(57)【要約】【課題】  基板上に材料としてガラスまたはポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の応用範囲を広めていくため、低損失化を実現した光導波路素子および歩留まりの低下を防止できる製造方法を提供する。【解決手段】  Ｓｉ基板９２上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器２８，２９，３０，３１，周回性アレイ導波路格子３３，複数個の波長分波器３５，３６，３７，３８の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることにより形成したものである。【選択図】  図１
2005208503.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、波長合波器，波長分波器等の光学素子とこれらを接続する導波路等の光学素子とを集積して形成した光導波路素子において、基板上に形成する各種光学素子の部品を、それぞれ基板毎に個別に作製し、これら基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てたことを特徴とする光導波路素子。
【請求項２】
基板上に、材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、Ｓｉ基板上に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれＳｉ基板毎に個別に作製し、これらＳｉ基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることにより形成したことを特徴とする光導波路素子。
【請求項３】
基板上に、材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、基板を、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質で形成し、そのポリマ基板に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれポリマ基板毎に個別に作製し、これらポリマ基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることにより形成したことを特徴とする光導波路素子。
【請求項４】
基板上に、材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、ガラス基板に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれガラス基板毎に個別に作製し、これらガラス基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることにより形成したことを特徴とする光導波路素子。
【請求項５】
基板上に、複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、基板上に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をガラスで形成すると共にこれらを基板毎それぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることにより形成したことを特徴とする光導波路素子。
【請求項６】
基板上に、材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法において、Ｓｉ基板上に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれＳｉ基板毎に個別に作製し、これらＳｉ基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることを特徴とする光導波路素子の製造方法。
【請求項７】
基板上に、材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法において、基板を、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質で形成し、そのポリマ基板に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれポリマ基板毎に個別に作製し、これらポリマ基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることを特徴とする光導波路素子の製造方法。
【請求項８】
基板上に、材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法において、ガラス基板に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれガラス基板毎に個別に作製し、これらガラス基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることを特徴とする光導波路素子の製造方法。
【請求項９】
基板上に、複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法において、基板上に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をガラスで形成すると共にこれらを基板毎それぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることを特徴とする光導波路素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、材料としてガラスまたはポリマを用いて形成された光導波路素子およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基板上に材料としてガラスまたはポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性Ａｒｒａｙｅｄ  Ｗａｖｅｇｕｉｄｅ  Ｇｒａｔｉｎｇ（周回性アレイ導波路格子、以下周回性ＡＷＧという），複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子を作製するためには、これらの構成部品が正しく機能していることが求められている。これに対して、従来は１つの基板上に材料としてガラスまたはポリマを用いて複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を形成して対応していた。
【０００３】
この従来の同一基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の外観を図２５に示す。
【０００４】
この図は１つの基板上に材料としてポリマを用いて形成された４個の波長合波器５２８，５２９，５３０，５３１と周回性ＡＷＧ５３６が配線用導波路パターン５３２，５３３，５３４，５３５で接続され、さらにこの周回性ＡＷＧ５３６が４個の波長分波器５４１，５４２，５４３，５４４と配線用導波路パターン５３７，５３８，５３９，５４０で接続された波長ルータ機能を有した光導波路素子である。
