(57)【要約】【課題】光路差による位相ズレの生じない傾斜機能を有するＮＤフィルターを容易に製造する製造方法および、光路差による位相ズレの生じない傾斜機能を有するＮＤフィルターを提供する。  【解決手段】  第１のチャンバ６と第２のチャンバ７とを搬送管８を介して連通してガスデポジション成膜装置を構成する。ガスデポジション法により傾斜機能を有するＮＤフィルターを形成する際に、第２のチャンバ７内の圧力を第１のチャンバ６内の圧力より低く維持して、第１のチャンバ６内の粒子を、搬送管８を通じて第２のチャンバ７に供給する。搬送管８の一端に接続したノズル９から粒子を噴出させて、第２のチャンバ７内に設置した基板１１に衝突させ、粒子の密度分布の勾配が生じるように形成する。ノズルを取り替えることにより、所望の粒子の密度分布を形成する。【選択図】        図３
2005077524.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の粒子が配置された基板を有するＮＤフィルターの製造方法であって、
第１のチャンバと、前記第１のチャンバに搬送管を介して連通して構成された第２のチャンバとを用い、
前記第２のチャンバの内部の圧力を前記第１のチャンバの内部の圧力よりも低い圧力に維持することにより、前記第１のチャンバの内部に用意された複数の粒子を、前記搬送管を通じて前記第２のチャンバに供給し、前記第２のチャンバ内に設置された基板に衝突させる工程を有する
ことを特徴とするＮＤフィルターの製造方法。
【請求項２】
基板上に複数の粒子が配置されているとともに、複数の粒子が基板上において密度分布を有する
ことを特徴とするＮＤフィルター。
【請求項３】
前記密度分布が、前記基板における中央部の粒子密度が高く、前記基板における周囲または端部の粒子密度が低くなる密度勾配を有する
ことを特徴とする請求項２記載のＮＤフィルター。
【請求項４】
前記密度分布が、前記基板における中央部の粒子密度が低く、前記基板における周囲または端部の粒子密度が高くなる密度勾配を有する
ことを特徴とする請求項２記載のＮＤフィルター。
【請求項５】
前記密度分布が、前記基板における両端部のうちの一方の端部の粒子密度が高く、他方の端部になるほど粒子密度が低くなる密度勾配を有する
ことを特徴とする請求項２記載のＮＤフィルター。
【請求項６】
前記基板の少なくとも一方の面に、反射防止膜が形成されている
ことを特徴とする請求項２から請求項５のいずれか１項記載のＮＤフィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ＮＤフィルターおよびその製造方法に関し、特に、ビデオカメラ、デジタルカメラなどの撮影装置に用いられるＮＤフィルターおよびその製造に適用して好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、撮影系において、被写体輝度が高すぎるときに、絞りを最小径に絞って、開口径を最小にしても、感光面に所定量以上の光量の光が入射する場合がある。そのため、撮影系の一部にＮＤフィルターを装着して感光面に入射する入射光量を規制する方法が採用されている（特許文献１参照）。
【０００３】
そして、近年、撮像素子の感度の上昇に伴い、ＮＤフィルターの濃度を濃くして、光の透過率をさらに低下させ、被写体の明るさが同一であっても絞りの開口を大きくするようになってきている。
【０００４】
しかしながら、ＮＤフィルターの濃度を濃くしてしまうと、フィルターを通過した光とフィルターを通過しない光との光量差が大きくなり、解像度が低下するという問題がある。
【０００５】
そこで、この問題を解決するために、濃度に勾配を持たせたＮＤフィルター（特許文献２参照）が用いられるようになり、特に、光軸中心に向かって順次透過率が大きくなるＮＤフィルターが用いられてきている。
【０００６】
また、通常、撮影装置においては、互いに濃度が異なる複数枚のＮＤフィルターが設けられており、状況に合わせて、それぞれの濃度のＮＤフィルターを光路に配置する方法が採用される。
【０００７】
