(57)【要約】【課題】  塗膜が均一でムラ発生がなく、所望の厚みに精密に制御可能で、簡単な設備で塗布可能で、しかも塗布工程から次の工程に移る時間が短く生産性が良い、特に高品質な電子写真感光体を提供することができる塗布方法を提供する。【解決手段】  塗布用の溶液中に、被塗布用の円柱状または円筒状の基体を、その仮想軸線が液面に対して略垂直になるようにして浸漬した後に、該溶液の液面に対して相対的に上昇させてなる塗布方法において、基体の液面に対する上昇速度Ｄ（ｍｍ／分）と、基体の外径Ｄｓ（ｍｍ）、基体上昇中に塗布用の溶液を保持する容器に供給する塗布用溶液の供給速度をＶ（Ｌ／分）とするときに、下記式（１）で表される関係が成り立つことを特徴とする、浸漬塗布方法に存する。        Ｄ＞Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＞０                  （１）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布用の溶液中に、被塗布用の円柱状または円筒状の基体を、その仮想軸線が液面に対して略垂直になるようにして浸漬した後に、該溶液の液面に対して相対的に上昇させてなる塗布方法において、基体の液面に対する上昇速度Ｄ（ｍｍ／分）と、基体の外径Ｄｓ（ｍｍ）、基体上昇中に塗布用の溶液を保持する容器に供給する塗布用溶液の供給速度をＶ（Ｌ／分）とするときに、下記式（１）で表される関係が成り立つことを特徴とする、浸漬塗布方法。
Ｄ＞Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＞０                       （１）
【請求項２】
下記式（２）が成り立つことを特徴とする、請求項１に記載の浸漬塗布方法。
Ｄ＞Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＞０．８Ｄ                （２）
【請求項３】
請求項１または請求項２のいずれかに記載の塗布方法により、感光層を塗布形成することを特徴とする、電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基体表面に液を塗布する方法に関し、更に詳しくは、円柱状または円筒状の基体表面に、ムラなく短時間に塗布液を塗布する、塗布方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基体表面に液を塗布する方法として、塗布用の溶液中に浸漬させた後に上昇させる、浸漬塗布法が知られている。円柱状基体表面に液を塗布する際には、基体をそのまま塗布液に浸漬して、上昇させるだけで容易に表面に塗布することができる。一方、円筒体表面に液を塗布する場合、塗布の必要がない、あるいは、例えば、円筒体内部に可動装置を持つなどの理由により、円筒体内面には液が付着しないようにする必要がある場合がある。円筒状基体の表面に液を塗布し、円筒体内部には塗布液が付着しないようにするために、円筒体内部を把持し、且つ円筒体上端部を密封し、円筒体の仮想軸線が液面に対して略垂直になるようにして浸漬した後に上昇させてなる塗布方法が考えられる。
【０００３】
塗布に要する時間が短く、且つ、基体表面に塗られた液がムラ無く均一となるようにするには、基体を浸漬させる際の速度や上昇させる際の速度、塗布液の供給方法や速度を厳密に制御する必要があるが、従来、塗布液の入った容器に塗布液を常時一定量供給し、該容器から塗布液が常時溢れた状態において、浸漬して塗布する方法（以下これを、ＣＯＦ法ということがある）や（例えば、特許文献１  参照）、被塗布用の基体を塗布液中に浸漬した際にのみ、塗布液が塗布液の入った容器から溢れた状態となる塗布方法（以下これを、ＩＯＦ法ということがある）が知られていた（例えば、特許文献２  参照）。
【特許文献１】特開平５−３３７４１７
【特許文献２】特開２００２−４９１６２
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ＣＯＦ法での塗布では次の問題が発生しやすかった。すなわち、（１）表面張力により塗布液容器端より液面が盛り上がり安定しないため、液面が振動しやすく塗布ムラが出やすい、（２）広面積の液面が常に外気と接するために溶剤が蒸発しがちで液濃度変化による塗布ムラが発生しやすい、（３）基体外径と容器径差が１０ｍｍ以上になると、塗布用の溶液が該溶液を保持している容器から均一に溢れず、塗布ムラが発生しやすい、といった問題があった。
【０００５】
