(57)【要約】  【課題】露光装置からのデータ収集を効率良く行い、トラブルに迅速に対応可能な露光装置システムを提供する。  【解決手段】露光装置１０からサーバー６１に転送データがある場合、まず、ネットワーク７１のトラフィック量をトラフィック監視部において検出する。トラフィック量が多い場合は、各露光装置１０から順次サーバー６１にデータを転送する。トラフィック量が非常に多い場合は、さらにデータを加工してデータ転送量を削減する。トラフィック量が少ない場合は、複数の露光装置１０から一括的にデータを転送する。この場合も、必要に応じてデータを加工して転送してよい。転送されたデータは、サーバー６１において、解析や自動診断に供される。露光装置１０〜サーバー６１へのデータ転送が適切に行われるので、不具合が発生した場合に迅速に対応することができ、不良品を大量に生産しつづける等の問題を回避することができる。  【選択図】  図１
2005175282.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１以上のデバイス処理装置と、
前記１以上のデバイス処理装置において得られたデータに基づいて所望のデータ処理を行うデータ処理装置と、
前記１以上のデバイス処理装置と前記データ処理装置との間で前記データの転送を行う通信手段と、
前記通信手段のトラフィック状況を検出するトラフィック監視手段と、
前記検出されたトラフィック状況に応じて、前記１以上のデバイス処理装置と前記データ処理装置との間のデータの転送形態を制御するデータ転送制御手段と
を有するデバイス処理システム。
【請求項２】
前記データ転送制御手段は、前記トラフィック状況に応じて、前記データの転送方法を制御する
請求項１に記載のデバイス処理システム。
【請求項３】
複数のデバイス処理装置を有し、
前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記複数のデバイス処理装置の各々から前記データ処理装置に順次データを転送するよう前記データの転送方法を制御する
請求項２に記載のデバイス処理システム。
【請求項４】
複数のデバイス処理装置を有し、
前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記複数のデバイス処理装置から同時的にデータを転送するよう前記データの転送方法を制御する
請求項２に記載のデバイス処理システム。
【請求項５】
前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、転送対象のデータを所定の単位毎の複数のデータに分割し、当該分割されたデータ毎に転送するように前記データの転送方法を制御する
請求項２に記載のデバイス処理システム。
【請求項６】
前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、転送対象のデータを一括的に転送するように前記データの転送方法を制御する
請求項２に記載のデバイス処理システム。
【請求項７】
前記データ転送制御手段は、前記トラフィック状況に応じて、転送対象のデータの種類を制御する
請求項１に記載のデバイス処理システム。
【請求項８】
前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータに対して、所定の処理を施して特徴的なデータを生成し、当該特徴的なデータを転送対象のデータとする
請求項７に記載のデバイス処理システム。
【請求項９】
前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータを転送対象のデータとする
請求項７に記載のデバイス処理システム。
【請求項１０】
前記デバイス処理装置は、露光装置である
請求項１〜９のいずれかに記載のデバイス処理システム。
【請求項１１】
１以上のデバイス処理装置から通信手段を介してデータを収集する方法であって、
前記通信手段のトラフィック状況を検出し、
前記検出されたトラフィック状況に応じた転送形態で、前記１以上のデバイス処理装置からデータを転送しデータを収集する
データ収集方法。
【請求項１２】
前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記複数のデバイス処理装置の各々から順次データを転送し前記データを収集する
請求項１１に記載のデータ収集方法。
【請求項１３】
前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記複数のデバイス処理装置から同時的にデータを転送し前記データを収集する
請求項１１又は１２に記載のデータ収集方法。
【請求項１４】
前記通信手段のトラフィック量が多い時は、転送対象のデータを所定の単位毎の複数のデータに分割し、転送対象のデータを前記分割されたデータ毎に転送し前記データを収集する
請求項１１に記載のデータ収集方法。
【請求項１５】
前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、転送対象のデータを一括的に転送し前記データを収集する
請求項１１又は１２に記載のデータ収集方法。
【請求項１６】
前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータに対して、所定の処理を施して特徴的なデータを生成し、当該特徴的なデータを転送することにより前記データを収集する
請求項１１に記載のデータ収集方法。
【請求項１７】
前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータを転送し前記データを収集する
請求項１１又は１２に記載のデータ収集方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体素子、液晶表示素子、ＣＣＤ等の撮像素子、プラズマディスプレイ素子、薄膜磁気ヘッド等の電子デバイス（以下、単に電子デバイスと言う）を製造する際に使用する露光装置等のデバイス処理システムに関し、特に、デバイス処理装置からのデータ収集を効率良く適切に行うことのできるデバイス処理システム及びデータ収集方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置等の装置の稼動率を向上させるために、複数のラインを有するシステムにおいて診断システムや装置支援システム等の導入が行われている。
このような診断システムや装置支援システムにおいては、ネットワークを経由して各装置から各種のデータを収集し、例えばサーバー装置等においてそれらのデータを解析し、状況の把握等を行い、制御パラメータ等の調整を行っている。具体的には、そのような装置支援システムにおいては、（１）装置の稼動状況を分析し把握する、（２）装置データの傾向を統計的に解析して異常を検知する、及び、（３）装置データの傾向から未来を予測して異常を未然に防止する、等の処理が行われている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特許第３３６４３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、そのようにシステムにおいて、従来、複数の露光装置からデータを収集する方法、換言すれば複数の露光装置からのデータの収集方法は、特段の工夫がなされていなかった。したがって、一度に複数の装置から一括的にデータを収集するか、順次各装置からデータを取得するかのいずれかの方法が一般的に用いられていた。
