(57)【要約】【課題】  有機エレクトロルミネッセンス素子の薄膜積層構造における各層の膜質並びに膜厚の均一化を実現でき、もって高い電荷輸送効率を得られるようにした有機エレクトロルミネッセンス素子、及びその製造方法を提供する。【解決手段】  本発明の有機ＥＬ素子２００は、一対の電極１４１，１５４間に有機機能層１４０を挟持してなり、前記有機機能層１４０を構成する正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間に、表面改質機能を有する中間層１５５が介在している。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に有機機能層を挟持してなる有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記有機機能層が、液相法により形成された液相形成層を含んでおり、
前記液相形成層が、表面改質機能を有する中間層上に形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
前記中間層が、両親媒性分子を層厚方向に配向させてなる構造を有することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記中間層が、単分子膜又はその積層膜であることを特徴とする請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記中間層を構成する材料が、次の式（１）に示す分子構造を有しており、
式（１）に示すＸ基が加水分解性基であることを特徴とする請求項１から請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
Ｘ−Ｒｎ  …（１）
但し、Ｒは炭素原子及び水素原子以外の元素を含むことのある炭化水素基であり、ｎは０以上の整数である。
【請求項５】
前記Ｘ基が、シラノール基（−Ｓｉ（ＯＨ）３）、トリクロロシリル基（−ＳｉＣｌ３）、トリエトキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＥｔ）３）、トリメトキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＭｅ）３）、チオール基（−ＳＨ）、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ２）、リン酸基（−ＰＯ３Ｈ２）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホン酸基（−ＳＯ３Ｈ）、リン酸クロリド基（−ＰＯ２Ｃｌ２）、カルボン酸クロリド基（−ＣＯＣｌ）、及びスルホン酸クロリド基（−ＳＯ２Ｃｌ）、から選ばれる１種であることを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
前記中間層を構成する材料が、シラン化合物であることを特徴とする請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項７】
前記中間層が、自己組織化膜であることを特徴とする請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項８】
前記中間層を構成する材料が、次の式（２）に示す分子構造を有しており、
式（２）に示すＹ基が、メチル基（ＣＨ３）、トリフルオロメチル基（ＣＦ３）、芳香族官能基、ベンゼン誘導体からなる基、ビフェニル誘導体からなる基、トリアリールアミン誘導体からなる基、及びフタロシアニン誘導体からなる基、から選ばれる１種であることを特徴とする請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
Ｘ−Ｒｎ−Ｙ  …（２）
【請求項９】
前記中間層を構成する材料が、フルオロアルキルシランであることを特徴とする請求項８に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１０】
前記中間層が、ＬＢ（ラングミュア・ブロジェット）膜であることを特徴とする請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１１】
前記有機機能層が、正孔注入層と発光層とを含んでおり、前記両層の間に前記中間層が設けられていることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１２】
前記中間層が、前記有機機能層と前記電極との間に設けられていることを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１３】
一対の電極間に有機機能層を挟持してなる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
基体上に第１の電極を形成する工程と、
前記第１の電極上に、直接又は前記有機機能層の一部の層を介して、表面改質機能を有する中間層を形成する工程と、
前記中間層上に、前記有機機能層の一部の層を液相法により形成する工程と、
を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項１４】
前記中間層を、液相法により形成することを特徴とする請求項１３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項１５】
前記中間層を形成するに際して、液滴吐出法を用いることを特徴とする請求項１４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項１６】
前記中間層を形成するに際して、ディップ法を用いることを特徴とする請求項１４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項１７】
請求項１から１２のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子、その製造方法、及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに替わる自発発光型ディスプレイとして、有機物を用いた有機エレクトロルミネッセンス（以下、「有機ＥＬ」と略記する）装置の開発が加速している。このような有機ＥＬ装置の作成方法として、高分子を液相法で形成する方法が知られている。
有機ＥＬ装置の構造においては、発光部である有機ＥＬ素子の発光効率、耐久性を向上させるために、正孔注入層や電子注入層を、それぞれ陽極と発光層との間、及び発光層と陰極との間に形成することが多い。そして、このような薄膜積層構造を液相法で形成する場合の第１の問題点として、液体材料の溶媒により既に形成された有機膜が溶解される、いわゆる相溶性の問題がある。そこで、例えば特許文献１では、正孔注入層にシランカップリング剤を入れて架橋し、不溶化することで、発光層との相溶を防止する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２０００−２０８２５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記従来技術によれば、正孔注入層と発光層との相溶を防止できる。しかしながら、係る技術を用いたとしても、正孔注入層上に塗布される溶液の性質によっては、素子特性に不具合を生じるおそれがあった。すなわち、例えば、極性溶媒を含む液体材料を用いて形成した正孔注入層上に、非極性溶媒を含む液体材料を用いて発光層を形成する場合、正孔注入層上で液体材料が弾かれて十分に濡れ広がらず、形成される発光層の膜質や膜厚に不均一を生じることがあり、その結果、有機ＥＬ素子の特性が低下するという問題がある。
