(57)【要約】【課題】  シール材の開口部の内側の周辺領域部に隣接する表示領域部の外縁部分の表示ムラを低減することのできる電気光学装置の構造を提供する。【解決手段】  本発明の電気光学装置２００は、シール材２３１を介して対向配置された一対の基板２１０，２２０を含み、一対の基板間においてシール材の内側に画成された内部領域Ｘに多数のスペーサ２３３が配置され、電気光学物質２３４がシール材の開口部２３１ａから内部領域に導入されてなり、内部領域には表示領域部ＸＡの外側において表示に寄与しない周辺領域部ＸＢが設けられ、周辺領域部には開口部から内側に離反した位置に段差を生ずる外縁２２４ａを有する内面層２２４が設けられ、開口部の内側の内面層の形成範囲に、開口部の幅方向の一部範囲にのみ対向して島状シール２３５が固定されていることを特徴とする。【選択図】          図１
2005070425.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シール材を介して対向配置されてなる一対の基板を含む電気光学装置であって、
前記一対の基板間において前記シール材の内側に形成された内部領域に複数のスペーサが配置され、
前記シール材は電気光学物質を導入する開口部を有し、
前記内部領域には表示領域部と、該表示領域部の外側において表示に寄与しない周辺領域部とが設けられ、
前記周辺領域部には前記開口部から内側に離間した位置に段差を生ずる内面層が設けられ、
前記内面層の形成範囲に島状シールが固定されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記内面層は前記表示領域部に沿って設けられてなる遮光層を含み、
前記島状シールは、前記遮光層上に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
複数の前記島状シールが前記開口部の幅方向に沿って間隔を有して配列されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記島状シールは前記シール材の基材と同材質で構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
複数のスペーサを挟んでシール材により一対の基板を貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、前記一対の基板間において前記シール材の内側に形成された内部領域に前記シール材の開口部から電気光学物質を導入する電気光学物質導入工程とを有する電気光学装置の製造方法であって、
前記内部領域は表示領域部と、該表示領域部の外側において表示に寄与しない周辺領域部とが設けられ、
前記周辺領域部には前記開口部から内側に離間した位置に段差を生ずる内面層が設けられ、
前記開口部の内側の前記内面層の形成範囲に島状シールが固定され、
前記島状シールが固定された状態で、前記電気光学物質導入工程を実施することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記基板貼り合わせ工程の前に、一方の前記基板上に前記シール材を配置する工程と、他方の前記基板上に前記島状シールを配置する工程とを有することを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記内面層は前記表示領域部に沿って形成された遮光層を含み、
前記島状シールは、前記遮光層上に配置されていることを特徴とする請求項５又は６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器に係り、特に、一対の基板をシール材にて貼り合わせ、シール材の開口部から電気光学物質を導入することにより構成される電気光学装置の構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、一対の基板間に電気光学物質を配置し、この電気光学物質に所定の電界を印加することによって所望の表示態様を得るように構成した電気光学装置が知られている。例えば、このような電気光学装置の一種である液晶装置の平面透視図を図１３に示す。ここで、ガラスなどで構成される一対の基板１１０と１２０がシール材１３１を介して貼り合わされ、一対の基板間においてシール材１３１の内側に画成された内部領域Ｘに図示しない液晶が封入されている。なお、基板１１０の張出部に実装された電子部品１４１は液晶駆動回路を構成する集積回路チップである。
【０００３】
上記のような液晶装置１００を製造する場合には、一対の基板１１０，１２０のそれぞれの内面上に図示しない透明電極、スイッチング素子、カラーフィルタなどを形成してから、一方の基板上に熱硬化性樹脂或いは紫外線硬化樹脂などで構成されるシール材１３１を配置し、他方の基板上に図示しないスペーサを散布した上で、シール材１３１を介して一対の基板１１０，１２０を貼り合わせることによりセル構造を形成する。次に、この一対の基板間においてシール材１３１によって画成される内部領域Ｘにシール材の開口部１３１ａから液晶を注入する。ここで、液晶の注入方法としては、上記のセル構造を真空中に配置してシール材の開口部１３１ａを液晶中に浸漬させた状態で、周囲の圧力を大気圧に戻すことによって生ずる内部領域Ｘと外部との間の圧力差を利用する方法が一般的である。その後、開口部１３１ａに紫外線硬化樹脂などの封止材１３２を塗布し、これを硬化させることによって上記内部領域Ｘを封鎖する。
【０００４】