上記問題は、（１）送液装置を脈動しないタイプに変えたり、基体外径にあわせて最適な塗布容器外径を使用すること、（２）溶剤が蒸発しないように外壁を作成し溶剤を溜めたり、（３）塗布中は溢れさせないＩＯＦ法での塗布を実施することで回避することができる。ところが、基体の外径毎に塗布容器を用意したり、必要以上に塗膜が垂れることによる塗膜形状悪化を防止するために塗布中の雰囲気をコントロールする装置を導入したりと設備が大きく複雑になること、またＩＯＦ法においては基体が液面を離脱したときでも、まだ塗布用の溶液を保持する容器内に基体が留まっているために、更に容器から離脱するまで基体を引き上げなければ次の工程に進むことができず、生産性が落ちるという別の問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願発明者らは、浸漬塗布方法における前記の問題点を解決するため鋭意検討した結果、送液速度を調整することにより、塗布中の塗布液を容器から溢れさせることなく、溶液面を塗布容器口元の下、一定の高さに保持することで上記問題が解決されることを見いだ
した。すなわち、（１）塗布液が盛り上がらないために液面振動が少なくなり、（２）容器の口元が外壁の役割を果たし送液速度を調整することで、異なる基体外径や上昇速度に対して溶剤蒸気濃度をコントロールすることが可能になり、（３）液面を塗布容器口元のすぐ下に保持すれば生産性の低下も最小限に押さえることができ、ムラのない均一な塗布が可能で、且つ、塗布終了後、短期間に塗布液容器から基体が離脱することができることを見いだし、本発明に到達した。
【０００７】
すなわち本発明は、塗布用の溶液中に、被塗布用の円柱状または円筒状の基体を、その仮想軸線が液面に対して略垂直になるようにして浸漬した後に、該溶液の液面に対して相対的に上昇させてなる塗布方法において、基体の液面に対する上昇速度Ｄ（ｍｍ／分）と、基体の外径Ｄｓ（ｍｍ）、基体上昇中に塗布用の溶液を保持する容器に供給する塗布用溶液の供給速度をＶ（Ｌ／分）とするときに、下記式（１）で表される関係が成り立つことを特徴とする、浸漬塗布方法に存する。
【０００８】
Ｄ＞Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＞０                （１）
【発明の効果】
【０００９】
本発明の塗布方法によれば、塗膜が均一でムラ発生がなく、所望の厚みに精密に制御可能で、しかも短時間に生産性良く塗布することが可能となる。本発明の塗布方法により、高品質な電子写真感光体を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態につき詳細に説明するが、以下に記載する構成要件の説明は本発明の実施形態の代表例であって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において適宜変形して実施することができる。
＜浸漬塗布方法＞
本発明の浸漬塗布方法では、例えば図１に示すような浸漬装置を用いる。図示した浸漬装置（３）は、塗布液が貯溜され且つ円筒状基体（１）が浸漬される浸漬槽（３０）と、塗布液の循環機構とから主として構成される。浸漬槽（３０）に貯溜される塗布液は、塗布液供給口（３１）から供給されて浸漬槽（３０）の上部からオーバーフローする。受けトイ（３２）にオーバーフローした塗布液は、塗布液タンク（３３）に送られて攪拌された後、供給ポンプ（３４）を介して再び供給される。符号（３５）は、塗布液面での溶媒の蒸発防止のため、浸漬槽（３０）および受けトイ（３２）の上に必要に応じて設けられたフードを示す。
【００１１】
本発明における浸漬塗布では、オーバーフローした場合の塗布液の液面が一定に維持されるような構造の浸漬槽（３０）中に、円筒状基体（１）を垂直に降下させて浸漬し、次いで、円筒状基体（１）を垂直に上昇させて上昇させることにより行う。その際、円筒状基体（１）の下降および上昇速度を制御することにより、円筒状基体（１）の周りの塗布液面の振動を防止し、塗布欠陥（流れムラ）を防止することが出来るが、液面に対する上昇速度Ｄ（ｍｍ／分）と、円筒状基体の外径Ｄｓ（ｍｍ）、上昇中に塗布溶液を保持する容器に供給される塗布液量をＶ（Ｌ／分）とするときに、下記式（１）で表される関係が成り立つようにすることにより、ムラのない均一な塗布を行うことができる。
【００１２】
Ｄ＞Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＞０                （１）
