(57)【要約】【課題】  有機溶剤を使用して剥離層を設けていた従来の構成を脱し、有機溶剤を出来るだけ用いることなく製造できる積層体を提供すること、またそのようにして得られた積層体を利用して金属粉や転写箔を提供する。【解決手段】  プラスチックフィルム基材の表面に対して直流グロー放電又はプラズマ処理を施すことにより、前記プラスチックフィルム基材の表面を脆弱なものとした脆弱層を形成し、前記脆弱層のさらに表面に特定の目的に応じた目的層を形成することにより得られる積層体とした。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチックフィルム基材の表面に対して直流グロー放電又はプラズマ処理を施すことにより、前記プラスチックフィルム基材の表面を脆弱なものとした脆弱層を形成し、
前記脆弱層のさらに表面に特定の目的に応じた目的層を形成してなること、
を特徴とする、積層体。
【請求項２】
請求項１に記載の積層体において、
前記目的層を、金属を蒸着した金属蒸着層とし、
前記金属蒸着層を積層した後に、該金属蒸着層を剥離粉砕して得られること、
を特徴とする、金属粉。
【請求項３】
請求項１に記載の積層体において、
前記目的層のさらに表面に、少なくとも粘着性を有する接着層を積層してなること、
を特徴とする、転写箔。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、簡単な構成を有する積層体であって、具体的には溶剤を用いずに形成した積層体を用いた金属粉並びに転写箔に関する。
【背景技術】
【０００２】
装飾品や磁性材料の原料として金属粉は幅広く使用されているが、殆どの場合においては出来るだけ薄く、細かい金属粉であることが望まれている。また一方で、物品を装飾するために、例えば金属光沢を付与したり、特定の柄を付与したりするために転写箔が用いられているが、容易にかつ美麗に転写できること、また物品に転写をする作業の最後に転写箔の基材を剥離する時に簡潔且つ美麗に剥離できること、が望まれている。
【０００３】
そこで、従来より、例えば特許文献１に見られるように、ベースフィルム上にアンダーコート層や剥離層を設け、さらにその表面に金属蒸着層を設けてなる金属蒸着フィルムの金属蒸着層部分を剥離粉砕することにより、薄く細かい金属粉を得ている。
また、例えば特許文献２に見られるように、基体シートの表面に剥離樹脂層を積層し、さらにその表面に転写層を形成することで、特定の柄や金属光沢を付与できる転写箔を得ている。
【０００４】
【特許文献１】特開昭４８−５１８５９号公報
【特許文献２】特開平４−２３９６８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし特許文献１に記載の金属粉の製造法や、特許文献２に記載の転写箔であれば、基材となるフィルムの表面に何らかの剥離層を設けなければならないが、このような剥離層を設ける場合、何らかの樹脂を有機溶剤（例えばトルエンやメチルエチルケトンなど。）に溶解させて塗材を製造し、これを塗布することで剥離層を設ける、という作業工程を要する。
【０００６】
しかし有機溶剤を使用することは、昨今の環境問題の観点から好ましい物とは言えず、また有機溶剤を取り扱う人体への影響も看過することは出来ないものである。
【０００７】
そこで本発明はこのような問題点に鑑みて為されたものであり、その目的は、有機溶剤を使用して剥離層を設けていた従来の構成を脱し、有機溶剤を出来るだけ用いることなく製造できる積層体を提供すること、またそのようにして得られた積層体を利用して金属粉や転写箔を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本願発明の請求項１に記載の発明は、プラスチックフィルム基材の表面に対して直流グロー放電又はプラズマ処理を施すことにより、前記プラスチックフィルム基材の表面を脆弱なものとした脆弱層を形成し、前記脆弱層のさらに表面に特定の目的に応じた目的層を形成してなること、を特徴とする。
【０００９】
本願発明の請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の積層体において、前記目的層を、金属を蒸着した金属蒸着層とし、前記金属蒸着層を積層した後に、該金属蒸着層を剥離粉砕して得られること、を特徴とする。
【００１０】
本願発明の請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の積層体において、前記目的層のさらに表面に、少なくとも粘着性を有する接着層を積層してなること、を特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
以上のように、本願発明に係る積層体であれば、基材となるプラスチックフィルムの表面を直流グロー放電又はプラズマ処理により炭化させることでその表面を脆弱な層とし、さらにその表面に目的層、例えばアルミニウムなどの金属蒸着層を設けるだけで、容易に積層物を剥離することが出来る構成を有する積層体を得る事が出来る。また目的層を容易に剥離できることを利用した、従来よりも容易に製造可能な金属粉や、簡潔にして美麗に剥離転写を可能とした転写箔を得られる。さらに本発明に係る積層体、金属粉、転写箔の製造過程においてはいわゆる有毒な有機溶剤を積極的に利用する必要がないので、環境問題という観点からも大変好適な物とすることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本願発明の実施の形態について説明する。尚、ここで示す実施の形態はあくまでも一例であって、必ずもこの実施の形態に限定されるものではない。
