(57)【要約】  【課題】  大きい寸法の製品を処理する装置においては、作業域内の温度分布が作業中均一性を維持出来、かつガラス基板等の被処理物体へ対する熱照射効率が基板の前後端部及び左右端部及び中央部の全ての位置において同一性を維持出来ることが要求される。更に、このように大きい被処理物体を効率良く処理するためには、作業域内の真空度及び温度を迅速に所望の値に達するようにする必要がある。しかし、かかる要求を全て満たす大型の高温真空チャンバー装置はこれまで存在していない。  【解決手段】  ガラス基板等の被処理物体を熱処理するため内部に加熱手段を装備している高温チャンバー装置であって、当該チャンバー装置を輪切り状に分断した引き離し可能な複数のチャンバー要素を互いに接合して構成した。  【選択図】          図４
2005319371.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板等の被処理物体を熱処理するため内部に加熱手段を装備している高温チャンバー装置であって、輪切り状に分断した複数の分離可能なチャンバー要素を互いに接合して構成したことを特徴とする高温チャンバー装置。
【請求項２】
上記１に記載の高温チャンバー装置において、当該装置が真空手段を具備していることを特徴とする高温チャンバー装置。
【請求項３】
ガラス基板等の被処理物体を熱処理するため内部に加熱真空手段を装備しかつ輪切り状に分断した複数のチャンバー要素を前後方向に互いに接合して構成している複数の高温真空チャンバー装置を上下方向に積層配置し、かつ各高温真空チャンバーを構成している複数のチャンバー要素のそれぞれ対応する上下方向のチャンバー要素同士を互いに連結し、必要に応じて、上下方向の要素同士を一体として前後方向に分離出来ることを特徴とする積層した高温真空チャンバー装置。
【請求項４】
ガラス基板等の被処理物体６２を積み込むためのローダー６４と、該ローダー６４から供給される被処理物体６２を高温真空処理するため複数の積層高温真空チャンバー装置６６、６８と、処理済の物体を搬出するためのアンローダー７０と、被処理物体６２をローダー６４から積層高温真空チャンバー装置６６及び６８へ順次供給しかつ処理済の物体をそれぞれのチャンバー装置６６及び６８からアンローダー６０へ搬出するロボット機構７２と、を有して成る複合積層高温真空チャンバー装置６０であって、
前記積層高温真空チャンバー装置６６、６８のそれぞれが、内部に加熱真空手段を装備しかつ輪切り状に分断した複数のチャンバー要素を前後方向に互いに接合して構成している複数の高温真空チャンバー装置を上下方向に積層配置し、かつ各高温真空チャンバーを構成している複数のチャンバー要素のそれぞれ対応する上下方向のチャンバー要素同士を互いに連結し、必要に応じて、上下方向の要素同士を一体として前後方向に分離出来る積層した高温真空チャンバー装置から構成していることを特徴とする複合積層高温真空チャンバー装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高温チャンバー装置に関し、特に、内部にヒーターを装備した複数のチャンバー要素を連結して構成した真空チャンバー装置に関する。より詳細には、ヒーターを内装した複数のチャンバー要素を連結して構成した真空チャンバーの内部で高温真空処理作業を行なうのに最適な高温真空チャンバー装置に関する。
【０００２】
一般に、液晶カラーフィルターの製造作業、液晶TFT基板の作製作業、プラズマデイスプレー（PDP）材料のアニール焼成作業、PDP材料のアニール作業、有機エレキトリックルミネッセンス（EL）用基板の乾燥作業等において、高温真空チャンバー装置は必須の装置を構成しているものである。
【背景技術】
【０００３】
従来、上記作業等に使用される高温真空チャンバー装置は、例えば図９に概括的に示すように、当該高温真空チャンバー装置１の強度を維持するための強力な例えば耐熱性鋼材と該鋼材からの熱を遮断する断熱材とから成る枠体２を有しており、当該枠体２の内側に真空のチャンバー即ち作業域３を形成していた。そしてこの作業域３内に、複数の例えばガラス基板等の被処理物体４を所定の間隔で積層配置し、これら複数の被処理物体４を同時にアニール処理及び又は加熱処理していた。
【０００４】
