(57)【要約】【課題】重力不良及び未充填現象を防止し、かつ接触不良及び内部の異質物発生を減少させ、さらに押圧不良を防止できる液晶表示装置、この製造方法及び表示装置を提供する。【解決手段】アクティブ領域と液晶マージン領域とを有する液晶表示装置であって、前記アクティブ領域には複数の画素領域を定義するためにゲートライン及びデータラインと、薄膜トランジスタを具備した薄膜トランジスタアレイとが形成された第１基板と、前記アクティブ領域には前記薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に接触するように第１コラムスペーサが形成されて前記液晶マージン領域には未充填防止用の第２コラムスペーサが形成された第２基板と、前記第１基板と第２基板との間に形成された液晶層とを含んで構成される。【選択図】図９Ａ
2005316375.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブ領域と液晶マージン領域とを有する液晶表示装置であって、
複数の画素領域を定義するために互いに交差するゲートライン及びデータラインと、薄膜トランジスタとを具備した薄膜トランジスタアレイを前記アクティブ領域内に有する第１基板と、
前記アクティブ領域内の前記薄膜トランジスタの１つのチャンネル領域に相応する部分に接触する第１コラムスペーサと、前記液晶マージン領域に形成された複数の第２コラムスペーサとを有する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に形成された液晶層と
を含んでいることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記ゲートラインまたは前記データラインに相応する部分の前記第１基板から所定間隔離隔され、前記第１コラムスペーサ間の前記第２基板上に形成される第３コラムスペーサをさらに含んでいることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１、第２及び第３コラムスペーサは、同一高さを有することを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１コラムスペーサは、前記第１基板と前記第２基板との間に弾性ギャップを提供し、前記第１基板に接触することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記第１コラムスペーサの前記弾性ギャップは、０．２μｍ乃至０．６μｍであることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記複数の第２コラムスペーサは、蜂の巣状に配列されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記各第２コラムスペーサは、四角状で形成され、隣接した４つの第２コラムスペーサが四角状で配列されることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲートラインから延長したゲート電極と、Ｕ字状を有するソース電極と、前記ソース電極間に延長したドレイン電極とを具備したＵチャンネルタイプの薄膜トランジスタで構成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１コラムスペーサは、前記薄膜トランジスタの１つの前記ドレイン電極に相応する部分に接触することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記第１コラムスペーサは、前記薄膜トランジスタの１つの前記ソース電極に相応する部分に接触することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第１コラムスペーサは、前記薄膜トランジスタの１つの前記ゲート電極に相応する部分に接触することを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１コラムスペーサは、各画素領域ごとに配置されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第１コラムスペーサは、３ｎ（ｎは自然数）の画素領域ごとに１つが配置されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記第１コラムスペーサは、ゲートラインまたはデータラインに対して対角線上に形成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記第１、第２基板の相対向する表面に形成された少なくとも１つの配向膜をさらに含んでいることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
互いにアクティブ領域と液晶マージン領域とを有して相対向する第１、第２基板と、
前記アクティブ領域における複数の画素領域を定義するために前記第１基板上に互いに交差して形成される複数のゲートライン及びデータラインと、
複数の前記ゲートラインと前記データラインとの交差部に形成された複数の薄膜トランジスタと、
前記各画素領域内の前記第１基板上に形成された複数の画素電極及び共通電極と、
前記アクティブ領域内の前記画素領域以外の部分の前記第２基板上に形成されるブラックマトリックス層と、
前記アクティブ領域内の前記画素領域に相応する前記第２基板上に形成されるカラーフィルタ層と、
前記アクティブ領域内の前記第２基板上の全面に形成されるオーバーコート層と、
前記薄膜トランジスタの１つのチャンネル領域に相応する前記第２基板のオーバーコート層上に形成される第１コラムスペーサと、
前記液晶マージン領域に相応する前記第２基板上に形成される複数の第２コラムスペーサと、
前記第１、第２基板間に形成された液晶層と
を含んでいることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１７】
前記ゲートラインまたは前記データラインに相応する部分の前記第１基板から所定間隔離隔され、前記第１コラムスペーサ間の前記オーバーコート層上に形成される第３コラムスペーサをさらに含んでいることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記第１、第２及び第３コラムスペーサは、同一高さを有することを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記第１コラムスペーサは、前記第１基板と前記第２基板との間に弾性ギャップを提供し、前記第１基板に接触することを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記第１コラムスペーサの前記弾性ギャップは、０．２μｍ乃至０．６μｍであることを特徴とする請求項１９に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
前記複数の第２コラムスペーサは、蜂の巣状に配列されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
前記各第２コラムスペーサは、四角状で形成され、隣接した４つの第２コラムスペーサが四角状で配列されることを特徴とする請求項２１に記載の液晶表示装置。
【請求項２３】
前記薄膜トランジスタは、前記ゲートラインから延長したゲート電極と、Ｕ字状を有するソース電極と、前記ソース電極間に延長したドレイン電極とを具備したＵチャンネルタイプの薄膜トランジスタで構成されることを特徴とする請求項２３に記載の液晶表示装置。
【請求項２４】
前記第１コラムスペーサは、前記薄膜トランジスタの１つの前記ドレイン電極に相応する部分に接触することを特徴とする請求項２３に記載の液晶表示装置。
【請求項２５】
前記第１コラムスペーサは、前記薄膜トランジスタの１つの前記ソース電極に相応する部分に接触することを特徴とする請求項２３に記載の液晶表示装置。
【請求項２６】
前記第１コラムスペーサは、前記薄膜トランジスタの１つの前記ゲート電極に相応する部分に接触することを特徴とする請求項２３に記載の液晶表示装置。
【請求項２７】
前記第１コラムスペーサは、各画素領域ごとに配置されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項２８】
前記第１コラムスペーサは、３ｎ（ｎは自然数）の画素領域ごとに１つが配置されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項２９】
前記第１コラムスペーサは、ゲートラインまたはデータラインに対して対角線上に形成されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項３０】
前記第１、第２基板の相対向する表面に形成された少なくとも１つの配向膜をさらに含んでいることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項３１】
前記ブラックマトリックス層は、前記第２コラムスペーサと前記第２基板との間の前記液晶マージン領域に形成されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項３２】
前記ブラックマトリックス層と前記オーバーコート層は、前記第２コラムスペーサと前記第２基板との間の前記液晶マージン領域に形成されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項３３】
前記ブラックマトリックス層、前記カラーフィルタ層及び前記オーバーコート層は、前記第２コラムスペーサと前記第２基板との間の前記液晶マージン領域に形成されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項３４】
互いにアクティブ領域と液晶マージン領域とを有して相対向する第１、第２基板と、
前記アクティブ領域における複数の画素領域を定義するために前記第１基板上に互いに交差して形成される複数のゲートライン及びデータラインと、
複数の前記ゲートラインと前記データラインとの交差部に形成された複数の薄膜トランジスタと、
