(57)【要約】【課題】  波形が重なり合って表示されていても豊かな表現を可能とする。【解決手段】  高域（Ｈ）、中域（Ｍ）、低域（Ｌ）のエンベロープ波形を塗り潰しで描画し、次に、高域のエンベロープ波形Ｈの輪郭線と振幅軸に平行な縦線を３ピクセル間隔で線描画する。次いで、中域のエンベロープ波形Ｍの輪郭線と振幅軸に平行な縦線を３ピクセル間隔で線描画する。【選択図】  図１２
2005114824.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の波形の画像を表示する際に、波形の輪郭を線で描画すると共に、輪郭内に所定間隔で線を描画する処理を一番奥の波形から一番手前の波形に向かって順番に実行する線描画ステップを実行させることにより、
前記波形の画像が重なって前記表示手段上に表示されても重なった奥側の波形の形を前記輪郭の線および前記輪郭内に描画された線により視認できるようにしたことを特徴とする波形描画方法。
【請求項２】
複数の波形の画像を表示する際に、一番奥の波形の画像が最背面に、一番手前の波形の画像が最前面になるよう表示手段上に複数の塗り潰しの波形の画像を順番に描画する波形描画ステップと、
該波形描画ステップで描画された前記波形の輪郭を線で描画すると共に、輪郭内に所定間隔で線を描画する処理を一番奥の波形から一番手前の波形に向かって順番に実行する線描画ステップとを実行させることにより、
前記波形の画像が重なって前記表示手段上に表示されても重なった奥側の波形の形を前記輪郭の線および前記輪郭内に描画された線により視認できるようにしたことを特徴とする波形描画方法。
【請求項３】
前記波形に関連するパラメータを編集した際に前記複数の波形を再描画することにより、編集したパラメータの影響を確認できるようにしたことを特徴とする請求項１あるいは２記載の波形描画方法。
【請求項４】
前記波形が、基準インパルスをリバーブを信号に付与するリバーブ手段に入力した際のインパルス応答信号における複数の周波数帯域のエンベロープ波形とされていることを特徴とする請求項１あるいは２記載の波形描画方法。
【請求項５】
前記波形の輪郭内に描画される線の間隔が、表示される波形の数に応じたピクセル間隔とされて、前記複数の波形の輪郭内に描画される線が重ならないように表示されることを特徴とする請求項１あるいは２記載の波形描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ディスプレイに複数の波形を描画する波形描画方法に関し、楽音信号に付加するエフェクトを編集する際の波形描画に適用して好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、音響信号等にリバーブエフェクト、コーラスエフェクト、バリエーションエフェクト等のエフェクトを付与することのできるミキサが知られている。例えば、音響信号等にリバーブエフェクトを付与する場合には、リバーブエフェクトのパラメータ値をエフェクトの設定画面で修正しながら好みのエフェクトが付与されるようにしている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
リバーブエフェクトのパラメータを編集する場合、そのパラメータを設定した際のリバーブのインパルス応答を得て、さらにインパルス応答信号の周波数分析を行い、いくつかの周波数バンドに分割した後、各周波数バンド成分の振幅レベルエンベロープを表示するようにしている。ユーザは、表示されたいくつかの周波数バンドにおけるエンベロープの形状を見て、所定の形状になるようにリバーブのパラメータ値を修正するようにしている。この場合のエンベロープ波形を表示手段に表示する波形描画方法を図１４ないし図１６を参照しながら説明する。ここでは、リバーブのインパルス応答における低域、中域および高域のエンベロープ波形を時間−周波数−振幅の３次元の空間に表示するものとする。図１４ないし図１６では横軸が時間軸、縦軸が振幅軸、これらの軸に直交する軸が周波数軸とされている。リバーブのインパルス応答における低域、中域および高域のエンベロープ波形を表示手段に表示するには、まず、インパルス応答における高域のエンベロープ波形Ｈを３次元空間の奥に描画し、図１４に示すようにエンベロープ波形Ｈの輪郭内を所定の色で塗りつぶす。この場合、周波数軸は奥に行くほど高い周波数となっている。次いで、中域のエンベロープ波形Ｍを描画し、図１５に示すようにエンベロープ波形Ｍの輪郭内をエンベロープ波形Ｈとは異なる所定の色で塗りつぶす。この場合、エンベロープ波形Ｍは中域であることから周波数軸のほぼ中央に描かれるためエンベロープ波形Ｈの上に一部が重なって表示されるようになる。さらに、低域のエンベロープ波形Ｌを描画し、図１６に示すようにエンベロープ波形Ｌの輪郭内をエンベロープ波形Ｈ、エンベロープ波形Ｍとは異なる所定の色で塗りつぶす。この場合、エンベロープ波形Ｌは低域であることから周波数軸の一番手前に描かれるためエンベロープ波形Ｍの上に一部が重なって表示されるようになる。
