(57)【要約】【課題】白色発光のＥＬ素子を光源とし、三原色のカラーフィルタで色光を取り出すカラーＥＬディスプレイパネルにおいて、カラーフィルタからの水蒸気などが、また、微小突起がＥＬ素子の発光寿命を低下させない、優れた発光寿命を有するフルカラー有機ＥＬディスプレイパネル、及びその製造方法を提供すること。【解決手段】カラーフィルタの基材としてＣｈ−ＬＣＰ（コレステリック液晶ポリマー）を用い、カラーフィルタ２１’、２２’の画素は、Ｃｈ−ＬＣＰの螺旋ピッチの調節、固定によって透過光色が設定された画素であり、且つ、複数の異なった透過光色に設定された画素で構成され、白色有機ＥＬ素子とカラーフィルタの間にパッシベーション膜５が設けられていること。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素状の白色有機ＥＬ素子と、その白色有機ＥＬ素子に対応した画素状のカラーフィルタとでカラー表示をするフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、カラーフィルタの基材としてＣｈ−ＬＣＰ（コレステリック液晶ポリマー）が用いられており、カラーフィルタの画素は、Ｃｈ−ＬＣＰの螺旋ピッチの調節、固定によって透過光色が設定された画素であり、且つ、複数の異なった透過光色に設定された画素で構成されており、白色有機ＥＬ素子とカラーフィルタとの間にパッシベーション膜が設けられていることを特徴とするフルカラー有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項２】
前記螺旋ピッチの調節が温度による調節であり、螺旋ピッチの固定がＵＶ又はＥＢによる固定であり、複数の異なった透過光色が赤色、緑色、青色の三原色であることを特徴とする請求項１記載のフルカラー有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項３】
前記カラーフィルタの画素１層の層厚が３μｍ以上であり、画素が２層以上の積層であることを特徴とする請求項１、又は請求項２記載のフルカラー有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
画素状の白色有機ＥＬ素子と、その白色有機ＥＬ素子に対応した画素状のカラーフィルタとでカラー表示をするフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法において、
１）支持基板上にＣｈ−ＬＣＰ層を所望の膜厚で平坦に形成する工程、
２）上記Ｃｈ−ＬＣＰ層の透過光色が青色を呈するように、温度によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを調節し、画素に対応した開口部を有するマスクを介したＵＶ又はＥＢ露光によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを固定し、透過光色を青色に設定したカラーフィルタの青色画素を形成する工程、
３）該青色画素が形成されたＣｈ−ＬＣＰ層の、青色画素以外の部分の透過光色が緑色を呈するように、温度によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを調節し、青色画素に隣接する画素位置に画素に対応した開口部を有するマスクを介したＵＶ又はＥＢ露光によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを固定し、透過光色を緑色に設定したカラーフィルタの緑色画素を形成する工程、
４）該青色画素及び緑色画素が形成されたＣｈ−ＬＣＰ層の、青色画素及び緑色画素以外の部分の透過光色が赤色を呈するように、温度によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを調節し、緑色画素に隣接する画素位置に画素に対応した開口部を有するマスクを介したＵＶ又はＥＢ露光によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを固定し、透過光色を赤色に設定したカラーフィルタの赤色画素を形成する工程、
５）上記青色画素、緑色画素、及び赤色画素が形成されていないＣｈ−ＬＣＰ層の部分の螺旋ピッチを固定する工程、
６）該Ｃｈ−ＬＣＰ層上にパッシベーション膜を設ける工程、
７）該パッシベーション膜上に画素状の白色有機ＥＬ素子を形成する工程、
を具備することを特徴とするフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラー有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルに関するものであり、特に、カラーフィルタに起因する障害のない、優れた発光寿命を有するフルカラー有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
自己発光機能を有するＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子は、視認性が高く、発光装置の構造を薄くでき、且つ、フレキシブル基板に対応できる特徴を有しており、現在、無機、有機化合物を発光層に用いた様々なＥＬ素子を利用したディスプレイが提案されている。提案の一例として、フルカラー有機ＥＬディスプレイを挙げることができる。