更に、より好ましいアニール処理や加熱処理を行なうために、作業域３の内部温度条件を処理作業中一定の値に維持することが望まれることがある。そのために、この枠体２の周囲に加熱手段（図示なし）を配置し、当該作業域３を加熱することも知られている。そのための手段として、本件出願人は先に、作業域３の内部温度条件を一定に維持するための手段として、作業域３を外部から加熱すための手段として枠体２の外周囲に分割ヒーターを配置した装置（特許文献１）や、作業域３を内部から加熱するための手段として枠体２の内部に装着する特殊なヒーター手段（特許文献２）等について開示した。
【特許文献１】特願２００３−３９３９７４号
【特許文献２】特願２００３−３０１０７０号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
然しながら、昨今の技術の革新的進歩は、使用するガラス基板の寸法を所謂第６世代から第７世代に移行させている。このため、例えば、これまでの１５００（ｍｍ）×１８００（ｍｍ）の寸法のガラス基板を処理出来るだけでは十分でなく、これより更に大きい１８００（ｍｍ）×２３００（ｍｍ）のガラス基板の処理が可能なチャンバー装置の発現が要求されてきている。
【０００６】
このような大きい寸法の製品を処理する装置においては、作業域内の温度分布が作業中均一性を維持出来、かつガラス基板等の被処理物体へ対する熱照射効率が基板の前後端部及び左右端部及び中央部の全ての位置において同一性を維持出来ることが要求される。更に、このように大きい被処理物体４を効率良く処理するためには、作業域内の真空度及び温度を迅速に所望の値に達するようにする必要がある。
【０００７】
然るに、このような要求を全て満たす大型の高温真空チャンバー装置はこれまで存在していない。それは、このように大きい被処理物体を複数枚積層して処理しようとすると、中間層の被処理物体にかなり大きな熱勾配が発生して的確な処理が出来ないこと、各被処理物体の周辺部と中央部との間に同様に熱勾配が発生し周辺部と中央部とで異なる特性が形成され品質が一定しないこと、チャンバー内へ複数の被処理物体を出し入れするときに多くの時間が必要となりチャンバー内の温度効率が極端に低下し、更には適正な真空状態を得るための時間が長大化すること等の理由による。そこで本発明が解決しようとする課題は、第７世代のガラス基板のような大きい寸法の被処理物体、更にはこれ以降に発生するであろう第７世代以降の大きな寸法の被処理物体を自由にかつ確実に高温真空処理作業が出来る高精度な高温真空チャンバー装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明においては、ガラス基板等の被処理物体を熱処理するため内部に加熱手段を装備している高温チャンバー装置であって、輪切り状に分断した複数のチャンバー要素を互いに接合して構成した高温チャンバー装置を開示する。更には、この高温チャンバー装置が真空手段を具備していることを開示する。また、ガラス基板等の被処理物体を熱処理するため内部に加熱真空手段を装備しかつ輪切り状に分断した複数のチャンバー要素を前後方向に互いに接合して構成している複数の高温真空チャンバー装置を上下方向に積層配置し、かつ各高温真空チャンバーを構成している複数のチャンバー要素のそれぞれ対応する上下方向のチャンバー要素同士を互いに連結し、必要に応じて、上下方向の要素同士を一体として前後方向に分離出来る積層した高温真空チャンバー装置を開示する。更にまた、ガラス基板等の被処理物体を積み込むためのローダーと、該ローダーから供給される被処理物体を高温真空処理するため複数の積層高温真空チャンバー装置と、処理済の物体を搬出するためのアンローダーと、被処理物体をローダーから各積層高温真空チャンバー装置へ順次供給しかつ処理済の物体をそれぞれのチャンバー装置からアンローダーへ搬出するロボット機構と、これらの各装置及び機構を制御する制御盤パネルと、を有して成る複合積層高温真空チャンバー装置であって、前記積層高温真空チャンバー装置のそれぞれが、内部に加熱真空手段を装備しかつ輪切り状に分断した複数のチャンバー要素を前後方向に互いに接合して構成している複数の高温真空チャンバー装置を上下方向に積層配置し、かつ各高温真空チャンバーを構成している複数のチャンバー要素のそれぞれ対応する上下方向のチャンバー要素同士を互いに連結し、必要に応じて、上下方向の要素同士を一体として前後方向に分離出来る積層した高温真空チャンバー装置から構成する複合積層高温真空チャンバー装置を開示する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明においては、被処理物体を処理するための高温真空チャンバー装置の容積が小さいので所望の温度及び真空雰囲気が迅速に得られ、また常温常圧への復帰時間も短い。