(57)【要約】【課題】透明性が良好であると共にコンパクト化を図り、しかも安価に大量製造できる調光装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】相対向する可撓性を有する第１の基材１１及び第２の基材１２と、第１の基材１１及び第２の基材１２の間に、第１のグリッド電極１３、電解質膜１４、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５及び第２のグリッド電極１６とが積層されてなると共に、第１のグリッド電極１３と第２のグリッド電極１６との間に絶縁部１７を配設してなる。導電性を有する第１及び第２のグリッド電極１３、１６の間に絶縁部１７を介装させることで、第１のグリッド電極１３とエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５の接触を防止することができる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対向する可撓性を有する第１の基材及び第２の基材と、
第１の基材及び第２の基材の間に、第１のグリッド電極、電解質膜、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜及び第２のグリッド電極とが積層されてなると共に、
第１のグリッド電極と第２のグリッド電極との間に絶縁部を配設してなる
ことを特徴とする調光装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記絶縁部がグリッド電極と同じ目開き又はそれ以上の目開きを有するものであることを特徴とする調光装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記絶縁部が格子状又は桁状であることを特徴とする調光装置。
【請求項４】
請求項１において、
前記第１の基材と電解質膜との間、又は前記第２の基材とエレクトロクロミック膜との間のいずれか一方又は両方に透明電極が配設されてなることを特徴とする調光装置。
【請求項５】
請求項１において、
前記第１のグリッド電極又は第２のグリッド電極の一方を透明電極としてなることを特徴とする調光装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一つにおいて、
前記第１の基材及び第２の基材のいずれか一方又は両方にハードコート層又は反射層が形成されてなることを特徴とする調光装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一つにおいて、
前記第１基材又は第２の基材がポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、塩化ビニール、塩化ビニリデン、ナイロンのいずれかであることを特徴とする調光装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一つにおいて、
前記グリッド電極がカーボン又は金又は銀のいずれか一種又はこれらの混合物であることを特徴とする調光装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一つにおいて、
前記グリッド電極の目開きが５μｍ〜２０ｍｍの範囲のいずれかであることを特徴とする調光装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一つにおいて、
前記グリッド電極のグリッド幅が０．５μｍ〜２０μｍの範囲のいずれかであることを特徴とする調光装置。
【請求項１１】
第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、
第１のグリッド電極の上面に第１の絶縁部を形成する工程と、
前記第１のグリッド電極側に電解質膜を形成する工程と、
第２の基材の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、
第２のグリッド電極の上面に第２の絶縁部を形成する工程と、
前記第２のグリッド電極側にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、
第１のグリッド電極、第１の絶縁部及び電解質膜が積層されてなる第１のシート材と、
第２のグリッド電極、第２の絶縁部及びエレクトロクロミック材料が積層されてなる第２のシート材とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と電解質膜とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程とからなることを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１２】
第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、
第１のグリッド電極の上面に第１の絶縁部を形成する工程と、
前記第１のグリッド電極側に電解質膜を形成する工程と、
第２の基材の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、
前記第２のグリッド電極側にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、
第１のグリッド電極、第１の絶縁部及び電解質膜が積層されてなる第１のシート材と、
第２のグリッド電極及びエレクトロクロミック材料が積層されてなる第２のシート材とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と電解質膜とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程とからなることを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１３】
第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、
第１のグリッド電極の上面に第１の絶縁部を形成する工程と、
第２の基材の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、
第２のグリッド電極の上面に第２の絶縁部を形成する工程と、
前記第２のグリッド電極側にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、
第１のグリッド電極及び電解質膜が積層されてなる第１のシート材と、
第２のグリッド電極、第２の絶縁部及びエレクトロクロミック材料が積層されてなる第２のシート材とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と電解質膜とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程とからなることを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１１乃至１３のいずれか一つにおいて、
