(57)【要約】【課題】  柱状スペーサを備えたエリアカラー型の構造をより簡素な工程で製造できるようにした液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】  着色層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂに設けられた開口部ＨＲ，ＨＧ，ＨＢを埋めるように基板１０Ａ全面に透光性材料を成膜する。そして、開口部ＨＲ，ＨＧ，ＨＢ内に配置された透光性材料１１Ｅを残しつつ、カラーフィルタ１１上に配置された透光性材料をパターニングして、このカラーフィルタ１１上にスペーサの一部となる突起層１２を形成する。【選択図】    図４
2005165106.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板に液晶を挟持してなり、複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置の製造方法であって、
一方の前記基板の前記画素間に遮光層を形成する遮光層形成工程と、
一方の前記基板の前記着色領域に相当する領域に前記着色層を形成する着色層形成工程と、
前記着色層上と前記非着色領域に相当する領域と前記遮光層上とに透光性材料を成膜する成膜工程と、
前記透光性材料を、前記非着色領域と前記遮光層上とに残すようにパターニングするパターニング工程と、
前記遮光層上に残した前記透光性材料を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて、前記一対の基板を貼り合わせる貼り合わせ工程と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
一対の基板に液晶を挟持してなり、複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置の製造方法であって、
一方の前記基板の第１の画素内の前記着色領域に相当する領域と隣接する画素間とに第１の着色層を形成する第１着色層形成工程と、
一方の前記基板の第２の画素内の前記着色領域に相当する領域と前記隣接する画素間の前記第１の着色層上とに第２の着色層を形成する第２着色層形成工程と、
前記着色層上と前記非着色領域に相当する領域と前記隣接する画素間に透光性材料を成膜する成膜工程と、
前記透光性材料を、前記非着色領域と前記隣接する画素間とに残すようにパターニングするパターニング工程と、
前記隣接する画素間に残した前記透光性材料を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて、前記一対の基板を貼り合わせる貼り合わせ工程と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記第２着色層形成工程の後に、一方の前記基板の第３の画素内の前記着色層形成領域に相当する領域と前記隣接する画素間とに第３の着色層を形成する工程をさらに備え、
前記パターニング工程は、前記透光性材料を、前記非着色領域と前記隣接する画素間とに残すようにパターニングすることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
一対の基板に液晶を挟持してなり、複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置の製造方法であって、
前記一方の基板の前記着色領域に相当する領域に前記着色層を形成する着色層形成工程と、
前記着色層上と前記非着色領域に相当する領域とに透光性材料を成膜する成膜工程と、
前記透光性材料を、前記非着色領域と前記着色層上とに残すようにパターニングするパターニング工程と、
前記着色層上に残した前記透光性材料を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて、前記一対の基板を貼り合わせる貼り合わせ工程と、
を備えることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
上記着色層形成工程において画素間の領域に遮光層を形成することを特徴とする、請求項４記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
上記遮光層の形成を、それぞれの着色層を構成する複数の着色材料のうち少なくとも２種類以上の着色材料を積層することにより行なうことを特徴とする、請求項５記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記スペーサの一部として用いられる前記透光性材料の上に突起層を形成する工程をさらに備え、
