(57)【要約】【課題】不純物含有量の少ない高純度のビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクトを効率的に回収することにより、色相に優れかつ着色を生じにくい高品位ビスフェノールＡを高収率で安定に製造する。【解決手段】結晶アダクト含有スラリーを固液分離して該結晶アダクトを回収する固液分離工程において、固液分離機３４，３８を２段以上の複数段設ける。前段の固液分離機３４で固液分離された固形分をリスラリー槽３６に導入して再度リスラリー用媒体に分散させた後、後段の固液分離機３８にて固液分離するこの再分散・再固液分離を１回又は２回以上行う。【選択図】図１
2005232134.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビスフェノールＡとフェノールとの結晶アダクトのスラリーを固液分離機で固液分離して該結晶アダクトを回収する工程を有するビスフェノールＡの製造方法において、
固液分離機を多段に設け、前段側の固液分離機で固液分離された固形分を再度リスラリー用媒体に分散させて後段側の固液分離機で固液分離する再分散・再固液分離を１回又は２回以上行うことを特徴とするビスフェノールＡの製造方法。
【請求項２】
請求項１において、後段の固液分離機から排出される液を前段の固液分離機の洗浄液、リスラリー用媒体又は晶析工程の溶媒として用いることを特徴とするビスフェノールＡの製造方法。
【請求項３】
請求項２において、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いる液の固形分濃度が１０重量％以下であることを特徴とするビスフェノールＡの製造方法。
【請求項４】
請求項２又は３において、後段の固液分離機から排出される液中の固形分の少なくとも一部を溶解させた後、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いることを特徴とするビスフェノールＡの製造方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、最前段の固液分離機がロータリードラムフィルタ型固液分離機であり、それ以降の固液分離機がスクリーンボウル型固液分離機であることを特徴とするビスフェノールＡの製造方法。
【請求項６】
請求項５において、スクリーンボウル型固液分離機内にて固液分離と、固液分離されたケーキにフェノールを吹き付ける洗浄とを行うようにした方法であって、
供給スラリーの固液分離により得られた分離液と、該ケーキの洗浄排液とを個別に回収し、
洗浄排液中の固形分を溶解処理した後、平均滞留時間１〜２０分間で保持した後に、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いることを特徴とするビスフェノールＡの製造方法。
【請求項７】
請求項５において、スクリーンボウル型の固液分離機内にて固液分離と、固液分離されたケーキにフェノールを吹き付ける洗浄とを行うようにした方法であって、
供給スラリーの固液分離により得られた分離液と、該ケーキの洗浄により得られた洗浄排液とを個別に回収し、分離液の一部のみを、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いることを特徴とするビスフェノールＡの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビスフェノールＡ［２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン］の製造方法に係り、特に、不純物含有量の少ない高純度の結晶アダクトを効率的に回収することにより、色相に優れかつ着色を生じにくい高品位なビスフェノールＡを高収率で安定に製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ビスフェノールＡは、光ディスク等の光学用ポリカーボネート樹脂の原料等として有用なものである。ビスフェノールＡは、通常、フェノールとアセトンとを陽イオン交換樹脂などの酸性触媒の存在下に反応させることにより製造される。
【０００３】
