(57)【要約】【課題】  基板の前処理面に処理液を均一かつ高速に塗布することにより基板全体において均一に所定の処理を行うことができ、かつ基板の損傷を防止する。【解決手段】  現像液塗布ノズル９を、塗布開始位置から基板２の搬送方向と逆方向に移動させながら、基板２の前処理面に対して現像液１１を塗布でき、基板２に現像液１１を塗布した後、基板２の搬送速度より速い速度によって塗布開始位置まで移動させて、次に搬送される基板２に対し現像液１１を塗布できるように設ける。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面が前処理されている基板を水平方向に搬送する基板搬送手段を備え、搬送される前記基板の前処理面に対し、所定の処理を行うための処理液を塗布する処理液塗布ノズルを有する処理液塗布装置において、
前記処理液塗布ノズルが、前記基板に前記処理液の塗布を開始する塗布開始位置から前記基板の搬送方向と逆方向に移動しながら、前記基板の前処理面に対して前記処理液を塗布できるように設けられていることを特徴とする処理液塗布装置。
【請求項２】
前記処理液塗布ノズルが、前記基板に処理液を塗布した後、前記基板の搬送速度より速い速度によって前記塗布開始位置まで移動し、前記基板の次に搬送される基板に対し前記処理液を塗布できるように設けられている請求項１に記載の処理液塗布装置。
【請求項３】
前記処理液塗布ノズルが、前記基板に前記処理液を塗布した後、前記基板の次に搬送される基板に前記処理液を塗布するまでの間、前記処理液の吐出を停止できるように設けられている請求項１または２に記載の処理液塗布装置。
【請求項４】
前記処理液塗布ノズルが、前記基板の幅寸法に対応する幅寸法に形成され、前記処理液塗布ノズルの内部が、その内部に設けられた仕切壁により幅方向における中央部分および両端部分に分けられて処理液塗布室とされ、前記各処理液塗布室に前記処理液を供給するための配管がそれぞれ設けられている請求項１から３のいずれか１項に記載の処理液塗布装置。
【請求項５】
一方の面が前処理されている基板を基板搬送手段により水平方向に搬送し、搬送される前処理に対して、所定の処理を行うための処理液を処理液塗布ノズルにより塗布する処理液塗布方法において、
前記基板に前記処理液の塗布を開始する塗布開始位置から前記処理液塗布ノズルを前記基板の搬送方向と逆方向に移動しながら、前記基板の前処理面に対して前記処理液を塗布し、次いで、前記基板の搬送速度より速い速度によって前記処理液塗布ノズルを前記塗布開始位置まで移動して、前記基板の次に搬送される基板に対し前記処理液を塗布することを特徴とする処理液塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所定の処理を行うために用いる処理液を基板に塗布する処理液塗布装置および処理液塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、例えば基板上に形成されたレジストを現像するための現像装置や、前記基板上に成膜された膜材料をエッチングするためのエッチング装置においては、現像処理を行うために用いられる現像液やエッチング処理を行うために用いられるエッチング液等の処理液を前記基板に対して塗布する処理液塗布装置が設けられている。
【０００３】
図４は、従来の処理液塗布装置の一例としての現像装置を示す模式的概念図であり、図４に示すように、前記現像装置２５においては、レジスト２６が一方の面に形成された基板２７が、現像装置入口部２８から搬入され、前記基板２７に現像液２９を塗布する現像液塗布装置３０を経て、前記現像液２９に反応して溶解したレジスト２６を洗い流す洗浄装置３１に搬送されるようになっている。
【０００４】
