(57)【要約】      （修正有）【課題】コア層を高精度に形成することができ、光損失の少ない光導波路を作製することのできる光導波路の製法を提供する。【解決手段】基板１面に形成されたアンダークラッド層２上に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を形成し、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層面に対して、所定パターンのフォトマスクを介して紫外線を照射して露光した後、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を加熱する。加熱後の紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層の未露光部分を現像液を用いて溶解除去することによりコア層３を形成した後、コア層３上にオーバークラッド層４を形成することにより、光導波路を製造する。そして、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層が、特定式で表されるエポキシ樹脂および特定式で表されるエポキシ樹脂の少なくとも一方を含有するエポキシ樹脂を主成分とする層形成材料を用いて形成する。【選択図】図５
2005221556.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板面にアンダークラッド層を形成する工程と、上記アンダークラッド層上に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を形成する工程と、上記紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層面に対して、所定パターンのフォトマスクを介して紫外線を照射して露光する工程と、上記露光後に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を加熱する工程と、上記加熱後の紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層の未露光部分を現像液を用いて溶解除去することによりコア層を形成する工程と、上記コア層上にオーバークラッド層を形成する工程とを備えた光導波路の製法であって、上記紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層が、下記の一般式（１）で表されるエポキシ樹脂および下記の一般式（２）で表されるエポキシ樹脂の少なくとも一方を含有するエポキシ樹脂を主成分とする層形成材料を用いて形成されてなることを特徴とする光導波路の製法。
【化１】
2005221556.tif 000010
【化２】
2005221556.tif 000011
【請求項２】
上記露光後の紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層の加熱条件が、５０〜１５０℃である請求項１記載の光導波路の製法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光通信，光情報処理，その他一般光学で広く用いられる光導波路の製法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光導波路は、光導波路デバイス、光集積回路、光配線基板に組み込まれており、光通信、光情報処理、その他一般光学の分野で広く用いられている。そして、このような光導波路としては、近年、紫外線硬化性樹脂を用いて製造することが実施されている。例えば、基体に紫外線硬化性樹脂からなる層を形成し、露光，橋かけおよび未露光領域を除去して光導波路を作製する方法が提案されている（特許文献１参照）。
【０００３】
また、他の例として、基板上に下部クラッド層を形成した後、この下部クラッド層上に光硬化性樹脂層を形成して光を照射することによりコア部をパターン形成し、さらに上記コア部上に上部クラッド層を形成して光導波路を作製する方法が提案されている（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平８−１５５３７号公報
