(57)【要約】 【課題】  バグフィルタにおいて用いられ、所定の物質を安定して分解することができ、排ガスの処理効率を向上させることができる排ガス処理体を提供する。【解決手段】  濾材２７を通過した排ガスは、排ガス処理体１の外周面４側から微小な空隙６に流入し、微小な空隙６を通過して内周面５側へ流れる。濾材２７を通過した排ガスに含まれる所定の物質７は、前記空隙６を通過することによって、所定の触媒７に接触して吸着され、所定の触媒７による分解反応によって分解される。排ガス処理体１は、外周面４および内周面５間に所定の厚みを有するので、排ガスが外周面４および内周面５間を通過する際に、排ガスが所定の触媒７に接触する面積を増加させることができ、さらに空隙６を微小とすることによって、排ガスを所定の触媒７に効率よく接触させることができ、所定の物質の分解率を向上させることができる。【選択図】      図１
2005246301.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排ガス通気路内に設置され、排ガスに含有される所定の物質を含む複数の微粒子状物質の一部を濾材によって除去するバグフィルタに用いられる排ガス処理体であって、
筒形状であって、外周面および内周面間に所定の厚みを有し、外周面および内周面間にわたって連通する微小な空隙が形成され、前記外周面が前記濾材によって外囲され、前記濾材を通過した排ガスが前記空隙を通過することによって、排ガスに含まれる複数の微粒子状物質の残部に含まれる所定の物質を分解する所定の触媒を有することを特徴とする排ガス処理体。
【請求項２】
環状の板状体と、軸線方向に対を成す前記板状体に連なり、周方向に間隔をあけて軸線方向に隣接する各板状体を連結するリブとを含んで構成されるハニカム構造を有し、前記ハニカム構造を構成する各板状体およびリブの外表面に所定の触媒が付着されて形成されることを特徴とする請求項１記載の排ガス処理体。
【請求項３】
螺旋状の索条体に所定の間隔で交互に折り返された帯状体が介在されて積層され、前記帯状体の外表面に所定の触媒が付着されて形成されることを特徴とする請求項１記載の排ガス処理体。
【請求項４】
ウール状部材を所定のかさ密度で筒形に形成し、前記ウール状部材の外表面に所定の触媒が付着されて形成されることを特徴とする請求項１記載の排ガス処理体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の排ガス処理体と、
排ガス処理体の外周面を外囲し、排ガスに含まれる複数の微粒子状物質の一部を取り除く濾材と、
内部空間に濾材および排ガス処理体が配置され、外部空間から微粒子状物質を含む排ガスが導かれ、排ガス処理体の外周面側から排ガスを供給する第１空間と、前記濾材および所定の触媒担体によって浄化され、排ガス処理体の内周面側に通気した排ガスを外部空間に導く第２空間とが形成されるフィルタ槽とを含むことを特徴とするバグフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バグフィルタにおいて用いられ、排ガスに含まれる所定の物質を分解する排ガス処理体、およびそれを含むバグフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
ごみ焼却処理施設などにおけるダイオキシン類削減対策の徹底に伴って、前記ごみ焼却処理施設の集塵装置には、バグフィルタが用いられるようになっており、その後段にバグフィルタによって除去することができないダイオキシン類および窒素酸化物などの有害物質を除去するための所定の触媒を担持する所定の触媒反応搭を設置して、両者の組み合わせによって排ガスを浄化している。バグフィルタおよび所定の触媒反応搭は、いずれも排ガスとの大きな接触面積を必要とするので、それぞれ大型のケーシングを並べて設置する必要があり、これらを設置するためには、大きなスペースが必要となる。このため設置スペースが小さく、排ガスを効率的に浄化処理することができる排ガス処理装置が望まれている。
【０００３】
このような問題に鑑み、従来の技術として、排ガスに含まれる窒素酸化物を除去するために、濾布に所定の触媒を担持させたフィルタハウスが開示されている（たとえば特許文献１参照）。同様に、所定の触媒と、濾布などを含む濾材と機械的に一体化したものは、たとえば特許文献２〜７に開示されている。
【０００４】
また他の従来の技術として、濾布を保持する、放射状薄板または網目金網のケージに所定の触媒を担持させる、またはフィルタ本体の内部に所定の触媒を担持したフィンを放射状に配置し、濾布と所定の触媒とを別体で設けるバグフィルタが開示されている（たとえば特許文献８，９）。
【０００５】
【特許文献１】特開昭５５−１４５５２０号公報
【特許文献２】特公平４−３６７２９号公報
【特許文献３】特開平３−２２１１４６号公報
【特許文献４】特開平４−２１９１２４号公報
【特許文献５】特開平１０−２３０１１９号公報
【特許文献６】特開平９−２７６７０５号公報
【特許文献７】特開２００１−２６９５２８号公報
【特許文献８】特開２００１−５４７０７号公報
【特許文献９】特開平３−１７８３０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
所定の触媒と、濾布などを含む濾材と機械的に一体化した従来の技術では、濾材および所定の触媒を分離することができない。したがって、経年劣化によって濾材および所定の触媒を取り替えるためには、濾材および所定の触媒を同時に取り替える必要がある。濾材と、所定の触媒とは、劣化の要因が異なるので、同時に寿命が尽きる時期が異なるが、濾材の寿命および所定の触媒の寿命に関係なく、一方が劣化した時に、濾材および所定の触媒の両者を交換する必要がある。このためランニングコストが高くなるという問題がある。
【０００７】
また濾布に所定の触媒を担持させる場合、所定の触媒と濾布との固着強度が得られにくく、たとえば空気圧によって濾布に付着した微粒子状物質を払い落とすときに、所定の触媒が壊れたり、濾布から剥離したりしてしまい、耐久性に欠けるという問題がある。また所定の触媒を濾材に付着させるための工程において、所定の触媒の調製に必要な焼成条件が濾布の耐熱性で制限され、安定した所定の触媒を得ることができない。言い換えれば、前記焼成に耐え得る材料によって濾材を形成する必要があり、濾材を形成する材料の選定範囲が狭くなるという問題がある。
【０００８】
また他の従来の技術の濾布と所定の触媒とを別体で設けるバグフィルタでは、濾布と所定の触媒とを分離することができるので、ランニングコストを低減することができる。しかしながら、濾布を保持するケージを放射状薄板または細目金網によって形成し、このケージに所定の触媒を担持させる場合、排ガスがケージを通過する際に、所定の触媒との十分な接触面積を得ることができないので、排ガスに含まれる所定の物質の除去効率が低く、所定の物質が十分に分解されることなく排出されてしまうという問題がある。またフィルタ内部に、所定の触媒を担持するフィンを放射状に配置する場合においても、排ガスは所定の触媒との十分な接触面積を得ることができず、排ガスに含まれる所定の物質の分解が十分ではなく、実用に足りるダイオキシンの除去効率を得ることができない、言い換えれば排ガスの通過速度を速くして、処理速度を向上させることができないという問題がある。
【０００９】
このため所定の触媒を安定して担持することができるとともに、担持される所定の触媒が、排ガスとの十分な接触面積を有し、排ガスに含まれるダイオキシン類などの所定の物質の除去効率を向上することができる排ガス処理体が望まれている。
【００１０】
したがって本発明の目的は、バグフィルタにおいて用いられ、所定の物質を安定して分解することができ、排ガスの処理効率を向上させることができる排ガス処理体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、排ガス通気路内に設置され、排ガスに含有される所定の物質を含む複数の微粒子状物質の一部を濾材によって除去するバグフィルタに用いられる排ガス処理体であって、
筒形状であって、外周面および内周面間に所定の厚みを有し、外周面および内周面間にわたって連通する微小な空隙が形成され、前記外周面が前記濾材によって外囲され、前記濾材を通過した排ガスが前記空隙を通過することによって、排ガスに含まれる複数の微粒子状物質の残部に含まれる所定の物質を分解する所定の触媒を有することを特徴とする排ガス処理体である。
【００１２】
本発明に従えば、濾材を通過することによって複数の微粒子状物質の一部が除去された排ガスが、筒形状の外周面側から微小な空隙に流入し、微小な空隙を通過して内周面側へ流れる。前記複数の微粒子状物質の一部は、たとえば塵埃などの比較的粒子径の大きな微粒子状物質を含む。濾材を通過した排ガスに含有される微粒子状物質の残部に含まれる所定の物質は、前記空隙を通過することによって、所定の触媒に接触して吸着され、所定の触媒による分解反応によって分解される。排ガス処理体は、外周面および内周面間に所定の厚みを有するので、排ガスが外周面および内周面間を通過する際に、排ガスが所定の触媒に接触する面積を増加させることができ、さらに空隙を微小とすることによって、排ガスを所定の触媒に効率よく接触させることができる。これによって排ガスに含まれる所定の物質の分解率を向上させることができる。前記所定の物質は、たとえばダイオキシン類および窒素酸化物などを含む。
【００１３】
また排ガス処理体は、濾材とは別体で形成されるので、濾布に所定の触媒を担持させる従来の技術ように、濾材によって所定の触媒を形成する際の焼成条件が制限されることがない。
