(57)【要約】【課題】十分な反射防止性、ディスプレイの視認性向上性能を有しながら耐傷性も向上されており、更には生産性にも優れた反射防止フィルム、この反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供する。【解決手段】透明支持体上に少なくとも１層の光散乱層を有し、大気圧近傍において高周波電圧の印加のもとで反応ガスを供給して形成した少なくとも１層以上薄膜層を有することを特徴とする反射防止フィルム、この反射防止フィルムが偏光板における偏光子の２枚の保護フィルムのうちの一方に用いられている偏光板、そして上記反射防止フィルムまたは偏光板がディスプレイの最表面に用いられている画像表示装置。【選択図】 なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に光散乱層が形成され、更に該光散乱層上に低屈折率層を含む１層以上の薄膜層が形成された反射防止フィルムであって、
前記光散乱層は、少なくとも１種の平均粒子径０．５〜５μｍの透光性粒子を透光性樹脂に分散してなり、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．２であり、かつ該透光性粒子が光散乱層全固形分の３〜３０質量％含有されてなる、塗布方式で形成された層であり、
前記低屈折率層は、大気圧または大気圧近傍の圧力下で反応ガスを送り込みながら、対向する電極間に高周波電圧を印加することによって電極間に配置された基材表面に形成されてなる、屈折率１.３０〜１.５５の層であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
透明支持体上に光散乱層が形成され、更に該光散乱層上に低屈折率層を含む１層以上の薄膜層が形成された反射防止フィルムであって、
前記光散乱層は、少なくとも１種の平均粒子径０．５〜５μｍの透光性粒子を透光性樹脂に分散してなり、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．２であり、かつ該透光性粒子が光散乱層全固形分の３〜３０質量％含有されてなる、塗布方式で形成された層であり、
該光散乱層及び該低屈折率層より屈折率の高い高屈折率層を、上記光散乱層と上記低屈折率層との間に少なくとも１層有することを特徴とし、該高屈折率層は大気圧または大気圧近傍の圧力下で反応ガスを送り込みながら、対向する電極間に高周波電圧を印加することによって電極間に配置された基材表面に形成されてなることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項３】
上記透光性粒子が、２種以上の透光性粒子からなり且つ該２種以上の透光性粒子の少なくとも２種の屈折率の差が０．０１〜０．２であることを特徴とする請求項１〜２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
上記反射防止フィルムの最表面が、算術平均粗さＲａが０．０２〜０．５μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍが５乃至１００μｍ、及び１０点平均粗さＲｚ／算術平均粗さＲａが１０以下である凹凸形状を有することを特徴とする請求項１〜３に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
上記低屈折率層が、酸化ケイ素及び／またはフッ素化合物を含む重合体を主成分とすることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
上記高屈折率層が、酸化チタンを主成分とし、屈折率が１.６以上であることを特徴とする請求項２〜５に記載の反射防止フィルム
【請求項７】
上記低屈折率層及び／または上記高屈折率層の膜厚分布が１ｍ2の面積中で５％以内であることを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
上記透明支持体と低屈折率層との間に、表面抵抗が１×１０11Ω／□以下で、かつ、ヘイズが１０％以下の透明帯電防止層を有することを特徴とする請求項１〜７の何れかに記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
上記低屈折率層の上に、ケイ素化合物及び／またはフッ素化合物からなり、水の接触角が７０度以上である防汚層が形成されていることを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れかに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、光散乱層の表面を水との接触角が７０度以下となるように親水化処理した後、該表面上に薄膜層を形成させることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１１】
透明支持体上に光散乱層が形成されたロール状の長尺フィルムに、該光散乱層表面の親水化処理と薄膜層の形成とを連続して行なうことを特徴とする請求項１０に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１２】
ロール状の長尺透明支持体上に、光散乱層の形成と、該光散乱層表面の親水化処理と、薄膜層の形成とを連続して行なうことを特徴とする請求項１０に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１３】
偏光板の片側に、請求項１〜９に記載の反射防止フィルムを保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。
【請求項１４】
請求項１〜９に記載の反射防止フィルムまたは請求項１３に記載の偏光板を、低屈折率層が視認者側に位置するように設置してなることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置に関し、更に詳細には、反射防止性、散乱性、耐傷性を持ちながら、かつ、高生産性の反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、一般に、屈折率の異なる層を積層し、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する機能と、表面に凹凸を形成することで反射光を散乱させて反射像をぼかす機能（防眩機能）とを併有しており、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のようなディスプレイ装置の最表面に配置し、ディスプレイ表面の外光反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止する。
一般に、防眩機能を付与するためには、透明樹脂中に粒子を分散させ、層の表面に凹凸を形成することが行われている。また、反射防止フィルムには、視野角特性の改善、ディスプレイのムラ隠し、高精細ディスプレイに表面凹凸を利用した防眩タイプの反射防止フィルムを組み合わせる場合の画像のギラツキ防止などの目的で光散乱性を付与する場合がある。光散乱性を付与する場合は透明樹脂中に屈折率の異なる０.５〜１０μｍ程度の粒子を分散させる。以上のような防眩機能付与のための粒子と光散乱性付与のための粒子は、1種類の粒子に両方の機能を有してもよいし、２種類以上の粒子で両方の機能を付与してもよいが、表面に凹凸を生じるため、その上に形成する１００ｎｍ程度の薄膜の光学干渉層を均一に付与することが難しい。
反射防止フィルムの層形成方法としては、一般に、塗布方式が、生産性が高い、層内に粒子が分散可能であるなどの面で有利とされているが、この方式では、下層の表面凹凸上に均一な膜厚で形成することが困難、膜の緻密性が悪い、溶剤使用のための環境負荷などの問題がある。一方、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などの真空成膜方式は、緻密で高精度の薄膜が形成されるが、生産性が低い、設備投資が大きく、コストが高いなどの問題点が有る。
以上より、性能面から考えると、塗布方式で防眩機能付与散乱層を形成した後、真空成膜法で光学干渉層を成膜することが望ましいが、真空成膜法の生産性、コストの問題の解決が必要であり、また、方式の異なる２つの層の密着性を付与することが難しいという問題がある。
また、近年、反射防止フィルムの表面に傷がつきやすいということが問題となっており、表面の耐傷性に優れた反射防止フィルムの開発も要望されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
以上要するに、従来提案されている反射防止フィルムでは、反射防止性、光散乱性、耐傷性等の要求されている性能を十分に満足すると共に生産性にも優れた反射防止フィルムは未だ提案されていないのが現状である。
