(57)【要約】  【課題】  加圧によるクラックの発生および加熱等による変形が抑制された光学補償層を有する光学補償板を提供する。  【解決手段】  光学補償層の少なくとも一方の表面に、ガラス転移温度が１００℃以下である湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤を塗工し、前記接着剤を硬化させることによって、前記光学補償層表面に直接クラック防止層を形成する。このクラック防止層によって、前記光学補償層におけるクラックの発生および変形が防止される。前記光学補償層は、コレステリック構造を有する層であることが好ましく、その構成材料は、配向した液晶モノマーが重合することによって形成された非液晶ポリマーや、配向した液晶ポリマーが好ましい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学補償層を含む光学補償板であって、前記光学補償層の少なくとも一方の表面に、湿気硬化型イソシアネート化合物を含むクラック防止層が直接積層されており、前記クラック防止層のガラス転移温度（Ｔｇ）が、硬化させた状態で１００℃以下である光学補償板。
【請求項２】
前記ガラス転移温度が、６０℃以下である請求項１記載の光学補償板。
【請求項３】
前記湿気硬化型イソシアネート化合物が、ヘキサメチレンジイソシアネートまたは１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサンである請求項１記載の光学補償板。
【請求項４】
前記クラック防止層の押し込み硬度が、０．１ＧＰａ〜０．５ＧＰａの範囲である請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学補償板。
【請求項５】
前記クラック防止層の厚みが、０.１μｍ〜２０μｍの範囲である請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学補償板。
【請求項６】
前記光学補償層が、その構成分子がコレステリック構造をとって配向しているコレステリック層を含む請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学補償板。
【請求項７】
前記コレステリック層の厚みが、０.５μｍ〜１０μｍの範囲である請求項６記載の光学補償板。
【請求項８】
前記コレステリック層の構成分子が非液晶ポリマーであって、前記非液晶ポリマーが、コレステリック構造をとって配向した液晶モノマーを重合または架橋したポリマーである請求項６または７記載の光学補償板。
【請求項９】
前記コレステリック層の構成分子が液晶ポリマーであって、前記液晶ポリマーが、コレステリック構造をとって配向している請求項６または７記載の光学補償板。
【請求項１０】
前記コレステリック層のらせんピッチが、０．０１μｍ〜０.２５μｍの範囲である請求項６〜９のいずれか一項に記載の光学補償板。
【請求項１１】
偏光子、透明保護層および光学補償板を含む偏光板であって、前記光学補償板が、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学補償板を含み、前記偏光子と前記光学補償板とが、前記透明保護層を介して積層されている偏光板。
【請求項１２】
前記光学補償板におけるクラック防止層によって、前記光学補償板と前記透明保護層とが直接接着されている請求項１１記載の偏光板。
【請求項１３】
さらに粘着剤層を含み、前記光学補償板において、前記光学補償層の前記クラック防止層が積層された面とは反対側の面に、前記粘着剤層が積層されている請求項１１または１２記載の偏光板。
【請求項１４】
前記粘着剤層の形成材料が、アクリル樹脂、ゴム系樹脂およびビニル系樹脂からなる群から選択された少なくとも一つの樹脂系粘着剤である請求項１３記載の偏光板。
【請求項１５】
前記粘着剤層の表面に、さらにライナーが配置されている請求項１３または１４記載の偏光板。
【請求項１６】
液晶セルと光学部材とを含む液晶パネルであって、前記光学部材が、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学補償板および請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の偏光板の少なくとも一方である液晶パネル。
【請求項１７】
液晶パネルを含む液晶表示装置であって、前記液晶パネルが請求項１６記載の液晶パネルである液晶表示装置。
【請求項１８】
エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイおよび電界放出ディスプレイからなる群から選択された少なくとも一つの画像表示装置であって、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学補償板および請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の偏光板の少なくとも一方の光学部材を含む画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学補償板およびそれを用いた偏光板ならびに画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、一般に、液晶を保持した液晶セルの両面に、偏光子が配置されている。そして、前記液晶セルの複屈折による位相差を、正面方向および斜視方向において視覚補償するため、前記液晶セルと前記偏光子との間には、さらに複屈折層が光学補償層として配置されている。この複屈折層としては、通常、配向基板上にコレステリック液晶分子を配向させた、屈折率（ｎｘ，ｎｙ，ｎｚ）が負の１軸性「ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ」を満たす負複屈折層が使用されている。前記屈折率（ｎｘ，ｎｙ，ｎｚ）とは、前記複屈折層における３つの軸方向における屈折率をそれぞれ示す。具体的に、図１の概略図に複屈折層における屈折率（ｎｘ，ｎｙ，ｎｚ）の軸方向を矢印で示す。屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは、前述のように、それぞれＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、図示のように、前記Ｘ軸とは面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。
【０００３】
このような光学補償層としては、例えば、支持体上に配向膜を形成し、この配向膜上にディスコティック液晶を傾斜配向させた光学補償層が報告されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）。
【０００４】
また、液晶ポリマーを配向基板に塗工し、前記液晶ポリマーを配向させてコレステリック液晶層を形成し、これを光学補償層として使用することも報告されている（例えば、特許文献３参照。）。
【特許文献１】特許第２６９２０３５号明細書
【特許文献２】特許第２８０２７１９号明細書
【特許文献３】特許第２６６０６０１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前述のようなコレステリック層から形成される光学補償層は、例えば、輸送時の振動等によって局所的に圧力がかかった場合など、クラック（例えば、割れ、亀裂等）が発生するという問題があった。また、加熱、加湿等によって光学補償層が変形し、面内に表示ムラが発生するという問題もあった。
【０００６】
そこで、本発明の目的は、例えば、振動や加圧等によるクラックの発生、ならびに、加熱、加湿等による光学補償層の変形を抑えることで、面内の表示ムラの発生が抑制された光学補償層を含む光学補償板、およびこれを含む偏光板ならびに各種画像表示装置の提供である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するために、本発明の光学補償板は、光学補償層を含む光学補償板であって、前記光学補償層の少なくとも一方の表面に、湿気硬化型イソシアネート化合物を含むクラック防止層が、直接積層されており、前記クラック防止層のガラス転移温度（Ｔｇ）が、硬化させた状態で１００℃以下であることを特徴とする。次に、本発明の偏光板は、偏光子、透明保護層および前記本発明の光学補償板を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
このように前記光学補償層の少なくとも一方の表面に、湿気硬化型イソシアネート化合物を含み、かつ、硬化させた状態でのガラス転移温度が１００℃以下である接着剤層（すなわちクラック防止層）を直接設けることによって、例えば、加熱、加湿等による前記光学補償層の変形を抑制できる。このため、本発明の光学補償板によれば、各種画像表示装置に使用した際に、その面内の表示ムラの発生を抑制でき、優れた表示特性を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
前述のように本発明の光学補償板は、光学補償層を含み、これに積層された前記クラック防止層のガラス転移温度（Ｔｇ）が、硬化させた状態で１００℃以下であることを特徴とする。
【００１０】
なお、前記クラック防止層は、前記光学補償層の片面に積層するだけでもよいし、両面に積層してもよい。前記光学補償層の片面のみにクラック防止層を積層した場合であっても、十分にクラックの発生を抑制でき、かつ、より一層の薄型化が可能になる。一方、前記光学補償層の両面にクラック防止層を積層した場合は、さらに振動や加圧に対する耐性が増し、クラック発生をより一層防止することができる。
