(57)【要約】【課題】紫外線スペクトルにわたって高い透過効率を有するパターン化グリッド偏光器を提供することである。【解決手段】リソグラフで使用するためのパターン化グリッド偏光器において、（ａ）紫外線（ＵＶ）光に対して透明な基板と、（ｂ）該基板上にパターン化されたエレメントのアレイを有し、該エレメントは紫外線光を偏光する、ことを特徴とする偏光器。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフで使用するためのパターン化グリッド偏光器において、
（ａ）紫外線（ＵＶ）光に対して透明な基板と、
（ｂ）該基板上にパターン化されたエレメントのアレイを有し、
該エレメントは紫外線光を偏光する、ことを特徴とする偏光器。
【請求項２】
請求項１記載の偏光器において、パターン化されたエレメントは接線方向に偏光された出射光を、非偏光の入射光から形成し、
該入射光は偏光器に入射し、出射光を偏光器から出射する。
【請求項３】
請求項１記載の偏光器において、パターン化されたエレメントは半径方向に偏光された出射光を、非偏光の入射光から形成し、
該入射光は偏光器に入射し、出射光を偏光器から出射する。
【請求項４】
請求項１記載の偏光器において、エレメントは複数の群にパターン化されており、
該群は円形パターンに配置されており、
各群は平行なエレメントからなり、
第１の群のエレメントは第２の群のエレメントに対して平行ではない。
【請求項５】
請求項１記載の偏光器において、エレメントは円形である。
【請求項６】
請求項５記載の偏光器において、エレメントは同心円にパターン化されている。
【請求項７】
請求項１記載の偏光器において、エレメントは、紫外線光の波長の約１／１０から紫外線光の波長の２倍の間のピッチを有する。
【請求項８】
請求項１記載の偏光器において、エレメントは紫外線光の波長の約１／４のピッチを有する。
【請求項９】
請求項１記載の偏光器において、エレメントは約４５ｎｍから９５ｎｍの間の周期を有する。
【請求項１０】
請求項１記載の偏光器において、エレメントは近似的に０．０４μｍから０．３μｍの間の厚さを有する。
【請求項１１】
請求項１記載の偏光器において、エレメントはアルミニウム、銀または金を含む。
【請求項１２】
請求項１記載の偏光器において、さらに紫外線光源を有する。
【請求項１３】
請求項１２記載の偏光器において、紫外線光は偏光されていない。
【請求項１４】
請求項１２記載の偏光器において、紫外線光は少なくとも２つの偏光方向を有し、
ワイヤグリッド偏光器は第１の偏光方向の光の大部分を反射し、第２の偏光方向の光の大部分を透過する。
【請求項１５】
請求項１２記載の偏光器において、ワイヤグリッド偏光器は紫外線光を接線方向に偏光された光に変換する。
【請求項１６】
請求項１２記載の偏光器において、ワイヤグリッド偏光器は紫外線光を半径方向に偏光された光に変換する。
【請求項１７】
請求項１記載の偏光器において、基板は石英ガラス、フッ化カルシウム、サファイヤ、水晶またはフッ化マグネシウムである。
【請求項１８】
紫外線光を偏光するための装置であって、
（ａ）紫外線スペクトル中に少なくとも１つの波長を有する光ビームを形成する光源と、
（ｂ）紫外線スペクトルの光に対して透明であり、光ビームの経路に配置された基板と、
（ｃ）基板上にあるエレメントのアレイと、
を有する装置において、
エレメントのアレイは入射紫外線光を偏光し、偏光された光を出射する、ことを特徴とする装置。
【請求項１９】
請求項１８記載の装置において、エレメントは紫外線光ビームの波長の約１／４の周期を有する。
【請求項２０】
請求項１８記載の装置において、エレメントは約０．１λと０．５λの間の周期を有し、ここでλはビームの波長である。
【請求項２１】
請求項１８記載の装置において、エレメントの厚さは０．０４μｍから０．３μｍの間である。
【請求項２２】
請求項１８記載の装置において、基板は石英ガラス、フッ化カルシウム、またはサファイヤを含む。
【請求項２３】
請求項１８記載の装置において、エレメントは一般的に第１偏光方向の入射光の大部分を反射し、第２偏光方向の光の大部分を透過する。
【請求項２４】
請求項１８記載の装置において、エレメントは接線方向に偏光された出射光を形成するように放射状に構成されている。
【請求項２５】
請求項１８記載の装置において、エレメントは半径方向に偏光された光を形成するように同心円に構成されている。
【請求項２６】
光経路に沿って露光ビームを形成するための装置であって、
（ａ）ワイヤグリッド偏光器と、
（ｂ）瞳を備える照明器と、
を有する形式の装置において、
