(57)【要約】【課題】処理対象物ごとに異なる最も適した特性を有するオゾン水を容易にかつ効率よく生成することができるオゾン水処理装置を提供する。【解決手段】少なくとも、外套内に中空管状のオゾンガス透過膜が収納されたオゾン溶解モジュールと、前記オゾン溶解モジュールで生成したオゾン水による処理を行う処理槽とを有するオゾン水処理装置であって、前記オゾン溶解モジュールでオゾン水を生成する際に、オゾンガスを前記外套と前記オゾンガス透過膜との間に流通させ、水を前記オゾンガス透過膜内に流通させるか、又は、水を前記外套と前記オゾンガス透過膜との間に流通させ、オゾンガスを前記オゾンガス透過膜内に流通させるかを切り換える手段と、前記処理槽で処理対象物の処理に供された使用後オゾン水を、還流させて前記オゾン溶解モジュールに供するか、又は、廃液として排出させるかを切り換える手段とを有するオゾン水処理装置。【選択図】    図１
2005161163.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、外套内に中空管状のオゾンガス透過膜が収納されたオゾン溶解モジュールと
、前記オゾン溶解モジュールで生成したオゾン水による処理を行う処理槽とを有するオゾ
ン水処理装置であって、
前記オゾン溶解モジュールでオゾン水を生成する際に、オゾンガスを前記外套と前記オゾ
ンガス透過膜との間に流通させ、水を前記オゾンガス透過膜内に流通させるか、又は、水
を前記外套と前記オゾンガス透過膜との間に流通させ、オゾンガスを前記オゾンガス透過
膜内に流通させるかを切り換える手段と、
前記処理槽で処理対象物の処理に供された使用後オゾン水を、還流させて前記オゾン溶解
モジュールに供するか、又は、廃液として排出させるかを切り換える手段とを有する
ことを特徴とするオゾン水処理装置。
【請求項２】
オゾンガス透過膜は、非多孔性膜であることを特徴とする請求項１記載のオゾン水処理装
置。
【請求項３】
オゾンガス透過膜は、フッ素系樹脂又はシリコン系樹脂からなることを特徴とする請求項
２記載のオゾン水処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理対象物の種類や処理条件に合わせて最も適した特性を有するオゾン水を容
易にかつ効率よく生成することができるオゾン水処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
オゾンガスを水に溶解させて得られるオゾン水は、オゾンの持つ強い酸化力により殺菌・
脱臭・漂白等に優れた効果を発揮し、しかもオゾンガスは時間とともに無害な酸素（気体
）に自己分解して残留性がないことから、環境にやさしい殺菌・洗浄・漂白剤等として注
目されている。近年、環境への関心が高まる中、オゾン水を用いた洗浄プロセスが注目さ
れており、例えば、半導体基板の洗浄や半導体基板のレジスト除去への応用が検討されて
いる。
【０００３】
このようなオゾン水を生成する装置としては、従来、外套内に中空管状のオゾンガス透過
膜が多数設置された構造のオゾン溶解モジュールが知られている。このようなオゾン溶解
モジュールを用いてオゾン水を生成するには、通常、中空管状のオゾンガス透過膜内に純
水等の原料水を供給し、外套とオゾンガス透過膜との間にオゾンガスを供給することで、
オゾンガスをオゾンガス透過膜を通して原料水に溶解させる。
例えば、特許文献１には、オゾン溶解モジュールの超純水入口側に超純水の供給を停止す
る弁と、オゾンガス入口側にオゾンガスをオゾン溶解モジュール外へ循環させるバイパス
手段とが設けられたオゾン水供給装置が開示されている。
【０００４】
ところで、オゾン水を用いた処理対象物の処理において、効率よくかつ問題を生じさせる
