(57)【要約】【課題】大型液晶ディスプレイの欠陥画素の修正が可能であり、さらに結像光学系の搭載も可能である液晶ディスプレイの欠陥画像修正方法および修正装置を提供すること。【解決手段】集光レンズ３で集光されたレーザ光Ｌを照射することで、液晶ディスプレイＤの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイＤの欠陥画素修正方法において、上記液晶ディスプレイＤを移動させて、上記欠陥画素を上記集光レンズ３の直下に位置決めする位置決め工程と、上記位置決め工程の後、上記集光レンズ３を上記レーザ光Ｌの光軸と交差する方向に移動させることにより、上記集光レンズ３から出射するレーザ光Ｌで上記欠陥画素を走査する走査工程とを具備する。【選択図】      図１
2005275135.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズで集光されたレーザ光を照射することで、液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、
上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズと対向するように位置決めする位置決め工程と、
上記位置決め工程の後、上記レンズを上記レーザ光の光軸方向と交差する方向に移動させることで、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する走査工程と、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項２】
レンズで集光されたレーザ光を照射することで、液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、
上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズと対向するように位置決めする位置決め工程と、
上記位置決め工程の後、上記レンズに入射するレーザ光をその光軸方向と交差する方向に移動させることで、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する走査工程と、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項３】
上記走査工程の前に、上記欠陥画素にレーザ光を照射してその周辺に気泡を発生させる気泡発生工程をさらに具備することを特徴とする請求項１または２記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項４】
上記気泡発生工程ではマルチモードのレーザ光を用い、上記走査工程ではシングルモードのレーザ光を用いることを特徴とする請求項３に記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項５】
上記レーザ光はＬＤ励起固体レーザ光であり、ＬＤの温度を変化させることで、ＬＤの発振波長を制御して、上記レーザ光のモードを制御することを特徴とする請求項４記載の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法。
【請求項６】
上記走査工程では、上記レーザ光によって上記欠陥画素内に形成された配向膜を加工することを特徴とする請求項１または請求項２記載の欠陥画素修正方法。
【請求項７】
レーザ光の照射により液晶ディスプレイ上の欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、
上記レーザ光を出射するレーザ出射部と、
上記レーザ出射部から出射したレーザ光を集光するレンズと、
上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズに対向するように位置決めする第１のステージと、
上記レンズを上記レーザ光の光軸方向と交差する方向に移動させることにより、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する第２のステージと、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【請求項８】
レーザ光の照射により液晶ディスプレイ上の欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、
上記レーザ光を出射するレーザ出射部と、
上記レーザ出射部から出射したレーザ光を集光するレンズと、
上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズに対向するように位置決めするステージと、
上記レンズに入射するレーザ光をその光軸方向と交差する方向に移動させることにより、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査するスキャナと、
