(57)【要約】【課題】  マスク及びマスクフレーム組立て装置及び組立て方法を提供する。【解決手段】  マスクと、前記マスクの一端に連結されて引張力を生成するための引張力発生器と、を備えるマスク及びマスクフレーム組立て装置において、前記引張力発生器の一端と前記マスクの一端との間で引張力を感知するための感知手段と、前記感知手段からの信号に基づいて制御信号を発生させるための引張力制御器と、前記制御信号から前記引張力発生器を制御するための制御弁と、を含む引張力制御装置を備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て装置及びマスク及びマスクフレーム組立て方法。【選択図】図４Ｂ
2005174933.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクと、前記マスクの一端に連結されて引張力を生成するための引張力発生器と、を備えるマスク及びマスクフレーム組立て装置において、
前記引張力発生器の一端と前記マスクの一端との間で引張力を感知するための感知手段、前記感知手段からの信号に基づいて制御信号を発生させるための引張力制御器、及び前記制御信号により前記引張力発生器を制御するための制御弁を含む引張力制御装置を備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て装置。
【請求項２】
前記引張力制御装置の感知手段は、ロードセルであることを特徴とする請求項１に記載のマスク及びマスクフレーム組立て装置。
【請求項３】
前記基板の一端を撮影する第１光学手段、前記第１光学手段からの信号を入力される整列制御器、前記整列制御器からの移動信号に基づいて前記基板を移動させる基板移動手段を含む基板自動整列装置をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載のマスク及びマスクフレーム組立て装置。
【請求項４】
マスク及びマスクフレーム組立て装置において、
前記マスク上に配置された基板の一面上の画素を撮影するための光学手段と、前記光学手段を移動させるための光学移動手段と、前記光学手段から入力された信号に基づいて前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを検出する測定制御器と、前記測定制御器から出力された信号を保存するための保存手段と、を含む自動測定装置をさらに備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て装置。
【請求項５】
前記基板の一面上の画素を撮影するための第２光学手段と、前記第２光学手段を移動させるための光学移動手段と、前記第２光学手段から入力された信号に基づいて前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを検出する測定制御器と、前記測定制御器から出力された信号を保存するための保存手段と、を含む自動測定装置をさらに備えることを特徴とする請求項１または３に記載のマスク及びマスクフレーム組立て装置。
【請求項６】
一端がマスクと連結される引張力生成器によって引張力を印加する段階を含むマスク及びマスクフレーム組立て方法において、
前記引張力を印加する段階は、
前記引張力発生器からの引張力を感知するための感知手段、前記感知手段からの信号に基づいて制御信号を発生させるための引張力制御器、及び前記制御信号により前記引張力発生器を制御するための制御弁を含む引張力制御装置を備える段階と、
前記感知手段が前記引張力発生器から印加される引張力を感知する段階と、
前記引張力制御器が前記感知された信号から前記制御信号を生成する段階と、
前記制御弁が前記制御信号から前記引張力発生器を制御する段階と、を備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て方法。
【請求項７】
前記マスク上の基板を整列する段階をさらに含み、前記基板を整列する段階は、
前記基板の上部に配置される第１光学手段、前記第１光学手段からの信号を入力される整列制御器、及び前記整列制御器からの移動信号を入力されて前記基板を移動させる基板移動手段を含む基板自動整列装置を備える段階と、
前記第１光学手段が前記基板の一端を撮影する段階と、
前記整列制御器が、前記第１光学手段からの信号に基づいて前記基板と前記マスク間の誤差を測定する段階と、
前記測定した誤差を既定の許容誤差と比較して前記基板移動手段への移動信号印加の如何を判断する段階と、
前記測定した誤差が前記許容誤差より大きい場合、前記基板移動手段に移動信号を印加する段階と、を備えることを特徴とする請求項６に記載のマスク及びマスクフレーム組立て方法。
【請求項８】
前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを測定する段階をさらに含み、
前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを測定する段階は、
