(57)【要約】【課題】  放射線像変換パネルを、高い防湿性を有するとともに、高感度で良好な画質を与えることができるものとする。【解決手段】  厚みが１〜10μｍ以下である透明薄膜フィルム４に、再剥離フィルム用基材２に粘着層３を設けた再剥離フィルム５を貼り合わせて貼合せフィルムとする。再剥離フィルム５の透明薄膜フィルム４側に防湿層６を設けて透明防湿フィルム７とする。この透明防湿フィルム７を接着層８を介して輝尽性蛍光体層１上に設け、透明防湿フィルム７から再剥離フィルム５を剥離する。【選択図】          図２
2005195571.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも基板と、輝尽性蛍光体からなる輝尽性蛍光体層と、防湿層と透明薄膜フィルムとからなる透明防湿フィルムとをこの順に有し、前記透明防湿フィルムを接着層を介して前記輝尽性蛍光体層上に設けた放射線像変換パネルであって、前記透明薄膜フィルムの厚みが１〜10μｍであることを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項２】
前記透明薄膜フィルムの厚みが２〜７μｍであることを特徴とする請求項１記載の放射線像変換パネル。
【請求項３】
前記透明防湿フィルムの透湿度が1g/m2/day以下であることを特徴とする請求項１または２記載の放射線像変換パネル。
【請求項４】
前記透明防湿フィルムの透湿度が0.2g/m2/day以下であることを特徴とする請求項３記載の放射線像変換パネル。
【請求項５】
前記防湿層が真空堆積法により形成され、前記防湿層の少なくとも片方の面に塗布層を有することを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載の放射線像変換パネル。
【請求項６】
前記放射線像変換パネルがさらに励起光反射防止層を有することを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載の放射線像変換パネル。
【請求項７】
前記放射線像変換パネルがさらに輝尽発光光反射防止層を有することを特徴とする請求項１〜６いずれか１項記載の放射線像変換パネル。
【請求項８】
前記輝尽性蛍光体が柱状結晶であることを特徴とする請求項１〜７いずれか１項記載の放射線像変換パネル。
【請求項９】
前記接着層の層厚が0.3〜２μｍであることを特徴とする請求項８記載の放射線像変換パネル。
【請求項１０】
前記透明薄膜フィルムに再剥離フィルムを貼り合わせて貼合せフィルムとし、該貼合せフィルムの前記透明薄膜フィルム側に前記防湿層を設けて前記透明防湿フィルムとし、該透明防湿フィルムを前記接着層を介して前記輝尽性蛍光体層上に設け、前記透明防湿フィルムから前記再剥離フィルムを剥離して得られたことを特徴とする請求項１〜９いずれか１項記載の放射線像変換パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、輝尽性蛍光体を利用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線等の放射線を照射するとこの放射線エネルギの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光を照射すると蓄積された放射線エネルギに応じて輝尽発光を示す輝尽性蛍光体を利用して、人体等の被写体の放射線像を輝尽性蛍光体層に一旦潜像として記録し、この輝尽性蛍光体層にレーザ光等の励起光を照射して輝尽発光光を生じせしめ、この輝尽発光光を光電的に検出して被写体の放射線像を表す画像信号を取得する放射線画像記録装置および放射線画像読取装置等からなる放射線画像記録再生システムがＣＲ（ComputedRadiography）として知られている。
【０００３】
上記放射線画像記録再生システムに使用される記録媒体としては、例えば剛性を有する基板と輝尽性蛍光体層とを層状に積層して形成された放射線像変換パネルが知られている。この放射線像変換パネルは、放射線像変換パネルから放射線像が読み取られた後に消去光が照射されて輝尽性蛍光体層に残存している放射線エネルギーが放出されると再度放射線像の記録が可能となり、放射線像の記録および読取りに繰り返して使用することができる。この繰返し使用による輝尽性蛍光体層の化学的な変質あるいは物理的な衝撃を抑制するために、輝尽性蛍光体層の表面（支持体に面していない側の表面）には通常、保護層が設けられている。
【０００４】
例えば、特許文献１には厚みが１〜10μｍであって波長400〜900nmの光に対する透過率が90％以上であるフッ素樹脂フィルムを保護層とし、これを接着剤を介して輝尽性蛍光体層上に積層した放射線像変換パネルが記載されている。この保護層はフッ素樹脂フィルムであるため防汚性、防湿性に優れ、薄膜であるため高画質な放射線像変換パネルである。
【０００５】
また、保護層に防湿性能を付加したものとして、特許文献２には厚みが 0.01μmから0.5μmであって、波長300nmから1000nm において光吸収がなく、かつ透湿度2g/m2 /24h以下、酸素透過度2cc/m2 /24h以下のガスバリア性を有する酸化アルミおよび／またはケイ素酸化物を含む蒸着によって形成された保護層を有する放射線像変換パネルが記載されている。この放射線像変換パネルに設けられた保護層はガスバリア性を有する無機物質の蒸着層であるため、薄層として形成することが可能であり、薄層ゆえに光の散乱による画質のボケが生じることがなく、従って、初期画質が良好な放射線像変換パネルとすることができるというものである。
【０００６】
さらに、特許文献３には水蒸気透過係数（透湿度）の異なる保護層を２層設けることによって、高い耐湿性を有する放射線像変換パネルが記載されている。
【特許文献１】特開２００１−１４１８９６号公報
【特許文献２】特開２００２−９８７９９号公報
【特許文献３】特開２００３−１３９８９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１に記載されている放射線像変換パネルは薄膜のフッ素樹脂フィルムを用いているため画質と防湿性に優れたものではあるが、薄膜で均一なフッ素樹脂フィルムを形成することは技術的、経済的にかなり困難であり画像ムラを生じやすいという問題がある。
【０００８】
また、特許文献２に記載されている保護層（透明無機層）は真空堆積法により形成されているが、無機層を形成する対象である保護層支持体（ＰＥＴフィルム）や有機層上に真空堆積層により製膜を行うとフィルム上につれやシワが発生するため、充分な防湿性能を有する無機層が得られず、またつれやシワが放射線像変換パネルの画像品質を低下させるという問題がある。加えて、輝尽性蛍光体層が隙間構造を有する柱状結晶に対しては、均一な無機蒸着層を形成することは困難である。
【０００９】
さらに、特許文献３に記載されている保護層は従来の放射線像変換パネルよりも高い耐湿性は実現できるものの、保護層が厚くなる傾向にあるために画質が低下することは否めない。
【００１０】
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、高い防湿性を有するとともに、高感度で良好な画質を与えることが可能な放射線像変換パネルを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の放射線像変換パネルは、少なくとも基板と、輝尽性蛍光体からなる輝尽性蛍光体層と、防湿層と透明薄膜フィルムとからなる透明防湿フィルムとをこの順に有し、前記透明防湿フィルムを接着層を介して前記輝尽性蛍光体層上に設けた放射線像変換パネルであって、前記透明薄膜フィルムの厚みが１〜10μｍであることを特徴とするものである。
