(57)【要約】【課題】  パターンが記録された複数の基板を貼り合わせる場合に、一方の基板のパターンに基板伸縮などによる歪みが生じていたとしても、両基板に記録されたパターン同士を所定の位置関係で適切に対向させることができるようにする。【解決手段】  一方の基板は、複数のマークを記録しておいてからパターンを形成する。そのマークをパターン形成後に座標情報取得装置２７により読取って、マークで囲まれた領域の歪み具合を表す領域情報を取得する（領域情報取得部３２）。ＣＡＤ２５、ＣＡＭ２６により、もう一方の基板に記録するパターンを表す画像データを生成する。画像補正処理部３１において、領域情報に基づいてその画像データを補正し、露光処理部により補正後の画像データが表すパターンを基板に記録する。【選択図】          図５
2005221806.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１パターンが記録された第１基板と第２パターンが記録された第２基板とを前記第１パターンと第２パターンとが所定の位置関係で対向するように貼り合わせて第３基板を製造する工程で、前記第２基板の製造に用いられる画像記録装置であって、
前記第２パターンを表すデジタル画像データを取得する画像データ取得手段と、
前記第１基板上に定義された領域を特定する領域情報を取得する領域情報取得手段と、
前記領域情報取得手段により取得された前記領域情報に基づいて、前記画像データ取得手段により取得されたデジタル画像データが表す第２パターンが前記第１基板の前記第１パターンと所定の位置関係で対向し得るパターンとなるように、前記デジタル画像データを補正する画像補正手段と、
前記画像補正手段により補正されたデジタル画像データに基づいて光ビームを変調し、変調された光ビームを所定の面に結像させることにより前記補正されたデジタル画像データが表す第２パターンを前記面に記録する記録手段と
を備えたことを特徴とする画像記録装置。
【請求項２】
前記第１基板上の所定点を識別することにより前記領域の特定に必要な座標情報を取得する座標情報取得手段をさらに備え、
前記領域情報取得手段は、前記座標情報取得手段により取得された座標情報に基づいて前記領域情報を生成することを特徴とする請求項１記載の画像記録装置。
【請求項３】
前記座標情報取得手段は、前記第１基板上に設けられたアラインメントマークを識別し、該アラインメントマークの位置座標を前記座標情報として取得することを特徴とする請求項２記載の画像記録装置。
【請求項４】
前記座標情報取得手段は、前記第１パターンを構成する所定点を識別し、該所定点の位置座標を前記座標情報として取得することを特徴とする請求項２または３記載の画像記録装置。
【請求項５】
前記領域情報取得手段は、前記第１基板上に定義された複数の領域をそれぞれ特定するための領域情報を取得し、
前記画像補正手段は、前記各領域に対応するように前記デジタル画像データを分割して、分割により得られた領域別のデジタル画像データごとに前記補正を行うことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の画像記録装置。
【請求項６】
第１パターンが記録された第１基板と第２パターンが記録された第２基板とを前記第１パターンと第２パターンとが所定の位置関係で対向するように貼り合わせて第３基板を製造する方法において、
前記第２パターンを表すデジタル画像データを生成し、
前記第１基板上に定義された領域を特定する領域情報を取得し、
前記領域情報に基づいて、前記デジタル画像データが表す第２パターンが前記第１基板の前記第１パターンと所定の位置関係で対向し得るパターンとなるように、前記デジタル画像データを補正し、
補正されたデジタル画像データに基づいて光ビームを変調し、変調された光ビームを前記第２基板上に結像させることにより前記補正されたデジタル画像データが表す第２パターンを前記第２基板に記録することを特徴とする基板の製造方法。
【請求項７】
前記第１基板上の所定点を識別することにより前記領域の特定に必要な座標情報を取得し、
取得された座標情報に基づいて前記領域情報を生成することを特徴とする請求項６記載の基板の製造方法。
【請求項８】
前記第１基板上に設けられたアラインメントマークを識別し、該アラインメントマークの位置座標を前記座標情報として取得することを特徴とする請求項７記載の基板の製造方法。
【請求項９】
前記第１パターンを構成する所定点を識別し、該所定点の位置座標を前記座標情報として取得することを特徴とする請求項７または８記載の基板の製造方法。
【請求項１０】
前記第３基板を連続して複数枚製造する場合に、一部の第３基板を構成する第１基板についてのみ前記座標情報を取得し、該座標情報に基づいて生成された領域情報を他の第３基板の製造にも利用することを特徴とする請求項７から９のいずれか１項記載の基板の製造方法。
【請求項１１】
請求項７から１０のいずれかに記載の方法において、
前記第１基板上に定義された複数の領域をそれぞれ特定するための領域情報を取得し、
前記各領域に対応するように前記デジタル画像データを分割して、分割により得られた領域別のデジタル画像データごとに前記補正を行うことを特徴とする基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の製造方法と、そのような基板の製造に用いられる画像記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイに代表されるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造工程では、面露光装置により複数のマスクパターンを基板上に転写することによって、各画素を構成する素子や電極を形成している。例えば、ＴＦＴ液晶ディスプレイは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）、キャパシタ、電極が配列形成されたＴＦＴアレイ基板を製造し、さらにＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色層が形成されたカラーフィルター基板を製造した後、両基板を貼り合わせ、貼り合せた基板の間に液晶材を封入することにより製造される。
【０００３】
２つの基板を貼り合わせる際には、ＴＦＴアレイ基板上の各画素を構成する部分と、カラーフィルター基板の各画素を構成する部分とが、正確に合わさるように貼り合わせを行うことが望ましいが、実際の製造工程では基板やマスクの伸縮に伴うパターンの歪みが生じるため、基板全体にわたって画素同士を正確に位置合わせすることは難しい。パターンの歪みにより生じるずれは、各画素を取り囲むブラックマトリクスにより、ある程度は吸収する（隠す）ことができる。しかし、ブラックマトリクスの幅を狭めれば、上記ずれが顕在化し、歩留まりが低下する。
【０００４】
