(57)【要約】【課題】  表示パネルの品質管理を容易に実現可能とし、品質及び信頼性を向上させる。【解決手段】  主面上に発光素子とアクティブ素子とで構成した多数の表示画素ＳＰをマトリクス状に配置した画素回路からなる表示領域ＡＲを有する透光性ガラス基板ＳＵＢ１と、この透光性ガラス基板ＳＵＢ１の主面を覆い、且つ透光性ガラス基板ＳＵＢ２の周縁部にシール剤ＳＥＬを介在させて気密封止された封止ガラス基板ＳＵＢ２とを備え、透光性ガラス基板ＳＵＢ１の主面上の表示領域ＡＲの外側に発光素子とパッシブ素子とで構成したダミー画素ＤＰが配置され、表示画素ＳＰ及びダミー画素ＤＰは夫々透光性ガラス基板ＳＵＢ１の主面上に陽極ＡＤ，有機多層膜ＥＬＭ及び陰極ＫＤが順次積層して形成され、ダミー画素ＤＰにおいて、有機多層膜ＥＬＭは、少なくとも陰極ＫＤの一部の削除により露出され、且つ陰極ＫＤの残された他部と陽極ＡＤとの間に電流通路が形成されている。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面上に発光素子とアクティブ素子とで構成した多数個の第１の画素をマトリクス状に配置した画素回路からなる表示領域を有する第１の基板と、前記第１の基板の主面を覆い、且つ前記第１の基板の周縁部にシール剤を介在させて気密封止された第２の基板とを備え、前記第１の基板の主面上の前記表示領域外に発光素子とパッシブ素子とで構成した少なくとも１個の第２の画素が配置され、前記第１の画素及び前記第２の画素は夫々前記第１の基板の主面上に第１の電極，発光層または当該発光層を含む多層膜及び第２の電極が順次積層して形成され、前記第２の画素において、前記多層膜は、少なくとも前記第２の電極の一部の削除により露出され、且つ前記第２の電極の残された他部と前記第１の電極との間に電流通路を形成することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第２の電極の一部の削除により除去された面積が当該第２の電極の面積の０．０１％乃至９５％の範囲とすることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第２の電極の一部の削除により除去された形状が矩形状とすることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２の電極の一部の削除により除去された部分をＹＡＧパルスレーザの照射により除去された形状とすることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２の電極の一部の削除により除去された部分は当該第２の電極の非形成部とすることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記載の表示装置。
【請求項６】
前記複数の第１の画素と第２の画素とは個別に駆動させることを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れかに記載の表示装置。
【請求項７】
前記複数の第１の画素はアクティブマトリクス駆動させ、前記第２の画素はパッシブマトリクス駆動させることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関し、特に有機発光素子を用いた有機ＥＬ表示装置に係り、詳細には、表示領域外に表示画素の発光領域の劣化を加速させるダミー画素を有する表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネル型の表示装置として液晶表示装置（ＬＣＤ），プラズマ表示装置（ＰＤＰ），電界放出型表示装置（ＦＥＤ）及び有機ＥＬ表示装置（ＯＬＥＤ）等が実用化ないしは実用化研究段階にある。中でも、有機ＥＬ表示装置は、薄型，軽量の自発光型表示装置の典型として将来の表示装置として極めて有望な表示装置である。この有機ＥＬ表示装置には、所謂ボトムエミッション型とトップエミッション型とがある。
【０００３】
ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置は、ガラス基板を好適とする絶縁性基板上に第１の電極または一方の電極としての透光性電極（ＩＴＯ等），電界の印加で発光する有機発光層を含む有機多層膜，第２の電極または他方の電極として光反射性の金属電極（Ａｌ等）を順次積層した発光機構で有機発光素子が構成されている。この有機発光素子をマトリクス状に多数配列し、それらの積層構造を覆って封止キャップ（封止缶とも言う）称する他の基板を設け、上記発光構造を外部の雰囲気から遮断している。
【０００４】
そして、例えば透光性電極を陽極とし、光反射性の金属電極を陰極として両者の間に電界を印加することによって有機多層膜にキャリア（電子と正孔）が注入され、この有機多層膜が発光する。この発光をガラス基板側から外部に出射する構成となっている。
【０００５】
一方、トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置は、上述した一方の電極を光反射性を有するＡｌ等の金属電極とし、他方の電極をＩＴＯ等の透光性電極とし、両者の間に電界を印加することによって有機多層膜が発光し、この発光を上述した他方の電極側から出射する構成となっている。このトップエミッション型では、ボトムエミッション型における封止キャップとしてガラス板を好適とする透光性板材が使用される。
【０００６】
この有機発光素子を用いた有機ＥＬ表示装置は、主面上に有機発光素子を形成した絶縁性基板と、この有機発光素子を保護する封止キャップとを対向させ、両基板の周縁部にシール材を塗布し硬化させ、貼り合わせてその内部を外部雰囲気から隔離して封止される。
【０００７】
また、このように構成される有機ＥＬ表示装置は、有機発光素子を製作する際に有機多層膜が空気中の水分やその他酸素等のガス成分を吸着し、これによって短時間で発光特性が劣化する。このために製作時には、封止空間の内部の除湿を行う目的でボトムエミッション型では封止キャップの内側に、トップエミッション型では絶縁性基板の内側に乾燥剤（デシカント）を実装させることが通常行われている。
【０００８】
さらに、このように構成される有機ＥＬ表示装置では、陰極及び有機多層膜は、水，酸素，熱または紫外線に対して耐性が低く、特に水は有機多層膜に多大な影響を与えて発光が阻害されて非発光部となる所謂ダークスポットと称される欠陥の発生の最大の原因となる。このため、信頼性の高い有機ＥＬ表示装置を実現するためには、これらの要素が陰極及び有機多層膜に侵入するのを防止する必要がある。
【０００９】
また、このために有機ＥＬ表示装置の製作時に封止キャップにより封止される封止空間内に乾燥した不活性気体を封入している。この状態をパネル化した後も維持させる必要性があるが、長期間の使用に対して外部の水分子がシール材を介して封止空間内に侵入することが考えられる。そこでパネル化された後に外部より侵入した水分子を吸収して封止空間内を常時封止時の適切な乾燥状態を保持させるために封止キャップ内に乾燥剤を実装するようにしている。
【００１０】
このような上記水分子等の侵入の対策を施したものとしては、基板上で表示領域以外の領域に水分子を吸着することにより色が変化するインジケータを配設し、封止空間内に侵入した水分量を検出することによって工場出荷段階における有機ＥＬ表示装置の寿命をある程度予測可能とした構造が下記特許文献１に開示されている。
【特許文献１】特開２００３−１５７９７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、このように構成された有機ＥＬ表示装置では、パッケージのシール構造における密着性の良否の検査方法として、シール構造の幅及びその高さの測定検査，ボイドの有無，リーク箇所の有無，シール構造の剥離部の有無等の検査は、顕微鏡による検査に頼っていた。このためにこれら全ての項目の検査に要する作業（検査工程）が極めて煩雑となるという課題があった。
【００１２】
また、この検査方法は、パッケージ内の水分濃度が有機発光素子に問題のあるレベルであるのか否かを直接に判断することができないという課題があった。すなわち、シール構造に微小なリークパスが存在しても発見できない可能性が極めて高い。例えば、このようなリークパスが発見するには、極めて高価な検査設備が必要となるとともに、その検査には長時間の検査工程を必要とし、多大な検査費用が要するという課題があった。
