(57)【要約】【課題】  シール材に含まれる導電性粒子の凝集による、隣接する電極パターン同士のショート等の発生が少ない電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】  シール材を介して対向配置される第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置において、第１の基板は、表面上に第１の電極パターンを備え、第２の基板は、表面上に第２の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備え、シール材は、基材としての絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含んでいる。【選択図】  図８
2005172999.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異方導電性のシール材を介して対向配置される第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置において、
前記第１の基板は、表面上に第１の電極パターンを備え、
前記第２の基板は、表面上に第２の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備え、
前記シール材は、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記シール材において、下記式（１）で示される導電性粒子の分散性指数（Ｐ１）を２以上の値とすることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【数１】
2005172999.tif 000010
ｅ：  自然対数の底
Ａ１：シール材に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電性粒
子の最大個数
Ｂ１：シール材の単位面積あたりに含まれる、最大個数がＡ１である凝集粒子の数
ＮB1：Ｂ１の階乗
【請求項３】
前記シール材に含まれる導電性粒子の平均粒径をｓ（μｍ）としたときに、前記シール材に含まれる分散性粒子の平均粒径を０．３ｓ〜０．９ｓ（μｍ）の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記シール材に含まれる導電性粒子の平均粒径をｓ（μｍ）としたときに、前記第１の電極パターン又は第２の電極パターンにおける、隣接する電極パターン間の距離を２．５ｓ〜５ｓ（μｍ）の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記シール材に含まれるスペーサのアスペクト比を１：２〜１：６の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記シール材に含まれる導電性粒子の添加量を１００重量％としたときに、前記シール材に含まれる分散性粒子の添加量を５０〜３００重量％の範囲内の値とするとともに、前記スペーサの添加量を３〜３０重量％の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記外部接続用端子が異方性導電膜を介して、少なくとも接続用基板に電気接続してあるとともに、当該異方性導電膜が、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、を含み、かつ、下記式（２）で示される導電性粒子の分散性指数（Ｐ２）を２以上の値とすることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【数２】
2005172999.tif 000011
ｅ：  自然対数の底
Ａ２：異方性導電膜に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電
性粒子の最大個数
Ｂ２：異方性導電膜の単位面積あたりに含まれる、最大個数がＡ１である凝集粒子の数
ＮB2：Ｂ２の階乗
【請求項８】
前記異方性導電膜に含まれる導電性粒子の平均粒径をｔ（μｍ）としたときに、前記異方性導電膜に含まれる分散性粒子の平均粒径を０．３ｔ〜０．９ｔ（μｍ）の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記異方性導電膜に含まれる導電性粒子の添加量を１００重量％としたときに、前記異方性導電膜に含まれる分散性粒子の添加量を５０〜３００重量％の範囲内の値とすることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
異方導電性のシール材を介して対向配置される第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含むとともに、前記第１の基板は、表面上に第１の電極パターンを備え、前記第２の基板は、表面上に第２の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備えた電気光学装置の製造方法において、
絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むシール材を使用して、前記第１の基板及び第２の基板を接合することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
前記シール材として、下記式（１）で示される導電性粒子の分散性指数（Ｐ１）が２以上の値であるシール材を使用することを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法。
【数３】
2005172999.tif 000012
ｅ：  自然対数の底
Ａ１：シール材に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電性粒
子の最大個数
Ｂ１：シール材の単位面積あたりに含まれる、最大個数がＡ１である凝集粒子の数
ＮB1：Ｂ１の階乗
【請求項１２】
前記外部接続用端子を、異方性導電膜を介して、少なくとも接続用基板に電気接続する工程を含み、当該異方性導電膜が、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、を含むとともに、かつ、下記式（２）で示される導電性粒子の分散性指数（Ｐ２）が２以上の値であることを特徴とする請求項１０または１１に記載の電気光学装置の製造方法。
【数４】
2005172999.tif 000013
ｅ：  自然対数の底
Ａ２：異方性導電膜に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電
性粒子の最大個数
Ｂ２：異方性導電膜の単位面積あたりに含まれる、最大個数がＡ２である凝集粒子の数
ＮB2：Ｂ２の階乗
【請求項１３】
請求項１〜９のいずれかに記載された電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置を含む電子機器に関する。
特に、異方導電性のシール材を介して、一対の基板を接合した場合にも、隣接する電極パターン間でのショートの発生が少ない電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及びこのような電気光学装置を含む電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、互いに対向配置される一対の基板の一方に形成した走査電極と、他方の基板に形成したデータ電極とを、ドットマトリクス状の複数の点で交差させることによって画素を形成し、それらの画素に印加する電圧を選択的に変化させることによって、当該画素に含まれる液晶物質を通過する光を変調させ、文字等の像を表示する液晶表示装置が多用されている。
かかる液晶表示装置は、通常、第１の電極パターン（走査電極）を有する第１の基板と、第２の電極パターン（データ電極）及び外部接続用端子を有する第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の外周面に沿って配置されるとともに、第１の基板及び第２の基板を貼り合わせるためのシール材と、第１の基板及び第２の基板の間に封入された液晶と、から構成されている。また、このような液晶表示装置に使用されるシール材としては、絶縁性接着剤中に、導電性粒子を含んで構成される異方導電性のシール材が一般的である。そして、かかるシール材によって、第２の基板上の電気配線と、第１の基板上の第１の電極パターンとが、電気的に接続されている。
しかしながら、シール材中に含まれる導電性粒子は凝集しやすく、その凝集個数や、隣接する電極パターン間の距離によっては、電極パターン同士を電気的に接続してしまう場合があった。したがって、ショートが発生し、画像欠陥が見られる場合があった。
