(57)【要約】【課題】簡単な構成で、感光性板状部材の反りや皺、空気溜まり等を解消して、ステージに確実に吸着できる感光性板状部材吸着機構と、この感光性板状部材吸着機構を備えた画像記録装置を得る。【解決手段】ステージ１５２の側方には、少なくともその表面が柔軟性のある材料で覆われた押圧ローラ１８４が配置される。押圧ローラ１８４をステージ１５２に対して相対移動させると、押圧ローラ１８４の表面で基板１５０を端部から順に、載置面１５２Ｐに向かって押圧するので、基板１５０の反り、皺や空気溜まりが解消される【選択図】        図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
載置面上に感光性板状部材を載置可能なステージと、
前記載置面に形成され、載置された感光性板状部材を吸着するための複数の吸着孔と、
前記載置面上に載置された感光性板状部材を載置面に対して押圧しつつ前記ステージと相対移動する押圧部材と、
を有することを特徴とする感光性板状部材吸着機構。
【請求項２】
前記押圧部材に、前記相対移動時の吸着孔の閉塞を回避する凹部、
が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の感光性板状部材吸着機構。
【請求項３】
前記押圧部材が、前記載置面上を回転しつつ感光性板状部材を押圧する押圧ローラ、
とされていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の感光性板状部材吸着機構。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれかに記載の感光性板状部材吸着機構と、
前記感光性板状部材吸着機構によって載置面上に吸着された感光性板状部材に画像を記録する画像記録手段と、
を有することを特徴とする画像記録装置。
【請求項５】
前記画像記録手段が、レーザー光を感光性板状部材に照射して画像記録を行うレーザー記録手段、
とされていることを特徴とする請求項４に記載の画像記録装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光性板状部材吸着機構及び画像記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
感光性板状部材をステージ上に載置し、所望のパターン等を記録する画像記録装置では、ステージの載置面に複数の吸着孔が形成されており、載置面に載置された感光性板状部材を負圧により吸着して保持する構成のものがある。
【０００３】
しかし、一般に、載置面上に載置された感光性板状部材が、載置面に対し感光性板状部材の全面で接触しないことがある。たとえば、比較的厚みのある感光性板状部材の場合には、感光性板状部材の反りによって、載置面から部分的に浮きあがることがある。また、比較的薄い感光性板状部材の場合には、感光性板状部材の皺や、載置面との間の空気溜まりによって、載置面に対し部分的に非接触となることがある。いずれの場合でも、ステージに対して感光性板状部材を確実に吸着固定できないおそれがある。
【０００４】
このような不都合を解消するために、たとえば特許文献１には、感光性板状部材としてプリント基板を使い、この基板を真空吸着装置で吸着固定する前に、下面にマスクフィルムが被着固定された上枠で押圧し、フィルム状の基板の反りや皺を除く方法が開示されている。
【０００５】
しかし、この方法では、マスクフィルムが固定された上枠や、上枠を上下動させる装置が機構になる等、構造が大掛かりになる。また、マスクフィルムを使用しない露光装置には適用できない。
【０００６】
これに対し、特許文献２には、搬送部のアームの先端に吸着部を設け、アームで基板をいったん吸着して支持した後、吸着面に移動し、吸着面に押し付けることにより、基板の反りを解消する基板吸着装置が開示されている。
【０００７】
しかし、この構造においても、搬送用のアームや、その先端の吸着部、さらにはこれらの移動機構が必要になる等、構造が大掛かりになる。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００１−２０９１９２号公報
【特許文献２】
特開平５−７３２８９号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記事実を考慮し、簡単な構成で、感光性板状部材の反りや皺、空気溜まり等を解消して、ステージに確実に吸着できる感光性板状部材吸着機構と、この感光性板状部材吸着機構を備えた画像記録装置を得ることを課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明では、載置面上に感光性板状部材を載置可能なステージと、前記載置面に形成され、載置された感光性板状部材を吸着するための複数の吸着孔と、前記載置面上に載置された感光性板状部材を載置面に対して押圧しつつ前記ステージと相対移動する押圧部材と、を有することを特徴とする。
