(57)【要約】      （修正有）【課題】塗布性に優れ、面状均一性の高い機能性フイルムを形成しうる有機溶剤系塗布組成物に用いられる増粘剤またはチキソトロピー付与剤を提供する。【解決手段】条件（ａ）を満たす、一般式（１）で表される化合物からなる有機溶剤系増粘剤またはチキソトロピー付与剤。一般式（１）（Ｒ）ｔ−Ｚ−（Ｂ）ｓ  式中、Ｒは、炭素数４以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｚは（ｔ＋ｓ）価の連結基を表し、Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基等を表す。ｓ、ｔは１〜6までの整数である。［条件（ａ）］0．01〜5000ｓ−１の範囲内のせん断速度において、溶剤の粘度η０に対する、該溶剤に一般式（１）で表される化合物を５質量％以下の濃度で含有させた液の粘度η１の相対粘度η１／η０が２以上である領域を有する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記条件（ａ）を満たす、下記一般式（１）で表される化合物からなる有機溶剤系増粘剤。
一般式（１）
(Ｒ)ｔ−Ｚ−(Ｂ)ｓ
式中、Ｒは、炭素数４以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｚは（ｔ＋ｓ）価の連結基を表し、Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｔは１〜６までの整数であり、ｓは１〜６までの整数である。
［条件（ａ）］0．01〜5000ｓ−１の範囲内のせん断速度において、溶剤の粘度η０に対する、該溶剤に一般式（１）で表される化合物を５質量％以下の濃度で含有させた液の粘度η１の相対粘度η１／η０が２以上である領域を有する。
【請求項２】
下記条件（ｂ）を満たす、下記一般式（１）で表される化合物からなる有機溶剤系チキソトロピー付与剤。
一般式（１）
(Ｒ)ｔ−Ｚ−(Ｂ)ｓ
式中、Ｒは、炭素数４以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｚは（ｔ＋ｓ）価の連結基を表し、Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｔは１〜６までの整数であり、ｓは１〜６までの整数である。
［条件（ｂ）］溶剤に一般式（１）で表される化合物を５質量％以下の濃度で含有させた液において、0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度x１における粘度η(x1)の、x2／x1≧１０であるせん断速度x２における粘度η(x2)に対する値η(x1)／η(x2)が１．５以上である。
【請求項３】
前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表されることを特徴とする請求項１または２記載の有機溶剤系増粘剤またはチキソトロピー付与剤。
【化１】
2005314636.tif 000035
式中、Ｒ1およびＲ２はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表すが、Ｒ1およびＲ2の少なくとも１つは少なくとも８個以上のフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｔ１、Ｔ２およびＬ１はそれぞれ独立に２価の連結基または単結合を表し、ｋは０または１である。Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
【請求項４】
前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（３）で表されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機溶剤系増粘剤またはチキソトロピー付与剤。
【化２】
2005314636.tif 000036
式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に炭素数４以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｔ３およびＴ４はそれぞれ独立に−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ２３−を表す。Ｒ２３は水素原子または置換基を表し、Ｌ１は２価の連結基または単結合を表し、ｋは０または１である。
【請求項５】
前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（４）で表されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機溶剤系増粘剤またはチキソトロピー付与剤。
【化３】
2005314636.tif 000037
式中、Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立にフッ素原子または水素原子を表す。ｎ11およびn21はそれぞれ独立に０〜６の整数を、ｎ12およびn22はそれぞれ独立に３〜１２の整数を表す。Ｔ３およびＴ４はそれぞれ独立に−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ２３−を表す。Ｒ２３は水素原子または置換基を表し、Ｌ１は２価の連結基または単結合を表す。Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、ｋは０または１である。
【請求項６】
前記条件（ａ）を満たし、かつ、請求項１、３、４、または５記載の有機溶剤系増粘剤を含む塗布組成物。
【請求項７】
前記条件（ｂ）を満たし、かつ、請求項２〜５のいずれか１項に記載の有機溶剤系チキソトロピー付与剤を含む塗布組成物。
【請求項８】
前記一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物の含有量（塗布組成物全体の質量に対する質量％）が塗布組成物全体の質量に対して０．０１質量％〜１０．０質量％であることを特徴とする請求項６または７記載の塗布組成物。
【請求項９】
前記一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含み、下記条件（ｃ）を満たすことを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の塗布組成物。
［条件（ｃ）］0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度において、塗布組成物より一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物のみを除いた液の粘度η０１に対する、一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物を含有した塗布組成物の粘度η１１の値η１１／η０１が１．２５以上である。
【請求項１０】
前記一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含み、下記条件（ｄ）を満たすことを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の塗布組成物。
［条件（ｄ）］一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物を含む塗布組成物において、0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度x１１における粘度η(x1１)の、x2１／x1１=10であるせん断速度x２１における粘度η(x2１)に対する値η(x1１)／η(x2１)が１．２５以上である。
【請求項１１】
水の含率が３０質量％以下であることを特徴とする請求項６〜１０のいずれか１項に記載の塗布組成物。
【請求項１２】
塗布組成物に液晶性化合物を少なくとも１種含むことを特徴とする請求項６〜１１のいずれか１項に記載の塗布組成物。
【請求項１３】
塗布組成物が有機および／または無機微粒子分散物を含むことを特徴とする請求項６〜１２のいずれか１項に記載の塗布組成物。
【請求項１４】
請求項６〜１３のいずれか１項の塗布組成物を用いて製造された機能性フイルム。
【請求項１５】
請求項９〜１４のいずれか１項の塗布組成物を用いて製造された光学フイルム。
【請求項１６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機溶剤系増粘剤またはチキソトロピー付与剤を含有させることにより、有機溶剤溶液を増粘またはチキソトロピー付与する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機溶剤系増粘・チキソトロピー付与剤およびそれを含む塗布組成物に関する。また、かかる塗布組成物を用いた機能性フィルムおよび光学フィルムにも関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種コーティング法を用いた材料の開発が進んでおり、特に数μｍ〜数１０ｎｍレベルの薄層塗布技術は、光学フイルム、印刷、フォトリソグラフィーなどで必要であり、薄膜化、基材の大型化、塗布の高速化などに伴い要求される塗布精度も高くなってきている。特に光学フイルムの製造においては、膜厚の制御が光学性能を左右する非常に重要なポイントであり、さらに生産性を高める必要もあるので、精度を高く保ちつつ塗布速度の高速化を実現できる技術への要求は高くなってきている。
しかしながら、溶剤を用いたオールウェット塗布は生産性の観点からは非常に有利である反面、塗布直後の溶剤乾燥を一定に保つことが容易でなく、面状ムラが生じやすい。ここで言う面状ムラとは、塗布後のレベリング不良に起因する塗布スジや、溶剤乾燥速度差に起因する乾燥ムラ、乾燥風で引き起こされる厚みムラである風ムラのことである。
【０００３】
均一な膜を形成しつつ、ムラを防止するための一手段として、塗布液の粘度を高めて流動防止する方法が考えられる。塗布液の粘度を上昇させるためにはポリマー等の増粘剤を添加することが知られているが、単に塗布液の粘度を高めることは、レベリング性を悪化させ、塗布時にスジが発生することにつながる。乾燥時のムラ発生も、塗布時のスジ発生も防止する手段として、チキソトロピーをもつ添加剤（以下チキソ剤）を加えることにより、塗布液にチキソトロピーを付与する方法が考えられる（非特許文献１）。
有機溶剤系塗料で用いられるチキソ剤の多くは、粒子分散系で用いられるものであり、無機微粒子シリカや有機ベントナイトなどが知られている。しかしながら、機能性材料を塗布する場合にはこれらの材料では諸性能が十分ではなく、低粘度の塗布液を少ない添加量で、機能性材料の本来の機能発現を妨げることなく粘度を制御できるものが望まれていた。
【０００４】
一方、含フッ素化合物を含む機能性フィルムとしては、分子内にフッ化アルキル基含有長鎖アルキル基をもつ両親媒性化合物から二分子膜フィルムを作成でき、酸素の分離濃縮フィルムとして用いられる例が報告されている (例えば、特許文献１参照。)。   
しかしながら、報告されているフィルムは水分散液から調製されており、含フッ素化合物の有機溶剤への溶解性や溶液の粘度がいかなるものかは知られていない。また、塗布組成物中に添加して用いられることはなく、このような化合物を含有する塗布組成物を実際に塗布した際に、均一な膜を形成できるか、厚みムラを抑制できるか、機能発現を妨げないかといったことについてはこれまでに知られていない。
【０００５】
また、含フッ素化合物およびディスコチック液晶を含む光学機能性フィルムについて、含フッ素化合物を添加することで空気界面側での液晶の配向を制御できることが報告されている（例えば、特許文献２参照。）。
しかしながら、報告されている含フッ素化合物については有機溶剤に溶解させた場合の粘度の上昇効果はなく、また、塗布組成物に添加した場合も乾燥ムラや風ムラを低減する効果はなかった。
【０００６】
【非特許文献１】粘度制御技術、技術情報協会、1999年、101−115ページ、272−293ページ。
【特許文献１】特開昭60−114323号公報
【特許文献２】特開2003−294941号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって本発明は、塗布性に優れ、塗布により均一で面状ムラのない面状均一性の高いフイルムを形成しうる有機溶剤系塗布組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は上記の有機溶剤系塗布組成物を調製するのに好適な増粘・チキソトロピー付与剤を提供するものである。
