(57)【要約】【課題】  回転多面鏡用基板の複数の成膜面に反射膜を効率良く形成すること、及び効率良く製造された回転多面鏡を提供することを目的としている。【解決手段】  スパッタリング装置２０の真空槽２１内の下部に、反射膜用のターゲット２３ａと、保護膜用のターゲット２３ｂとを配置し、真空槽２１内の上部に基板保持部２２を配置した。基板保持部２２には、回転多面鏡用基板１が、中心軸線Ｃ２がターゲット２３ａ，２３ｂと直交するように、かつ中心軸線Ｃ２に対して倒れ角を有する成膜面５がターゲット２３ａ，２３ｂ側に向くように固定される。【選択図】    図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心軸線を有する回転多面鏡用基板の外周部に設けられ、前記中心軸線に対して倒れ角を有する複数の成膜面に、スパッタリング法により反射膜を形成するにあたり、反射膜の膜原料となるターゲットに対向して、前記回転多面鏡用基板を保持する基板保持部を配置し、前記回転多面鏡用基板を、前記複数の成膜面が前記ターゲット側に向けて、かつ前記中心軸線が前記ターゲットに対して略直交するように前記基板保持部に固定することを特徴とする反射膜の形成方法。
【請求項２】
中心軸線を有する回転多面鏡用基板の外周部に設けられ、前記中心軸線に対して倒れ角を有する複数の成膜面に、スパッタリング法により反射膜を形成するにあたり、前記回転多面鏡用基板を保持する円筒状の基板保持部を、その長さ方向に沿った回転軸回りに回転自在に支持すると共に、反射膜の膜原料となるターゲットを前記基板保持部の外周部に向けて配置し、前記回転多面鏡用基板を、前記複数の成膜面が前記ターゲット側に向けて、かつ前記中心軸線が前記ターゲットに対して略直交するように前記基板保持部に固定し、前記基板保持部をその前記回転軸回りに回転させながら、前記回転多面鏡用基板に成膜をすることを特徴とする反射膜の形成方法。
【請求項３】
前記回転多面鏡用基板は、前記成膜面を６つ有するポリゴンミラー用基板であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の反射膜の形成方法。
【請求項４】
中央に貫通孔を有する基部と、基部の縁部から延設されて前記貫通孔の中心軸線に対して倒れ角を有する複数の成膜面とを備える回転多面鏡用基板に、反射膜を形成して光を反射する反射面とした回転多面鏡であって、前記反射膜は、前記各成膜面と、前記基部において前記成膜面の延長線と前記中心軸線との交点に向かう面の前記貫通孔の周辺を除く全面とに形成されていることを特徴とする回転多面鏡。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリゴンミラーなどに用いられ、複数の成膜面を備える回転多面鏡用基板に反射膜を形成する方法、及びこのような回転多面鏡用基板に反射膜を形成した回転多面鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザ光などを走査する手段の一つとして、ポリゴンミラーなどの回転多面鏡が知られている。回転多面鏡は、例えば、角柱形状又は角錐台形状を有する回転多面鏡用基板と、この回転多面鏡用基板の外周部に沿って設けられた複数の成膜面上に形成された反射膜とからなる。回転多面鏡をモータなどにより高速回転させ、反射膜が形成された成膜面（反射面）に向かってレーザ光を照射すると、反射面に対するレーザ光の入射角度が相対的に変化することで、レーザ光が走査される。
【０００３】
ここで、このような回転多面鏡を製造する従来の方法としては、回転多面鏡用基板の外周部の成膜面を１面ずつ、又は２面ずつ成膜する方法が用いられている。例えば、６つの成膜面に対して２面ずつ成膜する場合には、６つの成膜面のうち、特定の稜線により隣接する２つの成膜面を露出させる基板ホルダが用いられる（例えば、特許文献１参照）。基板ホルダは、成膜面が２つずつ露出する開口を有している。開口には、その開口から露出する２つの成膜面に近接する他の成膜面に蒸着流が回り込まないようにマスクが取り付けられている。このような成膜方法によれば、マスクによって、残りの４つの成膜面に反射膜が形成されることが防止される。なお、他の成膜面に反射膜を形成する場合には、基板ホルダを１２０度回転させる。