前記第１の基材及び第２の基材のいずれか一方又は両方に透明電極を形成する工程を予め含むことを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項１１乃至１４のいずれか一つにおいて、
前記第１の基材及び第２の基材のいずれか一方又は両方にハードコート層を形成する工程を予め含むことを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項１１乃至１５のいずれか一つにおいて、
前記第１の基材と電解質膜との間、又は前記第２の基材とエレクトロクロミック膜との間のいずれか一方又は両方に透明電極を配設する工程を含むことを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１７】
請求項１１乃至１６のいずれか一つにおいて、
前記第１の基材及び第２の基材のいずれか一方又は両方に反射層を形成する工程を予め含むことを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１１乃至１７のいずれか一つにおいて、
前記貼合わせ工程の後に、前記貼合わせた一体化物を真空状態で押圧する押圧工程を含むことを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１１乃至１８のいずれか一つにおいて、
前記第１のグリッド電極、第２のグリッド電極、第１の絶縁層又は第２の絶縁層にいずれかを形成する工程が印刷法により行うことを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項２０】
請求項１１乃至１９のいずれか一つにおいて、
前記第１の基材又は第２の基材がポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、塩化ビニール、塩化ビニリデン、ナイロンのいずれかであることを特徴とする調光装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電圧の印加により光の透過率を可逆的に変化させることが可能な調光機能を有する調光装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光の透過率を電気化学的に可逆的に変化させることができる調光機能を利用する試みが行われている。このような調光機能は、エレクトロクロミック効果を利用する方式が種々提案されている。このエレクトロクロミック効果とは、電流により可逆的に電気化学反応（酸化還元反応）を誘起し、その結果、光吸収スペクトルが変化することをいい、このような変化をする材料を一般にＥＣ材と称されている。このＥＣ材には、無機ＥＣ材と有機ＥＣ材とがあり、無機系ＥＣ材は色数が少ないことと濃度に限界があり、有機系ＥＣ材は無機系よりも色数が豊富であるが、液晶程の多彩さにかけるという問題がある。
【０００３】
前記エレクトロクロミック効果を利用する方式では、従来、ガラス基板上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）透明電極／電極薄膜の２層構造を設けたものを用い、電解質液をこれらのガラス基板で挟み、端部を封止することが行われている。
この調光装置の一例を図１７に示す。図１７に示すように、従来の係る調光装置１は、相対向する第１の基材２及び第２の基材３と、第１の基材２及び第２の基材３の間に、透明電極（ＩＴＯ）４、陰極エレクトロクロミック（ＥＣ）膜５ａ、電解質膜６、陽極エレクトロクロミック（ＥＣ）膜５ｂ、及びＩＴＯ７とが順に積層されてなるものである。
そして、電圧を調整することで、色調変化を行っていた。
【０００４】
しかしながら、ＩＴＯはガラス基板上に真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等の真空技術を用いた薄膜形成法その他の製造により形成するので、真空処理等が必要となり、また変形等の点でガラス等の硬い基材への処理しかなされていなかった（特許文献１、非特許文献１）。
一方、硬い基材の代わりに、従来においても、可撓性を有するフィルム状として調光ブラインドについての提案がある（特許文献２）。
【０００５】
【特許文献１】特開平６−９５１７０号公報
【特許文献２】特開平６−１７５８２号公報
【非特許文献１】Ｓｍａｒｔ  Ｓｔｒａｕｃｔｕｒｅｓ  ａｎｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ２００２：Ｅｌｅｃｔｏｒｏａｃｔｉｖｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ａｃｔｕａｔｏｒｓ  ａｎｄ  Ｄｅｖｉｃｅｓ（ＥＡＰＡＤ）ＹｏｓｅｐｈＢａｒ−Ｃｏｈｅｎ，Ｅｄｉｔｏｒ，ＰｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓｏｆＳＰＩＥ  Ｖｏｌ．４６９５（２００２）４４２−４５０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献２の提案においては、フィルム状の調光ブラインドの開示はあるものの、従来と同様にＩＴＯを用い、スパッタ法で基板フィルム上に蒸着することがその実施例に開示されており、また、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜も陰極エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と陽極エレクトロクロミック（ＥＣ）膜との二層構造であるので、膜厚が厚くなり、透明度が６０％以下となり、透明性が劣るという問題がある。
【０００７】
ところで、エレクトロクロミック（ＥＣ）は、種々の用途を目指して多くの開発が行われてきたが、大きく二つの問題があった。
先ず、第１の問題は前述したように、ＥＣ薄膜が酸化、還元の2極を配する必要があったことであり、第２の問題は、両者のＥＣ薄膜間に挿入する電解質の厚さを一定にする必要があったことである。
第１の問題については、無機系のＷＯ3とＮＩＯとを硝子板に蒸着したものが成功している。しかし、スパッタ法において、特許文献２のような薄いフィルムに施工しても、ＥＣ層としての最適厚さである膜厚を０．１μｍに制御することは非常に困難である。
【０００８】
また。エレクトロクロミック（ＥＣ）層の形成基板にガラス板が使用される最も大きな理由は、第２の問題を解決するために、電解質の注入間隔を一定に保つためである。その方法として電解質液を吸湿性のスポンジ体に染み込ませたものを挟み込む方法が採用されている。しかし、粘着性のない電解質液で接した２枚のエレクトロクロミック（ＥＣ）層間を一定に保つことは出来ない。エレクトロクロミック（ＥＣ）の原理は、電池と同じ機構であり、両極間に電解質が存在することで陽極と陰極とが直接接触しないことが重要である。
