(57)【要約】【課題】  ヒステリシス損の低減が十分に図られた軟磁性材料の製造方法を提供する。【解決手段】  軟磁性材料の製造方法は、軟磁性体を含む溶湯を準備する工程と、アトマイズ急冷凝固法により、磁場中において溶湯から軟磁性粒子を形成する工程とを備える。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
軟磁性体を含む溶湯を準備する工程と、
アトマイズ急冷凝固法により、磁場中において前記溶湯から軟磁性粒子を形成する工程とを備える、軟磁性材料の製造方法。
【請求項２】
前記軟磁性粒子を形成する工程は、８．０×１０５（Ａ／ｍ）を超える磁場中において軟磁性粒子を形成する工程を含む、請求項１に記載の軟磁性材料の製造方法。
【請求項３】
軟磁性粒子を形成する工程と、
磁場中において、前記軟磁性粒子を熱処理する工程とを備える、軟磁性材料の製造方法。
【請求項４】
前記軟磁性粒子を熱処理する工程は、８．０×１０５（Ａ／ｍ）を超える磁場中において前記軟磁性粒子を熱処理する工程を含む、請求項３に記載の軟磁性材料の製造方法。
【請求項５】
軟磁性粒子を加圧成形することによって成形体を形成する工程と、
磁場中において、前記成形体を熱処理する工程とを備える、軟磁性材料の製造方法。
【請求項６】
前記成形体を熱処理する工程は、８．０×１０５（Ａ／ｍ）を超える磁場中において、前記成形体を熱処理する工程を含む、請求項５に記載の軟磁性材料の製造方法。
【請求項７】
前記熱処理する工程は、前記軟磁性粒子の再結晶温度を超える温度で熱処理する工程を含む、請求項３から６のいずれか１項に記載の軟磁性材料の製造方法。
【請求項８】
超電導コイルに電流を流すことによって磁場を形成する、請求項１から７のいずれか１項に記載の軟磁性材料の製造方法。
【請求項９】
前記超電導コイルは、酸化物材料の高温超電導体によって形成されている、請求項８に記載の軟磁性材料の製造方法。
【請求項１０】
前記軟磁性粒子は、主成分として鉄を含む、請求項１から９のいずれか１項に記載の軟磁性材料の製造方法。
【請求項１１】
前記軟磁性粒子には、前記軟磁性粒子の表面を取り囲む絶縁被膜が形成されている、請求項１から１０のいずれか１項に記載の軟磁性材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、軟磁性材料の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、軟磁性材料を用いて、モーター、変圧器、トランス、ノイズフィルターおよびチョークコイルなどの電気電子部品を作製することが知られている。たとえば、鉄を主成分とする軟磁性粉末を加圧成形して成形体を形成し、その成形体に適当な加工を施すことによってこれらの電気電子部品を作製することができる。
【０００３】
しかし近年において、電気電子部品の高密度化および小型化が図られており、より精密な制御を小電力で行なうことが要求されている。この要求に応えるため、電気電子部品に用いられる軟磁性材料のヒステリシス損を低減させる、つまり、軟磁性材料の透磁率を大きくし、保磁力を小さくする必要がある。そして、このようにヒステリシス損の低減を図った高周波用圧粉磁心およびその製造方法が、特開平８−１６７５１８号公報に開示されている（特許文献１）。
【０００４】
特許文献１に開示されている高周波用圧粉磁心の製造方法によれば、磁場発生コイルによって１Ｔ（テスラ）の磁場を発生させ、その磁場中において鉄を主成分とする形状異方性軟磁性粉末の加圧成形を行なう。
【特許文献１】特開平８−１６７５１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし鉄を主成分とする軟磁性粉末は、元々、ケイ素鋼板材やフェライトと比較して透磁率が小さく、保持力が大きい。このため、特許文献１に開示された高周波用圧粉磁心およびその製造方法によっても、ヒステリシス損の低減が十分に図られていないのが現状である。
【０００６】
そこでこの発明の目的は、上述の課題を解決することであり、ヒステリシス損の低減が十分に図られた軟磁性材料の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