第５図はこのビスフェノールＡの製造方法の一例を示す系統図である。ニューフィードのアセトン及びライン２１から循環されるアセトンと、ライン１５から循環供給される、フェノールを主体とする母液とがライン１を介して反応器２に供給され、反応生成物がライン３を介して蒸留塔４に導入され、蒸留される。アセトン、水、及び少量のフェノール等よりなる塔頂成分は蒸留による分離システム２０へ送られ、アセトンはライン２１を介してライン１へ戻される。水は系外に排出される。フェノールはフェノール貯留用タンク２２へ送られる。
【０００４】
蒸留塔４の塔底成分は、晶析器５へ送られ、ビスフェノールＡとフェノールとが付加してなる結晶アダクトを析出させる。この結晶アダクトを含むスラリーは濾過器６で減圧濾過された後、再溶解器７で再溶解され、再晶析器８で再晶析され、固液分離機９で固液分離される。この固液分離機９において分離された結晶アダクトは、タンク２２から供給される清浄なフェノールで洗浄される。洗浄廃液は再溶解器７へライン１０を介して送られる。洗浄後の結晶アダクトは、アダクト分解システム１１にて加熱されてビスフェノールＡとフェノールとに分解され、ビスフェノールＡは精製システム１２にて精製され、製品ビスフェノールＡとなる。アダクト分解システム１１及び精製システム１２にて分離されたフェノールは、前記タンク２２へ送られる。また、濾過器６で分離された液分（母液）は、循環ライン１３を介して母液タンク１４へ送られる。この母液タンク１４内の母液がライン１５を介して前記ライン１へ送られ、アセトンと混合されて反応器２へ導入される。
【０００５】
このようなビスフェノールＡの製造方法において、色相に優れかつ着色を生じにくい高品位のビスフェノールＡを安定かつ効率的に得るためには、晶析器５から固液分離機９までの回収工程において、不純物量の少ない高純度の結晶アダクトを回収することが重要である。即ち、結晶アダクトには、２，４−異性体等が不純物として含まれているため、これらの不純物量を低減して高純度結晶アダクトを回収することが必要となる。
【０００６】
特開２００３−２８６２１４号公報には、第５図に示す如く、結晶アダクトを含む晶析スラリーを濾過して得られた結晶アダクトのケーキを再溶解させて再晶析させる２段晶析を行うことにより、得られる結晶アダクトの純度が向上することが記載されている。
【特許文献１】特開２００３−２８６２１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、このような２段晶析を行っても、後述の比較例に示すように、十分に高純度の結晶アダクトを得ることはできず、後段のアダクト分解システム及び精製システムが過負荷となり、安定運転が損なわれる。
【０００８】
本発明は上記従来の問題点を解決し、不純物含有量の少ない高純度のビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクトを効率的に回収することにより、色相に優れかつ着色を生じにくい高品位ビスフェノールＡを高収率で安定に製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明（請求項１）のビスフェノールＡの製造方法は、ビスフェノールＡとフェノールとの結晶アダクトのスラリーを固液分離機で固液分離して該結晶アダクトを回収する工程を有するビスフェノールＡの製造方法において、固液分離機を多段に設け、前段側の固液分離機で固液分離された固形分を再度リスラリー用媒体に分散させて後段側の固液分離機で固液分離する再分散・再固液分離を１回又は２回以上行うことを特徴とするものである。
【００１０】
本発明（請求項２）のビスフェノールＡの製造方法は、請求項１において、後段の固液分離機から排出される液を前段の固液分離機の洗浄液、リスラリー用媒体又は晶析工程の溶媒として用いることを特徴とするものである。
【００１１】
本発明（請求項３）のビスフェノールＡの製造方法は、請求項２において、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いる液の固形分濃度が１０重量％以下であることを特徴とするものである。
【００１２】
本発明（請求項４）のビスフェノールＡの製造方法は、請求項２又は３において、後段の固液分離機から排出される液中の固形分の少なくとも一部を溶解させた後、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いることを特徴とするものである。
【００１３】
本発明（請求項５）のビスフェノールＡの製造方法は、請求項１ないし４のいずれか１項において、最前段の固液分離機がロータリードラムフィルタ型固液分離機であり、それ以降の固液分離機がスクリーンボウル型固液分離機であることを特徴とするものである。