【特許文献２】特開平１０−２６８１５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このようにして得られる光導波路としては、信号の高速化に伴い、光導波路の形成されるパターンの高い加工精度が要求されている。このため、上記のように紫外線硬化性樹脂を用いて光導波路を製造する場合には、露光・現像工程にて形成されるコア部のパターン精度が重要となるが、上記工程において、本来、現像液に溶解しないはずの露光部分が多少なりとも溶解したり、現像中にコア部分にクラックが発生したりして、光導波路の機能が低下するという問題が生じていた。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、コア層を高精度に形成することができ、光損失の少ない光導波路を作製することのできる光導波路の製法の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するため、本発明の光導波路の製法は、基板面にアンダークラッド層を形成する工程と、上記アンダークラッド層上に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を形成する工程と、上記紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層面に対して、所定パターンのフォトマスクを介して紫外線を照射して露光する工程と、上記露光後に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を加熱する工程と、上記加熱後の紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層の未露光部分を現像液を用いて溶解除去することによりコア層を形成する工程と、上記コア層上にオーバークラッド層を形成する工程とを備えた光導波路の製法であって、上記紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層が、下記の一般式（１）で表されるエポキシ樹脂および下記の一般式（２）で表されるエポキシ樹脂の少なくとも一方を含有するエポキシ樹脂を主成分とする層形成材料を用いて形成されてなるという構成をとる。
【０００７】
【化１】
2005221556.tif 000003
【化２】
2005221556.tif 000004
【０００８】
すなわち、本発明者らは、コア層を高精度で製造する方法について鋭意検討を重ねた。そして、コア層の形成の際に露光に続いて加熱処理をして硬化をより完全とすることを想起した。しかし、上記のような製造工程の改良のみでは、より高精度なコア層を形成することが困難であるという知見を得、製造工程の検討に加えてコア層の形成材料についても研究を重ねた。その結果、コア層形成材料となる紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物において、多種類のエポキシ樹脂のなかでも、上記一般式（１）で表されるエポキシ樹脂および上記一般式（２）で表されるエポキシ樹脂の少なくとも一方を含有するエポキシ樹脂を用いると、上記特殊なエポキシ樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物の紫外線照射による露光および加熱処理された部分は完全硬化して現像液による溶解が生じず、一方加熱処理のみの硬化による未露光部分は現像液により溶解除去され、コア層のパターンを高精度に形成することができることを見出し本発明に到達した。
【発明の効果】
【０００９】
以上のように、本発明は、基板面に形成されたアンダークラッド層上に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を形成し、この紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層面に対して、所定パターンのフォトマスクを介して紫外線を照射して露光した後、上記露光後に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を加熱する。ついで、上記加熱後の紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層の未露光部分を現像液を用いて溶解除去することによりコア層を形成した後、上記コア層上にオーバークラッド層を形成することにより光導波路を製造する方法である。そして、上記紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層が、上記の一般式（１）で表されるエポキシ樹脂および上記の一般式（２）で表されるエポキシ樹脂の少なくとも一方を含有するエポキシ樹脂を主成分とする層形成材料を用いて形成する。このため、コア層のパターン形成時における加工精度が向上して、高精度のパターンにコア層を形成することができ、その結果、光損失の小さい信頼性に優れた光導波路を効率良く製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の光導波路の製法により得られる光導波路の一例として、図５に示す層構成のものがあげられる。この光導波路は、基板１上にアンダークラッド層２が積層形成され、さらに上記アンダークラッド層２上に所定パターンのコア層３が形成され、このコア層３を包含するようオーバークラッド層４が形成されている。
【００１１】
上記基板１材料としては、特に限定するものではなく従来公知のもの、例えば、石英ガラス板、シリコンウエハ、セラミック基板、ガラスエポキシ樹脂基板、ポリイミドフィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、銅箔やステンレス箔等の金属箔等があげられる。その厚みも、適宜に設定されるが、通常、１０μｍ〜５ｍｍの範囲に設定される。
