(57)【要約】【課題】  焦電性を有する複屈折基板に光学機能膜等の誘電体膜を蒸着形成することにより複屈折板を製造する際に、全工程をクリーンルーム内で実施したり、基板をクリーンボックス内で保管することによる大幅なコスト増を招くことなく、完全に塵埃の付着を排除した状態で誘電体を蒸着することができる複屈折板、及びその製造方法を提供する。【解決手段】  焦電性を有した複屈折基板２と、該複屈折基板の表面に積層形成した透明導電膜３と、透明導電膜の表面に積層形成した光学機能膜４と、を備えた。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
焦電性を有した複屈折基板と、該複屈折基板の表面に積層形成した透明導電膜と、透明導電膜の表面に積層形成した光学機能膜と、を備えたことを特徴とする複屈折板。
【請求項２】
前記複屈折基板は、ニオブ酸リチウム基板であることを特徴とする請求項１記載の複屈折板。
【請求項３】
前記透明導電膜は、ＩＴＯ膜であることを特徴とする請求項１又は２に記載の複屈折板。
【請求項４】
前記光学機能膜は、ＡＲコート、又はＩＲコートであることを特徴とする請求項１、２又は３に記載の複屈折板。
【請求項５】
請求項１乃至４に記載の複屈折板の製造方法であって、
複屈折基板を洗浄する洗浄工程と、
複屈折基板の表面に透明導電膜を形成する透明導電膜形成工程と、
透明導電膜を接地する接地工程と、
複屈折基板を洗浄する洗浄工程と、
透明電極膜表面に光学機能膜を形成する光学機能膜形成工程と、
を備えたことを特徴とする複屈折板の製造方法。
【請求項６】
前記接地工程においては、導電性を有した治具に複屈折基板を装着することを特徴とする請求項５に記載の複屈折板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学フィルタとして使用される複屈折板、及びその製造方法の改良に関し、特に焦電性を有した複屈折基板を用いて製造される複屈折板の製造工程において発生する塵埃の付着による外観欠陥発生という不具合を解決した複屈折板、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ビデオ・カメラ、デジタル・スチル・カメラ等の撮像装置や、液晶プロジェクタにおいては、一つの光を複数の光に分散させて画素間の隙間を埋めたり、隙間を目立たなくして画質の向上を図るために、或いは疑似色信号による画質の劣化を防止するために、空間周波数カットフィルターとして、複屈折板を使用する（特開２００２−１０７５４０公報、特開２００２−２８６９３４公報）。従来は、複屈折板を構成する複屈折基板として水晶材料を使用していたが、上記各種装置の薄型化による光学部品の薄型化に対応するために、水晶よりも複屈折率の大きいニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ３）が多用されている。
しかし、ニオブ酸リチウムは、結晶の温度を変化させることによって電気分極が出現する焦電効果という特性を有する。このため、ニオブ酸リチウムから成る複屈折基板に蒸着によって所要の光学特性を有する誘電体（多層）膜、いわゆる光学機能膜（ＡＲコート、ＩＲコート）を施す前段階において、周囲温度の変化に起因してニオブ酸リチウム基板が帯電すると空気中の塵埃を吸引して付着し易くなる。塵埃が基板表面に付着した状態で誘電体膜を形成すると、その部分は膜が付着しなかったり、或いは後で部分剥離が発生してピンホールを形成するという外観不良の問題を生じる。
このような外観不良という欠陥を有する複屈折板は、致命的欠陥であり、不良品を多発させる原因となる。
このため、ニオブ酸リチウム基板の取扱に際しては、作業環境や、保管場所に最大限の注意と環境整備のための投資が必要であり、クリーンルーム内での作業や、クリーンボックス内での保管等の煩雑且つコストのかかる処置が必要とされる。
【特許文献１】特開２００２−１０７５４０公報
【特許文献２】特開２００２−２８６９３４公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、焦電性を有する複屈折基板に光学機能膜等の誘電体膜を蒸着形成することにより複屈折板を製造する際に、全工程をクリーンルーム内で実施したり、基板をクリーンボックス内で保管することによる大幅なコスト増を招くことなく、完全に塵埃の付着を排除した状態で誘電体を蒸着することができる複屈折板、及びその製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するため、請求項１の発明は、焦電性を有した複屈折基板と、該複屈折基板の表面に積層形成した透明導電膜と、透明導電膜の表面に積層形成した光学機能膜と、を備えたことを特徴とする。
請求項２の発明は、請求項１において、前記複屈折基板は、ニオブ酸リチウム基板であることを特徴とする。
請求項３の発明は、請求項１又は２において、前記透明導電膜は、ＩＴＯ膜であることを特徴とする。
請求項４の発明は、請求項１、２又は３において、前記光学機能膜は、ＡＲコート、又はＩＲコートにより形成されることを特徴とする。
請求項５の発明は、請求項１乃至４に記載の複屈折板の製造方法であって、複屈折基板を洗浄する洗浄工程と、複屈折基板の表面に透明導電膜を形成する透明導電膜形成工程と、透明導電膜を接地する接地工程と、複屈折基板を洗浄する洗浄工程と、透明電極膜表面に光学機能膜を形成する光学機能膜形成工程と、を備えたことを特徴とする。
請求項６の発明は、請求項５において、前記接地工程においては、導電性を有した治具に複屈折基板を装着することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００５】
