(57)【要約】【課題】  高速で、かつ簡易な方法によって、パターンの位置を知り、パターンの輝度の測定誤差を抑制できる基板またはパネルの検査方法と検査プログラムを提供しようとする。【解決手段】  従来の光を透過または発光する特定のパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査方法にかわって、パターンより小さな画素を持った撮像機器を用意する画素準備工程と、パターンの面上を横切る走査線の上に所定のピッチ距離毎に位置した画素がパターンから透過または発光した光から受けた受光データを取り込むデータ取り込み工程と、前記走査線が横切る箇所でのパターンの前記走査線の方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｙ決定工程と、を備えたものとした。【選択図】    図７
2005195384.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を透過または発光するパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査方法であって、
並び方向に沿った線上に所定のピッチで配置された複数の画素を持ち、画素がパターンより小さな撮像機器を用意する画素準備工程と、
複数の前記画素をパターンの面に沿って前記並び方向に直交する送り方向に検査対象または撮像機器の両方または一方を相対移動させる移動工程と、
前記相対移動中に画素がパターンから透過または発光する光から受けた受光データを取り込むデータ取り込み工程と、
前記並び方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記並び方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｙ決定工程と、
を備えたことを特徴とする基板またはパネル検査方法。
【請求項２】
前記中心位置Ｃｙ決定工程が、
前記並び方向に沿った線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測する出力線推測工程と、
前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算する中心位置Ｃｙ演算工程と、を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項３】
前記出力線推測工程が、前記並び方向に沿った線上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線を前記出力線とする、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項４】
前記中心位置Ｃｙ演算工程が、
Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとする、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項５】
前記中心位置Ｃｙ演算工程が、位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙを中心位置Ｃｙとする、
ことを特徴とする請求項４に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項６】
前記中心位置Ｃｙ決定工程の後で中心位置Ｃｙを初期中心位置Ｃｙ’として記録する中心位置Ｃｙ記録工程と、
を備え、
前記中心位置Ｃｙ演算工程が、前記初期中心位置Ｃｙ’を挟んで並ぶ３点または４点の前記画素の前記受光データの大小を比較して、前記中心位置Ｃｙの左右に位置する各々Ｎ個の画素の受光データを特定する、
ことを特徴とする請求項５に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項７】
前記送り方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記送り方向の中心の位置である中心位置Ｃｘを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｘ決定工程を、
備え、
前記中心位置Ｃｙ決定工程が、前記並び方向に沿った線が前記送り方向に沿った線と前記中心位置Ｃｘで交差した際の前記受光データを基に前記中心位置Ｃｙを決定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項８】
光を透過または発光する特定のパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査方法であって、
パターンより小さな画素を持った撮像機器を用意する画素準備工程と、
パターンの面上を横切る走査線の上に所定のピッチ距離毎に位置した画素がパターンから透過または発光した光から受けた受光データを取り込むデータ取り込み工程と、
前記走査線が横切る箇所でのパターンの前記走査線の方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｙ決定工程と、
を備えたことを特徴とする基板またはパネル検査方法。
【請求項９】
前記中心位置Ｃｙ決定工程が、
前記走査線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸上に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測する出力線推測工程と、
前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算する中心位置Ｃｙ演算工程と、を有する、
ことを特徴とする請求項８に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項１０】
前記出力線推測工程が、前記走査線の上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線を前記出力線とする、
ことを特徴とする請求項９に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項１１】
前記中心位置Ｃｙ演算工程が、
Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとする、
ことを特徴とする請求項９に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項１２】
前記中心位置Ｃｙ演算工程が、位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の前記受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙを中心位置Ｃｙとする、
ことを特徴とする請求項１１に記載の基板またはパネル検査方法。
【請求項１３】
並び方向に沿った線上に所定のピッチで配置された複数の画素を持ち、画素がパターンより小さな撮像機器を有し、光を透過または発光するパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査装置を制御する検査プログラムであって、
基板またはパネル検査装置に、
複数の前記画素をパターンの面に沿って前記並び方向に直交する送り方向に検査対象または撮像機器の両方または一方を所定の速度で相対移動させる移動手順と、
前記相対移動中に画素がパターンから透過または発光する光から受けた受光データを取り込むデータ取り込み手順と、
前記並び方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記並び方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｙ決定手順と、
を実行させることを特徴とする検査プログラム。
【請求項１４】
前記中心位置Ｃｙ決定手順が、
前記並び方向に沿った線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測する出力線推測手順と、