上昇速度Ｄと、円筒状基体の外径Ｄｓ、上昇中に塗布溶液を保持する容器に供給される塗布液量をＶの関係は、基体が液面を離脱した後、塗布液容器から離脱するまでの時間を短くして生産性を上げるために、
Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＞０．８Ｄ
であることが好ましく、より好ましくは、
Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＞０．９Ｄ
であり、特に好ましくは、
Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＞０．９５Ｄ
である。
【００１３】
積層型電子写真感光体を製造する場合、上記の浸漬塗布は、電荷発生層用の塗布液の塗布と、電荷輸送層用の塗布液の塗布とについてそれぞれに実施される。
浸漬塗布から保持台までに至る工程において、円筒状基体の保持および移動は、例えば、図２に示す様なチャック装置を使用して行われる。図示したチャック装置（２）は、昇降可能かつ水平移動可能に構成された水平アーム（２０）と、当該水平アームに垂直に吊持され且つ円筒状基体（１）の筒内に挿入される挿入軸（２１）と、当該挿入軸の外周面に設けられた風船体（２２）とから成る。
【００１４】
風船体（２２）は、挿入軸（２１）に対して少なくとも１箇所に設ければ円筒状基体（１）を保持することができるが、円筒状基体（１）を垂直かつ一層安定に保持するため、好ましくは挿入軸（２１）に対して２箇所に設けられる。これらの風船体（２２）は、挿入軸（２１）の内部に形成された流路を通じて供給される加圧空気などの流体によって膨張させられることにより、円筒状基体（１）をその筒内から保持する。そして、水平アーム（２０）の作動により、風船体（２２）にて保持された円筒状基体（１）が昇降または横移動させられる。チャック装置（２）としては、図２に示すような、いわゆるエア・ピッカー方式の装置の他、円筒状基体の筒内に挿入される挿入軸の周囲に拡縮可能なフィンガーを設けた構造のもの等、各種の構造の装置を採用し得る。
【００１５】
上記処理の後は、図示しないが、チャック装置（２）にて保持した円筒状基体（１）を搬送ラインのパレットに移載して乾燥工程へ送り、円筒状基体（１）の外周面を乾燥させて当該外周面に感光塗膜を形成する。乾燥方法は、従来公知の昇温乾燥法または自然乾燥法によって行う。昇温乾燥法は、空気対流式乾燥装置（熱風式乾燥装置）を使用し、円筒状基体（１）の温度を所定の温度まで昇温して塗布液の乾燥を行う乾燥法である。昇温乾燥法では、いわゆる泡欠陥の発生を防止するため、昇温速度などが制御される。また、自然乾燥法は、カバーでシールされた空間内に円筒状基体（１）を静止させて自然乾燥する方法である。自然乾燥法では、乾燥速度を調整して厚さムラの発生を防止するため、シールド空間内の溶媒蒸気の濃度が制御される。
＜基体＞
本発明の塗布方法のおける被塗布用の基体は、円柱状基体、もしくは内面には塗布しない円筒状基体であれば、材質や形状などに特に制限はないが、アルミニウム、ニッケル、黄銅、ステンレスなどの金属材料、これらの金属箔によるラミネート物、またはこれらの金属による蒸着物があげられる。
【００１６】
また、表面にアルミニウム、銅、パラジウム、酸化すず、酸化インジウム等の導電性層を設けた、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ナイロン、ポリスチレン、フェノール樹脂などの高分子材料、前記の高分子材料等にカーボンブラックのような導電性化合物を混合して導電性を持たせたもの、硬質紙などのその他の材料を円筒状に成形し、金属粉末、カーボンブラック、ヨウ化銅、高分子電解質等の導電性物質を適当なバインダーとともに塗布して導電処理したもの、または酸化スズ、酸化インジウム等の導電性金属酸化物で導電処理したプラスチックドラムなどが挙げられる。
【００１７】
本発明の塗布方法は、特に均一な塗布を必要とする電子写真感光体用基体への塗布に好適に用いられる。該電子写真感光体用の基体としては、上記のいずれの種類のものも用いることが出来るが、なかでもアルミニウム等の金属のエンドレスパイプが好ましい支持体である。特に、アルミニウムまたはアルミニウム合金製の基体が好適に用いられ。該基体
