(57)【要約】【課題】  第１、第２マスクとワークとの位置決めを高精度に実行することが可能な露光装置および露光方法を提供すること。【解決手段】  第１マスク４１を保持した第１マスクホルダ５１と、第２マスク４２を保持した第２マスクホルダ５２を支持するアライメントステージ５３とを、位置決めピン６２等を利用して位置決めして固定する固定工程と、第２マスクホルダ５２をアライメントステージ５３に対して移動させることにより第１マスク４１と第２マスクと４２を位置決めする第１位置決め工程と、アライメントステージ５３を基台５４に対して移動させることにより第２マスク４２とワークＷとを位置決めする第２位置決め工程と、第１マスク４１および第２マスク４２を介してワークＷの両面からパターン露光を行う露光工程とを備える。【選択図】        図５
2005197441.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その両面に感光材料が塗布された長尺状のプリント配線基板用のワークに対して、その両面からパターン露光を行う露光装置であって、
第１マスクを保持する第１マスクホルダと、
第２マスクを保持する第２マスクホルダと、
前記第２マスクホルダを支持するアライメントステージと、
前記アライメントステージを支持する基台と、
前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを互いに位置決めした状態で固定する固定部材と、
前記第２マスクホルダを前記アライメントステージに対して移動させる第１移動機構と、
前記アライメントステージを前記基台に対して移動させる第２移動機構と、
前記第１マスクに形成されたレジスターマークの位置と、前記第２マスクに形成されたレジスターマークの位置と、前記ワークに形成されたレジスターマークの位置とを測定する撮像機構と、
前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを、前記第１マスクと前記第２マスクとにより前記ワークに対して露光を行うための露光位置と、待機位置との間で移動させる第３移動機構と、
を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置を使用して露光を行う露光方法であって、
前記固定部材により前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを位置決めして固定する固定工程と、
前記撮像機構により前記第１マスクホルダに保持される第１マスクに形成されたレジスターマークと前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、前記第１移動機構により前記第２マスクホルダを前記アライメントステージに対して移動させることにより、前記第１マスクと前記第２マスクとを位置決めする第１位置決め工程と、
前記撮像機構により前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークと前記ワークに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、前記第２移動機構により前記アライメントステージを前記基台に対して移動させることにより、前記第２マスクと前記ワークとを位置決めする第２位置決め工程と、
前記第１マスクおよび前記第２マスクを介して前記ワークの両面からパターン露光を行う露光工程と、
を備えたことを特徴とする露光方法。
【請求項３】
請求項１に記載の露光装置を使用して露光を行う露光方法であって、
前記第３移動機構により前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを互いに近接する方向に移動させ、前記固定部材により前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを位置決めして固定する固定工程と、
前記撮像機構により前記第１マスクホルダに保持される第１マスクに形成されたレジスターマークと前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、前記第１移動機構により前記第２マスクホルダを前記アライメントステージに対して移動させることにより、前記第１マスクと前記第２マスクとを位置決めする第１位置決め工程と、
前記第３移動機構により前記アライメントステージと前記第１マスクホルダとを互いに離隔する方向に移動させるとともに、前記第１マスクと前記第２マスクとの間の所定位置に前記ワークを配置するワーク配置工程と、
