(57)【要約】    【課題】  プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができ、しかも透明性に優れた光学フィルタを提供する。    【解決手段】  光学フィルタは、（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、（２）該光学フィルタにおいて、密度０．９２５〜０．９５０の樹脂を用いて作製した耐衝撃層を有し、密度０．９２５〜０．９５０の樹脂を用いて作製した耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０であり、厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであり、（４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上である。前記樹脂が、５〜３０重量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートが好ましい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、
（２）該光学フィルタにおいて、密度０．９２５〜０．９５０の樹脂を用いて作製した耐衝撃層を有し、
（３）該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０であり、厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであり、                                                                        （４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
前記樹脂が、５〜３０重量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートである請求項１記載の光学フィルタ。
【請求項３】
近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有し、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となる請求項１または２記載の光学フィルタ。
【請求項４】
ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となる請求項１乃至３の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項５】
可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上となる請求項１乃至４の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項６】
プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドする電磁波遮蔽層を有する請求項１乃至５の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項７】
プラズマディスプレイに貼着するための粘着剤層が設けられた請求項１乃至６の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか１項記載の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付されてなるプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる光学フィルタ、該光学フィルタを貼付したプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等にプラズマディスプレイ装置の開発、製品化が行われている。このプラズマディスプレイ装置はその構造上、他の機器に誤動作を与えたり、リモートコントロールの操作に影響を与える近赤外線や、色調に影響を与えるネオン光がディスプレイ内部から放出されるため、これらを遮断する必要がある。また、プラズマディスプレイ装置から電磁波が発生するため、人体への影響を考慮して、電磁波の放出の強さを規格内に低減化することが要求されている。
【０００３】
これらの要求に鑑みて、既にプラズマディスプレイパネルに貼付するための各種フィルタが開発されており、例えば、特開２０００−５９０８３号公報（特許文献１）には電磁波遮蔽効果と近赤外線カット、色補正、反射防止の各層を蓄積した光学フィルタが開示されている。このような光学フィルタは、透明性に優れていることが基本的要件である。
【０００４】
一方、プラズマディスプレイ装置は、大型化が進む中、軽量化・薄肉化が求められ、光学フィルタを設けた状態でのプラズマディスプレイパネルの耐衝撃性の向上がますます必要となっている。
【０００５】
しかしながら、前記各機能を有した光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに組合せた状態で、いかにしてプラズマディスプレイの十分な耐衝撃性を高めるか、どの程度の耐衝撃性が必要かが解決すべき課題となった。また、耐衝撃層を形成するのに、溶剤乾燥型樹脂を塗布して形成した場合には、乾燥時にどうしても微細な気泡が塗膜から抜けきらないため、透明性が要求されるプラズマディスプレイパネル用の光学フィルタにはヘーズが高すぎて用いることができない。また、加熱硬化型の樹脂の場合には、加熱時にフィルタ中に含まれる、近赤外線吸収色素やネオン光吸収色素などの色素に変質をもたらすという問題がある。また、プラズマディスプレイの薄肉化の要求に従い、耐衝撃層の厚みも薄くしなければならないが、必要な耐衝撃性を確保する必要がある。
【０００６】
特開２００２−２６０５３９号公報（特許文献２）には、プラズマディスプレイ前面に反射防止膜を有する光学フィルタを粘着剤層を介して貼付したディスプレイパネルが示されている。特許文献２のディスプレイパネルに貼着されている光学フィルタは、粘着剤層に耐衝撃性の改善を与えているため、耐衝撃性と接着性が必要となっている。特許文献２の実施例１では、アクリル酸共重合体を溶融してシート状に成形した粘着シートを光学フィルタに貼りつけ、次にプラズマディスプレイに貼りつけている。また、特許文献２の実施例２では、プラズマディスプレイの前面にフィルタを貼り付けるため、ディスプレイとフィルタの間隔を１ｍｍに保って透明熱硬化性シリコーンを用いて、熱処理を行って貼り合わせている。しかしながら、該実施例２のような光学フィルタとプラズマディスプレイとの貼着方法は、シリコーンの流し込み、及び加熱処理を必要とするため生産性が悪く、歩留りも悪いという問題がある。さらに、特許文献２の粘着剤層を含めた光学フィルタは、光学フィルタ自体の基本的要件である透明性の程度については一切示されていない。
【０００７】
特開２００２−２３６４９号公報（特許文献３）には、衝撃緩和積層体を構成するために、飛散防止層と２種類の割れ防止層と、透明粘着層とからなる複雑な多層構造を必要としている。        