前記基板貼り合わせ工程において、前記突起層を、前記スペーサの一部として用いることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
他方の基板上に突起層を形成する工程をさらに備え、
前記基板貼り合わせ工程において、前記突起層を、前記スペーサの一部として用いることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
上記突起層の形成工程では、上記突起層を各画素の縁に沿う位置に形成することを特徴とする、請求項７又は８記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
一対の基板に液晶を挟持してなり、一方の前記基板の複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置であって、
前記非着色領域に配置された透光性材料と、
前記着色領域に配置され、前記透光性材料と同じ材料で形成されてなる突起層と、
を備え、
前記一対の基板は、前記突起層を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて貼り合わされてなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１１】
一対の基板に液晶を挟持してなり、一方の前記基板の複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置であって、
一方の前記基板の前記画素間に設けられてなる遮光層と、
前記非着色領域に配置された透光性材料と、
前記遮光層上に配置され、前記透光性材料と同じ材料で形成されてなる突起層と、
を備え、
前記一対の基板は、前記突起層を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて貼り合わされてなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
一対の基板に液晶を挟持してなり、一方の前記基板の複数の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置の製造方法であって、
前記一方の基板の第１の画素内の前記着色領域と隣接する前記画素間に設けられてなる第１の着色層と、
前記一方の基板の第２の画素内の前記着色領域と前記隣接する前記画素間に設けられてなる第２の着色層と、
前記非着色領域に設けられてなる透光性材料と、
前記隣接する画素間に設けられ、前記透光性材料と同じ材料で形成されてなる突起層と、
を備え、
前記前記突起層を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて貼り合わされてなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１３】
一対の基板に液晶を挟持してなり、一方の前記基板の複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置であって、
前記非着色領域に配置された透光性材料と、
前記着色層上に配置され、前記透光性材料と同じ材料で形成されてなる突起層と、
を備え、
前記一対の基板は、前記突起層を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて貼り合わされてなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１４】
上記突起層が各画素の縁に沿う位置に設けられたことを特徴とする、請求項１０乃至１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
請求項１０乃至１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置を備えたことを特徴とする、電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、色表示方式の１つとして、エリアカラーと呼ばれる方式が知られている。このエリアカラー型の表示装置では、カラーフィルタを構成するＲ，Ｇ，Ｂの着色層の内、少なくとも１つの着色層内に、着色材料が配置されない領域（非着色領域）が設けられている。この方式を採用した透過型の液晶表示装置では、例えばバックライトの分光特性に応じてＲ，Ｇ，Ｂの各着色層内の非着色領域の大きさを異ならせることで色バランスをとることができる。また、上記方式を半透過反射型の液晶表示装置に適用した場合には、例えば光が着色層内を２回通ることとなる反射表示領域に非着色領域を設けることで、反射表示と透過表示の色の濃淡の差を少なくすることができる。