そのため、使用する真空ポンプ容量が小さくてよく、また１サイクルの処理時間が短くなるのである。更に、装置を構成しているチャンバー要素を前後方向に互いに引き離すことが出来るので装置内部の補修清掃等の保全を極めて容易に行なうことが出来る。また、本発明は、第５世代又は第６世代と呼ばれているガラス基板等の被処理物体の熱処理及び又は真空処理は勿論、チャンバー要素を増やすことにより第７世代又は第８世代の大型の被処理物を容易かつ迅速に処理出来るようになる。その上、各チャンバー要素及びチャンバー装置が小さくまたそこへの接近が容易なため、各チャンバー要素及びチャンバー装置の搬送及び移動が容易であり、また必要に応じて外部からの溶接作業等が容易になしうるのである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の技術思想は、通常、高温真空チャンバー装置において最も有用に発揮出来るものであるが、これ以外に高温高圧チャンバー装置においても同様にその効果を享受することが出来るものである。しかし、以下においては、特に高温真空チャンバー装置に関する具体例について述べる。
【実施例１】
【００１１】
図１は、本発明にかかる高温真空チャンバー装置１０の実施例を示している縦方向断面図である。図において、高温真空チャンバー装置１０は、該チャンバー装置の強度を維持するため強力な例えば耐熱性鋼材及び該鋼材からの熱を遮断する断熱材等から成る公知の枠体１２を有しており、当該枠体１２の内側に高温真空のチャンバー即ち作業域１４を形成している。この装置１０においては、単一の例えばガラス基板等の被処理物体１６が好ましくは図示していないロボット機構等により枚葉形式にてこの作業域１４の前方に設けてある扉１８を開放して、作業域１４内に設置された支持台２０の所定位置まで供給される。
【００１２】
この作業域１４には、更に熱供給源として複数のヒーター本体２２とこれらのヒーター本体２２の上方に配置されヒーター本体２２からの熱を下方に集中するための傘即ち反射板２４とより成る加熱手段が配置されている。これらのヒーター本体２２及び反射板２４は上記特許文献２において開示したもの等が適切に使用され得るであろう。図において作業域１４の奥行き寸法Lは、第７世代のガラス基板の長さ寸法を自由に収容出来るだけの寸法を有している。
【００１３】
図２は図１の矢線２−２における断面図であり、本発明の高温真空チャンバー装置１０の横方向断面を示す図である。ここで、当該作業域１４の幅方向寸法Wは、第７世代のガラス基板の幅寸法を自由に収容出来るだけの寸法を有している。
【００１４】
図１及び図２から容易に分かるように、本発明の高温真空チャンバー装置１０の作業域１４は第７世代のガラス基板等の被処理物体を自由に収容し処理することが出来る大きさを有する略矩形断面を有しているのである。勿論、より大きいな（例えば第７世代又は第８世代の）被処理物体を処理するときには、上記寸法W、Lをそれらの物体を収容出来るような大きな寸法にする必要があり、また、もしそれより小さい（例えば第５世代又は第６世代の）被処理物体を処理するときには上記寸法W、Lをそれなりに小さくすることにより、一層効果的な作業が達成出来ることは当然である。このことは以下の実施例においても同様である。なお、当業者に明らかなように、図においては省略してあるが、当該チャンバー装置１０には真空装置が接続されており、必要に応じて作業域１４内部を所定の値まで自由に真空状態にすることが出来るのである。
【００１５】
こうして、本発明チャンバー装置１０において、作業域１４内部へ被処理物体１６が供給された後、扉１８を密閉し、ヒーター本体２２及び図示していない真空装置を起動することにより、作業域１４へ供給された被処理物体１６に対して、所望の処理例えばアニール処理及び又は加熱処理が施される。即ち本発明の高温真空チャンバー装置１０においては、一サイクル工程において枚葉方式により供給される単一の被処理物体１６のみを処理するのである。これにより、各被処理物体の全面に渡り実質的に均一な特性を提供出来る所望の処理を施すことが可能となる。この点で、複数の積層したガラス基板が一サイクル工程において同時に複数処理される公知の同種装置とは異なっている。更に、本発明のチャンバー装置１０には、必要に応じて、符号２６にて示すような複数の脚部を形成することが出来る。図においてはこれらの脚部は枠体１２の上部及び下部のそれぞれ対応する位置に設けてある。