ところで、上記のように構成する従来の液晶装置においては、シール材の開口部１３１に封止材１３２を塗布したときに、封止材１３２が開口部１３１の内側に入り込んで表示領域部ＸＡに達したり、表示領域部ＸＡには達しなくても、表示領域部ＸＡの外側にある周辺領域部ＸＢに封止材１３２が入り込むことによって表示領域部ＸＡの外縁部分のセルギャップが変化したりすることを防止するために、開口部１３１ａの内側に封止材侵入阻止部を形成する場合がある。また、開口部１３１ａの近傍のセルギャップの変化を低減するために、開口部１３１ａの内側に液晶の注入方向に伸びる基板固定部材を配置する場合もある（例えば、特許文献１参照）。さらに、シール材の開口部１３１ａの中に島状シールを設けることによって、開口部１３１ａ近傍のセルギャップの広がりや配向不良を抑制する場合もある（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平８−１４６４４１号公報
【特許文献２】特開平１１−８４３９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上記従来の液晶装置においては、シール材１３１の開口部１３１ａから液晶を注入する際に、注入時に生ずる液晶の流れにより生ずる流入圧や、液晶の流れに起因するスペーサの内側への移動などにより、図示点線のように、開口部１３１ａを中心として円弧状の表示ムラが発生する場合がある。これは、上記の流入圧に起因するセルギャップの変化やスペーサの集積による液晶の配向ムラなどが原因であるものと考えられる。
【０００６】
より具体的には、上記の周辺領域部ＸＢに形成された遮光層１２３によって、遮光層１２３の外縁に段差が形成される場合があり、この場合には、開口部１３１ａの内側にある周辺領域部ＸＢの部分において、遮光層１２３の形成範囲では遮光層１２３の厚さによってセルギャップが例えば６μｍ程度と小さくなるためスペーサは比較的移動しにくいが、遮光層１２３の形成範囲の外側においてはセルギャップが例えば１０μｍ程度と比較的大きいためにスペーサは比較的自由に移動できる。したがって、上記段差の部分に液晶の流入圧が直接加わることにより、或いは、遮光層１２３の外側の比較的セルギャップの大きい領域部分に配置されていたスペーサが液晶の流れによって移動し液晶の流入圧によって遮光層１２３の形成範囲内にも強制的に侵入させられることにより、開口部１３１ａの内側において遮光層１２３の形成範囲内のセルギャップが拡大することが考えられる。また、開口部１３１ａの内側部分では、上記の液晶の流入圧によって周辺領域部ＸＢ内から隣接する表示領域部ＸＡの外縁にもスペーサが侵入する可能性があり、これにより表示領域部ＸＡの外縁部分のスペーサ密度が上昇することで液晶の配向ムラが生ずることも考えられる。さらに、封止材１３２によって開口部１３１ａを封鎖した後においても、封止材の硬化状態の変化や温度変化などにより封止材１３２の内面位置が移動することによって開口部１３１ａの内側部分のセルギャップが変化するため、開口部１３１ａの内側にある表示領域部ＸＡの外縁部分の表示態様が変化することもある。
【０００７】
上記の表示ムラは、上記各文献に記載された封止材侵入阻止部、基板固定部材、島状シールなどによって或る程度は抑制されるものと考えられる。しかしながら、上記封止材侵入阻止部はあくまでも封止材の侵入を阻止するためのものであるため、開口部の全幅に相当する幅を備えた一体の阻止部を形成したり、複数の阻止部を開口部の幅方向に千鳥状に配列させたりするなど、何らかの態様で開口部１３２の幅方向全体に亘って阻止部を対向配置させる必要があるとともに、開口部に対して比較的近い位置に設ける必要がある。したがって、液晶注入時の液晶の流れが開口部の内側において大きく妨げられるため、例えば液晶の流れが阻止部によって強制的に左右に偏向されるなど、液晶の流入方向に偏りが発生するとともに、その偏り方向に大きな流入圧が発生することから、スペーサの分布の偏りや流入圧によるセルギャップの変化が大きくなり、これによって却って表示ムラを拡大させる恐れがある。
【０００８】
一方、上記基板固定部材や島状シールは、開口部近傍のセルギャップを保持する機能を有するものではあるため、上記のような問題点を引き起こすことがない代わりに、開口部の内側への液晶の流れを阻止しないように構成されているため、開口部の内側方向へのスペーサの移動を阻止する効果はほとんどない。したがって、このスペーサの移動に起因する液晶の配向不良などによって表示ムラが生ずる恐れがある。
【０００９】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、一対の基板間におけるシール材の内側に画成された内部領域のうち周辺領域部の構造を改善することにより、シール材の開口部の内側の周辺領域部に隣接する表示領域部の外縁部分の表示ムラを低減することのできる電気光学装置の構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために本発明の電気光学装置は、シール材を介して対向配置されてなる一対の基板を含む電気光学装置であって、前記一対の基板間において前記シール材の内側に形成された内部領域に複数のスペーサが配置され、前記シール材は電気光学物質を導入する開口部を有し、前記内部領域には表示領域部と、該表示領域部の外側において表示に寄与しない周辺領域部とが設けられ、前記周辺領域部には前記開口部から内側に離間した位置に段差を生ずる内面層が設けられ、前記内面層の形成範囲に島状シールが固定されていることを特徴とする。
【００１１】