しかし、上述の構造では、着色材料の配置される着色領域と着色材料の配置されない非着色領域との間に生じる段差によって、非着色領域の表示特性が変わってしまうことがある。このため、下記特許文献１では、上記段差を透明樹脂で埋めることで、このような不具合を解消している。
【特許文献１】特開２００３−１９５２９６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、液晶表示装置では、液晶を挟持する一対の基板が微小なギャップを保って貼り合わされている。従来、ギャップを保持する手段としてビーズ状のスペーサが用いられていたが、近年、これに代わるものとして、感光性樹脂で形成した柱状のスペーサが注目されている。この柱状スペーサを採用した場合には、当該スペーサをフォトリソグラフィ技術により任意の場所に最適な密度で配置できるため、ビーズ状のスペーサを散布した場合に比べて表示性能を向上することができる。
しかしながら、液晶表示装置のギャップは通常５μｍ程度であり、このような高さの柱状スペーサを形成するには、感光性樹脂の塗布を複数回にわたって行なう必要がある。このため、工程に時間がかかりコスト高となる。特に上記特許文献１の構造をつくる場合には非着色領域に透明樹脂を埋め込む工程が必要になるため、これに上記柱状スペーサ構造を適用すると工程が更に煩雑となる。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、柱状スペーサを備えたエリアカラー型の構造をより簡素な工程で製造できるようにした液晶表示装置の製造方法、及びその液晶表示装置、並びに電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記の課題を解決するため、本発明の液晶表示装置の製造方法は、スペーサを介して対向する一対の基板間に液晶を挟持してなり、一方の基板の内面側に、表示領域を構成する各画素に対応して異なる色の複数の着色層が配列されたカラーフィルタが設けられるとともに、該カラーフィルタの少なくとも１つの着色層に着色材料が形成されない非着色領域が設けられた液晶表示装置の製造方法であって、上記一方の基板上に、上記カラーフィルタを構成する上記複数の着色層をパターン形成する工程と、着色材料の配置された着色領域と着色材料の配置されない上記非着色領域との間に生じる段差を埋めるように、上記一方の基板の全面に透光性材料を成膜する工程と、上記非着色領域に配置された透光性材料を残しつつ、上記カラーフィルタ上に配置された透光性材料をパターニングして、上記カラーフィルタの上に上記透光性材料からなる第１の突起層を形成する工程と、上記第１の突起層を上記スペーサの一部として用いて、上記一対の基板を貼り合わせる工程とを備えたことを特徴とする。
本方法では、非着色領域の段差を平坦化するための工程（即ち、透光性材料のパターニング工程）によってスペーサの一部（第１の突起層）が同時に形成されるので、別途柱状スペーサを形成する際に、この柱状スペーサの高さを第１の突起層の高さ分だけ低く設計することができる。すなわち、本方法によれば、柱状スペーサを形成する際の感光性材料の塗布回数を少なくすることができ、製造時間及び製造コストを低減することが可能となる。
【０００５】
なお、カラーフィルタは、上述の着色層以外にブラックマトリクス等の遮光層を含む構成であってもよい。この場合、上記第１の突起層の形成位置としては、（１）着色層の上、（２）遮光層の上、の２通りが考えられる。以下、それぞれの場合について説明する。
【０００６】
（１）第１の突起層を着色層の上に形成する場合
本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対の基板に液晶を挟持してなり、複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置の製造方法であって、前記一方の基板の前記着色領域に相当する領域に前記着色層を形成する着色層形成工程と、前記着色層上と前記非着色領域に相当する領域とに透光性材料を成膜する成膜工程と、前記透光性材料を、前記非着色領域と前記着色層上とに残すようにパターニングするパターニング工程と、前記着色層上に残した前記透光性材料を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて、前記一対の基板を貼り合わせる貼り合わせ工程と、を備えることを特徴とする。この方法では、着色層上に残した透光性材料が第１の突起層となる。
【０００７】
なお、本方法では、上記着色層形成工程において画素間の領域に遮光層を形成することができる。この場合、上記遮光層の形成を、それぞれの着色層を構成する複数の着色材料のうち少なくとも２種類以上の着色材料を積層することにより行なうことができる。この場合、遮光層が着色層の形成と同時に形成されるため、工程が簡略化される。