【００１４】
また本発明は、環状の板状体と、軸線方向に対を成す前記板状体に連なり、周方向に間隔をあけて軸線方向に隣接する各板状体を連結するリブとを含んで構成されるハニカム構造を有し、前記ハニカム構造を構成する各板状体およびリブの外表面に所定の触媒が付着されて形成されることを特徴とする。
【００１５】
本発明に従えば、前記構成によって排ガス処理体を実現することができる。排ガス処理体には、板状体およびリブによって、外周面および内周面間にわたって連通するハニカム状の微小な空隙が形成される。板状体およびリブの外表面には、所定の触媒が付着されるので、前記微小な空隙に臨む排ガス処理体の外表面にも所定の触媒が付着形成されており、これによって空隙を通過する排ガスを所定の触媒に効率的に接触させることができる。
【００１６】
排ガス処理体は、環状の板状体とリブとを積層して構成されるので、環状の板体の内径および外径を調整することによって、排ガス処理体の外周面および内周面間の厚みを容易に調整することができ、またリブの周方向の間隔および軸線方向の長さを調整することによって、ハニカム構造の各微小な空隙の断面積、つまり排ガスが通過する流路の断面積を容易に調整することができ、また積層する板状体の数によって、軸線方向の長さを容易に調整することができるので、設計の自由度が向上され、所望の形状の排ガス処理体を形成することができる。
【００１７】
さらに本発明は、螺旋状の索条体に所定の間隔で交互に折り返された帯状体が介在されて積層され、前記帯状体の外表面に所定の触媒が付着されて形成されることを特徴とする。
【００１８】
本発明に従えば、前記構成によって排ガス処理体を実現することができる。排ガス処理体には、螺旋状の索条体に帯状体を介在させることによって、帯状体は軸線方向に所定の間隔をあけて積層され、外周面および内周面間にわたって微小な空隙が形成される。帯状体の外表面には、所定の触媒が付着されるので、前記微小な空隙に臨む排ガス処理体の外表面にも所定の触媒が形成されており、これによって空隙を通過する排ガスを所定の触媒に効率的に接触させることができる。
【００１９】
帯状体を螺旋状に積層することによって、可及的に少ない部品点数で排ガス処理体を形成することができ、組み立てが容易となり、生産性が向上される。帯状体の幅を調整することによって、排ガス処理体の外周面および内周面間の厚みを容易に調整することができ、また帯状体を軸線方向に折り返す間隔および折り返した山と山との間の軸線方向の距離を調整することによって、各微小な空隙の断面積、つまり排ガスが通過する流路の断面積を容易に調整することができ、また螺旋の巻数によって軸線方向の長さを調整することができるので、設計の自由度が向上され、所望の形状の排ガス処理体を形成することができる。
【００２０】
さらに本発明は、ウール状部材を所定のかさ密度で筒形に形成し、前記ウール状部材の外表面に所定の触媒が付着されて形成されることを特徴とする。
【００２１】
本発明に従えば、前記構成によって排ガス処理体を実現することができる。排ガス処理体は、ウール状部材を所定のかさ密度で筒形状に形成して構成されるので、形状の変更が容易であり、また、かさ密度を調整することによって、微小な空隙によって形成される排ガスの流路の断面積を容易に調整することができるので、設計の自由度が向上し、所望の形状の排ガス処理体を形成することができる。また排ガス処理体を、プレス加工などを用いることなく形成することができ、排ガス処理体を容易に形成することができる。またウール状部材は、外表面の外気との接触面積が大きく、このようなウール状部材の外表面に所定の触媒が付着されるので、所定の触媒が排ガスに接触する接触面積を大きくすることができ、空隙を通過する排ガスを所定の触媒に効率的に接触させることができる。ウール状部材は、たとえばスチールウールおよびセラミック繊維などを含む。
【００２２】
さらに本発明は、前記排ガス処理体と、
排ガス処理体の外周面を外囲し、排ガスに含まれる複数の微粒子状物質の一部を取り除く濾材と、
内部空間に濾材および排ガス処理体が配置され、外部空間から微粒子状物質を含む排ガスが導かれ、排ガス処理体の外周面側から排ガスを供給する第１空間と、前記濾材および所定の触媒担体によって浄化され、排ガス処理体の内周面側に通気した排ガスを外部空間に導く第２空間とが形成されるフィルタ槽とを含むことを特徴とするバグフィルタである。
【００２３】
本発明に従えば、外部空間からフィルタ層の内部空間である第１空間に導かれた排ガスは、まず濾材を通過し、この濾材によって複数の微粒子状物質の一部が除去される。前記複数の微粒子状物質の一部とは、複数の微粒子状物質のうち、塵埃などの比較的粒径の大きな微粒子物質である。濾材を通過した排ガスは、排ガス処理体を通過することによって、所定の物質が除去され、第２空間から再びフィルタ槽の外部空間へと導かれる。このようなバグフィルタでは、微粒子状物質の除去と、所定の物質の除去とを同時に行うことができ、少ない設置スペースで効率的に排ガスを浄化することができる。
【００２４】
またこのようなバグフィルタでは、濾材と排ガス処理体とを別々に交換することができるので、従来の技術の所定の触媒と、濾布などを含む濾材と機械的に一体化したバグフィルタと比較して、ランニングコストを低減することができる。また排ガスの流れ方向の上流側となる排ガス処理体の外周面が、濾材によって外囲されるので、所定の触媒に塵埃などの比較的粒子径の大きな微粒子状物質が付着してしまうことが減少させて、所定の触媒の性能の劣化を防止することができ、つまり所定の触媒による所定の触媒反応の効率を維持することができ、所定の触媒の寿命を可及的に延ばすことができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、所定の触媒を形成する際の焼成条件が濾材によって制限されることがないので、高性能かつ安定した所定の触媒を形成することができるとともに、濾布と組み合わせてバグフィルタを構成する場合に、濾布を形成する材料の選定範囲が広くなり、設計の自由度が向上する。
【００２６】
また本発明によれば、排ガスが、ハニカム状の微小な空隙を通過することによって効率的に所定の触媒と接触するので、所定の触媒によって排ガスに含まれる所定の物質を効率的に吸着して分解させることができ、処理効率を向上させることができる。また排ガス処理体は、板状体とリブとを積層して形成されるので、排ガス処理体の設計の自由度が向上し、所望の形状の排ガス処理体を容易に形成することができる。
【００２７】
また本発明によれば、排ガスが、積層される板状体間の微小な空隙を通過することによって効率的に所定の触媒と接触するので、所定の触媒によって排ガスに含まれる所定の物質を効率的に吸着して分解させることができ、処理効率を向上させることができる。また排ガス処理体は、索条体と帯状体とを螺旋状に積層して形成されるので、排ガス処理体の設計の自由度が向上し、所望の形状の排ガス処理体を容易に形成することができる。
【００２８】
また本発明によれば、排ガスが、ウール状部材によって形成される微小な空隙を通過することによって効率的に所定の触媒と接触するので、所定の触媒によって排ガスに含まれる所定の物質を効率的に分解させることができ、所定の物質を効率的に吸着して分解させることができ、処理効率を向上させることができる。また排ガス処理体は、ウール状部材を所定のかさ密度で筒形状に形成して構成されるので、設計の自由度が向上し、所望の形状の排ガス処理体を形成することができる。
【００２９】
また本発明によれば、前記濾材および排ガス処理体を含んでバグフィルタを形成することによって、排ガスに含まれる微粒子状物質のうち大部分を占める塵埃を、濾材によって除去することができ、濾材を通過した所定の有害物質を排ガス処理体の所定の触媒によって分解して、清浄な排ガスとすることができるので、少ない設置スペースで、効率的に排ガスを浄化することができる。したがって、設置スペースが限られた排ガス処理施設において、好適に用いることができる。
【００３０】
また濾材と、所定の触媒を担持する排ガス処理体とを別々に構成しているので、濾布に所定の触媒を担持させる従来の技術ように、濾材によって所定の触媒を形成する際の焼成条件が制限されることがないので、排ガス処理体に所定の触媒を安定して担持させることができ、たとえば排ガスの流れ方向下流側から所定の風圧を与えて、濾材に付着した微粒子状物質を払い落とす場合でも、この所定の風圧によって、所定の触媒が振り落とされることが防止され、排ガス処理体の交換期間を可及的に延ばすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
図１は、本発明の実施の一形態の排ガス処理体１を示す斜視図であり、図１では、排ガス処理体１とともに、この排ガス処理体１を保持するリテーナ２も示している。図２は、排ガス処理体１を構成する触媒担体３の一部を分解して示す斜視図である。図３は、触媒担体３を外周面側から見て部分的に示す側面図である。図４は、触媒担体３を内周面側から見て部分的に示す側面図である。図５は、排ガス処理体１を保持するリテーナ２の構造を示す斜視図である。
【００３２】
排ガス処理体１は、排ガス通気路内に設置され、排ガスに含有される複数の微粒子状物質の一部を濾材によって除去するバグフィルタに用いられる。排ガス処理体１は、バグフィルタの濾材の、排ガス方向の流れ方向下流側に配置される。排ガス処理体１には、前記濾材によって塵埃などの微粒子状物質の一部が除去された排ガスが供給される。排ガス処理体１は、濾材を通過することによって複数の微粒子状物質の一部が除去された排ガスから、所定の物質を除去する。前記濾材によって除去される複数の微粒子状物質の一部は、たとえば塵埃などの比較的粒子径の大きな微粒子状物質である。また非ガス処理体によって分解される所定の物質は、ダイオキシン類を含む。ダイオキシン類は、ポリ塩化ジベンゾ−Ｐ−ジオキシン（略称：ＰＣＤＤ）、ポリ塩化ジベンゾフラン（略称：ＰＣＤＦ）、およびコプラナーポリ塩化ビフェル（略称：コプラナーＰＣＢ）を含む。