また、電解質の不均一や液切れが発生した場合でも電気は流れない。また、逆に近接部で直接接触（ショート）すると、エレクトロクロミック（ＥＣ）に過電流が流れて破損してしまうという問題がある。
【０００９】
よって、非特許文献１に開示するグリッド電極を用いた場合においても、電解膜は充填処理であるので、基材としてガラス基材を用いる必要があると共に、対向するグリッド電極がエレクトロクロミック（ＥＣ）膜に当接しないように、電解膜の膜厚を厚く（１００μｍ）する必要があり、この結果、調光装置のコンパクト化を図ることができないという問題がある。
【００１０】
特に、航空機や車両の窓等の曲面を有するような個所において、調光装置を貼合わせするような場合には、基材に可撓性が要求されるが、非特許文献２におけるガラス基板を用いた調光装置ではそれが困難であるという、問題がある。
【００１１】
本発明は、前記問題に鑑み、透明性が良好であると共にコンパクト化を図り、しかも安価に大量製造できる調光装置及びその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上述した課題を解決するための本発明の第１の発明は、相対向する可撓性を有する第１の基材及び第２の基材と、第１の基材及び第２の基材の間に、第１のグリッド電極、電解質膜、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜及び第２のグリッド電極とが積層されてなると共に、第１のグリッド電極と第２のグリッド電極との間に絶縁部を配設してなることを特徴とする調光装置にある。
【００１３】
第２の発明は、第１の発明において、前記絶縁部がグリッド電極と同じ目開き又はそれ以上の目開きを有するものであることを特徴とする調光装置にある。
【００１４】
第３の発明は、第１又は２の発明において、前記絶縁部が格子状又は桁状であることを特徴とする調光装置にある。
【００１５】
第４の発明は、第１の発明において、前記第１の基材と電解質膜との間、又は前記第２の基材とエレクトロクロミック膜との間のいずれか一方又は両方に透明電極が配設されてなることを特徴とする調光装置にある。
【００１６】
第５の発明は、第１の発明において、前記第１のグリッド電極又は第２のグリッド電極の一方を透明電極としてなることを特徴とする調光装置にある。
【００１７】
第６の発明は、第１乃至５のいずれか一つの発明において、前記第１の基材及び第２の基材のいずれか一方又は両方にハードコート層又は反射層が形成されてなることを特徴とする調光装置にある。
【００１８】
第７の発明は、第１乃至６のいずれか一つの発明において、前記第１基材又は第２の基材がポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、塩化ビニール、塩化ビニリデン、ナイロンのいずれかであることを特徴とする調光装置にある。
【００１９】
第８の発明は、第１乃至７のいずれか一つの発明において、前記グリッド電極がカーボン又は金又は銀のいずれか一種又はこれらの混合物であることを特徴とする調光装置にある。
【００２０】
第９の発明は、第１乃至８のいずれか一つの発明において、前記グリッド電極の目開きが５μｍ〜２０ｍｍの範囲のいずれかであることを特徴とする調光装置にある。
【００２１】
第１０の発明は、第１乃至９のいずれか一つの発明において、前記グリッド電極のグリッド幅が０．５μｍ〜２０μｍの範囲のいずれかであることを特徴とする調光装置にある。
【００２２】
第１１の発明は、第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、第１のグリッド電極の上面に第１の絶縁部を形成する工程と、前記第１のグリッド電極側に電解質膜を形成する工程と、第２の基材の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、第２のグリッド電極の上面に第２の絶縁部を形成する工程と、前記第２のグリッド電極側にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、第１のグリッド電極、第１の絶縁部及び電解質膜が積層されてなる第１のシート材と、第２のグリッド電極、第２の絶縁部及びエレクトロクロミック材料が積層されてなる第２のシート材とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と電解質膜とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程とからなることを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２３】
第１２の発明は、第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、第１のグリッド電極の上面に第１の絶縁部を形成する工程と、前記第１のグリッド電極側に電解質膜を形成する工程と、第２の基材の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、前記第２のグリッド電極側にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、第１のグリッド電極、第１の絶縁部及び電解質膜が積層されてなる第１のシート材と、第２のグリッド電極及びエレクトロクロミック材料が積層されてなる第２のシート材とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と電解質膜とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程とからなることを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２４】
第１３の発明は、第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、第１のグリッド電極の上面に第１の絶縁部を形成する工程と、第２の基材の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、第２のグリッド電極の上面に第２の絶縁部を形成する工程と、前記第２のグリッド電極側にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、第１のグリッド電極及び電解質膜が積層されてなる第１のシート材と、第２のグリッド電極、第２の絶縁部及びエレクトロクロミック材料が積層されてなる第２のシート材とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と電解質膜とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程とからなることを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２５】