【０００４】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、有機エレクトロルミネッセンス素子の薄膜積層構造における各層の膜質並びに膜厚の均一化を実現でき、もって高い電荷輸送効率を得られるようにした有機エレクトロルミネッセンス素子、及びその製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するために、一対の電極間に有機機能層を挟持してなる有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記有機機能層が、液相法により形成された液相形成層を含んでおり、前記液相形成層が、表面改質機能を有する中間層上に形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
この構成によれば、前記中間層によって前記液相形成層の下側の層表面を改質し、良好な親和性を確保した上で液相法により層形成を行うので、中間層上で液体材料が良好に濡れ広がり、もって均一な膜厚、膜質の液相形成層を得ることができる。これにより、前記電極間で良好な電荷輸送性が得られ、素子特性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供できる。
【０００６】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記中間層が、両親媒性分子を層厚方向に配向させてなる構造を有することが好ましい。この構成によれば、両親媒性分子に含まれる結合親和性の異なる基の一方（極性基）を下層表面に結合させ、他方の基（非極性基）によって液体材料との親和性を得ることができるので、容易に下層表面の改質を行うことができる。
【０００７】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記中間層が、単分子膜又はその積層膜であることが好ましい。この構成によれば、中間層表面で均一な表面特性（液体材料との親和性）を得ることができるとともに、膜厚の極めて薄い中間層を形成できるので、電極間の電荷輸送性を損なうことがない。
【０００８】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記中間層を構成する材料が、次の式（１）に示す分子構造を有しており、式（１）に示すＸ基が加水分解性基である構成とすることができる。但し、Ｒは炭素原子及び水素原子以外の元素を含むことのある炭化水素基であり、ｎは０以上の整数である。
【０００９】
Ｘ−Ｒｎ  …（１）
【００１０】
この構成によれば、前記加水分解性のＸ基により下層側表面に容易に結合し、かつ反対側の炭化水素基によって液体材料との高い親和性を実現できる。
【００１１】
上記構成においては、前記Ｘ基が、シラノール基（−Ｓｉ（ＯＨ）３）、トリクロロシリル基（−ＳｉＣｌ３）、トリエトキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＥｔ）３）、トリメトキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＭｅ）３）、チオール基（−ＳＨ）、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ２）、リン酸基（−ＰＯ３Ｈ２）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホン酸基（−ＳＯ３Ｈ）、リン酸クロリド基（−ＰＯ２Ｃｌ２）、カルボン酸クロリド基（−ＣＯＣｌ）、及びスルホン酸クロリド基（−ＳＯ２Ｃｌ）、から選ばれる１種である構成とすることができる。
【００１２】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記中間層を構成する材料が、シラン化合物であることが好ましい。すなわち、前記中間層を構成する材料にはシランカップリング剤を用いることができる。あるいは、チタネート系、アルミネート系のカップリング剤であってもよい。
【００１３】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記中間層が、自己組織化膜であることが好ましい。この構成によれば、前記中間層を極めて高度に配向した単分子膜ないしその積層膜により形成できるため、中間層表面において極めて均一な特性（液体材料の濡れ性等）が得られる。これにより、さらに液相形成層の膜厚、膜質の均一性を高めることができる。
【００１４】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記中間層を構成する材料が、次の式（２）に示す分子構造を有しており、式（２）に示すＹ基が、メチル基（ＣＨ３）、トリフルオロメチル基（ＣＦ３）、芳香族官能基、ベンゼン誘導体からなる基、ビフェニル誘導体からなる基、トリアリールアミン誘導体からなる基、及びフタロシアニン誘導体からなる基、から選ばれる１種である構成とすることができる。
【００１５】
Ｘ−Ｒｎ−Ｙ  …（２）
【００１６】
この構成によれば、特に液相形成層を形成するための液体材料が非極性溶媒を含むものである場合に良好な濡れ性を得られる中間層を形成できる。
【００１７】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記中間層を構成する材料が、フルオロアルキルシランであることが好ましい。この構成によれば、前記中間層として、表面に非極性基が配列された自己組織化単分子膜を形成できるので、液相形成層を均一に形成でき、良好な素子特性を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を提供できる。
【００１８】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記中間層が、ＬＢ（ラングミュア・ブロジェット）膜であってもよい。すなわち、前記中間層は、気水界面に形成した脂肪酸誘導体等の単分子膜を基体上に転写してなる膜であってもよい。この構成によっても液相形成層を形成する際の液体材料の濡れ性を改善でき、均一な膜厚、膜質の液相形成層が得られる。
【００１９】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記有機機能層が、正孔注入層と発光層とを含んでおり、前記両層の間に前記中間層が設けられている構成とすることができる。この場合、前記発光層が先の液相形成層に相当する。そして、本構成によれば、均一な膜厚、膜質の発光層を有するので、良好な発光特性を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供できる。