各画素の開口率を高めて液晶表示を明るくするためには、ブラックマトリクスの幅を、より狭くする必要がある。このため、上記ずれの問題の他の方法による解決が望まれる。
【０００５】
また、近年、フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）の製造工程では、生産性を高めることを目的とした基板の大型化が進んでいる。しかし、基板が大きくなれば、上記基板の歪みも無視できない大きさとなる。このため、画素同士を正確に位置合わせすることがさらに困難になり、生産性を向上するどころか、かえって歩留まりの低下を招きかねない。このため、生産性向上の観点からも、パターンのずれの問題の早急な解決が望まれている。
【０００６】
２種類の基板を貼り合わせる際の基板相互の位置合わせについては、例えば、特許文献１や特許文献２に、ＴＦＴアレイ基板やカラーフィルター基板に設けられたアラインメントマークの位置を測定し、その位置情報を利用して位置合わせを行う方法が開示されている。しかしながら、マスクを用いた投影光学系による露光方法は、装置の機械的な制御により露光位置や傾きを調整して位置合わせを行うため、基板（パターン）の複雑な歪みには対応できない。
【０００７】
一方、近年、マスクを使用せず、基板上に所望のパターンを直接記録する手段として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）などの空間光変調素子を利用して画像データに応じて変調されたレーザビームで露光を行う露光装置が注目されている（例えば、特許文献３）。このような露光装置は、パターンをデジタル画像データとして記憶しているためマスク作製のためのリードタイムおよびランニングコストはかからない。
【特許文献１】特開平７−２９５２２９号公報
【特許文献２】特許３１２７７６３号公報
【特許文献３】特開２００３−３３７４２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、パターンが記録された複数の基板を貼り合わせる場合に、一方の基板のパターンに基板伸縮などによる歪みが生じていたとしても、両基板に記録されたパターン同士を所定の位置関係で適切に対向させることができる方法および装置を提供する。これにより、２枚の基板の貼り合わせを含む製造工程の歩留まりを改善し、生産性を向上することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記目的を達成するために、次のような画像記録装置を提供する。この画像記録装置は、第１パターンが記録された第１基板と第２パターンが記録された第２基板とを第１パターンと第２パターンとが所定の位置関係で対向するように貼り合わせて第３基板を製造する工程で、第２基板の製造に用いられる装置である。具体的には、例えば、カラーフィルター基板(第１基板)とＴＦＴアレイ基板(第２基板)を貼り合せて液晶パネル基板（第３基板）を製造する際に、カラーフィルターのパターン（第１パターン）とＴＦＴを含む回路パターン（第２パターン）を精度よく合わせるために用いられる。
【００１０】
この画像記録装置は、第２パターンを表すデジタル画像データを取得する画像データ取得手段と、第１基板上に定義された領域を特定する領域情報を取得する領域情報取得手段と、領域情報取得手段により取得された領域情報に基づいて、画像データ取得手段により取得されたデジタル画像データが表す第２パターンが第１基板の第１パターンと所定の位置関係で対向し得るパターンとなるように、デジタル画像データを補正する画像補正手段を備える。
【００１１】
また、この画像記録装置は、画像補正手段により補正されたデジタル画像データに基づいて光ビームを変調し、変調された光ビームを所定の面に結像させることにより補正されたデジタル画像データが表す第２パターンを前記面に記録する記録手段を備える。
【００１２】
上記構成では、領域情報取得手段により第１基板の歪みの情報を取得し、画像補正手段が記録前のデジタル画像データに対し補正を行うため、記録手段により第２基板に記録される第２パターンは第１基板の第１パターンの歪みに合ったパターンとなる。したがって、第１基板と第２基板を貼り合せた際の対向するパターンのずれを低減することができる。
【００１３】
また、画像記録装置は、第１基板上の所定点を識別することにより前記領域の特定に必要な座標情報を取得する座標情報取得手段をさらに備えていてもよい。座標情報取得手段は、第１基板上に設けられたアラインメントマーク、あるいはパターンを構成する所定点（例えば矩形パターンの左上角など）を識別して、識別したマークや点の位置座標を座標情報として取得する。なお、座標情報取得手段は、画像記録装置とは別の装置であってもよい。いずれの場合も、領域情報取得手段は、その座標情報に基づいて領域情報を生成することができる。
【００１４】
また、領域情報取得手段は、第１基板上に定義された複数の領域をそれぞれ特定するための領域情報を生成し、画像補正手段は、その各領域に対応するようにデジタル画像データを分割して、分割により得られた領域別のデジタル画像データごとに補正を行ってもよい。細かい単位で補正を行うほうが、貼り合わせ時のパターンの一致の度合いがよくなるからである。
【００１５】
また、本発明は、第１パターンが記録された第１基板と第２パターンが記録された第２基板とを第１パターンと第２パターンとを所定の位置関係で対向するように貼り合わせて第３基板を製造する方法として、次のような方法を提案する。この方法は、上記画像記録装置を用いて実施することができる。
【００１６】
まず、一方で、第２パターンを表すデジタル画像データを生成する。また他方で、第１基板上に定義された領域を特定する領域情報を取得する。領域情報は、前述のように、第１基板上に設けられたアラインメントマークやパターンを構成する所定点の位置座標を座標情報として取得し、その座標情報から生成すればよい。
【００１７】
次に、その領域情報に基づいて、デジタル画像データが表す第２パターンが第１基板の前記第１パターンと所定の位置関係で対向し得るパターンとなるように、デジタル画像データを補正する。その後、補正されたデジタル画像データに基づいて光ビームを変調し、変調された光ビームを第２基板上に結像させることにより補正されたデジタル画像データが表す第２パターンを第２基板に記録する。
【００１８】
第３基板を連続して複数枚製造する場合に、一部の第３基板を構成する第１基板についてのみ座標情報を取得し、その座標情報に基づいて生成された領域情報を他の第３基板の製造に利用してもよい。例えば、製造工程で最初に製造される基板についてのみ座標情報を取得してもよいし、抽出した何枚かの基板についてのみ座標情報を取得してもよい。あるいは、すべての第１基板について、毎回座標情報を取得してもよい。なお、領域情報は、複数の基板から得られた座標情報の平均をとることによって生成してもよい。
【００１９】
