(57)【要約】【課題】  可撓性の乏しい基材へ容易かつ効率良く機能性層を付与でき、機能性層に予め防汚層を設けておくことで、後の防汚処理を省くことができる、機能性層及び防汚層を同時に転写できる機能性層転写フィルム、並びに、防汚層及び機能性層転写体を提供する。【解決手段】  基材１１の一方の面へ、必要に応じて剥離層１３、防汚層１５、機能性層１７、必要に応じて接着層１９を設け、前記機能性層１７が反射防止性、防眩性、導電性、ガスバリア性、光回折性、難燃性、及び／又はハードコート性の機能を有する少なくとも１層からなり、前記防汚層１５がＣＶＤ法で形成され、該防汚層１５中におけるフッ素の質量割合が、前記機能層１７側より上記基材１１側に多く分布してなることを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の一方の面へ、防汚層、機能性層を順に設けたことを特徴とする機能性層転写フィルム。
【請求項２】
上記防汚層がＣＶＤ法で形成され、該防汚層中におけるフッ素の質量割合が、上記機能層側より上記基材側に多く分布してなることを特徴とする請求項１に記載の機能性層転写フィルム。
【請求項３】
上記基材と上記防汚層との間へ、剥離層を設けたことを特徴とする請求項１に記載の機能性層転写フィルム。
【請求項４】
上記防汚層がＣＶＤ法で形成され、該防汚層中におけるフッ素の質量割合が、上記機能層側より上記剥離層側に多く分布してなることを特徴とする請求項３に記載の機能性層転写フィルム。
【請求項５】
上記機能性層面へ接着層を設けることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の機能性層転写フィルム。
【請求項６】
上記機能性層が、反射防止性、防眩性、導電性、ガスバリア性、光回折性、難燃性、及び／又はハードコート性の機能を有する少なくとも１層からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の機能性層転写フィルム。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の機能性層転写フィルムを用いて、被転写体へ、少なくとも機能性層及び防汚層が転写され、防汚層が被転写体の表面に露出するように設けられてなることを特徴とする防汚層及び機能性層転写体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能性層転写フィルムに関し、さらに詳しくは、防汚層及び機能性層を一括して転写するための機能性層転写フィルム、並びに、防汚層及び機能性層転写体に関するものである。
【０００２】
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。
【０００３】
また、「ＣＶＤ法」は「化学蒸着法、化学気相成長法」、「ＴＡＣ」は「トリアセチルセルロース」、及び「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」、の略語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
【背景技術】
【０００４】
（技術の背景）  テレビ、パソコン、携帯電話等のディスプレイ、カーブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、その他の商業ディスプレイは、表示された文字や図形その他の情報を読み取るための、表面での光反射を防止する反射防止性や防眩性、風雨、油又は指紋によって付着する汚れなどを防ぐ防汚性、汚れなどの付着を防止したり電磁波を遮蔽する導電性、錆などを防止するバリア性、意匠性やセキュリティ性を高めるホログラムなどの光回折性、及び／又は外力による傷を防止するハードコート性、などの機能性が必要である。ディスプレイ表面には、これらの機能を持たせるための機能性層を設けることが求められている。
しかし、上記ディスプレイの多くは、金属板、ガラス板、セラミックス、可撓性に乏しいプラスチック板などの可撓性に乏しい基材であり、該基材の最表面に機能性層を形成することは、枚葉状態で１枚１枚を形成作業を要するので、極めて生産性が低く、高コストである。また、ロールツーロール方式で連続的に生産でき、機能性の高い真空技術などを用いた高度な機能性層を設けることができない。  このために、可撓性に乏しい基材（本発明の被転写体）の表面へ、上記の高度な機能性を有する機能性層が容易に転写法で設けられ、かつ最表面に必要な防汚層も一括に転写形成することができる機能性層転写フィルムが求められている。
【０００５】
（先行技術）  従来、例えば、プラスチック製光学部品への反射防止は、部品側から空気側へ順に、一酸化ケイ素と酸化ジルコニウムとの混合物の第１層、酸化ジルコニウムの第２層、二酸化ケイ素の第３層からなる３層構造の蒸着膜を形成した反射防止層が知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしながら、反射防止の形成は、蒸着法、スパッタリング法などの真空方式、又は、組成液を塗布し乾燥するウェット方式などの、ロールツーロール方式で行われるので、可撓性に乏しい基材（本発明の被転写体）には行うことができないという欠点がある。
また、一旦、ロールツーロール方式で、可撓性の離型性を有するフィルム基材に、フッ素系ハードコート層（低屈折率層）／金属酸化物を含むハードコート層（高屈折率層）／接着層を設けた後に、可撓性に乏しい基材に転写する方法が知られている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、最表面がフッ素系ハードコート層（低屈折率層）となって、若干の防汚性を有するが不充分であり、さらにはハードコート層が不要な場合や、反射防止膜の仕様を変える場合にはフッ素系ハードコート層（低屈折率層）を使用できないという問題点がある。
そして、単純に防汚層の機能だけを持たせた転写反射防止膜なるものがある（例えば、特許文献３参照）。これは反射防止膜の最表面に撥水性のある材料を用いているが、撥油性がないため、防汚層の機能としては不充分であった。
さらに、転写で付与された機能性層の表面に、防汚剤塗布液を塗布し定着し、定着されなかった余剰の防汚剤を除去し、防汚層を形成する方法が知られている（例えば、特許文献４参照。）。しかしながら、工程が多く、高コストであるという欠点がある。
防汚層の製造方法として、プラズマＣＶＤ法を用いたものがある（例えば、特許文献５参照）。この方法はパーフルオロアルキル基を含む原料を用い、プラズマＣＶＤ法にて防汚層をプラスチックフィルム上に設けるものである。しかし、これだけでは印刷法などの他のコーティング方法によりパーフルオロアルキル基を含む材料をコーティングして得る防汚層と変わりがない。本発明は、転写後も防汚性を有することを見出し、転写防汚層として使用するものである。
【特許文献１】特公平０６−８７０８１号公報
【特許文献２】特開平１１−２８８２２５号公報
【特許文献３】特開２００３−１０３６８０号公報
【特許文献４】特開２００２−２９２７７６号公報
