(57)【要約】  【課題】  人体から発せられる汗などの分泌物が付着しても剥離や変色の生じがたい光学物品を提供する。  【解決手段】  基体上に設ける反射防止層を４層以上とし、更にその上にバリア層を構成し、かつ、バリア層と接する側及び基体と接する側の反射防止層の両最外層は二酸化ケイ素とし、かつ、バリア層は、物理膜厚が５〜２０ｎｍ、かつ主成分が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物および酸化インジウムと酸化スズの混合物からなる群から選ばれる材料の単層もしくは複数層とする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する基体上に、４層以上の膜で構成された反射防止層、該反射防止層上にバリア層が構成された光学物品であって、バリア層と接する側及び基体と接する側の反射防止層の両最外層は二酸化ケイ素が主成分である層からなり、かつ、前記のバリア層は、物理膜厚が５〜２０ｎｍ、かつ主成分が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物および酸化インジウムと酸化スズの混合物からなる群から選ばれる材料の単層もしくは複数層で構成されていることを特徴とする光学物品。
【請求項２】
基体がプラスチックであることを特徴とする請求項１に記載の光学物品。
【請求項３】
基体の最外層にはハードコート層が形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光学物品。
【請求項４】
前記反射防止層は、４５０〜５５０ｎｍから選ばれる任意の波長λにおいて、基体側から第１層目は二酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．０５λ〜０．１５λを満たし、第２層目は酸化ジルコニウムからなり光学膜厚は０．１０λ〜０．３０λを満たし、第３層目は二酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．０５λ〜０．１５λを満たし、第４層目は酸化チタンからなり光学膜厚は０．１０λ〜０．３０λを満たし、第５層目が二酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．１５λ〜０．３５λを満たすことを特徴とする請求項１または２に記載の光学物品。
【請求項５】
反射防止層は、４５０〜５５０ｎｍから選ばれる任意の波長λにおいて、基体側から第１層目は二酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．０５λ〜０．１５λを満たし、第２層目は酸化ジルコニウムからなり光学膜厚は０．１０λ〜０．３０λを満たし、第３層目は二酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．０５λ〜０．１５λを満たし、第４層目は酸化チタンからなり光学膜厚は０．０５λ〜０．１５λを満たし、第５層目は酸化インジウムと酸化スズの混合物からなり光学膜厚は０．０３λ〜０．０９λを満たし、第６層目は二酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．１５λ〜０．３５λを満たす、第５層目に導電層が設けられたことを特徴とする請求項１または２に記載の光学物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐人工汗性、耐温水性にすぐれた反射防止膜が施された光学物品に関する。さらに詳しくは、携帯電話、デジタルカメラ等の画面表示部の内蔵型前面板、パソコンなどのディスプレイ用光学フィルター、眼鏡レンズ、カメラ用レンズなどの反射防止膜付き光学物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にレンズや光学フィルターなどのプラスチック製品の反射防止膜は、真空蒸着法などで単層、または多層の金属酸化物の薄膜を成膜して作製されているが、反射防止の原理から、基体から一番外側にくる層（最外層）は低屈折率な材料で構成される。低温で蒸着可能で透明かつ膜硬度の高い低屈折率材料としては二酸化ケイ素と弗素化マグネシウムがあり、ほとんどの反射防止膜の最外層にはこれらの材料が使用されている。特にプラスチック製品で耐熱性が得られない製品は、弗素化マグネシウムでは密着性が得られないため二酸化ケイ素が使用される。
【０００３】
