(57)【要約】【課題】  高い研磨速度を維持しながら且つ表面欠陥のない高品質の研磨面を生ぜしめる研磨用組成物を提供すること。【解決手段】  水、研磨砥粒、研磨促進剤、及び研磨砥粒に対して１次粒子どうしの直径比で１／２〜１／１０００の微細結晶粉末である研磨補助砥粒を含有することを特徴とする研磨用組成物。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
水、研磨砥粒、研磨促進剤、及び研磨砥粒に対して１次粒子どうしの直径比で１／２〜１／１０００の微細結晶粉末である研磨補助砥粒を含有することを特徴とする研磨用組成物。
【請求項２】
研磨補助砥粒の１次結晶径が、０．００５μｍ〜０．０７μｍの範囲である請求項１に記載の研磨用組成物。
【請求項３】
研磨補助砥粒の２次粒子の平均径が０．０５μｍ〜８μｍの範囲である請求項１又は２に記載の研磨用組成物。
【請求項４】
研磨補助砥粒の比表面積が２０〜２５０m2／ｇである請求項１〜３のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項５】
研磨補助砥粒の含有量が０．１〜２０質量％の範囲である請求項１〜４のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項６】
研磨補助砥粒が、アンモニウム明礬法、アンモニウムドーソナイト法、金属アルミニウムを出発原料とするアルミニウムアルコキシド法、及び火花放電法で生成するアルミナ、ヒュームドアルミナ及び／又はベーマイド・擬ベーマイト・バイヤライトから生成する微細結晶アルミナである請求項１〜５のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項７】
研磨砥粒の１次結晶径の平均径が０．１〜５μｍの範囲である請求項１〜６のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項８】
研磨砥粒の２次粒子の平均径が０．３〜５μｍの範囲である請求項１〜７のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項９】
研磨砥粒が、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、セリア、カルシア、マグネシア、酸化マンガン、酸化鉄から選ばれた少なくとも１種を含む請求項１〜８のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項１０】
研磨砥粒が、αアルミナを含む請求項１〜９のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項１１】
研磨砥粒が、１次結晶が０．５μｍ以下、比表面積（BET値）が６〜１５m2／ｇのギブサイト系αアルミナを含む請求項１〜１０のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項１２】
研磨砥粒と研磨補助砥粒が同一材質の砥粒である請求項１〜１１のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項１３】
研磨砥粒の含有量が１〜３５質量％の範囲である請求項１〜１２のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項１４】
研磨促進剤が、有機酸、無機酸塩、有機酸と有機酸塩との組合せ、有機酸と無機酸塩との組合せ、アルミニウム塩のゾル化生成物、及び、有機ホスホン酸キレート性化合物のうち少なくとも一種類を含有する請求項１〜１３のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項１５】
有機酸、無機酸塩、有機酸と有機酸塩との組合せ、及び有機酸と無機酸塩との組合せのうち少なくとも一種以上の研磨促進剤の含有量が０．０１〜１０質量％の範囲である請求項１４記載の研磨用組成物。
【請求項１６】
アルミニウム塩のゾル化生成物又は有機ホスホン酸キレート性化合物の含有量が０．０１〜５質量％の範囲である請求項１４記載の研磨用組成物。
【請求項１７】
ｐＨが２〜６の範囲である請求項１〜１６のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項１８】
