(57)【要約】【解決手段】  容器本体と、蓋体とを具備し、内部にフォトマスクブランクを収納する容器であって、容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を両部材によって、支持部材及びバネ部材がフォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が１．９６〜１１７．６Ｎとなるようにバネ部材の弾発力を設定して支持するフォトマスクブランクの収納容器及び支持方法。【効果】  欠陥の原因となるパーティクルの発生を可及的に防止してフォトマスクブランクを搬送することができ、欠陥が極めて少ない高精度のフォトマスクブランクを提供することができる。これにより微細なパターンを有するフォトマスクを高精度に形成することができ、微細なパターン露光が可能となる。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
上方が開放した四角箱形の容器本体と、上記上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着される蓋体とを具備し、内部にフォトマスクブランクを収納する容器であって、該容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を上記両部材によって支持することにより、フォトマスクブランクを収納する容器において、上記支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が１．９６〜１１７．６Ｎとなるように上記バネ部材の弾発力を設定したことを特徴とするフォトマスクブランクの収納容器。
【請求項２】
上方が開放した四角箱形の容器本体と、上記上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着される蓋体とを具備し、内部にフォトマスクブランクを収納する容器内部でフォトマスクブランクを支持する方法であって、上記容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を上記両部材によって支持する方法において、上記支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が１．９６〜１１７．６Ｎとなるように上記バネ部材の弾発力を設定して支持することを特徴とするフォトマスクブランクの支持方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体集積回路等の製造などに用いられるフォトマスクブランクの収納容器及び支持方法、特に、欠陥の発生に影響するパーティクルの発生を低減したフォトマスクブランクの収納容器及び支持方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣ及びＬＳＩ等の半導体集積回路の製造をはじめとして、広範囲な用途に用いられているフォトマスクは、基本的には透光性基板上にクロムやモリブデンシリコンなどを主成分とする遮光膜を、所定のパターンに形成したものである。近年では半導体集積回路の高集積化などの市場要求に伴ってパターンの微細化が急速に進んできた。このパターンの微細化に伴い、微小な欠陥のないフォトマスクブランクを提供することが求められている。
【０００３】
これまでにも、フォトマスクブランクの製造工程、例えば、石英基板の上に膜を成膜する工程、成膜後の洗浄工程、レジスト塗布工程などにおいて発生する微小な欠陥を与えるパーティクルなどを低減する方法として様々な方法が提案され、欠陥が極めて少ないフォトマスクを製造し得る技術が確立されてきた。
【０００４】
しかしながら、このような方法で厳密に管理して製造された極めて欠陥の少ないフォトマスクブランクであっても、次工程であるフォトマスク製造工程に供する場合、一般的には、フォトマスクブランクを製造する工場からフォトマスクを製造する工場への搬送を伴うため、フォトマスクブランクを所定の容器に収納して搬送するが、この搬送の際に欠陥の増加が発生してしまい、その結果、フォトマスクの欠陥修正が必要になったり、欠陥により露光不良が発生したりしてしまうという問題が起こっていた。
【０００５】