この発明によれば、開口部の内側の内面層の形成範囲に島状シールが固定されていることにより、島状シールによってこの形成範囲のセルギャップが保持されるため、開口部から電気光学物質が流入するときの流入圧によるセルギャップの増大が抑制されるとともに、段差によって小さなセルギャップを有する当該形成範囲にスペーサが入り込みにくくなる。特に、島状シールを開口部の幅方向の一部範囲にのみ対向して設けることにより、島状シールによって開口部から流入する電気光学物質の流れが大きく妨げられることがなくなるため、電気光学物質の流れの偏りや流入圧の増大による影響も低減できる。したがって、電気光学物質の流入圧に起因するセルギャップのばらつきやスペーサ分布の偏りなどに起因する液晶の配向不良による開口部近傍の表示ムラの発生を抑制できる。さらに、開口部を封止材によって封鎖した後の表示ムラの経時変化をも低減できる。
【００１２】
ここで、上記の内面層は、後述する遮光層に限定されるものではなく、基板の内面上に形成される種々の層とすることができる。例えば、カラーフィルタを構成する着色層、この上に形成される保護膜、各種の絶縁膜などである。いずれにしても、これらの内面層の外縁によって周辺領域部に段差が形成されるものであればよい。
【００１３】
本発明において、前記島状シールは、前記内面層の外縁上に配置されていることが好ましい。これによれば、内面層の外縁上に島状シールが配置されていることにより、内面層の形成領域の開口部側の端部において島状シールがセルギャップを保持するため、開口部からの電気光学物質の流入圧による影響をさらに低減できるとともに、内面層の形成範囲内にスペーサがさらに入り込みにくくなる。
【００１４】
本発明において、複数の前記島状シールが前記開口部の幅方向に沿って間隔を有して配列されていることが好ましい。これによれば、開口部の幅方向に沿って複数の島状シールが配列されていることにより、開口部の内側にある内面層の形成範囲のセルギャップをより確実に保持できる。ここで、複数の島状シールは一列にのみ配列されていることが望ましい。これによって、複数の島状シールが配列されている部分の電気光学物質の流れを阻害しにくくなるため、電気光学物質の流れの偏りに起因する表示ムラを低減できる。この場合には、内面層の外縁に沿って複数の島状シールが間隔を有して配列されていることが望ましい。
【００１５】
また、複数の島状シールの各幅は島状シールの配列間隔よりも小さいことが好ましい。これによれば、島状シールの幅に較べて島状シール間の間隔が大きくなるため、複数の島状シールの配列部分を電気光学物質がさらに通過しやすくなることから、電気光学物質の流れの偏りをさらに低減できる。
【００１６】
本発明において、前記内面層は前記表示領域部に沿って形成された遮光層を含み、前記島状シールは、前記遮光層上に配置されていることが好ましい。通常、周辺領域部には、異なる色のカラーフィルタ層の積層体、黒色樹脂、金属膜などで構成される遮光層が形成され、この遮光層の外縁によって内部領域の外周部に段差が形成される。遮光層の形成範囲自体は外部からほとんど視認されないが、この形成範囲のセルギャップが変化すれば、周辺領域部に隣接する表示領域部の外縁部分のセルギャップにも影響が生じて表示ムラが発生する。したがって、島状シールによって遮光層の形成範囲においてセルギャップを保持するとともに、この形成範囲においてスペーサの移動を抑制することによって、表示領域部の外縁部分の表示ムラを低減できる。
【００１７】
本発明において、前記島状シールは前記シール材の基材と同材質で構成されていることが好ましい。島状シールがシール材の基材と同材質で構成されていることにより、製造工程における材料管理を容易にすることができるとともに、温度変化などの環境変化に対する特性（熱膨張係数など）もシール材と同じであるため、シール材との間の特性相違に起因するセルギャップの変化などによる不具合を防止できる。ここで、基材とはシール材の主要成分を言い、シール材中に内部スペーサが混入されている場合には内部スペーサを除く素材部分を言う。
【００１８】
次に、本発明の電気光学装置の製造方法は、多数のスペーサを挟んでシール材により一対の基板を貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、前記一対の基板間において前記シール材の内側に画成された内部領域に前記シール材の開口部から電気光学物質を導入する電気光学物質導入工程とを有する電気光学装置の製造方法であって、前記内部領域には表示領域部と、該表示領域部の外側において表示に寄与しない周辺領域部とが設けられ、前記周辺領域部には前記開口部から内側に離間した位置に段差を生ずる内面層が設けられ、前記開口部の内側の前記内面層の形成範囲に島状シールが固定され、前記島状シールが固定された状態で、前記電気光学物質導入工程を実施することを特徴とする。ここで、前記内面層は前記表示領域部に沿って形成された遮光層を含み、前記島状シールは、前記遮光層上に配置されていることが望ましい。
【００１９】
本発明において、前記基板貼り合わせ工程の前に、一方の前記基板上に前記シール材を配置する工程と、他方の前記基板上に前記島状シールを配置する工程とを有することが好ましい。これによれば、シール材と島状シールを別々の基板上に並行して配置することができるため、効率的に製造を行うことができる。また、この場合において、他方の基板上にスペーサを散布するときには、このスペーサを島状シール中に自動的に取り込むことも可能になるため、あらかじめ島状シールを構成する材料中にスペーサを混入しておかなくても、島状シールによるセルギャップの規制効果を獲得することができる。