【００１２】
上記基板１上に積層形成されるアンダークラッド層２形成材料としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等各種高分子材料が用いられるが、上記コア層３形成材料より屈折率が小さいことが必要である。具体的には、コア層３とアンダークラッド層２との屈折率の差は、０．１〜５％程度になるよう設計することが好ましい。
【００１３】
このように、上記アンダークラッド層２の形成材料として、具体的には、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂前駆体等があげられる。そして、コア層３の形成材料に用いられる紫外線硬化型樹脂組成物との接着力が良好なものを選択し用いることが好ましく、このような観点から、例えば、コア層３の形成材料として紫外線硬化型のエポキシ樹脂組成物を用いる場合は、アンダークラッド層２の形成材料としても同様にエポキシ樹脂組成物を用いることが好ましい。
【００１４】
上記アンダークラッド層２上に所定パターンに形成されるコア層３形成材料としては、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物が用いられる。そして、硬化後、光信号として用いられる波長（例えば、８５０ｎｍ、１３００ｎｍ）に対して透明であることがあげられる。
【００１５】
上記紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物は、下記の一般式（１）で表されるエポキシ樹脂および下記の一般式（２）で表されるエポキシ樹脂の少なくとも一方を含有するエポキシ樹脂を主成分とするものであって、上記一般式（１）で表されるエポキシ樹脂や一般式（２）で表されるエポキシ樹脂である特定のエポキシ樹脂を用いることを最大の特徴とする。なお、上記エポキシ樹脂を主成分とするとは、実質的に構成する主たる成分がエポキシ樹脂であることであって、その使用量のみが関係するものではなく材料（組成物）全体の基本的特性を付与するものをいう。このように、上記特定のエポキシ樹脂を用いることによって、後述するコア層３形成時の現像工程における加工精度が向上するのである。また、式（１）および式（２）において、繰り返し数ｎはそれぞれｎ＝４〜８の範囲が特に好ましい。
【００１６】
【化３】
2005221556.tif 000005
【００１７】
【化４】
2005221556.tif 000006
【００１８】
さらに、上記特定のエポキシ樹脂とともに他のエポキシ樹脂を併用することができる。他のエポキシ樹脂としては、例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環式エポキシ化合物、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、フッ素化エポキシ樹脂等のエポキシ化合物があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いることができる。なかでも、透明性，耐熱性が高いという観点から、脂環式エポキシ化合物を併用することが好ましい。このように他のエポキシ樹脂を併用する場合の併用割合は、エポキシ樹脂成分全体の２０〜８０重量％の範囲に設定することが好ましい。
【００１９】
上記エポキシ樹脂に紫外線硬化性を付与するために光重合開始剤が用いられる。上記光重合開始剤としては、特に限定するものではなく従来公知のもの、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホキソニウム塩、メタロセン化合物、鉄アレーン系化合物等があげられる。その中でも、光硬化性という観点から、芳香族スルホニウム塩を用いることが好ましく、特に芳香族スルホニウム・ヘキサフロロホスホニウム化合物、芳香族スルホニウム・ヘキサフロロアンチモネート化合物、またはその両者の併用が、硬化性および接着性等の観点から好ましい。また、上記光重合開始剤以外に、光増感剤や酸増殖剤等の添加剤を必要に応じて適宜添加することができる。
【００２０】
上記光重合開始剤の配合量は、エポキシ樹脂成分１００重量部に対して０．１〜１０重量部、より好ましくは１〜５重量部の範囲に設定することが好ましい。
【００２１】
さらに、本発明での紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物においては、必要に応じて接着性を高めるために、シラン系あるいはチタン系のカップリング剤、オレフィン系オリゴマーやノルボルネン系ポリマー等のシクロオレフィン系オリゴマーやポリマー、合成ゴム、シリコーン化合物等の可撓性付与剤等の化合物、あるいは酸化防止剤、消泡剤等を添加することもできる。
【００２２】
