(57)【要約】【課題】  腐食防止に寄与する水質改質システムを提供する。【解決手段】  水質改質システムは、熱機器２へ供給する給水の水質を改質するためのシステムであり、熱機器２へ給水を供給する給水ライン３と、給水ライン３に接続される水質改質装置４と、その水質改質装置４に対して並列となるように給水ライン３に接続される純水製造装置５と、水質改質装置４で処理された給水及び純水製造装置５で処理された給水を所望の量で混合する処理水混合手段６と、給水ライン３に接続されるとともに熱機器２へ供給する給水を貯留する給水タンク７とを備えて構成される。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱機器へ供給するための給水を流す給水ラインと、
該給水ラインに接続され、非不動態化金属体の腐食を引き起こす腐食促進成分を捕捉するとともに、前記腐食の抑制に寄与する腐食抑制成分を透過する濾過処理部を有する水質改質装置と、
該水質改質装置に対し並列となるように前記給水ラインに接続されるとともに、前記給水中の不純物等を除去する不純物除去処理部を有する純水製造装置と、
前記水質改質装置で処理された給水及び前記純水製造装置で処理された給水を所望の量で混合する処理水混合手段と、
を備えて構成する
ことを特徴とする水質改質システム。
【請求項２】
請求項１に記載の水質改質システムにおいて、
前記不純物除去処理部は、逆浸透膜又はイオン交換体を有する
ことを特徴とする水質改質システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ボイラ等の熱機器へ供給するための給水の水質を改質する水質改質システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
図２及び図３において、引用符号２０１は貫流ボイラ２０２を含んで構成されるボイラシステムを示している。そのボイラシステム２０１には、貫流ボイラ２０２の他に給水装置２０３が備えられている。貫流ボイラ２０２は、日本工業規格（ＪＩＳ）に規定された特殊循環ボイラの範疇に属するボイラであって、貫流ボイラ２０２の下流側に備えられる上記給水装置２０３から供給される給水を貯留する給水貯留部２０４と、給水貯留部２０４に対して立設される複数本の伝熱管２０５と、各伝熱管２０５の上端部に設けられるヘッダ２０６と、給水を加熱して蒸気を生成するためのバーナ等の加熱装置２０７とを備えて構成されている。
【０００３】
給水貯留部２０４及びヘッダ２０６は、平面視の形状が環状となるように形成されている。給水貯留部２０４には、その内部に貯留された給水（図３中のＷ参照）を排出することが可能な排出路２０８が形成されている。各伝熱管２０５は、非不動態化金属を用いて形成されている（各伝熱管２０５は非不動態化金属体である。この非不動態化金属については後述する）。このような構成の貫流ボイラ２０２により生成された蒸気は、ヘッダ２０６に設けられる蒸気供給路２０９を介して負荷装置（図示省略）へ供給されるようになっている。
【０００４】
給水装置２０３は、貫流ボイラ２０２へ給水を供給するためのものであって、軟水化装置２１０と、脱酸素装置２１１と、給水タンク２１２と、給水ライン２１３とを備えて構成されている。軟水化装置２１０は、給水中に含まれる各種の硬度分等をナトリウムイオンに置換して軟水に変換するように構成されている。また、脱酸素装置２１１は、給水中に含まれる溶存酸素を機械的に除去するように構成されている。この構成において、給水タンク２１２へ一定流量で処理水を流すために、脱酸素装置２１１の下流側の給水ライン２１３には、定流量弁（図示省略）が設けられている。
【０００５】
給水ライン２１３を通じて貫流ボイラ２０２へ供給される給水は、給水貯留部２０４に貯留された後、加熱装置２０７により加熱されながら各伝熱管２０５内を上昇し、徐々に蒸気になる。そして、その蒸気はヘッダ２０６に集められた後に、蒸気供給路２０９を介して負荷装置（図示省略）へ供給される。
【０００６】
上記非不動態化金属は、中性水溶液中において自然には不動態化しない金属を言い、通常は、ステンレス鋼、チタン、アルミニウム、クロム、ニッケル、及びジルコニウム等を除く金属である。具体的には、炭素鋼、鋳鉄、銅、及び銅合金等である。ところで、炭素鋼は、中性水溶液中においても、高濃度のクロム酸イオンの存在下では不動態化する場合があるが、この不動態化はクロム酸イオンの影響によるものであって、中性水溶液中での自然な不動態化とは言い難い。従って、炭素鋼は、ここでの非不動態化金属の範疇に属する。また、銅及び銅合金は、電気化学列（ｅｍｆ  ｓｅｒｉｅｓ）が貴な位置にあるため、通常は水分の影響による腐食が生じ難い金属と考えられているが、中性水溶液中において自然に不動態化するものではないので、ここでの非不動態化金属の範疇に属する。
