(57)【要約】    【課題】  プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができ、しかも透明性に優れた光学フィルタを提供する。    【解決手段】プラズマディスプレイパネルモジュールの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、該光学フィルタは、９０から１０重量部の（メタ）アクリル系モノマーと、１０〜９０重量部の重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００の（メタ）アクリル系ポリマーからなるアクリル系混合物１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の架橋剤を含み粘度が１〜５００Ｐａ・Ｓである粘性流体を積層し、電離放射線照射により重合・架橋せしめた粘着剤を含有する耐衝撃層を有す。該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０好ましくは０．１〜１．５であり、厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍ好ましくは０．２ｍｍ〜０．５ｍｍである。該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュールに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）プラズマディスプレイパネルモジュールの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、
（２）該光学フィルタは、９０から１０重量部の（メタ）アクリル系モノマーと、１０〜９０重量部の重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００の（メタ）アクリル系ポリマーからなるアクリル系混合物１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の架橋剤を含む粘性流体を積層し、電離放射線照射により重合・架橋せしめた粘着剤を含有する耐衝撃層を有し、
（３）該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０であり、厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであり、                                                                        （４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュールに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
（１）プラズマディスプレイパネルモジュールの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、
（２）該光学フィルタは、９０から１０重量部の（メタ）アクリル系モノマーと、１０〜９０重量部の重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００の（メタ）アクリル系ポリマーからなるアクリル系混合物１００重量部に対して、０．０００１〜１．０重量部の光ラジカル重合開始剤、０．１〜２０重量部の架橋剤を含む粘性流体を積層し、紫外線照射により重合・架橋せしめた粘着剤を含有する耐衝撃層を有し、
（３）該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０であり、厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであり、                                                                        （４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュールに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項３】
（１）プラズマディスプレイパネルモジュールの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、
（２）該光学フィルタは、９０から１０重量部の（メタ）アクリル系モノマーと、１０〜９０重量部の重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００の（メタ）アクリル系ポリマーからなるアクリル系混合物１００重量部に対して、０．１〜５重量部の熱ラジカル重合開始剤、０．１〜２０重量部の架橋剤を含む粘性流体を積層し、加熱により重合・架橋せしめた粘着剤を含有する耐衝撃層を有し、
（３）該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０であり、厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであり、                                                                        （４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュールに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項４】
近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有し、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となる請求項１乃至３の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項５】
前記耐衝撃層中に近赤外線吸収化合物を含有し、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となる請求項１乃至４の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項６】
ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となる請求項１乃至４の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項７】
前記耐衝撃層中にネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となる請求項１乃至６の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項８】
可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上となる請求項１乃至７の何れか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項９】
プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドする電磁波遮蔽層を有する請求項１乃至８の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項１０】
プラズマディスプレイパネルモジュールに貼着するための粘着剤層が設けられた請求項１乃至９の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項１１】
請求項１乃至１０の何れか１項記載の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付されてなるプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる光学フィルタ、該光学フィルタを貼付したプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等にプラズマディスプレイ装置の開発、製品化が行われている。このプラズマディスプレイ装置はその構造上、他の機器に誤動作を与えたり、リモートコントロールの操作に影響を与える近赤外線や、色調に影響を与えるネオン光がディスプレイ内部から放出されるため、これらを遮断する必要がある。また、プラズマディスプレイ装置から電磁波が発生するため、人体への影響を考慮して、電磁波の放出の強さを規格内に低減化することが要求されている。
【０００３】
これらの要求に鑑みて、既にプラズマディスプレイパネルモジュールに貼付するための各種フィルタが開発されており、例えば、特開２０００−５９０８３号公報（特許文献１）には電磁波遮蔽効果と近赤外線カット、色補正、反射防止の各層を蓄積した光学フィルタが開示されている。このような光学フィルタは、透明性に優れていることが基本的要件である。
【０００４】
一方、プラズマディスプレイ装置は、大型化が進む中、軽量化・薄肉化が求められ、光学フィルタを設けた状態でのプラズマディスプレイパネルの耐衝撃性の向上がますます必要となっている。
【０００５】
しかしながら、前記各機能を有した光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュールに組合せた状態で、いかにしてプラズマディスプレイパネルの十分な耐衝撃性を高めるか、どの程度の耐衝撃性が必要かが解決すべき課題となった。また、耐衝撃層を形成するのに、溶剤乾燥型樹脂を塗布して形成した場合には、乾燥時にどうしても微細な気泡が塗膜から抜けきらないため、透明性が要求されるプラズマディスプレイパネル用の光学フィルタにはヘーズが高すぎて用いることができない。また、プラズマディスプレイの薄肉化の要求に従い、耐衝撃層の厚みも薄くしなければならないが、必要な耐衝撃性を確保する必要がある。
【０００６】
