(57)【要約】      （修正有）【課題】光信号の漏れが生じず、光損失の少ない光導波路を効率良く作製することのできる光導波路の製法を提供する。【解決手段】紫外線透過可能な型基板６面上に紫外線遮光材料を用い凸部９を形成して溝８を形成した型の、溝８に紫外線硬化型樹脂組成物１０を充填した後、上記型の溝８形成面に、アンダークラッド層２付き基板１を積層した後、上記型基板６側から紫外線を照射して、上記溝８に充填された紫外線硬化型樹脂組成物１０を硬化しコア層３を形成する。ついで、アンダークラッド層２付き基板１から、上記型を剥離した後、上記アンダークラッド層２のコア層３形成部以外の残存する未硬化の紫外線硬化型樹脂組成物１０を除去して、コア層３を包含するようオーバークラッド層４が形成されてなる光導波路を製造する。【選択図】図５
2005165132.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線透過可能な型基板面上に、紫外線遮光性材料を用いて凸部を形成することにより所定パターンの溝を少なくとも一つ形成してなる型を準備するとともに、基板面にアンダークラッド層を形成してなるアンダークラッド層付き基板を準備する工程と、上記溝に紫外線硬化型樹脂組成物を充填する工程と、上記紫外線硬化型樹脂組成物が充填された溝形成面に、アンダークラッド層が対峙するようアンダークラッド層付き基板を上記型に積層する工程と、上記型基板側から紫外線を照射して、上記溝に充填された紫外線硬化型樹脂組成物を硬化しコア層を形成する工程と、上記アンダークラッド層付き基板から、凸部が形成された型基板からなる型を剥離して、アンダークラッド層上に形成された少なくとも一つのコア層を露呈させる工程と、上記アンダークラッド層上のコア層が形成されていない部分に残存する未硬化の上記紫外線硬化型樹脂組成物を除去する工程とを備えたことを特徴とする光導波路の製法。
【請求項２】
上記紫外線遮光性材料が、感光性ポリイミド樹脂前躯体である請求項１記載の光導波路の製法。
【請求項３】
上記紫外線硬化型樹脂組成物が、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物である請求項１または２記載の光導波路の製法。
【請求項４】
上記紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物が、下記の一般式（１）で表されるエポキシ樹脂を主成分とするものである請求項３記載の光導波路の製法。
【化１】
2005165132.tif 000005
【請求項５】
上記コア層の厚みが、５〜１００μｍである請求項１〜４のいずれか一項記載の光導波路の製法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光通信，光情報処理，その他一般光学で広く用いられる光導波路の製法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光導波路は、光導波路デバイス、光集積回路、光配線基板に組み込まれており、光通信、光情報処理、その他一般光学の分野で広く用いられている。そして、このような光導波路としては、近年、アクリル樹脂，エポキシ樹脂，ポリイミド樹脂等の高分子材料で形成することが検討されている。
【０００３】
このような高分子材料を用いた光導波路の作製には、近年、成形型を用いた方法が提案されている。その一例として、紫外線硬化樹脂層が形成された基板に凸部を有する他の基板を積層し、紫外線照射することにより上記紫外線硬化樹脂層を硬化させて上記基板面に溝を形成した後、この溝内に樹脂を充填してコア層を形成し、光導波路を作製するという成形型を用いた方法が提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平８−３２７８４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のような成形型を用いた従来の方法では、形成されるコア層の精度がいま一つ充分ではなく、また上記溝の外に樹脂残渣が生じやすいという問題があった。