【００１１】
この感光性板状部材吸着機構では、ステージの載置面に感光性板状部材を載置した状態で、押圧部材が、感光性板状部材を載置面に対して押圧しつつ相対移動する。これにより、感光性板状部材の反り、皺や空気溜まり等が解消されるので、感光性板状部材をステージに確実に吸着できる。押圧部材を単に相対移動させるだけなので、大掛かりな構造も必要としない。押圧部材とステージとは、感光性板状部材を載置面に対して押圧しつつ相対移動すればよく、押圧部材とステージのいずれか一方を固定して他方が移動する構成でも、双方が移動する構成でもよい。
【００１２】
なお、たとえば比較的薄い感光性板状部材の皺を解消するためであれば、単に押圧部材を感光性板状部材に対して相対移動させるだけで十分であるが、比較的厚い感光性板状部材の反りを解消するためには、ステージ内を負圧にして吸着孔から感光性板状部材を吸着しつつ押圧部材を相対移動させると、反りが解消されると同時に感光性板状部材が吸着され、反りが再発しないので好ましい。
【００１３】
請求項２に記載の発明では、請求項１に記載の発明において、前記押圧部材に、前記相対移動時の吸着孔の閉塞を回避する凹部、が形成されていることを特徴とする。
【００１４】
したがって、ステージ内を負圧にしつつ押圧部材を相対移動させたときに、押圧部材が吸着孔によって不用意に吸着されてしまうことがなく、押圧部材の相対移動に抵抗が生じない。
【００１５】
請求項３に記載の発明では、請求項１又は請求項２に記載の発明において、前記押圧部材が、前記載置面上を回転しつつ感光性板状部材を押圧する押圧ローラ、とされていることを特徴とする。
【００１６】
押圧ローラを回転させるだけの簡単な構成で、感光性板状部材の反り、皺や空気溜まり等を解消できる。また、押圧ローラが感光性板状部材との摩擦力で回転（従動回転）するように構成することも可能であり、この構成では、押圧ローラが感光性板状部材を擦らないので、感光性板状部材の傷付きを防止できる。
【００１７】
請求項４に記載の発明では、請求項１〜請求項３のいずれかに記載の感光性板状部材吸着機構と、前記感光性板状部材吸着機構によって載置面上に吸着された感光性板状部材に画像を記録する画像記録手段と、を有することを特徴とする。
【００１８】
請求項１〜請求項３のいずれかに記載の感光性板状部材吸着機構を有しているので、簡単な構成で、感光性板状部材の反り、皺や空気溜まり等を解消して確実に吸着できる。
【００１９】
そして、ステージの載置面に感光性板状部材を吸着した状態で、画像記録手段によって、画像を記録することができる。
【００２０】
請求項５に記載の発明では、請求項４に記載の発明において、前記画像記録手段が、レーザー光を感光性板状部材に照射して画像記録を行うレーザー記録手段、とされていることを特徴とする。
【００２１】
このように、レーザー記録手段によってレーザー光を感光性板状部材に照射することで、高速且つ高精度で画像を記録することが可能となる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
図８及び図９には、本発明の第１実施形態の基板吸着機構１０４が示されている。また、図１には、この基板吸着機構１０４を備えた画像記録装置１０２が示されている。
【００２３】
この画像記録装置１０２は、いわゆるフラッドベッドタイプの画像記録装置とされており、図１に示すように、感光性板状部材の一例である基板１５０を表面（載置面１５２Ｐ）に吸着して保持するステージ１５２を備えている。４本の脚部１５４に支持された板状の定盤１５６の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド１５８が設置されている。ステージ１５２は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド１５８によって往復移動可能に支持されている。なお、この画像記録装置には、ステージ１５２をガイド１５８に沿って駆動するための図示しない駆動装置が設けられており、後述するように、走査方向での所望の移動速度（走査速度）となるように、図示しないコントローラによって駆動制御される。
【００２４】
定盤１５６の中央部には、ステージ１５２の移動経路を跨ぐようにゲート１６０が設けられている。コ字状のゲート１６０の端部の各々は、定盤１５６の両側面に固定されている。このゲート１６０を挟んで一方の側にはスキャナ１６２が設けられ、他方の側には基板１５０の先端及び後端を検知する複数（例えば、２個）の検知センサ１６４が設けられている。スキャナ１６２及び検知センサ１６４はゲート１６０に各々取り付けられて、ステージ１５２の移動経路の上方に固定されている。なお、スキャナ１６２及び検知センサ１６４は、これらを制御する図示しないコントローラに接続されており、後述するように、露光ヘッド１６６によって露光する際に所定のタイミングで露光するように制御される。
