(57)【要約】【課題】  優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することが可能なマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンならびにリア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】  本発明のマイクロレンズ基板１は、複数の第１のマイクロレンズ１１と、第１のマイクロレンズ１１同士の間に位置し、第１のマイクロレンズ１１よりも小さい複数の第２のマイクロレンズ１２とが基板上に設けられている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロレンズを形成するための基板上に複数の凹部が設けられているマイクロレンズ用凹部付き基板であって、
前記複数の凹部は、複数の第１の凹部と、
前記第１の凹部同士の間に位置し、前記第１の凹部よりも小さい複数の第２の凹部とを含むことを特徴とするマイクロレンズ用凹部付き基板。
【請求項２】
前記複数の第１の凹部は、格子状もしくは略格子状に配置されている請求項１に記載のマイクロレンズ用凹部付き基板。
【請求項３】
前記複数の第１の凹部は、千鳥状もしくは略千鳥状に配置されている請求項１に記載のマイクロレンズ用凹部付き基板。
【請求項４】
前記第１の凹部の周縁と前記第２の凹部の周縁とは、前記基板に平行な１つの面上に位置している請求項１ないし３のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板。
【請求項５】
前記第１の凹部および前記第２の凹部のそれぞれは、円形もしくは略円形をなしている請求項１ないし４のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板。
【請求項６】
前記第２の凹部は、前記第１の凹部同士の間の平坦部を無くすように配置されている請求項１ないし５のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板。
【請求項７】
前記第１の凹部の周縁と前記第２の凹部の周縁とは、互いに接している請求項５または６に記載のマイクロレンズ用凹部付き基板。
【請求項８】
前記第２の凹部よりも小さい第３の凹部をさらに有し、前記第３の凹部は、前記第１の凹部同士の間で、かつ、前記第２の凹部が形成されている以外の領域に位置している請求項１ないし７のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて製造されたことを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項１０】
複数のマイクロレンズが基板上に形成されたマイクロレンズ基板であって、
前記複数のマイクロレンズは、複数の第１のマイクロレンズと、
前記第１のマイクロレンズ同士の間に位置し、前記第１のマイクロレンズよりも小さい複数の第２のマイクロレンズとを含むことを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載のマイクロレンズ基板を備えることを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１２】
請求項９または１０に記載のマイクロレンズ基板を備えることを特徴とするリア型プロジェクタ。
【請求項１３】
マイクロレンズを形成するための基板上に複数の凹部を形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、
前記基板上に複数の凹部を形成する第１の凹部形成工程と、
前記第１の凹部形成工程で形成された前記凹部同士の間に、該凹部とは異なる大きさの複数の凹部を形成する第２の凹部形成工程とを有することを特徴とするマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項１４】
前記第１の凹部形成工程で形成された前記凹部は、第１の凹部であり、前記第２の凹部形成工程で形成された前記凹部は、前記第１の凹部よりも小さい第２の凹部である請求項１３に記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項１５】
前記基板上に形成されたマスクに複数の開口を形成した後に、前記基板をエッチングすることによって、前記第１の凹部および前記第２の凹部を前記基板上に形成する請求項１４に記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項１６】
前記基板上にマスクを形成し、前記マスクに複数の第１の開口を形成した後に、前記基板をエッチングすることによって、前記基板に前記第１の凹部を形成し、その後、前記基板に新たなマスクを形成し、前記新たなマスクに複数の第２の凹部を形成した後に、前記基板をエッチングすることによって、前記基板に第２の凹部を形成する請求項１４または１５に記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項１７】
エッチング可能なマスクを前記基板上に所定の厚さで形成し、前記マスクに、複数の第１の開口と、前記第１の開口よりも浅い第２の開口とを形成した後に、前記基板をエッチングすることによって、前記基板に前記第１の凹部および前記第２の凹部を形成する請求項１４または１５に記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項１８】
マイクロレンズ用の凹部を基板上に形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、
前記基板上に形成されたマスクに、複数の第１の開口を形成する工程と、
前記複数の第１の開口が形成された後の前記マスクを介して前記基板に第１のエッチング処理を施して、複数の凹部を前記基板上に形成する工程と、
前記第１のエッチング処理が施された後の前記基板上に形成されたマスクに対し、前記第１の開口同士の間に、複数の第２の開口を形成する工程と、
前記複数の第２の開口が形成された後の前記マスクを介して前記基板に第２のエッチング処理を施して、前記第１のエッチング処理によって形成された前記凹部とは大きさの異なる複数の凹部を前記基板上に形成する工程とを有することを特徴とするマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項１９】
マイクロレンズ用の凹部を基板上に形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、
エッチング可能なマスクを所定の厚さで前記基板上に形成し、前記マスクに、複数の第１の開口を形成するとともに、前記第１の開口同士の間に、前記第１の開口よりも浅い複数の第２の開口を形成する工程と、
前記複数の第１の開口および前記複数の第２の開口が形成された後の前記マスクを介して、前記基板にエッチング処理を施して、大きさの異なる２種の凹部を前記基板上に形成する工程とを有することを特徴とするマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタおよびマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
スクリーン上に画像を投影する表示装置が知られている。このような表示装置としては、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に適用されるリア型プロジェクタが知られている。
リア型プロジェクタとして、マイクロレンズを有するレンズ基板（マイクロレンズ基板）を備えたものが知られている。このようなマイクロレンズ基板を備えたリア型プロジェクタにおいては、マイクロレンズの光屈折作用により、スクリーンの水平方向および上下方向ともに視野角特性が向上するという利点がある。
【０００３】
従来、マイクロレンズ基板としては、１種の大きさで略円形などをなす複数のマイクロレンズを基板上に千鳥格子状などに配設するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。このようなマイクロレンズ基板は、マイクロレンズ同士の間の比較的大きな領域で、マイクロレンズによる集光効果の得られない平坦部が形成されることとなる。この平坦部は、マイクロレンズ基板に照射された光を集光できずに、直進光のまま透過させてしまう。その結果、このようなマイクロレンズ基板を用いたリア型プロジェクタでは、十分な視野角特性が得られない。
【０００４】
【特許文献１】特表平５−５０９４１６号公報（Ｆｉｇ．１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することが可能なマイクロレンズ用凹部付き基板を提供すること、また、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供すること、さらに、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することが可能なマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板は、マイクロレンズを形成するための基板上に複数の凹部が設けられているマイクロレンズ用凹部付き基板であって、
前記複数の凹部は、複数の第１の凹部と、
前記第１の凹部同士の間に位置し、前記第１の凹部よりも小さい複数の第２の凹部とを含むことを特徴とする。
これにより、基板上における第１の凹部同士の間の領域が第２の凹部によって有効利用されるとともに、前記領域での平坦部の面積が低減されるので、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することが可能なマイクロレンズ用凹部付き基板が得られる。
【０００７】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板では、前記複数の第１の凹部は、格子状もしくは略格子状に配置されていることが好ましい。