【００１１】
前記クラック防止層は、湿気硬化型イソシアネート化合物を含む接着剤（以下、湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤ともいう）から形成されており、そのガラス転移温度が１００℃以下であり、好ましくは、６０℃以下である。なお、前記ガラス転移温度の下限は、特に制限されないが、例えば、０℃以上であることが好ましい。
【００１２】
前記ガラス転移温度は、例えば、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製の粘弾性測定装置ＡＲＥＳを用いて、−３０℃から２００℃までの粘弾性測定の結果からｔａｎδのピーク値により決定する。なお、詳細な方法については後述する。
【００１３】
前記湿気硬化型イソシアネート化合物は、形成されるクラック防止層のガラス転移温度が１００℃以下になるものであれば特に限定されないが、例えば、芳香族型、脂肪族型または脂環式型のいずれも使用することができる。なお、これらの化合物は、モノマーであってもポリマーであってもよく、いずれか一種類で使用してもよいし、二種類以上を混合して使用してもよい。
【００１４】
前記湿気硬化型イソシアネート化合物の具体例としては、ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン等があげられるが、よりガラス転移温度が低いことから、ヘキサメチレンジイソシアネートが特に好ましい。
【００１５】
なお、前記クラック防止層における前記湿気硬化型イソシアネート化合物の含有割合は、例えば、固形分重量で９０重量％〜１００重量％の範囲であり、好ましくは９５重量％〜１００重量％であり、より好ましくは９８重量％〜１００重量％である。なお、前記クラック防止層は、湿気硬化型イソシアネート化合物以外に、他の成分を含んでいてもよい。
【００１６】
前記クラック防止層の厚みは、例えば、０.１μｍ〜２０μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０.５μｍ〜１５μｍの範囲であり、特に好ましくは１μｍ〜１０μｍの範囲である。
【００１７】
また、前記クラック防止層は、例えば、その押し込み硬度（Microhardness）が、０.１ＧＰａ〜０.５ＧＰａの範囲であることが好ましく、より好ましくは０.２ＧＰａ〜０.５ＧＰａの範囲であり、特に好ましくは０.３ＧＰａ〜０.４ＧＰａの範囲である。なお、前記押し込み硬度は、ビッカーズ硬度との相関性が公知であるため、ビッカーズ硬度にも換算できる。
【００１８】
前記押し込み硬度は、例えば、日本電気株式会社（ＮＥＣ）製の薄膜硬度計（商品名ＭＨ４０００、商品名ＭＨＡ−４００等）を用いて、押し込み深さと押し込み荷重とから算出することができる。
【００１９】
このような本発明の光学補償板は、例えば、以下のようにして作製できる。
【００２０】
まず、前述のような各種湿気硬化型イソシアネート化合物を溶媒に溶解または分散して、湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤溶液を調製する。そして、この溶液を、あらかじめ準備した光学補償層に塗工し、硬化させることによってクラック防止層を形成し、光学補償層にクラック防止層が直接積層された前記光学補償板が得られる。
【００２１】
前記溶媒の種類は、例えば、湿気硬化型イソシアネート化合物の種類に応じて適宜決定できるが、例えば、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン等が使用できる。また、必要に応じて、これらの複数の溶媒を混合して使用してもよい。
【００２２】
前記光学補償層への前記湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤の塗工量は、例えば、形成するクラック防止層の所望の厚みに応じて適宜決定できる。
【００２３】
前記湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤は、例えば、空気中の水分や被着体表面の吸着水、水酸基やカルボキシル基等の活性水素基等との反応により硬化することができる。このため、従来公知の方法に従って、例えば、前記接着剤を塗工後、放置することによって自然に硬化させることができる。なお、前記接着剤に含まれる前述のような溶媒は、自然乾燥や加熱乾燥によって揮発させてもよい。
【００２４】
本発明の光学補償板において、前記光学補償層は、その構成分子がコレステリック構造をとって配向しているコレステリック層であることが好ましい。
【００２５】
本発明においてコレステリック層とは、前記層の構成分子がらせん構造をとり、そのらせん軸が面方向にほぼ垂直に配向している、いわゆる平面組織またはグランジャン組織と呼ばれる擬似層構造を有する層ということもできる。また、本発明において「構成分子がコレステリック構造をとっている」とは、例えば、液晶化合物が、コレステリック液晶相となっている場合には限定されず、液晶相では無いが、非液晶化合物が、前記コレステリック液晶相のようにねじれた状態で配向しているものも含む。したがって、コレステリック層の構成分子としては、例えば、後述するような、液晶ポリマーや非液晶ポリマーがあげられる。
【００２６】
前記コレステリック層は、例えば、前述のような３つの軸方向における屈折率（ｎｘ，ｎｙ，ｎｚ）が、ｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚであることが好ましい。このような光学特性の光学補償層を含む光学補償板は、いわゆるnegative C-Plateの位相差板として使用することができる。
【００２７】
本発明の光学補償板において、前記コレステリック層は、その選択反射波長帯域が、例えば、１００ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲であり、好ましい上限は、３００ｎｍ以下であり、好ましい下限は、１５０ｎｍ以上である。選択反射波長帯域がこのような範囲であれば、例えば、コレステリック層の着色や、クロスニコル状態での光漏れ等も十分に回避できるため、本発明の光学補償板を各種画像表示装置に使用した際に、正面方向や斜視方向のいずれにおいても、より一層優れた表示特性を与えることができる。
【００２８】
前記選択反射波長帯域λ（ｎｍ）の中心波長は、例えば、後述するように、コレステリック層が液晶モノマーを使用して形成されている場合、下記式で表すことができる。
λ＝ｎ・Ｐ
前記式において、ｎは、前記液晶モノマーの平均屈折率を示し、Ｐは前記コレステリック層のらせんピッチ（μｍ）を示す。前記平均屈折率ｎは、「（ｎo＋ｎe）／２」で表され、通常、１．４５〜１．６５の範囲であり、ｎoは、前記液晶モノマーの正常光屈折率、ｎeは、前記液晶モノマーの異常屈折率を示す。
【００２９】
また、前記コレステリック層の厚みは、例えば、０.５μｍ〜１０μｍの範囲であり、より好ましくは１μｍ〜８μｍの範囲であり、特に好ましくは２μｍ〜６μｍの範囲である。
【００３０】
前記コレステリック層は、カイラル剤を含むことが好ましい。本発明における前記カイラル剤とは、例えば、後述する液晶モノマーや液晶ポリマー等の構成分子を、コレステリック構造となるように配向させる機能を有する化合物である。
【００３１】
前記カイラル剤としては、前述のようにコレステリック層の構成分子をコレステリック構造に配向できるものであれば、その種類は特に制限されないが、例えば、後述するカイラル剤が好ましい。
【００３２】
カイラル剤の中でも、そのねじり力が、１×１０-6（ｎｍ-1・（ｗｔ％）-1）以上であることが好ましく、より好ましくは１×１０-5（ｎｍ-1・（ｗｔ％）-1）以上であり、さらに好ましくは１×１０-5（ｎｍ-1・（ｗｔ％）-1）〜１×１０-2（ｎｍ-1・（ｗｔ％）-1）の範囲であり、特に好ましくは１×１０-4（ｎｍ-1・（ｗｔ％）-1）〜１×１０-3（ｎｍ-1・（ｗｔ％）-1）の範囲である。このようなねじり力のカイラル剤を使用すれば、例えば、形成されたコレステリック層のらせんピッチを、後述する範囲に制御でき、これによって前記選択反射波長帯域を、前記範囲に制御することが十分に可能である。
【００３３】
なお、前記ねじり力とは、一般に、後述するような液晶モノマーや液晶ポリマー等の液晶材料にねじれを与え、らせん状に配向させる能力のことを示し、下記式で表すことができる。
ねじり力＝１／［コレステリックピッチ（ｎｍ）×カイラル剤重量比（ｗｔ％）］
前記式においてカイラル剤重量比とは、例えば、液晶モノマーまたは液晶ポリマーとカイラル剤とを含む混合物における前記カイラル剤の割合（重量比）をいい、下記式で表される。
カイラル剤重量比（ｗｔ％）＝［Ｘ／（Ｘ＋Ｙ）］×１００
Ｘ：カイラル剤重量
Ｙ：液晶モノマー重量または液晶ポリマー重量
【００３４】
また、前記コレステリック層におけるらせんピッチは、例えば、０．２５μｍ以下であり、好ましくは０.０１μｍ〜０.２５μｍの範囲であり、より好ましくは０.０３μｍ〜０.２０μｍの範囲、特に好ましくは０.０５μｍ〜０.１５μｍの範囲である。前記らせんピッチが０.０１μｍ以上であれば、例えば、十分な配向性が得られ、０.２５μｍ以下であれば、例えば、可視光の短波長側における旋光性を十分に抑制できるため、偏光下で使用する場合に、光漏れ等を十分に回避できる。そして、前述のようなねじり力のカイラル剤を使用すれば、形成されたコレステリック層のらせんピッチを前記範囲に制御できる。
【００３５】