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、光信号の漏れが生じず、光損失の少ない光導波路を効率良く作製することのできる光導波路の製法の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するため、本発明の光導波路の製法は、紫外線透過可能な型基板面上に、紫外線遮光性材料を用いて凸部を形成することにより所定パターンの溝を少なくとも一つ形成してなる型を準備するとともに、基板面にアンダークラッド層を形成してなるアンダークラッド層付き基板を準備する工程と、上記溝に紫外線硬化型樹脂組成物を充填する工程と、上記紫外線硬化型樹脂組成物が充填された溝形成面に、アンダークラッド層が対峙するようアンダークラッド層付き基板を上記型に積層する工程と、上記型基板側から紫外線を照射して、上記溝に充填された紫外線硬化型樹脂組成物を硬化しコア層を形成する工程と、上記アンダークラッド層付き基板から、凸部が形成された型基板からなる型を剥離して、アンダークラッド層上に形成された少なくとも一つのコア層を露呈させる工程と、上記アンダークラッド層上のコア層が形成されていない部分に残存する未硬化の上記紫外線硬化型樹脂組成物を除去する工程とを備えたという構成をとる。
【０００７】
すなわち、本発明者らは、高精度で効率良く光導波路を製造できる方法について鋭意検討を重ねた。その結果、紫外線透過可能な型基板面上に、紫外線遮光性材料を用い凸部を形成して溝を形成した型と、基板面にアンダークラッド層を形成したアンダークラッド層付き基板を準備して、上記溝に紫外線硬化型樹脂組成物を充填した後、上記溝形成面に、アンダークラッド層が対峙するようアンダークラッド層付き基板を上記型に積層した後、上記型基板側から紫外線を照射して、上記溝に充填された紫外線硬化型樹脂組成物を硬化しコア層を形成するという成形型を使用した新規な製法を想起した。しかしながら、上記製造工程において、上記紫外線硬化型樹脂組成物を充填した溝形成面とアンダークラッド層が対峙するよう、アンダークラッド層付き基板を上記型に積層する際に、このアンダークラッド層のコア層形成部以外の部分である凸部表面に、上記充填した紫外線硬化型樹脂組成物がはみ出して付着してしまい、その後紫外線照射しても未硬化のままアンダークラッド層表面に残存するという問題が生じた。このように充填した樹脂がはみ出しアンダークラッド層表面に付着し残存すると、その隣のコア層に光信号がリークし信頼性が低下するという問題が新たに生じる。したがって、本発明では、アンダークラッド層上に形成されたコア層を露呈した後、上記アンダークラッド層上のコア層が形成されていない部分に残存する未硬化の紫外線硬化型樹脂組成物を除去すると、効率良く信頼性の高い光導波路が得られることを見出し本発明に到達した。
【発明の効果】
【０００８】
以上のように、本発明は、紫外線透過可能な型基板面上に、紫外線遮光性材料を用い凸部を形成して溝を形成した型と、基板面にアンダークラッド層を形成したアンダークラッド層付き基板を準備して、上記溝に紫外線硬化型樹脂組成物を充填した後、上記溝形成面に、アンダークラッド層が対峙するようアンダークラッド層付き基板を上記型に積層した後、上記型基板側から紫外線を照射して、上記溝に充填された紫外線硬化型樹脂組成物を硬化しコア層を形成する。そして、アンダークラッド層上に形成されたコア層を露呈した後、上記アンダークラッド層上のコア層が形成されていない部分に残存する未硬化の紫外線硬化型樹脂組成物を除去することにより光導波路を製造する方法である。このため、光信号の漏れ等が無く、光損失の小さい信頼性に優れた光導波路を効率良く製造することが可能となる。
【０００９】
そして、上記紫外線遮光性材料が、感光性ポリイミド樹脂前駆体であると、型基板面上に所定のパターンの溝を容易に形成することができる。
【００１０】
また、上記紫外線硬化型樹脂組成物が、後述の一般式（１）で表されるエポキシ樹脂を主成分とする紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物であると、屈折率を容易に調整することが可能となるため好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の光導波路の製法により得られる光導波路の一例として、図７に示す層構成のものがあげられる。この光導波路は、基板１上にアンダークラッド層２が積層形成され、さらに上記アンダークラッド層２上に所定パターンのコア層３が形成され、このコア層３を包含するようオーバークラッド層４が形成されている。
【００１２】
上記基板１材料としては、特に限定するものではなく従来公知のもの、例えば、石英ガラス板、シリコンウエハ、セラミック基板、ガラスエポキシ樹脂基板、ポリイミドフィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、銅箔やステンレス箔等の金属箔等があげられる。
