(57)【要約】【課題】  十分な帯電防止特性を有する反射防止積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供する。【解決手段】  透明性を有する帯電防止層と、低屈折率層とが組み合わせて形成されてなる、反射防止積層体。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明性を有する帯電防止層と、低屈折率層とが組み合わせて形成されてなる、反射防止積層体。
【請求項２】
基材層上に、ハードコート層、透明性を有する帯電防止層、低屈折率層が少なくともこの順序で形成されてなる、請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項３】
基材層上に、透明性を有する帯電防止層、ハードコート層、低屈折率層が少なくともこの順序で形成されてなる、請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項４】
さらに防眩層が組み合わせて形成されてなる、請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項５】
前記ハードコート層が、前記防眩層を兼ねる層である、請求項４に記載の反射防止積層体。
【請求項６】
前記帯電防止層が、導電性微粒子を含んでなる、請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項７】
前記導電性微粒子が、粒径０．０１〜０．１μｍを有する金属または金属酸化物である、請求項６に記載の反射防止積層体。
【請求項８】
前記導電性微粒子が、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ５、ＡＴＯ、ＩＴＯ、ＡＺＯ、ＦＴＯ、ＺｎＯ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔおよびそれらの混合物からなる群より選ばれるものである、請求項６に記載の反射防止積層体。
【請求項９】
前記帯電防止層が、導電性微粒子と電離放射線硬化型樹脂とを含んでなる、請求項６に記載の反射防止積層体。
【請求項１０】
前記帯電防止層が０．０１〜１０．００μｍの厚みの場合に、表面抵抗値が、１．０×１０１２Ω／□以下である、請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項１１】
前記帯電防止層が屈折率１．５０〜１．７５を有する、請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項１２】
前記低屈折率層が、空隙を有する微粒子を含んでなる、請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項１３】
最表面における飽和帯電量が２．０ｋＶ以下である、請求項１に記載の反射防止積層体。
【請求項１４】
ディスプレイの表面に、請求項１に記載の反射防止積層体を有する、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種ディスプレイ表面に用いることのできる、反射防止積層体およびそれを用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴ、液晶パネル、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種ディスプレイには、外光の反射による表示品質の低下を低減するため、その表面に低屈折率層を有する反射防止積層体を形成したものがある。一方、このようなディスプレイの表面は、帯電による埃などの付着が生じることも多く、帯電防止性も求められている。しかしながら、従来は、十分な帯電防止性を有する反射防止積層体は知られておらず、このような反射防止積層体の開発が求められていた。
【特許文献１】特開２００２−７９６００号公報
【特許文献２】特開２００３−２９２８３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、上記課題を解決すること、すなわち、十分な帯電防止特性を有する反射防止積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は、透明性を有する特定の帯電防止層と、低屈折率層とを組み合わせることにより、いずれも表面特性である帯電防止性と反射防止性の双方を実現でき、十分な帯電防止特性を有する反射防止積層体を提供できることを知見し本発明を完成させた。
【０００５】
したがって、本発明は、透明性を有する帯電防止層と、低屈折率層とが組み合わせて形成されてなる、反射防止積層体である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によって、十分な帯電防止特性を有する反射防止積層体およびそれを用いた画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
反射防止積層体
