(57)【要約】【課題】得られる樹脂シートが２００℃以上の耐熱性を有し、透明性に優れる上、さらに吸水率が低く、着色の問題がない活性エネルギー線硬化型樹脂シート形成剤の提供、特に、光エレクトロニクス素子に適した樹脂シート製造のための活性エネルギー線硬化型樹脂シート形成剤の提供。【解決手段】下記一般式(1)で表されるジ（メタ）アクリレートを含有する活性エネルギー線硬化型樹脂シート形成剤。  【化１】2005206692.tif 000007〔式(1)において、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し、Ｘは、下記式(2)で表される４種の置換基群から選ばれるいずれか１つの置換基を表す。〕  【化２】2005206692.tif 000008【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式(1)で表されるジ（メタ）アクリレート(A)を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂シート形成剤。
【化１】
2005206692.tif 000005
〔式(1)において、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し、Ｘは、下記式(2)で表される４種の置換基群から選ばれるいずれか１つの置換基を表す。〕
【化２】
2005206692.tif 000006
【請求項２】
前記載(A)成分に、さらに光重合開始剤を含有してなる請求項１記載の活性エネルギー線硬化型樹脂シート形成剤。
【請求項３】
前記載(A)成分に、さらに前記(A)成分以外のラジカル重合性単量体を含有してなる請求項１又は請求項２記載の活性エネルギー線硬化型樹脂シート形成剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性エネルギー線硬化型樹脂シート形成剤に関するものであり、本発明により得られる樹脂シートは、光学用レンズ及び各種積層シート部材等の種々の用途に使用可能であり、特に光エレクトロニクスに応用される光学用樹脂シートに好適に使用され得る。
【背景技術】
【０００２】
従来、種々の用途に使用される光エレクトロニクス素子は、透明電導層を有するガラス基板上に素子を形成して製造されていた。
しかしながら、近年の急速なエレクトロニクス技術の進歩に伴い、携帯電話及びノート型パソコン等といった可搬型機器が広く普及するようになり、光エレクトロニクス素子を用いた表示部に対しても、携帯に有利な様に、軽量化、耐衝撃性の向上が求められるようになってきた。従って、これらの表示部では、従来のガラス基板が有する「割れやすい」、「比重が大きい」といった欠点が問題となり、従来のガラス基板に代え、樹脂シートを基板材料とすることが検討されるようになってきている。
【０００３】
ところで、光エレクトロニクス素子を形成させるプロセスでは、特にＴＦＴ液晶の製造においては、およそ２００℃以上の耐熱性が求められている。耐熱性高分子としては、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂及びエポキシ樹脂等が広く知られており、例えば、特許文献１及び同２の様な、マレイミド化合物を用いたポリマーからなる光ディスク基板が知られているが、これらポリマーは耐熱性が不十分であり、シート形成材として不十分なものであった。
【０００４】
【特許文献１】特開昭５６−１３１６５４号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開昭５８−１２６１１９号公報（特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
一方、ジ（メタ）アクリレートをはじめとする多官能（メタ）アクリレートからなる組成物を、熱又は光によりラジカル重合して得られる硬化物は、上記耐熱性樹脂に比べ、透明性が高く、さらには耐溶剤性に優れており、光エレクトロニクス素子用の樹脂シートとして検討がなされている。
【０００６】
しかしながら、従来の多官能（メタ）アクリレートからなる組成物は、これが活性エネルギー線硬化型組成物の場合、酸素共存下で光硬化する際、又は硬化後の熱処理のプロセスにおいて、硬化物が着色し易いといった問題があった。又、当該用途においては、寸法安定性が要求されるため、樹脂シートの吸水率が低いことも要求されているが、従来の多官能（メタ）アクリレート組成物では、吸水率が比較的高いものであった。
硬化物の着色の問題を解決するために、多官能アクリレート、ポリエステル(メタ）アクリレート又はウレタン(メタ)アクリレート及びビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加物のジ(メタ)アクリレートに、さらに光安定剤及び酸化防止剤を含む組成物が検討されている（例えば、特許文献３）。しかしながら、当該組成物は、着色防止することはできるものの、吸水率を十分に低くすることはできなかった。
一方、吸水率が低い組成物として、ポリテトラメチレングリコールジアクリレートを反応性希釈剤とする組成物が検討されているが（特許文献４）、この組成物では、耐熱性が十分ではない。又、得られる硬化物の着色がなく、耐熱性が高い組成物としては、ビスフェノールＡ骨格を有する（メタ）アクリレート含む組成物が知られているが、この組成物の硬化物の耐熱性は実用的には不十分なものであった（特許文献５）。
【０００７】