つぎに、上記所定パターンに形成されたコア層３を包含するオーバークラッド層４形成材料としては、好ましくは前記アンダークラッド層２形成材料と同様のものが用いられる。
【００２３】
つぎに、上記基板および各層形成材料を用いた、本発明の光導波路の製造方法について、一例をあげて説明する。
【００２４】
まず、図１に示すように、基板１上に、アンダークラッド層形成材料を用いて、乾燥後の膜厚が好ましくは５〜１００μｍとなるよう塗布し、乾燥させることによりアンダークラッド層２を形成する。また、上記アンダークラッド層形成材料が紫外線硬化型樹脂の場合は、紫外線照射を行うことによりアンダークラッド層２を形成する。そして、乾燥後あるいは紫外線照射後、さらに必要に応じてキュアを行う。
【００２５】
上記アンダークラッド層形成材料を用いての塗布方法としては、スピンコート、コーター、円コーター、バーコーター等の塗工による方法や、スクリーン印刷、スペーサを用いてギャップを形成し、そのなかに毛細管現象により注入する方法、マルチコーター等の塗工機によりロールｔｏロールで連続的に塗工する方法等を用いることができる。
【００２６】
なお、上記アンダークラッド層２と基板１との密着性を向上させるために、基板１のアンダークラッド層２形成面をシランカップリング剤やアルミニウムキレート剤を用いて表面処理してもよい。
【００２７】
つぎに、図２に示すように、上記アンダークラッド層２上に、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物を用いて樹脂層５を形成する。この樹脂層５の形成方法としては、上記アンダークラッド層形成材料を用いた場合の塗布方法と同様の方法があげられる。
【００２８】
そして、図３に示すように、上記樹脂層５に対して、所定パターンのマスク６を介して紫外線露光を行う。上記露光に際しては、特に限定するものではなく、コンタクト露光、マスク６を樹脂層５から僅かに離して行うプロキシミティ露光、投影露光法等があげられるが、より精度の向上を図る点から、コンタクト露光やプロキシミティ露光を採用することが好ましい。また、上記紫外線の露光に際しては、フィルター等を使用して平行光を用いることが好ましい。
【００２９】
また、上記コア層形成材料である紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物が、マスク６表面に付着して汚染するのを防止するため、露光時に樹脂層５上に保護層を設けることが好ましい。上記保護層形成材料としては、光透過率の高い成分としては、ＰＥＴフィルム、ガラス等があげられる。そして、上記保護層の厚みは、特に制限するものではないが、３０〜２００μｍの範囲が好ましい。すなわち、３０μｍ未満のように薄過ぎると上記材料が撓みやすく、逆に２００μｍを超えて厚みが厚いと、紫外線透過率が低下する傾向がみられるからである。さらに、上記保護層の樹脂層５側の表面には離型処理を行ってもよい。この表面処理方法としては、前述の基板１とアンダークラッド層２との密着性向上のために表面処理と同様のものがあげられる。
【００３０】
ついで、露光後の樹脂層５を加熱処理する。この加熱方法としては、例えば、ホットプレートや乾燥機等の使用による加熱方法があげられる。そして、上記加熱条件は、例えば、５０〜１５０℃、より好ましくは８０〜１２０℃で、２秒間〜１０分間、より好ましくは１０秒〜３分間に設定される。なお、前述のように樹脂層５上に保護層を設ける場合は、加熱処理した後、保護層を取り除くことが好ましい。
【００３１】
つぎに、現像液を用いて、上記加熱処理後の樹脂層５の未露光部分を溶解して現像を行うことによって、図４に示すように所定パターンのコア層３を形成する。上記現像液としては、例えば、アセトン、酢酸エチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、トルエン等を用いることができる。また、現像法としては、パドル現像、ディップ法、スプレー法等の公知の技術を用いることができる。なお、現像を行った後、必要により、さらに洗浄を行ってもよい。上記洗浄には、例えば、イソプロピルアルコール等のアルコールや蒸留水等を用いることができる。さらに、形成されたコア層３の硬化をより完全とするためにポストキュアを行ってもよい。
【００３２】
ついで、図５に示すように、上記所定パターンのコア層３が形成されたアンダークラッド層２上に、前述のオーバークラッド層形成材料を用いてオーバークラッド層４を形成する。上記オーバークラッド層４の形成方法としては、先に述べたアンダークラッド層２の形成方法と同様の方法があげられる。また、上記オーバークラッド層４形成材料とアンダークラッド層２形成材料とは同じ材料を用いることが好ましい。このようにして、基板１上にアンダークラッド層２が積層形成され、さらに上記アンダークラッド層２上に所定パターンのコア層３が形成され、このコア層３を包含するようオーバークラッド層４が形成された光導波路が製造される。
【００３３】
