(57)【要約】【課題】  電気光学素子を構成する発光層と発光層間に形成される隔壁との段差を小さくし、対向電極と発光層との電気的接続を良好にした電気光学装置の製造方法及びそのような電気光学装置の製造方法にて製造された電気光学装置を具備してなる電子機器を提供する。【解決手段】  回路形成層Ｓｂ上の画素電極１０以外の領域に、撥液性で且つゲル状の第１インク滴Ｉ１を配置した。また、画素電極１０上に水溶性の分散液を配置した。そして、第１インク滴Ｉ１及び分散液が配置された状態で基板Ｓを乾燥させ、バンクＢ及び正孔注入層１１を形成した。続いて、バンクＢに、ゲル状の第１インク滴Ｉ１を配置し、また、正孔注入層１１上に、水溶性の有機物発光材料である液状の赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを配置した。そして、第１インク滴Ｉ１、及び、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢが配置された状態で基板Ｓを乾燥させた。【選択図】    図１６
2005293914.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置の製造方法において、
基板上の表示領域に液状若しくはゲル状のバンクを形成する工程と、
前記バンクにて区画形成された各画素形成領域内に、液状若しくはゲル状の電気光学層を構成する薄膜材料を配置する工程と、
前記液状若しくはゲル状のバンク、及び前記薄膜材料を乾燥させる工程と
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記バンクは、前記薄膜材料よりもその比重が大きく、且つ薄膜材料に対して撥液性であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記バンク及び前記薄膜材料を、同時に乾燥するようにしたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一つに記載の電気光学装置の製造方法において、
前記電気光学層は、発光層であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１つに記載の電気光学装置の製造方法を使用して製造された電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置の製造方法及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、軽量化・薄型化の観点から液晶素子やエレクトロルミネッセンス素子を備えた電気光学装置が注目されている。特に、エレクトロルミネッセンス素子の発光層が有機材料で構成された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた電気光学装置としての有機エレクトロルミネッセンス表示装置（以下、有機ＥＬディスプレイという）は、液晶素子を備えた表示装置と比べて広視野角・液晶装置に比べて高速応答化及び広視野角化が可能であるため、その開発が盛んに行われている。
【０００３】
この種の有機ＥＬディスプレイの製造方法には、インクジェット法がある。インクジェット法は、例えば、高分子系有機材料を所定の溶媒に溶解または分散した溶液を液状若しくはゲル状に形成し、基板に形成された画素電極上へ吐出し、その後、溶媒を取り除いて高分子系有機材料からなる発光層を画素電極上に定着させる方法である。
【０００４】
このインクジェット法においては、例えば、フルカラー表示可能なディスプレイを製造する場合、赤色用発光層を構成する高分子系有機材料が溶解または分散した赤色用の溶液、緑色用発光層を構成する高分子系有機材料が溶解または分散した緑色用の溶液、青色用発光層を構成する高分子系有機材料が溶解または分散した青色用の溶液を予め別々に形成する。そして、所定の画素電極上に順次各色用の溶液を吐出させるようにしている。
【０００５】
このとき、隣接する画素電極上に異なった色用の溶液が混じり合わないようにさせるために、予め基板上に隣接する画素電極間に隔壁を形成するようにしている（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開平１１−３４０１２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、前記各色用の溶液中には、その溶液を構成する溶媒に対して高分子系有機材料は数％しか含まれていない。そのため、ある程度の膜厚を有する発光層を形成するためには、その膜厚に対応する量の溶液を吐出する必要がある。従って、１回の吐出によって発光層を形成するには、前記溶液の量が多くなるので、その溶液の量に応じて前記隔壁の高さも高くなる。すると、乾燥処理後では、所望の膜厚の発光層が得られるが、隔壁の高さが高くなっている分だけ、発光層と隔壁との段差が大きくなる。
【０００７】
従って、例えば、画素電極に対向する対向電極を各発光層及び隔壁上に渡って覆う構造を成したディスプレイにおいては、発光層と隔壁との大きな段差によって対向電極の付きまわりが悪くなったり、断線が生じたりしてしまうので、歩留まりが悪化してしまう。そのため、ある程度の膜厚を有する発光層を形成する場合は、各溶液の画素電極上への吐出と乾燥処理とを複数回に分けて行うようにすることで隔壁の高さをできるだけ低くし、発光層と隔壁との段差を小さくするようにしていた。
【０００８】
しかし、上記した、各溶液の画素電極上への吐出と乾燥処理とを複数回に分けて行う方法は、その分だけ工程数が多くなり、またコスト高になってしまうという問題があった。
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、電気光学素子を構成する発光層と発光層間に形成される隔壁との段差を小さくし、対向電極と発光層との電気
的接続を良好にした電気光学装置の製造方法及びそのような電気光学装置の製造方法にて製造された電気光学装置を具備してなる電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の電気光学装置の製造方法は、基板上の表示領域に液状若しくはゲル状のバンクを形成する工程と、前記バンクにて区画形成された各画素形成領域内に、液状若しくはゲル状の電気光学層を構成する薄膜材料を配置する工程と、前記液状若しくはゲル状のバンク、及び前記薄膜材料を乾燥させる工程とを含む。
【００１０】
これによれば、バンクは液状若しくはゲル状であり、その使用後は乾燥させるようにした。従って、バンクの高さを高くすることができるので、隣接する画素形成領域に薄膜材料が入り込むことなく、一度に多量の薄膜材料を所定の画素形成領域に配置させることができる。また、バンクは固形成分を含まない溶媒にて構成してもよい。また、使用後は乾燥させて固化することでその高さが低くなるので、画素形成領域上の段差を小さくすることができるため、電気光学層上に形成される、たとえば、電極層を同電気光学層上に密着して形成することができる。また、バンクによる段差が低減できるため、電気光学層上に形成される、たとえば、電極層を比較的平坦な面に形成できるので、電極層の断線なども低減できる。
【００１１】
また、バンクを形成した後、連続して薄膜材料を配置するので、従来のようなフォトリソグラフィー処理を行う必要はない。従って、電気光学装置の製造時間を短くすることができる。
【００１２】
この製造方法において、前記バンクは、前記薄膜材料よりもその比重が大きく、且つ薄膜材料に対して撥液性であってもよい。また、乾燥後は絶縁性を有する材料で構成されていてもよい。