【０００５】
さらに断面図を図２６に示す。１つの基板上に材料としてポリマを用いて形成された波長合波器５４５と周回性ＡＷＧ５４７が配線用導波路５４６で接続され、さらにこの周回性ＡＷＧ５４７が波長分波器５４９と配線用導波路５４８で接続されていることが分かる。
【０００６】
この光導波路素子の中で用いられている周回性ＡＷＧで入力ポートを４個，出力ポートを４個持ったものでは、第２１図に示したように、入力ポート１から周波数（λ１），（λ２），（λ３），（λ４）の信号を、入力ポート２から周波数｛λ１｝，｛λ２｝，｛λ３｝，｛λ４｝の信号を、入力ポート３から周波数λ１，λ２，λ３，λ４の信号を、入力ポート４から周波数「λ１」，「λ２」，「λ３」，「λ４」の信号を入力すると、出力ポート５から周波数（λ１），｛λ２｝，λ３，「λ４」の信号が、出力ポート６から周波数（λ２），｛λ３｝，λ４，「λ１」の信号が、出力ポート７から周波数（λ３），｛λ４｝，λ１，「λ２」の信号が、出力ポート８から周波数（λ４），｛λ１｝，λ２，「λ３」の信号が出力される。
【０００７】
また、波長合波器で入力ポートを４個，出力ポートを１個持ったものでは、図２２に示したように、入力ポート９から周波数λ１の信号を、入力ポート１０から周波数λ２の信号を、入力ポート１１から周波数λ３の信号を、入力ポート１２から周波数λ４の信号を入力すると出力ポート１３から各信号が合波されたλ１，λ２，λ３，λ４が出力されてくる。
【０００８】
さらに、波長分波器で入力ポートを１個，出力ポートを４個持ったものでは図２３に示したように、入力ポート１４から合波された信号λ１，λ２，λ３，λ４を入力すると、出力ポート１５から周波数λ１の信号が、出力ポート１６から周波数λ２の信号が、出力ポート１７から周波数λ３の信号が、出力ポート１８から周波数λ４の信号が出力されてくる。
【０００９】
このような機能を有した複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器を組み合わせることにより、この光導波路素子が波長ルータとして利用できるようになる。
【００１０】
図２４は図２２に示した機能を有した波長合波器４個，図２１に示した機能を有した周回性ＡＷＧ，図２３に示した機能を有した波長分波器４個を組み合わせたもので、波長合波器１９の各入力ポートヘ上から順に周波数が（λ１），（λ２），（λ３），（λ４）の信号を、波長合波器２０の各入力ポートヘ上から順に周波数が｛λ１｝，｛λ２｝，｛λ３｝，｛λ４｝の信号を、波長合波器２１の各入力ポートヘ上から順に周波数がλ１，λ２，λ３，λ４の信号を、波長合波器２２の各入力ポートへ上から順に周波数が「λ１」，「λ２」，「λ３」，「λ４」の信号を入力すると周回性ＡＷＧ２３を経由して、波長分波器２４の各出力ポートでは上から順に周波数が、（λ１），｛λ２｝，λ３，「λ４」の信号が、波長分波器２５の各出力ポートでは上から順に周波数が「λ１」，（λ２），｛λ３｝，λ４の信号が、波長分波器２６の各出力ポートでは上から順に周波数がλ１，「λ２」，（λ３），｛λ４｝の信号が、波長分波器２７の各出力ポートでは上から順に周波数が｛λ１｝，λ２，「λ３」，（λ４）の信号が出力される。
【００１１】
この機能を用いることにより、この光導波路素子が波長ルータとして利用できるようになる。
【００１２】
図２７および図２８に、従来の１つの基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法を示す。
【００１３】
なお本図の中では４個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，４個の波長分波器の光導波路素子と８本の配線用導波路パターンを集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法を示している。
【００１４】
最初に、基板５５０上にフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマで、下部クラッド層５５１をスピンコータ，カーテンコータ，スプレコータ等により成膜する［図２７（ａ）］。ついで下部クラッド層５５１よりも高い屈折率を有したフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマでコア膜５５２を、スピンコータ，カーテンコータ，スプレコータ等により成膜する［図２７（ｂ）］。さらにこの上にフォトレジスト膜５５３をスピンコータにより成膜［図２７（ｃ）］。ついでフォトリソグラフィ工程によりコアとなる場所を覆うフォトレジストマスクパターン５５４を形成する［図２７（ｄ）］。ドライエッチングによりフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマのコア５５５を形成し［図２７（ｅ）］、さらにフォトレジスト剥離液によりフォトレジストマスクパターン５５４を剥離する［図２８（ｆ）］。その上に低屈折率なフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマの上部クラッド層５５６で覆うことにより［図２８（ｇ）］、４つの波長合波器５５７，５５８，５５９，５６０，周回性ＡＷＧ５６５，４つの波長分波器５７０，５７１，５７２，５７３の光導波路素子と配線用導波路パターン５６１，５６２，５６３，５６４，５６６，５６７，５６８，５６９を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子を形成することができる。
【００１５】
【特許文献１】特開平１０−２６０３３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
しかしながら、この従来の同一基板上に材料としてポリマを用いて形成された、複数個の波長合分波器、周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法では、同一基板上に複数個の波長合分波器、周回性ＡＷＧ，複数個の波長合分波器等の光導波路素子や配線用導波路を形成するため、これらの中で１つに不具合個所があると素子全体の損失特性が悪いものとなってしまい、歩留まりが低下する原因となり問題となってきた。
【００１７】
本発明の目的は、基板上に材料としてガラスまたはポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の応用範囲を広めていくため、低損失化を実現した光導波路素子および歩留まりの低下を防止できる製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記目的を達成するために、請求項１の発明は、基板上に、波長合波器，波長分波器等の光学素子とこれらを接続する導波路等の光学素子とを集積して形成した光導波路素子において、基板上に形成する各種光学素子の部品を、それぞれ基板毎に個別に作製し、これら基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てたことを特徴とする光導波路素子である。
