(57)【要約】    【課題】      波長がとくに６４０ｎｍ〜６８０ｎｍのレーザー光などによる記録光を用いた高密度および高速度の記録にあたって記録パワーにより発生する熱の放熱特性を向上させ、記録速度がより高速に対応した記録領域における記録再生特性を確保可能な光情報記録媒体を提供すること。    【解決手段】  記録パワーが光記録層３内の色素を加熱するとともに、その熱が光記録層や光反射層４を通して拡散されてゆくことに着目したもので、プリグルーブ７を形成した基板２と、レーザー光９を吸収する色素から構成した光吸収物質を含む光記録層３と、レーザー光９を反射する光反射層４と、を有し、プリグルーブ７内において、当該光情報記録媒体の直径方向の切断面におけるプリグルーブ７の断面積に対する色素が占める断面積の比率（グルーブ内色素比率）が、３０％〜６３％、であることを特徴とする。【選択図】        図１
2005190616.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性を有するとともにプリグルーブを形成した基板と、
この基板上に設けるとともに、レーザー光を吸収する色素から構成した光吸収物質を含む光記録層と、
この光記録層上に設けるとともに、前記レーザー光を反射する光反射層と、を有し、
前記基板を通して前記光記録層に前記レーザー光を照射することにより光学的に読み取り可能な情報を記録する光情報記録媒体であって、
前記プリグルーブ内において、当該光情報記録媒体の直径方向の切断面における前記プリグルーブの断面積に対する前記色素が占める断面積の比率（グルーブ内色素比率）が、
３０％〜６３％、
であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
透光性を有するとともにプリグルーブを形成した基板と、
この基板上に設けるとともに、レーザー光を吸収する色素から構成した光吸収物質を含む光記録層と、
この光記録層上に設けるとともに、前記レーザー光を反射する光反射層と、を有し、
前記基板を通して前記光記録層に前記レーザー光を照射することにより光学的に読み取り可能な情報を記録する光情報記録媒体であって、
前記プリグルーブ内において、当該光情報記録媒体の直径方向の切断面における前記プリグルーブの断面積に対する前記光反射層が占める断面積の比率（グルーブ内光反射層比率）が、
３７％〜７０％、
であることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項３】
前記プリグルーブ内における前記グルーブ内色素比率が、
３０％〜５７％、
であることを特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記プリグルーブ内における前記グルーブ内光反射層比率が、
４３％〜７０％、
であることを特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒体。
【請求項５】
前記プリグルーブ内への前記光反射層の突出深さが、
８３ｎｍ〜１４０ｎｍｎ、
であることを特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒体。
【請求項６】
前記プリグルーブ内への前記光反射層の突出深さが、
９３ｎｍ〜１４０ｎｍ、
であることを特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒体。
【請求項７】
前記プリグルーブ内の前記色素の厚さが、
３５ｎｍ〜９０ｎｍ、
であることを特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒体。
【請求項８】
前記プリグルーブ内の前記色素の厚さが、
３５ｎｍ〜８３ｎｍ、
であることを特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒体。
【請求項９】
前記グルーブ色素角度が、
３７．５度〜６０度、
であることを特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒体。
【請求項１０】
前記グルーブ色素角度が、
３８．５度〜６０度、
であることを特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒体。
【請求項１１】
前記色素の色素レベリング値が、
０．１５〜０．２９、
であることを特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒体。
【請求項１２】
前記色素の色素レベリング値が、
０．１５〜０．２６、
であることを特徴とする請求項１あるいは２記載の光情報記録媒体。
【請求項１３】
記録時における基準線速度をＳとしたときに、
Ｓ×ｎ（ただし、ｎは、８以上の整数）
の記録速度に対応可能であることを特徴とする請求項１、２、５、７、９、１１記載の光情報記録媒体。
【請求項１４】
記録時における基準線速度をＳとしたときに、
Ｓ×ｎ（ただし、ｎは、８をこえる整数）
