(57)【要約】【課題】液晶表示装置でＥＭＩ遮蔽用シールドを具備するためにカラーフィルター基板のブラックマトリックスを利用して工程が単純で液晶パネルのＥＭＩ特性が改善される液晶表示装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、第１基板の画像表示領域に対応する第２基板上のアクティブ領域内所定部分とアクティブ領域の周辺部に形成されるブラックマトリックスと；ブラックマトリックスと所定間隔分離されて形成されるブラックマトリックスアイランドと；アクティブ領域に形成される赤、緑、青のカラーフィルターと；ブラックマトリックス及びブラックマトリックスアイランド上に形成されるオーバーコート層と；オーバーコート層上に形成される共通電極と；ブラックマトリックスと連結される第１銀接点及びブラックマトリックスアイランド上で共通電極と連結される第２銀接点；を含んで構成される。【選択図】図５Ａ
2005181988.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定間隔離隔されている第１基板及び第２基板と；
前記第１基板及び第２基板間に注入される液晶層で構成されており、
前記第１基板の画像表示領域に対応する前記第２基板上のアクティブ領域内所定部分と前記アクティブ領域の周辺部に形成されるブラックマトリックスと；
前記ブラックマトリックスと所定間隔分離されて形成されるブラックマトリックスアイランドと；
前記アクティブ領域に形成される赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルターと；
前記ブラックマトリックス及びブラックマトリックスアイランド上に形成されるオーバーコート層と；
前記オーバーコート層上に形成される共通電極と；
前記ブラックマトリックスと連結される第１伝導性物質及び前記ブラックマトリックスアイランド上で共通電極と連結される第２伝導性物質；を含んで構成されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記伝導性物質は銀で構成された銀接点であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記ブラックマトリックスアイランドは非アクティブ領域に形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記ブラックマトリックスは伝導性ブラックレジンで構成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記オーバーコート層は絶縁物質からなることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１伝導性物質とブラックマトリックス層間に共通電極物質が形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第２伝導性物質は前記ブラックマトリックスアイランド上部に形成される共通電極と電気的に連結されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記第１伝導性物質は前記オーバーコート層と重ならないブラックマトリックスの領域に形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
基板上にブラックマトリックス及び前記ブラックマトリックスと分離されるブラックマトリックスアイランドを形成する段階と；
前記ブラックマトリックス上部にカラーフィルターを形成する段階と；
前記カラーフィルター上部とブラックマトリックスアイランド上にオーバーコート層を形成する段階と；
前記オーバーコート層上部に共通電極を形成する段階と；
前記ブラックマトリックスと連結される第１伝導性物質と、前記ブラックマトリックスアイランド上で共通電極と連結される第２伝導性物質を形成する段階と；を含んで構成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記伝導性物質は銀で構成された銀接点であることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置製造方法。
【請求項１１】
前記第２伝導性物質は前記ブラックマトリックスアイランド上部に形成される共通電極と電気的に連結されることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記第１伝導性物質は前記カラーフィルター層及びオーバーコート層と重ならないブラックマトリックスの領域に形成されることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第１伝導性物質とブラックマトリックス層間に共通電極物質が形成されることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置製造方法。
【請求項１４】
一定間隔離隔されている第１基板及び第２基板と；
前記第１基板及び前記第２基板間に注入されている液晶層で構成されており、
前記第１基板の画像表示領域に対応する前記第２基板上のアクティブ領域内所定部分と前記アクティブ領域の周辺部に形成されるブラックマトリックスと；
前記非アクティブ領域上に形成されて前記ブラックマトリックスと分離されるブラックマトリックスアイランドと；
前記ブラックマトリックスとブラックマトリックスアイランド上に形成される赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルターと；
前記カラーフィルター上に形成される共通電極と；
