(57)【要約】【課題】  高感度、高解像度であり、かつ、黄色安全灯での保存安定性にも優れ、特には青紫色レーザーを光源とする露光機で露光するのに適したフォトレジストフィルムを提供すること。【解決手段】  カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、吸収主波長が３９０ｎｍ以下である光重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］と支持フィルム［II］を積層してなるフォトレジストフィルムであって、該感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］の硬化前の波長４０５ｎｍの光線における光透過率が１５〜５０％であるフォトレジストフィルム。【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、吸収主波長が３９０ｎｍ以下である光重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］と支持フィルム［II］を積層してなるフォトレジストフィルムであって、該感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］の硬化前の波長４０５ｎｍの光線における光透過率が１５〜５０％であることを特徴とするフォトレジストフィルム。
【請求項２】
光重合開始剤（Ｃ）として、アルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）及び下記一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）を含有することを特徴とする請求項１記載のフォトレジストフィルム。
【化１】
2005292289.tif 000011
（１）
Ｘは塩素原子を表し、ｉおよびｊは、それぞれ独立に０〜４の整数、Ｙはそれぞれ独立に水素原子あるいは塩素原子を表す。Ｒは炭素数１〜３のアルコキシ基を表し、ｋ、ｌ、ｍ、ｎは１２≧ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ≧２を満たす０〜３の整数である。
【請求項３】
光重合開始剤（Ｃ）として、更にＮ−アリールグリシン（Ｃ３）及び／又はアクリジン誘導体（Ｃ４）を含有することを特徴とする請求項１又は２記載のフォトレジストフィルム。
【請求項４】
更に、染料（Ｄ）として、一般式（２）で示される化合物（Ｄ１）及び／又はロイコ染料（Ｄ２）を含有することを特徴とする請求項１〜３いずれか記載のフォトレジストフィルム。
【化２】
2005292289.tif 000012
（２）
Ｚはアルキルアミノ基を表す。Ｒ′は置換、非置換のアルキル基、フェニル基を表す。
【請求項５】
更に、感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］側に保護フィルム［III］を積層してなることを特徴とする請求項１〜４いずれか記載のフォトレジストフィルム。
【請求項６】
青紫色レーザー露光機で露光する際に用いられることを特徴とする請求項１〜５いずれか記載のフォトレジストフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリント配線板の製造や金属の精密加工に用いられるエッチングレジスト、めっきレジストに適した感光性樹脂組成物及びそれを用いたフォトレジストフィルムに関し、更に詳しくは、高感度、高解像度であり、かつ、黄色安全灯での保存安定性にも優れたフォトレジストフィルムに関するものであり、特に青紫色レーザー露光機で露光するのに適したフォトレジストフィルムである。
【背景技術】
【０００２】
従来、プリント配線板や金属の精密加工の製造工程においては、まず、基材に感光性樹脂組成物をそのまま塗布するか、または感光性樹脂組成物からフォトレジストフィルムを作製し該フォトレジストフィルムを基材にラミネートした後、露光が行われる。かかる感光性樹脂組成物の露光に当たっては、紫外線の他にレーザーが用いられており、かかるレーザーを用いた露光は、パターンマスクを使用しなくても目的とする形状の画像が形成できるので、少量多品種生産や、生産時間の短縮といった利点を持っている。しかしながら、通常かかるレーザーは、近紫外線領域に発振周波数をもつので、充分な出力を有する光源を確保するには装置が高価となり、従って、通常は出力の低い光源の使用が余儀なくされ、必然的に該光源では露光量が低くなってしまうため、かかる低い露光量でも充分な感度を有する感光性樹脂組成物が要求されている。
【０００３】
上記のような低露光量でも高感度を有する感光性樹脂組成物として、本出願人は、バインダー樹脂、エチレン性不飽和化合物及び、ロフィン二量体、Ｎ−アリールグリシン、アルキルアミノベンゾフェノンを含有する光重合開始剤、特定構造の化合物を含有する感光性樹脂組成物（例えば、特許文献１及び２参照。）を提案した。
【特許文献１】特開平２００３−１６７３３８号公報
【特許文献２】特開平２００３−１７７５２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１及び２の開示技術では、低露光量で高感度の感光性樹脂組成物とはなるものの、いずれも紫外線照射を対象としているもので、光源コストの低減が期待される青紫色レーザー（ｈ線：３９０〜４２０ｎｍ）を光源とする露光については考慮されておらず、かかる点での更なる改良が求められるところである。
又、青紫色レーザー露光に対応すべく、ｈ線から長波長に吸収主波長を有する増感色素を併用した場合には、一般的な作業環境である黄色安全灯においても感光してしまい現像不能となり、暗室あるいは赤色安全灯下での作業を余儀なくされ、作業性に問題が生じるものであった。
【０００５】
そこで、本発明ではこのような背景下において、高感度、高解像度であり、かつ、黄色安全灯での保存安定性にも優れ、特には青紫色レーザーを光源とする露光機で露光するのに適したフォトレジストフィルムを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
