(57)【要約】【課題】  ドライフィルムを用いた例えばプラズマディスプレイパネル等の表示パネル、プリント基板の製造におけるパターン加工に適用して、ドライフィルムのパターン精度を向上させることができるパターン加工方法を提案する。【解決手段】  ガラス基板１０に積層されたリブ材料層１１及びドライフィルムレジスト１２を露光する際に用いられるガラスマスク１４が、露光照射光を透過するパターンライン１５の長手方向に遮光部１５ａを形成されていることから、リブ材料層１１をパターニングした後にこのリブ材料層１１のドライフィルムパターン３０の剥離時間を短縮できると共に、ドライフィルムパターン３０自体の寸法精度を向上させることができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工材面上にドライフィルムレジストをラミネートし、このドライフィルムレジスト上に所定パターンからなる透過部を有するガラスマスクを配設して露光し、前記ドライフィルムレジストに所定パターンを形成して前記被加工材面のパターン加工を行うパターン加工方法において、
前記ガラスマスクが、パターンの透過部におけるライン幅の中に長手方向に露光光を遮断する遮光部が設けられてなることを
特徴するパターン加工方法。
【請求項２】
前記請求項１に記載のパターン加工方法を用いた表示パネルの製造方法において、
前記被加工材が、表示パネルのリブ材であることを
特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記請求項１に記載のパターン加工方法を用いた表示パネルの製造方法において、
前記ガラスマスクの所定パターンが、格子パターンからなり、当該格子パターンにおける横ラインパターン中に前記遮光部を設けられていることを
特徴する表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記請求項１に記載のパターン加工方法を用いた表示パネルの製造方法において、
前記ガラスマスクの所定パターンが、格子パターンからなると共に、当該格子パターンの最外周におけるコーナ部が円弧状に形成され、当該円弧状のコーナ部のパターン中に前記遮光部を設けていることを
特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記請求項１に記載のパターン加工方法を用いた表示パネルの製造方法において、
前記ガラスマスクの所定パターンが、前記遮光部における短辺方向の幅を１０μｍないし８０μｍとすることを
特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記請求項１に記載のパターン加工方法を用いた表示パネルの製造方法において、
前記ガラスマスクの所定パターンが、前記透過部におけるライン幅を少なくとも５０μｍ以上とすることを
特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項７】
前記請求項１に記載のパターン加工方法を用いた表示パネルの製造方法において、
前記遮光部に対向するドライフィルムレジストの部分が、他の露光部分の膜厚よりも５μｍ以上薄く形成され、且つ１μｍ以上残って形成されることを
特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項８】
前記請求項１に記載のパターン加工方法を用いた表示パネルの製造方法において、
前記ガラスマスクがドライフィルムレジストの表面から１００μｍないし２００μｍの距離で配設されることを
特徴とする表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記請求項１に記載のパターン加工方法を用いた表示パネルの製造方法において、
格子状リブにおける横リブの略中央部分に凹溝状の穴が形成する際に、この穴に対応するパターンにドライフィルムレジストを露光することを
特徴とする表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ドライフィルムを用いてパターンの加工を行うパターン加工方法に関する。
【０００２】
また、本発明は、プラズマディスプレイパネル等の表示パネルの製造方法に関し、特にサンドブラスト法における電極・リブ等の形成寸法を高精度化するとともに、当該形成工程におけるドライフィルムの剥離時間を短縮する表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
