(57)【要約】【課題】  熱処理時のセッターガラス上のガラス基板の位置ずれを一定範囲内に抑えて、自動移載装置によるハンドリングミスの発生を防止する。【解決手段】  セッターガラス２３，６３は、ガラス基板２１の熱処理のために、ガラス基板２１を載置した状態で熱処理炉内を搬送されるセッターガラス２３，６３であって、ガラス基板２１が載置される基板載置領域２３ａの外周の複数箇所に、位置決めピン３１，５１が取り付けられるピン取付部３３が形成されている。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板の熱処理のために、前記ガラス基板を載置した状態で熱処理炉内を搬送されるセッターガラスであって、
前記ガラス基板が載置される基板載置領域の外周の複数箇所に、位置決めピンが取り付けられるピン取付部が形成されていることを特徴とするセッターガラス。
【請求項２】
前記ピン取付部は、セッターガラス厚み方向に形成された貫通孔であることを特徴とする請求項１に記載のセッターガラス。
【請求項３】
前記貫通孔は、前記ガラス基板が載置される側の第１の孔径よりも、前記ガラス基板が載置されない側の第２の孔径の方が大きいことを特徴とする請求項２に記載のセッターガラス。
【請求項４】
前記貫通孔は、前記ガラス基板が載置されない側から載置される側に向かって孔径が狭くなるように内壁が傾斜していることを特徴とする請求項３に記載のセッターガラス。
【請求項５】
前記ピン取付部に位置決めピンが取り付けられることによって、複数の基板載置領域が形成されるように前記ピン取付部が配置されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のセッターガラス。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のセッターガラスに用いる位置決めピンであって、
前記位置決めピンは、
前記ガラス基板が載置される側の第１の孔径よりも径が大きい頭部と、
前記第１の孔径よりも径が小さい嵌合軸部と、
前記嵌合軸部を分割するスリットと、
前記スリットによって分割された前記嵌合軸部の軸部片の先端外周に設けられ前記ピン取付部の内壁に当接する凸部と、
を備えることを特徴とする位置決めピン。
【請求項７】
前記凸部は、先端側の端面が前記ピン取付部に装着するときに案内面となるように傾斜した形状であることを特徴とする請求項６に記載の位置決めピン。
【請求項８】
前記凸部は、前記先端側とは反対側の端面が前記ピン取付部から抜くときに案内面となるように傾斜した形状であることを特徴とする請求項７に記載の位置決めピン。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれかに記載のセッターガラスに用いる位置決めピンであって、
前記位置決めピンは、
前記ピン取付部の載置面側の第１の孔径よりも外径が大きく、その外周面が前記ガラス基板の移動を制限する雌ねじと、
前記第１の孔径よりも径が小さいねじ部と前記第１の孔径よりも径が大きい頭部とを備える雄ねじと、
を備えることを特徴とする位置決めピン。
【請求項１０】
前記雄ねじは、前記ねじ部の先端面に該ねじ部より小径の軸部を有し、さらに、前記軸部の先端側に、前記ねじ部の径よりも半径方向に突出した突出軸部を備え、
一方、前記雌ねじには、ねじ孔の内周面の一部に、軸方向に貫通した凹部が前記突出軸部を通り抜け可能に設けられていることを特徴とする請求項９に記載の位置決めピン。
【請求項１１】
請求項１〜５のいずれかに記載のセッターガラスを用いて、前記セッターガラスの基板載置領域にガラス基板を載置して熱処理炉内に搬送し、前記ガラス基板への熱処理を実施する工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板を熱処理する際に前記ガラス基板の支持に使用するセッターガラス及び位置決めピンと、セッターガラス及び位置決めピンを用いてガラス基板に熱処理を施すプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
