(57)【要約】【課題】  製造歩留りを可能な限り向上させることが可能な液晶表示素子集合体の製造装置を提供する。【解決手段】  複数の反射型の画素電極８が所定の間隔で配列されている画素電極基板４と、前記画素電極基板に対向する面に透明電極を有する前記透明電極基板６との間に、所定の間隔を隔てて接合されて前記間隔に液晶を密封する液晶用空間部２６を形成してなる液晶表示素子の製造装置において、画素電極基板を透明電極基板に対して相対的に水平移動させて位置調整することができる移動機構５４と、画素電極基板と透明電極基板とを接合する際に透明電極基板の予め求められた欠陥部ＮＧ１が、画素電極基板の画像表示に関係を有さない表示無関係領域に対応して位置するように移動機構を制御する位置制御手段５６とを設けるように構成する。【選択図】  図１
2005165136.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の反射型の画素電極が所定の間隔で配列されている画素電極基板と、前記画素電極基板に対向する面に透明電極を有する前記透明電極基板との間に、所定の間隔を隔てて接合されて前記間隔に液晶を密封する液晶用空間部を形成してなる液晶表示素子の製造装置において、
前記画素電極基板を前記透明電極基板に対して相対的に水平移動させて位置調整することができる移動機構と、
前記画素電極基板と前記透明電極基板とを接合する際に前記透明電極基板の予め求められた欠陥部が、前記画素電極基板の画像表示に関係を有さない表示無関係領域に対応して位置するように前記移動機構を制御する位置制御手段と、
を設けるように構成したことを特徴とする液晶表示素子の製造装置。
【請求項２】
前記画素電極基板の動作不良エリアを検出する動作不良エリア検出手段と、
前記透明電極基板の欠陥部を検出する欠陥部検出手段とを更に有することを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子の製造装置。
【請求項３】
前記画素電極基板と前記透明電極基板との接合に先立って前記画像表示エリア上に液晶を滴下する液晶滴下手段を有することを特徴とする請求項１記載または２記載の液晶表示素子の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型の画素電極を有する液晶表示素子集合体の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プロジェクタやプロジェクションＴＶ等のプロジェクションディスプレイの映像表示部として、高解像度と高輝度化を実現し得る表示素子として、ＩＣシリコン基板とガラス基板を貼り合せ、その間に液晶を配したＬＣＯＳ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｏｎ  Ｓｉｌｉｃｏｎ）と呼ばれる反射型の液晶表示素子が注目され、実際に実用化されている。かかる反射型の液晶表示素子の製造装置及び製造方法に関する発明は、特許文献１及び２に開示されている。
図６はこの種の一般的な反射型の液晶表示素子の構成を示す図であり、図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は分解図を示し、図６（Ｃ）は拡大断面図を示す。
【０００３】
この反射型の液晶表示素子２は、例えばシリコン基板よりなる画素電極基板４と、これに接合される透明電極基板６とを有す。この画素電極基板４の表面には、多数の微細な反射型の画素電極８がマトリクス状に配列して形成されており、全体として１つの画像表示エリア１０となっている。この画像表示エリア１０のサイズは、例えば８ｍｍ×６ｍｍ〜２０ｍｍ×１５ｍｍ程度である。
この画素電極８の全面を覆うようにして後述する液晶を配向する配向膜１２（図６（Ｃ）参照）が形成され、また、各画素電極８の下部には、図示しない例えばＣ−ＭＯＳ型の半導体スイッチング回路が埋め込まれている。
【０００４】
上記透明電極基板６は、ガラス基板１４を有しており、入射光Ｌが入射する上面には反射防止膜１６が形成され、その反対側の下面には共通電極となる透明電極１８及び配向膜２０が形成されている。そして、透明電極基板６の配向膜２０と画素電極基板４の配向膜１２とを対向させて、上記画像表示エリア１０の略全周に塗布した接着剤２２により密封状態で両者を接合する。ここで上記接着剤２２中には、例えばシリカや樹脂等よりなる微小な球状のスペーサ２４が混入されており、画素電極基板４と透明電極基板６とは所定の間隔が隔てられて、この間に密封された液晶用空間部（「セルギャップ」とも称される）２６が形成され、この液晶空間部２６に液晶ＬＱが封入されることになる。このスペーサ２４のサイズは１〜４μｍ程度である。