【００１３】
したがって、本発明は前述した従来の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、空気中の水分やその他酸素等のガス成分の侵入によるダークスポットの発生を直接的に検査可能とすることにより、表示パネルの品質管理を容易に実現可能とし、品質及び信頼性を向上させることができる表示装置を提供することにある。
【００１４】
また、本発明の他の目的は、空気中の水分やその他酸素等のガス成分の侵入によるダークスポットの発生を直接的に検査可能とすることにより、高価な検査設備を不要とし、抜けのない確実なリーク検査を実現可能となり、検査工程数を大幅に低減させ、低コストで高生産性を実現可能とする表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
このような目的を達成するために本発明による表示装置は、主面上に発光素子とアクティブ素子とで構成した多数個の第１の画素をマトリクス状に配置した画素回路からなる表示領域を有する第１の基板と、この第１の基板の主面を覆い、且つ第１の基板の周縁部にシール剤を介在させて気密封止された第２の基板とを備え、第１の基板の主面上の表示領域外に発光素子とパッシブ素子とで構成した少なくとも１個の第２の画素が配置され、第１の画素及び第２の画素は夫々第１の基板の主面上に第１の電極，発光層またはこの発光層を含む多層膜及び第２の電極が順次積層して形成され、第２の画素において、多層膜は、少なくとも第２の電極の一部の削除により露出され、且つ第２の電極の残された他部と第１の電極との間に電流通路を形成することにより、多層膜の露出部分がパッケージ内の水分濃度のインジケータとなり、背景技術の課題を解決することがきできる。
【００１６】
また、上記構成において、第２の電極の一部の削除により除去された面積が当該第２の電極の面積の０．０１％乃至９５％の範囲とすることにより、多層膜の露出部分がパッケージ内の水分濃度のインジケータとなり、背景技術の課題を解決することがきできる。
【００１７】
また、上記構成において、第２の電極の一部の削除により除去された形状が矩形状とすることにより、多層膜の露出部分がパッケージ内の水分濃度のインジケータとなり、背景技術の課題を解決することがきできる。
【００１８】
また、上記構成において、第２の電極の一部の削除により除去された部分をＹＡＧパルスレーザの照射により除去された形状とすることにより、多層膜の露出部分がパッケージ内の水分濃度のインジケータとなり、背景技術の課題を解決することがきできる。
【００１９】
また、上記構成において、第２の電極の一部の削除により除去された部分は当該第２の電極の非形成部とすることにより、多層膜の露出部分がパッケージ内の水分濃度のインジケータとなり、背景技術の課題を解決することがきできる。
【００２０】
また、上記構成において、複数の第１の画素と第２の画素とは個別に駆動させることにより、第２の画素の多層膜の露出部分がパッケージ内の水分濃度のインジケータとして機能が得られ、背景技術の課題を解決することがきできる。
【００２１】
また、上記構成において、表示領域ＡＲ内の多数個の第１の画素はアクティブマトリクス駆動させ、第２の画素はパッシブマトリクス駆動させることにより、第２の画素の多層膜の露出部分がパッケージ内の水分濃度のインジケータとして機能が得られ、背景技術の課題を解決することがきできる。
【００２２】
なお、本発明は、上記各構成及び後述する実施の形態に記載される構成に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱することなく、種々の変更が可能であることは言うまでもない。
【発明の効果】
【００２３】
本発明による表示装置によれば、第１の基板の主面上の表示領域外に発光素子とパッシブ素子とで構成した少なくとも１個の第２の画素を配設し、この第２の画素において、その多層膜の少なくとも第２の電極の一部の削除により露出させることにより、多層膜の露出部分がパッケージ内の水分濃度のインジケータとなり、表示パネル内に水分の侵入により発生し得るダークエリアを直接的に検査することができるので、検査漏れのない確実なリーク検査が可能となり、完成後に起こり得る不良表示パネルを予め選別することができるので、表示パネルの品質及び信頼性を大幅に向上させることができるという極めて優れた効果が得られる。