前記第３移動機構により前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを互いに近接する方向に移動させ、前記固定部材により前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを位置決めして固定する第２固定工程と、
前記撮像機構により前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークと前記ワークに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、前記第２移動機構により前記アライメントステージを前記基台に対して移動させることにより、前記第２マスクと前記ワークとを位置決めする第２位置決め工程と、
前記アライメントステージと前記第１マスクホルダとを互いに近接する方向に移動させ、前記第１マスクと前記第２マスクとにより前記ワークを挟持する密着工程と、
前記第１マスクおよび前記第２マスクを介して前記ワークの両面からパターン露光を行う露光工程と、
を備えたことを特徴とする露光方法。
【請求項４】
その両面に感光材料が塗布された長尺状のプリント配線基板用のワークに対して、その両面からパターン露光を行う露光方法であって、
第１マスクを保持した第１マスクホルダと、第２マスクを保持した第２マスクホルダを支持するアライメントステージとを、固定部材により位置決めして固定する固定工程と、
撮像機構により前記第１マスクホルダに保持される第１マスクに形成されたレジスターマークと前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、第１移動機構により前記第２マスクホルダを前記アライメントステージに対して移動させることにより、前記第１マスクと前記第２マスクとを位置決めする第１位置決め工程と、
前記撮像機構により前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークと前記ワークに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、第２移動機構により前記アライメントステージを基台に対して移動させることにより、前記第２マスクと前記ワークとを位置決めする第２位置決め工程と、
前記第１マスクおよび前記第２マスクを介して前記ワークの両面からパターン露光を行う露光工程と、
を備えたことを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、その両面に感光材料が塗布された長尺状のプリント配線基板用のワークに対して、その両面からパターン露光を行う露光装置および露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、このような露光装置においては、その両面に感光材料が塗布された枚葉状のプリント配線基板用のワークを使用し、第１の露光位置で第１マスクを使用してワーク表面のパターン露光を行い、ワークを反転させた後、第２の露光位置で第２マスクを使用してワーク裏面のパターン露光を行っている。
【０００３】
また、特許文献１には、長尺状のプリント配線基板用のワークに対して、連続してパターン露光を行う露光装置が開示されている。
【特許文献１】特開平６−５９４３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載された露光装置は、ワークの片面に対して露光を行うものであるが、このような露光装置を使用して、その両面に感光材料が塗布された長尺状のプリント配線基板用のワークに対してその両面からパターン露光を行う場合には、第１マスクと第２マスクの位置決めを行う必要がある。
【０００５】
このとき、このワークから製造されるプリント配線基板がスルーホールを有しないものである場合等には、第１マスクと第２マスクとの位置決め精度はさほど高精度なものとする必要はない。しかしながら、このワークから製造されるプリント配線基板がスルーホールを有するものである場合等には、第１マスクと第２マスクとの位置決め精度を極めて高精度に維持する必要がある。また、第１マスクと第２マスクとの位置決め精度のみならず、第１マスクおよび第２マスクとワークとの位置決め精度が要求される場合もある。
