(57)【要約】【課題】  被乾燥物の膜厚および膜形状についてバラツキを生じさせることなく均一に乾燥することができる減圧乾燥装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器を提供する。【解決手段】  被乾燥物が入れられる炉１０と、炉１０に接続されおり該炉１０内の気体を排気する複数の粗引き排気ライン１０１，１０２と、粗引き排気ライン１０１，１０２のそれぞれに設けられているコンダクタンスバルブ１２１，１２２と、炉１０に接続されており粗引き排気ライン１０１，１０２よりも高真空度で炉１０内の気体を排気する１本の本引き排気ライン１１１と、本引き排気ライン１１１に設けられている圧力調整バルブ１３１とを有することを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被乾燥物が入れられる炉と、
前記炉に接続されており該炉内の気体を排気する複数の粗引き排気ラインと、
前記粗引き排気ラインのそれぞれに設けられているコンダクタンスバルブと、
前記炉に接続されており前記粗引き排気ラインよりも高真空度で該炉内の気体を排気する１本の本引き排気ラインと、
前記本引き排気ラインに設けられている圧力調整バルブとを有することを特徴とする減圧乾燥装置。
【請求項２】
前記被乾燥物の膜厚又は膜形状を検出する膜厚モニタを有し、
前記コンダクタンスバルブのそれぞれは、前記膜厚モニタの検出値に基づいて開度が調節されることを特徴とする請求項１に記載の減圧乾燥装置。
【請求項３】
前記膜厚モニタは、前記炉の内部又は外部に配置されていることを特徴とする請求項２に記載の減圧乾燥装置。
【請求項４】
前記コンダクタンスバルブのそれぞれの開度を前記膜厚モニタの検出値に基づいてオンラインでフィードバック制御するコンダクタンスバルブ制御手段を有することを特徴とする請求項２又は３に記載の減圧乾燥装置。
【請求項５】
前記コンダクタンスバルブ制御手段は、前記被乾燥物の膜厚又は膜形状が均一となるように、前記コンダクタンスバルブのそれぞれの開度を制御するものであることを特徴とする請求項４に記載の減圧乾燥装置。
【請求項６】
前記炉内の圧力を検出する圧力計を有し、
前記圧力調整バルブは、前記圧力計の検出値に基づいて開度が調整されることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の減圧乾燥装置。
【請求項７】
前記圧力調整バルブの開度を前記圧力計の検出値に基づいてオンラインでフィードバック制御する圧力調整バルブ制御手段を有することを特徴とする請求項６に記載の減圧乾燥装置。
【請求項８】
前記圧力調整バルブ制御手段は、複数のバッチ処理として複数の前記被乾燥物を連続して乾燥処理する場合に、各バッチ処理の相互において、排気開始からの経過時間と前記炉内の圧力変化値との関係が一定となるように、前記圧力調整バルブの開度を制御するプロファイル一定化手段を有することを特徴とする請求項７に記載の減圧乾燥装置。
【請求項９】
前記被乾燥物は、基板上に塗布された液状体からなる薄膜であり、
前記薄膜は、ＥＬ装置の画素の構成要素をなす高分子有機物を含んでいることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の減圧乾燥装置。
【請求項１０】
前記被乾燥物を加熱する加熱手段を有することを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の減圧乾燥装置。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項に記載の減圧乾燥装置を用いて、基板上に塗布された液状体からなる薄膜を前記被乾燥物として、乾燥させる工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
前記膜厚モニタの検出値に基づいて、前記被乾燥物が膜厚又は膜形状を均一な状態とされて乾燥されているか否か判断する判断工程と、
前記判断工程において、均一な状態とされて乾燥されていると判断された場合に、前記コンダクタンスバルブのそれぞれの開度を該判断された時の開度に固定して、その後の前記複数のバッチ処理を繰り返すコンダクタンスバルブ固定工程とを有することを特徴とする請求項１１に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の電気光学装置の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、減圧乾燥装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機、携帯型コンピュータなどといった電子機器の表示部にエレクトロルミネッセンス装置（以下ＥＬ（electoroluminescence）装置という）、液晶装置などといった電気光学装置からなる表示装置が広く用いられている。ＥＬ装置の画素は、基板上の画素領域に液状体の高分子有機材料を塗布して有機膜を形成し、次いで、その基板を乾燥処理（熱処理を含む）することで有機膜を硬化させる工程を有して形成される。従来、このような有機膜の硬化乾燥方法としては、減圧乾燥装置（オーブン）が用いられている。
【０００３】
従来の減圧乾燥装置は、炉をなすオーブンの内部空間が、気密に構成されていると共に、例えば複数枚のウェハが搭載された複数のウェハカセットが収容され得るようになっている。各ウェハは、それぞれ前以て表面にポリイミド等の有機膜が塗布されている。この有機膜は被乾燥物である。オーブンの内部は、負圧に設定され、その内部にガスが供給され、熱線等により温度をあげると共に、そのオーブン内で発生した熱気流を排気口から排気され得るようになっている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平７−１８３２０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１に記載されている減圧乾燥装置では、排気口が１つであり、この排気口からの排気量を多くしようとした場合などはオーブン内での排気の流れに偏りが生じやすいという問題点がある。すなわち、オーブン内において排気の流れが偏っている場合、各ウェハの各有機膜の乾燥が不均一となる。例えば、ウェハに複数の画素を有機膜で形成しようとした場合、各画素間での乾燥が不均一となり、１つの画素における各部位の乾燥も不均一となる。これにより、画素間および画素内での膜厚および膜形状がバラついてしまい、高品位な画像が表示できなくなる。また、オーブンに排気口を複数設けた場合であっても、排気の流れを偏りなく精密に均一化することは困難であり、ウェハカセットの配置が変動した場合は大きく排気の流れが偏ってしまう。