【０００３】
このフルカラー有機ＥＬディスプレイのカラー化技法の一つとして、白色発光のＥＬ素子を光源とし、三原色（赤色、緑色、青色）のカラーフィルタを設置したパネル構造が提案されている。
【０００４】
例えば、特開昭６４−４０８８８号公報には、図１に示すように、支持基板（１）上に第１電極（２）と透明第２電極（４）とによって挟まれた有機材料層（３）を設け、前記透明第２電極（４）を介して取り出されたＥＬ光を、前記透明第２電極（４）と対向して支持基板（８）上に設けられたカラーフィルタ（７）を介して前記支持基板（８）外に取り出すことを特徴とするカラーＥＬディスプレイが開示されている。
【０００５】
しかし、上記カラーＥＬディスプレイでは、ＥＬ素子とカラーフィルタが対向するため、カラーフィルタから水蒸気、酸素または有機物のモノマー、低分子成分等のガスが発生して、ＥＬ素子の発光寿命を低下させる一因となっていた。
【０００６】
この不具合を是正する手段として、例えば、特開平１０−１２３８３号公報には、図２に示すように、上記カラーフィルタ（７）に平坦化層（６）とパシベーション層（５）を形成する方法が提案されている。
【０００７】
しかしながら、画素状のカラーフィルタ（７）上に平坦化層（６）を形成する際に、平坦化層（６）表面に微小突起ができ、また、工程中の異物が混入すると、これらが原因でＥＬ素子の発光寿命が低下することは避けることができなかった。
【特許文献１】特開昭６４−４０８８８号公報
【特許文献２】特開平１０−１２３８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題点を鑑み考案されたもので、白色発光のＥＬ素子を光源とし、三原色（赤色、緑色、青色）のカラーフィルタを介して色光を取り出すカラーＥＬディスプレイパネルにおいて、カラーフィルタからの水蒸気などが、また、微小突起がＥＬ素子の発光寿命を低下させることのない、すなわち、優れた発光寿命を有するフルカラー有機ＥＬディスプレイパネル、及びその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、画素状の白色有機ＥＬ素子と、その白色有機ＥＬ素子に対応した画素状のカ
ラーフィルタとでカラー表示をするフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、カラーフィルタの基材としてＣｈ−ＬＣＰ（コレステリック液晶ポリマー）が用いられており、カラーフィルタの画素は、Ｃｈ−ＬＣＰの螺旋ピッチの調節、固定によって透過光色が設定された画素であり、且つ、複数の異なった透過光色に設定された画素で構成されており、白色有機ＥＬ素子とカラーフィルタとの間にパッシベーション膜が設けられていることを特徴とするフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルである。
【００１０】
また、本発明は、上記発明によるフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、前記螺旋ピッチの調節が温度による調節であり、螺旋ピッチの固定がＵＶ又はＥＢによる固定であり、複数の異なった透過光色が赤色、緑色、青色の三原色であることを特徴とするフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルである。
【００１１】
また、本発明は、上記発明によるフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルにおいて、前記カラーフィルタの画素１層の層厚が３μｍ以上であり、画素が２層以上の積層であることを特徴とする請求項１、又は請求項２記載のフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルである。
【００１２】
また、本発明は、画素状の白色有機ＥＬ素子と、その白色有機ＥＬ素子に対応した画素状のカラーフィルタとでカラー表示をするフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法において、
１）支持基板上にＣｈ−ＬＣＰ層を所望の膜厚で平坦に形成する工程、
２）上記Ｃｈ−ＬＣＰ層の透過光色が青色を呈するように、温度によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを調節し、画素に対応した開口部を有するマスクを介したＵＶ又はＥＢ露光によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを固定し、透過光色を青色に設定したカラーフィルタの青色画素を形成する工程、
３）該青色画素が形成されたＣｈ−ＬＣＰ層の、青色画素以外の部分の透過光色が緑色を呈するように、温度によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを調節し、青色画素に隣接する画素位置に画素に対応した開口部を有するマスクを介したＵＶ又はＥＢ露光によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを固定し、透過光色を緑色に設定したカラーフィルタの緑色画素を形成する工程、