そして本発明は塗布組成物の粘度を調節することで、乾燥ムラや風ムラが低減され、面状均一性が高い機能性フイルム、特に、光学フイルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、膜形成において均一な面状性を得るため鋭意検討の結果、ある種の含フッ素化合物が有機溶剤系においてチキソ性を発現することを見出し、この化合物を添加した塗布組成物を用いることにより、塗布液に擬塑性流動特性を発現させ、これにより、均一に塗布でき、塗布時に生じる塗布スジ、乾燥ムラ、風ムラを低減することができることを見出した。また、該含フッ素化合物を用いることにより、高速塗布した場合にも、光学性能や物理性能のバラツキが小さく、面状均一性の高い光学フイルムを得ることができるという知見を得た。そして、これらの知見に基づき本発明をなすに至った。
本発明の含フッ素化合物は塗布組成物中において、フッ化アルキル基の疎溶媒力によって会合がおこることにより、液粘度を上昇させ、また、この会合体の破壊と再形成によってチキソ性を発現していると考えられる。
【０００９】
すなわち、本発明の目的は、下記塗布組成物及び増粘・チキソトロピー付与剤並びにそれを用いて塗布された機能性フイルム、特に、光学フイルムの発明により達成される。本発明における機能性フィルムとは、光学機能、導電機能、誘電機能、絶縁機能、バリア機能、高強度、耐熱機能などの機能を持ったフィルムを示す。機能性フイルムの種類は特に限定するものではなく、例えば透明ハードコート層、着色層、防眩層、反射防止層、光学補償層などを一つ或いはそれ以上有するフイルムが挙げられる。
【００１０】
すなわち本発明は、
（１）下記条件（ａ）を満たす、下記一般式（１）で表される化合物からなる有機溶剤系増粘剤、
一般式（１）
(Ｒ)ｔ−Ｚ−(Ｂ)ｓ
式中、Ｒは、炭素数４以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｚは（ｔ＋ｓ）価の連結基を表し、Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｔは１〜６までの整数であり、ｓは１〜６までの整数である。
［条件（ａ）］0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度において、溶剤の粘度η０に対する、該溶剤に一般式（１）で表される化合物を５質量％以下の濃度で含有させた液の粘度η１の相対粘度η１／η０が２以上である領域を有する。
（２）下記条件（ｂ）を満たす、上記一般式（１）で表される化合物からなる有機溶剤系チキソトロピー付与剤、
[条件（ｂ）] 溶剤に一般式（１）で表される化合物を５質量％以下の濃度で含有させた液において、0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度x１における粘度η(x1)の、x2／x1≧１０であるせん断速度x２における粘度η(x2)に対する値η(x1)／η(x2)が１．５以上である。
（３）前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表されることを特徴とする（１）または（２）項記載の有機溶剤系増粘剤またはチキソトロピー付与剤、
【００１１】
【化１】
2005314636.tif 000002
【００１２】
式中、Ｒ1およびＲ２はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表すが、Ｒ1およびＲ2の少なくとも１つは少なくとも８個以上のフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｔ１、Ｔ２およびＬ１はそれぞれ独立に２価の連結基または単結合を表し、ｋは０または１である。Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す、
（４）前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（３）で表されることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の有機溶剤系増粘剤またはチキソトロピー付与剤、
【００１３】
【化２】
2005314636.tif 000003
【００１４】
式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に炭素数４以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｔ３およびＴ４はそれぞれ独立に−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ２３−を表す。Ｒ２３は水素原子または置換基を表し、Ｌ１は２価の連結基または単結合を表し、ｋは０または１である、
（５）前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（４）で表されることを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の有機溶剤系増粘剤またはチキソトロピー付与剤、
【００１５】
【化３】
2005314636.tif 000004
【００１６】
式中、Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立にフッ素原子または水素原子を表す。ｎ11およびn21はそれぞれ独立に０〜６の整数を、ｎ12およびn22はそれぞれ独立に３〜１２の整数を表す。Ｔ３およびＴ４はそれぞれ独立に−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ２３−を表す。Ｒ２３は水素原子または置換基を表し、Ｌ１は２価の連結基または単結合を表す。Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、ｋは０または１である、
（６）前記条件（ａ）を満たし、かつ、（１）、（３）、（４）、または（５）記載の有機溶剤系増粘剤を含む塗布組成物、
（７）前記条件（ｂ）を満たし、かつ、（２）〜（５）のいずれか１項に記載の有機溶剤系チキソトロピー付与剤を含む塗布組成物、
（８）前記一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物の含有量（塗布組成物全体の質量に対する質量％）が塗布組成物全体の質量に対して０．０１質量％〜１０．０質量％であることを特徴とする（６）または（７）項に記載の塗布組成物、
（９）前記一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含み、下記条件（ｃ）を満たすことを特徴とする（６）〜（８）のいずれか１項に記載の塗布組成物、
［条件（ｃ）］0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度において、塗布組成物より一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物のみを除いた液の粘度η０１に対する、一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物を含有した塗布組成物の粘度η１１の値η１１／η０１が１．２５以上である、
（１０）前記一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物を少なくとも１種含み、下記条件（ｄ）を満たすことを特徴とする（９）〜（１１）のいずれか１項に記載の塗布組成物、
［条件（ｄ）］一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物を含む塗布組成物において、0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度x１１における粘度η(x1１)の、x2１／x1１=10であるせん断速度x２１における粘度η(x2１)に対する値η(x1１)／η(x2１)が１．２５以上である、
（１１）水の含率が３０質量％以下であることを特徴とする（６）〜（１０）のいずれか１項に記載の塗布組成物、
（１２）塗布組成物に液晶性化合物を少なくとも１種含むことを特徴とする（６）〜（１１１）のいずれか１項に記載の塗布組成物、
（１３）塗布組成物が有機および／または無機微粒子分散物を含むことを特徴とする（６）〜（１２）のいずれか１項に記載の塗布組成物、
（１４）（６）〜（１３）のいずれか１項の塗布組成物を用いて製造された機能性フイルム、
（１５）（６）〜（１４）のいずれか１項の塗布組成物を用いて製造された光学フイルム、および、
（１６）(１)〜(５)のいずれか１項に記載の有機溶剤系増粘剤またはチキソトロピー付与剤を含有させることにより、有機溶剤溶液を増粘またはチキソトロピー付与する方法、
一般式（１）
(Ｒ)ｔ−Ｚ−(Ｂ)ｓ
式中、Ｒは、炭素数4以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｚは（ｔ＋ｓ）価の連結基を表し、Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｔは１〜6までの整数であり、ｓは１〜6までの整数である
を提供するものである。
本明細書中では、チキソトロピー（以下、チキソ性とも略される）とは、高せん断速度下では低粘度、低せん断速度下では高粘度となる性質のことをいい、擬塑性流動特性、構造粘性と同義で用いる。粘度変化の時間依存性については問わない。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の含フッ素化合物を含有した塗布組成物を用いることにより、均一に塗布でき、塗布時に生じる塗布スジや、乾燥ムラや風ムラを低減できる。また、含フッ素化合物を含有して用いることにより、高速塗布した場合にも、光学性能や物理性能のバラツキが小さく、面状均一性の高い光学フイルムを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明で用いられる化合物について説明する。
【００１９】
一般式（１）
(Ｒ)ｔ−Ｚ−(Ｂ)ｓ
【００２０】
式中、Ｒは、炭素数４以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｚは(t+s)価の連結基を表し、Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｔは１から6までの整数であり、ｓは１から6までの整数である。
【００２１】
式中、Ｒは、炭素数４以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｒは少なくとも８個のフッ素原子で置換されていればよく、直鎖状、分岐状および環状のいずれの構造であってもよい。また、フッ素原子以外の置換基でさらに置換されていてもよいし、フッ素原子のみで置換されていてもよい。Ｒのフッ素原子以外の置換基としては、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、フッ素以外のハロゲン原子、ヒドロキシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基等が挙げられる。
【００２２】
Ｒとしては、炭素数４〜２０のフッ素置換アルキル基が好ましく、炭素数４〜１４がより好ましく、炭素数４〜１４がさらに好ましい。また、Ｒに含まれるフッ素原子数は８個以上であれば特に限定はないが、好ましくは８個以上42個以下、より好ましくは、１０個以上26個以下、さらに好ましくは１０個以上２３個以下である。Ｒの好ましい例を以下に示す。
【００２３】
【化４】
2005314636.tif 000005
【００２４】
Ｒとしてさらに好ましくは，末端がトリフルオロメチル基で置換された炭素数４〜１４のアルキル基であり、特に好ましくは−（ＣＨ2）n1−（ＣＦ2）n2Ｆで表される炭素数４〜１４のアルキル基である（ｎ1は0〜６の整数を表す。ｎ2は３〜１２の整数を表す）。具体的には、−（ＣＨ2）3−（ＣＦ2）4Ｆ、 −（ＣＨ2）2−（ＣＦ2）4Ｆ、−（ＣＨ2）6−（ＣＦ2）4Ｆ、−（ＣＨ2）2−（ＣＦ2）6Ｆ、−（ＣＨ2）3−（ＣＦ2）6Ｆ、−（ＣＨ2）2−（ＣＦ2）８Ｆ、−（ＣＨ2）3−（ＣＦ2）８Ｆ、−（ＣＨ2）2−（ＣＦ2）１０Ｆ、−（ＣＨ2）3−（ＣＦ2）１０Ｆ、等が挙げられ、いずれも好ましく用いられる。
