(57)【要約】【課題】  機械的走査手段が不要で、小型、高信頼性、無騒音であって、安価な露光素子とそれを用いた画像形成装置を提供することを目的とする。【解決手段】  電子写真方式による画像形成装置に用いられる露光素子であって、光導波路１２と、該光導波路１２内に形成された光スイッチング手段７と、前記光導波路１２端部に形成された集光手段８を備え、これらを基板１１上に１以上配列してなり、前記光スイッチング手段７を駆動する光スイッチ駆動回路が、前記光導波路１２を画素１０ごとに独立してスイッチングする。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真方式による画像形成装置に用いられる露光素子であって、
光導波路と、該光導波路内に形成された光スイッチング手段と、前記光導波路端部に形成された集光手段を備え、
これらを基板上に１以上配列してなり、
前記光スイッチング手段を駆動する光スイッチ駆動回路が、前記光導波路を画素ごとに独立してスイッチングすることを特徴とする露光素子。
【請求項２】
前記集光手段が、フレネルレンズ、グレーティングレンズ、集光グレーティングカップラーからなる群から選択される少なくとも１種以上の集光手段であって、
これらを単独又はシリンドリカルレンズと併用することを特徴とする請求項１に記載の露光素子。
【請求項３】
電子写真方式による画像形成装置に用いられる露光素子であって、
圧電層と該圧電層内に形成された櫛形電極からなる回折格子を備え、
該回折格子を基板上に１以上配列してなり、
前記櫛形電極間に電圧を印加する駆動回路を備えたことを特徴とする露光素子。
【請求項４】
前記光導波路又は前記圧電層が、シリコン、シリカ、ガラス、酸化亜鉛、有機ポリマーからなる群から選択される少なくとも１種以上の材料であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の露光素子。
【請求項５】
前記光導波路又は前記圧電層に導光する導光手段が、ホログラム又は位相補償手段を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光素子。
【請求項６】
前記基板が、シリコン基板であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の露光素子。
【請求項７】
感光体と、感光体を一様に帯電する帯電手段と、感光体に光を照射して潜像を形成する露光手段と、前記潜像を可視化する現像手段とを設けた画像形成装置であって、
前記露光手段が、請求項１〜６のいずれか１項に記載した露光素子を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式による画像形成装置に用いられる露光素子とこの露光素子を用いたレーザ・プリンタ、デジタル複写機、ファクシミリなどの画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザ・プリンタ、デジタル複写機、ファクシミリ等に用いられるレーザ・ビーム光走査装置（ＬＳＵ）にあっては、気体レーザ、固体レーザ、半導体レーザ等からのビームを反射するポリゴンミラーと呼ばれる回転多面鏡と、その回転多面鏡から反射されたレーザ・ビームを、感光体等の結像面上に等速度直線運動の状態で集光させるｆθレンズから構成された装置が代表的に用いられている（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
また、発光ダイオード（ＬＥＤ）を光源とし、これを直線状（アレイ）に配列し、各光源の発光強度を１点１点制御するＬＥＤヘッド装置も提案されている（例えば特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平５−２４９４２０号公報
【特許文献２】特開平５−３３０１３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に係るレーザ・ビーム光走査装置（ＬＳＵ）にあっては、ポリゴンミラーをモーターによって高速回転させるため、耐久性に問題があると共に騒音を発生し、また光走査速度がモーターの回転数によって制限される問題やモーター軸受の信頼性等の問題があった。また、光を扇状に走査するため、長い光路分の空間が必要となり、装置全体が大型化する問題もあった。
【０００５】