さらに表面改質剤として、周期表第５族もしくは第６族の非金属を含有する無機酸、またはヒドロキシアルキルアルキルセルロースを含有する請求項１〜１７のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【請求項１９】
表面改質剤が、スルファミン酸、リン酸、硝酸、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、及びエチルヒドロキシエチルセルロースのうち少なくとも一種類を含有する請求項１８記載の研磨用組成物。
【請求項２０】
希釈して請求項１〜１９のいずれか１項に記載の研磨用組成物となる組成物。
【請求項２１】
請求項２０記載の組成物を輸送または保管用の組成物として用いる方法。
【請求項２２】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の組成物を用いて基板を研磨する研磨方法。
【請求項２３】
研磨時の濃度より高い成分濃度で組成物を調製し、濃度を希釈して請求項１〜１９のいずれか１項に記載の研磨用組成物とし、研磨に使用することを特徴とする研磨方法。
【請求項２４】
請求項２２または２３に記載の方法を用いた基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属、プラスチック、ガラス等を精密研磨仕上げするのに用いられる研磨用組成物と研磨方法に関し、詳細にはコンピューターのハードディスクドライブに組込まれる磁気ディスクの研磨用組成物および研磨方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年急激な高磁気記憶密度化と小口径化に伴い、ハードディスクドライブでの磁気ヘッドと磁気ディスクの間隙、いわゆるフライングハイトをより狭くすることにより記憶密度をより高くすることができるため、それに対応できるより高品質な仕上げ面を持つディスクに対する絶え間ない要求があり、これに応えるべく種々の開発が行われてきた。
【０００３】
この高密度化は最近とみに進み、現在の４０ＧＢから６０ＧＢ，８０ＧＢへと進んでゆく中で、研磨剤への要求も更にエスカレートしており、その要求項目は研磨レートに始まって、低面粗度化、ノン表面欠陥（微小ピット、微小突起、微小スクラッチ）、広域的並びに局所的ウネリの低減、端面縁ダレ防止、ディスク面への研磨砥粒粒子の付着や面汚れ防止、高洗浄性等多岐にわたっている。
【０００４】
上記研磨用組成物としては、従来より、研磨速度を向上させ、しかも高品質の表面を得るための研磨用組成物が、種々提案されている。
【０００５】
例えば、研磨時の最重要特性のひとつである研磨速度を高く維持しつつ、しかもスクラッチ、ピット、突起等の欠陥や研磨傷を生じ難い高品質な研磨面を得るための組成物として、特許文献１の硝酸アルミニウム、を始めとした各種の無機酸やそれらの塩が研磨促進剤として提案され、また面精度向上要求に沿って研磨面の粗さをより小さく仕上げるのに有効なものとして、特許文献２のグルコン酸、乳酸、その後の公報で多種類の有機酸系エッチャントが提案されてきた。更に上述の高能率で且つ表面欠陥のない高品質の研磨面を得るのに有効な研磨用組成物として、特許文献３のベーマイトアルミナゾルやコロイダルアルミナを添加してなる研磨用組成物や特許文献４のキレート化合物も研磨促進剤として提案されてきた。又ベーマイトゾルやコロイダルアルミナは同時に表面改質剤としての効果もあるが、別な意味での表面改質を目的とする縁ダレ防止剤として特許文献５にはポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル等のヒドロキシ高分子重合体が提案されている。
【０００６】
一方研磨砥粒としては、各種の結晶形態を有するアルミナ、チタニア、セリア、ジルコニア、シリカ等が提案されているなかで、αアルミナが主に使用されてきているが、特許文献６ではαアルミナと中間アルミナと縁ダレ防止剤を組み合わせて提案している。
【０００７】
しかしながら、急速に発展するコンピューターのハードの分野にあっては、より記録密度を高くする、より高品質な仕上げ面を持つ基板を供給する事に対する絶え間ない強い要求があり、今後の厳しい品質要求項目（レート、面質、縁ダレ等）をすべて満足できるであろうものが得られているわけではない。
【０００８】
【特許文献１】特開昭６２−２５１８７号公報
【特許文献２】特開平２−８４４８５号公報
【特許文献３】特開平１−１８８２６４号公報
【特許文献４】特開平１１−９２７４９号公報
【特許文献５】特開２００２−１６７５７５号公報
【特許文献６】特開２００２−３０２７３号公報