【０００４】
図１６を参照すると奥に描画されたエンベロープ波形が、そのエンベロープ波形より手前に描画されたエンベロープ波形により隠れてしまうようになる。高域のエンベロープ波形Ｈによっては、例えば図１７に示すように描画された高域のエンベロープ波形Ｈのほとんどがその手前に描画された中域のエンベロープ波形Ｍおよび低域のエンベロープ波形Ｌにより隠れてしまうようになる。すると、表示されている高域のエンベロープ波形Ｈの形状が分からなくなり、リバーブエフェクトの編集を適切に行えないという問題点があった。
【０００５】
そこで、本発明は波形が重なり合って表示されていても背面に描画されている波形を視認することのできる波形描画方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の波形描画方法は、波形の輪郭を線で描画すると共にその輪郭内に所定間隔で線を描画するようにしたことを最も主要な特徴としている。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、波形の輪郭を線で描画すると共にその輪郭内に所定間隔で線を描画するようにしたことにより、波形の重なり部分における背面側の波形の形が輪郭の線および輪郭内の線により視認できるようになる。また、複数の波形を塗り潰しで描画した後に、波形の輪郭を線で描画すると共にその輪郭内に所定間隔で線を描画すると、波形が重なり合って表示されていても重なり部分の波形を視認できると共に表示された波形の豊かな表現を可能とすることができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
波形が重なり合って表示されていても背面に描画されている波形を視認できるようにするという目的を、波形の輪郭を線で描画すると共にその輪郭内に所定間隔で線を描画することで実現した。
【０００９】
本発明の実施例の波形描画方法が実行されるディジタル・ミキサの構成を示すブロック図を図１に示す。
ディジタル・ミキサ１は、全体の動作を制御すると共に、ミキシング・コンソール１６に設けられているコントローラ１７の操作に応じて各種制御信号を生成しているＣＰＵ（Central Processing Unit）１０と、ＣＰＵ１０が実行する制御プログラムやＣＰＵ１０の制御の基で信号処理部１３で実行されるミキシング処理プログラムおよびエフェクト処理プログラム等の動作ソフトウェアが格納されている書き換え可能な不揮発性のフラッシュメモリと、ＣＰＵ１０のワークエリアや各種データ等が記憶されるＲＡＭ（Random Access Memory）からなるメモリ１１を備えている。このように、フラッシュメモリに動作ソフトウェアを格納することにより、メモリ１１におけるフラッシュメモリ内の動作ソフトウェアを書き換えることで、動作ソフトウェアをバージョンアップすることができる。信号処理部（ＤＳＰ）１３にはインプット・ユニット１４から複数チャンネルの波形信号が入力されており、内蔵されているＤＳＰ（Digital Signal Processor）が入力された波形信号に対するミキシング処理やエフェクト処理等を行い、アウトプット・ユニット１５からミキシング処理やエフェクト処理された波形信号を出力している。なお、信号処理部１３は多数のＤＳＰを用いて構成されている。
【００１０】
また、ディジタル・ミキサ１における全ての波形の入力は、インプット・ユニット１４により行われ、全ての波形の出力はアウトプット・ユニット１５により行われる。このインプット・ユニット１４は、複数チャンネルのアナログ入力ユニット、ステレオアナログ入力ユニットや複数チャンネルのステレオディジタル入力ユニットを備えている。また、アウトプット・ユニット１５は、複数チャンネルのアナログ出力ユニット、ステレオアナログ出力ユニット、複数チャンネルのステレオディジタル出力ユニットやモニタ用アナログ出力ユニットを備えている。