【００３３】
排ガス処理体１は、円筒形状に形成され、この排ガス処理体１には、外周面４および内周面５間にわたって連通する微小な空隙６が形成される。排ガス処理体１の外周面４は、濾材によって外囲され、濾材を通過した排ガスは、排ガス処理体１の外周面４側から流入し、微小な空隙６を通過して、内周面５側に流れる。排ガス処理体１は、所定の触媒７を有する。所定の触媒７は、排ガス処理体１の外表面の全領域で外部に露出しており、前記微小な空隙６にも露出している。排ガスは、排ガス処理体１の外周面４側から空隙６に流入し、内周面５側へと通過し、内周面５によって囲まれる内側通気路８を通って、軸線方向一方へと流れる。排ガスに含まれる所定の物質は、前記空隙６を通過することによって、所定の触媒７に接触して吸着され、所定の触媒７による分解反応によって分解される。所定の触媒７は、酸化チタン、酸化バナジウムおよび酸化モリブデンを含む。
【００３４】
排ガスに含まれるダイオキシン類は、排ガス処理体１に担持される所定の触媒７によって吸着されて、分解される。たとえばダイオキシン類は、所定の触媒７によって以下のように分解される。
【００３５】
【化１】
2005246301.tif 000003
【００３６】
所定の触媒７によって、化１で表わされる基本骨格を有するダイオキシン類の、炭素炭素結合および／または炭素酸素結合、たとえば１位の炭素原子と２位の炭素原子との間の結合、および１位の炭素原子に最も近くに位置する炭素原子と酸素原子との結合などが開裂し、二酸化炭素（化学式：ＣＯ２）、水（化学式：Ｈ２Ｏ）および塩化水素（化学式：ＨＣｌ）などの毒性の少ない化合物に分解される。
【００３７】
排ガス処理体１は、円筒形状の外周面４および内周面５間に所定の厚みＴｈ１を有する。前記所定の厚みＴｈ１は、たとえば５ミリメートル（ｍｍ）以上５０ミリメートル（ｍｍ）未満に選ばれる。所定の厚みＴｈ１が、５ｍｍ未満であると排ガスが空隙６を通過する際に、排ガスとの十分な接触面積を得ることができない。また所定の厚みＴ１が５０ｍｍ以上であると、圧損が大きくなり、排ガスの処理速度が低下してしまう。所定の厚みを前記範囲に選ぶことによって、排ガスが外周面４および内周面５間を通過する際に、空隙６に露出する所定の触媒７と、排ガスとが接触する接触面積を十分に得ることができ、言い換えれば排ガスが所定の触媒７と接触することができる期間を十分に得ることができ、かつ排ガスが空隙６を流れることによる圧損を可及的に抑制することができる。
【００３８】
本実施の形態において排ガス処理体１は、環状の板状体１１と、軸線Ｌ１方向に対を成す前記板状体１１に連なり、周方向に間隔をあけて軸線方向に隣接する各板状体１１を連結するリブ９とを含んで構成されるハニカム構造の触媒担体３の外表面に所定の触媒７を付着して形成される。
【００３９】
前記板状体１１は円環形状を有する。図２に示すように、板状体１１は、平板状であって、軸線方向一表面１２および他表面１３が平面に形成される。板状体１１は、ステンレス鋼板によって形成される。
【００４０】
前記リブ９は、円環形状を有し、図２に示すように、周方向に所定の間隔をあけて軸線方向一方および他方に突出する突出部１４を有するコルゲート状部材１５によって形成される。コルゲート状部材１５は、ステンレス鋼板によって形成される。コルゲート状部材１５は、円環形状の板状体を、プレス加工することによって形成される。前記コルゲート状部材１５の外周部１６は、略台形状に折り曲げられ、内周部１７は略三角形状に折り曲げられる。
【００４１】
図３および図４に示すように、コルゲート状部材１５は、外周部１６および内周部１７とで、軸線方向の寸法Ｈ１が均一となるように形成される。前記軸線方向の寸法は、軸線方向一方および他方に突出する突出部１４の相互に最も離反する端部間の距離である。これは、円環形状の板状体をプレス加工するときに、内周と外周との比率に応じて、外周の高さから所定の高さを減らし、軸線Ｌ１から離反するにつれて、突出部７４の形状を三角形状から台形状になだらかに変えることによって形成される。これによって、コルゲート状部材１５の軸線方向の寸法Ｈ１を均一化することができ、積層される板状体１１間の距離を均一化することができる。
【００４２】
触媒担体３の外径および内径の寸法は、所望の物質の除去性能を満たすものであることに加えて、内側通気路８における排ガスが、所定の流速で流れ、かつ後述するバグフィルタにおける濾材洗浄手段による所定の風圧の伝播を妨げることがない大きさ、つまり通風圧損が微小となるように選ばれる。触媒担体３の外径は、たとえば１２０ミリメートル（ｍｍ）〜２２０ミリメートル（ｍｍ）に選ばれ、内径は、たとえば６０ミリメートル（ｍｍ）〜２００ミリメートル（ｍｍ）に選ばれる。また排ガス処理体１の軸線方向の寸法Ｈ２は、たとえば１メートル（ｍ）〜８メートル（ｍ）程度に選ばれる。
【００４３】
板状体１１の外径Ｒ１の寸法は、たとえば１８０ｍｍに選ばれ、内径Ｒ２は、たとえば１４０ｍｍに選ばれる。また板状部材を形成するためのプレス加工される板状体の厚みは、たとえば０．１ｍｍに選ばれ、コルゲート状部材１５の軸線方向の厚みＨ１は、たとえば４ｍｍに選ばれる。またコルゲート状部材１５の外周端で、軸線方向に相互に突出する突出部１４のうち、軸線方向一方に突出する第１突部１８の周方向の間隔Ｗ１、および軸線方向他方に突出する第２突部１９の周方向の間隔Ｗ２はそれぞれ、たとえば約４．４ｍｍに選ばれる。またコルゲート状部材１５の内周端で、軸線方向一方に突出する第１突部１８の周方向の間隔Ｗ３、および軸線方向他方に突出する第２突部１９の周方向の間隔Ｗ４はそれぞれ、たとえば約３．４ｍｍに選ばれる。またコルゲート状部材１５の外周端で、軸線方向一方に突出する第１突部１８で軸線Ｌ１に垂直に形成される部分２１（以下、尾根部２１という）の幅Ｗ５、および軸線方向他方に突出する第２突部１９で軸線Ｌ１に垂直に形成される部分２２（以下、谷部２２という）の幅Ｗ６はそれぞれ、たとえば０．１ｍｍに選ばれる。
【００４４】
コルゲート状部材１５の外径および内径は、それぞれ板状体１１の外径および内径に等しく選ばれる。板状体１１およびコルゲート状部材１５の板厚は、たとえば０．１ｍｍに選ばれる。またコルゲート状部材１５を形成するためにプレス加工される円環状の板状体の寸法は、外径が３９５ｍｍであり、内径が３５５ｍｍである。
【００４５】
前記寸法は、一例であり、これに限定されることはないが、少なくとも所定の流速の排ガスが通過したときに、触媒担体３に担持される触媒による所定の物質の分解率が、予め定める値、たとえば９０パーセント以上であって、かつ圧損が微小であり、さらに積層される板状体１１およびコルゲート状部材１５によって、前記コルゲート状部材１５が押し潰されないような寸法に選ばれる。
【００４６】
平板状の板状体１１と、コルゲート状部材１５とは、それぞれの軸線を重ねた状態で、軸線方向に交互に複数積層され、軸線まわりの複数箇所でスポット接合される。たとえば平板状の板状体１１と、コルゲート状部材１５とは、周方向に所定の間隔をあけて２０箇所でスポット溶接される。板状体１１およびコルゲート状部材１５を交互に積層するだけで、ハニカム構造を容易に実現することができる。
【００４７】
ハニカム構造を構成する各板状体１１およびリブ９の外表面、すなわち触媒担体３の外表面に所定の触媒７が付着される。所定の触媒７は、以下のようにして形成される。
【００４８】
図６は、触媒担体３に所定の触媒７を付着させる触媒付着工程の手順を示すフローチャートである。触媒付着工程の処理を開始すると、第１工程（Ｓ１）では、触媒担体３の外表面２３を、所定の液体によって荒らす。前記所定の液体は、たとえば蓚酸および塩酸などを含む。触媒担体３を、前記所定の液体に第１の所定の時間Ｔ１浸す、または触媒担体３に所定の液体を降り掛ける。前記第１の所定の時間Ｔ１は、たとえば０．５分（ｍｉｎ）〜５分（ｍｉｎ）に選ばれる。
【００４９】
第１工程が終了すると第２工程（Ｓ２）に移り、第２工程では、第１工程の処理が終了した触媒担体３を乾燥する。第２工程における乾燥時間は、前記第１工程で触媒担体３に付着した所定の液体が蒸発する時間よりも長く選ばれる。
【００５０】
第２工程が終了すると第３工程（Ｓ３）に移り、第３工程では、第１の所定の溶液に触媒担体３を浸漬させた後、自然乾燥させる。前記第１の所定の溶液は、粘度を調整したチタニアゾルである。チタニアゾルの粘度は、たとえば１０度（℃）〜２５（℃）程度の常温で、数１００（Ｐａ・ｓ）に選ばれる。触媒担体３をチタニアゾルを入れた浸漬槽に浸漬したのち、触媒担体３を前記浸漬槽から所定の速度で引き上げて、たとえば１０度（℃）〜２５（℃）程度の常温で第２の所定の時間Ｔ２乾燥させる。前記第２の所定の時間Ｔ２は、たとえば１秒（ｓ）〜３０秒（ｓ）に選ばれる。また触媒担体３を浸漬槽から引き上げる速度は、一定速度とする。
【００５１】
第３工程が終了すると第４工程（Ｓ４）に移り、第４工程では、前記第３工程で自然乾燥させた触媒担体３を、第１の所定の温度ｔ１の熱風で、第３の所定の温度Ｔ３で乾燥させる。前記第１の所定の温度ｔ１は、たとえば１００℃〜１２０℃に選ばれ、第３の所定の時間ｔ３は、たとえば１時間（ｈｒ）〜５時間（ｈｒ）に選ばれる。
【００５２】