【特許文献１】特開２０００−８１６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、複数の成膜面に対して、１面又は２面ずつ成膜する方法では、一つの回転多面鏡用基板に対して、複数回に分けて成膜を行わなければならなかった。複数回に分けて成膜を行うと、成膜に時間がかかり、成膜面や反射面にゴミや傷が付く可能性が高まる。また、特定の成膜面のみを露出させる基板ホルダには複雑な形状が要求されるために高価であり、生産コストを増加させる要因となっていた。さらに、前記のような基板ホルダでは、１回目の成膜時の成膜面と２回目の成膜時の成膜面との稜線がマスクで覆われるために、この稜線上に反射膜を形成できないことがあった。
この発明は、このような問題を解決するためになされたもので、回転多面鏡用基板の複数の成膜面に反射膜を効率良く形成すること、及びそのようにして製造された回転多面鏡を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の課題を解決する本発明の請求項１に係る発明は、中心軸線を有する回転多面鏡用基板の外周部に設けられ、前記中心軸線に対して倒れ角を有する複数の成膜面に、スパッタリング法により反射膜を形成するにあたり、反射膜の膜原料となるターゲットに対向して、前記回転多面鏡用基板を保持する基板保持部を配置し、前記回転多面鏡用基板を、前記複数の成膜面が前記ターゲット側に向けて、かつ前記中心軸線が前記ターゲットに対して略直交するように前記基板保持部に固定することを特徴とする反射膜の形成方法とした。
この反射膜の形成方法では、ターゲットから全ての成膜面が見える向きで、かつ回転多面鏡用基板の中心軸線とターゲットとが略直交するように、回転多面鏡用基板が配置されるので、この状態でスパッタリングを行うと、一度で全ての成膜面に反射膜が形成される。
【０００６】
請求項２に係る発明は、中心軸線を有する回転多面鏡用基板の外周部に設けられ、前記中心軸線に対して倒れ角を有する複数の成膜面に、スパッタリング法により反射膜を形成するにあたり、前記回転多面鏡用基板を保持する円筒状の基板保持部を、その長さ方向に沿った回転軸回りに回転自在に支持すると共に、反射膜の膜原料となるターゲットを前記基板保持部の外周部に向けて配置し、前記回転多面鏡用基板を、前記複数の成膜面が前記ターゲット側に向けて、かつ前記中心軸線が前記ターゲットに対して略直交するように前記基板保持部に固定し、前記基板保持部をその前記回転軸回りに回転させながら、前記回転多面鏡用基板に成膜をすることを特徴とする反射膜の形成方法とした。
この反射膜の形成方法では、ターゲットから全ての成膜面が見える向きで、かつ回転多面鏡用基板の中心軸線とターゲットとが略直交するように、回転多面鏡用基板が配置され、基板保持部を回転させつつ、スパッタリングを行うので、一度で全ての成膜面に反射膜が形成される。
【０００７】
請求項３に係る発明は、請求項１又は請求項２に記載の反射膜の形成方法において、前記回転多面鏡用基板は、前記成膜面を６つ有するポリゴンミラー用基板であることを特徴とする。
この反射膜の形成方法によれば、ポリゴンミラー用基板の６つの成膜面に対して、同時にスパッタリングにより成膜が行われる。このため、一度に反射膜を形成することでき、ポリゴンミラーを効率良く製造できる。
【０００８】
請求項４に係る発明は、中央に貫通孔を有する基部と、基部の縁部から延設されて前記貫通孔の中心軸線に対して倒れ角を有する複数の成膜面とを備える回転多面鏡用基板に、反射膜を形成して光を反射する反射面とした回転多面鏡であって、前記反射膜は、前記各成膜面と、前記基部において前記成膜面の延長線と前記中心軸線との交点に向かう面の前記貫通孔の周辺を除く全面とに形成されていることを特徴とする回転多面鏡とした。
この回転多面鏡では、中心軸線に平行で、複数の成膜面を視認可能な方向からみたときに、隣り合う２つの成膜面の稜線や、基部との稜線にも反射膜が確実に形成されているので、光を反射する領域として有効な面積が大きく、高品質な反射面が得られる。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、複数の成膜面がターゲット側に向くように、かつ中心軸線がターゲットに対して略直交するように、回転多面鏡用基板を固定した状態で、反射膜をスパッタリングするようにしたので、成膜面ごとに複数回に分けて成膜する場合に比べて、効率良く回転多面鏡を製造することができる。また、特殊な保持具を必要としないので、製造コストを低減できる。さらに、隣接した２つの成膜面の境界を含む全ての成膜面に、切れ目なく反射膜を形成することができるので、高品質の回転多面鏡が得られる。
