(57)【要約】  【課題】  表面で正反射光を低反射とし、大型となっても高精度な液晶基板保持盤を提供すること。【解決手段】  基体上面に透明または半透明の液晶基板を保持する支持面と、該支持面よりも下がった非支持面とを有する液晶基板保持盤において、上記基体の比剛性が８０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上の黒色系セラミックスから形成されるとともに、上記支持面の算術平均粗さが０．３〜１．２μｍの範囲としたことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上面に透明または半透明の液晶基板を保持する支持面と、該支持面よりも下がった非支持面とを有する液晶基板保持盤において、上記基体の比剛性が８０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上の黒色系セラミックスから形成されるとともに、上記支持面の算術平均粗さが０．３〜１．２μｍの範囲としたことを特徴とする液晶基板保持盤。
【請求項２】
上記基体がＴｉＯ２、ＣｏＯ、ＭｎＯ２、またはＦｅ２Ｏ３のいずれか１種以上を含有したアルミナから形成したことを特徴とする請求項１に記載の液晶基板保持盤。
【請求項３】
上記非支持面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．０〜２．０μｍの範囲であることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶基板保持盤。
【請求項４】
上記アルミナの純度が９０％以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶基板保持盤。
【請求項５】
黒色系セラミックスからなる基体を用意し、該基体の上面を算術平均粗さが０．３〜１．２μｍの範囲に仕上げ、しかる後ブラスト加工にて透明または半透明液晶基板を保持する支持面と非支持面を形成したことを特徴とする液晶基板保持盤の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイを製造するための露光装置等の液晶基板保持盤に関し、特に透明または半透明液晶基板を透過した照明光の反射によって露光、アライメントまたはフォーカス調整の精度を損なうことのない液晶基板保持盤及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶ディスプレイを製造するための露光装置に使用される液晶基板保持盤は、アルミニウム系の金属からなる母材にアルマイトメッキを施したものや、ステンレスやアルマイト系のセラミックまたはアルマイトセラミックからなる母材にＴｉＣ等の被覆を施したものが用いられていた。
【０００３】
図６（ａ）は、従来の液晶基板保持盤の一例であるチャックの概略図を示す斜視図である。
【０００４】
従来から液晶基板保持盤１１は、図６（ａ）に示すように基体１４の上面に、透明または半透明の液晶基板６を保持する支持面１２と、その支持面１２よりも下がった非支持面１３とを形成したものであり、液晶基板６を保持させて、露光用の照明光あるいはアライメントやフォーカス調整のために照明光を照射させていた。そして、液晶基板６に照射された照明光の一部分は、液晶基板６を透過して液晶基板保持盤１１に到達するので、照射光の反射をできる限り抑えるためにも、支持面１２を形成することによって、液晶基板６に当接する液晶基板保持盤１１の面積を少なくし、照射光の多くが液晶基板保持盤１１の非支持面１２の表面で反射されるようにしていた。
【０００５】
これら液晶基板保持盤１１は経年的に高精度に保持することが求められる為、一般的には高剛性を有したセラミックスが多用される。特に液晶ディスプレイを製造するための露光装置に搭載される液晶基板保持盤１１には、黒色を呈するセラミックスが用いられるようになっていた。
【０００６】