【００２４】
また、本発明による表示装置によれば、表示パネルのシール構造の良否を簡便に判定することができるので、現状の高価な検査設備を不要として表示パネルの検査コストを大幅に低減させるとともに、表示パネルの品質検査が容易に実現可能となり、検査コストを大幅に低減させることができる。
【００２５】
さらに、本発明によれば、水分の侵入によるダークエリアの発生を直接検査することができるので、表示パネルの品質管理が容易に行うことができるとともに、検査費用を大幅に低減させることができるなどの極めて優れた効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の具体的な実施の形態について、実施例の図面を参照して詳細に説明する。
【実施例１】
【００２７】
図１（ａ），（ｂ）は、本発明による表示装置の実施例１を説明する前に本発明の要旨を容易に理解にするためにダークスポットの発生のメカニズムについて説明する図であり、図１（ａ）は有機ＥＬ表示装置を構成する有機発光素子からなる表示画素ＳＰの平面図、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ´線の断面図である。
【００２８】
図１において、ボトムエミッション型の有機発光素子は、ガラス基板を好適とする透光性基板ＳＵＢ上に例えばＩＴＯなどからなる陽極ＡＤ，電界の印加で発光する有機多層膜ＥＬＭ，光反射性を有する弗化リチウム及びアルミニウムなどからなる陰極ＫＤを順次積層した発光機構により構成され、この有機発光素子（表示画素ＳＰ）がマトリクス状に多数個配列され、これらの有機発光素子を覆って図示しない封止キャップがシール剤により封止されてパッケージ化され、この有機発光素子を外部の雰囲気から遮断されている。
【００２９】
このように構成される有機発光素子は、有機多層膜ＥＬＭは水分や酸素に触れると、直ぐに発光しなくなる。また、陰極ＫＤは陰極本来の作用の他に水分のパッシベーション作用も同時に有している。しかしながら、パッケージ内の水分濃度が高く、かつ陰極ＫＤにピンホールＰＨが存在すると、図１（ａ）に示すように表示画素ＳＰの発光エリア内にダークスポットＤＳと呼ばれる非発光欠陥部が発生する。
【００３０】
このダークスポットＤＳは、陰極ＫＤのピンホールＰＨから有機多層膜ＥＬＭに水分が浸入して有機材料が変質して発光しなくなるために発生する。陰極ＫＤにピンホールＰＨが存在しないと、例えばパッケージ内の水分濃度が比較的高くても、ダークスポットＤＳは発生し難い。本発明では、このダークスポットＤＳの発生メカニズムを積極的にパッケージの良否判定検査に利用するものである。
【００３１】
次に図面を参照して本発明による表示装置の実施例１を詳細に説明する。
図２は、本発明による表示装置として有機ＥＬ表示装置の全体構造を模式的に説明する図であり、図２（ａ）は平面図であり、図２（ｂ）はその断面図である。図２（ｂ）には透光性ガラス基板ＳＵＢ１上に陽極ＡＤと、この陽極ＡＤ上に形成される有機多層膜ＥＬＭと、有機多層膜ＥＬＭ上に形成される陰極ＫＤとの積層構造のみからなる有機発光素子を示してある。
【００３２】
図２において、この有機ＥＬ表示装置は、透光性ガラス基板ＳＵＢ１の主面である内面には図３に要部拡大断面図で示す構成からなる有機発光素子ＥＬＤが多数個マトリクス状に形成して配置され、この有機発光素子ＥＬＤには、各画素毎に画素選択及び駆動用のアクティブ素子としての多数個の薄膜トランジスタ及び保持容量からなる画素回路を有し、これら多数個の表示画素で表示領域ＡＲが形成されている。そして、表示領域ＡＲの外側で且つ後述するシール剤の内側には図示しないが、駆動回路を形成した駆動回路領域が設けられる構造となっている。
【００３３】
このような有機発光素子ＥＬＤを用いて構成した有機ＥＬ表示装置は、電力効率を高めるために薄膜トランジスタを表示画素にスイッチング素子としたアクティブマトリクス駆動が有効である。なお、アクティブ素子は薄膜トランジスタに限定されない。