本発明によれば、焦電性を有する複屈折基板に光学機能膜等の誘電体膜を蒸着形成することにより複屈折板を製造する際に、予め複屈折基板と誘電体膜との間に透明導電膜を形成しておき、透明誘電膜を接地することにより付着した塵埃を除去したり、塵埃を付着し難くしたので、全工程をクリーンルーム内で実施したり、基板をクリーンボックス内で保管することによる大幅なコスト増を招くことなく、完全に塵埃の付着を排除した状態で誘電体を蒸着することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下、本発明を図面に示した実施の形態により詳細に説明する。
図１は本発明の一実施形態に係る複屈折板の断面構成を示す拡大図である。
この複屈折板１は、焦電性を有した材質、例えばニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ３）から成る複屈折基板（ＬＮ基板）２と、ＬＮ２の表面に積層形成した透明導電膜３と、透明導電膜３の表面に積層形成した光学機能膜４と、を備えている。
透明導電膜３は、例えばＩＴＯ膜（インジウムと錫の酸化物）である。光学機能膜４は、例えばＡＲコート、又はＩＲコートを形成するための多層誘電膜である。
本発明の複屈折板１は、ＬＮ基板２の表面に透明導電膜３を積層形成しており、この透明導電膜３を接地することにより、温度変化による焦電効果によってＬＮ基板２に発生した電荷を逃がすことができ、電荷を除去して塵埃を排除した後に、光学機能膜４を積層形成することによって、塵埃の付着と、塵埃付着による影響を解消することができる。
透明導電膜３は、ＬＮ基板２の表面全体に積層形成してもよいし、或いは図２の他の実施形態に示すように、ＬＮ基板２の表面の一部分、例えば外周縁に沿った表面領域に略帯状に成膜するようにしてもよい。このように部分的に形成した透明導電膜３を接地して電荷を除去し塵埃を排除した後に、光学機能膜４を積層形成することによっても、塵埃の付着による影響を解消できる。ＬＮ基板２に対して部分的に透明導電膜３を形成する場合には、所要のマスクを用いて実施する。
なお、図２の実施形態において、光学機能膜４は、ＬＮ基板面が露出した部分のみならず、透明導電膜３の上面に成膜しても差し支えない。
図３は蒸着装置の概略構成図であり、真空炉１０内には、傘状の蒸着ドーム（治具）１１と、多層誘電膜としての光学機能膜４の材料である蒸発源１２が配置されている。蒸着ドーム１１の下面には透明導電膜３を形成したＬＮ基板２が支持されており、この状態で下方に位置する蒸発源１２を融点以上に加熱して蒸発させ、蒸発した成分をＬＮ基板面に付着させて成膜する。光学機能膜４は多層膜であるため、屈折率や透過波長の異なった物質を交互に積層させる作業が行われる。
この際、ＬＮ基板２を保持する蒸着ドーム１１を導電材料にて構成すると共に透明導電膜３と接触させ、更に蒸着ドーム１１を接地することにより、蒸着中においても焦電効果によるＬＮ基板２の帯電を防止し、塵埃の付着を防止しつつ蒸着を行うことができる。
なお、ＬＮ基板２を保持する導電性の治具を蒸着ドーム１１とは別個に用意し、ＬＮ基板を保持した治具を蒸着ドーム１１に着脱するように構成してもよい。
【０００７】
次に、図４は本発明の複屈折板の製造工程の一例を示すフロー図である。
まず、ステップ１では、複屈折基板としてのＬＮ基板２を水等の洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程が実施される。
洗浄工程を受けたＬＮ基板２は、乾燥された後に、ステップ２において透明導電膜３を形成する透明導電膜形成工程を受ける。透明導電膜は、例えばＩＴＯ膜であり、蒸着等によって形成される。
以上の２つの工程は、何れもクリーンルーム等のクリーンな環境にて行われる。
次に、図３に示した導電材料から成る蒸着ドーム１１等の治具に対してＬＮ基板２を装着し、蒸着ドーム１１とＬＮ基板２の透明導電膜３とが接した状態とし、蒸着ドーム１１を介して透明導電膜３が接地状態となるようにする（ステップ３、４）。
次いで、蒸着ドーム１１により保持したＬＮ基板２の表面をブロアーによって洗浄することにより付着した塵埃を除去する（ステップ５）。
次いで、蒸着炉内にＬＮ基板をセットし、上述した手順にて光学機能膜４を蒸着形成する（ステップ６）。
最後に、検査工程を経て完成される（ステップ７、８）。
このように本発明方法によって、焦電性を有する複屈折基板面に光学機能膜を形成して光フィルタとする場合には、クリーンな環境を必要とする工程が僅か２工程であるから、工場における設備投資と維持コストを大幅に低減することができる。即ち、透明導電膜を形成した後は、クリーンルームを必要とせず、透明導電膜を接地して除電することにより容易に基板上の塵埃を除去できる。この結果、光学機能膜にピンホール等が形成されにくくなり、歩留まりが向上し、コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施形態に係る複屈折板の断面構成を示す拡大図。
【図２】本発明の他の実施形態に係る複屈折板の構成説明図。
【図３】蒸着装置の概略構成図。
【図４】本発明の製造方法の一例を示す説明図。
【符号の説明】
【０００９】
１  複屈折板、２  複屈折基板（ＬＮ基板）、３  透明導電膜、４  光学機能膜、
１０  真空炉、１１  蒸着ドーム（治具）、１２  蒸発源。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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