【００１３】
これによれば、バンクは、前記薄膜材料よりもその比重が大きいので、配置された薄膜材料がバンクの下に潜り込んで隣接する画素形成領域に侵入し隣接する画素形成領域の薄膜材料と混合ことはない。また、前記バンクは、薄膜材料に対して撥液性であるで、配置された薄膜材料とバンクとが混合することはない。
【００１４】
この製造方法において、前記バンク及び前記薄膜材料を、同時に乾燥するようにしてもよい。
これによれば、前記バンク及び前記薄膜材料を、同時に乾燥するようにしたので、電気光学装置の製造時間をより短くすることができる。
【００１５】
この電気光学装置の製造方法において、前記電気光学層は、発光層であってもよい。
これによれば、発光層を、たとえばインクジェット法によって形成する場合においては、一度に多量の薄膜材料を所定の画素形成領域に配置させることができるとともに、発光層上に形成される、たとえば、発光層を介して画素電極に対向する対向電極を同電気光学層上に密着して形成することができる。
【００１６】
本発明の電子機器は、上記記載の電気光学装置の製造方法を使用して製造された電気光学装置を備えている。
これによれば、電気光学装置の発光層上に形成される電極と発光層との電気的接続が良好であり、歩留まりが向上した電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の電気光学装置をフルカラー表示可能な有機ＥＬディスプレイに適用した
実施形態を図面に従って説明する。尚、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
（第１実施形態）
図１は、本発明の有機ＥＬディスプレイの上面図である。図１に示すように、有機ＥＬディスプレイ１は、ディスプレイ部ＤＳと、該ディスプレイ部ＤＳの下側（図１中反Ｙ矢印方向側）に接続されたフレキシブル回路基板ＦＣとから構成されている。図１に示すように、ディスプレイ部ＤＳは、その略中央に表示領域Ｒを、また、表示領域Ｒを囲む表示領域Ｒ以外の領域に非表示領域Ｑをそれぞれ備えている。
【００１８】
表示領域Ｒには、図１中Ｘ，Ｙ矢印方向にそれぞれ延設されたバンクＢが設けられ、そのバンクＢによって画素形成領域２が升目状に区画形成されている。各画素形成領域２は、１個の赤、緑または青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが形成される領域である。赤色用画素３Ｒからは赤色の光が、緑色用画素３Ｇからは緑色の光が、青色用画素３Ｂからは青色の光がそれぞれ出射される。
【００１９】
表示領域Ｒには、１行当りｍ個の赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂがそれぞれｎ行、また、１列当りｎ個の赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂがそれぞれｍ列形成されている。そして、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、それぞれ図１中Ｘ矢印方向（行方向）に沿って赤色用画素３Ｒ→緑色用画素３Ｇ→青色用画素３Ｂ→赤色用画素３Ｒ→…→青色用画素３Ｂの順に繰り返して配置されている。また、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは、それぞれ図１中Ｙ矢印方向（列方向）に沿って同色の画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが配置されている。
【００２０】
また、図１中Ｘ矢印方向に互いに並んだ赤色用画素３Ｒ、緑色用画素３Ｇ及び青色用画素３Ｂで１組の画素３を形成している。
非表示領域Ｑには、表示領域Ｒを挟むようにして一対の走査線駆動回路４が形成されている。各走査線駆動回路４は、図示しない走査線を介して１行の各色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ群毎に接続されている。そして、各走査線駆動回路４は、ｎ行ある各色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ群を１行毎に順次選択する走査信号を出力するための回路である。
【００２１】
また、非表示領域Ｑ上であって、表示領域Ｒの上側（図１中Ｙ矢印方向側）には検査回路５が形成されている。検査回路５は、各赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと図示しない信号線を介して接続されている。そして、検査回路５は、有機ＥＬディスプレイ１を出荷される前に駆動され、各赤、緑または青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが正常に駆動するか否かを検査するための回路である。
【００２２】
一方、フレキシブル回路基板ＦＣ上にはデータ線駆動回路６と制御回路７とが形成されている。データ線駆動回路６は、図示しないデータ線を介して１列の各色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ毎に接続されている。そして、データ線駆動回路６は、前記走査線駆動回路４によって選択された各色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂに対応するデータ信号を出力するための回路である。このデータ信号は輝度情報がプログラムされた信号であって、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂの発光輝度を決定する。
【００２３】
制御回路７は、各走査線駆動回路４及びデータ線駆動回路６に図示しない制御線を介して接続され、各駆動回路４，６の駆動を制御するための各種制御信号を生成し、その生成した制御信号を各駆動回路４，６にそれぞれ出力するための回路である。
【００２４】
そして、前記制御回路７から出力される各種制御信号によって走査線駆動回路４が前記走査信号を出力するとともに、前記走査信号のタイミングでデータ線駆動回路６からデータ信号が出力される。このような構成により、赤、緑及び青色用画素３Ｒ，３Ｇ，３Ｂは
、出力されたデータ信号に応じた輝度で各色の光を出射し、その結果、表示領域Ｒ上に所望の画像が表示される。
【００２５】
図２は、ディスプレイ部ＤＳの図１中ａ−ａ線での断面図である。ディスプレイ部ＤＳは、光透過性を有するガラスや高分子フィルムで構成された基板Ｓを備えている。基板Ｓ上には、回路形成層Ｓｂが形成されている。回路形成層Ｓｂには、前記データ線駆動回路６（図１参照）からのデータ信号に応じた駆動電流を制御する薄膜トランジスタＴＦＴといった各種回路素子が形成されている。また、回路形成層Ｓｂには、前記走査線駆動回路４または検査回路５を構成する回路素子の一部または全部が形成されている。
【００２６】
回路形成層Ｓｂ上の略中央には前記表示領域Ｒが形成されている。表示領域Ｒ内の回路形成層Ｓｂ上には、それぞれが略矩形状を成した複数個（本実施形態では、３ｍ×３ｎ個）の画素電極１０が配置されている。
【００２７】
画素電極１０は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファスといった透明導電材料で構成されている。各画素電極１０は、コンタクトホールＨを介して対応する薄膜トランジスタＴＦＴのドレインまたはソースに電気的に接続されている。そして、画素電極１０には、薄膜トランジスタＴＦＴから供給される前記駆動電流の電流密度に応じたキャリアが供給される。
