(57)【要約】【課題】  内部に異物が存在しない光ファイバ母材の製造方法を提供する。【解決手段】  ガラスロッドを火炎で加熱する加熱工程を有する光ファイバ母材の製造方法であって、加熱工程の前に、ガラスロッドの表面の少なくとも一部を洗浄して、ガラスロッドの表面から異物を除去する洗浄工程を設ける。洗浄工程を、ガラスロッドの表面から、大きさが０．０５ｍｍ以上の遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子を除去する工程とする。ガラスロッドを加工装置に装着した後、洗浄工程を行う。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスロッドを火炎で加熱する加熱工程を有する光ファイバ母材の製造方法であって、
前記加熱工程の前に、前記ガラスロッドの表面の少なくとも一部を洗浄して、前記ガラスロッドの表面から異物を除去する洗浄工程を有することを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。
【請求項２】
前記洗浄工程が、前記ガラスロッドの表面から、大きさが０．０５ｍｍ以上の遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子を除去する工程であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ母材の製造方法。
【請求項３】
前記ガラスロッドを加工装置に装着した後、前記洗浄工程を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の光ファイバ母材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面や内部に異物が存在せず、光ファイバの歩留を向上することが可能な光ファイバ母材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバ母材は、製造過程において、その表面や内部に異物が残留したり、その表面に傷が生じたりすることがある。このような光ファイバ母材を溶融紡糸して得られる光ファイバは、その表面や内部に異物がそのまま残留したものや、その表面に傷を有するものとなる。このような光ファイバは、異物や傷が存在する箇所において著しく機械的強度（引張り強さなど）が低下するため、紡糸中に破断することがある。このような紡糸中における光ファイバの破断は、光ファイバの歩留を低下させる原因となる。
【０００３】
そこで、例えば、光ファイバ母材の表面に存在する異物を除去するために、光ファイバ母材を溶融紡糸する前に、あらかじめ光ファイバ母材を純水で洗浄することがある。しかしながら、この光ファイバ母材の洗浄によれば、光ファイバ母材の表面に付着している異物を除去する（洗い流す）ことができるものの、光ファイバ母材の表面から内部に減り込んだ異物や、光ファイバ母材内に浸入、拡散した異物を除去することはできない。
【０００４】
光ファイバ母材内に存在する異物は、光ファイバ母材の製造過程において、その表面を加熱することによって、光ファイバ母材内に浸入、拡散したものである。
そこで、光ファイバ母材内に異物が浸入することを防止するために、光ファイバ母材の製造過程において、その表面に異物が付着しないようにすることがある。しかしながら、光ファイバ母材の製造における全ての工程において、光ファイバ母材やその前駆体であるガラスロッドの表面に異物が付着しないようにするためには、過剰な設備が必要となり、結果として製造コストの増加を招くため、現実的ではない。
【０００５】
また、光ファイバ母材内に浸入した異物や、光ファイバ母材の表面に生じた傷などを除去する他の方法としては、光ファイバ母材の表面を火炎で加熱する火炎研磨により、光ファイバ母材の一部（主に表層）を削り取って、異物や傷を除去する方法が挙げられる。
【０００６】
ところで、火炎研磨自体が光ファイバ母材の表面を浄化するために行われるものであるから、これまでは、火炎研磨を行う前に、光ファイバ母材の表面を洗浄することは考えられていなかった。
【０００７】
しかしながら、火炎研磨のように、光ファイバ母材の表面を火炎で加熱する方法では、例えば、特許文献１で指摘されているように、光ファイバ母材の表面に付着している異物が除去されずに、その内部に浸入してしまうこともある。
【０００８】
また、上述のように、内部に異物が存在している光ファイバ母材を溶融紡糸して得られた光ファイバの内部は、その内部に異物がそのまま残留したものとなる。このような内部に異物が存在する光ファイバは、伝送損失が高くなり、実用に適さなくなるという問題がある。
【特許文献１】特願平７−２５６３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、前記事情に鑑みてなされたもので、内部に異物が存在しない光ファイバ母材の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するために、ガラスロッドを火炎で加熱する加熱工程を有する光ファイバ母材の製造方法であって、前記加熱工程の前に、前記ガラスロッドの表面の少なくとも一部を洗浄して、前記ガラスロッドの表面から異物を除去する洗浄工程を有する光ファイバ母材の製造方法を提供する。