特開２００２−２６０５３９号公報（特許文献２）には、プラズマディスプレイパネルモジュール前面に反射防止膜を有する光学フィルタを粘着剤層を介して貼付したディスプレイパネルが示されている。特許文献２のディスプレイパネルモジュールに貼着されている光学フィルタは、粘着剤層に耐衝撃性の改善を与えているため、耐衝撃性と接着性が必要となっている。特許文献２の実施例１では、アクリル酸共重合体を溶融してシート状に成形した粘着シートを光学フィルタに貼りつけ、次にプラズマディスプレイパネルモジュールに貼りつけている。また、特許文献２の実施例２では、プラズマディスプレイパネルモジュールの前面にフィルタを貼り付けるため、ディスプレイパネルモジュールとフィルタの間隔を１ｍｍに保って透明熱硬化性シリコーンを用いて、熱処理を行って貼り合わせている。しかしながら、該実施例２のような光学フィルタとプラズマディスプレイパネルモジュールとの貼着方法は、シリコーンの流し込みを必要とするため生産性が悪く、歩留りも悪いという問題がある。さらに、特許文献２の粘着剤層を含めた光学フィルタは、光学フィルタ自体の基本的要件である透明性の程度については一切示されていない。
【０００７】
特開２００２−２３６４９号公報（特許文献３）には、衝撃緩和積層体を構成するために、飛散防止層と２種類の割れ防止層と、透明粘着層とからなる複雑な多層構造を必要としている。        
【特許文献１】特開２０００−５９０８３号公報
【特許文献２】特開２００２−２６０５３９号公報
【特許文献３】特開２００２−２３６４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、特定の粘着剤を耐衝撃層として組み込んだ光学フィルタを構成し、該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュールに貼着した場合に、十分な耐衝撃性を有し、しかも、耐衝撃層に気泡を含まないようにすることにより透明性に優れ、薄肉の光学フィルタを提供すること、該光学フィルタを貼着したプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【０００９】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、反射防止性を付与した光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１０】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、近赤外線吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１１】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、ネオン光吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１２】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、透明性の高い光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１３】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、静電気及び／又は電磁波ノイズが抑制された光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１４】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタが表示面に貼着されたプラズマディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前記課題を解決するための本発明の光学フィルタは、粘着性を付与した耐衝撃層の種類により次の２つに大きく分けることができる。
【００１６】
第１番目の本発明の光学フィルタは、（１）プラズマディスプレイパネルモジュールの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、（２）該光学フィルタは、９０から１０重量部の（メタ）アクリル系モノマーと、１０〜９０重量部の重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００の（メタ）アクリル系ポリマーからなるアクリル系混合物１００重量部に対して、０．１〜２０重量部の架橋剤を含み粘度が１〜５００Ｐａ・ｓである粘性流体を積層し、電離放射線照射により重合・架橋せしめた粘着剤を含有する耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０好ましくは０．１〜１．５であり、厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍ好ましくは０．２ｍｍ〜０．５ｍｍであり、（４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュールに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする。
【００１７】
前記第１番目の本発明の光学フィルタにおける、耐衝撃層に含まれる粘着剤が紫外線硬化型樹脂である場合の光学フィルタは、前記第１番目の本発明の光学フィルタにおいて、耐衝撃層は、９０から１０重量部の（メタ）アクリル系モノマーと、１０〜９０重量部の重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００の（メタ）アクリル系ポリマーからなるアクリル系混合物１００重量部に対して、０．０００１〜１．０重量部の光ラジカル重合開始剤、０．１〜２０重量部の架橋剤を含み粘度が１〜５００Ｐａ・ｓである粘性流体を積層し、紫外線照射により重合・架橋せしめた粘着剤を含有する耐衝撃層であることを特徴とする。
【００１８】
第２番目の本発明の光学フィルタは、（１）プラズマディスプレイパネルモジュールの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、（２）該光学フィルタは、９０から１０重量部の（メタ）アクリル系モノマーと、１０〜９０重量部の重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００の（メタ）アクリル系ポリマーからなるアクリル系混合物１００重量部に対して、０．１〜５重量部の熱ラジカル重合開始剤、０．１〜２０重量部の架橋剤を含み粘度が１〜５００Ｐａ・ｓである粘性流体を積層し、加熱により重合・架橋せしめた粘着剤を含有する耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０であり、厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであり、（４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュールに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする。
【００１９】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、耐衝撃層として電離放射線硬化型樹脂の粘着剤を含有するため、塗工時に無溶剤（溶剤含有量３％以下、好ましくは１％以下）であり、耐衝撃層に気泡が入らないため、耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０の透明性に優れた耐衝撃層を形成した、プラズマディスプレイパネルモジュールに貼付するのに適した光学フィルタとすることができる。
【００２０】
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層は厚みは０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであることが必要であり、０．２ｍｍ未満だと、耐衝撃試験において破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを達成することができず、１．０ｍｍを超えるとヘーズが大きくなり、透明性が失われる。
【００２１】
衝撃試験は、図５に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定して行った。試験台８としてＳＵＳ製土台９と、厚さ１０ｍｍのガラス板１０を貼り合わせたものを用いた。該試験台８上に、プラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１として旭硝子社製の高歪点ガラス板（ＰＤ−２００：商品名、厚み２．８ｍｍ）を載置した。なお、ＰＤ−２００は、プラズマディスプレイメーカー各社が共通に使用しているプラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１である。試験台８上に前面ガラス板１１を直接載置した理由は、プラズマディスプレイの筐体によるクッション性を排除するためである。
【００２２】
前記したように、本発明の光学フィルタは層構成中において反射防止膜を設けることが好ましく、最外層に反射防止膜を設けることが好ましい。
【００２３】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となるような、近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有することが好ましい。
【００２４】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となることが望ましい。
【００２５】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドするための電磁波遮蔽層を有することが望ましい。
【００２６】
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイに貼着するための粘着剤層を設けることができる。
【００２７】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、前記した形態の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付して構成することができる。
【発明の効果】
【００２８】
