(57)【要約】【課題】簡単な構成で試料の温度を一定に保つことができるものを提供すること。【解決手段】真空に保たれる試料室と、この試料室内に置かれ、かつ調温部材を備えるベースと、このベース上に置かれ、かつ一方向に行き来する移動自在なるＸテーブルと、このＸテーブル上に置かれ、かつＸテーブルの移動方向と交わる方向に行き来するところの移動自在なるＹテーブルと、このＹテーブルおよびＸテーブルを移動させる駆動源と、この駆動源の作動を制御するステージ制御部とを有し、Ｙテーブルに載置される試料に電子線を照射して回路パターンを描画する電子線描画装置において、試料とＹテーブルとの間に位置するように温度センサを設け、電子線の照射が行われていない非描画の間に、温度センサが検知する検知温度値と標温度値との温度差に応じた移動量でＹテーブルまたはＸテーブルの少なくとも一方を移動させるようにステージ制御部でフィードバック制御することを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空に保たれる試料室と、この試料室内に置かれ、かつ調温部材を備えるベースと、このベース上に置かれ、かつ一方向に行き来する移動自在なるＸテーブルと、このＸテーブル上に置かれ、かつＸテーブルの移動方向と交わる方向に行き来するところの移動自在なるＹテーブルと、このＹテーブルおよび前記Ｘテーブルを移動させる駆動源と、この駆動源の作動を制御するステージ制御部とを有し、前記Ｙテーブルに載置される試料に電子線を照射して回路パターンを描画する電子線描画装置において、
前記試料と前記Ｙテーブルとの間に位置するように温度センサを設け、
電子線の照射が行われていない非描画の間に、前記温度センサが検知する検知温度値と目標温度値との温度差に応じた移動量でＹテーブルまたは前記Ｘテーブルの少なくとも一方を移動させるように前記ステージ制御部でフィードバック制御することを特徴とする電子線描画装置。
【請求項２】
請求項１記載の電子線描画装置において、
前記温度差に応じた移動量は、移動速度または移動時間等を含むことを特徴とする電子線描画装置。
【請求項３】
真空に保たれる試料室と、この試料室内に置かれ、かつ調温部材を備えるベースと、このベース上に置かれ、かつ一方向に行き来する移動自在なるＸテーブルと、このＸテーブル上に置かれ、かつＸテーブルの移動方向と交わる方向に行き来するところの移動自在なるＹテーブルと、このＹテーブルおよび前記Ｘテーブルを移動させる駆動源と、この駆動源の作動を制御するステージ制御部とを有し、前記Ｙテーブルに載置される試料に電子線を照射して回路パターンを描画する電子線描画装置において、
描画時間以外にＹテーブルまたは前記Ｘテーブルの少なくとも一方を移動させて温度の低下を抑える温度調整のルーチンを備えたことを特徴とする電子線描画装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３の何れか一つに記載された電子線描画装置において、
前記試料室に前記試料を搬送する搬送経路を備え、
前記搬送経路に前記試料の温調が可能な温調部を設けたことを特徴とする電子線描画装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４の何れか一つに記載された電子線描画装置において、
前記Ｙテーブルおよび前記Ｙテーブルの移動手段は回転自在なるコロまたは摺動自在なる摺動部材を含むことを特徴とする電子線描画装置。
【請求項６】
請求項１または請求項２記載の電子線描画装置において、
前記調温部材の設定温度は、前記目標温度値よりも低いことを特徴とする電子線描画装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子線描画装置のステージ恒温化に関し、さらに具体的には回路パターンが描画される試料の温度を一定に保つようにするものである。
【０００２】
【従来の技術】
磁気ヘッドや半導体装置の回路パターン、半導体装置に回路パターンを形成するマスク、レチクルなどの回路パターンを製造する装置において、これら試料に荷電粒子線を照射して回路パターンを製造または検査することが行われている。このとき、荷電粒子線、なかでも電子線は、真空中で使用されることが必須である。
【０００３】
以下、電子線を用いて試料に回路パターンを描画する電子線描画装置について説明する。
【０００４】
電子線描画装置は、超高真空の環境において電子線を発生し、走査することで半導体基盤上、或いはステッパ等の露光装置に用いられるレチクルと呼ばれるガラス基盤上にＬＳＩパターンを形成する装置である。
【０００５】
図５、及び図６を参照しつつ、従来の電子線描画装置の構成について説明する。