【０００３】
そこで、このような問題を解決するために、シール材とは異なるものの、導電性粒子を絶縁性バインダー中に分散させた異方性導電膜が提案されている。より具体的には、図１８に示すように、絶縁性バインダー中に、導電性微粒子と、その直径よりも小さい径の絶縁性微粒子と、を混在させるとともに、導電性微粒子が集中して存在する領域と、絶縁性微粒子が集中して存在する領域とを形成した異方性導電膜である（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−７５４８８号公報（特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載された異方性導電膜は、導電性微粒子が集中して存在する領域と、絶縁性微粒子が集中して存在する領域とを、安定して作成することは困難であり、歩留まりが低いという問題が見られた。また、当該導電性微粒子の直径よりも小さい径の絶縁性微粒子を使用しているために、導電性微粒子の存在しない領域においては、セルギャップにバラつきが生じて、凝集粒子が形成しやすくなるという問題が見られた。さらに、導電性微粒子の分散性を定量的に判断する手法がなく、工業的規模の電気光学装置等の生産において、その検査方法が確立できないという問題が見られた。 
したがって、特許文献１に記載された異方性導電膜を、異方導電性のシール材にそのまま適用したとしても、ショートが発生し、画像欠陥が生じやすいという問題が未だ見られた。
【０００５】
そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、電気光学装置に使用されるシール材を、導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含んだ構成とすることにより、シール材に含まれる導電性粒子の分散性を定量的に制御できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、電気光学装置において、シール材に含まれる導電性粒子の分散性を制御して、凝集粒子の発生を効率的に抑制し、隣接する電極パターン間でのショートの発生を有効に防止できる電気光学装置を提供することを目的とする。また、本発明の別の目的は、このような電気光学装置の効率的な製造方法を提供するとともに、このような電気光学装置を含む電子機器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明によれば、異方導電性のシール材を介して対向配置される第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置であって、
第１の基板は、表面上に第１の電極パターンを備え、
第２の基板は、表面上に第２の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備え、
シール材は、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含む電気光学装置が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、シール材に含まれる分散性粒子によって、導電性粒子同士の接触が阻害され、かつ、スペーサによって、導電性粒子の横方向の広がりが制御されるため、導電性粒子の分散性を制御して、凝集粒子の発生を効率的に抑制し、隣接する電極パターン間でのショートの発生を有効に防止することができる。
【０００７】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、シール材において、導電性粒子の分散性を示す指標であって、下記式（１）で示される分散性指数（Ｐ１）を２以上の値とすることが好ましい。
【０００８】
【数１】
2005172999.tif 000003
【０００９】
ｅ：  自然対数の底
Ａ１：シール材に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、単位面積あたり、一方
向に並ぶ導電性粒子の最大個数
Ｂ１：最大個数がＡ１である凝集粒子の数
ＮB1：Ｂ１の階乗
ただし、ある最大個数の凝集粒子が存在しない場合には、累積の計算において、その最大個数に対応したｅ-[1/(A1-1)]／ＮB1の値を０とする（以下、同様である）。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、シール材に含まれる導電性粒子の平均粒径をｓ（μｍ）としたときに、シール材に含まれる分散性粒子の平均粒径を０．３ｓ〜０．９ｓ（μｍ）の範囲内の値とすることが好ましい。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、シール材に含まれる導電性粒子の平均粒径をｓ（μｍ）としたときに、第１の電極パターン又は第２の電極パターンにおける、隣接する電極パターン間の距離を２．５ｓ〜５ｓ（μｍ）の範囲内の値とすることが好ましい。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、シール材に含まれるスペーサのアスペクト比を１：２〜１：６の範囲内の値とすることが好ましい。
【００１３】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、シール材に含まれる導電性粒子の添加量を１００重量％としたときに、シール材に含まれる分散性粒子の添加量を５０〜３００重量％の範囲内の値とするとともに、スペーサの添加量を３〜３０重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、外部接続用端子が異方性導電膜を介して、少なくとも接続用基板に電気接続してあるとともに、当該異方性導電膜が、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、を含み、かつ、下記式（２）で示される分散性指数（Ｐ２）を２以上の値とすることが好ましい。
【００１５】
【数２】
2005172999.tif 000004
【００１６】
ｅ：  自然対数の底
Ａ２：異方性導電膜に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数
Ｂ２：一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数がＡ２である凝集粒子数
ＮB2：Ｂ２の階乗
ただし、ある最大個数の凝集粒子が存在しない場合には、累積の計算において、その最大個数に対応したｅ-[1/(A2-1)]／ＮB2の値を０とする（以下、同様である）。
【００１７】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、異方性導電膜に含まれる導電性粒子の平均粒径をｔ（μｍ）としたときに、異方性導電膜に含まれる分散性粒子の平均粒径を０．３ｔ〜０．９ｔ（μｍ）の範囲内の値とすることが好ましい。
【００１８】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、異方性導電膜に含まれる導電性粒子の添加量を１００重量％としたときに、異方性導電膜に含まれる分散性粒子の添加量を５０〜３００重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
【００１９】
また、本発明の別の態様は、異方導電性のシール材を介して対向配置される第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含むとともに、第１の基板は、表面上に第１の電極パターンを備え、第２の基板は、表面上に第２の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備えた電気光学装置の製造方法であって、
絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むシール材を使用して、第１の基板及び第２の基板を接合する電気光学装置の製造方法である。
【００２０】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、シール材として、導電性粒子の分散性を示す指標であって、下記式（１）で示される分散性指数（Ｐ１）が２以上の値であるシール材を使用することが好ましい。
【００２１】
【数３】
2005172999.tif 000005
【００２２】
ｅ：  自然対数の底
Ａ１：シール材に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、単位面積あたり、一方