【０００５】
また、１つのオーブンで複数回連続して乾燥処理（バッチ処理）を行うと、オーブン内の残留蒸気成分の濃度が徐々に増加していく。これにより、上記複数回連続の乾燥処理において、排気量を一定とすると、各乾燥処理（各バッチ）でオーブン内を所定値の真空度に到達させるまでに要する時間が徐々に長くなる。このように各乾燥処理で排気のプロファイル（排気開始からの経過時間とオーブン内の圧力変化値との関係）が異なることとなると、各乾燥処理間の被乾燥物の膜厚および膜形状が不均一になってしまう。すなわち、各バッチ間で膜厚および膜形状がばらついてしまう。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、被乾燥物の膜厚および膜形状についてバラツキを生じさせることなく均一に乾燥することができる減圧乾燥装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器を提供することを目的とする。
また、本発明は、１つの炉で複数回連続して乾燥処理を行っても、各乾燥処理間で膜厚および膜形状についてバラツキを生じさせることなく均一に乾燥することができる減圧乾燥装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の減圧乾燥装置は、被乾燥物が入れられる炉と、前記炉に接続されおり該炉内の気体を排気する複数の粗引き排気ラインと、前記粗引き排気ラインのそれぞれに設けられているコンダクタンスバルブと、前記炉に接続されており前記粗引き排気ラインよりも高真空度で該炉内の気体を排気する１本の本引き排気ラインと、前記本引き排気ラインに設けられている圧力調整バルブとを有することを特徴とする。
本発明によれば、１本の本引き排気ラインと複数本の粗引き排気ラインとがなす複数の排気口により、炉内の気体を排気することができるので、排気に伴う炉内での気体の流れが局所的に偏ることを回避することができる。すなわち、本引き排気ラインと複数本の粗引き排気ラインとがなす複数の排気口を炉に分散配置することなどにより、排気の流れが偏ることを低減することができる。このように炉内での排気の流れが均一化されると、炉内の被乾燥物が均一乾燥されることとなる。例えば、被乾燥物が基板上において縦横に行列に配置された複数の画素をなす薄膜である場合、各薄膜間の膜厚および膜形状を均一化でき、また、１つの薄膜について膜厚分布および膜形状を均一化することができる。したがって、本発明によれば、炉内に複数の被乾燥物を分散配置して乾燥処理を行っても、各被乾燥物相互間、および各乾燥物自身について、膜厚および膜形状についてバラツキを生じさせることなく均一に乾燥することができる。
【０００８】
また、本発明の減圧乾燥装置は、前記被乾燥物の膜厚又は膜形状を検出する膜厚モニタを有し、前記コンダクタンスバルブのそれぞれは、前記膜厚モニタの検出値に基づいて開度が調節されることが好ましい。
本発明によれば、炉内において乾燥された被乾燥物の膜厚又は膜形状を膜厚モニタにより検出することができるので、その検出結果により炉内で排気の流れに偏りがあるか否かおよびどの位置の排気流が強いか弱いかなどの偏り状態を検出することができる。そこで、膜厚モニタの検出値に基づいて、例えば排気流が強い部位付近に配置されている粗引きラインのコンダクタンスバルブの開度を少なくし、排気流が弱い部位付近に配置されている粗引きラインのコンダクタンスバルブの開度を多くするという制御をする。このような制御をすることにより、炉内での排気の流れを精密に均一化することができる。したがって本発明によれば、炉内に複数の被乾燥物を分散配置して乾燥処理を行っても、各被乾燥物相互間、および各被乾燥物について、膜厚および膜形状についてバラツキを生じさせることなく、精密に、均一に乾燥させることができる。
【０００９】
また、本発明の減圧乾燥装置は、前記膜厚モニタが前記炉の内部又は外部に配置されていることが好ましい。
本発明によれば、例えば炉内に膜厚モニタを配置した場合、炉を開閉することなく迅速に、かつ、乾燥処理をしながら被乾燥物の膜厚および膜形状を検出することができる。そこで、この場合は、ダミー基板などを用いて調整用のプレ乾燥処理などをすることなく、本番の乾燥処理すなわち製品基板用の膜形成を精密に均一化して行うことができる。
一方、炉外に膜厚モニタを配置した場合、乾燥処理を施した被乾燥物（基板）を炉の中から外へ取り出し、各種の膜厚モニタを用いてその膜厚および膜形状を検出することができる。すなわち、膜厚モニタの大きさおよび種類などが制限されず、膜厚モニタの選択の自由度を上げることができ、より精密に膜厚および膜形状を検出することができる。この場合は乾燥処理をしながら膜厚などの検出は困難となるので、第１回目の乾燥処理では上記ダミー基板などを用いたプレ乾燥処理を行ってもよい。
【００１０】
また、本発明の減圧乾燥装置は、前記コンダクタンスバルブのそれぞれの開度を前記膜厚モニタの検出値に基づいてオンラインでフィードバック制御するコンダクタンスバルブ制御手段を有することが好ましい。
本発明によれば、自動的にかつ迅速に、コンダクタンスバルブの開度を膜厚モニタの検出値に基づいて制御することができる。したがって、手間をかけずに、コンダクタンスバルブの開度を精密にフィードバック制御することができ、被乾燥物の膜厚および膜形状についてバラツキを生じさせることなく、精密に、均一に乾燥させることができる。
【００１１】
また、本発明の減圧乾燥装置は、前記コンダクタンスバルブ制御手段が、前記被乾燥物の膜厚又は膜形状が均一となるように、前記コンダクタンスバルブのそれぞれの開度を制御するものであることが好ましい。