【０００６】
カラム排気用真空ポンプ５０により、真空排気されるカラム１内で発せられた電子線（以下電子ビームとも呼ぶ）は、試料室２内のステージ３に載置される試料１０に照射される。試料の位置はステージ３上のバーミラー１２をレーザ測長することで管理される。レーザは大気中では、空気の揺らぎ及び気圧の変化に影響を受けやすい為、真空中に干渉計１１を配置している。試料室２は定盤４上に載置され、定盤４は振動絶縁の機能を有するマウント５により支持される。
【０００７】
更に、マウント５を保持する本体ベース６は、床７に設置されている。また、試料室２は試料室用真空ポンプ５１により真空排気され、内部の雰囲気を高真空（例えば１０−４Ｐａ台）に保っている。
【０００８】
ここで、試料の搬送経路について説明する。
【０００９】
始めに予備排気室８（搬送経路に含まれる）のゲートバルブ４１を開き、真空ロボット４２に搬送される。ゲートバルブ４１を閉じて、予備排気室用真空ポンプ５２によって大気雰囲気から真空引きされる。試料室２と同程度の真空度になった時にゲートバルブ４０を開き、真空ロボット４２により試料１０をＹテーブル１３上に搬送する。本構成のステージは、ベース１５上にＸテーブル１４がＸガイド２１を介して、載置されている。
【００１０】
また、Ｘテーブル１４上にＹテーブル１３がＹガイド２０を介して載置され、更にＹテーブル１３上には試料保持機構１６、バーミラー１２、その他図示しないビーム校正用部品が取り付けられている。ここで、各ガイドはボール、ローラなどを含むコロによる転がり方式（移動手段）、或いは低摩擦材による摺動方式を想定している。
【００１１】
描画後は、前述した搬送経路の逆となり、予備排気室８内で真空から大気へと雰囲気を戻して、外部へと試料が搬送される。上記一連の動作により、試料室２が真空状態のまま試料の搬送が可能となり、スループットの向上が計られている。
【００１２】
また、描画中のステージの移動速度は可変であり、回路パターンが密な部分はステージの移動速度を低くし、回路パターンが粗い部分はステージの移動速度を速くする。これにより、効率良く描画が可能であり、スループットを向上させている。これらの描画動作は、制御部７０に内蔵されるステージ制御部７１、及び電子線制御部７２により制御される。
【００１３】
電子線描画装置では、前述したように電子線のエネルギー損失を防ぐ為に、電子線の経路を高真空に保つ必要があるが、従来の装置構成では以下のような問題点が挙げられる。
（１）．ガイドの摩擦熱に伴う温度変化
近年、回路パターンの微細化に伴い、電子線のショット数が増加し、その為１枚当りの試料処理時間が増加している。これにより、前述したような摩擦を伴うガイド構成の場合、ステージ移動に伴い摩擦熱が発生し、徐々に各部材に伝達して、Ｙテーブル１３の温度は変化してしまう。これにより、Ｙテーブル１３上に取り付けられているバーミラー１２と試料１０間の距離変動ΔＸが生じ、描画誤差に繋がる。（図７参照）
（２）．駆動系の発熱に伴う温度変化
ガイドの摩擦熱の他、各テーブルの駆動源、及び駆動方式の稼動による発熱による影響が考えられる。
【００１４】
（ｉ）．駆動源の発熱
一般に使用されている駆動源として、回転型モータ、リニア（直動型）モータ、超音波モータが挙げられるが、これらの駆動源は、稼動することにより一部のエネルギーが熱に変換される。よって、ガイドと同様に描画前と描画中では温度変化が生じて、駆動源から各テーブルに力を伝達する部材によりステージ温度が変化する。
【００１５】
（ｉｉ）．駆動方式の発熱
ボールネジ、摩擦駆動（フリクションドライブ）は、ステージ移動手段として一般的であるが、いずれの方式も摩擦を伴う為、稼動による発熱によりステージ温度の変化を招く恐れが有る。
【００１６】
試料の搬送待ち時間中にステージが停止している場合、Ｙテーブルの温度は描画中よりも下がってしまう。その後、試料を載置し、ビームの校正を行い、描画し始めると温度が上昇して、初めの状態と変わってしまい描画誤差が生ずる。
【００１７】
また、回路パターンが微細で描画データが膨大になると、その描画データの転送を待つようにステージが停止する場合がある。この時にも、ステージ稼動中（移動中）との温度変化が生じてしまう。
【００１８】
上記（１）で挙げたガイドの発熱による誤差を低減する方法として、各部材の熱膨張係数が小さい材料を選定することが挙げられるが、材料が限定され、高価になる恐れがある。
【００１９】
また、Ｙテーブルに恒温水などの媒体を流し、温度変化を低減させることが考えられるが、真空雰囲気中で、チューブ、或いは弾性金属配管を摺動させる場合、疲労、擦れなどに起因する破損、及び発塵の可能性が高い。
