(57)【要約】【課題】  液晶ディスプレイ上に発生した欠陥画素を簡単かつ高い成功率で修正できる液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び欠陥画素修正装置を提供すること。【解決手段】液晶ディスプレイＤに発生した欠陥画素ＧにパルスレーザＬを照射して上記欠陥画素Ｇの修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記欠陥画素Ｇの外周に沿って上記パルスレーザＬを照射する第１の工程と、上記第１の工程後に、上記欠陥画素Ｇの外周の内側に上記パルスレーザＬを照射する第２の工程とを具備する。【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイの欠陥画素にパルスレーザを照射して上記欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、
上記欠陥画素の外周に沿って上記パルスレーザを照射する第１の工程と、
上記第１の工程後に、上記欠陥画素の外周の内側に上記パルスレーザを照射する第２の工程と、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項２】
上記第１の工程では、上記欠陥画素に対して上記パルスレーザを所定の略等間隔で照射することを特徴とする請求項１記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項３】
液晶ディスプレイの欠陥画素にパルスレーザを移動させながら照射して上記欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、
上記欠陥画素に照射する上記パルスレーザのスポットの数を複数にしたことを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項４】
上記複数のスポットは、上記パルスレーザの移動方向に対して、所定の角度を有して傾斜する方向に沿って並べられていることを特徴とする請求項３記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項５】
上記第１、第２の工程では、上記パルスレーザによって上記欠陥画素内に形成された配向膜を溶融蒸発させることを特徴とする請求項１〜請求項４記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項６】
液晶ディスプレイの欠陥画素にパルスレーザを移動させながら照射して上記欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、
上記パルスレーザを出射するレーザ出射部と、
上記レーザ出射部から出射したパルスレーザをその移動方向に対して所定の角度を有して傾斜する方向に分割して上記欠陥画素に照射させる分割照射手段と、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【請求項７】
上記分割照射手段を駆動することで、上記パルスレーザを分割する方向を制御する駆動手段をさらに具備することを特徴とする請求項６記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【請求項８】
上記分割照射手段は３焦点レンズであることを特徴とする請求項６記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【請求項９】
上記分割照射手段は、
上記レーザ出射部から出射したパルスレーザをその移動方向に対して所定の角度を有して傾斜する方向に分割する分割手段と、
上記分割手段により分割されたパルスレーザをそれぞれ集光して上記欠陥画素に照射する集光レンズと、
から構成されることを特徴とする請求項６記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【請求項１０】
上記分割手段はウェッジプレートであることを特徴とする請求項９記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び欠陥画素修正装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
アクティブマトリクス型の液晶ディスプレイは、液晶を挟んで対向配置された２枚のガラス基板を有している。
【０００３】
これら２枚のガラス基板のうち、一方のガラス基板はＴＦＴ基板と呼ばれ、その内側面には多数本の信号線とゲート線が格子状に形成されている。信号線とゲート線に囲まれる各領域には、数十［μｍ］〜数百［μｍ］程度の大きさの画素電極が形成されている。また、信号線とゲート線との交差部には、各画素電極に電荷を充放電するためのＴＦＴが設けられている。