【００２８】
また、前記表示領域Ｒ内の回路形成層Ｓｂ上には、図２中Ｚ矢印方向にその断面形状が略台形状である前記バンクＢが配置されている。
バンクＢは、非極性溶媒すなわち親油性溶媒、または極性溶媒すなわち水溶性溶媒で構成されている。非極性溶媒すなわち親油性溶媒としては、たとえば、イソプロピルビフェニールが挙げられる。また、極性溶媒すなわち水溶性溶媒としては、たとえば、エチレングリコール、ジエチレングリコールが挙げられる。また、バンクＢは、これらの溶媒に対して溶解性を示す材料を溶解させてもよい。この材料としては、乾燥後は絶縁性を有する材料で構成されていてもよい。このような材料を混合させることにより、バンクＢの粘性を調整することができ、基板Ｓの上層の所定の位置に、バンクＢを留まらせることができると共に、後述の電気光学材料としての有機物電荷注入材料や有機物発光材料と交じり合わなくすることができる。
【００２９】
本実施形態のバンクＢは、非極性溶媒すなわち親油性溶媒であるイソプロピルビフェニールで構成されている。そして、バンクＢは、各画素電極１０の周囲を囲むようにして配置されており、このバンクＢによって、複数個（本実施形態では、３ｍ×３ｎ個）の画素形成領域２が区画形成される。
【００３０】
画素形成領域２内の各画素電極１０上には、正孔注入層１１が形成されている。前記バンクＢが、非極性溶媒すなわち親油性溶媒で構成されている場合、正孔注入層１１の形成材料（有機物電荷注入材料）としては、極性溶媒すなわち水溶性溶媒で構成されるようにしてもよい。また、前記バンクＢが、極性溶媒すなわち水溶性溶媒で構成されている場合、正孔注入層１１の形成材料（有機物電荷注入材料）としては、非極性溶媒すなわち親油性溶媒で構成するようにしていもよい。
【００３１】
正孔注入層１１の形成材料（有機物電荷注入材料）としては、特に３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、即ち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。したがって、正孔注入層１１の形成材料（有機物電荷注入材料）は、水溶性溶媒（極性溶媒）である。本実施形態のように、正孔注入層１１が水溶性溶媒（極性溶媒）である場合には、前記バンク
Ｂは、非極性溶媒すなわち親油性溶媒であるイソプロピルビフェニールを用いる。
【００３２】
正孔注入層１１上には、それぞれ、赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂが配置されている。各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、それぞれ、蛍光あるいは燐光を出射することが可能な有機物発光材料からなる。
【００３３】
各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの形成材料（有機物発光材料）としては、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。これらの材料は一般的に、親油性溶媒（芳香族、やベンゼン系の溶媒、すなわち、非極性溶媒）に可溶である。したがって、発光層を形成する場合は、バンクＢは極性溶媒すなわち水溶性溶媒としては、たとえば、エチレングリコール、ジエチレングリコールを用いる。
【００３４】
そして、前記バンクＢを構成する材料が非極性溶媒すなわち親油性溶媒で構成されている場合、各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの形成材料（有機物発光材料）としては、極性溶媒すなわち水溶性溶媒で構成されるようにしてもよい。また、前記バンクＢが、極性溶媒すなわち水溶性溶媒で構成されている場合、各色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの形成材料（有機物発光材料）としては、非極性溶媒すなわち親油性溶媒で構成するようにしていもよい。
【００３５】
また、バンクＢを構成する材料と、赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂを構成する有機物発光材料とは、その比重が異なっていることが好ましい。本実施形態においては、バンクＢを構成する有機物絶縁材料は、その比重が、赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの形成材料（有機物発光材料）の比重より大きい材料である。本実施形態においては、前記バンクＢが非極性溶媒すなわち親油性溶媒であるイソプロピルビフェニールで構成されている。従って、赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂは、水溶性の有機物電荷注入材料であって、且つイソプロピルビフェニールより比重が大きなＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ）ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）で構成されていることが好ましい。
【００３６】
そして、赤色用発光層１２Ｒは赤色の光を、緑色用発光層１２Ｇは緑色の光を、青色用発光層１２Ｂは青色の光をそれぞれ対応する画素電極１０から注入されたキャリア密度に応じた輝度で出射する。出射された各色の光は、前記回路形成層Ｓｂ及び基板Ｓを介して外部へ出射される。
【００３７】
そして、図２に示すように、各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ、正孔注入層１１及び画素電極１０の膜厚の総和は、バンクＢの膜厚（高さ）と一致しており、各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂと、バンクＢとは段差が無く平坦になっている。
【００３８】
また、赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂを介して画素電極１０と対向する位置には、画素電極１０の対向電極としての陰極１４が形成されている。陰極１４は、各発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ及びバンクＢ上を覆うようにして非表示領域Ｑの回路形成層Ｓｂ上に至るまで形成されている。
【００３９】
陰極１４は、１層からなる金属層であっても２層あるいは３層からなる金属層であってもよい。具体的には、陰極１４は、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）などの単体材料や、マグネシウム（Ｍｇ）−アルミニウム（Ａｌ）（Ｍｇ：Ａｌ＝１０：１）合金で構成されている。また、酸化リチウムＬｉ２Ｏ／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）／アルミニウム（Ａｌ）、フッ化マグネシウム（Ｍｇ）／アルミニウム（Ａｌ）といった積層膜が好適である。
【００４０】
そして、図２に示すように、バンクＢと、赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｇとの段差は無く平坦である。これにより、バンクＢによる段差が低減できるため、赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ、１２Ｂ上に形成される陰極１４を比較的平坦な面である。そして、陰極１４は、バンクＢ及び赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｇに密着して接続されている。
