(57)【要約】【課題】  透明かつ反射光強度が大きく、例えば十分なホログラム効果、光拡散効果、光回折効果を発揮させる高光反射性の透明積層フィルム、光拡散反射フィルム、光回折反射フィルムを提供する。【解決手段】  透明基材１１の少なくとも一方の面に、組成がＴｉＯｘＮｙＣｚ（ｘ＝１．０〜１．８、ｙ＝０．５〜１．０、ｚ＝０．３〜１．５）で、膜厚が１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．８〜２．６（波長λ＝５５０ｎｍ）である透明な金属窒化酸化物層１７を有し、また、他の低屈折率層と交互に積層し、さらに、上記透明基材と上記金属窒化酸化物層１７との間に、レリーフ形成層を有し、さらにまた、拡散層又は光回折層を有するすることを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも一方の面に、少なくとも透明な金属窒化酸化物層を含む光反射層を有する透明積層フィルムにおいて、前記金属窒化酸化物層の組成がＴｉＯｘＮｙＣｚ（ｘ＝１．０〜１．８、ｙ＝０．５〜１．０、ｚ＝０．３〜１．５）で、膜厚が１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．８〜２．６（波長λ＝５５０ｎｍ）であることを特徴とする高光反射性の透明積層フィルム。
【請求項２】
上記反射層が第１屈折率層、第２屈折率層からなる透明積層フィルムにおいて、前記第１屈折率層の膜厚が１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．３〜１．５（波長λ＝５５０ｎｍ）の低屈折率層、前記第２屈折率層が請求項１に記載の金属窒化酸化物層であることを特徴とする高光反射性の透明積層フィルム。
【請求項３】
上記反射層が第１屈折率層、第２屈折率層、第３屈折率層からなる透明積層フィルムにおいて、前記第１屈折率層が請求項１に記載の金属窒化酸化物層、前記第２屈折率層の膜厚が１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．３〜１．５（波長λ＝５５０ｎｍ）の低屈折率層、前記第３屈折率層が請求項１に記載の金属窒化酸化物層であることを特徴とする高光反射性の透明積層フィルム。
【請求項４】
上記反射層が第１屈折率層、第２屈折率層、第３屈折率層、第４屈折率層からなる透明積層フィルムにおいて、前記第１屈折率層の膜厚１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．３〜１．５（波長λ＝５５０ｎｍ）の低屈折率層、前記第２屈折率層が請求項１に記載の金属窒化酸化物層、前記第３屈折率層の膜厚が１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．３〜１．５（波長λ＝５５０ｎｍ）の低屈折率層、前記第４屈折率層が請求項１に記載の金属窒化酸化物層であることを特徴とする高光反射性の透明積層フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層フィルムにおける、上記透明基材のいずれか一方の面に保護層が設けられ、かつ上記反射層の表面に防汚層が設けられてなることを特徴とする高光反射性の透明積層フィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の透明積層フィルムにおける、該透明積層フィルムを構成する各層間、透明基材面、及び／又は反射層面に、絵柄層が設けられてなることを特徴とする高光反射性の透明積層フィルム。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層フィルムにおいて、透明基材と反射層との間に光拡散層が設けられてなることを特徴とする高光反射性の光拡散反射フィルム。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層フィルムにおいて、透明基材と反射層との間にレリーフ形成層が設けられてなることを特徴とする透明積層フィルム。
【請求項９】
請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層フィルムにおいて、透明基材と反射層との間に光回折層が設けられ、該光回折層がホログラム、回折格子のいずれかであることを特徴とする光回折反射フィルム。
【請求項１０】
請求項７に記載の光拡散反射フィルム、請求項８に記載の透明積層フィルム、又は請求項９に記載の光回折反射フィルムのいずれかを反射フィルムとして用いたことを特徴とする反射型又は半透過型の液晶表示装置。
【請求項１１】
請求項１〜６のいずれかに記載の透明積層フィルムにおける、上記金属窒化酸化物層の製造方法がプラズマ化学気相成長法であることを特徴とする高光反射性の透明積層フィルムの製造方法。
【請求項１２】
請求項７に記載の光拡散反射フィルム、請求項８に記載の透明積層フィルム、又は請求項９に記載の光回折反射フィルムにおける、金属窒化酸化物層の製造方法がプラズマ化学気相成長法であることを特徴とする高光反射性の光拡散反射フィルム、透明積層フィルム、又は光回折反射フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高光反射性の透明積層フィルムに関し、さらに詳しくは、自身が透明でありながら高光反射性に優れ、レリーフ透明ホログラムなどに用いる高光反射性の透明積層フィルム及びその製造方法に関するものである。
また、本発明は液晶ディスプレイ用の反射フイルム、及び液晶表示装置に関し、更に詳しくは、従来の液晶ディスプレイ用反射フイルムへ、光拡散又は光回折機能を有する層を形成し、照明光の利用効率を向上させ、液晶表示における消費電力の低減を可能にした液晶表示装置用の反射フイルムに関する。
【０００２】
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。
また、「反射層」は「金属窒化酸化物層、金属窒化酸化物層及び屈折率の異なる複数層の交互積層層」、「薄膜」は「金属窒化酸化物層、並びに、高又は低屈折率層」、「ＣＶＤ」は「化学気相成長法」、「液晶表示装置」は「液晶ディスプレイ」、及び「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」、の略語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
【背景技術】
【０００３】
（背景技術）反射率の高い反射層を設けることは、光学的用途に関して非常に重要である。例えば、意匠性や視認性を向上させるなどの用途が考えられる。その中でも、特に、回折格子やレリーフホログラムなどは、その特異な光輝意匠効果、及び製造の困難性からセキュリティ性から、クレジットカード、キャッシュカードなどのカード類、本の表紙、レコードジャケットなどに形成されて使用される。ホログラムの記録方法には種々あるが、物体からの光の波面に相当する干渉縞を材料表面の微細な凹凸模様として記録するレリーフホログラムがある。該レリーフホログラムは、プレス技術により大量複製を容易に行うことができるので、上記用途に多く使用されている。
レリーフホログラムの再生像を容易に観察するため、強い反射光強度が求められるが、一般的にレリーフホログラムのレリーフ層は合成樹脂で構成されているので、レリーフ形成面（樹脂）と空気との屈折率差を有する界面での、反射光強度が小さく、従ってホログラムが見にくい。例えば、屈折率：ｎ＝１．５の樹脂でレリーフホログラムを形成した場合、レリーフ形成面での反射率：Ｒはフレネルの公式によりＲ約４％と非常に低くなり、ホログラム効果は不十分である。そこで、レリーフホログラムのレリーフ面に反射層が設けられる。レリーフホログラムが見やすくなる、高い反射光強度を持たせられる高屈折率層、及びそれを備えた高光反射性の透明積層フィルムが求められている。
【０００４】
（先行技術）従来、反射層として、反射率が９０％以上のアルミニウムなどの金属の蒸着薄膜を用いることが知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、金属薄膜は不透明であり、金属薄膜の裏面に印刷した文字や絵柄は、金属薄膜中を伝播する光波は進行方向に減衰してしまうため、目視で絵柄が見えない。また、銀白色で輝度も高い金属薄膜のホログラムをカード類、本の表紙に設けると、違和感が大きいという問題点がある。
また、透明な反射層として、酸化チタン、酸化アルミニウム、硫化亜鉛などの透明な金属化合物の蒸着薄膜を用いることが知られている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、酸化アルミニウムでは、屈折率が低い為に十分な高反射率を得ることが困難である。また、酸化チタンでは、その光触媒性能によって、基材の劣化が進行しやすい為に耐久性に欠ける。硫化亜鉛では耐熱性に劣り、剥離や欠けが発生しやすいという欠点がある。
さらに、液晶表示装置の拡散反射フィルムとして蓄光性拡散反射フィルムが知られている（例えば、特許文献３参照。）。しかしながら、予め蓄えた光の利用であり、ホログラムなどの光回折効果については記載はない。