【特許文献５】特開平１０−１５５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、ロールツーロール方式で、可撓性フィルムへ反射防止層などの機能性層及び防汚層を形成し、接着剤を介し可撓性の乏しい基材へ転写することで、可撓性の乏しい基材へ容易かつ効率良く機能性層を付与でき、機能性層に予め防汚層を設けておくことで、後の防汚処理を省くことができる、機能性層及び防汚層を同時に転写できる機能性層転写フィルム、並びに、防汚層及び機能性層転写体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わる機能性層転写フィルムは、基材の一方の面へ、防汚層、機能性層を順に設けるように、したものである。
請求項２の発明に係わる機能性層転写フィルムは、上記防汚層がＣＶＤ法で形成され、該防汚層中におけるフッ素の質量割合が、上記機能層側より上記基材側に多く分布してなるように、したものである。
請求項３の発明に係わる機能性層転写フィルムは、上記基材と上記防汚層との間へ、剥離層を設けるように、したものである。
請求項４の発明に係わる機能性層転写フィルムは、上記防汚層がＣＶＤ法で形成され、該防汚層中におけるフッ素の質量割合が、上記機能層側より上記剥離層側に多く分布してなるように、したものである。
請求項５の発明に係わる機能性層転写フィルムは、上記機能性層面へ接着層を設けるように、したものである。
請求項６の発明に係わる機能性層転写フィルムは、上記機能性層が、反射防止性、防眩性、導電性、ガスバリア性、光回折性、難燃性、及び／又はハードコート性の機能を有する少なくとも１層からなるように、したものである。
請求項７の発明に係わる防汚層及び機能性層転写体は、請求項１〜６のいずれかに記載の機能性層転写フィルムを用いて、被転写体へ、少なくとも機能性層及び防汚層が転写され、防汚層が被転写体の表面に露出するように設けられてなるように、したものである。
【発明の効果】
【０００８】
（発明のポイント）本発明者らは、鋭意、研究を進め、可撓性の基材へ一旦ロールツーロール方式で真空技術を用いた高度な機能性層及び防汚層を連続的に効率良く生産した後に、被転写体の表面へ転写し移行させることで、本発明に至った。
このため、２つの層を一括に転写することで、２つの層を一括に転写するので、後からの防汚加工が要らず少ない工程、低コストであり、また、可撓性に乏しい被転写体でも、その表面へ高度な機能性層及び防汚層を転写し形成することができる機能性層転写フィルムが得られる。
請求項１〜２の本発明によれば、可撓性の乏しい基材でも、後での防汚処理が省け、機能性層及び防汚層を同時に転写できるので、可撓性の乏しい基材へ機能性層及び防汚層を、容易かつ効率良く転写して形成することができる機能性層転写フィルムが提供される。
請求項３〜４の本発明によれば、可撓性の乏しい基材でも、後での防汚処理が省け、機能性層及び防汚層を同時に転写できるので、可撓性の乏しい基材へ機能性層及び防汚層を、容易かつ効率良く転写して形成することができるだけでなく、剥離層が存在しなくとも転写が可能となる機能性層転写フィルムが提供される。
請求項５の本発明によれば、可撓性の乏しい基材へ接着剤を施すことなく、容易かつ効率良く機能性層及び防汚層を同時に転写できる機能性層転写フィルムが提供される。
請求項６の本発明によれば、表面での光反射を防止する反射防止性や防眩性、風雨、油又は指紋によって付着する汚れなどを防ぐ防汚性、汚れなどの付着を防止したり電磁波を遮蔽する導電性、錆などを防止するバリア性、意匠性やセキュリティ性を高めるホログラムなどの光回折性、燃焼を抑制する難燃性、及び／又は外力による傷を防止するハードコート性などの機能性層を転写できる機能性層転写フィルムが提供される。
請求項７の本発明によれば、機能性層及び防汚層が同時に転写されて、可撓性に乏しい基材でも、高度な機能性及び防汚性を有する防汚層及び機能性層転写体が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示す機能性転写フィルムの断面図である。
図２は、プラズマＣＶＤ装置を説明する要部を説明図である。
図３は、本発明の１実施例を示す機能性層転写体の反射率のグラフである。
【００１０】
（基本の物）  本発明の機能性層転写フィルム１０は、図１に示すように、基材１１の一方の面へ、剥離層１３、防汚層１５、機能性層１７、必要に応じて接着層１９が設けられている。また、剥離層１３がなくとも可である。  機能性層１７としては、反射防止性、防眩性、ガスバリア性、光回折性、難燃性、又はハードコート性の機能を有する層である。  防汚層１５はＣＶＤ法で形成され、該防汚層中におけるフッ素の質量割合が、機能層側より、基材側又は剥離層側に多く分布（偏在分布ともいう）している。
【００１１】
本発明の防汚層及び機能性層転写体は、本発明の機能性層転写フィルム１０を用いて、被転写体へ、少なくとも機能性層１７及び防汚層１５が転写され、防汚層１５が最表面になっている。該防汚層１５の最表面には、フッ素の質量割合が機能層側より多く分布している。
【００１２】
（基材）基材１１について説明する。基材１１としては、ロールツーロール方式に用いれればよく、特に限定されるものではないが、可撓性を持つ基材が好ましい。該可撓性を持つ基材１１の材料としては、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリスチレン系樹脂フィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネイト系樹脂フィルム、ポリスルホンフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォン系フィルム、アクリロニトリルフィルム、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂（ＡＳ樹脂）フィルム、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体樹脂（ＡＢＳ樹脂）フィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、フッ素系樹脂フィルム、アセタール系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム等が使用できる。
【００１３】
なかでも、一軸または二軸延伸ポリエステルフィルムが、耐熱性に優れていることからより好ましい。可撓性基材の厚みとしては、通常は６μm〜１８８μm程度のものが好ましい。なお、基材１１は、可撓性を持つ限り着色されていてもよく、印刷などで模様や文字などが付与されていてもよい。
【００１４】
（剥離層）剥離層１３について説明する。剥離層１３は、防汚層１５と剥離層１３の界面にて剥離を起こす目的で設ける。また、剥離層１３の１部が被転写体へ移行する場合もあるが、実質的に機能に影響はないので、本発明の範囲内である。  剥離層１３の材料としては、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、電離放射線で架橋する硬化性樹脂などが適用できる。例えば、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、弗素系樹脂、シリコーン、エポキシ樹脂、繊維素系樹脂などである。離型剤を含んだ樹脂は、例えば、弗素系樹脂、シリコーン、又は各種のワックスなどの離型剤を、添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂などである。電離放射線で架橋する硬化性樹脂は、例えば、紫外線（ＵＶ）、電子線（ＥＢ）などの電離放射線で重合（硬化）する官能基を有するモノマー・オリゴマーなどを含有させた樹脂である。