本発明の目的は、反射防止性、散乱性、耐傷性を持ちながら、かつ、高生産性の反射防止フィルムを提供することにある。更には、そのような反射防止フィルムを用いた偏光板やディスプレイ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、防眩機能付与のための光散乱層を塗布方式で形成した後、薄膜層の形成に際して、常圧下でのプラズマ放電を利用した薄膜形成法を用いることにより、上記目的を達する反射防止フィルムを提供できることを見出した。
本発明によれば、下記構成の反射防止フィルム、偏光板、及びディスプレイ装置が提供され、上記目的が達成される。
（１）  透明支持体上に光散乱層が形成され、更に該光散乱層上に低屈折率層を含む１層以上の薄膜層が形成された反射防止フィルムであって、前記光散乱層は、少なくとも１種の平均粒子径０．５〜５μｍの透光性粒子を透光性樹脂に分散してなり、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．２であり、かつ該透光性粒子が光散乱層全固形分の３〜３０質量％含有されてなる、塗布方式で形成された層であり、前記低屈折率層は、大気圧または大気圧近傍の圧力下で反応ガスを送り込みながら、対向する電極間に高周波電圧を印加することによって電極間に配置された基材表面に形成されてなる、屈折率１.３０〜１.５５の層であることを特徴とする反射防止フィルム。
（２）透明支持体上に光散乱層が形成され、更に該光散乱層上に低屈折率層を含む１層以上の薄膜層が形成された反射防止フィルムであって、
前記光散乱層は、少なくとも１種の平均粒子径０．５〜５μｍの透光性粒子を透光性樹脂に分散してなり、該透光性粒子と該透光性樹脂との屈折率の差が０．０２〜０．２であり、かつ該透光性粒子が光散乱層全固形分の３〜３０質量％含有されてなる、塗布方式で形成された層であり、
該光散乱層及び該低屈折率層より屈折率の高い高屈折率層を、上記光散乱層と上記低屈折率層との間に少なくとも１層有することを特徴とし、該高屈折率層は大気圧または大気圧近傍の圧力下で反応ガスを送り込みながら、対向する電極間に高周波電圧を印加することによって電極間に配置された基材表面に形成されてなることを特徴とする反射防止フィルム。
（３）上記透光性粒子が、２種以上の透光性粒子からなり且つ該２種以上の透光性粒子の少なくとも２種の屈折率の差が０．０１〜０．２であることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の反射防止フィルム。
（４）上記反射防止フィルムの最表面が、算術平均粗さＲａが０．０２〜０．５μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍが５乃至１００μｍ、及び１０点平均粗さＲｚ／算術平均粗さＲａが１０以下である凹凸形状を有することを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（５）上記低屈折率層が、酸化ケイ素基及び／または含フッ素官能基を含む重合体を主成分とすることを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（６）高屈折率層が、酸化チタンを主成分とし、屈折率が１.６以上であることを特徴とする上記（２）〜（５）のいずれかに記載の反射防止フィルム
（７）低屈折率層及び／または高屈折率層の膜厚分布が１ｍ2の面積中で５％以内であることを特徴とする上記（１）〜（６）ののいずれかに記載の反射防止フィルム。
（８）透明支持体と低屈折率層との間に、表面抵抗が１×１０11Ω／□以下で、かつ、ヘイズが１０％以下の透明帯電防止層を有することを特徴とする上記（１）〜（７）の何れかに記載の反射防止フィルム。
（９）低屈折率層の上に、ケイ素化合物及び／またはフッ素化合物からなり、水の接触角が７０度以上である防汚層が形成されていることを特徴とする上記（１）〜（８）の何れかに記載の反射防止フィルム。
（１０）  上記（１）〜（９）の何れかに記載の反射防止フィルムの製造方法であって、光散乱層の表面を水との接触角が７０度以下となるように親水化処理した後、該表面上に薄膜層を形成させることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
（１１）透明支持体に光散乱層が形成されたロール状の長尺フィルムに、光散乱層表面の親水化処理と薄膜層の形成とを連続して行なうことを特徴とする上記（１０）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（１２）ロール状の長尺透明支持体上に、光散乱層の形成と、該光散乱層表面の親水化処理と、薄膜層の形成とを連続して行なうことを特徴とする上記（１０）に記載の反射防止フィルムの製造方法。
（１３）偏光板の片側に、上記（１）〜（９）に記載の反射防止フィルムを保護フィルムとして有することを特徴とする偏光板。
（１４）上記（１）〜（９）に記載の反射防止フィルムまたは上記（１３）に記載の偏光板を、低屈折率層が視認者側に位置するように設置してなる画像表示装置。
【発明の効果】
【０００５】
本発明の反射防止フィルムは、十分な反射防止性、光散乱性、耐傷性等の耐環境性に優れており、更に、生産性にも優れている。更に、本発明の反射防止フィルムを備えた画像表示装置及び本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板を備えた画像表示装置は、外光の映り込みや背景の映りこみが少なく、極めて視認性が高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の実施の一形態として好適な反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照しながら説明する。
ここで、図１は、本発明の反射防止フィルムの１実施形態を模式的に示す断面図である。
図１に示す反射防止フィルム１は、透明支持体２と、透明支持体２上に形成された光散乱層３（ハードコート、防眩機能付）と、低屈折率層７を含む薄膜層とからなる。そして、薄膜層は、光散乱層３側から順に、高屈折率層（透明帯電防止層）４、低屈折率層５、高屈折率層６、低屈折率層7、防汚層８の順序の層構成で形成されている。光散乱層３は、透光性樹脂中に透光性粒子である光散乱粒子９、防眩粒子１０が分散されて形成されている。
尚、本明細書において、物性値等の範囲を表す「数値Ａ〜数値Ｂ」の記載は「数値Ａ」以上「数値Ｂ」以下の意味を表す。
透光性樹脂の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、高屈折率層４の屈折率は１．６〜２．６の範囲にあることが好ましく、低屈折率層５の屈折率は１．３０〜１．５５の範囲である。
なお、図１の形態においては、光散乱粒子９と防眩粒子１０との２種類を用いた例により説明したが、１種類で両方の機能を有する粒子を用いることも可能である。
【０００７】
本発明の反射防止フィルムは、その表面凹凸形状として、算術平均粗さＲａが０．０２〜０．５μｍ、１０点平均粗さＲｚと中心線平均粗さＲａとの比Ｒｚ／Ｒａが１０以下、凹凸の平均間隔（平均山谷距離）Ｓｍが５〜１００μｍであるのが、均一な防眩性が達成されるので、好ましい。
【０００８】
なお、ここで記載した高屈折率、低屈折率及び後述する中屈折率とは、層相互の相対的な屈折率の高低をいう。すなわち、各層は高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞低屈折率層の屈折率の関係にある。
【０００９】
[光散乱層]
まず本発明の反射防止フィルムにおける光散乱層について説明する。
【００１０】
本発明において光散乱層は塗布方式で形成された層である。塗布液の溶媒組成としては、ケトン系溶剤を用いることが好ましく、単独及び混合のいずれでもよく、混合のときはケトン系溶媒の含有量が塗布組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
【００１１】
塗布溶媒は、ケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。例えば、沸点が１００℃以下の溶媒としては、ヘキサン（沸点６８．７℃、以下「℃」を省略する）、ヘプタン（９８．４）、シクロヘキサン（８０．７）、ベンゼン（８０．１）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８）、クロロホルム（６１．２）、四塩化炭素（７６．８）、１，２−ジクロロエタン（８３．５）、トリクロロエチレン（８７．２）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６）、ジイソプロピルエーテル（６８．５）、ジプロピルエーテル（９０．５）、テトラヒドロフラン（６６）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２）、酢酸メチル（５７．８）、酢酸エチル（７７．１）、酢酸イソプロピル（８９）などのエステル類、アセトン（５６．１）、２−ブタノン（＝メチルエチルケトン、７９．６）などのケトン類、メタノール（６４．５）、エタノール（７８．３）、２−プロパノール（８２．４）、１−プロパノール（９７．２）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６）、プロピオニトリル（９７．４）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２）、などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
