(57)【要約】【課題】局所クリーン化のシステムを効果的に運用するに際し、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできる基板収納方向制御装置を提供すること。【解決手段】載置部（Ａ）、円筒座標型ロボット部（Ｃ）、回転ステージ部（Ｂ）を具備し、この順にＸ軸方向に配置され、マスクの収納方向を１８０度変更、及び表裏反転することが可能である。マスクの収納容器がオープンカセットである。密閉された空間内に配置され、上部からＦＦＵ及びケミカルフィルタを通じて空気が流入。ＲＦＩＤの書き込み／読み取り装置を具備し、ＳＭＩＦ−ＰｏｄにはＲＦＩＤが付設される。【選択図】図１
2005221618.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＳＭＩＦ−Ｐｏｄに収納されたマスクの収納方向、及び表裏を変更する基板収納方向制御装置において、
１）ａ）マスクが収納されたＳＭＩＦ−Ｐｏｄを載置する載置台及び支持台、
ｂ）該ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの固定具、
ｃ）エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部        を把持し昇降する蓋部開閉機構、で構成される載置部（Ａ）、
２）ａ）ロボットハンドで把持されたマスクを載置するステージ及び爪台、
ｂ）該ステージの中心のＺ軸を回転軸とし、ステージを１８０度回転させる        ことが可能な支柱、
ｃ）該支柱の取り付け台、で構成される回転ステージ部（Ｂ）、
３）ａ）基底部、
ｂ）そのＺ軸を回転軸とした回転が可能で、Ｚ軸方向へ昇降が可能な支柱、
ｃ）該支柱の上部に設けられた、水平に直動が可能なアーム、
ｄ）該アームの端部に設けられた、マスクを把持した状態でアームの軸を回転軸として１８０度回転しマスクを表裏反転させる反転機構、及びアームの軸に平行で水平な一対のロボットハンドを有するハンドユニット、で構成されるマスクの搬送手段としての円筒座標型ロボット部（Ｃ）、を具備し、上記載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、円筒座標型ロボット部（Ｃ）は、載置部（Ａ）、円筒座標型ロボット部（Ｃ）、回転ステージ部（Ｂ）の順にＸ軸方向に配置され、前記ＳＭＩＦ−Ｐｏｄに収納されたマスクの収納方向を１８０度変更、及び表裏反転することが可能であることを特徴とする基板収納方向制御装置。
【請求項２】
前記ＳＭＩＦ−Ｐｏｄが、オープンカセットであることを特徴とする請求項１記載の基板収納方向制御装置。
【請求項３】
前記基板収納方向制御装置は、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット（ＦＦＵ）及びケミカルフィルタを通じて流入され、下部の排出口から排出され、該空間内の圧力が外部に対しプラス圧であることを特徴とする請求項１、又は請求項２記載の基板収納方向制御装置。
【請求項４】
前記載置部（Ａ）は、ＲＦＩＤタグ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ−Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ：無線タグ）の書き込み／読み取り装置を具備し、ＳＭＩＦ−ＰｏｄにはＲＦＩＤタグが付設されていることを特徴とする請求項１、請求項２、又は請求項３記載の基板収納方向制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造に用いられるマスクの収納に関するものであり、特に、マスク収納容器内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介さずに変更するための基板収納方向制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造においては、電子線描画装置等で石英基板上に各種パターンが形成されたマスクパターンを、ウエハ上に転写するフォトリソグラフィ技術が広く利用されている。このフォトリソグラフィ技術によるパターンの転写では、例えば、電子線描画装置等でマスクを描画する前に、感光剤が塗布されたブランク上に異物があると、そこが未露光部となってパターン欠陥を発生させることになる。
【０００３】
このパターン欠陥は、パターン欠陥部が少ない場合には修正装置を使ってパターンを修正することも考えられるが、多い場合には修正にかかる時間や再度欠陥検査をする時間を考慮して不良品とし、再度マスクを製作する。
【０００４】
ウエハ上で、０．１５μｍ以下のパターンが必要とされる１ＧＤＲＡＭ相当の半導体装置においては、マスクパターンは、４分の１に縮小して転写されるため、必要となるマスクのパターンは０．６μｍ以下となる。
このため、クラス１０では不十分であり、クラス１（０．１μｍ）からクラス０．１程度の環境が必要になるものと予想されている。
【０００５】