前記コレステリック層は、その単体色相ｂ値が、例えば、１.２以下であることが好ましく、より好ましくは１.１以下、特に好ましくは１.０以下である。このような範囲のコレステリック層であれば、例えば、着色が非常に少なく、極めて優れた光学特性を示す。このような範囲の単体色相ｂ値は、例えば、前述のような範囲の選択反射波長帯域に制御することによって達成できる。
【００３６】
なお、前記単体色相ｂ値は、ハンターＬａｂ表色系（Hunter, R. S.: J. Opt. Soc. Amer., 38, 661(A), 1094(A)(1948); J.Opt. Soc. Amer., 48, 985(1958) ）により規定される。具体的には、例えば、ＪＩＳ  Ｋ７１０５  ５．３に準じて、分光測定器または光電色彩計を用いて、試料の三刺激値（Ｘ，Ｙ，Ｚ）を測定し、これらの値をＬａｂ空間における色差公式として以下に示すＨｕｎｔｅｒの式に代入することによって、単体色相ｂ値が算出できる。この測定には、通常、Ｃ光源が使用される。なお、例えば、積分球式分光透過率測定器（商品名ＤＯＴ−３Ｃ：村上色彩技術研究所製）によれば、透過率と共に単体色相ｂ値が測定できる。
単体色相ｂ＝７．０×（Ｙ−０．８４７Ｚ）／Ｙ1/2
【００３７】
前記コレステリック層の構成分子の具体例としては、まず、非液晶ポリマーがあげられ、前記非液晶ポリマーは、コレステリック構造をとって配向した液晶モノマーを重合または架橋したポリマーであることが好ましい。このような構成であれば、後述するように、前記モノマーが液晶性を示すため、コレステリック構造をとって配向させることができ、かつ、さらにモノマー間を重合等させることによって前記配向を固定できるのである。このため、液晶モノマーを使用するものの、前記固定によって、重合したポリマーは非液晶性となる。なお、前記液晶モノマーをコレステリック構造とするために、例えば、後述のようなカイラル剤を使用した場合は、前記液晶モノマーとカイラル剤とが重合・架橋した非液晶性のポリマーとなる。
【００３８】
前記コレステリック層の構成分子としては、このような非液晶ポリマーが以下の理由から好ましい。このような非液晶ポリマーから形成されたコレステリック層は、コレステリック液晶相のようなコレステリック構造をとるが、前述のように液晶分子から構成されていないため、例えば、液晶分子に特有の、温度変化による液晶相、ガラス相、結晶相への変化が起きることもない。したがって、そのコレステリック構造が温度変化に影響されない、極めて安定性に優れた光学補償層となるため、本発明の光学補償板は、例えば、光学補償用の位相差フィルムとして有用であるといえる。
【００３９】
前記液晶モノマーとしては、後述する化学式（１）で表されるモノマーが好ましい。このような液晶モノマーは、一般に、ネマティック性液晶モノマーであるが、本発明においては、例えば、前記カイラル剤によってねじりが付与され、最終的には、コレステリック構造をとるようになる。また、前記コレステリック層においては、配向固定のために、前記モノマー間が重合または架橋される必要があるため、前記モノマーは、重合性モノマーおよび架橋性モノマーの少なくとも一方を含むことが好ましい。
【００４０】
前記液晶モノマーを使用した場合には、前記コレステリック層は、さらに、重合剤および架橋剤の少なくとも一方を含むことが好ましく、例えば、紫外線硬化剤、光硬化剤、熱硬化剤等の物質が使用できる。
【００４１】
前記コレステリック層における液晶モノマーの割合は、例えば、７５重量％〜９５重量％の範囲であることが好ましく、より好ましくは８０重量％〜９０重量％の範囲である。また、前記液晶モノマーに対するカイラル剤の割合は、５重量％〜２３重量％の範囲であることが好ましく、より好ましくは１０重量％〜２０重量％の範囲である。また、前記液晶モノマーに対する架橋剤または重合剤の割合は、０.１重量％〜１０重量％の範囲であることが好ましく、より好ましくは０.５重量％〜８重量％の範囲であり、特に好ましくは１重量％〜５重量％の範囲である。
【００４２】
また、前記コレステリック層の構成分子としては、前記非液晶ポリマーの他に、例えば、液晶ポリマーがあげられ、前記液晶ポリマーが、コレステリック構造をとって配向している構成のコレステリック層であってもよい。前記液晶ポリマーとしては、例えば、特許第２６６０６０１号に開示されている各種液晶ポリマーがあげられる。
【００４３】
本発明の光学補償板は、例えば、前述のような光学補償層およびクラック防止層のみから形成されてもよいが、さらに基板を含み、前記基板上に前記コレステリック層が積層された積層体であってもよい。
【００４４】
本発明において、クラック防止層を積層する前記光学補償層としては、その種類は特に制限されないが、前述のように非液晶ポリマーを構成分子とするコレステリック層は、例えば、以下のようにして調製できる。
【００４５】
例えば、液晶モノマーと、前記カイラル剤と、重合剤および架橋剤の少なくとも一方とを含む塗工液を配向基材上に展開して、展開層を形成する工程、
前記液晶モノマーがコレステリック構造をとった配向となるように、前記展開層に加熱処理を施す工程、および、
前記液晶モノマーの配向を固定して非液晶ポリマーのコレステリック層を形成するために、前記展開層に重合処理および架橋処理の少なくとも一方を施す工程、
を含む製造方法によって形成できる。
【００４６】
まず、前記液晶モノマーと、前記カイラル剤と、前記架橋剤および重合剤の少なくとも一方とを含む塗工液を準備する。
【００４７】
前記液晶モノマーとしては、例えば、ネマティック性液晶モノマーが好ましく、具体的には、下記化学式（１）で表されるモノマーがあげられる。これらの液晶モノマーは、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００４８】
【化１】
2005070771.tif 000002
【００４９】
前記化学式（１）において、Ａ1およびＡ2は、それぞれ重合性基を表し、同一でも異なっていてもよい。また、Ａ1およびＡ2は、いずれか一方が水素原子であってもよい。Ｘは、それぞれ単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ2−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲを表し、前記ＸにおいてＲは、水素原子またはＣ1〜Ｃ4アルキル基を表し、Ｍは、メソーゲン基を表す。
【００５０】
前記化学式（１）において、Ｘは、同一でも異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【００５１】
前記化学式（１）のモノマーの中でも、Ａ2は、それぞれＡ1に対してオルト位に配置されていることが好ましい。
【００５２】
また、前記Ａ1およびＡ2は、それぞれ独立して下記化学式
Ｚ−Ｘ−（Ｓｐ）n                  ・・・（２）
で表されることが好ましく、Ａ1およびＡ2は、同じ基であることが好ましい。
【００５３】
前記化学式（２）において、Ｚは、架橋性基を表し、Ｘは、前記化学式（1）と同様であり、Ｓｐは、１〜３０個のＣ原子を有する直鎖または分枝鎖のアルキル基からなるスペーサーを表し、ｎは、０または１である。前記Ｓｐにおける炭素鎖は、例えば、エーテル官能基中の酸素原子、チオエーテル官能基中の硫黄原子、非隣接イミノ基またはＣ1〜Ｃ4アルキルイミノ基等により割り込まれてもよい。
【００５４】
前記化学式（２）において、Ｚは、下記化学式で表される原子団のいずれかであることが好ましい。下記化学式において、Ｒとしては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基等があげられる。
【００５５】
【化２】
2005070771.tif 000003
【００５６】
また、前記化学式（２）において、Ｓｐは、下記化学式で表される原子団のいずれかであることが好ましく、下記化学式において、ｍは１〜３、ｐは１〜１２であることが好ましい。
【００５７】
【化３】
2005070771.tif 000004
【００５８】
前記化学式（１）において、Ｍは、下記化学式（３）で表されることが好ましく、下記化学式（３）において、Ｘは、前記化学式（１）におけるＸと同様である。Ｑは、例えば、置換または未置換のアルキレン基もしくは芳香族炭化水素原子団を表し、また、例えば、置換または未置換の直鎖もしくは分枝鎖Ｃ1〜Ｃ12アルキレン基等であってもよい。
【００５９】
【化４】
2005070771.tif 000005
【００６０】
前記Ｑが、前記芳香族炭化水素原子団の場合、例えば、下記化学式に表されるような原子団や、それらの置換類似体が好ましい。
【００６１】
【化５】
2005070771.tif 000006
【００６２】
前記化学式に表される芳香族炭化水素原子団の置換類似体としては、例えば、芳香族環１個につき１〜４個の置換基を有してもよく、また、芳香族環または基１個につき、１または２個の置換基を有してもよい。前記置換基は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。前記置換基としては、例えば、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、ニトロ基、Ｆ原子、Ｃｌ原子、Ｂｒ原子、Ｉ原子等のハロゲン原子、フェニル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基等があげられる。
【００６３】
前記液晶モノマーの具体例としては、例えば、下記化学式（４）〜（１９）で表されるモノマーがあげられる。
【００６４】
【化６】
2005070771.tif 000007
2005070771.tif 000008
【００６５】