の記録速度に対応可能であることを特徴とする請求項３、４、６、８、１０、１２記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光情報記録媒体にかかるもので、とくに透光性の基板上に色素から構成した少なくとも光吸収物質などを含む光記録層と、金属膜などによる光反射層と、を有し、たとえば波長が６４０〜６８０ｎｍの短波長赤色レーザー光により高密度かつ高速で書き込みおよび再生が可能な光情報記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、波長が６４０〜６８０ｎｍ（たとえば６５０〜６６５ｎｍ）の半導体レーザーに対応する有機色素化合物を光記録層として用いたＤＶＤ−ＲやＤＶＤ＋Ｒなどの追記型光情報記録媒体の開発が行われている。これらＤＶＤ−ＲやＤＶＤ＋Ｒなどの光情報記録媒体は、従来のＣＤ−Ｒにおける、トラックピッチ１．６μｍ、記憶容量６５０〜６００ＭＢに比べて、トラックピッチは０．７４μｍと、より狭いピッチになり、記憶容量では４．７ＧＢと非常に高密度になっている。さらに、記録速度については、ＣＤ−Ｒでは、基準線速度が１．２〜１．４ｍ／ｓであるのに対して、ＤＶＤ−Ｒ／＋Ｒでは、基準線速度が３．４９ｍ／ｓと非常に高速化している。なお、ＤＶＤ−Ｒ／＋Ｒ用の記録機としては、基準線速度の８倍の記録速度を有する８倍速のものが実用化されているが、１６倍速のものは現時点では実用化されていない。
このような有機色素化合物を光記録層に使用した光情報記録媒体において、記録速度が低速時から高速時の広い領域にわたって記録再生特性の確保が求められている。しかしながら、現状は、低速時から高速時の各記録再生特性を十分に満足する光情報記録媒体は得られていない。
【０００３】
高速記録では、記録パワーが高いために記録時に発生する熱量、ないし単位時間あたりの熱量が大きくなり、熱ひずみの問題が顕在化しやすく、記録ピットがばらつく原因となっている。また、半導体レーザーの出射パワー自体に限界があり，高速記録に対応することができる高感度の色素材料が求められている。
【０００４】
したがって、色素物性としては、複素屈折率（以下、屈折率という）をさらに高めて光記録層の薄膜化を行って、記録時に発生する熱を制御すること、できるだけ少ない記録パワーで光記録層内の色素を分解することができるようにすることなどが必要である。
なお、光記録層の薄膜化の傾向としては、規格で規定されている基準線速度（１倍速に相当）が３．４９ｍ／ｓ（約３．５ｍ／ｓ）の記録速度に対し、その平均膜厚が、２倍速で６０ｎｍ、４倍速で５４ｎｍ、８倍速で４４〜４７ｎｍ、１６倍速で４０ｎｍ前後、などとなっている。
しかしながら、高い屈折率を得ようとして色素についての分子設計を行っても、その化学的構造に限界があるため、高速記録に対応可能な色素の設計を十分に行うことができていないのが現状である。
一方、低速時には記録パワーが低すぎてしまうため、高速時の特性を確保しようとして光記録層の薄膜化を行う場合には、十分な大きさのピットを形成させることが困難になるという問題がある。
【０００５】
上述のように、高速記録とくにその記録速度が８倍速以上になると、後述するように、
記録パワーが高いために記録時に発生する熱量が大きくなる。そこで、基板のプリグルーブ内における色素形状（あるいはプリグルーブ内における光反射膜形状）や基板形状といった形状因子と、色素分解温度や発熱量などの熱物性因子と、を記録時の熱制御に適した状態に設計する必要がある。また、記録パワーを低く抑えるためには、色素の光吸収量を増すなどの色素光学設計も必要である。
なお、高速記録に合わせたメディア設計を行うと、光記録層の厚さが薄くなってしまい、低速記録では形成されるピットの物理的大きさが小さくなる。そこで、高速から低速までの適正な記録をともに適正に行うとすると、高い屈折率の色素を用いることにより、ピットを光学的に大きく見せる工夫、および高速記録時の放熱対策も必要になってくる。
【０００６】
このように、高速から低速までの適正な記録、とくに、より高速に適した記録を満足させるためには、形状因子と色素熱物性因子とを熱制御ないし放熱対策に適した状態に設計する必要があるという問題がある。
【０００７】
【特許文献１】再公表２００１−５９７７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は以上のような諸問題にかんがみなされたもので、波長がとくに６４０ｎｍ〜６８０ｎｍのレーザー光などによるレーザー光を用いた高密度および高速度の記録が可能な光情報記録媒体を提供することを課題とする。
【０００９】
また本発明は、光記録層への記録にあたって記録パワーにより発生する熱の制御を考慮し、放熱特性を向上させるようにした光情報記録媒体を提供することを課題とする。
【００１０】
また本発明は、光記録層の色素膜形状ないしは光反射層の反射膜形状といった形状因子および色素熱物性因子を考慮した光情報記録媒体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