【００１２】
沸点が１００℃以上の溶媒としては、例えば、オクタン（１２５．７）、トルエン（１１０．６）、キシレン（１３８）、テトラクロロエチレン（１２１．２）、クロロベンゼン（１３１．７）、ジオキサン（１０１．３）、ジブチルエーテル（１４２．４）、酢酸イソブチル（１１８）、シクロヘキサノン（１５５．７）、２−メチル−４−ペンタノン（＝ＭＩＢＫ、１１５．９）、１−ブタノール（１１７．７）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３）、 Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６）、ジメチルスルホキシド（１８９）、などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノン、である。
【００１３】
本発明の反射防止フィルムの製造において、光散乱層用塗布液は、該層を構成する固形組成物を前述の組成の溶媒で溶解、分散、希釈することにより調製される。塗布液濃度は、塗布液の粘度、層素材の比重などを考慮して適宜調節されることが好ましいが、５〜７０質量％が好ましく、より好ましくは１０〜６０質量％である。
また各々の機能層と低屈折率層の溶媒は同一組成であってもよいし、異なっていてもよい。
【００１４】
光散乱層は、ハードコート性を付与するための透光性樹脂、及び光散乱性を付与するための光散乱粒子を必須成分とし、好ましくは、更に、防眩性を付与するための防眩粒子、及び高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを添加してなる塗布液を上記透明支持体に塗布して形成される層である。
透光性樹脂としては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポリマーが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが好ましい。
【００１５】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル、〔例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート〕、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、ビニルベンゼン及びその誘導体〔例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。尚、本明細書において、「アクリレートまたはメタクリレート」の意味で「（メタ）アクリレート」を用いている。
【００１６】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【００１７】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、透光性粒子（マット粒子）及び無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムの光散乱層を形成することができる。
【００１８】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン及び２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン及びｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（P．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトン及びチオキサントンを挙げることができる。
【００１９】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾービスーイソブチロニトリル、２−アゾービスープロピオニトリル、２−アゾ−ビスーシクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【００２０】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子及び無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止フィルムの光散乱層を形成することができる。
【００２１】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基及び活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステル及びウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００２２】
光散乱層に用いられる前記透光性粒子は、光散乱性及び防眩性付与の目的で用いられるものであり、その平均粒径が０．５〜５μｍ、好ましくは１〜４μｍである。平均粒径が０．５μｍ未満あるいは５μｍを超えると、良好な光散乱性が得られない。光散乱層には、さらに粒径１００ｎｍ以下の無機フィラー粒子を含んでいてもよい。
前記透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、メタクリル粒子、架橋メタクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。
透光性粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。
【００２３】
また、粒子径の異なる２種以上の透光性粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止フィルムを貼り付けた場合に、上述したようなギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸（防眩性に寄与）により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する透光性粒子より小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なる透光性粒子を併用することにより大きく改善することができる。
このように２種以上の透光性粒子を用いる場合、用いる透光性粒子の屈折率の差（最も屈折率の高い粒子と最も屈折率の低い粒子との差）は０．０１〜０．２であるのが、防眩性と光散乱性付与の両立の点で好ましく、０．０２〜０.１８であるのが更に好ましい。すなわち、本発明においては、透光性粒子が、少なくとも２種類以上の透光性粒子からなり且つ該透光性粒子の屈折率の差が上述の範囲ないであるのが好ましい。
【００２４】
さらに、前記透光性粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つ透光性粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布とすることができる。
【００２５】
前記透光性粒子は、形成された光散乱層中に、光散乱層全固形分中に３〜３０質量％含有されるように配合される。好ましくは５〜２５質量％である。３質量％未満であると、光散乱効果が低下し、３０質量％を超えると、光透過性が低下する。
また、透光性粒子の密度は、好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ2、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ2である。
透光性粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【００２６】
光散乱層には、透光性粒子に加えて、層の屈折率を高めるために前記の無機フィラーを含有することが好ましい。無機フィラーは、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である。
また逆に、透光性粒子と透光性樹脂との屈折率差を大きくするために、高屈折率透光性粒子を用いた光散乱層では、層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯとＳｉＯ2等が挙げられる。ＴｉＯ2及びＺｒＯ2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーを用いる場合、その添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このような無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
【００２７】
