(57)【要約】【課題】  表面硬度と内部の柔軟性を兼ね備えており、光学特性や平坦性と耐摩擦性（耐擦過性）・耐摩耗性、さらに塗膜として用いるときは基体への接着性を満たす硬化膜を提供する。【解決手段】  分散微粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を基体に塗布後、硬化してなる硬化膜であって、前記分散微粒子が前記硬化膜表面に局在していることを特徴とする。分散微粒子を局在化する手段としては電気泳動を用いることが好ましい。また、活性エネルギー線としては紫外線を用い、前記活性エネルギー線硬化性組成物が光ラジカル重合性成分や光イオン重合性成分を含有していることが好ましい。【選択図】        図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
分散微粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を基体に塗布して塗膜を形成後、該塗膜を硬化してなる硬化膜であって、前記分散微粒子が前記硬化膜表面に局在していることを特徴とする硬化膜。
【請求項２】
前記分散微粒子の局在している硬化膜表面の硬度が、該分散粒子の局在していない硬化膜内部の硬度よりも高い請求項１に記載の硬化膜。
【請求項３】
前記分散微粒子が金属酸化物である請求項１に記載の硬化膜。
【請求項４】
前記硬化膜は前記活性エネルギー線硬化性組成物中の前記分散微粒子を、該組成物塗布後の塗膜の表面方向に移動させた後、前記塗膜に該組成物が感応する活性エネルギー線を照射して硬化させ製造したものである請求項１に記載の硬化膜。
【請求項５】
前記分散微粒子は電気泳動によって塗膜表面に移動し、局在化したものである請求項１〜４のいずれか１項に記載の硬化膜。
【請求項６】
前記活性エネルギー線硬化性組成物を塗布後に硬化してなる硬化膜は、基体である被塗布物を被覆する保護膜である請求項１〜５のいずれか１項に記載の硬化膜。
【請求項７】
請求項６に記載の保護膜によって少なくとも表面の一部を被覆されたことを特徴とする保護膜付き被覆物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は活性エネルギー線硬化性組成物と分散微粒子からなる硬化膜に関し、特に表面硬度が著しく大きい保護膜を、硬化膜として必要とする光学材料分野における硬化膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
塗布形成された硬化膜の保護膜としての機械強度向上は様々な産業分野で要求されており、一般的に表面が傷つきやすいポリマー表面の耐摩擦性、耐擦過性、耐摩耗性を向上させるために、硬度の高い保護フィルムのラミネートが、化学的な表面の処理方法としてカップリング剤処理、多層重合処理、ハードコート剤の塗装等が、また物理的な表面の処理としてプラズマ処理、メカノケミカル処理等が知られている。
これらのうち、硬度の高い保護フィルムのラミネートによる方法は基体との接着の問題や、反り、皺等様々な問題を有している。
また化学的処理方法のうちの表面処理で一般的に行われている方法として、シリコーン系、フッ素系、多官能アクリル系（ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等）モノマー・オリゴマー・ポリマーなどを含有する塗布液を塗布後、熱又は活性エネルギー線を用いて重合硬化する方法が行われており、耐摩擦性・耐擦過性・耐摩耗性の向上を行えることが知られている。
【０００３】
特に光ディスクや光学フィルム等の光学材料では、光学特性・平坦性・耐候性等を低下させずに被覆膜表面の耐摩擦性・耐擦過性等の耐久性を向上させる手段として、前述のモノマー・オリゴマー等からなる紫外線硬化性組成物を塗布後、紫外線硬化させる方法が一般的に知られているが、有機材料であるため耐久性に限界があった。一方無機材料の配合によって、耐久性を向上させる手段としては、アルコキシシランを組み合わせた有機無機ハイブリッド膜が知られているが、塗膜全体を硬化したときの収縮による変形の問題が避けられなかった。
【０００４】