【００２５】
また、検知センサ１６４は、撮像時の光源として１回の発光時間が極めて短いストロボ（図示省略）を備えており、このストロボの発光時のみ撮像が可能となるように受光感度が設定されている。
【００２６】
検知センサ１６４は、その真下の撮像位置をステージ１５２が通過する際に、所定のタイミングでストロボを発光させ、このストロボからの光の反射光を受光することにより、基板１５０に形成されたアライメントマークを含む撮像範囲をそれぞれ撮像する。また、検知センサ１６４は、アライメントマークの位置等に応じて幅方向に沿った位置調整が可能とされている。
【００２７】
また、スキャナ１６２はゲート１６０により走査方向に沿って位置調整可能に支持されている。これにより、検知センサ１６４による撮像位置とスキャナ１６２による露光位置との距離を所定の範囲内で調整可能となっている。
【００２８】
スキャナ１６２は、図２及び図３（Ｂ）に示すように、ｍ行ｎ列（例えば、３行５列）の略マトリックス状に配列された複数の露光ヘッド１６６を備えている。この例では、基板１５０の幅との関係で、１行目及び２行目には５個の、３行目には４個の露光ヘッド１６６を配置し、全体で、１４個とした。なお、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド１６６ｍｎと表記する。
【００２９】
露光ヘッド１６６による露光エリア１６８は、図２では、走査方向を短辺とする矩形状で、且つ、ヘッド並び方向に対し、所定の傾斜角で傾斜している。そして、ステージ１５２の移動に伴い、基板１５０には露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。なお、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドによる露光エリアを示す場合は、露光エリア１６８ｍｎと表記する。
【００３０】
また、図３（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域１７０のそれぞれが隣接する露光済み領域１７０と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の露光ヘッドの各々は、ヘッド並び方向に所定間隔ずらして配置されている。このため、１行目の露光エリア１６８１１と露光エリア１６８１２との間の露光できない部分は、２行目の露光エリア１６８２１と３行目の露光エリア１６８３１とにより露光することができる。
【００３１】
露光ヘッド１６６１１〜１６６ｍｎ各々は、図４、図５（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）５０を備えている。このＤＭＤ５０は、データ処理部とミラー駆動制御部とを備えた図示しないコントローラに接続されている。コントローラのデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。
【００３２】
また、ミラー駆動制御部では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０の各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。
【００３３】
ＤＭＤ５０の光入射側には、光ファイバの出射端部（発光点）が露光エリア１６８の長辺方向と対応する方向に沿って一列に配列されたレーザ出射部を備えたファイバアレイ光源６６、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光を補正してＤＭＤ上に集光させるレンズ系６７、レンズ系６７を透過したレーザ光をＤＭＤ５０に向けて反射するミラー６９がこの順に配置されている。
【００３４】
レンズ系６７は、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光を平行光化する１対の組合せレンズ７１、平行光化されたレーザ光の光量分布が均一になるように補正する１対の組合せレンズ７３、及び光量分布が補正されたレーザ光をＤＭＤ上に集光する集光レンズ７５で構成されている。組合せレンズ７３は、レーザ出射端の配列方向に対しては、レンズの光軸に近い部分は光束を広げ且つ光軸から離れた部分は光束を縮め、且つこの配列方向と直交する方向に対しては光をそのまま通過させる機能を備えており、光量分布が均一となるようにレーザ光を補正する。
【００３５】
また、ＤＭＤ５０の光反射側には、ＤＭＤ５０で反射されたレーザ光を基板１５０の走査面（被露光面）５６上に結像するレンズ系５４、５８が配置されている。レンズ系５４及び５８は、ＤＭＤ５０と被露光面５６とが共役な関係となるように配置されている。
