(57)【要約】 【課題】  従来の製造工程の欠点を克服できるプラズマディスプレイパネルの製造システムと方法を提供する。【解決手段】  複数のディスプレイセルを含むプラズマディスプレイの製造のためのプロセスチャンバーであって、ベースプレート、第一シール部材によって前記ベースプレートに接合することができ、内部空洞が前記ベースプレートとその間に形成されるガス配給プレート、および前記ガス配給プレートの開口に取り付けられ、前記内部空洞に設置された前記プラズマディスプレイパネルアセンブリの複数のディスプレイセルに混合ガスを封入するように構成されたガスフローチューブを含むプロセスチャンバーとした。【選択図】  図２Ｅ
2005197245.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のディスプレイセルを含むプラズマディスプレイの製造のためのプロセスチャンバーであって、
ベースプレートと、
前記ベースプレートに第一シール部材によって接合できるとともに、前記ベースプレートとの間に空洞を形成するガス配給プレートと、
前記ガス配給プレートの開口に取り付けられ、前記空洞に配置された前記プラズマディスプレイパネルアセンブリの複数のディスプレイセルに混合ガスを封入するように構成されたガスフローチューブとを備えることを特徴とするプロセスチャンバー。
【請求項２】
前記混合ガスは、前記プラズマディスプレイパネルアセンブリの側面を通過して前記複数のディスプレイセルの中に流入するようにされた請求項１に記載のプロセスチャンバー。
【請求項３】
前記ガスフローチューブは、ガラスを含む材料からなる請求項１に記載のプロセスチャンバー。
【請求項４】
前記第一シール部材は、前記プロセスチャンバーが第一密封温度に加熱されると、前記ベースプレートとガス配給プレートとの間の前記空洞を密封するように構成されるたものである請求項１に記載のプロセスチャンバー。
【請求項５】
前記第一シール部材は、結晶のシール材料からなる請求項４に記載のプロセスチャンバー。
【請求項６】
前記第一シール部材は、Ｏリングからなり、前記ベースプレートとガス配給プレートの間の前記空洞を密封する請求項１に記載のプロセスチャンバー。
【請求項７】
前記ベースプレートとガス配給プレートの少なくとも一つは、ガラスを含む材料からなる請求項１に記載のプロセスチャンバー。
【請求項８】
前記ガスフローチューブに接続され、前記複数のディスプレイセルからガスの不純物を取り除くためのバキューム装置を更に含む請求項１に記載のプロセスチャンバー。
【請求項９】
前記プラズマディスプレイパネルアセンブリは、
前面基板と、
第二シール部材によって前記前面基板に接合することができる背面基板と、
前記前面基板と前記背面基板の間に形成され、隔壁によって区切られ、発光層を含み、少なくとも一色を発光するように構成された複数のディスプレイセルとを備え、
前記第二シール部材は、前記プロセスチャンバーが第二密封温度に加熱されると、前記前面と背面基板を密封する請求項１に記載のプロセスチャンバー。
【請求項１０】
プラズマディスプレイパネルアセンブリの複数のディスプレイセルに混合ガスを封入し、プラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、
プロセスチャンバーの空洞にプラズマディスプレイパネルアセンブリを設置するステップ、
前記プロセスチャンバーの前記空洞に前記混合ガスを封入するステップ、
前記プロセスチャンバーの前記空洞の中の前記プラズマディスプレイパネルアセンブリを密封するステップ、
前記プロセスチャンバーの前記空洞から前記プラズマディスプレイパネルアセンブリを取り除くステップを含む工程により、混合ガスを封入することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】
前記プロセスチャンバーの前記空洞の中に前記プラズマディスプレイパネルアセンブリを設置するステップは、
前記ベースとベースプレートの間にプラズマディスプレイパネルアセンブリを設置するステップ、
第一シール部材を用いて、ベースプレートとガス配給プレートを接合し、前記プロセスチャンバーの前記空洞を形成するステップ、および
前記ベースプレートと分布プレートの間の前記空洞を密封するステップを更に含む請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】