現像液塗布装置３０における基板２７の搬送方向の下流部には、基板２７のレジスト形成面上に現像液２９を塗布する現像液塗布ノズル３３が前記基板２７のレジスト形成面に対向するように固定して設けられている。現像液塗布ノズル３３は、図５に示すように、前記基板２７の幅寸法に対応する幅寸法に形成されており、前記現像液塗布ノズル３３には、幅方向における中央部に接続された１つの配管３４から現像液２９が供給され、現像液塗布ノズル３３のスリット状の吐出口３５からは、前記現像液２９が常時カーテン状に吐出するようになっている。そして、前記現像液塗布装置３０においては、吐出口３５から現像液２９を吐出する現像液塗布ノズル３３の下方を基板２７が搬送ベルトなどの基板搬送手段により水平に搬送されることにより、前記基板２７の全面に現像液２９が塗布されるようになっている。
【０００５】
しかし、このような従来の現像液塗布装置３０によれば、固定された現像液塗布ノズル３３の下方を基板２７が水平に搬送されることによって基板２７の全面に現像液２９が塗布されるようになっているため、１つの基板２７における最初に現像液２９が塗布される部分と最後に現像液２９が塗布される部分との間においてレジスト２６の現像時間に差が生じてしまう。
【０００６】
また、基板２７に塗布された現像液２９は、基板２７の幅方向の両端部の表面張力によって、基板２７の搬送方向における上流側に部分的に流れ込んでしまったり、さらには、現像液塗布ノズル３３から吐出される現像液２９が基板２７のレジスト形成面における現像液２９が塗布されていない部分に飛び散ってしまうことがある。
【０００７】
そして、上記のような場合には、レジスト２６の現像液２９による反応時間に差が生じてしまい、この結果、基板２７のレジスト形成面において現像ムラが発生してしまうという問題が生じていた。
【０００８】
さらに、従来の現像液塗布ノズル３３の幅寸法は、前述のように、基板２７の幅寸法に対応して形成され、前記現像液塗布ノズル３３には、幅方向における中央部に接続された１つの配管３４から現像液が供給されるようになっている。このため、現像液２９は、現像液塗布ノズル３３の内部においてまず中央部に供給され、その現像液２９が両端部に供給されるので、前記現像液塗布ノズル３３においては、その両端部分から吐出される現像液２９の量が、中央部分から吐出される現像液の量と比較して少ない量になってしまう。このため、前記現像液塗布装置３０においては、基板２７のレジスト形成面の中央部分により多量の現像液が吐出されてしまうおそれがあった。
【０００９】
また、上記問題を解決するため、現像液塗布装置３０において基板２７の搬送速度を高速にすることが考えられるが、現像液塗布装置３０の搬送ベルト３７と、現像装置入口部２８および洗浄装置３１の各搬送ベルト３８、３９とを別個に駆動しなければならなかった。また、前記基板２７が現像装置入口部２８の搬送ベルト３８から現像液塗布装置３０の搬送ベルト３７に乗り継ぐ際、または現像液塗布装置３０の搬送ベルト３７から洗浄装置３１の搬送ベルト３９に乗り継ぐ際に、前記基板２７が損傷してしまったり、さらには、基板２７が現像液塗布装置３０において高速で搬送されている際に前記基板２７が損傷してしまうおそれがあった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明はこれらの点に鑑みてなされたものであり、基板の前処理面に処理液を均一かつ高速に塗布することにより基板全体において均一に所定の処理を短時間で行うことができ、かつ基板の損傷を防止することができる処理液塗布装置および処理液塗布方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記目的を達成するため、請求項１に記載の発明に係る処理液塗布装置の特徴は、一方の面が前処理されている基板を水平方向に搬送する基板搬送手段を備え、搬送される基板の前処理面に対し、所定の処理を行うための処理液を塗布する処理液塗布ノズルを有する処理液塗布装置において、前記処理液塗布ノズルが、前記基板に前記処理液の塗布を開始する塗布開始位置から前記基板の搬送方向と逆方向に移動しながら、前記基板の前処理面に対して前記処理液を塗布できるように設けられている点にある。
