(57)【要約】【課題】現像液中に含まれる気泡の影響を排除して、精確に現像液の濃度管理の基礎となる特性値を測定することができるフォトレジスト用現像液管理方法を提供する。【解決手段】フォトレジスト用の現像液の濃度管理のために、その導電率、超音波伝播速度、吸光度を含む、現像液の濃度管理の基礎となる特性値を測定する前にその現像液に含まれる気泡を除去する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトレジスト用の現像液の濃度管理のために、その導電率、超音波伝播速度、吸光度を含む、現像液の濃度管理の基礎となる特性値を測定する前にその現像液に含まれる気泡を除去することを特徴とするフォトレジスト用現像液管理方法。
【請求項２】
前記現像液が、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリの単独又は混合物からなる無機アルカリ水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）、トリメチルモノエタノールアンモニウムハイドロオキサイド（コリン）などの有機アルカリ水溶液のいずれかを現像原液とすることを特徴とする請求項１に記載のフォトレジスト用現像液管理方法。
【請求項３】
フォトレジスト用の現像液の濃度管理のために、その導電率、超音波伝播速度、吸光度を含む、現像液の濃度管理の基礎となる特性値を測定する前にその現像液に含まれる気泡を除去するフォトレジスト用現像液脱気装置。
【請求項４】
前記現像液が、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリの単独又は混合物からなる無機アルカリ水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）、トリメチルモノエタノールアンモニウムハイドロオキサイド（コリン）などの有機アルカリ水溶液のいずれかを現像原液とすることを特徴とする請求項３に記載のフォトレジスト用現像液脱気装置。
【請求項５】
前記脱気装置が、ポリ４−メチルペンテン−１を素材とする中空糸フィルタを備えていることを特徴とする請求項３または４に記載のフォトレジスト用現像液脱気装置。
【請求項６】
請求項３から５のいずれかに記載のフォトレジスト用現像液脱気装置を備えたことを特徴とするフォトレジスト用現像液管理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶基板製造工程やプリント基板製造、半導体基板製造工程等において使用さるフォトレジスト（感光性有機樹脂）用の現像液の濃度を管理する管理方法、この現像液に含まれる気泡を除去する脱気装置、この脱気装置を備えた現像液管理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶基板製造工程などにおいては、フォトレジストの現像液としてテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）水溶液などのアルカリ水溶液を用いているが、この現像液は、フォトレジスト中の酸との反応、ならびに空気中の炭酸ガス及び酸素ガスの吸収、反応により、使用中に現像液濃度が低下して逐次実効感度が低下することが問題となっていた。また、現像に伴い現像液中に溶解されたフォトレジストが増加して、溶解レジスト濃度が増加し、これは溶解してはならない未露光部の樹脂を若干溶解させる作用を持ち、未露光部残膜率を次第に低下させることも問題となっていた。
【０００３】
また、液晶基板などの大型化に伴い、現像方式としては、均一性、現像感度の点で優れているスプレー方式あるいはディップ方式が主流となっているが、これらの方式では、上述の現像液の劣化の問題がより重要なものとなっていた。
【０００４】
この問題を解決するものとして、特許文献１では、現像液濃度を導電率計で、現像液の溶解レジスト濃度を吸光光度計により検出して現像液を排出したり、現像原液や純水を供給する現像液の管理装置が提案されている。
【０００５】