従来、プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法に関する背景技術としては、特開平１０−２０８６２７号公報（第１の背景技術）、特開２００３−８６０８８号公報（第２の背景技術）に開示されるものがあり、この第１の背景技術を図１１及び図１２に示す。
【０００４】
前記図１１及び図１２において第１の背景技術に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法は、基板１１１に形成されたリブ材料層１５１に感光性のドライフィルム１５２ａを積層し、露光用マスク１５３を用いて露光した後、現像することにより、感光性のドライフィルム１５２ａを複数の細長のパターンに形成すると共に、形成した各パターンの長手方向に交差して複数の微細なスリット１５５を設け、次いでその感光性のドライフィルム１５２ａを介して切削材（研磨材）を吹き付けてリブ材料層１５１を部分的に切削除去することにより基板１１１上にリブ（隔壁）を形成するものである。
【０００５】
このように第１の背景技術によれば、現像時の膨潤に起因する伸張によってマスクパターンに用いられる感光性のドライフィルム１５２ａが蛇行や剥離することを防止することができる。これにより、現像の余裕度を広げることができ、幅の細いドライフィルム１５２ａの解像が可能となる。そして、このマスクパターン用のドライフィルム１５２ａを用いてプラズマディスプレイパネルのリブを形成した場合には、細いパターンのリブを形成することができるので、プラズマディスプレイパネルの放電空間及び開口率を上げることができ、輝度を上昇させることができる。
【０００６】
また、第２の背景技術に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法は、加工材質面（リブ材料層）上にドライフィルムレジストを形成し、このドライフィルムレジスト上に所定のパターンを有するガラスマスクを配設して露光し、前記ドライフィルムレジストの所定パターンを形成して前記加工材質面の加工を行うに際し、前記ガラスマスクとして、透過率の異なる部分のあるガラスマスクを用いるものである。
【０００７】
このような第２の背景技術によれば、透過率の異なる部分のあるガラスマスクが、その開口部に異なる透過率をもつガラスマスクを使用することもでき、また、ガラスマスクの開口部はドライフィルムレジストの剥離しにくい箇所の透過率を小さくすることもでき、さらに、加工材質がリブ材又はガラス基板であることができる。
【０００８】
このドライフィルムレジストの剥離は、研磨材をかけるサンドブラスト加工によりリブ材料層の不用部分が切削除去されてリブを形成した後に、剥離液のスプレー又は浸漬等によりこのリブ部分から除去されることとなる。
【特許文献１】特開平１０−２０８６２７号公報
【特許文献２】特開２００３−８６０８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
第１の背景技術は以上のように構成されていたことから、ドライフィルム１５２ａにおける細長パターンの長手方向に交差して設けられたスリット１５５により、サンドブラスト時にリブ材料層１５１も長手方向に交差して除去されることとなり、このリブ材料層１５１にて形成されるリブが長手方向に不均一な高さの壁体を形成するという課題を有する。この不均一な高さの壁体からなるリブは、発光時に隣接セルの誤放電を発生させて混色又は誤発光を生じる問題点がある。
特に、この第１の背景技術は、リブの壁体における高さが不均一になると共に、幅が不均一となることから、リブ形成の寸法精度が悪化するという課題を有する。
【００１０】
第２の背景技術は以上のように構成されていたことから、ドライフィルムレジストの剥離されにくい部分を透過率の異なるガラスマスクとしてこの部分の剥離性を改善できるものの、ガラスマスクに透過率の異なる部分を形成しなければならず、ガラスマスクが極めて高価なものとなり、製造コストを引き上げるという課題を有する。
【００１１】
さらに、放電空間を放電セル毎に仕切る格子状のリブを形成する場合、パネル化時に横方向のリブ線幅の寸法ばらつきが大きいために、パネル点灯時にムラが見えて、画質が悪くなるという課題を有している。
【００１２】
本発明は前記課題を解消するためになされたもので、ドライフィルムを用いた例えばプラズマディスプレイパネル等の表示パネル、プリント基板の製造におけるパターン加工に適用して、ドライフィルムのパターン精度を向上させることができるパターン加工方法を提案することを目的とする。
