(57)【要約】【課題】  プラズマ処理において、電極間への給電周波数の範囲を、安定した放電と高い出力効率が得られるように設定する。【解決手段】  プラズマ処理装置Ｍには、電源電圧を昇圧するトランス２２の二次コイル２２ｂと、互いに対向する一対の電極１１，１２からなる電極回路１が設けられている。電極１１，１２の少なくとも一方の対向面には固体誘電体１３が設けられている。電極回路１は、二次コイルの漏れインダクタンスと電極のキャパシタンスによってＬＣ直列共振回路を構成している。電極回路１の通電周波数を、非放電時における共振周波数と、電極間空間１０ａを導体と見做せる時における共振周波数との間に設定する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向する一対の電極とインダクタを含む電極回路を備え、少なくとも一方の電極の対向面には固体誘電体が設けられたプラズマ処理装置を用い、前記電極どうし間の空間に処理ガスを導入するとともに前記電極回路に給電してプラズマ処理を行なう方法であって、当該処理時における電極回路への給電周波数を、非放電時における共振周波数（以下、「第１共振周波数」という。）と、前記電極間空間を導体と見做せる時における共振周波数（以下、「第２共振周波数」という。）との間に設定することを特徴とするプラズマ処理方法。
【請求項２】
前記電極間空間で放電を起こしながら、電極回路への給電周波数を前記第１共振周波数と第２共振周波数との間で調節し、電流がピークとなる周波数を求め、このピーク周波数またはその近傍の周波数にて処理を実行することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項３】
前記一対の電極を、処理ガスで満たされた非放電時の電極間空間のキャパシタンス成分と固体誘電体のキャパシタンス成分の直列接続として、前記第１共振周波数を算出することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項４】
前記一対の電極を、固体誘電体のキャパシタンス成分のみとして、前記第２共振周波数を算出することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項５】
放電の起きるしきい値未満の振幅の電界を電極間に印加するとともにその周波数を調節し、電流がピークとなる周波数を、前記第１共振周波数とすることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項６】
前記一対の電極どうしを固体誘電体を挟んで当接させた状態で給電周波数を調節し、電流がピークとなる周波数を、前記第２共振周波数とすることを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理方法。
【請求項７】
前記プラズマ処理装置が、電源からの電圧をトランスで昇圧して前記電極回路に給電するようになっており、前記トランスの漏れインダクタンスにより前記インダクタを構成したことを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載のプラズマ処理方法。
【請求項８】
前記漏れインダクタンスからなるインダクタおよび前記一対の電極からなるキャパシタに、実物のインダクタまたはコンデンサを加えることにより、前記電極回路を構成し、これにより、第１、第２共振周波数を調節することを特徴とする請求項７に記載のプラズマ処理方法。
【請求項９】
互いに対向する一対の電極とインダクタを含み、電源から給電可能な電極回路を備え、少なくとも一方の電極の対向面には固体誘電体が設けられ、これら電極どうし間の空間に処理ガスを導入するとともに前記電極回路に給電してプラズマ処理を行なう装置であって、前記電源回路への給電周波数を、前記電極間空間の非放電時における共振周波数と、前記電極間空間を導体と見做せる時における共振周波数との間に設定する周波数設定手段を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば大気圧近傍の圧力（略常圧）環境でグロー放電等によってプラズマを形成し、半導体基板などの被処理物を表面処理する方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