一例を図６（ｂ）に示す。図６（ｂ）は（ａ）の液晶基板保持盤の一部を拡大した断面図である。図に示すように支持面１２、非支持面１３の表面にセラミックスからなる被覆層１７を形成したものであり、具体的には、基体１４の表面上に粗面化した表面をもつ反射率の低いＳｉＣからなる第１の被膜層（不図示）と、この第１の被覆層上に平滑な表面をもつ透明材料Ａｌ２Ｏ３からなる第２の被覆層（不図示）によって被覆されているものである（特許文献１参照）。
【０００７】
ところで、上述した反射率を下げる方法として、一般的には液晶基板保持盤１１を形成するセラミックスの呈色として、光を反射しやすい白色や乳白色を呈するセラミックスよりも、光を吸収しやすい黒色を呈するセラミックスが適していることは知られているが、特に安価で加工費用の安いアルミナが望まれていた。
【０００８】
黒色を呈するアルミナの例としては、特許文献２に、Aｌ２Ｏ３を主成分とし、Ｍｎ２Ｏ３、Ｆｅ２Ｏ３、ＣｏO、Ｃｒ２Ｏ３の成分を含有する黒色アルミナ焼結体が提案されている。また、特許文献３には、Ｌｉ２Ｏが０〜２．５重量％含有する黒色低熱膨張セラミックス焼結体が提案されている。さらに、特許文献４には、Ａｌ２Ｏ３を主成分とし、Ｆｅ２O３、Ｃｏ２O３、CｕOの成分を含有する着色系セラミックスが提案されている。
【特許文献１】特開平５−２０５９９７号公報
【特許文献２】特開平５−２３８８１０号公報
【特許文献３】特開２００１−１９５４０号公報
【特許文献４】特開平５−２５４９２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、液晶基板６に入射した照明光の一部分が、液晶基板保持盤１１の表面によって反射されて再び液晶基板６の特定箇所に入射すれば、これによってエッチングを行わないレジストの不要な部分が露光し、アライメントやフォーカス調整の精度を低下させることや、照射光が液晶基板６を透過して、液晶基板保持盤１１の表面で反射して、露光した像と同じ像を液晶基板６の下面から照射してしまうことが原因で二重露光等の弊害が発生するといった課題があった。特に、液晶基板６は透明または半透明のガラスであるため、入射光は透過しやすいものであった。
【００１０】
その為、液晶基板６を透過した照明光の反射によって、レジストの不要部分が露光させない低反射率を有する液晶基板保持盤１１が望まれていた。
【００１１】
ここで、光の反射は光の進行波が、進行中の媒質と異なる媒質あるいは不連続的変化のある境界面にあたって方向を変え、もとの媒質中の新しい方向に進む現象をいうが、入射角と反射角が等しい反射を正反射（または鏡面反射）と呼んでいる。また、境界面の凹凸が波長と同程度、あるいはそれより大きければ、反射波は種々の方向に進む。このような反射を拡散反射（または乱反射）と呼ぶ。そして、入射波強度に対する境界面で反射波の強度の百分率を反射率（正反射率、拡散反射率）と呼び、正反射率と拡散反射率とを併せた値を反射率と呼んでいる。
【００１２】
ところで、黒色アルミナを用いた特許文献２、４は、上述のような低反射率に言及しているものではなく、単純に黒色アルミナを採用しても、近年の液晶ディスプレイの大型化に伴い、面の状態の条件によっては、充分に低反射とはならず、二重露光を防止するのに至らないという問題があった。
【００１３】
これは、次の理由によるものと思われる。即ち、近年の液晶ディスプレイの大型化に伴い、液晶基板１６が大型化し、液晶基板保持盤１１を用いた製造工程では支持面１２よりも非支持面１３の領域が大きくなってきている。従って、反射の中でも拡散反射が大きく占めるようになっている。ここで、低反射とするのに液晶基板保持盤１１の表面を鏡面にして反射の大部分を占める拡散反射を抑え、反射率を低くすることが考えられるが、このように拡散反射を低くしたとしても、液晶基板６を透過する照射光が、鏡面としている液晶基板保持盤１１の支持面１２に接近しているので、正反射による光が液晶基板６の下面に照射しやすい状態となっており、拡散反射を従来よりも低下させたとしても二重露光が発生しやすくなっているものと思われる。つまり、二重露光に一番影響を与えるのは、像に同じ像が重なる正反射光であり、この正反射光を低減するにはどのような面状態を選択すればよいのかが課題であった。