発明者等は、以下に挙げる方法によって、軟磁性材料の透磁率を大きくし保磁力を小さくできることを知見した。
１、軟磁性粒子内の各結晶を磁化容易軸方向に配向させる。
２、軟磁性粒子内の粒界を減らす。つまり、軟磁性粒子内の結晶を大きくすることによって結晶数を減らす。最終的には、軟磁性粒子の単結晶化を図る。
３、軟磁性粒子内の不純物の割合を低減し、高純度化を図る。
４、軟磁性粒子内の歪み（転位、欠陥）を低減する。
【０００８】
発明者等は、この知見に基づいて、本発明による軟磁性材料の製造方法を完成させるに至った。なお、本明細書において言う軟磁性材料は、軟磁性粒子や軟磁性粒子を加圧成形して得られる軟磁性成形体のみならず、たとえば、その軟磁性成形体に押出し加工を施して得られる押出し材などを含む。
【０００９】
この発明の１つの局面に従った軟磁性材料の製造方法は、軟磁性体を含む溶湯を準備する工程と、アトマイズ急冷凝固法により、磁場中において溶湯から軟磁性粒子を形成する工程とを備える。
【００１０】
このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、軟磁性粒子の結晶化の段階において磁場を与えてやると、軟磁性粒子を構成する各結晶は、エネルギー的に有利になるように磁化容易軸方向に磁化されようとする。この結晶磁気異方性を利用することによって、軟磁性粒子内の各結晶を磁化容易軸方向に配向させることができる。また、磁場の影響によって、軟磁性粒子内のドメイン数が減少するため、粒界を減らすことができる。さらに、磁場の影響によって、軟磁性粒子の結晶化時に不純物が外部に析出されるため、高純度化を図ることができる。さらに、磁場の影響によって、格子配列が適正化されるため、転位や応力歪みを低減させることができる。以上の理由から、本発明によれば、ヒステリシス損の低減が十分に図られた軟磁性材料を提供することができる。
【００１１】
また好ましくは、軟磁性粒子を形成する工程は、８．０×１０５（Ａ／ｍ）を超える磁場中において軟磁性粒子を形成する工程を含む。このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、８．０×１０５（Ａ／ｍ）、つまり１０（ｋＯｅ：キロエルステッド）を超える磁場を与えることによって、磁場の影響を増大させることができる。これにより、ヒステリシス損の低減がさらに図られた軟磁性材料を提供することができる。
【００１２】
この発明の別の局面に従った軟磁性材料の製造方法は、軟磁性粒子を形成する工程と、磁場中において、軟磁性粒子を熱処理する工程とを備える。
【００１３】
このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、結晶磁気異方性を利用することによって、軟磁性粒子内の各結晶を磁化容易軸方向に配向させることができる。また、磁場の影響によって、軟磁性粒子内のドメイン数が減少するため、粒界を減らすことができる。さらに、磁場の影響によって、軟磁性粒子の再結晶時に不純物が外部に析出されるため、高純度化を図ることができる。さらに、磁場の影響によって、格子配列が適正化されるため、転位や応力歪みを低減させることができる。以上の理由から、本発明によれば、ヒステリシス損の低減が十分に図られた軟磁性材料を提供することができる。
【００１４】
また好ましくは、軟磁性粒子を熱処理する工程は、８．０×１０５（Ａ／ｍ）を超える磁場中において軟磁性粒子を熱処理する工程を含む。このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、１０（ｋＯｅ）を超える磁場を与えることによって、磁場の影響を増大させることができる。これにより、ヒステリシス損の低減がさらに図られた軟磁性材料を提供することができる。
【００１５】
この発明のさらに別の局面に従った軟磁性材料の製造方法によれば、軟磁性粒子を加圧成形することによって成形体を形成する工程と、磁場中において、成形体を熱処理する工程とを備える。
【００１６】
このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、結晶磁気異方性を利用することによって、軟磁性粒子内の各結晶を磁化容易軸方向に配向させることができる。また、磁場の影響によって、軟磁性粒子内のドメイン数が減少するため、粒界を減らすことができる。さらに、磁場の影響によって、軟磁性粒子の再結晶時に不純物が外部に析出されるため、高純度化を図ることができる。さらに、磁場の影響によって、格子配列が適正化されるため、転位や応力歪みを低減させることができる。以上の理由から、本発明によれば、ヒステリシス損の低減が十分に図られた軟磁性材料を提供することができる。
【００１７】
また好ましくは、成形体を熱処理する工程は、８．０×１０５（Ａ／ｍ）を超える磁場中において、成形体を熱処理する工程を含む。このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、１０（ｋＯｅ）を超える磁場を与えることによって、磁場の影響を増大させることができる。これにより、ヒステリシス損の低減がさらに図られた軟磁性材料を提供することができる。
【００１８】
また好ましくは、熱処理する工程は、軟磁性粒子の再結晶温度を超える温度で熱処理する工程を含む。このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、結晶を配向させやすい状態にまで加熱することができる。
【００１９】
また好ましくは、超電導コイルに電流を流すことによって磁場を形成する。このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、大きい磁場を容易に形成することができる。
【００２０】
また好ましくは、超電導コイルは、酸化物材料の高温超電導体によって形成されている。高温超電導体とは、３０Ｋ以上という比較的高い温度で超伝導を示すものを言う。このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、超電導コイルの冷却装置が簡易となるため、軟磁性材料の製造コストを低く抑えることができる。
【００２１】
また好ましくは、軟磁性粒子は、主成分として鉄を含む。ここでは、軟磁性粒子に鉄が９０原子％以上含まれている場合を指す。このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、高い磁束密度を有する軟磁性材料を得ることができる。これにより、フェライト材などを用いた場合と比較して、軟磁性材料を用いた電気電子部品の小型化を図ることができる。
【００２２】
また好ましくは、軟磁性粒子には、軟磁性粒子の表面を取り囲む絶縁被膜が形成されている。このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、軟磁性粒子間の絶縁を図ることによって、軟磁性粒子間を流れる渦電流による損失を低減することができる。なお好ましくは、軟磁性粒子または成形体を熱処理する工程は、絶縁被膜の耐熱温度より低い温度で熱処理する工程を含む。この場合、熱処理によって、絶縁被膜の絶縁特性が低下することを防止できる。
【００２３】
絶縁被膜が非磁性材料の場合には、１０（ｋＯｅ）を超える磁場を印加することによって、磁気的特性のさらなる改善を期待することができる。また、絶縁被膜は、軟磁性粒子の再結晶温度（鉄の場合には４００℃程度）以上で絶縁性が保持される等の耐熱性を有する材料であることが好ましい。このような材料としては、たとえば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２およびＺｒＯ２などの酸化物材料が挙げられる。
【００２４】
また、ここでいう成形体には、加圧成形直後のものと、加圧成形後に切削加工等の工程を経た製品形状のものとを含む。その成形体を複数個準備し、製品の磁気回路に沿った方向に組み合わせて製品とすることも可能である。
【発明の効果】
【００２５】
以上説明したように、この発明によれば、ヒステリシス損の低減が十分に図られた軟磁性材料の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
この発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００２７】
（実施の形態１）