【００２０】
上記（２）で挙げた駆動系の発熱に対しては、各部材を恒温水などで温調する手段が考えられるが、各駆動部材に対して温調経路を形成する必要があり、煩雑になる。
【００２１】
また、超音波モータはテーブルを直接駆動する構成が多い為、Ｙテーブルのように２次元で移動する場合、温調経路を引き回して摺動させる必要がある。よって、チューブ、弾性金属配管の使用が必須となり、破損による真空内汚染、及び発塵の可能性がある。
【００２２】
また特開２００２−３５３１１６号公報（特許文献１）に示される電子描画装置は、試料を載置する試料台の上に熱伝導板を設け、この熱伝導板内に発熱電線と温度測定部を設け、温度測定部の測定温度が所定の温度になるように発熱電線の電流を制御する加熱制御装置を備えている。
【００２３】
【特許文献１】
特開２００２−３５３１１６号公報
【００２４】
【発明が解決しようとする課題】
上述した従来例（図５、図６、図７）のものは、チューブ、弾性金属配管等の破損の危険性、発塵、及び温調経路を数多く形成する煩雑（複雑）な構成を有する。また、特許文献１に示すものも熱伝導板、発熱電線、温度測定部、加熱制御装置を備える複雑な構成を有する。
【００２５】
本発明の目的とするところは、上記の問題に鑑み、簡単な構成で試料の温度を一定に保つことができるものを提供することにある。
【００２６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、真空に保たれる試料室と、この試料室内に置かれ、かつ調温部材を備えるベースと、このベース上に置かれ、かつ一方向に行き来する移動自在なるＸテーブルと、このＸテーブル上に置かれ、かつＸテーブルの移動方向と交わる方向に行き来するところの移動自在なるＹテーブルと、このＹテーブルおよびＸテーブルを移動させる駆動源と、この駆動源の作動を制御するステージ制御部とを有し、Ｙテーブルに載置される試料に電子線を照射して回路パターンを描画する電子線描画装置あって、試料とＹテーブルとの間に位置するように温度センサを設け、電子線の照射が行われていない非描画の間に、温度センサが検知する検知温度値と目標温度値との温度差に応じた移動量でＹテーブルまたはＸテーブルの少なくとも一方を移動させるようにステージ制御部でフィードバック制御することを特徴とする。
【００２７】
また本発明は、真空に保たれる試料室と、この試料室内に置かれ、かつ調温部材を備えるベースと、このベース上に置かれ、かつ一方向に行き来する移動自在なるＸテーブルと、このＸテーブル上に置かれ、かつＸテーブルの移動方向と交わる方向に行き来するところの移動自在なるＹテーブルと、このＹテーブルおよびＸテーブルを移動させる駆動源と、この駆動源の作動を制御するステージ制御部とを有し、Ｙテーブルに載置される試料に電子線を照射して回路パターンを描画する電子線描画装置にあって、描画時間以外にＹテーブルまたはＸテーブルの少なくとも一方を移動させるルーチンを備えたことを特徴とする。
【００２８】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態の理解を容易にするために第１の実施例を説明する。図１を引用して説明する。
【００２９】
まず、電子線描画装置の構成から説明する。
【００３０】
図１において、ステージを構成するＹテーブル１３上にはバーミラー１２、試料保持機構１６、及び温度センサ３０が取り付けられ、ベース１５下面には温調部材１７が取り付けられている。温調部材１７には温調媒体６０が出入りする。
【００３１】
温度センサ３０の出力は、制御部７０に送られ、内蔵してある温度変換部７３によって温度に変換される。更に、温度に変換された信号は、ステージ制御部７１に伝達される。また、試料の搬送経路に含まれる予備排気室８には、試料１０の温調を行う温調部として、温調テーブル４３が内包されている。温調テーブル４３には温調媒体６１が出入りする。
前述した従来例と共通するその他詳細は従来例を参照頂きたい。ここで、温調部材１７は移動が無い為、配管疲労による破損、及び発塵の可能性は極めて低い。
【００３２】
次に、ステージの稼動方法について説明する。
【００３３】
試料搬送中、或いは描画データの転送待ち時間など試料を描画していない時間は、ステージを構成するＹテーブル１３上の温度センサ３０により得られたＹテーブル１３の温度が目標温度に対して低い場合、ステージ３（Ｘテーブル１４、Ｙテーブル１３を含む）を移動させることでガイド、及び図示しない駆動系の発熱によりＹテーブル１３の温度を上昇させる。Ｙテーブル１３は試料の載置台になっている。
【００３４】