【００１４】
本発明（請求項６）のビスフェノールＡの製造方法は、請求項５において、スクリーンボウル型固液分離機内にて固液分離と、固液分離されたケーキにフェノールを吹き付ける洗浄とを行うようにした方法であって、供給スラリーの固液分離により得られた分離液と、該ケーキの洗浄排液とを個別に回収し、洗浄排液中の固形分を溶解処理した後、平均滞留時間１〜２０分間で保持した後に、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いることを特徴とするものである。
【００１５】
本発明（請求項７）のビスフェノールＡの製造方法は、請求項５において、スクリーンボウル型の固液分離機内にて固液分離と、固液分離されたケーキにフェノールを吹き付ける洗浄とを行うようにした方法であって、供給スラリーの固液分離により得られた分離液と、該ケーキの洗浄により得られた洗浄排液とを個別に回収し、分離液の一部のみを、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１６】
本発明のビスフェノールＡの製造方法では、固液分離工程において最前段の固液分離機で固液分離された固形分（ケーキ）をリスラリー用媒体に最分散させて再固液分離する最分散・再固液分離を１回以上行うので、高品位ビスフェノールＡを高収率で安定に製造することができる。
【００１７】
なお、後段の固液分離機から排出される液を前段の固液分離機の洗浄液、リスラリー用媒体又は晶析工程の溶媒として用いることにより、リスラリー用媒体を有効に利用し、コストダウンを図ることができる。
【００１８】
この場合、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いる液の固形分濃度が１０重量％以下であることが好ましい。このような固形分濃度とするためには、後段の固液分離機から排出される液中の固形分の少なくとも一部を溶解させた後、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いることが好ましい。
【００１９】
本発明において、最前段の固液分離機がロータリードラムフィルタ型固液分離機であり、それ以降の固液分離機がスクリーンボウル型固液分離機であることが望ましい。
【００２０】
この場合、後段のスクリーンボウル型固液分離機内にて固液分離と、固液分離されたケーキにフェノールを吹き付ける洗浄とを行うようにした方法であって、供給スラリーの固液分離により得られた分離液と、該ケーキの洗浄排液とを個別に回収し、洗浄排液中の固形分を溶解処理した後、平均滞留時間１〜２０分間で保持した後に、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いるようにしてもよい。
【００２１】
また、スクリーンボウル型の固液分離機内にて固液分離と、固液分離されたケーキにフェノールを吹き付ける洗浄とを行うようにした方法であって、供給スラリーの固液分離により得られた分離液と、該ケーキの洗浄により得られた洗浄排液とを個別に回収し、分離液の一部のみを、前段の固液分離機の洗浄液又はリスラリー用媒体として用いるようにしてもよい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明において用いる固液分離機としては特に制限はなく、ロータリーバキュームフィルタ、ロータリープレッシャーフィルタ、デカンタ型遠心分離機、スクリーンボウル型遠心分離機等が挙げられる。
【００２３】
固液分離機のタイプにもよるが、一部の固液分離機には供給スラリーの分離ゾーンと分離後のケーキの洗浄ゾーンとがある。本発明では、供給スラリーの分離ゾーンより分離される液を「分離液」、洗浄ゾーンで分離される液を「洗浄排液」と称す。なお、固液分離機内での洗浄は向流洗浄であることが好ましく、この向流洗浄は一段で行っても良いが、単一固液分離機内で多段向流洗浄を行っても良い。
【００２４】
以下、図面を参照して実施の形態について説明する。第１図〜第３図はそれぞれ実施の形態に係るビスフェノールＡの製造方法の工程図である。なお、各実施の形態において、「原料ケーキ」とは、第５図に示すようなビスフェノールＡの製造工程において、晶析器５で得られた晶析スラリーを濾過器６で減圧濾過して得られるフェノール及びビスフェノールＡの１：１結晶アダクトである。
【００２５】
下記の各実施の形態においては、再溶解・再分散を１回だけ行っているが、２回以上行ってもよい。工業的には１回〜２回程度行えば十分である。
