(57)【要約】【課題】  本発明は、吐出ノズルに対する洗浄液の浸入を防止可能であって、かつワイピングシートに洗浄液を適切に散布可能なワイピング方法およびワイピング装置、並びに液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供することを課題としている。【解決手段】  本発明は、機能液滴吐出ヘッドを保守するために、洗浄液を散布したワイピングシートにより、機能液を吐出する吐出ノズルが形成された機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピング方法において、洗浄液は、散布時には、ワイピングシートに対して含浸可能となるシート毛管力が作用し、払拭時には、吐出ノズルに対して浸入不能となるノズル毛管力が作用するものであることを特徴とする。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能液滴吐出ヘッドを保守するために、洗浄液を散布したワイピングシートにより、機能液を吐出する吐出ノズルが形成された前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピング方法において、
前記洗浄液は、前記散布時には、前記ワイピングシートに対して含浸可能となるシート毛管力が作用し、前記払拭時には、前記吐出ノズルに対して浸入不能となるノズル毛管力が作用するものであることを特徴とするワイピング方法。
【請求項２】
前記機能液は、機能液溶媒に機能材料を溶解させたものであり、
前記洗浄液は、前記機能材料を溶解する洗浄液溶媒と、
前記洗浄液溶媒に対する前記ノズル毛管力を弱めると共に、前記洗浄液溶媒に対する前記シート毛管力を向上させる溶質と、で構成されていることを特徴とする請求項１に記載のワイピング方法。
【請求項３】
機能液滴吐出ヘッドを保守するために、洗浄液を散布したワイピングシートで、機能液を吐出する吐出ノズルが形成された前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピング方法において、
前記機能液は、機能液溶媒に機能材料を溶解させたものであり、
前記洗浄液は、前記機能材料を溶解する洗浄液溶媒と、
前記洗浄液溶媒の揮発性を向上させる溶質と、で構成されていることを特徴とするワイピング方法。
【請求項４】
前記機能液は、水溶液であり、
前記洗浄液は、前記洗浄液溶媒を前記水とし、前記溶質をエタノールとしていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のワイピング方法。
【請求項５】
前記機能液は、ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のワイピング方法。
【請求項６】
前記ワイピングシートには、前記ワイピングシートを送りながら、これに臨む噴霧ノズルから前記洗浄液を噴霧させることにより、前記洗浄液が散布され、
前記ワイピングシートの単位面積当りの散布量は、前記噴霧ノズルから噴霧される前記洗浄液の噴霧量を一定とし、
前記ワイピングシートの送り速度を可変することにより調整されることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載のワイピング方法。
【請求項７】
ワイピングシートに洗浄液を散布する洗浄液散布手段と、
前記洗浄液が散布されたワイピングシートにより、機能液を吐出する吐出ノズルが形成された機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭する拭取り手段と、を備えたワイピング装置において、
前記洗浄液は、前記散布時には、前記ワイピングシートに対して含浸可能となるシート毛管力が作用し、前記払拭時には、前記吐出ノズルに対して浸入不能となるノズル毛管力が作用することを特徴とするワイピング装置。
【請求項８】
ワイピングシートに洗浄液を散布する洗浄液散布手段と、
前記洗浄液が散布されたワイピングシートにより、機能液を吐出する吐出ノズルが形成された機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭する拭取り手段と、を備えたワイピング装置において、
前記機能液は、機能液溶媒に機能材料を溶解させたものであり、
前記洗浄液は、前記機能材料を溶解する洗浄液溶媒と、
前記洗浄液溶媒の揮発性を向上させる溶質と、で構成されていることを特徴とするワイピング装置。
【請求項９】
前記洗浄液散布手段は、前記ワイピングシートを送るシート送り手段と、
送られる前記ワイピングシートに臨む噴霧ヘッドを有し、前記ワイピングシートに前記噴霧ヘッドから前記洗浄液を噴霧させる洗浄液噴霧手段と、
前記シート送り手段および前記洗浄液噴霧手段を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、前記噴霧ノズルから散布される前記洗浄液の散布量を一定とし、前記ワイピングシートの送り速度を可変することにより、前記ワイピングシートの単位面積当りの前記散布量を調整することを特徴とする請求項７または８に記載のワイピング装置。
【請求項１０】
ワークに対して、吐出ノズルが形成された機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら前記機能液滴吐出ヘッドを駆動することにより、前記ワーク上に機能液を吐出させる液滴吐出装置において、
前記機能液滴吐出ヘッドは、請求項１ないし６のいずれかに記載のワイピング方法、または請求項７ないし９のいずれかに記載のワイピング装置により保守されることを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１２に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄液を散布したワイピングシートにより、吐出ノズルが形成された機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピング方法およびワイピング装置、並びに液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
機能液滴吐出ヘッドを吐出駆動させることにより、ワーク上に機能液滴を吐出させる液滴吐出装置では、ワイピング装置を用いて、機能液滴吐出ヘッドのノズル面に付着した汚れを除去するようになっている。
【０００３】
ワイピング装置は、ロール状のワイピングシートを装着するワイピングユニットと、ワイピングユニットをヘッドユニットに向かって進退させる移動機構と、を備えている。ワイピングユニットは、ワイピングシートを周回させたワイピングローラを有しており、移動機構がワイピングユニットを移動させると、ワイピングシートを介してワイピングローラが機能液滴吐出ヘッドのノズル面に当接し、ワイピングシートで機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭（ワイピング）するようになっている。ワイピングシートには、ノズル面を払拭する直前に洗浄液が供給され、洗浄液を含浸したワイピングシートで、ノズル面の拭き取りが行われる。
【特許文献１】特開２００３−１２７４０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ワイピングシートに供給された洗浄液は、ワイピングによるノズル面の拭き取り効率を向上させるものの、洗浄液によっては、機能液滴吐出ヘッドの吐出ノズルに浸入することがある。吐出ノズルに浸入した洗浄液は、吐出される機能液滴の直径のばらつきや、ノズル詰まりを生じさせ、機能液滴吐出ヘッドの吐出性能の悪化を招く。また、ワイピングシートに洗浄液を均一に含浸させないと、ワイピングの拭き取り効率の低下を招き、ノズル面に付着する汚れを除去することができない。
