(57)【要約】【課題】負圧下で処理を行うプラズマ処理装置では、通常処理の為の試料入搬出は、前記ロードロック室を経由して実施される。特に処理終了後の試料には、プロセス処理時に使用した反応性ガス、あるいは処理時の反応生成物が付着して同伴される事が避けられない。これらの同伴付着物は、大気中の水分と反応して、新たな付着物を生成したり、周辺の構造物の腐食を促進する環境等を生成する。【解決手段】負圧下のロードロック室への該試料の大気側開口部からの搬出入時に、該室内に設けたガス導入口からガスを導入した後に、大気側ゲート弁を開けて、引き続き該ガス導入口より、ガス導入を継続しながら且つ、カバーのガス導入口より、当該ガスを流しながら、カバーに設けた、排気口よりカバー内雰囲気を排気しながら、試料の入搬出を行うシステム及び方法とゲート弁開放時にガス導入と排気量制御により室内に大気流入を防止する【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
負圧下で試料を処理する反応室あるいは反応室に接続された負圧室との試料移送開口部と、その開口部に設けたゲート弁と、大気側との試料移送開口部とその開口部に設けたゲート弁（３）で仕切って形成した、大気側との処理試料の授受をするロードロック室（１）、に前記試料載置の為のステージ（１２）を設け、該ロードロック室（１）を負圧にする排気口（４）と、負圧から大気圧にするガス（例えば不活性ガスドライＮ２）導入口（６）とからなるロードロック室（１）において、大気側開口部を覆い、当該試料を出し入れするスリットを有するカバー（２）を付けて、このカバー（２）にガス（例えば不活性ガスドライＮ２）導入口（５）と、排気口（７）を設けた事を特徴とする、ロードロック室パージシステム。
【請求項２】
請求項１に示すロードロック室パージシステムにおいて、負圧下のロードロック室（１）への該試料（１３）の大気側開口部からの搬入並びに処理終了後該ロードロック室（１）で待機中の試料の大気側への搬出時に、該ロードロック室（１）に設けたガス導入口（６）より、ガスを、ロードロック室（１）が大気圧あるいは微陽圧まで昇圧するところまで導入した後、一旦ガス導入を止めて、あるいは継続した状態から大気側ゲート弁（３）を開けて、引き続き該ロードロック室（１）に設けたガス導入口（６）より、ガス導入を継続しながら試料（１３）の入搬出を行う方法。
尚この場合、請求項１の大気側開口部を覆うカバー（２）は無くても良い。
【請求項３】
請求項２に示す試料（１３）の入搬出方法と合わせて、請求項１に示すカバー（２）に設けた、ガス導入口（５）より、当該ガスを流しながら、試料（１３）の入搬出を行う方法。
尚、当該ガスを流し始めるタイミングは、請求項１の大気側ゲート弁（３）解放前、同時、あるいは後でも良いものとする。
【請求項４】
請求項３に示す試料（１３）の入搬出方法と合わせて、請求項１に示すカバー（２）に設けた、排気口（７）より、当該ガスを含むカバー内雰囲気を排気しながら、試料の入搬出を行う方法。
尚、当該排気量は、請求項１で導入するガス量と請求項３で導入するガス量を合わせた量よりも少なくするものとする。
【請求項５】
請求項１に示すロードロック室パージシステムにおいて、負圧下のロードロック室（１）への該試料（１３）の大気側開口部からの搬入並びに処理終了後該ロードロック室（１）で待機中の試料（１３）の大気側への搬出時に、該ロードロック室（１）に設けたガス導入口（６）より、ガス導入により、ロードロック室（１）が大気圧あるいは微陽圧まで昇圧するところまで導入を行なった後、一旦ガス導入を止めて、請求項１に示すカバー（２）に設けた、ガス導入口（５）より、当該ガスを流しながら、試料（１３）の入搬出を行う方法。
尚、当該ガスを流し始めるタイミングは、請求項１の大気側ゲート弁（３）解放前、同時、あるいは後でも良い物とする。
【請求項６】
請求項５に示す試料（１３）の入搬出方法と合わせて、請求項１に示すカバー（２）に設けた、排気口（７）より、当該ガスを含むカバー内雰囲気を排気しながら、試料（１３）の入搬出を行う方法。
【発明の詳細な説明】
負圧下で試料を処理する反応室あるいは反応室に接続された負圧室との試料移送開口部と、その開口部に設けたゲート弁と、大気側との試料移送開口部とその開口部に設けたゲート弁（３）で仕切って形成した、大気側との処理試料の授受をするロードロック室（１）、に前記試料載置の為のステージ（１２）を設け、該ロードロック室（１）を負圧にする排気口（４）と、負圧から大気圧にするガス（例えば不活性ガスドライＮ２）導入口（６）とからなるロードロック室（１）において、大気側開口部を覆い、当該試料を出し入れするスリットを有するカバー（２）を付けて、このカバー（２）にガス（例えば不活性ガスドライＮ２）導入口（５）と、排気口（７）を設けたロードロック室パージシステムにおいて、負圧下のロードロック室（１）への該試料（１３）の大気側開口部からの搬入並びに処理終了後該ロードロック室（１）で待機中の試料の大気側への搬出時に、該ロードロック室（１）に設けたガス導入口（６）より、ガスを、ロードロック室（１）が大気圧あるいは微陽圧まで昇圧するところまで導入した後、一旦ガス導入を止めて、あるいは継続した状態から大気側ゲート弁（３）を開けて、引き続き該ロードロック室（１）に設けたガス導入口（６）より、ガス導入を継続しながら且つ、カバー（２）に設けた、ガス導入口（５）より、当該ガスを流しながら、さらにカバー（２）に設けた、排気口（７）より、当該ガスを含むカバー内雰囲気を排気しながら、試料（１３）の入搬出を行うシステム及び方法を提供する物である。