前記各画素領域内の前記第１基板上に形成された複数の画素電極と、
前記アクティブ領域内の前記画素領域以外の部分の前記第２基板上に形成されるブラックマトリックス層と、
前記アクティブ領域内の前記画素領域に相応する前記第２基板上に形成されるカラーフィルタ層と、
前記アクティブ領域内の前記第２基板上の全面に形成される共通電極と、
前記薄膜トランジスタの１つのチャンネル領域に相応する前記第２基板の共通電極上に形成される第１コラムスペーサと、
前記液晶マージン領域に相応する前記第２基板上に形成される複数の第２コラムスペーサと、
前記第１、第２基板間に形成された液晶層と
を含んでいることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３５】
前記ゲートラインまたは前記データラインに相応する部分の前記第１基板から所定間隔離隔され、前記第１コラムスペーサ間の前記共通電極上に形成される第３コラムスペーサをさらに含んでいることを特徴とする請求項３４に記載の液晶表示装置。
【請求項３６】
アクティブ領域と液晶マージン領域とを有する液晶表示装置であって、
複数の画素領域を定義するために互いに交差するゲートライン及びデータラインと、薄膜トランジスタとを具備した薄膜トランジスタアレイを前記アクティブ領域内に有する第１基板と、
前記アクティブ領域内の前記薄膜トランジスタに相応する部分に接触する第１コラムスペーサと、前記液晶マージン領域に形成された複数の第２コラムスペーサとを有する第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に形成された液晶層と
を含んでいることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３７】
前記ゲートラインまたは前記データラインに相応する部分の前記第１基板から所定間隔離隔され、前記第１コラムスペーサ間の前記第２基板上に形成される第３コラムスペーサをさらに含んでいることを特徴とする請求項３６に記載の液晶表示装置。
【請求項３８】
前記第１、第２及び第２コラムスペーサは、同一高さを有することを特徴とする請求項３７に記載の液晶表示装置。
【請求項３９】
前記第１コラムスペーサは、前記第１基板と前記第２基板との間に弾性ギャップを提供し、前記第１基板に接触することを特徴とする請求項３６に記載の液晶表示装置。
【請求項４０】
前記第１コラムスペーサの前記弾性ギャップは、０．２μｍ乃至０．６μｍであることを特徴とする請求項３９に記載の液晶表示装置。
【請求項４１】
前記複数の第２コラムスペーサは、蜂の巣状に配列されることを特徴とする請求項３６に記載の液晶表示装置。
【請求項４２】
前記各第２コラムスペーサは、四角状で形成され、隣接した４つの第２コラムスペーサが四角状で配列されることを特徴とする請求項４１に記載の液晶表示装置。
【請求項４３】
前記薄膜トランジスタは、Ｕ字状を有するソース電極と、前記ソース電極間に延長したドレイン電極とを具備したＵチャンネルタイプの薄膜トランジスタで構成されることを特徴とする請求項３６に記載の液晶表示装置。
【請求項４４】
前記第１コラムスペーサは、ドレイン電極に相応する部分に接触することを特徴とする請求項４３に記載の液晶表示装置。
【請求項４５】
前記薄膜トランジスタは、ゲート電極、ソース電極及び前記画素電極に接続されたドレイン電極を具備し、
第１コラムスペーサの１つは、前記ソース電極の１つに相応する部分に接触する
ことを特徴とする請求項３６に記載の液晶表示装置。
【請求項４６】
前記薄膜トランジスタは、ゲート電極、ソース電極及び前記画素電極に接続されたドレイン電極を具備し、
第１コラムスペーサの１つは、前記ドレイン電極の１つと前記画素電極の１つとの間の接続部分に接触する
ことを特徴とする請求項３６に記載の液晶表示装置。
【請求項４７】
それぞれがアクティブ領域と液晶マージン領域とを有する第１、第２基板を準備する段階と、
前記第１基板上のアクティブ領域に、互いに交差して複数の画素領域を定義する複数のゲートライン及びデータラインと、薄膜トランジスタとを含んでいる薄膜トランジスタアレイを形成する段階と、
前記第２基板上のアクティブ領域内の前記薄膜トランジスタの１つのチャンネル領域に相応する前記第１基板の部分に接触する第１コラムスペーサと、前記液晶マージン領域に形成された複数の第２コラムスペーサを形成する段階と、
前記第１基板と第２基板との間に液晶層を形成する段階と
を含んでいることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項４８】
前記ゲートラインまたは前記データラインに相応する部分の前記第１基板から所定間隔離隔されるように、前記第１コラムスペーサ間の前記第２基板上に第３コラムスペーサを形成する段階をさらに含んでいることを特徴とする請求項４７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４９】
前記第１、第２及び第２コラムスペーサは、同一高さを有することを特徴とする請求項４８に記載の液晶表示装置。
【請求項５０】
前記第１コラムスペーサが前記第１基板と前記第２基板との間に弾性ギャップを提供するように、前記第１、第２基板を貼り合わせる段階をさらに含んでいること特徴とする請求項４７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５１】
前記第１コラムスペーサの前記弾性ギャップは、０．２μｍ乃至０．６μｍであることを特徴とする請求項５０に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５２】
前記複数の第２コラムスペーサは、蜂の巣状に配列されることを特徴とする請求項４７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５３】
前記各第２コラムスペーサは、四角状で形成され、隣接した４つの第２コラムスペーサが四角状で配列されることを特徴とする請求項５２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５４】
前記第２コラムスペーサは、前記液晶マージン領域に対応する部分に複数の投光部及び遮光部を有するマスクを用いて露光工程で形成されることを特徴とする請求項５２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５５】
前記第１コラムスペーサを各画素領域ごとに配置して形成する段階をさらに含んでいることを特徴とする請求項４７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５６】
前記第１コラムスペーサを３ｎ（ｎは自然数）の画素領域ごとに１つずつ配置して形成する段階をさらに含んでいることを特徴とする請求項４７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５７】
前記第１コラムスペーサをゲートラインまたはデータラインに対して対角線上に形成する段階をさらに含んでいることを特徴とする請求項４７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５８】
前記第１、第２基板の相対向する表面に少なくとも１つの配向膜を形成する段階をさらに含んでいることを特徴とする請求項４７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５９】
アクティブ領域とマージン領域とを有する表示装置であって、
複数の画素領域を定義するために互いに交差するゲートライン及びデータラインと、前記画素領域ごとに形成された薄膜トランジスタと、前記画素領域ごとに形成された画素電極とを具備した第１基板と、
前記第１基板と対向する第２基板と、
アクティブ領域に配置され、前記薄膜トランジスタの１つに相応する前記第１基板の部分と前記第２基板とに接触するように、前記第１基板及び第２基板のうち何れか１つの基板上に形成される第１スペーサと、
前記マージン領域に形成された複数の第２スペーサと
を含んでいることを特徴とする表示装置。
【請求項６０】
前記ゲートラインまたは前記データラインに相応する位置で、前記第１基板と前記第２基板のうち何れか１つの基板のアクティブ領域に形成される第３スペーサをさらに含んでいること特徴とする請求項５９に記載の表示装置。
【請求項６１】
前記第１、第２及び第３スペーサは、同一高さを有することを特徴とする請求項６０に記載の表示装置。
【請求項６２】
前記アクティブ領域と前記マージン領域との間に流体貯蔵部をさらに含んでいることを特徴とする請求項５９に記載の表示装置。
【請求項６３】
前記複数の第２スペーサは、蜂の巣状に配列されることを特徴とする請求項５９に記載の装置。
【請求項６４】
前記第２基板は、前記アクティブ領域にブラックマトリックス層を含み、前記第１スペーサは、前記ブラックマトリックス層と前記薄膜トランジスタの１つに相応する第１基板の部分との間に形成されることを特徴とする請求項６０に記載の表示装置。
【請求項６５】
前記第３スペーサは、前記ブラックマトリックス層と前記ゲートラインまたはデータラインとの間に形成されることを特徴とする請求項６４に記載の表示装置。
【請求項６６】
前記第２スペーサのうちの少なくとも一部は、前記第１基板と第２基板との両方に接触することを特徴とする請求項５９に記載の表示装置。
【請求項６７】
前記第２スペーサのうちの少なくとも一部は、前記第１基板及び第２基板のうち何れか１つに接触しないことを特徴とする請求項５９に記載の表示装置。
【請求項６８】
前記第１基板と第２基板のうち何れか１つの同一基板上に形成される画素電極と共通電極とをさらに含んでいることを特徴とする請求項５９に記載の表示装置。
【請求項６９】
前記第１基板と前記第２基板との相異する基板上に形成される画素電極と共通電極とをさらに含んでいることを特徴とする請求項５９に記載の表示装置。
【請求項７０】
アクティブ領域とマージン領域とを有する表示装置であって、
第１基板と、
前記第１基板と対向する第２基板と、
前記第１基板と第２基板のうち何れか１つの基板上のアクティブ領域に形成され、少なくとも一部は前記第１、第２基板の両方に接触する複数の第１スペーサと、