【００１６】
上述のように本発明チャンバー装置１０においては、枚葉式のワークを一度に一枚だけ収容するものであるため、該チャンバー装置１０の作業域１４の高さ寸法Hは例えば約２５０ｍｍ程度あれば十分である。このため、本発明の高温真空チャンバー装置１０の作業域１４は、上記L及びW寸法を、例えば、それぞれ２５００ｍｍ、２５００ｍｍと仮定すると、全体で約１．５６立方メートル程度の容積を有することになる。これを公知の複数枚を積層して処理する積層式チャンバー装置の作業域と比較してみると、積層枚数を多くの装置において用いられているように４０枚と仮定した場合、その積層高さが積層空間を含めて約１８００ｍｍとなるので、作業域全体の容積は、２５００×２５００×１８００（ｍｍ）から約１１．２５立方メートルとなる。即ち、本発明装置の作業域容積は従来の積層式作業域容積の約１０分の１程度の容積を有することになる。このことは、使用する真空量が約１０分の１で済み、また熱効率が約１０倍になることを意味している。このため、本発明チャンバー装置ではこれまでの約１０分の１の時間で所定の真空度を得ることが出来ると同時にその真空度から常圧に戻す時間もこれまでの約１０分の１で済むことを意味しており、よって１枚の被処理物体の作業時間が極めて短時間で完了出来、しかもその処理品質が極めて優れているのである。
【００１７】
本発明の高温真空チャンバー装置１０は、上述のように、例えば奥行きが２５００ｍｍで、幅が２５００ｍｍで、高さが２５０ｍｍを有する作業域１４を有する。このため、例えば作業域内のヒーター本体２２が損傷したような場合において、その補修を行なうに際して、上下方向寸法が僅か２５０ｍｍの空間内へ入り込んで作業員が作業することは非常に困難である。更に、奥行き寸法（L）が２５００ｍｍもあるので、前面と後面との扉を開放して両面から手を差し伸べても、部位によっては作業員の手がその部位まで到達することが出来ず、補修作業をすることは現実的に不可能である。
【００１８】
そのため、この高温真空チャンバー装置１０では、図３に示すように、寸法Lで示しているその奥行き方向即ち長さ方向の軸線に交差する方向に輪切り状に分断した複数のチャンバー要素１０Ａ、１０B、１０Cに分離出来る構造となっている。図４は各チャンバー要素１０Ａ、１０B、１０Cを互いに分離し引き離した状態を示している。図示の例においては、高温真空チャンバー装置１０を構成している各チャンバー要素は、それぞれ長さａ、ｂ、ｃを有し、かつ３個のチャンバー要素１０Ａ、１０B、１０Cから構成されているように示しているが、これに限定されるものではなく、作業員が各要素の内部の全ての部位に確実に到達することが出来る程度の寸法になるように、必要に応じて、２個又は４個更にはそれ以上に分断することが出来る。
【００１９】
チャンバー装置１０を複数のチャンバー要素に分断するのは、チャンバー装置１０内部の高さが約２５０ｍｍと低く、そのため作業員がその内部へ入って補修作業や清掃作業等をすることが出来ないので、それを補償するためである。よって、各要素の長さａ、ｂ、ｃは、各要素の両側から手を差し伸べることにより要素全域に渡り所望の作業が容易に出来るように、一般には例えば約１０００ｍｍ程度又はそれ以下になるようにすることが望ましい。勿論、複数の要素が全て均一の長さを有する必要はなく、例えば、扉が妨げとなって要素内部へ接近しにくい要素（例えば図４の要素１０A）や、片側が密封壁になっており要素の一端側に接近しにくい要素（例えば図４の要素１０C）がある場合においては、その長さ（ａ又はｃ）を、両側から容易に内部へ接近できる要素（例えば図４の要素１０B）の長さ（ｂ）よりも短くすることも可能である。
【００２０】
更に各チャンバー要素１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃの接合面には好ましくは拡径のフランジ２８が形成されている。更にこれらのフランジ２８には、各要素を互いに離脱不能に接続するためのボルトナット等の接続手段（図示なし）が設けてある。この接続手段は好ましくは、例えば９０度の間隔を置いて４個ほど配置されている。更にこれらのフランジ２８の少なくとも一方には、Oリング等の封止手段３０が、各要素を引き離したときにも当該接合面から離脱しないように配置されていることが望ましい。高温真空チャンバー装置１０を形成するときには、各要素１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃを図３に示すように互いに密着し各フランジに設けてある接続手段を作動して各要素を一体化するのである。こうすることにより各チャンバー要素は封止手段３０を介して互いに密封接合して適切な高温真空チャンバーを提供するのである。一方、補修清掃その他の目的で、これらの各要素１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃを、図４に示すように、分離したいときには、各対向する要素のフランジに設けてある接続手段を解除し、各要素を互いに引き離せば、容易に所望の作業を行なうことが出来るのである。
