(57)【要約】【課題】  本発明はハードコートを備えた基材において、十分な強度を有し、かつ干渉縞の無い、を供給することを課題とするものである。【解決手段】  上記課題を解決するために、少なくとも基材とハードコート層を含む積層体であって、少なくとも該基材のハードコート層側の面がアモルファスポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする積層体とするものである。さらに上記基材が、変性ポリエチレンテレフタレートを含むことにより、ハードコート層側の面をアモルファスポリエチレンテレフタレートとすることを特徴とするものである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材とハードコート層を含む積層体であって、少なくとも該基材のハードコート層側の面がアモルファスポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする積層体。
【請求項２】
前記基材が複数層からなり、少なくとも該基材のハードコート層側が変性ポリエチレンテレフタレート層であることを特徴とする請求項１記載の積層体。
【請求項３】
前記変性ポリエチレンテレフタレート層が、ポリエチレンテレフタレートの出発原料であるテレフタル酸とエチレングリコールのうち、エチレングリコールの一部又は全部を１、４−シクロへキサンジメタノールにして反応させ、得られた物質を共重合されてなることを特徴とする請求項２に記載の積層体。
【請求項４】
前記変性ポリエチレンテレフタレート層が、ポリエチレンテレフタレートの出発原料であるテレフタル酸とエチレングリコールのうち、テレフタル酸の一部または総てがイソフタル酸にして反応させ、得られた物質を共重合されてなることを特徴とする請求項２または３に記載の積層体。
【請求項５】
請求項３または４の得られた物質を共重合する際、さらにエチレンテレフタレートを加え共重合させてなることを特徴とする請求項３または４に記載の積層体。
【請求項６】
前記ハードコート上に機能層を設けてなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の積層体。
【請求項７】
前記機能層が反射防止層であることを特徴とする請求項６記載の積層体。
【請求項８】
請求項１〜７の積層体を表面保護部材として用いたディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はポリエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴとする）基材上に、干渉縞を無くし視認性を高めたハードコート、及び反射防止処理された板、シート、フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラスチックは軽量で加工性に優れる等の理由から、液晶、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイや光学レンズ等、様々な産業分野で使用されている。しかし、プラスチック自身の表面は傷が付きやすいという欠点を有している。この欠点を改良するため表面にハードコート剤を塗布し、ハードコート層を形成する事で表面硬度を上げ、プラスチックを傷から保護することが日常的に行われている（特許文献１参照）。
【０００３】
ところが、ディスプレイ等の視認性を必要とする部材の表面へ、ハードコートを設けた透明プラスチック基材を用いると、基材とハードコートの屈折率の差から干渉縞が発生し、視認性を悪くするといった問題がある。
【０００４】
このような問題を解決するため、基材を溶解又は膨潤させる溶剤を含む樹脂を用いてハードコート層を塗布することが知られている（特許文献２参照）。しかし、セルロース系のフィルム基材などは汎用溶剤に溶解又は膨潤するが、ＰＥＴフィルムは溶解、膨潤しないため、ＰＥＴを基材として用いた場合、現実的にはこの方法により干渉縞を低減することは不可能であった。
【特許文献１】特開平５−１７９１５５号公報