それに対して、特許文献２に係るＬＥＤヘッド装置にあっては、感光ドラム上に露光される画素に対応したＬＥＤ光源を制御する構造であるため、光源走査用のポリゴンミラーやモータ、長い光路が不要となり、特許文献１に係るレーザ・ビーム光走査装置（ＬＳＵ）よりも低騒音、小型化が可能という特徴を有している。
【０００６】
しかしながら、このＬＥＤヘッド装置においては、光源にＬＥＤアレイを用いており、このＬＥＤは化合物半導体であるため、高価であるという問題があった。また、感光ドラムに各々の画素を結像させる際に正立実像を得るため、ガラスロッド内部の屈折率分布が一様でない“分布屈折率レンズ”（例えば、商品名：セルフォックレンズ）アレイを用いており、このセルフォックレンズアレイが高価であるため、装置全体のコストが増大するという問題点もあった。
【０００７】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、機械的走査手段が不要で、小型、高信頼性、無騒音であって、安価な露光素子とそれを用いた画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
かかる課題を解決するため、
請求項１にかかる発明は、電子写真方式による画像形成装置に用いられる露光素子であって、光導波路と、該光導波路内に形成された光スイッチング手段と、前記光導波路端部に形成された集光手段を備え、これらを基板上に１以上配列してなり、前記光スイッチング手段を駆動する光スイッチ駆動回路が、前記光導波路を画素ごとに独立してスイッチングすることを特徴とする露光素子である。
【０００９】
請求項２にかかる発明は、前記集光手段が、フレネルレンズ、グレーティングレンズ、集光グレーティングカップラーからなる群から選択される少なくとも１種以上の集光手段であって、これらを単独又はシリンドリカルレンズと併用することを特徴とする請求項１に記載の露光素子である。
【００１０】
請求項３にかかる発明は、電子写真方式による画像形成装置に用いられる露光素子であって、圧電層と該圧電層内に形成された櫛形電極からなる回折格子を備え、該回折格子を基板上に１以上配列してなり、前記櫛形電極間に電圧を印加する駆動回路を備えたことを特徴とする露光素子である。
【００１１】
請求項４にかかる発明は、前記光導波路又は前記圧電層が、シリコン、シリカ、ガラス、酸化亜鉛、有機ポリマーからなる群から選択される少なくとも１種以上の材料であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の露光素子である。
【００１２】
請求項５にかかる発明は、前記光導波路又は前記圧電層に導光する導光手段が、ホログラム又は位相補償手段を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光素子である。
【００１３】
請求項６にかかる発明は、前記基板が、シリコン基板であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の露光素子である。
【００１４】
請求項７にかかる発明は、感光体と、感光体を一様に帯電する帯電手段と、感光体に光を照射して潜像を形成する露光手段と、前記潜像を可視化する現像手段とを設けた画像形成装置であって、前記露光手段が、請求項１〜６のいずれか１項に記載した露光素子を備えたことを特徴とする画像形成装置である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の露光素子によれば、ＬＥＤアレイとセルフォックレンズアレイを使用しないため、安価であり、かつポリゴンミラーを使用しないため、機械的走査手段が不要で、信頼性の高い無騒音の露光素子を提供することができる。
また、この露光素子を用いた画像形成装置によれば、光源走査用の長い光路は不要となるため、安価で小型の画像形成装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態に係る露光素子及び画像形成装置の例を図面に示し、詳細に説明する。
【００１７】
［第１の実施形態］
図２は、本発明の第１の実施形態に係る露光素子を備えた露光手段の概略斜視図である。この露光手段は、本発明の露光素子２・・・を直線状に配列した露光素子アレイ１と、シリンドリカルレンズ３と、感光ドラム４から構成されている。図示しない光源から露光素子２・・・に入射した光は、シリンドリカルレンズ３を通過して、感光ドラム４上に結像し、潜像を形成する。
【００１８】
また、図３は、本発明の第１の実施形態に係る露光素子２の上面図である。この露光素子２は、縦方向に沿って、１画素分に対応した回路５・・・に複数に分割されている。各回路の縦方向の配列間隔は、例えば６００ｄｐｉ（１インチ当たりのドット数）の解像度では、約４２μｍである。