しかるに、本発明者はかかる事情に鑑み鋭意研究を重ねた結果、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、吸収主波長が３９０ｎｍ以下である光重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］と支持フィルム［II］を積層してなるフォトレジストフィルムであって、該感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］の硬化前の波長４０５ｎｍの光線における光透過率が１５〜５０％であるフォトレジストフィルムが上記目的に合致することを見出し、本発明を完成した。
尚、吸収主波長とは、波長３２０〜７００ｎｍの範囲で、最大の吸収強度となる波長のことである。具体的には、光重合開始剤をメタノールに溶解し、濃度０．０２ｇ／ｌのメタノール溶液として、日立製作所社製「Ｕ−３０００型分光光度計」（１ｃｍセル）を用い、波長３２０〜７００ｎｍの範囲での吸光度を５ｎｍ毎に測定し、最大の吸収強度となる波長を吸収主波長とした。
【０００７】
本発明では、光重合開始剤（Ｃ）として、アルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）及び下記一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）を含有することが樹脂画像の高精細化の点で好ましく、更にＮ−アリールグリシン（Ｃ３）及び／又はアクリジン誘導体（Ｃ４）を含有することが感度向上の点で好ましい。
【０００８】
【化３】
2005292289.tif 000002
（１）
Ｘは塩素原子を表し、ｉおよびｊは、それぞれ独立に０〜４の整数、Ｙはそれぞれ独立に水素原子あるいは塩素原子を表す。Ｒは炭素数１〜３のアルコキシ基を表し、ｋ、ｌ、ｍ、ｎは１２≧ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ≧２を満たす０〜３の整数である。
【０００９】
又、本発明では、染料（Ｄ）として、一般式（２）で示される化合物（Ｄ１）及び／又はロイコ染料（Ｄ２）を含有することが画像の可視化の点で好ましい。
【化４】
2005292289.tif 000003
（２）
Ｚはアルキルアミノ基を表す。Ｒ′は置換、非置換のアルキル基、フェニル基を表す。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のフォトレジストフィルムは、高感度、高解像度であり、かつ、黄色安全灯での保存安定性にも優れた効果を有するものであり、特に青紫色レーザーを光源とする露光機で露光するのに適したフォトレジストフィルムである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で用いられる感光性樹脂組成物は、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）及び吸収主波長が３９０ｎｍ以下である光重合開始剤（Ｃ）を含有するものであり、かかるカルボキシル基含有ポリマー（Ａ）としては、アクリル系重合体、ポリエステル系重合体、ポリアミド系重合体、エポキシ系重合体等が例示され、中でも（メタ）アクリル酸エステルを主成分とし、これにエチレン性不飽和カルボン酸および必要に応じてその他の共重合可能なモノマーを共重合させてなるアクリル系重合体を用いることが好ましく、以下、かかるアクリル系重合体について説明する。但し、これに限定されるものではない。
【００１２】
上記（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１３】
上記エチレン性不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸が好適に用いられ、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸等のジカルボン酸や、それらの無水物やハーフエステルを用いることもできる。中でも、アクリル酸、メタクリル酸が特に好ましい。
【００１４】
上記その他の共重合可能なモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリルアミド、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレートアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、スチレン、ビニルナフタレン、ビニルシクロヘキサン、ビニルトルエン、酢酸ビニル、アルキルビニルエーテル、（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。
【００１５】
かかるアクリル系重合体は、重量平均分子量が０．５万〜１０万が好ましく、更には３万〜８万が好ましく、酸価は１００〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、更には１２０〜２２０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。
【００１６】
かかる重量平均分子量が０．５万未満では硬化後の感光性樹脂組成物が脆くなることがあり、逆に１０万を越えると解像度やレジスト剥離性が低下する傾向にある。又、上記酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ未満では解像度やレジスト剥離性が低下し、逆に３００ｍｇＫＯＨ／ｇを越えると細線密着性が低下する傾向にある。
【００１７】
更に、上記アクリル系重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は３０〜１３０℃の範囲が好ましく、更には６０〜１００℃の範囲が好ましい。ガラス転移温度が３０℃未満では感光性樹脂組成物が流動し易く、フォトレジストフィルムとしてロール状とする時にエッジフュージョンを引き起すことがあり、一方１３０℃を越えるとフォトレジストフィルムとして用いた時の基板表面の凹凸への追従性が低下することがあり好ましくない。
【００１８】
本発明で用いるエチレン性不飽和化合物（Ｂ）としては、単官能モノマーや多官能モノマーが用いられ、かかる単官能モノマーとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、フタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、アルキルフェノールポリエトキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノールテトラエトキシアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００１９】
