(57)【要約】      （修正有）【課題】  様々な装置の選択されたパラメータ測定を、ＤＵＴ性能が十分であるか決定する為の制限を設ける為の通信回線アイ・ダイアグラムを使用する事による測定を提供する。【解決手段】  測定装置１０が入力信号のパラメータ特性を有するパラメータ測定データ信号を生成する測定回路１４を有している。基本的な実施例に於いて、パラメータ特性は、時間の予め設定される増分に於いて測定される。集団制限解析器１８は、測定回路４に接続され、パラメータ測定データ信号に応じる制限データを生成する。測定制限検出器２０は集団制限解析器１８に接続され、パラメータ測定データ信号の特性が許諾可能な制限内であることを示す信号を生成する。この情報を伴い、使用者は、選択される試験用装置（DUT）１２の等級を早急に付与することができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力信号に於ける所定の増分で測定されるパラメータ特性を含むパラメータ測定データ信号を発生するための測定回路と、
前記パラメータ測定データ信号に応じる制限データを発生するための集団制限解析器と、
前記パラメータ測定データ信号が前記制限データ内の特性を有する場合に、許諾信号を発生するための測定制限検出器を有することを特徴とする測定装置。
【請求項２】
前記測定制限検出器が比較器からなり、前記許諾信号が、パラメータ測定データ信号と制限データの比較に基づいて発生されることを特徴とする請求項１記載の測定装置。
【請求項３】
前記集団解析器が、パラメータ測定データ信号を収集し、パラメータデータの統計値を解析することを特徴とする請求項1記載の測定装置。
【請求項４】
前記パラメータ特性が、電圧振幅及びビット・エラー・レイトからなる群を含んでいることを特徴とする請求項１記載の測定装置。
【請求項５】
前記測定増分が、更に、入力信号により搬送されるデータに於けるビット期間内での所望の時間補正を含んでいることを特徴とする請求項１記載の測定装置。
【請求項６】
前記時間補正は、制御信号により規定されることを特徴とする請求項５記載の測定装置。
【請求項７】
前記制御信号は、演算処理装置により発生されることを特徴とする請求項６記載の測定装置。
【請求項８】
前記制御信号が、前記集団制限解析器及び前記測定制限検出器に対して規定されることを特徴とする請求項６記載の測定装置。
【請求項９】
前記集団解析器により規定される前記制限データを維持するためのメモリを有することを特徴とする請求項１記載の測定装置。
【請求項１０】
入力信号を受信し、
前記入力信号のパラメータ測定から統計的な特性を決定し、
前記パラメータ測定に於ける決定された前記統計的な特性に基づく性能制限を外挿し、
前記パラメータ測定が、前記外挿される性能制限内であるか否か決定することを特徴とする装置の性能を測定する方法。
【請求項１１】
前記パラメータ測定が、所定のビット期間に於ける入力信号の電圧からなることを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記方法が、更に、前記装置の性能を示す表示を規定することを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
前記パラメータ測定が前記外挿される性能制限内であるか否か決定することが、さらに、パラメータ測定と前記性能制限を比較することを含んでいることを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１４】
前記挿入される性能制限に応じる未来パラメータ測定を決定することを、さらに、含んでいることを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１５】
前記外挿される性能制限がメモリ内に格納されることを、さらに、含むことを特徴とする請求項１０記載の方法。
【請求項１６】
前記格納される性能制限と、第２装置からのパラメータ測定を比較することを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
異なる試行時間に於いて、前記格納される性能制限と、予め規定される性能を有する装置のパラメータ測定とが比較されることを特徴とする請求項１５記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して、選択された試験用装置（ＤＵＴ）の電子測定に関するものであり、より詳しくは、様々な装置の選択されたパラメータ測定を、ＤＵＴ性能が十分であるか決定する為の制限を設ける為の通信回線アイ・ダイアグラムを使用する事による測定に関する。