前記ブラックマトリックスと連結される第１伝導性物質、前記ブラックマトリックスアイランド上で共通電極と連結される第２伝導性物質と；を含んで構成されることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１５】
前記伝導性物質は銀で構成された銀接点であることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記非アクティブ領域上に形成されるカラーフィルターは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のうちいずれか一カラーで形成されることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記非アクティブ領域上に形成されるカラーフィルターは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルターが次々と形成されることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記ブラックマトリックスは伝導性ブラックレジンで構成されることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記第１伝導性物質とブラックマトリックス層間に共通電極物質が形成されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記第２伝導性物質は前記ブラックマトリックスアイランド上部に形成される共通電極と電気的に連結されることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記第１伝導性物質は前記カラーフィルターと重ならないブラックマトリックスの上部領域に形成されることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
基板上にブラックマトリックス及び前記ブラックマトリックスと分離されるブラックマトリックスアイランドを形成する段階と；
前記ブラックマトリックスとブラックマトリックスアイランド上にカラーフィルターを形成する段階と；
前記カラーフィルター上に共通電極を形成する段階と；
前記ブラックマトリックスと連結される第１伝導性物質、前記ブラックマトリックスアイランド上で共通電極と連結される第２伝導性物質を形成する段階と；を含んで構成されることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２３】
前記伝導性物質は銀で構成された銀接点であることを特徴とする請求項２２に記載の液晶表示装置製造方法。
【請求項２４】
前記ブラックマトリックスアイランド上に形成されるカラーフィルターは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のうちいずれか一カラーで形成されることを特徴とする請求項２２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２５】
前記ブラックマトリックスアイランド上に形成されるカラーフィルターは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルターが次々と形成されることを特徴とする請求項２２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２６】
前記第２伝導性物質は前記ブラックマトリックスアイランド上部に形成される共通電極と電気的に連結されることを特徴とする請求項２２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２７】
前記第１伝導性物質は前記カラーフィルター層と重ならないブラックマトリックスの領域に形成されることを特徴とする請求項２２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に係り、特に電磁妨害（ＥＭＩ）を防止する構造を有する液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、画像情報を画面に示すディスプレー装置のうちからブラウン管表示装置（ＣＲＴ）がいままで最も多く使われてきたが、これは表示面積に比べて容積が大きくて重いため使用に際し多くの不便さがあった。
【０００３】
今日、電子産業の発達と共にＴＶブラウン管などに制限的に使われたディスプレー装置が個人用コンピューター、ノートブック、無線端末機、自動車計器板、電光板などにまで拡大使用されている。
【０００４】
また、情報通信技術の発達と共に大容量の画像情報を伝送できるようになるによってこれを処理して具現することができる次世代ディスプレー装置の重要性が大きくなっている。
【０００５】
このような次世代ディスプレー装置は軽薄短小、高輝度、大画面、低電力消耗及び低価格化を実現できなければならないが、そのうち一つで最近に液晶表示装置が注目を集めている。
【０００６】
前記液晶表示装置（ＬＣＤ）は表示解像度が他の平板表示装置より優れて、動画像を具現する時その品質がブラウン管に比べて反応速度が速い特性を示している。
【０００７】
一般に液晶表示装置は一面に電極がそれぞれ形成されている両基板を両電極が形成されている面が向かい合うように配置して両基板間に液晶物質を注入し、次に、両電極に電圧を印加して生成される電界により液晶分子を動かすことによって、これにより変化する光の透過率により画像を表現する装置である。
【０００８】
液晶表示装置は多様な形態で構成されることができるが、現在薄膜トランジスタと薄膜トランジスタに連結された画素電極がマトリックス方式で配列されるアクティブマトリックス液晶表示装置（ＡＭ−ＬＣＤ）が解像度及び動画映像表現能力が優秀であって最も注目を集めている。
