(57)【要約】【課題】  塗布幅が１ｍ以上の場合でも塗布膜品質を下げることなく、幅方向に乾燥ムラ、吹かれムラ等の故障が発生しない乾燥方法及び乾燥装置の提供。【解決手段】  連続搬送される帯状支持体上に塗布液を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜を有する帯状支持体を搬送しながら乾燥する塗布膜乾燥装置において、少なくとも１つの乾燥ゾーンを有し、該乾燥ゾーンは、該塗布膜に対向する位置に気体を前記塗布膜に供給する吹出し口を有する少なくとも１つの気体供給ボックスと、前記塗布膜に対向する位置に気体を排出する気体回収口を有する少なくとも１つの気体排出ボックスとを配置したことを特徴とする塗布膜乾燥装置。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連続搬送される帯状支持体上に塗布液を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜を有する帯状支持体を搬送しながら乾燥する塗布膜乾燥装置において、
少なくとも１つの乾燥ゾーンを有し、
該乾燥ゾーンは、該塗布膜に対向する位置に気体を前記塗布膜に供給する吹出し口を有する少なくとも１つの気体供給ボックスと、
前記塗布膜に対向する位置に気体を排出する気体回収口を有する少なくとも１つの気体排出ボックスとを配置したことを特徴とする塗布膜乾燥装置。
【請求項２】
前記吹出し口及び気体回収口の幅が各々帯状支持体の幅に対して８０〜１５０％であることを特徴とする請求項１に記載の塗布膜乾燥装置。
【請求項３】
前記気体排出ボックスの回収口が気体供給ボックスの吹出し口に対して又は上流の位置に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布膜乾燥装置。
【請求項４】
前記気体回収口が乾燥ゾーンの吹出し口よりも帯状支持体搬送方向の下流側に配置されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置。
【請求項５】
前記吹出し口の気体の流速が０．１〜１０ｍ／ｓであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置。
【請求項６】
前記吹出し口と塗布膜との距離が１００〜１０００ｍｍであることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置。
【請求項７】
前記回収口と塗布膜との距離が１００〜１０００ｍｍであることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置。
【請求項８】
前記塗布膜の幅が１〜１０ｍであることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置。
【請求項９】
連続搬送する帯状支持体上に塗布液を塗布し形成された塗布膜を乾燥する方法であって、塗布膜面に対向する位置に配設された気体供給ボックスの吹出し口から気体を吹き出し、塗布膜面に対向する位置に配設された気体排出ボックスの気体回収口から回収し排出口から排出することにより形成される気流により、該塗布膜に含まれる溶媒を蒸発させ前記塗布膜を乾燥させることを特徴とする塗布膜乾燥方法。
【請求項１０】
前記気流は、帯状支持体搬送方向と同一方向の流れであることを特徴とする請求項９に記載の塗布膜乾燥方法。
【請求項１１】
前記気流は、帯状支持体搬送方向と対向方向の流れであることを特徴とする請求項９に記載の塗布膜乾燥方法。
【請求項１２】
連続搬送する帯状支持体上に塗布液を塗布し形成された塗布膜を、搬送しながら請求項１〜８の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置により乾燥することを特徴とする塗布膜乾燥方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、連続走行する帯状支持体上に塗布した塗布膜の塗布膜乾燥装置（以下、単に乾燥装置とも言う）及び塗布膜乾燥方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より連続走行している帯状支持体に塗布液を塗布する方法としては、各種提案されており、例えばこれらの各種塗布方式については、Ｅｄｗａｒｄ  Ｃｏｈｅｎ，Ｅｄｇａｒ  Ｇｕｔｏｆｆ著「Ｍｏｄｅｒｎ  Ｃｏａｔｉｎｇ  ａｎｄ  Ｄｒｙｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」に述べられている。又、単層塗布のみならず、スライドコーターやエクストルージョンコーターやカーテンコーターなど複数のスリットを有するコーティングダイを用いることにより、同時に重層塗布することも知られている。
【０００３】
感光材料や磁気記録材料等の画像形成材料は、コータから有機溶剤系又は水系の塗布液を連続搬送する帯状支持体の上に塗布して塗布膜面を形成し、その後、塗布膜を有する帯状支持体を乾燥装置で乾燥することで製造されている。
【０００４】
従来より連続走行している支持体に塗布液を塗布した後乾燥する方法としては、Ｅｄｗａｒｄ  Ｃｏｈｅｎ，  Ｅｄｇａｒ  Ｇｕｔｏｆｆ著「ＭＯＤＥＲＮ  ＣＯＡＴＩＮＧ  ＡＮＤ  ＤＲＹＩＮＧ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ」に述べられている各種の方法が提案されてきた。最も一般的には乾燥ゾーンにエアを供給し、その気流によって塗布膜を乾燥させ、気化した溶媒を気流とともに系外へ排出する方法である。また、可燃性有機溶剤を用いる場合にはエアの代わりに不活性ガスを供給し、実質的に爆発のない安全な仕組みにする装置も知られている。本発明の適用は、気流によって乾燥させる方式、装置であれば、エアであっても、不活性ガスであっても特に限定されない。