多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、β−ヒドロキシエチル−β′−アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシヒバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物トリアクリレート、トリメチロールプロパンのプロポレンオキサイド付加物トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、２，２′−ビス（４−（メタ）アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２′−ビス（４−（メタ）アクリロキシペンタエトキシフェニル）プロパン、２，２′−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルアクリレートや下記一般式（３）〜（６）で示されるウレタン結合を含有する多官能モノマーが挙げられる。
【００２０】
【化５】
2005292289.tif 000004
（３）
【００２１】
【化６】
2005292289.tif 000005
（４）
【００２２】
【化７】
2005292289.tif 000006
（５）
【００２３】
【化８】
2005292289.tif 000007
（６）
【００２４】
上記の一般式（３）〜（６）において、Ｒ1は水素又は炭素数１〜３のアルキル基、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は各々独立に炭素数２〜５のアルキレン基、Ｘ、Ｙは炭素数２〜２０の２価の炭化水素基、l、ｍ、ｎは各々独立に０〜３０の整数を示す。
【００２５】
上記のカルボキシル基含有ポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の混合割合（重量比）は、（Ａ）／（Ｂ）＝４０／６０〜７０／３０の範囲が好ましく、特には（Ａ）／（Ｂ）＝４５／５５〜６０／４０の範囲が好ましい。かかる混合割合が４０／６０未満では硬化した感光性樹脂組成物が脆くなることがあり、逆に７０／３０を越えるとレジスト形状が悪化し、感度が低下する恐れがあり好ましくない。
【００２６】
本発明で用いられる光重合開始剤（Ｃ）としては、吸収主波長が３９０ｎｍ以下、好ましくは３２０〜３９０ｎｍの光重合開始剤であることが必要で、吸収主波長が３９０ｎｍを越える光重合開始剤を使用すると黄色安全灯の作業環境において光かぶりを発生させ、良好なパターン形状が得られなくなり、良好な解像度が得られない。
かかる光重合開始剤（Ｃ）の具体例としては、吸収主波長が３９０ｎｍ以下、好ましくは３２０〜３９０ｎｍのものであれば特に限定されず、アルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）、上記一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）、Ｎ−アリールグリシン（Ｃ３）、アクリジン誘導体（Ｃ４）、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン誘導体、アルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、トリアジン誘導体、クマリン誘導体等が挙げられるが、中でもアルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）、上記一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）、Ｎ−アリールグリシン（Ｃ３）、アクリジン誘導体（Ｃ４）が特に好適であり、１種又は２種以上併用して用いられる。
【００２７】
アルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）としては、例えば、４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３′−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられ、中でも４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが特に好ましく、これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２８】
上記一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）としては、上記一般式（１）で示される構造のものであればよいが、一般式（１）において、Ｘは塩素原子を表し、ｉ及びｊはそれぞれ独立に０〜４の整数、Ｙはそれぞれ独立に水素原子あるいは塩素原子を表し、Ｒは炭素数１〜３のアルコキシ基を表し、ｋ、ｌ、ｍ、ｎは１２≧ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ≧２を満たす０〜３の整数である。
【００２９】