マージン領域に配置された複数の第２スペーサと
を含んでいることを特徴とする表示装置。
【請求項７１】
前記第１スペーサのうち少なくとも一部は、前記第１、第２基板のうち何れか１つの基板とだけ接触することを特徴とする請求項７０に記載の表示装置。
【請求項７２】
前記第２スペーサのうち少なくとも一部は、前記第１、第２基板の両方と接触することを特徴とする請求項７０に記載の表示装置。
【請求項７３】
前記第２スペーサのうち少なくとも一部は、前記第１、第２基板のうち何れか１つの基板とだけ接触することを特徴とする請求項７０に記載の表示装置。
【請求項７４】
前記マージン領域よりも前記アクティブ領域内に、前記第１基板と第２基板のうち少なくとも一方の基板上に形成される異なる層をさらに含んでいることを特徴とする請求項７０に記載の表示装置。
【請求項７５】
前記アクティブ領域と前記マージン領域との間に流体貯蔵部をさらに含んでいることを特徴とする請求項７０に記載の表示装置。
【請求項７６】
前記第２スペーサは、蜂の巣状に配列されることを特徴とする請求項７０に記載の表示装置。
【請求項７７】
前記第２基板は、ブラックマトリックス層と、前記第１基板と前記ブラックマトリックス層との間に形成されたアクティブ領域内の複数のスペーサとを含んでいることを特徴とする請求項７０に記載の表示装置。
【請求項７８】
前記第１基板上に形成された画素電極と共通電極とをさらに含んでいることを特徴とする請求項７０に記載の表示装置。
【請求項７９】
前記第１基板上に形成された画素電極と、前記第２基板上に形成された共通電極とをさらに含んでいることを特徴とする請求項７０に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、特にＴＦＴ基板の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分にセルギャップ用コラムスペーサを形成してダミー領域に蜂の巣状のコラムスペーサを形成して、液晶未充填不良、重力不良及び内部異質物不良などを改善する液晶表示装置、この製造方法及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報化社会が発展するにつれて、表示装置に対する要求も様々な形態で増加しており、これに応じて近来ではＬＣＤ（Liquid Crystal Display）、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）、ＥＬＤ（Electro Luminescent Display）、ＶＦＤ（Vacuum Fluorescent Display）など色々な平板表示装置が研究されてきており、一部は、既に様々な装置で表示装置として活用されている。
その中で、現在画質が優秀で、軽量、薄型、低消費電力の特徴及び長所により、移動型画像表示装置の用途としてＣＲＴに代わってＬＣＤが最も多く用いられており、ノートパソコンのモニタのような移動型の用途以外にも放送信号を受信してディスプレイするテレビ及びコンピュータのモニタなどとして多様に開発されている。
このような液晶表示装置が一般的な画面表示装置として様々な部分に使われるためには、軽量、薄型、低消費電力の特徴を維持しながらも高精細、高輝度、大画面など高品位画像をどの程度再現することができるかにかかっていると言える。
【０００３】
液晶表示装置において、前記液晶表示装置の基板間のセルギャップを維持するために様々な種類のスペーサが用いられている。製造方法により、このようなスペーサが球状であるかコラム状であるかが決定される。球状のスペーサは、ＴＦＴ基板あるいはカラーフィルタ基板が製造された後に形成され、コラムスペーサは、ＴＦＴ基板あるいはカラーフィルタ基板の製造工程の中で形成される。前記コラムスペーサは、液晶表示装置の特定部分に形成され、球状のスペーサは、動きが自由で液晶表示装置の全体にランダムに散らばっている。
【０００４】
球状のスペーサは、液晶注入方式を用いて液晶パネルを製造する際に用いられ、この液晶注入方式では、ＴＦＴ基板とカラーフィルタとを各々製造した後に、前記基板間に液晶を注入していく。しかし、この方法は、液晶物質を注入する時、液晶注入に多くの時間が必要であるため、生産性が低下する。また、大画面の液晶表示装置を製造する場合、液晶注入式で液晶を注入すれば、パネル内に液晶が完全に注入されずに不良の原因となる。そして、前記のように工程が複雑で多くの時間が必要であるため、幾つもの液晶注入装備が要求されて大きなスペースを要するようになる。
【０００５】
液晶滴下方式においては、一方の基板上に液晶物質が滴下されてから、両基板を相対向して貼り合わせる。このような液晶滴下方式において、球状のスペーサを適用する場合、液晶物質の滴下方向に沿って球状のスペーサが動くことができるため、セルギャップを液晶パネル全体に渡って一定に維持できない。コラムスペーサは、所定基板に固定されて形成されるため、このような問題点を克服するために液晶滴下方式でスペーサとして用いられる。しかし、コラムスペーサの使用は、球状のスペーサは見られなかった他の問題点を引き起こす。
【０００６】
以下、添付された図面を参照して従来の液晶表示装置に対して説明すれば次の通りである。
図１Ａ及び図１Ｂは、接触ムラが起こる部位の状態を示す平面図及び断面図である。
図１Ａでは、前記コラムスペーサ２０が、前記カラーフィルタ基板２上に形成されることを示す。各コラムスペーサ２０は、高さ（ｈ）を有する。図１Ｂのように、前記カラーフィルタ基板２を液晶が滴下されたＴＦＴ基板１に貼り合わせる時、前記コラムスペーサ２０の高さ（ｈ）は、セルギャップに相応する高さ（ｈ'）に減る。前記厚さの差（ｈ−ｈ'）は、重力マージンとして定義される。
【０００７】
図示したように、前記コラムスペーサと前記相対的にフラットなＴＦＴ基板との間の接触領域は、相対的に大きいため、重力マージン（ｈ−ｈ'）を得ることが難しい。また、もし液晶表示装置が高温に置かれると、液晶の膨張により膨らむ部分が発生することがあり、前記重力マージンは、さらに得難くなる。その上、もし液晶パネルがテレビモニタのように垂直な状態で置かれると、地面に近い液晶パネルの下部側に液晶分子が流れるようになり、地面に近い液晶パネルの下部側は、その膨脹程度がさらに激しくなり、よって、重力マージンを得ることがさらに難しくなる。結果的に、もし液晶層内に超過量が提供されたり、液晶が高温状態にあったり、液晶パネルが傾いたりした時、このような重力不良を示すこととなる。
【０００８】
また、大きい接触面積は、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせながら加圧される時、大きい摩擦力を引き起こすことがある。このような摩擦力は、液晶パネルに触れる時、液晶分子が元の状態に回復しようとすることを妨げて、前記液晶表示装置のスクリーン上に長期間持続するムラを誘発するようになる。このようなムラは、接触ムラとし、図２Ａ及び図２Ｂでさらに詳細に示している。
【０００９】
図２Ａ及び図２Ｂは各々従来の接触ムラが起こる部位の状態を示した平面図及び断面図である。
図２Ａ及び図２Ｂのように、液晶パネル１０を指で特定の方向に触れた時、液晶パネルの上部基板は、接触方向に沿って所定間隔シフトされる。この時、コラムスペーサ２０がＴＦＴ基板１に接触し、前記コラムスペーサ２０とＴＦＴ基板１との間の摩擦力によりコラムスペーサ２０間の液晶３は、元通り容易に戻らなくなり、続けて不透明に見えるムラが観察される。また、液晶パネルが接触した時、図２Ｂのように、最後の接触部位に液晶３が集まるようになり、この部位が膨らんで突き出した形状が作られる。この場合、前記液晶３が集まり膨らんで突き出る部位は、コラムスペーサ２０の高さとして定義される他の部位のセルギャップ（ｈ２）よりセルギャップ（ｈ１）が高まり、液晶３の配列が不均一になって光が漏れる。また、パネル１０面上に指で触れた部位では、液晶が散らばるため、この部位に液晶が残らず、ブラック状態にぼやけてムラが現れて、このようなムラは、パネル１０面の輝度を落とす要因になる。
【００１０】
また、前記コラムスペーサ２０は、画素領域以外の部分に選択的に形成されるため、コラムスペーサ２０が形成されていない部分を押さえる場合、基板が容易に反るようになり、また押さえる部位のセルギャップを維持させることができず、崩れる現象である押圧不良が見られる。
【００１１】
液晶表示装置の表示面が外部から衝撃を与えられた時、液晶が液晶マージン領域へ移動して表示領域で液晶未充填現象が発生するようになる。このように未充填現象が発生するようになると、肉眼でみる時、該当部分が黒い点に見えるようになる。すなわち、アクティブ領域と液晶マージン領域との間にダムが存在するとしても、外部の外力や高温での液晶膨脹により液晶が液晶マージン領域に移動する現象が発生し、外力除去及び常温復帰時の前記液晶がアクティブ領域に１００％復元できないため、未充填現象が発生するようになる。その上、外力によるコラムスペーサの移動は、ＴＦＴ基板とコラムスペーサとの接触部位で前記ＴＦＴ基板の配向膜を剥離する現象を引き起こす。このような剥離現象がアクティブ領域を通して複数の部分で発生する時に、異質物を発生させる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上記のようにコラムスペーサが形成された従来の液晶表示装置においては、上述した問題点があった。
【００１３】
本発明は上記の問題点を解決するためのもので、その目的は、セルギャップを維持するための第１コラムスペーサを薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成し、コラムスペーサとＴＦＴ基板との間の摩擦力を減らして、液晶マージン領域に蜂の巣状の第２コラムスペーサを形成して重力不良及び未充填現象を防止し、かつ接触不良及び内部の異質物発生を減少させ、第３コラムスペーサをゲートラインまたはデータラインに相応する部分にＴＦＴ基板と所定間隔で離隔するように形成して押圧不良を防止できる液晶表示装置、この製造方法及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明の一実施例に係る液晶表示装置は、アクティブ領域と液晶マージン領域とを有する。前記液晶表示装置は、前記アクティブ領域に薄膜トランジスタアレイが形成された第１基板を含む。ここで、前記薄膜トランジスタアレイは、複数の画素領域を定義するゲートライン及びデータラインと、薄膜トランジスタを含む。前記液晶表示装置におけるアクティブ領域では、前記薄膜トランジスタの１つのチャンネル領域に相応する部分に接触するように第１コラムスペーサが形成され、前記液晶マージン領域には未充填防止用の第２コラムスペーサが複数形成された第２基板を含む。そして、前記第１基板と第２基板との間に形成された液晶層がさらに含まれている。