（実施の形態１）
本願発明に係る積層体について、第１の実施の形態として説明する。
本実施の形態に係る積層体は、プラスチックフィルム基材の表面に対して直流グロー放電又はプラズマ処理を施すことにより、前記プラスチックフィルム基材の表面を脆弱なものとした脆弱層を形成し、前記脆弱層のさらに表面に特定の目的に応じた目的層を形成することにより得られる。
【００１３】
以下、本実施の形態に係る積層体につき説明する。
まず基材となるプラスチックフィルムであるが、本実施の形態において特に制限するものではなく、従来公知のものであって構わない。また透明・不透明のいずれであっても構わないが、後述するように本発明の目的を達するためには透明である方が望ましい。また同じく後述するようにその表面に対して直流グロー放電又はプラズマ処理を行なった際に破壊されない程度のプラスチックフィルムであればよい。例えばポリエチレンテレフタレートフィルムやポリプロピレンフィルム、等であれば、このような条件に適応し、また取り扱いやすさ、入手のしやすさ、価格、といった観点から好適である。またその厚みとしては、やはり後述のグロー放電を行なった時に表面だけを脆弱な層と出来るような厚みであればよく、具体的には１０〜１００μｍであれば良く、２５〜５０μｍであればより好適である。薄すぎるとグロー放電を行った際に表面のみならず全厚みに渡り構造が脆弱なものとなってしまい、表面のみを脆弱化するという目的を達成できず、さらに薄いとフィルムが切れやすい、という作業性の点で好ましくなく、また厚すぎると表面のみを脆弱化するにしてもあまりにも表面の薄い部分しか脆弱化できない、さらにはコストが高騰してしまうので、所望の目的を達成できないからである。
【００１４】
ここで、基材となるプラスチックフィルムの表面に対して行なう直流グロー放電又はプラズマ処理につき簡単に説明すると、これは俗に真空放電（処理）とも呼ばれるものであって、気体イオンが電極電圧の上昇と共に次第に加速され、中性分子と衝突してこれを電離し、次いで新たに生成された電子が他の分子を電離し、陽イオンは陰極面に対して電子放出を起こさせる放電（プラズマ）のことである。そしてこの時に生じるプラズマを利用して基材プラスチックフィルムの表面を粗面化し、即ち炭化させるのである。
ちなみに、本実施の形態においては直流式のグロー放電又はプラズマ処理を用いているが、交流式であっても、また高周波を利用するものであっても構わない。
【００１５】
尚、本実施の形態では直流グロー放電又はプラズマ処理により基材プラスチックフィルムの表面を脆弱化する、としたが、これ以外の方法であっても、基材プラスチックフィルムの表面を脆弱化出来る方法であれば構わない。
【００１６】
このように表面が脆弱化された基材プラスチックフィルムの表面に、例えば金属を蒸着させた金属蒸着層を設ける。尚、その表面に積層するものはこれに限る物ではなく、積層体の目的とする機能を有する層を目的層として積層した構成とすればよいのであるが
以下の説明では金属を蒸着させた金属蒸着層であるものとする。
【００１７】
この金属蒸着層の厚みは本実施の形態においては特に制限する物ではなく、機能に応じた厚みであって構わない。
【００１８】
また本実施の形態では金属蒸着層を積層したもの、としているが、その蒸着方法については従来公知のものであってよい。またその他の機能層を設ける場合に、蒸着で設けるものであってもよいし、塗液を塗布する方法により設けるものである、としていても構わない。
【００１９】
以上のようにして得られる本実施の形態にかかる積層体であれば、まず基材フィルムの表面を直流グロー放電又はプラズマ処理をすることでその表面を脆弱化して脆弱層を形成し、その脆弱層の表面に目的層を積層しているので、この目的層を剥離する場合において、従来であれば剥離層を設けることにより目的層を剥離させていたものが、容易に崩壊させられる程度に脆弱化させた脆弱層の表面に目的層を積層しているので、容易にこれを剥離することが可能な積層体とすることができる。そして従来であれば溶剤を用いた剥離層等を設けていた代わりに、単純にその表層を脆弱化させただけで従来の剥離層と同等の効果を有する層を形成することができるので、このような構成を有する積層体を製造するときに環境問題を引き起こす可能性が極めて低くなるのである。
【００２０】
（実施の形態２）
次に、第１の実施の形態で説明した積層体を用いた金属粉につき、第２の実施の形態として説明する。
【００２１】
本実施の形態にかかる金属粉を得るために、第１の実施の形態で説明をした積層体の目的層を金属蒸着層とする。この金属蒸着層は前述の通り、容易に剥離することが可能である。なぜならば金属蒸着層が積層されている層は直流グロー放電又はプラズマ処理により脆弱性を有する層となっているからである。
【００２２】
