(57)【要約】【課題】  より簡単な構成で、より高速に検査対象の姿勢を検知し、さらに検査対象の姿勢を調整できる基板またはパネルの検査方法と検査装置を提供しようとする。【解決手段】  従来の面内に設けられた領域に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査方法にかわって、パターンよりも小さな画素が直列に並んだ撮像機器を用意して、領域を前記撮像機器の視野に配置して、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り方向に相対移動させる移動工程と、前記移動工程中に領域の一辺に隣接して配列された複数のパターンを撮像して複数の前記画素の受光データを取り込むデータ取り込み工程と、複数の前記受光データからパターンに特有の特徴点を夫々抽出して、複数の前記特長点を結ぶ線に近似する直線を求めるデータ処理工程と、を備えるものとした。【選択図】    図４
2005195385.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面内に設けられた領域に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査方法であって、
直列に並んだパターンよりも小さな画素を有する撮像機器を用意して、領域を前記撮像機器の視野に配置して、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り方向に相対移動させる移動工程と、
前記移動工程中に領域の一辺に隣接して配列された複数のパターンを撮像して複数の前記画素の受光データを取り込むデータ取り込み工程と、
複数の前記受光データからパターンに特有の特徴点を夫々抽出して、複数の前記特徴点を結ぶ線に近似する直線を求めるデータ処理工程と、
を備えることを特徴とする基板またはパネル検査方法。
【請求項２】
前記直線と前記送り方向の直交線との交差角が所定の微小値以下になる様に検査対象物と前記撮像機器との向きを矯正する向き矯正工程と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項３】
前記画素の並び方向と前記送り方向とが直交し、
前記データ処理工程が、
前記画素毎に前記画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし前記画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値としたＸ−Ｙデータを生成するデータ生成工程と、
前記面内において一群の前記Ｘ−Ｙデータに近似する直線Ｙ＝ａＸ＋ｂを生成する近似直線生成工程と、
を有する、
ことを特徴とする請求項１または請求項２のうちのひとつに記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項４】
前記データ生成工程において、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ個の画素を特定画素として選択し、特定画素毎に前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし、該特定画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値とする、
ことを特徴とする請求項３に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項５】
前記データ生成工程において、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ組の複数の前記画素を選択し、前記組毎に前記組に属する複数の画素のうちから一つの画素である特定画素を選定し、前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし、該組に属する複数の画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置の平均値を変数Ｘの値とする、
ことを特徴とする請求項３に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項６】
前記撮像機器が直列に並べられた少なくともＮ個のラインセンサを有し、
Ｎ個の前記特定画素がＮ個の前記ラインセンサに並んだ前記画素から各々選択されたものである、
ことを特徴とする請求項４または請求項５のうちのひとつに記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項７】
前記移動工程において、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り速度Ｖで相対移動させ、
前記データ生成工程において、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に前記画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記送り速度Ｖとから計算をして得られる距離値Ｌを変数Ｘの値とする、
ことを特徴とする請求項３に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項８】
前記データ処理工程が、予め送り方向に直交する基準線を定め、前記画素毎に前記撮像機器と検査対象物とが一定の相対位置にある時の前記画素の位置と基準線との間の送り方向の距離を該画素に固有の初期距離値Ｌ０として記録する初期距離記録工程を、
有し、
前記移動工程において、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り速度Ｖで相対移動させ、
前記データ生成工程において、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に前記画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記速度Ｖとから計算して距離値Ｌを得て、前記距離値Ｌと前記初期距離値Ｌ０との差分である差分距離値Ｌ１を変数Ｘの値とする、
ことを特徴とする請求項３に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項９】
前記特徴点が、前記パターンを形作る輪郭の上の点である、
ことを特徴とする請求項１または請求項２のうちのひとつに記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項１０】
面内に設けられた領域に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査装置であって、
直列に並んだパターンよりも小さな画素を有する撮像機器と、
領域を前記撮像機器の視野に配置して、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り方向に相対移動させる移動機器と、