この管理装置は、現像液の劣化の指標となる現像液濃度、溶解レジスト濃度をリアルタイムに検出して、それを現像液の管理に利用するという点で優れていたが、炭酸ガスの影響を少なくするものとして、現像工程を窒素ガスで覆う窒素パージを用いており、その窒素パージにより、現像液中に発生する窒素ガスの気泡が現像液の導電率、超音波伝播速度、吸光度など現像液の濃度管理の基礎となる特性値の測定に与える影響については考慮されていなかった。
【０００６】
また、窒素パージが不十分な場合に混入する混入空気（酸素、窒素、炭酸ガスなどを含む。）内において、現像液を放出する際に気液混合により現像液に発生する気泡の影響についても考慮されていなかった。
【０００７】
しかしながら、このような現像液中の気泡は、現像液の感度への影響は少ないものの、現像液の濃度管理の基礎となる特性値（導電率、吸光度、超音波伝播速度など）の測定には影響を与え、このため、気泡が現像液中に存在したままでは、精確な特性値の測定が困難な状況であった。
【０００８】
一方、液晶基板などは画面自体への大型化の要求、歩留まりの向上の点から、更に大型化する傾向になり、これに伴い、現像工程における均一性、現像感度への要求は更に厳しくなり、現像液の濃度管理への要求も、そのような気泡の影響も考慮したより高度なものとなっている。
【特許文献１】特開平５−４０３４５号公報（図１の導電率計１５、吸光光度計１６、Ｎ２パージ）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、現像液中に含まれる気泡の影響を排除して、精確に現像液の濃度管理の基礎となる特性値を測定することができるフォトレジスト用現像液管理方法、この現像液に含まれる気泡を除去する現像液脱気装置、この脱気装置を備えた現像液管理装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載のフォトレジスト用現像液管理方法は、フォトレジスト用の現像液の濃度管理のために、その導電率、超音波伝播速度、吸光度を含む、現像液の濃度管理の基礎となる特性値を測定する前にその現像液に含まれる気泡を除去することを特徴とする。
【００１１】
請求項２に記載フォトレジスト用現像液管理方法は、請求項１に従属し、前記現像液が、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリの単独又は混合物からなる無機アルカリ水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）、トリメチルモノエタノールアンモニウムハイドロオキサイド（コリン）などの有機アルカリ水溶液のいずれかを現像原液とすることを特徴とする。
【００１２】
請求項３に記載のフォトレジスト用現像液脱気装置は、フォトレジスト用の現像液の濃度管理のために、その導電率、超音波伝播速度、吸光度を含む、現像液の濃度管理の基礎となる特性値を測定する前にその現像液に含まれる気泡を除去することを特徴とする。
【００１３】
請求項４に記載のフォトレジスト用現像液脱気装置は、請求項３に従属し、前記現像液が、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリの単独又は混合物からなる無機アルカリ水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）、トリメチルモノエタノールアンモニウムハイドロオキサイド（コリン）などの有機アルカリ水溶液のいずれかを現像原液とすることを特徴とする。
【００１４】
請求項５に記載のフォトレジスト用現像液脱気装置は、請求項３または４に従属し、前記脱気装置が、ポリ４−メチルペンテン−１を素材とする中空糸フィルタを備えていることを特徴とする。
【００１５】
請求項６に記載のフォトレジスト用現像液管理装置は、請求項３から５のいずれかに記載のフォトレジスト用現像液脱気装置を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１、２に記載のフォトレジスト用現像液管理方法によれば、現像液の濃度管理の基礎となる特性値を測定する前にその現像液に含まれる気泡を除去するので、この気泡の影響を排除して精確に特性値の測定をすることができ、これらの特性値を用いて算出される最終的な測定値である現像液濃度、溶解レジスト濃度、炭酸塩濃度が精確なものとなり、これらの測定値による現像液の濃度管理も精確なものとなり、より高度な現像液の濃度管理への要求にも応えることができる。