【０００９】
図１は、一般的な液晶表示装置の一部を示した断面図である。
【００１０】
示したように、液晶表示装置は下部のアレイ基板１１０と上部のカラーフィルター基板１２０、そして両基板１１０、１２０間に挿入されている液晶層１３０で構成される。
【００１１】
前記アレイ基板１１０は透明な第１基板１１１上に金属のような導電物質からなるゲート電極１１２が形成されていて、その上にシリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）やシリコン酸化膜（ＳｉＯ２）で構成されたゲート絶縁膜１１３がゲート電極１１２を覆っている。
【００１２】
前記ゲート電極１１２上部のゲート絶縁膜１１３上には非晶質シリコンで構成されたアクティブ層１１４が形成されており、その上に不純物がドーピングされた非晶質シリコンで構成されたオーミックコンタクト層１１５が形成されている。
【００１３】
前記オーミックコンタクト層１１５上部には金属のような導電物質からなるソース及びドレイン電極１１６ａ、１１６ｂが形成されているが、ソース及びドレイン電極１１６ａ、１１６ｂはゲート電極１１２と共に薄膜トランジスタＴを形成する。
【００１４】
図示しなかったが、ゲート電極１１２はゲート配線と連結されていて、ソース電極１１６ａはデータ配線と連結されていており、ゲート配線とデータ配線は相互に直交して画素領域を定義する。
【００１５】
続いて、ソース及びドレイン電極１１６ａ、１１６ｂ上にはシリコン窒化膜やシリコン酸化膜または有機絶縁膜で構成された保護層１１７が形成されており、保護層１１７はドレイン電極１１６ｂを露出するコンタクトホール１１７ｃを有する。
【００１６】
前記保護層１１７上部の画素領域には透明導電物質からなる画素電極１１８が形成されていて、画素電極１１８はコンタクトホール１１７ｃを介してドレイン電極１１６ｂと連結されている。
【００１７】
次に、カラーフィルター基板１２０は第１基板１１１と一定間隔を有して離隔されていて透明な第２基板１２１を含んで、第２基板１２１の内側面にはブラックマトリックス１２２が薄膜トランジスタＴと対応する位置に形成されている。図示しなかったがブラックマトリックス１２２は画素電極１１８と対応する部分に開口部を有して基板全面に形成されている。
【００１８】
したがって、ブラックマトリックス１２２は画素電極１１８以外の部分で液晶分子がチルトされて発生する光漏れ現象を遮っており、また薄膜トランジスタＴのチャネル部に光が入射することを遮断して、光漏れ電流が発生することを防止する役割をする。
【００１９】
続いて、ブラックマトリックス１２２下部にはカラーフィルター１２３が形成されているが、カラーフィルター１２３は赤、緑、青の色が次々と繰り返されていており、一つの色が一つの画素電極１１８と対応する。
【００２０】
カラーフィルター１２３下部には透明な導電物質からなる共通電極１２４が形成されている。
【００２１】
このような液晶表示装置は薄膜トランジスタと画素電極を形成するアレイ基板製造工程とカラーフィルターと共通電極を形成するカラーフィルター基板製造工程、そして製造された両基板の配置と液晶物質の注入及び封じ、そして偏光板付着で構成された液晶セル（）工程により形成される。
【００２２】
このような液晶表示装置はアレイ基板１１０に画素電極１１８が形成されていてカラーフィルター基板１２０に共通電極１２４が形成されている構造であって、上下にかかる基板に垂直な方向の電界により液晶分子を駆動する方式である。
【００２３】
図２は、従来の液晶表示装置のカラーフィルター基板の一部領域を概略的に透視した平面図である。
【００２４】
ただし、これはカラーフィルター基板の一側隅部を図示している。
【００２５】
図１を参照すると、カラーフィルター基板はアレイ基板上に形成された画像表示領域に対応するアクティブ領域Ａがあって、前記アクティブ領域周辺に各種部品との電気的信号の印加のための領域がある。
【００２６】
前記カラーフィルター基板にはカラーフィルターパターンのセル間及び前記アクティブ領域Ａ周辺の光遮断の役割をするブラックマトリックス１２２が形成されている。
【００２７】
また、前記ブラックマトリックス１２２上のアクティブ領域には赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルター１２３パターンが次々と形成されており、前記カラーフィルター２２３パターンが形成された基板上に絶縁及び平坦化の役割をするオーバーコート層１３０を所定厚さに塗布する。
【００２８】
続いて、オーバーコート層１３０上には下部のＴＦＴ基板に形成される画素電極と共に液晶セルを動作させるための共通電極１２４を形成する。
【００２９】
そして、下部基板のパッド部から前記共通電極１２４に信号を印加するために共通電極銀接点（Ａｇ  ｄｏｔ）１４２を前記ブラックマトリックス１２２上部に形成された共通電極１２４と接する位置に形成させる。
【００３０】
図３は、図２でＩ−Ｉ'線に沿う切断断面を見せてくれるカラーフィルター基板の概略的な一部断面図である。
【００３１】
図３を参照すると、先に言及したように、カラーフィルター基板は透明な絶縁基板１２１上にブラックマトリックス１２２が形成されていて、その上に赤、緑、青のカラーフィルター１２３が次々と形成されており、その上にオーバーコート層１３０及び共通電極１２４が形成されている。
【００３２】
ここで、前記共通電極銀接点１４２は前記ブラックマトリックス１２２上部に形成された共通電極１２４と接する位置に形成される。これは透過率と開口率などの特性が優秀であり、上板の共通電極１２４が接地の役割をするようになって静電気による液晶セルの破壊を防止することができる。
【００３３】
しかし、従来構造による液晶表示装置の場合、画像を表示するための信号印加時に非常に迅速な電気的変化が発生するため非常に大きい電磁波、すなわちＥＭＩが発生するようになる。
