(57)【要約】【課題】転写層の損傷を防止でき、ゴミの発生や付着を最小限に抑えられ、良好な転写ができる転写シートを提供する。【解決手段】転写シート１０は、透明又は半透明の転写基材１１と、転写基材１１上に形成された離型層１２と、離型層１２上に形成され、所定のパターン状の遮光層を転写する光熱変換転写層１３と、転写基材１１を保持するための保持部等とを備え、保持部は、転写基材１１上における光熱変換転写層１３が形成されていない非転写層形成部であり、非転写層形成部は、転写基材１１の一部であって、光熱変換転写層１３の幅方向の長さよりも長い部分である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写基材と、
前記転写基材に剥離可能に形成され、所定のパターン状の遮光層を転写する転写層と、
前記転写基材を保持するための保持部と、
を備える転写シート。
【請求項２】
請求項１に記載の転写シートにおいて、
前記保持部は、前記転写基材上における前記転写層が形成されていない非転写層形成部であること、
を特徴とする転写シート。
【請求項３】
請求項２に記載の転写シートにおいて、
前記非転写層形成部は、前記転写基材の一部であって、前記転写層の幅方向の長さよりも長い部分であること、
を特徴とする転写シート。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の転写シートにおいて、
前記転写基材は、透明又は半透明であること、
を特徴とする転写シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー光熱転写法などにより遮光層を転写するための転写シートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、フッ素系撥水・撥油剤を含有する遮光層（ブラックマトリックス）の間隙に、カラーパターンを印刷する方法として、特定の表面張力を有するインクを用いてインクジェット記録方式で印刷を行うことを開示している。
【０００３】
特許文献２は、レーザー光熱転写法を使用したカラーフィルタ要素の作製方法であって、レーザー光による熱転写を利用して、フッ素系界面活性剤を含有した黒色ドナーシートから着色剤をカラーフィルタ要素の基板上に転写して、所望のパターンでブラックマトリックス（遮光層）を形成することを開示している。
【０００４】
一方、特許文献３は、所望の光学基板（ここでは、ＴＦＴが設けられたＴＦＴ基板に対向する対向基板）上に、ストライプ状の遮光層を形成することを開示している。
【０００５】
【特許文献１】特開平６−３４７６３７号公報
【特許文献２】米国特許第５，５２１，０３５号
【特許文献３】特開平９−２５８２６８号公報（第６図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本件出願人は、遮光層をレーザー光熱転写法で形成し、その遮光層の間にインクジェット記録方式で複数色の画素部を形成するカラーフィルタを開発しようとしている。
ところが、上述した従来の技術では、レーザー光熱転写法によってブラックマトリックス（遮光層）を光学基材に形成する場合に、転写シートの両端部を切断するので、ゴミ（切りくず）が発生してしまい、ゴミが付着している状態では、転写不良を起こしてしまう可能性があった。
また、ロールに巻き取られた転写シートを引き出す場合に、転写層の膜面を手で持ってしまうと、ひびが発生したり、汚損したりすることが想定された。
【０００７】
本発明の課題は、転写層の損傷を防止でき、ゴミの発生や付着を最小限に抑えられ、良好な転写ができる転写シートを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施例に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
請求項１の発明は、転写基材（１１）と、前記転写基材（１１）に剥離可能に形成され、所定のパターン状の遮光層（１３Ｂ）を転写する転写層（１３）と、前記転写基材（１１）を保持するための保持部と、を備える転写シートである。
【０００９】
請求項２の発明は、請求項１に記載の転写シートにおいて、前記保持部は、前記転写基材（１１）上における前記転写層（１３）が形成されていない非転写層形成部であること、を特徴とする転写シートである。