本発明の光散乱層のバインダー及び無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
【００２８】
光散乱層の膜厚は１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。
【００２９】
また、本発明者等は、ゴニオフォトメーターで測定される散乱光の強度分布が視野角改良効果に相関することを確認した。すなわち、バックライトから出射された光が視認側の偏光板表面に設置された光散乱フィルムで散乱されればされるほど視野角特性がよくなる。しかし、あまり散乱されすぎると、後方散乱が大きくなり、正面輝度が減少する、あるいは、散乱が大きすぎて画像鮮明性が劣化する等の問題が生じる。従って、散乱光強度分布をある範囲に制御することが必要となる。そこで、鋭意検討の結果、所望の視認特性を達成するには、散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対して、特に視認角改良効果と相関ある３０°の散乱光強度が０．０１％〜０．２％であることが好ましく、０．０２％〜０．１５％が更に好ましく、０．０３％〜０．１％が特に好ましい。
散乱光プロファイルは、作成した光散乱フィルムについて、（株）村上色彩技術研究所製の自動変角光度計ＧＰ−５型を用いて測定できる。
【００３０】
本発明の反射防止フィルムにおける光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等のない面状均一性を高速塗布にて確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの表面改質剤、あるいはその両者を機能層形成用の塗布組成物中に含有することもできる。特にフッ素系の表面改質剤は、より少ない添加量において、反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
【００３１】
本発明の反射防止フィルムの光散乱層は以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず、層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、マイクログラビアコート法が特に好ましい。その後、光照射あるいは加熱して、層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これにより光散乱層が形成される。
【００３２】
本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜２００ｍｍ、好ましくは約２０〜１２０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、ハードコート層、光散乱層、フッ素ポリマー含有低屈折率層などをマイクログラビアコート法によって塗工することができる。
【００３３】
マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本/インチが好ましく、１００〜３００本/インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであることがより好ましく、支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ/分であることが好ましく、１〜５０ｍ/分がより好ましい。
【００３４】
[親水化処理]
上記光散乱層は、その上に薄膜層を設ける前に、その表面が親水化処理されて水の接触角が７０度以下とされているのが、薄膜層との密着性が向上する点で好ましい。
親水化処理方法としては、真空中で処理する方法と大気圧近傍で処理する方法がある。真空中で処理する方法としては、真空中にガスを導入し、電極に直流または高周波電圧を印加することでプラズマを発生させ、そのプラズマにより基材表面を処理する方法がある。また、大気圧近傍で処理する方法としては、ＵＶ照射処理、コロナ放電処理、グロー放電処理がある。親水化処理した光散乱層表面の親水性は水の接触角で測定することができる。水の接触角は上述のように７０度以下であることが望ましく、５０度以下であることがより望ましく、４０度以下であることが特に望ましい。水の接触角を低減できれば、親水化処理の方位はいずれの方法も選択可能であるが、生産性、処理コストを考えると大気圧近傍の処理が望ましく、特にコロナ放電処理、グロー放電処理が望ましい。これらの処理により、基材の表面が１ｎｍ以上１５０ｎｍ以下除去されることが望ましく、３ｎｍ以上８０ｎｍ以下除去されることがさらに望ましい。
表面処理の効果を上げるためには、光散乱層の形成材料中にエステル結合を有することが望ましい。エステル結合を有すると、コロナ放電処理、大気圧プラズマ放電処理により、エステル結合が開裂し、表面にカルボン酸基が生じることで、その上に形成する薄膜層との密着性が向上することができる。光散乱層中にエステル結合を有するために、バインダーポリマーとして、上述の２個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを有することが望ましく、モノマー成分中の１０％以上であることが望ましく、３０％以上であることが更に望ましく、５０％以上であることが特に望ましい。
また、光散乱層中に無機成分を含有させると、コロナ放電処理、グロー放電処理により、光散乱層表面を侵食することで、−ＣＯＯＨ、−Ｓｉ（Ｙ）2ＯＨ等の親水的な基を露出させ、薄膜層との密着性を向上させることができる。ＹはＯ、Ｎ、Ｃ等でＳｉに結合する基を表す。
【００３５】
[薄膜層]
本発明の反射防止フィルムは、ロール状の長尺フィルムからなる透明支持体に光散乱層を形成した後、全薄膜層を形成することにより製造される。
本発明においては、透明支持体は、長尺フィルム形状のものを用いるのが好ましく、使用時にはロール状で用いる。これにより、連続的に反射防止フィルムの製造を行える。
そして、透明支持体を送り出しながら、上述の光散乱層形成用の塗液を連続的に塗設することにより、光散乱層を形成することができる。
さらに、光散乱層表面の親水化処理は、光散乱層の塗設と連続して行なうことができる。さらには、光散乱層の塗設と、その表面の親水化処理と、薄膜層の形成とを連続して行なうこともできる。
薄膜層は、光散乱層が形成された透明支持体における該光散乱層上に、大気圧または大気圧近傍の圧力下で、反応ガスを送り込みながら、対向する電極間に高周波電圧を印加して、連続的に形成される。これにより、工業的に良好な生産性をもって反射防止フィルムを得ることができる。
本実施形態においては、薄膜層として、上述のように、高屈折率層（透明帯電防止層）、低屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、及び防汚層のうち低屈折率層を含む１つ以上を設けている。
本発明に用いる薄膜層の形成方法においては、対向する電極間に、３０ＫＨｚ以上の高周波電圧を印加し、反応性ガスを励起してプラズマを発生させる。電極間に印加する高周波電圧はプラズマ放電処理のために電極間に印加される高周波電圧は周波数５０ｋＨｚ〜１５０ＭＨｚであることが特に望ましい。プラズマ放電処理のために印加される周波数が３０ｋＨｚ未満では形成される膜が多孔質となりやすく、膜が弱くなり好ましくない。１５０ＭＨｚを越えると安定した放電空間を得ることが難しく、特に１５０ＭＨｚ以下であることが好ましい。これに
よって、より均一で強固な膜を均一に形成することが可能となる。
上記の放電プラズマ処理が大気圧または大気圧近傍で行われるが、ここで大気圧近傍とは、２０ｋＰａ〜２００ｋＰａの圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得るためには、９０ｋＰａ〜１１０ｋＰａが好ましい。
【００３６】
また、本発明の表面処理方法に係るプラズマ放電処理装置においては、互いに対向する電極の中、基材と接する側の電極においてはＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される表面粗さの最大高さ（Ｒｍａｘ）が１０μｍ以下であることが好ましいが、更に好ましくは、表面粗さの最大値が８μｍ以下であり、特に好ましくは、７μｍ以下である。
【００３７】
また、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される算術平均粗さ（Ｒａ）は０．５μｍ以下が好ましく、更に好ましくは０．１μｍ以下である。
【００３８】
次に、本発明の表面処理方法に係る混合ガスについて説明する。本発明により薄膜を形成するため希ガスに有機金属化合物或いは有機物を含有する混合ガスが好ましく用いられる。反応ガスを変更することで高屈折率層、低屈折率層、透明帯電防止層、防汚層などの様々な機能を有する薄膜（層）を形成することができる。
【００３９】