【００１４】
一方、特許文献３のセラミックスの材料特性は、ヤング率が１６５ＧＰａ以下、比剛性が６８．５ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以下であり、露光装置の液晶基板保持盤１１に使用される基体１４には、他の部材への取り付け穴や溝加工など複雑な加工を行うことが多く、マシニング加工などを行う際の材質の変形を防ぐ目的や、それ自体で液晶基板６を支持することが必要となるので、比剛性が低いと高精度加工が困難といった課題があった。
【００１５】
また、被覆層１７を表面に形成している特許文献１は、支持面１２が平坦化させるのが難しく高精度に仕上げることができず、また、被膜時の熱による内部応力が発生し、剥離するといった課題があった。さらに、被腹膜１７をコートする為の装置も大形となり、設備的な制約があるという課題があった。
【００１６】
そこで、本発明は、上記の技術の有する解決すべき課題に鑑みてなされたものであり、液晶基板６を透過した照明光の反射によって、レジストの不要な部分が露光し、アライメントやフォーカス調整の精度を低下させることなく、二重露光を防止することのできる高精度加工が可能な、安価で大型な液晶基板保持盤を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記の課題を解決するために、本発明の液晶基板保持盤は、基体上面に透明または半透明液晶基板を保持する支持面と、該支持面よりも下がった非支持面とを有する液晶基板保持盤において、上記基体の比剛性が８０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上の黒色系セラミックスから形成され、上記支持面の算術平均粗さが０．３〜１．２μｍの範囲としたことを特徴としている。
【００１８】
また、上記基体がＴｉＯ２、ＣｏＯ、ＭｎＯ２、またはＦｅ２Ｏ３のいずれか１種以上を含有したアルミナから形成したことを特徴としている。
【００１９】
さらに、本発明の液晶基板保持盤は、上記非支持面の算術平均粗さが１．０〜２．０μｍの範囲であることを特徴としている。
【００２０】
またさらに、本発明の液晶基板保持盤は、上記アルミナの純度が９０％以上であることを特徴としている。
【００２１】
次に、本発明の液晶基板保持盤の製造方法は、黒色系セラミックスからなる基体を用意し、該基体の上面を算術平均粗さが０．６〜１．２μｍの範囲に仕上げ、しかる後ブラスト加工にて透明または半透明液晶基板を保持する支持面と非支持面を形成したことを特徴としている。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の構成によれば、基体の比剛性が８０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上の黒色系セラミックスから形成されるとともに上記支持面の算術平均粗さが０．３〜１．２μｍの範囲としたために、大型の液晶基板保持盤としても、加工時の材質の変形を防ぎ高精度に加工が可能であり、しかも、液晶基板を透過する照射光の正反射を有効に防止して反射率を低下させることができるので照射光が液晶基板に生じる二重露光を防ぐことができる。
【００２３】
また、上記基体がＴｉＯ２、ＣｏＯ、ＭｎＯ２、またはＦｅ２Ｏ３のいずれか１種以上を含有したアルミナから形成したことにより、照射光の正反射率が低い黒色の基体を得ることができる。低反射率を実現するためには黒色の基体とすることで、できるだけ光線を吸収することができる。
【００２４】
さらに、上記非支持面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．０〜２．０μｍの範囲であることで、液晶基板の接触面だけでなく、他の面でも正反射率が低い液晶基板保持盤を提供できる。
【００２５】
またさらに、上記アルミナの純度が９０％以上であることで、高強度で、比剛性の高い基体を得ることができ、高精度な加工を施すことが可能になる。
