(57)【要約】【課題】  基板浮上ブロック上に基板を浮上させて搬送する際に、基板を基板浮上ブロックに接触させることなく水平に搬送できるようにする。【解決手段】  基板３を非接触状態に浮上させる基板浮上ブロック１，１１，１６と、該基板浮上ブロック１，１１，１６上に浮上した前記基板３の端部を保持して搬送する搬送機構と、前記基板３の搬送方向Ｃに沿う前記基板浮上ブロック１，１１，１６の両側部又は該両側部に近接する位置に設けられ、前記基板浮上ブロック１，１１，１６の両側部より突出する前記基板３の両端部を下面側から支持する端部支持機構４９とを備えることを特徴とする基板搬送装置。【選択図】    図３
2005119818.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を非接触状態に浮上させる基板浮上ブロックと、
該基板浮上ブロック上に浮上した前記基板の端部を保持して搬送する搬送機構と、
前記基板の搬送方向に沿う前記基板浮上ブロックの両側部又は該両側部に近接する位置に設けられ、前記基板浮上ブロックの両側部より突出する前記基板の両端部を下面側から支持する端部支持機構とを備えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記端部支持機構が、前記基板浮上ブロックの両側部に設けられた複数の回転支持部材を備え、
該回転支持部材が、前記基板を前記搬送機構により搬送方向に移動させた際に、前記基板の下面上を転がる方向に回転することを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記回転支持部材が、前記搬送方向に回転可能な幅の細いローラであることを特徴とする請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記回転支持部材が、多方向に回転自在に支持された玉であることを特徴とする請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記端部支持機構が、複数の玉を前記基板の下面に対向する前記浮上ブロックの搬送面上に露出させ、前記基板の下面上を転がって移動させる接触軌道と、該接触軌道の両端に連結して前記玉を前記接触軌道へ循環させる循環軌道とを有する循環部材を備えることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記端部支持機構が複数のユニットからなり、
各ユニットが前記基板浮上ブロックに対して着脱自在に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記端部支持機構が、前記基板浮上ブロックの両側部に設けられ、前記基板浮上ブロックより突出する前記基板の両端部に向けて圧搾空気を吹き付ける空気吹出部を備えることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、大型の基板を浮上させて搬送する基板搬送装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤと省略する）やプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと省略する）等のフラットパネルディスプレイ（以下、ＦＰＤと省略する）の画面の大型化に伴い、ＦＰＤに使用するガラス基板のサイズが年々大型化する傾向にある。
従来、ＦＰＤ製造工程において大型のガラス基板を搬送する基板搬送装置としては、空気吹出ブロック（基板浮上ブロック）からガラス基板の下面に圧搾エアーを吹き付け、ガラス基板を空気吹出ブロック上に浮上させるものがある（例えば、特許文献１参照。）。この構成の基板搬送装置では、ガラス基板の表面を傷付けることなく容易に搬送することができる。
【０００３】
また、この基板搬送装置には、ガラス基板の進行方向に直交する幅方向の両端を下面側から支持する支持ローラ機構と、ガラス基板の幅方向の端面に当接する一対の規制ローラ機構とを備えている。規制ローラ機構は、空気吹き出しブロックの幅方向の端部（側端部）から突出するガラス基板の端部を挟み込むことにより幅方向の位置を規制している。また、支持ローラ機構は、この規制ローラ機構に近接して配されている。
【特許文献１】特開２０００−１９３６０４号公報（図３、図４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、規制ローラ機構は、空気吹出ブロックから離れてガラス基板の幅方向端部を狭持しているため、圧搾エアーで浮上させる際には、規制ローラ機構により狭持されているガラス基板の端部が、圧搾エアーにより浮上しているガラス基板面に対して撓み、ガラス基板全体を水平に保持して搬送することができない。
また、規制ローラ機構によりガラス基板を狭持するため、ガラス基板の端部に大きな付加が加わり、ガラス基板が傷つく虞があった。