平面型の表示パネルを備えたディスプレイパネル装置の一つであるプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称す）は、一対のガラス基板間に形成された気密空間内を、ストライプ状又はマトリクス状に区画して複数の放電空間を形成し、これらの複数の放電空間内に選択的に放電を発生させることにより画像表示を行うものである。
【０００３】
図１は、ＰＤＰの一般的な構造を示す説明図である。１は前面ガラス基板であり、表示電極２、誘電体層３及びＭｇＯ（酸化マグネシウム）等の保護膜４が設けられている。５は背面ガラス基板であり、その上にアドレス電極６，アドレス保護層７及び所定形状の隔壁８が形成されている。この前面ガラス基板１、背面ガラス基板５及び隔壁８で区画形成される微細空間が上述の放電セルであって、各々の放電セル内に、アドレス電極６が配設され、ＲＧＢ各色の蛍光体層９（９ａ，９ｂ，９ｃ）が形成されている。また、この放電セル内には、ネオン，キセノン等を混合させた放電ガスが注入されている。
【０００４】
次に、上述のような構造を備えるＰＤＰを製造する方法について簡単に説明する。前面ガラス基板１の片面に、表示電極２、誘電体層３及び保護膜４といったパネル構成要素を順次形成する前面パネル形成工程と、背面ガラス基板５の片面に、アドレス電極６、アドレス保護層７及び隔壁８、蛍光体層９（９ａ，９ｂ，９ｃ）といったパネル構成要素を順次形成する背面パネル形成工程とにより、前面パネルと背面パネルを形成する。そして、前面ガラス基板１と背面ガラス基板５とをそれぞれパネル構成要素が対向するように重ねて、前面ガラス基板１と背面ガラス基板５の周辺部を封着部材により封止する。その後に貼り合わされた２枚の基板間に形成された放電空間に対して排気を行い、そこに放電ガスを封入した後、エージングを行い、ＰＤＰが完成する。
【０００５】
上述のようなＰＤＰの製造の際に、各パネル構成要素の形成において、前面ガラス基板または背面ガラス基板５を加熱して焼成処理を行う工程があり、このような焼成処理は、例えば、５００〜６００℃の加熱温度で、焼成炉内を所定速度で搬送しながら行う。
しかし、焼成炉内でのガラス基板の搬送を、搬送手段であるローラコンベヤ等の上に直に載置した状態で行うと、所定ピッチで配置された搬送ローラとの間欠的な接触による接触圧の変動等の影響でガラス基板に反りや歪が生じてしまう。また、搬送ローラとの擦れによってガラス基板に微細が傷が付いてしまうこともある。
【０００６】
そこで、従来より、図２に示すように、処理対象のガラス基板１００は、平板状を成す耐熱性のセッターガラス１０１の上に載置した状態にし、このセッターガラス１０１を焼成炉１０３内の搬送手段である搬送ローラ１０５に乗せることで、ガラス基板１００と搬送ローラ１０５との直接接触を防止したガラス基板の焼成方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
なお、ＰＤＰ用のガラス基板の焼成時に使用して好適なセッターガラスとしては、耐熱性等の点から、結晶化ガラス板（例えば、日本電気硝子製「ネオセラムＮ−Ｏ」、日本ガイシ製「ＳＩＮＳＩＣ」等が知られている。
【特許文献１】特開２００１−２８２３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところが、従来のセッターガラス１０１は、表面が平滑な単純な平板状のため、載置されているガラス基板１００が熱処理による昇温によって反りや歪みを生じた際などに、ガラス基板１００がセッターガラス１０１上を動いてしまい、その結果、セッターガラス１０１上のガラス基板１００の位置が、当初の載置位置からずれてしまう。