前記第一シール部材は、Ｏリングからなる請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１３】
前記第一シール部材は、結晶のシール材料からなり、前記空洞は、前記プロセスチャンバーを第一密封温度に熱することによって密封される請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記プラズマディスプレイパネルアセンブリの前面基板と背面基板は、第二シール部材によって一緒に接合され、
前記第二シール部材は、前記プロセスチャンバーが第二密封温度に加熱されると、前記前面と背面基板を密封するように構成され、且つ、
前記第二密封温度は、前記第一密封温度より大きい請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記混合ガスは、前記プラズマディスプレイパネルアセンブリの側面を通過して、前記プラズマディスプレイパネルアセンブリの前記前面基板と前記背面基板との間の、複数のディスプレイセル中に流入する請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記プロセスチャンバーの前記空洞に前記混合ガスを封入する前に、前記プラズマディスプレイパネルアセンブリからガスの不純物を実質的に排出するステップを更に含む請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】
前記混合ガスは、キセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）、およびヘリウム（Ｈｅ）からなるグループから選択される少なくとも一つの不活性ガスを含む請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】
前面基板と、
前記前面基板に接合される背面基板、および
前記前面基板と前記背面基板の間に形成され、隔壁によって区切られた、発光層を含む、少なくとも一色を発光するようにされた複数のディスプレイセルを備えるとともに、
前記前面基板と前記背面基板とは、実質的に平面で、前記プラズマディスプレイパネルに混合ガスを封入したチューブが残す突起を含まないプラズマディスプレイパネル。
【請求項１９】
前記前面基板と前記背面基板とがシール部材により密封されたものである請求項１８に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項２０】
前記前面基板と前記背面基板との密封空間には、キセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）、およびヘリウム（Ｈｅ）からなるグループから選択される少なくとも一つの不活性ガスを含む混合ガスが充満されたものである請求項１８に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに関し、特に、プラズマディスプレイパネル製造用のプロセスチャンバーとそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、プラズマディスプレイパネルは、大型スクリーンディスプレイとして用いられる。特に、プラズマディスプレイパネルは、フラット画面で、ブラウン管ディスプレイ装置に比べ、より良い画像品質を提供する。このプラズマディスプレイパネルは、放電ガスで封入されたディスプレイセルを含むものである。各ディスプレイセルは、通常、リンから作られる材料でできた発光層でコーティングされる。プラズマディスプレイパネルに画像を映し出すめに、電気バイアスが供給され、一つ、または一つ以上のディスプレイセルを選ぶことが行われる。電気バイアスを受けて、選択されたディスプレイセル中の放電ガスは、紫外光を放射する。紫外光が選択されたディスプレイセルの発光層に衝突した時、その発光層は、カラーの可視光を発生する。この可視光の色は、発光層のリンから作られる材料の成分によって決まる。
【０００３】
図１Ａ−１Ｅは、プラズマディスプレイパネル１００の従来の製造プロセスを示している。図１Ａに示すように、プラズマディスプレイパネル１００は、前面基板１１０と背面基板１１２が接合して空間１２０を形成する２つのガラス基板を備えている。チューブ１３４は、シール材料１４４ａのビーズを用いて背面基板１１２に取り付けられる。バキュームノズル１３２は、空間１２０から不純物を排出し、空間１２０に放電ガスを封入するように構成されている。また、図１Ｂに示すように、ディスプレイセル１１４は、空間１２０の中に形成される。ディスプレイセル１１４は、隔壁１１６によって区切られる。各ディスプレイセル１１４には、リンから作られる材料でできた発光層１１８が含まれている。発光層１１８は、発光の特定色に対応する。