【００１２】
また、請求項２に記載の発明に係る処理液塗布装置の特徴は、前記処理液塗布ノズルが、前記基板に処理液を塗布した後、前記基板の搬送速度より速い速度によって前記塗布開始位置まで移動し、前記基板の次に搬送される基板に対し前記処理液を塗布できるように設けられている点にある。
【００１３】
請求項３に記載の発明に係る処理液塗布装置の特徴は、前記処理液塗布ノズルが、前記基板に前記処理液を塗布した後、前記基板の次に搬送される基板に前記処理液を塗布するまでの間、前記処理液の吐出を停止できるように設けられている点にある。
【００１４】
請求項４位記載の発明に係る処理液塗布装置の特徴は、前記処理液塗布ノズルが、前記基板の幅寸法に対応する幅寸法に形成され、前記処理液塗布ノズルの内部が、その内部に設けられた仕切壁により幅方向における中央部分および両端部分に分けられて処理液塗布室とされ、前記各処理液塗布室に前記処理液を供給するための配管がそれぞれ設けられている点にある。
【００１５】
さらに、請求項５に記載の発明に係る処理液塗布方法の特徴は、一方の面が前処理されている基板を基板搬送手段により水平に搬送し、搬送される基板の前処理面に対して、所定の処理を行うための処理液を処理液塗布ノズルにより塗布する処理液塗布方法において、前記基板に前記処理液の塗布を開始する塗布開始位置から前記処理液塗布ノズルを前記基板の搬送方向と逆方向に移動しながら、前記基板の前処理面に対して前記処理液を塗布し、次いで、前記基板の搬送速度より速い速度によって前記処理液塗布ノズルを前記塗布開始位置まで移動して、前記基板の次に搬送される基板に対し前記処理液を塗布する点にある。
【００１６】
本発明に記載の処理液塗布装置および処理液塗布方法によれば、処理液塗布装置は、基板を水平に搬送するとともに処理液塗布ノズルを基板の搬送方向と逆方向に高速で移動させながらこの処理液塗布ノズルにより前記基板の前処理面に処理液を塗布するので、基板に対し高速に処理液を塗布することができる。
【００１７】
また、処理液塗布ノズルを基板の搬送方向と逆方向に移動することにより、処理液塗布装置における基板の搬送速度を高速にすることなく、基板に対して高速に処理液を塗布することができる。
【００１８】
さらに、処理液塗布ノズルの内部を、その内部に仕切壁を設けて中央部分の処理液塗布室と両端部分の各処理液塗布室とに仕切り、各処理液塗布室にそれぞれ個別の配管を接続して各処理液塗布室に処理液を供給すことにより、前記処理液塗布装置においては、処理液塗布ノズルの吐出口から均一に処理液を吐出することができる。
【発明の効果】
【００１９】
以上述べたように、本発明に係る処理液塗布装置および処理液塗布方法によれば、基板の前処理面の最初に処理液が塗布される部分と最後に処理液が塗布される部分との処理液による反応時間差を短縮することができる。また、高速に処理液を塗布することができるので、処理液が基板の搬送方向における上流側に部分的に流れ込んでしまったり、飛び散ったりすることを軽減することができる。これにより、処理液による反応時間に差が生じてしまうことを防止して、現像ムラ等の所定の処理による不具合が発生してしまうのを防止し、均一に処理を行うことができる。
【００２０】
さらに、基板の中央部分に多量の処理液が塗布されてしまうのを防止することができることにより、処理ムラの発生を防止し、基板の全面において均一な処理を行うことができる。
【００２１】