【背景技術】
【０００２】
他の種類のシステムに加えて、通信システムと構成要素を試験する場合、測定されるパラメータに制限を設けるのが一般的な手法である。ＤＵＴの性能は試験により決定されるパラメータに帰着する。試験により得られた結果は次に所望制限と比較され、測定性能が受諾できるものか否か決定される。どんな制限を使用するか考案する事は標準規定に関する規格の一部であったり、またはシステムの所望性能に精通し、既知の変形物の為にマージンを付加的に加工する事を加える事の結果であることが多い。
【０００３】
例えば最新のアイ・ダイアグラム・マスクテストに於いて、多値・ビット・ストリームの電圧の測定値に対する時間は設定された領域制限と比較される。比較は、採取された電圧サンプルが多値ビットの電圧が許諾可能か否か示す決定の為にする。この場合、測定電圧が少しでも定義された領域制限から外へ位置した場合はＤＵＴは多値ビット・ストリーム・マスク試験に失敗する。
【０００４】
追加的例として、多値ビット・ストリーム信号の立ち上がり時間等の単一パラメータの測定値は制限と比較さる。これにより、可視または聞き取り可能な警報が使用され、信号の立ち上がり時間に対して「仕様外」状態であることを知らせる。
【０００５】
この分野の関連技術にはデジタル・サンプリング・オシロスコープ、ビット・エラー・レイト試験器とエラー性能解析器があり、テクトロニクス、アジレント・テクノロジー、レクロイ・コーポレイションといった会社で製造されている。これらの計器のうち少なくともいくつかでＤＵＴの測定パラメータが所望制限と比較され、測定性能が許諾可能かの決定がされている。しかしながらこれらの計器や既知の計器に於いてＤＵＴ測定性能パラメータの統計値を解析しているものはない。どんな既知の装置、計器やシステムでも性能統計値やそれに由来するデータを使用して、試験後のＤＵＴパラメータで測定されるように、未来性能の期待値を外挿しているものはない。統計値情報等の収集はそういったＤＵＴの製造と設計に極めて重要性を有していると思慮される。このような情報制限の使用は自動的に発見され、比較の為に使用されたり、及び／又は、未来の使用の為に格納される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は試験用装置のパラメータ測定と、これらの性能結果を選択パラメータの制限を予測する為に使用し、既知のエラーや例外値が得られるようにすることである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の他の目的は一次、二次及び多次元パラメータ測定範囲を使用できるようにすることと、一次二次または多次元制限テンプレイトを創出するためにこれらの事例についてエラーや例外値を予測する事である。
【０００８】
本発明の更なる他の目的は、得られた一次、二次または多次元制限テンプレイトを、他の試験用装置のパラメータを試験している時の為の、後の再読み込み及び再使用の為に格納をする事である。
【０００９】
アイ・マスクと他の多値データ・ストリーム・パラメータ試験はシステム内での個々の構成要素の相互運用性を確保する為に製造において一般的に使用されている。システム内である特定の構成要素が、システム内でのその時点の構成要素用に定義されたマスク／制限試験を通過している限り全体のシステムは組み立てられた時の動作を保証されている。マスク・テストは、伝統的には粗い二次元のポリゴンであり、ｘが時間軸でありｙが電圧または光学の出力軸である、ｘ／ｙ軸範囲内の測定された電圧サンプル・パラメータ最小許諾要求を定義しようと試みるものである。アイ・ダイアグラム・マスク試験ポリゴンにおける座標は、各座標が、様々な方法において構成要素の製造者に強い影響を与えるので、技術会議において議論が盛んである。もっと緩やかなマスクは製造を容易にする。例えば、マスクの高さは、信号における電圧または光学出力のノイズや許諾されるリプルの合計に影響を与える。マスクの幅は信号上へのジッタの許容量に影響を与える。マスクの左側と右側部分の角度はシステムの立ち上がり／立下がり時間にしばしば影響を与える。
【００１０】