特に、パターンの更なる微細化要求に対応するには、従来は問題とならなかった微細なパーティクルであってもその低減が必要となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、フォトマスクブランクの搬送による欠陥の増加を防止して、欠陥の少ない極めて高品質のフォトマスクブランクを提供するため、フォトマスクブランクを収納し、欠陥の原因となるパーティクルの発生を可及的に防止してフォトマスクブランクを搬送することができるフォトマスクブランクの収納容器及び支持方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
従来、半導体製造等に用いられるレジストを塗布したフォトマスクブランクを容器に収納して搬送する際に欠陥が増加する原因は、収納容器自体の汚れによるものか、又は容器の蓋開閉時の蓋と容器本体との摩擦により発生するパーティクルによるものと考えられてきた。
【０００８】
しかしながら、容器の汚れや摩擦により発生するパーティクルによる影響を可能な限り取り除いても、搬送の前後において欠陥が増加していることがわかった。このような容器では、通常、フォトマスクブランクが搬送時に動いて塗布したレジスト膜が容器内面等に接触して傷付くことがないようにするために、樹脂等の材料により形成された固定冶具を用いフォトマスクブランクの外周面で固定して、動かないようにする方法が採られる。
【０００９】
本発明者は、この点に注目して、鋭意検討を重ねた結果、搬送時に、収納されたフォトマスクブランクに与えられる振動等により発生する力によって、フォトマスクブランクと樹脂等の材料により形成された固定冶具との間に擦れが発生し、これによって硬度の高いフォトマスクブランクが、硬度の低い樹脂を削り取ってしまうことによりパーティクルが発生していることを知見した。
【００１０】
そこで、本発明者は、更に検討を重ねた結果、上方が開放した四角箱形の容器本体と、上記上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着される蓋体とを具備する容器内部にフォトマスクブランクを収納する際に、容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を上記両部材によって支持することにより、フォトマスクブランクを収納し、この支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が１．９６〜１１７．６Ｎとなるように上記バネ部材の弾発力を設定すれば、搬送の際に発生する振動等により生ずるフォトマスクブランクと固定冶具、即ちフォトマスクブランクと支持部材及びバネ部材との擦れによるパーティクルの発生を低減して、フォトマスクブランクを搬送することができることを見出し、本発明をなすに至った。
【００１１】
即ち、本発明は、上方が開放した四角箱形の容器本体と、上記上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着される蓋体とを具備し、内部にフォトマスクブランクを収納する容器であって、該容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を上記両部材によって支持することにより、フォトマスクブランクを収納する容器において、上記支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が１．９６〜１１７．６Ｎとなるように上記バネ部材の弾発力を設定したことを特徴とするフォトマスクブランクの収納容器、及び
上方が開放した四角箱形の容器本体と、上記上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着される蓋体とを具備し、内部にフォトマスクブランクを収納する容器内部でフォトマスクブランクを支持する方法であって、上記容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を上記両部材によって支持する方法において、上記支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が１．９６〜１１７．６Ｎとなるように上記バネ部材の弾発力を設定して支持することを特徴とするフォトマスクブランクの支持方法を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、欠陥の原因となるパーティクルの発生を可及的に防止してフォトマスクブランクを搬送することができ、欠陥が極めて少ない高精度のフォトマスクブランクを提供することができる。これにより微細なパターンを有するフォトマスクを高精度に形成することができ、微細なパターン露光が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態及び実施例】