さらに、この規制ローラ機構には支持ローラ機構が近接して配されているため、空気吹出ブロックの側端部と支持ローラ機構との間でガラス基板が下方に撓むことがある。ここで、圧搾エアーによるガラス基板の浮上高さは例えば０．２ｍｍと微少であるため、前述したガラス基板の撓みが微少であっても、この撓みによってガラス基板が空気吹出ブロックの側端部に接触してガラス基板が傷つく虞があった。
この発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、基板を浮上させて搬送する際に、基板に対する外的負荷を軽減すると共に、基板を空気吹出ブロックに接触させることなく水平に搬送できる基板搬送装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、この発明は、以下の手段を提供する。
請求項１に係る発明は、基板を非接触状態に浮上させる基板浮上ブロックと、該基板浮上ブロック上に浮上した前記基板の端部を保持して搬送する搬送機構と、前記基板の搬送方向に沿う前記基板浮上ブロックの両側部又は該両側部に近接する位置に設けられ、前記基板浮上ブロックの両側部より突出する前記基板の両端部を下面側から支持する端部支持機構とを備えることを特徴とする基板搬送装置を提供する。
【０００６】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の基板搬送装置において、前記端部支持機構が、前記基板浮上ブロックの両側部に設けられた複数の回転支持部材を備え、該回転支持部材が、前記基板を前記搬送機構により搬送方向に移動させた際に、前記基板の下面上を転がる方向に回転することを特徴とする基板搬送装置を提供する。
【０００７】
請求項３に係る発明は、請求項２に記載の基板搬送装置において、前記回転支持部材が、前記搬送方向に回転可能な幅の細いローラであることを特徴とする基板搬送装置を提供する。
【０００８】
請求項４に係る発明は、請求項２に記載の基板搬送装置において、前記回転支持部材が、多方向に回転自在に支持された玉であることを特徴とする基板搬送装置を提供する。
【０００９】
請求項５に係る発明は、請求項１に記載の基板搬送装置において、前記端部支持機構が、複数の玉を前記基板の下面に対向する前記浮上ブロックの搬送面上に露出させ、前記基板の下面上を転がって移動させる接触軌道と、該接触軌道の両端に連結して前記玉を前記接触軌道へ循環させる循環軌道とを有する循環部材を備えることを特徴とする基板搬送装置を提供する。
【００１０】
請求項６に係る発明は、請求項１に記載の基板搬送装置において、前記端部支持機構が複数のユニットからなり、各ユニットが前記基板浮上ブロックに対して着脱自在に設けられていることを特徴とする基板搬送装置を提供する。
【００１１】
請求項７に係る発明は、請求項１に記載の基板搬送装置において、前記端部支持機構が、前記基板浮上ブロックの両側部に設けられ、前記基板浮上ブロックより突出する前記基板の両端部に向けて圧搾空気を吹き付ける空気吹出部を備えることを特徴とする基板搬送装置を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の基板搬送装置によれば、端部支持機構が基板浮上ブロックの両側部や両側部に近接する位置に配されているため、基板浮上ブロックの両側部において基板が下方側に撓むことを防止して、基板が基板浮上ブロックに接触して傷つくことを防止できる。また、ガラス基板３が下方側に反っていてもガラス基板の両端部を水平に矯正できる。
【００１３】
また、本発明の端部支持機構によれば、基板を回転支持部材で支持する場合には、基板の搬送の際に回転支持部材であるローラや玉が基板の下面上を転がるため、ローラや玉と基板との滑り摩擦が小さくなり、この滑り摩擦によって基板が傷つくことを防止できる。
【００１４】
また、本発明の回転支持部材によれば、特に玉を用いることにより基板が搬送方向に直交する幅方向に移動したとしても、玉が基板に接触して自由に回転できるため、基板に傷が付くことを確実に防止できる。
【００１５】
さらに、本発明の回転支持部材によれば、複数の玉を接触軌道及び循環軌道において循環させることにより、基板との間の転がり摩擦による玉の摩耗を抑制することができるため、玉を交換することなく長時間連続して使用することができる。
【００１６】
さらに、本発明の端部支持機構によれば、基板浮上ブロックに対して着脱可能な複数のユニットにすることにより、所望のユニットを簡単に交換できる。
【００１７】
また、本発明の端部支持機構によれば、基板の端部を圧搾エアーで支持することにより、基板を非接触で搬送することができるため、基板の下面が傷つくことを確実に防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
図１から図６は本発明に係る一実施形態を示しており、ここで説明する実施の形態は、この発明を大型のＬＣＤやＰＤＰ等のＦＰＤの製造工程におけるインライン検査に適用した場合のものである。