このような環境を、その建設コスト及び運転コストを増大させずに実現する技術として局所クリーン化技術が挙げられる。この局所クリーン化技術は、従来のクリーンルーム全体の清浄度をより高いものにするものではなく、対象となる最小限の空間だけを清浄に保つといった技術である。
すなわち、局所クリーン化技術は、異物などを付着させないように収納しておくマスク収納容器と、各装置への受け渡しの雰囲気を清浄に保つミニエンバイロンメント室との組み合わせで構成されている。
【０００６】
このマスク収納容器は、窒素などの不活性ガスを充填できるＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）−Ｐｏｄ（標準機械的インターフェイス機構の統一規格のマスク用ボックス）である。
ここで、標準機械的インターフェイス機構とは、標準機械的インターフェイスＳＭＩＦシステムに適合した、底部、蓋部のロック、取り出し機構などを備えていることを意味している。
【０００７】
標準機械的インターフェイス機構を備えた装置では、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄを介して基板（ブランク、マスク、或いはウエハ）の投入及び受け取り、及びＳＭＩＦ−Ｐｏｄによって各装置間の基板の移動、搬送を行うことができる。
【０００８】
また、ミニエンバイロンメント室は、清浄な受け渡しの雰囲気として、クリーンルーム内とは別のミニの清浄な部屋を装置に直付けする形で、すなわち、仲介室として設けたものである。
この仲介室を介して清浄なＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内と、清浄な装置内との間で基板の投入及び受け取りを行い、異物の付着を回避している。
尚、この基板の投入及び受け取りには、機械的な工夫も施されている。
【０００９】
この局所クリーン化技術は、半導体装置の製造工程全般に係わる技術であるが、マスク製造工程においては、例えば、検査装置で検査をする前の、マスクを収納しておくための清浄なＳＭＩＦ−Ｐｏｄと、このＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内から人手を介することなくマスクを清浄な検査装置内に受け渡すための、ミニエンバイロンメント室からなるシステムとなる。
【００１０】
マスク製造工程においては、寸法検査、座標測定検査、欠陥検査、異物検査などの検査が行われる。これらの検査を行う検査装置では、マスクを収納したＳＭＩＦ−Ｐｏｄが検査装置にセットされた後に、マスクを検査ステージへ搬送する際の、検査装置内の搬送機構が統一されていない。
このため、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内に収納するマスクの収納方向、及び表裏は検査装置毎に異なったものとなっている。従って、検査を行う際には、各検査装置に適合した収納方向、及び表裏に変更しなければならない。
【００１１】
しかるに、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内のマスクの収納方向、及び表裏の変更は、すべて人手を介して行われている。すなわち、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部の取り外し、治具を用いてのＳＭＩＦ−Ｐｏｄからのマスクの取り出し、収納方向、及び表裏の変更をする動作を伴ったＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体への載置、及びＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体への蓋部の取り付け、といった一連の作業は人手を介して行われている。このため、作業者の人為的要因による異物の付着が増大している。
また、治具の取り扱いにおいて、マスクの端面に損傷を与え、マスク基板の粉塵が飛散しマスク表面に異物として再付着することもある。
【特許文献１】特開２０００−１３８１５３号公報
【特許文献２】特開２００１−４８１５２号公報
【特許文献３】特開２００１−５３１３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、マスク製造工程において、前記ＳＭＩＦ−Ｐｏｄとミニエンバイロンメント室といった要素技術からなる局所クリーン化のシステムを効果的に運用するに際し、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできる基板収納方向制御装置を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄに収納されたマスクの収納方向、及び表裏を変更する基板収納方向制御装置において、
１）ａ）マスクが収納されたＳＭＩＦ−Ｐｏｄを載置する載置台及び支持台、
ｂ）該ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの固定具、
ｃ）エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部        を把持し昇降する蓋部開閉機構、で構成される載置部（Ａ）、