すなわち本発明は、記録時のとくに発熱制御に関する色素熱物性因子を工夫することでは大きな効果を上げることは困難であり、一方放熱制御に関する形状因子を工夫することにより、発生熱の影響を改善するのに大きな効果を上げることが可能であること、すなわち、レーザー光による記録パワーがプリグルーブ内の色素などの光吸収物質を加熱するとともに、その熱が光記録層や光反射層を通して拡散されてゆくこと、この拡散されてゆく熱の放熱効果を向上させることに着目したもので、第一の発明は、透光性を有するとともにプリグルーブを形成した基板と、この基板上に設けるとともに、レーザー光を吸収する色素から構成した光吸収物質を含む光記録層と、この光記録層上に設けるとともに、上記レーザー光を反射する光反射層と、を有し、上記基板を通して上記光記録層に上記レーザー光を照射することにより光学的に読み取り可能な情報を記録する光情報記録媒体であって、上記プリグルーブ内において、当該光情報記録媒体の直径方向の切断面における上記プリグルーブの断面積に対する上記色素が占める断面積の比率（グルーブ内色素比率）が、３０％〜６３％、であることを特徴とする光情報記録媒体である。
【００１２】
第二の発明は、透光性を有するとともにプリグルーブを形成した基板と、この基板上に設けるとともに、レーザー光を吸収する色素から構成した光吸収物質を含む光記録層と、この光記録層上に設けるとともに、上記レーザー光を反射する光反射層と、を有し、上記基板を通して上記光記録層に上記レーザー光を照射することにより光学的に読み取り可能な情報を記録する光情報記録媒体であって、上記プリグルーブ内において、当該光情報記録媒体の直径方向の切断面における上記プリグルーブの断面積に対する上記光反射層が占める断面積の比率（グルーブ内光反射層比率）が、３７％〜７０％、であることを特徴とする光情報記録媒体である。
【００１３】
上記プリグルーブ内における上記グルーブ内色素比率が、３０％〜５７％、であることができる。
【００１４】
上記プリグルーブ内における上記グルーブ内光反射層比率が、４３％〜７０％、であることができる。
【００１５】
上記プリグルーブ内への上記光反射層の突出深さが、８３ｎｍ〜１４０ｎｍ、であることができる。
【００１６】
上記プリグルーブ内への上記光反射層の突出深さが、９３ｎｍ〜１４０ｎｍ、であることができる。
【００１７】
上記プリグルーブ内の上記色素の厚さが、３５ｎｍ〜９０ｎｍ、であることができる。
【００１８】
上記プリグルーブ内の上記色素の厚さが、３５ｎｍ〜８３ｎｍ、であることができる。
【００１９】
上記グルーブ色素角度が、３７．５度〜６０度、であることができる。
【００２０】
上記グルーブ色素角度が、３８．５度〜６０度、であることができる。
【００２１】
上記色素の色素レベリング値が、０．１５〜０．２９、であることができる。
【００２２】
上記色素の色素レベリング値が、０．１５〜０．２６、であることができる。
【００２３】
記録時における基準線速度をＳとしたときに、Ｓ×ｎ（ただし、ｎは、８以上の整数）の記録速度に対応可能であることができる。
【００２４】
記録時における基準線速度をＳとしたときに、Ｓ×ｎ（ただし、ｎは、８をこえる整数）の記録速度に対応可能であることができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明による光情報記録媒体においては、プリグルーブ内においてグルーブ内色素比率が、３０％〜６３％、であるようにしたので、記録ピットが形成される際の発熱量を適正に制御可能とし、記録速度がより高速に対応した記録領域における記録特性を良好に維持可能である。
換言すれば、グルーブ内色素比率に着目し、またプリグルーブ内に向かって突出する光反射層の突出深さ、あるいはグルーブ内光反射層比率などを考慮することにより、記録時に光記録層で発生した熱を熱伝導率の高い光反射層側に速やかに伝達拡散させ、放熱の制御を有効かつ効率的に行うことができるようにしたので、記録速度がとくに８倍速以上、さらには１６倍速というような非常に高速の記録において、記録時に発生する熱の放熱効果を向上させ、適正な記録ピットを形成することが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明は、プリグルーブ内におけるグルーブ内色素比率が、３０％〜６３％、であるようにしたので、記録速度がより高速記録に対応した高密度の記録が可能なメディアを実現することができた。
【実施例】
【００２７】
つぎに本発明の実施例による光情報記録媒体を図１ないし図９にもとづき説明する。
図１は、円盤状の光情報記録媒体１の要部拡大断面図であって、光情報記録媒体１の直径方向の切断面を示す断面図、すなわち、プリグルーブ７が刻んである面に対して垂直、かつプリグルーブ７方向に対して垂直に切断した断面図を模式的に示したものである。
光情報記録媒体１は、透光性の基板２と、この基板２上に形成した光記録層３（光吸収層）と、この光記録層３の上に形成した光反射層４と、この光反射層４の上に形成した保護層５と、を有する。なお、保護層５のさらに上層に所定厚さのダミー基板６を積層し、ＤＶＤ規格で必要とされる所定の厚さに形成する。
上記基板２にはスパイラル状にプリグルーブ７を形成してある。このプリグルーブ７の左右には、このプリグルーブ７以外の部分すなわちランド８が位置している。
【００２８】
図示するように、光情報記録媒体１にレーザー光９（記録光）を照射したときに、光記録層３がこのレーザー光９のエネルギーを吸収することにより発熱し、基板２側に熱変質が生じて記録ピット１０が形成される。
【００２９】
なお、基板２と光記録層３とは、第１の層界１１により互いに接している。
光記録層３と光反射層４とは、第２の層界１２により接している。
光反射層４と保護層５とは、第３の層界１３により接している。
保護層５とダミー基板６とは、第４の層界１４により接している。