また、本発明は、ドライフィルムレジストの剥離時間を短縮し、製作する電極、リブ等の寸法精度を向上させることができるパネルの製造方法を提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係るパターン加工方法は、被加工材面上にドライフィルムレジストをラミネートし、このドライフィルムレジスト上に所定パターンからなる透過部を有するガラスマスクを配設して露光し、前記ドライフィルムレジストに所定パターンを形成して前記被加工材面のパターン加工を行うパターン加工方法において、前記ガラスマスクが、パターンの透過部におけるライン幅の中に長手方向に露光光を遮断する遮光部が設けられるものである。このように本発明においては、ドライフィルムレジストパターンのライン線幅精度を向上させることができ、また被加工材面の加工後にこのドライフィルムパターンの剥離時間を短縮することができ、かつ、被加工材面の加工精度も向上させることができる。
【００１４】
本発明に係る表示パネルの製造方法は、被加工材質が、表示パネルの透明電極（ＩＴＯ）であるものである。このように本発明においては、、ドライフィルムレジストパターンのライン線幅精度を向上させることができ、またＩＴＯエッチング後のドライフィルムパターンの剥離時間を短縮することができ、かつ、ＩＴＯパターン形成精度も向上させることができる。
【００１５】
本発明に係る表示パネルの製造方法は、被加工材が、表示パネルのリブ材であるものである。このように本発明においては、ドライフィルムレジストパターンのライン線幅精度を向上させることができ、またサンドブラスト後のドライフィルムパターンの剥離時間を短縮することができ、かつ、リブ形成精度も向上させることができる。
【００１６】
本発明に係る表示パネルの製造方法は、ガラスマスクの所定パターンが、格子パターンからなり、当該格子パターンにおける横ラインパターン中に前記遮光部を設けられるものである。このように本発明においては、ドライフィルムレジストパターンの横方向の線幅精度を向上させることができ、またサンドブラスト後のドライフィルムパターンの剥離時間を短縮することができ、かつ、リブ形成精度も向上させることができる。
【００１７】
本発明に係る表示パネルの製造方法は、ガラスマスクの所定パターンが、格子パターンからなると共に、当該格子パターンの最外周におけるコーナ部が円弧状に形成され、当該円弧状のコーナ部のパターン中に前記遮光部を設けられるものである。このように本発明においては、サンドブラスト後において、幅広く形成されたドライフィルムパターンの剥離を確実に行えることができる。
【００１８】
本発明に係る表示パネルの製造方法は、ガラスマスクの所定パターンが、前記遮光部における短辺方向の幅を１０μｍないし８０μｍとするものである。このように本発明においては、ガラスマスクのパターンのライン幅中に形成される遮光部の幅を１０μｍないし８０μｍとしていることから、サンドラブラスト処理においてリブ材料層が切削されるのを防止した状態でドライフィルムパターンの剥離時間を極力短縮できる。
【００１９】
本発明に係る表示パネルの製造方法は、ガラスマスクの所定パターンが、前記透過部におけるライン幅を少なくとも５０μｍ以上とするものである。このように本発明においては、ガラスマスクのライン幅中に遮光部が形成されるパターンのライン幅を50μｍとしていることから、ドライフィルムのパターン形成をより確実に実行し、かつ、リブパターン形成を確実に実行することができる。
【００２０】
本発明に係る表示パネルの製造方法は、遮光部に対向するドライフィルムレジストの部分が、他の露光部分の膜厚よりも５μｍ以上薄く形成され、且つ１μｍ以上残って形成されるものである。このように本発明においては、ガラスマスクの遮光部に対向するドライフィルムレジストの部分がドライフィルムパターンとして他の露光部分の膜厚より５μｍ以上薄く形成され、１μｍ以上残存して形成されることから、リブ材料層をサンドブラスト処理で切削されることなく且つドライフィルムパターンの剥離時間を極めて短縮できる。
【００２１】
本発明に係る表示パネルの製造方法は、ガラスマスクがドライフィルムレジストの表面から１００μｍないし２００μｍの距離で配設されるものである。このように本発明においては、ガラスマスクをドライフィルムレジストの表面から１００μｍないし２００μｍの距離で配設されることから、ガラスマスクのスリットエッジ部分で生じる回折光により遮光部に対向するドライフィルムレジストの露光量を制御できることとなり、ドライフィルムパターンのほぼ中央部分を半露光状態とすることができる。
【００２２】