【０００５】
しかしながら、露光装置から転送されるデータの中にはデータ量が大きいデータもあり、そのようなデータを転送する際には、データ転送が衝突して所望のタイミングで適切にデータ転送ができない可能性がある。
また、露光装置とデータ処理を行うサーバー装置等の間は汎用の通信ネットワークにより接続されている場合が多いが、そのような場合、露光システム以外のデータ転送によるトラフィック量の増加により、同様にデータ転送が適切に行えない可能性がある。
【０００６】
露光装置の診断システムや装置支援システムにおいてデータ転送が適切に行えない場合には、診断等に基づく露光処理への対応、すなわちフィードバック等の制御のタイミングが遅れることとなる。換言すれば、トラブルが発生してから対応するまでの時間が長くなり、効率良くデバイス等を製造することができなくなる。また、場合によっては，不良なデバイスの製造を継続してしまうこととなり、ウエハ等の材料の損失を増加させる可能性が生じる。昨今、半導体デバイスの製造ラインにおいては、３００ｍｍウエハを用いた製造ラインが実現されつつあるが、そのような製造ラインにおいては、不具合が発生した場合の早急な対応が一層求められており、データ転送を適切に効率良く行うことが要望されている。
【０００７】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであって、その目的は、露光装置等のデバイス処理装置からのデータ転送を適切に効率良く行うことにより、不具合等が生じた場合に迅速に対応することが可能なデバイス処理システムを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、デバイス処理装置等からのデータ転送を適切に行い、所望のデータを効率良く収集することのできるデータ収集方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するために、本発明のデバイス処理システムは、１以上の露光装置等のデバイス処理装置（１０）と、前記１以上のデバイス処理装置（１０）において得られたデータに基づいて所望のデータ処理を行うデータ処理装置（６１）と、前記１以上のデバイス処理装置（１０）と前記データ処理装置（６１）との間で前記データの転送を行う通信手段（７１）と、前記通信手段（７１）のトラフィック状況を検出するトラフィック監視手段（２３１）と、前記検出されたトラフィック状況に応じて、前記１以上のデバイス処理装置（１０）と前記データ処理装置（６１）との間のデータの転送形態を制御するデータ転送制御手段（２１０）とを有する。（請求項１）
【０００９】
このようなデバイス処理システムにおいては、通信手段（７１）のトラフィック量をトラフィック監視手段（２３１）により検出し、検出されたトラフィック状況に応じてデバイス処理装置（１０）から、データ処理装置（６１）へのデータの転送形態を制御している。すなわち、データの転送方法（請求項２）や、転送対象のデータの種類（請求項７）を制御している。したがって、通信手段（７１）のトラフィック量が多いことに起因して、デバイス処理装置（１０）からデータ処理装置（６１）へのデータの転送が滞ったり、遅延したりする状況を防ぐことができる。換言すれば、デバイス処理装置（１０）からデータ処理装置（６１）へのデータの転送を適切に行うことができる。
【００１０】
データの転送方法を制御する具体的方法としては、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記複数のデバイス処理装置の各々から前記データ処理装置に順次データを転送するよう前記データの転送方法を制御するのが好適である。（請求項３）
また、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記複数のデバイス処理装置から同時的にデータを転送するよう前記データの転送方法を制御するのが好適である。（請求項４）
【００１１】
また、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、転送対象のデータを所定の単位毎の複数のデータに分割し、当該分割されたデータ毎に転送するように前記データの転送方法を制御するのが好適である。（請求項５）
また、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、転送対象のデータを一括的に転送するように前記データの転送方法を制御するのが好適である。（請求項６）
【００１２】
また、トラフィック状況に応じて転送対象のデータの種類を制御する具体的方法としては、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータに対して、所定の処理を施して特徴的なデータを生成し、当該特徴的なデータを転送対象のデータとして転送するのが好適である。（請求項８）。
また、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータを転送対象のデータとするのが好適である。（請求項９）。
【００１３】
また、本発明に係るデータ収集方法は、１以上のデバイス処理装置（１０）から通信手段（７１）を介してデータを収集する方法であって、前記通信手段（７１）のトラフィック状況を検出し、前記検出されたトラフィック状況に応じた転送形態で、前記１以上のデバイス処理装置（１０）からデータを転送しデータを収集することを特徴とする。
【００１４】
好適には、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記複数のデバイス処理装置の各々から順次データを転送し前記データを収集する。
また好適には、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記複数のデバイス処理装置から同時的にデータを転送し前記データを収集する。
また好適には、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、転送対象のデータを所定の単位毎の複数のデータに分割し、転送対象のデータを前記分割されたデータ毎に転送し前記データを収集する。
また好適には、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、転送対象のデータを一括的に転送し前記データを収集する。
【００１５】
また好適には、前記通信手段のトラフィック量が多い時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータに対して、所定の処理を施して特徴的なデータを生成し、当該特徴的なデータを転送することにより前記データを収集する。
また好適には、前記データ転送制御手段は、前記通信手段のトラフィック量が少ない時は、前記デバイス処理装置において原始的に得られたデータを転送し前記データを収集する。
【００１６】
なお、本欄においては、各構成に対して、添付図面に示されている対応する構成の符号を記載したが、これはあくまでも理解を容易にするためのものであって、何ら本発明に係る手段が添付図面を参照して後述する実施の形態の態様に限定されることを示すものではない。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、デバイス処理装置からのデータ転送を適切に効率良く行うことにより、不具合等が生じた場合に迅速に対応することが可能なデバイス処理システムを提供することができる。