前記基板の上部に配置されて前記基板の一面上の既定の画素を撮影するための第２光学手段と、前記基板の上部で前記第２光学手段を移動させるための光学移動手段と、前記第２光学手段から入力された信号に基づいて前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを検出する測定制御器と、前記測定制御器から出力された信号を保存するための保存手段と、を含む自動測定装置を備える段階と、
前記光学移動手段が前記第２光学手段を前記既定の画素の位置に移動させる段階と、
前記第２光学手段が前記既定の画素を撮影する段階と、
前記測定制御器が前記画素に対する前記基板上パターンの中心線と前記マスク中心線とを認識して前記中心線間の間隔を測定する段階と、
前記間隔に対する測定値を保存手段に保存する段階と、を備えることを特徴とする請求項６または７に記載のマスク及びマスクフレーム組立て方法。
【請求項９】
前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを測定する段階は、既定の全ての画素に対して反復されることを特徴とする請求項８に記載のマスク及びマスクフレーム組立て方法。
【請求項１０】
マスク及びマスクフレーム組立て方法において、
基板とマスク間のＴ／Ｐを測定する段階を含み、
前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを測定する段階は、
前記基板の上部に配置されて前記基板の一面上の既定の画素を撮影するための第２光学手段と、前記基板の上部で前記第２光学手段を移動させるための光学移動手段と、前記第２光学手段から入力された信号に基づいて前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを検出する測定制御器と、前記測定制御器から出力された信号を保存するための保存手段と、を含む自動測定装置を備える段階と、
前記光学移動手段が前記第２光学手段を前記既定の画素の位置に移動させる段階と、
前記第２光学手段が前記既定の画素を撮影する段階と、
前記測定制御器が、前記画素に対する前記基板上パターンの中心線と前記マスク中心線とを認識して前記中心線間の間隔を測定する段階と、
前記間隔に対する測定値を保存手段に保存する段階と、を備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマスク及びマスクフレーム組立て装置及び組立て方法に係り、さらに詳細には引張力制御装置、基板自動整列装置、または自動測定装置をさらに備えるマスク及びマスクフレーム組立て装置、並びにそれを利用したマスク及びマスクフレーム組立て方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
通常、マスク及びマスクフレーム組立て装置は、有機電界発光表示装置を製造する過程で所定パターンの有機膜または電極層を形成するためのマスクとして利用されるか、または平面型カラー陰極線管において、電子銃から放出された電子ビームをパネルの内面に設置された蛍光膜、すなわち、所定パターンの赤色、緑色、青色の蛍光体に正確にランディングさせる色選別機能を有する。このようなマスク及びマスクフレーム組立て体のうち有機発光層またはカソード電極である第２電極を蒸着するためのマスク及びマスクフレーム組立て体の一例が特許文献１に開示されている。ここに開示された蒸着用マスクは、薄板の本体に相互所定間隔で離隔されるストライプ状のスロットまたは四角形や円形のドット状のメッシュが形成されたものであって、フレームに引張力が加えられた状態で固定される。特許文献２に開示されたマスクは、金属薄板にスリット部とブリッジ部とがメッシュ状を成す。特許文献３に開示されているマスクは、電極マスク部と、一対の端子マスク部とを有している。電極マスク部は、カソード電極、すなわち、第２電極間のギャップに該当する幅を備え、相互平行に設置されるストライプ状のマーキング部と複数のマーキング部との両端をそれぞれ連結する連結部を備える。
【０００３】
前述したように開示された従来のマスクは、例えば、金属薄板にストライプ状の長孔が形成されてなるので、金属薄板のエッジを支えるフレームに支えられても蒸着工程時にマスクの自重によって垂れることによってストリップが基板に密着されない問題点がある。
【０００４】
したがって、マスク及びマスクフレームの組立ては、図１に示されるようにマスクに、示された矢印方向に一定の引張力が加えられた状態でなされる。図２Ａにはマスク及びマスクフレームを組立てる通常の過程が示されている。マスクフレーム１０（図１参照）を装置、例えば、蒸着装置（図示せず）の上部に配置した後（Ｓ２１）、マスクフレーム１０の上端にマスク２０（図１参照）を配置する（Ｓ２２）。次いで、図２Ｂに示されるような引張力生成器１１０を通じてマスク２０に１次的に引張力が加えられる。マスク２０の一端はクランプ１４０を通じて引張力生成器１１０の一端に連結され、引張力生成器１１０の下端は支持部材１２０に配置される。支持部材１２０は固定手段でも、移動可能な手段でもよい。