また、処理液塗布ノズルは、基板への処理液の塗布が終了した後、次に搬送される基板に処理液を塗布するまでの間、処理液の吐出を停止することにより、処理液塗布装置において使用する処理液の量を減らすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明に係る処理液塗布装置および処理液塗布方法の一実施形態を図１から図３を参照して説明する。ここで、本実施形態においては処理液として現像液を塗布する現像液塗布装置について説明するが、本発明の処理液塗布装置を用いて塗布される処理液は現像液に限定されるものではなく、例えばエッチング液等の種々の処理液を塗布する場合に用いることができる。
【００２３】
図１は、本実施形態に係る現像液塗布装置を備えた現像装置を示す模式的概念図であり、図１に示すように、前記現像装置１は、基板２上に形成されたレジスト３の現像処理を行うようになっている。
【００２４】
現像装置１は、現像装置１における基板２の搬送方向の最上流部に現像装置入口部５を有し、現像装置入口部５は、複数の基板２を連続して水平に搬送する基板搬送手段としての搬送ベルト６を有している。
【００２５】
現像装置１は、基板２の搬送方向における現像装置入口部５よりも下流側に、基板２上に形成されたレジスト３に現像液を塗布する現像液塗布装置８を有している。
【００２６】
この現像液塗布装置８は、現像装置入口部５から搬送される複数の基板２を連続して水平に搬送するための基板搬送手段としての搬送ベルト１２を有し、搬送ベルト１２の上方の所定の位置には、基板２のレジスト形成面に対向するように基板２のレジスト３に現像液を塗布する現像液塗布ノズル９が設けられ、現像液塗布ノズル９の下側に形成された吐出口１０からは、現像液１１が吐出されるようになっている。
【００２７】
現像液塗布装置８においては、基板２の搬送方向における最下流側が、基板２への現像液１１の塗布を開始する塗布開始位置とされており、現像液塗布ノズル９は、塗布開始位置から基板２の搬送方向と逆方向に移動した後、基板２の搬送速度より速い速度によって塗布開始位置に戻るように往復移動が可能とされている。
【００２８】
そして、前記現像液塗布ノズル９は、塗布開始位置から基板２の搬送方向と逆方向に移動しながら基板２に現像液１１を塗布し、基板２に現像液１１を塗布した後には、現像液塗布装置８における基板２の搬送速度と同一の速度または基板２の搬送速度よりも速い速度により前記塗布開始位置まで戻り、次の基板２が塗布開始位置に搬送されると、前記基板２に現像液１１を塗布するようになっている。
【００２９】
現像液塗布ノズル９は、現像液１１を吐出口１０から断続的に吐出可能に設けられている。そして、現像液塗布ノズル９は、基板２に現像液１１を塗布した後、塗布開始位置まで戻るように移動をし、次に搬送される基板２に現像液１１を塗布するまでの間、吐出口１０からの現像液１１の吐出を停止し、次に搬送される基板２が塗布開始位置に搬送されると、吐出口１０から現像液１１を吐出するようになっている。
【００３０】
さらに、現像液塗布ノズル９は、図２に示すように、基板２の幅寸法に対応する幅寸法に形成されており、現像液塗布ノズル９の内部には、仕切壁２２により幅方向における中央部分および両端部分にそれぞれ分けられた現像液塗布室１３が設けられている。各現像液塗布室１３には、各現像液塗布室１３に現像液を供給するための配管１４がそれぞれ接続されている。また、中央部分の現像液塗布室１３ａに接続される中央配管１４ａおよび両端部分の各現像液塗布室１３ｂに接続される各端部配管１４ｂは、現像液１１が貯留されている現像液タンク１５からそれぞれ異なるポンプ１６ａ、１６ｂによって汲み上げられた現像液１１を、別個に各現像液塗布室１３に供給するようになっており、中央配管１４ａと各端部配管１４ｂによって異なる量の現像液１１を異なる速度によって供給することができるようになっている。
【００３１】