【００１２】
前記透明薄膜フィルムの厚みは２〜７μｍであることがより好ましい。  
前記防湿層を設けた前記透明薄膜フィルムの透湿度は1g/m2/day以下であることが好ましく、0.2g/m2/day以下であることがより好ましい。
【００１３】
本発明の放射線像変換パネルは、前記防湿層は真空堆積法により形成され、前記防湿層の少なくとも片方の面に塗布層を有することが好ましい。また、本発明の放射線像変換パネルはさらに励起光反射防止層や輝尽発光光反射防止層を有していることが好ましい。さらに、放射線像変換パネルを構成する輝尽性蛍光体層以外のいずれかの層が、励起光あるいは輝尽発光光を吸収するように着色されていることが好ましい。
【００１４】
前記輝尽性蛍光体は柱状結晶であることが好ましい。この場合、前記接着層の層厚は0.3〜２μｍであることが好ましい。
【００１５】
本発明の放射線像変換パネルは好適には、前記透明薄膜フィルムに再剥離フィルムを貼り合わせて貼合せフィルムとし、該貼合せフィルムの前記透明薄膜フィルム側に前記防湿層を設けて前記透明防湿フィルムとし、該透明防湿フィルムを前記接着層を介して前記輝尽性蛍光体層上に設け、前記透明防湿フィルムから前記再剥離フィルムを剥離して得られる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の放射線像変換パネルは、少なくとも基板と、輝尽性蛍光体からなる輝尽性蛍光体層と、防湿層と透明薄膜フィルムとからなる透明防湿フィルムとをこの順に有し、透明防湿フィルムを接着層を介して輝尽性蛍光体層上に設けた放射線像変換パネルにおいて、透明薄膜フィルムの厚みを１〜10μｍとしたので鮮鋭度に優れる。また、防湿層によって輝尽性蛍光体が吸湿によって劣化することが抑制されるので、長期間使用しても画質低下の少ない放射線像変換パネルとすることができる。
【００１７】
特に、透明薄膜フィルムに再剥離フィルムを貼り合わせて貼合せフィルムとし、この貼合せフィルムの透明薄膜フィルム側に防湿層を設けて透明防湿フィルムとし、透明防湿フィルムを接着層を介して輝尽性蛍光体層上に設け、透明防湿フィルムから再剥離フィルムを剥離して製造した場合には、透明薄膜フィルムにシワがよることがなく、また再剥離フィルムの使用によって透明薄膜フィルムが薄くても均一に防湿層を設けることが可能となり、このため鮮鋭度、画像品質、防湿性に優れた放射線像変換パネルとすることができる。
【００１８】
また、防湿層を設けた透明薄膜フィルムの透湿度を1g/m2/day以下、より好ましくは0.2g/m2/day以下とすることにより、さら防湿性に優れた放射線像変換パネルとすることができる。さらに、防湿層の少なくとも片方の面に塗布層を設けることによって高い防湿性を得ることが可能となる。
【００１９】
なお、輝尽性蛍光体が柱状結晶であるとより高い鮮鋭度の放射線像変換パネルとなるが、この際に、接着層の層厚を0.3〜２μｍの範囲とすることによりぼけの少ない放射線像変換パネルとすることができる。
【００２０】
また、本発明の放射線像変換パネルがさらに励起光反射防止層を有している場合には、感度向上のために励起光エネルギーを増加させても励起光干渉の発生が抑制されるためムラのない画像を得ることができる。さらに、本発明の放射線像変換パネルの読み取りをラインスキャナで行う場合であって、放射線像変換パネルが輝尽発光光反射防止層を有している場合には、輝尽発光光の層内伝播が抑制されるので、より鮮鋭度に優れた放射線像変換パネルを得ることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面を参照して本発明の放射線像変換パネルおよびその製造方法について説明する。  
図１は本発明の一の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図である。図１に示す放射線像変換パネル10は、輝尽性蛍光体が柱状結晶構造である輝尽性蛍光体層１上に、接着層８を介して防湿層６と透明薄膜フィルム４とからなる透明防湿フィルム７が積層されたものである。透明薄膜フィルム４はその膜厚が１〜10μｍ（好ましくは２〜７μｍ）である。透明薄膜フィルムが10μｍよりも厚くなると鮮鋭度が低下し、一方、１μｍよりも薄い場合には輝尽性蛍光体層の保護機能が充分ではなくなる。また、接着層８の層厚は0.3〜２μｍであることが好ましい。接着層８の層厚が0.3μｍよりも薄くなると防湿層６と輝尽性蛍光体層１との間の密着力が充分ではなく、２μｍよりも厚くなると接着層８の中で光りが散乱して、得られた画像がぼけやすくなる。
【００２２】
本発明の放射線像変換パネルは透明薄膜フィルムが薄膜であるため鮮鋭度に優れる。また、防湿層によって輝尽性蛍光体が吸湿によって劣化することが抑制されるので、長期間使用しても画質低下の少ない放射線像変換パネルとすることができる。特に、図１に示す放射線像変換パネルのように防湿層が接着層と透明薄膜フィルムに挟まれる構成となっている場合には、防湿層が物理的な衝撃を受けにくいためにより長期間に亘って防湿性が維持される。
【００２３】
図２は図１に示す放射線像変換パネルの製造工程の一の実施の形態を順に示した図である。まず、再剥離フィルム用基材２に粘着層３を設けた再剥離フィルム５と透明薄膜フィルム４を貼り合わせて貼合せフィルムとする（図２(a)）。この再剥離フィルム５に貼り合わせた透明薄膜フィルム４側に防湿層６を設け透明防湿フィルム７を形成する（図２(b)）。この透明防湿フィルム７の防湿層６側に接着層８を設け、設けた接着層８側を輝尽性蛍光体層１上に向けて、輝尽性蛍光体層１と透明防湿フィルム７をラミネートにより貼り合わせる（図２(c)）。貼り合わせた後、図２(d)に示すように、再剥離フィルム５を剥離すると、透明薄膜フィルム４と防湿層６が輝尽性蛍光体層１を保護した放射線像変換パネル10が得られる（図２(e)）。
【００２４】
このように、本発明の放射線像変換パネル10は防湿層６を再剥離フィルムを貼り合わせた透明薄膜フィルム４上に設けると、透明薄膜フィルム４にシワがよることがなく、また再剥離フィルム５の使用によって透明薄膜フィルム４が薄くても均一に防湿層６を設けることが可能となり、このため鮮鋭度、画像品質、防湿性に優れた放射線像変換パネルとすることができる。
【００２５】
なお、図２では、輝尽性蛍光体層１上に透明防湿フィルム７をラミネートにより貼り合わせた後に再剥離フィルム５を剥離しているが、透明防湿フィルム７を輝尽性蛍光体層１上に設ける前に再剥離フィルム５を予め剥離して、防湿層６を有する透明薄膜フィルム４を輝尽性蛍光体層１上に設けることも可能である。
【００２６】
また、図２では透明薄膜フィルムの片側に防湿層を１層設ける態様について説明しているが、透明薄膜フィルムの両側に防湿層を設けてもよい。また、防湿層を設けた透明薄膜フィルムの透湿度は好ましくは1g/m2/day以下、さらには0.2g/m2/day以下に調整することが好ましいが、このためには透明薄膜フィルムや防湿層の材料を適宜選択するほか、防湿層を何層か積層して設けることによって行ってもよい。
【００２７】
さらに、本発明の放射線像変換パネルが塗布層、励起光反射防止層、輝尽発光光反射防止層などの層を有してる場合も、上記再剥離フィルムを利用して設けることが可能である。