【００２０】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記中間層が、前記有機機能層と前記電極との間に設けられている構成とすることもできる。すなわち前記中間層は、有機機能層の構成層の間に設けるのみならず、電極と有機機能層との界面に設けることもできる。
【００２１】
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、一対の電極間に有機機能層を挟持してなる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、基体上に第１の電極を形成する工程と、前記第１の電極上に、直接又は前記有機機能層の一部の層を介して、表面改質機能を有する中間層を形成する工程と、前記中間層上に、前記有機機能層の一部の層を液相法により形成する工程と、を含むことを特徴としている。
このような製造方法すれば、液相法によって有機機能層の構成層を形成するに先立って、中間層を形成して形成面の表面特性を改質するので、液相法により形成する層の液体材料が中間層表面で良好に濡れ広がるようになり、もって均一な膜厚の構成層を得ることができる。従って本製造方法によれば、発光効率等の素子特性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することができる。
【００２２】
本発明に係る製造方法では、前記中間層を液相法により形成することができる。
上記製造方法では、前記中間層を形成するに際して、液滴吐出法を用いることができる。液滴吐出法を用いるならば、有機機能層の構成層を液滴吐出法で形成する場合に、一括して中間層も形成できるため、効率的に製造を行うことが可能になる。
あるいは、前記中間層を形成するに際して、ディップ法を用いることもできる。
【００２３】
次に、本発明の電子機器は、先に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えたことを特徴としている。この構成によれば、高輝度、高コントラストの表示部を備えた電子機器が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
（有機ＥＬ装置）
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。以下の実施の形態では、本発明に係る有機ＥＬ素子を画素として基体上に配列してなる有機ＥＬ装置を例示して説明する。この有機ＥＬ装置は、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができるものである。
【００２５】
図１は本実施形態の有機ＥＬ装置の回路構成図、図２は、同有機ＥＬ装置に備えられた各画素７１の平面構造を示す図であって反射電極や有機機能層を取り除いた状態を示す図である。また図３は、図２のＡ−Ａ線に沿う断面構成を示す図である。
【００２６】
図１に示すように、有機ＥＬ装置７０は、透明の基板上に、複数の走査線（配線、電力導通部）１３１と、これら走査線１３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線（配線、電力導通部）１３２と、これら信号線１３２に並列に延びる複数の共通給電線（配線、電力導通部）１３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線１３１及び信号線１３２の各交点毎に、画素（画素領域）７１が設けられて構成されたものである。
【００２７】
信号線１３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路７２が設けられている。一方、走査線１３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査側駆動回路７３が設けられている。また、画素領域７１の各々には、走査線１３１を介して走査信号（電力）がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１４２と、このスイッチング薄膜トランジスタ１４２を介して信号線１３２から供給される画像信号（電力）を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１４３と、このカレント薄膜トランジスタ１４３を介して共通給電線１３３に電気的に接続したときに共通給電線１３３から駆動電流（電力）が流れ込む画素電極１４１と、この画素電極１４１と共通電極１５４との間に挟み込まれる発光部１４０と、が設けられている。そして、前記画素電極１４１と共通電極１５４と、発光部１４０とによって構成される素子が、本発明に係る有機ＥＬ素子である。
【００２８】
このような構成のもとに、走査線１３１が駆動されてスイッチング薄膜トランジスタ１４２がオンとなると、そのときの信号線１３２の電位（電力）が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、カレント薄膜トランジスタ１４３のオン・オフ状態が決まる。そして、カレント薄膜トランジスタ１４３のチャネルを介して共通給電線１３３から画素電極１４１に電流（電力）が流れ、さらに発光部１４０を通じて共通電極１５４に電流が流れることにより、発光部１４０は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。
【００２９】
次に、図２に示す画素７１の平面構造をみると、画素７１は、平面視略矩形状の画素電極１４１の四辺が、信号線１３２、共通給電線１３３、走査線１３１及び図示しない他の画素電極用の走査線によって囲まれた配置となっている。また図３に示す画素７１の断面構造をみると、基板（基体）Ｐ上に、駆動用ＴＦＴ１４３が設けられており、駆動用ＴＦＴ１４３を覆って形成された複数の絶縁膜を介した基板Ｐ上に、有機ＥＬ素子２００が形成されている。有機ＥＬ素子２００は、基板Ｐ上に立設されたバンク（隔壁部材）１５０に囲まれる領域内に設けられており、画素電極１４１と、共通電極１５４との間に、有機機能層１４０を挟持した構成を備える。
【００３０】
駆動用ＴＦＴ１４３は、半導体層２１０に形成されたソース領域１４３ａ、ドレイン領域１４３ｂ、及びチャネル領域１４３ｃと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜２２０を介してチャネル領域１４３ｃに対向するゲート電極１４３Ａとを主体として構成されている。半導体層２１０及びゲート絶縁膜２２０を覆う第１層間絶縁膜２３０が形成されており、この第１層間絶縁膜２３０を貫通して半導体層２１０に達するコンタクトホール２３２，２３４内に、それぞれドレイン電極２３６、ソース電極２３８が埋設され、各々の電極はドレイン領域１４３ｂ、ソース領域１４３ａに導電接続されている。第１層間絶縁膜２３０には、第２層間絶縁膜２４０が形成されており、この第２層間絶縁膜２４０に貫設されたコンタクトホールに画素電極１４１の一部が埋設されている。そして画素電極１４１とドレイン電極２３６とが導電接続されることで、駆動用ＴＦＴ１４３と画素電極１４１（有機ＥＬ素子２００）とが電気的に接続されている。そして、この画素電極１４１の周縁部に一部乗り上げるようにして無機絶縁材料からなる無機バンク１４９が形成され、この無機バンク１４９上に、有機材料からなるバンク１５０が形成されている。