【特許文献２】特開２００３−２０５５６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、上述した欠点を補うものであり、すなわち、ポリエチレンテレフタレートフィルムを基材とし、十分な強度を有し、干渉縞の無い、ハードコートを備えた積層体を供給するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１の発明は、基材とハードコート層を含む積層体であって、少なくとも該基材のハードコート層側の面がアモルファスポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする積層体である。
【０００７】
請求項２の発明は、前記基材が複数層からなり、少なくとも該基材のハードコート層側が変性ポリエチレンテレフタレート層であることを特徴とする請求項１記載の積層体である。
【０００８】
請求項３の発明は、前記変性ポリエチレンテレフタレート層が、ポリエチレンテレフタレートの出発原料であるテレフタル酸とエチレングリコールのうち、エチレングリコールの一部又は全部を１、４−シクロへキサンジメタノールにして反応させ、得られた物質を共重合されてなることを特徴とする請求項２に記載の積層体である。
【０００９】
請求項４の発明は、前記変性ポリエチレンテレフタレート層が、ポリエチレンテレフタレートの出発原料であるテレフタル酸とエチレングリコールのうち、テレフタル酸の一部または総てがイソフタル酸にして反応させ、得られた物質を共重合されてなることを特徴とする請求項２または３に記載の積層体である。
【００１０】
請求項５の発明は、請求項３または４の得られた物質を共重合する際、さらにエチレンテレフタレートを加え共重合させてなることを特徴とする請求項３または４に記載の積層体である。
【００１１】
請求項６の発明は、前記ハードコート上に機能層を設けてなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の積層体である。
【００１２】
請求項７の発明は、前記機能層が反射防止層であることを特徴とする請求項６記載の積層体である。
【００１３】
請求項８の発明は、請求項１〜７の積層体を表面保護部材として用いたディスプレイである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の積層体は、少なくともハードコート側にアモルファスポリエチレンテレフタレートを用いることにより、十分な強度を有し、かつ干渉縞の抑制に優れた効果を持つ積層体とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下本発明の基材、ハードコート層からなる積層体について詳細に説明する。
【００１６】
本発明では、基材のうち、少なくともハードコート層を設ける側をアモルファスＰＥＴとすることで、十分な強度を有し、かつ干渉縞の発生を抑えた視認性に優れる積層体とすることができるものである。
【００１７】
本発明に用いるアモルファスＰＥＴは、延伸処理などにより結晶化をさせていないものであり、耐溶剤性が低いなどの特徴がある。このアモルファスＰＥＴ上に、アモルファスＰＥＴを浸食する溶剤で希釈したハードコートを塗布することでアモルファスＰＥＴとハードコートの界面を不明瞭にし、界面からの反射を抑制し干渉縞の発生を防止することができる。
【００１８】
ここで言う干渉縞とは、透明基材上に塗膜を設置したものに光を反射させたときに見える虹色の縞模様を指す。この干渉縞は、反射スペクトルを測定すると山と谷が連続した波形を描き、山と谷の差（フリンジ幅）が大きいほど強く、差が小さい程弱く見える。
【００１９】
そこで、山と谷の差から干渉縞の強さを定量的に表す事が出来る。目視観察で干渉縞が全く無いと感じられるのは、山と谷の差が凡そ０．０１５未満の時である。
【００２０】
本発明の少なくともハードコート層を設ける側をアモルファスＰＥＴとした基材は、アモルファスＰＥＴ単層からなるものでも良いし、支持体を含む複数層からなり、少なくともハードコート層を設ける側がアモルファスＰＥＴからなる層であるものでもよい。