２）ａ）ロボットハンドで把持されたマスクを載置するステージ及び爪台、
ｂ）該ステージの中心のＺ軸を回転軸とし、ステージを１８０度回転させる        ことが可能な支柱、
ｃ）該支柱の取り付け台、で構成される回転ステージ部（Ｂ）、
３）ａ）基底部、
ｂ）そのＺ軸を回転軸とした回転が可能で、Ｚ軸方向へ昇降が可能な支柱、
ｃ）該支柱の上部に設けられた、水平に直動が可能なアーム、
ｄ）該アームの端部に設けられた、マスクを把持した状態でアームの軸を回        転軸として１８０度回転しマスクを表裏反転させる反転機構、及びアームの軸に平行で水平な一対のロボットハンドを有するハンドユニット、で構成されるマスクの搬送手段としての円筒座標型ロボット部（Ｃ）、を具備し、上記載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、円筒座標型ロボット部（Ｃ）は、載置部（Ａ）、円筒座標型ロボット部（Ｃ）、回転ステージ部（Ｂ）の順にＸ軸方向に配置され、前記ＳＭＩＦ−Ｐｏｄに収納されたマスクの収納方向を１８０度変更、及び表裏反転することが可能であることを特徴とする基板収納方向制御装置である。
【００１４】
また、本発明は、上記発明による基板収納方向制御装置において、前記ＳＭＩＦ−Ｐｏｄが、オープンカセットであることを特徴とする基板収納方向制御装置である。
【００１５】
また、本発明は、上記発明による基板収納方向制御装置において、前記基板収納方向制御装置は、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット（ＦＦＵ）及びケミカルフィルタを通じて流入され、下部の排出口から排出され、該空間内の圧力が外部に対しプラス圧であることを特徴とする基板収納方向制御装置である。
【００１６】
また、本発明は、上記発明による基板収納方向制御装置において、前記載置部（Ａ）は、ＲＦＩＤタグ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ−Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ：無線タグ）の書き込み／読み取り装置を具備し、ＳＭＩＦ−ＰｏｄにはＲＦＩＤタグが付設されていることを特徴とする基板収納方向制御装置である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、円筒座標型ロボット部（Ｃ）を具備し、載置部（Ａ）、円筒座標型ロボット部（Ｃ）、回転ステージ部（Ｂ）の順にＸ軸方向に配置され、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄに収納されたマスクの収納方向を１８０度変更、及び表裏反転することが可能な基板収納方向制御装置であるので、局所クリーン化のシステムを効果的に運用するに際し、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできる基板収納方向制御装置となる。
【００１８】
また、本発明は、マスク収納容器としては標準機械的インターフェイスＳＭＩＦシステムに適合しない、従来型の収納容器、すなわち、オープンカセットにおいても適用できるので、オープンカセットを用いた際にもマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することができる。
【００１９】
また、本発明は、基板収納方向制御装置が、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット（ＦＦＵ）及びケミカルフィルタを通じて流入されるので、清浄度をグレードダウンした環境においても、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできる。
また、製造工程で使用する薬品の微量な成分が浮遊する環境下でも、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内のマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することのできるものとなる。
【００２０】
また、本発明は、載置部（Ａ）は、ＲＦＩＤタグ（無線タグ）の書き込み／読み取り装置を具備し、ＳＭＩＦ−ＰｏｄにはＲＦＩＤタグが付設されているので、各々の工程で情報を読み出し、書き込みを行うことが出来、製造工程における進行管理、品質管理、事故管理などが効果的になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２２】
図１（ａ）は、本発明による基板収納方向制御装置の一実施例の概略を示す平面図である。また、図１（ｂ）は、正面図である。
図１（ａ）、（ｂ）に示すように、本発明による基板収納方向制御装置は、載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、及び円筒座標型ロボット部（Ｃ）で構成されている。載置部（Ａ）、回転ステージ部（Ｂ）、円筒座標型ロボット部（Ｃ）は、載置部（Ａ）、円筒座標型ロボット部（Ｃ）、回転ステージ部（Ｂ）の順にＸ軸方向に配置されている。