【０００４】
また、２枚のガラス基板のうち、他方のガラス基板はカラーフィルタ基板と呼ばれ、その内側面には着色層と保護層で構成されるカラーフィルタが設けられている。
【０００５】
これら２枚のガラス基板の内側面には、それぞれポリイミド製の配向膜が液晶と接するように形成されている。また、これらのガラス基板の外側面には、それぞれ偏光板が貼り付けられている。
【０００６】
ところで、液晶ディスプレイの製造工程では、画面の大型化、高精細化に伴い、不良の発生率が高まっている。不良の中で特に問題となるのが、ＴＦＴが動作しない画素や液晶が駆動しない画素の発生である。このような画素が形成されると、液晶が透過光を遮断できなくなり、その画素（以下、「欠陥画素」と称する。）が輝点欠陥となって現れることがある。
【０００７】
この輝点欠陥は、液晶ディスプレイの表示品質を著しく低下させるため、設計や製造プロセスの工夫により発生率の低減が図られている。しかしながら、設計や製造プロセスの工夫では発生率の低減に限界があり、未だ完全な解消には至っていない。
【０００８】
そこで現在では、液晶ディスプレイを製造した後に、液晶ディスプレイ上に輝点欠陥が存在するかどうかを調べ、存在した場合にその欠陥画素を１つずつ修正する方法が採られている。
【０００９】
液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する方法としては、欠陥画素の透過光を減少させて、輝点欠陥を目立たなくする方法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【００１０】
この方法では、欠陥画素に対してパルスレーザを移動しながら順次照射している。このパルスレーザは、液晶中に気泡を発生させるとともに、配向膜を溶融蒸発させてポリイミド製の微粒子を発生させる。パルスレーザの照射により発生した微粒子は、欠陥画素の内側面に堆積し、配向膜の液晶に対する配向性を低下させる。これにより、欠陥画素の透過光を減少させて、輝点欠陥を目立たなくしている。
【００１１】
このとき、パルスレーザの照射により発生した気泡は、信号線やゲート線等の段差により欠陥画素内に留まることで、微粒子が移動し易い環境を作り、微粒子が欠陥画素の内面に堆積する効率を向上させている。
【特許文献１】特開平７−２２５３８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ところで近年、信号線やゲート線上に厚膜絶縁膜を介して画素電極を設けることで、ＴＦＴ基板から液晶側に突出する部分を減らした、いわゆる平坦化処理された液晶ディスプレイが開発されている。
【００１３】
この平坦化処理を行うと、画素領域が広くなるため、バックライト光を効率よく透過させることができる。そのため、同一解像度であれば、より高い輝度を得られ、同一輝度であればより高い解像度が得られる。また、同一輝度、同一解像度であれば、消費電力を下げることができる。このような利点をもつため、近年では多くの製品に平坦化処理が採用されている。
【００１４】
しかしながら、この平坦化処理を行うと、上述のようにＴＦＴ基板から液晶側に突出する部分が減少するため、特許文献１に記載された方法で液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する場合、液晶中に発生した気泡を欠陥画素内に留めておくことが困難となる。
【００１５】
そのため、次にパルスレーザを照射するときに、その照射部分に気泡が存在せず、発生した微粒子をうまく欠陥画素の内面に堆積させることができないことがある。この場合、欠陥画素の透過光を十分に減少できなかったり、修正後にいわゆる「白ポツ」や「白ムラ」が発生し易くなるという問題があった。
【００１６】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、液晶ディスプレイ上に発生した欠陥画素を簡単かつ高い成功率で修正できる液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び欠陥画素修正装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決し目的を達成するために、本発明の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び欠陥画素修正装置は次のように構成されている。
【００１８】
（１）液晶ディスプレイの欠陥画素にパルスレーザを照射して上記欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記欠陥画素の外周に沿って上記パルスレーザを照射する第１の工程と、上記第１の工程後に、上記欠陥画素の外周の内側に上記パルスレーザを照射する第２の工程とを具備することを特徴とする。