このようにして得られた光導波路としては、例えば、直線光導波路、曲がり光導波路、交差光導波路、Ｙ分岐光導波路、スラブ光導波路、マッハツエンダー型光導波路、ＡＷＧ型光導波路、グレーティング、光導波路レンズ等があげられる。そして、これら光導波路を用いた光素子としては、波長フィルタ，光スイッチ，光分岐器，光合波器，光合分波器，光アンプ，波長変換器，波長分割器，光スプリッタ，方向性結合器、さらにはレーザダイオードやフォトダイオードをハイブリッド集積した、光伝送モジュール等があげられる。
【００３４】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
【実施例１】
【００３５】
〔エポキシ樹脂組成物の調製〕
前記一般式（１）で表されるフッ素化エポキシ樹脂〔式（１）中、ｎ＝４〕と、脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学社製、セロキサイド２０２１Ｐ）と、光カチオン重合開始剤（旭電化社製、ＳＰ−１７０）を準備し、下記の表１に示す配合量によりコア層形成材料，アンダークラッド層形成材料およびオーバークラッド層形成材料となるエポキシ樹脂組成物をそれぞれ調製した。なお、調製した各エポキシ樹脂組成物の屈折率も併せて下記の表１に示した。屈折率の測定には、アツベ屈折率計（２５℃）を用いた。
【００３６】
【表１】
2005221556.tif 000007
【００３７】
〔アンダークラッド層の形成〕
ガラス基板（５ｃｍ×５ｃｍ×厚み２ｍｍ）を準備し、その表面に、エポキシ系シランカップリング剤（信越シリコーン社製、ＫＢＭ−４０３）の１０％エタノール溶液をスピンコータを用いて、回転数１５００ｒｐｍ×２０秒の条件で塗布した。その後、後工程で形成するアンダークラッド層との密着性を向上させるため、１１０℃×１時間の熱処理を行い、ガラス基板の表面処理を行った。
【００３８】
つぎに、スピンコータを用いて１５００ｒｐｍ×３０秒間の条件で、ガラス基板上に上記調製したアンダークラッド層形成材料を塗布した。その後、高圧水銀ランプを光源とする露光機を用いて、照度１５ｍＷ／ｃｍ2 で５分のトータル４．５Ｊ／ｃｍ2 の紫外線照射を行った後、１００℃×１時間のポストキュアを行うことにより、図１に示すように、ガラス基板１上にアンダークラッド層２を形成した。得られたアンダークラッド層２の厚みは１０μｍであった。
【００３９】
〔コア層の形成〕
つぎに、厚み５０μｍのスペーサーを上記ガラス基板１の周囲にセットし、その上に厚み１５０μｍのスライドガラス板を載置して、アンダークラッド層２との間に、５０μｍの空隙を作製し、その空隙に上記調製したコア層形成材料を注入した。ついで、上記スライドガラス板上に、幅５０μｍ×長さ５ｃｍの開口パターンを有するガラスマスクを載置し、上記ガラスマスクを介してコンタクト露光を行った。露光条件は、照度１５ｍＷ／ｃｍ2 で５０分のトータルの露光エネルギーは７５０ｍＪ／ｃｍ2 であった。露光後のコア層形成材料による膜厚は５０μｍを保っていた。
【００４０】
さらに、上記状態からガラスマスクを除去したものを、乾燥機に入れ、１００℃×３０秒の条件で加熱処理を行った。
【００４１】
つぎに、加熱処理したものを、酢酸エチル中に２０秒間浸漬して所定のパターンを現像した後、イソプロピルアルコールを用いて洗浄した。さらに、１００℃×１時間のポストキュアを行い、コア層をフルキュアすることによりアンダークラッド層２上にコア層を形成した。キュア後のコア層の断面形状は、厚み４９μｍ、パターン上部幅４８μｍでパターン下部幅５６μｍであった。
【００４２】
〔オーバークラッド層の形成〕
つぎに、図６に示すように、上記コア層３形成部の外側に、厚み７０μｍのスペーサー１２をセットし、その上に離型処理を行った厚み１５０μｍのスライドガラス板１１を載置して、コア層３との間に、２０μｍの空隙を作製し、その空隙に上記調製したオーバークラッド層形成材料を毛細管現象を利用して注入した。
【００４３】
その後、高圧水銀ランプを光源とする露光機を用いて、照度１５ｍＷ／ｃｍ2 で５分のトータルの露光エネルギー４．５Ｊ／ｃｍ2 の紫外線照射を行った後、１００℃×１時間のポストキュアを行うことにより、上記注入したオーバークラッド層形成材料を硬化させてオーバークラッド層を形成した。上記コア層上部のオーバークラッド層の厚みを測定したところ、２１μｍであった。このようにして光導波路を作製した。
【００４４】
〔評価〕
得られた実施例１品の端面を形成するため、光導波路の長手方向に対して垂直となるようにダイサーを用いて切断を行い、光導波路の両端面を形成した。このとき、光導波路長は、２ｃｍであった。そして、この光導波路に、８３０ｎｍのレーザー光を導入し、出てきた光の強度をフォトディテクタ（浜松ホトニクス社製、Ｇ−８３３６）にて検出したところ、光導波路の伝播損失は２．３ｄＢであった。
【実施例２】
【００４５】
加熱処理条件を、８０℃×３分間とした。それ以外は実施例１と同様にして光導波路を作製した。キュア後のコア層の断面形状は、厚み４９μｍ、パターン上部幅４９μｍでパターン下部幅５７μｍであった。