本発明の表面処理方法により反射防止膜を作製するためには、基材上に形成される薄膜の屈折率や膜厚等を所望の値に調整することが好ましく、その観点から、本発明に係る混合ガスは、希ガスと、有機フッ素化合物、珪素化合物またはチタン化合物、特に有機珪素或いはチタン化合物等の有機金属化合物を含有する有機ガスを少なくとも含有したものが用いられる。ここで、混合ガスは、その他の成分として前記記載以外の化合物を含んでいてもよい。
【００４０】
上記の表面処理方法によって得られるの薄膜の膜厚としては、１ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲の薄膜が得られる。
【００４１】
上記記載の希ガスとは、周期表の第１８属元素、具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等が挙げられるが、本発明に記載の効果を得るためには、ヘリウム、アルゴンが好ましく用いられる。
【００４２】
上記有機フッ素化合物としては、フッ化炭素ガス、フッ化炭化水素ガス等が好ましく用いられる。例えば、４フッ化メタン（ＣＦ4）、６フッ化エタン（Ｃ2Ｆ6）、４フッ化エチレン（ＣＦ2ＣＦ2）、６フッ化プロピレン（ＣＦ3ＣＦＣＦ2）、８フッ化シクロブタン（Ｃ4Ｆ8）等のフッ化炭素化合物；２フッ化メタン（ＣＨ2Ｆ2）、４フッ化エタン（ＣＦＨ2ＣＦ3）、４フッ化プロピレン（ＣＦ3ＣＨ2ＣＨ2Ｆ）、３フッ化プロピレン（ＣＨ2ＣＨＣＦ3）等のフッ化炭化水素化合物、更に、１塩化３フッ化メタン（ＣＣｌＦ3）、１塩化２フッ化メタン（ＣＨＣｌＦ2）、２塩化４フッ化シクロブタン（Ｃ4Ｈ2Ｃｌ2Ｆ4）等のフッ化炭化水素化合物のハロゲン化物やアルコール、酸、ケトン等の有機化合物のフッ素置換体が挙げられる。これらは単独でも混合して用いてもよい。
【００４３】
上記珪素化合物としては、例えば、ジメチルシラン、テトラメチルシランなどの有機金属化合物、モノシラン、ジシランなどの金属水素化合物、二塩化シラン、三塩化シランなどの金属ハロゲン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、テトライソプロポキシシランなどのアルコキシシラン、オルガノシランなどの有機珪素化合物があげられ、特に有機珪素化合物を用いることが好ましいがこれらに限定されない。また、これらは適宜組み合わせて用いることが出来る。また、これらの化合物が分子内にエチレン性不飽和基を有していても良い。
【００４４】
上記の化合物は単独でも混合して用いても良い。混合ガス中に上記記載の有機フッ素化合物を用いる場合、放電プラズマ処理により基材上に均一な薄膜を形成する観点から、混合ガス中の有機フッ素化合物の含有率は、０．０１〜１０体積％であることが好ましいが、更に好ましくは、０．１〜５体積％である。
【００４５】
また、有機フッ素化合物が常温、常圧で気体である場合は、混合ガスの構成成分として、そのまま使用できるので最も容易に本発明の方法を遂行することができる。しかし、有機フッ素化合物が常温・常圧で液体又は固体である場合には、加熱、減圧等の方法により気化又は昇華させて使用すればよく、又、適切な溶剤に溶解して用いてもよい。
【００４６】
混合ガス中に上記記載の珪素化合物を用いる場合、放電プラズマ処理により基材上に均一な薄膜を形成する観点から、混合ガス中の珪素化合物の含有率は、０．１〜１０体積％であることが好ましいが、更に好ましくは、０．１〜５体積％である。
【００４７】
上記記載の有機金属化合物としてチタン化合物を用いる場合は、テトラジメチルアミノチタンなどの有機金属化合物、モノチタン、ジチタンなどの金属水素化合物、二塩化チタン、三塩化チタン、四塩化チタンなどの金属ハロゲン化合物、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタンなどの金属アルコキシド等の有機チタン化合物を用いることが好ましいがこれらに限定されない。
【００４８】
混合ガス中に上記記載のチタン化合物を用いる場合、放電プラズマ処理により基材上に均一な薄膜を形成する観点から、混合ガス中のチタン化合物の含有率は、０．１〜１０体積％であることが好ましいが、更に好ましくは、０．１〜５体積％である。
【００４９】
上記記載の珪素化合物、チタン化合物などの有機金属化合物としては、取り扱い上の観点から金属アルコキシド等の有機金属化合物が好ましく、腐食性、有害ガスの発生がなく、工程上の汚れなども少ないことから、好ましく用いられる。
【００５０】
又、反応性ガスが、インジウム、亜鉛、スズからなる群から選択された金属を含む化合物を含有する有機物をもちいて、これらの金属からなる導電性層或いは帯電防止層等を形成することも出来る。
【００５１】
また、上記記載の混合ガス中に水素ガスを０．１〜１０体積％含有させることにより薄膜の硬度を著しく向上させることが出来る。
【００５２】
更に酸素、一酸化炭素、二酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、過酸化水素及びオゾンからなる群から選ばれた非金属ガスを含有することも出来る。
【００５３】
上記記載の珪素化合物、チタン化合物などの有機金属化合物を放電空間へ導入するには、両者は常温常圧で、気体、液体、固体いずれの状態であっても構わない。気体の場合は、そのまま放電空間に導入できるが、液体、固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の手段により気化させて使用される。珪素化合物、チタン化合物を加熱により気化して用いる場合、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシチタンなどの、常温で液体の沸点が２００℃以下である金属アルコキシドが低反射積層体などの製造方法に好適に用いられる。上記金属アルコキシドは、溶媒によって希釈して使用されても良く、溶媒は、メタノール、エタノール、ｎ−ヘキサンなどの有機溶媒及びこれらの混合溶媒が使用できる。尚、これらの希釈溶媒は、プラズマ放電処理中において、分子状、原子状に分解される為、基材上への薄膜の形成、薄膜の組成などに対する影響は無視出来る。
【００５４】
本発明に係わる表面処理方法においては、ヘリウム、アルゴン、ネオンから選択される希ガスとアルコキシシラン等の有機珪素化合物或いはアルコキシチタン等の有機チタン化合物等、有機金属化合物を含有する混合（反応）ガスを用いる事が好ましく、前記希ガスが９０〜９９．９９％、有機金属化合物を０．０１〜１０％含有するものが好ましい。これを用いて、薄膜が酸化珪素や酸化チタンを主成分として有する薄膜を形成することが好ましい。ここで、『主成分として有する』とは形成された薄膜中の含有量が５０質量％以上の場合を表す。
【００５５】
本発明の目的を効果的に発揮するためには、低屈折率層の屈折率は、１.３０〜１.５５であり、１.３５〜１.５であるのが好ましい。また、低屈折率層の膜厚分布は、１ｍ2の面積中で５％以内であるのが、好ましい。
高屈折率層は、屈折率が１.６以上、更には１.７５以上であるのが好ましい。また、高屈折率層の膜厚分布は、１ｍ2の面積中で５％以内であるのが、好ましい。
透明帯電防止層は、上記透明支持体と低屈折率層との間に設けられる層であり、表面抵抗が１×１０11Ω／□以下で、かつ、ヘイズが１０％以下であるのが、帯電防止性と透光性の点で好ましく、表面抵抗が１×１０10Ω／□以下で、かつ、ヘイズが５％以下であるのが更に好ましい。
透明帯電防止層の形成材料は、通常、この種の反射防止フィルムに用いられる透明帯電防止層の形成材料と同じでもよいが、後述のように低屈折率層と同様にプラズマ放電を利用した薄膜形成法により層を形成する場合には、下記の材料により形成されているのが好ましい。
【００５６】
プラズマ放電を利用して製造する場合には、透明帯電防止層は、後述する反応性ガスとして、上記有機フッ素化合物及び／又は上記珪素化合物、更に上記チタン化合物などと共に、インジウム、亜鉛、スズからなる群から選択された金属を含む化合物を含有する有機物、有機金属化合物を用いることにより形成される。
透明帯電防止層の屈折率は、１.７０〜２.２０とするのが好ましく、１.８０〜２.００とするのが更に好ましい。
【００５７】
〔防汚層〕
次に、防汚層について説明する。
防汚層は、上記低屈折率層の上に設けられた層であり、ケイ素化合物及び／またはフッ素化合物からなり、水の接触角が７０度以上、より好ましくは９０度以上であるのが、汚れの除去し易さの点で好ましい。
【００５８】
また、本発明においては、上記高屈折率層よりも屈折率が低く且つ上記低屈折率層よりも屈折率が高い中屈折率層を設けることもできる。
中屈折率層の形成材料などは、上記低屈折率層の形成材料や上記高屈折率層の形成材料と同じものを用いることができる。
【００５９】
〔透明支持体〕
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＦなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。トリアセチルセルロース製造方法に関しては、発明協会公開技法２００１−１７４５に記載されている。
【００６０】
本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。透明支持体がトリアセチルセルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。