図６（Ａ）に示す場合には、液晶注入口２８が形成されており、図６（Ｂ）に示す場合にはこの液晶注入口２８は形成されておらず、この差は後述するように製造方法の違いに依存する。
【０００５】
さて、このような構成において、透明電極基板６側の透明電極１８と各反射型の画素電極８との間に電圧が印加され、これにより液晶ＬＱが駆動される。ここにガラス基板１４側から光Ｌが入射して、液晶ＬＱによって変調を受ける。この変調の度合いは各画素毎でコントロールされてコントラストを有する画像となって画素電極８の表面で反射されて再度ガラス基板１４側へ出射することになる。この出射光をスクリーン等に投射して映像が写し出される。
【０００６】
ところで、上記したような液晶表示素子は、一般には、単体で製造されるのではなく、スループット向上のために複数個同時に形成される。図７は液晶表示素子が複数個集まった液晶表示素子集合体の製造途中に示す図である。図示するように、例えば直径が６インチ〜１２インチ程度の面積の大きなウエハよりなる画素電極基板４上に複数、例えばウエハサイズにもよるが十数個〜１００個程度の画像表示エリア１０が所定の間隔、例えば１〜２ｍｍの間隔を隔てて配列されており、この大きな画素電極基板４と、これと略同じサイズ、或いはそれ以上のサイズの透明電極基板６とを貼り合わせて接合することにより、液晶表示素子集合体を形成し、その後これより各液晶表示素子毎に切り出すようになっている。この場合、両基板４、６間で形成される各液晶用空間部２６（図６参照）のギャップは高精度で高い均一性が実現されており（特許文献１及び２）、高い生産性が得られている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−５１９７号公報
【特許文献２】特開２００３−１４９６５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、上記の大きいサイズの画素電極基板４においては実際上、動作不良の画像表示エリア（動作不良の画素電極を有する画像表示エリア）が存在し、製造歩留り低下の原因となっている。また、ガラス基板１４を含む透明電極基板６においても基板表面の欠陥部が原因となって液晶表示素子を形成した後において表示不良を引き起こし、歩留り低下の原因になる。これらの動作不良画素や透明電極基板６の表面の欠陥部は表示画像上、輝点や黒点と呼ばれる不良の原因となり、昨今のディスプレイの表示品位の向上から、不良度合いの許容仕様は益々厳しくなってきている。
これらの画像表示不良について鑑みると、特に、画素電極基板４の価格は透明電極基板６の数倍から数十倍であるため、透明電極基板６側の欠陥部により画素電極基板４の正常な画像表示エリア１０を不良ならしめることは、液晶表示素子の製造において大きな材料ロスとなり、この液晶表示素子の製造原価を引き上げる問題を有する。
【０００９】
従って、無欠陥の透明電極基板６を供給して液晶表示素子の製造を行えば良いが、無欠陥の透明電極基板６の供給を実現するにはこの透明電極基板６のスループットを落とすこととなり、この透明電極基板６のコストの大幅な上昇にならざるを得ない、という問題があった。
本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、製造歩留りを可能な限り向上させることが可能な液晶表示素子の製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、液晶表示素子の製造歩留りについて鋭意研究した結果、この種の液晶表示素子の製造コストを適正にするには、透明電極基板がある程度表面欠陥を有することを前提として、この液晶表示素子の製造の歩留りを如何に向上させるかを考慮するのが合理的であり、このことは、画素電極基板側でも全く同じことであるが、画素電極基板中の不良動作の画像表示エリアを原因とする透明電極基板側の材料のロスは、先に述べたように基板価格の関係から比較的少ないので、正常な画像表示エリアをできるだけ有効利用できるような工程を行う機構を装置に取り込むことにより製造歩留りを向上できる、という知見を得ることにより本発明に至ったものである。
【００１１】