前記相対移動の途中に領域の一辺に隣接して配列された複数のパターンを撮像して複数の前記画素の受光データを取り込むデータ取り込み機器と、
前記受光データを処理するデータ処理機器と、
を備え、
前記データ処理機器が、複数の前記受光データからパターンに特有の特徴点を夫々抽出して、複数の前記特徴点を結ぶ線に近似する直線を求める、
ことを特徴とする基板またはパネル検査装置。
【請求項１１】
検査対象物と前記撮像機器との向きを矯正する向き矯正機器を、
を備え、
前記向き矯正機器が、前記直線と前記送り方向の直交線との交差角が所定の微小値以下になる様に検査対象物と前記撮像機器との向きを矯正する、
ことを特徴とする請求項１０に記載の基板またはパネル検査装置。
【請求項１２】
前記画素の並び方向と前記送り方向とが直交し、
前記データ処理機器が、
前記画素毎に前記画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし前記画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値としたＸ−Ｙデータを生成し、
前記面内において一群の前記Ｘ−Ｙデータに近似する直線Ｙ＝ａＸ＋ｂを生成する、
ことを特徴とする請求項１０または請求項１１のうちのひとつに記載の基板またはパネル検査装置。
【請求項１３】
前記データ処理機器が、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ個の前記画素を特定画素として選択し、前記特定画素毎に前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を前記変数Ｙの値とし、該特定画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を前記変数Ｘの値とする、
ことを特徴とする請求項１２に記載の基板またはパネル検査装置。
【請求項１４】
前記データ処理機器が、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ組の複数の前記画素を選択し、前記組毎に前記組に属する複数の前記画素のうちから一つの前記画素である特定画素を選定し、前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を前記変数Ｙの値とし、該組に属する複数の画素の受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置の平均値を前記変数Ｘの値とする、
ことを特徴とする請求項１２に記載の基板またはパネル検査装置。
【請求項１５】
前記撮像機器が直列に並べた少なくともＮ個のラインセンサを有し、Ｎ個の前記特定画素がＮ個の前記ラインセンサに並んだ前記画素から各々選択されたものである、
ことを特徴とする請求項１３または請求項１４のうちのひとつに記載の基板またはパネル検査装置。
【請求項１６】
前記移動機器が、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り速度Ｖで相対移動させ、
前記データ生成機器が、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に前記画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記送り速度Ｖとから計算をして得られる距離値Ｌを変数Ｘの値とする、
ことを特徴とする請求項１２に記載の基板またはパネル検査装置。
【請求項１７】
前記移動機器が、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り速度Ｖで相対移動させ、
前記データ処理機器が  予め送り方向に直交する基準線を定めて、前記画素毎に撮像機器と検査対象物とが一定の相対位置にある時の前記画素の位置と前記基準線との間の送り方向の距離を該画素に固有の初期距離値Ｌ０として記録し、
相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、
前記画素毎に画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記送り速度Ｖとから計算して距離値Ｌを得て、該距離値Ｌと前記初期距離値Ｌ０との差分である差分距離値Ｌ１を変数Ｘの値とする、
ことを特徴とする請求項１２に記載の基板またはパネル検査装置。
【請求項１８】
前記特徴点が、前記パターンを形作る輪郭の上の点である、
ことを特徴とする請求項１０または請求項１１のうちのひとつに記載の基板またはパネル検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネルの検査方法と検査装置とに係る。特に、検査対象のアライメントの調整に好適な基板またはパネルの検査方法と検査装置とに関する。
【背景技術】
【０００２】
カラー液晶ディスプレイにおける液晶パネルの構造としては、ガラス基板に透明電極及びＴＦＴマトリックス層、液晶層、透明電極、カラーフィルタ、ガラス基板を積層し、その両ガラス基板の上下に偏光板を設けて構成される。
【０００３】
カラーフィルタは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の色ピクセルがドット単位で基板にコーティングされ配列されている。その配列方式には、ＲＧＢが碁盤の目状に整列した縦ストライプ方式、ＲＧＢが分散したモザイク方式、等がある。
カラーフィルタ基板の検査製作工程においては、このピクセルを透過する光の輝度が、所定の範囲内に収まるように製作され、その検査が行われる。
カラーフィルタ基板は、略四辺形の板状構造をしている。カラーフィルタ基板の色ピクセルの一単位を絵素（パターンに相当する。）と呼んでいる。
【０００４】
図１と図２は、基板またはパネル検査方法と基板またはパネル検査装置を説明する図である。各絵素の輝度はイメージセンサを用いて検出される。イメージセンサは、例えば、複数個のＣＣＤ素子（検出素子）を一列に並べたもので、このＣＣＤ素子の一単位を画素と呼び、この画素の出力を画素データと呼んでいる。この様なイメージセンサをラインセンサと呼ぶ。
ラインセンサを、画素の並びがカラーフィルタ基板の一辺の方向（説明の便宜上、横方向と呼ぶ。）に沿うように、カラーフィルタ基板の上面に配置する。光源を、ラインセンサに対向する様に、カラーフィルタ基板の下面に配置する。一般に光源は、発光体が線上に伸びたもの（ライン光源と呼ぶ。）を用いる。
【０００５】
ラインセンサの画素の並びに直交する向き（縦方向）に、ラインセンサとカラーフィルタ基板とを一定速度で相対移動させる。所定のタイミングでラインセンサの画素データを取り込み、画素データを保存する。画素の配列ピッチは絵素の配列ピッチよりも小さいので、一つの絵素に対してＭ×Ｎの画素データが記録される。
発明者らは、特開平８−１２８９２０で、基板またはパネル検査装置の構造を開示した。