【００１３】
上記基板１上に積層形成されるアンダークラッド層２形成材料としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等各種高分子材料が用いられるが、上記コア層３形成材料より屈折率が小さいことが必要である。具体的には、コア層３とアンダークラッド層２との屈折率の差は、０．１〜５％程度になるよう設計することが好ましい。
【００１４】
このように、上記アンダークラッド層２の形成材料として、具体的には、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂前駆体等があげられる。そして、コア層３の形成材料に用いられる紫外線硬化型樹脂組成物との接着力が良好なものを選択し用いることが好ましく、このような観点から、例えば、コア層３の形成材料として紫外線硬化型のエポキシ樹脂組成物を用いる場合は、アンダークラッド層２の形成材料としてもエポキシ樹脂組成物を用いることが好ましい。
【００１５】
なお、上記アンダークラッド層２形成材料に、このアンダークラッド層２と基板１との密着性を向上させるために、基板１をシランカップリング剤やアルミニウムキレート剤を用いて表面処理してもよい。
【００１６】
上記アンダークラッド層２上に所定パターンに形成されるコア層３形成材料としては、紫外線硬化型樹脂組成物が用いられる。そして、硬化後、光信号として用いられる波長（例えば、８５０ｎｍ、１３００ｎｍ）に対して透明であることがあげられる。
【００１７】
上記紫外線硬化型樹脂組成物としては、例えば、エポキシ樹脂を主成分とする紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物があげられる。上記エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環式エポキシ化合物、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、フッ素化エポキシ樹脂等のエポキシ化合物があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いることができる。特に、下記の一般式（１）で表されるフッ素化エポキシ樹脂は、屈折率が１．３８と低く、他のエポキシ樹脂と併用し、その併用割合を変えることにより屈折率を容易に調整することが可能となるため好ましい。したがって、上記紫外線硬化型樹脂組成物としては、下記の一般式（１）で表されるフッ素化エポキシ樹脂を主成分とする紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物であることが好ましい。なお、上記主成分とするとは、実質的に構成する主たる成分が上記フッ素化エポキシ樹脂であることであって、その使用量のみが関係するものではなく組成物全体の基本的特性を付与するものをいう。
【００１８】
【化１】
2005165132.tif 000003
【００１９】
上記エポキシ樹脂に紫外線硬化性を付与するために光重合開始剤が用いられる。上記光重合開始剤としては、特に限定するものではなく従来公知のもの、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホキソニウム塩、メタロセン化合物、鉄アレーン系化合物等があげられる。その中でも、光硬化性という観点から、芳香族スルホニウム塩を用いることが好ましく、特に芳香族スルホニウム・ヘキサフロロホスホニウム化合物、芳香族スルホニウム・ヘキサフロロアンチモネート化合物、またはその両者の併用が、硬化性および接着性等の観点から好ましい。さらに、上記光重合開始剤以外に、光増感剤や酸増殖剤等の添加剤を必要に応じて適宜添加することができる。
【００２０】
つぎに、上記所定パターンに形成されたコア層３を包含するオーバークラッド層４形成材料としては、前記アンダークラッド層２形成材料と同様のものがあげられる。
【００２１】
つぎに、上記基板および各層形成材料を用いた、本発明の光導波路の製造方法について説明する。
【００２２】
まず、図１に示すように、紫外線透過可能な型基板６上に、ポリイミド樹脂前駆体溶液（ポリアミド酸溶液）等の紫外線遮光性材料を、乾燥後の膜厚が好ましくは５〜１００μｍとなるよう塗布し、乾燥させることによりポリイミド樹脂前駆体組成物等の紫外線遮光性材料からなる樹脂層７を形成する。