【００１９】
（２）（１）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記第１の工程では、上記欠陥画素に対して上記パルスレーザを所定の略等間隔で照射することを特徴とする。
【００２０】
（３）液晶ディスプレイの欠陥画素にパルスレーザを移動させながら照射して上記欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記欠陥画素に照射する上記パルスレーザのスポットの数を複数にしたことを特徴とする。
【００２１】
（４）（３）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記複数のスポットは、上記パルスレーザの移動方向に対して、所定の角度を有して傾斜する方向に沿って並べられていることを特徴とする。
【００２２】
（５）（１）〜（４）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記第１、第２の工程では、上記パルスレーザによって上記欠陥画素内に形成された配向膜を溶融蒸発させることを特徴とする。
【００２３】
（６）液晶ディスプレイの欠陥画素にパルスレーザを移動させながら照射して上記欠陥画素の修正を行う液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記パルスレーザを出射するレーザ出射部と、上記レーザ出射部から出射したパルスレーザをその移動方向に対して所定の角度を有して傾斜する方向に分割して上記欠陥画素に照射させる分割照射手段とを具備することを特徴とする。
【００２４】
（７）（６）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置であって、上記分割照射手段を駆動することで、上記パルスレーザを分割する方向を制御する駆動手段をさらに具備することを特徴とする。
【００２５】
（８）（６）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置であって、上記分割照射手段は３焦点レンズであることを特徴とする。
【００２６】
（９）（６）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置であって、上記分割照射手段は、上記レーザ出射部から出射したパルスレーザをその移動方向に対して所定の角度を有して傾斜する方向に分割する分割手段と、上記分割手段により分割されたパルスレーザをそれぞれ集光して上記欠陥画素に照射する集光レンズとから構成されることを特徴とする。
【００２７】
（１０）（９）に記載された液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置であって、上記分割手段はウェッジプレートであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、液晶ディスプレイ上に発生した欠陥画素を簡単かつ高い成功率で修正することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための最良の形態について説明する。
【００３０】
まず、図１〜図４を用いて本発明の第１の実施の形態を説明する。
【００３１】
図１は本発明の第１の実施の形態に係る平坦化された液晶ディスプレイの断面図である。
【００３２】
図１に示すように、この液晶ディスプレイＤは、対向配置された２枚のガラス基板１０１、１０２を有している。
【００３３】
これらガラス基板１０１、１０２のうち、一方のガラス基板１０１はＴＦＴ基板と呼ばれ、その内側面には複数のＴＦＴ１０３がマトリクス状に形成されている。各ＴＦＴ１０３を駆動するための信号線１０４やゲート線１０５は、ガラス基板１０１上に格子状に設けられており、さらにその上には信号線１０４やゲート線１０５等の突出部を覆うための厚膜絶縁膜１０６が形成されている。
【００３４】
厚膜絶縁膜１０６の上には、各ＴＦＴ１０３の動作により充放電される画素電極１０７がマトリクス状に形成されており、さらにその上にはポリイミド製の配向膜１０８が設けられている。
【００３５】
また、ガラス基板１０１、１０２のうち、他方のガラス基板１０２はカラーフィルタ基板と呼ばれ、その内側面には各画素電極１０７と対応位置してＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）のカラーフィルタ１０９が設けられている。これらカラーフィルタ１０９の上には、保護膜１１０が設けられており、さらにその上にはＩＴＯ製の導電性薄膜１１１、ポリイミド製の配向膜１１２が順に設けられている。