１次的に引張力が加えらえたマスク２０の上端に基板３０（図２Ｃ参照）を配置し、基板３０とマスク２０とを整列させる（Ｓ２４）。従来の技術による整列方法では、ＣＣＤカメラ（図示せず）によって撮影された画像を肉眼で観察し、手で基板３０を移動させて基板３０とマスク２０を整列させる方法が使われる。次いで、基板３０及びマスク２０の整列過程で損失された引張力を補償するためにマスク２０に引張力が２次的に加えられることもある（Ｓ２５）。基板３０の活性領域の一部画素を拡大すれば、図２Ｄに示されるようにマスク２０のメッシュ（図面では、スリット状とドット状とが示される）の領域内に基板３０のパターン３１が位置する。基板３０のパターン３１の中心線とマスク２０のメッシュの中心線間に生じる一定の間隔のＴ／Ｐ（Ｔｏｔａｌ Ｐｉｔｃｈ）（ドット状の場合、Ｔ／Ｐ１、Ｔ／Ｐ２）を測定する（Ｓ２６）。従来の技術による測定方法では、ＣＣＤカメラ（図示せず）からの画像を肉眼を通じて測定及び記録する。次いで、マスク２０のエッジ領域を溶接、例えば、シーム溶接を通じてマスクフレーム１０に固定させる（Ｓ２７）。固定後、組立てられたマスク２０及びマスクフレーム１０の組立て体を一定時間放置させた後（Ｓ２８）、再度基板３０とマスク２０間のＴ／Ｐを測定する（Ｓ２９）。
【０００５】
このようなマスク及びマスクフレームの組立て過程を従来の技術によって実施する場合、多様な問題点がある。
【０００６】
まず、マスクに引張力を印加する場合、引張力生成器からマスクに伝達される引張力は、力と変形との関係、すなわち、引張力生成器から印加される引張力とマスクの変形量との関係から近似的に計算された値を使用するが、従来の技術による引張力生成器、例えば、シリンダとピストンとより構成されたアクチュエータの場合、印加される引張力の近似値を推定するだけで、正確な力の制御がなされない。したがって、開ループ方式によってなされる従来の技術によれば、マスク、特に微細金属マスク（Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ：ＦＭＭ）を使用する場合、目標設定値未満の引張力が印加されてマスクの自重による垂れを防止できないか、または目標設定値以上の引張力が印加されて過重な引張力によるマスク損傷を誘発する恐れもある。
【０００７】
また、マスクと基板とを整列する過程は、手作業でなされるため、整列過程の精密度と作業信頼性とが大きく低下するという問題もある。
【０００８】
そして、基板上の活性領域の画素に対してマスクメッシュの中心線と基板上パターンの中心線間のＴ／Ｐを測定及び記録する場合、従来の技術によれば、作業者が肉眼で直接測定して記録するため、肉眼測定による測定精密度が大きく低下するだけでなく、作業者間の測定値が相異なるなど作業散布が発生する恐れもあり、正確度及び生産性が大きく低下するという問題をもたらす。
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−０６０５８９号公報
【特許文献２】特開平１１−０７１５８３号公報
【特許文献３】特開２０００−１２２３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、前記問題点を克服するために改善された構造のマスク及びマスクフレーム組立て装置を提供することである。
【００１１】
本発明の他の目的は、前記改善された構造を備えるためのマスク及びマスクフレーム組立て方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するための本発明の一面によれば、マスク、前記マスクの一端に連結されて引張力を生成するための引張力発生器を備えるマスク及びマスクフレーム組立て装置において、前記引張力発生器の一端と前記マスクの一端との間で引張力を感知するための感知手段と、前記感知手段からの信号に基づいて制御信号を発生させるための引張力制御器と、前記制御信号から前記引張力発生器を制御するための制御弁と、を含む引張力制御装置を備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て装置を提供する。
【００１３】
本発明の他の一面によれば、前記引張力制御装置の感知手段はロードセルであることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て装置を提供する。
【００１４】
本発明のさらに他の一面によれば、前記基板の一端を撮影する第１光学手段、前記第１光学手段からの信号を入力される整列制御器、前記整列制御器からの移動信号に基づいて前記基板を移動させる基板移動手段を含む基板自動整列装置をさらに備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て装置を提供する。
【００１５】
本発明のさらに他の一面によれば、マスク及びマスクフレーム組立て装置において、前記マスク上に配置された基板の一面上の画素を撮影するための光学手段と、前記光学手段を移動させるための光学移動手段と、前記光学手段から入力された信号に基づいて前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを検出する測定制御器と、前記測定制御器から出力された信号を保存するための保存手段と、を含む自動測定装置をさらに備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て装置を提供する。
