(57)【要約】【課題】  面状均一性が高い光学フイルム、特に視野角などの光学性能に対して影響がなく、面状均一性が高い光学異方性を有する光学フイルムを提供すること。そのような光学フイルムを配置した偏光板、液晶表示装置、および画像表示装置を提供すること。【課題を解決する手段】  透明支持体上に光学機能性層を有する光学フイルムにおいて、該光学機能性層の少なくとも一層に、特定の構造を有する含フッ素ポリマーを含有することを特徴とする光学フイルム。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に光学機能性層を有する光学フイルムにおいて、該光学機能性層の少なくとも一層に下記（i）のモノマーから導かれる繰り返し単位、及び下記（ii）のモノマーから導かれる繰り返し単位を含み、その含有量が全重合単位の５０質量％を超える含フッ素ポリマーを含有することを特徴とする光学フイルム。
（ｉ）下記一般式［１］で表されるフルオロアルキル基含有モノマー。
（ii）下記一般式［２］で表されるフルオロアルキル基含有モノマー。
一般式［１］
【化１】
2005206638.tif 000041
一般式［２］
【化２】
2005206638.tif 000042
式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素原子、メチル基またはハロゲン原子を表す。Ｌ1およびＬ2はそれぞれ独立に２価の基を表し、ｍおよびｎはそれぞれ独立に１以上１２以下の整数を表す。
【請求項２】
前記含フッ素ポリマーが、さらに下記（iii）のモノマーから導かれる繰り返し単位を有することを特徴とする請求項１に記載の光学フイルム。
（iii）前記（i）および（ii）のモノマーと共重合可能なモノマー。
【請求項３】
前記含フッ素ポリマーを含有する光学機能性層のうち少なくとも一層が、液晶化合物から形成された光学異方性層であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光学フイルム。
【請求項４】
前記液晶化合物が、ディスコティック化合物であることを特徴とする請求項３に記載の光学フイルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フイルムを備えたことを特徴とする偏光板。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フイルムが、偏光板における偏光膜の２枚の保護フイルムのうちの一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フイルムを備えたことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、含フッ素共重合体を含有する光学フイルム、偏光板およびそれらを配置したディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種コーティング法を用いた材料の開発が進んでおり、特に数μｍ〜数百ｎｍレベルの薄層塗布技術は、光学フイルム、印刷、フォトリソグラフィーなどで必要であり、薄膜化、基材の大型化、塗布の高速化などに伴い要求される塗布精度も高くなってきている。特に光学フイルムの製造においては、膜厚の制御が光学性能を左右する非常に重要なポイントであり、生産性を高める必要もあることから、精度を高く保ちつつ塗布速度の高速化を実現できる技術への要求は高くなってきている。しかしながら、溶剤を用いたオールウェット塗布は生産性の観点からは非常に有利である反面、塗布直後の溶剤乾燥を一定に保つことが非常に困難で、面状ムラが生じやすい。ここで言う面状ムラとは溶剤乾燥速度差に起因する乾燥ムラや乾燥風で引き起こされる厚みムラである風ムラのことである。
【０００３】
塗布時のムラを低減させるためにはレベリング性を向上させることが有効であることが知られている。レベリング性を向上させる一つの手段として、塗布組成物中に界面活性剤を添加する方法が提案されている。この方法は、界面活性剤の作用により、塗布組成物の表面張力を低下させて、被塗布物への濡れを改良する一方で、塗膜形成過程での表面張力変化を小さく、または低下させて熱対流を防止して膜の均一性を改良するという機構に基づいている（非特許文献１）。目的とする塗布組成物中の溶剤、樹脂、各種添加剤との相溶性などにより最適な界面活性種は異なるが、溶剤を用いて塗布する場合には溶剤に可溶で表面張力低下能力が最も高いフッ素系界面活性剤を用いるのが有効である。
【０００４】
液晶化合物を高度に配向固定した光学フィルムは、液晶表示装置の光学補償フィルム、輝度向上フィルム、投射型表示装置の光学補正フィルム等、近年になって様々な用途に展開されつつあり、中でも液晶表示装置の光学補償フィルムとしての発展は目覚しいものがある。例えば、透明支持体上にディスコティック（円盤状）化合物から形成された光学異方性層を塗設した光学補償シートが特許文献１及び２に開示されている。ところが、大型の液晶表示装置の偏光板に、該光学補償シートを保護フイルムとして装着したところ、パネル上にムラが発生していることが判明し、面状の改良が課題となっていた。
特許文献３には、重合性液晶にレベリング剤なるものを含有させ、ムラの改良を行う技術が開示されているが、重合性液晶がホモジニアス配向の場合にのみ有効であり、ハイブリット配向をはじめとした複雑な配向には、適用できないことが判った。
【特許文献１】特開平７−１９１２１７号公報
【特許文献２】欧州特許０９１１６５６Ａ２号明細書
【特許文献３】特開平１１−１４８０８０号公報
【非特許文献１】「コーティング用添加剤の最新技術」、桐生春雄監修、シーエムシー、２００１年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、
（１）面状均一性が高い光学フイルム、特に視野角などの光学性能に対して影響がなく、面状均一性が高い光学異方性を有する光学フイルムを提供すること、
及び、
（２）そのような光学フイルムを配置した偏光板、および画像表示装置を提供すること、にある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、含フッ素ポリマー型界面活性剤の構成成分である含フッ素モノマーにおけるフルオロアルキル基の構造や組成について精査した結果、特定構造の含フッ素ポリマーを用いることにより、塗布時に生じる乾燥ムラや風ムラを低減でき、光学性能や物理性能がばらつくことなく面状均一性が高い光学フイルムを得ることが出来ることを見出した。
さらには、該光学フイルムを用いることによる面状均一性が高い偏光板や、それを用いた画像表示装置を得ることができることを見出した。
【０００７】
本発明によれば、下記構成の光学フイルム、偏光板、および画像表示装置が提供され、本発明の上記目的が達成される。
１．  透明支持体上に光学機能性層を有する光学フイルムにおいて、該光学機能性層の少なくとも一層に下記（i）のモノマーから導かれる繰り返し単位、及び下記（ii）のモノマーから導かれる繰り返し単位を含み、その含有量が全重合単位の５０質量％を超える含フッ素ポリマーを含有することを特徴とする光学フイルム。
（i）下記一般式［１］で表されるフルオロアルキル基含有モノマー。
（ii）下記一般式［２］で表されるフルオロアルキル基含有モノマー。
一般式［１］
【０００８】
【化３】
2005206638.tif 000002
【０００９】
一般式［２］
【化４】
2005206638.tif 000003
【００１０】
式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素原子、メチル基またはハロゲン原子を表す。  Ｌ1およびＬ2はそれぞれ独立に２価の基を表し、ｍおよびｎはそれぞれ独立に１以上１２以下の整数を表す。
２．前記含フッ素ポリマーが、さらに下記（iii）のモノマーから導かれる繰り返し単位を有することを特徴とする前記１に記載の光学フイルム。
（iii）前記（i）および（ii）のモノマーと共重合可能なモノマー。
３．一般式［１］で表されるフルオロアルキル基含有モノマーが一般式［３］で表されることを特徴とする前記１または２に記載の光学フイルム。
一般式［３］
【００１１】
【化５】
2005206638.tif 000004
【００１２】
式中Ｘ1は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ3）−で表される２価の置換基を表し、Ｒ3は水素原子または炭素数１〜８の置換基を有しても良いアルキル基、あるは炭素数６〜２０の置換基を有しても良いアリール基を表し、ｐは１から８までの整数を表す。Ｒ1およびｍは一般式［１］中のものと同じである。
４．一般式［２］で表されるフルオロアルキル基含有モノマーが一般式［４］で表されることを特徴とする前記１〜３のいずれかに記載の光学フイルム。
一般式［４］
【００１３】
【化６】
2005206638.tif 000005
【００１４】
式中Ｘ2は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ3）−で表される２価の置換基を表し、ｑは１から８までの整数を表す。Ｒ2およびｎは一般式［２］中のものと、Ｒ3は一般式［３］中のものとそれぞれ同じである。
５．前記含フッ素ポリマーを含有する光学機能性層のうち少なくとも一層が、液晶化合物から形成された光学異方性層であることを特徴とする前記１〜４のいずれかに記載の光学フイルム。
６．前記液晶化合物が、ディスコティック化合物であることを特徴とする前記５に記載の光学フイルム。
７．前記１〜６のいずれかに記載の光学フイルムを備えたことを特徴とする偏光板。
８．前記１〜６のいずれかに記載の光学フイルムが、偏光板における偏光膜の２枚の保護フイルムのうちの一方に用いられていることを特徴とする偏光板。
９．前記１〜６のいずれかに記載の光学フイルムを備えたことを特徴とする画像表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
末端にＣＦ2Ｈ基とＣＦ3基を有する含フッ素ポリマーを含むことを特徴とすることにより、ムラがなく、面状均一性に優れた光学フィルムを提供することができる。また、本発明の光学フィルムを用いれば、ムラなく光学補償可能である。本発明の光学フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置により、大型の画像表示装置においてもムラを生じることのなく、表示品位の高い画像を表示することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明に係るフルオロアルキル基を有する含フッ素ポリマーについて詳細に説明する。
本発明で用いる含フッ素ポリマーは、一般式［１］で表されるフルオロアルキル基含有モノマーの重合単位（以下「ω-Ｈ型含フッ素モノマー」と略記することもある）、及び一般式［２］で表されるフルオロアルキル基含有モノマーの重合単位（以下「ω-Ｆ型含フッ素モノマー」と略記することもある）を有する。例えば一般式[１]で表されるモノマーと一般式［２］で表されるモノマーからなるポリマーであればそれらのモノマーの比率は特に限定はないが、溶解性や塗布性の観点から一般式［１］で表されるω-Ｈ型含フッ素モノマーの含有量は含フッ素ポリマーを構成する全重合単位の７０質量％を超え、好ましくは８０質量％以上であり、より好ましくは９０質量％以上である。
【００１７】
一般式［１］においてＲ1は、水素原子、メチル基またはハロゲン原子を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｌ1は２価の連結基を表し、ｍは１以上１２以下の整数を表し、２〜１０がより好ましく、４〜８が更に好ましく、４、６または８であることが最も好ましい。
また、含フッ素ポリマー中に一般式［１］で表されるω-Ｈ型含フッ素モノマーが２種類以上構成単位として含まれていても良い。
【００１８】
一般式［２］において、Ｒ2は水素原子、メチル基またはハロゲン原子を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｌ2は２価の連結基を表し、ｎは１以上１２以下の整数を表し、２〜１０がより好ましく、４〜８が更に好ましく、４、６または８であることが最も好ましい。