さらにまた、液晶表示装置の拡散反射フィルムとしてホログラム反射フィルムが知られている（例えば、特許文献４参照。）。しかしながら、ホログラムは表示光の偏光方向を制御するものであり、反射層は金属であり反射フィルムとしては不透明であるという欠点がある。
【０００５】
【特許文献１】特開平７−５７９８号公報
【特許文献２】特開平７−１６８５１６号公報
【特許文献３】特開平９−１６４６２２号公報
【特許文献４】特開平１１−３５２３３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、金属窒化酸化物層の単独又は他の屈折率層と組合わせて、透明かつ反射光強度が大きく、意匠性及び視認性を向上させた光学用フィルムであり、十分なホログラム効果を発揮する高光反射性の透明積層フィルムを提供することである。
また、高光反射性の透明積層フィルムの反射面上に透明光拡散層を形成した高光反射性の光拡散反射フイルム、さらに基材と反射層との間にレリーフ形成層又は光回折層を形成した光回折反射フイルム、並びにこれを用いて照明光の利用効率を向上させ、液晶表示における消費電力の低減を可能にした液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わる高光反射性の透明積層フィルムは、透明基材の少なくとも一方の面に、少なくとも透明な金属窒化酸化物層を含む光反射層を有する透明積層フィルムにおいて、前記金属窒化酸化物層の組成がＴｉＯｘＮｙＣｚ（ｘ＝１．０〜１．８、ｙ＝０．５〜１．０、ｚ＝０．３〜１．５）で、膜厚が１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．８〜２．６（波長λ＝５５０ｎｍ）であるように、したものである。
請求項２の発明に係わる高光反射性の透明積層フィルムは、上記反射層が第１屈折率層、第２屈折率層からなる透明積層フィルムにおいて、前記第１屈折率層の膜厚が１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．３〜１．５（波長λ＝５５０ｎｍ）の低屈折率層、前記第２屈折率層が請求項１に記載の金属窒化酸化物層であるように、したものである。
請求項３の発明に係わる高光反射性の透明積層フィルムは、上記反射層が第１屈折率層、第２屈折率層、第３屈折率層からなる透明積層フィルムにおいて、前記第１屈折率層が請求項１に記載の金属窒化酸化物層、前記第２屈折率層の膜厚が１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．３〜１．５（波長λ＝５５０ｎｍ）の低屈折率層、前記第３屈折率層が請求項１に記載の金属窒化酸化物層であるように、したものである。
請求項４の発明に係わる高光反射性の透明積層フィルムは、上記反射層が第１屈折率層、第２屈折率層、第３屈折率層、第４屈折率層からなる透明積層フィルムにおいて、前記第１屈折率層の膜厚１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．３〜１．５（波長λ＝５５０ｎｍ）の低屈折率層、前記第２屈折率層が請求項１に記載の金属窒化酸化物層、前記第３屈折率層の膜厚が１０〜２００ｎｍで、屈折率が１．３〜１．５（波長λ＝５５０ｎｍ）の低屈折率層、前記第４屈折率層が請求項１に記載の金属窒化酸化物層であるように、したものである。
請求項５の発明に係わる高光反射性の透明積層フィルムは、請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層フィルムにおける、上記透明基材のいずれか一方の面に保護層が設けられ、かつ上記反射層の表面に防汚層が設けられてなるように、したものである。
請求項６の発明に係わる高光反射性の透明積層フィルムは、請求項１〜５のいずれかに記載の透明積層フィルムにおける、該透明積層フィルムを構成する各層間、透明基材面、及び／又は反射層面に、絵柄層が設けられてなるように、したものである。
請求項７の発明に係わる高光反射性の光拡散反射フィルムは、請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層フィルムにおいて、透明基材と反射層との間に光拡散層が設けられてなるように、したものである。
請求項８の発明に係わる高光反射性の透明積層フィルムは、請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層フィルムにおいて、透明基材と反射層との間にレリーフ形成層が設けられてなるように、したものである。
請求項９の発明に係わる高光反射性の光回折反射フィルムは、請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層フィルムにおいて、透明基材と反射層との間に光回折層が設けられ、該光回折層がホログラム、回折格子のいずれかであるように、したものである。
請求項１０の発明に係わる反射型又は半透過型の液晶表示装置は、請求項７に記載の光拡散反射フィルム、請求項８に記載の透明積層フィルム、又は請求項９に記載の光回折反射フィルムのいずれかを反射フィルムとして用いるように、したものである。ことを特徴とする反射型又は半透過型の液晶表示装置。
請求項１１の発明に係わる透明積層フィルムの製造方法は、請求項１〜６のいずれかに記載の透明積層フィルムにおける、上記金属窒化酸化物層の製造方法がプラズマ化学気相成長法であるように、したものである。
請求項１２の発明に係わる光拡散反射フィルム、透明積層フィルム、又は光回折反射フィルムの製造方法は、請求項７に記載の光拡散反射フィルム、請求項８に記載の透明積層フィルム、又は請求項９に記載の光回折反射フィルムにおける、金属窒化酸化物層の製造方法がプラズマ化学気相成長法であるように、したものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明者らは、鋭意、研究を進め、金属窒化酸化物層（一般式ＴｉＯｘＮｙＣｚ）において、ｘ、ｙ及びｚ値により、屈折率が変化することを見出した。そこで、膜厚が１０〜２００ｎｍで金属窒化酸化物層（一般式ＴｉＯｘＮｙＣｚ）のｘｙｚ値をｘ＝１．０〜１．８、ｙ＝０．５〜１．０、ｚ＝０．３〜１．５として、屈折率を１．８〜２．６（波長λ＝５５０ｎｍ）と高屈折率化させることで、本発明に至った。
請求項１の本発明によれば、透明、かつ反射光強度が大きい透明積層フィルムが提供される。
請求項２の本発明によれば、透明かつより反射光強度が大きい透明積層フィルムが提供される。
請求項３の本発明によれば、透明かつさらに反射光強度が大きい透明積層フィルムが提供される。
請求項４の本発明によれば、透明かつ最も反射光強度が大きい透明積層フィルムが提供される。
請求項５の本発明によれば、汚れや傷につきにくく耐久性に優れた透明積層フィルムが提供される。
請求項６の本発明によれば、印刷絵柄による意匠性に優れ、かつ、汚れや傷につきにくく耐久性に優れた透明積層フィルムが提供される。
請求項７の本発明によれば、透明かつ反射光強度が大きい透明積層フィルムの反射面上に光拡散層を形成することで、照明光の利用効率を向上させ、液晶表示における消費電力の低減を可能にできる液晶ディスプレイ用の光拡散反射フィルムが提供される。
請求項８の本発明によれば、印刷絵柄とホログラムが同居でき、十分なホログラム効果による意匠性に優れ、かつ、汚れや傷につきにくく耐久性に優れた透明積層フィルムが提供される。
請求項８、９の本発明によれば、基材と反射層との間にレリーフ形成層又は光回折層を形成することで、照明光の利用効率を向上させ、液晶表示における消費電力の低減を可能にできる液晶ディスプレイ用の光回折反射フィルムが提供される。
請求項１０の本発明によれば、照明光の利用効率を向上させ、液晶表示における消費電力の低減を可能にする反射型又は半透過型の液晶表示装置が提供される。
請求項１１、１２の本発明によれば、一般式ＴｉＯｘＮｙＣｚ（ｘ＝１．０〜１．８、ｙ＝０．５〜１．０、ｚ＝０．３〜１．５）で表わされる金属窒化酸化物層が安定して製造できる透明積層フィルムの製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示す透明積層フィルムの断面図である。
図２は、本発明の１実施例を示す透明積層フィルムの断面図である。
図３は、金属窒化酸化物層を形成するＣＶＤ装置の要部の説明図である。
図４は、金属窒化酸化物層を形成するＣＶＤ装置の要部の説明図である。
図５は、本発明の１実施例を示す光拡散反射フィルムの断面図である。
図６は、本発明の１実施例を示す光回折反射フィルムの断面図である。
図７は、反射型液晶表示装置の構成を説明する要部の説明図である。
【００１０】
（物の発明）本発明の透明積層フィルムは、図１の図１（Ａ）に図示するように、透明基材１１の少なくとも一方の面に、透明な金属窒化酸化物層を含む反射層１７を有する。該反射層１７は、単独又は複数の屈折率層を有し、相対的に高い屈折率層と低い屈折率層が交互に積層されている。例えば、図１（Ｃ）のように、第１屈折率層、第２屈折率層、第３屈折率層、第４屈折率層までの４層構成を例示しているが、４層に限定されるものではない。