【０００７】
上記構成において、複数の伝熱管２０５は、図３中の一点鎖線で囲んだ円Ｘ内の部分、すなわち給水貯留部２０４に連続する部分となる下端部分が給水と継続的に接触するようになっている。そのため、上記下端部分は、給水の影響を受けて腐食し易くなっている（上記下端部分の内周面の減肉的な腐食や、肉厚方向に発生する微少な孔状の孔食が発生する）。
【０００８】
さて、腐食を引き起こす主な要因としては、給水の溶存酸素濃度が高い、塩化物イオンや硫酸イオン等の有害イオン濃度が高い、などが一般的に知られているが、本願出願人の会社の研究者等は、長年にわたって研究を続けた結果、次のようなことを確認している。すなわち、本願出願人の会社の研究者等は、給水中に含まれる硫酸イオンが腐食促進成分となって各伝熱管２０５等に作用することを確認している（例えば特許文献１参照）。また、本願出願人の会社の研究者等は、給水中に含まれるシリカ（二酸化ケイ素（ＳｉＯ２））が腐食を抑制する腐食抑制成分となって各伝熱管２０５等に作用することを確認している（例えば特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００３−１２９２６３号公報
【特許文献２】特開２００１−３３６７０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本願出願人の会社の研究者等は、長年の研究の結果から、給水中の腐食促進成分を捕捉し且つ給水中の腐食抑制成分を残す濾過部材（液体分離膜（ＮＦ膜））を用いて濾過処理を行えるような従来に無いシステムの提供が必要であると考えている。
【００１０】
一方、薬剤を添加して対処する腐食防止方法も数多く提案されているが、衛生上の観点からそのまま利用するのは困難であると本願出願人は考えている。
【００１１】
ところで、上記濾過部材（液体分離膜（ＮＦ膜））を用いて濾過処理を行うに当たっては、次のような問題点が考えられる。それは、給水中に含まれるシリカ（二酸化ケイ素（ＳｉＯ２））のレベルが高い高シリカの地域では、シリカ系のスケールが付着するおそれがあるということである。
【００１２】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、腐食防止に寄与する水質改質システムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するためなされた請求項１記載の本発明の水質改質システムは、熱機器へ供給するための給水を流す給水ラインと、該給水ラインに接続され、非不動態化金属体の腐食を引き起こす腐食促進成分を捕捉するとともに、前記腐食の抑制に寄与する腐食抑制成分を透過する濾過処理部を有する水質改質装置と、該水質改質装置に対し並列となるように前記給水ラインに接続されるとともに、前記給水中の不純物等を除去する不純物除去処理部を有する純水製造装置と、前記水質改質装置で処理された給水及び前記純水製造装置で処理された給水を所望の量で混合する処理水混合手段と、を備えて構成することを特徴としている。
【００１４】
このような特徴を有する本発明によれば、給水ラインを流れる給水が水質改質装置と純水製造装置とへ供給される。水質改質装置へ供給された給水は、その中に含まれる腐食促進成分が捕捉される。また、給水中に含まれる腐食抑制成分が透過する。これにより、腐食促進成分を除去し且つ腐食抑制成分を含む給水が生成される。一方、純水製造装置へ供給された給水は、その中に含まれる不純物等が除去される。これにより、不純物等を除去した給水が生成される。水質改質装置で処理され生成された給水及び純水製造装置で処理され生成された給水は、所望の量で混合される。例えば、高シリカの地域で本システムを用いる場合には、高シリカでない地域に比べて純水製造装置で処理され生成された給水を多く含むように混合される。
【００１５】
ここにおいて、処理水混合手段によりなされる給水の混合の割合は、例えば、電気伝導度計の測定結果に基づいて調整することが一つの手法として挙げられる。本発明において、処理水混合手段としては、定流量弁、インバータによる定流量制御機構等が挙げられる。また、給水が供給される熱機器としては、蒸気ボイラ、温水ボイラ、クーリングタワー、給湯器等が挙げられる。