【００１０】
請求項３の発明は、請求項２に記載の転写シートにおいて、前記非転写層形成部は、前記転写基材（１１）の一部であって、前記転写層（１３）の幅方向の長さよりも長い部分であること、を特徴とする転写シートである。
【００１１】
請求項４の発明は、請求項１から請求項３までのいずれか１項に記載の転写シートにおいて、前記転写基材（１１）は、透明又は半透明であること、を特徴とする転写シートである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、以下のような効果がある。
（１）転写基材を保持するための保持部を備えたので、転写層に接触せずに転写シートが保持でき、転写層にひびが入ることや、転写層が汚損してしまうこと、転写基材の巻き出し時に搬送装置が転写層を傷つけてしまうこと、その傷によりゴミが発生することを防止できる。
（２）転写基材を透明又は半透明としたので、この転写シートを保持して位置合わせをする場合に、位置合わせ用のマーク等が転写基材を透かして確認でき、位置合わせしやすい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明は、転写層の損傷を防止でき、ゴミの発生や付着を最小限に抑えられるという目的を、転写基材の幅方向の長さを転写層の幅方向の長さよりも長く形成し、その長く形成された部分を保持部とすることによって実現する。
【実施例】
【００１４】
以下、図面等を参照して、本発明の実施例をあげて、さらに詳しく説明する。
図１は、本発明の実施例による遮光層付き光学シートを作製するための転写シート１０を示す図である。
【００１５】
転写シート１０は、レーザー光熱転写法により、所定のパターンを、光学基材２１に転写するためのシート（ドナーシート）であって、転写基材１１と、離型層１２と、光熱変換転写層１３などとを備えている。
【００１６】
転写基材１１は、光熱変換転写層１３の担体となるものであって、遮光層の転写のために、レーザー光を照射して加熱が行われるので、レーザー光の透過性、耐熱性などが必要であると共に、後述する光学基材２１（図３）に貼り合わせて使用されかつ使用後には剥離されるので、適度の柔軟性、軽さ、取り扱い性、機械的強度などが必要である。
この転写基材１１は、ポリエステル樹脂などの各種のプラスチック材料を挙げることができ、その厚さは、通常、約２５〜１００μｍの範囲が好適であり、この実施例では、１００μｍの透明なＰＥＴフィルムを用いた。
【００１７】
離型層１２は、転写基材１１から光熱変換転写層１３を剥離するための層である。この離型層１２は、所定の剥離成分を有するＵＶ硬化性のアクリレート樹脂組成物を、例えば、スピンコート法、グラビア印刷法、ダイコーティング法等の常用の塗布方法に従って、転写基材１１の表面に塗布し、ＵＶ硬化させることによって形成することができる。この離型層１２の厚さは、通常、約０．５〜２μｍの範囲が好適であり、この実施例では、１μｍとした。
【００１８】
光熱変換転写層１３は、レーザー光の照射を受けて、その光エネルギーを熱エネルギーに変換し、遮光層に転写される画像成分を溶融させ、光学基材２１の表面に転写及び固着させるための層である。
この光熱変換転写層１３は、光熱変換性を付与するために、カーボンブラック等の光吸収性材料、又は、そのような光吸収性材料を分散して含有する必要があり、硬化目的のため、熱硬化性の成分を含有しているのが好ましく、例えば、カーボンブラック、熱硬化性モノマー又はオリゴマー、硬化剤等をバインダ樹脂中に分散させた層とすることができる。
【００１９】
また、光熱変換転写層１３は、転写性を付与するために、光熱変換作用により加熱されて溶融し、光学基材２１にパターン状に転写される画像成分を含む必要があり、その画像成分をレーザー熱転写法に従って、光学基材２１の表面に高コントラストで転写し、転写された画像パターンとして固着させることができ、使用後の転写シート１０を光学基材２１から剥離する際に剥離残渣を生じることがない限り、任意の組成で形成することができる。
【００２０】
光熱変換転写層１３の画像成分は、例えば、液晶表示装置のブラックマトリックス上でセパレーションリブとして、又は、ブラックマトリックス兼セパレーションリブとして使用されるので、遮光性と転写性とを考慮に入れた組成にする。ここで、遮光性の向上のためには、一般的に、黒色顔料（カーボンブラック等）やその他の有色顔料を高められた量で添加することや、金属粉などを添加することが挙げられる。