基板搬送装置を構成する搬入用の基板載置台１は、除振台２の上に設けられており、その上面（搬送面）に搬入されたガラス基板３を載置するものである。基板載置台１の幅方向（ガラス基板３の搬送方向Ｃに対する垂直方向）の寸法は、ガラス基板３の幅よりも短くなっている。この基板載置台１は、その上面にエアー吹き上げ用の複数の空気孔４を設けてガラス基板３をエアー浮上させる基板浮上ブロックに構成されている。空気孔４は、基板載置台１の全面にほぼ均一に設けられている。
【００１９】
また、この基板載置台１の上面には、２本の溝５が互いに所定の間隔をおいて搬送方向Ｃに沿って形成されている。さらに、この基板載置台１には、ガラス基板３の搬入時に昇降する複数（図示例では９個）のリフトピン６が設けられている。
なお、基板載置台１は、細長い矩形状のブロックに分割し、各ブロック間（溝５）の間隔を調整して各種サイズのガラス基板に合わせて基板載置台１の幅方向の寸法を変えられるようにしてもよい。この場合、基板載置台１の幅方向の両端に位置する各ブロックを幅方向にスライドさせる幅調整機構（不図示）により基板載置台１の幅寸法を任意に調整できる。
【００２０】
搬送方向Ｃに沿う基板載置台１の一端部側（搬送方向Ｃの左側）には、搬入用搬送ロボット７が設けられている。この搬入用搬送ロボット７は、図示しない多関節アームにより２本のハンドアーム８を回転、前進及び後退させながら未検査のガラス基板３をカセットから取り出して基板載置台１上に搬入する。
基板載置台１の出口側には、搬送架台９が搬送方向Ｃに沿って並設されている。この搬送架台９は、ガラス基板３の搬入側から搬出側に至る長さに形成されている。この搬送架台９は、除振台１０上に載せられている。
【００２１】
この搬送架台９の上面には、搬送架台９の全長に亘って基板浮上ブロック（検査ステージ）１１が設けられている。基板浮上ブロック１１の幅方向の寸法は、基板載置台１と同様に、ガラス基板３の幅よりも短くなっている。この基板浮上ブロック１１の上面（搬送面）にも、基板載置台１と同様に、エアー吹き上げ用の複数の空気孔１２が設けられている。これら空気孔１２は、基板浮上ブロック１１の全面にほぼ均一に設けられている。
また、この基板浮上ブロック１１の上面には、２本の溝１３が互いに所定の間隔をおいて搬送方向Ｃに沿って形成されている。この基板浮上ブロック１１の上面の高さは、基板載置台１の上面の高さとほぼ同一となっている。
なお、この基板浮上ブロック１１も基板載置台１と同様に、複数に分割された各ブロック間（溝１３）の間隔を調整して基板浮上ブロック１１の幅方向の寸法を変えられるようにしてもよい。
【００２２】
搬送方向Ｃに沿う搬送架台９の略中間位置には、一定速度で搬送されるガラス基板３の各種検査を行う検査部Ｅが設けられている。この検査部Ｅには、門型のアーム１４、顕微鏡、ラインセンサ、ＣＣＤカメラ等の各種検査用機器１５が搭載されている。この検査部Ｅにおいては、例えば、幅方向に複数配列したラインセンサによりガラス基板３の画像データを取得し、この画像データに画像処理等を施してガラス基板３のパターン検査や欠陥検査等を行う。
【００２３】
搬送架台９の出口側には、搬出用の基板載置台１６が搬送方向Ｃに沿って並設されている。この基板載置台１６は、除振台１７上に設けられており、基板浮上ブロック１１から搬送されてきたガラス基板３を搬出するために一時的に載置するものである。基板載置台１６の幅寸法は、基板載置台１及び基板浮上ブロック１１と同様に、ガラス基板３の幅よりも短くなっている。基板載置台１６は、基板載置台１や基板浮上ブロック１１と同様に、その上面（搬送面）にエアー吹き上げ用の複数の空気孔１８を設けてガラス基板３をエアー浮上させる基板浮上ブロックに構成されている。空気孔１８は、基板載置台１６の全面にほぼ均一に設けられている。
また、この基板載置台１６上には、２本の溝１９が互いに所定の間隔をおいて搬送方向Ｃに沿って形成されている。さらに、この基板載置台１６には、ガラス基板３の搬出時に昇降する複数（図示例では９個）のリフトピン２０が設けられている。この基板載置台１６の上面の高さは、基板浮上ブロック１１の上面の高さとほぼ同一となっている。
なお、この基板載置台１６も基板載置台１と同様に、複数に分割された各ブロック間（溝１９）の間隔を調整して基板載置台１６の幅方向の寸法を変えられるようにしても構わない。
【００２４】
基板載置台１６の幅方向の一端部側には、搬出用搬送ロボット２１が設けられている。この搬出用搬送ロボット２１は、図示しない多関節アームにより２本のハンドアーム２２を回転、前進及び後退させながら検査済みのガラス基板３をカセット内に収納する。
搬送架台９及び除振台１７上には、基板浮上ブロック１１及び基板載置台１６を挟んで各スライダ２３〜２８が一対一組として複数組み搬送方向Ｃに沿って互いに平行に設けられている。