【００１３】
以下、本発明につき、図面を参照して更に詳しく説明する。
本発明のフォトマスクブランクの収納容器は、上方が開放した四角箱形の容器本体と、上記上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着される蓋体とを具備し、内部にフォトマスクブランク、好ましくは６インチ（約１５２．４ｍｍ）角のフォトマスクブランク、例えば、石英基板等の樹脂より高硬度の基板に遮光膜等を形成したフォトマスクブランク、特に、上記遮光膜等の上に更にレジスト膜を形成したフォトマスクブランクを収納する容器であって、該容器の互いに対向する一対の壁部内面にそれぞれ合成樹脂製の支持部材と合成樹脂製のバネ部材とを設け、これら部材がフォトマスクブランクを押圧する弾発力によってフォトマスクブランクの互いに対向する一方の両側面を上記両部材によって支持することにより、フォトマスクブランクを収納する容器において、上記支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力が１．９６〜１１７．６Ｎとなるように上記バネ部材の弾発力を設定したものである。
【００１４】
このような容器としては、例えば、図１〜４に示されるような容器が挙げられる。この容器は、６インチ角のフォトマスクブランクの収納容器を示すものである。この容器１は、内部に支持部材２１を備え、上下方向中央部より上部が中央部及び下部より横方向（前後左右方向）に幅広に形成された上方が開放した高さが約４．２５インチ（約１０８．０ｍｍ）程度の四角箱形の容器本体１１と、内部に２つのバネ部材２２，２２を備える高さが３．２５インチ（約８２．６ｍｍ）程度の四角箱形の蓋体１２とからなる。そして、容器本体１１と蓋体１２とは、蓋体１２を容器本体１１に被着させたときに、容器本体１１の上部外側面と蓋体１２の下部内側面とが接触する大きさに形成されている。
【００１５】
容器本体１１には、その内部から上方へ突出するように、合成樹脂からなる断面凹形状の支持部材２１が、その外側面の非突出部分及び底板２１２の下面と容器本体１１の内面とが各々接触するように配設されている。そして、容器本体１１の内底面には、支持部材２１の外側面の幅方向にその幅で離間する係止突条１１１，１１１が設けられており、この係止突条１１１，１１１により、支持部材２１がその外側面の幅方向に動かないように固定されている。
【００１６】
また、この支持部材２１の側壁２１１，２１１の内側面２１１ａ，２１１ａの間隔は６インチより狭く（１６ｍｍ程度狭く）形成されると共に、内側面２１１ａ，２１１ａには、対向する複数組（図の場合は５組）の断面コ字状の溝２１１ｃ，２１１ｃが、内側面２１１ａ，２１１ａの上下端に亘って形成されている。更に、この溝２１１ｃ，２１１ｃは、幅がフォトマスクブランクｐの厚さより若干広く、また深さが、対向する各々の溝２１１ｃ，２１１ｃの底面の間隔が６インチよりやや広く（０．６ｍｍ程度広く）なるように形成されている。
【００１７】
そして、容器１にフォトマスクブランクｐを収納する際、フォトマスクブランクｐは、フォトマスクブランクｐの４隅のうちの隣接する２隅を溝２１１ｃ，２１１ｃに合わせ、溝２１１ｃ，２１１ｃの上端から溝２１１ｃ，２１１ｃにガイドされて挿入される。これにより、フォトマスクブランクｐは、溝２１１ｃ，２１２ｃにガイドされて、溝２１１ｃ，２１１ｃの下端において、フォトマスクブランクｐの４つの外周面のうち任意の一組の平行面の一方の面全体が、支持部材２１の底板２１２の上面２１２ｂに当接するようになっている。
【００１８】
一方、蓋体１２は、上記容器本体１１の上方開放部を覆って容器本体上端部に着脱自在に被着され、蓋体１２内部には、蓋体１２を容器本体１１に被着したときに、支持部材２１の側壁２１１，２１１の上方となる位置に、合成樹脂からなる２つのバネ部材２２，２２が各々設けられている。このバネ部材２２，２２は図５に示されるように、上板２２１と、この上板２２１の一端から下方に上板２２１と直交するように設けられた側板２２２と、上板２２１と側板２２２とが交差する位置から上板２２１とは反対の方向に設けられたフォトマスクブランクｐの厚さよりやや幅広で、長さが１インチ程度の複数の支持片２２３（図の場合は５つ）とからなり、支持片２２３は上板２２１の上面に対して角度θ（図５の場合約１５°）下方に傾けて配設されている。この場合、２つのバネ部材２２，２２は、支持片２２３，２２３を向かい合わせて、各々の側板２２２，２２２の間隔が６インチより広く（２．５ｍｍ程度広く）なるようにして、各々の上板２２１，２２１の上面を蓋体１２の天板の内面に接着させて、蓋体１２の内部に取り付けられている。