【０００４】
背面基板１１２は、チューブ１３４の下に開口１１５を含む。前面基板１１０と背面基板１１２は、シール材料１４２ａのビーズを用いて接合される。一般的に、シール材料１４２ａと１４４ａは、ガラスフリットと有機樹脂の混合からなる。シール材料１４２ａと１４４ａは、加熱され、ガラスフリットを溶かし、有機樹脂を燃焼する。加熱後、シール材料１４２ａと１４４ａのビーズは、図１Ｃに示されるように、それぞれ不透性シール１４２ｂと１４４ｂに変えられる。
【０００５】
図１Ｄに示されるように、放電ガスにより紫外光が効果的に発光できるようにするため、不要なガスの不純物は、予め、バキュームポンプ（未表示）を用いて、チューブ１３４によって空間１２０から取り除かれる。放電ガスは、全ての不純物が取り除かれてなければならない。図１Ｅを参照下さい。空間１２０からガスの不純物を取り除いた後、放電ガスがチューブ１３４を通して空間１２０に封入される。図１Ｆに示すように、空間１２０が望ましい量の放電ガスで充満された時、チューブ１３４は密封されて、放電ガスの漏れを防止する。一般的に、チューブ１３４は溶解プロセスにより切断されるもので、チューブ１３４を密封している間に、バキュームノズル１３２からチューブ１３４を切断する。これにより、プラズマディスプレイパネル１００は、一般的に、背面基板１１２の上に突出した先端１３６を有した状態となる。突出した先端１３６は、切断したチューブ１３４の残った部分である。
【０００６】
図１Ｇは、プラズマディスプレイパネル１００の製造プロセス中の温度変化を示す温度グラフである。まず、プラズマディスプレイパネル１００の温度は、前面基板１１０と背面基板１１２の間の不透性シール１４４ｂを形成する時間ｔ１の間に、温度Ｔ１まで上昇する。不透性シール１４４ｂが形成された後、プラズマディスプレイパネル１００の温度は、温度Ｔ２まで低下する。続いて、時間ｔ２の間に、ガスの排気が行われ、空間１２０から不純物が取り除かれる。そして、温度が低下して、空間１２０の放電ガスを封入するものである。
【０００７】
プラズマディスプレイパネル１００は、突出したチューブの先端１３６を有するため、プラズマディスプレイパネル１００の搬送中にダメージを受ける可能性がある。更に、空間１２０からガスの不純物を抜くために必要な時間は、ガスの不純物を開口１１５から排出しなければならないことから、一般的に長時間となり、一定でないことが多い。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、以上のような事情のもとになされたものであり、上記した従来の製造工程の欠点を克服できるプラズマディスプレイパネルの製造用のプロセスチャンバーとそれを用いた製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願は、突出したチューブの無い、実質的に平面となるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提案するものである。本願発明に係るプラズマディスプレイパネルは、前面基板と背面基板との間に複数のディスプレイセルを含むもので、各ディスプレイセルは、発光層を含む。このディスプレイセルは、前面基板と背面基板とが一緒に密封される前に放電ガスで封入される。
【００１０】
具体的には、複数のディスプレイセルは、プロセスチャンバーに形成された空洞に、前面基板と背面基板を含むプラズマディスプレイパネルアセンブリを設置することによって放電ガスで封入される。プロセスチャンバーは、プラズマディスプレイパネルアセンブリが空洞の中に設置された後、空洞が密封される。続いて、プロセスチャンバーの空洞には放電ガスが導入され、その放電ガスはプラズマディスプレイパネルアセンブリの側面を通過して、各ディスプレイセルの中に流入する。そして、ディスプレイセルが放電ガスで封入された後、前面基板と背面基板とは、プロセスチャンバーの空洞の中で密封され、その後に、プラズマディスプレイパネルアセンブリは、プロセスチャンバーから取り除かれる。
【００１１】