本発明の粘着剤を含有する耐衝撃層を有する光学フィルタは、プラズマディスプレイパネルモジュールに貼付したときに耐衝撃性を有すると共に透明性に優れる。しかも、本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層は、粘着剤を含有する耐衝撃層は、粘着性を有するため、光学フィルタにおいて耐衝撃層を設ける場合に、他の層との積層のために特別に粘着剤層を設ける必要がなく、光学フィルタの層構成を簡略化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
図１は、本発明の粘着性を付与した耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。５は電磁波遮蔽層であり、透明基材上に接着剤（図示していない）により接着された金属箔をエッチングによりメッシュ状に加工したものであり、電磁波遮蔽能を有する。４は色素含有粘着剤層であり、電磁波遮蔽層５におけるメッシュ状の金属の凹凸を平坦化すると同時に、色素含有粘着剤層４は、エッチングにより形成された金属メッシュの凹部に残る接着剤の微細凹凸の段差を埋める。３は粘着性耐衝撃層であり、電磁遮蔽層の透明基材側に、粘着性耐衝撃層３の粘着性を利用して積層されている。さらに粘着性耐衝撃層３の他方の面に、反射防止層１が粘着性耐衝撃層３の粘着性を利用して積層されている。これらの層からなる光学フィルタは色素含有粘着剤層４の粘着性を利用して、プラズマディスプレイパネルモジュール７の表面に貼付される。
【００３０】
図２は、本発明の粘着性を付与した耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の上記とは別の一例を示す図である。図２の態様は、粘着性耐衝撃層３上に、粘着性耐衝撃層３の粘着性を利用して電磁波遮蔽層５が積層され、さらに該電磁波遮蔽層５上に色素含有粘着剤層４を設け、さらに色素含有粘着剤層４上に、色素含有粘着剤層４の粘着性を利用して反射防止層１が積層されたものである。これらの層からなる光学フィルタは粘着性耐衝撃層３の粘着性を利用して、プラズマディスプレイパネルモジュール７の表面に貼付される。
【００３１】
図３は、本発明の粘着性を付与した色素含有耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。図３の態様は、衝撃層として色素含有粘着性耐衝撃層３１を電磁波遮蔽層５におけるメッシュ上の金属の凹凸を平坦化するために設け、同時に、色素含有粘着性耐衝撃層３１は、エッチングにより形成された金属メッシュの凹部に残る接着剤の微細凹凸の段差を埋め、さらに、他の層との接着性を有し、耐衝撃性を有する。図３の光学フィルタにおいては、さらに電磁波遮蔽層５のもう一方の面には、反射防止層１が形成されている。これらの層からなる光学フィルタは色素含有粘着性耐衝撃層３１はの粘着性を利用して、プラズマディスプレイパネルモジュール７の表面に貼付される。
【００３２】
図４は、本発明の粘着性を付与した色素含有耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の上記とは別の一例を示す図である。図４の態様は、衝撃層として色素含有粘着性耐衝撃層３１を電磁波遮蔽層５におけるメッシュ上の金属の凹凸を平坦化するために設け、同時に、色素含有粘着性耐衝撃層３１は、エッチングにより形成された金属メッシュの凹部に残る接着剤の微細凹凸の段差を埋め、さらに、他の層との接着性を有し、耐衝撃性を有する。図３の光学フィルタにおいては、色素含有粘着性耐衝撃層３１のもう一方の面には、色素含有粘着性耐衝撃層３１の粘着性を利用して反射防止層１が積層されている。さらに電磁波遮蔽層５のもう一方の面側において、粘着剤層６を介して、光学フィルタがプラズマディスプレイパネルモジュール７の表面に貼付される。
【００３３】
図１、図２において、赤外線吸収色素、および／又は、ネオン光吸収色素等の色素を色素含有粘着剤層４中に含有しており、また、図３、図４において、赤外線吸収色素、および／又は、ネオン光吸収色素等の色素を色素含有粘着性耐衝撃層３１中に含有しているが、これらの色素を光学フィルタを構成するいかなる層にも、さらに、含有させることが可能である。
【００３４】
以下、本発明の光学フィルタをプラズマディスプレイに適用する場合の光学フィルタの層構成に用いられる各層を例示して説明する。
【００３５】
耐衝撃層：
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層に使用される樹脂には、重合可能な低粘度の（メタ）アクリル系モノマーと、既に重合が行われた高粘度の粘着剤としての（メタ）アクリル系ポリマーからなる、無溶剤の（溶剤含有量３％以下、好ましくは１％以下の）アクリル系混合物が用いられる。該アクリル系混合物は、電離放射線硬化性樹脂、又は熱硬化型樹脂が使用される。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層は、該アクリル系混合物に架橋剤が添加されて、粘度が１〜５００Ｐａ・ｓである樹脂組成物により形成され、電離放射線開始重合や熱開始重合により重合させたものである。このように、本発明における耐衝撃層に使用される樹脂には、粘着剤を含む無溶剤の樹脂が使用されるので、タック感と弾力を合わせ持った、気泡を含まないため、透明な粘着性を有する耐衝撃層が形成できる特徴がある。これに対して、一般的な粘着剤、即ち、粘着性を有するポリマーを溶剤に溶解させてなる粘着剤の場合は、塗膜の乾燥時にどうしても微細な気泡が塗膜から抜けきらないため、透明性が要求されるプラズマディスプレイパネル用の光学フィルタにはヘーズが高すぎて用いることができないという不都合がある。
【００３６】
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の内部ヘーズは、０．１〜３．０とすることができる。また、本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の厚みは０．２ｍｍ〜１．０ｍｍである。耐衝撃層の厚みが０．２未満だと、耐衝撃試験において破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを達成することができず、１．０ｍｍを超えるとヘーズが大きくなり、透明性が失われる。１．０ｍｍを超える場合、プラズマディスプレイモジュールに貼り合わせる際、粘着剤のはみ出しや、他の箇所への付着が発生し、これを取り除くのが困難なため、著しく歩留りが低下する。
【００３７】
本発明において「内部ヘーズ」とは、耐衝撃層の表面の影響を無くして測定した、「耐衝撃層」単体についての内部のヘーズを意味する。したがって、耐衝撃層が他の層と積層されていて単体で作成されないものについては、耐衝撃層に接している層を全て剥がした状態で測定している。測定法はＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１に準拠した方法で、試験片にオイルを塗布し、表面の影響を無くし、内部の影響だけを試験する。
【００３８】
本発明における耐衝撃層に使用するアクリル系混合物は、未だ重合させていない（メタ）アクリル系モノマーと、電離放射線重合開始や熱重合開始により既に重合させた（メタ）アクリル系ポリマーとの混合物でもよいし、或いは、未だ重合させていない（メタ）アクリル系モノマーに少量の電離放射線重合開始剤（紫外線重合開始剤を含む）や熱重合開始剤等を添加して部分的に重合させたものでもよい。
【００３９】
該アクリル系混合物は、無溶剤（溶剤含有量３％以下、好ましくは１％以下）であり、（メタ）アクリル系モノマーと（メタ）アクリル系ポリマーの配合比により粘度を１〜５００Ｐａ・ｓに調整する。粘度が１Ｐａ・ｓ未満であると硬化されるまで流れ落ち、膜厚制御ができず、機械が汚染される。（メタ）アクリル系モノマーが１０重量部未満であると混合液の粘度が高くなりすぎ、塗工に適さず、９０重量部を超えると粘度が低くなりすぎ、硬化されるまでに流れ落ち膜厚制御ができず、機械が汚染される。また、重合率が低く硬化時間が長くなり、生産効率が低下する。
【００４０】
本発明で使用可能な耐衝撃層に使用可能な樹脂としては、具体的には、分子中にラジカル重合性不飽和結合又はカチオン重合性官能基を有する、（メタ）アクリル系ポリマーと、（メタ）アクリル系モノマーを適宜混合した電離放射線により架橋硬化可能な組成物、或いは加熱により架橋硬化可能な組成物が好ましくは用いられる。なお、ここで電離放射線とは、分子を架橋硬化反応させ得るエネルギーを有する電磁波又は荷電粒子線を意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子酸（ＥＢ）が用いられる。なお、ここで、（メタ）アクリル系とは、アクリル系又はメタクリル系の意味である。
【００４１】
（メタ）アクリル系モノマーと（メタ）アクリル系ポリマーとの配合比は、９０重量部以下１０重量部以上の（メタ）アクリル系モノマーに対し、１０重量部以上９０重量部以下の（メタ）アクリル系ポリマーの割合である。
【００４２】
上記ポリマー又はモノマーの例としては、分子中に（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等のラジカル重合性不飽和基、エポキシ基等のカチオン重合性官能基等を有する化合物からなる。これらポリマー、モノマーは、単体で用いるか、或いは複数種混合して用いる。なお、ここで、例えば、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基の意味である。また、電離放射線硬化性樹脂としては、ポリエンとポリチオールとの組み合わせによるポリエン／チオール系のポリマーを併用してもよい。
【００４３】
分子中にラジカル重合性不飽和基を有する（メタ）アクリル系ポリマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等が使用できる。分子量としては、通常１，０００〜１，０００，０００程度のものが用いられる。
【００４４】
本発明に使用できる（メタ）アクリル系モノマーとしては、好ましくは、（メタ）アクリル酸アルキルエステル類を適宜好適に使用することができる。例えば、アクリル酸アルキルエステル類としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸- ２- エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル等が挙げられる。また、メタクリル酸アルキルエステル類としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸- ２- エチルヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸ドデシル等が挙げられる。また、これらのモノマーからのオリゴマー類を使用することができる。