【００２８】
透明薄膜フィルムは強度、透明性、化学的安定性を備えていれば公知のフィルムを使用することが可能で、具体的には、公知のポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、アラミド樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン、さらに環状オレフィン系やノルボルネン系のプラスチックやフルオレン骨格を有するアモルファスのポリエステル系プラスチックなどの材料から任意に選ぶことができる。
【００２９】
防湿層は、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物などの無機層からなるものを用いることができる。より具体的には、波長300nmから1000nmで光吸収が少なくかつガスバリア性を有する無機物質からなる透明な層であることが好ましい。波長300nmから1000nmで光吸収が少ない無機物質としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化窒化ケイ素、酸化窒化アルミニウム等を好ましくあげることができる。これらのうち特に酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素は光透過率が高くかつガスバリア性が高い、すなわちクラックやマイクロポアが少なく緻密な膜を形成することができるのでより好ましく用いることができる。防湿層を２枚以上積層する場合、それぞれの防湿フィルムの透明無機層は異なる材質からなるものであっても、同じ材質からなるものであってもよい。
【００３０】
防湿層は真空で薄膜を形成することが可能な真空堆積法、例えば、蒸着法、スパッタ法、ＰＶＤ法（物理的気相堆積法）、ＣＶＤ法（化学的気相堆積法）等のドライプロセスによって、あるいはゾルゲル法などによって直接敷設する。いずれの方法によっても、無機層の透明性、バリア性は大きく変わらないので、適宜選択することが可能である。
【００３１】
本発明の放射線像変換パネルは防湿層の少なくとも片方の面に塗布層を設けることが好ましい。塗布層の上に防湿層を形成する構成の場合には、微小凹凸のない塗布層面上に防湿層が形成されるため、より緻密な防湿層となり防湿性能をより向上させることができる。また、防湿層の上に塗布層を形成する構成の場合には、形成された防湿層の微細クラック等が塗布層によって埋められるので、防湿性能をより向上させることができる。
【００３２】
塗布層としては公知の樹脂層を用いることができ、例えば、アクリル系モノマー等の低分子材料を塗布した後に紫外線や電子線を硬化させたり、ポリビニルアルコール（PVA）／SiO2のハイブリッド層をゾルゲル法により塗布形成することにより設けることができる。あるいはアクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等の樹脂を塗布、乾燥することにより設けてもよい。特に、前者は塗布層の上に防湿層を形成する構成の場合に、後者は防湿層の上に塗布層を形成する構成の場合に好適に選ばれる。
【００３３】
また、放射線画像情報を読み取る際には感度を向上させるために励起光エネルギーを増加させることがしばしば行われるが、これによって励起光の干渉が発生して画像にムラが生じることがある。このため、本発明の放射線像変換パネルは励起光の広がりを抑制することが可能な励起光反射防止層を設けることが好ましい。
【００３４】
さらに、放射線画像記録再生システムに用いられる放射線画像情報読取装置においては、スポット形状のレーザー光を走査して励起し、発光光は集光ガイド板によって集光する方式（画素分割は走査に同期させた時系列分割）の場合には、画像の鮮鋭度を低下させるのは励起光の広がりのみであるが、輝尽発光光の読取り時間の短縮化、装置のコンパクト化およびコスト低減の観点から導入された、ライン状の励起光（レーザー光）を照射するライン光源を使用し、光電読取手段として発光光をラインスキャナによって画素毎に発光を集光する方式の放射線画像情報読取装置（特開2000-66316号公報等）には、励起光の広がり（ライン幅）に加えて発光光の広がりも鮮鋭度を低下させる要因となる。このため、このようなラインスキャナによって放射線画像情報を読み取る装置に用いられる放射線像変換パネルの場合には輝尽発光光の反射防止層を設けることがより好ましい。
【００３５】
このような励起光、輝尽発光光反射防止層を少なくとも１層設けることが好ましい。反射防止層を設けることにより、放射線像変換パネルにおいて使用される蛍光体に対応する励起光波長および／または発光光波長の入射角０〜60°における表面反射率が、５％以下、好ましくは３％以下、より好ましくは２％以下、さらには１％以下となることが好ましい。
【００３６】
反射防止層としては無機酸化物、酸窒化物、窒化物、フッ化物等の無機材料からなる蒸着層またはスパッタ層が好ましい。反射防止層を１層設ける場合には、低屈折率層を設けることが好ましく、複数層設ける場合には低屈折率層と高屈折率層をそれぞれ１層以上積層して設けることがより好ましい。低屈折率層としては、フッ化マグネシウムや酸化ケイ素等からなる層が、高屈折率層としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アルミニウム等からなる層が好ましい。なお、ここでは反射防止層を防湿層と別個に設ける場合を説明しているが、防湿層が反射防止層を兼ねるように設けることがより好ましい。
【００３７】
なお、上記のような放射線像変換パネルの表面反射率を得るためには、例えば、樹脂中に有機微粒子および／または無機微粒子を有し、この微粒子間にミクロボイドが形成されている反射防止層を設けることによってもよい。反射防止層の厚みは、50〜400nmが好ましく、50〜200nmがより好ましい。また、反射防止層のヘイズは、３〜30％であることが好ましく、より好ましくは５〜20％、さらには７〜20％であることが好ましい。
【００３８】
有機微粒子としては、例えば平均粒径が１μｍ以下の各種樹脂の微粒子を用いることができる。具体的には、ＰＭＭＡ微粒子として綜研化学(株)製ＭＰシリーズ、ＭＸシリーズ、日本ペイント(株)製マイクロジェルシリーズ、メラミン樹脂微粒子として(株)日本触媒化学製エポスター、シリコーン樹脂微粒子として東芝シリコーン(株)製トスパール、テフロン（登録商標）樹脂微粒子としてダイキン工業(株)製ＬＤシリーズ、ルブロン等が好ましい。
【００３９】
無機微粒子としては、粒子径があまり大きいと前方散乱が増加し、200nmを越えると散乱光に色付きが生じるので、平均粒径は0.5〜200nm、好ましくは１〜100nm、より好ましくは３〜70nm、さらには５〜40nmの範囲であることが好ましい。無機微粒子の粒径は、なるべく均一（単分散）であることが好ましい。無機微粒子は、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物などからなることが好ましく、より好ましくは金属酸化物または金属ハロゲン化物、さらには金属酸化物または金属フッ化物からなることが好ましい。
【００４０】