【００１９】
そして、支持片２２３，２２３は、蓋体１２を容器本体１１に被着させたときに、上述した支持部材２１に形成された溝２１１ｃの上方に各々が位置するように等間隔に形成され、また、この支持片２２３，２２３の先端の幅方向両端部には、係止爪２２３ａ，２２３ａがフォトマスクブランクｐの厚さとほぼ同じ間隔で離間させて、下方に向けて設けられており、蓋体１２を容器本体１１に被着させたとき、支持部材２１の溝２１１ｃ，２１１ｃに挿入されなかった２隅が、この係止爪２２３ａ，２２３ａの間に挿入され、係止爪２２３ａ，２２３ａによりフォトマスクブランクｐの厚さ方向の動きが規制されるようになっている。
【００２０】
更に、蓋体１２を容器本体１１に被着させたときに、このバネ部材２２の支持片２２３は、その下面２２３ｂと、上述したフォトマスクブランクｐの平行面の他方の面（支持部材２１の底板２１２の上面２１２ｂと当接した一方の面に対する他方の面）と当接するようになっており、下面２２３ｂの側板２２２との接合部から支持部材２１の底板２１２の上面２１２ｂへの距離がほぼ６インチになるようになっている。
【００２１】
なお、蓋体１２の対向する一組の内側面の下端中央部には、蓋体１２の内方に向けて各々係止片１２１，１２１が設けられており、この係止片１２１，１２１は、蓋体１２を容器本体１１に被着させたときに、容器本体１１の幅広に形成された上部の対向する一組の外側面の下端中央部に設けられた係止溝１１２，１１２に係合し、蓋体１２が容器本体１１にロックされて固定されるようになっている。
【００２２】
次に、フォトマスクブランクを支持して収納する方法について説明する。
まず、上述した容器本体１１の支持部材２１に、フォトマスクブランクｐを、その４隅のうちの隣接する２隅を溝２１１ｃ，２１１ｃに合わせて、溝２１１ｃ，２１１ｃの上端から溝２１１ｃ，２１１ｃに挿入する。次いで、蓋体１２を容器本体１１に被着させるが、この際、蓋体１２に設けられた係止片１２１，１２１の間隔は容器本体１１上部の外壁よりも狭くなっているため、容器本体１１は、蓋体１２の係止片１２１，１２１の間隔を若干押し広げるようにして蓋体１２内部に押し込まれる。
【００２３】
容器本体１１が更に押し込まれると、フォトマスクブランクｐの支持部材２１の溝２１１ｃ，２１１ｃに挿入されなかった２つの隅が、各々支持片２２３，２２３の各々の先端に設けられた係止爪２２３ａ，２２３ａ間に挿入されると共に、支持片２２３，２２３の下面２２３ｂ，２２３ｂに当接する。この状態から容器本体１１が更に押し込まれると、支持片２２３，２２３が上方に撓むと共に、フォトマスクブランクｐに対して弾発力が生じ、この弾発力によって、収納されたフォトマスクブランクｐは、上記支持部材２１とバネ部材２２，２２の支持片２２３，２２３とによって、フォトマスクブランクｐの互いに対向する一方の両側面で押圧され、挟持されて支持される。
【００２４】
そして、蓋体１２の移動端において、バネ部材２２の支持片２２３は、ほぼ水平となり、支持片２２３の下面２２３ｂのほぼ全面がフォトマスクブランクｐと当接するようになると共に、蓋体１２に設けられた係止片１２１，１２１が容器本体１１に設けられた係止溝１１２，１１２に係合し、蓋体１２が容器本体１１にロックされて、支持片２２３の弾発力が固定され、フォトマスクブランクｐの互いに対向する一方の両側面が、支持部材２１の底板２１２の上面２１２ｂと、支持片２２３の下面２２３ｂとで押圧され、挟持されて支持される。
【００２５】
フォトマスクブランクは、上述したような方法により容器に支持されて収納されるが、本発明においては、上述したような、フォトマスクブランクが支持部材とバネ部材とで挟持されて支持された状態において、上記支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力（図１〜４に示される容器にフォトマスクブランクｐを収納した場合においては、フォトマスクブランクｐの外周面が、支持部材２１の底板２１２の上面２１２ｂ、及びバネ部材２２の支持片２２３の下面２２３ｂに当接した部分における押圧力）が１．９６〜１１７．６Ｎ、好ましくは１．９６〜８５Ｎ、より好ましくは２〜５８．８Ｎとなるようにバネ部材の弾発力が設定される。このバネ部材の弾発力は、図１〜４に示される容器においては、上述したバネ部材２２の支持片２２３の厚さ、傾斜角度θ、支持部材２１の底板２１２の上面２１２ｂと、バネ部材２２の支持片２２３の下面２２３ｂとの距離などを調節することにより設定が可能である。
【００２６】