また、発明者らは、特開平９−８９６６０で、この画素データから絵素単位の透過光量（以下、絵素データとよぶ。）を求める手法を開示した。またさらに、発明者らは、特開平９−２９２３０７で、この画素データから絵素単位の透過光量を高速に求める手法を開示した。
【０００６】
ところで、上述の様にＣＣＤ素子をパネルの上面を走査してデータを取得するには、ラインセンサとカラーフィルタ基板とを一定速度で相対移動させる向きとカラーフィルタ基板の縦方向の向きが一致している必要がある。より具体的には、カラーフィルタ基板の面内の絵素の並びの縦方向と相対移動させる向きとが一致している必要がある。
一般的には、アライメント用マークをカラーフィルタ基板の絵素の配列している領域とは異なる位置に予め印刷し、ＣＣＤ素子を支持するマウンタに別個のアライメント用撮像系を設けて、そのアライメント用撮像系によりアライメント用マークを検知し、その検知データを基に、カラーフィルタ基板の姿勢を調整している。
この方式では、マウンタの上でのＣＣＤ素子とアライメント用撮像系との位置調整を精度良く行なう必要がある。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２８４８５号公報
【特許文献２】特開平０８−１２８９２０号公報
【特許文献３】特開平０９−８９６６０号公報
【特許文献４】特開平０９−２９２３０７号公報
【非特許文献１】中村寿夫，他３名，「カラーフィルタ色むら検査装置の開発」，石川島播磨技報，石川島播磨重工業株式会社，１９９７年，第３７巻，第５号Ｐ．３９４−３９９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、検査装置のスループットをより向上したいという要請があり、より早くカラーフィルタ基板の姿勢を調整することが望まれる。また、より簡単な構造でカラーフィルタ基板の姿勢を調整することが望まれる。
【０００９】
本発明は以上に述べた問題点に鑑み案出されたもので、より簡単な構成で、より高速に検査対象の姿勢を検知し、さらに検査対象の姿勢を調整できる基板またはパネルの検査方法と検査装置を提供しようとする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明に係る面内に設けられた領域に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査方法を、直列に並んだパターンよりも小さな画素を有する撮像機器を用意して、領域を前記撮像機器の視野に配置して、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り方向に相対移動させる移動工程と、前記移動工程中に領域の一辺に隣接して配列された複数のパターンを撮像して複数の前記画素の受光データを取り込むデータ取り込み工程と、複数の前記受光データからパターンに特有の特徴点を夫々抽出して、複数の前記特徴点を結ぶ線に近似する直線を求めるデータ処理工程と、を備えるものとした。
【００１１】
上記本発明の構成により、移動工程で、パターンよりも小さな画素が直列に並んだ撮像機器を用意して、領域を前記撮像機器の視野に配置して、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り方向に相対移動させ、データ取り込み工程で、前記移動工程中に領域の一辺に隣接して配列された複数のパターンを撮像して複数の前記画素の受光データを取り込み、データ処理工程で複数の前記受光データからパターンに特有の特徴点を夫々抽出して、複数の前記特徴点を結ぶ線に近似する直線を求めるので、領域の前記一辺に近似した直線を簡易に求めることができる。
【００１２】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記直線と前記送り方向の直交線との交差角が所定の微小値以下になる様に検査対象物と前記撮像機器との向きを矯正する向き矯正工程と、を備える、のが好ましい。
上記本発明の構成により、向き矯正工程で前記交差角が所定の微小値以下になる様に検査対象物と前記撮像機器との向きを矯正するので、領域の前記一辺と送り方向の直交線とを一致させることを簡易にできる。
【００１３】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記画素の並び方向と前記送り方向とが直交し、前記データ処理工程が、前記画素毎に前記画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし前記画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値としたＸ−Ｙデータを生成するデータ生成工程と、前記面内において一群の前記Ｘ−Ｙデータに近似する直線Ｙ＝ａＸ＋ｂを生成する近似直線生成工程と、を有するのが好ましい。
上記本発明の構成により、データ生成工程で前記画素毎に前記画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし前記画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値としたＸ−Ｙデータを生成し、近似直線生成工程で前記面内において一群の前記Ｘ−Ｙデータに近似する直線Ｙ＝ａＸ＋ｂを生成するので、領域の前記一辺に近似した直線を簡易な計算で求めることができる。
【００１４】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記データ生成工程において、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ個の画素を特定画素として選択し、特定画素毎に前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし、該特定画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ個の画素を特定画素として選択し、特定画素毎に前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし、該特定画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値とするので、特定画素を適切に選択すると、撮像機器における画素の並びのバラツキに起因して生じる直線の傾きと領域の前記一辺の傾きとの差異を少なくすることができる。