を具備することを特徴とする液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイに発生した欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置および修正方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイの製造過程において、ＴＦＴが動作しない画素や液晶が駆動しない画素が形成されると、液晶が透過光を遮断できなくなり、その部分が輝点欠陥となって現れることがある。この輝点欠陥は、液晶ディスプレイの表示品質を著しく低下させるため、設計や製造プロセスの工夫により発生率の低減が図られている。しかしながら、設計や製造プロセスの工夫では発生率の低減に限界があり、未だ完全な解消には至っていない。そこで、現在では、液晶ディスプレイを製造した後に、各画素上に輝点欠陥が存在するかどうかを調べ、存在した場合にその輝点欠陥を１つずつ修正する方法が採られている。液晶ディスプレイの輝点欠陥を修正する方法として、輝点欠陥が存在する画素（以下、「欠陥画素」と称する。）にレーザ光を照射して、透過光を減少させるリペア法が開示されている（例えば、特許文献１〜４参照。）。
【０００３】
このリペア法において、レーザ発振器から出射したレーザ光は、集光レンズを通ってステージ上の液晶ディスプレイに照射される。このとき、ステージを駆動（以下、「位置決め駆動」と称する。）して液晶ディスプレイ上の欠陥画素を集光レンズの直下に位置決めしておくことで、集光レンズから出射したレーザ光を目標の欠陥画素に照射する。欠陥画素に照射されたレーザ光は、ガラス基板上の配向膜を加工し、微細な粒子を発生させる。この粒子は加工点の周囲に飛散して欠陥画素の表面に堆積し、液晶分子に対する配向膜の配向性を低下させる。これによって、加工点の周囲では液晶分子の配列がランダムとなり、透過光が減少するため、輝点欠陥が目立たなくなる。
【特許文献１】特開平７−２２５３８１号公報
【特許文献２】特開平８−０１５６６０号公報
【特許文献３】特開平８−２０１８１３号公報
【特許文献４】特開平１０−２６０４１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上述のリペア法を用いて配向膜を加工する場合、レーザ光を欠陥画素上で走査する必要がある。従来、この方法として、ステージの駆動（以下、「走査駆動」と称する。）により、レーザ光を液晶ディスプレイに対して相対移動させることで、欠陥画素を走査する走査法が採用されていた。この方法では、レーザ光の光軸が常に集光レンズの中心を通るため、欠陥画素上の走査経路が安定するというメリットがある。
【０００５】
しかしながら、テレビ等に用いられる大型の液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する場合、位置決め駆動の分解能と走査駆動の分解能とが極端に異なるため、これらの駆動を１つのテーブルで行うことは困難であった。
【０００６】
そこで、最近では、位置決め駆動と走査駆動とを別のステージに行わせる方法が採用されている。具体的には、レーザ発振器、アッテネータ、モニタ、及び光学系などを１つの板に載せ、この板を駆動することによりレーザ光で欠陥画素を走査する方法が採用されている。
【０００７】
また、液晶ディスプレイ上に発生する欠陥の種類は、リペア装置に搬入されてから判明することが多い。そのため、１台のリペア装置で複数種の欠陥をリペアできれば、作業上、非常に効率的である。
【０００８】
そこで、最近は多数種の欠陥修正に対応できるように、集光光学系と結像光学系の両方を搭載したリペア装置が求められている。しかしながら、結像光学系は大型であるため、集光光学系と結像光学系の両方を板に搭載した場合、これらを高分解能で走査駆動するのは非常に困難である。
【０００９】
本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、大型液晶ディスプレイの欠陥画素の修正が可能であり、さらに結像光学系の搭載も可能である液晶ディスプレイの欠陥画像修正方法および修正装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決し目的を達成するために、本発明の液晶ディスプレイの欠陥画素方法および修正装置は次のように構成されている。
【００１１】
（１）レンズで集光されたレーザ光を照射することで、液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズと対向するように位置決めする位置決め工程と、上記位置決め工程の後、上記レンズを上記レーザ光の光軸方向と交差する方向に移動させることで、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する走査工程とを具備することを特徴とする。
【００１２】