【００４５】
また、本発明においては、重合性不飽和結合を有するモノマーとしては、上述した（メタ）アクリル酸アルキルエステル類又はそれを主成分に、他の重合性不飽和結合を有するモノマーを、改質モノマーとして共重合させて組合わせ使用することができる。
【００４６】
このような改質モノマーとしては、アクリル酸アリールエステル類、アクリル酸アルコキシアルキルエステル類、アクリル酸又はメタクリル酸及びそのアルカリ金属塩類、メタクリル酸アリールエステル類、メタクリル酸アルコキシアルキルエステル類、（ポリ）アルキレングリコールのジアクリル酸エステル類、（ポリ）アルキレングリコールのジメタクリル酸エステル類、多価アクリル酸エステル類、ハロゲン化ビニル化合物類、脂環式アルコールのメタクリル酸エステル類、オキサゾリン基含有重合性化合物類、アジリジン基含有重合性化合物類、エポキシ基含有ビニル単量体類、ヒドロキシ基含有ビニル化合物類、不飽和カルボン酸又はその部分エステル化合物及びその無水物類、反応性ハロゲン含有ビニル単量体類、アミド基含有ビニル単量体類、有機ケイ素基含有ビニル化合物単量体類等が挙げられる。また、これらの改質モノマーの改質オリゴマー類を使用することができる。
【００４７】
例えば、アクリル酸アリールエステル類としては、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル等が挙げられる。アクリル酸アルコキシアルキルエステル類としては、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸エトキシエチル、アクリル酸プロポキシエチル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸エトキシプロピル等が挙げられる。アクリル酸及びアクリル酸アルカリ金属塩等の塩や、メタクリル酸及びメタクリル酸アルカリ金属等の塩等が挙げられる。メタクリル酸アリールエステル類としては、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等が挙げられる。メタクリル酸アルコキシアルキルエステル類としては、メタクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸エトキシエチル、メタクリル酸プロポキシエチル、メタクリル酸ブトキシエチル、メタクリル酸エトキシプロピル等が挙げられる。
【００４８】
（ポリ）アルキレングリコールのジアクリル酸エステル類としては、エチレングリコールのジアクリル酸エステル、ジエチレングリコールのジアクリル酸エステル、トリエチレングリコールのジアクリル酸エステル、ポリエチレングリコールのジアクリル酸エステル、ジプロピレングリコールのジアクリル酸エステル、トリプロピレングリコールのジアクリル酸エステル等が挙げられる。（ポリ）アルキレングリコールのジメタクリル酸エステル類としては、エチレングリコールのジメタクリル酸エステル、ジエチレングリコールのジメタクリル酸エステル、トリエチレングリコールのジメタクリル酸エステル、ポリエチレングリコールのジメタクリル酸エステル、プロピレングリコールのジメタクリル酸エステル、ジプロピレングリコールのジメタクリル酸エステル、トリプロピレングリコールのジメタクリル酸エステル等が挙げられる。
【００４９】
多価アクリル酸エステル類としては、トリメチロールプロパントリアクリル酸エステル等が挙げられる。多価メタクリル酸エステルとしては、トリメチロールプロパントリメタクリル酸エステル等が挙げられる。ニトリル系としては、アクリルニトリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。ビニル化合物としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ｎ−酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、パーサティック酸ビニル、ラウリル酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、塩化ビニリデン、クロロヘキサンカルボン酸ビニル、アクリル酸−２−クロロエチル、メタクリル酸−２−クロロエチル等が挙げられる。アクリル酸シクロヘキシル等の脂環式アルコールのアクリル酸エステルや、メタクリル酸シクロエキシル等の脂環式アルコールのメタクリル酸エステル等が挙げられる。
【００５０】
オキサゾリン基含有重合性化合物類としては、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロピニル−２−オキサゾリン等が挙げられる。アジリジン基含有重合性化合物類としては、アクリロイルアジリジン、メタクリロイルアジリジン、アクリル酸−２−アジリジニルエチル、メタクリル酸−２−アジリジニルエチル等が挙げられる。
【００５１】
エポキシ基含有重合性化合物類としては、アリルグリシジルエーテル、アクリル酸グリシジルエーテル、メタクリル酸グリシジルエーテル、アクリル酸−２−エチルグリシジルエーテル、メタクリル酸−２−エチルグリシジルエーテル、２−メチルアリルグリシジルエーテル、スチレン−ｐ−グリシジルエーテル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、マレイン酸のモノおよびジグリシジルエステル、フマル酸のモノおよびジグリシジルエステル、クロトン酸のモノおよびジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸のモノおよびジグリシジルエステル、イタコン酸のモノおよびグリシジルエステル、ブテントリカルボン酸のモノおよびジグリシジルエステル、シトラコン酸のモノおよびジグリシジルエステル、アリルコハク酸のモノおよびグリシジルエステルなどのジカルボン酸モノおよびアルキルグリシジルエステル、ｐ- スチレンカルボン酸のアルキルグリシジルエステル、３，４- エポキシ- １- ブテン、３，４- エポキシ- ３- メチル- １- ブテン、３，４- エポキシ- １- ペンテン、３，４- エポキシ- ３- メチル- １- ペンテン、５，６- エポキシ- １- ヘキセン、ビニルシクロヘキセンモノオキシド等が挙げられる。
【００５２】
ヒドロキシ基含有重合性化合物類としては、アクリル酸- ２- ヒドロキシエチル、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸- ２- ヒドロキシプロピル、アクリル酸又はメタクリル酸とポリプロピレングリコール又はポリエチレングリコールとのモノエステル、ラクトン類と（メタ）アクリル酸- ２- ヒドロキシエチルとの付加物等が挙げられる。フッ素ビニル単量体類としては、フッ素置換メタクリル酸アルキルエステル、フッ素置換アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。
【００５３】
不飽和カルボン酸、これらの塩並びにこれらの（部分）エステル化合物及び酸無水物類としては、（メタ）アクリル酸を除く、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。不飽和カルボン酸類としては、アクリル酸、メタクリル酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ノルボルネンジカルボン酸、ビシクロ［２，２，１］ヘプト- ２- エン- ５，６- ジカルボン酸等が挙げられ、また、これらの誘導体として、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ビシクロ［２，２，１］ヘプト- ２- エン- ５，６- ジカルボン酸無水物、酸ハライド、メタクリル酸アミノエチルおよびメタクリル酸アミノプロピル、マレニルイミド等が挙げられる。
【００５４】
アミド基含有ビニル単量体類としては、メタクリルアミド、Ｎ- メチロールメタクリルアミド、Ｎ- メトキシエチルメタクリルアミド、Ｎ- ブトキシメチルメタクリルアミド等が挙げられる。アミノ基含有エチレン性不飽和化合物類としては、たとえば（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸プロピルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸アミノプロピル、メタクリル酸フェニルアミノエチル、メタクリル酸シクロヘキシルアミノエチルなどのアクリル酸またはメタクリル酸のアルキルエステル系誘導体類、Ｎ- ビニルジエチルアミン、Ｎ- アセチルビニルアミンなどのビニルアミン系誘導体類、アリルアミン、メタクリルアミン、Ｎ- メチルアクリルアミン、Ｎ，Ｎ- ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ- ジメチルアミノプロピルアクリルアミドなどのアリルアミン系誘導体、アクリルアミド、Ｎ- メチルアクリルアミドなどのアクリルアミド系誘導体、ｐ- アミノスチレンなどのアミノスチレン類、６- アミノヘキシルコハク酸イミド、２- アミノエチルコハク酸イミド等が挙げられる。
【００５５】
本発明において、これらのアクリル系モノマー又は上述したオリゴマーは、反応条件にもよるが、気体、液体又は固体であっても特に限定されないが、その取り扱い性等から、好ましくは、常温で液体であることが好適である。また、これらの単独又は何れか複数を組合わせて適宜使用することができるが、既に上述した如く、本発明においては、（メタ）アクリル酸アルキルエステル類又はこれらを主成分に、上述した他の重合性不飽和結合を有するモノマー類又は改質モノマー類として、単独又は複数を組合わせて、適宜好適に使用することができる。
【００５６】
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の樹脂に添加される架橋剤の例としては、一般にいわれる架橋剤（例えば、イソシアネート系、エポキシ系架橋剤）と、多官能モノマーが挙げられる。
