(57)【要約】【課題】              優れた反射防止性能を有し、機械的強度に優れ、かつ、効率よく低コストで生産可能な偏光板保護フィルム、この偏光板保護フィルムを用いる反射防止機能付偏光板、及び該反射防止機能付偏光板を備える光学製品を提供する。【解決手段】          透明樹脂からなる基材フィルムの片面に、直接又はその他の層を介して低屈折率層が積層されてなる偏光板保護フィルムであって、前記低屈折率層が、その屈折率が１．２５〜１．３６であり、かつスチールウール試験後の反射率の変動が５０％以内のものであることを特徴とする偏光板保護フィルム、該偏光板保護フィルムを用いて形成される反射防止機能付偏光板、該反射防止機能付偏光板を備える光学製品。【選択図】  図１
2005316101.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂からなる基材フィルムの片面に、直接又はその他の層を介して低屈折率層が積層されてなる偏光板保護フィルムであって、前記低屈折率層が、その屈折率が１．２５〜１．３６であり、かつ、スチールウール試験後の反射率の変動が５０％以内のものであることを特徴とする偏光板保護フィルム。
【請求項２】
前記低屈折率層が、無機化合物の中空微粒子を含んでなることを特徴とする請求項１に記載の偏光板保護フィルム。
【請求項３】
前記透明樹脂が、脂環式構造含有重合体樹脂、セルロース系樹脂又はポリエステル系樹脂の少なくとも一種であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板保護フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の偏光板保護フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられていない側の一面に、偏光板が積層されてなることを特徴とする反射防止機能付偏光板。
【請求項５】
請求項４に記載の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明樹脂からなる基材フィルムに低屈折率層が積層されてなる偏光板保護フィルム、反射防止機能付偏光板及びこの偏光板を備える光学製品に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ等のディスプレイにおいては、画面への外部光の映りこみ、反射、ギラツキ等を極力抑え、画面を見易くする（視認性の向上）ために、透明基板（基材フィルム）上に低屈折率層を形成した反射防止フィルムを使用することが行われている。
【０００３】
従来、低屈折率層に用いる低屈折率材料としては、ＭｇＦ２、ＳｉＯ２等の無機材料；フッ素樹脂等の有機材料；等が知られている。高い反射防止性能を得るためには、低屈折率層が積層される層と低屈折率層との反射率の極小値を小さくすることができるように、これら２層の屈折率の差を大きくするのが好ましい。
【０００４】
しかしながら、従来用いられている低屈折率材料は基材フィルムとの屈折率の差が小さいものであるため、優れた反射防止性能を得るためには、基材フィルム表面に、より高い屈折率を有する高屈折率層と低屈折率層とを積層させた多層膜を形成する必要があり、製造コスト面で問題があった。
【０００５】
この問題を解決すべく、中空シリカ系微粒子を用いて空隙率を増加させ、低い屈折率を有する低屈折率層を形成する方法がいくつか提案されている。例えば、特許文献１には、中空シリカ系微粒子をマトリクス形成材料中に分散させて得られるコーティング剤組成物を塗布して乾燥することによって低屈折率の透明被膜を形成する方法が開示されている。この方法によれば、高屈折率層と低屈折率層を積層しなくとも、高い反射防止性能を得ることができる。
【０００６】
しかしながら、得られるマトリクスの強度が弱く、凝集力に乏しいといった理由から、液晶表示装置等の偏光板保護フィルムとして求められる機械的強度が不十分な場合があり、問題となっていた。近年は、携帯電話等屋外で用いられるものが多く、より優れた機械的強度が求められている。
【０００７】
一方、特許文献２には、機械的強度に優れる単層の低屈折率層を基材フィルムに積層した反射防止膜が提案されている。しかしながら、この反射防止膜は、単層で機械的強度に優れるものの、反射防止層の屈折率が高いため充分な反射防止性能が得られないものであった。
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−２３３６１１号公報
【特許文献２】特開２００３−２９４９０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、優れた反射防止性能を有し、機械的強度に優れ、かつ、効率よく低コストで生産可能な偏光板保護フィルム、この反射防止フィルムを用いる反射防止機能付偏光板、及び該反射防止機能付偏光板を備える光学製品を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、透明樹脂からなる基材フィルムに、一定範囲の低屈折率を有し、スチールウール試験前後の反射率の変動が５０％以下である低屈折率層を積層することによって、反射防止性能および機械的強度に優れた偏光板保護フィルムを効率よく低コストで得られることを見出した。また、この反射防止フィルムに偏光板を積層すると、反射防止性能および機械的強度に優れた反射防止機能付偏光板が得られることを見出し、本発明を完成するに到った。
【００１１】
かくして本発明の第１によれば、透明樹脂からなる基材フィルムの片面に、直接又はその他の層を介して低屈折率層が積層されてなる偏光板保護フィルムであって、前記低屈折率層が、その屈折率が１．２５〜１．３６であり、かつ、スチールウール試験後の反射率の変動が５０％以内のものであることを特徴とする偏光板保護フィルムが提供される。
【００１２】
本発明の偏光板保護フィルムにおいては、前記低屈折率層が、無機化合物の中空微粒子を含んでなることが好ましい。
本発明の偏光板保護フィルムにおいては、前記透明樹脂が、脂環式構造含有重合体樹脂、セルロース系樹脂又はポリエステル系樹脂の少なくとも一種であることが好ましい。
【００１３】
本発明の第２によれば、本発明の偏光板保護フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられていない側の一面に、偏光板が積層されてなることを特徴とする反射防止機能付偏光板が提供される。
本発明の第３によれば、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品が提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、透明性、機械的強度、反射防止性能に優れた偏光板保護フィルムを効率よく低コストで得ることができる。
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムを用いるものであり、反射防止性能等に優れ、低コストで形成することができる。
本発明の光学製品は、本発明の反射防止機能付偏光板を備えるものであるので、反射防止性能、視認性等に優れ、低コストで製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明を、１）偏光板保護フィルム、２）反射防止機能付偏光板、３）光学製品に項分けして説明する。
【００１６】
１）偏光板保護フィルム
本発明の偏光板保護フィルムは、透明樹脂からなる基材フィルムの片面に、直接又はその他の層を介して低屈折率層が積層されてなる偏光板保護フィルムであって、前記低屈折率層が、その屈折率が１．２５〜１．３６であり、かつ、スチールウール試験後の反射率の変動が５０％以内のものであることを特徴とする。