向に並ぶ導電性粒子の最大個数
Ｂ１：最大個数がＡ１である凝集粒子の数
ＮB1：Ｂ１の階乗
【００２３】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、外部接続用端子を、異方性導電膜を介して、少なくとも接続用基板に電気接続する工程を含み、当該異方性導電膜が、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、を含むとともに、かつ、下記式（２）で示される導電性粒子の分散性指数（Ｐ２）が２以上の値であることが好ましい。
【００２４】
【数４】
2005172999.tif 000006
【００２５】
ｅ：  自然対数の底
Ａ２：異方性導電膜に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数
Ｂ２：一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数がＡ２である凝集粒子数
ＮB2：Ｂ２の階乗
【００２６】
また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００２８】
［第１実施形態］
第１実施形態は、シール材を介して対向配置される第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学物質と、を含む電気光学装置である。
そして、かかる電気光学装置において、
第１の基板は、表面上に第１の電極パターンを備え、
第２の基板は、表面上に第２の電極パターンと、電気配線と、少なくとも一辺側に外部接続用端子と、を備え、
シール材は、絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むことを特徴とする。
以下、図１〜図１１を適宜参照しながら、本発明の第１実施形態の電気光学装置について、カラーフィルタ基板（第１の基板）、及び素子基板（第２の基板）を用いた液晶表示装置１０を例に採って説明する。
【００２９】
１．液晶表示装置の基本構造
まず、図１〜図２を参照して、本発明の第１実施形態に係る電気光学装置としての液晶表示装置の基本構造、すなわち、セル構造や配線、あるいは位相差板および偏光板について具体的に説明する。なお、図１は、本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置を構成する液晶パネル２００を示す概略斜視図であり、図２は、液晶パネル２００の模式的な概略断面図である。
また、図１に示される液晶パネル２００は、パッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル２００であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることにより、液晶表示装置となる。
なお、本実施形態においてはパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネルを例にとって説明するが、ＴＦＤ素子（Thin Film Diode）やＴＦＴ素子（Thin Film Transistor）等の非線形素子を用いたアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネルであっても構わない。
【００３０】
（１）セル構造
図１に示すように、液晶パネル２００は、ガラス板や合成樹脂板等を基体とする第１の基板（カラーフィルタ基板）１２と、これに対向配置される、ガラス板や合成樹脂板等を基体とする第２の基板（素子基板）１４とが、シール材２３０を介して貼り合わせられている。そして、カラーフィルタ基板１２と、素子基板１４とが形成する空間であって、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶を注入した後、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えていることが好ましい。
すなわち、図２に示すように、カラーフィルタ基板１２と素子基板１４との間に液晶２３２が充填されていることが好ましい。
【００３１】
（２）配線
図１に示すように、第２の基板１４の内面（第１の基板１２に対向する表面）上に、複数のストライプ状のデータ電極（第２の電極パターン）２６を形成し、第１の基板１２の内面（第２の基板１４に対向する表面）上には、複数のストライプ状の走査電極（第１の電極パターン）１９を形成することが好ましい。また、データ電極２６は、表示領域害において、電気配線２９に対して接続することが好ましい。さらに、もう一方の走査電極１９を、第２の基板１４上の電気配線２８に対して、導電性粒子を含むシール材２３０を介して導電接続することが好ましい。
そして、データ電極と走査電極との交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域Ａを構成することになる。
なお、以下の説明においては、第２の電極パターンには、データ電極及び電気配線を含むものとする。
【００３２】
また、図１に示すように、第２の基板１４は、第１の基板１２の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部１４Ｔを有し、この基板張出部１４Ｔ上には、データ電極２６、電気配線２８、２９および、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部（外部接続用端子）２１９が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部１４Ｔ上に、これらデータ電極２６、電気配線２８、２９および入力端子部（外部接続用端子）２１９に対して電気接続すべく、例えば、図３（ａ）に示すように、異方性導電膜８０を介して、液晶駆動回路等を内蔵した半導体素子（ＩＣ）２６１を実装することが好ましい。
さらに、基板張出部１４Ｔの端部には、入力端子部（外部接続用端子）２１９に電気接続すべく、例えば、図３（ａ）に示すように、異方性導電膜８０を介して、フレキシブル配線基板１１０を実装することが好ましい。
【００３３】
ここで、図３（ａ）〜（ｂ）に示すように、異方性導電膜８０を介して、外部接続用端子２１９と、半導体素子（ＩＣ）２６１やフレキシブル配線基板１１０を電気接続する場合、当該異方性導電膜８０が、絶縁性接着剤８１と、導電性粒子８３と、当該導電性粒子８３を分散させるための分散性粒子８５と、を含むとともに、かつ、下記式（２）で示される導電性粒子８３の分散性指数（Ｐ２）が２以上の値であることが好ましい。
この理由は、分散性指数（Ｐ２）が２以上の値であれば、凝集粒子の発生数が抑制され、外部接続用端子における隣接する電極パターン間でのショートの発生を有効に防止することができるためである。
【００３４】
【数５】
2005172999.tif 000007
【００３５】
ｅ：  自然対数の底
Ａ２：異方性導電膜に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数
Ｂ２：一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数がＡ２である凝集粒子数
ＮB2：Ｂ２の階乗
【００３６】
（３）位相差板および偏光板
図１に示される液晶パネル２００において、図２に示すように、第１の基板１２の所定位置に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板（１／４波長板）２５０および偏光板２５１が配置されていることが好ましい。
そして、第２の基板１４の外面においても、位相差板（１／４波長板）２４０および偏光板２４１が配置されていることが好ましい。
【００３７】
２．カラーフィルタ基板（第１の基板）
（１）基本的構成
カラーフィルタ基板１２は、図２に示すように、基本的に、ガラス板や合成樹脂板等からなる基体１３と、着色層１６と、遮光層１８と、第１の電極パターン（走査電極）１９と、から構成してあることが好ましい。
また、カラーフィルタ基板１２において、反射機能が必要な場合、例えば、携帯電話等に使用される半透過反射型の液晶表示装置においては、第１のガラス基板（基体）１３と、着色層１６との間に、図２に示すように、反射層（半透過反射板）２１２を設けることが好ましい。
さらに、カラーフィルタ基板１２において、図２に示すように、画素毎に着色層１６が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる平坦化層（表面保護層あるいはオーバーコート層）２１５により、被覆してあることが好ましい。このようにして、着色層１６と平坦化層（表面保護層）２１５とによってカラーフィルタが形成されることになる。さらに、電気絶縁性を向上させるための絶縁層（図示せず。）を設けることも好ましい。