【００２３】
図１（ｃ）は、アーム（３２）の片端部に設けられた、ハンドユニット（４０）の説明図である。図１（ｃ）に示すように、ハンドユニット（４０）は、エアチャック（４２）、ロボットハンド（４３）、及び爪（４４）で構成されている。また、マスクを表裏反転させる反転機構（３３）は、アーム（３２）とハンドユニット（４０）との間に設けられている。
尚、図１（ａ）中、破線は、支柱（３１）のＺ軸を回転軸とした回転によって、ハンドユニット（４０）が水平面を１８０度旋回する動線を表している。
【００２４】
ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）に収納されているマスクの収納方向を１８０度変更する際には、円筒座標型ロボット部（Ｃ）のハンドユニット（４０）は、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）に収納されているマスク（１）を、その先端部の両端面で把持し、１８０度旋回させてステージ（２０）上にマスク（１）を載置する。ステージ（２０）の１８０度回転によってマスク（１）の方向を変え、再びステージ（２０）上からＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）へと収納する。
或いは、マスクの表裏を反転させる際には、マスク（１）を把持した状態で載置台（１０）の上方において、反転機構（３３）を１８０度回転させ、再びマスク（１）をＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）に収納する。
【００２５】
載置部（Ａ）は、マスクが収納されたＳＭＩＦ−Ｐｏｄ（１１）を載置する載置台（１０）、支持台（１４）、及びいずれも図示しない、載置台上のＳＭＩＦ−Ｐｏｄの固定具、エアチャック、グリップ、爪、支柱からなり、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（１３）を把持し昇降する蓋部開閉機構で構成されている。
【００２６】
また、回転ステージ部（Ｂ）は、ロボットハンド（４３）で把持されたマスク（１）を載置するステージ（２０）及び爪台（２３）、ステージの中心のＺ軸を回転軸とし、ステージを１８０度回転させることが可能な支柱（２１）、及び支柱の取り付け台（２２）で構成されている。
【００２７】
また、円筒座標型ロボット部（Ｃ）は、基底部（３０）、基底部上に設けられた回転及び昇降が可能な支柱（３１）、支柱の上部に設けられ、水平に直動可能なアーム（３２）、及びハンドユニット（４０）で構成されている。
ハンドユニット（４０）は、アームの軸に平行で水平な一対のロボットハンド（４３）を有している。
また、反転機構（３３）は、ロボットハンド（４３）がマスクを把持した状態でハンドユニット（４０）にアームの軸を回転軸とした１８０度回転を与え、マスクを表裏反転させることが可能となっている。
【００２８】
図２は、図１（ｂ）に示す載置台（１０）上のＳＭＩＦ−Ｐｏｄの正面図である。図２（ａ）は、載置部（Ａ）の正面から載置台（１０）上にＳＭＩＦ−Ｐｏｄ（１１）が載置
され、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）がＳＭＩＦ−Ｐｏｄの固定具によって固定された状態を示している。
図２（ｂ）は、蓋部開閉機構によって、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（１３）が開けられ、マスク（１）が露出し、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（１３）はＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）の上方で保持されている状態を示している。
【００２９】
また、図２（ｃ）は、マスク（１）に収納方向の変更、又は／及び表裏反転が行われた後に、再びハンドユニット（４０）によってＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）の爪台（１５）上に載置され、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（１３）が降下しＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）が閉じられマスク（１）が密封される状態を示している。
図１（ｂ）に示す載置部（Ａ）の載置台（１０）上のＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）は、この図２（ｂ）に示す状態、すなわち、マスク（１）が露出した状態のものである。
【００３０】
図３は、マスクを表裏反転する動作の一例の説明図である。図３（ａ）は、図２（ｂ）に示す状態、すなわち、載置台（１０）上ではＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（１３）が開けられ、マスク（１）が露出した状態となっている。