【特許文献７】特開２００２−２０７３２号公報
【特許文献８】特開２００１−１３１５３５号公報
【特許文献９】ＷＯ０１／２３４８５号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
前記のように記録密度を高くするためには、ディスクの平面度や平坦度が良く、面粗さが小さく、ピット、突起、スクラッチ、ウネリ、更にはディスク外周端部に生じる縁ダレが無い事が必要であり、こうした高品質に仕上げることのできるより優れた研磨用組成物が求められている。
【００１０】
本発明はこれらの要求に応えるため、高い研磨速度を達成するとともに、表面欠陥のない高品質の基板研磨面を生ぜしめる研磨用組成物を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決し得た本発明の研磨用組成物は、水、研磨砥粒、微細結晶粉末、及び１種以上の研磨促進剤を含有するところに要旨を有するものである。本発明は下記にある。
【００１２】
（１）水、研磨砥粒、研磨促進剤、及び研磨砥粒に対して１次粒子どうしの直径比で１／２〜１／１０００の微細結晶粉末である研磨補助砥粒を含有することを特徴とする研磨用組成物。
【００１３】
（２）研磨補助砥粒の１次結晶径が０．００５μｍ〜０．０７μｍの範囲である上記（１）に記載の研磨用組成物。
【００１４】
（３）研磨補助砥粒２次粒子の平均径が０．０５μｍ〜８μｍの範囲である上記（１）又は（２）に記載の研磨用組成物。
（４）研磨補助砥粒の比表面積が２０〜２５０m2／ｇである上記（１）〜（３）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００１５】
（５）研磨補助砥粒の含有量が０．１〜２０質量％の範囲である上記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００１６】
（６）研磨補助砥粒が、アンモニウム明礬法、アンモニウムドーソナイト法、金属アルミニウムを出発原料とするアルミニウムアルコキシド法、及び火花放電法で生成するアルミナ、ヒュームドアルミナ及び／又はベーマイド・擬ベーマイト・バイヤライトから生成する微細結晶アルミナである上記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００１７】
（７）研磨砥粒の１次結晶径の平均径が０．１〜５μｍの範囲である上記（１）〜（６）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００１８】
（８）研磨砥粒の２次粒子の平均径が０．３〜５μｍの範囲である上記（１）〜（７）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００１９】
（９）研磨砥粒が、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、セリア、カルシア、マグネシア、酸化マンガン、酸化鉄から選ばれた少なくとも１種を含む上記（１）〜（８）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００２０】
（１０）研磨砥粒が、αアルミナを含む上記（１）〜（９）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００２１】
（１１）研磨砥粒が、１次結晶が０．５μｍ以下、比表面積（BET値）が６〜１５m2／ｇのギブサイト系αアルミナを含む上記（１）〜（１０）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００２２】
（１２）研磨砥粒と研磨補助砥粒が同一材質の砥粒である上記（１）〜（１１）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００２３】
（１３）研磨砥粒の含有量が１〜３５質量％の範囲である上記（１）〜（１２）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００２４】
（１４）研磨促進剤が、有機酸、無機酸塩、有機酸と有機酸塩との組合せ、有機酸と無機酸塩との組合せ、アルミニウム塩のゾル化生成物、及び、有機ホスホン酸キレート性化合物のうち少なくとも一種類を含有する上記（１）〜（１３）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００２５】