搬送方向Ｃの両端部に位置する二組のスライダ２３，２４，２７，２８は、搬送方向Ｃの中間部に位置する一組のスライダ２５，２６よりも幅方向外側に設けられている。
【００２５】
基板載置台１の出口側から搬送架台９の中間部までの間に配された一対のスライダ２３，２４には、搬送方向Ｃ及びその逆方向に移動可能な搬送端部２９，３０が各々設けられている。各搬送端部２９，３０は、鉛直方向に伸縮可能かつ回転自在に取り付けられたアーム２９ａ，３０ａと、アーム２９ａ，３０ａの先端部に設けられ、搬送方向Ｃに沿うガラス基板３の両端部に位置するガラス基板３の下面を吸着保持する吸着パッド２９ｂ，３０ｂと、搬送端部２９，３０の内部に設けられ、アーム２９ａ，３０ａを搬送方向Ｃ及び鉛直方向に移動させるプランジャとを備えている。
【００２６】
また、搬送架台９の中間部から出口側までの間に配された一対のスライダ２５，２６にも、搬送方向Ｃ及びその逆方向に移動可能な搬送端部３１，３２が各々設けられている。各搬送端部３１，３２は、前述した搬送端部２９，３０と同様に、アーム３１ａ，３２ａと吸着パッド３１ｂ，３２ｂとを備えている。
さらに、搬送架台９の出口側から基板載置台１６の出口側までの間に配された一対のスライダ２７，２８にも、搬送方向Ｃ及びその逆方向に移動可能な搬送端部３３，３４が各々設けられている。各搬送端部３３，３４は、前述した搬送端部２９，３０と同様に、アーム３３ａ，３４ａと吸着パッド３３ｂ，３４ｂとを備えている。
【００２７】
なお、搬送方向Ｃの両端部に位置する二組のスライダ２３，２４，２７，２８は、搬送方向Ｃの中間部に位置する一組のスライダ２５，２６よりも幅方向外側に設けられているため、両端部に位置する各スライダ２３，２４，２７，２８の吸着パッド２９ｂ，３０ｂ，３３ｂ，３４ｂの幅方向の位置は、中間部に位置する各スライダ２５，２６の吸着パッド３１ｂ，３２ｂの幅方向の位置と同一となるように各アーム２９ａ，３０ａ，３３ａ，３４ａの長さが設定されている。
【００２８】
この基板搬送装置は、上記構成の他に、圧搾空気供給部４６、真空吸着部４７、移動制御部４８及び端部支持機構４９を備えている。
圧搾空気供給部４６は、配管を通して搬入用の基板載置台１、基板浮上ブロック１１及び搬出用の基板載置台１６の各空隙部に連通し、各空隙部に選択的に圧搾エアーを供給して各空気孔４，１２，１８から圧搾エアーを吹き上げるものである。この圧搾エアーにより搬入用の基板載置台１、基板浮上ブロック１１または搬出用の基板載置台１６上においてガラス基板３を浮上させることができる。また、この圧搾空気供給部４６は、各空気孔４，１２，１８から除電効果を有するエアー、例えば、プラスイオンまたはマイナスイオンにイオン化されたエアーを吹き上げるようになっている。これら空気孔４，１２，１８及び圧搾空気供給部４６により基板浮上機構１０１が構成されている。
真空吸着部４７は、配管を通して各吸着パッド２９ｂ〜３４ｂに連通し、これら吸着パッド２９ｂ〜３４ｂを選択的に真空引きしてガラス基板３を吸着保持するものである。移動制御部４８は、各スライダ２３〜２８上における搬送端部２９〜３４の移動制御を行うものである。
これらスライダ２３〜２８、搬送端部２９〜３４、真空吸着部４７及び移動制御部４８によりガラス基板３を搬送方向Ｃに移動させる搬送機構１０２が構成されている。
【００２９】
端部支持機構４９は、搬送方向Ｃに沿う基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の両端部（両側部）に近接して設けられ、ガラス基板３の両端部を下面側から支持するものである。この端部支持機構４９は、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の両側部に対して着脱可能に取り付けられた複数の支持ユニット５１を備えている。
各支持ユニット５１には、図３に示すように、複数のローラ（回転支持部材）５３が回転可能に取り付けられており、各ローラ５３は、その周面の一部が基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の上面から微小に突出するように配されている。各ローラ５３の突出長さは、圧搾エアーによるガラス基板３の浮上高さとなるように設定されている。また、搬送方向Ｃに隣接して並べられたローラ５３は、ガラス基板３に接触する周面が合成樹脂等のガラス基板３よりも柔らかい耐摩耗性材料からなり、互いに接触しない程度に近づけて配されている。これらローラ５３は、ガラス基板３が搬送方向Ｃに移動した際に、ガラス基板３の下面を転がる方向（Ｊ方向）に回転するようになっている。また、ローラ５３は、ガラス基板３に対してスリップしない摩擦力が得られる程度に細い幅寸法を有しているとよい。
【００３０】
