(57)【要約】【課題】セルロースアシレートフイルムのみで、液晶セルを光学的に補償する光学補償シートを提供する。【解決手段】セルロースアシレートと、該セルロースアシレート１００質量部に対して下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種０．０１乃至２０質量部および該セルロースアシレート１００質量部に対して少なくとも３つの置換基を有する環状化合物の少なくとも一種０．０１乃至２０質量部とを含む光学補償シート。    【化１】2005275350.tif 000036 式中、R１〜R７、R９〜R１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、R１〜R５のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。R8は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルケニル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数2〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースアシレートと、該セルロースアシレート１００質量部に対して下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種０．０１乃至２０質量部および該セルロースアシレート１００質量部に対して少なくとも３つの置換基を有する環状化合物の少なくとも一種０．０１乃至２０質量部とを含むことを特徴とする光学補償シート。
【化１】
2005275350.tif 000034
（式中、R１、R２、R３、R４、R５、R６、R７、R９およびR１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、R１、R２、R３、R４およびR５のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。R8は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
【請求項２】
Ｒｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍであり、Ｒthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の光学補償シート。
【請求項３】
Ｒｅレターデーション値が２０乃至７０ｎｍであり、Ｒthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の光学補償シート。
【請求項４】
Ｒｅレターデーション値とＲｔｈレターデーション値との比（Ｒｅ／Ｒｔｈ比）が０．１乃至０．８であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項５】
膜厚が２０μｍ〜１６０μｍの一枚のセルロースアシレートフイルムのみからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項６】
７００ｎｍでのＲｅレターデーション値（Ｒｅ７００）と４００ｎｍでのＲｅレターデーションの値（Ｒｅ４００）の差（Ｒｅ７００−Ｒｅ４００）が−２５nm乃至１０nmであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項７】
７００ｎｍでのＲｔｈレターデーション値（Ｒｔｈ７００）と４００ｎｍでのＲｔｈレターデーションの値（Ｒｔｈ４００）の差（Ｒｔｈ７００−Ｒｔｈ４００）が−５０ｎｍ乃至２０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項８】
２５℃１０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値と２５℃８０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値の差異が、それぞれ２５ｎｍ以内、７０ｎｍ以内であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項９】
２５℃９０％ＲＨでの透湿度が２０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ乃至２５０ｇ／ｍ２・２４ｈｒであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１０】
９０℃乾燥条件下での寸度変化が−０．１５％以内であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１１】
６０℃９０％ＲＨでの寸度変化が−０．１５％以内であることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１２】
表面エネルギーが５５乃至７５ｍＮ／ｍであるセルロースアセテートフイルムからなることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１３】
偏光板保護膜として使用した場合の６０℃９５％ＲＨ雰囲気下５００時間経時後の偏光度の低下が３％以内であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１４】
３乃至１００％の延伸倍率で延伸したセルロースアシレートフイルムからなることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１５】
セルロースアシレートが、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテートであり、延伸倍率１％あたりのＲｅ／Ｒｔｈ変化量が０．０１乃至０．１であることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１６】
長手方向に搬送しながら長手方向と直交する方向に延伸し、延伸開始時のセルロースアシレートフイルムの残留溶剤量が２％乃至５０％の状態であり、該フィルムの遅相軸が該フィルムの長尺方向に対して直交する方向にあることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項１７】
セルロースアシレートフィルムが、セルロースの水酸基がアセチル基および炭素原子数が３〜２２のアシル基で置換されたセルロースアシレートからなり、かつ該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａおよび炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度Ｂが、下記式（VI）および（VII）を満たすことを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
式（VI）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
式（VII）：０＜Ｂ
【請求項１８】
炭素原子数が３〜２２のアシル基が、ブタノイル基またはプロピオニル基であることを特徴とする請求項１７に記載の光学補償シート。
【請求項１９】
セルロースを構成するグルコース単位の水酸基を炭素原子数が２以上のアシル基で置換して得られたセルロースアシレートからなるフィルムであって、セルロースを構成するグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ２、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ３、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ６としたときに、下記式（XII）および（XIII）を満たすセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする請求項１〜１８のいずれか１項に記載の光学補償シート。
数式（XII） ：２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
数式（XIII）：ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３１５
【請求項２０】
アシル基がアセチル基であることを特徴とする請求項１９に記載の光学補償シート。
【請求項２１】
少なくとも３つの置換基を有する環状化合物が、一般式（II）で表される化合物であることを特徴とする請求項１の光学補償シート。
【化２】
2005275350.tif 000035
（式中、Ｘ1 は、単結合、−ＮＲ4 −、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわし、；Ｘ2 は、単結合、−ＮＲ5 −、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわし、；Ｘ3 は、単結合、−ＮＲ6 −、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわし、；Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあらわし；そして、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあらわす。）
【請求項２２】
偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の少なくとも一方が、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
【請求項２３】
前記光学補償シートと反対側の透明保護膜には少なくとも光散乱層と低屈折率層からなる鏡面反射率２．５％以下の反射防止層を設けたことを特徴とする請求項２２に記載の偏光板。
【請求項２４】
前記光学補償シートと反対側の透明保護膜には少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順に積層されてなる鏡面反射率０．５％以下の反射防止層を設けたことを特徴とする請求項２２または２３に記載の偏光板。
【請求項２５】
液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと少なくとも一方の偏光板との間に、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光学補償シートが配置されており、該セルロースアシレートフイルムの遅相軸とセルロースアシレートフイルムに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２６】
液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと少なくとも一方の偏光板との間に、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光学補償シートが配置されており、該セルロースアシレートフイルムの遅相軸とセルロースアシレートフイルムに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。
【請求項２７】
液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと観察者側、バックライト側それぞれの偏光板との間に、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光学補償シートが配置されており、該セルロースアシレートフイルムの遅相軸とセルロースアシレートフイルムに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。
【請求項２８】
液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと観察者側、あるいは、該液晶セルとバックライト側のいずれか一方の偏光板との間に、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光学補償シートが配置されており、該セルロースアシレートフイルムの遅相軸とセルロースアシレートフイルムに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一枚のセルロースアシレートフイルムのみからなる光学補償シートおよびそれを用いた偏光板と液晶表示装置とに関する。
【背景技術】
【０００２】
セルロースフイルム中でも、セルロースアセテートフイルムは、他のポリマーフイルムと比較して、光学的等方性が高い（レターデーション値が低い）との特徴がある。従って、光学的等方性が要求される用途、例えば偏光板には、セルロースアセテートフイルムを用いることが普通である。一方、液晶表示装置等の光学補償シート（位相差フイルム）には、逆に光学的異方性（高いレターデーション値）が要求される。従って、光学補償シートとしては、ポリカーボネートフイルムやポリスルホンフイルムのようなレターデーション値が高い合成ポリマーフイルムを用いることが普通であった。
【０００３】
以上のように光学材料の技術分野では、ポリマーフイルムに光学的異方性（高いレターデーション値）が要求される場合には合成ポリマーフイルムを使用し、光学的等方性（低いレターデーション値）が要求される場合にはセルロースアセテートフイルムを使用することが一般的であった。
【０００４】
しかし近年、光学的異方性が要求される用途にも使用できる高いレターデーション値を有するセルロースアセテートフイルムが要求され、それに対応した技術が提案されている（例えば特許文献１）。該公開発明ではセルローストリアセテートで高いレターデーション値を実現するために、少なくとも２つの芳香環を有する芳香族化合物、中でも１，３，５−トリアジン環を有する化合物を添加し、延伸処理を行っている。
一般にセルローストリアセテートは延伸しにくい高分子素材であり、複屈折率を大きくすることは困難であることが知られているが、上記特許文献１では添加剤を延伸処理で同時に配向させることにより複屈折率を大きくすることを可能にし、高いレターデーション値を実現している。このフィルムは偏光板の保護フィルムを兼ねることができるため、安価で薄膜な液晶表示装置を提供することができる利点がある。
【０００５】
近年、液晶表示装置の軽量化、製造コスト低減のために液晶セルの薄膜化が必須となっている。そのために光学補償シートに必要とされる光学性能はより高いＲｅレターデーション値であって、より低いＲｔｈレターデーション値であるフィルムが必要となってきている。
しかしながら、本発明者が特許文献１で開示された方法で鋭意検討した結果、該手法では、前述のＲｅレターデーション値とＲｔｈレターデーション値を個々に設定しようとした場合にそれらを両立することができない問題があることが判明した。上記欧州特許以外にもＶＡ用位相差フィルムの光学性能についての技術を開示している特許文献、例えば特許文献２があるが、所望のＲｅ値とＲｔｈ値を両立する方法については明示されていなかった。
【０００６】
【特許文献１】欧州特許出願公開０９１１６５６Ａ２号明細書
【特許文献２】特開２００１−１１６９２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、セルロースアシレートフイルムのみで、液晶セルを光学的に補償する光学補償シートを提供することである。
本発明の別の目的は、構成要素の数を増加することなく、偏光板に液晶表示装置に最適な光学補償機能が追加された偏光板を提供することである。
本発明のさらなる別の目的は、セルロースアシレートフイルムによって光学的に補償された液晶表示装置を提供することである。
【０００８】
まず、前記特許文献１に開示の手法で高Ｒｅ／Ｒｔｈ比が実現できない理由を説明する。
一定の膜厚で考えた場合、フィルムのレターデーションは素材の屈折率と存在量、配向状態によって決まる。前記特許文献１に開示された方法の場合、セルローストリアセテートの３軸の屈折率と配向状態、添加剤である円盤状化合物の屈折率、添加量、配向状態により決まる。その他の添加剤、例えば可塑剤などもレターデーション発現に若干影響するが、その効果は概ね小さいため省略する。
セルローストリアセテートは、一般に延伸しにくい素材であるため延伸倍率を大きくすることが難しく、大きいレターデーション値を実現しにくい。特許文献１のようにセルローストリアセテートを用いて高いレターデーションを実現した場合、発現したレターデーションは添加剤の寄与が大きい。
Ｒｅレターデーション値およびＲｔｈレターデーション値はいずれも３軸方向の屈折率で定義された値であるため、Ｒｅ／Ｒｔｈ比はレターデーション発現に対する寄与が大きい添加剤によってほぼ決まってしまう。延伸倍率に対するＲｅ／Ｒｔｈ比を調べた結果、その関係は比例関係にあり、延伸倍率が大きくなるとＲｅ／Ｒｔｈ比は大きくなることが分かった。添加量を変えた場合も同様の比例関係となり、添加量を増やすとＲｅ／Ｒｔｈ比は増加する。延伸倍率に対するＲｅ／Ｒｔｈ比の傾きは添加素材によって決まり、上記特許文献１に具体的に記載されている円盤状化合物ではその傾きが小さいことが分かった。
【０００９】
レターデーション値を決めるセルローストリアセテートおよび添加剤の配向状態は延伸方法によっても異なる。一般に、一軸延伸する方法としてロール延伸法やテンター延伸法が知られているが、前者はフィルム幅の収縮が起こりｎｙが小さくなるため（ｎｘ−ｎｙ）値が大きくなりやすく、Ｒｅは発現しやすい。後者は搬送方向が規制されたまま幅方向に延伸されるため（ｎｘ−ｎｙ）値は大きくなりにくい。したがって、延伸倍率に対するＲｅ／Ｒｔｈ比は前者に比べて後者は小さくなる。
テンター延伸法は膜厚や光学性能の面内ばらつきを小さくしやすいため、液晶表示装置用の光学補償シートを製造する手法として適している。この手法を前記開示の例に適用すると、Ｒｅ／Ｒｔｈ比の増加量は延伸倍率１％当たり概ね０．０１以下である。Ｒｅ目標値とＲｔｈ目標値が近く、Ｒｅ／Ｒｔｈ比が０．５程度の場合、５０％以上の延伸倍率が必要となる。延伸しにくいセルローストリアセテートフイルムにおいてこの倍率を安定的に実現することは事実上困難である。
また、添加量についても実際に可能な添加量の増量では目標光学性能を達成させることが困難であった。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、前述のような最適なＲｅ、Ｒｔｈ値をテンター延伸法で実現するような場合、延伸倍率に対するＲｅ／Ｒｔｈ増加量を大きくするために、上記特許文献１に記載されている円盤状化合物と、一般式（Ｉ）で表される化合物を併用して添加剤として用いることで延伸倍率に対するＲｅ／Ｒｔｈ増加量を大きくすることができることを見出し、従来の手法では実現できなかった光学性能の光学補償シートを製造できることを見い出し、この知見に基づき本発明をなすに至った。
【００１１】
【化１】
2005275350.tif 000002
【００１２】
（式中、R１、R２、R３、R４、R５、R６、R７、R９およびR１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、R１、R２、R３、R４およびR５のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。R8は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
【００１３】
本発明の目的は、下記１〜２１の光学補償シート、下記２２〜２４の偏光板および下記２５〜２８の液晶表示装置により達成される。
（１）セルロースアシレートと、該セルロースアシレート１００質量部に対して下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種０．０１乃至２０質量部および該セルロースアシレート１００質量部に対して少なくとも３つの置換基を有する環状化合物の少なくとも一種０．０１乃至２０質量部とを含むことを特徴とする光学補償シート。。
【００１４】
【化２】
2005275350.tif 000003
【００１５】
（式中、R１、R２、R３、R４、R５、R６、R７、R９およびR１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、R１、R２、R３、R４およびR５のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。Ｒ８は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
（２）Ｒｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍであり、Ｒthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍであることを特徴とする（１）項に記載の光学補償シート。
（３）Ｒｅレターデーション値が２０乃至７０ｎｍであり、Ｒthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍであることを特徴とする（１）または（２）項に記載の光学補償シート。