（１５）有機酸、無機酸塩、有機酸と有機酸塩との組合せ、及び有機酸と無機酸塩との組合せのうち少なくとも一種の研磨促進剤の含有量が０．０１〜１０質量％の範囲である上記（１４）記載の研磨用組成物。
【００２６】
（１６）アルミニウム塩のゾル化生成物又は有機ホスホン酸キレート性化合物の含有量が０．０１〜５質量％の範囲である上記（１４）記載の研磨用組成物。
【００２７】
（１７）ｐＨが２〜６の範囲である上記（１）〜（１６）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００２８】
（１８）さらに表面改質剤として、周期表第５族もしくは第６族の非金属を含有する無機酸、またはドロキシアルキルアルキルセルロースを含有する上記（１）〜（１７）のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
【００２９】
（１９）表面改質剤が、スルファミン酸、リン酸、硝酸、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルメチルセルロース、及びエチルヒドロキシエチルセルロースのうち少なくとも一種類を含有する上記（１８）記載の研磨用組成物。
【００３０】
（２０）希釈して上記（１）〜（１９）のいずれか１項に記載の研磨用組成物となる組成物。
【００３１】
（２１）上記（２０）記載の組成物を輸送または保管用の組成物として用いる方法。
【００３２】
（２２）上記（１）〜（２１）のいずれか１項に記載の組成物を用いて基板を研磨する研磨方法。
【００３３】
（２３）研磨時の濃度より高い成分濃度で組成物を調製し、濃度を希釈して上記（１）〜（１９）のいずれか１項に記載の研磨用組成物とし、研磨に使用することを特徴とする研磨方法。
【００３４】
（２４）上記（２２）または（２３）に記載の方法を用いた基板の製造方法。
【発明の効果】
【００３５】
本発明の研磨用組成物は、上記の様に構成されているので、研磨速度が速く、しかも表面欠陥のない高品質な鏡面仕上げ面を得る事ができる点で非常に有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
本発明による研磨用組成物は、水、研磨砥粒、研磨促進剤、および該研磨砥粒に対して１次粒子どうしの直径比１／２〜１／１０００、好ましくは２／５〜１／１００、さらに好ましくは１／３〜１／３０の微細結晶粉末である研磨補助砥粒を含有する。研磨補助砥粒は、スラリー状の研磨用組成物中で研磨砥粒の研磨機能を顕著に補助する。
【００３７】
その研磨補助砥粒による研磨補助の機構は、研磨補助砥粒である微細結晶砥粒が研磨面と研磨砥粒との間に介在することにより、研磨砥粒の衝撃を受けて、もしくは研磨砥粒に押圧されて、その研磨砥粒の運動エネルギーの伝達されるなど、研磨砥粒の影響を受けるものと考えられる。その結果として、研磨補助砥粒が研磨面に対して直接メカニカルなエネルギーを集中させて、鋭利に作用する機構が働くものと推定される。
【００３８】
本発明による研磨用組成物の研磨補助砥粒は、その１次結晶径が０．００５μｍ〜０．０７μｍの範囲が好ましい。
【００３９】
本発明による研磨用組成物の研磨補助砥粒は、２次粒子の平均径が０．０５μｍ〜８μｍの範囲であることが好ましい。
研磨補助砥粒は研磨面の凹凸に対して十分に微細であるから、研磨面に対して直接メカニカルなエネルギーを集中させて、鋭利に研磨作用する。
【００４０】
本発明による研磨用組成物の研磨補助砥粒は、研磨用組成物に対して含有量が０．１〜２０質量％の範囲であることが好ましい。この範囲ならば、研磨補助砥粒は研磨面に対して必要、かつ十分に分布されるから、研磨面に対して直接メカニカルなエネルギーを集中させて、鋭利に研磨作用する。
【００４１】
本発明の研磨組成物で使用する研磨砥粒としては、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア、セリア、カルシア、マグネシア、酸化マンガン、酸化鉄等が使用されるが、特にアルミナの使用が推奨される。
【００４２】
更に、ここで使用されるアルミナは、α，θ，γ等結晶形にとらわれないが、ベースの研磨砥粒としては研磨速度の高いαアルミナが好ましい。また気孔の少ない緻密な結晶構造から成り立ち且つα１次結晶径としては研磨能力を保有する限りは小さいほど好ましい。１次結晶径は、平均径で０．１〜５μｍの範囲であり、強度と緻密さを兼ね備えた０．１〜０．５μｍの範囲が特に好ましい。
【００４３】