なお、ガラス基板３には、ディスプレイを構成するパターン領域Ｇが複数（例えば、４面、６面）形成されており、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の幅寸法は、搬送方向Ｃに沿うパターン領域Ｇの最も外側の幅寸法と略同一となるように設定される。これにより、パターン領域Ｇが形成されていないガラス基板３の両端部が、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の両側部から突出することになる。そして、各ローラ５３は、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の両側部に沿って密に配置され、ガラス基板３の両端部を下面側から支持するようになっている。
【００３１】
次に、上記のように構成された基板搬送装置の動作について説明する。
基板載置台１にガラス基板３を載置する際には、図１，２に示すように、予め搬入側に位置するスライダ２３，２４上の搬送端部２９，３０を基板載置台１側に移動させ、待機させておく。
この状態から、搬入用搬送ロボット７は、ハンドアーム８を回転、前進及び後退して未検査のガラス基板３をカセットから取り出し、基板載置台１の上方に搬送する。また、この搬送と同時に、基板載置台１の各リフトピン６が上昇する。次いで、搬入用搬送ロボット７は、ハンドアーム８を下降させてガラス基板３を各リフトピン６上に載置する。そして、各リフトピン６が下降することにより、ガラス基板３が基板載置台１上に載置されることになる。
この状態においては、ガラス基板３の幅寸法が基板載置台１の幅よりも長いため、搬送方向Ｃに沿うガラス基板３の両端部が基板載置台１の両側部から突出する。また、この状態においては、図３（ｂ）に示すように、パターン領域Ｇの最も外側の両端部より外側に位置するガラス基板３の端部下面がローラ５３に接触することになる。
【００３２】
ガラス基板３の載置が終了すると、搬入側に位置する搬送端部２９，３０は、図４に示すように、それぞれアーム２９ａ，３０ａを上昇させると共に、真空吸着部４７により吸着パッド２９ｂ，３０ｂの真空引きを行い、吸着パッド２９ｂ，３０ｂをガラス基板３の下面に吸着させる。これら吸着パッド２９ｂ，３０ｂの吸着位置は、前述したローラ５３の接触位置よりもさらにガラス基板３の幅方向の外方側であり、かつ、搬送方向Ｃに向かうガラス基板３の前方側である。この状態において、吸着パッド２９ｂ，３０ｂは、基板載置台１の上面高さよりも僅かに上昇し、ガラス基板３とローラ５３との接触位置と略同一の高さに位置する。
【００３３】
このガラス基板３の吸着と同時に、圧搾空気供給部４６は、配管を通して搬入用の基板載置台１及び基板浮上ブロック１１の空隙部に圧搾エアーを供給し、空気孔４，１２から圧搾エアーを吹き上がらせる。この際には、除電効果を有するイオン化された圧搾エアーをガラス基板３に吹き付けるため、ガラス基板３の静電気を中和してガラス基板３の帯電を阻止することができる。
また、この際には、基板載置台１とガラス基板３との間にはエアー層が形成され、ガラス基板３が基板載置台１の上面から浮上する。そして、空気孔４から吹き上げられたエアーは、前述のエアー層に留まることなく基板載置台１の溝５を通して流れる。このため、ガラス基板３は平面度を保って基板載置台１上に浮上することになる。なお、ローラ５３は、圧搾エアーによって浮上したガラス基板３の下面の高さと略同一となっているため、ガラス基板３が下方に反ったり、撓んでいてもガラス基板３の両端部が各ローラ５３により水平に矯正され、ガラス基板３は基板載置台１の搬送面に接することなく浮上する。
【００３４】
その後、移動制御部４８は、図５に示すように、ガラス基板３の下面に吸着した吸着パッド２９ｂ，３０ｂを有する２つの搬送端部２９，３０を同一の速度で同期させて各スライダ２３，２４上を搬送方向Ｃに移動させる。これにより、ガラス基板３は、浮上して基板載置台１及び基板浮上ブロック１１の上面に接触しない状態で搬送端部２９，３０により基板載置台１から基板浮上ブロック１１に搬送されることになる。また、この際には、基板載置台１及び基板浮上ブロック１１に設けられたローラ５３が、パターン領域Ｇの外方側に位置するガラス基板３の両端部の下面に接触してＪ方向に回転する。
【００３５】
ガラス基板３の基板浮上ブロック１１への搬送が終了した際には、圧搾空気供給部４６が、搬入用の基板載置台１の空気孔４への圧搾エアーの供給を停止する。また、この際には、移動制御部４８が、中間部に位置する２つのスライダ２５，２６上の搬送端部３１，３２を搬送方向Ｃとは逆方向に移動させる。
これら搬送端部３１，３２は、ガラス基板３の下方に到達すると、スライダ２５，２６上の基板受け渡し基準位置に停止し、各アーム３１ａ，３２ａを上昇させて、真空吸着部４７により吸着パッド３１ｂ，３２ｂをガラス基板３の下面に吸着させる。これら吸着パッド３１ｂ，３２ｂの吸着位置は、ローラ５３の接触位置よりもさらにガラス基板３の幅方向の外方側で、搬送方向Ｃに向かうガラス基板３の前方側である。
