(57)【要約】【課題】  クライオスタットの対向面に凹みを設け、当該凹み内に傾斜磁場コイルを収容するタイプの電磁石装置、磁気共鳴イメ−ジング装置において、均一静磁場の微調整を可能にする。【解決手段】  均一静磁場空間領域８に対向してクライオスタット部２，４に設けられた凹み10131,40131内に傾斜磁場コイル２１１，２１２を有する電磁石装置において、前記凹み内に前記傾斜磁場コイルに対応し前記凹み内外を連通する案内路２０４を前記凹みの壁部の形状に略対応して屈曲して設け、前記均一静磁場を調整するシム2032が必要に応じて搭載され屈曲性を有するシム搭載長尺体２０２，２０３を前記凹み外から前記案内路内に挿入するものである。【選択図】図５
2005185787.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
均一静磁場空間領域に対向してクライオスタット部に設けられた凹み内に傾斜磁場コイルを有する電磁石装置において、前記凹み内に前記傾斜磁場コイルに対応し前記凹み内外を連通する案内路を前記凹みの壁部の形状に略対応して屈曲して設け、前記均一静磁場を調整するシムが必要に応じて搭載され屈曲性を有するシム搭載長尺体を前記凹み外から前記案内路内に挿入することを特徴とする電磁石装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電磁石装置において、前記シム搭載長尺体が、非磁性のシム搭載手段を有した非磁性のチェ−ン状長尺体であることを特徴とする電磁石装置。
【請求項３】
請求項２に記載の電磁石装置において、前記シム搭載手段が前記均一静磁場の方向を向いた螺子であることを特徴とする電磁石装置。
【請求項４】
請求項２に記載の電磁石装置において、前記シム搭載手段が前記均一静磁場の方向と略直角の方向を向いた螺子であることを特徴とする電磁石装置。
【請求項５】
請求項１に記載の電磁石装置において、前記シム搭載長尺体が、屈曲性の薄板及び当該薄板に設けられたシム搭載手段で構成されていることを特徴とする電磁石装置。
【請求項６】
請求項１に記載の電磁石装置において、前記案内路が前記凹みの底壁部と前記傾斜磁場コイルとの間に位置し、前記案内路に挿入された前記シム搭載長尺体が前記凹みの底壁部と前記傾斜磁場コイルとの間に位置することを特徴とする電磁石装置。
【請求項７】
請求項１に記載の電磁石装置において、前記シム搭載長尺体が前記凹みの外で前記クライオスタット部に固定されることを特徴とする電磁石装置。
【請求項８】
請求項１〜請求項７の何れか一に記載の磁石装置を備えた磁気共鳴イメ−ジング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、生体の画像診断に利用されるＭＲＩ（Magnetic  Resonance  Imaging）装置（通称「磁気共鳴イメ−ジング装置」）に使用される磁石装置、及び磁気共鳴イメ−ジング装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気共鳴イメ−ジング装置は、磁石装置の形状により大別して円筒形と、一対の環状磁石部の間に球状の均一静磁場空間領域を形成する対向形とがあり、近年では、被検者に対する開放性や診断関係者の被検者へのアクセスの利便性の観点等で優れた対向形が主流になりつつある。この対向形の磁気共鳴イメ−ジング装置における球状の均一静磁場空間領域の磁界強度は、一般的には６０００〜１００００ガウスであり、その許容誤差は通常は数ｐｐｍである。尚、対向形の磁気共鳴イメ−ジング装置の大きさや重さは、例えば、高さ３ｍ前後、平面における最大奥行長２ｍ前後、重さ４０トン前後である。
【０００３】
前述のような対向形の磁気共鳴イメ−ジング装置においては、小型化、軽量化を図りつつ、球状の均一静磁場空間領域における傾斜磁場の精度の確保、誤差の縮小を図ることが重要であり、例えば、特開２００１−２２４５７０号公報（特許文献１）に見られるような対向形で、球状の均一静磁場空間領域における均一静磁場を傾斜磁場コイル取り付け後などに微調整する技術が開発されている。
【０００４】
又、一方、例えば、特開平９−２６２２２３号公報（特許文献２）に見られるように、前述のような対向形の磁気共鳴イメ−ジング装置において、真空容器（クライオスタット）の対向面に凹みを設け、当該凹み内に傾斜磁場コイルを収容する比較的最近の概念がある。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２２４５７０号公報（図１〜４及びその説明）