本発明の反射防止積層体は、透明性を有する帯電防止層と、低屈折率層とが組み合わせて形成されてなるものである。
【０００８】
反射防止積層体の透明性は、全層を積層した状態で、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１に規定されるヘイズ値が、（基材を用いる場合には）基材だけのヘイズ値と変わらないか、又は前記基材だけのヘイズ値との差が１．５％以内とすることが好ましい。
【０００９】
透明性を有する帯電防止層
（導電性微粒子）
帯電防止層に好適に用いることができる、導電性微粒子としては、金属または金属酸化物を挙げることができる。具体的には、酸化錫（ＳｎＯ２）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、フッ素化酸化スズ（ＦＴＯ）、ＺｎＯ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔおよびそれらの混合物が挙げられる。
【００１０】
導電性微粒子の形状は、球状、針状、鱗片状など様々なものを用いることができる。また、粒径は、０．０１〜０．１μｍを有することが好ましい。０．１μｍを超えると透明性を損ない、０．０１μｍ未満では、導電性微粒子の分散が困難になるからである。
【００１１】
（電離放射硬化型樹脂）
帯電防止層のマトリックス成分としては、一般的な樹脂を用いることができるが、その中でも紫外線やその他の光線、電子線などの電離放射線により硬化する樹脂が好ましい。
【００１２】
この場合、電離放射線の照射を受けたときに直接、又は開始剤の作用を受けて間接的に、重合や二量化等の大分子化を進行させる反応を起こす重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。具体的には、アクリル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性のモノマー、オリゴマーが好ましく、バインダー成分の分子間で架橋構造が生じるように、一分子内に重合性官能基を２個以上有する多官能のバインダー成分であることが好ましい。また、導電性を向上させるには、イオン伝搬性を良好にするような、ＥＯ変性など親水性のバインダーであることが好ましい。さらに分子中に水酸基を残したバインダー成分を用いるのが好ましい。バインダー中の水酸基は、水素結合によりハードコート層や低屈折率層等の隣接層に対する密着性を向上させることが可能となる上に、導電性微粒子との親和性にも優れており、該導電性微粒子のバインダー中での分散性を向上させるので好ましい。
【００１３】
上記の電離放射線硬化型樹脂組成物に好ましく使用されるモノマー類としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート等のジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、上記した物のＥＯ変性品、等を例示することができる。
【００１４】
これらに加え、エポキシアクリレート樹脂（共栄社化学製「エポキシエステル」や昭和高分子製「リポキシ」等）や各種イソシアナートと水酸基を有するモノマーとがウレタン結合を介して重付加によって得られるウレタンアクリレート樹脂（日本合成化学工業製「紫光」や共栄社化学製「ウレタンアクリレート」）といった数平均分子量（ＧＰＣ法で測定したポリスチレン換算数平均分子量）が２万以下のオリゴマー類も好ましく使用できる。
【００１５】
これらのモノマー類やオリゴマー類は塗膜の架橋密度を高める効果が高いほか、数平均分子量が２万以下と小さいので流動性が高い成分であり、コーティング組成物の塗工適性を向上させる効果もある。
【００１６】
さらに、必要に応じて、主鎖や側鎖に（メタ）アクリレート基を有する数平均分子量が２万以上の反応性ポリマーなども好ましく使用することができる。これらの反応性ポリマーは例えば東亞合成製の「マクロモノマー」等の市販品として購入することも可能であるし、メタクリル酸メチルとグリシジルメタクリレートとの共重合体をあらかじめ重合しておき、後から共重合体のグリシジル基とメタクリル酸やアクリル酸のカルボキシル基を縮合させることで、（メタ）アクリレート基を有する反応性ポリマーを得ることができる。これら分子量が大きい成分を含むことで、複雑な形状に対する成膜性の向上や硬化時の体積収縮による反射防止積層体のカールや反りの低減が可能となる。
【００１７】
（その他の成分）
帯電防止層形成にあたり、溶剤、分散剤、光開始剤や表面調整剤(レベリング剤)を必要に応じ添加して用いることができる。
【００１８】
溶剤は、コーティング組成物の固形成分を溶解分散するために有機溶剤を通常用いることになるが、特に制限はされず、種々の有機溶剤、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；あるいはこれらの混合物を用いることができる。
【００１９】
それらの中でも、ケトン系の有機溶剤を用いるのが好ましく、ケトン系溶剤を用いて調製すると、基材表面に容易に均一に塗布することができ、かつ、塗工後において溶剤の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な厚さの大面積塗膜を容易に得ることができる。