（４）Ｒｅレターデーション値とＲｔｈレターデーション値との比（Ｒｅ／Ｒｔｈ比）が０．１乃至０．４であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（５）膜厚が２０μｍ〜１６０μｍの一枚のセルロースアシレートフイルムのみからなることを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（６）７００ｎｍでのＲｅレターデーション値（Ｒｅ７００）と４００ｎｍでのＲｅレターデーションの値（Ｒｅ４００）の差（Ｒｅ７００−Ｒｅ４００）が−２５nm乃至１０nmであることを特徴とする（１）〜（５）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（７）７００ｎｍでのＲｔｈレターデーション値（Ｒｔｈ７００）と４００ｎｍでのＲｔｈレターデーションの値（Ｒｔｈ４００）の差（Ｒｔｈ７００−Ｒｔｈ４００）が−５０nm乃至２０nmであることを特徴とする（１）〜（６）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（８）２５℃１０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値と２５℃８０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値の差異が、それぞれ２５ｎｍ以内、７０ｎｍ以内であることを特徴とする（１）〜（７）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（９）２５℃９０％ＲＨでの透湿度が２０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ乃至２５０ｇ／ｍ２・２４ｈｒであることを特徴とする（１）〜（８）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１０）９０℃Ｄｒｙでの寸度変化が−０．１５％以内であることを特徴とする（１）〜（９）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１１）６０℃９０％ＲＨでの寸度変化が−０．１５％以内であることを特徴とする（１）〜（１０）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１２）表面エネルギーが５５乃至７５ｍＮ／ｍであるセルロースアセテートフイルムからなることを特徴とする（１）〜（１１）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１３）偏光板保護膜として使用した場合の６０℃９５％ＲＨ雰囲気下５００時間経時後の偏光度の低下が３％以内であることを特徴とする（１）〜（１２）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１４）３乃至１００％の延伸倍率で延伸したセルロースアシレートフイルムからなることを特徴とする（１）〜（１３）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１５）セルロースアシレートが、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテートであり、延伸倍率１％あたりのＲｅ／Ｒｔｈ変化量が０．０１乃至０．１であることを特徴とする（１）〜（１４）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１６）長手方向に搬送しながら長手方向と直交する方向に延伸し、延伸開始時のセルロースアシレートフイルムの残留溶剤量が２％乃至５０％の状態であり、該フィルムの遅相軸が該フィルムの長尺方向に対して直交する方向にあることを特徴とする（１）〜（１５）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
（１７）セルロースアシレートフィルムが、セルロースの水酸基がアセチル基および炭素原子数が３〜２２のアシル基で置換されたセルロースアシレートからなり、かつ該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａおよび炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度Ｂが、下記式（VI）および（VII）を満たすことを特徴とする（１）〜（１６）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
式（VI）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
式（VII）：０＜Ｂ
（１８）炭素原子数が３〜２２のアシル基が、ブタノイル基またはプロピオニル基であることを特徴とする（１７）項に記載の光学補償シート。
（１９）セルロースを構成するグルコース単位の水酸基を炭素原子数が２以上のアシル基で置換して得られたセルロースアシレートからなるフィルムであって、セルロースを構成するグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ２、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ３、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ６としたときに、下記式（XII）および（XIII）を満たすセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする（１）〜（１８）のいずれか１項に記載の光学補償シート。
数式（XII） ：２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
数式（XIII）：ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３２０
（２０）アシル基がアセチル基であることを特徴とする（１９）項に記載の光学補償シート。
（２１）少なくとも３つの置換基を有する環状化合物が、一般式（II）で表される化合物であることを特徴とする（１）項の光学補償シート。
【００１６】
【化３】
2005275350.tif 000004
【００１７】
（式中、Ｘ1 は、単結合、−ＮＲ4 −、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわし、；Ｘ2 は、単結合、−ＮＲ5 −、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわし、；Ｘ3 は、単結合、−ＮＲ6 −、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわし、；Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあらわし；そして、Ｒ4 、Ｒ5 およびＲ6 は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあらわす。）
（２２）偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の少なくとも一方が、（１）〜（２１）のいずれか１項に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
（２３）前記光学補償シートと反対側の透明保護膜には少なくとも光散乱層と低屈折率層からなる鏡面反射率２．５％以下の反射防止層を設けたことを特徴とする（２２）項に記載の偏光板。
（２４）前記光学補償シートと反対側の透明保護膜には少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順に積層されてなる鏡面反射率０．５％以下の反射防止層を設けたことを特徴とする（２２）または（２３）項に記載の偏光板。
（２５）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと少なくとも一方の偏光板との間に、（１）〜（２１）のいずれか１項に記載の光学補償シートが配置されており、該セルロースアシレートフイルムの遅相軸とセルロースアシレートフイルムに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
（２６）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと少なくとも一方の偏光板との間に、（１）〜（２１）のいずれか１項に記載の光学補償シートが配置されており、該セルロースアシレートフイルムの遅相軸とセルロースアシレートフイルムに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。
（２７）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと観察者側、バックライト側それぞれの偏光板との間に、（１）〜（２１）のいずれか１項に記載の光学補償シートが配置されており、該セルロースアシレートフイルムの遅相軸とセルロースアシレートフイルムに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。
（２８）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと観察者側、あるいは、該液晶セルとバックライト側のいずれか一方の偏光板との間に、（１）〜（２１）のいずれか１項に記載の光学補償シートが配置されており、該セルロースアシレートフイルムの遅相軸とセルロースアシレートフイルムに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の光学補償シートは、セルロースアセテートフイルムのみで液晶セルを光学的に補償できる。
セルロースアセテートフイルムに少なくとも２つの芳香環を有する芳香族化合物（具体的には、１，３，５−トリアジン環を有する化合物）と一般式（Ｉ）で示される化合物を併用して用いることで、Ｒｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍであり、Ｒthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍであり、Ｒｅ／Ｒｔｈ比が０．１〜０．８であるセルロースアセテートフイルムが得られる。このセルロースアセテートフイルムは、液晶セルを光学的に補償するために充分な光学的異方性を有している。従って、一枚のセルロースアセテートフイルムのみからなる光学補償シートが得られる。
偏光板の保護膜は、一般にセルロースアセテートフイルムからなる。上記のセルロースアセテートフイルムを偏光板の一方の保護膜として用いると、偏光板の構成要素の数を増加することなく、偏光板に光学補償機能を追加することができる。
上記のセルロースアセテートフイルムのみからなる光学補償シートおよび上記のセルロースアセテートフイルムを保護膜として用いた偏光板は、ＶＡモードおよびＯＣＢモードの液晶表示装置に、特に有利に用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
［フイルムのレターデーション］
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。セルロースアシレートの平均屈折率は１．４８である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【００２０】
本発明では、好ましくは、セルロースアシレートフイルムのＲｅレターデーション値を２０乃至２００ｎｍに、そしてＲｔｈレターデーション値を７０乃至４００ｎｍに調節する。また、本発明ではＲｅ／Ｒｔｈ比を好ましくは、０．１乃至０．８に調節する。さらに好ましくは、Ｒｅレターデーション値を２０乃至７０ｎｍに、Ｒｔｈレターデーション値を９０乃至３００ｎｍ、そしてＲｅ／Ｒｔｈ比を０．２５乃至０．８に調節する。これらの調整は棒状化合物の種類、添加量および円盤状化合物の種類、添加量、および延伸倍率により行うことが出来る。
本発明においては、延伸倍率１％あたりのＲｅ／Ｒｔｈの変化量を０．０１乃至０．１とすることが可能である。ここで、延伸倍率１％あたりのＲｅ／Ｒｔｈの変化量は、延伸倍率５％以上の少なくとも３点の延伸倍率に対するＲｅ／Ｒｔｈ比を一次近似した時の傾きから求めることができる。
【００２１】
［セルロースアシレートフイルム］
次に、本発明において用いられるセルロースアシレートについて詳細に記載する。本発明においては異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いても良い。
前記のセルロースアシレートは、好ましくはセルロースの水酸基をアセチル基および炭素原子数が３〜２２のアシル基で置換して得られたセルロースの混合脂肪酸エステルであって、セルロースの水酸基への置換度が下記式（VI）及び（VII）を満足するセルロースアシレートである。
式（VI）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
式（VII）：０＜Ｂ
ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。
本発明では、水酸基のＡとＢとの置換度の総和（Ａ＋Ｂ）は、上記式（VI）に示すように、２．０〜３．０であり、好ましくは２．２〜２．９であり、特に好ましくは２．４０〜２．８５である。また、Ｂの置換度は上記式（VII）に示すように、０より大きいことが好ましく、０．６以上であることがさらに好ましい。
Ａ＋Ｂが２．０未満であると、親水性が強くなり環境湿度の影響を受けやすくなる。
さらにＢはその２８％以上が６位水酸基の置換基であるのが好ましいが、より好ましくは３０％以上が６位水酸基の置換基であり、３１％以上がさらに好ましく、特には３２％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。
また更に、セルロースアシレートの６位のＡとＢの置換度の総和が０．７５以上であるのが好ましく、さらには０．８０以上が、特には０．８５以上が好ましい。これらのセルロースアシレートフィルムにより溶解性、濾過性の好ましいフィルム調製用の溶液が作製でき、非塩素系有機溶媒においても、良好な溶液の作製が可能となる。更に粘度が低くろ過性のよい溶液の作成が可能となる。
【００２２】
また、セルロースアシレートフィルムが偏光板の液晶セル側に配置される保護膜である場合、セルロースを構成するグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ２、３位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ３、６位の水酸基のアシル基による置換度をＤＳ６としたときに、下記式（XII）および（XIII）を満たすことが好ましい。
式（XII）：２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
式（XIII） ：ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３１５
上記式（XII）および（XIII）を満たすことにより、光学性能を好ましい範囲で調整することが容易となり、好ましい。
なお、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６  をアセチル置換度、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）  を６位置換度  と呼ぶこともある。
【００２３】
前記炭素原子数３以上のアシル基としては、脂肪族基でも芳香族炭化水素基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。好ましい炭素原子数３以上のアシル基としては、プロピオニル、ブタノイル、ケプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、好ましくはプロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などである。特に好ましくはプロピオニル、ブタノイル基である。また、プロピオニル基の場合には置換度Ｂは１．３以上であるのが好ましい。
【００２４】
前記混合脂肪酸セルロースアシレートとしては、具体的には、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが挙げられる。
【００２５】
（セルロースアシレートの合成方法）
セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。
前記セルロースアシレートを得るには、具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位および６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。エステル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物）の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理を行う等して、前記の特定のセルロースアシレートを得ることができる。
【００２６】
前記セルロースアシレートフィルムは、フィルムを構成するポリマー成分が実質的に上記の特定のセルロースアシレートからなることが好ましい。『実質的に』とは、ポリマー成分の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上）を意味する。
前記セルロースアシレートは、粒子状で使用することが好ましい。使用する粒子の９０質量％以上は、０．５〜５ｍｍの粒子径を有することが好ましい。また、使用する粒子の５０質量％以上が１〜４ｍｍの粒子径を有することが好ましい。セルロースアシレート粒子は、なるべく球形に近い形状を有することが好ましい。
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で、好ましくは２００〜７００、より好ましくは２５０〜５５０、更に好ましくは２５０〜４００であり、特に好ましくは２５０〜３５０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
【００２７】
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため、前記セルロースアシレートとしては低分子成分を除去したものが有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロースアシレート１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。セルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており含水率２．５〜５質量％が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。
前記セルロースアシレートの原料綿や合成方法は、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、発明協会）ｐ．７−１２に詳細に記載されている原料綿や合成方法を採用できる。
【００２８】
本発明に関するセルロースアシレートフィルムは、前記の特定のセルロースアシレートと必要に応じて添加剤とを有機溶媒に溶解させた溶液を用いてフィルム化することにより得ることができる。
【００２９】
［レターデーション制御剤］
本発明では、一般式（Ｉ）で表される化合物と少なくとも３つの置換基を有する環状化合物とを併用してセルロースエステルフイルムに添加する。少なくとも３つの置換基を有する環状化合物、一般式（Ｉ）で示される化合物は共に、セルロースエステルフイルムのレターデーション上昇剤として機能できる。
ここで、少なくとも３つの置換基を有する環状化合物とは、少なくとも２つの芳香環を有する芳香族化合物が好ましく、一般式（II）で表される１，３，５−トリアジン環を有する化合物を好ましく用いることができる。またはポルフィリン骨格を有する化合物を好ましく用いることができる。特に特開２００１−１６６１４４号公報に記載の化合物を用いることが好ましい。
【００３０】
以下に、一般式（１）で表される化合物に関して詳細に説明する。
一般式（１）
【００３１】
【化４】
2005275350.tif 000005
【００３２】
（式中、R１、R２、R３、R４、R５、R６、R７、R９およびR１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、R１、R２、R３、R４およびR５のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。Ｒ８は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
