(57)【要約】【課題】  乾燥ムラや風ムラが低減され、面状均一性が高い機能性フイルム、特に、光学フイルムを提供する。【解決手段】酸性の置換基もしくはその塩を含有するポリマーＡおよび塩基性の置換基もしくはその塩、または、正の荷電を有する置換基を含有するポリマーＢを含有し、水の含有率が３０質量％以下とした有機溶媒系塗布組成物を用いて塗布された機能性フイルム。【選択図】なし 【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸性の置換基もしくはその塩を含有するポリマーＡおよび塩基性の置換基もしくはその塩、または、正の荷電を有する置換基を含有するポリマーＢを含有し、水の含有率が３０質量％以下とした有機溶媒系塗布組成物を用いて塗布された機能性フイルム。
【請求項２】
前記ポリマーＡおよびポリマーＢの含有量の合計が塗布組成物中の固形分に対して０．００１質量％〜２０．０質量％であることを特徴とする塗布組成物を用いて塗布された請求項１に記載の機能性フイルム。
【請求項３】
ポリマーＡの当分子量×ポリマーＡの含有量（塗布組成物中の固形分に対する質量％）をZ1、ポリマーＢの当分子量×ポリマーＢの含有量（塗布組成物中の固形分に対する質量％）をＺ２、としたときに、0．1≦Z1／Z2≦10となる混合比でポリマーＡとポリマーＢを含有することを特徴とする塗布組成物を用いて塗布された請求項１又は２に記載の機能性フイルム。
【請求項４】
前記ポリマーＡの有機溶剤溶液と前記ポリマーＢの有機溶剤溶液を混合したときに、混合後の粘度がそれぞれ単独の溶液の粘度に対して上昇することを特徴とするポリマーＡ、ポリマーＢを含有することを特徴とする塗布組成物を用いて塗布された請求項１〜３のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
【請求項５】
前記ポリマーＡ、または、ポリマーＢのいずれかがエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
【請求項６】
前記ポリマーＡ、およびポリマーＢの両方がエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返し単位を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
【請求項７】
前記ポリマーＡに含まれる酸性の置換基またはその塩が、−SO3H、−P(＝O)(OH)2、−OP(＝O)(OH)2、−COOHから選ばれる置換基またはその塩であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
【請求項８】
前記ポリマーＢに含まれる塩基性の置換基もしくはその塩が、下記一般式（１）で表される置換基、一般式（２）で表される置換基、または飽和もしくは不飽和であって含窒素へテロ環基から選ばれる置換基もしくはその塩である、または、ポリマーＢに含まれる正の荷電を有する置換基が下記一般式（３）で表される置換基であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
【化１】
2005206643.tif 000023
一般式（１）において、R21、R22はそれぞれ独立に水素原子または置換基を有することのできるアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。一般式（２）において、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６はそれぞれ独立に水素原子または置換基を有することのできるアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
一般式（３）において、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９は置換基を有することのできるアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｘ１は一価または二価以上のアニオンを表す。
【請求項９】
液晶性化合物を少なくとも一種含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
【請求項１０】
有機および／または無機微粒子分散物を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能性フイルム、特に光学フイルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種コーティング法を用いた材料の開発が進んでおり、特に数μｍ〜数１０ｎｍレベルの薄層塗布技術は、光学フイルム、印刷、フォトリソグラフィーなどで必要であり、薄膜化、基材の大型化、塗布の高速化などに伴い要求される塗布精度も高くなってきている。特に光学フイルムの製造においては、膜厚の制御が光学性能を左右する非常に重要なポイントであり、さらに生産性を高める必要もあるので、精度を高く保ちつつ塗布速度の高速化を実現できる技術への要求は高くなってきている。
しかしながら、溶剤を用いたオールウェット塗布は生産性の観点からは非常に有利である反面、塗布直後の溶剤乾燥を一定に保つことが非常に困難で、面状ムラが生じやすい。ここで言う面状ムラとは溶剤乾燥速度差に起因する乾燥ムラや乾燥風で引き起こされる厚みムラである風ムラのことである。
【０００３】
均一な膜を形成しつつ、風ムラを防止するための一手段として、塗布後にすみやかに塗布液の粘度を高めて流動防止する方法が考えられる。一般的にポリマー等の増粘剤を添加することにより塗布液の粘度を上昇させることができることが知られているが、単に塗布液の粘度を高めることは、レベリング性を悪化させることにつながる。また、機能性材料を塗布する場合には、機能発現を妨げずに粘度を制御することが好ましく、少ない添加量で塗布液の粘度を制御できることが望まれていた。
【０００４】
このような粘度制御方法として、二種のポリマーを混合することにより該ポリマー間に擬似的な架橋を形成させて液粘度を調節する方法が知られている。非特許文献１には、水系で酸性置換基を有するポリマー（ポリスチレンスルホン酸）と塩基性置換基を有するポリマー（１０、１０−アイオネン）を用いることで高分子間コンプレックスを形成させる方法が開示されているが、高分子間コンプレックス形成によって、粘度は減少する。これは高分子間コンプレックスの溶解性が低く、凝集してしまうためであり、粘度を増加させるは高分子間コンプレックスの溶解性が十分である必要がある。ここで用いられているようないわゆる高分子電解質は、単独でも有機溶剤への溶解性は悪く、本発明において用いることは困難である。
【０００５】
一方、有機溶剤系で高分子間コンプレックスの形成により液の粘度の上昇がする例としては、例えば、非特許文献２が挙げられる。非特許文献２では、酸性置換基を有するポリマー（部分的にスルホン化されたポリスチレン）と塩基性置換基を有するポリマー（ポリーγ―ベンジルーＬ−グルタメート）を混合して用いることで液の粘度を上昇させることができると報告されている。しかしながら、用いられている溶剤としては、環境に有害なハロゲン系溶媒（クロロホルム）や、高沸点溶媒（N，N−ジメチルホルムアミド）であり、塗布溶剤としては適切なものではなかった。
このように、二種のポリマーとして、例えば、酸性ポリマーと塩基性ポリマーを用いると、いわゆる高分子間コンプレックスを形成させることができるが、分子間で効率よく架橋を形成することが困難であったり、コンプレックスの溶解性が問題となったりしたため、高分子間コンプレックス形成時にも溶解性がよく、効率的に液粘度を増加させることができるポリマーが望まれていた。
また、このような化合物を含有する塗布組成物を実際に塗布した際に、均一な膜を形成できるか、厚みムラを抑制できるか、機能発現を妨げないかといったことについてはこれまでに知られていない。
【０００６】
【非特許文献１】ジャーナル  オブ  マクロモレキュラー  サイエンス  （フィジックス）(Journal of macromolecular science (physics))、Ｂ17巻、６８３頁〜７１４頁、１９８０年
【非特許文献２】ジャーナル  オブ  ポリマー  サイエンス  パートＢ (Journal of polymer science part B)、33巻、2083頁〜2092頁、1995年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
乾燥ムラや風ムラが低減され、面状均一性が高い機能性フイルム、特に、光学フイルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、鋭意検討の結果、酸性の置換基またはその塩を含有するポリマーと塩基性の置換基またはその塩、または、正の荷電を有する置換基を含有するポリマーの二種類を添加することにより、液粘度を調節し、均一に塗布でき、塗布時に生じる乾燥ムラや風ムラを低減した塗布組成物を得られることを見出した。また、該ポリマー混合物を用いることにより、高速塗布した場合にも、光学性能や物理性能のバラツキが小さく、面状均一性の高い光学フイルムを得ることができることを発見した。
【０００９】
すなわち、本発明の目的は、下記塗布組成物およびそれを用いて塗布された機能性フイルム、特に、光学フイルムの発明により達成される。
【００１０】
［１］  酸性の置換基もしくはその塩を含有するポリマーＡおよび塩基性の置換基もしくはその塩、または、正の荷電を有する置換基を含有するポリマーＢを含有し、水の含有率が３０質量％以下とした有機溶媒系塗布組成物を用いて塗布された機能性フイルム。
［２］  前記ポリマーＡおよびポリマーＢの添加量の合計が塗布組成物中の固形分に対して０．００１質量％〜２０．０質量％であることを特徴とする塗布組成物を用いて塗布された前記［１］に記載の機能性フイルム。
［３］  Z1＝ポリマーＡの当分子量ｘポリマーＡの添加量（塗布組成物中の固形分に対する質量％）、Ｚ２＝ポリマーＢの当分子量ｘポリマーＢの添加量（塗布組成物中の固形分に対する質量％）、としたときに、0．1≦Z1／Z2≦10となる混合比でポリマーＡとポリマーＢを含有することを特徴とする塗布組成物を用いて塗布された前記［１］又は［２］に記載の機能性フイルム。
【００１１】
［４］  前記ポリマーＡの有機溶剤溶液と前記ポリマーＢの有機溶剤溶液を混合したときに、混合後の粘度がそれぞれ単独の溶液の粘度に対して上昇することを特徴とするポリマーＡ、ポリマーＢを含有することを特徴とする塗布組成物を用いて塗布された前記［１］〜［３］のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
［５］  前記ポリマーＡ、または、ポリマーＢのいずれかがエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返し単位を含むことを特徴とする前記［１］〜［４］のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
［６］  前記ポリマーＡ、およびポリマーＢの両方がエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返し単位を含むことを特徴とする前記［１］〜［５］のいずれか一項に記載の機能性フイルム。 
［７］  前記ポリマーＡに含まれる酸性の置換基またはその塩が、−SO3H、−P(＝O)(OH)2、−OP(＝O)(OH)2、−COOHから選ばれる置換基またはその塩であることを特徴とする前記［１］〜［６］のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
［８］  前記ポリマーＢに含まれる塩基性の置換基もしくはその塩が、下記一般式（１）で表される置換基、一般式（２）で表される置換基、または飽和もしくは不飽和であって含窒素へテロ環基から選ばれる置換基もしくはその塩である、または、ポリマーＢに含まれる正の荷電を有する置換基が下記一般式（３）で表される置換基であることを特徴とする前記［１］〜［７］のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
【００１２】
【化１】
2005206643.tif 000002
【００１３】
一般式（１）において、R21，R22はそれぞれ独立に水素原子または置換基を有することのできるアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。一般式（２）において、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６はそれぞれ独立に水素原子または置換基を有することのできるアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