前記液晶モノマーが液晶性を示す温度範囲は、その種類に応じて異なるが、例えば、４０℃〜１２０℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは５０℃〜１００℃の範囲であり、特に好ましくは６０℃〜９０℃の範囲である。
【００６６】
前記カイラル剤としては、前述のように、例えば、前記液晶モノマーにねじりを付与してコレステリック構造となるように配向させるものであれば特に制限されないが、重合性カイラル剤であることが好ましく、前述のようなものが使用できる。これらのカイラル剤は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００６７】
具体的に、前記重合性カイラル剤としては、例えば、下記化学式（２０）〜（２３）で表されるカイラル化合物が使用できる。
（Ｚ−Ｘ5）nＣｈ                              （２０）
（Ｚ−Ｘ2−Ｓｐ−Ｘ5）nＣｈ                   （２１）
（Ｐ1−Ｘ5）nＣｈ                             （２２）
（Ｚ−Ｘ2−Ｓｐ−Ｘ3−Ｍ−Ｘ4）nＣｈ          （２３）
前記各化学式においては、Ｚは、前記化学式（２）と同様であり、Ｓｐは、前記化学式（２）と同様であり、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、互いに独立して、化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−を表し、前記Ｒは、水素原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基を表す。また、Ｘ5は、化学的単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ、−ＣＨ2Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または−Ｎ≡Ｎ−を表す。Ｒは、前述と同様に水素原子、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基を表す。Ｍは、前述と同様にメソーゲン基を表し、Ｐ1は、水素原子、１〜３個のＣ1〜Ｃ6アルキル基によって置換されたＣ1〜Ｃ30アルキル基、Ｃ1〜Ｃ30アシル基またはＣ3〜Ｃ8シクロアルキル基を表し、ｎは、１〜６の整数である。Ｃｈは、ｎ価のカイラル基を表す。前記化学式（２３）において、Ｘ3およびＸ4は、少なくともその一方が、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−であることが好ましい。また、前記化学式（２２）において、Ｐ1が、アルキル基、アシル基またはシクロアルキル基の場合、例えば、その炭素鎖が、エーテル官能基内の酸素原子、チオエーテル官能基内の硫黄原子、非隣接イミノ基またはＣ1〜Ｃ4アルキルイミノ基によって割り込まれてもよい。
【００６８】
前記Ｃｈのカイラル基としては、例えば、下記化学式に表される原子団があげられる。
【００６９】
【化７】
2005070771.tif 000009
【００７０】
【化８】
2005070771.tif 000010
【００７１】
前記原子団において、Ｌは、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ基、ハロゲン原子、ＣＯＯＲ基、ＯＣＯＲ基、ＣＯＮＨＲ基またはＮＨＣＯＲ基であって、前記Ｒは、Ｃ1〜Ｃ4アルキル基を表す。なお、前記化学式に表した原子団における末端は、隣接する基との結合手を示す。
【００７２】
前記原子団の中でも、特に好ましくは下記化学式で表される原子団である。
【００７３】
【化９】
2005070771.tif 000011
【００７４】
また、前記化学式（２１）または前記化学式（２３）で表されるカイラル化合物は、例えば、ｎが２、ＺがＨ2Ｃ＝ＣＨ−を表し、Ｃｈが下記化学式で表される原子団であることが好ましい。
【００７５】
【化１０】
2005070771.tif 000012
【００７６】
前記カイラル化合物の具体例としては、例えば、下記化学式（２４）〜（４４）で表される化合物があげられる。なお、これらのカイラル化合物は、ねじり力が１×１０-6（ｎｍ-1・（ｗｔ％）-1）以上である。
【００７７】
【化１１】
2005070771.tif 000013
2005070771.tif 000014
【００７８】
前述のようなカイラル化合物の他にも、例えば、ＲＥ−Ａ４３４２２８０号およびドイツ国特許出願１９５２０６６０．６号および１９５２０７０４．１号にあげられるカイラル化合物が好ましく使用できる。
【００７９】
前記重合剤および架橋剤としては、特に制限されないが、例えば、以下のようなものが使用できる。前記重合剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等が使用でき、前記架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、金属キレート架橋剤等が使用できる。これらはずれか一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００８０】
前記塗工液は、例えば、前記液晶モノマー等を、適当な溶媒に溶解・分散することによって調製できる。前記溶媒としては、特に制限されないが、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｏ−クロロフェノール、ｍ−クレゾール、ｏ−クレゾール、ｐ−クレゾールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、ｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル系溶媒、あるいは二硫化炭素、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等が使用できる。これらの中でも好ましくは、トルエン、キシレン、メシチレン、ＭＥＫ、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸エチルセロソルブである。これらの溶剤は、例えば、一種類でもよいし、二種類以上を混合して使用してもよい。
【００８１】
前記カイラル剤の添加割合は、例えば、所望のらせんピッチ、所望の選択反射波長帯域に応じて適宜決定されるが、前記液晶モノマーに対する添加割合は、例えば、５重量％〜２３重量％の範囲であり、好ましくは１０重量％〜２０重量％の範囲である。前述のように、液晶モノマーとカイラル剤との添加割合をこのように制御することによって、形成される光学フィルムの選択反射波長帯域を前述の範囲に設定できる。液晶モノマーに対するカイラル剤の割合が５重量％以上であれば、例えば、形成される光学フィルムの選択反射波長帯域を低波長側に制御することが非常に容易になる。また、前記割合が２３重量％以下であれば、液晶モノマーがコレステリック配向する温度範囲、すなわち前記液晶モノマーが液晶相となる温度範囲が広くなるため、後述する配向工程における温度制御を厳密に行うことが不要となり、製造が極めて容易になる。
【００８２】
例えば、同じねじり力のカイラル剤を使用した場合、液晶モノマーに対するカイラル剤の添加割合が多い方が、形成される選択反射波長帯域は低波長側となる。また、例えば、液晶モノマーに対するカイラル剤の添加割合が同じ場合には、例えば、カイラル剤のねじり力が大きい方が、形成される光学フィルムの選択反射波長帯域は、低波長側となる。具体例として、形成される光学フィルムの前記選択反射波長帯域を２００ｎｍ〜２２０ｎｍの範囲に設定する場合には、例えば、ねじり力が５×１０-4（ｎｍ-1・（ｗｔ％）-1）のカイラル剤を、液晶モノマーに対して１１重量％〜１３重量％となるように配合すればよく、前記選択反射波長帯域を２９０ｎｍ〜３１０ｎｍの範囲に設定する場合には、例えば、ねじれ力が５×１０-4（ｎｍ-1・（ｗｔ％）-1）のカイラル剤を、液晶モノマーに対して７重量％〜９重量％となるように配合すればよい。
【００８３】
また、前記液晶モノマーと前記カイラル剤との組み合わせとしては、特に制限されないが、具体的には、前記化学式（１０）のモノマー剤と、前記化学式（３８）のカイラル剤との組み合わせ、前記化学式（１１）のモノマー剤と、前記化学式（３９）のカイラル剤との組み合わせ等があげられる。
【００８４】
また、前記液晶モノマーに対する架橋剤または重合剤の添加割合は、例えば、０.１重量％〜１０重量％の範囲であり、好ましくは０.５重量％〜８重量％の範囲、より好ましくは１重量％〜５重量％の範囲である。前記液晶モノマーに対する架橋剤または重合剤の割合が、０.１重量％以上であれば、例えば、コレステリック層の硬化が十分容易となり、また、１０重量％以下であれば、例えば、前記液晶モノマーがコレステリック配向する温度範囲、すなわち前記液晶モノマーが液晶相となる温度が十分な範囲となるため、後述する配向工程における温度制御がより一層容易となる。
【００８５】
また、前記塗工液には、例えば、必要に応じて各種添加物を適宜配合してもよい。前記添加物としては、例えば、老化防止剤、変性剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等があげられる。これらの添加剤は、例えば、いずれか一種を添加してもよいし、二種類以上を併用してもよい。具体的に、前記老化防止剤としては、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等、前記変性剤としては、例えば、グリコール類、シリコーン類やアルコール類等、従来公知のものがそれぞれ使用できる。また、前記界面活性剤は、例えば、光学補償層の表面を平滑にするために添加され、例えば、シリコーン系、アクリル系、フッ素系等の界面活性剤が使用でき、特にシリコーン系が好ましい。