セッターガラス１０１上のガラス基板１００の位置が当初の載置位置から一定以上ずれると、自動移載装置によるハンドリングができず、ラインの停止等の障害を招き、生産性の低下といった問題を招くことになる。
【０００９】
例えば、ガラス基板の焼成装置等に装備される自動移載装置は、図３（ａ）に示すように、移載用アームの先端に装備された楔状の爪１１１をセッターガラス１０１とガラス基板１００との間に差し込んだ後、爪１１１を上方に引き上げることによって、ガラス基板１００の取り出しを行う。ところが、ガラス基板１００に一定以上の位置ずれが生じていると、図３（ｂ）に示すように、一方の爪１１１（図３（ｂ）において左側の爪１１１）がセッターガラス１０１とガラス基板１００との間に差し込めなかったり、或いは、差し込めても十分な引っ掛かりが得られず、爪１１１を引き上げた際に、ガラス基板１００が持ち上げられないという不都合が生じてしまう。
【００１０】
更に、一枚のセッターガラス１０１上に、複数枚のガラス基板１００を敷き並べて、複数枚のガラス基板１００を同時に焼成するような場合、従来の単純な平板状のセッターガラス１０１では、位置ずれを起こしたガラス基板１００同士が相互干渉して、破損等による歩留まりの低下を招く虞もあった。
【００１１】
そこで、このような不都合の発生を防止するべく、セッターガラス１０１上のガラス基板１００を載置する範囲に、粗面加工を施したり、溝を刻設することが提案された。
しかし、このような対応では、焼成時のガラス基板１００上の温度分布が影響を受けて、安定した焼成処理が困難になることが判明し、実用化には至っていない。
【００１２】
本発明が解決しようとする課題としては、上述した従来技術において、熱処理時にセッターガラス上に載置されているガラス基板の位置ずれが生じるという問題が一例として挙げられる。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために、請求項１に記載のセッターガラスは、ガラス基板の熱処理のために、前記ガラス基板を載置した状態で熱処理炉内を搬送されるセッターガラスであって、前記ガラス基板が載置される基板載置領域の外周の複数箇所に、位置決めピンが取り付けられるピン取付部が形成されていることを特徴とする。
【００１４】
また、請求項６に記載の位置決めピンは、請求項１〜５のいずれかに記載のセッターガラスに用いる位置決めピンであって、前記位置決めピンは、前記ガラス基板が載置される側の第１の孔径よりも径が大きい頭部と、前記第１の孔径よりも径が小さい嵌合軸部と、
前記嵌合軸部を分割するスリットと、前記スリットによって分割された前記嵌合軸部の軸部片の先端外周に設けられ前記ピン取付部の内壁に当接する凸部と、を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、請求項９に記載の位置決めピンは、請求項１〜５のいずれかに記載のセッターガラスに用いる位置決めピンであって、前記位置決めピンは、前記ピン取付部の載置面側の第１の孔径よりも外径が大きく、その外周面が前記ガラス基板の移動を制限する雌ねじと、
前記第１の孔径よりも径が小さいねじ部と前記第１の孔径よりも径が大きい頭部とを備える雄ねじと、を備えることを特徴とする。
【００１６】
また、請求項１１に記載のＰＤＰの製造方法は、請求項１〜５のいずれかに記載のセッターガラスを用いて、前記セッターガラスの基板載置領域にガラス基板を載置して熱処理炉内に搬送し、前記ガラス基板への熱処理を実施する工程を含むことを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