【特許文献２】特開平９−２６２２２３号公報（図２〜５及びその説明）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前記特許文献１に記載の均一静磁場空間領域における均一静磁場を傾斜磁場コイル取り付け後などに微調整する技術は、永久磁石を利用した磁気共鳴イメ−ジング装置であり、磁極片の貫通穴に前記微調整手段であるガイドを貫通させたものである。一方、超電導コイル等を内蔵した真空容器（クライオスタット）を使用した電磁石を利用した磁気共鳴イメ−ジング装置においては、真空容器に前記微調整手段であるガイドを貫通させる貫通穴を設けることは通常は出来ない。
【０００７】
前記特許文献２に記載のように真空容器（クライオスタット）の対向面に凹みを設け、当該凹み内に傾斜磁場コイルを収容するタイプの電磁石装置を使用した磁気共鳴イメ−ジング装置においては、前記特許文献１に記載のような均一静磁場の微調整手段を講じることは困難であり、このような真空容器（クライオスタット）の対向面に凹みを設け、当該凹み内に傾斜磁場コイルを収容するタイプの電磁石装置を使用した磁気共鳴イメ−ジング装置では、均一静磁場の微調整手段は実現されていない。
【０００８】
この発明は、前述のような実情に鑑みてなされたもので、クライオスタットの対向面に凹みを設け、当該凹み内に傾斜磁場コイルを収容するタイプの電磁石装置、磁気共鳴イメ−ジング装置において、均一静磁場の微調整を可能にすることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この発明に係る電磁石装置は、均一静磁場空間領域に対向してクライオスタット部に設けられた凹み内に傾斜磁場コイルを有する電磁石装置において、前記凹み内に前記傾斜磁場コイルに対応し前記凹み内外を連通する案内路を前記凹みの壁部の形状に略対応して屈曲して設け、前記均一静磁場を調整するシムが必要に応じて搭載され屈曲性を有するシム搭載長尺体を前記凹み外から前記連通路内に挿入するものである。
【発明の効果】
【００１０】
この発明は、均一静磁場空間領域に対向してクライオスタット部に設けられた凹み内に傾斜磁場コイルを有する磁石装置において、前記凹み内に前記傾斜磁場コイルに対応し前記凹み内外を連通する案内路を前記凹みの壁部の形状に略対応して屈曲して設け、前記均一静磁場を調整するシムが必要に応じて搭載され屈曲性を有するシム搭載長尺体を前記凹み外から前記連通路内に挿入するようにしたので、クライオスタットの対向面に凹みを設け、当該凹み内に傾斜磁場コイルを収容するタイプの電磁石装置、磁気共鳴イメ−ジング装置においても、均一静磁場の微調整が可能となる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
実施の形態１．
以下この発明の実施の形態１を図１〜図８により説明する。図１は対向形の磁気共鳴イメ−ジング装置全体の主要部の構成の一例を示す平面図、図２は図１のII−II線における断面を矢印方向に見た縦断側面図、図３はこの発明の実施の形態１の要部の詳細構造を示す図で、図１における第２のクライオスタット部側のシム取付部の平面図である。図４は図３のIV−IV線における断面を矢印方向に見た縦断側面図、図５はこの発明の実施の形態１の要部の詳細構造を示す図で、図１における一点鎖線の円の部分を拡大して示す縦断側面図である。図６はシム搭載長尺体の側面図、図７はシム搭載長尺体の平面図、図８はシム搭載長尺体の正面図である。尚、各図中、同一符号は同一部分を示す。
【００１２】
最初に図１及び図２により対向形の磁気共鳴イメ−ジング装置全体の主要部の構成および機能を説明し、その後、この発明の実施の形態１の要部について、図３〜図７により説明する。
【００１３】
図１及び図２において、対向形の磁気共鳴イメ−ジング装置は、環状の第１の主磁石１を内蔵し外観が円柱状の第１のクライオスタット部２と、環状の第２の主磁石３を内蔵し外観が円柱状の第２のクライオスタット部４と、前記第１のクライオスタット部２と前記第２のクライオスタット部４とに跨って延在し前記第１のクライオスタット部２と前記第２のクライオスタット部４とを各クライオスタット部２，４の外周部において連結する連結柱部５とから構成されている。
【００１４】