また、上記方法では、第１基板上に定義された複数の領域をそれぞれ特定するための領域情報を取得し、各領域に対応するようにデジタル画像データを分割して、分割により得られた領域別のデジタル画像データごとに補正を行ってもよい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の画像記録装置および基板の製造方法によれば、第１基板の歪みの情報に基づいて、第２基板に記録するパターンを画像データの段階で補正してから記録するので、両基板を貼り合せて第３基板を製造する際に、両基板の対向するパターン同士のずれを低減することができる。これにより、製造工程の歩留が改善されるのみならず、製造される基板の品質を向上することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の一実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００２２】
はじめに、液晶ディスプレイの一般的な製造方法について概要を説明するとともに、本発明が解決しようとする課題を明確にする。
【００２３】
図１は、ＴＦＴ液晶ディスプレイを製造する際の一般的なプロセスを示す図である。図に示すように、ＴＦＴ液晶ディスプレイの製造工程は、ＴＦＴアレイ基板を製造するアレイ基板製造工程１、カラーフィルター基板を製造するカラーフィルター基板製造工程２、それらの工程で製造された２種類の基板を貼り合わせて液晶パネル基板を製造するセル工程３、および液晶パネル基板に駆動回路を取り付けてディスプレイを完成させるモジュール工程４からなる。
【００２４】
図２は、上記各工程で製造される基板の概要を示す図である。図に示すように、アレイ基板製造工程１では、ガラス基板上にＴＦＴ７を含む回路６が配列形成されたＴＦＴアレイ基板５が製造される。ＴＦＴアレイ基板５は切断され、これにより液晶ディスプレイと同じ大きさのＴＦＴアレイ基板１０が得られる。アレイ基板製造工程１では、このように大型基板上に回路６を形成することで、生産性を高めている。但し、液晶ディスプレイと同じ大きさの基板上に回路６を形成してＴＦＴアレイ基板１０を製造する場合もある。
【００２５】
一方、カラーフィルター基板製造工程２では、図に示すように、ガラス基板上にＲ、Ｇ、Ｂの３色の着色層（カラーフィルター９）が交互に配列形成されたカラーフィルター基板８が製造される。
【００２６】
ＴＦＴアレイ基板１０と、カラーフィルター基板８とは、図に示すように、セル工程３において、回路６とカラーフィルター９とが対向するように貼り合わせられる。
【００２７】
図３（ａ）および（ｂ）は、ＴＦＴアレイ基板１０とカラーフィルター基板８の断面を拡大した図である。図に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０は、ガラス基板１１の上に、ＴＦＴ７と透明導電膜からなる画素電極１６、その他キャパシタなどが形成されており、最上層には配向膜２４が形成されている。ＴＦＴ７は、ゲート電極１２、ゲート絶縁膜１３、ソース電極１４、ドレイン電極１５、その他図示されない保護膜などにより構成される。ガラス基板の背面側には、偏光板１７が形成されている。
【００２８】
カラーフィルター基板８は、ガラス基板１８の表面に各色の着色層を、ブラックマトリクス２２を挟んで交互に形成したものである。図は、赤色層１９Ｒと緑色層１９Ｇを例示している。さらにその着色層を覆うように、共通電極２０と配向膜２１が形成されている。ガラス基板１８の背面側（着色層が形成されていると側と反対の側）には偏光板２３が形成されている。
【００２９】
上記ＴＦＴアレイ基板１０およびカラーフィルター基板８の層構造は、成膜、露光、現像により薄膜のパターンを形成し、さらに、そのパターンの上に同様のプロセスにより他のパターンを形成して複数のパターンを何層にも重ねることによって形成される。通常は、各層ごとに、それぞれ異なるパターンが形成されたマスクを用意して、基板上に各マスクのパターンを転写する。
【００３０】
ここで、本発明が解決しようとする課題について説明する。カラーフィルター基板８のブラックマトリクス２２はＴＦＴ７の光漏れ防止機能を有する。このため、図（ａ）に示すようにＴＦＴ７に対向する部分にはブラックマトリクス２２が配置されるように貼り合わせを行うことが望ましい。貼り合わせ時の位置ずれを許容するためには、図３（ｂ）に示すようにブラックマトリクス２２の幅を広めにすればよい。しかし、図３（ｂ）では、画素電極１６のブラックマトリクス２２により覆われる部分が多くなってしまう（開口率が小さくなる）ため、図３（ａ）の場合に比して液晶ディスプレイの表示が暗くなる。このため、図３（ａ）に示すようにブラックマトリクス２２の幅は必要最小限の幅とした上で、図２の回路６とカラーフィルター９とが正確に合わさるように基板を貼り合わせ、開口率を高めることが必要と考えられている。
【００３１】
しかし、カラーフィルター基板製造工程２では、熱処理などの過程で基板に歪みが生じ、図４に例示するように、図４（ａ）に示す形状のカラーフィルター９を形成したつもりが、実際には図４（ｂ）に示すように歪んだ形状のカラーフィルター９が形成されてしまう場合がある。カラーフィルター９が図４（ｂ）に示すように歪んでいる場合には、基板相互の位置関係をいくら精度よく制御しても、基板全面にわたって回路６とカラーフィルター９とを正確に合わせることはできない。
【００３２】
本発明の以下に示す実施の形態では、カラーフィルター９の歪みに合わせて回路６を歪ませることで上記問題を解決する。カラーフィルター９と回路６それぞれの形状が歪んでいても、それらの形状が同じであれば、開口率を高めることができる。しかし、ＴＦＴアレイ基板１０を熱処理するなどの方法では、各回路６について所望の歪みを生じさせることはできず、基板全面にわたって回路６とカラーフィルター９とを正確に合わせることはできない。このため、回路形成後のＴＦＴアレイ基板全体に対して処理を施すのではなく、回路６を形成する段階で、はじめから歪んだ回路を形成することで上記問題を解決する。
【００３３】
但し、前述のように、回路６は複数のパターンを何層にも重ねて形成することによって完成する。歪んだ回路を形成するためには、各層ごとに転写するパターンを歪ませる必要があるが、マスクパターンを基板に転写する通常の方法では、歪んだ回路を形成するためには歪んだパターンが形成されたマスクを多数用意しなければならない。しかし、以下に示す実施の形態では、マスクパターンの転写に代えて、パターンを表すデジタル画像を生成し、その画像信号に基づいて変調された光ビームで基板を露光することによって、基板上にパターンを記録する。
【００３４】
以下、本発明の画像記録装置および基板の製造方法の実施の形態について、具体的に説明する。
【００３５】