【００２６】
次に、黒色系セラミックスからなる基体を用意し、その基体の上面を算術平均粗さが０．３〜１．２μｍの範囲に仕上げ、しかる後ブラスト加工にて透明または半透明液晶基板を保持する支持面と非支持面を形成したことを特徴とする液晶基板保持盤の製造方法を提供することにより、正反射率が低く、高精度で大型品にも対応できる最適な液晶保持盤を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の実施するための最良の形態について説明する。
【００２８】
図１は、本発明に係る液晶基板保持盤の一例であるチャックの概略図を示す図で、（ａ）はその斜視図を、（ｂ）は上記液晶基板保持盤の一部を拡大した断面図をそれぞれ示している。また、図２は、本発明に係る液晶基板保持盤の支持部の一部を拡大して示す斜視図である。
【００２９】
本発明の液晶基板保持盤１は、比剛性が８０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上の黒色系セラミックスからなる平板状体の基体４からなり、その表面に複数の突起２００が形成されており、各突起２００は液晶基板６に接触してこれを支持する支持面２と、支持面２よりも下がった非支持面３とから構成されている。
【００３０】
ところで、本発明の液晶基板保持盤１において、表面に液晶基板６を支持して上部から露光を行った際、反射率を低くする方が、アライメントやフォーカス調整の精度を低下させることもなく、また、二重露光を防止する点においても好ましいと考えられる。従って、液晶基板保持盤１の表面が黒色のものを利用し反射率を低下させると良いことは知られているが、単に反射率を低下させるだけでは液晶基板６の製造工程において二重露光を防止することは困難である。これに対して本発明では支持面２の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を０．３〜１．２μｍの範囲とすることで、二重露光が防止できるものである。
【００３１】
以下に本発明に至った理由を説明する。
【００３２】
ここで本発明の液晶基板保持盤１によれば、液晶基板６を支持する表面の支持面２よりも非支持面３の領域が大きいため、液晶基板６上から照射した光を液晶基板保持盤１の表面における拡散反射率と正反射率とで比べると、正反射率よりも拡散反射率の占める割合が高く、反射の大半は拡散反射であるので、拡散反射率が反射率の大半を占めることになる。従って、一見、表面を鏡面状態として乱反射が起きにくくすることにより反射率を抑えて反射率を低下できるように思われる。
【００３３】
しかしながら、本発明者は液晶基板保持盤１を利用する液晶基板６の製造工程において二重露光の課題を鋭意検討の結果、二重露光の原因となる光線は正反射光が支配的であり、逆に拡散反射光は液晶基板６を通過する中で減衰して、反射しても像がぼやけてしまい、レジストを露光させる異常光とはならない事を初めて見出し、液晶基板６に一番近い支持面２の算術平均粗さ（Ｒａ）を０．３〜１．２μｍの範囲とすることで正反射光を抑えて二重露光を防止できる本発明に至ったものである。
【００３４】
従って、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．３μｍよりも小さい値であると、照射光が垂直に戻る正反射率が高くなり、液晶基板６への二重露光の原因となる。逆に、算術平均粗さが１．２μｍよりも大きい値の場合、支持面２に接触する液晶基板６の表面に傷を付けてしまうことがあり、液晶基板６の製品としての価値が損なわれてしまう。その為、支持面２の算術平均粗さ（Ｒａ）は０．３〜１．２μｍの範囲であることが必要で、好ましくは０．６〜１．０μｍの範囲にあることが良い。
【００３５】
液晶基板６への露光の際に使用される照射光としては、紫外線領域の照射光を用いることが多く、一般的に、紫外線領域４００ｎｍ以下の波長領域で考えれば良いが、安全を見ると４５０ｎｍまでの波長領域の照射光が含まれることがあり、４５０ｎｍ以下の照射光で、正反射率が１％以下となることが望まれ、液晶基板６において、二重露光は発生しない。