この時、目標温度に早く到達させるには、ステージ３の移動速度を速く設定すれば良い為、目標温度とＹテーブル１３の温度差をステージの移動速度にフィードバックすることで容易にＹテーブル１３の温度調節が可能である。
【００３５】
以下、Ｙテーブル１３の温度を目標温度に近づけるステージ３の動作をダミー動作と呼ぶ。尚、ステージのダミー動作の動きについては、Ｙテーブル１３のみの移動、Ｘテーブル、及びＹテーブルの同時移動、ジグザグ移動、ステップ  アンド  リピートなど様々な移動方法が考えられるが、ステージ全体の温度安定性を考えると、Ｘテーブル、及びＹテーブル共にフルストローク移動した方が良い。
【００３６】
また、ＸテーブルないしＹテーブルの移動、すなわち、ＸテーブルないしＹテーブルの移動量には、移動速度や移動時間等が含まれる。
【００３７】
次に、Ｙテーブル１３の温度が目標温度に対して高い場合は、ステージ３（ＸテーブルないしＹテーブル）は停止させておき、温調部材の吸熱によって、目標温度に近づける（このステージ停止動作についてもダミー動作に含める）。従って、温調部材１７の設定温度は、Ｙテーブル１３の目標温度よりも低く設定する必要がある。目標温度を２３℃とすると、設定温度は２０℃程度ある。
【００３８】
次に、温度とステージの移動（稼動）の関係について図２に沿って述べる。
【００３９】
図２の実線８０は、ダミー動作を行った場合のＹテーブル温度変化を示したもので、破線８１は、従来のＹテーブルの温度変化を示している。
【００４０】
まず、従来のＹテーブルの温度変化について説明する。描画終了の後、試料を搬出し、再び試料が搬入される間、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）は停止している為、ガイド、及び駆動源からの発熱が減少し、Ｙテーブルの温度は急激に低下する。次に、試料をステージ（Ｙテーブル）に載置し、ビームの校正を行い、描画を開始するとガイド、及び駆動源からの発熱が増加して徐々にＹテーブルの温度が上昇する。
【００４１】
更に描画中に描画データの転送待ち時間が有る場合、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）は停止してしまう為、Ｙテーブルの温度が低下して、描画が開始されると再び上昇する。以上のように従来の装置では、ステージが停止することでＹテーブルの温度が低下して、温度変化が大きいことがわかる。
【００４２】
一方、本発明の場合、描画終了の後、試料を搬出し、再び試料が搬入される間（電子線の照射が行われていない非描画の間）、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）をダミー動作させておくことで温度低下を回避することができる。
【００４３】
次に、試料をステージ（Ｙテーブル）に載置し、ビームの校正を行い、描画を開始する。描画中の描画データの転送待ち時間が有る場合についても、ステージをダミー動作させて目標温度に近づける。描画後は試料を搬出して、再びステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）をダミー動作させる。これら一連のダミー動作によって、Ｙテーブルの温度は常に目標温度付近に保たれ、高精度な描画が可能となる。
【００４４】
次に、本実施例の流れを図３を用いて説明する。
【００４５】
描画終了後、試料受け渡し位置にステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）を位置決めし、試料を搬出して、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）をダミー動作させる。試料がＹテーブルに搬送可能な状態になれば、ダミー動作を止めて、試料受け渡し位置に移動して試料を載置する。
【００４６】
その時、Ｙテーブルが許容温度範囲内であれば、ビームの校正を行い、描画を開始する。許容温度範囲外であれば、再びダミー動作を実施し、許容範囲内に収まった後、ビームの校正、描画を実施する。
【００４７】
描画中に描画データの転送待ち時間（電子線の照射が行われていない非描画の間）が有れば、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）をダミー動作させて、描画データの転送が終了したら描画を再開する。尚、描画データの転送時間が短い場合がある為、予め転送時間が予測できれば、その待ち時間長さによってダミー動作の要否を決定しても良い。描画が終了すると最初に戻り、再び試料の搬出動作を実施する。
【００４８】