【０００８】
（２）第１の突起層を遮光層の上に形成する場合
この場合には、遮光層の形成態様に応じて、以下の２通りの製造方法が考えられる。
【０００９】
（ａ）遮光層の形成と着色層の形成とを別工程で行なう場合
本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対の基板に液晶を挟持してなり、複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置の製造方法であって、一方の前記基板の前記画素間に遮光層を形成する遮光層形成工程と、一方の前記基板の前記着色領域に相当する領域に前記着色層を形成する着色層形成工程と、前記着色層上と前記非着色領域に相当する領域と前記遮光層上とに透光性材料を成膜する成膜工程と、前記透光性材料を、前記非着色領域と前記遮光層上とに残すようにパターニングするパターニング工程と、前記遮光層上に残した前記透光性材料を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて、前記一対の基板を貼り合わせる貼り合わせ工程と、を備えることを特徴とする。この方法では、遮光層上に残した透光性材料が第１の突起層となる。
本方法では、表示に対する上記第１の突起層の影響をなくすことができるため、上記（１）の場合に比べて高品質な表示が得られる。
【００１０】
（ｂ）遮光層の形成と着色層の形成とを同一工程で行なう場合
本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対の基板に液晶を挟持してなり、複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置の製造方法であって、一方の前記基板の第１の画素内の前記着色領域に相当する領域と隣接する画素間とに第１の着色層を形成する第１着色層形成工程と、一方の前記基板の第２の画素内の前記着色領域に相当する領域と前記隣接する画素間の前記第１の着色層上とに第２の着色層を形成する第２着色層形成工程と、前記着色層上と前記非着色領域に相当する領域と前記隣接する画素間に透光性材料を成膜する成膜工程と、前記透光性材料を、前記非着色領域と前記隣接する画素間とに残すようにパターニングするパターニング工程と、前記隣接する画素間に残した前記透光性材料を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて、前記一対の基板を貼り合わせる貼り合わせ工程と、を備えることを特徴とする。
本方法は、遮光層の形成を、それぞれの着色層を構成する複数の着色材料のうち少なくとも２種類以上の着色材料を積層することにより行なうようにしたものである。この方法では、隣接する画素間の領域に積層された着色層が遮光層となり、隣接する画素間に残した透光性材料が第１の突起層となる。
本方法でも、表示に対する上記第１の突起層の影響をなくすことができるため、上記（１）の場合に比べて高品質な表示が得られる。また、本方法では、遮光層が着色層の形成と同時に形成されるため、上記（ａ）の場合に比べて工程が簡略化される。さらに、本方法では、遮光層が複数の着色材料の積層体として形成されることで遮光層が厚膜化されるので、この遮光層とこの上に形成される突起層とをスペーサの一部として用いた場合には、別途形成する柱状スペーサの高さを更に低く（即ち、感光性材料の塗布回数を少なく）設計することができる。
【００１１】
なお、本方法では、前記第２着色層形成工程の後に、一方の前記基板の第３の画素内の前記着色層形成領域に相当する領域と前記隣接する画素間とに第３の着色層を形成する工程を更に設け、前記パターニング工程において、前記透光性材料を、前記非着色領域と前記隣接する画素間とに残すようにパターニングしてもよい。
【００１２】
ところで、上述した本発明の液晶表示装置の製造方法では、前記スペーサの一部として用いられる前記透光性材料の上に突起層（第２の突起層）を形成する工程をさらに設け、前記基板貼り合わせ工程において、前記突起層（第２の突起層）を、前記スペーサの一部として用いることができる。或いは、他方の基板上に突起層（第２の突起層）を形成する工程をさらに設け、前記基板貼り合わせ工程において、前記突起層（第２の突起層）を、前記スペーサの一部として用いることもできる。この際、突起層（第２の突起層）の形成工程では、上記突起層（第２の突起層）を各画素の縁に沿う位置に形成することが好ましい。これにより、基板上に形成される電極の縁を保護して、この縁部からの電極の剥がれを防止することができる。なお、ドットの縁に沿う位置とは、例えばパッシブマトリクス型の液晶表示装置では、ストライプ状に形成された各電極の長軸方向の端辺の位置であり、アクティブマトリクス型の液晶表示装置では、略矩形に形成された各画素電極の４端辺の位置を指す。