【０００５】
そこで、本発明は、吐出ノズルに対する洗浄液の浸入を防止可能であって、かつワイピングシートに洗浄液を適切に散布可能なワイピング方法およびワイピング装置、並びに液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、機能液滴吐出ヘッドを保守するために、洗浄液を散布したワイピングシートにより、機能液を吐出する吐出ノズルが形成された機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピング方法において、洗浄液は、散布時には、ワイピングシートに対して含浸可能となるシート毛管力が作用し、払拭時には、吐出ノズルに対して浸入不能となるノズル毛管力が作用するものであることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明は、ワイピングシートに洗浄液を散布する洗浄液散布手段と、洗浄液が散布されたワイピングシートにより、機能液を吐出する吐出ノズルが形成された機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭する拭取り手段と、を備えたワイピング装置において、洗浄液は、散布時には、ワイピングシートに対して含浸可能となるシート毛管力が作用し、払拭時には、吐出ノズルに対して浸入不能となるノズル毛管力が作用することを特徴とする。
【０００８】
これらの構成によれば、シート毛管力により、ワイピングシートに洗浄液を速やかに含浸させることが可能である。一方、ノズル面の払拭時には、吐出ノズルに浸入不能なノズル毛管力が洗浄液に作用するため、吐出ノズルに洗浄液が浸入することを防止可能である。なお、ここにいう「毛管力」とは、洗浄液の表面張力（凝集力）や、洗浄液とワイピングシートまたは吐出ノズルとの付着力（親和性）に起因して生じる力を示している。
【０００９】
この場合、機能液は、機能液溶媒に機能材料を溶解させたものであり、洗浄液は、機能材料を溶解する洗浄液溶媒と、洗浄液溶媒に対するノズル毛管力を弱めると共に、洗浄液溶媒に対するシート毛管力を向上させる溶質と、で構成されていることが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、洗浄液は、機能液材料を溶解する洗浄液溶媒を主成分としているので、ノズル面の機能液汚れを効率的に除去することができる。この場合、洗浄液溶媒を機能液溶媒と同一のもので構成することにより、ノズル面に付着した洗浄液が、機能液を汚染する可能性を低減させることができる。また、洗浄液に、洗浄液溶媒に作用するノズル毛管力を弱めると共に、洗浄液溶媒に作用するシート毛管力を向上させる溶質を溶解させることにより、ワイピング時に吐出ノズルに洗浄液が浸入することを防止可能であると共に、洗浄液をワイピングシートに速やかに含浸させることができる。なお、溶質の種類や溶質の溶解量を調整することにより、ノズル毛管力およびシート毛管力の強弱を調整することが可能である。
【００１１】
本発明は、洗浄液を含浸させたワイピングシートで、機能液を吐出する吐出ノズルが形成された機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するために、ワイピングシートに、洗浄液供給手段から洗浄液を供給する洗浄液供給方法において、機能液は、機能液溶媒に機能材料を溶解させたものであり、洗浄液は、機能材料を溶解する洗浄液溶媒と、洗浄液溶媒の揮発性を向上させる溶質と、で構成されていることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、ワイピングシートに洗浄液を散布する洗浄液散布手段と、洗浄液が散布されたワイピングシートにより、機能液を吐出する吐出ノズルが形成された機能液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭する拭取り手段と、を備えたワイピング装置において、機能液は、機能液溶媒に機能材料を溶解させたものであり、洗浄液は、機能材料を溶解する洗浄液溶媒と、洗浄液溶媒の揮発性を向上させる溶質と、で構成されていることを特徴とする。
【００１３】
これらの構成によれば、溶質により、洗浄液自身の揮発性を向上させることができる。したがって、ノズル面の拭き取り（ワイピング動作）により、ノズル面に多少の洗浄液が残留したとしても、残留した洗浄液がすぐに揮発するので、洗浄液の残留による機能液滴吐出ヘッドへの悪影響（ノズル詰まりや機能液滴の飛行曲がり等）を防止することができる。
【００１４】
この場合、機能液は、水溶液であり、洗浄液は、洗浄液溶媒を水とし、溶質をエタノールとしていることが好ましい。また、この場合、機能液は、ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液（ＰＥＤＯＴ）であることが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、洗浄液溶媒を機能液溶媒と同じ水とすることにより、ノズル面の拭き取りを効率的に行うことが可能である。また、溶質としてエタノールを加えることにより、水の表面張力を弱め、（シート毛管力による）ワイピングシートに対する洗浄液の含浸性を向上させることができると共に、洗浄液の揮発性を高めることができる。
【００１６】
これらの場合、ワイピングシートには、ワイピングシートを送りながら、これに臨む噴霧ノズルから前記洗浄液を噴霧させることにより、前記洗浄液が散布され、ワイピングシートの単位面積当りの散布量は、噴霧ノズルから噴霧される前記洗浄液の噴霧量を一定とし、ワイピングシートの送り速度を可変することにより調整されることが好ましい。
【００１７】
また、これらの場合、洗浄液散布手段は、ワイピングシートを送るシート送り手段と、送られるワイピングシートに臨む噴霧ヘッドを有し、ワイピングシートに噴霧ヘッドから洗浄液を噴霧させる洗浄液噴霧手段と、シート送り手段および洗浄液噴霧手段を制御する制御手段と、を有し、制御手段は、噴霧ノズルから散布される洗浄液の散布量を一定とし、ワイピングシートの送り速度を可変することにより、ワイピングシートの単位面積当りの散布量を調整することが好ましい。
【００１８】
これらの構成によれば、噴霧ノズルから散布される洗浄液の散布量およびワイピングシートの送り速度を制御することにより、ワイピングシートの単位面積当りの散布量を調整可能である。したがって、ワイピングシートの種類や洗浄液の種類等を考慮して、洗浄液の散布量を容易に調整することができる。また、噴霧ノズルにより洗浄液を散布しているので、ワイピングシートに洗浄液の液溜まりを生じさせることがなく、ワイピングシートに対し均一に洗浄液を含浸させることができる。
【００１９】
本発明は、ワークに対して、吐出ノズルが形成された機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら機能液滴吐出ヘッドを駆動することにより、ワーク上に機能液を吐出させる液滴吐出装置において、機能液滴吐出ヘッドは、上記に記載のワイピング方法、または上記に記載のワイピング装置により保守されることを特徴とする。
【００２０】
この構成によれば、液滴吐出装置の機能液滴吐出ヘッドは、機能液滴吐出ヘッドを好適に保守可能なワイピング方法、または上記に記載のワイピング装置により保守されているので、機能液滴吐出ヘッドから機能液を良好に吐出させることが可能である。