大気圧近傍の圧力下でグロー放電によってプラズマ処理する方法は、種々提案されている（下記特許文献１〜３等参照）。例えば特許文献１、２に記載のものは、一対の電極を対向配置し、少なくとも一方の電極の対向面に固体誘電体を設置してある。そして、大気圧近傍の圧力下で、電極間にパルス電界を印加する。パルスの周波数は、好ましくは０．５ｋＨｚ〜１００ｋＨｚの範囲で設定する。これにより、グロー放電プラズマを形成でき、安定した表面処理を行なうことができる。
また、特許文献３に記載のものでは、空気雰囲気で一対の電極間に交流電界を印加する。そして、固体誘電体の単位面積当たりの静電容量と交流周波数との比を１４００ｐＦ／（ｍ２・ｋＨｚ）以下に設定する。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−３６５３７号公報
【特許文献２】特開平１０−１５４５９８号公報
【特許文献３】特開２００１−２８４０９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上掲の従来方法は、周波数等の範囲が具体的な数値で示されているが、それら数値は、電界の波形や処理ガス等が所定の場合に限り意味をなすものであり、汎用的でない。また、電源装置の出力効率が考慮されておらず、ロスが大きくなる場合がある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記問題点を解決するため、発明者は鋭意研究、考察を行なった。すなわち、一対の対向電極からなる電極構造は、電極間空間のインピーダンスと、少なくとも一方の電極の対向面に設けられた固体誘電体のキャパシタンスとの直列接続と考えることができる。また、一般に、電極構造と電源との間にはトランスが介在され、このトランスの二次コイルにホット側の電極が接続されている。トランスには漏れインダクタンスがあるので、これと電極構造によって、ＬＣ直列共振回路が構成されていると見ることができる。周知の通り、ＬＣ直列共振回路においては、共振周波数で電源を駆動したとき、出力を最大にできる。一方、前記電極構造において、固体誘電体のキャパシタンスは容易に求めることができるが、電極間空間のインピーダンスはプラズマの状態等によって変動し、これを直接的に解析するのは容易でない。
【０００６】
ところで、放電していない状態であれば電極間空間のインピーダンスも一定している。このときの共振周波数は、処理ガスの誘電率等の物性が分かれば計算で求めることができ、勿論、実測でも容易に求めることができる。
放電し出すと電極間空間のインピーダンスが低下すると考えられ、共振周波数が非放電時よりも小さくなる。
更に、グロー放電を通り越してアーク放電の状態になると、電極間空間を導体と見做すことができるため、電極構造全体のインピーダンスが、固体誘電体のキャパシタンス分だけになると考えられる。このときの共振周波数は、計算で求めることができる。また、電極間空間を導体に置換した等価回路を用いることによって、測定も可能である。
【０００７】
このような研究考察の結果、以下の知見を得た。すなわち、電極への通電周波数を、非放電時の共振周波数と、電極間空間を導体と見做したときの共振周波数との間の範囲内にすると、安定的なグロー放電を得ることができる。そして、この範囲内に、高出力が可能な周波数が必ず存在し得る。かかる知見の下に、本発明をなした。
【０００８】
すなわち、本発明は、互いに対向する一対の電極とインダクタを含む電極回路を備え、少なくとも一方の電極の対向面には固体誘電体が設けられたプラズマ処理装置を用い、前記電極どうし間の空間に処理ガスを導入するとともに前記電極回路に給電してプラズマ処理を行なう方法であって、当該処理時における電極回路への給電周波数を、非放電時における共振周波数（以下、「第１共振周波数」という。）と、前記電極間空間を導体と見做せる時における共振周波数（以下、「第２共振周波数」という。）との間に設定することを特徴とする。また、互いに対向する一対の電極とインダクタを含み、電源から給電可能な電極回路を備え、少なくとも一方の電極の対向面には固体誘電体が設けられ、これら電極どうし間の空間に処理ガスを導入するとともに前記電極回路に給電してプラズマ処理を行なう装置であって、前記電源回路への給電周波数を、非放電時における共振周波数と、前記電極間空間を導体と見做せる時における共振周波数との間に設定する周波数設定手段を設けたことを特徴とする。