４）該青色画素及び緑色画素が形成されたＣｈ−ＬＣＰ層の、青色画素及び緑色画素以外の部分の透過光色が赤色を呈するように、温度によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを調節し、緑色画素に隣接する画素位置に画素に対応した開口部を有するマスクを介したＵＶ又はＥＢ露光によってＣｈ−ＬＣＰ層の螺旋ピッチを固定し、透過光色を赤色に設定したカラーフィルタの赤色画素を形成する工程、
５）上記青色画素、緑色画素、及び赤色画素が形成されていないＣｈ−ＬＣＰ層の部分の螺旋ピッチを固定する工程、
６）該Ｃｈ−ＬＣＰ層上にパッシベーション膜を設ける工程、
７）該パッシベーション膜上に画素状の白色有機ＥＬ素子を形成する工程、
を具備することを特徴とするフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法である。
【発明の効果】
【００１３】
支持基板上にＣｈ−ＬＣＰ（コレステリック液晶ポリマー）を使ってカラーフィルタを形成することで、カラーフィルタ表面が平坦になり平坦化層は不要となる。また、カラーフィルタ上にパシベーション膜を設けることで、水分などの影響を防ぐことができる。よって、優れた発光寿命を有するフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に本発明によるフルカラー有機ＥＬディスプレイパネル、及びその製造方法を、その一実施の形態に基づいて詳細に説明する。
【００１５】
本発明によるフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルにおいては、カラーフィルタの基材としてＣｈ−ＬＣＰ（コレステリック液晶ポリマー）を用いているので、カラーフィルタの表面は平坦に形成されている。カラーフィルタは特定の透過光色を有する画素の部分と、特定の透過光色を有しない画素間の部分とで構成されているが、両部分ともに同一の厚さである。
【００１６】
従って、平坦化層は不要なものとなり微小突起は発生しない。これにより、微小突起に起因するＥＬ素子の発光寿命の低下は防止されたものとなる。
【００１７】
また、本発明によるフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルは、カラーフィルタの基材としてＣｈ−ＬＣＰを用い、Ｃｈ−ＬＣＰの螺旋構造による選択透過光を色光として利用し、赤色、緑色、青色の色光を有する各画素が白色有機ＥＬ素子の各画素電極に対応して設けられている。
【００１８】
図３は、本発明によるフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの一実施例を示す断面図である。図３に示すように、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルは、支持基板（１）上に第１電極（２）、有機材料層（３）、透明第２電極（４）、パッシベーション膜（５）、Ｃｈ−ＬＣＰを用いて形成されたＣｈ液晶カラーフィルタ１（２１’）及びＣｈ液晶カラーフィルタ２（２２’）、支持基板（８）が順次に設けられたものである。尚、このフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの支持基板（８）上には光学フィルム（９）も設けられている。
【００１９】
カラーフィルタの基材として使用できるＣｈ−ＬＣＰに要求される特性は、その層が支持基板上に平坦に、且つ微小突起のない状態で所望の厚みに形成されることである。また、Ｃｈ−ＬＣＰの螺旋ピッチに温度依存性があり、更に、光照射による光硬化反応を呈することである。
【００２０】
Ｃｈ−ＬＣＰの螺旋形成能を有するコレステリック液晶としては、分子自身にコレステリック螺旋形成能を有するコレステリック液晶、ネマチック液晶もしくはスメクチックＣ液晶に対して螺旋構造を導入する目的で光学活性な成分を配合したカイラルネマチック液晶もしくはカイラルスメクチック液晶組成物が挙げられる。
【００２１】
上記Ｃｈ−ＬＣＰの代表的な例としては、高分子主鎖中に光学活性な基を有する、例えばポリエステル、ポリペプチド、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステルイミド、セルロースなど、又は高分子の側鎖に光学活性な基を有する例えばポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリマロネート、ポリシロキサン等が挙げられる。
【００２２】
また、カイラルネマチック液晶の末端基として２−メチルブチル基、２−メチルブトキシ基、４−メチルヘキシル基等のキラル部位を有する基含有ネマチック液晶誘導体、例えば、４−シアノ−４'−（２−メチルブチル）ビフェニル、４−シアノ−４'−（２−メチルブトキシ）ビフェニル、４−シアノ−４'−（４−メチルヘキシル）ターフェニル等が挙げられる。
【００２３】
更には、カイラルスメクチック液晶で選択反射特性を生じる、４−（４−ｎ−ヘプチルオキシフェニル）安息香酸−２−メチルブチルエステル、４−（４−メチルヘキシルオキシ）安息香酸−４'−ｎ−ヘプチルオキシフェニルエステル等も挙げられる。
【００２４】