【００１９】
請求項２および６の発明は、基板上に、材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、Ｓｉ基板上に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれＳｉ基板毎に個別に作製し、これらＳｉ基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることにより形成したことを特徴とする光導波路素子および製造方法である。
【００２０】
請求項２および６の発明によれば個々の部品を作製し正常に動作する部品を選別した後集積することができ、低損失な波長ルータ機能を有した光導波路素子を容易に作製することが可能となる。
【００２１】
請求項３および７の発明は、基板上に、材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、基板を、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質で形成し、そのポリマ基板に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれポリマ基板毎に個別に作製し、これらポリマ基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることにより形成したことを特徴とする光導波路素子およびその製造方法である。
【００２２】
請求項３および７の発明によれば個々の部品を作製し正常に動作する部品を選別した後集積することができ、低損失な波長ルータ機能を有した光導波路素子を容易に作製することが可能となる。
【００２３】
請求項４および８の発明は、基板上に、材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、ガラス基板に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれガラス基板毎に個別に作製し、これらガラス基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることにより形成したことを特徴とする光導波路素子およびその製造方法である。
【００２４】
請求項１〜８の発明によれば個々の部品を作製し正常に動作する部品を選別した後集積することができ、低損失な波長ルータ機能を有した光導波路素子を容易に作製することが可能となる。
【００２５】
請求項５および９の発明は、基板上に、複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、基板上に形成する複数個の波長合波器，周回性アレイ導波路格子，複数個の波長分波器，配線用導波路をガラスで形成すると共にこれらを基板毎それぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てることにより形成したことを特徴とする光導波路素子およびその製造方法である。
【００２６】
請求項５および９の発明によれば個々の部品を作製し正常に動作する部品を選別した後、集積することができ、低損失な波長ルータ機能を有した光導波路素子を容易に作製することが可能となる。
【発明の効果】
【００２７】
以上要するに本発明によれば、以下に示すごとく優れた効果を発揮するものである。
【００２８】
（１）Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ、複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路をそれぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てるため、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を作製後、各部品が所望の特性を有していることを確認してから、位置決めピン挿入用穴，位置決めピンを用いた組み立てが可能となる。
【００２９】
従って、Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の低損失化を、容易に実現することができる。
【００３０】
（２）ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ、複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路をそれぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てるため、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を作製後、各部品が所望の特性を有していることを確認してから、位置決めピン挿入用穴，位置決めピンを用いた組み立てが可能となる。
【００３１】
従って、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の低損失化を、容易に実現することができる。
【００３２】
（３）ガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ、複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路をそれぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てるため、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を作製後、各部品が所望の特性を有していることを確認してから、位置決めピン挿入用穴，位置決めピンを用いた組み立てが可能となる。
【００３３】
従って、ガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の低損失化を、容易に実現することができる。
【００３４】
（４）Ｓｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ、複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子において、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路をそれぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てるため、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を作製後、各部品が所望の特性を有していることを確認してから、位置決めピン挿入用穴，位置決めピンを用いた組み立てが可能となる。
【００３５】