【００２０】
また、溶剤の量は、各成分を均一に溶解、分散することができ、調製後の保存時に凝集を来たさず、かつ、塗工時に希薄すぎない濃度となるように適宜調節する。この条件が満たされる範囲内で溶剤の使用量を少なくして高濃度のコーティング組成物を調製し、容量をとらない状態で保存し、使用時に必要分を取り出して塗工作業に適した濃度に希釈するのが好ましい。固形分と溶剤の合計量を１００重量部とした時に、全固形分０．５〜５０重量部に対して、溶剤を５０〜９５．５重量部、さらに好ましくは、全固形分１０〜３０重量部に対して、溶剤を７０〜９０重量部の割合で用いることにより、特に分散安定性に優れ、長期保存に適した低屈折率組成物が得られる。
【００２１】
分散剤としては、導電性微粒子に対して親和性の高いアニオン性の極性基を有する分散剤が好ましい。アニオン性の極性基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、水酸基などが該当する。
【００２２】
アニオン性の極性基を有する分散剤としては、具体的には、ビックケミー・ジャパン社がディスパービックの商品名で供給する製品群、すなわち、Disperbyk-111, Disperbyk-110, Disperbyk-116, Disperbyk-140, Disperbyk-161, Disperbyk-162, Disperbyk-163, Disperbyk-164, Disperbyk-170, Disperbyk-171, Disperbyk-174, Disperbyk-180, Disperbyk-182等を例示することができる。
【００２３】
また、光開始剤は、光硬化バインダー成分を用いる際は通常用いることになるが、一般的な物を使用することができる。
【００２４】
例えば、電離放射線硬化性基がエチレン性不飽和結合である場合には、光ラジカル重合開始剤を用いる。光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物などが用いられる。より具体的には、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケトン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンゾフェノン等を例示できる。これらのうちでも、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、及び、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンは、少量でも電離放射線の照射による重合反応を開始し促進するので、本発明において好ましく用いられる。これらは、いずれか一方を単独で、又は、両方を組み合わせて用いることができる。これらは市販品にも存在し、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンはイルガキュアー  １８４（Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４）の商品名でチバスペシャリティーケミカルズ（株）から入手できる。
【００２５】
（配合割合）
帯電防止層形成にあたり、各成分の配合割合は、好ましくは以下の割合とする。
【００２６】
導電性微粒子１０重量部に対して、バインダー成分を２．５〜３０重量部の割合で配合。バインダー成分に対し、２重量％部以下では、膜強度が低下し、３０重量部以上では導電路が出来難く所望の表面抵抗を得にくくなる。分散剤を添加する場合は、導電性微粒子１０重量部に対して０．１〜２重量部、光開始剤は、バインダー１００重量部に対して、２〜８重量部の割合で配合することが好ましい。
【００２７】
（物性値）
帯電防止層の厚みが０．０１〜１０．００μｍの場合に、表面抵抗値が、好ましくは１．０×１０１２Ω／□以下、より好ましくは１．０×１０８Ω／□以下とする。この範囲とすることで、良好な帯電防止効果、埃付着防止効果が得られる。
【００２８】
また、帯電防止層の屈折率は好ましくは１．５０〜１．７５とする。
【００２９】
（帯電防止組成物成分の調整）
各必須成分および各所望成分を任意の順序で混合し、導電性微粒子がコロイドの形状であれば、そのまま混合することが可能であるし、粉状であえば、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入し、ペイントシェーカーやビーズミル等で適切に分散処理することにより、コーティングのための低屈折率層形成用組成物が得られる。
【００３０】
（帯電防止組成物の塗膜形成方法）
帯電防止層形成用組成物を塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等が挙げられる。
【００３１】
低屈折率層
低屈折率層は、マトリックス材料中に好ましくは空隙を有する微粒子を含むものである。
【００３２】