図５は、基板上にパターンを記録するパターン記録システムを示す図である。このパターン記録システムは、通常パターン設計に用いられているＣＡＤ（Computer Aided Design）システム２５およびＣＡＭ(Computer Aided Manufacturing)システム２６と、基板表面に設けられたマークを読み取り、その座標を出力する座標情報取得装置２７と、基板にパターンを記録する画像記録装置２８とにより構成される。なお、座標情報取得装置２７は、図の例のように画像記録装置２８と別の装置であってもよいし、画像記録装置２８の一機能としての座標情報取得部であってもよい。
【００３６】
ＣＡＤシステム２５とＣＡＭシステム２６は、汎用のコンピュータ（パソコンなど）にＣＡＤソフトやＣＡＭソフトを組み込んだものである。ＣＡＭシステム２６は、基板に記録すべきパターンをベクトルデータとして出力し、出力されたベクトルデータは画像記録装置２８に入力される。
【００３７】
図６に、座標情報取得装置２７の構成例を示す。この座標情報取得装置２７は、読取りの対象となる基板３４を設置するステージ３３と、図示されない位置制御機構により２方向（ＸＹ方向）に移動可能に設置されたＣＣＤカメラ３５と、ＣＣＤカメラ３５の位置を制御するとともに撮影された画像から所定点を抽出し、その座標情報を出力する読取制御部３６により構成される。図に示すように、座標情報取得装置２７の読取制御部３６は、画像記録装置２８からの制御信号に基づいてＣＣＤカメラ３５の位置を制御しながら、撮影した画像から得た座標情報を画像記録装置２８に対し出力する。
【００３８】
以下、読取制御部３６の処理について説明する。所定点（座標を読み取る点）は、撮影により得られた画像に対しパターンマッチングあるいは特徴抽出処理などの画像処理を施すことにより抽出する。例えば、基板３４上にアラインメントマークが設けられており、撮影画像内にアラインメントマークの画像が含まれている場合には、予め記憶しているアラインメントマーク画像とのパターンマッチングによりアラインメントマークを抽出し、その座標を取得する。
【００３９】
あるいは、撮影画像には基板上のパターンの画像も含まれるため、パターン形状やカラーフィルターの色を、予め記憶している形状や色と比較して、その一致／不一致によりパターンの特徴点（例えば線と線が交差する点、１個のセルパターンの重心など）を抽出し、座標を取得してもよい。なお、本明細書において、セルパターンとは、前述のカラーフィルター基板８上のカラーフィルター９のように、基板上に同じ形状の単位パターンが多数形成される場合の、その単位パターンを指すものとする。
【００４０】
画像記録装置２８に対し出力する座標情報は、座標情報取得装置２７が保持する座標系で表わされた情報としてもよいが、本実施の形態では、座標情報は、読取りを行う基板上に定義された座標系により表わされる。
【００４１】
具体的には、基板上に予めアラインメントマークを４つ設けておき、その中の１つを原点を表わす基準アラインメントマークとして他と区別できるようにしておく。座標情報取得装置２７は、基板の読取開始時に、それらのアラインメントマークを読取り、基準アラインメントマークがある位置を原点とし、さらに原点と他のアラインメントマークとの位置関係により座標軸を定義する。以後、座標情報取得装置２７の読取制御部３６は、パターンの特徴点などを読取った場合、その座標情報をその基板上に定義された座標系で表わされた座標情報として出力する。
【００４２】
パターンの特徴点を抽出する処理としては、例えば次のような処理が考えられる。１つは、予め座標情報取得装置２７に基準アラインメントマークに最も近い位置にあるセルパターンの色情報を登録しておき、読取りの際に、その基準アラインメントマーク付近からＣＣＤカメラの走査を開始すれば、撮影画像から得られる色情報と登録された色情報との一致／不一致により、基準アラインメントマークに最も近い位置にあるセルパターンを抽出することができる。この場合、抽出したセルパターンの形状から、そのセルパターンの重心を求め、重心の座標を座標情報として出力すればよい。あるいは、隣接するセルパターンも一緒に抽出し、その境界線（ブラックマトリクス）上の格子点を求め、その格子点の座標を座標情報として出力してもよい。
【００４３】
基板の端、角などにあるセルパターンではなく、基板の中央部にあるセルパターンを抽出したい場合には、座標情報取得装置２７に、基準アラインメントマークに最も近い位置にあるセルパターンから抽出対象のセルパターンまでの距離を登録しておく。読取りの際には、色情報とその距離の情報の両方について登録情報との比較を行う。基板が歪んでいる場合には基板から読取られた情報が登録情報と完全に一致することはないが、読取られた情報が登録情報に最も近いセルパターンを、抽出対象のセルパターンとみなすことができる。
【００４４】
次に、画像記録装置２８について説明する。画像記録装置２８は、ＣＡＭシステム２６から入力されたベクトルデータをビットマップ画像に変換するラスタ変換部２９(画像データ取得部)と、そのビットマップ画像に対しパターンを歪ませるための補正処理を施す画像補正処理部３１と、画像補正処理部３１が出力した補正後のビットマップ画像に基づいてレーザ光を変調して露光ビームを出力する露光処理部３０とを備える。
【００４５】
また、画像記録装置２８は、座標情報取得装置２７を制御することによって複数の点（アラインメントマークやパターンの特徴点）の座標情報を得、３個あるいはそれ以上の点により特定される領域の大きさや形状の情報を生成する領域情報取得部３２を備える。画像補正処理部３１は、この領域情報取得部３２が取得した情報に基づいて、ビットマップ画像の補正を行う。
【００４６】
図７は、画像記録装置２８の領域情報取得部３２および画像補正処理部３１の処理について説明するための図であり、アラインメントマークの座標によって領域を特定する例を示している。
【００４７】
カラーフィルター基板８を製造する際に、ガラス基板上に最初に図７（ａ）に示すような規則正しく配列されたアラインメントマーク３７を設けておく。アラインメントマーク３７は、貫通孔、凹凸部、印刷されたマークなど、ＣＣＤカメラによる撮影画像で認識可能なものとし、かつ撮影画像に対しパターンマッチングあるいは特徴抽出処理を行ってマークを検出する際に画像処理を行い易い形状のマークとする。
【００４８】
アラインメントマーク３７は、カラーフィルター基板８の本来の機能の妨げにならない範囲で数多く設けることが好ましい。例えば、図７は、カラーフィルター基板８上に１２個のアラインメントマーク３７を設けた例を示している。
【００４９】
前述のように、カラーフィルター基板８は、その製造過程で伸縮する可能性がある。このため、処理前のガラス基板に図７（ａ）に示すように配置したアラインメントマークは、完成したカラーフィルター基板８では、例えば図７（ｂ）に示すように、ずれて配置されている可能性がある。座標情報取得装置２７は、このずれたアラインメントマーク３７の位置を検出して、その座標情報を出力する。
【００５０】