（２）レンズで集光されたレーザ光を照射することで、液晶ディスプレイの欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法において、上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズと対向するように位置決めする位置決め工程と、上記位置決め工程の後、上記レンズに入射するレーザ光をその光軸方向と交差する方向に移動させることで、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する走査工程とを具備することを特徴とする。
【００１３】
（３）（１）または（２）に記載した液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記走査工程の前に、上記欠陥画素にレーザ光を照射してその周辺に気泡を発生させる気泡発生工程をさらに具備することを特徴とする。
【００１４】
（４）（３）に記載した液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記気泡発生工程ではマルチモードのレーザ光を用い、上記走査工程ではシングルモードのレーザ光を用いることを特徴とする。
【００１５】
（５）（４）に記載した液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記レーザ光はＬＤ励起固体レーザ光であり、ＬＤの温度を変化させることで、ＬＤの発振波長を制御して、上記レーザ光のモードを制御することを特徴とする。
【００１６】
（６）（１）または（２）に記載した液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法であって、上記走査工程では、上記レーザ光によって上記欠陥画素内に形成された配向膜を加工することを特徴とする。
【００１７】
（７）レーザ光の照射により液晶ディスプレイ上の欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記レーザ光を出射するレーザ出射部と、上記レーザ出射部から出射したレーザ光を集光するレンズと、上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズに対向するように位置決めする第１のステージと、上記レンズを上記レーザ光の光軸方向と交差する方向に移動させることにより、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査する第２のステージとを具備することを特徴とする。
【００１８】
（８）レーザ光の照射により液晶ディスプレイ上の欠陥画素を修正する液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置において、上記レーザ光を出射するレーザ出射部と、上記レーザ出射部から出射したレーザ光を集光するレンズと、上記液晶ディスプレイを移動させることにより、上記欠陥画素を上記レンズに対向するように位置決めするステージと、上記レンズに入射するレーザ光をその光軸方向と交差する方向に移動させることにより、上記レンズから出射するレーザ光で上記欠陥画素を走査するスキャナとを具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、大型液晶ディスプレイの欠陥画素の修正に対応でき、さらに結像光学系の搭載にも対応できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図１〜図６を参照しながら本発明の第１の実施の形態について説明する。
【００２１】
最初に、図６を用いて液晶ディスプレイの構成を簡単に説明する。
【００２２】
図６は液晶ディスプレイの断面図である。
【００２３】
図６に示すように、この液晶ディスプレイＤは、対向配置された２枚のガラス基板６１、６２を有している。これらガラス基板６１、６２の外側面にはそれぞれ偏光フィルム６３、６４が貼り付けられ、ガラス基板６１、６２の間には液晶６５が封入されている。
【００２４】
一方のガラス基板６１の内側面には、複数のＴＦＴ６６（薄膜トランジスタ）がマトリクス状に形成されており、その上には配向膜６７が形成されている。また、他方のガラス基板６２の内側面には、各ＴＦＴ６６と対応位置してＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）のカラーフィルタ６８がそれぞれ設けられており、その上には保護膜６９、ＩＴＯ膜７０、及び配向膜７１が順に形成されている。
【００２５】
上記構成の液晶ディスプレイＤにおいては、ＴＦＴ６６の駆動によって液晶分子の配列を変えることで、光の透過、遮断を制御している。
【００２６】
次に、図１〜図５を用いて本発明の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置を説明する。
【００２７】
図１は本発明の第１の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略的構成図である。