【００２１】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。また、本発明の電気光学装置は、上記に記載の液滴吐出装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２２】
これらの構成によれば、機能液滴吐出ヘッドを適切にメンテナンス可能な液滴吐出装置を用いているので、製造時に機能液滴吐出ヘッドの吐出不良が生じにくく、これらを効率よく製造を行うことができる。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）装置またはＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２３】
本発明の電子機器は、上記に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２４】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明の効果】
【００２５】
以上のように、本発明のワイピング方法およびワイピング装置によれば、ワイピングシートに速やかに洗浄液を吸収（含浸）させることができると共に、ワイピング動作時に、（ノズル毛管力により）ワイピングシートから吐出ノズルに洗浄液が浸入することがない。したがって、ワイピング動作時に生じ得る吐出ノズルに対する洗浄液の浸入を防止可能であり、ワイピング動作により適切に機能液滴吐出ヘッドを保守することができる。
【００２６】
また、ワイピング方法およびワイピング装置によれば、ワイピング動作により機能液滴吐出ヘッドのノズル面に洗浄液が付着しても洗浄液が速やかに揮発する。このため、ノズル面に付着した洗浄液が、機能液滴吐出ヘッドから吐出される機能液に混入することがなく、機能液滴の吐出結果に悪影響を及ぼすことがない。また、ノズル面に洗浄液が付着しても、これを除去するための工程が必要とならず、効率的にワイピング動作を行うことができる。
【００２７】
本発明の液滴吐出装置、上記したワイピング方法およびワイピング装置により保守された機能液滴吐出ヘッドを用いて、機能液滴による描画を行うので、適切な描画結果（吐出結果）を得ることができる。また、本発明の電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器は、上記の液滴吐出装置を用いて製造されるので、歩留まり良く効率的に製造される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、添付した図面を参照して、本発明を適用した液滴吐出装置について説明する。この液滴吐出装置は、いわゆるフラットディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。
【００２９】
図１は、液滴吐出装置の平面模式図である。同図に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機能液滴吐出ヘッド７１を有し、機台２上の全域に広く載置された描画手段３と、描画手段３に添設するように機台２上に載置したヘッド保守手段４と、これらに接続された制御手段５と、を備えている。図示省略したが、液滴吐出装置１には、描画手段３に、機能材料を溶解させた機能液を供給する機能液供給手段や、各種付帯装置が組み込まれている。液滴吐出装置１は、制御手段５により装置全体を統括制御されており、描画手段３を用いて、ワークＷ上に機能液滴による描画を行うと共に、ヘッド保守手段４を用いて適宜、描画手段３（機能液滴吐出ヘッド７１）の機能回復処理（メンテナンス）を行うようになっている。
【００３０】
図１に示すように、描画手段３は、ワークＷを主走査（Ｘ軸方向に移動）させるＸ軸テーブル２１およびＸ軸テーブル２１に直交するＹ軸テーブル２２から成るＸ・Ｙ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル２２に移動自在に取り付けられたメインキャリッジ１２と、メインキャリッジ１２に垂設され、機能液滴吐出ヘッド７１を搭載したヘッドユニット１３と、を有している。
【００３１】
Ｘ軸テーブル２１は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するＸ軸モータ２３駆動のＸ軸スライダ３１を有し、これに吸着テーブル３３およびθテーブル３４等から成るセットテーブル３２を移動自在に搭載して構成されている。同様に、Ｙ軸テーブル２２は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するＹ軸モータ２４駆動のＹ軸スライダ４１を有し、これにθ回転機構４２を介してヘッドユニット１３を支持する上記のメインキャリッジ１２をＹ軸方向に移動自在に搭載して構成されている。
【００３２】
なお、Ｘ軸テーブル２１は、ヘッド保守手段４とＸ軸方向に相互に平行に配設されており、機台２上に直接支持されている。一方、Ｙ軸テーブル２２は、機台２上に立設した左右の支柱５１に支持されており、Ｘ軸テーブル２１およびヘッド保守手段４を跨ぐようにＹ軸方向に延在している（図１参照）。液滴吐出装置１では、Ｙ軸テーブル２２とＸ軸テーブル２１とが交わるエリアがワークＷの描画を行う描画エリア５２、Ｙ軸テーブル２２とヘッド保守手段４とが交わるエリアが機能回復処理を行う保守エリア５３となっており、Ｙ軸テーブル２２は、ワークＷに描画を行う場合には描画エリア５２に、回復処理を行う場合には保守エリア５３に、ヘッドユニット１３を臨ませるようになっている。
【００３３】
ヘッドユニット１３は、機能液滴吐出ヘッド７１と、ヘッド保持部材（図示省略）を介して機能液滴吐出ヘッド７１を搭載するヘッドプレート（図示省略）と、を備えている。なお、メインキャリッジ１２には、Ｙ軸スライダ４１に支持され、ヘッドユニット１３を微少にθ方向に回転させるθ回転機構４２が取り付けられている。すなわち、ヘッドユニット１３は、θ回転機構４２に支持させたヘッドプレートを介してメインキャリッジ１２に支持されている。
【００３４】
図２に示すように、機能液滴吐出ヘッド７１は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針７３を有する機能液導入部７２と、機能液導入部７２に連なる２連のヘッド基板７４と、機能液導入部７２の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体７５と、を備えている。接続針７３は、図外の機能液供給機構に接続され、機能液導入部７２に機能液を供給する。ヘッド本体７５は、キャビティ８１（ピエゾ圧電素子）と、ノズル面８３を構成するＳＵＳ製のノズルプレート８２と、で構成されている。ノズル面８３には、２列のノズル列を構成する多数（１８０個）の吐出ノズル８４が開口している。機能液滴吐出ヘッド７１は、接続針７３から機能液の供給を受けながら、キャビティ８１のポンプ作用により吐出ノズル８４から機能液を吐出する。
【００３５】
ヘッド保守手段４は、機台２上に載置した移動テーブル９１と、移動テーブル９１上に載置した吸引ユニット９２およびワイピングユニット９３と、を備えている。移動テーブル９１は、Ｘ軸方向に移動可能に構成されており、機能液滴吐出ヘッド７１の保守時には、吸引ユニット９２およびワイピングユニット９３を適宜保守エリア５３に移動させるようになっている。なお、ヘッド保守手段４として、上記の各ユニットに加え、機能液滴吐出ヘッド７１から吐出された機能液滴の飛行状態を検査する吐出検査ユニットや、機能液滴吐出ヘッド７１から吐出された機能液滴の重量を測定する重量測定ユニット等を、搭載することが好ましい。