一般式（３）において、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９は置換基を有することのできるアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｘ１は一価または二価以上のアニオンを表す。
［９］  液晶性化合物を少なくとも一種含むことを特徴とする前記［１］〜［８］のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
［１０］  有機および／または無機微粒子分散物を含むことを特徴とする前記［１］〜［９］のいずれか一項に記載の機能性フイルム。
【００１４】
本発明において機能性フィルムとは、光学機能、導電機能、誘電機能、絶縁機能、バリア機能、高強度、耐熱機能などの機能を持ったフィルムを意味する。機能性フイルムの種類は特に限定するものではなく、例えば透明ハードコート層、着色層、防眩層、反射防止層、光学補償層などを一つ或いはそれ以上有するフイルムが挙げられる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の酸性ポリマーＡと塩基性ポリマーＢを添加した塗布組成物を用いることにより、均一に塗布でき、塗布時に生じる乾燥ムラや風ムラを低減できる。また、酸性ポリマーＡと塩基性ポリマーＢを添加して用いることにより、高速塗布した場合にも、光学性能や物理性能のバラツキが小さく、面状均一性の高い光学フイルムを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明で用いられる化合物について説明する。
【００１７】
本発明で用いられるポリマーＡは酸性の置換基もしくはその塩を一つ以上有するポリマーであり、特に構造の限定はない。一分子中に2個以上の酸性の置換基もしくはその塩を持っていることが好ましく、酸性の置換基もしくはその塩を有する置換基を含有する繰り返し単位をもつポリマーが特に好ましい。
ポリマーＢは塩基性の置換基もしくはその塩または正の荷電を有する置換基を一つ以上有するポリマーであり、特に構造の限定はない。一分子中に2個以上の塩基性の置換基もしくはその塩または正の荷電を有する置換基を持っていることが好ましく塩基性の置換基もしくはその塩または正の荷電を有する置換基を含有する繰り返し単位をもつポリマーが特に好ましい。
【００１８】
ポリマーＡに含まれる酸性の置換基もしくはその塩は一種類であっても、二種類以上の異なった置換基が含まれていてもよい。またポリマーＢ中に含まれる塩基性の置換基もしくはその塩または正の荷電を有する置換基は一種類であっても、二種類以上の異なった置換基が含まれていてもよい。ポリマーＢ中には、塩基性の置換基もしくはその塩と正の荷電を有する置換基がともに含まれていてもかまわない。
一分子内に酸性の置換基もしくはその塩を有する置換基および、塩基性の置換基もしくはその塩または正の荷電を有する置換基の両方をもつポリマーの場合、それ自身でポリマーＡとポリマーＢを兼ねることになる。この場合、一種類のポリマーであってもポリマーＡとポリマーＢを混合して用いたのと同じ効果が得られる。
【００１９】
ポリマーＡとポリマーＢによって高分子間コンプレックスを形成させて粘度を上昇させるためには、酸性の置換基を含有するポリマーＡと塩基性の置換基を含有するポリマーＢの組み合わせについて、混合した際に、プロトン移動が進行して、イオンペアを形成する必要があり、これを満たす組み合わせであればいずれも用いることが可能である。たとえば、弱酸と弱塩基、弱酸と強塩基、強酸と弱塩基、強酸と強塩基の組み合わせはいずれも用いることができるが、効率よくイオンペアを形成して粘度を上昇させるためには、弱酸と強塩基、強酸と弱塩基、強酸と強塩基の組み合わせが好ましく、強酸と強塩基の組み合わせがより好ましい。
【００２０】
ここで、強酸とは、−SO3H， −OP(＝O)(OH)2、弱酸とは、−COOH， −SO2NHCOR１１， −CONHSO2R１２が挙げられる。Ｒ１１、Ｒ１２はアルキル基、アリ−ル基またはへテロ環基を表し、これらはさらに置換基を有していてもよい。また、強塩基としては、アルキルアミノ基、下記の一般式（２）で表される基、弱塩基としては、アニリノ基、ピリジル基、が挙げられる。酸性の置換基、塩基性の置換基の好ましい例については以下に詳細に説明する。
また、酸性の置換基を含有するポリマーＡと正の荷電を有する置換基を含有するポリマーＢの組み合わせも好ましく用いることができ、酸性の置換基を含有するポリマーは塩の形になっていることがより好ましい。これらは、混合すると、塩交換が進行して、イオンペアを形成する組み合わせとなっていることが好ましい。
さらに、本発明の目的から、ポリマーＡとポリマーＢからなるコンプレックスが形成されることで、塗布組成物の粘度が上昇することが好ましい。
【００２１】
ます、ポリマーＡとポリマーＢの好ましい構造について説明する。
【００２２】
ポリマーＡが有する酸性の置換基について説明する。
酸性の置換基とは、汎用の塩基（例えば、トリエチルアミン、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデ−７−セン、など）が共存したときに解離可能な解離性プロトンを有する置換基のことである。酸性の置換基としては、プロトンが解離しやすい、すなわち、ｐＫａが低い置換基が好ましい。
本発明でもちいることのできる酸性の置換基の具体例としては、−SO3H， −P(＝O)(OH)2， −OP(＝O)(OH)2、−COOH、−SO2NHCO−R11、−CONHSO2−R12、−ＣＨ（Ｒ１３）（Ｒ１４）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。Ｒ１１、Ｒ１２はアルキル基、アリール基またはへテロ環基を表し、これらはさらに置換基を有していてもよい。Ｒ１３は電子吸引性基を表し、Ｒ１４は水素原子または置換基を表す。
【００２３】
Ｒ１１、Ｒ１２で表されるアルキル基としては、直鎖、分岐、または環状であって、置換もしくは無置換のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基（つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基。）、更に環構造が多いトリシクロ構造が挙げられる。具体例としては、アルキル基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２―エチルヘキシル、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル、ビシクロアルキル基としては、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イルなどが挙げられる。
【００２４】
Ｒ１１、Ｒ１２で表されるアリール基とは、好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基を表し、その具体例としてはフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル、ナフチルなどが挙げられる。Ｒ１１、Ｒ１２で表されるヘテロ環基としては、３〜８員環の、置換もしくは無置換の、芳香族性もしくは非芳香族性のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５〜６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基の具体例としては、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル、２−ピリミジル、４−ピリジルなどが挙げられる。さらにこれらの環が互いに縮合した環からなる基、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族炭化水素環と縮合した環からなる基も用いられる。また、さらにこれらの環は置換基を有していても良く、その置換基の例としては、R11，R12で表される基が含有してもよい置換基として後述するものと同じである。
【００２５】
これらの官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に置換基で置換されていても良い。
Ｒ11， R12で表される基が含有してもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（モノシクロアルキル、ビシクロアルキルなどのシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基、アルキル及びアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール及びヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が挙げられる。
【００２６】
更に詳しくは、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基［直鎖、分岐、環状の、置換もしくは無置換のアルキル基を表す。アルキル基（好ましくは炭素数１から３０のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、２―エチルヘキシル）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５から３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含する。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。］、アルケニル基［直鎖、分岐または環状であって置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３から３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。
【００２７】
例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５から３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）］、アルキニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキニル基、例えば、エチニル、プロパルギル、トリメチルシリルエチニル基、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル）、ヘテロ環基（好ましくは５もしくは６員であって置換もしくは無置換の、芳香族性もしくは非芳香族性のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。
【００２８】
例えば、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシ、２−メトキシエトキシ）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３から２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾールー５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシ）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、
【００２９】
例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、N−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ、
【００３０】
例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、
【００３１】
例えば、フェノキシカルボニルアミノ、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ、m−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールチオ、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−ブチルフェニルチオ、４−ヘキサノイルアミノフェニルチオ、２−ベンズアミドフェニルチオ）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環チオ基、
【００３２】
例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ、１，３，４−チアジアゾール−２−イルチオ）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ‘−フェニルカルバモイル）スルファモイル）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルフィニル基、