また、図２（Ａ）（Ｂ）のように、透明基材１１面のいずれかの面に保護層を設け、かつ、反射層１７面に防汚層を設けてもよい。さらに、図２（Ｂ）のように、反射層１７面に絵柄層を設けてもよく、該絵柄層を設ける位置は、いずれの表面又はいずれの層間でもよく任意でよい。
【００１１】
さらにまた、図１（Ｂ）のように、透明基材１１と反射層１７との間にレリーフ形成層１３を設けたり、図５に図示するように、透明基材１１と反射層１７との間に光拡散層５１を設けたり、図６に図示するように、透明基材１１と反射層１７との間に光回折層６１を設けてもよい。また、層構成のいずれの表面又はいずれの層間には、機能に影響のない範囲で、任意の層を適宜設けてもよい。
【００１２】
（透明基材）透明基材１１の材料としては、使用条件や製造に耐える透明性、耐熱性、機械的強度などがあれば、各種の樹脂フィルムやガラスなどの種々の材料が適用できる。
【００１３】
ガラスに後述する層の形成や積層は、巻取り状での連続加工でなく、枚葉加工となるが、材料や条件は同様でよいので、フィルムでの説明を援用できる。
ガラスとしては、石英ガラス、ほう珪酸ガラス、ソーダライムガラスなどが適用できる。熱膨脹率が小さく、寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであり、電極基板として兼用できるものが好ましく、例えば、コーニング社製７０５９ガラスが例示できる。ガラスの厚さは、通常１〜５ｍｍ程度とする。
【００１４】
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレ−トやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ナイロン６やナイロン６１０などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリ（メタ）アクリレートやポリメチルメタアクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリイミドやポリアミドイミドなどのイミド系樹脂、ポリアリレ−ト、ポリスルホン、ポリフェニレンエ−テルなどのエンジニアリング樹脂、ポリカ−ボネ−ト、ＡＢＳ樹脂などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのセルロース系樹脂、ポリウレタンなどのウレタン系樹脂などがある。
【００１５】
該透明基材１１は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、ブロック重合体、または、混合体（アロイでを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。該透明基材は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該透明基材１１の厚さは、通常、１２〜１０００μｍ程度、好ましくは１２〜２００μｍ、が最適である。これ以下の厚さでは、機械的強度が不足して反りやたるみなどが発生し、これ以上では、過剰な性能となってコスト的にも無駄である。また、透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光線透過率で８０％以上である。
該透明基材１１は、これら樹脂の少なくとも１層からなるフィルム、シート、ボード状として使用するが、これら形状を本明細書ではフィルムと総称する。通常は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのセルロース系樹脂などのフィルムが透明性、耐熱性がよく、低コストであり好適に使用され、ポリエチレンテレフタレートが最適である。
【００１６】
該透明基材１１は、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。該樹脂フィルムは、必要に応じて、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
帯電防止剤は、透明基材１１表面へ、公知のスプレイ、ディッピング、スピンコート、又はロールコーティング法で塗布してもよく、他のバインダへ混入させて、該塗布液を公知のスプレイやロールコーティング法で塗布してもよい。
【００１７】
（金属窒化酸化物層）本発明の透明積層フィルムは、透明基材１１上に、真空成膜法により少なくとも１層以上の高光反射性の金属窒化酸化物層を含む反射層１７を形成する。反射層１７を構成する金属窒化酸化物層の１層以上の膜（薄膜）は、各層の光学特性がそれぞれ異なるもので、各層の光学特性（特に屈折率）や層構成により、積層体全体として効果的に反射するように構成されている。通常、反射膜の積層体を構成する層は、その屈折率により、低屈折率層、高屈折率層に大別される。
【００１８】
本発明の透明積層フィルムにおいては、「請求項１」の反射層１７は、金属窒化酸化物層（高屈折率層）、「請求項２」の反射層１７は、第１屈折率層２１（低屈折率層）／第２屈折率層２２（高屈折率層）、「請求項３」の反射層１７は、第１屈折率層２１（高屈折率層）／第２屈折率層２２（低屈折率層）／第３屈折率層２３（高屈折率層）、「請求項４」の反射層１７は、第１屈折率層２１（低屈折率層）／第２屈折率層２２（高屈折率層）／第３屈折率層２３（低屈折率層）／第４屈折率層２４（高屈折率層）、の層構成である。  このように、相対的な低屈折率層と高屈折率層を順次積層して２層、３層、４層・・・多層としてもよく、反射効果が向上できる。しかし、4層以上の多層化は、反射光の波長域が狭くなる為に、好ましくなく、１層から４層が好適である。
【００１９】
（反射層、薄膜の定義）金属窒化酸化物層は、機能表現では反射膜となり、構成表現では薄膜となる。
また、反射層１７は、金属窒化酸化物層の１層以上を含み、複数の低屈折率層及び／又は高屈折率層を含む場合も、複数層の構成全体として効果的な反射性を有するので、複数層も機能表現では反射膜と、構成表現では薄膜と総称することがある。
【００２０】
（高屈折率層）金属窒化酸化物層（反射膜）はレリーフ形成層１３（ホログラム層）の屈折率（通常、屈折率：ｎ＝１．３〜１．６である）よりも大きい屈折率を有するもので、従来は、透明反射性薄膜の材質としては（以下、材質名の右にカッコ書きで屈折率：ｎを付記する）Ｓｂ2Ｓ3（ｎ＝３．０）、Ｆｅ2Ｏ3（ｎ＝２．７）、ＴｉＯ2（ｎ＝２．６）、ＺｎＳ（ｎ＝２．３）、Ｓｂ2Ｏ3（ｎ＝２．０）、ＷＯ3（ｎ＝２．０）、ＳｉＯ（ｎ＝２．０）、Ｉｎ2Ｏ3（ｎ＝２．０）、ＺｎＯ（ｎ＝２．１）、ＺｒＯ（ｎ＝２．０）、Ａｌ2Ｏ3（ｎ＝１．６）、ＣａＯ・ＳｉＯ2（ｎ＝１．８） などが挙げられる。
【００２１】
上記反射膜は、その屈折率がホログラム層の屈折率よりも０．３以上大きいことが好ましく、より好ましくは０．５以上大きいことである。本発明者等の実験によれば１．０以上大きいことが最適であるという結果がもたらされている。
【００２２】
（金属窒化酸化物）本発明の透明積層フィルムで使用する高屈折率層は、反射機能を高めるために用いられる金属窒化酸化物層である。このような高屈折率層は、具体的に、ＴｉＯｘＮｙＣｚが好適に用いられる。特に、ＴｉＯｘＮｙＣｚにおいて、ｘ＝１．０〜１．８、ｙ＝０．５〜１．０、ｚ＝０．３〜１．５の範囲の組成にすることにより、その酸化窒化チタン薄膜の残留炭素成分の比率が低い薄膜となり、酸化窒化チタン薄膜の酸化による性能劣化を抑えることができ、透明性が高く、被ＣＶＤ材との密着性に優れたものが得られる。
【００２３】
高屈折率層を構成する材料には、四塩化チタンやチタニウムテトライソプロポキシド等の有機チタン化合物が好適である。上記の実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００２４】
ｘ値がこの範囲未満ではＴｉ−Ｏ結合が減少して膜応力が大きくなる為に剥離や欠けが生じやすくなり、この範囲以上では薄膜の酸化が進行して官能基が多く形成される為に耐熱性や耐湿性に欠ける薄膜となるからである。
ｙ値がこの範囲未満では屈折率が向上しない為に十分な反射率を得ることが出来ず、この範囲以上ではＴｉ−Ｎ結合が増加して膜は硬質化する為に可撓性に欠ける薄膜となるからである。
ｚ値がこの範囲未満では基材界面での炭素含有成分の減少により、基材との密着性が低下し、この範囲以上では炭素含有成分の増加の為、膜吸収が発生するからである。
ここで、炭素含有成分とは、Ｓｉ−Ｃ結合、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合、Ｓｉ−Ｎ−Ｃ結合、Ｃ−Ｃ結合の何れかの結合を含むもののことである。
【００２５】
（厚さ）本発明の透明積層フィルムで用いるＴｉＯｘＮｙＣｚ層の厚さは、１０〜２００ｎｍである。
厚さが、この範囲未満では光学的にＴｉＯｘＮｙＣｚ層が存在しない場合と同一となる為に反射率は上昇せず、この範囲以上では光学干渉が殆ど起こらない為に反射率の向上は認められない。
【００２６】