【００３６】
図１に示すように、吸引ユニット９２は、キャップスタンド１０１と、キャップスタンド１０１に支持され、機能液滴吐出ヘッド７１のノズル面８３に密着するキャップ１０２と、キャップ１０２を介して機能液滴吐出ヘッド７１の吸引を行う吸引ポンプ１０３（図示省略）と、キャップ１０２と吸引ポンプ１０３とを接続する吸引チューブ（図示省略）と、を有している。図示省略したが、キャップスタンド１０１には、モータ駆動により、キャップ１０２を昇降させるキャップ昇降機構１０４が組み込まれており、保守エリア５３に臨んだヘッドユニット１３の機能液滴吐出ヘッド７１に対して、キャップ１０２を離接できるようになっている。
【００３７】
そして、機能液滴吐出ヘッド７１の吸引を行う場合には、キャップ昇降機構１０４を駆動して、機能液滴吐出ヘッド７１のノズル面８３にキャップ１０２を密着させると共に、吸引ポンプ１０３を駆動する。これにより、キャップ１０２を介して機能液滴吐出ヘッド７１に吸引力を作用させることができ、機能液滴吐出ヘッド７１から機能液が強制的に排出される。また、吸引チューブのキャップ１０２の下流側（吸引ポンプ１０３側）には、吸引圧力を検出する吸引圧検出センサ、吸引チューブを通過する機能液の有無を検出する液体検出センサ（いずれも図示省略）が設けられている。
【００３８】
なお、キャップ１０２は、機能液滴吐出ヘッド７１の捨て吐出（予備吐出）により吐出された機能液を受けるフラッシングボックスの機能を有しており、ワークＷの交換時のように、ワークＷに対する描画を一時的に停止するときに行う定期フラッシングの機能液を受けるようになっている。このフラッシング動作では、キャップ昇降機構１０４は、機能液滴吐出ヘッド７１のノズル面８３からキャップ１０２（の上面）を僅かに離間する位置に移動させる。
【００３９】
また、吸引ユニット９２は、液滴吐出装置１の非稼動時に、機能液滴吐出ヘッド７１を保管するためにも用いられる。この場合、保守エリア５３にヘッドユニット１３を臨ませ、機能液滴吐出ヘッド７１のノズル面８３にキャップ１０２を密着させる。これにより、ノズル面８３が封止され、機能液滴吐出ヘッド７１（吐出ノズル８４）の乾燥を防いで、吐出ノズル８４のノズル詰まりを防止できるようになっている。
【００４０】
図１および図４に示すように、ワイピングユニット９３は、機能液滴吐出ヘッド７１のノズル面８３をワイピングシート１１１でワイピング（拭き取り）するためのものであり、ロール状に巻回したワイピングシート１１１を装着して、これを繰り出しながら巻き取ってゆく巻取りユニット１１２と、繰り出したワイピングシート１１１でノズル面８３を拭取り動作させる拭取りユニット１１３と、洗浄液を噴霧する洗浄液ノズル１４１を有し、繰り出したワイピングシート１１１に洗浄液を散布する洗浄液供給ユニット１１４と、を備えている。ワイピングシート１１１は、ポリエチレンやポリプロピレン等の繊維で織った布（シート）で構成されている。
【００４１】
巻取りユニット１１２は、ロール状のワイピングシート１１１を装着する繰り出しリール１２１と、繰り出したワイピングシート１１１を巻き取る巻取りリール１２２と、エンコーダ付きの巻取りモータ１２３と、を有している。ワイピングシート１１１は、拭取りローラ１３１（後述する）を周回して、巻取りリール１２２に巻き取られる。なお、ワイピングシート１１１の巻取り量／送り量（巻取り速度／送り速度）は、巻取りモータ１２３に付されたエンコーダにより検出される。
【００４２】
拭取りユニット１１３は、ノズル面８３に繰り出されたワイピングシート１１１を当接させる拭取りローラ１３１と、拭取りローラ１３１を昇降させるローラ昇降機構１３２と、を有しており、ローラ昇降機構１３２により拭取りローラ１３１を昇降させると、ワイピングシート１１１がノズル面８３から離接する構成となっている。また、拭取りローラ１３１には、ノズル面８３に対するワイピングシート１１１の押圧力を検出するワイピング圧検出センサ（図示省略）が設けられている。そして、ワイピング圧検出センサに基づいて拭取りローラ１３１の昇降を調整することにより、ワイピングシート１１１の押圧力を調整できるようになっている。なお、本実施形態は、拭取りローラ１３１を昇降させる構成としているが、ヘッドユニット１３を昇降させることにより、ワイピングシート１１１をノズル面８３に当接させる構成としてもよい。
【００４３】
洗浄液供給ユニット１１４は、ワイピングシート１１１に臨み、繰り出しリール１２１および拭取りローラ１３１の略中間位置（拭取りローラ１３１の手前）に配設された複数の洗浄液ノズル１４１と、複数の洗浄液ノズル１４１に洗浄液を供給すると共に、洗浄液ノズル１４１に洗浄液を散布させる洗浄液供給機構１４２と、を有している。複数の洗浄液ノズル１４１は、拭取りローラ１３１のシート送り方向上流側においてワイピングシート１１１の送り方向と直交するように（すなわち、ワイピングシート１１１の幅方向に）整列して配設されている。
【００４４】
洗浄液供給機構１４２は、洗浄液タンク１４３と、洗浄液マニホールド（図示省略）を介して洗浄液タンク１４３および複数の洗浄液ノズル１４１を接続する（複数本の）洗浄液供給チューブ１４４と、各洗浄液供給チューブ１４４に介設した電磁弁１４０と、洗浄液タンク１４３に圧縮エアーを供給することにより、洗浄液ノズル１４１に洗浄液を圧送するエアー供給機構１４５と、を有している。
【００４５】
各洗浄液ノズル１４１は、噴霧ノズルで構成されており、電磁弁１４０を介して洗浄液ノズル１４１に洗浄液が圧送されると、微細な洗浄液滴を噴霧する。後述するが、洗浄液タンク１４３から送液される洗浄液量は上記の洗浄液マニホールドにより一定に保たれる構成となっている。このように、洗浄液ノズル１４１を噴霧ノズルで構成することにより、ワイピングシート１１１に洗浄液を均一に散布できると共に、微量な洗浄液も散布可能となっている。
【００４６】
なお、洗浄液の噴霧形態については実情（機能液滴吐出ヘッド７１の配列など）に応じて任意に適用可能であり、噴霧形態に応じて適用する噴霧ノズルを選択すればよい。例えば、図３（ａ）に示すような円錐方式を適用する場合、洗浄液を円形に、かつ均等に噴霧できる充円錐ノズルを洗浄液ノズル１４１として用い、ワイピングシート１１１の幅方向に対して各洗浄液ノズルの噴霧範囲が重複しないように、複数の洗浄液ノズル１４１を配設する。また、ワイピングシート１１１の幅方向に対して、略均一に洗浄液を散布可能な棒状方式を適用する場合は、中央から両端にかけて噴霧量が減少する扇形ノズルを用いる。そして、ワイピングシート１１１の幅方向に対して両端の噴霧領域が一部オーバーラップするように、複数の洗浄液ノズル１４１を整列配置する（図３（ｂ）参照）。
【００４７】
図４に示すように、エアー供給機構１４５は、圧縮エアーの供給源となるエアーポンプ１４６と、エアーポンプ１４６からの圧縮エアーを所定の一定圧力に保つレギュレータ１４７と、レギュレータ１４７を介して、エアーポンプ１４６および洗浄液タンク１４３を接続するエアーチューブ１４８と、レギュレータ１４７および洗浄液タンク１４３間のエアーチューブに介設され、大気開放ポートを有する三方弁１４９と、を有している。三方弁１４９を切り替えて、エアーポンプ１４６と洗浄液タンク１４３とを連通させることにより、洗浄液タンク１４３に一定圧の圧縮エアーを供給して、洗浄液タンク１４３から（各洗浄液ノズル１４１に）送液される洗浄液の送液量を一定とすることができるようになっている。なお、上記の電磁弁１４０（エアーオペレートバルブ）の開弁時間を調整することにより、洗浄液の送液量（すなわち洗浄液の時間当たりの散布量）を調整することが可能である。