ここで、前記第１コラムスペーサ間の第２基板に第３コラムスペーサがさらに形成される。この第３コラムスペーサは、前記ゲートラインまたはデータラインに相応する部分の前記第１基板から所定間隔離隔される。
【００１５】
他の実施例に係る液晶表示装置は、相対向する第１、第２基板を含む。前記第１、第２基板は、各々アクティブ領域と液晶マージン領域とを有する。画素領域を定義するために前記アクティブ領域の前記第１基板上に互いに交差して複数のゲートライン及びデータラインが形成される。前記各ゲートラインとデータラインの交差部に複数の薄膜トランジスタが形成される。前記各画素領域には複数の画素電極及び共通電極が形成される。前記アクティブ領域で前記画素領域以外の部分の前記第２基板には、ブラックマトリックス層が形成される。前記アクティブ領域で前記各画素領域の第２基板にカラーフィルタ層が形成される。前記アクティブ領域の第２基板の全面にオーバーコート層が形成される。そして、前記薄膜トランジスタの１つのチャンネル領域に相応する前記第２基板のオーバーコート層上に第１コラムスペーサが形成され、前記液晶マージン領域に相応する前記第２基板上に複数の第２コラムスペーサが形成される。また、前記第１、第２基板間の液晶層をさらに含んでいる。
【００１６】
また、同一する目的を達成するための本発明のさらに他の実施例に係る液晶表示装置は、アクティブ領域と液晶マージン領域とを有して相対向する第１、第２基板と、画素領域を定義するために前記アクティブ領域の前記第１基板上に互いに交差して形成される複数のゲートライン及びデータラインと、前記各ゲートラインとデータラインの交差部に形成された複数の薄膜トランジスタと、前記各画素領域に形成された複数の画素電極と、前記アクティブ領域で前記画素領域以外の部分の前記第２基板に形成されるブラックマトリックス層と、前記アクティブ領域で前記各画素領域の第２基板に形成されるカラーフィルタ層と、前記アクティブ領域の第２基板の全面に形成される共通電極と、前記薄膜トランジスタの１つのチャンネル領域に相応する前記第２基板の共通電極上に形成される第１コラムスペーサと、前記液晶マージン領域に相応する前記第２基板上に形成される複数の第２コラムスペーサ及び前記第１、第２基板間に形成された液晶層とを含んでいることに特徴がある。
【００１７】
また、同一する目的を達成するための本発明のさらに他の実施例に係る液晶表示装置は、アクティブ領域と液晶マージン領域とを有する液晶表示装置であって、前記アクティブ領域にはゲートライン及びデータラインと薄膜トランジスタ及び画素電極とを具備した薄膜トランジスタアレイとが形成された第１基板と、前記アクティブ領域には前記薄膜トランジスタの１つに相応する部分に接触するように第１コラムスペーサが形成され、前記液晶マージン領域には未充填防止用の第２コラムスペーサが複数形成された第２基板と、前記第１基板と第２基板との間に形成された液晶層とを含んでいることに特徴がある。
【００１８】
また、同一する目的を達成するための本発明の液晶表示装置の製造方法は、アクティブ領域と液晶マージン領域とを有する第１、第２基板を準備する段階と、前記第１基板上のアクティブ領域に、互いに交差して複数の画素領域を定義する複数のゲートライン及びデータラインと、薄膜トランジスタとを含んでいる薄膜トランジスタアレイを形成する段階と、前記第２基板上のアクティブ領域内の前記薄膜トランジスタの１つのチャンネル領域に相応する前記第１基板上の部分に接触する第１コラムスペーサと、前記液晶マージン領域に形成された複数の第２コラムスペーサを形成する段階と、前記第１基板と第２基板との間に液晶層を形成する段階とを含んでいることに特徴がある。
【００１９】
また、同一する目的を達成するための本発明の表示装置は、アクティブ領域とマージン領域とを有する表示装置であって、複数の画素領域を定義するために互いに交差するゲートライン及びデータラインと、前記画素領域ごとに形成された薄膜トランジスタと、前記画素領域ごとに形成された画素電極とを具備した第１基板と、前記第１基板と対向する第２基板と、アクティブ領域に配置され、前記薄膜トランジスタの１つに相応する前記第１基板の部分と前記第２基板とに接触するように、前記第１基板及び第２基板のうち何れか１つの基板上に形成される第１スペーサと、前記マージン領域に形成された複数の第２スペーサとを含んでいることに特徴がある。
ここで、前記第１基板と前記第２基板のうち何れか１つの基板のアクティブ領域の前記ゲートラインまたはデータラインに相応する位置に形成される第３スペーサをさらに含む。
【００２０】
また、同一する目的を達成するための本発明の表示装置は、アクティブ領域とマージン領域とを有する表示装置であって、第１基板と、前記第１基板と対向する第２基板と、前記第１基板と第２基板のうち何れか１つの基板上のアクティブ領域に形成され、少なくとも一部は前記第１、第２基板の両方に接触する複数の第１スペーサと、マージン領域に配置された複数の第２スペーサとを含んでいることに特徴がある。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の液晶表示装置、この製造方法及び表示装置には次のような効果がある。
【００２２】
第１に、接触面積を最小化するためにセルギャップ用の第１コラムスペーサを薄膜トランジスタのチャンネル領域の上側に位置するようにし、液晶マージン領域に第２コラムスペーサを形成した。したがって、第１コラムスペーサが弾性ギャップを有するようにし、液晶パネルを立たせた場合に、液晶が過剰に下部側に流れ込むことを防げるようになり、高温時に使用しても、第２コラムスペーサが液晶の移動を妨げるようになり重力不良が解消される。
【００２３】
第２に、セルギャップ用の第１コラムスペーサとＴＦＴ基板とが接触する面積を最小化するために、前記第１コラムスペーサを薄膜トランジスタのチャンネル領域の上側に位置するように形成するため、前記第１コラムスペーサとＴＦＴ基板との間の摩擦力が最小化されてコラムスペーサが形成された液晶表示装置の画面を摩っても復元力が向上して接触ムラを防止できる。
【００２４】
第３に、セルギャップ用の第１コラムスペーサ以外に別途の第３コラムスペーサをさらに形成してＴＦＴ基板と所定間隔で離隔するようにするため、押圧不良による押圧ムラを解決する。
【００２５】
第４に、前記液晶マージン領域に第２コラムスペーサを蜂の巣状に形成して前記液晶マージン領域の体積を減らして、アクティブ領域から液晶マージン領域へ液晶流動されることを制御するため、アクティブ領域が外力を受けてもアクティブ領域内の液晶が液晶マージン領域に流動されることを防止して未充填不良を最小化できる。
【００２６】
第５に、セルギャップ用の第１コラムスペーサとＴＦＴ基板が接触する面積が最小化するため、配向膜の剥離による内部の物質不良を最小化できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明に係る液晶表示装置の好適な実施例について、添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００２８】
図３は、本発明の一実施例に係るねじれネマティック（ＴＮ）モードの液晶表示装置を示した分解斜視図である。
図３のように、本発明の液晶表示装置は、所定空間をもって貼り合わされた第１基板１及び第２基板２と、前記第１基板１と第２基板２との間に注入された液晶層３とで構成されている。
【００２９】
より具体的に説明すれば、前記第１基板１には画素領域（Ｐ）を定義するために一定の間隔をもって一方向に複数のゲートライン４と、前記ゲートライン４に垂直した方向に一定の間隔をもって複数のデータライン５が配列される。そして、前記各画素領域（Ｐ）には、画素電極６が形成され、前記各ゲートライン４とデータライン５とが交差する部分に薄膜トランジスタ（Ｔ）が形成されて前記薄膜トランジスタが前記ゲートラインに、信号によって、前記データラインのデータ信号を前記各画素電極に印加する。
そして、前記第２基板２には、前記画素領域（Ｐ）以外の部分の光を遮断するためのブラックマトリックス層７が形成され、前記各画素領域に対応する部分には色相を表現するためのＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルタ層８が形成され、前記カラーフィルタ層８上には画像を表すための共通電極９が形成されている。
前記のような液晶表示装置は、前記画素電極６と共通電極９との間の電界により前記第１、第２基板間に形成された液晶層３が配向され、前記液晶層３の配向程度により液晶層３を透過する光の量を調節して画像を表示することができる。
【００３０】
このような液晶表示装置は、ＴＮモードの液晶表示装置として、視野角が狭いという短所を有しており、このようなＴＮモードの短所を克服するためのＩＰＳ（In-Plane Switching：横電界）モードの液晶表示装置が開発された。
前記ＩＰＳモードの液晶表示装置は、第１基板の画素領域に画素電極と共通電極とを一定の距離をもって互いに平行するように形成して、前記画素電極と共通電極との間に横電界が発生するようにし、前記横電界により液晶層が配向されるようにしたものである。
【００３１】
図４は、本発明の一実施例に係る液晶表示装置の平面図であり、図５は、図４の液晶マージン領域の拡大平面図である。
図４のように、ＴＮモード、ＩＰＳモードの液晶表示装置は、共に、実際に画像を表示するアクティブ領域１２と、前記アクティブ領域の周辺部の前記アクティブ領域とシールパターン１１との間に形成される液晶マージン領域１３からなる。
【００３２】