吸着パッド３１ｂ，３２ｂがガラス基板３に吸着すると、真空吸着部４７による搬送端部２９，３０の各吸着パッド２９ｂ，３０ｂの吸着が解除され、各アーム２９ａ，３０ａが下降する。これにより、ガラス基板３の吸着保持が搬送端部２９，３０から搬送端部３１，３２に受け渡される。その後、２つの搬送端部２９，３０は、それぞれのスライダ２３，２４上を搬送方向Ｃとは逆方向（後方）に移動し、搬入用の基板載置台１の基板受け渡し基準位置に停止して待機する。
【００３６】
ガラス基板３の受け渡しが終了すると、ガラス基板３を吸着保持した搬送端部３１，３２は、図６に示すように、同一の速度で同期して各スライダ２５，２６上を搬送方向Ｃに移動する。この際には、基板浮上ブロック１１の両側部に近接して設けられたローラ５３が、パターン領域Ｇの外方側に位置するガラス基板３の両端部の下面に接触してＪ方向に回転する。これにより、基板浮上ブロック１１上に浮上しているガラス基板３は、搬送端部３１，３２により引っ張られて検査部Ｅに到達する。
検査部Ｅでは、例えば、ラインセンサを備えた検査用機器１５を用いてガラス基板３の各種検査により取得された画像データに基づいてガラス基板３のパターン検査、欠陥検査等が行われる。
【００３７】
検査部Ｅでの検査が終了すると、ガラス基板３を吸着保持した搬送端部３１，３２が、同一の速度で同期して各スライダ２５，２６上を移動して、ガラス基板３を搬送方向Ｃに搬送する。この際には、基板浮上ブロック１１及び基板載置台１６に設けられたローラ５３が、パターン領域Ｇの外方側に位置するガラス基板３の両端部の下面に接触してＪ方向に回転する。
ガラス基板３が基板浮上ブロック１１の出口側に到達すると、ガラス基板３の吸着保持が基板浮上ブロック１１側に位置する搬送端部３１，３２から搬出用の基板載置台１６側に位置する搬送端部３３，３４に受け渡されると共に、圧搾空気供給部４６が搬出用の基板載置台１６の空気孔１８に圧搾エアーを供給する。これら搬送端部３１，３２から搬送端部３３，３４へのガラス基板３の受け渡しは、前述した搬送端部２９，３０から搬送端部３１，３２への受け渡しと同様に行われる。
【００３８】
ガラス基板３の受け渡しが終了すると、搬送端部３３，３４は、スライダ２７，２８上を移動してガラス基板３を搬送方向Ｃに搬送する。そして、ガラス基板３が搬出用の基板載置台１６の上方に到達すると、各搬送端部３３，３４は、基板受け渡し基準位置に停止する。
基板載置台１６においては、圧搾空気供給部４６が基板載置台１６の空気孔１８への圧搾エアーの供給を停止する。この際には、真空吸着部４７によるガラス基板３の下面に対する吸着を解除し、各アーム３３ａ，３４ａを下降させると共に、リフトピン２０を上昇させてガラス基板３を持ち上げる。これにより、ガラス基板３は、リフトピン２０上に載置されることになる。搬出用搬送ロボット２１は、ハンドアーム２２を回転、前進及び後退させて、リフトピン２０上から検査済みのガラス基板３を受け取りカセット内に収納する。
これ以降、複数のガラス基板３に対して基板載置台１への搬入、エアー搬送、検査及び基板載置台１６からの搬出が順次繰り返される。
【００３９】
上記のように、この基板搬送装置によれば、ローラ５３が基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の両側部より突出するガラス基板３の端部下面に接触して支持するため、ガラス基板３を搬送する際には、搬送方向Ｃに沿うガラス基板３の両端部が下方側に撓むことを防止でき、また、ガラス基板３が下方側に反っていてもガラス基板３の両端部を水平に矯正できる。
したがって、ガラス基板３の両端部が基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１に接することなく安定して搬送でき、かつ、ガラス基板３が基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１に接して傷つくことを防止できる。さらに、ガラス基板３のパターン領域Ｇの外側をローラ５３が支持することにより、ガラス基板３のパターン領域Ｇを非接触状態で搬送することができるため、このパターン領域Ｇに対応するガラス基板３の下面が傷つくことも防止できる。
さらに、従来のように、ガラス基板３の両端部を狭持することもないため、ガラス基板３に対する外的負荷を軽減することもできる。
【００４０】
また、ガラス基板３が基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１上を搬送方向Ｃに移動する際には、ローラ５３がガラス基板３の搬送方向Ｃに転がるように回転するため、ガラス基板３とローラ５３との滑り摩擦が非常に小さくなる。したがって、この滑り摩擦によってガラス基板３が傷つくことも防止できる。
さらに、ローラ５３を交換する際には、複数のローラ５３を取り付けた複数の支持ユニット５１を基板載置台１，１６や基板浮上ブロック１１に対して着脱可能にすることにより、所望の支持ユニット５１を簡単に交換でき、多数のローラ５３を支持ユニット５１毎に一括して取り替えることができる。したがって、ローラ５３の交換を短時間で容易に行うことができる。
