４  ガラスシート
２０  第２の母型
２２  コアパターン形成用電鋳金型
【図１】
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【図２】
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【図３】
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