【００８６】
このように液晶モノマーを使用した場合、調製した塗工液は、例えば、塗工・展開等の作業性に優れた粘性を示す。前記塗工液の粘度は、通常、前記液晶モノマーの濃度や温度等に応じて異なるが、前記塗工液におけるモノマー濃度が５重量％〜７０重量％の場合、その粘度は、例えば、０.２ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓの範囲であり、好ましくは０.５ｍＰａ・ｓ〜１５ｍＰａ・ｓであり、特に好ましくは１ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓである。具体的には、前記塗工液におけるモノマー濃度が３０重量％の場合、例えば、２ｍＰａ・ｓ〜５ｍＰａ・ｓの範囲であり、好ましくは３ｍＰａ・ｓ〜４ｍＰａ・ｓである。前記塗工液の粘度が０.２ｍＰａ・ｓ以上であれば、例えば、塗工液を走行することによる液流れの発生がより一層防止でき、また、２０ｍＰａ・ｓ以下であれば、例えば、表面平滑性がより一層優れ、厚みムラを一層防止でき、塗工性にも優れる。なお、前記粘度としては、温度２０℃〜３０℃における範囲を示したが、この温度には限定されない。
【００８７】
次に、前記塗工液を、配向基板上に塗布して展開層を形成する。
【００８８】
前記塗工液は、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ワイヤバーコート法、ディップコート法、エクストルージョン法、カーテンコート法、スプレコート法等の従来公知の方法によって流動展開させればよく、この中でも、塗布効率の点からスピンコート、エクストルージョンコートが好ましい。
【００８９】
前記配向基板としては、前記液晶モノマーを配向できるものであれば特に制限されず、例えば、各種プラスチックフィルムやプラスチックシートの表面を、レーヨン布等でラビング処理したものが使用できる。前記プラスチックとしては、特に制限されないが、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン−１）等のポリオレフィン、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース系プラスチックス、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等があげられる。また、アルミ、銅、鉄等の金属製基板、セラミック製基板、ガラス製基板等の表面に、前述のようなプラスチックフィルムやシートを配置したり、前記表面にＳｉＯ2斜方蒸着膜を形成したもの等も使用できる。また、前述のようなプラスチックフィルムやシートに、一軸延伸等の延伸処理を施した複屈折性を有する延伸フィルム等を配向膜として積層した積層体も、配向基板として使用することができる。さらに、基板自体が複屈折性を有する場合は、前述のようなラビング処理や、表面に複屈折性フィルムを積層すること等が不要であるため、好ましい。このように基板自体に複屈折性を付与する方法としては、基板の形成において、例えば、延伸処理の他に、キャスティングや押し出し成型等を行う方法があげられる。
【００９０】
続いて、前記展開層に加熱処理を施すことによって、液晶状態で前記液晶モノマーを配向させる。前記展開層には、前記液晶モノマーと共にカイラル剤が含まれているため、液晶相（液晶状態）となった液晶モノマーが、前記カイラル剤によってねじりを付与された状態で配向する。つまり、液晶モノマーがコレステリック構造（らせん構造）を示すのである。
【００９１】
前記加熱処理の温度条件は、例えば、前記液晶モノマーの種類、具体的には前記液晶モノマーが液晶性を示す温度に応じて適宜決定できるが、通常、４０℃〜１２０℃の範囲であり、好ましくは５０℃〜１００℃の範囲であり、より好ましくは６０℃〜９０℃の範囲である。前記温度が４０℃以上であれば、通常、十分に液晶モノマーを配向することができ、前記温度が１２０℃以下であれば、例えば、耐熱性の面において前述のような各種配向基材の選択性も広い。
【００９２】
次に、前記液晶モノマーが配向した前記展開層に架橋処理または重合処理を施すことによって、前記液晶モノマーとカイラル剤とを重合または架橋させる。これによって、液晶モノマーは、コレステリック構造をとって配向した状態のまま、相互に重合・架橋、またはカイラル剤と重合・架橋し、前記配向状態が固定される。そして、形成されたポリマーは、前記配向状態の固定によって、非液晶ポリマーとなる。
【００９３】
前記重合処理や架橋処理は、例えば、使用する重合剤や架橋剤の種類によって適宜決定できる。例えば、光重合剤や光架橋剤を使用した場合には、光照射を施し、紫外線重合剤や紫外線架橋剤を使用した場合には、紫外線照射を施せばよい。
【００９４】
以上のようにして、前記配向基板上に、コレステリック構造をとって配向した非液晶ポリマーから形成された光学補償層が得られる。この光学補償層は、前述のようにその配向が固定されているため非液晶性である。したがって、温度変化によって、例えば、液晶相、ガラス相、結晶相に変化することがなく、温度による配向変化が生じない。このため、温度に影響を受けることがない、高性能の位相差フィルムとして、本発明の光学補償板に使用できる。また、選択反射波長帯域を前記範囲に制御すれば、前述のような光もれ等も抑制できる。
【００９５】
また、前記光学補償層は、例えば、前記配向基板から剥離して、少なくとも一方の表面にクラック防止層を形成してもよいが、例えば、前記配向基板に積層された状態で、光学補償層の表面にクラック防止層を形成してもよい。
【００９６】
前記光学補償層と前記配向基板との積層体として使用する際には、前記配向基板は、透光性のプラスチックフィルムであることが好ましい。前記プラスチックフィルムとしては、例えば、ＴＡＣ等のセルロース系、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン−１）等のポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース系プラスチック、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリノルボルネン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、液晶ポリマー等から形成されるフィルムがあげられる。これらのフィルムは、光学的に等方性であっても、異方性であっても差し支えない。これらのプラスチックフィルムの中でも、耐溶剤性や耐熱性の観点から、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートから形成された各フィルムが好ましい。また、この他にも、例えば、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムがあげられる。このポリマー材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有す熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物があげられる。前記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であってもよい。
【００９７】
前述のような透光性配向基板は、例えば、単層でもよいが、例えば、強度、耐熱性、ポリマーや液晶モノマーの密着性を向上する点から、異種ポリマーを積層した積層体であってもよい。
【００９８】
また、複屈折による位相差を生じないものでもよいし、例えば、偏光分離層で反射された光の偏光状態の解消を目的として、複屈折による位相差を生じるものであってもよい。このような偏光状態の解消は、光利用効率の向上や、光源光との同一化によって、視覚による色層変化の抑制に友好である。前記複屈折による位相差を生じる透明基板としては、例えば、各種ポリマー製の延伸フィルム等が使用でき、厚み方向の屈折率を制御したものであってもよい。前記制御は、例えば、ポリマーフィルムを熱収縮フィルムと接着して、加熱延伸すること等によって行うことができる。
【００９９】
前記プラスチックフィルムの厚みは、通常、５μｍ〜５００μｍ、好ましくは１０μｍ〜２００μｍであり、好ましくは１５μｍ〜１５０μｍである。前記厚みが５μｍ以上であれば、基板として十分な強度を有するため、例えば、製造時に破断する等の問題の発生を防止できる。
【０１００】
なお、本発明の光学補償板における光学補償層としては、このような非液晶ポリマーだけでなく、液晶ポリマーを構成分子としてもよい。この場合は、例えば、前述のような液晶ポリマーと前記カイラル剤とを含む塗工液を配向基材上に展開して、展開層を形成する工程、前記液晶ポリマーがコレステリック構造をとった配向となるように、前記展開層に加熱処理を施す工程を含む製造方法によって、液晶ポリマーを構成分子とするコレステリック層を形成できる。
【０１０１】
次に、本発明の偏光板は、前述のように偏光子、透明保護層および本発明の前記光学補償板を含み、前記偏光子と前記光学補償板とが、前記透明保護層を介して積層されていることを特徴とする。
【０１０２】
本発明の偏光板においては、前記光学補償層の少なくとも一方の表面にガラス転移温度が１００℃以下の湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤から形成されるクラック防止層が積層されいてれば、その構成は特に制限されないが、例えば、以下のような形態があげられる。
【０１０３】