【００３１】
有機ＥＬ素子２００を構成する有機機能層１４０には、正孔注入層１４０Ａと、発光層１４０Ｂとが含まれており、これらの正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間には、中間層１５５が介在している。正孔注入層１４０Ａは、発光層１４０Ｂへの電荷輸送性を高め、発光効率を高めることを目的として設けられる層であり、その形成材料としては、例えばポリチオフェン誘導体、ポリピロール誘導体など、またはそれらのドーピング体などが用いられる。具体的には、３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液などが用いられる。この分散液に用いる溶媒には、例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、ｎ−ブチルアルコール、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン（ＤＭＩ）及びその誘導体、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のグリコール類等の極性溶媒を挙げることができる。
【００３２】
有機ＥＬ素子２００の主たる発光部を成す発光層１４０Ｂの形成材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料を用いることができる。そして本実施形態の場合、この発光層１４０Ｂが、液相法により形成された液相形成層となっている。
発光層１４０Ｂの形成材料の具体例を挙げるならば、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。尚、上述した高分子材料に代えて、従来公知の低分子材料を用いることもできる。また、必要に応じて発光層１４０Ｂ上に、フッ化リチウムとカルシウムの積層膜等の電子注入層を設けてもよい。
【００３３】
そして、発光層１４０Ｂの形成に際しては、上記に挙げた形成材料を溶媒に溶解して調製した液体材料を、後述の中間層１５５上に配し、溶媒を蒸発させる方法が適用される。前記溶媒としては、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の非極性溶媒を例示できる。
【００３４】
正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間に設けられた中間層１５５は、表面改質機能を有するものである。本実施形態の場合、中間層１５５を設けたことで正孔注入層１４０Ａの表面特性を改質しており、これによって、発光層１４０Ｂを形成するための液体材料の被覆性を改善し、均一な膜厚及び膜質を有する発光層を得ている。以下に中間層１５５の作用を説明する。
【００３５】
まず、正孔注入層１４０Ａを液相法により形成するためにＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの分散液を用いた場合、この分散液は極性溶媒を用いた溶液であるため、得られた正孔注入層１４０Ａの表面は親水性となる。そしてこのような正孔注入層１４０Ａ上に発光層１４０Ｂを液相法により形成する場合、その液体材料に芳香族系の溶媒（非極性溶媒）を用いると、正孔注入層１４０Ａの表面との親和性が低いために濡れ性が悪くなる。その結果、液体材料が表面に偏在し、得られる発光層１４０Ｂの膜厚や膜質の均一性が低下することになる。
これに対して、本発明の如く中間層１５５を設けるならば、正孔注入層１４０Ａの親水性の表面を改質して例えば親油性にすることができるため、発光層１４０Ｂの液体材料との親和性を向上させることができ、液体材料の塗れ性改善によって形成される発光層１４０Ｂの膜厚、膜質の均一性を向上させることができる。
【００３６】
中間層１５５は、分子構造内に極性基と非極性基とを有する、いわゆる両親媒性分子からなるものとすることが好ましい。そして、この両親媒性分子を層厚方向に配向させることで、前記極性基ないし非極性基を表面に配列させ、表面改質機能を得ることができる。すなわち、正孔注入層１４０Ａ表面に対して前記両親媒性分子の極性基を結合させて中間層１５５を形成すれば、中間層１５５の表面には非極性基が配置された状態となり、正孔注入層１４０Ａの表面が改質される。その結果、発光層１４０Ｂを形成するための液体材料の塗れ性が良好なものとなる。
【００３７】
また中間層１５５は、単分子膜又はその積層膜であることが好ましい。係る構造を備えた中間層１５５をより容易に得るには、単分子層を比較的容易に形成できる自己組織化膜又はＬＢ膜（ラングミュア・ブロジェット膜）であれば都合がよい。単分子膜ないしその積層膜とすることで、正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間の電荷輸送性を損なうことなく発光層１４０Ｂの被覆性を高めることができ、良好な発光特性を有する有機ＥＬ素子が得られる。
尚、自己組織化膜は、分子の自発的な配向作用を利用して形成される緻密な単分子膜ないしその積層膜であり、ＬＢ膜は、気水界面に形成した単分子膜を横方向に加圧して配列させた膜を、基板上にすくい取って形成する単分子膜ないしその積層膜である。
【００３８】
上記単分子膜を形成可能な中間層１５５の形成材料としては、下記式（１）に示す分子構造を有するものを例示できる。式（１）において、Ｘ基は加水分解性基であり、Ｒは炭素原子及び水素原子以外の元素を含むことがある炭化水素基であり、ｎは０以上の整数である。
【００３９】
Ｘ−Ｒｎ  …（１）
【００４０】
前記Ｘ基としては、例えば、シラノール基（−Ｓｉ（ＯＨ）３）、トリクロロシリル基（−ＳｉＣｌ３）、トリエトキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＥｔ）３）、トリメトキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＭｅ）３）、チオール基（−ＳＨ）、ヒドロキシル基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ２）、リン酸基（−ＰＯ３Ｈ２）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホン酸基（−ＳＯ３Ｈ）、リン酸クロリド基（−ＰＯ２Ｃｌ２）、カルボン酸クロリド基（−ＣＯＣｌ）、及びスルホン酸クロリド基（−ＳＯ２Ｃｌ）等を挙げることができる。
【００４１】