尚、分子自身にコレステリック螺旋形成能を有するコレステリック液晶の場合は反応性液晶組成物とはその分子自身に、複数成分の液晶混合物の場合は、少なくとも１つの成分
に反応性基として導入し、また、この反応性基が光照射により反応するように開始剤を添加したものである。
【００２５】
上記コレステリック液晶組成物を構成するネマチック液晶としては、４−置換安息香酸−４'−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸−４'−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸−４'−置換ビフェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）安息香酸−４'−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキルシル）安息香酸−４'−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキルシル）安息香酸−４'−置換シクロヘキシルエステル、４−置換−４'−置換ビフェニル、４−置換フェニル−４'置換シクロヘキサン、４−置換−４'−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル−４'−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニル）−５−置換ピリミジン等が挙げられる。
【００２６】
また、上記コレステリック液晶組成物を構成するスメクチックＣ液晶としては、４−（４−ｎ−ヘキシルオキシフェニル）安息香酸、４−ｎ−オクチルオキシ安息香酸−４'−ｎ−ヘプチルオキシフェニルエステル、５−ｎ−オクチル−２−（４−ｎ−オクチルオキシフェニル）ピリミジン等が挙げられる。
【００２７】
上記コレステリック液晶組成物は、コレステリック液晶組成物の塗液を作り、例えば、スピンレスコート法、インクジェット法、ディップコート法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等のウェットプロセスで成膜することが可能である。また、塗液の塗布性能等の改良材として、レベリング剤や添加剤等を添加していても良い。
【００２８】
本発明において、パッシベーション層は、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、窒化ケイ素（ＳｉＮｙ）などのケイ素化合物によって形成することができるが、酸化ケイ素単体、窒化ケイ素単体、あるいは窒化酸化ケイ素の膜や酸化ケイ素単体膜と窒化ケイ素単体膜の多層膜などが挙げられる。
【００２９】
尚、上記パッシベーション層は、有機発光層から発せられた光の８０％以上を透過する透過率を有していることが好ましい。
【００３０】
また、上記パッシベーション層を形成するには、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法等を使用できる。
【００３１】
更に、後工程による形成されたパッシベーション層の破壊を保護するために、有機系の透明樹脂あるいは無機系の透明樹脂などによって、パッシベーション層上に、保護膜を形成することもできる。
【００３２】
ＥＬ発光材料としては、公知の有機ＥＬ素子用の発光材料を使用することができる。
【００３３】
低分子発光材料としては、例えば、４，４'−ビス（２，２'−ジフェニルビニル）−ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）などの芳香族ジメチリデェン化合物、５−メチル−２−［２−［４−（５−メチル−２−ベンゾオキサゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾオキサゾールなどのオキサジアゾール化合物、３−（４−ビフェニルイル）−４−フェニル−５−ｔ−ブチルフェニル−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）などのトリアゾール誘導体、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼンなどのスチリルベンゼン化合物、チオピラジンジオキシド誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体などの蛍光性有機材料、アゾメチン亜鉛錯体、（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）などの蛍光性有機金属化合
物などを挙げることができる。
【００３４】
結着用樹脂としては、ポリカーボネート、ポリエステルなどを挙げることができる。溶剤としては、上記発光材料を溶解、または、分散できる溶剤であればよく、例えば、純水、メタノール、エタノール、ＴＨＦ、クロロホルム、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなどやこれらの混合溶液を挙げることができる。
【００３５】