【００３０】
透光性の基板２は、レーザー光に対する屈折率がたとえば１．５〜１．７程度の範囲内の透明度の高い材料で、耐衝撃性に優れた主として樹脂により形成したもの、たとえばポリカーボネート、ガラス板、アクリル板、エポキシ板等を用いる。
【００３１】
光記録層３は、基板２の上に形成した色素を含む光吸収性の物質（光吸収物質）からなる層で、レーザー光９を照射することにより、発熱、溶融、昇華、変形または変性をともなう層である。この光記録層３はたとえば溶剤により溶解したアゾ系色素、シアニン系色素等を、スピンコート法等の手段により、基板２の表面に一様にコーティングすることによってこれを形成する。
光記録層３に用いる材料は、任意の光記録材料を採用することができるが、光吸収性の有機色素が望ましい。
【００３２】
光反射層４は、熱伝導率および光反射性の高い金属膜であり、たとえば、金、銀、銅、アルミニウム、あるいはこれらを含む合金を、蒸着法、スパッタ法等の手段によりこれを形成する。
【００３３】
保護層５は、基板２と同様の耐衝撃性、接着性に優れた樹脂によりこれを形成する。たとえば、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗布し、これに紫外線を照射して硬化させることによりこれを形成する。
【００３４】
ダミー基板６は、上記基板２と同様の材料によりこれを構成し、約１．２ｍｍの所定の厚さを確保する。
【００３５】
図１において、光情報記録媒体１の各部分の寸法を図示のように設定する。
とくに、プリグルーブ７において、基板２と光記録層３との第１の層界１１における、図１中、プリグルーブ７の左側上隅部をＡ点とし、左側下隅部をＢ点とし、右下隅部をＣ点とし、右上隅部をＤ点とする。
さらに、ランド８上に位置する光反射層４の左上隅部をＥ点とし、プリグルーブ７の開口部にランド８からの第１の層界１１と同一レベルに延びる開口部レベル線１５（仮想線）と光反射層の左傾斜部との交点をＦ点とし、プリグルーブ７内に基板２方向に向かって突出している光反射層４の左下隅部をＧ点とし、右下隅部をＨ点とし、開口部レベル線１５と光反射層の右傾斜部との交点をＩ点とし、ランド８上に位置する光反射層４の右上隅部をＪ点する。
光反射層４がプリグルーブ７に臨む凹み部の最大幅（光情報記録媒体１の直径方向の幅）をＷdt（直線ＥＪの長さ）、とする。
光反射層４がプリグルーブ７に臨む凹み部の最小幅をＷdb（直線ＧＨの長さ）、とする。
光記録層３のプリグルーブ７における最大幅をＷst（直線ＡＤの長さ）、とする。
光記録層３のプリグルーブ７における最小幅をＷsb（直線ＢＣの長さ）、とする。
光反射層４のランド８に臨む凸部の幅をＷdl（直線ＪＥ１の長さ）、とする。
光記録層３のランド８における幅をＷsl（直線ＤＡ１の長さ）、とする。
光記録層３と光反射層４との間におけるランド８の第１の層界１１のレベルでの光記録層３の幅をＷx（直線ＡＦ、ＩＤの長さ）、とする。
光反射層４のランド８における第２の層界１２からプリグルーブ７における第２の層界１２までの深さ（色素グルーブ深さ）をＨdg（直線ＪＥと直線ＧＨとの間の長さ）、とする。
光記録層３のランド８における深さをＨdl（直線ＪＥと直線ＤＡとの間の長さ）、とする。
プリグルーブ７の深さ（基板グルーブ深さ）をＨsg（直線ＤＡと直線ＢＣとの間の長さ）、とする。
プリグルーブ７における光記録層３と光反射層４との間の深さをＨsd（直線ＧＨと直線ＢＣとの間の長さ）、とする。
光反射層４の光記録層３内における傾斜部の角度（グルーブ色素角度）をα、とする。
なお、光記録層３の基板２内における傾斜部の角度（グルーブ基板角度）をβ、とする。
【００３６】
当該光情報記録媒体１の断面形状およびそれぞれの寸法を測定するためには、光情報記録媒体１の中央の孔から金属製のスパチュラーを差し込んで光記録層３と光反射層４との間の第２の層界１２部分を剥離し、分解する。
ついで、光反射層４側に付着している色素層（光記録層３）をエタノールで洗い落とし、剥離の際にスパチュラーで傷ついた部分を除いて、色素層形状の測定サンプルとして測定に用いた。
さらに、基板２側に付着している色素層をエタノールで洗い落とし、剥離の際にスパチュラーで傷ついた部分を除いて、基板２形状の測定サンプルとして測定に用いた。
それぞれの部分の形状測定には、ＡＦＭ（Ｔｈｅｒｍｏｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅｓ製、Ａｕｔｏｐｒｏｂｅ  Ｍ５）を用いた。
【００３７】
図２は、光反射層４側の形状の測定結果を示すグラフであって、実際の測定形状は曲線となっているが、深さ、半値幅および角度のデータを用いて計算しやすいように直線で近似する。
すなわち、図３は、図２のように得られた曲線を直線で近似した光反射層４の断面形状を示すグラフであって、点線が実際の測定形状を示し、実線が近似形状を示す。
なお、上述と同様の手法により、基板２の形状も測定する。
【００３８】
本発明における高速記録時の熱制御設計について述べると、光情報記録媒体１に記録する際のレーザー光９のレーザーパワーによってプリグルーブ７内の色素は急激に加熱され、それぞれの熱は光記録層３や光反射層４を通って拡散されてゆく。