これによって、安定した放電状態を得ることができ、しかも高出力効率となるピーク周波数の存在する周波数範囲を、汎用的に設定することができる。
【０００９】
ここで、前記電極間空間で放電を起こしながら、電極回路への給電周波数を前記第１共振周波数と第２共振周波数との間で調節し、電流がピークとなる周波数を求め、このピーク周波数またはその近傍の周波数にて処理を実行することが望ましい。これによって、高出力効率を確実に得ることができる。
【００１０】
前記一対の電極を、処理ガスで満たされた非放電時の電極間空間のキャパシタンス成分と固体誘電体のキャパシタンス成分の直列接続として、前記第１共振周波数を算出してもよい。また、前記一対の電極を、固体誘電体のキャパシタンス成分のみとして、前記第２共振周波数を算出してもよい。
【００１１】
前記算出に代えて、前記電極回路への給電によって、放電の起きるしきい値未満の振幅の電界を電極間に印加するとともにこの給電周波数を調節し、電流がピークとなる周波数を、前記第１共振周波数としてもよい。また、前記一対の電極どうしを固体誘電体を挟んで当接させて電極間空間を無くした状態で給電周波数を調節し、電流がピークとなる周波数を、前記第２共振周波数としてもよい。
【００１２】
前記プラズマ処理装置が、電源からの電圧をトランスで昇圧して前記電極回路に給電するようになっており、前記トランスの漏れインダクタンスにより前記インダクタを構成するのが望ましい。
前記漏れインダクタンスからなるインダクタおよび前記一対の電極からなるキャパシタに、実物のインダクタまたはコンデンサを加えることにより、前記電極回路を構成してもよい。これにより、第１、第２共振周波数を調節でき、ひいては、処理時における給電周波数の設定範囲を調節することができる。
【００１３】
本発明は、コロナ放電等ではなく、グロー放電によるプラズマ処理を行なうものであるので、電極（または誘電体）の放電する部分は、面状であることが好ましい（以下、この面状部分を「放電面」という。）。また、一対の電極間の距離は、略一定（一対の電極の放電面どうしが平行）であるのが好ましい。これにより、電界集中によるアーク放電を防止できるとともに、均一なグロー放電を発生させることができる。放電面どうし間の距離は、０．５ｍｍ以上、２０ｍｍ以下が好ましく、１ｍｍ以上７ｍｍ以下がより好ましい。放電面は、曲面であっても良いが、曲率は大きい方が好ましく（Ｒ＝５ｍｍ以上）、平面がより好ましい。また、放電面は、平滑（つるつる）であることがこのましい。凸凹や突起があると、火花が目立つので、好ましくない。これら条件を満たす電極構造としては、一対の平板状電極を平行に対向させた平行平板電極型、ロール状（円筒状）電極とその周面に沿う円筒凹面を有する凹面電極とからなるロール−凹面電極型、同軸をなす内外一対の円筒状電極からなる同軸円筒電極型などが挙げられる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、安定した放電状態を得ることができ、しかも高出力効率となるピーク周波数の存在する周波数範囲を、汎用的に設定することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。
図１は、本発明に係る常圧プラズマ処理装置Ｍを模式的に示したものである。プラズマ処理装置Ｍは、電極構造１０と電界印加手段２０とを備えている。電極構造１０は、互いに対向する一対の電極１１，１２にて構成されている。一対の電極１１，１２のうち少なくとも一方の対向面には、固体誘電体１３が設けられている。ここでは、アース電極１２にのみ設けられているが、ホット電極１１に設けてもよく、両方の電極１１，１２に設けてもよい。これら電極１１，１２間の空間１０ｐ（ホット電極１１とアース電極１２の固体誘電体１３との間）には、図示しない処理ガス導入手段によって処理ガスが導入されるようになっている。
【００１６】
電界印加手段２０は、交番電源２１とトランス２２とを有している。交番電源２１は、例えば直流電圧をスイッチングして所望周波数の交番電圧を出力するようになっている。交番電源２１には、周波数調節（設定）手段２３が接続されており、この周波数調節部２３によって交番電圧の出力周波数を調節（設定）できるようになっている。なお、交番電源２１に代えて、パルス電圧を出力するパルス電源を用いてもよい。
【００１７】