【００２１】
この実施例では、以下の組成のものを使用した。
カーボンブラック              １２部
変成アクリル樹脂              １０部
エポキシ樹脂                    ４部
硬化剤                          ５部
メチルエチルケトン／トルエン  ７０部
【００２２】
この光熱変換転写層１３は、通常、所定の組成を有する樹脂組成物を、例えばスピンコート法、グラビア印刷法、ダイコーティング法等の常用の塗布方法に従って、離型層１２の表面に塗布し、乾燥させることによって形成することができる。光熱変換転写層１３の厚さは、通常、０．１〜２μｍの範囲が好ましく、この実施例では、１．３μｍとした。
【００２３】
なお、転写シート１０としては、転写基材１１及び／又は光熱変換転写層１３に剥離性がある場合には、上述した離型層１２を省略してもよい。
さらに、転写シート１０としては、光熱変換転写層１３の光熱変換作用により発生する熱が不足する場合には、転写基材１１と光熱変換転写層１３との間に、レーザー光を吸収して熱に変換する光熱変換層をさらに設けてもよい。
【００２４】
ここで、本実施例による転写シート１０の特徴部分をさらに詳しく説明する。
転写基材１１の幅方向の長さＷ１１は、１２０ｃｍであり、離型層１２の幅方向の長さＷ１２は、１１０ｃｍであり、光熱変換転写層１３の幅方向の長さＷ１３は、１００ｃｍである。
したがって、幅方向の長さは、転写基材１１＞光熱変換転写層１３であり、光熱変換転写層１３よりも長くした転写基材１１の両端部の上方には、光熱変換転写層１３が形成されていない部分（非転写層形成部）がある。その部分が、転写基材１１を保持するための保持部（図中、Ａ）となっている。
【００２５】
つぎに、転写シート１０を光学基材２１に転写する転写工程について説明する。
図２は、チャック装置を模式的に示した図である。
まず、図２（ａ）に示すように、光学基材２１をラミネート用のチャック装置の搬送台に載せる。ここで、転写シート１０は、光熱変換転写層１３が内側（ロールＲ１の軸側）に位置するように、ロールＲ１に巻かれている。
ついで、図２（ｂ）に示すように、光学基材２１をロールＲ１の下方付近に移動させる。
さらに、図２（ｃ）に示すように、自動搬送装置又は作業員等が、転写シート１０の保持部を用いてロールＲ１から転写シート１０を引き出す場合には、非転写層形成部（保持部）を摘んで転写シート１０を巻き出し、光学基材２１の端部に密着させる。
そして、図２（ｄ）に示すように、不図示の昇降機構を用いてサブロールＲ２を下降させ、転写シート１０を光学基材２１に押し付ける。なお、昇降機構を備えておらず、サブロールＲ２が固定されている場合は、サブロールＲ２の下方をくぐらせるようにして、転写シート１０を密着させてもよい。
最後に、図２（ｅ）に示すように、ロールＲ１とサブロールＲ２とを搬送方向（図中、右方向）に移動させ、光学基材２１の上面に転写シート１０密着させる。
【００２６】
図３は、図１の転写シート１０の遮光層の光学基材への転写工程を示した断面図である。
上述した転写工程によって、図３（ａ）に示すように、転写シート１０の光熱変換転写層１３が、光学基材２１に密着されている。この光学基材２１は、この実施例では、無アルカリガラス（厚さ：０．７ｍｍ）とした。
次いで、得られた積層体の転写シート１０に対して、転写基材１１の側から、レーザー光Ｌを所定のパターンで照射する。ここで、レーザー光Ｌのパターンは、光学基材２１に転写しようとしている遮光層１３Ｂ（後述）に対応する。なお、レーザー光Ｌは、ＹＡＧレーザー（波長１０８４ｎｍ、スポット径２０μｍ、出力３０ｍＷ）であって、遮光層１３Ｂ上を１００ｍｍ／ｓｅｃで移動させる。
【００２７】
レーザー光Ｌのパターン照射の結果、転写シート１０の光熱変換転写層１３の光熱変換作用により、光エネルギーが熱エネルギーに変換され、図３（ｂ）に示すように、光熱変換転写層１３の内部に含まれる画像成分１３Ａがパターン状に加熱されて溶融し、光学基材２１に転写され、これに固着される。
なお、画像成分１３Ａが光学基材２１に転写された後、転写シート１０が光学基材２１から剥離される。この剥離条件は、この実施例では、ロール径１００ｍｍ、圧力０として、このロールを１００ｍｍ／ｓｅｃで駆動した。