【００３４】
ここで、ＥＭＩとは電磁波による干渉を意味する。
【００３５】
通常的に電磁波は無線通信やレーダー等のように電磁波それ自体を有効に利用する場合もあるが、各種電子装置の回路内部で付随的に発生した意図しない電磁波はその電子装置自体やまたは他の電子装置の動作に影響を及ぼしてその動作を妨害して誤動作を起こすようにすることもできる。
【００３６】
そして、このような電磁波成分は空間に放射されたりまたは金属線を介して伝導されて液晶表示装置の画面や音声の質を落とす影響を与えることができる。
【００３７】
したがって、液晶表示装置でＥＭＩを遮蔽できる構造を形成する必要がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３８】
本発明は液晶表示装置でＥＭＩ遮蔽用シールドを具備するカラーフィルター基板のブラックマトリックスを利用して工程が単純で液晶パネルのＥＭＩ特性が改善される液晶表示装置及びその製造方法を提供することに目的がある。
【００３９】
また、本発明はカラーフィルター基板の所定領域に形成されたブラックマトリックスをＥＭＩ遮蔽用シールドとして用いることにより、前記所定のブラックマトリックスと銀接点（Ａｇ  ｄｏｔ）が電気的に連結して素子内部で発生する電磁波がブラックマトリックス及び銀接点を介して外部グラウンドに排出する液晶表示装置及びその製造方法を提供することに目的がある。
【課題を解決するための手段】
【００４０】
前記目的を達成するために本発明の第１実施例による液晶表示装置は、一定間隔離隔されている第１基板及び第２基板と；前記第１基板及び第２基板間に注入される液晶層で構成される。
【００４１】
前記第１基板の画像表示領域に対応する前記第２基板上のアクティブ領域内所定部分と前記アクティブ領域の周辺部に形成されるブラックマトリックスと；前記ブラックマトリックスと所定間隔分離されて形成されるブラックマトリックスアイランドと；前記アクティブ領域に形成される赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルターと；前記ブラックマトリックス及びブラックマトリックスアイランド上に形成されるオーバーコート層と；前記オーバーコート層上に形成される共通電極と；前記ブラックマトリックスと連結される第１銀接点及び前記ブラックマトリックスアイランド上で共通電極と連結される第２銀接点と；を含んで構成されることを特徴とする。
【００４２】
また、本発明の第２実施形態による液晶表示装置は、一定間隔離隔されている第１基板及び第２基板と；前記第１基板及び前記第２基板間に注入されている液晶層で構成されており、
前記第１基板の画像表示領域に対応する前記第２基板上のアクティブ領域内所定部分と前記アクティブ領域の周辺部に形成されるブラックマトリックスと；前記非アクティブ領域上に形成されて前記ブラックマトリックスと分離されるブラックマトリックスアイランドと；前記ブラックマトリックスとブラックマトリックスアイランド上に形成される赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルターと；前記カラーフィルター上に形成される共通電極と；前記ブラックマトリックスと連結される第１銀接点、前記ブラックマトリックスアイランド上で共通電極と連結される第２銀接点と；を含んで構成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００４３】
本発明は液晶表示装置の製造においてＥＭＩ遮蔽用シールドをブラックマトリックスを利用して形成させることによって電磁波から装置を保護する効果がある。
【００４４】
また、本発明は別途のＥＭＩ遮蔽用シールドを用いることなくブラックマトリックスを用いて製造原価を節減する効果があるだけでなく、カラーフィルターレジンを利用してブラックマトリックスと共通電極を絶縁させることによって工程を単純化して製造収率を向上させる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４５】
以下、添付した図面を参照にして本発明の具体的な実施形態に対して詳細に説明する。
【００４６】
図４は、本発明による液晶表示装置の第２基板の一部領域を概略的に透視する平面図である。
【００４７】
ただし、これは第２基板の一側隅部を図示している。
【００４８】
本発明による液晶表示装置はアレイ基板としての第１基板と、前記第１基板に所定間隔離隔されて位置するカラーフィルター基板としての第２基板と、前記第１基板及び第２基板間に形成される液晶層で構成される。
【００４９】
特に本発明は前記第２基板の所定領域に形成されたブラックマトリックスをＥＭＩ遮蔽用シールドとして用いることにより、前記ブラックマトリックスと銀接点（Ａｇ  ｄｏｔ）が電気的に連結して素子内部で発生する電磁波が前記ブラックマトリックス及び銀接点を介して外部グラウンドに排出するようにすることを特徴とする。
【００５０】
図４を参照すると、カラーフィルター基板（第２基板）は第１基板（アレイ基板）上に形成された画像表示領域に対応するアクティブ領域（ａｃｔｉｖｅ  ａｒｅａ）Ａがあり、前記アクティブ領域周辺に各種部品との電気的信号の印加のための領域がある。
【００５１】
前記カラーフィルター基板にはカラーフィルターパターンのセル間及び前記アクティブ領域Ａ周辺の光遮断の役割をするブラックマトリックス２２２が形成されており、前記ブラックマトリックス２２２の一側にはスリットにより前記ブラックマトリックス２２２と所定間隔離隔されたブラックマトリックスアイランド２２９が形成されている。
【００５２】
すなわち、前記ブラックマトリックスアイランド２２９は前記スリットによりアクティブ領域Ａが形成された基板と所定間隔分離されている。