【００５７】
本発明で使用する架橋剤をさらに具体的に説明する。イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、などの架橋剤は単独で用いても良く、２種類以上を併用しても良い。イソシアネート化合物の例としては、トリレンジイソシアネート、クロルフェニレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添されたジフェニルメタンジイソシアネートなどのイソシアネートモノマー及びこれらイソシアネートモノマーをトリメチロールプロパンなどと付加したイソシアネート化合物やイソシアヌレート化物、ビュレット型化合物、さらには公知のポリエーテルポリオールやポリエステルポリオ一ル、アクリルポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオールなど付加反応させたウレタンプレポリマー型のイソシアネートなどを挙げることができる。
【００５８】
エポキシ系化合物としては、エチレングリコールグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールシグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ' ，Ｎ' −テトラグリジル−ｍ−キシリレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ' ，Ｎ' −テトラグリジルアミノフェニルメタン、トリグリシジルイソシアヌレート、ｍ−Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノフェニルグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトルイジン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリンなどを挙げることができる。
【００５９】
アジリジン系架橋剤としては、トリメチロールプロパントリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリメチロールプロパントリ−β−（２−メチルアジリジン）プロピオネート、テトラメチロールメタントリ−β−アジリジニルプロピオネートなどを挙げることができる。金属キレート系架橋剤としては、アルミニウムイソプロピレート、ジイソプロポキシビスアセチルアセトンチタネート、アルミニウムトリエチルアセトアセテートなどを挙げることができる。メラミン樹脂系架橋剤としては、メチル化メラミン樹脂、ブチル化メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などを挙げることができる。シランカップリング剤としては、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、クロロプロピルトリメトキシシランなどを挙げることができる
耐衝撃層の形成に使用される（メタ）アクリル系混合物に添加される重合開始剤には、一般的に使用される電離放射線重合開始剤や熱重合開始剤が用いられる。
【００６０】
（耐衝撃層の形成）
１）電離放射線硬化型樹脂を用いる場合
透明な基材シート上に電離放射線硬化型樹脂の粘着剤を塗工し照射することにより耐衝撃層を形成する。塗工手段には、各種公知の方法で適用でき、例えば、ナイフコート、ロールコート、カーテンフローコート、Ｔダイコート等の方法を用いることができる。特に版胴塗工の場合はインキパン中の液状組成物に、回転する版胴を浸漬させる（所謂ドブ浸け）も可能である。
【００６１】
尚、ここで電離放射線としては、電磁波又は荷電粒子線のうち分子の重合、架橋し得るエネルギーを有するものを意味し、紫外線、可視光線、Ｘ線、電子線、α線等があるが、通常紫外線、又は電子線が用いられる。紫外線源としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライトランプ、メタルハライドランプ等の光源が使用される。電子線源としては、コッククロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、或いは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器を用い、１００〜１０００ｋｅＶ、好ましくは、１００〜３００ｋｅＶのエネルギーをもつ電子を照射するものが使用される。
【００６２】
２）熱硬化型樹脂を用いる場合
前記１）電離放射線硬化型樹脂を用いる場合と同様な方法で塗工或いはラミネート成形する。熱硬化型樹脂の硬化には、加熱により行う。
【００６３】
図６は、本発明の光学フィルタにおける好ましい耐衝撃層を形成するための共押出ラミネート機の１例である。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層を形成するには、図６の共押出ラミネート機を用いてフィルムとフィルム間に耐衝撃層となる溶融樹脂フィルムを流し込んで挟んで耐衝撃層を成形する。図６において３５は第１フィルム供給部であり、反射防止層１がフィルム状に巻き取られている。反射防止層１は第１フィルム供給部３５から供給される。他方、第２フィルム供給部３９には、離型フィルム（図示していない）／色素含有粘着剤層４／電磁波遮蔽層５からなる積層シートが巻き取られており、第２フィルム供給部３９から供給されて、前記第１フィルム供給部３５から供給された反射防止層１と、前記第２フィルム供給部３９からの積層フィルムと重ね合わせる際に両フィルムの間に、共押出ラミネート機のダイス４２から溶融押し出された粘着性耐衝撃層３を形成するための樹脂を挟み込み冷却ロール３７とニップロール３８との間を通してラミネート成形して積層シートとする。次いで、得られた積層シートは排紙部４１から排紙され、離型紙付の光学フィルタが得られる。
【００６４】
電磁波遮蔽層：
電磁波遮蔽層５は、透明基材、接着剤層（図示していない）、金属メッシュ層がこの順に積層された積層構造を有するものである。
【００６５】
（金属メッシュ層）
金属メッシュ層は、積層構造の電磁波遮蔽層５を構成する一部の層である。本発明に用いられる金属メッシュ層は、ＰＤＰ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものである。このような金属メッシュ層は、後述する透明基材上に、接着剤層により金属箔が貼り合わせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。本発明においては、この金属メッシュ層は、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、チタン等を用いることができる。本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に、電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよい金属メッシュ層とすることができ、また、金属メッシュ層の表面に黒化処理が施された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
【００６６】
ここで、本発明においては、上記金属箔の一方の面または両面に黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュ層の表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この酸化処理面は、観察者側の面となるように配置される。この黒化処理により金属メッシュ層表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な透過性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行なうことができる。
【００６７】
黒化処理の方法としては、ＣｒＯ2 水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、６価クロムの一部を３価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、透明基材上に、接着剤層または粘着剤層により金属箔が貼り合わせられ、メッシュ状にエッチングされた後に行なわれるものであってもよい。
【００６８】
この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が０．６以上であることが好ましい。これにより、より非視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、ＣＯＬＯＲ  ＣＯＮＴＲＯＬ  ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ  ＳＰＭ１００−１１（（株）ＫＩＭＯＴＯ製）を用いて、観測視野角１０°、観測光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩ  Ｔに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。
【００６９】
また、上記金属箔の膜厚は、１μｍ〜１００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より膜厚が薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。
【００７０】
さらに、上記金属箔は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠する十点平均粗さが０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着剤やレジスト等を塗布することが困難となるからである。
【００７１】
ここで、金属箔のエッチングは、後述する透明基材上に、接着剤層または粘着剤層を介して金属箔が貼り合わせられた後に行なわれるものである。このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行なうことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後、レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行なうことにより得ることができる。