【０００６】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、簡易な構成でありながら両面の露光に使用される第１マスクおよび第２マスクとワークとの位置決めを高精度に実行することが可能な露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、その両面に感光材料が塗布された長尺状のプリント配線基板用のワークに対して、その両面からパターン露光を行う露光装置であって、第１マスクを保持する第１マスクホルダと、第２マスクを保持する第２マスクホルダと、前記第２マスクホルダを支持するアライメントステージと、前記アライメントステージを支持する基台と、前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを互いに位置決めした状態で固定する固定部材と、前記第２マスクホルダを前記アライメントステージに対して移動させる第１移動機構と、前記アライメントステージを前記基台に対して移動させる第２移動機構と、前記第１マスクに形成されたレジスターマークの位置と、前記第２マスクに形成されたレジスターマークの位置と、前記ワークに形成されたレジスターマークの位置とを測定する撮像機構と、前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを、前記第１マスクと前記第２マスクとにより前記ワークに対して露光を行うための露光位置と、待機位置との間で移動させる第３移動機構とを備えたことを特徴とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の露光装置を使用して露光を行う露光方法であって、前記固定部材により前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを位置決めして固定する固定工程と、前記撮像機構により前記第１マスクホルダに保持される第１マスクに形成されたレジスターマークと前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、前記第１移動機構により前記第２マスクホルダを前記アライメントステージに対して移動させることにより、前記第１マスクと前記第２マスクとを位置決めする第１位置決め工程と、前記撮像機構により前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークと前記ワークに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、前記第２移動機構により前記アライメントステージを前記基台に対して移動させることにより、前記第２マスクと前記ワークとを位置決めする第２位置決め工程と、前記第１マスクおよび前記第２マスクを介して前記ワークの両面からパターン露光を行う露光工程とを備えたことを特徴とする。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の露光装置を使用して露光を行う露光方法であって、前記第３移動機構により前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを互いに近接する方向に移動させ、前記固定部材により前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを位置決めして固定する固定工程と、前記撮像機構により前記第１マスクホルダに保持される第１マスクに形成されたレジスターマークと前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、前記第１移動機構により前記第２マスクホルダを前記アライメントステージに対して移動させることにより、前記第１マスクと前記第２マスクとを位置決めする第１位置決め工程と、前記第３移動機構により前記アライメントステージと前記第１マスクホルダとを互いに離隔する方向に移動させるとともに、前記第１マスクと前記第２マスクとの間の所定位置に前記ワークを配置するワーク配置工程と、前記第３移動機構により前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを互いに近接する方向に移動させ、前記固定部材により前記第１マスクホルダと前記アライメントステージとを位置決めして固定する第２固定工程と、前記撮像機構により前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークと前記ワークに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、前記第２移動機構により前記アライメントステージを前記基台に対して移動させることにより、前記第２マスクと前記ワークとを位置決めする第２位置決め工程と、前記アライメントステージと前記第１マスクホルダとを互いに近接する方向に移動させ、前記第１マスクと前記第２マスクとにより前記ワークを挟持する密着工程と、前記第１マスクおよび前記第２マスクを介して前記ワークの両面からパターン露光を行う露光工程とを備えたことを特徴とする。