【００５３】
ここで、前記ブラックマトリックス２２２及びブラックマトリックスアイランド２２９はクロム（Ｃｒ）成分のような伝導性物質を含む感光性物質で構成されて低い電流が流れることができる。
【００５４】
これにより前記ブラックマトリックス２２２はＥＭＩ遮蔽用シールドとして用いることができる。
【００５５】
前記ブラックマトリックス２２２上のアクティブ領域には赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルター２２３パターンが次々と形成されており、前記カラーフィルター２２３パターンが形成された基板２２１上に絶縁及び平坦化役割をするオーバーコート層２３０を所定厚さに塗布する。
【００５６】
この時、前記オーバーコート層２３０をブラックマトリックスアイランド２２９まで形成されるようにする。
【００５７】
続いて、オーバーコート層２３０上には下部のＴＦＴ基板に形成される画素電極と共に液晶セルを動作させるための共通電極２２４を形成する。
【００５８】
この時、前記共通電極２２４はブラックマトリックスアイランド２２９まで形成させる。
【００５９】
前記共通電極２２４は透過性と導電性が良く化学的、熱的安定性が優秀な透明電極材料であるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）をスパッタリングによって蒸着する。
【００６０】
そして、下部基板のパッド部から前記共通電極２２４に信号を印加するために共通電極銀接点（第２銀接点）２４２を前記ブラックマトリックスアイランド２２９上部に形成された共通電極２２４と接する位置に形成させる。
【００６１】
また、液晶表示装置の動作のうち発生するＥＭＩを除去するために本発明の実施形態は、前記ブラックマトリックス２２２と電気的に連結するＥＭＩ銀接点（第１銀接点）２４１を前記共通電極２２４及びオーバーコート層２３０と重ならないブラックマトリックス２２２の上部領域に形成させて、素子内部で発生する電磁波がブラックマトリックス２２２及びＥＭＩ銀接点２４１に沿って外部グラウンドに排出させる。
【００６２】
このように本発明の実施形態の場合前記ブラックマトリックススリットにより前記共通電極２２４との電気的コンタクトのための領域（ブラックマトリックスアイランド２２９）と前記ＥＭＩ遮蔽用シールドとして使われるブラックマトリックス２２２領域が分離されることによって、第１、２銀接点２４１、２４２に同一な電圧が印加されても前記領域は電気的に分離される。
【００６３】
図５Ａないし図５Ｃは、図２でII−II'線に沿う切断断面を見せてくれるカラーフィルター基板の概略的な一部断面図である。
【００６４】
図５Ａを参照すると、先に言及したように、カラーフィルター基板は透明な絶縁基板２２１上にブラックマトリックス２２２が形成されていて、その上に赤、緑、青のカラーフィルター２２３が次々と形成されており、その上にオーバーコート層２３０及び共通電極２２４が形成されている。
【００６５】
ここで、カラーフィルター２２３は顔料分散法や染色法、印刷法などを利用して形成することができるが、このうち顔料分散法が精巧性が優れて再現性が良くて広く使われている。
【００６６】
図５Ａに示したようにＥＭＩ銀接点（第１銀接点）２４１はブラックマトリックス２２２の所定部分と直接接触するように形成されて、前記共通電極銀接点（第２銀接点）２４２は前記ブラックマトリックスアイランド２２９上部に形成された共通電極２２４と接する位置に形成される。
【００６７】
すなわち、このように前記共通電極２２４との電気的コンタクトのための領域（ブラックマトリックスアイランド２２９）と前記ＥＭＩ遮蔽用シールドとして使われるブラックマトリックス２２２領域が分離されることによって、前記第１、２銀接点２４１、２４２に同一な電圧が印加されても前記領域は電気的に分離される。
【００６８】
これにより共通電圧Ｖｃｏｍ印加とは独立的に前記ブラックマトリックス２２２及び第１銀接点２４１を介して、素子内部で発生する電磁波を外部グラウンドに排出させることができることである。
【００６９】
また、図５Ｂ及び図５Ｃは、本発明の他の実施形態によるカラーフィルター基板の断面図であって、図５Ｂに示したようにブラックマトリックスアイランド２２９上部にオーバーコート層２３０の代わりにカラーフィルター２２３が形成されたり、図５Ｃに示したようにブラックマトリックスアイランド２２９上部にカラーフィルター２２３及びオーバーコート層２３０が次々と形成させることもできる。
【００７０】
図６は、図４及び図５Ａに示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程順を示す図である。
【００７１】
先に、図６Ａに示したようにガラスのように透明な絶縁基板２２１上に開口部を有するブラックマトリックス２２２を形成する。
【００７２】
前記ブラックマトリックス２２２は通常的に後続して形成されるカラーフィルターパターンの赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）パターン間に位置しており、前記ブラックマトリックス２２２の材質としてはクロムなどの金属薄膜や炭素系統の有機材料が使われ、低い電流が流れるようになる。
【００７３】
また、前記ブラックマトリックス２２２はＥＭＩ遮蔽用シールドで使われるためＥＭＩを外部に排出させるために後続して形成されるＥＭＩ銀接点のための空間を確保し、共通電極に信号を印加する共通電極銀接点を形成するためのブラックマトリックスアイランド２２９を形成する。
【００７４】
次に図６Ｂに示したように、前記ブラックマトリックス２２２両側面に顔料分散法によるカラーフィルター２２３パターンをフォト工程技術を利用して形成する。