【００１１】
ミキシング・コンソール１６は、コントローラ１７とディスプレイ１８を備えている。コントローラ１７は、ミキサを操作するオペレータが操作可能なインプット・フェーダ１７ａ、イコライザ・ダイアル１７ｂ・・・等の多数の操作子を備えている。インプット・フェーダ１７ａは、インプット・ユニット１４から入力された各チャンネルの入力波形のレベルをチャンネル毎に調整可能なフェーダとされており、イコライザ・ダイアル１７ｂは入力波形の周波数特性をチャンネル毎に調整可能なダイアルとされている。ディジタル・ミキサ１のオペレータは、ミキシング・コンソール１６におけるこれらのコントローラ１７を操作することにより、演奏を最もふさわしく表現していると思われる状態に調整している。なお、ディスプレイ１８は、例えば液晶表示器とされており、このディスプレイ１８にはミキシング処理時のディジタル信号のレベルをバーグラフ状に表示することができると共に、エフェクト編集画面を表示することができる。エフェクト編集画面には、リバーブエフェクトのパラメータを編集する場合におけるリバーブのインパルス応答のいくつかの周波数バンドにおけるエンベロープ波形を表示する画面が含まれている。また、ディジタル・ミキサ１に通信インタフェース（com  Ｉ／Ｆ）１２を介してリモートＰＣ２０が接続可能とされており、このリモートＰＣ２０によりディジタル・ミキサ１をリモート制御することができるようにされている。この場合のディジタル・ミキサ１とリモートＰＣ２０間は、ＭＩＤＩ、ＩＥＥＥ−１３９４、ＲＳ−２３２Ｃ、イーサネットやＴＣＰ／ＩＰ（インターネット）により接続することができる。なお、ディジタル・ミキサ１の各部はバス１９により相互にデータの授受を行っている。
【００１２】
インプット・ユニット１４から信号処理部１３に入力された複数チャンネルの波形信号に、信号処理部１３においてエフェクトを付与することができる。波形信号に付与するエフェクトがリバーブエフェクトの場合は、ディスプレイ１８に表示されるエフェクトの設定画面によりリバーブエフェクトのパラメータ値を修正しながら好みのエフェクトが付与されるようにしている。リバーブエフェクトのパラメータを編集する場合、そのパラメータを設定した際のリバーブのインパルス応答を得て、インパルス応答におけるいくつかの周波数バンドにおけるエンベロープ波形を表示するようにしている。ユーザは、表示されたいくつかの周波数バンドにおけるエンベロープ波形の形状を見て、所定のエンベロープ形状になるようにリバーブのパラメータ値を修正するようにしている。この場合のエンベロープ波形をディスプレイ１８に表示する本発明にかかる第１の実施例の波形描画方法を図２ないし図７を参照しながら以下に説明する。
【００１３】
ディスプレイ１８へリバーブのインパルス応答における低域、中域および高域のエンベロープ波形を表示する場合には、まず、基準インパルスをリバーブが設定されている信号処理部１３に入力してそのインパルス応答を信号処理部１３において求める。この場合、信号処理部１３のＤＳＰはリバーブ処理プログラムを実行することにより基準インパルスにリバーブを付与する処理を行い、リバーブ処理が行われた応答波形から低域の波形データ、中域の波形データおよび高域の波形データを抽出するようフィルタ処理を行う。さらに、信号処理部１３において抽出された低域の波形データ、中域の波形データおよび高域の波形データにおけるエンベロープ波形を求める。求められた低域のエンベロープ波形、中域のエンベロープ波形および高域のエンベロープ波形のデータは、メモリ１１に一時記憶されることによりＣＰＵ１０に受け渡すことができるようになる。なお、求められた低域のエンベロープ波形、中域のエンベロープ波形および高域のエンベロープ波形は、リバーブが設定された信号処理部１３に基準インパルスを入力した結果であることから設定されたリバーブの伝達関数を示すようになる。
【００１４】