【００３３】
一般式（１）中、R１、R２、R３、R４、R５、R６、R７、R９およびR１０はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表し、置換基は後述の置換基Ｔが適用できる。
R１、R２、R３、R４およびR５のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。好ましくはR１、R３またはR５のうちの１つが電子供与性基であり、R３が電子供与性基であることがより好ましい。
電子供与性基とはHammetのσｐ値がO以下のものを表し、Cｈeｍ．Rev．，９１，１６５（１９９１）．記載のHammetのσｐ値がO以下のものが好ましく適用でき、より好ましくは−０．８５〜０のものが用いられる。例えば、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基などが挙げられる。
電子供与性基として好ましくはアルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜12、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４である。）である。
【００３４】
R１として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、最も好ましくはメトキシ基である。
【００３５】
R２として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜12、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００３６】
R３として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜12、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。最も好ましくはn-プロポキシ基、エトキシ基、メトキシ基である。
【００３７】
R４として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜12、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、特に好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００３８】
R５として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜12、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００３９】
R６、R７、R９およびR１０として好ましくは水素原子、炭素数1〜１２のアルキル基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）であり、更に好ましくは水素原子である。
【００４０】
R８は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
R８として好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２アリールオキシ基であり、より好ましくは、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４である。）であり、特に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基である。
【００４１】
一般式（１）のうちより好ましくは下記一般式（１−A）である。
一般式（１−A）
【００４２】
【化５】
2005275350.tif 000006
【００４３】
（式中、R11はアルキル基を表す。R１、R２、R４、R５、R６、R７、R９およびR１０はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。Ｒ８は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
一般式（１―A）中、R１、R２、R４、R５、R６、R７、R８、R９およびR１０はそれぞれ一般式（１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００４４】
一般式（１−A）中、R11は炭素数1〜１２のアルキル基を表し、R11で表されるアルキル基は直鎖でも分岐があってもよく、また更に置換基を有してもよいが、好ましくは炭素数１〜12のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜８アルキル基、更に好ましくは炭素数１〜６アルキル基、特に好ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられる）を表す。
【００４５】
一般式（１）のうちより好ましくは下記一般式（１−B）である。
一般式（１−B）
【００４６】
【化６】
2005275350.tif 000007
【００４７】
（式中、R１、R２、R４、R５、R６、R７、R９およびR１０はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。R１１は炭素数1〜１２のアルキル基を表す。Xは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
【００４８】
一般式（１−B）中、R１、R２、R４、R５、R６、R７、R９、R１０は一般式（１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
一般式（１−B）中、R１１は一般式（１−A）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００４９】
一般式（１−B）中、Xは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
R１、R２、R４、R５がすべて水素原子の場合にはXとして好ましくはアルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、より好ましくは、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４である。）であり、特に好ましくは、メトキシ基、メトキシ基、ｎ−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基である。
【００５０】
R１、R２、R４、R５のうち少なくとも1つが置換基の場合にはXとして好ましくはアルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、であり、より好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１２）、シアノ基、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜１２）であり、更に好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、より好ましくはフェニル基、p−シアノフェニル基、ｐ−メトキシフェニルである。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素２〜１２、より好ましくは炭素数２〜６、更に好ましくは炭素数２〜４、特に好ましくはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニルである。）、シアノ基であり、特に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-プロポキシカルボニル基、シアノ基である。
【００５１】
一般式（１）のうち更に好ましくは下記一般式（１−C）である。
一般式（１−C）
【００５２】
【化７】
2005275350.tif 000008
【００５３】
（式中、R１、R２、R４、R５、R11およびXは一般式（１−B）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【００５４】
一般式（１）で表される化合物の中で好ましいのは下記一般式（１−D）で表される化合物である。
一般式（１−D）
【００５５】
【化８】
2005275350.tif 000009
【００５６】
（式中、R２、R４およびR５は一般式（１−C）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。R21、R22はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基である。X１は炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、又はシアノ基である。）
【００５７】
R21は炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基である。
R22は炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。
【００５８】
X１は炭素数６〜１２のアリール基、炭素２〜１２アルコキシカルボニル基、又はシアノ基であり、好ましくは炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜６アルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくはフェニル基、p−シアノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、シアノ基であり、更に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。
【００５９】
一般式（１）のうち最も好ましくは下記一般式（１−E）である。
一般式（１−E）
【００６０】
【化９】
2005275350.tif 000010
【００６１】
（式中、R２、R４およびR５は一般式（１−D）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか1つは−OR13で表される基である（R13は炭素数１〜４のアルキル基である。）。R21、R22、X1は一般式（１−D）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）
【００６２】
一般式（１−E）中、R２、R４およびR５は一般式（１−D）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか1つは−OR13で表される基であり（R13は炭素数１〜４のアルキル基である。）、好ましくはR４、R５が−OR13で表される基であり、より好ましくはR４が−OR13で表される基である。
R13は炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。
【００６３】
以下に前述の置換基Tについて説明する。
【００６４】
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、
【００６５】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、
【００６６】
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、  例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、
【００６７】
カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、
【００６８】
スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
【００６９】
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００７０】
以下に一般式（１）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【００７１】
【化１０】
2005275350.tif 000011
【００７２】
【化１１】
2005275350.tif 000012
【００７３】
【化１２】
2005275350.tif 000013
【００７４】
【化１３】
2005275350.tif 000014
【００７５】
【化１４】
2005275350.tif 000015
【００７６】
【化１５】
2005275350.tif 000016
【００７７】
本発明一般式（１）で表される化合物は置換安息香酸とフェノール誘導体の一般的なエステル反応によって合成でき、エステル結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体を脱水縮合する方法などがあげられる。
製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法が好ましい。
【００７８】
反応溶媒として炭化水素系溶媒（好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる。）、エーテル系溶媒（好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、反応溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。
【００７９】
反応温度としては、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃、更に好ましくは０〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。
本反応には塩基を用いないのが好ましく、塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、3級アルキルアミン（好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる）である。
【００８０】
一般式（Ｉ）で示される化合物および、少なくとも３つの置換基を有する環状化合物はそれぞれ、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１乃至２０質量部の範囲で使用する。一般式（Ｉ）で示される化合物および、少なくとも３つの置換基を有する環状化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５乃至１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。一般式（Ｉ）で示される化合物および、少なくとも３つの置換基を有する環状化合物はそれぞれ、２種以上の化合物を併用しても良い。
【００８１】
特開２００１−１６６１４４号公報に明記されているように、一般に円盤状化合物は、棒状化合物よりもレターデーション上昇効果が優れており、比較的少量の使用量でもセルロースエステルフイルムのレターデーションを上昇させることができる。しかし、Ｒｅレターデーション値のみでなくＲｔｈレターデーション値も上昇してしまうため、円盤状化合物のみを用いて、本発明の目的である、高Ｒｅレターデーション値を持ち、低Ｒｔｈレターデーション値を持つセルロースエステルフイルムを作製することは困難であった。
また、棒状化合物を使用すると、Ｒｅ／Ｒｔｈ比の大きいセルロースアセテートフイルムを作製することができるが、棒状化合物のみを用いて本発明の目的である高Ｒｅレターデーション値を達成するには、棒状化合物を多量に添加する必要がある。添加量が増えるとコスト的に不利になるばかりでなく、セルロースエステルフイルムの表面に析出（ブリードアウト）が生じやすくなり、製造適性上好ましくない。そのため、棒状化合物のみを用いて本発明の目的である光学性能を有したセルロースエステルフイルムを作製することも困難であった。
【００８２】
本発明者が鋭意研究した結果、円盤状化合物と棒状化合物（一般式（Ｉ）で示される化合物）を併用して添加することで、単純な足し合わせ効果のみでなく、予想以上の好ましい光学性能（高Ｒｅレターデーション値、低Ｒｔｈレターデーション値）を達成できることがわかった。
【００８３】
［セルロースアセテートフイルムの製造］
ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフイルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。
有機溶媒は、炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【００８４】
炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００８５】
一般的な方法でセルロースアシレート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。
セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０乃至４０℃）でセルロースアシレートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃至１１０℃である。
【００８６】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【００８７】
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアセテートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアセテートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアセテートを撹拌しながら徐々に添加する。
セルロースアシレートの量は、この混合物中に１０乃至４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【００８８】
次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【００８９】
さらに、これを０乃至２００℃（好ましくは０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよいし、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【００９０】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアシレート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保存する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアシレートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
なお、酢化度とは、セルロース単位重量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
【００９１】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレテートフイルムを製造する。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
【００９２】
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００９３】
セルロースアシレートフイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。
【００９４】
カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％であることがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが最も好ましい。
【００９５】
セルロースアセテートフイルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、劣化防止剤添加による効果が発現し、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）を抑制する観点から、調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ましく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【００９６】
［セルロースアシレートフイルムの延伸処理］
セルロースアセテートフイルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３乃至１００％であることが好ましい。
