(57)【要約】【課題】  高精度に光を走査できるアナモフィック光学素子、このアナモフィック光学素子を用いた走査光学系、光走査装置、画像形成装置を提供する。【解決手段】  第２面は面形状に軸対称非球面を採用しているため、その軸対称非球面レンズ金型４８は正面旋盤加工装置４９で製作される。軸対称非球面レンズ金型４８は静圧空気軸受の主軸５０の端面に設けたワークチャック５１にクランプされて回転軸を中心として回転駆動される。１０ｎｍの分解能をもつＮＣ位置決め装置を用いて旋削用ダイヤモンドバイト５２に所望の非球面軌跡を与える。軸対称非球面を加工する正面旋盤加工ではフライカット加工の１／１６以下の工具送り速度を用いる。【選択図】    図６
2005195717.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１面に軸対称な非球面形状をもつことを特徴とするアナモフィック光学素子。
【請求項２】
正面旋盤により軸対称な非球面形状に加工された金型により軸対称な非球面形状を成型された請求項１に記載のアナモフィック光学素子。
【請求項３】
主走査方向に走査される光を主走査方向に正のパワーをもつ第１のアナモフィック光学素子及び副走査方向に正のパワーをもつ第２のアナモフィック光学素子により被走査物に集光させる走査光学系において、
前記第１のアナモフィック光学素子は少なくとも１面に軸対称な非球面形状をもつことを特徴とする走査光学系。
【請求項４】
主走査方向に走査される光を主走査方向に正のパワーをもつ第１のアナモフィック光学素子及び副走査方向に正のパワーをもつ第２のアナモフィック光学素子により被走査物に集光させる走査光学系において、
前記第１のアナモフィック光学素子は正面旋盤により軸対称な非球面形状に加工された金型により軸対称な非球面形状を成型されたことを特徴とする走査光学系。
【請求項５】
前記第２のアナモフィック光学素子は副走査方向の断面に両凸形状をもつ請求項３または請求項４に記載の走査光学系。
【請求項６】
前記第１のアナモフィック光学素子は副走査方向に負のパワーをもつ請求項３または請求項４に記載の走査光学系。
【請求項７】
光源から放射され第１の光学系でカップリングされて第２の光学系により集光された光束を偏向器で主走査方向に走査しながら第３の光学系により被走査物に集光する光走査装置において、
前記第３の光学系は請求項３から請求項６までのいずれかに記載の走査光学系を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項８】
請求項７に記載の光走査装置を搭載した画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、アナモフィック光学素子、走査光学系、光走査装置及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル複写機、レーザープリンタ、ＦＡＸ等の画像形成装置に広く用いられる光走査装置では、書き込み速度の向上を目指したマルチビーム化や光走査装置の低コスト化のため、その走査光学系を構成する走査レンズの面形状は特許文献１や特許文献２で提案されているように軸対称でない特殊形状とされる。
【０００３】
特許文献３には、光源から出射された光をポリゴンミラーで走査しながら反射し主走査方向と副走査方向とで焦点の異なる収差の小さい第１のアナモフィック光学素子及び第２のアナモフィック光学素子とを通過させて感光体に照射する光走査装置が提案されている。第１のアナモフィック光学素子はポリゴンミラー側に配置されて主走査方向に正のパワーをもち第２面の主走査方向の曲率が比較的大きく約３０°の最大傾斜角をもつ。第２のアナモフィック光学素子は感光体近くに配置されて主走査方向にパワーをもたず走査幅程度の細長い形態をもち副走査方向の断面が凸メニス形態をもつ。
【０００４】
軸対称でない特殊形状の走査レンズには生産性の高さから金型の形状を転写して形成された樹脂成型レンズが広く用いられており、特殊面形状を形成する金型は、回転工具を微小域接触させて全面を走査するフライカットと呼ばれる切削形態で加工される。フライカットを用いると金型加工面の傾斜、面積、加工時間等に応じた誤差が金型に生じ、形成される走査レンズにも誤差が転写される。近年、高画質化をねらい、感光体上のビームスポット径を従来の６０〜８０μｍから３０〜５０μｍへ半減させるような光走査装置が検討されており、走査レンズの精度を高めることが求められている。