また１次結晶が集合することによって形成される２次粒子の平均径は０．３〜５．０μｍの範囲であり、好ましくは０．５〜３μｍの範囲である。その含有量は１〜３５質量％の範囲であり、好ましくは５〜３０質量％である。
【００４４】
又研磨砥粒として用いるアルミナは平均粒子径の細かい微粒水酸化アルミニウム（ギブサイトやバイヤライト）やベーマイト、擬ベーマイト等の焼成後に気孔の少ない緻密な結晶構造に仕上がる水酸化アルミニウムを適当な焼成温度で焼成して作ることもできる。
【００４５】
具体的にはベーマイト系水酸化アルミニウムの焼成品は結晶水が少ない分ギブサイト系水酸化アルミニウムの焼成品より緻密な結晶構造を成し、研磨レートを上げる。一方経済的には１次結晶が０．５μｍ以下、比表面積（BET値）６m2／ｇ以上１５m2／ｇ程度までのギブサイト系αアルミナが特に好ましい。
【００４６】
尚１次結晶径は走査型電子顕微鏡（SEM）写真の数値解析平均径から、又２次粒子の平均径はレーザー回折散乱式粒度分布測定機（例えば島津SALD2000J）やレーザードップラー回折式粒度分布測定機（例えば、マイクロトラックUPA）等で計測し、求めることが出来る。
【００４７】
研磨補助砥粒としての微細結晶粉末は、上記研磨砥粒と同一材質のものでも、異種材質のものを使用してもよいが、同一材質のものを使用するのがより好ましく、特にアルミナが好ましい。
【００４８】
更に、ここで使用される研磨補助砥粒は、アルミナの場合は、α，θ，χ等結晶形にとらわれないが、上記のベース研磨材と協力して面粗度と面質を整える目的から１次結晶径レベルに容易に解離するものが良い。１次結晶径としては０．００５μｍ〜０．０７μｍの範囲であり、０．０１〜０．０５μｍの範囲が特に好ましい。結晶形としてはα，θ，κ，δ，γが好ましく、特にθ，δ，γがより好ましい。その比表面積（BET値）は２０〜２５０m2／gが好ましく、特に６０〜１００m2／gがより好ましい。また２次粒子の平均径は０．０５〜８μｍの範囲であり、好ましくは０．５〜５μｍの範囲である。更に、含有量は０．１〜２０質量％の範囲であり、好ましくは０．５〜１０質量％である。
【００４９】
尚、１次結晶径ＤはＢＥＴ比表面積計（例えば島津フローソーブII）で測定した比表面積Ｓと粒子密度ρから次式により算出される（Ｄ［μm］=６／（ρ［ｇ/ｃｍ3］×Ｓ［ｍ2/ｇ］））。又２次粒子の平均径は上記のレーザー回折散乱式粒度分布測定機（例えば島津SALD2000J）やレーザードプラー回折式粒度分布測定機（マイクロトラックUPA）等で計測し、求めることが出来る。
【００５０】
研磨補助砥粒はスラリー状の研磨用組成物中で研磨砥粒の研磨機能を補助する。すなわち、微小径の微細結晶砥粒が研磨砥粒に含有されるとき、その微細結晶砥粒が研磨面に直接作用して研磨作用を顕著に向上させ、しかも研磨面の品質に悪影響を与えないことが確認されるのである。
【００５１】
この微細結晶砥粒の作用について推定するとき、研磨砥粒について先ず次の事実が想起される。つまり、基板を研磨する際において、研磨砥粒は撹拌運動によるメカニカルなエネルギーを与えられて研磨面に作用するものである。そのため研磨砥粒の直径を微小にすることは限界がある。研磨砥粒自体は研磨面の凹凸に対して相対的に粗大とならざるを得ないのである。
【００５２】
その研磨砥粒に対して研磨補助砥粒は、その直径が著しく微小であるため、それ自体研磨砥粒としての運動エネルギーは微小で研磨作用力が小さい。その反面、研磨補助砥粒は微小半径であるため研磨面に対して鋭利に作用すると考えられる。
【００５３】
しかるに、この研磨補助砥粒である微細結晶砥粒が研磨面と研磨砥粒との間に介在するとき、研磨砥粒の衝撃を受けて、もしくは研磨砥粒に押圧されて、その研磨砥粒の運動エネルギーが伝達されるなど、研磨砥粒の影響を受ける。その結果、研磨補助砥粒は研磨面に対して直接メカニカルなエネルギーを集中させて、鋭利に作用すると推定される。この研磨補助砥粒は研磨面と研磨砥粒との間に介在することにより、研磨砥粒の作用を補助する。
【００５４】
また、研磨面の凹凸のうち、凸（山）部に対してはその研磨補助砥粒の研磨作用力が集中するのに対して、凹（谷）部には研磨補助砥粒が埋没して研磨面を被覆する。そのため、凹（谷）部は過剰に研磨されることが防止される。
【００５５】
本発明の研磨用組成物によれば、Ｎｉ−Ｐ等がめっきされているアルミニウム磁気ディスク基板面の研磨にあたりその研磨速度を顕著に増加させるとともに、表面欠陥がなく面精度が高く縁ダレやウネリを減少させた高品位の研磨面が得られるのである。
【００５６】