に用いられるアルミニウム材質としては、ＪＩＳで規定されている例えば３０００番台、５０００番台、６０００番台等のアルミニウム合金が適しており、それらの材料の押し出し管、引き抜き管またはそれらを切削加工したものが用いられる。アルミニウム等の金属のエンドレスパイプは、押し出し、引き抜き、しごき等の加工により成形される。成形したものをそのまま用いても良いし、更に切削、研削、研磨などの加工を加えたものでも良い。導電性支持体の表面には、画質に影響のない範囲で、例えば酸化処理や薬品処理等の各種の処理を施すことができる。通常、円筒状基体の外径は１〜２０ｃｍ、長さは２０〜１００ｃｍのものが用いられる。
＜塗布用溶液＞
本発明の塗布方法により塗布するのに好適な溶液としては、塗布することにより塗膜を形成可能なものであればどのようなものでも使用できるが、特に、高度な均一性を有し、塗膜の厚みを精密に制御する必要のある電子写真感光体の感光層を塗布形成する際の溶液が好適である。本発明の塗布方法により、電子写真感光体の感光層を塗布形成するための溶液を塗布することにより、高度に均一な感光層を目的の厚みに精度良く塗布形成することが可能となる。
【００１８】
本発明の塗布方法では、前記基体上に、電子写真感光体が通常有する、たとえば中間層、下引き層、光導電性物質を含有する感光層および／または表面保護層などのいずれの層も形成することができる。これらの層の中でも、通常３μｍ以下の薄膜の層を形成する、下引き層や、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層を積層した積層構造の感光層（以下、積層型感光層ということがある）の電荷発生層の形成に好適に用いることができる。この中でも特に、電荷発生層の塗布形成に好適に用いることができる。
【００１９】
＜塗布液＞
本発明の製造方法における塗布液は、従前知られた方法によって、電荷発生物質や電荷輸送物質等の導電性物質、結着樹脂、金属酸化物や金属化合物等の導電性無機化合物、および／または酸化防止剤等の各種添加材を、有機溶媒中に溶解、または分散することによって得ることができる。
【００２０】
＜電荷発生物質＞
電荷発生物質としては、セレニウムおよびその合金やアモルファスシリコン等の無機系光導電性材料、スーダンレッド、ダイアンブルー、ジエナスグリーンＢ等のアゾ顔料、ジスアゾ顔料、アルゴールイエロー、ピレンキノン等のキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、インドフアーストオレンジトナー等のビスベンゾイミダゾール顔料、銅フタロシアニン等のフタロシアニン顔料、アントアントロン顔料、キナクリドン顔料、ピリリウム塩、アズレニウム塩が挙げられる。
【００２１】
これらの中でも有機顔料、特にフタロシアニン顔料、アゾ顔料を使用することが望ましい。フタロシアニン顔料を使用する場合、具体的には無金属フタロシアニン、銅、インジウム、ガリウム、スズ、チタン、亜鉛、バナジウム、シリコン、ゲルマニウムなどの金属またはその酸化物、ハロゲン化物、水酸化物、アルコキシドなどの配位したフタロシアニン類の各結晶型を持ったものが使用される。更に具体的には、特開昭６３−２５９５７２号公報、特開昭５７−１９５５６７号公報、特開平５−３２９０５号公報記載のアゾ顔料や特開平５−９８１８１号公報、特開平２−８２５６号公報、特開昭６２−６７０９４号公報記載のフタロシアニン顔料などが好ましい例である。
【００２２】
電荷発生物質としてフタロシアニン化合物を用いる場合、具体的には、無金属フタロシアニン、銅、インジウム、ガリウム、錫、チタン、亜鉛、バナジウム、シリコン、ゲルマニウム等の金属、またはその酸化物、ハロゲン化物等の配位したフタロシアニン類が使用
される。３価以上の金属原子への配位子の例としては、上に示した酸素原子、塩素原子の他、水酸基、アルコキシ基などがあげられる。特に感度の高いＸ型、τ型無金属フタロシアニン、Ａ型、Ｂ型、Ｄ型等のチタニルフタロシアニン、バナジルフタロシアニン、クロロインジウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン等が好適である。なお、ここで挙げたチタニルフタロシアニンの結晶型のうち、Ａ型、Ｂ型についてはＷ．ＨｅｌｌｅｒらによってそれぞれＩ相、II相として示されており（Zeit.Kristallogr.159(1982)173)、Ａ型は安定型として知られているものである。Ｄ型は、ＣｕＫα線を用いた粉末Ｘ線回折において、回折角２θ±０．２゜が２７．３゜に明瞭なピークを示すことを特徴とする結晶型である。フタロシアニン化合物は単一の化合物のもののみを用いても良いし、いくつかの混合状態でも良い。ここでのフタロシアニン化合物ないしは結晶状態に置ける混合状態として、それぞれの構成要素を後から混合して用いても良いし、合成、顔料化、結晶化等のフタロシアニン化合物の製造・処理工程において混合状態を生じせしめたものでも良い。このような処理としては、酸ペースト処理・磨砕処理・溶剤処理等が知られている。