また、デバイス処理装置からのデータ転送を適切に行い、所望のデータを効率良く収集することのできるデータ収集方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の一実施の形態について、図１〜図１０を参照して説明する。
図１は、本発明の一実施の形態の露光装置システム１の構成を示すブロック図である。
図１に示すように、露光装置システム１は、露光装置１０、トラック２０、レーザー３０、インライン計測器（検査装置）４０、オフライン計測器（検査装置）５０、装置支援システム６０及び通信ネットワーク７０を有する。
【００１９】
装置支援システム６０は、サーバー６１、端末装置６２及びリモート端末装置６３を有する。また、通信ネットワーク７０は、第１のネットワーク７１、第２のネットワーク７２及びゲート装置７３を有する。
なお、露光装置システム１は、複数のデバイス製造ラインを有し、露光装置１０、トラック２０、レーザー３０及びインライン計測器４０は、例えば各ラインに対応して複数設けられている。また、オフライン計測器５０は、それらの製造ラインとは別に複数設けられている。
【００２０】
まず、露光装置システム１の各部の構成について順に説明する。
露光装置１０−ｉ（ｉ＝１〜ｎ）（以後、単に露光装置１０と表す）は、レチクル上に形成された所望のパターンの像を感光材料が塗布された基板（ウエハ）上に転写する投影し、ウエハ上にそのパターンを転写する。本実施の形態において露光装置１０は、画像処理によりウエハの所定の基準となるパターンを検出するオフアクシス方式のアライメント光学系を有する露光装置である。
【００２１】
露光装置の全体構成について図２〜図５を参照して説明する。
なお、以下の説明においては、図２中に示したＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係等について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｘ軸及びＺ軸が紙面に対して平行となるよう設定され、Ｙ軸が紙面に対して垂直となる方向に設定される。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。
【００２２】
露光装置１０においては、図２に示すように、図示しない照明光学系から出射された露光光ＥＬは、コンデンサレンズ１０１を介してレチクルＲに形成されたパターン領域ＰＡに均一な照度分布で照射される。露光光ＥＬとしては、例えばｇ線（４３６ｎｍ）やｉ線（３６５ｎｍ）、又は、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）又はＦ２エキシマレーザ（１９３ｎｍ）から出射される光等が用いられる。
【００２３】
レチクルＲはレチクルステージ１０２上に保持され、レチクルステージ１０２はベース１０３上の２次元平面内において移動及び微小回転ができるように支持される。装置全体の動作を制御する主制御系１１５が、ベース１０３上の駆動装置１０４を介してレチクルステージ１０２の動作を制御する。このレチクルＲは、その周辺に形成された図示しないレチクルアライメントマークがミラー１０５、対物レンズ１０６、マーク検出系１０７からなるレチクルアライメント系で検出されることによって、投影レンズＰＬの光軸ＡＸに関して位置決めされる。
【００２４】
レチクルＲのパターン領域ＰＡを透過した露光光ＥＬは、例えば両側（片側でもよい。）テレセントリックな投影レンズＰＬに入射され、ウエハ（基板）Ｗ上の各ショット領域に投影される。投影レンズＰＬは、露光光ＥＬの波長に関して最良に収差補正されており、その波長のもとでレチクルＲとウエハＷとは互いに共役になっている。また、照明光ＥＬは、ケラー照明であり、投影レンズＰＬの瞳ＥＰ内の中心に光源像として結像される。
なお、投影レンズＰＬはレンズ等の光学素子を複数有する。その光学素子の硝材としては露光光ＥＬの波長に応じて石英、蛍石等の光学材料が使用される。
【００２５】
ウエハＷは、ウエハホルダー１０８を介してウエハステージ１０９上に載置される。ウエハホルダー１０８上には、ベースライン計測等で使用する基準マーク１１０が設けられている。ウエハステージ１０９は、投影レンズＰＬの光軸ＡＸに垂直な面内でウエハＷを２次元的に位置決めするＸＹステージ、投影レンズＰＬの光軸ＡＸに平行な方向（Ｚ方向）にウエハＷを位置決めするＺステージ、ウエハＷを微小回転させるステージ、及び、Ｚ軸に対する角度を変化させてＸＹ平面に対するウエハＷの傾きを調整するステージ等を有する。
【００２６】
ウエハステージ１０９の上面の一端にはＬ字型の移動ミラー１１１が取り付けられ、移動ミラー１１１の鏡面に対向した位置にレーザー干渉計１１２が配置される。図２では簡略化して図示しているが、移動鏡１１１はＸ軸に垂直な反射面を有する平面鏡及びＹ軸に垂直な反射面を有する平面鏡より構成される。
また、レーザー干渉計１１２は、Ｘ軸に沿って移動鏡１１１にレーザービームを照射する２個のＸ軸用のレーザー干渉計及びＹ軸に沿って移動鏡１１１にレーザービームを照射するＹ軸用のレーザー干渉計より構成され、Ｘ軸用の１個のレーザー干渉計及びＹ軸用の１個のレーザー干渉計により、ウエハステージ９のＸ座標及びＹ座標が計測される。また、Ｘ軸用の２個のレーザー干渉計の計測値の差により、ウエハステージ１０９のＸＹ平面内における回転角が計測される。
【００２７】
レーザー干渉計１１２により計測されたＸ座標、Ｙ座標及び回転角を示す位置計測信号ＰＤＳは、ステージコントローラ１１３に供給される。ステージコントローラ１１３は、主制御系１１５の制御の下、この位置計測信号ＰＤＳに応じて、駆動系１１４を介してウエハステージ１０９の位置を制御する。
また、位置計測情報ＰＤＳは主制御系１１５へ出力される。主制御系１１５は、供給された位置計測信号ＰＤＳをモニターしつつ、ウエハステージ１０９の位置を制御する制御信号をステージコントローラ１１３へ出力する。
さらに、レーザー干渉系１１２から出力された位置計測信号ＰＤＳは後述するレーザステップアライメント（ＬＳＡ）演算ユニット１２５へ出力される。
【００２８】
また、露光装置１００は、レーザー光源１１６、ビーム整形光学系１１７、ミラー１１８、レンズ系１１９、ミラー１２０、ビームスプリッタ１２１、対物レンズ１２２、ミラー１２３、受光素子１２４、ＬＳＡ演算ユニット１２５及び投影レンズＰＬを構成部材とするＴＴＬ方式のアライメント光学系を有する。
レーザー光源１１６は、例えばＨｅ−Ｎｅレーザー等の光源であり、赤色光（例えば波長６３２.８ｎｍ）であってウエハＷ上に塗布されたフォトレジストに対して非感光性のレーザービームＬＢを出射する。このレーザービームＬＢは、シリンドリカルレンズ等を含むビーム整形光学系１１７を透過し、ミラー１１８、レンズ系１１９、ミラー１２０、ビームスプリッタ１２１を介して対物レンズ１２２に入射する。対物レンズ１２２を透過したレーザービームＬＢは、レチクルＲの下方であってＸＹ平面に対して斜め方向に設けられたミラー１２３で反射され、投影レンズＰＬの視野の周辺に光軸ＡＸと平行に入射され、投影レンズＰＬの瞳ＥＰの中心を通ってウエハＷを垂直に照射する。