【００３４】
この有機発光素子ＥＬＤは、図３に示すように透光性ガラス基板ＳＵＢ１上にＩＴＯ（Ｉｎ−Ｔｉ−Ｏ）などの透明導電膜（薄膜）からなる陽極ＡＤが形成され、この陽極ＡＤ上には有機発光素子ＥＬＤの有機発光構造を構成する有機多層膜ＥＬＭが形成されている。この有機多層膜ＥＬＭは、陽極ＡＤ側から順に有機材料の薄膜からなる正孔注入層ＨＩＬと正孔輸送層ＨＴＬと有機ＥＬ発光層ＬＵＬと電子輸送層ＥＴＬとが積層形成され、さらにこの電子輸送層ＥＴＬ上に第１層として弗化リチウム（ＬｉＦ）ＬＬ層と、この弗化リチウム層ＬＬ上に形成される第２層としてのアルミニウム（Ａｌ）層ＡＬとからな発光制御電極としての陰極ＫＤが形成されて構成されている。なお、これらの陽極ＡＤ，有機多層膜ＥＬＭ及び陰極ＫＤは、例えばマスクを用いた真空蒸着法により形成される。
【００３５】
このように構成される有機発光素子ＥＬＤは、陰極ＫＤと陽極ＡＤとの間に所定の電圧を印加することによって正孔注入層ＨＩＬから有機ＥＬ発光層ＬＵＬへの正孔の移送と、電子輸送層ＥＴＬから注入される電子とで有機ＥＬ発光層ＬＵＬを発光させ、透光性ガラス基板ＳＵＢから外部に発光光Ｌとして出射する。
【００３６】
また、透光性ガラス基板ＳＵＢ１の主面上に多数個の有機発光素子ＥＬＤをマトリクス状に配列させて形成された表示領域ＡＲ外の各四隅には、図４に要部拡大平面図で示すように有機発光素子ＥＬＤと全く同一構成からなる有機発光素子と、画素選択，駆動用の薄膜トランジスタ及び保持容量からなる画素回路が形成されないパッシブ型電極構造を有するパッシブ素子とで構成されるダミー素子ＤＰが同一製作工程により一体的に形成されている。
【００３７】
また、これらのダミー画素ＤＰの陽極ＡＤ及び陰極ＫＤは、表示領域ＡＲ内に形成される各表示画素ＳＰ（有機発光素子ＥＬＤ）の陽極ＡＤ及び陰極ＫＤに夫々電気的に接続され、パッシブ駆動される構造となっている。なお、これらのダミー素子ＤＰは、点灯後は常時駆動する有機発光素子ではなくなるので、本実施例では、電極構造の簡単さ及びコストなどの面から考慮してパッシブ型が用いられる。
【００３８】
また、多数個の表示画素ＳＰが形成された透光性ガラス基板ＳＵＢ１と、内面に乾燥材ＤＲＹを貼り付けたキャップ状の封止ガラス基板ＳＵＢ２とを露点約９０℃の乾燥窒素雰囲気下にてその周縁部にシール材ＳＥＬを塗布し、両基板を対向させて張り合わせ、気密封止させてパッケージ化され、表示パネルが構成されている。この際、シール材ＳＥＬは、図５に平面図で示すように開ループ状に塗布することにより角部に約０．１ｍｍ幅のリークパスＳＥＬＰが形成されるようにした。
【００３９】
このように構成された表示パネルは、封止ガラス基板ＳＵＢ２の外側から各ダミー画素ＤＰの表面に露出している陰極ＫＤのほぼ中央部分にアパーチャにより約１０μｍ角に成形したＹＡＧレーザ（発振波長：１０６４ｎｍ）を照射して陰極ＫＤの中央部分を除去する。これによって図６（ａ）に平面図、図６（ｂ）にそのＡ−Ａ´線の断面図で示すように陰極ＫＤの一部が除去された陰極除去部ＫＤＥが形成される。このレーザ出力は、約１ＧＷ／ｃｍ2，パルス幅は、約１０ｎｓ，ショット数は、１ショットで行った。約２４時間後、このダミー画素ＤＰをパッシブマトリクス駆動により点灯検査すると、その中央部に約４５μｍ角の非発光エリアＤＡが観測された。
【００４０】
このような構成において、シール材ＳＥＬにより封止されたシール構造にリーク箇所が存在すると、有機発光素子ＥＬＤの有機多層膜ＥＬＭには、水分子の侵入によりレーザ照射により除去した陰極除去部ＫＤＥの寸法の４倍〜５倍、面積で約２０倍の大きさの非発光エリアＤＡが発生した。すなわち、陰極除去部ＫＤＥの非発光エリアＤＡの寸法を検査することにより、シール構造の良否を容易に判定できる。
【００４１】
詳細に説明すると、上記構成において、ダミー画素ＤＰ中の陰極ＫＤの一部を除去した陰極除去部ＫＤＥの周辺部分は直接パッケージ内の雰囲気に曝される。パッケージ内雰囲気の水分濃度が十分に低い場合には、陰極ＫＤの存在しない領域のみが非発光エリアＤＡとなり、陰極ＫＤの非発光エリアＤＡの周辺部は正常に発光する。
