(57)【要約】【課題】高感度でホログラムを記録できると共に、他のデータを劣化させることなく、所望のデータだけを選択的に書き換えることができるホログラム記録媒体及び記録方法を提供する。【解決手段】ホログラム記録媒体１０の光吸収層１６に、書き込み光３２，３４と異なる波長のアシスト光３０を照射して光照射部分をガラス転移温度付近まで加熱すると共に、この光照射部分に対応する光記録層１４の所定位置に、書き込み光３２，３４を照射することにより光学異方性を誘起してホログラムを記録する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定波長の書き込み光を照射することにより光学異方性を誘起してホログラムを記録する光記録層を備え、該光記録層が、サーマル型のフォトクロミック性を有する高分子材料と前記書き込み光と異なる波長の光を選択的に吸収する光吸収剤とを含んで構成されたホログラム記録媒体。
【請求項２】
前記光吸収剤が、前記光記録層中に均一に分散された請求項１に記載のホログラム記録媒体。
【請求項３】
サーマル型のフォトクロミック性を有する高分子材料を含んで構成され、所定波長の書き込み光を照射することにより光学異方性を誘起してホログラムを記録する光記録層と、
前記光記録層の少なくとも一方の側に形成され、前記書き込み光と異なる波長の光を選択的に吸収する光吸収剤を含む光吸収層と、
を備えたホログラム記録媒体。
【請求項４】
前記光吸収剤が、前記光吸収層中に均一に分散された請求項３に記載のホログラム記録媒体。
【請求項５】
前記光吸収剤を含む光記録層又は光吸収層からの放熱を抑制する低熱伝導性の支持基板を更に備えた請求項１乃至４のいずれか１項に記載のホログラム記録媒体。
【請求項６】
前記光吸収層が、前記光記録層と前記支持基板との間に挟持された請求項５に記載のホログラム記録媒体。
【請求項７】
前記光吸収剤は前記書き込み光の波長より長波長の光を選択的に吸収する請求項１乃至６のいずれか１項に記載のホログラム記録媒体。
【請求項８】
前記光吸収剤は前記高分子材料の吸収極大波長より長波長の光を選択的に吸収する請求項１乃至６のいずれか１項に記載のホログラム記録媒体。
【請求項９】
前記光吸収剤は近赤外光を選択的に吸収する赤外線吸収剤である請求項１乃至８のいずれか１項に記載のホログラム記録媒体。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載されたホログラム記録媒体を用い、
該ホログラム記録媒体の光吸収剤を含む光記録層又は光吸収層に、前記書き込み光と異なる波長のアシスト光を照射して光照射部分をガラス転移温度付近まで加熱すると共に、
前記光照射部分に対応する光記録層の所定位置に、所定波長の書き込み光を照射することにより光学異方性を誘起してホログラムを記録するホログラム記録方法。
【請求項１１】
前記ホログラム記録媒体に、前記書き込み光と前記アシスト光とを同じ側から照射する請求項１０に記載のホログラム記録方法。
【請求項１２】
前記ホログラム記録媒体に、前記書き込み光と前記アシスト光とを異なる側から照射する請求項１０に記載のホログラム記録方法。
【請求項１３】
前記光照射部分の全部又は一部に、前記書き込み光を照射する請求項１０乃至１２のいずれか１項に記載のホログラム記録方法。
【請求項１４】
前記アシスト光を照射した後に前記書き込み光を照射する請求項１０乃至１３のいずれか１項に記載のホログラム記録方法。
【請求項１５】
前記アシスト光と前記書き込み光とを同時に照射する請求項１０乃至１３のいずれか１項に記載のホログラム記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラム記録媒体及びホログラム記録方法に係り、特に、書き換え可能なホログラム記録媒体と、該ホログラム記録媒体にデータをホログラムとして記録するホログラム記録方法と、に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、次世代の高速大容量メモリとして、ホログラムの高密度記録性を利用したホログラフィックメモリーが盛んに研究され、最近では、有機高分子材料の高い光屈折率変化を利用したホログラフィックメモリーが注目を集めている。
【０００３】
例えば、アゾベンゼン等の光異性化分子を含む高分子膜を形成し、光異性化分子への偏光照射により選択的な光異性化を引き起こし、光異性化により高分子膜に誘起される高い光学異方性（複屈折や二色性）を利用してホログラムを記録するホログラム記録媒体が提案されている（特許文献１）。
【０００４】