前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算する中心位置Ｃｙ演算手順と、を有する、
ことを特徴とする請求項１３に記載の検査プログラム
【請求項１５】
前記出力線推測手順が、前記並び方向に沿った線上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線を前記出力線とする、
ことを特徴とする請求項１４に記載の検査プログラム。
【請求項１６】
前記中心位置Ｃｙ演算手順が、
Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとする、
ことを特徴とする請求項１４に記載の検査プログラム。
【請求項１７】
前記中心位置Ｃｙ演算手順が、位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の前記受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙの値を中心位置Ｃｙとする、
ことを特徴とする請求項１６に記載の検査プログラム。
【請求項１８】
基板またはパネル検査装置に、
前記中心位置Ｃｙ決定手順を実行した後で、中心位置Ｃｙを初期中心位置Ｃｙ’として記録する中心位置Ｃｙ記録手順を、
実行させ
前記中心位置Ｃｙ演算手順が、前記初期中心位置Ｃｙ’を挟んで並ぶ３点または４点の画素の受光データの大小を比較して、前記中心位置Ｃｙの左右に位置する各々Ｎ個の画素の受光データを特定する、
ことを特徴とする請求項１７に記載の検査プログラム。
【請求項１９】
基板またはパネル検査装置に、
前記送り方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記送り方向の中心の位置である中心位置Ｃｘを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｘ決定手順を、
実行させ、
前記中心位置Ｃｙ決定手順が、前記並び方向に沿った線が前記送り方向に沿った線と前記中心位置Ｃｘで交差した際の前記受光データを基に前記中心位置Ｃｙを決定する、
ことを特徴とする請求項１３に記載の検査プログラム。
【請求項２０】
パターンより小さな画素を持った撮像機器を有し、光を透過または発光する特定のパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査装置を制御する検査プログラムであって、
基板またはパネル検査装置に、
パターンの面上を横切る走査線の上に所定のピッチ距離毎に位置した画素がパターンから透過または発光した光から受けた受光データを取り込むデータ取り込み手順と、
前記走査線が横切る箇所でのパターンの前記走査線の方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｙ決定手順と、
を実行させることを特徴とする検査プログラム。
【請求項２１】
前記中心位置Ｃｙ決定手順が、
前記走査線に沿った線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸上に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測する出力線推測手順と、
前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算する中心位置Ｃｙ演算手順と、を有する、
ことを特徴とする請求項２０に記載の検査プログラム。
【請求項２２】
前記出力線推測手順が、前記走査線の上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線を前記出力線とする、
ことを特徴とする請求項２１に記載の検査プログラム。
【請求項２３】
前記中心位置Ｃｙ演算手順が、
Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとする、
ことを特徴とする請求項２１に記載の検査プログラム。
【請求項２４】
前記中心位置Ｃｙ演算手順が、位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の前記受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙの値を中心位置Ｃｙとする、
ことを特徴とする請求項２３に記載の検査プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネルの検査方法と検査プログラムとに係る。特に、検査対象のパターンの輝度の精度の高い測定に好適な基板またはパネルの検査方法と検査プログラムとに関する。
【背景技術】
【０００２】
カラー液晶ディスプレイにおける液晶パネルの構造としては、ガラス基板に透明電極及びＴＦＴマトリックス層、液晶層、透明電極、カラーフィルタ、ガラス基板を積層し、その両ガラス基板の上下に偏光板を設けて構成される。
【０００３】
カラーフィルタは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の色ピクセルがドット単位で基板にコーティングされ配列されている。その配列方式には、ＲＧＢが碁盤の目状に整列した縦ストライプ方式、ＲＧＢが分散したモザイク方式、等がある。
カラーフィルタ基板の検査製作工程においては、このピクセルを透過する光の輝度が、所定の範囲内に収まるように製作され、その検査が行われる。
カラーフィルタ基板は、略四辺形の板状構造をしている。カラーフィルタ基板の色ピクセルの一単位を絵素（パターンに相当する。）と呼んでいる。
【０００４】
図１と図２は、基板またはパネル検査装置を説明する図である。各絵素の輝度はイメージセンサを用いて検出される。イメージセンサは、例えば、複数個のＣＣＤ素子（検出素子）を一列に並べたもので、このＣＣＤ素子の一単位を画素と呼び、この画素の出力を画素データ（受光データに相当する。）と呼んでいる。この様なイメージセンサをラインセンサと呼ぶ。
図９は、ラインセンサの画素３とパターン４との関係を示している。
ラインセンサを、画素の並びがカラーフィルタ基板の一辺の方向（説明の便宜上、Ｙ軸方向と呼ぶ。）に沿うように、カラーフィルタ基板の上面に配置する。光源を、ラインセンサに対向する様に、カラーフィルタ基板の下面に配置する。一般に光源は、発光体が線上に伸びたもの（ライン光源と呼ぶ。）を用いる。
【０００５】
ラインセンサの画素の並びに直交する向き（説明の便宜上、Ｘ軸方向と呼ぶ。）に、ラインセンサとカラーフィルタ基板とを一定速度で相対移動させる。所定のタイミングでラインセンサの画素データを取り込み、画素データを保存する。画素の配列ピッチは絵素の配列ピッチよりも小さいので、一つの絵素に対してＭ×Ｎの画素データが記録される。
発明者らは、特開平８−１２８９２０で、基板またはパネル検査装置の構造を開示した。
図９は、並び方向に沿った線上の画素の受光データの一例を示している。
また、発明者らは、特開平９−８９６６０で、この画素データから絵素単位の透過光量（以下、絵素データとよぶ。）を求める手法を開示した。またさらに、発明者らは、特開平９−２９２３０７で、この画素データから絵素単位の透過光量を高速に求める手法を開示した。
【０００６】
ところで、上述の様にＣＣＤ素子をパネルの上面を走査してデータを取得するには、
パターン毎に、パターンの中心位置を基準として仮想の窓５を想定し、その窓５を通過する光の総量をパターンの輝度としている。パネルの面上でのパターンの位置は予め決められているので、パネルの中心位置も予め分かっている。しかし、パネルを支持した際の支持誤差やパネルの撓みによって、パネルの面内での位置が僅かにずれる。
このずれを無視してパターンの輝度を演算すると、計算上の中心位置と実際の中心位置の誤差に起因して、パターンの輝度に誤差が生ずる。
【０００７】
【特許文献１】特開平０８−１２８９２０号公報
【特許文献２】特開平０９−８９６６０号公報
【特許文献３】特開平０９−２９２３０７号公報