また、含フッ素ポリマー中に一般式［２］で表されるω-Ｆ型含フッ素モノマーが２種類以上構成単位として含まれていても良い。
【００１９】
含フッ素ポリマーは、一般式［１］で表されるω-Ｈ型含フッ素モノマー、及び一般式［２］で表されるω-Ｆ型含フッ素モノマー、およびこれらと共重合可能なモノマーを含むことも好ましい。例えば一般式[１]で表されるω-Ｈ型含フッ素モノマー、一般式［２］で表されるω-Ｆ型含フッ素モノマー、さらに共重合可能なモノマーからなるポリマーの場合には、溶解性や塗布性の観点から一般式［１］で表されるω-Ｈ型含フッ素モノマーの含有量と一般式［２］で表されるω-Ｆ型含フッ素モノマーの含有量の合計は、含フッ素ポリマーを構成する全重合単位の５０質量％を超え、好ましくは６０質量％以上であり、より好ましくは７０質量％以上である。また一般式［１］で表されるω-Ｈ型含フッ素モノマーの含有量と一般式［２］で表されるω-Ｆ型含フッ素モノマーの含有量の割合は、５０以上：５０以下が好ましく、６０以上：４０以下がより好ましく、７０以上：３０以下が更に好ましい。
含フッ素ポリマー中には、一般式［１］で表されるω-Ｈ型含フッ素モノマー、一般式［２］で表されるω-Ｆ型含フッ素モノマーおよびこれらと共重合可能なモノマーがそれぞれ２種類以上構成単位として含まれていても良い。
【００２０】
次に２価の置換基を表すＬ1およびＬ2について説明する。Ｌ1およびＬ2はそれぞれ独立に２価の置換基であれば限定はないが、下記一般式［５］で表される構造であることがより好ましい。
【００２１】
一般式［５］
【化７】
2005206638.tif 000006
【００２２】
一般式［５］中、Ｘ3は単結合、または＊−ＣＯＯ−＊＊、＊−ＣＯＳ−＊＊、＊−ＯＣＯ−＊＊、＊−ＣＯＮ（Ｒ5）−＊＊、あるいは＊−Ｏ−＊＊で示される２価の連結基を表す。ここで＊は二重結合側に結合する位置、＊＊はＲ4に結合する位置を各々示す。
Ｒ4は、置換基を有していても良いポリメチレン基（例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基など）、置換基を有していても良いフェニレン基（例えばｏ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基など）、およびそれらの任意の組み合わせにより形成できる基を表す。中ではポリメチレン基がより好ましく、ポリメチレン基の中でもメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、およびテトラメチレン基が好ましく、メチレン基およびエチレン基が更に好ましい。
Ｒ5は、水素原子または炭素数１〜８の置換基を有しても良いアルキル基、あるは炭素数６〜２０の置換基を有しても良いアリール基を表し、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基がより好ましく、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基が更に好ましい。
【００２３】
一般式［１］で表されるフルオロアルキル基含有モノマーは下記一般式［３］で表されることがさらに好ましい。
一般式［３］
【００２４】
【化８】
2005206638.tif 000007
【００２５】
一般式［３］中、Ｘ1は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ3）−で表される置換基を表し、ｐは１から８までの整数を表す。Ｘ1は−Ｏ−または−Ｎ（Ｒ3）−であることがより好ましく、−Ｏ−であることが最も好ましい。ｐは１〜６がより好ましく、１〜３であることが更に好ましい。Ｒ1およびｍは一般式［１］で説明したものと同じである。また、Ｒ3は水素原子または炭素数１〜８の置換基を有しても良いアルキル基、あるは炭素数６〜２０の置換基を有しても良いアリール基を表す。
【００２６】
一般式［２］で表されるフルオロアルキル基含有モノマーは下記一般式［４］で表されることがさらに好ましい。
一般式［４］
【００２７】
【化９】
2005206638.tif 000008
【００２８】
一般式［４］中、Ｘ2は−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ3）−で表される置換基を表し、ｐは１から８までの整数を表す。Ｘ2は−Ｏ−または−Ｎ（Ｒ3）−であることがより好ましく、−Ｏ−であることが最も好ましい。ｑは１〜６がより好ましく、１〜３であることが更に好ましい。Ｒ2およびｎは一般式［２］で説明したものと同じである。また、Ｒ3は一般式［３］で説明したものと同じである。
【００２９】
前記フルオロアルキル基含有モノマー、或いは含フッ素ポリマーが有していても良い置換基としては下記のものが挙げられる。水酸基、ハロゲン原子（例えばＣｌ，Ｂｒ，Ｆ、Ｉ）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素数１〜８の鎖状または環状のアルキル基（例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチル、２−ジエチルアミノエチル）、炭素数１〜８のアルケニル基（例えばビニル、アリル、２−ヘキセニル）、炭素数２〜８のアルキニル基（例えばエチニル、１−ブチニル、３−ヘキシニル）、炭素数７〜１２のアラルキル基（例えばベンジル、フェネチル）、炭素数６〜１０のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、４−カルボキシフェニル、４−アセトアミドフェニル、３−メタンスルホンアミドフェニル、４−メトキシフェニル、３−カルボキシフェニル、３，５−ジカルボキシフェニル、４−メタンスルホンアミドフェニル、４−ブタンスルホンアミドフェニル）、炭素数１〜１０のアシル基（例えばアセチル、ベンゾイル、プロパノイル、ブタノイル）、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル）、炭素数１〜１０のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル）、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、メトキシエトキシ）、炭素数６〜１２のアリールオキシ基（例えばフェノキシ、４−カルボキシフェノキシ、３−メチルフェノキシ、ナフトキシ）、炭素数２〜１２のアシルオキシ基（例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシ）、炭素数１〜１２のスルホニルオキシ基（例えばメチルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ）、炭素数０〜１０のアミノ基（例えば無置換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、２−カルボキシエチルアミノ）、炭素数１〜１０のアシルアミノ基（例えばアセトアミド、ベンズアミド）、炭素数１〜８のスルホニルアミノ基（例えばメチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、ｎ−オクチルスルホニルアミノ）、炭素数１〜１０のウレイド基（例えばウレイド、メチルウレイド）、炭素数２〜１０のウレタン基（例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ）、炭素数１〜１２のアルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ）、炭素数６〜１２のアリールチオ基（例えばフェニルチオ、ナフチルチオ）、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基（例えばメチルスルフォニル、ブチルスルホニル）、炭素数７〜１２のアリールスルホニル基（例えばフェニルスルホニル、２−ナフチルスルホニル）、炭素数０〜８のスルファモイル基（例えば無置換スルファモイル、メチルスルファモイルなど）、複素環基（例えば、４−ピリジル、ピペリジノ、２−フリル、フルフリル、２−チエニル、２−ピロリル、２−キノリルモルホリノ）等を挙げることができる。  これらの置換基はさらに���換されていても良い。
【００３０】
以下に一般式［１］で表されるフルオロアルキル基含有モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されることはない。
【００３１】
【化１０】
2005206638.tif 000009
【００３２】
【化１１】
2005206638.tif 000010
【００３３】
【化１２】
2005206638.tif 000011
【００３４】
【化１３】
2005206638.tif 000012
【００３５】
【化１４】
2005206638.tif 000013
【００３６】
以下に一般式［２］で表されるフルオロアルキル基含有モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されることはない。
【００３７】
【化１５】
2005206638.tif 000014
【００３８】
【化１６】
2005206638.tif 000015
【００３９】
【化１７】
2005206638.tif 000016
【００４０】
【化１８】
2005206638.tif 000017
【００４１】
【化１９】
2005206638.tif 000018
【００４２】
【化２０】
2005206638.tif 000019
【００４３】
含フッ素ポリマー中に含まれる一般式［１］または［２］で表される含フッ素モノマーと共重合可能なモノマーは、共重合可能であれば特に構造の限定はなく、例えばＰｏｌｙｍｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２，Ｐａｇｅ  １〜４８３に記載のものを用いることが出来る。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、スチレン類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【００４４】
具体的には、以下の単量体を挙げることができる。
アクリル酸エステル類：
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、クロルエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等、
【００４５】
メタクリル酸エステル類：
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、クロルエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等、
【００４６】
アクリルアミド類：
アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミドなど。
【００４７】
メタクリルアミド類：
メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルメタクリルアミドなど。
【００４８】
アリル化合物：
アリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど
【００４９】
ビニルエーテル類：
アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど
【００５０】
ビニルエステル類：
ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。
【００５１】
イタコン酸ジアルキル類：
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。
フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類：
ジブチルフマレートなど
【００５２】
その他：
クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど。
これらの中でも一般式［６］で表されるモノマーが好ましい。
【００５３】
一般式［６］
【化２１】
2005206638.tif 000020