すなわち、請求項１に係る発明は、複数の反射型の画素電極が所定の間隔で配列されている画素電極基板と、前記画素電極基板に対向する面に透明電極を有する前記透明電極基板との間に、所定の間隔を隔てて接合されて前記間隔に液晶を密封する液晶用空間部を形成してなる液晶表示素子の製造装置において、前記画素電極基板を前記透明電極基板に対して相対的に水平移動させて位置調整することができる移動機構と、前記画素電極基板と前記透明電極基板とを接合する際に前記透明電極基板の予め求められた欠陥部が、前記画素電極基板の画像表示に関係を有さない表示無関係領域に対応して位置するように前記移動機構を制御する位置制御手段と、を設けるように構成したことを特徴とする液晶表示素子の製造装置である。
【００１２】
この場合、例えば請求項２に規定するように、前記画素電極基板の動作不良エリアを検出する動作不良エリア検出手段と、前記透明電極基板の欠陥部を検出する欠陥部検出手段とを更に有する。
また例えば請求項３に規定するように、前記画素電極基板と前記透明電極基板との接合に先立って前記画像表示エリア上に液晶を滴下する液晶滴下手段を有する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の液晶表示素子の製造装置によれば、次のように優れた作用効果を発揮することができる。
複数の画像表示エリアを有する画素電極基板と透明電極基板とを貼り合わせて接合する際に、予め求めた透明電極基板の欠陥部が正常に動作する画像表示エリアに位置的に対応しないように相対的に面方向へ位置ずれさせて接合させることにより、製造歩留りを向上させることができ、この結果、製品コストを下げることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に、本発明に係る液晶表示素子の製造装置の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。
図１は本発明の液晶表示素子（集合体）の製造装置の第１実施例を示す概略構成図、図２は画素電極基板と透明電極基板を貼り合わせて接合する際の工程を示す図、図３は画素電極基板と透明電極基板を貼り合わせて接合する際の他の工程を示す図である。
本発明の液晶表示素子（集合体）の製造装置３０では、図７に示すような複数の画像表示エリア１０を有する画素電極基板４と透明電極基板６とを接合する際に、予め求めた透明電極基板の欠陥部が正常な画像表示エリアに位置的に対応しないうように一方の基板を面方向にシフトして位置ずれさせて貼り合わせ、製造歩留りを向上させるようにしたものである。
【００１５】
図１に示すように、この製造装置３０は、いわゆるインライン型の製造装置であり、この製造装置３０は、処理すべき画素電極基板４を待機させた後に搬入する搬入ステージ３２と、接着剤を塗布する塗布ステージ３４と、画素電極基板４と透明電極基板６とを実際に貼り合わせる貼り合わせステージ３６と、接着剤を硬化させるために紫外線を照射する紫外線照射ステージ３８と、貼り合わせにより製造した液晶表示素子集合体Ｍを搬出させるために待機させる搬出ステージ４０とを有している。上記各ステージ３２〜４０は、図示しない搬送機構を有しており、上記ステージ配列の順序で画素電極基板４を順次搬送して行く。
上記塗布ステージ３４、貼り合わせステージ３６、紫外線照射ステージ３８は、それぞれ個別に区画された区画室内に収容されている。そして、各区画室間及びその入口、或いは出口には、例えば開閉ドア４１がそれぞれ設けられている。特に、貼り合わせステージ３６の区画室は真空引き可能な密閉室になされており、その両側の開閉ドア４１は、気密性が良好な例えばゲートバルブにより形成される。
【００１６】
上記塗布ステージ３４には、画素電極基板４上の所望の位置にスペーサの混入された接着剤を塗布する塗布手段として例えば塗布用ディスペンサ４２が設けられている。この塗布用ディスペンサ４２は水平面内をＸ方向、及びこれに直交するＹ方向へ任意の位置へ移動可能になされており、また、塗布幅や塗布量を制御するための塗布制御部４４を有している。
本発明の特徴とする貼り合わせステージ３６では、まずこの区画室は真空ポンプ４６と圧力制御弁４８とを介設した排気系５０に接続されており、区画室内を所定の真空圧にできるようになっている。
【００１７】