これにより、第１の凹部における、マイクロレンズの有効レンズ領域に対応する部分を十分に利用しつつ、密に第１の凹部を基板上に形成することが可能となり、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板によって製造されたマイクロレンズ基板の視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、第１の凹部が規則的に基板上に位置しているので、第２の凹部が形成されるべき領域も基板上に規則的に位置することとなり、第１の凹部および第２の凹部を前記基板上に形成するに際してこれらの位置決めが容易となる。
【０００８】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板では、前記複数の第１の凹部は、千鳥状もしくは略千鳥状に配置されていることが好ましい。
これにより、第１の凹部における、マイクロレンズの有効レンズ領域に対応する部分を十分に利用しつつ、より密に第１の凹部を基板上に形成することが可能となり、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板によって製造されたマイクロレンズ基板の視野角特性を特に優れたものとすることができる。また、第１の凹部が規則的に基板上に位置しているので、第２の凹部が形成されるべき領域も基板上に規則的に位置することとなり、第１の凹部および第２の凹部を前記基板上に形成するに際してこれらの位置決めが容易となる。
【０００９】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板では、前記第１の凹部の周縁と前記第２の凹部の周縁とは、前記基板に平行な１つの面上に位置していることが好ましい。
これにより、第１の凹部および第２の凹部における、マイクロレンズの有効レンズ領域に対応する部分が効果的に形成されるので、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板によって製造されたマイクロレンズ基板の視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１０】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板では、前記第１の凹部および前記第２の凹部のそれぞれは、円形もしくは略円形をなしていることが好ましい。
これにより、第１の凹部および第２の凹部における、マイクロレンズの有効レンズ領域に対応する部分が効果的に形成されるので、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板によって製造されたマイクロレンズ基板の視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１１】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板では、前記第２の凹部は、前記第１の凹部同士の間の平坦部を無くすように配置されていることが好ましい。
これにより、第１の凹部および第２の凹部における、マイクロレンズの有効レンズ領域に対応する部分を十分に利用しつつ、基板上における第１の凹部および第２の凹部を形成すべき領域を最大限利用して、第１の凹部および第２の凹部が基板上に形成されることとなるので、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板によって製造されたマイクロレンズ基板の視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１２】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板では、前記第１の凹部の周縁と前記第２の凹部の周縁とは、互いに接していることが好ましい。
これにより、第１の凹部および第２の凹部における、マイクロレンズの有効レンズ領域に対応する部分を十分に利用しつつ、基板上における第１の凹部および第２の凹部を形成すべき領域を最大限利用して、第１の凹部および第２の凹部が基板上に形成されることとなるので、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板によって製造されたマイクロレンズ基板の視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１３】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板では、前記第２の凹部よりも小さい第３の凹部をさらに有し、前記第３の凹部は、前記第１の凹部同士の間で、かつ、前記第２の凹部が形成されている以外の領域に位置していることが好ましい。
これにより、第３の凹部によって第１の凹部同士の間での平坦部の面積がさらに低減されるので、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板によって製造されたマイクロレンズ基板の視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明のマイクロレンズ基板は、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を得ることができる。
本発明のマイクロレンズ基板は、複数のマイクロレンズが基板上に形成されたマイクロレンズ基板であって、
前記複数のマイクロレンズは、複数の第１のマイクロレンズと、
前記第１のマイクロレンズ同士の間に位置し、前記第１のマイクロレンズよりも小さい複数の第２のマイクロレンズとを含むことを特徴とする。
これにより、基板上における第１のマイクロレンズ同士の間の領域が第２のマイクロレンズによって有効利用されるとともに、前記領域での平坦部の面積が低減されるので、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板が得られる。
【００１５】
本発明の透過型スクリーンは、本発明のマイクロレンズ基板を備えることを特徴とする。
これにより、優れた視野角特性を有する透過型スクリーンを得ることができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明のマイクロレンズ基板を備えることを特徴とする。
これにより、優れた視野角特性を有するリア型プロジェクタを得ることができる。
【００１６】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法は、マイクロレンズを形成するための基板上に複数の凹部を形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、
前記基板上に複数の凹部を形成する第１の凹部形成工程と、
前記第１の凹部形成工程で形成された前記凹部同士の間に、該凹部とは異なる大きさの複数の凹部を形成する第２の凹部形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することができるマイクロレンズ用凹部付き基板を製造できる。
【００１７】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記第１の凹部形成工程で形成された前記凹部は、第１の凹部であり、前記第２の凹部形成工程で形成された前記凹部は、前記第１の凹部よりも小さい第２の凹部であることが好ましい。
これにより、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することができるマイクロレンズ用凹部付き基板を製造できる。
【００１８】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記基板上に形成されたマスクに複数の開口を形成した後に、前記基板をエッチングすることによって、前記第１の凹部および前記第２の凹部を前記基板上に形成することが好ましい。
これにより、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することができるマイクロレンズ用凹部付き基板を製造できる。
【００１９】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記基板上にマスクを形成し、前記マスクに複数の第１の開口を形成した後に、前記基板をエッチングすることによって、前記基板に前記第１の凹部を形成し、その後、前記基板に新たなマスクを形成し、前記新たなマスクに複数の第２の凹部を形成した後に、前記基板をエッチングすることによって、前記基板に第２の凹部を形成することが好ましい。
これにより、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することができるマイクロレンズ用凹部付き基板を製造できる。
【００２０】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、エッチング可能なマスクを前記基板上に所定の厚さで形成し、前記マスクに、複数の第１の開口と、前記第１の開口よりも浅い第２の開口とを形成した後に、前記基板をエッチングすることによって、前記基板に前記第１の凹部および前記第２の凹部を形成することが好ましい。
これにより、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することができるマイクロレンズ用凹部付き基板を製造できる。また、マスク形成工程、エッチング工程が１回ずつで済み、製造工程を簡略化できる。
【００２１】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法は、マイクロレンズ用の凹部を基板上に形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、
前記基板上に形成されたマスクに、複数の第１の開口を形成する工程と、
前記複数の第１の開口が形成された後の前記マスクを介して前記基板に第１のエッチング処理を施して、複数の凹部を前記基板上に形成する工程と、
前記第１のエッチング処理が施された後の前記基板上に形成されたマスクに対し、前記第１の開口同士の間に、複数の第２の開口を形成する工程と、
前記複数の第２の開口が形成された後の前記マスクを介して前記基板に第２のエッチング処理を施して、前記第１のエッチング処理によって形成された前記凹部とは大きさの異なる複数の凹部を前記基板上に形成する工程とを有することを特徴とする。
これにより、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することができるマイクロレンズ用凹部付き基板を製造できる。