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、その両面に感光材料が塗布された長尺状のプリント配線基板用のワークに対して、その両面からパターン露光を行う露光方法であって、第１マスクを保持した第１マスクホルダと、第２マスクを保持した第２マスクホルダを支持するアライメントステージとを、固定部材により位置決めして固定する固定工程と、撮像機構により前記第１マスクホルダに保持される第１マスクに形成されたレジスターマークと前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、第１移動機構により前記第２マスクホルダを前記アライメントステージに対して移動させることにより、前記第１マスクと前記第２マスクとを位置決めする第１位置決め工程と、前記撮像機構により前記第２マスクホルダに保持される第２マスクに形成されたレジスターマークと前記ワークに形成されたレジスターマークとを撮影しながら、第２移動機構により前記アライメントステージを基台に対して移動させることにより、前記第２マスクと前記ワークとを位置決めする第２位置決め工程と、前記第１マスクおよび前記第２マスクを介して前記ワークの両面からパターン露光を行う露光工程とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１乃至請求項４に記載の発明によれば、簡易な構成でありながら両面の露光に使用される第１マスクおよび第２マスクとワークとの位置決めを高精度に実行することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はこの発明に係る露光装置の斜視図であり、図２はその側面概要図である。
【００１３】
この露光装置は、その両面に感光材料が塗布された長尺状のプリント配線基板用のワークＷに対してその両面からパターン露光を行うものであり、ワーク供給部１と、第１ダンサローラ部２と、ワーククリーニング部３と、ワーク間欠搬送部４と、露光部５と、第２ダンサローラ部６と、ワーク回収部７とを備える。
【００１４】
ワーク供給部１は、その外周部にワークＷを巻回した巻き出しローラ１１と、案内ローラ１２と、巻き出しローラ１１に巻回されたワークＷ間に介在されたスペーサ１３を巻き取るためのスペーサ巻き取りローラ１４とを備える。巻き出しローラ１１は、図示を省略したモータの駆動により回転することにより、ワークＷを巻き出す構成となっている。
【００１５】
第１ダンサローラ部２は、その自重により昇降するダンサローラ１５を備える。このダンサローラ１５の昇降位置は、図示を省略したセンサにより測定され、その測定値に基づいてワーク供給部１における巻き出しローラ１１の回転速度が制御される。
【００１６】
ワーククリーニング部３は、ワークＷの両面をクリーニングするためのものである。このワーククリーニング部３は、その表面が弱粘着性を有する４本のクリーニングローラ１６と、その表面が強粘着性を有する４本のクリーニングローラ１７とを備える。ワークＷの両面に付着したゴミ等は、クリーニングローラ１６によりワークＷの両面から除去された後、クリーニングローラ１７の表面に転写される。
【００１７】
ワーク間欠搬送部４は、ワークＷを間欠的に搬送するためのものである。図３は、このワーク間欠搬送部４の斜視図である。
【００１８】
このワーク間欠搬送部４は、固定挟持部２１と移動挟持部２２とを備える。これらの固定挟持部２１および移動挟持部２２は、各々、一対のエアシリンダ２３の駆動により昇降する上クランプ２４と、エアシリンダ２５の駆動により昇降する下クランプ２６を備え、これらの上クランプ２４および下クランプ２６によりワークＷを挟持可能な構成となっている。また、移動挟持部２２は、モータ２７により回転するねじ２８の駆動により、一対のガイド部材２９に沿って、図３において実線で示す位置と二点鎖線で示す位置との間を往復移動可能となっている。
【００１９】