【００３８】
（２）着色層
また、図２に示す着色層１６は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
かかる着色層は、通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ技術（エッチング法）によって不要部分を欠落させることによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成することができる。そして、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
また、着色層の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００３９】
（３）遮光層
また、図２に示すように、画素毎に形成された着色層１６の間の画素間領域に、遮光層（ブラックマトリクス、あるいはブラックマスクと称する場合もある。）１８を形成することが好ましい。
このようなブラックマトリクス１８としては、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。また、カーボン等の黒色材料を使用しなくとも優れた遮蔽効果を得ることができることから、加色法を利用して、Ｒ（赤）層、Ｇ（緑）層、Ｂ（青）層の三層構造とすることも好ましい。
【００４０】
（４）反射層
また、図２に示すように、第１のガラス基板１３の表面には、反射層２１２が形成されていることが好ましい。この反射層２１２は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、から構成することが好ましい。また、反射層２１２には、画素毎に、反射面を有する反射部２１２ｒと、開口部２１２ａとが設けられていることが好ましい。
【００４１】
（５）第１の電極パターン（走査電極）
（５）−１  配列
図２に示すように、平坦化層２１５の上に、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる走査電極（第１の電極）１９を形成することが好ましい。かかる第１の電極パターンとしての走査電極１９は、複数の透明電極が並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
【００４２】
（５）−２  端部位置
カラーフィルタ基板（第１の基板）における第１の電極パターンの端部位置は、シール材の外縁より内側に存在することが好ましい。すなわち、図４（ａ）に示すように、かかる液晶表示装置を平面的に透視した場合に、第１の電極パターン１９がシール材２３０の外縁２３０ａより外側に存在しないように配置されていることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、シール材を介してカラーフィルタ基板および素子基板を貼り合わせた後は、第１の電極パターンが外部に露出することがなくなるためである。したがって、金属フレームや異物の接触によるショートやコロージョンの発生を効果的に防ぐことができる。
ただし、カラーフィルタ基板（第１の基板）における第１の電極パターンは、通常、導電性粒子を含むシール材を介して、素子基板における電気配線と電気的に導通を取ることが必要である。そのため、図４（ａ）に示すように、第１の電極パターン１９の端部位置は、シール材２３０の内縁よりも外側に存在することが好ましい。このように構成することにより、第１の電極パターンと素子基板における電気配線とが電気的に導通されるとともに、ショートやコロージョンの発生を確実に防止することができる。
なお、後述するように、電極パターンを形成する際に、露光工程を二回設けるなどして、製造段階において電極パターンに静電気が滞留することを防止できるために、シール材の外側に電極パターンを配置して、かかる静電気を除去する必要がないという事実も判明している。
【００４３】
また、カラーフィルタ基板１２の各辺に存在する、複数の第１の電極パターンの端部位置が均一であることが好ましい。すなわち、図４（ａ）に示すように、第１のガラス基板１３の縁部１３ａの一辺側に存在する、複数の第１の電極パターン１９の端部１９ａと、当該第１のガラス基板１３の縁部１３ａとの距離が実質的に等しいことが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、各電極パターンと、シール材との接触面積が均一化されるためである。したがって、各電極パターンと、素子基板上の電気配線との導通特性が良好に保たれ、優れた画像表示を実現することができる。また、このように構成することにより、電気光学装置のセルギャップの均一化を図ることができるためである。
【００４４】
（５）−３  第１の電極パターン間の距離
また、図５に示すように、隣接する第１の電極パターン１９間の距離を２０〜５０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。すなわち、後述するように、通常、シール材に含まれる導電性粒子の粒径が１０μｍ程度であることを考慮して、隣接する第１の電極パターン１９間の距離を定めることが好ましい。
この理由は、かかる距離が２０μｍ未満の値となると、隣接する第１の電極パターン間でショートが発生し、画像欠陥等が生じる場合があるためである。一方、かかる距離が５０μｍを超えると、画素領域以外の面積が大きくなり、高精細な画像を表示させることが困難となる場合があるためである。
したがって、隣接する第１の電極パターン間の距離を２２〜４５μｍの範囲内とすることがより好ましく、２５〜４０μｍの範囲内とすることがさらに好ましい。
【００４５】
（５）−４  高さ（厚さ）
また、第１の電極パターンの高さ（厚さ）を１〜２０μｍの範囲内の値とすることが好ましく、２〜１５μｍの範囲内の値とすることがより好ましい。
この理由は、第１の電極パターンの高さ（厚さ）が１μｍ未満の値となると、電気抵抗の値が過度に大きくなってしまう場合があるためである。一方、第１の電極パターンの高さ（厚さ）が２０μｍを超えると、セルギャップにバラつきが生じたり、あるいは、電気光学装置の薄型化を図ることが困難になる場合があるためである。
【００４６】
（６）配向膜（第１の配向膜）
また、図２に示すように、第１の電極パターン（走査電極）１９の上には、ポリイミド樹脂等からなる第１の配向膜２１７が形成されていることが好ましい。
この理由は、このように配向膜２１７を設けることにより、カラーフィルタ基板１２を液晶表示装置等に使用した場合に、電気光学物質（液晶）の配向駆動を電圧印加によって容易に実施することができるためである。
【００４７】
３．素子基板（第２の基板）
（１）基本構造
図１および図２に示すように、カラーフィルタ基板１２と対向するもう一方の素子基板（第２の基板）１４は、基本的に、ガラス板や合成樹脂板等からなる基体２７上に、データ電極２６と、電気配線２８、２９と、から構成してあることが好ましい。
また、図２に示すように、データ電極２６上には、第１の基板１２における第１の配向膜と同様のポリイミド樹脂等からなる第２の配向膜２２４が形成されていることが好ましい。
なお、第１実施形態の液晶表示装置の例では、着色層が第１の基板１２上に設けてあるが、着色層を、かかる素子基板１４上に設けることも好ましい。また、アクティブマトリクス型の液晶パネルを使用した電気光学装置である場合には、素子基板上に、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体からなる画素電極をさらに有するとともに、ＴＦＤ（Thin Film Diode）や、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等の非線形素子を介して、データ電極と接続されることが好ましい。
【００４８】
（２）第２の電極パターン
（２）−１  データ電極
また、素子基板には、図４（ｂ）に示すように、第２の電極パターンの一つであるデータ電極２６を設けることが好ましい。かかるデータ電極２６は、図４（ｂ）に示すように、複数の透明電極が、並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、かかるデータ電極は、図４（ｂ）に示すように、一端側が外部接続用端子２１９となる電気配線２９に接続されるとともに、シール材２３０の外側であって、第２のガラス基板２７における基板張出し部１４Ｔまで延設されていることが好ましい。
なお、隣接するデータ電極等の間の距離や、データ電極の高さについては、上述の第１の電極パターンと同様とすることが好ましい。
【００４９】
（２）−２  電気配線