【００２５】
Ｚは(t+s)価の連結基を表し、ＲとＢを結びつけるものであれば特に制限はない。ｔは１から6までの整数であり、ｓは１から6までの整数であるが、好ましくは、tは２から４までの整数であり、より好ましくは、tは２または３であり、最も好ましくは、tは２である。また、好ましくは、sは１から４までの整数であり、より好ましくは、ｓは１から３までの整数である。
二つ以上のＲ、Ｂは同じであっても異なっていてもかまわない。合成適性の観点からは同じであることが好ましい。一方、溶解性の観点からは、二つ以上のＲは異なっていることが好ましい。
【００２６】
また、Ｚにおいて、Ｒのいずれか二つが結合している原子と原子の間に含まれる原子数は１３個以下であることが好ましく、９個以下であることがより好ましい。ここで、Ｒのいずれか二つが結合している原子と原子の間に含まれる原子数は、例えば、下記連結基（Z1）では、７個となるように数える。
【００２７】
【化５】
2005314636.tif 000006
【００２８】
本発明のZとしては、アミノ酸誘導体が好ましく用いられる。アミノ酸誘導体におけるアミノ酸の不斉炭素は光学活性であってもラセミ体であってもかまわない。光学活性体が好ましく用いられる。
【００２９】
Ｚの好ましい例を以下に示す。
【００３０】
【化６】
2005314636.tif 000007
【００３１】
【化７】
2005314636.tif 000008
【００３２】
【化８】
2005314636.tif 000009
【００３３】
【化９】
2005314636.tif 000010
【００３４】
Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
【００３５】
Ｂで表されるアルキル基としては、直鎖、分岐、または環状であって、置換もしくは無置換のアルキル基を表し、好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１から３０のアルキル基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基（つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基。）、更に環構造が多いトリシクロ構造などが挙げられる。
【００３６】
無置換アルキル基の好ましい例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、セチル基、ヘキサデシル基、２−ヘキシルデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、２−オクチルドデシル基、ドコシル基、テトラコシル基、２−デシルテトラデシル基、トリコシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。また、置換基を有するアルキル基の好ましい例としては、２−ヘキセニル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基、ベンジル基、β−フェネチル基、２−メトキシエチル基、４−フェニルブチル基、４−アセトキシエチル基、６−フェノキシヘキシル基、１２−フェニルドデシル基、１８−フェニルオクタデシル基、１２−（ｐ−クロロフェニル）ドデシル基、２−（燐酸ジフェニル）エチル基等を挙げることができる。また、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル、ビシクロアルキル基としては、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イルなどを挙げることができる。
【００３７】
Ｂで表されるアリール基とは、好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基を表し、その具体例としてはフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル、ナフチルなどが挙げられる。
【００３８】
Ｂで表されるヘテロ環基としては、３〜８員環の、置換もしくは無置換の、芳香族性もしくは非芳香族性のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５〜６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基の具体例としては、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル、２−ピリミジル、４−ピリジルなどが挙げられる。さらにこれらの環が互いに縮合した環からなる基、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族炭化水素環と縮合した環からなる基も用いられる。また、さらにこれらの環は置換基を有していても良く、その置換基の例としては、Bで表される基が含有してもよい置換基として後述するものと同じである。
【００３９】
Ｂで表されるアルキル基、アリール基、ヘテロ環基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に置換基で置換されていても良い。
Ｂで表される基が含有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（モノシクロアルキル、ビシクロアルキルなどのシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が挙げられる。
【００４０】
更に詳しくは、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（直鎖、分岐、環状の、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２−エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含する。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。）、アルケニル基（直鎖、分岐または環状であって置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、
【００４１】
シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５もしくは６員であって置換もしくは無置換の、芳香族性もしくは非芳香族性のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、
【００４２】
シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、
【００４３】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、
【００４４】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、
【００４５】
アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミ
ノカルボニルアミノ、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ、m−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、
【００４６】
スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−ブチルフェニルチオ、４−ヘキサノイルアミノフェニルチオ、２−ベンズアミドフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ、１，３，４−チアジアゾール−２−イルチオ）、
【００４７】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、
【００４８】
アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基、、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、
【００４９】
アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
これらの置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。
【００５０】
Ｂで表されるアルキル基、アリール基、ヘテロ環基に含まれる置換基としては、アニオン性、カチオン性の置換基も用いることは可能であるが、有機溶剤への溶解性を付与するという観点からは、ノニオン性の置換基であることが好ましい。ここでアニオン性の置換基とはマイナスの電荷をもっているものを、カチオン性の置換基とはプラスの電荷をもっているものをいい、ノニオン性の置換基とは電荷をもたない置換基のことをいう。また、有機溶媒への溶解性の観点から、炭素数は１以上であればよいが、４以上が好ましく、８以上がより好ましく、12以上が最も好ましい。
【００５１】
Ｂの好ましい例を以下に示す。
【００５２】
【化１０】
2005314636.tif 000011
【００５３】
【化１１】
2005314636.tif 000012
【００５４】
【化１２】
2005314636.tif 000013
【００５５】
以下に、上記一般式（１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は、これらの具体例によってなんら制限されるものではない。
【００５６】
(F3)２−Z1−B1
(F4)２−Z1−B2
(F5)２−Z1−B7
(F12)２−Z1−B9
(F16)２−Z1−B10
(F9)２−Z2−B9 
(F1３)２−Z2−B11
(F16)２−Z2−B12
(F10)２−Z2−B22 
(F5)２−Z2−B24
(F5)２−Z3−B15
(F4)２−Z4−B16
(F5)２−Z6−B29
(F19)２−Z8−B30
(F20)２−Z9−B5
(F16)２−Z10−(B2)2
(F5)２−Z20−(B11)2
(F5)２−Z21−B5
(F4)２−Z22−B7
(F42)３−Z30−B7
(F4)３−Z33−B18
【００５７】
上記一般式（１）で表される化合物の中でも、下記一般式（２）で表される化合物がより好ましい。
【００５８】
【化１３】
2005314636.tif 000014
【００５９】
式中、Ｒ1およびＲ２はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表すが、Ｒ1およびＲ2の少なくとも一つは少なくとも８個以上のフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｔ1、Ｔ2およびＬ１はそれぞれ独立に２価の連結基または単結合を表し、ｋは０または１である。
【００６０】
前記一般式（２）中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ水素原子またはアルキル基を表す。
前記アルキル基は、炭素数４以上であって、直鎖状、分岐鎖状および環状のいずれであってもよい。前記置換基としては、ハロゲン原子、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、フッ素以外のハロゲン原子、ヒドロキシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、カルバモイル基等が挙げられる。Ｒ1およびＲ2の少なくとも１つは少なくとも８個以上のフッ素原子で置換されたアルキル基（以下、８個以上のフッ素原子で置換されたアルキル基を「Ｒｆ」という）を表し、その具体例および好ましい範囲は一般式（１）中のRとして示したものとまったく同じである。Ｒ1およびＲ2はともに少なくとも８個以上のフッ素原子で置換されたアルキル基すなわちRf基であることが好ましい。
【００６１】