前記第１のクライオスタット部２と前記第２のクライオスタット部４とは、それらの前記環状の第１及び第２の主磁石１，３の各中心線６が図示のように同軸状になるように配設され、両者の対向面間には所定の空間７が、前記連結柱部５により保持されている。尚、前記空間７に、被検者の画像診断に必要な球状の均一静磁場空間領域８が存在する。又、前記空間７に、被検者を載せる被検者用ベッド７１が、矢印イ（図１参照）あるいは矢印ロ（図１参照）の方向に挿入される。
【００１５】
前記第１のクライオスタット部２は、周知のように、非磁性金属製の真空容器部２０１と、この真空容器部２０１内に当該真空容器部２０１の器壁から離間して配設されたヘリウム（Ｈｅ）容器などの冷媒容器（図示省略）と、この冷媒容器（図示省略）と前記真空容器部２０１との間に当該冷媒容器（図示省略）及び真空容器部２０１から離間して配設され前記真空容器部２０１から前記冷媒容器（図示省略）への輻射熱を遮る非磁性の熱シ−ルド（図３〜図５参照）とから、主として構成されている。尚、前記冷媒容器（図示省略）内に超電導コイル等の前記第１の主磁石１が内蔵されている。また、前記真空容器部２０１はステンレス他の非良導電体であり、前記熱シ−ルド（図３〜図５参照）はアルミ他の良導電体である。
【００１６】
前記真空容器部２０１は、前記中心線６を中心線とする非磁性の円筒部2011と、この円筒部2011の両端に設けられた円板状の非磁性の端壁部2012，2013と、前記円筒部2011を囲繞し前記両端壁部2012，2013の各周面間に跨って延在している非磁性の周壁部2014とで構成されている。
【００１７】
尚、前記空間７側の前記端壁部2013には、前記空間７側にその中心が前記球状の均一静磁場空間領域８の中心６と同軸状となる円形凹み20131を形成する底壁部201311及び周壁部201312が設けられている。つまり、換言すれば、前記空間７側の前記端壁部2013を、その外周部近傍が前記空間７側に突出した構造とし、当該突出した円形壁部2015に連なる前記各周壁部2014，201312と当該円形壁部2015とにより前記真空容器部２０１の内側にド−ナツ状の凹み2016が形成されている。このド−ナツ状凹み2016内に、前記真空容器部２０１内の前記冷媒容器（図示省略）内に内蔵の前記第１の主磁石１が配設されている。
【００１８】
前記第１のクライオスタット部２内には、前記第１の主磁石１と前記円筒部2011との間に、前記円形凹み20131の底壁部201311に対向して環状の第１の調整磁石９１が配設されている。換言すれば、前記第１の調整磁石９１は、前記円筒部2011を囲繞し、前記第１の主磁石１に囲繞されており、その中心線は前記中心線６と同軸状である。尚、前記第１の調整磁石９１としては、例えば、前記真空容器部２０１内の前記冷媒容器（図示省略）内に内蔵された超電導コイルが使用される。
【００１９】
又、前記第１のクライオスタット部２内には、前記中心線６と同軸状をなす環状の外域磁場打消磁石１０，１１が設けられている。これら外域磁場打消磁石１０，１１としては、前記真空容器部２０１内の前記冷媒容器（図示省略）内に内蔵された超電導コイル、或は前記冷媒容器（図示省略）外の前記真空容器部２０１内に設けられた非超電導コイルが使用されている。又、前記外域磁場打消磁石１０は、前記真空容器部２０１の前記周壁部2014に近接して設けられ、前記外域磁場打消磁石１１は、前記外域磁場打消磁石１０より前記円筒部2011寄りに設けられている。
【００２０】
前記第２のクライオスタット部４は、周知のように、非磁性金属製の真空容器部４０１と、この真空容器部４０１内に当該真空容器部４０１の器壁から離間して配設されたヘリウム（Ｈｅ）容器などの冷媒容器（図示省略）と、この冷媒容器（図示省略）と前記真空容器部４０１との間に当該冷媒容器（図示省略）及び真空容器部４０１から離間して配設され前記真空容器部４０１から前記冷媒容器（図示省略）への輻射熱を遮る熱シ−ルド（図示省略）とから、主として構成されている。尚、前記冷媒容器（図示省略）内に超電導コイル等の前記第２の主磁石３が内蔵されている。
【００２１】
前記真空容器部４０１は、前記中心線６を中心線とする非磁性の円筒部4011と、この円筒部4011の両端に設けられた円板状の非磁性の端壁部4012，4013と、前記円筒部4011を囲繞し前記両端壁部4012，4013の各周面間に跨って延在している周壁部4014とで構成されている。
【００２２】