ところが、二酸化ケイ素膜は、人工汗などのアルカリ性薬品の滴下試験や、温水（飲料水）に浸しておくだけで、二酸化ケイ素が試験溶液に溶出し、反射干渉色変化が生じてしまうという問題があった。
【０００４】
人工汗などのアルカリ性薬品に対する耐久性を向上させる試みは、例えば、反射防止膜の基体側の第１層、第３層にＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2とＴａ2Ｏ5との混合物、またはＺｒＯ2とＴｉＯ2との混合物を積層し、第２層にＭｇＦ2を積層する方法と、反射防止膜の基体側の第１層、第３層、第５層にＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2とＴａ2Ｏ5との混合物、またはＺｒＯ2とＴｉＯ2との混合物を積層し、第２層、第４層にＭｇF2を積層する方法とが知られているが（例えば、特許文献１，２）、水に対し溶解性を持つＭｇＦ2を使用しているため、水が表面に付着することで膜が溶出し、反射干渉色の変化や膜が剥離してしまうといった欠点を有していた。
【０００５】
また、別な方法として、基体側から第１層および第３層にＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2とＴａ2Ｏ5との混合物、またはＺｒＯ2とＴｉＯ2との混合物を積層し、第２層にＳｉＯ2の構成を持つ耐薬反射防止膜が提案されているが（特許文献３）、光学ガラス用途としては反射防止効率が悪く問題があった。また、携帯電話機、デジタルカメラに搭載される画面表示装置用前面板に用いられるプラスチック基体へ、該反射防止膜を施すと耐久性が悪い。すなわち、人体から発せられる汗などの分泌物が付着された状態で皮膚や布等で擦過されることで、反射防止膜が簡単に剥離してしまうという問題点も有していた。
【特許文献１】特開平５−３４５０３号公報
【特許文献２】特開平５−３４５０６号公報
【特許文献３】特開平５−３４５０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明はかかる問題点を改良し、アルカリ性薬品や水に浸されても、蒸着膜の剥離や反射干渉色が変化しにくい、膜密着性と反射防止効率が良好な光学物品を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち本発明は、次の構成からなる。
「（１）光透過性を有する基体上に、４層以上の膜で構成された反射防止層、該反射防止層上にバリア層が構成された光学物品であって、バリア層と接する側及び基体と接する側の反射防止層の両最外層は酸化ケイ素が主成分である層からなり、かつ、前記のバリア層は、物理膜厚が５〜２０ｎｍ、かつ主成分が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物および酸化インジウムと酸化スズの混合物からなる群から選ばれる材料の単層もしくは複数層で構成されていることを特徴とする光学物品。
【０００８】
（２）基体がプラスチックであることを特徴とする前記（１）に記載の光学物品。
【０００９】
（３）基体の最外層にはハードコート層が形成されていることを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の光学物品。
【００１０】
（４）前記反射防止層は、４５０〜５５０ｎｍから選ばれる任意の波長λにおいて、基体側から第１層目は酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．０５λ〜０．１５λを満たし、第２層目は酸化ジルコニウムからなり光学膜厚は０．１０λ〜０．３０λを満たし、第３層目は酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．０５λ〜０．１５λを満たし、第４層目は酸化チタンからなり光学膜厚は０．１０λ〜０．３０λを満たし、第５層目が酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．１５λ〜０．３５λを満たすことを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の光学物品。
【００１１】