【００１５】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記データ生成工程において、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ組の複数の前記画素を選択し、前記組毎に前記組に属する複数の画素のうちから一つの画素である特定画素を選定し、前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし、該組に属する複数の画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置の平均値を変数Ｘの値とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ組の複数の前記画素を選択し、前記組毎に前記組に属する複数の画素のうちから一つの画素である特定画素を選定し、前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし、該組に属する複数の画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置の平均値を変数Ｘの値とするので、Ｎ組の複数の画素を適切に選択すると、撮像機器における組毎の画素の並びのバラツキに起因して生じる前記直線の傾きと領域の前記一辺の傾きとの差異を少なくすることができる。
【００１６】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記撮像機器が直列に並べた少なくともＮ個のラインセンサを有し、Ｎ個の前記特定画素がＮ個の前記ラインセンサに並んだ前記画素から各々選択されたものである、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記撮像機器が直列に並べた少なくともＮ個のラインセンサを有し、Ｎ個の前記特定画素がＮ個の前記ラインセンサに並んだ前記画素から各々選択されたものであるので、Ｎ個のラインセンサの組立にバラツキがあった際に、撮像機器における特定画素の並びのランダムな乱れに起因して生じる前記直線の傾きと領域の前記一辺の傾きとの差異を少なくすることができる。
【００１７】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記移動工程において、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り速度Ｖで相対移動させ、前記データ生成工程において、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に前記画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記送り速度Ｖとから計算をして得られる距離値Ｌを変数Ｘの値とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に前記画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記送り速度Ｖとから計算をして得られる距離値Ｌを変数Ｘの値とするので、簡単な計算により変数Ｘの値を得ることができ、領域の前記一辺に近似した前記直線を簡易な計算で求めることができる。
【００１８】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記データ処理工程が、予め送り方向に直交する基準線を定め、前記画素毎に前記撮像機器と検査対象物とが一定の相対位置にある時の前記画素の位置と基準線との間の送り方向の距離を該画素に固有の初期距離値Ｌ０として記録する初期距離記録工程を、有し、前記移動工程において、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り速度Ｖで相対移動させ、前記データ生成工程において、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に前記画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記速度Ｖとから計算して距離値Ｌを得て、前記距離値Ｌと前記初期距離値Ｌ０との差分である差分距離値Ｌ１を変数Ｘの値とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、初期距離記録工程で、予め送り方向に直交する基準線を定め、前記画素毎に前記撮像機器と検査対象物とが一定の相対位置にある時の前記画素の位置と基準線との間の送り方向の距離を該画素に固有の初期距離値Ｌ０として記録し、
相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に前記画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記速度Ｖとから計算して距離値Ｌを得て、前記距離値Ｌと前記初期距離値Ｌ０との差分である差分距離値Ｌ１を変数Ｘの値とするので、簡単な計算により撮像機器の画素の組立のバラつきに起因する誤差を排除した変数Ｘの値を得ることができ、領域の前記一辺の傾斜に近似した傾斜を持った前記直線を簡易な計算で求めることができる。
【００１９】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記特徴点が前記パターンを形作る輪郭の上の点である、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記特徴点が前記パターンを形作る輪郭の上の点であるので、受光データの変化の大きな箇所を見つけるという簡易なデータ処理により特徴点を抽出できる。
【００２０】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る面内に設けられた領域に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査装置を、直列に並んだパターンよりも小さな画素を有する撮像機器と、領域を前記撮像機器の視野に配置して、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り方向に相対移動させる移動機器と、前記移動工程中に領域の一辺に隣接して配列された複数のパターンを撮像して複数の前記画素の受光データを取り込むデータ取り込み機器と、前記受光データを処理するデータ処理機器と、を備え、前記データ処理機器が、複数の前記受光データからパターンに特有の特徴点を夫々抽出して、複数の前記特徴点を結ぶ線に近似する直線を求める、ものとした。
【００２１】
上記本発明の構成により、撮像機器が直列に並びパターンよりも小さな画素を有し、移動機器が、領域を前記撮像機器の視野に配置して、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り方向に相対移動させ、データ取り込み機器が前記相対移動の途中に領域の一辺に隣接して配列された複数のパターンを撮像して複数の前記画素の受光データを取り込み、前記データ処理機器が、複数の前記受光データからパターンに特有の特徴点を夫々抽出して、複数の前記特徴点を結ぶ線に近似する直線を求めるので、領域の前記一辺に近似した直線を簡易に求めることができる。