【００４８】
ここで、一連のワイピング動作について説明する。先ず、ワイピング動作に先立ち、Ｘ・Ｙ移動機構１１（Ｙ軸テーブル２２）を駆動して、ヘッドユニット１３を保守エリア５３に移動させる。なお、通常ワイピング動作は、吸引ユニット９２による吸引動作に引き続いて行われるため、保守エリア５３へのヘッドユニット１３の移動動作を省略できる。次に、巻き取りユニット１１２および洗浄液供給ユニット１１４を起動すると共に、電磁弁１４０を開弁し、洗浄液ノズル１４１からワイピングシート１１１に洗浄液を散布する。そして、洗浄液の散布を続けながら、ワイピングシート１１１の洗浄液含浸部分を拭取りローラ１３１側に送ると共に、ワイピングシート１１１を巻取りリール１２２に巻き取ってゆく。
【００４９】
また、このとき、洗浄液の散布とワイピングシート１１１の送りを続けながら、上記したローラ昇降機構１３２を駆動して、拭取りローラ１３１を所定の高さまで上昇させると共に、上記した移動テーブル９１を駆動して、ワイピングユニット９３を保守エリア５３に向かって移動させる。これにより、ワイピングユニット９３は、（洗浄液を含浸した）ワイピングシート１１１を機能液滴吐出ヘッド７１のノズル面８３に当接させながら保守エリア５３を通過し、ワイピングシート１１１でノズル面８３に付着する汚れを払拭する。
【００５０】
ワイピングユニット９３が保守エリア５３を通過すると、洗浄液の散布および移動テーブル９１の駆動を停止すると共に、巻取りモータ１２３の駆動を停止して、ワイピングシート１１１の送りを停止する。そして、ローラ昇降機構１３２を駆動して、拭取りローラ１３１を下降させ、ワイピング動作を終了する。なお、本実施形態では、吸引ユニット９２を保守エリア５３に臨ませる位置が移動テーブル９１のホーム位置となっており、ワイピング動作の終了後には、移動テーブル９１を再度駆動して、移動テーブル９１をホーム位置に戻すようになっている。
【００５１】
図示省略したが、制御手段５は、パソコン等で構成され、装置本体に、キーボードやマウス等の入力装置、ＦＤドライブやＣＤ−ＲＯＭドライブ等の各種ドライブ、モニタディスプレイ等の周辺機器を接続したものである。図５を参照して、制御手段５の制御系について説明する。制御手段５には、描画手段３およびヘッド保守手段４を接続するためのインタフェース１５１、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ１５２、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ１５３、ワークＷに描画を行うための描画データや、描画手段３およびヘッド保守手段４からの各種データ等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク１５４、ＲＯＭ１５３やハードディスク１５４に記憶されたプログラム等に従い、各種データを演算処理するＣＰＵ１５５、これらを互いに接続するバス１５６、が備えられている。
【００５２】
制御手段５では、描画手段３やヘッド保守手段４等からの各種データを、インタフェース１５１を介して入力すると共に、ハードディスク１５４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等により順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ１５５に演算処理させ、その処理結果を、インタフェース１５１を介して描画手段３やヘッド保守手段４等に出力することにより、各手段を制御している。
【００５３】
ところで、機能液滴吐出ヘッド７１の吐出ノズル８４は吐出不良を生じ易く、ワイピング動作時に、ワイピングシート１１１に含浸させた洗浄液が吐出ノズル８４に浸入すると吐出不良が生じる。吐出ノズル８４に対する洗浄液の浸入は、毛管現象による毛管力が一因となっており、洗浄液に作用する毛管力（ノズル毛管力）が小さく、吐出ノズル８４に対して浸入不能な洗浄液を用いることが好ましい。一方、ワイピング動作は、洗浄液を均一に含浸させたワイピングシート１１１を用いて行うため、洗浄液は、ワイピングシート１１１に吸収され易いものでなければならない。ワイピングシート１１１における洗浄液の吸収性（浸透性）も毛管力の影響を受けており、洗浄液には、ワイピングシート１１１に含浸可能な毛管力（シート毛管力）が作用することが好ましい。そこで、本実施形態では、この両方を考慮した洗浄液を用い、ワイピング動作が適切に行われるようにしている。
【００５４】
なお、ここにいう「ノズル毛管力」とは、洗浄液の表面張力および洗浄液に対するノズルプレート８２の濡れ性（ノズルプレート８２に対する洗浄液の親和性であり、ノズルプレート８２と洗浄液の接触角で表すことが可能である）に関係して生じる力であり、洗浄液を引き込んでこれを吐出ノズル８４内に浸入させようとする力である。一般的に、表面張力は液体の凝集力に換言することができ、表面張力が強い液体はその凝集力が強いために、濡れ性が低くなる（弾く）傾向にあることが知られている。したがって、洗浄液のノズルプレート８２（吐出ノズル８４）に対する濡れ性が低いと、洗浄液を引き込もうとする力に洗浄液の凝集力が抗するため、ワイピング動作時に洗浄液に作用するノズル毛管力が低下する。
【００５５】
「シート毛管力」（の強さ）も、ノズル毛管力と略同様であり、ワイピングシート１１１における洗浄液の浸透性は、洗浄液の表面張力および洗浄液に対するワイピングシート１１１の濡れ性に関係しており、濡れ性が高いほどその浸透性が高まる。
【００５６】
ここで、機能液として、ＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液）を適用し、ポリエチレンで構成されたワイピングシート１１１を用いる場合を例に、本実施形態に用いられる洗浄液について具体的に説明する。なお、ＰＥＤＯＴは、有機ＥＬ装置の機能層６１７を構成する正孔注入／輸送層６１７ａ（詳細は後述する）を形成するための機能液である。
【００５７】
機能液は機能材料を溶解させたものであるため、洗浄液には、機能材料の溶剤が主成分として用いられる。また、機能液滴吐出ヘッド７１のノズル面８３に残留した洗浄液が、吐出ノズル８４から吐出された機能液滴と混合して、描画結果に悪影響を及ぼす可能性を低減させるため、洗浄液の主成分は、機能液に適用されている機能液溶媒であることが好ましい。したがって、ここでは、水を主成分とした洗浄液を用いる。
【００５８】
しかしながら、洗浄液に水を用いる場合、ワイピングシート１１１は、（疎水性の）ポリエチレンの繊維を密に織り込んだシートで構成されているために濡れ性が低く、ワイピングシート１１１に洗浄液を吸収させることができない。（また、できたとしても、洗浄液の吸収に多大な時間を要する）。一方、水は表面張力が強く、ノズルプレート８２に対する濡れ性が比較的低いため、ワイピング時に作用するノズル毛管力が弱く、吐出ノズル８４に洗浄液が浸入し難い状態となっている。
【００５９】
そこで本実施形態では、水に、その表面張力を減少させると共に、ワイピングシート１１１に親和性を有するエタノールを加えたエタノール溶液を洗浄液とした。図６に示すように、エタノール濃度の増加に伴い、洗浄液の表面張力が減少している。このことは、エタノール溶液を洗浄液に用いると、洗浄液のワイピングシート１１１に対する濡れ性が改善されると共に、ノズル毛管力が序々に高まることを示唆している。一方、上述したように、洗浄液は、機能液の成分に近い方が良く、エタノール濃度は極力低いことが好ましい。そこで、洗浄液のエタノール濃度については、ワイピングシート１１１に対する洗浄液の吸収性および吐出ノズル８４に対する浸入性について実験を行い、これに基づいて判断した。