本発明の実施の形態に係るセッターガラスの一例を挙げ図４及び図５を参照して説明する。
本発明の実施の形態に係るセッターガラス２３は、図４及び図５に示すように、ガラス基板２１が載置される基板載置領域２３ａの外周の複数箇所に、ガラス基板２１の外周面に接することでガラス基板２１の面方向の移動を制限する位置決めピン３１が取り付けられるピン取付部３３が（例えば、セッターガラス厚み方向に形成された貫通孔や凹部等）として形成されている。
また、基板載置領域２３ａの外形寸法は、ガラス基板２１の外形寸法に揃えられている。
また、ピン取付部３３の装備位置は、基板載置領域２３ａの縁から所定の離間距離Ｌ１，Ｌ２を有して設定されている。この所定の離間距離Ｌ１，Ｌ２は、ピン取付部３３に取り付けた位置決めピン３１でガラス基板２１を完全に挟み込んでしまうと、熱処理時にガラス基板２１が膨張して割れてしまうなどのおそれがあるので、遊びを持たせたものである。
また、この所定の離間距離Ｌ１，Ｌ２は、図３で説明した自動移載装置において、移載用アームの先端に装備された楔状の爪１１１をガラス基板２１の端縁の下に差し込んでガラス基板２１を持ち上げることができるように、ガラス基板２１の面方向の移動を制限する距離に設定されている。
【００１８】
また、ピン取付部３３が貫通孔である場合は、後述する図６に示すように、ガラス基板２１が載置される側（載置面側）の第１の孔径Ｄ１よりもガラス基板２１が載置されない側（非載置面側）の孔径Ｄ２が大きい構造をなしている。本実施の形態の場合、ガラス基板が載置されない側から載置される側に向かって孔径が狭くなるように内壁が傾斜しているので、非載置面側の第２の孔径Ｄ２は非載置面側に向かって徐々に増大して、テーパ孔状の傾斜部３３ａを形成しているが、一定の径で拡径した座ぐりとすることも可能である。
なお、位置決めピン３１の嵌合軸部４３をピン取付部３３に挿通し易くするために、ピン取付部３３の載置面側にも、テーパ孔状のピン誘導部３３ｂを装備してもよい。
【００１９】
本実施の形態におけるセッターガラス２３では、図４に示すように、予め基板載置領域２３ａの外周に装備された各ピン取付部３３に後述する位置決めピン３１，５１等を立設した状態にしておいて、その基板載置領域２３ａの上にガラス基板２１を載置すれば、熱処理時にセッターガラス２３上に載置されているガラス基板２１が熱膨張等によって位置ずれしても、位置ずれ量が所定値に達すると、ガラス基板２１の外周が何れかの位置決めピン３１，５１等に接することで、それ以上の移動が拘束される。
従って、セッターガラス２３上のガラス基板２１の位置ずれを一定範囲内に抑えることができ、熱処理終了後にガラス基板２１をセッターガラス２３上から引き上げる際に、自動移載装置によるハンドリングミスの発生を防止することができる。
従って、自動移載装置によるハンドリングミスで、ガラス基板２１を破損したり、或いはラインが稼働停止になることがなくなり、ガラス基板２１に対して熱処理を実施する装置の生産性を向上させることができる。
【００２０】
また、ピン取付部３３に取り付けた位置決めピン３１，５１等によってガラス基板２１の位置ずれを一定範囲内に抑制できるため、基板載置領域２３ａ自体にはガラス基板２１の移動を抑制するための粗面化や溝の刻設が不要になる。
従って、基板載置領域２３ａは、ガラス基板２１に対して均等な面接触となって、粗面化や溝の刻設を行っていた場合のような温度分布への影響を防止でき、安定した加熱処理によって、加熱不良等の発生を防止して、製品歩留まりの向上を図ることもできる。
【００２１】
本発明の実施の形態に係る位置決めピンの一例を挙げ図６及び図７を参照して説明する。