【００３３】
例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニル）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−メチルフェニルスルホニル）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基、、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、
【００３４】
例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、ｐ−クロロフェニルアゾ、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノ）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニル）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノ）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリル）が挙げられる。
これらの官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていても良い。
【００３５】
Ｒ１３で表される電子吸引性基としては、ハメットの置換基定数σ値が０．２以上ものを表す。ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために１９３５年にＬ．Ｐ．Hammetにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則により求められた置換基定数にはσｐ値とσｍ値があり、これらの値は多くの一般的な成書に記載あるが、例えば、Ｊ．Ａ．Ｄｅaｎ編「Lange’s Handbook of Chemistry」第１２版、１９７９年（ＭｃＧａｗ−Ｈｉｌｌ）や「化学の領域増刊」、１２２号、９６〜１０３頁、１９７９年（南江堂） Chemical Review，91巻、１６５頁〜１９５頁、１９９１年に詳しい。
【００３６】
Ｒ１３はハメットの置換基定数値によって規定されるが、これらの成書に記載の文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなくその値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合にその範囲に含まれる限り包含される事は勿論である。
【００３７】
σ値が０．２以上の電子吸引性基である具体例として、塩素原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、及びスルファモイル基等が挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。
Ｒ１４は水素原子または置換基を表し、置換基の具体例としては、R11，R12で表される基が含有することのできる置換基の例として挙げたものと同じである。
また、Ｒ１３、Ｒ１４は互いに連結して環を形成してもよい。
【００３８】
これらの酸性の置換基の中では、−SO3H， −P(＝O)(OH)2， −OP(＝O)(OH)2、−COOH、−SO2NHCO−R11、または、−CONHSO2−R12が好ましく、−SO3Hまたは、−COOHがより好ましく、−SO3Hが最も好ましい。
【００３９】
以上のように示した酸性の置換基の塩も好ましく用いることが可能である。塩とは、解離性のプロトンをカチオンに置き換えたものであり、一価のカチオン、二価以上のカチオンを用いることができる。
【００４０】
一価カチオンとしては、アルカリ金属（例えばリチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン）、置換もしくは無置換のアンモニウムイオン（例えば、アンモニウムイオン、メチルアンモニウムイオン、ジエチルアンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオンなど）が挙げられる。二価のカチオンとしては、アルカリ土類金属(例えば、マグネシウムイオン、カルシウムイオンなど)、金属イオンなどが挙げられる。これらのうち、溶解度の観点から一価のカチオンが好ましく、例えば、リチウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオン、置換もしくは無置換のアンモニウムイオンが好ましく用いられる。
【００４１】
次に、ポリマーＢが有する塩基性の置換基および正の荷電を有する置換基について説明する。
塩基性の置換基とは、汎用の酸（例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、など）が共存したときにプロトン化可能なプロトン受容性の置換基のことである。プロトン化が起こりやすい、すなわち、共役酸のｐＫａが高い置換基が好ましい。正の荷電を有する置換基とは、正の荷電を有する原子を一つ以上含む置換基のことである。正の荷電を有する置換基としては、四級アンモニウム塩、ホスホニウム塩のようなオニウム基、といった置換基である。
【００４２】
本発明で用いることのできる塩基性の置換基の具体例としては、下記一般式（１）、一般式（２）で表される置換基および飽和もしくは不飽和の含窒素へテロ環基が挙げられ、正の荷電を有する置換基の具体例としては、下記一般式（３）で表される置換基が挙げられる。
【００４３】
【化２】
2005206643.tif 000003
【００４４】
一般式（１）において、R21，R22はそれぞれ独立に水素原子または置換基を有することのできるアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ２１，Ｒ２２は連結して環を形成してもよい。
一般式（２）において、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６はそれぞれ独立に水素原子または置換基を有することのできるアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６は自由に連結して環を形成してもよい。
一般式（３）において、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９はそれぞれ独立に置換基を有することのできるアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｘ１は一価のアニオンを表す。Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９は適宜に連結して環を形成してもよい。
【００４５】
Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９で表されるアルキル基、アリール基、およびヘテロ環基の具体例および好ましい例は、上記酸性の置換基の説明で示した、Ｒ１１、Ｒ１２の例と同じである。また、これらの官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に置換基で置換されていても良い。置換基の具体例は、R11，R12で表される基が含有してもよい置換基として示したものと同じである。
飽和もしくは不飽和の含窒素へテロ環基は、飽和もしくは不飽和の含窒素ヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、３〜８員環が好ましく、より好ましくは５〜６員環であり、炭素数３から３０の５〜６員の飽和の含窒素ヘテロ環基が最も好ましい。含窒素ヘテロ環基の具体例としては、１−ピペラジル、１−ピロリジル、ピペリジル、４−モルフォリノ、２−ピラジニル、２−イミダゾリル、１−ピラゾリル基、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジル、２−キノリルなどが挙げられる。さらにこれらの環が互いに縮合した環からなる基、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香族炭化水素環と縮合した環からなる基も用いられる。また、さらにこれらの環は置換基を有していても良く、その置換基の例としては、R11，R12で表される基が含有してもよい置換基として示したものと同じである。飽和もしくは不飽和の含窒素へテロ環基の中には、一般式（１）で表される置換基に含まれるものも存在するが、重複して示した。
Ｘ１は一価または二価以上のアニオンを表し、ハロゲンイオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン）、スルホン酸イオン（硫酸イオン、メタンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート）、カルボン酸イオン（酢酸イオン、シュウ酸イオン）、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェートなどが挙げられる。
【００４６】
塩基性の置換基として、これらの中で好ましくは、一般式（１）、一般式（２）で表される置換基もしくは飽和の含窒素へテロ環基である。一般式（１）で表される置換基としてはR21，R22はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１から１２までのアルキル基であるものが好ましく、R21，R22は水素原子または炭素数１から８までのアルキル基であるものがより好ましい。一般式（２）で表される置換基としてはＲ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６はそれぞれ独立に水素原子または炭素数１から１２までのアルキル基であるものが好ましく、水素原子または炭素数１から８までのアルキル基であるものがより好ましい。飽和もしくは不飽和の含窒素へテロ環としては、５〜６員環の飽和の含窒素ヘテロ環基が好ましい。
【００４７】
正の荷電を有する置換基として、好ましくは、一般式（３）で表される置換基である。一般式（３）で表される置換基としては、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９はそれぞれ独立に炭素数１から１２までのアルキル基であるものが好ましく、炭素数１から８までのアルキル基であるものがより好ましい。Ｘ１はハロゲンイオン、スルホン酸イオン、カルボン酸イオンが好ましい。
【００４８】
以上のように示した塩基性の置換基の塩も好ましく用いることが可能である。塩とは、塩基性の置換基にプロトン化が起こり、対イオンを持った形のものである。
【００４９】
対イオンとしては、一価または二価以上のアニオンが用いられ、ハロゲンイオン（例えば、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン）、スルホン酸イオン（硫酸イオン、メタンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート）、カルボン酸イオン（酢酸イオン、シュウ酸イオン）、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェートなどが挙げられる。
【００５０】
冒頭にも示したが、本発明で用いられるポリマーＡは酸性の置換基もしくはその塩を有する置換基を有していれば特に構造の限定はない。また、ポリマーＢは塩基性の置換基もしくはその塩または正の荷電を有する置換基を有していれば特に構造の限定はない。ポリマーＡおよびポリマーＢとしては、例えば、重縮合反応により得られるポリエステル、ポリアミド、ポリイミド類、エチレン性不飽和モノマーの付加重合反応により得られるポリマー、更に重付加反応、付加縮合反応、開環重合により得られるポリマー、また、セルロース、ポリペプチドなどのポリマーはいずれも使用することが出来る。
【００５１】
ポリマーＡおよびポリマーＢの合成方法としては、酸性または塩基性もしくは正の荷電を有する置換基をもつモノマーを用いて重合反応を行なってもよいし、また、酸性または塩基性の置換基をもたないポリマーを重合反応により合成した後に、高分子反応を用いて酸性または塩基性もしくは正の荷電を有する置換基を導入することも可能であり、どちらも好ましい方法である。
重合反応の中では連鎖的に反応が進行する付加重合反応が好ましく用いられ、重合方法はラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合のいずれも利用できる。これらの中でもラジカル重合が特に好ましく用いられる。従って、本発明で用いるポリマーとしては、このような重合方法で重合し得るエチレン性不飽和モノマーより誘導される繰り返し単位を含むポリマーが好ましい。
【００５２】
ここで、ラジカル重合による合成方法について説明する。