そして、この貼り合わせステージ３６では、プレス機５２を形成する下定盤５２Ａと上定盤５２Ｂとを有しており、上記下定盤５２Ａ上には、水平面内においてＸ方向及びこれに直交するＹ方向の任意の位置へ移動できる移動機構として例えばＸＹステージ５４が設けられている。ここでこのＸＹステージ５４上に上記画素電極基板４が設置され、また上記上定盤５２Ｂに図示しない供給系より供給される透明電極基板６が保持されるようになっている。また上記ＸＹステージ５４には、このＸＹステージ５４を任意の場所へ移動させて位置制御を行うために例えばマイクロコンピュータ等よりなる位置制御手段５６が接続されており、上記透明電極基板６の予め求められた欠陥部が位置座標として入力されて、この欠陥部が上記画素電極基板４の画像表示に関係を有さない表示無関係領域に対応して位置するようになされている。また上記紫外線照射ステージ３８には、上記紫外線硬化樹脂よりなる接着剤を固化するための紫外線ランプ５８が設けられている。
【００１８】
次に、以上のように構成された製造装置の動作について説明する。まず、搬入ステージ３２上には図２（Ａ）に示すような複数の画素エリア１０が形成されている大口径の画素電極基板４がセットされて待機している。この画素電極基板４は搬送機構（図示せず）により塗布ステージ３４へ移送される。この塗布ステージ３４では塗布幅や塗布量を制御しつつ塗布用ディスペンサ４２により接着剤を上記画素電極基板４の所望の位置に塗布する。ここでは接着剤は例えば各画像表示エリア１０の周囲に枠状に塗布すると共に、基板の外周部にも全周に亘ってシール用に塗布しておく。
【００１９】
この接着剤の塗布された画素電極基板４は、次に、貼り合わせステージ３６へ移送される。この貼り合わせステージ３６では、上記画素電極基板４は、下定盤５２Ａ上のＸＹステージ５４上に保持され、またこれに対向する上定盤５２Ｂの下側には図２（Ａ）に示すような透明電極基板６が予め保持されている。ここで、上記ＸＹステージ５４を移動制御することにより両基板４、６の相対位置を水平面内においてシフトして位置合わせを行い、プレスを行う。ここでプレスの方法としては２つの方法（特許文献１、２参照）がある。
【００２０】
すなわち第一の方法は、真空区画室内を所定の真空度に排気した後に画素電極基板４と透明電極基板６を重ね合わせる。このとき画素電極基板４には個々の画像表示エリア１０毎の接着剤とは別に画素電極基板４の外周部に閉じられた外周接着剤も前述したように塗布しておく。重ね合わせの後に真空区画室内を大気圧にまで上昇させると、両基板と外周接着剤とで囲まれた空間の圧力と大気圧との圧力差で、両基板を所望のセルギャップにまでプレスして仮貼り合せを行うことが出来るというものである。
【００２１】
第二の方法は、まず透明電極基板６と画素電極基板４を重ね合わせる。このとき、画素電極基板４の外周部に外周接着剤を塗布することは第一の方法と変わらないが、両基板が重ね合わされた後に両基板間と外周接着剤とで形成される空間を減圧するための開口部を設けておく。そして、両基板を重ね合わせた後に所望のセルギャップに達するまで上述の開口部から排気する。この状態で後述するように紫外線照射ステージ３８にて透明電極基板側から紫外光を照射して接着剤を硬化させて仮貼り合せとする。このプレス方法については、上記の方法に限るものではなく、プレス機により機械的にプレス圧が付与される場合もある。また、両基板４、６は相対的に移動して位置合わせができればよく、どちらの基板を動かしてもよい。
【００２２】
この仮貼り合せが完了した両基板４、６は搬送機構により紫外線照射ステージ３８に搬送される。この紫外線照射ステージ３８では上記仮貼り合わせの両基板４、６に紫外線ランプ５８から所定量の紫外線を照射し、これにより紫外線硬化樹脂よりなる上記接着剤を硬化させて完全に固着する。これにより、液晶表示素子集合体Ｍが製造されることになり、これが搬送ステージ４０へ移送されることになる。尚、この後、上記液晶表示素子集合体Ｍは、画像表示エリア１０毎に切断されて、個々に液晶が封入されることにより液晶表示素子が形成されることになる。ここで液晶表示素子集合体とは、単一の液晶表示素子が複数含まれた状態を示す。
【００２３】
ここで上記貼り合わせステージ３６において行われる位置合わせについて説明する。まず図２（Ａ）に示すように、ここでは画像表示エリア１０には何ら動作不良部がなく、全て正常に動作するものと仮定する。これに対して、透明電極基板６には予めなされた検査により、図中、×印で示す箇所に、３つの欠陥部ＮＧ１が検出されており、この欠陥部ＮＧ１の座標位置が予め位置制御手段５６に入力されている。尚、各画像表示エリア１０の位置座標も予め入力されているのは勿論である。
ここで、従来の製造装置のように何ら位置調整せずに（位置シフトなし）、両基板４、６を接合すると、図２（Ｂ）に示すように、正常な画像表示エリア１０上に上記各欠陥部ＮＧ１が位置的に重なってしまい、結合的に、図示例では斜線で示す３つの画像表示エリア１０に欠陥表示が現れてしまうので、その分だけ製造歩留りを例えば５０％まで低下させてしまう。