【００２１】
アモルファス化したＰＥＴは耐熱性が低いことから単層で基材として用いた場合、その上に設けるハードコートの乾燥、固化の過程で収縮等の不具合が生じ扱いにくいため、望ましくは複数層からなる方がより好ましい。
【００２２】
基材を複数層とする場合、耐熱性を有し、かつアモルファスＰＥＴが熱により軟化した際これを支持出来る強度を持った支持体の片面、若しくは両面にアモルファスペットを設けた多層基材とすることができる。
【００２３】
支持体としては、耐熱性、及び応力に対する強度が有れば特に限定されるものではなく例えば延伸ＰＥＴ、ポリエチレンナフタレート（以下、ＰＥＮとする）、ポリエチレンスルホネート（以下、ＰＥＳとする）等が使用出来る。これらの支持体であれば、結晶性があるので、十分な耐熱性、強度などを有するため好ましい。さらに好ましくはアモルファスＰＥＴとの接着性から二軸延伸のＰＥＴが良い。
【００２４】
支持体へのアモルファスＰＥＴの積層にはアモルファスＰＥＴと支持体を別々に作成し、これらを貼り合わせても良い。
【００２５】
アモルファスＰＥＴの作成方法としては、公知の手法を用いることができ、ゲルマニウム触媒法で作成したり、結晶化速度をコントロールすることで原料組成の変更無しに作成できる。また、ＰＥＴの一部を置換した変性ＰＥＴとすることで結晶化を抑えることができる。
【００２６】
また、貼り合わせ工程を省略するために、供押出しを行い一体成型を行っても良い。このときは、支持体層とアモルファスＰＥＴの結晶性のコントロールが困難となる。
【００２７】
そこで、アモルファスＰＥＴに変性ＰＥＴを用いることで、容易に結晶化を抑えたアモルファスＰＥＴと支持体の共押出しを可能とすることができる。
【００２８】
通常、ＰＥＴはテレフタル酸とエチレングリコールを反応させ得られたエチレンテレフタレートを共重合させることによりポリエチレンテレフタレートが得られる。
【００２９】
本発明の変性ＰＥＴは、ＰＥＴの出発原料である、テレフタル酸とエチレングリコールのうち、テレフタル酸及び／又はエチレングリコールの一部または全部を他の物質に代えて、共重合させることにより得ることができる。
【００３０】
そのようにすることで、ＰＥＴのテレフタル酸由来の部分及び／又はエチレングリコール由来の部分が、他の物質由来の基で置き換わり、結晶化を抑えることができる。
【００３１】
テレフタル酸と置換する物質としては、イソフタル酸、アジピン酸、ジフェニルカルボン酸、ジフェニルエーテルカルボン酸、セバシン酸等のジカルボン酸などを用いることができる。中でもイソフタル酸が好ましい。
【００３２】
エチレングリコールと置換する物質としては、１，４−シクロへキサンジメタノール（ＣＨＤＭ）、ジエチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、トリメチレングリコール、ブチレングリコール等のグリコール系化合物を用いることができる。中でも１，４−シクロへキサンジメタノール、ジエチレングリコールが好ましい。
【００３３】
また、共重合する際、さらにエチレンテレフタレートを加え、共重合させても良い。
【００３４】
また、得られたアモルファスＰＥＴ層には層自身の融着を防止する目的で一般に使用されるシリカやタルク等を視認性を損なわない範囲で添加しても良く、さらにＰＥＴを加えても良い。また、フィルム形式の成型ではその両端をエンボス加工したり、テープを挿入しても良い。
【００３５】
支持体に対するアモルファスＰＥＴ層の厚みは特に限定されないが、片面に対し、支持体：アモルファス層＝１００：１〜１００：２００の範囲であり、１００：１以下では供押し出し成型が困難であり、１００：２００以上では支持体がアモルファス層の熱変形を抑え切れない。
【００３６】
総厚も特に限定されないが１０〜２０００μｍ、より好ましくは３０〜３００μｍである。
【００３７】
基材のフィルム化に際しては、Ｔダイ等を用い溶融積層押し出しを行い、通常のＰＥＴフィルム作成と同じ様にキャストドラムにてキャスティングし速やかに冷却する。その後縦、横の延伸を行い必要に応じて熱処理を行う。