【００６０】
洗浄液の吸収性に関する実験では、エタノール濃度０％、５％、１０％、１５％、２０％、２５％、３０％、４０％、５０％の洗浄液を所定量の洗浄液をワイピングシート１１１に散布し、洗浄液の吸収速度を測定した。そして、上記した洗浄液供給機構１４２により洗浄液の供給を受けたワイピングシート１１１が、拭取りローラ１３１に到達するまでの時間に基づいて、吸収性の良し悪しについて判断したところ、エタノール濃度が１５％を超える辺りから、ワイピングシート１１１に対する洗浄液の浸透性が良くなることが確認された。
【００６１】
一方、洗浄液の浸入性に関する実験では、ノズル直径２８μｍの吐出ノズル８４が形成されたノズルプレート８２に対し、エタノール濃度０％、５％、１０％、１５％、２０％、２５％、３０％、４０％、５０％の洗浄液を所定量散布したワイピングシート１１１を用いて、ノズル面８３の拭き取りを行った。この結果、エタノール濃度が２５％で、洗浄液の吐出ノズル８４に対する浸入が確認され、２５％を超えると、洗浄液の浸入量が増すことが確認された。
【００６２】
これらの実験結果およびエタノール濃度は極力低い方が好ましいことから総合的に判断すると、洗浄液のエタノール濃度は１５％〜２０％程度であることが好ましいことがわかる。（本実施形態の液滴吐出装置１では、２０％のエタノール溶液を洗浄液として用いている。）
【００６３】
なお、本実施形態では、水にエタノールを加えることにより、その毛管力を変化させるようにしているが、エタノールに代えて、エタノール以外のアルコール（イソプロピルアルコールなど）類や、アセトン、サーフェノールなどの界面活性剤を加えることも可能である。但し、この場合、洗浄液が機能液に混入したときの影響等を慎重に考慮した上で、実情に応じた選択をする必要があるのは言うまでもない。
【００６４】
また、当然のことながら、ワイピングシート１１１の織目や材質が異なると実験結果も異なり、好ましい洗浄液濃度（エタノール濃度）や洗浄液の種類が変化するため、それぞれの条件に合った（種類や濃度の）洗浄液を選択する必要がある。同様に、拭き取り実験の結果も、ノズル直径や、ノズルプレート８２の材質および洗浄液の種類等に依存するものであり、状況に応じて、適切な洗浄液濃度を設定する必要がある。
【００６５】
このように、ワイピング動作時に作用するノズル毛管力と、シート毛管力とに着目し、吐出ノズル８４に浸入し難く、ワイピングシート１１１に含浸し易い洗浄液を用いることにより、ワイピング動作で生じる機能液滴吐出ヘッド７１の吐出不良を防止することが可能となる。
【００６６】
また、エタノールは、ワイピングシート１１１に対する洗浄液の吸収性を高めるだけではなく、洗浄液自身の揮発性を高めることができる。洗浄液の主成分に揮発性の高い物質を加えることにより、ワイピング動作時に、機能液滴吐出ヘッド７１のノズル面８３に洗浄液が付着しても、速やかに揮発させることができ、ノズル面８３に洗浄液が残留して（吐出された）機能液に混入すること、あるいは機能液滴の飛行曲がりを発生させることを防止できる。また、洗浄液が速やかに揮発するため、ノズル面８３に付着した洗浄液を除去するための工程を必要とせず、効率的にワイピング動作を行うことが可能となる。なお、洗浄液の揮発性を高める物質としては、エタノールに限定されるものではなく、洗浄液の主溶媒の種類や機能液の種類等を考慮して、アルコール類やアセトン等を適宜用いることが可能である。
【００６７】
また、ワイピング動作により機能液滴吐出ヘッド７１が適切に保守されるか否かは、上記した洗浄液に作用する毛管力に加え、ワイピングシート１１１に散布する洗浄液量も大きく関係している。洗浄液の含浸量が異なるワイピングシート１１１（ポリエチレン製の縦２７ｃｍ×横３０ｃｍのワイピングシート１１１に対して、エタノール濃度２０％の洗浄液を、洗浄液供給ユニット１１４を用いて０ｇ、６．５ｇ、１３ｇ、１９．５ｇ均一に散布した）で機能液滴吐出ヘッド７１にワイピング動作を行った後、機能液滴吐出ヘッド７１の吐出実験を２回ずつ行ったところ、図７に示すような結果を得た。この実験結果は、ワイピングシート１１１に対する洗浄液の噴霧量が多過ぎても少な過ぎても、適切な保守結果を得ることができないことを示している。
【００６８】
そこで、本実施形態では、洗浄液の散布量を容易に調整できるようにした。具体的には、制御手段５により、上記したワイピングユニット９３の巻取りモータ１２３の駆動をエンコーダに基づいてコントロールし、ワイピングシート１１１の送り速度を調整することにより、ワイピングシート１１１に対する洗浄液の散布量を調整する。すなわち、上述したように、各洗浄液ノズル１４１から散布される洗浄液の（時間当たりの）散布量が一定であるため、ワイピングシート１１１の送り速度を調整することにより、ワイピングシート１１１に対する洗浄液の散布量を調整可能となっている。この場合、ワイピングシート１１１の送り速度を上げると、ワイピングシート１１１に対する洗浄液の散布量が減少し、ワイピングシート１１１の送り速度を下げると、ワイピングシート１１１に対する洗浄液の散布量が増加する。そして、本実施形態では、上記実験結果に基づき、ワイピングシート１１１の単位面積当たり０．００８ｇの洗浄液が散布されるように、ワイピングシート１１１の送り速度を調整した。
【００６９】
なお、ワイピングシート１１１に供給する洗浄液の最適散布量は、ワイピングシート１１１の種類、洗浄液の種類、ワイピング動作時におけるワイピングシート１１１の押圧力等に影響され得るものであり、これらを考慮して洗浄液の最適散布量を設定する必要がある。
【００７０】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【００７１】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図８は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図９は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１１）では、図９（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００７２】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図９（ｂ）に示すように、基板５０１及びブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図９（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において液滴吐出ヘッド７１により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００７３】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【００７４】
次に、着色層形成工程（Ｓ１３）では、図９（ｄ）に示すように、液滴吐出ヘッド７１によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、液滴吐出ヘッド７１を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００７５】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１４）に移り、図９（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００７６】