（金属窒化酸化物の製造方法）上記反射膜の膜厚は薄膜を形成する材料の透明領域であればよいが通常は１００〜１０，０００Åが好ましい。上記反射膜をホログラム層（レリーフ形成層１３面）に形成する方法として、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、Ｃａｔ−ＣＶＤ（Ｃａｔａｌｙｔｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、プラズマ化学気相成長（プラズマＣＶＤ）法などの一般的薄膜形成手段が採用でき、プラズマＣＶＤ法が安定的に成膜できる点で好ましい。
【００２７】
（ＣＶＤ法）本発明の透明積層フィルムの金属窒化酸化物層を製造する好ましい方法であるプラズマＣＶＤ法について説明する。図３に図示するように、まず、ウェッブ状の透明基材１１が給紙部１２３より巻き出されて、真空容器１２１中のプラズマＣＶＤの反応室に導入される。この反応容器１２１の全体は、図示していない真空ポンプにより排気される。また、同時に反応室には、原料ガス導入口１２５より規定流量の有機チタン化合物ガスと酸素ガス、窒素ガスが供給され、反応室の内部は、常に一定圧力のこれらのガスで満たされている。なお、その有機チタン化合物ガスは、上記の高屈折率層を構成する四塩化チタン、各種チタンアルコキシド化合物等のガスである。供給ガスには、ＮＯ、ＮＯ2、Ｎ2Ｏ4、Ｎ2Ｏ3、Ｎ2Ｏでも良い。
また、プラズマＣＶＤ装置においては、材料ガス流量・圧力、放電条件、透明基材１１の走行速度のコントロール等により、形成される薄膜の屈折率、膜厚等を広範囲でコントロールしうるため、材料を変更することなく、所望の光学特性の膜を得ることができる。
【００２８】
次に、巻き出されて、反応室に導入された透明基材１１は、反転ロールを経て、成膜用ドラム１２７に巻き付き、その回転と同期しながら反転ロールの方向に送られていく。この時、成膜用ドラム１２７は、温度コントロールが可能であり、この時、透明基材１１の表面温度と成膜用ドラムの表面温度はほぼ等しい。従って、プラズマＣＶＤ時に酸化窒化チタンが堆積する透明基材１１の表面温度、すなわちプラズマＣＶＤの成膜温度を任意にコントロールできる。この例においては、プラズマＣＶＤにより酸化窒化チタン薄膜を透明基材１１上に成膜する場合の成膜温度を、その時の成膜用ドラム１２７の表面温度により表示する。
【００２９】
電極１２６と成膜用ドラム１２７との間には、図示していない電源によりＲＦ電圧が印加される。このとき、電源の周波数は、ラジオ波に限らず、直流からマイクロ波まで適当な周波数を使用することも可能である。そして、電極１２６と成膜用ドラム１２７の間にＲＦ電圧を印加することにより、この両電極の周辺にプラズマが発生する。該プラズマ中で有機チタン化合物ガスと酸素ガス、窒素ガスが反応し、窒素と炭素原子含有の酸化窒化チタンを生成して成膜用ドラム１２７に巻き付いた透明基材１１上に堆積して、巻取り基材の全幅にわたって、均一性の高い酸化窒化チタン薄膜が形成される。その後、酸化窒化チタン薄膜が表面に形成された透明基材１１は、反転ロールを経て、基材巻取部１２４で巻き取られる。
【００３０】
上記のように、本発明においては、プラズマにより有機チタン化合物ガスと酸素ガス、窒素ガスが化学反応して生成した酸化窒化チタンが、成膜用ドラム１２７により適切な温度に冷却された透明基材１１上に堆積して、酸化窒化チタン薄膜を形成するので、透明基材１１が高温にさらされ、伸び、変形、カール等することなく、酸化窒化チタン薄膜の形成が可能である。
【００３１】
上記のように製造される薄膜は、窒素原子及び／又は炭素原子を含有した有機チタン化合物から成膜される、炭素を含む酸化窒化チタン薄膜である。また、炭素を含む酸化窒化チタン薄膜中の酸素及び窒素原子は、反応ガスとの反応でも形成される。本明細書では、単に金属窒化酸化物と略す場合もある。その屈折率は１．８〜２．６（波長λ＝５５０ｎｍ）程度で、且つ膜厚が１０〜２００ｎｍであり、該薄膜の組成はＴｉＯｘＮｙＣｚ（ｘ＝１．０〜１．８、ｙ＝０．５〜１．０、ｚ＝０．３〜１．５）となるものである。
【００３２】
また、酸化窒化チタン薄膜を含む反射膜の作製には、図４に示すようなプラズマＣＶＤ装置を用いることも可能である。当該プラズマＣＶＤ装置は容量結合型のプラズマＣＶＤ装置であり、その基本的構造及び原理は図３の装置と同様である。従って、当該装置においても、ウェッブ状の透明基材１１は給紙部２１１より巻き出されて、真空容器２１０中の反応室（ａ，ｂ，ｃ）に導入される。そして、当該反応室内の成膜用電極ドラム２３１上で所定の膜が形成され、巻取り部２１５により巻き取られる。
【００３３】
図４に示す装置と図３に示す装置との差は、酸化窒化チタン薄膜等の薄膜を形成するための反応室である。該反応室が図３に示すプラズマＣＶＤ装置は１つ、図４に示すプラズマＣＶＤ装置は３つの反応室を有している点にある。夫々の反応室（ａ室２２１、ｂ室２２３、ｃ室２２５）は隔離壁で隔離されることで形成されている。ここで、以下の説明の便宜上、当該３つの反応室を右側から反応室ａ、反応室ｂ、反応室ｃとする。そして、各反応室には、ａ室電極板２４１、ｂ室電極板２４３、ｃ室電極板２４５及び原料ガスを導入するガス供給ノズルａ室２５１、ｂ室２５３、ｃ室２５５が設置されている。
【００３４】
各反応室（ａ，ｂ，ｃ）は、成膜用電極ドラム２３１の外周に沿って設置されている。これは、積層膜が形成される基材は、図３に示す例で説明したように成膜用ドラムと同期しながら反応室内に挿入され、かつ成膜用ドラム上において積層膜を形成するものであることから、このように配置することにより連続して各膜を積層することができるからである。なお、図４に示す装置では反応室の数を３室としたが、本発明の積層フィルムの製造方法に用いるプラズマＣＶＤ装置としては、これに限定されるものではなく、必要に応じて変更することができる。
【００３５】
上述したようなプラズマＣＶＤ装置によれば、各反応室へ導入する原料ガスを変化させることにより、夫々の反応室内で独立して膜を形成することが可能であることから、例えば、シリカ薄膜と酸化窒化チタン膜との積層膜をプラスティックフィルム基材上に形成する場合は、例えば反応室ａに有機チタン化合物を含むガスを導入し、反応室ｂに有機珪素化合物を含むガスを導入し、反応室ｃには有機チタン化合物を含む原料ガスをｃ２から導入することにより、透明基材１１が成膜用ドラムを経て、基材巻取り部へ巻き取られるまでに、当該透明基材１１上に、ＴｉＯｘＮｙＣｚ（ｘ＝１．０〜１．８、ｙ＝０．５〜１．０、ｚ＝０．３〜１．５）の組成を有する高屈折率層、酸化シリコン層の低屈折率層、該薄膜である高屈折率層が順次形成された透明積層フィルムを形成することが可能となる。
【００３６】
さらに、上記の場合において、各々の反応室内の条件、例えばガスの流量や圧力、放電条件等を変化させることにより、各反応室で形成される薄膜の特性を変化させることも可能である。当該装置により得られる各層の膜の厚さや屈折率等を自在に組み合わせることも可能となる。
また、必ずしも夫々の反応室に異なる原料ガスを導入する必要もなく、例えば図４に示す反応室ａ，ｂ，ｃ全てに有機珪素化合物を含むガスを導入することでシリカ膜を形成し、その後に一旦反応室ａ，ｂ，ｃに導入されたガスを全て抜き、改めて有機チタン化合物を含むガスを反応室ａ，ｂ，ｃに導入して、シリカ膜の上に酸化窒化チタン薄膜を形成することも可能である。
【００３７】
本発明においては、上述した図３に示すような装置で複数回の処理することにより、透明基材１１上に酸化窒化チタン膜等の高屈折率層とシリカ薄膜の低屈折率層とが形成された積層フィルムを形成するようにしてもよいし、上述したように図４に示す装置を用いて、プラズマＣＶＤ装置を一回使用して、透明基材１１を処理することにより、プラスティックフィルム基材上にシリカ膜等の低屈折率層、酸化窒化チタン薄膜等の高屈折率層が形成された積層フィルムを形成するようにしてもよい。
また、図４に示す装置を用いて、複数回プラスティックフィルムを処理することにより、シリカ薄膜の低屈折率層と酸化窒化チタン膜等の高屈折率層とが交互に複数層積層された積層フィルムを得ることも可能である。
【００３８】
（低屈折率層）本発明の低屈折率層は、透明基材１１上に形成され、これにより透明積層フィルムの反射フィルムとしての反射効果を向上させるものである。低屈折率層の中でも、シリカ薄膜がプラズマＣＶＤ法により形成されたものが好ましく、特に好ましくは、プラスティックフィルム基材の温度が−１０〜１５０℃に制御されて、シリカが積層された反射フィルムが好ましい。また、低屈折率層としては屈折率が１．３〜１．５程度のものが好ましく、その範囲にあるものとしては、例えば酸化シリコン層、すなわちシリカ薄膜やその他に、フッ化マグネシウムや酸フッ化ケイ素等を用いてもよい。光学特性に関し、低屈折率材料に求められる物性はフッ化マグネシウムや酸フッ化ケイ素の方が前記シリカ薄膜よりも優れている。
【００３９】
しかしながら、フッ化マグネシウム等は、機械強度や耐湿性等がシリカ薄膜に比べ劣るので、その用途によっては、強度向上層やバリア向上層を積層する等の手段との併用が好ましい。その点において、シリカ薄膜については、前記フッ化マグネシウム等のように、強度向上層等の併用手段等を特に必要とせず、総合的には最も好適である。