【００５４】
一般式［６］において、Ｒ6は水素原子、メチル基またはハロゲン原子を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Ｘ4は酸素原子、硫黄原子または−Ｎ（Ｒ8）−を表し、酸素原子または−Ｎ（Ｒ8）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ7は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、ポリ（オキシアルキレン）基を含むアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基（例えば、フェニル基またはナフチル基）を表す。炭素数１〜１２の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、または総炭素数６〜１８の芳香族がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖、分岐、または環状のアルキル基が更に好ましい。Ｒ8は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基がより好ましく、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基が更に好ましい。
以下に上記ポリ（オキシアルキレン）基について説明する。
【００５５】
ポリ（オキシアルキレン）基は（ＯＲ）ｘで表すことができ、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、または−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）−であることが好ましい。ｘは平均の重合度を表す。
前記のポリ（オキシアルキレン）基中のオキシアルキレン単位はポリ（オキシプロピレン）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであっても良く、直鎖または分岐状のオキシプロピレンまたはオキシエチレン単位であったり、または直鎖または分岐状のオキシプロピレン単位のブロック及びオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであっても良い。
このポリ（オキシアルキレン）鎖は１つまたはそれ以上の連結基（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など：Ｐｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連結基が３価以上の原子価を有する場合には、分岐状のオキシアルキレン単位が得られる。
また、ポリ（オキシアルキレン）基を有する重合単位を含む共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（オキシアルキレン）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名“プルロニック”［Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）製）“カルボワックス［Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス）］、”トリトン“［Ｔｏｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ  ａｎｄ Ｈａａｓ製））およびＰ．Ｅ．Ｇ（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリドまたは無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。
【００５６】
一般式［６］で表されるモノマーの具体例としては、先に示したアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、又はメタクリルアミド類の具体例、および下記のポリ（オキシアルキレン）基を含有するものの具体例が挙げられるが、これらに限定されることはない。ポリ（オキシアルキレン）は重合度Ｘが異なるものの混合物であることが多く、具体例として示す化合物においても重合度の平均に近い整数で重合度を表している。
以下に、一般式[６]で表されるモノマーの具体例を挙げる。
【００５７】
【化２２】
2005206638.tif 000021
【００５８】
本発明で好ましく用いられる一般式［６］で表されるモノマーの重合単位の量は、該含フッ素ポリマーを構成する全重合単位に基づいて、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。
【００５９】
尚、従来好んで用いられてきた電解フッ素化法により製造されるフッ素系化学製品の一部は、生分解性が低く、生体蓄積性の高い物質であり、程度は軽微ではあるが、生殖毒性、発育毒性を有する事が懸念されている。本発明によるフルオロアルキル基の末端に水素原子がある含フッ素ポリマーはより環境安全性の高い物質であるということも産業上有利な点であるといえる。
【００６０】
本発明で用いられるフルオロアルキル基含有含フッ素ポリマーのフッ素原子含有量（ポリマー全質量に対するフッ素原子の質量％）は高いほど塗布ムラ防止に効果があり、２５質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、３５質量％以上であることが更に好ましい。
【００６１】
本発明で用いられる含フッ素ポリマーの好ましい質量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、４０００〜８０,００００がより好ましく、５，０００〜６０，０００が更に好ましい。
【００６２】
ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫgel ＧＭＨxL、ＴＳＫgel Ｇ4000ＨxL、ＴＳＫgel Ｇ2000ＨxL（何れも東ソー(株)製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量であり、含有量は、分子量が３００以上の成分のピーク面積を１００％とした場合の、前記分子量範囲のピークの面積％である。
【００６３】
本発明で用いられる含フッ素ポリマーは公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロアルキル基を有する（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレート等の単量体を有機溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造てきる。もしくは場合によりその他の付加重合性不飽和化合物とを、添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。
【００６４】
以下、本発明で用いられる含フッ素ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中のａ及びｂで表される数字は各モノマー成分の質量比を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。
【００６５】
【化２３】
2005206638.tif 000022
【００６６】
【化２４】
2005206638.tif 000023
【００６７】
【化２５】
2005206638.tif 000024
【００６８】
【化２６】
2005206638.tif 000025
【００６９】
【化２７】
2005206638.tif 000026
【００７０】
【化２８】
2005206638.tif 000027
【００７１】
【化２９】
2005206638.tif 000028
【００７２】
【化３０】
2005206638.tif 000029
【００７３】
【化３１】
2005206638.tif 000030
【００７４】
【化３２】
2005206638.tif 000031
【００７５】
本発明の光学フイルムは、上記したフルオロアルキル基含有含フッ素ポリマーを少なくとも一種含有し、２種類以上含有しても良い。
【００７６】
本発明の光学フイルムを作製するための含フッ素ポリマーを含む塗布組成物は、前述の成分の他に、特に制限無く該含フッ素ポリマー以外の成分を含有することができる。即ち、飽和炭化水素類（ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、クロロベンゼンなど）、ケトン類（アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなど）、アルコール類（メチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、２−メトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、セロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、カルビトールアセテートなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリノンなど）、ハロゲン系溶剤（１，１，１−トリクロロエタン、クロロホルム、パーフルオロオクタンなど）、エーテル類（テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）等の有機溶剤、水、また、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、オレフィン樹脂、ビニル樹脂、フッ素樹脂等の各種樹脂類、有機・無機顔料、染料、カ−ボン等の着色剤、棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物等の液晶化合物、単官能或いは多官能の重合性化合物、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化カルシウム、炭酸カルシウム等の無機粉末、高級脂肪酸、ポリ（フッ化ビニリデン）、ポリ（テトラフロロエチレン）、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート等の有機微粉末、感光剤、重合開始剤、耐光性向上剤、耐候性向上剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、消泡剤、粘度調整剤、艶調整剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、炭化水素系界面活性剤等の各種添加剤等を、目的に応じて選択した各種成分を使用することが可能である。
【００７７】
塗布組成物に対するフルオロアルキル基含有含フッ素ポリマーの添加量は、０．００１質量％〜５．０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１質量％〜２質量％である。
塗布組成物は、添加物の溶解性の点から、水の含率が３０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは１０質量％以下である。
【００７８】
本発明の光学フイルムを作製する時には、塗布組成物中に機能を発現するための素材を添加し、塗布を行う。該機能を発現するための素材としては、屈折率を調整するための無機微粒子（二酸化チタン、酸化ジルコニウム、シリカなど）分散物や有機物（含フッ素ポリマー、熱および／または光硬化性ポリマーなど）、光学的異方性を発現するための液晶化合物（棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物、高分子液晶化合物など）等が挙げられる。
【００７９】
本発明の光学フィルムの構成材料について説明する。
［支持体］
本発明の支持体は、ガラス、もしくは透明なポリマーフイルムであることが好ましい。