また、素子基板には、図４（ｂ）に示すように、第２の電極パターンの一つである電気配線２８、２９を設けることが好ましい。かかる電気配線２８についても、複数の金属膜が並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、かかる電気配線は、シール材２３０の外側であって、第２の基板１４における基板張出し部１４Ｔまで延設され、一端側が外部接続用端子２１９とされていることが好ましい。そして、図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、電気配線２８の端部のうち、外部接続用端子２１９となる端部とは反対側の端部２８ａが、シール材２３０を介してカラーフィルタ基板（第１の基板）１２上の走査電極（第１の電極パターン）１９と電気的に導通されることが好ましい。
なお、図６（ａ）及び（ｂ）は、素子基板１４における、外部接続用端子２８ａが存在する箇所と垂直な２辺まで電気配線２８を配設して、カラーフィルタ基板１２上の走査電極１９と導通を取っている例を示している。また、図６（ｃ）は、素子基板１４における、外部接続用端子２８ａが存在する箇所であって、電気配線２９が存在しない部分を利用して、カラーフィルタ基板１２上の走査電極１９と導通を取っている例を示している。
さらに、ＴＦＤやＴＦＴ等のアクティブマトリクス型構造を有する液晶パネルの場合には、図７に示すように、電気配線２９が、外部入力端子部２１９から対面方向に延設され、データ線が形成されるとともに、非線形素子３１を介して、画素電極２０に接続されることとなる。
【００５０】
（２）−３  端部位置
また、第１実施形態に係る液晶表示装置においては、図４（ｂ）及び図６（ａ）〜（ｃ）に示すように、第２の基板１４における外部接続用端子２１９が設けられていない側の第２の電極パターン（データ電極２６及び電気配線２８を含む。以下同様）の端部２６ａ、２８ａが、上述したカラーフィルタ基板における第１の電極パターンの端部と同様に、シール材２３０の外縁２３０ａより内側に存在することが好ましい。この理由は、このように構成することにより、金属フレームや異物の接触によるショートやコロージョンの発生を防止できるためである。
なお、第２の電極パターンの端部と、シール材の外縁及びガラス基板の縁部との距離や、隣接するデータ電極等の間の距離、高さについても、上述の第１の電極パターンと同様とすることが可能である。したがって、ここでの説明は省略する。
【００５１】
４．シール材
（１）基本的構成
シール材は、第１の基板（カラーフィルタ基板）と、第２の基板（素子基板）とを貼り合わせるとともに、素子基板上の第２の電極パターンと、カラーフィルタ基板上の第１の電極パターン（走査電極）とを導通させるための部材である。
そして、第１実施形態の電気光学装置に使用されるシール材は、図８に示すように、絶縁性接着剤６１と、導電性粒子６３と、当該導電性粒子６３を分散させるための分散性粒子６５と、セルギャップを調整するためのスペーサ６７と、を含むことを特徴としている。すなわち、シール材中における、分散性粒子６５と、スペーサ６７との協同により、導電性粒子の凝集を防止して、当該導電性粒子の分散性が制御され、隣接する電極パターン間でのショートの発生を有効に防止することができる。
【００５２】
（２）絶縁性接着剤
絶縁性接着剤の種類としては、光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等が使用できるが、より具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂等を使用することができる。ただし、耐熱性や耐湿性、さらには透明性に優れることからエポキシ樹脂を使用することが好ましい。
また、絶縁性接着剤の添加量に関し、シール材の全体量を１００重量％としたときに、絶縁性接着剤の添加量を５０〜９８重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる添加量が５０重量％未満の値となると、シール材の接着性が低下する場合があるためである。一方、かかる添加量が９８重量％を超えると、導通性が確保できない場合があるためである。
したがって、シール材の全体量を１００重量％としたときに、絶縁性接着剤の添加量を５５〜９３重量％の範囲内の値とすることがより好ましく、６０〜８８重量％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５３】
（３）導電性粒子
導電性粒子は、基材としての絶縁性接着剤中に含まれ、素子基板上の電気配線及びカラーフィルタ基板上の走査電極の双方に接することにより、それらの間の導通を取るための材料である。かかる導電性粒子の種類としては、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ等の金属粒子、又はプラスチック粒子の表面にＡｕ等で金属メッキしたもの等を、好適に使用することができる。
また、導電性粒子の平均粒径を１〜１０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、導電性粒子の平均粒径が１μｍ未満の値となると、素子基板上の電気配線と、カラーフィルタ基板上の走査電極との導通性の確保が困難になる場合があるためである。一方、導電性粒子の平均粒径が１０μｍを超えると、セルギャップが大きくなってしまい、液晶パネルの薄型化を図ることが困難になったり、隣接する電極パターン間で、ショートが発生しやすくなったりする場合があるためである。
したがって、導電性粒子の平均粒径を２〜９μｍの範囲内の値とすることがより好ましく、３〜８μｍの範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５４】
また、導電性粒子の添加量に関し、シール材の全体量を１００重量％としたときに、導電性粒子の添加量を１〜５０重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる添加量が１重量％未満の値となると、素子基板上の電気配線と、カラーフィルタ基板上の走査電極との導通性の確保が困難になる場合があるためである。一方、かかる添加量が５０重量％を超えると、シール材の接着性が低下する場合があるためである。
したがって、シール材の全体量を１００重量％としたときに、導電性粒子の添加量を５〜４５重量％の範囲内の値とすることがより好ましく、１０〜４０重量％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５５】
（４）分散性粒子
分散性粒子は、上述した導電性粒子の間に介在して、導電性粒子が接触して、結合することを有効に防止するとともに、シール材中における導電性粒子の分散性を制御するための材料である。すなわち、逆に、分散性粒子を添加しない場合、例えば、複数の導電性粒子が結合して、凝集することにより、素子基板上の隣接する走査電極同士が電気的に接続され、ショートが発生しやすくなるためである。
ここで、かかる分散性粒子の構成材料としては、シリカ、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、及びその水素化物（ＳＥＢＳ）、エチレン−アクリル酸エステル共重合体等を好適に使用することができる。中でも、硬度や圧縮特性が高く、さらには優れた透明性を有することから、シリカを使用することが好ましい。
【００５６】
また、分散性粒子の平均粒径に関し、上述した導電性粒子の平均粒径をｓ（μｍ）としたときに、分散性粒子の平均粒径を０．３ｓ〜０．９ｓ（μｍ）の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる分散性粒子の平均粒径が０．３ｓ（μｍ）未満の値となると、導電性粒子を均一に分散させることが困難となり、導電性粒子が凝集してしまう場合があるためである。一方、かかる分散性粒子の平均粒径が０．９ｓ（μｍ）を超えると、導電性粒子を、素子基板上の電気配線及びカラーフィルタ基板上の走査電極の双方に接触させることが困難となり、導通性が低下する場合があるためである。
したがって、導電性粒子の平均粒径をｓ（μｍ）としたときに、分散性粒子の平均粒径を０．４ｓ〜０．８５ｓ（μｍ）の範囲内の値とすることがより好ましく、０．５ｓ〜０．８ｓ（μｍ）の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、より具体的には、分散性粒子の平均粒径を１〜７μｍの範囲内の値とすることが好ましい。
【００５７】