【特許文献１】特開２０００−５９０８３号公報
【特許文献２】特開２００２−２６０５３９号公報
【特許文献３】特開２００２−２３６４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、特定の粘着剤を耐衝撃層として組み込んだ光学フィルタを構成し、該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼着した場合に、十分な耐衝撃性を有し、しかも、耐衝撃層に気泡を含まないようにすることにより透明性に優れ、薄肉の光学フィルタを提供すること、該光学フィルタを貼着したプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【０００９】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、反射防止性を付与した光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１０】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、近赤外線吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１１】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、ネオン光吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１２】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、透明性の高い光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１３】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、静電気及び／又は電磁波ノイズが抑制された光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１４】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタが表示面に貼着されたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の光学フィルタは、（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、（２）該光学フィルタにおいて、密度０．９２５〜０．９５０の樹脂を用いて作製した耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０であり、厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであり、（４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする。
【００１６】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、光学フィルタにおける耐衝撃層として密度０．９２５〜０．９５０の樹脂を含有することで、内部ヘーズが０．１〜３．０と透明性が優れた光学フィルタを貼付したものである。耐衝撃層に用いる樹脂には、５〜３０重量％のビニルアセテートを含有するエチレンビニルアセテートが好ましい。
【００１７】
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層は厚みは０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであることが必要であり、０．２ｍｍ未満だと、耐衝撃試験において破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを達成することができず、１．０ｍｍを超えるとヘーズが大きくなり、透明性が失われる。
【００１８】
衝撃試験は、図５に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定して行った。試験台８としてＳＵＳ製土台９と、厚さ１０ｍｍのガラス板１０を貼り合わせたものを用いた。該試験台８上に、プラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１として旭硝子社製の高歪点ガラス板（ＰＤ−２００：商品名、厚み２．８ｍｍ）を載置した。なお、ＰＤ−２００は、プラズマディスプレイメーカー各社が共通に使用しているプラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１である。試験台８上に前面ガラス板１１を直接載置した理由は、プラズマディスプレイの筐体によるクッション性を排除するためである。
【００１９】
前記したように、本発明の光学フィルタは層構成中において反射防止膜を設けることが好ましく、最外層に反射防止膜を設けることが好ましい。
【００２０】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となるような、近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有することが好ましい。
【００２１】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となることが望ましい。
【００２２】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドするための電磁波遮蔽層を有することが望ましい。
【００２３】
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイに貼着するための粘着剤層を設けることができる。
【００２４】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、前記した形態の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付して構成することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の耐衝撃層を有する光学フィルタは、耐衝撃性と共に透明性に優れるため、本発明の光学フィルタを組み込んだプラズマディスプレイパネルは耐衝撃性に優れると共に透明性にも優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。５は電磁波遮蔽層であり、透明基材上に接着剤により接着された金属箔をエッチングによりメッシュ状に加工したものであり、電磁波遮蔽能を有する。４は色素含有粘着剤層であり、電磁波遮蔽層５におけるメッシュ状の金属（金属メッシュ）の凹凸を平坦化すると同時に、エッチングによる凹部に残る接着剤の微細凹凸の段差を埋める作用もある。３は耐衝撃層であり、さらに耐衝撃層３上に反射防止層１が形成されている。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層に使用されるエチレンビニルアセテートは、加熱すると接着性を有するため、耐衝撃層３と反射防止層１を粘着剤層を介さずに直接接着させることができる。反射防止層１の形成は、耐衝撃層３上に粘着剤層（図示していない）を介して設けてもよい。これらの層からなる光学フィルタは粘着剤層６を介して、プラズマディスプレイパネル７の表面に貼付される。