本発明に係る表示パネルの製造方法は、表示パネルの放電空間セルを形成するリブが、略中央部分に凹溝状の穴が形成され、この穴に対応するパターンにドライフィルムレジストを露光するものである。このように本発明においては、横方向のリブ形成精度が向上されて、パネル点灯時に視覚的にムラなく映像を映し出すことが出来て、プラズマディスプレイの画質を向上させることができる。
【００２３】
本発明に係る表示パネルの製造方法は、被加工材面に形成されるバス電極配線がリブ略中央部分に形成される凹溝状の穴に対向する位置に配設されるものである。このように本発明においては、表示パネルを組立てた時に、横方向のリブ略中央部分に形成される穴がバス電極によって隠れることとなり、パネル点灯時に視覚的にムラなく映像を映し出すことができて、表示パネルの画質を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
（本発明の第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態に係る表示パネルの製造方法をプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法を例に挙げて図１ないし図４を用いて説明する。なお、プラズマディスプレイパネル以外の、プリント基板等で、ドライフィルムを用いてパターン加工する加工対象に対しても、本発明が有効であるが、その代表として、プラズマディスプレイパネルのパターン加工を例にして説明する。
【００２５】
図１は、本発明の最良の形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法の動作説明図である。図２は、図１におけるガラスマスクパターン平面図である。図３は、図１におけるドライフィルムレジストの剥離メカニズム説明図である。図４は、図１におけるドライフィルムレジストの膨潤作用説明図である。
【００２６】
前記各図において本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法は、ガラス基板１０上にガラスペーストからなるリブ材料層１１を形成し、このリブ材料層１１の上面に感光性のドライフィルムレジスト１２をラミネートし、このドライフィルムレジスト１２に対して露光照射光を透過する透過部１５及びこの透過する透過部１５内で且つ透過部１５の長手方向に形成される遮光部１５ａのマスクパターン１３が形成されるガラスマスク１４を前記ドライフィルムレジスト１２に対向配設し、このガラスマスク１４を介してドライフィルムレジスト１２を露光し、このガラスマスク１４の透過部分１５に対応する部位にドライフィルムレジスト１２が架橋部２１として形成され、この架橋部２１により細長いドライフィルムパターン３０として形成されると共に、この細長いドライフィルムパターン３０の中央長手方向に前記ガラスマスク１４の遮光部１５ａにより露光量の少ない半露光部分２３を細長く形成し、この細長い露光量の少ない半露光部分２３によるＶ字状の凹溝からなるＶ字架橋部３０ａが中央長手方向に形成された細長いパターンの露光部分のドライフィルムパターン３０を介して切削材Ｋを吹き付けてガラスペーストからなるリブ材料層１１を部分的に除去してガラス基板１０上にパターニングされたリブ材３１を形成する構成である。
【００２７】
前記ガラスマスク１４のマスクパターン１３は、図２（ａ）に示す本実施形態のストライプパターンにおいて中央長手方向に遮光部１５ａが形成されるのに対して同図（ｂ）に示す従来のガラスマスクのストライプパターンには遮光部が存在しない構成である。また、マスクパターン１３が格子パターンにおいても、図２（ｃ）に示す本実施形態の格子パターン中に遮光部１５ａが形成されているのに対して同図（ｄ）に示す従来のガラスマスクの格子パターンには遮光部が存在しない構成である。
前記リブ材料層１１は、スクリーン印刷法やブレードコーティング法などにより、ガラス粉末等の無機物の粉末と有機物のバインダ（接合剤）を混合したペーストを所定厚みに積層塗布し、乾燥させることにより形成することができる。
【００２８】
次に、前記構成に基づく本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法によるリブ形成動作について説明する。まず、前記透過部分１５の長手方向に遮光部１５ａが形成されたガラスマスク１４を、図１（ａ）に示すようにガラス基板１０上に積層形成されたドライフィルムレジスト１２の表面から所定距離Ｔだけ離間させて配置する。この配置状態において露光照射光を照射し、前記ガラスマスク１４の透過部分１５を通してドライフィルムレジスト１２を部分的に露光する。このとき遮光部１５ａに対応するドライフィルムレジスト１２の部分に対する露光量は減少される。