また、この露光素子２は、１画素分に対応した回路５・・・ごとに、横方向に沿って光源側（図３では左側）から、シリアル−パラレル変換部６・・・と、光スイッチング手段７・・・と、集光手段８・・・とから構成されている。上述したように、図示しない光源から入射した光は、１画素分に対応した回路５・・・ごとに、シリアル−パラレル変換部６・・・と、光スイッチング手段７・・・と、集光手段８・・・を通過して、シリンドリカルレンズ３によって感光ドラム４上に結像し、画素１０・・・を形成する。
【００１９】
図１は、この１画素分に対応した回路５の断面図である。この１画素分に対応した回路５は、基板１１と、この基板１１上に形成された光導波路１２と、光導波路１２内に形成された光スイッチング手段７と、光導波路１２の射出側端部に形成された集光手段８から構成されている。実際には、基板１１上に、この１画素分に対応した回路５が１以上配列した構造となっている。
【００２０】
この基板１１は、厚さ０．５〜２．０ｍｍで、シリコン、ガラス、金属等の材料からなるものであり、そのなかでもシリコン基板が好ましい。この基板１１上には、光スイッチ電極１３・・・と、光スイッチング手段７を駆動する図示しない光スイッチ駆動回路と、各光スイッチング手段７を制御する信号をシリアル信号からパラレル信号に変換するためのシリアル−パラレル変換部６を構成する図示しない回路が形成されている。
【００２１】
光スイッチ電極１３・・・は、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｇ等の櫛形又は格子状の電極である。この光スイッチ電極１３・・・と後述する対向電極１４との間に電圧を印加させて、光スイッチング手段７をオン／オフ（スイッチング）させる。このスイッチングを行うのが図示しない光スイッチ駆動回路である。この光スイッチ駆動回路にあっては、光導波路１２を画素１０ごとに独立してスイッチングを行う。光導波路１２を、画素１０ごとに独立してスイッチングすることにより、各画素の露光位置を正確に露光することが可能となるため、高画質化が期待でき、さらに、１ラインを同時に露光することが可能であるため、露光速度の高速化が可能となる。
【００２２】
この光スイッチ駆動回路に送られてきた膨大な制御信号を、各光スイッチ駆動回路に配分するのがシリアル−パラレル変換部６である。具体的には、光スイッチ駆動回路前段には、このシリアル−パラレル変換部６を構成するシフトレジスタ回路とラッチ回路とが接続されている。各光スイッチング手段７を制御する信号は、基板１１上に配列された画素数分に及ぶため、各々の画素１０の制御信号は、シリアル化されて転送されて来る。このシリアル制御信号を、シフトレジスタ回路により各々のパラレル制御信号に変換し、ラッチ回路に一時的に記憶して、光スイッチ駆動回路の制御を行う。このシリアル−パラレル変換部６は、画素１０ごとに独立して制御する必要はないため、各光スイッチング手段７の前段光源側に、まとめて形成することができる。
【００２３】
さらに、この基板１１上には、透明な光導波路１２が設けられている。このような光導波路１２は、シリコン、シリカ、ガラス、酸化亜鉛、有機ポリマーからなる群から選択される少なくとも１種以上の材料であることが好ましい。このような有機ポリマーとしては、強誘電体であるポリビニリデンフルオライド（ＰＶＤＦ）やイオンをドープしたガラス等が挙げられる。光導波路１２は透明であるため、レーザ光源からの入射光を通過させることができる。この光導波路１２は、厚さ１〜１０００μｍ、好ましくは５〜５０μｍで、ディップコート法、スペーサー厚み管理下における製膜法等により形成することができる。
【００２４】
この光導波路１２内には、光スイッチング手段７と、集光手段８が形成されている。光スイッチング手段７とは、シリアル−パラレル変換部６の後段に設けられており、光スイッチ電極１３・・・と、光導波路１２の上面に形成された対向電極１４との間に挟まれた部分をいう。この対向電極１４は、複数の光スイッチ電極１３・・・に対向する共通電極であり、印刷法、インクジェット法等により導電性銀ペースト、導電性銅ペースト等から形成される。
【００２５】