【００１６】
本発明のさらに他の一面によれば、前記基板の一面上の画素を撮影するための第２光学手段と、前記第２光学手段を移動させるための光学移動手段と、前記第２光学手段から入力された信号に基づいて前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを検出する測定制御器と、前記測定制御器から出力された信号を保存するための保存手段と、を含む自動測定装置をさらに備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て装置を提供する。
【００１７】
本発明のさらに他の一面によれば、一端がマスクと連結される引張力生成器によって引張力を印加する段階を含むマスク及びマスクフレーム組立て方法において、前記引張力を印加する段階は、前記引張力発生器からの引張力を感知するための感知手段、前記感知手段からの信号に基づいて制御信号を発生させるための引張力制御器、及び前記制御信号から前記引張力発生器を制御するための制御弁を含む引張力制御装置を備える段階と、前記感知手段が前記引張力発生器から印加される引張力を感知する段階と、前記引張力制御器が前記感知された信号から前記制御信号を生成する段階と、前記制御弁が前記制御信号により前記引張力発生器を制御する段階と、を備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て方法を提供する。
【００１８】
本発明のさらに他の一面によれば、前記マスク上の基板を整列する段階をさらに含み、前記基板を整列する段階は、前記基板の上部に配置される第１光学手段、前記第１光学手段からの信号を入力される整列制御器、前記整列制御器からの移動信号を入力されて前記基板を移動させる基板移動手段を含む基板自動整列装置を備える段階と、前記第１光学手段が前記基板の一端を撮影する段階と、前記整列制御器が前記第１光学手段からの信号に基づいて前記基板と前記マスク間の誤差（ずれ）を測定する段階と、前記測定した誤差を既定の許容誤差と比較して前記基板移動手段への移動信号印加の如何を判断する段階と、前記測定した誤差が前記許容誤差より大きい場合、前記基板移動手段に移動信号を印加する段階と、を備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て方法を提供する。
【００１９】
本発明のさらに他の一面によれば、前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを測定する段階をさらに含み、前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを測定する段階は、前記基板の上部に配置されて前記基板の一面上の既定の画素を撮影するための第２光学手段と、前記基板の上部で前記第２光学手段を移動させるための光学移動手段と、前記第２光学手段から入力された信号に基づいて前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを検出する測定制御器と、前記測定制御器から出力された信号を保存するための保存手段と、を含む自動測定装置を備える段階と、前記光学移動手段が前記第２光学手段を前記既定の画素の位置に移動させる段階と、前記第２光学手段が前記既定の画素を撮影する段階と、前記測定制御器が前記画素に対する前記基板上パターンの中心線と前記マスク中心線とを認識して前記中心線間の間隔を測定する段階と、前記間隔に対する測定値を保存手段に保存する段階と、を備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て方法を提供する。
【００２０】
本発明のさらに他の一面によれば、前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを測定する段階は、既定の全ての画素に対して反復されることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て方法を提供する。
【００２１】
本発明のさらに他の一面によれば、マスク及びマスクフレーム組立て方法において、基板とマスク間のＴ／Ｐを測定する段階をさらに含み、前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを測定する段階は、前記基板の上部に配置されて前記基板の一面上の既定の画素を撮影するための第２光学手段と、前記基板の上部で前記第２光学手段を移動させるための光学移動手段と、前記第２光学手段から入力された信号に基づいて前記基板と前記マスク間のＴ／Ｐを検出する測定制御器と、前記測定制御器から出力された信号を保存するための保存手段と、を含む自動測定装置を備える段階と、前記光学移動手段が前記第２光学手段を前記既定の画素の位置に移動させる段階と、前記第２光学手段が前記既定の画素を撮影する段階と、前記測定制御器が前記画素に対する前記基板上パターンの中心線と前記マスク中心線とを認識して前記中心線間の間隔を測定する段階と、前記間隔に対する測定値を保存手段に保存する段階と、を備えることを特徴とするマスク及びマスクフレーム組立て方法を提供する。