【００２６】
第１図において、原料ケーキをライン５１より原料調整槽３０に導入する。この原料調整槽３０には、第１の固液分離機（ロータリーバキュームフィルタ）３４の濾母液の一部、第２の固液分離機（スクリーンボウル遠心分離機）３８の分離液槽３８Ａからの分離液の一部及び洗浄排液槽３８Ｂが、それぞれライン６７，６４，６５，６６より循環されると共に、フレッシュフェノールがライン６９より導入される（第１の固液分離機３４の濾母液の残部はライン６８より系外へ排出される。）。この原料調整槽３０では、ビスフェノールＡ濃度が目標値となるように調整しつつ連続的にケーキを完全溶解させる。原料調整槽３０は、所定温度に維持されている。該原料調整槽３０内の溶液（以下、原料溶液ということがある。）をライン５２より晶析槽３２に連続的に供給する。
【００２７】
晶析槽３２には外部循環冷却ライン（図示略）が付設されており、該外部循環冷却ラインに原料溶液が供給され、該ライン内にて混合された後、晶析槽３２の底より槽３２内に供給される。外部循環冷却ラインに冷却器が設けられている。この冷却器に冷却水を供給し、出口温度が目標温度に維持されるように冷却器への冷却水流量を制御することにより各晶析槽３２の温度が調整されている。
【００２８】
該晶析スラリーはライン５３より第１の固液分離機３４に供給され、回転式の円筒形ドラムに吸引されて、ドラムの濾材上にケーキが形成される。晶析母液は結晶アダクトから分離され、ドラム内に吸引される。ケーキはドラムの回転により洗浄ゾーンに移動され、洗浄用フェノール溶液をスプレーすることにより洗浄される。洗浄フェノール溶液はケーキ層を通り抜けてこれを洗浄した後、ドラムの内側へ吸入される。該ケーキは、ドラムの内側から窒素を吹き付けることにより濾材より剥離して排出される。なお、この第１の固液分離機３４の洗浄用のフェノール溶液としては、第２の固液分離機３８の分離液槽３８Ａの分離液をライン６３，ライン５３，５７より供給される。この第１の固液分離機３４から排出されたケーキはライン５４より、ライン５５からのフェノール溶液と混合して流動性を高めた後、リスラリー槽３６に導入される。このライン５５のフェノール溶液としては第２の固液分離機３８の分離液槽３８Ａからの分離液である。リスラリー槽３６では、更に、スラリー濃度調整及び結晶アダクト懸洗のため、ライン５６よりフレッシュフェノールを供給して撹拌することにより、リスラリー槽３６内のスラリー濃度が目標値となるように調整される。
【００２９】
リスラリー槽３６のスラリーはライン５８より第２の固液分離機３８に導入される。この第２の固液分離機３８において、スラリーは遠心力によりボウル内面に押し付けられ、結晶アダクトは沈降してボウル内面にケーキを形成する。該ケーキはスクリューにより移送され、スクリーン部に供給される。一方、分離液は、ケーキとは逆方向に流れ、ライン６１より分離液槽３８Ａに排出される。スクリーン上では、遠心力により、ケーキから含有母液が除去されると共に、フレッシュフェノールがライン６０よりケーキ上にスプレーされることにより、ケーキが洗浄される。該洗浄排液は、ケーキに含有されていた母液と共にライン６２により洗浄排液槽３８Ｂに排出される。洗浄されたケーキはライン５９より排出される。
【００３０】
第２の固液分離機３８から排出される洗浄排液中には微結晶が含まれている。
【００３１】
第２の固液分離機３８で得られたケーキは再溶解された後、アダクト分解（脱フェノール）工程に送られる。アダクト分解工程では、フェノールを除去した後、造粒することにより、ビスフェノールＡ製品とされる。
【００３２】
次に、第２図の実施の形態について説明する。
【００３３】
この実施の形態では、第１の固液分離機３４の洗浄用のフェノール溶液として、第２の固液分離機３８の洗浄排液槽３８Ｂの溶解処理洗浄排液をライン６３Ａ，ライン５７Ａより供給している。この第１の固液分離機３４から排出されたケーキはライン５４より、ライン５５Ａからのフェノール溶液と混合して流動性を高め、リスラリー槽３６に導入される。このライン５５Ａのフェノール溶液は、第２の固液分離機３８の分離液槽３８Ａからの分離液である。リスラリー槽３６では、更に、スラリー濃度調整及び結晶アダクト懸洗のため、ライン５６Ａよりフェノール溶液を供給して撹拌している。このフェノール溶液は、第２の固液分離機３８の洗浄排液槽３８Ｂからの溶解処理洗浄排液である。
【００３４】
リスラリー槽３６のスラリーはライン５８より第２の固液分離機３８に導入され、固液分離される。