本発明者らは、得られる樹脂シートが２００℃以上の耐熱性を有し、透明性に優れる上、さらに吸水率が低く、着色の問題がない活性エネルギー線硬化型樹脂シート形成剤、特に、光エレクトロニクス素子に適した樹脂シート製造のための活性エネルギー線硬化型樹脂シート形成剤を見出すため鋭意検討を行なったのである。
【０００８】
【特許文献３】特開昭６３−１６８４１９号公報（特許請求の範囲）
【特許文献４】特開平９−３１４５号公報（特許請求の範囲）
【特許文献５】特開２００２−６０４４５号公報（特許請求の範囲）
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、前記の課題を解決するために鋭意検討した結果、特定構造を有するジ（メタ）アクリレートを含有する形成剤が、耐熱性に優れ、透明かつ加熱処理後の色付きがなく、極めて吸水性が低い樹脂シートを形成し得ることを見出し、本発明を完成した。以下、本発明を詳細に説明する。
尚、本明細書においては、アクリレート又はメタクリレートを（メタ）アクリレートと表す。
【００１０】
(A)ジ（メタ）アクリレート
本発明のシート形成剤は、下記一般式(1)で表されるジ（メタ）アクリレート〔以下(A)成分という〕を含有してなるものである。
【００１１】
【化１】
2005206692.tif 000002
【００１２】
〔式(1)において、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表し、Ｘは、下記式(2)で表される４種の置換基群から選ばれるいずれか１つの置換基を表す。〕
【００１３】
【化２】
2005206692.tif 000003
【００１４】
Ｒ1としては、硬化性に優れる点で、水素原子が好ましい。
Ｘとしては、得られる硬化物の吸水率が低く、着色も少ないという理由で、−（ＣＨ3）Ｃ（ＣＨ3）−又は−Ｓ−が好ましい。
【００１５】
(A)成分の具体例としては、例えば、４，４−ジアクリロキシジフェニルメタン、４，４−ジメタクリロキシジフェニルメタン、２，２−ビス（４−アクリロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシフェニル）プロパン、４，４−ジアクリロキシジフェニルスルフォン、４，４−ジメタクリロキシジフェニルスルフォン、ビス（４−アクリロキシフェニル）スルフィド及びビス（４−メタクリロキシフェニル）スルフィドが挙げられる。
これらのうち、硬化性に優れることから、４，４−ジアクリロキシジフェニルメタン、２，２−ビス（４−アクリロキシフェニル）プロパン、４，４−ジアクリロキシジフェニルスルフォン及びビス（４−アクリロキシフェニル）スルフィドが好ましい。
(A)成分としては、単独で使用しても、２種以上を併用しても良い。
【００１６】
(B)光重合開始剤
本発明のシート形成剤は、電子線、可視光線及び紫外線等の活性エネルギー線の照射により硬化するものであるが、膜厚の大きい樹脂シートを得るためには、可視光線又は紫外線硬化型とすることが好ましい。可視光線又は紫外線硬化型形成剤とする場合、形成剤に、光重合開始剤〔以下(B)成分という〕を配合する。尚、電子線硬化型形成剤とする場合は、(B)成分を必ずしも配合する必要はない。
【００１７】
(B)成分の具体例としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル及びベンゾインプロピルエーテル等のベンゾイン；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノアセトフェノン等のアセトフェノン；２−メチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン及び２−アミルアントラキノン等のアントラキノン；２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン及び２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン；アセトフェノンジメチルケタール及びベンジルジメチルケタール等のケタール；ベンゾフェノン、メチルベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーズケトン及び４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン；並びに２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
(B)成分は単独で使用しても、２種以上を併用しても良い。
【００１８】
(B)成分には、必要に応じて光増感剤を併用することができる。光増感剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、トリエチルアミン及びトリエタノールアミン等が挙げられる。
【００１９】
(C)その他の成分
本発明のシート形成剤には、(A)成分を必須成分とするものであるが、必要に応じて、(A)成分以外のラジカル重合性単量体（以下その他単量体という）を配合することができる。
その他単量体としては、１個の(メタ)アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート〔以下単官能（メタ）アクリレートという〕、２個以上の(メタ)アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート〔以下多官能（メタ）アクリレートという〕、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート及びポリブタジエン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２０】