本実施形態においては、中央配管１４ａは、各端部配管１４ｂと比較して直径が２倍の長さ寸法となる大きさに形成されており、また、ポンプ１６ａによって毎分あたりの中央配管１４ａに送られる現像液１１の量は、ポンプ１６ｂによって各端部配管１４ｂに送られる現像液１１の量よりも少なくなるようになっている。これにより、中央部分の現像液塗布室１３ａから吐出される現像液１１の吐出速度は、両端部分の各現像液塗布室１３ｂから吐出される現像液１１の吐出速度と比較して遅くなる。
【００３２】
また、現像液塗布ノズル９の内部には、その内部を各現像液塗布室１３に仕切るための仕切壁２２が設けられており、各仕切壁２２は、現像液塗布ノズル９の内部において吐出口１０に接しないように設けられている。これにより、各現像液塗布室１３は、現像液塗布ノズル９の内部における下方においてつながるように設けられている。
【００３３】
現像液塗布装置８における搬送ベルト１２の下方には、基板２に塗布された現像液１１のうち下方に流れ落ちる余分な現像液１１を貯留する貯留槽１８が設けられている。
【００３４】
現像装置１は、基板２の搬送方向における現像液塗布装置８の下流側に、現像液に溶解されたレジスト３を洗浄するための洗浄装置２０を有している。
【００３５】
洗浄装置２０は、現像液塗布装置８から搬送される複数の基板２を連続して水平に搬送するための搬送ベルト２１を有し、搬送ベルト２１により基板２を搬送しながら溶解されたレジスト３を洗い流すようになっている。
【００３６】
次に、本実施形態の作用について説明する。
【００３７】
まず、現像装置１は、現像装置入口部５の１ｍ／分の速度で駆動されている搬送ベルト６により基板２を水平に搬送し、続いて１ｍ／分の速度で駆動されている現像液塗布装置８の搬送ベルト１２により前記基板２を水平に搬送する。また、現像液タンク１５から各ポンプ１６ａ、１６ｂによって現像液１１を各配管１４に送り出す。
【００３８】
続いて、図３（ａ）に示すように、現像液塗布装置８において搬送された基板２の先端部分が、塗布開始位置に到達すると、現像液塗布ノズル９は、吐出口１０から現像液１１を吐出し、基板２に対し現像液１１の塗布を開始する。
【００３９】
現像液塗布ノズル９は、現像液１１の塗布を開始すると、図３（ｂ）に示すように、吐出口１０から現像液１１を吐出しながら基板２の搬送方向と逆方向に１０ｍ／分の速度で移動する。この間も、基板２は搬送ベルト１２によって一定の速度によって水平に搬送されている。
【００４０】
次に、基板２に対する現像液１１の塗布が終了すると、図３（ｃ）に示すように、現像液塗布ノズル９は、現像液１１の塗布が終了した基板２とこの基板２の次に搬送されている基板２との間において移動を停止するとともに現像液１１の吐出を停止し、その後、基板２の搬送方向と同一の方向に１ｍ／分以上の速度で移動する。
【００４１】
そして、現像液塗布ノズル９が塗布開始位置に到達した後、次に搬送されている基板２の先端部分が塗布開始位置に到達すると、図３（ｄ）に示すように、吐出口１０から現像液１１を吐出して、基板２に対し現像液１１の塗布を開始する。
【００４２】
このとき、現像液塗布ノズル９においては、現像液タンク１５からポンプ１６ｂにより汲み上げられた２０ｌ／分の量の現像液１１が各端部配管１４ｂを介して両端部分の各現像液塗布室１３ｂに供給されるとともに、ポンプ１６ａにより汲み上げられた１０ｌ／分の量の現像液１１が中央配管１４ａを介して中央部分の現像液塗布室１３ａに供給される。そして、各現像液塗布室１３から吐出口１０を介して同時に現像液１１が吐出されるが、両端部分の現像液塗布室１３からは、中央部分の現像液塗布室１３からと比較して速い速度で現像液１１が吐出されることとなる。
【００４３】
さらに、現像装置１は、１ｍ／分の速度で駆動されている洗浄装置２０の搬送ベルト２１により基板２を搬送し、洗浄装置２０は、基板２を搬送しながら現像液１１に反応して溶解したレジスト３を洗浄する。
【００４４】
なお、現像液塗布ノズル９や各搬送ベルト６、１２、２１の移動速度、および各現像液塗布室１３への現像液１１の供給量等は、本実施形態のものに限定されない。