トランス２２は、交番電源２１に接続された一次コイル２２ａと、電極１１に接続された二次コイル２２ｂとを有し、交番電源２１の出力電圧を昇圧して電極１１に供給するようになっている。
これによって、電極間空間１０ｐに交番電界が印加されてグロー放電が起き、前記導入手段からの処理ガスがプラズマ化される。このプラズマ化された処理ガスが半導体基板などの被処理物に当てられることにより、被処理物の表面処理がなされるようになっている。なお、この処理は大気圧近傍の圧力（略常圧）下で行なわれる。
【００１８】
トランス２２の二次コイル２２ｂと電極構造１０によって、電極回路１が構成されている。コイル（インダクタ）２２ｂには、漏れインダクタンスＬがある。また、電極構造１０は、キャパシタと見做せる。したがって、電極回路１は、ＬＣ直列共振回路と考えることができる。その共振周波数ｆは、次式で表される。
【００１９】
【数１】
2005063760.tif 000003
ここで、Ｌは、コイル２２ｂの漏れインダクタンスであり、Ｃは、電極構造１０のキャパシタンスである。
【００２０】
図２は、電極回路１の等価回路である。電極構造１０は、電極間空間１０ｐでのインピーダンス成分Ｚｐと、固体誘電体１３でのキャパシタンス成分Ｃｄの直列接続になっている。電極間空間１０ｐでのインピーダンス成分Ｚｐは、キャパシタンスＣｐと抵抗Ｒの並列接続で表される。固体誘電体１３のキャパシタンスＣｄは、該固体誘電体１３の厚さおよび断面積などの寸法形状や誘電率によって決まり、容易に算出することができる。
【００２１】
電極間空間１０ｐで放電が起きていない時（非放電時）は、等価回路において、Ｒ＝∞になる。したがって、電極構造１０のキャパシタンスＣ（＝Ｃ１）は、次のようになる。
【００２２】
【数２】
2005063760.tif 000004
非放電時の電極間空間１０ｐのキャパシタンスＣｐは、該空間１０ｐの厚さおよび断面積などの寸法形状、並びに該空間１０ｐ内に満たされた処理ガスの誘電率などの物性に基づいて、容易に算出することができる。ひいては、式（２）により、非放電時のキャパシタンスＣ１を容易に算出することができる。
また、非放電時の電極回路１の共振周波数ｆ（＝ｆ１）は、次式で表される。
【００２３】
【数１（ａ）】
2005063760.tif 000005
これら式（１ａ）、（２）により、非放電時の電極回路１の共振周波数ｆ１を容易に算出することができる。以下、非放電時の共振周波数ｆ１を、適宜「第１共振周波数ｆ１」という。
【００２４】
一方、電極間空間１０ｐでアーク放電が起きている時は、電極間空間１０ｐを導体と見做すことができる。この時、図２の等価回路において、Ｒ＝０になる。したがって、電極構造１０のキャパシタンスＣ（＝Ｃ２）は、
【００２５】
【数３】
2005063760.tif 000006
となる。
また、アーク放電時の電極回路１の共振周波数ｆ（＝ｆ２）は、次式で表される。
【００２６】
【数１（ｂ）】
2005063760.tif 000007
これら式（１ｂ）、（３）により、アーク放電時の電極回路１の共振周波数ｆ２を容易に算出することができる。以下、アーク放電時（電極間空間１０ｐを導体と見做せる時）の共振周波数ｆ２を、適宜「第２共振周波数ｆ２」という。第２共振周波数ｆ２は、第１共振周波数ｆ１より小さい。
【００２７】
なお、第１、第２共振周波数ｆ１，ｆ２は、実測でも求めることができる。すなわち、電極１１，１２間に、放電が発生するしきい値未満の振幅の電界が印加されるように、交番電源２１の出力電圧を設定する。そして、出力周波数（電極回路１への給電周波数）をスキャンし、トランス２２の一次側（または二次側）の電流を測定する。この電流測定値がピークとなった周波数が、第１共振周波数ｆ１である（図６参照）。
【００２８】
また、図３に示すように、一対の電極１１，１２どうしを電極間空間１０ａの厚さ分だけ近付けることにより、固体誘電体１３を挟んで当接させて電極間空間１０ａを無くした電極構造１０’を作る。これによって、アーク放電状態（電極間空間１０ａを導体と見做せる状態）と回路的に等価にすることができる。そして、上記と同様に出力周波数をスキャンし、電流測定を行なう。この電流測定値がピークとなった周波数が、第２共振周波数ｆ２である（図６参照）。
【００２９】