単官能（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールモノ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート及びイソボルニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールのアルキレンオキサイド付加物の(メタ)アクリレート等が挙げられる。
多官能（メタ）アクリレートとしては、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトール(メタ)アクリレート、これら（メタ）アクリレートの原料アルコールのアルキレンオキサイド付加物のポリ（メタ）アクリレート、並びにイソシアヌル酸のアルキレンオキサイド付加物のポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。前記、アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
【００２１】
エポキシ（メタ）アクリレートとしては、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル及びトリグリシジルイソシアヌレート等のグリシジルエーテルの（メタ）アクリレート、並びにビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及びクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂の（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２２】
ポリウレタン（メタ）アクリレートとしては、多価アルコールと多価イソシアネート化合物と、水酸基含有（メタ）アクリレートとの反応物等が挙げられる。
多価アルコールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポリオールや、エチレングリコールアジペート、ブタンジオールアジペート、ブタンジオールフタレート及びヘキサンジオールフタレート等のポリエステルジオールが挙げられる。
多価イソシアネート化合物としては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート及び水添ジフェニルメタンジイソシアネート等が挙げられる。
水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及びヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００２３】
ポリエステル（メタ）アクリレートとしては、ポリエステル型の多価アルコールと（メタ）アクリル酸との反応物を挙げることができる。
ポリエステル型の多価アルコールとしては、例えば、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸及びトリメリット酸
等の多塩基酸、並びにその無水物等が挙げられる。アルコール成分としては、エチレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド、又はプロピレンオキサイド付加物のトリオール、グリセリンのエチレンオキサイド、又はプロピレンオキサイド付加物のトリオール、及びペンタエリスリトールのエチレンオキサイド、又はプロピレンオキサイド付加物のテトラオール等を反応させたポリエステルアルコール等が挙げられる。
【００２４】
これらの中でも、得られる硬化物の吸水率を低くできる点で、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ノルボルナンメチロール（メタ）アクリレート及びイソボルニル（メタ）アクリレート等の脂環式モノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート及びｐ−クミルフェノールのアルキレンオキサイド変性物の(メタ)アクリレート等の芳香族モノ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００２５】
その他単量体の使用量は、形成剤中に０〜５０質量％が好ましく、より好ましくは１５質量％以下である。これらの使用割合が高くなると、得られる樹脂シートの吸水率が極端に上昇したり、耐溶剤性が低下する場合がある。
【００２６】
本発明において硬化物の反応率を向上させる目的で、熱重合開始剤を配合することができる。熱重合開始剤としては、有機過酸化物及びアゾ系化合物等が挙げられる。
【００２７】
有機過酸化物の具体例としては、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス（４，４−ジ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロドデカン、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシマレイン酸、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｍ−トルオイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジーメチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、α、α‘−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ヘキシルハイドロパーオキサイド及びｔ−ブチルハイドロパーオキサイド等が挙げられる。