【００１７】
本発明に用いる基材フィルムは、透明性に優れる合成樹脂（透明樹脂）からなるものであれば特に制限されないが、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上の合成樹脂からなるものが好ましい。基材フィルムを構成する透明樹脂としては、例えば、脂環式構造含有重合体樹脂、ポリエステル系重合体樹脂、セルロース系重合体樹脂、ポリカーボネート系重合体樹脂、ポリスルホン系重合体樹脂、ポリエーテルスルホン系重合体樹脂、ポリスチレン系重合体樹脂、ポリオレフィン系重合体樹脂、ポリビニルアルコール系重合体樹脂、ポリ塩化ビニル系重合体樹脂、ポリメタクリレート系重合体樹脂等が挙げられる。
これらの透明樹脂は、一種単独でも、二種以上を混合して用いてもよい。
【００１８】
これらの中でも、複屈折が小さいことから、脂環式構造含有重合体樹脂、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系重合体樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系重合体樹脂；が好ましく、透明性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性等の観点から、脂環式構造含有重合体樹脂、トリアセチルセルロース及びポリエチレンテレフタレートがより好ましく、脂環式構造含有重合体樹脂が特に好ましい。
【００１９】
脂環式構造含有重合体樹脂は、重合体樹脂の繰り返し単位中に脂環式構造を有するものであり、主鎖中に脂環式構造を有する重合体樹脂及び側鎖に脂環式構造を有する重合体樹脂のいずれも用いることができる。
【００２０】
脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。脂環式構造を構成する炭素数に特に制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲にあると、耐熱性及び柔軟性に優れた基材フィルムを得ることができる。
【００２１】
脂環式構造含有重合体樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、通常５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと耐熱性が低下し好ましくない。なお、脂環式構造含有重合体樹脂における脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、使用目的に応じて適宜選択される。
【００２２】
脂環式構造含有重合体樹脂の具体例としては、（ｉ）ノルボルネン系重合体、(ii)単環の環状オレフィン系重合体、(iii)環状共役ジエン系重合体、(iv)ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体が好ましい。
【００２３】
ノルボルネン系重合体としては、具体的には、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、及びそれらの水素化物、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と共重合可能なその他の単量体との付加共重合体等が挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系単量体の開環（共）重合体水素化物が特に好ましい。
【００２４】
ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、及びこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）等を挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン系単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００２５】
ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体；等が挙げられる。
【００２６】
ノルボルネン系単量体の開環重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との開環共重合体は、単量体を開環重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。
開環重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。
【００２７】
ノルボルネン系単量体と付加共重合可能なその他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン等の炭素数２〜２０のα−オレフィン及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン等のシクロオレフィン及びこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン等の非共役ジエン等が挙げられる。これらの単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。
【００２８】
ノルボルネン系単量体の付加重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。付加重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。
【００２９】
ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、ノルボルネン系単量体の付加重合体、及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との付加重合体の水素化物は、公知の水素化触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは９０％以上水素化することによって得ることができる。
【００３０】
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の付加重合体を挙げることができる。
また、環状共役ジエン系重合体としては、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系単量体を１，２−付加重合又は１，４−付加重合した重合体を挙げることができる。
【００３１】
ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニルシクロアルカン又はビニルシクロアルケン由来の繰り返し単位を有する重合体である。ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキサン等のビニルシクロアルカン、ビニルシクロヘキセン等のビニルシクロアルケン等のビニル脂環式炭化水素化合物の重合体及びその水素化物；スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素化合物の重合体の芳香環部分の水素化物等が挙げられる。
【００３２】
