(57)【要約】【課題】  基板の汚染機会を削減することができる基板処理装置を提供することである。【解決手段】  基板処理装置１００においては、開閉自在な蓋を有する密閉型のＦＯＵＰタイプの基板収納容器１に基板Ｗが収納される。その基板収納容器１が載置部４０に載置される。基板収納容器１が基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４により載置部４０と複数の洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４との間で搬送される。複数の洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４ごとに設けられた蓋開閉機構により基板収納容器１の蓋が開閉され、基板収納容器１に収納された基板Ｗが取り出し可能となる。そして、複数の洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４により基板Ｗに所定の処理が行われる。【選択図】        図１ 
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開閉自在な蓋を有する密閉型の基板収納容器により搬送される基板に処理を行う基板処理装置であって、
前記基板に所定の処理を行う複数の基板処理部と、
前記基板収納容器が載置される載置部と、
前記載置部と前記複数の基板処理部との間で前記基板収納容器を搬送する搬送手段と、
前記複数の基板処理部ごとに設けられ、前記基板収納容器に収納された基板を取り出すために前記蓋を開閉する蓋開閉機構とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記複数の基板処理部ごとに設けられ、前記基板収納容器に収納された基板を取り出して前記基板処理部に搬入し、前記基板処理部から前記基板を搬出して前記基板収納容器に収納する基板搬入出手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記複数の基板処理部は、
前記搬送手段により搬送された前記基板収納容器を支持する支持部を有することを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記搬送手段は、複数の搬送装置を含み、
前記複数の搬送装置の各々は、前記載置部と前記複数の基板処理部のいずれかとの間で前記基板収納容器を搬送することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記複数の搬送装置は、前記複数の基板処理部と同数設けられたことを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
基板に所定の処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板の処理工程では、一連の処理を行う複数の処理ユニットを備えた基板処理装置が用いられている。
【０００３】
この基板処理装置では、基板処理装置の外部から基板収納容器に収納された未処理の基板が搬入される。そして、基板処理装置において、基板収納容器内から未処理の基板が取り出され、複数の処理ユニットに未処理の基板を搬入することにより所定の処理が行われる。
【０００４】
ここで、基板収納容器には、容器の一部が外部雰囲気に開放されたＯＣ（open  cassette）タイプの基板収納容器と、容器内部が密閉されたＦＯＵＰ（front opening unified pod）タイプの基板収納容器とがある。
【０００５】
一般に、ＦＯＵＰタイプの基板収納容器を用いて基板を搬送した場合には、周囲の雰囲気に塵埃等のパーティクル等が存在していても基板が密閉された状態で搬送されるため、基板の清浄度が維持できる。
【特許文献１】特開２００２−２３１７８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記のＦＯＵＰタイプの基板収納容器を用いて基板を搬送しても、従来の基板処理装置を用いて未処理の基板に所定の処理を施す場合、インデクサ部でインデクサロボットが基板収納容器から基板を取り出す。その周囲の雰囲気により基板の清浄度が変化する。
【０００７】
続いて、インデクサロボットは、基板処理装置の中央に配置されたセンターロボットに基板を渡す。センターロボットは、受け取った基板を所定の処理ユニットに搬入する。処理ユニットにより基板に所定の処理が行われた後、再び、センターロボットは基板を搬出し、インデクサロボットに渡す。そして、インデクサロボットは、処理後の基板をＦＯＵＰタイプの基板収納容器に収納する。