このワーク間欠搬送部４によりワークＷを間欠的に搬送する際には、最初に、移動挟持部２２を図４において実線で示す位置に移動させる。この状態において、移動挟持部２２における上クランプ２４と下クランプ２６によりワークＷを挟持すると共に、固定挟持部２１における上クランプ２４と下クランプ２６によるワークＷの挟持状態を解除する。しかる後、移動挟持部２２を図３において二点鎖線で示す位置まで移動させる。これにより、ワークＷが一回の露光に必要な距離だけ引き出される。このとき、図２に示すダンサローラ１５の作用により、ワークＷの張力は一定に維持される。そして、固定挟持部２１における上クランプ２４と下クランプ２６によりワークＷを挟持すると共に、移動挟持部２２における上クランプ２４と下クランプ２６によるワークＷの挟持状態を解除する。しかる後、移動挟持部２２を図３において実線で示す位置まで移動させる。
【００２０】
再度、図１および図２を参照して、露光部５はワークＷの両面にパターン露光を行うためのこの発明の主要な構成部分であり、その内部に露光用光源および光学系を内蔵した光源ユニット３１と露光ユニット３２とから構成される。なお、露光部５の構成については、後程詳細に説明する。
【００２１】
第２ダンサローラ部６は、その自重により昇降するダンサローラ３３を備える。このダンサローラ１５の昇降位置は、図示を省略したセンサにより測定され、その測定値に基づいてワーク回収部７における巻き取りローラ３４の回転速度が制御される。
【００２２】
ワーク回収部７は、その外周部にワークＷを巻回して巻き取る巻き取りローラ３４と、案内ローラ３５と、巻き出しローラ１１に巻回されるワークＷ間に介在させるためのスペーサ１３を供給するスペーサ供給ローラとを備える。
【００２３】
以上のような構成を有する露光装置においては、ワークＷは、ワーク間欠搬送部４の作用により間欠的に搬送され、露光部５の作用により、その表面には第１マスクを使用したパターン露光が、また、その裏面には第２マスクを利用したパターン露光が繰り返し実行される。
【００２４】
このとき、第１マスクおよび第２マスクとワークＷとの位置決めは高精度に実行することが要求される。以下、このための露光部５の構成について説明する。図４は、露光部５における露光ユニット３２の要部を示す側面図である。また、図５は、第１マスクホルダ５１、第２マスクホルダ５２、アライメントステージ５３および基台５４の関係を示す斜視図であり、図６および図７は、第１マスクホルダ５１、第２マスクホルダ、アライメントステージ５３および基台５４の関係を示す縦断面概要図である。
【００２５】
露光部５における露光ユニット３２は、ワークＷの表面にパターン露光を行うための第１マスク４１を保持する第１マスクホルダ５１と、ワークＷの裏面にパターン露光を行うための第２マスク４２を保持する第２マスクホルダ５２と、第２マスクホルダ５２を支持するアライメントステージ５３と、アライメントステージ５３を支持する基台５４とを備える。
【００２６】
図４に示すように、露光ユニット３２には、モータ７１の駆動により回転するねじ７２が立設されている。一方、第１マスクホルダ５１にはねじ７２に螺合するナット７３が配設されており、基台５４にもねじ７２に螺合するナット７４が配設されている。そして、ねじ７２におけるナット７３と螺合する領域とナット７４に螺合する領域とは、互いに逆方向を向くねじ山が形成されている。このため、モータ７１の駆動によりねじ７２が回転した場合には、第１マスクホルダ５１と基台５４とは、互いに近接する方向または互いに離隔する方向に移動する。また、第１マスクホルダ５１は、後述する真空密着時に当該第１マスクホルダ５１を微小距離だけ昇降させるためのエアシリンダ７７とも接続されている。
【００２７】
また、露光ユニット３２の上部には一対の滑車７５が配設されている。基台５４におけるナット７４とは逆側の端部には、一対の滑車７５に巻回されたワイヤーロープ７６の一端が固定されている。このワイヤーロープ７６の他端は、第１マスクホルダ５１に固定されている。ねじ７２の回転による第１マスクホルダ５１および基台５４の移動時には、この滑車７５およびワイヤーロープ７６からなる滑車機構が第１マスクホルダ５１および基台５４の移動を補助することになる。
【００２８】
なお、上述した第１マスクホルダ５１および基台５４の移動機構は、第１マスクホルダ５１、第２マスクホルダ５２およびアライメントステージ５３を、基台５４を介して、第１マスク４１と第２マスク４２とによりワークＷに対して露光を行うための露光位置と、待機位置との間で移動させる第３移動機構として機能する。
【００２９】