【００２０】
なお、同じ材料でシール材と島状シールとを同時に同一基板上に配置することも可能である。ただし、シール材の内部にセルギャップを規制するための内部スペーサを混入する場合には、上記内面層の外縁によって形成された段差が存在することにより、当該内部スペーサの径を上記のように散布されるスペーサの径よりも大きくする必要があるため、シール材と島状シールを同じ材料で構成することはできない。
【００２１】
また、本発明の電子機器は、上記のいずれかに記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする。本発明の電子機器としては、携帯電話、携帯型情報端末、ファクシミリ、プリンタ、コンピュータなどが挙げられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
次に、添付図面を参照して本発明に係る電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器の実施形態について詳細に説明する。以下に説明する各実施形態は、いずれも電気光学物質として液晶を用いる液晶装置に関するものであるが、本発明の電気光学装置としては、液晶装置に限らず、例えば、マイクロカプセルやシリコンビーズなどを含む液体を電気光学物質として用いる電気泳動法を利用した表示体など、シール材の開口部から流動性を有する電気光学物質を導入することにより構成されるものであれば、本発明を同様に適用できる。
【００２３】
［第１実施形態：電気光学装置］
最初に、図１乃至図３を参照して本発明に係る第１実施形態について説明する。ここで、図１は本実施形態の全体構成を示す概略平面透視図、図２は本実施形態の一部を拡大して示す拡大部分横断面図、図３は本実施形態の一部を拡大して示す拡大部分縦断面図である。なお、これらの図において、電極の幅、セルギャップ、スペーサ径などは実際の寸法ではなく拡大した状態で示されているなど、図示の都合上、各部の寸法比率などはあくまでも模式的に描いてある。
【００２４】
この実施形態の電気光学装置である液晶装置２００は、ガラスやプラスチックなどで構成された基板２１０と２２０とがシール材２３１を介して貼り合わされている。シール材２３１は未硬化の熱硬化性樹脂や紫外線硬化性樹脂などの内部に球状のプラスチック樹脂などで構成される内部スペーサ２３１Ｘ（図２及び図３参照）を混入したものである。内部スペーサ２３１Ｘは一対の基板２１０と２２０の間隔を規制するためのものであり、基板２１０と２２０とを圧着させた状態で所望の基板間隔（例えば１０μｍ程度）が得られるようにその所望の基板間隔とほぼ一致した外径を有する。シール材２３１は内部スペーサ２３１Ｘによって基板間隔が規制された状態で加熱若しくは光照射により硬化され、これによってセル構造が構成される。シール材２３１には開口部２３１ａが設けられ、この開口部２３１ａは液晶注入後に紫外線硬化樹脂などで構成される封止材２３２によって封鎖される。
【００２５】
基板２１０の内面上には、ＩＴＯなどの透明導電体で構成される電極２１１が形成され、また、基板２２０の内面上には、上記電極２１１と対向する電極２２１が形成されている。また、基板２１０と２２０の間においてシール材２３１に囲まれた内部領域Ｘには、球状のプラスチック樹脂などで構成される多数のスペーサ２３３（図２及び図３参照）が分散配置されている。このスペーサ２３３は内部領域Ｘ内のセルギャップ（例えば、６μｍ程度）を規制するためのものである。また、内部領域Ｘ内には液晶２３４が封入されている。液晶２３４は屈折率異方性及び電界異方性を有し、上記電極２１１と２２１によって印加される電界によって配向状態が変化するように構成されている。
【００２６】
上記の内部領域Ｘには、上記電極２１１，２２１及びその間に配置される液晶２３４によって構成される画素Ｐを多数配列してなる表示領域部ＸＡと、この表示領域部ＸＡの外側を取り巻くように構成された表示に寄与しない周辺領域部ＸＢとが設けられている。表示領域部ＸＡには、基板２２０の内面上に複数色の着色層２２３（図３参照）が所定の配列パターンにて配列形成されてカラーフィルタを構成している。また、周辺領域部ＸＢには、基板２２０の内面上に遮光層２２４が形成されている。この遮光層２２４は、上記カラーフィルタを構成する複数色の着色層２２３を積層することによって構成されていてもよく、また、黒色樹脂によって構成されていてもよく、或いは、金属膜で構成されていてもよい。
【００２７】
上記の遮光層２２４は、その外縁２２４ａによって基板２２０の内面上に段差を形成している。本実施形態では、遮光層２２４及びその上に形成された後述する保護膜２２５によって遮光層２２４の外縁２２４ａに大きな段差が形成されている。この段差によって、周辺領域部ＸＢにおける遮光層２２４の形成範囲ＸＣにおけるセルギャップＣＸ（図３参照）は、周辺領域部ＸＢにおける遮光層２２４の形成範囲ＸＣの外側にある外縁範囲ＸＤにおけるセルギャップＣＹよりも小さくなっている。例えば、セルギャップＣＸは約６μｍ、セルギャップＣＹは約１０μｍである。
【００２８】