また、物理的処理方法のうち、高耐圧・高硬度が得られるシリコンまたはシリコン化合物薄膜を成膜する方法として、ＣＶＤ法を用いた蒸着方法が広く用いられている。しかし、ＣＶＤ法では成膜レートが大きいといわゆるフレークという膜の異常成長が生じたり、他の構造膜にダメージを与える等の問題が生じるため量産性に劣っていた。量産性に優れた方法として高密度プラズマガンを用いて材料を蒸発させ、基板上にシリコンまたはシリコン化合物薄膜を成膜するシリコンまたはシリコン化合物薄膜の製造方法が提案されているが、湿式のコーティング法と比較して量産性が劣り、とくに光学材料への応用はフィルムやディスクの反りを考慮した設計・制御が必要であった（特許文献１参照）。
【０００５】
そのような問題を解決する方法として、有機高分子と金属アルコキシドとそれらの共通溶媒からなる均質溶液を、有機高分子または無機の基材上に塗布したものを、水及び／又は金属アルコキシドの重合触媒を空気中に含ませた雰囲気下に保持した後、乾燥、熱処理を行って得られる、有機高分子成分と金属酸化物成分からなる複合体で、複合体の表面から深さ方向に、金属酸化成分の複合体中での含有率が連続的に変化する成分傾斜構造を有する、有機高分子と金酸化物成分との成分傾斜複合体（特許文献２参照）が提案されている。
【０００６】
また金属アルコキシ基を有する有機重合体からゾル−ゲル法によって作製した湿潤ゲル、又は溶剤に溶解する前記有機重合体と、金属酸化物、金属アルコキシド化合物、又は金属アルコキシド化合物の部分的加水分解及び重縮合物とを接触させ、相互にまたは一方から他方へ拡散させる工程によって、有機重合体成分および／または金属酸化物成分の濃度が、連続的に変化した成分傾斜構造を有する有機−無機成分傾斜複合材料を製造する製造方法（特許文献３参照）が提案されている。
【０００７】
さらに、分子中に加水分解により金属酸化物と結合しうる金属含有基を有する有機高分子化合物と、加水分解により金属酸化物を形成しうる金属化合物との混合物からなる塗布液を、有機材からなる基板上に塗布し塗膜を形成して加熱乾燥処理することで製造された、有機高分子化合物と金属系化合物との化学結合を含有する有機−無機複合材料であって、材料中の金属系化合物の含有率が、材料の表面から深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有する有機−無機複合傾斜材料（特許文献４参照）が提案されている。
【０００８】
また無機高分子化合物の存在下に、有機高分子鎖を形成し得る官能基をもつ少なくとも１種の有機化合物を重合させてなる有機−無機複合物に、希釈溶媒を加えて得た溶液を基材上に塗工して形成された薄膜からなり、有機高分子成分と無機高分子成分の膜厚方向への層分離により、該薄膜中の無機成分の含有率が、薄膜の表面から深さ方向に連続的に変化する成分傾斜構造を有することを特徴とする有機−無機複合傾斜膜（特許文献５参照）が提案されているが、これらの公知文献で開示されている技術では無機成分の傾斜構造は取りうるものの、塗膜表面への無機成分の局在化が不十分で、特に塗膜の表面硬度をより高くするには限界があり、かつ処理時間が大幅に必要であった。
【０００９】
【特許文献１】特開平１１−６０５４号公報
【特許文献２】特開平８−２８３４２５号公報
【特許文献３】特開２０００−２４８０６５号公報
【特許文献４】特開２０００−３３６２８１号公報
【特許文献５】特開２００２−２７５２８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、硬化膜表面の平坦性と耐摩擦性、耐擦過性、耐摩耗性に優れ、しかも硬化膜内部の柔軟性を保持しているため基体への接着性に優れ、かつ安価な硬化膜を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、分散微粒子を含有する活性エネルギー線硬化性組成物を基体に塗布して塗膜を形成後、該塗膜を硬化してなる硬化膜であって、前記分散微粒子が前記硬化膜表面に局在していることを特徴とする硬化膜を提供する。
さらに本発明は、前記活性エネルギー線硬化性組成物を塗布後に硬化してなる硬化膜は、基体である被塗布物を被覆する保護膜である上記記載の硬化膜を提供する。