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−３２４６８９号公報
【特許文献２】特開２００１−２１８２４号公報
【特許文献３】特開２００３−４３３９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来よりも高精度に光を走査できるアナモフィック光学素子、このアナモフィック光学素子を用いた走査光学系、光走査装置、この光走査装置を搭載した画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明のアナモフィック光学素子は、少なくとも１面に軸対称な非球面形状をもつ。このアナモフィック光学素子は、正面旋盤により軸対称な非球面形状に加工された金型により軸対称な非球面形状を成型されているとよい。
【０００８】
また、この発明の走査光学系は、主走査方向に走査される光を主走査方向に正のパワーをもつ第１のアナモフィック光学素子及び副走査方向に正のパワーをもつ第２のアナモフィック光学素子により被走査物に集光させ、第１のアナモフィック光学素子は少なくとも１面に軸対称な非球面形状をもつ。また、第１のアナモフィック光学素子は正面旋盤により軸対称な非球面形状に加工された金型により軸対称な非球面形状を成型されているとよい。また、第２のアナモフィック光学素子は副走査方向の断面に両凸形状をもつとよく、第１のアナモフィック光学素子は副走査方向に負のパワーをもつとよい。
【０００９】
またこの発明の光走査装置は、光源から放射され第１の光学系でカップリングされて第２の光学系により集光された光束を偏向器で主走査方向に走査しながら上記のいずれかの走査光学系を有する第３の光学系により被走査物に集光する。また、この光走査装置を搭載して画像形成装置を構成するとよい。
【発明の効果】
【００１０】
第１のアナモフィック光学素子の１つの面を軸対称非球面とすることで光学的有効域の大面積化及び大傾斜角化を抑制して加工精度を確保しやすい形態とし、精度よく加工された第１のアナモフィック光学素子を用いて小さなビームスポット径の光でも高精度に走査できる光走査装置を実現できる。また、第２のアナモフィック光学素子の副走査方向の断面を両凸形状にすることで、副走査曲率半径を大きくして、副走査断面の傾斜を緩やかとして工具輪郭誤差の混入量を低減でき、また、加工領域面積を小さくして加工誤差を低減できるため、精度よく加工された第２のアナモフィック光学素子を用いた高精度の光走査装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
第１の実施形態の画像形成装置１は図１に示すように、画像読取部１０と受信部１１と転写装置１２と定着装置１３と給紙部１４と用紙反転部１５と排紙部１６と画像処理部１７と処理部１８とを備え、入力された画像信号に応じて、用紙に画像を形成して出力する。なお、画像形成装置は、ファクシミリ送受信装置、印刷装置、複写装置複合型の画像形成装置等でもよい。
【００１２】
画像読取部１０は、原稿自動送り装置１９と光源と複数のミラーとをもつキャリッジ２０とレンズ２１とＣＣＤ２２とバッファ２３とをもち、キャリッジ２０により原稿自動送り装置１９が送る原稿に光を走査して照射し、反射光をレンズ２１で集光し、ＣＣＤ２２により原稿の画像を読み取り、読み取られた画像を画像信号としてバッファ２３に蓄積する。受信部１１は、通信機能を有し外部機器に接続され、用紙に形成する画像の画像信号や各種制御信号を受信する。
【００１３】
転写装置１２は、感光体２４と帯電装置２５と光走査装置２６と現像装置２７と中間転写ベルト２８とベルトローラ２９と一次転写ローラ３０と二次転写ローラ３１とレジストローラ３２とを有する。感光体２４、帯電装置２５、光走査装置２６、一次転写ローラ３０は、一組をなして、イエロー（Ｙ）、マゼンダ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｂ）等の各トナー色に対応して別々に設けられている。感光体２４は、帯電性のＯＰＣを塗布した円筒形のドラムであり、中間転写ベルト２８と連動して回転し、帯電、露光及び現像されて表面にトナー像が形成される像担持体である。