また、回転多面鏡は、中心軸線に平行で、かつ全ての成膜面が視認可能な向きからみたときに、貫通孔の周辺を除いた全面に反射膜が形成されているので、光を反射する領域を大きくとれる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
発明を実施するための最良の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
図１から図３に第１の実施の形態における回転多面鏡用基板を示す。
回転多面鏡用基板１は、肉薄のプラスチック成形品で、正六角形の基部２と、基部２の各辺部からそれぞれ斜め下方に向かって延設された６つの側部３とを備えている。
基部２は、その中央に貫通孔４が形成されている。貫通孔４の中心軸線Ｃ１は、基部２、つまり回転多面鏡用基板１の中心軸線Ｃ２と一致している。
各側部３の外表面は、反射膜が成膜される成膜面５になっている。図２に示すように、各成膜面５は、中心軸線Ｃ２に対して、それぞれ略同じ倒れ角θを有している。ここで、倒れ角θとは、成膜面５に平行な延長線Ｌ１と中心軸線Ｃ２との交点Ｐ１における角である。
また、図１に示すように、側部３の上端部は、基部２に連なり、その境界は稜線６により区画されている。側部３の側端部は、隣り合う他の側部３の側端部に連なり、その境界は稜線７により区画されている。そして、図３に示すように、各側部３の下端部により、正六角形の開口８が形成されている。
【００１１】
なお、基部２において、交点Ｐ１側、つまり稜線６で区画される頂面２ａは、各側部３の下端部で区画される開口８の面積に比べて面積が小さくなっており、小さい面積部（小囲部）になっている。
また、中心軸線Ｃ２は、回転多面鏡用基板１に反射膜を形成して、ポリゴンミラーとしたときの回転軸となる。
【００１２】
次に、図４を用いて、反射膜を形成するために用いられるスパッタリング装置２０について説明する。
スパッタリング装置２０は、減圧可能な真空槽２１を有している。真空槽２１内の上部には、基板保持部２２が設けられている。真空槽２１内の下部には、膜原料となるターゲット２３ａ，２３ｂが２つ配置されている。また、真空槽２１には、真空槽２１内に不活性ガス（例えばアルゴンガス）を導入するガス導入部２４が取り付けられている。
【００１３】
基板保持部２２は、水平に配置された円盤形状を有している。基板保持部２２の上面２２ａには、基板保持部２２の中心軸線Ｃ３上に支持軸２５が取り付けられている。この支持軸２５は、真空槽２１に回転自在に支持されており、不図示のモータによって支持軸２５及び基板保持部２２を回転させることが可能になっている。また、基板保持部２２の下面２２ｂには、中心軸線Ｃ３を中心とする所定の円周上に、ネジ穴２７が設けられている。このネジ穴２７は、回転多面鏡用基板１を基板保持部２２に固定するために用いるもので、六角穴付きボルト２６が螺入される。
【００１４】
２つのターゲット２３ａ，２３ｂは、基板保持部２２の中心軸線Ｃ３を中心とし、前記ネジ穴２７が設けられている円周と同一の径を有する円周上に、同じ高さで、基板保持部２２に向けて配置されている。つまり、図４では、上下に対向するターゲット２３ａの中心と、ネジ穴２７の中心とを通る直線は、中心軸線Ｃ３と平行になっている。同様に、上下に対向するターゲット２３ｂとネジ穴２７のそれぞれの中心を通る直線も中心軸線Ｃ３に平行である。また、各ターゲット２３ａ，２３ｂの大きさは、対向して配置される各回転多面鏡用基板１の成膜に十分な大きさである。
ターゲット２３ａは、アルミニウムからなる。ターゲット２３ａには、これに所定の電圧を印加するスパッタリング用電源２８ａが接続されている。ターゲット２３ｂは、二酸化珪素からなる。ターゲット２３ｂには、これに所定の電圧を印加するスパッタリング用電源２８ｂが接続されている。
【００１５】
次に、図４に示すようなスパッタリング装置２０を用いて、図１に示すような回転多面鏡用基板１に反射膜を形成するプロセスについて説明する。