【００１５】
（剥離層の形成）  剥離層１３の形成は、該樹脂を溶媒へ分散または溶解して、ロールート、リバースロールコート、グラビアコート、リバースグラビアコート、バーコート、ロッドコ−ト、キスコート、ナイフコート、ダイコート、コンマコート、フローコート、スプレーコートなど公知のコーティング方法で塗布し乾燥して、溶剤を除去して形成させる。要すれば、温度３０℃〜１２０℃で加熱乾燥、あるいはエージング、または電離放射線を照射して架橋させる。
【００１６】
剥離層１３の厚さは、通常は０．０１μｍ〜５．０μｍ程度、好ましくは０．５μｍ〜３．０μｍ程度である。該厚さは薄ければ薄い程良いが、０．１μｍ以上であればより良い成膜が得られて剥離力が安定する。
【００１７】
（防汚層）  剥離層１３上に設ける防汚層１５について説明する。これは、剥離層１３上にでなく、直接基材へ設ける場合においても同様となるものである。本発明の機能性層転写フィルムにおいて、転写後の被転写物体の最表面となるのが防汚層である。防汚層は、被転写物体の最表面にて、手の指紋や油が付着するのを防止するために設けられている。従来では、転写後の被転写物体に防汚層は無く、そのため転写後の被転写物体へ防汚処理を行う必要があった。防汚処理には通常、防汚剤が用いられるが、防汚剤の均一な塗布は非常に高い技術が要求され、そのため機能性膜が転写された物体の表面に防汚剤を塗布することは困難であるばかりでなく、防汚塗布工程や余剰防汚剤除去工程が必要であり、負担となっていた。
【００１８】
本発明においては、あらかじめ防汚層１５を組み込んだ構成をもつ転写反射防止膜などの機能性層１７を提供するものであり、防汚層が最表面となる反射防止膜などの機能性層１７を物体に、直接転写し取りつけることができるものである。  本発明に用いる防汚層１５の防汚剤としては、一般的に、撥水性、撥油性のコートで、シロキサン系、フッ素化アルキルシリル化合物などが適用できるが、パーフルオロアルキル基を少なくとも有する珪素化合物を含有する防汚剤が好ましい。
【００１９】
（防汚層の形成法）防汚層１５の形成方法としては、好ましくはＣＶＤ（化学気相成長）法で、さらに好ましくはプラズマＣＶＤ（プラズマ支援化学気相成長）法である。その他プラズマ処理を施すコーティング方法も用いることができる。プラズマＣＶＤ法を用いる場合の出発原料の例として、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘプタデカトリフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシランなどが挙げられるが、これに限るものではなく、パーフルオロアルキル基を含む膜が作成できる限り他の材料を用いてもよい。
【００２０】
本発明においてパーフルオロアルキル防汚剤を直接印刷のように塗布してしまうと、防汚性を有する面が機能性転写フィルムの剥離層１３側ではなく、機能性層１７側に出現してしまう性質がある。すなわち、この状態で転写を行った場合、被転写材の最表面に防汚性がないのである。プラズマＣＶＤを用いて、防汚性能を有する面を機能性転写フィルムの基材１１側、又は剥離層１３側（剥離層を設ける場合）に設けて、防汚層１５を被転写物体へ転写すると、該被転写物体の最表面が、防汚層１５の防汚性能を有する面となって、機能を発現させることが可能となるのである。この防汚性能を有する面とは、防汚層１５中において、フッ素の質量割合が多く分布している面である。
【００２１】
（プラズマＣＶＤ法）次に、プラズマＣＶＤ法について、防汚層１５の成膜方法を例に説明するが、他の層を形成する場合もこれに準じて行える。このために、防汚層１５は、基材１１／剥離層１３の剥離層１３面へ形成するか、及び基材１１へ直接形成するが、ここでは説明を普遍的にする意味で、基材１１／剥離層１３のを、及び基材１１そのものを基材と表現する。  図２は、プラズマＣＶＤ装置を説明する要部の説明図である。  図２に示すように、プラズマＣＶＤ装置は、真空容器２１内にフィルム走行系と電極２６及び２７がある。長尺で帯状のフィルム（巻取という）である基材１１は、フィルム走行系の給紙部２３から繰り出して、複数のガイドロールで走行位置を規制しながら走行し、成膜ドラム２７（電極）上で成膜され、再び走行して、巻取部２４で巻上げられる。成膜は、ガス導入口２５からのキャリア及び／又は反応ガスなどが供給され、電極２６と成膜ドラム２７（電極を兼ねている）との間で発生させるプラズマの支援を受けて成膜される。この反応容器２１の全体は、図示していない真空ポンプにより排気される。
【００２２】
反応容器２１には、原料ガス導入口２５より規定流量のパーフルオロアルキル基を少なくとも有する化合物ガスや窒素ガスなどが供給され、反応容器２１の内部は、常に一定圧力のこれらのガスで満たされている。  まず、給紙部２３より巻き出された基材１１は、真空容器２１中のプラズマＣＶＤの反応室ドラムである成膜ドラム２７（電極でもある）に巻き付き、該成膜ドラム２７の回転と同期しながら、巻取部２４の方向に送られていく。  次に、電極６と成膜用ドラム7との間には、電源によりＲＦ電圧が印加される。このとき、電源の周波数は、ラジオ波に限らず、直流からマイクロ波まで適当な周波数を使用することも可能である。
【００２３】
そして、電極２６と成膜用ドラム２７の間にＲＦ電圧を印加することにより、この両電極の周辺にプラズマが発生する。該プラズマ中でパーフルオロアルキル基を少なくとも有する化合物ガスの電離が起こり、パーフルオロアルキル基を含む化合物を生成して成膜用ドラム２７に巻き付いた基材１１上に堆積して、防汚層１５が形成される。その後、防汚層１５が表面に形成された基材１１は、巻取部２４で巻き取られる。プラズマＣＶＤ法においては、成膜される層の膜圧、透明度、色味などは、成膜温度、材料ガス流量及び圧力、放電条件、基材フィルムの走行速度を制御することで、広範囲に調整することができる。
【００２４】
このようにＣＶＤ法で防汚層１５を形成することで、該防汚層１５中におけるフッ素の質量割合が、基材１１側、又は剥離層１３側（剥離層を設ける場合）に多く分布させることができる。原理は明確でないが、ＣＶＤ時にプラズマ状態のフッ素原子又はフッ素を含む物質が、基材１１側、又は剥離層１３側（剥離層を設ける場合）へ先に衝突し、その後堆積してくる原子や分子で固定され成長するものと推測される。  ここで、フッ素の分布は均一ではなくてもよく、防汚層１５全体として、防汚層１５中において、フッ素の質量割合が基材１１側、又は剥離層１３側（剥離層を設ける場合）に多く分布していれば、前述の機能を十分に発現することができる。
【００２５】