炭化水素基Ｒは、例えばアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等であり、分子構造に含まれる水素基がアミノ基、チオール基、フッ素原子等で置換されていてもよく、炭素鎖中に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ＝等のヘテロ原子やベンゼン環が挟まっていてもよい。
【００４２】
上記分子構造を備える材料のうちでも、いわゆるカップリング剤と呼ばれる化合物がは利用しやすく好ましい。このようなカップリング剤としては、シランカップリング剤（シラン化合物）のほか、チタネート系やアルミネート系のものがあり、本発明に係る中間層１５５を形成する上ではいずれも適用可能である。
【００４３】
両親媒性分子を構成するシラン化合物は、一般式ＲｎＳｉＸ’４−ｎで示され、Ｘ’基はＳｉを含まない加水分解性基である。またこの場合ｎは１以上３以下の整数である。
具体例を挙げるならば、プロピルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルオクチルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノオクチルトリメトキシシラン、アミノデシルオクチルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メルカプトオクチルトリメトキシシラン、メルカプトデシルオクチルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルオクチルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、アミノオクチルトリエトキシシラン、アミノデシルオクチルトリエトキシシラン、メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトオクチルトリエトキシシラン、メルカプトデシルオクチルトリエトキシシラン、プロピルトリクロロシラン、オクチルトリクロロシラン、デシルオクチルトリクロロシラン、アミノプロピルトリクロロシラン、アミノオクチルトリクロロシラン、アミノデシルオクチルトリクロロシラン、メルカプトプロピルトリクロロシラン、メルカプトオクチルトリクロロシラン、メルカプトデシルオクチルトリクロロシラン等、及び後述のフッ化アルキルシランを挙げることができる。これらの１種又は２種以上の混合物を用いることができる。
【００４４】
シラン化合物を用いる場合、中間層が形成される表面の原子Ｍとシラン化合物とが直接又は間接に反応し結合する。例えばシラン化合物の加水分解性基の一部が加水分解されて生成するＳｉＯＨと、表面の原子Ｍ（あるいはＭＯＨ等）が反応してＳｉ−Ｏ−Ｍ結合が形成される。
【００４５】
また本発明において、中間層１５５は自己組織化膜であることが好ましく、係る自己組織化膜を形成し得る材料としては、下記式（２）に示す分子構造を有するものを例示できる。
【００４６】
Ｘ−Ｒｎ−Ｙ  …（２）
【００４７】
この場合、Ｙ基としては、メチル基（ＣＨ３）、トリフルオロメチル基（ＣＦ３）、芳香族官能基、ベンゼン誘導体からなる基、ビフェニル誘導体からなる基、トリアリールアミン誘導体からなる基、及びフタロシアニン誘導体からなる基のいずれかとされる。
【００４８】
例えば、上記材料のうち、フルオロアルキルシランを用いれば、膜の表面にフルオロアルキル基が位置するように分子が配向し、自己組織化膜が形成されるので、中間層１５５の表面で極めて均一な表面特性が得られる。フルオロアルキルシランは、一般式Ｒ”ｎＳｉＸ”（４−ｎ）で表され、ｎは１以上３以下の整数であり、Ｘ”はメトキシ基、エトキシ基、アセトキシ基、ハロゲン原子などの加水分解性基であり、Ｒ”はフルオロアルキル基（ＣＦ３−（ＣＦ２）ｘ−（ＣＨ２）ｙ；ｘは０〜１０の整数、ｙは０〜４の整数）である。フルオロアルキルシランを用いた場合の下地層（正孔注入層１４０Ａ）との結合形態は、先のシラン化合物の場合と同様である。
【００４９】
フルオロアルキルシランの具体例を挙げると、ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロデシルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロデシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロデシルトリクロロシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルオロ−１，１，２，２テトラヒドロオクチルトリクロロシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等であり、これらの１種又は２種以上の混合物を用いることができる。
【００５０】
上記式（２）に示した中間層形成材料の具体的分子構造につき、数例を以下の（化１）〜（化５）に示しておく。（化１）に示す物質は、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−ビス（３−メチルフェニル）−1，1'−ビフェニル−４，４'−ジアミン（N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine）、（化２）に示す物質は、４，４'−ビス[（ｐ−トリメトキシシリルプロピルフェニル）フェニルアミノ]ビフェニル（4,4'-bis[(p-trimethoxysilylpropylphenyl)phenylamino]biphenyl）、（化３）に示す物質は、トリス（ｐ−トリメトキシシリルプロピルフェニル）アミン（tris(p-trimethoxysilylpropylphenyl)amine）、（化４）に示す物質は、n-ブチルトリメトキシシラン（n-butyltrimethoxysilane）、（化５）に示す物質は、メチルトリメトキシシラン（methyltrimethoxysilane）である。
【００５１】
【化１】
2005235569.tif 000003
【００５２】
【化２】
2005235569.tif 000004
【００５３】
【化３】
2005235569.tif 000005
【００５４】
【化４】
2005235569.tif 000006
【００５５】
【化５】
2005235569.tif 000007
【００５６】
尚、上述した式（１）、（２）の分子構造に含まれる炭素鎖の長さｎは、０〜１０程度とすることが好ましい。ｎが１０を超えると中間層１５５の導電性が低下する傾向にあり、１０以下であれば正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間の電荷輸送性を良好に確保できる。また係る電荷輸送性を確保する上では、上記Ｙ基として電荷輸送性を有するものを用いると有効である。
【００５７】
上に挙げた中間層形成材料を用いて中間層１５５を形成するには、後述の液滴吐出法やディップ法などの液相法が好適に用いられる。すなわち、中間層形成材料をイソプロピルアルコール等の溶媒に溶解した溶液（１％程度でよい）を液滴吐出法により正孔注入層１４０Ａ上に滴下し乾燥させる方法や、前記溶液に基板Ｐを浸漬し、洗浄、乾燥する方法により所定の単分子膜を正孔注入層１４０Ａ上に形成できる。中間層１５５としてＬＢ膜を形成する場合には、上記ディップ法における浸漬液として、気水界面に所定の単分子膜を形成したものを用いればよい。