開口部２３１ａの内側において、上記遮光層２２４の形成範囲ＸＣには、島状シール２３５が形成されている。この島状シール２３５は、基板２１０と２２０の両内面に接着固定されている。図２に示すように、本実施形態では、複数の島状シール２３５が開口部２３１ａの幅方向（図示左右方向）に沿って相互に間隔２３５Ｘを有して一列に配列されている。そして、これらの島状シール２３５は、開口部２３１ａに対してその幅方向の一部範囲にのみ対向するように構成されている。すなわち、開口部２３１ａの内側において、幅方向の一部には島状シール２３５が対向しているが、残部には島状シール２３５の対向しない部分、つまり上記間隔２３５Ｘがある。ここで、島状シール２３５の幅２３５ｗは、上記間隔２３５Ｘより小さいことが好ましい。これによって、開口部２３１ａからの液晶２３４の注入時において液晶の流れを大きく妨げず、開口部２３１ａの内側（図２の下側）に液晶がある程度流れるようにすることができる。
【００２９】
島状シール２３５は、略正方形若しくは略長方形状の平面形状を有し、基本的に上記シール材２３１の樹脂基材と同じ材料で構成されている。ただし、島状シール２３５の内部には上記内部スペーサ２３１Ｘは混入されず、その代わりに、スペーサ２３３が混入している。ただし、島状シール２３５にはスペーサ２３３を混入させなくても構わない。島状シール２３５は、遮光層２２４の外縁２２４ａに沿って配列されている。
【００３０】
また、この開口部２３１ａ近傍の寸法としては、例えば、開口部２３１ａの開口幅が３ｍｍ〜１０ｍｍ程度である場合、島状シール２３５の幅２３５ｗは、０．１ｍｍ〜０．３ｍｍ程度、間隔２３５Ｘは、１．０ｍｍ〜３．０ｍｍ程度であることが好ましい。
【００３１】
図３に示すように、基板２１０の内面上には、上記電極２１１の上にポリイミド樹脂などで構成される配向膜２１６が形成されている。また、基板２２０の内面上には、上記電極２２１の上にＳｉＯ２などで構成される絶縁膜２２２が形成され、この上に着色層２２３及び遮光層２２４が形成されている。これらの着色層２２３及び遮光層２２４の上にはアクリル樹脂などで構成される保護膜２２５が形成され、この保護膜２２５の上に上記と同様の配向膜２２６が形成されている。なお、基板２１０と２２０の外面上にはそれぞれ偏光板２１９，２２９が配置されている。
【００３２】
本実施形態では、開口部２３１ａの内側の遮光層２２４の形成範囲ＸＣに島状シール２３５が形成されていることにより、当該形成範囲ＸＣのセルギャップが保持される。したがって、開口部２３１ａから液晶２３４が流入したときに発生する流入圧を受けても形成範囲ＸＣのセルギャップが押し広げられにくくなり、その結果、開口部２３１ａの内側にある周辺領域部ＸＢに隣接する表示領域部ＸＡの外縁において表示ムラが発生しにくくなる。
【００３３】
また、開口部２３１ａの内側の外縁範囲ＸＤに配置されているスペーサ２３３は、この外縁範囲ＸＤのセルギャップＣＹがスペーサ２３３の外径よりも大きいことによって比較的自由に移動できる状態となっている。このため、開口部２３１ａから液晶が流入すると、この外縁範囲ＸＤに配置されたスペーサ２３３は液晶の流れとともに移動し、その一部は島状シール２３５の形成部分に到達する。このとき、島状シール２３５が形成されている遮光層２２４の形成範囲ＸＣでは、セルギャップＣＸがスペーサ２３３の外径とほぼ同程度となっているためにスペーサ２３３の移動は抑制され、また、外縁範囲ＸＤに配置されているスペーサ２３３が遮光層２２４の形成範囲ＸＣに入り込みにくくなっている。さらに、島状シール２３５は遮光層２２４の外縁２２４ａに沿って配列されているため、遮光層２２４の形成範囲ＸＣの外縁部分のセルギャップＣＸを保持することができることから、上記液晶の流入圧やスペーサ２３３の入り込みによるセルギャップＣＸの拡大をより確実に防止できる。
【００３４】
ここで、島状シール２３５が遮光層２２４の形成範囲ＸＣではなく、外縁範囲ＸＤに形成されている場合においても、その外縁範囲ＸＤのセルギャップに対する保持力を発揮することはできる。しかしながら、この場合には、外縁範囲ＸＤのセルギャップはスペーサ２３３の外径よりも大きいので、島状シールを設けても外縁範囲ＸＤ内のスペーサ２３３は自由に移動できるため、スペーサ２３３は遮光層２２４の形成範囲ＸＣ内へ（さらには表示領域部ＸＡの外縁へ）移動しやすくなり、また、形成範囲ＸＣのセルギャップの変化を有効に防止することもできなくなる。
【００３５】
本実施形態では、島状シール２３５は、開口部２３１ａの内側を全幅に亘って閉鎖するものではなく、幅方向の一部にのみ対向配置されているため、開口部２３１ａから液晶が流入したとき、液晶の一部は島状シール２３５の形成部分を通過するようになっている。したがって、島状シール２３５が液晶の流れに与える影響は少ないため、内部領域Ｘ内に均一に液晶２３４を導入することができる。
【００３６】
ここで、島状シール２３５が開口部の内側において幅方向の全範囲に亘って形成されているとすれば、開口部２３１ａから流入した液晶は開口部の内側へまっすぐに流れ込むことができなくなるので、開口部２３１ａの幅方向両側へ強制的に流れ、これによって、外縁範囲ＸＤに配置されたスペーサもまた幅方向に強制的に移動させられる。このように液晶の流れが幅方向へ強制されることによって液晶の流入圧が偏って過大となるので、内部領域Ｘ内の幅方向のセルギャップ分布に大きなばらつきを与える原因となる。また、液晶の流れの偏りによって外縁範囲ＸＤに配置されていたスペーサ２３３も幅方向に大きく偏った分布を示すこととなるので、やはりセルギャップ分布に大きな影響を与え表示ムラの原因となる。
【００３７】
本実施形態では、開口部２３１ａの内側にある周辺領域部ＸＢの部分において液晶の流れを大きく妨げずに、また、当該部分の内部へのスペーサ２３３の移動を抑制しつつ、当該部分のセルギャップの保持を行うことができるため、当該部分の内側にある表示領域部ＸＡへの影響がほとんどなくなり、その結果、表示ムラの発生を大幅に低減できるようになった。
【００３８】
