(57)【要約】【課題】  磁気ディスクなどのメモリディスクとして用いる基板を研磨剤を用いて研磨した後の洗浄に際して、洗浄後に異物などを残存させることなく極めて清浄に洗浄することが可能な洗浄パッド、およびそれを用いた洗浄装置を提供する。【解決手段】  曲げることなく直線的に平行に配置された繊維束からなる縦糸１の直角方向に一本毎に上下に波状に、繊維束からなる横糸２を通して織り込んで織布５からなる基布を構成し、縦糸の上側に横糸が波頭状に凸出するようにし、次いで織布５の一方の面に接着剤３を塗布し、接着剤塗布面に繊維４を植毛した後、平面となるように繊維４を切断して洗浄パッド１０を得る。【選択図】  図２
2005158164.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリディスク基板の表面を洗浄する洗浄パットであって、基布の表面に、繊維を植毛してなることを特徴とするメモリディスク基板の洗浄パッド。
【請求項２】
前記基布が繊維束からなる縦糸および横糸を織り込んでなる織布である請求項１に記載のメモリディスク基板の洗浄パッド。
【請求項３】
前記織布が曲げることなく直線的に平行に配置された前記縦糸の直角方向に一本毎に上下に波状に、前記横糸を通して横糸を織り込んでなる織布であり、前記織布の一方の表面に接着剤を塗布し、接着剤塗布面に繊維を植毛してなることを特徴とする、請求項２に記載のメモリディスク基板の洗浄パッド。
【請求項４】
前記縦糸および横糸を構成する繊維は、断面の径が５〜５０μｍであり、縦糸および横糸の径はそれぞれ８０〜４００μｍであり、且つ植毛繊維の断面の径が５〜５０μｍである請求項２又は３に記載のメモリディスク基板の洗浄パッド。
【請求項５】
前記繊維束が、吸水性または親水性の材料からなる繊維を束ねたものであり、前記植毛する繊維が吸水性または親水性の材料からなることを特徴とする請求項２〜４何れかに記載のメモリディスク基板の洗浄パッド。
【請求項６】
前記吸水性または親水性の材料がレーヨンであることを特徴とする請求項５に記載のメモリディスク基板の洗浄パッド。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄パッドを用いた洗浄装置。
【請求項８】
前記洗浄装置が枚葉式洗浄装置である、請求項７に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスクなどのメモリディスクとして用いる基板を研磨剤を用いて研磨した後の洗浄に用いる洗浄パッド、およびそれを用いた洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、磁気ディスクなどのメモリディスクに用いる基板は、アルミニウム合金やガラスなどからなるドーナツ状円板を、アルミナ、シリカなどの硬質材料や、ダイヤモンド、酸化セリウム、酸化マンガンなどの希土類物質の微細砥粒を分散材で懸濁させたスラリー状の研磨剤を用いて鏡面研磨される。次いで、研磨剤、研磨残滓などの異物が基板表面に吸着しないように、鏡面研磨された基板を研磨後できるだけ時間を経過させずに洗浄装置を用いて洗浄し、基板表面に付着した研磨剤を除去する。洗浄が不十分で研磨剤が基板表面に残存していると、その後基板面に記録層を形成させる際に記録層が基板表面に形成されず、欠陥となる。そのため、基板を鏡面研磨した後に完璧な洗浄を行うために、従来さまざまな方法が提案されている。
【０００３】
例えば、弾性素材で形成された多数の凸部を有する棒状の植毛ブラシを回転させながら、円盤状のワーク（ディスク基板）表面に接触させて洗浄する洗浄装置が提案されている（特許文献１参照）。このように棒状の植毛ブラシを用いて洗浄する方法は、ディスク基板がアルミニウム合金からなる場合は有効である。しかし、ディスク基板がガラスからなる場合、スラリー状の研磨剤に含まれる微細砥粒とガラス基板との接触界面に固相反応が生じて、洗浄しても極めて除去しにくい物質が形成されるため、このような棒状ブラシを用いて洗浄しても、基板表面に付着した異物を完全に除去することが困難である。
【０００４】
また、洗浄液が連続的に流れる処理槽中で、スポンジ状、布状、短繊維状のような柔軟で圧縮性を持った材質からなる摺擦部材（パッド）でワーク（ディスク基板）を摺擦して洗浄する方法及び装置も提案されている（例えば、特許文献２参照）。しかし、この方法を用いた場合、洗浄後に異物が残存しない完璧な洗浄を行うためには、高価な純水を多量に使用せざるを得ず、コスト的に有利ではない。