図１は、この発明の実施の形態１における軟磁性材料の製造方法に用いられるアトマイズ装置を示す断面図である。図１を参照して、アトマイズ装置１１は、真空誘導炉１２と、真空誘導炉１２の下方に設けられた注湯口１４および噴霧塔２０と、注湯口１４および噴霧塔２０の間を接続する溶湯導入管２１と、溶湯導入管２１および噴霧塔２０の周りにそれぞれ設けられた超電導コイル１８および１９とを備える。真空誘導炉１２は、真空ポンプに接続された図示しない溶解室に囲まれている。溶湯導入管２１が噴霧塔２０に接続する部分には、噴射ノズル１５が形成されている。噴霧塔２０の底面には、粉末回収管１７が接続されている。
【００２８】
以下、図１中のアトマイズ装置１１を用いて軟磁性粉末を形成する方法について説明する。まず、軟磁性粉末の原料となる原料塊、たとえば鉄塊を真空誘導炉１２内に投入する。真空誘導炉１２に高周波電源を導入する。これにより、真空誘導炉１２内の原料塊は溶解され、溶湯１３とされる。なお、真空誘導炉１２は、真空雰囲気でなく、不活性ガスを満たす方式であっても良い。
【００２９】
次に、超電導コイル１８および１９に電流を導入することによって、溶湯導入管２１および噴霧塔２０の内部に磁場を印加する。このとき、印加する磁場は、１０（ｋＯｅ）を超えていることが好ましい。磁場を印加した状態を維持したまま、真空誘導炉１２内の溶湯１３を注湯口１４に供給する。溶湯１３は、磁場が印加されている溶湯導入管２１を通過し、さらに、噴射ノズル１５から噴霧塔２０の内部に向けて噴霧される。溶湯１３は、噴霧されると同時に磁場が印加されている噴霧塔２０内で急冷される。結果、軟磁性粉末２６が形成され、粉末回収管１７を介してこの軟磁性粉末２６を回収する。
【００３０】
図２は、図１中のアトマイズ装置を用いて形成された軟磁性粉末を拡大して示す模式図である。図２を参照して、軟磁性粉末２６は、結晶粒界２７ｐによって隔てられた複数の結晶２７によって構成されている。なお、図中では、簡単のため３つの結晶２７を示したが、結晶２７の数はこれに限定されるものではない。結晶２７の各々は、磁化容易軸２８に沿って配向されている。図１中の溶湯１３は、注湯口１４に供給されたあと冷却が進むことによって、内部で結晶化が起こる。この結晶化を伴う溶湯１３に磁場を印加することによって、形成される結晶２７の各々は、磁化容易軸２８方向に配向される。以下、軟磁性粉末２６がこのように磁化容易軸２８方向に配向される原理について説明する。
【００３１】
図３は、Ｆｅ（鉄）単結晶の磁化曲線を示すグラフである。図３を参照して、縦軸に４π×Ｍ（磁化）、横軸にＨ（磁界）をとっている。曲線３８は、磁化容易軸である＜１００＞方向の磁化曲線を表わし、曲線３９は、磁化困難軸である＜１１１＞方向の磁化曲線を表わす。両者を比較して、＜１００＞方向の方が小さいエネルギーで磁化することができ、曲線３８と曲線３９との間に挟まれた領域が、そのエネルギー差を示している。
【００３２】
超電導コイルによって、＜１１１＞方向（矢印３４に示す磁気モーメントの方向）に磁場を印加したとする。この場合、軟磁性粉末は、初め矢印３１の示す方向に沿った磁化曲線をたどって磁化される。やがて、軟磁性粉末は、エネルギー的に有利になるように＜１００＞方向（線分３５に沿った方向）に回転を始め、このとき矢印３２の示す方向に沿って磁化される。そして、軟磁性粉末は、磁気モーメントの方向と＜１００＞方向とが一致したとき回転を止め、その後、矢印３３の示す方向に沿った磁化曲線をたどって磁化される。この結果、軟磁性粉末は、磁化容易軸である＜１００＞方向に配向されて形成される。
【００３３】
図２を参照して、磁場を印加した状態で軟磁性粉末を形成した結果、さらに、軟磁性粉末２６内の結晶２７の数を少なくすることができる。この場合、磁化の妨げとなる結晶粒界２７ｐを減らすことができる。また、磁場を印加した結果、軟磁性粉末２６内の高純度化を図り、さらに、転位や応力歪みを低減させることができる。
【００３４】
この発明の実施の形態１における軟磁性材料の製造方法は、軟磁性体を含む溶湯１３を準備する工程と、アトマイズ急冷凝固法により、磁場中において溶湯１３から軟磁性粒子としての軟磁性粉末２６を形成する工程とを備える。
【００３５】
このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、軟磁性成形体を形成する場合の原料となる軟磁性粉末の段階から、磁気的特性の適正化（透磁率を大きく、保磁力を小さくする）を図ることができる。このため、この軟磁性粉末を用いることによって、ヒステリシス損が十分に抑えられた電気電子部品を作製することができる。
【００３６】
なお、本実施の形態では、溶湯導入管２１および噴霧塔２０の周りにそれぞれ超電導コイル１８および１９を設けたが、いずれか一方に超電導コイルを設けるだけでも良い。また、磁場を印加する手段は、超電導コイルに限定されず、通常のコイルを用いても良い。さらに、アトマイズ装置１１は、水アトマイズ法やガスアトマイズ法などのいずれの方法を用いたものであっても良い。
【００３７】
また、溶湯１３が噴射ノズル１５から噴霧されることによって、軟磁性粉末２６が扁平粉として得られる場合がある。この場合、軟磁性粉末２６の長径方向に磁化容易軸を揃えることができるため、磁気的特性を適正化するという効果をより大きく得ることができる。
【００３８】
（実施の形態２）
図４は、この発明の実施の形態２における軟磁性材料の製造方法に用いられる熱処理装置を示す断面図である。図４を参照して、熱処理装置４０は、容器内の軟磁性粉末４１を囲むように設けられた加熱ヒーター４２と、加熱ヒーター４２の外側に設けられた超電導コイル４４と、加熱ヒーター４２および超電導コイル４４の間に介在する断熱部材４３とを備える。
【００３９】
以下、図４中の熱処理装置４０を用いて軟磁性粉末を熱処理する方法について説明する。まず、アトマイズ法によって、たとえば鉄粉などの軟磁性粉末４１を作製する。さらに、軟磁性粉末４１の表面を覆うように絶縁被膜を形成しても良い。続いて、得られた軟磁性粉末４１を熱処理装置４０の容器内に投入する。そして、超電導コイル４４に電流を導入することによって、軟磁性粉末４１に磁場を印加する。このとき、印加する磁場は、１０（ｋＯｅ）を超えていることが好ましい。
【００４０】
次に、磁場を印加した状態を維持したまま、加熱ヒーター４２に通電し、軟磁性粉末４１を熱処理する。軟磁性粉末４１は、再結晶温度を超える温度にまで加熱され、その後、内部で再結晶化が起こる。この再結晶化を伴う軟磁性粉末４１には磁場が印加されているため、形成される結晶の各々は、磁化容易軸方向に配向される。
【００４１】
また、磁場を印加した結果、軟磁性粉末４１内の結晶数を少なくすることができる。これにより、磁化の妨げとなる結晶粒界を減らすことができる。また、磁場を印加した結果、軟磁性粉末４１内の高純度化を図り、さらに、転位や応力歪みを低減させることができる。
【００４２】
この発明の実施の形態２に従った軟磁性材料の製造方法は、軟磁性粉末４１を形成する工程と、磁場中において、軟磁性粉末４１を熱処理する工程とを備える。このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、実施の形態１に記載の効果と同様の効果を奏することができる。
【００４３】
（実施の形態３）
図５は、この発明の実施の形態３における軟磁性材料の製造方法に用いられる熱処理装置を示す断面図である。図５を参照して、熱処理装置７１は、加熱ヒーター４２に囲まれた位置に軟磁性成形体７２が位置決めされることを除いて、図４中の熱処理装置４０と同様の構造を備える。
【００４４】
以下、図５中の熱処理装置７１を用いて軟磁性成形体を熱処理する方法について説明する。まず、準備された軟磁性粉末を加圧成形することによって、軟磁性成形体７２を作製する。続いて、軟磁性成形体７２を熱処理装置７１内の所定位置にセットする。そして、超電導コイル４４に電流を導入することによって、軟磁性成形体７２に磁場を印加する。このとき、印加する磁場は、１０（ｋＯｅ）を超えていることが好ましい。
【００４５】
次に、磁場を印加した状態を維持したまま、加熱ヒーター４２に通電し、軟磁性成形体７２を熱処理する。軟磁性成形体７２は、再結晶温度を超える温度にまで加熱され、その後、軟磁性成形体７２を構成する軟磁性粉末内で再結晶化が起こる。この再結晶化を伴う軟磁性粉末には磁場が印加されているため、形成される結晶の各々は、磁化容易軸方向に配向される。
【００４６】