第４工程が終了すると第５工程（Ｓ５）に移り、第５工程では、第４工程（Ｓ４）の処理後の触媒担体３を第２の所定の温度ｔ２で、第４の所定の時間Ｔ４焼成する。前記第２の所定の温度ｔ２は、たとえば３２０℃〜４８０℃に選ばれ、第４の所定の時間Ｔ４は、たとえば３０分（ｍｉｎ）〜４時間（ｈｒ）に選ばれる。このように３００℃以上の高い温度で焼成することによって、所定の触媒７を確実に触媒担体３に付着させることができ、所定の触媒７の安定性を向上させることができるとともに、後述するバグフィルタ２４において、濾材洗浄手段２５から供給される所定の風圧によって、触媒が剥離してしまうことが防止される。以上の工程によって、触媒担体３の外表面２３上に、アナターゼ型の酸化チタン（化学式：ＴｉＯ２）層が形成される。
【００５３】
第５工程が終了すると第６工程（Ｓ６）に移り、第６工程では、第５工程の処理後の触媒担体３（以後、排ガス処理体１の前駆体という）を、第２の所定の溶液に浸漬させた後、乾燥させる。前記第２の所定の溶液は、メタバナジン酸アンモニウムおよびモリブデン酸アンモニウム混合溶液である。前記排ガス処理体１の前駆体を、第２の所定の溶液を入れた浸漬槽に浸漬したのち、排ガス処理体１の前駆体を前記浸漬槽から所定の速度で引き上げて、たとえば１０℃から２５℃の程度の常温で第５の所定の時間Ｔ５乾燥させる。前記第５の所定の時間Ｔ５は、たとえば４時間（ｈｒ）〜４８時間（ｈｒ）に選ばれる。また排ガス処理体１の前駆体を浸漬槽から引き上げる速度は、一定速度とする。
【００５４】
前記第２の所定の溶液であるメタバナジン酸アンモニウムおよびモリブデン酸アンモニウム混合液溶液に含まれる溶質の濃度は、次の第７工程で形成される酸化バナジウムおよび酸化モリブデン層に含まれるバナジウムおよびモリブデンの量が、第６工程で形成される酸化チタン層に含まれるチタンの量に対して、それぞれ１パーセント（％）〜１０パーセント（％）となり、１パーセント（％）〜１０パーセント（％）となるように調製する。
【００５５】
第６工程が終了すると第７工程（Ｓ７）に移り、第７工程では、第６工程の終了後の排ガス処理体１の前駆体を、第３の所定の温度ｔ３で、第６の所定の時間Ｔ６焼成する。前記第３の所定の温度ｔ３は、たとえば３００℃〜４５０℃に選ばれる。このように３００℃以上の高い温度で焼成することによって、所定の触媒７を確実に前駆体に付着させることができ、所定の触媒７の安定性を向上させることができるとともに、後述するバグフィルタ２４において、濾材洗浄手段２５からの所定の風圧によって、触媒が剥離してしまうことが防止される。第６および第７工程によって、前記酸化チタン層の外表面上に、バナジウム酸化物（化学式：Ｖ２Ｏ５）および酸化モリブデン酸化物（化学式：Ｍ０Ｏ３）層が形成される。第６および第７工程によって、酸化バナジウムおよび酸化モリブデンを、補助触媒として、触媒担体３に担持させることができる。
【００５６】
以上の工程によって、触媒担体３に所定の触媒７を付着して、担持させることができる。酸化チタン層およびバナジウム酸化物およびモリブデン酸化物層を含む所定の触媒７の触媒担体３の外表面２３から所定の触媒７の外表面間の厚さは、たとえば０．０１ミリメートル以上であればよく、好ましくは、０．０５ミリメートル（ｍｍ）以上に選ばれる。所定の触媒７の厚みが０．０１ｍｍ未満となると、所定の触媒７による十分な触媒反応を得ることができない。
【００５７】
前記触媒担体３に付着された所定の触媒７の排気ガスとの単位面積あたりの接触面積は、排ガス処理体１の軸線方向の単位長さを１ｍとして、単位長さあたり３平方メートル（ｍ２）〜３０平方メートル（ｍ２）に選ばれる。このように所定の触媒７と、排気ガスとの単位面積あたりの接触面積を大きくすることができるので、排ガスを所定の触媒７に効率的に接触させることができ、言い換えれば処理効率を向上させることができる。
【００５８】
図７は、前述した排ガス処理体１が用いられるバグフィルタ２４を模式的に示す断面図である。図７では、排ガスの流れを２点鎖線の矢符で示している。たとえば焼却炉または高炉などの炉で発生した微粒子状物質を含む排ガスは、前記炉の炉頂から延びるガス輸送管によって間接熱交換器に供給され、熱交換によって冷却され、冷却用熱交換器に導かれて冷却され、ガス輸送管によってバグフィルタ２４に導かれる。本実施の形態のバグフィルタ２４は、いわゆる乾式除塵器に、触媒浄化機能を付加した構成を有する。
【００５９】
バグフィルタ２４は、前述した排ガス処理体１と、濾材２７と、リテーナ２とフィルタ槽２８と、濾材洗浄手段２５を含む。フィルタ槽２８は、内部空間に、前記排ガス処理体１と、濾材２７と、リテーナ２とを収容する。フィルタ槽２８には、排ガス処理体１、濾材２７およびリテーナ２を組とする組体が、複数設けられる。フィルタ槽２８には、ガス流入部３１と、ガス流出部３２が形成される。ガス流入部３１は、フィルタ槽２８の下部２８Ａに形成され、ガス流出部３２はフィルタ槽２８の上部２８Ｂに形成される。ここで上下方向とは、重力の作用する方向に平行な方向である。フィルタ槽２８には、内部空間を仕切る仕切板３３が形成され、これによってガス流入部３１に連なる第１空間３４と、ガス流出部連なる第２空間３５とが形成される。前記仕切板３３には、排ガス処理体を保持する保持体であるリテーナ２を着脱自在に保持するリテーナ保持部３６が形成される。
【００６０】
排ガス処理体１は、図１に示すようにリテーナ２に保持される。リテーナ２は、フィルタ槽２８に形成されるリテーナ保持部３６に着脱自在に保持される。リテーナ保持部３６は、孔部３７を有し、この孔部３７にリテーナ保持部３６を挿通させて保持する。リテーナ保持部３６が形成される仕切板３３は、排ガスの通気領域を制限する機能を有し、前記リテーナ保持部３６の孔部３７からのみ排ガスが、第１空間３４から第２空間３５へと移動することができる。前記リテーナ保持部３６は、所定の間隔をあけて複数形成される。
【００６１】
リテーナ２は、有底筒状の枠体４１を有する。枠体４１は、たとえばステンレスなどの剛性を有する材料によって形成される。枠体４１は、複数の棒状部材４２を含んで形成される。前記棒状部材４２は、軸線方向に所定の間隔をあけて形成される円環状棒部材４３と、軸線方向に延び、周方向に所定の間隔をあけて配置され、前記円環状棒部材４３と相互に連結される接続棒状部材４４と、軸線方向一端部で底部を形成する底形成棒部材４５とを含む。前記接続棒状部材４４は、周方向に所定の間隔をあけて３本以上設けられる。隣合う円環状棒部材４３間の所定の間隔は、および隣合う接続棒状部材４４間の所定の間隔は、排ガスの通気を妨げないように選ばれる。底形成棒部材４５は、内部に保持する排ガス処理体１の軸線方向一方への移動を阻止する。前記底形成棒部材４５は、板状部材によって形成されてもよい。
【００６２】
リテーナ２は、枠体４１の内部に排ガス処理体１を着脱自在に保持する。リテーナ２の内径Ｒ３は、排ガス処理体１の外径Ｒ１よりもわずかに大きく選ばれ、排ガス処理体１は、リテーナ２の軸線方向他方から枠体４１の内部に挿入される。排ガス処理体１の軸線方向他端部４６は、リテーナ保持部３６に当接して保持される。
【００６３】
リテーナ２の枠体４１の軸線方向一端部４７には、リテーナ係合部４８が形成される。リテーナ係合部４８は、前述したリテーナ保持部３６に係合されて、保持される。リテーナ保持部３６は、前記リテーナ２の軸線方向一端部４７で、複数の接続棒部材４４の端部を、互いに枠体４１の軸線Ｌ２から離反する方向に折り曲げることによって形成される。軸線方向に垂直な仮想一平面上における接続棒部材４４の、前記軸線Ｌ２からの距離は等しく選ばれ、前記リテーナ保持部３６の孔部３７の孔の内径は、リテーナ保持部３６の外径に略等しく選ばれる。またリテーナ２が排ガス処理体１を保持した状態で、排ガス処理体１の軸線Ｌ１とリテーナ２の軸線Ｌ２とは重なる。孔部３７にリテーナ２を挿通して保持させたときに、排ガス処理体１の軸線Ｌ１は、鉛直方向に延びる。したがって、複数のリテーナ２をリテーナ保持部３６に保持させたときに、軸線方向一端部および他端部間にわたって、各リテーナ２を等間隔で配置することができ、これによって複数の排ガス処理体１を通過する排ガスの速度を均質化することができる。したがって、各リテーナ２に保持される排ガス処理体１における排ガスの浄化処理の処理量に偏りがなく、これによって処理された排ガスをより均質にすることができる。
【００６４】
また触媒担体３は、リテーナ２に着脱自在に保持されるので、排ガス処理体１の交換時に、この排ガス処理体１のみを交換することができる。したがってリテーナ２まで交換する必要がなく、交換部品を最小限とすることができ、ランニングコストを低減することができる。
【００６５】
前記リテーナ２は、前述したように枠体４１の内部に排ガス処理体１を保持するとともに、枠体４１の外周部に、濾材２７を保持する。濾材２７は、排ガス処理体１の外周面４に密接または微小な間隔をあけて配置される。濾材２７は、リテーナ２および排ガス処理体１の外周面４を外囲する。濾材２７は、伸縮性を有し、リテーナ２および排ガス処理体１の外周面４に密着、または外周面４からわずかに離間して保持される。これによって濾材と排ガス処理体１との間隙を通って、第２空間３５へと移動する排ガスを防止し、濾材２７を通過した排ガスを、排ガス処理体１の空隙６へと流入させることができる。
【００６６】