ことなく処理対象物の処理を行うには、処理対象物の種類やその処理条件等に合わせて、
使用するオゾン水の特性（濃度、温度、添加物等）を適宜変更する必要があった。
しかしながら、従来のオゾン水処理装置は、生成するオゾン水の濃度をわずかに変更した
り、処理対象物の処理に供する際の温度をわずかに変更したりすることはできるものの、
処理対象物の種類やその処理条件等に合わせて生成するオゾン水の特性を自由に変更する
ことはできないものであった。
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−２８８３７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑み、オゾン水を用いて処理対象物の処理を行うに際して、処理対
象物ごとに異なる最も適した特性を有するオゾン水を容易にかつ効率よく生成することが
できるオゾン水処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、少なくとも、外套内に中空管状のオゾンガス透過膜が収納されたオゾン溶解モ
ジュールと、前記オゾン溶解モジュールで生成したオゾン水による処理を行う処理槽とを
有するオゾン水処理装置であって、前記オゾン溶解モジュールでオゾン水を生成する際に
、オゾンガスを前記外套と前記オゾンガス透過膜との間に流通させ、水を前記オゾンガス
透過膜内に流通させるか、又は、水を前記外套と前記オゾンガス透過膜との間に流通させ
、オゾンガスを前記オゾンガス透過膜内に流通させるかを切り換える手段と、前記処理槽
で処理対象物の処理に供された使用後オゾン水を、還流させて前記オゾン溶解モジュール
に供するか、又は、廃液として排出させるかを切り換える手段とを有するオゾン水処理装
置である。
以下に本発明を詳述する。
【０００８】
本発明者らは、外套内に中空管状のオゾンガス透過膜が収納された構造のオゾン溶解モジ
ュールでオゾン水を生成し、該オゾン水を用いて処理槽で処理対象物の処理を行うオゾン
水処理装置について鋭意検討した結果、以下のことを見出した。
すなわち、上記構造のオゾン溶解モジュールにおいてオゾン水を生成する場合、外套とオ
ゾンガス透過膜との間にオゾンガスを流通させ、上記オゾンガス透過膜の内部に水を流通
させることで、上記オゾンガス透過膜を通してオゾンガスを水に溶解させる方式（以下、
内部流通方式ともいう）と、外套とオゾンガス透過膜との間に水を流通させ、上記オゾン
ガス透過膜の内部にオゾンガスを流通させることで、上記オゾンガス透過膜を通してオゾ
ンガスを水に溶解させる方式（以下、外部流通方式ともいう）とが考えられる。
上記内部流通方式は、外部流通方式に比べて高濃度のオゾン水を生成することができるが
、得られるオゾン水は少量となる。一方、上記外部流通方式は、内部流通方式に比べて多
量のオゾン水を得ることができるが、低濃度のオゾン水しか得られない。
従って、上記処理対象物の処理において、使用するオゾン水は少量であってもよいが、高
濃度のオゾン水を使用する必要がある場合、上記内部流通方式にてオゾン水を生成するこ
とが適しており、一方、使用するオゾン水は低濃度であってもよいが、多量のオゾン水が
必要である場合、上記外部流通方式でオゾン水を生成することが適している。
【０００９】
また、上記オゾン水処理装置としては、上記オゾン溶解モジュールで生成したオゾン水を
用いて処理対象物の処理を行った後の使用後オゾン水をそのまま廃液として排出する方式
（以下、通水方式ともいう）と、上記オゾン溶解モジュールへ還流させて再度オゾン水の
生成に使用する方式（以下、還流方式ともいう）とが考えられる。
上記通水方式は、処理対象物の処理に際して新たに生成したオゾン水のみを使用するため
、オゾン水にパーティクル（微小なゴミや埃等）が含有されておらず、また、処理対象物
