(57)【要約】【課題】主体と副体に輻射熱源を設けて、各種食品の調理ができるようにするとともに、調理器内が汚れるときは設置場所において洗浄で綺麗に掃除をすることができる両面加熱調理器を提供すること。【解決手段】調理品３の下側と上側に輻射熱源４と５を配置して、上下両面よりの輻射加熱で調理を行なう両面加熱調理器1において、下側の輻射熱源４を支持する主体６を定置とし、上側の輻射熱源５を支持する副体７を主体と平行を保って昇降する構造とし、定置の主体６の下側には、主体６の内部掃除をする際の排水等を受けて外部へ排出する排水手段1０を設け、昇降する副体７には、調理時は副体７を調理品の加熱に適した位置へ下降させ、調理器1の内部を掃除をするときは、副体７を主体６との間に十分な掃除空間ができる位置へ上昇させる昇降手段８を連係させたこと。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理品の下側と上側に輻射熱源を配置して、上下両面よりの輻射加熱で調理を行なう両面加熱調理器において、
下側の輻射熱源を支持する主体を定置とし、上側の輻射熱源を支持する副体を主体と平行を保って昇降する構造とし、
定置の主体の下側には、主体の内部掃除をする際の排水を受けて外部へ排出する排水手段を設け、
昇降する副体には、調理時は副体を調理品の加熱に適した位置へ下降させ、主体の内部掃除をする際は、副体を主体との間に十分な掃除空間ができる位置へ上昇させる昇降手段を連係させた
ことを特徴とする両面加熱調理器。
【請求項２】
上側の輻射熱源を支持する副体を昇降手段で下降させる位置を、調理品の大きさや調理状態等に応じて選択できるようにした
ことを特徴とする請求項１に記載の両面加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、両面加熱で各種の食品を調理することができて、洗浄による掃除を設置場所で行える両面加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、煮物惣菜などの保温器は、容器を定置とし、蓋を容器と平行に昇降するようにして、容器と蓋に保温用の熱源を取り付けることで、容器から煮物惣菜等を取り出すとき以外は、蓋を昇降機構で容器へ被せて置くことで、煮物惣菜等を長時間造り立ての状態に保持させる構成を採用している。（例えば、特許文献１参照）
【特許文献１】特開平１１−３４６９３５号公報（第３頁、第２図）
【０００３】
しかしながら、容器と蓋に保温用の熱源を設けた保温器では、各種の食品を加熱調理することはできないし、また、容器が汚れたときの掃除は、容器を洗場へ運んで洗場で行わなければならない問題点がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は前記問題点を解消し、主体と副体に輻射熱源を設けて、各種食品の調理ができるようにするとともに、調理器内が汚れるときは設置場所において洗浄で綺麗に掃除をすることができる両面加熱調理器を提供することをその課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題を解決するため本発明に係る両面加熱調理器は、下記の構成を採用することを特徴とする。
調理品の下側と上側に輻射熱源を配置して、上下両面よりの輻射加熱で調理を行なう両面加熱調理器において、下側の輻射熱源を支持する主体を定置とし、上側の輻射熱源を支持する副体を主体と平行を保って昇降する構造とし、定置の主体の下側には、主体の内部
掃除をする際の排水を受けて外部へ排出する排水手段を設け、昇降する副体には、調理時は副体を調理品の加熱に適した位置へ下降させ、主体の内部掃除をする際は、副体を主体との間に十分な掃除空間ができる位置へ上昇させる昇降手段を連係させたこと。
【０００６】
上側の輻射熱源を支持する副体を昇降手段で下降させる位置を、調理品の大きさや調理状態等に応じて選択できるようにすることが好ましい。
【発明の効果】
【０００７】
請求項１の効果  調理時は、副体を主体と平行するように下降させて、輻射熱源が調理に適した位置に保持されるようにして良好な調理を行なうことができるが、加熱調理器を掃除するときは、副体を主体との平行を保って十分な掃除空間が得られる位置へ上昇されて、調理器各部の汚れ状態を見ながら腐食性のない洗剤で汚れを綺麗に洗い落してから、すすぎを行って、洗浄水やすすぎによって出る排水は排水手段１０で集め、処理槽や下水等へ排出させることで、加熱調理器１をその設置場所において洗浄で簡単に綺麗に掃除することができる。
【０００８】
請求項２の効果  昇降手段で副体を下降させる位置を、調理品が大きいときは高く、小さいときは低く設定して、総ての調理品に対し調理用熱源を適切な距離に保持して調理することができるだけでなく、調理度に応じて高さを変え、調理品を焦がさずに調理したり