露光ユニット３２の上部および下部には、図１に示す光源ユニット３１に内蔵された露光用光源から照射された光を、平行光に変更した後、第１マスク４１および第２マスク４２に向けて反射するための一対の反射鏡７８が配設されている。なお、第１マスク４１または第２マスク４２への光の照射は、同時に実行してもよく、また、第１マスク４１と第２マスク４２とで交互に実行してもよい。
【００３０】
図５乃至図７に示すように、第１マスクホルダ５１の下面における対角線上の位置には、一対のガイドピン６１が配設されている。また、アライメントステージ５３の上面における対角線上の位置には、一つのピン受け６３が形成されている。同様に、第１マスクホルダ５１の下面における対角線上の位置には、一対の位置決めピン６２が配設されている。また、アライメントステージ５３の上面における対角線上の位置には、一つのピン受け６４が形成されている。これらのガイドピン６１、位置決めピン６２およびピン受け６３、６４は、第１マスクホルダ５１とアライメントステージ５３とを互いに位置決めした状態で固定する固定部材として機能する。
【００３１】
図５に示すように、基台５４の上方には、アライメントステージ５３を基台５４に対して移動させる第２移動機構としての移動機構６５が３個配設されている。図８は、各移動機構６５を示す説明図である。なお、図８（ａ）は移動機構６５の背面を、また、図８（ｂ）はその平面を、さらに図８（ｃ）はその正面を示している。
【００３２】
この移動機構６５は基台５４に固定されたモータ８１を備える。このモータ８１の回転軸は、カップリング８２を介してねじ８３に連結されており、このねじ８３は基台５４上を移動可能な移動部材８５に設けられたナット８４と螺合している。また、移動部材８５には、カムフォロワー８６が付設されており、このカムフォロワー８６はアライメントステージ５３の下面に付設されたレバー５７と当接している。なお、アライメントステージ５３は、そのレバー５７がカムフォロワー８６と当接する方向に常に付勢されている。
【００３３】
この移動機構６５を使用した場合には、各モータ８１の駆動により各移動部材８５を移動させ、各カムフォロワー８６によりアライメントステージ５３の下面に付設されたレバー５７を移動させることで、アライメントステージ５３を基台５４に対してＸ、Ｙ、θ方向に微動させることが可能となる。
【００３４】
図５に示すように、アライメントステージ５３の表面には、第２マスクホルダ５２をアライメントステージ５３に対して移動させる第１移動機構として機能する３個の移動機構６６が配設されている。これらの移動機構６６は、上述した移動機構６５と同様の構成を有するものである。このため、第２マスクホルダ５２に付設されたレバー５８を移動させることにより、第２マスクホルダ５２をアライメントステージ５３に対してＸ、Ｙ、θ方向に微動させることが可能となる。
【００３５】
図５乃至図７に示すように、アライメントステージ５３の内側の位置には、第１マスク４１に形成されたレジスターマークの位置と、第２マスク４２に形成されたレジスターマークの位置と、ワークＷに形成されたレジスターマークの位置とを測定する撮像機構として機能する一対のＣＣＤカメラ５５が配設されている。このＣＣＤカメラ５５は、図６および図７において二点鎖線で示す第２マスク４２に形成されたレジスターマークの位置とワークＷに形成されたレジスターマークの位置とを測定する位置と、図６において実線で示す第１マスク４１に形成されたレジスターマークの位置と第２マスク４２に形成されたレジスターマークの位置とを測定する位置と、さらに外側に移動した退避位置との間を移動可能となっている。
【００３６】
また、図５乃至図７に示すように、基台５４の内側の位置には、ワークＷに形成されたレジスターマークの大まかな位置を測定するための一対のＣＣＤカメラ５６が配設されている。このＣＣＤカメラ５６は、図６および図７において実線で示す測定値と、その外側の退避位置との間を移動可能となっている。
【００３７】
次に、上述した露光装置によりワークの両面にパターン露光を行う際の露光動作について説明する。図９は、露光行程を示すフローチャートである。
【００３８】
露光動作を実行するに先立って、ワーク供給部１にワークＷを巻回した巻き出しローラ１１を装着し、ワーク供給部１から第１ダンサローラ部２、ワーククリーニング部３、ワーク間欠搬送部４、露光部５および第２ダンサローラ部６を介してワーク回収部７に至るワークＷの供給路にワークＷをセットする。
【００３９】