【０００５】
さらに、ガラス基板に水酸基を有する溶液を供給しながら、希土類物質の微細砥粒を分散固定した表面に複数の凹部を有するスポンジ材をガラス基板に押し当ててガラス基板とスポンジ材を相対移動させて研磨した後、水酸基に替えて洗浄液を供給して洗浄した後、ガラス基板からスポンジ材を離してリンスする鏡面仕上げ方法が提案されている（特許文献３参照）。この方法によると、リンス前の洗浄工程においても研磨剤を含むスポンジ材がガラス基板と接触しているため、この洗浄工程後も基板表面に砥粒が残留しやすく、その後ガラス基板からスポンジ材を離してリンスしても、基板表面から異物を完全に除去することが困難である。
【０００６】
一方、乾拭きおよび水拭きの両方に使用でき、かつ乾拭き時に小さなゴミを取る能力が高い清掃用物品として、不織布を起毛させた拭き取りシートも提案されている（特許文献４参照）。この拭き取りシートは繊維の接着または交絡で形成された不織布の表面から、繊維が部分的に切断され、かつ繊維が部分的にほぐされて起毛されていることを特徴としている。
【特許文献１】特開平１１−１７９６４号公報
【特許文献２】特開２０００−３０１０８９号公報
【特許文献３】特開２００１−００９６９７号公報
【特許文献４】特開平１１−３１８７９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
近年磁気ディスクの記録密度の増大にともない、磁気ディスク表面と磁気ヘッドとの間の距離はますます狭くなっており、磁気ディスクの表面の平坦化がより一層求められており、そのため磁気ディスク表面に研磨残滓等の異物のない高洗浄化が要求されている。しかしながら、従来提案されている洗浄装置は、基板表面から異物を完全に除去するには未だ満足するものではない。
そこで、本発明は、磁気ディスクなどのメモリディスクとして用いる基板が金属板又はガラス板であっても、基板を研磨剤を用いて研磨した後の洗浄に際して、多量の純水を必要とせずに洗浄後に異物などを残存させることなく極めて清浄に洗浄することが可能な洗浄パッド、およびそれを用いた洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を達成する本発明のメモリディスク基板の洗浄パッドは、メモリディスク基板の表面を洗浄する洗浄パットであって、基布の表面に、繊維を植毛してなることを特徴とするものである。前記基布は、織布、不織布、編布何れでも可能であるが、繊維束からなる縦糸および横糸を織り込んでなる織布であることが望ましい。そして、該織布は、曲げることなく直線的に平行に配置された前記縦糸の直角方向に一本毎に上下に波状に前記横糸を通して、横糸を織り込んでなる織布であり、前記織布の一方の表面に接着剤を塗布し、接着剤塗布面に繊維を植毛して構成することが望ましい。縦糸および横糸を構成する繊維は、断面の径が５〜５０μｍであり、縦糸および横糸の径はそれぞれ８０〜４００μｍであり、且つ植毛繊維の断面の径が５〜５０μｍであるものが望ましい。
そして、前記繊維束は、吸水性または親水性の材料からなる繊維を束ねたものであり、前記植毛する繊維が吸水性または親水性の材料からなることことが望ましく、前記吸水性または親水性の材料としてはレーヨンが好適に採用できる。
また、本発明の洗浄装置は、上記の洗浄パッドを用いたことを特徴とする洗浄装置であり、該洗浄装置として枚葉式洗浄装置にも適用できる。
【発明の効果】
【０００９】
砥粒を分散させた研磨剤を用いてメモリディスク用の基板を研磨した後、該基板表面に付着した研磨剤や研磨残滓を洗浄して除去する場合、本発明の繊維織物や繊維編物あるいは不織布からなる基布の表面に接着剤を塗布し、接着剤塗布面に繊維を植毛してシート状とした洗浄パッドを用いて洗浄することにより、基板表面から研磨剤や研磨残滓が植毛部分により機械的に除去されるとともに、植毛した繊維の間に研磨剤や研磨残滓が吸収されて除去され、かつ繊維を構成する材料が吸水性または親水性であるので、植毛繊維の間に吸収された研磨剤や研磨残滓が、同様に繊維の間に吸収された水により洗い流されるので、植毛繊維の間に研磨剤や研磨残滓が残存しにくく、高い洗浄効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照しながら本発明を説明する。