（機能性層）防汚層１５上へ設ける機能性層１７について説明する。機能性層１７とは、目的に応じて選択される機能を持たせた層のことであり、例えば、表面での光反射を防止する反射防止性や防眩性、風雨、油又は指紋によって付着する汚れなどを防ぐ防汚性、汚れなどの付着を防止したり電磁波を遮蔽する導電性、錆などを防止するバリア性、意匠性やセキュリティ性を高めるホログラムなどの光回折性、燃焼を抑制する難燃性、及び／又は表面の耐傷性を高め外力による傷を防止するハードコート性などである。
【００２６】
機能性層１７は１層、又は２層以上の層から構成されても良い。また、複数の機能性層１７を設ける場合、その順序は適宜選択すればよい。  機能性層１７の材料は、機能性に対応する材料を適宜選択すればよく、特に規定するものではないが、防汚層１５上に設けるため、前記の防汚剤と相性がよく、防汚層１５上へ成膜性がよく、防汚層１５との密着性のよいケイ素酸化物や有機ケイ素化合物のような、ケイ素を含む膜であることが好ましい。
【００２７】
このようなケイ素を含む層の製造手段としては、プラズマ化学蒸着（ＣＶＤ、化学気相成長）法、熱ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル法等のウェットコーティング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法が挙げられる。中でも、膜質、膜厚のコントロールが容易であり、大量生産に好適なプラズマＣＶＤ法が好ましい。ケイ素を含む膜を形成するためには、プラズマＣＶＤ法の出発原料として、具体的に、シラン、ジシラン、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、メチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＯＳ）、テトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）、ヘキサメチルジシラン（ＨＭＤＳ）、テトラメチルシクロテトラシロキサン（ＴＯＭＣＡＴＳ）、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、テトラメトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、テトラエトキシシランヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳＮ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、アリルジメチル（ジイソプロピルアミノ）シラン、アリルアミノトリメチルシラン、ケイ弗化アンモニウム、アニリノトリメチルシラン、１，３−ビス（クロロメチル）テトラメチルジシラザン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジエチルアミノ）ジエチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノジメチルシリル）エタン、ビス（ジメチルアミノ）ジフェニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ビニルエチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ビニルメチルシラン、ビス（エチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（エチルメチルケトキシム）メチルイソプロポキシシラン、ビス（メチルジエトキシシリルプロピル）アミン、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、Ｎ−６，９−ビス（トリメチルシリル）アデニン、Ｎ，Ｎ’−ビス（トリメチルシリル）−１，４−ブタンジアミン、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）シトシン、Ｎ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）ヒドロキシルアミン、３−シアノプロピル（ジイソプロピル）ジメチルアミノシラン、ジ−ｎ−ブチルテトラメチルジシラザン、（ジエチルアミノ）トリメチルシラン、（ジイソプロピルアミノ）トリメチルシラン、（Ｎ，Ｎ’−ジメチル）トリメチルシラン、１，３−ジビニルテトラメチルジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルシクロトリシラザン、１，２，３，４，５，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、ヘキサメチルジシラザン、ノナメチルトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、ｎ−オクチルジイソプロピル（ジメチルアミノ）シラン、フェネチルジメチル（ジメチルアミノ）シラン、フェニルビス（ジメチルアミノ）シラン、フェニルメチルビス（ジメチルアミノ）シラン、１，３，５，７−テトラエチル−２，４，６，８−テトラメチルシクロテトラシラザン、テトラキス（ジエチルアミノ）シラン、テトラキス（ジメチルアミノ）シラン、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、２，２，５，５−テトラメチル−２，５−ジラ−１−アザシクロペンタン、１，１，３，３−テトラフェニルジメチルジシラザン、１，３，５，７−テトラビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシラザン、１，２，３−トリエチル−２，４，６−トリメチルシクロトリシラザン、トリ−ｎ−ヘキシルシリルアミン、Ｎ−（トリメチルシリル）アセトアミド、トリメチルシリルアジド、Ｎ−(トリメチルシリル)イミダゾール、トリフェニルアミノシラン、１−トリメチルシリル−１，２，４−トリアゾール等のＳｉ系化合物を用いることができる。なお、機能性層１７の材料や厚みは、特に規定するものではなく、適宜選択すればよい。
【００２８】
（反射防止層）反射防止層は、透明な誘電体層を１層以上積層した構成のものを意味し、該誘電体層のうち最外層の屈折率を其の直下の層よりも低屈折率となる様に構成し、且つ該誘電体層の光学的厚み（屈折率×幾何学的厚み）を反射防止すべき光の波長の１／４とする。斯かる構成により各層界面からの反射光を干渉により減衰せしめる。  反射防止層の代表的な層構成としては、（１）直下の層（防汚層又は他の機能性層）／低屈折率層、（２）直下の層／高屈折率層／低屈折率層、（３）直下の層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、（４）直下の層／高屈折率層／中屈折率層／低屈折率層等が挙げられる。反射防止層を構成する各層の材料としては、低屈折率層については、弗化マグネシウム（ＭｇＦ2）、氷晶石等の無機物、或いは後述の如き低屈折率樹脂組成物が挙げられる。高屈折率層については、二酸化チタン、硫化亜鉛等の無機物が挙げられる。反射防止層の製法は、公知の蒸着、スパッタリング等の乾式コーティング法、或いはロールコート、リップダイコート等の湿式コーティング法による。
【００２９】