【００７２】
本発明に用いられる上述したような金属メッシュ層は、表面抵抗が１０-6Ω／□〜５Ω／□の範囲内、中でも１０-4Ω／□〜３Ω／□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置ロレスターＧＰ、（株）ダイヤインスツルメンツ製にてＪＩＳ  Ｋ７１９４「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験法」に記載される方法にて測定された値である。
【００７３】
このエッチング処理された後の金属メッシュ層は、５０μｍ□〜５００μｍ□の範囲内、中でも１００μｍ□〜４００μｍ□の範囲内、特に２００μｍ□〜３００μｍ□の範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細かい場合には、断線が起こる場合があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。
【００７４】
透明基材：
透明基材は積層構造の電磁波遮蔽層５を構成する一部の層である。本発明に用いられる透明基材は透明性を有し、かつ接着剤層が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトンからなるフィルムで可視領域の光線透過率が８０％以上のフィルムが挙げられる。
【００７５】
これらのフィルムは本発明の目的を妨げない程度であれば着色していてもよく、さらに単層で使うこともできるが、２層以上組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。中でも透明性、耐熱性、コストや取扱い性の面等から、ＰＥＴが最も好ましい。可視領域の光線透過率はできる限り高いことが望ましいが、これは最終製品としては５０％以上の光線透過率が必要なことから最低２枚を積層する場合でも透明基材としては８０％を有すれば目的に適うからである。透過率が高ければ高いほど透明基材を複数枚積層できるため、光線透過率は好ましくは８５％以上、最も好ましくは９０％以上であり、このために厚さを薄化するのも有効な手段である。この透明基材の厚さは、透明性さえ満足すれば特に制限されるものではないが、加工性上からは１２μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。厚さ１２μｍ未満の場合はフィルムが柔軟過ぎ、導電層である金属メッシュ層の成膜や加工する際の張力により伸張やシワが発生しやすく、そのため金属メッシュ層の亀裂や剥離が生じやすく適さない。３００μｍを超えるとフィルムの可撓性が減少し、各工程での連続巻き取りが困難で適さない。さらに複数枚を積層する際は加工性が大幅に劣るといった問題もある。
【００７６】
接着剤層：
接着剤層は図１及び図２において図示していないが、透明基材と金属箔とを接着するのに用いられた層である。接着剤層は、金属メッシュ層および透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュ層を構成する金属箔および透明基材を接着剤層を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着剤層も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンエステル樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明基材との密着性や、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素との相溶性、分散性などの観点からアクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。
【００７７】
また、接着剤層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５６０−６３０ｎｍにおける光線透過率が４０％以下、好ましくは３０％以下、特に２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価および酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が樹脂中の反応基と反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
【００７８】
接着剤層を介してドライラミネーション法等により透明基材および金属メッシュ層を形成するための金属箔とを接着することができる。また、この接着剤層の膜厚が０．５μｍ〜５０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜２０μｍであることが好ましい。これにより、透明基材および金属メッシュ層とを強固に接着することができ、また、金属メッシュ層を形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。
【００７９】
色素含有粘着剤層：
図１、図２に示すように、本発明の光学フィルタに用いられる色素含有粘着剤層４は、上記した電磁波遮蔽性を有する金属メッシュ層の凹凸を平坦化するための層であり、金属メッシュ層の凹凸によって光学フィルタの透明性が低下することを防ぐ機能を有するものである。また、金属メッシュ層の形成の際に行なわれるエッチングによって、接着剤層表面が劣化することにより低下する透明性の改良や、金属メッシュ層を斜めから見た際の断面の乱反射を防止することも可能である。本発明において用いられる色素含有粘着剤層４は、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明では色素含有粘着剤層４に用いる樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１５０℃の範囲内、中でも４０℃〜１２０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、樹脂を溶剤等に溶解させて、金属メッシュ層上に塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面に金属メッシュ層の凹凸により形成される凹凸を、透明基材のＴｇ以上の温度で、例えば、ミラーロール等を用いて圧力をかけることにより平坦化することができ、透明性の高い高品質な光学フィルタとすることができるからである。この色素含有粘着剤層４を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常５０℃〜１７０℃の範囲内であり、また圧力は線圧０．１ｋｇ／ｃｍ2 〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の範囲内であることが好ましい。
【００８０】
上述したような性質を有する樹脂としては、具体的には、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂を挙げることができ、中でも透明性の観点からアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。また、上記樹脂の平均分子量は、５００〜６００，０００の範囲内、中でも１万〜４０万であることが好ましい。これにより、上記のような性質を有する透明樹脂とすることができるからである。
【００８１】
本発明において、このような色素含有粘着剤層４の膜厚は、金属メッシュ層が形成されていない部分の膜厚が、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。これにより、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能となるからである。本発明の光学フィルタの色素含有粘着剤層４における、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上を含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５６０−６３０ｎｍにおける光線透過率が４０％以下、好ましくは３０％以下、特に、２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価、および／または、酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸基により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
【００８２】
色素含有粘着性耐衝撃層：
図３、図４に示すように、本発明の光学フィルタに用いられる色素含有粘着性耐衝撃層３１は、前記した色素含有粘着剤層の機能を有し、即ち、電磁波遮蔽性を有する金属メッシュ層の凹凸を平坦化するための層であり、金属メッシュ層の凹凸によって光学フィルタの透明性が低下することを防ぐ機能を有する。本発明の光学フィルタにおける色素含有粘着性耐衝撃層３１は、前記した粘着性耐衝撃層に用いられる（メタ）アクリル系混合物を用い、これに前記した架橋剤、必要に応じて電離放射線重合開始剤（紫外線重合開始剤を含む）又は熱重合開始剤、さらに、赤外線吸収色素又はネオン光吸収色素を含有した組成物を用いて、前記の粘着性耐衝撃層と同様にして形成される。
【００８３】
反射防止層：
反射防止層に関しては、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカス手法を採用することができる。すなわち、光を散乱もしくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化することが基本であり、この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により基体表面を直接粗面化する方法、基体表面に放射線、熱の何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂中にシリカなどの無機フィラーや、樹脂粒子などの有機フィラーを含有させた粗面化層を設ける方法、および基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法を挙げることができる。