アゾベンゼンは、光照射によりトランス−シスの光異性化を示す。トランス体になると下記化学式（ａ）で表す分子構造となり、シス体になると下記化学式（ｂ）で表す分子構造となる。
【０００５】
【化１】
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【０００６】
アゾベンゼン単体では光学異方性を示すが、アゾベンゼンが分散された高分子溶液を塗布して作製された高分子膜は、溶液の等方的なコンフォメーションを反映し、全体として等方性を示す。この状態で、アゾベンゼンに感度のある波長の直線偏光をポンプ光として照射すると、アゾベンゼンの二色性に起因して、分子がポンプ光の偏光方向（偏光軸）と同方向に配向したアゾベンゼンのみが、光を吸収しシス体へと異性化する。
【０００７】
異性化したシス体は熱的に不安定であるため、熱戻り反応により再びトランス体へ異性化する。トランス体は、偏光軸と同方向又は垂直方向のいずれの配向状態もとり得るが、偏光軸と同方向のトランス体は再び光異性化によりシス体へと変化し、その後さらに熱戻り反応により再びトランス体へ異性化する。
【０００８】
このトランス−シス−トランスの異性化サイクルを繰り返すことで、アゾベンゼンの分子が、ポンプ光に対して吸収の小さい方向（偏光軸に対して垂直方向）に配向するようになる。そして、これらアゾベンゼンの異性化と配向変化とによって高分子の配向状態が変化し、高分子膜中に大きな光学異方性が誘起される。
【０００９】
以上説明したアゾベンゼンのように、光異性化後に熱戻り反応により更に異性化するサーマル型のフォトクロミック材料では、記録後に高分子膜を加熱処理することで、配向状態が安定化することが知られている。この熱戻り反応を利用した記録方法として、例えば、光異性化分子の配向を増強するために、高分子膜の温度を制御しながら記録を行う方法が提案されている（特許文献２）。また、高分子膜をガラス転移点以上に加熱して、光誘起異方性を増強する方法が提案されている（特許文献３）。
【特許文献１】特開平１０−３４０４７９号公報
【特許文献２】特開２００１−２０１６３４号公報
【特許文献３】特表平１０−５０５４４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、従来の記録方法では、高分子膜全体、即ち、記録メディア全体を加熱していた。このため、記録装置が大型化するという問題がある。また、データの書き換えや追記を行う場合に、加熱により既に記録されたホログラムが劣化するという問題がある。
【００１１】
本発明は、上記問題を解決すべく成されたものであり、本発明の目的は、高感度でホログラムを記録できると共に、他のデータを劣化させることなく、所望のデータだけを選択的に書き換えることができるホログラム記録媒体及び記録方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために本発明の第１のホログラム記録媒体は、所定波長の書き込み光を照射することにより光学異方性を誘起してホログラムを記録する光記録層を備え、該光記録層が、サーマル型のフォトクロミック性を有する高分子材料と前記書き込み光と異なる波長の光を選択的に吸収する光吸収剤とを含んで構成されたことを特徴とする。
【００１３】
本発明の第１のホログラム記録媒体は、光記録層に、サーマル型のフォトクロミック性を有する高分子材料と、ホログラムを記録する書き込み光と異なる波長の光を選択的に吸収する光吸収剤とを含んでいる。この光吸収剤は、光を吸収して放熱する。従って、光吸収剤により選択的に吸収される波長の光をアシスト光として、光記録層を局所的に加熱しながら、ホログラムの光アシスト記録を行うことができる。
【００１４】
また、光記録層を局所的に加熱することで、光記録層に誘起される光学異方性を増強して高感度でホログラムを記録すると共に、他のデータを劣化させることなく、所望のデータだけを選択的に書き換えることができる。
【００１５】
また、本発明の第２のホログラム記録媒体は、サーマル型のフォトクロミック性を有する高分子材料を含んで構成され、所定波長の書き込み光を照射することにより光学異方性を誘起してホログラムを記録する光記録層と、前記光記録層の少なくとも一方の側に形成され、前記書き込み光と異なる波長の光を選択的に吸収する光吸収剤を含む光吸収層と、を備えたことを特徴とする。
【００１６】
本発明の第２のホログラム記録媒体は、光記録層とは別に、ホログラムを記録する書き込み光と異なる波長の光を選択的に吸収する光吸収剤を含む光吸収層を備えているので、第１のホログラム記録媒体と同様に、ホログラムの光アシスト記録を行うことができ、高感度でホログラムを記録できると共に、他のデータを劣化させることなく、所望のデータだけを選択的に書き換えることができる。