この本願発明におけるプラズマディスプレイパネルの製造方法では、ベースプレートとガス配給プレートを含むプロセスチャンバーを用いる。このプロセスチャンバーは、第一シール部材によってベースプレートとガス配給プレートとが接合されることにより空洞を形成するものである。また、空洞の中にプラズマディスプレイパネルアセンブリが設置された後にベースプレートとガス配給プレートとが接合され、空洞に放電ガスを配給される前に、この空洞は、プラズマディスプレイパネルアセンブリと一緒に密封される。
【００１２】
本願発明におけるプロセスチャンバーの備えた第一シール部材は、プロセスチャンバーが第一密封温度に加熱されると、ベースプレートとガス配給プレートとの間の空洞を密封するように構成されるものであることが好ましく、その材質としては結晶のシール材料であることが望ましい。
【００１３】
そして、ガス配給プレートは、プロセスチャンバーの空洞中に放電ガスを注入するための注入口を備えている。その注入口には、好ましくはガラスを含む材料からなる、ガスフローチューブが接続されている。また、ベースプレートとガス配給プレートとは、ガラスを含む材料からなるものが好ましい。
【００１４】
前記ガスフローチューブには、複数のディスプレイセルから、ガスの不純物を取り除くためのバキューム装置が接続されていることが好ましい。混合ガスは、プラズマディスプレイパネルアセンブリの側面を通過して複数のディスプレイセルの中に流入するようにされることが好ましく、この混合ガスとしては、キセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）、およびヘリウム（Ｈｅ）からなるグループから選択される少なくとも一つの不活性ガスを含むものが望ましい。
【００１５】
このプロセツチャンバーに設置されるプラズマディスプレイパネルアセンブリは、前面基板と背面基板とを接合する第二シール部材を有していることが望ましい。この第二シール部材は、第一密封温度より高い温度である第二密封温度にプロセスチャンバーが加熱されると、前記前面と背面基板を密封するように構成されたものであることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ガスの不純物をプラズマディスプレイパネルの側面から排出でき、側面からディスプレイセルへ放電ガスを封入できることから、従来の製造プロセスより、より効率的に素早く行えるため、発光層から、より向上された発光を生じさせることが可能となる。また、本発明に係るのプロセスチャンバーを用いて製造されたプラズマディスプレイパネルは、実質的に平らな背面基板を有し、チューブの突出もないため、搬送中にダメージを受ける可能性がなくなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明についての目的、特徴、長所が一層明確に理解されるよう、以下に実施形態を例示し、図面を参照にしながら、詳細に説明する。
【実施例】
【００１８】
図２Ａは、プラズマディスプレイパネル２７０を製造するプロセスチャンバー２００を示している。プロセスチャンバー２００は、ベースプレート２１０とガス配給プレート２２０を含む。ベースプレート２１０とガス配給プレート２２０は、ガラス材料でできている。ガス配給プレート２２０は、開口２１５を含む。ベースプレート２１０とガス配給プレート２２０は、シール材料２２５ａによって一緒に接合され、空洞２１３を形成する。シール材料２２５ａは、先ず、シール材料のビーズとして設置される。本例では、シール材料２２５ａは、結晶のシール材料からなり、それが密封温度に熱され、シーリングを不浸透性にする。ガスフローチューブ２３０は、ガス配給プレート２２０の開口２１５に取り付けられる。ガスフローチューブ２３０は、ガラスからなることができる。バキュームノズル２４０は、ガスフローチューブ２３０に接合される。バキュームノズル２４０は、放電ガスを提供するガス供給装置（未表示）とプロセスチャンバー２００からガスの不純物を取り除くガスポンプ装置（未表示）に接続することができる。
【００１９】
プラズマディスプレイパネル２７０のアセンブリは、空洞２１３の中に設置される。プラズマディスプレイパネル２７０のアセンブリは、背面基板２５０と前面基板２６０を備えている。背面基板２５０と前面基板２６０は、シール材料２５２ａで一緒に接合される。本例では、シール材料２５２ａは、結晶のシール材料からなり、それが密封温度に熱され、シーリングを不浸透性にする。シール材料２５２ａの密封温度は、シール材料２２５ａの密封温度より高い。ディスプレイセル２５５は、背面基板２５０と前面基板２６０の間に形成される。ディスプレイセル２５５は、隔壁２５６によって区切られている。各ディスプレイセル２５５は、リンから作られる材料でできた発光層２５７を含む。シール材料２５２ａは、ディスプレイセル２５５を囲む領域の周りに設置される。シール材料２５２ａは、密封温度に熱され、二つのプレート間のシーリングを不浸透性にする。