【００４１】
このようにして、画素電極１０、陰極１４、前記画素電極１０及び陰極１４の間に形成された赤色用発光層１２Ｒで赤色用画素３Ｒが構成されている。また、画素電極１０、陰極１４、前記画素電極１０及び陰極１４の間に形成された緑色用発光層１２Ｇで緑色用画素３Ｇが構成されている。同様に、画素電極１０、陰極１４、前記画素電極１０及び陰極１４の間に形成された青色用発光層１２Ｂで青色用画素３Ｇが構成されている。
【００４２】
また、前記回路形成層Ｓｂの外周縁部には陰極１４全面を覆うように、乾燥した空間Ｆｏを介して、エポキシ樹脂よりなる封止部材ＦＢが接着されている。
次に、前記に示した構成を有する有機ＥＬディスプレイ１の製造方法の一例について図３〜図１４に従って説明する。図３〜図１４は、それぞれ有機ＥＬディスプレイ１の製造方法を説明するための図である。
【００４３】
図３（ａ）は、各画素形成領域２に画素電極１０が形成された基板Ｓ（回路素子形成層Ｓｂ）の上面図であり、図３（ｂ）は図３（ａ）中ｂ−ｂ線での断面図である。
まず、図３（ｂ）に示すように、前記基板Ｓ上に、公知の方法を用いて薄膜トランジスタＴＦＴ等といった各種回路素子を形成し、続いて、その各種回路素子上にさらに光透過性を有する、たとえば二酸化珪素（ＳｉＯ２）からなる層間絶縁膜１５を成膜する。その後、先に形成した薄膜トランジスタＴＦＴのソースまたはドレインに至るまで開口するコンタクトホールＨを形成して、回路形成層Ｓｂを形成する。
【００４４】
続いて、図３（ａ），（ｂ）に示すように、層間絶縁膜１５上の表示領域Ｒ内であって、先に形成されたコンタクトホールＨ、及び、その下側（反Ｚ矢印方向側）に薄膜トランジスタＴＦＴが形成されていない領域（図２参照）に略矩形状の画素電極１０を形成する。この画素電極１０が形成された領域が前記画素形成領域２となる。
【００４５】
各画素電極１０は、前記したインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファスといった透明導電材料を、例えば化学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いてパターニングして形成する。このとき、画素電極１０の一部がコンタクトホールＨ内に埋め込まれるようにして形成することで、画素電極１０を薄膜トランジスタＴＦＴのソースまたはドレインと電気的に接続させる。このようにして、回路形成層Ｓｂ上の表示領域Ｒ内に形成された各画素形成領域２に、複数個（本実施形態では、３ｍ×３ｎ個）の画素電極１０が配置された基板Ｓ（回路素子形成層Ｓｂ）が形成される。
【００４６】
次に、図４に示すように、画素電極１０が形成された回路形成層Ｓｂ上の表示領域Ｒ内であって、画素電極１０が形成されていない、図４中左上隅の位置（ホームポジション）に第１のインクジェットヘッド１６ａを配置する。
【００４７】
第１のインクジェットヘッド１６ａは、図４中Ｘ矢印方向に沿って延設された第１ガイドレールＧ１に導かれて、表示領域Ｒ内を図４中Ｘ矢印方向に移動しながら、非極性溶媒すなわち親油性溶媒であるイソプロピルビフェニールで構成されているゲル状の第１インク滴Ｉ１を、そのノズル１７（図５（ｂ）参照）から吐出するインクジェットヘッドである。イソプロピルビフェニールは、水溶性の有機物発光材料に対して撥液性であり、且つ乾燥すると電気的絶縁性を有する材料である。
【００４８】
また、第１のインクジェットヘッド１６ａは、図４中Ｘ矢印方向に移動して画素電極１０上に至ったときは、そのノズル１７からは第１インク滴Ｉ１を吐出せずに画素電極１０上をそのまま通り過ぎて移動するように予め設定されている。さらに、第１のインクジェットヘッド１６ａは、図４中Ｘ矢印方向に移動しながら一列分の第１インク滴Ｉ１を吐出し終えた後、図４中右隅の表示領域Ｒ内の同画素電極１０が形成されていない位置に至ると、再度、左隅の表示領域Ｒ内の同画素電極１０が形成されていない位置に戻る。そして、第１のインクジェットヘッド１６ａは、図示しないガイド部材に導かれて反Ｙ矢印方向に所定量移動した後、再び、図４中Ｘ矢印方向に沿って延設された第１ガイドレールＧ１に導かれて移動しながら前記第１インク滴Ｉ１を吐出するように予め設定されている。
【００４９】
そして、第１のインクジェットヘッド１６ａを前記ホームポジションから第１ガイドレールＧ１に沿って移動させながら第１インク滴Ｉ１を吐出する。そして、一列分の第１インク滴Ｉ１を吐出し終えると、一旦ホームポジションに戻り、図示しないガイド部材に導かれて反Ｙ矢印方向に所定量移動する。そして、再び、第１ガイドレールＧ１に導かれて移動しながら前記第１インク滴Ｉ１を吐出する。
【００５０】
また、第１のインクジェットヘッド１６ａから吐出される第１インク滴Ｉ１の量は、その回路形成層Ｓｂ上に配置されたときの第１インク滴Ｉ１の高さが、画素電極１０の膜厚に比べて十分に高くなるような量となるように設定されている。
【００５１】
図５（ａ）は、回路形成層Ｓｂ上の一部に第１インク滴Ｉ１が配置された場合の基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）の上面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）中のｃ−ｃ線での断面図である。
【００５２】
図５（ａ），（ｂ）に示すように、回路形成層Ｓｂ上の表示領域Ｒ内であって画素電極１０以外の領域に、第１インク滴Ｉ１が配置される。尚、図５（ａ）に示すように、インク滴Ｉ１が配置された領域を点ハッチングによって表わしている。
【００５３】
また、図５（ｂ）に示すように、回路形成層Ｓｂ上に配置されたゲル状の第１インク滴Ｉ１は、回路形成層Ｓｂ上全面に濡れ広がらず局在し、且つ画素電極１０の周囲を囲むように配置される。このとき、回路形成層Ｓｂ上に配置された第１インク滴Ｉ１の高さｈが、画素電極１０の膜厚Ｔｏに比べて十分に高くなっている。
【００５４】
その後、順次、第１のインクジェットヘッド１６ａがＸ矢印方向に移動しながら第１インク滴Ｉ１を回路形成層Ｓｂ上に吐出する。
図６（ａ）は、回路形成層Ｓｂ上に二列分の第１インク滴Ｉ１が配置された場合の基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）の上面図であり、図６（ｂ）は図６（ａ）中のｄ−ｄ線での断面図である。図６（ａ），（ｂ）に示すように、各一列分の第１インク滴Ｉ１を吐出し終えると、第１のインクジェットヘッド１６ａは、前記と同様にして、一旦左隅に移動し、その後、図示しないガイド部材に導かれてさらに反Ｙ矢印方向に所定量移動する。続いて、再び、第１ガイドレールＧ１に導かれて移動しながら前記第１インク滴Ｉ１を順次吐出する。
【００５５】
以降、前記と同様にして第１のインクジェットヘッド１６ａのノズル１７から第１インク滴Ｉ１を吐出すると、図７に示すように、回路形成層Ｓｂ上の表示領域Ｒ内であって画素電極１０以外の領域に第１インク滴Ｉ１が配置される。前記したように、第１インク滴Ｉ１はその高さｈが、画素電極１０の膜厚Ｔｏに比べて十分に高いので、各第１インク滴Ｉ１が各画素電極１０を囲むようにして配置される。この結果、第１インク滴Ｉ１によって画素電極１０が形成された前記画素形成領域２が区画形成される。
【００５６】
次に、図８（ａ）に示すように、回路形成層Ｓｂ上に配置された第１インク滴Ｉ１が未だゲル状の状態において、図８（ａ）中左端側に区画形成された画素形成領域２の画素電極１０の上側（図８（ｂ）中Ｚ矢印方向側）に注入層形成用インクジェットヘッド１１Ｈを配置する。