すなわち、上述したように、ゲートライン及びデータラインと、薄膜トランジスタ及び画素電極が形成されたＴＦＴ基板１と、ブラックマトリックス層及びカラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板２とがシールパターン１１により縁側で貼り合わされて、前記シールパターン１１により貼り合わされた前記ＴＦＴ基板１とカラーフィルタ基板２との間には液晶層が形成される。そして前記液晶マージン領域１３は、ブラックマトリックス層（図示せず）により遮光されている。
ここで、前記液晶マージン領域１３は、前記両基板間に形成された、液晶が広がることができる余裕空間であり、前記第２基板２に形成されたブラックマトリックス層（図示せず）により遮られるようになり画像が表示されない。
【００３３】
図５に示したように、前記アクティブ領域１２と液晶マージン領域１３との境界部では、第１ダム１５ａ及び第２ダム１５ｂが形成される。そして、前記シールパターン１１の周辺部に第３ダム１５ｃが形成される。このようなダムは、ユーザと液晶表示装置の表面との間の接触、あるいは液晶の熱膨脹により移動する超過液晶を入れるコンテナの役割をする。
液晶表示装置は、液晶注入または滴下の方法で製造される。以下ではフローチャートを参考として液晶表示装置の製造方法に関して説明する。
【００３４】
まず、液晶注入方式の液晶表示装置製造方法を説明すれば次の通りである。
図６は、液晶注入型液晶表示装置の製造方法のフローチャートである。
液晶表示装置は、大別してアレイ工程、セル工程、モジュール工程などに区分される。
アレイ工程は、上述したように、前記第１基板にゲートライン及びデータラインと、画素電極と、薄膜トランジスタとを具備したＴＦＴアレイを形成し、第２基板にブラックマトリックス層とカラーフィルタ層と共通電極などを具備したカラーフィルタアレイを形成する工程である。
この時、前記アレイ工程は、１つの基板に１つの液晶パネルを形成するのではなく、１つの大型ガラス基板に液晶パネルを多数設計して各液晶パネル領域に各々ＴＦＴアレイ及びカラーフィルタアレイを形成する。
【００３５】
このようにＴＦＴアレイが形成されたＴＦＴ基板とカラーフィルタアレイとが形成されたカラーフィルタ基板とは、セル工程ラインへ移動する。
【００３６】
続いて、前記ＴＦＴ基板上及びカラーフィルタ基板上に配向物質を塗布して液晶分子が均一な方向性を有するようにするための配向工程（ラビング工程）（Ｓ１０）を各々進行する。
ここで、前記配向工程（Ｓ１０）は、配向膜の塗布前洗浄、配向膜の印刷、配向膜の焼成、配向膜の検査、ラビング工程の順に進行する。
【００３７】
続いて、前記ＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板を各々洗浄（Ｓ２０）する。
そして、前記ＴＦＴ基板またはカラーフィルタ基板上にセルギャップを一定に維持するための球状のスペーサを散布（Ｓ３０）し、前記各液晶パネル領域の外郭部に両基板を貼り合わせるためのシールパターンを形成する（Ｓ４０）。この時、シールパターンは、液晶を注入するための液晶注入口のパターンを有するように形成される。ここで、前記球状のスペーサは、プラスチックボールや弾性体プラスチック微粒子で形成されたものである。
【００３８】
前記シールパターンが対向するようにＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とを向かい合わせるようにして両基板を貼り合わせ、前記シールパターンを硬化させる（Ｓ５０）。その後、前記貼り合わせて硬化したＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板を各単位液晶パネル領域ごとに切断して加工（Ｓ６０）し、所定サイズの単位液晶パネルを製作する。
以後、各々の単位液晶パネルの液晶注入口を通して液晶を注入し、注入完了してから前記液晶注入口を封止（Ｓ７０）して液晶層を形成する。そして、各単位液晶パネルの外観及び電気的不良の検査（Ｓ８０）を進行することにより液晶表示装置を製作するようになる。
【００３９】
ここで、前記液晶注入工程を簡略に説明すれば次の通りである。
まず、注入しようとする液晶物質が入っている容器と液晶を注入する液晶パネルとをチャンバーの内部に位置させ、前記チャンバーの圧力を真空状態に維持することにより、液晶物質の中や容器の内壁についている水分を除去して、気泡を無くすと同時に前記液晶パネルの内部空間を真空状態にする。
また、望む真空状態で、前記液晶パネルの液晶注入口を液晶物質が入っている容器に浸す、あるいは接触させてから、前記チャンバー内部の圧力を真空状態から大気圧状態にして前記液晶パネル内部の圧力とチャンバーの圧力差により、液晶注入口を通して液晶物質が前記液晶パネル内部に注入されるようにする。
【００４０】
次は、液晶滴下方式の液晶表示装置の製造方法について説明する。
図７は、液晶滴下型液晶表示装置の製造方法のフローチャートである。
液晶滴下方式の液晶表示装置の製造方法は、両基板を貼り合わせる前に、両基板のうち何れか１つの基板に適当量の液晶を滴下した後、両基板を貼り合わせる方法である。
したがって、液晶注入方式のようにセルギャップを維持するためにボールスペーサを用いるようになると、滴下された液晶が広がる時、前記ボールスペーサが、液晶が広まる方向へ移動してスペーサが片寄るようになるため、正確なセルギャップの維持が不可能となる。
【００４１】
したがって、液晶滴下方式ではボールスペーサを使用せず、スペーサが基板に固定されるコラムスペーサを使用しなければならない。液晶滴下方式においては、カラーフィルタ基板にブラックマトリックス層及びカラーフィルタ層及び共通電極を形成し、前記共通電極上に感光性樹脂を形成して選択的に除去し、前記ブラックマトリックス層上にコラムスペーサを形成する。また、前記コラムスペーサの形成は、フォトリソグラフィ工程またはインクジェット工程により形成できる。ここで、用語「コラム」は、本発明のスペーサが形成される基板からスペーサの膨脹、あるいは液晶パネルを貼り合わせる時のスペーサが他方の基板と触れるというだけの意味で記述されただけで、特定形状のスペーサを限定したのではない。本発明の「コラム」スペーサは、特定形状に限定されず、一方の基板に形成され、他方の基板と触れる形態であればいかなる形状でも可能である。
【００４２】
前記コラムスペーサを形成した後、前記コラムスペーサを含むＴＦＴ基板及びカラーフィルタ基板の全面に配向膜を塗布して前記配向膜をラビング処理する。
このように、配向工程が完了したＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板を各々洗浄（Ｓ１０１）してから、前記ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板のうちの一方の基板上の所定領域に液晶を滴下し（Ｓ１０２）、もう一方の基板の各液晶パネル領域の外郭部にディスペンシング装置を用いてシールパターンを形成する（Ｓ１０３）。
この時、前記両基板のうち１つの基板に液晶を滴下し、かつシールパターンを形成しても良い。
【００４３】
また、前記液晶が滴下されない基板を反転（ひっくり返して向かい合わせるようにする）させて（Ｓ１０４）、前記ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とを押さえて貼り合わせ、前記シールパターンを硬化させる（Ｓ１０５）。
続いて、単位液晶パネルごとに前記貼り合わされた基板を切断及び加工する（Ｓ１０６）。
そして、前記加工された単位液晶パネルの外観及び電気的不良検査（Ｓ１０７）を進行することにより液晶表示素子を製作するようになる。
【００４４】
このような液晶滴下方式の製造方法においては、カラーフィルタ基板上にコラムスペーサを形成し、ＴＦＴ基板に液晶を滴下して両基板を貼り合わせてパネルを形成する。
この時、前記コラムスペーサは、カラーフィルタ基板に固定させて形成され、ＴＦＴ基板に接触する。そして、前記ＴＦＴ基板と接触する部位は、ゲートラインまたはデータラインのうち何れか１つの単一配線に対応してカラーフィルタ基板上で一定の高さを形成する。
【００４５】
図８Ａ乃至図８Ｅは、本発明の他の実施例に係るＴＮモードの液晶表示装置のアクティブ領域を示した拡大平面図であり、図９Ａ及び９Ｂは、図８ＡのＩ−Ｉ'線上の第１、第３コラムスペーサを示した断面図である。
図８Ａ乃至図８Ｅならびに図９Ａ及び図９Ｂのように、このような実施例に係る液晶表示装置のアクティブ領域は、画素領域を定義するためにゲートライン１０１及びデータライン１０２が互いに交差して配列され、前記各ゲートライン１０１とデータライン１０２とが交差する部分に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成され、各画素領域には画素電極１０３が形成される。そして、セルギャップを維持するための第１コラムスペーサ３０１ａと押圧不良防止用の第３コラムスペーサ３０１ｂとが一定の間隔をもって形成される。前記第３コラムスペーサ３０１ｂは、前記図面では示したが、それぞれの実施例では示している場合と示していない場合がある。
【００４６】
図８Ａでは、６個の画素領域に１つの第１コラムスペーサ３０１ａが配置され、前記隣接した２つの第１コラムスペーサ３０１ａ間に１つの第３コラムスペーサ３０１ｂが配置されることを示した。ここで、前記第１コラムスペーサ３０１ａは、図９Ａに示したように、薄膜トランジスタのチャンネル領域の上側に相応する部分に形成され、前記第３コラムスペーサ３０１ｂは、図９Ｂに示したように、ゲートライン１０１の上側に相応する部分に形成される。ここで、前記第１、第３コラムスペーサの高さを同一に形成しても前記第１、第３コラムスペーサ３０１ａ、３０１ｂが配置された位置の段差により第３コラムスペーサ３０１ｂは、前記ＴＦＴ基板１００と所定間隔で離隔される。
【００４７】
また、図８Ｂでは、前記第１コラムスペーサ３０１ａが、各画素領域ごとに薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成され、第３コラムスペーサ３０１ｂが各画素領域ごとにゲートライン１０１の上側またはデータライン１０２に相応する部分に形成されることを示した。
【００４８】