の処理を行う前にオゾン水を加熱させることができ、更に、オゾン水の含有酸素濃度を低
く抑えることができる。一方、上記還流方式は、ある程度の濃度のオゾン水に更にオゾン
ガスを溶解させることからオゾン水のオゾン濃度を非常に高くすることができ、また、高
価な試薬をオゾン水に添加する場合であっても、消費された分のみを補充すればよいこと
から処理コストを低く抑えることができる。
すなわち、上記処理対象物の処理において、クリーンな環境で処理を行う必要がある場合
、処理対象物が熱によるダメージが問題とならない場合、及び／又は、処理対象物がオゾ
ン水に含まれる酸素に起因するエッチングが問題とならない場合、上記通水方式が適して
おり、一方、処理対象物の処理において余りクリーンな環境が要求されない場合、非常に
高いオゾン濃度のオゾン水が必要な場合、及び／又は、高価な試薬を添加する場合、上記
還流方式が適している。
【００１０】
すなわち、本発明者らは、上述の４つの方式（内部流通方式、外部流通方式、通水方式及
び還流方式）を適宜組み合わせることにより、様々な特性を有するオゾン水を生成するこ
とができ、その結果、処理対象物の種類や処理条件等に合わせて、それぞれ最適な特性を
有するオゾン水により処理対象物の処理ができることを見出し、本発明を完成させた。
【００１１】
なお、上記４つの方式の組み合わせとは、上記内部流通方式と通水方式とを組み合わせた
方式（以下、内部通水方式ともいう）、上記内部流通方式と還流方式とを組み合わせた方
式（以下、内部還流方式ともいう）、上記外部流通方式と通水方式とを組み合わせた方式
（以下、外部通水方式ともいう）、及び、上記外部流通方式と還流方式とを組み合わせた
方式（以下、外部還流方式ともいう）の４つの方式が挙げられ、各方式は以下に挙げる場
合に適している。
【００１２】
上記内部通水方式は、比較的オゾン濃度の高いオゾン水が余り多量に必要でない場合、処
理対象物の処理をクリーンな環境で行う必要がある場合、処理対象物が加熱に対してダメ
ージを受けることがない場合、及び／又は、処理対象物がオゾン水に含まれる酸素に起因
するエッチングが問題とならない場合に適している。具体的には、例えば、マスク基板、
ガリウム・ヒ素基板及びシリコン基板等の処理に適している。
【００１３】
上記内部還流方式は、非常に高濃度のオゾン水が余り多量に必要でない場合、次工程に洗
浄工程等があり、処理対象物の処理時に余りクリーンな環境が要求されない場合、及び／
又は、オゾン水に高価な試薬を添加しても処理コストを低く抑えたい場合に適している。
具体的には、例えば、シリコン基板リペアーやイオン注入基板等の処理に適している。
【００１４】
上記外部通水方式は、比較的オゾン濃度の低いオゾン水が多量に必要な場合、処理対象物
の処理をクリーンな環境で行う必要がある場合、処理対象物が加熱に対してダメージを受
けることがない場合、及び／又は、処理対象物がオゾン水に含まれる酸素に起因するエッ
チングが問題とならない場合に適している。具体的には、例えば、上記内部通水方式で挙
げた基板からなる大面積ＬＣＤ基板等の処理に適している。
【００１５】
上記外部還流方式は、上記内部還流方式に比べればオゾン濃度が低いが、オゾン水が多量
に必要な場合、次工程に洗浄工程等があり、処理対象物の処理時に余りクリーンな環境が
要求されない場合、及び／又は、オゾン水に高価な試薬を添加しても処理コストを低く抑
えたい場合に適している。具体的には、例えば、上記内部還流方式で挙げた基板からなる
大面積ＬＣＤ基板の処理に適している。
【００１６】
以下、本発明を実施の形態に則して説明する。
図１は、本発明のオゾン水処理装置の一例を示すブロック図である。
図１に示すように、本発明のオゾン水処理装置１０は、主にオゾン水を生成するオゾン溶