【００３６】
本実施形態では、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザ光は、実質的に５倍に拡大された後、各画素がこれらのレンズ系５４、５８によって約５μｍに絞られるように設定されている。
【００３７】
ＤＭＤ５０は、図６に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）６０上に、微小ミラー（マイクロミラー）６２が支柱により支持されて配置されたものであり、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば、ピッチ１３．６８μｍ、１０２４個×７６８個）の微小ミラーを格子状に配列して構成されたミラーデバイスである。各ピクセルには、最上部に支柱に支えられたマイクロミラー６２が設けられており、マイクロミラー６２の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。なお、マイクロミラー６２の反射率は９０％以上である。また、マイクロミラー６２の直下には、ヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル６０が配置されており、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。
【００３８】
ＤＭＤ５０のＳＲＡＭセル６０にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー６２が、対角線を中心としてＤＭＤ５０が配置された基板側に対して±α度（例えば±１０度）の範囲で傾けられる。図７（Ａ）は、マイクロミラー６２がオン状態である＋α度に傾いた状態を示し、図７（Ｂ）は、マイクロミラー６２がオフ状態である−α度に傾いた状態を示す。従って、画像信号に応じて、ＤＭＤ５０の各ピクセルにおけるマイクロミラー６２の傾きを、図６に示すように制御することによって、ＤＭＤ５０に入射された光はそれぞれのマイクロミラー６２の傾き方向へ反射される。
【００３９】
なお、図６には、ＤＭＤ５０の一部を拡大し、マイクロミラー６２が＋α度又は−α度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー６２のオンオフ制御は、ＤＭＤ５０に接続された図示しないコントローラによって行われる。オフ状態のマイクロミラー６２により光ビームが反射される方向には、光吸収体（図示せず）が配置されている。
【００４０】
図８及び図９には、本実施形態のステージ１５２が示されている。第１実施形態では、比較的厚みのある基板１５０を対象としており（たとえば厚みが０．５〜５．０ｍｍ程度）、この基板１５０の反りを解消して、ステージ１５２の載置面１５２Ｐ上に確実に吸着することを目的としている。
【００４１】
ステージ１５２は、中空の扁平な箱状に形成されており、その上面が、基板１５０が載置される載置面１５２Ｐとされている。載置面１５２Ｐのサイズは、この画像記録装置１０２での画像記録の対象となる最も大きな基板であっても載置可能なサイズとされている。以下、本実施形態の画像記録装置１０２において画像記録の対象となる最も大きなサイズの基板を「最大サイズ基板」、もっとも小さなサイズの基板を「最小サイズ基板」ということとする。
【００４２】
載置面１５２Ｐには、複数の吸着孔１７２が形成されている（本実施形態では、ステージ移動方向に７個、これと直交するステージ幅方向にも７個のマトリクス状とし、合計で４９個とした）。ステージ１５２には、管路１７４を介して図示しない吸引装置（たとえば真空ポンプ）が接続されており、ステージ１５２内を負圧にすると共に、吸着孔１７２から空気を吸引することができるようになっている。載置面１５２Ｐ上に載置された基板１５０によって吸着孔１７２が覆われている場合には、基板１５０を吸着する。吸着孔１７２は、最大サイズ基板を確実に吸引することができる程度の広い範囲をカバーし、且つ最小サイズ基板であっても確実に吸引することができる程度の面密度となるよう配置されている。
【００４３】
図１０（Ａ）及び（Ｂ）に詳細に示すように、ステージ１５２内には、吸着孔１７２のそれぞれに対応して、有底円筒状のシリンダ部材１７６が取り付けられている。シリンダ部材１７６の側面には連通孔１７６Ｈが形成されており、シリンダ部材１７６の内部と外部（ステージ１５２内）とが連通されている。
【００４４】
シリンダ部材１７６内には、ピストン部材１７８がその軸方向に移動可能に収容されており、これらの間は、不用意に空気が流通しないようにシールされている。シリンダ部材１７６の底板１７６Ｂと、ピストン部材１７８の底面１７８Ｂとの間はバネ室１７９とされており、このバネ室１７９内で底板１７６Ｂに固定された圧縮コイルばね１８２が、ピストン部材１７８を、載置面１５２Ｐから突出する方向（上方向）へと付勢している。