また、本実施形態では、封止材２３２によって内部領域Ｘを封鎖した後の経時変化によって生ずる表示ムラに対しても効果を有する。すなわち、封止材２３２によって内部領域Ｘが封鎖された状態では、封止材２３２の硬化状態の変化や温度変化などによって封止材２３２の内面位置が移動すると、特に開口部２３１ａの近傍のセルギャップが変化しやすくなるが、本実施形態では島状シール２３５が遮光層２２４の形成範囲ＸＣのセルギャップを保持しているため、そのさらに内側の表示領域部ＸＡのセルギャップの変化が抑制されることから、表示態様の経時変化が低減される。
【００３９】
［第２実施形態：電気光学装置］
次に、図４を参照して本発明に係る第２実施形態について説明する。ここで、上記島状シールの構成以外は上記第１実施形態と同様であるので、同一部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。
【００４０】
本実施形態において、島状シール２３６は、上記第１実施形態と同様に開口部２３１ａの幅方向に沿って複数配列されている。ただし、この実施形態の島状シール２３６の平面形状は略円形になっている。このため、開口部２３１ａから流入する液晶が島状シール２３６の間隔２３６Ｘを通過するときの流通抵抗を低減できることから、遮光層２２４の外縁２２４ａが液晶から受ける流入圧力を低減することができ、遮光層２２４の形成範囲におけるセルギャップの変化をさらに低減できる。
【００４１】
［第３実施形態：電気光学装置］
次に、図５を参照して本発明に係る第３実施形態について説明する。ここで、上記島状シールの構成以外は上記第１実施形態と同様であるので、同一部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。
【００４２】
本実施形態において、島状シール２３７は、上記第１実施形態と同様に開口部２３１ａの幅方向に沿って複数配列されている。ただし、この実施形態では、島状シール２３７の平面形状が開口部２３１ａ側に頂点を向けた三角形状に構成されている。このため、開口部２３１ａから流入する液晶が島状シール２３７の間隔２３７Ｘをさらに容易に通過できるようになることから、遮光層２２４の外縁２２４ａが液晶から受ける流入圧力を低減することができ、遮光層２２４の形成範囲におけるセルギャップの変化をさらに低減できる。
【００４３】
［第４実施形態：電気光学装置］
次に、図６を参照して本発明に係る第４実施形態について説明する。ここで、上記島状シールの構成以外は上記第１実施形態と同様であるので、同一部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。
【００４４】
本実施形態において、島状シール２３８は、上記第１実施形態と同様に開口部２３１ａの幅方向に沿って複数配列されている。ただし、この実施形態では、島状シール２３８の平面形状が開口部２３１ａの幅方向に延長された形状を有する。このため、遮光層２２４の形成範囲（図示例では特に外縁２２４ａ）におけるセルギャップの保持力をより高めることができることから、開口部２３１ａから流入する液晶の流入圧に対する耐力を増強できるので、遮光層２２４の形成範囲におけるセルギャップの変化をさらに低減できる。
【００４５】
［第５実施形態：電気光学装置］
次に、図７を参照して本発明に係る第５実施形態について説明する。ここで、上記島状シールの構成以外は上記第１実施形態と同様であるので、同一部分には同一符号を付し、それらの説明は省略する。
【００４６】
本実施形態において、島状シール２３９は、上記第１実施形態と同様に開口部２３１ａの幅方向に沿って複数配列されている。ただし、この実施形態では、島状シール２３９の平面形状が開口部２３１ａから内側に向かう方向に延長された形状を有する。このため、遮光層２２４の形成範囲（図示例では特に外縁２２４ａ）におけるセルギャップの保持力をより高めることができることから、開口部２３１ａから流入する液晶の流入圧に対する耐力を増強できるので、遮光層２２４の形成範囲におけるセルギャップの変化をさらに低減できる。また、この場合には、島状シール２３９の幅を大きくする必要がないため、開口部２３１ａから流入する液晶が島状シール２３９の間隔２３９Ｘを容易に通過できるようにしておくことができ、液晶注入時に受ける流入圧を低減することもできることから、セルギャップの変化をさらに低減できる。なお、上記のセルギャップの保持力を高める上では、上記島状シール２３９は図示のように遮光層２２４の全幅に亘って伸びるように形成されていることが望ましい。
【００４７】
［第６実施形態：電気光学装置の製造方法］
次に、図８を参照して、本発明に係る第６実施形態として、電気光学装置の製造方法について説明する。この実施形態は、上記第１実施形態の液晶装置２００を製造する方法に関するものである。
【００４８】
基板２１０の内面上には、図３に示す電極２１１及び配向膜２１６を形成する。ここで、電極２１１はスパッタリング法や蒸着法などによって形成される。また、配向膜２１６は未硬化の樹脂を塗布し、焼成することにより形成される。一方、基板２２０の内面上には、図３に示す電極２２１、絶縁膜２２２、着色層２２３、遮光層２２４、保護膜２２５及び配向膜２２６を順次形成される。ここで、電極２１１はスパッタリング法や蒸着法などによって形成される。また、絶縁膜２２２は塗布法やスパッタリング法などによって形成される。着色層２２３は、所定の色相を有する顔料や染料などの着色材を含む感光性樹脂をスピンコート法、ロールコータ法などによって塗布した後に、フォトリソグラフィ法を用いて露光・現像することによってパターニングすることにより色毎に繰り返し形成される。遮光層２２４は、着色層２２３の重ね合わせにより形成したり、上記と同様のフォトリソグラフィ法を用いて黒色樹脂をパターニングしたり、或いは、金属を蒸着法やスパッタリング法などによって成膜し、パターニングしたりすることによって形成される。配向膜２２６は上記と同様の方法で形成される。