（５）反射防止層は、４５０〜５５０ｎｍから選ばれる任意の波長λにおいて、基体側から第１層目は酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．０５λ〜０．１５λを満たし、第２層目は酸化ジルコニウムからなり光学膜厚は０．１０λ〜０．３０λを満たし、第３層目は酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．０５λ〜０．１５λを満たし、第４層目は酸化チタンからなり光学膜厚は０．０５λ〜０．１５λを満たし、第５層目は酸化インジウムと酸化スズの混合物層からなり光学膜厚は０．０３λ〜０．０９λを満たし、第６層目は酸化ケイ素からなり光学膜厚は０．１５λ〜０．３５λを満たす、第５層目に導電層が設けられたことを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の光学物品。」である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、人体から発せられる汗などの分泌物が付着した際の、反射率および干渉色変化を生じ難い光学物品を提供できる。特に人体と接触機会の多い、携帯電話やデジタルカメラ等の携帯用電子機器端末の画面表示装置用前面板として使用される光学物品に適している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の反射防止層については高屈折率材料と低屈折率材料からなる、４層以上の構造をもつ多層膜とすることで、可視光の広い波長領域での反射防止を可能とする。
【００１４】
さらに、視感度の高い５００〜６００ｎｍの波長の反射率を抑えるという観点から、多層膜の屈折率が基体側から外へ向かって中屈折率層、中屈折率層より屈折率が高い高屈折率層、そして中屈折率層より屈折率が低い低屈折率層からなっていることが好ましく、さらには中屈折率層を低屈折率層と高屈折率層とで等価膜とした、４層以上の膜構成がより好ましい。この構成にすることで、光の反射率を特に低く抑えることができる。
【００１５】
二酸化ケイ素の膜としては、公知の無機シリカ膜でよく、シリカを真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの方法を用いて設けることができる。
【００１６】
低屈折率材料としては、屈折率が１．５未満の材料を言い、たとえば、二酸化ケイ素、弗素化マグネシウム、弗素化アルミニウム、弗素化バリウム、弗素化リチウム、六弗素化アルミニウム三ナトリウム、十四弗素化三アルミニウム五ナトリウム、弗素化ナトリウム、弗素化ストロンチウムなどが挙げられ、これら物質単体あるいはこれらの物質を１種類以上含む混合物が挙げられる。なかでも透明性、膜硬度、密着性の点から二酸化ケイ素 が好ましく用いられる。また、本発明では、膜密着性、耐水性を向上させるため、反射防止層の両最外層を二酸化ケイ素とすることが必要である。
【００１７】
高屈折率材料としては、屈折率が１．８以上の材料を言い、たとえば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、一酸化ケイ素、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化アンチモン，酸化スズ，酸化インジウム、酸化スズと酸化インジウム混合物、酸化タンタル、酸化セリウム、酸化マグネシウム、酸化ハフニウム、三酸化二プラセオジム、十一酸化六プラセオジム、酸化ビスマス、酸化クロム、酸化ユウロピウム、三酸化二鉄、三酸化二ランタン、酸化モリブデン、酸化ネオジム、酸化鉛、三酸化二サマリウム、酸化スカンジウム、酸化亜鉛、弗素化カルシウム、弗素化サマリウム、硫化亜鉛、ゲルマニウム、ケイ素などが挙げられ、これら物質単体あるいはこれらの物質を１種類以上含む混合物が挙げられる。なかでも酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）、酸化スズ、酸化イットリウム、酸化マグネシウムが好ましく用いられる。これらの物質からなる薄膜を２層以上重ね合わせて高屈折率層としても良い。
【００１８】
中屈折率材料としては、屈折率が１．５以上１．８未満の材料を言い、たとえば、酸化アルミニウム、酸化タングステン、弗素化セリウム、弗素化ランタン、弗素化ネオジム、弗素化鉛、酸化マグネシウムなどが挙げられ、これら物質単体で用いてもよいが、高屈折率材料と低屈折率材料を併用して等価膜化して用いることが好ましい。たとえば、酸化アルミニウムの代わりに酸化ジルコニウムと二酸化ケイ素を併用して光学的な等価性を発揮させるようなことが挙げられる。
【００１９】