【００６１】
本発明の反射防止フィルムには、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置したり、そのまま偏光板用保護フィルムとして使用される場合、十分に接着させるために透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする最外層を形成した後、鹸化処理を実施することが好ましい。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面が親水化される。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏向膜との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏向膜と接着させる際に偏向膜と反射防止フィルムの間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２０゜以下である。
【００６２】
アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の（１）及び（２）の２つの手段から選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で（１）が優れているが、反射防止膜面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、（２）が優れる。
（１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。
（２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗及び／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。
このようにして形成された本発明の反射防止フィルムは、ヘイズ値が３〜７０％、好ましくは４〜６０％の範囲にあり、そして４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が３．０％以下、好ましくは２．５％以下である。
本発明の反射防止フィルムが上記範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過画像の劣化を伴なわずに良好な防眩性及び反射防止性が得られる。
【００６３】
〔偏光板〕
次に、本発明の偏光板について説明する。
偏光板は、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムで主に構成される。そして、本発明の偏光板、偏光膜を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に上述の本発明の反射防止フィルムが用いられる。本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
【００６４】
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
【００６５】
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落００２０〜００３０に詳しい記載がある。
【００６６】
〔画像表示装置〕
本発明の画像表示装置は、上述の本発明の反射防止フィルム又は本発明の偏光板を、上記低屈折率層が視認者側に位置するように設置してなる。
要するに、本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。そして、本発明の反射防止フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
【００６７】
また、本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
【００６８】
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）28(1997)84５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【００６９】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【００７０】
ＥＣＢモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ」東レリサーチセンター発行（２００１）などに記載されている。
【００７１】
特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１-１０００４３等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表２枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。
【実施例】
【００７２】
[実施例]
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【００７３】
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）ＦＰ１Ａの合成）
【００７４】
【化１】
2005181834.tif 000002
【００７５】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．８ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５６ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５.５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ2であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．３ｋｇ／ｃｍ2に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ,Ｎ-ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．６ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）ＦＰ１Ａを１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２５であった。
【００７６】
（ゾル液ａの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【００７７】
（光散乱層用塗布液Ａの調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（PETA、日本化薬（株）製）５２ｇをトルエン３８．８ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を２ｇ添加し、混合攪拌した。 この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１．７ｇ及び平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．７７ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を１０ｇを加え、完成液とした。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光散乱層用塗布液Ａを調製した。
【００７８】
【化２】
2005181834.tif 000003
【００７９】
（光散乱層用塗布液Ｂの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０４、ＪＳＲ（株）製、固形分濃度約６１％、固形分中ＺｒＯ2含率約７０％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２８７ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８６ｇを混合し、更に、メチルイソブチルケトン６０ｇ、メチルエチルケトン１７ｇで希釈した。更に、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学（株）製）２８ｇを混合攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