第１４の発明は、第１１乃至１３のいずれか一つの発明において、前記第１の基材及び第２の基材のいずれか一方又は両方に透明電極を形成する工程を予め含むことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２６】
第１５の発明は、第１１乃至１４のいずれか一つの発明において、前記第１の基材及び第２の基材のいずれか一方又は両方にハードコート層を形成する工程を予め含むことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２７】
第１６の発明は、第１１乃至１５のいずれか一つの発明において、前記第１の基材と電解質膜との間、又は前記第２の基材とエレクトロクロミック膜との間のいずれか一方又は両方に透明電極を配設する工程を含むことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２８】
第１７の発明は、第１１乃至１６のいずれか一つの発明において、前記第１の基材及び第２の基材のいずれか一方又は両方に反射層を形成する工程を予め含むことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２９】
第１８の発明は、第１１乃至１７のいずれか一つの発明において、前記貼合わせ工程の後に、前記貼合わせた一体化物を真空状態で押圧する押圧工程を含むことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００３０】
第１９の発明は、第１１乃至１８のいずれか一つの発明において、前記第１のグリッド電極、第２のグリッド電極、第１の絶縁層又は第２の絶縁層にいずれかを形成する工程が印刷法により行うことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００３１】
第２０の発明は、第１１乃至１９のいずれか一つの発明において、前記第１の基材又は第２の基材がポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、塩化ビニール、塩化ビニリデン、ナイロンのいずれかであることを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、グリッド電極間の間に絶縁部を設けることにより、対向するグリッド電極がエレクトロクロミック（ＥＣ）膜に当接することが防止され、しかも簡易な構造となり、コンパクト化を図ると共に透明性の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施の形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。
【００３４】
［実施の形態］
本発明による実施の形態１に係る調光装置について、図面を参照して説明する。
図１は、実施の形態１に係る調光装置の構成の概略図である。図２乃至図６は他の調光装置の構成の概略図である。
【００３５】
図１に示すように、本実施の形態に係る調光装置１０は、相対向する可撓性を有する第１の基材１１及び第２の基材１２と、第１の基材１１及び第２の基材１２の間に、第１のグリッド電極１３、電解質膜１４、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５及び第２のグリッド電極１６とが積層されてなると共に、第１のグリッド電極１３と第２のグリッド電極１６との間に絶縁部１７を配設してなるものである。
なお、符号１８は第１のグリッド電極１３及び第２のグリッド電極に極性を交互に印加する電源部、１９は接合枠を図示する。
【００３６】
前述したようにエレクトロクロミック（ＥＣ）膜に、対向するグリッド電極が接触するとショートしてエレクトロクロミック（ＥＣ）膜が損傷するが、導電性を有する第１及び第２のグリッド電極１３、１６の間に絶縁部１７を介装させることで、第１のグリッド電極１３とエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５の接触を防止することができる。
【００３７】
本発明では、大型化に有効な導電性インクを用いてグリッド電極を形成すると共に、該導電性のグリッド電極の上面に絶縁インクによる絶縁部１７を形成することで、絶縁性の向上を図っている。これにより、電解質膜の膜厚を従来の１００μｍから１０μｍ以下と１／１０の薄膜化を図ることができる、この絶縁部及びグリッド電極を形成する方法としては、最も望ましい方法は、インクの重ね塗りが容易なグラビア印刷あるいは、オフセット印刷であるが、スクリーン印刷法でも可能である。
【００３８】
ここで、前記エレクトロクロミック（ＥＣ）膜としては、特に限定されるものではないが、一層からなる有機エレクトロクロミック（ＥＣ）膜とすることが好ましい。
具体的にはポリピロール、ポリチオフェン、Ｓｉ導入ポリチオフェン、ポリ（４，４‘−ジ（２−チェニル）ビフェニル）、ポリイソチアナフテン、ポリアニリンを挙げることができる。ここで、ポリピロールはアニオンドープ量により、黄色から褐色そして青色に変化する。ポリチオフェンは中性で赤、酸化状態で青に変化する。Ｓｉ導入ポリチオフェンは、中性で黄色、酸化状態で緑に変化する。ポリ（４，４‘−ジ（２−チェニル）ビフェニル）は緑である。ポリイソチアナフテンは中性で淡色、酸化状態で濃色に変化する。ポリアニリンは淡黄色から青色そして紺色に変化する。
また、有機以外の無機エレクトロクロミック（ＥＣ）膜材料としては、例えばＷＯ3、ＭｏＯ3、ＶＯ2，Ｖ2Ｏ，Ｎｂ2Ｏ5、並びにＩｒ、Ｒｈ，Ｎｉ，Ｃｏｎｏ各水酸化物又は酸化物、ＳｉＯ、ＺｒＯ2，Ｔａ2Ｏ5，Ｃｒ2Ｏ3，ＬｉＦ，ＭｇＦ2，ＣａＦ2，ＬｉＡｌＦ4，Ｈ3ＰＯ4（ＷＯ3）12・２９Ｈ2Ｏ等のゲル電解質、水―硫酸、グリセリン−硫酸、プロピ連カーボネート−ＬｉＣｌＯ等の液体電解質を挙げることができる。
【００３９】
また、前記第１の基材１１及び第２の基材１２は、可撓性を有するフィルムとすればよく、その厚さは、可撓性を有するものであれば、特に限定されるものではないが、０．２〜１ｍｍとするのが好ましい。また、第１のグリッド電極１３と第２のグリッド電極１６の厚さは、１０μｍ以下とするのが好ましい。
【００４０】
ここで、フィルム基材としては、耐有機溶剤性が必要である。溶剤に弱いものは膨潤して透明度が低下するからである。また、より好ましくは、酸素透過性が低いことや引張り強さが高いものであることがよい。最も望ましい材料は、ＰＥＴ（ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート）である。次いで、ポリプロピレン、塩化ビニール、塩化ビニリデン、ナイロン等を挙げることができる。
【００４１】
また、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５と電解質膜１４との膜厚は、従来と同様であればよく、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５は１μｍ以下より好ましくは０．５μｍ以下とすればよく、電解質膜１４は１０μｍ以下とすればよい。