金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがより好ましい。無機化合物はこれらの金属から選択される単一のものであってもよいし、二種類の金属を含んでいてもよい。特に、アルカリ金属フッ化物（例、NaF、KF）、アルカリ土類金属フッ化物（例、CaF2、MgF2）および二酸化ケイ素（SiO2）等の無機化合物が好ましい。これらの無機微粒子は、400〜900nmの間で特徴的な吸収がないことが好ましく、特に励起光及び輝尽発光光の波長付近に吸収がないことが好ましい。
【００４１】
無機微粒子は、非晶質であることが好ましい。このような無機微粒子は、ゾル−ゲル法（特開昭53-112732号、特公昭57-9051号の各公報記載）または析出法（APPLIED OPTICS、27、3356頁（1988）記載）により、分散物として直接合成することもできるし、また、乾燥・沈澱法で得られた粉体を、機械的に粉砕して分散物を得ることもできる。もちろん市販の無機微粒子（例えば、二酸化ケイ素ゾル）を用いてもよい。無機微粒子は、反射防止層の形成のため、適当な媒体に分散した状態で使用することが好ましい。分散媒としては、水、アルコール（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール）およびケトン（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）が好ましい。無機微粒子の量は、反射防止層全量の50〜95重量％であることが好ましく、より好ましくは60〜90重量％、さらには70〜90重量％であることが好ましい。
【００４２】
反射防止層は、５〜50重量％のポリマー（樹脂）を含むことが好ましい。ポリマーは無機微粒子を接着し、形成したミクロボイドを含む反射防止層の構造を維持する機能を有する。ポリマーの使用量は、ミクロボイドを充填することなく反射防止層の強度を維持できるように調整することが好ましい。ポリマーの量は、反射防止層全量の10〜30重量％であることが好ましい。
【００４３】
ポリマーで無機微粒子を接着するためには、無機微粒子の表面処理剤にポリマーを結合させるか、無機微粒子をコアとして、その周囲にシェルポリマーを形成させるか、あるいは無機微粒子間のバインダーとしてポリマーを使用することにより行うことができる。
【００４４】
再剥離フィルムに用いる再剥離フィルム用基材は、最終用途である放射線像変換パネルの保護膜として加工される前に剥離されるため、透明である必要はない。再剥離フィルム用基材の厚みは10〜500μｍであり、より好ましくは20〜150μｍであることが好ましい。再剥離フィルム用基材の厚みが10μｍよりも薄いと透明薄膜フィルムとのラミネートの際に取り扱いが困難となり、また、500μｍよりも厚い場合には、再剥離フィルム用基材と透明薄膜フィルムを貼り合わせた貼合せフィルムの作製後のまきとりが困難となるため好ましくない。
【００４５】
再剥離フィルム用基材としては、ポリエチレンやポリプロピレン等のオレフィン系プラスチック、ポリ塩化ビニールやポリアクリロニトリル等のビニル系プラスチック、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系プラスチック、ポリウレタン系プラスチック、アクリル系プラスチック、ビスフェノールＡをビスフェノール成分として含有するポリカーボネート、等のプラスチックを好ましく用いることができる。
【００４６】
また、置換あるいは非置換シクロアルキリデン基、炭素数が５以上のアルキリデン基やアラアルキレン基を有するビスフェノール成分をビスフェノール成分の一部として含有するポリアリレートやポリカーボネート、ポリエステルカーボネート、具体的には、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロへキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロへキサン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ペンタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタンをビスフェノール成分として有するポリカーボネート、ポリアリレートやポリエステルカーボネートなどのプラスチックも用いることができる。
【００４７】
さらに、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアミド、セルローストリアセテートなども、好適に用いることができる。加えて、環状オレフィン系やノルボルネン系のプラスチックやフルオレン骨格を有するアモルファスのポリエステル系プラスチックも好適に用いることができる。
【００４８】
特に、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン系プラスチック、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系プラスチックから成るフィルムが好ましい。
【００４９】
再剥離フィルム用基材は片面に粘着剤層を形成させ再剥離フィルムとする。粘着剤層としては、公知のアクリル系やシリコン系の粘着剤を用いることができるが、粘着剤の種類によっては加工中に発泡したり、粘着強度が上がって再剥離フィルムを剥離しにくくすることがあるため、加工条件に耐え得る粘着剤を選定する必要がある。また、再剥離フィルムの剥離時に、粘着剤が透明薄膜フィルムの表面に残ると透明性を損なうほか放射線像変換パネルの画像品質や鮮鋭度に好ましくない影響を与えるため、剥離時には再剥離フィルム用基材とともに剥離される必要がある。そのため、再剥離フィルム用基材に粘着加工を行う際には、再剥離フィルム用基材の粘着加工面にコロナ処理などの粘着剤との親和性を向上する前処理を行うことが望ましい。
【００５０】
なお、剥離の際の粘着剤残りの問題が無ければ、透明薄膜フィルムに粘着加工してから再剥離フィルム用基材を粘着加工面にラミネートしてもかまわない。また、ラミネート時にフィルムを加熱することは、貼合せフィルムの品質を安定させる上で好ましい。さらに、ラミネート時の異物巻き込みは、加工を経て透明薄膜フィルムへ異物斑が転写し光学的欠陥を形成するので、フィルムや環境に対して公知の異物対策を行うことが好ましい。
【００５１】
粘着加工した再剥離フィルムの透明薄膜フィルムからの剥離力は小さい方が好ましいが、余り小さいと、積層フィルム加工時に発泡などの問題を生じやすい。一方、余り大きいと再剥離時にフィルムが変形するなどの不都合を生じる。従って、剥離強度は10g／25mm〜70g／25mmの範囲が好ましく、さらには15g／25mm〜50g／25mmの範囲がより好ましい。
【００５２】
本発明の放射線像変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体層の輝尽性蛍光体の例としては、
米国特許第3,859,527号明細書に記載されているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、ThO2:Er、およびLa2O2S:Eu,Sm、
【００５３】
特開昭55-12142号に記載されている ZnS:Cu,Pb、BaO・xAl2O3:Eu（ただし、0.8≦ｘ≦10）、および、MIIO・xSiO2 :A（ただし、MIIはMg，Ca，Sr，Zn，Cd、またはBaであり、ＡはCe，Tb，Eu，Tm，Pb，Tl，BiまたはMnであり、ｘは0.5≦x≦2.5である）、
【００５４】