【００１６】
請求項２記載の本発明の水質改質システムは、請求項１に記載の水質改質システムにおいて、前記不純物除去処理部は、逆浸透膜又はイオン交換体を有することを特徴としている。
【００１７】
このような特徴を有する本発明によれば、逆浸透膜で不純物等を除去する純水製造装置、又はイオン交換体で不純物等を除去する純水製造装置のどちらかが水質改質装置に対して並列となるように給水ラインに接続される。本発明において、イオン交換体としては、イオン交換樹脂、イオン交換膜等が挙げられる。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１に記載された本発明によれば、例えば、高シリカの地域でも良好に腐食を防止することができるという効果を奏する。また、請求項２に記載された本発明によれば、不純物等の除去に関し選択することができるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照しながら説明する。図１は本発明の水質改質システムの一実施の形態を示す構成図である。
【００２０】
図１において、引用符号１で示される本発明の水質改質システムは、熱機器２へ供給する給水の水質を改質するためのシステムであって、熱機器２へ給水を供給する給水ライン３と、給水ライン３に接続される水質改質装置４と、その水質改質装置４に対して並列となるように給水ライン３に接続される純水製造装置５と、水質改質装置４で処理された給水及び純水製造装置５で処理された給水を所望の流量で混合する処理水混合手段６と、給水ライン３に接続されるとともに熱機器２へ供給する給水を貯留する給水タンク７とを備えて構成されている。以下、各構成について説明する。
【００２１】
熱機器２は、蒸気ボイラ、温水ボイラ、クーリングタワー、給湯器等であって、ここでは水管ボイラと称される多管式の貫流ボイラを例に挙げて説明する。その貫流ボイラの缶体構造は、背景技術の欄で説明した貫流ボイラ２０２（図３参照）と同様に構成されている。すなわち、ここでは特に図示しないが、熱機器２の一例としてのボイラは、所定の間隔で上下に配置される環状の下部ヘッダ及び環状の上部ヘッダと、これらの間に配置される複数の伝熱管と、複数の伝熱管により区画形成される燃焼室と、燃焼室の上方に配置され、各伝熱管内の給水を加熱して蒸気を発生させるバーナ等の加熱装置とを備えて構成されている。
【００２２】
下部ヘッダには、給水タンク７からの給水ライン３が接続されている。また、下部ヘッダには、缶水の濃縮水を排出する（ブローする）ための排出管が設けられている。上部ヘッダには、生成された蒸気を負荷装置（図示省略）へ供給するための蒸気供給路が設けられている。複数の伝熱管等は、非不動態化金属を用いて形成されている（非不動態化金属については背景技術の欄を参照）。
【００２３】
給水ライン３の原水側には、被処理水タンク（図示省略）が設けられている。その被処理水タンクには、水道水、工業用水、地下水等の水源から供給される被処理水が貯留されている。被処理水は、給水となるために給水ライン３を流れて処理されるようになっている。給水ライン３には、特に図示しないが、給水中に溶存する次亜塩素酸ソーダ等の酸化剤を吸着除去する活性炭濾過装置や、給水中のゴミ等を除去するプレフィルタなどが接続されている。
【００２４】
上記プレフィルタの下流側の給水ライン３は、分岐されている。すなわち、給水ライン３の中間は、分岐給水ライン３ａと分岐給水ライン３ｂとに分けられている。分岐給水ライン３ａには、水質改質装置４が接続されている。また、分岐給水ライン３ｂには、純水製造装置５が接続されている。分岐給水ライン３ａ及び分岐給水ライン３ｂは、水質改質装置４及び純水製造装置５の下流側で再び合流するように形成されている。
【００２５】
水質改質装置４は、濾過処理部４ａと、濾過処理部４ａの下流側に接続される溶存気体除去処理部４ｂとを備えて構成されている。濾過処理部４ａは、濾過部材を備えている。具体的には、ナノろ過膜（ＮＦ膜、ＮＦ：Ｎａｎｏｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）を備えて構成されている。
【００２６】