濾材２７は、たとえば濾布によって実現される。濾布は、たとえばメンブレンフィルタおよびフェルトなどを含む。濾布は、たとえば有機物の繊維によって形成される。たとえば前記有機物の繊維は、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素樹脂を含む。前記濾布の目付けは、たとえば２００グラム／平方メートル（ｇ／ｍ２）〜８００グラム／平方メートル（ｇ／ｍ２）に選ばれる。これによって、排ガスに含まれる塵埃などの比較的粒子径の大きな微粒子物質を効率的に除去することができる。濾材２７の排ガス処理体１の軸線方向他端部に臨む部分には、排ガスを通気させない排ガス非通気部５１が形成される。この排ガス非通気部５１は、たとえば濾布を複数積層することによって形成され、内側通気路８の軸線方向他端から排ガスが流入することが防止される。
【００６７】
また排ガスの流れ方向の上流側となる排ガス処理体１の外周面４が、濾材２７によって外囲されるので、所定の触媒７に塵埃などの比較的粒子径の大きな微粒子状物質が付着してしまうことが減少させて、所定の触媒７の性能の劣化を防止することができ、つまり所定の触媒７による触媒反応の効率を維持することができ、所定の触媒７の寿命を可及的に延ばすことができる。
【００６８】
フィルタ槽２８に着脱自在に保持されるリテーナ２を上方に引き抜くことによって、リテーナ２をリテーナ保持部３６から容易に離脱させることができる。このようにリテーナ２をリテーナ保持部３６から離脱させることによって、濾材２７および排ガス処理体１を容易に交換することができる。
【００６９】
ガス輸送管によって導かれた排ガスは、ガス流入部からフィルタ槽２８の第１空間３４に流入する。前記ガス流入部３１は、濾材２７の下端部よりも下方となる位置に形成される。第１空間３４に流入する排ガスは、たとえば１５０℃〜２２０℃である第１空間３４に導かれた排ガスは、まず濾材２７を通過する。これによって塵埃などの比較的粒径の大きな微粒子物質が除去される。濾材２７を通過した排ガスは、排ガス処理体１の外周面４側から微小な空隙６に流入する。排ガスは、排ガス処理体１の外周面４の全周囲から空隙６に流入する。排ガスが微小な空隙６を通過することによって、所定の触媒７によって排ガスに含まれる所定の物質が除去され、内周面５側の内側通気路８から、所定の物質が除去されて浄化された排ガスが第２空間３５へと流入する。排ガスの濾過風速は、たとえば０．５ｍ／分〜２ｍ／分に選ばれる。
【００７０】
外周面全体の面積に対して内側通気路８の第２空間３５に連通する出力孔の面積は小さいので、出力部における圧力は入力部よりも小さくなり、圧力差によって第２空間３５に排ガスが効率的に導かれる。このようにバグフィルタ２４では、塵埃などの比較的粒径の大きな微粒子状物質の除去と、所定の物質であるダイオキシン類の除去とを同時に行うことができ、少ない設置スペースで効率的に排ガスを浄化し、清浄な排ガスを排出することができる。このような排ガス処理体１を含むバグフィルタ２４を排ガス処理施設に用いることによって、排ガス処理装置の設置スペースを小さくすることができる。
【００７１】
またバグフィルタ２４では、濾材２７と排ガス処理体１とを別々に交換することができる。濾材２７は、突発的な事故によって破損する可能性が高く、また濾材２７の寿命は、たとえば２〜３年であるが、これに対して所定の触媒７の寿命は３〜６年であるので、濾材２７と排ガス処理体１を別々に交換することができるバグフィルタ２４は、従来の技術の所定の触媒と、濾布などを含む濾材と機械的に一体化したバグフィルタと比較して、ランニングコストを低減することができる。このようなバグフィルタ２７は、熱損失が少なく９９パーセント程度の除塵率で微粒子状物質を除去することができる。また排ガス処理体１は、濾材２７とは別体で形成されるので、濾布に所定の触媒を担持させる従来の技術ように、濾材２７によって所定の触媒を形成する際の焼成条件が制限されることがない。言い換えれば、濾材２７の材質が、所定の触媒形成のための温度によって制限されることなく、これによって濾材２７の材質の選択の自由度が向上され、バグフィルタ２４の設計の自由度が向上される。
【００７２】
本発明の実施の形態では、複数に分割した触媒担体３に、触媒付着工程によって所定の触媒７を付着させ、この後リテーナ２に保持させてもよい。これによって、たとえば触媒担体３が大形化しても、触媒担体３を分割した状態で所定の触媒７を付着させることによって、所定の溶液への浸漬に用いられる浸漬槽、および焼成に用いられる加熱炉を大形化する必要がない。また分割された状態で所定の触媒７を担持させることによって、１つ１つの分割体を小さくすることができるので、排ガス処理体１の交換が容易になる。さらにリテーナ２に保持させることで触媒担体３を一体化しても、前述の実施の形態と同様な効果を得ることができる。また逆に軸線方向に所望の長さとなるように触媒担体３を形成した後に、触媒付着工程によって所定の触媒７を付着させてもよい。この場合には、所望の長さに形成された触媒担体３を１回の触媒付着工程で処理するので、製造工程を可及的少なくすることができ、生産性を向上することができる。
【００７３】
前記濾材洗浄手段２５は、圧縮空気発生源５２と、圧縮空気輸送管５３とを含む。圧縮空気発生源５２は、たとえば圧縮ポンプによって実現される。圧縮空気輸送管５３は、第２空間３５内に配置され、各リテーナ２の上部に臨んで開口する空気出力部５４を有する。濾材洗浄手段２５は、圧縮空気発生源５２によって生成する圧縮空気を、圧縮空気輸送管５３を介して第２空間３５から排ガス処理体１の内側通気路８に、言い換えれば排ガス処理体１の、排ガスの流れ方向下流側から上流側に所定の圧力の空気を噴射する。これによって、濾材２７に吸着された微粒子状物質を、濾材から振り落とすことができる。このような濾材洗浄手段２５によって、定期的に濾材２７から微粒子状物質を振り落とすことによって、濾材２７の目詰まりを防止して、濾材２７の交換期間を長くすることができる。したがって、定期的な濾材２７の交換の頻度を減少させることができ、ランニングコストが低減されたバグフィルタ２４を構成することができる。濾材２７によって排ガスから除去された微粒子状物質は、フィルタ槽２８の底部５５に蓄積される。フィルタ槽２８には、底部５５にホッパー部５６が形成され、ホッパー部５６の下部に開閉可能なフィルタ孔部５７が形成される。フィルタ槽２８に蓄積された微粒子状物質は、前記フィルタ孔部５７から、フィルタ槽２８の外部に搬出することができる。
【００７４】
また本実施の形態において、触媒担体３は、板状体１１とコルゲート状部材１５と積層して構成されるので、環状の板状体１１およびコルゲート状部材１１の内径および外径を調整することによって、排ガス処理体１の外周面４および内周面５間の厚みを容易に調整することができ、またリブ９の突出部１４の周方向の間隔および軸線方向の寸法Ｈ２を調整することによって、ハニカム構造の各微小な空隙６の断面積、つまり排ガスが通過する流路の断面積を容易に調整することができ、また積層する板状体１１およびコルゲート状部材１５の数によって、軸線方向の寸法Ｈ１を容易に調整することができるので、設計の自由度が向上され、所望の形状の排ガス処理体１を形成することができる。
【００７５】
本実施の形態において、触媒担体３は、ステンレス材料によって実現されるが、触媒担体３は、所定の剛性を有する他の金属材料によって形成されてもよい。
【００７６】
また本発明の実施の他の形態において、触媒担体３は、たとえばムライトを含むセラミックペーパーによって形成してもよい。
【００７７】
図８は、本発明の他の実施の形態の排ガス処理体６１を示す斜視図である。図９は、排ガス処理体６１を構成する触媒担体６３の一部を分解して示す斜視図である。図１０は、触媒担体６３を内周面側から見て部分的に示す側面図である。図１１は、触媒担体６３を外周面側から見て部分的に示す側面図である。本実施の形態において、前述の実施の形態と同様な構成には、同様の符号を付してその説明を省略する。
【００７８】
排ガス処理体６１は、前述の図１に示す排ガス処理体６１と同様な機能を有する。排ガス処理体６１は、排ガス通気路内に設置され、排ガスに含有される複数の微粒子状物質の一部を濾材によって除去するバグフィルタに用いられる。排ガス処理体６１は、バグフィルタの濾材の、排ガス方向の流れ方向下流側に配置される。排ガス処理体６１には、前記濾材によって塵埃などの微粒子状物質の一部が除去された排ガスが供給される。排ガス処理体６１は、濾材を通過することによって複数の微粒子状物質の一部が除去された排ガスから、所定の物質を除去する。
【００７９】
排ガス処理体６１は、円筒形状に形成され、この排ガス処理体６１には、外周面６４および内周面６５間にわたって連通する微小な空隙６５が形成される。排ガス処理体６１の外周面６４は、濾材によって外囲され、濾材を通過した排ガスは、排ガス処理体６１の外周面６４側から流入し、微小な空隙６６を通過して、内周面６５側に流れる。排ガス処理体６１は、所定の触媒７を有する。所定の触媒７は、排ガス処理体６１の外表面の全領域で外部に露出しており、前記微小な空隙６６にも露出している。排ガスは、排ガス処理体６１の外周面６４側から空隙６６に流入し、内周面６５側へと通過し、内周面６５によって囲まれる内側通気路６８を通って、軸線方向一方へと流れる。排ガスに含まれる所定の物質は、前記空隙６６を通過することによって、所定の触媒７に接触して吸着され、所定の触媒７による分解反応によって分解される。
【００８０】
排ガス処理体６１は、円筒形状の外周面６４および内周面６５間に所定の厚みＴｈ２を有する。前記所定の厚みＴｈ２は、たとえば５ミリメートル（ｍｍ）以上５０ミリメートル（ｍｍ）未満に選ばれる。所定の厚みＴｈ２が、５ｍｍ未満であると排ガスが空隙を通過する際に、排ガスとの十分な接触面積を得ることができない。また所定の厚みＴ２が５０ｍｍ以上であると、圧損が大きくなり、排ガスの処理速度が低下してしまう。所定の厚みを前記範囲に選ぶことによって、排ガスが外周面および内周面間を通過する際に、空隙に露出する所定の触媒７と、排ガスとが接触する接触面積を十分に得ることができ、言い換えれば排ガスが所定の触媒７と接触することができる期間を十分に得ることができ、かつ排ガスが空隙を流れることによる圧損を可及的に抑制することができる。