偏光器は、紫外線（ＵＶ）光に対して透明な基板と、基板上にパターン化されたエレメントのアレイを有し、該エレメントは紫外線光を偏光し、偏光パターンを紫外線光中に照明器の瞳で形成する、ことを特徴とする装置。
【請求項２７】
光経路に沿って露光ビームを形成するための装置であって、
（ａ）ワイヤグリッド偏光器と、
（ｂ）投影光学系と、
を有する形式の装置において、
偏光器は、紫外線（ＵＶ）光に対して透明な基板と、基板上にパターン化されたエレメントのアレイを有し、該エレメントは紫外線光を偏光し、偏光パターンを投影光学系に向かう紫外線光出力中に形成する、ことを特徴とする装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光器
もっとも簡単なグリッドエレメント偏光器は、平行な導電ワイヤのグリッドからなるデバイスである。光がグリッドに入射すると、照射の各直交成分はワイヤグリッド偏光器とそれぞれ異なって交差する。ワイヤに平行なフィールドの成分は電子を各ワイヤの長手方向に沿ってドライブし、これにより電流が発生する。電子はまた格子原子と衝突し、エネルギーをこれに付与し、これによりワイヤを加熱する。このようにしてエネルギーはフィールドからグリッドに伝達される。さらにワイヤに平行に加速する電子は前方向と後方向の両方に放射する。入射波は前方向に放射される波により相殺される傾向にあり、そのためフィールドのその成分は透過しないか、またはほとんど透過しない。後方向に伝播する放射は単純に反射波として現れる。反対に、ワイヤに垂直の波の成分は実質的に変化せずグリッドを通過して伝播する。（Eugene Hecht, Optics, Chapter 8, pp.333-334, Addison Wesley, San Francisco(2002)）
１９６０年にGeorge R. BirdとMaxfield Parish, Jr.は１ｍｍ当たりに２１６０本のワイヤを有する、マイクロ波領域で使用するためのグリッド偏光器を開示している（G.R. BirdとM. Parish,Jr.,J. Opt. Soc. Am. 50:886(1960)）。この刊行物によれば、このことは金（またはアルミニウム）原子流を密な入射角でプラスチックの回折格子レプリカに蒸着させることにより達成された。回折格子の各ステップのエッジに沿って堆積する金属は薄い顕微鏡的ワイヤを形成し、このワイヤの幅と間隔は波長よりも小さい。
【０００３】
グリッド偏光器はＩＲおよび可視スペクトルの両方で使用するために開発された。例えばＵＳ特許第６１２２１０３号には、ワイヤグリッド偏光器を可視スペクトルに対して前置することが記載されている。この偏光器は基板上に支持された複数の伸長素子を有する。米国特許第５７４８３６８号にはまた、光を可視光スペクトルに偏光するワイヤグリッド偏光器が記載されている。
【０００４】
リソグラフ
より高速にかつより精巧な回路を形成するために、半導体製造業は回路素子の大きさを低減する努力を続けている。回路は基本的にフォトリソグラフにより製造される。このプロセスで、回路は半導体ウェハの上に、感光性材料のコーティングを光に露光することによってプリントされる。感光性材料はしばしば「フォトレジスト」またはレジストと称される。クロムまたは他の不透明材料からなるマスクを、透明基板上に形成する。光をこのマスクに通過させると所望の回路パターンが発生する。このマスクはまた、透明基板の表面にエッチングされた比較的高い領域と比較的低い領域のパターンにより形成することもできる。またはこれら２つの技術を組み合わせることもできる。引き続き、熱的または化学的プロセスによりこのレジストの露光された部分または露光されなかった部分（材料に依存する）だけを除去し、露出された基板領域を残す。この領域がさらなるプロセスでは電子回路の製造に使用される。
【０００５】
レチクルでの偏光はレンズのリソグラフ能力にさまざまな形で影響する。まず第１に、レチクルのフューチャが例えばクロムの濃度線の場合、これと照明との交差は偏光により変化する。その結果、マスクの透過と散乱は光の偏光とマスクのフューチャに依存する。第２に、レンズおよびミラーの表面での反射は偏光に依存するものであり、そのためアポディゼーションと、それより程度は小さいが投影光学系（Ｐ．Ｏ．）での波面は偏光に依存する。またレジスト表面からの反射も偏光に依存し、これもまた偏光に依存するアポディゼーションである。最後にレチクルから回折された光線が共にウェハへ戻されると、これもイメージの形成を妨害する。しかし電界の平行成分だけが干渉するため、ウェハにおける各光線の偏光状態がコヒーレントなイメージに影響を与える。完璧なレンズであってもウェハに到来する光線の３次元幾何形状がコントラストを低減することがある。