従って、Ｓｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の低損失化を、容易に実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下、本発明の好適な一実施形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００３７】
図１、図２により、本発明の第一の実施の形態を説明する。
【００３８】
図１は、Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の外観を示す。
【００３９】
この図は４個のＳｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された波長合波器２８，２９，３０，３１とＳｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された周回性ＡＷＧ３３が、Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路３２により位置決めピン挿入用穴３９，４１，４３，４５，４７，４９，５１，５３，５５，５７と位置決めピン４０，４２，４４，４６，４８，５０，５２，５４，５６，５８で接続され、またＳｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された周回性ＡＷＧ３３と４個のＳｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された波長分波器３５，３６，３７，３８が、Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路３４により位置決めピン挿入用穴５９，６１，６３，６５，６７，６９，７１，７３，７５，７７と位置決めピン６０，６２，６４，６６，６８，７０，７２，７４，７６，７８で接続された波長ルータ機能を有した光導波路素子である。このように複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を組み合わせることにより、この機能性素子が波長ルータとして利用できるようになる。
【００４０】
また断面図を図２に示す。Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された、波長の異なる複数の信号を１本の伝送路に多重化する波長合波器７９とＳｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された周回性ＡＷＧ８１が、Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路８０により位置決めピン挿入用穴８４と位置決めピン８５および位置決めピン挿入用穴８６と位置決めピン８７で接続され、さらにこのＳｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された周回性ＡＷＧ８１とＳｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された、多重化された複数の信号を波長毎に分波する波長分波器８３とが、Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路８２により位置決めピン挿入用穴８８と位置決めピン８９および位置決めピン挿入用穴９０と位置決めピン９１で接続されていることが分かる。
【００４１】
図３，図４および図５に、第一の実施の形態のＳｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法を示す。なお本図の中では４個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，４個の波長分波器の光導波路素子と２個の配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法を示している。
【００４２】
最初に、４個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，４個の波長分波器，２個の配線用導波路の形成を行なうため、Ｓｉ基板９２上にフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマで、下部クラッド層９３をスピンコータ，カーテンコータ，スプレコータ等により成膜する［図３（ａ）］。ついで下部クラッド層９３よりも高い屈折率を有したフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマでコア膜９４を、スピンコータ，カーテンコータ，スプレコータ等により成膜する［図３（ｂ）］。さらにこの上にフォトレジスト膜９５をスピンコータにより成膜する［図３（ｃ）］。ついでフォトリソグラフィ工程によりコアとなる場所を覆うフォトレジストマスクパターン９６を形成する［図３（ｄ）］。ドライエッチングによりフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマのコア９７を形成し［図３（ｅ）］、さらにフォトレジスト剥離液によりフォトレジストマスクパターン９６を剥離する［図４（ｆ）］。その上を低屈折率なフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマの上部クラッド層９８で覆うことにより、材料としてポリマを用いて形成された素子ができる［図４（ｇ）］。
【００４３】
次に、基板にレーザ加工、エッチング等により位置決めピン挿入用ホール９９，１００の穴あけを行なう［図４（ｈ）］。ついで、この位置決めピン挿入用ホールへ必要に応じて位置決めピン１０１を挿入する［図４（ｉ）］。
【００４４】
最後に、［図３（ａ）］〜［図４（ｉ）］で作製した４つの波長合波器１０２，１０３，１０４，１０５と周回性ＡＷＧ１０７が配線用導波路１０６により位置決めピン挿入用穴１１３，１１５，１１７，１１９，１２１，１２３，１２５，１２７，１２９，１３１と位置決めピン１１４，１１６，１１８，１２０，１２２，１２４，１２６，１２８，１３０，１３２で接続され、また周回性ＡＷＧ１０７と４つの波長分波器１０９，１１０，１１１，１１２が配線用導波路１０８により位置決めピン挿入用穴１３３，１３５，１３７，１３９，１４１，１４３，１４５，１４７，１４９，１５１と位置決めピン１３４，１３６，１３８，１４０，１４２，１４４，１４６，１４８，１５０，１５２で接続され、波長ルータ機能を有した光導波路素子を形成することができる［図５（ｊ）］。
【００４５】
図６、図７は本発明の第二の実施の形態を示したもので、図６に、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の外観を示す。
【００４６】