ＣＰＵ１０はメモリ１１から読み出すことにより受け渡された低域のエンベロープ波形、中域のエンベロープ波形および高域のエンベロープ波形のデータに基づいて本発明にかかる第１の実施例の波形描画方法を実行する処理を行うことにより、ディスプレイ１８にリバーブのインパルス応答における低域、中域および高域のエンベロープ波形を時間−周波数−振幅の３次元の空間に描画する処理を行う。エンベロープ波形の描画のステップを示す図２ないし図７では横軸が時間軸、縦軸がｄＢ単位の振幅軸、これらの軸に直交する軸が対数軸とされた周波数軸とされている。リバーブのインパルス応答における低域、中域および高域のエンベロープ波形をディスプレイ１８上に描画するには、まず、図２に示すようにインパルス応答における高域のエンベロープ波形Ｈの輪郭の線を描画し、図３に示すようにエンベロープ波形Ｈの輪郭内に３ピクセル間隔で振幅軸に平行な縦線を描画する。この場合、周波数軸は奥に行くほど高い周波数となっている。
【００１５】
次いで、中域のエンベロープ波形Ｍの輪郭線を図４に示すように描画し、エンベロープ波形Ｍの輪郭内に３ピクセル間隔で振幅軸に平行な線を図５に示すように線描画する。この場合、エンベロープ波形Ｍは中域であることから周波数軸のほぼ中央に描かれるためエンベロープ波形Ｈの上に一部が重なって表示されるが、輪郭内の縦線は３ピクセル間隔とされてエンベロープ波形Ｈの縦線とは重ならないように描画される。さらに、低域のエンベロープ波形Ｌの輪郭線を図６に示すように描画し、エンベロープ波形Ｌの輪郭内に３ピクセル間隔で振幅軸に平行な線を図７に示すように線描画する。この場合、エンベロープ波形Ｌは低域であることから周波数軸の一番手前に描かれるためエンベロープ波形Ｍの上に一部が重なって表示されるが、輪郭内の縦線は３ピクセル間隔とされてエンベロープ波形Ｍの縦線とは重ならないように描画される。なお、エンベロープ波形Ｈないしエンベロープ波形Ｌの線は相互に異なる色で描画されている。図７を参照すると描画された３バンドのエンベロープ波形は重なり合って表示されているが奥（背面）に描画されているエンベロープ波形の形は、その輪郭線と縦線とで掴むことができるようになる。
【００１６】
上記した本発明の第１の実施例の波形描画方法では、エンベロープ波形は、その輪郭線と縦線とで描画されている。この場合、各エンベロープ波形の輪郭内に振幅軸に平行に描画されている縦線は３ピクセル間隔とされて飛び飛びに描画されているため、エンベロープ波形における輪郭内の表示が粗く豊かな表現が困難となりリバーブの音の厚みを十分表現することができなかった。図８ないし図１２を参照しながら以下に説明する本発明の第２の実施例の波形描画方法では波形エンベロープの豊かな表現をすることができ、リバーブの音の厚みを十分表現することができる。
【００１７】
第２の実施例の波形描画方法においても第１の実施例と同様にディスプレイ１８へリバーブのインパルス応答における低域、中域および高域のエンベロープ波形を表示する場合には、まず、基準インパルスをリバーブが設定されている信号処理部１３に入力してそのインパルス応答を信号処理部１３において求める。この場合、信号処理部１３のＤＳＰはリバーブ処理プログラムを実行することにより基準インパルスにリバーブを付与する処理を行い、リバーブ処理が行われた応答波形から低域の波形データ、中域の波形データおよび高域の波形データを抽出するようフィルタ処理を行う。さらに、信号処理部１３において抽出された低域の波形データ、中域の波形データおよび高域の波形データにおけるエンベロープ波形を求める。求められた低域のエンベロープ波形、中域のエンベロープ波形および高域のエンベロープ波形のデータは、メモリ１１に一時記憶されることによりＣＰＵ１０に受け渡すことができるようになる。なお、求められた低域のエンベロープ波形、中域のエンベロープ波形および高域のエンベロープ波形は、リバーブが設定された信号処理部１３に基準インパルスを入力した結果であることから設定されたリバーブの伝達関数を示すようになる。
【００１８】
ＣＰＵ１０はメモリ１１から読み出すことにより受け渡された低域のエンベロープ波形、中域のエンベロープ波形および高域のエンベロープ波形のデータに基づいて本発明にかかる第２の実施例の波形描画方法を実行する処理を行うことにより、ディスプレイ１８にリバーブのインパルス応答における低域、中域および高域のエンベロープ波形を時間−周波数−振幅の３次元の空間に描画する処理を行う。エンベロープ波形の描画のステップを示す図８ないし図１２では横軸が時間軸、縦軸がｄＢ単位の振幅軸、これらの軸に直交する軸が対数軸とされた周波数軸とされている。リバーブのインパルス応答における低域、中域および高域のエンベロープ波形をディスプレイ１８上に描画するには、まず、図８に示すようにインパルス応答における高域のエンベロープ波形Ｈを３次元空間の奥に描画し、エンベロープ波形Ｈの輪郭内を所定の色で塗り潰す。