測定結果は測定パラメータが許諾可能か否かを定義する制限と比較されるとき、正確な類推が他のパラメータ制限試験（一次元のみのテストも含む）にも当てはまる。より厳しい制限は維持が困難であり、廃棄物を増やす。より緩やかな制限はより多くの構成要素を「許諾」可能と評価する。必要な品質水準を保ちながらより緩やかな制限を許容できることは有効である。従って、業界において製造上のそういった改善を考慮に入れる実際的な基準を作り出す事は急務である。
【００１１】
説明されるように、業界規定されたマスク、または制限テストはシステム内での様々な位置での性能を定義する。例えば、多レベル・ビット・ストリーム・データ送信器の出力時にアイ・ダイアグラム・マスク制限テンプレイトの定義をする。また、受信機への入力時のアイ・ダイアグラム・マスク制限テンプレイトの定義もする。しかしながら製造者もまたアイ・ダイアグラム・マスク制限試験を副次的構成要素レベルで行っており、守るべきアイ・ダイアグラム品質を、方式を重視する工業委員会が定義するより高い精度に設けている。これらの時点では、様々な余裕を残りの製造とインストレーション・プロセスに提供しなければならないので、製造者は試験をシステム幅の広い制限テンプレイトでは行わないことが慣例であった。
【００１２】
構成要素自身が極めて特徴的動作をし、この動作からの逸脱はどんなものでも製造欠陥や問題の兆しにあたる、ということは一般的にある。このようにして高品質装置で得られた測定値は、どの種類のパラメータ性能（例えばアイ・ダイアグラム制限テンプレイトや、他のパラメータ制限）が装置にとって標準的か、という制限テンプレイトを創出するのに使用可能である。これは手作業でも可能ではあるが、手でしようとするような事は不断のエラー率で制限境界を作り出す事である。その結果、本発明の主な重要性はテンプレイト制限マスクを予測される例外値に基づいて自動的に創出することにある。
【００１３】
従って、本発明の目的は、試験用装置のパラメータを測定し、それらの測定を用い、どこにパラメータの制限が置かれるべきか予測する事である。この制限を使用する時に既知のエラーや例外値が予測できるようにパラメータの制限は置かれなければならない。
【００１４】
本発明の他の目的は一次、二次及び多次元パラメータ測定範囲が使用可能になることであり、これらのケースでのエラーや例外値を使用して一次二次または多次元制限テンプレイトを予測する事である。
【００１５】
本発明の更なる他の目的は、得られた一次二次または多次元制限テンプレイトを、他の試験用装置のパラメータを試験している時の為の、後の再読み込み及び再使用の為に格納をする事である。
【００１６】
前述の目的と関連する優位性は、測定回路を含む電子測定装置によって満たされる。測定回路は、入力信号のパラメータ特性を含むパラメータ測定データ信号を発生させる。基本的な実施例ではパラメータ特性は時間の所定の増分で測定される。集団制限解析器は測定回路と接続され、パラメータ測定データ信号に対応する制限データを発生させる。測定制限検出器は集団制限解析器と接続され、パラメータ測定データ信号の特性が許諾制限内であることを示す信号を発生させる。
【００１７】
装置の性能測定方法は試験用装置からの入力信号の受信を含む。次に統計的な特性、例えば二乗平均、標準偏差、平均値とその他の適する特性やその組み合わせは、入力信号のパラメータ測定から決定される。性能制限はパラメータ測定の統計的特性から外挿される。それから、パラメータ測定値が、外挿された性能制限内であるかどうかについての決定がなされる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
ここで本発明の更に詳細な説明を図１乃至５を参照して行う。図１乃至５で発明の好適な実施例が示されている。しかしながら本発明は多くの違った形態で実施されうるのでこの中で説明されるものに制限されると解釈されるべきではない。むしろこれらの実施例はこの開示が、残すことなく完全かつ充分に当業者に発明を伝える為に供給されている。尚、本発明の目的と優位性の更なる理解の為、次の詳細な説明を参照され、付随する図面と併せて解釈されるように同様の部分は同様の符号が振られている。
【００１９】
開示された方法と装置は、多値可変信号に関する測定システムで採取された測定値を使用する。多値可変信号は、ＤＵＴの性能パラメータが制限の内側に位置するか外側に位置するかの査定が出来るように、未来測定パラメータの為、一次、二次または多次元制限を算出する為の試験用装置からきている。これらの算出された一次、二次、または多次元制限は、制限内に位置する未来パラメータ測定値の為の予め定義された期待値を達成する為に、制限が設定されている場所を決定する事を可能にする外挿を伴う測定されたパラメータ値の集団を使用することに基づいている。