【００４５】
ピストン部材１７８は、載置面１５２Ｐ側の小径部１７８Ｓと、シリンダ部材１７６の底板１７６Ｂ側の大径部１７８Ｌとを有しており、図１０（Ａ）に示すように、圧縮コイルばね１８２の付勢力によって、小径部１７８Ｓの一部が、載置面１５２Ｐから突出する。これに対し、図１０（Ｂ）に示すように、圧縮コイルばね１８２の付勢力に抗してピストン部材１７８が下方へ移動すると、小径部１７８Ｓの先端１７８Ｔが載置面１５２Ｐと面一になる（若しくは、載置面１５２Ｐよりもシリンダ部材１７６内に入り込む）ように、ピストン部材１７８の長さが決められている。なお、圧縮コイルばね１８２の付勢力（弾性力）は、載置面１５２Ｐに基板１５０が載置されたときに、１つのピストン部材１７８に作用する荷重によって十分に圧縮される程度とされている。
【００４６】
また、小径部１７８Ｓ及び大径部１７８Ｌは、図１０（Ａ）に示すように、小径部１７８Ｓが載置面１５２Ｐから突出した状態では、大径部１７８Ｌが連通孔１７６Ｈを閉塞し、図１０（Ｂ）に示すように、小径部１７８Ｓの先端１７８Ｔが載置面１５２Ｐと面一になった状態では、小径部１７８Ｓによって連通孔１７６Ｈが開放されるように、それぞれの長さが決められている。したがって、大径部１７８Ｌが連通孔１７６Ｈを閉塞した状態が、ピストン部材１７８の閉塞位置であり、小径部１７８Ｓによって連通孔１７６Ｈが開放された状態が、ピストン部材１７８の開放位置となっている。
【００４７】
ピストン部材１７８の中心には、軸方向に沿って通気孔１８０が形成されており、さらに、小径部１７８Ｓには、通気孔１８０と直交する通気孔１８２が形成されている。これらの通気孔により、バネ室１７９が、ピストン部材１７８の外部、及び、ピストン部材１７８とシリンダ部材１７６との間と連通されている。
【００４８】
図８に示すように、ステージ１５２の側方には、少なくともその表面が柔軟性のある材料（たとえば、スポンジなどの発泡樹脂やゴムなど）で覆われた押圧ローラ１８４が配置されている。押圧ローラ１８４の中心に貫通された支軸１８６（図９参照）は、図示しない軸受け部材によって、回転可能に支持されている。また、軸受け部材は、押圧ローラ１８４の表面が、載置面１５２Ｐ上に載置された基板１５０に接触する高さを維持しつつ、ステージ１５２に対して相対移動するように、横方向に移動可能とされている。
【００４９】
押圧ローラ１８４の表面には、ステージ１５２の吸着孔１７２に対応する位置に、溝１８８が形成されている。これにより、吸着孔１７２から突出したピストン部材１７８の先端１７８Ｔ近傍に押圧ローラ１８４が接触しないようになっている。
【００５０】
次に、本実施形態の作用について説明する。
【００５１】
基板１５０に画像を記録するには、まず、ステージ１５２の載置面１５２Ｐ上に基板１５０を載置する。基板１５０のサイズに応じて、ピストン部材１７８の一部または全部に、基板１５０の荷重が作用する。
【００５２】
基板１５０の荷重が作用していないピストン部材１７８は、図１０（Ｂ）に示すように、圧縮コイルばね１８２の付勢力で閉塞位置となっている。このため、吸着孔１７２を通じてステージ１５２の内部と外部とで空気が流通することはない。
【００５３】
これに対し、基板１５０が載せ置かれたピストン部材１７８では、基板１５０の荷重により（あるいは、基板１５０を搬送して載置するときの押し付け力により）、図１０（Ａ）に示すように、圧縮コイルばね１８２の付勢力に抗して押圧され、開放位置に至っている。なお、このとき、通気孔１８０、１８２によって、バネ室１７９内の空気が外部（ステージ１５２の内部であっても外部であってもよい）に排出されるので、ピストン部材１７８の移動に、バネ室１７９の空気圧による抵抗は生じない。
【００５４】
この状態で、図示しない吸引装置を駆動して、ステージ１５２の内部を負圧にする。基板１５０が載置された領域の吸着孔１７２は開放されているため、負圧による吸引力で基板１５０を吸引することができる。これに対し、基板１５０の外側の領域の吸着孔１７２は、押圧ローラ１８４に溝１８８が形成されているためピストン部材１７８が押し込まれることはない。閉塞状態が維持されるので、吸着孔１７２から不用意に空気を吸引してしまわない。したがって、たとえば、吸引装置として小型のものを使用した場合であっても、確実に基板１５０を吸着できる。
【００５５】
そして、図９に示すように、押圧ローラ１８４をステージ１５２に対して相対移動させると、基板１５０との摩擦力によって押圧ローラ１８４が従動回転される。押圧ローラ１８４の表面で基板１５０を端部から順に、載置面１５２Ｐに向かって押圧するので、基板１５０の反りが解消されるので、基板１５０に部分的に載置面１５２Ｐから浮きあがった箇所があっても、この部分が、開放された吸着孔１７２からの吸引力で吸着される。このように、基板１５０の反りが解消されると同時に基板１５０が吸着されるので、押圧ローラ１８４通過後も吸着状態が維持され、反りが再発することはない。