また、分散性粒子の添加量に関し、上述した導電性粒子の添加量を１００重量％としたときに、分散性粒子の添加量を５０〜３００重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる分散性粒子の添加量が５０重量％未満の値となると、導電性粒子を均一に分散させることが困難となり、導電性粒子が凝集してしまう場合があるためである。一方、かかる分散性粒子の添加量が３００重量％を超えると、導通性粒子の分散性にバラつきが生じ、導通性が低下する場合があるためである。
したがって、導電性粒子の添加量を１００重量％としたときに、分散性粒子の添加量を６０〜２５０重量％の範囲内の値とすることがより好ましく、７０〜２００重量％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００５８】
（５）スペーサ
スペーサは、シール材中に含まれ、セルギャップを調整するための部材である。すなわち、かかるスペーサを含むことにより、シール材の接着領域全体におけるセルギャップを、均一に保持することができるためである。
かかるスペーサの材料としては、プラスチックファイバー、グラスファイバー、シリカ粒子等を好適に使用することができるが、比較的軽量で分散させやすく、かつ、優れた圧縮特性を有することから、プラスチックファイバーを使用することが好ましい。
【００５９】
また、スペーサとしては、粒子状物を使用することもできるが、長径および短径を有する棒状物を使用することも好ましい。その場合、スペーサにおけるアスペクト比（長径：短径）を１：２〜１：６の範囲内とすることが好ましい。
この理由は、かかるアスペクト比が１：２未満となると、グリップ力が低下して、移動しやすくなり、均一に分散させることが困難になる場合があるためであり、一方、かかるアスペクト比が１：６を超えると、スペーサの長軸方向からの圧力に対する強度が低下して、セルギャップを均一に保持することが困難になる場合があるためである。
したがって、スペーサのアスペクト比を１：２〜１：５の範囲内の値とすることがより好ましく、１：２〜１：３の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、スペーサとして粒子状物を使用する場合には、上述した分散性粒子との相違点として、分散性粒子の平均粒径を１００％としたときに、当該スペーサの平均粒径を１０５〜２００％の範囲内の値とすることが好ましい。
【００６０】
また、スペーサの添加量に関し、シール材の全体量を１００重量％としたときに、スペーサの添加量を１〜３０重量％の範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかるスペーサの添加量が３重量％未満の値となると、セルギャップにバラつきが生じる場合があるためである。一方、かかるスペーサの添加量が３０重量％を超えると、シール材の接着性が低下する場合があるためである。
したがって、シール材の全体量を１００重量％としたときに、スペーサの添加量を１．５〜２５重量％の範囲内の値とすることがより好ましく、２．５〜２０重量％の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
【００６１】
（６）分散性指数
分散性指数（Ｐ１）は、シール材における導電性粒子の分散度合いを示す指標である。すなわち、シール材に含まれる導電性粒子が、過度に結合して凝集することなく、均一に分散して存在していることを示す指標である。したがって、かかる分散性指数が大きいほど、凝集粒子が少なく、より均一に導電性粒子がシール材中に存在していることを示している。
ここで、凝集粒子とは、複数の導電性粒子が結合して形成されている粒子と定義される（以下、同様とする）。そして、かかる導電性粒子の分散性指数（Ｐ１）は、単位面積として、１０ｍｍ角のシール材を顕微鏡等により観察して、凝集粒子における、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数及び当該凝集粒子の数を測定した上で、下記式（１）により算出することができる。
【００６２】
【数６】
2005172999.tif 000008
【００６３】
ｅ：  自然対数の底
Ａ１：シール材に含まれる導電性粒子からなる凝集粒子において、単位面積あたり、一方
向に並ぶ導電性粒子の最大個数
Ｂ１：最大個数がＡ１である凝集粒子の数
ＮB1：Ｂ１の階乗
【００６４】
ここで、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数（Ａ１）とは、複数の導電性粒子からなる一つの凝集粒子において、いくつかの方向に並んだ導電性粒子のうちの最大個数を意味する。例えば、図９（ｅ）に示すような凝集粒子の場合には、Ｘ方向には３個、Ｙ方向には２個の導電性粒子が並んでおり、その最大個数（Ａ１）はＸ方向に並んだ導電性粒子の数である３となる。また、同様に、図９に示す他の凝集粒子の場合においても、いくつかの方向に並んだ導電性粒子のうちの最大個数を、それぞれ図中に示してある。すなわち、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数（Ａ１）とは、２〜ｎ（ｎは自然数であって、通常最大６個程度）の間の数の組み合わせであって、図９の場合には、２、３、４の３種類存在することになる。
また、最大個数がＡ１である凝集粒子の数（Ｂ１）とは、例えば、図９（ａ）〜（ｃ）に示すような３種類の２個凝集粒子がそれぞれ２個存在していた場合、最大個数２であるＢ１は６となり、図９（ｄ）〜（ｇ）に示すような４種類の３個凝集粒子がそれぞれ２個存在していた場合、最大個数３であるＢ１は８となり、図（ｈ）に示すような１種類の４個凝集粒子が２個存在していた場合、最大個数４であるＢ１は２となる。
また、ＮB1は、Ｂ１の階乗を意味しており、例えば、最大個数２であるＢ１が６の場合、そのＮB1は、７２０（＝６×５×４×３×２×１）となり、最大個数３であるＢ１が８の場合、そのＮB1は、４０３２０（＝８×７×６×５×４×３×２×１）となり、最大個数４であるＢ１が２の場合、そのＮB1は２（＝２×１）となる。
【００６５】
なお、ｅ- [1/(A1-1)]／ＮB1の値をそれぞれ具体的に算出した指数表を、表１に示す。
【００６６】
【表１】
2005172999.tif 000009
【００６７】
したがって、図９（ａ）〜（ｈ）に示すような凝集粒子が上述した数だけ存在していた場合、分散性指数（Ｐ１）は、０．７０１６４（＝０．００３８＋４ｅ-5＋０．６９７８）となる。
そして、第１実施形態に係る電気光学装置に使用されるシール材に含まれる導電性粒子の分散性指数を２以上の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる分散性指数が２未満の値となると、シール材中において凝集粒子が偏って存在することとなり、存在割合が高い領域では、隣接する電極パターン同士が、凝集粒子を介して電気的に接続される場合があるためである。また、一方で、導電性粒子の存在割合が低い領域においては、素子基板における走査電極と、カラーフィルタ基板における電気配線との導通が不十分となる場合があるためである。
ただし、かかる分散性指数の値を過度に大きくすることは、その制御をする上では困難になる場合がある。
よって、シール材に含まれる導電性粒子の分散性指数を２.２〜５の範囲内の値とすることがより好ましく、２．５〜４の範囲内の値とすることがさらに好ましい
【００６８】
次いで、シール材に含まれる導電性粒子の分散性指数（Ｐ１）と、分散性粒子の平均粒径及び添加比率と、の関係について説明する。
まず、図１０を参照して、分散性指数と、分散性粒子の平均粒径との関係について説明する。図１０中、縦軸は分散性指数を示し、横軸は導電性粒子の平均粒径を１（μｍ）としたときの、分散性粒子の平均粒径を示している。この図１０から明らかなように、シール材に含まれる導電性粒子の分散性指数を２以上の値とするためには、導電性粒子の平均粒径を１（μｍ）としたときに、分散性粒子の平均粒径を０．３（μｍ）以上の値とすることが有効であることが理解される。
次に、図１１を参照して、分散性指数と、導電性粒子の添加量を１００重量％としたときの、分散性粒子の添加量を示している。この図１１から明らかなように、シール材に含まれる導電性粒子の分散性指数を２以上の値とするためには、導電性粒子の添加量を１００重量％としたときに、分散性粒子の添加量を５０〜３００重量％の範囲内とすることが有効であることが理解される。
なお、シール材に含まれる導電性粒子の分散性指数（Ｐ１）について詳述したが、異方性導電膜に含まれる導電性粒子の分散性指数（Ｐ２）についても、図１０に示す関係が得られることが判明している。
【００６９】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態は、シール材を介して対向配置される第１の基板及び第２の基板と、当該第１の基板及び第２の基板の間に狭持された電気光学物質と、を備えるとともに、第１の基板は、基板としての第１のガラス基板上に第１の電極パターンを有し、第２の基板は、基板としての第２のガラス基板上に第２の電極パターン及び外部接続用端子を有する電気光学装置の製造方法である。