ここまで、電子線描画装置（装置）稼動中のダミー動作について述べてきたが、装置の定期検査などで長時間装置が停止している状態からの立上げにおける適用例を述べる。
【００４９】
装置が長時間停止している状態から、装置の立上げを行う場合、ステージ（Ｙテーブル）温度は目標温度から大きく離れている場合がある。従来、立上げ直後の描画では、描画誤差が大きくなり易く、安定性が無かった。
【００５０】
それに対して、本発明では、真空排気系、ビームなど停止させていたユニットを立ち上げている間、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）をダミー動作させて目標温度に近づけていく。このダミー動作により、ステージ以外のユニットが立上がった時に、Ｙテーブルの温度が目標温度付近であれば、直ちに描画が可能となり、描画精度が安定するまでの時間を含めた装置立上げ時間の短縮化に繋がる。
【００５１】
以上の立上げ手順を図４のフローに沿って説明する。
【００５２】
始めに停止しているユニットを起動し、次にステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）のダミー動作を行う。試料が搬送可能な状態になれば、試料を搬入し、予備排気室で待機させる。ステージのダミー動作を止めて、試料受け渡し位置に移動し、試料をステージ（Ｙテーブル）に載置する。
【００５３】
Ｙテーブルの温度が目標温度付近で許容温度範囲内であれば、ビームの校正、描画を開始する。また、Ｙテーブルの温度が許容温度外の場合は、再びステージをダミー動作させて目標温度に近づけて、許容温度範囲内になった後、ビームの校正、描画を開始する。
【００５４】
ここで、温調部材の設定温度とステージの移動速度（移動量）の関係について述べる。
【００５５】
描画中のステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の移動に伴う発熱量は、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の移動速度に関係している。つまり、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の移動速度が速ければ、発熱量は大きく、逆にステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の移動速度が低ければ、発熱量は小さい。よって、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の稼動中の発熱量と温調部材の吸熱量、輻射による吸熱、試料室等への伝導による吸熱のバランスによってＹテーブルの温度が決まる。従って、温調部材の設定温度は、描画中のステージ移動速度で、ステージを稼動させておき、設定温度を変化させて、Ｙテーブルの温度が目標温度になるよう調整を行う。
【００５６】
一方、描画中に温度変化が大きい場合、例えば回路パターンの密度が試料中で大きく異なる場合などはステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の移動速度が変わり、温度変化が生じやすい。この場合は、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の動きは描画動作に拘束されるので、温調部材の設定温度を変化させる必要がある。或いは、描画データを生成する過程で、なるべく描画中のステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の移動速度が一定になるようなアルゴリズムを構成することでも、描画中の温度変化を回避できる。
【００５７】
次に、試料の温度とＹテーブルの温度の関係について図１を参照しつつ説明する。
【００５８】
搬送中の試料１０が、予備排気により断熱膨張の効果で温度が下がった状況のもとで、Ｙテーブル１３上に取り付けられている試料保持機構１６に搬送されると、Ｙテーブル１３の温度に近づくように上昇する。よって、試料１０がＹテーブル１３に載置されて直ちにビームの校正、描画動作を実施すると、Ｙテーブル１３の温度とほぼ同一になるまで試料１０の温度が上昇してしまう為、描画し始めに描画誤差が大きくなる。
【００５９】
従来では、このような現象を回避する為に、Ｙテーブル１３に試料１０を載置後、温度がほぼ同じになるまで一定時間待つ必要があった。この問題については、搬送経路を温度管理することで回避できる。初めに、大気中から予備排気室８内の温調テーブル４３に試料１０を搬送し、予備排気を行う。真空排気に伴う断熱膨張により試料１０は一時的に温度が下がるものの、温調テーブル４３はＹテーブル１３の目標温度に設定していれば、比較的早い時間で試料１０は目標温度になる。