【００１７】
上記の第１及び第２のホログラム記録媒体においては、光吸収剤を含む光記録層又は光吸収層に、光吸収剤が均一に分散されていることが好ましい。また、光吸収剤を含む光記録層又は光吸収層からの放熱を抑制する低熱伝導性の支持基板を更に備えていてもよい。支持基板を備える場合には、光吸収層が光記録層と支持基板との間に挟持された構成とすることが好ましい。
【００１８】
また、前記光吸収剤としては、書き込み光の波長より長波長の光を選択的に吸収する光吸収剤が好ましく、高分子材料の吸収極大波長より長波長の光を選択的に吸収する光吸収剤がより好ましい。このような光吸収剤としては、例えば、近赤外光を選択的に吸収する赤外線吸収剤を用いることができる。
【００１９】
また、本発明のホログラム記録方法は、本発明のホログラム記録媒体を用い、該ホログラム記録媒体の光吸収剤を含む光記録層又は光吸収層に、前記書き込み光と異なる波長のアシスト光を照射して光照射部分をガラス転移温度付近まで加熱すると共に、前記光照射部分に対応する光記録層の所定位置に、所定波長の書き込み光を照射することにより光学異方性を誘起してホログラムを記録することを特徴とする。
【００２０】
本発明のホログラム記録方法では、光吸収剤を含む光記録層又は光吸収層にアシスト光を照射して光照射部分をガラス転移温度付近まで加熱すると共に、光照射部分に対応する光記録層の所定位置に書き込み光を照射するので、光記録層を局所的に加熱しながら、ホログラムの光アシスト記録を行うことができる。従って、高感度でホログラムを記録できると共に、他のデータを劣化させることなく、所望のデータだけを選択的に書き換えることができる。
【００２１】
上記のホログラム記録方法においては、種々のアシスト光の照射方法がある。例えば、ホログラム記録媒体に、書き込み光とアシスト光とを同じ側から照射してもよく、異なる側から照射してもよい。また、光照射部分の全部又は一部に、書き込み光を照射してもよい。更に、アシスト光を照射した後に書き込み光を照射してもよく、アシスト光と書き込み光とを同時に照射してもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、高感度でホログラムを記録できると共に、他のデータを劣化させることなく、所望のデータだけを選択的に書き換えることができる、という効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
（ホログラム記録媒体）
図１に、本発明を適用したホログラム記録媒体１０の部分断面を模式的に示す。
【００２４】
このホログラム記録媒体１０は、支持基板１２、書き込み光を照射することにより光学異方性を誘起してホログラムを記録する光記録層１４、及び書き込み光と異なる波長の光を選択的に吸収する光吸収剤を含む光吸収層１６を備えている。光記録層１４と光吸収層１６とは、支持基板１２上に、基板側から光吸収層１６、光記録層１４の順で積層されている。
【００２５】
支持基板１２としては、透明なプラスチック基板を用いることができる。ここで「透明」とは、ホログラムの書き込みに使用する書き込み光（信号光、参照光）、ホログラムの読み出しに使用する読み出し光（参照光）に対して透明であることを意味する。
【００２６】
プラスチック基板の材料としては、例えば、ポリカーボネート；ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン、およびポリエステルなどを挙げることができる。耐湿性、寸法安定性および価格などの点から、ポリカーボネートが好ましい。
【００２７】
また、光吸収層１６で発生した熱を有効に利用するため、光吸収層１６からの放熱を抑制する低熱伝導性の材料が好ましい。既に挙げたポリカーボネート等のプラスチックは低熱伝導性の材料としても機能し、この点でも好ましい。
【００２８】
支持基板１２の厚さは、０．１〜１ｍｍとすることが好ましい。また、支持基板１２の一方の表面には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されていてもよい。
【００２９】
光記録層１４は、分子中に光異性化基を含む高分子材料又は光異性化分子を含む高分子材料であって、該光異性化基あるいは光異性化分子が、光によって異性化した後、熱戻り反応によって異性化しうるT（thermal）型のフォトクロミック性を有する高分子材料を含んで構成されている。
【００３０】