【００２９】
なお、この透過部分１５のエッジ部分で露光照射光が回折するため、遮光部１５ａに対応するドライフィルムレジスト１２部分も回折光により一部露光される。この回折光による一部露光部分は、露光照射光の光強度より回折光の光強度が弱いため露光量が少なくなり、図１（ａ）に示すようにＶ字状に架橋されて半露光部分２３を形成することとなる。また、前記透過部分１５のエッジ部分での回折は両側端エッジ部分でも発生し、回折角δで両側方向に拡散して透過幅W1より大きな露光幅W2（W2＞W1）で半露光部分２４を形成する。
【００３０】
このＶ字状の半露光部分２３が形成されたドライフィルムレジスト１２を現像処理して半露光部分２３を除去して、図１（ｂ）に示すようにＶ字架橋部３０ａを有するドライフィルムパターン３０が形成される。このドライフィルムパターン３０で被われたリブ材料層１１に対し、切削材Ｋとしての研磨材を吹き付け、図１（ｃ）に示すようにドライフィルムパターン３０で被覆されていないリブ材料層１１を切削し除去することにより所定パターンにパターニングする。
【００３１】
このパターニングされたリブ材料層１１からなるリブ材３１上に貼着されたドライフィルムパターン３０の剥離処理は、剥離液をスプレーし、又は剥離液に浸漬することにより、ドライフィルムパターン３０に剥離液を浸透させることにより実行される。この剥離後におけるパターニングされたリブ材３１が形成されたガラス基板１０の状態を図１（ｄ）に示す。
【００３２】
この剥離液は、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、ドライフィルムパターン３０の両側端面からの浸透に加え、ドライフィルムパターン３０の略中央部分に形成されたＶ字架橋部３０ａからも浸透してパターニングされたリブ材３１に対する貼着から迅速且つ確実に剥離することになる。この剥離作用は同図（ｃ）、（ｄ）に示す両側端面に対してのみ剥離液を浸透する従来のドライフィルムパターン３０とは大きく異なることが解る。
【００３３】
このＶ字架橋部３０ａは、パターニングされたリブ材３１との貼着面に対する剥離作用の他に、図４（ａ）に示すように中央にＶ字状の凹溝部分が形成されることから、ドライフィルムレジスト１２の現像・水洗工程において膨潤して体積が増大した場合においても、この凹溝部分で体積増大によるドライフィルムパターン３０自体の変形応力を吸収できることとなり、ドライフィルムパターン３０の寸法の精度を向上させることができる。因みに同図（ｂ）に示す凹溝のない従来のガラスマスクのドライフィルムパターンにおいては、内部の体積増大による変形応力を吸収できず、寸法精度を悪化させる。
【００３４】
（本発明の第２の実施形態）
本発明の第２の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法を図５〜７に基づいて説明する。この図５は本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法のリブ形状平面図、図６は本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法をプラズマディスプレイに適用した場合の平面図、図７は図６のＣ−Ｃ線断面図を示す。
【００３５】
前記各図において本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法は、ＰＤＰの放電空間セルを区画形成する横リブ３２が、略中央部分に凹溝状の穴部３２ａが形成され、この穴部３２ａに対応するパターンにドライフィルムレジスト１２を露光する構成である。また、この横リブ３２が形成されるＰＤＰの背面ガラス基板１０ａには、前記横リブ３２の略中央部分に形成される穴部３２ａに対向する位置にバス電極配線４０が配設される構成である。
【００３６】
また、前記ＰＤＰの背面ガラス基板１０ａのリブを形成する際に用いられるガラスマスク１４は、前記図５に示すリブ形状を反転した同一形状で形成される。即ち、このガラスマスク１４は、横リブ３２の穴部３２ａに対応する部分が透過部１５の略中央に位置する矩形状の遮光部１５ａとして形成されることとなる。
【００３７】
前記ガラスマスク１４における透過部１５の略中央部分に形成された矩形状の遮光部１５ａにより、背面ガラス基板１０ａのリブ材料層１１上に積層形成されるドライフィルムパターン３０が、その中央部分を半露光状態とすることができる。
【００３８】