【００４９】
次に、一方の基板２１０の内面上に、ディスペンサを用いた描画法により、或いは、スクリーン印刷法により未硬化のシール材２３１Ａを配置する。また、他方の基板２２０の内面上には、未硬化の島状シール２３５Ａを同様にして配置する。その後、基板２２０の内面上に図示しないスペーサ２３３を散布する。
【００５０】
次に、基板２２０の内面上に基板２１０を被せることによって貼り合わせ、両基板２１０，２２０を圧着して未硬化のシール材２３１Ａ及び島状シール２３５Ａを押しつぶす。このとき、シール材２３１Ａ中には上記の内部スペーサ２３１Ｘが混入されており、また、他方の基板２２０上にはスペーサ２３３が散布されているので、基板２１０と２２０はこれらの内部スペーサ２３１Ｘ及びスペーサ２３３によって規制され、所望のセルギャップが得られる。ここで、島状シール２３５Ａ中には上述の散布によって結果的にスペーサ２３３が混入するため、この島状シール２３５Ａにおいてもセルギャップの規制効果が得られる。そして、このように基板２１０と２２０を圧着した状態で、未硬化のシール材２３１Ａ及び島状シール２３５Ａには硬化処理が施される。例えば、シール材２３１Ａ及び島状シール２３５Ａが熱硬化性樹脂であれば加熱処理が施され、シール材２３１Ａ及び島状シール２３５Ａが光硬化性樹脂であれば光照射処理が施される。これによって、硬化したシール材２３１及び島状シール２３５によって両基板２１０と２２０が相互に接着固定され、セル構造が形成される（以上、基板貼り合わせ工程）。
【００５１】
その後、上記のセル構造を真空中に配置し、シール材２３１の開口部２３１ａを液晶２３４で塞いだ状態としてから、周囲の圧力を徐々に上昇させていく。例えば、当初は毛細管現象によって液晶２３４が開口部２３１ａから内部領域へ導入されていくようにし、その後、周囲の圧力を上昇させる（例えば大気圧に開放する）ことにより、液晶２３４を強制的にシール材２３１の内側に注入する（以上、液晶注入工程）。
【００５２】
液晶２３４がシール材２３１の内側領域に充填されると、所望のセルギャップを保持した状態とするためにセル構造に外圧を加えた状態で、図１に示す封止材２３２を開口部２３１ａに塗布し、封止材２３２を光照射などによって硬化させ、その後、セル構造に対する外圧を解除する（以上、液晶封止工程）。
【００５３】
なお、上記の各製造工程は、比較的小型の液晶装置を製造する場合には、それぞれの基板２１０，２２０を複数枚分包含する大判基板を用いて行う。例えば、大判基板の各パネル予定領域毎に内面構造を形成し、各内面構造に対応させてシール材２３１Ａ及び島状シール２３５Ａを配置し、大判基板同士を貼り合わせて大判セルを構成する。そして、必要に応じて上記開口部２３１ａを露出させるために大判セルを分割して短冊状のセル構造とする。その後に上記の液晶注入及び液晶封止を行い、最後に、図１２に示すように、個々の液晶パネル構造に分割する。そして、必要に応じて、基板２１０の張出部上に電子部品２４１を実装する。
【００５４】
本実施形態では、上述のように、一方の基板２１０上にシール材２３１Ａを配置し、他方の基板２２０上に島状シール２３５Ａを配置することにより、シール材２３１Ａと島状シール２３５Ａとを別々の材料、塗布量、塗布条件などによってそれぞれ配置することができることになる。このため、図３に示すＣＸとＣＹなどのように、それぞれの配置領域におけるセルギャップに相違があっても、それらに合わせて支障なく製造できるとともに、シール材２３１Ａの配置工程と、島状シール２３５Ａの配置工程とを並行して行うことができるため、効率的に液晶装置を製造できる。
【００５５】
［第７実施形態：電気光学装置の製造方法］
次に、本発明に係る第７実施形態として、上記第６実施形態とは別の製造方法について説明する。この実施形態において、上記第６実施形態と同一部分については説明を省略するものとし、異なる部分についてのみ説明する。
【００５６】
図１２に示すように、基板２１０の張出部には、基板２１０の内面に形成された電極２１１と導電接続された配線だけでなく、基板２２０の内面に形成された電極２２１に導電接続された配線をも引き出すように形成する場合がある。このためには、基板２１０と基板２２０との間のいずれかに、基板２２０の内面上から基板２１０の内面上に導電接続経路を設けるための上下導通部を構成する必要がある。そこで、本実施形態では、シール材２３１を、絶縁性の内部スペーサを混入してなる絶縁シール部２３１Ｘと、導電性の内部スペーサを混入してなる異方性導電シール部２３１Ｙとで構成し、異方性導電シール部２３１Ｙを上記の上下導通部として用いる。すなわち、基板２２０の内面上には異方性導電シール部２３１Ｙに接触する位置において電極２２１に導電接続された端子列を形成し、また、この端子列と対向する基板２１０の内面上には張出部に引き出される配線の端子列を形成しておく。これによって、基板２１０と基板２２０とを貼り合わせ圧着させることによって、異方性導電シール部２３１Ｙに混入された導電性の内部スペーサが両基板にそれぞれ形成された端子列の対応する端子同士をそれぞれ導電接続するように構成できる。
【００５７】