【００２７】
図２は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の別の一例を示す図である。図２の態様は、耐衝撃層３上に電磁波遮蔽層５を設け、さらに該電磁波遮蔽層５上に色素含有粘着剤層４を設け、さらに色素含有粘着剤層４上に反射防止層１を設けたものである。これらの層からなる光学フィルタは粘着剤層６を介して、プラズマディスプレイパネル７の表面に貼付される。
【００２８】
図３は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造のさらに別の一例を示す図である。図３の態様は、反射防止層１と電磁波遮蔽層５との間に、耐衝撃層３を挟んで合体させ、さらに電磁波遮蔽層５の金属メッシュの凹凸上に色素含有着色剤層４を設けたものである。これらの層からなる光学フィルタを、色素含有粘着剤層４側をプラズマディスプレイパネル７の表面に向けて貼付して、図３のプラズマディスプレイパネルを得る。
【００２９】
図４は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造のさらに別の一例を示す図である。図４の態様の光学フィルタは、電磁波遮蔽層５における金属メッシュの凹凸を平坦化するために、電磁波遮蔽層５上に色素含有粘着剤層４を設け、さらに反射防止層１を設けてなる積層体と、ＰＥＴフィルム製セパレータ１５／粘着剤層６／ＰＥＴフィルム製セパレータ１５からなる積層体との間に、耐衝撃層３を挟んで合体させたものである。これらの層からなる光学フィルタにおけるＰＥＴ１５を剥離して粘着剤６側をプラズマディスプレイパネル７の表面に向けて貼付して、図４のプラズマディスプレイを得る。
【００３０】
図１〜図４において、近赤外線吸収色素、および／又は、ネオン光吸収色素等の色素を色素含有粘着剤層４中に含有しているが、光学フィルタを構成するいかなる層にも含有させることが可能である。
【００３１】
以下、本発明の光学フィルタをプラズマディスプレイに適用する場合の光学フィルタの層構成に用いられる各層を例示して説明する。
【００３２】
耐衝撃層：
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層に使用される樹脂には、ビニルアセテートが５〜３０重量％のエチレンビニルアセテートを含有している樹脂を用いることが好ましい。ビニルアセテートが５重量％未満だと、白濁し、透明性が損なわれる。逆に、３０重量％を超えると再び白濁し始め透明性が損なわれると共に、樹脂粘度が高く（ＭＦＲが５０〜１０００程度）となり、押出し時のスクリュートルクが高くなり、押出せなかったり、膜厚がばらついたりする。膜厚のばらつきは、耐衝撃性のばらつきに直結する。また、該樹脂は、加熱時密着性があるので、加熱加圧して他の層と積層するのに適している。
【００３３】
（耐衝撃層の形成）
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の形成は、どのような方法でもよいが、好ましくは、次に説明する、押出ラミネート法、加熱プレス法、及び厚塗りコート法が挙げられる。
【００３４】
ｉ）押出ラミネート法
図６は、本発明の光学フィルタにおける好ましい耐衝撃層を形成するための押出ラミネート機の１例を示す図である。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層を形成するには、図６の押出ラミネート機を用いて耐衝撃層となる溶融樹脂を押出し、フィルムとフィルム間に流し込んで挟んで耐衝撃層を成形する。
【００３５】
具体的には、図１に示す光学フィルタを例にして製造方法を以下に説明する。一方のフィルムとして、反射防止層１を巻取り状態で第１フィルム供給部３５に配置しておき、他方のフィルムとして、電磁波遮蔽層５を巻取状態で第２フィルム供給部３９に配置しておく。この状態で、押出ラミネート機のダイス４２より、前記した特定の組成からなるエチレンビニルアセテートをフィルム状に押し出して耐衝撃層とする。このとき、同時に、第１フィルム供給部３５から巻き出された反射防止層１と、第２フィルム供給部３９から電磁波遮蔽層５を巻き出しながら、粘着剤コート部４０で色素含有粘着剤を塗布して色素含有粘着剤層４を設けてなる積層フィルムとの間に、前記押出ラミネート機のダイス４２より押し出されてくるフィルム状のエチレンビニルアセテートを色素含有粘着剤層４を内側にして鋏み込み、冷却ロール３７とニップロール３８との間を通すことによりラミネート成形して積層体を得る。次いで、セパレータ／粘着剤層６／セパレータからなる粘着シートを用意し、該粘着シートの片側のセパレータを剥がした粘着シートの粘着剤層６側を、前記工程で得られた積層体の電磁波遮蔽層５の透明基材側に貼りつけて、図１に示す光学フィルタを得る。
【００３６】
上記工程で得られた光学フィルタの残りのもう一方のセパレターを剥がし、露出した粘着剤層６側をプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付する。
【００３７】
図２に示す光学フィルタは、図７に示す押出ラミネート機を用いて次のようにして製造することができる。まず、一方のフィルムとして、予め電磁波遮蔽層５の金属メッシュの凹凸形状側に色素含有粘着剤層４を塗布し、さらに該色素含有粘着剤層４上に反射防止層１を積層したものを用意し、これを第１フィルム供給部３５に配置しておく。他方のフィルムとして、第２フィルム供給部３９に、セパレータ／粘着剤層６／セパレータからなる粘着シートの片側のセパレータを剥がしたものを配置しておく。これらの２枚のフィルムの間に、前記図１の光学フィルタの製造で説明した場合と同様にして、押出ラミネート機のダイス４２より押し出されてくるフィルム状のエチレンビニルアセテートを鋏こんで、図２に示す光学フィルタを得る。
【００３８】
上記工程で得られた光学フィルタの残りのもう一方のセパレータを剥がし、露出した粘着剤層６側をプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付する。
【００３９】
ii）加熱プレス法
図８は、本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、エチレンビニルアセテートを含有する耐衝撃層を形成するのに適した、シート成形機の例を示す概略図である。図８のシート成形機のマニホールド２４−１、２４−２、２４−３から吐出される各樹脂は、全て同一の、前記した特定の組成からなるエチレンビニルアセテートが使用され、同一樹脂の３層で構成された積層シートが吐出される。
【００４０】