延伸方法は請求の範囲を逸脱しない範囲で既存の方法を用いることができるが、面内の均一性の観点から特にテンター延伸が好ましく用いられる。本発明のセルロースアシレートフイルムは少なくとも１００ｃｍ以上の幅であることが好ましく、全幅のＲｅ値のばらつきが±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることが更に好ましい。また、Ｒｔｈ値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラツキも幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。
【００９７】
また延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理しても良い。前者の場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行っても良く、延伸開始時の残留溶剤量が２乃至５０％であることが好ましい。延伸開始時の残留溶剤量とは、テンター延伸であれば、ウェブ（生乾きのドープ）の両端をクリップで掴み始めた時の残留溶剤量のことであり、５乃至５０％で延伸を開始することがさらに好ましく、１０乃至４５％で延伸を開始することが特に好ましい。なお、残留溶剤量は下記式で計算する。
（残留溶剤量）＝
１００×｛（ウェブ中の溶剤量）／（ウェブの全体量）｝
また、この際、フィルムを長手方向に搬送しながら長手方向と直交する方向に延伸して該フィルムの遅相軸が該フィルムの長尺方向に対して直交するようにすることが好ましい。
延伸温度は延伸時の残留溶剤量と膜厚によって適当な条件を選ぶことができる。
【００９８】
残留溶剤を含む状態で延伸した場合には、延伸後に乾燥させることが好ましい。乾燥方法は前記フィルムの製膜に記載の方法に準じて行うことができる。
延伸後のセルロースアセテートフイルムの厚さは、好ましくは２０乃至１６０μｍであり、より好ましくは６０乃至１１０μｍであり、８０乃至１１０μｍであることが最も好ましい。この膜厚は本発明の光学補償シートの膜厚に相当する。
【００９９】
［セルロースアシレートフイルムの波長分散］
光学補償シートに必要な性能として、Ｒｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値の波長分散形状が挙げられる。光学補償シートはネガティブリターダーとして働き、ポジティブリターダーである液晶を補償するため、可視光の全波長域で偏光を補償するには、光学補償シートのＲｔｈレターデーション値波長分散形状が液晶の波長分散形状と類似していることが必要である。現在、液晶セルに封入している液晶の波長分散形状はほとんどが順分散であることが知られているので、光学補償シートのＲｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値波長分散形状も、順分散形状であること、すなわち、７００ｎｍでのＲｅレターデーション値（Ｒｅ７００）と４００ｎｍでのＲｅレターデーション値（Ｒｅ４００）の差（Ｒｅ７００−Ｒｅ４００）が−２５ｎｍ乃至１０ｎｍであることが好ましく、−２５ｎｍ乃至５ｎｍであることがさらに好ましい。また、７００ｎｍでのＲｔｈレターデーション値（Ｒｔｈ７００）と４００ｎｍでのＲｔｈレターデーションの値（Ｒｔｈ４００）の差（Ｒｔｈ７００−Ｒｔｈ４００）が−５０nm乃至２０nmであることが好ましく、さらにはＲｔｈ７００−Ｒｔｈ４００が−５０ｎｍ乃至１０ｎｍであることが特に好ましい。
【０１００】
Ｒｅ７００−Ｒｅ４００及びＲｔｈ７００−Ｒｔｈ４００は、作製したセルロースアセテートフイルムについて、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長７００ｎｍおよび波長４００ｎｍにおけるＲthレターデーション値を測定し求めた。
【０１０１】
［Ｒｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値の湿度依存性］
Ｒｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値は、環境湿度による変化が小さいことが望まれる。
２５℃１０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値、Ｒｔｈレターデーション値と２５℃８０％ＲＨ環境下で測定したＲｅレターデーション値の差異（Ｒｅ１０％−Ｒｅ８０％（２５℃））、Ｒｔｈレターデーション値の差異（Ｒｔｈ１０％−Ｒｔｈ８０％（２５℃））も小さいことが好ましく、それぞれ２５ｎｍ以内、７０ｎｍ以内であることが好ましい。また、さらにはＲｅ１０％−Ｒｅ８０％（２５℃）が１５ｎｍ以内、Ｒｔｈ１０％−Ｒｔｈ８０％（２５℃）が５０ｎｍ以内であることが好ましく、特には、Ｒｅ１０％−Ｒｅ８０％（２５℃）が１０ｎｍ以内、Ｒｔｈ１０％−Ｒｔｈ８０％（２５℃）が４０ｎｍ以内であることが好ましい。
【０１０２】
［透湿度］
透湿度は、例えば試料７０ｍｍΦを２５℃９０％ＲＨで２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にてＪＩＳ  Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ２）し、
透湿度＝調湿後重量−調湿前重量
で求めることができる。
２５℃９０％ＲＨでの透湿度は２０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ乃至２５０ｇ／ｍ２・２４ｈｒであることが好ましく、さらには２０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ乃至２３０ｇ／ｍ２・２４ｈｒであることが特に好ましい。
【０１０３】
［寸度変化率］
寸法変化率は例えば、以下のように求めることができる。試料の縦方向、横方向より、３０ｍｍ幅×１２０ｍｍ長さの試験片を各３枚採取する。試験片の両端に６ｍｍΦの穴をパンチで１００ｍｍ間隔に開ける。これを２３±３℃、相対湿度６５±５％の室内で２時間以上調湿する。自動ピンゲージ（新東科学（株）製）を用いてパンチ間隔の原寸（Ｌ１）を最小目盛り／１０００ｍｍまで測定する。次に試験片を９０℃±１℃の恒温器に吊して２４時間熱処理し、２３±３℃、相対湿度６５±５％の室内で２時間以上調湿した後、自動ピンゲージで熱処理後のパンチ間隔の寸法（Ｌ２）を測定する。そして以下の式により寸度変化を算出する。
寸度変化率＝（Ｌ２−Ｌ１／Ｌ１）×１００
【０１０４】
［高湿寸度変化率］
高湿寸度変化率例えば、以下のように求めることができる。試料の縦方向、横方向より、３０ｍｍ幅×１２０ｍｍ長さの試験片を各３枚採取する。試験片の両端に６ｍｍΦの穴をパンチで１００ｍｍ間隔に開ける。これを２３±３℃、相対湿度６５±５％の室内で２時間以上調湿する。自動ピンゲージ（新東科学（株）製）を用いてパンチ間隔の原寸（Ｌ１）を最小目盛り／１０００ｍｍまで測定する。次に試験片を６０℃±１℃、相対湿度９０±５％の恒温恒湿器に吊して２４時間熱処理し、２３±３℃、相対湿度６５±５％の室内で２時間以上調湿した後、自動ピンゲージで熱処理後のパンチ間隔の寸法（Ｌ３）を測定する。そして以下の式により寸度変化を算出する。
寸度変化率＝（Ｌ３−Ｌ１／Ｌ１）×１００
９０℃Ｄｒｙ、６０℃９０％での寸度変化はともに小さいことが望まれ、それぞれ−０．２％以内であることが好ましく、さらには−０．１５％以内であることが好ましい。
【０１０５】
［セルロースアセテートフイルムの表面処理］
セルロースアセテートフイルムの表面エネルギーを５５乃至７５ｍＮ／ｍとすることが好ましく、そのためには、表面処理を施すことが好ましい。表面処理の例として、ケン化処理、プラズマ処理、火炎処理、および紫外線照射処理が挙げられる。ケン化処理には、酸ケン化処理およびアルカリケン化処理が含まれる。プラズマ処理にはコロナ放電処理およびグロー放電処理が含まれる。フィルムの平面性を保つために、これらの表面処理においては、セルロースアセテートフイルムの温度をガラス転移温度（Ｔｇ）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。これらの表面処理後のセルロースアセテートフイルムの表面エネルギーは５５乃至７５ｍＮ／ｍであることが好ましくい。
グロー放電処理は、１０−３〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体は、上記のような条件においてプラズマ励起される気体であり、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００ｋｅＶ下で２０〜５００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００ｋｅＶ下で２０〜３００ｋＧｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。
【０１０６】
アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法または鹸化液をセルロースアシレートフィルム塗布する方法で実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５秒以上５分以下がさらに好ましく、２０秒以上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。  
【０１０７】
これらの方法で得られた固体の表面エネルギーは「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアセテートフイルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種類の溶液をセルロースアセテートフイルムに滴下し、液滴の表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出できる。
【０１０８】
セルロースアセテートフイルムに上記の表面処理を実施することにより、フィルムの表面エネルギーが５５乃至７５ｍＮ／ｍであるセルロースアセテートフイルムを得ることができる。このセルロースアセテートフイルムを偏光板の透明保護膜とすることにより、偏光膜とセルロースアセテートフイルムの接着性を向上させることができる。また、本発明のセルロースアセテートフイルムをＯＣＢモードの液晶表示装置に用いる場合、本発明の光学補償シートは、セルロースアセテートフイルム上に配向膜を形成し、その上に円盤状化合物もしくは棒状液晶化合物を含む光学異方性層を設けても良い。光学異方性層は、配向膜上に円盤状化合物（もしくは棒状液晶化合物）を配向させ、その配向状態を固定することにより形成する。このようにセルロースアセテートフイルム上に光学異方性層を設ける場合、従来ではセルロースアセテートフイルムと配向膜との接着性を確保するために、両者の間にゼラチン下塗り層を設ける必要があったが、本発明の、表面エネルギーが５５乃至７５ｍＮ／ｍであるセルロースアセテートフイルムを用いることにより、ゼラチン下塗り層を不要とすることができる。
【０１０９】
以上説明した、少なくとも一種以上の、一般式（Ｉ）で示される化合物と、少なくとも一種以上の、少なくとも３つの置換基を有する環状化合物を含んで延伸され、上記レターデーション値Ｒｅ、Ｒｔｈ、およびＲｅ／Ｒｔｈ比を満たし、膜厚が２０μｍ〜１６０μｍのセルロースアシレートフイルムは、一枚だけで光学補償シートとして機能する。
【０１１０】
［偏光板］
偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護膜として、上記のセルロースアシレートフイルムからなる光学補償シートを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフイルムを用いてもよい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。
セルロースアシレートフイルムからなる光学補償シートの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。
【０１１１】
［偏光度変化］
偏光板の性能は、下記数式（３）で定義される単板透過率及び下記数式（５）で定義される偏光度で評価される。
上述の単板透過率は、ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１に基づいて、下記数式（３）で定義される。
数式（３）
【０１１２】
【数１】
2005275350.tif 000017
【０１１３】
ここで、Ｋ、Ｓ（λ）、ｙ（λ）、τ（λ）は以下の通りである。
【０１１４】
【数２】
2005275350.tif 000018
【０１１５】
Ｓ（λ）：色の表示に用いる標準光の分光分布
ｙ（λ）：ＸＹＺ系における等色関数
τ（λ）：分光透過率
数式（５）
【０１１６】
【数３】
2005275350.tif 000019
平行透過率、直交透過率は、上述の単板透過率同様、数式（３）で定義される。
【０１１７】
偏光板は、高湿条件での使用に耐えるため、高湿条件で放置しても偏光度の変化が少ないことが求められる。本発明では、６０℃９５％ＲＨ雰囲気下で５００時間経時した前後での偏光度を測定し、下記式（６）にしたがって偏光度変化を調べた。各透過率は島津自記分光光度計ＵＶ３１００にて測定した。
偏光度変化＝経時後サンプルの偏光度―経時前サンプルの偏光度          式（６）
本発明のセルロースアセテートフイルムを偏光板保護膜として使用した場合の６０℃９５％ＲＨ雰囲気下５００時間経時後の偏光度変化は３％以内であることが好ましく、２％以内であることがさらに好ましい。
【０１１８】
[反射防止層]
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される透明保護膜には反射防止層を設けることが好ましい。特に本発明では透明保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層又は透明保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。
【０１１９】
透明保護膜上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層の好ましい例について述べる。
本発明の光散乱層には、マット粒子が分散しており、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は１．３５〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明においては光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。
【０１２０】
反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ＊値−２〜２、ｂ＊値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ＊値が０〜３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。また、面光源上と本発明の反射防止フィルムの間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入してフィルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明のフィルムを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。
【０１２１】
本発明の反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０度光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０.５％以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２度傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。
【０１２２】
[低屈折率層]
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９であり、好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式（III）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（III）
（ｍ/４）×０．７＜ｎ1ｄ1＜（ｍ/４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
【０１２３】
本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含む。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。
【０１２４】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【０１２５】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０１２６】
架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【０１２７】
また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【０１２８】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。
【０１２９】
[光散乱層]
光散乱層は、表面散乱および／または内部散乱による光拡散性と、フィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。
【０１３０】
光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する目的で、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が不足となる。
【０１３１】
散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。
【０１３２】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
【０１３３】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【０１３４】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。
【０１３５】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。
【０１３６】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【０１３７】
光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。
【０１３８】
また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。
【０１３９】
さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。
【０１４０】
上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ2となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【０１４１】
光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯとＳｉＯ2等が挙げられる。ＴｉＯ2およびＺｒＯ2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
【０１４２】
光散乱層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
【０１４３】
光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。
【０１４４】
次に透明保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層について述べる。
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
又、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。
例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。又、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。又膜の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０１４５】
［高屈折率層および中屈折率層］