支持体は、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフイルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースジアセテート）、ノルボルネン系ポリマーおよびポリメチルメタクリレートが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン及びゼオネックスいずれも商品名））を用いてもよい。
中でもセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。とくに炭素原子数が２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）が好ましく、セルロースアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
【００８０】
なお、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明の光学フイルムに用いることもできる。
偏光板保護フィルム、もしくは位相差フィルムに本発明の光学フィルムを使用する場合は、ポリマーフイルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度は、５７．０〜６２．０％であることがさらに好ましい。
【００８１】
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算によって求められる。
セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．０〜１．６５であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【００８２】
セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるポリマーフイルムでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度または多い方が好ましい。
２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがさらに好ましく、３２〜４０％であることが最も好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。各位置の置換度は、ＮＭＲによって測定することできる。６位置換度が高いセルロースアセテートは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号[００４３]〜[００４４]に記載の[合成例１]、段落番号[００４８]〜[００４９]に記載の合成例２、そして段落番号[００５１]〜[００５２]に記載の[合成例３]の方法を参照して合成することができる。
【００８３】
以下、本発明の光学フイルムを光学補償フイルムとして用いる場合について更に詳しく説明する。
［光学異方性層］
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するように設計することが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶化合物の配向状態に関しては、ＩＤＷ‘００、ＦＭＣ７−２、Ｐ４１１〜４１４に記載されている。
光学異方性層は、支持体上に直接液晶性分子から形成するか、もしくは配向膜を介して液晶性分子から形成する。配向膜は、１０μｍ以下の膜厚を有することが好ましい。
光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子およびディスコティック化合物が含まれる。棒状液晶性分子およびディスコティック化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
本発明の配向膜として好ましい例は、特開平８−３３８９１３号公報に記載されている。
【００８４】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。また、二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
本発明のように非常に均一性の高い光学フィルムを作製する場合には、塗布液の表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２８ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましく、２５ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
【００８５】
（棒状液晶性分子）
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性分子については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性分子の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基またはエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。
【００８６】
（ディスコティック化合物）
ディスコティック化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年））に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０））に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年））に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年））、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【００８７】
ディスコティック化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。ディスコティック化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
【００８８】
ディスコティック化合物を重合により固定するためには、ディスコティック化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック化合物は、下記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００８９】
（ＩＩＩ）  Ｄ（−ＬＱ）n
式（ＩＩＩ）において、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であり、Ｑは重合性基であり、そして、ｎは４〜１２の整数である。
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（またはＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｑ）との組み合わせを意味する。
【００９０】
【化３３】
2005206638.tif 000032
【００９１】
【化３４】
2005206638.tif 000033
【００９２】
【化３５】
2005206638.tif 000034
【００９３】
式（ＩＩＩ）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。  アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
【００９４】
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ10：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
【００９５】
Ｌ11：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ12：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ13：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ14：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ15：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ16：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ17：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ18：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ19：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ20：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ21：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ22：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ23：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ24：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
【００９６】
式（ＩＩＩ）において重合性基（Ｑ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｑ）は、不飽和重合性基またはエポキシ基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが最も好ましい。
式（ＩＩＩ）において、ｎは４〜１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＱの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【００９７】
液晶分子の配向には、ハイブリッド配向、ホモジニアス配向、ホメオトロピック配向等があるが、本発明の光学フィルムは、ハイブリッド配向をはじめとした複雑な配向にも適用することができる。
ハイブリッド配向では、ディスコティック化合物の長軸（円盤面）と支持体の面との角度すなわち傾斜角が、光学異方性層の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加または減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。しかしながら、傾斜角は連続的に変化することが好ましい。
【００９８】
ディスコティック化合物の長軸（円盤面）の平均方向（各分子の長軸方向の平均）は、一般にディスコティック化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック化合物の長軸（円盤面）方向は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコティック化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。ディスコティック化合物と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
【００９９】
ディスコティック化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーは、ディスコティック化合物と相溶性を有し、ディスコティック化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。添加成分の中でも重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）の添加が好ましい。上記化合物の添加量は、ディスコティック化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることが出来る。
【０１００】