【００２０】
図２Ｂは、プロセスチャンバー２００の２つのプレートの間に形成された密封を示している。初めに、ベースプレート２１０とガス配給プレート２２０に接合されたシール材料２２５ａのビーズは、それの密封温度に熱され、不透性シール２２５ｂを作る。不透性シール２２５ｂは、空洞２１３を密封する。シール材料２５２ａの密封温度がシール材料２２５ａの密封温度より高いことから、シール材料２５２ａは、変化しない。尚、具体的な結晶型のシール材料であって比較的低温のものとしては、ＡＳＡＨＩ社製Ｎｏ．７５９０（密封温度４４０℃，軟化点温度３７０℃）、Ｎｏ．Ｔ７５９（密封温度４３０℃、軟化点温度３５５℃）、Ｎｏ．ＣＬ−２３（密封温度４３０℃、軟化点温度３４２℃）等がある。また、比較的高温のものとしては、ＮＥＧ社製Ｎｏ．ＧＡ−０９６３（密封温度４８０℃，軟化点温度４４０℃）、ＣＯＲＩＮＧ社製Ｎｏ．７５７０（密封温度４７０℃，軟化点温度４４７℃）等がある。
【００２１】
図２Ｃは、プラズマディスプレイパネル２７０の２つの基板の間に形成されたディスプレイセルからのガスの不純物を排出するプロセスを示している。ガスポンプ（未表示）は、ガラスチューブ２３０を通してディスプレイセル２５５からのガスの不純物を取り除く。プラズマディスプレイパネル２７０の背面基板２５０と前面基板２６０が一緒に密封されないことから、より多くのガスの不純物がプラズマディスプレイパネル２７０の側面から排出することができ、発光層２５７からの向上された発光を生じさせる。ガスの不純物の排出は、従来の製造プロセスより、より効果的で速く達成される。
【００２２】
図２Ｄは、プラズマディスプレイパネル２７０のディスプレイセルに放電ガスを封入するプロセスを示している。放電ガスは、キセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）、またはヘリウム（Ｈｅ）を含む不活性ガスの混合ガスであることができる。ガスの不純物がディスプレイセル２５５から取り除かれた後、放電ガスは、ガスチューブ２３０を通してディスプレイセル２５５の中に封入される。プラズマディスプレイパネル２７０の背面基板２５０と前面基板２６０が一緒に密封されないことから、放電ガスは、プロセスチャンバー２００の中でプラズマディスプレイパネル２７０の側面からディスプレイセル２５５の中へ流れる。ディスプレイセル２５５は、放電ガスが封入され、従来のプラズマディスプレイの製造プロセスより速く、より効果的になる。
【００２３】
図２Ｅは、プラズマディスプレイパネル２７０の背面基板２５０と前面基板２６０の間の密封を形成するプロセスを示している。ディスプレイセル２５５が放電ガスで封入された後、プロセスチャンバー２００は、シール材料２５２ａの密封温度に熱され、プラズマディスプレイパネル２７０の基板を密封する。
【００２４】
図２Ｆは、突出したチューブ先端なしで製造されたプラズマディスプレイパネル２７０を示している。プロセスチャンバー２００の中の温度がシール材料２５２ａの密封温度に達した時、シール材料２５２ａは、不透性シール２５２ｂに変えられ、放電ガスをディスプレイセル２５５内に密封して閉じ込める。プラズマディスプレイパネル２７０の前面と背面基板が一緒に密封された後、プラズマディスプレイパネル２７０は、プロセスチャンバー２００から取り出すことができる。基板２５０と２６０は、チューブ、管状部、ガスチャネル、または相当する構造がない。プラズマディスプレイパネル２７０は、実質的に平らな背面を有し、チューブ状の突出がない。
【００２５】
図２Ｇは、プラズマディスプレイパネル２７０の製造中のプロセスチャンバー２００の温度を示す温度グラフである。初めに、プロセスチャンバーは、時間ｔ１の間、温度ＴＡＳに熱され、これは、プロセスチャンバー２００のシール材料２２５ａの密封温度である。温度ＴＡＳは、シール材料の成分に基づいたシール材料２２５ａの製造によって決めることができる。シール材料２２５ａが不透性シール２５２ｂに変えられた後、プロセスチャンバーの温度は、時間ｔ２の間、封入温度ＴＥに下げられる。
【００２６】