【００５７】
注入層形成用インクジェットヘッド１１Ｈは、図８（ａ）中Ｘ矢印方向に沿って延設されたガイドレールＦに導かれて、表示領域Ｒ内をＸ矢印方向に移動しながら、３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、即ち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液Ｉｓを、そのノズル１１ａから画素電極１０上へ吐出するインクジェットヘッドである。また、注入層形成用インクジェットヘッド１１Ｈは、表示領域Ｒ内の画素電極１０以外の領域上に至ったときは前記分散液Ｉｓを吐出しないように予め設定されている。
【００５８】
そして、注入層形成用インクジェットヘッド１１Ｈは、図８（ａ）中左端側に形成された画素電極１０上へ分散液Ｉｓを吐出した後、右隣に隣接する画素電極１０上へ順次分散液Ｉｓを吐出してく。
【００５９】
図８（ｂ）は、図８（ａ）中のｅ−ｅ線での断面図である。図８（ｂ）に示すように、注入層形成用インクジェットヘッド１１Ｈは、左端側に形成された画素電極１０上に分散液Ｉｓを吐出する。このとき、分散液Ｉｓが吐出された画素電極１０は、その周囲が同画素電極１０の膜厚Ｔｏに比べて高く配置された第１インク滴Ｉ１によって囲まれている。また、分散液Ｉｓは、極性溶媒すなわち水溶性溶媒で構成され、第１インク滴Ｉ１は、非極性溶媒すなわち親油性溶媒であるイソプロピルビフェニールで構成されている。これより、吐出された分散液Ｉｓは、第１インク滴Ｉ１とは混じり合わない。
【００６０】
従って、画素電極１０上に配置された液状の分散液Ｉｓは、第１インク滴Ｉ１によって堰き止められ同画素電極１０以外の領域に濡れ広がることはない。このようにして、第１インク滴Ｉ１は分散液Ｉｓに対して隔壁（バンク）として機能することになる。
【００６１】
図９（ａ）は、一列分の各画素電極１０上に分散液Ｉｓを配置しているときの説明図であり、図９（ｂ）は、図９（ａ）中のｆ−ｆ線での断面図である。，
図９（ａ），（ｂ）に示すように、隣接した画素電極１０上へ分散液Ｉｓを順次吐出して、一列分の各画素電極１０上に分散液Ｉｓを吐出し終えると、注入層形成用インクジェットヘッド１１Ｈは、一旦左隅に移動する。そして、図示しないガイド部材に導かれてさらに反Ｙ矢印方向に所定量移動する。続いて、再び、ガイドレールＦに導かれて移動しながら前記分散液Ｉｓを順次吐出する。
【００６２】
以降、前記と同様にして注入層形成用インクジェットヘッド１１Ｈが分散液Ｉｓを吐出すると、図１０に示すように、全ての画素電極１０上に分散液Ｉｓが順次配置される。
次に、表示領域Ｒ内の画素電極１０以外の領域にゲル状の第１インク滴Ｉ１が、また、画素電極１０上に液状の分散液Ｉｓが、それぞれ配置された状態で、その基板Ｓを乾燥させる。
【００６３】
図１１は、基板Ｓを乾燥した後の状態を説明するための図である。図１１に示すように、第１インク滴Ｉ１からその溶媒が取り除かれることで、表示領域Ｒ内の画素電極１０以外の領域にイソプロピルビフェニールが定着しその断面が台形状を成す固形形態のバンクＢが形成される。また、分散液Ｉｓからその溶媒が取り除かれることで、全ての画素電極１０上に正孔注入層１１が形成され、定着する。
【００６４】
次に、先に形成したバンクＢ上に、前記と同様にして、液状の第１インク滴Ｉ１を配置する。即ち、図１２（ａ），（ｂ）に示すように、前記第１のインクジェットヘッド１６ａを使用して、同インクジェットヘッド１６ａを図１２中Ｘ矢印方向に移動させながら、正孔注入層１１以外の表示領域Ｒ上の領域に第１インク滴Ｉ１を配置する。図１２（ａ）は、回路形成層Ｓｂ上の一部に第１インク滴Ｉ１が配置された場合の基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）の上面図であり、図１２（ｂ）は図１２（ａ）中のｇ−ｇ線での断面図である。
【００６５】
図１２（ｂ）に示すように、回路形成層Ｓｂ上に配置されたゲル状の第１インク滴Ｉ１は、前記と同様に、回路形成層Ｓｂ上全面に濡れ広がらず局在し、且つ正孔注入層１１の周囲を囲むように配置される。尚、図１２（ａ）において、インク滴Ｉ１が配置された領域を点ハッチングによって表わしている。
【００６６】
次に、図１３（ａ），（ｂ）に示すように、バンクＢ上に配置された第１インク滴Ｉ１が未だゲル状の状態において、その第１インク滴Ｉ１によって区画形成された表示領域Ｒ内の正孔注入層１１うち、図１３（ａ）中左端側に形成された正孔注入層１１の上側（図１３中Ｚ矢印方向側）に赤色用インクジェットヘッド１６Ｒを配置する。
【００６７】
赤色用インクジェットヘッド１６Ｒは、図１３（ａ）中Ｘ矢印方向に沿って延設された第２ガイドレールＧ２に導かれて、表示領域Ｒ内をＸ矢印方向に移動しながら、本実施形態においては、赤色の光を発する水溶性の有機物発光材料であるＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ）ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）を所定の溶媒に溶解または分散させた液状の赤色用インク滴ＩＲをそのノズル１７Ｒから正孔注入層１１上へ吐出するインクジェットヘッドである。また、赤色用インクジェットヘッド１６Ｒは、表示領域Ｒ内の正孔注入層１１以外の領域上に至ったときは赤色用インク滴ＩＲを吐出しないように予め設定されている。
【００６８】
そして、赤色用インクジェットヘッド１６Ｒは、図１３（ａ）中左端側に形成された正孔注入層１１上へ赤色用インク滴ＩＲを吐出した後、隣接する２つの正孔注入層１１を通り越して、左端側に形成された正孔注入層１１から数えて４つ目の正孔注入層１１上へ赤色用インク滴ＩＲを再度吐出する。その後、赤色用インクジェットヘッド１６Ｒは、その赤色用インク滴ＩＲを吐出した正孔注入層１１から数えて４つ目の正孔注入層１１上へ赤色用インク滴ＩＲを再度吐出する。つまり、赤色用インクジェットヘッド１６Ｒは、図１３（ａ）中左端側に形成された正孔注入層１１から数えて３正孔注入層毎にその正孔注入層１１上へ赤色用インク滴ＩＲを吐出する。
【００６９】
図１３（ｂ）は、図１３（ａ）中のｈ−ｈ線での断面図である。図１３（ｂ）に示すように、赤色用インクジェットヘッド１６Ｒは、左端側に形成された正孔注入層１１上に赤色用インク滴ＩＲを吐出する。このとき、赤色用インク滴ＩＲが吐出された正孔注入層１１は、その周囲が同正孔注入層１１の膜厚に比べて十分高く配置された第１インク滴Ｉ１によって囲まれている。また、赤色用インク滴ＩＲは、極性溶媒すなわち水溶性溶媒で構成された液状のインク滴である。従って、イソプロピルビフェニールで構成されたゲル状の第１インク滴Ｉ１とは混じり合わない。
【００７０】
また、第１インク滴Ｉ１を構成するイソプロピルビフェニールは、その比重が赤色用インク滴ＩＲを構成するＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ）ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）に比べて大きい。これにより、赤色用インク滴ＩＲが、第１インク滴Ｉ１と先に形成されたバンクＢとの境界に染み込み、第１インク滴Ｉ１を同赤色用インク滴ＩＲ上に浮き上がらせることはない。
【００７１】
従って、正孔注入層１１上に配置された液状の赤色用インク滴ＩＲは、第１インク滴Ｉ１によって堰き止められ同正孔注入層１１以外の領域に濡れ広がることはない。このようにして、第１インク滴Ｉ１は赤色用インク滴ＩＲに対して隔壁（バンク）として機能することになる。