一端金属蒸着層を積層してなり、次いでこれを剥離するときには、このように従来の剥離層に積層してなるものに比して極めて容易に剥離をすることが可能となるので、引き続き剥離した金属蒸着層の粉砕作業も容易に行えるようになる。
即ち、従来であれば、剥離層の表面に積層した金属蒸着層が、剥離層の有する剥離性に左右されて綺麗に剥離しない場合もあり、その時は積層した金属蒸着層の一部だけを剥離して粉砕する、もしくは剥離しそこねた部分を改めて剥離させてしかる後に粉砕する、という工程が必要であったが、本実施の形態によれば金属蒸着層は容易にかつ美麗に剥離ささせることが可能となるので、それだけ手間暇かけずに剥離粉砕作業を簡潔に実行することが可能となるのである。
しかも本実施の形態における金属粉を製造するために準備する積層体を製造するときには、有機溶剤の使用量を相当低下させる、若しくは使用しないことが可能となるので、一般環境、人体環境への負荷を減少させることが出来るようになる。
【００２３】
尚、本実施の形態における金属蒸着層は上述のように用いられるので、その膜厚は１０μｍ〜２００μｍ、より好ましくは３０ｎｍ〜８０ｎｍであることが望ましい。
【００２４】
（実施の形態３）
次に、第１の実施の形態で説明した積層体を用いた転写箔につき、第３の実施の形態として説明する。
【００２５】
本実施の形態における転写箔は、第１の実施の形態で説明した積層体において、前記目的層のさらに表面に、少なくとも粘着性を有する接着層を積層してなる構成を有する。
【００２６】
例えば目的層として反射防止層を積層してなり、さらにその表面に接着層を積層してなる構成とすることで、これを転写箔として用いれば、所望の物品における所望の箇所、例えばガラスショウケースの表面等、に反射防止機能を付与する事が出来る。さらに説明すれば、従来の転写箔であれば基材表面の離型層が有する離型性により、かならずしも綺麗に離型しない場合もあったが、本実施の形態における転写箔であれば従来の離型層の代わりに、容易に崩壊させられる程度に脆弱性を付与した脆弱層を積層した構成としているので、特段に離型層を設けることなく、容易に剥離が可能な転写箔とすることができるようになる。
しかも本実施の形態における転写箔を製造するために準備する積層体を製造するときには、有機溶剤の使用量を相当低下させる、若しくは使用しないことが可能となるので、一般環境、人体環境への負荷を減少させることが出来るようになる。
【００２７】
そしてこのような目的を有する構成とするので、接着層に用いる材料として、またその厚みとしては、従来公知の程度であって構わず、例えばポリウレタン系やポリエステル系の熱可塑性樹脂を用い、数μｍ程度の厚みとすればよい。
【実施例】
【００２８】
以下、実施例により本願発明をより具体的に説明するが、必ずしも本願発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２９】
（ラミネート強度の評価方法）
金属蒸着層面に、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体接着剤を固形分で１μｍ〜２μｍ相当をコートし、この塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体接着剤を介して、厚さ２００μｍの軟質塩ビフィルムと重ね合わせる。そしてこれに対して、１２５℃下で２．０ｋｇ／ｃｍ2の圧力をかけて２秒間圧着し、２５℃の雰囲気で２４時間エージングを行う。エージング終了後、これを１５ｍｍ×２００ｍｍの寸法に切り出し、卓上形精密万能試験機（株式会社島津製作所製  島津オートグラフＡＧＳ−１００）により、Ａｌ蒸着層と接着剤層との間を引張速度２００ｍｍ／ｍｉｎで９０°剥離する。この剥離時の強度を密着強度として評価測定した（以下、これを「ドライ密着強度」と呼ぶ）。また、上記と同様の方法で引っ張り始めた時に剥離面に蒸留水を２〜３滴滴下したものについて、剥離時の強度を密着強度として評価測定した（以下、これを「ウェット密着強度」と呼ぶ）。
【００３０】
（実施例及び比較例）
ＰＥＴフィルム（東洋紡績（株）製  Ｅ−５０６６）表面に対してプラズマ放電処理を行い、該プラズマ放電処理面の上に金属層としてアルミニウム層を形成した。具体的には作業ガス圧を１．３３Ｐａとし、ロール・ツー・ロール方式によって、酸素ガスを導入した直流グロー放電プラズマ処理によるプラズマ放電処理を施した上で、該プラズマ放電処理面上にロール・ツー・ロール方式の真空蒸着機により、作業ガス圧を０．０２Ｐａ以下とし、高周波抵抗加熱方式による蒸着によって膜厚６００Åのアルミニウムの蒸着を行い、金属層を形成した。その結果について以下に示す。
尚、プラズマ放電処理を行わなかった場合についても同様の試験を行った。その結果も比較例として以下に示す。
【００３１】
【表１】
2005119215.tif 000002
【００３２】
以上のように、プラズマ強度が５０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2以上の場合に密着力が極度に下ることがわかる。そしてプラズマ強度を５０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2とした直流グロー放電又はプラズマ処理を施せば、金属粉、転写箔を製造するのに好適なものとなせるのである。