【００１７】
請求項３、４に記載のフォトレジスト用現像液脱気装置によれば、現像液の濃度管理の基礎となる特性値を測定する前にその現像液に含まれる気泡を除去するので、この気泡の影響を排除して精確に特性値の測定をすることができる。
【００１８】
請求項５に記載のフォトレジスト用現像液脱気装置によれば、請求項３または４の効果に加え、前記脱気装置の構成を具体的に規定したので、同効果を発揮する装置を容易に構成することができる。
【００１９】
請求項６に記載のフォトレジスト用現像液管理装置によれば、請求項３から５の脱気装置を備えたので、これらの脱気装置の効果を管理装置として発揮する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明の実施の形態（実施例）について、図面を用いて説明する。
【実施例１】
【００２１】
図１は、本発明のフォトレジスト用現像液管理方法の一例の処理手順を示すフローチャートである。
【００２２】
本発明のフォトレジスト用現像液管理方法は、液晶基板製造工程やプリント基板製造、半導体基板製造工程等において使用さるフォトレジスト（感光性有機樹脂）用の現像液の濃度を管理するために用いられるものであり、このフローチャートが示すように、まず、現像液の気泡を除去（Ｓ１）してから、現像液の濃度管理の基礎となる特性値、例えば、現像液の導電率、超音波伝播速度、吸光度、更に、現像液の温度などを測定する（Ｓ２）点を特徴とする。
【００２３】
その後に、測定した特性値を用いて、種々の演算や処理、温度補償、相関グラフの利用、吸光度のスペクトル分析、これによるピーク波長差、予め行われた実験から得られた相関関係の利用などを行い、現像液中のアルカリ水溶液の濃度である現像液濃度、溶解レジスト濃度、炭酸塩濃度などを算出し、これらのデータを用いて、使用中の現像液の一部を排出したり、新しい現像液や、現像原液、また、純水を供給し、現像液の濃度管理を行う（Ｓ３）。
【００２４】
このようにすると、窒素パージによる窒素の気泡や、それが不十分な場合の（あるいは窒素パージを行わない場合の）酸素、炭酸ガスなどの気泡を除去してから測定を行うので、これらの影響を排除して精確に特性値の測定をすることができ、これらの特性値を用いて算出される最終的な測定値である現像液濃度、溶解レジスト濃度、炭酸塩濃度が精確なものとなり、これらの測定値による現像液の濃度管理も精確なものとなり、より高度な現像液の濃度管理への要求にも応えることができる。
【００２５】
また、上記の演算、処理は、いずれもコンピュータなどの演算手段を用いて高速に処理できるもので、リアルタイムの処理が可能である。
【００２６】
更に、本発明の管理方法が適用可能な現像液は、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリの単独又は混合物からなる無機アルカリ水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）、トリメチルモノエタノールアンモニウムハイドロオキサイド（コリン）などの有機アルカリ水溶液のいずれかを現像原液とするものである。これらの現像液は、フォトレジストを溶解可能で、窒素、酸素、炭酸ガスの気泡がその現像液の感度に影響を与えるもので、本発明の管理方法の効果が好適に発揮される。
【実施例２】
【００２７】
図２は、本発明のフォトレジスト用現像液脱気装置を備えた現像液管理装置の一例を示すシステム図である。
【００２８】
このシステムは、液晶基板などのための塗布／現像装置（Ｍ／Ｃ）、フォトレジスト用現像液脱気装置１、この脱気装置１を備え、前記塗布／現像装置（Ｍ／Ｃ）と使用中の現像液（ＤＶ）の授受を行い、また、新しい現像液（２．３８％ＤＶ）、現像原液（２５％ＤＶ）をこの塗布／現像装置（Ｍ／Ｃ）に供給するフォトレジスト用現像液管理装置１０を備えている。