【００３６】
そして、支持面２と非支持面３の形成方法は、研削加工やブラスト加工で形成すればよく、表面を粗い状態とすることで、算術平均粗さ（Ｒａ）が１〜２μｍの範囲の仕上げ面とすればよい。この範囲であれば、反射光が液晶基板の裏面に逆照射されても、ウエハ表面のレジスト膜を露光し、アライメントあるいはフォーカス調整の障害となることはない。
【００３７】
ところで、算術平均粗さ（Ｒａ）が２μｍよりも大きい値の場合、ブラストの砥粒を粗く大きなものにする必要があるが、その場合、ブラスト加工時のマスクのパターンを細かくすることができなかったり、またパターンが破れるといった不具合があった。逆に算術平均粗さ（Ｒａ）が１μｍよりも小さい値の場合、ブラストの砥粒を細かいものとする必要があるので加工に時間がかかるといった不具合があることや、面が良すぎることによる正反射光の反射率が高くなる為に、二重露光の懸念が生じてしまう。その為、ブラスト加工に使用する砥粒は＃２００〜＃１０００の範囲を使用すれば良く、その結果得られる非支持面３の表面は算術平均粗さ（Ｒａ）で１．０〜２．０μｍの範囲が良く、遊離砥粒等による磨き加工を行わないままの面であることが良い。
【００３８】
上述したように、算術平均粗さ（Ｒａ）が低い場合、正反射率は高くなるが、拡散反射率は低くすることができるが、全反射の大半は拡散反射であり、拡散反射率が反射率を決めることになる。従って、特定の箇所に集中することはなく、全体的にぼやけた反射となる。
【００３９】
これにより、高精度に加工した支持面２を含め、液晶基板保持盤１表面に反射率の低い材料を被覆させる必要がないため、被覆膜による精度劣化や、該被覆膜の剥離による不具合が無くなり、液晶基板保持盤１に吸着された液晶基板６の平坦度が、高精度に支持されたままで保持することが可能となる。
【００４０】
ところで、本発明の液晶基板保持盤１を形成する基体４は黒色系セラミックスであることが必要であるが、黒色系セラミックスの黒色系とは黒色に近い暗い色を呈するものを指し、茶褐色や茶色、赤褐色、緑褐色、群青色、小豆色などの呈色であればよい。好ましくは黒色を呈する色調のものが良い。
【００４１】
黒色系として日本の工業分野での色彩管理における色差の測定に最も広く用いられているＬ＊ａ＊ｂ＊表色系を用いるとよい。ここで、本発明に用いられる黒色系セラミックスの色調は上述のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度指数がＬ＊＜６０の範囲のものを用いるのが好ましい。明度指数がＬ＊が６０よりも大きい値の範囲であれば、反射率が高くなり、本発明の構成であっても非支持面３からの反射の影響を受けてしまい、全体的にぼやけた像となる。その為、さらに好ましくは、明度指数がＬ＊＜４０の範囲であることが良い。
【００４２】
なお、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系において、Ｌ＊は明度指数、即ち明暗知覚の度合いを示すもので、ａ＊及びｂ＊は、知覚色度指数、即ち色相と飽和度の二つの属性を総合して考えた視知覚の属性を示すものである。色相ａ＊及びｂ＊は反射率に影響を与える因子にはあまり関係がなく、一番に影響を与えるのが明度指数Ｌ＊であることが解っており、この明度指数Ｌ＊がどのような値になっているのかに注目すればよく、その場合のａ＊ｂ＊の知覚色度指数の依存性が低いことから、黒色だけでなくそれに近い色調であってもよいことが解る。
【００４３】
本発明では日本電色（株）製，色差光沢計（Σ90）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−４−５に準じて三刺激値を測定し、ＣＩＥ１９７６（L＊，ａ＊，ｂ＊）色空間の色座標を算出する。
【００４４】
なお、今回比較する材料が無いため、以下のＪＩＳ  Ｋ  ５６００−４−５に準じた。
【００４５】
Ｌ＊：明度を表す指数（0〜100）。0が最も暗く、100が最も明るい値となる