また、ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニル脂環式炭化水素化合物やビニル芳香族炭化水素化合物と、これらの単量体と共重合可能な他の単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体及びその水素化物であってもよい。ブロック共重合としては、ジブロック、トリブロック、又はそれ以上のマルチブロックや傾斜ブロック共重合等が挙げられるが、特に制限はない。
【００３３】
透明樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン）を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量が、通常１０，０００〜３００，０００、好ましくは１５，０００〜２５０，０００、より好ましくは２０，０００〜２００，０００の範囲であるときに、基材フィルムの機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。
【００３４】
前記透明樹脂のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００〜２５０℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある透明樹脂からなる基材フィルムは、高温・高湿度下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。
【００３５】
前記透明樹脂の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は特に制限されないが、通常１．０〜１０．０、好ましくは１．０〜６．０、より好ましくは１．１〜４．０の範囲である。このような範囲に分子量分布を調整することによって、基材フィルムの機械的強度と成形加工性が良好にバランスする。
【００３６】
本発明に用いる基材フィルムは、上記透明樹脂材料を公知の成形方法によりフィルム状に成形することにより得ることができる。
【００３７】
透明樹脂材料をフィルム状に成形する方法としては、溶液キャスティング法又は、溶融押出成形法が挙げられる。なかでも、フィルム中の揮発性成分の含有量や厚さむらを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、Ｔダイ等のダイスを用いる方法やインフレーション法等が挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。
【００３８】
フィルムを成形する方法として、Ｔダイを用いる方法を採用する場合、Ｔダイを有する押出機における透明樹脂の溶融温度は、透明樹脂のガラス転移温度よりも８０〜１８０℃高い温度にすることが好ましく、１００〜１５０℃高い温度にすることがより好ましい。押出機での溶融温度が過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に溶融温度が過度に高いと樹脂が劣化する可能性がある。
【００３９】
さらに、フィルム状に成形する前に、用いる透明樹脂を予備乾燥しておくことが好ましい。予備乾燥は、例えば原料をペレット等の形態にして、熱風乾燥機等を用いて行われる。乾燥温度は１００℃以上が好ましく、乾燥時間は２時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、フィルム中の揮発性成分量を低減させることができ、さらに押出す透明樹脂の発泡を防ぐことができる。
【００４０】
本発明に用いる基材フィルムは、その飽和吸水率が０．０５％未満であるものが好ましい。飽和吸水率が０．０５％未満であるものを使用することにより、低屈折率層を形成する際において、水分が放出されて品質が劣化したり、生産性が低下することがない。また、長期間の使用により、吸湿により基材フィルムが伸縮して、低屈折率層が基材フィルムから剥離することがない。
基材フィルムの飽和吸水率は、ＪＩＳ  Ｋ７２０９に準拠して測定することができる。
【００４１】
また基材フィルムとしては、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用することができる。表面改質処理を行うことにより、低屈折率層や後述するその他の層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。
【００４２】
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄すればよい。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度等に応じて、処理時間等を調整する必要がある。
【００４３】
基材フィルムの厚みは、通常１０〜１０００μｍであるが、透明性および機械的強度の観点から、好ましくは３０〜３００μｍ、より好ましくは４０〜２００μｍである。
【００４４】
本発明の偏光板保護フィルムにおいては、基材フィルムと低屈折率層との間にその他の層を介在させることが好ましい。その他の層としては、ハードコート層やプライマー層が挙げられる。
【００４５】
ハードコート層は、基材フィルムの表面硬度、耐繰り返し疲労性及び機械的強度を補強する目的で形成される。ハードコート層の形成材料としては、ＪＩＳ  Ｋ５４００に規定される鉛筆硬度試験で、「２Ｈ」以上の硬度を示すものであれば特に制限されない。例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系等の有機系ハードコート材料；二酸化ケイ素等の無機系ハードコート材料；等が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。
【００４６】
ハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用塗工液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して、紫外線を照射し硬化させて形成する方法が挙げられる。ハードコート層の厚みは特に限定されないが、通常０．５〜３０μｍ、好ましくは３〜１５μｍである。
【００４７】
プライマー層は、基材フィルムと低屈折率層との接着性の付与及び向上を目的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物等が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物を好適に用いることができる。
【００４８】
主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ共重合体）、その水素添加物（ＳＥＢＳ共重合体）等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物を好適に用いることができる。
【００４９】
重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸；塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体；等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、２種以上を混合して用い、変性することもできる。
【００５０】
プライマー層の形成方法は特に制限されず、例えば、プライマー層形成用塗工液を公知の塗工方法により、基材フィルム上に塗工して形成する方法が挙げられる。プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常０．０１〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍである。