【非特許文献１】中村寿夫，他３名，「カラーフィルタ色むら検査装置の開発」，石川島播磨技報，石川島播磨重工業株式会社，１９９７年，第３７巻，第５号Ｐ．３９４−３９９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、パネルのパターン毎の輝度のバラツキを更に少なくしたいという要求がより高まっている。また、パネルの大型化にともない、計算上の中心位置と実際の中心位置の誤差を無視できなくなっている。
【０００９】
本発明は以上に述べた問題点に鑑み案出されたもので、高速で、かつ簡易な方法によって、パターンの位置を知り、パターンの輝度の測定誤差を抑制できる基板またはパネルの検査方法と検査プログラムを提供しようとする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明に係る光を透過または発光するパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査方法を、並び方向に沿った線上に所定のピッチで配置された複数の画素を持ち、画素がパターンより小さな撮像機器を用意する画素準備工程と、複数の前記画素をパターンの面に沿って前記並び方向に直交する送り方向に検査対象または撮像機器の両方または一方を相対移動させる移動工程と、前記相対移動中に画素がパターンから透過または発光する光から受けた受光データを取り込むデータ取り込み工程と、前記並び方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記並び方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｙ決定工程と、を備えたものとした。
【００１１】
上記本発明の構成により、画素準備工程で、並び方向に沿った線上に所定のピッチで配置された複数の画素を持ち、画素がパターンより小さな撮像機器を用意し、移動工程で、複数の前記画素をパターンの面に沿って前記並び方向に直交する送り方向に検査対象または撮像機器の両方または一方を相対移動させ、データ取り込み工程で、前記相対移動中に画素がパターンから透過または発光する光から受けた受光データを取り込み、中心位置Ｃｙ決定工程で、前記並び方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記並び方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定するので、精度良くパターンの中心位置を求めることができる。
【００１２】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記中心位置Ｃｙ決定工程が、前記並び方向に沿った線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測する出力線推測工程と、前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算する中心位置Ｃｙ演算工程と、を有する、のが好ましい。
上記本発明の構成により、出力線推測工程で、前記並び方向に沿った線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測し、中心位置Ｃｙ演算工程で、前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算するので、少ない数の画素の受光データから中心位置を決定できる。
【００１３】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記出力線推測工程が、前記並び方向に沿った線上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線を前記出力線とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記出力線が前記並び方向に沿った線上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線であるので、出力線を簡単に数値化でき、中心位置を簡単に求めることができる。
【００１４】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記中心位置Ｃｙ演算工程が、Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、中心位置ＣｙがＹ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値であるので、数値化した出力線から中心位置Ｃｙを簡単に求めることができる。
【００１５】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記中心位置Ｃｙ演算工程が、位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙを中心位置Ｃｙとするのが好ましい。
上記本発明の構成により、中心位置Ｃｙが位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙであるので、中心位置Ｃｙのだいたいの位置を予測すれば、必要最小限Ｎ個の画素の受光データから簡易な計算で中心位置Ｃｙを求めることができる。
【００１６】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記中心位置Ｃｙ決定工程の後で中心位置Ｃｙを初期中心位置Ｃｙ’として記録する中心位置Ｃｙ記録工程と、を備え、前記中心位置Ｃｙ演算工程が、前記初期中心位置Ｃｙ’を挟んで並ぶ３点または４点の前記画素の前記受光データの大小を比較して、前記中心位置Ｃｙの左右に位置する各々Ｎ個の画素の受光データを特定する、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記中心位置Ｃｙ記録工程で記録した前記初期中心位置Ｃｙ’を挟んで並ぶ３点または４点の前記画素の前記受光データの大小を比較して、前記中心位置Ｃｙの左右に位置する各々Ｎ個の画素の受光データを特定するので、中心位置Ｃｙを中央に挟むＮ個の画素を初期中心位置Ｃｙ’から予測できる。
【００１７】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、  前記送り方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記送り方向の中心の位置である中心位置Ｃｘを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｘ決定工程を、備え、前記中心位置Ｃｙ決定工程が、前記並び方向に沿った線が前記送り方向に沿った線と前記中心位置Ｃｘで交差した際の前記受光データを基に前記中心位置Ｃｙを決定する、のが好ましい。
上記本発明の構成により、中心位置Ｃｘ決定工程で、前記送り方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記送り方向の中心の位置である中心位置Ｃｘを前記受光データを基に決定し、前記並び方向に沿った線が前記送り方向に沿った線と前記中心位置Ｃｘで交差した際の前記受光データを基に前記中心位置Ｃｙを決定するので、精度良くパターンの中心点を求めることができる。
【００１８】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る光を透過または発光する特定のパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査方法を、
パターンより小さな画素を持った撮像機器を用意する画素準備工程と、パターンの面上を横切る走査線の上に所定のピッチ距離毎に位置した画素がパターンから透過または発光した光から受けた受光データを取り込むデータ取り込み工程と、前記走査線が横切る箇所でのパターンの前記走査線の方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｙ決定工程と、を備えたものとした。
【００１９】