尚、前記空間７側の前記端壁部4013には、前記空間７側にその中心が前記球状の均一静磁場空間領域８の中心６と同軸状となる円形凹み40131を形成する底壁部401311及び周壁部401312が設けられている。つまり、換言すれば、前記空間７側の前記端壁部4013を、その外周部近傍を前記空間７側に突出した形状とし、当該突出した円形壁部4015に連なる前記各周壁部4014，401312と当該円形壁部4015とにより前記真空容器部４０１の内側にド−ナツ状の凹み4016が形成されている。このド−ナツ状凹み4016内に、前記真空容器部４０１内の前記冷媒容器（図示省略）内に内蔵の前記第２の主磁石３が配設されている。
【００２３】
前記第２のクライオスタット部４内には、前記第２の主磁石３と前記円筒部4011との間に、前記円形凹み40131の底壁部401311に対向して環状の第２の調整磁石９２が配設されている。換言すれば、前記第２の調整磁石９２は、前記円筒部4011を囲繞し、前記第２の主磁石３に囲繞されおり、その中心線は前記中心線６と同軸状である。尚、前記第２の調整磁石９２としては、例えば前記真空容器部４０１内の前記冷媒容器（図示省略）内に内蔵された超電導コイルが使用される。
【００２４】
又、前記第２のクライオスタット部４内には、前記中心線６と同軸状をなす環状の外域磁場打消磁石１２，１３が設けられている。これら外域磁場打消磁石１２，１３としては、前記真空容器部４０１内の前記冷媒容器（図示省略）内に内蔵された超電導コイル、或は前記冷媒容器（図示省略）外の前記真空容器部４０１内に設けられた非超電導コイルが使用されている。又、前記外域磁場打消磁石１２は、前記真空容器部４０１の前記周壁部4014に近接して設けられ、前記外域磁場打消磁石１３は、前記外域磁場打消磁石１２より前記円筒部4011寄りに設けられている。換言すれば、前記外域磁場打消磁石１３は、前記円筒部4011を囲繞し、前記外域磁場打消磁石１２に囲繞されている。
【００２５】
前記連結柱部５は、非磁性の支持骨部５０１と、この支持骨部５０１を内蔵する非磁性の外壁部５０２とから構成されており、前記第１のクライオスタット部２と第２のクライオスタット部４とを支えている。
【００２６】
前記支持骨部５０１は、非磁性の前部支柱部5011と、非磁性の後部支柱部5012と、非磁性の端部支柱部5013,5014とで構成されている。又、前記前部支柱部5011と、前記後部支柱部5012と、前記端部支柱部5013,5014とは溶接などにより一体化されている。
【００２７】
前記外壁部５０２は、非磁性の前壁部5021と、非磁性の後壁部5022と、非磁性の端壁部5023,5024と、非磁性の上壁部5025と、非磁性の底壁部5026とで構成されている。又、前記前壁部5021と、前記後壁部5022と、前記端壁部5023,5024、前記上壁部5025と、前記底壁部5026とは溶接などにより一体化されている。更に又、この外壁部５０２と前記支持骨部５０１とは溶接などにより一体化され、１つの構造体となっている。尚、１つの構造体となっている連結柱部５を前記第１及び第２のクライオスタット部２，４の周方向に複数個連結してそれら複数個の連結柱部を１つの構造体としてもよい。つまり、連結柱部５は実質的に１つの構造体とすればよい。このように前記連結柱部５を実質的に１つの構造体とすれば、前述の特許文献１に記載のような相互に離間した２つの連結柱部を設けてある場合に比べ、磁気共鳴イメ−ジング装置を据え付ける部屋内における当該磁気共鳴イメ−ジング装置の配置の自由度が向上する。
【００２８】
尚、前記連結柱部５は、その前記外壁部５０２は内部が真空の真空容器となっており、後述の冷媒連通管１８を内蔵し、前記外壁部５０２から当該冷媒連通管１８への輻射熱を遮る熱シ−ルド（図示省略）も内蔵している。又、前記連結柱部５の前記上壁部5025には、冷凍機１４及び非磁性の冷媒注入口部１５が設けられている。
【００２９】
前記冷凍機１４は、その動力源は電動機であり、前記上壁部5025の上側つまり外側に位置し、前記真空容器部２０１内における前記冷媒容器（図示省略）内の冷媒を冷却して前記冷媒容器（図示省略）内へ連通路１６を介して戻すと共に、前記真空容器部２０１内の前記熱シ−ルド（図示省略）を、前記真空容器部２０１の温度と前記冷媒容器（図示省略）の温度との中間の温度まで冷却するために設けられている。又、冷凍機１４は、前記冷媒容器（図示省略）内の液冷媒2017の液面20171より高い位置に配設されている。従って、前記冷媒容器（図示省略）内の液冷媒が液化ヘリウム（Ｈｅ）の場合、つまり前記冷媒容器（図示省略）内の前記第１の主磁石１及び前記第２の主磁石３が液化ヘリウム（Ｈｅ）により極低温に冷却される超電導コイルの場合には、前記冷凍機１４が前記真空容器部２０１内における前記冷媒容器（図示省略）内のヘリウム（Ｈｅ）ガスを冷却することによって液化したヘリウム（Ｈｅ）は、自重により前記連通路１６内に入り、当該連通路１６内に入った液化ヘリウムは、自重により前記冷媒容器（図示省略）内へ戻る。