プラズマ処理装置Ｍによってプラズマ表面処理を実行する際は、周波数調節手段２３によって、交番電源２１の出力周波数ｆｐの大きさが、上記の計算または測定により得られた第１、第２共振周波数ｆ１，ｆ２の間に入るように調節する。すなわち、次式の範囲内になるように調節する。
ｆ２＜ｆｐ＜ｆ１        （５）
これによって、電極間空間１０ａにおいて、安定したグロー放電を起こすことができ、良好なプラズマ表面処理を行なうことができる。
【００３０】
また、式（５）を満たす範囲内に、出力効率がピークとなる周波数ｆｐｍａｘが必ず存在する（図６参照）。すなわち、次式の関係が成立する。
ｆ２＜ｆｐｍａｘ＜ｆ１      （５’）
周波数をこのピーク値ｆｐｍａｘに設定することによって、極めて良好な出力効率を得ることができる。なお、電極間空間１０ａで反応が進行し過ぎると被処理物の表面での反応が減退することもあるので、そのような場合には、周波数をピークからずらして設定すると良い。
【００３１】
周波数ｆｐの上限と下限、すなわち第１、第２共振周波数ｆ１，ｆ２の値は、任意に変更することができる。例えば、図４に示すように、電極回路１の電極構造１０の前段または後段に、実物のインダクタＬ’や実物のキャパシタＣ’を直列に介在させたり、図５に示すように、実物のインダクタＬ”や実物のキャパシタＣ”を電極構造１０と並列に設けたりする。これによって、第１、第２共振周波数ｆ１，ｆ２をずらすことができ、ひいては周波数設定範囲を変更することができる。勿論、電極回路１の変形例は、図４、図５に記載のものに限られず、多様な回路構成を採ることができる。
【００３２】
上記式（５）で示された周波数設定範囲は、出力波形や処理ガスの種類や処理内容や装置構成などに依らず、汎用的に適用することができる。すなわち、出力波形は、パルスでも正弦波でも方形波でもよい。また、成膜、エッチング、洗浄、アッシング、表面改質などの種々のプラズマ表面処理に遍く適用でき、処理ガスの種類や装置構成が限定されることもない。被処理物を電極間空間１０ａの外部に配置する所謂リモート式と、電極間空間１０ａの内部に配置する所謂ダイレクト式の何れの方式にも適用できる。さらには、大気圧近傍での常圧プラズマ処理に限らず、減圧プラズマ処理にも適用可能である。
【実施例１】
【００３３】
図１と同様のプラズマ処理装置において、第１、第２共振周波数ｆ１，ｆ２を前記実施形態の手法で実測した。すなわち、電源２１の出力電圧を５０Ｖとし、電極１１，１２間の電界が放電のしきい値を下回るようにした。そのうえで周波数をスキャンし、トランス２２の一次側の電流を測定したところ、図６の一点鎖線に示すように、ほぼ６５ｋＨｚ（＝ｆ１）で電流のピークが現れた。また、２つの電極１１，１２を図３に示すように当接させ、電流測定したところ、図６の二点鎖線に示すように、ほぼ２０ｋＨｚ（＝ｆ２）で電流のピークが現れた。
なお、図６の電流値は、各測定における最大値を１００として規格化して示してある（後記図７も同様）。また、共振周波数ｆ１，ｆ２を求める段階での電流値は、ピークにおいても微弱であり、後記のグロー放電処理時のものと比べると相当に小さい。
【００３４】
その後、電極間空間１０ａに処理ガスとして窒素ガス１００％を導入しながら、電源２１の電圧を２５０Ｖにし、電極１１，１２間に交番電界を印加した。そして、周波数と電流の関係を測定した。その結果、図６の実線に示すように、５５ｋＨｚ（＝ｆｐｍａｘ）において、電流のピークが現れた。これによって、上記式（５’）に示す関係式ｆ２＜ｆｐｍａｘ＜ｆ１が成り立つことが確認された。なお、ｆｐ＝５５ｋＨｚのときの一次側電流は、９．２Ａであり、投入電力すなわち出力は２３００Ｗであった。電極の単位面積当たりに換算すると、１２Ｗ／ｃｍ２であった。
【００３５】
また、図７に示すように、出力に比例して放電の発光強度が大きくなり、ｆｐｍａｘ＝５５ｋＨｚのとき、最大となり、極めて良好で安定したグロー放電が確認された。
式（５）に示す関係式ｆ２＜ｆｐ＜ｆ１が成り立つ２０ｋＨｚ〜６５ｋＨｚの範囲では、電極間空間１０ａの全域で安定した放電を得ることができた。６５ｋＨｚ（＝ｆ１）以上および２０ｋＨｚ（＝ｆ２）以下では、所望の放電を得るのが困難であった。
【００３６】
さらに、出力２５００Ｗ、周波数５５ｋＨｚの条件（Ａ）と、その約１／２の出力１２００Ｗで周波数３０ｋＨｚの条件（Ｂ）とで、ガラスの洗浄能力（接触角と搬送速度）を比較した。ガラスの搬送速度は、１ｍ／ｍｉｎと２ｍ／ｍｉｎの２通りとした。なお、条件（Ａ）では、直流から変換した交番電界を印加したのに対し、条件（Ｂ）では、パルス電界を印加した。その結果、図８に示すように、条件（Ａ）は、条件（Ｂ）に対して２倍の搬送速度で同等の接触角となり、処理能力が出力とほぼ比例することが確認された。