【００８４】
また、反射防止層を形成する他の方法としては、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化（マルチコート）することで、表面の反射が抑えられ、良好な反射防止効果を得ることができる。通常、この反射防止層は、ＳｉＯ2 に代表される低屈折率材料と、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 等の高屈折率材料とを交互に蒸着等により成膜する気相法等によって形成される。
【００８５】
反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ2 （屈折率ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、Ｎａ3 ＡｌＦ6 （屈折率ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ2 （屈折率ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。
【００８６】
さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系および有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ2 として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。
【００８７】
低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法で、高屈折率層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。
【００８８】
高屈折率層の形成は、屈折率を高くするために高屈折率のバインダ樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダ樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。
【００８９】
高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。
【００９０】
高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2 （屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）またはＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Ａｌ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ2 （屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの微粒子は単独または混合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。
【００９１】
高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。
【００９２】
また反射防止層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が２０％以下、中でも１０％以下、５６０−６３０ｎｍにおける光線透過率が４０％以下、好ましくは３０％以下、特に２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂が水酸基価および酸価が所定の値以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸価により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収能、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとなる。
【００９３】
粘着剤層：
図４の粘着剤層６は、光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュール７に接着するための層であり、例えば、市販の両面接着テープ（例、ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）が使用できる。
【実施例１】
【００９４】
アクリル酸−２−エチルへキシルアクリレート９２重量部（１５．６ｋｇ）、アクリル酸８重量部（１．４ｋｇ）の混合物に、光開始剤（イルガキュア３６９：商品名、チバガイギー（株）製）０．００３部重量部を均一に添加した。
【００９５】
得られた混合物を、冷却管、窒素導入口、撹拌翼、加熱ジャケット、温度計を有した透明重合槽にし込み、容器内に２０分間窒素ガスを封入して容器内の空気を窒素ガスで置換した後、窒素気流中で混合物を８０℃に昇温して、この温度を一定に保ちながら、装置外部に設置した水冷式高圧水銀ランプにて紫外線照射量が１０００ｍＪとなるまで断続的に紫外線の照射を繰り返した。得られたアクリル共重合体の部分重合物は、重量平均分子量７５万、数平均分子量２３万のものであった。
【００９６】
上記混合物に架橋剤（ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ：商品名、共栄社北学製）０．０５重量部を配合して、無溶剤型塗工液を調製した。
【００９７】
この無溶剤型塗工液は、実質溶剤を含有しておらず（溶剤含有量１ｗｔ％以下）、その粘度は１５０Ｐａ・ｓであった。該無溶剤型塗工液を常温で減圧状態に置くことにより、脱泡処理した。
【００９８】
反射防止フィルムとしてリアルック８２００ＵＶ（商品名、日本油脂製、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム／厚み５μｍのＡＲ層／厚み４０μｍの保護フィルムからなる積層フィルム）を用意した。前記工程で得られた脱泡処理後の無溶剤型塗工液を反射防止フィルム上に厚さ３００〜５００μの塗布厚さになるようナイフコート法で塗工した。こうして塗工された無溶剤型塗工液の表面に剥離処理された厚さ１００μｍのＰＥＴ製フィルムからなるセパレータを貼着して、塗工液をサンドイッチ状に密閉した。該脱泡処理を行った塗工液を用いて作製した塗膜中には、気泡が含有されなくなり、欠点のない耐衝撃層が得られた。
【００９９】
この積層体を、ＰＥＴ製セパレータ側から、加速電圧２５０ｈＶ、照射線量５Ｍｒａｄの電子線を照射し重合させた。次いで、ＰＥＴ製セパレータを剥離した後、該積層体の粘着性耐衝撃層側を、別に用意した色素含有粘着剤層を積層した電磁波遮蔽層の支持体側と貼り合わせて、本実施例１の光学フィルタを得た。該色素含有粘着剤層の形成には、電磁波遮蔽層の金属メッシュ側に、ｎ−ブチルアクリレート７８．４重量％、２−エチルヘキシルアクリレート１９．６重量％およびアクリル酸２．０重量％を共重合させたアクリル酸エステル共重合体を熔融撹拌した後、近赤外線吸収剤０．０３部（日本触媒（株）製  " イーエクスカラー”ＴＸ−ＥＸ−８０５Ｋ：商品名）染料（三井化学（株）製  ”ＰＳブルーＢＮ”：商品名）０．０００１重量部、ネオン吸収化合物（旭電化（株）製  ＴＹ−１０２：商品名）を０．００１３重量部を加えたものからなる混合物を塗布して、金属メッシュの凹凸を平坦化するように塗布して形成した。
【０１００】
プラズマディスプレイパネルの製造
次に、プラズマディスプレイパネルモジュールの前面に上記工程で得られた反射防止膜付光学フィルタを貼付け、３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１０１】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験として図３に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定したところ、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。耐衝撃層の４００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、０．８Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．９Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ０．２、０．５、０．７であった。その結果を下記の表１に示す。
【０１０２】
本実施例１で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、０．５％であった。また、本実施例１で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例１の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【実施例２】
【０１０３】
アクリル酸−２−エチルヘキシルアクリレート９２重量部（１５．６ｋｇ）、アクリル酸６重量部（１．４ｋｇ）の混合物に、光開始剤（イルガキュア３６９：商品名、チバガイギー（株）製）０．００３部重量部を均一に添加した。
【０１０４】
得られた混合物を、冷却管、窒素導入口，撹拌翼、加熱ジャケット、温度計を有した透明重合槽に仕込み、容器内に２０分間窒素ガスを封入して容器内の空気を窒素ガスで置換した後、窒素気流中で混合物を８０℃に昇温して、この温度を一定に保ちながら、装置外部に設置した水冷式高圧水銀ランプにて紫外線照射量が１０００ｍＪとなるまで断続的に紫外線の照射を繰り返した。得られたアクリル共重合体の部分重合物は、重量平均分子量７５万、数平均分子量２３万のものであった。
【０１０５】
上記混合物に光開始剤として、２−ヒドロキシ−２−ジメトキシ−１−フェニルプロパン−１−オン（チバガイギー（株）製）０．３重量部、架橋剤（商品名：ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ、共栄社化学製）０．０５重量部を配合して、混合し、次いで脱泡処理（常温で減圧状態に置く）して無溶剤型塗工液を調製した。得られた無溶剤型塗工液は、実質溶剤を含有しておらず（溶剤含有量１ｗｔ％以下）、その粘度は１５０Ｐａ・ｓであった。
【０１０６】