【００３８】
こうして作成されたアモルファスＰＥＴ層を表面に持つ基材は、ハードコート層を塗布する際の、乾燥、固化、さらには反射防止層の設置の際に掛かる熱の変形に耐えられ良好な加工適性を持つ。
【００３９】
ハードコート層を構成する樹脂は、活性エネルギー線硬化樹脂、熱硬化性樹脂の何れも使用可能であるが、特に活性エネルギー線硬化樹脂が好ましい。
【００４０】
活性エネルギー線硬化樹脂は、特に種類は限定されないが、より好ましくは（メタ）アクリロイ基を分子内に持つ化合物であり、さらには（メタ）アクリロイ基が１〜２０個有するものが良い。
【００４１】
具体例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を挙げることが出来る。
【００４２】
用いる溶剤としては、前記基材のアモルファスＰＥＴ層を浸食する、芳香族、アセテート系の溶剤、例えばトルエン、エチルアセテート等が挙げられる。
【００４３】
濃度は適宜調整することができるが、例えばこれらの溶剤に５０ｗｔ％程度となる様に溶解し塗液として用いれば良い。
【００４４】
また、固形分濃度は干渉縞の抑制効果、及び塗工適性を鑑み適宜調整して用いても良い。
【００４５】
ハードコート層には光重合開始剤を配合することが好ましい。光重合開始剤は特に限定されるものではなく、紫外線等を照射した際にラジカルを発生する化合物を用いることができる。
【００４６】
具体的には１−ヒドロキシシクロフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン、ベンゾフェノン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等が使用できる。
【００４７】
本発明では、光開始剤の配合量はエネルギー線硬化性成分１００重量部に対し０．１〜１０重量部、より好ましくは４〜７重量部とされる。０．１重量部より少ないと硬化が不十分のため膜としての強度が不足したりバインダーとしての機能が低下する。また、１０重量部を越えると膜にひびが入ることが有り好ましくない。
【００４８】
また、ハードコート層とアモルファスＰＥＴ層の界面を不明瞭にすると同時に、ハードコート層の屈折率を調整すればさらに干渉縞の発生は抑制される。
【００４９】
アモルファスＰＥＴの屈折率は、ＰＥＴをアモルファス化した場合はアモルファス化の程度により１．４９〜１．６５、例えばシクロへキサンジメタノールやイソフタル酸を用いて変成したＰＥＴの場合はアモルファス化の程度により１．５５〜１．６５の範囲となる。
【００５０】
そこで、アモルファス層の屈折率に合わせ、ハードコート成分に、屈折率低下剤として（メタ）アクリロイ基を持つフッ素含有化合物が良く、より好ましくは分子内に３個のフッ素原子を持つトリフルオロアクリレートが良い。また、シリカゾルの有機溶剤分散体等用いても良い。屈折率向上剤としては一般的に知られる金属酸化物が使用される。
【００５１】
高屈折率を有する微粒子としては、例えば１．７〜２．２の屈折率をＺｎＯや２．３〜２．７の屈折率を持つＴｉＯ２、屈折率が１．６のＡｌ２Ｏ３等が使用される。特に好ましくは、耐電防止作用を持つ酸化錫インジウム、アンチモンドープ酸化錫、酸化アンチモン等の導電性微粒子を用いれば、ディスプレイに用いられた場合いの埃付着性が軽減され、視認性の向上と共に製品としての有用性が向上する。これらをハードコート中に配合することで、より干渉縞が抑制され視認性が高められる。
【００５２】
本発明においては、このハードコート層内に適宜、耐電防止剤や紫外線吸収剤、レベリング剤、消泡剤等の添加剤をハードコートの効果を損なわない範囲で使用することができる。
【００５３】
ハードコート層の塗工は、公知の方法、例えばロールコーター法、ブレードコーター法、マイクログラビア法、スピンコーター法等により基材表面に塗工することができる。その後、必要に応じて熱風乾燥等を行い活性エネルギー線を照射することで硬化させることができる。
【００５４】
ここで用いる活性エネルギー線は特に制限はなく、例えば紫外線や電子線などがある。