従来、メモリディスク基板の洗浄パッドとしては、ポリウレタンなどの樹脂に連続気泡を設けた弾性の多孔質体が用いられていた。しかし、多孔質体からなる洗浄パッドを用いた場合は、多孔部に砥粒や研磨残滓が残存しやすく、本発明の目的とする高い洗浄効果が得られない。その問題を解決する本発明の洗浄パッドは、繊維を織り込んだり編み込んだりしてなる繊維織物や繊維編物からなる織布、または繊維を交絡させてなる不織布を用い、これらの繊維織物、繊維編物、不織布の一方の表面に接着剤を塗布し、接着剤塗布面に繊維を植毛してなる構造を有していることを特徴とするものである。図１は本発明のメモリディスク基板の洗浄パッドに用いる基布として、縦糸１と横糸２を織り込んだ織布５を採用した場合の一例を示したものであり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）はその断面図である。
【００１１】
前記織布５は、図１（ｂ）に示すように、縦糸１が複数本の繊維束から構成されており、繊維束を撚って撚糸としてもよいし、個々の繊維を撚らずに接着剤などで接着して束ねてもよい。横糸２も複数本の繊維束から構成され、撚糸でも個々の繊維を撚らずに接着剤などで接着して束ねたものであってもよい。これらの縦糸および横糸を構成する繊維は、断面の径が５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜３０μｍであることがより好ましい。また、縦糸および横糸の径はそれぞれ８０〜４００μｍであることが好ましく、１５０〜３００μｍであることがより好ましい。さらに植毛繊維４は、断面の径が５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜３０μｍであることがより好ましい。
【００１２】
また、縦糸１と横糸２は、交互に編み込まれて織布５とされるが、図１（ｂ）に示すように、縦糸１は曲げることなく直線的に平行に配置され、その直角方向に一本毎に上下に波状に、横糸２を通して織り込んで織布５を構成することが好ましい。織布５をこのように構成することにより、縦糸の上側に横糸が波頭状に凸出するようになる。このようにして構成される織布５の一方の面に接着剤３（図２）を塗布し、接着剤塗布面に繊維４を植毛した後、繊維切断端が平面となるように切断して洗浄パッド１０とする。植毛は例えば静電植毛法等公知の植毛方法で行なうことができ、織布に対して垂直に植毛する。
【００１３】
このようにして植毛する場合、植毛後に先端を切断してなる植毛長としては、最短切断長さである植毛前の横糸の凸部表面からの長さが０．２〜１．０ｍｍであることが好ましく、０．４〜０．７ｍｍであることがより好ましい。また洗浄パッドの０．０１ｍｍ２の面積内に径が０．２μｍ以上である繊維が２本以上植毛されていることが好ましい。このような植毛密度とすることにより、清拭する際にディスク基板表面に付着した研磨剤や研磨残滓が捕捉されやすく、かつ洗浄水により植毛繊維の隙間に残存する研磨剤や研磨残滓が除去されやすくなる。
【００１４】
繊維を構成する材料としては繊維に紡糸することが可能であれば特に制限するものではないが、吸水性もしくは親水性の材料であると洗浄水が植毛繊維の隙間に吸収されやすくなり、植毛繊維の間に吸収された研磨剤や研磨残滓が、同様に植毛繊維の間に吸収された水により洗い流されるので、植毛繊維の間に研磨剤や研磨残滓が残存しにくくなり、高い洗浄効果が得られるので好ましい。このような材料として、材料が安価であり、紡糸および起毛がしやすく且つ吸水性に富んでいることから、レーヨンであることが特に好ましい。
【００１５】
本発明の洗浄パッド１０は上記のようにして構成されるが、洗浄パッド１０の植毛しない側の面に接着剤層２０および離型紙３０を設け、研磨装置の定盤に貼付して用いる際に離型紙３０を接着剤層２０から剥離し、接着剤層２０を介して洗浄パッド１０を図示しない定盤に貼付できるようにしてもよい。また、本発明の洗浄パッド１０を１台の定盤の複数箇所に貼付してなる複数ヘッドの洗浄装置に用いて、本発明の洗浄装置としてもよいが、研磨装置に１台のみの定盤を設けて、洗浄パッド１０をその定盤に貼付してなる枚葉式洗浄装置として用いると洗浄効果がさらに高まるので好ましい。
【実施例】
【００１６】