レーザ光源からの光は、光導波路１２の入射側端部（図１では左側）から入射し、透明な光導波路１２、光スイッチング手段７、集光手段８を通過する。この時、光スイッチ電極１３・・・と対向電極１４との間に電圧を印加すると光スイッチング手段７の屈折率が変化して、光が光導波路１２内を通過して集光手段８まで到達することができなくなる。この光の到達の有無により、感光ドラム４を感光させるか否かを制御することができる。この光導波路１２の屈折率分布は、光スイッチ電極１３・・・の形状パターンを反映した形状となる。したがって、所望の光学特性を得る形状に設計された光スイッチ電極１３・・・パターンを用いることにより、光の回折、非回折、又は印加する電界強度による回折角度の制御が可能となるため、光スイッチング手段７を光スイッチとして機能させることができる。
【００２６】
また、光導波路１２内の射出側端部には、フレネルレンズ、グレーティングレンズ９、集光グレーティングカップラー１６からなる群から選択される少なくとも１種以上の集光手段８が形成されている。このようなレンズ又はカップラーは、フォトエッチング法、電子ビームリソグラフィ法等により形成されたアルミニウム、銀等の不透明な金属材料からなる。
【００２７】
図１では、例としてグレーティングレンズ９が設けられている。このグレーティングレンズ９にあっては、光導波路１２の光射出側端部に不透明な部材４０・・・が、基板１１の幅方向に沿って周期的に配置されている。１画素分に対応した回路５ごとに、この不透明な部材４０・・・を、光導波路１２の射出側端部に向かって放射線状に収束するよう配置し回折格子を形成することにより、この部位が、グレーティングレンズ９として機能する。各々の不透明部材４０・・・の間の光導波路１２・・・を通過した光が互いに干渉し、光導波路１２の中心線上にある各画素１０上に光が集光できるように不透明部材４０・・・を配置する。このグレーティングレンズ９を配置することにより、光導波路１２を通過した光が基板１１の幅方向に拡散するのを防ぎ、基板１１の幅方向の光を集光させることができる。
さらに、シリンドリカルレンズ３を光導波路１２の射出側端部外側に配置することにより、基板１１の厚み方向の光を集光させることができる。このようなシリンドリカルレンズ３としては、ガラスやプラスチックから形成された赤・赤外域の波長領域に対応するものが挙げられる。シリンドリカルレンズ３は、露光素子アレイ１と同じ長さで１個配置すればよく、ＬＥＤヘッド装置におけるセルフォックレンズアレイのように各１画素分に対応した回路５ごとに設ける必要はないため、装置コストを安価とすることができる。
【００２８】
［第２の実施形態］
図４は、本発明の第２の実施形態に係る露光素子の１画素分に対応した回路５の断面図である。また、図５は、本発明の第２の実施形態に係る露光素子２の上面図である。本実施形態に係る露光素子２の１画素分に対応した回路５では、シリンドリカルレンズ及びグレーティングレンズは存在しない。また集光手段８以外の部分は第１の実施形態と同じであるので、それらの説明は省略する。
【００２９】
第２の実施形態にあっては、集光手段８には集光グレーティングカップラー１６・・・が設けられている。図５に示すように、この集光グレーティングカップラー１６・・・は上方から見ると、所望する焦点に応じて湾曲した形状で形成されている。集光グレーティングカップラー１６・・・をこの湾曲形状にすることにより、３次元的な集光が可能となる。光スイッチング手段７を通過した入射光は、この集光グレーティングカップラー１６・・・により光導波路１２の上方に回折・集光される。したがって、本実施形態では、シリンドリカルレンズによる基板１１の厚み方向の集光も不要となるため、レンズを一切使用しない構成とすることができ、装置コストをさらに安価とすることができる。
【００３０】
［第３の実施形態］
図６は、本発明の第３の実施形態に係る露光素子の１画素分に対応した回路５の断面図である。また、図７は、本発明の第３の実施形態に係る露光素子２の上面図である。本実施形態に係る露光素子２の１画素分に対応した回路５では、第１の実施形態と同じ基板１１上に、光導波路に代わり回折格子１５が設けられている。この回折格子１５は、圧電層３０と該圧電層３０内に形成された櫛形電極１７から形成されている。そして、第１の実施形態と同様に、基板１１上に、この１画素分に対応した回路５が１以上配列した構造となっている。基板１１とシリアル−パラレル変換部６については、第１の実施形態と同じであるので、それらの説明は省略する。
【００３１】