【００４２】
ここで、前記第１のグリッド電極１３と第２のグリッド電極１６の格子の目開きは５μｍ〜２０ｍｍの範囲とすればよく、より好ましくは５０μｍ〜５ｍｍ、更に好ましくは１０００μｍ〜０．５ｍｍとすればよい。
【００４３】
また、前記第１のグリッド電極１３と第２のグリッド電極１６のグリッド幅は０．５μｍ〜２０μｍの範囲とすればよい。この幅は印刷法による場合にはインキ幅と同様となる。好適には０．５〜５μｍ前後とすればよい。
【００４４】
また、第１のグリッド電極１３と第２のグリッド電極１６の材質はカーボン又は金又は銀のいずれか一種又はこれらの混合物とすればよい。
この結果、簡易な印刷法によりＥＣ材に通電することができるので、大量生産が可能となる。
【００４５】
また、印刷法もグラビアオフセット印刷法等の導電性材料を高精度に印刷できる手法を適用することで、寸法精度が高く、インク幅もばらつきがないものとなる。更に、反転印刷法とすることでグラビアオスセット印刷法以上に線幅を小さくする微細印刷が可能となり、電解質への均一な電流供給が可能となる。
【００４６】
前記絶縁部１７は対向するグリッド電極の短絡を防止するものであり、その厚さは特に限定されるものではないが、例えば１０μｍ以下とするのが好ましい。
前記絶縁部１７の材質は、例えばアルミナ等の絶縁性材料を配合したものであれば、特に限定されるものではなく、インク状のもの、又はペースト状のものを用いることができる。なお、絶縁部は、グリッド電極の上に形成するので、印刷法による場合には、グリッド電極がやや乾いた状態となった後に形成するようにすればよい。
なお、グラビア印刷の場合では、版のずれがないので、グリッド電極の印刷に引き続いて、絶縁部の印刷を行うようにしてもよい。
【００４７】
この絶縁部１７はグリッド電極と同じ目開き又はそれ以上の目開きを有するようなものとすればよい。例えば図２には絶縁部１７の目開きが２倍の場合を示す。また、前記絶縁部１７のグリッド幅はグリッド電極と同一の幅又はそれ以下の幅とすることが望ましい。
また、絶縁部１７は格子状又は桁状等として、所定の間隔を持って第１のグリッド電極１３がエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５に当接するのを防止するようにした配置とすればよい。また、所定間隔を持って配したスポット状絶縁部としてもよい。
【００４８】
前記電解質膜１４を形成する電解質液としては、例えばＬｉＣｌＯ4 、Ｎａ2 ＳＯ4 、ＬｉＮＯ3 等の無機塩類の一種または二種以上を、プロトン性溶媒、例えば水、アルコール等、非プロトン性有機溶媒、例えばエチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、テトラヒドロフラン、アセトン等の溶媒１種または２種以上に溶解させたものを使用するのが好ましい。電解質液の濃度は、好ましくは０．１〜１０モル／リットルとすればよい。
【００４９】
また、本発明はグリッド電極のみに限定されるものではなく、図３乃至６の他の調光装置の構成概略図に示すように、透明電極を適宜形成するようにしてもよい。この透明電極の形成により、導電性が向上し、迅速な応答性を図ることができる。
【００５０】
本発明では、少なくとも一箇所が前記したグリッド電極があればその機能を発揮する。また、透明電極の種類も最も一般的なＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）としているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば酸化錫等の透明電極を蒸着して被覆したものを用いてもよい。
【００５１】
ここで、図３の調光装置１０は、第２の基材１２側に透明電極（ＩＴＯ）２１を形成したものである。これにより、第２のグリッド電極１６への導電性が向上し、ＥＣ膜１５に対する導電性の向上を図ることができる。
【００５２】
図４及び図５の調光装置１０は、一つのグリッド電極と一つの透明電極との構成としたものであり、図４の調光装置１０は、ＥＣ膜１５側に第２のグリッド電極１６及び絶縁部１７を形成したものであり、電解質膜１４側は透明電極（ＩＴＯ）２１のみを設けたものである。
【００５３】
一方、図５の調光装置１０は、電解質膜１４側に第１のグリッド電極１３及び絶縁部１７を形成したものであり、ＥＣ膜１５側は透明電極（ＩＴＯ）２１のみを設けたものである。
【００５４】
また、図６の調光装置は、第１の基材１１と第２の基材１２との間に、ＥＣ膜１５及び電解質膜１４を形成すると共に、第１の基材１１と第２の基材１２に第１の透明電極（ＩＴＯ）２１−１、第２の透明電極（ＩＴＯ）２１−２を形成すると共に、第１及び第２のグリッド電極１３，１６にそれぞれ第１の絶縁部１７−１及び第２の絶縁部１７−２を設けたものであり、絶縁の信頼性の向上を図るようにしている。
【００５５】
次に、本実施の形態にかかる調光装置の製造工程について説明する。
【００５６】
図７は調光装置の製造工程図である。図８−１、図８−２は調光装置の製造方法の前処理の概略図であり、図９は調光装置の製造方法の概略模式図である。
なお、図７、図９においては、図６に対応する調光装置の製造例を示した。
本実施の形態にかかる調光装置の製造方法は、第１の基材１１の表面に第１のグリッド電極１３を形成する第１のグリッド電極形成工程（Ｓ１０１）と、第１のグリッド電極１３の上面に第１の絶縁部１７−１を形成する第１の絶縁部形成工程（Ｓ１０２）と、前記第１のグリッド電極１３側に電解質膜１４を形成する電解質膜形成工程（Ｓ１０３）と、第２の基材１２の表面に第２のグリッド電極１６を形成する第２のグリッド電極形成工程（Ｓ１０４）と、第２のグリッド電極１６の上面に第２の絶縁部１７−２を形成する第２の絶縁部形成工程（Ｓ１０５）と、前記第２のグリッド電極１６側にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成するエレクトロクロミック（ＥＣ）膜形成工程（Ｓ１０６）と、第１のグリッド電極１３、第１の絶縁部１７−１及び電解質膜１４が積層されてなる第１のシート材４１と、第２のグリッド電極１６、第２の絶縁部１７−２及びエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５が積層されてなる第２のシート材４２とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５と電解質膜１４とが対向するように貼合わせて貼合わせ体４３とする貼合わせ工程（Ｓ１０７）とからなるものである。この貼合わせ体４３は別途真空室にて押圧処理する押圧工程（Ｓ１０８）により調光装置１０を得るようにしている。
【００５７】
ここで、本製造例においては、透明電極を配した構成としているので、前記製造方法において、図８−１に示すように、第１の基材１１及び第２の機材１２には予め、透明電極（ＩＴＯ）が蒸着法により処理されている。なお、図８−１中、符号３１はフィルムが巻かれた状態を示し、符号３３は透明電極が形成されたフィルム３２を巻き取った状態を示している。この透明電極が蒸着されたフィルムを所定長さに切断したものを製造に用いている。