ラジカル重合開始剤の例としては、ラジカル熱重合開始剤やラジカル光重合開始剤等の公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は分解温度以上に加熱することによりラジカルを発生させる化合物である。
【００５３】
このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキシド（アセチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド等）、ケトンパーオキシド（メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド等）、ハイドロパーオキシド（過酸化水素、tert−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド等）、ジアルキルパーオキシド（ジ−tert―ブチルパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ジラウロイルパーオキシド等）、パーオキシエステル（tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバーレート等）、過硫酸塩類（過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等）、アゾニトリル化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、アゾビスシアノ吉草酸のナトリウム塩等）、アゾエステル化合物(アゾビスイソ酪酸ジメチル等)、アゾアミジン化合物（２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）二塩酸塩等）、環状アゾアミジン化合物（２，２’−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］塩酸塩等）、アゾアミド化合物（２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１’−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝等）等が挙げられ、一種類を単独で使用することもできるし、二種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００５４】
本発明で用いるポリマーは、溶液重合、乳化重合、分散重合、懸濁重合など通常の重合反応により得ることができる。これらの方法のうち、溶液重合法および乳化重合法が好ましく用いられる。
これらのポリマー化合物の製造方法は、「高分子科学実験法」(高分子学会編、東京化学同人、１９８１)などに記載されている。また、溶液重合法については米国特許第3451820号、特開昭62−276548号、特開昭60−218646号に、乳化重合法については、米国特許第4080211号に記載されている。さらに、乳化重合の一般的な方法については以下の成書に詳しい。「合成樹脂エマルジョン（奥田平、稲垣寛編集、高分子刊行会発行（１９７８））」、「合成ラテックスの応用（杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓司編集、高分子刊行会発行（１９９３））」、「合成ラテックスの化学（室井宗一著、高分子刊行会発行（１９９３））」。
【００５５】
乳化重合法は、例えば、水あるいは水と水に混和しうる有機溶媒（例えば、メタノール、エタノール、アセトンなど）との混合溶媒を分散媒とし、分散媒に対して５〜４０質量％のモノマー混合物と、モノマーに対して０．０５〜５質量％の重合開始剤、０．１〜２０質量単位の乳化剤を用い、３０〜１００℃程度で３〜８時間、攪拌下重合させることにより行われる。分散媒、モノマーの濃度、開始剤量、乳化剤量、反応温度、時間、モノマー添加方法などの条件は使用するモノマーの種類に応じて、適宜設定される。
【００５６】
溶液重合法は、例えば、適当な溶媒にモノマー混合物と、モノマーに対して０．０５〜５質量％の重合開始剤を用い、０〜２００℃程度で３〜４８時間、攪拌下重合させることにより行われる。発生したラジカルが失活しないように溶液重合開始前、溶液重合中は不活性ガスによるパージを行うことが好ましい。用いる不活性ガスとしては通常窒素ガスが用いられる。溶媒、モノマーの濃度、開始剤量、反応温度、時間、モノマー添加方法などの条件は使用するモノマーの種類に応じて、適宜設定される。
【００５７】
溶液重合法における重合開始剤の例としては、過硫酸塩類（過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等）、アゾニトリル化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、アゾビスシアノ吉草酸のナトリウム塩等）、アゾエステル化合物(アゾビスイソ酪酸ジメチル等)、アゾアミジン化合物（２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）二塩酸塩等）、環状アゾアミジン化合物（２，２’−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］塩酸塩等）、アゾアミド化合物（２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１’−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝等）等が挙げられる。
また、溶媒としては、通常大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内を有する化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる化合物であることが好ましく、好ましく用いられる溶媒の具体例を示すと、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、N，N−ジメチルホルムアミド、 N，N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、エチレングリコール、エチレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられる。また、二種類以上の溶媒を混合して用いてもよい。 より好ましく用いられる溶媒としては、水、エタノール、ブタノール、テトラヒドロフラン、N，N−ジメチルホルムアミド、 N，N−ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。
【００５８】
以下、エチレン性不飽和モノマーより誘導される場合のポリマーＡについて説明する。ポリマーＡのうち、好ましい構造は、下記一般式（４）または一般式（５）で表される繰り返し単位を有するポリマーである。
まず、一般式（４）で表される繰り返し単位について説明する。
【００５９】
【化３】
2005206643.tif 000004
【００６０】
一般式（４）において、R15は、水素原子、アルキル基、アリール基、またはハロゲン原子を表す。Ｌ１１は連結基を表す。Ａ１は酸性の置換基を表す。
【００６１】
R15で表されるアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチルなどが挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニルなどが挙げられる。アルキル基またはアリール基は適当な置換基を有していてもよい。置換基としてはR11，R12で表される基が含有することのできる置換基の例として挙げたものはすべて好ましく用いることができる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子が挙げられる。
【００６２】
Ｒ１５は、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜18のアリール基、塩素原子、または、フッ素原子であり、より好ましくは、水素原子または炭素数１〜２のアルキル基であり、もっとも好ましくは、Ｒ１５は水素原子または炭素数１〜２のアルキル基である。
Ａ１で表される酸性の置換基は、ポリマーＡに含まれる酸性の置換基で定義したものと同義である。その具体例および好ましい例もポリマーＡに含まれる酸性の置換基の説明で示したものと同じである。
【００６３】
Ｌ１１は連結基を表す。連結基としては、以下のＬ１、Ｌ２を任意に組み合わせて得られる2価の連結基が好ましいが、これに限定されるものではない。
【００６４】
Ｌ１は＊−（単結合）、＊−ＣＯＮＲ１−、＊−ＮＲ２ＣＯ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＮＲ３ＳＯ２−、＊−ＳＯ２ＮＲ４−、＊―ＳＯ２−、＊−Ｓ−、または＊−Ｏ−を表す。＊はポリマーの主鎖に連結する方向を示す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基を表す。これらの置換基の具体例としては、一般式（１）中のR21，R22の具体例で挙げられたものと同じである。Ｌ１として、好ましくは＊−ＣＯＮＲ１−、＊−ＮＲ２ＣＯ−、＊−ＣＯＯ−、および＊−ＯＣＯ−であり、より好ましくは＊−ＣＯＮＲ１−および＊−ＣＯＯ−である。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ好ましくは水素原子またはアルキル基であり、より好ましくは、水素原子である。
【００６５】
Ｌ２は単結合、アルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基またはポリアルキレンオキシ基を表す。Ｌ２について、アルキレン基としては、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜８、特に好ましくは炭素数１〜６のアルキレン基が挙げられ、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキシレン基などが挙げられる。これらの基は適当な置換基を有していてもよい。アリーレン基としては、好ましくは炭素数６〜２４、より好ましくは炭素数６〜１８、特に好ましくは６〜１２であり、例えば、フェニレン、ナフタレン基などが挙げられる。アラルキレン基としては、上記のアルキレン基とアリーレン基とが連結した基が挙げられる。
【００６６】
ポリアルキレンオキシ基としては、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜３のアルキレンオキシ基が、好ましくは１〜１２０個、より好ましくは１〜６０個、特に好ましくは１〜２０個繰り返された基であり、例えばポリメチレンオキシ、ポリエチレンオキシ、ポリプロピレンオキシ、ポリトリメチレンオキシ基が挙げられる。これらの基は適当な置換基を有していてもよい。置換基としてはR11，R12で表される基が含有することのできる置換基の例として挙げたものはすべて好ましく用いることができる。
【００６７】
以下にＬ１１の具体的な構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。例示した連結基においては、左側が主鎖に連結する方向を示す。
【００６８】
【化４】
2005206643.tif 000005
【００６９】
次に、一般式（５）で表される繰り返し単位について説明する。
【化５】
2005206643.tif 000006
【００７０】
一般式（５）において、Ｌ１２は連結基を表し、Ａ２は酸性の置換基を表す。Ａ２で表される酸性の置換基は、ポリマーＡに含まれる酸性の置換基で定義したものと同義である。その具体例および好ましい例もポリマーＡに含まれる酸性の置換基の説明で示したものと同じである。Ｌ１２で表される連結基は、一般式（４）における連結基Ｌ１１と同義であり、その具体例および好ましい例も連結基Ｌ１１の説明で示したものと同じである。
【００７１】
続いて、一般式（４）および一般式（５）で表される繰り返し単位の具体的な構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
また、ここでは酸性の置換基を非解離体として示すが、解離性プロトンにかえてカチオンを有する塩の構造を取ることもでき、好ましく用いることができる。
【００７２】
【化６】
2005206643.tif 000007
【００７３】
【化７】
2005206643.tif 000008
【００７４】
次にエチレン性不飽和モノマーより誘導される場合のポリマーＢについて説明する。ポリマーＢのうち、好ましい構造は、下記一般式（６）または一般式（７）で表される繰り返し単位を有するポリマーである。
まず、一般式（６）で表される繰り返し単位について説明する。
【００７５】
【化８】
2005206643.tif 000009