この場合、周波数軸は奥に行くほど高い周波数となっている。次いで、エンベロープ波形Ｈの手前に中域のエンベロープ波形Ｍを描画し、エンベロープ波形Ｍの輪郭内をエンベロープ波形Ｈとは異なる所定の色で塗り潰す。この場合、エンベロープ波形Ｍは中域であることから図８に示すように周波数軸のほぼ中央に描かれエンベロープ波形Ｈの上に一部が重なるよう描画されるようになる。さらに、低域のエンベロープ波形Ｌを描画し、エンベロープ波形Ｌの輪郭内をエンベロープ波形Ｈ、エンベロープ波形Ｍとは異なる所定の色で塗り潰す。この場合、エンベロープ波形Ｌは低域であることから図８に示すように周波数軸の一番手前に描かれるためエンベロープ波形Ｍの上に一部が重なるよう描画されるようになる。
【００１９】
次に、隠線描画を行うが隠線描画では図９に示すように高域のエンベロープ波形Ｈの輪郭の線を描画し、図１０に示すようにエンベロープ波形Ｈの輪郭内に３ピクセル間隔で振幅軸に平行な縦線を描画する。この縦線の色はエンベロープ波形Ｈを塗り潰した色と同じとされているので、図１０に示すようにエンベロープ波形Ｈに重なるエンベロープ波形Ｍの重なり部分にのみ縦線が視認できるようになる。さらに、図１１に示すように中域のエンベロープ波形Ｍの輪郭の線を描画し、図１２に示すようにエンベロープ波形Ｍの輪郭内に３ピクセル間隔で振幅軸に平行な縦線を描画する。この縦線の色はエンベロープ波形Ｍを塗り潰した色と同じとされているので、図１２に示すようにエンベロープ波形Ｍに重なるエンベロープ波形Ｌの重なり部分にのみ縦線が視認できるようになる。最後に、図１２に示すように低域のエンベロープ波形Ｌの輪郭の線を描画してリバーブのインパルス応答における低域、中域および高域のエンベロープ波形の描画を終了する。このように塗り潰しで描画されたエンベロープ波形の上にエンベロープ波形の輪郭線および振幅軸に平行な縦線を線描画する隠線描画処理を行うことにより、エンベロープ波形が重なり合って表示されていても重なった部分の奥の波形を視認できるようになると共に、エンベロープ波形の豊かな表現を可能とすることができるようになる。
【００２０】
次に、本発明の第２の実施例の波形描画方法によりリバーブのインパルス応答を表示するインパルス応答表示処理のフローチャートを図１３に示す。
インパルス応答表示処理はタイマ割込により所定タイミング毎に起動され、起動されるとステップＳ１０にてスタートフラグ（STARTFLG）が”０”か否かが判断される。ここで、インパルス応答表示処理の初期設定が行われておらずスタートフラグが”０”と判断された場合は、ステップＳ１１に進み初期設定処理が行われる。初期設定処理では、ステップＳ１１にてインパルステスト（INPULSE TEST）開始イベントがあるか否かが判断される。ここで、リバーブのパラメータが設定されてインパルステストを指示するパネル操作子等が操作された場合は、ステップＳ１２に進みリバーブ処理部（リバーブが設定された信号処理部１３）が使用するメモリ１１における一時記憶領域および遅延レジスタ等がリセットされて初期化される。次いで、ステップＳ１３にてリバーブ処理部に基準インパルス信号が入力される。これにより、信号処理部１３においてリバーブ処理部のインパルス応答波形が得られ、得られたインパルス応答波形から高域のエンベロープ波形Ｈ、中域のエンベロープ波形Ｍおよび低域のエンベロープ波形Ｌを得てメモリ１１の一時記憶領域に書き込むようにする。そして、ステップＳ１４にてスタートフラグが”１”にセットされて初期設定が終了し、リターンされる。なお、ステップＳ１１にてパラメータ値を変更するパネル操作子等が操作されてインパルステスト開始イベントがないと判断された場合は、そのままリターンされてパラメータ値が変更される処理等が行われる。
【００２１】