【００３５】
なお、この第２図では、第２の固液分離機３８の洗浄排液槽３８Ｂにフレッシュフェノールをライン７０より供給し、洗浄排液に含まれる微結晶を溶解させている。この洗浄排液槽３８Ｂの平均滞留時間は好ましくは１〜２０分である。第２の固液分離機３８から排出される洗浄排液中には微結晶が含まれているが、このようにしてフレッシュフェノール添加して所定時間滞留させることにより微結晶が溶解する。
【００３６】
第２の固液分離機３８で得られたケーキは再溶解された後、アダクト分解（脱フェノール）工程に送られる。第２図のその他の工程は第１図と同一である。
【００３７】
次に第３図の実施の形態について説明する。
【００３８】
この実施の形態では、第１の固液分離機３４の洗浄用のフェノール溶液として、第２の固液分離機３８の分離液槽３８Ａの分離液と洗浄排液槽３８Ｂの洗浄排液との混合液をライン６６から分取し、ライン６３Ｂ，６７Ｂより供給している。この第１の固液分離機３４から排出されたケーキはライン５４より、ライン５５Ｂからのフェノール溶液と混合して流動性を高め、リスラリー槽３６に導入される。このライン５５Ｂのフェノール溶液は、第２の固液分離機３８の分離液槽３８Ａの分離液と洗浄排液槽３８Ｂの洗浄排液との混合液である。なお、ライン６６の分離液と洗浄排液との混合液の残部は原料調整槽３０へ返送される。
【００３９】
リスラリー槽３６では、更に、スラリー濃度調整及び結晶アダクト懸洗のため、ライン５６よりフレッシュフェノールを供給して撹拌することにより、リスラリー槽３６内のスラリー濃度を目標濃度としている。
【００４０】
リスラリー槽３６のスラリーはライン５８より第２の固液分離機３８に導入され、固液分離される。
【００４１】
第２の固液分離機３８から排出される洗浄排液中には微結晶が含まれている。
【００４２】
第２の固液分離機３８で得られたケーキは再溶解された後、アダクト分解（脱フェノール）工程に送られる。第３図のその他の工程は第１図と同一である。
【実施例】
【００４３】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００４４】
なお、以下において、「原料ケーキ」とは、図５に示すようなビスフェノールＡの製造工程において、晶析器５で得られた晶析スラリーを濾過器６で減圧濾過して得られたビスフェノールＡ含有量５０重量％のフェノール及びビスフェノールＡの１：１結晶アダクトである。
【００４５】
実施例１
図１に示す方法でビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクトの回収を行った。
【００４６】
原料ケーキ２１重量部／ｍｉｎをライン５１より原料調整槽３０に導入した。この原料調整槽３０には、第１の固液分離機（ロータリーバキュームフィルタ）３４の濾母液の一部１８．９重量部／ｍｉｎと、第２の固液分離機（スクリーンボウル遠心分離機）３８の分離液槽３８Ａからの分離液の一部３．６重量部／ｍｉｎ及び洗浄排液槽３８Ｂの全量７．２重量部／ｍｉｎが、それぞれライン６７，６４，６５，６６より循環されると共に、フレッシュフェノール５．３重量部／ｍｉｎがライン６９より導入される（第１の固液分離機３４の濾母液の残部はライン６８より系外へ排出される。）。この原料調整槽３０では、ビスフェノールＡ濃度２５重量％に調整しつつ連続的にケーキを完全溶解させた。ここでの２，４−異性体濃度は、０．３６重量％であった。原料調整槽３０は、ビスフェノールＡ２５重量％フェノール溶液の飽和温度＋３℃、即ち８０℃に維持した。該原料調整槽３０内の溶液（以下、原料溶液ということがある。）をライン５２より晶析槽３２に５６重量部／ｍｉｎで連続的に供給した。
【００４７】
晶析槽３２には外部循環冷却ライン（図示略）が付設されており、該外部循環冷却ラインに原料溶液が供給され、該ライン内にて混合された後、晶析槽３２の底より槽３２内に供給される。ここでは２機の晶析槽を直列に接続して使用した。なお、外部循環冷却ラインの循環ポンプからの吐出流量は、８００重量部／ｍｉｎとした。晶析槽の温度調整は、外部循環冷却ライン中の冷却器に冷却水を供給し、出口温度が目標温度に維持されるように冷却器への冷却水流量を制御した。一段目の晶析槽出口温度は６３℃、二段目の晶析槽出口温度は５０℃に調整し、フェノール及びビスフェノールＡの１：１結晶アダクトを晶出させ、晶析スラリーを連続的に５６重量部／ｍｉｎで抜き出した。
【００４８】