【００２３】
＜電荷輸送物質＞
電荷輸送物質としては、主鎖または側鎖にアントラセン、ピレン、フエナントレン、コロネン等の多芳香族化合物またはインドール、カルバゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾール等の含窒素環式化合物の骨格を有する化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノンなどの芳香族ニトロ化合物、テトラシアノキノジメタンなどのシアノ化合物、ジフェノキノン等のキノン類などの電子吸引性物質、カルバゾール誘導体、インドール誘導体、イミダゾール誘導体、オキサゾール誘導体、ピラゾール誘導体、チアジアゾール誘導体などの複素環化合物、アニリン誘導体、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン誘導体、スチルベン誘導体、ブタジエン誘導体およびこれらの化合物が複数結合されたもの、あるいはこれらの化合物からなる基を主鎖もしくは側鎖に有する重合体その他、ヒドラゾン化合物など正孔輸送物質が挙げられる。
【００２４】
＜結着樹脂＞
感光塗膜を形成するための結着樹脂としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、スチレン−メタクリル酸メチルコポリマー、ポリエステル、スチレン−アクリロニトリルコポリマー、ポリサルホン等、ポリアクリロニトリル、ポリビニルブチラール、ポリビニルプロピオナール、ポリビニルアセテート、ポリビニルアセトアセタール、ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ポリアミド、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、珪素樹脂、セルロースエステル、セルロースエーテル、および、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニルアルコール、エチルビニルエーテル等のビニル化合物の重合体および共重合体が挙げられる。これらの樹脂の中から、複数の樹脂を併用してもかまわない。
【００２５】
＜溶媒＞
溶媒、または分散媒としては、揮発性が高く且つその蒸気の密度が空気よりも大きい溶剤が好適に用いられ、例えば、ｎ−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、４−メトキシ−４−メチルペンタノン−２、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、２，４−ペンタジオン、アニソール、３−オキソブタン酸メチル、モノクロルベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，２ージクロロプロパン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスル
ホキシド、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセルソルブアセテート等が挙げられる。これらの溶媒は、１種類単独で使用してもよく、或いは２種類以上を混合して用いても良い。
【００２６】
＜塗布液の物性＞
塗布液中の各成分の濃度、塗布液の粘度は、公知の方法に従って適宜選択される。
例えば、単層型感光体、及び機能分離型感光体の電荷輸送層の場合には、塗布液の固形分濃度を通常５重量％以上、好ましくは１０重量％以上、より好ましくは２０重量％以上であって、通常５０重量％以下、好ましくは４０重量％以下、特に好ましくは３５重量％以下の範囲で用いられる。また、塗布液の粘度は、通常１０ｃｐｓ以上、好ましくは５０ｃｐｓ以上、また、通常５００ｃｐｓ以下、好ましくは４００ｃｐｓ以下の範囲で用いられる。塗膜の膜厚は、１５〜４０μｍとするのがよい。
【００２７】
また、積層型感光体の電荷発生層の場合には、塗布液の固形分濃度は、通常０．１重量％以上、好ましくは１重量％以上、また、通常１５重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で用いる。そして、塗布液の粘度は、通常０．０１ｃｐｓ以上、好ましくは０．１ｃｐｓ以上、また、通常２０ｃｐｓ以下、好ましくは１０ｃｐｓ以下の範囲とする。
【実施例】
【００２８】