本発明に用いられる微細結晶アルミナとして特に好ましいものに、アンモニウム明礬法のアルミナ（例えば、昭和電工製ＵＡシリーズ、バイカロックスＣＲシリーズ）、アンモニウムドーソナイト法のアルミナ（例えば、大明化学製ＴＭシリーズ）、金属アルミニウムから出発するアルミニウムアルコキシド法のアルミナ（例えば、住友化学製ＡＫＰシリーズ）、火花放電法のアルミナ（例えば、岩谷化学製Ｒ，ＲＡ，ＲＧ，ＲＫグレード等の高純度アルミナ）、ヒュームドアルミナ（例えば、昭和電工製ＵＦＡシリーズ、日本アエロジル製等のアルミナ）、及びベーマイト、擬ベーマイトまたはバイヤライト系水酸化アルミニウムを焼成して生成する誘導体アルミナ（例えば、サソール製、アルコア化成製、ＵＯＰ製バーサルアルミナ等のアルミナ）が挙げられる。
【００５７】
本発明の研磨組成物の研磨促進剤として、有機酸又は無機酸塩を使用する事が出来る。
【００５８】
有機酸としては、好ましくは、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸、グリシン、アスパラギン酸、酒石酸、グルコン酸、ぺプトグルコン酸、イミノジ酢酸、フマル酸からなる群から少なくとも１種を選ぶことができ、また、無機酸塩としては、好ましくは、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム、硫酸ニッケル、硫酸アルミニウム、硫酸アンモニウム、硝酸ニッケル、硝酸アルミニウム、硝酸アンモニウム、硝酸第二鉄、塩化アルミニウム、スルファミン酸ニッケルからなる群から少なくとも１種を選ぶことができる。有機酸または無機酸塩の含有量は０．０１〜１０質量％の範囲が好ましい。少な過ぎると研磨促進剤としての効果が少なく、多過ぎるとピット、突起が発生して研磨面の品質が低下することがある。また、アルミナ粒子の凝集が発生するなど液性にも好ましくない影響が生じることがある。
【００５９】
また、上記研磨促進剤として、有機酸と有機酸塩、又は有機酸と無機酸塩を組み合せて使用することができる。
【００６０】
有機酸としては前記と同じくマロン酸、コハク酸、アジピン酸、乳酸、リンゴ酸、クエン酸、グリシン、アスパラギン酸、酒石酸、グルコン酸、ぺプトグルコン酸、イミノジ酢酸、フマル酸からなる群から少なくとも１種を選ぶことができ、有機酸塩は前記有機酸のカリウム塩、ナトリウム塩、アンモニウム塩からなる群から少なくとも１種を選ぶことができる。また、無機酸塩としては前記と同じく、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム、硫酸ニッケル、硫酸アルミニウム、硫酸アンモニウム、硝酸ニッケル、硝酸アルミニウム、硝酸アンモニウム、硝酸第二鉄、塩化アルミニウム、スルファミン酸ニッケルからなる群から少なくとも１種を選ぶことができる。有機酸と有機酸塩、または有機酸と無機酸塩のいずれの組合わせにおいても、合計含有量は研磨用組成物全体に対して０．０１〜１０質量％の範囲が好ましい。このうち有機酸の含有量は少なくとも０．００３質量％含有するのが特に好ましい。該混合系の研磨促進剤の場合は、０．０１質量％より少ない場合には研磨促進剤としての効果が少なく、１０質量％を越えると研磨組成物の粘性が高くなりすぎたり、アルミナ粒子の凝集が発生するなど液性に好ましくない影響が生じることがある。また研磨面にピット、突起が発生して品質の低下を招くことがある。尚、有機酸と有機酸塩の組合わせの場合は、同種の酸の組合わせのほうが研磨特性によい結果が得られやすい。
【００６１】
また、上記研磨促進剤として、アルミニウム塩のゾル化生成物（例えば特許文献７）が使用できる。具体的にはアルミニウム塩（例えば、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム、リン酸アルミニウム、及びほう酸アルミニウム等の無機酸アルミニウム塩、あるいは酢酸アルミニウム、乳酸アルミニウム、及びステアリン酸アルミニウム等の有機酸アルミニウム塩など）の含水物または無水物のうちのどれか一種を溶解した水溶液に、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、モノメチルアミン等のアルキルアミンやトリエタノールアミンを代表とするアルカノールアミンなどの有機アミン化合物、グリシン等のアミノカルボン酸、イミノジ酢酸等のアミン系キレート化合物、エチレンジアミンテトラアセティックアシド等のアミノカルボン酸系キレート化合物、ジエチレントリアミンペンタメチレンフォスフォニックアシドやアミノトリスメチレンフォスフォニックアシド等のアミノフォスフォン酸系キレート化合物からなる群のうちの一種を、高剪断攪拌して得られるゾル化生成物であって、アルミニウム塩に、アンモニアやアミン等水と反応して遊離する水酸基を発生させ易い物質または末端基に水酸基を含有する化合物や水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど水酸基を含有する化合物を混合すると連鎖し生成する。