さらに、転写シート１０が剥離された光学基材２１の画像成分１３Ａを熱硬化させるために、この実施例では、２５０℃雰囲気中に３０分間さらすベーク工程に通した。これにより、画像成分１３Ａは、後述する遮光層１３Ｂとなる。
【００２８】
図３（ｃ）は、上述したようにして、光学基材２１の上に転写された遮光層１３Ｂを示しており、本実施例による遮光層付き光学シート２０は、例えば、この遮光層１３Ｂと、光学基材２１とを備えている。なお、この遮光層１３Ｂは、上述したベーク工程を経て、光学基材２１に対して強い力で密着している。
【００２９】
このように、本実施例の転写シート１０によれば、光熱変換転写層１３よりも長くした転写基材１１の両端部を保持部としたので、光熱変換転写層１３に接触せずに転写シート１０が保持でき、光熱変換転写層１３にひびが入ることや、光熱変換転写層１３が汚損してしまうことを防止でき、また、転写基材１１の巻き出し時に搬送装置が光熱変換転写層１３を傷つけてしまうことや、その傷によりゴミが発生することも防止できる。
また、転写基材１１を透明なＰＥＴフィルムとしたので、この転写シート１０を保持し、位置合わせをする場合に、位置合わせ用のマーク等が転写基材１１を透かして確認でき、位置合わせしやすい。
一方、上述した転写シート１０を用いて製造した遮光層付き光学シート２０は、遮光層１３Ｂの転写不良のない光学シート２０となり、不良品の発生率を抑えることができ、製造歩留まりが向上する。
【００３０】
図４は、本実施例によるカラーフィルタを模式的に示した断面図である。なお、以下では、カラーフィルタの製造方法の説明に従い、各部材等についても説明する。
まず、カラーフィルタ３０に用いられる遮光層付き光学シート２０は、光学基材２１と、この光学基材２１上に転写された遮光層１３Ｂとを備えている。この遮光層１３Ｂは、上述した転写工程（ここでは、転写フィルムを光学基材２１から剥離するまでの工程となる：図３参照）と、上述したベーク工程とにより、光学基材２１上に転写される。
【００３１】
図５は、本実施例による遮光層付き光学シート２０上に、濡れ性変化層を塗布する濡れ性変化層塗布工程を示す図である。
図６は、光学基材２１側からエネルギーを照射するバック露光工程を示す図である。
次に、この遮光層付き光学シート２０上に、濡れ性変化層３２を塗布した後（図５参照）、光学基材２１側からエネルギー３５を照射する（図６参照）。
この濡れ性変化層３２は、エネルギー３５の照射により、濡れ性が変化する層であって、例えば、光触媒作用を有する二酸化チタン等を含む。
ここで、濡れ性とは、濡れ性変化層３２表面における水との接触角をいい、この実施例による濡れ性変化層３２では、エネルギー３５の照射により接触角が小さい親水性領域３２Ａを形成する。また、エネルギー３５の照射前は、濡れ性変化層３２は、接触角が大きい疎水性領域３２Ｂを形成している。なお、後述するインクＲ，Ｇ，Ｂは、水性インクであるために、親水性領域３２Ａは親インク性となり、同じく、疎水性領域３２Ｂは撥インク性となる。
【００３２】
光学基材２１側からエネルギー３５を照射する場合には、遮光層１３Ｂの凸部上面には、エネルギー３５が照射されないので、この凸部上面に塗布された濡れ性変化層３２は、疎水性領域３２Ｂとなっている。これに対して、遮光層１３Ｂの凸部上面以外（すなわち、遮光層１３Ｂの間であって、以下、開口部という）には、エネルギー３５が照射されるので、この開口部に塗布された濡れ性変化層３２は、親水性領域３２Ａとなっている。
【００３３】
図７は、遮光層１３Ｂの間に、インクＲ，Ｇ，Ｂを吐出する着色工程を示す図である。
次に、赤色、緑色、青色を示すインクＲ，Ｇ，Ｂをインクジェット記録方式により、遮光層１３Ｂの間に形成されたストライプ状の開口部に吐出して、開口部を着色した。これにより、複数色（ここでは、Ｒ、Ｇ、Ｂ）の画素部３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂを開口部に形成することにより（図中（ａ）参照）、カラーフィルタ３０を製造する。
【００３４】
さらに、遮光層１３Ｂ上に、所望の層（例えば、保護層であるオーバーコート層３４：図４参照）を形成する場合には、画素部３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂ側からエネルギー３５Ａを照射することにより（図中（ｂ）参照）、濡れ性変化層３２の疎水性領域３２Ｂを親水性領域３２Ａに変化させる。