また、ハンドユニット（４０）は、第一定位置（Ｄ）（図１（ａ）における（Ｄ））にある。すなわち、ロボットハンド（４３）は、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）の方向を向き、アーム（３２）は、略中央部が支柱（３１）のＺ軸上にある。
【００３１】
図３（ｂ）に示すように、アーム（３２）はＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）の方向へ移動する。水平に設けられたロボットハンド（４３）の端部内側の爪（４４）は、エアチャック（４２）の作動によりＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）から露出したマスク（１）の先端部の両端面を把持する。
ハンドユニット（４０）がマスク（１）の先端部の両端面を把持した状態で、図３（ｃ）に示すように、支柱（３１）は、マスク（１）の反転のために十分な高さ（Ｈ）まで上昇する。
【００３２】
ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）の上方において、反転機構（３３）が作動し、アーム（３２）の軸を回転軸とした１８０度回転を行いマスクを表裏反転させる。次に、支柱（３１）が降下しＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）の爪台（１５）上にマスク（１）を載置する。
ハンドユニット（４０）は、第一定位置（Ｄ）に戻り、載置部（Ａ）では、蓋部開閉機構によりＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（１３）が降下し、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）が閉じられマスク（１）はＳＭＩＦ−Ｐｏｄ（１１）内に密封される。
【００３３】
尚、マスク（１）の反転のために必要な十分な高さ（Ｈ）まで支柱（３１）を上昇させず、僅かに、例えば、１０ｍｍ程度を上昇させた後にハンドユニット（４０）を第一定位置（Ｄ）より更に支柱（３１）側に移動させ、載置部（Ａ）と円筒座標型ロボット部（Ｃ）との間でマスク（１）反転のための反転機構（３３）の回転を行うことも可能である。この際は、前記蓋部開閉機構の昇降する距離が短くなり、載置部（Ａ）の構造がコンパクトなものとなる。
【００３４】
図４は、マスクの収納方向を１８０度変更する動作の一例の説明図である。図４（ａ）は、前記図３（ｂ）に示す状態、すなわち、アーム（３２）がＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）の方向へ移動し、水平に設けられたロボットハンド（４３）の端部内側の爪（４４）が、エアチャック（４２）の作動によりＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）から露出したマスク（１）の先端部の両端面を把持した状態を示している。
【００３５】
図４（ａ）に示す状態で、支柱（３１）を、僅かに、例えば、１０ｍｍ程度を上昇させ
ハンドユニット（４０）を第一定位置（Ｄ）に戻す（図４（ｂ））。次に、支柱（３１）の回転によって、ハンドユニット（４０）はマスク（１）を把持したまま、図１（ａ）における動線上を水平に第二定位置（Ｅ）（図１（ａ）における（Ｅ））まで１８０度旋回し、引き続きステージ（２０）方向へのアーム（３２）の移動によって、マスク（１）をステージ（２０）の爪台（２３）上へ載置する（図４（ｃ））。
このように、一旦、ハンドユニット（４０）を第一定位置（Ｄ）に戻すことによって、第二定位置（Ｅ）までの１８０度旋回の半径が小さくなり、基板収納方向制御装置のスペースが小さなものとなる。
【００３６】
次に、ハンドユニット（４０）は第二定位置（Ｅ）、すなわち、ロボットハンド（４３）は、ステージ（２０）の方向を向き、アーム（３２）は、略中央部が支柱（３１）のＺ軸上にある位置まで移動する。この間、支柱（２１）が１８０度回転しステージ（２０）の爪台（２３）上のマスク（１）の方向を１８０度変更する。再び、ハンドユニット（４０）はステージ（２０）へ移動してマスク（１）を把持し、往路の経路を逆に移動し、第一定位置（Ｄ）を経由してＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）上へマスク（１）を載置する。
【００３７】
載置部（Ａ）では、蓋部開閉機構によりＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部（１３）が降下し、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）が閉じられ、収納方向が１８０度変更されたマスク（１）がＳＭＩＦ−Ｐｏｄ（１１）内に密封される。
尚、ハンドユニット（４０）は第二定位置（Ｅ）まで移動した待機をせずに、マスク（１）の１８０度回転の終了をステージ（２０）の上方で待機してもよい。