【００５８】
また、図８−２に示すように、前述した透明電極の蒸着の後で、又は単独にてハードコート層を形成するようにしてもよい。このハードコート層は紫外線硬化樹脂等により形成することができる。なお、図８−２中、符号３１はフィルムが巻かれた状態を示し、符号３５は透明電極及びハードコート層が形成されたフィルム３４を巻き取った状態を示している。
【００５９】
また、本例のように透明電極を形成しないような場合には、前記ハードコート層の形成は単独で処理される場合もある。
【００６０】
このハードコート層は外部に接触する場合において、基材を保護する役目を果たすものである。ここで、ハードコート層としては、例えば鉛筆硬度３Ｈ以上で耐擦傷性が良好であるものが好ましい。また、例えば抗菌処理又は反射防止処理も付加するようにしてもよい。
【００６１】
ここで、ハードコート層の材質としては、様々な種類のものが開発されているが、その一例としては、無機粒子の径が光の波長よりも遥かに小さい約１０ｎｍ程度に超微細化すると、光は粒子を異物として認識できず見かけ上透明となる現象を利用したものを用いるとよい。この粉末を紫外線照射により液状から固体状に変化するＵＶ硬化樹脂中に配合することで、ハードコート層が形成される。このハードコート層を利用することで、引っ掻き傷等のフィルム化した場合の問題が解消され長期耐久性が得られる。特に、例えば航空機の客室内側に調光装置を設置するような場合には、ハードコート層を客室側に位置する側に付与したフィルムを用いることのほうが好ましい。
【００６２】
また、必要に応じてアルミニウム等の反射材料を用いた反射層をハードコート層と共に又は単独で蒸着するようにしてもよい。この反射層を形成することにより、ＥＣ膜の蓄熱作用の軽減を図ることができる。特に、赤外線の場合においては、反射層が無い場合には、その赤外線の透過低減率が例えば８０％である場合、その透過低減率が８５％まで向上する。また、反射層により蓄熱作用を防止することができ、数度程度の上昇を抑えることができ、殆ど赤外線による蓄熱を防止することができる。
【００６３】
図９はその製造工程の模式図である。
図９に示すように、第１の基材１１は電解質を形成するので、第１のシート材４１であるゲル電解質側シートとしている。第２の基材１２はエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成するので第２のシート材４２であるＥＣ側シートとしている。
ここで、第１の基材１１に第１のグリッド電極１３及び絶縁部１７−１を印刷法により形成する。この形成はスクリーン印刷法又はグラビアオフセット印刷法としている。なお、別途第１のグリッド電極１３には、リード線４４を配設している。
【００６４】
次いで、ゲル状の電解質膜１４を形成する。この電解質膜１４の形成は、コーティング法、ディスペンサー法、グラビアオフセット印刷法、反転印刷法のいずれであってもよい。グラビアオフセット印刷の場合にはグリッド電極との重ね塗りが可能となり、反転印刷の場合は、より狭いインク幅となりグリッド電極の面の均一性が向上する。
また、電解質膜１４の形成の前後のいずれかにおいて、電解質膜１４の周囲に接着用の接合枠１９を形成する。
【００６５】
一方、第２の基材１２には第２のグリッド電極１６及び第２の絶縁部１７−２を形成する。
その後、第２のグリッド電極１６及び第２の絶縁部１７−２側に電解重合法によりエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成する。なお、別途第２のグリッド電極１６には、リード線４４を配設している。
【００６６】
その後、電解質膜１４を形成した第１のシート材４１とエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成した第２のシート体４２を貼合せ処理して貼合わせ体４３を得る。なお、この貼合わせの際には、所定の位置決めを行うようにしている。
そして、真空状態において、加圧手段により加圧し、調光装置１０とする。
【００６７】
ここで、図１０−１、図１０−２にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成するための電解重合工程の概略を示す。先ず、図１０−１に示すように、第２のグリッド電極１６及び第２の絶縁部１７−２を形成した第２の基材１２に対し、枠本体５１と電極つき抑え枠５２とで挟み込む。
【００６８】
この状態で、図１０−２に示すように、電解槽５３内のエレクトロクロミック（ＥＣ）材料５４に浸漬させる。前記電解槽５３は図示しない攪拌及び加熱装置を備えている。またはＥＣ材料を別途供給するようにしてもよい。この電解装置を用いて所定条件で電解重合させて第２のグリッド電極１６及び第２の絶縁部１７−２の表面にＥＣ膜１５を形成する。
【００６９】
次に、図１１を参照して第１のシート材４１と第２のシート材４２との接合方法について説明する。
図１１に示すように、接合に用いる治具は、対向する受け板５５と加圧板５６と位置決め用軸５７及び加圧軸５８から構成されている。前記受け板５５には、位置決めのために位置決め用軸５７が設けられており、該位置決め用軸５７に第１のシート材４１を挿入して位置決めする。この上に接合枠１９を形成する。本例では接合枠１９として室温で加圧のみで接合が可能なパラフィンフィルムを用いた。
【００７０】
この接合枠１９の上面には、マスキング材を置いてから電解質膜を形成する。電解質膜１４を形成するために、接合枠１９の枠内に電解質を塗りつける。ここで、本例では、電解質としてＬｉＣＯ4、増粘材としてＰＭＭＡ、溶媒としてプロピレン炭酸塩（ＰＣ）からなる電解質材料を用いた。
【００７１】
先ず、ＰＭＭＡとＬｉＣＯ4とを混合したものを、ＰＣで溶かして均一化した後、溶解後にＰＣは塗布しやすい程度まで乾かした高伝導性（２ｍＳ／ｃｍ）を有するものであり、高粘着性のゲル電解質である。
このようにして電解質膜１４を形成した後に、ＥＣ膜１５を形成した第２のシート材４２をゲル電解質膜１４が塗布されたフィルム上に重ねた。
【００７２】
ＥＣ膜と電解質膜とは完全に密着させる必要があるので、本例では、上部に置いた加圧板５６を用いて加圧する状態を示しているが、加圧板５６を置く前に、図１２に示すような例えばローラ等を使って残った気体を追い出すことで、密着性を向上させるようにしてもよい。
【００７３】
最後に、フィルム枠の上面を加圧する。フィルム枠は、パラフィンフィルムのような加圧するだけでシールが可能なものは、熱を必要とせず加圧のみで一体化する。
【００７４】
以下、前記接合枠１９を構成する種々の接着材について説明する。第１の接着剤としては、常温における接着方式による接合例である。ここでは、例えばパラフィンフィルム（商品名「パラフィルム」）を挙げることができる。パラフィンのフィルムであり、伸縮性・粘着性が極めて良好な熱可塑性フィルムである。パラフィンフィルムは、柔らかいため熱を加えなくても室温で圧力を加えるだけでシールすることができる。勿論枠形状でなくてもテープを外周に貼り付けて囲むようにしても、容易に接着することができる。