【００５６】
また、基板１５０が載置された領域の吸着孔１７２のみが開放されるので、基板１５０のサイズに関わらず、基板１５０をステージ１５２の載置面１５２Ｐ上で吸着することができる。ステージ１５２内に、基板サイズに応じた吸着エリアや配管を設ける必要がないので、構造が複雑になることもない。
【００５７】
加えて、押圧ローラ１８４をステージ１５２に対して単に相対移動させるだけで基板１５０の反りを解消できるので、この点においても、構造が複雑になることはない。
【００５８】
なお、ステージ内１５２を負圧にした状態で、ステージ１５２内の負圧がピストン部材１７８に作用するが、連通孔１７６Ｈがシリンダ部材１７６の側面に形成されているので、この負圧は、ピストン部材１７８の移動方向（上下方向）と直交する方向に作用する。したがって、負圧を受けたピストン部材１７８が圧縮コイルばね１８２の付勢力に抗して不用意に開放位置に移動することはなく、確実に閉塞位置に維持される。
【００５９】
また、開放位置にあるピストン部材１７８の先端１７８Ｔは、必ずしも載置面１５２Ｐと面一で基板１５０に接触している必要はなく、先端１７８Ｔが基板１５０と非接触になっていても吸着できる。
【００６０】
このようにして、基板１５０を載置面１５２Ｐに吸着したステージ１５２は、図示しない駆動装置により、ガイド１５８に沿ってゲート１６０の上流側から下流側に一定速度で移動される。
【００６１】
図示しないコントローラは、アライメントマークが検知センサ１６４の撮像位置に達すると、ストロボを発光させて検知センサ１６４によりアライメントマークを含む撮像領域を撮像させる。このとき、検知センサ１６４により得られた撮像情報は画像処理部へ出力され、画像処理部は、撮像情報をアライメントマークの走査方向及び幅方向に沿った位置に対応する位置情報に変換し、この位置情報をコントローラへ出力する。
【００６２】
コントローラは、画像処理部からのアライメントマークの位置情報に基づき、１個の描画領域に対応して設けられた複数個のアライメントマークの位置をそれぞれ判断し、これらのアライメントマークの位置から描画領域の走査方向及び幅方向に沿った位置及び描画領域の走査方向に対する傾き量をそれぞれ判断する。
【００６３】
この後、コントローラは、描画領域の走査方向に沿った位置に基づいて描画領域に対する露光開始のタイミングを算出すると共に、描画領域の幅方向に沿った位置及び走査方向に対する傾き量に基づいて描画パターンに対応する画像情報に対する変換処理を実行し、変換処理した画像情報をフレームメモリ内に格納する。ここで、変換処理の内容としては、座標原点を中心として画像情報を回転させる座標変換処理、幅方向に対応する座標軸に沿って画像情報を平行移動させる座標変換処理が含まれる。更に必要に応じて、コントローラは、描画領域の幅方向及び走査方向に沿った伸長量及び縮長量に対応させて画像情報を伸長又は縮長させる変換処理を実行する。
【００６４】
そして、コントローラは、描画領域の先端が露光位置に達するタイミングに同期し、露光開始信号をスキャナ制御部へ出力する。これにより、スキャナ制御部は、フレームメモリに記憶された画像情報を複数ライン分ずつ順次読み出し、データ処理部により読み出した画像情報に基づいて各露光ヘッド１６６毎に制御信号を生成すると共に、ミラー駆動制御部により生成された制御信号に基づいて各露光ヘッド１６６毎にＤＭＤ５０のマイクロミラーの各々がオンオフ制御される。
【００６５】
ファイバアレイ光源６６からＤＭＤ５０にレーザー光が照射されると、ＤＭＤ５０のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザー光は、レンズ系５４、５８により基板１５０の被露光面上に結像される。このようにして、ファイバアレイ光源６６から出射されたレーザー光が画素毎にオンオフされて、基板１５０の描画領域がＤＭＤ５０の使用画素数と略同数の画素単位で露光される。また、基板１５０がステージ１５２と共に一定速度で移動されることにより、基板１５０がスキャナ１６２によりステージ移動方向と反対の方向に副走査され、各露光ヘッド１６６毎に帯状の露光済み領域１７０（図２及び図３（Ａ）参照）が形成される。
【００６６】
画像記録終了後は、ステージ１５２内の負圧を解除して大気圧とすると、通気孔１８０、１８２を通じてバネ室１７９の空気が流入するので、基板１５０が載置面１５２Ｐから除去されると、圧縮コイルばね１８２の付勢力で、ピストン部材１７８が閉塞位置へと移動し、吸着孔１７２を閉塞する。
【００６７】
図１１には、本発明の第２実施形態の基板吸着機構２０４が示されている。第２実施形態では、画像記録装置の基本的構成は第１実施形態と同一とされているので、その詳細な説明を省略する。以下では、第１実施形態と同一の構成要素、部材等については、同一符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００６８】