【００７２】
その後、前記したように、図１３（ａ）中左端側に形成された画素電極１０から数えて３画素電極毎にその画素電極１０上へ赤色用インク滴ＩＲを順次吐出して、図１４（ａ），（ｂ）に示すように、一列分の所定の正孔注入層１１上に赤色用インク滴ＩＲを吐出し終えると、赤色用インクジェットヘッド１６Ｒは、一旦左隅に移動する。尚、図１４（ｂ）は、図１４（ａ）中のｉ−ｉ線での断面図である。
【００７３】
そして、図示しないガイド部材に導かれてさらに反Ｙ矢印方向に所定量移動する。続いて、再び、第２ガイドレールＧ２に導かれて移動しながら前記赤色用インク滴ＩＲを順次吐出する。
【００７４】
以降、前記と同様にして赤色用インクジェットヘッド１６Ｒが赤色用インク滴ＩＲを吐出すると、図１５に示すように、左端側に形成された正孔注入層１１から数えて３画素電極毎の正孔注入層１１上に赤色用インク滴ＩＲが順次配置され、その結果、赤色用インク滴ＩＲが基板Ｓ（回路形成層Ｓｂ）上にストライプ状に配置される。
【００７５】
その後、前記と同様にして、図１６（ａ）に示すように、緑色の光を出射する水溶性の有機物発光材料を所定の溶媒に溶解または分散させた液状の緑色用インク滴ＩＧを、左端側に形成された正孔注入層１１の１つ右隣にある正孔注入層１１、及び、その正孔注入層１１から数えて３正孔注入層毎の正孔注入層１１上に順次吐出する。
【００７６】
また、同様にして、青色の光を出射する水溶性の有機物発光材料を所定の溶媒に溶解または分散させた液状の青色用インク滴ＩＢを、左端側に形成された正孔注入層１１の２つ右隣にある正孔注入層１１、及び、その正孔注入層１１から数えて３正孔注入層毎の正孔注入層１１上に順次吐出する。
【００７７】
図１６（ｂ）は、図１６（ａ）中のｊ−ｊ線での断面図である。図１６（ｂ）に示すように、各緑及び青色用インク滴ＩＧ，ＩＢが配置された正孔注入層１１は、その周囲が同正孔注入層１１の膜厚に比べて高くなるようにして配置された第１インク滴Ｉ１によって囲まれている。また、緑及び青色用インク滴ＩＧ，ＩＢは、前記赤色用インク滴ＩＲと同様に、水溶性の有機物発光材料である液状のインク滴であって、イソプロピルビフェニールで構成されたゲル状の第１インク滴Ｉ１と混じり合わない。
【００７８】
さらに、第１インク滴Ｉ１を構成するイソプロピルビフェニールは、その比重が緑及び青色用インク滴ＩＧ，ＩＢを構成するＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ）ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）に比べて大きい。これにより、緑及び青色用インク滴ＩＧ，ＩＢが、第１インク滴Ｉ１と回路形成層Ｓｂとの境界に染み込み、第１インク滴Ｉ１を同緑及び青色用インク滴ＩＧ，ＩＢ上に浮き上がらせることはない。
【００７９】
従って、正孔注入層１１上に配置された液状の緑及び青色用インク滴ＩＧ，ＩＢは、前
記赤色用インク滴ＩＲと同様に、第１インク滴Ｉ１によって堰き止められ同正孔注入層１１以外の領域に濡れ広がることはない。このようにして、第１インク滴Ｉ１は、緑及び青色用インク滴ＩＧ，ＩＢに対しても隔壁（バンク）として機能することになる。
【００８０】
次に、表示領域Ｒ内の画素電極１０以外の領域にゲル状の第１インク滴Ｉ１が、画素電極１０上に液状の赤、緑または青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢが配置された状態で、再度、その基板Ｓを乾燥させる。
【００８１】
図１７は、基板Ｓを乾燥した後の状態を説明するための図である。図１７に示すように、第１インク滴Ｉ１、赤、緑または青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢのそれぞれから各溶媒が取り除かれる。そして、第１インク滴Ｉ１からその溶媒が取り除かれることで、表示領域Ｒ内の画素電極１０以外の領域にイソプロピルビフェニールが定着しバンクＢが形成される。また、赤色用インク滴ＩＲからその溶媒が取り除かれることで、所定の画素電極１０上に赤色の光を出射するＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ）ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）からなる赤色用発光層１２Ｒが定着する。同様に、緑色用インク滴ＩＧからその溶媒が取り除かれることで、所定の画素電極１０上に緑色の光を出射するＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ）ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）からなる緑色用発光層１２Ｇが定着する。さらに、同様に、青色用インク滴ＩＢからその溶媒が取り除かれることで、所定の画素電極１０上に青色の光を出射するＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ）ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）からなる青色用発光層１２Ｇが定着する。
【００８２】
また、第１インク滴Ｉ１、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢから各溶媒を取り除くことで、その各インク滴Ｉ１，ＩＲ，ＩＧ，ＩＢの体積が小さくなるので、それに伴って、第１インク滴Ｉ１を乾燥して得られるバンクＢの膜厚（高さ）は、インク滴Ｉ１の高さｈに比べて低くなる。
【００８３】
このとき、バンクＢの膜厚（高さ）が、各赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの膜厚と正孔注入層１１の膜厚との和に等しくなるように、第１インク滴Ｉ１に含まれるイソプロピルビフェニールの量を予め設定した。これにより、バンクＢの膜厚（高さ）と、各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂと正孔注入層１１との膜厚の総和とが、一致する。従って、各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂと、バンクＢとの段差を無くし平坦にすることが可能となる。
【００８４】
このように、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを正孔注入層１１上に配置させる際は、第１インク滴Ｉ１はゲル状であるので、その高さｈは高くなるが、基板Ｓを乾燥させると、各溶媒が取り除かれるので赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢは高さｈが低くなり、固化してバンクＢとなる。このことから、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを吐出する際は、第１インク滴Ｉ１は隔壁（バンク）として機能し、一度に多量の赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを所定の画素形成領域２の正孔注入層１１上に配置させることが可能である。
【００８５】