【００４１】
なお、上記の実施の形態においては、支持ユニット５１にローラ５３を回転可能に取り付けるとしたが、これに限ることはなく、例えば、図７に示すように、搬送方向Ｃに加えて基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の幅方向を含む多方向に回転可能な複数の玉５５を支持ユニット５１に取り付けるとしても良い。
すなわち、各玉５５は、玉保持器５７によって玉５５の中心点を軸に回転可能に保持されており、この玉保持器５７が支持ユニット５１に固定されている。また、各玉５５は、ローラ５３の場合と同様に、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の上面から微小に突出して配されており、ガラス基板３の下面に接触するようになっている。そして、基板浮上機構１０１により浮上したガラス基板３の下面の高さ位置は、ガラス基板３と玉５５との接触位置と略同一となっている。
【００４２】
この構成においては、ガラス基板３が搬送方向Ｃに移動する場合だけでなく、搬送方向Ｃに直交する基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の幅方向に移動しても、ガラス基板３と玉５５との間に滑り摩擦が発生しないため、ガラス基板３が傷つくことを確実に防止できる。特に、基板搬入側の基板載置台１又は基板浮上ブロック１１上においてガラス基板３の位置調整を行う場合には、ガラス基板３をエアー浮上させた状態で目標とする基準位置に向けて、基板載置台１又は基板浮上ブロック１１の搬送面に沿う方向に移動させる際に有効である。
【００４３】
また、例えば、図８に示すように、搬送方向Ｃに沿って形成され、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の上面側に露出する接触軌道５９と、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の上面側から離して形成され、接触軌道５９の形成方向の両端を相互に連結する循環軌道６１とを有する循環部材を基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１に対して着脱可能な支持ユニット６３に設け、これら接触軌道５９及び循環軌道６１に複数の玉５５を配するとしても構わない。なお、各玉５５は、隣接する他の玉５５に接触するように配されることが好ましい。
この構成では、ガラス基板３を搬送方向Ｃに移動させた際に、ガラス基板３に接触している玉５５が転がって接触軌道５９の一端５９ａから他端５９ｂまで移動することになる。そして、接触軌道５９の他端５９ｂに到達した玉５５は、ガラス基板３から離れた循環軌道６１を通り、接触軌道５９の一端５９ａ側に戻ることになる。
この構成においては、循環軌道６１に位置している玉５５がガラス基板３に接触しないため、１つの玉５５が常時ガラス基板３に接触することがなくなる。したがって、ガラス基板３との間の転がり摩擦による玉５５の摩耗を抑制することができ、玉５５を交換することなく長時間連続して使用することができる。
【００４４】
また、パターン領域Ｇの外方側に近接して位置するガラス基板３の両端部の支持は、ガラス基板３の下面に接触させるローラ５３や玉５５により行われるとしたが、これに限ることはなく、例えば、図９に示すように、パターン領域Ｇの外方側に近接して位置するガラス基板３の下面に圧搾エアーを吹き付けて支持するとしても良い。
すなわち、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１に対して着脱可能な支持ユニット６４には、端部浮上機構６５が形成されている。この端部浮上機構６５は、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の上面側に露出し、搬送方向Ｃに沿って並べられた複数の空気孔（空気吹出部）６７と、これら複数の空気孔６７と圧搾空気供給部４６とを結ぶ連通路６９とを備えている。
【００４５】
この構成においては、端部浮上機構６５の各空気孔６７からガラス基板３の下面に向けて圧搾エアーを吹き出すことにより、ガラス基板３の両端部も非接触で支持することが可能となり、ガラス基板３全体を非接触で搬送できるため、ガラス基板３が傷つくことを確実に防止できる。
また、複数の支持ユニット６４には、それぞれ圧搾エアーを吹き出す空気孔６７が複数設けられているため、各支持ユニット６４を基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１に対して着脱することにより、所望の支持ユニット６４を簡単に交換でき、支持ユニット６４毎に多数の空気孔６７を一括して交換することができる。したがって、空気孔６７の交換を短時間で容易に行うことができる。
【００４６】