【００７５】
すなわち、ブラックマトリックス２２２が形成された基板２２１上にスピンコーティング（ｓｐｉｎｃｏａｔｉｎｇ）方式で感光性カラー樹脂を塗布して、露光及び現像工程を遂行してそれぞれのカラーフィルターパターン２２３を形成する。
【００７６】
その次に図６Ｃを参照すると、カラーフィルターパターン２２３が形成された第１基板２２１上に絶縁及び平坦化の役割をするオーバーコート層２３０を所定厚さに塗布する。
【００７７】
続いて図６Ｄに示したように、オーバーコート層２３０上に下部のＴＦＴ基板に形成される画素電極と共に液晶セルを動作させるための共通電極２２４を形成する。
【００７８】
前記共通電極２２４は透過性と導電性が良く化学的、熱的安定性が優秀な透明電極材料であるＩＴＯなどをスパッタリングによって蒸着する。
【００７９】
続いて図６Ｅを参照すると、ＥＭＩ銀接点（第１銀接点）２４１と共通電極銀接点（第２銀接点）２４２を形成するが、前記ＥＭＩ銀接点２４１は先に言及したようにブラックマトリックス２２２とコンタクトさせており、前記共通電極銀接点２４２は共通電極２２４に信号を印加するためにブラックマトリックスアイランド２２９上に形成されている共通電極２２４上に形成させる。
【００８０】
この時、前記共通電極２２４形成時にＩＴＯパターンがＥＭＩ銀接点２４１下に形成されることも可能である。
【００８１】
このように本発明の実施形態の場合前記ブラックマトリックススリットにより前記共通電極２２４との電気的コンタクトのための領域（ブラックマトリックスアイランド２２９）と前記ＥＭＩ遮蔽用シールドで使われるブラックマトリックス２２２領域が分離されることによって、前記ＥＭＩ銀接点及び共通電極銀接点２４１、２４２に同一な電圧が印加されても前記領域は電気的に分離される。
【００８２】
図７は、本発明による他の実施形態で、液晶表示装置の第２基板の一部領域を透視して概略的に見せてくれる図面である。
【００８３】
図７の場合も図４のように第２基板の一側隅部を図示している。
【００８４】
図７に示したように、カラーフィルター基板すなわち、第２基板は第１基板（アレイ基板）上に形成された画像表示領域に対応するアクティブ領域（ａｃｔｉｖｅ  ａｒｅａ）Ａがあり、前記アクティブ領域周辺に各種部品との電気的信号の印加のための領域がある。
【００８５】
前記カラーフィルター基板にはカラーフィルター３２３パターンのセル間及び前記アクティブ領域Ａ周辺の光遮断の役割をするブラックマトリックス３２２が形成されており、前記ブラックマトリックス３２２の一側にはスリットにより前記ブラックマトリックス２２２と所定間隔離隔されたブラックマトリックスアイランド３２９が形成されている。
【００８６】
前記ブラックマトリックス３２２及びブラックマトリックスアイランド３２９はクロム（Ｃｒ）成分のような伝導性物質が含まれている感光性物質で低い電流が流れることができ、これにより前記ブラックマトリックス３２２はＥＭＩ遮蔽用シールド（ｓｈｉｅｌｄ）で使われることができる。
【００８７】
前記ブラックマトリックス３２２上のアクティブ領域Ａには赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーフィルター３２３パターンが次々と形成されている。
【００８８】
ただし、前記図７に示した実施形態の場合前記カラーフィルター３２３パターンが前記アクティブ領域Ａにだけ形成されることでなく、前記アクティブ領域Ａ以外にブラックマトリックスアイランド３２９まで延長形成されて、前記カラーフィルターレジン（ｒｅｓｉｎ）を絶縁膜として用いることをその特徴とする。
【００８９】
したがって、図７に示した実施形態に具備されたオーバーコート層は形成されない場合がある。
【００９０】
続いて、前記カラーフィルター３２３パターン上には下部のＴＦＴ基板に形成される画素電極と共に液晶セルを動作させるための共通電極３２４を形成する。
【００９１】
この時、前記共通電極３２４はブラックマトリックスアイランド３２９まで形成させる。
【００９２】
前記共通電極３２４は透過性と導電性が良いし化学的、熱的安定性が優秀な透明電極材料であるＩＴＯをスパッタリングによって蒸着する。
【００９３】
そして、下部基板のパッド部から前記共通電極３２４に信号を印加するためにブラックマトリックスアイランド３２９上部に形成された共通電極２２４と接する位置に共通電極銀接点（第２銀接点）３４２を形成させる。
【００９４】
また、液晶表示装置の動作のうち発生するＥＭＩを除去するためにブラックマトリックス３２２と電気的に連結するＥＭＩ銀接点（第１銀接点）３４１を前記共通電極２２４及びカラーフィルター３２３パターンと重ならないブラックマトリックス２２２の上部領域に形成させて、素子内部で発生する電磁波がブラックマトリックス３２２とＥＭＩ銀接点３４１に沿って外部グラウンドに排出させる。
【００９５】
このような本発明の実施形態によればカラーフィルター３２３レジンを利用してカラーフィルターパターン形成時にブラックマトリックス３２２と共通電極３２４を電気的に分離するのでオーバーコート層の形成が不要になって工程が単純になる効果がある。
【００９６】
図８は、図７でIII−III'線に沿う切断断面を示すカラーフィルター基板の概略的な一部断面図である。
【００９７】
図８を参照すると、先に言及したように、カラーフィルター基板すなわち、第２基板は透明な絶縁基板３２１上にブラックマトリックス３２２が形成されていて、その上に赤、緑、青のカラーフィルター３２３が次々と形成されている。
【００９８】
ここで、カラーフィルター３２３は顔料分散法や染色法、印刷法などを利用して形成することができるが、このうち顔料分散法が精巧性が優れて再現性が良くて広く使われている。
【００９９】