【００５８】
基板Ｐとしては、いわゆるトップエミッション型の有機ＥＬ装置の場合、有機ＥＬ素子２００が配設された側から光を取り出す構成であるので、ガラス等の透明基板のほか、不透明基板も用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、また熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム（プラスチックフィルム）などが挙げられる。
画素電極１４１は、トップエミッション型の場合にはＩＴＯ等の透明導電材料により形成する必要はなく、金属材料等の適宜な導電材料によって形成できる。
【００５９】
共通電極１５４は、発光層１４０Ｂとバンク１５０の上面、さらにはバンク１５０の側面部を形成する壁面を覆った状態で基板Ｐ上に形成される。この共通電極１５４を形成するための材料としては、トップエミッション型の場合、透明導電材料が用いられる。透明導電材料としてはＩＴＯが好適であるが、他の透光性導電材料であっても構わない。
【００６０】
共通電極１５４の上層側には、陰極保護層を形成してもよい。係る陰極保護層を設けることで、製造プロセス時に共通電極１５４が腐食されるのを防止する効果が得られ、無機化合物、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン窒酸化物等のシリコン化合物により形成できる。共通電極５０を無機化合物からなる陰極保護層５５で覆うことにより、無機酸化物からなる陰極５０への酸素等の侵入を良好に防止することができる。なお、陰極保護層５５は、基板２００の外周部の絶縁層２８４上まで、１０ｎｍから３００ｎｍ程度の厚みに形成される。
【００６１】
尚、本実施の形態では、正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間に中間層１５５を設けた構成としたが、この中間層１５５の形成位置はこれに限定されるものではない。例えば、画素電極１４１と正孔注入層１４０Ａとの間に中間層を設けることもでき、有機機能層１４０が正孔輸送層や電子注入層等を含む場合には、それらの層間に中間層１５５を配してもよい。また、中間層１５５は有機ＥＬ素子２００につき１層のみである必要はなく、画素電極１４１と共通電極１５４との間の任意の層間に複数の中間層１５５を設けることができる。
【００６２】
（有機ＥＬ装置の製造方法）
次に、本発明に係る有機ＥＬ装置の製造方法の実施形態を、図面を参照して説明する。
【００６３】
＜液滴吐出装置＞
まず、本実施形態に係る製造方法に用いられる液滴吐出装置について説明する。図４は本発明の有機ＥＬ装置を製造する際に用いる液滴吐出装置を示す概略斜視図であり、図５及び図６は液滴吐出装置に設けられた液滴吐出ヘッドを示す図である。
図４において、液滴吐出装置ＩＪは、基板Ｐの表面（所定面）に液滴（インク滴）を配置可能な成膜装置であって、ベース１２と、ベース１２上に設けられ、基板Ｐを支持するステージ（ステージ装置）ＳＴと、ベース１２とステージＳＴとの間に介在し、ステージＳＴを移動可能に支持する第１移動装置１４と、ステージＳＴに支持されている基板Ｐに対して所定の材料を含む液滴を定量的に吐出（滴下）可能な液滴吐出ヘッド２０と、液滴吐出ヘッド２０を移動可能に支持する第２移動装置１６とを備えている。液滴吐出ヘッド２０の液滴の吐出動作や、第１移動装置１４及び第２移動装置１６の移動動作を含む液滴吐出装置ＩＪの動作は制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００６４】
第１移動装置１４はベース１２の上に設置されており、Ｙ軸方向に沿って位置決めされている。第２移動装置１６は、ベース１２の後部１２Ａに立てられた支柱１６Ａ，１６Ａにより第１移動装置１６の上方に支持されている。第２移動装置１６のＸ軸方向は第１移動装置１４のＹ軸方向と直交する方向である。ここで、Ｙ軸方向はベース１２の前部１２Ｂと後部１２Ａ方向に沿った方向である。これに対してＸ軸方向はベース１２の左右方向に沿った方向であり、各々水平である。また、Ｚ軸方向はＸ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向である。
【００６５】
第１移動装置１４は例えばリニアモータによって構成され、２本のガイドレール４０と、これらのガイドレール４０，４０に沿って移動可能なスライダー４２とを備えている。このリニアモータ形式の第１移動装置１４のスライダー４２はガイドレール４０に沿ってＹ軸方向に移動して位置決め可能である。スライダー４２はＺ軸回り（θＺ）用のモータ４４を備えている。モータ４４のロータはステージＳＴに固定されている。これにより、モータ４４に通電することでロータとステージＳＴとはθＺ方向に沿って回転してステージＳＴをインデックス（回転割り出し）することができる。すなわち、第１移動装置１４はステージＳＴをＹ軸方向及びθＺ方向に移動可能である。
【００６６】
ステージＳＴは基板Ｐを保持し所定の位置に位置決めするものである。ステージＳＴは吸着保持装置５０を有しており、吸着保持装置５０が作動することによりステージＳＴに設けられた吸入孔４６Ａを通して基板ＰをステージＳＴの上に吸着して保持する。
【００６７】
第２移動装置１６はリニアモータによって構成され、支柱１６Ａ，１６Ａに固定されたコラム１６Ｂと、このコラム１６Ｂに支持されているガイドレール６２Ａと、ガイドレール６２Ａに沿ってＸ軸方向に移動可能に支持されているスライダー６０とを備えている。スライダー６０はガイドレール６２Ａに沿ってＸ軸方向に移動して位置決め可能であり、液滴吐出ヘッド２０はスライダー６０に取り付けられている。
【００６８】
液滴吐出ヘッド２０は揺動位置決め装置としてのモータ６２，６４，６６，６８を有している。モータ６２を作動すれば、液滴吐出ヘッド２０はＺ軸に沿って上下動して位置決め可能である。このＺ軸はＸ軸とＹ軸に対して各々直交する方向（上下方向）である。モータ６４を作動すると、液滴吐出ヘッド２０はＹ軸回りのβ方向に沿って揺動して位置決め可能である。モータ６６を作動すると、液滴吐出ヘッド２０はＸ軸回りのγ方向に揺動して位置決め可能である。モータ６８を作動すると、液滴吐出ヘッド２０はＺ軸回りのα方向に揺動して位置決め可能である。すなわち、第２移動装置１６は液滴吐出ヘッド２０をＸ軸方向及びＺ軸方向に移動可能に支持するとともに、この液滴吐出ヘッド２０をθＸ方向、θＹ方向、θＺ方向に移動可能に支持する。
【００６９】
このように、図４に示す液滴吐出ヘッド２０は、スライダー６０において、Ｚ軸方向に直線移動して位置決め可能で、α、β、γに沿って揺動して位置決め可能であり、液滴吐出ヘッド２０の吐出面２０Ｐは、ステージＳＴ側の基板Ｐに対して正確に位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。なお、液滴吐出ヘッド２０の吐出面２０Ｐには液滴を吐出する複数のノズルが設けられている。
【００７０】