ここで、ナノろ過膜について説明すると、そのナノろ過膜は、ポリアミド系、ポリエーテル系等の合成高分子膜であり、２ｎｍ程度より小さい粒子や高分子（分子量が最大数百程度のもの）の透過を阻止することができる液体分離膜として提供されている。また、ナノろ過膜は、その濾過機能の点において、限外ろ過膜（分子量が１，０００〜３００，０００程度のものをろ別可能な膜（ＵＦ膜））と、逆浸透膜（分子量が数十程度のものをろ別可能な膜（ＲＯ膜））との中間に位置する機能を有する液体分離膜として提供されている（ナノろ過膜は、各社から市販されており、容易に入手することができる）。ところで、ナノろ過膜は、通常、濾過膜モジュールとして構成されている。濾過膜モジュールの形態としては、スパイラルモジュール、中空糸モジュール、平膜モジュール等に構成されている。
【００２７】
濾過処理部４ａの一端には、分岐給水ライン３ａを流れる給水が流入するようになっている。流入した給水は、濾過処理部４ａの内部において、ナノろ過膜により、腐食促進成分が捕捉されるとともに腐食抑制成分が透過されるようになっている。濾過処理部４ａの他端からは、透過水と濃縮水とが流出するようになっている。その透過水は、分岐給水ライン３ａ及び給水ライン３を流れて給水タンク７に貯留されるようになっている。一方、濃縮水は、その一部が排水ライン（図示省略）側へ流れるとともに、残りが循環水ライン（図示省略）を流れて濾過処理部４ａの上流側へ供給されるようになっている。
【００２８】
ここで、上記腐食促進成分と上記腐食抑制成分とについて説明する。先ず、腐食促進成分とは、熱機器２の一例としてのボイラの上記各伝熱管（図示省略）の腐食が発生し易い部位、特に、内側に水分（ここでは缶水）が付着し、且つ外側から加熱される各伝熱管（図示省略）の内面に作用してその腐食を促進するものを言い、通常、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、塩化物イオン（Ｃｌ−）、及びその他の成分を含んでいる。ちなみに、腐食促進成分として重要なものは、硫酸イオン、塩化物イオンの両者である。ところで、日本工業規格ＪＩＳ  Ｂ  ８２２３：１９９９は、貫流ボイラを含む特殊循環ボイラの腐食を抑制する観点から、当該ボイラの缶水の水質に関する各種の管理項目及び推奨基準を規定しており、塩化物イオン濃度の規制値を設けている。しかしながら、缶水の硫酸イオン濃度については言及していない（言い換えれば、硫酸イオンが腐食に関与するものとは認識していない）。これに対し、本願出願人の会社の研究者等は、背景技術の欄でも説明したように、缶水の水質と腐食との関係を長年にわたって研究した成果として、缶水に含まれる硫酸イオンが腐食促進成分として上記各伝熱管（図示省略）等に作用していることを確認している。
【００２９】
次に、腐食を抑制する成分である腐食抑制成分とは、上記ボイラの上記各伝熱管（図示省略）の腐食が発生し易い部位、特に、各伝熱管（図示省略）の内面に作用し、そこに生じる腐食を抑制可能なものを言い、通常、シリカ（すなわち、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２））を含んでいる。ところで、給水に含まれるシリカは、通常、各伝熱管（図示省略）におけるスケール発生成分と認識されており、通常は可能な限りその濃度を抑制することが好ましいと考えられている。しかし、本願出願人の会社の研究者等は、背景技術の欄でも説明したように、缶水の水質と腐食との関係を長年にわたって研究した成果として、缶水に含まれるシリカが腐食抑制成分として上記各伝熱管（図示省略）等に作用していることを確認している。ちなみに、シリカは、給水として用いる水道水、工業用水、地下水等において、通常、含有されている成分である。
【００３０】
水質改質装置４の構成説明に戻る。
溶存気体除去処理部４ｂは、給水に含まれる溶存気体を除去することができるように構成されている。もう少し詳しく説明（図示省略）すると、例えば、気体濾過膜を複数備えた筒状の部材となる脱気モジュールと、水封式真空ポンプと、脱気モジュール及び水封式真空ポンプを繋ぐ真空ラインと、濾過処理部４ａから回収した上記濃縮水を貯留する封水タンクと、水封式真空ポンプ及び封水タンクを繋ぐ封水循環ラインとを備えて構成されている。
【００３１】
上記脱気モジュールには、分岐給水ライン３ａが接続されている。また、上記真空ラインが接続されている。上記水封式真空ポンプは、各脱気モジュールから溶存気体を吸引するためのものであって、上記真空ラインと上記封水循環ラインとが接続されている。上記封水循環ラインは、上記封水タンクから上記水封式真空ポンプへ封水を供給するとともに、吸引した気体と封水との混合流体を上記封水タンクへ排出することができるように構成されている。