【００２４】
これに対して、この第１実施例では図２（Ｃ）に示すように、欠陥部ＮＧ１が画素電極基板４の画像表示に関係を有さない表示無関係領域に対応して位置させるように、ここでは画素電極基板４をシフトしている。この場合、できるだけ製品歩留りが向上するようにシフトさせる。図２（Ｃ）の左図は画素電極基板４を左側へ距離ΔＸ１だけシフトした時の状態を示しており、この場合には、製造歩留りは６７％まで改善されており、図２（Ｃ）の右図は画素電極基板４を更に下方へ距離ΔＹ１だけシフトした時の状態を示しており、この場合には製造歩留りは１００％まで改善されている。尚、この時の最適な製造歩留りを求める演算は、各欠陥部ＮＧ１の位置座標や正常な画像表示エリア１０の位置座表が予め判明しているので、例えば位置制御手段５６のコンピュータで容易に行うことができる。
【００２５】
ここで欠陥部ＮＧ１を移動させる場所は、画像表示エリア１０の外側、或いは画像表示エリア１０内であっても表示画像上影響の無い部分であってもよい。
図２に示す場合は、画素表示エリア１０に何ら動作不良部がなく全て正常に動作する場合を例にとって説明したが、実際には図３に示すように、透明電極基板６に欠陥部ＮＧ１が存在するのみならず、画素表示エリア１０には動作不良部が存在する場合がある。図３中では、２つの画素表示エリア１０に動作不良部が存在し、ここでは梨地で示している。この場合、動作不良部は予め測定により求められており、これを有する画素表示エリア１０（梨地部分）は、位置制御手段５８では表示無関係領域であると認識するようになっている。
【００２６】
この場合、図３（Ｂ）に示すように従来装置のように画素電極基板４を位置ずれさせない場合には、更に２つの正常な画像表示エリア１０（斜線で示す）における部分で欠陥表示が発生し、結果的に製造歩留りは３３％まで低下する。
これに対して、本実施例の場合には、図３（Ｃ）に示すように正常、不正常を問わず、画像表示エリア１０以外の領域のみならず、動作不良部を有する画像表示エリア（梨地部分）も含めて欠陥部ＮＧ１を移動させることができるので、製造歩留りを向上させるための移動の自由度が上がり、その結果、製造歩留りを例えば６７％まで向上させることができる。
【００２７】
＜第２実施例＞
次に第２実施例について説明する。上記した第１実施例では液晶表示素子集合体を形成して、これを素子毎に分割した後に、個々の素子に液晶を導入してこれを封入する場合を例にとって説明したが、この第２実施例においては、液晶表示素子集合体の製造途中において、液晶が封入されることになる。図４はこのような本発明の第２実施例を示す概略構成図である。尚、図１に示す製造装置と同一構成部分については同一符号を付してその説明を省略する。
【００２８】
図４に示すように、この第２実施例の製造装置６０が図１に示す第１実施例の製造装置３０と異なる点は、塗布ステージ３４と貼り合わせステージ３６との間に、液晶滴下ステージ６２を設けた点である。この液晶滴下ステージ６２も区画されており、内部には、液晶を滴下する液晶滴下手段６４が設けられている。具体的には、この液晶滴下手段６４は、液晶を滴下するためのニードルを備えた滴下ヘッド６６を有しており、この滴下ヘッド６６は、水平面内においてＸ方向及びＹ方向（Ｘ方向に直交）へ任意の所望する位置へ移動できるようになっている。この滴下ヘッド６６の動作は、滴下する液晶の量を計測してコントロールすると共に、滴下ヘッド６６の位置を制御する例えば、マイクロコンピュータ等よりなる液晶滴下制御部６８により制御されることになる。またこの上記滴下ヘッド６６の先端近傍には除電装置の除電電極（図示せず）が配置される。更に、この液晶滴下ステージ６２内の画素電極基板４及び滴下ヘッド６６の周囲を覆ってこれを電気的に遮蔽するための遮蔽シールで７０が設けられている。
【００２９】
さて、のように構成された製造装置６０では、塗布ステージ３４においては、個々の画像表示エリア１０の周囲だけに、全周に亘って枠状に接着剤が塗布され、第１実施例で必要とされた画素電極基板４の外周部に沿っての接着剤塗布は不要となる。そして、上記液晶滴下ステージ６２では、個々の画像表示エリア１０上に所定量の液晶が滴下されることになる。
【００３０】