【００２２】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法は、マイクロレンズ用の凹部を基板上に形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、
エッチング可能なマスクを所定の厚さで前記基板上に形成し、前記マスクに、複数の第１の開口を形成するとともに、前記第１の開口同士の間に、前記第１の開口よりも浅い複数の第２の開口を形成する工程と、
前記複数の第１の開口および前記複数の第２の開口が形成された後の前記マスクを介して、前記基板にエッチング処理を施して、大きさの異なる２種の凹部を前記基板上に形成する工程とを有することを特徴とする。
これにより、優れた視野角特性を有するマイクロレンズ基板を製造することができるマイクロレンズ用凹部付き基板を製造できる。また、マスク形成工程、エッチング工程が１回ずつで済み、製造工程を簡略化できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
＜マイクロレンズ基板＞
まず、本実施形態にかかるマイクロレンズ基板を説明する。
図１は、本発明のマイクロレンズ基板を示す模式的な平面図、図２（Ａ）は、図１に示すマイクロレンズ基板のＡ−Ａ線断面図、図２（Ｂ）は、図１に示すマイクロレンズ基板のＢ−Ｂ線断面図、図３〜図７は、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図、図８は、マイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な平面図、図９は、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【００２４】
図１に示すように、マイクロレンズ基板１は、複数の第１のマイクロレンズ１１と、第１のマイクロレンズ１１−第１のマイクロレンズ１１間に形成され、第１のマイクロレンズ１１よりも小さい第２のマイクロレンズ１２とを有している。
このマイクロレンズ基板１では、第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２のぞれぞれは規則的に格子状に配されているが、これに限定されず、略格子状、千鳥状、略千鳥状に配されていてもよく、またランダムに配されたものであってもよい。マイクロレンズ基板１を、例えば、後述するようなスクリーン、リア型プロジェクタに用いるような場合に、第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２のぞれぞれがランダムに配されていると、いわゆるモアレ等の干渉パターンの発生をより効果的に防止することができる。
【００２５】
本発明のマイクロレンズ基板１は、第１のマイクロレンズ１１−第１のマイクロレンズ１１間に、第１のマイクロレンズ１１よりも小さい第２のマイクロレンズ１２が形成されていること特徴としている。
これにより、マイクロレンズ基板１上で第１のマイクロレンズ１１−第１のマイクロレンズ１１間に形成される領域が第２のマイクロレンズ１２によって有効利用され、前記領域での平坦部（集光効果の無い部分）の面積の低減によって直進光が抑えられるとともに、前記領域でも第２のマイクロレンズ１２による集光効果が得られる。その結果、マイクロレンズ基板１は、優れた視野角特性を有する。
【００２６】
また、マイクロレンズ基板１は、図２に示すように、第１のマイクロレンズ１１の周縁１１１と第２のマイクロレンズ１２の周縁１２１とがともに、マイクロレンズ基板１の面１３（マイクロレンズ基板１に平行な１つの面）上に位置している。すなわち、第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２のそれぞれの外周側部分（面１３に対する角が比較的大きい部分）同士が重なり合って互いの集光効果を損なうことがないようになっている。
これにより、第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２のそれぞれの有効レンズ領域を最大限利用、特に集光効果の高い外周側部分を利用できるので、マイクロレンズ基板１は、さらに優れた視野角特性を有する。
【００２７】
また、第１のマイクロレンズ１１が球面レンズとなっている場合には、第１のマイクロレンズ１１の高さ（有効レンズ領域にて面１３に直角な方向での高さ）を曲率半径に実質的に等しくし、第１のマイクロレンズ１１を半球状とすることができる。これにより、第１のマイクロレンズ１１の有効レンズ領域を最大限利用、特に集光効果の高い外周側部分を利用できるので、マイクロレンズ基板１１は、さらに優れた視野角特性を有する。これと同様に、第２のマイクロレンズ１２も半球状とすることができる。これにより、第２のマイクロレンズ１２の有効レンズ領域を最大限利用、特に集光効果の高い外周側部分を利用できるので、マイクロレンズ基板１は、さらに優れた視野角特性を有する。
さらに、マイクロレンズ基板１は、図２（Ａ）に示すように第１のマイクロレンズ１１の周縁同士が接し、また図２（Ｂ）に示すように第１のマイクロレンズ１１の周縁と第２のマイクロレンズ１２の周縁とが接している。
【００２８】
これにより、第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２の外周側部分の集光効果を損なうことなくこれらの有効レンズ領域を十分に利用しつつ、マイクロレンズ基板１上で第１のマイクロレンズ１１−第１のマイクロレンズ１１間に形成される領域が第２のマイクロレンズ１２によって最大限有効利用される。その結果、得られるマイクロレンズ基板１は、さらに優れた視野角特性を有する。なお、第１のマイクロレンズ１１の周縁同士は互いに接してなくてもよい。
隣接する第１のマイクロレンズ１１−第１のマイクロレンズ１１間のピッチは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜２００μｍであるのがさらに好ましい。
【００２９】
第１のマイクロレンズ１１の直径は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜８０μｍであるのがより好ましく、５０〜６０μｍであるのがさらに好ましい。第１のマイクロレンズ１１の直径が前記範囲内の値であると、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を保持しつつ、透過型スクリーンの生産性をさらに高めることができる。
第２のマイクロレンズ１２の直径は、１〜２００μｍであるのが好ましく、５〜５０μｍであるのがより好ましく、１０〜３０μｍであるのがさらに好ましい。第１のマイクロレンズ１１の直径が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板１のうち第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２が形成されるべき領域の面積に対する、第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２の占める面積の比（充填率）を高くすることができる。その結果、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。
【００３０】
また、前記面積の比は、０．９０〜０．９９とするのが好ましく、０．９２〜０．９９とするのがさらに好ましい。これにより、前記領域での平坦部（集光効果の無い部分）の面積の低減によって直進光が十分に抑えられ、マイクロレンズ基板１の視野角特性を特に優れたものとすることができる。前記面積の比が前記上限未満であると、例えば、マイクロレンズ基板１を備えるリア型プロジェクタの種類によっては、第１のマイクロレンズ１１同士の間の平坦部からの直進光により視野角特性を十分に得られない可能性がある。一方、前記面積の比が前記下限値よりも超えると、マイクロレンズ基板を構成する材料によっては、第１のマイクロレンズおよび第２のマイクロレンズの製造が困難になる。
【００３１】
前述面積の比を向上させるために、第１のマイクロレンズ１１同士の間に、第２のマイクロレンズ１２に加えて、第３のマイクロレンズを基板上にさらに形成してもよい。これにより、第３のマイクロレンズによって第１のマイクロレンズ１１同士の間での平坦部の面積がさらに低減されるので、平坦部からの直進光が低減され、得られたマイクロレンズ基板は、さらに視野角特性が向上する。また、第３のマイクロレンズと同様に、第４、第５・・のレンズを第１のマイクロレンズ１１同士の間に形成し、前記平坦部の面積をさらに低減してもよい。
【００３２】
また、第１のマイクロレンズの直径に対する第２のマイクロレンズの直径の比は、０．１〜０．５であるのが好ましく、０．１５〜０．４であるのがさらに好ましい。これにより、第１のマイクロレンズの周縁と第２のマイクロレンズの周縁との間隔を小さし、特に、これらの周縁を互いに接するようにしつつ、第１のマイクロレンズを格子状または千鳥状などに密に配置することができる。すなわち、第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２の外周側部分の集光効果を損なうことなくこれらの有効レンズ領域を十分に利用しつつ、マイクロレンズ基板１上で第１のマイクロレンズ１１−第１のマイクロレンズ１１間に形成される領域の平坦部の面積が低減される。その結果、得られるマイクロレンズ基板１は、さらに優れた視野角特性を有する。
【００３３】
また、上述した説明では、マイクロレンズを１面のみに形成した平凸レンズ（平凸型マイクロレンズ）を備えたものをマイクロレンズ基板１としているが、本発明のマイクロレンズ基板は、これに限定されるものではない。
例えば、２面にマイクロレンズが形成された両凸レンズを備えたマイクロレンズ基板であってもよい。この場合、前述の平凸レンズ同士を互いに平面側で張り合わせることにより、両凸レンズを備えたマイクロレンズ基板を得ることができる。
【００３４】
＜マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法＞
次に、本発明のマイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ用凹部付き基板（凹部付き基板）の製造方法について、図３〜７図を参照しながら説明する。
