(57)【要約】【課題】  製品歩留まりの向上を図ることが可能である液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】  複数の画素がマトリクス状に配置されたＴＦＴ基板２と、ＴＦＴ基板と透明接着剤を用いて貼り合わせられた透明基板７と、透明基板と所定の間隙を介して対面配置された対向基板６と、透明基板及び対向基板の間隙内に保持された液晶８とを備える。【選択図】    図1
2005114887.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素がマトリクス状に配置された第１の基板と、
該第１の基板と貼り合わせられた第２の基板と、
該第２の基板と所定の間隙を介して対面配置された第３の基板と、
前記第２の基板及び第３の基板の間隙内に保持された液晶とを備える
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
複数の画素がマトリクス状に配置された第１の基板と、該第１の基板と貼り合わせられた第２の基板と、該第２の基板と所定の間隙を介して対面配置された第３の基板とを備える液晶表示装置の製造方法であって、
前記第２の基板と第３の基板とを貼り合わせた際に少なくとも１つの開口部が形成される様に前記第２の基板または第３の基板の周辺部にシールパターンを形成する工程と、
前記第２の基板と前記第３の基板とを貼り合わせる工程と、
前記開口部から前記第２の基板と第３の基板との間隙内に液晶を注入封止する工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせる工程とを備える
液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置及びその製造方法に関する。詳しくは、相対向する一対の基板間に液晶物質を保持した構造を有する液晶表示装置及びその製造方法に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶プロジェクタ等に代表される液晶表示装置付きの電子機器の普及に伴って液晶表示装置の高性能化の要求が高まってきており、液晶表示装置を高精細化・高輝度化するために様々な改良がなされている。ここで、液晶表示装置に用いる液晶パネルは、一般に、マトリクス状に配置された画素部や画素制御のための薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと言う）等が形成されたＴＦＴ基板及びカラーフィルターやブラックマトリクス等が形成された対向基板とをシール材を用いて貼り合わせ、ＴＦＴ基板及び対向基板の間隙内に液晶を注入封止することによって形成される。
以下、従来の液晶表示装置の製造方法について図面を用いて説明する。
【０００３】
従来の液晶表示装置の製造方法では、先ず、図３（ａ）で示す様に、ＴＦＴ回路等の液晶駆動回路（図示せず）が形成されると共に、画素電極１０１がマトリクス状に配置された石英やシリコン等から成るＴＦＴ基板１０２に配向膜１０３を形成し、配向処理を施す。
次に、図３（ｂ）で示す様に、その表面に透明電極１０７が形成され、透明電極の上層に配向膜１０３が形成されると共に配向処理が施された石英ガラス等から成る対向基板１０４とＴＦＴ基板とをシール材１０５を用いて貼り合わせる。
続いて、ＴＦＴ基板と対向基板との間隙に液晶１０６を注入封止することによって、図３（ｃ）で示す様な液晶表示装置を得て、その後、製造された液晶表示装置の最終検査を行っている（例えば、特許文献1参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開平８−２３４２１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記した液晶表示装置の製造方法においては、ＴＦＴ回路等の液晶駆動回路を形成した基板に直接配向膜を形成した後に、シール材を用いて対向基板を貼り合わせ、ＴＦＴ基板と対向基板との間に液晶を注入封止しており、液晶駆動回路の良品が液晶組立工程の異常により不良品になってしまうという不具合があった。
即ち、液晶駆動回路としては良品であったとしても、液晶組立工程において異常が発生してしまうと、液晶表示装置としては不良品となってしまうという不具合があった。
【０００６】
本発明は以上の点に鑑みて創案されたものであって、製品歩留まりの向上を図ることが可能である液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶表示装置は、複数の画素がマトリクス状に配置された第１の基板と、該第１の基板と貼り合わせられた第２の基板と、該第２の基板と所定の間隙を介して対面配置された第３の基板と、前記第２の基板及び第３の基板の間隙内に保持された液晶とを備える。
【０００８】
ここで、第１の基板と貼り合わせられた第２の基板によって、液晶領域と第１の基板にマトリクス状に形成された画素とを隔てることができる。
【０００９】
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、複数の画素がマトリクス状に配置された第１の基板と、該第１の基板と貼り合わせられた第２の基板と、該第２の基板と所定の間隙を介して対面配置された第３の基板とを備える液晶表示装置の製造方法であって、前記第２の基板と第３の基板とを貼り合わせた際に少なくとも１つの開口部が形成される様に前記第２の基板または第３の基板の周辺部にシールパターンを形成する工程と、前記第２の基板と前記第３の基板とを貼り合わせる工程と、前記開口部から前記第２の基板と第３の基板との間隙内に液晶を注入封止する工程と、前記第１の基板と前記第２の基板とを貼り合わせる工程とを備える。
【００１０】
ここで、第２の基板と第３の基板との間隙内に液晶を注入封止することによって、液晶表示部を形成することができる。