図３に示す光学フィルタを製造するには、図８に示すシート成形機により製造された耐衝撃層となる積層シートを適宜の大きさにカットしておく。一方、反射防止層１と電磁波遮蔽層５を同様な大きさにカットし、これらの各層の間に前記積層シートを挟み、５０℃〜２００℃で、１秒〜１０分、１〜３０ｋｇ／ｃｍ2 好ましくは、１００℃〜２００℃、１秒〜３分程度、１０〜２０ｋｇ／ｃｍ2 で加熱プレスすることにより光学フィルタを得ることができる。
【００４１】
図４に示す光学フィルタを製造するには、電磁波遮蔽フィルムと、ＰＥＴフィルム製セパレータ１５／粘着剤層６／ＰＥＴフィルム製セパレータ１５からなる粘着シートを各々、適宜同じ大きさにカットし、これらの各層の間に、図８に示すシート成形機により製造された積層シートを適宜の大きさにカットしたものを挟み、５０℃〜２００℃で、１秒〜１０分、１〜３０ｋｇ／ｃｍ2 好ましくは、１００℃〜２００℃、１秒〜３分程度、１０〜２０ｋｇ／ｃｍ2 、最も好ましくは、１５０℃３０秒、１５ｋｇ／ｃｍ2 で加熱プレスすることにより光学フィルタを得ることができる。
【００４２】
上記工程で得られた光学フィルタをプラズマディスプレイパネル７の表面に積層するには、露出している側の一方のセパレータ１５を取り除き、色素含有粘着剤層４側をプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付する。
【００４３】
iii)厚塗りコート法
図３に示す光学フィルタの耐衝撃層を形成するには、反射防止層１の裏面に、上記した特定の組成からなるエチレンビニルアセテートの希釈溶液を７５０ｇ／ｍ2 〜１５００ｇ／ｍ2 塗布する。塗工方法は、例えば、リップコート、ダイコートなど、一般的な厚塗りコート法が好ましい。反射防止層１上に形成された塗膜を乾燥させた（溶剤を飛ばした）後、電磁波遮蔽層５と貼り合わせたのち、色素含有粘着剤層４を塗布することにより光学フィルタを得る。
【００４４】
上記工程で得られた光学フィルタをプラズマディスプレイパネル７の表面に積層するには、色素含有粘着剤層４側をプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付する。
【００４５】
図４に示す光学フィルタを製造するには、ＰＥＴフィルム製セパレータ／粘着剤層６／ＰＥＴフィルム製セパレータからなる粘着シートを用意し、該粘着シートの片面に上記した特定の組成のからなるエチレンビニルアセテートの希釈溶液を７５０ｇ／ｍ2 〜１５００ｇ／ｍ2 塗布する。塗工方法は、例えば、リップコート、ダイコートなど、一般的な厚塗りコート法が好ましい。上記粘着剤シート上に形成された塗膜を乾燥させる（溶剤を飛ばした）。一方、反射防止層１と色素含有粘着剤層４を介して貼り合わせてある電磁波遮蔽層を用意し、該電磁遮蔽層の透明基板側と、前記工程で得られた粘着剤シート上に形成した耐衝撃層側とを貼り合わせることにより光学フィルタを得る。
【００４６】
上記工程で得られた光学フィルタをプラズマディスプレイパネル７の表面に積層するには、セパレータを剥離して、露出した粘着剤層６側をプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付する。
【００４７】
電磁波遮蔽層：
電磁波遮蔽層５は、透明基材、接着剤層（図示していない）、金属メッシュ層がこの順に積層された積層構造を有するものである。
【００４８】
（金属メッシュ層）
金属メッシュ層は、積層構造の電磁波遮蔽層５を構成する一部の層である。本発明に用いられる金属メッシュ層は、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものである。このような金属メッシュ層は、後述する透明基材上に、接着剤層により金属箔が貼り合わせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。本発明においては、この金属メッシュ層は、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、チタン等を用いることができる。本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に、電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよい金属メッシュ層とすることができ、また、金属メッシュ層の表面に黒化処理が施された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
【００４９】
ここで、本発明においては、上記金属箔の一方の面または両面に黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュ層の表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この酸化処理面は、観察者側の面となるように配置される。この黒化処理により金属メッシュ層表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な透過性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行なうことができる。
【００５０】
黒化処理の方法としては、ＣｒＯ2 水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、６価クロムの一部を３価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、透明基材上に、接着剤層または粘着剤層により金属箔が貼り合わせられ、メッシュ状にエッチングされた後に行なわれるものであってもよい。
【００５１】
この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が０．６以上であることが好ましい。これにより、より非視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、ＣＯＬＯＲ  ＣＯＮＴＲＯＬ  ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ  ＳＰＭ１００−１１（（株）ＫＩＭＯＴＯ製）を用いて、観測視野角１０°、観測光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩ  Ｔに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。
【００５２】
また、上記金属箔の膜厚は、１μｍ〜１００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より膜厚が薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。
【００５３】
さらに、上記金属箔は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠する十点平均粗さが０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着剤やレジスト等を塗布することが困難となるからである。
【００５４】