該晶析スラリーはライン５３より第１の固液分離機３４に供給され、回転式の円筒形ドラムに吸引されて、ドラムの濾材上にケーキが形成された。晶析母液は結晶アダクトから分離され、ドラム内に吸引された。ドラム内の圧力は、５００ｔｏｒｒであった。ケーキはドラムの回転により洗浄ゾーンに移動され、洗浄用フェノール溶液をスプレーすることにより洗浄された。洗浄フェノール溶液はケーキを洗浄しつつ、ドラムの内側へ吸入された。該ケーキは、ドラムの内側から窒素を吹き付けることにより濾材より剥離して排出した。なお、この第１の固液分離機３４の洗浄用のフェノール溶液としては、第２の固液分離機３８の分離液槽３８Ａの分離液をライン６３，ライン５３，５７より５．５重量部／ｍｉｎで循環使用した。この第１の固液分離機３４から排出されたケーキはライン５４より、ライン５５からのフェノール溶液と混合して流動性を高め、リスラリー槽３６に導入した。このライン５５のフェノール溶液としては第２の固液分離機３８の分離液槽３８Ａからの分離液を８重量部／ｍｉｎで循環した。リスラリー槽３６では、更に、スラリー濃度調整及び結晶アダクト懸洗のため、ライン５６よりフレッシュフェノール１０重量部／ｍｉｎを供給して撹拌することにより、リスラリー槽３６内のスラリー濃度を３０重量％に調整した。
【００４９】
リスラリー槽３６のスラリーはライン５８より第２の固液分離機３８に導入された。この第２の固液分離機３８において、スラリーは遠心力によりボウル内面に押し付けられ、結晶アダクトは沈降してボウル内面にケーキを形成した。該ケーキはスクリューにより移送され、スクリーン部に供給された。一方、分離液は、ケーキとは逆方向に流れ、ライン６１より分離液槽３８Ａに排出された。スクリーン上では、遠心力により、ケーキから含有母液が除去されると共に、フレッシュフェノールがライン６０より２重量部／ｍｉｎでケーキ上にスプレーされることにより、ケーキが洗浄された。該洗浄排液は、ケーキに含有されていた母液と共にライン６２により洗浄排液槽３８Ｂに排出させた。洗浄されたケーキはライン５９より排出された。
【００５０】
第２の固液分離機３８から排出される洗浄排液中には微結晶が含まれ、スラリー濃度は１４．９重量％であった。
【００５１】
また、第２の固液分離機３８から排出されるケーキ量は１１．２重量部／ｍｉｎ、ケーキの含液率は１７重量％であった。また、ケーキ中の２，４−異性体濃度は７５ｐｐｍ、即ち、８．４×１０−４重量部／ｍｉｎであり、晶析原料中の２，４−異性体に対して２３８分の一まで除去された。この時、２段固液分離系で用いたフレッシュフェノール（ライン５６及びライン６０からのフェノール）の使用量は１２重量部／ｍｉｎであった。
【００５２】
第２の固液分離機３８で得られたケーキは再溶解された後、アダクト分解（脱フェノール）工程に送られた。アダクト分解工程では、フェノールを除去した後、造粒することにより、ビスフェノールＡ製品を得た。該製品中のフェノール濃度は１０ｐｐｍであった。
【００５３】
実施例２
図２に示す方法でビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクトの回収を行った。
【００５４】
原料ケーキ２２重量部／ｍｉｎをライン５１より原料調整槽３０に導入した。この原料調整槽３０には、第１の固液分離機（ロータリーバキュームフィルタ）３４の濾母液の一部２２．２重量部／ｍｉｎと、第２の固液分離機（スクリーンボウル遠心分離機）３８の分離液槽３８Ａからの分離液の一部６．９重量部／ｍｉｎ及び洗浄排液槽３８Ｂの洗浄排液の一部２．８重量部／ｍｉｎが、それぞれライン６７，ライン６４，ライン６５及びライン６６より循環されると共に、フレッシュフェノール２．１重量部／ｍｉｎがライン６９より導入される（第１の固液分離機３４の濾母液の残部はライン６８より系外へ排出される。）。この原料調整槽３０では、ビスフェノールＡ濃度２５重量％に調整しつつ連続的にケーキを完全溶解させた。ここでの２，４−異性体濃度は、０．３６重量％であった。原料調整槽３０は、ビスフェノールＡ２５重量％フェノール溶液の飽和温度＋３℃、即ち８０℃に維持した。該原料溶液をライン５２より実施例１におけると同様の晶析槽３２に５６重量部／ｍｉｎで連続的に供給し、同様に晶析処理した。
【００５５】