以下、実施例を示し本発明をさらに詳細に説明する。
[洗浄パッド]
本実施例では、繊維径１０μｍのレーヨン繊維を撚った繊維束からなる直径１５０μｍの縦糸を曲げることなく直線的に平行に配置して、この縦糸の直角方向に一本毎に上下に波状に、繊維径２５μｍのレーヨン繊維を撚った繊維束からなる直径１５０μｍの横糸を通して織り込んだ織布の片面に接着剤を塗布し、接着剤塗布面に繊維径１０μｍのレーヨン繊維を植毛した後、最短切断長さである植毛前の横糸の凸部表面からの長さが０．６ｍｍとなるように平面的に繊維をカットして洗浄パッドを構成した。
【００１７】
次のようにして得られたガラス基板からなるディスクを、研磨後に上記実施例の洗浄パッドを用いて洗浄した。
ガラス素板より、外形６６ｍｍ、内径１９ｍｍドーナツ状のガラス基板を切り出し、次いで内外周端部研削装置を用いてガラス基板の外周寸法を６５ｍｍ、内周寸法を２０ｍｍに調整するとともに、内外周端角部を面取り加工した。次いで、研磨装置を用いてガラス基板の上下ディスク面を研磨剤を用いてラッピング加工し、さらに酸化セリウムとコロイダルシリカを混合したスラリー状の研磨液を用いて精密研磨して表面を滑面化した後、研磨装置から取り外して純水を満たした移送用カセット中に浸漬して次工程の洗浄工程に移送する。
【００１８】
洗浄工程においては、カセットからガラス基板を取り出し、まず１％濃度の洗浄液（商品名：ＭＯ２、関東化学（株）製）に浸漬した後、定盤に下記に示す本発明の洗浄パッドを貼付した枚葉式洗浄装置を用いて、ノズルから１％濃度の洗浄液（商品名：ＭＯ２、関東化学（株）製）を供給しながら定盤を回転させてスクラブ洗浄し、その後純水を供給しながら定盤を回転させてリンスした。洗浄は、メモリディスクを垂直に立てて、その両サイドに図３に示す構造の前記実施例の洗浄パッドを当てて、ディスクト洗浄パッドを逆方向に回転しながら行なった。
【００１９】
次いで、３％濃度の洗浄液（商品名：ＭＯ２、関東化学（株）製）に浸漬しさらに純水中に浸漬した後、イソプロピルアルコール中に浸漬した後イソプロピルアルコール蒸気中で乾燥した。また比較例として、多孔質ポリウレタン（商品名：ベルクリン、アイオン（株）製）からなる洗浄パッドを用いて、上記と同様にして研磨後のガラス基板を洗浄した。このようにして洗浄を完了したガラス基板に残存する付着物の有無を、オプティカルディフェクトテスター（商品名：ＲＺ３５００、日立電子エンジニアリング（株）製）を用いてＰ−ｃｏｕｎｔｓを測定した。結果を表１に示す。なお、表中でＰ−ｃｏｕｎｔｓの値が小さいほど付着物が少ないことを示す。
【００２０】
【表１】
2005158164.tif 000003
【００２１】
表１に示すように、本実施例の洗浄パッドを枚葉式洗浄装置の定盤に貼付して洗浄した場合は、Ｐ−ｃｏｕｎｔｓ値が比較例の場合に比べて極端に低く、ディスク基板面に付着物が残存しないことが確認でき、本発明のメモリディスク基板の洗浄パッドの有効性が確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００２２】
本発明は、ガラス基板やアルミニウム等の金属基板からなる磁気ディスクや光ディスク等のメモリディスク用の基板を研磨した後、洗浄するメモリディスク用洗浄装置の洗浄パットとして利用でき、基板表面に付着した研磨剤や研磨残滓を洗浄して除去する高い洗浄効果が得られる。そのため、本発明の洗浄パッドおよび洗浄装置を用いて洗浄したディスク基板を用いることにより、欠陥のないメモリディスクを供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】（ａ）は本発明の実施形態に係るメモリディスク基板の洗浄パッドに用いる織布の一例を示す平面図、（ｂ）はその断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係るメモリディスク基板の洗浄パッドの断面図である。
【図３】本発明の他の実施形態に係るメモリディスク基板の洗浄パッドの断面図である。
【符号の説明】
【００２４】
１  縦糸
２  横糸
３  接着剤
４  植毛繊維
５  織布
１０  洗浄パッド
２０  接着剤層
３０  離型紙
【図１】
2005158164.tif 000004
【図２】
2005158164.tif 000005
【図３】
2005158164.tif 000006