この図６は、４個のポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された波長合波器１５３，１５４，１５５，１５６とポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された周回性ＡＷＧ１５８が、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路１５７により位置決めピン挿入用穴１６４，１６６，１６８，１７０，１７２，１７４，１７６，１７８，１８０，１８２と位置決めピン１６５，１６７，１６９，１７１，１７３，１７５，１７７，１７９，１８１，１８３で接続され、またポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された周回性ＡＷＧ１５８と４個のポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてガラスを用いて形成された波長分波器１６０，１６１，１６２，１６３が、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路１５９により位置決めピン挿入用穴１８４，１８６，１８８，１９０，１９２，１９４，１９６，１９８，２００，２０２と位置決めピン１８５，１８７，１８９，１９１，１９３，１９５，１９７，１９９，２０１，２０３で接続された波長ルータ機能を有した光導波路素子である。
【００４７】
このように複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を組み合わせることにより、この機能性素子が波長ルータとして利用できるようになる。
【００４８】
また断面図を図７に示す。ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された波長合波器２０４とポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された周回性ＡＷＧ２０６が、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路２０５により位置決めピン挿入用穴２０９と位置決めピン２１０および位置決めピン挿入用穴２１１と位置決めピン２１２で接続され、さらにこの周回性ＡＷＧ２０６とポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された波長分波器２０８とが、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路２０７により位置決めピン挿入用穴２１３と位置決めピン２１４および位置決めピン挿入用穴２１５と位置決めピン２１６で接続されていることが分かる。
【００４９】
図８，図９および図１０に、第二の実施の形態のポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法を示す。なお本図の中では４個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，４個の波長分波器の光導波路素子と２個の配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法を示している。
【００５０】
最初に、４個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，４個の波長分波器，２個の配線用導波路の形成を行なうため、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板２１７上にフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマで、下部クラッド層２１８をスピンコータ，カーテンコータ，スプレコータ等により成膜する［図８（ａ）］。ついで下部クラッド層２１８よりも高い屈折率を有したフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマでコア膜２１９を、スピンコータ，カーテンコータ，スプレコータ等により成膜する［図８（ｂ）］。
【００５１】
さらにこの上にフォトレジスト膜２２０をスピンコータ法により成膜する［図８（ｃ）］。ついでフォトリソグラフィ工程によりコアとなる場所を覆うフォトレジストマスクパターン２２１を形成する［図８（ｄ）］。ドライエッチングによりフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマのコア２２２を形成し［図８（ｅ）］、さらにフォトレジスト剥離液によりフォトレジストマスクパターン２２１を剥離する［図９（ｆ）］。その上を低屈折率なフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマの上部クラッド層２２３で覆うことにより、材料としてポリマを用いて形成された素子ができる［図９（ｇ）］。
【００５２】
次に、基板にレーザ加工、エッチング等により位置決めピン挿入用ホール２２４，２２５の穴あけを行なう［図９（ｈ）］。ついで、この位置決めピン挿入用ホールヘ必要に応じて位置決めピン２２６を挿入する［図９（ｉ）］。
【００５３】
最後に、［図８（ａ）］〜［図９（ｉ）］で作製した４つの波長合波器２２７，２２８，２２９，２３０と周回性ＡＷＧ２３２が配線用導波路２３１により位置決めピン挿入用穴２３８，２４０，２４２，２４４，２４６，２４８，２５０，２５２，２５４，２５６と位置決めピン２３９，２４１，２４３，２４５，２４７，２４９，２５１，２５３，２５５，２５７で接続され、また周回性ＡＷＧ２３２と４つの波長分波器２３４，２３５，２３６，２３７が配線用導波路２３３により位置決めピン挿入用穴２５８，２６０，２６２，２６４，２６６，２６８，２７０，２７２，２７４，２７６と位置決めピン２５９，２６１，２６３，２６５，２６７，２６９，２７１，２７３，２７５，２７７で接続され波長ルータ機能を有した光導波路素子を形成することができる［図１０（ｊ）］。
【００５４】
図１１、図１２は、本発明の第三の実施の形態を示したものである。図１１にガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の外観を示す。この図は４個のガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された波長合波器２７８，２７９，２８０，２８１とガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された周回性ＡＷＧ２８３が、ガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路２８２により位置決めピン挿入用穴２８９，２９１，２９３，２９５，２９７，２９９，３０１，３０３，３０５，３０７と位置決めピン２９０，２９２，２９４，２９６，２９８，３００，３０２，３０４，３０６，３０８で接続され、またガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された周回性ＡＷＧ２８３と４個のガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された波長分波器２８５，２８６，２８７，２８８が、ガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路２８４により位置決めピン挿入用穴３０９，３１１，３１３，３１５，３１７，３１９，３２１，３２３，３２５，３２７と位置決めピン３１０，３１２，３１４，３１６，３１８，３２０，３２２，３２４，３２６，３２８で接続された波長ルータ機能を有した光導波路素子である。