マトリックス材料としては、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
【００３３】
低屈折率層の屈折率は、十分な反射防止性能を得るためには１．４５以下が好ましく、１．４０以下がより好ましい。低屈折率層の厚みは、用途により適宜設定できるが、例えば０．０５〜０．１５μｍとすることができる。
【００３４】
低屈折率層の形成の際には、必要に応じ、光重合開始剤や、コーティング組成物の固形成分を溶解分散するための有機溶剤を用いることができる。
【００３５】
（空隙を有する微粒子）
空隙を有する微粒子とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造をとった結果、或いは微粒子が集合体を形成した結果、気体が屈折率１．０の空気である場合、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の空気の占有率に反比例して屈折率が低下した微粒子及びその集合体のことを言う。例えば、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムや表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子や、断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子のうち、本発明に使用できる平均粒子径の範囲のものが好ましく使用できる。
【００３６】
無機の多孔質微粒子としては、例えば、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から本発明で好ましく使用できる粒子径の範囲内のものを、また、無機の中空粒子としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製した中空シリカ微粒子が好ましく用いられる。一般的なシリカの屈折率は約１．４５であるのに対して、多孔質又は中空シリカは、約１．２０〜１．４４と低い屈折率を有する。例えば、ＳｉＯ２又はＳｉＯ２以外の金属酸化物のシード粒子を分散させた分散溶液中で、シリカ原料と、シリカ以外の無機酸化物原料のアルカリ水溶液を徐々に添加して、シード粒子を核として、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる微粒子を成長させ、次いで、成長した粒子中の珪素と酸素以外の元素を溶解除去、或いはイオン交換除去することによりシリカ粒子を多孔質化し、次いで、シリカ粒子表面を加水分解性有機化合物またはケイ酸液等の重合物で被覆する方法により、中空シリカ微粒子を得ることができる。
【００３７】
集合体を形成する無機の微粒子としては、例えば、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体や日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）の中から本発明の好ましく使用できる粒子径の範囲内のものを用いることができる。本発明で使用される平均粒子径５ｎｍ〜３００ｎｍの微粒子は、一次粒子径５ｎｍ〜１００ｎｍの微粒子が鎖状に連なって形成されていてもよい。
【００３８】
有機のそれ自身が空隙を有する微粒子は、例えば、特開２００２−２５６００４号公報に示されるような、ポリマー層と孔充填層を有する多孔質粒子であって、該孔充填層がフュージティブ物質、置換気体、或いはそれらの組合せであり、一方、該ポリマー層のガラス転移温度が１０℃〜５０℃である多孔質粒子が挙げられる。
【００３９】
また、集合体を形成する有機の微粒子としては、例えば、市販品として総研化学株式会社製の機能性微粒子凝集体ＭＰ−３００Ｆ（商品名、０．１μｍのアクリル凝集粒子として市販されている。）等が好ましく使用できる。
【００４０】
これらのそれ自身が空隙を有する、或いは集合体を形成することで空隙を有する微粒子のうちで、無機成分、特にシリカの空隙を有する微粒子は製造が容易でそれ自身が硬いために、バインダー成分と組合せた時の膜強度も向上し、屈折率１．２０〜１．４５を達成できるため好ましく使用することが出来る。
【００４１】
空隙を有する微粒子の一次粒子径は、塗膜に優れた透明性を付与するためには、平均粒子径５ｎｍ〜３００ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００４２】
（電離放射硬化型樹脂）
低屈折率層のマトリックス成分としては、一般に樹脂を用いることができるが、その中でも紫外線やその他の光線、電子線などの電離放射線により硬化する樹脂が好ましい。
【００４３】
この場合、電離放射線の照射を受けたときに直接、又は開始剤の作用を受けて間接的に、重合や二量化等の大分子化を進行させる反応を起こす重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。具体的には、アクリル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合性のモノマー、オリゴマーが好ましく、バインダー成分の分子間で架橋構造が生じるように、一分子内に重合性官能基を２個以上有する、より好ましくは３個以上有する多官能のバインダー成分であることが好ましい。バインダー中の水酸基は、水素結合によりハードコート層や帯電防止層等の隣接層に対する密着性を向上させることが可能となる。