図８に示したようにＥＭＩ銀接点（第１銀接点）３４１はブラックマトリックス３２２の所定部分と直接接触するように形成されて、前記共通電極銀接点（第２銀接点）３４２は前記ブラックマトリックスアイランド２２９上部に形成された共通電極３２４と接する位置に形成される。
【０１００】
すなわち、このように前記共通電極３２４との電気的コンタクトのための領域（ブラックマトリックスアイランド３２９）と前記ＥＭＩ遮蔽用シールドで使われるブラックマトリックス３２２領域が分離されることによって、前記第１、２銀接点３４１、３４２に同一な電圧が印加されても前記領域は電気的に分離される。
【０１０１】
これにより共通電圧Ｖｃｏｍ印加とは独立的に前記ブラックマトリックス３２２及び第１銀接点３４１を介して、素子内部で発生する電磁波を外部グラウンドに排出させることができることである。
【０１０２】
また、図８に示したように、前記カラーフィルター３２３パターンが前記アクティブ領域Ａにだけ形成されるのでなく、前記アクティブ領域Ａ以外にブラックマトリックスアイランド３２９まで延長形成されて、前記カラーフィルターパターン形成時ブラックマトリックス３２２と共通電極３２４を電気的に分離するのでオーバーコート層の形成が不要になって工程が単純になる。
【０１０３】
図９は、図７及び図８に示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程順を示す図である。
【０１０４】
先に、図９Ａに示したようにガラスのように透明な絶縁基板３２１上に開口部を有するブラックマトリックス３２２を形成する。
【０１０５】
前記ブラックマトリックス３２２は通常後に形成されるカラーフィルター３２３パターンの赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）パターン間に位置しており、前記ブラックマトリックス３２２の材質としてはクロムなどの金属薄膜や炭素系統の有機材料が使われ、低い電流が流れるようになる。
【０１０６】
また、前記ブラックマトリックス３２２はＥＭＩ遮蔽用シールドで使われるためＥＭＩを外部に排出させるために後続して形成されるＥＭＩ銀接点（第１銀接点）のための空間を確保し、後続して形成される共通電極に信号を印加する共通電極銀接点（第２銀接点）を形成するためのブラックマトリックスアイランド３２９を形成する。
【０１０７】
次に図９Ｂに示したように、前記ブラックマトリックス３２２両側面に顔料分散法によるカラーフィルター３２３パターンをフォト工程技術を利用して形成する。
【０１０８】
すなわち、ブラックマトリックス３２２が形成された基板３２１上にスピンコーティング方式で感光性カラー樹脂を塗布して、露光及び現像工程を遂行してそれぞれのカラーフィルター３２３パターンを形成する。
【０１０９】
ここで、前記カラーフィルター３２３パターンはアクティブ領域以外にも形成して前記ブラックマトリックスアイランド３２９まで延長させる。
【０１１０】
これは後の工程で共通電極３２４形成時にブラックマトリックス３２２と共通電極３２４間の電気的な干渉が起こらないように絶縁させるためあってカラーフィルター３２３パターン形成時に前記カラーフィルターレジンを利用して形成させることができる。
【０１１１】
この時、前記アクティブ領域Ａ以外に形成されるカラーフィルターレジンは画像に影響を与えない領域であるので赤、緑、青パターンに構わずに形成されることができる。
【０１１２】
すなわち、前記アクティブ領域Ａ以外に形成させるカラーフィルターレジンはすべて赤色パターンで形成することもできて緑色パターンで形成することもできて青色パターンで形成することもできて赤、緑、青の順序に構わずに形成させることができる。
【０１１３】
続いて図９Ｃを参照すると、前記カラーフィルターパターン上に下部のＴＦＴ基板に形成される画素電極と共に液晶セルを動作させるための共通電極３２４を形成する。
【０１１４】
前記共通電極３２４は透過性と導電性が良く化学的、熱的安定性が優秀な透明電極材料であるＩＴＯなどをスパッタリングによって蒸着する。
【０１１５】
続いて図９Ｄに示したように、ＥＭＩ銀接点３４１と共通電極銀接点３４２を形成するが、前記ＥＭＩ銀接点３４１は先に言及したようにブラックマトリックス３２２とコンタクトさせており、前記共通電極銀接点は共通電極３２４に信号を印加するためにブラックマトリックスアイランド３２９上に形成されている共通電極３２４上に形成させる。
【０１１６】
この時、前記共通電極３２４形成時にＩＴＯパターンがＥＭＩ銀接点３４１下に形成されることも可能である。
【０１１７】
このようにカラーフィルターレジンを液晶パネルのアクティブ領域Ａ外まで拡張してオーバーコート層として用いることによってブラックマトリックス３２２と共通電極３２４を分離できるので工程単純化を成し遂げることができる。
【０１１８】
図１０は、図５Ａに示したカラーフィルター基板及びその下部に具備されたアレイ基板の概略的な一部断面図である。
【０１１９】
先に図１０に示したカラーフィルター基板２２１の構造は図５Ａに示したものと同一であるのでその説明は省略するようにする。
【０１２０】
図１０を参照すると、カラーフィルター基板のアクティブ領域すなわち、カラーフィルター２２３が形成された領域に対応する前記アレイ基板上に画像表示領域（ｉｍａｇｅ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｒｅｇｉｏｎ）が形成されており、前記画像表示領域外部に共通電極パッド（Ｖｃｏｍ  ｐａｄ）４００及び接地パッド（ｇｒｏｕｎｄ  ｐａｄ）４１０が形成されている。
【０１２１】
図示したように前記カラーフィルター基板上に形成された共通電極銀接点２４２は共通電極パッド４００に電気的に連結されて、ＥＭＩ銀接点２４１は接地パッド４１０と電気的に連結される。
【０１２２】