まず、真空槽２１内が大気圧の状態で、基板保持部２２に回転多面鏡用基板１を固定する。回転多面鏡用基板１は、基部２を下向きに、開口８（図３参照）を基板保持部２２で覆うように配置する。さらに、基部２の貫通孔４（図１参照）に六角穴付きボルト２６を挿通させつつ、六角穴付きボルト２６を基板保持部２２のネジ穴２７に螺入する。
つまり、基板保持部２２に固定された六角穴付きボルト２６の頭部２６ａによって、基部２の貫通孔４の周辺が支持される。これにより、回転多面鏡用基板１は、中心軸線Ｃ２がターゲット２３ａ，２３ｂに対して略直交し、複数の成膜面５の全てがターゲット２３ａ，２３ｂに向かって配置される。
【００１６】
回転多面鏡用基板１を基板保持部２２に固定したら、真空槽２１を真空ポンプ（不図示）により排気する。真空槽２１内の圧力が所定値に達したら、ガス導入部２４から真空槽２１内にアルゴンガス等の不活性ガスを導入し、真空槽２１内の圧力を１〜８×１０−３Ｐａ程度に調整する。さらに、基板保持部２２をターゲット２３ａ，２３ｂに対向させた状態を維持しつつ、中心軸線Ｃ３回りに回転させる。基板保持部２２が回転し始めると、回転多面鏡用基板１は、中心軸線Ｃ３回りに公転を開始する。
さらに、スパッタリング用電源２８ａを作動させ、ターゲット２３ａに電圧を印加し、イオン化した不活性ガスをターゲット２３ａに衝突させる。その結果、衝突によりターゲット２３ａから叩き出されたアルミニウムが、基板保持部２２と共に回転する回転多面鏡用基板１の表面に堆積し、成膜面５と、六角穴付きボルト２６の頭部２６ａで支持された基部２の表面（頂面）２ａとにアルミニウム薄膜（反射膜）が形成される。
【００１７】
アルミニウム薄膜を所定の厚さで形成させたら、スパッタリング用電源２８ａを停止させ、ターゲット２３ａへの電圧の印加を停止する。そして、スパッタリング用電源２８ｂを作動させ、ターゲット２３ｂによるスパッタリングを開始する。ターゲット２３ｂへの電圧印加により、不活性ガスのイオンがターゲット２３ｂの表面を叩き、その結果として、成膜面５と、六角穴付きボルト２６の頭部２６ａで支持された基部２の頂面２ａとに形成されたアルミニウム薄膜上に二酸化珪素薄膜が形成される。
二酸化珪素薄膜を所定の厚さで形成させたら、スパッタリング用電源２８ｂを停止させ、ターゲット２３ｂへの電圧の印加を停止する。なお、この二酸化珪素薄膜は、アルミニウム薄膜の保護膜として機能する。
【００１８】
このようにして製造した回転多面鏡を図５に示す。
回転多面鏡３０は、全ての側部３の表面、つまり全ての成膜面５上に、反射膜（アルミニウム薄膜）及び保護膜（二酸化珪素薄膜）がこの順番に積層されて、反射面３１が形成されている。また、ターゲット２３ａ，２３ｂに向かって配置されていた基部２の頂面２ａには、貫通孔４の周辺部４ａを除いた全面に反射膜及び保護膜がこの順番に積層されている。貫通孔４の周辺部４ａに成膜されていないのは、六角穴付きボルト２６の頭部２６ａによりマスクされていたためである。なお、隣り合う２つの成膜面５の境界となる稜線７上や、各成膜面５と頂面２ａとの境界となる稜線６上にも、一様に反射膜及び保護膜が形成されている。
【００１９】
この実施の形態によれば、中心軸線Ｃ２に対して倒れ角θを有する成膜面５を複数備える回転多面鏡用基板１に、スパッタリング法により反射膜を成膜するにあたり、基部２をターゲット２３ａ，２３ｂに向けて、かつ中心軸線Ｃ２とターゲット２３ａ，２３ｂとが略直交するように配置したので、一度に全ての成膜面５上に反射膜を形成することができる。このため、成膜に要する時間を短縮することができ、作業効率が向上する。また、このような成膜方法によれば、全ての成膜面５上及びその稜線６，７上に反射膜を形成できる。そして、特殊な形状の基板保持部や、マスクを必要としないので、回転多面鏡用基板１のセッティングが容易で、かつ製造コストを低減できる。
そして、成膜方法の結果物である回転多面鏡３０は、全ての成膜面５上及びその稜線６，７上にも反射膜が形成されているので、広い領域で光を反射させることが可能であり、高品質の反射面３１が得られる。
【００２０】