プロセスチャンバーの温度が封入温度ＴＥに達した時、ガスの不純物は、プロセスチャンバー２００から取り除かれ、放電ガスは、ディスプレイセル２５５の中に封入される。封入温度ＴＥは、ディスプレイセルに用いられる放電混合ガスの性質に基づいて決めることができる。ディスプレイセルが放電ガスで封入された後、プロセスチャンバー２００は、時間ｔ３の間、温度ＴＢＳに熱され、これは、シール材料２５２ａの密封温度である。シール材料２５２ａは、プラズマディスプレイパネル２７０の背面基板２５０と前面基板２６０を密封するために用いられる。密封温度ＴＢＳは、シール材料２５２ａの成分に基づいたシール材料２５２ａの製造によって決めることができる。シール材料２５２ａが不透性シール２５２ｂに変えられた後、プロセスチャンバーの温度は、周囲温度ＲＴに下げられ、プラズマディスプレイパネル２７０は、プロセスチャンバー２００から取り出される。
【００２７】
図２Ｇは、プラズマディスプレイパネル２７０の製造中のプロセスチャンバー２００の内部圧力を示す圧力グラフである。ディスプレイセル２５５が実質的に放電ガスで封入された時、プロセスチャンバー２００の内部圧力は、既定の圧力Ｐｇａｓに達する。シール材料２５２ａが不透性シール２５２ｂに変えられ、プロセスチャンバー２００の温度が周囲温度ＲＴに達した後、プロセスチャンバーの内部圧力は、圧力Ｐ２に正常化する。圧力Ｐｇａｓは、例えば、プラズマディスプレイパネル２７０のサイズ、プラズマディスプレイパネル２７０の中のディスプレイセル２５５の数、放電ガスに用いられる混合ガスのタイプなどの各種の要因に基づいて決めることができる。
【００２８】
図３は、プロセスチャンバー３００の２つのプレートの間を交互に密封する方法を用いたプラズマディスプレイパネルを製造するプロセスチャンバーを示している。プロセスチャンバー３００は、ベースプレート３１０とガス配給プレート３１２を含む。ベースプレート３１０とガス配給プレート３１２は、ガラスからなることができる。ガス配給プレート３１２は、開口３１５を含む。ベースプレート３１０とガス配給プレート３１２は、シール材料３１４によって一緒に接合され、空洞３１６を形成する。プラズマディスプレイパネル３７０は、空洞３１６の中に設置される。プラズマディスプレイパネル３７０は、シール材料３２５で一緒に接合された前面基板３３０と背面基板３２０を含む。前面基板３３０と背面基板３２０は、ディスプレイセル３５５を形成する。各ディスプレイセルは、発光層３５７を含む。
【００２９】
本例では、シール材料３１４は、Ｏリング型留め具で、ベースプレート３１０とガス配給プレート３１２を望ましく固定、または切り離すことができる。シール材料３１４は、再利用可能である。再利用可能なシール材料３１４は、各プラズマディスプレイパネルのガス封入プロセス中に、シール材料３１４の蒸着と加熱が必要とされないことから、シンプルで経済的な製造プロセスとなる。
【００３０】
図４は、プラズマディスプレイパネルの製造プロセス中、模範的に行われるステップの順序を示す流れ図である。例示の目的のために、各種のステップが特定の順序で説明されるが、これに伴うシステム要素に対応する時、これらのステップは、直列または、並列のどの順序でも行うことができる。初めに、プラズマディスプレイパネルアセンブリは、プロセスチャンバー（４１０）に設置される。プロセスチャンバーは、前述のように、ベースプレートとガス配給プレートのための各種のタイプのシーリング方法を含むことができる。次に、プロセスチャンバーのプレートがシーリングを必要かどうか、決められる。仮に、プロセスチャンバーのプレートがシーリングを必要な場合、プレートは、例えば、プロセスチャンバーの内部温度を、プレートを接合するのに用いられるシール材料の密封温度に上げることによって密封される（４３０）。
【００３１】
仮に、プロセスチャンバーのプレートがシーリングを必要としない場合、プラズマディスプレイパネルからの不純物が排出される（４４０）。続いて、放電ガスがプラズマディスプレイパネルに封入される（４５０）。次に、プラズマディスプレイパネルが密封される（４６０）。プラズマディスプレイパネルは、例えば、プロセスチャンバーの内部温度を、プラズマディスプレイパネルの前面基板と背面基板を接合するのに用いられるシール材料の密封温度に上げることによって密封することができる。次に、プラズマディスプレイパネルは、プロセスチャンバーから取り除かれる（４７０）。ここで説明されたプロセスを用いて製造されたプラズマディスプレイパネルは、実質的に平らな背面基板を有し、チューブの突出がない。