この拡散されてゆく熱は、隣接部分のトラック間やプリグルーブ７内へと移ってゆき、その部分はある程度暖められた、いわば予熱状態となる。この余熱状態で、つぎの記録のためのレーザー光９が照射されると、予熱状態ではない冷めた状態の記録膜とは異なった記録ピット１０が形成されることになる。
【００３９】
また、レーザー光９のレーザーパワーが強ければ強いほど、すなわち、高速記録になればなるほど、発生する熱量は多くなる。たとえば、一般的なＤＶＤ−Ｒのメディアでは、１倍速記録（約３．５ｍ／ｓ）でその記録パワー（レーザー強度）は６〜１０ｍＷ前後であり、４倍速記録では１５〜２０ｍＷ前後であり、８倍速記録では２５〜３０ｍＷ前後であり、１６倍速記録では４０ｍＷ以上の記録レーザーパワーが必要と予想される。
要するに、高速記録対応のメディアにとって、その記録時に発生する熱が隣接部分に影響しないようすることはますます重要となってくる。
【００４０】
光情報記録媒体１の記録時に発生する熱を制御する因子は、発熱制御および放熱制御に大別することができる。
発熱制御は、光記録層３の材料自体の発熱量や分解温度などの材料物性因子と関係し、放熱制御は、光記録層３や基板２などの形状因子すなわち光記録層３の厚さや光記録層３と光反射層４との間の第２の層界１２の形状と密接に関連している。
たとえば有機色素材料薄膜である光記録層３は、金属薄膜である光反射層４とポリカーボネート材料の基板２との間に挟まれている。熱伝導性としては、プラスチック材料であるポリカーボネート（基板２）よりも金属（光反射層４）の方が良いのは自明で、放熱制御は、形状因子が密接に関係する。
【００４１】
本発明者らは、鋭意研究の結果、発熱制御によっては、高速記録時に発生する熱が隣接部分に影響することを防止するには大きな成果をあげることは困難で、一方、熱影響を改善するにあたって、光記録層３や基板２の形状制御である放熱制御により大きな効果をあげることがわかった。
【００４２】
上述のように、本発明においては、高速記録時の熱制御にとって放熱制御、より具体的にはプリグルーブ７における光記録層３および光反射層４の形状が最も支配的であるという点に着目した。
とくに、以下の項目による光記録層３の形状は、高速記録時の熱制御（放熱制御）に対して影響度が大きい。さらに、項目（１）および（２）がとくに影響度が大きい。
（１）プリグルーブ７内における色素比率（グルーブ内色素比率）、すなわちこのグルーブ内色素比率は、実際はプリグルーブ７内における色素量の容積割合であるが、図１における台形ＡＢＣＤの面積に対する台形ＦＧＨＩの面積の比と等価である。
図４は、このグルーブ内色素比率の計算式を示す。
（２）プリグルーブ７内における反射膜突出深さ（Ｈsg−Ｈsd）。
（３）プリグルーブ７内における色素の厚さ（グルーブ内色素厚さ）Ｈsd。
（４）プリグルーブ７内におけるグルーブ色素角度α。
（５）色素レベリング値（Ｈsg−Ｈdg）÷Ｈsg。
（６）プリグルーブ７内における光反射層４の比率（グルーブ内光反射層比率）、すなわち、本発明においては、グルーブ内色素比率と相関して、プリグルーブ７内における光反射層４の比率を着目することもできる。図４に計算式を示すように、グルーブ内色素比率と同様にして、グルーブ内光反射層比率を定義することができる。
【００４３】
本発明において、８倍速以上の高速記録に対応させるためには、上記各項目について、以下のような範囲が望ましい。
（１）グルーブ内色素比率を、３０％〜６３％、とする。
３０％未満では十分な大きさの記録ピット１０を形成することができない。
６３％をこえた場合には、図５にもとづいて後述するように、ＤＣジッターを規格値以内に抑えることができない。
（２）プリグルーブ７内における反射膜突出深さ（Ｈsg−Ｈsd）を、８３ｎｍ〜１４０ｎｍ、とする。
８３ｎｍ未満では、図６にもとづいて後述するように、ＤＣジッターを規格値以内に抑えることができない。
１４０ｎｍをこえると、プリグルーブ７内での色素量が少なくなり、十分な大きさの記録ピット１０を形成することができない。
（３）グルーブ色素厚さＨsdを、３５ｎｍ〜９０ｎｍ、とする。
３５ｎｍ未満では、プリグルーブ７内での色素量が少なくなり、十分な大きさの記録ピット１０を形成することができない。
９０ｎｍをこえると、図７にもとづいて後述するように、ＤＣジッターを規格値以内に抑えることができない。
（４）グルーブ色素角度αを、３７．５度〜６０度、とする。
３７．５度未満では、図８にもとづいて後述するように、ＤＣジッターを規格値以内に抑えることができない。
６０度をこえると、光反射層４の形状が大きくゆがむため、十分な反射率を確保することができない。
（５）色素レベリング値（Ｈsg−Ｈdg）÷Ｈsgを、０．１５〜０．２９、とする。
０．１５未満では、光反射層４の形状が大きくゆがむため、十分な反射率を確保することができない。
０．２９をこえると、図９にもとづいて後述するように、ＤＣジッターを規格値以内に抑えることができない。
（６）グルーブ内光反射層比率を、３７％〜７０％、とする。
【００４４】
さらに、８倍速をこえる（たとえば１６倍速）高速記録に対応させるためには、上記各項目について、
（１）グルーブ内色素比率を、３０％〜５７％、とする。
３０％未満では十分な大きさの記録ピット１０を形成することが困難である。
５７％をこえた場合には、図５にもとづいて後述するように、ＤＣジッターを規格値以内に抑えることが困難である。
（２）プリグルーブ７内における反射膜突出深さ（Ｈsg−Ｈsd）を、９３ｎｍ〜１４０ｎｍ、とする。