さらにまた本発明は、上記記載の保護膜によって少なくとも表面の一部を被覆されたことを特徴とする保護膜付き被覆物を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の硬化膜は、硬化膜中の分散微粒子が硬化膜表面に局在しているので、樹脂を含有する硬化膜としての柔軟性を保持しつつ、表面にのみ高い硬度を有していて、材料全体が脆くなることがない。この結果、該硬化膜を保護膜として使用した場合、表面の平坦性を維持しつつ、高い耐摩擦性、耐摩耗性と基体への良好な接着性を両立することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
硬化膜中の分散粒子は架橋樹脂粒子、金属、金属酸化物、金属塩等特に制限はないが、塗膜表面に局在化したときの表面硬度及び透明性を考慮すると、シリカ、アルミナ、セリア、ジルコニア、酸化チタン等の金属酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の金属炭酸塩、タルク、ケイ酸カルシウム、ガラス等のケイ酸塩、チタン酸カルシウムやチタン酸バリウム等の金属チタン酸塩等が好ましく、特に金属酸化物が好ましい。
金属酸化物を分散させるには、一般的に知られている分散手法、即ち、金属酸化物の種類に応じて分散剤を選択して、塗布液の他の組成と共に公知の分散機を用いて微分散を行えばよい。これらの金属酸化物の分散方法以外に、アルコキシシランのような金属アルコキシドを別の塗布液組成中でゲル化してから混合することにより、有機無機ハイブリッドの硬化膜としてもよい。また、予め特許文献等に示された手段により、無機成分の成分傾斜膜としておいても良い。
分散微粒子を光学材料に用いる場合の分散微粒子の粒子径は、透明性を確保するため利用波長の波長以下、好ましくは二分の一波長以下の平均粒子径である事が望ましい。
【００１４】
硬化膜表面への分散微粒子の局在化手法は、分散微粒子を含む活性エネルギー線硬化性組成物からなる塗布液を基体に塗布し、該塗布液の乾燥もしくは硬化前に分散微粒子を塗膜表面に移動させて、目的とする局在化状態になった時点で乾燥もしくは固化させればよい。局在化の程度については、目的とする硬化膜の特性を満足すればよく、特に限定されるものではない。しかし硬化膜表面のより良好な硬度を得るためには、分散粒子の９０質量％以上が硬化膜表面から硬化膜の膜厚の１／５以下の深さ内に存在することが好ましく。硬化膜の膜厚の１／１０以下の深さ内に存在することがさらに好ましい。
【００１５】
分散粒子を局在化させるための移動方法としては、分散微粒子が磁性を有する場合には印加磁場内の磁気泳動によって行うことができる。一方分散微粒子が誘電体あるいは表面電荷を有している場合には電気泳動により行うことができる。特に電気泳動による方法は、磁性を有さない多くの材料も分散微粒子として局在化して用いることが出来るため好ましい。
分散微粒子は塗布液中で分散している場合には、粒子表面は電気二重層を形成し、表面電位を有しているが、より大きい表面電荷を付与するためには電子写真法の液体現像剤で用いられているような電荷制御剤を併用しても良い。分散微粒子が正帯電している場合には、負電極を泳動電極として粒子の泳動を行い、逆に分散粒子が負に帯電している場合には正電極を泳動電極として粒子の泳動を行う。
【００１６】
これら電荷制御剤は分散安定剤としても機能するが、これらの助剤としては、通常、電子写真用静電荷現像用液体現像剤に用いられるものから選択して使用可能であり、例えば、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、オレイン酸銅、オレイン酸コバルト、オクチル酸ジルコニウム、オクチル酸コバルト、アルミニウムオキサイドアシレートの多量体、ナフテン酸、オクテン酸、オレイン酸、ステアリン酸等の脂肪族の金属塩、スルホコハク酸エステルの金属塩、油溶性スルホン酸金属塩、リン酸エステル金属塩、アビエチン酸もしくは水素添加アビチン酸の金属塩、アルキルベンゼンスルホン酸Ｃａ塩類、芳香族カルボン酸あるいはスルホン酸の金属塩類、ポリオキシエチル化アルキルアミンのような非イオン性界面活性剤、レシチン、アマニ油等の油脂類、ポリビニルピロリドン、多価アルコールの有機酸エステル、リン酸エステル系界面活性剤、スルホン酸樹脂、アミノ酸誘導体、マレイン酸ハーフアミド成分を含む共重合体、４級化アミンポリマーなどが知られている。