晶析槽３２からの晶析スラリーはライン５３より第１の固液分離機３４に供給され、実施例１におけると同様に固液分離された。なお、この第１の固液分離機３４の洗浄用のフェノール溶液としては、第２の固液分離機３８の洗浄排液槽３８Ｂの溶解処理洗浄排液をライン６３Ａ，ライン５７Ａより５．５重量部／ｍｉｎで循環した。この第１の固液分離機３４から排出されたケーキはライン５４より、ライン５５Ａからのフェノール溶液と混合して流動性を高め、リスラリー槽３６に導入した。このライン５５Ａのフェノール溶液としては第２の固液分離機３８の分離液槽３８Ａからの分離液を８重量部／ｍｉｎで循環した。リスラリー槽３６では、更に、スラリー濃度調整及び結晶アダクト懸洗のため、ライン５６Ａよりフェノール溶液を供給して撹拌することにより、リスラリー槽３６内のスラリー濃度を３０重量％に調整した。このフェノール溶液としては、第２の固液分離機３８の洗浄排液槽３８Ｂからの溶解処理洗浄排液を１０重量部／ｍｉｎで供給した。
【００５６】
リスラリー槽３６のスラリーはライン５８より実施例１におけると同様の第２の固液分離機３８に導入し、同様に固液分離した。
【００５７】
なお、この実施例２では、第２の固液分離機３８の洗浄排液槽３８Ｂにフレッシュフェノールをライン７０より１０重量部／ｍｉｎで供給し、洗浄排液に含まれる微結晶を溶解させた。この洗浄排液槽３８Ｂの平均滞留時間は５分であった。第２の固液分離機３８から排出される洗浄排液中には微結晶が含まれ、スラリー濃度は１５重量％であったが、このようにしてフレッシュフェノール添加して所定時間滞留させることにより微結晶が完全に溶解した。
【００５８】
第２の固液分離機３８から排出されるケーキ量は１２．３重量部／ｍｉｎ、ケーキの含液率は１７重量％であった。また、ケーキ中の２，４−異性体濃度は７６ｐｐｍ、即ち、９．３×１０−４重量部／ｍｉｎであり、晶析原料中の２，４−異性体に対して２１５分の一まで除去された。この時、２段固液分離系で用いたフレッシュフェノール（ライン６０及びライン７０からのフェノール）の使用量は１２重量部／ｍｉｎであった。
【００５９】
第２の固液分離機３８で得られたケーキは再溶解された後、アダクト分解（脱フェノール）工程に送られた。アダクト分解工程では、フェノールを除去した後、造粒することにより、ビスフェノールＡ製品を得た。該製品中のフェノール濃度は１０ｐｐｍであった。
【００６０】
実施例３
図３に示す方法でビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクトの回収を行った。
【００６１】
原料ケーキ２２重量部／ｍｉｎをライン５１より原料調整槽３０に導入した。この原料調整槽３０には、第１の固液分離機（ロータリーバキュームフィルタ）３４の濾母液の一部２１．１重量部／ｍｉｎと、第２の固液分離機（スクリーンボウル遠心分離機）３８の分離液槽３８Ａからの分離液と洗浄排液槽３８Ｂからの洗浄排液との混合液の一部８．６重量部／ｍｉｎが、それぞれライン６７，６６より循環されると共に、フレッシュフェノール４．３重量部／ｍｉｎがライン６９より導入される（第１の固液分離機３４の濾母液の残部はライン６８より系外へ排出される。）。この原料調整槽３０では、ビスフェノールＡ濃度２５重量％に調整しつつ連続的にケーキを完全溶解させた。ここでの２，４−異性体濃度は、０．３０重量％であった。原料調整槽３０は、ビスフェノールＡ２５重量％フェノール溶液の飽和温度＋３℃、即ち８０℃に維持した。該原料溶液をライン５２より実施例１におけると同様の晶析槽３２に５６重量部／ｍｉｎで連続的に供給し、同様に晶析処理した。
【００６２】
晶析槽３２からの晶析スラリーはライン５３より第１の固液分離機３４に供給され、実施例１におけると同様に固液分離された。なお、この第１の固液分離機３４の洗浄用のフェノール溶液としては、第２の固液分離機３８の分離液槽３８Ａの分離液と洗浄排液槽３８Ｂの洗浄排液との混合液をライン６６から分取し、ライン６３Ｂ，５７Ｂより５．５重量部／ｍｉｎで循環した。この第１の固液分離機３４から排出されたケーキはライン５４より、ライン５５Ｂからのフェノール溶液と混合して流動性を高め、リスラリー槽３６に導入した。このライン５５Ｂのフェノール溶液としては第２の固液分離機３８の分離液槽３８Ａの分離液と洗浄排液槽３８Ｂの洗浄排液との混合液を８重量部／ｍｉｎで循環した。なお、ライン６６の分離液と洗浄排液との混合液の残部は原料調整槽３０へ返送された。
【００６３】
リスラリー槽３６では、更に、スラリー濃度調整及び結晶アダクト懸洗のため、ライン５６よりフレッシュフェノール１０重量部／ｍｉｎを供給して撹拌することにより、リスラリー槽３６内のスラリー濃度を３０重量％に調整した。
【００６４】
リスラリー槽３６のスラリーはライン５８より実施例１におけると同様の第２の固液分離機３８に導入し、同様に固液分離した。