一方、高分子発光材料としては、ポリ［２，５−ビス−［２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニウム）エトキシ］−１，４−フェニル−アルト−１，４−フェニルレン］ジプロマイド（ＰＰＰ−ＮＥｔ３＋）、ポリ（２−デシルオキシ−１，４−フェニレン）ＤＯ−ＰＰＰ、ポリ［５−メトキシ−（２−プロパノキシサルフォニド）−１，４−フェニレンビニレン］（ＭＰＳ−ＰＰＶ）、ポリ［２，５−ビス−（へキシルオキシ）−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン）］（ＣＮ−ＰＰＶ）、ポリ［２−（２'−エチルへキシルオキシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン］（ＭＥＨ−ＰＰＶ）、（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン））（ＰＤＡＦ）などを挙げることができ、高分子発光材料の前駆体としては、例えば、ＰＰＶ前駆体、ＰＮＶ前駆体、ＰＰＰ前駆体などを挙げることができる。
【００３６】
有機ＥＬ素子を構成する第１電極層と第２電極層の間の有機材料層としては、単層構造でも多層構造でも良く、下記の構成を挙げることができる。
１．有機発光層
２．正孔輸送層／有機発光層
３．有機発光層／電子輸送層
４．正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層
５．正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層
６．正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／ブロッキング層／電子輸送層
正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層などの電荷輸送層は、１層であっても良いし、多層構造であっても良い。ここで電荷輸送材料としては、有機ＥＬ素子用や有機光導電体用の公知の電荷輸送材料が使用できる。
【００３７】
電荷輸送層は従来の方法で成膜することが可能であり、電荷輸送材料を直接、真空蒸着法、ＥＢ法、ＭＢＥ法、スパッタリング法等のドライプロセスで成膜することが可能である。或は、電荷輸送層形成用塗液を用いて、スピンコート法、ディップコート法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等のウェットプロセスで成膜することも可能である。少なくとも電荷輸送材料を含有した溶液であり、１種或は多種類の電荷輸送材料を含有していても良く、さらに結着用の樹脂を含有していても良い。また、レベリング剤、その他添加剤等を添加していても良い。
【００３８】
尚、視野角、視認性と輝度向上のために、ガラス基板を挟んでＣｈ−ＬＣＰを基材としたカラーフィルタと反対側に、各種光学機能性層の使用ができる。視野角向上のためには、ＷＶフィルム、ＶＡモード用光学補償フィルム、ＩＰＳモード用光学フィルムやＯＢＣモード用光学補償フィルム等が挙げられ、視認性向上のためには、ＡＧ膜、ＡＲ膜やＬＲ膜が挙げられ、輝度向上のためには、屈折率異方性薄膜の多層膜やコレステリック液晶に１／４λ板を貼合フィルムが挙げられる。また、偏光板として１／４波長位相差フィルムと１／２波長位相差フィルムの併用も挙げられる。
【実施例１】
【００３９】
以下に、この発明を実施例１により詳細に説明する。但し、この実施例によってこの発明が限定されるものではない。
【００４０】
図４（１）〜（４）、及び図５（１）〜（５）は、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程の説明図である。
【００４１】
コーニングジャパン（株）製の＃７０５９ガラス基板を支持基板とし、また、温度によりＣｈ−ＬＣＰの螺旋ピッチを調節することによって、可視領域全体に渡ってその選択反射波長領域を制御することが可能であり、紫外線照射によりその液晶状態を凍結することが出来る紫外線硬化型Ｃｈ−ＬＣＰを使用した。
【００４２】
図４（１）に示すように、支持基板（８）を洗浄し乾燥後、Ｃｈ−ＬＣＰを用いたＣｈ液晶２（２２）がベイク後で５μｍの厚さになるようにスピンコーターにて印刷し乾燥した。
【００４３】
次に、図４（２）に示すように、上記Ｃｈ液晶２（２２）が印刷された支持基板（８）をホットプレート（３０）上に設置し、赤色を反射する螺旋ピッチになる温度４６℃に加熱し、その赤色反射が所望の位置で固定されるように設計されたマスク（３１）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００４４】
続いて、緑色を反射する螺旋ピッチになる温度を６３℃にホットプレート（３０）を加熱し、その緑色反射が所望の位置で固定されるように設計されたマスク（３２）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００４５】
続いて、青色を反射する螺旋ピッチになる温度を８７℃にホットプレート（３０）を加熱し、その青色反射が所望の位置で固定されるように設計されたマスク（３３）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００４６】
次に、ホットプレートを外し、支持基板（８）と形成したＣｈ液晶２（２２）を３０℃以下に冷却し、Ｃｈ液晶２（２２）に紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射して、未硬化部分を固定化し、Ｃｈ液晶カラーフィルタ２（２２’）を得た。