【００２２】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査装置は、前記撮像機器との向きを矯正する向き矯正機器を備え、前記向き矯正機器が、前記直線と前記送り方向の直交線との交差角が所定の微小値以下になる様に検査対象物と前記撮像機器との向きを矯正するのが好ましい。
上記本発明の構成により、向き矯正機器が前記交差角を所定の微小値以下になる様に検査対象物と前記撮像機器との向きを矯正するので、領域の前記一辺を送り方向の直交線に一致させることを簡易にできる。
【００２３】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査装置は、前記画素の並び方向と前記送り方向とが直交し、前記データ処理機器が、前記画素毎に前記画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし前記画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値としたＸ−Ｙデータを生成し、前記面内において一群の前記Ｘ−Ｙデータに近似する直線Ｙ＝ａＸ＋ｂを生成する、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記画素毎に前記画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし前記画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値としたＸ−Ｙデータを生成し、前記面内において一群の前記Ｘ−Ｙデータに近似する直線Ｙ＝ａＸ＋ｂを生成するので、領域の前記一辺に近似した直線Ｙ＝ａＸ＋ｂを簡易な計算で求めることができる。
【００２４】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査装置は、前記データ処理機器が、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ個の前記画素を特定画素として選択し、前記特定画素毎に前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を前記変数Ｙの値とし、該特定画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を前記変数Ｘの値とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ個の前記画素を特定画素として選択し、前記特定画素毎に前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を前記変数Ｙの値とし、該特定画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を前記変数Ｘの値とするので、特定画素を適切に選択すると、撮像機器における画素の並びのバラツキに起因して生じる直線の傾きと領域の前記一辺の傾きとの差異を最小にすることができる。
【００２５】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査装置は、前記データ処理機器が、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ組の複数の前記画素を選択し、前記組毎に前記組に属する複数の前記画素のうちの一つの前記画素である特定画素を選定し、前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を前記変数Ｙの値とし、該組に属する複数の画素の受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置の平均値を前記変数Ｘの値とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ組の複数の前記画素を選択し、前記組毎に前記組に属する複数の前記画素のうちの一つの前記画素である特定画素を選定し、前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を前記変数Ｙの値とし、該組に属する複数の画素の受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置の平均値を前記変数Ｘの値とするので、Ｎ組の複数の画素を適切に選択すると、撮像機器における組毎の画素の並びのランダムな乱れに起因して生じる直線の傾きと領域の前記一辺の傾きとの差異を少なくすることができる。
【００２６】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査装置は、前記撮像機器が直列に並べた少なくともＮ個のラインセンサを有し、Ｎ個の前記特定画素がＮ個の前記ラインセンサに並んだ前記画素から各々選択されたものである、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記撮像機器が少なくともＮ個のラインセンサを直列に並べたものであって、Ｎ個の前記特定画素がＮ個の前記ラインセンサに並んだ前記画素から各々選択されたものであるので、Ｎ個のラインセンサの組立に誤差があっても、撮像機器における画素の並びのバラツキに起因して生じる直線の傾きと領域の前記一辺の傾きとの差異を少なくすることができる。
【００２７】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査装置は、前記移動機器が、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り速度Ｖで相対移動させ、前記データ生成機器が、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に前記画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記送り速度Ｖとから計算をして得られる距離値Ｌを変数Ｘの値とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に前記画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記送り速度Ｖとから計算をして得られる距離値Ｌを変数Ｘの値とするので、簡単な計算により変数Ｘの値を得ることができ、領域の前記一辺に近似した直線を簡易な計算で求めることができる。