、希望通りの焦げ目が付くように調理したりすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下に本発明に係る両面加熱調理器の実施形態を図面に基づいて説明する。
【実施例１】
【００１０】
図１、図２において符号１は、卓上型の両面加熱調理器を示す。この両面加熱調理器１は、乗せ網２へ載せた調理品３の下側と上側に調理用の輻射熱源４と輻射熱源５とを配置して、両面よりの加熱で調理品３の調理を行なうようにしたものであり、下側の輻射熱源４を支持する箱状の主体６と、上側の調理用熱源５を支持する蓋形の副体７とを別体に形成する。そして、主体６は調理に適した場所へ定置し、副体７は主体６と平行を保った状態で昇降する構成としてある。
【００１１】
また、主体６の内側の下部には、洗浄による掃除時に出た汚水を受けて斜面で集水樋９へ集め、集水樋９からホース（図面省略）等で処理槽や下水等へ排出する汚水の排出手段１０を設けたものであって、この排出手段１０は、調理時、その上へバット１１等を置き、調理品より落ちた垂れ汁を受けさせて置く。そして、掃除の際は、バット１１等を取り出して汚染度が高い垂れ汁は専用の処理設備へ移して排水には混入しないようにする。
【００１２】
調理用の輻射熱源４及び輻射熱源５は、赤外線または遠赤外線を放射するヒーターを用いるものであって、これらヒーターは、掃除の際に洗剤液やすすぎ水が給電部４ａ、５ａへかからないように、給電部４ａと給電部５ａが隔壁１２の外側へ出るように配置する。そして、熱源４の下側には受桟１３に支持させて取り出し可能とした反射板１４を設け、熱源５の上側には定置もしくは取り出し可能とした反射板１５を設けるものであり、下側の反射板１４は、調理品より汁等が垂れてもその上へは溜まらず排水手段１０へ抜け落ちるように多孔構造とする。
【００１３】
主体側の輻射熱源４は、調理品３の下に位置するため、調理品３よりの垂れ汁等がかゝるので、上側に熱線の放射を妨げない耐熱ガラスの防汚板１６を設け、この防汚板１６を受桟１７に支持させて取り出し可能とすることが好ましい。また、この防汚板１６は、調理時の垂れ汁や洗浄時の汚れ水やすすぎ水を排水手段１０へ落し易いように適当に傾斜を付けるとよい。
【００１４】
調理品３を乗せる乗せ網２は、主体１内へ定置して置いて調理品３を乗せるようにしてもよい。しかし、手前側に把手２ａを有する構造として、調理品３を乗せて把手２ａを持ち、主体６へ入れ出しできるようにすると、調理品３が熱いうちに安全に取り出せて便利である。
【００１５】
副体７を調理に適した位置へ下降させたり、十分な掃除空間が得られる位置へ上昇させたりする昇降手段８は、主体６の後側にシリンダー１８を立て、このシリンダー１８の上部に逆Ｊ字形をなす導索管１９を、先端１９ａが副体７の中心に対応するように連設して、シリンダー１８には副体７と重量バランスがとれた錘２０を収容し、この錘２０と副体７の天面の中心とを導索管１９に通した索２１で連結する。こうすると、副体７を上げ下げ作動させるときは、これとは反対に錘２０が下げ上げ作動されて、副体７を任意の位置へ停止させることができるようになる。
【００１６】
上記実施例の昇降手段８を用いる両面加熱調理器１は、副体７が図１に示す通り主体６より離隔した位置に保持されているとき、副体７を主体６へ乗るまで引き下げると、索２１により錘２０が図１に示す位置まで上昇される。そこで、副体７から手を離せば、副体７は錘２０との重量バランスによって、この位置に停止して上側の熱源５を小さい調理品の調理に適した位置に保持し、下側の熱源４と上側の熱源５とで調理品３を両面から加熱して適切な調理を行う。
【００１７】
また、調理を終って調理器１内を掃除するときは、図２に示す位置にあった副体７を図１に示す位置まで引き上げると、錘２０がシリンダー１８の下部まで下がって停止し、副体７を図１に示す通り主体６の上方へこれと平行する状態に上昇させて、下側の熱源４の間に十分な掃除間隙が保持されるようにする。そこで、調理品３の乗せ網２を取り出せば
、調理器１内の奥の方の汚れ状態までよく見ながら、腐食性のない洗剤を使って各部の汚れを綺麗に洗い落としてから、すすぎ水を掛けてすすぎを行ない、両面加熱調理器１を設置位置において洗浄で簡単に掃除することができる。
【００１８】
また、上記副体７の昇降手段８は、副体７が主体６へ乗る位置と、主体６より離れて十分な掃除空間を有する位置との間の任意の位置に停止させることができる。従って、この位置の変化を調理品３の大きさや調理度に応じて適切に行なえば、大きさの異なる種々の調理品３に対して輻射熱源を適切な位置に保持して、総ての調理品に対して良好な調理結果を得ることも、また、調理品の加熱度を強弱に変化させて、調理品に対する焦目付けを微妙に調整したりすることができる。