上記一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）の具体例としては、例えば、２，２′−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（３−メトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（４−メトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（３−メトキシフェニル）フェニルビスイミダゾール、２，２′−ビス（２，５−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（３−メトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′−ビス（２，６−ジクロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（３−メトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′，４，４′−テトラキス（２−クロロフェニル）−５，５′−ビス（３−メトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′，４，４′−テトラキス（２−クロロフェニル）−５，５′−ビス（４−メトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′，４，４′−テトラキス（２−クロロフェニル）−５，５′−ビス（２，３−ジメトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′，４，４′−テトラキス（２−クロロフェニル）−５，５′−ビス（３，４−ジメトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４，４′５，５′−テトラキス（４−メトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（３，４−ジメトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラキス（３，４，５−トリメトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４，５−ビス（３−メトキシフェニル）−４′，５′−ジフェニルビスイミダゾール、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４，５−ビス（３，４−ジメトキシフェニル）−４′，５′−ジフェニルビスイミダゾール、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４′，５，５′−トリフェニルビスイミダゾール  等が挙げられ、中でも  ２，２′，４，４′−テトラキス（２−クロロフェニル）−５，５′−ビス（３−メトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′，４，４′−テトラキス（２−クロロフェニル）−５，５′−ビス（２，３−ジメトキシフェニル）ビスイミダゾール、２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−４′，５，５′−トリフェニルビスイミダゾールが好適であり、これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００３０】
Ｎ−アリールグリシン（Ｃ３）としては、例えば、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシンブチルエステル、Ｎ−ｐ−メチルフェニルグリシンエチルエステル、Ｎ−メトキシフェニルグリシン等が挙げられ、中でもＮ−フェニルグリシンが好ましく、これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００３１】
アクリジン誘導体（Ｃ４）としては、例えば、９−フェニルアクリジン、９−（ｐ−メチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−エチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｎ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｎ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−メチキシフェニル）アクリジン、９−（ｐ−エトキシフェニル）アクリジン、９−（ｐ−アセチルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｐ−シアノフェニル）アクリジン、９−（ｐ−クロルフェニル）アクリジン、９−（ｐ−ブロモフェニル）アクリジン、９−（ｍ−メチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｎ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｎ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−メチキシフェニル）アクリジン、９−（ｍ−エトキシフェニル）アクリジン、９−（ｍ−アセチルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ジメチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ジエチルアミノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−シアノフェニル）アクリジン、９−（ｍ−クロルフェニル）アクリジン、９−（ｍ−ブロモフェニル）アクリジン、９−メチルアクリジン、９−エチルアクリジン、９−ｎ−プロピルアクリジン、９−ｉｓｏ−プロピルアクリジン、９−シアノエチルアクリジン、９−ヒドロキシエチルアクリジン、９−クロロエチルアクリジン、９−メトキシアクリジン、９−エトキシアクリジン、９−ｎ−プロポキシアクリジン、９−ｉｓｏ−プロポキシアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、フェニルベンゾアクリジン、９−クロロエトキシアクリジン等が挙げられ、中でも  ９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタンが好ましく、これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００３２】
本発明においては特に、光重合開始剤（Ｃ）として、アルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）及び上記一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）を併用することが微細パターンの形成性の点で好ましく、更には、アルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）及び上記一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）に加え、Ｎ−アリールグリシン（Ｃ３）及び／又はアクリジン誘導体（Ｃ４）を併用することが感度の点で好ましい。