【００３６】
これらガラス基板１０１、１０２の間には液晶１１３が封入され、またガラス基板１０１、１０２の外側面には偏光フィルム１１４、１１５が貼り付けられている。
【００３７】
上記構成の液晶ディスプレイＤにおいては、ＴＦＴ１０３の駆動によって液晶分子の配列を変えることで、光の透過、遮断を制御している。ところが、液晶ディスプレイＤの画素の中には、ＴＦＴ１０３の駆動の有無に関係なく輝点となって現れる欠陥画素Ｇが発生することがある。本発明は、この欠陥画素Ｇを透過する透過光を減少させ、欠陥画素Ｇを目立たなくしてしまおうというものである。
【００３８】
次に、図２〜図４を用いて本発明の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び欠陥画素修正装置を説明する。
【００３９】
図２は同実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図である。
【００４０】
図２に示すように、この液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置は、第１のステージ１を有している。第１のステージ１上には液晶ディスプレイＤが保持され、さらにその上方にはレーザ出射部２が配置されている。このレーザ出射部２は、第２のステージ３により支持されており、内部にはレーザ発振器４、アッテネータ５、パワーモニタ６、反射ミラー７、及び集光レンズ８を備えている。
【００４１】
アッテネータ５、パワーモニタ６、及び反射ミラー７は、レーザ発振器４から出射されるパルスレーザＬの光路上にレーザ発振器４側から順に配置されている。一方、集光レンズ８は、反射ミラー７で反射したパルスレーザＬの光路上に略垂直に配置されている。
【００４２】
アッテネータ５は、レーザ発振器４から出射したパルスレーザＬのエネルギーを調整する機能を有している。パワーモニタ６は、アッテネータ５から出射したパルスレーザＬのエネルギーを検出する機能を有している。反射ミラー７は、アッテネータ５から出射したパルスレーザＬを略垂直に反射して集光レンズ８に導く機能を有している。集光レンズ８は、反射ミラー７で反射したパルスレーザＬをスポット径が１［μｍ］〜３［μｍ］程度になるように集束して欠陥画素Ｇ上に照射する機能を有している。
【００４３】
第１のステージ１、第２のステージ３、及びレーザ発振器４には、コントローラ９が接続されている。このコントローラ９は、第１のステージ１を水平方向に駆動して液晶ディスプレイＤ上の欠陥画素Ｇを集光レンズ８の直下に位置合わせする機能と、第２のステージ３を水平方向に駆動してレーザスポットＳにより欠陥画素Ｇを走査させる機能と、レーザ発振器４の周波数を制御する機能とを有している。
【００４４】
次に、上記構成の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置を使用する際の動作と作用について説明する。
【００４５】
この液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置を使用する場合、まず第１のステージ１の上面に液晶ディスプレイＤを保持させる。そして、第１のステージ１を駆動して欠陥画素Ｇが集光レンズ８と対向するように液晶ディスプレイＤを位置決めする。
【００４６】
次に、レーザ発振器４からパルスレーザＬを出射する。レーザ発振器４から出射した各パルスレーザＬは、アッテネータ５、パワーモニタ６、及び反射ミラー７を経て集光レンズ８に導かれ、そのレンズ作用により所定のスポット径に集束されたて液晶ディスプレイＤの欠陥画素Ｇ上に照射される。このパルスレーザＬは、集光レンズ８で集束されることで高エネルギー密度を持ったレーザスポットＳとなっており、図３に示すように、液晶１１３中に気泡２００を発生させるとともに、配向膜１０８、１１２の成分であるポリイミドを溶融蒸発させて配向膜１０８、１１２上に照射痕３００を形成する。
【００４７】
溶融蒸発した配向膜１０８、１１２の成分であるポリイミドは、すぐに冷却されて微粒子となり、上記気泡２００中を浮遊したのち、再度配向膜１０８、１１２上に砂利を敷き詰めたように堆積する。これによって、配向膜１０８、１１２の液晶１１３に対する配向性が低下し、パルスレーザＬの照射部分を透過する透過光の光量が減少する。
【００４８】
一方、レーザ出射部２がパルスレーザＬを出射するのと同時に第２のステージ３を駆動し、パルスレーザＬで欠陥画素Ｇをその外周に沿って走査する。これによって、図４（ａ）に示すように、欠陥画素Ｇの外周部には、複数の照射痕３００が一定間隔ｄで形成される。
【００４９】