【０００８】
また、基板収納容器に搬入する基板の向きまたは姿勢を修正するために、インデクサロボットは、基板を基板収納容器から取り出してノッチ（切欠き）の方向を合わせて再び基板収納容器に収納する場合もある。
【０００９】
このように、従来の基板処理装置では、ＦＯＵＰタイプの基板収納容器から基板を取り出し、所定の処理ユニットまで基板を搬送する必要があるので、基板収納容器から取り出した基板を搬送する距離および時間と、基板をインデクサロボットおよびセンターロボット間で受け渡す回数との増加により基板表面の汚染機会が多くなる。
【００１０】
本発明の目的は、基板の汚染機会を削減することができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
第１の発明に係る基板処理装置は、開閉自在な蓋を有する密閉型の基板収納容器により搬送される基板に処理を行う基板処理装置であって、基板に所定の処理を行う複数の基板処理部と、基板収納容器が載置される載置部と、載置部と複数の基板処理部との間で基板収納容器を搬送する搬送手段と、複数の基板処理部ごとに設けられ、基板収納容器に収納された基板を取り出すために蓋を開閉する蓋開閉機構とを備えたものである。
【００１２】
本発明に係る基板処理装置においては、開閉自在な蓋を有する密閉型の基板収納容器に基板が収納される。その基板収納容器が載置部に載置される。基板収納容器が搬送手段により載置部と複数の基板処理部との間で搬送される。複数の基板処理部ごとに設けられた蓋開閉機構により基板収納容器の蓋が開閉され、基板収納容器に収納された基板が取り出し可能となる。そして、複数の基板処理部により基板に所定の処理が行われる。
【００１３】
この場合、基板が開閉自在な蓋を有する密閉型の基板収納容器に収納された状態で搬送手段により載置部と複数の基板処理部との間で搬送されるので、搬送時に外気の影響を受けることが防止されるとともに基板の受け渡し回数を減らすことができる。その結果、基板の汚染機会を削減することができる。
【００１４】
複数の基板処理部ごとに設けられ、基板収納容器に収納された基板を取り出して基板処理部に搬入し、基板処理部から基板を搬出して基板収納容器に収納する基板搬入出手段をさらに備えてもよい。
【００１５】
この場合、基板搬入出手段により基板収納容器に収納された基板が基板処理部に搬入され、基板搬入出手段により基板処理部から基板が搬出され基板収納容器に収納される。その結果、基板処理部において基板に所定の処理を行うことができる。また、基板搬入出手段により基板が基板収納容器から直接基板処理部に搬入されるので、基板の受け渡し回数を減らすことができ、基板の汚染回数を削減することができる。
【００１６】
複数の基板処理部は、搬送手段により搬送された基板収納容器を支持する支持部を有してもよい。
【００１７】
この場合、搬送手段により基板処理部に搬送された基板収納容器が支持部により支持される。それにより、安定した状態で基板を複数の基板処理部に搬入することができる。さらに、搬送手段が基板処理部への搬送後に基板収納容器を保持する必要がなくなるので、搬送手段が他の基板収納容器の搬送を行うことができる。その結果、基板処理装置全体のスループットを向上することができる。
【００１８】
搬送手段は、複数の搬送装置を含み、複数の搬送装置の各々は、載置部と複数の基板処理部のいずれかとの間で基板収納容器を搬送してもよい。
【００１９】
この場合、複数の搬送装置の各々により、載置部と複数の基板処理部のいずれかとの間で基板収納容器を搬送することができるので、複数の搬送装置により効率的に複数の基板収納容器を搬送することが可能となる。その結果、基板処理装置全体のスループットを向上することができる。
【００２０】
複数の搬送装置は、複数の基板処理部と同数設けられてもよい。
【００２１】
この場合、複数の基板処理部と同数の搬送装置が設けられので、同数の搬送装置によりさらに効率的に複数の基板収納容器を搬送することが可能となる。その結果、基板処理装置全体のスループットをさらに向上することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、基板の搬送時に外気の影響を受けることが防止されるとともに基板の受け渡し回数を減らすことができる。その結果、基板の汚染機会を削減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００２４】
以下の説明において、基板とは、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等をいう。