【００３０】
前記冷媒注入口部１５は、前記上壁部5025の上側つまり外側に位置し、前記真空容器部２０１内の前記冷媒容器（図示省略）内へ連通路１７を介して注入するために設けられている。前記冷媒容器（図示省略）内の液冷媒が液化ヘリウム（Ｈｅ）の場合、つまり前記冷媒容器（図示省略）内の前記第１の主磁石１及び前記第２の主磁石３が超電導コイルの場合には、前記冷媒注入口部１５から前記真空容器部２０１内における前記冷媒容器（図示省略）内へ液化ヘリウム（Ｈｅ）が注入される。又、前記冷媒注入口部１５は、前記真空容器部２０１内における前記冷媒容器（図示省略）内の冷媒ガスを抜き出す場合にも使用される。
【００３１】
尚、前記第１のクライオスタット部２の前記真空容器部２０１内における前記冷媒容器（図示省略）と第２のクライオスタット部４の前記真空容器部４０１内における前記冷媒容器（図示省略）とは冷媒連通管１８を介して連通されており、前記第１のクライオスタット部２の前記冷媒容器（図示省略）内の液冷媒は前記第２のクライオスタット部４の前記冷媒容器（図示省略）内へ前記連通管１８を介して供給される。尚、前記液冷媒が液化ヘリウム（Ｈｅ）の場合は、当該液冷媒はその自重により前記第１のクライオスタット部２の前記冷媒容器（図示省略）内から前記第２のクライオスタット部４の前記冷媒容器（図示省略）内へ入っていく。
【００３２】
前記第１のクライオスタット部２の前記円形凹み20131における前記底壁部201311には、その前記球状の均一静磁場空間領域８側の面に、円板状のシム取付部材１９１が取り付けられている。この円板状のシム取付部材１９１は、前記球状の均一静磁場空間領域８の中心線６と同軸状に配設されている。又、このシム取付部材１９１の前記均一静磁場空間領域８側の面には多数のシム取付穴（図１参照）1911が配設されており、この多数のシム取付穴1911のうちの必要な位置のシム取付穴には、磁性片からなるシム（ｓｈｉｍ）（以下、「第１のシム」と呼称する）19111（図１参照）が着脱可能に螺着されている。
【００３３】
前記シム取付部材１９１に設けられた多数の案内路（図示省略。後述の案内路1922と同じ）に、前述の「背景技術」及び「発明が解決しようとする課題」で述べた均一静磁場の微調整手段である第１のシム搭載長尺体２０２が挿入されている。なお、第１のシム搭載長尺体２０２は、後述の第２のシム搭載長尺体２０３と同一構造、同一機能のものである。
【００３４】
前記第２のクライオスタット部４の前記円形凹み40131における前記底壁部401311には、その前記球状の均一静磁場空間領域８側の面に、円板状のシム取付部材１９２が取り付けられている。この円板状のシム取付部材１９２は、前記球状の均一静磁場空間領域８の中心線６と同軸状に配設されている。又、このシム取付部材１９２には、前記第１のクライオスタット部２側の前記シム取付部材１９１と同様に、その前記均一静磁場空間領域８側の面には多数のシム取付穴1921（図３及び図４参照）が設けられており、これらの多数のシム取付穴1921のうちの必要な位置のシム取付穴には、前記第１のクライオスタット部２側の前記シム19111と同様に、磁性片からなるシム19211（以下、「第２のシム」と呼称する）（図３及び図４参照）が着脱可能に螺着されている。
【００３５】
前記シム取付部材１９２に設けられた多数の案内路1922（図３〜図５参照）に、前述の「背景技術」及び「発明が解決しようとする課題」で述べた均一静磁場の微調整手段である第２のシム搭載長尺体２０３が挿入されている。
【００３６】
前記第２のシム搭載長尺体２０３は、図５〜図８に示してあるように、屈曲性のある非磁性のチェ−ン状長尺体であり、前記案内路1922に挿入された状態で前記均一静磁場の方向を向く多数の螺子等のシム搭載手段2031を所定の一定間隔で有している。
【００３７】
前記多数のシム搭載手段2031のうち、均一静磁場の微調整上、必要な部分のシム搭載手段に微調整用のシム2032が螺着等により搭載される。
【００３８】