【０００６】
偏光照明器を検討する第１の理由は、ウェハに形成されるイメージを、ウェハで回折される光線の干渉を改善することにより向上させるためである。このことはとりわけ開口数の大きなシステムで有利である。濃度線のバイナリマスクに入射するダイポール照明を考えてみる。照明器瞳中の各小さな領域（すなわちロー・シグマ・ダイポールの各ポール）は瞳にある他の領域とはコヒーレントではなく、固有のイメージをウェハに形成する。従ってダイポール照明のシングルポールと見なすことができる。光はレチクルから回折し、濃度線は密な回折配列を形成する。小さなフューチャに対しては、２つの回折配列だけがＰ．Ｏ．に許容される。ウェハではこれらの回折配列が再結合して、マスクのイメージを形成する。マスクのイメージはコントラストに依存し、このコントラストは偏光に依存する。
【０００７】
上記のように、レチクルにおける照明の偏光状態は、リソグラフではウェハに形成されるイメージを改善することができる。リソグラフは紫外線スペクトルの光を使用するから、このようなＵＶ適用に対する偏光器が必要である。発明者はワイヤグリッド偏光器の利点を認識する。この種の偏光器は、適用に応じてパターンをエレメントにカスタマイズできる。このような偏光器は例えば偏光パターンを、光学システムの照明器の瞳に形成したり、リソグラフシステムの投影光学系に形成したりするのに必要である。
【特許文献１】米国特許第６１２２１０３号
【特許文献２】米国特許第５７４８３６８号
【特許文献３】米国特許第４０４９９４４号
【特許文献４】米国特許第４５１４４７９号
【非特許文献１】Eugene Hecht, Optics, Chapter 8, pp.333-334, Addison Wesley, San Francisco(2002)
【非特許文献２】G.R. BirdとM. Parish,Jr. J. Opt. Soc. Am. 50:886(1960)
【非特許文献３】“Grid polarizer for the visible spectral region”, Proceedings of the SPIE, vol.2213, pp.288-296
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題は、紫外線スペクトルにわたって高い透過効率を有するパターン化グリッド偏光器を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この課題は本発明により、リソグラフに使用するパターン化グリッド偏光器が、（ａ）紫外線（ＵＶ）光に対して透過の基板と、（ｂ）基板上にパターン化されたエレメントのアレイを有し、このエレメントが紫外線光を偏光することにより解決される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明のグリッド偏光器は一般的に、パターン化されたエレメントを備える基板からなる。本発明の偏光器を出射する光の偏光はこの基板上のエレメントのパターンに依存する。
【００１１】
実施例では、エレメントがグループで、放射状に光軸の周囲に配置されており、接線方向に偏光された出射光を形成する。別の実施例では、エレメントは同心円として光軸の周囲にパターン化されており、半径方向に偏光された出射光を形成する。
【００１２】
本発明はさらに、本発明の偏光器を有するリスグラフシステムを含む光学システムを提供する。このようなリスグラフシステムは、ウェハでのイメージングを強化する偏光パターンの恩恵を受ける。
【００１３】
本発明のさらなる実施例、フューチャ、利点、および種々の実施例の構造と動作を以下、添付図面を参照して詳細に説明する。
【実施例】
【００１４】
１つの実施例ではパターン化グリッド偏光器がリソグラフでの使用のために提供される。このような偏光器は紫外線光に対して透明な基板と、基板上にパターン化されたエレメントのアレイを有し、このエレメントが紫外線光を偏光する。
【００１５】
グリッドエレメントパターン
本発明は、さまざまな手法で基板上にパターン化されたエレメントを備えるＵＶ偏光器を提供する。本発明では、基板上のエレメントのパターンが偏光器を出射する光の偏光を規定するように構成されている。
【００１６】
リソグラフシステムの光学システムまたは投影光学系の照明器の瞳に偏光パターンを有すると種々の理由からイメージングに有利である。例えばこのような偏光パターンは良好なイメージングのために比較的大きなコントラストをウェハに提供することができる。
