(57)【要約】【課題】レジスト塗布ブランクスにパターン描画を行う際、予めレジスト塗布ブランクスをサブチャンバーにて一定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）している間にワークチャンバーにてパターン描画を行うフォトマスクの露光方法及びフォトマスク露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】予めレジスト塗布ブランクスを真空状態のサブチャンバーにて所定時間ならし放置（Ｓｏａｋｉｎｇ）している間に、ワークチャンバーの描画装置にてならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクスをパターン描画するフォトマスクの露光方法であり、描画装置が設置されたワークチャンバー１０と、レジスト塗布ブランクスのロード、アンロードを行う２個のサブチャンバー２０と、サブチャンバー３０とで構成されたフォトマスク露光装置とからなる。【選択図】図２
2005229009.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画装置にてレジスト塗布ブランクスをパターン描画する露光方法であって、予めレジスト塗布ブランクスを真空状態のサブチャンバーにて所定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）している間に、ワークチャンバーの描画装置にてならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクスをパターン描画することを特徴とするフォトマスクの露光方法。
【請求項２】
少なくとも以下の工程を備えていることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスクの露光方法。
（ａ）サブチャンバーにレジスト塗布ブランクスをロードする工程。
（ｂ）サブチャンバーを所定の真空状態に排気する工程。
（ｃ）真空状態のサブチャンバーにてレジスト塗布ブランクスを所定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）する工程。
（ｄ）ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクスをワークチャンバーのステージにロードし、描画装置にてパターン描画を行う工程。
（ｅ）パターン描画されたレジスト塗布ブランクスをサブチャンバーにアンロードし、サブチャンバーよりならし放置（Ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクスをワークチャンバーのステージにロードし、描画装置にてパターン描画を行う工程。
（ｆ）サブチャンバーを大気状態に戻し、パターン描画されたレジスト塗布ブランクスを取り出す工程。
【請求項３】
レジスト塗布ブランクスにパターン描画を行うワークチャンバーとレジスト塗布ブランクスのロード、アンロード及びならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）を行うサブチャンバーとを備えたフォトマスク露光装置であって、前記サブチャンバーが、少なくとも２個のサブチャンバーで構成されていることを特徴とするフォトマスク露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レジスト塗布ブランクスにパターン描画を行う際、予めレジスト塗布ブランクスをならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）した後パターン描画を行うフォトマスクの露光方法及びフォトマスク露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近の半導体の高速化、高密度化により、半導体プロセスに用いられるフォトマスクに形成されるパターンも益々微細化し、低欠陥、もしくは無欠陥の高精度フォトマスクが要求されている。
これら低欠陥、もしくは無欠陥の高精度フォトマスクを作製するためには、フォトマスクブランクス、フォトマスク製造工程等の各工程での更なる工程、品質管理を徹底することが必要である。
これらフォトマスクブランクス、フォトマスクの製造工程（レジスト塗布工程、描画工程、現像プロセス工程等）において、レジスト塗布ブランクスにパターン描画を行う描画工程では、最近は露光装置として、電子ビーム露光装置、Ｘ線露光装置等が使われるようになり、真空中でのパターン描画作業が増えている。
【０００３】
上記露光装置は、真空中でのパターン描画を行う露光装置を作業毎に大気に晒すことを回避するために、パターン描画を行うワークチャンバーとレジスト塗布ブランクスのロード、アンロードを行うサブチャンバーとから構成されているのが一般的である（例えば、特許文献１参照。）。
サブチャンバー内にレジスト塗布ブランクスをロードし、サブチャンバーをポンプダウンし、減圧する時に急激な温度変動を伴い、ワークチャンバーにロードした後もレジスト塗布ブランクスの温度が安定しないという現象が発生する。
【０００４】
そのため、各パターン描画前に、温度ならしのため、約１時間程のならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）を行っている。この結果、ワークチャンバーにレジスト塗布ブランクスがロードされても、すぐにパターン描画を開始することができず、ならし放置時間の分パターン描画のスループットが悪化するという問題がある。
また、ならし放置時間が不十分だと、パターン描画の際パターン描画のパターン位置精度（マスク内、マスク間）が悪くなることから、サブチャンバー内にレジスト塗布ブランクスを一定時間（１時間程）ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）して、レジスト塗布ブランクスの温度を一定化することが行われている。
【０００５】
これは、パターン位置精度（マスク内、マスク間）の向上には効果があるが、パターン描画工程のスループットを悪化することになり、フォトマスクのコストアップへの影響は無視できず、問題となっている。