【００３３】
本発明において、光重合開始剤（Ｃ）全体の含有量は、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、０．５〜１０．０重量部であることが好ましく、特には１．０〜６．０重量部、更には１．５〜４．０重量部であることが好ましく、０．５重量部未満では必要な感度が得られず、１０．０重量部を越えると感光性樹脂中に不溶解物を生じるため好ましくない。
【００３４】
又、アルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）及び一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）を併用する場合は、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、アルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）は０．０５〜２．０重量部であることが好ましく、特には０．１〜１．５  重量部、更には０．２〜１．０重量部であることが好ましく、一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）は０．５〜８．０重量部であることが好ましく、特には１．０〜６．０重量部、更には１．５〜４．０重量部であることが好ましい。アルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）が０．０５重量部未満では必要な感度が得られず解像性も悪化し、２．０重量部を越えると４０５ｎｍの光透過率を１５〜５０％にすることが困難であり、良好なパターン形状を得ることができず好ましくない。
【００３５】
又、アルキルアミノベンゾフェノン（Ｃ１）と一般式（１）で示されるヘキサアリールビイミダゾール誘導体（Ｃ２）に加え、更にＮ−アリールグリシン（Ｃ３）及び／又はアクリジン誘導体（Ｃ４）を併用する場合は、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、Ｎ−アリールグリシン（Ｃ３）の含有量は０．０１〜２．０重量部、特には０．０３〜１．０重量部、更には０．０５〜０．７重量部であることが好ましく、アクリジン誘導体（Ｃ４）の含有量は０．０１〜５．０重量部、特には０．０５〜３．０重量部、更には０．１〜２．０重量部であることが好ましい。
【００３６】
Ｎ−アリールグリシン（Ｃ３）の含有量が０．０１重量部未満では感度が低くなり、２．０重量部を越えると解像性及び密着性が低下するため好ましくなく、アクリジン誘導体（Ｃ４）の含有量が０．０１重量部未満では感度が低くなり、５．０重量部を越えると解像性が低下するため好ましくない。
【００３７】
本発明においては、上記の光重合開始剤（Ｃ）以外に、吸収主波長が３９０ｎｍを越える光重合開始剤、例えば、三酢酸リボフラビン、ジアミノアントラキノン等のアントラキノン誘導体、クマリン６等のクマリン誘導体等を、本発明の効果を損なわない範囲内において併用することもできるが、好ましくは光重合開始剤のすべてを吸収主波長が３９０ｎｍ以下の光重合開始剤（Ｃ）とすることが黄色安全灯下での保存安定性の点で好ましい。
【００３８】
かくして、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性樹脂組成物が得られるが、本発明では更に、染料（Ｄ）として、上記一般式（２）で示される化合物（Ｄ１）及び／又はロイコ染料（Ｄ２）を含有することが画像の可視性の点で好ましい。
【００３９】
かかる一般式（２）で示される化合物（Ｄ１）としては、上記一般式（２）示される構造のものであれば特に限定されない。一般式（２）において、Ｚはアルキルアミノ基を表し、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等であり、Ｒ′は置換、非置換のアルキル基、フェニル基を表し、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，３−ジメチルブチル基等のアルキル基、フェニル基やジメチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、エトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基等の置換フェニル基であり、好ましくはエチル基、エトキシフェニル基である。
【００４０】
上記一般式（２）で示される化合物（Ｄ１）としてより具体的には、Ｚ＝ジエチルアミノ基、Ｒ′＝エチル基で示される化合物（ソルベントブルー５）、Ｚ＝ジメチルアミノ基、Ｒ′＝エトキシフェニル基で示される化合物（ソルベントブルー８１）、Ｚ＝ジメチルアミノ基、Ｒ′＝フェニル基で示される化合物（ソルベントブルー４）等が挙げられる。
又、ロイコ染料（Ｄ２）としては、例えば、ロイコクリスタルバイオレット、ロイコマラカイトグリーン、ロイコベルリンブルー１等が挙げられる。
【００４１】
本発明において、染料（Ｄ）として、一般式（２）で示される化合物（Ｄ１）を用いる場合、その含有量は、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、０．００１〜１．０重量部、特には０．００５〜０．５重量部、更には０．０１〜０．１重量部であることが好ましく、０．００１重量部未満では現像後の画像が視認しづらくなり、１．０重量部を越えると波長４０５ｎｍにおける光透過率を１５〜５０％に調整することが困難になり現像後パターン形状が著しい逆台形となり好ましくない。又、ロイコ染料（Ｄ２）を用いる場合、その含有量は、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、０．０１〜２．０重量部、特には０．０５〜１．５重量部、更には０．１〜１．０重量部であることが好ましく、０．０１重量部未満では画像可視性に劣り、感度も低くなり、２．０重量部を越えると密着性が悪くなり好ましくない。
【００４２】