【００７６】
一般式（６）において、Ｒ３０、Ｌ２１は、それぞれ、一般式（４）のＲ１５、Ｌ１１と同義であり、その具体例および好ましい例もＲ１５、Ｌ１１の説明で示したものと同じである。
B1は塩基性または正の荷電を有する置換基を表し、ポリマーＢに含まれる塩基性または正の荷電を有する置換基で定義したものと同義である。その具体例および好ましい例もポリマーＢに含まれる塩基性または正の荷電を有する置換基の説明で示したものと同じである。
【００７７】
次に、一般式（７）で表される繰り返し単位について説明する。
【化９】
2005206643.tif 000010
【００７８】
一般式（７）において、Ｌ２２は、一般式（４）のＬ１１、Ｌ１２と同義であり、その具体例および好ましい例も、Ｌ１１の説明で示したものと同じである。
B２は塩基性または正の荷電を有する置換基を表し、ポリマーＢに含まれる塩基性または正の荷電を有する置換基で定義したものと同義である。その具体例および好ましい例もポリマーＢに含まれる塩基性または正の荷電を有する置換基の説明で示したものと同じである。
【００７９】
続いて、一般式（６）および一般式（７）で表される繰り返し単位の具体的な構造を例示するが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。また、ここでは塩基性の置換基を非プロトン化体として示すが、プロトン化された塩の構造を取ることもでき、好ましく用いることができる。
【００８０】
【化１０】
2005206643.tif 000011
【００８１】
【化１１】
2005206643.tif 000012
【００８２】
本発明で用いられるポリマーＡは、酸性の置換基を有するものであればいずれも好ましく用いられるが、特に、酸性の置換基を有する繰り返し単位として一般式（４）または一般式（５）で表される繰り返し単位をもつものが好ましい。一種類の一般式（４）または一般式（５）で表される繰り返し単位からなる単独の重合体であっても、二種類以上の一般式（４）または一般式（５）で表される繰り返し単位同士からなる共重合体であっても、一般式（４）または一般式（５）で表される繰り返し単位とその他の共重合モノマーからなる共重合体であってもよい。
【００８３】
同様に、本発明で用いられるポリマーＢは、塩基性または正の荷電を有する置換基を有するものであればいずれも好ましく用いられるが、特に、塩基性または正の荷電を有する置換基を有する繰り返し単位として一般式（６）または一般式（７）で表される繰り返し単位をもつものが好ましい。一種類の一般式（６）または一般式（７）で表される繰り返し単位からなる単独の重合体であっても、二種類以上の一般式（６）または一般式（７）で表される繰り返し単位同士からなる共重合体であっても、一般式（６）または一般式（７）で表される繰り返し単位とその他の共重合モノマーからなる共重合体であってもよい。
その他の共重合モノマーとしては、下記に示すモノマー群(1)〜（8）から独立かつ自由に組み合わせることができる。使用可能なモノマー単位には特に制限はなく、通常のラジカル重合またはイオン重合法で重合可能なものであれば、好適に用いることができる。
【００８４】
モノマー群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど
【００８５】
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、１−ブロモ−１，３−ブタジエン、１−クロロブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロロ−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロロ−１，３−ブタジエン、２−シアノ−１，３−ブタジエン、１，４−ジビニルシクロヘキサンなど
【００８６】
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（3a）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）
【００８７】
（3b）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど
【００８８】
（3c）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど
【００８９】
（3e）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、ジアセトンアクリルアミド、イタコン酸ジアミド、メチレンビスアクリルアミドなど 
【００９０】
（４）不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど
（５）スチレンおよびその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど
【００９１】
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど
（8）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリンなど
【００９２】
本発明で用いるポリマーＡに含まれる酸性の置換基を含有する繰返し単位の割合およびポリマーＢに含まれる塩基性または正の荷電を有する置換基を含有する繰返し単位の割合について説明する。酸性の置換基または塩基性または正の荷電を有する置換基を含有する繰返し単位の割合の割合が多すぎると、ポリマー化合物の溶解性が悪化したり、混合時に高分子間コンプレックスの溶解性が悪化する問題が生じる。また、一方、割合が少なすぎると、効率よく液粘度を上昇させることができない。
【００９３】
本発明で用いるポリマーＡに含まれる酸性の置換基を含有する繰返し単位の割合は、好ましくは0．01〜50モル％、より好ましくは0．1〜30モル％、最も好ましくは、0．5〜15モル％である。また、本発明で用いるポリマーＢに含まれる塩基性または正の荷電を有する置換基を含有する繰返し単位は、好ましくは0．01〜50モル％、より好ましくは0．1〜30モル％、最も好ましくは、0．5〜15モル％である。
【００９４】
なお、本発明で用いるポリマーに含まれる酸性の置換基および塩基性または正の荷電を有する置換基の割合については、元素分析、ＮＭＲスペクトル、紫外可視吸収スペクトル、中和滴定等の公知の測定方法によって求めることができる。特に好ましくは元素分析、滴定法を用いることができる。
【００９５】
また、本発明で用いるポリマーの質量平均分子量について、質量平均分子量が小さすぎると、効率よく液粘度を上昇させることができず、一方、分子量が大きすぎると塗布や塗膜物性に支障を生じることがある。ポリマーの質量平均分子量については、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）等の公知の測定方法によって求めることができる。本発明中に記載されている質量平均分子量の値は、ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ  Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー(株)製）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。測定には固形分濃度が０．０１〜１質量％、好ましくは０．０３〜０．５質量％のＴＨＦに可溶な溶剤の溶液を用い、４０℃で測定を行う。このようにして測定して得られる質量平均分子量は、1×103〜1×107が好ましく、３×103〜1×10６がより好ましく、5×103〜２×10５がもっとも好ましい。
【００９６】
また、（ポリマーの質量平均分子量）／(当分子量)によってポリマー鎖一本に酸性または塩基性または正の荷電を有する置換基が平均何個含まれているかを表すことができるので、これをポリマー鎖一本あたりの官能基数とする。ここで当分子量とは官能基1モルを与えるポリマーの質量（ｇ）のことであり低分子化合物の分子量に相当する。当分子量は（ポリマーの質量）／（酸性または塩基性または正の荷電を有する置換基のモル数）によって計算できる。
ポリマー鎖一本あたりの平均官能基数を、（ポリマーの質量平均分子量）／（当分子量）、によって定義すると、ポリマー鎖一本あたりの平均官能基数は、好ましくは、1〜500であり、より好ましくは、２〜200であり、もっとも好ましくは、２〜100である。
【００９７】
以下に本発明で用いられるポリマーＡおよびポリマーＢの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下の例で共重合モノマーの比率はすべてモル％で表示した。なお、以下のポリマーの式は、ａ、ｂ、ｃで、繰り返し単位のモル％を示すものである。
【００９８】
ポリマーＡの例を示す。
【化１２】
2005206643.tif 000013
【００９９】
【化１３】
2005206643.tif 000014
【０１００】
【化１４】
2005206643.tif 000015
【０１０１】
【化１５】
2005206643.tif 000016
【０１０２】
ポリマーＢの例を示す。
【０１０３】
【化１６】
2005206643.tif 000017
【０１０４】
【化１７】
2005206643.tif 000018
【０１０５】
【化１８】
2005206643.tif 000019
【０１０６】
以下に、本発明で用いられるポリマーの具体的合成例を示すが、本発明はこれらによって限定されない。
【０１０７】
[合成例１  例示化合物PA−12の合成]  
攪拌装置、モノマー供給槽、温度計、冷却管、窒素ガス導入管を備えた500ｍｌの三口フラスコに、エタノール25ｇを加え、窒素雰囲気下で８０℃に加熱した。次にこの反応溶液にメタクリル酸エチル95．86ｇ、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸4．15ｇ、アゾビスイソ酪酸ジメチル0．94ｇをエタノール80ｇ、水20ｇに溶解させた液を４時間かけて滴下した。滴下終了後続いてアゾビスイソ酪酸ジメチル0．094ｇをエタノール６ｇに溶解させた液を１５分かけて滴下した後、５時間加熱攪拌を続けた。その後、反応溶液を室温に冷却してエタノール75ｍｌを加えたのち、不溶分をろ過した。
【０１０８】
この希釈液を水１Ｌ中にゆっくり滴下してポリマーを再沈殿させた。３０分撹拌後、３０分静置したのちに、析出した固体を減圧ろ過し、十分水で洗ってから減圧下で乾燥して例示化合物PA−12を85．6g白色固体として得た。テトラヒドロフラン溶媒を用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による分子量測定では、ポリスチレン換算の質量平均分子量は2．98ｘ104であった。
【０１０９】
[合成例２  例示化合物PA−22の合成]      
攪拌装置、モノマー供給槽、温度計、冷却管、窒素ガス導入管を備えた500ｍｌの三口フラスコに、2−ブタノン20ｇを加え、窒素雰囲気下で８０℃に加熱した。次にこの反応溶液にメタクリル酸ブチル67．55ｇ、メタクリル酸2．15ｇ、アゾビスイソ酪酸ジメチル0．39ｇを2−ブタノン50ｇに溶解させた液を４時間かけて滴下した。滴下終了後続いてアゾビスイソ酪酸ジメチル0．038ｇを2−ブタノン6ｇに溶解させた液を１５分かけて滴下した後、５時間加熱攪拌を続けた。その後、反応溶液を室温に冷却して2−ブタノンを加えて145ｇ（ポリマー固形分48％）として、不溶分をろ過した。この希釈液をそれ以上の精製は行なわずに使用した。
テトラヒドロフラン溶媒を用いたゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による分子量測定では、ポリスチレン換算の質量平均分子量は7．66ｘ104であった。
【０１１０】
[合成例３  例示化合物PB−1の合成]   
攪拌装置、モノマー供給槽、温度計、冷却管、窒素ガス導入管を備えた500ｍｌの三口フラスコに、2−ブタノン20ｇを加え、窒素雰囲気下で８０℃に加熱した。次にこの反応溶液にメタクリル酸ブチル67．55ｇ、N，N−ジメチルアミノエチルメタクリレート3．93ｇ、アゾビスイソ酪酸ジメチル0．39ｇを2−ブタノン50ｇに溶解させた液を４時間かけて滴下した。滴下終了後続いてアゾビスイソ酪酸ジメチル0．038ｇを2−ブタノン6ｇに溶解させた液を１５分かけて滴下した後、５時間加熱攪拌を続けた。その後、反応溶液を室温に冷却して2−ブタノンを加えて155ｇ（ポリマー固形分46％）として、不溶分をろ過した。この希釈液をそれ以上の精製は行なわずに使用した。
【０１１１】
塗布組成物の調整方法、特に、ポリマーＡとポリマーＢの混合形態について説明する。
【０１１２】