【００８１】
本実施の形態において排ガス処理体６１は、螺旋状の索条体７０に所定の間隔で交互に折り返された帯状体７１が介在されて積層されて形成される触媒担体６３の外表面に、所定の触媒７が付着されて形成される。前記索条体７０は、たとえばワイヤ部材によって実現される。ワイヤ部材は、たとえばステンレス材料によって形成される。
【００８２】
帯状体７１は、たとえば所定の厚みを有する帯状の板状体を、所定の間隔で、軸線Ｌ３方向一方および他方に交互に折り返されて形成される。帯状体７１は、ステンレス鋼鈑によって形成される。ワイヤ部材を帯状体７１に介在させることによって、積層される帯状体７１の、軸線方向一方および他方に突出する突出部７４同士が密着することが防止され、積層される帯状体７１の間に、所定の空隙６６を形成することができる。前記ワイヤ部材は、触媒担体６３の外周面６４および内周面６５間で、所定の間隔をあけて２条以上設けられる。本実施の形態では触媒担体６３には所定の間隔をあけて２条の索条体が設けられる。これによって外周面６４から内周面６５間にわたって、積層される帯状体７１間の間隔を均一化することができる。帯状体７１と索条体７０とは、周方向に所定の間隔をあけた位置で、スポット溶接によって接合される。
【００８３】
帯状体７１は、帯状の板状体を、ロールプレス加工することによって形成される。前記帯状体の外周部７６は、略台形状に折り曲げられ、内周部７７は略三角形状に折り曲げられる。
【００８４】
図１０および図１１に示すように、帯状体７１は、外周部７６および内周部７７とで、軸線方向の寸法Ｈ３が均一となるように形成される。前記軸線方向の寸法Ｈ３は、軸線方向一方および他方に突出する突出部７４の相互に最も離反する端部間の距離である。これは、帯状の板状体をロールプレス加工するときに、内周と外周との比率に応じて、外周の高さから所定の高さを減らし、軸線Ｌ３から離反するにつれて、突出部７４の形状を三角形状から台形状になだらかに変えることによって形成される。これによって、コルゲート状部材１５の軸線方向の寸法Ｈ３を均一化することができ、積層される帯状体７１間の距離を均一化することができる。
【００８５】
触媒担体６３の外径および内径の寸法は、所望の物質の除去性能を満たすものであることに加えて、内側通気路６８における排ガスが、所定の流速で流れ、前述したバグフィルタにおける濾材洗浄手段による所定の風圧の伝播を妨げることがない大きさ、つまり通風圧損が微小となるように選ばれる。触媒担体６３の外径は、たとえば１２０ミリメートル（ｍｍ）〜２２０ミリメートル（ｍｍ）に選ばれ、内径は、たとえば６０ミリメートル（ｍｍ）〜２００ミリメートル（ｍｍ）に選ばれる。また排ガス処理体６１の軸線方向の寸法Ｈ２は、たとえば１メートル（ｍ）〜８メートル（ｍ）程度に選ばれる。
【００８６】
触媒担体６３の外径Ｒ３の寸法は、たとえば１８０ｍｍに選ばれ、内径Ｒ４は、たとえば１４０ｍｍに選ばれる。また帯状体７１を形成するためのプレス加工される帯状板体の厚みは、たとえば０．１ｍｍに選ばれ、軸線方向で折り返される突部間の軸線方向の寸法Ｈ３は、たとえば３．３ｍｍに選ばれる。また帯状体７１の外周端で、前記突出部７４のうち軸線方向一方に突出する第１突部７８の周方向の間隔Ｗ８、および軸線方向他方に突出する第２突部７９の周方向の間隔Ｗ９はそれぞれ、たとえば約４．４ｍｍに選ばれる。また帯状体７１の内周端で、軸線方向一方に突出する第１突部７８の周方向の間隔Ｗ１０、および軸線方向他方に突出する第２突部７９の周方向の間隔Ｗ１１はそれぞれ、たとえば約３．４ｍｍに選ばれる。また帯状体７１の外周端で、軸線方向一方に突出する第１突部７８で軸線Ｌ３に略垂直に形成される部分８２（以下、尾根部８２という）の幅Ｗ１２、および軸線方向他方に突出する第２突部７９でに軸線Ｌ３に略垂直に形成される部分８３（以下、谷部８３という）の幅Ｗ１２はそれぞれ、たとえば０．１ｍｍに選ばれる。また帯状体を形成するためにロールプレス加工される帯状の板体の幅は、４０ｍｍに選ばれる。
【００８７】
前記寸法は、一例であり、これに限定されることはないが、少なくとも所定の流速の排ガスが通過したときに、触媒担体６３に担持される触媒による所定の物質の分解率が、予め定める値、たとえば９０パーセント以上であって、かつ圧損が微小であり、さらに積層される帯状体７１によって、この帯状体７１が押し潰されないような寸法に選ばれる。
【００８８】
触媒担体６３を、帯状体７１を螺旋状に積層することによって形成するので、可及的に少ない部品点数で排ガス処理体６１を形成することができ、組み立てが容易となり、生産性が向上される。また帯状体７１の幅Ｗ７を調整することによって、排ガス処理体６１の外周面６４および内周面６５間の厚みを容易に調整することができ、また帯状体７１を軸線方向に折り返す間隔および軸線方向の寸法Ｈ３を調整することによって、各微小な空隙６６の断面積、つまり排ガスが通過する流路の断面積を容易に調整することができ、また帯状体７１の螺旋の巻数によって軸線方向の寸法Ｈ４を調整することができるので、設計の自由度が向上され、所望の形状の排ガス処理体６１を形成することができる。
【００８９】
前記触媒担体６３には、前述した図６に示す触媒付着工程と同様にして、帯状体７１の外表面に所定の触媒７が付着される。
【００９０】
本実施の形態の排ガス処理体６１が用いられるバグフィルタは、前述の図７に示すバグフィルタにおける排ガス処理体６１を本実施の形態の排ガス処理体６１に代えた構成であるので、その説明を省略する。本実施の形態の排ガス処理体６１は、前述の実施の形態の排ガス処理体６１と同様に、図５に示す前述のリテーナに保持される。このようなバグフィルタにおいても、前述のバグフィルタと同様な効果を達成することができる。
【００９１】
本発明の他の実施の形態において、前記帯状体７１を前述したセラミックペーパーによって形成してもよい。
【００９２】
図１２は、本発明の実施のさらに他の形態の排ガス処理体９１を示す斜視図であり、図１２では、排ガス処理体９１とともに、この排ガス処理体９１を保持するリテーナ９２も示している。図１３は、排ガス処理体９１を保持する保持体であるリテーナ９２の構造を示す斜視図である。本実施の形態において、前述の実施の形態と同様な構成には、同様の符号を付してその説明を省略する。
【００９３】
排ガス処理体９１は、前述の図１に示す排ガス処理体１と同様な機能を有する。排ガス処理体９１は、排ガス通気路内に設置され、排ガスに含有される複数の微粒子状物質の一部を濾材によって除去するバグフィルタに用いられる。排ガス処理体９１は、バグフィルタの濾材の、排ガス方向の流れ方向下流側に配置される。排ガス処理体９１には、前記濾材によって塵埃などの微粒子状物質の一部が除去された排ガスが供給される。排ガス処理体９１は、濾材を通過することによって複数の微粒子状物質の一部が除去された排ガスから、所定の物質７を除去する。
【００９４】
排ガス処理体９１は、円筒形状に形成され、この排ガス処理体９１には、外周面９４および内周面９５間にわたって連通する微小な空隙９６が形成される。排ガス処理体９１の外周面９４は、濾材によって外囲され、濾材を通過した排ガスは、排ガス処理体９１の外周面９４側から流入し、微小な空隙９６を通過して、内周面９５側に流れる。排ガス処理体９１は、所定の触媒７を有する。所定の触媒７は、排ガス処理体９１の外表面の全領域で外部に露出しており、前記微小な空隙９６にも露出している。排ガスは、排ガス処理体９１の外周面９４側から空隙９６に流入し、内周面９５側へと通過し、内周面９５によって囲まれる内側通気路９８を通って、軸線方向一方へと流れる。排ガスに含まれる所定の物質は、前記空隙９６を通過することによって、所定の触媒７に接触して吸着され、所定の触媒７による分解反応によって分解される。
【００９５】
排ガス処理体９１は、円筒形状の外周面９４および内周面９５間に所定の厚みＴｈ３を有する。前記所定の厚みＴｈ３は、たとえば５ミリメートル（ｍｍ）以上５０ミリメートル（ｍｍ）未満に選ばれる。所定の厚みＴｈ３が、５ｍｍ未満であると排ガスが空隙９６を通過する際に、排ガスとの十分な接触面積を得ることができない。また所定の厚みＴ３が５０ｍｍ以上であると、圧損が大きくなり、排ガスの処理速度が低下してしまう。所定の厚みを前記範囲に選ぶことによって、排ガスが外周面９４および内周面９５間を通過する際に、空隙９６に露出する所定の触媒７と、排ガスとが接触する接触面積を十分に得ることができ、言い換えれば排ガスが所定の触媒７と接触することができる期間を十分に得ることができ、かつ排ガスが空隙９６を流れることによる圧損を可及的に抑制することができる。
【００９６】
本実施の形態において排ガス処理体９１は、ウール状部材１０１を所定のかさ密度で筒形に形成して構成される触媒担体９３の外表面に、所定の触媒７が付着されて形成される。
【００９７】
触媒担体９３の外径および内径の寸法は、所望の物質の除去性能を満たすものであることに加えて、内側通気路６８における排ガスが、所定の流速で流れ、前述したバグフィルタにおける濾材洗浄手段による所定の風圧の伝播を妨げることがない大きさ、つまり通風圧損が微小となるように選ばれる。触媒担体６３の外径は、たとえば１２０ミリメートル（ｍｍ）〜２２０ミリメートル（ｍｍ）に選ばれ、内径は、たとえば６０ミリメートル（ｍｍ）〜２００ミリメートル（ｍｍ）に選ばれる。また排ガス処理体６１の軸線方向の寸法Ｈ５は、たとえば３０センチメートル（ｃｍ）〜８メートル（ｍ）程度に選ばれる。