【００５５】
このように複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を組み合わせることにより、この機能性素子が波長ルータとして利用できるようになる。
【００５６】
また断面図を図１２に示す。ガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された波長合波器３２９とガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された周回性ＡＷＧ３３１が、ガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路３３０により位置決めピン挿入用穴３３４と位置決めピン３３５および位置決めピン挿入用穴３３６と位置決めピン３３７で接続され、さらにこの周回性ＡＷＧ３３１とガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された波長分波器３３３とが、ガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された配線用導波路３３２により位置決めピン挿入用穴３３８と位置決めピン３３９および位置決めピン挿入用穴３４０と位置決めピン３４１で接続されていることが分かる。
【００５７】
図１３，図１４および図１５に、本発明の第三の実施の形態のガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法を示す。なお本図の中では４個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，４個の波長分波器の光導波路素子と２個の配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法を示している。
【００５８】
最初に、４個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，４個の波長分波器，２個の配線用導波路の形成を行なうため、ガラス基板３４２上にフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマで、下部クラッド層３４３をスピンコータ，カーテンコータ，スプレコータ等により成膜する［図１３（ａ）］。
【００５９】
ついで下部クラッド層３４３よりも高い屈折率を有したフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマでコア膜３４４を、スピンコータ，カーテンコータ，スプレコータ等により成膜する［図１３（ｂ）］。さらにこの上にフォトレジスト膜３４５をスピンコータにより成膜する［図１３（ｃ）］。ついでフォトリソグラフィ工程によりコアとなる場所を覆うフォトレジストマスクパターン３４６を形成する［図１３（ｄ）］。ドライエッチングによりフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマのコア３４７を形成し［図１３（ｅ）］、さらにフォトレジスト剥離液によりフォトレジストマスクパターン３４６を剥離する［図１４（ｆ）］。その上を低屈折率なフッ素化ポリイミド，エポキシ，ポリメチルメタクリレート等のポリマの上部クラッド層３４８で覆うことにより、材料としてポリマを用いて形成された素子ができる［図１４（ｇ）］。
【００６０】
次に、基板にレーザ加工、エッチング等により位置決めピン挿入用ホール３４９，３５０の穴あけを行なう［図１４（ｈ）］。ついで、この位置決めピン挿入用ホールヘ必要に応じて位置決めピン３５１を挿入する［図１４（ｉ）］。
【００６１】
最後に、［図１３（ａ）］〜［図１４（ｉ）］で作製した４つの波長合波器３５２，３５３，３５４，３５５と周回性ＡＷＧ３５７が配線用導波路３５６により位置決めピン挿入用穴３６３，３６５，３６７，３６９，３７１，３７３，３７５，３７７，３７９，３８１と位置決めピン３６４，３６６，３６８，３７０，３７２，３７４，３７６，３７８，３８０，３８２で接続され、また周回性ＡＷＧ３５７と４つの波長分波器３５９，３６０，３６１，３６２が配線用導波路３５８により位置決めピン挿入用穴３８３，３８５，３８７，３８９，３９１，３９３，３９５，３９７，３９９，４０１と位置決めピン３８４，３８６，３８８，３９０，３９２，３９４，３９６，３９８，４００，４０２で接続され、波長ルータ機能を有した光導波路素子を形成することができる［図１５（ｊ）］。
【００６２】
図１６、図１７は本発明の第四の実施の形態を示したもので、図１６に、Ｓｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の外観を示す。この図は４個のＳｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された波長合波器４０３，４０４，４０５，４０６と基板上に材料としてガラスを用いて形成された周回性ＡＷＧ４０８が、Ｓｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された配線用導波路４０７により位置決めピン挿入用穴４１４，４１６，４１８，４２０，４２２，４２４，４２６，４２８，４３０，４３２と位置決めピン４１５，４１７，４１９，４２１，４２３，４２５，４２７，４２９，４３１，４３３で接続され、また基板上に材料としてガラスを用いて形成された周回性ＡＷＧ４０８と４個の基板上に材料としてガラスを用いて形成された波長分波器４１０，４１１，４１２，４１３が、Ｓｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された配線用導波路４０９により位置決めピン挿入用穴４３４，４３６，４３８，４４０，４４２，４４４，４４６，４４８，４５０，４５２と位置決めピン４３５，４３７，４３９，４４１，４４３，４４５，４４７，４４９，４５１，４５３で接続された波長ルータ機能を有した光導波路素子である。このように複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を組み合わせることにより、この機能性素子が波長ルータとして利用できるようになる。
【００６３】
また断面図を図１７に示す。Ｓｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された波長合波器４５４とＳｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された周回性ＡＷＧ４５６が、Ｓｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された配線用導波路４５５により位置決めピン挿入用穴４５９と位置決めピン４６０および位置決めピン挿入用穴４６１と位置決めピン４６２で接続され、さらにこの周回性ＡＷＧ４５６と基板上に材料としてガラスを用いて形成された波長分波器４５８とが、Ｓｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された配線用導波路４５７により位置決めピン挿入用穴４６３と位置決めピン４６４および位置決めピン挿入用穴４６５と位置決めピン４６６で接続されていることが分かる。