【００１３】
本発明の液晶表示装置は、一対の基板に液晶を挟持してなり、一方の前記基板の複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置であって、前記非着色領域に配置された透光性材料と、前記着色領域に配置され、前記透光性材料と同じ材料で形成されてなる突起層と、
を備え、前記一対の基板は、前記突起層を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて貼り合わされてなることを特徴とする。
【００１４】
具体的には、本発明の液晶表示装置は、スペーサを介して対向する一対の基板間に液晶を挟持してなり、一方の基板の内面側に、表示領域を構成する各画素に対応して異なる色の複数の着色層が配列されたカラーフィルタが設けられるとともに、該カラーフィルタの少なくとも１つの着色層に着色材料が形成されない非着色領域が設けられた液晶表示装置であって、上記非着色領域の形成された着色層の該非着色領域に、着色材料の配置された着色領域と着色材料の配置されない上記非着色領域との間に生じる段差を埋めるための透光性材料が設けられるとともに、上記カラーフィルタの上に上記透光性材料と同じ材料からなる突起層が設けられ、該突起層を上記スペーサの一部として用いて上記一対の基板が貼り合わされたことを特徴とする。
本構成によれば、透光性材料のパターニングによって、非着色領域の段差を平坦化するための平坦化層と、スペーサの一部となる上記突起層（前述した第１の突起層）とを同時に形成することができる。このため、別途柱状スペーサを形成する際の工程が簡単になる。
【００１５】
なお、カラーフィルタは、上述の着色層以外にブラックマトリクス等の遮光層を含む構成であってもよい。この場合、上記突起層の形成位置としては、（１）着色層の上、（２）遮光層の上、の２通りが考えられる。以下、それぞれの構成について説明する。
【００１６】
（１）第１の突起層を着色層の上に設ける場合
本発明の液晶表示装置は、一対の基板に液晶を挟持してなり、一方の前記基板の複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置であって、前記非着色領域に配置された透光性材料と、前記着色層上に配置され、前記透光性材料と同じ材料で形成されてなる突起層と、を備え、前記一対の基板は、前記突起層を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて貼り合わされてなることを特徴とする。
【００１７】
（２）第１の突起層を遮光層の上に設ける場合
この場合、遮光層の形態に応じて、以下の２通りの構成が考えられる。
【００１８】
（ａ）遮光層が着色層と別部材で構成される場合
本発明の液晶表示装置は、一対の基板に液晶を挟持してなり、一方の前記基板の複数の画素の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置であって、一方の前記基板の前記画素間に設けられてなる遮光層と、前記非着色領域に配置された透光性材料と、前記遮光層上に配置され、前記透光性材料と同じ材料で形成されてなる突起層と、を備え、前記一対の基板は、前記突起層を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて貼り合わされてなることを特徴とする。
【００１９】
（ｂ）遮光層が２種類以上の着色材料の積層体からなる場合
本発明の液晶表示装置は、一対の基板に液晶を挟持してなり、一方の前記基板の複数の１画素内において着色層が設けられてなる着色領域と着色層が設けられていない非着色領域とを備えてなる液晶表示装置の製造方法であって、前記一方の基板の第１の画素内の前記着色領域と隣接する前記画素間に設けられてなる第１の着色層と、前記一方の基板の第２の画素内の前記着色領域と前記隣接する前記画素間に設けられてなる第２の着色層と、前記非着色領域に設けられてなる透光性材料と、前記隣接する画素間に設けられ、前記透光性材料と同じ材料で形成されてなる突起層と、を備え、前記前記突起層を前記一対の基板の間隔を保持するスペーサの一部として用いて貼り合わされてなることを特徴とする。
【００２０】
ところで、本発明では、上記突起層は各画素の縁に沿う位置に設けられることが好ましい。これにより、基板上に形成される電極の剥がれを防止することができる。