本発明によれば、例えば本減圧乾燥装置による複数回の乾燥処理で取得したデータ（すなわち各乾燥処理で検出された膜厚モニタの検出値、その検出値に基づいて行ったコンダクタンスバルブの開度制御量など）をコンダクタンスバルブ制御手段が記憶し、その記憶されたデータに基づいて適切に各コンダクタンスバルブの開度を制御することができる。そこで、本発明によれば、膜厚モニタの検出値に対するコンダクタンスバルブの開度の制御量などについて、操作者が調整をする手間を省くことができ、全自動的に、極めて良好な乾燥処理をすることができる。
【００１２】
また、本発明の減圧乾燥装置は、前記炉内の圧力（気圧）を検出する圧力計を有し、前記圧力調整バルブは、前記圧力計の検出値に基づいて開度が調整されることが好ましい。
本発明によれば、炉内の圧力に基づいて圧力調整バルブを調整して本引き排気ラインの開度を調整するので、複数のバッチ（基板）について１つの炉で乾燥工程を連続して行った場合でも、各バッチの被乾燥物の膜厚および膜形状が同一となるように、かつ均一となるように乾燥させることができる。すなわち、１つの炉で複数回連続して乾燥処理を行うと、炉内の残留蒸気成分の濃度が徐々に増加していく。これにより、上記複数回連続の乾燥処理において、本引き排気ラインの開度（真空度）を一定とすると、各乾燥処理で炉内を所定値の真空度に到達させるまでに要する時間が徐々に長くなる。このように各乾燥処理で排気のプロファイル（排気開始からの経過時間と炉内の圧力変化値との関係）が異なることとなると、各乾燥処理間の被乾燥物の膜厚および膜形状が不均一になってしまう。本発明では、炉内の圧力に基づいて本引き排気ラインの開度を調整するので、上記複数回連続の乾燥処理それぞれのプロファイルを同一にすることができ、各バッチ（各乾燥処理）の被乾燥物の膜厚および膜形状が同一となるように、かつ均一となるように乾燥させることができる。
【００１３】
また、本発明の減圧乾燥装置は、前記圧力調整バルブの開度を前記圧力計の検出値に基づいてオンラインでフィードバック制御する圧力調整バルブ制御手段を有することが好ましい。
本発明によれば、手間をかけずに、迅速にかつ精密に、本引き排気ラインの開度を炉内の圧力に基づいてフィードバック制御することができる。
【００１４】
また、本発明の減圧乾燥装置は、前記圧力調整バルブ制御手段は、複数のバッチ処理として複数の前記被乾燥物を連続して乾燥処理する場合に、各バッチ処理の相互において、排気開始からの経過時間と前記炉内の圧力変化値との関係（プロファイル）が一定となるように、前記圧力調整バルブの開度を制御するプロファイル一定化手段を有することが好ましい。
本発明によれば、各バッチすなわち各乾燥処理のプロファイルが一定となるように、プロファイル一定化手段が本引き排気ラインの開度を調整するので、各バッチの被乾燥物の膜厚および膜形状が同一となるように、かつ均一となるように乾燥させることができる。
【００１５】
また、本発明の減圧乾燥装置は、前記被乾燥物が基板上に塗布された液状体からなる薄膜であり、前記薄膜は、ＥＬ装置の画素の構成要素をなす高分子有機物を含んでいることが好ましい。
本発明によれば、ＥＬ装置の画素の構成要素をなす高分子有機物からなる発光層などを、膜厚および膜形状についてバラツキを生じさせることなく均一に形成することができる。したがって、本発明によれば、各画素間がバラツキなく均一に発光し、１つの画素について見ても各部位で偏りなく均一に発光することができ、高品質な画像を表示できるＥＬ装置を製造することができる。
【００１６】
また、本発明の減圧乾燥装置は、前記被乾燥物を加熱する加熱手段を有することが好ましい。
本発明によれば、前記被乾燥物を加熱しながら上記乾燥処理をすることができ、迅速にかつ良好に上記乾燥処理をすることができる。
【００１７】
また、上記目的を達成するために、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記減圧乾燥装置を用いて、基板上に塗布された液状体からなる薄膜を前記被乾燥物として、乾燥させる工程を有することを特徴とする。
本発明のよれば、炉内に複数の被乾燥物を分散配置して乾燥処理を行っても、各被乾燥物相互間および各乾燥物自身について、膜厚および膜形状についてバラツキを生じさせることなく均一に乾燥することができる。また、複数回連続して乾燥処理を行った場合でも、各乾燥処理のプロファイルを同一にすることができ、各バッチの被乾燥物の膜厚および膜形状が同一となるように、かつ均一となるように乾燥させることができる。例えば、電気光学装置の画素などを前記減圧乾燥装置を用いて形成することにより、各画素間がバラツキなく均一に発光し、１つの画素について見ても各部位で偏りなく均一に発光し、高品質な画像を表示できるＥＬ装置を製造することができる。また、乾燥工程において不良となる画素を低減でき、電気光学装置の製造コストを低減することができる。
【００１８】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記膜厚モニタの検出値に基づいて前記被乾燥物が膜厚又は膜形状を均一な状態とされて乾燥されているか否か判断する判断工程と、前記判断工程において均一な状態とされて乾燥されていると判断された場合に、前記コンダクタンスバルブのそれぞれの開度を該判断された時の開度に固定して、その後の前記複数のバッチ処理を繰り返すコンダクタンスバルブ固定工程とを有することが好ましい。
本発明のよれば、例えば調整用のダミー基板などを用いて第１回目の乾燥処理を行い、被乾燥物の膜厚および膜形状が均一な状態となった場合、コンダクタンスバルブの開度を固定し、その後はコンダクタンスバルブを制御することなく、製品とする基板などについての複数バッチの乾燥処理を行うことができる。すなわち、コンダクタンスバルブの開度を調節して排気の流れの偏りを無くすと、炉内に置く被乾燥物（基板）の位置を一定とすることなどにより、その後の乾燥処理でも排気の流れを均一に保つことができる。なお、製品とする基板を第１回目の乾燥処理で処理してもよい。
【００１９】