【００２３】
上記紫外線透過可能な型基板６としては、平坦性および寸法安定性を有することが望まれるため、例えば、石英ガラス板等が好ましく用いられる。
【００２４】
また、上記紫外線遮光性材料としては、具体的には、３６５ｎｍ以下の光を完全に遮光することが可能な材料であることが好ましく、特に４５０ｎｍ以下の光を完全に遮光することが可能なものが好ましい。例えば、上述のようなポリイミド樹脂前駆体溶液等があげられる。
【００２５】
つぎに、図２に示すように、この樹脂層７にエッチング処理を行い所定パターンの溝８を形成する。上記エッチング方法としては、特に限定するものではなく従来公知の方法、例えば、プラズマを用いたドライエッチングや、上記ポリイミド樹脂前駆体として感光性ポリイミド樹脂前駆体を用いてフォトマスクを使用し、露光，現像等のフォトリソグラフィーによるウエットエッチング等があげられる。特に、溝８の表面（結果的にはコア層の表面）の平滑性を良好にするという観点から、感光性ポリイミド樹脂前駆体を用いたウエットエッチング方法が好ましい。このようにして、図２に示すように、型基板６上に、紫外線遮光性材料からなる連続した凸部９を形成することにより所定パターンの溝８が形成された型を作製する。
【００２６】
ついで、図３に示すように、所定パターンの溝８に、紫外線硬化型樹脂組成物１０を上記溝８内を充分に満たすまで充填する。このとき、紫外線硬化型樹脂組成物１０の充填量が不足すると、後工程で形成されるコア層の形状が不良となり好ましくない。つぎに、図４に示すように、基板１面にアンダークラッド層２を形成してなるアンダークラッド層２付き基板を予め別途作製し、上記紫外線硬化型樹脂組成物１０が充填された溝８形成面に、アンダークラッド層２が対峙するようアンダークラッド層２付き基板１を上記型に積層する。この積層に際しては、例えば、加圧プレスや真空圧着等による方法が用いられ、均等に圧力がかかるように行うことが好ましい。
【００２７】
上記基板１面にアンダークラッド層２を形成してなるアンダークラッド層２付き基板１を作製するに際しては、前述の基板１材料およびアンダークラッド層２形成材料を用い、例えば、上記基板１面にアンダークラッド層２形成材料を塗布することが行われる。上記塗布方法としては、スピンコート、コーター、円コーター、バーコーター、スクリーン印刷等の塗工による一般的な成膜方法や、型板およびスペーサーを用いてギャップを形成し、その中に毛細管現象を利用してアンダークラッド層２形成材料を注入し、必要により硬化する方法等を用いることができる。
【００２８】
つぎに、図５に示すように、上記型基板６側から紫外線を照射して、上記溝８に充填された紫外線硬化型樹脂組成物１０を硬化する。紫外線照射により上記紫外線硬化型樹脂組成物１０を硬化させた後、上記アンダークラッド層２付き基板１から、凸部９が形成された型基板６からなる型を剥離して、アンダークラッド層２上に形成されたコア層３を露呈させる。このとき、図６に示すように、未硬化の紫外線硬化型樹脂組成物１０がコア層３形成部分以外のアンダークラッド層２表面に残存する。これは、上記アンダークラッド層２付き基板１を、上記紫外線硬化型樹脂組成物１０を充填してなる溝８が形成された型に積層する際に、このアンダークラッド層２のコア層３形成部以外の部分である凸部９表面に、上記充填した紫外線硬化型樹脂組成物がはみ出して付着し、その後紫外線照射しても上記凸部９が紫外線遮光性材料であるため、未硬化のままアンダークラッド層２表面に残存するためである。
【００２９】
したがって、図６に示す状態のものに対して、コア層３形成部分以外のアンダークラッド層２表面に残存する未硬化の紫外線硬化型樹脂組成物１０を除去する。このような除去工程としては、例えば、有機溶剤を用いて洗浄除去する方法があげられる。上記有機溶剤としては、例えば、アセトン、酢酸エチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、トルエン等を用いることができる。さらに、必要により、イソプロピルアルコール等のアルコールや蒸留水を用いて洗浄を行ってもよい。また、上記洗浄方法としては、パドル法、ディップ法、スプレー法等の公知の技術を用いることができる。
【００３０】