本発明において、反射防止層の膜厚は特に限定するものではないが、視感反射率を低くするよう膜設計すればよい。以下例示する好ましい膜構成にすれば、反射が低く、密着性、膜硬度、摩耗性に良好な反射防止層が得られる。すなわち、好ましい反射防止層の構成はλを設計波長としたとき、４５０〜５５０ｎｍの範囲で、「４５０〜５５０ｎｍから選ばれる任意の波長λにおいて、中屈折率層が基体側から二酸化ケイ素膜層で光学膜厚が０．０５λ〜０．１５λを満たす層と、酸化ジルコニウム膜層で光学膜厚が０．１０λ〜０．３０λを満たす層と、二酸化ケイ素膜層で光学膜厚が０．０５λ〜０．１５λを満たす層の３層からなり、高屈折率層が基体側から数えて酸化チタン膜層で光学膜厚が０．１０λ〜０．３０λを満たす層からなり、低屈折率層が二酸化ケイ素膜層で光学膜厚が０．１５λ〜０．３５λを満たす層からなるもの」、「４５０〜５５０ｎｍから選ばれる任意の波長λにおいて、中屈折率層が基体側から数えて二酸化ケイ素膜層で光学膜厚が０．０５λ〜０．１５λを満たす層と、酸化ジルコニウム膜層で光学膜厚が０．１５λ〜０．３５λを満たす層と、二酸化ケイ素膜層で光学膜厚が０．０５λ〜０．１５λを満たす層の３層からなり、高屈折率層が基板側から数えて酸化チタン膜層で光学膜厚が０．０５λ〜０．１５λを満たす層と酸化インジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）膜層で光学膜厚が０．０３λ〜０．０９λを満たす層からなる２層からなり、低屈折率層が二酸化ケイ素膜層で光学膜厚が０．１５λ〜０．３５λを満たす層からなるもの」、が挙げられる。
【００２０】
反射防止層をこのような構成とすることで、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタンのような一般的で安価な蒸着物質を使って、広範囲の波長域に渡って外光からの反射を低く抑えることができる。また、酸化インジウムと酸化スズを使用することで、導電性を付与でき、電界波カット、静電気防止などの機能を追加できる。
【００２１】
本発明においては、反射防止層の上にバリヤ層が形成されている。バリア層を構成する材料としては、蒸着で成膜した際に結晶化され原子が規則正しく配列し、アルカリ成分が浸食し難い緻密な膜となる酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウムと酸化チタンの混合物および酸化インジウムと酸化スズの混合物からなる群から選ばれる成分を主成分とする単層若しくは複数層で構成されていることが必要である。バリア層形成時には、結晶性を高め、バリヤ効果を高める目的で、成膜時の基板温度を上げる方法、蒸着レートを落とし所要成膜時間を増やす方法および、高周波プラズマ、イオンビーム照射によるアシスト法を用いることが好ましく、さらに好ましくはプラスチック基板へのダメージ、生産効率、成膜粒子のアシスト効率の点からイオンビーム照射法を用いる。バリア層の物理膜厚は５〜２０ｎｍとすることが更に反射防止効果を発揮するので好ましい。なお、ここで主成分とは６０重量％以上を占めることを言い、好ましくは８０重量％以上、さらに好ましくは９０重量％以上を占めている。
【００２２】
本発明における反射防止層およびバリヤ層は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、湿式塗工法など、公知の方法によって設けることができる。より好ましくは、蒸着面積を大きくでき、膜厚制御が容易で平滑な表面を作ることができる点から、真空蒸着法が用いられる。主成分が酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化チタンと酸化ジルコニウムの混合物および酸化インジウムと酸化スズの混合物とは、これらの材料の純度が９９％以上であることが好ましく、特に真空蒸着においては、膜厚制御精度が高まる、加工後の外観欠点が減るなどの理由から９９．９％以上の純度の材料が好ましく用いられる。
【００２３】
本発明に用いられる基体としては、ガラス平板やプラスチック平板、プラスチックシート、フィルムなどが好ましく用いられる。特に割れない、軽い、加工しやすい、また取り扱いのしやすさの観点からプラスチック製の基体が好ましく用いられる。ここでいうプラスチックとは、例えば、ポリメタクリル酸系樹脂、ポリカーボネイト系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリスルフィド系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、エポキシ系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ジアリルフタレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、マレイミド系樹脂、ポリフォスファゼン系樹脂などが挙げられ、物性面、経済性からポリメタクリル酸系樹脂が好ましく用いられる。