Ｒ1およびＲ2がそれぞれＲｆ以外のアルキル基、即ち、フッ素原子で置換されていないアルキル基を表す場合、該アルキル基としては、炭素数１〜２４の置換または無置換のアルキル基、より好ましくは炭素数６〜２４の置換または無置換のアルキル基である。炭素数６〜２４の無置換アルキル基の好ましい例としては、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、セチル基、ヘキサデシル基、２−ヘキシルデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、２−オクチルドデシル基、ドコシル基、テトラコシル基、２−デシルテトラデシル基、トリコシル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。また、置換基を有する総炭素数が６〜２４のアルキル基の好ましい例としては、２−ヘキセニル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基、ベンジル基、β−フェネチル基、２−メトキシエチル基、４−フェニルブチル基、４−アセトキシエチル基、６−フェノキシヘキシル基、１２−フェニルドデシル基、１８−フェニルオクタデシル基、１２−（ｐ−クロロフェニル）ドデシル基、２−（燐酸ジフェニル）エチル基等を挙げることができる。
【００６２】
Ｒ1およびＲ2でそれぞれ表されるＲｆ以外のアルキル基としては、更に好ましくは炭素数６〜１８の置換または無置換のアルキル基である。炭素数６〜１８の無置換のアルキル基の好ましい例としては、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、セチル基、ヘキサデシル基、２−ヘキシルデシル基、オクタデシル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基等が挙げられる。また、置換基を有する総炭素数が６〜１８の置換アルキル基の好ましい例としては、フェネチル基、６−フェノキシヘキシル基、１２−フェニルドデシル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基等が挙げられる。
【００６３】
Ｒ1およびＲ2でそれぞれ表されるＲｆ以外のアルキル基としては、特に好ましくは、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、セチル基、ヘキサデシル基、２−ヘキシルデシル基、オクタデシル基、オレイル基、リノレイル基、リノレニル基であり、最も好ましくは炭素数８〜１６の直鎖状、環状または分岐状の無置換アルキル基である。
【００６４】
Ｒ１とＲ２の炭素数の総計は、６以上50以下であることが好ましく、12以上40以下であることがより好ましく、12以上36以下であることが最も好ましい。
【００６５】
式中、Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表し、上記一般式（１）におけるそれの好ましい範囲とまったく同様である。
【００６６】
前記一般式（２）中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5はそれぞれ独立して水素原子まは置換基を表す。該置換基としては、上記一般式（１）のBで表される基が含有してもよい置換基として示したものと同じである。
Ｒ3、Ｒ4およびＲ5としては、好ましくはアルキル基または水素原子であり、更に好ましくは水素原子である。
【００６７】
前記式中、Ｔ1およびＴ2はそれぞれ２価の連結基または単結合を表す。前記２価の連結基については特に制約はないが、好ましくはアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ２１−（Ｒ２１は水素原子または置換基を表し、置換基としてはＲ3、Ｒ4およびＲ5がそれぞれ表す置換基の例と同様であり、Ｒ21として好ましくは、アルキル基、前述のＲｆまたは水素原子であり、更に好ましくは水素原子である）を単独またはそれらを組合せて得られる基であり、より好ましくは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ２１−である。Ｔ1およびＴ2としてより好ましくは、−Ｏ−または−ＮＲ２１−であり、更に好ましくは−Ｏ−または−ＮＨ−であり、特に好ましくは−Ｏ−である。
【００６８】
前記式中Ｌ１は２価の連結基または単結合を表す。２価の連結基については特に制約はないが、好ましくはアルキレン基、アリーレン基、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）2−または−ＮＲ２２−（Ｒ２２は水素原子または置換基を表し、置換基としてはＲ3、Ｒ4およびＲ5が表す置換基の例と同様であり、Ｒ２２として好ましくはアルキル基または水素原子であり、更に好ましくは水素原子である）を単独またはそれらを組合せて得られる基であり、より好ましくは炭素数１〜１２のアルキレン基、炭素数６〜１２のアリーレン基、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓ（＝Ｏ）−、−Ｓ（＝Ｏ）2−または−ＮＲ２２−を単独またはそれらを組合せて得られる基である。
組み合わせて得られる基の具体例を以下に示す。ただし＃の方向でＢに連結する。
【００６９】
【化１４】
2005314636.tif 000015
【００７０】
一般式（２）において、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｌ1、Ｂで表される置換基中には、荷電を持たないことが好ましい。特に、スルホン酸塩およびアンモニウム塩を含まないことがより好ましく、スルホン酸塩を含まないことが最も好ましい。これらの基を含むと、有機溶剤への溶解性が悪化し、本発明の効果を発現することが難しい。
【００７１】
上記一般式（１）で表される化合物の中でも、下記一般式（３）で表される化合物がさらに好ましい。
【００７２】
【化１５】
2005314636.tif 000016
【００７３】
式中、Ｒ1およびＲ２はそれぞれ独立に炭素数４以上の少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｔ３およびＴ４はそれぞれ独立に−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ２３−を表す。Ｒ２３は水素原子または置換基を表し、Ｌ１は２価の連結基または単結合を表し、ｋは０または１である。
【００７４】
Ｒ1およびＲ２の具体例および好ましい範囲は一般式（１）中のＲとして示したものとまったく同じである。また、Ｂの具体例および好ましい範囲も一般式（１）中のそれとまったく同じであり、Ｌ１の具体例および好ましい範囲も一般式（２）中のそれとまったく同じである。Ｔ３、Ｔ４としては、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ２３−はいずれも好ましく用いることができるが、−Ｏ−または−ＮＨ−がより好ましく、−Ｏ−がもっとも好ましい。Ｒ２３は水素原子または置換基を表し、置換基としてはＲ3、Ｒ4およびＲ5がそれぞれ表す置換基の例と同様であり、Ｒ２３として好ましくは、アルキル基、前述のＲｆまたは水素原子であり、更に好ましくは水素原子である。Ｌ1、Ｂで表される置換基中には、荷電を持たないことが好ましい。特に、スルホン酸塩およびアンモニウム塩を含まないことがより好ましく、スルホン酸塩を含まないことが最も好ましい。
【００７５】
上記一般式（１）で表される化合物の中でも、下記一般式（４）で表される化合物がもっとも好ましい。
【００７６】
【化１６】
2005314636.tif 000017
【００７７】
式中、Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立にフッ素原子または水素原子を表す。ｎ1１およびn２１はそれぞれ独立に0〜６の整数を、ｎ12およびｎ22はそれぞれ独立に３〜１２の整数を表す。Ｔ３およびＴ４はそれぞれ独立に−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ２３−を表す。Ｒ２３は水素原子または置換基を表し、Ｌ１は２価の連結基または単結合を表す。Ｂは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。kは０または１を表す。
【００７８】
式中、Ｌ1は上記一般式（２）におけるＬ1と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ２３、Ｔ３、Ｔ４は上記一般式（３）におけるそれらとまったく同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００７９】
ｎ11、ｎ21はそれぞれ独立に0〜６の整数を表し、好ましくは１〜３の整数を表し、更に好ましくは２または３を表し、最も好ましくは２である。ｎ21、ｎ22はそれぞれ独立に３〜１２の整数を表し、より好ましくは、３〜１０であり、更に好ましくは４〜１０である。これらのｎ11、ｎ21、ｎ12、ｎ22のもっとも好ましい組合せとしては、ｎ11、ｎ21が２または３で、且つｎ12、ｎ22は６、８、１０であるものが好ましい。また、ｎ11＝ｎ21、ｎ12＝ｎ22であることが好ましい。
【００８０】
Ａ１およびＡ２は、好ましくは、ともにフッ素原子である。
Ｌ1、Ｂで表される置換基中には、荷電を持たないことが好ましい。特に、スルホン酸塩およびアンモニウム塩を含まないことがより好ましく、スルホン酸塩を含まないことが最も好ましい。
【００８１】
一般式（１）〜（４）において、二つ以上の少なくとも８個以上のフッ素原子で置換されたアルキル基（Ｒｆ基）の種類が異なっている化合物も、化合物の有機溶剤溶解性を向上させるために、好ましく用いることができる。二種類以上の異なるＲｆ基を持っていてもよいし、混合物であってもよい。溶解性の観点からは混合物であることが特に好ましい。フッ素鎖長の異なるものの混合物である場合、その混合比については、ＨＰＬＣ，ＧＣ、ＬＣ−ＭＳ、ＧＣ−ＭＳといった一般的な分析手法によって決定することができる。
【００８２】
以下に一般式（１）〜（４）で表される化合物（以下、単に本発明の含フッ素化合物ともいう）の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。また、以下の具体例では光学活性な不斉炭素に＊をつけて示しているが、具体例中のすべての不斉炭素は光学活性であってもラセミ体を用いてもかまわない。
【００８３】
【化１７】
2005314636.tif 000018
【００８４】
【化１８】
2005314636.tif 000019
【００８５】
【化１９】
2005314636.tif 000020
【００８６】
【化２０】
2005314636.tif 000021
【００８７】
【化２１】
2005314636.tif 000022
【００８８】
【化２２】
2005314636.tif 000023
【００８９】
【化２３】
2005314636.tif 000024
【００９０】
以下に、本発明で用いられる含フッ素化合物の具体的合成例を示すが、本発明はこれらによって限定されない。本発明の化合物は例えばフマル酸誘導体、マレイン酸誘導体、イタコン酸誘導体、グルタミン酸誘導体、アスパラギン酸誘導体等を原料にして合成できる。フマル酸誘導体、マレイン酸誘導体、イタコン酸誘導体を原料とした場合には、それらの２重結合にマイケル付加反応を行なうことにより合成ができ、グルタミン酸誘導体、アスパラギン酸誘導体を原料とした場合には、それらのアミノ基をアミド化することで合成できる。本発明で用いられる含フッ素化合物は例えば、前記非特許文献（１）や特開2003−114504号公報に記載の方法により合成することができる。  
【００９１】
例示化合物（A−７）の合成
【００９２】
【化２４】
2005314636.tif 000025
【００９３】
パーフルオロデシルエタノール(54.16， 0．096mol)、Ｌ−グルタミン酸(6.42， 0．0436mol)、p−トルエンスルホン酸(9.95g， 0．058mol)をトルエン200ｍｌに懸濁させ、この混合物を、ディーンシュタルク装置によって生成する水を除去しながら7時間加熱還流した。その後、室温に冷却し、メタノール200ｍｌを添加し撹拌したのち、析出した結晶を濾取した。この粗結晶を乾燥させ、これ以上の精製は行なわず、次反応を行なった。(S−1); 50g（粗収量81％）。
【００９４】
カルボン酸(S-2)1.37ｇ(4.30mmol)、トルエン5ｍｌ、N,N-ジメチルホルムアミド0.05ｍｌの混合溶液に塩化チオニル0.60mlを加え、５０℃にて6時間加熱攪拌し、酸クロライド（S-3）を調整した。過剰の塩化チオニルと溶媒を減圧留去したのち、酸クロライド（S-3）は精製することなく、例示化合物(A-7)の合成に使用した。