【００２８】
アゾ系化合物の具体例としては、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル、２−フェニルアゾ−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、アゾジ−ｔ−オクタン及びアゾジ−ｔ−ブタン等が挙げられる。
【００２９】
これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。又、有機過酸化物は、還元剤と組み合わせることによりレドックス触媒とすることも可能である。熱重合開始剤としては、得られる樹脂シートに気泡が発生することがないため、有機過酸化物が好ましい。
【００３０】
(D)シート形成剤の製造方法
本発明のシート形成剤において、電子線で硬化させる場合には、(A)成分のみで良く、又(B)成分やその他の成分を使用する場合は、常法に従い、各成分を混合することにより得ることができる。
本発明のシート形成剤において、(A)成分の割合としては、前記その他単量体を併用する場合には、形成剤中に(A)成分が３０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは３０〜９９．９８質量％、特に好ましくは５０〜９９．９５質量％である。
(B)成分を配合する場合は、(A)成分が９０〜９９．９５質量％が好ましく、より好ましくは９８〜９９質量％であり、(B)成分が０．０５〜１０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜２質量％である。この場合において、その他単量体を併用する場合は、(A)成分が５０〜９９．９５質量％が好ましい。
【００３１】
本発明のシート形成剤は、得られる樹脂シートの耐熱温度が２００℃以上であるものが好ましい。耐熱温度が２００℃未満のものは、ＴＦＴ液晶用樹脂シートの製造工程において、樹脂シートが分解したり、寸法変化が大きくなってしまうため、この様な用途には使用することができないことがある。尚、本発明における耐熱温度とは、示差走査熱量測定（以下ＤＳＣと略す）において、吸熱ピークまたは発熱ピークが認められる温度を意味する。
【００３２】
(E)樹脂シートの製造方法
本発明のシート形成剤を使用する樹脂シートの製造方法としては、常法に従えば良い。
例えば、活性エネルギー線を透過可能な２枚の平板を用い、当該平板の四方を樹脂板等により囲って空間部を形成させ、必要に応じて周辺部をシールした後に、空間部分に形成剤を満たし、活性エネルギー線を前記平板を透過させて照射することにより硬化させる。
硬化後、２枚の平板を取り除き、樹脂シートが得られる。
シート形成剤として、熱重合開始剤を配合したものを使用する場合は、前記活性エネルギー線を照射した後、加熱を行うことが好ましい。
【００３３】
活性エネルギー線としては、電子線、可視光線及び紫外線が挙げられる。可視光線及び紫外線を照射する場合の光源としては、使用する光重合開始剤に応じて適宜選択すれば良く、高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプ等を挙げることができる。
【００３４】
平板としては、光の透過を阻害せず、ランプから発生する熱や重合熱による変形を生じないものが好ましい。好適なものとしては硬質ガラスを挙げることができ、硬質ガラスと同等の上記性能を有するものあれば、樹脂板等を使用することもできる。必要に応じ、空間部で得られた樹脂シートを容易に取り外すため、平板に種々の剥離剤を塗布したり、剥離層を設けても良い。これらについては、光の透過を阻害せず、さらに光照射時の熱による変形・変質をもたらさないものであれば、特に制限しない。
【００３５】
活性エネルギー線照射の後に加熱を行う場合は、活性エネルギー線照射による硬化物を２枚の平板を取り除いた後加熱しても良く、又平板を取り除かずそのまま引き続き加熱しても良い。
加熱には従来使用されている乾燥機を使用することができる。乾燥機としては窒素やアルゴン等の不活性ガスを通気可能なものが好ましく、形状や仕様は限定されない。又、乾燥機中が十分に不活性ガスで置換されていればガスの流量は特に限定されない。
加熱温度としては、６０〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２３０℃である。加熱温度が６０℃に満たない場合は、(B)成分が十分に分解しなかったり、活性エネルギー線照射後の硬化物の加熱硬化速度が不充分になる場合があり、他方２５０℃を超えると、樹脂シートの主鎖骨格の分解やエステル部分の分解が生じる場合がある。
加熱時間は短すぎると十分な効果が得られない場合があり、逆に長すぎると生産性・作業効率を著しく低下させてしまう。通常は１０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がより好ましい。但し、所望の反応率が１００％近くでなくても良い場合は、加熱時間を短縮することが可能であり、硬化物のひずみを緩和したいという目的もある場合は、加熱時間を長くしても良い。