【００４７】
次に、図４（３）に示すように、上記Ｃｈ液晶カラーフィルタ２（２２’）上にＣｈ液晶１（２１）がベイク後で５μｍの厚さになるようにスピンコーターにて印刷し乾燥した。
【００４８】
上記Ｃｈ液晶１（２１）が印刷された支持基板（８）をホットプレート（３０）上に設置し、赤色を反射する螺旋ピッチになる温度４６℃に加熱し、その赤色反射を反射光が緑色を呈する画素上に固定できるるよう設計されたマスク（３２）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００４９】
続いて、緑色を反射する螺旋ピッチになる温度を６３℃にホットプレート（３０）を加熱し、その緑色反射を反射光が青色を呈する画素上に固定できるよう設計されたマスク（３３）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００５０】
続いて、青色を反射する螺旋ピッチになる温度を８７℃にホットプレート（３０）を加熱し、その青色反射を反射光が赤色を呈する画素上に固定できるように設計されたマスク（３１）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００５１】
次に、ホットプレートを外し、支持基板（８）とＣｈ液晶カラーフィルタ２（２２’）に積層され画素化されたＣｈ液晶１（２１）を３０℃以下に冷却し、Ｃｈ液晶１（２１）に紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射して、未硬化部分を固定化し、Ｃｈ液晶カラーフィルタ１（
２１’）を得た。
【００５２】
上記Ｃｈ液晶カラーフィルタ１（２１’）の表面粗さを測定した。結果を表１に示す。
【００５３】
【表１】
2005158478.tif 000003
次に、図５（１）〜（２）に示すように、上記Ｃｈ液晶カラーフィルタ１（２１’）上に酸化ケイ素からなるパシベーション膜（５）をＣＶＤにより形成し、更に、上記パシベーション膜（５）上に蒸着器により透明第２電極膜を形成し、エッチングして透明第２電極（４）を形成した。
【００５４】
次に、図５（３）〜（５）に示すように、上記積層体を洗浄した後、真空蒸着装置にセットし、正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／ブロッキング層／電子輸送層の順で積層した。更に第１電極（２）を成膜形成し、有機材料層が封止できる支持基板を積層して、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを形成した。  上記フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルに５Ｖの電圧を流したが、ダークスポットの発生はなかった。また、１，０００時間の５Ｖの電圧を流し続けたが、ダークスポットの発生と成長は観察されなかった。
【実施例２】
【００５５】
コーニングジャパン（株）製の＃７０５９ガラス基板を支持基板とし、また、温度によりＣｈ−ＬＣＰの螺旋ピッチを調節することによって、可視領域全体に渡ってその選択反射波長領域を制御することが可能であり、紫外線照射によりその液晶状態を凍結することが出来る紫外線硬化型Ｃｈ−ＬＣＰを使用した。
【００５６】
支持基板（８）を洗浄し、乾燥後、Ｃｈ液晶２（２２）がベイク後で５μｍの厚さになるようにマイクログラビアコーターにて印刷し乾燥した。
【００５７】
上記Ｃｈ液晶２（２２）が印刷された支持基板（８）をホットプレート（３０）上に設置し、赤色を反射する螺旋ピッチになる温度４６℃に加熱し、その赤色反射が所望の位置で固定されるように設計されたマスク（３１）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００５８】
続いて、緑色を反射する螺旋ピッチになる温度を６３℃にホットプレート（３０）を加熱し、その緑色反射が所望の位置で固定されるように設計されたマスク（３２）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００５９】
続いて、青色を反射する螺旋ピッチになる温度を８７℃にホットプレート（３０）を加熱し、その青色反射が所望の位置で固定されるように設計されたマスク（３３）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００６０】
次に、ホットプレートを外し、支持基板（８）と形成したＣｈ液晶２（２２）を３０℃以下に冷却し、Ｃｈ液晶２（２２）に紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射して、未硬化部分を固定化し、Ｃｈ液晶カラーフィルタ２（２２’）を得た。
【００６１】
次に、上記Ｃｈ液晶カラーフィルタ２（２２’）上にＣｈ液晶１（２１）がベイク後で５μｍの厚さになるようにマイクログラビアコーターにて印刷し乾燥した。
【００６２】
上記Ｃｈ液晶１（２１）が印刷された支持基板（８）をホットプレート（３０）上に設置し、赤色を反射する螺旋ピッチになる温度４６℃に加熱し、その赤色反射を反射光が緑色を呈する画素上に固定できるるよう設計されたマスク（３２）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００６３】