【００２１】
勿論、図４に示す各チャンバー要素１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃの内部には、これらの各要素を図３に示すように互いに密接したときに、図１に示すようにそれぞれ支持台２０やヒーター本体２２更には反射板２４を形成するような部材がそれぞれ配置されており、更には前述のようにチャンバー装置１０には図示していないが真空装置が接続されていることは当業者において容易に理解出来よう。なお、各チャンバー要素１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃにはそれらの各要素を互いに接離自在に移動する際に各要素が引き離しのための滑動運動を円滑に行ない得るように、各要素の少なくとも下面側にはそれぞれ同一の高さを有している脚部２６が設けてある。これらの脚部２６は各要素を分離したときにそれぞれの要素が独立して直立状態を維持出来るようにそれぞれの要素の重心部に設けてあり更にそれらの要素の転倒を防止するために、幅広の安定部材３２を一体的に設けていることが望ましい。勿論、各チャンバー要素の内部を実際に補修清掃等する場合には、別途、各要素の片側及び又は両側更には下面側を支持するための支持補助手段を設けることも出来る。
【実施例２】
【００２２】
図５及び図６は、別の実施例を示しているそれぞれ図３及び図４と同様の図である。本発明は枚葉式にてチャンバー即ち作業域内へ供給されるガラス基板等の被処理物体を一枚づつ処理する装置であって、同一の作業域内へ一度に複数の被処理物体を積層して所望の処理を行なう装置ではない。そのため、性能的には非常に優れた処理作業が可能であるが作業効率的には優れているとは言えない。そこで、このような作業効率を上昇するための手段として開発したのがこの実施例に示す積層高温真空チャンバー装置４０である。この装置４０が図３及び図４において開示した実施例と異なる点は、図３及び図４に示す高温真空チャンバー装置１０と同様の機能及び構成を有する高温真空チャンバー装置４２、４４、４６を数段に積み重ねて積層高温真空チャンバー装置４０を構成している点である。図５及び図６に置いては３段に積み重ねているが、更に多くのチャンバーを積み重ねることも出来ることは理解出来るであろう。
【００２３】
この実施例に係る積層高温真空チャンバー装置４０を形成している各高温真空チャンバー装置４２、４４、４６は実質的に図３及び図４に示す高温真空チャンバー装置１０とほぼ同一の目的構成効果を有している。即ち、第１の高温真空チャンバー装置４２は例えば複数のチャンバー要素４２Ａ、４２Ｂ、４２Ｃから構成されており、第２の高温真空チャンバー装置４４も同数の複数のチャンバー要素４４Ａ、４４Ｂ、４４Ｃから構成されている。また、第３の高温真空チャンバー装置４６も同数の複数の要素４６Ａ、４６Ｂ、４６Ｃから構成されている。更に、これら各チャンバー装置４２、４４、４６の第１のチャンバー要素同士（４２Ａ、４４Ａ、４６Ａ）、第２のチャンバー要素同士（４２B、４４B、４６B）及び第３のチャンバー要素同士（４２C、４４C、４６C）は、図３及び図４の実施例において述べたと同様の脚部４８を介して互いに上下方向において連結されている。
【００２４】
ここにおいて、各高温真空チャンバー装置４２、４４、４６を構成している各チャンバー要素４２Ａ〜C、４４Ａ〜C、４６Ａ〜Cの構成は、何れも、図３及び図４において記載した各チャンバー要素１０Ａ〜Cの構成と実質的に同一であるので、記載の重複を防止するため詳述しない。なお、要素の数は、必要に応じて、多くしたり少なくしたりするが出来ることは前述した実施例の場合と同様である。
【００２５】