画像記録装置２８の領域情報取得部３２は、座標情報取得装置２７から取得したアラインメントマーク３７の座標情報に基づいて、カラーフィルター基板８上に定義された多角形の領域を特定する。例えば、４つのアラインメントマークを頂点とする四辺形領域を特定する。領域情報取得部３２は、アラインメントマーク３７の座標情報を、この四辺形の領域単位で画像補正処理部３１に入力する。
【００５１】
画像補正処理部３１は、上記四辺形領域の形状および大きさを、パターン画像を記録すべき領域の形状および大きさとして認識する。ラスタ変換部２９から出力されるビットマップ画像は、カラーフィルター基板８に一切の歪みがないことを想定して生成された画像データである。このため、画像補正処理部３１は、このデータを、認識した四辺形領域に合うように補正する。
【００５２】
四辺形領域ごとに補正を行うためには、図８に示すように、ラスタ変換部２９が出力したビットマップ画像３８を、領域情報取得部３２から与えられた情報に基づいて認識した四辺形領域の数と同じ数の領域に分割して、複数の領域別ビットマップ画像３９を生成する。ビットマップ画像を分割する際には、分割により得られる各領域が、認識した６個の四辺形領域のカラーフィルター基板８上での配置位置と対応するような切り分け方をする。すなわち、上述した図７の例であれば、ビットマップ画像を縦３つ横２つの計６個の領域に分割する。
【００５３】
次に、画像補正処理部３１は、図８に示すように、各領域別ビットマップ画像を、領域情報取得部３２から与えられた情報に基づいて認識した四辺形領域と同じ大きさおよび形状の画像４０ａとなるように補正処理を行う。あるいは、認識した四辺形領域と同じ大きさで左右を反転した形状の画像４０ｂとなるように画像変換あるいは補正処理を行う。
【００５４】
アラインメントマークをカラーフィルター基板８の背面、すなわちＴＦＴアレイ基板と貼り合せる面と反対側から読取った場合には、認識した四辺形領域と同じ形状の画像４０ａとなるように処理する。一方、アラインメントマークをカラーフィルター基板８の表面、すなわちＴＦＴアレイ基板と貼り合せる面から読取った場合には、認識した四辺形領域の形状を左右反転した形状の画像４０ｂとなるように処理する必要がある。
【００５５】
図９に、画像補正処理部３１により実行される補正処理の一例を示す。この例では、領域情報取得部３２から与えられた情報に基づいて認識した四辺形領域の境界線上および内部にあるすべての座標点について、次の処理を行う。なお、以下の説明では、図９（ｂ）に示すように、認識された四辺形領域をＡ´Ｂ´Ｃ´Ｄ´とし、その領域内の処理の対象となる座標点をＸ´として説明する。また、図９（ａ）に示すように、補正の対象となる領域別ビットマップ画像３９をビットマップ画像ＡＢＣＤとし、その画像内の点をＸで表す。
【００５６】
図９（ｂ）に示すように、辺Ａ´Ｂ´をｔ：（１−ｔ）に内分する点をＧ、辺Ｄ´Ｃ´をｔ：（１−ｔ）に内分する点をＨとし、線ＧＨをｓ：（１−ｓ）に内分する点がＸであるとすると、以下の関係式（１）が成り立つ。
【数１】
2005221806.tif 000003
【００５７】
この関係式（１）から、次の連立方程式（２）が導き出され、この連立方程式を解くことにより、ｔおよびｓを求めることができる。  
ａｓｔ＋ｂｓ＋ｃｔ＝ｄ
ｆｓｔ＋ｇｓ＋ｈｔ＝ｅ                    …  （２）
（但し、ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ，ｆ，ｇ，ｈは定数）
次に、求められたｔおよびｓの値を利用して、図９（ａ）に示すように、領域別ビットマップ画像ＡＢＣＤを四辺形領域Ａ´Ｂ´Ｃ´Ｄ´と同様に内分することによって、四辺形領域内の点Ｘ´に対応する領域別ビットマップ画像ＡＢＣＤ内の点Ｘを求める。その点Ｘに位置する画素の値を、四辺形領域内の点Ｘ´に位置する画素の値に決定する。四辺形領域Ａ´Ｂ´Ｃ´Ｄ´の境界線上および内部にあるすべての座標点について同様の処理を行えば、四辺形領域Ａ´Ｂ´Ｃ´Ｄ´を構成するすべての画素の値が決定される。これにより、図８に示すように、四辺形領域Ａ´Ｂ´Ｃ´Ｄ´の形状および大きさに合った画像４０ａあるいは４０ｂが得られる。
【００５８】
画像補正処理部３１により実行される補正処理としては、この他、アフィン変換や共一次変換などの変換処理を実行する処理も考えられる。
【００５９】
アフィン変換は、線型変換と平行移動の組み合わせにより、図形を変形する方式である。もとの図形を構成する点の座標を（ｘ，ｙ）、変形後の図形を構成する点の座標を（Ｘ，Ｙ）とし、両者の関係を下記式（３）により表す。  
Ｘ＝ａｘ＋ｂｙ＋ｃ
Ｙ＝ｄｘ＋ｅｙ＋ｆ            …（３）
カラーフィルター基板８から読取られた３つのアラインメントマークの座標と、それらのアラインメントマークが本来あるべき位置の座標（マークが形成されたときの座標）を式（３）に代入すると、６個の式が得られる。この６個の式からなる連立方程式を解くことにより、ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅおよびｆの値が求まる。このａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅおよびｆの値が設定された式（３）に基づいて、各画素の座標を置き換える。これにより、読取られた３つのアラインメントマークにより特定される三角形の領域に合った形状のビットマップ画像が得られる。
【００６０】
共一次変換は擬似アフィン変換とも呼ばれる方法で、アフィン変換の（３）式に代えて、次の（４）式を使用する。  
Ｘ＝ａｘｙ＋ｂｙ＋ｃｙ＋ｄ
Ｙ＝ｅｘｙ＋ｆｘ＋ｇｙ＋ｈ      …（４）
カラーフィルター基板８から読取られた４つのアラインメントマークの座標と、それらのアラインメントマークが本来あるべき位置の座標（マークが形成されたときの座標）を式（４）に代入すると、８個の式が得られる。この８個の式からなる連立方程式を解くことにより、ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ、ｆ、ｇおよびｈの値が求まる。このａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ、ｆ、ｇおよびｈの値が設定された式（４）に基づいて、各画素の座標を置き換える。これにより、読み取られた４つのアラインメントマークにより特定される四辺形領域に合った形状のビットマップ画像が得られる。
【００６１】
なお、ビットマップ画像の変形方法としては、この他種々の方法を適用可能であることは言うまでもない。
【００６２】
以上に例示したような補正処理により得られた画像４０ａあるいは４０ｂは、他の領域について同様にして得られた画像と合成された後、露光処理部３０に入力される。
【００６３】
なお、補正処理は、必ずしも領域を分けて行う必要はなく、基板の四隅に設けられたアラインメントマークにより基板全体を１つの領域として定義して処理を行ってもよい。但し、領域を分けて処理することにより、よりきめ細かな補正が可能になるため、貼り合わせ時のパターンの位置ずれは、領域を分けて処理するほうが小さくなる。