第２実施形態では、比較的薄い基板１５０を対象とし（たとえば厚みが０．０２５〜０．１ｍｍ程度）、この基板１５０の皺や空気溜まりを解消して、ステージ１５２の載置面１５２Ｐに確実に吸着することを目的としている。したがって、第２実施形態では、ステージ１５２内の負圧を第１実施形態よりも小さくしても基板１５０を吸着することが可能である。基板１５０によって覆われていない吸着孔１７２から空気の漏れがあっても十分な吸着力が得られるため、第１実施形態のシリンダ部材１７６やピストン部材１７８は省略され、単に吸着孔１７２のみが形成される構造となっている。
【００６９】
第２実施形態の押圧ローラ２０６は、第１実施形態の押圧ローラ１８４と略同一構成とされているが、ピストン部材１７８と接触するおそれがないため、溝１８８は形成されていない。
【００７０】
このような構成とされた第２実施形態では、比較的薄い基板１５０の皺や空気黙りを解消して、基板１５０を確実に吸着することができる。また、押圧ローラ１８４をステージ１５２に対して単に相対移動させるだけで、基板１５０を皺や空気黙りを解消できる。
【００７１】
なお、第２実施形態のステージ１５２の構造（シリンダ部材１７６やピストン部材１７８は設けられていない）に、第１実施形態の押圧ローラ１８４を適用することも可能である。この構成では、押圧ローラ１８４の相対移動時に、基板１５０が載置されていない領域の吸着孔１７２を塞がないので、押圧ローラ１８４が一時的に吸着されない。このため、押圧ローラ１８４の相対移動に不用意な抵抗が生じず、スムーズに相対移動させることができる。
【００７２】
上記では、押圧ローラ１８４、２０６とステージ１５２との相対移動を、ステージ１５２に対して押圧ローラ１８４、２０６が移動することで実現する構成のものを例に挙げたが、押圧ローラ１８４、２０６に対してステージ１５２が移動するもの、あるいは、押圧ローラ１８４、２０６とステージ１５２とが互いに反対方向に移動するものでもよい。
【００７３】
また、上記では、本発明の押圧部材として、基板との摩擦力を利用して従動回転させる押圧ローラ１８４、２０６を例に挙げたが、例えば、押圧用の単なる板状あるいは棒状の部材を、回転させることなく基板１５０に対して相対移動させてもよい。上記各実施形態のように押圧ローラ１８４、２０６を回転させると、基板１５０と擦れ合わないので、基板１５０に傷が生じず、好ましい。
【００７４】
また、上記では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた露光ヘッドについて説明したがこのような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用することもできる。例えば、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  ＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Ｓｐａｃｉａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）や、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）や液晶光シャッタ（ＦＬＣ）等の液晶シャッターアレイなど、ＭＥＭＳタイプ以外の空間光変調素子を用いることも可能である。なお、ＭＥＭＳとは、ＩＣ製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、そして制御回路を集積化した微細システムの総称であり、ＭＥＭＳタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。さらに、Ｇｒａｔｉｎｇ  Ｌｉｇｈｔ  Ｖａｌｖｅ（ＧＬＶ）を複数ならべて二次元状に構成したものを用いることもできる。これらの反射型空間光変調素子（ＧＬＶ）や透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用する構成では、上記したレーザの他にランプ等も光源として使用可能である。
【００７５】
また、上記の実施の形態では、合波レーザ光源を複数備えたファイバアレイ光源を用いる例について説明したが、レーザ装置は、合波レーザ光源をアレイ化したファイバアレイ光源には限定されない。例えば、１個の発光点を有する単一の半導体レーザから入射されたレーザ光を出射する１本の光ファイバを備えたファイバ光源をアレイ化したファイバアレイ光源を用いることができる。
【００７６】
さらに、複数の発光点が二次元状に配列された光源（たとえば、ＬＤアレイ、有機ＥＬアレイ等）を使用することもできる。これらの光源を使用する構成では、発光点のそれぞれが画素に対応するようにすることで、上記した空間変調措置を省略することも可能となる。