【００１７】
本発明の実施例によれば、本発明の偏光器は偏光光を形成するために基板上にパターン化されたエレメントを有し、光の偏光パターンはエレメントのパターンにより規定される。
【００１８】
例えばエレメントを基板上にパターン化し、接線方向に（すなわち偏光器の円筒対称に対して接線方向）偏光された出射光を到来する非偏光光から形成することができる。ここで到来する光は偏光器上に入射して、偏光器を出射する。
【００１９】
択一的にエレメントを基板上にパターン化して、半径方向に（すなわち偏光器の円筒対称を基準にして半径方向）偏光された出射光を到来する非偏光光から形成することができる。ここで到来する光は偏光器上に入射して、偏光器を出射する。
【００２０】
しかし本発明は、接線方向または半径方向に偏光された光の形成に限定されるものではない。本発明はさらに、特定のリソグラフ適用に依存してエレメントパターンが変化する偏光器も包含するものである。このようなパターンは、ソフトウエアアプリケーションまたは特注パターンを形成するための他の設計技術を使用することにより得ることができる。従って本発明は、所定のリソグラフ適用に対して専用のエレメントパターンを有する紫外線偏光器を提供する。
【００２１】
図１は、本発明のワイヤグリッド偏光器の実施例を一般的に１００により示す。この実施例では、ワイヤグリッド偏光器上のエレメントパターンが接線方向に偏光された光を形成するように構成されている。図示のようにエレメント１０５は線形であり、複数の群（例えば２つの群１２０と１２５）にパターン化されている。ここで各群は複数のエレメントからなり、群は光軸（ＯＡ）を中心にする円形パターンに配置されている。破線１１５はエレメント間の分割線を示す。この実施例では、一方の群のエレメントは隣接する他方の群のエレメントに対して平行ではない。例えば群１２０は群１２５に隣接し、群１２０内のエレメントは相互に平行であり、群１２５のエレメントに対しては平行でない。
【００２２】
図１の偏光器では、延長された複数の導電性エレメント１０５が透明基板１１０により支持されている。エレメントの寸法とエレメント配置の寸法は使用される波長により決められ、紫外線光の全スペクトルに対して、または広いスペクトルに対して適合されている。所定の群ではエレメントはすべてが同じ長さではなく、群のエッジに向かって比較的に短くなる。このようにして、各群１２０、１２５は適切な「エッジ」形状を有し、これらの群を、光軸ＯＡを中心にして放射状に円形パターンで配置することができる。
【００２３】
図２は、本発明のワイヤグリッド偏光器の別の実施例を一般的に２００により示す。この実施例では、ワイヤグリッド偏光器上のエレメント２５０のパターンが、半径方向に偏光された光を形成するように構成されている。図示のように、複数のエレメント２５０が基板２５５上に同心円でパターン化されている。ここでもエレメントの寸法、およびエレメント配置の寸法は使用される波長により決められ、紫外線の全スペクトルに対して、または広いスペクトルに対して最適化されている。
【００２４】
グリッドエレメントと基板
本発明の実施例では、エレメントが基板上にパターン化されており、導電材料、例えば金属から形成される。エレメントは例えばアルミニウム、銀または金から形成することができる。このようなエレメントは制限されるものではないが、ワイヤまたはマイクロワイヤを含む。
【００２５】
本発明の別の実施例では、偏光器の基板が紫外線光に対してすべて透過性であるかまたは部分的に透過性である。また制限されるものではないが基板は石英ガラス、フッ化カルシウム、サファイヤ、水晶およびフッ化マグネシウムのいずれかから形成される。本発明はこれに限定されるものではなく、他の厚さおよび材料を当業者であれば明白なように使用することができる。
【００２６】
エレメント間の間隔は使用される波長により決められる。エレメント間の間隔は同心円パターンのエレメントに対してピッチと称される。このピッチは２つの隣接するエレメント上の対応するポイント間の間隔である。
【００２７】
本発明の実施例では、エレメントの間隔は光の波長よりも小さい。従ってピッチは平行エレメントまたは同心円エレメントに対して近似的に２００ｎｍより小さくすることができ、平行エレメントに対しては隣接する平行でない２つのエレメント間の最も広いポイントにおいて２００ｎｍより小さい。実施例ではエレメントは、紫外線光の波長の１／１０と波長の２倍の間の間隔で配置されている。
【００２８】
エレメント間の間隔は光の波長よりも小さくすることができるが、本発明はこれに制限されるものではない。エレメント間の間隔、およびとりわけ平行なエレメントのゾーン間の境界は光の波長より大きくすることもできる。