【発明の効果】
【００２２】
本発明は、次のような効果を有する。
【００２３】
本発明の一実施例によるマスク及びマスクフレーム組立て装置及び組立て方法は、引張力制御装置を通じてマスクに加えられる引張力を一定の目標値に維持することによって、マスクに目標値より小さな引張力を印加させてマスクが自重によって垂れるか、またはマスクに目標値より大きい引張力を印加させてマスクを損傷及び破損する問題を解消できる。
【００２４】
一方、本発明の他の一実施例によるマスク及びマスクフレーム組立て装置及び組立て方法は、自動整列装置を通じて、従来の手作業でなされた基板とマスク間の整列を自動化させることによって、作業者間の作業散布による整列精密度の低下を防止できる。
【００２５】
また一方、本発明のさらに他の一実施例によるマスク及びマスクフレーム組立て装置及び組立て方法は、基板とマスク間のＴ／Ｐ自動測定装置を通じて、従来肉眼及び手作業でなされたＴ／Ｐ測定を自動化することによって、作業者間の作業散布による測定精密度の低下を防止し、既定の位置への円滑な移動を通じて従来の方法で問題となった作業時間を短縮することによって生産性を増大することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施例によるマスクフレーム組合体及びこれを使用して基板を整列する方法を説明する。
【００２７】
図３は、本発明によるマスク及びマスクフレーム組立て装置の概略図である構成図を示す。本発明の一実施例によれば、マスク及びマスクフレーム組立て装置は、引張力制御装置２００を備え、引張力制御装置２００以外に自動整列装置３００及び自動測定装置４００のうち一つ以上をさらに備え、マスク及びマスクフレーム組立て装置が自動測定装置４００のみをさらに備えることもある。引張力制御装置２００、自動整列装置３００及び自動測定装置４００は、後述するように個々の制御器を通じて制御されることもあり、個々の制御器は制御装置１００内に統合されることもある。
【００２８】
図４Ａには、本発明の一実施例によって備えられる引張力制御装置の概略的な部分断面図が示されている。マスク２０は、マスクフレーム１０の一面上に配置される。マスク２０の一端はクランプ２４０を通じて引張力生成器２１０に連結される。クランプ２４０と引張力生成器２１０の間には感知手段が配置されてマスク２０に実際に印加される引張力を感知する。前記感知手段には、引張力と変形量との関係を正確に表すロードセル２３０を使用することが望ましい。図４Ｂには引張力制御装置２００の細部構成図が示され、図４Ｃには引張力制御装置２００の制御ブロック線図が示される。図４Ｂにおいて、前記ロードセル２３０で感知された引張力信号は、引張力制御器２６０に伝達されて既定の目標引張力Ｆｉｎと実際印加された引張力Ｆｏｕｔ間の差から制御信号ｕを導出した後、これを制御手段、例えば圧縮空気などの作動流体の流出入を遮断及び導通可能なサーボ弁２４０及び作動流体の引張力生成器への流出入を選択するマスター弁（ソレノイド弁）２５０のような制御弁に伝達し、制御信号ｕによって制御弁が引張力生成器２１０を制御してマスク２０に印加される引張力を調節する。
【００２９】
一方、本発明のさらに他の一実施例によれば、図５Ａに示されるような基板３０とマスク２０とを自動整列するための自動整列装置を備えることもある。図５Ｂに示されるように、自動整列装置３００は、基板３０の一端を撮影する第１光学手段３２０、第１光学手段３２０からの映像信号に基づいて移動信号を生成する整列制御器３４０、及び整列制御器３４０からの移動信号に基づいて基板３０を移動させる基板移動手段３３０を備える。詳細には、マスク２０に載置された基板３０の上部には光学手段３２０が配置され、透明な材質より形成される基板３０の一端、すなわち、非活性領域には整列のための整列マーク３１０が配置される。整列マーク３１０に対応する位置のマスク２０上には整列貫通孔２１が形成され、マスクフレーム１０上には他の整列マーク１１が配置される。図６Ａには基板の自動整列過程が示されている。基板３０の上部に配置された光学手段３２０、例えば、ＣＣＤカメラは基板３０の非活性領域の整列マーク３１０に対応する位置で当該領域を画像撮影する（Ｓ３１０）、整列制御器３４０は、入力された撮影映像から基板、マスク及びマスクフレーム、さらに詳細には基板の非活性領域に配置された整列マーク３１０と、マスクフレームのそれに対応する位置に配設された整列マーク１１及びマスクに形成された貫通孔２１を認識し（Ｓ３２０）、これら整列マーク間の間隔、すなわち位置誤差（ずれ）を測定する（Ｓ３３０）。次いで、測定された位置誤差を既定の許容誤差と比較し（Ｓ３４０）、位置誤差が許容誤差より小さな場合、自動整列段階を終了する。もし、位置誤差が許容誤差より大きい場合、自動整列段階は終了せず、整列制御器３４０は位置誤差から移動信号を生成した後にそれを基板移動手段３３０に出力して、基板移動手段３３０を通じて基板３０を所望の位置に移動させる（Ｓ３５０）。次いで、前記段階Ｓ３１０以後の過程を反復する。