加熱硬化後の冷却は、特に硬化物のガラス転移温度（Ｔｇ）が高いものほど急激な冷却によりシートが割れやすくなる傾向があるため、徐々に室温まで下げるようにすることが好ましい。
【００３６】
本発明により得られる樹脂シートは、光学用レンズ及び各種積層シート部材等の種々の用途に使用可能であり、特に光エレクトロニクスに応用される光学用樹脂シートに好適に使用され得る。より具体的には、液晶ディスプレイ等の表示素子があり、本発明の樹脂シートは、耐熱温度が２００℃以上であるため、製造プロセスで２００℃以上の耐熱性が必要とされるＴＦＴ液晶用樹脂シートの製造において特に有用に使用することができる。
【発明の効果】
【００３７】
本発明のシート形成剤は、得られる樹脂シートが耐熱性に優れ、透明でかつ色付きがなく、吸水率が極めて低い。又、得られる樹脂シートは、ガラス基板よりも軽量かつ耐衝撃性も優れており、液晶ディスプレイ等のガラス基板の代替えシート部品、液晶ディスプレイ用偏光フィルム及びタッチパネル用積層シート等の光学用樹脂シートとして特に有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
本発明の樹脂シート形成剤は、前記(A)成分を必須とするものである。本発明の形成剤としては、好ましくは、さらに(B)成分を含むものが好ましく、又さらにその他単量体を含むものが好ましい。
【実施例】
【００３９】
以下、実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。
尚、以下において、「部」とは質量部を意味する。
【００４０】
◎実施例１〜５および比較例１〜２
○シート形成剤の製造
下記表１に示す成分を混合し、シート形成剤を製造した。
【００４１】
○樹脂シートの製造
ガラス平板の四方に、樹脂板を置き、厚さ０．４ｍｍの空間部を形成した。該空間部に得られた形成剤を満たした後、その上にガラス平板を置いた。
これに、コンベアスピード５ｍ／分、出力１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプで０．８Ｊ／ｃｍ2の条件で紫外線照射を、ガラス平板の表裏両面を各５回づつ行なった。硬化後、ガラス平板を取り除き、厚さ０．４ｍｍの樹脂シートを得た。
得られた樹脂シートを使用し、以下に示す方法に従い評価を行なった。得られた結果を表１に示す。
【００４２】
○評価
・吸水率
得られた樹脂シートを５ｃｍ×５ｃｍに切り出し、これを試験片とした。この試験片を窒素中、２１０℃で１時間加熱し、硬化物を完全に乾燥させた後に、デシケーター中で放冷し、試験片を秤量した（Ｗ１）。ついで試験片を８０℃の蒸留水に２０時間浸漬し、取り出した後に試験片表面の水を軽く拭き取り秤量し（Ｗ２）、次式より吸水率を算出した。
【００４３】
吸水率（％）＝１００×（Ｗ２−Ｗ１）／Ｗ１
【００４４】
・着色
得られた樹脂シートについて、ＪＩＳ Ｋ ５４００に準じて促進黄色度を測定して評価した。色差計は日本電色工業（株）製、ＳＺ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｓｅｎｓｏｒを用いた。
【００４５】
・耐熱性
得られた樹脂シートの耐熱性を、熱分析により評価した。熱分析は、ＤＳＣにより行なった。ＤＳＣは、窒素雰囲気下、温度範囲３０〜２２０℃、昇温速度１０℃／分の条件で行なった。
【００４６】
【表１】
2005206692.tif 000004
【００４７】
表１における略号は、以下の意味を示す。
１）ＢｉｓＡＤＡ：２，２−ビス（４−アクリロキシフェニル）プロパン〔式(1)において、Ｒ1：水素原子、Ｘ：−（ＣＨ3）Ｃ（ＣＨ3）−の化合物〕
２）ＢｉｓＦＤＡ：４，４−ジアクリロキシジフェニルメタン〔式(1)において、Ｒ1：水素原子、Ｘ：−ＣＨ2−の化合物〕
３）ＢｉｓＳＤＡ：４，４−ジアクリロキシジフェニルスルフォン〔式(1)において、Ｒ1：水素原子、Ｘ：−ＳＯ2−の化合物〕
４）ＴＢｉｓＤＡ：ビス（４−アクリロキシフェニル）スルフィド〔式(1)において、Ｒ1：水素原子、Ｘ：−Ｓ−の化合物〕
５）ＨＣＰＫ：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
６）ＢＤＭＫ：ベンジルジメチルケタール
７）ＮＤＭＡ：ノルボルナンメチロールアクリレート
８）Ｍ−２１０：ビスフェノールＡのエチレンオキサイド４モル変性ジアクリレート東亞合成（株）製アロニックスＭ−２１０
９）Ｍ−３１５：イソシアヌル酸エチレンオキサイド３モル変性トリアクリレート、東亞合成（株）製アロニックスＭ−３１５
【００４８】
実施例の結果から、本発明のシート形成剤は、得られる樹脂シートが耐熱性に優れ、透明かつ色付きがなく、さらに吸水率が極めて低い。
一方、比較例から明らかなように、ビスフェノールのアルキレンオキサイド変性物の(メタ)アクリレートを用いたもの（比較例１）は、低吸水と透明性は両立できるが、耐熱性が不十分なものであった。又、アルキレンオキサイド変性物のトリ（メタ）アクリレートを用いたもの（比較例２）は、透明性と耐熱性は両立できるが、吸水率が高くなってしまった。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明のシート形成剤は、樹脂シートの製造に使用され、得られる樹脂シートは、液晶ディスプレイ等のガラス基板の代替えシート部品、液晶ディスプレイ用偏光フィルム及びタッチパネル用積層シート等の光学用樹脂シートとして特に好適に使用できる。