アミノ体ＰＴＳ塩(S−1)(5.65g, 4.0mmol)をクロロホルム50ｍｌに懸濁させ、室温にて、トリエチルアミン0.613ｍｌを加えた後、50℃にて1時間加熱撹拌した。この溶液に先に調整した酸クロライド（S-3）をクロロホルム5ｍｌに溶解させた溶液をゆっくり滴下し、続いて、トリエチルアミン0.70ｍｌを滴下した後、その温度で3時間加熱撹拌した。室温に冷却した後、水100ｍｌに添加し、4N塩酸にて酸性にしたのち、有機層を分取した。有機層をさら、水で二回洗浄した後、溶媒を留去した。アセトニトリルより二回再結晶して、白色結晶をろ取、乾燥することで例示化合物（A−７）を3.58ｇ(収率58％)得た。
1H−NHR(300MHz， CDCl3)；δ6.35(d， 1H， NH)， 4.73(m， 1H), 4.48(m，1H), 4.40(m， 3H), 4.22(t， 2H), 3.70(m, 2H), 3.63(m， 2H), 3.55(m， 2H), 3.30(t，2H), 2.69(m，2H), 2.60-2.38(m，8H), 2.22(m, 1H), 1.68-1.22(m，10H), 0.87(t， 6H)， TOFMS (posi); m／z 1562(M+Na+)
【００９５】
例示化合物（B-２）の合成
【化２５】
2005314636.tif 000026
【００９６】
旭硝子製Ｓ−ＰＦＡ（パーフルオロオクチルエタノールを主成分とするフッ素アルコール）(55.7g, 0.12mol)、Ｌ−グルタミン酸(7.36g, 0.050mol)、p-トルエンスルホン酸(11.9g, 0.0625mol)をトルエン200ｍｌに懸濁させ、この混合物を、ディーンシュタルク装置によって生成する水を除去しながら7時間加熱還流した。その後、室温に冷却し、メタノール100ｍｌを添加し撹拌したのち、析出した結晶を濾取した。この粗結晶を乾燥させ、これ以上の精製は行なわず、次反応を行なった。(S-４); 51.5g（粗収量85％）。
得られたアミノ体ＰＴＳ塩(S-４)(30.3g, 0.025mol)をクロロホルム150ｍｌに懸濁させ、室温にて、トリエチルアミン4.2ｍｌを加えた後、50℃にて1時間加熱撹拌した。その後、50℃のまま、オレイル酸クロリド（S-5）11.7ｍｌ(0.030mol)を滴下し、続いて、トリエチルアミン4.2ｍｌを滴下した後、その温度で10時間加熱撹拌した。室温に冷却した後、水200ｍｌに添加し、4N塩酸にて酸性にしたのち、有機層を分取した。有機層をさらに、水で二回洗浄した後、溶媒を留去した。メタノールより二回再結晶して、白色結晶をろ取、乾燥することで例示化合物（B-２）を13.0ｇ(収率40％)得た。
1H-NHR(300MHz, CDCl3)；δ6.09(d, 1H, NH), 5.34(s, 2H), 4.65(m, 1H), 4.52-4.38(m, 4H), 2.45(m,6H), 2.21(t, 2H), 2.01(m, 4H), 1.62(m, 2H), 1.25(m, 22H ), 0.86(t, 3H), TOFMS (posi); m/z 1326(M+Na+)
ＧＣによる分析の結果、例示化合物（B-２）はn1=n2＝8 (56%), n1,n2=8,10 (34%), n1=n2=10 (10%)の混合物であった。
【００９７】
本発明の増粘剤は、有機溶剤に添加することで液粘度を上昇させる作用を有する。
本発明の増粘剤は、下記条件（ａ）を満たすものである。
【００９８】
条件（ａ）
0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度において、溶剤の粘度η０に対する、該溶剤に一般式（１）〜（４）で表される化合物を５質量％以下の濃度で含有させた液の粘度η１の相対粘度η１／η０が２以上である。
ここで用いることができる溶剤としては、所望の効果が得られれば特に限定されないが、好ましくは、トルエン、ヘキサン、イソプロパノール、エタノール、メタノール、クロロホルム、メチルエチルケトン、２−メチルペンタノン、およびシクロヘキサノンである。
より好ましくは、トルエン、メチルエチルケトン、２−メチルペンタノン、シクロヘキサノンであり、最も好ましくはメチルエチルケトン、２−メチルペンタノン、シクロヘキサノンである。
【００９９】
ただし、本発明の一般式（１）〜（４）で表される化合物が溶剤に５質量％溶解しない場合は、溶解する濃度範囲で測定した粘度が上記条件を満たせばよい。
また、本発明の一般式（１）〜（４）で表される化合物を溶剤に５質量％含有した液の粘度が測定装置の測定範囲外となってしまうような場合（例えば、粘度の値が非常に大きい場合）も、濃度を調節して測定できる範囲内となったときの粘度が上記条件を満たせばよい。すなわち、上記条件（ａ）の粘度条件を５質量％以下の含有量で満たすものは本発明の範囲内である。
【０１００】
相対粘度η１／η０が2以上であれば本発明の範囲内であるが、好ましくは、2．5以上、より好ましくは5以上、最も好ましくは10以上である。本発明の化合物はチキソ性をあわせて有することが多く、せん断速度によっては相対粘度η１／η０が2以上とならない範囲も存在するが、0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度において上記条件（ａ）を満たしていれば問題ない。0．01〜1000ｓ−１の範囲のいずれかのせん断速度において、相対粘度η１／η０が5以上であることが好ましく、0．01〜100ｓ−１の範囲のいずれかのせん断速度において、相対粘度η１／η０が10以上であることがより好ましい。
【０１０１】
また、上記条件（ａ）を５質量％で満たせば本発明の範囲内であるが、３質量％の含有量で上記条件（ａ）の粘度条件を満たすことが好ましく、２質量％の含有量で上記条件（ａ）の粘度条件を満たすことがより好ましい。一般に、５質量％以下の低含有量で上記条件（ａ）を満たせば、溶解する範囲内で、含有量を増加させても条件（ａ）を満たすものとみなす。
【０１０２】
上記条件（ａ）は０〜５０℃の範囲内のいずれかの温度で満たせばよいが、１０〜３０℃の範囲で条件(a)を満たすことが好ましく、２５℃で条件（ａ）を満たすことがより好ましい。
【０１０３】
本発明のチキソトロピー付与剤は、有機溶剤に添加することでチキソ性を付与する作用を有する。
本発明のチキソトロピー付与剤は、下記条件（ｂ）を満たすものである。
【０１０４】
条件（ｂ）
溶剤に一般式（１）〜（４）で表される化合物を５質量％以下の濃度で含有させた液において、0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度x１における粘度η(x1)の、x2／x1≧１０であるせん断速度x２における粘度η(x2)に対する値η(x1)／η(x2)が１．５以上である。
ここで用いることができる溶剤としては、所望の効果が得られれば特に限定されないが、好ましくはトルエン、ヘキサン、イソプロパノール、エタノール、メタノール、クロロホルム、メチルエチルケトン、２−メチルペンタノン、シクロヘキサノンである。
より好ましくは、トルエン、メチルエチルケトン、２−メチルペンタノン、シクロヘキサノンであり、最も好ましくはメチルエチルケトン、２−メチルペンタノン、シクロヘキサノンである。
【０１０５】
ただし、本発明の一般式（１）〜（４）で表される化合物が溶剤に５質量％溶解しない場合は、溶解する濃度範囲で測定した粘度が上記条件を満たせばよい。
また、本発明の一般式（１）〜（４）で表される化合物を溶剤に５質量％含有した液の粘度が測定装置の測定範囲外となってしまうような場合（例えば、粘度の値が非常に大きい場合）も、濃度を調節して測定できる範囲内となったときの粘度が上記条件を満たせばよい。すなわち、上記条件（ｂ）を５質量％以下の含有量で満たすものは本発明の範囲内である。
【０１０６】
η(x1)／η(x2)が1．5以上であれば本発明の範囲内であるが、好ましくは、2以上、より好ましくは3以上である。
さらに、0．01〜1000ｓ−１の範囲のいずれかのせん断速度x１とx２（ただしx2／x1=10）において、η(x1)／η(x2)が2．5以上であることが好ましく、0．01〜100ｓ−１の範囲のいずれかのせん断速度x１とx２（ただしx2／x1=10）において、η(x1)／η(x2)が2．5以上であることがより好ましい。
【０１０７】
また、上記条件（ｂ）を５質量％で満たせば本発明の範囲内であるが、３質量％の含有量で上記条件（ｂ）の粘度条件を満たすことが好ましく、２質量％の含有量で上記条件（ｂ）の粘度条件を満たすことがより好ましい。一般に、５質量％以下の低含有量で上記条件（ｂ）を満たせば、溶解する範囲内で、含有量を増加させても条件（ｂ）を満たすものとみなす。
【０１０８】
また、好ましくは、1000ｓ−１以上のせん断速度において、相対粘度の値が100以下であり、より好ましくは、50以下であり、最も好ましくは、25以下である。
【０１０９】
上記条件（ｂ）は０〜５０℃の範囲内のいずれかの温度で満たせばよいが、１０〜３０℃の範囲で条件(ｂ)を満たすことが好ましく、２５℃で条件（ｂ）を満たすことがより好ましい。
【０１１０】
なお、粘度の測定には、市販の粘度計はいずれも用いることができるが、本発明中で明記している粘度は、R型粘度計（東機産業製RC−500）またはレオメーター（英弘精機製RS−150）を用いて25℃にて測定したものである。
【０１１１】
塗布組成物の調製方法について説明する。
乾燥ムラや風ムラを低減し、面状均一性が高い機能性フィルムを得るために、塗布組成物は塗布方式や塗布条件に応じた適切なチキソトロピー特性を付与する必要がある。チキソトロピーとは、高せん断速度下では低粘度、低せん断速度下では高粘度となる性質のことをいい、擬塑性流動特性、構造粘性と同義で用いる。乾燥時（低せん断速度時）に粘度が低すぎると塗布直後の塗布液の流動によって乾燥ムラや風ムラが発生しやすい。また、塗布時(高せん断速度時)に粘度が高すぎるとレベリング能が不足して塗布時にスジが発生しやすい。本発明においては、含フッ素化合物の含有量を調整することで塗布組成物のチキソトロピー特性を調節し、粘度のせん断速度依存性を制御することが可能である。
本発明の含フッ素化合物を塗布組成物に含有して用いる場合には、塗布方式や作製する機能性フィルムの性質に合わせて含有量は適宜調節すればよい。
【０１１２】
本発明の含フッ素化合物を含む塗布組成物は、下記条件（ｃ）を満たすことが好ましい。
【０１１３】
条件（ｃ）
0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度において、塗布組成物より一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物のみを除いた液の粘度η０１に対する、一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物を含有した塗布組成物の粘度η１１の値η１１／η０１が１．25以上である。
【０１１４】
η１１／η０１が1．25以上であれば本発明の範囲内であるが、好ましくは、1．5以上、より好ましくは2以上、最も好ましくは5以上である。本発明の化合物はチキソ性をあわせて有することが多く、せん断速度によっては相対粘度η１１／η０１が1．25以上とならない範囲も存在するが、0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度において上記条件（ｃ）を満たしていれば問題ない。0．01〜1000ｓ−１の範囲のいずれかのせん断速度において、相対粘度η１１／η０１が2以上であることが好ましく、0．01〜100ｓ−１の範囲のいずれかのせん断速度において、相対粘度η１１／η０１が2以上であることがより好ましい。
【０１１５】
本発明の含フッ素化合物を含む塗布組成物は、下記条件（ｄ）を満たすことが好ましい。
【０１１６】
条件（ｄ）
一般式（１）〜（４）のいずれかで表される化合物を含む塗布組成物において、0．01〜5000ｓ−１の範囲内のいずれかのせん断速度x１１における粘度η(x1１)の、x2１／x1１=10であるせん断速度x２１における粘度η(x2１)に対する値η(x1１)／η(x2１)が１．２５以上である。
【０１１７】
η(x1１)／η(x2１)が1．25以上であれば本発明の範囲内であるが、好ましくは、1．5以上、より好ましくは2以上、最も好ましくは5以上である。
さらに、0．01〜1000ｓ−１の範囲のいずれかのせん断速度x１１とx２１（ただしx2１／x1１=10）において、η(x1１)／η(x2１)が2以上であることが好ましく、0．01〜100ｓ−１の範囲のいずれかのせん断速度x１１とx２１（ただしx2１／x1１=10）において、ｎ(x1１)／ｎ(x2１)が2以上であることがより好ましい。
【０１１８】
上記条件（ｃ）または（ｄ）は実際に塗布組成物を塗布に使用する温度で満たすことが好ましい。
【０１１９】