【００７５】
また、例えばポリイソブチレン系 、変成シリコーン系、 ポリサルファイド系、アクリルウレタン系 、ポリウレタン系等の通常の接着剤を用いることもできる。この場合は、フィルム枠を用いて接着する。なお、接着剤は、汚れ等に対して弱い欠点があり、予め電解質側の第１のシート材４１には、フィルム枠を接着しておく。そして、ゲル電解質を塗布後にマスキングを外して、接着剤を塗布したＥＣ側の第２のシート材４２を重ねて接着する。
【００７６】
また、紫外線型の硬化接着剤も用いることができる。この接着剤は、通常の接着剤と異なり、紫外線線照射によって硬化する方式である。前述した通常の接着剤を用いて第２のシート材４２側の接着にこれを使用すれば、ＥＣの機能性の性能試験を行って「良品」であることを確認した後、紫外線を照射して接着することが可能となり、生産性が向上する。
【００７７】
さらに、加熱接着型の接着剤も用いることができる。例えばポリエチレン、エチレン酢酸ビニールフィルム、熱可塑性ポリイミド等の低融点フィルム等である。これらは、融点が低いため基材としては、利用できないが、接着用としては使用することができる。これらの接着剤は、フィルム枠として使用すればよい。電解質を塗布した後、マスキング剤を取り外してこれにＥＣ側の第２のシート材４２を重ねる。そして、図１４に示すように、押さえ枠のフィルム枠部分に、別途設けた加熱線６５を設け、これに電気を流して押圧して融着することができる。
【００７８】
次に、接合工程の条件について以下説明する。
接合作業は窒素置換状態又は減圧状態の条件下において、加圧ロールによる接合が特に好ましい。これは、ゲル電解質は、空気に触れると劣化しやすいので、水分を効率良く除去することが望ましいからである。特にゲル電解質塗布時には表面積が広くなり劣化して、その性質が旨く機能しないケースがある。従って、作業環境は、不活性ガス環境或いは、真空雰囲気が望ましい（図１２、図１３参照）。
【００７９】
組立は、湿分を制御したクリーンルーム或いは、グローブボックス中で作業することが好ましい。また、組立時の雰囲気も、同様であるが、最も望ましいのは減圧下或いは真空である。真空下であれば、微量な水分や空気の巻き込みを減圧度で見ながら制御することで皆無となるからである。
【００８０】
また、押圧は図１２、１３に示すようなロール加圧形式の他、図１４に示すような押圧手段を用いての押圧するようにしてもよい。なお、この際、中心側から周辺側に向かって押圧して、内部の空気を押し出すようにするとより好ましい。
【００８１】
ここで、前記エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５の形成では、電解重合法の場合を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。他のエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５の形成としては、例えば真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法、スパッタリング法等の真空プロセス、または、ゾルゲル法またはキャスト成膜法等を挙げることができる。以下その概略を説明する。
【００８２】
また、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜の成膜方式は、用いる材料と所望の膜厚均一性やセルサイズにより種々選択可能である。例えば，電解重合法では前述したように、エレクトロクロミック材料を電気化学的に薄膜成膜することが可能である。また、印加電圧、電流を適宜調整することによりポロシティー等の膜質をコントロールすることが可能であり、なお且つ通電電荷量の制御によりエレクトロクロミック（ＥＣ）膜の堆積量（膜厚）を制御することが可能である。
【００８３】
また、真空プロセスに比べて、エレクトロクロミック材料に熱的な負担が無いため、所定の化学構造のエレクトロクロミック（ＥＣ）膜が得られるが、その原理上、グリッド電極上に優先的に成膜し易いため、電解重合条件の精密な制御が必要となる。
【００８４】
また、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜の成膜には、真空蒸着やプラズマ重合法等の真空プロセスを用いることもできる。
【００８５】
得られた調光装置は、各種移動体や建築物の窓、窓の内側に設けるブラインド等の調光が必要な個所に設けることができる。
特に、建材の窓に用いる場合には、基材であるフィルムの表面にハードコート層の形成と共に、反射層を形成することにより、耐久性の向上及び蓄熱による温度上昇を低減することができ、省エネルギー効果に寄与することができる。
【００８６】
図１５−１、図１５−２は航空機の曲面を有する窓に調光装置を適用した場合の概略図であり、図１６−１、図１６−２は車両の窓に調光装置１０を適用した場合の概略図である。
図１５−１、図１５−２に示すように、航空機や車両等の窓は複雑な三次元的曲面からなるので、本発明のような極めて薄い調光装置１０を貼り付けることが可能となり、必要に応じて適宜調光することができるので、好適である。
また、建材の窓と同様に、基材であるフィルムの表面にハードコート層の形成と共に、反射層を形成することにより、耐久性の向上及び蓄熱による温度上昇を低減することができる。
【００８７】
また、図１６−１、図１６−２に示すように、車両８１のサイドミラー８２の後方を視認するミラーに調光装置１０を設け、車両の後方からの他の車両等の光の度合いをセンサ８３で感知し、その光の度合いに応じて調光するようにしてもよい。
【００８８】
以下、本発明の好適な一実施例について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【実施例１】
【００８９】
本実施例は、窒素置換雰囲気での製造方法である。ここで、窒素雰囲気圧は、大気圧とした。また、ＥＣ材としては、陰極ＥＣ材である「PProDOT-Me2誘導体（poly(3,4-propylenedioxythiophene)を用いた。
【００９０】
ＥＣ側の第２のシート材料４２は、第２の基材１２として、ＰＥＴフィルム（２５×６０ｃｍ、肉厚１２５μｍのシートを用い、このシートにＩＴＯ（０．２μｍ）を事前に蒸着すると共に、ハードコート層も形成した。なお、抵抗は５０ＲＫである。）を用いた。ＰＥＴフィルムのＩＴＯ面にリード線４４を取付けた後、金ペーストをスクリーン印刷法により第２のグリッド電極１６を形成した。第２のグリッド電極１６は、１ｍｍピッチで線幅は８０μｍとした。これを１３０℃で３０分硬化させた後、絶縁ペーストを同様にスクリーン印刷し、紫外線照射し硬化（１ｍｍピッチで線幅は５０μｍとした。周囲にはパラフィンフィルムを貼り付けた。
【００９１】