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１1−２９５５０３号公報、同１1−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（：特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤併用（例、特開平１１−１５３７０３号公報、特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性及び/又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも2個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
又、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
【０１４６】
［低屈折率層］
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１-４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造をを有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
又、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号[００２０]〜[００３８]に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０１４７】
［反射防止層の他の層］
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
【０１４８】
［ハードコート層］
ハードコート層は、反射防止層を設けた透明保護膜に物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ００／４６６１７号公報等記載のものが挙げられる。
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。又、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１４９】
[帯電防止層]
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が１０-8（Ωcm-3）以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により１０-8（Ωcm-3）の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色しているものがあるが、これらの金属酸化物を導電性層素材として用いるとフィルム全体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属としてZn、 Ti、 Al、 In、 Si、 Mg、 Ba、 Mo、 W、 又はVをあげることができ、これれを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例としては、ZnO、TiO2 、 SnO2、 Al2O3、 In2O3、 SiO2、 MgO、 BaO、 MoO3、 V2O5等、あるいはこれらの複合酸化物がよく、特にZnO、 TiO2、 及びSnO2が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばZnOに対してはAl、 In等の添加物、SnO2に対してはSb、Nb、ハロゲン元素等の添加、またTiO2に対してはNb、 TA等の添加が効果的である。更にまた、特公昭59-6235号に記載の如く、他の結晶性金属粒子あるいは繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。尚、体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較することはできないが、体積抵抗値で１０-8（Ωcm-3）以下の導電性を確保するためには、該導電層が概ね１０-10（Ω／cm3）以下の表面抵抗値を有していればよく更に好ましくは１０-8（Ω／cm3）である。導電層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値として測定されることが必要であり、本特許に記載の積層フィルムを形成する途中の段階で測定することができる。
【０１５０】
［液晶表示装置］
本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は、液晶表示装置に有利に用いられる。本発明の偏光板は、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。このうち、ＯＣＢモードまたはＶＡモードに好ましく用いることができる。
【０１５１】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置である。ＯＣＢモードの液晶セルは、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１５２】
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
ＯＣＢモードおよびＶＡモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に二枚の本発明の偏光板を配置してもよいし、ＶＡモードの場合、本発明の偏光板をセルのバックライト側に配置してもよい。そちらの場合も、本発明のセルロースアシレートフィルムが液晶セル側になるよう配置することが好ましい。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
【実施例】
【０１５３】
以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されない。
【０１５４】
実施例１  
［セルロースアシレートフィルムＡ１の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０１５５】
（セルロースアセテート溶液組成）                    
酢化度６０．９のセルロースアセテート                １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                       ３１８質量部
メタノール（第２溶媒）                                 ４７質量部
シリカ（粒径０．２μｍ）                              ０．１質量部
【０１５６】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション制御剤Ａを１０質量部、レターデーション制御剤Ｂを１０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０１を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０１を３６．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Ａ、Ｂの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、それぞれ、３質量部であった。
【０１５７】
レターデーション制御剤Ａ
【化１６】
2005275350.tif 000020
【０１５８】
レターデーション制御剤Ｂ
【化１７】
2005275350.tif 000021
【０１５９】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。延伸開始時の残留溶剤量が３２質量％のフイルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて２６％の延伸倍率で横延伸して、セルロースアセテートフイルム（厚さ：９２μｍ）を作成した。作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。結果を表１に示す。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した結果も同様に表１に示す。
【０１６０】
実施例２
［セルロースアシレートフイルムＡ２の作成］
延伸倍率を３０％にすること以外は実施例１と同様にしてセルロースアセテートフイルム（厚さ：９０μｍ）を作成した。作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１６１】
実施例３
［セルロースアシレートフイルムＡ３の作成］
延伸後の膜厚を８０μｍにすること以外は実施例１と同様にしてセルロースアセテートフイルム（厚さ：８０μｍ）を作成した。作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１６２】
実施例４
［セルロースアシレートフイルムＡ４の作成］
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０１を３１．３質量部を混合したこと以外は実施例１と同様にして、セルロースアセテートフイルム（厚さ：９２μｍ）を作製した。ドープ中のレターデーション調整剤A、Bの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、それぞれ、２．６質量部であった。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１６３】
実施例５
［セルロースアシレートフイルムＡ５の作成］
ミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Aを２．９質量部、レターデーション制御剤Bを１７．１質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０２を調製した。
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０２を４２．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して１質量部、レターデーション調整剤Bの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して６質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量１８％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２５％としたこと以外は実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９２μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１６４】
実施例６
［セルロースアシレートフイルムＡ６の作成］
ミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Aを８質量部、レターデーション制御剤Bを１２質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０３を調製した。
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０３を３０．１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して２質量部、レターデーション調整剤Bの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３４％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９３μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１６５】
実施例７
［セルロースアシレートフイルムＡ７の作成］
ミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Aを１４．３質量部、レターデーション制御剤Bを５．７質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０４を調製した。
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０４を４２．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して５質量部、レターデーション調整剤Bの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して２質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３０％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９１μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１６６】
実施例８
［セルロースアシレートフイルムＡ８の作成］
ミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Aを５質量部、下記のレターデーション制御剤Ｃを５質量部、前述のレターデーション制御剤Bを１０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０５を調製した。
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０５を３６．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して１．５質量部、レターデーション制御剤Ｃの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して１．５質量部、レターデーション調整剤Bの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３２％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９０μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１６７】
レターデーション制御剤Ｃ
【化１８】
2005275350.tif 000022
【０１６８】
実施例９
［セルロースアシレートフイルムＡ９の作成］
ミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Aを１０質量部、レターデーション制御剤Ｂを５質量部、下記式のレターデーション制御剤Dを５質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０６を調製した。
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０６を３６．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３質量部、レターデーション制御剤Bの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して１．５質量部、レターデーション調整剤Dの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して１．５質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３３％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９３μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１６９】
レターデーション制御剤Ｄ
【化１９】
2005275350.tif 000023
【０１７０】
実施例１０
［セルロースアシレートフイルムＡ１０の作成］
ミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Cを１０質量部、レターデーション制御剤Bを１０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０７を調製した。
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０７を３６．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション制御剤Cの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３質量部、レターデーション制御剤Bの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３質量部であった。
【０１７１】
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３１％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９２μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１７２】
実施例１１
［セルロースアシレートフイルムＡ１１の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
【０１７３】
（セルロースアシレート溶液組成）      
アセチル基の置換度１．９０、プロピオニル基の置換度０．８０のセルロースアセテートプロピオネート                                    １００質量部
トリフェニルホスフェート                          ８．５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                  ２．０質量部
メチレンクロライド                                ２９０質量部
エタノール                                          ６０質量部
【０１７４】
別のミキシングタンクに、セルロースアセテートプロピオネート５質量部、チヌビン３２６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）６質量部、チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）４質量部、チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５質量部、前述のレターデーション制御剤Aを８．３質量部、レターデーション制御剤Bを８．３質量部、を塩化メチレン９４質量部とエタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、添加剤溶液１を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に添加剤溶液１を７３質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３２％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を作成した。
【０１７５】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１７６】
実施例１２
［セルロースアシレートフイルムＡ１２の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
【０１７７】
（セルロースアシレート溶液組成）      
アセチル基の置換度０．１８、プロピオニル基の置換度２．４７のセルロースアセテートプロピオネート                                    １００質量部
トリフェニルホスフェート                          ８．０質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                  ４．０質量部
メチレンクロライド                                ４０３質量部
エタノール                                        ６０.３質量部
【０１７８】
別のミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Aを１２．０質量部、レターデーション制御剤Bを８．０質量部、を塩化メチレン８７質量部とエタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、添加剤溶液２を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に添加剤溶液２を９．９質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３２％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２３％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を作成した。
【０１７９】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１８０】
実施例１３
［セルロースアシレートフイルムＡ１３の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
【０１８１】
（セルロースアシレート溶液組成）      
アセチル基の置換度１．４０、ブチリル基の置換度１．３０のセルロースアセテートブチレート                                            １００質量部
トリフェニルホスフェート                          ８．５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                  ２．０質量部
メチレンクロライド                                ２９０質量部
エタノール                                          ６０質量部
【０１８２】
別のミキシングタンクに、セルロースアセテートブチレート５質量部、チヌビン３２６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）６質量部、チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）４質量部、チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５質量部、前述のレターデーション制御剤Aを１０．０質量部、レターデーション制御剤Bを６．６質量部、を塩化メチレン９４質量部とエタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、添加剤溶液３を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に添加剤溶液３を４３.５質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量２８％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は１８％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を作成した。
【０１８３】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１８４】
実施例１４
［セルロースアシレートフイルムＡ１４の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
【０１８５】
（セルロースアシレート溶液組成）      
アセチル基の置換度０．３０、ブチリル基の置換度２．５０のセルロースアセテートブチレート                                            １００質量部
トリフェニルホスフェート                          ８．０質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                  ４．０質量部
メチレンクロライド                                ４０３質量部
エタノール                                        ６０.３質量部
【０１８６】
別のミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Aを１２．９質量部、レターデーション制御剤Bを７．１質量部、を塩化メチレン８７質量部とエタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、添加剤溶液４を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に添加剤溶液４を２２．３質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３４％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は３０％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：７０μｍ）を作成した。
【０１８７】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１８８】
実施例１５  
［セルロースアシレートフイルムＡ１５の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。  
【０１８９】
（セルロースアセテート溶液組成）      
アセチル基の置換度２．７８、アセチル基の６位置換度/全置換度０．３３のセルロースアセテート                                          １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                       ４０３質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．２質量部
シリカ（粒径０．２μｍ）                              ０．１質量部
ここで、アセチル基の置換度とは  （ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）  のこと、アセチル基の６位置換度/全置換度とは  （ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６））  のことであり、ＤＳ２、ＤＳ３、ＤＳ６はそれぞれ、セルロースを構成するグルコース単位の２位、３位、６位の水酸基のアシル基による置換度である。
【０１９０】
別のミキシングタンクに、レターデーション制御剤Aを１３．１質量部、レターデーション制御剤Bを６．９質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０８を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０１を１７．３質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して２．３質量部、レターデーション調整剤Bの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して１．２質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３２％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２８％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：７０μｍ）を作成した。
【０１９１】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１９２】
実施例１６  
［セルロースアシレートフイルムＡ１６の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０１９３】
（セルロースアセテート溶液組成）      
アセチル基の置換度２．７５、アセチル基の６位置換度/全置換度０．３５のセルロースアセテート                                          １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ４０３質量部
メタノール（第２溶媒）                             ６０．２質量部
シリカ（粒径０．２μｍ）                            ０．１質量部
【０１９４】
別のミキシングタンクに、レターデーション制御剤Aを１２．０質量部、レターデーション制御剤Bを８．０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０９を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０１を９．９質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して１．２質量部、レターデーション調整剤Bの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して０．８質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３０％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は３０％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９０μｍ）を作成した。
【０１９５】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０１９６】
実施例１７  
［セルロースアシレートフイルムＡ１７の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。  
【０１９７】
（セルロースアセテート溶液組成）      
アセチル基の置換度２．７８、アセチル基の６位置換度/全置換度０．３３のセルロースアセテート                                          １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                       ４０３質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．２質量部
シリカ（粒径０．２μｍ）                            ０．１質量部
【０１９８】
別のミキシングタンクに、レターデーション制御剤Aを１２．０質量部、レターデーション制御剤Bを８．０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液１０を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０１を１９．８質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して２．４質量部、レターデーション調整剤Bの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して１．６質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量２８％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２５％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を作成した。
【０１９９】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２００】
実施例１８  
［セルロースアシレートフイルムＡ１８の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０２０１】
（セルロースアセテート溶液組成）      
アセチル基の置換度２．７５、アセチル基の６位置換度/全置換度０．３５のセルロースアセテート                                          １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                       ４０３質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．２質量部
シリカ（粒径０．２μｍ）                            ０．１質量部
【０２０２】
別のミキシングタンクに、レターデーション制御剤Aを１０．７質量部、レターデーション制御剤Bを９．３質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液１１を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御剤溶液１１を１４．８質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して１．６質量部、レターデーション調整剤Bの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して１．４質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３１％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２０％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９０μｍ）を作成した。
【０２０３】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２０４】
実施例１９  
［セルロースアシレートフィルムＡ１９の作成］
実施例１で作製した、セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０１を２４．７質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤A、Bの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、それぞれ、２．５質量部であった。
【０２０５】
残留溶媒量が３０％であったことと、延伸倍率を２５％にすること以外は実施例１と同様にしてセルロースアセテートフイルム（厚さ：１１０μｍ）を作製した。作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２０６】
実施例２０
［セルロースアシレートフイルムＡ２０の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
【０２０７】
（セルロースアシレート溶液組成）      
アセチル基の置換度１．９０、プロピオニル基の置換度０．８０のセルロースアセテートプロピオネート                                    １００質量部
トリフェニルホスフェート                          ８．０質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                  ４．０質量部
メチレンクロライド                                ４０３質量部
エタノール                                      ６０．３質量部
【０２０８】
別のミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Aを１２．０質量部、レターデーション制御剤Bを８．０質量部、を塩化メチレン８７質量部とエタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、添加剤溶液５を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に添加剤溶液５を２４．７質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３４％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２１％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を作製した。
【０２０９】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２１０】
実施例２１
［セルロースアシレートフイルムＡ２１の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
【０２１１】
（セルロースアシレート溶液組成）      
アセチル基の置換度０．１８、プロピオニル基の置換度２．４７のセルロースアセテートプロピオネート                                    １００質量部
トリフェニルホスフェート                          ８．５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                  ２．０質量部
メチレンクロライド                                ２９０質量部
エタノール                                          ６０質量部
【０２１２】
別のミキシングタンクに、セルロースアセテートプロピオネート５質量部、チヌビン３２６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）６質量部、チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）４質量部、チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５質量部、前述のレターデーション制御剤Aを１１．６質量部、レターデーション制御剤Bを５．０質量部、を塩化メチレン９４質量部とエタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、添加剤溶液６を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に添加剤溶液６を２８．８質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３０％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２５％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：７０μｍ）を作成した。
【０２１３】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２１４】
実施例２２
［セルロースアシレートフイルムＡ２２の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
【０２１５】
（セルロースアシレート溶液組成）      
アセチル基の置換度１．４０、ブチリル基の置換度１．３０のセルロースアセテートブチレート                                            １００質量部
トリフェニルホスフェート                          ８．０質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                  ４．０質量部
メチレンクロライド                                ４０３質量部
エタノール                                      ６０．３質量部
【０２１６】
別のミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Aを８．０質量部、レターデーション制御剤Bを１２．０質量部、を塩化メチレン８７質量部とエタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、添加剤溶液７を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に添加剤溶液７を１９．８質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量２８％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２８％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を作成した。
【０２１７】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２１８】