また、図８Ｃのように、前記第１コラムスペーサ３０１ａは、３個の画素領域のうち１つの薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成され、第３コラムスペーサ３０１ｂは、前記隣接した２つの第１コラムスペーサ３０１ａ間のゲートライン１０１またはデータライン１０２の上側に相応する部分に少なくとも１つ形成されるか、あるいは、第３コラムスペーサは、形成されないこともある。この実施例では、各ユニットセル（ユニットセル１つ当たり、単位Ｒ、Ｇ、Ｂ画素を含む）は、３個の画素領域を含む時、前記第１コラムスペーサがユニットセル当たり１つずつ形成されることを意味する。しかし、ユニットセル当たり形成される第１コラムスペーサは、１つよりさらに少ないこともあり、さらに多いこともある。例えば、ユニットセルに４つのカラーがあると、前記第１コラムスペーサは、各画素領域または４ｎ（ｎは自然数）の画素領域ごとに形成することができるのである。
【００４９】
また、図８Ｄのように、前記第１コラムスペーサ３０１ａは、９個の画素領域のうち１つの薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成され、第３コラムスペーサ３０１ｂは、前記隣接した２つの第１コラムスペーサ３０１ａ間のゲートライン１０１またはデータライン１０２の上側に相応する部分に少なくとも１つ形成することができる。
【００５０】
また、図８Ｅのように、前記第１コラムスペーサ３０１ａは、１２個の画素領域のうち１つの薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成され、第３コラムスペーサ３０１ｂは、前記隣接した２つの第１コラムスペーサ３０１ａ間のゲートライン１０１またはデータライン１０２の上側に相応する部分に少なくとも１つ形成することができる。
【００５１】
そして、前記図８Ａ、８Ｄ及び８Ｅに示したように、前記第１コラムスペーサ３０１ａが６個、９個または１２個の画素領域のうち１つの薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成される場合、次の画素ラインでは、３個の画素領域がずれるように形成される。すなわち、前記画素領域に形成される第１コラムスペーサは、隣接したゲートラインに対して対角線上に形成される。
すなわち、前記第１コラムスペーサ３０１ａが奇数番目の画素ラインで、“６”の倍数番目（６ｎ、ｎは自然数）の画素領域の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成される場合、偶数番目の画素ラインでは、前記第１コラムスペーサ３０１ａが６ｎ−３番目（ｎは自然数）の画素領域の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成される。
【００５２】
また、前記第１コラムスペーサ３０１ａが３ｎ−２番目（ｎは自然数）の画素ラインで、“９”の倍数番目（９ｎ、ｎは自然数）の画素領域の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成される場合、３ｎ−１番目（ｎは自然数）の画素ラインでは、前記第１コラムスペーサ３０１ａが９ｎ−６番目（ｎは自然数）の画素領域の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成され、３ｎ番目（ｎは自然数）の画素ラインでは、前記第１コラムスペーサ３０１ａが９ｎ−３番目（ｎは自然数）の画素領域の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成される。
【００５３】
また、前記第１コラムスペーサ３０１ａが４ｎ−３番目（ｎは自然数）の画素ラインで、“１２”の倍数番目（１２ｎ、ｎは自然数）の画素領域の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成される場合、４ｎ−２番目（ｎは自然数）の画素ラインでは、前記第１コラムスペーサ３０１ａが１２ｎ−９番目（ｎは自然数）の画素領域の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成され、４ｎ−１番目（ｎは自然数）の画素ラインでは、前記第１コラムスペーサ３０１ａが１２ｎ−６番目（ｎは自然数）の画素領域の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成され、４ｎ番目（ｎは自然数）の画素ラインでは、前記第１コラムスペーサ３０１ａが１２ｎ−３番目（ｎは自然数）の画素領域の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に形成される。
ここで、前記各画素ラインの配列が一画素ラインおきに、二画素ラインおきに、または三画素ラインおきに上記で説明したような方法で第１、第３コラムスペーサ３０１ａ、３０１ｂを配列することができる。
【００５４】
また、図９Ａ及び図９Ｂに示したように、前記第１コラムスペーサ３０１ａは、薄膜トランジスタのチャンネル領域の上側に相応する部分に前記ＴＦＴ基板１００に接触するように形成され、前記第３コラムスペーサ３０１ｂは、ゲートライン１０１の上側に相応する部分に前記ＴＦＴ基板１００と接触せずに所定間隔で離隔するように形成される。
すなわち、ＴＦＴ基板１００上にゲート電極１０１ａを具備したゲートライン１０１が形成され、前記ゲートライン１０１を含む基板の全面にゲート絶縁膜１０５が形成される。そして、前記ゲート電極１０１ａの上側のゲート絶縁膜１０５上に半導体層１０４が形成され、前記ゲート絶縁膜１０５上に前記ゲートライン１０１に垂直した方向にデータライン１０２が形成され、前記ゲートライン１０１と交差する部分の前記データライン１０２から突出して前記半導体層１０４の両側にオーバーラップされるようにソース／ドレイン電極１０２ａ、１０２ｂが形成され、前記データライン１０２を含む基板の全面に保護膜１０６が形成される。そして、図９Ａ及び図９Ｂには示さなかったが、前記ドレイン電極１０２ｂにコンタクトホール（図８の１０８）が形成され、前記画素領域に画素電極（図８の１０３参照）が形成される。
【００５５】
ここで、前記第１コラムスペーサ３０１ａは、前記薄膜トランジスタのチャンネル領域の上側に相応する部分で前記ＴＦＴ基板１００に接触されることに限定されず、前記薄膜トランジスタの領域に相応する部分に形成されれば良い。すなわち、薄膜トランジスタのソース電極１０２ａの上側、ドレイン電極１０２ｂの上側、ゲート電極１０１ａの上側、またはドレイン電極１０２ｂと画素電極１０３とが接する部分の上側などに前記第１コラムスペーサ３０１ａを形成することができる。
そしてカラーフィルタ基板２００には、ブラックマトリックス層２０１、カラーフィルタ層２０２及び共通電極２０３が形成され、前記薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分の前記共通電極２０３上に第１コラムスペーサ３０１ａが形成され、前記ゲートライン１０１に相応する部分の共通電極２０３上に第３コラムスペーサ３０１ｂが形成される。
【００５６】
図１０Ａ及び図１０Ｂは、本発明の液晶表示装置の一実施例に係る液晶マージン領域を示した拡大平面図である。
【００５７】
また、液晶マージン領域１３は、図１０Ａのように、液晶マージン領域の体積を減少させるために、蜂の巣状に第２コラムスペーサ３０１ｃが形成される。すなわち、アクティブ領域１２と液晶マージン領域１３との境界部では、第１ダム２０５ａ及び第２ダム２０５ｂが形成され、前記シールパターン１１の周辺部に第３ダム２０５ｃが形成され、残りの部分の液晶マージン領域には、蜂の巣状に第２コラムスペーサ３０１ｃが形成される。したがって、第２コラムスペーサ３０１ｃによりアクティブ領域に位置した液晶が液晶マージン領域に流動することを制御でき、併せてアクティブ領域内の液晶不足による未充填不良を防止できる。
【００５８】
そして、図１０Ｂのように、前記液晶マージン領域１３に前記図１０Ａに示した第１ダム２０５ａ、第２ダム２０５ｂ及び第３ダム２０５ｃを形成しなくても良い。
ここで、前記液晶マージン領域に形成された第２コラムスペーサ３０１ｃは、六角形の完全な蜂の巣状に限定されるものではなく、第２コラムスペーサ３０１ｃを多角形の構造をもって形成し、その配列を蜂の巣状に形成することができる。
【００５９】
図１１Ａ及び図１１Ｂは、各々本発明に係る第３コラムスペーサパターン用マスクの拡大平面図及び拡大断面図である。
【００６０】
例えば、図１１Ａのように、第２コラムスペーサ３０１ｃをパターニングするためのマスク３５０は、光を透過する投光部３５２と、光を遮断する遮光部３５１とで構成されており、前記投光部３５２により前記第２コラムスペーサ３０１ｃがパターニングされる。この時、前記投光部３５２は、一辺の長さが４０μｍ程度の正四角形で形成され、隣接した４つの投光部３５２の中心もまた正四角形をなすように投光部３５２が配列される。そして、前記投光部３５２と投光部３５２との間の遮光部３５１も前記投光部３５２の一辺の長さ（約４０μｍ）だけの間隔をもって配列される。前記第２コラムスペーサを形成するために用いられる投光部は、第１及び第３コラムスペーサを形成するために用いられる透過部の形状と同様であったり、異なる形状であったり、及び／或いは、配列を有することができる。
【００６１】
前記図１１Ａのようなマスク３５０を用いて第２コラムスペーサを形成するために露光及び現象工程を進行すれば、図１１Ｂのように、露光工程での光の回折現象により第２コラムスペーサ３０１ｃの角部分は、丸みをつけた構造を有する。すなわち、表面からθ程度の角度に丸みをつける。
【００６２】
図１２は、本発明の第１実施例に係る液晶マージン領域の構造断面図であり、図１３は、本発明の第２実施例に係る液晶マージン領域の構造断面図であり、図１４は、本発明の第３実施例に係る液晶マージン領域の構造断面図である。
【００６３】
液晶マージン領域は画像が表示されない領域であるため、カラーフィルタ層及びオーバーコート層または共通電極を形成しなくても構わない領域である。
したがって、本発明の第１実施例に係る液晶マージン領域の構造は、図１２に示したように、カラーフィルタ基板２００にブラックマトリックス層２０１だけ形成し、その上に蜂の巣状で第２コラムスペーサ３０１ｃを形成したものである。