このように、透過率に傾斜を持たせたＮＤフィルターを用いることにより、移動距離の制御を行って、１枚のＮＤフィルターで透過率を自由制御することができるので、撮影装置自体を小型化することができる。さらに、ＮＤフィルターの濃度勾配を急勾配とすることにより、装置自体の小型化を図ることができる。
【０００８】
このようなＮＤフィルターの製造においては、真空蒸着法によりマスクを組み合わせて作製する手法（特許文献３参照）や、フィルム状の材料に光を吸収する有機色素や顔料などを塗布する手法（特許文献４参照）が採用されている。また、その他のＮＤフィルターとしては、特許文献５に開示されたものもある。
【０００９】
また、ガスデポジション法については、特許文献６、特許文献７、特許文献８および特許文献９などに開示されている方法が採用される。
【００１０】
【特許文献１】特開２０００−９０７９９号公報
【特許文献２】特開平６−１６７７３８号公報
【特許文献３】特開平１１−０３８２０６号公報
【特許文献４】特開平１０−０９６９７１号公報
【特許文献５】特開平６−２２２２１０号公報
【特許文献６】特許第２５２４６２２号公報
【特許文献７】特許第１５９５３９８号公報
【特許文献８】特許第２６３２４０９号公報
【特許文献９】特許第２５９６４３４号公報
【特許文献１０】特開平５−２９５５２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上述の従来のＮＤフィルターにおいては、次のような問題があった。すなわち、上述した膜厚により濃度差が形成されたＮＤフィルターは、濃淡部の膜厚が異なるため、光の光路差により位相ズレが生じ、部分によってコントラストの差、つまり色むらの原因になるといった問題があった。
【００１２】
また、濃度勾配を極端につけると、ＮＤフィルターにおける色むらがより顕著になるため、急な濃度勾配をつけられないという問題もある。さらには、工程が煩雑になってしまうため、製造が困難である。
【００１３】
したがって、この発明の目的は、光路差による位相ズレの生じない傾斜機能を有するＮＤフィルターを容易に製造可能なＮＤフィルターおよびその製造方法を提供することにある。
【００１４】
また、この発明の他の目的は、光路差による位相ズレの生じない傾斜機能を有するＮＤフィルターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前記目的を達成するために、この発明は、
基板上に複数の粒子が配置された基板を有するＮＤフィルターの製造方法であって、
第１のチャンバと、前記第１のチャンバに搬送管を介して連通して構成された第２のチャンバとを用い、
前記第２のチャンバの内部の圧力を前記第１のチャンバの内部の圧力よりも低い圧力に維持することにより、前記第１のチャンバの内部に用意された複数の粒子を、前記搬送管を通じて前記第２のチャンバに供給し、前記第２のチャンバ内に設置された基板に衝突させる工程を有する
ことを特徴とするものである。
【００１６】
この発明の第２の発明は、
基板上に複数の粒子が配置されているとともに、複数の粒子が基板上において密度分布を有する
ことを特徴とするＮＤフィルターである。
【００１７】
また、第３の発明は、第２の発明において、密度分布が、前記基板における中央部の粒子密度が高く、前記基板における周囲または端部の粒子密度が低くなる密度勾配を有するＮＤフィルターであり、好適には、密度分布が、基板の中央部の粒子密度が高く、周囲または端部になるに従って、粒子密度が低くなる密度勾配を有するＮＤフィルターである。
【００１８】
また、第４の発明は、第２の発明において、前記密度分布が、前記基板における中央部の粒子密度が低く、前記基板における周囲または端部の粒子密度が高くなる密度勾配を有するＮＤフィルターであり、好適には、基板の中央部の粒子密度が低く、周囲または端部になるに従って、粒子密度が高くなる密度勾配を有するＮＤフィルターである。
【００１９】
また、第５の発明は、第２の発明において、密度分布が、前記基板における両端部のうちの一方の端部の粒子密度が高く、他方の端部になるほど粒子密度が低くなる密度勾配を