乾燥ムラや風ムラを低減し、面状均一性が高い機能性フィルムを得るために、塗布組成物は塗布方式や塗布条件に応じた適切な粘度に調整する必要がある。粘度が低すぎると塗布直後の塗布液の流動によって乾燥ムラや風ムラが発生しやすい。また、粘度が高すぎるとレベリング能が不足して塗布時にスジが発生しやすい。本発明においては、ポリマーＡとポリマーＢの添加量を調整することで塗布組成物の粘度を制御することが可能である。
効率よく粘度を上昇させるためには、それぞれの酸性の置換基、塩基性または正の荷電を有する置換基の組み合わせのみならず、添加量、混合比を最適に調節する必要がある。
【０１１３】
本発明で用いられる酸性の置換基またはその塩を含有するポリマーＡの有機溶剤溶液と塩基性の置換基またはその塩または正の荷電を有する置換基を含有するポリマーＢの有機溶剤溶液は混合したときに、混合後の粘度がそれぞれ単独の溶液の粘度に対して上昇することが好ましい。混合後の粘度がそれぞれ単独の溶液の粘度に対して上昇するとは、30質量％以下の任意の濃度のポリマーＡの有機溶剤溶液（この液の粘度をη１とする）とポリマーＢの有機溶剤溶液（この液の粘度をη２とする）を任意の比率で混合したときの溶液の粘度η3がη１、η２のいずれよりも大きくなることを言う。
【０１１４】
ポリマーＡとポリマーＢの組み合わせについて、ポリマーＡとポリマーＢを混合したときの溶液の粘度η3が、η１とη２のうちの大きいほうの１．２倍以上となることが好ましく、２倍以上となることがより好ましく、５倍以上となることが最も好ましい。
【０１１５】
なお、粘度の測定には、市販の粘度計はいずれも用いることができるが、本発明中で明記している粘度は、R型粘度計（東機産業製RC−500）を用いて、25℃にて測定したものである。
【０１１６】
酸性の置換基を含有するポリマーと塩基性の置換基を含有するポリマーの組み合わせについてはすでに冒頭に示したとおりであるが、これらの混合比についてさらに説明する。効率よく塗布液粘度を上昇させるためには、塗布組成物中の酸性の置換基数と塩基性または正の荷電を有する置換基数が大きく異ならないことが好ましい。
【０１１７】
Z1＝ポリマーＡの当分子量ｘポリマーＡの添加量（塗布組成物中の固形分に対する質量％）、Ｚ２＝ポリマーＢの当分子量ｘポリマーＢの添加量（塗布組成物中の固形分に対する質量％）、と定義する。当分子量は先に定義したとおりである。Z1／Z2は好ましくは、10−3〜103であり、より好ましくは、10−2〜102であり、最も好ましくは、10−1〜10である。
【０１１８】
塗布組成物中へのポリマーＡおよびポリマーＢの添加量には特に制限はないが、通常塗布組成物中にポリマーＡとポリマーＢの総量として、０．００１〜２０質量％、好ましくは０．００１〜１５質量％、より好ましくは０．０1〜１０質量％添加することができる。また、本発明のポリマーＡとポリマーＢそれぞれ１種類のみ添加しても、複数種類添加しても良い。
【０１１９】
本発明のポリマーＡとポリマーＢは、それぞれ、また、混合時において、２５℃において塗布溶剤に対する溶解度が１質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがさらに好ましい。
【０１２０】
以上のようなポリマーＡとポリマーＢを含む塗布組成物を塗布することにより製造する機能性フイルムと製造方法について以下に示す。
【０１２１】
本発明における機能性フィルムとは、光学機能、導電機能、誘電機能、絶縁機能、バリア機能、高強度、耐熱機能などの機能を持ったフィルムを示す。機能性フイルムの種類は特に限定するものではなく、例えば透明ハードコート層、着色層、防眩層、反射防止層、光学補償層などを一つ或いはそれ以上有するフイルムが挙げられる。膜厚、面状の均一性が厳しく要求される防眩層、反射防止層、光学補償層などを有する光学機能フイルムを製造するに当たって本発明の製造方法は有用である。本発明の機能性フイルムを光学フイルムとして用いる場合について更に以下に説明する。光学フィルムとは、光学機能をもったフィルムのことを示し、例えば、反射防止、選択反射、光位相変換、光学補償といった光学機能をもつ層を一つ或いはそれ以上有するフィルムが挙げられる。
【０１２２】
本発明の機能性フイルムを構成する光学機能層は、上記ポリマーＡとポリマーＢを含有する塗布組成物を調製した後、この塗布組成物を塗布して形成する。ポリマーＡとポリマーＢを添加した塗布組成物は、塗布適性に優れるとともに、均一でムラの無い層を形成することが可能となる。
本発明で形成しうる機能性フィルム層の厚さは特に制限はないが、好ましくは10nm〜100μｍ、より好ましくは10nm〜50μｍである。
本発明の機能性フイルムの成膜後の溶媒種の含量は少なければ少ないほどよいが好ましくは5質量％以下、より好ましくは3質量％以下とする。
【０１２３】
本発明に係る機能性層を形成するために用いる塗布組成物中に含まれる溶媒種としては有機溶剤でも有機溶剤と水の混合溶剤でも良いが、水の含率は低いことが好ましく、０〜３０質量％が好ましく、０〜１０質量％が更に好ましく、０〜５質量％がもっとも好ましい。また、塗布組成物中の有機溶剤の含有率は、20〜99.5質量％が好ましく、25〜99質量％がより好ましく、30〜99質量％がもっとも好ましい。
前記塗布組成物中に含まれる溶媒組成としては、単独および混合のいずれでもよく、全溶媒中、沸点が１２０℃以下の溶媒が５０〜１００質量％を占めることが好ましく、より好ましくは８０〜１００質量％、さらに好ましくは９０〜１００質量％、さらに好ましくは１００質量％である。また、さらに好ましくは、全溶媒中、沸点が１００℃以下の溶媒が５０〜１００質量％を占めることが好ましく、より好ましくは８０〜１００質量％、もっとも好ましくは１００質量％である。沸点が１００℃以下の溶媒が５０質量％以下であると、乾燥速度が非常に遅くなり、塗布面状が悪化し、塗布膜厚にもムラが生じるため、反射率などの光学特性も悪化するおそれがあり好ましいものではない。本発明では、沸点が１００℃以下の溶媒を多く含む塗布組成物を用いる事により、この問題を解決することができる。
【０１２４】
沸点が１００℃以下の溶媒としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃、以下「℃」を省略する）、ヘプタン（９８．４）、シクロヘキサン（８０．７）、ベンゼン（８０．１）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８）、クロロホルム（６１．２）、四塩化炭素（７６．８）、１，２−ジクロロエタン（８３．５）、トリクロロエチレン（８７．２）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６）、ジイソプロピルエーテル（６８．５）、ジプロピルエーテル（９０．５）、テトラヒドロフラン（６６）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２）、酢酸メチル（５７．８）、酢酸エチル（７７．１）、酢酸イソプロピル（８９）などのエステル類、アセトン（５６．１）、２−ブタノン（＝メチルエチルケトン、７９．６）などのケトン類、メタノール（６４．５）、エタノール（７８．３）、２−プロパノール（８２．４）、１−プロパノール（９７．２）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６）、プロピオニトリル（９７．４）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２）、などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
【０１２５】
沸点が１００℃以上の溶媒としては、例えば、オクタン（１２５．７）、トルエン（１１０．６）、キシレン（１３８）、テトラクロロエチレン（１２１．２）、クロロベンゼン（１３１．７）、ジオキサン（１０１．３）、ジブチルエーテル（１４２．４）、酢酸イソブチル（１１８）、シクロヘキサノン（１５５．７）、２−メチル−４−ペンタノン（ＭＩＢＫ、１１５．９）、１−ブタノール（１１７．７）などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノン、である。
【０１２６】
塗布組成物中に含まれる成分についてさらに説明する。
【０１２７】
本発明のポリマーＡとポリマーＢを含む塗布組成物は、前述の成分の他に、特に制限無く該ポリマーＡとポリマーＢ以外の成分を含有することができる。即ち、飽和炭化水素類（ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、クロロベンゼンなど）、ケトン類（アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなど）、アルコール類（メチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、２−メトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、セロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、カルビトールアセテートなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリノンなど）、ハロゲン系溶剤（１，１，１−トリクロロエタン、クロロホルム、パーフルオロオクタンなど）、エーテル類（テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）等の有機溶剤、水、また、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、オレフィン樹脂、ビニル樹脂、フッ素樹脂等の各種樹脂類、有機・無機顔料、染料、カ−ボン等の着色剤、棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物等の液晶化合物、単官能或いは多官能の重合性化合物、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化カルシウム、炭酸カルシウム等の無機粉末、高級脂肪酸、ポリ（フッ化ビニリデン）、ポリ（テトラフロロエチレン）、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート等の有機微粉末、感光剤、重合開始剤、耐光性向上剤、耐候性向上剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、消泡剤、粘度調整剤、艶調整剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、炭化水素系界面活性剤等の各種添加剤等を、目的に応じて選択した各種成分を使用することが可能である。
【０１２８】
これらのうち、特に重要な成分は、（１）光学的異方性を発現させるために用いられる液晶性化合物(棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物、高分子液晶化合物など)、および（２）屈折率を調整するための有機および無機微粒子分散物（二酸化チタン、酸化ジルコニウムなど）である。本発明のポリマーＡおよびポリマーＢを添加した塗布組成物は（１）または（２）のいずれかの成分を含むことが好ましい。以下に本発明で好ましく用いられる液晶性化合物および有機および無機微粒子分散物について説明する。
【０１２９】
液晶性化合物について説明する。本発明に用いられる液晶性化合物の基本骨格は多くの文献に記載されており、例えば松本正一、角田市良共著「液晶の基礎と応用（工業調査会１９９２年刊）」、日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、「液晶の化学（１９９４年刊）」を参考にする事ができ、例えば棒状液晶化合物、コレステリック液晶化合物およびディスコティック液晶化合物が挙げられる。
【０１３０】
棒状液晶化合物の具体的化合物としては、季刊化学総説 第２２巻 液晶の化学（１９９４年）日本化学会編の第４章、第７章，第１０章、および液晶デバイスハンドブック 日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載の化合物が挙げられる。例えば、ビフェニル誘導体、安息香酸フェニルエステル誘導体、ベンジリデンアニリン誘導体、アゾベンゼン誘導体、アゾキシベンゼン誘導体、スチルベン誘導体および、それらのベンゼン環が飽和になったものあるいは複素環に置き換わったものが挙げられる。
【０１３１】
本発明のディスコティック液晶性化合物とは、ディスコティック液晶相を示し得る化合物であり、円盤状のコア部とそれを中心として放射状に伸びる側鎖部分とから構成されている。ディスコティック液晶相は、円盤状分子の中心コアが分子間力で柱状に積み重なった柱状相（ｃｏｌｕｍｎａｒ ｐｈａｓｅ）と、円板状分子が乱雑に凝集したディスコティックネマティック相と、カイラルディスコティックネマティック相に大別できることが知られている。
【０１３２】