【００６０】
従って、Ｙテーブル１３に搬送された後、直ちにビームの校正、及び描画動作に移ることが可能となる。また、別の方法として、大気中で描画を待つ試料１０を予め、予備排気による温度低下を見込んだ温度に設定可能な温調装置（図示せず）に載置しておけば、予備排気室内の温調テーブル４３が無い装置構成でも待ち時間が不要となる。
【００６１】
次に、温度センサの出力をステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）のダミー移動にフィードバックしない実施例を説明する。
【００６２】
描画時間以外のステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）のダミー移動の方法として、描画時のステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の動作をそのまま利用し、ダミー移動させることが考えられる。つまり、試料の受け渡し動作中以外の時間、常に描画中のステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の動作をさせることで、Ｙテーブルの温度低下を防ぐ効果がある。
【００６３】
本実施例の特徴は、目標温度からＹテーブルの温度差は実施例１よりもやや大きいが、温度によるフィードバック回路を削減でき、装置のルーチンに本動作を追加するだけで、比較的容易に実施できることである。また、実際の描画中のステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の動作で無くても、その動きに近い移動速度（例えば描画中のステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）の移動速度の平均値）でも代用可能である。
【００６４】
本発明の実施例の電子線描画装置によれば、発塵を防ぎ、真空内の汚染の危険性を回避しつつ、試料を載置するテーブルの恒温化を容易に実現し、試料に形成する回路パターンの高精度な描画が可能となる。殊に、試料を載置するテーブルの恒温化（試料の温度を一定に保つこと）は、既存のＹテーブルおよび前記Ｘテーブルの移動／制御を行う既存の駆動源やステージ制御部を用いて、電子線の照射が行われていない非描画の間に、ステージ（Ｘテーブル、Ｙテーブル）を移動させる動作を行わせる簡単な構成なものである。
【００６５】
しかも、Ｙテーブルの上面、すなわち、試料とＹテーブルとの間に位置する温度センサが検知する検知温度値と目標温度値との温度差に応じた移動量で、ＹテーブルおよびＸテーブル／ＹテーブルまたはＸテーブルを移動させるようにステージ制御部でフィードバック制御するので、試料の温度がより良く一定に保たれ、より精度の高い回路パターンを描画することができる。
【００６６】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、簡単な構成で試料の温度を一定に保つことができるものを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例にかかわるもので、電子線描画装置の概略構成を示す図。
【図２】本発明の実施例にかかわるもので、温度とステージ稼動の関係を示す説明図。
【図３】本発明の実施例にかかわるもので、描画ルーチンを示す説明図。
【図４】本発明の実施例にかかわるもので、装置立上げルーチンを示す説明図。
【図５】従来の電子線描画装置の概略構成を示す図。
【図６】上記従来例のステージ部に係わる概略構成を示す図。
【図７】従来の問題点を示す説明図。
【符号の説明】
１…カラム、２…試料室、３…ステージ、４…定盤、５…マウント、６…本体ベース、７…床、８…予備排気室、１０…試料、１１…干渉計、１２…バーミラー、１３…Ｙテーブル、１４…Ｘテーブル、１５…ベース、１６…試料保持機構、１７…温調部材、２０…Ｙガイド、２１…Ｘガイド、３０…温度センサ、４０…ゲートバルブ、４１…ゲートバルブ、４２…真空ロボット、４３…試料テーブル、５０…カラム排気用真空ポンプ、５１…試料室用真空ポンプ、５２…予備排気室用真空ポンプ、６０…温調媒体、６１…温調媒体、７０…制御部、７１…ステージ制御部、７２…電子線制御部、７３…温度変換部、８０…実線、８１…破線。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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