【００５１】
また、前記基材フィルム、ハードコート層およびプライマー層を構成する樹脂材料には、所望により各種配合剤を添加することができる。配合剤としては、熱可塑性樹脂材料で通常用いられるものであれば格別な制限はなく、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤；ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、金属錯体系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤；ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤；染料や顔料等着色剤；脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールのエステル、脂肪酸アミド、無機粒子等滑剤；トリエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸−塩基酸エステル系可塑剤、オキシ酸エステル系可塑剤等の可塑剤；多価アルコールの脂肪酸エステル等の帯電防止剤；等が挙げられる。
【００５２】
本発明の偏光板保護フィルムの低屈折率層は、屈折率が１．２５〜１．３６、好ましくは１．２５〜１．３３であり、かつ、スチールウール試験後の反射率の変動が５０％以内、好ましくは３０％以内であることを特徴とする。
【００５３】
低屈折率層の屈折率が１．２５未満では、低屈折率層の強度が弱く、偏光板保護フィルムとして求められる所望の機械的強度が得られない一方、１．３６を越えると、所望の反射防止効果が得られなくなるおそれがある。
屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメータを用いて測定して求めることができる。
【００５４】
スチールウール試験後の反射率の変動とは、スチールウールに０．０５ＭＰａの荷重をかけた状態で偏光板保護フィルムの表面を１０回擦る試験を行う前と後で測定した反射率の変化の割合をいい、スチールウール試験前の反射率をＲｂ、スチールウール試験後の反射率をＲａとすると、次式により求めることができる。
【００５５】
【数１】
2005316101.tif 000003
【００５６】
反射率は、例えば、公知の分光光度計を用い、所定の入射角における反射スペクトルを測定し、波長５５０ｎｍにおける反射率として求めることができる。低屈折率層の反射率は、好ましくは０．５％以下、より好ましくは０．３％以下である。反射率の変動が小さいものは、機械的強度に優れるということができる。
【００５７】
さらに、本発明に用いる低屈折率層は無機化合物の中空微粒子を含んでなるのが好ましい。無機化合物の中空微粒子としては、外殻の内部に空洞が形成された無機中空微粒子であれば特に制約はないが、シリカ系中空微粒子が好ましい。
【００５８】
無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ３等の１種又は２種以上を挙げることができる。２種以上の無機酸化物として、ＴｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２−ＺｒＯ２、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３−ＳｎＯ２を例示することができる。これらは１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５９】
無機中空微粒子としては、（Ａ）無機酸化物単一層、（Ｂ）種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物又は混合酸化物の単一層、及び（Ｃ）上記（Ａ）と（Ｂ）との二重層を包含するものを用いることができる。
【００６０】
外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。
外殻は、内側の第１無機酸化物被覆層及び外側の第２無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第２無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化したり、さらには、内部の空洞を密封した無機中空微粒子を得ることができる。
【００６１】
外殻の厚みは１〜５０ｎｍ、特に５〜２０ｎｍの範囲であるのが好ましい。外殻の厚みが１ｎｍ未満であると、無機中空微粒子が所定の粒子形状を保持していない場合がある。逆に、外殻の厚みが５０ｎｍを超えると、無機中空微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。更に、外殻の厚みは、無機中空微粒子の平均粒子径の１／５０〜１／５の範囲にあることが好ましい。
【００６２】
上述のように第１無機酸化物被覆層および第２無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記１〜５０ｎｍの範囲となるようにすればよく、特に、緻密化された外殻には、第２無機酸化物被覆層の厚みは２０〜４０ｎｍの範囲が好適である。
【００６３】
また、空洞には無機中空微粒子を調製するときに使用した溶媒及び／又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよいし、後述する空洞を形成するための前駆体物質が空洞に残存していてもよい。
【００６４】
前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。
【００６５】
なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い無機中空微粒子が得られ、この無機中空微粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。
【００６６】
無機中空微粒子の平均粒子径は特に制限されないが、５〜２０００ｎｍの範囲が好ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましい。５ｎｍよりも小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さく、逆に２０００ｎｍよりも大きいと、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
【００６７】
上述のような無機中空微粒子の製造方法は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報に詳細に記載されており、本発明に使用できる無機中空微粒子は、そこに記載された方法に基づいて製造することができ、また一般に市販されている無機中空微粒子を用いることもできる。
【００６８】
無機化合物の中空微粒子の配合量は、特に制限されないが、低屈折率層全体に対して、１０〜３０重量％であるのが好ましい。配合量がこの範囲であるときに、低屈折率性と機械的強度を兼ね備えた偏光板保護フィルムを得ることができる。
【００６９】
前記無機化合物の中空微粒子は、分散液の形で用いることもできる。分散液に用いる有機溶媒の種類は、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体；ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体；ジアセトンアルコール；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；等が挙げられる。