【００３２】
純水製造装置５は、特許請求の範囲に記載した不純物除去処理部に相当する逆浸透膜部５ａと、逆浸透膜部５ａの下流側に接続される溶存気体除去処理部５ｂとを備えて構成されている（溶存気体除去処理部５ｂは、水質改質装置４の溶存気体除去処理部４ｂと基本的に同じ構成及び機能を有するものとする。ここでは説明を省略する）。
【００３３】
逆浸透膜部５ａは、給水中の不純物を除去するために、分子量が数十程度のものをろ別可能な逆浸透膜（ＲＯ膜）を多数有する筒状の逆浸透膜モジュール（図示省略）を備えて構成されている（又はイオン交換樹脂やイオン交換膜等のイオン交換体を有するモジュールで構成することも可能）。上記逆浸透膜は、例えばポリアミド系複合合成膜を用いて形成されている。上記逆浸透膜は、各社から市販されており、容易に入手することができるものである。
【００３４】
逆浸透膜部５ａの一端には、分岐給水ライン３ｂを流れる給水が流入するようになっている。流入した給水は、逆浸透膜部５ａの内部において、上記逆浸透膜モジュールにより不純物等が捕捉されるようになっている。逆浸透膜部５ａの他端からは、透過水と濃縮水とが流出するようになっている。その透過水は、分岐給水ライン３ｂ及び給水ライン３を流れて給水タンク７に貯留されるようになっている。一方、濃縮水は、その一部が排水ライン（図示省略）側へ流れるとともに、残りが循環水ライン（図示省略）を流れて逆浸透膜部５ａの上流側へ供給されるようになっている。
【００３５】
処理水混合手段６は、溶存気体除去処理部４ｂ及び溶存気体除去処理部５ｂの各下流側となる分岐給水ライン３ａ及び分岐給水ライン３ｂに接続される流量調整部６ａ、６ａを備えている。また、本形態における処理水混合手段６は、分岐給水ライン３ａ及び分岐給水ライン３ｂの合流後の給水ライン３に接続される既知の電気伝導度計６ｂを備えている。処理水混合手段６は、上述のように、水質改質装置４で処理された給水及び純水製造装置５で処理された給水を所望の流量で混合することができるように、具体的には、熱機器２の給水として適切なイオンバランスに混合することができるように構成されている。本形態における処理水混合手段６は定流量弁であるが、インバータによる定流量制御機構等を用いてもよいものとする。インバータによる定流量制御機構は、濾過処理部４ａや逆浸透膜部５ａの上流に給水ポンプを設け、その給水ポンプをインバータにより制御して濾過処理部４ａや逆浸透膜部５ａの下流側の流量をコントロールするものである。
【００３６】
次に、上記構成に基づきながら熱機器２の一例としてのボイラの運転時の流れについて説明する。上記ボイラを運転する場合には、被処理水タンク（図示省略）から供給される被処理水（水質改質前の給水）の水質を改質して給水を生成し、その給水を給水タンク７に貯留する必要がある。ここまでの過程について説明すると、給水ライン３を流れる給水は、被処理水タンク（図示省略）から所定の吐出圧を有する給水ポンプ（図示省略）により所定の圧力で流出する。その流出する給水の圧力は、下流側に配置された水質改質装置４及び純水製造装置５における圧損等を考慮して設定される。そして、被処理水タンク（図示省略）から流出した給水は、先ず、活性炭濾過装置（図示省略）を通過し、残留塩素が除去された状態の給水となる。次に、その給水は、軟水装置（図示省略）を通過して軟水となる。続いて、その軟水である給水は、分岐給水ライン３ａ及び分岐給水ライン３ｂを流れ、水質改質装置４及び純水製造装置５においてそれぞれ処理され、処理水混合手段６により混合された後に、上記ボイラへ供給可能な給水となる。
【００３７】
具体的には、軟水である給水が水質改質装置４の濾過処理部４ａにおいて、ナノろ過膜を通過する際に、硫酸イオン、塩化物イオン等の腐食促進成分がナノろ過膜により捕捉される。すなわち、腐食促進成分が軟水から除去される。軟水に含まれるシリカ、すなわち腐食抑制成分は、軟水と共にナノろ過膜を透過する。給水は、濾過処理後の腐食抑制成分を含む軟水となる。また、その後、脱気処理された軟水となる。一方、軟水である給水は、純水製造装置５において逆浸透膜モジュールを通過する際に不純物等が除去される。給水は、不純物等が除去され脱気処理された軟水となる。純水製造装置５においては、腐食促進成分及び腐食抑制成分がともに捕捉されるような給水になる。上記混合後の給水は、水質改質装置４で処理された給水が純水製造装置５で処理された給水により希釈されるような状態になる。この希釈度合いを制御することにより、上記ボイラの給水として適切なイオンバランスの給水になる。