帯電装置２５は、回転する感光体２４の表面に電荷を与えて均一に帯電させ、光走査装置２６は、画像処理部１７が作成する書込信号の入力を受けて、書込信号に応じて強度が変化した光を感光体２４に照射する。書込信号は、画像読取部１０または受信部１１から入力を受けた画像信号や各種制御信号に基づき、静電潜像が感光体２４に形成されるように、感光体２４の回転に同期してどのように光を照射させるかを指示する信号であり、画像処理部により作成される。感光体２４の表面には、光走査装置２６により照射された光の強度に応じて帯電が解かれて電位分布が生じており、画像信号に応じた静電潜像が形成される。感光体２４に形成された静電潜像に、現像装置２７により現像剤が付着されて、可視化されたトナー像が形成される。
【００１４】
各感光体２４のトナー像は、ベルトローラ２９に張り回されて感光体２４と一次転写ローラ３０とに挟まれて矢印の方向に移動する中間転写ベルト２８に、各トナー色のトナー像が同一位置に重なるように転写（一次転写）される。一次転写されたトナー像は中間転写ベルト２８とモータの駆動力により回転する二次転写ローラ３１との間に搬送された用紙に一括して転写（二次転写）される。レジストローラ３２は給紙部１４又は用紙反転部１５から供給を受けた用紙をタイミングを調整して二次転写ローラ３１に送り出す。定着装置１３は二次転写された用紙を受け入れて用紙を加熱ローラと加圧ローラとの間にはさんで加熱しながら加圧してトナー像を用紙に定着させる。給紙部１４は処理部１８から給紙の開始を指示する信号を受けて転写装置のレジストローラ３２に用紙を送る。用紙反転部１５は処理部１８から排紙を指示する信号を受けると、分岐つめ３３を操作して定着装置１３から排紙部１６へ用紙を送る経路を形成し、処理部１８から用紙の反転を指示する信号を受けると分岐つめ３３を操作して定着装置１３から反転部３４へ用紙を送る経路を形成する。反転部３４は分岐つめ３３を通じて送られた用紙の表裏を反転して転写装置１２のレジストローラ３２に送る。排紙部１６は分岐つめ３３を通じて定着装置１３から送られた用紙を外部に排紙する。画像処理部１７は、画像読取部１０により読み取られ又は受信部１１により受信された画像信号や各種制御信号に基づいて書込信号を作成する。処理部１８は、画像形成装置１の全体の動作を制御する。
【００１５】
光走査装置２６は図２の概略の平面図に示すように、光源４０とカップリングレンズ４１とシリンドリカルレンズ４２と偏向器４３と第１のアナモフィック光学素子４４と第２のアナモフィック光学素子４５とを備える。光源４０はシングルビームやモノリシックなＬＤアレーを用いる方式、シングルビームをプリズム等で合成してマルチビームとする方式、プリズム等を用いずにある開き角を持って偏向器近傍上でビームを交差させる方式等の種々の方式を用いて光を出射する。マルチビームを用いると書き込みを高速にできる。カップリングレンズ４１は光源４０から出射された光を平行光束、収束光束、発散光束等に整形する。シリンドリカルレンズ４２はカップリングレンズ４１から出射された光を進行方向に直交し、かつ感光体２４で光が走査される方向（主走査方向）に直交する方向（副走査方向）に収束し、主走査方向に細長い像を偏向器４３の反射面近傍に結像する。偏向器４４は結像された光を回転しながら反射して主走査方向に走査する。第１のアナモフィック光学素子４４及び第２のアナモフィック光学素子４５は主走査方向と副走査方向とで焦点距離が異なるレンズであり、偏向器４４で走査される光を縦横３０〜６０μｍのスポットとして感光体２４の表面に結像させる。
【００１６】
第１のアナモフィック光学素子４４は主走査方向に長く副走査方向に短い形状をもち主走査方向に正のパワー、副走査方向に負のパワーをもつ。副走査方向のパワーを負にすることにより偏向面と被走査面間の副走査横倍率の絶対値を低減することができ、光学部品の取り付け誤差や形状誤差による副走査ビームウエスト位置変動を低減できる。
【００１７】
第２のアナモフィック光学素子４５は主走査方向に長く副走査方向に短い形状をもち、副走査方向に正のパワーをもち、図３の光走査装置の概略の側面図に示されるように副走査断面に両凸レンズ形状をもつ。凸メニス形状をもつ場合に比べて充分な正のパワーを確保したまま副走査方向の曲率半径を小さくできるため、光学面の傾斜を小さくして光学面の面積を抑えられる。
【００１８】