前記第２のシム搭載長尺体２０３は、均一静磁場の微調整上必要な部分のシム搭載手段2031に微調整要のシム2032が搭載された状態で、前記第２のクライオスタット部４の周壁部401312と前記第２の傾斜磁場コイル２１２の周面との間の空間Ｇから前記第２のクライオスタット部４の円形凹み40131内に挿入され、前記シム取付部材１９２の案内路1922に案内されながら当該案内路1922内の所定位置まで挿入された状態で、外端の固定片2033が前記第２のクライオスタット部４の均一静磁場空間８側に、非磁性の螺子などにより螺着して固定される。
【００３９】
前記第２のシム搭載長尺体２０３は、チェ−ン状の長尺体であるので、前記第２のクライオスタット部４の周壁部401312と前記第２の傾斜磁場コイル２１２の周面との間の空間Ｇから前記第２のクライオスタット部４の円形凹み40131内に屈曲しながら容易に挿入され、前記シム取付部材１９２の案内路1922に屈曲しながら容易に案内されながら当該案内路1922内の所定位置まで挿入される。また、このようにして所定位置まで挿入された状態から、前記第２のシム搭載長尺体２０３を前記円形凹み40131外に引き出す場合も、前記第２のシム搭載長尺体２０３は屈曲しながら容易に引き出すことができる。
【００４０】
前記第１のクライオスタット部２の前記円形凹み20131には、前記シム取付部材１９１、前記第１のシム19111、及び前記第１のシム搭載長尺体２０２と所定の空隙ｇを介して第１の傾斜磁場コイル２１１が設けられている。この第１の傾斜磁場コイル２１１は、通常はＸ軸傾斜磁場コイルとＹ軸傾斜磁場コイルとＺ軸傾斜磁場コイルとを絶縁材料で一体化して構成され、又、前記底壁部201311に隣接する前記熱シ−ルド（図示省略）に前記Ｘ軸傾斜磁場コイルとＹ軸傾斜磁場コイルとＺ軸傾斜磁場コイルとによる磁界によって生じる渦電流を抑制するシ−ルドコイルを前記底壁部201311側に有している場合と当該シ−ルドコイルを有していない場合とがある。
【００４１】
尚、前記所定の空隙ｇとは、前記第１の傾斜磁場コイル２１１に所定の数百アンペアのパルス電流が供給された際に生じる当該第１の傾斜磁場コイル２１１の振動によって、当該第１の傾斜磁場コイル２１１が、前記第１のクライオスタット部２側の前記シム取付部材１９１、前記第１のシム19111、前記第１のシム搭載長尺体２０２等の各部材に接触しないように確保してある空隙である。
【００４２】
又、図示してないが、前記第１の傾斜磁場コイル２１１は、前記第１のクライオスタット部２、前記第２のクライオスタット部４、及び前記連結柱部５とは非接触の支持体により、前記第２のクライオスタット部４及び前記連結柱部５と同様に据付フロア２２上に取り付けられたり、振動吸収機構や振動吸収部材を介して前記連結柱部５に取り付けられたりしている。
【００４３】
前記第１の傾斜磁場コイル２１１の前記均一静磁場空間領域８側には、当該均一静磁場空間領域８に対応して第１の高周波コイル（ＲＦコイルとも言われる）２３１が配設されている。
【００４４】
前記第２のクライオスタット部４の前記円形凹み40131には、前記シム取付部材１９２、前記第３のシム（図示省略）、及び前記第２のシム搭載長尺体２０３と所定の空隙ｇを介して第２の傾斜磁場コイル２１２が設けられている。この第２の傾斜磁場コイル２１２は、通常はＸ軸傾斜磁場コイルとＹ軸傾斜磁場コイルとＺ軸傾斜磁場コイルとを絶縁材料で一体化して構成され、又、前記底壁部401311に隣接する前記熱シ−ルド（図示省略）に前記Ｘ軸傾斜磁場コイルとＹ軸傾斜磁場コイルとＺ軸傾斜磁場コイルとによる磁界によって生じる渦電流を抑制するシ−ルドコイルを前記底壁部401311側に有している場合もある。
【００４５】
尚、前記所定の空隙ｇとは、前記第２の傾斜磁場コイル２１２に所定の数百アンペアのパルス電流が供給された際に生じる当該第２の傾斜磁場コイル２１２の振動によって、当該第２の傾斜磁場コイル２１２が、前記第２のクライオスタット部４側の前記シム取付部材１９２、前記第２のシム19211（図３及び図４参照）、前記第２のシム搭載長尺体２０３等の各部材に接触しないように確保してある空隙である。
【００４６】
又、図示してないが、前記第２の傾斜磁場コイル２１２は、前記第１のクライオスタット部２、前記第２のクライオスタット部４、及び前記連結柱部５とは非接触の支持体により、前記第２のクライオスタット部４及び前記連結柱部５と同様に据付フロア２２上に取り付けられたり、振動吸収機構や振動吸収部材を介して前記連結柱部５に取り付けられたりしている。
【００４７】
前記第２の傾斜磁場コイル２１２の前記均一静磁場空間領域８側には、当該均一静磁場空間領域８に対応して第２の高周波コイル（ＲＦコイルとも言われる）２３２が配設されている。