特開昭55-12143号に記載されている (Ba1-X-y ,MgX ,Cay )FX:aEu2+（ただし、X はClおよびBrのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙは、０＜x+y≦0.6、かつxy≠０であり、ａは、10-6≦ａ≦5×10-2である）、
【００５５】
特開昭55-12144号に記載されている LnOX:xA（ただし、LnはLa，Ｙ，Gd、およびLuのうちの少なくとも一種、XはClおよびBrのうちの少なくとも一種、AはCeおよびTbのうちの少なくとも一種、そして、ｘは、０＜ｘ＜0.1である）、
【００５６】
特開昭55-12145号に記載されている(Ba1-X,M2+X)FX:yA（ただし、M2+はMg，Ca，Sr，Zn、およびCdのうちの少なくとも一種、ＸはCl，BrおよびＩのうちの少なくとも一種、ＡはEu，Tb，Ce，Tm，Dy，Pr，Ho，Nd，YbおよびErのうちの少なくとも一種、そしてｘは０≦ｘ≦0.6、ｙは０≦ｙ≦0.2である）、
【００５７】
特開昭55-160078号に記載されているMIIFX・xA:yLn（ただし、MIIはBa，Ca，Sr，Mg，ZnおよびCdのうちの少なくとも一種、AはBeO，MgO，CaO，SrO，BaO，ZnO，Al2O3，Y2O3，La2O3，In2O3，SiO2，TiO2，ZrO2，GeO2，SnO2，Nb2O5，Ta2O5 およびThO2 のうちの少なくとも一種、LnはEu，Tb，Ce，Tm，Dy，Pr，Ho，Nd，Yb，Er，SmおよびGdのうちの少なくとも一種、ＸはCl，BrおよびＩのうちの少なくとも一種であり、xおよびyはそれぞれ 5×10-5≦x≦0.5、および０＜y≦0.2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５８】
特開昭56-116777号に記載されている(Ba1-X,MIIX)F2・aBaX2:yEu,zA（ただし、MIIはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａはジルコニウムおよびスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ 0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦2×10-1、および０＜ｚ≦10-2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５９】
特開昭57-23673号に記載されている(Ba1-X,MIIX)F2・aBaX2:yEu,zB（ただし、MII はベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦2×10-1、および０＜ｚ≦10-2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６０】
特開昭57-23675号に記載されている(Ba1-X,MIIX)F2・aBaX2:yEu,zA（ただし、MIIはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａは砒素および硅素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦2×10-1、および０＜ｚ≦5×10-1である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６１】
特開昭58-69281号に記載されている MIIIOX:xCe（ただし、MIIIはPr，Nd，Pm，Sm，Eu，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，YbおよびBiからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、ＸはClおよびBrのうちのいずれか一方あるいはその両方であり、ｘは０＜ｘ＜0.1である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６２】
特開昭58-206678号に記載されているBa1-XMX/2ＬX/2FX:yEu2+（ただし、ＭはLi，Na，Ｋ，RbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表わし；Lは、Sc，Ｙ，La，Ce，Pr，Nd，Pm，Sm，Gd，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，Yb，Lu，Al，Ga，InおよびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし；X は、Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表わし;そして、ｘは10-2≦ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦0.1である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６３】
特開昭59-27980号に記載のBaFX・xA:yEu2+（ただし、Ｘは、Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａはテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物であり；そして、ｘは10-6 ≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1 である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６４】
特開昭59-47289号に記載されているBaFX・xA:yEu2+（ただし、Ｘは、Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、ヘキサフルオロケイ酸，ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物であり；そして、ｘは10-6≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1 である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６５】
特開昭59-56479号に記載されているBaFX・xNaX′:aEu2+（ただし、XおよびX′は、それぞれCl、Br、およびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびａはそれぞれ０＜ｘ≦２、および０＜ａ≦0.2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６６】
特開昭59-56480号に記載されているMIIFX・xNaX′:yEu2+:zA（ただし、MIIは、Ba，SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；X およびX′は、それぞれCl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、Ｖ，Cr，Mn，Fe，CoおよびNiより選ばれる少なくとも一種の遷移金属であり;そして、ｘは０＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦0.2、およびｚは０＜ｚ≦10-2である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６７】