【０００５】
乾燥工程は、塗布直後の塗布膜面を加熱した雰囲気、気体が当たる雰囲気にさらすために、塗布膜面の性状に影響を与える重要な工程となっている。一般的に乾燥工程における塗布膜面に与える問題として気体が当たることにより塗膜表面が乱され、表面の平滑度を失い、所謂まだらムラが生じたり、乾燥工程内の温度、気体の風量等のバラツキにより乾燥ムラが生じたりすることが知られている。特に、塗布液の溶媒に有機溶剤を使用している場合は、この様な傾向が強いことが知られている。
【０００６】
乾燥が正常に行われなかった場合には、得られる塗布膜の外観にムラや欠陥を生じたり、塗布膜中の残留溶媒が適正量でなかったり、残留溶媒量にバラツキを生じたりして、最終的な塗布膜品質に影響を与えることが知られている。
【０００７】
これら乾燥方法において、塗布膜面に対する気体の当て方に関してはこれまでに多くの検討がなされており例えば、１）塗布膜面に吹き付ける風の角度を規定することによりふかれムラを防止した乾燥を行う方法が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。２）気体を塗布膜面に対して垂直にスリット又は穴から塗布膜に吹き付ける方法が知られている（例えば、非特許文献１を参照。）。
【０００８】
又、特許文献１、非特許文献１に記載の技術はある程度、塗布膜に対して速い風速を吹き付けるのであれば幅方向に均一に乾燥できるものの、緩やかな風速で乾燥させようとしたときは排気口へ向かって流れる気流の影響が大きくなり、幅方向乾燥不均一性が現れてしまうことがあるという問題があった。
【０００９】
非特許文献１に記載の技術は各種気流乾燥方法の中では、塗布膜に対して垂直に風を吹き付ける方式が乾燥効率も高く多用されている。以下に非特許文献１に記載の技術を図で説明する。
【００１０】
図５は従来の垂直乾燥風吹き出し方式の乾燥室を持つ乾燥装置を用いた乾燥方法の一例を示す概略図である。図５の（ａ）は複数の垂直乾燥風吹き出し方式の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置を用い、塗布から乾燥までを示す概略図である。図５の（ｂ）は図５の（ａ）に示される乾燥装置をコータ側から見た時の乾燥ゾーン内の乾燥風の流れを示す模式図である。尚、図５の（ｂ）では搬送ロールは省略してある。
【００１１】
図中、１はバックロール２で保持され、連続搬送する帯状支持体３に塗布液を塗布するコータを示す。４ａ〜４ｃは塗布膜を有する帯状支持体３ａを搬送（図中の矢印方向）する搬送ロールを示す。５は塗膜を有する帯状支持体３ａを乾燥する乾燥装置を示す。乾燥装置５は加熱空気により乾燥するエアーモード乾燥方式の乾燥装置、加熱不活性ガスにより乾燥するイナート乾燥方式の乾燥装置のいずれでもかまわない。乾燥装置５は乾燥条件を個別に制御することが可能となっている乾燥室５０１ａ、５０１ｂを連続的に繋げた乾燥ゾーンを有している。更に詳しくは、乾燥室５０１ａの塗布膜を有する帯状支持体３ａの入り口５０６から乾燥室５０１ｂの出口５０７の間を乾燥ゾーンという。乾燥室の数は特に限定はなく、乾燥する塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜厚、搬送速度、乾燥温度、乾燥風量等により適宜変更が可能である。本図では乾燥室が２室の場合を示している。
【００１２】
５０２ａ、５０２ｂは塗布膜を有する帯状支持体３ａに気体の気体供給手段である気体供給ボックスを示す。気体供給ボックス５０２ａは、帯状支持体３ａの塗布膜面に対して対向して設けられた気体の吹出し口５０２ａ１を形成する外壁５０２ａ２と、気体の供給口５０３ａを設けた天板５０２ａ３とを有する箱形形状をしている。５０２ａ４は吹出し口５０２ａ１に設けた吹出孔（又は、吹出スリット）を示す。気体供給ボックス５０２ｂは、帯状支持体３ａの塗布膜面に対して対向して設けられた気体の吹出し口５０２ｂ１を形成する外壁５０２ｂ２と、気体の供給口５０３ｂを設けた天板５０２ｂ３とを有する箱形形状をしている。５０２ｂ４は吹出し口５０２ｂ１に設けた吹出孔（又は、吹出スリット）を示す。
【００１３】
幅方向に略均一な気体を吹き出ために、吹出し口に取り付けられた吹出し孔（又は、吹出スリット）はパンチングプレートやスリットノズルにより形成されている。
【００１４】
吹出し口５０２ａ１から塗布膜面に供給される気体は、常温から１２０度程度に加熱された気体を塗布膜の種類に適宜選択して使用することが可能となっている。
【００１５】
５０４ａは乾燥室５０１ａの底面に設けられた排出口を示し、５０４ｂは乾燥室５０１ｂの底面に設けられた排出口を示す。
【００１６】
次に図５の（ｂ）を使って気体の流れに付き説明する。尚、図中の矢印は気体の流れの方向を示す。取り入れ口５０３ａより気体供給ボックス５０２ａに入った気体は吹出し口５０２ａ１の吹出孔（又は、吹出スリット）５０２ａ４より、塗布膜面に対して垂直に吹き出し塗布膜面に衝突する。この後、塗布膜面左右の幅方向に移動し、帯状支持体３ａの両端部３ａ１、３ａ２を回り込み排出口５０４ａから排出される。
【００１７】
図５に示される垂直乾燥風吹き出し方式の乾燥室を持つ乾燥装置（非特許文献１に記載の技術）は以下の欠点を持っている。
【００１８】
１）効率よく乾燥させるために気体を吹出し口より強く塗布膜に対して吹き出すと、塗布膜にムラが発生することがある。特に塗布時のウェット膜厚が厚い場合にそのムラが発生し易い。また、有機溶剤を用いた塗布液に関してもその揮発性の高さから乾燥ムラが発生し易い。
【００１９】
２）ムラを防ぐためには、乾燥ゾーンの気体の流速を弱めた場合、全般的に乾燥ムラが改良されるものの、塗布膜の幅方向一部に表面性に差が生じたり、さらに悪い場合には、幅方向の一部に乾燥未了で乾燥ゾーンを出てきてしまい、搬送ロールを汚してしまう場合がある。