また、第１インク滴Ｉ１と赤、緑または青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢとを、同時に乾燥させることで、バンクＢと各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂとを同時に形成する。この結果、バンクＢと各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂとを別々に乾燥させて製造するようにした場合に比べてその製造時間がより短くなる。
【００８６】
その後、陰極１４として、２ｎｍのＬｉＦ層、２０ｎｍのＣａ層及び２００ｎｍのＡｌ層を、例えば真空加熱蒸着で積層形成する。このとき、バンクＢと各赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂとは平坦であるので、陰極１４の付きまわりが悪くなったり、断線が生じたりせず、陰極１４と、各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２
Ｂとが密着して接続される。従って、陰極１４と、各赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂとの電気的接続は良好となる。
【００８７】
その後、乾燥した空間Ｆｏを介して、最後にエポキシ樹脂で構成された封止部材ＦＢにより封止を行う。これにより、ディスプレイ部ＤＳが作製される。最後に、別途作製されたデータ線駆動回路６及び制御回路７を備えたフレキシブル回路基板ＦＣをディスプレイ部ＤＳに接続して、有機ＥＬディスプレイ１を製造する。
【００８８】
こうして、陰極１４と各赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂとの電気的接続が良好な有機ＥＬディスプレイ１を製造することができた。
上記したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、回路形成層Ｓｂ上の表示領域Ｒ内であって画素電極１０以外の領域に、非極性溶媒すなわち親油性溶媒であるイソプロピルビフェニールで構成されたゲル状の第１インク滴Ｉ１を配置した。また、画素電極１０上に、水溶性の有機物発光材料である３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、即ち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液Ｉｓを配置した。従って、第１インク滴Ｉ１と、分散液Ｉｓとは、混じり合うことはないので、第１インク滴Ｉ１を隔壁（バンク）として使用して、分散液Ｉｓを配置された画素電極１０上に局在させることができる。
【００８９】
そして、その第１インク滴Ｉ１及び分散液Ｉｓを同時に乾燥させることで、各画素電極１０上に正孔注入層１１を形成することができる。
（２）本実施形態によれば、回路形成層Ｓｂ上の表示領域Ｒ内であって正孔注入層１１以外の領域に、非極性溶媒すなわち親油性溶媒であるイソプロピルビフェニールで構成されたゲル状の第１インク滴Ｉ１を配置した。また、正孔注入層１１上に、水溶性の有機物発光材料であるＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ）ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）で構成された液状の赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを配置した。従って、第１インク滴Ｉ１と、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢとは、混じり合うことはないので、第１インク滴Ｉ１を隔壁（バンク）として使用して、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを配置された画素電極１０上に局在させることができる。
【００９０】
また、従来のように、リソグラフィー処理を行うことで固形の隔壁（バンク）を形成する必要はなく、隔壁（バンク）としての第１インク滴Ｉ１の配置に連続して赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを配置することができるので、有機ＥＬディスプレイの製造時間を短くすることができる。
（３）本実施形態によれば、第１インク滴Ｉ１、及び、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢが配置された状態で乾燥させることで、第１インク滴Ｉ１をその高さが低いバンクＢにさせて、赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｇとの段差が無く平坦にさせることができる。これにより、バンクＢによる段差が低減できるため、赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ、１２Ｂ上に形成される陰極１４を比較的平坦な面に形成できる。この結果、陰極１４をバンクＢ及び赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｇに密着させることができるので、陰極１４と各赤、緑または青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂとの電気的接続を良好にさせることができる。
（４）本実施形態によれば、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを吐出する際は、第１インク滴Ｉ１の高さは高く、基板Ｓを乾燥させて赤、緑及び青色用発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ上に陰極１４を形成する際は、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢの高さが低くなりバンクＢとして使用される。従って、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを吐出する際は、バンクの高さが高いので、隣接する画素形成領域２内の画素電極１０上に赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢが入り込むことなく、一度に
多量の赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを所定の画素形成領域２の画素電極１０上に配置させることができる。
（５）本実施形態によれば、第１インク滴Ｉ１を、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢの比重より大きな比重の材料で構成した。従って、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢが、第１インク滴Ｉ１と先に形成されたバンクＢとの境界に染み込み、第１インク滴Ｉ１を各赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ上に浮き上がらせることはない。この結果、画素電極１０上に配置された液状の赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを、第１インク滴Ｉ１によって確実に堰き止めることができる。
（第２実施形態）
次に、第１実施形態で説明した電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ１の電子機器の適用について図１８に従って説明する。
【００９１】