（反射防止層の材料及び形成方法）ここでは、３層から成る反射防止層（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）（３層反射防止層と呼ぶ）を例として、基材１１／剥離層１３／防汚層１５を順に積層した構造体に、３層反射防止層を形成する方法及び材料について説明する。  この例において、反射防止層は「中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層」の順に積層された構造体である。転写後の被転写物体において該構造体となるように、本発明の機能性層転写フィルム１０には「低屈折率層／高屈折率層／中屈折率層」順に積層する。  低屈折率層とは、屈折率が１．３以上１．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）となる光透過性膜であり、膜厚が３０〜３００ｎｍ、好ましくは３０〜２５０ｎｍ、さらに好ましくは３０〜２００ｎｍである。高屈折率層とは、屈折率が１．８以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）となる光透過性膜であり、膜厚が膜厚が３０〜３００ｎｍ、好ましくは３０〜２５０ｎｍ、さらに好ましくは３０〜２００ｎｍである。中屈折率層とは、屈折率が１．５以上１．８以下（波長λ＝５５０ｎｍ）となる光透過性層であり、膜厚が３０〜３００ｎｍ、好ましくは３０〜２５０ｎｍ、さらに好ましくは３０〜２００ｎｍである。
【００３０】
上記の反射防止層を構成する膜の厚さが３０ｎｍ以下である場合には、光学機能性層として機能することが困難であり、また、反射防止層を構成する膜の厚さが３００ｎｍを超える場合には光透過性が低下するために好ましくない。ここで、低屈折率層および中屈折率層および高屈折率層とは、多層反射防止層をそれぞれの屈折率により相対的に比較した場合において、それぞれの薄層を区別するための名称であり、比較的屈折率の高い層を高屈折率層、比較的屈折率の低い層を低屈折率層とし、前記高屈折率層と低屈折率層の中間の屈折率を有する層を中屈折率層としている。一般的には、屈折率が１．８０以上を高屈折率層、１．５以上１．８０未満（波長λ＝５５０ｎｍ）を中屈折率層、１．５未満（波長λ＝５５０ｎｍ）を低屈折率層とする場合が多い。  ここで、波長、５５０ｎｍにおける屈折率を示しているのは、人間の感度が最も高い波長だからである。
【００３１】
次に、低屈折率層についてさらに詳しく説明する。低屈折率層は高屈折率層の上に設ける層であり、屈折率１．３以上１．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）が好ましく、膜厚が３０〜３００ｎｍが好ましい。だが、本発明において屈折率、膜厚を規定するものではない。低屈折率層は高屈折率層と密着性が良い酸化ケイ素化合物や有機ケイ素化合物を含む膜が好ましいが、本発明において規定するものではなく、高屈折率層上に設けることができれば如何なる材料を用いても良い。例えば、フッ化マグネシウム、酸フッ化ケイ素を含む層としてもよい。中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を形成する薄膜を、酸化ケイ素化合物や有機ケイ素化合物のみで形成する場合、歩留まりを向上することができ、またコスト的にも好ましいだけでなく、それぞれの薄層の密着性も向上することができるため好ましい。また、低屈折率層を形成または積層する方法としては、特に指定しないが、プラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル法等のウェットコーティング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法で形成あるいは積層することができる。
【００３２】
高屈折率層についてさらに詳しく説明する。高屈折率層は中屈折率層の上に設ける層であり、屈折率１．８以上２．４以下（波長λ＝５５０ｎｍ）が好ましく、膜厚が３０〜３００ｎｍが好ましい。だが、本発明において屈折率、膜厚を規定するものではない。高屈折率層を中屈折率層上に用いることにより、多層反射防止層において、当該高屈折率層の上側（基材側と反対の方向）に設けられた低屈折率層と組み合わせにより、夫々の屈折率の違いにより光の反射を効率よく防止することができる。
【００３３】
ここで、当該高屈折率層の屈折率は、積層されている他の層との関係で相対的に決定することが好ましく、反射防止多層全体としてのバランスにより反射防止効果を奏するものであるが、一般的に、高屈折率層の屈折率はその屈折率が１．８以上２．４以下（λ＝５５０ｎｍ）であることがより好ましい。高屈折率層は中屈折率層と密着性が良い酸化ケイ素化合物や有機ケイ素化合物を含む膜が好ましいが、本発明において材料を規定するものではなく、中屈折率層上に設けることができれば如何なる材料を用いても良い。例えば、酸化ケイ素化合物層、有機ケイ素化合物層、酸化チタン層、又は、ＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）層、ＩＺＯ層、ＩＸＯ層、Ｎｂ２Ｏ５層、Ｔａ２Ｏ５、ＺｎＳ層等を用いることができる。また、高屈折率層（７）を形成または積層する方法としては、特に指定しないが、プラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル法等のウェットコーティング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法で形成あるいは積層することができる。
【００３４】
次に中屈折率層についてさらに詳しく説明する。中屈折率層は防汚層１５の面に設ける層であり、屈折率１．５以上１．８以下（波長λ＝５５０ｎｍ）が好ましく、膜厚が３０〜３００ｎｍが好ましい。だが、本発明において屈折率、膜厚を規定するものではない。中屈折率層は防汚層と密着性が良い酸化ケイ素化合物や有機ケイ素化合物を含む層が好ましい。酸化ケイ素化合物や有機ケイ素化合物を含む層は、プラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル法等のウェットコーティング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法で形成あるいは積層することができる。中でも好ましいのはプラズマＣＶＤ法であり、膜質、膜厚の制御が容易である点で優れており、防汚層１５面上に酸化ケイ素化合物や有機ケイ素化合物を含む層が容易に形成可能である。ケイ素を含む膜形成において、プラズマＣＶＤ法の出発原料は、前記の物質を使用することができる。  また、本発明に係る酸化ケイ素化合物や有機ケイ素化合物を含む層の形成に際し、屈折率を容易に制御するために、水素ガス、窒素ガス、酸素ガス、Ｎ2Ｏガス、ＮＯ2ガス、Ｎ2Ｏ4ガス、ＮＯガスなどを加えても良い。また、プラズマ放電を安定化させたり、膜密度を制御するために不活性ガス（例えばアルゴンガス、ヘリウムガスなど）を加えてもよい。
【００３５】