【００２０】
３）気体の流れが塗布幅の中央と両端部で同じになり難いため、乾燥ムラが出来やすい。特に１ｍを越える塗布幅の場合は影響が出やすい。
【００２１】
この様な状況から、１ｍを越える塗布幅の場合は、塗布膜に対して、ある程度強く風を吹き付けている条件で乾燥していることが多く、塗布膜品質を下げて製造していることが多い。
【００２２】
この様な状況から、塗布幅が１ｍ以上の場合でも、塗布膜品質を下げることなく、幅方向に乾燥ムラが発生しない乾燥方法及び乾燥装置の開発が望まれている。
【特許文献１】特公平１−５７２７６号公報
【特許文献２】特開平１０−６８５８７号公報
【非特許文献１】最新コーティング技術  （株）総合技術センター発行ｐ４４９−４５８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
本発明は上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は塗布幅が１ｍ以上の場合でも塗布膜品質を下げることなく、幅方向に乾燥ムラ、吹かれムラ等の故障が発生しない乾燥方法及び乾燥装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成された。
（請求項１）
連続搬送される帯状支持体上に塗布液を塗布して塗布膜を形成した後、該塗布膜を有する帯状支持体を搬送しながら乾燥する塗布膜乾燥装置において、
少なくとも１つの乾燥ゾーンを有し、
該乾燥ゾーンは、該塗布膜に対向する位置に気体を前記塗布膜に供給する吹出し口を有する少なくとも１つの気体供給ボックスと、
前記塗布膜に対向する位置に気体を排出する気体回収口を有する少なくとも１つの気体排出ボックスとを配置したことを特徴とする塗布膜乾燥装置。
（請求項２）
前記吹出し口及び気体回収口の幅が各々帯状支持体の幅に対して８０〜１５０％であることを特徴とする請求項１に記載の塗布膜乾燥装置。
（請求項３）
前記気体排出ボックスの回収口が気体供給ボックスの吹出し口に対して又は上流の位置に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の塗布膜乾燥装置。
（請求項４）
前記気体回収口が乾燥ゾーンの吹出し口よりも帯状支持体搬送方向の下流側に配置されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置。
（請求項５）
前記吹出し口の気体の流速が０．１〜１０ｍ／ｓであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置。
（請求項６）
前記吹出し口と塗布膜との距離が１００〜１０００ｍｍであることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置。
（請求項７）
前記回収口と塗布膜との距離が１００〜１０００ｍｍであることを特徴とする請求項１〜６の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置。
（請求項８）
前記塗布膜の幅が１〜１０ｍであることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置。
（請求項９）
連続搬送する帯状支持体上に塗布液を塗布し形成された塗布膜を乾燥する方法であって、塗布膜面に対向する位置に配設された気体供給ボックスの吹出し口から気体を吹き出し、塗布膜面に対向する位置に配設された気体排出ボックスの気体回収口から回収し排出口から排出することにより形成される気流により、該塗布膜に含まれる溶媒を蒸発させ前記塗布膜を乾燥させることを特徴とする塗布膜乾燥方法。
（請求項１０）
前記気流は、帯状支持体搬送方向と同一方向の流れであることを特徴とする請求項９に記載の塗布膜乾燥方法。
（請求項１１）
前記気流は、帯状支持体搬送方向と対向方向の流れであることを特徴とする請求項９に記載の塗布膜乾燥方法。
（請求項１２）
連続搬送する帯状支持体上に塗布液を塗布し形成された塗布膜を、搬送しながら請求項１〜８の何れか１項に記載の塗布膜乾燥装置により乾燥することを特徴とする塗布膜乾燥方法。
【００２５】
発明者らは、上記課題を達成するために鋭意検討を加えた結果、乾燥は供給された加熱気体が排出口から排出されるまでの塗布膜面上の流れにより影響されると推定した。従来の乾燥装置の場合、加熱気体の供給口が塗布膜面に対向する位置にあり、供給された加熱気体は乾燥室の底面又は側面から排出する方式が良く用いられる。この場合、供給口から吹き付ける気体の流速が強い場合は気体が塗布膜面に衝突することで塗布膜面が局部的に変形した所謂吹かれムラが発生する。又、気体の流速が弱い場合は、吹かれムラの発生は生じないが、供給口から排出口に向けて気体が流れるとき、幅方向の気体の流れが主流となるため、幅方向に不均一な乾燥不良となることが判明した。
【００２６】
これらに対して、塗布膜面の幅手で均一な乾燥を行うためには、吹かれムラが発生しない程度の加熱気体を塗布膜面に吹き付け、吹き付けた気体を塗布膜面の幅で均一に流し、塗布膜面の幅で排出することで改良されることが判明し、本発明に至った次第である。
【発明の効果】
【００２７】
塗布幅が１ｍ以上の場合でも塗布膜品質を下げることなく、幅方向に乾燥ムラ、吹かれムラ等の故障が発生しない乾燥方法及び乾燥装置を提供することが出来、製品の安定化、品質の向上が可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
本発明に係る実施の形態を図１〜図４を参照して説明するが、勿論、本図は本発明の一例を示すものであり、本図で本発明が限定されるものではない。
【００２９】