上記本発明の構成により、画素準備工程で、パターンより小さな画素を持った撮像機器を用意し、データ取り込み工程で、パターンの面上を横切る走査線の上に所定のピッチ距離毎に位置した画素がパターンから透過または発光した光から受けた受光データを取り込み、中心位置Ｃｙ決定工程で、前記走査線が横切る箇所でのパターンの前記走査線の方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定するので、精度良くパターンの中心位置を決定することができる。
【００２０】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記中心位置Ｃｙ決定工程が、前記走査線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸上に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測する出力線推測工程と、前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算する中心位置Ｃｙ演算工程と、を有するのが好ましい。
上記本発明の構成により、出力線推測工程で、前記走査線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸上に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測し、中心位置Ｃｙ演算工程で、前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算するので、少ない数の画素の受光データから中心位置を決定できる。
【００２１】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記出力線推測工程が、前記走査線の上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線を前記出力線とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記出力線が前記走査線の上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線であるので、出力線を簡単に数値化でき、中心位置を簡単に求めることができる。
【００２２】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、前記中心位置Ｃｙ演算工程が、
Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、中心位置ＣｙがＹ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値であるので、出力軸を数値化した出力線から中心位置Ｃｙを簡単に求めることができる。
【００２３】
さらに、本発明に係る基板またはパネル検査方法は、  前記中心位置Ｃｙ演算工程が、位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の前記受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙを中心位置Ｃｙとする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、中心位置Ｃｙが位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の前記受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙであるので、中心位置Ｃｙのだいたいの位置を予測できれば、必要最小限Ｎの数の画素の受光データから簡易な計算で中心位置Ｃｙを求めることができる。
【００２４】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る並び方向に沿った線上に所定のピッチで配置された複数の画素を持ち、画素がパターンより小さな撮像機器を有し、光を透過または発光するパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査装置を制御する検査プログラムを、基板またはパネル検査装置に、複数の前記画素をパターンの面に沿って前記並び方向に直交する送り方向に検査対象または撮像機器の両方または一方を所定の速度で相対移動させる移動手順と、前記相対移動中に画素がパターンから透過または発光する光から受けた受光データを取り込むデータ取り込み手順と、前記並び方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記並び方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｙ決定手順と、
を実行させるものとした。
【００２５】
上記本発明の構成により、基板またはパネル検査装置が、移動手順により複数の前記画素をパターンの面に沿って前記並び方向に直交する送り方向に検査対象または撮像機器の両方または一方を所定の速度で相対移動させ、データ取り込み手順により前記相対移動中に画素がパターンから透過または発光する光から受けた受光データを取り込み、中心位置Ｃｙ決定手順により前記並び方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記並び方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定するので、
精度良くパターンの中心位置を決定できる。
【００２６】
さらに、本発明に係る検査プログラムは、前記中心位置Ｃｙ決定手順が、前記並び方向に沿った線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測する出力線推測手順と、前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算する中心位置Ｃｙ演算手順と、を有する、のが好ましい。
上記本発明の構成により、基板またはパネル検査装置が、出力線推測手順により、前記並び方向に沿った線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測し、中心位置Ｃｙ演算手順により、前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算ので、少ない数の画素の受光データから中心位置を決定できる。
【００２７】
さらに、本発明に係る検査プログラムは、前記出力線推測手順が、前記並び方向に沿った線上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線を前記出力線とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記出力線が前記並び方向に沿った線上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線であるので、出力線を簡単に数値化でき、中心位置を簡単に求めることができる。
【００２８】
さらに、本発明に係る検査プログラムは、前記中心位置Ｃｙ演算手順が、Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、中心位置ＣｙがＹ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値であるので、出力軸を数値化した出力線から中心位置Ｃｙを簡単に求めることができる。
【００２９】
さらに、本発明に係る検査プログラムは、前記中心位置Ｃｙ演算手順が、位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の前記受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙの値を中心位置Ｃｙとする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、中心位置Ｃｙが位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の前記受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙの値であるので、中心位置Ｃｙのだいたいの位置を予測できれば、必要最小限Ｎの数の画素の受光データから簡易な計算で中心位置Ｃｙを求めることができる。