光学異方性層には、本発明に係る前記のフルオロ脂肪族系ポリマーが含有されるが、さらに別のポリマーをディスコティック化合物とともに使用してもよく、そのポリマーは、ディスコティック化合物とある程度の相溶性を有し、ディスコティック化合物に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。ディスコティック化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、ディスコティック化合物に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
ディスコティック化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。
【０１０１】
（液晶性分子の配向状態の固定）
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１０２】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
【０１０３】
［偏光膜］
本発明の光学フィルムは、偏光板と貼り合せるか、あるいは偏光板の保護フィルムとして使用することで、その機能を著しく発揮する。
本発明の偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ社製のものに代表される塗布型偏光膜、もしくはバインダーと、ヨウ素または二色性色素からなる偏光膜が好ましい。
偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素および二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
現在、汎用の偏光膜は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。
汎用の偏光膜は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）にヨウ素もしくは二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みが必要である。浸透度は、ヨウ素もしくは二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。
上記のように、バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。一方、厚みの上限については、特に限定はしないが、偏光板を液晶表示装置に使用した場合に発生する光漏れ現象の観点からは、薄ければ薄い程よい。
現在、汎用の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。２０μｍ以下であると、光漏れ現象は、１７インチの液晶表示装置で観察されなくなる。
【０１０４】
偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋しているバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーを用いることができる。官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入して得られるバインダーを、光、熱あるいはｐＨ変化により、バインダー間で反応させて偏光膜を形成することができる。
また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてバインダー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、バインダー間を架橋することにより形成することができる。
架橋は一般に、ポリマーまたはポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱を行なうことにより実施される。最終商品の段階で耐久性が確保できれば良いため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行なっても良い。
【０１０５】
偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。ポリマーの例には、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルトルエン、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、塩素化ポリオレフィン（例、ポリ塩化ビニル）、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、カルボキシメチルセルロース、ポリプロピレン、ポリカーボネートおよびそれらのコポリマー（例、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、スチレン／ビニルトルエン共重合体、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体）が含まれる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【０１０６】
ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールのケン化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましく、８５〜１００％が最も好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００が好ましい。
変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールに対して、共重合変性、連鎖移動変性あるいはブロック重合変性により変性基を導入して得られる。共重合変性では、変性基として、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＨ）3、Ｎ（ＣＨ3）3・Ｃｌ、Ｃ9Ｈ19ＣＯＯ、ＳＯ3Ｎａ、Ｃ12Ｈ25を導入することができる。連鎖移動変性では、変性基として、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、ＳＣ12Ｈ25を導入することができる。変性ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３０００が好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号および同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。
ケン化度が８５〜９５％の未変性ポリビニルアルコールおよびアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。
【０１０７】
バインダーの架橋剤は、多く添加すると、偏光膜の耐湿熱性を向上させることができる。ただし、バインダーに対して架橋剤を５０質量％以上添加すると、ヨウ素、もしくは二色性色素の配向性が低下する。架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。
バインダーは、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。ただし、残存する架橋剤の量は、バインダー中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。バインダー層中に１．０質量％を超える量で架橋剤が含まれていると、耐久性に問題が生じる場合がある。すなわち、架橋剤の残留量が多い偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、偏光度の低下が生じることがある。
架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。
【０１０８】
二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。
二色性色素の例には、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・イエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ７２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド７９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８１、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・バイオレット４８、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー６７、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー９０、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・グリーン５９、Ｃ．Ｉ．アシッド・レッド３７が含まれる。二色性色素については、特開平１−１６１２０２号、同１−１７２９０６号、同１−１７２９０７号、同１−１８３６０２号、同１−２４８１０５号、同１−２６５２０５号、同７−２６１０２４号の各公報に記載がある。
二色性色素は、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩またはアミン塩として用いられる。二種類以上の二色性色素を配合することにより、各種の色相を有する偏光膜を製造することができる。偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）を用いた偏光膜、あるいは黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した偏光膜または偏光板が、単板透過率および偏光率とも優れており好ましい。
【０１０９】
液晶表示装置のコントラスト比を高めるためには、偏光板の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にある（偏光板の単板透過率の最大値は５０％である）ことが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。
【０１１０】
偏光膜と光学異方性層、あるいは、偏光膜と配向膜を接着剤を介して配置することも可能性である。接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液を用いることができる。その中でもポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜５μｍの範囲にあることが特に好ましい。
【０１１１】
（偏光板の製造）
偏光膜は、歩留まりの観点から、バインダーを偏光膜の長手方向（ＭＤ方向）に対して、１０〜８０度傾斜して延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。
通常の傾斜角度は４５゜である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５゜でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
【０１１２】
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸工程は、斜め延伸を含め数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め延伸前に、横あるいは縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。
延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を左右異なる工程で行うことによって実施できる。上記二軸延伸は、通常のフイルム製膜において行われている延伸方法と同様である。  二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のバインダーフイルムの厚みが左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、バインダー溶液の流量に左右の差をつけることができる。