【００４４】
上記の電離放射線硬化型樹脂組成物に好ましく使用されるモノマー類としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート等のジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、等を例示することができる。
【００４５】
これらに加え、エポキシアクリレート樹脂（共栄社化学製「エポキシエステル」や昭和高分子製「リポキシ」等）や各種イソシアナートと水酸基を有するモノマーとがウレタン結合を介して重付加によって得られるウレタンアクリレート樹脂（日本合成化学工業製「紫光」や共栄社化学製「ウレタンアクリレート」）といったオリゴマー類も好ましく使用できる。
【００４６】
（その他の成分）
低屈折率層形成にあたり、溶剤（帯電防止組成物と同様）、Ｆ基含有モノマー、Ｆ基含有ポリマー、光開始剤（帯電防止組成物と同様）やフッ素系および／またはケイ素系化合物を必要に応じ添加して用いることができる。
【００４７】
本発明による反射防止積層体の低屈折率層は、さらに、バインダー成分および微粒子の何れに対しても相溶性を有するフッ素系および／またはケイ素系化合物を含んでなることが好ましい。このようにフッ素系化合物等を含むことにより、最表面に用いられる塗膜表面の平坦化や反射防止積層体に必要とされる防汚性、耐擦傷性向上に効果がある滑り性を付与することができる。なお、「相溶性」とは、フッ素系および／またはケイ素化合物がバインダー成分や微粒子が存在する塗膜中に、添加効果が確認できる量を加えた場合でも、塗膜の白濁やヘイズの上昇などによる透明性の低下が確認できない程度の親和性を有することを意味する。
【００４８】
（配合割合）
好ましくは、平均粒子径５ｎｍ〜３００ｎｍの微粒子の添加量が、電離放射線硬化型樹脂成分１００重量部に対し１〜４００重量部、より好ましくは５〜２００重量部の範囲であることが望ましい。
【００４９】
（低屈折率組成物成分の調整）
各必須成分および各所望成分を任意の順序で混合し、該微粒子がコロイドの形状であれば、そのまま混合することが可能であるし、粉状であえば、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入し、ペイントシェーカーやビーズミル等で適切に分散処理することにより、コーティングのための低屈折率層形成用組成物が得られる。
【００５０】
（低屈折率組成物の塗膜形成方法）
低屈折率層形成用組成物を塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等が挙げられる。
【００５１】
（物性値）
本発明の反射防止積層体に用いられる低屈折率層は、前記したそれ自身が空隙を有する、或いは集合体を形成することで空隙を有する微粒子が含まれているので、塗膜の強度を確保することができ、且つ、低屈折率層の屈折率を１．５０以下、好ましくは１．４５以下と非常に小さくすることができる。しかも、実用に耐え得る硬度及び強度を有し、密着性及び透明性にも優れたものとなる。
【００５２】
具体的には、低屈折率層の表面を、＃００００番のスチールウールを用いて１０回擦ったときの、該低屈折率層のヘイズ値の変化が認められる最低荷重量が、２００ｇ以上である、高硬度の反射防止積層体を得ることが可能である。
【００５３】
基材層
透明基材は、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものが好ましい。透明基材を形成する材料の具体例としては、トリアセチルセルロース、ポリエステル、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはトリアセチルセルロース、ポリエステル、セルローストリアセテートが挙げられる。
【００５４】
ハードコート層
ハードコート層は、積層体自体に、耐擦傷性、強度等の性能を付与する目的で形成されてなるものであり、本発明において好ましい構成層である。本発明にあって「ハードコート層」とは、ＪＩＳ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を示すものをいう。
【００５５】
ハードコート層は、電離放射線硬化型樹脂組成物を使用して形成することが好ましく、より好ましくは（メタ）アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂、多価アルコール、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート等のジ（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート誘導体、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の多官能化合物としてのモノマー類、またはエポキシアクリレート又はウレタンアクリレート等のオリゴマーを使用することができる。