【００１１】
上記光ファイバ母材の製造方法において、前記洗浄工程が、前記ガラスロッドの表面から、大きさが０．０５ｍｍ以上の遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子を除去する工程であることが好ましい。
【００１２】
上記光ファイバ母材の製造方法において、前記ガラスロッドを加工装置に装着した後、前記洗浄工程を行うことが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光ファイバ母材の製造方法によれば、ガラスロッドの表面の少なくとも一部を洗浄してガラスロッドの表面に付着している異物を除去する洗浄工程を行った後に、ガラスロッドを火炎で加熱する加熱工程を施すから、加熱工程によって光ファイバ母材内に異物が浸入、拡散することがない。
【００１４】
また、洗浄工程において、ガラスロッドの表面から、大きさが０．０５ｍｍ以上の遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子を除去することにより、高温下における石英内への拡散速度が速い遷移金属元素が光ファイバ母材内に異物が浸入、拡散することを防止することができる。
【００１５】
さらに、洗浄工程を、ガラスロッドを旋盤などの加工機や各種冶具に装着した後に行えば、ガラスロッドを装着する際に生じる塵埃に含まれる遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物を、光ファイバ母材の表面から除去することができるため、さらに効果的である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明を実施した光ファイバ母材の製造方法の一実施形態について説明する。
【００１７】
この実施形態の光ファイバ母材の製造方法では、まず、ＶＡＤ（Ｖａｐｏｒ  ｐｈａｓｅ  Ａｘｉａｌ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＯＶＤ（Ｏｕｔｓｉｄｅ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＭＣＶＤ（Ｍｏｄｉｆｉｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＰＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などにより、円柱状の出発部材の外周または円筒状の出発部材の内部に石英系ガラスからなるガラス微粒子を堆積させて、光ファイバのコア、または、コアおよびクラッドの一部となる円柱状のガラス部材を作製する。
【００１８】
次いで、ＶＡＤ法、外付け法などにより、このガラス部材の外周にクラッドとなる石英系ガラスからなるガラス微粒子を堆積させて、多孔質ガラス母材を作製する。
次いで、この多孔質ガラス母材を電気炉中で脱水、焼結しながら透明ガラス化して、光ファイバ母材を得る。
【００１９】
次いで、このファイバ母材を火炎で加熱する（加熱工程）前に、光ファイバ母材の表面を洗浄して、スカンジウム（Ｓｃ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、テクネチウム（Ｔｃ）、ルテニウム（Ｒｕ）、ロジウム（Ｒｈ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、ランタノイド、ハフニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、レニウム（Ｒｅ）、オスミウム（Ｏｓ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、アクチノイドなどの遷移金属元素またはこれらの遷移金属元素を含む化合物の粒子からなる異物を、光ファイバ母材の表面から除去する（洗浄工程）。
【００２０】
ここで、図１〜図３を用いて、本発明における加熱工程の一例である、光ファイバ母材の表面を火炎で加熱して、光ファイバ母材の表面を火炎で研磨する火炎研磨について説明する。
図１〜図３において、符号１は光ファイバ母材、２、３は異物をそれぞれ示している。
【００２１】
図１は、光ファイバ母材の表面に異物が付着した状態、および、光ファイバ母材内に異物が減り込んだ状態を示す概略断面図である。
光ファイバ母材１の表面１ａに火炎研磨を施すには、この状態で、光ファイバ母材１の表面１ａに付着している異物２および光ファイバ母材１内に減り込んでいる異物３、並びにこれらの周辺領域を火炎で加熱する。
【００２２】
異物２、３が遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子でない場合、光ファイバ母材１の加熱を継続し、その表面１ａの温度が１５００℃以上に達すると、図２に示すように、光ファイバ母材１の表面１ａが削り取られると共に、異物２、３も除去され、光ファイバ母材１の表面１ａは清浄になる。