以上のように、偏光膜のＭＤ方向に対して１０〜８０度斜め延伸されたバインダーフイルムが製造される。
【０１１３】
ラビング法では、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を応用することができる。すなわち、膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いて実施することが好ましい。ラビングロールへのフイルムのラップ角度は、０．１〜９０゜が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０゜以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。
長尺フイルムをラビング処理する場合は、フイルムを搬送装置により一定張力の状態で１〜１００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送することが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフイルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。０〜６０゜の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０゜が好ましく、４５゜が特に好ましい。
偏光膜の光学異方性層とは反対側の表面には、ポリマーフイルムを配置する（光学異方性層／偏光膜／ポリマーフイルムの配置とする）ことが好ましい。
【０１１４】
［液晶表示装置］
各液晶モードにおける光学異方性層の好ましい形態について、以下で説明する。
（ＴＮモード液晶表示装置）
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０１１５】
セル中央部分の棒状液晶性分子に対しては、ホメオトロピック配向（円盤面が寝ている水平配向）の円盤状液晶性分子もしくは支持体で補償し、セルの基板近傍の棒状液晶性分子に対しては、ハイブリット配向（長軸の傾きが偏光膜との距離に伴って変化している配向）の円盤状液晶性分子で補償することができる。
また、セル中央部分の棒状液晶性分子に対しては、ホモジニアス配向（長軸が寝ている水平配向）の棒状液晶性分子もしくは支持体で補償し、セルの基板近傍の棒状液晶性分子に対しては、ハイブリット配向の円盤状液晶性分子で補償することもできる。
【０１１６】
ホメオトロピック配向の液晶性分子は、液晶性分子の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が８５〜９５゜の状態で配向している。
ホモジニアス配向の液晶性分子は、液晶性分子の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が５゜未満の状態で配向している。
ハイブリット配向の液晶性分子は、液晶性分子の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が１５゜よりも大きいことが好ましく、１５゜〜８５゜であることがさらに好ましい。
【０１１７】
支持体もしくはディスコティック化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性分子がホモジニアス配向している光学異方性層、さらにはホメオトロピック配向したディスコティック化合物とホモジニアス配向した棒状液晶分子の混合体からなる光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が４０ｎｍ〜２００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が０〜７０ｎｍであることが好ましい。Ｒｔｈレターデーション値（Ｒｔｈ）は、下記式（Ｉ）で定義される値であり、Ｒｅレターデーション値（Ｒｅ）は、下記式（ＩＩ）で定義される値である。
（Ｉ）  Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（ＩＩ）  Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
［式（Ｉ）、（ＩＩ）において、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であり、またｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率である。そして、ｄは、フイルムの厚さである］。
ホメオトロピック配向（水平配向）している円盤状液晶性分子層およびホモジニアス配向（水平配向）している棒状液晶性分子層に関しては、特開平１２−３０４９３１号および同１２−３０４９３２号の各公報に記載されている。ハイブリット配向している円盤状液晶性分子層に関しては、特開平８−５０２０６号公報に記載がある。
【０１１８】
（ＯＣＢモード液晶表示装置）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ) 液晶モードと呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０１１９】
黒表示にＴＮモードと液晶の配向は同じ状態であるため、好ましい態様もＴＮモード対応を同じである。ただし、ＴＮモードに比べ、ＯＣＢモードの方がセル中央部で液晶化合物が立ち上がった範囲が大きいために、ディスコティック化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性分子がホモジニアス配向している光学異方性層について、若干のレターデーション値の調整が必要である。具体的には、支持体上のディスコティック化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性分子がホモジニアス配向している光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が１５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が２０〜７０ｎｍであることが好ましい。
【０１２０】
（ＶＡモード液晶表示装置）
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向する。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ． Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０１２１】
ＶＡモードの液晶表示装置の黒表示において、液晶セル中の棒状液晶性分子は、そのほとんどが、立ち上がった状態であるため、ディスコティック化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性分子がホモジニアス配向している光学異方性層で液晶化合物を補償し、別に、棒状液晶性分子がホモジニアス配向し、棒状液晶性分子の長軸の平均配向方向と偏光膜の透過軸方向との角度が５゜未満である光学異方性層で偏光板の視角依存性を補償することが好ましい。
支持体もしくはディスコティック化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性分子がホモジニアス配向している光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が１５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が２０〜７０ｎｍであることが好ましい。
【０１２２】
（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモードおよびＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
【０１２３】
本発明の光学フイルムには、反射防止能を有する層（以後、反射防止層と呼ぶことがある）を設けても良い。該層を設ける場合、反射防止層の構成としては、単層、多層等各種知られているが、多層のものとしては高屈折率層、低屈折率層を交互に積層した構造のものが一般的である。構成の例としては、透明基材側から高屈折率層／低屈折率層の２層の順から構成されたものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（透明支持体或いは後述のハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性などから、ハードコート層を有する支持体上に、高屈折率層／中屈折率層／低屈折率層の順に塗布することが好ましい構成である。基材面に（中屈折層を設ける場合もある）高屈折率層、空気に向かって低屈折率層を順に積層し、高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚光の波長に対しある値に設定することにより光学干渉層を作り、反射防止積層体としたものが反射防止層としては特に好ましく、屈折率と膜厚は分光反射率の測定より計算して算出し得る。
【０１２４】
また、本発明の光学フイルムにおいて膜の強度がつよく求められる場合には、透明ハードコート層を設けることができる。
透明ハードコート層は一般に活性線硬化性或いは熱硬化性成分を含む塗布液を塗布し、その後で硬化させることにより形成できる。活性線硬化性成分は紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応などを経て硬化させることができる。活性線としては紫外線や電子線などが代表的なものとして挙げられるが、それら以外の活性線照射によって硬化する成分でもよい。一般に、紫外線硬化性成分としては、分子内に２〜６個のアクリル酸エステル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートと称される分子内に数個のアクリル酸エステル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーが用いられる。しかしながら、該オリゴマー化合物はアクリル基の導入量が少ないものが多く、単独では十分な硬度が得られないため、より高い硬度が要求されるハードコート用硬化性成分としては、多官能アクリレートモノマーが広く用いられている。
【０１２５】
また、ハードコート層の樹脂形成成分を多官能アクリレートモノマーとし、これにアルミナ、シリカ、酸化チタン等の粉末状無機充填剤および重合開始剤を含有する被覆用組成物が特公平０２−６０６９６号に開示されている。また、アルコキシシラン等で表面処理したシリカもしくはアルミナからなる無機質の装填材料を含む光重合性組成物が特公昭６２−２１８１５号に開示されている。また、ハードコート層を２層化し、第一層に微粒子のシリカを添加することで、カールと耐傷性を満足させる方法が特開２０００−５２４７２に提案されている。これらによりハードコート層の硬度は向上し、さらに硬化収縮量も低減されるので、無機微粒子を添加する態様も好ましい。
【０１２６】
本発明の光学フイルムの種類は特に限定するものではなく、光学機能性層として、例えば着色層、防眩層、反射防止層、光学補償層などを一つ或いはそれ以上有するフイルムが挙げられる。本発明に係る含フッ素ポリマーはこれらの光学フイルム上に形成される層のうちの少なくとも一層に添加することが好ましい。膜厚、面状の均一性が厳しく要求される光学補償層、防眩層、反射防止層などを有する光学フイルムとして、本発明の光学フィルムは特に有用である。
【実施例】
【０１２７】
本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［実施例１］
（含フッ素ポリマー（Ｐ−１５）の合成）
【０１２８】
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルアクリレート（ダイキン工業(株)製）  ３６．０ｇ、２−(パーフルオロヘキシル)エチルアクリレート（ダイキン工業(株)製）  ４．０ｇ、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート  １．１ｇ、２−ブタノン  ３０ｇを加え窒素雰囲気下で６時間７８℃に加熱して反応を完結させた。質量平均分子量は１．６×１０4であった。