【００１７】
電気泳動法を用いて分散微粒子の泳動を行う場合、分散微粒子の移動に必要な塗膜の深さ方向の電界は、塗膜を挟んで両側に電極を対向させて設置し発生させることができる。基体が絶縁体のときは、基体を挟んで塗膜の反対側に基体に近接させて対向電極を設置し、塗膜上に設置される泳動電極とともに、基体を塗膜ごと電極で挟み込むような構成ととして基体ごと電界をかけることができる。一方基体と塗膜との間に導電層、例えばＩＴＯのような透明導電層を設けて対向電極としても良く、基体が金属のときは基体そのものを対向電極として用いることもできる。このような電極配置にすると、対向する電極間の間隔を狭く設定出来るので電界強度を高くすることができる。
また塗膜表面側の泳動電極は、ロールコート法の場合は塗工ロールを泳動電極として兼用してもよい。また、塗工液の電気抵抗が高い場合には泳動電極の替わりに塗布液塗工直後、乾燥もしくは固化前に、塗膜表面にコロナ帯電やイオンフロー帯電を行って膜表面に電位を与えて泳動電極とする事が出来る。スピンコーターのようなロールレス塗工や、泳動を行いながら塗布液の硬化を行うために、塗布液の電気抵抗が高い場合には塗工後、前述のコロナ帯電やイオンフロー帯電を行う装置を塗工装置に組み込むことが出来る。
特に、分散微粒子の電気泳動は、電場を取り除くと直ちにブラウン運動によって分散微粒子が拡散することから、泳動直後または泳動を行いながら塗布液の硬化を行う必要がある。このため特に活性エネルギー線が紫外線のときは、電界をかけながら紫外線照射が出来るように電極の少なくとも一方は紫外線透過性の材質で形成されていることが好ましい。例えば基体と塗膜との間にＩＴＯのような透明導電層を設けて対向電極としたときは、基体に紫外線透過性の材料を用いれば基体側から紫外線を照射して塗膜を硬化させることが可能となる。
電気泳動においては塗布液の粘度、電気抵抗値は特に制限はなく、泳動条件（電圧・時間・電極間距離他）によって適宜材料の組合せを選択し電気泳動に最適な特性とすればよい。
この時、泳動をより効果的に行うために対抗電極にバイアス電圧を印可して泳動電圧を高めることが望ましい。
【００１８】
分散微粒子の硬化膜表面への局在化は、泳動速度と泳動時間で制御可能であり、１００％表面に移動する必要はなく、硬化膜中での粒子密度は傾斜構造を有していても良い。未硬化の塗膜表面への分散微粒子の局在化進行中に塗膜を硬化することにより、粒子密度の傾斜構造を有する硬化膜を得ることが出来る。この粒子密度の傾斜構造を調整し、分散粒子の局在化の程度を調整することにより、異質の２層構造に伴う機械的・光学的な歪みを低減することが可能となり、硬化膜の分散粒子濃度が低い膜内部での有機物の柔軟性と、分散粒子濃度が高い表面部分での無機物の硬度をより良好な状態で併せ持つ硬化膜を製造することが可能となる。
【００１９】
活性エネルギー線硬化性組成物を基体に塗工し分散微粒子の局在後に塗膜を形成する方法としては、前記組成物が感応する活性エネルギー線を照射して硬化させることにより行うことが出来る。
活性エネルギー線としては、電子線などの粒子線、Ｘ線や紫外線等の電磁波が利用可能であるが、紫外線は取扱・コスト等で好適で、本発明の硬化膜の形成には紫外線硬化性組成物が好適に用いられる。
【００２０】
紫外線硬化性組成物の紫外線硬化性を与える構成成分としては目的に応じて、光ラジカル重合性成分や光イオン重合成分適等を宜選択し組み合わせて用いれば良いが、一例として光ラジカル重合成分として多官能アクリル系モノマー・オリゴマーがある。具体的には１分子中に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能オリゴマー、（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマー、（メタ）アクリロイル基を有する１〜２官能モノマーである。