上記洗浄除去の際、例えば、有機溶剤の使用により、上記アンダークラッド層２が、多少エッチングされても差し支えない。すなわち、アンダークラッド層２が１〜５μｍ程度エッチングされると、アンダークラッド層２表面がコア層３の底面からずれるために、アンダークラッド層２表面の欠陥が、光閉じ込め性に対する悪影響を及ぼすことを防止することができるからである。
【００３１】
つぎに、所定パターンのコア層３が形成されたアンダークラッド層２上に、前述のオーバークラッド層形成材料を用いてオーバークラッド層４を形成する。このようにして、図７に示すように、基板１上にアンダークラッド層２が積層形成され、さらに上記アンダークラッド層２上に所定パターンのコア層３が形成され、このコア層３を包含するようオーバークラッド層４が形成された光導波路が製造される。
【００３２】
このようにして得られた光導波路としては、例えば、直線光導波路、曲がり光導波路、交差光導波路、Ｙ分岐光導波路、スラブ光導波路、マッハツエンダー型光導波路、ＡＷＧ型光導波路、グレーティング、光導波路レンズ等があげられる。そして、これら光導波路を用いた光素子としては、波長フィルタ，光スイッチ，光分岐器，光合波器，光合分波器，光アンプ，波長変換器，波長分割器，光スプリッタ，方向性結合器、さらにはレーザダイオードやフォトダイオードをハイブリッド集積した、光伝送モジュール等があげられる。
【００３３】
つぎに、本発明について実施例に基づき説明する。
【実施例】
【００３４】
〔型の作製〕
図１に示すように、５ｃｍ×５ｃｍ×厚み２ｍｍの石英ガラス板６に、スピンコート法により紫外線遮光性材料である感光性ポリイミド樹脂前駆体溶液（日東電工社製、ＪＲ−３１２０Ｐ）を塗布し、９０℃で約１５分間の乾燥を行うことにより、感光性ポリイミド樹脂前駆体組成物からなる樹脂層７を形成した。ついで、この樹脂層７上に、光透過部のライン幅５０μｍ×長さ５ｃｍ×間隔２５μｍのフォトマスクを介して、１０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線で露光して、１６０℃×１５分間加熱した後、アルカリ現像液を用いて、未露光部分をエッチングすることにより現像した。さらに、真空中、４００℃で２時間加熱を行うことにより、図２に示すように、断面積２５μｍ×２５μｍで長さ５ｃｍの凸部９を形成することにより、コア層形成用の溝８を形成し、型を作製した。
【００３５】
〔エポキシ樹脂組成物の調製〕
前記一般式（１）で表されるフッ素化エポキシ樹脂（ダイキン工業社製、Ｅ−７４３２）と、脂環式エポキシ化合物（ダイセル化学社製、セロキサイド２０２１Ｐ）と、光カチオン重合開始剤（旭電化社製、ＳＰ−１７０）を準備し、下記の表１に示す配合量によりコア層形成材料，アンダークラッド層形成材料およびオーバークラッド層形成材料となるエポキシ樹脂組成物をそれぞれ調製した。なお、調製した各エポキシ樹脂組成物の屈折率も併せて下記の表１に示した。屈折率の測定には、アツベ屈折率計（２５℃）を用いた。
【００３６】
【表１】
2005165132.tif 000004
【００３７】
〔アンダークラッド層の形成〕
ガラス基板（５ｃｍ×５ｃｍ×厚み２ｍｍ）を準備し、その表面に、エポキシ系シランカップリング剤（信越シリコーン社製、ＫＢＭ−４０３）の１０％エタノール溶液をスピンコータを用いて、回転数１５００ｒｐｍ×２０秒の条件で塗布した。その後、後工程で形成するアンダークラッド層との密着性を向上させるため、１１０℃×１時間の熱処理を行い、ガラス基板の表面処理を行った。
【００３８】
つぎに、スピンコータを用いて１５００ｒｐｍ×３０秒間の条件で、ガラス基板上に上記調製したアンダークラッド層形成材料を塗布した。その後、高圧水銀ランプを光源とする露光機を用いて、照度１５ｍＷ／ｃｍ2 で５分のトータル４．５Ｊ／ｃｍ2 の紫外線照射を行った後、１００℃×１時間のポストキュアを行うことによりアンダークラッド層を形成した。得られたアンダークラッド層の厚みは１０μｍであった。
【００３９】
〔コア層の形成〕
つぎに、図３に示すように、上記型の所定パターンの溝８内に、上記調製したコア層形成材料１０を充填した。ついで、図４に示すように、上記コア層形成材料１０が充填された溝８形成面に、アンダークラッド層２が対峙するようアンダークラッド層２付きガラス基板１を上記型に積層した。これを、真空露光機内にセットし、図５に示すように、真空加圧しながら、上記型の石英ガラス板６側から露光した。露光条件は、照度１５ｍＷ／ｃｍ2 で５分のトータルの露光エネルギーは４．５Ｊ／ｃｍ2 であった。露光後、上記アンダークラッド層２付きガラス基板１から、凸部９が形成された石英ガラス板６からなる型を剥離して、アンダークラッド層２上に形成されたコア層３を露呈させた。形成されたコア層３の厚みは２５μｍであった。このとき、図６に示すように、未硬化のコア層形成材料１０がコア層３形成部分以外のアンダークラッド層２表面に残存していた。