【００３０】
さらに、本発明に係る検査プログラムは、基板またはパネル検査装置に、前記中心位置Ｃｙ決定手順を実行した後で、中心位置Ｃｙを初期中心位置Ｃｙ’として記録する中心位置Ｃｙ記録手順を、実行させ、前記中心位置Ｃｙ演算手順が、前記初期中心位置Ｃｙ’を挟んで並ぶ３点または４点の画素の受光データの大小を比較して、前記中心位置Ｃｙの左右に位置する各々Ｎ個の画素の受光データを特定する、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記中心位置Ｃｙ決定手順を実行した後で、中心位置Ｃｙを初期中心位置Ｃｙ’として記録し、前記初期中心位置Ｃｙ’を挟んで並ぶ３点または４点の画素の受光データの大小を比較して、前記中心位置Ｃｙの左右に位置する各々Ｎ個の画素の受光データを特定する、ので、前記合計Ｎ個の前記画素を初期中心位置Ｃｙ’から予測できる。
【００３１】
さらに、本発明に係る検査プログラムは、基板またはパネル検査装置に、前記送り方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記送り方向の中心の位置である中心位置Ｃｘを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｘ決定手順を、実行させ、前記中心位置Ｃｙ決定手順が、前記並び方向に沿った線が前記送り方向に沿った線と前記中心位置Ｃｘで交差した際の前記受光データを基に前記中心位置Ｃｙを決定する、のが好ましい。
上記本発明の構成により、中心位置Ｃｘ決定工程で、前記送り方向に沿った線が横切る箇所でのパターンの前記送り方向の中心の位置である中心位置Ｃｘを前記受光データを基に決定し、前記並び方向に沿った線が前記送り方向に沿った線と前記中心位置Ｃｘで交差した際の前記受光データを基に前記中心位置Ｃｙを決定するので、精度良くパターンの中心点を求めることができる。
【００３２】
また、上記目的を達成するため、パターンより小さな画素を持った撮像機器を有し、光を透過または発光する特定のパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査装置を制御する検査プログラムを、基板またはパネル検査装置に、パターンの面上を横切る走査線の上に所定のピッチ距離毎に位置した画素がパターンから透過または発光した光から受けた受光データを取り込むデータ取り込み手順と、前記走査線が横切る箇所でのパターンの前記走査線の方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定する中心位置Ｃｙ決定手順と、を実行させるものとした。
【００３３】
上記本発明の構成により、基板またはパネル検査装置が、データ取り込み手順により、パターンの面上を横切る走査線の上に所定のピッチ距離毎に位置した画素がパターンから透過または発光した光から受けた受光データを取り込み、中心位置Ｃｙ決定手順により、前記走査線が横切る箇所でのパターンの前記走査線の方向の中心の位置である中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定するので、精度良くパターンの中心位置を決定することができる。
【００３４】
さらに、本発明に係る検査プログラムは、前記中心位置Ｃｙ決定手順が、前記走査線に沿った線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸上に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測する出力線推測手順と、前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算する中心位置Ｃｙ演算手順と、を有する、のが好ましい。
上記本発明の構成により、基板またはパネル検査装置が、出力線推測手順により、前記走査線に沿った線の上の画素の位置をＹ軸とし前記受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、前記画素が前記Ｙ軸上に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである出力線を前記受光データから推測し、中心位置Ｃｙ演算手順により、前記中心位置Ｃｙを前記出力線を基に演算するので、少ない数の画素の受光データから中心位置を決定できる。
【００３５】
さらに、本発明に係る検査プログラムは、前記出力線推測手順が、前記走査線の上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線を前記出力線とする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、前記出力線が前記走査線の上の前記各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の前記画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線であるので、出力線を簡単に数値化でき、中心位置を簡単に求めることができる。
【００３６】
さらに、本発明に係る検査プログラムは、  前記中心位置Ｃｙ演算手順が、Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、中心位置ＣｙがＹ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値であるので、出力軸を数値化した出力線から中心位置Ｃｙを簡単に求めることができる。
【００３７】
さらに、本発明に係る検査プログラムは、  前記中心位置Ｃｙ演算手順が、位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の前記受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙの値を中心位置Ｃｙとする、のが好ましい。
上記本発明の構成により、中心位置Ｃｙが位置ｙを変数とし前記中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の前記受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙの値であるので、中心位置Ｃｙのだいたいの位置を予測できれば、必要最小限Ｎの数の画素の受光データから簡易な計算で中心位置Ｃｙを求めることができる。
【発明の効果】
【００３８】
以上説明したように本発明の光を透過または発光するパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する基板またはパネル検査方法とその検査プログラムは、その構成により、以下の効果を有する。
画素が並んだ撮像機器でパターンを撮像し、各画素の受光データからパターンの中心を決定するので、精度良くパターンの中心位置を決定できる。
また、受光データから出力線を推測し、その出力線から中心位置Ｃｙを演算して得るので、少ない数の画素の受光データから中心位置を決定して、パターンの輝度を精度良く得ることができる。
また、出力線を折れ線にするので、出力線を簡単に数値化でき、中心位置を簡単に求めることができる。
また、所定の幅Ｈｙと出力線で囲った面積が最大となる様な幅Ｈｙの中央を中心位置Ｃｙとするので、数値化した出力線から中心位置Ｃｙを簡単に求めることができる。
また、中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０から中心位置Ｃｙを求めるので、必要最小限Ｎの数の画素の受光データから簡易な計算で中心位置Ｃｙを求めることができる。
また、中心位置Ｃｙを初期中心位置Ｃｙ’として記録するので、中心位置Ｃｙを中央に挟むＮ個の画素を初期中心位置Ｃｙ’から予測できる。
また、画素の並び方向に沿った線が前記送り方向に沿った線と前記中心位置Ｃｘで交差した際の前記受光データを基に前記中心位置Ｃｙを決定するので、パターンのほぼ中心点の回りの受光データからパターンの輝度を得ることができる。
