(57)【要約】【課題】リールツーリールで処理するテープ状ワークを連続処理を行う処理方法において、薬品改良や処理液の変更等による処理槽毎の処理時間の変更に伴う改造を行わずに対応できる処理方法及びその処理装置を提供することにある。【解決手段】予め、処理装置には、処理装置の処理槽内に複数のパス長変更用の抱きローラーを配置しておき、連続処理する時は、抱きローラーの組み合わせによってパスラインの経路を変更することによりパス長を可変させ、処理槽内の通過時間を変動させ、処理時間の長短を制御することを特徴とする処理方法である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リールツーリールで処理するテープ状ワークを連続処理を行う処理方法において、予め、処理装置の処理槽内に複数のパス長変更用の抱きローラーを配置しておき、連続処理する時には、抱きローラーの組み合わせによってパスラインの経路を変更することによりパス長を可変させ、処理槽内の通過時間を変動させ、処理時間の長短を制御することを特徴とする処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はテープ状ワークにて連続処理を行う装置において、パスラインによる処理時間を可変する処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
テープ状ワークにて連続処理を行う装置は、処理槽毎の処理時間により装置長やライン速度が決定してしまい、装置製作後の薬品改良や処理液の変更等による処理時間変更が発生した場合、装置の大幅改造を行わなければならないという問題が発生する。その対応策として種々提案されている（特許文献１参照）。また、現状の装置での処理では、ライン速度を変更して対応するため、生産性が低下する問題が発生する。
【０００３】
以下に公知文献を記す。
【特許文献１】特開平１０―４２５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この発明の目的は、テープ状ワークにて連続処理が採られている装置において、薬品改良や処理液の変更等による処理槽毎の処理時間の変更に伴う改造を行わずに対応できる方法及びその処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の請求項１に係る発明は、リールツーリールで処理するテープ状ワークを連続処理を行う処理方法において、予め、処理装置の処理槽内に複数のパス長変更用の抱きローラーを配置しておき、連続処理する時には、抱きローラーの組み合わせによってパスラインの経路を変更することによりパス長を可変させ、処理槽内の通過時間を変動させ、処理時間の長短を制御することを特徴とする処理方法である。
【発明の効果】
【０００６】
テープ状ワークにて連続処理が採られている装置において、本発明の搬送方法を組み込んだ搬送型処理装置によれば、パス長変更用の抱きローラーを追加するという安価な改造のみで、処理時間の変更が可能となり、処理槽内の薬品改良や処理液の変更等による処理槽毎の処理時間の変更に対応できるパスラインによる処理時間可変方法及びそれを用いた処理装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
図１に本考案の搬送方法の実施形態を示す。まず、本発明の処理装置は、テープ状ワークの基板表裏上に層形成、腐食、洗浄等の連続処理をする設備である。例えば、金属膜めっき装置、薄膜層のエッチング装置、基材の洗浄装置である。テープ状ワーク（３）は、ロール状の巻き取られたフレキシブルシートである。例えば、半導体装置用回路基板に用いる銅箔付き樹脂フイルム等がある。
【０００８】
図１に示すように、処理槽内（１）に複数本の抱きローラー（２）を設置し、処理槽出入口両側に、テープ状ワーク（３）に近接する状態で出入口用抱きローラー（４）を設置する。通常は一方の出入口用抱きローラー（４）通過した後、処理槽内（１）に投入され、直接他方の出入口用抱きローラー（４）迄の距離がパス長であり、パスラインは直線である。前記抱きローラー（２）は、テープ状ワーク（３）と抱き接すると、該テープ状ワ
ークの搬送に従って連動するフリーローラー型のガイドロールである。なお、処理槽（１）に密着する状態で出入口ニップローラー（５）は、処理槽（１）内の薬液等の漏れ防止のローラーである。
【０００９】
一般的に、処理時間は、搬送速度により制御する方法である。前記の方法では、図１の処理槽（１）内には上部に３本及び下部にも３本のパス長変更用の抱きローラー（２）を配置した構造であり、処理時間を延長する場合では、前記６本のパス長変更用の抱きローラー（２）を組み合わせてパスラインの経路の変更によりパス長を延長し、処理時間を延長、最適化を行う。すなわち、抱きローラー（２）が増加するほどパスラインの経路が長くなる。
【００１０】
処理液の処理方法では、図１の処理槽（１）内に処理液を貯め、該処理液槽内に浸漬処理と、又はスプレー処理する方法とがある。スプレー用のノズルは、処理槽（１）の内側よりテープ状ワーク（３）方向に向き合う状態で配置されている。なお、図面上、スプレー用のノズルは省略した。処理装置には、テープ状ワーク（３）を水平方向、又は垂直方向にして投入する搬送方法があり、浸漬処理と、スプレー処理等適宜に最適化することが好ましい。
【実施例】
【００１１】
図１に示す処理装置を用いた実施例を具体的に説明する。
〈実施例１〉
上記実施の形態の機構をそなえた図１に示す浸漬処理の水平搬送型洗浄装置にて、ライン速度を一定に保ち、たとえばパスラインを図２に示す組み合わせの抱きローラーを経由したパターンにて搬送し処理した。パスラインの経路は、図左側の出入口用抱きローラー（４）〜上左側の抱きローラー（２）〜下中央の抱きローラー（２）〜上右側の抱きローラー（２）〜図右側の出入口用抱きローラー（４）を経由した。処理時間は、図１の通常搬送時より約２倍の処理時間となった。当然、パス長でも２倍となるように３本の抱きローラー（２）を組み合わせた。
〈実施例２〉
上記実施の形態の機構をそなえた図１に示す浸漬処理の水平搬送型洗浄装置にて、ライン速度を一定に保ち、たとえばパスラインを図３に示す組み合わせの抱きローラーを経由したのパターンにて搬送し処理した。パスラインの経路は、図左側の出入口用抱きローラー（４）〜下左側の抱きローラー（２）〜上左側の抱きローラー（２）〜下中央の抱きローラー（２）〜上中央の抱きローラー（２）〜下右側の抱きローラー（２）〜上右側の抱きローラー（２）〜図右側の出入口用抱きローラー（４）を経由した。処理時間は、図１の通常搬送時より約４倍の処理時間となった。当然、パス長でも４倍となるように６本の抱きローラー（２）を組み合わせた。
【００１２】
実施例１及び実施例２では、ライン速度は従来と同じ速度であり、装置の生産性は低下せず、処理精度に高い、すなわち清浄度の良いテープ状ワークが得られた。又、装置の費用面においても、固定ローラーを用いる為費用も安価であり、改造時でもより安価で改造できる効果がある。更にライン速度が同一としたため量産時での品質管理面でも標準化できた。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の処理槽の側断面図である。
【図２】本発明の実施例１の側断面図である。
【図３】本発明の実施例２の側断面図である。
【符号の説明】
【００１４】
１…処理槽
２…抱きローラー
３…テープ状ワーク
４…出入口用抱きローラー
５…出入口用ニップローラー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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