これらの有機溶媒は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００７０】
低屈折率層は、無機化合物の中空微粒子を含んでなる組成物（以下、「低屈折率層形成用組成物」ということがある。）を、基材フィルム又は基材フィルム上に積層されたその他の層の表面上に塗工し、必要に応じて乾燥・加熱処理を施すことにより形成することができる。形成される低屈折率層が、上記のような屈折率及び反射率変動を有するものになるためには、低屈折率層形成用組成物として、金属酸化物複合体を含有してなるものが好ましい。
【００７１】
前記金属酸化物複合体としては、下記（ａ）〜（ｃ）からなる群から選ばれる１種以上の化合物から形成されたものであって、分子中に、−（Ｏ−Ｍ）ｍ−Ｏ−（式中、Ｍは金属原子又は半金属原子を表し、ｍは自然数を表す。）結合を有するものがより好ましい。
【００７２】
（ａ）式（１）：ＭＸｎで表される化合物。
（ｂ）前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物。
（ｃ）前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物。
【００７３】
前記（ａ）の式（１）で表される化合物において、式（１）中、Ｍは金属原子又は半金属原子を表す。
金属原子又は半金属原子としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；マグネシウム、カルシウム、バリウム、ストロンチウム等のアルカリ土類金属；ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等の周期律表第３Ｂ族元素；ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛等の周期律表第４Ｂ族元素；リン、砒素、アンチモン等の周期律表第５Ｂ族元素；スカンジウム、チタン、バナジウム、鉄、ニッケル、銅、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、タンタル、タングステン等の遷移金属元素；ランタン、セリウム、ネオジム等のランタノイド；等が挙げられる。これらの中でも、周期律表第３Ｂ族元素、周期律表第４Ｂ族元素、遷移金属元素が好ましく、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウムがより好ましく、ケイ素（Ｓｉ）がさらに好ましい。
【００７４】
Ｘは、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；置換基を有していてもよい一価の炭化水素基；酸素原子；酢酸根、硝酸根等の有機酸根；アセチルアセトナート等のβ−ジケトナート基；硝酸根、硫酸根等の無機酸根；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等のアルコキシ基；または水酸基を表す。
また、ｎは前記Ｍ（金属原子又は半金属原子）の原子価を表す。ｎが２以上のとき、Ｘは同一であっても相異なっていてもよい。
【００７５】
これらの中でも、前記式（１）で表される化合物としては、式（２）：ＲｗＳｉＹ４−ｗ（式中、Ｒは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ｗは０〜２の整数を表し、ｗが２のとき、Ｒは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、Ｙは同一であっても相異なっていてもよい。）で表されるケイ素化合物が特に好ましい。
【００７６】
置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基、４−メチルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等の置換基を有していてもよいアリール基；ビニル基、アリル基等のアルケニル基；ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基等のアラルキル基；クロロメチル基、γ−クロロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基等のハロアルキル基；γ−メタクリロキシプロピル基等のアルケニルカルボニルオキシアルキル基；γ−グリシドキシプロピル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基等のエポキシ基を有するアルキル基；γ−メルカプトプロピル基等のメルカプト基を有するアルキル基；３−アミノプロピル基等のアミノ基を有するアルキル基；等を例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性から、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基が好ましい。
【００７７】
Ｙは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、−（Ｏ−Ｓｉ）ｍ−Ｏ−結合を生じせしめる基をいう。
【００７８】
加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基；オキシム基（−Ｏ−Ｎ＝Ｃ−Ｒ’（Ｒ”））、エノキシ基（−Ｏ−Ｃ（Ｒ’）＝Ｃ（Ｒ”）Ｒ'''）、アミノ基、アミノキシ基（−Ｏ−Ｎ（Ｒ’）Ｒ”）、アミド基（−Ｎ（Ｒ’）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ”）等が挙げられる。これらの基において、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Ｙとしては、入手容易性等からアルコキシ基が好ましい。
【００７９】
前記式（２）で表されるケイ素化合物としては、式（２）中、ｗが０〜２の整数であるケイ素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。
【００８０】
前記式（２）中、ｗが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、ｗが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、ｗが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。
【００８１】
前記式（１）で表される化合物の分子量は特に制限されないが、４０〜３００であるのが好ましく、１００〜２００であるのがより好ましい。
【００８２】
前記（ｂ）の式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物（以下、「化合物（３）」という。）、および（ｃ）の式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物（以下、「化合物（４）」という。）は、前記式（１）で表される化合物の１種またはそれ以上を、全部又は部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。
【００８３】
化合物（３）および化合物（４）は、例えば、Ｍ（Ｏｒ）４（Ｍは前記と同じ意味を表し、ｒは１価の炭化水素基を表す。）で表される金属テトラアルコキシドを、モル比［Ｈ２Ｏ］／［Ｏｒ］が１．０以上、例えば１．０〜５．０、好ましくは１．０〜３．０となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。