【０１２９】
[実施例２]
（含フッ素ポリマー（Ｐ−７９）の合成）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルアクリレート（ダイキン工業(株)製）  ３２．０ｇ、２−(パーフルオロブチル)エチルアクリレート（ダイキン工業(株)製）  ４．０ｇ、ブレンマーＡＰ−４００（日本油脂（株）製）  ４．０ｇ、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート  １．１ｇ、２−ブタノン  ３０ｇを加え窒素雰囲気下で６時間７８℃に加熱して反応を完結させた。質量平均分子量は１．５×１０4であった。
【０１３０】
類似の方法で、含フッ素ポリマー（Ｐ−１１）を合成した。
【０１３１】
[実施例３]
（支持体の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０１３２】
＜セルロースアセテート溶液組成＞
酢化度６０．９％のセルロースアセテート（リンター）          ８０質量部
酢化度６０．８％のセルロースアセテート（リンター）          ２０質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                        ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）                ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                            ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                      ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                                  １１質量部
【０１３３】
＜レターデーション上昇剤溶液の調製＞
別のミキシングタンクに、酢化度６０．９％のセルロースアセテート（リンター）４質量部、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、シリカ微粒子（粒径２０ｎｍ，モース硬度約７）０．５質量部、メチレンクロライド８７質量部およびメタノール１３質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
【０１３４】
【化３６】
2005206638.tif 000035
【０１３５】
＜ドープの調製＞
セルロースアセテート溶液４６４質量部にレターデーション上昇剤溶液３６質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、５．０質量部であった。
【０１３６】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、残留溶剤量が４３質量％のフィルムを剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、テンターを用いて幅方向に２８％延伸した。この後、１３５℃の乾燥風で２０分間乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％の支持体（ＰＫ−１）を製造した。
得られた支持体（ＰＫ−１）の幅は１３４０ｍｍであり、厚さは、９２μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、４３ｎｍであった。また、波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、１７５ｎｍであった。
作製した支持体（ＰＫ−１）を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。このＰＫ−１の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
このＰＫ−１上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０１３７】
（光学異方性層付き光学補償シートの作製）
＜配向膜塗布液組成＞
下記の変性ポリビニルアルコール                            １０質量部
水                                                      ３７１質量部
メタノール                                              １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                            ０．５質量部
【０１３８】
【化３７】
2005206638.tif 000036
【０１３９】
支持体（ＰＫ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と４５゜の方向に配向膜にラビング処理を実施した。
【０１４０】
＜光学異方性層の形成＞
ディスコティック液晶性化合物
（特開平７−３０６３１７号公報記載の例示化合物
（ＴＰ−５３））  ４１．０１Ｋｇ
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                    ４．０６Ｋｇ
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）          ０．３５Ｋｇ
光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製        １．３５Ｋｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）          ０．４５Ｋｇ
【０１４１】
上記化合物を１０２Ｋｇのメチルエチルケトンに溶解し、この溶液に含フッ素ポリマー（Ｐ−１５）を０．１６４Ｋｇを加えて塗布液とし、これを＃３．６のワイヤーバーで配向膜上に連続的に塗布した。次に、１３０℃の状態で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた後、１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層付き光学補償シート（ＫＨ−１）を作製した。
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は３８ｎｍであった。
後述のごとく作製した偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出出来なかった。
【０１４２】
（偏光膜の作製）
平均重合度４０００、鹸化度９９．８ｍｏｌ％のＰＶＡを水に溶解し、４．０％の水溶液を得た。この溶液をテーパーのついたダイを用いてバンド流延して乾燥し、延伸前の幅が１１０ｍｍで厚みは左端が１２０μｍ、右端が１３５μｍになるように製膜した。
このフィルムをバンドから剥ぎ取り、ドライ状態で４５度方向に斜め延伸してそのままよう素０．５ｇ／Ｌ、よう化カリウム５０ｇ／Ｌの水溶液中に３０℃で１分間浸漬し、次いでホウ酸１００ｇ／Ｌ、よう化カリウム６０ｇ／Ｌの水溶液中に７０℃で５分間浸漬し、さらに水洗槽で２０度で１０秒間水洗したのち８０℃で５分間乾燥してよう素系偏光膜（ＨＦ−０１）を得た。偏光膜は、幅６６０ｍｍ、厚みは左右とも２０μｍであった。
【０１４３】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＫＨ−１（光学補償シート）を支持体（ＰＫ−１）面で偏光膜（ＨＦ−０１）の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。
偏光膜の透過軸と支持体（ＰＫ−１）の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と上記トリアセチルセルロースフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＨＢ−１）を作製した。
【０１４４】
［比較例１］
含フッ素ポリマー（Ｐ−１５）を光学異方性層に添加しないこと以外は、実施例３と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−Ｈ１）、さらには、ＫＨ−Ｈ１付偏光板（ＨＢ−Ｈ１）を作製した。
【０１４５】
[比較例２]
含フッ素ポリマー（Ｐ−１５）を下記含フッ素ポリマー（Ａ）に変更した以外は、実施例３と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−Ｈ２）、さらには、ＫＨ−Ｈ２付偏光板（ＨＢ−Ｈ２）を作製した。
【０１４６】
含フッ素ポリマー（Ａ）：特開平１１−１４８０８０号公報記載のモノマー（ａ−１）と（ｂ−２−１）の共重合体。
【０１４７】
【化３８】
2005206638.tif 000037
【０１４８】
［実施例４］
（支持体の作製）
ミキシングタンクに、実施例１で使用したレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
実施例１で作製したセルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、３．５質量部であった。
【０１４９】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、１４０℃の乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％の支持体（ＰＫ−２）を製造した。
得られた支持体（ＰＫ−２）の幅は１５００ｍｍであり、厚さは、６５μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、４ｎｍであった。また、波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、７８ｎｍであった。
【０１５０】
（光学異方性層付き光学補償シートの作製）
支持体（ＰＫ−２）を、２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。ＰＫ−２の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
＜配向膜の形成＞
作製したＰＫ−２上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０１５１】
＜配向膜塗布液組成＞
実施例１の変性ポリビニルアルコール                          １０質量部
水                                                        ３７１質量部
メタノール                                                １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                              ０．５質量部
次に、ＰＫ−２の長手方向と平行な方向に配向するように変性ポリビニルアルコール膜にラビング処理を実施した。
【０１５２】
＜光学異方性層の形成＞
実施例３のディスコティック液晶性化合物                  ４１．０１Ｋｇ
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                      ４．０６Ｋｇ
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製）        ０．９０Ｋｇ
セルロースアセテートブチレート
（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製）            ０．２３Ｋｇ