【００４５】
本実施形態によれば、本現像液塗布装置８は、基板２を搬送するとともに現像液塗布ノズル９を基板２の搬送方向と逆方向に移動させながらこの現像液塗布ノズル９により前記基板２に現像液１１を塗布するので、基板２に対し高速に現像液１１を塗布することができる。
【００４６】
したがって、１つの基板２のうち最初に現像液１１が塗布される先端部分と最後に現像液１１が塗布される後端部分との間において、レジスト３の現像時間の差を短縮することができる。また、高速に現像液１１を塗布することができるので、現像液１１が基板２の搬送方向における上流側に部分的に流れ込んでしまったり、現像液１１が塗布されない部分に飛び散ったりすることを軽減することができる。これにより、基板２のレジスト形成面に現像液１１による反応時間の差が生じてしまうことを防止して、現像ムラの発生を防止し、均一に現像することができる。
【００４７】
また、現像液塗布ノズル９を基板２の搬送方向と逆方向に搬送することにより、現像液塗布装置８における基板２の搬送速度を高速にすることなく、基板２に対して高速に現像液１１を塗布することができる。
【００４８】
さらに、現像液塗布ノズル９は、１つの基板２への現像液１１の塗布が終了した後、次に搬送される基板２に現像液１１を塗布するまでの間、現像液１１の吐出を停止するので、現像液塗布装置８において基板２に使用する現像液１１の量を減らすことができる。
【００４９】
さらにまた、現像液塗布ノズル９は、中央部分の現像液塗布室１３と両端部分の各現像液塗布室１３とに仕切られており、各現像液塗布室１３には、別個のポンプ１６ａ、１６ｂによって汲み上げられた現像液１１がそれぞれ異なる配管１４を介して各現像液塗布室１３に供給される。このため、現像液塗布装置８においては、現像液塗布ノズル９から全体的に均一に現像液１１を吐出させることができる。これにより、基板２の中央部分に多量の現像液１１が塗布されてしまうのを防止して、現像ムラの発生を防止し、レジスト３を均一に現像することができる。
【００５０】
また、各現像液塗布室１３を仕切る仕切壁２２は、吐出口１０に接しないように形成され、各現像液塗布室１３が吐出口１０の近傍において隣接する各現像液塗布室１３につながって設けられているので、各現像液塗布室１３に供給されている現像液１１を吐出口１０から一体に吐出することができ、基板２に対しより均一に現像液１１を塗布することができる。
【００５１】
なお、本発明は前記実施形態に限定されるものではなく、必要に応じて種々変更することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明に係る処理液塗布装置を備えた処理装置の一実施形態を示す模式的概念図
【図２】図１の処理液塗布装置の処理液塗布ノズルをＡ方向から示す模式的側面図
【図３】（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）は、図１の処理液塗布装置の処理液塗布方法を示す模式的説明図
【図４】従来の処理液塗布装置を備えた処理装置の一例を示す模式的概念図
【図５】図４の処理液塗布装置の処理液塗布ノズルをＢ方向から示す模式的側面図
【符号の説明】
【００５３】
１  現像装置
２  基板
５  現像装置入口部
８  現像液塗布装置
９  現像液塗布ノズル
１０  吐出口
１１  現像液
１３ａ、１３ｂ  現像液塗布室
１４ａ、１４ｂ  配管
１５  現像液タンク
１６ａ、１６ｂ  ポンプ
２２  仕切壁
【図１】
2005185998.tif 000003
【図２】
2005185998.tif 000004
【図３】
2005185998.tif 000005
【図４】
2005185998.tif 000006
【図５】
2005185998.tif 000007