また、磁場を印加した結果、軟磁性成形体７２を構成する軟磁性粉末内の結晶数を少なくすることができる。これにより、磁化の妨げとなる結晶粒界を減らすことができる。また、磁場を印加した結果、軟磁性粉末内の高純度化を図り、さらに、転位や応力歪みを低減させることができる。この場合、熱処理温度が低温であっても一定も効果を得ることができる。
【００４７】
この発明の実施の形態３に従った軟磁性材料の製造方法は、軟磁性粒子を加圧成形することによって成形体としての軟磁性成形体７２を形成する工程と、磁場中において、軟磁性成形体７２を熱処理する工程とを備える。このように構成された軟磁性材料の製造方法によれば、加圧成形後において、磁気的特性の適正化（透磁率を大きく、保磁力を小さくする）を図ることができる。このため、この軟磁性成形体７２を用いることによって、ヒステリシス損が十分に抑えられた電気電子部品を作製することができる。
【００４８】
以上に説明した実施の形態１から３の軟磁性材料の製造方法を適宜組み合わせても良い。この場合、互いの製造方法の相乗効果によって、ヒステリシス損がさらに抑えられた電気電子部品を作製することができる。
【００４９】
また、実施の形態２および３における熱処理温度を以下の温度に設定することによって、それぞれ所定の効果を得ることができると考えられる。まず、熱処理温度を軟磁性粉末の融点（鉄の場合１５３５℃）以上に設定した場合、原子レベルの内部磁場が流動的になるため、その内部磁場の適正化を図ることができる。また、熱処理温度を軟磁性粉末のキュリー温度（鉄の場合７７０℃）以上軟磁性粉末の融点未満に設定した場合、軟磁性粉末は常磁性の性質を示すが、磁場の印加による一定の効果を期待することができる。また、熱処理温度を軟磁性材料の再結晶温度（鉄の場合３００℃から４００℃程度）以上キュリー温度未満とした場合、軟磁性粉末は強磁性の性質を示すため、スピン間の交換相互作用や磁区構造により、磁場の印加による効果を大きく期待することができる。
【００５０】
なお、磁場を印加することによって軟磁性粉末のキュリー温度が高温側にシフトする可能性が考えられる。この場合、熱処理温度をキュリー温度（鉄の場合７７０℃）より高い温度に設定したとしても、強磁性の性質を示す軟磁性粉末に所定の熱処理を行なうことができる。また別に、軟磁性粉末が絶縁被膜によって覆われている場合には、熱処理温度を絶縁被膜の耐熱温度以下に設定することによって、熱処理時、絶縁被膜が破壊されることを防止できる。
【実施例】
【００５１】
実施の形態１から３に記載の軟磁性材料の製造方法による効果を確認するために、以下の表１に示す検証を行なった。
【００５２】
【表１】
2005054265.tif 000003
【００５３】
表１を参照して、実施の形態１から３に記載の軟磁性材料の製造方法に従った軟磁性成形体と、比較例の軟磁性成形体とを作製した。次に、作製された軟磁性成形体の磁気的特性（１００（Ｏｅ）の磁場を印加した場合の磁束密度Ｂ１００、透磁率および保磁力）を測定した。測定の結果、比較例の軟磁性成形体に比べて、実施の形態に従った全ての軟磁性成形体において、Ｂ１００および透磁率が大きくなり、保磁力が小さくなった。このことから、本発明によれば、ヒステリシス損を十分に低減できることを確認できた。
【００５４】
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】この発明の実施の形態１における軟磁性材料の製造方法に用いられるアトマイズ装置を示す断面図である。
【図２】図１中のアトマイズ装置を用いて形成された軟磁性粉末を拡大して示す模式図である。
【図３】Ｆｅ単結晶の磁化曲線を示すグラフである。
【図４】この発明の実施の形態２における軟磁性材料の製造方法に用いられる熱処理装置を示す断面図である。
【図５】この発明の実施の形態３における軟磁性材料の製造方法に用いられる熱処理装置を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１３  溶湯、２６，４１  軟磁性粉末、７２  軟磁性成形体。
【図１】
2005054265.tif 000004
【図２】
2005054265.tif 000005
【図３】
2005054265.tif 000006
【図４】
2005054265.tif 000007
【図５】
2005054265.tif 000008