そして、基材としての絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むシール材を使用して、第１の基板と、第２の基板とを、接合する電気光学装置の製造方法である。
以下、図１２〜図１６を参照しながら、本発明に係る電気光学装置の製造方法の実施形態について、パッシブマトリクス型構造の液晶表示装置の製造方法を例に採って、詳細に説明する。
【００７０】
１．構成
製造対象の電気光学装置として、カラーフィルタ基板（第１の基板）及びその対向基板としての素子基板（第２の基板）を使用した液晶表示装置を例にとって説明するが、カラーフィルタ基板及び素子基板の構成については、第１の実施形態と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【００７１】
（１）カラーフィルタ基板（第１の基板）の製造
（１）−１  カラーフィルタの形成
図１２（ａ）に示すように、第１のガラス基板上には、画像表示領域に相当する箇所に、反射層２１２、及び着色層１６、遮光層１８を順次形成することが好ましい。
ここで、開口部２１２ａを備えた反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を第１のガラス基板１３上に被着させた後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより形成される。
また、着色層１６は、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を、反射層２１２等の上に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによっても形成することができる。なお、複数の色の着色層１６を配列形成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すことになる。
また、かかる着色層１６を重ね合わせることにより、遮光層１８を形成することが好ましい。あるいは、カーボン等の黒色材料を使用して、遮光層１８を形成することも好ましい。
【００７２】
（１）−２  保護膜の形成
次いで、図１２（ｂ）に示すように、第１の基板１２上に全面的に透光保護層２１５Ｘを形成する。この透光保護層２１５Ｘは、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの適宜の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
次いで、上記透光保護層２１５Ｘに、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングを施し、図１２（ｃ）に示すように、画像表示領域に限定された保護膜２１５を形成する。この工程によって、透光保護層２１５Ｘから画像表示領域以外の領域、すなわち、図２に示すシール材２３０の外側に配置される領域とほぼ同じ領域上から透光性素材が欠落されることが好ましい。このように実施することにより、セルギャップの均一化を図ることができるためである。
【００７３】
（１）−３  走査電極（第１の電極パターン）の形成
次いで、図１２（ｄ）に示すように、保護膜２１５上に、全面的にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）等の透明導電体材料からなる透明導電層１９Ｘを形成することが好ましい。この透明導電層１９Ｘは、一例として、スパッタリング法により成膜することができる。そして、透明導電層１９Ｘに対して、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングを施し、図１２（ｅ）に示すように走査電極（第１の電極パターン）１９を形成することが好ましい。
より詳細には、まず、図１３（ａ）〜（ｂ）に示すように、保護膜２１５を含む第１のガラス基板１３上に、全面的に透明導電材料からなる透明導電層１９Ｘを形成する。ここで、図１３（ｂ）に示すように、透明導電層１９Ｘを積層するにあたり、あらかじめ、Ｔａ２Ｏ５やＳｉＯ２等からなる下地層８１を形成することも好ましい。この理由は、形成される透明導電層１９Ｘの結晶性等を均一化させて、保護膜及びガラス基板に対する透明導電層の密着性を高めることができるためである。
次いで、図１３（ｃ）に示すように、透明導電層１９Ｘ上に所定のレジスト材料８６´を塗布した後、図１３（ｄ）に示すように、所定のマスクパターン８７を施した上で露光して、現像する（Ｓ７）ことにより、図１３（ｅ）に示すように、レジスト材料８６を塗布した後、所定形状にパターニングする。そして、図１３（ｆ）に示すように、透明導電材料１９Ｘに対してエッチング処理を行った後、再び露光、及び現像して、レジスト材料を剥離する。
このようにして、図１３（ｇ）及び図１２（ｄ）に示すように、所定パターン（図示せず）の走査電極（第１の電極パターン）１９を形成することが好ましい。このように形成された走査電極（第１の電極パターン）は、静電気の発生が少ないことが判明しているためである。なお、図１２（ｄ）は、図１３（ｇ）のＸＸ断面を矢印方向に見た図を示している。
【００７４】
（２）素子基板（第２の基板）の製造
（２）−１  電気配線の形成
電気配線は、スパッタリング法等により、第２の基板上に、導電性の金属材料、例えば、クロム、アルミニウム、チタン、モリブデン等を、通常、５０〜３００ｎｍの厚さに全面的に形成した後、それをフォトリソグラフィ技術やエッチング法を用いて、パターニングすることにより、第２の電極パターンの一つである電気配線を形成することが好ましい。
以下、詳細に説明する。まず、図１４（ａ）に示すように、ガラス基板２７上に、全面的に導電性の金属膜材料２８´をスパッタリング法等により積層し、図１４（ｂ）に示すように、その上からレジスト材料８２を全面的に塗布する。次いで、図１４（ｃ）に示すように、開口部８３ｂを有するフォトマスク８３を介して、例えば、開口部８３ｂに対応した位置のみに光を照射し、パターン露光した後、図１４（ｄ）に示すように現像して、マスクの開口部８３ｂに対応した箇所のみにレジスト８２´を残す。
【００７５】
次いで、図１５（ａ）に示すように、エッチング法により、レジスト２５´に被覆されていない箇所の導電性の金属膜材料２８´を除去した後、さらに図１５（ｂ）に示すように、レジスト２５´を除去して、パターン化された電気配線２８を形成する。
その後、図１５（ｃ）に示すように、電気配線２８の表面を陽極酸化法によって酸化させることにより、酸化膜２３を形成することが好ましい。より具体的には、電気配線２８が形成されたガラス基板２７を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、電気配線２８との間に所定電圧を印加して、電気配線２８の表面を酸化させることが好ましい。
【００７６】
（２）−２  データ電極の形成
次いで、図示しないが、第１の電極パターンの形成方法と同様に、スパッタリング法等により、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物等）等の透明導電体材料からなる透明導電層を形成した後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすることにより、第２の電極パターンの一つとしてのデータ電極を形成することが好ましい。
【００７７】
（３）貼り合わせ工程
（３）−１  シール材の印刷
図１６（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板上において、基材としての絶縁性接着剤と、導電性粒子と、当該導電性粒子を分散させるための分散性粒子と、セルギャップを調整するためのスペーサと、を含むシール材２３０を、スクリーン印刷やディスペンサにより、表示領域を囲むようにパターニングして形成することが好ましい。この理由は、このように実施することにより、隣接する電極パターン同士が電気的に接続され、断線や、ショートが発生することを有効に防止しつつ、素子基板上の走査電極と、カラーフィルタ基板上の電気配線との導通を、確実に取ることができるためである。このとき使用できるシール材については、第１実施形態で説明したシール材と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