（防眩層）防眩層は、層表面の微凹凸、或いは層内部に分散する異屈折率微粒子によって光を拡散（散乱）せしめることによって、ディスプレイ画像のギラツキやチラツキ感を防止するものである。防眩性の光学的性質は、ヘイズ値は、３％以上、好ましくは３〜４０％、より好ましくは５〜３０％である。ヘイズ値が３％未満では防眩性が不足し、ヘイズ値が４０％超過すると光線透過率が悪くなる。６０゜グロスは、１００以下、より好ましくは９０以下、さらに好ましくは５０〜８５である。６０°グロスが１００を超えると反射による表面光沢により防眩性が不十分となる。透過鮮明度は、１００以上、より好ましくは１５０以上、さらに好ましくは２００〜３００である。透過鮮明度が１００未満では視認性が不足する。、全光線透過率は、７０％以上、より好ましくは７５％以上、さらに好ましくは８０〜９５％である。全光線透過率が７０％未満では透明性が不足する。の範囲が防眩性、視認性、光線透過性、透明性などに総合的によい。
【００３６】
（防眩層の形成）防眩層としては公知のものでよく、好ましくはシリカなどの無機フィラーの含む層、又は外光を乱反射する微細な凹凸表面を有する層である。  無機フィラーの含む層としては、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレートなどからなるポリアクリル酸エステル共重合体などのアクリル樹脂、ジエン系樹脂、ポリエステル系樹脂及びシリコン系樹脂などの硬化型樹脂中に、通常平均粒子径が３０μｍ以下、好ましくは２〜１５μｍ程度のシリカ粒子を、樹脂１００質量部に対してシリカ粒子が０．１〜１０質量部程度を分散し、グラビアコート、リバースロールコート、ダイコートなどで、乾燥後の厚さが５〜３０μｍ程度となるように、塗布乾燥し、必要に応じて熱、紫外線又は電子線の照射で硬化させる。
【００３７】
（導電層）導電層としては、公知の金属の透明性薄膜、透明な金属酸化物、又は導電性フィラーを含むコーティング層などが適用できる。  具体的には、例えば、公知の真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法などの方法で形成した金、銀、銅、ニッケル若しくはクロムなどの金属、透明性を保持した酸化スズ、ＩＴＯ若しくはＡＴＯなどの透明な金属酸化物、又は、塗布法によるＩＴＯ若しくはＡＴＯなどのフィラー（粒子）を含有する透明合成樹脂層などである。
【００３８】
（ガスバリア層）ガスバリア層は、公知の真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などの方法で形成した酸化アルミニウム、酸化錫、又は酸化ケイ素などの透明な金属酸化物化合物、塗布法によるポリ塩化ビニリデン、ポリビニールアルコールなどの透明合成樹脂層などである。
【００３９】
（光回折層）光回折層としては、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞が凹凸模様で記録されたホログラムや回折格子が適用できる。ホログラムとしては、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。また、光回折性はないが、微細な凹凸形状の、万線、ヘアーライン、マットなどの模様でもよい。
【００４０】
回折格子としては、ホログラム記録手段を利用したホログラフィック回折格子があげられ、その他、電子線描画装置等を用いて機械的に回折格子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折光が得られる回折格子をあげることもできる。また、機械切削法でもよい。これらのホログラムおよび／または回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。
【００４１】
（光回折層の形成）光回折層の形成方法としては、まず、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画法、機械切削法などの公知の方法で原版を作成する。該原版から、原版の凹凸パターンと鏡像関係（雌型、ネガ型ともいう）にある凹凸パターンである微細な凹凸形成用の、メッキによる金属スタンパ版、又は樹脂スタンパ版を作成する。該スタンパ版を用いて、基材１１／剥離層１３／防汚層１５／の防汚層１５面へ設けた公知の熱硬化型、又は紫外線などの電離放射線硬化型樹脂層をエンボスし、硬化させれば凹凸パターンが賦型されて、光回折効果が発現する。必要に応じて透明反射層を設けると、より一層の回折効果が得られる。
【００４２】
（難燃層）難燃層としては、転写後の物体が高温に暴露された場合や火であぶられた場合において、物体の燃焼を抑制することができる。公知の真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法などの方法で形成した酸化ケイ素などの透明な金属酸化物化合物などである。
【００４３】
（ハードコート層）ハードコート層は、ＪＩＳ−Ｋ５４００の鉛筆硬度試験でＨ以上の硬度を有する層で、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）アクリレートプレポリマー、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート単量体等を単独或いは２種以上混合したものを塗工し、これを、熱又は電離放射線で硬化させる。
【００４４】
（接着層）接着層１９について説明する。粘着層１９は、本発明の機能性層転写フィルム１０に構成されている防汚層１５／機能性層１７を、被転写材側に貼り付けるために用いられるもので、常温で粘着力を持つもの、加熱などの処理によって粘着又は接着力を発現するもの、のいずれでもよく、本明細書では、これらを合わせて接着層と総称する。
【００４５】
また、接着層１９を有しない、基材１１／剥離層１３／防汚層１５／機能性層１７からなる構成も、本発明の機能性層転写フィルム１０の１つに含まれる。この場合、接着層１９を被転写体側へ設けることで、防汚層１５／機能性層１７を、被転写材側に貼り付けることができる。
【００４６】
接着層１９の材料としては、接着性及び／又は粘着性を持てばよく、所謂接着剤、粘着剤、ホットメルトと呼ばれるものも含み、特に規定されるものではない。例えば、アクリル系、エポキシ系、酢酸ビニル系、塩化ビニル系、イソシアネート系、シリコーン系、スチレンーブタジエン系、塩化ビニルー酢酸ビニル系、エチレンー酢酸ビニル系、ポリエステル系、塩化ゴム系、塩素化ポリプロピレン系、ウレタン系などの樹脂を単独で使用、またはこれらの混合物を主成分とするエマルジョン系樹脂や有機溶剤型樹脂、水溶性樹脂などが挙げられる。
【００４７】
（接着層の形成）接着層１９の形成方法としては、上記の樹脂を水や有機溶剤で希釈させた塗布用液体を、通常、グラビア印刷、オフセット印刷、若しくはスクリーン印刷などの印刷方法、又は、ロールコート、バーコート、コンマコート、スプレイコート、若しくは押出しコートなどのコート法で、機能性層１７上に塗布し、その後乾燥又は冷却して、必要に応じて、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂などの硬化性塗膜には硬化処理をして形成されればよい。
【００４８】