【００３２】
以上、本発明の好適な実施例を例示したが、これは本発明を限定するものではなく、本発明の精神及び範囲を逸脱しない限りにおいては、当業者であれば行い得る少々の変更や修飾を付加することは可能である。従って、本発明が保護を請求する範囲は、特許請求の範囲を基準とする。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１Ａ】プラズマディスプレイパネルの従来の製造工程を示している。
【図１Ｂ】プラズマディスプレイパネルの従来の製造工程を示している。
【図１Ｃ】プラズマディスプレイパネルの従来の製造工程を示している。
【図１Ｄ】プラズマディスプレイパネルの従来の製造工程を示している。
【図１Ｅ】プラズマディスプレイパネルの従来の製造工程を示している。
【図１Ｆ】プラズマディスプレイパネルの従来の製造工程を示している。
【図１Ｇ】プラズマディスプレイパネルの従来の製造工程中の温度の変化を示す温度グラフである。
【図２Ａ】プラズマディスプレイパネルを製造するプロセスチャンバーを示している。
【図２Ｂ】プラズマディスプレイパネルを製造するプロセスチャンバーの２つのプレートの間に形成された不透性シールを示している。
【図２Ｃ】プラズマディスプレイパネルの２つの基板の間に形成されたディスプレイセルからのガスの不純物を排出するプロセスを示している。
【図２Ｄ】プラズマディスプレイパネルのディスプレイセルの中に放電ガスを封入するプロセスを示している。
【図２Ｅ】プラズマディスプレイパネルの２つの基板の間の密封を形成するプロセスを示している。
【図２Ｆ】突出したチューブ先端なしで製造されたプラズマディスプレイパネルを示している。
【図２Ｇ】プラズマディスプレイパネルの製造中のプロセスチャンバーの温度と内部圧力を示す温度と内部圧力グラフである。
【図３】プロセスチャンバーの２つのプレートの間を交互に密封する方法を用いたプラズマディスプレイパネルを製造するプロセスチャンバーを示している。
【図４】プラズマディスプレイパネルの製造プロセス中、行われる模範的に行われるステップの順序を示す流れ図である。
【符号の説明】
【００３４】
１００  プラズマディスプレイパネル
１１０  前面基板
１１２  背面基板
１１４  ディスプレイセル
１１５  開口
１２０  空間
１３２  バキュームノズル
１３４  チューブ
１３６  突出した先端
１４２ａ、１４４ａ  シール材料
１４２ｂ、１４４ｂ  不透性シール
２００  プロセスチャンバー
２１０  ベースプレート
２１３  空洞
２１５  開口
２２０  ガス配給プレート
２２５ａ、２５２ａ  シール材料
２３０  ガスフローチューブ
２４０  バキュームノズル
２５０  背面基板
２５５  ディスプレイセル
２５６  隔壁
２５７  発光層
２６０  前面基板
２７０  プラズマディスプレイパネル
３００  プロセスチャンバー
３１０  ベースプレート
３１２  ガス配給プレート
３１４  シール材料
３１５  開口
３１６  空洞
３２０  背面基板
３２５  シール材料
３３０  前面基板
３５５  ディスプレイセル
３５７  発光層
３７０  プラズマディスプレイパネル
【図１Ａ】
2005197245.tif 000003
【図１Ｂ】
2005197245.tif 000004
【図１Ｃ】
2005197245.tif 000005
【図１Ｄ】
2005197245.tif 000006
【図１Ｅ】
2005197245.tif 000007
【図１Ｆ】
2005197245.tif 000008
【図１Ｇ】
2005197245.tif 000009
【図２Ａ】
2005197245.tif 000010
【図２Ｂ】
2005197245.tif 000011
【図２Ｃ】
2005197245.tif 000012
【図２Ｄ】
2005197245.tif 000013
【図２Ｅ】
2005197245.tif 000014
【図２Ｆ】
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【図２Ｇ】
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【図３】
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【図４】
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