このように背面ガラス基板１０ａ上に形成されるドライフィルムパターン３０の中央部分を未露光状態とすることができることから、前記実施形態１と同様にドライフィルムパターン３０の未露光部２２端面から剥離液を急速に浸透させることができることとなり、リブ材料層１１からドライフィルムパターン３０を迅速且つ確実に剥離できることとなる。
【００３９】
また、ドライフィルムパターン３０の未露光部２２からなる矩形状の穴部３２ａの存在により、ドライフィルムレジスト１２を現像・水洗工程において膨潤して体積が増大した場合においても、この矩形状の穴部３２ａで体積増大によるドライフィルムパターン３０の変形応力を吸収できることとなり、ドライフィルムパターン３０の寸法の精度を向上させることができる。
【００４０】
（本発明の第３の実施形態）
本発明の第３の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法を図８及び図９に基づいて説明する。この図８は本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法におけるガラスマスクパターン平面図及び部分拡大図、図９は図８におけるＤ−Ｄ線部分断面図を示す。
【００４１】
前記各図において本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法は、前記第１及び第２の実施形態と同様にガラスマスク１４の透過部１５内に遮光部１５ａを長手方向に形成してドライフィルムレジスト１２を露光する構成とし、この構成に加え、前記ガラスマスク１４のマスクパターン１３における外周辺部及びコーナ部のスリット幅W4を内側のスリット幅W3より大きく形成し、この外周辺部及びコーナ部のスリット中に２本の遮光部１５ｂ、１５ｃを形成し、このガラスマスク１４を介して前記ドライフィルムレジスト１２を露光する構成である。
【００４２】
前記スリットパターンの外周辺部におけるリブ幅を大きく形成すると共に、コーナ部を円弧状に形成することにより、リブ形成工程におけるサンドブラスト処理後のリブ焼成処理で生じる焼成収縮を未然に抑制し、リブ自体の反り等をなくしてこの反りによる異音等の発生を防止できる。この作用効果に加えて、リブ幅W4を大きく形成することは、ドライフィルムの剥離が困難になるため、このリブ幅W4を太く形成した部分に対応するガラスマスク１４に、２本の遮光部１５ｂ、１５ｃを形成することにより、剥離時間を中央部分のリブ幅W3を細く形成した部分と同じように短縮できることとなる。
【００４３】
（本発明の他の実施形態）
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法は、図１０に示す遮光部の幅に対する剥離時間及びサンドブラスト形成深さ特性により、前記各実施形態におけるガラスマスク１４の透過部１５内に形成される遮光部１５ａ（又は１５ｂ、１５ｃ）の幅を１０μｍないし８０μｍとすることもできる。同図（ａ）において遮光部１５ａの幅が１０μｍより大きくなると剥離時間が大幅に短縮され、また同図（ｂ）においては遮光部１５ａの幅が８０μｍより大きくなるとサンドブラスト工程においてリブ材料層１１を大きく切削してサンドブラスト形成の深さが急激に増大することが解る。
【００４４】
よって、このように遮光部１５ａの幅を１０μｍないし８０μｍに特定することにより、リブ材３１からドライフィルムパターン３０が迅速に剥離できると共にリブ材料層１１へのサンドブラスト工程におけるダメージを極力抑制できることとなる。
【００４５】
また、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法は、前記各実施形態におけるガラスマスク１４の透過部１５の幅５０μｍ以上とするものである。この透過部１５内に形成される遮光部１５ａの幅をSとし、ドライフィルムパターン３０の幅をWとして関係式を求めると、（W-S）／２≧２０で表される。即ち、ドライフィルムパターン３０を遮光部１５aで分割して残除の片側露光照射領域の幅は少なくとも２０μm以上必要であることが解る。この２０μmより狭く形成した場合には、ドライフィルムパターン３０自体が形成されなくなる。この条件式において残除片側露光照射領域の幅を２０μmとし、遮光部１５aの幅Sを１０≦S≦８０とすると、ドライフィルムパターン３０の幅Wは５０μmとなる。
【００４６】
また、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法は、遮光部１５ａに対向するドライフィルムレジスト１２の部分が、他の露光部分の膜厚よりも５μｍ以上薄く形成され、且つ１μｍ以上残って形成されるものである。このように、ガラスマスク１４の遮光部１５ａに対向するドライフィルムレジスト１２の部分がドライフィルムパターン３０として他の露光部分の膜厚より５μｍ以上薄く形成され、１μｍ以上残存して形成されることから、リブ材料層１１をサンドブラスト処理で切削されることなく且つドライフィルムパターンの剥離時間を極めて短縮できる。