【実施例２】
【００３７】
実施例１と同じ装置を用い、処理ガスをアルゴンガスに代えて、周波数と電流の関係を測定したところ、図６とほぼ同じ結果が得られた。式（５）に示す関係式ｆ２＜ｆｐ＜ｆ１が成り立つ２０ｋＨｚ〜６５ｋＨｚの範囲では、電極間空間１０ａの全域で安定した放電を得ることができた。２０ｋＨｚ以下では出力を上げると火花放電へ移行した。６５ｋＨｚ以上では瞬時にアーク放電に移行し、安定放電できなかった。
【実施例３】
【００３８】
第１共振周波数ｆ１＝１９０ｋＨｚ、第２共振周波数ｆ２＝７５ｋＨｚの装置において、処理ガスとして窒素ガスを用い、実施例１と同様に周波数ｆｐｍａｘを測定した。その結果、ｆｐｍａｘ＝１５０ｋＨｚであり、上記式（５’）に示す関係式ｆ２＜ｆｐｍａｘ＜ｆ１が成り立つことが確認された。１９０ｋＨｚ以上では針放電となった。７５ｋＨｚ以下では放電が起きなかった。
【００３９】
さらに、出力２０００Ｗ、周波数１５０ｋＨｚ、直流から変換した交番電界の条件（Ｃ）と、その約１／２の出力１２００Ｗ、周波数３０ｋＨｚ、パルス電界の条件（Ｄ）とで、ガラスの洗浄能力（接触角と搬送速度）を比較した。その結果、図９に示すように、条件（Ｃ）は、条件（Ｄ）に対して２倍の搬送速度で同等の接触角となり、処理能力が出力とほぼ比例することが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の一実施形態に係る常圧プラズマ処理装置の概略構成を示す回路図である。
【図２】前記装置の電極回路の等価回路図である。
【図３】前記装置において第２共振周波数を測定する方法の解説図である。
【図４】前記装置の電極回路の変形例を示す回路図である。
【図５】前記装置の電極回路の他の変形例を示す回路図である。
【図６】実施例１による周波数と電流の関係の測定結果を示すグラフである。
【図７】実施例１による出力とプラズマの発光強度の関係の測定結果を示すグラフである。
【図８】実施例１による処理条件と処理能力（搬送速度ごとの接触角）の関係の測定結果を示すグラフである。
【図９】実施例３による処理条件と処理能力（搬送速度ごとの接触角）の関係の測定結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【００４１】
Ｍ  常圧プラズマ処理装置
１  電極回路
１０  電極構造
１０ａ  電極間空間
１１  ホット電極
１２  アース電極
１３  固体誘電体
２０  電界印加手段
２１  交番電源
２２  トランス
２２ｂ  二次コイル（インダクタ）
２３  周波数調節手段（周波数設定手段）
Ｌ’，Ｌ”  実物のインダクタ
Ｃ’，Ｃ”  実物のキャパシタ
ｆｐ  処理時における交番電源の出力周波数（電極回路への給電周波数）
ｆｐｍａｘ  ピーク周波数
【図１】
2005063760.tif 000008
【図２】
2005063760.tif 000009
【図３】
2005063760.tif 000010
【図４】
2005063760.tif 000011
【図５】
2005063760.tif 000012
【図６】
2005063760.tif 000013
【図７】
2005063760.tif 000014
【図８】
2005063760.tif 000015
【図９】
2005063760.tif 000016
【手続補正書】
【提出日】平成16年8月10日(2004.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
互いに対向する一対の電極とインダクタを含み、電源からの給電可能な電極回路を備え、少なくとも一方の電極の対向面には固体誘電体が設けられ、これら電極どうし間の空間に処理ガスを導入するとともに前記電極回路に給電してプラズマ処理を行う装置であって、前記電極回路への給電周波数を、前記電極間空間の非放電時における共振周波数と、前記電極間空間を導体と見做せる時における共振周波数との間に設定する周波数設定手段を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。