【００２９】
実施例では、本発明の偏光器のエレメントが紫外線波長の約１／４の周期、または約４５ｎｍから９５ｎｍの間の周期を有する。しかしこれに制限されるものではなく、他の周期と波長を使用することもできる。
【００３０】
実施例ではピッチは近似的に光波長の１／１０または１００ｎｍである。比較的に長い周期（近似的に光波長の２倍より大きい）を備えるグリッドは回折格子として動作する。比較的に短い周期（近似的に光波長の１／２）のグリッドは偏光器として動作する。そして前記２つの周期の間の領域の周期のグリッドは回折格子として動作し、共振を基準にしての突然の変化または異常性を特徴とする。さらに偏光器のエレメントは規則的または等しい間隔を有する。択一的に本発明はこれに限定されるものではなく、不規則な間隔を有することもできる。
【００３１】
エレメントが線形である本発明の実施例では、エレメントは比較的長くて薄い。例えば各エレメントは一般的に紫外線波長よりも長い長さを有することができる。実施例ではこのエレメントは近似的に４００ｎｍから６０ｎｍの間の長さを有するが、これより長くても良い。
【００３２】
付加的に各エレメントはピッチの１０％から９０％の幅を有する。従ってこのエレメントは約１０ｎｍより大きな厚さを有し、約２００ｎｍよりは薄い。有利にはこのエレメントは近似的に２０ｎｍから１００ｎｍの間の厚さを有する。
【００３３】
エレメント幅は偏光器デバイスの性能を所定の適用に対して最適化するように選択することができる。一般的にピッチを基準にしてエレメント幅を増大すると、平行偏光に対する反射性をほぼ１００％まで増大させることができる。一方、直交偏光に対する反射性も０％である理想値から増大してしまう。従って典型的には間隔に対するエレメント幅の比を大きくすると、透過光に対して高い吸光比が生じる。なぜなら平行偏光が透過しないからである。しかし直交偏光の一部が反射されるため高い効率は必要としない。逆に言えば一般的にピッチに対するエレメント幅の比が小さければ、反射されるビームに対して高い吸光比が生じるが、その際に高効率は必要ない。平行ビームに対する反射率と直交ビームに対する透過率の積として定義される全体効率は、エレメント幅のエレメントピッチに対する比が４０％から６０％であるときに最高となる。
【００３４】
装置
本発明はさらに本発明の偏光器を使用する装置を提供する。例えば本発明の偏光器は紫外線光を偏光するための装置に使用することができる。このような装置は例えば紫外線スペクトル中に少なくとも１つの波長を有する光ビームを形成する光源を有し、さらに基板を有し、この基板は紫外線スペクトルにある光に対して透明であり、光ビーム路に配置されており、さらに基板上にリソグラフでエッチングされたエレメントアレイを有する。ここで基板上にリソグラフでエッチングされたエレメントアレイは偏光された出射光を形成する。
【００３５】
実施例では光源から放射された紫外線光は少なくとも２つの偏光方向を有し、ワイヤグリッド偏光器は第１偏光方向の光の大部分を反射し、第２偏光方向の光の大部分を透過する。
【００３６】
本発明はまた、ワイヤグリッド偏光器と照明器を有しており、光軸に沿った露光ビームを供給するための装置を提供する。ここで偏光器は紫外線光に対して透明な基板と、基板上にパターン化されたエレメントアレイとを有し、エレメントは紫外線光を偏光し、偏光器は照明器の瞳に偏光パターンを形成する。
【００３７】
本発明はさらに、光軸に沿って露光ビームを供給するための装置を提供するものであり、この装置はワイヤグリッド偏光器と投影光学系を有する。ここで偏光器は紫外線光に対して透明な基板と、基板上にパターン化されたエレメントのアレイを有し、エレメントは紫外線光を偏光し、偏光器は投影光学系に偏光パターンを形成する。
【００３８】
本発明のワイヤグリッド偏光器はとりわけリソグラフの分野で有利であり、偏光された光を使用して、ウェハに比較的大きなコントラストを形成することができ、結果としてイメージングが改善される。一般的に偏光はリソグラフに４つの作用を及ぼす。（１）レチクルフィーチャの透過と回折、（２）投影光学系レンズでのフレネル損失、（３）レジスト表面でのフレンネル反射、そして（４）ベクトル干渉である。これら４つの要因を考慮すれば、リソグラフに対する偏光の理想的パターンを所定のレチクルおよび照明条件に対して変化することができる。
【００３９】