解モジュール１１、オゾンガス発生装置１４、オゾンガス濃度計１５、タンク１６、オゾ
ン水濃度計１７、熱交換器１８及び処理槽１９から構成されている。
【００１７】
オゾンガス発生装置１４では、オゾン溶解モジュール１１にて水に溶解させるためのオゾ
ンガスが生成される。オゾンガス発生装置１４としては特に限定されず、公知のオゾンガ
ス発生装置を用いることができる。オゾンガス発生装置１４で生成されたオゾンガスはオ
ゾンガス濃度計１５により測定・監視される。オゾンガス濃度計１５により測定されたオ
ゾンガス濃度の値がオゾンガス発生装置１４にフィードバックされオゾン発生装置１４で
生成されるオゾンガスの濃度が随時調整されて、オゾン溶解モジュール１１に供給される
。
【００１８】
タンク１６では、オゾン溶解モジュール１１にてオゾンガスを溶解させるための水が貯蔵
される。上記水としては特に限定されず、例えば、超純水、水道水、イオン交換水等が挙
げられ、また、これらに酢酸又はその誘導体等の有機酸を溶解したものであってもよい。
また、還流方式を採用した場合には、処理に供したオゾン水が用いられる。
タンク１６に貯蔵された水は、ポンプ２６によりオゾン溶解モジュール１１に供給される
。
【００１９】
オゾン溶解モジュール１１は、外套１３の内部に中空管状のオゾンガス透過膜１２が収納
された構造である。
このようなオゾン溶解モジュール１１において、外套１３としては、オゾンガスの漏出を
防止するために、気密性を備えていることが好ましく、その材料としては耐オゾン性に優
れたものであれば特に限定されず、例えば、ポリテトラフルオロエチレン樹脂（ＰＴＦＥ
）、パーフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、フッ化エチレンプロピレン樹脂（ＦＥＰ）
等の４フッ化エチレン共重合体や、ステンレス材等が挙げられる。
また、外套１３の形状としては特に限定されず、例えば、円柱状；三角柱、四角柱等の多
角柱状；楕円体状等が挙げられる。
【００２０】
中空管状のオゾンガス透過膜１２としては、非多孔性膜であることが好ましい。多孔質膜
であると、目詰まりが発生しやすくなるからである。また、この場合、オゾンガス透過膜
１２は、フッ素系樹脂又はシリコン系樹脂からなることが好ましい。フッ素系樹脂又はシ
リコン系樹脂からなる非多孔性膜は、耐食性及び耐劣化性に優れかつオゾンガスを効率的
に透過する性質を有するからである。
【００２１】
上記フッ素系樹脂としては、例えば、テトラフルオロエチレン共重合体（ＰＴＦＥ）、パ
ーフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、フッ化エチレンプロピレン樹脂（ＦＥＰ）等の四
弗化エチレン系樹脂重合体；フッ素系ゴム等が挙げられ、上記シリコン系樹脂としては、
例えば、ポリジメチルシロキサン、メチルシリコーンゴム等が挙げられる。パーフルオロ
化樹脂であれば、いずれの樹脂でも非多孔性膜の原料として使用できる。
【００２２】
このような構成のオゾン溶解モジュール１１にてオゾン水を生成するには、オゾンガスを
外套１３とオゾンガス透過膜１２との間に流通させ、水をオゾンガス透過膜１２内に流通
させるか、又は、水を外套１３とオゾンガス透過膜１２との間に流通させ、オゾンガスを
オゾンガス透過膜１２内に流通させることによりオゾン水を生成する。なお、前者は、上
述した内部流通方式であり、後者は、上述した外部流通方式である。
すなわち、本発明のオゾン水処理装置は、オゾン溶解モジュールにおけるオゾン水の生成
において、内部流通方式と外部流通方式とを切り換える手段を有する（以下、原料切り換
え手段ともいう）。
【００２３】