以下、本発明を製造例、実施例及び比較例によりさらに詳細に説明する。なお、以下の実施例は本発明を詳細に説明するために示すものであり、本発明はその趣旨に反しない限り、以下に示した製造例及び実施例に限定されるものではない。
実施例１
【００２９】
＜アルミニウム製基体の製造＞
ＪＩＳで規定されている６０６３番のアルミニウム合金を、押し出しにより円筒状に加工した後、引き抜き加工し、更に切削加工して外径６０ｍｍ、長さ３００ｍｍの、アルミニウム製基体を得た。
＜塗布液の製造＞
ＣｕＫα特性Ｘ線に対する粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２°）が、９．３°，１０．６°および２６．３°に強い回折ピークを有する、Ａ型オキシチタニウムフタロシアニン１０重量部を、４−メトキシ−４−メチルペンタノン−２  １５０重量部に加え、サンドグラインドミルで１時間粉砕して微粒化処理を行った。
【００３０】
バインダー樹脂として、ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名デンカブチラール＃６０００Ｃ）の５％  １，２−ジメトキシエタン溶液１００部及びフェノキシ樹脂（ユニオンカーバイド社製、商品名ＰＫＨＨ）の５％  １，２−ジメトキシエタン溶液１００部を混合して、バインダー樹脂溶液を作製した。
先に作製した顔料分散液１６０重量部に、バインダー樹脂溶液１００重量部、適量の１，２−ジメトキシエタンを加え、最終的に固形分濃度４．０％の顔料分散液を調製した。
【００３１】
＜塗布工程＞
前記アルミニウム製基体を、上端部より挿入された風船チャックにより、内面から把持し、直径８０ｍｍ、深さ５００ｍｍの円筒状の容器上端部まで上記顔料分散液を満たした塗布液槽に、略垂直に浸漬し、液面に対する相対上昇速度３００ｍｍ／分、基体上昇中の液供給速度０．８０Ｌ／分として、浸漬塗布を行った。この塗布条件を式（２）にあてはめて計算すると、Ｄ＝３００，Ｖ＝０．８，Ｄｓ＝６０であるので、
Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＝２８３
Ｄ＝３００
０．８Ｄ＝２４０
となり、本発明の式（２）で表される条件を満たすものである。
【００３２】
実施例２
基体の上昇中の液供給速度を０．７０L／分とした以外は、実施例１と同様にして浸漬
塗布を行った。この塗布条件を式（１）にあてはめて計算すると、Ｄ＝３００，Ｖ＝０．７，Ｄｓ＝６０であるので、
Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＝２１２
となり、本発明の式（１）で表される条件を満たすものである。
【００３３】
比較例１
基体の上昇中の液供給速度を１．０L／分とした以外は、実施例１と同様にして浸漬塗
布を行った。この塗布条件を式（１）にあてはめて計算すると、Ｄ＝３００，Ｖ＝１．０，Ｄｓ＝６０であるので、
Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＝３５３
となり、Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6の値は、Ｄ（＝３００）の値を超えるものであって、本発明の塗布方法ではないものである。
【００３４】
比較例２
基体の上昇中に塗布液槽に塗布液を供給しないこと以外は、実施例１と同様にして浸漬塗布を行った。この塗布条件を式（１）にあてはめて計算すると、Ｄ＝３００，Ｖ＝０，Ｄｓ＝６０であるので、
Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6＝０
となり、Ｖ/（１/４（π・Ｄｓ2））×１０6の値は、本発明の塗布方法ではないものである。
［評価］
基体上に形成された塗膜の外観を、目視により評価し、アルミニウム製基体が塗布液に接してから、塗布槽を出るまでの時間（以下、塗布時間ということがある）をストップウォッチで計測した。結果を表−１に示す。
【００３５】
【表１】
2005224743.tif 000002
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】浸漬塗布法を実施するための浸漬装置の一例を示す説明図である。
【図２】円筒状基体を保持するチャック装置の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
【００３７】
１：円筒状基体
２：チャック装置
３：浸漬塗布装置
【図１】
2005224743.tif 000003
【図２】
2005224743.tif 000004