【００４８】
次に前記各磁石や各コイルの機能、及び前記各磁石や各コイル、シムの相対的機能について説明する。
【００４９】
前記第１のクライオスタット部２側の前記第１の主磁石１及び前記第２のクライオスタット部４側の前記第２の主磁石３は、両者で、前記球状均一静磁場空間領域８及びその近傍に図示矢印で示すような前記第１のクライオスタット部２から前記第２のクライオスタット部４へ向かう均一静磁場を発生する。
【００５０】
前記第１のクライオスタット部２側の前記第１の調整磁石９、前記第２のクライオスタット部４側の前記第２の調整磁石１０、前記第１のクライオスタット部２側の前記シム取付部材１９１に取り付けられた第１のシム19111、前記第２のクライオスタット部４側の前記シム取付部材１９２に取り付けられた第２のシム19211、前記第１のクライオスタット部２側の前記第１のシム搭載長尺体２０２上の微調整用シム、及び前記第２のクライオスタット部４側の前記第２のシム搭載長尺体２０３上の微調整用シム2032は、それらにより、前記球状均一静磁場空間領域８における前記第１の主磁石１及び前記第２の主磁石３による均一静磁場の均一度を、前記許容誤差の数ｐｐｍまで上げるものである。
【００５１】
実施の形態２．
前述の図５〜図８の事例では、前記第２のシム搭載長尺体２０３を前記案内路1922に挿入した状態で前記螺子等のシム搭載手段2031が前記均一静磁場の方向を向くようにしてあるが、この螺子等のシム搭載手段2031は、図９に示すように、前記第２のシム搭載長尺体２０３を前記案内路1922に挿入した状態で前記均一静磁場の方向と直角を成す方向に向くようにしても、前述の図５〜図８の事例と同じ機能を呈す。
【００５２】
実施の形態３．
前述のこ発明の実施の形態１及びこ発明の実施の形態２においては、第２のシム搭載長尺体２０３として屈曲性のある非磁性のチェ−ン状長尺体を例示したが、図１０に示すように、第２のシム搭載長尺体２０３を、前記案内路1922に挿入した状態で前記均一静磁場の方向を向くシム搭載手段2031を有した屈曲性のある非磁性の板状体としても、前述のこ発明の実施の形態１及びこ発明の実施の形態２と同様な機能を呈す。
【００５３】
なお、前述の図３〜図１０においては、何れも第２のクライオスタット部４側について図示して説明し、第１のクライオスタット部２側については図示及び説明を割愛したが、第１のクライオスタット部２側についても、図３〜図１０において図示した構造と実質的に同じ構造、同じ機能としてある。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】この発明の実施の形態１を示す図で、対向形の磁気共鳴イメ−ジング装置全体の主要部の構成の一例を示す平面図である。
【図２】この発明の実施の形態１を示す図で、図１のII−II線における断面を矢印方向に見た断面図である。
【図３】この発明の実施の形態１の要部の詳細構造を示す図で、図１における第２のクライオスタット部側のシム取付部の平面図である。
【図４】この発明の実施の形態１を示す図で、図３のIV−IV線における断面を矢印方向に見た縦断側面図である。
【図５】この発明の実施の形態１を示す図で、図１における一点鎖線の円の部分を拡大して示す縦断側面図である。
【図６】この発明の実施の形態１を示す図で、シム搭載長尺体の側面図である。
【図７】この発明の実施の形態１を示す図で、シム搭載長尺体の平面図である。
【図８】この発明の実施の形態１を示す図で、シム搭載長尺体の正面図である。
【図９】この発明の実施の形態２を示す図で、シム搭載長尺体の平面図である。
【図１０】この発明の実施の形態３を示す図で、シム搭載長尺体の平面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１    第１の主磁石、
２    第１のクライオスタット部、
２０１    真空容器部、
2011    円筒部、
2012    端壁部、
2013    端壁部、
20131    円形凹み、
201311    底壁部、
201312    周壁部、
2014    端壁部、
2015    円形壁部、
2016    ド−ナツ状凹み、
2017    液冷媒、
20171    液冷媒の液面、
３    第２の主磁石、
４    第２のクライオスタット部、
４０１    真空容器部、
4011    円筒部、
4012    端壁部、
4013    端壁部、
40131    円形凹み、