【００６４】
また、本発明の第２実施例に係る液晶マージン領域の構造は、図１３に示したように、カラーフィルタ基板２００にブラックマトリックス層２０１と共通電極２０３またはオーバーコート層を形成し、前記共通電極２０３またはオーバーコート層上に蜂の巣状で第２コラムスペーサ３０１ｃを形成したものである。
【００６５】
また、本発明の第３実施例に係る液晶マージン領域の構造は、図１４に示したように、カラーフィルタ基板２００にブラックマトリックス層２０１、カラーフィルタ層２０２及び共通電極２０３またはオーバーコート層を形成し、前記共通電極２０３またはオーバーコート層上に蜂の巣状で第２コラムスペーサ３０１ｃを形成したものである。
【００６６】
図示はしなかったが、前記液晶マージン領域での前記ＴＦＴ基板１００は、蜂の巣状で配列される第２コラムスペーサ３０１ｃが形成される位置により他の構成を有することができる。例えば、ゲート絶縁膜、半導体層、保護層、画素電極及び配向膜を前記ゲートライン上部にさらに形成することができる。ある断面では、ゲート絶縁膜、半導体層、データライン、保護膜、画素電極、配向膜は、前記ＴＦＴ基板上に形成される。さらに他の断面では、ゲート絶縁膜、データライン、保護膜、画素電極、配向膜が前記ＴＦＴ基板上に形成される。ゲートラインまたはデータラインを含まない所定の断面では、前記ゲート絶縁膜、保護膜及び配向膜がＴＦＴ基板上に形成される。
【００６７】
カラーフィルタ基板上の層等の厚さに多少差があることを勘案することはできるが、本発明の一実施例では、前記ブラックマトリックス層２０１の厚さは約１．３μｍ、カラーフィルタ層２０２の厚さは約２μｍ、共通電極２０３の厚さは約１．５μｍを有するように形成される。ＴＦＴ基板の各層は、カラーフィルタ層に形成される各々の層の厚さに比べて相対的に薄い。結果的に、カラーフィルタ基板の構造は、前記ＴＦＴ基板の構造に比べて前記第２コラムスペーサ３０１ｃとＴＦＴ基板との間の距離により大きい影響を及ぼす。前記第２コラムスペーサ３０１ｃを有する液晶マージン領域のＴＦＴ基板１００での最大の厚さは、ゲートライン物質１０１、ゲート絶縁膜１０５、半導体層１０４、データライン物質１０２、保護膜１０６、画素電極物質１０３、そして配向膜を含むＴＦＴ基板１００の領域から得られる。しかし、これら層のうち少なくとも１つは、前記液晶マージン領域の所定領域から除去できる。
【００６８】
また、前記のような第１、第３及び第２コラムスペーサ３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃは、ＴＮモードまたはＩＰＳモードの液晶表示装置を含むあらゆるモードの液晶表示装置に適用することができ、薄膜トランジスタの構造も“Ｌ”チャンネルタイプ、“Ｕ”チャンネルタイプなどあらゆるタイプを適用することができ、その中で“Ｕ”チャンネルタイプの薄膜トランジスタのチャンネル部分がより突出しているため最も効果的である。
【００６９】
これを具体的に説明すれば次の通りである。
図１５は、本発明に係る液晶表示装置の“Ｕ”チャンネルタイプの薄膜トランジスタの拡大平面図であり、図１６は、前記図１５のＩＩ−ＩＩ'線上の断面構造図である。
図１５及び図１６のように、すなわち、ＴＦＴ基板１００上にゲート電極１０１ａを具備したゲートライン１０１が形成され、前記ゲートライン１０１を含む基板の全面にゲート絶縁膜１０５が形成される。そして、前記ゲート電極１０１ａの上側のゲート絶縁膜１０５上に半導体層１０４が形成され、前記ゲートライン１０１に垂直した方向の前記ゲート絶縁膜１０５上にデータライン１０２が形成されると同時に、前記半導体層１０４にオーバーラップされるように“Ｕ”字状に突出したソース電極１０２ａと、前記Ｕ字状のソース電極１０２ａ間で画素領域に延長されたドレイン電極１０２ｂとが形成される。このようにゲートライン１０１とデータライン１０２とが交差する部分にＵ字状のチャンネル領域を有するＵチャンネルタイプの薄膜トランジスタが形成される。
【００７０】
そして、上記のように薄膜トランジスタが形成された基板の全面に保護膜１０６が形成され、前記ドレイン電極１０２ｂにコンタクトホール１０８が形成され、前記コンタクトホール１０８を通して前記ドレイン電極１０２ｂに連結するように画素領域に画素電極１０３が形成され、全面に配向膜（図示せず）が形成される。このように形成されたＴＦＴ基板１００の薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分に第１コラムスペーサ３０１ａが位置するようにＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板とが貼り合わされる。
一方、図１５及び図１６では、本発明に係るＴＮモードの液晶表示装置の平面図を示したが、ＩＰＳモードの液晶表示装置でも上述したように、第１、第２、及び第３コラムスペーサを形成できる。
【００７１】
図１７は、本発明に係るＩＰＳモードの液晶表示装置の平面図であり、図１８Ａ及び図１８Ｂは、各々図１７のＩＩＩ−ＩＩＩ'及びＩＶ−ＩＶ'線上の断面図である。
本発明に係るＩＰＳモードの液晶表示装置は、図１７乃至図１８Ｂに示したように、所定空間をもって貼り合わされたカラーフィルタ基板２００及びＴＦＴ基板１００と、前記カラーフィルタ基板２００とＴＦＴ基板１００との間に注入された液晶層２５０とで構成されている。
【００７２】
より具体的に説明すれば、前記ＴＦＴ基板１００は、ガラス基板上に垂直で交差して画素領域を定義する複数のゲートライン１０１及びデータライン１０２が形成され、前記ゲートラインに平行した方向に共通ライン１０７が形成され、前記共通ライン１０７から各画素領域に突出して所定間隔をもって共通電極１０７ａが形成される。そして、前記各ゲートライン１０１とデータライン１０２とが交差する部分にソース／ドレイン電極１０２ａ、１０２ｂを具備した薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が形成され、前記薄膜トランジスタのドレイン電極に接続された前記各画素領域には前記共通電極１０７ａと平行するように前記共通電極間に画素電極１０３を形成する。
【００７３】
ここで、前記薄膜トランジスタ及び画素電極の製造方法を詳細に説明すれば次の通りである。
前記ＴＦＴ基板１００上にＭｏ、ＡｌまたはＣｒなどのような金属物質をスパッタリング方法で全面蒸着してから、フォトリソグラフィ工程で前記金属物質をパターニングして複数のゲートライン１０１及び前記ゲートライン１０１から突出する形状でゲート電極１０１ａと共通ライン１０７及び共通電極１０７ａを同時に形成する。
続いて、前記ゲートライン１０１を含むガラス基板１００上にＳｉＮｘなどの絶縁物質を全面蒸着してゲート絶縁膜１０５を形成し、前記ゲート絶縁膜１０５上に非晶質シリコンまたはポリシリコンを蒸着し、かつパターニングして前記ゲート電極１０１ａの上側のゲート絶縁膜１０５上に半導体層１０４を形成する。
【００７４】
そして、Ｍｏ、ＡｌまたはＣｒなどのような金属物質をスパッタリング方法で全面蒸着し、フォトリソグラフィ工程で前記金属物質をパターニングして、前記ゲートライン１０１に垂直した方向でデータライン１０２を形成して、前記半導体層１０４の一方にオーバーラップされるようにＵ字状のソース電極１０２ａを形成すると同時に、前記半導体層の他方に前記ソース電極間に位置するようにドレイン電極１０２ｂを形成する。
続いて、前記ソース電極１０２ａ及びドレイン電極１０２ｂを含む基板の全面に化学気相蒸着（chemical vapor deposition:ＣＶＤ）方式を通してＳｉＮｘ材質の保護膜１０６を蒸着する。このような保護膜１０６の材料としては、主にＳｉＮｘなどの無機物質が適用しており、最近では液晶セルの開口率を向上させるためにＢＣＢ（BenzoCycloButene）、ＳＯＧ（Spin On Glass）またはアクリルなどの誘電率が低い有機物質が用いられている。
【００７５】
また、前記ドレイン電極１０２ｂ上の保護膜１０６の一部を選択的にエッチングして、ドレイン電極１０２ｂの一部を露出させるコンタクトホール１０８を形成し、前記コンタクトホール１０８を通して前記ドレイン電極１０２ｂに電気的に接続されるように前記保護膜１０６上に透明導電膜をスパッタリングして蒸着してから、選択的に除去して前記ドレイン電極１０２ｂに接続された前記共通電極１０７ａと平行に、前記共通電極間に位置するように前記画素領域に画素電極１０３を形成した後、前記画素電極１０３を含む基板の全面に第１配向膜１０９を形成する。
【００７６】
前記カラーフィルタ基板２００は、ガラス基板上に画素領域以外の部分（ゲートライン及びデータライン領域、薄膜トランジスタ領域）の光を遮断するためのブラックマトリックス層２０１が形成され、前記各画素領域に対応する部分に色相を表示するためのＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルタ層２０２が形成され、前記ブラックマトリックス層２０１とカラーフィルタ層２０２の上部に全面オーバーコート層２０４が形成される。そして、前記オーバーコート層２０４の上側のアクティブ領域に感光性樹脂などのような物質で第１コラムスペーサ３０１ａ及び第３コラムスペーサ３０１ｂが形成され、液晶マージン領域には、蜂の巣状で第２コラムスペーサ（図１０及び図１１Ａの３０１ｃ参照）が形成される。
ここで、前記第１コラムスペーサ３０１ａは、ＴＦＴ基板１００の前記薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する位置に形成され、前記第３コラムスペーサ３０１ｂは、前記ＴＦＴ基板の前記ゲートライン１０１、またはデータライン１０２の上側に相応する位置に同一の高さで形成される。
【００７７】
そして、前記のようにコラムスペーサ３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃが形成されたカラーフィルタ基板２００の全面に第２配向膜２０６を形成し、前記第１、第２配向膜１０９、２０６をラビング処理する。ここで、ラビングは、布を均一な圧力と速度で配向膜の表面と摩擦させることにより、前記配向膜の表面の高分子鎖が一定の方向に整列するようにして液晶の初期配向方向を決定する工程をいう。