【０００１】
【発明の属する技術分野】
負圧下で処理を行うプラズマ処理装置等への試料入搬出の為のロードロック室
【０００２】
【従来の技術】
負圧下のロードロック室への試料の大気側開口部からの搬入並びに処理終了後該ロードロック室で待機中の試料の大気側への搬出時に、該ロードロック室に設けたガス導入口より、ガスを、ロードロック室が大気圧あるいは微陽圧まで昇圧するところまで導入した後、ガス導入を止めた状態での試料入搬出を実施するシステムであった。
【０００３】
【発明の解決しようとする課題】
負圧下のロードロック室への試料の大気側開口部からの搬入並びに処理終了後該ロードロック室で待機中の試料の大気側への搬出時に、該ロードロック室に設けたガス導入口より、ガスを、ロードロック室が大気圧あるいは微陽圧まで昇圧するところまで導入した後、ガス導入を止めた状態での試料入搬出を実施するシステムであった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
負圧下で処理を行うプラズマ処理装置では、通常処理の為の試料入搬出は、前記ロードロック室を経由して実施される。特に処理終了後の試料には、プロセス処理時に使用した反応性ガス、あるいは処理時の反応生成物が付着して同伴される事が避けられない。これらの同伴付着物は、大気中の水分と反応して、新たな付着物を生成したり、周辺の構造物の腐食を促進する環境等を生成する。
【０００５】
本発明では、ロードロック室内部あるいは周辺部を不活性ガス（例えばドライＮ２）雰囲気で覆う事で、当該部位への外気侵入を抑制し、試料に同伴された反応性ガス、あるいは処理時の反応生成物と大気中の水分との反応による前記環境を改善するシステム・方法を提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
負圧下のロードロック室（１）への該試料（１３）の大気側開口部からの搬入並びに処理終了後該ロードロック室（１）で待機中の試料の大気側への搬出時に、該ロードロック室（１）に設けたガス導入口（６）より、ガスを、ロードロック室（１）が大気圧あるいは微陽圧まで昇圧するところまで導入した後、一旦ガス導入を止めて、あるいは継続した状態から大気側ゲート弁（３）を開けて、引き続き該ロードロック室（１）に設けたガス導入口（６）より、ガス導入を継続しながら且つ、カバー（２）に設けた、ガス導入口（５）より、当該ガスを流しながら、さらにカバー（２）に設けた、排気口（７）より、当該ガスを含むカバー内雰囲気を排気しながら、試料（１３）の入搬出を行うシステム及び方法。
【０００７】
カバー（２）内雰囲気の当該排気量は、ガス導入口（６）から導入するガス量とガス導入口（５）から導入するガス量を合わせた量よりも少なく調整する為に排気調整バルブ（９）を設けて調整できる構造を提供するものとする。
【０００８】
【作用】
ロードロック室内部あるいは周辺部を不活性ガス（例えばドライＮ２）雰囲気で覆い、当該部位への外気侵入を抑制する。
またカバー（２）内雰囲気の当該排気量を適切に調整する事で、ロードロック室及びカバー周辺外気部へのガス拡散を抑制できる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
発明の実施の形態を実施例に基き図面を参照し説明する。図１は本発明の実施例を示す、真空処理装置パージシステムの縦断面構成図である。
【００１０】
図２は本実施例の右側面図を表している。
【００１１】
図３は本実施例の回路構成図を表している。
【００１２】
図３本実施例の回路構成図では、パージガスとしてドライＮ２の１ラインから分岐してロードロック室に供給しているが、個別供給でも良い。
また、カバー（２）内へのガス導入口はシャワーパイプを使用し、開口部へのガス供給均一化効果を狙った構造としている。
カバー（２）内排気に付いても排気口（７）は２個所設置しており、ガスの置換効率を上げる構造としている。尚この排気口は１個所でも複数個所でも良い。
ガス導入口の直前にはフィルター（１１−ａ、１１−ｂ）を設置し、パーティクルの混入を防止している。
これらのことから、発明の詳細な説明に示す本システム、方法の概要を明らかにすることが出来る。
【００１３】
【発明の効果】
ロードロック室への試料搬入あるいはロードロック室からの試料搬出時に、ロードロック室内部あるいは周辺部を不活性ガス（例えばドライＮ２）雰囲気で覆う事で、当該部位への外気侵入を抑制し、試料に同伴されたプロセス処理時に使用した反応性ガス、あるいは処理時の反応生成物と大気中の水分との反応を抑制する事ができ、新たな付着物の生成、あるいは周辺構造物の腐食を促進する環境等を改善できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】ロードロック室の縦断面図である。
【図２】ロードロック室の右側面図である。
【図３】ロードロック室パージシステムの回路構成図である。
【符号の説明】
１．ロードロック室
２．カバー
３．ゲート弁
４．排気口
５．ガス導入口
６．ガス導入口
７．カバー排気口
８．排気調整バルブ
９．排気バルブ
１０．ガス供給バルブ
１１−ａ．フィルター
１１−ｂ．フィルター
１２．ステージ
１３．試料
１４．ガス供給バルブ
１５．試料搬入ハンド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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