本発明の実施の形態に係る一例である位置決めピン３１は、図６及び図７に示すように、ピン取付部３３の載置面側の第１の孔径Ｄ１よりも径ｄ１が大きく設定されて、外周面がガラス基板２１の移動を制限する頭部４１と、ピン取付部３３の載置面側の第１の孔径Ｄ１よりも径ｄ２が小さく設定されてセッターガラス２３の載置面側からピン取付部３３に挿通される嵌合軸部４３と、この嵌合軸部４３の先端側を弾性変形可能に分割したスリット４５と、このスリット４５によって分割された軸部片４３ａの先端外周に突設されてピン取付部３３の非載置面側の内壁の傾斜部３３ａに弾性係合する凸部４６とを備えた構造である。
【００２２】
図７に示すように、傾斜部３３ａに凸部４６が弾性による反発力で当接すると、この反発力の図７の縦方向に生じる分力がセッターガラス２３を押し上げる向きに働き、位置決めピン３１がピン取付部３３から抜けにくくなるように作用する。
また、この凸部４６は、ピン取付部３３の内壁に当接して弾性変形することによって、ピン取付部３３に装着し易いように、先端側の端面がピン取付部３３に装着するときに案内面となるように傾斜した形状形状となっている。
また、凸部４６は、ピン取付部３３の内壁に当接して弾性変形することによって、ピン取付部３３から抜けやすいように、先端側とは反対側の端面がピン取付部３３から抜くときに案内面となるように傾斜した形状となっている。
なお、この位置決めピン３１は、例えば、ステンレス鋼等の金属製の丸棒等を切削加工等によって、頭部４１と嵌合軸部４３とを一体構造に製造でき、スリット４５の寸法を調整することによって、ピン取付部３３への弾性係合力を調整することができる。
【００２３】
また、位置決めピン３１は、嵌合軸部４３をセッターガラス２３の載置面側からピン取付部３３に嵌合装着すると、嵌合軸部４３の先端の凸部４６が、ピン取付部３３の傾斜部３３ａに弾性係合されるので、位置決めピン３１のセッターガラス２３への取り付けが容易にできる。
【００２４】
また、位置決めピン３１のセッターガラス２３への取り付けが、適宜接着剤を使用した接着等による固定ではなく、着脱が可能な弾性係合のため、経時変化等で基板載置領域２３ａに反りが発生した場合には、位置決めピン３１を取り外した状態にすることで、基板載置領域２３ａに再研磨処理を実施することが可能になる。
従って、セッターガラス２３の基板載置領域２３ａを、再研磨処理によって、当初の平坦度に維持し、長期に渡って良好に使用可能になる。
【００２５】
次に、本発明の実施の形態に係る位置決めピンの他の一例を挙げ図８を参照して説明する。
本発明の実施の形態に係る他の一例である位置決めピン５１は、図８（ａ）に示すように、互いに別体の雌ねじ５３と雄ねじ５５とから構成されている。これらの雌ねじ５３と雄ねじ５５は、例えば、耐熱性に優れたセラミックス製がよい。
【００２６】
雌ねじ５３は、ピン取付部３３の載置面側の第１の孔径Ｄ１よりも大きいものであり、図８（ｃ）に示すように、ピン取付部３３の載置面側に設置され、その外周面がガラス基板２１の移動を制限するように作用するものである。この雌ねじ５３は、図８（ｂ）に示すように、その中心部に螺旋状のねじ溝を設けたねじ孔５３ａが形成されると共に、ねじ孔５３ａの内周面の一部に、軸方向に貫通した凹部５３ｂが連設されている。
【００２７】
雄ねじ５５は、螺旋状のねじ溝を設けたねじ部５６と、このねじ部５６の先端から軸方向に延出した螺旋状のねじ溝を設けていない軸部５７と、軸部５７から半径方向に突起が突出した突出軸部５８とを備えた構成である。
【００２８】
また、図８（ｂ）及び図８（ｃ）に示すように、雄ねじ５５の軸部５７の長さＬ３は、雌ねじ５３の軸方向の長さＬ４よりも長く、且つ、雌ねじ５３のねじ孔５３ａの直径ｒ１は、突出軸部５８の径ｒ２よりも小さい。
また、ねじ部５６は、ピン取付部３３の載置面側の第１の孔径Ｄ１よりも外径が小さく設定されてセッターガラス２３のピン取付部３３に挿通されると共に、雌ねじ５３のねじ孔５３ａに螺合する。即ち、雄ねじ５５と雌ねじ５３は、螺合によって、係脱可能にされている。