【００２３】
一方、異物２、３が遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒である場合、光ファイバ母材１の加熱によって、異物２、３が光ファイバ母材１内に浸入し、拡散する。そのため、図３に示すように、光ファイバ母材１の表面１ａを削り取っても、内部に拡散した異物を除去することができず、異物２、３は光ファイバ母材１内に残留する。
【００２４】
このように、光ファイバ母材の表面に付着している異物が遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子である場合、火炎研磨により光ファイバ母材の表面を浄化しても、この異物を除去できない上に、この異物を光ファイバ母材内に浸入させる結果となる。
このような現象は、加熱工程が、火炎研磨である場合のみならず、光ファイバ母材に加工用のダミーロッドを融着する工程である場合や、光ファイバ母材の表面の曇りを除去する工程である場合にも生じる。
【００２５】
そこで、この実施形態では、加熱工程の前に、光ファイバ母材の表面を洗浄して、光ファイバ母材の表面から異物を除去する（洗浄工程）ことにより、異物が光ファイバ母材内に浸入することを防止する。
【００２６】
この実施形態における洗浄工程は、光ファイバ母材の表面から、大きさが０．０５ｍｍ以上の遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子を除去するために、所定の方法を用いて、光ファイバ母材の表面を洗浄する工程のことである。この洗浄工程では、光ファイバ母材の表面の全域を洗浄してもよいが、少なくとも光ファイバ母材の表面における遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子が付着している領域を洗浄すればよい。
【００２７】
なお、この実施形態では、光ファイバ母材の表面を洗浄する方法は特に限定されず、光ファイバ母材の表面から大きさが０．０５ｍｍ以上の遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子を、非加熱で除去することができる方法であれば、いかなる方法も適用することができる。
【００２８】
光ファイバ母材の表面を非加熱で洗浄する方法としては、例えば、光ファイバ母材に水あるいは有機溶剤をかけながら（散布しながら、滴下しながら）、光ファイバ母材の表面を無塵紙などで拭うかあるいはブラッシングする方法、光ファイバ母材の表面を超音波洗浄する方法、純水などの液体を高圧で噴出させて、この高圧の液体を光ファイバ母材の表面に吹き付ける方法、気体を高圧で噴出させて、この高圧の気体を光ファイバ母材の表面に吹き付ける方法、または、フッ酸やアルカリ溶液などで異物を溶解して、光ファイバ母材の表面を化学的に洗浄する方法などが用いられる。これらの方法は、単独または組み合わせて用いることもできる。
【００２９】
ところで、光ファイバ母材の表面に付着している遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子の大きさが０．０５ｍｍ未満であれば、光ファイバ母材の表面に火炎研磨を施すことにより、遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子を除去することができる。一方、遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子の大きさが０．０５ｍｍ以上になると、光ファイバ母材の表面に火炎研磨を施すと、遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子が光ファイバ母材内に浸入してしまう。したがって、加熱工程の前にあらかじめ、光ファイバ母材の表面に付着している大きさが０．０５ｍｍ以上の遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子を除去することにより、加熱工程を経ても、内部に異物が存在しない光ファイバ母材を得ることができる。
【００３０】
また、遷移金属元素は、特に高温下において、石英内への拡散速度が速い。そのため、光ファイバ母材を火炎で加熱すると、光ファイバ母材の表面の温度が、その表面が削り取られる１５００℃以上に達する前に、遷移金属元素は光ファイバ母材内に拡散してしまう。したがって、光ファイバ母材の表面に大きさが０．０５ｍｍ以上の遷移金属元素の粒子が付着している場合、光ファイバ母材の表面に火炎研磨を施して、その表面を削り取っても、遷移金属元素は光ファイバ母材内に拡散し、内部に異物として残留する。しかしながら、遷移金属元素の粒子の大きさが０．０５ｍｍ未満の場合、その光ファイバ母材内への拡散速度が遅くなるので、火炎研磨によって除去することができる。
【００３１】
なお、本発明における洗浄工程を、特に、光ファイバ母材を旋盤などの加工機や、各種冶具に装着した後に行えば、光ファイバ母材を装着する際に生じる塵埃に含まれる遷移金属元素または遷移金属元素を含む化合物の粒子を、光ファイバ母材の表面から除去することができるため、さらに効果的である。