しかるに、これら各チャンバー装置の第１のチャンバー要素群（４２Ａ、４４Ａ、４６Ａ）、第２のチャンバー要素群（４２B、４４B、４６B）及び第３のチャンバー要素群（４２C、４４C、４６C）は、互いに連動して分離可能となっている。この分離作業を容易にするため、最下部の脚部４８に設けられている安定部材４９の下面には、キャスター装置等の滑動装置５０が装置されていることが望ましい。これは、各チャンバー要素同士を上下方向に連結しているので移動すべき個々のチャンバー要素同士の重量が大きくなっており、その移動を出来るだけ容易に行なうことが出来るようにするためである。
【００２６】
図５及び図６に記載の積層高温真空チャンバー装置４０を使用する場合には、望ましくは図示していないロボット機構により、ガラス基板等の被処理物体を、順次、積層した高温真空チャンバー装置４２、４４、４６の作業域内へ供給し、その後、順次所望の加熱処理及び又は真空処理を施す。そして処理作業が完了後、順次処理済み物体を作業域から取り出す。このような連続した手順により作業効率の上昇を図るものである。
【００２７】
高温真空チャンバー装置４２、４４、４６を構成しているいずれかの要素において、補修清掃その他の必要性が発生した場合には、上述した実施例と同様にフランジ部分に設けた接続手段を解除して各チャンバー要素群を図６に示すように分離する。その後、所定の要素の補修等を行なう。補修等が終了したなら、再度各要素群を衝接して接続手段を係止するのである。
【実施例３】
【００２８】
図７及び図８は更に別の実施例を示す。この実施例は図５及び図６の実施例を更に改良し一層作業効率を上げることが出来る高温真空処理装置を提供するものである。図５及び図６においては、例えば３個の高温真空チャンバー装置４２、４４、４６により構成されている単一の積層高温真空チャンバー装置４０を開示しているが、この実施例ではそれぞれ複数個（図示の例では４個）の高温真空チャンバーを積層して構成される積層高温真空チャンバーを複数個（図示の例では２個）備えた複合積層高温真空チャンバー装置６０について開示している。
【００２９】
この複合積層高温真空チャンバー装置６０は、ガラス基板等の被処理物体６２を積み込むためのローダー６４と、該ローダー６４から供給される被処理物体６２を高温真空処理するため複数の積層高温真空チャンバー装置６６、６８と、処理済の物体を搬出するためのアンローダー７０と、被処理物体６２をローダー６４から積層高温真空チャンバー装置６６及び６８へ順次供給しかつ処理済の物体をそれぞれのチャンバー装置６６及び６８からアンローダー６０へ搬出するロボット機構７２と、これらの各装置及び機構を制御する制御盤パネル７４と、を有しており、ロボット機構７２を挟んでローダー６４及びアンローダー７０と、２つの積層高温真空チャンバー装置６６及び６８とが対置している。
【００３０】
この実施例においては、積層高温真空チャンバー装置は互いに対向して配置されている２つの装置６６、６８を具備しているが、２個に限定されるものではないことは当業者に明らかであろう。各積層高温真空チャンバー装置６６、６８は、図示の例ではそれぞれ４個の高温真空チャンバー装置６６Ａ、６６B、６６C、６６D及び６８Ａ、６８B、６８C、６８Dを有しており、更にこれらの各高温真空チャンバー装置は、（図８においては示していないが）、それぞれ図５及び図６に示すように輪切り状に分断した複数の分離可能なチャンバー要素から構成されているのである。ここでこれらのチャンバー要素、高温真空チャンバー装置は図５及び図６において開示したものと実質的に同様の目的構成効果を有している。ロボット機構７２は一軸周りに回転可能であり更に一軸上において垂直方向に移動可能であり、処理されるべき被処理物体６２を、各積層チャンバー装置６６、６８を構成している各チャンバー装置６６Ａ、６６B、６６C、６６D及び６８Ａ、６８B、６８C、６８Dへ供給し所定の処理をした後、その処理済の物体をそこから搬出してアンローダー７０へ移送する。
【００３１】
この実施例では、図８に示すように、積層高温真空チャンバー装置６６、６８は４段に積層した高温真空チャンバー装置を具備している。しかしこれに限定するものではなく、３段でも４段以上でも良い。また各チャンバー装置には図示していない弁手段を介して真空装置７６が接続されている（図８においては図面を簡潔にするため片側の積層チャンバー装置にのみ真空装置７６が接続されている状態を示している）。なお、図において符号７８、８０は積層高温真空チャンバー装置６６、６８を包囲しているカバー部材である。しかしながら、これらのカバー部材は必ずしも必要ではない。なお、図８においては、図を明瞭にするため、（図５に示しているような）各高温真空チャンバー装置６６Ａ、６６B、６６C、６６D及び６８Ａ、６８B、６８C、６８Dを上下方向において連結している脚部は省略している。