加水分解は、５〜１００℃の温度で、２〜１００時間、全容を撹拌することにより行うことができる。
【００８４】
前記式（１）で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び／あるいは加水分解物が２次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。
【００８５】
用いる酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸；塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸；酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー；を挙げることができる。これらの酸触媒は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００８６】
また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基触媒を用いてもよい。
【００８７】
化合物（３）および化合物（４）の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が２００〜５０００の範囲である。
【００８８】
前記低屈折率層形成用組成物は、基材フィルム又はその他の層に塗布して塗膜を形成すること、また、マトリクス形成材料の少なくとも部分的な加水分解が起こるのが好ましい場合があることから、水または水と他の有機溶剤との混合物を含むのが好ましい。
【００８９】
用いる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体；ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体；ジアセトンアルコール；およびこれらの２種以上からなる組み合わせ；等の親水性有機溶剤が挙げられる。
【００９０】
また、前記親水性有機溶剤と併用して、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；メチルエチルケトオキシム等のオキシム類；およびこれらの２種以上からなる組み合わせ；等を使用することができる。
【００９１】
前記低屈折率層形成用組成物は、上記（ａ）および（ｂ）の化合物を含む場合、硬化触媒を含むのが好ましい。これによって、低屈折率層形成用組成物を基材フィルム表面に塗布して塗膜を形成して乾燥する際に、縮合反応が促進されて被膜中の架橋密度が高くなり、被膜の耐水性及び耐アルカリ性を向上させることができる効果を得ることができる。
【００９２】
用いる硬化触媒としては、Ｔｉキレート化合物、Ｚｒキレート化合物等の金属キレート化合物；有機酸等が挙げられる。
【００９３】
前記低屈折率層形成用組成物は、公知のシランカップリング剤を更に含んでいてもよい。シランカップリング剤を含むことによって、前記低屈折率層形成用組成物を用いて基材フィルム上に低屈折率層を形成する場合、基材フィルムと低屈折率層との間の密着性が向上する場合がある。
【００９４】
基材フィルム上に低屈折率層形成用組成物を塗工する方法は特に制限されず、公知の塗工法を採用することができる。塗工法としては、ワイヤバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法等が挙げられる。
【００９５】
低屈折率層形成用組成物の塗膜を得た後は、乾燥し、必要に応じて加熱焼成することにより、低屈折率層を形成することができる。必要に応じて行われる加熱の温度は、通常５０〜２００℃、好ましくは８０〜１５０℃である。
得られる低屈折率層の厚みは、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは５０〜５００ｎｍである。
【００９６】
本発明の偏光板保護フィルムは、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために、低屈折率層上に防汚層をさらに形成することができる。
【００９７】
防汚層の形成材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法；化学的気相成長法；湿式低屈折率層形成法；等を用いることができる。 防汚層の厚みは特に制限はないが、通常２０ｎｍ以下が好ましく、１〜１０ｎｍであるのがより好ましい。
【００９８】
本発明の偏光板保護フィルムの層構成例を図１に示す。図１に示す偏光板保護フィルム２０は、基材フィルム１０上に形成されたハードコート層１２を介して中空微粒子１４ａを含有する低屈折率層１４が積層された構造を有している。本発明の偏光板保護フィルムは図１に示すものに限定されず、少なくとも基材フィルム上に低屈折率層を有するものであればよい。
【００９９】
本発明の偏光板保護フィルムは、前記スチールウール試験後であっても、目視観察において、フィルム表面には全く傷が認められず、優れた機械的強度を有している。
【０１００】
本発明の偏光板保護フィルムは、例えば、携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル（登録商標）、ナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、ＯＡ機器用ディスプレイ、ＡＶ機器用ディスプレイ等の各種液晶表示素子やエレクトロルミネッセンス表示素子あるいはタッチパネル等の偏光板の保護フィルムとして有用である。
【０１０１】
２）反射防止機能付偏光板
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられていない側の一面に、偏光板が積層されてなることを特徴とする。
【０１０２】
偏光板としては、偏光板としての機能を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系やポリエン系の偏光板が挙げられる。
【０１０３】
偏光板の製造方法は特に限定されない。ＰＶＡ系の偏光板を製造する方法としては、ＰＶＡ系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、ＰＶＡ系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、ＰＶＡ系フィルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後に二色性染料で吸着する方法、ＰＶＡ系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。また、ポリエン系の偏光板を製造する方法としては、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱・脱水する方法、ポリ塩化ビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱・脱水する方法等の公知の方法が挙げられる。
【０１０４】
偏光板保護フィルムと偏光板との積層は、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合わせることができる。接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものの使用が好ましい。
【０１０５】