従って、高速で、かつ簡易な方法によって、パターンの位置を知り、パターンの輝度の測定誤差を抑制できる基板またはパネルの検査方法と検査プログラムを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照して説明する。なお、各図において、共通する部分には同一の符号を付し、重複した説明を省略する。
【００４０】
最初に、基板またはパネル検査装置を説明する。図１は、本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査装置の概念図である。
【００４１】
基板またはパネル検査装置１は、検査対象物２を検査する装置である。この検査対象物２は、面内に設けられた矩形の領域８の内側に光を透過または発光する特定のパターン４を一様に配列した基板またはパネルである。
面内に設けられた矩形の領域８に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物とは、例えば、フラットパネルディスプレイ本体やフラットパネルディスプレイを構成する基板をいう。フラットパネルディスプレイ本体は、例えば、液晶パネルやＰＤＰパネルや有機ＥＬパネルである。
フラットパネルディスプレイを構成する基板は、例えば、ＬＣＤ用や有機ＥＬ用のカラーフィルタ基板、ＴＦＴ基板、ＰＤＰ背面板である。
領域８は、１対の横方向の沿った辺と１対の縦方向に沿った辺とに囲まれる。
以下では、面内に設けられた矩形の領域８に光を透過または発光する特定のパターンが碁盤の目状に一様に配列した基板またはパネルである検査対象物がカラーフィルタ基板であり、パターンが絵素である場合を例に説明する。
カラーフィルタ基板は、ガラス基板上にＲＧＢ夫々のフィルタが矩形の領域６に一様に配列したものである。例えば、６０μ×１８０μ、１００μ×３００μ等の大きさの絵素が、ＲＧＢに分かれて、矩形の領域６の並んでいる。絵素は、パターンに相当する。例えば、７６８セル×１０２４セルの絵素が、カラーフィルタ基板２の面に配置されている。
【００４２】
図２は、検査対象物の平面図を示している。
図２において、Ｙ軸が画素の並び方向に沿っており、Ｘ軸が画素の並び方向に直交方向に沿っている。パターン４のＹ軸に沿った辺は、Ｘ軸に沿った辺より短い。パターン４が領域８の内側に碁盤の目状に一様に配列されている。
基板またはパネル検査装置１は、面内に設けられた領域に光を透過または発光する特定のパターンが一様に配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する装置であって、撮像機器１０と光源機器２０と移動機器３０とデータ取り込み機器（図示せず）とデータ処理機器（図示せず）とで構成される。説明の容易のために、その他の補機の説明を省略する。
【００４３】
撮像機器１０は、パターンよりも小さな画素を持つ機器である。複数の画素が、並び方向に沿った線上に所定のピッチで配置される。
例えば、撮像機器１０は、Ｍ個（例えば１３台）のラインセンサ１１で構成される。ラインセンサは、ＣＣＤカメラである。例えば、ラインセンサには一列に５０００個の画素が並び、その画素の幅は１２μである。従って、一台のラインセンサは６０ｍｍの幅を撮像できる。
ここで、説明の便宜のために、ラインセンサの画素の並び方向をＹ軸と、その直交方向をＸ軸とする。
撮像機器１０は、画素の並び方向を検査対象物の横辺７に沿って配置する。
【００４４】
光源機器２０は、光を放射する装置である。光源機器２０は、ラインセンサ１１に対向して、カラーフィルタ基板２を挟んで、ラインセンサ１１の下側に配置される。例えば、光源機器２０は、ライン光源２１を有する。
ライン光源２１から出た光は、カラーフィルタ基板２を透過して、ラインセンサ１１に受光される。
【００４５】
移動機器３０は、パターンを撮像機器１０の視野に配置して、撮像機器１０及び検査対象物２の一方または両方を送り方向（Ｘ軸方向）に相対移動させる機器であり、例えば、カラーフィルタ基板２をラインセンサ１１とライン光源２１との間に支持し、Ｘ軸に沿ってカラーフィルタ基板２を相対移動させる。例えば、移動機器３０は、移動テーブル３１と一対のガイドレール３２と駆動装置（図示せず）とを有する。移動テーブル３１は、カラーフィルタ基板を支持する構造体であり、ガイドレール３２にＸ軸に添って移動自在に支持される。駆動装置が、移動テーブル３１をＸ軸に沿って移動させる。
【００４６】
データ取り込み機器とデータ処理機器とは、画像処理装置９を構成する機器の一部である。
画像処理装置９は、撮像機器１０と光源機器２０と移動機器３０を制御して、画素データ（受光データに相当する。）を取り込み、カラーフィルタ基板の欠陥を検査するデータ処理装置であり、主にコンピュータとインターフェースとで構成される。
【００４７】
データ取り込み機器は、移動機構３０が撮像機器１０と検査対象物２とを送り方向に相対移動させる途中に配列された複数のパターンを撮像して複数の前記画素の受光データを取り込む機器である。例えば、データ取り込み機器４０はファームウェア化されたボードである。
例えば、複数の画素３が、配列された複数のパターン４を撮像して受光データを出力すると、データ取り込み機器４０は、その受光データをデータ化して逐次時系列データとしてメモリに記録する。
【００４８】
データ処理機器は、受光データを処理し、画像処理装置９の機能を発揮する機器である。
データ処理機器は、メモリに記録された時系列の受光データを取りだして、予め定められた検査プログラムに従って所定の機能を発揮して、受光データを処理し、検査対象物２の検査データを出力する。
例えば、データ処理機器は、データ取り込み機器４０が取り込んだ画素の受光データから、パターン毎に設定した仮想の窓５を透過する輝度を積算して、領域に配列するパターンの製作精度を検査する。
【００４９】
以下に、本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査方法を、図面を基に、説明する。
図３は、基板またはパネル検査方法の全体フローチャート図である。図４は、本発明に係る初期化工程のフローチャート図である。図５は、輝度計測工程のフローチャート図である。図６は、一つのパターンに対応するＸ軸に沿って並んだ画素の受光データＤ１〜Ｄ１２を示している。図７は、一つのパターンに対応するＹ軸に沿って並んだ画素の受光データＤ１〜Ｄ７を示している。
基板またはパネル検査方法は、光を透過または発光するパターンが配列した基板またはパネルである検査対象物を検査する方法であって、初期化工程Ｓ１００と輝度計測工程Ｓ２００と輝度解析工程Ｓ３００とで構成される。
【００５０】
初期化工程Ｓ１００は、輝度計測工程の準備として中心位置Ｃｘと中心位置Ｃｙとを初期化する工程である。中心位置Ｃｘとは、送り方向に沿った線７が横切る箇所でのパターンの送り方向の中心の位置を意味する。中心位置Ｃｙとは、並び方向に沿った線６が横切る箇所でのパターンの並び方向の中心の位置を意味する。
輝度計測工程Ｓ２００は、画素の受光データを計測し、パターン４の輝度をその受光データを基に演算する工程である。パターン４の輝度とは、パターン４の中心を基準として１対の横辺Ｗｙと１対の縦辺Ｗｘとでできた仮想の窓５を通過する光量に対応する値である。
図８に、パターンの中心位置Ｃｘ、中心位置Ｃｙと送り方向に沿った線７、並び方向に沿った線６と仮想の窓５との関係が示されている。
輝度解析工程Ｓ３００は、輝度データを基にして、検査対象物を検査する工程である。
本発明に係る検査方法の初期化工程Ｓ１００と輝度計測工程Ｓ２００とを以下に、詳述する。
検査プログラムは、基板またはパネル検査装置に、初期化工程Ｓ１００と輝度計測工程Ｓ２００とを、手順として実行させる。
【００５１】
最初に初期化工程Ｓ１００を説明する。
初期化工程Ｓ１００は、移動工程Ｓ１１０とデータ取り込み工程Ｓ１２０と中心位置Ｃｘ決定工程Ｓ１３０と中心位置Ｃｘ記録工程Ｓ１４０と中心位置Ｃｙ決定工程Ｓ１５０と中心位置Ｃｙ記録工程Ｓ１６０とで構成される。
【００５２】
移動工程Ｓ１１０（移動手順に相当する。）は、複数の画素３をパターン４の面に沿って並び方向に直交する送り方向に検査対象または撮像機器の両方または一方を相対移動させる工程である。
