(57)【要約】【課題】絶縁性に優れた無機物被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石およびその簡易な製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の絶縁性希土類系永久磁石は、直接的にまたは耐食性被膜を介して、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜が表面に形成されてなることを特徴とする。その好適な製造方法は、耐食性被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石を、リン酸水素イオンとカルシウムイオンを含む被膜形成処理液に浸漬することで、耐食性被膜の表面にリンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜を形成することを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
直接的にまたは耐食性被膜を介して、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜が表面に形成されてなることを特徴とする絶縁性希土類系永久磁石。
【請求項２】
耐食性被膜である金属被膜を介して、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜が表面に形成されてなることを特徴とする請求項１記載の絶縁性希土類系永久磁石。
【請求項３】
金属被膜がニッケルめっき被膜または銅めっき被膜であることを特徴とする請求項２記載の絶縁性希土類系永久磁石。
【請求項４】
無機物被膜が金属被膜の表面にまで略到達した微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された長径が１０μｍ〜１００μｍの被膜片の集合体からなることを特徴とする請求項２または３記載の絶縁性希土類系永久磁石。
【請求項５】
無機物被膜がヒドロキシアパタイト被膜であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の絶縁性希土類系永久磁石。
【請求項６】
無機物被膜の膜厚が５μｍ〜５０μｍであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の絶縁性希土類系永久磁石。
【請求項７】
耐食性被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石を、リン酸水素イオンとカルシウムイオンを含む被膜形成処理液に浸漬することで、耐食性被膜の表面にリンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜を形成することを特徴とする絶縁性希土類系永久磁石の製造方法。
【請求項８】
無機物被膜がヒドロキシアパタイト被膜であることを特徴とする請求項７記載の製造方法。
【請求項９】
耐食性被膜の表面に予めヒドロキシアパタイト被膜の形成起点となる反応場を導入しておくことを特徴とする請求項８記載の製造方法。
【請求項１０】
リン酸水素イオンとカルシウムイオンを含む被膜形成処理液が擬似体液であることを特徴とする請求項８または９記載の製造方法。
【請求項１１】
耐食性被膜が金属被膜であることを特徴とする請求項７乃至１０のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１２】
金属被膜の表面を予めブラスト処理しておくことを特徴とする請求項１１記載の製造方法。
【請求項１３】
耐食性被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石を、被膜形成処理液に１日〜３日浸漬した後、処理液から取り出して乾燥する工程を複数回繰り返すことで、金属被膜の表面にまで略到達した微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された長径が１０μｍ〜１００μｍで膜厚が５μｍ〜５０μｍの被膜片の集合体からなる無機物被膜を形成することを特徴とする請求項７乃至１２のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１４】
直接的にまたは耐食性被膜を介して、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜を表面に形成することを特徴とする希土類系永久磁石への絶縁性付与方法。
【請求項１５】
リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜が表面に形成されてなる物品（希土類系永久磁石を除く）であって、無機物被膜が基材の表面にまで略到達した微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された長径が１０μｍ〜１００μｍの被膜片の集合体からなることを特徴とする物品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、絶縁性に優れた無機物被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石およびその簡易な製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石に代表されるＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石やＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系永久磁石に代表されるＲ−Ｆｅ−Ｎ系永久磁石などの希土類系永久磁石は、資源的に豊富で安価な材料が用いられ、かつ、高い磁気特性を有していることから、特にＲ−Ｆｅ−Ｂ系永久磁石は今日様々な分野で使用されており、自動車用モータや家電製品用モータなどへの適用に対する需要も増加している。
希土類系永久磁石を各種のモータに適用する場合、耐食性の確保もさることながら、磁石に発生する渦電流を防止するための対策を講じる必要がある。磁石に発生する渦電流を防止する方法としては、例えば、絶縁性被膜を磁石の表面に形成する方法がよく知られており、絶縁性被膜としてポリイミド樹脂被膜を磁石の表面に形成する方法は、下記の特許文献１などに記載されている。
【０００３】
希土類系永久磁石の表面にポリイミド樹脂被膜を形成することで、絶縁性を確保して磁石に発生する渦電流を防止する方法は、優れた方法として評価されている。しかしながら、ポリイミド樹脂被膜は有機物被膜であるので、自動車用モータのように百数十℃といった高温に曝されるモータに、ポリイミド樹脂被膜が表面に形成されてなる磁石を適用した場合、被膜軟化が起こることで絶縁性が破壊されることがあるといった問題がある。また、ポリイミド樹脂被膜を磁石の表面に形成する方法として湿式法（スプレー塗装法など）を採用した場合には極性の高い有機溶媒を必要とするので作業環境に負荷が大きいといった問題あり、乾式法（蒸着法）を採用した場合には多額の設備投資が必要となり、作業コストが高くなるといった問題がある。
【０００４】
【特許文献１】
特開平９−１８０９２２号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明は、絶縁性に優れた無機物被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石およびその簡易な製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記の点に鑑みて種々の検討を行った結果、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜が、絶縁性に優れることを知見した。
【０００７】
上記の知見に基づいてなされた本発明の絶縁性希土類系永久磁石は、請求項１記載の通り、直接的にまたは耐食性被膜を介して、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜が表面に形成されてなることを特徴とする。
また、請求項２記載の絶縁性希土類系永久磁石は、請求項１記載の絶縁性希土類系永久磁石において、耐食性被膜である金属被膜を介して、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜が表面に形成されてなることを特徴とする。
また、請求項３記載の絶縁性希土類系永久磁石は、請求項２記載の絶縁性希土類系永久磁石において、金属被膜がニッケルめっき被膜または銅めっき被膜であることを特徴とする。
また、請求項４記載の絶縁性希土類系永久磁石は、請求項２または３記載の絶縁性希土類系永久磁石において、無機物被膜が金属被膜の表面にまで略到達した微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された長径が１０μｍ〜１００μｍの被膜片の集合体からなることを特徴とする。
また、請求項５記載の絶縁性希土類系永久磁石は、請求項１乃至４のいずれかに記載の絶縁性希土類系永久磁石において、無機物被膜がヒドロキシアパタイト被膜であることを特徴とする。
また、請求項６記載の絶縁性希土類系永久磁石は、請求項１乃至５のいずれかに記載の絶縁性希土類系永久磁石において、無機物被膜の膜厚が５μｍ〜５０μｍであることを特徴とする。
また、本発明の絶縁性希土類系永久磁石の製造方法は、請求項７記載の通り、耐食性被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石を、リン酸水素イオンとカルシウムイオンを含む被膜形成処理液に浸漬することで、耐食性被膜の表面にリンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜を形成することを特徴とする。