有するＮＤフィルターであり、好適には、基板における両端部のうちの一方の端部の粒子密度が高く、他方の端部に近づくに従って粒子密度が低くなる密度勾配を有するＮＤフィルターである。
【００２０】
また、第６の発明は、第２の発明から第５の発明のいずれかの発明において、基板の片面または両面、すなわち少なくとも一方の面に、反射防止膜が形成されたＮＤフィルターである。また、好適には、この反射防止膜は、ガスデポジション法により形成された膜である。
【００２１】
この第６の発明によれば、ＮＤフィルター上の微粒子をガスデポジション法によって形成しているので、傾斜機能を有するＮＤフィルターを容易に形成することが可能となる。
【００２２】
また、第７の発明は、第２の発明から第６の発明のいずれかの発明において、不活性ガス雰囲気中で粒子が形成され、この形成された粒子をキャリアガスとともに搬送し、ノズルを通して基板上に密着させるガスデポジション法により、複数の粒子が基板上に配置されたＮＤフィルターである。
【００２３】
この発明は、上述の解決手段における技術的思想を含み、これらの技術的思想のあらゆる組み合わせを包含するものである。
【発明の効果】
【００２４】
この発明によれば、数ｎｍ〜数μｍの粒径を有する微粒子からなるドットパターンにより形成された傾斜機能を有するＮＤフィルターを得ることができ、従来技術に比して膜厚差からくる位相ズレや色むらを防止することができるとともに、可視域において、透過特性および反射特性がフラットとなるＮＤフィルターを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、この発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の一実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。図１に、この一実施形態によるＮＤフィルターの模式図を示し、図２に、従来のＮＤフィルターの模式図を比較例として示す。
【００２６】
なお、この発明の一実施形態において、粒子とは、粒径が数ｎｍ〜数μｍの微粒子をいう。また、この発明の一実施形態におけるＮＤフィルターは、粒子のドットパターンからなり、この粒子ドットの密度で透過率勾配をつけるものである。
【００２７】
すなわち、図１に示すように、この一実施形態によるＮＤフィルターは、基板１上に微粒子５が配置され、これらの微粒子５の存在により、光量が制御されるフィルターであり、図２に示す従来のＮＤフィルターのように、膜の膜厚によって制御するものではない。
【００２８】
すなわち、この一実施形態によるＮＤフィルターは、図１Ａおよび図１Ｂにおける光線３に示すように、基板１上における粒子５の存在する位置においては、遮光されて光が透過せず、光線４に示すように粒子５のない位置においては、光が透過する。
【００２９】
すなわち、この一実施形態によるＮＤフィルターは、微粒子５からなるドットによって、光の透過のＯＮ／ＯＦＦが制御されるものである。そのため、図２に示す従来のＮＤフィルターのように、膜厚の差が生じることがない。
【００３０】
これにより、比較例である従来のＮＤフィルターにおいては、図２に示すように、基板１上に膜厚勾配膜２が設けられているため、光路ａと光路ｂとにおいて膜厚の違いによる
光路差が生じるが、この一実施形態によるＮＤフィルターにおいては、透過した光においても、膜厚の差に起因する光路差が生じることがない。そのため、この一実施形態によるＮＤフィルターにおいて、位相差が生じないため、色むらが発生することも防止することができる。
【００３１】
この微粒子５によるドットパターンは、例えば、ガスデポジション法により形成される。これにより、微粒子による濃度分布を容易に形成することができ、透過率分布を容易に形成することが可能となる。ここで、このガスデポジション法について、以下に具体的に説明する。図３に、この一実施形態によるガスデポジション成膜装置の概略構成図を示す。
【００３２】