【００９８】
ウール状部材１０１は、スチールウールによって実現される。スチールウールは、所定の幅および所定の厚みを有する。前記所定の幅は、たとえば０．２センチメートル（ｃｍ）程度であり、所定の厚みは、たとえば０．０３ミリメートル（ｍｍ）〜０．０５ミリメートル（ｍｍ）に選ばれる。また所定のかさ密度は、１立法メートル（ｍ３）あたり、１００キログラム（ｋｇ）以上２５０キログラム（ｋｇ）未満に選ばれる。所定のかさ密度が、１００ｋｇ／ｍ３未満であると、触媒と排ガスとの十分な接触面積が得られない。また所定のかさ密度が、２５０ｋｇ／ｍ３以上となると、排ガスが流れにくくなる。所定のかさ密度を範囲に選ぶことによって、排ガスと触媒との十分な接触面積を得ることができ、さらに排ガスの圧損による影響が少ない。
【００９９】
前記触媒担体９３には、前述した図６に示す触媒付着工程と同様にして、ウール状部材１０１の外表面に所定の触媒７が付着される。
【０１００】
本実施の形態の排ガス処理体９１が用いられるバグフィルタは、前述の図７に示すバグフィルタにおいて、図１に示す前述の実施の形態の排ガス処理体１およびリテーナ２を、図１２および図１３に示す排ガス処理体９１およびリテーナ９２に代えた構成であるので、異なる部分についてのみ説明する。
【０１０１】
本実施の形態の触媒担体を保持するリテーナ９２は、前述の図５に示すリテーナ２の構成と同様であり、リテーナ９２の構成に加えて、内円筒状部１０２を含む構成であるので、同様の構成には、同様の符号を付して、その説明を省略する。内円筒状部１０２は、直円筒形状を有し、直円筒形状の枠体４１の内部に、その軸線を枠体の軸線と重ねて配置され、枠体４１に固定される。内円筒状部１０２は、網目状部材によって形成される。前記網目状部材の網の目の面積は、たとえば０．３平方センチメートル（ｃｍ２）〜３平方センチメートル（ｃｍ２）に選ばれる。これによって、排ガスの通気を妨げることなく、またウール状部材１０１によって形成される排ガス処理体９１が、内円筒状部１０２の内周面１０２の内側に入り、内部側通気路を塞いでしまうことが防止される。また排ガス処理体９１を形成するウール状部材１０１は、リテーナ９２の内円筒状部に絡めることによって、リテーナ９２に着脱自在に保持される。このように排ガス処理体９１をウール状部材１０１によって形成すること、リテーナ９２の軸線周りの外周面９４側からであっても排ガス処理体９１のリテーナ９２への装着および離脱が可能となるので、排ガス処理体９１のリテーナ９２への着脱がより容易となる。本実施の形態の排ガス処理体９１は、前述の実施の形態の排ガス処理体９１と同様に、図５に示す前述のリテーナ９２に保持される。このようなバグフィルタにおいても、前述のバグフィルタと同様な効果を達成することができる。
【０１０２】
排ガス処理体９１は、ウール状部材１０１を所定のかさ密度で筒形状に形成して構成されるので、形状の変更が容易であり、また、かさ密度を調整することによって、微小な空隙９６によって形成される排ガスの流路の断面積を容易に調整することができるので、設計の自由度が向上し、所望の形状の排ガス処理体９１を形成することができる。また排ガス処理体９１を、プレス加工などを用いることなく形成することができ、排ガス処理体９１を容易に形成することができる。
【０１０３】
本実施の形態では、排ガス処理体９１をウール状部材１０１によって形成しているが、本発明の他の実施の形態において、排ガス処理体９１は、たとえばフェルト状部材によって形成してもよい。
【０１０４】
以下に、前述の実施の形態の排ガス処理体１、６１，９１の実施例１〜３について説明する。
【実施例】
【０１０５】
［実施例１］
前述した図１に示す実施の形態の排ガス処理体１を以下の表１および表２に示す条件で作成した。実施例１の排ガス処理体１をメタルコアハニカム触媒と記載する。
表１は、触媒担体３に関連する条件を示す。
【０１０６】
【表１】
2005246301.tif 000004
【０１０７】
表２は、触媒形成工程における条件を示す。
【０１０８】
【表２】
2005246301.tif 000005
【０１０９】
形成したメタルコアハニカム触媒の、触媒の厚みは、おおむね０．３ｍｍであった。また触媒の重量は、軸線方向の寸法Ｈ２が３００ｍｍである場合、約２．９キログラム（ｋｇ）であった。また触媒のガス接触面積は、軸線方向の長さ１メートル（ｍ）あたり約１６平方メートル（ｍ２）である。このような排ガス処理体を、軸線方向の寸法を１５０ｍｍに形成して、分解率試験装置１１０によって、クロロトルエンの分解率を測定した。
【０１１０】
図１４は、排ガス処理体の所定の物質の分解率を測定する分解率試験装置１１０を模式的に示す図である。ダイオキシン類は猛毒であり、その扱いが困難であるため、分解率の試験では、所定の物質として、ダイオキシン類の代替物質であるクロロトルエン（化学式：Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３）Ｃｌ）を用いた。クロロトルエンは、ダイオキシン類に温度特性が近似しており、クロロトルエンの分解率からダイオキシン類の分解率と近似するので、ダイオキシン類の分解率を推定することができる。クロロトルエンの分解率とダイオキシン類の分解率は、ほぼ等しいと考えることができる。ここでは、ダイオキシン類の代替物質として、トリクロロベンゼンを用いたが、たとえばダイオキシン類の代替物質として、クロロトルエン（化学式：ＣＨ４（ＣＨ３）Ｃｌ）、ジクロロベンゼン（化学式：Ｃ６ＨＣｌ２）、およびトリクロロフェノール（化学式：Ｃ６Ｈ３Ｃｌ３Ｏ）などを用いても同様に、ダイオキシン類の分解率を推定することができる。
【０１１１】
分解率試験装置１１０は、ボイラ式ごみ焼却炉から排出される擬似的な排ガスを生成するガス生成部１１１と、内部に濾材と排ガス処理体が配置されバグフィルタを形成する恒温槽１１２とを含む。
【０１１２】
ガス生成部１１１は、クロロトルエン供給手段１１３、窒素ガス供給手段１１４、加熱手段１１５、水供給手段１１６、および空気供給手段１１７を含む。クロロトルエン供給手段１１３は、恒温水槽に浸され、液体状のクロロトルエンが収容される収容体１１８を有する。窒素ガス供給手段１１４は、前記クロロトルエンが収容される収容体１１８に窒素ガスを供給する。これによって液体状のクロロトルエンを気化させて、気化されたクロロトルエンが収容体１１８から流出し、輸送管によって加熱手段１１５に導かれる。窒素ガス供給手段１１４は、前記収容体１１３に窒素ガスを供給するとともに、第１バルブ１１９および前記輸送管を介して加熱手段１１５にも窒素ガスを供給する。加熱手段１１５は、たとえば電気ヒータによって実現され、気化したクロロトルエンと、窒素ガスと、水供給手段１１６から供給される水とを所定の温度に加熱する。加熱手段１１５によって加熱されたガスは、空気供給手段１１７から供給される空気と混合されて、輸送管を介して恒温層１１２に導かれる。ガス生成部１１１によって、ボイラ式ごみ焼却炉から排出される窒素および水分を含む排ガスと同様な組成を有するガスが、恒温槽１１２に供給されるように、クロロトルエン供給手段１１３、窒素ガス供給手段１１４、加熱手段１１５、水供給手段１１６、および空気供給手段１１７による、クロロトルエン、窒素ガス、水、および空気の供給量を調節した。
【０１１３】
前述したフィルタ槽と同様の機能を有する恒温槽１１２の内部に、濾材、および前記メタルコアハニカム触媒を装着した前述したリテーナに相当する濾布ゲージ１１０を保持させた。メタルコアハニカム触媒の外周面は、濾材によって覆われるようにし、メタルコアハニカム触媒の外周面からのみガスが流入するように構成した。濾材は、テトラフルオロエチレンに所定の割合でガラスを混入させて形成される繊維を用いた濾布によって形成され、目付けは約６５０ｋｇ／ｍ２とした。
【０１１４】
ガス生成部１１１からの恒温槽１１２に供給されるガスに含まれるクロロトルエンの濃度は、３０ｐｐｍとし、濾過風量を６ｍ３Ｎ／ｈ（２００℃において濾過風速約２ｍ／分）とした。このとき、高温槽に流入させるガスに含まれるクロロトルエンの濃度と、濾材およびメタルコアハニカム触媒を通過して恒温槽１１２から流出するガスに含まれるクロロトルエンの濃度とをサンプリングし、ガス温度と分解率との関連を測定した。
【０１１５】
図１５は、実施例１におけるメタルコアハニカム触媒を用いたときのガス温度とクロロトルエン分解率との関係を示すグラフである。図１５において横軸は、ガス温度（℃）を示し、縦軸はクロロトルエンの分解率（％）を示す。図１５にも示すように、クロロトルエンの分解率は、１７０℃で約５７％、１８０°で約７２％、および２００℃で約９２％であった。
【０１１６】
この結果から、排ガスの風速を毎分１ｍ程度とすると、排ガスの温度が１８０℃以上であれば９０％以上の分解率が期待できる。また通風圧損は、微小であり測定することができなかった。
【０１１７】
［実施例２］
前述した図８に示す実施の形態の排ガス処理体を以下の条件で形成した。所定の触媒形成工程における各設定条件は、実施例１と同じであり、表２に示される。実施例２の排ガス処理体を、スパイラルコアハニカム所定の触媒と記載する。
表３は、触媒担体に関連する条件を示す。
【０１１８】
【表３】
2005246301.tif 000006
【０１１９】