また、本発明の電子機器は上述の液晶表示装置を備えたことを特徴とする。これにより、表示品質の高い表示部を備えた電子機器を安価に提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態について説明する。なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の膜厚や寸法の比率などは適宜異ならせてある。また、本明細書では、液晶表示装置１を構成する各部材において、その液晶層４０側の面を「内面」といい、液晶層４０と反対側の面を「外面」という。
【００２２】
［第１実施形態］
まず、図１を参照しながら、本発明をパッシブマトリクス方式の半透過反射型液晶表示装置に適用した例について説明する。図１（ａ）はＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３つのドットからなる１画素の断面構造を示す模式図であり、図１（ｂ）はその平面構造を示す模式図である。
本実施形態の液晶表示装置１は、液晶層４０を挟持する第１の基板１０及び第２の基板２０と、この第２の基板２０の外面側に設置された図示しないバックライトとを備えている。各基板１０，２０にはそれぞれ複数のストライプ状の電極１３，２２が設けられており、互いに交差するように設けられたこれらの電極１３及び電極２２の交差部によってドット領域が構成されている。
【００２３】
基板２０は、石英やガラス等の透光性の基板本体２０Ａの内面側に、アルミニウムや銀等の高反射率の金属膜からなる反射膜２１と、ＩＴＯ等の透光性導電材料からなる電極２２と、ポリイミド等からなる配向膜２３とを順に備えている。
反射膜２１は基板２０Ａ上に部分的に設けられており、反射膜２１の形成領域が反射表示領域Ｒとなり、反射膜２１の非形成領域が透過表示領域Ｔとなる。本実施形態では、反射膜２１は所定方向（本例ではＺ軸方向）に延在するストライプ状の金属膜として構成されており、これらの反射膜２１がＸ軸方向に沿って複数配列形成されている。各反射膜２１の上にはこれを覆うようにストライプ状の電極２２が設けられている。反射膜２１のＸ軸方向における幅は、これを覆う電極２２の幅（即ち、１ドットの幅）よりも狭くなっており、第２の電極２２はこの反射膜２１の両側部を覆う形で形成されている。すなわち、１ドット内には、その中央部に反射表示領域Ｒが形成され、その両側部に、各電極２２の間隙部分に沿った形状の透過表示領域Ｔが形成されている。
【００２４】
このように構成された基板２０Ａの表面には、ドット間の領域に対応して第２の突起層２４が設けられ、更にこの第２の突起層２４及び電極２２を覆うように配向膜２３が設けられている。この第２の突起層２４はアクリル等の感光性樹脂を塗布し、これをパターニングすることで形成された柱状のスペーサであり、後述の第１の突起層１２と共に両基板１０，２０を離間するためのスペーサとして機能する。
【００２５】
一方、第１の基板１０は、石英やガラス等の透光性材料からなる基板本体１０Ａの内面側に、異なる色の複数の着色層を有するカラーフィルタ１１と、第１の突起層１２と、ＩＴＯ等の透光性導電材料からなる電極１３と、ポリイミド等からなる配向膜１４とを順に備えている。
【００２６】
カラーフィルタ１１は、表示領域を構成する各ドットに対応してストライプ状に配列形成されたＲ，Ｇ，Ｂの着色層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂと、ドット間の色にじみを防止するために各着色層の間（即ち、ドット間の領域）に設けられた遮光層１１Ｓとを備えている。各着色層１１Ｒ〜１１Ｂには、それぞれ反射表示領域Ｒに開口部（非着色領域）ＨＲ，ＨＧ，ＨＢが設けられており、各開口部には、当該開口部ＨＲ，ＨＧ，ＨＢに起因した段差（即ち、着色材料の配置された着色領域と着色材料の配置されない非着色領域との間に生じる段差）を平坦化するために、透光性材料からなる平坦化層１１Ｅが設けられている。各開口部ＨＲ，ＨＧ，ＨＢの開口面積は独立に設計されており、例えば本構成では各開口部ＨＲ〜ＨＢの面積を緑（ＨＧ），赤（ＨＲ），青（ＨＢ）の順で小さくしている。このように視感度の高い緑色の着色領域を小さくすることで、色バランスを良好に保つことができる。
【００２７】
このように構成されたカラーフィルタ１１の上には、遮光層１１Ｓの形成位置に対応して第１の突起層１２が設けられている。この第１の突起層１２は、前述の第２の突起層２４と共に両基板１０，２０を離間するためのスペーサとして機能する。また、この第１の突起層１２は、各ドットの縁に沿う位置、具体的には電極１３の長軸方向の端辺に沿う位置に設けられ、着色層上に配置された当該電極１３の端辺を保護している。この突起層１２は前述の平坦化層１１Ｅと同じ透光性材料からなり、例えば基板１０Ａ全面に塗布された透光性のレジストをパターニングすることで、上記平坦化層１１Ｅと同時に形成されている。