特開昭59-75200号に記載されている MIIFX・aMIX′・bM′IIX″2・cMIIIX3・xA:yEu2+（ただし、MIIはBa，SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；MI はLi，Na，Ｋ，RbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;M′IIはBeおよびMgからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価金属であり;MIII はAl，Ga，InおよびTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり；Aは金属酸化物であり；XはCl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；X′，X″および Xは、Ｆ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そして、ａは０≦ａ≦２、ｂは０≦ｂ≦10-2、ｃは０≦ｃ≦10-2、かつa+b+c≧10-6  であり；x は０＜ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦0.2 である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００６８】
特開昭60-84381号に記載されている MII X2・aMIIX′2:xEu2+（ただし、MII はBa，Srおよび Caからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；XおよびX′はCl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつ X≠X′であり；そしてａは0.1≦ａ≦10.0、ｘは０＜ｘ≦0.2である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００６９】
特開昭60-101173号に記載されているMIIFX・aMI X′:xEu2+（ただし、MII  はBa，SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；MI はRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;XはCl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；X′はＦ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａおよびｘはそれぞれ０≦ａ≦4.0および０＜ｘ≦0.2である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００７０】
特開昭62-25189号に記載されているMI X:xBi（ ただし、MI はRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；X はCl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてxは0＜x≦0.2の範囲の数値である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００７１】
特開平2-229882号に記載のLnOX:xCe（但し、LnはLa，Ｙ，GdおよびLuのうちの少なくとも一つ、ＸはCl，BrおよびＩのうちの少なくとも一つ、ｘは0＜x≦0.2 であり、LnとＸとの比率が原子比で0.500＜X/Ln≦0.998であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λが550nm＜λ＜700nm）で表わされるセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体、
などをあげることができる。
【００７２】
また、上記特開昭60-84381号に記載されているMIIX2・aMIIX′2:xEu2+輝尽性蛍光体には、以下に示すような添加物がMIIX2・aMIIX′2 1モル当り以下の割合で含まれていてもよい。
【００７３】
特開昭60−166379号に記載されているbMIX″（ただし、MIはRbおよびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、X″はＦ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦10.0である）；特開昭60-221483号に記載されているbKX″・cMgX2 ・dMIII X′3（ただし、MIII はSc，Ｙ，La，Gdおよび Luからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、X″、X およびX′はいずれもＦ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０≦ｂ≦2.0、０≦ｃ≦2.0、０≦ｄ≦2.0であって、かつ2×10-5≦b+c+dである）;特開昭60-228592号に記載されている yB（ただし、yは2×10-4≦ｙ≦2×10-1である）;特開昭60-228593号に記載されている bA（ただし、AはSiO2 およびP2O5からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物であり、そしてbは10-4 ≦b≦2×10-1 である）;特開昭61−120883号に記載されているbSiO（ただし、bは0＜b≦3×10-2  である）;特開昭61−120885号に記載されているbSnX″2 （ただし、X″はＦ，Cl，BrおよびIからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてbは０＜ｂ≦10-3である）；特開昭61-235486号に記載されているbCsX″・cSnX2 （ただし、X″およびX はそれぞれＦ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂおよびｃはそれぞれ、０＜ｂ≦10.0 および10-6≦ｃ≦2×10-2である）；および特開昭61-235487号に記載されているbCsX″・yLn3+（ただし、X″はＦ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、LnはSc，Ｙ，Ce，Pr，Nd，Sm，Gd，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，YbおよびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり、そしてｂおよびｙはそれぞれ、０＜ｂ≦10.0および10-6≦ｙ≦1.8×10-1である）。
【００７４】