図１は本発明の気体供給排出方式の乾燥室を持つ乾燥装置を用いた乾燥方法の概略図である。図１の（ａ）は複数の本発明の気体供給排出方式の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置を用い、塗布から乾燥までを示す概略図である。図１の（ｂ）は図１の（ａ）のＰに示される乾燥ゾーン内の気体の流れを示す模式図である。
【００３０】
図中、６は塗膜を有する帯状支持体３ａを乾燥する乾燥装置を示す。乾燥装置６は加熱空気により乾燥するエアーモード乾燥方式の乾燥装置、加熱不活性ガスにより乾燥するイナート乾燥方式の乾燥装置のいずれでもかまわない。乾燥装置６は乾燥条件を個別に制御することが可能となっている乾燥室６０１ａ、６０１ｂを連続的に繋げた乾燥ゾーンを有している。更に詳しくは、乾燥室６０１ａの塗布膜を有する帯状支持体３ａの入り口６０６から乾燥室６０１ｂの出口６０７の間を乾燥ゾーンという。乾燥室の数は特に限定はなく、乾燥する塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜厚、搬送速度、乾燥温度、乾燥風量等により適宜変更が可能である。本図では乾燥室が２室の場合を示している。
【００３１】
６０２ａは塗布膜を有する帯状支持体３ａに気体の気体供給手段である乾燥室６０１ａに配設された気体供給ボックスを示す。気体供給ボックス６０２ａは、帯状支持体３ａの塗布膜面に対して対向して設けられた気体の吹出し口６０２ａ１を形成する外壁６０２ａ２と、気体の供給口６０３ａを設けた天板６０２ａ３とを有する箱形形状をしている。６０２ａ４は吹出し口６０２ａ１に設けた吹出孔（又は、吹出スリット）を示す。
【００３２】
６０２ｂは塗布膜を有する帯状支持体３ａに気体の気体供給手段である乾燥室６０１ｂに配設された気体供給ボックスを示す。気体供給ボックス６０２ｂは、帯状支持体３ａの塗布膜面に対して対向して設けられた気体の吹出し口６０２ｂ１を形成する外壁６０２ｂ２と、気体の供給口６０３ｂを設けた天板６０２ｂ３とを有する箱形形状をしている。６０２ｂ４は吹出し口６０２ｂ１に設けた吹出孔（吹出スリット）を示す。
【００３３】
幅方向に略均一な気体を吹き出すために、吹出し口に取り付けられた吹出孔（吹出スリット）はパンチングプレートやリットノズルにより形成されている。吹出し口から塗布膜面に供給される気体は、常温から１２０度程度に加熱された気体を塗布膜の種類に適宜選択して使用することが可能となっている。
【００３４】
６０４ａは乾燥室６０１ａに配設された気体排出ボックスを示す。気体排出ボックス６０４ａは帯状支持体３ａの塗布膜面に対して対向する位置に設けられている。気体排出ボックス６０４ａは気体回収口６０４ａ２を形成する外壁６０４ａ１と排出口６０４ａ３を設けた天板６０４ａ４とを有する箱形形状をしている。
【００３５】
６０４ｂは乾燥室６０１ｂに配設された気体排出ボックスを示す。気体排出ボックス６０４ｂは帯状支持体３ａの塗布膜面に対して対向する位置に設けられている。気体排出ボックス６０４ｂは気体回収口６０４ｂ２を形成する外壁６０４ｂａ１と排出口６０４ｂ３を設けた天板６０４ｂ４とを有する箱形形状をしている。他の符号は、図５と同義である。
【００３６】
吹出し口から吹出す気体の流速は、０．１〜１０ｍ／ｓであることが好ましい。０．１ｍ／ｓ未満の場合は、塗布膜の厚さ、塗布膜の種類によっては乾燥不良が生じる場合がある。１０ｍ／ｓを越えた場合は、吹出し口から吹出す気体が塗布膜面に速い流速で到達しするため、塗布膜面の種類によっては塗布膜面に吹かれムラを発生させる場合がある。気体の流速は、日本カノマックス（株）製  ドラフトマスター  ＭＯＤＥＬ６３１１を用いて測定した値である。
【００３７】
Ｇは塗布膜面から吹出し口６０２ａ１までの高さを示す。高さＧは、１００〜１０００ｍｍであることが好ましい。１００ｍｍ未満の場合は、吹出し口から吹き出される気体の流速によっては塗布膜面に吹かれムラを発生させる場合がある。１０００ｍｍを越えた場合は、設備が大型化し設備に費用が掛かり過ぎる場合がある。
【００３８】
Ｈは塗布膜面から気体回収口６０４ａ２までの高さを示す。高さＨは、１００〜１０００ｍｍであることが好ましい。１００ｍｍ未満の場合は、気体回収口近傍の塗布膜上の流速が速くなり、塗布膜面の種類によっては塗布膜面に吹かれムラを発生させる場合がある。１０００ｍｍを越えた場合は、設備が大型化し設備に費用が掛かり過ぎる場合がある。
【００３９】
次に図１の（ｂ）を使って気体の流れについてき説明する。尚、図中の矢印は気体の流れの方向を示す。気体の供給口６０３ａより気体供給ボックス６０２ａに入った気体は吹出し口６０２ａ１の吹出孔（吹出スリット）６０２ａ４より、塗布膜面方向に吹出す。この後、気体は帯状支持体３ａの搬送方向と同一方向に塗布膜面に沿って移動し、気体回収口６０４ａ２から回収され、排出口６０４ａ３から排出される。
【００４０】
本図に示される乾燥装置では、吹出し口から塗布膜面に対して供給された気体は排出口から排出されるまでの間、帯状支持体の搬送方向と同一方向に塗布膜面に沿って移動し形成される気流により乾燥が行われる様になっている。
【００４１】
図２は本発明の気体供給排出方式の乾燥室を持つ乾燥装置を用いた他の乾燥方法の概略図である。図２の（ａ）は複数の本発明の気体供給排出方式の乾燥室を連続的に繋げた乾燥ゾーンを有する乾燥装置を用い、塗布から乾燥までを示す概略図である。図２の（ｂ）は図２の（ａ）のＱに示される乾燥ゾーン内の気体の流れを示す模式図である。
【００４２】
図中、７は塗膜を有する帯状支持体３ａを乾燥する乾燥装置を示す。乾燥装置７は加熱空気により乾燥するエアーモード乾燥方式の乾燥装置、加熱不活性ガスにより乾燥するイナート乾燥方式の乾燥装置のいずれでもかまわない。乾燥装置７は乾燥条件を個別に制御することが可能となっている乾燥室７０１ａ、７０１ｂを連続的に繋げた乾燥ゾーンを有している。更に詳しくは、乾燥室７０１ａの塗布膜を有する帯状支持体３ａの入り口７０６から乾燥室７０１ｂの出口７０７の間を乾燥ゾーンという。乾燥室の数は特に限定はなく、乾燥する塗布膜を有する帯状支持体３ａの塗布膜厚、搬送速度、乾燥温度、気体量等により適宜変更が可能である。本図では乾燥室が２室の場合を示している。