図３に示すように、この一実施形態によるガスデポジション成膜装置は、「微粒子生成室」とも称される第１のチャンバ６、「微粒子膜形成室」とも称される第２のチャンバ７、搬送管８、この搬送管８の第２のチャンバ７内に位置する先端に取付けられたノズル９を有して構成されている。なお、ノズル９は、搬送管８と別の部材から構成したり、搬送管８の先端をノズル状に形成したりすることにより代用することも可能である。
【００３３】
また、このガスデポジション成膜装置には、基板１１を固定可能なステージ１０、搬送管８の下方にアーク放電によって蒸発される蒸発材と称される材料を載置可能なハースライナーなどの容器１２およびアーク放電用の第１の電極１３が設けられている。なお、容器１２は、第２の電極（図示せず）に電気的に接続されている。
【００３４】
また、第１のチャンバ６内の圧力を制御可能に構成された真空ポンプなどからなる第１の圧力制御部１４、不活性ガスなどのキャリアガスが貯蔵され保存されているキャリアガスボンベ１５、および第２のチャンバ７内の圧力を制御可能に構成された第２の圧力制御部２０が接続されている。ここで、この一実施形態においては、第１のチャンバ６内の圧力は、第２のチャンバ７内の圧力よりも高い状態に維持される。
【００３５】
このような圧力関係の状態において、第１の電極１３と第２の電極（図示せず）との間に所定の電圧を印加させることにより、アーク放電を生じさせ、容器１２上の蒸発材１２ａの一部を連続的に蒸発させる。
【００３６】
そして、蒸発されて放出した蒸発材１２ａの蒸発原子分子は、キャリアガスの分子と衝突することによって、超微粒子化される。この超微粒子は、第１のチャンバ６内と第２のチャンバ７内との圧力差により、搬送管８の第１のチャンバ６側の一端から吸引されて、第２のチャンバ７内に供給される。
【００３７】
そして、超微粒子は、搬送管８の第２のチャンバ７内に位置する他端のノズル９を通じて基板１１に向けて噴射される。
【００３８】
以上のようにして、超微粒子５が基板１１上に蒸着されて、適切な状態に配置される。そして、この一実施形態によるＮＤフィルターの製造方法においては、ガスデポジション法により、ノズル９からの噴射における流速分布を利用して、基板１１上の微粒子５に関して配置密度分布を変化させて、傾斜機能を持たせるものである。図４に、このＮＤフィルターにおける粒子の配置密度分布を濃淡で示す。
【００３９】
すなわち、図４Ａに示すように、ＮＤフィルターの中央部の濃度が高く、周囲ほど濃度が低くなるような密度分布の傾斜を形成する場合は、図５に示すように、先が細く形成された先細ノズルにより、ノズル９内における流速分布を利用して、密度分布の傾斜を形成する。
【００４０】
すなわち、通常、搬送管８の内部においては、搬送管８の円断面における中央部の流速が最も速くなり、他方、中央部から周辺になるほど流速は遅くなる。この物理現象に加え、さらに図５に示す先端が絞られたノズルを用いることにより、中央部の流速が最も早く、周辺部になるほど流速が遅くなるという傾向がより強調されたものになる。
【００４１】
そこで、このような原理を利用して、基板１１と先細ノズルからなるノズル９とを固定して、微粒子５を噴射することによって、ＮＤフィルターにおける中央部の粒子密度が高い、いわゆる高濃度のパターンを形成することが可能となる。
【００４２】
さらに、シャッター機構を組み合わせて成膜することによって、独立した微粒子パターンを形成することができる。ここで、このシャッター機構は、ノズル９と基板１１との間に設けるのが望ましい。なお、搬送管８における超微粒子を吸い込む位置をすばやく移動させることにより、シャッター機構と同等の方法（特許文献１０参照）を採用することも可能である。
【００４３】
さらに、ノズル９の加熱温度や、ノズル９の絞り部における傾斜角度θ、直線部の長さＬを適宜調整することによって、密度傾斜や密度の度合いを制御することも可能である。
【００４４】
他方、図４Ｂに示すように、基板１１の中央部ほど透過率が高く周辺部になるほど透過率が低くなるような密度勾配を有するＮＤフィルターを形成する場合は、図６に示すように、ノズル９の内部や搬送管８に、一般にベーンと称される円錐状の構造物を挿入するのが望ましい。