９３ｎｍ未満では、図６にもとづいて後述するように、ＤＣジッターを規格値以内に抑えることが困難である。
１４０ｎｍをこえると、プリグルーブ７内での色素量が少なくなり、十分な大きさの記録ピット１０を形成することが困難である。
（３）グルーブ色素厚さＨsdを、３５ｎｍ〜８３ｎｍ、とする。
３５ｎｍ未満では、プリグルーブ７内での色素量が少なくなり、十分な大きさの記録ピット１０を形成することが困難である。
８３ｎｍをこえると、図７にもとづいて後述するように、ＤＣジッターを規格値以内に抑えることが困難である。
（４）グルーブ色素角度αを、３８．５度〜６０度、とする。
３８．５度未満では、図８にもとづいて後述するように、ＤＣジッターを規格値以内に抑えることが困難である。
６０度をこえると、光反射層４の形状が大きくゆがむため、十分な反射率を確保することが困難である。
（５）色素レベリング値（Ｈsg−Ｈdg）÷Ｈsgを、０．１５〜０．２６、とする。
０．１５未満では、光反射層４の形状が大きくゆがむため、十分な反射率を確保することが困難である。
０．２６をこえると、図９にもとづいて後述するように、ＤＣジッターを規格値以内に抑えることが困難である。
（６）グルーブ内光反射層比率を、３７％〜７０％、とする。
【００４５】
本発明における上記各項目（１）〜（５）は、それぞれ独立して高速記録時の熱制御に作用する。
８倍速以上の高速記録を満足するためには、各項目（１）〜（５）のうちひとつ以上は、規定した範囲内に形状をおさめる必要がある。各項目（１）〜（５）のうち、項目（１）、（２）はとくに影響が大きいため、どちらかの項目あるいは両方の項目で規定した範囲内に形状をおさめる必要がある。
【００４６】
つぎに、基板２、光記録層３および光反射層４などの形状がメディアの高速記録特性にどのように影響するかを調べた結果のデータを示す。
図５は、ＤＣジッターと、グルーブ内色素比率とを示すグラフであって、ＤＣジッターが１３％をこえるアシンメトリ値を横軸に取り、グルーブ内色素比率を縦軸に取っている。
ここで、「ＤＣジッター（ジッター）」とは、”Ｄａｔａ  ｔｏ  Ｃｌｏｃｋ  Ｊｉｔｔｅｒ”のことで、光情報記録媒体１を一回転させたときのジッター値であり、記録ピット１０のゆらぎを表す。このＤＣジッターが１３％をこえてしまうと、ＤＶＤ−Ｒの場合、規格で決められているエラー信号（ＰＩエラー）がその規格値２８０をこえてしまいやすくなる。
「アシンメトリ値」とは、ＤＶＤ−Ｒにおける記録ピット１０のピット長さ３Ｔから１４Ｔまでの長さに対しての平均値について本来記録されるべき位置からのズレを表す。
このアシンメトリ値は、記録媒体の記録感度をより向上させるためには、設計上なるべくプラス側にシフトさせた方がよいことが実験上検証されており、そのため、アシンメトリ値としては、高速記録の場合は、−５％〜１５％の範囲が望ましく、たとえば８倍速のときには、−５％からプラス側へシフトさせることが望ましく、１６倍速のときには、５％からプラス側へシフトさせることが望ましい。
図５は、１倍速、２倍速、４倍速、６倍速および８倍速の記録を行って得られたＤＣジッターの結果をもとに、１６倍速の記録結果を予測したものであり、図示のように、グルーブ内色素比率が減少するほど（グルーブ光反射層比率が増加するほど）、ＤＣジッターが１３％をこえるアシンメトリ値がプラス側にシフトして行くのがわかる。すなわち、プリグルーブ７内に光反射層４が突出する割合が増加するほど（もちろん上限値としてたとえば７０％はあるが）、記録時の発生熱量が光反射層４の金属膜により速やかに放熱拡散されてゆくことがわかる。
図５のグラフから、アシンメトリ値が−５％のときのグルーブ内色素比率が６３％以下が望ましく、アシンメトリ値が＋５％のときの５７％以下が好ましいことを裏付けることができる。
【００４７】
つぎに図６は、ＤＣジッターと、プリグルーブ７内の反射膜突出深さとを示すグラフであって、プリグルーブ７内の反射膜突出深さが長くなるほど、ＤＣジッターが１３％をこえるアシンメトリ値がプラス側にシフトして行くのがわかる。
図６のグラフから、プリグルーブ７内の反射膜突出深さが８３ｎｍ以上、より好ましくは９３ｎｍ以上であることを裏付けることができる。
【００４８】
つぎに図７は、ＤＣジッターと、プリグルーブ７内における色素厚さとを示すグラフであって、プリグルーブ７内の色素厚さが薄くなるほど、ＤＣジッターが１３％をこえるアシンメトリ値がプラス側にシフトして行くのがわかる。
図７のグラフから、プリグルーブ７内における色素厚さが９０ｎｍ以下、より好ましくは８３ｎｍ以下であることを裏付けることができる。
【００４９】
つぎに図８は、ＤＣジッターと、グルーブ色素角度とを示すグラフであって、グルーブ色素角度が急峻になるほど、ＤＣジッターが１３％をこえるアシンメトリ値がプラス側にシフトして行くのがわかる。
図８から、プリグルーブ７内のグルーブ色素角度が３７．５度以上、より好ましくは３８．５度以上であることを裏付けることができる。
【００５０】
つぎに図９は、ＤＣジッターと、色素レベリング値とを示すグラフであって、色素レベリング値が小さくなるほど、ＤＣジッターが１３％をこえるアシンメトリ値がプラス側にシフトして行くのがわかる。
図９のグラフから、プリグルーブ７内のグルーブ色素角度が０．２９以下、より好ましくは０．２６以下であることを裏付けることができる。
【００５１】