【００２０】
さらに、算出された制限では演算処理装置によって格納部装置への格納と格納庫からの再読み込みがされ得る。これにより他の試験用装置からの測定パラメータと、他の試験用装置からの算出された制限の比較が可能になる。
【００２１】
多値可変信号の測定値は、多値可変信号特性のパラメータ測定のいかなる種類をも、含み得る。これには工業標準パラメータ測定結果が含まれるかも知れないが、それらに限定されるものではない。工業標準パラメータ測定結果としては電圧や、立ち上がり時間、立ち下り時間、オーバーシュート、アンダーシュート、プレ・シュート、ジッタ、振幅、バーティカル・アイ・クロージャー・ペナルティ、光学モジュレーション振幅、消光率、ｑ要素、アイＳＮ比、アイ・オープニング振幅、アイ・オープニング時間、クロスポイントやビット・エラー・レイトなどがある。多種の測定は往々にして違った構成設定（１０％乃至９０％の立ち上がり／立下がり時間や、２０％乃至８０％の立ち上がり／立下がり時間など）で実行される。そして、使用者が選択可能な装置（例えばボルトやワット）で算出され、よく知られている統計的有意（平均値、中央値、二乗平均や波高値）と一致する。そして本発明の基本的実施例はそういった全ての測定構成、装置、符合は同等に測定パラメータとしての使用に適している事を期待することが出来る。測定パラメータの測定集団は、本発明に従って作動する基本的測定装置を使って、予め定義される制限を決定するのに使用することが出来る。
【００２２】
試験器からの多値可変信号のパラメータを測定する測定装置には次のものが含まれるが、それらに限定されるものではない。含まれる測定装置はビット・エラー・レイト試験器やオシロスコープ装置（デジタル・サンプリング・オシロスコープや数値化「大規模メモリ」・オシロスコープやアナログ・オシロスコープを含むがこれらに限定されない）、ジッタ解析器や、多値可変信号のパラメータ測定を行う他のいかなる測定器具や装置などである。
【００２３】
一次元制限はパラメータの許諾可能な上部と下部境界を含む事が出来、次のものを含むが、それらに限定されるものではない。立ち上がり時間、立ち下り時間、オーバーシュート、アンダーシュート、プレ・シュート、ジッタ、振幅、バーティカル・アイ・クロージャー・ペナルティ、光学モジュレーション振幅、消光率、ｑ要素、アイＳＮ比、アイ・オープニング振幅、アイ・オープニング時間、クロスポイントやビット・エラー・レイトなどがあり、これらでは単一値化されたパラメータが許諾可能か否かを知る為、その値が測定制限の上部と下部の間にあるかどうか調べる為に試験される。
【００２４】
二次元制限はアイ・ダイアグラム・マスク・試験を含んでいるがこれに限定されるものではない。アイ・ダイアグラム・マスク・試験では、多値可変信号のビット期間内において異なる時間補正で採取された多値可変信号の電圧のサンプルされたパラメータと比較がなされる。比較対象は、サンプルされた電圧内の一つ又はそれ以上の二次元制限領域に対するビット期間領域内における時間補正である。サンプルされたパラメータとそれに関連づけられた時間補正の状態は電圧の測定されたパラメータが許諾可能か否かを決定する。例えば、サンプルされた電圧とそれに関連づけられた時間補正が規定制限内にある場合には、サンプルと、従ってＤＵＴ決定は許諾可能な方法で機能していると決定される。
【００２５】
多次元制限はパラメータ測定が二軸以上でなされる時の制限を含むがこれに限定されるものではない。この種類の制限は、試験器からの多値可変信号のパラメータを含むがこれに限定されるものではない。その多値可変信号のパラメータ測定は、温度が変化され、振動が加えられ、ゆがみが差し込まれ、または測定されたパラメータの性能に影響を与えることにより異なる測定パラメータ集団を存在させ得る故に、測定パラメータ制限を算出するときに考慮に入れる必要があるようなその他のいかなる作用の中で測定される。
【００２６】