【００４５】
このような構造物を搬送管８やノズル９の内部の挿入することにより、搬送管８の中央部の流速が速くなっている状態を、反転させて、逆に搬送管８の円筒内周部近傍、いわゆる搬送管８の内部における断面周辺部の流速を速くすることができる。これにより、周辺部の濃度が高く中央部ほど濃度が低くなる傾斜を有するＮＤフィルターを形成することが可能となる。
【００４６】
なお、このベーンなどの構造物は、極めて細い線などを用いて搬送管８やノズル９に固定することが可能であるが、この構造物自体を磁性体により構成することにより、搬送管８の外部やノズル９の外部から永久磁石や電磁石などによって、搬送管８やノズル９の内部で浮遊させる方法を採用することも可能である。
【００４７】
また、図７に示すような密度の傾斜を形成する場合においては、２枚の基板１１を、それぞれそれらの辺どうしを隣接させ、上述した中央部分の流速が速くなる先細ノズルからなるノズル９の円断面の中央部を、基板１１における接触した部分に沿って走査させるように２枚の基板１１を移動させるようにする。このような方法を採用することにより、１回の走査（スキャン）によって濃度勾配を有する２枚のＮＤフィルターを形成することが可能となる。
【００４８】
また、通常、ＮＤフィルターには、反射防止効果も求められる。そのため、上述したように形成された基板１１の微粒子形成面、または基板１１の裏面側に、種々の方法により反射防止膜が成膜される。
【００４９】
すなわち、具体的には基板１１より屈折率の低い材料を、ガラス基板やＰＥＴ基板に対して、二フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）などを真空蒸着法により成膜することによって
、反射防止膜を形成することが可能である。また、反射率をより低下させる必要がある場合は、多層膜を形成することも可能である。
【００５０】
さらに、上述したガスデポジション法により、炭素（Ｃ，カーボン）などの、光を吸収する材料を成膜することにより、同様の反射防止効果を得ることができる。本発明者の知見によれば、基板１１の光学有効面に均一に成膜するためには、ノズル９より均一に噴射可能に構成されたスリット状ノズルやスプレー型ノズルを用いるのが好ましい。
【実施例１】
【００５１】
次に、上述した一実施形態に基づいた第１の実施例について説明する。
【００５２】
この第１の実施例においては、図４Ａに示すように、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂からなる、直径φ＝５ｍｍの円形の基板１１上に、銀（Ａｇ）の微粒子を中央部ほど密度が高く、周辺部になるほど密度が低い構成のＮＤフィルターを形成する。
【００５３】
そして、上述したガスデポジション法におけるシャッター機構を利用するとともに、図５に示す先細円形ノズルからなるノズル９を用いて、２００μｓの時間だけ噴射を行う。この先細円形ノズルは、ノズル９の内部において、円断面の中央部における流速が速く、周辺部になるほど流速が小さくなるノズルである。
【００５４】
そして、Ａｇの微粒子を基板１１上に形成した後、例えばガスデポジション法により、カーボンを成膜する。なお、このカーボンの成膜は、反射防止膜を形成して、反射防止機能を持たせるためである。
【００５５】
この反射防止膜の形成の場合、ノズル９から均一に噴射可能なスリット状のノズルを用いて、基板１１の表裏に全面均一になるように噴射する。また、基板１１を一定速度で移動させることによって、基板１１に均一に微粒子を分散させることも可能である。
【００５６】
以上の成膜におけるＡｇおよびＣの成膜条件を以下に示す。
使用材料：ＡｇおよびＣ
アークパワー（Ａｇ）：３０Ａ，１７．８Ｖ
アークパワー（Ｃ）：４０Ａ，１８．０Ｖ
超微粒子生成室圧力：７０６５９．６Ｐａ（５３０ｔｏｒｒ）
膜形成室圧力：１３３．３〜６６６．６Ｐａ（１．０〜５．０ｔｏｒｒ）
ヘリウム（Ｈｅ）流量：１０〜２０ＳＬＭ
使用ノズル吐出口径（Ａｇ）：φ５ｍｍ
使用ノズル吐出口（Ｃ）：６ｍｍ×３００μｍ