また、本発明の電気光学装置は、前記電気光学装置の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする。
本発明のよれば、電気光学装置における画素などを前記電気光学装置の製造方法を用いて製造することにより、各画素間がバラツキなく均一に発光し、１つの画素について見ても各部位で偏りなく均一に発光する、高品質な画像を表示できる電気光学装置を提供することができる。ここで、電気光学装置としては、ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置、液晶装置などが該当する。
【００２０】
また、本発明の電子機器は、前記電気光学装置を備えたことを特徴とする。
本発明のよれば、発光ムラが従来よりも少なく高品質な画像を表示することができる電子機器を安価に提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態に係る減圧乾燥装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器について、図面を参照して説明する。
【００２２】
（減圧乾燥装置の構成）
図１は本発明の実施形態に係る減圧乾燥装置の主要構成を示す模式図である。本実施形態の減圧乾燥装置１は、例えばＥＬ装置の製造時において基板上に塗布された液状体の高分子有機膜を乾燥し硬化させる工程で用いられる。そして、減圧乾燥装置１は、炉１０と、膜厚モニタ１１と、複数の粗引き排気ライン１０１，１０２と、１本の本引き排気ライン１１１と、複数のコンダクタンスバルブ１２１，１２２と、圧力調整バルブ１３１と、圧力計１４１とを有している。
【００２３】
炉１０は、気密構造のオーブンをなすものであり、例えばＥＬ装置の構成部材となる基板５０が収容され得るようになっている。この基板５０の表面には、例えばＥＬ装置の画素の構成部材となる液状体の高分子有機物の薄膜６１，６２が複数配置されている。この薄膜６１，６２が本減圧乾燥装置１の被乾燥物となる。なお、炉１０の内部には複数枚の基板５０を収容することができ、その複数枚の基板５０は所定枚数毎にカセットに収容されていることとしてもよい。また、路１０の内部には、ガスが供給されるものとしてもよく、熱線などからなる加熱手段が設けられているものとしてもよい。その加熱手段は、室温から１００℃までの範囲で温度調節できることが好ましい。
【００２４】
複数の粗引き排気ライン１０１，１０２は、それぞれの一端が炉１０に接続されており、炉１０内の気体をその外部に排気する管路である。各粗引き排気ライン１０１，１０２は、例えば１／４インチ管又は３／８インチ管で構成され、本引き排気ライン１１１をなす管よりも細い管で構成されている。そして、各粗引き排気ライン１０１，１０２のそれぞれの他端は、本引き排気ライン１１１に接続されている。これらより、各粗引き排気ライン１０１，１０２は、本引き排気ライン１１１と比べて低真空度で路１０内の気体を排気することとなる。
【００２５】
各粗引き排気ライン１０１，１０２のそれぞれには、コンダクタンスバルブ１２１，１２２が一つづつ設けられている。したがって、コンダクタンスバルブ１２１の開度を調節することにより、粗引き排気ライン１０１における単位時間当たりの排気量を制御でき、コンダクタンスバルブ１２２の開度を調節することにより、粗引き排気ライン１０２における単位時間当たりの排気量を制御できる。
【００２６】
本引き排気ライン１１１は、一端が炉１０に接続されていて、他端が真空ポンプ（図示せず）に接続されている管路であり、炉１０内の気体をその外部に排気する管路である。本引き排気ライン１１１は、上記のように粗引き排気ライン１０１，１０２よりも太い管で構成されている。そして、本引き排気ライン１１１には、圧力調整バルブ１３１が設けられている。この圧力調整バルブ１３１の開度を調節することにより、本引き排気ライン１１１における単位時間当たりの排気量を制御できる。
【００２７】
さらに、炉１０の内部には、膜厚モニタ１１が配置されている。膜厚モニタ１１は、被乾燥物である薄膜６１，６２の膜厚および膜形状を検出するものである。すなわち、膜厚モニタ１１は、炉１０内で乾燥処理（乾燥処理の途中も含む、以下同じ）された薄膜６１，６２の膜厚および膜形状を検出するものである。この膜厚モニタ１１の検出値により、薄膜６１，６２が偏りなく均一に乾燥されたか否かを精密に認識することができる。膜厚モニタ１１としては、レーザ顕微鏡、エリプソメータ、光干渉式膜厚計、接触式膜厚計など各種のものを適用することができる。また、膜厚モニタ１１は炉１０の外に配置してもよく、この場合は基板５０を炉１０の外に取り出して薄膜６１，６２の膜厚および膜形状を検出することとしてもよい。
【００２８】
そして、膜厚モニタ１１の検出値は、コンダクタンスバルブ１２１，１２２の開度を調節する制御信号となる。換言すれば、コンダクタンスバルブ１２１，１２２のそれぞれの開度は、膜厚モニタ１１の検出値に基づいて調節される。このコンダクタンスバルブ１２１，１２２の調節は人手で行ってもよいが、オンラインによるフィードバック制御としてもよい。すなわち、減圧乾燥装置１は、コンダクタンスバルブ１２１，１２２のそれぞれの開度を膜厚モニタ１１の検出値に基づいてオンラインでフィードバック制御するコンダクタンスバルブ制御手段（図示せず）を有することとしてもよい。
【００２９】
コンダクタンス制御手段又は人手によるコンダクタンスバルブ１２１，１２２の制御は乾燥処理された薄膜６１，６２の膜厚および膜形状が均一となるように行われる。例えば、薄膜６１の膜厚が薄膜６２に比べて薄く、その薄膜６１の膜形状が全体的に不均一で偏りがあり、薄膜６２の膜形状は全体的に均一である場合、薄膜６１の周辺が薄膜６２の周辺よりも排気流が強いと判断できる。そこで、コンダクタンスバルブ制御手段は、薄膜６１の近くに配置されている粗引き排気ライン１０１の排気量を少なくすべく、コンダクタンスバルブ１２１の開度を小さくする。このとき、コンダクタンスバルブ１２２の開度は、そのままとするか、又は少し大きくしてもよい。上記のような乾燥処理とコンダクタンスバルブ調節処理とは繰り返し行ってもよい。