【００３８】
図５は、マスクの表裏を反転させ、且つ収納方向を１８０度変更する動作の一例の説明図である。図５は、前記図４（ｂ）に示す、第一定位置（Ｄ）から第二定位置（Ｅ）に至るハンドユニット（４０）の１８０度旋回中の平面図である。
【００３９】
ハンドユニット（４０）の１８０度旋回中に、反転機構（３３）が作動し、マスク（１）を把持したハンドユニット（４０）にアームに軸を回転軸とした１８０度回転を与え、マスク（１）の表裏を反転させる。この反転以降の動作は、図４（ｃ）以降と同一である。
尚、この際の表裏反転は、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体（１２）の上方、第一定位置（Ｄ）、第二定位置（Ｅ）、或いはステージ（２０）の上方のいずれであっても可能である。
【００４０】
基板収納方向制御装置の操作は、シーケンサによって行われる。予め、マスクの収納方向の１８０度変更の有無の設定、マスクの表裏反転の有無の設定、及び自動操作／手動操作の設定を行うことにより、所望する作業の自動操作、或いはプッシュボタンによる手動操作を行う。
【００４１】
上記のように、本発明による基板収納方向制御装置は、ＳＭＩＦ−ＰｏｄからＳＭＩＦ−Ｐｏｄへのマスクの収納方向、及び表裏を人手を介することなく変更することができ、これにより、作業者の人為的要因による異物の付着を防止することができる。
【００４２】
また、本発明は、マスク収納容器がオープンカセットであることをを特徴としている。マスク収納容器としては標準機械的インターフェイスＳＭＩＦシステムに適合しない、従来型の収納容器、すなわち、オープンカセットにおいても適用できるものである。
載置部（Ａ）を構成する載置台（１０）に設けられた固定具、蓋部開閉機構、及び円筒座標型ロボット部（Ｃ）などの調整を行うことによって、容易にオープンカセットにおいても適用される。
【００４３】
また、請求項３に係わる発明は、基板収納方向制御装置が、密閉された空間内に配置されており、空気が該空間上部からファンフィルタユニット（ＦＦＵ）及びケミカルフィルタを通じて流入され、下部の排出口から排出され、空間内の圧力が外部に対しプラス圧であることを特徴としている。
局所クリーン化技術の利点は、例えば、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄとミニエンバイロンメント室を全装置に対し導入すれば、例えば、クラス１程度のＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内と装置内に対し、クリーンルームの清浄度を意図的に、例えば、クラス１０００程度にグレードダウンすることができることにある。
【００４４】
すなわち、請求項３に係わる発明は、清浄度をグレードダウンした環境においても、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ内のマスクの収納方向の１８０度変更、又は／及びマスクの表裏反転を可能としたものである。
【００４５】
また、フォトマスクの製造工程は、基板上に感光剤を塗布する工程、感光剤上に露光する工程、現像工程、エッチング工程、感光剤を剥離する工程など、複数の工程で構成されている。このため、製造工程で使用する薬品の微量な成分が浮遊する環境でブランク及びマスクを処理し、一時保管することが通常である。
このような環境でブランク及びマスクを保管する場合、環境中に浮遊する種々な薬品の成分に汚染されるといった問題がある。
【００４６】
前記薬品の成分、例えば、アンモニア、アミン類などの塩基性物質、または、ＮＯX 、ＳＯX 、有機酸などの酸性物質が、例えば、化学増幅型感光剤が塗布された基板に付着して内部に浸透し、パターン寸法の変化や、感光剤に変化を引き起しマスクを不良品としてしまうといった問題が発生することがある。
【００４７】
図６は、本発明に係わるケミカルフィルタが付設されたファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）の一例を示す断面図である。ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）の下方の隔壁（６０）が密閉された空間を形成する。図６においては、隔壁（６０）の上部の部分のみが示されている。この空間内、ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）の下方に基板収納方向制御装置が配置されている（図示せず）。
図１（ａ）に示す基板収納方向制御装置の全体が、この空間内に配置されるが、図６は、基板収納方向制御装置の全体が配置された際の、図１（ａ）の左側からの断面図である。
【００４８】
ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）は、例えば、清浄度クラス１０００程度のクリーンルーム内に設置される。一例として示すファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）のファンフィルタユニット本体（５１）は、その断面内を図６の左方からの空気が通過できるような構造になっており、クリーンルーム内の空気（５２）が送風機（５３）によって吸い込まれ、プレフィルタ（５４）を通過した空気が導かれている。