【００２９】
脱気装置１は、塗布／現像装置（Ｍ／Ｃ）の現像液の濃度管理のために、その導電率、超音波伝播速度、吸光度などの特性値を測定する前にその現像液に含まれる気泡を除去するものである。
【００３０】
現像液管理装置１０は、脱気装置１で脱気された現像液の導電率、超音波伝播速度、吸光度などの特性値を測定して、これらから現像液濃度、溶解レジスト濃度、炭酸塩濃度を算出し、それらのデータを用いて、新しい現像液（２．３８％ＤＶ）、現像原液（２５％ＤＶ）また純水などを塗布／現像装置（Ｍ／Ｃ）に供給するものである。
【００３１】
このシステムで用いられた脱気装置１、現像液管理装置１０は、図１で説明したフォトレジスト用現像液管理方法を具現化するものであり、上述の管理方法の効果をそれぞれ、脱気装置１、現像液管理装置１０として発揮する。
【００３２】
また、脱気装置５として、具体的には、ポリ４−メチルペンテン−１を素材とする中空糸フィルタが好適なものとして用いられている。このフィルタは、窒素、酸素、炭酸ガスなどの気泡を効率よく除去し、脱気装置５の機能をより良く発揮する。
【実施例３】
【００３３】
図３は、本発明のフォトレジスト用現像液管理方法の他例の処理手順を示すフローチャート、図４、図５（ａ）、（ｂ）、図６、図７は、図３のフォトレジスト用現像液管理方法で用いられるグラフ１、グラフ２、グラフ３、グラフ４、グラフ５をそれぞれ示す図である。
【００３４】
このフォトレジスト用現像液管理方法は、図１の方法と同様に液晶基板製造工程やプリント基板製造、半導体基板製造工程等において使用さるフォトレジスト（感光性有機樹脂）用の現像液の濃度を管理するために用いられるものであり、現像液の濃度管理の基礎となる特性値の測定前に、現像液の気泡除去を行う点をまず特徴とする。
【００３５】
ついで、この方法は、現像液の吸光度を測定するが、従来のものと異なり、その測定した吸光度から溶解レジスト濃度を検出するのではなく、そのスペクトル分析からピーク波長を得、この現像液に含まれる炭酸塩の影響によってそのピーク波長が短くなる現象を用いて、炭酸塩がゼロの場合と炭酸塩が含まれた場合のピーク波長差（δｗｌ）から炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）を算出する点を特徴とする。
【００３６】
また、この炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）が、見かけ現像液濃度（ＴＭ１：現像液の導電率と超音波伝播速度との関係から算出したもの）と見かけ溶解レジスト濃度（ＰＲ１：現像液の導電率と超音波伝播速度との関係から算出したもの）に与える影響を現像液への炭酸ガスの吹き込み実験によって明確にしておき、その影響を考慮して、実効溶解レジスト濃度（ＰＲ２）と実効現像液濃度（ＴＭ２）を算出する点を特徴とする。以下、より詳しく説明する。
＜ステップＳ１１＞
このステップは、図１のステップＳ１と同じもので、その方法、作用効果は図１について既に説明したものと同様である。
＜ステップＳ１２＞
次に、現像液の導電率と超音波伝播速度を測定する。この場合、導電率は現像液の温度の影響を受けるので、温度補償を行う。この導電率と超音波伝播速度とは現像液の現像液濃度と溶解レジスト濃度と図４のグラフ１のような相関関係があることが知られている。
【００３７】
つまり、測定された導電率、超音波伝播速度から双方の交点Ｇが得られると、この交点Ｇから図中に示す見かけ現像液濃度と見かけ溶解レジスト濃度との関係を示す相関グラフより、見かけ現像液濃度（ＴＭ１）と見かけ溶解レジスト濃度（ＰＲ１）とが算出できる。
【００３８】
なお、ここで、それぞれの濃度を見かけ現像液濃度、見かけ溶解レジスト濃度と称しているのは、この方法で算出された濃度には炭酸塩の影響が含まれているからである。
＜ステップＳ１３＞
ついで、現像液の吸光度を測定し、そのデータをスペクトル分析し、この現像液に炭酸塩が全く含まれていない場合のスペクトル（実線）と含まれた場合（点線）のピーク波長差（δｗｌ）を算出する。この方法を示すのが図４（ａ）のグラフ２である。