これらにより、炉１０内の排気の流れにおける偏りを無くすことができ、薄膜６１，６２の膜厚および膜形状が均一となるように乾燥・硬化させることができる。
【００３０】
また、減圧乾燥装置１に備えられている圧力計１４１は、炉１０内における任意の１点の圧力（真空度）を検出するものである。本引き排気ライン１１１に設けられている圧力調整バルブ１３１は、圧力計１４１の検出値に基づいて開度が調節される。この圧力調整バルブ１３１の調節は、人手で行ってもよいが、オンラインで自動的に行うこととしてもよい。すなわち、減圧乾燥装置１は、圧力調整バルブ１３１の開度を圧力計１４１の検出値に基づいてオンラインでフィードバック制御する圧力調整バルブ制御手段（図示せず）を有することとしてもよい。
【００３１】
そして圧力調整バルブ制御手段は、処理対象の多量の基板５０を複数のバッチにわけ、各バッチについて連続して乾燥処理する場合に、各バッチ処理の相互において、排気開始からの経過時間と前記炉内の圧力変化値との関係（プロファイル）が一定となるように、圧力調整バルブ１３１の開度を制御するプロファイル一定化手段（図示せず）を有することが好ましい。このプロファイル一定化手段がなす機能は人手で実行してもよい。
【００３２】
このような構成によって、炉１０内の圧力に基づいて圧力調整バルブ１３１を調整して本引き排気ラインの開度を調整することができる。そこで、複数のバッチ（基板５０）について１つの炉１０で乾燥工程を連続して行った場合でも、各バッチの薄膜６１，６２の膜厚および膜形状が同一となるように、かつ均一となるように乾燥させることができる。
【００３３】
この理由について説明する。１つの炉１０で複数回連続して乾燥処理を行うと、炉１０内の残留蒸気成分の濃度が徐々に増加していく。これにより、複数回連続の乾燥処理において、本引き排気ライン１１１の開度を一定とすると、各乾燥処理で炉１０内を所定値の真空度に到達させるまでに要する時間が徐々に長くなる。このように各乾燥処理で排気のプロファイル（排気開始からの経過時間と炉内の圧力変化値との関係）が異なることとなると、各乾燥処理間の被乾燥物の膜厚および膜形状が不均一になってしまう。本実施形態では、炉１０内の圧力に基づいて本引き排気ライン１１１の開度を調整するので、複数回連続の乾燥処理それぞれのプロファイルを同一にすることができ、各バッチ（各乾燥処理）の薄膜６１，６２の膜厚および膜形状が同一となるように、かつ均一となるように乾燥させることができる。
【００３４】
（減圧乾燥装置の動作）
次に、上記構成の減圧乾燥装置１の動作について説明する。図２は本発明の実施形態に係る減圧乾燥装置１の動作を示すフローチャートである。先ず、被乾燥物である液状体の高分子有機物の薄膜６１，６２が形成されている基板５０を炉１０の内部の所定位置に配置する。この第１回目の乾燥処理においては、基板５０として、製品基板とはしないダミー基板を用いてもよい。そして、コンダクタンスバルブ１２１，１２２および圧力調整バルブ１３１を所定の開度として、本引き排気ライン１１１に接続されている真空ポンプを動作させて排気しながら乾燥処理を行う（ステップＳ１）。
【００３５】
この第１回目の乾燥処理を行いながら、又はその乾燥処理が終了した後に、膜厚モニタ１１により薄膜６１，６２の膜厚および膜形状を検出し、その検出値に基づいてコンダクタンスバルブ１２１，１２２の調節をする。すなわち、上記のように薄膜６１，６２の膜厚および膜形状が均一となるようにコンダクタンスバルブ１２１，１２２の開度を調節する（ステップＳ２）。
上記ステップＳ２においては、コンダクタンスバルブ１２１，１２２を調節するとともに薄膜６１，６２の膜厚および膜形状が均一となるように圧力調整バルブ１３１の開度も調節してもよい。
【００３６】
次いで、第２回目の乾燥処理を行いながら、又はその乾燥処理が終了した後に、膜厚モニタ１１により薄膜６１，６２の膜厚および膜形状を検出する（ステップＳ３）。
次いで、ステップＳ３で検出された薄膜６１，６２の膜厚および膜形状が十分に均一となっているか否か判断する。この判断は、機械的に行うのが好ましいが人手により判断してもよい（ステップＳ４）。
【００３７】
ステップＳ４において、膜厚および膜形状が均一ではないと判断された場合は、炉１０内で排気の流れに偏りがあるので、これを改善すべく、上記ステップＳ１からＳ４の処理を繰り返す。
一方、ステップＳ４において、膜厚および膜形状が均一であると判断された場合は、炉１０内の排気の流れが均一となったので、この状態を維持すべく、コンダクタンスバルブ１２１，１２２の開度を固定する（ステップＳ５）。
【００３８】
その後、ステップＳ５で固定したコンダクタンスバルブ１２１，１２２など状態のままで、基板５０を順次取り替えながら乾燥処理を繰り返す。この各乾燥処理では、炉１０内の排気の流れが均一となっているので、各基板５０の薄膜６１，６２の膜厚および膜形状が精密に均一となるように乾燥および硬化させることができる。
【００３９】
また、上記の乾燥処理を繰り返しながら、炉１０内の圧力（真空度）を圧力計１４１で検出する（ステップＳ６）。
複数回連続して乾燥処理を行うと、炉１０内の残留蒸気成分の濃度が徐々に増加していく。そこで、圧力調整バルブ１３１およびコンダクタンスバルブ１２１，１２２の開度が一定のまま乾燥処理を繰り返していくと、各乾燥処理で炉１０内を所定値の真空度に到達させるまでに要する時間が徐々に長くなる。このように各乾燥処理で排気のプロファイル（排気開始からの経過時間と炉内の圧力変化値との関係）が異なることとなると、各乾燥処理間すなわち各バッチの基板５０間で比較したときに、薄膜６１，６２の膜厚および膜形状が不均一になってしまう。例えば第１バッチの基板５０の薄膜６１，６２よりも第１０バッチの基板５０の薄膜６１，６２の方が膜厚が大きくなり膜形状も大きくなるというようなバッチ間のバラツキが生じる可能性がある。
【００４０】
そこで、ステップＳ６で検出された炉１０内の圧力に基づいて、圧力調整バルブ１３１の開度を調節する。この圧力調整バルブ１３１の調節は、人手で行ってもよいが、上記圧力調整バルブ制御手段によってオンラインでフィードバック制御することが好ましい。また、この圧力調整バルブ１３１の調節は、プロファイル一定化手段（図示せず）によって各バッチの各乾燥処理間で上記排気のプロファイルが同一となるように行う（ステップＳ７）。