図５は液滴吐出ヘッド２０を示す分解斜視図である。液滴吐出ヘッド２０は、複数のノズル８１を有するノズルプレート８０と、振動板８５を有する圧力室基板９０と、これらノズルプレート８０と振動板８５とを嵌め込んで支持する筐体８８とを備えて構成されている。液滴吐出ヘッド２０の主要部構造は、図６に示すように、圧力室基板９０をノズルプレート８０と振動板８５とで挟み込んだ構造とされている。ノズルプレート８０のノズル８１は、各々圧力室基板９０に区画形成された圧力室（キャビティ）９１に対応している。圧力室基板９０には、シリコン単結晶基板等をエッチングすることにより、各々が圧力室として機能可能にキャビティ９１が複数設けられている。キャビティ９１同士の間は側壁９２で分離されている。各キャビティ９１は供給口９４を介して共通の流路であるリザーバ９３に繋がっている。振動板８５は例えば熱酸化膜等により構成される。
【００７１】
振動板８５にはタンク口８６が設けられ、図４に示したタンク３０からパイプ（流路）３１を通じて任意の液滴を供給可能に構成されている。振動板８５上のキャビティ８１に相当する位置には圧電体素子８７が配設されている。圧電体素子８７はＰＺＴ素子等の圧電性セラミックスの結晶を上部電極および下部電極（図示せず）で挟んだ構造を備える。圧電体素子８７は制御装置ＣＯＮＴから供給される吐出信号に対応して体積変化を発生可能に構成されている。
【００７２】
液滴吐出ヘッド２０から液滴を吐出するには、まず、制御装置ＣＯＮＴが液滴を吐出させるための吐出信号を液滴吐出ヘッド２０に供給する。液滴は液滴吐出ヘッド２０のキャビティ８１に流入しており、吐出信号が供給された液滴吐出ヘッド２０では、その圧電体素子８７がその上部電極と下部電極との間に加えられた電圧により体積変化を生ずる。この体積変化は振動板８５を変形させ、キャビティ８１の体積を変化させる。この結果、そのキャビティ８１のノズル穴２１１から液滴が吐出される。液滴が吐出されたキャビティ８１には吐出によって減った液体材料が新たに後述するタンク３０から供給される。
本実施形態に係る液滴吐出装置ＩＪに備えられた液滴吐出ヘッド２０は、圧電体素子に体積変化を生じさせて液滴を吐出させる構成であるが、発熱体により液体材料に熱を加えその膨張によって液滴を吐出させるような構成であってもよい。
【００７３】
図４に戻り、基板Ｐ上に設けられる液体材料は、液体材料調整装置Ｓにより生成される。液体材料調整装置Ｓは、液体材料を収容可能なタンク３０と、タンク３０に取り付けられ、このタンク３０に収容されている液体材料の温度を調整する温度調整装置３２と、タンク３０に収容されている液体材料を攪拌する撹拌装置３３とを備えている。温度調整装置３２はヒータにより構成されており、タンク３０内の液体材料を任意の温度に調整する。温度調整装置３２は制御装置ＣＯＮＴにより制御され、タンク３０内の液体材料は温度調整装置３２により温度調整されることで所望の粘度に調整される。
【００７４】
タンク３０はパイプ（流路）３１を介して液滴吐出ヘッド２０に接続しており、液滴吐出ヘッド２０から吐出される液体材料の液滴はタンク３０からパイプ３１を介して供給される。また、パイプ３１を流れる液体材料は不図示のパイプ温度調整装置によって所定の温度に制御され、粘度を調整される。更に、液滴吐出ヘッド２０から吐出される液滴の温度は、液滴吐出ヘッド２０に設けられた不図示の温度調整装置により制御され、所望の粘度に調整されるようになっている。
【００７５】
尚、図４には液滴吐出ヘッド２０及び液体材料調整装置Ｓのそれぞれが１つだけ図示されているが、液滴吐出装置ＩＪには複数の液滴吐出ヘッド２０及び液体材料調整装置Ｓが設けられており、これら複数の液滴吐出ヘッド２０のそれぞれから異種または同種の液体材料の液滴が吐出されるようになっている。そして、基板Ｐに対してこれら複数の液滴吐出ヘッド２０のうち、第１の液滴吐出ヘッドから第１の液体材料を吐出した後、これを焼成又は乾燥し、次いで第２の液滴吐出ヘッドから第２の液体材料を基板Ｐに対して吐出した後これを焼成又は乾燥し、以下、複数の液滴吐出ヘッドを用いて同様の処理を行うことにより、基板Ｐ上に複数の材料層が積層され、多層パターンを形成できるようになっている。
【００７６】
＜有機ＥＬ装置の製造手順＞
次に、上述した液滴吐出装置ＩＪを用いて本発明に係る有機ＥＬ装置の製造手順について、図７及び図８を参照して説明する。
【００７７】
まず、図７（ａ）に示すように、ガラス基板などの基板Ｐ上に、駆動用ＴＦＴ１４３を形成し、これと電気的に接続された画素電極１４１を形成した後、画素電極１４１の周縁部に沿って、無機バンク１４９及び（有機）バンク１５０を形成する。そして、必要に応じてバンク１５０の表面に撥液処理を施しておく。係る撥液処理として、例えばバンクの表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法を採用できる。フッ素化合物としては、例えばＣＦ４、ＳＦ６、ＣＨＦ３などがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、ＵＶ照射処理などが挙げられる。このような撥液処理を基体の一面側全体に施したとしても、ＩＴＯ膜や金属膜からなる無機材料の画素電極１４１や無機バンク１４９の表面は、有機材料からなるバンク１５０の表面よりも撥液化されにくく、バンク１５０の表面のみが選択的に撥液化され、バンク１５０に囲まれる領域内に液体材料に対する親和性の異なる複数の領域が形成される。
尚、これら駆動用ＴＦＴ１４３や画素電極１４１、バンク１４９，１５０については、公知の製造方法を適用すればよく、本明細書ではその製造工程についての説明は省略している。
【００７８】
次に、図７（ｂ）に示すように、基板Ｐの上面を上に向けた状態で、先に記載の正孔注入層形成材料を含む液体材料１１４ａを液滴吐出ヘッド２０によりバンク１５０に囲まれた塗布位置に選択的に塗布する。正孔注入層を形成するための液体材料１１４ａは、図４に示した液体材料調整装置Ｓにより調製され、正孔注入層形成材料及び溶媒を含むものであり、例えばＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの分散液を使用する。本実施形態において、液滴吐出法にて正孔注入層を形成しているが、基板上に形成した非親和性（撥液性）を示す部位と親和性（親液性）を示す部位を利用して、スリットコート（或いはカーテンコート）、ダイコート法により正孔注入層を形成してもよい。
上述した正孔注入層形成用材料を含む液体材料１１４ａが液滴吐出ヘッド２０より基板Ｐ上に吐出されると、流動性が高いため水平方向に広がろうとするが、塗布された位置を囲んでバンク１５０が形成されているので、液体材料１１４ａはバンク１５０を越えてその外側に広がらないようになっている。
【００７９】
続いて、図７（ｃ）に示すように加熱あるいは光照射により液体材料１１４ａの溶媒を蒸発させて画素電極１４１上に固形の正孔注入層１４０Ａを形成する。あるいは、大気環境下又は窒素ガス雰囲気下において所定温度及び時間（一例として２００℃、１０分）焼成するようにしてもよい。あるいは大気圧より低い圧力環境下（真空環境下）に配置することで溶媒を除去するようにしてもよい。
【００８０】