塗布組成物中の本発明の含フッ素化合物の含有量には特に制限はないが、通常塗布組成物中に０．０１〜10質量％（塗布組成物全体の質量に対する質量％）、好ましくは０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２．５質量％含有させることができる。また、本発明の含フッ素化合物は１種類のみ含有させても、複数種類含有させても良い。
【０１２０】
本発明の含フッ素化合物は、２５℃において塗布溶剤に対する溶解度が０．０１質量％以上であることが好ましく、０．０５質量％以上であることがより好ましく、０．５質量％以上であることがさらに好ましい。
【０１２１】
本発明の含フッ素化合物含有後の塗布組成物について、1000s−1以上のせん断速度で測定した粘度は、好ましくは0．1〜100mPa sであり、より好ましくは、0．3〜50mPa sであり、もっとも好ましくは0．5〜20mPa sである。
【０１２２】
本発明の含フッ素化合物を含有する塗布組成物は様々な用途に使うことができる。本発明の含フッ素化合物を含む塗布組成物を塗布することにより製造する機能性フイルムと製造方法について以下に示す。
【０１２３】
本発明における機能性フィルムとは、光学機能、導電機能、誘電機能、絶縁機能、バリア機能、高強度、耐熱機能などの機能を持ったフィルムを示す。機能性フイルムの種類は特に限定するものではなく、例えば透明ハードコート層、着色層、防眩層、反射防止層、光学補償層などを一つ或いはそれ以上有するフイルムが挙げられる。膜厚、面状の均一性が厳しく要求される防眩層、反射防止層、光学補償層などを有する光学機能フイルムを製造するに当たって本発明の製造方法は有用である。本発明の機能性フイルムを光学フイルムとして用いる場合について更に以下に説明する。光学フィルムとは、光学機能をもったフィルムのことを示し、例えば、反射防止、選択反射、光位相変換、光学補償といった光学機能をもつ層を一つ或いはそれ以上有するフィルムが挙げられる。
【０１２４】
本発明の機能性フイルムを構成する光学機能層は、上記含フッ素化合物を含有する塗布組成物を調製した後、この塗布組成物を塗布して形成する。含フッ素化合物を含有した塗布組成物は、塗布適性に優れるとともに、均一でムラの無い層を形成することが可能となる。
本発明で形成しうる機能性フィルム層の厚さは特に制限はないが、好ましくは10nm〜100μｍ、より好ましくは10nm〜50μｍである。
本発明の機能性フイルムの成膜後の溶媒種の含量は少なければ少ないほどよいが好ましくは5質量％以下、より好ましくは3質量％以下とする。
【０１２５】
本発明に係る機能性層を形成するために用いる塗布組成物中に含まれる溶媒種としては有機溶剤でも有機溶剤と水の混合溶剤でも良いが、水の含率は低いことが好ましく、０〜３０質量％が好ましく、０〜１０質量％が更に好ましく、０〜５質量％がもっとも好ましい。また、塗布組成物中の有機溶剤の含有率は20〜99．5質量％が好ましく、25〜99質量％がより好ましく、30〜99質量％がもっとも好ましい。
【０１２６】
前記塗布組成物中に含まれる溶媒組成としては、単独および混合のいずれでもよく、全溶媒中、沸点が１２０℃以下の溶媒が５０〜１００質量％を占めることが好ましく、より好ましくは８０〜１００質量％、さらに好ましくは９０〜１００質量％、さらに好ましくは１００質量％である。また、さらに好ましくは、全溶媒中、沸点が１００℃以下の溶媒が５０〜１００質量％を占めることが好ましく、より好ましくは８０〜１００質量％、もっとも好ましくは１００質量％である。沸点が１００℃以下の溶媒が５０質量％以下であると、乾燥速度が非常に遅くなり、塗布面状が悪化し、塗布膜厚にもムラが生じるため、反射率などの光学特性も悪化するおそれがあり好ましいものではない。本発明では、沸点が１００℃以下の溶媒を多く含む塗布組成物を用いる事により、この問題を解決することができる。
【０１２７】
沸点が１００℃以下の溶媒としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃、以下「℃」を省略する）、ヘプタン（９８．４）、シクロヘキサン（８０．７）、ベンゼン（８０．１）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８）、クロロホルム（６１．２）、四塩化炭素（７６．８）、１，２−ジクロロエタン（８３．５）、トリクロロエチレン（８７．２）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６）、ジイソプロピルエーテル（６８．５）、ジプロピルエーテル（９０．５）、テトラヒドロフラン（６６）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２）、酢酸メチル（５７．８）、酢酸エチル（７７．１）、酢酸イソプロピル（８９）などのエステル類、アセトン（５６．１）、２−ブタノン（＝メチルエチルケトン、７９．６）などのケトン類、メタノール（６４．５）、エタノール（７８．３）、２−プロパノール（８２．４）、１−プロパノール（９７．２）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６）、プロピオニトリル（９７．４）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２）、などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
【０１２８】
沸点が１００℃以上の溶媒としては、例えば、オクタン（１２５．７）、トルエン（１１０．６）、キシレン（１３８）、テトラクロロエチレン（１２１．２）、クロロベンゼン（１３１．７）、ジオキサン（１０１．３）、ジブチルエーテル（１４２．４）、酢酸イソブチル（１１８）、シクロヘキサノン（１５５．７）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫ、１１５．９）、１−ブタノール（１１７．７）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノン、である。
【０１２９】
塗布組成物中に含まれる成分についてさらに説明する。
【０１３０】
本発明の含フッ素化合物を含む塗布組成物は、前述の成分の他に、特に制限無く該含フッ素化合物以外の成分を含有することができる。即ち、飽和炭化水素類（ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、クロロベンゼンなど）、ケトン類（アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなど）、アルコール類（メチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、２−メトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、セロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、カルビトールアセテートなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリノンなど）、ハロゲン系溶剤（１，１，１−トリクロロエタン、クロロホルム、パーフルオロオクタンなど）、エーテル類（テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）等の有機溶剤、水等を含有できる。
【０１３１】
また、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、オレフィン樹脂、ビニル樹脂、フッ素樹脂等の各種樹脂類、有機・無機顔料、染料、カ−ボン等の着色剤、棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物等の液晶性化合物、単官能或いは多官能の重合性化合物、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化カルシウム、炭酸カルシウム等の無機粉末、高級脂肪酸、ポリ（フッ化ビニリデン）、ポリ（テトラフロロエチレン）、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート等の有機微粉末、感光剤、重合開始剤、耐光性向上剤、耐候性向上剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、消泡剤、粘度調整剤、艶調整剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、炭化水素系界面活性剤等の各種添加剤等を、目的に応じて選択した各種成分を使用することが可能である。
【０１３２】
これらのうち、特に重要な成分は、（１）光学的異方性を発現させるために用いられる液晶性化合物(棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物、高分子液晶化合物など)、および（２）屈折率を調整するための有機および無機微粒子分散物（二酸化チタン、酸化ジルコニウムなど）である。本発明の含フッ素化合物を含有した塗布組成物は（１）または（２）のいずれかの成分を含むことが好ましい。以下に本発明で好ましく用いられる液晶性化合物および有機および無機微粒子分散物について説明する。
【０１３３】
液晶性化合物について説明する。本発明に用いられる液晶性化合物の基本骨格は多くの文献に記載されており、例えば松本正一、角田市良共著「液晶の基礎と応用（工業調査会１９９２年刊）」、日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、「液晶の化学（１９９４年刊）」を参考にする事ができ、例えば棒状液晶化合物、コレステリック液晶化合物およびディスコティック液晶化合物が挙げられる。
【０１３４】
棒状液晶化合物の具体的化合物としては、季刊化学総説 第２２巻 液晶の化学（１９９４年）日本化学会編の第４章、第７章，第１０章、および液晶デバイスハンドブック 日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載の化合物が挙げられる。例えば、ビフェニル誘導体、安息香酸フェニルエステル誘導体、ベンジリデンアニリン誘導体、アゾベンゼン誘導体、アゾキシベンゼン誘導体、スチルベン誘導体および、それらのベンゼン環が飽和になったものあるいは複素環に置き換わったものが挙げられる。
【０１３５】
本発明のディスコティック液晶性化合物とは、ディスコティック液晶相を示し得る化合物であり、円盤状のコア部とそれを中心として放射状に伸びる側鎖部分とから構成されている。ディスコティック液晶相は、円盤状分子の中心コアが分子間力で柱状に積み重なった柱状相（ｃｏｌｕｍｎａｒ ｐｈａｓｅ）と、円板状分子が乱雑に凝集したディスコティックネマティック相と、カイラルディスコティックネマティック相に大別できることが知られている。
【０１３６】
具体的化合物として挙げると、例えば日本化学会編、季刊化学総説Ｎｏ．２２「液晶の化学」第５章、第１０章２節（１９９４年刊 学会出版センター）、Ｗ．Ｈ．ｄｅ ｊｅｕの研究報告、Ｐｈｙｓｉｃａｌ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆ ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ｍａｔｅｒｉａｌｓ（１９８０ ｂｙ Ｇｏｒｄｏｎ ａｎｄ Ｂｒｅａｃｈ，Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ）Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）、Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇ、Ｊ．Ｓ．Ｍｏｏｒｅらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載の母核化合物の誘導体が挙げられる。
【０１３７】
例えば、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、アントラセン誘導体、アザクラウン誘導体、シクロヘキサン誘導体、β−ジケトン系金属錯体誘導体、ヘキサエチニルベンゼン誘導体、ジベンゾピレン誘導体、コロネン誘導体およびフェニルアセチレンマクロサイクルの誘導体が挙げられる。さらに、日本化学会編、“化学総説Ｎｏ．１５ 新しい芳香族の化学”（１９７７年 東京大学出版会刊）に記載の環状化合物およびそれらの複素原子置換等電子構造体を挙げることができる。また、上記金属錯体の場合と同様に、水素結合、配位結合等により複数の分子の集合体を形成して円盤状の分子となるものでもよい。また好ましく用いられる具体的化合物の構造は、特開2004-198511号公報の段落番号[0065]〜[0080]にも記載されている。