図１８は、電子機器の一例たる携帯電話の表示部に適用した例を示す携帯電話の斜視構成図である。図１８において、この携帯電話６０は、有機ＥＬディスプレイ１を用いた表示ユニット６４と、複数の操作ボタン６１とを備えている。この場合でも、有機ＥＬディスプレイ１を用いた表示ユニット６４は、その陰極と発光層との電気的接続が良好である。従って、携帯電話６０の歩留まりを向上させることができる。
【００９２】
尚、特許請求の範囲に記載の電気光学装置は、本実施形態においては、有機ＥＬディスプレイ１に対応している。また、特許請求の範囲に記載のバンクは、本実施形態においては、第１インク滴Ｉ１に対応している。さらに、特許請求の範囲に記載の電気光学層または発光層は、本実施形態においては、赤色用発光層１２Ｒ、緑色用発光層１２Ｇ、または青色用発光層１２Ｂに対応している。さらにまた、特許請求の範囲に記載の薄膜材料は、本実施形態においては、赤、緑または青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢに対応している。
【００９３】
尚、発明の実施形態は、上記実施形態に限定されるものではなく、以下のように実施してもよい。
○上記各実施形態では、第１インク滴Ｉ１を撥液性有機物絶縁材料で構成し、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを水溶性の有機物発光材料で構成した。そうではなく、第１インク滴Ｉ１を水溶性有機物絶縁材料で構成し、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを撥液性の有機物発光材料で構成してもよい。要は、第１インク滴Ｉ１を構成する材料と、赤、緑及び青色用インク滴ＩＲ，ＩＧ，ＩＢを構成する材料とが混じり合わないようにすればよい。
【００９４】
○上記各実施形態では、電気光学装置を有機ＥＬディスプレイ１に適応したが、これ限定されるものではなく、インクジェット方式を用いて製造されるディスプレイであればどのようなものに適応してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイの上面図である。
【図２】ディスプレイ部の図１中ａ−ａ線での断面図である。
【図３】有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図であって、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は、図３（ａ）中のｂ−ｂ線での断面図である。
【図４】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図である。
【図５】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図であって、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は、図５（ａ）中のｃ−ｃ線での断面図である。
【図６】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図であって、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は、図６（ａ）中のｄ−ｄ線での断面図である。
【図７】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図である。
【図８】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図であって、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は、図８（ａ）中のｅ−ｅ線での断面図である。
【図９】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図であって、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は、図９（ａ）中のｆ−ｆ線での断面図である。
【図１０】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図である。
【図１１】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図である。
【図１２】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図であって、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は、図１２（ａ）中のｇ−ｇ線での断面図である。
【図１３】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図であって、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は、図１３（ａ）中のｈ−ｈ線での断面図である。
【図１４】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図であって、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は、図１４（ａ）中のｉ−ｉ線での断面図である。
【図１５】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図である。
【図１６】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図であって、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は、図１６（ａ）中のｊ−ｊ線での断面図である。
【図１７】同じく、有機ＥＬディスプレイの製造方法を説明するための図である。
【図１８】電子機器の一例たる携帯電話の表示部に適用した例を示す携帯電話の斜視構成図である。
【符号の説明】
【００９６】
Ｉ１…バンクとしての第１インク滴、ＩＢ…薄膜材料としての青色用インク滴、ＩＧ…薄膜材料としての緑色用インク滴、ＩＲ…薄膜材料としての赤色用インク滴、Ｉｓ…電気光学層としての正孔注入層、Ｒ…表示領域、Ｓ…基板、１…電気光学装置としての有機ＥＬディスプレイ、１２Ｒ…電気光学層または発光層としての赤色用発光層、１２Ｇ…電気光学層または発光層としての緑色用発光層、１２Ｂ…電気光学層または発光層としての青色用発光層、６０…電子機器としての携帯電話。
【図１】
2005293914.tif 000003
【図２】
2005293914.tif 000004
【図３】
2005293914.tif 000005
【図４】
2005293914.tif 000006
【図５】
2005293914.tif 000007
【図６】
2005293914.tif 000008
【図７】
2005293914.tif 000009
【図８】
2005293914.tif 000010
【図９】
2005293914.tif 000011
【図１０】
2005293914.tif 000012
【図１１】
2005293914.tif 000013
【図１２】
2005293914.tif 000014
【図１３】
2005293914.tif 000015
【図１４】
2005293914.tif 000016
【図１５】
2005293914.tif 000017
【図１６】
2005293914.tif 000018
【図１７】
2005293914.tif 000019
【図１８】
2005293914.tif 000020