【００２８】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査装置は、前記移動機器が、前記撮像機器及び検査対象物の一方または両方を送り速度Ｖで相対移動させ、前記データ処理機器が  予め送り方向に直交する基準線を定めて、前記画素毎に撮像機器と検査対象物とが一定の相対位置にある時の前記画素の位置と前記基準線との間の送り方向の距離を該画素に固有の初期距離値Ｌ０として記録し、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記送り速度Ｖとから計算して距離値Ｌを得て、該距離値Ｌと前記初期距離値Ｌ０との差分である差分距離値Ｌ１を変数Ｘの値とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、予め送り方向に直交する基準線を定めて、前記画素毎に撮像機器と検査対象物とが一定の相対位置にある時の前記画素の位置と前記基準線との間の送り方向の距離を該画素に固有の初期距離値Ｌ０として記録し、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記送り速度Ｖとから計算して距離値Ｌを得て、該距離値Ｌと前記初期距離値Ｌ０との差分である差分距離値Ｌ１を変数Ｘの値とするので、簡単な計算により撮像機器の画素の組立のバラつきに起因する誤差を排除した変数Ｘの値を得ることができ、領域の前記一辺の傾きに近似した傾きを持った直線を簡易な計算で求めることができる。
【００２９】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査装置は、前記特徴点が、前記パターンを形作る輪郭の上の点である、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記特徴点が前記パターンを形作る輪郭の上の点であるので、受光データの変化の大きな箇所を見つけるという簡易なデータ処理により特徴点を抽出できる。
【発明の効果】
【００３０】
以上説明したように本発明の面内に設けられた矩形の領域に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査方法と基板またはパネル検査装置は、その構成により、以下の効果を有する。
撮像機器に並んだ画素で領域の一辺に隣接したパターンから受光データを得て、受光データから抽出したパターンの特徴点を結ぶ線に近似する直線を求めるので、領域の前記一辺に近似した直線を簡易に求めることができる。
求めた直線と送り方向の直交線との交差角が実質的にゼロになるように検査対象物と撮像機器との向きを矯正するので、前記撮像機器の画素の並びの向きと送り方向の直交線とを一致させることが簡易にできる。
撮像機器における画素の並び位置と受光データから特徴点の位置をデータ化して、そのデータから近似直線を求めるので、領域の前記一辺に近似した直線簡易な計算で求めることができる。
所定の間隔を隔てたＮ個の画素について上記のデータ処理を行なうので、特定画素を適切に選択すると、撮像機器における画素の並びのランダムな乱れに起因して生じる直線の傾きと送り方向の直交線との傾きの差異を最小にすることができる。
所定の間隔を隔てたＮ組の複数の画素について、組を代表する特定画素を決め、複数の特徴点の平均値を特定画素での特徴点の送り方向の位置とするので、Ｎ組の複数の画素を適切に選択すると、撮像機器における組毎の画素の並びのランダムな乱れに起因して生じる直線の傾きと送り方向の直交線との傾きの差異を最小にすることができる。
Ｎ個のラインセンサを並べて組み立てた撮像機器に上記の手法を適用するので、Ｎ個のラインセンサの組立にバラツキがあっても、撮像機器における画素の並びのランダムな乱れに起因して生じる直線の傾きと送り方向の直交線との傾きの差異を最小にすることができる。
特徴点の送り方向の位置を画素が特徴点での受光データを受けるまでの時間と速度とから算定するので、簡単な計算により変数Ｘの値を得ることができ、領域の前記一辺に近似した直線を簡易な計算で求めることができる。
ＣＣＤセンサの画素の送り方向の初期位置の乱れを予め記録して、特徴点の画素の送り方向の位置からその画素の初期位置を差し引くので、簡単な計算により撮像機器の組立のバラつきに起因する誤差を排除した変数Ｘの値を得ることができ、領域の前記一辺の傾きに近似した傾きを持った直線を簡易な計算で求めることができる。
前記特徴点が前記パターンを形作る輪郭の上の点であるので、受光データの変化の大きな箇所を見つけるという簡易なデータ処理により特徴点を抽出できる。
従って、より簡単な構成で、より高速に検査対象の姿勢を検知し、さらに検査対象の姿勢を調整できる基板またはパネルの検査方法と検査装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照して説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。
【００３２】
本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査装置を説明する。図１は、本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査装置の概念図である。図２は、本発明の実施形態に係る画素とパターンとの関係を示す図である。図３は、本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査装置の機能ブロック図である。図４は、本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査方法の手順図である。図５は、本発明の実施形態に係る検査対象物と撮像機器との関係を示す図である。図６は、本発明の実施形態に係るパターンと画素との関係を示す図である。
【００３３】
基板またはパネル検査装置１は、検査対象物２を検査する装置である。この検査対象物２は、面内に設けられた矩形の領域に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである
面内に設けられた矩形の領域６に光を透過または発光する特定のパターン４が一様に配列した基板またはパネルである検査対象物とは、例えば、フラットパネルディスプレイ本体やフラットパネルディスプレイを構成する基板をいう。フラットパネルディスプレイ本体は、例えば、液晶パネルやＰＤＰパネルや有機ＥＬパネルである。
フラットパネルディスプレイを構成する基板は、例えば、ＬＣＤ用や有機ＥＬ用のカラーフィルタ基板、ＴＦＴ基板、ＰＤＰ背面板である。
領域６は、１対の横方向の沿った辺（以下、横辺７という。）と１対の縦方向に沿った辺（以下、縦辺８という。）とに囲まれる。
以下では、面内に設けられた矩形の領域６に光を透過または発光する特定のパターンが碁盤の目状に一様に配列した基板またはパネルである検査対象物がカラーフィルタ基板であり、パターンが絵素である場合を例に説明する。
カラーフィルタ基板は、ガラス基板上にＲＧＢ夫々のフィルタが矩形の領域６に一様に配列したものである。例えば、６０μ×１８０μ、１００μ×３００μ等の大きさの絵素が、ＲＧＢに分かれて、矩形の領域６の並んでいる。絵素は、パターンに相当する。例えば、７６８セル×１０２４セルの絵素が、カラーフィルタ基板２の面に配置されている。
【００３４】
最初に、本発明に係る基板またはパネル検査装置１の構成を説明する。
基板またはパネル検査装置１は、面内に設けられた領域に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する装置であって、撮像機器１０と光源機器２０と移動機器３０とデータ取り込み機器４０とデータ処理機器５０と向き矯正機器６０とで構成される。説明の容易のために、その他の補機の説明を省略する。