【０１３８】
これらを分子の中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された構造によりディスコティック液晶化合物が形成される。母核化合物として好ましくは、ディスコティックネマティック（ＮD ）相を形成するものであり、特に好ましくはトリフェニレンおよびトルキセンが挙げられる。側鎖としては、例えばアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシルオキシ基が挙げられ、側鎖中にアリール基、複素環基を含んでいても良い。また、Ｃ．Ｈａｎｓｃｈ、Ａ．Ｌｅｏ、Ｒ．Ｗ．Ｔａｆｔ著、ケミカルレビュー誌（Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．）１９９１年、９１巻、１６５〜１９５頁（アメリカ化学会）に記載されている置換基で置換されていてもよく、代表例としてアルコキシ基、アルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子が挙げられる。更に側鎖中に、例えばエーテル基、エステル基、カルボニル基、チオエーテル基、スルホキシド基、スルホニル基、アミド基のような官能基を有していても良い。
【０１３９】
液晶性化合物の配向状態は、長期間または温度、湿度や機械的変形に対し，安定に維持するのが困難な場合が多い。したがって、液晶性化合物としては、十分な硬化性を確保し、層の耐熱性を向上する観点から、分子内に重合性基あるいは架橋性基を有する液晶性化合物が好ましい。重合性基としては、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリニジル基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。
【０１４０】
次に有機および無機微粒子分散物について説明する。本発明で用いられる有機または無機微粒子分散物は、好ましくは、屈折率を調整するためのものであり、これらを含む塗布組成物を用いて、防眩性反射防止フイルムを作製することができる。以下では、防眩性反射防止フイルムを作製する際に用いられる塗布組成物中の有機または無機微粒子分散物の具体例を示すが、本発明で用いることのできる微粒子分散物はこれらに限定されるものではない。
【０１４１】
防眩性反射防止フイルムは透明支持体上に防眩性ハードコート層を有し、さらにその上の低屈折率層を有してなるが、必要に応じ、防眩性ハードコート層の下層に平滑なハードコート層を設けることができる。防眩性反射防止フイルムのハードコート層には、高屈折率を有する金属酸化物超微粒子を添加して用いられる。
【０１４２】
高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例として、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を挙げることができる。微粒子の好ましい例としては、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ2が好ましく用いられる。
【０１４３】
防眩性ハードコート層には、防眩性付与と防眩性ハードコート層の干渉による反射率悪化防止、色むら防止の目的で、樹脂または無機化合物の粒子が用いられ、例えば、シリカ粒子やＴｉＯ2粒子、架橋アクリル粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、などが好ましく用いられる。平均粒径は１．０乃至１０．０μｍが好ましく、１．５乃至７．０μｍがより好ましい。また、粒子の形状としては、真球、不定形、のいずれも使用できる。異なる２種以上の粒子を併用して用いてもよい。
【０１４４】
一方、低屈折率層に用いられる無機微粒子としては非晶質のものが好ましく用いられ、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物が特に好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさらに好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いても良い。特に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すなわちシリカである。該無機微粒子の平均粒径は０．００１乃至０．２μｍであることが好ましく、０．００５乃至０．０５μｍであることがより好ましい。微粒子の粒径はなるべく均一（単分散）であることが好ましい。該無機微粒子は表面処理を施して用いることも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。該無機微粒子がシリカの場合はシランカップリング処理が特に有効である。
【０１４５】
これらの素材を含む膜を形成するために、バインダーとしてポリマーや架橋性基を含有する化合物を添加し、塗布および乾燥後に光、熱、電子線などにより架橋反応を起こさせても良い。用途にもよるが、膜は強度が要求される場合が多く、一般にバインダーとして多官能モノマーや架橋性基を含むポリマーを用いることが多い。先に述べた機能を発現するための素材が架橋性基を有していてバインダーを兼ねていても良い。
【０１４６】
多官能モノマー中の重合性基としては、エチレン性不飽和基（(メタ)アクリル酸誘導体、ビニルエーテル誘導体、スチレン誘導体など）、環状エーテル基（エポキシ基、オキセタン基など）等が挙げられる。
【０１４７】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
【０１４８】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
【０１４９】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
【０１５０】
最新ＵＶ硬化技術（P．159，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製の商品名イルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【０１５１】
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
【０１５２】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【０１５３】
本発明では特に塗布組成物のポットライフの観点から、放射線の作用によりラジカルを発生する化合物が好ましい。
【０１５４】
また、１分子中に複数のエポキシ基を有する化合物も好ましく使用される。このような硬化剤としては、１分子中に複数のグリシジル基または３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物が良く知られており、本発明ではいずれも有用であるが、保存時の液安定性の観点から特にグリシジル基を有する硬化剤が好ましい。また屈折率の観点からは、特に脂肪族のものが好ましい。エポキシ硬化剤としては官能基密度が高く、かつ分子量が高すぎずある程度の運動性があり硬化効率が良いという観点からグリシジル基３〜１０個程度を有するものが特に好ましい。
【０１５５】
上記１分子中に複数のエポキシ基を有する化合物としては、例えば市販のものでは、デナコールＥＸ３１４，同４１１，同４２１，同５２１，同６１１，同６１２等（以上ナガセ化成工業株式会社製、いずれも商品名）、セロキサイド、ＧＴ３０１，同４０１等（以上ダイセル工業株式会社製、いずれも商品名）等を挙げることができる。
【０１５６】
本発明において上記１分子中に複数のエポキシ基を有する化合物を硬化剤として用いる時には、塗布組成物中に硬化触媒を配合することができる。該硬化触媒としては、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のプロトン酸、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩、ベンジルジメチルアミン、トリブチルアミン、トリス（ジメチルアミノ）メチルフェノール等の３級アミン、２−メチルー４−エチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、トルエンスルホン酸シクロへキシルエステル、トルエンスルホン酸イソプロピルエステル等の加熱により分解してプロトン酸を発生する化合物、あるいは以下に記載する放射線の作用により酸触媒を発生する各種化合物を挙げることができるが本発明では特に皮膜形成用組成物のポットライフの観点から、放射線の作用により酸を発生する化合物が好ましい。
【０１５７】
放射線の作用により酸を発生する化合物としては、例えば有機エレクトロニクス材料研究会（ぶんしん出版）編「イメージング用有機材料」ｐ１８７〜１９８、特開平１０−２８２６４４号等に種々の例が記載されておりこれら公知の化合物を使用することができる。具体的には、ＲSO３−（Ｒはアルキル基、アリール基を表す）、AsF6−、SbF6−、PF6−、BF４−等をカウンターイオンとするジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等の各種オニウム塩、トリハロメチル基が置換したオキサジアゾール誘導体やS−トリアジン誘導体等の有機ハロゲン化物、有機酸のｏ−ニトロベンジルエステル、ベンゾインエステル、イミノエステル、ジスルホン化合物等が挙げられ、好ましくは、オニウム塩類、特に好ましくはスルホニウム塩、ヨードニウム塩類である。これらの放射線の作用により、酸を発生する化合物と併用して増感色素も好ましく用いることができる。
【０１５８】
本発明の光学フイルムについてさらに詳しく説明する。
【０１５９】
本発明の光学フイルムは上記の塗布組成物を用いて製造されたものであって、液晶表示装置用の光学補償層を設けて光学補償フイルムとして用いることができる。光学補償層は配向膜を塗布、適宜配向処理した後に液晶化合物を塗布、配向させることにより製造することができる。光学補償フイルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。本発明の光学補償フイルムは、以下に示すような様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In−Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＡＦＬＣ（Anti−ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Supper Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。更に、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
【０１６０】
本発明の光学補償フイルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートとして用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、および特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Jpn．J．Appl．Phys．Vol．36(1997)p．143やJpn．J．Appl．Phys．Vol．36(1997)p．1068）に記載がある。
【０１６１】
本発明の光学補償フイルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０１６２】
本発明の光学補償フイルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅレターデーション値を０乃至１５０ｎｍとし、Ｒthレターデーション値を７０乃至４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅレターデーション値は、２０乃至７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレターデーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好ましい。