図１０は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図９に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００７７】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００７８】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１０において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００７９】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８０】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００８１】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、液滴吐出ヘッド７１で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を液滴吐出ヘッド７１で行うことも可能である。
【００８２】
図１１は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００８３】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００８４】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００８５】
図１２は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００８６】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００８７】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１及び信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【００８８】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【００８９】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【００９０】
次に、図１３は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【００９１】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３及び陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２及び基板６０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２及び基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【００９２】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａ及びドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【００９３】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６及び半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９及びゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【００９４】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【００９５】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【００９６】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３及び機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、及び、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【００９７】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【００９８】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【００９９】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【０１００】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１０１】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１０２】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１４〜図２２を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１４に示すように、バンク部形成工程（Ｓ２１）、表面処理工程（Ｓ２２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）、発光層形成工程（Ｓ２４）、及び対向電極形成工程（Ｓ２５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１０３】
まず、バンク部形成工程（Ｓ２１）では、図１５に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１６に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１０４】
表面処理工程（Ｓ２２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａ及び画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓ及び有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、液滴吐出ヘッド７１を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１０５】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル３２に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）及び発光層形成工程（Ｓ２４）が行われる。
【０１０６】
図１７に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ２３）では、液滴吐出ヘッド７１から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図１８に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入/輸送層６１７ａを形成する。
【０１０７】
次に発光層形成工程（Ｓ２４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１０８】