具体的化合物として挙げると、例えば日本化学会編、季刊化学総説Ｎｏ．２２「液晶の化学」第５章、第１０章２節（１９９４年刊 学会出版センター）、Ｗ．Ｈ．ｄｅ ｊｅｕの研究報告、Ｐｈｙｓｉｃａｌ ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓｏｆ ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ｍａｔｅｒｉａｌｓ（１９８０ ｂｙ Ｇｏｒｄｏｎ ａｎｄ Ｂｒｅａｃｈ，Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ）Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）、Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇ、Ｊ．Ｓ．Ｍｏｏｒｅらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載の母核化合物の誘導体が挙げられる。
【０１３３】
例えば、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、アントラセン誘導体、アザクラウン誘導体、シクロヘキサン誘導体、β−ジケトン系金属錯体誘導体、ヘキサエチニルベンゼン誘導体、ジベンゾピレン誘導体、コロネン誘導体およびフェニルアセチレンマクロサイクルの誘導体が挙げられる。さらに、日本化学会編、“化学総説Ｎｏ．１５ 新しい芳香族の化学”（１９７７年 東京大学出版会刊）に記載の環状化合物およびそれらの複素原子置換等電子構造体を挙げることができる。また、上記金属錯体の場合と同様に、水素結合、配位結合等により複数の分子の集合体を形成して円盤状の分子となるものでもよい。
【０１３４】
これらを分子の中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された構造によりディスコティック液晶化合物が形成される。母核化合物として好ましくは、ディスコティックネマティック（ＮD）相を形成するものであり、特に好ましくはトリフェニレンおよびトルキセンが挙げられる。側鎖としては、例えばアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシルオキシ基が挙げられ、側鎖中にアリール基、複素環基を含んでいても良い。また、Ｃ．Ｈａｎｓｃｈ、Ａ．Ｌｅｏ、Ｒ．Ｗ．Ｔａｆｔ著、ケミカルレビュー誌（Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．）１９９１年、９１巻、１６５〜１９５頁（アメリカ化学会）に記載されている置換基で置換されていてもよく、代表例としてアルコキシ基、アルキル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子が挙げられる。更に側鎖中に、例えばエーテル基、エステル基、カルボニル基、チオエーテル基、スルホキシド基、スルホニル基、アミド基のような官能基を有していても良い。
【０１３５】
液晶性化合物の配向状態は、長期間または温度、湿度や機械的変形に対し，安定に維持するのが困難な場合が多い。したがって、液晶性化合物としては、十分な硬化性を確保し、層の耐熱性を向上する観点から、分子内に重合性基あるいは架橋性基を有する液晶性化合物が好ましい。重合性基としては、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリニジル基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。
【０１３６】
次に有機および無機微粒子分散物について説明する。本発明で用いられる有機または無機微粒子分散物は、好ましくは、屈折率を調整するためのものであり、これらを含む塗布組成物を用いて、防眩性反射防止フイルムを作製することができる。以下では、防眩性反射防止フイルムを作製する際に用いられる塗布組成物中の有機または無機微粒子分散物の具体例を示すが、本発明で用いることのできる微粒子分散物はこれらに限定されるものではない。
【０１３７】
防眩性反射防止フイルムは透明支持体上に防眩性ハードコート層を有し、さらにその上の低屈折率層を有してなるが、必要に応じ、防眩性ハードコート層の下層に平滑なハードコート層を設けることができる。防眩性反射防止フイルムのハードコート層には、高屈折率を有する金属酸化物超微粒子を添加して用いられる。
【０１３８】
高屈折率を有する金属酸化物超微粒子の例として、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなる粒径１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を挙げることができる。微粒子の好ましい例としては、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯ等が挙げられる。これらの中でも、特にＺｒＯ2が好ましく用いられる。
【０１３９】
防眩性ハードコート層には、防眩性付与と防眩性ハードコート層の干渉による反射率悪化防止、色むら防止の目的で、樹脂または無機化合物の粒子が用いられ、例えば、シリカ粒子やＴｉＯ2粒子、架橋アクリル粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、などが好ましく用いられる。平均粒径は１．０乃至１０．０μｍが好ましく、１．５乃至７．０μｍがより好ましい。また、粒子の形状としては、真球、不定形、のいずれも使用できる。異なる２種以上の粒子を併用して用いてもよい。
【０１４０】
一方、低屈折率層に用いられる無機微粒子としては非晶質のものが好ましく用いられ、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなることが好ましく、金属酸化物が特に好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、ＰｂおよびＮｉが好ましく、Ｍｇ、Ｃａ、ＢおよびＳｉがさらに好ましい。二種類の金属を含む無機化合物を用いても良い。特に好ましい無機化合物は、二酸化ケイ素、すなわちシリカである。該無機微粒子の平均粒径は０．００１乃至０．２μｍであることが好ましく、０．００５乃至０．０５μｍであることがより好ましい。微粒子の粒径はなるべく均一（単分散）であることが好ましい。該無機微粒子は表面処理を施して用いることも好ましい。表面処理法としてはプラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理とカップリング剤を使用する化学的表面処理があるが、カップリング剤の使用が好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。該無機微粒子がシリカの場合はシランカップリング処理が特に有効である。
【０１４１】
これらの素材を含む膜を形成するために、バインダーとしてポリマーや架橋性基を含有する化合物を添加し、塗布および乾燥後に光、熱、電子線などにより架橋反応を起こさせても良い。用途にもよるが、膜は強度が要求される場合が多く、一般にバインダーとして多官能モノマーや架橋性基を含むポリマーを用いることが多い。先に述べた機能を発現するための素材が架橋性基を有していてバインダーを兼ねていても良い。
【０１４２】
多官能モノマー中の重合性基としては、エチレン性不飽和基（(メタ)アクリル酸誘導体、ビニルエーテル誘導体、スチレン誘導体など）、環状エーテル基（エポキシ基、オキセタン基など）等が挙げられる。
【０１４３】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
【０１４４】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
【０１４５】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（P．159，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製の商品名イルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【０１４６】
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
【０１４７】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【０１４８】
本発明では特に塗布組成物のポットライフの観点から、放射線の作用によりラジカルを発生する化合物が好ましい。
【０１４９】
また、１分子中に複数のエポキシ基を有する化合物も好ましく使用される。このような硬化剤としては、１分子中に複数のグリシジル基または３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物が良く知られており、本発明ではいずれも有用であるが、保存時の液安定性の観点から特にグリシジル基を有する硬化剤が好ましい。また屈折率の観点からは、特に脂肪族のものが好ましい。エポキシ硬化剤としては官能基密度が高く、かつ分子量が高すぎずある程度の運動性があり硬化効率が良いという観点からグリシジル基３〜１０個程度を有するものが特に好ましい。
【０１５０】
上記１分子中に複数のエポキシ基を有する化合物としては、例えば市販のものでは、デナコールＥＸ３１４，同４１１，同４２１，同５２１，同６１１，同６１２等（以上ナガセ化成工業株式会社製  いずれも商品名）、セロキサイド、ＧＴ３０１，同４０１等（以上ダイセル工業株式会社製  いずれも商品名）等を挙げることができる。
【０１５１】
本発明において上記１分子中に複数のエポキシ基を有する化合物を硬化剤として用いる時には、塗布組成物中に硬化触媒を配合することができる。該硬化触媒としては、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のプロトン酸、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩、ベンジルジメチルアミン、トリブチルアミン、トリス（ジメチルアミノ）メチルフェノール等の３級アミン、２−メチル−４−エチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、トルエンスルホン酸シクロへキシルエステル、トルエンスルホン酸イソプロピルエステル等の加熱により分解してプロトン酸を発生する化合物、あるいは以下に記載する放射線の作用により酸触媒を発生する各種化合物を挙げることができるが本発明では特に皮膜形成用組成物のポットライフの観点から、放射線の作用により酸を発生する化合物が好ましい。
【０１５２】
放射線の作用により酸を発生する化合物としては、例えば有機エレクトロニクス材料研究会（ぶんしん出版）編「イメージング用有機材料」ｐ１８７〜１９８、特開平１０−２８２６４４号等に種々の例が記載されておりこれら公知の化合物を使用することができる。具体的には、ＲSO３−（Ｒはアルキル基、アリール基を表す）、AsF6−、SbF6−、PF6−、BF４−等をカウンターイオンとするジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等の各種オニウム塩、トリハロメチル基が置換したオキサジアゾール誘導体やS−トリアジン誘導体等の有機ハロゲン化物、有機酸のｏ−ニトロベンジルエステル、ベンゾインエステル、イミノエステル、ジスルホン化合物等が挙げられ、好ましくは、オニウム塩類、特に好ましくはスルホニウム塩、ヨードニウム塩類である。これらの放射線の作用により、酸を発生する化合物と併用して増感色素も好ましく用いることができる。
【０１５３】
本発明の光学フイルムについてさらに詳しく説明する。
本発明の光学フイルムには、反射防止層を設けることもできる。反射防止層の構成としては、単層、多層等各種知られているが、多層のものとしては高屈折率層、低屈折率層を交互に積層した構造のものが一般的である。構成の例としては、透明基材側から高屈折率層／低屈折率層の２層の順から構成されたものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（透明基材或いはハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性などから、ハードコート層を有する基材上に、高屈折率層／中屈折率層／低屈折率層の順に塗布することが好ましい構成である。
【０１５４】