【００５６】
本発明におけるハードコート層は、ハードコート層単独では導電性の機能がなくとも、下に形成された導電性層の効果でハードコート層上でも帯電防止効果が得られる。尚、低屈折率層は、ハードコート層に比べて非常に薄膜なため、ハードコート層上に更に形成されても、その帯電防止効果は劣化しない。より高い帯電防止性を得るには、ハードコート組成物中に、導電性微粒子として、金及び／又はニッケルで表面処理されたポリスチレン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機ビーズやベンゾグアナミン・メラニン・ホルムアルデヒド縮合物球状粉体を添加することが好ましく、平均粒径は５μｍ程度が好ましい。
【００５７】
添加量は、全光線透過率に影響を及ぼさないよう、できるだけ微量を配合することが好ましくハードコート成分１００質量部に対し、０．００１〜１質量部とすることが好ましい。
【００５８】
本発明の反射防止積層体におけるハードコート層は硬化後の膜厚が０．１〜１００μｍ、好ましくは０．８〜２０μｍの範囲にあることが望ましい。膜厚が０．１μｍ以下の場合は充分なハードコート性能が得られず、１００μｍ以上の場合は外部からの衝撃に対して割れやすくなるため好ましくない。
【００５９】
本発明の反射防止積層体におけるハードコート層の屈折率が１．５７〜１．７０であると、中屈折率層または高屈折率層の機能を兼ね備えることができ、反射防止積層体の反射防止性に好ましい。
【００６０】
防眩層
防眩層（アンチグレア層）は、外部からの光を拡散させて眩しさを低減させるための層であり、本発明において好ましい構成層である。防眩層は独立の層として設けても良いが、ハードコート層の表面を凹凸形状にすることにより、ハードコート層と防眩層を兼ねることもできる。この場合において、さらに、ハードコート層の内部に無機や有機のフィラーといった微粒子を分散させてハードコート層内部で光を散乱させる機能を持たせ、防眩層とすることができ、この場合は、その防眩層上に反射防止積層体を設けてもよい。
【００６１】
また、好ましい防眩層としては、以下の条件を満たすものが挙げられる。すなわち、微粒子の平均粒径をＲ（μｍ）とし、防眩層凹凸の十点平均粗さをＲｚ（μｍ）とし、防眩層の凹凸平均間隔をＳｍ（μｍ）とし、凹凸部の平均傾斜角をθａとした場合に、
０．３≦Ｒ≦１０
０．９０≦Ｒｚ≦１．６０
３０≦Ｓｍ≦２００
１．３≦θａ≦２．５
を（より好ましくは同時に）満たすものが好ましい。
【００６２】
また、本発明の防眩層の別の好ましい様態によれば、防眩性を発現させる微粒子と防眩層のマトリックス成分である透明樹脂組成物の屈折率をそれぞれ、ｎ１、ｎ２とした場合に、下記の式
△ｎ＝│ｎ１−ｎ２│＜０．１５
を満たすものであり、かつ、防眩層内部のヘイズ値が５５％以下である防眩層が好ましい。
【００６３】
微粒子は、防眩性を発揮するものであれば、球状、例えば真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また微粒子は、無機系、有機系いずれのものであってもよく、好ましくは透明性のものが挙げられる。微粒子の具体例としては、無機ビーズとしてはシリカビーズなどが挙げられ、有機ビーズとしては、プラスチックビーズが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。微粒子の添加量は、透明樹脂組成物１００重量部に対し、２〜３０重量部、好ましくは１０〜２５重量部程度である。
【００６４】
反射防止積層体の物性値（最表面の帯電防止効果について）
本発明における反射防止積層体の最表面は、その好適飽和帯電量が２．０ｋＶ以下、好ましくは１．５ｋＶ以下より好ましくは１．０ｋＶ以下、さらに好ましくは０．５ｋＶ以下とされてなるものである。飽和帯電量がこのような値を取ることにより、ハードコート積層体の最表面において埃が付着することを有効に防止することができる。なお、特にＩＰＳモードの液晶ディスプレイにおいては、水平方向に配された電極間に電位をかけるので、上記の測定による飽和帯電電位が０．５ｋＶを超える場合、液晶ディスプレイの表面の帯電により、表示の乱れが生じやすいのに対し、０．５ＫＶ以下であれば、表示の乱れが実用上、生じない。
【００６５】
本発明において、飽和帯電量はＪＩＳ  Ｌ１０９４に準拠して測定することができ、例えば、半減期測定法が挙げられる。この方法は市販の測定器を用いて行うことができ、例えば、オネストメータＨ−０１１０（シシド静電気（株））を用いて測定することが可能である。この測定装置を用いた飽和帯電量の測定方法の一例について下記に説明する。
【００６６】
試料（４ｃｍ×４ｃｍ）をターンテーブルに固定し回転させて電圧を印可し、この測定器により試料表面の耐電圧値（ｋＶ）を測定する。時間に対する耐電圧の減衰曲線が描かれ、半減期（帯電量が初期値の半分に達するまでの時間）と飽和帯電量が測定される。
【００６７】
画像表示装置