本発明において、波長４０５ｎｍの光透過率を１５〜５０％に調整する目的で、光重合作用を有さず、波長４０５ｎｍに吸収を有する化合物を使用することができる。
【００４３】
尚、本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、可飽和吸収色素、可塑剤、酸化防止剤、溶剤、表面張力改質剤、安定剤、連鎖移動剤、消泡剤、界面活性剤等の周知の添加剤を配合しても差し支えない。
【００４４】
かかる添加剤として、基材表面の変色防止の目的で、トリアリールホスフィン（Ｅ）を配合するのが好ましく、トリアリールホスフィンとしては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、トリキシリルホスフィン、トリビフェニルホスフィン、トリナフチルホスフィン、トリアントリルホスフィン、トリフェナントリルホスフィン等が挙げられ、中でもトリフェニルホスフィンが特に好ましい。
かかるトリアリールホスフィンの含有量は、カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）とエチレン性不飽和化合物（Ｂ）の合計１００重量部に対して、０．００１〜２．０重量部、特には０．００５〜０．５重量部、更には０．０１〜０．１重量部であることが好ましく、０．０１重量部未満では変色防止効果が不充分となり、２．０重量部を越えると露光硬化後の樹脂が脆くなり好ましくない。
【００４５】
かくして感光性樹脂組成物が得られるが、本発明においては、該感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］の硬化前の波長４０５ｎｍの光線における光透過率が１５〜５０％であることが必要であり、好ましくは２０〜４５％、特に好ましくは３０〜４０％である。かかる光透過率が１５％未満では現像後のパターン形状が著しい逆台形になるばかりか感度も低くなり、５０％を越えると充分な解像度が得られなくなり本発明の効果が得られない。
【００４６】
かかる光透過率を１５〜５０％に調整するに当たっては、特に限定されないが、例えば、用いる光重合開始剤（Ｃ）の種類の選択やそれらの含有量、或いは後述の如きフォトレジストフィルムにする際の感光性樹脂組成物層［Ｉ］の厚み、染料（Ｄ１）の種類の選択やそれらの含有量、また光開始剤として作用しない上記以外の化合物の種類の選択やそれらの含有量等により調整することができる。
【００４７】
かくして本発明で用いられる感光性樹脂組成物が得られるわけであり、該感光性樹脂組成物は、高感度、高解像度に優れ、パターン形成性が良好で、黄色安全灯での保存安定性にも優れるため、青紫色レーザー露光機で露光するに用いられる感光性樹脂組成物として非常に有用である。
次に、かかる感光性樹脂組成物を用いたフォトレジストフィルムについて説明する。
【００４８】
本発明のフォトレジストフィルムは、支持フィルム［II］と上記で得られた感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］を積層してなるもの、又は、支持フィルム［II］、上記で得られた感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］、保護フィルム［III］を積層してなるものである。
具体的には、支持フィルム［II］に、上記感光性樹脂組成物を塗工し乾燥した後、必要に応じて、更にその上面に保護フィルム［III］を積層することにより得られる。
【００４９】
上記支持フィルム［II］としては特に限定はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等が挙げられるが、中でもＰＥＴフィルム好ましい。
又、本発明においては、かかる支持フィルム［II］のヘイズが２．０％以下であるフィルムを用いることがパターン品位の点で好ましく、特には１．５％以下、更には１．０％以下のものが好ましい。かかるヘイズが２．０％を越えるフィルムではパターン側壁にぎざつきが起こり好ましくない。
【００５０】
上記保護フィルム［III］としては、フォトレジストフィルムをロール状にしておく場合に、粘着性を有する感光性樹脂組成物層［Ｉ］の支持フィルム［II］への転着等を防止する目的で使用されるものであり、例えば、ポリエチレンフィルム、ＰＥＴフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリ四フッ化エチレンフィルム、ナイロンフィルム等が挙げられるが、中でもポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムが好ましい。
【００５１】
又、本発明においては、保護フィルム［III］の感光性樹脂組成物層［Ｉ］側表面の最大粗さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下であり、かつ長径８０μｍ以上のフィッシュアイの含有量が８個／ｍ２以下であるフィルムを用いることがマイクロボイド防止の点で好ましく、最大粗さ（Ｒｙ）の好ましい範囲は５．０μｍ以下、特には２．０μｍ以下であり、フィッシュアイの含有量の好ましい範囲は８個／ｍ２以下、特には４個／ｍ２以下である。かかる最大粗さ（Ｒｙ）が５．０μｍを越えるとマイクロボイドが発生しやすくなり、フィッシュアイの含有量が８個／ｍ２を越えるとマイクロボイドが発生したとき歩留りに及ぼす影響が大きくなり好ましくない。
【００５２】
フォトレジストフィルムを製造するに当たっては、例えば、支持フィルム［II］の片面に、本発明の感光性樹脂組成物を均一に塗布し、５０〜１２０℃、もしくは順次温度の高くなるオーブンで２〜１０分間乾燥して感光性樹脂組成物層［Ｉ］を形成し、次いで、該層［Ｉ］の上面に保護フィルム［III］を加圧積層することにより製造することができる。
【００５３】
フォトレジストフィルムにおいて、感光性樹脂組成物層［Ｉ］の厚みは、６０μｍ以下が好ましく、特には１０〜５０μｍ、更には１５〜３０μｍが好ましい。かかる厚みが６０μｍを越えると充分な感度を得ることが困難となる。また、上記支持フィルム［II］の厚みは、通常５〜２５μｍであり、好ましくは１２〜２０μｍである。かかる厚みが５μｍ未満では、フィルムが柔軟すぎて取り扱いに不便であり、逆に２５μｍを越えると、基板表面の凹凸部への追従性が低下したり、コストアップとなり好ましくない。上記保護フィルム［III］の厚みは、通常１０〜５０μｍであり、好ましくは１０〜３０μｍである。