ここで、金属箔のエッチングは、後述する透明基材上に、接着剤層または粘着剤層を介して金属箔が貼り合わせられた後に行なわれるものである。このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行なうことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後、レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行なうことにより得ることができる。
【００５５】
本発明に用いられる上述したような金属メッシュ層は、表面抵抗が１０-6Ω／□〜５Ω／□の範囲内、中でも１０-4Ω／□〜３Ω／□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置ロレスターＧＰ、（株）ダイヤインスツルメンツ製にてＪＩＳ  Ｋ７１９４「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験法」に記載される方法にて測定された値である。
【００５６】
このエッチング処理された後の金属メッシュ層は、５０μｍ□〜５００μｍ□の範囲内、中でも１００μｍ□〜４００μｍ□の範囲内、特に２００μｍ□〜３００μｍ□の範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細かい場合には、断線が起こる場合があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。
【００５７】
透明基材：
透明基材は積層構造の電磁波遮蔽層５を構成する一部の層である。本発明に用いられる透明基材は透明性を有し、かつ接着剤層が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトンからなるフィルムで可視領域の光線透過率が８０％以上のフィルムが挙げられる。
【００５８】
これらのフィルムは本発明の目的を妨げない程度であれば着色していてもよく、さらに単層で使うこともできるが、２層以上組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。中でも透明性、耐熱性、コストや取扱い性の面等から、ＰＥＴが最も好ましい。可視領域の光線透過率はできる限り高いことが望ましいが、これは最終製品としては５０％以上の光線透過率が必要なことから最低２枚を積層する場合でも透明基材としては８０％を有すれば目的に適うからである。透過率が高ければ高いほど透明基材を複数枚積層できるため、光線透過率は好ましくは８５％以上、最も好ましくは９０％以上であり、このために厚さを薄化するのも有効な手段である。この透明基材の厚さは、透明性さえ満足すれば特に制限されるものではないが、加工性上からは１２μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。厚さ１２μｍ未満の場合はフィルムが柔軟過ぎ、導電層である金属メッシュ層の成膜や加工する際の張力により伸張やシワが発生しやすく、そのため金属メッシュ層の亀裂や剥離が生じやすく適さない。３００μｍを超えるとフィルムの可撓性が減少し、各工程での連続巻き取りが困難で適さない。さらに複数枚を積層する際は加工性が大幅に劣るといった問題もある。
【００５９】
接着剤層：
接着剤層は図１〜図４において図示していないが、透明基材と金属箔とを接着するのに用いられた層である。接着剤層は、金属メッシュ層および透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュ層を構成する金属箔および透明基材を接着剤層を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着剤層も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンエステル樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明基材との密着性や、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素との相溶性、分散性などの観点からアクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。
【００６０】
また、接着剤層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価および酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が樹脂中の反応基と反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
【００６１】
接着剤層を介してドライラミネーション法等により透明基材および金属メッシュ層を形成するための金属箔とを接着することができる。また、この接着剤層の膜厚が０．５μｍ〜５０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜２０μｍであることが好ましい。これにより、透明基材および金属メッシュ層とを強固に接着することができ、また、金属メッシュ層を形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。
【００６２】
色素含有粘着剤層：
図１〜図４に示すように、本発明の光学フィルタに用いられる色素含有粘着剤層４は、上記した電磁波遮蔽性を有する金属メッシュ層の凹凸を平坦化するための層であり、金属メッシュ層の凹凸によって光学フィルタの透明性が低下することを防ぐ機能を有するものである。また、金属メッシュ層の形成の際に行なわれるエッチングによって、接着剤層表面が劣化することにより低下する透明性の改良や、金属メッシュ層を斜めから見た際の断面の乱反射を防止することも可能である。本発明において用いられる色素含有粘着剤層４は、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明では色素含有粘着剤層４に用いる樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１５０℃の範囲内、中でも４０℃〜１２０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、樹脂を溶剤等に溶解させて、金属メッシュ層上に塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面に金属メッシュ層の凹凸により形成される凹凸を、透明基材のＴｇ以上の温度で、例えば、ミラーロール等を用いて圧力をかけることにより平坦化することができ、透明性の高い高品質な光学フィルタとすることができるからである。この色素含有粘着剤層４を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常５０℃〜１７０℃の範囲内であり、また圧力は線圧０．１ｋｇ／ｃｍ2 〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の範囲内であることが好ましい。