【００２５】
図１は本発明の実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。
【００２６】
図１に示すように、基板処理装置１００は、処理領域Ａ，Ｂを有し、処理領域Ａ，Ｂ間に搬送領域Ｃ１を有し、搬送領域Ｃ１の一端部側に搬送領域Ｃ２を有する。
【００２７】
処理領域Ａには、制御部４、流体ボックス部２ａ，２ｂ、洗浄処理部ＭＰＣ１，ＭＰＣ２が配置されている。処理領域Ｂには、流体ボックス部２ｃ，２ｄ、洗浄処理部ＭＰＣ３，ＭＰＣ４が配置されている。
【００２８】
洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４では、主に薬液による洗浄処理（以下、薬液処理と呼ぶ）および主にリンス液による洗浄処理（以下、リンス処理と呼ぶ）が行われる。この薬液としては、フッ酸、アンモニア−過酸化水素混合液（ＡＰＭ）または塩酸−過酸化水素水等が用いられる。また、洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４には、二流体ノズルが設けられる。また、リンス液としては、主に純水、純水にオゾン（Ｏ3）を加えたオゾン水または希フッ酸（ＤＨＦ）が用いられる。この洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４それぞれにおいて、基板は薬液処理された後、基板上に残留する薬液が純水により洗い流され、リンス処理される。以下、洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４を処理ユニットと総称する。
【００２９】
図１の流体ボックス部２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄは、それぞれ処理ユニットへの薬液または純水の供給ならびに処理ユニットからの排液等に関する配管、継ぎ手、バルブ、流量計、レギュレータ、ポンプ、温度調節器、処理液貯留タンク等の流体関連機器を収納する。
【００３０】
一方、搬送領域Ｃ１，Ｃ２には、複数の搬送レールＲ１〜Ｒ３，Ｒ１１〜Ｒ１４，Ｒ２１〜Ｒ２３，ＲＭ１，ＲＭ２が設けられる。ここで、搬送領域Ｃ１の長手方向をＸ方向と呼び、水平面内でＸ方向に垂直な方向をＹ方向と呼び、上下方向をＺ方向と呼ぶ。
【００３１】
また、搬送領域Ｃ１，Ｃ２には、その搬送レールＲ１〜Ｒ３，Ｒ１１〜Ｒ１４，Ｒ２１〜Ｒ２３，ＲＭ１，ＲＭ２に懸吊されつつ移動可能な４台の基板搬送ロボットＨＣＲ１，ＨＣＲ２，ＨＣＲ３，ＨＣＲ４が設けられる。この基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４の詳細については後述する。
【００３２】
また、搬送領域Ａの洗浄処理部ＭＰＣ１と搬送領域Ｃ１との間には、基板搬入出ロボットＭＲ１が設けられる。基板搬入出ロボットＭＲ１と洗浄処理部ＭＰＣ１との間には隔壁ＷＬ１が設けられ、基板搬入出ロボットＭＲ１と搬送領域Ｃ１との間には隔壁ＷＬ２が設けられる。同様に、洗浄処理部ＭＰＣ２，ＭＰＣ３，ＭＰＣ４と搬送領域Ｃ１との間には、基板搬入出ロボットＭＲ２，ＭＲ３，ＭＲ４がそれぞれ設けられ、洗浄処理部ＭＰＣ２〜ＭＰＣ４と基板搬入出ロボットＭＲ２〜ＭＲ４との間には隔壁ＷＬ１が設けられ、基板搬入出ロボットＭＲ２〜ＭＲ４と搬送領域Ｃ１との間には隔壁ＷＬ２が設けられる。隔壁ＷＬ１，ＷＬ２の詳細については後述する。また、搬送領域Ｃ１には、各処理ユニットに対向して隔壁ＷＬ２に面する位置に支持台３０が設けられる。
【００３３】
搬送領域Ｃ２の一側部側には、基板Ｗの搬入および搬出を行うためのロードポートＬＰが配置されている。ロードポートＬＰには、基板Ｗを収納する基板収納容器１が載置台４０に載置される。ここで、本実施の形態で用いられる基板収納容器１は、基板Ｗを密閉した状態で収納可能なＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）タイプの基板収納容器である。
【００３４】
制御部４は、ＣＰＵ（中央演算処理装置）を含むコンピュータ等からなり、処理領域Ａ，Ｂの各処理ユニットの動作、搬送領域Ｃ１，Ｃ２の基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４の動作を制御する。
【００３５】
図２は図１の基板処理装置１００の搬送領域Ｃ１，Ｃ２の一部の斜視図である。
【００３６】