【特許文献１】特開平０５−９０１３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、レジスト塗布ブランクスにパターン描画を行う際、予めレジスト塗布ブランクスをサブチャンバーにて一定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）している間にワークチャンバーにてパターン描画を行うフォトマスクの露光方法及びフォトマスク露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１においては、描画装置にてレジスト塗布ブランクスをパターン描画する露光方法であって、予めレジスト塗布ブランクスを真空状態のサブチャンバーにて所定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）している間に、ワークチャンバーの描画装置にてならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクスをパターン描画することを特徴とするフォトマスクの露光方法としたものである。
【０００８】
また、請求項２においては、少なくとも以下の工程を備えていることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスクの露光方法としたものである。
（ａ）サブチャンバーにマガジンに収納したレジスト塗布ブランクスをロードする工程。（ｂ）サブチャンバーを所定の真空状態に排気（ポンプダウン）する工程。
（ｃ）真空状態のサブチャンバーにてレジスト塗布ブランクスを所定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）する工程。
（ｄ）ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクスをワークチャンバーのステージにロードし、描画装置にてパターン描画を行う工程。
（ｅ）パターン描画されたレジスト塗布ブランクスをサブチャンバーのマガジンにアンロードし、サブチャンバーのマガジンよりならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクスをワークチャンバーのステージにロードし、描画装置にてパターン描画を行う工程。
（ｆ）サブチャンバーを大気状態に戻し、パターン描画されたレジスト塗布ブランクスが収納されたマガジンを取り出す工程。
【０００９】
また、請求項３においては、レジスト塗布ブランクスにパターン描画を行うワークチャンバーとレジスト塗布ブランクスのロード、アンロード及びならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）を行うサブチャンバーとを備えたフォトマスク露光装置であって、前記サブチャンバーが、少なくとも２個のサブチャンバーで構成されていることを特徴とするフォトマスク露光装置としたものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のフォトマスクの露光方法では、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクスをワークチャンバーでパターン描画している間に、所定の真空状態のサブチャンバーにて予めレジスト塗布ブランクスを一定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）することにより、パターン描画前のならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）時間を無くし、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクスをワークチャンバーにロード後直ちにパターン描画を開始できるため、大幅に生産性を向上することができ、パター位置精度の向上に大きく寄与できる。
【００１１】
また、本発明のフォトマスク露光装置は、レジスト塗布ブランクスを真空状態でならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）できる少なくとも２個のサブチャンバーを有しているため、レジスト塗布ブランクスのロード、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）、パターン描画ブランクスのサブチャンバーへのアンロード及びサブチャンバーからのパターン描画塗布ブランクスの取り出し等の一連の作業を効率良く行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
図１に本発明のフォトマスクの露光方法の工程の一例を示す。
請求項1に係る本発明のフォトマスクの露光方法は、予めレジスト塗布ブランクスを真空状態のサブチャンバーにて所定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）している間に、ワークチャンバーの描画装置にてならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブラン
クスをパターン描画するもので、このように、パターン描画前に所定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）する持間をなくすことにより、フォトマスクの生産性を大幅に向上させ、さらに、フォトマスクのパターン位置精度（マスク内、マスク間）を向上させることができるようにしたものである。
【００１３】
請求項２に係る本発明のフォトマスクの露光方法について具体的に説明する。
【００１４】
まず、レジスト塗布ブランクスが収納されたマガジンをサブチャンバーにロードし、排気（ポンプダウン）し、サブチャンバーを所定の真空状態にし、一定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）する（図１（工程１〜３）参照）。真空度としては１．０×１０-4Ｐａｌ程度である。ここで、マガジンに収納するレジスト塗布ブランクスの枚数は、既にワークチャンバーにてパターン描画されたパターン描画ブランクスを収納するため、マガジンの収納枚数から１枚差し引いたものになる。さらに、ワークチャンバーでは、既に、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクスのパターン描画が行われている。