つぎに、具体的な実施例について説明する。
（実施例１）
図１０に示す第１の化合物（アゾ色素）０．２ｇを、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール１０ｍｌに溶解し、塗布溶液を調製した。
ポリカーボネート製で連続した深さ１８０ｎｍの案内溝（プリグルーブ７）を有する外径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状の基板２に、この塗布溶液をスピンコート法により塗布し、平均色素膜厚さ約５０ｎｍの光記録層３を形成した。
さらに、この光記録層３の上に銀（Ａｇ）をスパッタリングし、厚さ１００ｎｍの光反射層４を形成した。
さらに、光反射層４の上に、紫外線硬化樹脂ＳＤ−３１８（大日本インキ化学工業製）をスピンコートしたのち、これに紫外線を照射して硬化させ、保護層５を形成した。
この保護層５の表面に紫外線硬化樹脂接着剤を塗布し、上述と同じ材質および形状のダミー基板６を貼り合わせ、この接着剤に紫外線を照射して硬化させて接着し、追記型光情報記録媒体１を作成した。
なお、基板２の形状や、塗布溶液の調製条件、たとえば粘性、濃度など、また、その塗布溶液をスピンコート法により塗布する際の塗布条件、たとえばスピンコートする際の回転数などにより、光記録層３および光反射層４などについて所望の形状を得ることができる。
【００５２】
上述のようにして光記録層３を形成した光情報記録媒体１について、波長６６０ｎｍの半導体レーザー（ＮＡ＝０．６５）を搭載したパルステック工業製ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）を用いて、ＥＦＭ信号を線速度２８ｍ／ｓで８倍速で高速記録を行った。
記録後、同評価装置を用いて、レーザー出力を０．７ｍＷにして信号を再生し、反射率、変調度、エラーレートおよびジッターを測定したところ、反射率（Ｒtop）＝４５．３％、変調度（Ｉ14／Ｉtop）＝７５．３％、エラーレート＝１．４、ジッター＝６．５％であった。なお、それぞれの規格値としては、反射率が４５％より大きいこと、変調度が６０％より大きいこと、エラーレート（ＰＩ値）が２８０未満であること、およびジッターは、８％未満であること、である。したがって、反射率、変調度、エラーレート（ＰＩ値）およびジッターそれぞれについて、これらの規格値をすべて満足していた。
【００５３】
また、記録評価に用いたディスクとは別のディスクを用意し、光反射層４と光記録層３との界面（第２の層界１２）で剥離、分解した（分解方法などは前述した通り）。
この分解物をＡＦＭ測定装置により形状測定を行ったところ、
グルーブ基板角度β＝６９．１度、
基板グルーブ幅（半値幅）＝３０１ｎｍ、
であった。ここで、基板グルーブ幅についての「半値幅」とは、基板グルーブ深さ（Ｈsg）の半分の位置における幅の値を言う。
なお、図４に示したグルーブ内色素比率、［｛（Ｗst＋Ｗsb）×Ｈsg÷２｝−｛（Ｗst−２×Ｗx＋Ｗdb）×（Ｈsg−Ｈsd）÷２｝／｛（Ｗst＋Ｗsb）×Ｈsg÷２｝］×１００、に関連する各数値は、
Ｗst＝３７０ｎｍ、
Ｗsb＝２３２ｎｍ、
Ｈsg＝１８０．２ｎｍ、
Ｗx＝−９．４ｎｍ、
Ｗdb＝１３１ｎｍ、
Ｈsd＝７１．４ｎｍ
α＝４０．２度
Ｈdg＝１４０．３ｎｍ、
であった。なお、Ｗxの値がマイナス値となるのは、実際の基板２形状が丸みを帯びているのに対し、測定上は近似して行っているため、その誤差によるものであるが、実際の記録媒体の評価上はとくに問題なかった。
【００５４】
これらの値にもとづき、前記各項目
（１）グルーブ内色素比率、
（２）プリグルーブ７内における反射膜突出深さ（Ｈsg−Ｈsd）
（３）プリグルーブ７内におけるグルーブ色素厚さＨsd
（４）プリグルーブ７内におけるグルーブ色素角度α
（５）色素レベリング値（Ｈsg−Ｈdg）÷Ｈsg
について計算した値およびＤＣ−ジッター値を図１２の図表に示す。
【００５５】
（実施例２）
平均色素膜厚を約５６ｎｍと、実施例１よりも約１２％厚い膜を形成した以外は、実施例１と同様にして追記型光情報記録媒体１を作成し、同様の評価および解析を行った。
実施例１と同様にして、反射率、変調度、エラーレートおよびジッターを測定したところ、反射率（Ｒtop）＝４６．４％、変調度（Ｉ14／Ｉtop）＝８０．６％、エラーレート＝２．１、ジッター＝７．４％であった。
また、形状測定結果は、
基板グルーブ角度＝６９．１度、
基板グルーブ幅（半値幅）＝３０１ｎｍ、
であった。
なお、図４に示したグルーブ内色素比率に関連する各数値は、
Ｗst＝３７０ｎｍ、
Ｗsb＝２３２ｎｍ、
Ｈsg＝１８０．２ｎｍ、
Ｗx＝−１．９ｎｍ、
Ｗdb＝１２２ｎｍ、
Ｈsd＝７９．９ｎｍ
α＝３８．６度
Ｈdg＝１３７．２ｎｍ、
であった。
これらの値にもとづき、実施例１と同様に前記各項目（１）〜（５）について計算した値およびＤＣ−ジッター値を図１２の図表に示す。
【００５６】
（実施例３）
色素を第１の化合物（図１０）から第２の化合物（図１１、アゾ色素）に変更した以外は実施例１と同様にして、追記型光情報記録媒体１を作成し、評価および解析を行った。
実施例１と同様にして、反射率、変調度、エラーレートおよびジッターを測定したところ、反射率（Ｒtop）＝５３％、変調度（Ｉ14／Ｉtop）＝７６．１％、エラーレート＝２．０、ジッター＝７．９％であった。