一般に、レンズ面の近傍においてレンズ光軸を含み主走査方向に平行な面（主走査面）内で非円弧形状をもつレンズ面の形状は、光軸における主走査面内の主走査近軸曲率半径をＲm、光軸からの主走査方向の距離をＹ、円錐常数をＫ、高次の係数をＡ1、Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ5、Ａ6、…とするとき光軸方向の深さ（デプス）をＸとして式１の主走査非円弧式で表される。
【００１９】
【数１】
2005195717.tif 000003
奇数次の係数Ａ1、Ａ3、Ａ5、…に０以外の数値を代入すると主走査方向に非対称形状となる。第１のアナモフィック光学素子４４の入射側の面（第１面）並びに第２のアナモフィック光学素子４５の入射側の面（第３面）及び出射側の面（第４面）は、偶数次の係数のみを用いて主走査方向に対称な形状をもつ。
【００２０】
副走査曲率が主走査方向に応じて変化する形状は、光軸近傍における副走査面内の副走査近軸曲率半径をＲS（０）、定数係数をＢ1、Ｂ2、Ｂ3、…とするとき距離Ｙにおける副走査面内の曲率をＣS（Ｙ）として式２の副走査曲率式で表される。
【００２１】
【数２】
2005195717.tif 000004
Ｙの奇数乗の係数Ｂ1、Ｂ3、Ｂ5、…に０以外の数値を代入すると副走査方向の曲率半径が主走査方向に非対称となる。
【００２２】
第１のアナモフィック光学素子４４の出射側の面（第２面）は軸対称非球面であり、光軸における近軸曲率半径をＲ、光軸からの主走査方向の距離をＹ、円錐常数をＫ、高次の係数をＡ1、Ａ2、Ａ3、Ａ4、Ａ5、Ａ6、…とするとき光軸方向のデプスをＸとして式３で表される。
【００２３】
【数３】
2005195717.tif 000005
【００２４】
第１面、第２面、第３面、第４面の各パラメータの例を表１、表２、表３、表４にそれぞれ示す。
【００２５】
【表１】
2005195717.tif 000006
【００２６】
【表２】
2005195717.tif 000007
【００２７】
【表３】
2005195717.tif 000008
【００２８】
【表４】
2005195717.tif 000009
【００２９】
この場合、光源４０の波長を６５５ｎｍ、カップリングレンズ４１の焦点距離を２７ｍｍとして作用をコリメート作用とし、偏向器４３の内接円半径を１８ｍｍ、偏向器４３の偏向反射面を５面、６５５ｎｍの光に対する第１のアナモフィック光学素子４４及び第２のアナモフィック光学素子４５の屈折率を１．５２７２４とする。また図２に示される光源４０から偏向器４３へのビームと第１のアナモフィック光学素子４４及び第２のアナモフィック光学素子４５の光軸とがなす角を５８度、偏向器４３の反射面と第１面との距離ｄ1を６４ｍｍ、第１のアナモフィック光学素子４４の中心肉厚ｄ2を２２．６ｍｍ、第２面と第３面との距離ｄ3を７５．９ｍｍ、第２のアナモフィック光学素子４５の中心肉厚ｄ4を４．９ｍｍ、第４面から被走査面までの距離ｄ5を１５８．７ｍｍとして光走査装置２６を構成できる。
【００３０】
第１面、第２面、第３面、第４面の各主走査断面において、加工精度と関連が深い図４（ａ）の主走査断面図に示す有効幅Ｌ、最大傾斜角θ、主走査近軸曲率半径Ｒmの各値を、光源の波長を７８０ｎｍとする従来機の一例の各値と比較して表５に示す。
【００３１】
【表５】
2005195717.tif 000010
【００３２】
第１面、第２面、第３面、第４面の各副走査断面において、加工精度と関連が深い図４（ｂ）の副走査断面図に示す有効幅Ｂ、最大傾斜角α、最小近軸曲率半径Ｒs_minの各値を、同じ従来機の一例の各値と比較して表６に示す。
【００３３】
【表６】
2005195717.tif 000011
【００３４】
一般に、集光されるビームスポット径ω０は、レンズの焦点距離をｆ、円周率をπ、入射光束径をＤ、光源波長をλとして式４の関係をもつ。
【００３５】
【数４】
2005195717.tif 000012
ビームスポット径ω０に対して光源波長λは比例関係にあり入射光束径Ｄは反比例関係にある。この関係より、目標のビームスポット径ω０を固定値としたとき、光源波長λを短くした分だけ入射光束径Ｄを小さくできるためレンズの光学有効域を小さくできる。ここで、従来機の光源の波長７８０ｎｍよりも本実施形態の光源４０の波長６５５ｎｍの方が短いため、表２に示されるように各副走査断面の有効幅Ｂが従来機に対して約３割少なくなる。これにより光学有効域を小さくして加工面積を小さくできる。また、第２のアナモフィック光学素子４５の副走査断面を両凸レンズとすることで、第４面の最大傾斜角を従来の８．２°から２．５°へと１／３以下に低減でき、これに加えて加工面積を小さくできる。従来機の第４面を成型するためのレンズ金型４６を図５（ａ）に示し、本発明の第４面を成型するレンズ金型４７を図５（ｂ）に、それぞれの光学的有効域を波線で、それよりひとまわり大きい成型面の領域を実線で示す。