【００４９】
ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）の下部には空気フィルタ（５５）及びケミカルフィルタ（５６）が備え付けられている。空気フィルタ（５５）及びケミカルフィルタ（５６）を通過し、吹き出し開口面（５７）から吹き出される清浄な空気（５８）は、浮遊粉塵や各種ガスが捕捉され、例えば、クラス１程度の清浄度の層流となっている。
ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）（５０）の吹き出し開口面（５７）から吹き出される清浄な空気（５８）は、下方にある基板収納方向制御装置に向け一様に吹き出されている。
【００５０】
空気フィルタ（５５）としては、非常に細かいガラス繊維に少量のバインダを加えた紙状の濾材を、濾材面積を広げるために密に折りたたみ、その間にセパレータを入れた構造のフィルタで、粉塵捕集効率が、０．１μｍの粉塵に対して９９．９９９７％以上のＨＥ
ＰＡフィルタ（Ｈｉｇｈ  Ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ  Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ  Ａｉｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）が用いられる。
【００５１】
ケミカルフィルタ（５６）は、物理吸着、化学吸着、イオン交換反応などの方法で空気中のガスを取り除く作用があり、取り除くガスの種類に応じて選定する。物理吸着は、粒状及び破砕状活性炭、或いは繊維状活性炭による捕集、化学吸着は、中和反応、酸化・還元反応による除去、イオン交換反応は、イオン交換繊維による反応除去であり、上記試薬をハニカム構造の繊維材層内に封入し用いられる。
【００５２】
請求項４に係わる発明は、製造工程を管理する際に必要な情報をＳＭＩＦ−Ｐｏｄに付設したＲＦＩＤタグに書き込み、読み出すものである。例えば、基板収納方向制御装置に載置されるＳＭＩＦ−Ｐｏｄに付設したＲＦＩＤタグには、既に前工程における種々な情報が書き込まれており、基板収納方向制御装置ではマスクの収納方向、表裏の設定項目、装置機番などが書き込まれ、以後の製造装置及び検査装置においては、必要に応じ各々の情報を読み出し、書き込みを行う。すなわち、製造工程における進行管理、品質管理、事故管理などを効果的に行うものである。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】（ａ）は、本発明による基板収納方向制御装置の一実施例の概略を示す平面図である。（ｂ）は、正面図である。（ｃ）は、ハンドユニットの説明図である。
【図２】（ａ）は、載置台上にＳＭＩＦ−Ｐｏｄが載置され、固定された状態の正面図である。（ｂ）は、蓋部開閉機構によって、ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋部が開けられ、蓋部は本体の上方で保持されている説明図である。（ｃ）は、マスクが再び本体の爪台上に載置され、蓋部が降下し本体が閉じられ密封される説明図である。
【図３】マスクを表裏反転する動作の一例の説明図である。
【図４】マスクの収納方向を１８０度変更する動作の一例の説明図である。
【図５】マスクの表裏を反転させ、且つ収納方向を１８０度変更する動作の一例の説明図である。
【図６】本発明に係わるケミカルフィルタが付設されたファンフィルタユニット（ＦＦＵ）の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
１・・・マスク
１０・・・載置台
１１・・・ＳＭＩＦ−Ｐｏｄ
１２・・・ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの本体
１３・・・ＳＭＩＦ−Ｐｏｄの蓋体
１４・・・支持台
１５、２３・・・爪台
２０・・・ステージ
２１、３１・・・支柱
２２・・・取り付け台
３０・・・基底部
３２・・・アーム
３３・・・反転機構
４０・・・ハンドユニット
４２・・・エアチャック
４３・・・ロボットハンド  
４４・・・爪
５０・・・ケミカルフィルタが付設されたファンフィルタユニット（ＦＦＵ）
５１・・・ファンフィルタユニット本体
５２・・・クリーンルーム内の空気
５３・・・送風機
５４・・・プレフィルタ
５５・・・空気フィルタ
５６・・・ケミカルフィルタ
５７・・・開口面
５８・・・吹き出される清浄な空気
６０・・・隔壁
Ａ・・・載置部
Ｂ・・・回転ステージ部
Ｃ・・・円筒座標型ロボット部
Ｄ・・・第一定位置
Ｅ・・・第二定位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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