次回のタイマ割込によりインパルス応答表示処理が起動されると、ステップＳ１０にてスタートフラグが”０”か否かが判断されるが、前回のインパルス応答表示処理のステップＳ１４においてスタートフラグが”１”にセットされてインパルス応答が得られていることから、スタートフラグが”１”と判断されてステップＳ１５に分岐する。ステップＳ１５では信号処理部１３において求められた低域のエンベロープ波形、中域のエンベロープ波形および高域のエンベロープ波形の３バンドのエンベロープデータがメモリ１１の一次記憶領域に格納されていることの検出処理が行われ、ステップＳ１６にて３バンドのエンベロープデータが検出されるまでステップＳ１５の検出処理が繰り返し行われる。ここで、３バンドのエンベロープデータが検出されるとステップＳ１７に進み３バンドのエンベロープ波形を表示する基本画面表示処理が行われる。この基本画面表示処理では、ディスプレイ１８に表示用のウィンドウが表示されると共にエンベロープ波形を表示する時間−周波数−振幅の３次元の座標系が設定される。次いで、ステップＳ１８にて高域応答のエンベロープ波形Ｈを設定されたウィンドウの座標系に塗り潰しで描画する処理が行われ、ステップＳ１９にて中域応答のエンベロープ波形Ｍを設定されたウィンドウの座標系に塗り潰しで描画する処理が行われ、ステップＳ２０にて低域応答のエンベロープ波形Ｌを設定されたウィンドウの座標系に塗り潰しで描画する処理が行われる。これにより、図８に示すようにエンベロープ波形Ｈ、エンベロープ波形Ｍ、エンベロープ波形Ｌが一部重なってディスプレイ１８に表示されるようになる。
【００２２】
次に、ステップＳ２１にて図９に示すように高域応答のエンベロープ波形Ｈの輪郭の線が描画され、ステップＳ２２にて重なった部分を視認できるように描画する隠線描画処理が行われる。この隠線描画処理では、図１０に示すようにエンベロープ波形Ｈの輪郭内に３ピクセル間隔で振幅軸に平行な縦線が描画される。この縦線の色はエンベロープ波形Ｈを塗り潰した色と同じとされているので、図１０に示すようにエンベロープ波形Ｈに重なるエンベロープ波形Ｍの重なり部分にのみ縦線が視認できるようになる。さらに、ステップＳ２３にて図１１に示すように中域応答のエンベロープ波形Ｍの輪郭の線が描画され、ステップＳ２４にて重なった部分を視認できるように描画する隠線描画処理が行われる。この隠線描画処理では、図１２に示すようにエンベロープ波形Ｍの輪郭内に３ピクセル間隔で振幅軸に平行な縦線がエンベロープ波形Ｈに描画されている縦線と重ならないよう描画される。この縦線の色はエンベロープ波形Ｍを塗り潰した色と同じとされているので、図１２に示すようにエンベロープ波形Ｍに重なるエンベロープ波形Ｌの重なり部分にのみ縦線が視認できるようになる。次いで、ステップＳ２５にて図１２に示すように低域のエンベロープ波形Ｌの輪郭が線描画される。ただし、ステップＳ２５の処理は省略してもよい。そして、ステップＳ２６にてスタートフラグが”０”にセットされてインパルス応答表示処理は終了する。このように塗り潰しで描画された３バンドのエンベロープ波形の上にエンベロープ波形の輪郭線および振幅軸に平行な縦線を線描画する隠線描画処理を行うことにより、３バンドのエンベロープ波形が重なり合って表示されていても表示された波形を視認できるようになると共に、エンベロープ波形の豊かな表現を可能とすることができるようになる。リバーブのパラメータを変更した際には、インパルステストを指示するパネル操作子を操作して再度上記したインパルス応答表示処理を実行することにより、変更したパラメータがリバーブ処理部に与える影響を確認することができるようになる。
【００２３】
以上説明した本発明の第２の実施例の波形描画方法によりリバーブのインパルス応答を表示するインパルス応答表示処理のフローチャートにおいて、ステップＳ１８ないしステップＳ２０の塗り潰し描画処理を省略すると共に、ステップＳ２５の低域応答エンベロープの輪郭描画処理に続いて低域応答エンベロープの隠線描画処理を行うと、本発明の第１の実施例の波形描画方法によりリバーブのインパルス応答を表示するインパルス応答表示処理のフローチャートになる。
【００２４】
以上説明した本発明においては、リバーブのインパルス応答の３バンドのエンベロープ波形をディスプレイ１８へ表示するようにしたが、２バンドあるいは４バンド以上のエンベロープ波形を求めて表示するようにしても良い。また、３バンドのエンベロープ波形をディスプレイ１８へ表示する場合には、３つのエンベロープ波形が重なることを想定して３ピクセル間隔で輪郭内に縦線を描画しているが、この輪郭内に描画する縦線の間隔は表示対象の波形数あるいは表示対象の最大重なり合う波形数に応じた縦線が重ならない間隔とするのが好適である。さらに、各バンドのエンベロープ波形における輪郭線の色は塗り潰しの色と異なる色とするのが好適であり、輪郭内に描画される縦線の色は塗り潰しの色と異なる色としても良い。さらにまた、本発明の波形描画方法はリバーブのインパルス応答のエンベロープ波形のディスプレイ１８への表示に限るものではなく、複数の音響波形をディスプレイへ表示して周波数合成したりその音色や周波数特性等を編集する際の画像の描画方法に適用することができるものである。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