そして次に、図１９に示すように、各色のうちの何れか（図１９の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１０９】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２０に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１１０】
同様に、液滴吐出ヘッド７１を用い、図２１に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１１１】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａ及び発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ２５）に移行する。
【０１１２】
対向電極形成工程（Ｓ２５）では、図２２に示すように、発光層６１７ｂ及び有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ２、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１１３】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１１４】
次に、図２３は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、及びこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１１５】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１１６】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１１７】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１１８】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、及び蛍光体７０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２５に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、液滴吐出ヘッド７１により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１１９】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１２０】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１及び蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を液滴吐出ヘッド７１から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１２１】
次に、図２４は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１２２】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１２３】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１２４】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１２５】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１２６】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２５（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２５（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１２７】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】本発明の実施形態に係る描画装置の平面模式図である。
【図２】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図３】洗浄液ノズルによる噴霧形態についての説明図である。
【図４】ワイピングユニット廻りの説明図である。
【図５】液滴吐出装置の制御系を説明した制御ブロック図である。
【図６】洗浄液についての説明図であり、洗浄液の濃度毎における洗浄液の表面張力、ワイピングシートとの関係、および吐出ノズルとの関係を示した図である。
【図７】ワイピングシートに対する洗浄液の噴霧量と、ワイピング動作後における機能液滴吐出ヘッドの吐出性能についての実験結果を示した説明図である。
【図８】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図９】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１２】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１３】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１４】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１５】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１６】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１７】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図１８】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図１９】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２０】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２１】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２２】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２３】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２４】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２５】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１２９】
１  液滴吐出装置                    ５  制御手段
７１  機能液滴吐出ヘッド            ８３  ノズル面
８４  吐出ノズル                    ９３  ワイピングユニット
１１１  ワイピングシート            １１３  拭取りユニット
１１４  洗浄液供給ユニット          １４１  洗浄液ノズル
１４２  洗浄液供給機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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