【００４２】
また、ダミー画素ＤＰ中の陰極ＫＤの一部を除去した陰極除去部ＫＤＥにより、有機ＥＬ素子ＥＬＤの有機多層膜ＥＬＭは露出し、パッケージ内雰囲気に曝されるが、パッケージのシール構造が完全な場合にはパッケージ内雰囲気の水分濃度が十分に低く、露出した有機多層膜ＥＬＭは変質することがない。したがって、陰極ＫＤの一部を除去した陰極除去部ＫＤＥは非発光エリアＤＡとなるが、陰極除去部ＫＤＥの周辺部までが非発光となることはない。
【００４３】
一方、パッケージのシール構造が不完全な場合には、パッケージ内雰囲気の水分濃度が高くなるので、水分は面内方向に拡散し、陰極除去部ＫＤＥの周辺部の有機多層膜ＥＬＭが変質し、発光しなくなり、図７（ａ）に平面図、図７（ｂ）にそのＡ−Ａ´線の断面図でそれぞれ示すように非発光エリアＤＡの寸法は、陰極除去部ＫＤＥの寸法よりも大きくなる。シール構造の不完全性の程度によって数１０μｍ内側まで非発光エリアＤＡが拡大する場合もある。したがって、ダミー画素ＤＰの陰極除去部ＫＤＥのエリアの寸法と非発光エリアＤＡの寸法とを比較することにより、パッケージ構造の良否、すなわち、パッケージ内の水分濃度の良否を容易に判定することができる。
【実施例２】
【００４４】
次に本発明による表示装置の実施例２を前述した図２〜図７を参照して詳細に説明する。実施例１と同様に有機ＥＬ表示装置を構成する有機発光素子ＥＬＤは、低温ポリシリコン半導体膜などで形成された薄膜トランジスタを有する画素選択回路（または画素駆動回路）を有するアクティブマトリクス型の透光性ガラス基板ＳＵＢ１上の表示領域ＡＲには図３に要部拡大断面図で示すようなＩＴＯ（Ｉｎ−Ｔｉ−Ｏ）などからなる陽極ＡＤ，有機材料からなる有機多層膜ＥＬＭ及び弗化リチウム（ＬｉＦ）及びアルミニウム（Ａｌ）などからなる陰極ＫＤがマスクを用いた真空蒸着法により形成されている。
【００４５】
また、透光性ガラス基板ＳＵＢ１の主面上に多数個の有機発光素子ＥＬＤをマトリクス状に配列させて形成された表示領域ＡＲ外の各四隅には、図４に要部拡大平面図で示すように有機発光素子ＥＬＤと全く同一構成からなる有機発光素子と、画素選択，駆動用の薄膜トランジスタ及び保持容量からなる画素回路が形成されないパッシブ型電極構造を有するパッシブ素子とで構成されるダミー素子ＤＰが同一製作工程により一体的に形成されている。
【００４６】
また、透光性ガラス基板ＳＵＢ１と、内面に乾燥材ＤＲＹを貼り付けた封止ガラス基板ＳＵＢ２とを露点約９０℃の乾燥窒素雰囲気下にてその周縁部にシール材ＳＥＬを塗布し、両基板を対向させて張り合わせ、気密封止させてパッケージ化され、表示パネルが構成されている。この際、シール材ＳＥＬは開ループ状に塗布して図５に示すように角部に約０．１ｍｍ幅のリークパスＳＥＬＰが形成されるようにした。
【００４７】
このように構成された表示パネルは、各ダミー画素ＤＰの表面に露出している陰極ＫＤのほぼ中央部分にアパーチャにより約２×５μｍ角に成形したＹＡＧレーザの第２高調波（発振波長：５３２ｎｍ）を照射して陰極ＫＤの中央部分を除去する。これによって陰極ＫＤの一部が除去された陰極除去部ＫＤＥが形成される。このレーザ出力は、約１ＧＷ／ｃｍ2，パルス幅は、約２０ｎｓ，ショット数は、１ショットで行った。約２４時間後、このダミー画素ＤＰをパッシブマトリクス駆動により点灯検査すると、その中央部に約４０×５０μｍ角の非発光エリアＤＡが観測された。
【００４８】
このような構成において、シール構造にリーク箇所が存在すると、レーザ照射により除去した陰極除去部ＫＤＥの長手寸法の約５倍、面積で約２００倍の大きさの非発光エリアＤＡが発生した。すなわち、陰極除去部ＫＤＥの非発光エリアＤＡの寸法を検査することにより、シール構造の良否を容易に判定できる。
【実施例３】
【００４９】
次に本発明による表示装置の実施例３を前述した図２〜図７を参照して詳細に説明する。実施例１と同様に有機ＥＬ表示装置を構成する有機ＥＬ素子ＥＬＤは、低温ポリシリコン半導体膜などで形成された薄膜トランジスタを有する画素選択回路（または画素駆動回路）を有するアクティブマトリクス型の透光性ガラス基板ＳＵＢ１上の表示エリアＡＲには図３に要部拡大断面図で示すようなＩＴＯ（Ｉｎ−Ｔｉ−Ｏ）などからなる陽極ＡＤ，有機材料からなる有機多層膜ＥＬＭ及び弗化リチウム（ＬｉＦ）及びアルミニウム（Ａｌ）などからなる陰極ＫＤがマスクを用いた真空蒸着法により形成されている。