401311    底壁部、
401312    周壁部、
4014    周壁部、
4015    円形壁部、
4016    ド−ナツ状凹み、
５    連結柱部、
５０１    支持骨部、
5011    前部支柱部、
5012    後部支柱部、
5013    端部支柱部、
5014    端部支柱部、
５０２    外壁部、
5021    前壁部、
5022    後壁部、
5023    端壁部、
5024    端壁部、
5025    上壁部、
5026    底壁部、
６    中心（中心線）、
７    空間、
７１    被者用ベッド、
８    均一静磁場空間領域、
９１    第１の調整磁石、
９２    第２の調整磁石、
１０    外域磁場打消磁石、
１１    外域磁場打消磁石、
１２    外域磁場打消磁石、
１３    外域磁場打消磁石、
１４    冷凍機、
１５    冷媒注入口部、
１６    連通路、
１７    連通路、
１８    連通管、
１９１    シム取付部材、
1911    シム取付穴
19111    第１のシム、
１９２    シム取付部材、
1921    シム取付穴
19211    第２のシム、
1922    案内路、
２０２    第１のシム搭載長尺体、
２０３    第２のシム搭載長尺体、
2031    シム搭載手段、
2032    微調整用のシム、
２１１    第１の傾斜磁場コイル、
２１２    第２の傾斜磁場コイル、
２１２ｘ    Ｘ軸傾斜磁場コイル、
２１２ｙ    Ｙ軸傾斜磁場コイル、
２１２ｚ    Ｚ軸傾斜磁場コイル、
２２    据付フロア、
２３１    第１の高周波コイル、
２３２    第２の高周波コイル
２４    シ−ルドコイル、
２５    熱シ−ルド、
２５１    熱シ−ルドの傾斜磁場コイルに対応する部分（熱シ−ルド円板部分）、
2521    側面対応スリット、
2521ａ    側面対応スリット、
2521ｂ    側面対応スリット、
2521ｃ    側面対応スリット、
25211    絶縁部材、
25212    熱シ−ルド部材、
2522    側面対応スリット、
2522ａ    側面対応スリット、
2522ｂ    側面対応スリット、
2522ｃ    側面対応スリット、
25221    絶縁部材、
25222    熱シ−ルド部材、
2523    側面対応スリット、
2523ａ    側面対応スリット、
2523ｂ    側面対応スリット、
2523ｃ    側面対応スリット、
25231    絶縁部材、
25232    熱シ−ルド部材、
2524    側面対応スリット、
2524ａ    側面対応スリット、
2524ｂ    側面対応スリット、
2524ｃ    側面対応スリット、
25241    絶縁部材、
25242    熱シ−ルド部材、
２５３    熱シ−ルド円筒部分、
2531a    周面対応スリット、
2531b    周面対応スリット、
2531c    周面対応スリット、
25311    絶縁部材、
25312    熱シ−ルド部材、
2532a    周面対応スリット、
2532b    周面対応スリット、
2532c    周面対応スリット、
25321    絶縁部材、
25322    熱シ−ルド部材、
2533a    周面対応スリット、
2533b    周面対応スリット、
2533c    周面対応スリット、
25331    絶縁部材、
25332    熱シ−ルド部材、
2534a    周面対応スリット、
2534b    周面対応スリット、
2534c    周面対応スリット、
25341    絶縁部材、
25342    熱シ−ルド部材、
253d    周面対応スリット、
25351    絶縁部材、
25352    熱シ−ルド部材。
【図１】
2005185787.tif 000003
【図２】
2005185787.tif 000004
【図３】
2005185787.tif 000005
【図４】
2005185787.tif 000006
【図５】
2005185787.tif 000007
【図６】
2005185787.tif 000008
【図７】
2005185787.tif 000009
【図８】
2005185787.tif 000010
【図９】
2005185787.tif 000011
【図１０】
2005185787.tif 000012