続いて、緑色を反射する螺旋ピッチになる温度を６３℃にホットプレート（３０）を加熱し、その緑色反射を反射光が青色を呈する画素上に固定できるよう設計されたマスク（３３）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００６４】
続いて、青色を反射する螺旋ピッチになる温度を８７℃にホットプレート（３０）を加熱し、その青色反射を反射光が赤色を呈する画素上に固定できるように設計されたマスク（３１）を介して紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射した。
【００６５】
次に、ホットプレートを外し、支持基板（８）とＣｈ液晶カラーフィルタ２（２２’）上に積層され画素化されたＣｈ液晶１（２１）を３０℃以下に冷却し、Ｃｈ液晶１（２１）に紫外線２Ｊ／ｃｍ2を照射して、未硬化部分を固定化し、Ｃｈ液晶カラーフィルタ１（２１’）を得た。
【００６６】
上記Ｃｈ液晶カラーフィルタ１（２１’）の表面粗さを測定した。結果を表２に示す。
【００６７】
【表２】
2005158478.tif 000004
次に、上記Ｃｈ液晶カラーフィルタ１（２１’）上に酸化ケイ素からなるパシベーション膜（５）をＣＶＤにより形成し、更に、上記パシベーション膜（５）上に蒸着器により透明第２電極膜を形成し、エッチングして透明第２電極（４）を形成した。
【００６８】
次に、上記積層体を洗浄した後、真空蒸着装置にセットし、正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／ブロッキング層／電子輸送層の順で積層した。更に第１電極（２）を成膜形成し、有機材料層が封止できる支持基板を積層して、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを形成した。
【００６９】
上記フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルに５Ｖの電圧を流したが、ダークスポットの発生はなかった。また、１，０００の５Ｖの電圧を流し続けたが、ダークスポットの発生と成長は観察されなかった。
【実施例３】
【００７０】
コーニングジャパン（株）製の＃７０５９ガラス基板を支持基板とし、支持基板上に顔料分散型カラーフィルタを１．５μｍの厚みで作成した。平坦化を目的で、乾燥後、総膜厚で３μmになるように平坦化膜をスピンコーターで印刷乾燥した。
【００７１】
上記顔料分散型カラーフィルタ上の平坦化膜の表面粗さを測定した。結果を表３に示す。
【００７２】
【表３】
2005158478.tif 000005
次に、上記平坦化膜上に酸化ケイ素からなるパシベーション膜をＣＶＤにより形成し、更に、上記パシベーション膜上に蒸着器により透明第２電極膜を形成し、エッチングして透明第２電極を形成した。
【００７３】
次に、上記積層体を洗浄した後、真空蒸着装置にセットし、正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／ブロッキング層／電子輸送層の順で積層した。更に第１電極を成膜形成し、有機材料層が封止できる支持基板を積層して、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルを形成した。
【００７４】
上記フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルに５Ｖの電圧を流したところ、ダークスポットの発生した。また、１，０００時間の５Ｖの電圧を流し続けたが、ダークスポットが時間の経過に伴ない新たに発生し、また、既存のダークスポットの成長が観察された。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】カラーＥＬディスプレイの一例の断面図である。
【図２】カラーＥＬディスプレイの一例の断面図である。
【図３】本発明によるフルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの一実施例を示す断面図である。
【図４】（１）〜（４）は、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程の説明図である。
【図５】（１）〜（５）は、フルカラー有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程の説明図である。
【符号の説明】
【００７６】
１、８・・・支持基板
２・・・第１電極
３・・・有機材料層
４・・・透明第２電極
５・・・パッシベーション膜
６・・・平坦化層
７・・・カラーフィルタ
９・・・光学フィルム
２１・・・Ｃｈ液晶１
２２・・・Ｃｈ液晶２
２１’・・・Ｃｈ液晶カラーフィルタ１
２２’・・・Ｃｈ液晶カラーフィルタ２
３０・・・ホットプレート
３１、３２、３３・・・マスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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