スパイラルメタルコア触媒の、触媒の重量は、軸線方向の寸法Ｈ４が３００ｍｍである場合、約２．２キログラム（ｋｇ）であった。また触媒のガス接触面積は、軸線方向の長さ１メートル（ｍ）あたり約１２ｍ２である。このような排ガス処理体を、軸線方向の寸法を１５０ｍｍに形成して、前述した分解試験装置１１０によって、クロロトルエンの分解率を測定した。濾材および排ガスの成分についても実施例１と同じ条件とした。ただし、濾過風量を６ｍ３Ｎ／ｈ（２００℃において濾過風速約２ｍ／分）とした。
【０１２０】
図１６は、実施例２におけるメタルコアスパイラル触媒を用いたときのガス温度とクロロトルエン分解率との関係を示すグラフである。図１６において横軸は、ガス温度（℃）を示し、縦軸はクロロトルエンの分解率（％）を示す。図１６には、比較例として、引用文献４に示す従来の技術のバグフィルタによって、同様な条件で試験した場合のクロロトルエンの分解率を同時に示している。図１６において比較例の結果を点線で示す。比較例のバグフィルタでは、本発明と同じ成分の所定の触媒を担持させたとする。所定の触媒の担持量は、通気度の確保などから、目付け量の２０パーセント（％）とし、１００グラム（ｇ）／ｍ２程度である。
【０１２１】
図１６では、排ガス処理体に通ガス後、約１時間が経過し、クロロトルエンの濃度が安定した時点における分解率を示す。図１６に示すように、クロロトルエンの分解率は、排ガス温度が１７０℃で約７９．３０％であり、排ガス温度が１８０℃で９０．０６％であり、排ガス温度が２００℃で９９．００％であり、２２０℃で９９．９０パーセントであり、２４０℃で９９．９８％であった。本実施例においても、通風圧損は微小であり、測定することができなかった。
【０１２２】
本実施例のメタルコアスパイラス触媒を用いると、従来の技術のバグフィルタと比較して、低温から高温まで、分解率を向上させることができること判る。特に２００度程度であってもクロロトルエンを９９パーセント（％）分解することができ、たとえば焼却炉において燃焼温度が低下した場合、冷却装置によって排出ガスの温度が低下してしまう場合においても、ダイオキシン類が外部に排出されることが防止され、さらにボイラ式焼却炉などの燃焼温度が低く、ダイオキシン類が排ガスに含まれ炉外に排出される焼却炉であっても、排ガスに含まれるダイオキシン類を効率的に除去することができ、安全性が向上される。
【０１２３】
［実施例３］
前述した図１２に示す実施の形態の排ガス処理体を以下の条件で形成した。所定の触媒形成工程における各設定条件は、実施例１と同じであり、表１に示される。実施例３の排ガス処理体を、ウール状所定の触媒と記載する。
表４は、触媒担体に関連する条件を示す。
【０１２４】
【表４】
2005246301.tif 000007
【０１２５】
触媒担体の重量は７００ｇであり、そのうちウール状部材の重量は３００ｇであり、ウール状触媒の、触媒の重量は４００ｇであった。ウール状部材の重量から、触媒のガス接触面積は、軸線方向の長さ１メートル（ｍ）あたり約１５ｍ２である。
【０１２６】
分解率試験装置は、実施例１と同じものを用いた。濾材および排ガスの成分についても実施例１と同じ条件とした。ただし、濾過風量を６ｍ３Ｎ／ｈ（２００℃において濾過風速約２ｍ／分）とした。
【０１２７】
図１７は、実施例３におけるウール状触媒を用いたときのガス温度とクロロトルエン分解率との関係を示すグラフである。図１７において横軸は、ガス温度（℃）を示し、縦軸はクロロトルエンの分解率（％）を示す。図１７には、比較例として、引用文献４に示す従来の技術のバグフィルタによって、同様な条件で試験した場合のクロロトルエンの分解率を同時に示している。この比較例については、実施例２と同じである。図１７において比較例の結果を点線で示す。
【０１２８】
図１７では、排ガス処理体に通ガス後、約１時間が経過し、クロロトルエンの濃度が安定した時点における分解率を示す。図１７に示すように、クロロトルエンの分解率は、排ガス温度１７０℃で７８％であり、排ガス温度１８０℃で９０％であり、排ガス温度２００℃で９９％であった。
【０１２９】
本実施例のウール状触媒を用いると、従来の技術のバグフィルタと比較して、低温から高温まで、分解率を向上させることができること判る。特に２００度程度であってもクロロトルエンを９９パーセント（％）分解することができ、たとえば焼却炉において燃焼温度が低下した場合、冷却装置によって排出ガスの温度が低下してしまう場合においても、ダイオキシン類が外部に排出されることが防止され、さらにボイラ式焼却炉などの燃焼温度が低く、ダイオキシン類が排ガスに含まれ炉外に排出される焼却炉であっても、排ガスに含まれるダイオキシン類を効率的に除去することができ、安全性が向上される。
【０１３０】
本実施の各実施の形態において、触媒担体は、直円筒形状に形成されているが、筒形状であれば同様の効果を得ることができる。また前述した本発明の各実施の形態において排ガス処理体は、前述の所定の触媒に限らず、分解すべき所定の物質を分解することができる他の所定の触媒を触媒担体に担持させて形成されてもよい。また所定の物質をダイオキシン類としているが、所定の物質は、窒素酸化物（化学式：ＮＯｘ）および硫黄酸化物（化学式：ＳＯｘ）などであってもよい。
【０１３１】
前述した各実施の形態において、排ガス処理体は、前述したリテーナ部を含んで構成されてもよい。この場合、リテーナ部にも所定の触媒を担持させてもよく、リテーナ部に所定の触媒を担持させると、排ガスが所定の触媒と接触する接触面積をさらに増加させることができる。
【０１３２】
また前述した各実施の形態において、リテーナと排ガス処理体とを溶接および接着剤などによって固定してもよい。この場合、排ガス処理体の交換時には、リテーナも同時に交換する必要があるが、リテーナと排ガス処理体とが一体化されているので、排ガス処理体の交換がより容易となる。
【０１３３】
本発明の実施のさらに他の形態において、前述した各実施の形態の排ガス処理体を備えるバグフィルタにおいて、排ガス処理体に形成されている所定の触媒に、所定の光を照射する構成としてもよい。所定の触媒に所定の光を照射することによって、所定の触媒の表面に活性な酸素種が生成され、これによって所定の触媒反応をさらに促進させることができ、所定の物質の分解率をさらに向上させることができる。
【０１３４】
また本発明の実施のさらに他の形態において、前述の各実施の形態を組み合わせて排ガス処理体およびバグフィルタを構成してもよい。また複数の排ガス処理体を軸線まわりに重ねて配置してもよい。たとえば第１の排ガス処理体の内面側に、第１の排ガス処理体内周面の径よりも小さな外周面の径を有する第２の排ガス処理体を配置して、第１および第２の排ガス処理体において担持する所定の触媒を異なるものにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１３５】
【図１】本発明の実施の一形態の排ガス処理体１を示す斜視図である。
【図２】排ガス処理体１を構成する触媒担体３の一部を分解して示す斜視図である。
【図３】触媒担体３を外周面側から見て部分的に示す側面図である。
【図４】触媒担体３を内周面側から見て部分的に示す側面図である。
【図５】排ガス処理体１を保持するリテーナ２の構造を示す斜視図である。
【図６】触媒担体３に所定の触媒７を付着させる触媒付着工程の手順を示すフローチャートである。
【図７】排ガス処理体１が用いられるバグフィルタ２４を模式的に示す断面図である。
【図８】本発明の他の実施の形態の排ガス処理体６１を示す斜視図である。
【図９】排ガス処理体６１を構成する触媒担体６３の一部を分解して示す斜視図である。
【図１０】触媒担体６３を内周面側から見て部分的に示す側面図である。
【図１１】触媒担体６３を外周面側から見て部分的に示す側面図である。
【図１２】本発明の実施のさらに他の形態の排ガス処理体９１を示す斜視図である。
【図１３】排ガス処理体９１を保持する保持体であるリテーナ９２の構造を示す斜視図である。
【図１４】排ガス処理体の所定の物質の分解率を測定する分解率試験装置１１０を模式的に示す図である。
【図１５】実施例１におけるメタルコアハニカム触媒を用いたときのガス温度とクロロトルエン分解率との関係を示すグラフである。
【図１６】実施例２におけるメタルコアスパイラル触媒を用いたときのガス温度とクロロトルエン分解率との関係を示すグラフである。
【図１７】実施例３におけるウール状触媒を用いたときのガス温度とクロロトルエン分解率との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１３６】
１，６１，９１  排ガス処理体
３，６３，９３  触媒担体
７  所定の触媒
２４  バグフィルタ
２７  濾材
６，６６，９６  空隙
【図１】
2005246301.tif 000008
【図２】
2005246301.tif 000009
【図３】
2005246301.tif 000010
【図４】
2005246301.tif 000011
【図５】
2005246301.tif 000012
【図６】
2005246301.tif 000013
【図７】
2005246301.tif 000014
【図８】
2005246301.tif 000015
【図９】
2005246301.tif 000016
【図１０】
2005246301.tif 000017
【図１１】
2005246301.tif 000018
【図１２】
2005246301.tif 000019
【図１３】
2005246301.tif 000020
【図１４】
2005246301.tif 000021
【図１５】
2005246301.tif 000022
【図１６】
2005246301.tif 000023
【図１７】
2005246301.tif 000024