【００３８】
給水タンク７に貯留された給水は、給水タンク７及び上記ボイラの間に配置される給水ポンプ（図示省略）を介して上記ボイラへ供給され、下部ヘッダ内において缶水として貯留される。貯留された缶水は、加熱装置により加熱されながら各伝熱管内を上昇し、徐々に蒸気になる。そして、各伝熱管内において生成された蒸気は、上部ヘッダにおいて集められ、蒸気供給路から負荷装置へと供給される。
【００３９】
ところで、上記ボイラの運転中において、各伝熱管は、その下端部分、すなわち下部ヘッダとの連結部分が缶水と継続的に接触することになる。そのため、各伝熱管は、上記下端部分において、通常、缶水の影響を受け腐食し易くなる。特に、各伝熱管は、下端部分において、内周面の減肉的な腐食に加えて局部的な腐食が生じ易く、それが原因で微少な穴開きを起こして破損する場合がある。
【００４０】
上記局部的な腐食とは、各伝熱管の缶水との接触面側から厚さ方向の反対側へ向かう孔状の腐食、すなわち各伝熱管の厚さ（肉厚）方向に発生する孔状の腐食を言う。以下、このような局部的腐食の発生現象を「孔食」と言い、この孔食により生じた孔状の腐食を「食孔」と言う。ちなみに、孔食は、通常、缶水中の溶存酸素の影響により発生するものと理解されている。
【００４１】
しかしながら、本発明によれば、上記ボイラの運転中において、各伝熱管に対し、腐食抑制成分を含む軟水が缶水として供給されることになるので、缶水に含まれる腐食抑制成分が各伝熱管の下端部分に作用し、当該部分の腐食を抑制するようになる。より具体的には、腐食抑制成分は、各伝熱管の缶水との接触部分における減肉的な腐食を抑制するとともに、食孔の発生及び成長も抑制し、腐食（特に食孔）による伝熱管の破損を抑制する。この際、缶水は、水質改質装置４及び純水製造装置５により腐食促進成分が除去されるため、腐食抑制成分による上記のような腐食抑制作用は、腐食促進成分により阻害され難く、効果的に発揮されるようになる。
【００４２】
さて、缶水に含まれる腐食抑制成分により、各伝熱管の腐食が抑制されるのは、缶水に含まれる溶存酸素等（各伝熱管の腐食促進成分）の影響により、各伝熱管から溶出する成分に腐食抑制成分（特にシリカ）が作用し、各伝熱管の内面に耐食性の皮膜（防食皮膜）が形成されるためと考えられる。特に、溶存酸素は、各伝熱管に局部的なアノードを発現させ、これにより孔食を進行させる場合があるが、缶水に含まれる腐食抑制成分（シリカ）は、アニオン又は負電荷のミセルとして存在するため、上記のようなアノードに吸着し易く、当該部分で選択的に防食皮膜を形成し易い。そのため、缶水に含まれる腐食抑制成分（シリカ）は、各伝熱管における孔食の進行を特に効果的に抑制することができるものと考えられる。
【００４３】
以上、図１を参照しながら説明してきたように、本発明の水質改質システム１は、薬剤を用いずに腐食を抑制することができる。また、本発明の水質改質システム１は、水質改質装置４で処理した給水及び純水製造装置５で処理した給水を、熱機器２の給水として適切なイオンバランスとなるように混合することが可能な構成を有していることから、例えば、高シリカの地域でも良好に腐食を防止することができる。
【００４４】
その他、本発明は本発明の主旨を変えない範囲で種々変更実施可能なことは勿論である。すなわち、一例としては、溶存気体除去処理部４ｂ、５ｂの機能を一括することも可能であるものとする。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の水質改質システムの一実施の形態を示す構成図である。
【図２】従来例のボイラシステムの構成図である。
【図３】従来例のボイラの構成図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  水質改質システム
２  熱機器
３  給水ライン
３ａ  分岐給水ライン
３ｂ  分岐給水ライン
４  水質改質装置
４ａ  濾過処理部
４ｂ  溶存気体除去処理部
５  純水製造装置
５ａ  逆浸透膜部（不純物除去処理部）
５ｂ  溶存気体除去処理部
６  処理水混合手段
６ａ  流量調整部
６ｂ  電気伝導度計
７  給水タンク
【図１】
2005319426.tif 000003
【図２】
2005319426.tif 000004
【図３】
2005319426.tif 000005