【００５４】
かくして得られたフォトレジストフィルムは、例えば、プリント配線板、金属の精密加工の製造工程に用いられるエッチングレジスト、めっきレジストに有用である。特に、本発明のフォトレジストフィルムは、高感度で高解像度を示すものであり、レーザー露光、とりわけ青紫色レーザーによる露光でも充分な感度を示し、良好なパターン形状を得ることができる。
【００５５】
次に、かかるフォトレジストフィルムを用いたプリント配線板の製法について、工程順に説明する。
プリント配線板の基板としては銅張基板や４２アロイ、ＳＵＳ等の基板が用いられ、かかる基板と感光性樹脂組成物との密着性を上げるために、機械的研磨や酸系の薬剤で基板表面の金属面をソフトエッチングしておいてもよい。
【００５６】
〔露光〕
フォトレジストフィルムによって上記の基板上に画像を形成させるには、該フォトレジストフィルムの保護フィルム［III］を剥離し、感光性樹脂組成物層［Ｉ］側を、基板の金属面に貼り付ける。次いで、直描露光機等により所望のパターン画像を直接焼き付ける。かかる直描露光機の光源としてはアルゴンレーザー、ＹＡＧレーザーの第３高調波、ＹＶＯ４レーザーの第３高調波、半導体レーザー等が用いられる。近年、青紫色半導体レーザー光源に用い、二次元マイクロミラーアレイによりパターン画像を形成する直描露光機が開発され、装置コスト低減が期待されるため注目されている。特に本発明においては、青紫色レーザーによる露光発振波長３９０〜４２０ｎｍ（ｈ線）に適したものである。
【００５７】
また、本発明においては従来のパターンマスクを使用するタイプの露光機も用いることもできる。コンタクト露光の場合、支持フィルム［II］上にパターンマスクを置いて露光する。投影露光の場合、投影光学体を挟んでラミネート済みの基材とパターンマスクが配置されるため、支持フィルム［II］との接触によるパターンマスクの劣化を防止することができる。尚、投影露光の時は支持フィルム［II］とパターンマスクの間隔は、パターンの焦点が支持フィルム［II］乃至は基材表面上で合うように調整する。
【００５８】
〔現像〕
露光後は、支持フィルム［II］を剥離除去してから現像を行う。上記感光性樹脂組成物は希アルカリ現像型であるので、現像は、炭酸ソーダ、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリの０．３〜３重量％水溶液を用いて行う。尚、上記アルカリ水溶液中には、界面活性剤，消泡剤や現像を促進させるために少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
【００５９】
〔エッチング、めっき〕
エッチングは、通常、塩化第二銅−塩酸水溶液や、塩化第二鉄−塩酸水溶液等の酸性エッチング液を用いて、常法に従って行う。希にアンモニア系のアルカリエッチング液も用いられる。めっき法は、脱脂剤、ソフトエッチング剤等のめっき前処理剤を用いて前処理を行った後、めっき液を用いてめっきを行う。
【実施例】
【００６０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
尚、以下、「部」、「％」とあるのは、特に断りのない限り重量基準である。
【００６１】
・カルボキシル基含有ポリマー（Ａ）として以下のものを調製した。
〔カルボキシル基含有ポリマー（Ａ１）〕
メチルメタクリレート／ｎ−ブチルアクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／メタクリル酸＝６１／１１／５／２３（重量比）の割合で重合させて得られたアクリル系重合体（重量平均分子量：７．５万、酸価：１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ：９４℃）
〔カルボキシル基含有ポリマー（Ａ２）〕
メチルメタクリレート／スチレン／２−エチルへキシルカルビトールメタクリレート／メタクリル酸＝３２／３０／１０／２８（重量比）の割合で重合させて得られたアクリル系重合体（重量平均分子量：７万、酸価：２０３ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ：９９℃）
【００６２】
・エチレン性不飽和化合物（Ｂ）として以下のものを用いた。
〔エチレン性不飽和化合物（Ｂ１）〕
２，２′−ビス［４−（メタクリロキシ・ポリエトキシ）フェニル］プロパン
（エチレンオキサイドの繰り返し単位数＝１０）
〔エチレン性不飽和化合物（Ｂ２）〕
下記式で示される化合物（日本油脂社製、「３０ＰＤＣ８００Ｂ」）
【化９】
2005292289.tif 000008
但し、ｌ＝ｎ＝１〜２の整数、ｍ＝７〜１０の整数である。
〔エチレン性不飽和化合物（Ｂ３）〕
テトラエチレングリコールジメタクリレート
〔エチレン性不飽和化合物（Ｂ４）〕
２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸
【００６３】
・光重合開始剤（Ｃ）として以下のものを用いた。
〔光重合開始剤（Ｃ１−１）〕
４，４′−ビス（ジエチルアミノ）エチルベンゾフェノン（吸収主波長：３７５ｎｍ）
〔光重合開始剤（Ｃ２−１）〕
一般式（１）において、ｉ＝ｊ＝０、Ｙ＝Ｃｌ、Ｒ＝メトキシ基、ｋ＝ｎ＝０、ｌ＝ｎ＝２である化合物（フェニル基の２，３位に置換）（吸収主波長：３５０ｎｍ）
〔光重合開始剤（Ｃ２−２）〕
一般式（１）において、ｉ＝ｊ＝０、Ｙ＝Ｈ、Ｒ＝メトキシ基、ｋ＝ｌ＝ｍ＝ｎ＝３である化合物（フェニル基の２，３，４位に置換）（吸収主波長：３３５ｎｍ）
〔光重合開始剤（Ｃ２−３）〕
一般式（１）において、ｉ＝ｊ＝１（フェニル基の３位に置換）、Ｙ＝Ｈ、Ｒ＝メトキシ基、ｋ＝ｌ＝ｍ＝ｎ＝１（フェニル基の４位に置換）である化合物（吸収主波長：３３０ｎｍ）
〔光重合開始剤（Ｃ２−４）〕
２，２′−ビス（２−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビスイミダゾール（吸収主波長：３２０ｎｍ）
〔光重合開始剤（Ｃ３−１）〕
Ｎ−フェニルグリシン（吸収主波長：３２０ｎｍ）
〔光重合開始剤（Ｃ４−１）〕
９−フェニルアクリジン（吸収主波長：３５５ｎｍ）
〔光重合開始剤（Ｃ′）〕
クマリン６（吸収主波長：４６０ｎｍ）
尚、それぞれの吸収主波長は、前述の如き方法により測定した。
【００６４】