＜ステップＳ１４＞
次に、炭酸塩が増加すればするほど、このピーク波長差（δｗｌ）が大きくなるという相関関係（図４（ｂ）のグラフ３）から、得られたピーク波長差（δｗｌ）に対応する炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）を算出する。この炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）は他の現像液中の成分の影響を受けないので、精確に実際の現像液中の炭酸塩濃度を示している。
＜ステップＳ１５＞
次に、予め多くの溶解レジスト濃度の現像液に炭酸ガスを吹き込んで得られた、炭酸ガスで生成される炭酸塩の炭酸塩濃度とそれが溶解レジスト濃度に与える影響、つまり炭酸塩濃度と溶解レジスト濃度誤差（ＰＲ誤差）との相関関係（図６のグラフ４）を用いて、ステップ１４で得られた炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）から溶解レジスト濃度誤差（ΔＰＲ）を算出する。
＜ステップＳ１６＞
次に、この溶解レジスト濃度誤差（ΔＰＲ）をステップＳ１２で得られた見かけ溶解レジスト濃度（ＰＲ１）から差し引いて実効溶解レジスト濃度（ＰＲ２）を算出する。こうして得られた実効溶解レジスト濃度（ＰＲ２）は、炭酸塩濃度つまり炭酸塩の影響を除去したものであり、精確なものである。
＜ステップＳ１７＞
次に、現像液濃度についても同様の手法を用いる。つまり、予め多くの現像液濃度の現像液に炭酸ガスを吹き込んで得られた、炭酸ガスで生成される炭酸塩の炭酸塩濃度とそれが現像液濃度に与える影響、つまり炭酸塩濃度と現像液濃度誤差（ＴＭＡＨ誤差）との相関関係（図５のグラフ５）を用いて、ステップ１４で得られた炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）から現像液濃度誤差（ΔＴＭ）を算出する。
＜ステップＳ１８＞
次に、この現像液濃度誤差（ΔＴＭ）をステップＳ１２で得られた見かけ現像液濃度（ＴＭ１）から差し引いて実効現像液濃度（ＴＭ２）を算出する。こうして得られた実効現像液濃度（ＴＭ２）は、炭酸塩濃度つまり炭酸塩の影響を除去したものであり、精確なものである。
【００３９】
このように、本発明のフォトレジスト用現像液管理方法によれば、炭酸塩濃度の影響を考慮し、その影響を除外した実効溶解レジスト濃度（ＰＲ２）、実効現像液濃度（ＴＭ２）を得ることができ、このデータによって現像液の管理をすればより精確な管理が可能であり、現像感度の維持をより高精度で行うことができる。
【００４０】
また、この方法は、炭酸塩の影響を除去できるので、炭酸ガスの混入が完全には除去できないスプレー方式あるいはディップ方式にも好適であり、現像の均一性を維持しながら、液晶基板の大型化にもよりよく対応できるものである。
【００４１】
また、上記の算出は、いずれもコンピュータなどの演算手段を用いて高速に処理できるもので、リアルタイムの処理が可能である。
【００４２】
本発明の管理方法が適用可能な現像液は、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリの単独又は混合物からなる無機アルカリ水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）、トリメチルモノエタノールアンモニウムハイドロオキサイド（コリン）などの有機アルカリ水溶液のいずれかを現像原液とするものである。これらの現像液は、フォトレジストを溶解可能で、炭酸ガスとの化合が問題となるもので、本発明の管理方法の効果が好適に発揮される。
【実施例４】
【００４３】
図８は、本発明のフォトレジスト用現像液脱気装置を備えた現像液管理装置の他例を示す管路系統図である。
【００４４】