【００６４】
図１８，図１９および図２０に、本発明の第四の実施の形態のＳｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法を示す。なお本図の中では４個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，４個の波長分波器の光導波路素子と２個の配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の製造方法を示している。
【００６５】
最初に、４個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，４個の波長分波器，２個の配線用導波路の形成を行なうため、基板４６７上にＳｉＯ2 あるいはフッ素を添加したＳｉＯ2 等のガラスで、下部クラッド層４６８をプラズマＣＶＤ法，スパッタ法，イオンビーム法等により成膜する［図１８（ａ）］。ついで、ＳｉＯ2 にＧｅＯ2 ，ＴｉＯ2 等の屈折率向上成分を加えたガラスで、下部クラッド層４８６よりも高い屈折率を有したガラスでコア膜４９６を、プラズマＣＶＤ法，スパッタ法，イオンビーム法等により成膜する［図１８（ｂ）］。
【００６６】
さらにこの上にＷＳｉ膜４７０をスパッタ法により成膜する［図１８（ｃ）］。ついでフォトリソグラフィ工程，ドライエッチング工程によりコアとなる場所を覆うＷＳｉマスクパターン４７１を形成する［図１８（ｄ）］。ドライエッチングによりＳｉＯ2 にＧｅＯ2 ，ＴｉＯ2 等の屈折率向上成分を加えたガラスのコア４７２を形成し［図１８（ｅ）］、さらにドライエッチングによりＷＳｉマスクパターン４７１を剥離する［図１９（ｆ）］。その上をＳｉＯ2 あるいはフッ素を添加したＳｉＯ2 等のガラスで低屈折率なガラスの上部クラッド層４７３で覆うことにより、材料としてガラスを用いて形成された素子ができる［図１９（ｇ）］。
【００６７】
次に、基板にレーザ加工、エッチング等により位置決めピン挿入用ホール４７４，４７５の穴あけを行なう［図１９（ｈ）］。ついで、この位置決めピン挿入用ホールへ必要に応じて位置決めピン４７６を挿入する。［図１９（ｉ）］。
【００６８】
最後に、［図１８（ａ）］〜［図１９（ｉ）］で作製した４つの波長合波器４７７，４７８，４７９，４８０と周回性ＡＷＧ４８２が配線用導波路４８１により位置決めピン挿入用穴４８８，４９０，４９２，４９４，４９６，４９８，５００，５０２，５０４，５０６と位置決めピン４８９，４９１，４９３，４９５，４９７，４９９，５０１，５０３，５０５，５０７で接続され、また周回性ＡＷＧ４８２と４つの波長分波器４８４，４８５，４８６，４８７が配線用導波路４８３により位置決めピン挿入用穴５０８，５１０，５１２，５１４，５１６，５１８，５２０，５２２，５２４，５２６と位置決めピン５０９，５１１，５１３，５１５，５１７，５１９，５２１，５２３，５２５，５２７で接続され、波長ルータ機能を有した光導波路素子を形成することができる［図２０（ｊ）］。
【実施例】
【００６９】
次に、上記方法により材料としてガラスまたはポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の試作結果について説明する。
【００７０】
実施例その１
本発明の第一の実施の形態の製造方法（図３から図５）によりＳｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器、周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の損失特性を表１に示す。
【００７１】
【表１】
2005208503.tif 000003
【００７２】
実施例その１のポリマ導波路のコア寸法は、シングルモードとなるように幅８μｍ，高さ８μｍとし、屈折率差は０．３５％とした。またコアの周囲を覆う下部クラッド，上部クラッド層の厚さは１５μｍとした。
【００７３】
表１に示したように第一の実施の形態の製造方法で、Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子を作製すると１．３μｍ帯における各入力−出力の伝播損失（接続損失）は１８．０６〜１８．１１ｄＢであり良好な値であった。また各入力−出力間での大きなばらつきは見られなかった。これは複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てるため、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路を作製後、各部品が低損失であることを確認してから、位置決めピン挿入用穴，位置決めピンを用いた組み立てが行なえたことによる。
【００７４】
実施例その２
本発明の第二の実施の形態の製造方法（図８から図１０）によりポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器、周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の損失特性を表２の実施例その２に示す。
【００７５】
【表２】
2005208503.tif 000004
【００７６】
実施例その２のポリマ導波路のコア寸法は、シングルモードとなるように幅８μｍ，高さ８μｍとし、屈折率差は０．３５％とした。またコアの周囲を覆う下部クラッド，上部クラッド層の厚さは１５μｍとした。
【００７７】
表２の実施例その２に示したように本発明の第二の実施の形態の製造方法で、ポリマ導波路を形成するポリマと同じ材質の基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子を作製すると１．３μｍ帯における各入力−出力の伝播損失（接続損失）は１７．８８〜１８．０５ｄＢであり良好な値であった。また各入力−出力間での大きなばらつきは見られなかった。これは複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てるため、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路を作製後、各部品が低損失であることを確認してから、位置決めピン挿入用穴，位置決めピンを用いた組み立てが行なえたことによる。
【００７８】
実施例その３
本発明の第三の実施の形態の製造方法（図１３から図１５）によりガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器、周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の損失特性を表３の実施例その３に示す。
【００７９】
【表３】