ａ＊：＋側は赤、−側は緑、0は無彩色を表し、絶対値が大きいほど彩度が高くなる
ｂ＊：＋側は黄、−側は青、0は無彩色を表し、絶対値が大きいほど彩度が高くなる
本発明の液晶基板保持盤１は、アルミナ純度が９０％以上であることが好ましい。アルミナ純度が９０％よりも少ないと、剛性が損なわれる。比剛性８０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇ以上を実現する為には、ヤング率が３１０ＧＰａ以上であることが好ましく、これらを達成する為にはアルミナ純度が９０％以上であることが好ましい。
【００４６】
なお、液晶基板保持盤１に支持される液晶基板６は公知の吸着手段によってこれに吸着される。例えば、大気中で使用する場合は液晶基板６を真空吸着することで吸着することができる。あるいは、単に載置して、液晶基板を機械的に取り付けて保持するのでも構わない。
【００４７】
次に、本発明の製造方法について説明する。
【００４８】
まず、９０重量％以上のＡｌ２Ｏ３に、従来から焼結助剤として用いられるＳｉＯ２、ＭｇＯ等を添加し、さらに黒色とするため、Ｆｅ２Ｏ３、ＭｎＯ２、ＣｏＯ、ＴｉＯ２を湿式にて混合、粉砕した後、スプレードライヤーを用いて噴霧乾燥・造粒を行い、２次原料を作製する。得られた２次原料は、ＣＩＰ成形またはメカプレス成形にて８０〜２００ＭＰａの範囲の圧力にて所望の形状に成形する。
【００４９】
次に、最高温度が１４００〜１７００℃の範囲となるように酸化雰囲気にて焼成を行うことでアルミナセラミックスを得る。そして、基体４の板状体を形成した後、上面を算術平均粗さが０．３〜１．２μｍの範囲に仕上げ、しかる後ブラスト加工にて透明または半透明液晶基板６を保持する支持面２と非支持面３を形成する。
【００５０】
照明光を反射する表面である各支持面２は、研削もしくはラッピングによる研磨によって高精度加工され、支持面２以外の非支持面３は研削やブラスト加工によって粗面化することができる。
【００５１】
ところで、基体４を形成する黒色系セラミックスとしては、ＴｉＯ２、ＣｏＯ、ＭｎＯ２、及びＦｅ２Ｏ３を含有したアルミナから形成されるのがよく、アルミナ純度が９０％以上であることを特徴とし、従来から焼結助剤として用いられる公知なＳｉＯ２、ＭｇＯ等を添加して形成される。好ましい範囲としては、Ｆｅ２Ｏ３を０．５〜１．０重量％、ＭｎＯ２を４．０〜５．５重量％、ＣｏＯを１．０〜２．０重量％、ＴｉＯ２を０．５〜１．０重量％混合すればよい。
【００５２】
その結果、得られたアルミナは黒色系セラミックスとなり、液晶基板を透過した照明光の多くは反射率の低い黒色の表面に吸収することが可能となる。
【００５３】
さらに、アルミナの純度は９０％以上が望ましく、９０％を下回れば、ヤング率の低下を招き、液晶基板保持盤１としての面精度を保つことができない。特に比剛性（ヤング率／比重）が液晶基板保持盤１において重要な要素となり、比剛性が８０ＧＰａ・ｃｍ３／ｇより小さい値となり、液晶基板保持盤１が大形化していくのに伴い設計上好ましくない。アルミナ純度が９０％以上で、比剛性の高い材料であることから、支持面１を、例えば□６００ｍｍ以上の大きさの液晶基板保持盤１１であってもその平坦度を１０μｍ以下の高精度に仕上げることが可能となる。
【００５４】
ところで、上記の組成の材料によれば、ヤング率が３００〜３５０ＧＰａ、ビッカース硬度（ＨＶ１）１２〜１４ＧＰａ、３点曲げ強度が３００〜３５０ＭＰａと機械的強度の高い材質を得ることができる。
【００５５】
さらに、ボイド占有率が４％以下で、平均ボイド径が４μｍ、見掛け密度が３．８〜３．９ｇ／ｃｍ３の緻密なアルミナを得ることができる。ここで、ボイド占有率が４％以下であれば、ボイドによって入射した光波が様々な方向に反射する確率が低くなり、拡散反射率を低減することができる。また、平均ボイド径が小さくなる程、同様のことが可能となる。さらに見掛け密度が前記の範囲になることが好ましく、その範囲よりも大きくなれば比剛性を低下させることになり、小さければ、ヤング率の低下を招き、同様に比剛性を低下させる要因になる。