【００６４】
また、上記実施の形態では領域の特定にアラインメントマークを利用しているが、前述のように座標情報取得装置はパターンの特徴点の読取りも可能であるため、アラインメントマークに代えて、あるいはアラインメントマークに加えてパターンの特徴点を読取り、その座標により領域を特定してもよい。例えば、１００×１００個のセルパターンが配置された範囲を１つの領域と定義した場合、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向について、それぞれ１番目と１００番目のセルパターンの重心座標を取得すれば、その領域を特定することができる。
【００６５】
次に、露光処理部３０について説明する。露光処理部３０は、入力されたビットマップ画像のデータに基づいて光ビームや露光位置を制御し、ＴＦＴアレイ基板のベースとなる基板上にビットマップ画像により表される回路パターンを記録（露光）する。
【００６６】
露光処理部３０は、少なくとも、基板に光ビームを照射する光照射系と、その光ビームを入力された画像データに応じて画素ごとに変調する手段と、変調された光ビームにより基板上の所望の位置が走査されるように基板または光照射系を移動させる移動機構を備えている。以下に例示する露光装置は、光照射系は固定し、基板を載せるステージを移動させるタイプの露光装置である。
【００６７】
図１０に移動ステージの例を示す。図に示される移動ステージは、露光する基板１５０を表面に吸着して保持する平板状のステージである。４本の脚部１５４に支持された厚い板状の設置台１５６の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド１５８が設置されている。ステージ１５２は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド１５８によって往復移動可能に支持されている。
【００６８】
設置台１５６の中央部には、ステージ１５２の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート１６０が設けられている。コ字状のゲート１６０の端部の各々は、設置台１５６の両側面に固定されている。このゲート１６０を挟んで一方の側にはスキャナ１６２が設けられ、他方の側には基板１５０の先端および後端を検知する複数（例えば２個）のセンサ１６４が設けられている。スキャナ１６２およびセンサ１６４はゲート１６０に各々取り付けられて、ステージ１５２の移動経路の上方に固定配置されている。なお、スキャナ１６２およびセンサ１６４は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されている。
【００６９】
スキャナ１６２は、図１１に示すように、ｍ行ｎ列（例えば３行５列）の略マトリックス状に配列された複数（例えば１４個）の露光ヘッド１６６を備えている。露光ヘッド１６６による露光エリア１６８は、副走査方向を短辺とする矩形状である。従って、ステージ１５２の移動に伴い、基板１５０には露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。
【００７０】
露光ヘッド１６６は、入射された光ビームを画像データに応じて画素ごとに変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）を備えている。ＤＭＤは、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えたコントローラに接続されている。このコントローラのデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド１６６についてＤＭＤの制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。また、ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド１６６についてＤＭＤの各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。
【００７１】
ＤＭＤの光入射側には、光ファイバの出射端部（発光点）が露光エリア１６８の長辺方向と対応する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源、ファイバアレイ光源から出射されたレーザ光を補正してＤＭＤ上に集光させるレンズ系、このレンズ系を透過したレーザ光をＤＭＤに向けて反射するミラーがこの順に配置されている。また、ＤＭＤの光反射側には、ＤＭＤで反射されたレーザ光を、基板１５０上に結像する結像光学系が配置されている。
【００７２】
なお、特開２００３−３３７４２７号公報に、図１０および図１１に示した構成を含む露光装置が開示されている。露光処理部３０の詳細な構成は、同文献に開示されているような構成とすることができる。
【００７３】
以上に説明したパターン記録システムを用いれば、ＴＦＴアレイ基板を製造する工程で、カラーフィルター９の歪みに応じて歪められた回路６を基板上に形成することが可能になる。このようにして製造されたＴＦＴアレイ基板を用いて液晶パネルを製造すれば、セル工程においてカラーフィルター基板８と貼り合わされた際に、カラーフィルター９と回路６が精度よく合わさるので、高い開口率を得ることができる。
【００７４】
次に、本発明の画像記録装置の他の実施の形態として、上記装置よりも短時間で画像を記録することができる装置を例示する。
【００７５】
図１２は、処理時間短縮型のパターン記録システムの構成を示す図である。このパターン記録システムは、画像記録装置４１の画像補正処理部４６がＣＡＭシステム２６から入力されたラスタ変換前の画像データに対し補正処理を施す点が、図５に例示したシステムと異なる。図５に示した構成では、画像補正処理部３１は、ビットマップ画像に含まれている個々のセルパターンを区別することができないため、個々のセルパターンの配置位置などの情報を得るためには別途パターンマッチングなどの画像処理行う必要があった。しかし、図１２に示す構成では、ＣＡＭシステム２６から入力される情報には、各セルパターンの形状や領域内の相対位置の情報が含まれているため、画像補正処理部４６は特別な処理を行わなくても画像に含まれる個々のセルパターンを区別することができる。よって、図１２に示す構成のパターン記録システムによれば、次のような画像補正処理が可能になる。
【００７６】
図１３（ａ）、（ｂ）は、画像記録装置４１の画像補正処理部４６により実行される補正処理の一例を示す図である。図１３（ａ）は補正の対象となる領域別画像であり、４つの領域別画像を示している。図１３（ｂ）は領域情報取得部から与えられた情報に基づいて認識された４つの四辺形領域を示している。この方法では、各領域に含まれるすべてのセルパターンを、セルパターン同士の位置関係は変化させず、また各セルパターンの変形は行わずに、領域の歪みに合わせて平行移動する。