【００５０】
また、透光性ガラス基板ＳＵＢ１の主面上に多数個の有機発光素子ＥＬＤをマトリクス状に配列させて形成された表示領域ＡＲ外の各四隅には、図４に要部拡大平面図で示すように有機発光素子ＥＬＤと全く同一構成からなる有機発光素子と、画素選択，駆動用の薄膜トランジスタ及び保持容量からなる画素回路を形成しないパッシブ型電極構造を有するパッシブ素子とで構成されるダミー素子ＤＰが同一製作工程により一体的に形成されている。
【００５１】
また、透光性ガラス基板ＳＵＢ１と、内面に乾燥材ＤＲＹを貼り付けた封止ガラス基板ＳＵＢ２とを露点約９０℃の乾燥窒素雰囲気下にてその周縁部にシール材ＳＥＬを塗布し、両基板を対向させて貼り合わせて気密封止する。この際、シール材ＳＥＬは閉ループ状に塗布して図５に示すような角部にリークパスＳＥＬＰが形成されないようにした。
【００５２】
このように構成された表示パネルは、各ダミー画素ＤＰの表面に露出している陰極ＫＤのほぼ中央部分にアパーチャにより約１０μｍ角に成形したＹＡＧレーザ（発振波長：１０６４ｎｍ）を照射して陰極ＫＤの中央部分を除去する。これによって陰極ＫＤの一部が除去された陰極除去部ＫＤＥが形成される。このレーザ出力は、約１ＧＷ／ｃｍ2，パルス幅は、約１０ｎｓ，ショット数は、１ショットで行った。約２４時間後、このダミー画素ＤＰを点灯検査すると、その中央部に約１０μｍ角の非発光エリアＤＡが観測された。
【００５３】
このような構成において、シール構造にリーク箇所が存在しないと、レーザ照射により除去した陰極除去部ＫＤＥの寸法とほぼ同等の大きさの非発光エリアＤＡが発生するのみであった。すなわち、陰極除去部ＫＤＥの非発光エリアＤＡの寸法を検査することにより、シール構造の良否を容易に判定できる。
【００５４】
なお、前述した各実施例において、ダミー画素ＤＰの形状は、表示領域ＡＲ内に多数個形成される表示画素ＳＰと同一マスクを用いて製作する関係上、ほぼ同一形状に形成した場合について説明したが、本発明ではこれに限定されるものではなく、必要に応じて各種の形状及び寸法で形成しても良い。
【００５５】
また、前述した各実施例において、ダミー画素ＤＰの配設位置は、表示領域ＡＲの四隅とした場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、必要に応じて所望の位置に設置しても良い。しかしながら、シール構造のシール不良は、表示パネルのコーナ部で発生し易いことを考慮すると、ダミー画素ＤＰの配設位置は表示パネルのコーナ部で表示領域ＡＲに隣接する位置が好ましい。また、ダミー画素ＤＰの数も特に制限されないが、上記理由から各コーナ部に１画素設置することが好ましい。
【００５６】
また、前述した各実施例において、ダミー画素ＤＰに陰極除去部ＫＤＥを設ける手段としてパネル完成後にＹＡＧレーザで陰極ＫＤの一部を加工除去する方法を用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、レーザの種類は特に制限はない。有機ＥＬ材料がレーザエネルギーを吸収しない波長であるＹＡＧ基本波レーザが好ましいが、ＹＡＧ第２高調波でも可能であり、また、有機物からなる有機ＥＬ材料に熱損傷を与えないパルスレーザが好ましい。
【００５７】
図８は、上記陰極除去部ＫＤＥの他の実施例を説明するダミー画素ＤＰの平面図である。電極除去部ＫＤＥの形状は、図８（ａ）に示すように正方形状でも良く、また、図８（ｂ）に示すように長方形状でも良い。さらに図８（ｃ）に示すように円形状でも良く、また、図８（ｄ）に示すように楕円形状でも良いが、レーザビーム形状の加工性が容易なことから、正方形を含む矩形状が好ましい。
【００５８】