【００２９】
レーザービームＬＢは、ビーム整形光学系１１７の働きで対物レンズ１２２と投影レンズＰＬとの間の光路中の空間にスリット状のスポット光ＳＰ０となって集光している。
投影レンズＰＬは、このスポット光ＳＰ０をウエハＷ上にスポットＳＰとして再結像する。
ミラー１２３は、レチクルＲのパターン領域ＰＡの周辺よりも外側で、かつ投影レンズＰＬの視野内にあるように固定される。従って、ウエハＷ上に形成されるスリット状のスポット光ＳＰは、パターン領域ＰＡの投影像の外側に位置する。
【００３０】
このスポット光ＳＰによってウエハＷ上のマークを検出するには、ウエハステージ１０９をＸＹ平面内においてスポット光ＳＰに対して水平移動させる。スポット光ＳＰがマークを相対走査すると、マークからは正反射光、散乱光、回折光等が生じ、マークとスポット光ＳＰの相対位置により光量が変化していく。こうした光情報は、レーザービームＬＢの送光路に沿って逆進し、投影レンズＰＬ、ミラー１２３、対物レンズ１２２及びビームスプリッタ１２１を介して、受光素子１２４に達する。受光素子１２４の受光面は投影レンズＰＬの瞳ＥＰとほぼ共役な瞳像面ＥＰ′に配置され、マークからの正反射光に対して不感領域を持ち、散乱光や回折光のみを受光する。
【００３１】
図３は、瞳ＥＰ（又は瞳像面ＥＰ′）上におけるウエハＷ上のマークからの光情報の分布を示す図である。瞳ＥＰの中心にＸ軸方向にスリット状に伸びた正反射光Ｄ０の上下（Ｙ軸方向）には、それぞれ正の１次回折光＋Ｄ１、２次回折光＋Ｄ２と、負の１次回折光−Ｄ１、２次回折光−Ｄ２が並び、正反射光Ｄ０の左右（Ｘ軸方向）にはマークエッジからの散乱光±Ｄｒが位置する。これは例えば特開昭６１−１２８１０６号公報に詳しく述べられているので詳しい説明は省略するが、回折光±Ｄ１、±Ｄ２はマークが回折格子マークの時にのみ生じる。
【００３２】
図３に示した分布を有するマークからの光情報を受光するために、受光素子１２４は、図４に示すように、瞳像面ＥＰ′内で４つの独立した受光面１２４ａ，１２４ｂ，１２４ｃ，１２４ｄに４分割され、受光面１２４ａ，１２４ｂが散乱光±Ｄｒを受光し、受光面１２４ｃ，１２４ｄが回折光±Ｄ１、±Ｄ２を受光するように配列される。
図４は受光素子１２４の受光面を示す図である。なお、投影レンズＰＬのウエハＷ側の開口数（Ｎ．Ａ．）が大きく、回折格子マークから発生する３次回折光も瞳ＥＰを通過する場合には、受光面１２４ｃ，１２４ｄはその３次回折光も受光するような大きさにするとよい。
【００３３】
受光素子１２４からの各光電信号はレーザー干渉計１１２から出力される位置計測信号ＰＤＳとともに、ＬＳＡ演算ユニット１２５に入力され、マーク位置の情報ＡＰ１が作られる。ＬＳＡ演算ユニット１２５は、スポット光ＳＰに対してウエハマークを走査した時の受光素子１２４からの光電信号波形を位置計測信号ＰＤＳに基づいてサンプリングして記憶し、その波形を解析することによってマークの中心がスポット光ＳＰの中心と一致した時のウエハステージ１０９の座標位置として、マーク位置の情報ＡＰ１を出力する。
【００３４】
なお、図２に示した露光装置においては、ＴＴＬ方式のアライメント系（１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２１，１２２，１２３及び１２４）は、１組しか示していないが、紙面と直交する方向（Ｙ軸方向）にもう１組が設けられ、同様のスポット光が投影像面内に形成される。これら２つのスポット光の長手方向の延長線は光軸ＡＸに向かっている。
また、図２中のＴＴＬ方式のアライメント光学系の光路中に示した実線は、ウエハＷとの結像関係を表し、破線は瞳ＥＰとの共役関係を表す。
【００３５】
また、露光装置１０は、オフ・アクシス方式のアライメント光学系（以下、アライメントセンサと称する）を投影光学系ＰＬの側方に備える。このアラメントセンサは、基板表面のアライメントマーク付近を撮像した信号（ｎ次元信号）を信号処理（画像処理を含む）して、マークの位置情報を検出するＦＩＡ（Field Image Alignment）方式のアライメントセンサである。
【００３６】
露光装置１００においては、このアライメントセンサにより、サーチアライメント計測やファインアライメント計測を行う。
サーチアライメント計測（以降では、単に「サーチアライメント」と称する場合もある）は、ウエハ上に形成されている複数個のサーチアライメント用のマークを検出し、ウエハのウエハホルダーに対する回転量やＸＹ面内での位置ずれを検出する処理である。本実施の形態においてサーチアライメントの信号処理方法としては、予め設定した基準パターン（テンプレート）を用いて、そのテンプレートに対応する所定のパターンを検出する手法（テンプレートマッチング手法）を用いる。
【００３７】
また、ファインアライメント計測（以降では、単に「ファインアライメント」と称する場合もある）は、ショット領域に対応して形成されているファインアライメント用のアライメントマークを検出し、最終的に各露光ショットの位置決めを行うための処理である。本実施の形態においてファインアライメントの画像処理方法としては、マークのエッジを抽出してその位置を検出する手法（エッジ計測手法）を用いる。
なお、サーチアライメント及びファインアライメントのいずれにおいても、その画像処理方法は本実施の形態の手法に限られるものではなく、各々、テンプレートマッチング手法でもエッジ計測手法でも、あるいはまたその他の画像処理方法であってもよい。
上記サーチアライメント計測時の観察倍率とファインアライメント計測時の観察倍率とは、互いに等しい観察倍率としてもよいし、あるいは、ファインアライメント時の倍率をサーチアライメント時の倍率よりも高倍に設定するようにしてもよい。
【００３８】
このアライメントセンサは、ウエハＷを照明するための照射光を出射するハロゲンランプ１２６、ハロゲンランプ１２６から出射された照明光を光ファイバー１２８の一端に集光するコンデンサレンズ１２７、及び、照明光を導波する光ファイバー１２８を有する。
照明光の光源としてハロゲンランプ１２６を用いるのは、ハロゲンランプ１２６から出射される照明光の波長域は５００〜８００ｎｍであり、ウエハＷ上面に塗布されたフォトレジストを感光しない波長域であるため、及び、波長帯域が広く、ウエハＷ表面における反射率の波長特性の影響を軽減することができるためである。
【００３９】
光ファイバー１２８から出射された照明光は、ウエハＷ上に塗布されたフォトレジストの感光波長（短波長）域と赤外波長域とをカットするフィルタ１２９を通過して、レンズ系１３０を介してハーフミラー１３１に達する。ハーフミラー１３１によって反射された照明光は、ミラー１３２によってＸ軸方向とほぼ平行に反射された後、対物レンズ１３３に入射し、さらに投影レンズＰＬの鏡筒下部の周辺に投影レンズＰＬの視野を遮光しないように固定されたプリズム（ミラー）３４で反射されてウエハＷを垂直に照射する。
【００４０】
なお、図示を省略しているが、光ファイバー２８の出射端から対物レンズ１３３までの光路中には、適当な照明視野絞りが対物レンズ１３３に関してウエハＷと共役な位置に設けられる。また、対物レンズ１３３はテレセントリック系に設定され、その開口絞り（瞳と同じ）の面１３３ａには、光ファイバー１２８の出射端の像が形成され、ケーラー照明が行われる。対物レンズ１３３の光軸は、ウエハＷ上では垂直となるように定められ、マーク検出時に光軸の倒れによるマーク位置のずれが生じないようになっている。