【０１６３】
ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。本発明の光学補償フイルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Jpn．J．Appl．Phys．Vol．38(1999)p．2837）に記載がある。
【０１６４】
本発明のセルロースアシレートフイルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Guest−Host）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、国際公開第９８／４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載がある。本発明のセルロースアシレートフイルムは、ＡＳＭ（Axially Symmetric Aligned Microcell ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Kume  et al．， SID98 Digest 1089 (1998)）に記載がある。
【０１６５】
上記光学補償フイルムにさらに反射防止層、防眩性層、λ／４層、λ／２層として機能を付与してもよい。
【０１６６】
本発明の光学フイルムには、反射防止層を設けることもできる。反射防止層の構成としては、単層、多層等各種知られているが、多層のものとしては高屈折率層、低屈折率層を交互に積層した構造のものが一般的である。構成の例としては、透明基材側から高屈折率層／低屈折率層の２層の順から構成されたものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（透明基材或いはハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性などから、ハードコート層を有する基材上に、高屈折率層／中屈折率層／低屈折率層の順に塗布することが好ましい構成である。
【０１６７】
基材面に（中屈折層を設ける場合もある）高屈折率層、空気に向かって低屈折率層を順に積層し、高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚光の波長に対しある値に設定することにより光学干渉層を作り、反射防止積層体としたものが反射防止層としては特に好ましく、屈折率と膜厚は分光反射率の測定より計算して算出し得る。本発明の光学フイルムには、カール防止加工を施すこともできる。カール防止加工とは、これを施した面を内側にして丸まろうとする機能を付与するものであるが、この加工を施すことによって、透明樹脂フイルムの片面に何らかの表面加工をして、両面に異なる程度・種類の表面加工を施した際に、その面を内側にしてカールしようとするのを防止する働きをするものである。カール防止層は基材の防眩層又は反射防止層を有する側と反対側に設ける態様或いは、例えば透明樹脂フイルムの片面に易接着層を塗設する場合もあり、又逆面にカール防止加工を塗設するような態様が挙げられる。
【０１６８】
本発明の光学フイルムには、透明ハードコート層を設けることができる。透明ハードコート層としては活性線硬化性樹脂或いは熱硬化樹脂が好ましく用いられる。活性線硬化性樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができ、例えば特開昭５９−１５１１１０号公報に記載されている。
【０１６９】
本発明の光学フィルムの透明支持体としては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチックフイルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製  商品名ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＦなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
【０１７０】
トリアセチルセルロースは、単層または複数の層からなる。単層のトリアセチルセルロースは、特開平７−１１０５５号公報等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロースは、特開昭６１−９４７２５号公報、特公昭６２−４３８４６号公報等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフイルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
【０１７１】
本発明の光学フイルムまたは機能性フイルムは、以下の方法で各層を透明支持体上に塗設し製造することができるが、この方法に制限されない。
【０１７２】
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、この塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびエクストルージョンコート法が好ましく、ワイヤーバーコート法およびエクストルージョンコート法がさらに好ましい。その後、光照射あるいは加熱して、機能性層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これにより機能性層が形成される。ここで、必要であれば他の機能性層この上に同様な方法で塗布してもよい。
【実施例】
【０１７３】
本発明を実施例に基づき、さらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１７４】
実施例１  液粘度の測定
下記表１に示した組成で試料１０１〜１１５の溶液を作成し、Ｒ型粘度計（東機産業製RC−500）を用いて、２５℃にて溶液粘度を測定した。表１に、溶媒の粘度をη０として、相対粘度η１／η０を算出した結果を示した。なお、表中の溶媒のＭＥＫはメチルエチルケトン（せん断速度９５．８ｓ−１におけるη０＝０．５１ｍＰａ・ｓ）、ＭｅＯＨはメタノール（せん断速度９５．８ｓ−１におけるη０＝０．７７ｍＰａ・ｓ）を示す。本発明の化合物はいずれのせん断速度においても相対粘度が1以上になっており、増粘していることがわかる。また、化合物の含有量が５質量％以下で、0．01〜5000ｓ−１の範囲内に相対粘度が2．5以上になっているせん断速度の領域が存在し、本発明の条件（ａ）を満たしていることがわかる。
また、表２に、チキソトロピーをあらわす値として、η(95．8)／η(958)＝η（95．8s−1での粘度）／η（958s−1での粘度）を算出した結果を示した。本発明の化合物を添加することでこの値は１以上になっており、チキソ性が発現していることがわかる。さらに、η(95．8)／η(958)が1．5以上になっており、本発明の条件（ｂ）を満たしていることがわかる。比較化合物(REF1)(REF2)は有機溶剤への溶解性が不足しており、比較化合物(REF1)(REF2)(REF3)いずれも増粘効果もチキソトロピーも持たないため、好ましくないことがわかる。
【０１７５】
【化２６】
2005314636.tif 000027
【０１７６】
【表１】
2005314636.tif 000028
【０１７７】
【表２】
2005314636.tif 000029
【０１７８】
本発明の条件（ａ）、（ｂ）を満たしている試料について、レオメーター（英弘精機製RS−150）を用いて、さらに詳細に粘度を調べた。表３に、1s−1，10s−1，100s−1における粘度より算出した相対粘度の値を、表４に、チキソトロピーをあらわす値としてη(1)／η(10)＝η（1s−1での粘度）／η（10s−1での粘度）、η(10)／η(100)＝η（10s−1での粘度）／η（100s−1での粘度）、を示した。表よりわかるように、よりせん断速度の小さい領域において、相対粘度は上昇し、また、チキソトロピーも大きくなっている。
なお、比較化合物(REF1)(REF2)(REF3)はいずれも測定できるすべてのせん断速度の領域で、本装置の測定範囲以下の粘度であった。
【０１７９】
【表３】
2005314636.tif 000030
【０１８０】
【表４】
2005314636.tif 000031
【０１８１】
実施例２  機能性フイルムの作製
（光学異方性フイルムの作製）
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルム上に下記の組成の配向膜塗布液を#14のワイヤーバーコーターで24ｍｌ／ｍ２で塗布し、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥する。その後、ラビング処理を実施することで配向膜を作成する。
【０１８２】
（配向膜塗布液組成）
下記式の変性ポリビニルアルコール                  40質量部
水                                                728質量部
メタノール                                        228質量部
グルタルアルデヒド                                  2質量部
クエン酸                                        0．08質量部
クエン酸モノエチルエステル                      0．29質量部
クエン酸ジエチルエステル                        0．27質量部
クエン酸トリエチルエステル                      0．05質量部
【０１８３】
【化２７】
2005314636.tif 000032
【０１８４】
得られた配向膜に室温にて、下記塗布組成物２０１を塗布し、乾燥後１３０℃の状態で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させる。次に１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、その後室温まで放冷することにより、光学異方性フイルム２０１を得る。
（塗布組成物２０１）
特開平７−３０６３１７号公報記載の例示化合物(ＴＰ−５３)
(ディスコチック液晶化合物)                          ４１．０１ｇ
Ｖ＃３６０（大阪有機化学(株)製）(多官能性モノマー)
４．０６ｇ
イルガキュア−９０７（チバガイギー社製）(光重合開始剤)
１．３５ｇ
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬(株)製）(増感剤)
０．４５ｇ
２−ブタノン                                          ８８ｇ
【０１８５】
以下の表５のとおり含フッ素化合物を添加し、その添加量だけ２−ブタノンの量を減らした以外は塗布組成物２０１と全く同様にして塗布組成物２０２〜２１２を作製する。これらを上記の光学異方性フイルム２０１と同様の方法で塗布、処理することにより、光学異方性フイルム２０２〜２１２を得る。
【０１８６】
【表５】
2005314636.tif 000033
【０１８７】
得られた光学異方性フイルムの面状を二枚の偏光板を介して目視で調べ、スジやムラの程度を以下の三段階で評価する。
○；ほとんどスジまたはムラは見られない
△；注意深く見ると部分的にスジまたはムラが見られる
×；スジまたはムラが多い
【０１８８】
表６に、塗布組成物２０４、２０５、２０９について、Ｒ型粘度計（東機産業製RC−500）を用いて、２５℃にて溶液粘度を測定した結果を示した。ここでは相対粘度は含フッ素化合物を添加しない塗布組成物２０１の粘度をη０として、η１／η０を算出した。表６から、本発明の化合物は、塗布組成物を増粘する効果とチキソ性を発現する効果があり、条件（ｃ），（ｄ）を満たしていることがわかる。同様の測定を行なうことで、塗布組成物２０２〜２０８も条件（ｃ），（ｄ）を満たしていることが確認できる。
【０１８９】
【表６】
2005314636.tif 000034
【０１９０】
上記試料中の本発明の全試料（光学異方性フイルム２０２〜２０９）において、塗布面状ムラが改良され、塗布液に本発明の化合物を添加する効果が確認できる。また、光学異方性フイルム２１２より、ＰＥＭＡ（ポリエチルメタクリレート）を用いた場合、本発明の試料と同程度の粘度に調整することで乾燥時のムラを抑制しようとすると、塗布スジが多く発生してしまい好ましくないことがわかる。