【００４１】
このように、圧力調整バルブ１３１を調節することにより、各バッチすなわち各乾燥処理のプロファイルを一定にすることができ、各バッチの基板５０に形成された薄膜６１，６２の膜厚および膜形状が常に同一となるように、かつ常に均一となるように乾燥および硬化させることができる。
【００４２】
これらにより、本実施形態の減圧乾燥装置１によれば、複数本の粗引き排気ライン１０１，１０２を備え、各粗引き排気ライン１０１，１０２がコンダクタンスバルブ１２１，１２２を備えているので、炉１０内における排気の流れを精密に均一化することができる。特に、炉１０内における排気の偏った流れが膜厚および膜形状の均一性に影響を与える度合いは、排気の初期段階（低真空度領域）ほど高い。本実施形態の減圧乾燥装置１は、排気の初期段階からその後に乾燥処理を繰り返し行った時まで、常に炉１０内における排気の流れを精密に均一化することができる。したがって、基板５０に形成された薄膜６１，６２について、膜厚および膜形状についてバラツキを生じさせることなく均一に乾燥することができる。
【００４３】
また、本実施形態の減圧乾燥装置１では、本引き排気ライン１１１を１本として、この本引き排気ライン１１１よりも細い粗引き排気ライン１０１，１０２を複数本とするので、本引き排気ライン１１１を複数本設ける場合に比べて、装置の排気系の製造コストを低減しながら性能は同等とすることができる。
【００４４】
また、本実施形態の減圧乾燥装置１によれば、乾燥処理後の薄膜６１，６２の膜厚および膜形状を膜厚モニタ１１によって精密に検出し、その検出値に基づいてコンダクタンスバルブを制御するので、より精密に、炉１０内における排気の流れを均一化することができる。
【００４５】
さらに、本実施形態の減圧乾燥装置１によれば、炉１０内の圧力に基づいて圧力調整バルブ１３１を調節するので、複数のバッチの基板５０について乾燥処理を連続して行った場合でも、各バッチの排気のプロファイルを常に一定にすることができる。したがって、各バッチの基板５０の膜厚および膜形状が同一となるように、かつ均一となるように乾燥させることができる。
【００４６】
（電気光学装置）
次に、上記実施形態の減圧乾燥装置１を用いて製造される電気光学装置の一例について図３から図５を参照して説明する。本実施形態では、電気光学装置の一例としてＥＬ装置を挙げて説明する。図３は、本発明の実施形態に係るＥＬ装置の製造工程を示す主要断面図である。
【００４７】
図３（ｄ）に示すように、ＥＬ装置２０１は、透明基板２０４上に画素電極２０２を形成し、各画素電極２０２間にバンク２０５を矢印Ｇ方向から見て格子状に形成する。それらの格子状凹部の中に、正孔注入層２２０を形成し、矢印Ｇ方向から見てストライプ配列などといった所定の配列となるようにＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３ＧおよびＢ色発光層２０３Ｂを各格子状凹部の中に形成する。さらに、それらの上に対向電極２１３を形成することによってＥＬ装置２０１が形成される。
【００４８】
上記画素電極２０２をＴＦＤ（Thin Film Diode:薄膜ダイオード）素子などといった２端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成される。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ）などといった３端子型のアクティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１３は単一な面電極として形成される。
【００４９】
各画素電極２０２と各対向電極２１３とによって挟まれる領域が１つの絵素ピクセルとなり、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色の絵素ピクセルが１つのユニットとなって１つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望するものを選択的に発光させ、これにより、矢印Ｈ方向に希望するフルカラー像を表示することができる。
【００５０】
上記ＥＬ装置２０１は、例えば、次に示す製造方法によって製造される。すなわち、図３（ａ）のように、透明基板２０４の表面にＴＦＤ素子又はＴＦＴ素子といった能動素子を形成し、さらに画素電極２０２を形成する。形成方法としては、例えばフォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッタリング法、パイロゾル法などを用いることができる。画素電極２０２の材料としてはＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）、酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物などを用いることができる。
【００５１】
次に、図３（ａ）に示すように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターンニング手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成し、このバンク２０５によって各透明な画素電極２０２の間を埋める。これにより、コントラストの向上、発光材料の混色の防止、画素と画素との間からの光漏れなどを防止することができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ発光材料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりテフロン（登録商標）化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミドなどといった有機材料が好ましい。
【００５２】