まず、分子中に光異性化基を含む高分子材料について説明する。光異性化基は、光によって異性化した後熱戻り反応によって異性化しうるT型のフォトクロミック性を有する基であって、このような異性化によって光異性化基の配向が生じ、光学異方性（複屈折や二色性等）を誘起させる基であれば特に制限はないが、偏光照射により選択的な光異性化反応、例えば、偏光軸に平行な分子のみが光を吸収して光幾何異性化反応を起こすものが好ましい。異性化としてはシス−トランス異性化だけでなく、シン−アンチ異性化も含まれる。
【００３１】
光異性化基としては、シアノ基、メチル基、ｎ−ブチル基等のアルキル基（炭素数１〜８）、トリフルオロメチル基、フェニル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、メトキシ基、トリフルオロメトキシ基等のアルコキシ基（炭素数１〜６）、ニトロ基、エトキシカルボニル基、フッ素原子等のハロゲン原子等で置換したアゾベンゼン構造を有する基の他、スチルベン、アゾメチン、インジゴ、チオインジゴなどの構造を有する基が挙げられる。中でもアゾ基を含む光異性化基が好ましく、特に、シアノ基、メチル基、メトキシ基またはニトロ基で置換したアゾベンゼンを含む基が好ましい。
【００３２】
また、光異性化基は高分子の側鎖にあることが好ましい。高分子の主鎖は付加系ポリマーでも縮合系ポリマーのいずれでもよく、付加系ポリマーとしてはアクリレート系ポリマー、メタクリレート系ポリマー等が挙げられる。アクリレート系ポリマー、メタクリレート系ポリマーの場合、アゾベンゼンは、−COO−(CH)n−O−等によってポリマーと連結される。また、縮合系ポリマーとしてはポリエステル系、ポリイミド系、ポリシロキサン系、ポリウレタン系、ポリウレア系などを挙げることができるが、中でもポリエステル系が好ましい。
【００３３】
また、光異性化基の熱異性化と配向変化によって高分子の配向変化が誘起されるような高分子を使用すると、複屈折増大効果が効率よく実現する。このため、側鎖あるいは主鎖におけるセグメント間の相互作用が適度に強いことが望まれる。例えば、高分子の主鎖部に芳香族炭化水素環により構成された剛直な部分を含むことが好ましい。また、芳香族炭化水素環は分極率異方性が大きいので、配向変化による複屈折への寄与も大きい。芳香族炭化水素環としては連結基により連結された２つ以上のベンゼン環が挙げられる。前記連結基としては、エーテル結合、ケトン結合等が挙げられる。
【００３４】
また、アゾベンゼン誘導体が主鎖の芳香族環に連結しているものが好ましい。さらに、光異性化基は、高分子主鎖の繰り返し単位の中に少なくとも１つ含まれることが好ましいが、側鎖部に光異性化基を持たない構成単位との共重合体としてもよい。中でも側鎖に光異性化基を有するポリエステルとして以下の構造式で示されるポリエステルが好ましい。
【００３５】
【化２】
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【００３６】
式中、Ｘはシアノ基、メチル基、メトキシ基、またはニトロ基を示し、Ｙはエーテル結合、またはケトン結合を示す。ｌおよびｍは、２から１８の整数、より好ましくは４から１０の整数を示し、ｎは５から５００の整数、より好ましくは１０から１００の整数を示す。
【００３７】
次に、光異性化分子を含む高分子材料について説明する。光異性化分子としては、メチルレッド、メチルオレンジ、ディスパーズレッド１、ディスパーズレッド１３、ディスパーズオレンジ３などのアゾ基を含む色素分子が挙げられる。また、光異性化分子が添加される高分子化合物としては、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリアリルアミン等が挙げられる。
【００３８】
光記録層１４は、上記の高分子材料を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、調整した塗布液を後述する光吸収層１６上に塗布した後、乾燥することにより形成される。なお、乾燥後に、高分子膜を等方相が得られるまで加熱し、その後、急冷することにより、等方的なアモルファス膜を得ることができる。光記録層１４の膜厚は、１０μｍ〜１０ｍｍが好ましく、３０μｍ〜１ｍｍがより好ましい。
【００３９】
光吸収層１６は、光吸収剤を含んでいる。この光吸収剤は、書き込み光と異なる波長の光を選択的に吸収し、吸収した光を熱に変換する機能を有している。光吸収剤は、書き込み光の波長に応じて適宜選択されるが、書き込み光の波長より長波長の光を選択的に吸収するものが好ましく、光記録層１４に含有される光異性化分子又は光異性化基の吸収極大波長（吸収ピーク波長）より長波長の光を選択的に吸収するものがより好ましい。