このフォトレジスト用現像液管理装置１０Ａは、図３の管理方法を具現化する装置であって、図２と同じ脱気装置（ＦＩＬ３）１に加え、現像液の導電率と超音波伝搬速度との相関関係から、見かけ現像液濃度（ＴＭ１）と見かけ溶解レジスト濃度（ＰＲ１）とを算出するために、現像液の導電率を測定する導電率計（ＣＩ）２と超音波伝搬速度を測定する超音波伝搬速度計（ＵＳ）３、現像液の吸光度のスペクトル分析から得られるピーク波長差（δｗｌ）と炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）との相関関係から炭酸塩濃度を算出するために、吸光度を測定する吸光光度計（ＵＶ−Ａｂｓ）４とを備えた測定ユニット５を備えている。
【００４５】
管理装置１０Ａはまた、吸光光度計４（ＵＶ−Ａｂｓ）の測定値に基づいて得られた炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）から、予め炭酸ガス吹込実験によって得られた炭酸塩濃度と溶解レジスト濃度誤差との相関関係を用いて、溶解レジスト濃度誤差（ΔＰＲ）を算出し、この溶解レジスト濃度誤差（ΔＰＲ）を前記見かけ溶解レジスト濃度（ＰＲ１）から差し引いて実効溶解レジスト濃度（ＰＲ２）を算出し、前記得られた炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）から、予め炭酸ガス吹込実験によって得られた炭酸塩濃度と現像液濃度誤差との相関関係を用いて、現像液濃度誤差（ΔＴＭ）を算出し、この現像液濃度誤差（ΔＴＭ）を前記見かけ現像液濃度（ＴＭ１）から差し引いて実効現像液濃度（ＴＭ２）を算出する演算手段６、この演算手段６からの指令により現像液ＤＶを塗布／現像装置Ｍ／Ｃへ供給する制御ユニット７を備えている。
【００４６】
この図において、既述のものに加え、符号Ｐ１，Ｐ２は現像液などの輸送のためのポンプ、符号ＤはポンプＰ１による現像液の脈動を抑制するダンパー、符号ＦＩＬ１，ＦＩＬ２は現像液のフィルタ、ＣＫ１からＣＫ４はチェックバルブ、ＦＩ１、ＦＩ２は現像液の流量を指示し調節する流量指示調節計、ＦＣ１，ＦＣ２，ＦＣ３は流量調節器、ＰＳは圧力スイッチである。
【００４７】
ＬＤ１、ＬＤ２は現像液の漏れ検出器であって、測定ユニット５内の管路からの漏れ、制御ユニット７内の管路からの漏れを受ける漏れ受けパンＷＰにそれぞれ設けられて、管路からの現像液の漏れを検出し、装置を作動停止させるためなどに用いる。漏れ受けパンＷＰは廃水処理装置Ｗ．Ｗに接続されている。符号ＡＶ１、ＡＶ２，ＡＶ３は空気バルブである。
【００４８】
符号Ｔは現像液の温度を測る温度計２ａであって、この温度計（Ｔ）２ａの測定値によって、導電率計（ＣＩ）２で測定した導電率の補償を行う。、符号ＡＮは分析器、符号ＰＬＣは本発明の種々の演算をおこなう中央処理装置、ＣＤＡはクリーンドライエアーであり、これを演算手段６に導入することで、演算手段６の内部環境を演算に好適なものにしている。また、他の管路要素は、一般の管路記号を用いたもので、周知なものである。
【００４９】
また図中、実線は管路あるいは現像液、純水の流れを示し、点線は情報の流れを示し、二点鎖線は各ユニットの範囲を仮想的に示すものである。
【００５０】
この装置１０Ａでは、測定ユニット５において、この装置１０Ａで管理された現像液を用いる塗布／現像装置Ｍ／Ｃから現像液をポンプＰ１、ダンパーＤ、脱気装置（ＦＩＬ３）１の管路で常時取り入れ、導電率計（ＣＩ）２、超音波伝搬速度計（ＵＳ）３で現像液の導電率、超音波伝播速度を測定し、これらの値から分析器ＡＮでグラフ１を用いて、見かけ現像液濃度（ＴＭ１）と見かけ溶解レジスト濃度（ＰＲ１）とを算出する（図３のステップＳ１２）。測定後の現像液は、塗布／現像装置Ｍ／Ｃに戻される。
【００５１】
また、脱気装置（ＦＩＬ３）１を通過した現像液のうち、測定に適した微量の現像液がポンプＰ２によって吸光光度計４（ＵＶ−Ａｂｓ）に送られ、現像液の吸光度が測定され、この吸光度を用いて、演算手段６の中央処理装置ＰＬＣにおいて、図３のステップＳ１３からステップＳ１８の演算が行われて、炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）の影響を除去した実効現像液濃度（ＴＭ２）、実効溶解レジスト濃度（ＰＲ２）が算出される。
【００５２】