【００４３】
７０２ａは塗布膜を有する帯状支持体３ａに気体の気体供給手段である乾燥室７０１ａに配設された気体供給ボックスを示す。気体供給ボックス７０２ａは、帯状支持体３ａの塗布膜面に対して対向して設けられた気体の吹出し口７０２ａ１を形成する外壁７０２ａ２と、気体の供給口７０３ａを設けた天板７０２ａ３とを有する箱形形状をしている。７０２ａ４は吹出し口７０２ａ１に設けた吹出孔（吹出スリット）を示す。
【００４４】
７０２ｂは塗布膜を有する帯状支持体３ａに気体の気体供給手段である乾燥室７０１ｂに配設された気体供給ボックスを示す。気体供給ボックス７０２ｂは、帯状支持体３ａの塗布膜面に対して対向して設けられた気体の吹出し口７０２ｂ１を形成する外壁７０２ｂ２と、気体の供給口７０３ｂを設けた天板７０２ｂ３とを有する箱形形状をしている。７０２ｂ４は吹出し口７０２ｂ１に設けた吹出孔（吹出スリット）を示す。
【００４５】
幅方向に略均一な気体を吹き出すために、吹出し口に取り付けられた吹出孔（吹出スリット）はパンチングプレートやリットノズルにより形成されている。吹出し口から塗布膜面に供給される気体は、常温から１２０度程度に加熱された気体を塗布膜の種類に適宜選択して使用することが可能となっている。
【００４６】
７０４ａは乾燥室７０１ａに配設された気体排出ボックスを示す。気体排出ボックス７０４ａは帯状支持体３ａの塗布膜面に対して対向する位置に設けられている。気体排出ボックス７０４ａは気体回収口７０４ａ２を形成する外壁７０４ａ１と排出口７０４ａ３を設けた天板７０４ａ４とを有する箱形形状をしている。
【００４７】
７０４ｂは乾燥室７０１ｂに配設された気体排出ボックスを示す。気体排出ボックス７０４ｂは帯状支持体３ａの塗布膜面に対して対向する位置に設けられている。気体排出ボックス７０４ｂは気体回収口７０４ｂ２を形成する外壁７０４ｂ１と排出口７０４ｂ３を設けた天板７０４ｂ４とを有する箱形形状をしている。他の符号は、図５と同義である
次に図２の（ｂ）を使って気体の流れに付き説明する。尚、図中の矢印は気体の流れの方向を示す。供給口７０３ａより供給ボックス７０２ａに入った気体は吹出し口７０２ａ１の吹出孔（吹出スリット）７０２ａ４より、塗布膜面方向に供給される。この後、気体は帯状支持体３ａの搬送方向と対向方向に塗布膜面に沿って移動し、気体回収口７０４ｂ２から回収され、排出口７０４ａ３ら排出される。
【００４８】
本図に示される乾燥装置では、吹出し口から塗布膜面に対して供給された気体は、排出口から排出されるまでの間、帯状支持体の搬送方向と対向方向に塗布膜面に沿って移動し形成される気流により乾燥が行われる様になっている。
【００４９】
本図で示される乾燥装置の吹出し口から供給される気体の流速、吹出し口と塗布膜との距離、排出口と塗布膜との距離は図１で示される乾燥装置と同じである。
【００５０】
図１と図２で示される乾燥装置の場合、各乾燥室に気体供給装置と排出口が一つずつ配設されているが複数であってもかまわなく、乾燥装置の大きさにより適宜選択することが可能である。
【００５１】
図３は図１に示される気体供給口と排出口との帯状支持体に対する配設関係を示す概略平面図である。尚、本図では乾燥室、搬送ロールは省略してある。
【００５２】
図中、Ｒは気体供給ボックス６０２ａの気体の供給口の幅を示す。供給口の幅は帯状支持体３ａの幅に対して８０〜１５０％である。８０％未満の場合は、支持体の両端部の塗布膜面上の気体の流速が遅くなり、両端部の乾燥が遅れる傾向があるため好ましくない。１５０％を越えた場合は、支持体の両端部の塗布膜面上の気体の流速が速くなり、両端部の乾燥が早まる傾向となるため好ましくない。
【００５３】
帯状支持体３ａの幅は１〜１０ｍが好ましい。１ｍ未満の場合は、幅が狭いために乾燥装置の種類によっては幅方向の乾燥に差が発生し難く、問題とならない場合がある。１０ｍを越える場合は、塗布・搬送装置、乾燥装置として全体が大きくなり、各所の精度維持が難しくなる場合がある。
【００５４】
気体排出ボックス６０４ａの気体回収口６０４ａ２（図１を参照）の幅は供給口の幅と同じであることが好ましい。気体供給装置の供給口と排出口の幅とを帯状支持体の幅に対して８０〜１５０％にすることにより、塗布膜面に対向する位置から帯状支持体全幅にわたって塗布膜に対して気体を供給し、塗布膜面に対向する位置で供給された気体を支持体全幅から排出する。これによって形成される気流を用いることにより、塗布膜面近傍で帯状支持体の幅方向への流れは少なくなることにより、乾燥の幅方向不均一性が低減する。
【００５５】
気体供給ボックスの吹出し口から供給された気体が排出口から排出されることにより形成される気体の流れは、図１に示される様に帯状支持体の搬送方向に対して同一方向の流れ（並流）でも良く、図２に示される様に帯状支持体の搬送方向に対して対向方向の流れ（向流）でも良く、図４に示される様に並流と向流とを組み合わせた流れであっても良い。帯状支持体上の塗布膜の性質から最適な気体の流れを選択し、乾燥させることが好ましい。
【００５６】
図４は気体供給ボックスと気体排出ボックスの配設の一例を示す概略図である。本図はいずれも乾燥ゾーンに乾燥室を２つ有する乾燥装置の場合を示している。図中の矢印は気流の方向を示す。
【００５７】
（ａ）で示される乾燥装置８ａは、乾燥室８０１ａには乾燥装置８ａの入り口８０３ａ側に気体排出ボックス８０１ａ２を配置し、乾燥室８０２ａ側に気体供給ボックス８０１ａ１を配置し、乾燥室８０２ａには乾燥室８０１ａ側に気体供給ボックス８０２ａ１を配置し、出口８０４ａ側に気体排出ボックス８０２ａ２を配置した場合を示している。図に示す配置により気体供給ボックスより帯状支持体に対して供給された気体の流れは、乾燥室８０１ａでは向流となり、乾燥室８０２ａでは並流となる。