上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体（例えばBaFI:Eu）、ユーロピウム賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体（例えばCsBr:Eu）、ヨウ素を含有する二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、およびヨウ素を含有するビスマス賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を示し、高画質を得ることが可能となることから好ましく用いることができる。またこれらの蛍光体は柱状結晶とすることができるが、特に吸湿性が問題となりやすいため、本発明の放射線像変換パネルの構成によってより効果的な防湿を図ることができる。
【００７５】
蛍光体層は、蒸着法、塗布法など公知の方法により基板上に形成することができる。蒸着法においては、まず基板を蒸着装置内に設置した後、装置内を排気して10-4  Pa程度の真空度とする。次いで、輝尽性蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて基板表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。その際、0.05〜10Pa程度の真空度となるようにAr、Ｎ2等の不活性ガスを導入してもよい。蒸着工程を複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、蒸着工程では複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、基板上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することもできる。蒸着終了後、輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。
【００７６】
塗布法においては、蛍光体を溶剤とともに充分に混合して結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製し、この塗布液を基板の表面に均一に塗布することにより塗膜を形成する。この塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイフコーターなどを用いることにより行なうことができる。
【００７７】
蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによって異なり、20μｍ〜１mm程度とするのが一般的であるが、50μｍ〜500μｍとすることがより好ましい。
【００７８】
また、励起光または／および輝尽発光光の広がりを抑制し、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、透明薄膜フィルム、防湿層、接着層のいずれかを励起光または／および輝尽発光光を吸収する顔料、染料等の着色材で着色してもよい。特に、ライン状のレーザー光を走査して励起し、発光光をラインスキャナによって画素毎に発光を集光する方式の場合には、輝尽発光光の広がりを抑制することがより重要となり、この場合には放射線像変換パネルのいずれかの層について着色を行うことが好ましい。また、他の特性を損なわずに比較的容易に着色できることから、接着層を着色することが好ましい。
【００７９】
基板としては、従来の放射線像変換パネルの基板として公知の材料から任意に選ぶことができる。また、基板と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射線像変換パネルとしての感度もしくは画質（鮮鋭度、粒状性）を向上させるために、蛍光体層が設けられる側の基板表面にゼラチンなどの高分子物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性物質からなる光吸収層などを設けることが知られているが、本発明における放射線像変換パネルについても、これらの各種の層を設けることができる。それらの構成は所望の放射線像変換パネルの目的、用途などに応じて任意に選択することができる。
【００８０】
なお、特開昭58−200200号に記載されているように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、基板の蛍光体層側の表面（基板の蛍光体層側の表面に接着性付与層、光反射層または光吸収層などが設けられている場合には、その表面を意味する）に微小凹凸が形成されていてもよい。  
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
【実施例】
【００８１】
（実施例１）
支持体として順にアルカリ洗浄、純水洗浄、およびIPA（イソプロピルアルコール）洗浄を施した８mm厚のソーダガラス板を蒸着機中に設置した後、蒸着源として所定の抵抗加熱容器にCsBrおよびEuBr2 をそれぞれ充填した。各蒸発源と基板の間の距離を0.15mとした。次に、蒸着機を排気して１×10-3Paの真空度とした後、さらに蒸着機にArガスを導入して１Paの真空度とした。続いて、基板をヒーターで100℃に加熱した。その後、蒸発源をそれぞれ加熱して、基板の表面にCsBr:Eu輝尽性蛍光体を10μｍ／分の速度で堆積させた。その際、加熱装置の抵抗電流を調整して、輝尽性蛍光体におけるEu／Csモル濃度比が0.003／１となるように制御した。蒸着終了後、蒸着機内を大気圧に戻し、基板を取り出した。基板上には、蛍光体の柱状結晶がほぼ垂直方向に密に林立した構造の輝尽性蛍光体層（層厚：600μｍ）が形成されていた。
【００８２】
９μｍのPETフィルム（透明薄膜フィルム）に、耐熱性があり後工程で剥離が可能な約51μｍ厚の耐熱再剥離フィルム（パナック(株)：CT50）を用いて貼り合わせ、貼合せフィルムとした。次に、貼合せフィルムのＰＥＴフィルム側にスパッタリングによりSiOx防湿層を100nmの層厚で設けた。続いて、SiOx防湿層上に接着層（ポリエステル系樹脂：東洋紡(株)バイロン300、塗布重量2g/m2、層厚1.5μｍ）を塗布法により形成した。形成した接着層側を上記で作製した輝尽性蛍光体層上に向け、輝尽性蛍光体層と透明防湿フィルムをラミネートによって貼り合わせた。その後、貼合せフィルムから再剥離フィルムを剥離して放射線像変換パネルを完成させた。
【００８３】
（実施例２）
PETフィルムの膜厚を６μｍとした以外は実施例１と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００８４】
（実施例３）
PETフィルムの膜厚を4.5μｍとした以外は実施例１と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００８５】
（実施例４）
PETフィルムの膜厚を1.4μｍとした以外は実施例１と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００８６】
（実施例５）
実施例２において、SiOx防湿層上にさらにPVA／SiOxハイブリッド層（PS層）をPVA：SiOx=１：１の比率でゾルゲル法によって600nmの層厚で設けた以外は実施例２と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００８７】
（実施例６）
実施例５において、PS層上にさらにスパッタリングによりSiOx防湿層を100nmの層厚で設けた以外は実施例５と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００８８】