本発明においてシリカ薄膜を形成するための原料としては、シラン、ジシラン、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、メチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＯＳ）、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、テトラメトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラエトキシシラン等のＳｉ系化合物を用いることが可能である。特に、水蒸気との反応性が高い方が好ましい。
【００４０】
（低屈折率層の製造方法）上記のシリカ薄膜等の低屈折率層の製造方法は、特に限定するものではなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、Ｃａｔ−ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法など種々の真空成膜の方法、あるいはゾルゲル法などによるウェットコーティングなどの方法を用いることができる。
【００４１】
上記、高屈折率層及び低屈折率層に関して、プラズマＣＶＤ法が好適に用いられる。それに際して、連続的に製造可能、且つプラスティックフィルム基材の温度制御も正確に行うことができる点等の理由から、少なくとも原料ガスが導入される反応室と、温度コントロール可能な成膜用ドラムと、上記成膜用ドラムとの間にプラズマを発生させるプラズマ発生手段を有し、上記成膜用ドラムによりウェッブ状のプラスティックフィルム基材が連続的に原料ガスが導入された反応室内に搬送されることにより、上記プラスティックフィルム基材の温度制御が行なわれると同時に上記プラスティックフィルム基材上に膜が形成されるプラズマＣＶＤ装置及びガス供給系、具体的には図１に示すような装置により低屈折率層を形成することが好ましい。
【００４２】
本発明における高屈折率層である酸化窒化チタン薄膜は、連続的に製造可能で、且つプラスティックフィルム基材の温度制御も正確に行うことができる点等の理由から、プラズマＣＶＤ装置を用いて製造することが望ましい。そのプラズマＣＶＤ装置としては、プラスティックフィルム基材の温度制御が可能なものであれば特に限定されるものでなく、電源周波数やプラズマ生成方式においても特に制限はない。
【００４３】
このように屈折率の大きい透明連続薄膜を設けると、ホログラムの特徴である再生の角度依存性により、ホログラムの再生可能な角度範囲外では単なる透明体としてしか見えず、ホログラムの再生可能な角度範囲内では光の反射率が最大になり、反射型ホログラムとしての効果が出てくる。
【００４４】
（光拡散層）透明基材１１と反射層１７との間には、図５に図示するように光拡散層５１を設けてもよい。光拡散層５１は、透過した光を拡散する機能があればよく、例えば光拡散粒子とバインダからなる層、表面に微細な凹凸を有する層などを設ければよい。
該光拡散層５１は、入射した照明光が反射層１７で効率よく反射され、該反射光を適度に拡散でき、また、白色性などの光源特性を維持できることで、面的な光強度ムラが少なく、より均一で、照明光の利用効率の高めることができる。
このように、透明基材１１／光拡散層５１／反射層１７のからなる透明積層フィルムは、光拡散機能を有する反射フィルムとなり、液晶表示装置の反射板として好適である。
【００４５】
光拡散粒子とバインダからなる光拡散層５１は、図５（Ａ）に図示するように構成され、バインダ層内部に分散する異屈折率微粒子からなる光拡散粒子によって光を拡散（散乱）する。
該光拡散層５１のバインダとしては、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレートなどからなるポリアクリル酸エステル共重合体などのアクリル樹脂、ジエン系樹脂、ポリエステル系樹脂及びシリコン系樹脂などの硬化型樹脂が適用できる。光拡散粒子としては、シリカなどの無機及び／又は有機にフィラーが適用でき、通常平均粒子径が３０μｍ以下、好ましくは２〜１５μｍ程度のシリカ粒子を、上記バインダ樹脂１００質量部に対してシリカ粒子が０．１〜１０質量部程度を分散し、グラビアコート、リバースロールコート、ダイコートなどで、乾燥後の厚さが５〜３０μｍ程度となるように、塗布乾燥し、必要に応じて熱、紫外線又は電子線の照射で硬化させればよい。
【００４６】
表面に微細な凹凸を有する光拡散層５１は、図５（Ｂ）に図示するように構成され、微細な凹凸面を形成した後に反射層１７を形成する。
該微細な凹凸形状が白色性などの光源特性を維持でき、また適度な光拡散性、を発揮することで、面的な光強度ムラが少なく、より均一で、照明光の利用効率の高めることができる。
【００４７】
（レリーフ形成層、光回折層）透明基材１１と反射層１７との間には、図１（Ｂ）のようにレリーフ形成層１３を設けたり、図６に図示するように光回折層６１を設けてもよい。
レリーフ形成層１３、光回折層６１は、透過した光を回折及び／又は拡散する機能があればよく、入射した照明光が反射層１７で効率よく反射され、該反射光の回折方向や強度を適度に制御でき、また、白色性などの光源特性を維持できることで、面的な光強度ムラが少なく、より均一で、照明光の利用効率の高め、さらに視野角も制御することもできる。
【００４８】
光回折層のうちレリーフホログラム及び回折格子は、物体からの光の波面に相当する干渉縞が微細な凹凸レリーフ（模様）で記録されているので、説明はレリーフ形成層１３に含める。図６（Ｂ）に図示するように該レリーフ形成層１３のレリーフ面に反射層１７を設ける。
また、図６（Ａ）に図示するように光回折層６１が体積ホログラムは、凹凸レリーフでなく、略平坦な光回折層６１の層中に記録されるために、別項で後述するが、作用効果としては同様である。このように、透明基材１１／光回折層６１／反射層１７のからなる透明積層フィルムは、光回折機能を有する反射フィルムとなり、液晶表示装置の反射板として好適である。
【００４９】
（レリーフ形成層）本発明では、反射層１７の反射効果を活かすために、反射層１７のいずれかの面にレリーフ形成層１３を設けることが好ましく、透明基材１１と反射層１７（第１〜第４屈折率層）との間にレリーフ形成層１３を設けることがより好ましい。該レリーフ形成層１３の表面には、図１に図示するように、微細な凹凸レリーフ（機能表現では、例えばホログラム）が形成された透明レリーフホログラムの例を示している。該レリーフホログラムは、レリーフ形成層１３の表面に、物体からの光の波面に相当する干渉縞が微細な凹凸レリーフ（模様）として形成されている。該微細な凹凸レリーフ（ホログラム）の表面には、レリーフ形成層１３（ホログラム層ともいう）より大きい屈折率を有する金属窒化酸化物層を含む反射層１７（機能表現では透明反射層）が凹凸模様の形に沿って形成されている。高い反射性によって、明るいホログラムが観察できるようになる。
【００５０】
（レリーフ形成層の材料）レリーフ形成層１３のの材料としては、ポリ塩化ビニル系、アクリル系（例、ＭＭＡ）、スチレン系、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたもの、或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合物が使用可能である。
【００５１】
さらに、ラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能であり、これには次の２種類のものがある。
【００５２】
（１）ガラス転移点が０〜２５０℃のポリマー中にラジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具体的には、ポリマーとしては以下の化合物を重合もしくは共重合させたものに対し後述する方法（イ）〜（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いることができる。
（１−１）水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロールアクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレートなど。
（１−２）カルボキシル基を有する単量体：アクリル酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネートなど。
（１−３）エポキシ基を有する単量体：グリシジルメタクリレートなど。  アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニルエチルメタクリレート、２−アジリジニルプロピオン酸アリルなど。
（１−４）アミノ基を有する単量体：アクリルアミド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレートなど。