ゲル電解質側の第１のシート材料４１は、第１の基材１１として、ＰＥＴフィルム（肉厚１２５μｍ、ＩＴＯを事前に蒸着すると共に、ハードコート層も形成しており、抵抗は５０ＲＫである。）を用いた。ＰＥＴフィルムのＩＴＯ面にリード線４４を取付けた。本例では、スクリーン印刷によるグリッド電極は形成しなかった。次に、開口部６３を除いた周囲にパラフィンフィルムを置く場所を除いて、約１０μｍ強の厚さでゲル電解質を塗布した。その後、第１のシート材４１の上にＥＣ側の第２のシート材４２を置き、貼合わせ体４３とした。
【００９２】
その後、図１２に示すように、窒素雰囲気室６１の外部から駆動できるようにシール機構に荷重を掛ける機構を備えた加圧ロール６２で貼合わせ体４３の表面を平坦化すると共に、パラフィンフィルムを変形させてシールさせる。最後に紫外線硬化樹脂を開口部６３に注入後、紫外線を照射して硬化させ封止する。
【００９３】
この貼合わせ後、リード線を電池に接続後、リード線で２Ｖの電圧を掛けて着色させた。その後リード線をショートさせることで消色することを確認し合格とした。本実施例では、ＥＣ膜１５側を陰極側とし、電解質膜１４側を正極とすることで、着色し、その逆とすることで透明となるようにしている。
この調光装置を図１５−２に示すような航空機の客室窓に貼付け製品とし、その後窓枠７１に取り付けた。
【実施例２】
【００９４】
次に、他の実施例について説明する。
本実施例では、図１３に示すような真空室６４内において減圧下での製造例である。ここで、本実施例では、真空室６４内の減圧は−３００ｍｍＡｑとした。
ＥＣ側の第２のシート材料４２は、第２の基材１２として、ＰＥＴフィルム（肉厚１２５μｍ、ＩＴＯを事前に蒸着すると共に、ハードコート層も形成しており、抵抗は５０ＲＫである。）を用いた。ＰＥＴフィルムのＩＴＯ面にリード線４４を取付けた後、金ペーストをスクリーン印刷法により第２のグリッド電極１６を形成した。第２のグリッド電極１６は、１ｍｍピッチで線幅は８０μｍとした。これを１３０℃で３０分硬化させた後、絶縁ペーストを同様にスクリーン印刷し、紫外線照射し硬化（１ｍｍピッチで線幅は５０μｍとした。周囲にはパラフィンフィルムを貼り付けた。
【００９５】
ゲル電解質側の第１のシート材料４１は、第１の基材１１として、ＰＥＴフィルム（肉厚１２５μｍ、ＩＴＯを事前に蒸着すると共に、ハードコート層も形成しており、抵抗は３００ＲＫである。）を用いた。カーボンペーストをスクリーン印刷法により第１のグリッド電極１３を形成した。第１のグリッド電極１３は、１ｍｍピッチで線幅は８０μｍとした。これを１３０℃で３０分硬化させた後、絶縁ペーストを同様にスクリーン印刷し、紫外線照射し硬化（１ｍｍピッチで線幅は５０μｍとした。周囲にはパラフィンフィルムを貼り付けた。その後リード線４４を取付けた。次に、開口部６３を除いた周囲にパラフィンフィルムを置く場所を除いて、約１０μｍ強の厚さでゲル電解質を塗布した。その後、周囲にエポキシ樹脂接着剤を塗布後、第１のシート材４１の上にＥＣ側の第２のシート材４２を置き、貼合わせ体４３とした。この場合は、開口部を設けなかった。
【００９６】
その後、図１３に示すように、真空室６４の外部から駆動できるようにシール機構に荷重を掛ける機構を備えた加圧ロール６２で貼合わせ体４３の表面を平坦化すると共に、パラフィンフィルムを変形させてシールさせる。最後にエポキシ樹脂を開口部６３に注入後、硬化させ封止する。なお、検査と窓枠への取付けについは、実施例１と同様とした。
【産業上の利用可能性】
【００９７】
以上のように、本発明にかかる調光装置は、簡易に製造できるので、安価に提供することができ、特に航空機、車両の窓、サイドミラー、汎用の窓、調光ブラインド等に用いて適している。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】本実施の形態にかかる調光装置の概略図である。
【図２】本実施の形態にかかる他の調光装置の概略図である。
【図３】本実施の形態にかかる他の調光装置の概略図である。
【図４】本実施の形態にかかる他の調光装置の概略図である。
【図５】本実施の形態にかかる他の調光装置の概略図である。
【図６】本実施の形態にかかる他の調光装置の概略図である。
【図７】本実施の形態にかかる調光装置の製造工程図である。
【図８−１】本実施の形態にかかる前処理工程の概略図である。
【図８−２】本実施の形態にかかる他の前処理工程の概略図である。
【図９】本実施の形態にかかる調光装置の製造処理工程の概説図である。
【図１０−１】本実施の形態にかかる電解重合の概略図である。
【図１０−２】本実施の形態にかかる電解重合の概略図である。
【図１１】本実施の形態にかかる調光装置の製造装置の概説図である。
【図１２】本実施の形態にかかる他の調光装置の製造装置の概説図である。
【図１３】本実施の形態にかかる他の調光装置の製造装置の概説図である。
【図１４】本実施の形態にかかる他の調光装置の製造装置の概説図である。
【図１５−１】航空機の窓に調光装置を適用した状態の概略図である。
【図１５−２】航空機の窓に調光装置を適用した状態の概略図である。
【図１６−１】車両の窓に調光装置を適用した状態の概略図である。
【図１６−２】車両のサイドミラーに調光装置を適用した状態の概略図である。
【図１７】従来技術にかかる調光装置の概略図である。
【符号の説明】
【００９９】
１０  調光装置
１１  第１の基材
１２  第２の基材
１３  第１のグリッド電極
１４  電解質膜
１５  エレクトロクロミック（ＥＣ）膜
１６  第２のグリッド電極
１７  絶縁部
１７−１  第１の絶縁部
１７−２  第２の絶縁部
【図１】
2005316180.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８−１】
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【図８−２】
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【図９】
2005316180.tif 000012
【図１０−１】
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【図１０−２】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2005316180.tif 000017
【図１４】
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【図１５−１】
2005316180.tif 000019
【図１５−２】
2005316180.tif 000020
【図１６−１】
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【図１６−２】
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【図１７】
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