また、第１の基板と第２の基板とを貼り合せることによって、液晶表示部と液晶駆動回路を形成した基板とを一体化することができる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明を適用した液晶表示装置及びその製造方法では、液晶表示部の良品と液晶駆動回路を形成した基板の良品とを組み合わせることができるために製品歩留まりの向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明し、本発明の理解に供する。
図１は本発明を適用した液晶表示装置の一例である反射型液晶表示装置を説明するための模式的な断面図であり、ここで示す反射型液晶表示装置１は、ＴＦＴ回路等の液晶駆動回路が形成されたシリコン基板から成るＴＦＴ基板２と液晶表示部３から構成されている。
【００１３】
ここで、ＴＦＴ基板は、アルミニウム等から成る画素電極４がマトリクス状に形成されている。
【００１４】
また、液晶表示部はシール材５によって貼り合わせられた厚さ約１ｍｍの石英ガラスから成る対向基板６と厚さ約０．４ｍｍの石英ガラスから成る透明基板７との間隙に液晶８が保持された構造を採っている。ここで、対向基板は、液晶側表面にＩＴＯ（インジウム−酸化亜鉛系透明導電膜）等から成る透明電極９が形成され、透明電極の上層に配向膜（１）１０が形成されると共に配向処理が施されている。また、透明基板は、液晶側表面に配向膜（２）１１が形成され配向処理が施されている。
【００１５】
ここで、透明基板は液晶表示部と液晶駆動回路部とを分離することができれば充分であり、必ずしもその厚さが０．４ｍｍである必要は無い。但し、液晶表示装置による画像表示は、画素電極と透明電極に電圧を印加し、対向基板と透明基板の間隙に保持された液晶物質の複屈折特性に基づいて光透過率を制御することによって行っているために、光透過率の制御に悪影響を与えない程度の厚さで形成される必要がある。
【００１６】
本発明を適用した反射型液晶表示装置では、液晶表示部の良品と液晶駆動回路を形成したＴＦＴ基板の良品を組み合わせることができるために、製品歩留まりの向上を図ることができる。
【００１７】
また、画素電極の最表面と画素電極の最表面との隙間である画素溝による液晶の配向の乱れを抑制することができる。
即ち、液晶駆動回路が形成されて凹凸があるＴＦＴ基板に配向膜が形成され、配向処理が施されていた従来の反射型液晶表示装置と比較して、液晶駆動回路が形成されていない平坦な透明基板に配向膜（２）が形成され、配向処理が施されているために、液晶の配向の乱れを抑制することができ、液晶表示装置にとって重要な性能要素の１つである「明るさ」の向上を図ることができると共に、画質の向上をも図ることができる。
【００１８】
更に、画素溝の幅を非常に狭くすることが可能となる。
即ち、画素溝の幅の縮小については、製造プロセスの限界が年々進化しており、数１０ｎｍの加工まで可能となっていたものの、画素溝に液晶分子が入り込むことによって液晶の配向に乱れが生じてしまうことを抑制するために、従来の反射型液晶表示装置では画素溝にある程度の幅を持たせていたが、本発明を適用した反射型液晶表示装置では画素溝に液晶分子が入り込む恐れがないために、画素溝の幅を非常に狭く形成することができ、画素溝の幅を非常に狭く形成すること、即ち、画素電極の面積が大きくなることによって、画素電極の反射率の向上を図ることができ、「明るさ」の向上を図ることができると共に、応答速度の向上をも図ることができる。
【００１９】
図２は本発明を適用した液晶表示装置の製造方法の一例である透過型液晶表示装置の製造方法を説明するための模式的な断面図である。本発明を適用した透過型液晶表示装置の製造方法では、先ず、図２（ａ）で示す様に厚さ約０．４ｍｍの石英ガラスから成る透明基板７に配向膜（２）１１を形成し配向処理を施す。
【００２０】
次に、図２（ｂ）で示す様に、厚さ約１ｍｍの石英ガラスから成り、その表面にＩＴＯ等から成る透明電極９が形成され、透明電極の上層に配向膜（１）１０が形成されると共に配向処理が施された対向基板６の周辺部に１つの開口部が形成される様にシール材５のパターンを形成し、対向基板６と透明基板７とを貼り合わせて液晶表示部を形成する。
【００２１】
次に、図２（ｃ）で示す様に、対向基板６と透明基板との間隙に液晶８を注入封止する。その後、ＴＦＴ回路等の液晶駆動回路が形成された石英ガラスから成ると共に、ＩＴＯ等から成る透明画素電極１２がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板２と液晶表示部３とを透明接着剤で貼り合わせることによって透過型液晶表示装置１３を得ることができる。
【００２２】
本発明を適用した透過型液晶表示装置の製造方法では、液晶表示部の良品と液晶駆動回路を形成したＴＦＴ基板の良品とを組み合わせることができるために、製品歩留まりの向上を図ることができる。また、画素溝による液晶の配向の乱れを抑制することができると共に、画素溝の幅を非常に狭くすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明を適用した液晶表示装置の一例を説明するための模式的な断面図である。
【図２】本発明を適用した液晶表示装置の製造方法の一例を説明するための模式的な断面図である。
【図３】従来の液晶表示装置の製造方法を説明するための模式的な断面図である。
【符号の説明】
【００２４】
１  反射型液晶表示装置
２  ＴＦＴ基板
３  液晶表示部
４  画素電極
５  シール材
６  対向基板
７  透明基板
８  液晶
９  透明電極
１０  配向膜（１）
１１  配向膜（２）
１２  透明画素電極
１３  透過型液晶表示装置
【図１】
2005114887.tif 000003
【図２】
2005114887.tif 000004
【図３】
2005114887.tif 000005