また、形状測定結果は、
基板グルーブ角度＝６９．１度、
基板グルーブ幅（半値幅）＝３０１ｎｍ、
であった。
なお、図４に示したグルーブ内色素比率に関連する各数値は、
Ｗst＝３７０ｎｍ、
Ｗsb＝２３２ｎｍ、
Ｈsg＝１８０．２ｎｍ、
Ｗx＝−４．１ｎｍ、
Ｗdb＝１３８ｎｍ、
Ｈsd＝８２．２ｎｍ
α＝３９．２度
Ｈdg＝１２７．５ｎｍ、
であった。
これらの値にもとづき、実施例１と同様に前記各項目（１）〜（５）について計算した値およびＤＣ−ジッター値を図１２の図表に示す。
【００５７】
（比較例１）
平均色素膜厚を約６４ｎｍと、実施例１よりも約２８％厚い膜を形成した以外は、実施例１と同様にして追記型光情報記録媒体１を作成し、同様の評価および解析を行った。
実施例１と同様にして、反射率、変調度、エラーレートおよびジッターを測定したところ、反射率（Ｒtop）＝４５％、変調度（Ｉ14／Ｉtop）＝８０．９％、エラーレート＝３１４．０、ジッター＝１４．１％であった。
また、形状測定結果は、
基板グルーブ角度＝６９．１度、
基板グルーブ幅（半値幅）＝３０１ｎｍ、
であった。
なお、図４に示したグルーブ内色素比率に関連する各数値は、
Ｗst＝３７０ｎｍ、
Ｗsb＝２３２ｎｍ、
Ｈsg＝１８０．２ｎｍ、
Ｗx＝８．７ｎｍ、
Ｗdb＝１２７ｎｍ、
Ｈsd＝９４．４ｎｍ
α＝３７．３度
Ｈdg＝１２７．８ｎｍ、
であった。
これらの値にもとづき、実施例１と同様に前記各項目（１）〜（５）について計算した値およびＤＣ−ジッター値を図１２の図表に示す。
【００５８】
（比較例２）
深さ約１６５ｎｍの案内溝（プリグルーブ７）を有する基板２に平均色素膜厚約６５ｎｍの光記録層３を形成した以外は、実施例１と同様にして追記型光情報記録媒体１を作成し、同様の評価および解析を行った。
実施例１と同様にして、反射率、変調度、エラーレートおよびジッターを測定したところ、反射率（Ｒtop）＝５３．１％、変調度（Ｉ14／Ｉtop）＝７７．１％、エラーレート＝４１８．８、ジッター＝２１．４％であった。
また、形状測定結果は、
基板グルーブ角度＝６９．１度、
基板グルーブ幅（半値幅）＝３０２ｎｍ、
であった。
なお、図４に示したグルーブ内色素比率に関連する各数値は、
Ｗst＝３６５ｎｍ、
Ｗsb＝２３９ｎｍ、
Ｈsg＝１６３．４ｎｍ、
Ｗx＝２５．０ｎｍ、
Ｗdb＝１２５ｎｍ、
Ｈsd＝９０．９ｎｍ
α＝３７．４度
Ｈdg＝１１５．５ｎｍ、
であった。
これらの値にもとづき、実施例１と同様に前記各項目（１）〜（５）について計算した値およびＤＣ−ジッター値を図１２の図表に示す。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施例による光情報記録媒体１の要部拡大断面図である。
【図２】同、光反射層４側の形状の測定結果を示すグラフである。
【図３】同、図２のように得られた曲線を直線で近似した光反射層４の断面形状を示すグラフである。
【図４】同、グルーブ内色素比率、およびグルーブ内光反射層比率の計算式を示す図面である。
【図５】同、ＤＣジッターと、グルーブ内色素比率とを示すグラフである。
【図６】同、ＤＣジッターと、プリグルーブ７内の反射膜突出深さとを示すグラフである。
【図７】同、ＤＣジッターと、プリグルーブ７内における色素厚さとを示すグラフである。
【図８】同、ＤＣジッターと、グルーブ色素角度とを示すグラフである。
【図９】同、ＤＣジッターと、色素レベリング値とを示すグラフである。
【図１０】同、実施例１、２、比較例１、２において使用した第１の化合物（アゾ色素）の構造式を示す図面である。
【図１１】同、実施例３において使用した第２の化合物（アゾ色素）の構造式を示す図面である。
【図１２】同、実施例１、２、３、比較例１、２におけるグルーブ内色素比率、反射膜突出深さ、グルーブ内色素厚さ、グルーブ色素角度、色素レベリング値およびＤＣ−ジッター値を示す図表である。
【符号の説明】
【００６０】
１  光情報記録媒体（実施例、図１）
２  基板
３  光記録層（光吸収層）
４  光反射層
５  保護層
６  ダミー基板
７  プリグルーブ
８  ランド
９  レーザー光（記録光、再生光）
１０  記録ピット
１１  第１の層界
１２  第２の層界
１３  第３の層界
１４  第４の層界
１５  開口部レベル線
【図１】
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【図２】
2005190616.tif 000004
【図３】
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【図４】
2005190616.tif 000006
【図５】
2005190616.tif 000007
【図６】
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【図７】
2005190616.tif 000009
【図８】
2005190616.tif 000010
【図９】
2005190616.tif 000011
【図１０】
2005190616.tif 000012
【図１１】
2005190616.tif 000013
【図１２】
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