【００４１】
ウエハＷからの反射光は、プリズム１３４、対物レンズ１３３、ミラー１３２、ハーフミラー１３１を介して、レンズ系１３５によって指標板１３６上に結像される。この指標板１３６は、対物レンズ１３３とレンズ系１３５とによってウエハＷと共役に配置され、図５に示すように矩形の透明窓内に、Ｘ軸方向とＹ軸方向のそれぞれに伸びた直線状の指標マーク１３６ａ，１３６ｂ，１３６ｃ，１３６ｄを有する。
図５は、指標板１３６の断面図である。
従って、ウエハＷのマークの像は、指標板１３６の透明窓１３６ｅ内に結像され、このウエハＷのマークの像と指標マーク１３６ａ，１３６ｂ，１３６ｃ，１３６ｄとは、リレー系１３７，１３９及びミラー１３８を介してイメージセンサ１４０に結像する。
【００４２】
イメージセンサ１４０（光電変換手段、光電変換素子）は、その撮像面に入射する像を光電信号（画像信号、画像データ、データ、信号）に変換するものであり、例えば２次元ＣＣＤが用いられる。イメージセンサ１４０から出力された信号（ｎ次元信号）は、ＦＩＡ演算ユニット１４１に、レーザー干渉計１１２からの位置計測信号ＰＤＳとともに入力される。
【００４３】
なお、本実施の形態では、イメージセンサ１４０において２次元画像信号を得て、これをＦＩＡ演算ユニット１４１に入力し使用する。また、サーチアライメント処理の時に行うテンプレートマッチングの際には、２次元ＣＣＤで得た信号を非計測方向に積算（投影）して１次元投影信号として、計測方向への計測に使用する。
しかしながら、イメージセンサ１４０で得る信号やその後段の信号処理の際に処理対象とする信号の形式は、本実施の形態のこのような例に限られるものではない。テンプレートマッチングの際に、２次元画像処理を行うように構成して２次元信号を計測に用いるようにしてもよい。また、３次元画像信号を得て、３次元画像処理を行うように構成してもよい。さらに言えば、ＣＣＤの信号をｎ次元（ｎは、ｎ≧１の整数）に展開して、例えば、ｎ次元の余弦成分信号、ｎ次元正弦信号、あるいはｎ次周波数信号等を生成し、そのｎ次元信号を用いて位置計測を行うものに対しても本発明は適用可能である。
なお、本明細書の説明において画像、画像信号、画像情報、パターン信号等と称する時も同様に、２次元の画像のみならず、このようなｎ次元信号（ｎ次元の画像信号や、上述のごとく画像信号から展開された信号等）をも含むものとする。
【００４４】
ＦＩＡ演算ユニット１４１は、入力された画像信号からアライメントマークを検出し、そのアライメントマークの指標マーク１３６ａ〜１３６ｄに対するマーク像のずれを求める。そして、位置計測信号ＰＤＳによって表されるウエハステージ１０９の停止位置から、ウエハＷに形成されたマークの像が指標マーク１３６ａ〜１３６ｄの中心に正確に位置した時のウエハステージ１０９のマーク中心検出位置に関する情報ＡＰ２を出力する。
【００４５】
次に、本発明に係るＦＩＡ演算ユニット１４１は、サーチアライメント及びファインアライメントの各アライメント処理時に、各々、所定のアライメントマーク像の位置検出及びそのずれの検出を行う。本実施の形態においては、サーチアライメントの時にはテンプレートマッチング手法を利用し、また、ファインアライメントの時にはエッジ検出処理手法を利用して、マークの位置検出及びずれの検出を行う。
【００４６】
これら露光装置１０の各構成部は、主制御系１１５の制御に基づいて協働して動作する。主制御系１１５は、そのように、露光装置１０の各部を制御する。
また、主制御系１１５は、通信ネットワーク７０を介して後述する装置支援システム６０のサーバー６１と通信を行う。そして、運転履歴データ、プロセスプログラム（プロセス条件データ。レシピと言う場合もある）、装置セットアップ状態データや、前述した各部での計測データ、すなわち、アライメント計測データや、マーク信号波形のトレースデータ等を、サーバー６１に送信する。
また、主制御系は、前述したデータに基づいて装置支援システム６０のサーバー６１で得られた制御情報に基づいて、動作条件が制御されたり、あるいは、動作を停止されたり、中断されたりする。
以上、露光装置１０の概略の構成である。
【００４７】
トラック２０は、各ラインにおいてウエハを順次搬送する搬送系である。トラック２０は、例えば露光装置システム１中の図示しないトラックサーバーにより制御される。
また、レーザー３０は、各ラインの露光装置１０に露光光を提供する光源である。
インライン計測器４０は、露光装置１０、トラック２０あるいはレーザー３０等の装置何に組み込まれたセンサであり、例えば装置雰囲気の温度、湿度、気圧等の情報を計測するセンサである。インライン計測器４０で計測されたデータは、後述する本発明に係るデータ転送方式に基づいて、装置支援システム６０のサーバー６１に出力される。
オフライン計測器５０は、デバイスの製造ラインに直接は組み込まれていない計測ツールであり、例えば重ね合わせ計測装置や、線幅測定装置等である。
【００４８】
装置支援システム６０は、露光装置１０、トラック２０、レーザー３０，インライン計測器４０及びオフライン計測器５０等の各種装置からネットワーク７０を介して種々のデータを収集し、これに基づいて露光装置システム１の各製造ラインのプロセスを制御する。
そのために装置支援システム６０のサーバー６１は、まず、露光装置１０、トラック２０、レーザー３０、インライン計測器４０及びオフライン計測器５０等の各装置よりデータを収集し、これをデータベースに保存し管理する。そして、その保存したデータを用いて、装置やラインの稼動状態の解析や診断等を行う。また、その結果に基づいて、各装置の自動補正制御、レポート作成・通知等の処理を行う。
【００４９】
装置支援システム６０のサーバー６１には、ソフトウエアあるいはハードウエアにより、例えば図６に示すような機能モジュールが展開されており、これにより後述する種々の装置支援動作が実行される。
【００５０】
サーバー６１のデータ収集部２１０は、露光装置１０からデータを収集する露光装置データ取得部２１１、トラック２０からデータを収集するトラックデータ取得部２１２、レーザー３０からデータを収集するレーザーデータ取得部２１３、インライン計測器４０からデータを収集するインライン計測器データ取得部２１４、オフライン計測器５０からデータを収集するオフライン計測器データ取得部２１５を有する。
これらのデータ取得部２１１〜２１５により、前述した露光装置１０を初めとする露光装置システム１の各装置より、通信ネットワーク７０を介して、イベントログファイル、シーケンスログファイル、エラーログファイル、稼動履歴ログファイル、計測結果ファイル、パラメータ設定ファイル、診断結果ファイル、アライメント等の各種信号波形ファイル、及び、その他各種トレースデータやログファイル等を収集する。
【００５１】
露光工程ＤＢ２２０は、データ収集部２１０において収集したデータを蓄積するデータベースである。露光工程ＤＢ２２０に蓄積されたデータは、適宜、後述するアプリケーション２５０により使用され、露光装置の支援処理に供される。また、後述する端末装置６２及びリモート端末装置６３からもアクセスされる。一般的に露光装置１０は他のプロセス装置に比較して発生するデータ量が膨大であるため、露光工程ＤＢ２２０により効率良くデータを管理することが重要である。
【００５２】