【００５８】
（ｂ）で示される乾燥装置８ｂは、乾燥室８０１ｂには乾燥装置８ｂの入り口８０３ｂ側に気体供給ボックス８０１ｂ１を配置し、乾燥室８０２ｂ側に気体供給ボックス８０１ｂ２を配置し、中間に気体排出ボックス８０１ｂ３を配置し、乾燥室８０２ｂには乾燥室８０１ｂ側に気体供給ボックス８０２ｂ１を配置し、出口８０４ｂ側に気体供給ボックス８０２ｂ２を配置し、中間に気体排出ボックス８０２ｂ３を配置した場合を示している。図に示す配置により気体供給装置より帯状支持体に対して供給された気体の流れは、乾燥室８０１ｂと乾燥室８０２ｂとで、並流と向流が存在した状態となる。
【００５９】
（ｃ）で示される乾燥装置８ｃは、乾燥室８０１ｃには乾燥装置８ｃの入り口８０３ｃ側に気体供給ボックス８０１ｃ１を配置し、次に気体排出ボックス８０１ｃ３を配置し、次に気体供給ボックス８０１ｃ２を配置し、次に気体排出ボックス８０１ｃ４を配置してある。乾燥室８０２ｃには乾燥湿８０１ｃ側に気体供給ボックス８０２ｃ１を配置し、次に排出口８０２ｃ３を配置し、次に気体供給ボックス８０２ｃ２を配置し、次に気体排出ボックス８０２ｃ４を配置してある。図に示す配置により気体供給ボックスより帯状支持体に対して供給された気体の流れは、乾燥室８０１ｃと乾燥室８０２ｃとで、細かく分割された平行流が存在した状態となる。
【００６０】
（ｄ）で示される乾燥装置８ｄは、乾燥室８０１ｄには乾燥装置８ｄの入り口８０３ｄ側に気体排出ボックス８０１ｄ３を配置し、次に気体供給ボックス８０１ｄ１を配置し、次に気体排出ボックス８０１ｄ４を配置し、次に気体供給ボックス８０１ｄ２を配置してある。乾燥室８０２ｄには乾燥湿８０１ｄ側に、気体排出ボックス８０２ｄ３を配置し、次に気体供給ボックス８０２ｄ１を配置し、次に気体排出ボックス８０２ｄ４を配置し、次に気体供給ボックス８０２ｄ２を配置してある。図に示す配置により気体供給ボックスより帯状支持体に対して供給された気体の流れは、乾燥室８０１ｄと乾燥室８０２ｄとで、細かく分割された平行流が存在した状態となる。
【００６１】
本図に示される気体供給ボックス及び気体排出ボックスはいずれも塗布膜面と対向した位置に配設されており、又幅、塗布膜からの高さ、気体供給装置の吹出し口から供給される気体の流速は、いずれも図１〜図３に示した気体供給装置及び排出口と同じである。本図に示される気体供給ボックス及び気体排出ボックスの配置であっても塗布膜の全幅に対して均一に気体が供給され、排出口に向けて気流が形成され、排出口から塗布膜の全幅の気体が排出されるため均一な乾燥が可能となっている。
【００６２】
図１〜図４に示される本発明の乾燥装置により次の効果が挙げられる。
【００６３】
１）塗布幅に対して８０から１５０％の幅を有する気体供給ボックス及び気体排出ボックスをいずれも塗布膜面と対向した位置に配設することにより、塗布膜面の全幅に均一に気体を供給することが可能となった。
【００６４】
２）気体供給口と気体回収口を塗布膜面から一定の距離に設けることで、流速が低くても塗布膜面に均一に気体を接触させ、塗布膜面上に沿って気流が形成され、塗布膜面の全幅から均等に排出されるため吹かれムラの発生を抑え安定した乾燥が可能となった。
【００６５】
３）塗布幅が１〜１０ｍの広幅でも安定した乾燥が可能となり、生産効率を上げることが可能となった。
【００６６】
本発明に係る塗布液は、特に限定されず、例えば写真感光材料、熱現像感光材料、アブレーション記録材料、印刷製版材料、磁気記録材料、感圧及び感熱記録材料等に使用される塗布液が挙げられる。また、塗布液中の溶媒についても特に限定されず、水、有機溶剤を溶媒とする系に適用できる。それら塗布液を塗布する方式も「ＭＯＤＥＲＮ  ＣＯＡＴＩＮＧ  ＡＮＤ  ＤＲＹＩＮＧ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ」に各種記載されているが、本発明に係る適用には特に限定されない。
【００６７】
また、本発明に適用される支持体も特に限定されず、紙、プラスチック、金属などの支持体に適用できる。代表的支持体の材質としては、プラスチックではポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、金属ではアルミニウム等が挙げられる。
【００６８】
以下、実施例を挙げて本発明の具体的効果を示すが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
【実施例】
【００６９】
実施例１
以下に示す方法に従って、有機銀成分を含有した感光層塗布液及び表面保護層塗布液を調製した。
【００７０】
〈感光層塗布液〉
《ハロゲン化銀乳剤Ａの調製》
水９００Ｌ中にイナートゼラチン７．５ｋｇ及び臭化カリウム１０ｇを溶解して温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀７４ｋｇを含む水溶液３７０Ｌと（９８／２）のモル比の臭化カリウムと沃化カリウム及び〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ5〕塩を銀１モル当たり１×１０-6モル及び塩化ロジウム塩を銀１モル当たり１×１０-6モルを含む水溶液３７０Ｌを、ｐＡｇ７．７に保ちながらコントロールドダブルジェット法で添加した。その後、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを添加し、ＮａＯＨでｐＨを５に調整して、平均粒子サイズ０．０６μｍ、単分散度１０％、投影直径面積の変動係数８％、〔１００〕面比率８７％の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤に、ゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理を行った後、フェノキシエタノール１００ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ７．５に調整して、ハロゲン化銀乳剤を得た。さらに、得られたハロゲン化銀乳剤に、塩化金酸及び無機硫黄で化学増感を行いハロゲン化銀乳剤Ａを得た。