また貼り合わせステージ３６では、例えば以下のようにしてプレスが行われる。例えばこの区画室内の雰囲気を真空引きして例えば１Ｐａ以下の真空状態まで排気する。この排気の完了後、プレス機５２を駆動して上下の定盤５２Ｂ、５２Ａを接近させて、両基板４、６が密着するまでプレスする。その後、圧力制御弁４８により当区画室内の圧力を１Ｐａ以下の真空状態から大気圧状態まで上昇させる。この圧力上昇に伴って、画素電極基板４と、透明電極基板６と、接着剤とで封じられた空間は徐々にそのセルギャップを減じ、接着剤に混入したスペーサ２４（図６参照）が両基板に当接して所定の均一なセルギャップとなったところで仮貼り合わせが完了する。これ以降の工程は、第１実施例の場合と同様である。尚、当然のこととして、液晶はすでに封入されているので、この後における液晶を封入する工程は不要となる。
【００３１】
＜第３実施例及び第４実施例＞
上記第１及び第２実施例の場合は、各ステージを直列に連結した、いわゆるインライン型の製造装置について説明したが、これに限定されず各ステージを、いわゆるクラスタ型に配列したクラスタ型の製造装置について適用してもよい。
図５は本発明をクラスタ型の製造装置に適用した実施例を示し、図５（Ａ）は図１に示す第１実施例をクラスタ型に適用した第３実施例を示し、図５（Ｂ）は図４に示す第２実施例をクラスタ型に適用した第４実施例を示す。尚、図１及び図４に示す各構成部分と同一構成部分については同一符号を付して説明を省略する。
【００３２】
図５（Ａ）に示すように、この第３実施例に示す製造装置７２においては、中心に搬送機構として例えば多関節ロボットよりなる搬送アーム機構７４を配置し、これを屈伸及び旋回可能に設けることにより、この搬送アーム機構７４により上記画素電極基板４等の各部材を搬送できるようになっている。そして、この搬送アーム機構７４の周囲に、これを取り囲むようにして第１実施例の各ステージ、すなわち搬入ステージ３２、塗布ステージ３４、貼り合わせステージ３６、紫外線照射ステージ３８及び搬出ステージ４０がそれぞれ設けられる。尚、ここでは搬入ステージ３２に透明電極基板６も待機されている。更に、ここでは、搬入ステージ３２と塗布ステージ３４との間に検査ステージ７６を配置している。この検査ステージ７６には、画素電極基板４の画像表示エリア１０の動作不良部（動作不良エリア）を検出する動作不良エリア検査手段（図示せず）や透明電極基板６の欠陥部を検出する欠陥部検出手段（図示せず）がそれぞれ設けられており、それぞれの検出結果の位置情報（座標）を認識し、上記貼り合わせステージ３６の位置制御手段５６へ伝えるようになっている。具体的には、画像表示エリア１０の検査は、図示しないウエハプローバで行われて位置情報はデータベース化され、透明電極基板６の検査は、レーザ光走査やＣＣＤ画像認識により異物やキズを検出することにより行われて位置情報はデータベース化される。位置制御手段５６では、これらのデータベースに基づいて、第１及び第２実施例でも同様であるが、両基板を重ね合わせた場合に、総合的に画像不良数が最も少なくなるための両基板間の相対シフト量を算出することになる。
【００３３】
図５（Ｂ）に示す第４実施例の製造装置でも、搬入ステージ３２と塗布ステージ３４との間に上記したような検査ステージ７６を設置しているのは、第３実施例の場合と同じである。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の液晶表示素子集合体の製造装置の第１実施例を示す概略構成図である。
【図２】画素電極基板と透明電極基板を貼り合わせて接合する際の工程を示す図である。
【図３】画素電極基板と透明電極基板を貼り合わせて接合する際の他の工程を示す図である。
【図４】本発明の第２実施例を示す概略構成図である。
【図５】本発明をクラスタ型の製造装置に適用した実施例を示す図である。
【図６】一般的な反射型の液晶表示素子の構成を示す図である。
【図７】液晶表示素子が複数個集まった液晶表示素子集合体の製造途中を示す図である。
【符号の説明】
【００３５】
２…液晶表示素子、４…画素電極基板、６…透明電極基板、８…画素電極、１０…画像表示エリア、２２…接着剤、２６…液晶用空間部、３０…製造装置、３２…搬入ステージ、３４…塗布ステージ、３６…貼り合わせステージ、３８…紫外線照射ステージ、４０…搬送ステージ、５４…ＸＹステージ（移動機構）、５６…位置制御手段、５８…紫外線ランプ、ＬＱ…液晶、Ｍ…液晶表示素子集合体、ＮＧ１…欠陥部。
【図１】
2005165136.tif 000003
【図２】
2005165136.tif 000004
【図３】
2005165136.tif 000005
【図４】
2005165136.tif 000006
【図５】
2005165136.tif 000007
【図６】
2005165136.tif 000008
【図７】
2005165136.tif 000009