本発明の防汚層及び機能性層転写体は、本発明の機能性層転写フィルム１０を用いて、被転写体へ、少なくとも機能性層１７及び防汚層１５が転写され、防汚層１５が最表面になっている。機能性層転写フィルム１０の構成は、基材１１／剥離層１３／防汚層１５／機能性層１７／接着層１９、及び基材１１／防汚層１５／機能性層１７／接着層１９からなり、転写によって、剥離層１３から剥離して、被転写基物体上には接着層１９／機能性層１７／防汚層１５が移行して、防汚層１５が最表面へ露出する。なお、前述のように、機能に影響のない範囲で、剥離層１３／の１部が移行してもよい。
【００４９】
（被転写体）被転写体の材料としては、金属板、ガラス板、セラミックス、可撓性に乏しいプラスチック板などである。もちろん、プラスチックフィルムなどの可撓性のある材料でもよく、特にロールツーロール方式で転写できれば、より効果である。このようにして、防汚層１５が最表面へ露出している部材をテレビ、パソコン、携帯電話等のディスプレイ、カーブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、その他の商業ディスプレイに用いることで、風雨、油又は指紋によって付着する汚れなどを防ぐ防汚性に優れる。
【００５０】
さらに、機能性層が反射防止性及び／又は防眩性であれば、ディスプレイ表面での光反射を防止し、表示された文字や図形その他の情報を容易に読み取れる。また、導電性であれば、ホコリ汚れなどが付着しにくく、情報を読み取りやすく、さらに、外部電磁波を遮蔽して、電子表示装置の誤動作が減少し、水や酸素をバリアするバリア性層であれば、錆などを防止でき、さらにまた、回折格子やホログラムなどの光回折性層であれば、意匠性やセキュリティ性を高め、さらにまた、ハードコート性層であれば、外力による傷を防止する。
【００５１】
本発明の機能性層転写フィルム１０によって、例えばアクリル板へ直接反射防止層を設けることができディスプレイ前面板に、さらには、偏光板作成時にケン化処理を行うが、ケン化処理後にも機能性層を付与可能となる。
【００５２】
（転写方法）本発明の機能性層転写フィルム１０を、被転写体へ転写する転写方法としては、特に限定されることはなく、例えば、平板状の定盤で加圧若しくは加熱加圧したり、機能性層転写フィルム１０を加熱若しくは非加熱のロールで、被転写体へ加圧したりした後に、基材１１を剥離すればよい。また、加圧する平板状の定盤、ロールへ凹凸模様を設けておけば、その模様部分のみを転写し移行させることもできる。
【００５３】
（変形形態）  本発明は、次のように変形して実施することを含むものである。  （１）接着層１９には、波長８００〜１１００ｎｍ程度の近赤外線を吸収する色素（顔料、染料）などの近赤外線吸収剤を含有させるようにして構成してもよい。このようにすると、接着層（近赤外線吸収剤入り）／反射防止層／防汚層が、ガラス又はアクリル樹脂製のＰＤＰディスプレイ用前面板（被転写体）へ転写すると、層構成を増加させることなく、ＰＤＰから発生する近赤外線をシールドでき、ＴＶのリモコンの誤動作を防止できる。
【００５４】
（２）機能性層１７が接着層の塗布を容易にする機能を有するように構成してもよい。所望の接着剤を用いることができるように、例えば酸化ケイ素のような透明な金属酸化物化合物などを下地層としての機能させたものである。基材と接着層の両方に相性の良い材料が適宜選択される。通常の印刷法、プラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル法等のウェットコーティング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法などにより形成する。防汚性を得たいと物体上へ、防汚層のみを転写することが可能となる。
【００５５】
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
【実施例１】
【００５６】
厚さ７５μｍのＰＥＴフィルムを基材として、該基材上へ昭和インク工業の剥離ニス（４６−７−０）をブラビア印刷法で剥離層を形成した。該剥離層上へ、信越化学工業株式会社のトリフルオロプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−７１０３）を出発原料として、先のプラズマＣＶＤ法により防汚層を設けた。該プラズマＣＶＤ法の条件は、高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用い、連続成膜時の走行速度は１０ｍ／ｍｉｎとし、印加電力を１ｋＷ、トリフルオロプロピルトリメトキシシランガス流量を１００ｓｃｃｍ、窒素ガス流量を１００ｓｃｃｍ、成膜圧力を１０Ｐａとした。
該防汚層上へ、プラズマＣＶＤ法により以下に示す４層構成の反射防止層を設けた。該プラズマＣＶＤ法の条件は、高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用い、連続成膜時の走行速度は１０ｍ／ｍｉｎとし、第１層は印加電力を１ｋＷ、酸素ガス流量を１００ｓｃｃｍ、チタンテトライソプロポキシドガス流量を１５０ｓｃｃｍ、成膜圧力を１０Ｐａの条件で成膜した。第２層は印加電力を１ｋＷ、酸素ガス流量を１００ｓｃｃｍ、テトラメトキシシランガス流量を１００ｓｃｃｍ、成膜圧力を１０Ｐａの条件で成膜した。第３層は第１層と同じ条件にて成膜した。第４層は第２層と同じ条件にて成膜した。なお、前記のガス流量単位ｓｃｃｍは、ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｕｂｉｃ  ｃｍ  ｐｅｒ  ｍｉｎｕｔｅのことである。また、使用したチタンテトライソプロポキシドガス原料は、ＧＥＬＥＳＴ．ＩＮＣのチタンテトライソプロポキシド（ＡＫＴ８７２）、テトラメトキシシランガス原料は純正化学株式会社のテトラメトキシシランである。  最後に、該反射防止層上へ、大日本インキ化学工業株式会社の接着層組成物としてヒートシール粘着材（ＴＳ−ＰＣニスＡ）をグラビア印刷法により塗布し、接着層を設け、実施例１の機能性層転写フィルム１０を得た。
【実施例２】
【００５７】
厚さ７５μｍのＰＥＴフィルムを基材として使用し、該基材上へ剥離層を形成せず、該基材上へ実施例１と同様にプラズマＣＶＤ法にて防汚層を設けた。該防汚層上へ、プラズマＣＶＤ法により４層構成の実施例１と同様で設け、さらに該反射防止層面へ、実施例１と同様に接着層を設けて、実施例２の機能性層転写フィルム１０を得た。
【実施例３】
【００５８】
厚さ７５μｍのＰＥＴフィルムを基材として使用し、該基材上へ昭和インク工業の剥離ニス（４６−７−０）をグラビア印刷法により剥離層を形成した。該剥離層上へ、プラズマＣＶＤ法ではなく、信越化学工業株式会社のメタキシレンヘキサフロライド（ＫＰ−８０１Ｍ）を印刷法により塗布し、防汚層を設けた。該防汚層上へ、プラズマＣＶＤ法により４層構成の実施例１と同様で設け、さらに該反射防止層面へ、実施例１と同様に接着層を設けて、実施例３の機能性層転写フィルム１０を得た。
【実施例４】
【００５９】
厚さ７５μｍのＰＥＴフィルムを基材として使用し、該基材上へ剥離層を形成せず、信越化学工業株式会社のメタキシレンヘキサフロライド（ＫＰ−８０１Ｍ）を印刷法により塗布し、防汚層を設けた。該防汚層上へ、プラズマＣＶＤ法により４層構成の実施例１と同様で設け、さらに該反射防止層面へ、実施例１と同様に接着層を設けて、実施例３の機能性層転写フィルム１０を得た。