共通ソフトツール２３０は、サーバー６１が所望の動作をする際に共通的に使用されるツールである。例えば、データ収集部２１０において収集したデータあるいは露光工程ＤＢ２２０に蓄積されているデータへのアクセスや解析、通信ネットワークを介したリモート接続等の機能が、この共通ツールとして提供される。
また、共通ソフトツール２３０は、本発明に係るツールとして、通信ネットワーク７０を転送されるデータの量、すなわち、通信ネットワーク７０のトラフィック量を監視するトラフィック監視部２３１を有する。トラフィック監視部２３１で検出されたトラフィック量は、データ収集部２１０等により参照され、収集するデータの転送方法、転送形態の決定に供される。
【００５３】
インターフェイス２４０は、サーバー６１が、他の装置との通信や作業者とのデータや命令の入出力を行うためのインターフェイスである。
具体的には、インターフェイス２４０は、サーバー６１が通信ネットワーク７０を介して露光装置１０等の他の装置に接続されてデータの転送を行う通信環境を提供する。また、通信ネットワーク７０を介して接続された端末装置６２からアクセス可能にするリモートネットワーク接続環境を提供する。また、作業者からの命令やデータの入出力を好適な形態で行うヒューマンインターフェイス環境を提供する。
【００５４】
アプリケーション２５０は、露光装置システム１において実際にサーバー６１が露光装置１０等の装置支援を行うための機能を実現するプログラムである。
図示のごとく、本実施形態のサーバー６１には、装置・プロセス解析機能２５１、レポート・通知機能２５２、ｅ−ｍａｉｌ診断機能２５３、自動診断機能２５４、ＰＰ管理機能２５５、自動補正制御機能２５６を各々実現するアプリケーションが具備されている。
【００５５】
装置・プロセス解析機能２５１は、露光工程ＤＢ２２０に蓄積されているデータを解析し、解析結果を例えばグラフ等の形態で出力する。
具体的には、装置・プロセス解析機能２５１は、例えば、装置のユニット毎のエラー件数を集計し、図７に示すようなエラー集計グラフを出力する。
図７に示すエラー集計グラフは、所定の期間における露光装置１０毎のエラー発生件数をエラーの種類毎（エラー発生のユニット毎）に表示するグラフである。このグラフを見れば、どの露光装置のどのユニットに問題が存在するかを一見して把握することができる。すなわち、エラーの装置やレシピ（プレセス・プログラム）への依存性を解析することができ、トラブル対応時間を短縮することができる。
【００５６】
また、装置・プロセス解析機能２５１は、例えば、処理工程毎の処理時間を集計し、図８に示すような生産性グラフを出力する。
図８に示す生産性グラフは、ロット内の各ウエハに対する、ウエハ交換時間、アライメント時間及び露光時間を示すグラフである。このようなグラフを見れば、上は交換時間が長いウエハが時々存在しており、ウエハ搬送に無駄が発生していることがわかる。すなわち、このようなグラフより、装置の利用状況を把握することができ、生産性効率を高める方策を検討することができる。
【００５７】
また、装置・プロセス解析機能２５１は、例えば、レンズ室の目標気圧と実際の気圧とを集計することにより、図９に示すような気圧の制御状態を示すグラフを出力する。
図９は、２つのレンズ室（Ａ室及びＢ室）の目標気圧と計測した実際の気圧とを重ねてプロットしたものであり、このグラフを見れば、Ａ室、Ｂ室ともに目標気圧によく追従していることがわかる。そして、このようなグラフにより、露光装置１０の環境を把握することができる。すなわち、装置性能と環境変動の相関を求め、プロセス異常の原因調査の時間の短縮及び装置調整の頻度の最適化を行うことができる。
【００５８】
装置・プロセス解析機能２５１がこのように動作することにより、データの整理や解析を行う場合におけるグラフ作成の負荷が軽減される。そして、解析効率が向上し、ダウンタイムを短縮化することができる。
【００５９】
レポート・通知機能２５２は、露光装置システム１の各装置の稼動状態を示すレポートを自動的に生成し、通知する機能である。レポート・通知機能２５２は、例えば月、週あるいは日等を単位として、レポートを自動的に生成して予め設定された所定の出力先に出力する。レポート内容は、例えばＭＴＢＦ、ＭＴＢＩあるいは障害発生要因別ヒストグラム等の、装置の適切な運転状態を維持するための管理データである。
【００６０】
ｅ−ｍａｉｌ診断機能２５３は、後述する自動診断機能２５４の出力内容等を遠隔地のリモート端末装置６３に通信ネットワークを介して送信する機能である。これにより、リモート端末装置６３での露光装置システム１の各装置の性能監視、不具合や故障の把握、故障部位の判断等が可能となる。その結果、遠隔地からの露光装置１０等の診断や調整が可能となる。また、定常的に運転履歴やログデータを監視することにより、装置の予防保守も可能となる。
【００６１】
自動診断機能２５４は、各種装置から送られてくるデータを解析し、装置の稼動状況の異常を自動的に検出する機能である。
本実施の形態の自動診断機能２５４は、例えばエラー件数診断、メンテナンスデータ診断、あるいはプロダクションデータ診断というような自動診断を行う。
エラー件数診断は、露光装置１０のステージ、ローダー、アライメント等におけるエラーの発生件数から、装置トラブルと不良プロセスを発見するものである。
メンテナンスデータ診断は、露光装置１０のステージ、結像系、照明系、アライメント、ＡＦ等の各種計測結果の変化を監視することにより、メンテナンス頻度の最適化、及び、消耗品交換時期の最適化を行うものである。
また、プロダクションデータ診断は、アライメント計測結果、フォーカス制御データ等を監視することにより、プロセス異常の早期発見と不良品生産の予防を行うものである。
このような自動診断機能２５４により、ダウンタイムの短縮と生産中の異常を早期に、あるいは適切なタイミングで検出することができ、リワークウエハの削減を行うことができる。
【００６２】
レシピ（ＰＰ）管理機能２５５は、露光装置１０等のプロセス装置における実際の処理条件を記載したレシピを管理する機能である。
露光装置システム１においては、露光装置１０に適用するレシピをサーバー６１において集中管理しており、サーバー６１から各露光装置１０にダウンロードあるいはアップロードできるようになっている。また、そのために、ＰＰ管理機能２５５は、作業者がサーバー６１上においてレシピを作成することができる環境を提供する。すなわち、ＰＰ管理機能２５５は、作業者が通信ネットワーク７０を介してオフィスのＰＣ等からサーバー６１にアクセスし、レシピの作成、編集を行うことができる環境、ツール等を提供する（デスクトップ・レシピ編集機能）。
また、ＰＰ管理機能２５５は、レシピを最適化するための環境を提供する。通常、作業者は、例えば前述した装置・プロセス解析機能２５１や自動診断機能２５４による解析結果や診断結果に基づいて、レシピを編集し最適化を行う。しかし、レシピを編集する際には、それ以外に処理条件の妥当性をチェックしたい場合がある。そのような条件の妥当性のチェックのためのシミューレション環境を、ＰＰ管理機能２５５は作業者に提供する。より具体的には、ＰＰ管理機能２５５は、設定したレシピに基づく露光処理のシミュレーション環境を提供し、これにより、例えば重ね合わせ、結像及びスループットの評価が行えるようになっている。
【００６３】
自動補正制御機能２５６は、各種装置から送られてくるデータに基づいて、フィッドバック又はフィードフォワード補正制御を行い、装置の機能及び動作を安定化させる機能である。