本発明の反射防止機能付偏光板においては、偏光板の本発明の偏光板保護フィルムが積層されていない方の面に、接着剤又は粘着剤層を介して、保護フィルムが積層されていてもよい。保護フィルムとしては、光学異方性が低い材料からなるものが好ましい。光学異方性が低い材料としては、特に制限されず、例えばトリアセチルセルロース等のセルロースエステルや脂環式構造含有重合体等が挙げられるが、透明性、低複屈折性、寸法安定性等に優れる点から脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体としては、前記基材フィルムの説明部分で記載したものと同様のものが挙げられる。接着剤又は粘着剤としては、偏光板保護フィルムと偏光板との積層に用いる接着剤又は粘着剤と同様のものが挙げられる。
【０１０６】
本発明の反射防止機能付偏光板の層構成例を図２に示す。図２に示す反射防止機能付偏光板３０は、本発明の偏光板保護フィルム２０の低屈折率層１４が設けられていない面側に、接着剤又は粘着剤層１６を介して、偏光板１８が積層され、さらに偏光板１８の他の面側には、接着剤又は粘着剤層１６を介して、保護フィルム１０ａが積層された構造を有している。
【０１０７】
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムを用いているので、機械的強度に優れる偏光板となっている。
【０１０８】
３）光学製品
本発明の光学製品は、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする。本発明の光学製品の好ましい具体例としては、液晶表示装置、タッチパネル、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマパネル表示装置等が挙げられる。
【０１０９】
本発明の反射防止機能付偏光板を備える光学製品の一例として、本発明の反射防止機能付偏光板を備える液晶表示装置の層構成例を図３に示す。図３に示す液晶表示装置は、下から順に、偏光板４０、位相差板５０、液晶セル６０、及び本発明の反射防止機能付偏光板３０からなる。反射防止機能付偏光板３０は、液晶セル６０上に、図示を省略する接着剤又は粘着剤層を介して、偏光板面と貼り合わせて形成されている。液晶セル６０は、例えば図４に示すように、透明電極７０を備えた電極基板８０の２枚をそれぞれ透明電極７０が対向する状態で所定の間隔をあけて配置するとともに、その間隙に液晶９０を封入することにより作製される。図４中、１００はシールである。
【０１１０】
液晶９０の液晶モードは特に限定されない。液晶モードとしては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）型等が挙げられる。
【０１１１】
また、図４に示す液晶表示装置は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。
【０１１２】
本発明の光学製品は、視認性に優れるものである。すなわち、表示パネルを暗表示にして、前正面より目視で観察した際、過度に輝度が高い点や面が現われて見難かったり、不快感を抱いたり（グレア）、映りこみが見られることがない。この優れた視認性は、前記スチールウール試験を行った後においても変わらない。
【実施例】
【０１１３】
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
実施例及び比較例中の試験及び評価は以下の方法で行った。
【０１１４】
屈折率
高速分光エリプソメトリ（型番号：Ｍ−２０００Ｕ、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製）を用い、測定波長４００−１０００ｎｍ、入射角度をそれぞれ５５、６０、６５度で測定し、これらの測定値から算出した。
【０１１５】
耐擦傷性
スチールウール＃００００に荷重０．０５ＭＰａをかけた状態で表面を１０往復させ、試験後の表面状態を目視で観測した。
○：傷が認められない。
△：わずかに傷が見られる。
×：傷が認められる。
【０１１６】
反射率と反射率変動
分光光度計（紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０、日本分光社製）を用い、入射角５度にて反射スペクトルを測定し、波長５５０ｎｍにおける反射率を求めた。
反射率変動は下記式で求めた。Ｒｂはスチールウール試験前の反射率、Ｒａは試験後の反射率を表す。
【０１１７】
【数２】
2005316101.tif 000004
【０１１８】
視認性
液晶表示素子を暗表示にして前正面より基材を目視で観察し、以下の三段階で評価した。グレアとは視野内で過度に輝度が高い点や面が見えることによっておきる不快感や見にくさのことをいう。
○：グレアや映りこみが見られない。
△：グレアや映りこみがすこし見られる。
×：グレアや映りこみが見られる。
【０１１９】
（製造例１）基材フィルムの作製
ノルボルネン系重合体（商品名：ＺＥＯＮＯＲ  １４２０Ｒ、日本ゼオン社製、ガラス転移温度：Ｔｇ１３６℃、飽和吸水率：０．０１重量％未満）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて１１０℃で４時間乾燥した。そしてこのペレットを、リーフディスク形状のポリマーフィルター（ろ過精度３０μｍ）を設置したダイリップの先端部にクロムめっきを施した平均表面高さＲａ＝０．０５μｍのリップ幅６５０ｍｍのコートハンガータイプのＴダイを有する短軸押出機を用いて、２６０℃で溶融押出しして６００ｍｍ幅の長尺基材フィルム１Ａを得た。得られた長尺基材フィルムの揮発成分の含有量は０．０１重量％以下、飽和吸水量は０．０１重量％以下であった。また、この基材フィルムの膜厚は４０μｍであった。
【０１２０】
（製造例２）ハードコート剤の調製
６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（商品名：ＮＫ  オリゴ  Ｕ−６ＨＡ、新中村化学社製）３０部、ブチルアクリレート４０部、イソボロニルメタクリレート（商品名：ＮＫ  エステル  １Ｂ、新中村化学社製）３０部、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン１０部をホモジナイザーで混合して紫外線硬化性樹脂組成物からなるハードコート剤を調製した。
【０１２１】
（製造例３）プライマー溶液の調製
無水マレイン酸変性スチレン・ブタジェン・スチレンブロック共重合体の水素添加物（商品名：タフテックＭ１９１３、旭化成社製、メルトインデックス値は２００℃、５ｋｇ荷重で１．０ｇ／１０分、スチレンブロック含量３０重量％、水素添加率８０％以上、無水マレイン酸付加量２％）２部を、キシレン８部とメチルイソブチルケトン４０部の混合溶媒に溶解し、孔径１μｍのポリテトラフルオロエチレン製のフィルターを濾過して、完全な溶液のみをプライマー溶液として調製した。
【０１２２】
（製造例４）低屈折率層形成用塗布液の調製
テトラメトキシシランのオリゴマー（商品名：メチルシリケート５１、コルコート社製）と、メタノール、水、０．０１Ｎの塩酸水溶液を質量比２１：３６：２：２で混合し、これを２５℃の高温槽中で２時間撹拌して、重量平均分子量を８５０に調製し、シリコーンレジンを得た。
次に中空シリカ微粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル（触媒化成工業社製、固形分２０重量％、平均一次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ）を前記シリコーンレジンに加え、中空シリカ微粒子／シリコーンレジン（縮合化合物換算）が固形分基準で重量比が８：２となるように配合し、その後、全固形分が１％になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層形成用塗布液Ａを調製した。