本実施形態の製造工程では、上記のような上下導通構造を実現するために、図９に示すように、一方の基板２１０の内面上に絶縁シール部２３１Ｘを配置し、他方の基板２２０の内面上に異方性導電シール部２３１Ｙを配置する。この場合に、開口部２３１ａの近傍が絶縁シール部２３１Ｘによって構成されるときには、島状シール２３５Ａは別工程において基板２２０の内面上に形成される。これは、島状シール２３５の形成すべき領域の近傍に他のシール構造があると、その他のシール構造に影響を与えずに印刷法などにより島状シール２３５Ａを形成することが困難になるからである。
【００５８】
その後、基板２１０と２２０とを貼り合わせると、絶縁シール部２３１Ｘと異方性導電シール部２３１Ｙとが相互に接続され、一体のシール材２３１となる。その後は、上記第６実施形態と同様にして液晶装置を構成することができる。
【００５９】
［第７実施形態：電子機器］
最後に、図１０及び図１１を参照して、本発明に係る電子機器の実施形態について説明する。この実施形態では、上記電気光学装置（液晶装置２００）を表示手段として備えた電子機器について説明する。図１０は、本実施形態の電子機器における液晶装置２００に対する制御系（表示制御系）の全体構成を示す概略構成図である。
【００６０】
ここに示す電子機器は、表示情報出力源２９１と、表示情報処理回路２９２と、電源回路２９３と、タイミングジェネレータ２９４と、光源制御回路２９５とを含む表示制御回路２９０を有する。また、上記と同様の液晶装置２００には、上述の構成を有する液晶パネルを駆動する駆動回路２２０Ｄが設けられている。この駆動回路２２０Ｄは、図１２に示す電子部品（半導体ＩＣチップ）２４１で構成される。ただし、駆動回路２２０Ｄは、上記のような態様の他に、パネル表面上に形成された回路パターン、或いは、液晶パネルに導電接続された回路基板に実装された半導体ＩＣチップ若しくは回路パターンなどによっても構成することができる。また、液晶パネルを照明する照明装置３００（例えばバックライト）が設けられ、この照明装置３００は、光源部３１０（具体的には光源とこれを実装する基板部分）と、この光源部３１０の光を液晶パネルへ照射する導光板３２０とを備えている。
【００６１】
表示情報出力源２９１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ１９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路２９２に供給するように構成されている。
【００６２】
表示情報処理回路２９２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２２０Ｄへ供給する。駆動回路２２０Ｄは、走査線駆動回路、信号線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路２９３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００６３】
光源制御回路２９５は、外部から導入される制御信号に基づいて、電源回路２９３から供給される電力を照明装置３００の光源部３１０に供給する。この光源制御回路２９５は、上記制御信号に応じて光源部３１０の各光源の点灯／非点灯を制御する。また、各光源の輝度を制御することも可能である。
【００６４】
図１１は、本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話の外観を示す。この電子機器２０００は、操作部２００１と、表示部２００２とを有し、表示部２００２の内部に回路基板２１００が配置されている。回路基板２１００上には上記の液晶装置２００が実装されている。そして、表示部２００２の表面において上記液晶パネルを視認できるように構成されている。
【００６５】
尚、本発明の電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施形態では、島状シールを遮光層の形成範囲に形成しているが、遮光層を形成しない場合には、周辺領域部に形成される他の内面層の上に形成しても構わない。このような内面層としては、例えば、周辺領域部に張り出すように形成されたカラーフィルタの外縁部分であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】第１実施形態の液晶装置の概略平面透視図。
【図２】第１実施形態の拡大部分横断面図。
【図３】第１実施形態の拡大部分縦断面図。
【図４】第２実施形態の拡大部分横断面図。
【図５】第３実施形態の拡大部分横断面図。
【図６】第４実施形態の拡大部分横断面図。
【図７】第５実施形態の拡大部分横断面図。
【図８】第６実施形態の工程説明図。
【図９】第７実施形態の工程説明図。
【図１０】第１０実施形態の構成を示す概略構成図。
【図１１】第１０実施形態の概略斜視図
【図１２】実施形態の液晶装置の概略平面図。
【図１３】従来の液晶装置の概略平面図。
【符号の説明】
【００６７】
２００…液晶装置、２１０，２２０…基板、２１１，２２１…電極、２２２…絶縁膜、２２３…着色層、２２４…遮光層、２３１…シール材、２３１ａ…開口部、２３１Ｘ…内部スペーサ、２３２…封止材、２３３…スペーサ、２３４…液晶、２３５，２３６，２３７，２３８，２３９…島状シール、２３５Ｘ…（島状シールの）間隔、２３５ｗ…（島状シールの）幅、２０００…電子機器（携帯電話）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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