Ａｇ噴射時間：２００μｓ
Ｃ噴射時基板移動速度：１０ｍｍ／ｓ
【００５７】
本発明者は、以上のようにして形成された傾斜機能を有するＮＤフィルターの分光透過率および反射率を測定した。表１に、基板中央部から０．５ｍｍ間隔で測定した波長４００ｎｍ、５５０ｎｍおよび７００ｎｍにおける、透過率および反射率の値を示す。
【００５８】
【表１】
2005077524.tif 000003
【００５９】
次に、このように形成したＮＤフィルターをデジタルカメラに装着し、撮影した後に、色むらの評価を行ったところ、色むらは確認されず、この第１の実施例において製造されたＮＤフィルターが装着されたデジタルカメラによる撮影を良好に行うことが可能となった。  
【実施例２】
【００６０】
次に、この発明の一実施形態に基づいた第２の実施例について説明する。
【００６１】
この第２の実施例によるＮＤフィルターの製造においては、図７に示すように、具体的に、２．５×５ｍｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）からなる基板１１上に、Ａｇ微粒子からなり、基板１１の一端部から他端部にかけて粒子密度、透過率の勾配を有するＮＤフィルターを形成する場合について説明する。まず、この製造工程を以下に説明する。
【００６２】
すなわち、まず、基板１１を２枚用いて、それぞれを隣接させて例えば５×５ｍｍのサイズになるように並べ、ノズル９の中央部の真下が基板１１の隣接部分になるように配置する。次に、上述したガスデポジション法により、内径φ＝５ｍｍの先細円形ノズルを用いて、Ａｇ微粒子を噴射しながら基板１１を低速で移動させる。これにより、１回の噴射で同時に２枚のＮＤフィルターを形成することが可能となる。
【００６３】
次に、Ａｇ微粒子を基板上に成膜後、同様にして、Ｃをガスデポジション法で成膜する。この炭素の成膜は、ＮＤフィルターに反射防止機能を具備させるための、反射防止膜を形成するためである。具体的には、ノズル９から噴射を均一にできるスリット状のノズルを用いて、基板１１の表裏において、Ｃを全面均一に噴射する。これとともに、基板１１を低速で移動させることにより、基板１１上に炭素の粒子を均一に分散させる。
【００６４】
以上の成膜において、Ａｇの成膜条件は、基板移動速度が１０ｍｍ／ｓであること以外は、第１の実施例における条件と同様であり、Ｃの成膜条件に関しても、第１の実施例と同様である。
【００６５】
本発明者は、以上のようにして、形成した傾斜機能を有するＮＤフィルターの分光透過率および反射率を測定した。表２は、基板端部から逆側の端部まで０．５ｍｍ間隔で測定した波長４００ｎｍ、５５０ｎｍおよび７００ｎｍにおける、分光透過率および反射率の値である。
【００６６】
【表２】
2005077524.tif 000004
【００６７】
また、本発明者が、以上のようにして製造されたＮＤフィルターをデジタルカメラに装着し、このデジタルカメラを用いて撮影を行い、色むらを評価したところ、色むらの発生が確認されなかった。すなわち、この発明の第２の実施例によるＮＤフィルターを装着することにより、デジタルカメラによる撮影を良好に行うことができる。
【００６８】
以上、この発明の一実施形態について具体的に説明したが、この発明は、上述の一実施形態に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【００６９】
例えば、上述の一実施形態および実施例において挙げた数値はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値を用いてもよい。
【００７０】
例えば、上述の一実施形態においては、微粒子生成室である第１のチャンバ６内において不活性ガス雰囲気中で蒸発材１２ａをアーク放電によって蒸発させているが、蒸発材１２ａを蒸発させる方法としては、必ずしもアーク放電による方法に限定されるものではなく、抵抗加熱、高周波誘導加熱、またはレーザーなどを用いる方法を採用することも可能である。
【００７１】