【００７７】
前述のようにＣＡＭシステム２６から画像補正処理部４６に入力される情報には、各セルパターンの形状や領域内の相対位置の情報が含まれている。このため、各領域に含まれるすべてのセルパターンを、まとめて１つの画像とみなし、例えば、領域別画像の左上頂点を基準とするその画像の相対位置座標と、四辺形領域の左上頂点を基準とした平行移動後の画像の相対位置座標とが同じになるように平行移動を行う。
【００７８】
この方法では、四辺形領域内での上記画像の配置位置の計算（上記相対位置座標の計算）を行うだけでよいので、処理時間を大幅に低減することができる。領域の歪みが横方向あるいは縦方向の単純な伸縮である場合、もしくはそれに近い歪みである場合には、このような補正でも、基板貼り合わせ時に生じる前述のような問題を、十分解決することができる。
【００７９】
また、図１４（ａ）、（ｂ）は、画像補正処理部４６により実行される補正処理の他の例を示す図である。図１４（ａ）は補正の対象となる領域別画像を表わしており、図１３（ｂ）は領域情報取得部から与えられた情報に基づいて認識された四辺形領域を示している。この方法では、各セルパターンの変形は行わずに、各領域に含まれるすべてのセルパターンをそれぞれ領域の歪みに合わせて平行移動する。例えば、図９に例示した方法をすべての画素に対して適用するのではなく、各セルパターンの重心について適用すれば、このような平行移動処理が可能になる。図９に例示した方法と比較すると、計算回数は少なくなるため、処理時間を低減することができる。
【００８０】
なお、図１３に例示した方法と図１４に例示した方法を組み合わせた方法として、図１５に示すように、複数のセルを一単位とみなして平行移動する方法も考えられる。この方法は、図１４に例示した方法よりも計算量が少なくなり、また図１３に例示した方法に比べ、パターン同士は対向しやすくなる。
【００８１】
以上、２種類のパターン記録システムを例示して説明したように、本発明において、画像記録装置が行う画像補正処理は、領域内の画像に含まれる個々のパターンの形状を変形するような処理、変形は行わずに配置位置のみを変更する処理のいずれでもよい。あるいは変形と配置位置の変更の両方を行う補正処理でもよい。画像に含まれるパターンが複雑な場合、あるいは基板が複雑に歪んでいる場合には、画素単位の置き換えを行ってパターン自体を変形する方法が適しているが、画像に含まれるパターンが単純なパターンの繰り返しである場合や、基板の歪みが少ない場合には個々のパターンの配置位置のみを変更する処理のほうが処理時間の短縮を図れるので好ましい。
【００８２】
以下、本発明の基板製造方法の一実施の形態として、上記各パターン記録システムを利用した液晶パネルの製造方法について説明する。なお、以下に示す実施の形態は、基板上の領域の特定にアラインメントマークを利用する形態であるが、前述のように、アラインメントマークに代えて、あるいはアラインメントマークに加えてパターンの特徴点を読取り、その座標により領域を特定してもよい。
【００８３】
図１６は、本実施の形態におけるＴＦＴ液晶ディスプレイの製造プロセスを示す図である。ＴＦＴアレイ基板を製造するアレイ基板製造工程４２、カラーフィルター基板を製造するカラーフィルター基板製造工程４３、それらの工程で製造された２種類の基板を貼り合わせて液晶パネル基板を製造するセル工程４４、および液晶パネル基板に駆動回路を取り付けてディスプレイを完成させるモジュール工程４５からなる点は、図１に示した通常のプロセスと同様である。
【００８４】
但し、本実施の形態では、図中の破線矢印に示されるように、カラーフィルター基板製造工程４３で製造されたカラーフィルター基板を、アレイ基板製造工程４２において、アラインメントマークを読取る目的で使用する点が異なる。また、アレイ基板製造工程４２において製造されるＴＦＴアレイ基板は、特定のカラーフィルター基板に合わせて製造されたものとなるため、セル工程４４において基板同士の対応付け処理を行う必要がある。
【００８５】
以下、上記液晶ディスプレイの製造プロセスの各工程について詳細に説明する。図１７は、カラーフィルター基板製造工程４３を示すフローチャートである。一般に、カラーフィルター基板の製造方法としては、露光によりカラーフィルターのパターンを形成する方法（ａ）と、カラーフィルターを基板上に印刷する方法（ｂ）が知られているが、本実施の形態では、いずれの方法をも適用することができる。
【００８６】
露光による方法では、図１７（ａ）に示すように、まず、ガラス基板上にアラインメントマークを記録（あるいは穴あけ加工など）しておき、次にブラックマトリクスを形成する。そして、基板洗浄、カラーレジスト塗布、露光、現像というプロセスを、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色のカラーレジストについて、それぞれ１回ずつ、計３回行う。その後、共通電極などを形成して、カラーフィルター基板が完成する。
【００８７】
印刷による方法では、図１７（ｂ）に示すように、ガラス基板上に蒸着、フォトリソグラフィなどによってアラインメントマークとブラックマトリクスを記録し、基板を洗浄し、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の着色剤を印刷によりガラス基板上に付着させる。その後、共通電極などを形成して、カラーフィルター基板が完成する。
【００８８】
図１８は、アレイ基板製造工程４２を示すフローチャートである。まず、一方で、図の右側に示されているように、カラーフィルター基板のアラインメントマークを読取り、そのカラーフィルター基板に識別情報を付加しておく。
【００８９】
なお、カラーフィルター基板のアラインメントマークの読取りは、必ずしもすべてのカラーフィルター基板について行わなくてもよい。例えば、同じ製造プロセスで製造されたカラーフィルター基板（同じメーカーから購入したものなど）については、１枚のカラーフィルター基板でアラインメントマークの読取りを行って座標情報を得、他のカラーフィルター基板についてはその座標情報を利用して以降の処理を行ってもよい。あるいは、抽出した何枚かのサンプル基板から座標情報を取得し、その平均値を利用して生成された領域情報に基づいて、以降の処理を行っても良い。但し、実際に貼り合せるカラーフィルター基板についてアラインメントマークの読取りを行うほうが、貼り合わせ時のパターンの位置ずれが少なくなることは言うまでもない。
【００９０】
また、上記カラーフィルター基板のアラインメントマークの読取りと並行して、図の左側に示されているような工程でＴＦＴアレイ基板を製造する。まず、ガラス基板を洗浄し、第１層のパターンを構成する膜材料を基板上に成膜し、その上にレジストを塗布する。次に、先にアラインメントマークの読取りを済ませたカラーフィルター基板の識別情報とアラインメントマークの情報を参照し、これらの情報に基づいて第１層のパターン画像を補正する。その後、補正されたパターン画像が表すパターンを露光により記録する。