測定パラメータの集団は、測定の発生回数に対する測定結果の、汎用的な統計的分布である。全ての測定結果が一致するとすれば、つまり測定された集団は全ての測定発生が同じ測定値を持っていると示す。ある標準偏差を伴う分布を有する測定値結果のランダム分布が存在する場合、測定集団が、発生回数に対する測定パラメータ値のガウス分布を示している。このとき標準偏差はガウス結果の幅を定義していることとなる。集団の中にはどんな種類の分布も存在し得、次の分布を含むがこれに限定されるものではない。ランダム分布、正弦分布、三角分布、ポアソン分布、二峰性分布と等確立分布が含まれる。
【００２７】
測定パラメータの集団の外挿には汎用的な数的方法技術があり、曲線の当てはめと外挿を、実際に測定されたデータポイント間、また、それを超えてする事が出来る。この方法で、汎用的また一般的に適用される曲線の当てはめは、集団分布を表す連続関数を考え出すために実行される。そして、測定パラメータ集団を表すこの関数は、実際のデータ測定値が採取されなかったエリアでの範囲内の予測値を解明する。これらの曲線当てはめアルゴリズムの有効性は測定された分布図の種類に依存しており、汎用的方法は特定のパラメータ測定に対するこのような最適な曲線当てはめ段階を選択するのに一般的に適用可能である。このような全ての曲線当てはめ段階は同じように、測定制限を算出するための本発明に従った構造の基本的実施例にも当てはめ可能である。
【００２８】
集団または外挿された集団の制限は、パラメータの上部と下部境界値を含み得る。パラメータの上部と下部境界値は、簡単な数学的対照によりどんなパラメータとも比較される事が可能である。この比較により測定パラメータが上部と下部境界値内にあるかどうかを決める。制限は全てを含んでいるかも知れないし限定されているかも知れない。つまり許諾制限はパラメータ測定が制限内に位置する時としても良いしまたは許諾制限はパラメータ測定が制限外に位置する時、としても良い。制限は実際の制限値または制限値までのみ、ともなる。（制限では数値「より小さい」または数値「より大きい」もしくは数値「以下」または数値「以上」とも出来るからである）。
【００２９】
予め定義された測定パラメータの未来パラメータ測定値の期待値は、パラメータの上部と下部の境界値を算出することにより創出され、そこでは集団分布を示すカーブの下の汎用的な集積された面積が、予め定義された期待値率の説明となる。これには２-シグマ（2.275％）故障率（失敗率）または1,000,000,000,000ビット・エラー・レイトに於ける、１の期待値を設定する事を含むがこれに限定されるものではない。
【００３０】
測定パラメータの為の、算出される、予め定義される一次、二次または多次元制限の、格納部装置への格納または格納部装置からの復元は次のような、測定パラメータに対する制限をデジタルまたはアナログ表示で表す方法を含むがこれらに限定されるものではない。デジタルまたはアナログ表示で表す事によりハード・ディスク、フロッピ・ディスク、メモリ・カード、揮発性記憶装置（ＥＥＰＲＯＭ）、ランダム・アクセス・メモリや、他のどんな種類ものアナログかデジタルメモリ装置への格納と後の再使用の為の復元が可能である。後の再使用は即時再使用を意味することもある。試験用の同じ装置で、先のパラメータ測定値の結果を使用して再試験されるような事がある。
【００３１】
１つのＤＵＴについて採取されたパラメータ測定から算出され、格納された一次、二次または多次元制限を使って、他のＤＵＴから測定されたパラメータを比較する事には次のものが含まれるが限定されるわけではない。試験用装置で得られたパラメータ測定値を、他の試験用装置で採取された測定値から導き出された算出制限との比較、または異なる試験時間の間での同じ試験用の装置との比較である。このような方法で、測定回路から得られた測定値は制限検出処理要素に提供される。制限検出処理要素は予め算出された制限を測定パラメータが許諾可能か否かを査定する為の境界として使用する。
【００３２】
図１は、本発明の原理に従い動作する基本的な測定装置１０を示すブロック線図である。試験用装置（DUT）１２は、測定回路１４へ提供する多値信号１３を出力する。例えば、信号解析器、オシロスコープ、ハードウェアの専用部品（例えば、ASIC）、状態機械、一つ又はそれ以上のプロセッサ若しくは、他の好適な装置、又はその組み合わせ装置等である。測定回路１４は、前記信号１３を処理し、入力信号１３の電圧振幅や周波数特性等のパラメータ測定を形成する。基本的な実施例に於ける測定回路１４は、種々の正確な時間増分に於ける多値信号１３の電圧をサンプリングする装置を有している。他の実施例では、測定回路１４が使用されている。この測定回路１４は、多値信号１３により搬送されるデータでのビット期間内に於ける所望の時間補正での試験用装置１２からの多値信号１３のビット・エラー・レイトと、多値信号１３により搬送されるデータでの振幅範囲内での電圧閾値を測定する。ビット・エラー・レイトを測定する又は、正確な時間増分に於ける信号電圧をサンプリングする測定回路は、通信エレクトロニクスに於ける当業者に於いて既知なる技術として理解されている。