（メタ）アクリロイル基を有する多官能オリゴマーの例としては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２１】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーの例としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリス（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２２】
（メタ）アクリロイル基を有する１〜２官能モノマーの例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、等の１官能（メタ）アクリレートモノマー；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１、９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１、４−ジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ビス−（２−メタアクリロイルオキシエチル）フタレート等の２官能（メタ）アクリレートモノマーが挙げられる。
これら紫外線硬化性成分の多くは、また紫外線以外の活性エネルギー線を用いたときの硬化性成分としても用いることができる。
【００２３】
その他、紫外線硬化性組成物の成分として、必要に応じて、フィルム等の厚みが薄い基板の上に保護膜を着ける場合には、該組成物中に、高分子量のオリゴマー成分や希釈用有機溶剤を併用しても良い。また光重合開始剤を併用することが好ましい。
【００２４】
光重合開始剤の例としては、ベンゾインモノメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２、２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２、４、６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。これらの中では、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンが、透明性、硬化性の観点から、特に好ましい。
【００２５】
また、紫外線硬化性組成物を低エネルギー表面を持つ基体に塗布する場合には、良好な塗布品質の硬化膜を得るために、界面活性剤、塗料添加剤の添加を行う事が出来る。例えば、フッ素系ノニオン界面活性剤、変性シリコーン系界面活性剤、ビニル系またはアクリル系重合体塗料添加剤等を紫外線硬化性組成物に単独或いは混合して添加することにより、基体との濡れや硬化後の表面平滑性を改良する。また帯電防止剤を添加すると、ホコリの吸着を抑制できる。
更に金属との接着性増強剤として、例えば、エチレンオキシド変性コハク酸（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性フタル酸（メタ）アクリレート等のカルボキシル基を有する（メタ）アクリレート、また、エチレンオキシド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性リン酸基ジ（メタ）アクリレート等のリン酸基を分子内に有する（メタ）アクリレートを添加することも出来る。
更にまた、紫外線吸収剤、光安定剤および酸化防止剤などの各種耐久性向上剤、紫外線硬化性組成物の塗布適性を変えたり、或いは硬化膜表面の凸凹形成等のために無機系又は有機系フィラー類、着色のためには着色剤などを、それぞれ添加することが出来る。
【００２６】
本発明の硬化膜は被被覆物の保護面として特に光学材料分野で使用されると優れた機能を発揮するが、そればかりでなく、活性エネルギー線により硬化可能な化合物を用いた印刷版や光ディスク基板等、硬化膜の表面硬度の重要な多岐な応用分野にわたり、硬化膜の表面の耐摩耗性、耐擦過性、硬度を向上させるための手法として用いることができる。
【実施例】
【００２７】
以下に、実施例および比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。まず、表１に示す組成からなる無溶剤系紫外線硬化性組成物を作製した。
【００２８】
【表１】
2005213323.tif 000003
【００２９】
Ｍ−３１５：トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート
ＴＭＰ３Ａ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＢＰ：ベンゾフェノン
ＤＭＡＥＡ：Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリルアミド
ＦＺ−２１８８：日本ユニカー社製ポリエーテル変性シリコーンオイル
疎水性シリカ：日本アエロジル社製アエロジルＲ９７２(メタクリルシラン処理シリカ)
【００３０】
（実施例１・比較例１）
表１の実施例１、または比較例１の組成の紫外線硬化性組成物を基体上に膜厚が約５μｍとなる様にスピン塗布し（図１参照）、コロナ放電装置に４０ＫＶの電圧を印可し塗布膜表面を正帯電させ、疎水性シリカを電気泳動によって塗膜表面方向に電気泳動させた（図２参照）。コンベア式紫外線硬化装置（入力電力１２０Ｗ／ｃｍ）にて、１パス０．７５Ｊ／ｃｍ２となる様にコンベアスピードを調節し、塗膜を硬化した（図３参照）。塗膜表面の平坦性、平滑性は良好であった。その後、表面をメタノールで含浸したキムワイプで擦り、表面の白化の有無で、塗膜の硬化を確認した。表中、ＯＫは、硬化膜表面が溶剤に侵されず、白化を生じない場合を表し、ＮＧは、白化が見られた場合を表す。
【００３１】
（実施例２・比較例２）
表１の実施例２、または比較例２の組成の塗料を基板上に膜厚が約１０μｍとなる様に塗布し、実施例２では塗工ロールに１ＫＶの正電圧を印可しながら、比較例２では塗工ロールに電圧を印可せずに、直後に設置したコンベア式紫外線硬化装置（入力電力１２０Ｗ／ｃｍ）にて、１パス０．７５Ｊ／ｃｍ2となる様にコンベアスピードを調節し、塗膜を硬化した（図４参照）。硬化膜表面の平坦性、平滑性は良好であった。その後、表面をメタノールで含浸したキムワイプで擦り、表面の白化の有無で、塗膜の硬化を確認した。表中、ＯＫは、硬化膜表面が溶剤に侵されず、白化を生じない場合を表し、ＮＧは、白化が見られた場合を表す。
【００３２】
（表面硬度の評価）
上記と同様（但し、塗料Ｆの硬化条件は、１パス１．０Ｊ／ｃｍ2 ）にして、透明ガラス基板上に硬化塗膜を調製し、ＪＩＳ Ｋ−５４００の鉛筆硬度の評価に従い、すり傷にて、膜硬度を評価した。
【００３３】
（環状オレフィンフイルムへの接着性評価）
ジェイエスアール社製「アートン」フイルム（１８８μm厚み）上に紫外線硬化性組成物を塗布して硬化させ、硬化膜の接着性を評価した。接着性の評価は、ＪＩＳ Ｋ−５４００に従い、クロスカット−セロテープ（登録商標）剥離試験方法により行った。表中、ＯＫは、硬化塗膜のフイルムからの剥離が見られなかった場合を表し、ＮＧは剥離が見られた場合を表す。
【００３４】
試験結果を表２に示す。
【００３５】
【表２】
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【００３６】
表２から明らかなように、実施例１、２はそれぞれ比較例１、２と比較して接着性、硬化性を損なう事なく高い鉛筆硬度を実現している。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の硬化膜の製造方法の例（実施例１）を示した説明図であって、紫外線硬化性組成物よりなる塗布液の基体への塗工後の状態を示す図である。
【図２】本発明の硬化膜の製造方法の例（実施例１）を示した説明図であって、コロナ帯電を用いた電気泳動による分散微粒子の局在化の工程を示す図である。
【図３】本発明の硬化膜の製造方法の例（実施例１）を示した説明図であって、紫外線硬化の工程を示す図である。
【図４】本発明の硬化膜の製造方法の例（実施例２）を示した説明図であって、（１）塗布液の基体への塗工、（２）電気泳動、（３）紫外線硬化からなる工程を通して示した図である。
【符号の説明】
【００３８】
１  未硬化塗膜
２  基体
３  コロナ帯電電極
４  紫外線
５  塗工ロール兼泳動電極
６  支持ロール兼対向電極
７  分散粒子局在化塗膜（硬化）
８  塗膜進行方向
【図１】
2005213323.tif 000005
【図２】
2005213323.tif 000006
【図３】
2005213323.tif 000007
【図４】
2005213323.tif 000008