・染料（Ｄ）として以下のものを用いた。
〔染料（Ｄ１−１）〕
一般式（２）において、Ｚ＝ジエチルアミノ基、Ｒ′＝エチル基である化合物（ソルベントブルー５）
〔染料（Ｄ２−１）〕
ロイコクリスタルバイオレット
【００６５】
・支持フィルム［II］として以下のものを用いた。
東レ社製、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚み：１６μｍ、ヘイズ１．６％）
【００６６】
・保護フィルム［III］として以下のものを用いた。
タマポリ社製、低密度ポリエチレンフィルム（厚み：２１μｍ）
【００６７】
［実施例１〜５、比較例１〜３］
表１に示す如きカルボキシル基含有ポリマー（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）、染料（Ｄ）を用いて、感光性樹脂組成物のドープ（メチルエチルケトン／イソプロピルアルコール＝８０／２０（重量比）にて調製した固形分５１％の樹脂溶液）を調製した。
次いで、得られた感光性樹脂組成物のドープを、支持フィルム［II］上に、３ミルのアプリケーターを用いて均一に塗布した後、９０℃のオーブンで３分間乾燥して、厚み２０μｍの感光性樹脂組成物層［Ｉ］を形成した。更に、かかる感光性樹脂組成物層［Ｉ］上に、保護フィルム［III］をマニュアル式熱圧着ロールラミネーター（４０℃、１ｍ／分）を用いて積層し、フォトレジストフィルムを作製した。
【００６８】
尚、感光性樹脂組成物からなる層［Ｉ］の波長４０５ｎｍの光線における光透過率は、日立製作所社製の「Ｕ−３０００型分光光度計」を用いて、感光性樹脂組成物層［Ｉ］のみをフィルムホルダーに挟み、リファレンス側には何も置かずに、波長４０５ｎｍにて測定した。
上記で得られたフォトレジストフィルムを用いて、以下の評価を行った。
尚、銅張り積層板としては、厚み１．６ｍｍ、大きさ２００ｍｍ×１２５ｍｍの銅張り積層板（銅箔３５μｍ）をバフ（＃１０００）の研磨機に通し整面し、これをオーブンで６０℃に予熱したものを用いた。
【００６９】
（感度）
上記フォトレジストフィルムの保護フィルム［III］を剥離しながら、感光性樹脂組成物層［Ｉ］が銅張り積層板に密着するように、マニュアル式熱圧着ロールラミネーターを用いてラミネートした（ラミネート条件：ホットロール温度１００℃、ロール圧０．３ＭＰａ、ラミネート速度１．２ｍ／分）。その後、室温で１５分静置した後、５ｋｗ超高圧水銀灯を用いた平行光露光機（ＯＲＣ社製、「ＥＸＭ−１２０１−Ｊ−０１型」）で、支持フィルム［II］上に、ストーファー２１段ステップタブレットを真空密着させ、次いで、ストーファー２１段ステップタブレットの上に重なるようにしてＨＯＹＡ社製の光学ガラスフィルターＬ−４０を置き、３６５ｎｍ（ｉ線）を除去して露光し（露光法（ａ））、１５分経過後に支持フィルム［II］を剥離して、３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液で０．１５ＭＰａのスプレー圧でブレークポイントの２倍の現像時間で現像した際に、ストーファー２１段ステップタブレットの段数が７段になる露光量（ｍＪ／ｃｍ２）を測定した。
ここで、該露光量は、露光機内蔵のｉ線用積算光量計の数値ではなく、上記露光法（ａ）により紫外線照度計（ＯＲＣ製、「ＵＶ−ＭＯ２」型に同社製「ＵＶ−４２」型受光器を組み合わせたもの）を用いて測定した照度と露光時間により、次式にて算出された数値である。
露光量（ｍＪ／ｃｍ２）＝照度（ｍＷ／ｃｍ２）×露光時間（ｓ）
即ち、露光機マイラーフィルム下に照度計受光器を設置し、更にマイラーフィルム上に光学ガラスフィルターＬ−４０を乗せた状態において、露光機を用い上面より光照射したときの該紫外線照度計指示値を照度とし、基板露光時に露光機に表示される露光時間カウントを露光時間として、露光量を算出した。
また、ストーファー２１段ステップタブレットの段数が７段になる露光量は、露光法（ａ）により８、１０、１２、１４、１６ｍＪ／ｃｍ２の露光量でストーファー２１段ステップタブレットをラミネート済み基板に焼き付け、上記現像条件で現像後、７段部分のレジストが全面残存しうる最低露光量である。
【００７０】
（解像度（ａ））
上記露光法（ａ）により、上記のストーファー２１段ステップタブレットの段数が７段となる露光量において、露光部／未露光部が１０／１０μｍ、１５／１５μｍ、２０／２０μｍ、２５／２５μｍ、３０／３０μｍ、３５／３５μｍ、４０／４０μｍ、４５／４５μｍ、５０／５０μｍとなるような平行線パターンを有するパターンマスク（ガラスクロム乾板）及び光学ガラスフィルターＬ−４０を用いて、コンタクト露光をおこなった後、上記と同様の現像を行い、形成可能な最小線幅（μｍ）を、金属顕微鏡を用いて測定した。
【００７１】
（解像度（ｂ））
上記露光法（ａ）により、上記のストーファー２１段ステップタブレットの段数が７段となる露光量において、露光部／未露光部が１５／１５μｍ、１７．５／１７．５μｍ、２０／２０μｍ、２５／２５μｍ、３０／３０μｍ、４０／４０μｍ、５０／５０μｍ、６０／６０μｍとなるような平行線パターンをペンタックス社製の「ＤＩ−２０８０型露光機」を用いて、４０５ｎｍ光（ｈ線）で露光し（露光法（ｂ））、上記と同様の現像を行い、形成可能な最小線幅（μｍ）を、金属顕微鏡を用いて測定した。
【００７２】
（黄色安全灯での保存安定性）
上記フォトレジストフィルムを銅張り積層板に、上記と同様にしてラミネートした後、黄色安全灯（松下電器産業社製、「ＦＬＲ４０Ｓ・Ｙ・Ｆ／Ｍ型」３灯）の下、５０ｃｍの距離でフォトレジストフィルムをラミネートした面を上に向け、黄色光を１時間照射し、上記と同様に現像して、銅張積層板上の感光性樹脂組成物の残渣物の有無を目視確認した。尚、銅張り積層板位置での黄色安全灯の照度を測定したところ、６５０ｌｕｘであった。
実施例及び比較例の評価結果を表２に示す。
【００７３】
【表１】
2005292289.tif 000009
【００７４】
【表２】
2005292289.tif 000010
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明のフォトレジストフィルムは、高感度、高解像度であり、かつ、黄色安全灯での保存安定性にも優れた効果を有するものであり、特に青紫色レーザーを光源とする露光機で露光するのに適したフォトレジストフィルムとして非常に有用である。