なお、図３〜７は、図１のＢ−Ｂ線断面図に対応した断面を示している。また、以下に示す説明では、基板の表面に形成されたマスクに、物理的方法またはレーザ光の照射によって初期孔を形成し、その後、エッチングを行うことで、所望（所望の形状や寸法）のレンズ用凹部（マイクロレンズ用凹部）を形成する方法を例に挙げて説明するが、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法はこれに限定されず、例えば基板の表面に形成されたマスクにフォトリソグラフィ技術等により開口部を形成し、エッチングを行うことで、レンズ用凹部を形成する方法等、いかなるものであってもよい。
【００３５】
本実施形態では、まず、基板の表面に形成されたマスクに、物理的方法またはレーザ光の照射によって第１の凹部のための初期孔を形成し、その後、エッチングを行うことで、所望（所望の形状や寸法）の第１のマイクロレンズ用凹部（第１の凹部）を形成する。そして、第１の凹部が形成された基板に、第１の凹部の形成と同様に、第２の凹部を形成する。なお、実際には基板上に多数のマイクロレンズ用凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を図示して説明する。
【００３６】
まず、マイクロレンズ用凹部付き基板２を製造するに際し、基板２１を用意する。
この基板２１は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板２１は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
基板２１の材料としては、無アルカリガラス、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス等が挙げられるが、中でも、無アルカリガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）が好ましい。無アルカリガラス、結晶性ガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
基板２１の厚さは、基板２１を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．３〜３ｍｍ程度であるのが好ましく、０．５〜２ｍｍ程度であるのがより好ましい。厚さをこの範囲内とすると、必要な光学特性を備えたコンパクトなマイクロレンズ用凹部付き基板２を得ることができる。
【００３７】
＜１＞  図３（Ａ）に示すように、用意した基板２１の表面に、マスク２２を形成する（第１のマスク形成工程）。また、これとともに、基板２１の裏面（マスク２２を形成する面と反対側の面）に裏面保護層２３を形成する。もちろん、マスク２２および裏面保護層２３は同時に形成することもできる。
マスク２２は、後述する工程＜２＞において物理的方法またはレーザ光の照射により第１の初期孔２２１を形成することができるとともに、後述する工程＜３＞におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク２２は、エッチングレートが、基板２１と略等しいか、または、基板２１に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００３８】
かかる観点からは、このマスク２２を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。また、マスク２２を、Ｃｒ／Ａｕのように異なる材料からなる複数の層の積層構造としてもよい。
マスク２２の形成方法は特に限定されないが、マスク２２をＣｒ、Ａｕ等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化Ｃｒ）から構成する場合、マスク２２は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク２２をシリコンから構成する場合、マスク２２は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００３９】
マスク２２が主として酸化ＣｒまたはＣｒで構成されるものであると、後述する第１の初期孔形成工程において第１の初期孔２２１を容易に形成することができるとともに、後述する第１のエッチング工程においては基板２１をより確実に保護することができる。また、マスク２２が主としてＣｒで構成されたものであると、例えば、後述する第１の初期孔形成工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウム溶液を用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは４ｗｔ％以下の濃度では毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。
【００４０】
マスク２２が主としてＡｕで構成されるものであると、マスク２２の膜厚を比較的大きいものとすることにより、例えば、後述する工程＜２＞での第１の初期孔２２１の形成をショットブラスト処理により行う場合に、投射材（ショット球）の衝突の際の衝撃を緩和し、形成される第１の初期孔２２１の形状を、よりバランスに優れたものとすることができる。
【００４１】
また、例えば、マスク２２が後述の工程＜３＞で所定のエッチングレートでエッチング可能な材料で構成され、かつ、マスク２２が比較的厚く形成されている場合には、後述する工程＜２＞にて第１の初期孔だけでなく、第２の凹部形成のための開口を第１の初期孔よりも浅く形成することによって、その後、後述する工程＜３＞だけで第１の凹部および第２の凹部を基板上に形成することが可能である。この際、前記開口でマスクが後述の工程＜３＞で食刻されることにより、第１の凹部、第２の凹部の順でこれらが時間差をもって基板上に形成される。これにより、後述の工程＜４＞、後述の工程＜５＞の＜Ｂ１＞〜＜Ｂ３＞が不要となり、製造工程が簡略化される。
【００４２】
マスク２２の厚さは、マスク２２を構成する材料によっても異なるが、０．０５〜２．０μｍ程度が好ましく、０．１〜０．５μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク２２の構成材料等によっては、後述する工程＜２＞での第１の初期孔２２１の形成をショットブラスト処理により行う場合に、ショットの衝撃を十分に緩和するのが困難となり、形成される第１の初期孔２２１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述する工程＜３＞でウェットエッチングを施す際に、基板２１のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、物理的方法またはレーザ光の照射により第１の初期孔２２１を形成するのが困難になるほか、マスク２２の構成材料等によっては、マスク２２の内部応力によりマスク２２が剥がれ易くなる場合がある。
なお、裏面保護層２３は、次工程以降で基板２１の裏面を保護するためのものである。この裏面保護層２３により、基板２１の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護層２３は、例えば、マスク２２と同様の材料で構成されている。このため、裏面保護層２３は、マスク２２の形成と同時に、マスク２２と同様に設けることができる。
【００４３】
＜２＞  次に、図３（Ｂ）および図４（Ａ）に示すように、マスク２２に、物理的方法またはレーザ光の照射により、後述する工程＜３＞でのエッチングの際に第１の凹部２４の形成のためのマスク開口となる第１の初期孔２２１を複数形成する（第１の初期孔形成工程）。
レーザ光の照射により第１の初期孔２２１を形成する場合、使用するレーザ光の種類としては、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ等が挙げられる。レーザ光の照射により第１の初期孔２２１を形成する場合、形成される第１の初期孔２２１の大きさや、隣接する第１の初期孔２２１同士の間隔等を容易かつ精確に制御することができる。
【００４４】
また、第１の初期孔２２１を形成する物理的方法としては、例えば、ショットブラスト、サンドブラスト等のブラスト処理、プレス、ドットプリンタ、タッピング、ラビング等の方法が挙げられる。ブラスト処理により第１の初期孔２２１を形成する場合、比較的大きい面積（第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２を形成すべき領域の面積）の基板２１でも、より短時間で効率良く、第１の初期孔２２１を形成することができる。
ここでは、特に、レーザ光の照射により、マスク２２に第１の初期孔２２１を形成する場合を例に挙げて説明する。
【００４５】
レーザ光の照射によりマスク２２に第１の初期孔２２１を形成する場合、図３（Ｂ）に示すように、基板２１のマスク２２が形成された面に対向する側に、当該面に対して垂直に配したレーザ５０から、マスク２２の表面に向けてレーザ光５１を照射することにより、マスク２２に第１の初期孔２２１を形成する。図中矢印Ａ１，Ａ２に示すようにレーザ５０を移動させながら、マスク２２の全面に亘ってレーザ光５１の照射を間欠的に行い、複数の第１の初期孔２２１をマスク２２の全面に亘って形成する。
【００４６】
本例では、複数の第１の初期孔２２１はマスク２２の全面にわたって格子状に位置している。これにより、隣接する第１の初期孔２２１同士の間隔がすべての初期孔２２１について等しくなるので、後述の工程＜３＞でのエッチングによる基板２１の食刻量を容易に所望量に制御できる。
なお、第１の初期孔２２１の位置は、前述の格子状に限らず、千鳥状であってもよいし、またランダムであってもよく、得るべきマイクロレンズ基板やマイクロレンズ用凹部付き基板の形態に応じて適宜選択することができる。
【００４７】
このようにマスク２２に対してレーザ光５１を照射し、図３（Ｂ）に示すようにマスク２２に第１の初期孔２２１を形成する。
形成された第１の初期孔２２１は、マスク２２の全面に亘って偏りなく形成されているのが好ましい。また、形成された第１の初期孔２２１は、後述する工程＜３＞でウェットエッチングを施した際に、基板２１の表面の平らな面が小さくなり、第１の凹部２４の周縁同士が接する程度に、小さい穴がある程度の間隔で配されているのが好ましい。
【００４８】