【００３３】
１つ又は複数の中央演算ユニット、専用ハードウェア回路、特定用途向け集積回路、状態機械、1つ又はそれ以上のプロセッサ若しくは他の好適な装置、又はこれらの組み合わせ等により実行されるソフトウェアを例示することができるプロセッサ手段１６は、制御ライン１７を介する関連の適宜な測定を行うための測定回路１４を形成するために、とりわけ、本発明で使用される。集団変動値を有するあらゆる測定が、本発明によって実行される。測定回路１４による結果が、全てのパラメータ測定データ１５を採集又は収集するとともに、パラメータ測定の統計値を解析する集団制限解析器１８と、例えば、比較回路又は、測定又は入力信号を比較することのできる他の好適な装置等により実行される測定制限検出器２０とに提供される。
【００３４】
制限解析器１８は、集団への未来付加が制限の一面又は他面へ位置するために、制限が存在する場所を決定する測定に於ける集団を調査する。一面は良好であり、他面は劣悪であるということになる。例えば、立ち上がり時間測定の集団を有しており、ｙピコ秒よりも小さい立ち上がり時間であれば良好であり、ｙ以上であれば劣悪となる。この考えは、ｙが集団分布に基づくある失敗レイトを定義することによって設定されることを示している。「集団を調査する」とは、つまり、何が良好で且つ何が劣悪の制限を定義する湾曲に於いてポイント（座標）を精選することを行うために、サンプル（例えば、ベル湾曲）の分布を示すことになる。
【００３５】
初期タクスが制限を獲得する間、測定の集団が獲得されると、制限（すなわち、集団値に於ける閾値）が、所望する失敗レイトを満足するために決定される。一度、制限が確立されると、次のタスク（制限に対して未来測定が確認され、適当な場合失敗を要求する）が行われる。
【００３６】
初期タスクが測定制限を獲得する間、測定制限検出器２０は実行されていない。その代わり、この初めのタスクの間、測定値１５が、集団制限解析器２０により収集され解析される。
【００３７】
収集プロセスの間、測定値１５がプロセッサ１６のメモリに格納される。十分に多数の測定値が、集団制限解析器２０によって実行される湾曲あてはめの精度を提供することができるように、集団内に収集される。集団に於ける２つの測定値を有することで可能となるが、より好ましくは、集団に於けるより多くの測定値を有することでより正確な結果を得ることができる。
【００３８】
基本的な実施例に於いて、コンピュータ・データ構造は、固定の測定値増分−これは測定値のヒストグラムである−に於いて発生する測定値の数を累積するために、測定値プロセッサ手段１６により使用される。増分総計値は、測定回路１４の分解能及び制限値の所望する分解能によって設定される。基本的な実施例に於いて、測定回路１４は、試験用装置１２からの多値信号１３に於けるデータ伝送の立ち上がり時間を測定するために使用される。立ち上がり時間は、２０から３０ピコ秒で分布しており、このため、立ち上がり時間測定のヒストグラムに於ける１０ビンを生成する1ピコ秒の増分として使用される。
【００３９】
基本的な実施例に於いて、二次元集団は、二次元ヒストグラムを形成するために収集される。このヒストグラムは、試験用装置１２から多値信号１３に於ける電圧の測定の発生回数を表示する。この信号は、（ビット時間の開始に関する）時刻内の特定瞬間と、関連する電圧範囲内の特定電圧補正との間に生じる。この実施例での集団制限解析器１８は、一次元の実施例と同様の方法に於ける二次元のヒストグラムデータを使用している。この一次元の実施例は、二次元配列からの一次元のスライスが、集団制限解析器１８により全て個別に処理される複数の一次元ヒストグラムを生成するために抽出される。
【００４０】
多くのヒストグラムが処理されることは、単一のヒストグラムが同じように処理されることであり、制限の結果により、二次元のヒストグラムを介する個別の一次元のスライスを有効にする。集団制限解析器１８の出力１９は、特定の測定のためのセットである。プロセッサ手段１６により発せられる命令１７を介して、集団制限解析器１８は、制限１９を生成して、メモリ手段３０に格納する。このメモリ手段３０は、後に再読み込みできるための、例えば、ROM、RAM、CD-ROM、ネットワーク上の分布型メモリやあらゆる好適な揮発性又は不揮発性のメモリ若しくはその組み合わせを利用することができ、また、「測定制限検出器」処理要素２０へ直接送信することもできる。