また、前記共通電極パッド４００及び接地パッド４１０は保護膜４２０上に形成されたコンタクトホールを介してそれぞれ所定のソース／ドレイン金属４１２と接触されるが、前記ソース／ドレイン金属４１２は相互に離隔されて形成されることによって、結果的に前記共通電極パッド４００及び接地パッド４１０は電気的に分離される。
【０１２３】
これにより前記共通電極パッド４００及び接地パッド４１０にそれぞれ接続された共通電極銀接点２４２及びＥＭＩ銀接点２４１また電気的に分離されることである。
【０１２４】
ここで、前記共通電極パッド４００には所定の共通電圧が印加されて、前記接地パッド４１０は接地と連結されることによって、液晶表示装置に発生するＥＭＩを除去することができることである。
【０１２５】
未説明された図面符号４３０及び４４０はそれぞれ中間層（ｉｎｔｅｒ  ｌａｙｅｒ）及びゲート絶縁膜であり、前記ソース／ドレイン金属４１２がゲート金属で形成される場合には前記中間層４３０が除去できる。
【０１２６】
以上本発明を具体的な実施形態を通じて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであって、本発明による液晶表示装置及びその製造方法はこれに限られなくて、本発明の技術的思想内で当分野の通常の知識を有する者によりその変形や改良が可能なことが明白である。
【産業上の利用可能性】
【０１２７】
液晶表示装置を製造することににおいてＥＭＩ遮蔽用シールドをブラックマトリックスを利用して形成させることによって電磁波から装置を保護することができるという産業上利用可能性がある。
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】一般的な液晶表示装置の一部を示した断面図。
【図２】従来の液晶表示装置のカラーフィルター基板の一部領域を概略的に透視して見せてくれる平面図。
【図３】図２でＩ−Ｉ'線に沿う切断断面を見せてくれるカラーフィルター基板の概略的な一部断面図。
【図４】本発明による液晶表示装置の第２基板の一部領域を概略的に透視して見せてくれる平面図。
【図５Ａ】図２でII−II'線に沿う切断断面を見せてくれるカラーフィルター基板の概略的な一部断面図。
【図５Ｂ】図２でII−II'線に沿う切断断面を見せてくれるカラーフィルター基板の概略的な一部断面図。
【図５Ｃ】図２でII−II'線に沿う切断断面を見せてくれるカラーフィルター基板の概略的な一部断面図。
【図６Ａ】図４及び図５Ａに示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程を示す順序図。
【図６Ｂ】図４及び図５Ａに示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程を示す順序図。
【図６Ｃ】図４及び図５Ａに示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程を示す順序図。
【図６Ｄ】図４及び図５Ａに示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程を示す順序図。
【図６Ｅ】図４及び図５Ａに示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程を示す順序図。
【図７】本発明による他の実施形態で、液晶表示装置の第２基板の一部領域を透視して概略的に見せてくれる図面。
【図８】図７でIII−III'線に沿う切断断面を見せてくれるカラーフィルター基板の概略的な一部断面図。
【図９Ａ】図７及び図８に示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程を示す順序図。
【図９Ｂ】図７及び図８に示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程を示す順序図。
【図９Ｃ】図７及び図８に示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程を示す順序図。
【図９Ｄ】図７及び図８に示した本発明の実施形態によるカラーフィルター基板製造工程を示す順序図。
【図１０】図５Ａに示したカラーフィルター基板及びその下部に具備されたアレイ基板の概略的な一部断面図。
【符号の説明】
【０１２９】
２２１、３２１：基板
２２２、３２２：ブラックマトリックス
２２３、３２３：カラーフィルター
２２４、３２４：共通電極
２２９、３２９：ブラックマトリックスアイランド
２３０、３３０：オーバーコート層
２４１、３４１：ＥＭＩ銀接点
２４２、３４２：共通電極銀接点
【図１】
2005181988.tif 000003
【図２】
2005181988.tif 000004
【図３】
2005181988.tif 000005
【図４】
2005181988.tif 000006
【図５Ａ】
2005181988.tif 000007
【図５Ｂ】
2005181988.tif 000008
【図５Ｃ】
2005181988.tif 000009
【図６Ａ】
2005181988.tif 000010
【図６Ｂ】
2005181988.tif 000011
【図６Ｃ】
2005181988.tif 000012
【図６Ｄ】
2005181988.tif 000013
【図６Ｅ】
2005181988.tif 000014
【図７】
2005181988.tif 000015
【図８】
2005181988.tif 000016
【図９Ａ】
2005181988.tif 000017
【図９Ｂ】
2005181988.tif 000018
【図９Ｃ】
2005181988.tif 000019
【図９Ｄ】
2005181988.tif 000020
【図１０】
2005181988.tif 000021