押圧力が１１７．６Ｎを超えるように設定すると、蓋体を容器本体に被着する際にフォトマスクブランクとバネ部材とが擦れ合った場合、バネ部材の弾発力が強すぎて、硬度の高いフォトマスクブランクが、硬度の低い樹脂を削り取ってしまってパーティクルが発生してしまう。また、過剰な押圧力を与えると、フォトマスクブランクが破損することもある。一方、押圧力が１．９６Ｎ未満では、支持が不十分であるため、搬送時に、収納されたフォトマスクブランクに与えられる振動等により発生する力によって、フォトマスクブランクが大きく振動してしまい、これにより発塵してかえって欠陥が増加する。場合によっては、レジスト膜に修正不能な致命的なキズを与えてしまうこともある。
【００２７】
なお、本発明の収納容器及び支持方法を好適に適用し得る容器の一例として、図１〜４に示されるような容器を提示したが、本発明の容器及び支持方法を好適に適用し得る容器は、上記図示されたような容器に限定されるものではなく、その構成は、本発明の要旨を変更しない範囲で適宜変更することが可能である。
【００２８】
以下、本発明について、更に具体的な実験例を挙げて説明する。
【００２９】
［実験例］
６インチ角石英基板に７０．０ｎｍのクロム遮光膜をスパッタリングにより形成し、更にその上に４００．０ｎｍの露光用レジストを塗布したフォトマスクブランクを、図１〜４に示されるような容器に５枚収納し、バネ部材の弾発力を変えることにより、支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力を表１に示される値となるようにバネ部材の弾発力を設定してフォトマスクブランクを支持したものを７個準備し、これらを搬送した。搬送はトラックによる国内輸送であり、輸送距離は約１０ｋｍである。
【００３０】
この場合、フォトマスクブランクと支持部材とが当接した部分の面積は、フォトマスクブランクの外周面の任意の一面に相当し、約９．６８×１０-4ｍ2である。なお、支持部材及びバネ部材が上記フォトマスクブランクの両側面に各々与える押圧力は、容器本体にフォトマスクブランクを収納し、蓋体を容器本体に被着して容器を閉止する操作を、重量計に積載した状態で実施し、この閉止操作に要した力を上記重量計による測定値から求める方法で測定した。
【００３１】
各々の容器に収納されていたフォトマスクブランク上の、輸送前後の０．２〜１．０μｍ径のパーティクル数をＡｒＦレーザー光走査型欠陥検査装置により計数し、そのパーティクル（欠陥）増加数を平均した値を表１に、押圧力に対して欠陥増加数の平均値をプロットしたグラフを図６に示す。
【００３２】
【表１】
2005274724.tif 000003
【００３３】
押圧力が１．９６Ｎ未満である押圧力が１Ｎの場合、輸送後のフォトマスクブランクは、輸送時に、十分に支持されていなかったために、フォトマスクブランクが容器内でがたついて、これにより発塵したため欠陥が増加した。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明のフォトマスクブランクの収納容器であって、フォトマスクブランクを収納した状態を示す横断面図であり、（Ａ）は図３（Ａ）中のＺ１−Ｚ１線に沿った断面図、（Ｂ）は図３（Ａ）中のＺ２−Ｚ２線に沿った断面図である。
【図２】本発明のフォトマスクブランクの収納容器であって、フォトマスクブランクを収納した状態を示す縦断面図であり、（Ａ）は図１（Ａ）中のＸ１−Ｘ１線に沿った断面図、（Ｂ）は図１中のＸ２−Ｘ２線に沿った断面図である。
【図３】本発明のフォトマスクブランクの収納容器であって、フォトマスクブランクを収納した状態を示す縦断面図であり、（Ａ）は図１（Ａ）中のＹ１−Ｙ１線に沿った断面図、（Ｂ）は図１中のＹ２−Ｙ２線に沿った断面図である。
【図４】本発明のフォトマスクブランクの収納容器であって、（Ａ）は図２（Ａ）のフォトマスクブランクを収納して閉止する前の状態を示す縦断面図、（Ｂ）は図３（Ｂ）のフォトマスクブランクを収納して閉止する前の状態を示す縦断面図である。
【図５】図１〜４に示される収納容器のバネ部材を示す斜視図である。
【図６】実験例における、押圧力に対する欠陥増加数の平均値をプロットしたグラフである。
【符号の説明】
【００３５】
１  容器
１１  容器本体
１２  蓋体
２１  支持部材
２２  バネ部材
２２３  支持片
ｐ  フォトマスクブランク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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