（１−５）スルフォン基を有する単量体：２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸など。
（１−６）イソシアネート基を有する単量体：２，４−トルリンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレートの１モル対１モル付加物などのジイソシアネートと活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物など。
さらに、上記の共重合体のガラス転移点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と共重合させることもできる。このような共重合可能な単量体としては、例えばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレートなどが挙げられる。
【００５３】
次に上述のようにして得られた重合体を以下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカル重合性不飽和基を導入することによって、本発明に係る材料を得ることができる。
（イ）水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合にはアクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有する単量体などを縮合反応させる。
（ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には前述の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
（ハ）エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル基を有する単量体を縮合反応させる。
（ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合にはエポキシ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいはジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の１対１モルの付加物を付加反応させる。上記の反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。
【００５４】
（２）融点が０〜２５０℃でありラジカル重合性不飽和基を有する化合物。具体的にはステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、トリアクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリレート、スピログリコールジアクリレート、スピログリコールジメタクリレートなどが挙げられる。
【００５５】
また、本発明においては、前記（１）、（２）を混合して用いることもでき、さらに、それらに対してラジカル重合性不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上させるものであって、前述の単量体の他にエチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ソルジトールテトラグリシジルエーテルテトラアクリレート、ソルジトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレートなどを用いることができ、前記した共重合体混合物の固型分１００重量部に対して、０．１〜１００重量部で用いることが好ましい。また上記のものは電子線により充分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルなどのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビアチル類などの紫外線照射によりラジカルを発生するものも用いることができる。
【００５６】
（レリーフ形成層の形成）基材１１へ、必要に応じて上記樹脂を溶剤へ溶解又は分散させたインキ化を用いて、公知のグラビア印刷法、ロールコーティング法、３本リバースロールコーティング法などの塗布方法で、乾燥後の厚さが０．２〜１０μｍになるように、塗布し乾燥させて、レリーフ形成層１３を形成する。該レリーフ形成層１３の表面へ、凹凸レリーフを賦型する。
【００５７】
（レリーフ）凹凸レリーフの形状としては、光拡散、反射防止、防眩、光回折などの機能を発現するものが好ましく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現する万線状の凹凸、干渉パターンなどでもよい。  凹凸レリーフとしては、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞が凹凸模様で記録されたホログラムや回折格子が適用できる。ホログラムとしては、フレネルホログラム、フーリエ変換ホログラム、フランホーファーホログラム、レインボーホログラム、それらの原理を利用したイメージホログラム、カラーホログラム、ホログラフィックステレオグラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。
【００５８】
回折格子としては、ホログラム記録手段を利用したホログラフィック回折格子があげられ、その他、電子線描画装置等を用いて機械的に回折格子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折光が得られる回折格子をあげることもできる。また、機械切削法でもよい。これらのホログラムおよび／または回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。
【００５９】
（レリーフの複製）以下、代表的なレリーフであるホログラムを例に説明するが、他のレリーフも凹凸レリーフの形状が異なるだけで、同様である。  凹凸レリーフの形成について説明する。まず、原版を作成するが、該原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画法、機械切削法などが適用できる。
【００６０】
凹凸形成層１３の表面に微細な凹凸を複製する方法としては、公知のエンボス法、ポッティング法が適用できる。先のレリーフ形成層１３の表面を、原版から複製して得た金属又は樹脂製のスタンパ版を、加熱又は加熱せずに加圧しエンボスして、凹凸レリーフを複製した後に電離放射線を照射するか、又はエンボス中に電離放射線を照射してからスタンパ版を剥離することで凹凸レリーフを複製する。また、スタンパ版を加熱ロール化した連続複製などの手段によれば、生産高く凹凸レリーフを複製することができる。このように、レリーフ形成層１３の表面に微細な凹凸レリーフが複製して、凹凸形状に応じたホログラムなどの機能が発現する。
【００６１】
（体積ホログラム）光回折層６１が体積ホログラムの場合には、図６（Ａ）に図示するように凹凸レリーフでなく、略平坦な光回折層６１の層中に記録される。
リップマンホログラムなどの体積ホログラムは、光回折層６１の層中に回折情報が記録される。ここで、代表的なリップマンホログラムについて説明する。
【００６２】
体積ホログラムの画像の記録は、感材としてフォトポリマー、フォトレジスト、銀塩感光乳剤のような厚みのあるホログラム感材（光回折層６１）の片面から記録物体の情報を持ったコヒーレントな物体光を入射させ、同時に同じ波長のコヒーレントな参照光を同じ側（透過型）から所定角度で入射させることによって、物体光と参照光はホログラム感材中で干渉して体積ホログラム干渉縞が記録される。反射型の体積ホログラムは、参照光を反対側から所定角度で入射させればよい。
ホログラムの再生は、画像が記録されたホログラム記録体（ホログラム感材、光回折層６１）に再生照明光を照射することによって、入射光は記録された体積ホログラム干渉縞により回折され、元の記録物体の位置にその再生像を再生する。体積ホログラムは、記録された立体物あるいは平面物の絵柄の再生像を所定の空間に再生するものである。
【００６３】
従って、記録物体を選択することで、照明光を波長選択性、角度選択性などで制御された所望の回折光を得ることができる。
このように、透明基材１１／光回折層６１（体積ホログラム）／反射層１７のからなる透明積層フィルムは、光回折機能を有する反射フィルムとなり、液晶表示装置の反射板として好適である。該光回折反射フィルムは、面的な光強度ムラが少なく、より均一で、照明光の利用効率の高め、さらに視野角も制御することもできる。
【００６４】
（金属窒化酸化物層）このように複製された凹凸レリーフの表面へ、真空成膜法により、少なくとも１層以上の金属窒化酸化物層を含む反射層１７（反射膜）を形成する。該反射層１７としては、前述した低屈折率膜、高屈折率層を、目的に応じて適宜選択して、単独又は複数層設ける。
【００６５】