基材面に（中屈折層を設ける場合もある）高屈折率層、空気に向かって低屈折率層を順に積層し、高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚光の波長に対しある値に設定することにより光学干渉層を作り、反射防止積層体としたものが反射防止層としては特に好ましく、屈折率と膜厚は分光反射率の測定より計算して算出し得る。本発明の光学フイルムには、カール防止加工を施すこともできる。カール防止加工とは、これを施した面を内側にして丸まろうとする機能を付与するものであるが、この加工を施すことによって、透明樹脂フイルムの片面に何らかの表面加工をして、両面に異なる程度・種類の表面加工を施した際に、その面を内側にしてカールしようとするのを防止する働きをするものである。カール防止層は基材の防眩層又は反射防止層を有する側と反対側に設ける態様或いは、例えば透明樹脂フイルムの片面に易接着層を塗設する場合もあり、又逆面にカール防止加工を塗設するような態様が挙げられる。
【０１５５】
本発明の光学フイルムには、透明ハードコート層を設けることができる。透明ハードコート層としては活性線硬化性樹脂或いは熱硬化樹脂が好ましく用いられる。活性線硬化性樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができ、例えば特開昭５９−１５１１１０号公報に記載されている。
【０１５６】
本発明の光学フイルムは液晶表示装置用の光学補償層を設けて光学補償フイルムとして用いることができる。光学補償層は配向膜を塗布、適宜配向処理した後に液晶化合物を塗布、配向させることにより製造することができる。光学補償フイルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。本発明の光学補償フイルムは、以下に示すような様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In−Plane Switching）、ＦＬＣ（Ferroelectric Liquid Crystal）、ＡＦＬＣ（Anti−ferroelectric Liquid Crystal）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＳＴＮ（Supper Twisted Nematic）、ＶＡ（Vertically Aligned）およびＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。更に、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
【０１５７】
本発明の光学補償フイルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートとして用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、および特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Jpn．J．Appl．Phys．Vol．36(1997)p．143やJpn．J．Appl．Phys．Vol．36(1997)p．1068）に記載がある。本発明の光学補償フイルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（△ｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（△ｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【０１５８】
本発明の光学補償フイルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅレターデーション値を０乃至１５０ｎｍとし、Ｒthレターデーション値を７０乃至４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅレターデーション値は、２０乃至７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフイルムを使用する場合、フイルムのＲthレターデーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好ましい。
【０１５９】
ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。本発明の光学補償フイルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Jpn．J．Appl．Phys．Vol．38(1999)p．2837）に記載がある。
【０１６０】
本発明のセルロースアシレートフイルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Guest−Host）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、国際公開第９８／４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載がある。本発明のセルロースアシレートフイルムは、ＡＳＭ（Axially Symmetric Aligned Microcell ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Kume  et al．， SID98 Digest 1089 (1998)）に記載がある。
【０１６１】
上記光学補償フイルムにさらに反射防止層、防眩性層、λ／４層、λ／２層として機能を付与してもよい。
【０１６２】
本発明の反射防止膜の透明支持体としては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチックフイルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製  商品名ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＦなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
【０１６３】
トリアセチルセルロースは、単層または複数の層からなる。単層のトリアセチルセルロースは、特開平７−１１０５５号公報等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロースは、特開昭６１−９４７２５号公報、特公昭６２−４３８４６号公報等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフイルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
【０１６４】
本発明の機能性フイルムは、以下の方法で各層を透明支持体上に塗設し製造することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、ハードコート層を形成するための塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびエクストルージョンコート法が好ましく、ワイヤーバーコート法およびエクストルージョンコート法がさらに好ましい。その後、光照射あるいは加熱して、機能性層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これにより機能性層が形成される。ここで、必要であれば他の機能性層この上に同様な方法で塗布してもよい。
【０１６５】
本発明では、多分子間で架橋がかかっていること、ポリマー鎖が溶液中で広がっていることにより面状均一性が高い機能性フィルムが得られる。その詳細な理由は定かではないが、本発明によれば、酸性の置換基、塩基性の置換基の含量を規制して、二分子間での架橋形成が促進されることによるコンプレックスの析出の原因になることを回避できることが考えられる。
【実施例】
【０１６６】
本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６７】
[実施例１  液粘度の測定]
下記表１０１の溶液を作成し、Ｒ型粘度計（東機産業製RC−500）を用いて、２５℃にて溶液粘度を測定した。
表中のNは、ポリマーＡの有機溶剤溶液の粘度をη１、ポリマーＢの有機溶剤溶液の粘度をη２、これらを混合したときの溶液の粘度をη３としたとき以下で計算される数値である。
N  ＝  η3 ／ (η１とη２のうちの大きいほうの値) 
Ｎは混合時の粘度上昇率を示しており、この数値が大きいほど、酸性ポリマーと塩基性ポリマーを混合した際の粘度上昇が大きいことを表している。
表１より明らかなように、酸性ポリマーと塩基性ポリマーを混合することにより、大幅な粘度上昇が見られた。また、これらの混合溶液はポリマーや高分子間コンプレックスが析出することなく均一な溶液のままであり、溶解性に問題がないことがわかった。
【０１６８】
【表１】
2005206643.tif 000020
【０１６９】
[実施例２  機能性フイルムの作製]
（光学異方性フイルムの作製）
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルム上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ２の塗布量で塗布し、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥する。その後ラビング処理を実施する。
【０１７０】
（配向膜塗布液組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                        １０質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                        ０．５質量部
【０１７１】
【化１９】
2005206643.tif 000021
【０１７２】
得られた支持体に室温にて、下記塗布組成物２０１を塗布し、乾燥後１３０℃の状態で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させる。次に１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、その後室温まで放冷することにより、光学異方性フイルム２０１が得られる。
（塗布組成物２０１）
特開平７−３０６３１７号公報記載の例示化合物(ＴＰ−５３)
(ディスコチック液晶化合物)                                ４１．０１ｇ
Ｖ＃３６０（大阪有機化学(株)製）(多官能性モノマー)           ４．０６ｇ
ＣＡＢ５３１−１（イーストマンケミカル社製）
（ポリマー；セルロース誘導体）                              ０．９０ｇ
イルガキュア−９０７（チバガイギー社製）(光重合開始剤)       １．３５ｇ
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬(株)製）(増感剤)                ０．４５ｇ
２−ブタノン                                               ８８ｇ
【０１７３】
以下の表２のとおりポリマーＡ、ポリマーＢを添加し、その添加量だけ２−ブタノンの量を減らした以外は塗布組成物２０１と全く同様にして塗布組成物２０２〜２０９を作製する。また、2−ブタノンに変えて、N，N−ジメチルホルムアミドを等量用いた以外はまったく同様にして塗布組成物２１０を、塗布組成物２１０に対して、ポリマーＡ、ポリマーＢを添加し、その添加量だけN，N−ジメチルホルムアミドの量を減らした以外は塗布組成物２１０と全く同様にして塗布組成物２１１を作製する。
これらを上記の光学異方性フイルム２０１と同様の方法で塗布、処理することにより、光学異方性フイルム２０２〜２１１が得られる。
【０１７４】
【表２】
2005206643.tif 000022
【０１７５】
得られた光学異方性フイルムの面状を二枚の偏光板を介して目視で調べ、ムラの程度を以下の三段階で評価する。
○；ほとんどムラは見られない
△；注意深く見ると部分的にムラが見られる
×；ムラが多い
【０１７６】
上記試料中の本発明の全試料（光学異方性フイルム２０２〜２０４、２０７）において、塗布面状ムラが改良され、塗布液に本発明のポリマーを添加する効果が確認できる。ポリマーＡ、ポリマーＢを単独で添加した光学異方性フイルム２０５、２０６に比べてその両方を添加した光学異方性フイルム２０７は明らかに塗布面状ムラは改良できている。また、光学異方性フイルム２０８、２０９より、ＰＥＭＡ（ポリエチルメタクリレート）を用いた場合、本発明の試料と同程度の面状ムラ改良を実現しようとすると添加量が増え、膜が白濁するため好ましくないことがわかる。また、光学異方性フイルム２１０や２１１を高沸点有機溶剤であるN，N−ジメチルホルムアミドを溶媒として用いて作製しようとした場合、室温では乾燥に非常に時間がかかり、加熱が必要であった。これは工程上も負荷がかかり好ましくない。さらに、得られた光学異方性フイルム２１１では、本発明のポリマーを用いてもムラが多く好ましくないことがわかる。