画素が配列された並び方向に沿った線が、走査線に相当する。
図２のＡが、Ｘ軸方向へパターンの１．５列分の距離を移動し、２列目のパターンで停止するラインセンサ１１の軌跡を示している。
【００５３】
データ取り込み工程Ｓ１２０（データ取り込み手順に相当する。）は、相対移動中に画素３がパターン４から透過または発光する光から受けた受光データを取り込む工程である。
ラインセンサ１１と検査対象物とが、Ｘ軸方向に相対移動中に、所定のタイミングで画素が受けた受光データを取り込む。
例えば、ラインセンサが、軌跡Ａに従って移動中に、パターンのＸ軸方向の１．５列分の受光データを取り込む。
【００５４】
中心位置Ｃｘ決定工程Ｓ１３０（中心位置Ｃｘ決定手順に相当する。）は、中心位置Ｃｘを受光データを基に決定する工程であり、輪郭線検出工程Ｓ１３１と中心位置Ｃｘ演算工程Ｓ１３２とで構成される。
パターンの中心位置Ｃｘを受光データを基に決定する。
図６は、Ｘ軸に沿った受光データＤ１〜Ｄ１２と中心位置Ｃとの関係を示している。
【００５５】
輪郭線検出工程Ｓ１３１（輪郭線検出手順に相当する。）は、送り方向に沿った線６の上の各画素の受光データから、パターン４の輪郭を検出する工程である。例えば、Ｘ軸方向に沿った受光データ（例えば、Ｄ１〜Ｓ１２）を微分演算して所定の閾値より大きな微分値を持つ画素を選定する。この手続きによりパターンの輪郭を検出することができる。
図６では、受光データＤ１をパターン４の輪郭線の上の点として検出する。
【００５６】
中心位置Ｃｘ演算工程Ｓ１３２（中心位置Ｃｘ演算手順に相当する。）は、輪郭線を基準として、パターンの中心位置Ｃｘを演算する工程である。例えば、輪郭線のある位置にＨｘを加えた位置を中心位置Ｃｘとする。Ｈｘは、パターンの輪郭の送り方向の長さの１／２の値である。
図６では、受光データＤ１の画素の位置にＨｘを加算して中心位置Ｃｘを求めている。
【００５７】
中心位置Ｃｘ記録工程Ｓ１４０（中心位置Ｃｘ記録手順に相当する。）は、中心位置Ｃｘ決定工程Ｓ１３０の後で中心位置Ｃｘを初期中心位置Ｃｘ’として記録する工程である。
例えば、中心位置Ｃｘを中心位置データベースＤＢ１に記録する。
【００５８】
中心位置Ｃｙ決定工程Ｓ１５０（中心位置Ｃｙ決定手順に相当する。）は、中心位置Ｃｙを受光データを基に決定する工程であり、出力線推測工程Ｓ１５１と中心位置Ｃｙ演算工程Ｓ１５２とで構成される。
パターンの中心位置Ｃｙを受光データを基に決定する。
図７は、受光データＤ１〜Ｄ６と中心位置Ｃｙとの関係を示している。
並び方向に沿った線６が送り方向に沿った線７と中心位置Ｃｘで交差した際の並び方向に沿った線６上に並んだ画素の受光データを基に中心位置Ｃｙを決定するのが好ましい。
図２は、ラインセンサ１１が軌跡Ａに従って移動して、２列目のパターンの中心位置Ｃｘに停止する様子を示している。
【００５９】
出力線推測工程Ｓ１５１（出力線推測手順に相当する。）は、並び方向に沿った線６の上の画素の位置をＹ軸とし受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、出力線Ｔを受光データから推測する工程である。出力線Ｔとは、画素がＹ軸に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりの線である。
特に、出力線Ｔは、並び方向に沿った線６の上の各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線であるのが好ましい。
【００６０】
中心位置Ｃｙ演算工程Ｓ１５２（中心位置Ｃｙ演算手順に相当する。）は、中心位置Ｃｙを出力線Ｔを基に演算する工程である。
例えば、ＺＹ平面において、Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとする。
例えば、位置ｙを変数とし中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙを中心位置Ｃｙとする。
図７は、Ｎ＝６個の画素の受光データＤ１〜Ｄ６を折れ線で繋いだ出力線Ｔが示す。
【００６１】
画素３が等ピッチＰｙで並ぶ場合にＨｙを画素ピッチＰｙの整数倍とすると、面積Ｓは簡単な式で表される。
例えば、特開平９ー２９２３０７で開示されたごとく、Ｈｙ＝４Ｐｙであるときに面積Ｓは以下のごとくあらわされる。
Ｓ＝          （１−ｙ）２／２×（Ｄ１＋Ｄ２＋Ｄ３＋Ｄ４）
＋（１＋２ｙ−２ｙ２）／２×（Ｄ２＋Ｄ３＋Ｄ４＋Ｄ５）
＋ｙ２／２×（Ｄ３＋Ｄ４＋Ｄ５＋Ｄ６）
Ｄ１〜Ｄ６は既知の受光データであるので、
ｄＳ／ｄｙ＝０
を満足するｙを容易に求めることができる。このｙを中心位置Ｃｙとする。
【００６２】
中心位置Ｃｙ記録工程Ｓ１６０（中心位置Ｃｙ記録手順に相当する。）は、中心位置Ｃｙ決定工程Ｓ１５０の後で中心位置Ｃｙを初期中心位置Ｃｙ’として記録する工程である。
求めた中心位置Ｃｙを中心位置データベースＤＢ１に記録する。
【００６３】
次に、輝度計測工程Ｓ２００を説明する。
輝度計測工程Ｓ２００は、移動工程Ｄ２１０とデータ取り込み工程Ｓ２２０と中心位置Ｃｙ決定工程Ｓ２３０と中心位置Ｃｙ記録工程Ｓ２４０とパターン輝度演算工程Ｓ２５０と中心位置Ｃｘ更新工程Ｓ２６０と演算終了判定工程Ｓ２７０とで構成される。
【００６４】
移動工程Ｓ２１０（移動手順に相当する。）は、複数の画素３をパターン４の面に沿って並び方向に直交する送り方向に検査対象または撮像機器の両方または一方を所定の速度で相対移動させる工程である。
図２のＢが、Ｘ軸方向へ移動しているラインセンサ１１を軌跡を示している。
【００６５】
データ取り込み工程Ｓ１２０（データ取り込み手順に相当する。）は、相対移動中に画素３がパターン４から透過または発光する光から受けた受光データを取り込む工程である。
検査対象物２に配列するパターン４の受光データを取り込む。
【００６６】
中心位置Ｃｙ決定工程Ｓ２３０（中心位置Ｃｙ決定手順に相当する。）は、中心位置Ｃｙを前記受光データを基に決定する工程であり、出力線推測工程Ｓ２３１と中心位置Ｃｙ演算工程Ｓ１３２とで構成される。
図７は、受光データＤ１〜Ｄ６と中心位置Ｃｙとの関係を示している。
画素の並び方向に沿った線６が送り方向に沿った線７と中心位置Ｃｘで交差した際の並び方向に沿った線６の上に並んだ画素の受光データを基に中心位置Ｃｙを決定するのが好ましい。
【００６７】
出力線推測工程Ｓ２３１（出力線推測手順に相当する。）は、並び方向に沿った線６の上の画素３の位置をＹ軸とし受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、出力線Ｔを受光データから推測する工程である。出力線Ｔは、前述と同様に、画素がＹ軸に連続して位置すると仮想したときの仮想の受光データの連なりである。
特に、出力線Ｔは、並び方向に沿った線上の各画素の位置と受光データとをＹＺ平面にプロットした際の画素毎の受光データを直線で順次繋いでできた折れ線であるのが好ましい。
【００６８】
中心位置Ｃｙ演算工程Ｓ２３２（中心位置Ｃｙ演算手順に相当する。）は、中心位置Ｃｙを出力線Ｔを基に演算する工程である。
例えば、ＺＹ平面において、Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとする。
例えば、位置ｙを変数とし中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の前記画素の受光データから面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙを中心位置Ｃｙとする。
特に、初期中心位置Ｃｙ’を挟んで並ぶ３点または４点の画素の受光データの大小を比較して、中心位置Ｃｙの左右に位置する各々Ｎ個の画素の受光データを特定するのが好ましい。
初期中心位置Ｃｙ’の近傍の画素の受光データのうち、最も大きな値の受光データを持つ画素と次に大きな値の受光データを持つ画素の間に中心位置があると推測できる。従って、画素が等ピッチに配置されている場合、その中心位置の左右の同数の画素をＮ個の画素とする。
【００６９】