【００２４】
本発明においては、基体の最外層にはハードコート層が設けられていていることが好ましい。ハードコート層があっても前記反射防止層との密着性や耐剥離性は良好であるが、特にプラスチックが用いられている場合、反射防止膜との密着性を高め、かつ傷つき防止をはかることができる。ハードコート膜としては公知のものを用いることができ、一般的に用いられる材料としては、熱キュア型のポリオルガノシロキサン系ハードコートまたは紫外線硬化型のアクリル系ハードコート、シリカ、アルミナなどを含むアクリル系ハードコート膜などが用いられる。特に、汎用的に使用され、低コストであるという点からアクリル系のハードコートを好適に用いることができる。さらに好ましくは基体の屈折率と同等な屈折率を有するハードコートにすると、干渉縞が見えにくい反射防止膜付き基体が得られる。ハードコートの膜厚は、１〜１０μｍ程度である。
【００２５】
また、アクリル系ハードコートとは、メタクリル酸などのアクリル系化合物と、ペンタエリスリトール、グリセリンなどの多官能グリコールとのエステル化合物を架橋させたものなどをいう。
【００２６】
さらに、反射防止層とハードコート層との密着性を高める目的で、ハードコート層に表面処理がされていることが好ましい。ここでいう表面処理とは、アルカリ処理、酸素雰囲気中での高周波放電によるプラズマ処理、真空中でのアルゴンや酸素などのイオンビーム照射による処理、空気中にてコロナ放電処理、紫外線照射による処理などが挙げられる。好ましくは酸素雰囲気中での高周波放電によるプラズマ処理、真空中でのイオンビーム照射による処理が好ましい。
【００２７】
本発明の光学物品においては、手垢などの汚れを防止するために最表層には好ましく撥水加工が行われる。撥水加工としては、ウエット法、真空蒸着法などがあげられる。反射防止膜を蒸着で形成する場合には生産効率の点から真空蒸着で撥水加工を行うことが好ましい。
【実施例】
【００２８】
光学物品の評価は以下の方法にて行った。
【００２９】
＜反射防止層の剥離性、反射干渉色の変色性＞
人工汗は、ＪＩＳ−Ｌ−１０４７に準じて調製した。すなわち、Ｌ−ヒスチジン塩酸塩（１水塩）０．５ｇ、塩化ナトリウム５ｇ、燐酸水素二ナトリウム（１２水塩）５ｇ、N／１０水酸化ナトリウム溶液２５ｍｌと蒸留水を加え、ｐＨ８．０で全容が１Ｌになるよう調整したものである。この人工汗を、試験片に滴下し、室温にて８時間処理する。処理後、試験片上の人工汗をふき取り、表面状態を目視観察した時に、反射防止膜が人工汗に溶けだし、基体側の反射防止膜と接触する層が露出してていた場合、膜剥離と判断した。また、反射干渉色も同時に観察し、人工汗が反射防止膜に浸透し、未処理場所の色相との違いが観察されたときに反射干渉色が変化したと判断した。
【００３０】
＜密着性＞
総繊度が１１１デシデックス、２４フィラメントのポリエステル加工糸と３０番手の綿１００％紡績糸とを２８本／インチ（約２．５４ｃｍ）のゲージの丸編み機でモックミラノリブの組織で交編した布地を用い、試験片に前記の人工汗の５倍濃縮液を３滴たらし、２ｋｇｆ／ｃｍ2（１９６１００Ｐａ）荷重にて前記の布地で往復運動を２０００回繰り返した後、表面状態を目視で観察し、反射防止膜が剥がれ落ち、基体側の反射防止膜と接触する層が露出してていた時、膜剥離と判断した。
【００３１】
＜耐温水試験＞
４０度に加温した水を２時間処理し、きれいに温水を拭き取った後、表面を目視で観察し、反射防止膜が剥がれ落ち、基体側の反射防止膜と接触する層が露出していた時、膜剥離と判断した。
【００３２】
〔実施例１〕
基体としてメタクリル系樹脂にアクリル系ハードコートを施した平板シート（三菱レイヨン製ＭＲ−２００（板サイズ：３６５×２８５ｍｍ、板厚：２ｍｍ））を使用した。次に図１に示した真空蒸着装置（特開平８−１３６７１０：光学薄膜付き基板の製造装置）を用いて、表１に示した構成で反射防止膜を設けた。さらにその反射防止膜の設けられた該基体の一方の面に撥水膜（オプトロン製ＯＦ−１１０）を設けた。
【００３３】
その詳細は以下のとおりである
（１）予備室ではマイクロヒーターで基体を加熱し、基体温度を６５℃で、１０分間保持し、加熱室では基体温度を８０℃として２８分間保持した。つぎに前処理として第一蒸着室へ酸素プラズマを用いて、加速電圧５５０Ｖ、加速電流１００ｍＡとして酸素イオンを加速し、基体の通過領域に照射しながら、基体をさらすように移動させた。