【００４７】
また、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法は、ガラスマスク１４がドライフィルムレジスト１２の表面から１００μｍないし２００μｍの距離で配設されるものである。このように、ガラスマスク１４をドライフィルムレジスト１２の表面から１００μｍないし２００μｍの距離で配設されることから、ガラスマスク１４のスリットエッジ部分で生じる回折光により遮光部１５ａに対向するドライフィルムレジスト１２の露光量を制御できることとなり、ドライフィルムパターン３０の略中央部分を半露光状態とすることができる。
【００４８】
また、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法は、格子状のリブにおける横リブの略中央部分に凹溝状の穴を形成する場合に、この穴に対応するパターンにドライフィルムレジスト１２を露光するものである。このように、リブの略中央部分に凹溝状の穴を形成するパターンとなるようにガラスマスク１４でドライフィルムレジスト１２を露光するようにしているので、ドライフィルムパターン３０の中央部分を未露光状態とすることができることとなり、この未露光部２２端部からも剥離液を急速に浸透させて剥離処理を迅速且つ確実に実行できる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法における動作説明図である。
【図２】図１におけるプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法のガラスマスクパターン平面図である。
【図３】プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法のドライフィルムレジストの剥離メカニズム説明図である。
【図４】プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法のドライフィルムレジストの膨潤作用説明図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法におけるリブ形状平面図である。
【図６】プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法をプラズマディスプレイに適用した場合の平面図である。
【図７】図６のＣ−Ｃ線断面図である。
【図８】本発明の第３の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法におけるガラスマスクパターン部分拡大図である。
【図９】図８におけるＤ−Ｄ線部分断面図を示す
【図１０】本発明の他の実施形態に係るプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法における遮光部幅に対する剥離時間及びサンドブラスト形成の深さ特性特性図を示す。
【図１１】従来のプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法である。
【図１２】従来のプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法である。
【符号の説明】
【００５０】
１０  ガラス基板
１０ａ  背面ガラス基板
１１  リブ材料層
１２  ドライフィルムレジスト
１３  マスクパターン
１４  ガラスマスク
１５  透過部
１５ａ、１５ｂ、１５ｃ  遮光部
２１  架橋部
２２  未露光部
２３、２４  半露光部分
３０  ドライフィルムパターン
３０ａ  Ｖ字架橋部
３１  リブ材
３２  横リブ
３２ａ  穴部
４０  バス電極配線
【図１】
2005292491.tif 000003
【図２】
2005292491.tif 000004
【図３】
2005292491.tif 000005
【図４】
2005292491.tif 000006
【図５】
2005292491.tif 000007
【図６】
2005292491.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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