（絵柄層）本発明の透明積層フィルムでは、絵柄層を備えていてもよく、該絵柄層は任意の位置に設けることができ、例えば、透明基材１１、レリーフ形成層１３、金属窒化酸化物層を含む反射層１７の間、並びに、反射層１７面及び／又は透明基材１１の反射層１７と反対面でもよい。絵柄層は、公知のインキ、印刷法でよく、任意の模様及び色彩を施すことができる。また、絵柄は任意で、文字、記号、イラスト、写真などの柄に限らず、任意の色相のベタ印刷により連続印刷層でもよい。
【００６６】
金属窒化酸化物層を含む反射層１７、及び／又は第１〜４屈折率層の高低屈折率層を含む、単独又は複数からなる薄膜（反射膜）は透明であり、かつ、ホログラム層と接する面の屈折率よりも大きな屈折率を有しているため、必要にして充分な透明度と反射光強度を得ることができる。その結果、例えば、絵柄層を薄膜側に設けて、絵柄層が薄膜の下面となるが、絵柄は透明基材１１側から見ることができ、かつ、透明ホログラムも十分な効果で観察できる。
【００６７】
例えば、ホログラム層の樹脂の屈折率：ｎ＝１．４とし透明連続薄膜の屈折率ｎ１＝３．０とすると、垂直入射光に対する反射率：ＲはＰ、Ｓ両偏光波に対し、Ｒ≒５０％となり（但し、入射光の波長：λ≒４，０００Å、透明連続薄膜の膜厚：ｄ≒１，０００Åとする）、その結果、充分なホログラム効果が得られる。
【００６８】
また、本発明では、レリーフ形成層（ホログラム層）１３の透明基材１１側に、凹凸レリーフを形成してもよく、この場合、薄膜（反射膜）はホログラム層の非凹凸レリーフ面に形成される。また、上記薄膜はレリーフ形成面の凹凸に沿った形状に形成することに限定されず、その下面は平坦であってもよい。
【００６９】
更に、本発明においては、ホログラム層（レリーフ形成層１３）及び透明連続薄膜（反射層）は透明であるため、絵柄層はホログラム層や透明連続薄膜に設けるかわりに、紙やプラスチック等の別体である支持体の表面上に絵柄層を設けておき、接着剤を介する等の任意の積層手段によって積層しても同様な効果を示す。
【００７０】
更に、本発明の透明積層フィルムでは、透明ホログラムが特定の再生角度範囲内でのみ再生されるので、他の通常の角度ではホログラムが認識されず、別体の支持体と積層するときはその支持体及び支持体表面のデザイン、絵柄の視覚的特徴を妨げない利点があり、従来の反射性金属薄膜を有する反射型ホログラムを各種の基材上に設けたときの違和感が解消する。又、ホログラムの再生可能な角度範囲近傍においては観察位置を多少変えるだけでホログラムと絵柄の両方を見ることができ、デザインの２面性が発揮される。
【００７１】
本発明の透明積層フィルムには、さらに、透明基材１１のいずれか一方の面に、保護層３１が設けられ、かつ上記反射層１７の表面に防汚層４１が設けてもよい。
（防汚層）本発明の透明積層フィルムの透明基材１１面に、透明積層フィルム面の汚染を防止するための防汚層４１を設けることが好ましい。防汚層４１は、カード類や本の表紙、レコードジャケットに設けた場合、本発明の透明積層フィルムに対してごみや汚れが付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される。具体的には、反射機能を低下させない範囲で、フッ素系界面活性剤等の界面活性剤、フッ素系樹脂を含む塗料、シリコーンオイル等の剥離剤、もしくはワックス等をごく薄く塗布し、余剰分を拭い除去しておく。防汚層は、恒久的な層として形成してもよいが、必要の都度、塗布して形成してもよい。防汚層の厚みは、１〜１０ｎｍ程度が好ましい。その形成方法は、公知のコーティング法や真空法を用いることが可能であり、特に限定されるものではない。
【００７２】
（保護層）保護層は、図２（Ａ）のように透明基材１１と反射層１７との間でも、図２（Ｂ）のように透明基材１１の反射層１７と反対面でもよく、透明基材１１のいずれの表面でもよい。また、図３（Ｂ）に示すように、反射層１７面に絵柄層がある場合には、絵柄層の面に保護層３１を設けることもできる。保護層３１の材質としては、通常用いられる合成樹脂を使用することができる。このように保護層４１を設けることによって、透明基材１１面、又はレリーフ形成面及び反射層１７を、外力からの傷防止や、湿度や環境からの変質を保護し、反射効果を保持できる。好ましくは、保護層３１／透明基材１１／（レリーフ形成層１３）／反射層１７／（絵柄層）／防汚層４１、又は透明基材１１／保護層３１／（レリーフ形成層１３）／反射層１７／（絵柄層）／防汚層４１の構成である。
【００７３】
また、凹凸レリーフが反射層１７面に露出していると、該凹凸レリーフを型取りし、該型から複製版を作り、偽造品を作られる恐れがあるが、保護層３１があることで、凹凸レリーフが埋められて、型取りできず、偽造が防止できる利点がある。
しかしながら、反射層１７がなく、レリーフ形成層１３面へ直接保護層４１を設けると、保護層４１の屈折率がレリーフ形成層１３の屈折率と近いために、ホログラムの凹凸レリ−フが単に埋まってホログラムが再生されない。このように、反射層１７面に保護層４１を設けることは、透明反射層１７があってはじめて、可能になることである。
【００７４】
（液晶表示装置）以上のようにで説明した光拡散反射フィルム５０、光回折反射フィルム６０を反射板として用いたのが、本発明の液晶表示装置６０である。該液晶表示装置６０としては、公知の透過型、半透過型、反射型のいずれの液晶表示装置にも適用できるが、半透過型液晶表示装置が好ましく、反射型液晶表示装置がさらに好ましい。好ましい反射型液晶表示装置を例に説明する。
反射型液晶表示装置として、図７に原理を説明する要部のみを図示するように、液晶表示パネル３３０と反射板３２７からなり、必要に応じて図示していないが、レンズ、位相差、偏光などの光学部材を設けてもよい。なお、透過型液晶表示装置では、面光源装置を有し、該面光源装置の出光側に液晶表示パネル３３０が設けられている。半透過型液晶表示装置は、反射型及び透過型を併用した液晶表示装置である。
【００７５】
液晶表示パネル３０は下基板３５と上基板３３に挟まれた液晶層３１からなり、照明光３２１は、観察側から入射する外光を利用する。該照明光３２１は、液晶表示パネル３３０を透過し、反射板３２７で反射されて、再び液晶表示パネル３０を介して出射して表示光となり、表示画像が観察される。
反射板３２７として、光拡散反射フィルム５０を用いることで、照明光を反射層１７で効率よく反射させ、かつ、該反射光を光拡散層５１で拡散（散乱）させることによって、ディスプレイ画像のギラツキやチラツキ感を防止し、明るく高コントラストな画像を表示できる。
また、反射板３２７として、光回折反射フィルム６０を用いることで、照明光を反射層１７で効率よく反射させ、かつ、該反射光を光回折層６１で回折（散乱）させることによって、ディスプレイ画像のギラツキやチラツキ感を防止し、明るく高コントラストな画像を表示できる。
【００７６】
（多層の反射層）光拡散反射フィルム５０、光回折反射フィルム６０の反射層１７としては、透明な金属窒化酸化物層を含む反射層１７が適用でき、該反射層１７は、単独又は複数の屈折率層を有し、相対的に高い屈折率層と低い屈折率層が交互に積層されているも適用できる。例えば、図１（Ｃ）のように、第１屈折率層、第２屈折率層、第３屈折率層、第４屈折率層までの４層構成を例示しているが、４層に限定されるものではない。
【００７７】
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
【実施例１】
【００７８】
透明基材１１として厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムへ、アクリル樹脂とメラミン樹脂との質量比で４：１の混合樹脂を、適宜溶媒へ分散又は溶解し、ブラビアコート法で塗布し乾燥して、厚さ２μｍ（乾燥後）のレリーフ形成層１３（屈折率：ｎ＝１．４）を形成した。該レリーフ形成層１３面へ、２光束干渉法で撮影したフレネルホログラムを、公知のエンボス法で賦型した。該ホログラムのレリーフ形成面に、図３の装置を使用して、下記成膜条件のプラズマＣＶＤ法にて、ＴＩＯｘＮｙＣｚ薄膜を形成し、透明積層フィルムを得た。
成膜条件は、
基材の走行速度              １ｍ／ｍｉｎ
印加電力                    １．０ｋＷ
成膜圧力                      １０Ｐａ
ＴＴＩＰ（チタニウムテトライソプロポキシド）流量  １００ｓｃｃｍ
酸素ガス流量                  １．５ｓｌｍ
窒素ガス流量                  ０．１ｓｌｍ
成膜ドラム表面温度（成膜温度）  ３０℃
【００７９】
実施例１で得られたＴｉＯｘＮｙＣｚ膜の組成はｘ＝１．２５、ｙ＝０．８、ｚ＝０．３４で、膜厚は８０ｎｍ、屈折率（λ＝５５０ｎｍ）２．４０、透明性は視感度透過率で８５％、レリーフ形成層との密着性はクロスカット試験にて１００／１００であり、ＰＥＴフィルムへ、成膜温度３０℃で、屈折率２．４０の均質なＴｉＯｘＮｙＣｚ膜が形成できた。
【実施例２】
【００８０】