【００３６】
第１のアナモフィック光学素子４４及び第２のアナモフィック光学素子４５の各面はレンズ金型の形状を樹脂に転写して成型される。
【００３７】
第２面は面形状に共軸非球面を採用しているため、その軸対称非球面レンズ金型４８は図６（ａ）の側面図及び図６（ｂ）の平面図に示す正面旋盤加工装置４９で製作される。正面旋盤加工において軸対称非球面レンズ金型４８は静圧空気軸受の主軸５０の端面に設けたワークチャック５１にクランプされて回転軸を中心として回転駆動される。軸対称非球面レンズ金型４８は主走査方向に長く副走査方向に短いためプロペラを回すような状態で図６（ｂ）の矢印の方向に回転する。１０ｎｍの分解能をもつＮＣ位置決め装置を用いて旋削用ダイヤモンドバイト５２に所望の非球面軌跡を与えることができる。ダイヤモンドバイト５２は、矢印に示すように軸対称非球面レンズ金型４８を外周から回転中心に向けて切削加工し、回転中心に達すると被加工面から後退して外周へ移動する。粗加工、中仕上げ、仕上げの３サイクルで切り込みと送り速度とを変更して外周から回転中心への切削加工を繰り返し、例えば工具のノースＲ２、ワーク回転数１０００ｒｐｍ、工具送り速度５ｍｍ／ｍｉｎの条件で仕上げ加工を行う。
【００３８】
一方、従来のように第２面が軸対称非球面でない場合、レンズ金型５３は図７に示すようにフライカット装置５４を用いて加工される。ホルダ５５の外周部に接続されて回転しながら主走査方向と深さ方向とで同時２軸制御されるダイヤモンドバイト５６は、主走査方向に送りをかけながら副走査方向にピックフィードしてレンズ金型５３を加工する。金型加工面の傾斜が大きい場合、主走査方向の１パス加工中における深さ方向の移動量が大きいと深さ方向の加減速が大きくなり主走査方向にうねりを生じさせやすい。一方、送り速度を低減してうねりを抑制すると、加工時間増大による環境的外乱や工具磨耗の影響を受けやすく、またコストアップ等が生じる。そこでフライカット加工では加工時間の短縮と工具磨耗を抑制するため工具送り速度として８０〜１２０ｍｍ／ｍｉｎを用いる。これに対して、軸対称非球面を加工する正面旋盤加工ではフライカット加工の１／１６以下の工具送り速度を用いるため、外周部の傾斜が２０°以上と比較的大きい部分でも充分な応答時間をもってダイヤモンドバイト５６を位置決めできる。
【００３９】
正面旋盤装置４７とほぼ同じ能力を持つＮＣ位置決め機構を搭載したフライカット装置５４を用いて従来の軸対称非球面でないレンズ金型を作成して主走査形状誤差を測定すると、被加工面には図８の実験結果に示すように傾斜角が急峻となる両端部で約３〜５ｍｍ周期のうねりが発生している。これに対し、正面旋盤装置４７を用いて本実施形態の軸対称非球面レンズ金型４８を作成して走査形状誤差を測定すると、被加工面には図８に示すように顕著なうねりが発生していない。第２面を軸対称非球面とすることにより、軸対称非球面でないレンズを使用する場合には得られなかった加工精度を得られるため、この第１のアナモフィック光学素子４４を用いて高性能な光走査装置を構成できる。また、各サイクルで精度よく加工できるため金型の修正加工を無くして少ない工数で充分な精度を確保でき、低コストかつ安定した品質でレンズを提供できる。
【００４０】
第１面、第３面、第４面は軸対称非球面でないため、フライカット装置５４でレンズ金型を形成する。図９に示すようにフライカット装置５４のダイヤモンドバイト５６のチップ部５７には、３０°のウインドウアングル５８と呼ばれる領域があり、切れ刃稜線の真円度が仕様値０．０５μｍの精度に収められており、ウインドウアングル５８全体を使う加工では、加工面に最大０．０５μｍの真円度誤差が転写する。副走査断面の傾斜角が大きいほどウインドウアングル５８を大きくする必要がある。また、傾斜角が小さく使用領域の角度が狭いほど切れ刃の輪郭誤差が加工面に転写しにくい。第２のアナモフィック光学素子４５の副走査断面を両凸レンズとすることで、第４面の最大傾斜角を従来の１／３以下に低減でき、従来機で第４面の加工に必要なチップ部の角度領域５９は１６．４°であるのに対して本実施形態で必要な角度領域６０はその約１／３であるため切れ刃稜線の真円度誤差の転写を大幅に低減できる。これにより加工精度のよいアナモフィック光学素子を用いて高性能な光走査装置を構成できる。また、各面の最大傾斜角が小さいため、切り込み方向の移動制御量が小さくてよく、高速送りでのフライカット加工においても主走査うねりが生じにくい。