光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）      １．３５Ｋｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）          ０．４５Ｋｇ
【０１５３】
上記化合物を１０２Ｋｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液に、含フッ素ポリマー（Ｐ−７９）を０．１Ｋｇを加えて塗布液とし、これを＃３．４のワイヤーバーで配向膜上に塗布した。これを１３０℃の恒温ゾーンで２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。
このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償シート（ＫＨ−２）を作製した。波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４０ｎｍであった。
後述のごとく作製した偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、および法線から６０°まで傾けた方向から見ても、ムラは検出出来なかった。
【０１５４】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＫＨ−２（光学補償シート）を偏光膜（ＨＦ−０１）の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。
偏光膜の透過軸とＰＫ−２の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と上記トリアセチルセルロースフィルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＨＢ−２）を作製した。
【０１５５】
［比較例３］
含フッ素ポリマーを光学異方性層に添加しないこと以外は、実施例４と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−Ｈ３）、さらには、ＫＨ−Ｈ３付偏光板（ＨＢ−Ｈ３）を作製した。
【０１５６】
［比較例４］
含フッ素ポリマー（Ｐ−７９）を下記含フッ素ポリマー（Ｂ）に変更した以外は、実施例４と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−Ｈ４）、さらには、ＫＨ−Ｈ４付偏光板（ＨＢ−Ｈ４）を作製した。
【０１５７】
含フッ素ポリマー（Ｂ）：特開２００２−２４９７０６号公報記載のモノマー（Ａ−２２）とＮＫエステルＭ−９０Ｇ（ポリエチレンオキシド鎖含有メタクリレート（エチレンオキシド鎖の平均付加モル数：９）、新中村化学工業(株)製）との共重合体。
【０１５８】
【化３９】
2005206638.tif 000038
【０１５９】
[実施例５]
（ベンド配向液晶セルの作製）
ＩＴＯ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを６μｍに設定した。Δｎ（屈折率ｎeとｎoの差）が０．１３９６の液晶性化合物（ＺＬＩ１１３２、メルク社製）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。液晶セルの大きさは２０インチであった。
作製したベンド配向セルを挟むように、実施例３で作製した偏光板（ＨＢ−１）を二枚貼り付けた。楕円偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。
液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモードとした。透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比として、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。
また、同様の方法で、比較例１で作製した偏光板（ＨＢ−Ｈ１）、及び比較例２で作製した偏光板（ＨＢ−Ｈ２）を各々貼り付け、視野角の測定を行った。視野角の評価尺度として、視野の画像のコントラスト比が１０以上を維持し、かつ黒側の階調反転の起こらない（即ち黒表示（Ｌ１）と次ぎのレベル（Ｌ２）の間で反転が起こらない）範囲の開角度の値を用いた。測定結果を第１表に示す。
【０１６０】
【表１】
2005206638.tif 000039
【０１６１】
[実施例６]
（液晶表示装置パネル上でのムラ評価）
実施例３、比較例１および２の液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価した。実施例３は、どの方向から見てもムラは観察されなかったが、比較例１では、上視野４５°以上で格子状にムラが検出された。比較例２では、ムラは観察されなかったが、アワスジ模様が観察された。
【０１６２】
[実施例７]
（ＴＮ液晶セルでの評価）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＱＵＯＳ  ＬＣ２０Ｃ１Ｓ、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例４で作製した偏光板（ＨＢ−２）を、光学補償シート（ＫＨ−２）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。測定結果を第２表に示す。
また、同様の方法で、比較例３で作製した偏光板（ＨＢ−Ｈ３）、及び比較例４で作製した偏光板（ＨＢ−Ｈ４）の視野角を測定した。
【０１６３】
【表２】
2005206638.tif 000040
【０１６４】
[実施例８]
（液晶表示装置パネル上でのムラ評価）
実施例４、比較例３および４の液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価した。実施例４は、どの方向から見てもムラは観察されなかったが、比較例３および４では、上視野４５°以上で格子状にムラが検出された。
【０１６５】
第１表、第２表に記載の結果から明らかなように、本発明の含フッ素ポリマーを添加した場合には、視野角に対しても影響を及ぼさず、優れた面状均一性が得られる。
【０１６６】
［実施例９］
（光学異方性層付き光学補償シートの作製）
市販のトリアセチルセルロースフィルム（富士タック  富士写真フイルム（株）製）を、２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
＜配向膜の形成＞
上記富士タック上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布を行なったのち、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【０１６７】
＜配向膜塗布液組成＞
実施例３の変性ポリビニルアルコール                          １０質量部
水                                                        ３７１質量部
メタノール                                                １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                              ０．５質量部
富士タックの長手方向と平行な方向に配向するように、変性ポリビニルアルコール膜にラビング処理を実施した。
【０１６８】
＜光学異方性層の形成＞
実施例１のディスコティック化合物                            ９０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                      １０質量部
メラミンホルムアルデヒド／アクリル酸コポリマー
（アルドリッチ試薬）                                    ０．６質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）        ３．０質量部
光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １．０質量部
を、メチルエチルケトンに溶解して、固形分濃度が３８質量％の溶液を調製し、この溶液に含フッ素ポリマー（Ｐ-１１）を３．６質量部添加して塗布液とした。
【０１６９】
この塗布液を実施例２と同じ塗布量で配向膜上に塗布し、乾燥した。１３０℃で１分間加熱して、ディスコティック化合物を配向させた。直ちに室温に冷却し、５００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して、ディスコティック化合物を重合させ、配向状態を固定し、光学補償シート（ＫＨ−３）を作製した。形成した光学異方性層の厚さは、１．７μｍであった。
該光学異方性層のレターデーションの角度依存性を、エリプソメーター（日本分光（株）製）で測定した。その結果、ディスコティック化合物の円盤面と配向膜面との角度は０．２゜、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は１５０ｎｍであった。
【０１７０】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、光学補償シート（ＫＨ−３）を偏光膜（ＨＦ−０１）の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。
偏光膜（ＨＦ−０１）の透過軸とＫＨ−３の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と上記トリアセチルセルロースフィルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＨＢ−３）を作製した。
【０１７１】
［比較例５］
フルオロアルキル基含有モノマー（Ｐ−１１）を光学異方性層に添加しないこと以外は、実施例９と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−Ｈ５）、さらには、ＫＨ−Ｈ５付偏光板（ＨＢ−Ｈ５）を作製した。
【０１７２】
[比較例６]
含フッ素ポリマー（Ｐ−１１）を下記含フッ素ポリマー（Ｃ）に変更した以外は、実施例９と同様にして、光学補償シート（ＫＨ−Ｈ６）、さらにはＫＨ−Ｈ６付偏光板（ＨＢ−Ｈ６）を作製した。
【０１７３】
含フッ素ポリマー（Ｃ）：特開２００２−２４９７０６号広報実施例（参考例１）記載のポリマー（重合体１−１）。
【０１７４】
[実施例１０]
（垂直配向型液晶セル）
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＶＬ−１５３０Ｓ、富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の位相差を剥がし、代わりに実施例９で作製した偏光板（ＨＢ−９）を、富士タックが液晶セル側となるように粘着剤を介して貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
また、同様の方法で、比較例５で作製した偏光板（ＨＢ−Ｈ５）、及び比較例６で作製した偏光板（ＨＢ−Ｈ６）を組み込んだ液晶表示装置を作製した。
【０１７５】
[実施例１１]
（パネルでのムラ評価）
実施例９、比較例５、および６で作製した偏光板を含むの液晶表示装置を全面中間調に調整し、ムラを評価した。実施例９で作製した偏光板を含むものでは、どの方向から見てもムラは観察されなかったが、比較例５で作製した偏光板を含むものでは、視野を４５°傾けると、全方向で格子状にムラが検出された。また、比較例６で作製した偏光板を含むものでは液晶の配向が均一にならなかった。
【０１７６】
このことより、本発明の含フッ素ポリマーを添加した場合には、液晶の配向に対しても影響を及ぼさず、優れた面状均一性が得られることが明らかである。
【手続補正書】
【提出日】平成16年4月30日(2004.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】削除
【補正の内容】