透明基材１１として厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムへ、アクリル樹脂とメラミン樹脂との質量比で４：１の混合樹脂を、適宜溶媒へ分散又は溶解し、塗布し乾燥して、厚さ２μｍ（乾燥後）のレリーフ形成層１３（屈折率：ｎ＝１．４）を形成した。該レリーフ形成層１３面へ、２光束干渉法で撮影したフレネルホログラムを、公知のエンボス法で賦型した。該ホログラムのレリーフ形成面に、第１屈折率層、第２屈折率層、第３屈折率層を順に形成した。
【００８１】
第１屈折率層は、実施例１と同様にＴｉＯｘＮｙＣｚ膜の高屈折率膜を形成し、第２屈折率層は、プラズマＣＶＤ法で酸化シリコン膜の低屈折率膜を形成し、第３屈折率層は、実施例１と同様にＴｉＯｘＮｙＣｚ膜の高屈折率膜を形成して、３層からなる反射層とし、透明積層フィルムを得た。
【実施例３】
【００８２】
「表１」に示す、ＣＶＤ条件とする以外は、実施例１と同様にし、透明積層フィルムを得た。
【実施例４】
【００８３】
「表１」に示す、ＣＶＤ条件とする以外は、実施例１と同様にし、透明積層フィルムを得た。
【実施例５】
【００８４】
「表１」に示す、ＣＶＤ条件とする以外は、実施例１と同様にし、透明積層フィルムを得た。
【００８５】
（比較例１〜２）
「表１」に示す、ＣＶＤ条件とする以外は、実施例１と同様にし、透明積層フィルムを得た。
【実施例６】
【００８６】
実施例１で得られた透明積層フィルムのＴｉＯｘＮｙＣｚ膜面に絵柄層を設けた上に、さらに保護層を設けた。絵柄層は公知のグラビア印刷法で印刷し、保護層はアクリル系樹脂を溶媒へ溶解し、ブラビアコート法で塗布し乾燥して、厚さ５μｍ（乾燥後）を得、その屈折率：ｎ２は１．４であった。その結果、充分なホログラム効果があることが認められた。また外部から絵柄層を見ることができ、透明性にも優れていることが認められた。
【実施例７】
【００８７】
実施例２で得られた３層の反射膜を含む透明積層フィルムのＴｉＯｘＮｙＣｚ膜面に、絵柄層及び防汚層を設け、ＰＥＴフィルムの表面に保護層を設けた。その結果、十分なホログラム効果があった。また、外部から絵柄層を見ることができ、透明性にも優れていることが認められ、さらに、防汚層面は指紋などの汚れが付着しにくく、十分な防汚効果が認められた。
【００８８】
（測定）  無機酸化物膜の組成分析は、光電子分光光度計ＥＳＣＡＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ（ＶＧ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製、商品名）を用い、下記の分析条件で行った。分析条件は、Ｘ線源：ＭｇＫα(非単色化Ｘ線)、Ｘ線出力：１５ｋＶ、２０ｍＡ（３００Ｗ
）、測定領域：５００μｍφ、帯電中和:なし、Ａｒ＋イオンスパッタエッチング実施(Ａｒ＋イオンスパッタ、イオン種：Ａｒ＋、加速電圧：３ｋｅＶ、エミッション電流：７．５ｍＡ、ＭＡＧＮＩＦＩＣＡＴＩＯＮ：２ｍｍ×２ｍｍ）である。
膜厚測定、及び屈折率測定は、エリプソメーターＵＶＩＳＥＬＴＭ（ＪＯＢＩＮ  ＹＶＯＮ社製、商品名）を用いて行った。
【００８９】
（評価）  接着性は、ＪＩＳ−Ｋ５４００の８．５．１記載に準拠して、具体的には、隙間間隔２ｍｍのカッターガイドを用いて、層を貫通して基材に達する切り傷を縦横につけて、１００個のマス目状とし、セロハン粘着テープ（ニチバン社製４０５番２４ｍｍ幅）をマス状の切り傷面に張り付け、消しゴムでこすって完全に付着させた後、垂直に引き剥がした。剥離後の面を目視により観察し、１００個のマス目における層残留率（マス目の一部分でも剥がれたものも剥がれた個数として扱う）を接着性の尺度とし、接着性（％）＝（１−（剥がれたマス目／１００マス））×１００で求めた。
透明性は、ＪＩＳ−Ｚ８７０１に規定されたＸＹＺ表色系を用いて視感度透過率を算出する。また、測定はＪＩＳ−Ｚ８７２２に基づき、分光光度計により求めた。
酸化による性能劣化は、耐候試験を行った後の、密着性及び透明性の変化で評価し、耐候試験はＪＩＳ−Ｋ７３５０−４に定義された紫外線照射手法を用いて、紫外線を３００時間照射後、密着性及び視感度透過率を求めた。密着性は上記のＪＩＳ−Ｋ５４００に準拠し、透明性は上記のＪＩＳ−Ｚ８７０１に規定された視感度透過率とし、また、測定はＪＩＳ−Ｚ８７２２に準拠した。酸化劣化防止性は、耐候試験の後でも、密着性及び透明性に著しい変化のないものを合格とし「○」印、変化が著しいものを不合格とし「×」印で示した。
【００９０】
（評価結果）  実施例及び比較例の、評価結果及び測定結果を「表１」にしめす。
【表１】
2005119259.tif 000003
【００９１】
実施例１〜４（実施例２は表示していない）で得られた透明積層フィルムのＰＥＴフィルム（透明基材）は、成膜後でも、わずかな伸び、変形も無く良好な状態であった。実施例２で得られた３層の反射膜を含む透明積層フィルムの人間が感知し易い５５０ｎｍ近傍での反射率が５０％と高く、反射効果が良好であった。また、いずれも屈折率、透明性、酸化劣化防止性も良好であった。
比較例１〜２で得られた透明積層フィルムのＰＥＴフィルム（透明基材）は、成膜後でも、わずかな伸び、変形も無く良好な状態であったが、屈折率及び透明性が低く、酸化劣化防止性も不合格であった。
【実施例８】
【００９２】
実施例１のレリーフ形成層１３に代えて、下記の光拡散層とする以外は、実施例１と同様にし、光拡散反射フィルムを得た。
光拡散層としては、ポリエステル樹脂（東洋紡績社製のバイロン２００）１００質量部、シリカ中空粒子（平均粒子径２０ｎｍ）２０質量部、トルエン１２０部、メチルエチルケトン３０質量部からなる混合分散溶液をコンマダイレクト法により塗工し、１２０℃、１分間乾燥させ、厚み３０μｍの光拡散層を形成して、光拡散層とした。
【実施例９】
【００９３】
実施例１の２光束干渉法で撮影したフレネルホログラムに代えて、回折格子とする以外は、実施例１と同様にし、光回折反射フィルムを得た。
【実施例１０】
【００９４】
実施例８の光拡散反射フィルムを反射フィルムとして、公知の反射型液晶表示装置へ組み込んだところ、通常の事務所内の蛍光燈下でも充分な明るさが得られた。
【実施例１１】
【００９５】
実施例９の光回折反射フィルムを反射フィルムとして、公知の反射型液晶表示装置へ組み込んだところ、通常の事務所内の蛍光燈下でも充分な明るさが得られた。
【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明の透明積層フィルムは、反射層だけでも、有価証券、カードなどの産業分野、レンズシート、透過型スクリーンバックライトなどの光学産業分野などに利用できる。
また、レリーフ形成層を設けた本発明の透明積層フィルムは、例えば透明ホログラムとして、種々の用途に用いることができ、例えば、株券や通帳などの有価証券類、クレジットカードやキャッシュカードなどのカード類に利用でき、本発明ホログラムを設ければ、外観上の美しさ、目新しさに加え、カード自体の偽造、変造の困難なカード類が得られる。また本の表紙やレコードジャケットなどの出版物や包装物類に利用でき、デザインバラエティーに富んだものとなり、商品価値の向上に寄与できる。
また、拡散反射層を設けた本発明の透明積層フィルムは、ディスプレイ用途の液晶表示用の拡散反射フィルムなどの視認性を高める光学機能性シートなどの光学産業分野などに用いることができ、更には、ホログラム反射フィルムとすることで、明るく高コントラストとなる反射型液晶装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の１実施例を示す透明積層フィルムの断面図である。
【図２】本発明の１実施例を示す透明積層フィルムの断面図である。
【図３】金属窒化酸化物層を形成するＣＶＤ装置の要部の説明図である。
【図４】金属窒化酸化物層を形成するＣＶＤ装置の要部の説明図である。
【図５】本発明の１実施例を示す光拡散反射フィルムの断面図である。
【図６】本発明の１実施例を示す光回折反射フィルムの断面図である。
【図７】反射型液晶表示装置の構成を説明する要部の説明図である。
【符号の説明】
【００９８】
１０：透明積層フィルム
１１：透明基材
１３：レリーフ形成層
１７：反射層
２１：第１屈折率層
２２：第２屈折率層
２３：第３屈折率層
２４：第４屈折率層
３１：保護層
４１：防汚層
５０：光拡散反射フィルム
５１：光拡散層
６０：光回折反射フィルム
６１：光回折層
１２１、２１０：真空容器
１２３、２１１：給紙部
１２４、２１５：巻取り部
１２５、２５１、２５３、２５５：ガス供給ノズル
１２６、２４１、２４３、２４５：電極
１２７、２３１：成膜ドラム（電極）
３２１：照明光
３２２：表示光
３３０：液晶表示パネル
３３１：液晶
３２７：反射板
３３３：上基板
３３５：下基板
３５０：液晶表示装置
【図１】
2005119259.tif 000004
【図２】
2005119259.tif 000005
【図３】
2005119259.tif 000006
【図４】
2005119259.tif 000007
【図５】
2005119259.tif 000008
【図６】
2005119259.tif 000009
【図７】
2005119259.tif 000010