【０１２３】
（製造例５）シリコンアルコキシド溶液Ａの調製
テトラメトキシシランのオリゴマー（商品名：メチルシリケート５１、コルコート社製）と、メタノールを質量比で４７：７１で混合してＡ液を調製した。また、水、アンモニア水（２８重量％）、メタノールを重量比で６０：１．２：９７．２で混合してＢ液を調製した。そしてＡ液とＢ液を１６：１７の比で混合してシリコンアルコキシド溶液Ａを調製した。
【０１２４】
（製造例６）シリコンアルコキシド溶液Ｂの調製
製造例５においてテトラメトキシシランのオリゴマーと、メタノールを質量比で４７：７８となるように配合した以外は、製造例４と同様にしてシリコンアルコキシドＢ液を調製した。
【０１２５】
実施例１
製造例１で得られた基材フィルムの両面に、高周波発信機（コロナジェネレータＨＶ０５−２、Ｔａｍｔｅｃ社製）を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が０．０７２Ｎ／ｍになるように表面改質して表面改質済み基材フィルムを得た。
製造例３で得られたプライマー溶液を、表面改質済み基材フィルムの片面に、乾燥後のプライマー層の膜厚が０．５μｍになるように、ダイコーターを用いて塗布し、８０℃の乾燥炉の中で５分間乾燥させて、プライマー層を有する基材フィルムを得た。
プライマー層を有する基材フィルムのプライマー層を有する方の面に、製造例２で得たハードコート剤を硬化後のハードコート層の膜厚が５μｍになるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。次いで８０℃で５分間乾燥させた後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２）を行い、ハードコート剤を硬化させ、ハードコート層積層フィルムを得、ロール状に巻き取った。このハードコート層の厚さは５μｍであった。
【０１２６】
製造例４で得られた低屈折率層形成用塗布液Ａを１時間放置した後に、ハードコート層積層フィルムの上にワイヤーバーコーターによって塗布して厚さ約１００ｎｍの塗膜を形成し、さらに１時間放置して乾燥した後に、被膜を１２０℃で１０分間酸素雰囲気下で熱処理し、低屈折率層が形成された積層フィルム２Ａを得た。
【０１２７】
実施例２
基材フィルムとして厚さ４０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（商品名：ＫＣ４ＵＸ２Ｍ、コニカミノルタ社製）を用いた他は実施例１と同様にして反射防止層が形成された積層フィルム２Ｂを得た。
【０１２８】
実施例３
基材フィルムとして厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（商品名：ルミラーＴ６０＃３８、東レ社製）を用いた他は実施例１と同様にして反射防止層が形成された積層フィルム２Ｃを得た。
【０１２９】
比較例１
製造例５で得られたシリコンアルコキシド溶液を、混合開始後１分経過した後で、スピンコーターによりハードコート積層フィルム１Ｄ上に滴下し、低屈折率層を形成した。スピンコーターの回転室はメタノール雰囲気になるようにしてあり、回転数は７００ｒｐｍで１０秒行った。低屈折率層形成の後、１分１５秒放置してシリコンアルコキシドがゲル化した薄膜を得た。
このゲル状薄膜を５分間、水と２８％アンモニア水とメタノールを質量比で１６２：４：６４０で混合した組成の養生溶液中に浸漬し、室温で一昼夜養生した。さらにこの薄膜をヘキサメチルジシラザンの１０％イソプロパノール溶液中に浸漬し、疎水化処理を行った。
次に、この疎水化処理したゲル状化合物をイソプロパノール中へ浸漬することにより洗浄し、高圧容器に入れ、液化炭酸ガスで満たし、８０℃、１６ＭＰａ、２時間の条件で超臨界乾燥することによって、表面に膜厚１００ｎｍのシリカエアロゲル薄膜が形成された積層フィルム２Ｄを得た。
【０１３０】
比較例２
低屈折率層を形成する際に製造例６で得られたシリコンアルコキシド溶液Ｂを用いる他は比較例１と同様にして積層フィルム２Ｅを得た。
【０１３１】
上記で得た実施例１〜３、及び比較例１，２の積層フィルム２Ａ〜２Ｅを使用して、低屈折率層の屈折率、反射率、反射率変動、耐擦傷性を測定又は評価した。結果を第１表にまとめた。
【０１３２】
【表１】
2005316101.tif 000005
【０１３３】
第１表より、実施例１〜３の積層フィルム２Ａ〜２Ｃは、低屈折率層の屈折率が１．２５〜１．３６の範囲にあり、かつ反射率変動が５０％以内である。
実施例１〜３の積層フィルム２Ａ〜２Ｃは、反射率が小さく、反射防止機能を有する光学フィルムとして有用であり、スチールウール試験後の目視観察において表面に傷が全く認められず、機械的強度に優れている。
【０１３４】
実施例４〜６、比較例３，４
（１）反射防止機能付偏光板の製造
重合度２４００、厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素とヨウ化カリウム配合の４０℃の染色浴に浸漬して染色処理を行った後、ホウ酸とヨウ化カリウムを添加した６０℃の酸性浴中で総延伸倍率が５．３倍となるように延伸処理と架橋処理を行った。水洗処理した後、４０℃で乾燥して、厚さ２８μｍの偏光板を得た。
【０１３５】
実施例１〜３及び比較例１，２で得た積層フィルム２Ａ〜２Ｅの基材フィルム面側に、アクリル系接着剤（商品名：ＤＰ−８００５クリア、住友スリーエム社製）を介して、上記偏光板を貼り合わせ、さらに偏光板に、アクリル系接着剤を介して、表面改質した基材フィルムを貼り合わせて、図２に示すものと同様の層構成を有する反射防止機能付偏光板３Ａ〜３Ｅを作製した。
【０１３６】
（２）液晶表示素子の作製
プラスチックセル基板を使用した液晶表示セル（３インチ、プラスチック基板の厚さ４００μｍ）を準備し、これのフロント側と、上記で得た反射防止機能付偏光板３Ａ〜３Ｅの偏光板側とをそれぞれ貼り合わせた。また、もう１枚の偏光板を用意し、これをリア用として、液晶表示セルの反対面に貼り合わせて、液晶表示素子４Ａ〜４Ｅをそれぞれ作製した。
得られた液晶表示素子４Ａ〜４Ｅについて、スチールウール試験前後の視認性を評価した。評価結果を第２表に示す。
【０１３７】
【表２】
2005316101.tif 000006
【０１３８】
実施例４〜６で得られた液晶表示素子４Ａ〜４Ｃは、比較例７，８で得られた液晶表示素子４Ｄ，４Ｅと異なり、スチールウール試験後であっても、グレアや映りこみが全く見られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１３９】
【図１】図１は、本発明の偏光板保護フィルムの層構成断面図である。
【図２】図２は、本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図である。
【図３】図３は、本発明の反射防止機能付偏光板を液晶表示セルに貼り合せた層構成断面図である。
【図４】図４は、図３に示す液晶表示セルの層構成断面図である。
【符号の説明】
【０１４０】
１０…基材フィルム、１０ａ…保護フィルム、１２…ハードコート層、１４…低屈折率層、１４ａ…無機中空微粒子、１６…接着剤層、１８…偏光膜、２０…偏光板保護フィルム、３０…反射防止機能付偏光板、４０…偏光板、５０…位相差板、６０…液晶セル、７０…透明電極、８０…電極基板、９０…液晶、１００…シール
【図１】
2005316101.tif 000007
【図２】
2005316101.tif 000008
【図３】
2005316101.tif 000009
【図４】
2005316101.tif 000010