【００７７】
上記の実施形態では、図１２に示すように、スキャナ１６２によるＸ方向への１回の走査で基板１５０の全面を露光する例について説明したが、図１３（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、スキャナ１６２により基板１５０をＸ方向へ走査した後、スキャナ１６２をＹ方向に１ステップ移動し、Ｘ方向へ走査を行うというように、走査と移動を繰り返して、複数回の走査で基板１５０の全面を露光するようにしてもよい。
【００７８】
また、上記の実施形態では、いわゆるフラッドベッドタイプの画像記録装置を例に挙げたが、本発明の画像記録装置としては、感光材料が巻きつけられるドラムを有する、いわゆるアウタードラムタイプの画像記録装置であってもよい。
【００７９】
上記の画像記録装置は、例えば、プリント配線基板（ＰＷＢ；ＰｒｉｎｔｅｄＷｉｒｉｎｇ  Ｂｏａｒｄ）の製造工程におけるドライ・フィルム・レジスト（ＤＦＲ；Ｄｒｙ  Ｆｉｌｍ  Ｒｅｓｉｓｔ）の露光、液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造工程におけるカラーフィルタの形成、ＴＦＴの製造工程におけるＤＦＲの露光、プラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）の製造工程におけるＤＦＲの露光等の用途に好適に用いることができる。
【００８０】
また、上記の画像記録装置には、露光により直接情報が記録されるフォトンモード感光材料、露光により発生した熱で情報が記録されるヒートモード感光材料の何れも使用することができる。フォトンモード感光材料を使用する場合、レーザ装置にはＧａＮ系半導体レーザ、波長変換固体レーザ等が使用され、ヒートモード感光材料を使用する場合、レーザ装置にはＡｌＧａＡｓ系半導体レーザ（赤外レーザ）、固体レーザが使用される。
【００８１】
【発明の効果】
本発明は上記構成としたので、簡単な構成で、基板の反りや皺、空気溜まり等を解消して、ステージに確実に吸着できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態の画像記録装置の外観を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態の画像記録装置のスキャナの構成を示す斜視図である。
【図３】（Ａ）は感光材料に形成される露光済み領域を示す平面図であり、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す図である。
【図４】本発明の第１実施形態の露光ヘッドの概略構成を示す斜視図である。
【図５】（Ａ）は図４に示す露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った副走査方向の断面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の側面図である。
【図６】本発明の第１実施形態の露光ヘッドに係るデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）の構成を示す部分拡大図である。
【図７】（Ａ）及び（Ｂ）は本発明の第１実施形態の露光ヘッドに係るＤＭＤの動作を説明するための説明図である。
【図８】本発明の第１実施形態の基板吸着機構を備えたステージを示す平面図である。
【図９】本発明の第１実施形態の基板吸着機構を備えたステージを示す断面図である。
【図１０】本発明の第１実施形態の基板吸着機構を備えたステージの吸着孔近傍を示す断面図であり、（Ａ）は基板が載置されていない状態、（Ｂ）は基板が載置された状態である。
【図１１】本発明の第２実施形態の基板吸着機構を備えたステージを示す平面図である。
【図１２】スキャナによる１回の走査で感光材料を露光する露光方式を説明するための平面図である。
【図１３】（Ａ）及び（Ｂ）はスキャナによる複数回の走査で感光材料を露光する露光方式を説明するための平面図である。
【符号の説明】
ＬＤ１〜ＬＤ７  ＧａＮ系半導体レーザ
１０２    画像記録装置
１０４    基板吸着機構（感光性板状部材吸着機構）
１５０    基板（感光性板状部材）
１５２    ステージ
１５２Ｐ  載置面
１６６    露光ヘッド
１７２    吸着孔
１８４    押圧ローラ（押圧部材）
１８８    溝（凹部）
２０４    基板吸着機構（感光性板状部材）
２０６    押圧ローラ（押圧部材）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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