まず、前記光学補償板におけるクラック防止層によって、前記光学補償板と前記透明保護層とが直接接着されている形態があげられる。このような偏光板は、例えば、前記光学補償板を作製する際、前記光学補償層表面への前記接着剤の塗工後、透明保護層と偏光子との積層体を、前記接着剤の塗工膜（クラック防止層）上にさらに配置し、前記両者を接触させた上で、前記塗工膜を硬化することによって形成できる。このような形態であれば、前記クラック防止層が、前記光学補償層のクラックを防止するとともに、前記偏光子および透明保護層の積層体と、前記光学補償層との接着の役割も果たすため、強度や薄層化の点にも優れた偏光板となる。なお、前記透明保護層と偏光子との積層体は、前記透明保護層が、前記塗工膜に接触するように配置し、前記透明保護層と前記クラック防止層とを直接接着させることが好ましい。
【０１０４】
前記透明保護層は、前記偏光子のいずれか一方の表面のみに積層されてもよいし、両面に積層されてもよい。両面に積層する場合には、例えば、同じ種類の透明保護層を使用しても、異なる種類の透明保護層を使用してもよい。
【０１０５】
なお、前記クラック防止層は、前記光学補償層のいずれか一方の表面のみに積層されてもよいし、両面に積層されてもよい。
【０１０６】
前述のように光学補償層の一方の表面のみに前記クラック防止層が積層されている場合、前記光学補償板において、前記光学補償層の前記クラック防止層が積層された面とは反対の面に、例えば、さらに粘着剤層が積層された構成であることが好ましい。そして、前記光学補償層の表面に積層された前記クラック防止層と前記偏光子とが、透明保護層を介して積層されていることが好ましい。このような形態であれば、前記クラック防止層によって、前記光学補償層のクラックが防止されるだけでなく、前記粘着剤層によって、例えば、液晶セルや他の光学部材等と、必要な時に容易に貼り合わせることが可能になる。また、粘着剤層は、薄型化が可能であるため、本発明の偏光板の厚みも薄型化できる。
【０１０７】
前記粘着剤層の厚みは、特に制限されないが、例えば、５μｍ〜５０μｍの範囲であり、より好ましくは１０μｍ〜４０μｍであり、特に好ましくは１５μｍ〜３５μｍである。
【０１０８】
前記粘着剤層の形成材料としては、粘着力を有するものであれば特に制限されないが、例えば、アクリル樹脂系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニル系粘着剤等の従来公知の粘着剤が使用できる。
【０１０９】
前記光学補償層の表面への粘着剤層の形成は、例えば、前記形成材料の溶液または溶融液を、流延や塗工等の展開方式により、前記表面に直接添加して層を形成する方式や、同様にして後述するライナー（離型フィルム）上に粘着剤層を形成し、それを前記光学補償層の表面に移着する方式等によって行うことができる。
【０１１０】
また、前述のように光学補償層の他方の面に粘着剤層を積層する場合は、他の部材に前記粘着剤を貼り付ける等の実用に供するまでの間、前記粘着剤層の露出面の汚染防止や粘着力の維持等を目的として、前記粘着剤層の表面にライナーを配置して、前記表面をカバーすることが好ましい。このライナーは、後述するような透明保護フィルム等の適当なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを設ける方法等によって形成できる。前記ライナーは、本発明の偏光板の使用時には剥離するため、その厚みは特に制限されず、従来公知のものと同様の厚みでよい。
【０１１１】
一方、前記光学補償層の両面にクラック防止層が形成されている場合には、光学補償板における一方のクラック防止層と前記偏光子とが、透明保護層を介して積層されていることが好ましい。また、前記光学補償板において、前記透明保護層を介して偏光子が積層されていない他方のクラック防止層の表面には、さらに粘着剤層およびライナーがこの順序で配置されていることが好ましい。このように光学補償層の両面に前記クラック防止層を積層することによって強度をより一層向上することができ、かつ、粘着剤層によって、他の部材との張り合わせも容易となる。
【０１１２】
本発明の偏光板において、前記偏光子としては特に制限されず従来公知の偏光フィルムが使用できる。具体的には、例えば、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、架橋、延伸、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。この中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ＰＶＡ系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等があげられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルム等も使用できる。これらの中でも、好ましくはＰＶＡ系フィルムである。また、前記偏光フィルムの厚みは、通常、１μｍ〜８０μｍの範囲であるが、これには限定されない。
【０１１３】
前記透明保護層としては、特に制限されず、従来公知の透明フィルムを使用できるが、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。このような透明保護層の材質の具体例としては、トリアセチルセルロール等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等があげられる。また、前記アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等もあげられる。この中でも、偏光特性や耐久性の点から、表面をアルカリ等でケン化処理したＴＡＣフィルムが好ましい。
【０１１４】
また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムがあげられる。このポリマー材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有す熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物があげられる。なお、前記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であってもよい。
【０１１５】
また、前記透明保護層は、例えば、色付きが無いことが好ましい。具体的には、下記式で表されるフィルム厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）が、−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍであり、特に好ましくは−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍの範囲である。前記位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であれば、十分に保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）を解消できる。なお、下記式において、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚは、それぞれ前記透明保護層におけるＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸とは面内において最大の屈折率を示す軸方向であり、Ｙ軸は、前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向であり、Ｚ軸は、前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示す。また、ｄは、前記透明保護層の厚みを示す。
Ｒｔｈ＝［｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２｝−ｎｚ］・ｄ
【０１１６】
また、前記透明保護層は、さらに光学補償機能を有するものでもよい。このように光学補償機能を有する透明保護層としては、例えば、液晶セルにおける位相差に基づく視認角の変化が原因である、着色等の防止や、良視認の視野角の拡大等を目的とした公知のものが使用できる。具体的には、例えば、前述した透明樹脂を一軸延伸または二軸延伸した各種延伸フィルムや、液晶ポリマー等の配向フィルム、透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を配置した積層体等があげられる。これらの中でも、良視認の広い視野角を達成できることから、前記液晶ポリマーの配向フィルムが好ましく、特に、ディスコティック系やネマティック系の液晶ポリマーの傾斜配向層から構成される光学補償層を、前述のトリアセチルセルロースフィルム等で支持した光学補償位相差板が好ましい。このような光学補償位相差板としては、例えば、富士写真フィルム株式会社製「ＷＶフィルム」等の市販品があげられる。なお、前記光学補償位相差板は、前記位相差フィルムやトリアセチルセルロースフィルム等のフィルム支持体を２層以上積層させることによって、位相差等の光学特性を制御したもの等でもよい。
【０１１７】
前記透明保護層の厚みは、特に制限されず、例えば、位相差や保護強度等に応じて適宜決定できるが、通常、５ｍｍ以下であり、好ましくは１ｍｍ以下、より好ましくは１μｍ〜５００μｍの範囲、特に好ましくは５μｍ〜１５０μｍの範囲である。
【０１１８】
前記透明保護層は、例えば、前記偏光フィルムに前記各種透明樹脂を塗布する方法、前記偏光フィルムに前記透明樹脂製フィルムや前記光学補償位相差板等を積層する方法等の従来公知の方法によって適宜形成でき、また市販品を使用することもできる。