そして、図４に示すモータ７１の駆動によりねじ７２を回転させ、第１マスクホルダ５１と基台５４とを互いに近接する方向に移動させる。この状態においては、図７に示すように、一対のガイドピン６１がピン受け６３と、また、一対の位置決めピン６２がピン受け６４と各々係合することにより、第１マスクホルダ５１とアライメントステージ５３とが位置決めされ、固定される（ステップＳ１）。
【００４０】
次に、一対のＣＣＤカメラ５５により第１マスク４１に形成されたレジスターマークと第２マスク４２に形成されたレジスターマークとを撮影しながら、第２マスクホルダ５２をアライメントステージ５３に対して移動させることにより、第１マスク４１と第２マスク４２とを位置決めする第１位置決め工程を実行する（ステップＳ２）。
【００４１】
図１０は、第１マスク４１および第２マスク４２に形成された、第１マスク４１と第２マスク４２との位置決め用のレジスターマークを示す拡大図である。ここで、図１０（ａ）は第１マスク４１に形成されたレジスターマーク１０１を示し、図１０（ｂ）は第２マスク４２に形成されたレジスターマーク１０２を示している。
【００４２】
第１マスク４１と第２マスク４２とを位置決めする場合には、一対のＣＣＤカメラ５５を図６および図７において実線で示す位置に移動させる。そして、このＣＣＤカメラ５５により第１マスク４１に形成されたレジスターマーク１０１と第２マスク４２に形成されたレジスターマーク１０２とを撮影しながら、図５に示す移動機構６６の駆動により第２マスクホルダ５２をアライメントステージ５３に対して移動させ、レジスターマーク１０２がレジスターマーク１０１の中央部に配置されるようにする。これにより、第１マスク４１と第２マスク４２とを位置決めが完了する。
【００４３】
次に、図４に示すモータ７１の駆動によりねじ７２を回転させ、第１マスクホルダ５１と基台５４とを互いに離隔する方向に移動させる（ステップＳ３）。そして、図１乃至図３に示すワーク間欠搬送部４によりワークＷを移動させ、ワークＷの露光すべき領域を第１マスク４１と第２マスク４２との間に配置する（ステップＳ４）。なお、このワークＷの配置動作は、固定工程（ステップＳ１）に先だって実行してもよい。
【００４４】
次に、配置後のワークＷの位置ずれ量を確認し（ステップＳ５）、粗位置決めを行う（ステップＳ６）。
【００４５】
図１１は、ワークＷおよび第２マスク４２に形成された、ワークＷと第２マスク４２との位置決め用のレジスターマークを示す拡大図である。ここで、図１１（ａ）はワークＷに穿設された孔よりなるレジスターマーク１０３を示し、図１１（ｂ）は第２マスク４２に形成されたレジスターマーク１０４を示している。なお、レジスタマーク１０４は、上述したレジスターマーク１０２と同様の形状を有するが、レジスターマーク１０２とは異なる位置に配置されている。
【００４６】
ワークＷの位置ずれ量を確認するときには、一対のＣＣＤカメラ５６によりワークＷに形成されたレジスターマーク１０３を撮影する。そして、図５に示す移動機構６５の駆動によりアライメントステージ５３を基台５４に対して移動させ、レジスターマーク１０３がＣＣＤカメラ５６の視野のおおよそ中心に配置されるようにする。
【００４７】
そして、図４に示すモータ７１の駆動によりねじ７２を回転させ、第１マスクホルダ５１と基台５４とを、再度互いに近接する方向に移動させる。この状態においては、図７に示すように、一対のガイドピン６１がピン受け６３と、また、一対の位置決めピン６２がピン受け６４と各々係合することにより、第１マスクホルダ５１とアライメントステージ５３とが位置決めされ、固定される（ステップＳ７）。
【００４８】
次に、一対のＣＣＤカメラ５５によりワークＷに形成されたレジスターマーク１０３と第２マスク４２に形成されたレジスターマーク１０４とを撮影しながら、アライメントステージ５３を基台５４に対して移動させることにより、ワークＷと第１マスク４１および第２マスク４２とを位置決めする第２位置決め工程を実行する（ステップＳ８）。
【００４９】
すなわち、この工程においては、一対のＣＣＤカメラ５５を図６および図７において二点鎖線で示す位置に移動させる。そして、このＣＣＤカメラ５５によりワークＷに形成されたレジスターマーク１０３と第２マスク４２に形成されたレジスターマーク１０４とを撮影しながら、図５に示す移動機構６５の駆動によりアライメントステージ５３を基台５４に対して移動させ、レジスターマーク１０４がレジスターマーク１０３の中央部に配置されるようにする。これにより、ワークＷと第２マスク４２との位置決めが完了する。そして、第１マスク４１と第２マスク４２とを位置決めは第１位置決め工程（ステップＳ２）で実行され、第２位置決め工程（ステップＳ８）でその位置が再現されており、第１マスクホルダ５１とアライメントステージ５３とが位置決め、固定されるていることから、ワークＷと第１マスク４１と第２マスク４２との位置決めが完了することになる。