また、請求項８記載の製造方法は、請求項７記載の製造方法において、無機物被膜がヒドロキシアパタイト被膜であることを特徴とする。
また、請求項９記載の製造方法は、請求項８記載の製造方法において、耐食性被膜の表面に予めヒドロキシアパタイト被膜の形成起点となる反応場を導入しておくことを特徴とする。
また、請求項１０記載の製造方法は、請求項８または９記載の製造方法においえ、リン酸水素イオンとカルシウムイオンを含む被膜形成処理液が擬似体液であることを特徴とする。
また、請求項１１記載の製造方法は、請求項７乃至１０のいずれかに記載の製造方法において、耐食性被膜が金属被膜であることを特徴とする。
また、請求項１２記載の製造方法は、請求項１１記載の製造方法において、金属被膜の表面を予めブラスト処理しておくことを特徴とする。
また、請求項１３記載の製造方法は、請求項７乃至１２のいずれかに記載の製造方法において、耐食性被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石を、被膜形成処理液に１日〜３日浸漬した後、処理液から取り出して乾燥する工程を複数回繰り返すことで、金属被膜の表面にまで略到達した微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された長径が１０μｍ〜１００μｍで膜厚が５μｍ〜５０μｍの被膜片の集合体からなる無機物被膜を形成することを特徴とする。
また、本発明の希土類系永久磁石への絶縁性付与方法は、請求項１４記載の通り、直接的にまたは耐食性被膜を介して、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜を表面に形成することを特徴とする。
また、本発明の物品は、請求項１５記載の通り、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜が表面に形成されてなる物品（希土類系永久磁石を除く）であって、無機物被膜が基材の表面にまで略到達した微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された長径が１０μｍ〜１００μｍの被膜片の集合体からなることを特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の絶縁性希土類系永久磁石は、直接的にまたは耐食性被膜を介して、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜が表面に形成されてなることを特徴とするものである。リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜は、ポリイミド樹脂被膜のような有機物被膜と異なり、高温に曝されても被膜軟化するといったことがなく、また、簡易に形成することができる。リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜の一例であるヒドロキシアパタイト被膜は、生体適合性に優れた被膜であり、生体インプラント材料に適用することができることは、特開平６−２９３５０５号公報や特開２００３−６２０６１号公報に記載の通りである。しかしながら、このような無機物被膜を絶縁性被膜として希土類系永久磁石の表面に直接的にまたは耐食性被膜を介して形成することはこれまでに報告された例はない。
【０００９】
リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜としては、例えば、第一リン酸カルシウム｛Ｃａ（Ｈ２ＰＯ４）２｝、第二リン酸カルシウム（ＣａＨＰＯ４）、第三リン酸カルシウム｛Ｃａ３（ＰＯ４）２｝、リン酸四カルシウム｛Ｃａ４（ＰＯ４）２Ｏ｝、リン酸八カルシウム｛Ｃａ８Ｈ２（ＰＯ４）６｝、ヒドロキシアパタイト｛Ｃａ１０（ＰＯ４）６（ＯＨ）２｝、アモルファスリン酸カルシウムなどからなる被膜が挙げられる。リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜は、リンとカルシウムを構成成分として含むものであれば必ずしも単一組成からなるものである必要はなく、また、結晶水を含むものであってもよい。無機物被膜の膜厚は、磁石に十分な絶縁性を付与する観点と磁石の有効体積を確保する観点から、５μｍ〜５０μｍとすることが望ましい。
【００１０】
リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜として好適な被膜としては、ヒドロキシアパタイト被膜が挙げられる。ヒドロキシアパタイト被膜は、ヒドロキシアパタイトの構成元素の一部が、他の元素に置換されていたり欠損していたり、また、基の一部が他の基に置換されていたりするものであってもよい。具体的には、例えば、ヒドロキシアパタイトの構成元素の一部が、ＮａやＫなどの周期律表第Ｉ族の元素、ＭｇやＺｎなどの周期律表第ＩＩ族の元素、ＦやＣｌなどの周期律表第ＶＩＩ族の元素、さらには希土類元素に置換されていたり欠損していたりするものや、また、基の一部がＣＯ３２−、ＨＰＯ４２−、ＳＯ４２−などの基に置換されていたりするものが挙げられる。これらの元素や基は、ヒドロキシアパタイト被膜を形成するための被膜形成処理液に含まれる元素や基に由来する。
【００１１】
リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜は、当該被膜が優れた耐久性や化学的安定性を有するものとするためには、カルシウムイオン（Ｃａ２＋）を０．０２ｍＭ〜２５ｍＭ、リン酸水素イオン（ＨＰＯ４２−）を０．０１ｍＭ〜１０ｍＭ含み、ｐＨが６．０〜８．０である被膜形成処理液を用いて形成することが望ましく、カルシウムイオンを０．２ｍＭ〜２０ｍＭ、リン酸水素イオンを０．１ｍＭ〜８ｍＭ含み、ｐＨが６．８〜７．６である被膜形成処理液を用いて形成することがより望ましく、カルシウムイオンを１．２ｍＭ〜５ｍＭ、リン酸水素イオンを０．５ｍＭ〜２ｍＭ含み、ｐＨが７．２〜７．５である被膜形成処理液を用いて形成することがさらに望ましい。中でも、擬似体液は、ヒドロキシアパタイト被膜を形成するために特に望ましい被膜形成処理液であり、ＮａＣｌ，ＮａＨＣＯ３，ＫＣｌ，Ｋ２ＨＰＯ４，ＭｇＣｌ２，ＣａＣｌ２，Ｎａ２ＳＯ４，ＨＣｌ，トリスヒドロキシメチルアミノメタンから組成されるものである（擬似体液は自体公知であるが必要であれば特開平６−２９３５０５号公報を参照のこと）。
【００１２】
リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜は、希土類系永久磁石の表面に直接的に形成されていてもよいが、耐食性被膜を介して形成されていることが望ましい。その理由としては以下のような理由が挙げられる。
まず、例えば、ヒドロキシアパタイト被膜は、上記の通り、ＮａＣｌ，ＮａＨＣＯ３，ＫＣｌ，Ｋ２ＨＰＯ４，ＭｇＣｌ２，ＣａＣｌ２，Ｎａ２ＳＯ４，ＨＣｌ，トリスヒドロキシメチルアミノメタンから組成される擬似体液を用いて形成することができるが、ヒドロキシアパタイト被膜を希土類系永久磁石の表面に直接的に形成するために、このような塩素イオンや硫酸イオンを含む溶液に磁石を浸漬した場合、磁石の腐食が起こり、無視することができない磁気特性の劣化を引き起こす恐れがあるからである。
また、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜は、被膜が形成される基材との間で熱膨張係数および／または弾性定数に無視できない違いがあると、その違いによって被膜にクラックが発生して被膜の剥離現象を引き起こす恐れがある。こうした現象を防止して、無機物被膜を優れた密着性のもとに基材の表面に形成するためには、被膜は、基材の表面にまで略到達した微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された長径が１０μｍ〜１００μｍの被膜片の集合体からなることが望ましいところ（被膜片の長径とは対向する両端２点間の距離のうち最も長い距離を意味する：以下同じ）、このような無機物被膜を希土類系永久磁石の表面に直接的に形成した場合、微細溝の近辺から磁石が腐食する恐れがあるからである。
【００１３】
リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜を、希土類系永久磁石の表面に耐食性被膜を介して形成する場合、耐食性被膜は磁石に耐食性を付与することができるものであればいかなる被膜であってもよい。また、耐食性被膜は単層被膜であってもよいし、積層被膜であってもよい。耐食性被膜としては、例えば、湿式めっき法や乾式めっき法で形成される金属被膜が挙げられるが、中でも、大量生産に適したニッケルめっき被膜や銅めっき被膜を好適に採用することができる。耐食性被膜の膜厚は、磁石に十分な耐食性を付与する観点と磁石の有効体積を確保する観点から、５μｍ〜５０μｍとすることが望ましい。
【００１４】
リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜を、希土類系永久磁石の表面に耐食性被膜を介して形成する方法としては、例えば、耐食性被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石を、上記のような、リン酸水素イオンとカルシウムイオンを含む被膜形成処理液に浸漬する方法が挙げられる。
【００１５】
リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜がヒドロキシアパタイト被膜である場合、耐食性被膜の表面に予めヒドロキシアパタイト被膜の形成起点となる反応場を導入しておくで、被膜形成を効率よく行うことができる。ここで、耐食性被膜の表面へのヒドロキシアパタイト被膜の形成起点となる反応場の導入とは、ヒドロキシアパタイト結晶の析出を促進するためのサイトを耐食性被膜の表面に導入することを意味し、例えば、ヒドロキシアパタイトの核を耐食性被膜の表面に付着させるための核生成用ガラス粉末と、耐食性被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石を擬似体液中で接触させる工程によって行うことができる。なお、核生成用ガラス粉末としては、例えば、Ｎａ２ＯまたはＣａＯとＳｉＯ２を主な組成として含むものが挙げられる（必要であれば特開平６−２９３５０５号公報を参照のこと）。
【００１６】
耐食性被膜である金属被膜の表面にリンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜を形成する場合、金属被膜の表面を予めブラスト処理しておくことで、無機物被膜を優れた密着性のもとに金属被膜の表面に形成することができる。ブラスト処理の条件は、例えば、金属被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石を、ブラスト加工装置の投射口から８０ｍｍ〜１１０ｍｍ隔てた状態に置き、投射材を投射圧０．１ＭＰａ〜０．５ＭＰａで投射するといったものでよい。
【００１７】
また、リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜を優れた密着性のもとに耐食性被膜の表面に形成するためには、耐食性被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石を、被膜形成処理液に１日〜３日浸漬した後、処理液から取り出して乾燥する工程を複数回繰り返すことで、金属被膜の表面にまで略到達した微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された長径が１０μｍ〜１００μｍで膜厚が５μｍ〜５０μｍの被膜片（アスペクト比は好適には２以下である）の集合体からなる無機物被膜を形成することが望ましい。
【００１８】
本発明が適用される希土類系永久磁石における希土類元素（Ｒ）は、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｔｂ、Ｓｍのうち少なくとも１種、あるいはさらに、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙのうち少なくとも１種を含むものが望ましい。
また、通常はＲのうち１種をもって足りるが、実用上は２種以上の混合物（ミッシュメタルやジジムなど）を入手上の便宜などの理由によって使用することもできる。
さらに、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｈｆ、Ｇａのうち少なくとも１種を添加することで、保磁力や減磁曲線の角型性の改善、製造性の改善、低価格化を図ることが可能となる。また、Ｆｅの一部をＣｏで置換することによって、得られる磁石の磁気特性を損なうことなしに温度特性を改善することができる。
なお、本発明が適用される希土類系永久磁石は、焼結磁石であってもボンド磁石であってもよい。
【００１９】
リンとカルシウムを構成成分として含む無機物被膜が表面に形成されてなる物品であって、無機物被膜が基材の表面にまで略到達した微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された長径が１０μｍ〜１００μｍの被膜片の集合体からなる物品は、希土類系永久磁石はもちろんのことその他の物品でもこれまでに報告された例はない。従って、希土類系永久磁石以外の物品も本発明の一部を構成する。例えば、アルミナやジルコニアなどのセラミックス、チタン合金などの金属、磁気マーカーなどの磁性体からなる基材の表面にこのような無機物被膜を形成することで、生体適合性に優れるとともに、被膜と基材との間で熱膨張係数および／または弾性定数に無視できない違いがあったとしても、その違いによって被膜にクラックが発生して被膜の剥離現象を引き起こすといったことがない生体材料（生体インプラント材料や検査材料など）となる。
【００２０】
【実施例】
本発明を以下の実施例によってさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下の実施例は、例えば、米国特許４７７０７２３号公報や米国特許４７９２３６８号公報に記載されているようにして、公知の鋳造インゴットを粉砕し、微粉砕後に成形、焼結、熱処理、表面加工を行うことによって得られた１４Ｎｄ−７９Ｆｅ−６Ｂ−１Ｃｏ組成（ａｔ％）の縦１１．５ｍｍ×横７．０ｍｍ×厚さ１．５ｍｍ寸法の平板状焼結磁石（以下、磁石体試験片と称する）を用いて行った。
【００２１】