【００２８】
図１に示すように、この液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置は、液晶ディスプレイＤを保持するための第１のステージ１を有している。この第１のステージ１には制御装置２が接続されており、この制御装置２から指令信号を与えることで、保持した液晶ディスプレイＤをＸＹ方向に駆動できるようになっている。なお、この第１のステージ１は、大ストローク用のもので、数ｍｍ〜数１００ｍｍ程度の駆動を対象としている。
【００２９】
第１のステージ１の上面側には、高倍率の集光レンズ３が配置されている。この集光レンズ３は円柱状に形成されており、その軸心線は略垂直方向に向けられている。集光レンズ３の径方向中心部には、軸心線方向に沿って透光穴４が形成されており、この透光穴４に集光レンズ３の上方からレーザ光Ｌを導入することで、集光レンズ３の下方にレーザスポットＳが形成されるようになっている。
【００３０】
なお、本実施の形態で用いるレーザ光Ｌの光径は、集光レンズ３の透光穴４の内径よりも小さい。そのため、レーザ出射部６から出射したレーザ光Ｌは、完全に透光穴４内に入射するようになっている。
【００３１】
この集光レンズ３は、電動式の保持レボルバ４１に保持されている。この保持レボルバ４１は、集光レンズ３の他に欠陥画素Ｇを観察するための低倍率の観察用レンズ４２を保持しており、保持レボルバ４１を回転駆動することで、集光レンズ３と観察用レンズ４２とを交換できるようになっている。
【００３２】
この保持レボルバ４１は、第２のステージ５によって保持されている。この第２のステージ５には制御装置２が接続されており、この制御装置２から指令信号を与えることで、集光レンズ３を保持レボルバ４１ごとＸＹ方向に駆動できるようになっている。なお、この第２のステージ５は、微小ストローク用のもので、数μｍ〜数１００μｍ程度の駆動を対象としている。
【００３３】
集光レンズ３に導入されるレーザ光Ｌは、レーザ出射部６から出射される。このレーザ出射部６は、レーザ発振器７、アッテネータ８、パワーモニタ９、及び反射ミラー１０を備えている。
【００３４】
図２は同実施の形態に係るレーザ発振器７の概略的構成図である。
【００３５】
図２に示すように、このレーザ発振器７は、レーザダイオード１１（以下、「ＬＤ」と称する。）、励起光レンズ１２、レーザロッド１３、Ｑスイッチ１４、及び出力ミラー１５を備えている。レーザロッド１３としては、ＹＶＯ４からなる母材結晶にＮｄをドープしたものを用いている。
【００３６】
ＬＤ１１に電流を供給すると、その活性層から励起光Ｍが出射し、励起光レンズ１２を通ってレーザロッド１３に入射する。この励起光Ｍは、レーザロッド１３、Ｑスイッチ１４、及び出力ミラー１５により共振され、レーザ光Ｌとなってレーザ発振器７から出射する。このときレーザ発振器７から出射するレーザ光Ｌは、励起光Ｍの温度依存性によってＬＤ温度に応じたモードとなる。
【００３７】
この温度依存性とは、ＬＤ温度の変化によって励起光Ｍの波長が変化することを言う。励起光Ｍの波長が変化すると、Ｎｄに対する励起光Ｍの吸収率が変化し、レーザロッド１３が加熱される。その結果、レーザロッド１３が熱レンズ効果により変形し、レーザ光Ｌのモードを変化させるのである。
【００３８】
図３は同実施の形態に係るレーザ発振器７から出射するレーザ光ＬとＬＤ温度との関係を示す概略図である。なお、ＬＤ１１に供給する電流は２０．０Ａ、繰り返し周波数は１ｋＨｚである。
【００３９】
図３に示すように、ＬＤ温度を２６℃〜２８℃に設定すれば、レーザ光Ｌはリング状の強度分布を呈する、いわゆるマルチモードとなり、ＬＤ温度を３８℃〜４０℃に設定すれば、レーザ光Ｌはガウシアン状の強度分布を呈する、いわゆるシングルモード（ＴＥＭ００）となることがわかる。
【００４０】
次に、上記構成の液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置を使用する際の作用について説明する。
【００４１】
液晶ディスプレイＤから欠陥画素Ｇが検出されたら、第１のステージ１を駆動して欠陥画素Ｇを集光レンズ３の直下に位置決めする。そして、欠陥画素Ｇが集光レンズ３の透光穴４と対向したら、ＬＤ温度を２６℃〜２８℃に設定し、レーザ発振器７からマルチモードのレーザ光Ｌを出射させる。
【００４２】
このレーザ光Ｌは、アッテネータ８、パワーモニタ９を経た後、反射ミラー１０により集光レンズ３の透光穴４に導かれ、上記集光レンズ３の集光作用によりレーザスポットＳとなって欠陥画素Ｇに照射される。
【００４３】
このレーザスポットＳは欠陥画素Ｇを緩やかに加熱し、ガラス基板６１、６２の間に気泡を発生させる。なお、マルチモードのレーザスポットＳはエネルギー密度が低いため、配向膜６７、７１を損傷することがない。
【００４４】
ガラス基板６１、６２の間に気泡が発生したら、ＬＤ温度を３８℃〜４０℃に設定し、レーザ発振器７からシングルモードのレーザ光Ｌを繰り返し周波数ｆでパルス状に出射させる。このレーザ光Ｌは、アッテネータ８、パワーモニタ９を経た後、反射ミラー１０により集光レンズ３の透光穴４に導かれ、集光レンズ３の集光作用によりレーザスポットＳとなって欠陥画素Ｇに照射される。
