(57)【要約】【課題】  長尺かつ分散特性が一定で、低損失の光ファイバの製造方法を提供すること。【解決手段】  ガラスロッド１４に、超音波ドリル９で内径３ｍｍの孔１３を所定の間隔で１８個開けた。次に、そのガラスロッド１４の外周に孔径３ｍｍ、外径３．５ｍｍのキャピラリ１６を配置した。ＰＣＦでは、導波特性をもたせるために中心部に孔のない欠陥部１５を配置している。孔１３の内面をフッ酸にて洗浄後乾燥させた後、この孔１３の開いたガラスロッド１４を電気炉で加熱し、１２５μｍ径の光ファイバに線引きした。光ファイバ線引き後、その光ファイバを切断し、電子顕微鏡で孔径ｄ及び孔間隔Ａを測定した。元の孔の開いたガラスロッドにおける孔の形状と相似の孔開き光ファイバが実現できた。また、径の変化の少ない正確な孔を数個〜数百個、孔間隔を等しく加工できる。【選択図】  図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光の導波されるコア部と、該コア部の周囲に配置され、光の波長と同程度の直径の複数個の空隙からなる光ファイバにおいて、該光ファイバの元になる前記空隙を超音波ドリルで数個〜数百個程度開けたガラスロッドの外周にキャピラリを配置した後、前記光ファイバに線引きすることを特徴とする光ファイバの製造方法。
【請求項２】
前記孔を開けたガラスロッドを加熱延伸後、該ガラスロッドの外側にガラスパイプを被嵌した後、前記光ファイバに線引きすることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバの製造方法。
【請求項３】
前記孔を開けたガラスの外側に、クラッド部となるガラス微粒子を形成し、その後に加熱して透明ガラス化することを特徴とする請求項１に記載の光ファイバの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバの製造方法に関し、より詳細には、光通信ネットワーク及び光信号処理に用いられる伝送媒体である光ファイバの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１は、従来の光ファイバの一般的な構造を示す図で、図中符号１は光ファイバのコア部、２は光ファイバのクラッド部を示している。図１に示すように、従来の光ファイバは、屈折率の高いコア部１の外側に、屈折率の低いクラッド部２を配置した構造のものであった。
【０００３】
図２は、従来の光ファイバのうち、ＰＣＦ(Photonic Crystal Fibers)を示す図で、図中符号３は孔、４は純石英ガラス、５は欠陥部を示している。図２に示すように、単一のガラス、例えば、純石英ガラス４に、周期的に孔３を開けた構造となっている。隣接する孔３の間隔は全て等しくなっている。ただし、この光ファイバの中心部には欠陥部５、すなわち、孔３の無い部分が配置されている。この欠陥部５がコアとして動作して光を閉じ込めるように機能する（例えば、非特許文献１参照）。
【０００４】
図３は、図２に示した従来のＰＣＦの製造方法を示す図で、図中符号６はガラスロッド、７は内側ガラスパイプ、８は外側ガラスパイプを示している。中心部には孔３の開いていない六角形のガラスロッド６を設け、その外側には孔３の開いた六角形の内側ガラスパイプ７を設け、これらをさらに外側ガラスパイプ８の中に挿入した後、約２００℃の高温で光ファイバに線引きしていた。
【０００５】
【非特許文献１】J.C.Knight, T.A.Birks, P.St.J.Russell, and D.M.Atkin, “All-silica single-mode optical fiber with photonic crystal cladding,"Opt.Lett.21, 1547-1549(1996)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述した従来の製造方法では、以下のような問題点がある。  