上記原料切り換え手段としては特に限定されず、例えば、図１に示したように、水が流通
する配管とオゾンガスが流通する配管とを連絡するバイパスを２つ設け、これらの結合点
に原料切り換え弁２１（２１ａ〜２１ｄ）を設ける方法や、水及びオゾンガスが流通する
各配管とオゾン溶解モジュールとの連結部分に、上記各配管をオゾン溶解モジュールに対
して着脱可能とする治具を取り付け、該治具の取り付け先を適宜切り換える方法等が挙げ
られる。
なお、図１に示した原料切り換え弁２１としては特に限定されず、例えば、三方口切り換
え可能な公知の電子弁等が挙げられ、この原料切り換え弁２１は、図示しない弁制御装置
によりその開閉が制御されるようになっている。
【００２４】
オゾン溶解モジュール１１において、内部流通方式によりオゾン水を生成する場合、水は
、原料切り換え弁２１ａ、２１ｂのルートを通ってオゾンガス透過膜１２に供給され、オ
ゾンガスは、原料切り換え弁２１ｃ、２１ｄのルートを通って外套１３とオゾンガス透過
膜１２との間に供給されるように、原料切り換え弁２１の制御を行う。一方、外部流通方
式によりオゾン水を生成する場合、水は、原料切り換え弁２１ａ、２１ｄのルートを通っ
て外套１３とオゾンガス透過膜１２との間に供給され、オゾンガスは、原料切り換え弁２
１ｃ、２１ｂのルートを通ってオゾンガス透過膜１２に供給されるように、原料切り換え
弁２１の制御を行う。
【００２５】
また、オゾン溶解モジュール１１には、オゾン水生成に使用された使用後オゾンガスを排
ガスとして排出するためのガス処理塔２０が圧力調整用ニードル弁２５を介して接続され
ており、オゾン溶解モジュール１１と圧力調整用ニードル弁２５との間には、オゾン水の
生成方式に合わせて開閉される排ガス切り換え弁２２（２２ａ〜２２ｄ）が設けられてい
る。
すなわち、オゾン水が内部流通方式で生成される場合、使用後オゾンガスは、排ガス切り
換え弁２２ｂ、２２ｃのルートを通って排出され、生成したオゾン水は、排ガス切り換え
弁２２ａ、２２ｄのルートを通ってオゾン水濃度計１７へ導入されるように原料切り換え
弁２２の制御を行う。一方、オゾン水が外部流通方式で生成される場合、使用後オゾンガ
スは、排ガス切り換え弁２２ａ、２２ｃのルートを通って排出され、生成したオゾン水は
、排ガス切り換え弁２２ｂ、２２ｄのルートを通ってオゾン水濃度計１７へ導入されるよ
うに原料切り換え弁２２の制御を行う。
このような排ガス切り換え弁２２としては特に限定されないが、上述した原料切り換え弁
２１と同様のものであることが好ましい。
【００２６】
オゾン溶解モジュール１１において生成されたオゾン水は、オゾン水濃度計１７により溶
存オゾンガス濃度が監視・管理される。
また、オゾン水は、必要に応じて公知の熱交換器１８にて加熱された後、処理槽１９にお
いて処理対象物の処理に用いられる。
処理槽１９は、処理対象物にオゾン水を接触させて、処理対象物の洗浄、殺菌、消毒、レ
ジストの除去等種々の処理を行う槽であり、その材質等は特に限定されないが、オゾンに
対する耐性が高く、かつ、加圧に耐えられるものであることが好ましい。
また、処理槽１９は、必要に応じて加熱手段や加圧手段が設けられていてもよく、更に、
紫外線照射手段等が設けられていてもよい。
【００２７】
このようなオゾン水処理装置１０において、処理槽１９で処理対象物の処理に供された使
用後オゾン水は、水を貯蔵するタンク１６に還流されるか、又は、廃液として排出される
。前者の場合、本発明のオゾン水処理装置は、上述した還流方式となり、後者の場合、本
発明のオゾン水処理装置は、上述した通水方式となる。すなわち、本発明のオゾン水処理
装置は、還流方式と通水方式とを切り換える手段が設けられている（以下、還流−通水切
り換え手段ともいう）。
上記還流−通水切り換え手段としては特に限定されず、例えば、図１に示したように、処