なお、スパッタリング装置２０は、ターゲット２３ａ，２３ｂが真空槽２１内の上部に下向きに設置されても良い。この場合の基板保持部２２は、真空槽２１内の下部に配置され、基板保持部２２の上面となる面２２ａ側にネジ穴２７が設けられる。また、基板保持部２２を回転させる代わりに、２つのターゲット２３ａ，２３ｂを中心軸線Ｃ３回りに回転させても良い。さらに、基板保持部２２と各ターゲット２３ａ，２３ｂとを、真空槽２１の高さ方向に平行に配置しても良い。
プラスチック製の回転多面鏡用基板１の成膜面５に、反射膜を強固に密着させるために、成膜面５に密着層を形成し、この密着層上に反射膜を形成しても良い。この場合の密着層としては、二酸化珪素膜が好ましい。
反射膜の膜材料は、アルミニウムの代わりに、銀又は金、あるいはその他の金属材料又は合金でも良い。また、保護膜は、反射する光に対して透明な材料であれば、二酸化珪素以外の材料を用いることもできる。
【００２１】
また、この成膜方法は、例えば、４つの成膜面５を備える光学部品、又は成膜面５を５つ、あるいは８つ備える光学部品など、３つ以上の任意の数の成膜面５を備える光学部品に適用することができる。さらに、光学部品が多面鏡用基板である場合には、角錐台形状の基板を用いても良い。また、基板材質は、プラスチックに限定されずに、ガラスや金属などを使用できる。
【００２２】
次に、この発明の第二の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、前記第一の実施の形態と同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、第一の実施の形態と重複する説明は省略する。
この実施の形態は、図１から図３に示すような回転多面鏡用基板に反射膜をスパッタリング法により形成するにあたり、図６に示すようなスパッタリング装置４０を用いることを特徴としている。
【００２３】
スパッタリング装置４０は、減圧可能な真空槽４１を有し、真空槽４１には不活性ガス等を導入可能なガス導入部４２が取り付けられている。また、真空槽４１内には、回転多面鏡用基板１を保持する基板保持部４３が真空槽４１の高さ方向に沿って配置されており、この基板保持部４３を左右に挟むように２つのターゲット４４ａ，４４ｂが配置されている。
【００２４】
基板保持部４３は、外周部４５が円筒状に形成されており、外周部４５の長さ方向に沿って、２つのネジ穴４６が、９０°位相がずれた位置に合計８つ設けられている。また、基板保持部４３は、外周部４５の長さ方向に沿った中心軸線（回転軸）Ｃ４回りに回転自在に真空槽４１に支持されている。基板保持部４３の回転軸は、不図示のモータに連結されており、成膜時には基板保持部４３を所定速度で回転させることができるようになっている。
各ターゲット４４ａ，４４ｂは、外周部４５の径方向に略直交するように配置されている。各ターゲット４４ａ，４４ｂの大きさは、対向して配置される２つの回転多面鏡用基板１の成膜に十分な大きさである。ターゲット４４ａは、アルミニウムからなり、スパッタリング用電源４７ａが接続されている。また、ターゲット４４ｂは、珪素からなり、スパッタリング用電源４７ｂが接続されている。
【００２５】
次に、このようなスパッタリング装置４０を用いて反射膜を形成するプロセスについて説明する。
まず、回転多面鏡用基板１を、その中心軸線Ｃ２が基板保持部４３の径方向と一致するように、基板保持部４３に固定する。具体的には、回転多面鏡用基板１の基部２の貫通孔４（図１参照）に六角穴付きボルト４８を挿通させつつ、六角穴付きボルト４８を基板保持部４３のネジ穴４６に螺入する。これにより、六角穴付きボルト４８の頭部４８ａにより基部２の貫通孔４の周辺が支持され、六角穴付きボルト４８を介して回転多面鏡用基板１が基板保持部４３に位置決めして固定される。
【００２６】
回転多面鏡用基板１を固定したら、真空槽４１内を排気する。その後、アルゴンガス等の不活性ガス及び酸素ガスを導入し、真空槽４１内の圧力を１〜８×１０−３Ｐａ程度に調整し、基板保持部４３をその中心軸線Ｃ４回りに回転させる。基板保持部４３の回転に伴い、回転多面鏡用基板１は、中心軸線Ｃ４回りに公転する。
そして、スパッタリング用電源４７ｂを作動させてターゲット４４ｂに電圧を印加し、不活性ガスのイオンで珪素をターゲット４４ｂから叩き出させる。この珪素と酸素ガスとから、回転多面鏡用基板１の側部３の成膜面５上及び基部２の頂部２ａ上の露出する部分に二酸化珪素薄膜が形成される。