例えば、図７において、Ｄ３とＤ４とＤ５の３点の受光データを比較すると、Ｄ４が最も大きな値をもち、Ｄ３が次に大きな値を持つので、中心位置ＣｙがＤ３とＤ４との間にあることが推測でき、Ｎ個の画素をＤ１〜Ｄ６に特定することができる。従って、全ての画素の受光データの大小を比較しなくても、初期中心位置Ｃｙ’を基にＤ１〜Ｄ６となる受光データを特定できる。
Ｄ３〜Ｄ５から中心位置Ｃｙを推測できなかった場合、Ｄ３〜Ｄ５にＤ２またはＤ６の一方を加えた４点の受光データから中心位置Ｃｙを挟む受光データを決定する。
図７は、Ｎ＝６個の画素の受光データを折れ線で繋いだ出力線Ｔが示される。
【００７０】
画素が等ピッチＰｙで並ぶ場合にＨｙを画素ピッチＰｙの整数倍とすると、面積Ｓは簡単な式で表される。
例えば、特開平９ー２９２３０７で開示されたごとく、Ｈｙ＝４Ｐｙであるときに面積Ｓは以下のごとくあらわされる。
Ｓ＝          （１−ｙ）２／２×（Ｄ１＋Ｄ２＋Ｄ３＋Ｄ４）
＋（１＋２ｙ−２ｙ２）／２×（Ｄ２＋Ｄ３＋Ｄ４＋Ｄ５）
＋ｙ２／２×（Ｄ３＋Ｄ４＋Ｄ５＋Ｄ６）
Ｄ１〜Ｄ６は既知の受光データであるので、
ｄＳ／ｄｙ＝０
を満足するｙを容易に求めることができる。このｙを中心位置Ｃｙとする。
【００７１】
中心位置Ｃｙ記録工程Ｓ２４０（中心位置Ｃｙ記録手順に相当する。）は、中心位置Ｃｙ決定工程Ｓ２３０の後で中心位置Ｃｙを初期中心位置Ｃｙ’として記録する工程である。
例えば、中心位置Ｃｙを中心位置データベースＤＢ１に記録する。
【００７２】
パターン輝度演算工程Ｓ２５０（パターン輝度演算手順に相当する。）は、並び方向に沿った線６の上の中心位置Ｃｙを挟む所定の幅Ｗｙで出力線を積分して得られた値からパターンの輝度を演算する工程である。
図８は、中心位置Ｃｙと中心位置Ｃとから輝度を求めるための仮想の窓５を決定する様子を示している。
窓５は、Ｙ軸に沿ったＷｙの長さの辺とＸ軸に沿ったＷｘの長さの辺とで囲まれる。
所定の幅Ｗｙが所定の幅Ｈｙに等しい場合、ｙ＝Ｃｙの場合の面積ＳをＷｘの幅で積算した値が輝度の値に対応する。演算した輝度データをパターン輝度データベースＤＢ２に記録する。
【００７３】
中心位置Ｃｘ更新工程Ｓ２６０（中心位置Ｃｘ更新手順に相当する。）は、中心位置Ｃｘをパターンの送り方向の並びピッチＰｘだけずらす工程である。
例えば、パターンが等ピッチＰｘで並んでいるときには、Ｃｘ’＋Ｐｘを演算して得られた値を新たな中心位置Ｃｘ’として記録する。
【００７４】
演算終了判定工程Ｓ２７０（演算終了判定手順に相当する。）は、検査対象物に配置された全てのパターンの輝度を演算したかどうかを判定する工程である。
演算が完了していないと判定すると、手続きのフローを中心位置Ｃｙ決定工程Ｓ２３０を戻す。
演算が完了したと判定すると、手続きのフローを終了する。
【００７５】
上述の実施形態の基板またはパネル検査方法および検査プログラムを用いれば、初期化工程および輝度計測工程において、以下の効果を発揮する。
パターンの中心位置Ｃｘと中心位置Ｃｙとを受光データを基に決定するので、検査対象物の撓み等によりパターンの中心位置がずれても、パターンの位置を正しく把握できる。
また、中心位置Ｃｙを決定するのに、パターンの出力線を推測し、その出力線を基に中心位置Ｃｙを決定するので、パターンの位置を正しく把握できる。
また、中心位置Ｃｘを決定するのに、パターンの輪郭を抽出し、その輪郭を基に中心位置Ｃｘを決定するので、パターンの位置を正しく把握できる。
また、出力線を受光データを直線で順次繋いでできた折れ線としたので、出力線を簡単に数値化でき、後の中心位置Ｃｙを求める演算が簡単になる。
また、並び方向に沿った軸６の上の画素の位置をＹ軸とし受光データをＺ軸としたＺＹ平面において、Ｙ軸上の任意の位置ｙを中央とした所定の幅Ｈｙと前記出力線とで囲まれた面積Ｓを最大とする位置ｙの値を中心位置Ｃｙとするので、簡易に中心位置Ｃｙを求めることができる。
また、位置ｙを変数とし中心位置Ｃｙの左右に位置する合計Ｎ個の画素３の受光データから前記面積Ｓを求める演算式Ｓ＝ｆ（ｙ）のｄＳ／ｄｙ＝０を満足するｙを中心位置Ｃｙとするので、少ない演算により簡易に中心位置Ｃｙを求めることができる。
また、パターンの中心位置Ｃｘを求めたあとで、ラインセンサ１１がその中心位置Ｃｘに位置する際の画素の受光データからパターンの並び方向の中心位置Ｃｙを求めるので、正確に中心位置Ｃｙを演算できる。
【００７６】
さらに輝度計測工程において、以下の効果を発揮する。
受光データから求めた中心位置Ｃｘと中心位置Ｃｙとから定まる点を中心としたパターンの仮想の窓を通過する光量を輝度としてパターンの演算するので、検査対象物の撓み等によりパターンの中心位置がずれても、パターンの輝度を正確に求めることができる。
また、中心位置Ｃｘを初期中心位置Ｃｘ’として記録し、初期中心位置Ｃｘ’をパターンの送り方向のピッチＰｘ毎に増加して、新たな中心位置Ｃｘとするので、簡単に中心位置Ｃｘを決定できる。
また、中心位置Ｃｙを初期中心位置Ｃｙ’として記録し、初期中心位置Ｃｙ’を挟んで並ぶ３点または４点の画素の受光データの大小を比較して、前記中心位置Ｃｙの左右に位置する各々Ｎ個の画素の受光データを特定するので、中心位置Ｃｙを演算するための受光データを簡単に選択できる。
また、３点または４点の画素の受光データのうち、最も大きな値の受光データを持つ画素と次に大きな値の受光データをもつ画素の間に中心位置Ｃｙがあると仮定するので、簡単な受光データの比較計算により、中心位置Ｃｙを演算するための受光データを簡単に選択できる。
【００７７】
本発明は以上に述べた実施形態に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の実施形態に係る基板またはパネル検査装置の概念図である。
【図２】本発明の実施形態に係る検査対象物の平面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る全体フローチャートである。
【図４】本発明の実施形態に係る初期化工程のフローチャート図である。
【図５】本発明の実施形態に係る輝度計測工程のフローチャート図である。
【図６】本発明の実施形態に係る中心位置Ｃｘー受光データ関係グラフである。
【図７】本発明の実施形態に係る中心位置Ｃｙー受光データ関係グラフである。
【図８】本発明の実施形態に係るパターンの平面図である。
【図９】本発明の実施形態に係るパターンー画素関係図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る受光データグラフである。
【符号の説明】
【００７９】
１  基板またはパネル検査装置
２  検査対象（カラーフィルタ基板）
３  画素
４  パターン
５  窓
６  並び方向に沿った線
７  送り方向に沿った線
８  領域
９  画像処理装置
１０  撮像装置
１１  ラインセンサ
１２  光源装置
３０  移動装置
３１  移動テーブル
３２  ガイドレール
Ｓ１００  初期化工程
Ｓ１１０  移動工程
Ｓ１２０  デ＝タ取り込み工程
Ｓ１３０  中心位置Ｃｘ決定工程
Ｓ１３１  輪郭検査工程
Ｓ１３２  中心位置Ｃｘ演算工程
Ｓ１４０  中心位置Ｃｘ記録工程
Ｓ１５０  中心位置Ｃｙ決定工程
Ｓ１５１  出力線推測工程
Ｓ１５２  中心位置Ｃｙ演算工程
Ｓ１６０  中心位置Ｃｙ記録工程
Ｓ２００  輝度計測工程
Ｓ２１０  移動工程
Ｓ２２０  データ取り込み工程
Ｓ２３０  中心位置Ｃｙ決定工程
Ｓ２３１  出力線推測工程
Ｓ２３２  中心位置Ｃｙ演算工程
Ｓ２４０  中心位置Ｃｙ記録工程
Ｓ２５０  パターン輝度演算工程
Ｓ２６０  中心位置Ｃｘ更新工程
Ｓ２７０  演算終了判定工程
Ｓ３００  輝度解析工程
Ｄ１  受光データ
Ｄ２  受光データ
Ｄ３  受光データ
Ｄ４  受光データ
Ｄ５  受光データ
Ｄ６  受光データ
Ｃｘ  中心位置
Ｃｙ  中心位置
Ｃｘ’  初期中心位置
Ｃｙ’  初期中心位置
Ｐｘ  送り方向ピッチ
Ｐｙ  並び方向ピッチ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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