【００３５】
撮像機器１０は、パターンよりも小さな画素が直列に並んだ機器であって、例えば、Ｎ個（例えば１３台）のラインセンサ１１で構成される。ラインセンサは、ＣＣＤカメラである。例えば、ラインセンサには一列に５０００個の画素が並び、その画素の幅は１２μである。従って、一台のラインセンサは６０ｍｍの幅を撮像できる。
ここで、説明の便宜のために、ラインセンサの画素の並び方向をＹ軸と、その直交方向をＸ軸とする。
撮像機器１０は、画素の並び方向を検査対象物の横辺７に沿って配置する。
【００３６】
光源機器２０は、光を放射する装置である。光源機器２０は、ラインセンサ１１に対向して、カラーフィルタ基板２を挟んで、ラインセンサ１１の下側に配置される。例えば、光源機器２０は、ライン光源２１を有する。
ライン光源２１から出た光は、カラーフィルタ基板２を透過して、ラインセンサ１１に受光される。
【００３７】
移動機器３０は、領域６を撮像機器１０の視野に配置して、撮像機器１０及び検査対象物２の一方または両方を送り方向に相対移動させる機器であり、例えば、カラーフィルタ基板２をラインセンサ１１とライン光源２１との間に支持し、Ｘ軸に沿ってカラーフィルタ基板２を相対移動させる。例えば、移動機器３０は、移動テーブル３１と一対のガイドレール３２と駆動装置（図示せず）とを有する。移動テーブル３１は、カラーフィルタ基板を支持する構造体であり、ガイドレール３２にＸ軸に添って移動自在に支持される。駆動装置が、移動テーブル３１をＸ軸に沿って移動させる。
【００３８】
データ取り込み機器４０とデータ処理機器５０とは、画像処理装置９を構成する機器の一部である。
画像処理装置９は、撮像機器１０と光源機器２０と移動機器３０を制御して、画素データを取り込み、カラーフィルタ基板の欠陥を検査するデータ処理装置であり、主にコンピュータとインターフェースとで構成される。
【００３９】
データ取り込み機器４０は、移動機構３０が撮像機器１０と検査対象物２とを送り方向に相対移動させる途中に、領域６の一辺に隣接して配列された複数のパターンを撮像して複数の前記画素の受光データを取り込む機器である。例えば、データ取り込み機器４０はファームウェア化されたボードである。
例えば、データ取り込み機器４０は、画素が領域６の横辺７に隣接して配列された複数のパターンを撮像して出力すると、その受光データをデータ化して逐次時系列データとしてメモリに記録する。
画素の並び方向が横辺７に沿っているので、移動機器３０がわずかな距離だけ撮像機器と検査対象物を相対移動させ間に、データ取り込み機器４０は横辺７に隣接するパッターンからの受光データを取り込み、メモリに記録する。
【００４０】
データ処理機器５０は、受光データを処理し、画像処理装置９の機能を発揮する機器である。
データ処理機器５０は、メモリに記録された時系列の受光データを取りだして、予め定められた処理プログラムに従って所定の機能を発揮して、受光データを処理し、検査対象物２の検査データを出力する。
例えば、データ処理機器５０は、データ取り込み機器４０が取り込んだ画素の受光データから、パターン毎に設定した仮想の窓５を透過する輝度を積算して、領域に配列するパターンの製作精度を検査する。この際に、領域の横辺が送り方向に直交していることが望まれる。
データ処理機器５０の機能のうち、本発明に係るデータ処理機器５０の機能を、以下の基板またはパネルの検査方法の説明において詳述する。
【００４１】
向き矯正機器６０は、検査対象物２と撮像機器１０とのパターンの面内での向きを矯正する機器である。例えば、向き矯正機器６０は、移動テーブル３１の上の検査対象の姿勢を変化させて、検査対象物と撮像機器との向きを矯正する。
【００４２】
以下で、本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査方法を、図面を基に、説明する。
基板またはパネル検査方法は、面内に設けられた矩形の領域に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する方法であって、移動工程Ｓ１０とデータ取り込み工程Ｓ２０とデータ処理工程Ｓ３０と向き矯正工程Ｓ４０とで構成される。
【００４３】
移動工程Ｓ１０は、直列に並んだパターンよりも小さな画素を有する撮像機器１０を用意して、領域６を撮像機器１０の視野に配置して、撮像機器１０及び検査対象物２の一方または両方を送り方向に相対移動させる工程である。例えば、撮像機器１０及び検査対象物２の一方または両方を送り速度Ｖで相対移動させる。相対移動するには、連続的移動でもステップ移動でもよい。
例えば、画素３の並び方向を領域６の横辺７に沿う様に撮像機器１０の下に検査対象物２を置き、移動機器３０が撮像機器１０の画素３の並び方向に直交する方向へ検査対象物２を移動させる。
【００４４】
データ取り込み工程Ｓ２０は、移動工程Ｓ１０の途中に領域６の一辺に隣接して配列された複数のパターンを撮像して複数の画素３の受光データを取り込む工程である。
例えば、撮像機器１０が領域６の横辺７に隣接するパターン４を透過する光を受けて、撮像機器１０の画素３毎の出力を受光データとして取り込む。取り込んだ受光データを、時系列にメモリに記録する。
【００４５】
データ処理工程Ｓ３０は、複数の画素の受光データからパターンに特有の特徴点を夫々抽出して、複数の前記特徴点を結ぶ線に近似する直線を求める工程であり、初期距離記録工程Ｓ３１とデータ生成工程Ｓ３２と近似直線生成工程Ｓ３３とで構成される。
【００４６】
初期距離記録工程Ｓ３１は、予め送り方向に直交する基準線を定め、画素毎に撮像機器１０と検査対象物２とが一定の相対位置にある時の画素の位置と基準線との間の送り方向の距離を画素に固有の初期距離値Ｌ０として記録する工程である。
撮像機器１０が、複数のラインセンサを組み合わせたものである場合に、ラインセンサの位置を調整しても、微小な画素の並びのバラツキが残ってしまうことがある。この画素の並びのバラツキを、画素毎の初期距離値Ｌ０として記録できる。
【００４７】
データ生成工程Ｓ３２は、画素毎に画素の撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし、画素の前記受光データから抽出した特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値としたＸ−Ｙデータを生成する工程である。
特徴点は、パターンの形状特性に起因する受光データの特徴的な点であって、受光データを数値処理することにより得られる。特徴点は、例えば、パターンを形作る輪郭の上の点である。この特徴点は、受光データを微分処理することにより簡易に求めることができる。
【００４８】
データ生成工程の２つの例を説明する。