【００５０】
次に、ワークＷを第１マスク４１および第２マスク４２により挟持して第１マスク４１および第２マスク４２をワークＷに真空密着する（ステップＳ９）。図１２は、この真空密着動作を模式的に示す説明図である。
【００５１】
図１２（ａ）に示すように、第１マスクホルダ５１の下面には第１マスク４１と同じ厚みを有するシール受け９３が付設されている。また、第２マスクホルダ５２の上面にはシールゴム９２がシール押さえ９４により固定されている。
【００５２】
真空密着を行う際には、この状態から第１マスク４１と第２マスク４２とを近接する方向に移動させた後、図４に示すエアシリンダ７７により第１マスクホルダ５１を押圧する。この状態においては、図１２（ｂ）に示すように、ワークＷの表面は第１マスクホルダ５１の下面に付設されたシール受け９３と当接する。
【００５３】
次に、図１２（ｃ）に示すように、第２マスクホルダ５２の下方に配設されたエアシリンダ９１のシリンダロッド９５によりシールゴム９２を上方に押圧し、シールゴム９２をワークＷに裏面と当接させる。この状態において、図示を省略した真空ポンプ等からなる吸引機構により、第１マスク４１、第２マスク４２、シール受け９３およびシールゴム９２により囲まれた領域から排気を行うことにより、第１マスク４１および第２マスク４２をワークＷの両面に密着させる。
【００５４】
再度、図９を参照して、この状態において、光源ユニット３１内に配置された露光用光源を点灯させ、この露光用光源から照射された光を一対の反射鏡７８を利用して平行光とした上で、第１マスク４１または第２マスク４２に照射することによりパターン露光を行う（ステップＳ１０）。
【００５５】
しかる後、図４に示すモータ７１の駆動によりねじ７２を回転させ、第１マスクホルダ５１と基台５４とを互いに離隔する方向に移動させる（ステップＳ１１）。そして、次のパターン露光を実行するか否かを判断する（ステップＳ１２）。引き続きパターン露光を実行する場合には、ステップＳ４〜ステップＳ１１を繰り返す。必要なパターン露光が完了した場合には、作業を終了する。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】この発明に係る露光装置の斜視図である。
【図２】この発明に係る露光装置の側面概要図である。
【図３】ワーク間欠搬送部４の斜視図である。
【図４】露光部５における露光ユニット３２の要部を示す側面図である。
【図５】第１マスクホルダ５１、第２マスクホルダ、アライメントステージ５３および基台５４の関係を示す斜視図である。
【図６】第１マスクホルダ５１、第２マスクホルダ、アライメントステージ５３および基台５４の関係を示す縦断面概要図である。
【図７】第１マスクホルダ５１、第２マスクホルダ、アライメントステージ５３および基台５４の関係を示す縦断面概要図である。
【図８】移動機構６５を示す説明図である。
【図９】露光行程を示すフローチャートである。
【図１０】第１マスク４１および第２マスク４２に形成されたレジスターマークを示す拡大図である。
【図１１】ワークＷおよび第２マスク４２に形成されたレジスターマークを示す拡大図である。
【図１２】真空密着動作を模式的に示す説明図である。
【符号の説明】
【００５７】
１      ワーク供給部
２      第１ダンサローラ部
３      ワーククリーニング部
４      ワーク間欠搬送部
５      露光部
６      第２ダンサローラ部
７      ワーク回収部
３１    光源ユニット
３２    露光ユニット
４１    第１マスク
４２    第２マスク
５１    第１マスクホルダ
５２    第２マスクホルダ
５３    アライメントステージ
５４    基台
５５    ＣＣＤカメラ
５６    ＣＣＤカメラ
６１    ガイドピン
６２    位置決めピン
６３    ピン受け
６４    ピン受け
６５    移動機構
６６    移動機構
７１    モータ
７２    ねじ
７３    ナット
７４    ナット
７５    滑車
７６    ワイヤーロープ
７７    エアシリンダ
７８    反射鏡
Ｗ      ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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