具体的には、例えば、形成された第１の初期孔２２１の平面視での形状は、略円形であり、その平均径（直径）は、２〜１０μｍであるのが好ましい。また、第１の初期孔２２１は、マスク２２上に１，０００〜１，０００，０００個／ｃｍ２の割合で形成されているのが好ましく、１０，０００〜５００，０００個／ｃｍ２の割合で形成されているのがより好ましい。なお、第１の初期孔２２１の形状は、円形もしくは略円形に限定されず、楕円形もしくは略楕円形であってもよく、さらには俵状のような形状であってもよい。
【００４９】
また、マスク２２に第１の初期孔２２１を形成するとき、図４（Ａ）に示すように、マスク２２だけでなく基板２１の表面の一部も同時に除去し、初期凹部２１１を形成してもよい。これにより、後述する工程＜３＞でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部２１１の深さの調整により、第１の凹部２４の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部２１１の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。
【００５０】
以上の説明では、レーザ光の照射により第１の初期孔２２１を形成する方法について説明したが、前述したように、第１の初期孔２２１は、レーザ光の照射以外の方法（例えば、ショットブラストなどのブラスト処理、プレス、ドットプリンタ、タッピング、ラビング等の方法）で形成されたものであってもよい。
ショットブラストにより第１の初期孔２２１を形成する場合、投射材としては、スチールグリット、褐色アルミナ、ホワイトアルミナ、ガラスビーズ、ステンレスビーズ、ガーネット、硅砂、プラスチック、カットワイヤー、スラグ等が挙げられる。この中でも特に、ガラスビーズが好ましい。これによりマスク２２に第１の初期孔２２１を好適に形成することができる。
【００５１】
このような投射材の平均径（直径）は、２０〜２００μｍであるのが好ましく、５０〜１００μｍであるのがより好ましい。投射材の平均径が前記下限値未満であると、初期孔を効率良く形成するのが困難となったり、また、投射材同士が吸着して前記上限値を超える大きさの固まりが形成される場合がある。一方、投射材の平均径が前記上限値を超えると、形成される初期孔が大きくなり過ぎたり、初期孔同士がつながって、異形状の初期孔が形成されやすくなる。
【００５２】
前記投射材の噴射圧は、１〜１０ｋｇ／ｃｍ２であるのが好ましく、３〜５ｋｇ／ｃｍ２であるのがより好ましい。前記投射材の噴射圧が前記下限値未満であると、ショットの衝撃が弱くなり、マスク２２に確実に第１の初期孔２２１を形成するのが困難になる場合がある。一方、前記投射材の噴射圧が前記上限値を超えると、ショットの衝撃が強すぎて、投射材が潰れたり、衝撃により第１の初期孔２２１の形状が歪んでしまったりする可能性がある。
【００５３】
また、前記投射材の噴射密度は、１０〜１００ｋｇ／ｍ２であるのが好ましく、３０〜５０ｋｇ／ｍ２であるのがより好ましい。前記投射材の噴射密度が前記下限値未満であると、ショット数が少なくなり、マスク２２の全面に亘って偏りなく第１の初期孔２２１を形成するのに時間がかかる。一方、前記投射材の噴射密度が前記上限値を超えると、第１の初期孔２２１が重なって形成され、初期孔同士がつながって大きな孔となってしまったり、異形状の初期孔が形成されやすくなる。
【００５４】
プレスにより第１の初期孔２２１を形成する場合には、例えば、所定のパターンで突起部が形成されたローラーをマスク２２に押し当ててマスク２２上を転がすことにより、第１の初期孔２２１を形成することができる。
また、形成されたマスク２２に対して物理的方法またはレーザ光の照射で第１の初期孔２２１を形成するだけでなく、例えば、基板２１にマスク２２を形成する際に、予め基板２１上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク２２を形成することでマスク２２に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を第１の初期孔２２１としてもよい。
【００５５】
本発明では、凹部付基板の製造方法は特に限定されないが、上記のような物理的な方法またはレーザ光の照射でマスクに初期孔を形成することで、より簡単かつ安価にマスク２２に所定パターンの開口部（第１の初期孔２２１）を形成することができる。また、物理的な方法またはレーザ光の照射によれば、大きな基板に対する処理も容易に行うことができる。
【００５６】
また、形成される第１の初期孔２２１の配置は、特に限定されず、規則的なパターンでもよいし、ランダムなパターンであってもよいが、得られる凹部付き基板（マイクロレンズ用凹部付き基板）を、後述するようなスクリーン、リア型プロジェクタの製造に用いる場合には、ランダムなパターンであると、例えば、いわゆるモアレ等の干渉パターンの発生をより効果的に防止することができる。
【００５７】
＜３＞  次に、図４（Ｂ）に示すように、マスク２２が施された基板２１にエッチングを施し、基板２１上に多数の第１の凹部２４を形成する（第１のエッチング工程）。その際、第１の凹部２４の大きさは、前述した第１のマイクロレンズ１１の大きさに対応した大きさとする。すなわち、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板２によってマイクロレンズ基板１を製造した際に、第１のマイクロレンズ１１が前述の所望の大きさとなるように、第１の凹部２４の大きさが設定される。
【００５８】
このエッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
第１の初期孔２２１が形成されたマスク２２で被覆された基板２１に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図４（Ｂ）に示すように、基板２１は、マスク２２が存在しない部分、すなわち第１の初期孔２２１より食刻され、基板２１上に多数の第１の凹部２４が形成される。
【００５９】
また、本実施形態では、工程＜２＞でマスク２２に第１の初期孔２２１を形成した際に、基板２１の表面に初期凹部２１１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、第１の凹部２４を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、フッ酸またはフッ化物イオンを含むエッチング液（フッ酸系エッチング液）を用いると、基板２１をより選択的に食刻することができ、第１の凹部２４を好適に形成することができる。
【００６０】
マスク２２が主としてＣｒで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウム溶液が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は４ｗｔ％以下の濃度では毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ用凹部付き基板２を提供することができる。その結果、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタ等の生産性も向上し、生産コストの更なる低減を図ることができる。
【００６１】
＜４＞  次に、図５に示すように、マスク２２を除去する（第１のマスク除去工程）。
マスク２２が主としてＣｒで構成されたものである場合、マスク２２の除去は、例えば、硝酸第２セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
＜５＞  さらに、工程＜４＞でマスク２２を除去した後、基板２１上に新しいマスク２６を形成し、マスク形成−初期孔形成−ウェットエッチング−マスク除去の一連の工程を繰り返して行う。以下、具体的な一例について説明する。
【００６２】
＜Ｂ１＞まず、図６（Ａ）に示すように、第１の凹部２４が形成された基板２１上に新しいマスク２６を形成する。マスク２６は、前述したマスク２２と同様にして形成することができる（第２のマスク形成工程）。
＜Ｂ２＞次に、図６（Ｂ）に示すように、例えば、上述したような物理的方法またはレーザ光の照射により、第１の初期孔２２１同士の間、例えば中間位置でマスク２６に第２の初期孔２６１を形成する（第２の初期孔形成工程）。このとき、基板２１の表面に初期凹部２１２を形成してもよい。
【００６３】
＜Ｂ３＞その後、図７（Ａ）に示すようにマスク２６を介して、基板２１に前記と同様なエッチングを施し、第２の凹部２５を形成する（第２のエッチング工程）。この際、例えば、第２の凹部２５が第１の凹部２４よりも小さくなるように、エッチング液の濃度やエッチングの処理時間などを調整する。また、第２の凹部２５の大きさは、前述した第２のマイクロレンズ１２の大きさに対応した大きさとする。すなわち、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板２によってマイクロレンズ基板１を製造した際に、第２のマイクロレンズ１２が前述の所望の大きさとなるように、第２の凹部２５の大きさが設定される。
【００６４】
＜Ｂ４＞最後に、図７（Ｂ）に示すように、マスク２６を基板２１から除去する（第２のマスク除去工程）。この際、裏面保護層２３も基板２１から除去する。
＜Ｂ１＞〜＜Ｂ４＞の工程は、上述した＜１＞〜＜４＞の工程と同様の方法でそれぞれ行うことができる。
このように一連の工程を２回繰り返して行うことで、基板２１の全面に亘って偏りなく第１の凹部２４および第２の凹部２５を形成することができるとともに、第１の凹部２４および第２の凹部２５のそれぞれの形状をそろえて均一なものとすることができる。
【００６５】
また、各工程における条件を、第１と第２とで変えて行うことにより、形成される第１の凹部２４および第２の凹部２５の形状（大きさ、深さ、曲率、凹面形状等）を調整して所望の形状とすることができる。
例えば、第１の初期孔形成工程において、レーザ光５１の径や強度、処理時間等の条件を変えることにより、マスク２２に形成される第１の初期孔２２１の大きさや、基板２１に形成される初期凹部２１１の大きさや深さ等を調整することができる。
【００６６】