【００５６】
また、本発明の液晶基板保持盤１は、円板形状や角板等形状を問わず、液晶基板６を保持するのに適した形状であればどのような形状であっても構わない。
【実施例】
【００５７】
以下、本発明の実施例を説明する。
【００５８】
（実験例１）
９１重量％のＡｌ２Ｏ３粉末に、黒色とするため、Ｆｅ２Ｏ３：０．７重量％、ＭｎＯ２：４．７重量％、ＣｏＯ：１．６重量％、ＴｉＯ２：０．８重量％の各粉末を焼結助剤として添加し、さらにＳｉＯ２やＭｇＯを添加して湿式にて混合し、スプレードライヤーを用いて噴霧乾燥を行った。その後、湿式状態にて混合、粉砕したあと、スプレードライヤーを用いて噴霧乾燥・造粒を行い、２次原料を作製する。得られた２次原料は、ＣＩＰ成形にて８０ＭＰａの圧力にて板状体に成形した。
【００５９】
次に１４３０℃の酸化雰囲気にて焼成し、アルミナ焼結体を得た後、φ３０ｍｍ×８ｍｍの円盤を製作する。そして、その円盤の表面を算術平均粗さ（Ｒａ）で０．１２μｍ、０．３３μｍ、０．６３μｍ、１．３０μｍの４種類に仕上げ液晶基板保持盤とした。出来上がった液晶保持盤はＬ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度指数のＬ＊が４５．８６、ａ＊が−０．６１、ｂ＊−０．６４であった。
【００６０】
そして、それぞれに３６０ｎｍ〜７４０ｎｍの光を照射し、その反射率、拡散反射率を測定した。また、反射率から拡散反射率を引いた数値を正反射率として算出した。
【００６１】
結果はそれぞれ図３〜図５に示す。図３は各種算術平均粗さ（Ｒａ）における反射率のデータを、図４は拡散反射率のデータを、図５は正反射率のデータをそれぞれ示すものである。
【００６２】
なお、算術平均粗さ（Ｒａ）０．１２μｍ、０．３３μｍ、０．６３μｍはラッピング加工にて、１．３０μｍはブラスト加工にてそれぞれ仕上げた。
【００６３】
ところで、これらの反射率の測定は、ミノルタ社の分光測色計ＣＭ−３７００ｄ装置を用いて、波長範囲３６０ｎｍ〜７４０ｎｍの範囲で測定すればよい。
【００６４】
以上の結果から、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．４μｍ以下の表面で、４５０ｎｍの波長領域において正反射率が１％以下にすることができることが判った。
【００６５】
また、このＬｏｔと同一の製造方法にて製作されたアルミナであれば、ヤング率が３１４ＧＰａ、３点曲げ強度３２４ＭＰａ、ビッカース硬度（Ｈｖ１）１２．７ＧＰａ、見掛密度３．８６ｇ／ｃｍ３の材料特性が得られ、比剛性が８１．３ＧＰａ・ｃｍ３／ｇとなり、高精度加工が可能な材質を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明に係る液晶基板保持盤の一例であるチャックの概略図を示す図で、（ａ）はその斜視図を、（ｂ）は上記液晶基板保持盤の一部を拡大した断面図をそれぞれ示している。
【図２】本発明に係る液晶基板保持盤の支持部の一部を拡大して示す斜視図である。
【図３】本発明の基体による反射率の測定データを示すグラフである。
【図４】本発明の基体による拡散反射率の測定データを示すグラフである。
【図５】本発明の基体による正反射率の測定データを示すグラフである。
【図６】従来の液晶基板保持盤の一例であるチャックの概略図を示す図で、（ａ）はその斜視図を、（ｂ）は上記液晶基板保持盤の一部を拡大した断面図をそれぞれ示している。
【符号の説明】
【００６７】
１、１１ …液晶基板保持盤
２、１２…支持面
３、１３… 非支持面
４、１４…基体
５…液晶基板保持装置
６…液晶基板
１７…被覆層
【図１】
2005275345.tif 000003
【図２】
2005275345.tif 000004
【図３】
2005275345.tif 000005
【図４】
2005275345.tif 000006
【図５】
2005275345.tif 000007
【図６】
2005275345.tif 000008