また、例えば上述した一実施形態においては、第１のチャンバ６内において粒子を生成するようにしているが、図８に示すように、あらかじめ用意した微粒子を、第１のチャンバ６の代わりに、エアゾル化室１６の内部に配置しておくことも可能である。そして、この用意された粒子を、エアゾル化室１６の内部においてエアロゾル化し、エアゾル化室１６内の圧力と膜形成室としての第２のチャンバ７内の圧力との圧力差を利用して、搬送管８を通じて第２のチャンバ７内に供給した後、この粒子５を、搬送管８のノズル９から基板１１に向けて噴射させ、基板１１上に配置させるようにすることも可能である。
【００７２】
また、例えば上述の一実施形態においては、図７に示すような密度勾配を得るために、２枚の基板１１を隣接させて、この接触した部分に沿って、中央部の密度が高くなるようなノズル９を相対的に走査するために、２枚の基板１１を移動させるようにしているが、必ずしも２枚の基板１１を隣接させる方法に限定するものではない。すなわち、図９に示すように、基板１１上に微粒子５を蒸着させて、粒子の密度勾配を持たせて形成した後、最も濃度の高い部分の中央から基板１１を切断（カット）することにより、図７に示す濃度勾配を有する基板１１を製造する方法を採用することも可能である。これにより、基板１１の端部から逆側の端部に向かって所定の濃度勾配が形成されたＮＤフィルターを得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
この発明は、ビデオカメラ、デジタルカメラなどの撮影装置に装着されるＮＤフィルターに限定されることなく、必要以上の光量の入射を抑制するための種々のＮＤフィルターに利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】この発明の一実施形態による微粒子が配置されたＮＤフィルターおよびグラデーションＮＤフィルターを示す略線図である。
【図２】従来技術によるグラデーションＮＤフィルターを示す略線図である。
【図３】この発明の一実施形態によるＮＤフィルターの製造に用いられるガスデポジション成膜装置を示す略線図である。
【図４】この発明の一実施形態による、中心部から周囲に向かって密度が低くなるような濃度勾配を有するＮＤフィルターおよび、中心部から周囲に向かって密度が高くなる濃度勾配を有するＮＤフィルターを示す平面図である。
【図５】この発明の一実施形態によるＮＤフィルターの製造に用いるガスデポジション成膜装置に設けられる丸型の先細ノズルを示す略線図である。
【図６】この発明の一実施形態によるＮＤフィルターの製造に用いるガスデポジション成膜装置に設けられるノズルに組み込まれた構造物を示す略線図である。
【図７】この発明の一実施形態による、基板の一端部から他端部に向かって濃度勾配を有するＮＤフィルターを示す平面図である。
【図８】この発明の一実施形態によるＮＤフィルターにおける微粒子の蒸着に用いられるエアロゾル式のガスデポジション装置を示す略線図である。
【図９】この発明の一実施形態による、基板の中央部より基板両側に向かって濃度が低くなる濃度勾配を有するＮＤフィルターを示す平面図である。
【符号の説明】
【００７５】
１，１１  基板
２  膜厚勾配膜
３，４  光線
５  微粒子
６  第１のチャンバ（微粒子生成室）
７  第２のチャンバ（微粒子膜形成室）
８  搬送管
９  ノズル
１０  ステージ
１２  容器
１２ａ  蒸発材
１３  第１の電極
１４  第１の圧力制御部
１５  キャリアガスボンベ
１６  エアロゾル化室
２０  第２の圧力制御部
ａ，ｂ  光路
【図１】
2005077524.tif 000005
【図２】
2005077524.tif 000006
【図３】
2005077524.tif 000007
【図４】
2005077524.tif 000008
【図５】
2005077524.tif 000009
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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