【００２８】
電極１３は上記第２の電極２２と交差する方向（本例ではＸ軸方向）に延在するストライプ状の電極であり、この電極１３は前述の第２の電極２２と共に液晶層４０に電圧を印加するための電圧印加手段を構成する。
そして、上記構成の両基板１０，２０は、第１の突起層１２及び第２の突起層２４によって微小間隔を保った状態で、表示領域外周部に配置されたシール材（図示略）によって貼り合わされている。
【００２９】
以上説明したように本実施形態では、第１の基板側に第１の突起層１２を設けているため、別途第２の基板側に設ける柱状スペーサ（第２の突起層）２４の高さを低く（即ち、第２の突起層２４を形成するための感光性材料の塗布回数を少なく）することができる。本実施形態では、この第１の突起層１２は、透光性材料をパターニングする工程によって平坦化層１１Ｅと同時に形成されるので、別途このような突起層１２の形成工程を設ける必要はない。従って、第１の突起層１２を設けることで工程数が増えることはない。
【００３０】
また、本実施形態では、第２の突起層１２をストライプ状に配置される電極１３の端辺に沿って配置しているため、基板と電極１３との密着性を高めることができる。つまり、着色層の露出面に形成された電極１３は、この着色層との間で強い密着性が得られないため、仮に電極１３をその縁部が剥き出しの状態で配置すると、その縁部から電極１３が容易に剥がれてしまう。しかし、本構成では電極１３の縁部を突起層１２で保護しているので、このような電極縁部からの剥がれがなくなり、信頼性の高い電極を得ることができる。
また、本実施形態では、光が２回透過することとなる反射表示領域Ｒに部分的に非着色領域を設けているので、１回しか光が透過しない透過表示領域Ｔとの間で色の濃淡差が生じることを防止することができる。また、本実施形態では、各着色層１１Ｒ〜１１Ｂの開口部ＨＲ〜ＨＢの面積を独立に設計しているので、色再現性を高めることもできる。
【００３１】
［第２実施形態］
次に、図２〜図４を参照しながら、本発明の第２の実施の形態について説明する。図２は、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の３つのドットからなる１画素の断面構造を示す模式図、図３，図４はそれぞれ本発明の液晶表示装置の製造方法を説明するための工程図である。なお、本実施形態において、上記第１実施形態と同様の部材又は部位については同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００３２】
本実施形態は、上記第１実施形態の構成において遮光層１１Ｓを複数の着色材料の積層膜として構成したものである。本例の液晶表示装置２では、例えばこの遮光層１１Ｓを、各着色層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂを構成するＲ，Ｇ，Ｂの着色材料ＭＲ，ＭＧ，ＭＢの積層膜として構成し、この遮光膜１１Ｓの上に第１の突起層１２を形成している。
これ以外の構成については上記第１実施形態と同様である。
【００３３】
次に、本実施形態の液晶表示装置２の製造方法について説明する。
本方法ではまず、図３（ａ）〜図３（ｃ）に示すように、各色の着色材料ＭＲ，ＭＧ，ＭＢを各々の着色領域に対して順にパターン形成する。すなわち、まず赤色着色材料ＭＲを赤色着色層（第１の着色層）１１Ｒ及び遮光膜１１Ｓの形成予定領域にパターン形成し、続いて緑色着色材料ＭＧを緑色着色層（第２の着色層）１１Ｇ及び遮光膜１１Ｓの形成予定領域にパターン形成し、更に青色着色材料ＭＢを青色着色層（第３の着色層）１１Ｂ及び遮光膜１１Ｓの形成予定領域にパターン形成する。なお、パターニングの際に、各着色層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂに所定の大きさの開口部ＨＲ，ＨＧ、ＨＢを形成する。この工程により、着色層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂと、各着色材料ＭＲ，ＭＧ，ＭＢの積層体からなる遮光膜１１Ｓが同時に形成される。なお、着色層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂの形成順序はこれに限定されない。
【００３４】
次に、着色材料の配置された着色領域と着色材料の配置されない上記非着色領域との間に生じる段差を埋めるために、基板全面に概ね着色層１１Ｒ〜１１Ｂと同程度の厚みの透光性材料を成膜する。この透光性材料としては例えばアクリル等の感光性材料を用いることができる。続いて、パターニングにより、着色層１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂの開口部ＨＲ，ＨＧ，ＨＢ及び遮光膜１１Ｓの形成領域に配置された透光性材料を残して他の部分を除去する。この工程により、各着色層の開口部内に平坦化膜１１Ｅが形成されると同時に、遮光膜１１Ｓの形成領域に第１の突起層１２が形成される（図４（ａ）参照）。