続いて、図７（ｃ）に示すように、基板Ｐの上面を上に向けた状態で液滴吐出ヘッド２０より、先に記載の中間層形成材料と溶媒とを含む液体材料１１５をバンク１５０内の正孔注入層１４０Ａ上に選択的に塗布する。その後溶媒を蒸発させると、図８（ａ）に示すような中間層１５５が得られるが、この中間層１５５は、例えば中間層形成材料としてフルオロアルキルシランが含まれている場合、加水分解性基（Ｘ”基）が正孔注入層１４０Ａ表面に優先的に結合し、非極性基であるフルオロアルキル基が中間層１５５の表面に整然と配列された単分子膜又はその積層膜となる。この中間層１５５は、単分子層〜２分子層程度にごく薄く形成することが好ましく、このように薄く形成すれば、正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとの間の電荷移動度を損なうことなく十分な効果が得られる。
【００８１】
次に、図８（ｂ）に示すように、発光層形成材料を含む液体材料１１４ｂを液滴吐出ヘッド２０から吐出して、発光層形成材料と溶媒とを含む液体材料１１４ｂをバンク１５０内の中間層１５５上に塗布する。本実施形態の場合、この液体材料１１４ｂの溶媒には、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等の非極性溶媒を用いるのがよい。上記フルオロアルキルシランの非極性基との親和性に優れるからである。
このように液体材料１１４ｂを塗布すると、中間層１５５の作用により、液体材料１１４ｂは中間層１５５の表面で良好に濡れ広がり、均一にバンク１５０内に充たされる。
【００８２】
尚、複数色の有機ＥＬ素子が基板上に配列されたカラー表示が可能な有機ＥＬ装置を製造する場合、液体材料１１４ｂの吐出による発光層の形成は、赤色の発色光を発光する発光層形成材料を含む液体材料、緑色の発色光を発光する発光層形成材料を含む液体材料、青色の発色光を発光する発光層形成材料を含む液体材料を、それぞれ対応するバンク１５０内部（画素７１）に吐出し塗布することによって行う。なお、各色に対応する画素７１は、これらが規則的な配置となるように予め決められている。
【００８３】
このようにして各色の発光層形成用材料を含む液体材料１１４ｂを吐出し塗布したならば、液体材料１１４ｂ中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図８（ｃ）に示すように正孔注入層１４０Ａ上に固形の発光層１４０Ｂが形成される。上記中間層１５５により液体材料１１４ｂは均一に塗布されているので、得られる発光層１４０Ｂもその膜厚、膜質が均一なものとなる。
これにより正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとからなる有機機能層１４０が得られる。ここで、発光層形成用材料を含む液体材料１１４ｂ中の溶媒の蒸発については、必要に応じて加熱あるいは減圧等の処理を行うが、発光層形成用材料は通常乾燥性が良好で速乾性であることから、特にこのような処理を行うことなく、したがって各色の発光層形成用材料を順次吐出塗布することにより、その塗布順に各色の発光層１４０Ｂを形成することができる。
【００８４】
その後、図８（ｃ）に示すように、透明基板Ｐの表面全体に、あるいはストライプ状に、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる共通電極１５４を形成する。こうして、有機ＥＬ素子２００を製造することができる。尚、本実施形態において有機ＥＬ素子２００は画素電極１４１と正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂと共通電極１５４とを含むものである。
【００８５】
このような有機ＥＬ装置の製造方法において、正孔注入層１４０Ａや発光層１４０Ｂ、中間層１５５といった有機ＥＬ素子の構成要素となる薄膜は液滴吐出装置ＩＪにより製造されるので、正孔注入層１４０Ａや発光層１４０Ｂの形成用材料となる液体材料のロスは少なく、正孔注入層１４０Ａや発光層１４０Ｂは比較的安価にしかも安定して形成される。
【００８６】
上記有機ＥＬ装置の製造方法では、中間層１５５を液滴吐出法により形成する場合について説明したが、中間層１５５は、ディップ法により形成してもよい。この場合、浸漬液にフルオロアルキルシラン溶液を用いれば、基板Ｐの浸漬／引上げを行うことで、フルオロアルキルシランからなる中間層１５５が形成できる。また浸漬液として、表面に脂肪酸誘導体の単分子膜を形成したものを用いれば、基板Ｐの浸漬／引上げを行うことで、前記単分子膜が基板Ｐ表面に転写される（ＬＢ膜）。
【００８７】
（電子機器）
図９は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視構成図である。
図９に示す映像モニタ１２００は、先の実施形態の有機ＥＬ装置を備えた表示部１２０１と、筐体１２０２と、スピーカ１２０３等を備えて構成されている。この映像モニタ１２００では、先の実施形態の有機ＥＬ装置による高画質で、均一な明るさの表示が可能である。
上記各実施の形態の有機ＥＬ装置は、上記携帯電話に限らず、電子ブック、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、高画質表示が可能にである。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】図１は、実施形態に係る有機ＥＬ装置の回路構成図。
【図２】図２は、同、１画素を示す平面構成図。
【図３】図３は、図２のＡ−Ａ線に沿う断面構成図。
【図４】図４は、実施形態に係る液滴吐出装置の斜視構成図。
【図５】図５は、液滴吐出ヘッドの分解斜視図。
【図６】図６は、液滴吐出ヘッドの拡大斜視構成図。
【図７】図７は、実施形態に係る製造工程を示す断面工程図。
【図８】図８は、実施形態に係る製造工程を示す断面工程図。
【図９】図９は、電子機器の一例を示す斜視構成図。
【符号の説明】
【００８９】
２０  液滴吐出ヘッド、７０  有機ＥＬ装置、１１４ａ，１１４ｂ，１１５  液体材料、１４０  有機機能層、１４１  画素電極、１４３  駆動用ＴＦＴ、１５０  バンク（隔壁部材）、１５５  中間層、１５４  共通電極、２００  有機ＥＬ素子、２３０，２４０  層間絶縁膜、ＩＪ  液滴吐出装置、Ｐ  基板（基体）
【図１】
2005235569.tif 000008
【図２】
2005235569.tif 000009
【図３】
2005235569.tif 000010
【図４】
2005235569.tif 000011
【図５】
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【図６】
2005235569.tif 000013
【図７】
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【図８】
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【図９】
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