また、シール材の印刷位置に関し、図１６（ａ）に示すように、シール材２３０の外縁２３０ａと、第１の電極パターン１９の端部１９ａとを、実質的に一致させて印刷することが好ましい。この理由は、このような位置にシール材を印刷することにより、第１の電極パターンの端部を位置合わせの目安にできるために、シール材の印刷位置決めを容易にすることができるためである。また、後述するプリベーク工程を経て、カラーフィルタ基板と素子基板とを貼り合わせる際に、ダミー電極によって、シール材が基板の外側方向に流動することを防止することが容易になるためである。したがって、シール材と、第１の電極パターンとの接触面積を比較的大きく確保することができるためである。よって、第１の電極パターンと、カラーフィルタ基板における走査電極との導通を確実に取ることができるとともに、金属フレームや異物の接触によるショートや、コロージョンの発生を有効に防止することができる。
なお、本実施形態においては、カラーフィルタ基板上にシール材を形成しているが、素子基板上に印刷することも好ましい。
【００７８】
（３）−２  圧着
次いで、シール材が積層された素子基板に対して、カラーフィルタ基板を重ね合わせて接合させた後、加熱しながら加圧保持して、カラーフィルタ基板と素子基板とを貼り合せることが好ましい。このとき、図１６（ｃ）に示すように、シール材２３０の外縁２３０ａが、走査電極１９や、データ電極２６、電気配線２８の所定の端部位置よりも外側になるように貼り合わせることが好ましい。
このようにして、カラーフィルタ基板と素子基板とを貼り合わせた際に、カラーフィルタ基板における走査電極、素子基板における外部接続用端子となる箇所以外のデータ電極、電気配線が、外部に露出させないことが可能になる。したがって、金属フレームや異物の接触によるショートや、コロージョンの発生を効果的に防止できる電気光学装置を得ることができる。
【００７９】
（４）液晶の注入および偏光板の配置
次いで、カラーフィルタ基板および素子基板が形成する空間であって、シール材の内側部分に対して、電気光学物質（液晶）を注入した後、封止材等にて封止することが好ましい。そして、例えば、第１の基板および第２の基板のそれぞれの外面に、偏光板を配置するとともに、液晶分子の配向方向を制御することにより、ノーマリーブラックモードの液晶表示装置を得ることができる。
【００８０】
［第３実施形態］
本発明に係る第３実施形態として、第１実施形態の液晶表示装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
図１７は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル２００と、これを制御するための制御手段１２００とを有している。また、図１７中では、液晶パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半導体素子（ＩＣ）等で構成される駆動回路２００Ｂと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されていることが好ましい。
【００８１】
また、表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００Ｂへ供給することが好ましい。さらに、駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路および検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路１２３０は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、シール材に含まれる導電性粒子が、過度に凝集しないで、適度に分散して存在している液晶表示装置を使用している。そのために、電極パターンの断線やショートの発生がなく、信頼性に優れた電子機器とすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００８２】
本発明によれば、シール材に含まれる導電性粒子の分散性を向上させて、隣接する電極パターン間でのショートの発生を防止することができ、電気光学物質として液晶分子を用いた電気光学装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコンピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた電子機器、電子放出素子を用いた装置（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥＤ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）、無機又は有機エレクトロルミネッセンス装置等に使用することができる。
【００８３】
さらに、本発明の電気光学装置および電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加えて使用することができる。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネルはパッシブマトリクス型の構造を備えているが、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の電気光学装置にも適用することができる。
また、上記実施形態の液晶パネルは所謂ＣＯＧタイプの構造を有しているが、半導体素子（ＩＣチップ）を直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やＴＡＢ基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明に係る第１実施形態の電気光学装置を構成する液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。
【図２】液晶パネルを模式的に示す概略断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｂ）は、本発明に係る第１実施形態の電気光学装置に使用される異方性導電膜を説明するために供する図である。
【図４】（ａ）は、本発明に係る第１実施形態の電気光学装置に使用するカラーフィルタ基板の部分概略平面図であり、（ｂ）は、本発明に係る第１実施形態の電気光学装置に使用する素子基板の部分概略平面図である。
【図５】走査電極の端部位置を説明するために供する図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ素子基板上の電気配線と、カラーフィルタ基板上の走査電極との導通位置について説明するために供する図である。
【図７】アクティブマトリクス型構造の電気光学装置に使用する素子基板の配線例を説明するために供する図である。
【図８】本発明に係る第１実施形態の電気光学装置に使用されるシール材を説明するために供する図である。
【図９】（ａ）〜（ｈ）は、凝集粒子における、一方向に並ぶ導電性粒子の最大個数について説明するために供する図である。
【図１０】分散性指数と、分散性粒子の平均粒径との関係を示す図である。
【図１１】分散性指数と、分散性粒子の添加量との関係を示す図である。
【図１２】（ａ）〜（ｄ）は、カラーフィルタ基板を形成するための製造工程を示す断面図である（その１）。
【図１３】（ａ）〜（ｇ）は、カラーフィルタ基板を形成するための製造工程を示す断面図である（その２）。
【図１４】（ａ）〜（ｃ）は、素子基板を形成するための製造工程を示す断面図である（その１）。
【図１５】（ａ）〜（ｃ）は、素子基板を形成するための製造工程を示す断面図である（その２）。
【図１６】（ａ）〜（ｃ）は、電気光学装置の製造工程を示す平面図である。
【図１７】本発明に係る電子機器の実施形態の概略構成を示すブロック図である。
【図１８】従来の電気光学装置に使用する異方性導電膜を示す断面図である。
【符号の説明】
【００８５】
１０：電気光学装置（液晶表示装置）、１２：カラーフィルタ基板（第１の基板）、１３：第１のガラス基板、１３ａ：基板の縁部、１４：素子基板（第２の基板）、２７：第２のガラス基板、１９：走査電極（第１の電極パターン）、１９ａ：走査電極の端部、２６：データ電極（第２の電極パターン）、２６ａ：データ電極の端部、２８・２９：電気配線、２８ａ：電気配線の端部、３１：二端子型非線形素子（ＴＦＤ素子）、６０：シール材、６１：絶縁性接着剤、６３：導電性粒子、６５：分散性粒子、６７：スペーサ、８０：異方性導電膜、８１：絶縁性接着剤、８３：導電性粒子、８５：分散性粒子、２００：液晶パネル、２３０：シール材、２３０ａ：シール材の外縁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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