【０１１９】
また、前記透明保護層は、さらに、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキングの防止や拡散、アンチグレア等を目的とした処理等が施されたものでもよい。前記ハードコート処理とは、偏光板表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、前記透明保護層の表面に、硬化型樹脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。前記硬化型樹脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の紫外線硬化型樹脂等が使用でき、前記処理は、従来公知の方法によって行うことができる。スティッキングの防止とは、隣接する層との密着防止を目的とする。前記反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止を目的とし、従来公知の反射防止層等の形成により行うことができる。
【０１２０】
前記アンチグレア処理とは、偏光板表面において外光が反射することによる、偏光板透過光の視認妨害を防止すること等を目的とし、例えば、従来公知の方法によって、前記透明保護層の表面に、微細な凹凸構造を形成することによって行うことができる。このような凹凸構造の形成方法としては、例えば、サンドブラスト法やエンボス加工等による粗面化方式や、前述のような透明樹脂に透明微粒子を配合して前記透明保護層を形成する方式等があげられる。
【０１２１】
前記透明微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等があげられ、この他にも導電性を有する無機系微粒子や、架橋または未架橋のポリマー粒状物等から構成される有機系微粒子等を使用することもできる。前記透明微粒子の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、０．５μｍ〜２０μｍの範囲である。また、前記透明微粒子の配合割合は、特に制限されないが、一般に、前述のような透明樹脂１００質量部あたり２質量部〜７０質量部の範囲が好ましく、より好ましくは５質量部〜５０質量部の範囲である。
【０１２２】
前記透明微粒子を配合したアンチグレア層は、例えば、透明保護層そのものとして使用することもでき、また、透明保護層表面に塗工層等として形成されてもよい。さらに、前記アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層（視覚補償機能等）を兼ねるものであってもよい。
【０１２３】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層、アンチグレア層等は、前記透明保護層とは別個に、例えば、これらの層を設けたシート等から構成される光学層として、偏光板に積層してもよい。
【０１２４】
本発明の偏光板において、前記偏光子と透明保護層との積層方法は特に制限されず、従来公知の方法によって行うことができ、一般には、粘着剤や接着剤等が使用できる。これらの種類は、前記偏光子や透明保護層の材質等によって適宜決定できる。前記接着剤としては、特に制限されないが、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤や、ゴム系接着剤等が使用できる。これらの中でも、例えば、吸湿性や耐熱性に優れる材料が好ましい。このような性質であれば、例えば、本発明の偏光子を液晶表示装置等に使用した場合に、吸湿による発泡や剥離、熱膨張差等による光学特性の低下や、液晶セルの反り等を防止でき、高品質で耐久性にも優れる表示装置となる。
【０１２５】
また、前述のような粘着剤や接着剤は、例えば、湿度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れる。具体的には、前記偏光子がポリビニルアルコール系フィルムである場合、例えば、接着処理の安定性等の点から、ポリビニルアルコール系接着剤が好ましい。これらの接着剤や粘着剤は、例えば、そのまま偏光子や透明保護層の表面に塗布してもよいし、前記粘着剤製のテープ等を前記表面に配置してもよい。また、例えば、水溶液として調製した場合、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。
【０１２６】
前記粘着剤層は、例えば、単層体でもよいし、積層体でもよい。前記積層体としては、例えば、異なる組成や異なる種類の単層を組み合わせた積層体を使用することもできる。また、前記偏光子の両面に配置する場合は、例えば、それぞれ同じ粘着剤層でもよいし、異なる組成や異なる種類の粘着剤層であってもよい。
【０１２７】
前記粘着剤層の厚みは、例えば、偏光板の構成等に応じて適宜に決定でき、一般には、１μｍ〜５００μｍである。
【０１２８】
前記粘着剤層の粘着特性の制御は、例えば、前記粘着剤層を形成するベースポリマーの組成や分子量、架橋方式、架橋性官能基の含有割合、架橋剤の配合割合等によって、その架橋度や分子量を調節するというような、従来公知の方法によって適宜行うことができる。
【０１２９】
なお、本発明の光学補償板や偏光板は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤による処理等によって紫外線吸収能を持たせたものなどであってもよい。
【０１３０】
本発明の偏光板は、前述のような構成には限られず、さらに、他の屈折率構造を有する位相差フィルム、液晶フィルム、光拡散フィルム、回折フィルム等の各種光学部材を有するものであってもよい。
【０１３１】
本発明の偏光板は、前述のように、液晶表示装置等の各種表示装置に使用できる。前記液晶表示装置の形成は、従来公知の方法で行うことができる。すなわち、前記液晶表示装置は、一般に、液晶セルと偏光板等の光学素子、必要に応じて照明システム等の構成部品を適宜組立て、駆動回路を組込むこと等によって形成されるが、本発明の液晶表示装置においては、本発明の偏光板を使用する以外は特に限定されない。液晶セルについても、例えば、ＴＮ型やＳＴＮ型、π型等の任意のタイプのセルが使用できる。
【０１３２】
具体的には、本発明の偏光板を、液晶セルの片側または両側に配置した液晶表示装置があげられる。特に本発明の偏光板が、前述のように粘着剤層およびライナーを有する場合には、前記ライナーを剥離して、露出した粘着剤層を前記液晶セルに貼り付けることによって、前記偏光板を配置することができる。前記液晶セルに前記偏光板を配置する際、前記液晶セルの両側に、位相差板や偏光板を設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。また、液晶表示装置の形成に際しては、例えば、さらに、拡散板、アンチグレア層、反射防止層、保護板、プリズムアレイシート、レンズアレイシート、光拡散板、バックライト、反射板、半透過反射板、輝度向上板等、適宜な部品を適宜な位置に、１層または２層以上配置してもよい。
【０１３３】
次に、本発明の偏光板は、有機ＥＬ装置にも、前記液晶表示装置と同様にして、用いることができる。
【０１３４】
一般に、有機ＥＬ装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機ＥＬ発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えば、トリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいは前記発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいは前記正孔注入層、前記発光層および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
【０１３５】
前記有機ＥＬ装置は、通常、前記透明電極と前記金属電極とに電圧を印加することによって、前記有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【０１３６】
有機ＥＬ装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明であることが好ましく、通常、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常、Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極が使用できる。
【０１３７】
このような構成の有機ＥＬ装置において、有機発光層は、通常、厚み１０ｎｍ程度と極めて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過できる。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ装置の表示面が鏡面のように見える。
【０１３８】
電圧の印加によって発光する前記有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、前記有機発光層の裏面側に金属電極を備えた有機ＥＬ発光体を含む有機ＥＬ装置において、例えば、透明電極の表面側に偏光板を設け、前記透明電極と偏光板との間に位相差板を設けてもよい。この偏光板として、本発明の偏光板が適用できる。
【０１３９】
前記位相板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光させる作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相板を１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【０１４０】