なお、上記のように、圧搾エアーを利用してパターン領域Ｇの外方側に近接するガラス基板３の両端部を支持する場合には、搬送方向Ｃに沿う基板載置台１，１６又は基板浮上ブロック１１の両側部にガラス基板３の両端部に向けて圧搾エアーを吹き出す空気孔を直接形成しても構わない。
また、ガラス基板３の両端部を支持する圧搾エアーは、搬送方向Ｃに沿って配列された複数の空気孔から吹き出されることに限らず、例えば、搬送方向Ｃに沿って形成された細長いスリットから吹き出されるとしても構わない。
【００４７】
また、ガラス基板３の両端部に当たった圧搾エアーが基板載置台１，１６又は基板浮上ブロック１１の両側部の外方に抜けるように、圧搾エアーの吹き出し方向を設定しておくことは、ガラス基板３を安定して浮上させて搬送できるので好ましい。
さらに、ガラス基板３の両端部に吹き付ける圧搾エアーの圧力を基板浮上用の圧搾エアーの圧力よりも高くすることは、ガラス基板３の両端部を搬送面よりもさらに上方に持ち上げてガラス基板３の両端部の下方側への反りを水平に矯正できるので好ましい。
また、端部浮上機構６５の圧搾エアーの圧力をガラス基板３の反り量や撓み量に応じて調整できるように構成することは、ガラス基板３の両端部を確実に搬送面よりも上方に持ち上げて安定して搬送できるので好ましい。
【００４８】
また、上記の実施の形態においては、ガラス基板３が、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の空気孔４，１２，１８から吹き出す圧搾エアーにより浮上するとしたが、これに限ることはなく、例えば、静電方式により浮上するとしても良い。この構成の場合には、ガラス基板に対する除電を行うと良い。
また、ガラス基板３を搬送する搬送端部２９〜３４は、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の両端部に設けられたスライダ２３〜２８上を移動するとしたが、これに限ることはない。すなわち、例えば、基板載置台１，１６及び基板浮上ブロック１１の一対の溝５，１３，１９にスライダを配し、このスライダに搬送端部を移動可能に設けるとしても構わない。
【００４９】
さらに、各吸着パッド２９ｂ〜３４ｂの吸着位置は、ガラス基板３の搬送方向Ｃに向かうガラス基板３の前方側としたが、これに限ることはなく、例えば、ガラス基板３の後方側としても良い。また、例えば、各吸着パッド２９ｂ〜３４ｂは、搬送方向Ｃの中央部に位置するガラス基板３の幅方向端部に吸着保持しても構わない。また、ガラス基板３を搬送する際には、ガラス基板３の幅方向の各端部に複数の吸着パッドを吸着させるとしてもよい。
【００５０】
また、吸着パッドによるガラス基板３の吸着保持位置は、パターン領域Ｇから外れた部分であれば、ガラス基板３の上面、若しくは上面及び下面であってもよい。
さらに、基板載置台１へのガラス基板３の載置や基板載置台１６からのガラス基板３の取り出しは、搬送ロボット７，２１の他に如何なる機構を用いてもよいし、他のラインからエアー搬送等の基板浮上搬送手段であっても構わない。
【００５１】
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】この発明の一実施形態に係る基板搬送装置を示す概略上面図である。
【図２】図１の基板搬送装置の概略側面図である。
【図３】図１の基板搬送装置において、複数のローラを備えた支持ユニットを示しており、（ａ）は、拡大側面図であり、（ｂ）は、拡大正断面図である。
【図４】図１の基板搬送装置において、基板載置台上にガラス基板を浮上させた状態を示す概略側面図である。
【図５】図１の基板搬送装置において、ガラス基板のエアー搬送動作を示す概略側面図である。
【図６】図１の基板搬送装置において、ガラス基板のエアー搬送動作を示す概略側面図である。
【図７】この発明の他の実施形態に係る基板搬送装置において、複数の玉を備えた支持ユニットを示しており、（ａ）は、拡大側面図であり、（ｂ）は、拡大正断面図である。
【図８】この発明の他の実施形態に係る基板搬送装置において、接触軌道及び循環軌道に配された複数の玉を備えた支持ユニットを示しており、（ａ）は、拡大側断面図であり、（ｂ）は、拡大正断面図である。
【図９】この発明の他の実施形態に係る基板搬送装置において、空気吹出部を備えた支持ユニットを示しており、（ａ）は、拡大側断面図であり、（ｂ）は、拡大正断面図である。
【符号の説明】
【００５３】
１，１６  基板載置台（基板浮上ブロック）
３  ガラス基板
１１  基板浮上ブロック
４９  端部支持機構
５１，６３，６４  支持ユニット
５３  ローラ（回転支持部材）
５５  玉
６７  空気孔（空気吹出部）
１０２  搬送機構
Ｃ  搬送方向
Ｇ  パターン領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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