【００５５】
紫外線を用いる場合、例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ等を用いた従来公知の紫外線照射装置を用いることができる。
【００５６】
また、電子線を用いる場合、装置に特に制限は無く公知の装置を用いることができる。このときの加速電圧は８０〜３００ｋＶの範囲が一般的である。
【００５７】
本発明では、さらにハードコート層上に目的に応じ、様々な機能層を設けることができる。機能層としては例えば、反射防止層、帯電防止層、電磁波遮蔽層、汚染防止層、色補正層などが挙げられ、目的に応じ、これらを複数組み合わせることもできる。なお、これらの機能層は公知の方法で設けることができる。
【００５８】
このようにして得られた本発明の積層体は、液晶表示体、プラズマディスプレイ、ＣＲＴ、ＥＬ表示体など各種ディスプレイなどの表面保護光学フィルム等、様々な用途に応用することができる。
【実施例１】
【００５９】
ポリエチレンテレフタレートのエチレングリコール部分をエチレングリコールと、シクロヘキサンジメタノールがモル比で１：１となるように導入したＰＥＴ樹脂を１０μｍ、ポリエチレンテレフタレートが９０μｍとなるようＴダイ法で共押し出しフィルムを作成した。このとき、アモルファスＰＥＴ層の屈折率は１．５８であった。
【００６０】
ハードコート層として、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ（日本化薬製）５０ｇと重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４）２．５ｇを溶かしたＭＥＫ５０ｇを加え、均一になるよう攪拌を行い塗工液を作成した。この塗液をワイヤーバーにて、乾燥塗布厚が１０μｍとなるよう上記フィルムのアモルファスＰＥＴ面に塗布し、７０℃のオーブンで１分乾燥を行った後、紫外線照射を行いサンプルを得た。ハードコート層の屈折率は１．５２であった。
【実施例２】
【００６１】
実施例１で示したハードコート塗液に、ＯＳＣＡＬ  スルーリア：ＭＩＢＫ分散（触媒化成工業製）を固形分換算で７０ｇとなるよう加えた他は実施例１と同様にしてサンプルを得た。なお、このときのハードコート層屈折率は１．５８であった。
【実施例３】
【００６２】
ポリエチレンテレフタレートのテレフタル酸部分をテレフタル酸と、イソフタル酸がモル比で２：１となるように導入したＰＥＴ樹脂を１０μｍ、ポリエチレンテレフタレートが９０μｍとなるようＴダイ法で共押し出しフィルムを作成した。このとき、アモルファスＰＥＴ層の屈折率は１．６１であった。その上に実施例１と同様にハードコート層を設けてサンプルを得た。
【実施例４】
【００６３】
実施例２で作成したハードコート層の上に、ＳｉＯ２ゾル溶液：ＤＴＰ−１（住友大阪セメント製）を乾燥膜厚が１００ｎｍとなる様塗布し乾燥、硬化させ反射防止層を設置し、サンプルを得た。
＜比較例１＞
基材をＡ４１００（東洋紡製）１００μｍのＰＥＴフィルムの未処理面を塗布面とした他は実施例１と同様にしてサンプルを得た。
＜比較例２＞
基材をＡ４１００（東洋紡製）１００μｍのＰＥＴフィルムの易接着処理面を塗布面
とした他は実施例１と同様にしてサンプルを得た。
＜評価＞
実施例及び比較例のサンプルを以下に示す方法によって評価した。
（フリンジ幅）
日立製作所製  自動分光光度計Ｕ−４０００を用い、５°正反射で反射スペクトルを測定した。このスペクトルデータから反射率の最大値と最小値の差の絶対値をフリンジの幅とした。なお、測定の際には塗布面と反対の面をサンドペーパーで荒らし、裏面反射防止の
措置を行った。
（目視評価）
２０Ｗ蛍光灯の直近２０ｃｍの距離から干渉縞の目視評価を行った。
【００６４】
評価の際には塗布面と反対の面をサンドペーパーで荒らし、反射防止の措置を行った。
（付着性）
ＪＩＳ  Ｋ５４００−８，５に記載の碁盤目テープ法、１ｍｍのクロスカットにて
試験、評価を行った。
【００６５】
これらの評価結果を表１に示す。
【００６６】
【表１】
2005077879.tif 000002