【００４０】
一般に、書き込み光には、可視光の波長領域（４００ｎｍ〜７５０ｎｍ）の光が選択される。従って、光吸収剤としては、近赤外光や赤外光を吸収する赤外線吸収剤を用いることができる。
【００４１】
赤外線吸収剤とは、波長７５０ｎｍから１２００ｎｍの赤外波長領域に吸収極大を有する色材（染料又は顔料）である。染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
【００４２】
また、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。
【００４３】
本発明では、上記色材の中から、書き込み光の波長に吸収を有しない赤外線吸収剤が用いられる。例えば、特開２００１−２９４７８５号公報に記載されたポリメチン系色素等の近赤外吸収色素が好適に使用される。このポリメチン系色素は、分子内に［ドナー］−［アクセプター］−［ドナー］構造を有し、７５０ｎｍを超える領域に吸収帯を有すると共に、可視光領域には殆ど吸収を有していない。
【００４４】
光吸収層１６は、上記の光吸収剤を、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び光硬化性樹脂等のバインダー樹脂と共に適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製し、調整した塗布液を支持基板１２上に塗布した後、乾燥することにより形成される。光吸収層１６の膜厚は、１μｍ〜１０ｍｍが好ましく、１０μｍ〜１ｍｍがより好ましい。
【００４５】
光吸収剤の添加量は、０．１重量％〜５０重量％が好ましく、１重量％〜２０重量％がより好ましい。加熱光エネルギーの有効利用の観点から、光吸収剤の添加量は、吸収が１０％以上になるように添加量と膜厚を調整することが好ましく、吸収率は３０％以上になることがさらに好ましい、また、過剰に添加して散乱を発生させないという観点から、媒質への溶解度を超えて添加しないことが好ましい
また、光吸収剤は、ホモジナイザーなどの処理により、光吸収層１６中に均一に分散することができる。
【００４６】
本発明の光記録媒体の層構成は、上記の層構成には限定されない。
【００４７】
例えば、図２に示すように、ホログラム記録媒体１０を、支持基板１２と、書き込み光と異なる波長の光を選択的に吸収する光吸収剤を含み且つ書き込み光を照射することにより光学異方性を誘起してホログラムを記録する光記録層１８とで構成することができる。光記録層１８は、上記の光吸収剤を、T（thermal）型のフォトクロミック性を有する高分子材料と共に適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製し、調整した塗布液を支持基板１２上に塗布した後、乾燥することにより形成される。また、図３に示すように、支持基板１２を省略してもよい。
【００４８】
また、図４に示すように、ホログラム記録媒体１０を、書き込み光と異なる波長の光を選択的に吸収する光吸収剤を含む支持基板２０と、書き込み光を照射することにより光学異方性を誘起してホログラムを記録する光記録層１４とで構成することができる。このような支持基板２０としては、熱線吸収板ガラスを用いることができる。熱線吸収板ガラスとは、「ガラス工学」成瀬 省 著、共立出版（1958）に記載されている通り、ソーダ石灰ガラスの組成中に微量の鉄、ニッケル、コバルト、セレン等を含む着色透明板ガラスであり、所定の波長領域の光を選択的に吸収する。
【００４９】
また、図５に示すように、光記録層１４と光吸収層１６との積層順序を入れ替え、支持基板１２上に、基板側から光記録層１４、光吸収層１６の順に積層した構成としてもよい。また、この場合にも、図６に示すように、支持基板１２を省略することができる。
（ホログラム記録方法）
図７は、本発明のホログラム記録方法を説明する図である。
【００５０】
本発明では、レーザ光源（図示せず）からのアシスト光３０は光学レンズ４２により集光され、上記のホログラム記録媒体１０に光記録層１４側から照射される。アシスト光３０が照射された照射スポット３６では、光吸収層１６に含まれる光吸収剤がアシスト光３０を吸収し、光熱変換により熱を発生させる。これにより、光記録層１４の照射スポット３６に対応する部分（アシスト光照射部分）が、局所的に加熱される。
【００５１】
次に、照射スポット３６に、対物レンズ４０により球面参照波とされた参照光３４と、空間光変調素子３２により空間的に変調された信号光３２とが同時に照射される。これにより、光記録層１４の光照射部分で光学異方性が誘起され、ホログラムが記録される。