【００４５】
このレーザスポットＳは、ガラス基板６１、６２上に形成された配向膜６７、７１の一部を溶融蒸発（以下、「加工」と呼ぶ。）させ、加工点の周囲にＰＩ（ポリイミド）の微粒子を発生させる。この微粒子は、配向膜６７、７１の周囲に付着、堆積し、配向膜６７、７１の液晶６５に対する配向性を低下させる。これによって、加工点の周囲では液晶分子の配列がランダムとなり、輝点欠陥の原因となる透過光が減少するため、輝点欠陥が目立たなくなる。
【００４６】
このとき、第２のステージ５を駆動して集光レンズ３をＸＹ方向（レーザ光Ｌの光軸に対して略垂直方向）に移動させる。集光レンズ３を移動させると、集光レンズ３の下方に形成されるレーザスポットＳも集光レンズ３と同じ距離だけ同じ方向に移動する。
【００４７】
そのため、配向膜６７、７１の加工中に集光レンズ３を移動させて、図４に示すように欠陥画素Ｇ上でレーザスポットＳを蛇行させると、欠陥画素Ｇ上の配向膜全体を加工することができる。
【００４８】
欠陥画素Ｇを走査するときは、図５に示すように、下記［数１］で定義されるオーバーラップ率ａが一定となるように、繰り返し周波数ｆを第２のステージ５と同期させる。なお、［数１］中のｖは走査速度、ｄはレーザスポット径である。
【数１】
2005275135.tif 000003
【００４９】
このように、レーザ光Ｌの繰り返し周波数ｆを第２のステージ５と同期させると、走査経路上の折り返し部Ｆ付近で走査速度が減速しても、その部分が過剰に加熱されることがないから、カラーフィルタ６８を損傷することなく、配向膜６７、７１全体を均一なエネルギーで加工することができる。
【００５０】
上記構成の液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置によれば、分解能が大きく異なる２つの動作、つまり欠陥画素Ｇを集光レンズ３の直下に位置決めする動作と、レーザ光Ｌで欠陥画素Ｇを走査する動作とを異なるステージ、つまり第１のステージ１と第２のステージ５にそれぞれ行わせている。
【００５１】
そのため、本発明の液晶ディスプレイ欠陥画素修正方法および修正装置を用いれば、テレビ等に使用される大型の液晶ディスプレイであっても、欠陥画素の修正に対応することができる。しかも、集光レンズ３のみを駆動する構成であり、レーザ出射部６を駆動しないため、大型の結像光学系を搭載することも可能である。
【００５２】
また、ＬＤ温度を変化させることで、レーザ光Ｌをマルチモードとシングルモードとに切り換えている。そのため、気泡の発生と配向膜の加工とを１つのレーザ出射部６で行うことができる。しかも、ＬＤ温度の制御は非常に簡単なので、装置構成を複雑化することなく実現できる。
【００５３】
次に、図７を参照しながら本発明の第２の実施の形態について説明する。
【００５４】
図７は本発明の第２の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略的構成図である。
【００５５】
図７に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正方法および修正装置では、レーザ発振器７から出射したレーザ光Ｌを集光レンズ３に入射する前にスキャナユニット２１によってスキャンする方式を用いている。
【００５６】
このスキャナユニット２１は、２枚のミラー（図示しない）を備えており、これらミラーの角度を変えることで、集光レンズ３に入射するレーザ光ＬをＸＹ方向にスキャンできるようになっている。
【００５７】
スキャナユニット２１から出射したレーザ光Ｌは、固定配置された集光レンズ３に入射し、集光レンズ３の下方にレーザスポットＳを形成する。このレーザスポットＳは、レーザ光Ｌのスキャンに伴って、欠陥画素Ｇ上を走査しながら配向膜６７、７１を加工する。
【００５８】
このような構成であっても、上記第１の実施の形態と同様に、大型液晶ディスプレイの欠陥画素の修正に対応でき、かつ集光光学系と結像光学系を搭載することによるレーザ出射部６の大型化にも対応することができる。
【００５９】
次に、図８と図９を参照しながら本発明の第３の実施の形態について説明する。
【００６０】
図８は本発明の第３の実施の形態に係るレーザ光の強度分布を示す概略図、図９は同実施の形態に係るレーザスポットの強度を示す概略図である。
【００６１】
図８に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置では、集光レンズ３の透光穴４の内径よりも大きな光径を有するレーザ光Ｌを用いている。
【００６２】
このレーザ光Ｌは、上述のようにガウシアンビームであり、空間的に不均一な強度分布を持っている。そのため、図９に示すように、集光レンズ３の透光穴４とレーザ光Ｌとの相対位置（横軸）によっては、集光レンズ３の下方に形成されるレーザスポットＳの強度（縦軸）に差が生じてしまう。そのため、集光レンズ３とレーザ光Ｌとの相対位置をずらしながら欠陥画素Ｇを走査する場合、欠陥画素Ｇ全体を一定のエネルギーで加工することができなかった。