【００１５】
次に、ワークチャンバーでパターン描画が終了した所で、サブチャンバーとワークチャンバーの間に設けられたゲートバルブを開き、パターン描画ブランクスは、移載ロボットを介してサブチャンバーのマガジンへアンロードされる（図１（工程４）参照）。
一方、サブチャンバーにてならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクスは、移載ロボットを介してワークチャンバーへロードされ、露光ステージにセットされる。
【００１６】
次に、ゲートバルブを閉じ、ワークチャンバーでは、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクスのパターン描画を開始する。さらに、サブチャンバーを大気状態にし、サブチャンバーへアンロードしたパターン描画ブランクスを取り出す。
これで、本発明のフォトマスクの露光方法の一連の工程が終了し、この後は、最初の工程１に戻って同様の工程を繰り返す。
【００１７】
請求項３に係る本発明のフォトマスク露光装置について説明する。
図２は、本発明のフォトマスク露光装置の一実施例を示す模式構成図である。
本発明のフォトマスク露光装置は、ワークチャンバー１０と、２個のサブチャンバー２０と、サブチャンバー３０とで構成されており、レジスト塗布ブランクスのワークチャンバー１０へのロード、パターン描画ブランクスのサブチャンバーへのアンロード及びサブチャンバー２０及び３０でのならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）等の作業を効率的に行うようにしたものである。
【００１８】
以下、本発明のフォトマスク露光装置を用いてレジスト塗布ブランクスのならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）及びパターン描画の一連の工程について説明する。
まず、レジスト塗布ブランクス１１が収納されたマガジンをサブチャンバー２０及びサブチャンバー３０にロードし、排気（ポンプダウン）し、サブチャンバー２０及びサブチャンバー３０を所定の真空状態にし、一定時間ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）を開始する。ここで、ワークチャンバー１０では、既に、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクス１１ａのパターン描画が行われている。
【００１９】
次に、ワークチャンバー１０でパターン描画が終了した時点で、サブチャンバー２０とワークチャンバー１０の間に設けられたゲートバルブ２１を開き、パターン描画ブランクス１１ｂは、移載ロボット１３を介してサブチャンバー２０のマガジンへアンロードされる。さらに、サブチャンバー２０にてならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクス１１ａは、移載ロボット１３を介してワークチャンバー１０の露光ステージ１２へロードされる。
【００２０】
次に、ゲートバルブ２１を閉じ、ワークチャンバー１０では、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクス１１ａのパターン描画が開始される。
上記、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクス１１ａのワークチャンバー１０の露光ステージ１２へのロード、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクス１１ａへのパターン描画及びパターン描画ブランクス１１ｂのサブチャンバー２０へのアンロード作業をマガジンにセットされた枚数だけ行う。
【００２１】
次に、サブチャンバー３０とワークチャンバー１０の間に設けられたゲートバルブ３１を開き、サブチャンバー３０より以前にセットされ、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクス１１ａを移載ロボット１３を介してワークチャンバー１０の露光ステージ１２へロードし、パターン描画を行う。
パターン描画が終わったパターン描画ブランクス１１ｂは移載ロボット１３を介してサブチャンバー３０のマガジンにアンロードされる。
【００２２】
上記、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクス１１ａのワークチャンバー１０の露光ステージ１２へのセット、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）の終わったレジスト塗布ブランクス１１ａへのパターン描画及びサブチャンバー３０へのパターン描画ブランクス１１ｂのサブチャンバー２０へのアンロード作業をマガジンに収納された枚数だけ行う。
【００２３】
次に、サブチャンバー３０にてならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクス１１ａをワークチャンバーの露光ステージへロードし、パターン描画を開始する。この時点で、サブチャンバー２０を大気状態にし、パターン描画ブランクス１１ｂが収納されたマガジンをサブチャンバー２０より取り出し、次のレジスト塗布ブランクス１１がセットされたマガジンをサブチャンバー２０へロードし、サブチャンバー２０を排気（ポンプダウン）し、所定の真空状態にしてレジスト塗布ブランクス１１のならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）を開始する。
【００２４】
このように、２個のサブチャンバー２０及びサブチャンバー３０を設けることにより、レジスト塗布ブランクス１１のサブチャンバーへのセット、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）、ワークチャンバーへの露光ステージへのロード、パターン描画及びサブチャンバーへのアンロード等の一連の作業を連続的に行うことができる。このため、サブチャンバーを大気状態にする時間、パターン描画ブランクスのサブチャンバーからの取り出し及びレジスト塗布ブランクスが収納されたマガジンのサブチャンバーへのロード及びサブチャンバーを所定の真空状態にする時間を一連の工程時間から排除でき、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）したレジスト塗布ブランクスへの効率の良いパターン描画を行うことができる。