理槽１９から排出された使用後オゾン水が流通する配管と、オゾン溶解モジュールに連絡
する配管と、使用後オゾン水を外部へ排出する配管との連結部に還流−通水切り換え弁２
３を設ける方法や、処理槽から排出された使用後オゾン水が流通する配管の先端に、上記
オゾン溶解モジュールへ還流させる配管及び廃液として排出させる配管に対して着脱可能
な治具を取り付け、該治具の取り付け先を適宜切り換える方法等が挙げられる。
なお、図１に示した還流−通水切り換え弁２３としては特に限定されないが、上述した原
料切り換え弁２１と同様のものが考えられ、また、この還流−通水切り換え弁２１は、図
示しない弁制御装置によりその開閉が制御されるようになっている。
【００２８】
更に、本発明のオゾン水処理装置は、図１に示すように、オゾン水濃度計１７と熱交換器
１８との間に、オゾン溶解モジュール１１にて生成されたオゾン水を処理槽１９に導入さ
せるか、又は、水を貯蔵するタンク１６に還流させるかの切り換えが可能な準備ルート切
り換え弁２４が設けられていることが好ましい。
この場合、オゾン溶解モジュール１１で生成されたオゾン水をタンク１６に還流（内部還
流）させることでオゾン水のオゾン濃度を極めて高くすることができる。
このような準備ルート切り換え弁２４としては特に限定されないが、上述した原料切り換
え弁２１と同様のものであることが好ましい。
なお、準備ルート切り換え弁２４に代えて、オゾン溶解モジュールで生成したオゾン水が
流通する配管の先端に、熱交換器へ繋がる配管及びタンクへ繋がる配管に対して着脱可能
な治具を取り付け、該治具の取り付け先を適宜切り換える方法としてもよい。
【００２９】
本発明のオゾン水処理装置において、オゾン水により処理される処理対象物としては特に
限定されないが、例えば、半導体基板等が挙げられ、本発明のオゾン水処理装置は、半導
体基板の洗浄や半導体基板のレジスト除去等に特に好適に使用することができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明のオゾン水処理装置は、外套内に中空管状のオゾンガス透過膜が収納された構造の
オゾン溶解モジュールにおいてオゾン水を生成する際に、水を上記外套とオゾンガス透過
膜との間に流通させ、オゾンガスを上記オゾンガス透過膜内に流通させるか、又は、水を
上記オゾンガス透過膜内に流通させ、オゾンガスを上記外套とオゾンガス透過膜との間に
流通させるかを切り換える手段（原料切り換え手段）と、処理槽で処理対象物の処理に供
した使用後オゾン水を、還流させてオゾン溶解モジュールに供するか、又は、廃液として
排出させるかを切り換える手段（還流−通水切り換え手段）とを有するものである。
すなわち、本発明のオゾン水処理装置は、上記原料切り換え手段と還流−通水切り換え手
段とを適宜作動させることにより、内部通水方式、内部還流方式、外部通水方式又は外部
還流方式のいずれかに自由に変更することができ、処理対象物の種類や処理条件等に合わ
せて、最も適した特性を有するオゾン水を容易にかつ効率よく生成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定
されるものではない。
【００３２】
（実施例１）
図１に示したような内部通水方式、内部還流方式、外部通水方式及び外部還流方式に自由
に切り換え可能なオゾン水処理装置を作製した。当該装置において、オゾン溶解モジュー
ルは、内径１５ｃｍ×長さ２０ｃｍの円柱形を有する外套内に、パーフルオロアルコキシ
樹脂からなる内径０．５ｍｍ×厚さ０．０４ｍｍ×長さ３５０ｃｍの中空管状のオゾンガ
ス透過膜４００本が収納されたものとした。
【００３３】
オゾンガス発生装置（住友精密社製：ＧＲ−ＲＢ）に、酸素流量２Ｌ／分、窒素流量４０