【００７１】
上記単分散度及び投影直径面積の変動係数は、下式により算出した。
【００７２】
単分散度（％）＝（粒径の標準偏差）／（粒径の平均値）×１００
投影直径面積の変動係数（％）＝（投影直径面積の標準偏差）／（投影直径面積の平均値）×１００
《ベヘン酸Ｎａ溶液の調製》
９４５Ｌの純水にベヘン酸３２．４ｋｇ、アラキジン酸９．９ｋｇ、ステアリン酸５．６ｋｇを９０℃で溶解した。次に高速で攪拌しながら１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液９８Ｌを添加した。次に濃硝酸０．９３Ｌを加えた後、５５℃に冷却して３０分攪拌させてベヘン酸Ｎａ溶液を得た。
（プレフォーム乳剤の調製）
上記のベヘン酸Ｎａ溶液に前記ハロゲン化銀乳剤Ａを１５．１ｋｇ添加し水酸化ナトリウム溶液でｐＨ８．１に調整した後に１モル／Ｌの硝酸銀溶液１４７Ｌを７分間かけて加え、さらに２０分攪拌し限外濾過により水溶性塩類を除去した。出来たベヘン酸銀は平均粒子サイズ０．８μｍ、単分散度８％の粒子であった。分散物のフロックを形成後、水を取り除き、更に６回の水洗と水の除去を行った後乾燥させ、次に、ポリビニルブチラール（平均分子量３０００）のメチルエチルケトン溶液（１７質量％）５４４ｋｇとトルエン１０７ｋｇを徐々に添加して混合した後に、メディア分散機により２７．６ＭＰａで分散させプレフォーム乳剤を調製した。
【００７３】
〈感光層塗布液の調製〉
プレフォーム乳剤                                        ２４０ｋｇ
増感色素−１（０．１％メタノール溶液）                    １．７Ｌ
ピリジニウムプロミドペルブロミド（６％メタノール溶液）        ３Ｌ
臭化カルシウム（０．１％メタノール溶液）                  １．７Ｌ
カブリ防止剤−１（１０％メタノール溶液）                  １．２Ｌ
２−（４−クロロベンゾイル安息香酸（１２％メタノール溶液））
９．２Ｌ
２−メルカプトベンズイミダゾール（１％メタノール溶液）      １１Ｌ
トリブロモメチルスルホキノリン（５％メタノール溶液）        １７Ｌ
現像剤−１（２０％メタノール溶液）                      ２９．５Ｌ
【００７４】
【化１】
2005114188.tif 000003
【００７５】
〈非感光性保護層塗布液〉
《非感光性保護層塗布液の調製》
メチルエチルケトン                                          ５２Ｌ
酢酸セルロース                                          ２．３ｋｇ
メタノール                                                    ７Ｌ
フタラジン                                                ２５０ｇ
４−メチルフタル酸                                        １８０ｇ
テトラクロロフタル酸                                      １５０ｇ
テトラクロロフタル酸無水物                                １７０ｇ
マット剤：単分散度１０％平均粒子サイズ４μｍ単分散シリカ
７０ｇ
Ｃ9Ｈ19−Ｃ6Ｈ4−ＳＯ3Ｎａ                                  １０ｇ
感光層塗布液及び非感光性保護層塗布液の調製量は上記の調製量を１単位とし、塗布量に応じて調製を実施した。
【００７６】
〈乾燥装置の準備〉
図１、図２示される本発明の乾燥装置及び図５に示される従来の乾燥装置を使用し、乾燥室の気体の流速、吹出し口と塗布面との距離、排出口と塗布面との距離を表１に示される様に変化し、乾燥装置１−１〜１−２７として準備した。尚、乾燥装置の乾燥ゾーンは乾燥室を２つ有し、乾燥室１つの長さが５ｍで乾燥ゾーンの長さは１０ｍとした。供給口には幅方向に間隙３ｍｍのスリットが１０ｃｍ間隔で設けた。尚、図１、図２に示される乾燥装置の気体の供給口の幅及び気体の排出口の幅は帯状支持体の幅に対して１００（％）とした。又、図５に示される乾燥装置の場合、気体の供給口の幅は帯状支持体の幅に対して１００（％）とし、気体の排出口は底面の幅手方向、幅手方向の中央部に１ｍ×１ｍの正方形状で設けた。
【００７７】
【表１】
2005114188.tif 000004
【００７８】
〈塗布・乾燥〉
上記、調製した感光層塗布液の粘度（Ｐａ・ｓ）を０．５Ｐａ・ｓ、非感光性保護層塗布液の粘度（Ｐａ・ｓ）を０．１Ｐａ・ｓに調整し、同時重層用スロットコータを使用しバックアップロールに保持された厚さ１００μｍ、幅１５００ｍｍの帯状支持体（ＰＥＴを使用）１００ｍに、塗布液温度２５℃、塗布速度を２０ｍ／分、塗布幅１４８０ｍｍ、湿潤状態での感光層の膜厚７０μｍ、非感光性保護層の膜厚３０μｍとなるように塗布した後、準備した乾燥装置１−１を使用して、温度７０℃、吹出し口から吹出す気体の流速は４ｍ／ｓで乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料１０１とした。尚、気体の流速は、日本カノマックス（株）製  ドラフトマスター  ＭＯＤＥＬ６３１１を用いて測定した値である。