本実施の形態の自動補正制御機能２５６は、大別すると、環境や装置状態の変化に対する補正制御と、プロセスに対する補正制御との２つの補正制御を行う。
【００６４】
環境や装置状態の変化に対する補正制御は、温度、気圧あるいは湿度等の環境の変動や、露光装置、トラックあるいはレーザー等の装置の状態の変化に対して補正制御を行うことにより装置性能の安定化を図るものである。
具体的には、例えば次のような各制御を行う。
まず、気圧、温度及び湿度の変化データから、露光装置１０のフォーカス面を予測制御し、面安定性の向上を図る（長期フォーカス安定化）。
また、レーザー、気圧、温度及び湿度の変化データから、最適路光量を予測制御し、ウエハ間のＣＤ安定性の向上を図る（ウエハ間ΔＣＤ安定化）。
また、ＰＥＢ温度の不均一に起因するウエハ内の付近に打つをショット毎の路光量を微調整（補正）し、ウエハ内ΔＣＤの安定性の向上を図る（ウエハ内ΔＣＤ安定化）。
また、ローダーとトラックのインターフェイスの温度変化を計測し、露光時のウエハ伸縮量を予測し、アライメント補正をかけ、重ね精度の向上を図る（ウエハ間重ね安定化）
【００６５】
プロセスに対する補正制御は、プロセスに起因する変動や、露光装置、トラック、レーザー等の装置の運用時の組み合わせによる変動を予測し、これに基づいて種々の動作条件等を補正制御することにより、装置性能の安定化を図るものである。、
具体的には、次のような制御を行う。
例えば、ＳＤＭ（ディストーションマッチング）、ＧＣＭ（グリッドマッチング）の補正パラメータの最適化を行い、重ね合わせ精度の向上を図る（号機間マッチング重ね合わせ精度向上）。
また、各プロセスレシピ（プレセスプログラム）による実スループットの算出、及び、露光装置−トラック間での実スループットの算出を行い、スループット低下ユニットの特定とその対策の支援を行う（スループットシミュレータによる生産性向上）。
また、プロセス毎にアライメント計測アルゴリズムの自動選択を行い、重ね合わせ精度の向上を図る（アライメント計測アルゴリズム自動計測）。
また、マスクパターンに最適化されたレンズ周さ補正制御を行う（レンズ収差補正制御）。
【００６６】
なお、これらのアプリケーションレベルの機能の操作画面は、ウェブブラウザで構築されており、リモート／ローカルの区別無く、全ての機能がどこからでも利用できるようになっている。
【００６７】
装置支援システム６０の端末装置６２は、例えば工場内において作業者がサーバー６１にアクセスするための端末装置である。端末装置６２は、通信ネットワーク７０の第１のネットワーク７１に接続されており、第１のネットワーク７１を介してサーバー６１と接続される。
【００６８】
装置支援システム６０のリモート端末装置６３は、例えば工場外のオフィスや、あるいは露光装置１０のベンダーから、関係者がサーバー６１にアクセスするための端末装置である。リモート端末装置６３は、第２のネットワーク７２、ゲート装置７３及び第１のネットワーク７１を介し、また、サーバー６１のインターフェイス２４０の機能を用いてサーバー６１に接続される。
以上が、装置支援システム６０の構成である。
【００６９】
通信ネットワーク７０は、露光装置システム１の各装置を接続するためのネットワークである。通信ネットワーク７０の第１のネットワーク７１は、例えば工場内の通信ネットワークであって、装置支援システム６０のサーバー６１及び端末装置６２、露光装置１０、トラック２０、レーザー３０、インライン計測器４０及びオフライン計測器５０等を接続する。また、通信ネットワーク７０の第２のネットワーク７２は、例えば工場外の通信ネットワークや、露光装置１０のベンダーが管理するネットワーク等である。図示のごとく、第２のネットワーク７２と第１のネットワーク７１とは、例えばファイアーウォール機能を有するゲート装置７３により接続される。
【００７０】
次に、このような構成の露光装置システム１における、データ転送形態について、すなわち、特に装置支援システム６０のサーバー６１と複数の露光装置１０との間のデータ転送形態について説明する。
露光装置システム１においては、図６に示すようにサーバー６１にトラフィック監視部２３１を配置しており、これによりサーバー６１と複数の露光装置１０とを接続する第１のネットワーク７１のトラフィック量を検出している。そして、そのトラフィックの量に応じて、露光装置１０とサーバー６１との間のデータ転送の形態を行うようにしている。
具体的には、例えば、第１のネットワーク７１が十分に空いていると判断された時には、サーバー６１は、複数の露光装置１０より同時的（一括的）にデータを収集する。
また、第１のネットワーク７１がある程度空いている時には、各露光装置１０より順次データの転送を受ける。
また、第１のネットワーク７１がある程度混雑している時には、各露光装置１０の転送対象のデータをさらに細かいデータ量の単位に分割して、順次転送するようにする。
また、第１のネットワーク７１が混雑しており、元のデータ量のままでは転送が不可能と判断された時には、転送対象のデータを加工して、データ量を削減して転送するようにする。
【００７１】
なお、データ量削減のためのデータの加工処理としては，複数のデータに対して、平均、標準偏差、最大値、最小値、最大最小幅、和、二乗和、二乗和の平均、二乗和の平方根等を求める処理を含む。
また、第１のネットワーク７１のトラフィック量の検出は、第１のネットワーク７１におけるデータの衝突の発生回数に基づいて行うのが好適である。
【００７２】
前述した露光装置システム１におけるデータ転送の方法を、より具体的にフローチャートに示すと、図１０のようになる。
まず、データ転送（データの収集）を行う際には、転送データがあるか否かをチェックし（ステップＳ１００）、転送データがある場合にはトラフィック監視部２３１において第１のネットワーク７１のトラフィック量を検出する。
そして、トラフィック量が多い、すなわち第１のネットワーク７１が混雑していると判断された場合には（ステップＳ１２０）、データを加工して転送するか否かのチェックを行う（ステップＳ１３０）。このデータの加工を行うか否かは、予め動作条件として設定しておいてもよいし、トラフィック量に応じて判断するようにしておいてもよい。
【００７３】
データ加工を行うこととなった場合には（ステップＳ１３０）、実際にデータ量削減のためデータ加工を実施し（ステップＳ１４０）、その上で、順次各装置からデータを取得する（ステップＳ１５０）。
そして、全ての装置から全ての転送対象のデータを収集したら（ステップＳ１６０）、処理を終了する。
なお、ステップＳ１３０においてデータ加工を行わないこととなった場合には、データ加工を行うステップＳ１４０の処理をスキップした後、ステップＳ１５０において実際に各装置からデータを取得する。
【００７４】
一方、ステップＳ１２０のトラフィック量の検出の結果、トラフィック量があまり多くない、すなわち混雑していないと判断された場合は、この場合もデータを加工して転送するか否かのチェックを行う（ステップＳ１７０）。そして、データ加工を行うこととなった場合には、実際にデータ加工を実施する（ステップＳ１８０）。この場合も、データの加工を行うか否かは、予め動作条件として設定しておいてもよいし、トラフィック量に応じて判断するようにしておいてもよい。
そして、データ加工を行った場合も行わなかった場合も、複数の装置から一括的、同時的にデータをサーバー６１に転送し（ステップＳ１９０）、処理を終了する。