図２に示すように、搬送レールＲ１２（点線で示す），Ｒ１３が下段に設けられ、搬送レールＲ１〜Ｒ３，Ｒ２１，Ｒ２２，Ｒ２３（点線で示す）が中段に設けられ、搬送レールＲ１１（点線で示す），Ｒ１４が上段に設けられる。また、搬送レールＲＭ１（点線で示す），ＲＭ２は、それぞれ矢印αの方向に下段と上段との間を移動しつつ矢印βの方向に回転移動することが可能である。
【００３７】
図２に示すように、搬送領域Ｃ２からロードポートＬＰの載置台４０の上方には、搬送レールＲ１，Ｒ２，Ｒ３がＸ方向に沿って導かれている。
【００３８】
搬送領域Ｃ２には、搬送レールＲ２１〜Ｒ２３，ＲＭ１，ＲＭ２がＹ方向に沿って搬送レールＲ１〜Ｒ３の一端と連結可能に設けられる。
【００３９】
一方、処理領域Ｂに面した搬送領域Ｃ１には、Ｘ方向に沿って搬送レールＲ１３，Ｒ１４が設けられる。搬送レールＲ１３は、洗浄処理部ＭＰＣ３の近傍まで延びており、搬送レールＲ１４は、洗浄処理部ＭＰＣ４の近傍まで延びている。
【００４０】
この搬送レールＲ１３は、搬送レールＲＭ２が、矢印βの方向に回転移動しつつ、下降した場合に、搬送レールＲＭ２と連結する位置に設けられ、搬送レールＲ１４は、搬送レールＲＭ２が矢印βの方向に回転移動しつつ、上昇した場合に搬送レールＲＭ２と連結する位置に設けられる。
【００４１】
また、処理領域Ａに面した搬送領域Ｃ１には、Ｘ方向に沿って搬送レールＲ１１，Ｒ１２が設けられる。搬送レールＲ１１は、洗浄処理部ＭＰＣ１の近傍まで延びており、搬送レールＲ１２は、洗浄処理部ＭＰＣ２の近傍まで延びている。
【００４２】
この搬送レールＲ１１は、搬送レールＲＭ１が、矢印βの方向に回転移動しつつ、上昇した場合に搬送レールＲＭ１と連結する位置に設けられ、搬送レールＲ１２は、搬送レールＲＭ１が矢印βの方向に回転移動しつつ、下降した場合に搬送レールＲＭ１と連結する位置に設けられる。
【００４３】
図２の基板搬送ロボットＨＣＲ３は、搬送レールＲ１〜Ｒ３，Ｒ１１〜Ｒ１４，Ｒ２１〜Ｒ２３，ＲＭ１，ＲＭ２に懸吊されつつ移動可能な懸吊駆動部ＣＲおよび基板収納容器１の上端部を挟持する一対の挟持部ＨＡＮＤを有する。また、他の基板搬送ロボットＨＣＲ１，ＨＣＲ２，ＨＣＲ４の構成は、基板搬送ロボットＨＣＲ３の構成と同様である。
【００４４】
したがって、４台の基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４は、それぞれ基板収納容器１の上端部を挟持し、搬送レールＲ１〜Ｒ３，Ｒ１１〜Ｒ１４，Ｒ２１〜Ｒ２３，ＲＭ１，ＲＭ２に懸吊されつつ移動することが可能である。
【００４５】
ここで、基板搬送ロボットＨＣＲ３が洗浄処理部ＭＰＣ３に基板収納容器１を搬送し、同時に基板搬送ロボットＨＣＲ４が洗浄処理部ＭＰＣ４に基板収納容器１を搬送する場合について説明する。
【００４６】
まず、図２に示すように、基板搬送ロボットＨＣＲ３は、搬送レールＲ３に懸吊されている。基板搬送ロボットＨＣＲ３は、ロードポートＬＰの載置台４０に載置された基板収納容器１の上方に移動し、載置台４０に載置された基板収納容器１の上端部を一対の挟持部ＨＡＮＤで挟持する。基板搬送ロボットＨＣＲ３は、基板収納容器１の上端部を挟持したまま基板収納容器１全体を上方に引き上げる。
【００４７】
続いて、基板搬送ロボットＨＣＲ３は、搬送レールＲ３，Ｒ２２に沿って移動し、搬送レールＲＭ２上で停止する。
【００４８】
搬送レールＲＭ２は、基板搬送ロボットＨＣＲ３を懸吊した状態で矢印βの方向に回転しつつ搬送レールＲ１３と連結する位置まで下降する。
【００４９】
搬送レールＲＭ２が搬送レールＲ１３と連結する位置まで下降すると、基板搬送ロボットＨＣＲ３は、基板収納容器１の上端部を挟持したまま、洗浄処理部ＭＰＣ３の前方の支持台３０の上方まで移動する。基板搬送ロボットＨＣＲ３は、基板収納容器１の上端部を挟持したまま基板収納容器１全体を下方に降下させ、支持台３０上に基板収納容器１を載せる。そして、基板搬送ロボットＨＣＲ３は、一対の挟持部ＨＡＮＤを開放して基板収納容器１の上端部を離す。
【００５０】
一方、基板搬送ロボットＨＣＲ４は、基板搬送ロボットＨＣＲ３と同様に他の基板収納容器１の上端部を挟持して移動する。基板搬送ロボットＨＣＲ４は、搬送レールＲ２，Ｒ２１に沿って移動し、搬送レールＲＭ２上で停止する。
【００５１】
搬送レールＲＭ２は、基板搬送ロボットＨＣＲ４を懸吊した状態で矢印βの方向に回転しつつ搬送レールＲ１４と連結する位置まで上昇する。
【００５２】
搬送レールＲＭ２が搬送レールＲ１４と連結する位置まで上昇すると、基板搬送ロボットＨＣＲ４は、基板収納容器１の上端部を挟持したまま、洗浄処理部ＭＰＣ４の前方の支持台３０の上方まで移動する。基板搬送ロボットＨＣＲ４は、基板収納容器１の上端部を挟持したまま基板収納容器１全体を下方に降下させ、支持台３０上に基板収納容器１を載せる。そして、基板搬送ロボットＨＣＲ４は、一対の挟持部ＨＡＮＤを開放して基板収納容器１の上端部を離す。