以上の説明では、ディジタル・ミキサにおいて行われる波形描画方法として説明したが、波形描画方法を単体の装置で行うようにしてもよい。また、波形描画方法をコンピュータが実行可能な波形描画プログラムとして実現してもよく、この波形描画プログラムを記録媒体に記録してディジタル・ミキサに限らず種々の楽音関連装置に組み込むようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施例の波形描画方法が実行されるディジタル・ミキサの構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の第１の実施例における波形描画方法のステップにおける画面を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施例における波形描画方法の図２の次のステップにおける画面を示す図である。
【図４】本発明の第１の実施例における波形描画方法の図３の次のステップにおける画面を示す図である。
【図５】本発明の第１の実施例における波形描画方法の図４の次のステップにおける画面を示す図である。
【図６】本発明の第１の実施例における波形描画方法の図５の次のステップにおける画面を示す図である。
【図７】本発明の第１の実施例における波形描画方法の図６の次のステップにおける画面を示す図である。
【図８】本発明の第２の実施例における波形描画方法のステップにおける画面を示す図である。
【図９】本発明の第２の実施例における波形描画方法の図８の次のステップにおける画面を示す図である。
【図１０】本発明の第２の実施例における波形描画方法の図９の次のステップにおける画面を示す図である。
【図１１】本発明の第２の実施例における波形描画方法の図１０の次のステップにおける画面を示す図である。
【図１２】本発明の第２の実施例における波形描画方法の図１１の次のステップにおける画面を示す図である。
【図１３】本発明の第２の実施例における波形描画方法におけるインパルス応答表示処理のフローチャートである。
【図１４】従来の波形描画方法のステップにおける画面を示す図である。
【図１５】従来の波形描画方法の図１４の次のステップにおける画面を示す図である。
【図１６】従来の波形描画方法の図１５の次のステップにおける画面を示す図である。
【図１７】従来の波形描画方法における画面の他の例を示す図である。
【符号の説明】
【００２７】
１  ミキサ、１０  ＣＰＵ、１１  メモリ、１２  通信インタフェース、１３  信号処理部、１４  インプット・ユニット、１５  アウトプット・ユニット、１６  ミキシング・コンソール、１７  コントローラ、１７ａ  インプット・フェーダ、１７ｂ  イコライザ・ダイアル、１８  ディスプレイ、１９  バス、２０  リモートＰＣ、Ｈ  高域のエンベロープ波形、Ｌ  低域のエンベロープ波形、Ｍ  中域のエンベロープ波形
【図１】
2005114824.tif 000003
【図２】
2005114824.tif 000004
【図３】
2005114824.tif 000005
【図４】
2005114824.tif 000006
【図５】
2005114824.tif 000007
【図６】
2005114824.tif 000008
【図７】
2005114824.tif 000009
【図１３】
2005114824.tif 000010
【図８】
2005114824.tif 000011
【図９】
2005114824.tif 000012
【図１０】
2005114824.tif 000013
【図１１】
2005114824.tif 000014
【図１２】
2005114824.tif 000015
【図１４】
2005114824.tif 000016
【図１５】
2005114824.tif 000017
【図１６】
2005114824.tif 000018
【図１７】
2005114824.tif 000019