【００６３】
上述したような性質を有する樹脂としては、具体的には、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂を挙げることができ、中でも透明性の観点からアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。また、上記樹脂の平均分子量は、５００〜６００，０００の範囲内、中でも１万〜４０万であることが好ましい。これにより、上記のような性質を有する透明樹脂とすることができるからである。
【００６４】
本発明において、このような色素含有粘着剤層４の膜厚は、金属メッシュ層が形成されていない部分の膜厚が、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。これにより、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能となるからである。本発明の光学フィルタの色素含有粘着剤層４における、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上を含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価、および／または、酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸基により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
【００６５】
反射防止層：
反射防止層に関しては、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカス手法を採用することができる。すなわち、光を散乱もしくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化することが基本であり、この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により基体表面を直接粗面化する方法、基体表面に放射線、熱の何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂中にシリカなどの無機フィラーや、樹脂粒子などの有機フィラーを含有させた粗面化層を設ける方法、および基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法を挙げることができる。
【００６６】
また、反射防止層を形成する他の方法としては、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化（マルチコート）することで、表面の反射が抑えられ、良好な反射防止効果を得ることができる。通常、この反射防止層は、ＳｉＯ2 に代表される低屈折率材料と、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 等の高屈折率材料とを交互に蒸着等により成膜する気相法等によって形成される。
【００６７】
反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ2 （屈折率ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、Ｎａ3 ＡｌＦ6 （屈折率ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ2 （屈折率ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。
【００６８】
さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系および有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ2 として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。
【００６９】
低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法で、高屈折率層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。
【００７０】
高屈折率層の形成は、屈折率を高くするために高屈折率のバインダ樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダ樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。
【００７１】
高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。
【００７２】
高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2 （屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）またはＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Ａｌ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ2 （屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの微粒子は単独または混合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。
【００７３】
高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。
【００７４】
また反射防止層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂が水酸基価および酸価が所定の値以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸価により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収能、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとなる。
【００７５】
粘着剤層：
図１〜図４の粘着剤層６は、光学フィルタを構成する各層を接着するための層であり、例えば、市販の両面接着テープ（例、ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）が使用できる。
【実施例１】
【００７６】
反射防止フィルムの調製
反射防止フィルムとしてリアルック８２００ＵＶ（商品名、日本油脂製、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム／厚み５μｍのＡＲ層／厚み４０μｍの保護フィルムからなる積層フィルム）を用意した。図６に示される第１フィルム供給部３５に前記反射防止フィルムを巻き出し可能に配置した。
【００７７】
電磁波遮蔽フィルムの調製