【００５３】
次に、図３は図１の基板処理装置１００のＤ−Ｄ断面を示す図であり、図４は図１の基板処理装置１００のＥ−Ｅ断面を示す図である。
【００５４】
図３に示すように、洗浄処理部ＭＰＣ１の前方に基板収納容器１の上端部を挟持した基板搬送ロボットＨＣＲ１が位置し、洗浄処理部ＭＰＣ３の前方に基板収納容器１の上端部を挟持した基板搬送ロボットＨＣＲ３が位置する。
【００５５】
また、図４に示すように、洗浄処理部ＭＰＣ２の前方に基板収納容器１の上端部を挟持した基板搬送ロボットＨＣＲ２が位置し、洗浄処理部ＭＰＣ４の前方に基板収納容器１の上端部を挟持した基板搬送ロボットＨＣＲ４が位置する。
【００５６】
図３の洗浄処理部ＭＰＣ１と基板搬入出ロボットＭＲ１との間の隔壁ＷＬ１には、開口部が設けられ、その開口部にはシャッタＳＨが開閉自在に設けられる。基板搬入出ロボットＭＲ１と搬送領域Ｃ１との間の隔壁ＷＬ２には開口部が設けられ、その開口部の下方には基板収納容器１の蓋を開閉可能する蓋開閉機構（オープナー）ＯＰが設けられる。
【００５７】
同様に、図３および図４の洗浄処理部ＭＰＣ２〜ＭＰＣ４と基板搬入出ロボットＭＲ２〜ＭＲ４との間のそれぞれの隔壁ＷＬ１には、開口部およびシャッタＳＨが設けられる。また、基板搬入出ロボットＭＲ２〜ＭＲ４と搬送領域Ｃ１との間のそれぞれの隔壁ＷＬ２には開口部が設けられ、その開口部の下方には蓋開閉機構（オープナー）ＯＰが設けられる。
【００５８】
また、図３に示すように、搬送レールＲ１１〜Ｒ１４のそれぞれの間隔は、基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４がそれぞれ基板収納容器１の上端部を挟持して搬送した場合でも、互いに衝突（干渉）しないように配置される。
【００５９】
洗浄処理装置ＭＰＣ１は、基板処理装置１００に対して相対的に上方に設けられ、洗浄処理装置ＭＰＣ２は、基板処理装置１００に対して相対的に下方に設けられ、洗浄処理装置ＭＰＣ３は、基板処理装置１００に対して相対的に下方に設けられ、洗浄処理装置ＭＰＣ４は、基板処理装置１００に対して相対的に上方に設けられる。
【００６０】
以上のことにより、基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４は、いずれも互いに他の基板搬送ロボットと衝突（干渉）しないで基板収納容器１の搬送が可能となる。
【００６１】
次に、基板搬送ロボットＨＣＲ３により支持台３０に搬送された基板収納容器１から未処理の基板Ｗを取り出して洗浄処理部ＭＰＣ３に搬入する場合について説明する。
【００６２】
図５は、基板収納容器１から未処理の基板Ｗを取り出して洗浄処理部ＭＰＣ３に搬入する状態を示す斜視図である。
【００６３】
図５に示す基板搬入出ロボットＭＲ３は、複数の腕から構成された多関節型ロボットである。また、基板搬入出ロボットＭＲ３は、基板収納容器１内の上段から下段までの範囲を上下移動することが可能である。さらに、洗浄処理部ＭＰＣ３に対向する搬送領域Ｃ１に面した隔壁ＷＬ２には、基板収納容器１の蓋を開閉する蓋開閉装置ＯＰが備えられている。
【００６４】
まず、基板搬送ロボットＨＣＲ３により洗浄処理部ＭＰＣ３の前方の隔壁ＷＬ２の支持台３０上に基板収納容器１を載せる。そして、蓋開閉装置ＯＰにより基板収納容器１の蓋が開放される。
【００６５】
次に、多関節型ロボットである基板搬入出ロボットＭＲ３は、蓋が開放された基板収納容器１内に収納された未処理の基板Ｗを受け取る。ほぼ同時に、隔壁ＷＬ１のシャッタＳＨが下方へ移動する。それにより、基板搬入出ロボットＭＲ３は、基板収納容器１内から取り出した未処理の基板Ｗを洗浄処理部ＭＰＣ３内に搬入する。未処理の基板Ｗを洗浄処理部ＭＰＣ３に搬入した後、基板搬入出ロボットＭＲ３は、洗浄処理部ＭＰＣ３から退出する。続いて、隔壁ＷＬ１のシャッタＳＨが上方へ移動し、洗浄処理部ＭＰＣ３内が密閉される。洗浄処理部ＭＰＣ３は、基板Ｗに所定の処理を施す。その後、隔壁ＷＬ１のシャッタＳＨが下方へ移動する。それにより、基板搬入出ロボットＭＲ３は、処理済の基板Ｗを受け取り、基板収納容器１内に収納することができる。基板搬入出ロボットＭＲ３は、基板収納容器１内に収納された未処理の基板Ｗに対して同様の動作を繰り返し、基板収納容器１内の基板Ｗを全て処理する。
【００６６】