すなわち、この有機ＥＬ装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相板により、一般に楕円偏光となるが、特に位相板が１／４波長板であり、しかも偏光板と位相板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
【０１４１】
この円偏光は、通常、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相板で再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【０１４２】
なお、本発明の偏光子は、以上のような液晶表示装置やＥＬ装置には限定されず、この他にも、例えば、プラズマディスプレイ、ＦＥＤディスプレイ等の各種自発光型画像表示装置にも適用できる。
【実施例１】
【０１４３】
次に、本発明について、以下の実施例および比較例を用いてさらに説明する。なお、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。
【０１４４】
（ガラス転移温度の測定方法）
テトラフルオロエチレンで作成した枠（２５ｍｍ×８０ｍｍ×２ｍｍ）内に接着剤を流入し、常温で２４時間放置して硬化させ、厚み２００μｍのフィルムを得た。このフィルムの気泡のない部分を、２５ｍｍ×５ｍｍ×２００μｍの大きさに切り出してサンプルとし、ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社製の粘弾性測定装置ＡＲＥＳを用い、−３０℃〜２００℃の範囲において粘弾性測定を行った。測定結果を、ｔａｎδで表し、前記ｔａｎδが、極大となる時の温度をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。なお、前記ｔａｎδは、貯蔵剪断弾性率（Ｇ’）と損失剪断弾性率（Ｇ”）との比であって、下記式のように表される。
ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’
【０１４５】
（押し込み硬度の測定方法）
日本電気株式会社（ＮＥＣ）製の薄膜硬度計（商品名ＭＨ４０００、商品名ＭＨＡ−４００等）を用い、押し込み速度を０.５ｎｍ／ｓｅｃ、最大押し込み荷重を１ｇとして、押し込み深さと押し込み荷重とを測定し、その測定結果より押し込み硬度を算出した。
【０１４６】
厚み５０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士写真フィルム社製：商品名Ｔ−５０ＳＨ）上に、１ｗｔ％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）（日本合成化学社製：商品名ＮＨ−１８）水溶液を塗布し、９０℃で乾燥させて、膜厚約０.０１μｍ以下のＰＶＡ皮膜を形成した。この皮膜の表面をラビング処理し、配向膜とした。一方、前記化学式（６）の液晶モノマー（重合性棒状ネマティック液晶）と、前記化学式（４４）のカイラル剤とを、重量比７:３となるように混合し、さらに、この混合物を３０重量％となるようにトルエンに溶解した。次に、このトルエン溶液に、トルエン溶液１００重量部に対して１．５重量部となるように、さらに光重合開始剤（商品名イルガキュア：チバスペシャリティーケミカルズ社製）を加えて塗工液を調製した。前記配向膜に前記塗工液を塗布し、９０℃で１分間熱処理することによって、前記液晶モノマーを配向させた後、さらにＵＶ照射により、前記液晶モノマーを重合させて、その配向を固定した。そして、前記ＴＡＣフィルムとＰＶＡ皮膜とを除去することによって、厚み５μｍの光学補償層を得た。この光学補償層は、その面内位相差が１ｎｍであり、厚み方向位相差が２００ｎｍであった。
【０１４７】
得られた前記光学補償層と、市販の偏光板（日東電工社製：商品名ＳＥＧ５２２４ＤＵ、以下同じ）とを、Ｔｇ＝５０℃の湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤（三井武田ケミカル社製：商品名  Ｍ−６３１Ｎ）を用いて、ロール圧着により接着した。前記接着剤は、５０℃で２４時間乾燥することによって硬化させた。前記接着剤の硬化によって形成されたクラック防止層の厚みは、５μｍであり、その押し込み硬度は、０．３ＧＰａであった。
【０１４８】
次に、前記光学補償層のもう片方の面にライナー（離型フィルム）（三菱ポリエステル社製：商品名ＭＲＦ３８）を、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を用いてロール圧着した。これにより、光学補償層付き偏光板を作製した。
【実施例２】
【０１４９】
Ｔｇ＝９０℃の湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤（三井武田ケミカル社製：商品名  Ｍ−６０５Ｎ）を使用して前記偏光板および前記ライナーを積層した以外は、前記実施例１と同様にして光学補償層付き偏光板を作製した。なお、前記接着剤により形成されたクラック防止層の厚みは、５μｍであり、押し込み硬度は、０．３５ＧＰａであった。
【０１５０】
（比較例１）
前記実施例２で使用したＴｇ＝９０℃の湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤（三井武田ケミカル社製：商品名  Ｍ−６０５Ｎ）と共重合体Ａとを、重量比９：１になるように混合し、Ｔｇ＝１２０℃の湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤を調製した。なお、前記共重合体Ａとは、ブチルアクリレートとアクリル酸とを、重量比１００：５の割合で共重合したものであって、分子量が２００万のポリマーである。
【０１５１】
前記湿気硬化型イソシアネート化合物含有接着剤を使用して前記偏光板および前記ライナーを積層した以外は、前記実施例１と同様にして光学補償層付き偏光板を作製した。なお、前記接着剤により形成されたクラック防止層の厚みは、５μｍであり、押し込み硬度は、０．３５ＧＰａであった。
【０１５２】
実施例１、２および比較例１によって得られた光学補償層付き偏光板からライナーを剥離し、前記光学補償層表面に、アクリル系粘着剤（厚み２０μｍ）を用いてガラス板をロール圧着したものをサンプルとした。ついで、加熱処理試験、加湿処理試験、低温処理試験をそれぞれ行い、処理後のサンプルの面内における表示ムラについて観察した。以下にその方法を説明する。
【０１５３】
（加熱処理試験）
前記サンプルを、乾燥機を用いて、８０℃で２００時間処理した。
【０１５４】
（加湿処理試験）
前記サンプルを、６０℃／９０％ＲＨ（相対湿度）で２００時間処理した。
【０１５５】
（低温処理試験）
前記サンプルを、−１０℃で２００時間処理した。
【０１５６】
（表示ムラ測定方法）
図２に示すように、サンプルを９分割した場合の、面内における９つの測定点の透過率を、加熱処理試験、加湿処理試験、低温処理試験後に測定した。表示ムラ値は、下記式に示した各測定点における透過率の平均値から求めた。その結果を下記表１に示す。
表示ムラ値＝［（（１）＋（３）＋（７）＋（９））／４］−［（（２）＋（４）＋（６）＋（８））／４］
なお、前記式中、（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）、（７）、（８）、（９）は、各測定点の透過率を示す。
【０１５７】
（透過率測定）
ＴＯＰＣＯＮ社製、商品名ＢＭ−５Ａ  ＬＵＭＩＮＡＮＣＥ  ＣＯＬＯＲＩＭＥＴＥＲを用いて行った。
【０１５８】
（目視による評価基準）
Ａ：表示ムラは全く見られなかった。
Ｂ：若干表示ムラは見られたが、実用レベルでは問題なかった。
Ｃ：実用上問題になるレベルの表示ムラが見られた。
【０１５９】
（表１）
実施例１            実施例２            比較例１
ガラス転移温度      ５０℃              ９０℃              １２０℃    
加熱              Ａ（０．０８）      Ｂ（０．２０）      Ｃ（０．３５）
加湿              Ａ（０．０５）      Ｂ（０．１５）      Ｃ（０．３５）
低温              Ａ（０．０５）      Ｂ（０．１５）      Ｃ（０．３５）
表中の、カッコ内の数値は、表示ムラ値を示す。
【産業上の利用可能性】
【０１６０】
以上のように、本発明の光学補償板であれば、例えば、流通過程における振動や、使用時の衝撃によっても影響を受け難いため、クラックの発生による色ぬけ等が防止され、さらには、貼り合わせ時や加熱等による光学補償層の変形に伴う、面内の表示ムラの発生等が防止され、優れた品質を提供できる。さらに、前記本発明の偏光板は、液晶パネルに有用であり、液晶表示装置への使用に適している。また、前記液晶表示装置には限られず、例えば、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤ）およびＦＥＤ（電界放出ディスプレイ：Field Emission Display）等の自発光型表示装置にも有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１６１】
【図１】図１は、屈折率の軸方向を示す概略図である。
【図２】図２は、表示ムラ測定方法の説明図である。
【図１】
2005070771.tif 000015
【図２】
2005070771.tif 000016