次に、機能性液状体としての正孔注入層用インクを塗布する直前に、透明基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行う。これにより、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水化され、液滴を微細にパターニングするための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置でも、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いることができる。
【００５３】
次に、図３（ａ）に示すように、正孔注入層用インク８を液滴吐出装置のインクジェットヘッド２２のノズル２７から吐出することにより、各画素電極２０２の上にパターニング塗布を行う。
その塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除去する。この溶媒の除去に、図１および図２に示す減圧乾燥装置１を用いる。この後、大気中、２０℃（ホットプレート上）、１０分の熱処理により、発光層用インクと相溶しない正孔注入層２２０を形成する。上記条件では、膜厚は４０ｎｍであった。上記のように、減圧乾燥装置１を用いて正孔注入層用インクの溶媒を除去したので、各画素内および画素間での正孔注入層２２０の膜厚および膜形状が精密に均一にすることができる。
【００５４】
次に、図３（ｂ）に示すように、各フィルタエレメント形成領域内の正孔注入層２２０の上に液滴吐出手法を用いて機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＲ発光層用インクおよび機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＧ発光層用インクを塗布する。ここでも、各発光層用インクは、液滴吐出装置のインクジェットヘッド２２のノズル８から吐出させる。このインクジェット方式によれば、微細なパターニングを高精細に、簡便にかつ短時間に行うことができる。また、インク組成物の固形分濃度および吐出量を変えることにより膜厚を変えることが可能である。
【００５５】
発光層用インクの塗布後、真空（１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分などという条件で溶媒を除去する。この溶媒の除去に、図１および図２に示す減圧乾燥装置１を用いる。続けて、窒素雰囲気中、１５０℃、４時間の熱処理により共役化させてＲ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇを形成する。上記条件により、膜厚は５０ｎｍであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に不溶である。上記のように、減圧乾燥装置１を用いて発光層用インクの溶媒を除去したので、各画素内および画素間でのＲ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇの膜厚および膜形状が精密に均一にすることができる。
【００５６】
なお、発光層を形成する前に正孔注入層２２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行ってもよい。これにより、正孔注入層２２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率の高いＥＬ装置を提供できる。
【００５７】
次に、図３（ｃ）に示すように、機能性液状体であるＥＬ発光材料としてのＢ色発光層２０３Ｂを各絵素ピクセル内のＲ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇおよび正孔注入層２２０の上に重ねて形成する。この形成においても、図１および図２に示す減圧乾燥装置１を用いる。これにより、各画素内および画素間でのＢ色発光層２０３Ｂの膜厚および膜形状が精密に均一にすることができる。
また、これにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平坦化することができる。これにより、上下電極間のショートを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの膜厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造において、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しない。
【００５８】
以上のようなＢ色発光層２０３Ｂの形成方法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート法を採用することもできるし、あるいは、Ｒ色発光層２０３ＲおよびＧ色発光層２０３Ｇの形成法と同様のインクジェット法を採用することもできる。
【００５９】
その後、図３（ｄ）に示すように、対向電極２１３を形成することにより、目標とするＥＬ装置２０１が製造される。対向電極２１３はそれが面電極である場合には、例えば、Ｍｇ、Ａｇ、Ａｌ、Ｌｉなどを材料として、蒸着法、スパッタ法などといった成膜法を用いて形成できる。また、対向電極２１３がストライプ状電極である場合には、成膜された電極層をフォトリソグラフィー法などといったパターニング手法を用いて形成できる。
【００６０】
以上に説明したＥＬ装置２０１の製造方法によれば、図１および図２に示す減圧乾燥装置１を用いて正孔注入層２２０、Ｒ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３ＧおよびＢ色発光層２０３Ｂを形成するので、各画素内および画素間での正孔注入層２２０、Ｒ色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３ＧおよびＢ色発光層２０３Ｂの膜厚および膜形状を精密に均一にすることができる。したがって、以上の製造方法で製造されたＥＬ装置２０１は、ＥＬ装置２０１における全ての画素での発光が均一となり、装置全体について発光ムラを大幅に低減することができる。
【００６１】