【００２５】
また、上記２個のサブチャンバー２０及びサブチャンバー３０は、同じような使われ方の事例について説明したが、この方法の場合、マガジンにセットされた塗布ブランクスが全て描画が終わるまで、描画ブランクスを取り出すことができず、時間のロス等が発生することがある。これを解消する方法として、サブチャンバー２０をならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）専用のチャンバー（マガジン有り）、サブチャンバー３０をブランクの出し入れ専用チャンバー（マガジン無し）のように、機能を分けることによって、描画したブランクスを直ちに取り出して、次工程に流せるようなこともできる。
【実施例１】
【００２６】
まず、電子ビーム露光装置が設置されたワークチャンバー１０と、サブチャンバー２０と、サブチャンバー３０とを有するフォトマスク露光装置に、レジスト塗布ブランクス１１が９枚収納されたマガジン（１０枚収納可）をサブチャンバー２０及びサブチャンバー
３０にロードした。
【００２７】
次に、サブチャンバー２０及びサブチャンバー３０を排気（ポンプダウン）し、１．０６×１０-4Ｐａｌの真空状態にし、レジスト塗布ブランクス１１のならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）を開始した。
【００２８】
次に、ゲートバルブ２１を開いて、パターン描画の終わったパターン描画ブランクス１１ｂを移載ロボット１３を介して露光ステージ１２よりサブチャンバー２０のマガジンにアンロードした。
【００２９】
次に、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクス１１ａをサブチャンバー２０のマガジンより移載ロボット１３を介して電子ビーム露光装置の露光ステージ１２にロードし、ゲートバルブ２１を閉めて、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクス１１ａに所定の電子ビームでパターン描画を行った。
【００３０】
上記、サブチャンバー２０のならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクス１１ａの露光ステージへのロード、パターン描画及びパターン描画ブランクス１１ｂのサブチャンバー２０へのアンロード作業を９回繰り返し、サブチャンバー２０に収納された９枚のレジスト塗布ブランクス１１のならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）及び１０枚のパターン描画を終了した。
【００３１】
次に、ゲートバルブ３１を開いて、パターン描画の終わったパターン描画ブランクス１１ｂを移載ロボット１３を介して露光ステージ１２よりサブチャンバー３０のマガジンにアンロードした。
【００３２】
次に、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクス１１ａをサブチャンバー３０のマガジンより移載ロボット１４を介して電子ビーム露光装置の露光ステージ１２にロードし、ゲートバルブ３１を閉めて、ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクス１１ａに所定の電子ビームでパターン描画を行った。
【００３３】
ここで、サブチャンバー２０を大気状態に戻し、サブチャンバー２０にロードされた１０枚のパターン描画ブランクスが収納されたマガジンを取り出し、レジスト塗布ブランクス１１が９枚収納されたマガジン（１０枚収納可）をサブチャンバー２０にロードし、サブチャンバー２０を排気（ポンプダウン）し、１．０６×１０-4Ｐａｌの真空状態にし、レジスト塗布ブランクス１１のならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）を開始した。
【００３４】
上記、サブチャンバー３０のならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクス１１ａの露光ステージへのロード、パターン描画及びパターン描画ブランクス１１ｂのサブチャンバー３０へのアンロード作業を９回繰り返し、サブチャンバー３０に収納された９枚のレジスト塗布ブランクス１１のならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）及び１０枚のパターン描画を終了した。
【００３５】
上記サブチャンバー単位のレジスト塗布ブランクス１１のならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）及びパターン描画を所定回数繰り返した。
このように、本発明のフォトマスク露光装置及び本発明のフォトマスクの露光方法を用いてレジスト塗布ブランクスのならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）及びパターン描画を行うことにより、パターン位置精度（マスク内、マスク間）に優れたフォトマスクを得ることができ、フォトマスクの生産性を大幅に向上させることができた。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明のフォトマスクの露光方法の一例を示す説明図である。
【図２】本発明のフォトマスクの一実施例を示す模式構成図である。
【符号の説明】
【００３７】
１０……ワークチャンバー
１１……レジスト塗布ブランクス
１１ａ……ならし放置（ｓｏａｋｉｎｇ）されたレジスト塗布ブランクス
１１ｂ……パターン描画ブランクス
１２……露光ステージ
２０、３０……サブチャンバー
１３、１４……移載ロボット
２１、３１……ゲートバルブ
【図１】
2005229009.tif 000003
【図２】
2005229009.tif 000004