また、第１のマスク除去工程を行わずに、第２の初期孔形成工程にて、第１のマスク形成工程で形成されたマスクに第２の初期孔を形成するようにしてもよい。この場合、第１のエッチング工程では第１の凹部を途中まで形成しておき、第２のエッチング工程で第２の凹部を形成するとともに第１の凹部を最後まで形成するようにすることができる。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造工程が簡略化される。
【００６７】
また、例えば、第１の初期孔形成工程および／または第２の初期孔形成工程のうちの少なくとも一回を上述したような物理的方法、レーザ光の照射以外の方法（例えば、フォトリソグラフィ技術を用いた方法等）で、行ってもよい。
また、第１のエッチング工程や第２のエッチング工程において複数段階でエッチングを行い、その際エッチングレートを変えることで、形成される第１の凹部２４や第２の凹部２５の形状を調整することができる。例えば、エッチングレートを次第に小さくしていくことにより、形成される複数の第１の凹部２４や第２の凹部２５の形状をそろえて均一なものとすることができる。
【００６８】
さらに、初期孔２２１の大きさ、初期凹部２１１の大きさや深さ等を変え、さらにエッチングレートを変えることで、形成される第１の凹部２４および第２の凹部を所望の非球面形状とすることもできる。
なお、上述したような一連の工程を繰り返し行う場合、裏面保護層２３は、工程＜４＞以降で繰り返し使用されずに、＜４＞の工程等で除去され工程＜５＞で再び形成されるものであってもよい。
【００６９】
以上により、図７（Ｂ）および図８に示すように、互いに大きさの異なる第１の凹部２４および第２の凹部２５が基板２１上に多数形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２が得られる。なお、ここでは、図９に示すように、基板２１に形成された第１の凹部２４および第２の凹部２５は、規則的に配されているが、これに限定されるものではなく、ランダムに第１の凹部２４や第２の凹部２５を形成してもよい。
【００７０】
また、第１のエッチング工程で先に第２の凹部２５を形成し、その後、第２のエッチング工程で第１の凹部２４を形成してもよい。すなわち、第１のエッチング工程で形成される凹部を、第２のエッチング工程で形成される凹部よりも大きくしてもよい。
また、第１の凹部２４同士の間に、第２の凹部２５に加えて、第３の凹部を基板上にさらに形成してもよい。これにより、第３の凹部によって第１の凹部同士の間での平坦部の面積がさらに低減されるので、得られたマイクロレンズ用凹部付き基板によって製造されたマイクロレンズ基板は、優れた視野角特性を有することとなる。
【００７１】
また、物理的な方法またはレーザ光の照射によりマスク２２やマスク２６に初期孔を形成することで、より簡単かつ安価にマスク２２やマスク２６に所定パターンで開口部（初期孔２２１や２６１）を形成することができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ用凹部付き基板２を提供することができる。その結果、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタ等の生産性も向上し、生産コストの更なる低減を図ることができる。
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。すなわち、大型の基板を製造する場合に、複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼りあわせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質の大型マイクロレンズ用凹部付き基板を簡便な方法で安価に製造することもできる。
【００７２】
＜マイクロレンズ基板１の製造方法＞
以下、マイクロレンズ用凹部付き基板２を用いて、マイクロレンズ基板１を製造する方法について、図９を参照しながら説明する。
なお、本発明のマイクロレンズ基板は、以下に述べる透過型スクリーンやリア型プロジェクタ以外にも、例えば、液晶表示装置（液晶パネル）、有機または無機ＥＬ（Electroluminescence：エレクトロルミネッセンス）表示装置、ＣＣＤ、光通信素子等の各種電気光学装置、その他の装置等に用いることができるのは言うまでもない。
【００７３】
本発明のマイクロレンズ基板は、例えば、前述したようにして製造されたマイクロレンズ用凹部付き基板２を型として用いた２Ｐ法（フォトポリマゼーション）等により製造することができる。
以下、２Ｐ法によるマイクロレンズ基板１の製造方法を、図９を参照しながら説明する。
【００７４】
＜Ｃ１＞  まず、図９（Ａ）に示すように、マイクロレンズ用の第１の凹部２４および第２の凹部２５が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２を用意する。本方法では、この第１の凹部２４および第２の凹部２５が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２を型として用いる。これら凹部２４、２５に樹脂が充填されることにより、マイクロレンズ１１、１２が形成される。なお、第１の凹部２４および第２の凹部２５の内面には、例えば離型剤等が塗布されていてもよい。そして、このマイクロレンズ用凹部付き基板２を、例えば第１の凹部２４および第２の凹部２５が鉛直上方に開放するように設置する。
【００７５】
＜Ｃ２＞  次に、第１の凹部２４および第２の凹部２５が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２上に、第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２を有する樹脂層（マイクロレンズ基板１）を構成することとなる未硬化の樹脂を供給する。
＜Ｃ３＞  次に、かかる樹脂に基板３を接合し、押圧・密着させる。
基板３は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。基板３の材料としては、ポリアミド（例：ナイロン６、ナイロン４６、ナイロン６６、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６−１２、ナイロン６−６６）、熱可塑性ポリイミド、芳香族ポリエステル等の液晶ポリマー、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリカーボネート、アクリル（メタクリル）、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂、ビスフェノール型、ノボラック型、ナフタレン系等の各種エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル（不飽和ポリエステル）樹脂、ポリイミド樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂等や、これらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の樹脂材料等、ガラス等が挙げられるが、中でも、アクリル、ポリカーボネートが好ましい。基板２として、アクリル、ポリカーボネートで構成されたものを用いることにより、得られるマイクロレンズ基板１を好適な光学特性を有するものとすることができる。また、アクリル、ポリカーボネートは、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００７６】
＜Ｃ４＞  次に、前記樹脂を硬化させる。この硬化方法は、樹脂の種類によって適宜選択され、例えば、紫外線照射、加熱、電子線照射等が挙げられる。
これにより、図９（Ｂ）すように、第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２を有する樹脂層、すなわちマイクロレンズ基板１が形成される。このマイクロレンズ基板１は、第１の凹部２４内および第２の凹部２５内に充填された樹脂により、第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２が形成される。
【００７７】
＜Ｃ５＞  次に、図９（Ｃ）に示すように、型であるマイクロレンズ用凹部付き基板２および基板３をマイクロレンズ基板１から取り外す。なお、マイクロレンズ基板１から基板３を取り外さずに、マイクロレンズ基板１と基板３とが接合した状態のままのものをマイクロレンズ基板としてもよい。
また、上述した説明では、マイクロレンズを１面のみに形成した平凸レンズ（平凸型マイクロレンズ）を備えたものをマイクロレンズ基板１としているが、本発明のマイクロレンズ基板は、これに限定されるものではない。
【００７８】
例えば、２面にマイクロレンズが形成された両凸レンズを備えたマイクロレンズ基板であってもよい。この場合、例えば、前述の平凸レンズを２枚用い、これらを互いに平面側で張り合わせることにより、両凸レンズを備えたマイクロレンズ基板を得ることができる。また、１枚の基板の両面にマイクロレンズを形成してもよい。
ここで、マイクロレンズ基板の他の実施形態を説明する。
【００７９】
＜マイクロレンズ基板の他の実施形態＞
図１０（Ａ）に示すように、第１のマイクロレンズ１１同士の間に、第２のマイクロレンズ１２に加えて、第３のマイクロレンズ１４を基板上にさらに形成してもよい。これにより、第３のマイクロレンズ１４によって第１のマイクロレンズ１１同士の間での平坦部の面積がさらに低減されるので、得られたマイクロレンズ基板は、優れた視野角特性を有することとなる。
【００８０】
また、図１０（Ｂ）に示すように、複数の第１のマイクロレンズ１１が千鳥状に配されていてもよい。この場合、複数の第１のマイクロレンズ１１はより密に配置され、これに伴い第２のマイクロレンズ１２’は小径化されたものとなる。
さらに、図１１（Ａ）に示すように、第１のマイクロレンズ１１’が俵状になっていてもよく、また、この第１のマイクロレンズ１１’を図１１（Ｂ）に示すように格子状に配置してもよい。
また、図１２（Ａ）に示すように、第１のマイクロレンズ１１’’が円状のマイクロレンズを上下方向での両端部で欠いた形状となっていてもよく、また、この第１のマイクロレンズ１１’’を図１２（Ｂ）に示すように格子状に配置してもよい。
【００８１】
＜透過型スクリーン＞
次に、図１に示したマイクロレンズ基板１を用いた透過型スクリーンについて、図１３、図１４を参照しながら説明する。図１３は、本発明の透過型スクリーンの光学系を模式的に示す縦断面図、図１４は、図１３に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。