【実施例５】
【００６０】
実施例１の機能性層転写フィルム１０は、基材（ＰＥＴフィルム）／剥離層／防汚層／反射防止層／接着層、の構成であり、これを被転写体としてＴＡＣフィルム上へ、１００℃の熱板で加圧し、基材を剥離して、実施例５の防汚層及び機能性層転写体を得た。
【実施例６】
【００６１】
実施例１の機能性層転写フィルム１０を用いて、これを被転写体として、携帯電話の液晶ディスプレイに用いるガラス板（可撓性に乏しい）へ、画像表示部分の熱板（１００℃）で加圧し、基材を剥離して、実施例６の防汚層及び機能性層転写体を得た。
【実施例７】
【００６２】
実施例２の機能性層転写フィルム１０は、基材（ＰＥＴフィルム）／防汚層／反射防止層／接着層、の構成であり、これを被転写体としてＴＡＣフィルム上へ、１００℃の熱板で加圧し、基材を剥離して、実施例７の防汚層及び機能性層転写体を得た。
【実施例８】
【００６３】
実施例２の機能性層転写フィルム１０を用いて、これを被転写体として、携帯電話の液晶ディスプレイに用いるガラス板（可撓性に乏しい）へ、画像表示部分の熱板（１００℃）で加圧し、基材を剥離して、実施例８の防汚層及び機能性層転写体を得た。
【実施例９】
【００６４】
実施例３の機能性層転写フィルム１０は、基材（ＰＥＴフィルム）／剥離層／防汚層／反射防止層／接着層、の構成であり、実施例１と同様に、被転写体としてＴＡＣフィルム上へ、１００℃の熱板で加圧し、基材を剥離して、実施例９の防汚層及び機能性層転写体を得た。
【実施例１０】
【００６５】
実施例４の機能性層転写フィルム１０は、基材（ＰＥＴフィルム）／防汚層／反射防止層／接着層、の構成であり、実施例１と同様に、被転写体としてＴＡＣフィルム上へ、１００℃の熱板で加圧し、基材を剥離して、実施例１０の防汚層及び機能性層転写体を得た。
【００６６】
（評価）評価は、防汚性は接触角で、反射防止性は分光反射率で行った。
接触角は、ＪＩＳ−Ｒ３２５７に準じて測定した。  分光反射測定は、ＪＩＳ−Ｋ５６００に準じて測定し、測定機は島津製作所の分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いた。
また、組成分析はＶＧ  Ｓｃｉｅｎｔ社の光電子分光分析装置（ＥＳＣＡＬＡＢ２２０ｉ―ＸＬ）を用いた。さらに、油性マジックインキはペンテル社のペンテルペンの赤色、及び黒色を使用した。
【００６７】
（評価の結果）  実施例１の機能性層転写フィルム１０から、反射防止層及び防汚層は被転写物体（ＴＡＣ）へ容易に転写され、実施例５、６の防汚層及び機能性層転写体が得られた。転写された防汚層及び機能性層転写体の反射防止膜及び防汚層は、反射防止性能が阻害されることなく、被転写物体（ＴＡＣ）の最表面に防汚層が露出して形成することができた。また、得られた反射防止フィルムを、液晶ディスプレイ装置の表面にラミネートした結果、外光の写り込みが少なく、反射防止性に優れていた。
【００６８】
実施例５、６の転写された反射防止膜は、図３に示す反射率で、優れた反射防止特性が備わっていた。また、ＴＡＣフィルムの転写面の接触角を測定すると、１３４度であり、十分な防汚性が認められた。さらに、油性マジックインキにて筆記し、１時間放置した後に布でふき取った場合、１回拭いただけで油性マジックインキが残らずふき取れた。ＴＡＣフィルムの転写面の組成を分析したところ、Ｃ：Ｆ：Ｓｉ：Ｏ＝２１．９：５８．１：３．２：１６．８となり、フッ素が表面に偏在分布していた。
【００６９】
さらに、実施例６の転写された反射防止膜は、液晶表示部分のみに転写され、また、ガラス板も割れや欠けがなく、正常であった。  実施例７、８についても、実施例５、６同様に防汚層及び機能性層転写体が得られた。転写された防汚層及び機能性層転写体の反射防止膜及び防汚層は、反射防止性能が阻害されることなく、被転写物体（ＴＡＣ）の最表面に防汚層が露出して形成することができた。また、得られた反射防止フィルムを、液晶ディスプレイ装置の表面にラミネートした結果、外光の写り込みが少なく、反射防止性に優れていた。
【００７０】
実施例６、７の転写された反射防止膜は、図３に示す反射率で、優れた反射防止特性が備わっていた。また、ＴＡＣフィルムの転写面の接触角を測定すると、１２８度であり、十分な防汚性が認められた。さらに、油性マジックインキにて筆記し、１時間放置した後に布でふき取った場合、１回拭いただけで油性マジックインキが残らずふき取れた。ＴＡＣフィルムの転写面の組成を分析したところ、Ｃ：Ｆ：Ｓｉ：Ｏ＝１７．５：５１．３：５．２：２６となり、フッ素が表面に偏在分布していた。
【００７１】
さらに、実施例８の転写された反射防止膜は、液晶表示部分のみに転写され、また、ガラス板も割れや欠けがなく、正常であった。
【００７２】
実施例９の防汚層及び機能性層転写体をＴＡＣフィルム（被転写材）に転写された反射防止膜は、実施例１と同様の反射率で、優れた反射防止特性が備わっていた。しかし、ＴＡＣフィルムの転写面の接触角を測定すると、７５度であり、防汚性は十分でないが、実用上は支障なかった。さらに、ＴＡＣフィルムの転写面に油性マジックインキにて筆記し、１時間放置した後に布でふき取った場合、５回以上拭いても完全にふき取ることはできなかった。ＴＡＣフィルムの転写面の組成を分析したところ、Ｃ：Ｆ：Ｓｉ：Ｏ＝４４．６：０．２：２．７：３２．７となり、フッ素が表面に偏在分布していなかった。
【００７３】
実施例１０の防汚層及び機能性層転写体をＴＡＣフィルム（被転写材）に転写した場合、基材となるＰＥＴフィルムと防汚層との界面において、剥離しにくかったが、実用上支障はなかった。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
機能性層転写フィルムは、通常、使用されている液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置等の各種ディスプレイ装置、偏光板、タッチパネルの表面だけでなく、簡便な転写技術によって、種々の環境で使用できるので、種々の物品に利用できる。  また、カーブミラー、バックミラーなどの自動車部材、ゴーグルなどのスポーツ用品、窓ガラスなどの建築部材、銀行カード、クレジットカードなどのカード類、看板、商業ディスプレイなどの公告物などにも利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の１実施例を示す機能性転写フィルムの断面図である。
【図２】プラズマＣＶＤ装置を説明する要部を説明図である。
【図３】本発明の１実施例を示す機能性層転写体の反射率のグラフである。
【符号の説明】
【００７６】
１０：機能性層転写フィルム
１１：基材
１３：剥離層
１５：防汚層
１７：機能性層
１９：接着層
２１：真空容器
２３：給紙部
２４：巻取部
２５：ガス導入口
２６：電極
２７：成膜ドラム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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