片面がクロメート処理により黒化処理されている、銅箔（古川サーキットフォイール製、ＥＸＰ−ＷＳ：商品名、厚さ９μｍ）と、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製  Ａ４３００  厚み１００μｍ）とを、ウレタン系接着剤（Ｔｇ２０℃、平均分子量３万、酸価１、水酸基価９）にてドライラミネーション加工し貼り合わせた後、上記銅箔上にレジストを塗布後、露光、現像、エッチング、レジスト除去を行なうことにより３００μｍ□、線幅１０μｍの金属メッシュを形成することにより電磁波遮蔽フィルムを得た。なお、この際黒化処理面はプラズマディスプレイパネルが製造された場合、見る側（人間側）になるように設置するため、非貼り合わせ面側とした。このようにして得られた電磁波遮蔽フィルムを第１フィルム供給部３５に巻き出し可能に配置した。
【００７８】
反射防止膜付光学フィルタの調製
図６の押出ラミネート機において、第１フィルム供給部３５から反射防止フィルムを巻き出した。一方、第２フィルム供給部３９から電磁波遮蔽フィルムを巻き出しながら、粘着剤コート部４０において、色素含有粘着剤を塗布した。色素含有粘着剤には、ｎ−ブチルアクリレート７８．４重量％、２エチルヘキシルアクリレート１９．６重量％、およびアクリル酸２．０重量％を共重合させて得たアクリル酸エステル共重合体を熔融撹拌した後、近赤外線吸収剤０．０３重量％（日本触媒（株）製  商品名”イーエクスカラー”ＴＸ−ＥＸ−８０５Ｋ）０．０１５重量％、染料（三井化学（株）製  商品名”ＰＳブルーＢＮ”０．０００１重量％、ネオン吸収化合剤（旭電化（株）製  商品名  ＴＹ−１０２）０．００１３重量％を加えたものを用いた。
【００７９】
次いで、両フィルムの間に押出ラミネート機のダイス４２より吐出された密度０．９２８のビニルアセテート（ＶＡ：略語）含有率が８％のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ５１１Ｆ：商品名、東ソー（株）製）を耐衝撃層として挟み込んで積層して、耐衝撃層の厚みを３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの３種類とした。次いで、ＰＥＴフィルム製セパレータ（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）／粘着剤層（ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）／ＰＥＴフィルム製セパレータ（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）からなる粘着シートを用意し、該粘着シートの片側のセパレータを剥がした粘着シートの粘着剤層側を、前記工程で得られた積層体の電磁波遮蔽層の透明基材側に貼りつけて、図１に示す光学フィルタを得た。得られた３種類の反射防止膜付光学フィルタのヘーズ値は、２．８％、４．４％、５．８％であった。
【００８０】
プラズマディスプレイパネルの製造
次に、プラズマディスプレイパネルの前面に上記工程で得られた反射防止膜付光学フィルタを貼付け、３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【００８１】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験として図３に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定したところ、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れた。耐衝撃層の４００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、０．８Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．９Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ２．０、４．４、５．８であった。その結果を下記の表１に示す。
【００８２】
本実施例１で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、０．５％であった。また、本実施例１で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例１の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【実施例２】
【００８３】
前記実施例１において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が２０％、密度が０．９３６のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ６３３：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
【００８４】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが４００μｍの場合、０．７Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．８Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、０．９Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、１．０Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ１．０、１．７、１．９であった。その結果を下記の表１に示す。
【００８５】
本実施例２で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、０．５％であった。また、本実施例２で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例２の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【実施例３】
【００８６】
前記実施例１において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が２５％、密度が０．９４８のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ６３５：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
【００８７】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが４００μｍの場合、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、１．０Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、１．１Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ１．０、１．４、１．９であった。その結果を下記の表１に示す。