磁石体試験片の表面に、以下の３種類のニッケルめっき浴を用いて順次ニッケルめっき被膜を形成し（ニッケルめっき被膜の総膜厚は２０μｍ）、その表面をブラスト処理した｛ニッケルめっき被膜が表面に形成されてなる磁石体試験片を、ブラスト加工装置の投射口から９０ｍｍ隔てた状態に置き、投射材（アランダムＡ＃１８０：新東ブレーター社製でＪＩＳ粒度＃１８０相当）を投射圧０．２ＭＰａで投射｝。
【００２２】
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【００２３】
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【００２４】
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【００２５】
次に、ニッケルめっき被膜が表面に形成されてなる磁石体試験片１０個を、核生成用ガラス粉末４ｇとともに表１に記載の擬似体液Ａ３０ｍＬに浸漬し、３６．５℃の恒温槽内に２日間放置した後、擬似体液Ａから取り出して自然乾燥することで、ニッケルめっき被膜の表面にヒドロキシアパタイト被膜の形成起点となる反応場が導入されてなる磁石体試験片を得た。なお、核生成用ガラス粉末は、乳鉢を使って表２に記載の５種類のガラス原料を微粉末化し均一に混合した後、白金ルツボに入れて１４５０℃で２時間溶融し、溶融物を鉄板に流して急冷してガラス化し、ボールミルを使って粉砕し、粉砕したガラスを分級用の篩を使って粒径が１００μｍ〜６００μｍの範囲にあるものを取得して洗浄し、自然乾燥することで作製した（成分組成は表２を参照のこと）。
【００２６】
以上のようにして得た、ニッケルめっき被膜の表面にヒドロキシアパタイト被膜の形成起点となる反応場が導入されてなる磁石体試験片１０個を、表１に記載の擬似体液Ｂ３０ｍＬに浸漬し、３６．５℃の恒温槽内に２日間放置した後、磁石体試験片を擬似体液Ｂから取り出し、蒸留水で洗浄後、１日間自然乾燥した。引き続き、新たな擬似体液Ｂ３０ｍＬを用いた同様の２日間の浸漬処理と蒸留水での洗浄と１日間の自然乾燥処理を行い、さらに、新たな擬似体液Ｂ３０ｍＬを用いた同様の２日間の浸漬処理を行った後、磁石体試験片を擬似体液Ｂから取り出し、蒸留水で洗浄してから自然乾燥することで、ニッケルめっき被膜の表面にヒドロキシアパタイト被膜を形成した。ニッケルめっき被膜の表面に形成された被膜がヒドロキシアパタイト被膜であることは、走査型電子顕微鏡、二次Ｘ線解析装置（ＥＤＸ）、薄膜Ｘ線回折装置を用いて確認した。また、表面付近の断面観察を電子線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）を用いて行ったところ、ヒドロキシアパタイト被膜の膜厚は１０μｍ〜１５μｍであることがわかった。任意に選択した部分の２次電子像を図１に、ニッケルＸ線像を図２に示す。図１と図２から明らかなように、ヒドロキシアパタイト被膜は、ニッケルめっき被膜の表面にまで略到達した微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された長径が４０μｍ程度でアスペクト比が２を超えない被膜片の集合体から構成されていることがわかった。このようなヒドロキシアパタイト被膜が形成されたのは、擬似体液Ｂへの最初の浸漬工程により被膜が形成され、乾燥工程により被膜に亀裂が導入されることで、微細溝により分断されてアイランド状に表面形成された被膜片が生成した後、浸漬工程と乾燥工程を交互に繰り返し行った際、被膜は当初に形成された被膜片の表面に優先的に形成され、当初に微細溝として存在した部分には被膜が形成されにくかったことによるものと考えられる。
【００２７】
以上のようにして得た、ニッケルめっき被膜を介して、ヒドロキシアパタイト被膜が表面に形成されてなる磁石体試験片の直流耐電圧を端子間への５００（Ｖ）印加時の表面抵抗率で評価したところ、１０００〜∞（ＭΩ）という優れた絶縁性を示した。また、交流耐電圧を端子間に１００〜５００（Ｖ），１０（ｍＡ）の条件で１０秒間印加した時の耐電圧で評価したところ、少なくとも３００（Ｖ）までは絶縁性を示した。
【００２８】
【表１】
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【００２９】
【表２】
2005050972.tif 000007
【００３０】
【発明の効果】
本発明によれば、絶縁性に優れた無機物被膜が表面に形成されてなる希土類系永久磁石およびその簡易な製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例におけるＥＰＭＡ２次電子像。
【図２】同、ニッケルＸ線像。
【図１】
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【図２】
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