プロセッサも、図示される如く、集団制限解析器１８へ接続されている。プロセッサは、セットアップの間集団制御解析器１８を制御し、全ての処理の調整を行う。
【００４１】
他の基本的な実施例に於いて、測定値１５は信号１３の立ち上がり時間であり、制限１９は、（立ち上がり時間の）高低値制限番号として格納される。
【００４２】
他の基本的な実施例に於いて、測定値１５は多値データ信号レベル１３の電圧であり、制限１９は一連の（ｘ、ｙ）座標として格納される。この座標は、ｘがビット時間に於ける時間補正であり、ｙが関連する電圧領域に於ける電圧補正である。また、（ｘ、ｙ）座標の組み合わせリストは、制限領域又は使用領域を束縛している。
「測定制限検出器」処理要素２０は、集団制限解析器１８からの測定制限１９と測定回路１４からの測定値を許諾し、検出結果を報告するために、測定値１５と制限１９を比較する。基本的な実施例に於いて、制限検出は、最低立ち上がり時間よりも大きく、また同時に最大立ち上がり時間よりも小さいことを検知することにより、測定立ち上がり時間を比較する測定制限検出器２０によって達成される。
この場合に於いて、測定は、制限１９内に位置しており、また、測定制限検出器２１の結果は制限が許諾されることを報告する。
【００４３】
他の代替的実施例に於いて、測定回路１４によるビット時間内の種々の時間補正に於ける新電圧測定は、制限１９により定義される領域と比較される。この制限１９は、例えば、新測定値１５が境界内側又は外側に位置することを検知することによって、制限境界を形成する（ｘ、ｙ）座標の収集によって定義される。具体的に、ビット時間内の全ての時間補正に起こる全てのサンプルのために、測定された電圧が同一ｘ値時間補正のためのｙ値電圧補正と比較される。
「一次、二次又は多次元集団制限解析器」により収集されて解析された集団によって定義される制限の適切側に位置している測定された電圧は、許諾されるとして報告される。
【００４４】
これらのパラメータ測定値は、全ての測定値１５を採集して統計を解析する集団制限解析器処理要素１８に提供される。この統計には、例えば、標準偏差、平均や他の好適な統計での２乗平均平方根又は測定値１５の組み合わせがある。
測定集団と、所望する制限となるパラメータ測定失敗に於ける所望の予め設定される期待値にしたがって、この解析要素１８が許諾可能なパラメータ測定に対する上部及び下部の境界を決定する。このような上部及び下部境界１９を決定することは、測定されるパラメータ集団データに対する湾曲をあてはめることによって行われ、このことが、パラメータ測定の集団を示す。この湾曲下のエリアは、上部及び下部制限がパラメータ集団湾曲下に於けるエリアに存在することが把握されるまで、種々の制限の上部及び下部間を統合する。
このとき、湾曲は、予め設定された成功の期待値と一致しており、また、集団の密度に亘る中央に位置している。既知なる外挿技術を使用することによって、所望する分解能又は必要とされる予め定義される期待値レベルに於いてパラメータ制限を計算するために、測定されたパラメータ統計値の範囲及び分解能を拡張することができる。
【００４５】
図２は、測定回路１４へ提供するように、試験用装置１２からの基本的な多値信号１３のタイミングダイアグラムである。この例では、信号１３の立ち上がり時間（T0−T8）の複数の測定値が種々の立ち上がりエッジに於いて形成されるかが示されている。多値信号の立ち上がり時間に於ける変化に起因する偏差を有する各測定は、ビット・ストリーム内の位置又はパラメータ測定方法に於けるノイズでの相違である。多くのこのような測定は、成功／失敗の予め定義される期待値に従う好適なパラメータ制限を決定するために、集団制限解析器１８により使用されるT0からTnでの測定された集団を得る。
【００４６】
図３は、T0からTnでの一次元パラメータ測定に於ける集団分布を示すグラフである。このグラフは、パラメータ測定の全体範囲に対応する測定値番号を示している。T0からTnの全ての測定値は、集団内に表されている。