2005208503.tif 000005
【００８０】
実施例その３のポリマ導波路のコア寸法は、シングルモードとなるように幅８μｍ，高さ８μｍとし、屈折率差は０．３５％とした。またコアの周囲を覆う下部クラッド，上部クラッド層の厚さは１５μｍとした。
【００８１】
表３の実施例その３に示したように本発明の第三の実施の形態の製造方法で、ガラス基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子を作製すると１．３μｍ帯における各入力−出力の伝播損失（接続損失）は１８．０２〜１８．３１ｄＢであり良好な値であった。また各入力−出力間での大きなばらつきは見られなかった。これは複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てるため、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路を作製後、各部品が低損失であることを確認してから、位置決めピン挿入用穴，位置決めピンを用いた組み立てが行なえたことによる。
【００８２】
実施例その４
本発明の第四の実施の形態の製造方法（図１８から図２０）によりＳｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された複数個の波長合波器、周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の損失特性を表４の実施例その４に示す。
【００８３】
【表４】
2005208503.tif 000006
【００８４】
実施例その４のガラス導波路のコア寸法は、シングルモードとなるように幅８μｍ，高さ８μｍとし、屈折率差は０．３５％とした。またコアの周囲を覆う下部クラッド，上部クラッド層の厚さは１５μｍとした。
【００８５】
表４の実施例その４に示したように本発明の第四の実施の形態の製造方法で、Ｓｉ基板上に材料としてガラスを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子を作製すると１．３μｍ帯における各入力−出力の伝播損失は９．５６〜９．６１ｄＢであり良好な値であった。また各入力−出力間での大きなばらつきは見られなかった。これは複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路をそれぞれ個別に作製し、基板に位置決めピン挿入用穴をあけ、そこへ位置決めピンを取り付けた後、これらの部品を組み立てるため、複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路を作製後、各部品が低損失であることを確認してから、位置決めピン挿入用穴，位置決めピンを用いた組み立てが行なえたことによる。
【００８６】
比較例
従来の製造方法で、Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器，配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子を作製した比較例を表５に示した。
【００８７】
【表５】
2005208503.tif 000007
【００８８】
表５の比較例に示したように、１．３μｍ帯における各入力−出力の伝播損失は１８．５４〜２７．７９ｄＢであり、各入力−出力間での伝播損失の最小値が１８．５４ｄＢおよび最大値が２７．７９ｄＢとばらつきが生じていることが分かる。これは各部品を同一Ｓｉ基板上に材料としてポリマを用いて形成されたものであるため、製造時に面内で光導波路素子や配線用導波路の構造パラメータの分布が生じてしまうためである。
【００８９】
以上のように、本発明の構造および製造方法を用いることで基板上に材料としてガラスまたはポリマを用いて形成された複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を集積した波長ルータ機能を有した光導波路素子の低損失化を容易に実現できることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の第一の実施の形態を示す光導波路素子の外観を示す図である。
【図２】図１の光導波路素子の断面を示す図である。
【図３】本発明の第一の実施の形態における光導波路素子の製造方法を示す図である。
【図４】図３の光導波路素子の製造方法の続きを示す図である。
【図５】図４の光導波路素子の製造方法の続きを示す図である。
【図６】本発明の第二の実施の形態の光導波路素子の外観を示す図である。
【図７】図６の導波路素子の断面を示す図である。
【図８】本発明の第二の実施の形態における光導波路素子の製造方法を示す図である。
【図９】図８の光導波路素子の製造方法の続きを示す図である。
【図１０】図９の光導波路素子の製造方法の続きを示す図である。
【図１１】本発明の第三の実施の形態の光導波路素子の外観を示す図である。
【図１２】図１１の光導波路素子の断面を示す図である。
【図１３】本発明の第三の実施の形態の光導波路素子の製造方法を示す図である。
【図１４】図１３の光導波路素子の製造方法の続きを示す図である。
【図１５】図１４の光導波路素子の製造方法の続きを示す図である。
【図１６】本発明の第四の実施の形態の光導波路素子の外観を示す図である。
【図１７】図１６の光導波路素子の断面を示す図である。
【図１８】本発明の第四の実施の形態の光導波路素子の製造方法を示す図である。
【図１９】図１８の光導波路素子の製造方法の続きを示す図である。
【図２０】図１９の光導波路素子の製造方法の続きを示す図である。
【図２１】周回性ＡＷＧの機能を示す図である。
【図２２】波長合波器の機能を示す図である。
【図２３】波長分波器の機能を示す図である。
【図２４】複数個の波長合波器，周回性ＡＷＧ，複数個の波長分波器の光導波路素子と配線用導波路を組み合わせた波長ルータ機能を有した光導波路素子の機能を示す図である。
【図２５】従来の光導波路素子の外観を示す図である。
【図２６】図２５の断面を示す図である。
【図２７】従来の光導波路素子の製造方法を示す図である。
【図２８】図２７の光導波路素子の製造方法の続きを示す図である。
【符号の説明】
【００９１】
２８，２９，３０，３１  波長合波器
３３  周回性ＡＷＧ
３５，３６，３７，３８  波長分波器
３２，３４  配線用導波路
３９，４１，４３，４５，４７，４９，５１，５３  位置決めピン挿入用穴
４０，４２，４４，４６，４８，５０，５２，５４  位置決めピン
５５，５７，５９，６１  位置決めピン挿入用穴
５６，５８，６０，６２  位置決めピン
６３，６５，６７，６９，７１，７３，７５，７７  位置決めピン挿入用穴
６４，６６，６８，７０，７２，７４，７６，７８  位置決めピン
９２  基板
９３  下部クラッド層
９４  コア膜
９５  レジストマスク膜
９６  レジストマスクパターン
９８  上部クラッド層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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