【００３２】
本発明の複合積層高温真空チャンバー装置６０において、もし積層高温真空チャンバー装置６６、６８を構成している高温真空チャンバー装置中に補修又は清掃等の作業を施すべきものが発見された場合には、所定のカバー部材７８又は８０を取り外し、次いで各高温真空チャンバー装置を構成している各要素の接続手段を開放し、図６に示すと同様にして、各高温真空チャンバー装置を各要素毎に分断し、迅速に所望の部分の補修又は清掃等の作業を完了することが出来る。作業完了後には逆の手順により容易に作動状態に復帰させることが出来る。
【産業上の利用可能性】
【００３３】
本発明にかかる装置は、既存の寸法を有する被処理物体は勿論、それよりもかなり大型のガラス基板等の被処理物体を迅速に高温真空処理することが出来る。また、枚葉方式により被処理物体を処理するためその高温真空処理作業が極めて高品質であり、かつ作業中に被処理物体の重なり等が発生しないので、全面に渡り均一な仕上げ作業が可能である。また装置自体の維持保全も極めて容易にかつ迅速に行なうことが出来る。このため、第７世代の被処理物体の処理に不可欠の高温処理装置である。なお、本発明は高温真空チャンバー装置として説明してきたが、高温圧力チャンバーとして使用することも出来、そのときには各チャンバー要素を強力に接続出来る接続装置を使用すればよい。また、もし第７世代のガラス基板よりも大きい第８世代のガラス基板を処理する場合には例えば図１及び図２においてそれぞれ奥行き寸法L及び幅寸法Wをそれに見合うような寸法に構成し、それに応じてチャンバー要素の数を増やせばよい。従って本発明装置は、被処理物体の寸法に関係なく、大部分の被処理物体の処理に適切に対応することが出来るのである。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】第１の実施例にかかる高温真空チャンバー装置の概略を示す縦断面図。
【図２】図１の矢線２―２に沿って見た本発明装置の横断面図。
【図３】図１に示す高温真空チャンバー装置の側面図。
【図４】図３に示す高温真空チャンバー装置を構成している各要素を互いに引き離した状態を示している図。
【図５】第２の実施例にかかる積層高温真空チャンバー装置の側面図。
【図６】図５に示す積層高温真空チャンバー装置を構成している各高温真空チャンバー装置の上下方向に互いに連結された各要素を互いに引き離した状態を示している図。
【図７】第３の実施例にかかる複合積層高温真空チャンバー装置の全体平面図。
【図８】図７の矢線８−８に沿って見た本発明の断面図。
【図９】公知の高温真空チャンバー装置の概略図。
【符号の説明】
【００３５】
１０      高温真空チャンバー装置
１０Ａ、１０B、１０C      チャンバー要素
１２      枠体
１４      作業域（チャンバー）
１６      被処理物体
１８      扉
２０      支持台
２２      ヒーター本体
２４      反射板
２６      脚部
２８      フランジ
３０      封止手段
３２      安定部材
４０      積層高温真空チャンバー装置
４２      高温真空チャンバー装置
４２Ａ、４２B、４２C      チャンバー要素
４４      高温真空チャンバー装置
４４Ａ、４４B、４４C      チャンバー要素
４６      高温真空チャンバー装置
４６Ａ、４６B、４６C      チャンバー要素
４８      脚部
４９      安定部材
５０      滑動装置
６０      複合積層高温真空チャンバー装置
６２      被処理物体
６４      ローダー
６６      積層高温真空チャンバー装置
６６Ａ、６６B、６６C、６６D      高温真空チャンバー
６８      積層高温真空チャンバー装置
６８Ａ、６８B、６８C、６８D      高温真空チャンバー
７０      アンローダー
７２      ロボット機構
７４      制御盤パネル
７６      真空装置
７８      カバー部材
８０      カバー部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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