【００４６】
〔評価〕
得られた実施例２品の伝播損失を実施例１と同様にして検出したところ２．５ｄＢであった。
【実施例３】
【００４７】
加熱処理条件を、１２０℃×２０秒間とした。それ以外は実施例１と同様にして光導波路を作製した。キュア後のコア層の断面形状は、厚み４９μｍ、パターン上部幅４９μｍでパターン下部幅５７μｍであった。
【００４８】
〔評価〕
得られた実施例３品の伝播損失を実施例１と同様にして検出したところ３．２ｄＢであった。
【実施例４】
【００４９】
〔エポキシ樹脂組成物の調製〕
前記一般式（２）で表されるエポキシ樹脂〔式（２）中、ｎ＝４〕と、脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学社製、セロキサイド２０２１Ｐ）と、光カチオン重合開始剤（旭電化社製、ＳＰ−１７０）を準備し、下記の表２に示す配合量によりコア層形成材料，アンダークラッド層形成材料およびオーバークラッド層形成材料となるエポキシ樹脂組成物をそれぞれ調製した。なお、調製した各エポキシ樹脂組成物の屈折率も併せて下記の表２に示した。屈折率の測定には、アツベ屈折率計（２５℃）を用いた。それ以外は実施例１と同様にして光導波路を作製した。キュア後のコア層の断面形状は、厚み４９μｍ、パターン上部幅４８μｍでパターン下部幅５５μｍであった。
【００５０】
【表２】
2005221556.tif 000008
【００５１】
〔評価〕
得られた実施例４品の伝播損失を実施例１と同様にして検出したところ３．６ｄＢであった。
【００５２】
〔比較例１〕
紫外線照射による露光後に加熱処理を行わなかった。それ以外は実施例１と同様にして光導波路を作製した。その結果、現像液を用いた現像時に、露光部分も溶解してクラックが発生した。
【００５３】
〔比較例２〕
〔エポキシ樹脂組成物の調製〕
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂であるエピコート８２５（油化シェル化学社製）と、脂環式エポキシ樹脂（ダイセル化学社製、セロキサイド２０２１Ｐ）と、光カチオン重合開始剤（旭電化社製、ＳＰ−１７０）を準備し、下記の表３に示す配合量によりコア層形成材料，アンダークラッド層形成材料およびオーバークラッド層形成材料となるエポキシ樹脂組成物をそれぞれ調製した。なお、調製した各エポキシ樹脂組成物の屈折率も併せて下記の表３に示した。屈折率の測定には、アツベ屈折率計（２５℃）を用いた。それ以外は実施例１と同様にして光導波路を作製した。キュア後のコア層の断面形状は、厚み４４μｍ、パターン上部幅４２μｍでパターン下部幅３２μｍであった。
【００５４】
【表３】
2005221556.tif 000009
【００５５】
〔評価〕
得られた比較例２品の伝播損失を実施例１と同様にして検出したところ８．６ｄＢであった。このように、実施例品に比べて光導波路の伝播損失が大きくなったのは、製造工程の現像時に、特にパターン下部で現像液による溶解が進行して、パターン断面形状が逆台形状となり、さらにパターンの側面に筋状のムラが発生したためである。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明の光導波路の製法により得られる光導波路としては、例えば、直線光導波路、曲がり光導波路、交差光導波路、Ｙ分岐光導波路、スラブ光導波路、マッハツエンダー型光導波路、ＡＷＧ型光導波路、グレーティング、光導波路レンズ等があげられる。そして、上記光導波路を用いてなる光素子としては、波長フィルタ，光スイッチ，光分岐器，光合波器，光合分波器，光アンプ，波長変換器，波長分割器，光スプリッタ，方向性結合器、さらにはレーザダイオードやフォトダイオードをハイブリッド集積した、光伝送モジュール等があげられる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の光導波路の製造工程を示す横断面図である。
【図２】本発明の光導波路の製造工程を示す横断面図である。
【図３】本発明の光導波路の製造工程を示す横断面図である。
【図４】本発明の光導波路の製造工程を示す横断面図である。
【図５】本発明の光導波路の製法により得られる光導波路の構造を示す横断面図である。
【図６】実施例で作製した光導波路の構造を示す横断面図である。
【符号の説明】
【００５８】
１  基板
２  アンダークラッド層
３  コア層
４  オーバークラッド層
５  樹脂層
６  マスク
【図１】
2005221556.tif 000012
【図２】
2005221556.tif 000013
【図３】
2005221556.tif 000014
【図４】
2005221556.tif 000015
【図５】
2005221556.tif 000016
【図６】
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