１）光ファイバ化する時、六角形のガラスロッドが熱により変形するため、孔の間隔や大きさが変形し、設計どおりの孔にならず、歩留まりよく光ファイバを作製することが出来なかった。  
２）ガラスパイプを束ねて加熱延伸するとき、ガラスパイプの孔径や位置などが初期値から大きく変形するため、任意の位置に、任意の大きさの孔を開けることが出来なかった。  
３）六角柱のガラスパイプを作製する際に、ガラスパイプの側面を研削加工する必要があるが、加工時の傷の発生及びガラスパイプを束ねた時の界面の不整合がどうしても避けられない。そのため、束ねたガラスパイプを一体化する時、傷が消滅する前に気泡としてガラスの内部に取り込まれてしまう。これはＰＣＦの不要な孔を付加することになるためＰＣＦ作製上大きな問題となっていた。  
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、長尺かつ分散特性が一定で、低損失の光ファイバの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、このような目的を達成するためになされたもので、請求項１に記載の発明は、光の導波されるコア部と、該コア部の周囲に配置され、光の波長と同程度の直径の複数個の空隙からなる光ファイバにおいて、該光ファイバの元になる前記空隙を超音波ドリルで数個〜数百個程度開けたガラスロッドの外周にキャピラリを配置した後、前記光ファイバに線引きすることを特徴とする。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記孔を開けたガラスロッドを加熱延伸後、該ガラスロッドの外側にガラスパイプを被嵌した後、前記光ファイバに線引きすることを特徴とする。
【０００９】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記孔を開けたガラスの外側に、クラッド部となるガラス微粒子を形成し、その後に加熱して透明ガラス化することを特徴とする。
【００１０】
このように、本発明は、光ファイバの出発になるガラスロッドに、超音波ドリルで孔を開ける。例えば、超音波ドリルでガラスに内径３ｍｍの孔を開ける場合には、内径３±０．０１ｍｍの精度で開けることができる。孔の数は１０個前後である。その後、外周部にキャピラリを配置して高温で一体化し、その後に光ファイバ化する。従って、孔開けの数が従来の数十から数百に比べて、１０分の１程度になるため、孔開け加工時間が少なくなり、コスト削減に役立つ。
【００１１】
また、孔開きロッドを加熱炉で延伸加工する場合、電気炉の温度分布を均一に保てば孔の形状は線引きした後もほとんど変化しない。従って、光ファイバ化後の孔形状を設計どおりに維持できるため、設計どおりの特性の光ファイバを歩留まりよく作成できる。  
本発明の利用分野としては、分散を補償し、非線形効果を利用したデバイス、偏波を保持する光ファイバなどがある。
【発明の効果】
【００１２】
以上説明したように、本発明によれば、光の導波されるコア部と、このコア部の周囲に配置され、光の波長と同程度の直径の複数個の空隙からなる光ファイバにおいて、光ファイバの元になる前記空隙を超音波ドリルで数個〜数百個程度開けたガラスロッドの外周にキャピラリを配置した後、光ファイバに線引きするので、径の変化の少ない（μｍ程度）正確な孔を数個〜数百個、孔間隔を等しく加工できる。この後、通常の線引きを行なうことにより、孔の大きさ間隔などは、初期の孔形状と相似変形するため、設計どおりの光ファイバを容易に作製することが出来る。
【００１３】
また、孔と孔の間には、ガラスの接続部が存在しないため、構造不整による損失が発生しない。このため、設計どおりに長尺の低損失の光ファイバを歩留まりよく製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。  