また、突出軸部５８は、図８（ｃ）に示すように、雌ねじ５３の凹部５３ｂにその凸部の位置が合致するようにして挿通し、雌ねじ５３の反対側に通り抜けることができる。
【００２９】
雄ねじ５５の根元側には、図８（ａ）及び図８（ｃ）に示すように、ピン取付部３３の載置面側の第１の孔径よりも径が大きい頭部５９が一体形成されている。この頭部５９は、例えば、皿ねじの頭部などであり、雄ねじ５５をセッターガラス２３を挟んで雌ねじ５３に螺入すると、図８（ｃ）に示すように傾斜部３３ａに当接する。
なお、図８（ｃ）においては、頭部５９がピン取付部３３の非載置面側の第２の孔径よりも径が大きく、頭部５９がセッターガラス２３の非載置面（底面）から突出した状態で取り付けられているが、頭部５９は第２の孔径と径がほぼ同じか、あるいは小さいものでもよく、頭部５９が、セッターガラス２３の非載置面（底面）から突出しない状態で取り付けられるようにしてもよい。
なお、位置決めピン５１を用いた場合には、セッターガラス２３のピン取付部３３は、必ずしも載置面側の第１の孔径Ｄ１よりも非載置面側の第２の孔径Ｄ２が大きい構造でなくてもよく、傾斜部３３ａがない貫通孔であってもよい。そして、ピン取付部３３が傾斜部３３ａがない貫通孔の場合には、上述の頭部５９はセッターガラス２３の非載置面に当接する。
【００３０】
また、雄ねじ５５は、ねじ部５６の径よりも半径方向に突出した突出軸部５８を備えているので、熱処理を繰り返すことにより、加熱・冷却による熱膨張や収縮でねじが外れたとしても、雌ねじ５３のねじ孔５３ａの直径ｒ１が突出軸部５８の径ｒ２よりも小さいことにより、突出軸部５８が雌ねじ５３の上面に引っ掛かり、外れることを防ぐことができる。
【００３１】
以上の位置決めピン５１は、雌ねじ５３と雄ねじ５５とを螺合によって着脱できるため、雌ねじ５３や雄ねじ５５に対しセラミックスのような弾性変形の無い材質を使うことができる。
【００３２】
なお、本発明の位置決めピンは、セッターガラスのピン取付部に嵌合可能に形成され、ガラス基板の外周面に接することでガラス基板の面方向の移動を制限する位置決めピンであれば、構造や、材質は、上述の位置決めピン３１，５１などに限らなくてもよい。
【００３３】
図９は、本発明の実施の形態に係るセッターガラスの変形例を示したものである。
図９に示したセッターガラス６３は、複数枚のガラス基板２１を載置できるように、その載置面に基板載置領域２３ａが複数装備されると共に、各基板載置領域２３ａ毎にその外周の複数箇所に位置決めピンを装着するためのピン取付部３３が配置されている。
【００３４】
このセッターガラス６３では、１枚のセッターガラス６３上に複数枚のガラス基板２１を敷き並べて、複数枚のガラス基板２１に対して同時に熱処理を実施する場合に、各ガラス基板２１毎に位置決めピンによって所定の距離以上の移動が制限されるため、搬送時の各ガラス基板２１の位置ずれがいずれも一定範囲内に抑制され、ガラス基板２１同士が干渉し合うことを防止することができて、ガラス基板２１同士の干渉によってガラス基板２１が破損したり傷付くことを防止することができる。
従って、ガラス基板２１に対して熱処理を実施する装置において、ガラス基板２１を複数枚ずつ効率良く熱処理することが可能になり、ガラス基板２１の生産性向上を図ることができる。
なお、図９では、２つの基板載置領域２３ａが装備されているが、３つ以上の基板載置領域２３ａを装備できるように、ピン取付部３３を配置してもよい。
また、多数のピン取付部を設け、任意のピン取付部のみに位置決めピンを装着することにより、基板載置領域２３ａの数や位置や大きさ等を変えることができるようにしてもよい。
【００３５】
本発明の実施の形態に係るＰＤＰの製造方法について図１０を参照して説明する。
図１０は、本発明の実施の形態に係るセッターガラスを用いた、ガラス基板の熱処理を行う装置の一例である焼成装置を示したものである。