次に、本実施形態のＥＬ装置の回路構成について図４および図５を参照して説明する。図４は、図３に示す製造方法で製造されたＥＬ装置を構成要素とした表示装置の一部を示す回路図である。図５は図４に示す表示装置における画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
【００６２】
図４において、表示装置５０１はＥＬ装置であるＥＬ表示素子を用いたアクティブマトリックス型の表示装置である。この表示装置５０１は、基板である透明の表示基板５０２上に、複数の走査線５０３と、これら走査線５０３に対して交差する方向に延びる複数の信号線５０４と、これら信号線５０４に並列に延びる複数の共通給電線５０５とがそれぞれ配線された構成を有している。そして、走査線５０３と信号線５０４との各交点には、画素領域５０１Ａが設けられている。
【００６３】
信号線５０４に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを有したデータ側駆動回路５０７が設けられている。また、走査線５０３に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを有した走査側駆動回路５０８が設けられている。そして、画素領域５０１Ａのそれぞれには、走査線５０３を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング薄膜トランジスタ５０９と、このスイッチング薄膜トランジスタ５０９を介して信号線５０４から供給される画像信号を蓄積して保持する蓄積容量ｃａｐと、この蓄積容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給されるカレント薄膜トランジスタ５１０と、このカレント薄膜トランジスタ５１０を介して共通給電線５０５に電気的に接続したときに共通給電線５０５から駆動電流が流れ込む画素電極５１１と、この画素電極５１１および反射電極５１２間に挟み込まれる発光素子５１３とが設けられている。
【００６４】
この構成により、走査線５０３が駆動されてスイッチング薄膜トランジスタ５０９がオンすると、その時の信号線５０４の電位が蓄積容量ｃａｐに保持される。この蓄積容量ｃａｐの状態に応じて、カレント薄膜トランジスタ５１０のオン・オフ状態が決まる。そして、カレント薄膜トランジスタ５１０のチャネルを介して、共通給電線５０５から画素電極５１１に電流が流れ、さらに発光素子５１３を通じて反射電極５１２に電流が流れる。このことにより、発光素子５１３は、これを流れる電流量に応じて発光する。
【００６５】
ここで、画素領域５０１Ａは、反射電極５１２および発光素子５１３を取り除いた状態の表示装置５０１の拡大平面図である図５に示すように、平面状態が長方形の画素電極５１１の４辺が、信号線５０４、共通給電線５０５、走査線５０３および図示しない他の画素電極５１１用の走査線５０３によって囲まれた配置となっている。
【００６６】
このような構成の表示装置５０１は、図１および図２に示す減圧乾燥装置１を用いて発光素子５１３を形成しているので、各発光素子５１３について膜厚および膜形状を均一にすることができ、表示面全体について発光ムラを大幅に低減させた鮮明なカラー表示を得ることができる。
【００６７】
（電子機器）
次に、上記実施形態の電気光学装置を備えた電子機器について説明する。
図６（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図６（ａ）において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。図６（ｂ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図６（ｂ）において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。図６（ｃ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図６（ｃ）において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記実施形態の電気光学装置からなる表示部を示している。
【００６８】
図６に示す電子機器は、図１および図２に示す減圧乾燥装置１を用いて製造されているので、発光ムラが従来よりも少なく高品質な画像を表示することができる。
【００６９】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。例えば、上記実施形態では電気光学装置の一例としてＥＬ装置を挙げているが、本発明はこれに限定されるものではなく、プラズマディスプレイ装置、液晶装置などの各種電気光学装置に本発明を適用でき、カラーフィルタの製造などに本発明を適用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の実施形態に係る減圧乾燥装置の主要構成を示す模式図である。
【図２】本発明の実施形態に係る減圧乾燥装置の動作を示すフローチャートである。
【図３】本発明の実施形態に係る電気光学装置の製造工程を示す主要断面図である。
【図４】同上の電気光学装置を構成要素とした表示装置の一部を示す回路図である。
【図５】同上表示装置の画素領域の平面構造を示す拡大平面図である。
【図６】同上の表示装置を備えた電子機器を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００７１】
１…減圧乾燥装置、１０…炉、１１…膜厚モニタ、５０…基板、６１，６２…薄膜、１０１，１０２…粗引き排気ライン、１１１…本引き排気ライン、１２１，１２２…コンダクタンスバルブ、１３１…圧力調整バルブ、１４１…圧力計
【図１】
2005172316.tif 000003
【図２】
2005172316.tif 000004
【図３】
2005172316.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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