この透過型スクリーン２００は、出射面側表面にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部２１０と、フレネルレンズ部２１０の出射面側に配置され入射面側表面に多数の第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２が形成されたマイクロレンズ基板１とを備えている。
【００８２】
このように、透過型スクリーン２００は、マイクロレンズ基板１を有している。これにより、レンチキュラーレンズを用いた場合に比べて上下方向の視野角が広くなる。
特に、マイクロレンズ基板１として、第１のマイクロレンズ１１や第２のマイクロレンズ１２がランダムに配されたものを用いた場合、液晶等のライトバルブやフレネルレンズとの干渉をより効果的に防止することができ、モアレの発生をほぼ完全に無くすことが可能になる。これにより、表示品質の良い優れた透過型スクリーンとなる。
【００８３】
また、上述したような方法によると、容易に大型のマイクロレンズ基板（マイクロレンズアレイ部）を製造することができる。これにより、貼り合わせの繋ぎ目のない、高品質の大型スクリーンを製造することができる。
なお、本発明の透過型スクリーンは、上述した構成に限られない。例えば、マイクロレンズ基板（マイクロレンズアレイ部）の出射面側または入射面側に、ブラックストライプや光拡散板や他のマイクロレンズをさらに採用した透過型スクリーンとすることもできる。
【００８４】
＜リア型プロジェクタ＞
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１５は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン３３０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、その透過型スクリーン３３０として、上述した回折光やモアレが発生しにくい透過型スクリーン２００を用いている。このため、視野角が広く、さらにモアレの発生が無く表示品質の良い優れたリア型プロジェクタとなる。
さらに、本発明の方法によれば、大型の基板に対する処理も簡単かつ好適に行うことができる。これにより、例えば、高品質の大型マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを簡便な方法で安価に製造することができる。
【００８５】
以上、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板およびその製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンならびにリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明の凹部付き基板の製造方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
【００８６】
また、前述の説明では、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法において、基板の表面に形成されたマスクに、物理的方法またはレーザ光の照射によって初期孔を形成し、その後、エッチングを行うことで、レンズ用凹部を形成する方法を例に挙げて説明したが、基板の表面に形成されたマスクに、フォトリソグラフィ技術等により開口部を形成し、エッチングを行うことで、レンズ用凹部を形成するものであってもよい。
【００８７】
また、前述の説明では、初期孔形成工程において、レーザ５０を１次元的に移動させつつレーザ光の照射を行う構成について説明したが、レーザ光の照射は、レーザを２次元的または３次元的に移動させつつ行うものであってもよい。
また、前述の説明では、２Ｐ法によりマイクロレンズ基板を製造する方法について説明したが、マイクロレンズは、２Ｐ法以外の方法により製造されるものであってもよい。
【００８８】
また、前述の説明では、マイクロレンズ基板１が備える第１のマイクロレンズ１１および第２のマイクロレンズ１２として、平凸型のマイクロレンズを例に挙げて説明したが、これに限定されるものではなく、２枚の平凸型のマイクロレンズが平面側を対向させて貼り合せられてなる両凸型のマイクロレンズであってもよい。
また、本発明の透過型スクリーン、リア型プロジェクタは、前述した実施形態のようなものに限定されず、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。例えば、本発明の透過型スクリーンは、マイクロレンズ基板１の出射面側に、ブラックマトリクス（遮光部）や光拡散板や他のマイクロレンズをさらに採用した透過型スクリーンであってもよい。
【００８９】
なお、上述した説明では、本発明のマイクロレンズ基板を、透過型スクリーンおよび該透過型スクリーンを備えた投射型表示装置に用いた場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明のマイクロレンズ基板を、例えば、ＣＣＤ、光通信素子等の各種電気光学装置、液晶表示装置（液晶パネル）、有機または無機ＥＬ（Electroluminescence：エレクトロルミネッセンス）表示装置、その他の装置等に用いることができるのは言うまでもない。
また、表示装置もリアプロジェクション型の表示装置に限定されず、例えば、フロントプロジェクション型の表示装置に本発明のマイクロレンズ基板を用いることができる。
【実施例】
【００９０】
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ用の凹部を備えたマイクロレンズ用凹部付き基板を製造し、このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いてマイクロレンズ基板を製造した。
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板を用意した。
この無アルカリガラス基板を、常温の洗浄液（４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウム水溶液）に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
【００９１】
−１Ａ−  次に、この無アルカリガラス基板上に、スパッタリング法にて、厚さ０．１５μｍのＣｒ／酸化Ｃｒ膜（マスク）を形成した。
−２Ａ−  次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の第１の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度２ｍＷ、ビーム径５μｍ、照射時間０．１ｍｓという条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、格子状に複数の第１の初期孔が形成された。第１の初期孔の平均径は５μｍであり、第１の初期孔の形成密度は２万個／ｃｍ２であった。
また、この際、無アルカリガラス基板の表面に深さ０．１μｍの初期凹部も形成した。
【００９２】
−３Ａ−  次に、無アルカリガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の第１の凹部を形成した。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウム水溶液（常温）を用い、浸漬時間は１２時間とした。
−４Ａ−  次に、無アルカリガラス基板を、硝酸第２セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合水溶液に３０分間浸漬し、Ｃｒ／酸化Ｃｒ膜（マスク）を除去した。
【００９３】
−５Ａ−  次に、第２の初期孔の位置を第１の初期孔同士の中間位置とし、ウエットエッチング時における浸漬時間を５時間とした以外、前述の−１Ａ−から−４Ａ−までの工程と同様に、マスク形成、第２の初期孔の形成、ウエットエッチング、マスク除去を行った。これにより、第１の凹部同士の間に第２の凹部を形成した。
−６Ａ−  次に、第３初期孔の位置を無アルカリガラス基板上で第１の初期孔および第２の初期孔が形成されている以外の領域の中心位置とし、ウエットエッチング時における浸漬時間を２時間とした以外、前述の−１Ａ−から−４Ａ−までの工程と同様に、マスク形成、第３の初期孔の形成、ウエットエッチング、マスク除去を行った。これにより、第１の凹部同士の間で、かつ、第１の凹部および第２の凹部が形成されている以外の領域に第３の凹部を形成した。
【００９４】
これにより、無アルカリガラス基板上に、第１のマイクロレンズ用および第２のマイクロレンズ用の多数の凹部が規則的に形成されたウエハー状のマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて、２Ｐ法によりマイクロレンズ基板を作製した。
【００９５】
−７Ａ−  マイクロレンズ用凹部付き基板を、凹部が鉛直上方に開放するように設置し、未硬化のエポキシ系樹脂を供給するとともに、樹脂上にガラス基板を接合し、押圧・密着させた。
−８Ａ−  次に、前記樹脂を硬化させた。これにより、凹部内に充填された樹脂により、マイクロレンズが形成された。
【００９６】
−９Ａ−  次に、型であるマイクロレンズ用凹部付き基板をマイクロレンズ基板から取り外し、マイクロレンズ基板を得た。
これにより、図１０（Ａ）に示すように大きさの異なる第１のマイクロレンズおよび第２のマイクロレンズが規則的に多数に形成された１．２ｍ×０．７ｍのマイクロレンズ基板を得た。形成された第１のマイクロレンズの直径は、１１０μｍであり、第２のマイクロレンズの直径は、５０μｍであり、第３のマイクロレンズの直径は、１５μｍであった。また、第１のマイクロレンズの高さは、５５μｍ（＝曲率半径）であり、第２のマイクロレンズの高さは、２５μｍ（＝曲率半径）であり、第３のマイクロレンズの直径は、７．５μｍ（＝曲率半径）であった。さらに、第１のマイクロレンズ、第２のマイクロレンズ、および第３のマイクロレンズのそれぞれの、５８７．５６ｎｍの光に対する光学濃度は、０．２であった。
【００９７】
（実施例２）