（２）表１に示した構成の反射防止層を第一蒸着室で電子銃蒸着法によって設けた。基体側から４層目の酸化チタン層を成膜する時には酸素を導入し第1蒸着室の圧力を５．０×１０-3Ｐａとし、酸化ジルコニウム層、二酸化ケイ素層を成膜する時は特に酸素導入は行わず圧力は７．０×１０-3〜８．０×１０-3Ｐａ程度であった。バリヤ層を成膜する際には酸素を導入して第１蒸着室の圧力を５．０×１０-3Ｐａとし、さらにプラズマ発生型イオン銃を用いて加速電圧７５０Ｖ、加速電流２５０ｍＡにて酸素イオンを加速し、基体の通過領域に照射しながら、基体をさらすように移動させた。
（３）第２蒸着室では該反射防止膜の上に撥水膜（オプトロン製ＯＦ−１１０）を抵抗加熱によって設けた。第２蒸着室の圧力は５．０×１０-3〜８．０×１０-3Ｐａ程度であった。
【００３４】
このようにして得られた反射防止膜の耐人工汗性は８時間処理しても、反射防止膜の剥離、反射干渉色変化は認められなかった。膜密着性評価をおこなったが、膜剥離は認められなかった。耐温水性試験の結果においても、膜剥離は観察されなかった。また、反射率が非常に低く反射防止特性も良好であった。
【００３５】
〔実施例２〕
実施例１と同様に、基体としてメタクリル系樹脂にアクリル系ハードコートを施した平板シートを使用した。真空蒸着装置を用いて、表１に示した構成で基体上に反射防止膜を設けた。さらにその反射防止膜の設けられた該基体の一方の面に撥水膜を設けた。
【００３６】
バリヤ層として使用する酸化インジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）を成膜する際には第１蒸着室の圧力を２．０×１０-2Ｐａとし、酸素プラズマを導入して、加速電圧７５０Ｖ、加速電流２５０ｍＡとして酸素イオンを加速し、基体の通過領域に照射しながら、基体をさらすように移動させた。
【００３７】
このようにして得られた反射防止膜の耐人工汗性は８時間処理しても、反射防止膜の剥離、反射干渉色変化は認められなかった。膜密着性評価をおこなったが、膜剥離は認められなかった。また、耐温水性試験の結果、膜剥離は観察されなかった。反射率も非常に低く反射防止特性も良好であった。
【００３８】
〔実施例３〕
実施例１と同様に、基体としてメタクリル系樹脂にアクリル系ハードコートを施した平板シートを使用した。真空蒸着装置を用いて、表１に示した構成で基体上に反射防止膜を設けた。さらにその反射防止膜の設けられた該基体の一方の面に撥水膜を設けた。
バリヤ層として使用する酸化ジルコニウムを成膜する際には酸素を導入せず、第１蒸着室の圧力は ７．０×１０-3Ｐａ程度であった。
【００３９】
このようにして得られた反射防止膜の耐人工汗性は８時間処理しても、反射防止膜の剥離、反射干渉色変化は認められなかった。膜密着性評価をおこなったが、膜剥離は認められなかった。また、耐温水性試験の結果、膜剥離は観察されなかった。反射率も非常に低く反射防止特性も良好であった。
【００４０】
〔比較例１〕
実施例１と同様に、基体としてメタクリル系樹脂にアクリル系ハードコートを施した平板シートを使用した。真空蒸着装置を用いて、表１に示した構成で基体上に反射防止膜を設けた。さらにその反射防止膜の設けられた該基体の一方の面に撥水膜を設けた。
【００４１】
このようにして得られた反射防止膜は、膜密着性評価の結果、膜剥離は認められなかった。また、反射率が非常に低く反射防止特性も良好であったが、人工汗２時間処理後に、侵食現象が確認され反射干渉色変化が認められた。また、耐温水性試験の結果、燐片状の膜剥離が観察された。
【００４２】
〔比較例２〕
実施例１と同様に、基体としてメタクリル系樹脂にアクリル系ハードコートを施した平板シートを使用した。真空蒸着装置を用いて、表１に示した構成で基体上に反射防止膜を設けた。さらにその反射防止膜の設けられた該基体の一方の面に撥水膜を設けた。このようにして得られた反射防止膜の耐人工汗性は８時間処理しても、反射防止膜の剥離、反射干渉色変化は認められなかった。しかしながら、膜密着性評価の結果、膜剥離が認められた。また、耐温水性試験の結果、膜剥離は観察されなかった。反射率は非常に低く反射防止特性は良好であった。
【００４３】
【表１】
2005070616.tif 000002
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の光学物品を製造する装置の一例を示す横面図である。
【図１】
2005070616.tif 000003