【００７９】
尚、乾燥装置１−１に変えて準備した乾燥装置１−２〜１−２７を使用した他は全て同じ条件で塗布・乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料１０２〜１２７とした。
【００８０】
〈評価〉
得られた各試料１０１〜１２７に付き、塗布開始後８０ｍ時点の塗布膜表面の凹凸及び塗布膜性状の幅方向の均一性について目視観察し、以下に示す評価ランクで評価した結果を表２に示す。
【００８１】
塗布膜表面の凹凸の評価ランク
○：殆ど凹凸がなく問題ないレベル
△：凹凸が弱く確認されるが問題とならないレベル
×：凹凸が強く確認され、製品とすることが不可のレベル
塗布膜性状の幅方向の均一性
○：全幅均一にムラなく仕上がっており、問題ないレベル
△：幅方向の塗布膜表面の一部に、製品として問題ないレベルの弱い光沢ムラが発生している
×：幅方向の塗布膜表面の一部に、製品不可のレベルの強い光沢ムラが発生している
【００８２】
【表２】
2005114188.tif 000005
【００８３】
本発明の有効性が確認された。
【００８４】
実施例２
〈乾燥装置の準備〉
図１及び図２に示される乾燥装置の乾燥室の気体の供給口、気体の排出口の幅寸法を表３に示される様に変化し、乾燥装置２−１〜２−１９として準備した。尚、乾燥装置の乾燥ゾーンは乾燥室を２つ有し、乾燥室１つの長さが５ｍで乾燥ゾーンの長さは１０ｍとした。供給口には幅方向に間隙３ｍｍのスリットが１０ｃｍ間隔で設けられており、供給口と塗布膜との距離を１５０ｍｍ、排出口と塗布膜との距離を１５０ｍｍとした。表中の気体の供給口の幅及び気体の排出口の幅は支持体の幅に対する割合（％）を示す。
【００８５】
【表３】
2005114188.tif 000006
【００８６】
〈塗布・乾燥〉
実施例１で調製した感光層塗布液の粘度（Ｐａ・ｓ）を０．５Ｐａ・ｓ、非感光性保護層塗布液の粘度（Ｐａ・ｓ）を０．１Ｐａ・ｓに調整し、同時重層用スロットコータを使用しバックアップロールに保持された厚さ１００μｍ、幅１５００ｍｍの帯状支持体（ＰＥＴを使用）１００ｍに、塗布液温度２５℃、塗布速度を２０ｍ／分、塗布幅１４８０ｍｍ、湿潤状態での感光層の膜厚７０μｍ、非感光性保護層の膜厚３０μｍとなるように塗布した後、準備した乾燥装置２−１を使用して、温度７０℃、吹出し口から吹出す気体の流速は４ｍ／ｓで乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料２０１とした。尚、気体の流速は実施例１と同じ方法で測定した。
【００８７】
尚、乾燥装置２−１に変えて準備した乾燥装置２−２〜２−１９を使用した他は全て同じ条件で塗布・乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料２０２〜２１９とした。
【００８８】
〈評価〉
得られた各試料２０１〜２１９に付き、塗布開始後８０ｍ時点の塗布膜表面の凹凸及び塗布膜性状の幅方向の均一性について目視観察し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表４に示す。
【００８９】
【表４】
2005114188.tif 000007
【００９０】
本発明の有効性が確認された。
【００９１】
実施例３
実施例１で試料１０３を作製するときに、表５に示す様に幅を変えたＰＥＴを使用した他は全て同じ条件で塗布・乾燥を行い熱現像感光材料を作製し試料３０１〜３０３とした。尚、乾燥室の気体の供給口、気体の排出口の幅寸法は、共に支持体の幅に対して１００％とした。
【００９２】
〈評価〉
得られた各試料３０１〜３０３に付き、塗布開始後８０ｍ時点の塗布膜表面の凹凸及び塗布膜性状の幅方向の均一性について目視観察し、実施例１と同じ評価ランクで評価した結果を表５に示す。
【００９３】
【表５】
2005114188.tif 000008
【００９４】
本発明の有効性が確認された。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】本発明の気体供給方式の乾燥室を持つ乾燥装置を用いた乾燥方法の概略図である。
【図２】本発明の気体の供給方式の乾燥室を持つ乾燥装置を用いた他の乾燥方法の概略図である。
【図３】図１に示される気体供給装置と排出口との帯状支持体に対する配設関係を示す概略平面図である。
【図４】気体供給ボックスと気体排出ボックスの配設の一例を示す概略図である。
【図５】垂直乾燥風吹き出し方式の乾燥室を持つ乾燥装置を用いた乾燥方法の概略図である。
【符号の説明】
【００９６】
３ａ  帯状支持体
５、６、７、８ａ〜８ｄ  乾燥装置
５０１ａ、５０１ｂ、６０１ａ、６０１ｂ、７０１ａ、７０１ｂ、８０１ａ〜８０１ｄ、８０２ａ〜８０２ｄ  乾燥室
５０２ａ、５０２ｂ、６０２ａ、６０２ｂ、７０２ａ、７０２ｂ、８０１ａ１、８０２ａ１、８０１ｂ１、８０１ｂ２、８０２ｂ１、８０２ｂ２、８０１ｃ１、８０１ｃ２、８０２ｃ１、８０２ｃ２、８０１ｄ１、８０１ｄ２、８０２ｄ１、８０２ｄ２  気体供給ボックス
５０２ａ１、５０２ｂ１、６０２ａ１、６０２ｂ１、７０２ａ１、７０２ｂ１  吹出し口
５０４ａ、５０４ｂ、６０４ａ３、６０４ｂ３、７０４ａ３、７０４ｂ３  排出口
６０４ａ、６０４ｂ、７０４ａ、７０４ｂ、８０１ａ２、８０２ａ２、８０１ｂ３、８０２ｂ３、８０１ｃ３、８０１ｃ４、８０２ｃ３、８０２ｃ４、８０２ｄ３、８０２ｄ４、８０１ｄ３、８０１ｄ４  気体排出ボックス
６０４ａ２、６０４ｂ２、７０４ａ２、７０４ｂ２  気体回収口
【図１】
2005114188.tif 000009
【図２】
2005114188.tif 000010
【図３】
2005114188.tif 000011
【図４】
2005114188.tif 000012
【図５】
2005114188.tif 000013