【００６５】
第２の固液分離機３８から排出される洗浄排液中には微結晶が含まれ、スラリー濃度は１７重量％であった。
【００６６】
第２の固液分離機３８から排出されるケーキ量は１３．７重量部／ｍｉｎ、ケーキの含液率は２６．４重量％であった。また、ケーキ中の２，４−異性体濃度は９０ｐｐｍ、即ち、１．２×１０−３重量部／ｍｉｎであり、晶析原料中の２，４−異性体に対して１３６分の一まで除去された。この時、２段固液分離系で用いたフレッシュフェノール（ライン５６及びライン６０からのフェノール）の使用量は１２重量部／ｍｉｎであった。
【００６７】
第２の固液分離機３８で得られたケーキは再溶解された後、アダクト分解（脱フェノール）工程に送られた。アダクト分解工程では、フェノールを除去した後、造粒することにより、ビスフェノールＡ製品を得た。該製品中のフェノール濃度は１８ｐｐｍであった。
【００６８】
比較例１
図４に示す方法でビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクトの回収を行った。
【００６９】
原料ケーキ２２重量部／ｍｉｎをライン５１より原料調整槽３０に導入した。この原料調整槽３０には、固液分離機（ロータリーバキュームフィルタ）３４の濾母液の一部３３．３重量部／ｍｉｎがライン６７より循環されると共に、フレッシュフェノール０．７重量部／ｍｉｎがライン６９より導入される。（固液分離機３４の濾母液の残部はライン６８より系外へ排出される。）。この原料調整槽３０では、ビスフェノールＡ濃度２５重量％に調整しつつ連続的にケーキを完全溶解させた。ここでの２，４−異性体濃度は、０．３９重量％であった。原料調整槽３０は、ビスフェノールＡ２５重量％フェノール溶液の飽和温度＋３℃、即ち８０℃に維持した。該原料溶液をライン５２より実施例１におけると同様の晶析槽３２に５６重量部／ｍｉｎで連続的に供給し、同様に晶析処理した。
【００７０】
晶析槽３２からの晶析スラリーはライン５３より固液分離機３４に供給され、実施例１におけると同様に固液分離された。
【００７１】
なお、この固液分離機３４の洗浄用のフェノール溶液としては、フレッシュフェノールをライン５７Ｃより１２重量部／ｍｉｎで供給した。
【００７２】
この固液分離機３４から排出される分離液及び洗浄排液中には殆ど微結晶がなかった。
【００７３】
この固液分離機３４から排出されるケーキ量は２０．５重量部／ｍｉｎ、ケーキの含液率は４１．１重量％であった。また、ケーキ中の２，４−異性体濃度は１５０ｐｐｍ、即ち、３．１×１０−３重量部／ｍｉｎであり、晶析原料中の２，４−異性体に対して９４分の一までしか除去されなかった。この時、１段固液分離系で用いたフレッシュフェノール（ライン５７Ｃからのフェノール）の使用量は１２重量部／ｍｉｎであった。
【００７４】
固液分離機３４で得られたケーキは再溶解された後、アダクト分解（脱フェノール）工程に送られたが、過負荷となり、この工程の能力がネックとなり、ロードダウンした。
【００７５】
以上の結果から、結晶アダクトの固液分離工程で再固液分離を行う本発明の方法によれば、不純物含有量の少ない高純度のビスフェノールＡ・フェノール結晶アダクトを効率的に回収することができ、高品位ビスフェノールＡを高収率で安定に製造することができることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明のビスフェノールＡの製造方法の実施の形態を示す系統図である。
【図２】本発明のビスフェノールＡの製造方法の他の実施の形態を示す系統図である。
【図３】本発明のビスフェノールＡの製造方法の別の実施の形態を示す系統図である。
【図４】比較例１の方法を示す系統図である。
【図５】ビスフェノールＡの製造方法の一例を示す系統図である。
【符号の説明】
【００７７】
２  反応器
４  蒸留塔
５  晶析器
７  再溶解槽
８  再晶析器
９  固液分離機
３０  原料調整槽
３２  晶析槽
３４  第１の固液分離機（ロータリーバキュームフィルタ）
３６  リスラリー槽
３８  第２の固液分離機（スクリーンボウル遠心分離機）
３８Ａ  分離液槽
３８Ｂ  洗浄排液槽
【図１】
2005232134.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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