この回折格子１５には、圧電層３０と該圧電層３０内に形成された櫛形電極１７・・・が設けられている。圧電層３０は、透明であって、シリコン、シリカ、ガラス、酸化亜鉛、有機ポリマーからなる群から選択される少なくとも１種以上の材料であることが好ましい。このような有機ポリマーとしては、強誘電体であるポリビニリデンフルオライド（ＰＶＤＦ）やイオンをドープしたガラス等が挙げられる。この圧電層３０は、厚さ１〜１０００μｍ、好ましくは５〜５０μｍで、ディップコート法、スペーサー厚み管理下における製膜法等により形成することができる。
【００３２】
また、この櫛形電極１７・・・は、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｇ等の材料で形成することができる。レーザ光源からの光が、回折格子１５の斜め上面又は側面から圧電層３０に入射して通過する際に、この櫛形電極１７・・・間に電圧を印加すると、この圧電層３０の屈折率が、櫛形電極１７・・・の形状に対応して部分的に屈折率が変化して、光の反射角を変化させる。この時、所望の反射光のみを取り出して感光ドラムまで到達させることで、潜像を形成することができる。
【００３３】
本実施形態では、櫛形電極１７・・・間に電圧を印加させる図示しない駆動回路が、基板１１上に設けられている。各画素１０に対応する制御信号により、各回折格子１５の光の反射角が変化するため、感光ドラム上の各画素１０への書き込みを制御することができる。この駆動回路にあっては、回折格子１５を画素１０ごとに独立してスイッチングを行う。回折格子１５を、画素１０ごとに独立してスイッチングすることにより、各画素の露光位置を正確に露光することが可能となるため、高画質化が期待でき、さらに、１ラインを同時に露光することが可能であるため、露光速度の高速化が可能となる。
【００３４】
この回折格子１５から反射した光を集光するには、図６に示したように、通常のレンズ１８を使用して、回折格子１５からの反射光を集光することができる。この際、不要な反射光による感光ドラムの感光を防ぐため、図６に示したような光ガター１９を反射光の光路中に導入することもできる。この光ガター１９は、光吸収材からなり、レンズ１８と連携して上下・左右に移動させることにより、感光ドラムの所望の位置にレンズ１８からの集光を感光させることができる。
【００３５】
また、図７に示したように、櫛形電極１７・・・の形状を集光グレーティングカップラーとすることにより、レンズを使用しない構成で集光してもよい。
【００３６】
［第４の実施形態］
本発明の第４の実施形態に係る画像形成装置は、感光体と、感光体を一様に帯電する帯電手段と、感光体に光を照射して潜像を形成する露光手段と、前記潜像を可視化する現像手段から構成されている。このような画像形成装置としては、例えば露光手段が、本発明の第１〜４のいずれかの実施形態に係る露光素子を備えたもの等が挙げられる。このような画像形成装置では、光源走査用の長い光路は不要となるため、装置コストが安価で、小型にすることができる。
【００３７】
〈光スイッチング手段の配列〉
図８〜１０は、本発明の露光素子２における光導波路内の光スイッチング手段の配列を示した図である。図８は、入射光を単純に各光スイッチング手段７・・・に振り分けて通過するように光のオン／オフを行う場合の配列である。
図９では、光スイッチング手段を第１段の光スイッチング手段７１、第２段の光スイッチング手段７２，７２、第３段の光スイッチング手段７３，７３，７３，７３、第４段の光スイッチング手段・・・というように複数の段階に分けておき、入射光をまず第１段の光スイッチング手段７１に入射させ、次いで、第２段の光スイッチング手段７２，７２に振り分ける。さらに、第２段の光スイッチング手段７２から射出した光を、第３段の光スイッチング手段７３，７３に振り分けていくことでオン／オフを行う場合である。
図１０は、光導波路の端部から入射した光を、順次走査していくように光スイッチング手段７・・・を徐々に切り替えてオン／オフを行う場合の配列である。
【００３８】
〈光の導光手段〉
図１１及び図１２は、光源からの光を本発明の光導波路又は圧電層に導光させるための手段を示した図である。
図１１に示した導光手段２０は、透明樹脂２１と、ホログラム２２から構成されている。このような透明樹脂２１としては、透明性の高いポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリカーボネイト等が挙げられる。この導光手段２０は、光導波路等に光を入射できるよう入射方向から射出方向に向かって幅が徐々に狭くなっている。そして、この導光手段２０の長手方向には、ホログラム２２が設けられている。長手方向の面にホログラム２２を設けることにより、光を均等に分配させて光導波路へ導入させることができる。
【００３９】