【００３２】
また、本発明では、加熱工程が施されるガラスロッドとしては、コア／クラッド比が光ファイバ母材を紡糸して得られる光ファイバにおけるコア／クラッド比と同じ比率になった紡糸直前の光ファイバ母材に限定されない。本発明にあっては、ガラスロッドとしては、クラッドが堆積される前の中間ロッド、光ファイバ母材の外径を増大させるために、これを収容する石英ガラス管などからなるジャケット管、ＰＣＶＤ法およびＭＣＶＤ法において用いられる出発石英管なども含まれる。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００３４】
（実施例１）
コアとクラッドの一部とを含むガラスロッドを火炎研磨用の旋盤に装着する前に、このガラスロッドの表面に有機溶剤をかけながら、ガラスロッドの表面を無塵紙で拭い、ガラスロッドの表面を洗浄した。
【００３５】
次いで、上記旋盤に備えられた一対のチャックのうち一方を、有機溶剤で湿らせた無塵紙で拭い、このチャックにガラスロッドを装着した。また、他方のチャックにも同様に、有機溶剤で湿らせた無塵紙で拭い、このチャックに石英製の棒（以下、「石英棒」と略す。）を装着した。
【００３６】
上記旋盤に備えられたバーナに、水素を１８０リットル／分、酸素を８０リットル／分の流量で供給し、バーナから酸水素火炎を噴出させて、この酸水素火炎でガラスロッドおよび石英棒を加熱した。
【００３７】
ガラスロッドを加工する前に、ガラスロッドの端部を加熱すると、表面の異物や傷が輝点として見え易くなる。
ガラスロッドの端部を加熱している時に、その表面に輝点が現われた場合、元圧が０．６ＭＰａのクリーンエアをエアガンで吹き付け、輝点を消滅させた。なお、上記の輝点は、ガラスロッドの表面に付着している異物によってのみ現われるのではなく、ガラスロッドの表面の傷などによっても現われるものである。そのため、ガラスロッドの表面に、エアガンでクリーンエアを吹き付けても輝点が消滅しない場合、クリーンエアの吹き付けを止めて放置した。
【００３８】
次いで、ガラスロッドと石英棒を融着した後、ガラスロッドをチャックから取り外した。
次いで、ガラスロッドを取り外した方のチャックに別の石英棒を装着し、バーナに水素を１８０リットル／分、酸素を８０リットル／分の流量で供給し、バーナから酸水素火炎を噴出させて、この酸水素火炎でガラスロッドおよび石英棒を加熱した。
【００３９】
また、ガラスロッドの端部を加熱している時に、その表面に輝点が現われた場合、元圧が０．６ＭＰａのクリーンエアをエアガンで吹き付け、輝点を消滅させた。なお、ガラスロッドの表面に、エアガンでクリーンエアを吹き付けても輝点が消滅しない場合、クリーンエアの吹き付けを止めて放置した。
【００４０】
ガラスロッドと石英棒の加熱を継続し、ガラスロッドと石英棒を融着した後、バーナに供給する水素および酸素の流量を増加させて、水素の流量を２４０リットル／分、酸素の流量を１１０リットル／分とした。この状態で、ガラスロッドの長手方向の全長に沿って、バーナを３０ｍｍ／分の速度で往復移動させながら、バーナから噴出する酸水素火炎でガラスロッドを加熱し、ガラスロッドの表面に火炎研磨を施した。
【００４１】
この火炎研磨により、ガラスロッドの表面が約０．３ｍｍ削り取られた。
以上の作業を行った後、ガラスロッドを詳細に調査したところ、ガラスロッド内に異物は存在していなかった。
【００４２】
（実験例１）
外径４０ｍｍ、長さ１４０ｍｍの石英ロッドを用意し、その表面を超音波洗浄により清浄にした。
次いで、この石英ロッドを火炎研磨用の旋盤に装着した。
次いで、石英ロッドの表面に、部分的にアルミニウム粉、酸化鉄粉、カーボン粉、繊維状の埃を付着させた。また、石英ロッドの表面を手で触り、手の跡を付けた。なお、石英ロッドの長手方向において、上記の各種粉や埃の付着している領域および手の跡が重ならないようにした。
【００４３】
上記旋盤に備えられた石英バーナに、水素を２４０リットル／分、酸素を１１０リットル／分の流量で供給し、石英バーナから酸水素火炎を噴出させた。この状態で、石英ロッドの長手方向の全長に沿って、石英バーナを３０ｍｍ／分の速度で往復移動させながら、石英バーナから噴出する酸水素火炎で石英ロッドを加熱した。
また、石英ロッドの表面における酸水素火炎で加熱している領域の温度を放射温度計で測定したところ、最大で約１９００℃であった。
【００４４】
次いで、石英バーナに供給する水素および酸素の流量を減少させて、水素の流量を１２０リットル／分、酸素の流量を６０リットル／分とした。また、石英ロッドの長手方向の全長に沿って、石英バーナを４５ｍｍ／分の速度で往復移動させながら、石英バーナから噴出する酸水素火炎で石英ロッドを加熱し、石英ロッドの表面を透明化した。
【００４５】
以上の処理を施した石英ロッドを観察したところ、カーボン粉、繊維状の埃を付着させた領域および手の跡を付けた領域では、表面が清浄になっており、内部に異物が浸入していなかった。