【００８８】
本実施例３で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、０．５％であった。また、本実施例３で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例３の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【実施例４】
【００８９】
前記実施例１において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が２８％、密度が０．９４９のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７１０：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
【００９０】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．７Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．８Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが４００μｍの場合、０．８Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．９Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、１．０Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、１．１Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ１．８、２．４、３．０であった。その結果を下記の表１に示す。
【００９１】
本実施例４で得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は、０．５％であった。また、本実施例４で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例４の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
〔比較例１〕
前記実施例１において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が３２％、密度が０．９５４のエチレンビニルアセテート（Ｕｌｔｒｈｅｎｅ７５０：商品名、東ソー（株）製）を用いた以外は全て前記実施例１と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
【００９２】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが４００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、０．７Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．８Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ４．０、５．４、５．９と各実施例に比べて高い値となった。その結果を下記の表１に示す。
〔比較例２〕
前記実施例１において、耐衝撃層を形成するための樹脂としてビニルアセテート含有率が４％、密度が０．９２４のエチレンビニルアセテート（試作品）を用いた以外は全て実施例１と同様にして、光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。
【００９３】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、耐衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．４Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．５Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが４００μｍの場合、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ４．１、５．２、６．８と各実施例に比べて高い値となった。その結果を下記の表１に示す。
【００９４】
【表１】
2005107345.tif 000002
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイの前面に貼付した場合に、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造の別の一例を示す図である。
【図３】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造のさらに別の一例を示す図である。
【図４】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造のさらに別の一例を示す図である。
【図５】衝撃試験装置を示す図である。
【図６】本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、エチレンビニルアセテートを含有する耐衝撃層を形成するのに適した、押出ラミネート機の１例を示す概略図である。
【図７】本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、エチレンビニルアセテートを含有する耐衝撃層を形成するのに適した、押出ラミネート機の別の１例を示す概略図である。
【図８】本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、エチレンビニルアセテートを含有する耐衝撃層を形成するのに適した、シート成形機の例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００９７】
１    反射防止層
２    粘着剤層
３    耐衝撃層
４    色素含有粘着剤層
５    電磁波遮蔽層
６    粘着剤層
７    プラズマディスプレイパネル
８    試験台
９    土台
１０  ガラス板
１１  前面ガラス板
１２  鋼球
１５  セパレータ
２１−１，２１−２，２１−３  ホッパー
２３    ダイス
２４−１，２４−２，２４−３  マニホールド
２５    積層シート
２６−１，２６−２，２６−３  冷却ロール
２７  排紙装置
３５  第１フィルム供給部
３７  冷却ロール
３８  ニップロール
３９  第２フィルム供給部
４０  粘着剤コート部
４１  排紙部
４２  ダイス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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