【００３０】
また一方、本発明のさらに他の一実施例によれば、図５Ｂにさらに示されるように、基板３０とマスク２０間のＴ／Ｐを自動測定するための自動測定装置４００を備えることもある。自動測定装置４００は、基板３０の一面上の既定の画素を撮影するための第２光学手段４１０と、第２光学手段４１０を支持する支持手段４２１及び駆動手段４２２より構成される光学移動手段４２０と、第２光学手段４１０で撮影された画像に基づいてマスク２０のメッシュの中心線と基板３０上パターンの中心線とを認識してこれら間のＴ／Ｐを測定し、光学移動手段４２０に移動信号を送出する測定制御器４３０と、そして測定制御器４３０から測定されたＴ／Ｐ信号を保存するための保存手段４４０と、を含む。図６Ｂに示されるように、Ｔ／Ｐ測定を開始する場合、既定の位置に第２光学手段４１０、例えば、ＣＣＤカメラを移動させる（Ｓ４１０）。第２光学手段４１０で撮影された画像は測定制御器４３０に送出され、測定制御器４３０は、この画像信号からマスク２０と基板３０、すなわち、既定位置に対するマスク２０のメッシュと基板３０上パターン３１とを認識し（図２Ｄ参照）、マスク２０のメッシュと基板３０上パターン３１との中心線を認識して（Ｓ４２０）、これら間のＴ／Ｐを測定する（Ｓ４３０）。測定されたＴ／Ｐを保存手段４４０に送出及び保存する（Ｓ４４０）。そして、このようなＴ／Ｐの自動測定段階は、既定の全ての画素に対して反復されることもあるが、これは独自的に実施されることもあり、前記引張力制御装置または自動整列制御装置と共にまたは独自的に設備及び実施されることもある。
【００３１】
そして、前述した制御器、引張力制御器２６０、整列制御器３４０及び測定制御器４３０は個別に構成されるか、または一体型に制御装置１００（図３参照）に統合されることもあり、第１光学手段３２０及び第２光学手段４１０は個別に構成されることもあり、同じ光学手段が個々の役割を行うこともある。
【００３２】
本発明は、図面に示された一実施例を参考として説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施例が可能であることが分かる。したがって、本発明の保護範囲は、特許請求の範囲の技術的思想によって決定されなければならない。
【産業上の利用可能性】
【００３３】
本発明は有機電界発光表示装置をはじめとした平板表示装置の製造工程中の蒸着装置として使用され、それ以外にも各種の電子装置の製造工程で薄膜蒸着装置として使用されうる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】引張力が加えられる従来のマスク及びマスクフレームの分離斜視図である。
【図２Ａ】従来の技術によるマスク及びマスクフレームの組立てフローチャートである。
【図２Ｂ】従来の技術による引張力制御装置の概略的な部分断面図である。
【図２Ｃ】従来の技術による基板整列方法の模式図である。
【図２Ｄ】基板の活性領域において、基板パターンの中心線とマスクメッシュ（スリット状またはドット状）の中心線間のＴ／Ｐを表す概略図である。
【図３】本発明の一実施例によるマスクフレーム組合わせ体の組立て制御装置の構成概念図である。
【図４Ａ】本発明の一実施例による引張力制御装置の概略的な部分断面図である。
【図４Ｂ】本発明の一実施例による引張力制御装置の細部構成図である。
【図４Ｃ】本発明の一実施例による引張力制御装置の制御ブロック線図である。
【図５Ｂ】本発明の一実施例による自動整列装置及び自動測定装置を示す概略図である。
【図６Ａ】本発明の一実施例による基板を自動整列する方法のフローチャートである。
【図６Ｂ】本発明の一実施例による基板とマスク間のＴ／Ｐを自動測定及び保存する方法のフローチャートである。
【符号の説明】
【００３５】
２１０  引張力生成器
２３０  感知手段
２４０  クランプ
２５０  マスター弁（ソレノイド弁）
２６０  引張力制御器
【図１】
2005174933.tif 000003
【図２Ａ】
2005174933.tif 000004
【図２Ｂ】
2005174933.tif 000005
【図２Ｃ】
2005174933.tif 000006
【図２Ｄ】
2005174933.tif 000007
【図３】
2005174933.tif 000008
【図４Ａ】
2005174933.tif 000009
【図４Ｂ】
2005174933.tif 000010
【図４Ｃ】
2005174933.tif 000011
【図５Ａ】
2005174933.tif 000012
【図５Ｂ】
2005174933.tif 000013
【図６Ａ】
2005174933.tif 000014
【図６Ｂ】
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