ＰＣＦの分散特性やＭＦＤ特性などは、孔径ｄ及び孔間隔Ａによって決まる。ＰＣＦを歩留まりよく製造するためには、孔径ｄ及び孔間隔Ａなどの再現性が重要である。また、低損失のＰＣＦを実現するためには、１）出発となるガラスの損失（レーリー散乱損失、赤外吸収損失など）が低いこと、２）孔の形状を光ファイバ長手方向に維持すること、３）孔の面粗さを少なくすること、４）孔内面および内部の不純物を低減することなどが必要になる。
【００１５】
図４は、ｄ／Ａ＝０．５とした場合の分散の波長依存性を示す図である。  
孔間隔Ａが１．６μｍの場合の零分散波長は１．２μｍ、Ａが１．９μｍの場合には零分散波長は１．６８μｍとなる。孔間隔Ａが０．３μｍ増加すると、零分散波長は０．４８μｍ増加する。
【００１６】
図５は、Ａ＝１．６μｍとした場合の分散の波長依存性を示す図である。  
例えば、孔径ｄが０．８μｍから０．９μｍに増加すると零分散波長は１．２μｍから１．４μｍに変化する。すなわち、孔径ｄが１１％変化すると零分散波長は２００ｎｍ変化する。従って、零分散波長の変化を１０ｎｍ程度におさえるためには０．５％以下の孔径変動にしなければならない。
【実施例１】
【００１７】
図６（ａ），（ｂ）は、本発明に係る光ファイバの製造方法の実施例１を示す図で、図（ｂ）は図（ａ）の断面図である。図中符号９は超音波ドリル、１３は孔、１４はガラスロッド、１５は欠陥部、１６はキャピラリを示している。外径４０ｍｍ、長さ２００ｍｍのガラスロッド１４に、超音波ドリル９で内径３ｍｍの孔１３を５ｍｍ間隔で１８個開けた。次に、そのガラスロッド１４の外周に孔径３ｍｍ、外径３．５ｍｍのキャピラリ１６を配置した。
【００１８】
このキャピラリ１６を併用することにより、孔開けガラスロッド１４における孔数は１８本となる。従来は、例えば、光をコア部に有効に閉じ込めるために、６０本以上の孔を開ける必要があった。このため、本発明では、この孔開けに要する時間が３分の１以下に低減でき、従来の孔開けにかかる時間を大幅に短縮することができた。また、光はコア部１５を伝搬するが、その外側のキャピラリ１６を配置した部分は、光は中心部に比べて十分減衰しているため、キャピラリ１６の精度や汚染などによる過剰損失の発生することはなかった。
【００１９】
ＰＣＦでは、導波特性をもたせるために中心部に孔のない欠陥部１５を配置している。孔１３を開けた後のガラスロッド１４の一部を切断して、孔１３の形状を測定した。孔径ｄは３ｍｍ±１０μｍ以内であった。また、孔間隔Ａは５ｍｍ±１０μｍ以内であった。
【００２０】
次に、孔１３の内面をフッ酸にて洗浄後乾燥させた後、この孔１３の開いたガラスロッド１４を電気炉で加熱し、１２５μｍ径の光ファイバに線引きした。作製した光ファイバ長は１０ｋｍであった。光ファイバ線引き後、その光ファイバを切断し、電子顕微鏡で孔径ｄ及び孔間隔Ａを測定した。光ファイバ線引き後の孔径ｄは９．４μｍであり、孔間隔Ａは１５．６μｍであり、元の孔の開いたガラスロッドにおける孔の形状と相似の孔開き光ファイバが実現でき、光ファイバの全長にわたって形状の変化はなかった。
【００２１】
また、ＰＣＦでは、中心部の孔で光を閉じ込めるため、中心の孔を高精度にまた、クラックがない場合状態で開けてしまえば、外側の孔は伝送特性に大きな影響は与えないことが知られている。この光ファイバでは光損失は波長１．３μｍで１ｄＢ／ｋｍ、波長１．５５μｍでは０．５ｄＢ／ｋｍと低損失であった。
【実施例２】
【００２２】
図７は、本発明に係る光ファイバの製造方法の実施例２を説明するための図で、図６と同じ機能を有する構成要素には同一の符号を付してある。外径４０ｍｍ、長さ２００ｍｍのガラスロッドに、孔径ｄを１．４ｍｍ、孔間隔Ａを２．９ｍｍで１８個の孔１３を開けた。
【００２３】