ここで、前記薄膜トランジスタは、Ｕチャンネルタイプで形成され、前記第１コラムスペーサ３０１ａと接触する面が小さな面積を有するように形成される。
それ以外の第１、第３及び第２コラムスペーサ３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃの配置方法などは、上述した通りである。
【００７８】
このように、薄膜トランジスタをＵチャンネルタイプで形成し、第１コラムスペーサ３０１ａを前記薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する位置に配置し、第３コラムスペーサ３０１ｂをゲートラインまたはデータラインに相応する位置に配置し、第２コラムスペーサ３０１ｃを液晶マージン領域に配置し、前記第１、第３コラムスペーサを同一高さ（約３．８μｍ）で形成した後、貼り合わされた液晶表示装置を分析すれば、次のような結果を得ることができる。
【００７９】
すなわち、ＴＦＴ基板において、薄膜トランジスタのチャンネル領域とゲートライン領域は、約０．４μｍ程度の段差を有する。したがって、第１コラムスペーサ３０１ａがセルギャップを維持するために、第３コラムスペーサ３０１ｂは、前記薄膜トランジスタのチャンネル領域とゲートライン領域との間の段差だけ、ＴＦＴ基板と離隔するように形成されなければならないが、実際には前記段差より少ない０．２μｍ程度離隔している。
その理由は、前記第１コラムスペーサ３０１ａが基板を貼り合わせる時、弾性ギャップをもっているためである。すなわち、前記コラムスペーサは、弾性力を有する感光性樹脂で形成されるが、第１コラムスペーサ３０１ａが薄膜トランジスタのチャンネル領域に接触するように設計したため、従来に比べて第１コラムスペーサ３０１ａがＴＦＴ基板に接触する面が減った。したがって、従来のような圧力で基板を貼り合わせても前記第１コラムスペーサ３０１ａがＴＦＴ基板に埋没される部分が増加するようになる。
【００８０】
このような原理により、第１コラムスペーサは、約０．２μｍ乃至０．６μｍ程度の弾性ギャップを有するようになることが分かる。
このように、セルギャップを維持する第１コラムスペーサ３０１ａが０．２μｍ乃至０．６μｍ程度の弾性ギャップをもっているため、重力マージンが増加して重力不良を防止することができる。
【００８１】
これだけではなく、液晶マージン領域に蜂の巣状の第２コラムスペーサ３０１ｃが形成されるため、前記第２コラムスペーサが液晶の流れに障害要素として作用する。したがって、液晶表示装置が立てられた場合にも液晶が過剰に下部側に流れ込むことを防止し、高温であっても前記第２コラムスペーサが重力不良を防止するため、重力不良が顕著に改善される。
そして液晶マージン領域に前記第２コラムスペーサ３０１ｃが形成されるため、液晶マージン領域の体積を減少させ、併せてアクティブ領域から液晶マージン領域へ液晶が流動することを制御するため、アクティブ領域が外力を受けてもアクティブ領域の液晶が液晶マージン領域に少しだけ移動するため、未充填を防止することができる。
このような原理により、本発明は、未充填と重力不良のマージン幅が非常に向上されることが分かる。
【００８２】
１７インチサイズのＴＮモードの液晶表示装置をサンプルとして用いて未充填と重力不良を実験比較した。
図１９Ａ及び１９Ｂは、従来及び本発明の液晶表示装置の液晶滴下量対比の未充填と重力不良を測定したグラフである。
【００８３】
すなわち、図１９Ａのように、従来では液晶滴下量が８９ドット以下では未充填不良が発生し、９０ドット以上では重力不良が発生した。したがって未充填不良と重力不良の全てを解消できるマージンが殆どなかった。
しかし、図１９Ｂのように、本発明に係る液晶表示装置では、液晶滴下量が８９ドット以下では未充填不良が発生し、９８ドット以上でだけ重力不良が発生した。したがって未充填不良と重力不良の全てを解消できるマージンが８ドット程度と大きく増加した。
ここで、図１９Ａと１９Ｂを比較すると、未充填不良発生が起こる部分は、改善されないものと誤解できるが、本発明では従来のような高さでコラムスペーサを形成したが、薄膜トランジスタのチャンネル領域に相応する部分にセルギャップ用の第１コラムスペーサが接触するように設計したため、従来に比べて本発明は、セルギャップがさらに大きく形成される。このように従来に比べてセルギャップが増加したため、未充填不良は、解消されないかのようにデータが作成された。
【００８４】
もし、従来のようなセルギャップを有するようにするために、薄膜トランジスタの段差に相応するだけコラムスペーサの高さを下げて実験したら、前記未充填不良のデータも８９ドット以下に改善されるものと推測される。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１Ａ】従来のコラムスペーサが形成されたカラーフィルタ基板の構造断面図である。
【図１Ｂ】図１Ａのカラーフィルタ基板とＴＦＴ基板との貼り合わせ状態を示した構造断面図である。
【図２Ａ】従来の接触ムラが起こる部位の状態を示した平面図及び断面図である。
【図２Ｂ】従来の接触ムラが起こる部位の状態を示した平面図及び断面図である。
【図３】本発明の一実施例に係る液晶表示装置を示した分解斜視図である。
【図４】本発明の一実施例に係る液晶表示装置の平面図である。
【図５】図４の液晶マージン領域の拡大平面図である。
【図６】液晶注入型液晶表示装置の製造方法のフローチャートである。
【図７】液晶滴下型液晶表示装置の製造方法のフローチャートである。
【図８Ａ】本発明の他の実施例に係るＴＮモードの液晶表示装置のアクティブ領域を示した拡大平面図である。
【図８Ｂ】本発明の他の実施例に係るＴＮモードの液晶表示装置のアクティブ領域を示した拡大平面図である。
【図８Ｃ】本発明の他の実施例に係るＴＮモードの液晶表示装置のアクティブ領域を示した拡大平面図である。
【図８Ｄ】本発明の他の実施例に係るＴＮモードの液晶表示装置のアクティブ領域を示した拡大平面図である。
【図８Ｅ】本発明の他の実施例に係るＴＮモードの液晶表示装置のアクティブ領域を示した拡大平面図である。
【図９Ａ】図８ＡのＩ−Ｉ'線上の第１、第３コラムスペーサを示した断面図である。
【図９Ｂ】図８ＡのＩ−Ｉ'線上の第１、第３コラムスペーサを示した断面図である。
【図１０Ａ】本発明の液晶表示装置の一実施例に係る液晶マージン領域を示した拡大平面図である。
【図１０Ｂ】本発明の液晶表示装置の一実施例に係る液晶マージン領域を示した拡大平面図である。
【図１１Ａ】本発明に係る第３コラムスペーサパターン用マスクの拡大平面図である。
【図１１Ｂ】本発明に係る第３コラムスペーサパターン用マスクの拡大断面図である。
【図１２】本発明の第１実施例に係る液晶マージン領域の構造断面図である。
【図１３】本発明の第２実施例に係る液晶マージン領域の構造断面図である。
【図１４】本発明の第３実施例に係る液晶マージン領域の構造断面図である。
【図１５】本発明に係る液晶表示装置の“Ｕ”チャンネルタイプの薄膜トランジスタの拡大平面図である。
【図１６】前記図１５のＩＩ−ＩＩ'線上の断面構造図である。
【図１７】本発明に係るＩＰＳモードの液晶表示装置の平面図である。
【図１８Ａ】図１７のＩＩＩ−ＩＩＩ'線上の断面図である。
【図１８Ｂ】図１７のＩＶ−ＩＶ'線上の断面図である。
【図１９Ａ】従来の液晶表示装置の液晶滴下量対比で未充填と重力不良を測定したグラフである。
【図１９Ｂ】本発明の液晶表示装置の液晶滴下量対比で未充填と重力不良を測定したグラフである。
【符号の説明】
【００８６】
１００  ガラス基板（第１基板）、１０１  ゲートライン、１０１ａ  ゲート電極、１０２  データライン、１０２ａ  ソース電極、１０２ｂ  ドレイン電極、１０３  画素電極、１０４  半導体層、１０５  ゲート絶縁膜、１０６  保護膜、１０７  共通ライン、１０７ａ  共通電極、１０８  コンタクトホール、１０９、２０５  配向膜、２００  カラーフィルタ基板（第２基板）、２０１  ブラックマトリックス層、２０２  カラーフィルタ層、２０３  共通電極、２０４  オーバーコート層、２５０  液晶層、３０１ａ、３０１ｂ、３０１ｃ  コラムスペーサ、３５０  マスク、３５１  遮光部、３５２  投光部。
【図１Ａ】
2005316375.tif 000003
【図１Ｂ】
2005316375.tif 000004
【図２Ａ】
2005316375.tif 000005
【図２Ｂ】
2005316375.tif 000006
【図３】
2005316375.tif 000007
【図４】
2005316375.tif 000008
【図５】
2005316375.tif 000009
【図６】
2005316375.tif 000010
【図７】
2005316375.tif 000011
【図８Ａ】
2005316375.tif 000012
【図８Ｂ】
2005316375.tif 000013
【図８Ｃ】
2005316375.tif 000014
【図８Ｄ】
2005316375.tif 000015
【図８Ｅ】
2005316375.tif 000016
【図９Ａ】
2005316375.tif 000017
【図９Ｂ】
2005316375.tif 000018
【図１０Ａ】
2005316375.tif 000019
【図１０Ｂ】
2005316375.tif 000020
【図１１Ａ】
2005316375.tif 000021
【図１１Ｂ】
2005316375.tif 000022
【図１２】
2005316375.tif 000023
【図１３】
2005316375.tif 000024
【図１４】
2005316375.tif 000025
【図１５】
2005316375.tif 000026
【図１６】
2005316375.tif 000027
【図１７】
2005316375.tif 000028
【図１８Ａ】
2005316375.tif 000029
【図１８Ｂ】
2005316375.tif 000030
【図１９Ａ】
2005316375.tif 000031
【図１９Ｂ】
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