反射防止フィルムとしてリアルック８２００ＵＶ（商品名、日本油脂製、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム／厚み５μｍのＡＲ層／厚み４０μｍの保護フィルムからなる積層フィルム）を用意した。前記工程で得られた無溶剤型塗工液を、反射防止フィルム上に厚さ３００〜５００μの塗布厚さになるようナイフコート法で塗工した。こうして塗工された無溶剤型塗工液の表面に剥離処理された厚さ１００μｍのＰＥＴ製フィルムからなるセパレータを貼着して、塗工液をサンドイッチ状に密閉した。
【０１０７】
得られた積層体を、ＰＥＴ製セパレータ側からブラックライト蛍光ランプ３ｍＷ／ｃｍ2 で３６０秒、その後、高圧水銀灯５００ｍＷ／ｃｍ2 で１０秒の紫外線（ＵＶ）を照射し重合させた。次いで、ＰＥＴ製セパレータを剥離した後、別に色素含有粘着剤層を積層した電磁波遮蔽層の支持体側と貼り合わせることにより本実施例２の光学フィルタを得た。該色素含有粘着剤層の形成は前記実施例１と同様にした。また、前記実施例１と同様にして本実施例２のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１０８】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが４００μｍの場合、０．７Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．８Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、１．２Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、１．３Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ０．２、０．５、０．８であった。その結果を下記の表１に示す。
【０１０９】
本実施例２で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、０．５％であった。また、本実施例２で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例２の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【実施例３】
【０１１０】
アクリル酸−２−エチルヘキシルアクリレート９２重量部（１５．６ｋｇ）、アクリル酸８重量部（１．４ｋｇ）の混合物に、光開始剤（イルガキュア３６９：商品名、チバガイギー（株）製）０．００３部重量部を均一に添加した。
【０１１１】
得られた混合物を、冷却管、窒素導入口，撹拌翼、加熱ジャケット、温度計を有した透明重合槽に仕込み、容器内に２０分間窒素ガスを封入して容器内の空気を窒素ガスで置換した後、窒素気流中で混合物を８０℃に昇温して、この温度を一定に保ちながら、装置外部に設置した水冷式高圧水銀ランプにて紫外線照射量が１０００ｍＪとなるまで断続的に紫外線の照射を繰り返した。得られたアクリル共重合体の部分重合物は、重量平均分子量７５万、数平均分子量２３万のものであった。
【０１１２】
上記混合物に熱分解型開始剤としてｔ−ブチルパーオキシネオデカエート（パーブチルＮＤ：商品名、日本油脂製）０．５重量部、ベンゾイルパーオキサイド（ナイパーＢＯ：商品名、日本油脂製）０．５重量部、架橋剤（ライトアクリレート１．６ＨＸ−Ａ：商品名、共栄社化学製）０．００５重量部を配合して、混合し、次いで該混合物を常温で減圧状態に置くことにより、脱泡処理して無溶剤型塗工液を調製した。得られた無溶剤型塗工液は、実質溶剤を含有しておらず（溶剤含有量１ｗｔ％以下）、その粘度は１５０Ｐａ・ｓであった。
【０１１３】
反射防止フィルムとしてリアルック８２００ＵＶ（商品名、日本油脂製、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム／厚み５μｍのＡＲ層／厚み４０μｍの保護フィルムからなる積層フィルム）を用意した。前記工程で得られた無溶剤型塗工液を反射防止層の上に厚さ３００〜５００μの塗布厚さになるようナイフコート法で塗工した。塗工された無溶剤型塗工液の表面に剥離処理された厚さ１００μｍのＰＥＴ製フィルムからなるセパレータを貼着して、塗工液をサンドイッチ状に密閉した。
【０１１４】
この積層体を、８０℃１５分養生し熱重合を行った。次いでＰＥＴ製セパレータを剥離させた後、別に色素含有粘着剤層を積層した電磁波遮蔽層の支持体側と貼り合わせることにより本実施例３の光学フィルタを得た。該色素含有粘着剤層の形成は前記実施例１と同様にした。また、前記実施例１と同様にして本実施例３のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１１５】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが４００μｍの場合、０．８Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．９Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、１．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、１．４Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ０．２、０．６、０．９であった。その結果を下記の表１に示す。
【０１１６】
本実施例３で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、０．５％であった。また、本実施例３で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例３の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
〔比較例１〕
溶剤希釈された粘着剤を用いて光学フィルタを作製した例
冷却管、窒素導入口、撹拌翼、加熱ジャケットを有したパッチにｎ−ブチルアクリレ−ト１５．２ｋｇ（８２モル）、アクリル酸２ｋｇ（２７．８モル）、酢酸エチル９０ｋｇの混合物に、２．２−アゾビスイソブチロニトリルを１００ｇ加え、反応系を６５℃にコントロールして５時間加熱して重合した。最後に酢酸エチル含有量を調節し，溶剤比率を約４０％として粘着剤組成物を得た。これをナイフコートにて、乾燥後の膜厚が、３００、４００、５００μｍとなるように塗工した。乾燥は、塗工後１２０℃５分行った。乾燥後、別に色素含有粘着剤を積層した電磁波遮蔽層の支持体側と貼り合わせることにより比較例１の光学フィルタを得た。また、前記実施例１と同様にして比較例１のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１１７】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが４００μｍの場合、０．９Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、１．０Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、１．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、１．５Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ０．６、１．１、３．１であった。その結果を下記の表１に示す。
【０１１８】
【表１】
2005107199.tif 000002
【０１１９】
表１において、○○は、２回の耐衝撃試験において、２回ともＰＤＰパネルが割れないことを示し、●●は、２回の耐衝撃試験において、２回ともＰＤＰパネルが割れたことを示す。気泡の有無において○は目視で気泡が見られなかったもの、×は目視で所々気泡が見られたものを示す。
【産業上の利用可能性】
【０１２０】
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイの前面に貼付した場合に、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができ、しかも光学フィルタの層構成を簡略化することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】本発明の粘着性を有する耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュールの前面に配置した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２】本発明の粘着性を有する耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイパネルモジュールの前面に配置した場合の別の積層構造の一例を示す図である。
【図３】本発明の粘着性を付与した色素含有耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図４】本発明の粘着性を付与した色素含有耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の別の積層構造の一例を示す図である。
【図５】衝撃試験装置を示す図である。
【図６】本発明の光学フィルタにおける好ましい耐衝撃層を形成するための共押出ラミネート機の１例を示す図である。
【符号の説明】
【０１２２】
１    反射防止層
３    粘着性耐衝撃層
３１  色素含有粘着性耐衝撃層
４    色素含有粘着剤層
５    電磁波遮蔽層
６    粘着剤層
７    プラズマディスプレイパネルモジュール
８    試験台
９    土台
１０  ガラス板
１１  前面ガラス板
１２  鋼球
３５  第１フィルム供給部
３７  冷却ロール
３８  ニップロール
３９  第２フィルム供給部
４１  排紙部
４２  ダイス
【図１】
2005107199.tif 000003
【図２】
2005107199.tif 000004
【図３】
2005107199.tif 000005
【図４】
2005107199.tif 000006
【図５】
2005107199.tif 000007
【図６】
2005107199.tif 000008