このようにして作製した孔開きガラスロッド１４を洗浄して乾燥させた後、バーナーで外径８ｍｍに延伸後、その後、外周にキャピラリ１６を７２本配置して、孔数を９０個とした。図７に示すように、ガラスロッド１４とキャピラリ１６を共に、外径４０ｍｍ、内径１２ｍｍのガラスパイプ１０に挿入し、１２５μｍ径の光ファイバに線引きした。光ファイバ長は５ｋｍであり、光ファイバ線引き後の孔径は０．９μｍ、孔間隔は１．８μｍであり、光ファイバ全長で一定であった。損失は波長１．３μｍで１ｄＢ／ｋｍ、波長１．５５μｍでは０．６ｄＢ／ｋｍであった。
【００２４】
このようにして作製したＰＣＦの零分散波長は１．５５μｍであり、波長１．５５μｍでの分散スロープは−０．１ｐｓ／ｋｍ／ｎｍ２であった。このＰＣＦを用いて１．５５μｍ零分散の分散シフトファイバの波長１．５５μｍでの分散を補償した。その結果、波長１．５〜１．６μｍでの分散値は±０．１ｐｓ／ｋｍ／ｎｍ２とすることができた。
【実施例３】
【００２５】
図８は、本発明に係る光ファイバの製造方法の実施例３を説明するための図で、図中符号１１はバーナー、１２はガラス微粒子を示している。なお、図７と同じ機能を有する構成要素については同一の符号を付してある。上述した実施例１に示すように、超音波ドリルを用いて、外径４０ｍｍ、孔径１．３ｍｍ、孔間隔２．８ｍｍの孔１８個をあけた。
【００２６】
この孔開きガラスロッド１４を外径１０ｍｍに延伸後、ＶＡＤ法を用いてガラス合成用バーナー１１で、延伸した孔開きガラスロッド１４の外周部にガラス微粒子１２を形成した後、電気炉内で１７００℃に加熱し、外径５０ｍｍ、孔径０．３３ｍｍの出発ガラス母材を形成した。この孔開きガラス材を光ファイバ線引き炉により加熱して１２５μｍ径の光ファイバ１０ｋｍを作製した。
【００２７】
光ファイバ線引き後の孔径ｄは０．８３μｍ、孔間隔Ａは１．８μｍであり、作製した光ファイバの全長に渡って孔径ｄ及び孔間隔Ａは一定であった。また、作製した光ファイバの損失は波長１．３μｍで２ｄＢ／ｋｍ、波長１．５５μｍでは０．５ｄＢ／ｋｍであった。零分散波長は１．３１μｍ、波長１．３１μｍでの分散スロープは−０．１ｐｓ／ｋｍ／ｎｍ２であった。
【００２８】
この光ファイバを用いて従来型のＳＭＦの波長１．３〜１．４μｍでの分散を補償した。その結果、波長１．３〜１．４μｍでの分散値は±０．１ｐｓ／ｋｍ／ｎｍ２とすることができた。
【産業上の利用可能性】
【００２９】
本発明は、光通信ネットワーク及び光信号処理に用いられる伝送媒体である光ファイバの製造方法に関し、長尺かつ分散特性が一定で、低損失の光ファイバの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】従来の光ファイバの一般的な構造を示す図である。
【図２】従来の光ファイバのうち、ＰＣＦ(Photonic Crystal Fibers)を示す図である。
【図３】図２に示した従来のＰＣＦの製造方法を示す図である。
【図４】ｄ／Ａ＝０．５とした場合の分散の波長依存性を示す図である。
【図５】Ａ＝１．６μｍとした場合の分散の波長依存性を示す図である。
【図６】本発明に係る光ファイバの製造方法の実施例１を示す図で、（ｂ）は（ａ）の断面図である。
【図７】本発明に係る光ファイバの製造方法の実施例２を説明するための図である。
【図８】本発明に係る光ファイバの製造方法の実施例３を説明するための図である。
【符号の説明】
【００３１】
１  光ファイバのコア部
２  光ファイバのクラッド部
３  孔
４  純石英ガラス
５  欠陥部
６  ガラスロッド
７  内側ガラスパイプ
８  外側ガラスパイプ
９  超音波ドリル
１０  ガラスパイプ
１１  バーナー
１２  ガラス微粒子
１３  孔
１４  ガラスロッド
１５  欠陥部
１６  キャピラリ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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