ｍＬ／分で原料ガスを送り込みオゾンガスを発生させ、発生したオゾンガスをオゾンガス
圧０．２５ＭＰａに加圧して送り出し、オゾンガスのオゾン濃度をオゾンガス濃度計（理
工科学社製：ＯＺＲ−３０００）でモニターしたものをオゾン溶解モジュールの外套とオ
ゾンガス透過膜との間に供給し（原料切り換え弁２１ｃ、２１ｄのルート）、ポンプを介
してタンクに貯蔵した水道水を水温２０℃、流量０．１Ｌ／分でオゾン溶解モジュールの
オゾンガス透過膜内に供給し（原料切り換え弁２１ａ、２１ｂのルート）、オゾン水を生
成した。
【００３４】
生成したオゾン水の溶存オゾンガス濃度をオゾン水濃度計（理工科学社製：ＯＺＲ−３０
００）で測定し、熱交換器で５０℃に加熱した後、処理槽に導入し、処理槽内に設置した
厚さ１．０μｍのレジストが塗布されたシリコン基板のレジストの除去を行った。
その後、使用後オゾン水は、廃液として排出した（内部通水方式）。
実施例１にかかるオゾン水処理装置のオゾン水濃度、レジスト除去の結果等を表１に示し
た。
【００３５】
（実施例２）
実施例１で使用したオゾン水処理装置を用いて、処理対象物を厚さ１．０μｍのレジスト
が塗布されたイオン注入基板とし、使用後オゾン水をオゾン溶解モジュールに還流させ、
オゾン水を処理槽に導入する前に加熱しなかったほかは実施例１と同様とした（内部還流
方式）。
実施例２にかかるオゾン水処理装置のオゾン水濃度、レジスト除去の結果等を表１に示し
た。
【００３６】
（実施例３）
実施例１で使用したオゾン水処理装置を用いて、オゾンガスをオゾン溶解モジュールのオ
ゾンガス透過膜内に供給し（原料切り換え弁２１ｃ、２１ｂのルート）、水道水を水温２
０℃、流量２．０Ｌ／分でオゾン溶解モジュールの外套とオゾンガス透過膜との間に供給
して（原料切り換え弁２１ａ、２１ｄのルート）オゾン水を生成し、処理対象物を厚さ１
．０μｍのレジストが塗布されたシリコン基板としたほかは、実施例１と同様とした（外
部通水方式）。
実施例３にかかるオゾン水処理装置のオゾン水濃度、レジスト除去の結果等を表１に示し
た。
【００３７】
（実施例４）
実施例１で使用したオゾン水処理装置を用いて、処理対象物をイオン注入基板とし、使用
後オゾン水をオゾン溶解モジュールに還流させ、オゾン水を処理槽に導入する前に加熱し
なかったほかは実施例３と同様にした（外部還流方式）。
実施例４にかかるオゾン水処理装置のオゾン水濃度、レジスト除去の結果等を表１に示し
た。
【００３８】
【表１】
2005161163.tif 000003
【００３９】
表１に示したように、実施例１〜４では、それぞれ処理対象物のレジストを完全にかつ効
率よく除去することができた。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
本発明によれば、処理対象物の種類や処理条件に合わせて最も適した特性を有するオゾン
水を容易にかつ効率よく生成することができるオゾン水処理装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明のオゾン水処理装置の一例を示すブロック図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０  オゾン水処理装置
１１  オゾン溶解モジュール
１２  オゾンガス透過膜
１３  外套
１４  オゾンガス発生装置
１５  オゾンガス濃度計
１６  タンク
１７  オゾン水濃度計
１８  熱交換器
１９  処理槽
２０  ガス処理塔
２１  原料切り換え弁
２２  排ガス切り換え弁
２３  還流−通水切り換え弁
２４  準備ルート切り換え弁
２５  圧力調整用ニードル弁
【図１】
2005161163.tif 000004