本発明では、好適態様として、ＣＲＴ、液晶パネル、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ等の各種ディスプレイの表面に、本発明の反射防止積層体を有する、画像表示装置が包含される。
【実施例１】
【００６８】
下記の成分を混合して帯電防止層形成用組成物を調製した。
【表１】
2005316426.tif 000002
【００６９】
塗膜（基材／帯電防止層）の作製
上記組成の帯電防止層形成用組成物を厚み８０μｍのトリアセテートセルロース（ＴＡＣ）フィルム上にバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量約２０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い，帯電防止層を硬化させて、膜厚約１μｍの帯電防止層を作成した。
【００７０】
帯電防止層の評価
得られた塗膜の屈折率を分光エリプソメーター（ＵＶＳＥＬ、ジョバンーイーボン社製；測定波長６３３ｎｍ）を用いて測定すると共に、表面抵抗率を高抵抗率計（ハイレスタ・ＵＰ、三菱化学(株)製）を用いて測定した。
【００７１】
結果、屈折率は１．５７、表面抵抗率は５．０×１０７Ω／□であった。
【００７２】
ハードコート層形成用組成物１の調製
下記の組成の成分を配合してハードコート層形成用組成物１を調製した。
【表２】
2005316426.tif 000003
【００７３】
低屈折率層形成用組成物の調製
下記の組成の成分を配合して屈折率１．３７の低屈折率層形成用組成物を調製した。
【表３】
2005316426.tif 000004
【００７４】
塗膜（基材／帯電防止層／ハードコート層／低屈折率層）の作製
基材／帯電防止層上に、上記組成のハードコート層形成用組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株），光源Ｈパルプ）を用いて、照射線量１００ｍＪ／ｃｍ2 で紫外線照射を行い，ハードコート層を硬化させて、膜厚５μｍのハードコート層を有する、基材／帯電防止層／ハードコートフィルムを得た。
【００７５】
得られた基材／帯電防止層／ハードコート層フィルム上に，上記の低屈折率組成物をバーコーティングし、乾燥させることにより溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株），光源Ｈバルブ）を用いて，照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2 で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、膜厚約１００ｎｍの低屈折率層を作成した。
【実施例２】
【００７６】
下記の成分を混合して帯電防止層形成用組成物を調製した。
【表４】
2005316426.tif 000005
【００７７】
塗膜（ＴＡＣ基材／帯電防止層）の作製
実施例１と同様の条件にて、膜厚約１μｍの帯電防止層を作成した。
【００７８】
帯電防止層の評価
得られた塗膜の屈折率を実施例１と同様の条件にて評価を行った。結果、屈折率は１．５８、表面抵抗率は１．０×１０７Ω／□であった。
【００７９】
塗膜（基材／帯電防止層／ハードコート層／低屈折率層）の作製
実施例１と同様のハードコート層形成用組成物、及び低屈折率層形成用組成物を用い、実施例１と同様の作製条件にて、ＴＡＣ基材／帯電防止層／ハードコート層／低屈折率層の層構成を得た。
【実施例３】
【００８０】
ハードコート組成物を下記のように、金およびニッケルで表面処理を施した平均粒径５μｍの有機ビーズ（日本化学工業（株）製、商品名；ブライト２０ＧＮＲ−４．６ＥＨ）を添加した以外は、実施例１と同様の帯電防止層形成用組成物、低屈折率層形成用組成物を用い、同条件にて、塗膜（ＴＡＣ基材／帯電防止層／ハードコート層／低屈折率層）を作成した。
【００８１】
ハードコート層形成用組成物の調製
下記の組成の成分を配合してハードコート層形成用組成物を調製した。
【表５】
2005316426.tif 000006
【実施例４】
【００８２】
ハードコート組成物を下記のような組成に変更した以外は、実施例１と同様の帯電防止層形成用組成物、低屈折率層形成用組成物を用い、同条件にて、塗膜（ＴＡＣ基材／帯電防止層／ハードコート層／低屈折率層）を作成した。
【００８３】
ハードコート層形成用組成物の調製
下記の組成の成分を配合してハードコート層形成用組成物を調製した。
【表６】
2005316426.tif 000007
【実施例５】
【００８４】
塗膜（基材／ハードコート層／帯電防止層／低屈折率層）の作製
厚み８０μｍのトリアセテートセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、実施例１と同様ハードコート組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量約２０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い，塗膜を硬化させて、膜厚約５μｍのハードコート層を作成した。