二酸化珪素薄膜を所定の厚さで形成したら、ターゲット４４ｂへの電圧印加を停止する。そして、この二酸化珪素薄膜を密着層として、アルミニウム薄膜を形成させる。すなわち、酸素ガスの導入を停止させ、不活性ガスのみで、真空槽４１内の圧力を１〜８×１０−３Ｐａ程度に調整する。次に、スパッタリング用電源４７ａを作動させてターゲット４４ａに電圧を印加し、回転多面鏡用基板１の二酸化珪素薄膜上にアルミニウム薄膜を形成する。
アルミニウム薄膜を所定の厚さで形成したら、ターゲット４４ａへの電圧印加を停止し、アルミニウム薄膜上に二酸化珪素薄膜からなる保護膜を、前記の密着層と同様にして形成する。
【００２７】
このようにして製造された回転多面鏡は、図５に示すように、６つの成膜面５上と、基部２上の貫通孔４の周辺部４ａを除く全面とに密着層（二酸化珪素薄膜）及び反射膜（アルミニウム薄膜）並びに保護膜（二酸化珪素薄膜）が、この順番に積層されている。これらの薄膜の堆積によって側部３の外表面に形成される反射面３１は、隣り合う２つの成膜面５の境界となる稜線７上や、各成膜面５と頂面２ａとの境界となる稜線６上にも、一様に密着層及び反射膜並びに保護膜が形成されている。
【００２８】
この実施の形態によれば、中心軸線Ｃ２に対して倒れ角θを有する成膜面５を複数備える回転多面鏡用基板１に、スパッタリング法により反射膜を成膜するにあたり、基部２をターゲット４４ａ，４４ｂに向けて、かつ回転多面鏡用基板１の中心軸線Ｃ２とターゲット４４ａ，４４ｂとが略直交するように配置したので、一度に全ての成膜面５に反射膜を形成することができる。このため、成膜に要する時間を短縮することができ、作業効率が向上する。また、このような成膜方法によれば、全ての成膜面５上及びその稜線６，７上に反射膜を形成できる。
そして、成膜方法の結果物である回転多面鏡３０は、全ての成膜面５上及びその稜線６，７上にも反射膜が形成されているので、広い領域で光を反射させることが可能な、高品質の反射面３１が得られる。また、密着層を設けてあるので、反射膜と回転多面鏡用基板１との密着強度が高く、耐久性に優れている。
【００２９】
なお、図６において、基板保持部４３の中心軸線Ｃ４と、真空槽４１の高さ方向とは一致しているが、基板保持部４３の中心軸線Ｃ４が真空槽４１に対して水平に設けられても良い。
また、基板保持部４３の外周部４５は、円筒形状に限定されずに、六角柱などの角柱形状であっても良い。この場合には、ネジ穴４６は、基板保持部４３の長さ方向に沿った中心軸線Ｃ４と直交し、かつ角柱形状を有する側面に直交するように設けられる。
さらに、密着層を形成せずに、成膜面に直接に反射膜を形成しても良い。また、ターゲット４４ｂには、二酸化珪素を用いても良い。この場合に、真空槽４１内に導入されるガスは、不活性ガスのみでも良いし、不活性ガスと酸素ガスの混合ガスでも良い。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の実施の形態における回転多面鏡用基板の斜視図である。
【図２】回転多面鏡用基板の側面図であって、上側半分を断面にした図である。
【図３】回転多面鏡用基板を下側から見た図である。
【図４】本発明の実施の形態におけるスパッタリング装置の構成を示す図である。
【図５】本発明の実施の形態における回転多面鏡の平面図である。
【図６】本発明の実施の形態におけるスパッタリング装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００３１】
１      回転多面鏡用基板
２      基部
２ａ    頂面
３      側部
４      貫通孔
４ａ    周辺部（周辺）
５      成膜面
２２，４３      基板保持部
２３ａ，２３ｂ，４４ａ，４４ｂ      ターゲット
３０    回転多面鏡
３１    反射面
Ｃ２    中心軸線
Ｃ３    中心軸線（回転軸）
Ｃ４    中心軸線（回転軸）
Ｌ１    延長線
Ｐ１    交点
【図１】
2005208212.tif 000003
【図２】
2005208212.tif 000004
【図３】
2005208212.tif 000005
【図４】
2005208212.tif 000006
【図５】
2005208212.tif 000007
【図６】
2005208212.tif 000008