これにより、カラーフィルタ３０の表面にオーバーコート層３４等の所望の層を形成する場合に、このオーバーコート層３４との密着性を高めることができる（図４参照）。
【００３５】
このように、本実施例のカラーフィルタ３０によれば、上述した転写シート１０を用いて製造した遮光層付き光学シート２０と、この光学シート２０上に形成された濡れ性変化層３２と、濡れ性変化層３２上にインクジェット記録方式により形成された複数色の画素部３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂと、を備えたので、遮光層１３Ｂの転写不良のない光学シート２０と、ゴミ等の混入を防止して形成された複数色の画素部３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂとが組み合わさり、コントラスト及び解像度を低下させることなく、表示品位のより高い表示装置が実現される。
【００３６】
（変形例）
以上説明した実施例に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の均等の範囲内である。
（１）本実施例の遮光層付き光学シート２０の遮光層１３Ｂは、カラーフィルタのセパレーションリブや、液晶表示装置のブラックマトリックス（又はブラックストライプ）を例に説明したが、有機ＥＬ素子の隔壁（バンク）に利用してもよい。
（２）図８は、図１に示す転写シート１０の変形例を模式的に示す図である。上述した実施例で、保持部は、転写基材１１の両端部の例で説明したが、例えば、図８に示すように、転写基材１１と光熱変換転写層１３との幅方向の長さを同一にし、光熱変換転写層１３を所定間隔毎に設け、その隙間を保持部としてもよい。このようにすれば、光学基材２１に転写シート１０を密着させた後（図２（ｅ）参照）は、転写基材１１のみの切断となるので、光熱変換転写層１３への影響がなくなり、より転写不良の可能性を減らすことができ、また、光熱変換転写層１３をあらかじめ所望の大きさに製造できるので、無駄も少ない。
（３）転写基材１１は、透明なＰＥＴフィルムの例で説明したが、半透明であってもよく、また、ブラックマトリックスの色と異なる色（黒、暗色系以外）の色付けを行ってもよい。このようにすれば、保持部と光熱変換転写層１３との境界が明確になり、保持しやすい。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の実施例による遮光層付き光学シートを作製するための転写シート１０を示す図である。
【図２】チャック装置を模式的に示した図である。
【図３】図１の転写シート１０の遮光層の光学基材への転写工程を示した断面図である。
【図４】本実施例によるカラーフィルタを模式的に示した断面図である。
【図５】本実施例による遮光層付き光学シート２０上に、濡れ性変化層を塗布する濡れ性変化層塗布工程を示す図である。
【図６】光学基材２１側からエネルギーを照射するバック露光工程を示す図である。
【図７】遮光層１３Ｂの間に、インクＲ，Ｇ，Ｂを吐出する着色工程を示す図である。
【図８】図１に示す転写シート１０の変形例を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００３８】
１０    転写シート
１１    転写基材
１２    離型層
１３    光熱変換転写層
２０    遮光層付き光学シート
２１    光学基材
１３Ａ    画像成分
１３Ｂ    遮光層
３０    カラーフィルタ
３２    濡れ性変化層
３３Ｒ，３３Ｇ，３３Ｂ    画素部
Ｌ    レーザー光
Ｒ１    ロール
Ｒ２    サブロール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2005181619.tif 000007
【図６】
2005181619.tif 000008
【図７】
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【図８】
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