この間隔ｄは、第２のステージ３の駆動速度とパルスレーザＬの周波数により決定されるものであるが、本実施の形態ではパルスレーザＬの一回の照射で発生する気泡の外径寸法より小さくなるように調整されている。
【００５０】
パルスレーザＬによる欠陥画素Ｇ外周の走査が終了したら、第２のステージ３を駆動して、図４（ｂ）に示すように、パルスレーザＬにより欠陥画素Ｇの外周部の内側全体をラスター走査する。これによって、欠陥画素Ｇ全体に亘って配向膜１０８、１１２の液晶１１３に対する配向性を低下させることができる。この結果、欠陥画素Ｇを透過する透過光の光量が減少し、欠陥画素Ｇが目立たなくなる。
【００５１】
ところで、ラスター走査中に発生する気泡２００は、欠陥画素Ｇの外周部に形成された照射痕３００が柵となって、隣接画素に移動することができない。そのため、パルスレーザＬの連続照射により発生する多数の気泡２００は、すべて欠陥画素Ｇの内側に留まり、互いに結合を繰り返すことで、大きく成長する。なお、結合により大きく成長した気泡２００は、図４（ｃ）に示すように、欠陥画素Ｇから隣接画素側にはみ出ることがあるが、照射痕３００で引っ掛かることにより、欠陥画素Ｇから離れることはない。
【００５２】
このため、ラスター走査中に出射されたパルスレーザＬは、その照射部分に気泡２００が存在する環境下でポリイミド製の微粒子を発生させるから、配向膜１０８、１１２上に微粒子が堆積し易くなり、欠陥画素Ｇの修正の成功率を向上することができる。
【００５３】
なお、図４（ｂ）、（ｃ）ではラスター走査の軌跡を矢印で示しているが、実際にはこの矢印上に照射痕が多数形成される。
【００５４】
上述の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法及び欠陥画素修正装置によれば、まず欠陥画素Ｇの外周に沿ってパルスレーザＬを照射し、その後、欠陥画素Ｇの外周の内側全体にパルスレーザＬを照射している。
【００５５】
そのため、欠陥画素Ｇの外周の内側にパルスレーザＬを照射するときには、欠陥画素Ｇの外周部に照射痕３００による柵が形成されているから、順次発生する気泡２００を欠陥画素Ｇの内側に留めておくことができる。その結果、発生したポリイミド製の微粒子を効率よく配向膜１０８、１１２上に堆積させることができるから、本実施の形態のような平坦化処理された液晶ディスプレイＤであっても、その性能を損なうことなく欠陥画素Ｇを透過する透過光の光量を効率よく減少することができる。
【００５６】
しかも、欠陥画素Ｇの外周部に形成される照射痕３００の間隔ｄを、パルスレーザＬの１回の照射により発生する気泡の外径寸法よりも小さく設定している。そのため、発生した気泡をしっかりと欠陥画素Ｇの内側に留めることができる。
【００５７】
次に、図５〜図７を用いて本発明の第２の実施の形態を説明する。なお、ここでは、上記実施の形態と同様の構成、作用、効果については、その説明を省略する。
【００５８】
図５は本発明の第２の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図、図６は同実施の形態に係るウェッジプレートによりパルスレーザを分割する様子を示す概略図、図７は同実施の形態に係る欠陥画素の走査方向とパルスレーザの関係を示す概略図である。
【００５９】
図５〜図７に示すように、本実施の形態では、反射ミラー７と集光レンズ８の間にウェッジプレート２１（分割手段）を設け、反射ミラー７で反射したパルスレーザＬをその走査方向に対して約４５度で傾斜する方向に２分割して集光レンズ８に入射させている。
【００６０】
そのため、パルスレーザＬを１回照射するだけで、欠陥画素Ｇ上の２箇所、すなわち走査方向の先方と後方にレーザスポットＳ（スポット）を形成することができる。
【００６１】
このような構成にすれば、走査方向後方に位置するレーザスポットＳが欠陥画素Ｇに照射されるときには、その照射部分に高い確率で気泡２００が存在するから、本実施の形態のような平坦化処理された液晶ディスプレイＤであっても、欠陥画素Ｇの修正を効率よく行うことができる。
【００６２】
しかも、レーザスポットＳが走査方向に対して約４５度で傾斜する方向に２分割している。そのため、本実施の形態に係るラスター走査のように、直行する２方向に対して走査する場合、最初にウェッジプレート２１の設定をすれば、その後は常に走査方向の先方と後方にそれぞれレーザスポットＳが形成されるから、パルスレーザＬを分割する方向を走査方向に合わせて調整する必要がない。これにより、装置の構成を複雑化することなく、欠陥画素Ｇの修正を効率よく行うことができる。
【００６３】
なお、本実施の形態では、２つのレーザスポットＳの傾斜角度を４５度としているが、これに限定されることはない。すなわち、走査方向に対して傾斜さえしていれば、例えば３０度であってもよい。
【００６４】