【００７５】
なお、これらの各ステップの処理は、露光装置システム１上の任意の装置上でダイナミックに行えばよい。すなわち、各ステップの処理は、サーバー６１側で行っても、各露光装置１０で行っても、それらの複数の装置上にまたがって形成された処理オブジェクトにより実行されてもよい。
【００７６】
次に、このような構成の露光装置システム１の動作、すなわち、このような露光装置システム１を実際に運用した場合の処理の流れについて簡単に説明する。
まず、露光装置１０において計測されたデータを、サーバー６１のデータ収集部２１０の機能により、各露光装置１０からサーバー６１に転送する。この時は、トラフィック監視部２３１により第１のネットワーク７１のトラフィック量を検出し、前述したようなトラフィック量に適合した形態でデータの転送を行う。
【００７７】
データを収集したら、サーバー６１の例えば装置・プロセス解析機能２５１や自動診断機能２５４により解析や自動診断を行う。
次に、得られた解析や自動診断の結果を、ｅ−ｍａｉｌ診断機能２５３によりオフィス等にいる作業者の端末装置６２に転送する。
作業者は、転送された結果を確認するとともに、必要に応じてサーバー６１にアクセスし、サーバー６１のレポート・通知機能２５１やレポート・通知機能２５２の機能により例えばグラフ化された形態でデータを閲覧し、状況を把握する。
そして、その結果に基づいて、作業者は露光装置１０のパラメータ調整、ユニット調整、部品交換等の対応をとる。
【００７８】
このように露光装置システム１を運用することにより、露光装置１０における処理結果のデータを迅速にサーバー６１に吸い上げ、直ちにそのデータの解析を行い、装置や製造物の評価を行い、対応をとることができる。したがって、トラブル発生から対応までの時間を短縮することができ、デバイス等の効率的な生産が可能となる。
【００７９】
なお、本実施の形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって本発明を何ら限定するものではない。本実施の形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含み、また任意好適な種々の改変が可能である。
【００８０】
例えば、露光システムの全体構成は、図１に示した構成に限られるものではない。
例えば、本実施の形態においては、露光装置１０からサーバー６１へのデータの転送を効率良く行う形態を例示したが、デバイス処理装置は露光装置に限られるものではない。本実施の形態にも記載してある、トラック２０，レーザー３０、インライン計測器４０及びオフライン計測器５０からサーバー６１へのデータの転送についても、同様に適用可能である。
また、そもそもリソグラフィラインに限られるものではなく、他の任意のプロセス装置に対しても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態の露光装置システムの構成を示す図である。
【図２】図２は、図１に示した露光装置システムの露光装置の構成を示す図である。
【図３】図３は、図２に示した露光装置のＴＴＬ方式アライメント系の瞳像面上におけるウエハ上のマークからの光情報の分布を示す図である。
【図４】図４は、図２に示した露光装置のＴＴＬ方式アライメント系の受光素子の受光面を示す図である。
【図５】図５は、図１に示した露光装置のオフ・アクシス方式のアライメント光学系の指票板の断面図である。
【図６】図６は、図１に示した露光装置システムのサーバーの機能構成を示す図である。
【図７】図７は、図６に示したサーバーの機能の装置・プロセス解析機能によるエラー集計グラフを示す図である。
【図８】図８は、図６に示したサーバーの機能の装置・プロセス解析機能による生産性グラフを示す図である。
【図９】図９は、図６に示したサーバーの機能の装置・プロセス解析機能による装置環境グラフを示す図である。
【図１０】図１０は、図１に示した露光装置システムにおける露光装置とサーバーとの間のデータ転送手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００８２】
１…露光装置システム
１０…露光装置
１０１…コンデンサレンズ              １０２…レチクルステージ
１０３…ベース                        １０４…駆動装置
１０５…ミラー                        １０６…対物レンズ
１０７…マーク検出系                  １０８…ウエハホルダー
１０９…ウエハステージ                １１０…基準マーク
１１１…移動ミラー                    １１２…レーザー干渉計
１１３…ステージコントローラ          １１４…駆動系
１１５…主制御系                      １１６…レーザー光源
１１７…ビーム整形光学系              １１８，１２０，１２３…ミラー
１１９…レンズ系                      １２１…ビームスプリッタ
１２２…対物レンズ                    １２４…受光素子
１２５…ＬＳＡ演算ユニット            １２６…ハロゲンランプ
１２７…コンデンサレンズ              １２８…光ファイバー
１２９…フィルタ                      １３０，１３５…レンズ系
１３１…ハーフミラー                  １３２，１３８…ミラー
１３３…対物レンズ                    １３４…プリズム（ミラー）
１３６…指票マーク                    １３７，１３９…リレー系
１４０…イメージセンサ
１４１…ＦＩＡ演算ユニット
２０…トラック
３０…レーザー
４０…インライン計測器
５０…オフライン計測器
６０…装置支援システム
６１…サーバー
２１０…データ収集部
２１１…露光装置データ取得部      ２１２…トラックデータ取得部
２１３…レーザーデータ取得部      ２１４…インライン計測器データ取得部
２１５…オフライン計測器データ取得部
２２０…露光工程ＤＢ
２３０…共通ソフトツール
２３１…トラフィック監視部
２４０…インターフェイス
２４１…通信部
２５０…アプリケーション
２５１…装置・プロセス解析機能    ２５２…レポート・通知機能
２５３…ｅ−ｍａｉｌ診断機能      ２５４…自動診断機能
２５５…ＰＰ管理機能              ２５６…自動補正制御機能
６２…端末装置
６３…リモート端末装置
７０…通信ネットワーク
７１…第１のネットワーク
７２…第２のネットワーク
７３…ゲート装置
【図１】
2005175282.tif 000003
【図２】
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【図３】
2005175282.tif 000005
【図４】
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【図５】
2005175282.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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