【００４０】
〔洗浄工程〕
図６に示す状態のサンプル品を、酢酸エチル中に２０秒間浸漬し、さらに、イソプロピルアルコールにて洗浄することにより、上記コア層３形成部分以外のアンダークラッド層２表面に残存した未硬化のコア層形成材料１０を洗浄除去した。
【００４１】
さらに、１００℃×１時間のポストキュアを行い、コア層３を完全硬化した。硬化後のコア層３の断面形状は、厚み２５μｍ、パターン上部幅が２４μｍ、パターン下部幅が４８μｍであった。
【００４２】
〔オーバークラッド層の形成〕
つぎに、図８に示すように、離型処理を行った厚み１５０μｍのガラス板１１と厚み４０μｍのスペーサー１２からなるオーバークラッド層形成用キャップを作製し、これをコア層３が形成されたガラス基板１上に被せ、上記ガラス板１１とスペーサー１２により形成されるギャップ内に、上記調製したオーバークラッド層形成材料を毛細管現象を利用して注入した。
【００４３】
その後、高圧水銀ランプを光源とする露光機を用いて、照度１５ｍＷ／ｃｍ2 で５分のトータルの露光エネルギー４．５Ｊ／ｃｍ2 の紫外線照射を行った後、１００℃×１時間のポストキュアを行うことにより、上記注入したオーバークラッド層形成材料を硬化させてオーバークラッド層４を形成した。上記コア層３上部のオーバークラッド層４の厚みを測定したところ、２１μｍであった。
【００４４】
〔評価〕
得られた実施例品の端面を形成するため、光導波路の長手方向に対して垂直となるようにダイサーを用いて切断を行い、光導波路の両端面を形成した。このとき、光導波路長は、２ｃｍであった。そして、この光導波路に、８３０ｎｍのレーザー光を導入し、出てきた光の強度をフォトディテクタ（浜松ホトニクス社製、Ｇ−８３３６）にて検出したところ、光導波路の全損失は３．５ｄＢであった。ついで、赤外線吸収（ＩＲ）カメラ（浜松ホトニクス社製、Ｃ−２７４１）により主射ビーム形状を確認したところ、漏れのない良好な閉じ込め性が確認された。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明の光導波路の製法により得られる光導波路としては、例えば、直線光導波路、曲がり光導波路、交差光導波路、Ｙ分岐光導波路、スラブ光導波路、マッハツエンダー型光導波路、ＡＷＧ型光導波路、グレーティング、光導波路レンズ等があげられる。そして、上記光導波路を用いてなる光素子としては、波長フィルタ，光スイッチ，光分岐器，光合波器，光合分波器，光アンプ，波長変換器，波長分割器，光スプリッタ，方向性結合器、さらにはレーザダイオードやフォトダイオードをハイブリッド集積した、光伝送モジュール等があげられる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の光導波路の製造工程を示す横断面図である。
【図２】本発明の光導波路の製造工程を示す横断面図である。
【図３】本発明の光導波路の製造工程を示す横断面図である。
【図４】本発明の光導波路の製造工程を示す横断面図である。
【図５】本発明の光導波路の製造工程を示す横断面図である。
【図６】本発明の光導波路の製造工程を示す横断面図である。
【図７】本発明の光導波路の製法により得られる光導波路の構造を示す横断面図である。
【図８】実施例で作製した光導波路の構造を示す横断面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１  基板
２  アンダークラッド層
３  コア層
４  オーバークラッド層
６  型基板
８  溝
９  凸部
１０  紫外線硬化型樹脂組成物
【図１】
2005165132.tif 000006
【図２】
2005165132.tif 000007
【図３】
2005165132.tif 000008
【図４】
2005165132.tif 000009
【図５】
2005165132.tif 000010
【図６】
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【図７】
2005165132.tif 000012
【図８】
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