【００９１】
この際、パターンとともに、アラインメントマークも記録する。記録するアラインメントマークは、カラーフィルター基板から得たアラインメントマークの情報をもとに、カラーフィルター基板と同じ位置に記録する。ここで記録されたアラインメントマークは、セル工程において貼り合わせの際に利用される。
【００９２】
また、パターンが記録された基板には、識別情報を付加する。この識別情報は、カラーフィルター基板との対応付けがわかるようなものとする。
【００９３】
その後、現像、エッチング、レジスト剥離、検査・リペア工程を経て、露光により記録した第１層のパターンが、基板上に形成される。通常、ＴＦＴなどの素子を基板上に形成するためには５層程度のパターンを重ねて形成することが必要である。このため、上記基板洗浄から検査・リペアまでの工程は複数回繰り返される。基板上に必要な回路が形成された後、基板はカットされ、ＴＦＴアレイ基板が完成する。
【００９４】
図１９は、セル工程４４を示すフローチャートである。アレイ基板製造工程４２およびカラーフィルター製造工程４３において、連続して複数の基板が製造されている場合には、貼り合わせを行う前に、まず各基板に付加されている識別情報に基づいて、対応関係にあるＴＦＴアレイ基板とカラーフィルター基板を選択する。次いで、各基板に対し、それぞれ配向膜材を塗布した後にラビング処理を行う。その後、ＴＦＴアレイ基板側にシール材を印刷し、トランスファを形成し、スペーサを散布した後に、両基板を貼り合せる。貼り合わせは、両基板にそれぞれ記録されているアラインメントマーク同士が一致するように行う。その後、両基板の間に液晶材を注入して封止し、最後に偏光板を貼り付け、液晶パネル基板が完成する。なお、モジュール工程４５については、通常のプロセスと異なるところはないため、説明は省略する。
【００９５】
なお、上記液晶ディスプレイの製造プロセスでは、１枚の基板を切断して複数枚の同一種類の基板を製造しているが、１枚の基板から種類の異なる複数の基板を製造するプロセスも考えられる。そのようなプロセスでは、図２０に示すように、基板４７と貼り合せられる基板４８ａ、４８ｂ、４８ｃ、４８ｄに形成されている回路は、それぞれ異なる回路であり、基板の歪み方も異なると考えられる。したがって、まず、基板４８ａ、４８ｂ、４８ｃ、４８ｄのそれぞれについてアラインメントマークなどの読取りを行い、さらに、基板４８ａ、４８ｂ、４８ｃ、４８ｄを基板４７のどの部分と張り合わせるかを決定する。さらに、その決定に基づいて、４種類の基板に記録すべきパターンを一体化したパターンを表わす画像を生成する。
【００９６】
この画像に対し、前述のような画像補正処理を施す場合には、基板４８ａと張り合わせられる領域については、基板４８ａから得られた領域情報を使用して補正を行い、基板４８ｂと張り合わせられる領域については、基板４８ｂから得られた領域情報を使用して補正を行うというように、複数の基板４８ａ、４８ｂ、４８ｃ、４８ｄから得られた領域情報を使い分ければよい。
【００９７】
以上に説明した基板の製造方法によれば、カラーフィルター基板の歪みの情報に基づいて記録するパターンを画像データの段階で補正しておき、また歪みの情報を得たカラーフィルター基板と、その情報に基づいて記録する画像データを補正したＴＦＴアレイ基板とを識別情報により対応付けておいて、対応する基板同士を貼り合せるので、貼り合わせの際に両基板の対向するパターン同士のずれを低減することができる。これにより、製造の歩留まりが改善されることはもちろん、開口率の高い液晶パネル基板を得ることができる。
【００９８】
なお、上記実施の形態では、液晶パネル基板の製造工程を例に挙げて説明したが、本発明は、複数の基板の貼りあわせを行い、かつ貼り合わせ時のパターンの位置ずれが問題となるような、あらゆるケースに適用可能な発明である。また、本発明は、ＴＦＴアレイ基板のように何層ものパターンを形成する場合に限らず、パターンの層が１層しかない場合でも有用である。さらには、上記実施の形態のように同様の形状のパターンを重なり合うように対向させる場合に限らず、全く異なる形状のパターンを予め定められた所定の位置関係で対向させる場合にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００９９】
【図１】ＴＦＴ液晶ディスプレイを製造する際の一般的なプロセスを示す図
【図２】図１のプロセスで製造される基板の概要を示す図
【図３】ＴＦＴアレイ基板とカラーフィルター基板の断面を拡大した図
【図４】カラーフィルターの歪みについて説明するための図
【図５】パターン記録システムを示す図
【図６】座標情報取得装置の一例を示す図
【図７】画像記録装置の領域情報取得部および画像補正処理部の処理について説明するための図
【図８】画像補正処理部の処理について説明するための図
【図９】画像補正処理部の処理の具体例を示す図
【図１０】露光処理部の構成を示す図
【図１１】露光処理部の構成を示す図
【図１２】パターン記録システムの他の構成例を示す図
【図１３】画像補正処理部の処理の例を示す図
【図１４】画像補正処理部の処理の他の例を示す図
【図１５】画像補正処理部の処理のさらに他の例を示す図
【図１６】本実施の形態におけるＴＦＴ液晶ディスプレイの製造プロセスを示す図
【図１７】カラーフィルター基板製造工程を示す図
【図１８】アレイ基板製造工程を示す図
【図１９】セル工程を示す図
【図２０】基板製造工程の他の例について説明するための図
【符号の説明】
【０１００】
５，１０  ＴＦＴアレイ基板、  ６  回路、  ７  ＴＦＴ、  
８  カラーフィルター基板、  ９  カラーフィルター、  １１，１８  ガラス基板、  
１２  ゲート電極、  １３  ゲート絶縁膜、  １４  ソース電極、  
１５  ドレイン電極、  １６  画素電極、  １７，２３  偏光板、
１９Ｒ，１９Ｇ  着色層、  ２０  共通電極、  ２１，２４  配向膜、
２８，４１  画像記録装置、  ３４  基板、  ３５  ＣＣＤカメラ、  
３７  アラインメントマーク、  ３８  ビットマップ画像、
３９  領域別ビットマップ画像、  ４０  補正された領域別ビットマップ画像、
４７，４８ａ〜ｄ  基板、
１５０  基板、  １５２  ステージ、  １５４  脚部、  １５６  設置台、
１５８  ガイド、  １６０  ゲート、  １６２  スキャナ、  １６４  センサ、
１６６  露光ヘッド、  １６８  露光エリア、  １７０  露光済み領域
【図１】
2005221806.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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