【００３６】
図１０に示した焼成装置では、焼成対象のガラス基板２１を載置した平板状の（位置決めピン３１が既に取り付けてある）セッターガラス２３を搬送ローラ２５によって熱処理炉２７内に搬出・搬入して、ガラス基板２１への熱処理を実施する。
熱処理炉２７は、一端側（図４では、左側）が搬入口２７ａとなっていて、他端側が搬出口２７ｂとなっていて、中間部が所定温度に加熱する加熱室２７ｃになっている。搬送ローラ２５は、一定間隔で装備されていて、セッターガラス２３を、搬入口２７ａから加熱室２７ｃを通って搬出口２７ｂに水平搬送する。
なお、搬入口２７ａ及び搬出口２７ｂには、図示せぬ自動移載装置が装備されている。この自動移載装置は、前述の図３で説明した構成のもので、移載用アームの先端に装備された楔状の爪１１１をガラス基板２１の端縁の下に差し込んでガラス基板２１を持ち上げる。
【００３７】
上記の図１０の焼成装置で熱処理されるガラス基板２１としては、図１で示したようなＰＤＰを製造する際の前面ガラス基板１上または背面ガラス基板５がある。
ＰＤＰを構成する前面ガラス基板１や背面ガラス基板５を製造する際、前面ガラス基板１上または背面ガラス基板５は前述のセッターガラス２３，６３に載置した状態で焼結炉内に水平搬送して、前面ガラス基板１や背面ガラス基板５に対する焼結処理を実施すると、セッターガラス２３，６３にガラス基板の位置ずれを制限する位置決めピンが装備されているため、位置ずれによってガラス基板が搬送手段に干渉して破損することを防止でき、また、焼成処理終了後にガラス基板をセッターガラス２３，６３上から引き上げる際に、自動移載装置によるハンドリングミスの発生を防止することができる。
【００３８】
従って、自動移載装置によるハンドリングミスで、ガラス基板を破損したり、或いはラインが稼働停止になることがなくなり、ガラス基板に対して熱処理を実施する装置の生産性を向上させて、高品位のＰＤＰの生産性を向上させることができる。
【００３９】
なお、本発明の実施の形態に係るセッターガラスの有用性は、その上に載置されたガラス基板に加えられる加熱温度に左右されない。ＰＤＰ用のガラス基板の焼成処理のように５００〜６００℃の高温加熱に限らず、数十℃〜数１００℃程度の加熱処理が必要となる各種装置のガラス基板の加熱処理に利用しても良い。
【００４０】
以上詳述したように、本発明の実施の形態に係るセッターガラス２３，６３は、ガラス基板２１の熱処理のために、ガラス基板２１を載置した状態で熱処理炉内を搬送されるセッターガラス２３，６３であり、ガラス基板２１が載置される基板載置領域２３ａの外周の複数箇所に、位置決めピン３１，５１が取り付けられるピン取付部３３が形成されている。
このように形成されたセッターガラス２３，６３において、予め基板載置領域の外周に装備された各ピン取付部３３に位置決めピン３１，５１を立設した状態にしておいて、その基板載置領域２３ａの上にガラス基板２１を載置すれば、熱処理時にセッターガラス２３，６３上に載置されているガラス基板２１が熱膨張等によって位置ずれしても、位置ずれ量が所定値に達すると、ガラス基板の外周が何れかの位置決めピン３１に接することで、それ以上の移動が拘束される。
従って、セッターガラス２３，６３上のガラス基板２１の位置ずれを一定範囲内に抑えることができ、熱処理終了後にガラス基板をセッターガラス上から引き上げる際に、自動移載装置によるハンドリングミスの発生を防止することができる。
【００４１】
また、本発明の実施の形態に係る位置決めピン３１は、ガラス基板２１が載置される側の第１の孔径Ｄ１よりも径が大きい頭部４１と、第１の孔径Ｄ１よりも径が小さい嵌合軸部４３と、嵌合軸部４３を分割するスリット４５と、スリット４５によって分割された嵌合軸部４３の軸部片４３ａの先端外周に設けられピン取付部３３の内壁に当接する凸部と、