実施例２３
［セルロースアシレートフイルムＡ２３の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液を調製した。
【０２１９】
（セルロースアシレート溶液組成）      
アセチル基の置換度０．３０、ブチリル基の置換度２．５０のセルロースアセテートブチレート                                            １００質量部
トリフェニルホスフェート                          ８．５質量部
エチルフタリルエチルグリコレート                  ２．０質量部
メチレンクロライド                                ２９０質量部
エタノール                                          ６０質量部
【０２２０】
別のミキシングタンクに、セルロースアセテートブチレート５質量部、チヌビン３２６（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）６質量部、チヌビン１０９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）４質量部、チヌビン１７１（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５質量部、前述のレターデーション制御剤Aを１０．０質量部、レターデーション制御剤Bを６．６質量部、を塩化メチレン９４質量部とエタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、添加剤溶液８を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部に添加剤溶液８を４３.５質量部混合し、充分に攪拌してドープを調製した。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３２％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２５％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９０μｍ）を作成した。
【０２２１】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２２２】
実施例２４  
［セルロースアシレートフイルムＡ２４の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。  
【０２２３】
（セルロースアセテート溶液組成）      
アセチル基の置換度２．７８、アセチル基の６位置換度/全置換度０．３３のセルロースアセテート                                          １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ４０３質量部
メタノール（第２溶媒）                             ６０．２質量部
シリカ（粒径０．２μｍ）                            ０．１質量部
【０２２４】
別のミキシングタンクに、レターデーション制御剤Aを１２．０質量部、レターデーション制御剤Bを８．０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液１２を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御剤溶液１２を２４．７質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３．０質量部、レターデーション調整剤Bの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して２．０質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量２８％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２３％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：１００μｍ）を作成した。
【０２２５】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２２６】
実施例２５
［セルロースアシレートフイルムＡ２５の作成］
延伸倍率を２６％にすること以外は実施例２４と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：１００μｍ）を作成した。
【０２２７】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２２８】
実施例２６  
［セルロースアシレートフイルムＡ２６の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。  
【０２２９】
（セルロースアセテート溶液組成）      
アセチル基の置換度２．７５、アセチル基の６位置換度/全置換度０．３５のセルロースアセテート                                          １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                       ４０３質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．２質量部
シリカ（粒径０．２μｍ）                            ０．１質量部
【０２３０】
別のミキシングタンクに、レターデーション制御剤Aを１０．０質量部、レターデーション制御剤Bを１０．０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液１３を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御剤溶液１３を２９．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３．０質量部、レターデーション調整剤Bの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して３．０質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３４％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は３２％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を作成した。
【０２３１】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２３２】
実施例２７
［セルロースアシレートフイルムＡ２７の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。  
【０２３３】
（セルロースアセテート溶液組成）      
アセチル基の置換度２．８２、アセチル基の６位置換度/全置換度０．３２のセルロースアセテート                                          １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                       ４０３質量部
メタノール（第２溶媒）                              ６０．２質量部
シリカ（粒径０．２μｍ）                            ０．１質量部
【０２３４】
別のミキシングタンクに、レターデーション制御剤Aを１０．０質量部、レターデーション制御剤Bを１０．０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液１４を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御剤溶液１４を３１．１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３．８質量部、レターデーション調整剤Bの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して２．５質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３０％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２５％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９０μｍ）を作成した。
【０２３５】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２３６】
実施例２８
［セルロースアシレートフイルムＡ２７の作成］
下記のセルロースアセテート溶液組成の各成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。  
【０２３７】
（セルロースアセテート溶液組成）      
アセチル基の置換度２．８０、アセチル基の６位置換度/全置換度０．３２のセルロースアセテート                                          １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ４．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ４０３質量部
メタノール（第２溶媒）                             ６０．２質量部
シリカ（粒径０．２μｍ）                            ０．１質量部
【０２３８】
別のミキシングタンクに、レターデーション制御剤Aを１４．０質量部、レターデーション制御剤Bを６．０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液１５を調製した。
セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御剤溶液１５を３２．６質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Aの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して４．６質量部、レターデーション調整剤Bの添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して２．０質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３２％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２０％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：６０μｍ）を作成した。
【０２３９】
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２４０】
比較例１
［セルロースアシレートフイルムＢ１の作成］
ミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Aを２０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０８を調製した。
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０８を３６．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション制御剤Ａの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して６質量部であった。
【０２４１】
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量２８％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９３μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２４２】
比較例２
［セルロースアシレートフイルムＢ２の作成］
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０８を４５．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Ａの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して７．５質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量２６％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９０μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２４３】
比較例３
［セルロースアシレートフイルムＢ３の作成］
延伸倍率を３０％にしたこと以外は比較例２と同様にして、セルロースアセテートフィルム（厚さ：８９μｍ）を作製した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２４４】
比較例４
［セルロースアシレートフイルムＢ４の作成］
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０８を６０．３質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Ａの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して１０質量部であった。
バンド上に流延したところ、乾燥していくに伴い、フィルム表面に白味を帯びた結晶状の化合物が析出してきたため、フィルム作製を中止した。
【０２４５】
比較例５
［セルロースアシレートフイルムＢ５の作成］
ミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Ｂを２０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液０９を調製した。
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０９を１２．１質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Ｂの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して２質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３２％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９２μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２４６】
比較例６
［セルロースアシレートフイルムＢ６の作成］
延伸倍率を３０％としたこと以外は比較例５と同様にして、セルロースアセテートフイルム（厚さ：９０μｍ）を作製した。作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２４７】
比較例７
［セルロースアシレートフイルムＢ７の作成］
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液０９を３６．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Ｂの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して６質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３４％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９３μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２４８】
比較例８
［セルロースアシレートフイルムＢ８の作成］
延伸倍率を３０％としたこと以外は比較例７と同様にして、セルロースアセテートフイルム（厚さ：９１μｍ）を作製した。作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２４９】
比較例９
［セルロースアシレートフイルムＢ９の作成］
ミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Ａを１０質量部、レターデーション制御剤Ｃを１０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液１０を調製した。
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液１０を４５．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Ａの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３．７５質量部、レターデーション調整剤Ｃの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３．７５質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量２８％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９１μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２５０】
比較例１０
［セルロースアシレートフイルムＢ１０の作成］
ミキシングタンクに、前述のレターデーション制御剤Ｂを１０質量部、レターデーション制御剤Ｄを１０質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション制御剤溶液１１を調製した。
実施例１のセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション制御（上昇）剤溶液１０を３６．２質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション調整剤Ｂの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３質量部、レターデーション調整剤Ｄの添加量はセルロースアセテート１００質量部に対して３質量部であった。
バンド上に流延した後、剥ぎ取り、延伸開始時の残留溶剤量３３％で、テンター延伸機で横延伸した。延伸倍率は２６％とし、実施例１と同様にしてセルロースアセテートフィルム（厚さ：９２μｍ）を作成した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、KOBRA（２１ADH、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、波長分散形状、２５℃での光学性能の湿度依存性、透湿度、寸度変化率を測定した。結果を表１に示す。
【０２５１】
【表１】
2005275350.tif 000024
【０２５２】
実施例２９
〔偏光板Ａ１〜Ａ２８の作製〕
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
作製したセルロースアシレートフイルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。なお、ケン化処理は以下のような条件で行った。
１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製したセルロースアシレートフィルムＡ１を上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。 最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
鹸化処理後のセルロースアセテートフィルムについて、表面エネルギーを測定し求めた結果を表２に示す。
市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）に同様のケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の、作成したセルロースアセテートフィルムＡ１とは反対側に貼り付けた。
【０２５３】