しかしながら、アルミニウム粉、酸化鉄粉を付着させた領域では、石英ロッドの内部に異物が侵入していることが観察された。特に、酸化鉄を付着させた領域では、石英ロッドの内部に多くの異物が浸入していることが観察された。
【００４６】
以上の結果より、遷移金属元素が石英ロッドの表面に付着していると、石英ロッドの表面を酸水素火炎で加熱することにより、遷移金属元素が石英ロッドの内部に浸入してしまうことが分かった。
【００４７】
（実験例２）
外径４０ｍｍ、長さ１４０ｍｍの石英ロッドを用意し、その表面を超音波洗浄により清浄にした。
次いで、この石英ロッドを火炎研磨用の旋盤に装着した。
次いで、石英ロッドの表面に、部分的に粒子の大きさの異なる４種類の酸化鉄粉を付着させた。酸化鉄粉の粒子の大きさを、０．０５ｍｍ未満、０．１ｍｍ以下、０．２ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下の４種類とした。なお、石英ロッドの長手方向において、上記の４種類の酸化鉄粉の付着している領域が重ならないようにした。
【００４８】
上記旋盤に備えられた石英バーナに、水素を２４０リットル／分、酸素を１１０リットル／分の流量で供給し、石英バーナから酸水素火炎を噴出させた。この状態で、石英ロッドの長手方向の全長に沿って、石英バーナを３０ｍｍ／分の速度で往復移動させながら、石英バーナから噴出する酸水素火炎で石英ロッドを加熱した。
また、石英ロッドの表面における酸水素火炎で加熱している領域の温度を放射温度計で測定したところ、最大で約１９００℃であった。
【００４９】
次いで、石英バーナに供給する水素および酸素の流量を減少させて、水素の流量を１２０リットル／分、酸素の流量を６０リットル／分とした。また、石英ロッドの長手方向の全長に沿って、石英バーナを４５ｍｍ／分の速度で往復移動させながら、石英バーナから噴出する酸水素火炎で石英ロッドを加熱し、石英ロッドの表面を透明化した。
【００５０】
以上の処理を施した石英ロッドを観察したところ、粒子の大きさが０．０５ｍｍ未満の酸化鉄粉を付着させた領域では、表面が清浄になっており、内部に異物が浸入していなかった。
しかしながら、粒子の大きさが０．１ｍｍ以下の酸化鉄粉を付着させた領域では、石英ロッドの内部に異物が浸入している箇所が４箇所観察された。また、粒子の大きさが０．２ｍｍ以下の酸化鉄粉を付着させた領域では、石英ロッドの内部に異物が浸入している箇所が１２箇所観察された。また、粒子の大きさが０．５ｍｍ以下の酸化鉄粉を付着させた領域では、石英ロッドの内部に異物が浸入している箇所が５０箇所以上観察された。
【００５１】
以上の結果より、粒子の大きさが０．０５ｍｍ以上の遷移金属元素を除去することによって、石英ロッドの表面を酸水素火炎で加熱しても、遷移金属元素が石英ロッドの内部に浸入しないことが推測された。
【００５２】
（実験例３）
コアとクラッドの一部とを含む中間ロッドの表面に火炎研磨を施す前に、この中間ロッドの表面に有機溶剤をかけながら、その表面を無塵紙で拭い、洗浄した。
次いで、この中間ロッドの表面に火炎研磨を施した。
次いで、火炎研磨を施した中間ロッドに、外付け法によりクラッドの不足分を堆積し、コア／クラッド比が、これを紡糸して得られる光ファイバにおけるコア／クラッド比と同じ比率の光ファイバ母材を得た。
【００５３】
同様の処理を施して光ファイバ母材を８２本製造し、この光ファイバ母材を観察したところ、中間ロッド部分に異物が浸入していることが確認されたものはなかった。
【００５４】
（実験例４）
コアとクラッドの一部とを含む中間ロッドの表面に火炎研磨を施す前に、この中間ロッドの表面を洗浄せずに、この中間ロッドの表面に火炎研磨を施した。
次いで、火炎研磨を施した中間ロッドに、外付け法によりクラッドの不足分を堆積し、コア／クラッド比が、これを紡糸して得られる光ファイバにおけるコア／クラッド比と同じ比率の光ファイバ母材を得た。
【００５５】
同様の処理を施して光ファイバ母材を７８本製造し、この光ファイバ母材を観察したところ、中間ロッド部分に異物が浸入していることが確認されたものは１６本であった。
さらに、１６本のうち３本について、異物が存在する領域を切り出して定性分析を行ったところ、いずれも鉄が検出された。
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明の光ファイバ母材の製造方法は、光学ガラスの加工など表面の清浄化が求められるガラス加工物にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】光ファイバ母材の表面に異物が付着した状態、および、光ファイバ母材内に異物が減り込んだ状態を示す概略断面図である。
【図２】火炎研磨後の光ファイバ母材の表面状態を示す概略断面図である。
【図３】火炎研磨後によって光ファイバ母材の内部に異物が浸入した状態を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００５８】
１・・・光ファイバ母材、２，３・・・異物。
【図１】
2005206429.tif 000002
【図２】
2005206429.tif 000003
【図３】
2005206429.tif 000004