以上のことにより、本実施の形態に係る基板処理装置は、基板Ｗが開閉自在な蓋を有する密閉型の基板収納容器１に収納された状態で載置部４０と所定の洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４との間で搬送されるので、外気の影響を受けことが防止されるとともに基板Ｗの受け渡し回数を減らすことができる。その結果、基板Ｗの汚染機会を削減することができる。
【００６７】
また、基板搬入出ロボットＭＲ１〜ＭＲ４により基板収納容器１に収納された基板Ｗが洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４に搬入され、基板搬入出ロボットＭＲ１〜ＭＲ４により洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４から基板Ｗが搬出され基板収納容器１に収納される。その結果、洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４において基板Ｗに所定の処理を行うことができる。また、基板搬入出ロボットＭＲ１〜ＭＲ４により基板Ｗが基板収納容器１から直接洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４に搬入されるので、基板Ｗの受け渡し回数を減らすことができ、基板Ｗの汚染回数を削減することができる。
【００６８】
さらに、基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４により洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４に搬送された基板収納容器１が各支持台３０により支持されるので、安定した状態で基板Ｗを複数の洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４に搬入することができる。
【００６９】
この場合、基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４が洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４への搬送後に基板収納容器１を保持する必要がなくなるので、基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４が他の基板収納容器１の搬送を行うことができる。
【００７０】
また、複数の基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４により効率的に複数の基板収納容器１を搬送することが可能となる。その結果、基板処理装置１００全体のスループットをさらに向上することができる。
【００７１】
本実施の形態においては、基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４が搬送手段に相当し、支持台３０が支持部に相当し、基板搬入出装置ＭＲ１〜ＭＲ４が基板搬入出手段に相当する。
【００７２】
なお、本実施の形態においては、洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４を設けているが、任意の台数の洗浄処理部を設けてもよい。また、洗浄処理部ＭＰＣ１〜ＭＰＣ４は同じ処理を基板に施しているが、異なる処理をそれぞれ行うようにしてもよい。また、基板搬送ロボットＨＣＲ１〜ＨＣＲ４を設けているが、１台または複数の基板搬送ロボットを設けてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板、光ディスク用基板等の種々の基板を処理するため等に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の実施の形態に係る基板処理装置の平面図である。
【図２】図１の基板処理装置の搬送領域の一部の斜視図である。
【図３】図１の基板処理装置のＤ−Ｄ断面を示す図であり、
【図４】図１の基板処理装置のＥ−Ｅ断面を示す図である。
【図５】ＦＯＵＰから未処理の基板Ｗを取り出して洗浄処理部に搬入する状態を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００７５】
１  ＦＯＵＰ
３０  支持台
ＨＣＲ１〜ＨＣＲ４  基板搬送ロボット
ＭＲ１〜ＭＲ４  基板搬入出装置
【図１】
2005175298.tif 000003
【図２】
2005175298.tif 000004
【図３】
2005175298.tif 000005
【図４】
2005175298.tif 000006
【図５】
2005175298.tif 000007