図示の集団は、種々の共通に理解される湾曲あてはめ方法を使用する測定されたパラメータ値集団結果を外挿することによる滑らかに変化する関数を示している。図３で示されるA及びＢの制限が、集団統計値の湾曲下のエリアを集積することを基に設定されている。
このことによって、エリアが成功の予め定義される期待値と等しくなるとともに、失敗の予め定義される期待値のエリアがＢの閾値より上方のエリアとＡの閾値より下方のエリアの間で分割されている。この方法に於いて、ＡとＢの制限間に位置するパラメータ測定値が、予め定義される期待値の総量により決定されるレイトで失敗することが期待される。
【００４７】
図４は、実際に測定されるパラメータ分布５２が、収集される実際の測定範囲の外側でパラメータ集団統計値の範囲を拡張するために、一般に入手可能且つ良く知られた湾曲はめこみ及び他の技術が使用されて外挿される状態を示しているグラフ５０である。
例えば、多値信号に於ける一定に決定される閾値での電圧サンプル・パラメータの集団が、データ・ジッタに対応し且つエラー・ビット決定が生じる可能性を示すビットウィンド内に於ける時間補正の範囲が解析される。比較的小さなパラメータ測定値に於いて、この例に於ける電圧パラメータ統計値の集団が有する形状が、採集され且つ分布に於ける更なる外側が予測され使用される。
この例に於いて、実際の測定値５２は、図４で示される「測定されたパラメータ分布」に対応し、外挿されたパラメータ分布５４に対応する更なる外側の分布を予測する。本発明に従う（図１で示す如く）基本的な測定装置１０を使用することによって、実際に測定された集団を外挿することによって実際の測定される統計的集団の外側であるエラー（ビット・エラー・レイト）の予め定義される集団のための電圧パラメータ測定の期待される制限を得ることができる。
図４では、制限Ａ及びＢが、「外挿されたパラメータ分布」として認識される領域にあることが明確に示されている。
【００４８】
図５は、本発明の測定装置によって提供される二次元パラメータ測定及び算出される二次元制限を示している。この図に於いて、電圧パラメータ・サンプルが、ビット期間内の種々の時間補正に於いて行われる。
アイ・ダイアグラム６０が示す如く、このダイアグラムは、試験用装置からの多値信号の電圧パラメータの二次元統計分布を示している。この図に於いて、種々のスライス７０−７５が、種々の位置に於けるパラメータ集団測定及び二次元空間に於ける傾斜が、図４の集団パラメータ分布５０の如き同じ特徴を有していることが示されている。
この分布は、外挿されているとともに、予め設定された成功の期待値に基づき算出される制限を有している。この二次元パラメータ集団の連続スライス７０−７５が、近隣の制限を定義するために使用されて、これら近隣の制限が互いに、予め定義される期待値によって要求されるレベルパラメータ測定の成功又は失敗を認識するために必要とされる制限領域を形成する。
制限領域は、関心の領域内に於いて使用され、全ての可能な制限領域が使用されるわけではない。例えば、アイ・ダイアグラム６０に於いて、関心の領域が、このエリアが直接誤りビット決定を形成することと関連するので、中央アイ・オープニング・エリア６２を唯一有することになる。ダイアグラムの最下制限バー７４よりも下又はダイアグラムの最上制限バー７０よりも上にある信号を有することは、試験用装置の全ての性能に於いて影響を与えるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】ブロック図で本発明の実施例である。
【図２】多値ビット・ストリームのタイミング図で、タイミング図の異なる立ち上がり端で採取された多数の立ち上がり時間測定値を表している。
【図３】パラメータ測定値とそこから算出された制限の集団分布のグラフである。
【図４】測定されたパラメータ分布の外挿を示すグラフである。
【図５】二次元パラメータ測定値と算出された二次元制限を説明している。
【符号の説明】
【００５０】
１０・・・・測定装置
１４・・・・測定回路
１５・・・・パラメータ測定データ（測定値）
１８・・・・集団制限解析器
１９・・・・制限（出力）
２０・・・・測定制限検出器
３０・・・・格納部（メモリ手段）
５０・・・・集団パラメータ分布
５４・・・・パラメータ分布
Ａ・・・・・制限
Ｂ・・・・・制限
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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