複数の第１の凹部の位置を千鳥状としたこと、第２の凹部の大きさを前述の実施例１よりも小さくしたこと、第３の凹部を形成しないこと以外、前述の実施例１と同様のマイクロレンズ用凹部付き基板を実施例１と同様の方法により得た。
このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて実施例１と同様の方法によりマイクロレンズ基板を得た。これにより、図１０（Ｂ）に示すように、複数の第１のマイクロレンズの位置を千鳥状としたこと、第２のマイクロレンズの大きさを前述の実施例１よりも小さくしたこと、第３のマイクロレンズを形成しないこと以外、前述の実施例１と同様のマイクロレンズ基板を得た。
得られた第２のマイクロレンズの直径は、２０μｍ（＝曲率半径）であった。また、第２のマイクロレンズの高さは、１０μｍ（＝曲率半径）であった。
【００９８】
（実施例３）
第１の凹部の周縁形状を俵状としたこと、第３の凹部を形成しないこと以外、前述の実施例１と同様のマイクロレンズ用凹部付き基板を実施例１と同様の方法により得た。この際、第１の初期孔は上下に５０μｍ延びる長孔とした。
このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて実施例１と同様の方法によりマイクロレンズ基板を得た。これにより、図１１（Ａ）に示すように、第１のマイクロレンズの形状を俵状としたこと、第３のマイクロレンズを形成しないこと以外、前述の実施例１と同様のマイクロレンズ基板を得た。
形成された第１のマイクロレンズの長軸方向での長さは、１５０μｍであり、第１のマイクロレンズの短軸方向での長さは、１１０μｍであった。
【００９９】
（実施例４）
第１の凹部の周縁形状を俵状としたこと以外、前述の実施例２と同様のマイクロレンズ凹部付き基板を実施例１と同様の方法により得た。この際、第１の初期孔は上下に５０μｍ延びる長孔とした。
このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて実施例１と同様の方法によりマイクロレンズ基板を得た。これにより、図１１（Ｂ）に示すように、第１のマイクロレンズの形状を俵状としたこと以外、前述の実施例２と同様のマイクロレンズ基板を得た。
得られた第２のマイクロレンズの直径は、２０μｍであった。また、第２のマイクロレンズの高さは、１０μｍ（＝曲率半径）であった。
【０１００】
（実施例５）
上下方向で第１の凹部同士の距離を前述の実施例１よりも小さくして、第１の凹部の形状が直径１１０μｍの円状の凹部を上下方向での両端部で欠いた形状となっていること、第２の凹部の大きさを前述の実施例１よりも小さくしたこと、第３の凹部を第２の凹部の上下にのみ形成すること以外、前述の実施例１と同様のマイクロレンズ用凹部付き基板を実施例１と同様の方法により得た。
【０１０１】
このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて実施例１と同様の方法によりマイクロレンズ用基板を得た。これにより、図１２（Ａ）に示すように、上下方向で第１のマイクロレンズ同士の距離を前述の実施例１よりも小さくして、第１のマイクロレンズの形状が直径１１０μｍの円状のマイクロレンズを上下方向での両端部で欠いた形状となっていること、第２のマイクロレンズの大きさを前述の実施例１よりも小さくしたこと、第３のマイクロレンズを第２のマイクロレンズの上下にのみ形成すること以外、前述の実施例１と同様のマイクロレンズ基板を得た。
形成された第１のマイクロレンズの上下方向での長さは、８０μｍであり、第２のマイクロレンズの直径は、２５μｍであり、第３のマイクロレンズの直径は、１０μｍであった。また、第２のマイクロレンズの高さは、１２．５μｍ（＝曲率半径）であり、第３のマイクロレンズの高さは、５μｍ（＝曲率半径）であった。
【０１０２】
（実施例６）
第１の凹部の位置が千鳥状となっていること、第２の凹部の大きさを前述の実施例５よりも小さくしたこと、第３の凹部を形成しないこと以外、前述の実施例５と同様のマイクロレンズ用凹部付き基板を実施例１と同様の方法により得た。
このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて実施例１と同様の方法によりマイクロレンズ用基板を得た。これにより、図１２（Ｂ）に示すように、第１のマイクロレンズの位置が千鳥状となっていること、第２のマイクロレンズの大きさを前述の実施例５よりも小さくしたこと、第３のマイクロレンズを形成しないこと以外、前述の実施例５と同様のマイクロレンズ基板を得た。
得られたマイクロレンズ基板の第２のマイクロレンズの直径は、８μｍであった。また、第２のマイクロレンズの高さは、４μｍ（＝曲率半径）であった。
【０１０３】
（実施例７）
マスクをＮｉ／酸化Ｎｉ膜とし、工程−２Ａ−で第１の初期孔だけでなく、第２の凹部形成のための開口（凹部形状）を第１の初期孔よりも浅く形成（深さ０．１μｍ）し、工程−４ａ−および−５ａ−を行わずに工程−３Ａ−だけで第１の凹部および第２の凹部を無アルカリガラス基板上に形成したこと以外、前述の実施例１と同様の方法で、マイクロレンズ用凹部付き基板を得た。
そして、このマイクロレンズ凹部付き基板を用いて、前述の実施例１と同様の方法で、マイクロレンズ基板を得た。
【０１０４】
（比較例１）
第２のマイクロレンズおよび第３のマイクロレンズが形成されていないこと以外、実施例１と同様のマイクロレンズ基板を、実施例１と同様の方法により得た。
（比較例２）
マイクロレンズ同士を重ね合わせるようにして、複数のマイクロレンズをハニカム状に配置した以外、実施例１と同様のマイクロレンズを得た。この場合、マイクロレンズ同士の間に平坦部が全く存在せず、前記マイクロレンズは、円形のマイクロレンズの周縁部を切り落としたような６角形をなしている。
得られたマイクロレンズ基板のマイクロレンズの対角方向での長さは、１１０μｍであった。
【０１０５】
（評価）
前記実施例および比較例で得られたマイクロレンズ基板を用いて、図１０、図１１に示すような透過型スクリーンを作製し、当該スクリーンを用いて図１２に示すようなリア型プロジェクタを作製した。
得られたリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、水平方向での視野角（光度が１／２になる角度（α角）と光度が１／３になる角度（β角））を、変角光度計（ゴニオフォトメータ）を用いて測定した。
その結果を表１に示す。
【０１０６】
【表１】
2005181460.tif 000003
【０１０７】
その結果、各実施例で得られた透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタでは、比較例で得られた透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタと比較して、α角、β角ともに広く、優れた視野角特性を有することが確認された。また、各実施例で得られたリア型プロジェクタでは、各視野角において明るい画像が表示された。
これに対し、比較例で得られた透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタでは、光量の差が大きく、視野角特性に劣っていた。
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板を示す模式的な縦断面図である。
【図２】（Ａ）は、図１におけるＡ−Ａ線断面図であり、（Ｂ）は、図１におけるＢ−Ｂ線断面図である。
【図３】マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図４】マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図５】マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図６】マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図７】マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図８】マイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な平面図である。
【図９】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】（Ａ）は、本発明の実施例１にかかるマイクロレンズ基板を示す模式的な平面図であり、（Ｂ）は、本発明の実施例２にかかるマイクロレンズ基板を示す模式的な平面図である。
【図１１】（Ａ）は、本発明の実施例３にかかるマイクロレンズ基板を示す模式的な平面図であり、（Ｂ）は、本発明の実施例４にかかるマイクロレンズ基板を示す模式的な平面図である。
【図１２】（Ａ）は、本発明の実施例５にかかるマイクロレンズ基板を示す模式的な平面図であり、（Ｂ）は、本発明の実施例６にかかるマイクロレンズ基板を示す模式的な平面図である。
【図１３】本発明の透過型スクリーンの光学系を模式的に示す縦断面図である。
【図１４】図１１に示す透過型スクリーンの分解斜視図である。
【図１５】本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１０９】
１・・・マイクロレンズ基板  ２・・・マイクロレンズ用凹部付き基板  ３・・・基板  １１、１１’、１１’’・・・第１のマイクロレンズ  １１１・・・周縁  １２、１２’、１２’’・・・第２のマイクロレンズ  １２１・・・周縁  １３・・・マイクロレンズ基板に平行な１つの面  １４、１４’、１４’’・・・第３のマイクロレンズ  ２１・・・基板  ２２、２６・・・マスク  ２３・・・裏面保護層  ２４・・・第１の凹部  ２５・・・第２の凹部  ２１１、２１２・・・初期凹部  ２２１・・・第１の初期孔（開口）  ２６１・・・第２の初期孔（開口）  ５０・・・レーザ  ５１・・・レーザ光  ２００・・・透過型スクリーン  ２１０・・・フレネルレンズ部  ３００・・・リア型プロジェクタ  ３１０・・・投写光学ユニット  ３２０・・・導光ミラー  ３３０・・・透過型スクリーン  ３４０・・・筐体  Ｑ・・・光軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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