さらにこの溶液に平均粒径３．０μｍの分級強化架橋PMMA粒子（屈折率１．４９、MXＳ−３００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した分散液を３５ｇ加え、次いで、平均粒径１．５μｍのシリカ粒子（屈折率１．４６、シーホスタＫＥ-Ｐ１５０、日本触媒（株）製）の３０％メチルエチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分間分散した分散液を９０ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．１２ｇを混合攪拌し、完成液とした。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光散乱層の塗布液Ｂを調製した。
【００８０】
（光散乱層用塗布液Ｃの調製）
上記光散乱層用塗布液Ｂにおいて平均粒径１．５μｍのシリカ粒子の代わりに、平均粒径１．５μｍの分級強化高架橋ＰＭＭＡ粒子（ＭＸＳ−１５０Ｈ、架橋剤エチレングリコールジメタクリレート、架橋剤量３０％、綜研化学（株）製、屈折率１．４９）の３０％メチルエチルケトン分散液を１３０ｇ用いた以外は添加量も含め上記塗布液Ａと同様にして、光散乱層用塗布液Ｃを作成した。
【００８１】
（反射防止フィルム試料の作成）
１）光散乱層の塗設
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、上記の機能層（防眩性ハードコート層）用塗布液を線数１８０本/インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ/分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。
【００８２】
２）親水化処理
（コロナ放電処理）
親水化処理は、下記のいずれかによって行なった。
上記光散乱層の表面を１．０ｋＷ、１０ｍ／分で５回コロナ放電を実施した。処理後は表面の水の接触角を測定した。
（グロー放電処理）
上記光散乱層付き基材を対向する１対の電極間を搬送する。電極間には５kHZの電圧を印加し、電極間はアルゴンと二酸化炭素と窒素を８６／８／７の混合ガスで大気圧の雰囲気とした。処理後は表面の水の接触角を測定した。
【００８３】
３）薄膜層の形成
（薄膜層Ａの形成）
大気圧近傍の圧力下で、反応ガスを送り込みながら、対向する電極間に高周波電圧を印加することで、基材の光散乱層上に低屈折率層１層を形成した。対向する電極の片側の電極はロール形状で回転し（ロール電極）、電気的に接地されている。基材はその表面に、光散乱層を外側になるように接触して搬送される。対向するもう一方の電極（対向電極）は、ロール電極に向かい合わせて配置されており、ロール電極・対向電極とも電極表面は誘電体で被覆されている。両電極間の隙間は１ｍｍとした。両電極間には以下の組成のガスを導入し、１３．５６ＭＨｚで２０Ｗ／ｃｍ2でプラズマ放電処理を行い、薄膜を作製した。作製した低屈折率層は屈折率１．４４で膜厚９５ｎｍであった。
低屈折率層形成用混合ガス（ｖｏｌ％）
アルゴン：水素：テトラメトキシシラン＝９８．５：１．２：０．３
【００８４】
（薄膜層Ｂの形成）
大気圧近傍の圧力下で、反応ガスを送り込みながら、対向する電極間に高周波電圧を印加することで、基材の光散乱層の上に高屈折率層１／低屈折率層１／高屈折率層２／低屈折率層２の順に薄膜層４層を連続で形成した。低屈折率層に関しては薄膜層Aの場合と同じ方法で作製した。高屈折率層も反応性ガスとして下記の混合ガスを使用した以外は、低屈折層形成と同じ方法で薄膜を形成した。得られた高屈折率層と低屈折率層の屈折率はそれぞれ２．３５と１．４４であり、高屈折率層１／低屈折率層１／高屈折率層２／低屈折率層２の膜厚は１２ｎｍ／３８ｎｍ／１２０ｎｍ／９２ｎｍであった。
【００８５】
（薄膜層Ｃの形成）
大気圧近傍の圧力下で、反応ガスを送り込みながら、対向する電極間に高周波電圧を印加することで、基材の光散乱層の上に高屈折率層１／低屈折率層１／高屈折率層２／低屈折率層２の順に薄膜層４層を連続で形成した。高屈折率層１の反応性ガスとして、アルゴンでバブリングしたテトラブチル錫及びアルゴンでバブリングしたトリエチルインジウムを１：１で混合した混合ガスをアルゴンで希釈して用いた以外は、薄膜層Ｂと同じ方法で薄膜を作製した。得られた高屈折率層１の屈折率は１．９で、高屈折率層２と低屈折率層の屈折率はそれぞれ２．３５と１．４４であり、高屈折率層１／低屈折率層１／高屈折率層２／低屈折率層２の膜厚は１８ｎｍ／３７ｎｍ／１２０ｎｍ／９２ｎｍであった。また、高屈折率層１形成後の表面抵抗は１０4Ω／□で、ヘイズは1％以下あった。すなわち、高屈折率層１は透明帯電防止層である。
【００８６】
（薄膜層Ｄの形成）
大気圧近傍の圧力下で、反応ガスを送り込みながら、対向する電極間に高周波電圧を印加することで、基材の光散乱層の上に高屈折率層１／低屈折率層１／高屈折率層２／低屈折率層２の順に薄膜層４層を連続で形成した。低屈折率層２の反応性ガスとして、アルゴン９９．７ｖｏｌ％と６フッ化プロピレン０．３ｖｏｌ％の混合ガスを用いた以外は、薄膜層Ｂと同じ方法で薄膜を作製した。得られた低屈折率層２の屈折率は１．３５で、高屈折率層と低屈折率層１の屈折率はそれぞれ２．３５と１．４４であり、高屈折率層１／低屈折率層２／高屈折率層１／低屈折率層２の膜厚は２５ｎｍ／３６ｎｍ／１２５ｎｍ／１０２ｎｍであった。表面の水の接触角は９５度で、指紋を付けても、きれいに拭き取ることができた。すなわち、低屈折率層２は、防汚層である。
【００８７】
（薄膜層Ｅの形成）
【００８８】
（中屈折率層用塗布液E-1の調製）
＜二酸化チタン微粒子分散液の調製＞
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９、石原産業（株）製）を使用した。
この粒子２５７．５ｇに、下記分散剤３８．８ｇ、及びシクロヘキサノン７０４．８ｇを添加してダイノミルにより分散し、質量平均径７２ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。
【００８９】
【化３】
2005181834.tif 000004
【００９０】
＜中屈折率層用塗布液E-1の調製＞
上記の二酸化チタン分散液８９.０ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）５８．７ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７）３．１ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１ｇ、メチルエチルケトン４８２．４ｇ及びシクロヘキサノン１８６９．８ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液E-1を調製した。
【００９１】
（高屈折率層用塗布液E-2の調製）
上記の二酸化チタン分散液５８７.０ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）４８.０ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）４．０ｇ、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．３ｇ、メチルエチルケトン４５５．８ｇ、及びシクロヘキサノン１４２７．８ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液E-2を調製した。
【００９２】
（低屈折率層用塗布液E-3の調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の１５．５ｇ、シリカゾル（シリカ、MEK-STの粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）１．４５ｇ、反応性シリコーンＸ-22-164C（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、ゾル液a ７．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバガイギー社製）０．７６ｇ、メチルエチルケトン３０１ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液E-3を調製した。
【００９３】
（反射防止フィルムの作製）
先に作製した親水化処理をしていない光散乱層の上に、上記中屈折率層用塗布液E-1をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、薄膜層Ｅすなわち中屈折率層（屈折率１．６６、膜厚６７ｎｍ）を形成した。
上記中屈折率層の上に、高屈折率層用塗布液E-2をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．９２、膜厚１０６ｎｍ）を形成した。
【００９４】
高屈折率層の上に、低屈折率層用塗布液E-3をグラビアコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ/ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率１．４３、膜厚８５ｎｍ）を形成した。
【００９５】
（反射防止膜の評価）