【００６２】
アルミニウム塩のゾル化生成物の研磨用組成物全体に占める含有量は、０．０１〜５質量％の範囲が好ましく、より好ましくは０．０５〜２質量％である。少な過ぎると効果が少なく、多すぎるとゲル化したり、ピット、突起等の表面欠陥が発生することがある。
【００６３】
また、上記研磨促進剤として、有機ホスホン酸キレート性化合物（例えば、特許文献８）が使用できる。具体的にはジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸、ホスホノブタントリカルボン酸、ホスホノヒドロキシ酢酸、ヒドロキシエチルジメチルホスホン酸、アミノトリスメチレンホスホン酸、ヒドロキシエタンジホスホン酸、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ヘキサメチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、及びこれらの塩よりなる群から少なくとも一種が選択される。
【００６４】
有機ホスホン酸キレート性化合物の研磨用組成物全体に占める含有量は、０．０１〜５質量％の範囲が好ましく、より好ましくは０．０５〜２質量％である。少な過ぎると研磨速度向上効果がなく、多すぎるとピット、突起等の表面欠陥が発生する。
【００６５】
本発明の研磨用組成物には、更に表面改質剤として周期表第５族、第６族の非金属元素を含有する無機酸を含有してよい。ここで周期表第５族、第６族の非金属元素を含有する無機酸の例としてはスルファミン酸、リン酸、硝酸等があげられる。これらの無機酸は適量添加することによりピット、突起の発生を抑え、面質を向上させる。本無機酸の研磨用組成物全体に占める含有量は、０．０１〜５質量％の範囲が好ましく、より好ましくは０．０５〜２質量％である。少な過ぎても多過ぎても効果が少なくなり、多過ぎると研磨速度が低下することがある。
【００６６】
また、表面改質剤（縁ダレ防止剤）として、ヒドロキシアルキルアルキルセルロース（以下ＨＲＲＣと呼ぶ、例えば特許文献９）を使用することができる。例えば、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ）、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）、ヒドロキシエチルメチルセルロース（ＨＥＭＣ）、及びエチルヒドロキシエチルセルロース（ＥＨＥＣ）が挙げられる。本ＨＲＲＣの研磨用組成物全体に占める含有量は、０．００１〜２質量％の範囲が好ましく、より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。少な過ぎると縁ダレ改善効果が少なく、多すぎると研磨速度を下げることがある。
【００６７】
本発明の研磨用組成物中には、必要に応じて、上記以外の添加剤としてアルミナゾル、界面活性剤、洗浄剤、防錆剤、防腐剤、ｐＨ調整剤、増粘剤、更にはその他のセルロース類や表面改質剤等を添加する事ができる。
【００６８】
尚、上述した本発明の研磨用組成物を構成する種々の成分濃度は基板を研磨するときの好ましい濃度である。従って、本発明研磨用組成物の調製時には、上記濃度より濃厚な組成物を調製し、使用に際して上記濃度の範囲内に薄めて使用することもできる。
また、この濃厚な組成物は、輸送または保管用組成物として好ましく用いることができる。
【００６９】
本発明の研磨用組成物のＰＨは２〜６の範囲が好ましい。
【００７０】
更に、上記研磨用組成物を用いて基板を研磨する方法並びに上記研磨用組成物を用いて研磨された基板も本発明の範囲内に包含される。
【実施例】
【００７１】
以下、本発明の実施について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではなく、前・後記の趣旨を逸脱しない範囲で変更実施することは全て本発明の技術範囲に包含される。
【００７２】
以下の要領で研磨用組成物を調製した後、研磨特性を評価した。
【００７３】