【実施例２】
【００１９】
この実施例は、図３に示す通り、実施例１と同様の加熱調理器１において、昇降手段８を自動式としたものであり、この昇降手段８は、主体６の後側にシリンダー２２を立設して、このシリンダー２２内にスプリング２３で上方へ引っ張られる昇降体２４を収容し、この昇降体２４の上方に逆Ｊ字形をなす連結杆２５を連結して、連結杆２５の先端２５ａを副体７の天面の中央部へ連結し、前記シリンダー２２の底部には、昇降体２４が当るとこれを磁力で吸着保持する電磁ソレノイド２６を設けた構成としてある。
【００２０】
上記昇降手段８に用いるスプリング２０は、図３においては便宜上、コイルスプリングを示してあるが、渦巻バネを用いることが好ましく、この渦巻バネは内端が固定されるように昇降体２１へ取り付けられ、外端をシリンダー１９の上部へ止め着けるようにする。
【００２１】
この実施例に示す昇降手段８を用いた両面加熱調理器１は、副体７を引き下げて輻射熱減５を調理に適した位置へ降ろすと、昇降体２４が連結杆２５によりシリンダー２２内を下降されて、下部が磁化されている電磁ソレノイド２６へ当る。すると、電磁ソレノイド２６により吸着保持されるので、副体７は輻射熱減５を調理に適した位置に保持する。しかし、調理が終ると、公知のタイマーで電磁ソレノイド２６の磁化が解かれるようにして置けば、スプリング２３が昇降体２４を引き上げるため、副体７は連結杆２５により引き上げられて十分な掃除空間が得られる位置に保持される。従って、この状態で新旧の調理品３の入れ替をし、上記操作を繰り返せば、調理品の時間を定めた自動調理ができて、しかも、調理を終れば、副体７を主体６との間に十分な掃除空間を保持される位置に保持して、調理器1内の洗浄による掃除を設置場所で簡単に行うことができる。
【実施例３】
【００２２】
この実施例は、図４に示す通り、実施例１と同様の両面加熱調理器１において、副体７の昇降手段８を副体７の重量と弾力がバランスしたゼンマイばねを用いて構成したものであり、この昇降手段８は、主体６の後側に断面がＣ型をなす案内枠２７を立設し、この案内枠２７内に昇降体２８を収容して、該昇降体２８の上方に図１に示す通り逆Ｊ字形をなす連結杆２９を連結し、連結杆２９の先端２９ａを副体７の天面の中央部へ連結する。そして、上記昇降体２８の上下には、一対のゼンマイばね３０、３０を、外端が反対側に位置して、内端を軸３１、３１で止着されるように取り付け、外端はそれぞれ上側へ引き上げて案内枠２７の両側壁へ止部材３２、３２で固定する構成としてある。
【００２３】
この実施例に示す昇降手段８を用いた両面加熱調理器１は、ゼンマイばね３０、３０の弾力を副体７の重量とバランスさせた構造であるため、実施例１と同様に機能して、副体７を任意の位置へ停止させ、輻射熱源５を調理品３の大きさや、調理度に応じた適切な距離に保持して調理を効率よく行なうことができる。また、調理を終わって調理器１の内部を掃除するときは、副体７を十分な掃除空間が得られる高さに停止させて、各部の汚れを腐食性のない洗剤等で綺麗に洗い落とし、その後、すすいで排出された排水を排水手段１０で集めて下水や処理槽へ排出させれば、両面加熱調理器１の洗浄による掃除を設置場所において簡単に行える。
【００２４】
実施例１及び実施例３のように昇降手段８で昇降される副体７を任意の位置に停止せることができる場合、調理品３の大きさや調理の状態の変化等に応じて、最適な副体７の位置を簡便に設定できることが好ましい。このため、調理品の大きさや調理条件に合わせて適切に寸法設定したスペーサ３３を準備し、このスペーサ３３を主体６と副体７の間に図4に示す通り挟むようにすれば、簡便、迅速に副体７の最適な位置設定を行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
調理で汚れた両面加熱調理器の内部を設置場所において洗浄で綺麗に掃除するのに利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】実施例１に示す両面加熱調理器の副体を十分な掃除空間が得られる位置に保持した縦断側面図。
【図２】同上調理器の副体を調理に適した位置に保持した縦断側面図。
【図３】実施例２に示す両面加熱調理器の副体を十分な掃除空間が得られる位置に保持した縦断側面図。
【図４】実施例３に示す両面加熱調理器の副体を十分な掃除空間が得られる位置に保持した背面図。
【符号の説明】
【００２７】
１  加熱調理器
３  調理品
４  下側の輻射熱源
５  上側の輻射熱源
６  主体
７  副体
８  昇降手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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