【００４１】
また、図７に示されるフライカット装置５４で加工面全域を走査する動作を１サイクルとすると、粗加工、中仕上げ、仕上げの各工程を最低１サイクル行うためレンズ金型１つあたり最低３サイクル行う必要がある。３サイクルの切削長の合計は８万ｍｍ以上、加工時間の合計は１２時間以上となる。このような長距離かつ長時間の加工を行うと、温度変動や床振動等の環境的外乱が混入しやすく、金型の要求精度である数十ｎｍの工具位置決めが困難となり、工具の磨耗による位置決め誤差も生じる。通常、フライカット加工時間は加工面積に比例するため、有効長を短くして加工面積を小さくする事が精度向上の上で重要である。本実施形態の副走査断面の各有効長は従来機の場合に比べて約３割減少し、表７に示すように光学面面積が約３割低減しているため、加工時間を約３割短縮できる。
【００４２】
【表７】
2005195717.tif 000013
【００４３】
０像高に相当する主走査中央における副走査断面の形状誤差を比較すると、図１０に示すように加工面積の大きい従来機では約０．５〜１．０ｍｍ周期のうねりがあるのに対し、加工面積の小さい本発明では相対的にうねりが抑制されている。加工面積を小さくすることにより加工精度のよいアナモフィック光学素子を用いて高性能な光走査装置を構成できる。なお第２面の主走査方向の傾きを抑制することは困難であるため、各走査レンズの配置位置及び副走査方向のパワー成分を調整して軸対称非球面として精度を高めている。
【００４４】
このような第１のアナモフィック光学素子４４及び第２のアナモフィック光学素子４５を用いることで、従来加工精度の限界から実現できなかった高性能な光走査装置を実現することができる。また、各アナモフィック光学素子を高精度かつ安価に加工でき、これらを用いて高精度かつ安価な光走査装置を提供でき、さらに高画質な画像形成装置を提供できる。なお、本発明はアナモフィック光学面を有する各種光学系に応用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】画像形成装置の構成図である。
【図２】光走査装置の平面図である。
【図３】光走査装置の側面図である。
【図４】アナモフィック光学素子の断面図である。
【図５】正面旋盤加工装置の概略の構成図である。
【図６】フライカット装置の概略の構成図である。
【図７】主走査形状誤差の測定結果を示す図である。
【図８】ダイヤモンドバイトの構成図である。
【図９】第４面を成型するレンズ金型の形状を示す図である。
【図１０】第４面の副走査形状誤差の測定結果を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
１；画像形成装置、１０；画像読取部、１１；受信部、１２；転写装置、
１３；定着装置、１４；給紙部、１５；用紙反転部、１６；排紙部、
１７；画像処理部、１８；処理部、１９；原稿自動送り装置、
２０；キャリッジ、２１；レンズ、２２；ＣＣＤ、２３；バッファ、
２４；感光体、２５；帯電装置、２６；光走査装置、２７；現像装置、
２８；中間転写ベルト、２９；ベルトローラ、３０；一次転写ローラ、
３１；二次転写ローラ、３２；レジストローラ、３３；分岐つめ、
３４；反転部、４０；光源、４１；カップリングレンズ、
４２；シリンドリカルレンズ、４３；偏向器、
４４；第１のアナモフィック光学素子、４５；第２のアナモフィック光学素子、
４６；レンズ金型、４７；レンズ金型、４８；軸対称非球面レンズ金型、
４９；正面旋盤加工装置、５０；主軸、５１；ワークチャック、
５２；ダイヤモンドバイト、５３；レンズ金型、５４；フライカット装置、
５５；ホルダ、５６；ダイヤモンドバイト、５７；チップ部、
５８；ウインドウアングル、５９；角度領域、６０；角度領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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