図９は、ダミー画素ＤＰに陰極ＫＤの存在しないエリアを設ける他の実施例を説明するダミー画素ＤＰの平面図である。上述したようにダミー画素ＤＰの一部分にレーザを照射して陰極の一部を除去する代りに最初からダミー画素ＤＰの一部分に陰極ＫＤの形成用金属（弗化リチウム，アルミニウム）を蒸着しない開口状の陰極非形成部ＫＤＮを設ける方法でも実現可能である。図９（ａ）ではダミー画素ＤＰの角部，図９（ｂ）ではダミー画素ＤＰの短辺の一部，図９（ｃ）ではダミー画素ＤＰの短辺部，図９（ｄ）ではダミー画素ＤＰの角部の何れかに設けても良く、また、複数箇所に設けても良い。この場合、開口状の陰極非形成部ＫＤＮには、図３に示す有機多層膜ＥＬＭを構成する最上層の電子輸送層ＥＴＬの一部が露出する構成となる。
【００５９】
また、陰極非形成部ＫＤＮの開口面積は、画素面積以下であれば良いが、好ましくは画素面積の０．０１％〜９５％の範囲が良好である。この開口面積は０．０１％未満では、陰極非形成部ＫＤＮの開口寸法は１μｍ角となり、判定検査がし難くなる。また、９５％を超えると、陰極非形成部ＫＤＮと非発光エリアＤＡとの寸法を比較することが困難となる。したがって、開口面積は、上記した画素面積の０．０１％〜９５％の範囲が発明者らの実験の結果、好ましいことが明らかとなった。
【００６０】
また、前述した実施例については、表示装置として有機ＥＬ表示装置について説明したが、高分子タイプの有機ＥＬ表示装置にも低分子タイプの有機ＥＬ表示装置にも適用しても前述と全く同様の効果が得られることは言うまでもない。
【００６１】
また、前述した各実施例においては、ダミー画素ＤＰをパッシブ型電極構造で形成した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、アクティブ型電極構造で形成しても前述と全く同様の効果が得られることは言うまでもない。
【００６２】
また、前述した各実施例においては、有機ＥＬ表示装置として表示領域ＡＲにアクティブマトリクス型電極構造を有する有機発光素子を用いた場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、パッシブマトリクス型電極構造を有する有機発光素子を用いても前述と全く同様の効果が得られることは言うまでもない。なお、この場合は、各画素毎の有機ＥＬ発光層に画素選択及び駆動用のアクティブ素子としての多数個の薄膜トランジスタ及び保持容量からなる画素回路を透光性ガラス基板ＳＵＢ１上に別途形成する必要があることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明による表示装置の実施例１を説明する前に本発明の要旨を容易に理解にするためにダークスポットの発生のメカニズムについて説明する図である。
【図２】本発明による表示装置として有機ＥＬ表示装置の全体構造を模式的に説明する図である。
【図３】本発明による表示装置に係る有機発光素子の一構成例を模式的に説明する断面図である。
【図４】本発明による表示装置に係る有機ＥＬ表示装置の実施例１による構成を示す要部拡大平面図である。
【図５】有機ＥＬ表示装置のシール材の開ループ状に塗布することにより形成されるリークパスを示す平面図である。
【図６】レーザ照射により陰極の一部が除去されて陰極除去部が形成される状態を示す図である。
【図７】パッケージのシール構造の不完全性に起因して非発光エリアが陰極除去部の寸法よりも大きくなる状態を示す図である。
【図８】ダミー画素に形成される陰極除去部の形状の他の実施例を示す平面図である。
【図９】ダミー画素に形成される陰極非形成部の形状の他の実施例を示す平面図である。
【符号の説明】
【００６４】
ＳＵＢ・・・透光性ガラス基板、ＡＤ・・・陽極（第１の電極）、ＥＬＭ・・・有機多層膜、ＫＤ・・・陰極（第２の電極）、ＬＡ・・・表示画素、ＤＳ・・・ダークスポット、ＰＨ・・・ピンホール、ＳＵＢ１・・・透光性ガラス基板、ＳＵＢ２・・・封止ガラス基板、ＰＬ・・・パネル、ＡＲ・・・表示領域、ＤＲＹ・・・乾燥剤、ＳＰ・・・表示画素、ＤＰ・・・ダミー画素（第２の画素）、ＳＥＬ・・・シール材、ＥＬＤ・・・有機発光素子、ＳＥＬＰ・・・シール材リーク部、ＤＡ・・・ダークエリア、ＫＤＥ・・・陰極除去部、ＫＤＮ・・・陰極非形成部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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