【００５２】
上述した通り、光記録層１４には、光異性化後に、熱戻り反応により更に異性化するサーマル型のフォトクロミック性を有する高分子材料が含まれている。このため、光記録層１４のアシスト光照射部分では、光誘起異方性が増強される。即ち、ホログラムを高感度で記録することができる。
【００５３】
ホログラムの記録に使用する信号光３２、参照光３４（書き込み光）としては、通常、可視光の波長領域（４００ｎｍ〜７５０ｎｍ）の光が選択される。上述した高分子材料に対しては、書き込み光の波長は、４００ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲が好ましく、４３０ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲がより好ましい。
【００５４】
アシスト光３０としては、記録にかかわらない可視長波長域および近赤外から赤外波長領域の光が選択される。アシスト光の波長は、７５０ｎｍ〜３０００ｎｍの範囲が好ましく、７８０ｎｍ〜１６００ｎｍの範囲がより好ましい。例えば、書き込み光の光源として、発振波長が５３０ｎｍのレーザ（ＬＤ）又は発光ダイオード（ＬＥＤ）を用いた場合には、アシスト光の波長は７８０ｎｍとするのが好ましい。また、光記録層１４のアシスト光照射部分が、ガラス転移点以上に加熱されるように、アシスト光を照射することが好ましい。
【００５５】
また、照射スポット３６の中心部分と周辺部分とで温度差が発生し、周辺部分では温度が低くホログラムが記録されないため、アシスト光３０は、書き込み光による記録スポットと同等又はより広い範囲に照射することが好ましい。換言すれば、照射スポット３６の周囲に記録されているホログラムを熱劣化させることなく、アシスト光照射部分だけでデータの追記、書き換えが可能である。
【００５６】
上記では、図８（Ａ）に示すように、ホログラム記録媒体１０に対し、アシスト光３０と書き込み光（信号光３２、参照光３４）とを同じ側から照射する例について説明したが、図８（Ｂ）に示すように、ホログラム記録媒体１０に対し、書き込み光とアシスト光３０とを異なる側から照射することもできる。この場合、書き込み光を記録層１４側から照射し、アシスト光はこれと反対の側から照射する。アシスト光３０を光記録層１４と反対側から照射することで、アシスト光３０による光記録層１４の劣化を防止することができる。
【００５７】
また、上記では、アシスト光３０の照射後に書き込み光を照射する例について説明したが、図９（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、ホログラム記録媒体１０の搬送方向下流側に、アシスト光３０を照射する照射手段（図示せず）を配置し、書き込み光を照射した直後にアシスト光３０を照射することもできる。また、アシスト光３０と書き込み光とを同時に照射してもよい。
【００５８】
以上説明した通り、本発明によれば、ホログラム記録媒体の光記録層を局所的に加熱することで、光記録層に誘起される光学異方性を増強して高感度でホログラムを記録すると共に、他のデータを劣化させることなく、所望のデータだけを選択的に書き換えることができる。
【００５９】
また、記録装置にアシスト光源を追加するだけでよく、簡単且つコンパクトな構成で記録感度を飛躍的に向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の実施の形態のホログラム記録媒体の層構成を示す部分断面図である。
【図２】ホログラム記録媒体の他の層構成を示す部分断面図である。
【図３】ホログラム記録媒体の他の層構成を示す部分断面図である。
【図４】ホログラム記録媒体の他の層構成を示す部分断面図である。
【図５】ホログラム記録媒体の他の層構成を示す部分断面図である。
【図６】ホログラム記録媒体の他の層構成を示す部分断面図である。
【図７】本発明のホログラム記録方法を説明するための概略斜視図である。
【図８】（Ａ）及び（Ｂ）はアシスト光の照射方法を示す概略図である。
【図９】（Ａ）及び（Ｂ）はアシスト光の他の照射方法を示す概略図である。
【符号の説明】
【００６１】
１０  ホログラム記録媒体
１２  支持基板
１４  光記録層
１６  光吸収層
１８  光記録層（光吸収剤含有）
２０  支持基板（光吸収剤含有）
３０  アシスト光
３２  信号光
３４  参照光
３６  照射スポット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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