【００８５】
得られた基材／ハードコートフィルム上に，実施例２と同様の帯電防止組成物をバーコーティングし、乾燥させることより溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株），光源Ｈバルブ）を用いて，照射線量５０ｍＪ／ｃｍ2 で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、膜厚約９０ｎｍの帯電防止層を作成した。
【００８６】
得られた基材／ハードコート層／帯電防止層フィルム上に、実施例１と同様の上記の低屈折率組成物をバーコーティングし、乾燥させることより溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株），光源Ｈバルブ）を用いて，照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2 で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、膜厚約１００ｎｍの低屈折率層を作成した。
【実施例６】
【００８７】
防眩層形成用組成物を下記のように調製した。実施例１と同様の帯電防止層形成用組成物、低屈折率層形成用組成物を用い、帯電防止層形成用組成物、低屈折率層形成用組成物は同条件にて、塗膜（ＴＡＣ基材／帯電防止層／防眩層／低屈折率層）を作成した。なお、防眩層形成用組成物は以下の条件にて行った。
【００８８】
防眩層用組成物の調製
下記の組成の成分を十分混合し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層形成用塗布液を調製した。
【表７】
2005316426.tif 000008
【００８９】
防眩層の形成
帯電防止剤層上に上記で調製した防眩層用組成物をバーコーティングし、７０℃のオーブンで加熱乾燥させ、Ｎ２雰囲気下でＵＶ照射装置（フィージョンＵＶシステムジャパン（株）製）のＨバルプを光源に用いて硬化させて（積算光量１５ｍｊ）防眩層を形成した。
【比較例１】
【００９０】
塗膜（基材／ハードコート層／低屈折率層）の作製
厚み８０μｍのトリアセテートセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、実施例１と同様ハードコート組成物をバーコーティングし、乾燥により溶剤を除去した後、紫外線照射装置を用いて照射線量約２０ｍＪ／ｃｍ2で紫外線照射を行い，塗膜を硬化させて、膜厚約５μｍのハードコート層を作成した。
【００９１】
得られた基材／ハードコート層フィルム上に、実施例１と同様の上記の低屈折率組成物をバーコーティングし、乾燥させることより溶剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン（株），光源Ｈバルブ）を用いて，照射線量２００ｍＪ／ｃｍ2 で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、膜厚約１００ｎｍの低屈折率層を作成した。  
評価試験
実施例１〜４および比較例１の反射防止積層体について以下の評価試験を行った。各評価結果は表１に記載した通りであった。
【００９２】
（１）飽和帯電量試験
オネストメータＨ−０１１０（シシド静電気（株））を用いて、ハードコート積層体の裏面から２０ｍｍの位置に＋１０ｋＶの電圧を印加し、飽和帯電状態となったところで電圧印加を中止し、速やかに飽和帯電量を測定した。飽和帯電量が少ない値ほど、耐埃性が優れていることを示す。
【００９３】
（２）：埃付着性試験
たばこの灰（平均粒径：数μｍ〜数ｍｍ程度）３０ｇ程度を均一に分散させた台の上からを１０ｍｍ程度の高さにハードコート積層体を設置する試験台を用意し、ハードコート積層体を評価１の方法と同様の方法により電圧印加行い、飽和帯電状態となったところで、上記試験台の上に設置し、ハードコート積層体の表面にたばこの灰が付着するが否かにより、下記の基準で評価した。
評価基準
評価○：たばこの灰の付着が見られなかった。
評価×：たばこの灰の付着が見られた。
【００９４】
（３）反射率測定
５℃正反射測定装置を備えた分光光度計（島津製作所（株）製、ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて反射率を測定した。なお、反射率は、波長５５０ｎｍ付近で極小値となったときの値を示した。
【００９５】
（４）擦過性評価試験
＃００００のスチールウールを用い、荷重２００ｇで２０往復した時の傷の有無を目視により確認した。剥離したものを×、表面に傷が確認されたが剥離しなかったものを△、表面に傷が認められなかったものを○とした。
【００９６】
（５）鉛筆硬度評価
評価基準
各ハードコート積層体の硬さについて鉛筆硬度を用いた。測定方法としては、ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準拠して測定し、下記の基準とした。
評価○：２Ｈ以上の強度があった。
評価×：２Ｈ未満の強度であった。
【表８】
2005316426.tif 000009