を備えるので、嵌合軸部４３の先端の凸部４６が、ピン取付部３３の傾斜部３３ａに弾性係合されるので、位置決めピン３１のセッターガラス２３への取り付けが容易にできる。
また、位置決めピン３１のセッターガラス２３への取り付けが、適宜接着剤を使用した接着等による固定ではなく、着脱が可能な弾性係合のため、経時変化等で基板載置領域２３ａに反りが発生した場合には、位置決めピン３１を取り外した状態にすることで、基板載置領域２３ａに再研磨処理を実施することが可能になる。
従って、セッターガラス２３の基板載置領域２３ａを、再研磨処理によって、当初の平坦度に維持し、長期に渡って良好に使用可能になる。
【００４２】
また、本発明の実施の形態に係る位置決めピン５１は、ピン取付部３３の載置面側の第１の孔径Ｄ１よりも外径が大きく、その外周面がガラス基板２１の移動を制限する雌ねじ５３と、第１の孔径Ｄ１よりも径が小さいねじ部５６と第１の孔径Ｄ１よりも径が大きい頭部５９とを備える雄ねじ５５と、を備えるので、雄ねじ５５とを螺合によって着脱できるため、雌ねじ５３や雄ねじ５５に対しセラミックスのような弾性変形の無い材質を使うことができる。
【００４３】
また、本発明の実施の形態に係るＰＤＰの製造方法は、セッターガラス２３，６３に、位置決めピン３１，５１を取り付け、基板載置領域２３ａにガラス基板２１を載置して熱処理炉内に搬送し、ガラス基板２１への熱処理を実施する。
このように、ガラス基板の熱処理時に使用するセッターガラス２３，６３にガラス基板２１の位置ずれを制限する位置決めピンが装備されているため、位置ずれによってガラス基板が搬送手段に干渉して破損することを防止でき、また、熱処理終了後にガラス基板をセッターガラス上から引き上げる際に、自動移載装置によるハンドリングミスの発生を防止することができる。
従って、自動移載装置によるハンドリングミスで、ガラス基板を破損したり、或いはラインが稼働停止になることがなくなり、ガラス基板に対して熱処理を実施する装置の生産性を向上させて、高品位のＰＤＰの生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】ＰＤＰの概略構成を示す分解斜視図である。
【図２】従来のガラス基板の焼成方法の説明図である。
【図３】従来のセッターガラス上から熱処理後のガラス基板を引き上げる作業の説明図である。
【図４】本発明に係るセッターガラスを使ったガラス基板の焼成方法の説明図である。
【図５】本発明の実施の形態に係るセッターガラスに位置決めピンが取り付けられた状態の斜視図である。
【図６】本発明の実施の形態に係るセッターガラスの上面図である。
【図７】本発明の実施の形態に係る位置決めピンと図６のセッターガラスに設けられたピン取付部（貫通孔）の断面図である。
【図８】本発明の実施の形態に係る位置決めピンがセッターガラスに取り付けられた状態の断面図である。
【図９】本発明の実施の形態に係る位置決めピンの他の実施の形態を示したもので、（ａ）は位置決めピンの分解側面図、（ｂ）は（ａ）のＢ矢視図、（ｃ）はセッターガラスに取り付けた状態の側面図である。
【図１０】本発明に係るセッターガラスの他の実施の形態の平面図である。
【符号の説明】
【００４５】
２１  ガラス基板
２３，６３  セッターガラス
２７  熱処理炉
３１，５１  位置決めピン
３３  ピン取付部
３３ａ  傾斜部
４１  頭部
４３  嵌合軸部
４３ａ  軸部片
４５  スリット
４６  凸部
５３  雌ねじ
５３ａ  ねじ孔
５３ｂ  溝部
５５  雄ねじ
５７  軸部
５８  突出軸部
５９  頭部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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