偏光膜の透過軸と作成したセルロースアセテートフイルムの遅相軸とは平行になるように配置した。また、偏光膜の透過軸と市販のセルローストリアセテートフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。
このようにして偏光板Ａ１を作製した。同様にしてセルロースアシレートフイルムＡ２〜Ａ２８を用いた偏光板Ａ２〜Ａ２８を作製した。セルロースアシレートフイルムＡ２〜Ａ２８についても鹸化処理後のセルロースアセテートフイルムについて、表面エネルギーを測定し求めた結果を表２に示す。
作製した偏光板の光学性能（単板透過率、偏光度）を、島津自記分光光度計ＵＶ３１００にて測定したのち、６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿器に偏光板を静置し、５００時間経時させた。経時後のセルロースアセテートフイルムについても同様に光学性能を測定し、偏光度の変化を求めた。結果を表３に示す。
【０２５４】
比較例１１
〔偏光板Ｂ１〜Ｂ１０の作製〕
実施例２９と同様にして、セルロースアシレートフイルムＢ１〜Ｂ１０を用いた偏光板Ｂ１〜Ｂ１０を作製した。セルロースアシレートフイルムＢ１〜Ｂ１０についても鹸化処理後のセルロースアセテートフイルムについて、表面エネルギーを測定し求めた結果を表２に示す。
実施例１２と同様にして求めた偏光度変化の値を表３に示す。
【０２５５】
【表２】
2005275350.tif 000025
【０２５６】
【表３】
2005275350.tif 000026
【０２５７】
実施例３０
〔偏光板Ｃ１および液晶表示装置の作成と評価〕
（光散乱層用塗布液の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（PETA、日本化薬（株）製）５０ｇをトルエン３８．５ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を２ｇ添加し、混合攪拌した。 この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
【０２５８】
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１．７ｇおよび平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．７５ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を１０ｇを加え、完成液とした。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光散乱層の塗布液を調製した。
【０２５９】
（低屈折率層用塗布液の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、ゾル液a ０．６ｇおよびメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノ０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
【０２６０】
（反射防止層付き透明保護膜０１の作製）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、上記の機能層（光散乱層）用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ/分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。
該機能層（光散乱層）を塗設したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、該調製した低屈折率層用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ/分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取った。
【０２６１】
（偏光板Ｃ１の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
作製した反射防止層付き透明保護膜０１に実施例２９と同様のケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。
実施例１で作製したセルロースアセテートフイルムＡ１に実施例２９と同様のケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。
【０２６２】
偏光膜の透過軸と実施例１で作製したセルロースアセテートフイルムの遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と市販のセルローストリアセテートフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板Ｃ１を作製した。
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を求めたところ、２．３％であった。
実施例１の代わりに実施例２乃至１８で作成したセルローストリアセテートフイルムからも同様にして偏光板Ｃ２乃至Ｃ１８を作製した。
【０２６３】
実施例３１
（ハードコート層用塗布液の調製）
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）７５０．０重量部に、重量平均分子量３０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０重量部、メチルエチルケトン７３０．０ｇ、シクロヘキサノン５００．０ｇ及び光重合開始剤（イルガキュア１８４、日本チバガイギー（株）製）５０．０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
【０２６４】
（二酸化チタン微粒子分散液の調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９、石原産業（株）製）を使用した。
この粒子２５７．１ｇに、下記分散剤３８．６ｇ、およびシクロヘキサノン７０４．３ｇを添加してダイノミルにより分散し、重量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。
【０２６５】
【化２０】
2005275350.tif 000027
【０２６６】
（中屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液８８．９ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）５８．４ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７）３．１ｇ、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１ｇ、メチルエチルケトン４８２．４ｇおよびシクロヘキサノン１８６９．８ｇを添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。
【０２６７】
（高屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液５８６．８ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）４７．９ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）４．０ｇ、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．３ｇ、メチルエチルケトン４５５．８ｇ、およびシクロヘキサノン１４２７．８ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製した。
【０２６８】
（低屈折率層用塗布液の調製）
本発明に係る共重合体（Ｐ−１）をメチルイソブチルケトンに７質量％の濃度になるように溶解し、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）を固形分に対して３％、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）を固形分に対して５質量％添加し、低屈折率層用塗布液を調製した。
【０２６９】
【化２１】
2005275350.tif 000028
【０２７０】
（反射防止層付透明保護膜０２の作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。
【０２７１】
中屈折率層の乾燥条件は１００℃、２分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2 の照射量とした。硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであった。
【０２７２】
高屈折率層および低屈折率層の乾燥条件はいずれも９０℃、１分の後、１００℃、１分とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2 、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍ、低屈折率層は屈折率１．４４０、膜厚８５ｎｍであった。このようにして、反射防止層付き透明保護膜０２を作製した。
【０２７３】
（偏光板Ｄ１の作製）
反射防止層付き透明保護膜０１の代わりに反射防止層付き透明保護膜０２を用いた以外は実施例３０と同様にして偏光板Ｄ１を作製した。
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を求めたところ、０．４％であった。
実施例１の代わりに実施例２乃至１８で作成したセルローストリアセテートフイルムからも同様にして偏光板Ｄ２乃至Ｄ１８を作製した。
【０２７４】
比較例１２
（偏光板Ｅ１の作製）
実施例１で作製したセルロースアセテートフイルムＡ１の変わりに、比較例１で作製したセルロースアセテートフイルムＢ１を用いた以外は実施例３０と同様に偏光板を作製した。また、比較例２乃至１０で作製したセルロースアセテートフイルムを用いて同様に偏光板Ｅ２乃至Ｅ１０を作製した。
【０２７５】
比較例１３
（偏光板Ｆ１の作製）
実施例１で作製したセルロースアセテートフイルムＡ１の変わりに、比較例１で作製したセルロースアセテートフイルムＢ１を用いた以外は実施例３１と同様に偏光板を作製した。また、比較例２乃至１０で作製したセルロースアセテートフイルムを用いて同様に偏光板Ｆ２乃至Ｆ１０を作製した。
【０２７６】
実施例３２
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、実施例１作製した光学補償シートを使用し、実施例２９で作製した偏光板を、実施例１で作製したセルロースアセテートフイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。
下記表４に示したとおり、本発明の偏光板を具備することにより広い視野角が実現できていた。
実施例２至１８で作製した光学補償シートを使用して作製した偏光板を使った場合についても同様の結果が得られた。
【０２７７】
実施例３３
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、実施例１で作製した光学補償シートを使用し、実施例３０で得た偏光板を実施例１で作製したセルロースアセテートフイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。
下記表４に示したとおり、本発明の偏光板を具備することにより広い視野角が実現できていた。
実施例２乃至１８で作製した光学補償シートを使用して作製した偏光板を使った場合についても同様の結果が得られた。
【０２７８】
実施例３４  
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、実施例１で作製した光学補償シートを使用し、実施例３１で作製した偏光板を、実施例１で作製したセルロースアセテートフイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。
下記表４に示したとおり、本発明の偏光板を具備することにより広い視野角が実現できていた。
実施例２乃至１８で作製した光学補償シートを使用して作製した偏光板を使った場合についても同様の結果が得られた。
【０２７９】
実施例３５
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、実施例１９で作製した光学補償シートを使用し、実施例２９で作製した偏光板を、実施例１９で作製したセルロースアセテートフイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、バックライト側に一枚貼り付けた。観察者側の偏光板には、視野角補償板のない市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、サンリッツ（株）製）を一枚貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。
下記表４に示したとおり、本発明の偏光板を具備することにより広い視野角が実現できていた。
実施例２０至２８で作製した光学補償シートを使用して作製した偏光板を使った場合についても同様の結果が得られた。
【０２８０】
比較例１４
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＶＬ−１５３０Ｓ、富士通（株）製）について、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。結果を表４に示す。本発明の偏光板を用いた場合と比較して視野角が狭いことが分かる。
【０２８１】
比較例１５
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、比較例１で作製したセルロースアセテートフイルムを用いて比較例１１で作製した偏光板を、比較例１で作製したセルロースアセテートフイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向は黒表示が実現できていたが、視野角方向は本発明に劣っていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。結果を表４に示す。本発明の偏光板を用いた場合と比較して視野角が狭いことが分かる。
比較例２乃至１０で作製した偏光板を使用した場合にも本発明の偏光板を用いた場合と比較して視野角が狭いことが分かった。
【０２８２】
比較例１６
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、比較例１で作製したセルロースアセテートフイルムを用いて比較例１２で作製した偏光板を、比較例１で作製したセルロースアセテートフイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向はニュートラルな黒表示が実現できていたが、視野角方向は本発明に劣っていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。結果を表４に示す。本発明の偏光板を用いた場合と比較して視野角が狭いことが分かる。
比較例２乃至１０で作製した偏光板を使用した場合にも本発明の偏光板を用いた場合と比較して視野角が狭いことが分かった。
【０２８３】
比較例１７
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、比較例１で作製したセルロースアセテートフイルムを用いて比較例１３で作製した偏光板を、比較例１で作製したセルロースアセテートフイルムが液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向はニュートラルな黒表示が実現できていたが、視野角方向は本発明に劣っていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。結果を表４に示す。本発明の偏光板を用いた場合と比較して視野角が狭いことが分かる。
比較例２乃至１０で作製した偏光板を使用した場合にも本発明の偏光板を用いた場合と比較して視野角が狭いことが分かった。
【０２８４】
比較例１８
実施例１９で作製したセルロースアセテートフィルムの代わりに、比較例８で作製したセルロースアセテートフイルムを用いた以外は、実施例３５と同様にして、液晶表示層を作製した。作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向ではニュートラルな黒表示が実現できていたが、視野角方向では本発明に劣っていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。結果を表４に示す。本発明の偏光板を用いた場合と比較して視野角が狭いことが分かる。
【０２８５】
【表４】
2005275350.tif 000029
【０２８６】
実施例３６
（ＯＣＢ型（ベンド配向）液晶セルの作製）
ＴＦＴ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップ（二枚のガラス基板の隙間）にフッ素系液晶化合物（物性値はΔｎ＝０．１６、Δε＝９．３、ｋ11＝１３．４ｐＮ、ｋ22＝７．４ｐＮ、ｋ33＝１４．７ｐＮ）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
（光学的位相差補償フイルムの作製）
実施例１で作製したセルロースアセテートフイルムＡ１上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2 塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、セルロースアセテートフイルムの遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と４５゜の方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
【０２８７】
【表５】
2005275350.tif 000030
【０２８８】
【化２２】
2005275350.tif 000031
【０２８９】
得られた配向膜の上に、下記のディスコティック液晶ＴＥ−１とエチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（V#３６０、大阪有機化学（株）製）を質量比９対１で混合してメチルエチルケトンを加え、全体として１０質量％の溶液を調整した。得られた溶液をスピンコート法により２０００ｒｐｍで塗布を行い、１４５℃まで昇温して熱処理した。その後室温まで冷却し、厚さ１．４μｍの（ディスコティック）液晶層を形成した。波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は３０ｎｍであった。また、円盤面と支持体（セルロースアセテートフイルム）面との間の角度は平均で３６゜であった。このようにして光学的位相差補償フイルムを作製した。
【０２９０】
【化２３】
2005275350.tif 000032
【０２９１】
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した光学的位相差補償フイルムのセルロースアセテートフイルム側を、セルロースアセテートフイルムの遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように、偏光膜の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。
【０２９２】
得られたベンド配向セルを挟むように、作製した偏光板を二枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモードとした。透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比として、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。結果を表６に示す。
【０２９３】
比較例１８
市販のセルロースアセテートフイルム（富士タックＴＤ８０、富士写真フイルム（株）製）に、実施例３６と同様にして、表面処理、配向膜と液晶分子の塗設、偏光板の作製、ＯＣＢ型液晶装置の作製を行った。作製した液晶表示装置の視野角を測定した結果を表６に示す。
【０２９４】
（液晶表示装置の評価）
実施例３６、および比較例１８で作製した液晶表示装置の視角特性の結果を以下に示す。
【０２９５】
【表６】
2005275350.tif 000033
【０２９６】
実施例３６で作製した液晶表示装置は、比較例１８で作製した液晶表示装置に比較して広視野角を得た。
また、実施例３６で、実施例１で作製したセルロースアセテートフイルムを用いる代わりに実施例２乃至１８で作製したセルロースアセテートフイルムを用いた場合にも、同様に広視野角が得られた。