（実施例７）
実施例６において、SiOx防湿層上に塗布する接着層の層厚を0.3μｍとした以外は実施例６と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００８９】
（実施例８）
実施例６において、SiOx防湿層上に塗布する接着層の層厚を0.5μｍとした以外は実施例６と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００９０】
（実施例９）
実施例６において、SiOx防湿層上に塗布する接着層の層厚を1.0μｍとした以外は実施例６と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００９１】
（実施例１０）
実施例６において、SiOx防湿層上に塗布する接着層の層厚を1.9μｍとした以外は実施例６と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００９２】
（比較例１）
PETフィルムの層厚を12μｍ厚とした以外は実施例１と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００９３】
（比較例２）
SiOx防湿層を設けなかった以外は実施例２と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００９４】
（比較例３）
実施例１で作製した基板上に堆積させたCsBr:0.003Eu上に直接、スパッタリングによりSiOx防湿層を100nmの層厚で設け放射線像変換パネルを完成させた。
【００９５】
（比較例４）
比較例３においてSiOx防湿層を設けることなく、これを放射線像変換パネルとした。
【００９６】
（比較例５）
実施例６において、SiOx防湿層上に塗布する接着層の層厚を0.1μｍとした以外は実施例６と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００９７】
（比較例６）
実施例６において、SiOx防湿層上に塗布する接着層の層厚を2.5μｍとした以外は実施例６と同様にして放射線像変換パネルを完成させた。
【００９８】
（評価方法）
上記実施例および比較例で作製した放射線像変換パネルを、PETフィルムおよび防湿層の透湿度、鮮鋭度（MTF）、感度低下についてそれぞれ評価した。結果を表１に示す。なお、防湿層を設けたPETフィルムの透湿度は40℃90％RHの環境下、24時間に面積１m2の防湿層を設けたPETフィルムを通過する水蒸気量により測定した。また、鮮鋭度、感度低下は以下の方法により評価した。
【００９９】
＜鮮鋭度＞
放射線像変換パネルに、管電圧80kVpのＸ線を照射したのち、放射線像変換パネルに対して線状に励起光を照射するライン状LDレーザー（波長660nm）で走査して蛍光体を励起し、ライン状LDレーザーにより励起光が照射された放射線像変換パネルの線状の部分の長さ方向に沿って多数の光電変換素子が配列されたCCDアレイによって、蛍光体層から放射される輝尽発光を受光して電気信号に変換し、これを画像再生装置によって画像として再生して表示装置上に画像を得た。これをコンピュータで解析することにより、得られた画像の変調伝達関数（MTF）（空間周波数：1サイクル／mm）を得、比較例4の放射線像変換パネルのMTF値を100として、実施例およびその他の比較例のMTF値を相対的に求めた。MTF値が高いほど鮮鋭度がよいことを示す。
【０１００】
＜感度低下＞
上記鮮鋭度の測定と同様の方法で輝尽発光強度を測定した後、放射線像変換パネルを30℃80％RHの環境下に30日間放置後、上記と同様の方法で再び輝尽発光強度を測定し、最初に読み取った際の輝尽発光強度値からの低下の割合を％表示で評価した。
【０１０１】
＜密着力＞
接着層を設けた保護層を１cm幅にスリットし、引張試験機にて180°ピール、引張速度１cm/minで測定した。
【０１０２】
なお、表中の防湿層の欄のＩはSiOx層100nm、IIはSiOx層100nm／ＰＳ層600nm、IIIはSiOx層100nm／ＰＳ層600nm／SiOx層100nmを示している。
【表１】
2005195571.tif 000003
【０１０３】
実施例１〜４の放射線像変換パネルは、いずれもPETフィルムにシワがなく、良好な透湿度を示し、鮮鋭度に優れるとともに、感度の低下が低かった。これに対し、比較例１は透明薄膜フィルムが10μｍよりも厚いために鮮鋭度が低下した。また、防湿層が設けられていない比較例２では透湿度が悪化するとともに、感度低下が著しかった。さらに直接、スパッタリングによりSiOx防湿層を設けた比較例３では透明薄膜フィルムがないため鮮鋭度には優れていたが、感度が低下した。なお、比較例３は輝尽性蛍光体層上に直接スパッタリングによってSiOx防湿層を設けているため、透湿度は測定できなかった。
【表２】
2005195571.tif 000004
【０１０４】
上記表２に示す実施例６、実施例７〜１０、比較例５および６は、接着層の層厚を変化させた場合における相対ＭＴＦと密着力を評価したものである。表２に示すように、接着層の層厚が0.1μｍ（比較例５）まで薄くなると密着力が充分でなく、一方、2.5μｍ(比較例６）まで厚くなると相対ＭＴＦは減少した。接着層の層厚が概ね0.3〜２μｍの範囲であれば好ましい鮮鋭度と耐久性を得ることができた。
【０１０５】
以上のように、本発明の放射線像変換パネルは、少なくとも基板と、輝尽性蛍光体からなる輝尽性蛍光体層と、防湿層と透明薄膜フィルムとからなる透明防湿フィルムとをこの順に有し、透明防湿フィルムを接着層を介して輝尽性蛍光体層上に設けた放射線像変換パネルにおいて、透明薄膜フィルムの厚みを１〜10μｍとしたので鮮鋭度に優れたものとすることができた。また、防湿層によって輝尽性蛍光体が吸湿によって劣化することが抑制されたので、長期間使用しても画質低下の少ない放射線像変換パネルとすることが可能となった。
【０１０６】
また、本実施例では、透明薄膜フィルムに再剥離フィルムを貼り合わせて貼合せフィルムとし、この貼合せフィルムの透明薄膜フィルム側に防湿層を設けて透明防湿フィルムとし、透明防湿フィルムを接着層を介して輝尽性蛍光体層上に設け、透明防湿フィルムから再剥離フィルムを剥離して製造したので、透明薄膜フィルムにシワがよることがなく、また再剥離フィルムの使用によって透明薄膜フィルムが薄くても均一に防湿層を設けることが可能となり、このため鮮鋭度、画像品質、防湿性に優れた放射線像変換パネルとすることができた。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】本発明の一の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図
【図２】本発明の一の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略製造工程図
【符号の説明】
【０１０８】
１    輝尽性蛍光体層
２    再剥離フィルム用基材
３    粘着層
４    透明薄膜フィルム
５    再剥離フィルム
６    防湿層
７    透明防湿フィルム
８    接着層
10    放射線像変換パネル
【図１】
2005195571.tif 000005
【図２】
2005195571.tif 000006