図１２に示した導光手段２０は、透明樹脂２１と、反射溝２３・・・と、位相補償板２４から構成されている。透明樹脂２１としては、上述したような透明性の高いポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリカーボネイト等が挙げられる。この導光手段２０は、上述したように幅が徐々に狭くなっており、この長手方向には、反射溝２３・・・が刻まれている。
【００４０】
この反射溝２３・・・により光を分配させる際に、光源としてレーザを用いた場合、すべてのレーザ光の位相が同一であるため、反射溝２３・・・からの反射による干渉を発生する問題がある。この時、透明樹脂２１の前段光源側に位相補償手段として位相補償板２４を配置することにより、分配される各部位のレーザ光の位相をずらすことができるため、反射による干渉を防ぐことができる。このような位相補償板２４としては、格子状で厚みの異なる部位を有する透明板を用いることができる。この位相補償板２４を用いることにより、位相補償板２４の厚みの異なる部位ごとにレーザからの入射光の位相が変化するため、位相をランダム化でき、均一に光を散乱させることができる。
【００４１】
このように、本発明の露光素子によれば、ＬＥＤアレイとセルフォックレンズアレイを使用することなく露光させることができるため、装置コストを安価にすることができる。
【００４２】
また、光源にレーザ・ビームを用いている本発明の露光素子では、ポリゴンミラーを使用しないため、機械的走査手段を不要にすることができ、この機械的走査による部品の破損といったトラブルを解消できるため、信頼性の高い無騒音の露光素子及びそれを用いた画像形成装置を提供することができる。
【００４３】
さらに、この露光素子では、ポリゴンミラーを使用しないため、光源走査用の長い光路が不要となり、露光素子及びそれを用いた画像形成装置を小型化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る露光素子の１画素分に対応した回路の断面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る露光素子を備えた露光手段の概略斜視図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る露光素子の上面図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る露光素子の１画素分に対応した回路の断面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る露光素子の上面図である。
【図６】本発明の第３の実施形態に係る露光素子の１画素分に対応した回路の断面図である。
【図７】本発明の第３の実施形態に係る露光素子の上面図である。
【図８】本発明の露光素子における光導波路内の光スイッチング手段の配列図である。
【図９】本発明の露光素子における光導波路内の光スイッチング手段の配列図である。
【図１０】本発明の露光素子における光導波路内の光スイッチング手段の配列図である。
【図１１】光源からの光を本発明の光導波路又は圧電層に導光させるための手段（ホログラム）を示した図である。
【図１２】光源からの光を本発明の光導波路又は圧電層に導光させるための手段（位相補償板）を示した図である。
【符号の説明】
【００４５】
２  露光素子
３  シリンドリカルレンズ
７  光スイッチング手段
８  集光手段
９  グレーティングレンズ
１０  画素
１１  基板
１２  光導波路
１５  回折格子
１６  集光グレーティングカップラー
１７  櫛形電極
２０  導光手段
２２  ホログラム
２４  位相補償手段
３０  圧電層
【図１】
2005178117.tif 000003
【図２】
2005178117.tif 000004
【図３】
2005178117.tif 000005
【図４】
2005178117.tif 000006
【図５】
2005178117.tif 000007
【図６】
2005178117.tif 000008
【図７】
2005178117.tif 000009
【図８】
2005178117.tif 000010
【図９】
2005178117.tif 000011
【図１０】
2005178117.tif 000012
【図１１】
2005178117.tif 000013
【図１２】
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