なお、吸光光度計４（ＵＶ−Ａｂｓ）へは、現像液（２．３８％ＤＶ）からの管路も接続されている。これは、吸光光度計４（ＵＶ−Ａｂｓ）のフォトセル（不図示）は濃い溶解レジスト濃度の現像液によって汚れて誤差を生じることが経年的にあるため、一定時間毎に、溶解レジストを含まない新しい現像液（２．３８％ＤＶ）で洗浄して、零点較正（キャリブレーション）を行うためである。
【００５３】
上記のデータを用いて、演算手段６の中央処理装置ＰＬＣによって、空気バルブＡＶ３の開閉が制御され、現像液（２．３８％ＤＶ）の塗布／現像装置Ｍ／Ｃへの供給制御、また、空気バルブＡＶ４の開閉が制御され、現像原液（２５％ＤＶ）の塗布／現像装置Ｍ／Ｃへの供給制御が行われる。
【００５４】
また、演算手段６で得られた炭酸塩濃度（ＴＭＡＣ１）、実効現像液濃度（ＴＭ２）、実効溶解レジスト濃度（ＰＲ２）などのデータは、塗布／現像装置Ｍ／Ｃで利用され、パソコンに送られて管理データの保存分析などに用いられる。
【００５５】
こうして、この装置１０では、上述した本発明のフォトレジスト用現像液管理方法用いて、導電率、超音波伝播速度、吸光度を含む、現像液の濃度管理の基礎となる特性値を測定する前にその現像液に含まれる気泡を除去しているので、精確な特性値の測定ができる。
【００５６】
また、炭酸塩の濃度を考慮して実効現像液濃度（ＴＭ２）、実効溶解レジスト濃度（ＰＲ２）を算出しているので、その濃度には、炭酸塩の影響が除去され、より精確な濃度となっており、この濃度を用いて、新しい現像液や現像原液、純水の供給制御を行っているので、現像液濃度をより精確に維持することができ、現像感度の維持をより高精度で行うことができる。
【００５７】
本発明の管理装置が適用可能な現像液は、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリの単独又は混合物からなる無機アルカリ水溶液、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）、トリメチルモノエタノールアンモニウムハイドロオキサイド（コリン）などの有機アルカリ水溶液のいずれかを現像原液とするものである。これらの現像液は、フォトレジストを溶解可能で、特性値の測定に気泡が影響を与え、炭酸ガスとの化合が問題となるもので、本発明の脱気装置、管理装置の効果が好適に発揮される。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明のフォトレジスト用現像液管理方法、脱気装置、管理装置は、液晶基板製造工程やプリント基板製造、半導体基板製造工程等において使用さるフォトレジスト（感光性有機樹脂）用の現像液の濃度の管理に好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明のフォトレジスト用現像液管理方法の一例の処理手順を示すフローチャート
【図２】本発明のフォトレジスト用現像液脱気装置を備えた現像液管理装置の一例を示すシステム図
【図３】本発明のフォトレジスト用現像液管理方法の他例の処理手順を示すフローチャート
【図４】図３のフォトレジスト用現像液管理方法で用いられるグラフ１を示す図
【図５】（ａ）は図３のフォトレジスト用現像液管理方法で用いられるグラフ２を示す図、（ｂ）は図３のフォトレジスト用現像液管理方法で用いられるグラフ３を示す図
【図６】図３のフォトレジスト用現像液管理方法で用いられるグラフ４を示す図
【図７】図３のフォトレジスト用現像液管理方法で用いられるグラフ５を示す図
【図８】本発明のフォトレジスト用現像液脱気装置を備えた現像液管理装置の他例を示す管路系統図
【符号の説明】
【００６０】
１            フォトレジスト用現像液脱気装置
２            導電率計
３            超音波伝搬速度計
４            吸光光度計
５            測定ユニット
６            演算手段
１０、１０Ａ    フォトレジスト用現像液管理装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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