得られた反射防止フィルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を表１に示す。
【００９６】
（１）平均反射率
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を用いた。
【００９７】
（２）スチールウール耐傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストをおこなった。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードNo.００００）を巻いて、動かないようバンド固定した。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／ｃｍ2、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
◎：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
○△：弱い傷が見える。
△：中程度の傷が見える。
△×〜×：一目見ただけで分かる傷がある。
【００９８】
（３）水綿棒こすり耐性評価
ラビングテスターのこすり先端部に綿棒を固定し、平滑皿中で試料の上下をクリップで固定し、室温２５℃で、試料と綿棒を２５℃の水に浸し、綿棒に５００ｇの荷重をかけて、こすり回数を変えてこすりテストを行った。こすり条件は以下のとおり。
こすり距離（片道）：１ｃｍ、    こすり速度：約２往復／秒
こすり終えた試料を観察して、膜剥がれが起こった回数で、こすり耐性を以下
のように評価した。
０〜１０往復で膜剥がれ                ×
１０〜３０往復で膜剥がれ              ×△
３０〜５０往復で膜剥がれ              △
５０〜１００往復で膜剥がれ            ○△
１００〜１５０往復で膜剥がれ          ○
１５０往復でも膜剥がれなし            ◎
【００９９】
（４） 散乱光プロファイルの効果
自動変角光度計ＧＰ−５型（（株）村上色彩技術研究所製）を用いて、入射光に対してフィルムを垂直に配置し、全方位に渡って散乱光プロファイルを測定した。このプロファイルより、出射角０°に対する３０℃の散乱光強度を求めた。
【０１００】
［実施例１試料１〜９、比較例1試料１０、１１］
表１に、実施例１試料１〜９、比較例1試料１０、１１の構成と評価結果を示す。また、今回作製した実施例の薄膜層の各層の膜厚分布は最大でも５％以内であり、表面凹凸のある光散乱層上に均一に形成されていることがわかる。なお、光散乱層の乾燥後の膜厚は、３．４μｍとした。
【０１０１】
【表１】
2005181834.tif 000005
【０１０２】
表１に示される結果より、以下のことが明らかである。
本発明の反射防止フィルムにおいて、大気圧プラズマ処理で作製した反射防止フィルムは、散乱性があり、かつ、薄膜層の付設には溶剤を使用せず、膜厚の均一性が高く、反射率を低減できる。また、反射率・導電性・防汚性の付与が可能である。また、密着性・耐擦傷性にも優れた性能を有する反射防止膜が生産性高く得られる。
【０１０３】
［実施例２］
（反射防止フィルムの鹸化処理）
実施例１の反射防止フィルムにつき、下記の鹸化処理を行った。
１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。 作製した反射防止フィルムの薄膜層を形成した側の表面をラミネートフィルムで保護した後、上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。 最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを作製した。
ＰＶＡフィルムをヨウ素２．０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム４．０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて２４０秒浸漬し、さらにホウ酸１０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて６０秒浸漬後、特開２００２−８６５５４号公報に記載の図２の形態のテンター延伸機に導入し、５．３倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し屈曲させ、以降幅を一定に保った。８０℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱した。左右のテンタークリップの搬送速度差は、０．０５％未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、４６゜であった。ここで｜Ｌ１−Ｌ２｜は０．７ｍ、Ｗは０．７ｍであり、｜Ｌ１−Ｌ２｜＝Ｗの関係にあった。テンター出口における実質延伸方向Ａｘ−Ｃｘは、次工程へ送られるフィルムの中心線２２に対し４５゜傾斜していた。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。
さらに、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィルム（株）製フジタック（セルローストリアセテート、レターデーション値３．０ｎｍ）と貼り合わせ、さらに８０℃で乾燥して有効幅６５０ｍｍの偏光板を得た。得られた偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し４５゜傾斜していた。この偏光板の５５０ｎｍにおける透過率は４３．７％、偏光度は９９．９７％であった。さらに３１０×２３３ｍｍサイズに裁断したところ、９１．５％の面積効率で辺に対し４５゜吸収軸が傾斜した偏光板を得た。
次に、実施例１試料１から９及び比較例１試料１の鹸化処理済みフィルムを上記偏光板と貼り合わせて防眩性反射防止付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作製したところ、実施例１試料１から９において、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
【０１０４】
［実施例３］
１．５ｍｏｌ／ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）と、実施例１試料１から９及び比較例１試料１の裏面鹸化済みトリアセチルセルロースフィルムに、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、反射防止膜側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、実施例１試料１から９において、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０１０５】
［実施例４］
実施例１試料１から９及び比較例１試料１の試料を貼りつけた透過型ＴＮ液晶セルの視認側の偏光板の液晶セル側の保護フィルム、及びバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムとして、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ−１２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。 また、実施例１試料２，３（防眩性ハードコート液Ｂ、Ｃ）は、出射角０°に対する３０°の散乱光強度が０．０６％であり、この光散乱性により、特に下方向の視野角アップ、左右方向の黄色味が改善され、非常に良好な液晶表示装置であった。 比較として、該防眩性ハードコート液Ｂから、架橋ＰＭＭＡ粒子、シリカ粒子を除去した以外、全く実施例１試料２と同じく作製したフィルムでは、出射角０°に対する３０°の散乱光強度が実質０％であり、下方向視野角アップ、黄色味改善効果は全く得られなかった。
【０１０６】
［実施例５］
実施例１の試料を、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
【０１０７】
［実施例６］
実施例１の試料を用いて、片面反射防止フィルム付き偏光板を作製し、偏光板の反射防止膜を有している側の反対面にλ／４板を張り合わせ、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射及び、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１０８】
【図１】図１は、本発明の反射防止フィルムの一実施形態を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
【０１０９】
１  反射防止フィルム
２  透明支持体
３  光散乱層
４  高屈折率層
５  低屈折率層
６  高屈折率層
７  低屈折率層
８  防汚層
９  光散乱粒子
１０  防眩性付与粒子
【図１】
2005181834.tif 000006