リソグラフに対する理想的偏光パターンを変化することができるが、接線方向の偏光がしばしば満足できる選択肢である。レチクルは反復構造を有し、通常は水平方向または垂直方向にマスクと交差する。この構造はまた別の配向でも同様にレチクル上で反復される。構造を反復することは、１次元の回折格子のように行うことができ、光を１つの行で少数の密なビームに回折する。これらのビームが共にウェハに戻された場合、良好に干渉するなら、良好なイメージが得られる。非常に小さなフューチャをイメージングするのがもっとも困難である。非常に小さなフューチャの構造を反復すると、２つの回折配列が投影光学系瞳の対向エッジに形成される。多くの場合、接線方向の偏光がこのようなフューチャのイメージングに有利である。
【００４０】
同様に半径方向の偏光も所定の状況では有利である。例えば半径方向の偏光を使用することによりフレンネル損失を最小にすることができ、このことは光強度をさらに大きくする。従って半径方向の偏光が有利であるのは、高い光強度が所望される場合である。別の実施例では半径方向の偏光は、既に良好なコントラストを有するフューチャをイメージングするのに有利である。一方、コントラストの制限されたフューチャ（通常は非常に小さなフューチャ）をイメージングする場合には接線方向の偏光が所望されることとなる。
【００４１】
従って本発明は、半導体ウェハ上の感光性材料の層を露光するための光学的リソグラフシステム３００を提供するものであり、このリソグラフシステムは本発明の偏光器を含む。図３に示すように、このようなシステム３００は有利には放射エネルギー源としての光源３１０、本発明のワイヤグリッド偏光器１００、マスク３２０，レンズ系のような投影光学系３３０，そして感光性材料の層３４０を含むウェハを有する。実施例では光源からの放射エネルギーは偏光器１００を通過し、偏光器は光を所定の方向に偏光し、偏光された放射エネルギービーム３１８をマスク３２０に出力する。偏光された放射エネルギービーム３１８はマスク３２０を通過し、層３３４０を所定のパターンで露光する。
【００４２】
リソグラフではしばしば瞳全体が使用されないことを述べておく。従って瞳の所定の領域だけが所定のリソグラフ適用では照明される。例えば「ダイポール」照明では瞳のエッジで２つの領域だけが照明される。従ってリソグラフシステムの所定の実施例では、偏光器から出射するビームのすべてが使用されるわけではない。例えば偏光のパターンは瞳全体にわたって均一ではなく、または不完全である。このような場合、所望の偏光を有する瞳の一部だけが使用される。
【００４３】
本発明の別の実施例では、ワイヤグリッド偏光器１００，２００が有することのできる円弧が非常に広い角度を許容する。これにより偏光パターンを、光学システムのいずれの瞳面にも導入することができる。グリッドエレメントは偏光器として動作するから、さらなる簡素化のために非偏光ビームを上流側で使用することができる。いずれの偏光パターンも、ワイヤグリッドエレメントのパターンを選択することにより簡単に達成される。
【００４４】
方法
導電性エレメントのアレイを基板上に配置することは、複数の周知技術により実行することができる。例えば米国特許第４０４９９４４号および米国特許第４５１４４７９号には、ホログラム干渉リソグラフを使用して、微細な格子構造をフォトレジストに形成し、続いてイオンビームによりエッチングしてこの構造体を基礎となる金属フィルムに変換することが記載されている。Stenkampは（“Grid polarizer for the visible spectral region”, Proceedings of the SPIE, vol.2213, pp.288-296）、ダイレクトe-beamリソグラフを使用してレジストパターンを形成し、続いてリアクティブイオンエッチングによりパターンを金属フィルムに変換することを開示している。極紫外線リソグラフおよびＸ線リソグラフ、Ｘ線ホログラム干渉リソグラフを含む他の高解像度リソグラス技術もレジストパターンを形成するに使用することができる。他のエッチングメカニズムおよびリフトオフプロセスを含む他の技術もパターンをレジストから金属フィルムに変換するのに使用することができる。導電性エレメントのアレイを形成するために使用される正確なプロセスは本発明に対しては重要でない。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の偏光器の実施例を概略的に示す図である。
【図２】本発明の偏光器の別の実施例を概略的に示す図である。
【図３】本発明の偏光器を含むリソグラフシステムを概略的に示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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