【００６３】
しかしながら、ガウシアンビームは、強度分布が理論的に求められているため、この理論値に基づいてレーザスポットＳの強度をアッテネータ８で補正することにより、欠陥画素全体を一定のエネルギーで加工することができる。
【００６４】
なお、ガウシアン分布以外の強度分布を持つレーザ光を用いる場合には、加工前に集光レンズ３に対するレーザ光Ｌの相対位置とレーザスポットＳの強度との関係を実測しておき、その実測データに基づいてレーザスポットＳの強度を補正してもよい。
【００６５】
次に、図１０を参照しながら本発明の第４の実施の形態について説明する。
【００６６】
図１０は本発明の第４の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略的構成図である。
【００６７】
図１０に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置では、第２のステージ５の下方に気泡発生用ＬＤ３１を配置している。この気泡発生用ＬＤ３１は、第１のステージ１に設けられた挿通孔１ａを介して液晶ディスプレイＤにレーザ光Ｋを照射し、欠陥画素Ｇを緩やかに加熱する。このような構成であっても、ガラス基板６１、６２の間に気泡を発生させることができる。
【００６８】
次に、図１１を参照しながら本発明の第５の実施の形態について説明する。
【００６９】
図１１は本発明の第５の実施の形態に係る欠陥画素上の走査経路の概略図である。
【００７０】
図１１に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置では、レーザスポットＳの折り返し部Ｆ付近で走査方向を滑らかに変化させることで、走査速度を略一定に保っている。
【００７１】
このように走査すれば、オーバーラップ率ａが一定となるように繰り返し周波数ｆを制御しなくても、カラーフィルタ６８やＩＴＯ膜７０を損傷することなく、配向膜全体を略均一な強度で加工することができる。
【００７２】
次に、図１２を参照しながら本発明の第６の実施の形態について説明する。
【００７３】
図１２は本発明の第６の実施の形態に係る欠陥画素上の走査経路の概略図である。
【００７４】
図１２に示すように、本実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置では、レーザスポットＳによって本来必要な走査範囲よりも大きな範囲を走査し、レーザスポットＳが本来走査する必要の無い範囲に照射されているときに、機械的シャッターや電気的シャッターを使ってレーザ光Ｌをオン／オフしている。
【００７５】
このように走査すれば、オーバーラップ率ａが一定となるよう繰り返し周波数ｆを制御することなく、カラーフィルタ６８やＩＴＯ膜７０を損傷することなく、配向膜全体を略均一なエネルギーで加工することができる。
【００７６】
なお、本発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略的構成図。
【図２】同実施の形態に係るレーザ発振器の概略的構成図。
【図３】同実施の形態に係るレーザ発振器から出射するレーザ光ＬとＬＤ温度との関係を示す概略図。
【図４】同実施の形態に係る欠陥画素上の走査経路を示す概略図。
【図５】同実施の形態に係るレーザスポットの走査速度や繰り返し周波数等の関係を説明する説明図。
【図６】液晶ディスプレイの断面図。
【図７】本発明の第２の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略的構成図。
【図８】本発明の第３の実施の形態に係るレーザ光の強度分布を示す概略図。
【図９】同実施の形態に係るレーザスポットの強度を示す概略図。
【図１０】本発明の第４の実施の形態に係る液晶ディスプレイの欠陥画素修正装置の概略的構成図。
【図１１】本発明の第５の実施の形態に係る欠陥画素上の走査経路の概略図。
【図１２】本発明の第６の実施の形態に係る欠陥画素上の走査経路の概略図。
【符号の説明】
【００７８】
１…第１のステージ、３…集光レンズ（レンズ）、５…第２のステージ、６…レーザ出射部、２１…スキャナユニット（スキャナ）、Ｄ…液晶ディスプレイ、Ｌ…レーザ光、Ｇ…欠陥画素、６７、７１…配向膜。
【図１】
2005275135.tif 000004
【図２】
2005275135.tif 000005
【図３】
2005275135.tif 000006
【図４】
2005275135.tif 000007
【図５】
2005275135.tif 000008
【図６】
2005275135.tif 000009
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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