第一の例のデータ生成工程Ｓ３２は、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ個の画素を特定画素として選択し、特定画素毎に前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし、該特定画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置を変数Ｘの値とする。
このＮ個の画素は、前記撮像機器が少なくともＮ個のラインセンサを直列に並べたものである場合に、Ｎ個の前記ラインセンサに並んだ前記画素から各々選択されたものである。例えば、Ｎ個のラインセンサ１１の各々の略中央に位置する画素３を特定画素３ａとして選定する。
【００４９】
第二の例のデータ生成工程Ｓ３２は、複数の前記画素の中から所定の間隔を隔てたＮ組の複数の前記画素を選択し、前記組毎に前記組に属する複数の画素のうちから一つの画素である特定画素を選定し、前記特定画素の前記撮像機器での並び方向に沿った向きの位置を変数Ｙの値とし、該組に属する複数の画素の前記受光データから抽出した前記特徴点の送り方向の位置の平均値を変数Ｘの値とする。
このＮ個の画素は、前記撮像機器が少なくともＮ個のラインセンサを直列に並べたものである場合に、Ｎ個の前記ラインセンサに並んだ前記画素から各々選択されたものである。例えば、Ｎ個のラインセンサ１１の各々の略中央に並ぶ７個の画素３を選択し、その内の一つの画素３を特定画素３ａとして選定する。  
【００５０】
次に、データ生成工程Ｓ３２が、変数Ｘを求める手順の２つの例を説明する。
第一の例のデータ生成工程Ｓ３２は、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、前記画素毎に前記画素が前記特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と前記基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記送り速度Ｖとから計算をして得られる距離値Ｌを変数Ｘの値とする。
第二の例のデータ生成工程Ｓ３２は、相対移動中の所定の時刻を基準時刻と定め、画素毎に画素が特徴点で透過または発光する光を受光した時刻と基準時刻との間隔時間Ｔを求めて該間隔時間Ｔと前記速度Ｖとから計算して距離値Ｌを得て、前記距離値Ｌと前記初期距離値Ｌ０との差分である差分距離値Ｌ１を変数Ｘの値とする。
【００５１】
近似直線生成工程Ｓ３３は、前記面内において一群のＸ−Ｙデータに近似する直線Ｙ＝ａＸ＋ｂを生成する工程である。
近似直線生成工程Ｓ３３は、例えば、一群のＸ−Ｙデータから最小二乗法により直線Ｙ＝ａＸ＋ｂの係数ａ、ｂを演算して、直線Ｙ＝ａＸ＋ｂを求める。
【００５２】
向き矯正工程Ｓ４０は、直線と送り方向の直交線との交差角が所定の微小値以下になる様に検査対象物と前記撮像機器との向きを矯正する工程である。
向き矯正機器６０が検査対象物と前記撮像機器との向きを調整し、直線と送り方向の直交線との交差角が所定の微小値以下になる様にする。
【００５３】
上述の実施形態の基板またはパネル検査装置と基板またはパネル検査方法を用いれば、以下の効果を発揮できる。
撮像機器の画素の並び方向を横辺７に沿わせて  領域の横辺に隣接するパターン４を撮像し、画素毎にパターンの特徴点を抽出し、特徴点を結ぶ線に近似する直線を得るので、簡単な処理により、別個の撮像系を用いずに、領域の横辺に近似した直線を得ることができる。
その直線の傾きを検出することにより、簡単な処理により、別個の撮像系を用いずに、検査対象物の傾きを知ることができる。
その直線の傾きと送り方向の直交線との交差角を所定の微小角値以下になるように、検査対象物と撮像機器との向きを矯正するので、簡単な処理により、特別な撮像系を用いずに、送り方向の傾きと縦辺の傾きとを一致させることができる。
特徴点の位置をＸ−Ｙデータにデータ化して、簡易な数値処理により直線をＹ＝ａＸ＋ｂを生成するので、簡単な処理により、横辺に近似する直線のデータを得ることができる。
ラインセンサ毎にラインセンサを代表する特定画素について、上記の処理を行なうので、ラインセンサの組立のバラツキに起因する直線の傾きと直線の傾きの差異を少なくすることができる。
ラインセンサ毎にラインセンサを代表する複数の画素について、上記の処理を行なうので、ラインセンサ毎の組立のバラツキに起因する直線の傾きと直線の傾きの差異を少なくすることができる。
時系列の受光データを基に、送り速度Ｖと画素が特徴点の受光データを撮像した時刻とから、特徴点の送り方向の位置Ｘを求めるので、簡単な処理により、特徴点の位置を得ることができる。
撮像機器の画素毎の組立誤差をキャンセルして特徴点の送り方向の位置を得るので、横辺により近似した直線を得ることができ、横辺と送り方向の直交線とのより正確な交差角をしることができる。
特徴点をパターンを形作る輪郭の上の一点としたので、受光データの値の急激な変化を抽出する簡単な数値処理（例えば、微分処理）により、特徴点の位置を簡易に得ることができる。
【００５４】
本発明は以上に述べた実施形態に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変更が可能である。
特徴点をパターンを形作る輪郭の上の一点としたが、これに限定されず、例えば、パターンの重心点等でもよい。
特徴点の送り方向の位置を、送り速度と受光データの受光した時刻とから演算したが、これに限定されず、別途の位置センサのデータを用いて演算してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査装置の概念図である。
【図２】本発明の実施形態に係る画素とパターンとの関係図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査装置の機能ブロック図である。
【図４】本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査方法の手順図である。
【図５】本発明の実施形態に係る検査対象物と撮像機器との関係図である。
【図６】本発明の実施形態に係るパターンと画素との関係図である。
【符号の説明】
【００５６】
１  基板またはパネル検査装置
２  検査対象物（カラーフィルタ基板）
３  画素
３ａ特定画素
４  パターン
５  仮想の窓
６  領域
７  横辺
８  縦辺
９  画像処理装置
１０  撮像機器
１１  ラインセンサ
２０  光源機器
３０  移動機構
３１  移動テーブル
３２  ガイドレール
４０  データ取り込み機器
５０  データ処理機器
６０  向き矯正機器
Ｓ１０  移動工程
Ｓ２０  データ取り込み工程
Ｓ３０  データ処理工程
Ｓ３１  初期距離記録工程
Ｓ３２  データ生成工程
Ｓ３３  近似直線生成工程
Ｓ４０  向き矯正工程
【図１】
2005195385.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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