次に、図８〜図１０を用いて本発明の第３の実施の形態を説明する。なお、ここでは、上記実施の形態と同様の構成、作用、効果についは、その説明を省略する。
【００６５】
図８は本発明の第３の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図、図９は同実施の形態に係る３焦点レンズによりパルスレーザを分割する様子を示す概略図、図１０は同実施の形態に係る欠陥画素の走査方向とパルスレーザの関係を示す概略図である。
【００６６】
図７〜図１０に示すように、本実施の形態では、上記実施の形態に係る集光レンズ８の代わりに３焦点レンズ３１（照射手段）を用い、反射ミラー７で反射したパルスレーザＬをその走査方向に対して約４５度で傾斜する方向に３分割している。そのため、パルスレーザＬを１回照射するだけで、欠陥画素Ｇ上の３箇所、すなわち走査方向の先方、後方、及び先方と後方の間にレーザスポットＳを形成することができる。
【００６７】
このような構成にすれば、欠陥画素Ｇ上の異なる３箇所に同時にレーザスポットＳを照射できるので、液晶１１３中に発生した気泡２００を拡大させ易い。そのため、パルスレーザＬが照射されるときに、その照射部分に高い確率で気泡２００が存在するから、本実施の形態のような平坦化処理された液晶ディスプレイＤであっても、欠陥画素Ｇの修正を効率良く行うことができる。
【００６８】
なお、本実施の形態では、３つのレーザスポットＳの傾斜角度を４５度としているが、これに限定されることはない。すなわち、走査方向に対して傾斜さえしていれば、例えば３０度であってもよい。
【００６９】
次に、図１１を用いて本発明の第４の実施の形態を説明する。なお、ここでは、上記実施の形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略する。
【００７０】
１１は本発明の第４の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図である。
【００７１】
図１１に示すように、本実施の形態では、ウェッジプレート２１に駆動装置４１（駆動手段）が設けられている。この駆動装置４１は、ウェッジプレート２１を鉛直軸周りに回転させるためのものであり、コントローラ９によりウェッジプレート２１の回転量を調整することで、パルスレーザＬの分割方向、すなわちレーザスポットＳの並列方向を制御できるようにしている。
【００７２】
このような構成にすれば、コントローラ９によりウェッジプレート２１の回転量を制御するだけで、常に走査方向の先方と後方にレーザスポットＳを形成することができるから、ラスター走査以外の複雑な走査に対しても本発明を適用することができる。
【００７３】
なお、本実施の形態では、第２の実施の形態に係るウェッジプレート２１を回転させるために駆動装置４１を用いているが、第３の実施の形態に係る３焦点レンズ３１を回転させるために用いてもよい。
【００７４】
なお、本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る平坦化された液晶ディスプレイの断面図。
【図２】同実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図。
【図３】同実施の形態に係る配向膜に形成される照射痕を示す概略図。
【図４】同実施の形態に係る欠陥画素にパルスレーザを照射する工程を示す工程図。
【図５】本発明の第２の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図。
【図６】同実施の形態に係るウェッジプレートによりパルスレーザを分割する様子を示す概略図。
【図７】同実施の形態に係る欠陥画素の走査方向とパルスレーザの関係を示す概略図。
【図８】本発明の第３の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図。
【図９】同実施の形態に係る３焦点レンズによりパルスレーザを分割する様子を示す概略図。
【図１０】同実施の形態に係る欠陥画素の走査方向とパルスレーザの関係を示す概略図。
【図１１】本発明の第４の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略図。
【符号の説明】
【００７６】
２…レーザ出射部、８…集光レンズ、２１…ウェッジプレート（分割手段）、３１…３焦点レンズ（照射手段）、４１…駆動装置（駆動手段）、Ｄ…液晶ディスプレイ、Ｇ…欠陥画素、Ｌ…パルスレーザ、Ｓ…レーザスポット（スポット）、ｄ…間隔。
【図１】
2005275136.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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