（研磨用組成物の調製）
焼成炉にて水酸化アルミニウムを大気中でおよそ１２００℃に加熱処理してαアルミナを得た。又、市販のアルミナから出発して、これらを粉砕、湿式分級して２次粒子平均粒度０．７μｍのベース材アルミナ試料を作成した。別に高純度アルミナあるいは水酸化アルミニウムを適度な温度に假焼して生成した微細結晶アルミナを用意した。別途、アルミニウム塩とアンモニア水を組合わせて配合し、高剪断攪拌してアルミニウム塩のゾル化生成物を作成した。更に研磨用組成物試料として、それぞれ第１表〜第３表の成分組成になるように、水、アルミナ、微細結晶アルミナ、有機酸及び有機酸塩等の研磨促進剤、アルミニウム塩のゾル化生成物、キレート剤、周期表第５族及び第６族の元素の無機酸、水に溶解したセルロース系表面改質剤、を順次、秤量、配合、混合して、研磨試料に供した。
【００７４】
研磨条件及び研磨特性の評価方法を以下に示す。
【００７５】
（研磨条件）
被研磨ワークとしては、Ｎｉ−Ｐを無電解メッキした３．５インチアルミディスクを用い、研磨試験並びにディスク評価は下記条件で行った。
【００７６】
研磨試験条件
研磨試験機          ９Ｂ両面研磨機（システム精工(株)製）
研磨パッド          Ｈ９９００Ｓ
定盤回転数          上定盤２８rpm、下定盤４５rpm
スラリー供給量      １００ml／min
研磨時間            ５min
加工圧力            ８０ｇ／cm2
【００７７】
（ディスクの評価方法）
研磨速度：研磨前後のディスクの減少質量より算出
研磨面品質：表面欠陥（ピット、突起、スクラッチ）は顕微鏡観察（ニコン微分干渉型×１００）によりディスク５枚の研磨面表裏を十文字に観察し、欠陥のないものを良好（欠陥の個数０をＡ、１〜５をＢ）、６以上をＣ（不良）とした。
【００７８】
表面粗さ：テンコールＰ−１２
縁ダレ量：サーフコーダーＳＥ-３０Ｄ（コサカ研究所製）により測定。図１を参照すると、研磨したハードディスク表面の外周部分をサーフコーダーでトレースした描線Ｓの外周端に沿って垂線ｈを設け、ｈを基準としてディスクの中心に向かい描線上の３０００μｍの点をＡ、２０００μｍの点をＢとした時Ａ−Ｂを通る直線の延長線で垂線ｈから５００μｍの点をＣとし、点Ｃに垂線ｋを設け該垂線ｋと描線Ｓの交点をＤとし、Ｃ−Ｄ間の長さｔを縁ダレ量として測定した。
【００７９】
研磨試験の評価結果として第１表及び第２表に本発明の実施例を、第３表に比較例をそれぞれ示した。
【００８０】
【表１】
2005023313.tif 000002
【００８１】
【表２】
2005023313.tif 000003
【００８２】
これらの表中でＡ-１はギブサイト系のαアルミナ、Ａ-２はベ−マイト系のαアルミナでる。ＵＡγ，ＵＡαはそれぞれ昭和電工製アンモニウム明礬法アルミナのγとα、ＣＲγはバイコースキー製同法のγ、ＵＦＡは昭和電工製フュームドアルミナのγ、ＡＫＰγは住友化学製アルミニウムアルコキシド法のγ、ＲＧγは岩谷化学の火花放電法のγ、Ａ-２γはベ―マイトの焼成γ、Ａ-１θはギブサイトの焼成θアルミナである。
【００８３】
【表３】
2005023313.tif 000004
【００８４】
本表中でＡ-１，Ａ-３は第１表及び第２表と同じギブサイト系のαアルミナ、同じくＡ-２はベ−マイト系のαアルミナである。
【００８５】
上記第１表及び第２表は本発明の要件を満足する実施例１〜１３の結果を示したものであるが、いずれも表面欠陥、面粗度、縁ダレ等の表面性状に優れた研磨面が得られると共に、特に研磨速度が速くなっていることが分かる。これに対して、第３表に示す如く、微細結晶粉末を含有しない比較例１〜８は、いずれも研磨速度が遅く、表面性状にも劣るものであった。
【００８６】
又大きい結晶径を有する粉末を含有した比較例４の場合は、これを含有しないものより逆に研磨速度を低下させている。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】縁ダレ量を規定するための説明図である。
【符号の説明】
【００８８】
Ｓ…サーフコーダーによるディスク外周端近傍の描線
ｈ…ディスク外周端部に接する垂線
Ａ…垂線ｈより描線上の３０００μｍに位置する点
Ｂ…垂線ｈより描線上の２０００μｍに位置する点
Ｃ…点Ａ、点Ｂ、を通る直線上で垂線ｈより５００μｍに位置する点
ｋ…点Ｃを通る垂線
Ｄ…垂線ｋと描線Ｓとの交点
ｔ…点Ｃと点Ｄ間の長さ（縁ダレ量）
【図１】
2005023313.tif 000005