次に、図４（ｂ）に示すように、着色層１１Ｒ〜１１Ｂ及び平坦化膜１１Ｅを覆うように基板１０Ａ上に複数のストライプ状の電極１３を形成し、更にこの電極１３及び突起層１２を覆うように表示領域全面にポリイミド等からなる配向膜１４を形成する。
以上により、第１の基板１０が製造される。
【００３５】
一方、これとは別に公知の方法により第２の基板２０を製造する。そして、第２の基板２０に形成された第２の突起層２４と、第１の基板１０に形成された遮光膜１１Ｓ及び第１の突起層１２とを位置合わせして貼り合わせることにより空セルを作成する。そして、このセル内に液晶を注入することで基板間に液晶層４０を形成する。
以上により、液晶表示装置２が製造される。
【００３６】
以上説明したように、本実施形態では、遮光膜１１Ｓを複数の着色材料の積層体とし、この積層体からなる遮光膜１１Ｓの上に第１の突起層１２を形成しているので、この突起層１２の形成領域は上記第１実施形態の構造に比べて盛り上がった状態となる。このように本実施形態では、第１の基板側でスペーサの高さを十分に稼ぐことができるので、その分第２の突起層２４の厚みを更に薄く（即ち、感光性材料の塗布回数を少なく）することができる。
なお、本例では第２の突起層２４を第２の基板２０側に形成したが、これを第１の基板１０側、即ち、第１の突起層１２の上方に直接形成してもよい。また、本例では、遮光層１１Ｓを３種類の着色材料ＭＲ，ＭＧ，ＭＢの積層体としたが、積層する着色材料は少なくとも２種類あればよく、これによりＲ，Ｇ，Ｂの全ての波長域の光を遮光することができる。
【００３７】
［電子機器］
次に、上記実施の形態の液晶表示装置を備えた電子機器の具体例について説明する。
図５は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図５において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記液晶表示装置を用いた表示部を示している。
本例の電子機器は表示部に上記液晶表示装置を備えているので、高品質な表示が可能な電子機器を安価に提供することができる。
【００３８】
なお、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
例えば、上記実施形態では、本発明をパッシブマトリクス型の液晶表示装置に適用した例について説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明をアクティブマトリクス型の液晶表示装置や単純マトリクス型の液晶表示装置に適用することも可能である。また、上記実施形態では、本発明を半透過反射型の液晶表示装置に適用した例について説明したが、本発明を反射型の液晶表示装置に適用することも勿論可能である。この場合、基板２０側の反射膜を反射電極として兼用することが可能である。また、上記実施形態においても、基板２０側の電極を反射表示領域Ｒと透過表示領域Ｔとで分けて形成し、反射表示領域Ｒに形成される反射膜２１を反射電極として兼用することも可能である。
また、上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、このような形状等は設計要求等に基づき種々変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る液晶表示装置の断面構造及び平面構造を示す模式図。
【図２】本発明の第２実施形態に係る液晶表示装置の断面構造を示す模式図。
【図３】同、液晶表示装置の製造方法を説明するための工程図。
【図４】図３に続く工程図。
【図５】本発明の電子機器の一例を示す斜視図。
【符号の説明】
【００４０】
１，２・・・液晶表示装置、１０・・・第１の基板、１１・・・カラーフィルタ、１１Ｒ・・・赤色着色層（第１の着色層）、１１Ｇ・・・緑色着色層（第２の着色層）、１１Ｂ・・・青色着色層（第３の着色層）、１１Ｅ・・・平坦化層、１１Ｓ・・・遮光層、１２・・・第１の突起層、２０・・・第２の基板、２４・・・第２の突起層、４０・・・液晶層、１０００・・・電子機器、ＨＲ，ＨＧ，ＨＢ・・・開口部（非着色領域）、ＭＲ，ＭＧ，ＭＢ・・・着色材料
【図１】
2005165106.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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