(57)【要約】【課題】  ＴＥモードとＴＭモードでの伝搬損失が大きく異なることが無く、高性能な光デバイスを提供することである。【解決手段】    屈折率がＮ１の第１の基板１と、屈折率がＮ２（Ｎ１とＮ２とは同じでも異なっていても良い。）の第２の基板２と、前記第１の基板１と第２の基板２との間に設けられた屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１，Ｎｃ＞Ｎ２）のコア層３と、前記第１の基板１と第２の基板２との間であって、かつ、前記コア層３の一方の側部に設けられた屈折率がＮ３（但し、Ｎ３＜Ｎｃ）の第１のクラッド層４と、前記第１の基板１と第２の基板２との間であって、かつ、前記コア層３の他方の側部に設けられた屈折率がＮ４（Ｎ４とＮ３とは同じでも異なっていても良い。但し、Ｎ４＜Ｎｃ）の第２のクラッド層５とを具備する対称構造の導波路。【選択図】  図１
2005249995.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈折率がＮ１の第１の基板と、
屈折率がＮ２（Ｎ１とＮ２とは同じでも異なっていても良い。）の第２の基板と、
前記第１の基板と第２の基板との間に設けられた屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１，Ｎｃ＞Ｎ２）のコア層と、
前記第１の基板と第２の基板との間であって、かつ、前記コア層の一方の側部に設けられた屈折率がＮ３（但し、Ｎ３＜Ｎｃ）の第１のクラッド層と、
前記第１の基板と第２の基板との間であって、かつ、前記コア層の他方の側部に設けられた屈折率がＮ４（Ｎ４とＮ３とは同じでも異なっていても良い。但し、Ｎ４＜Ｎｃ）の第２のクラッド層
とを具備することを特徴とする導波路。
【請求項２】
第１の基板と第２の基板とは同質に構成されてなることを特徴とする請求項１の導波路。
【請求項３】
基板は、ガラス基板であることを特徴とする請求項１又は請求項２の導波路。
【請求項４】
基板は、樹脂製基板であることを特徴とする請求項１又は請求項２の導波路。
【請求項５】
基板は、ベース体上に屈折率がＮｃより小さな値の屈折率を持つ材が設けられたものであることを特徴とする請求項１〜請求項４いずれかの導波路。
【請求項６】
ベース体が透明材であることを特徴とする請求項５の導波路。
【請求項７】
ベース体が不透明材ないしは半透明材であることを特徴とする請求項５の導波路。
【請求項８】
第１のクラッド層と第２のクラッド層とは同質に構成されてなることを特徴とする請求項１〜請求項７いずれかの導波路。
【請求項９】
コア層と第１のクラッド層と第２のクラッド層とは、フォトブリーチング材を用いて構成されたものであることを特徴とする請求項１〜請求項８いずれかの導波路。
【請求項１０】
コア層を中心として対称に構成されたものであることを特徴とする請求項１〜請求項９いずれかの導波路。
【請求項１１】
導波路が板状構造のものであることを特徴とする請求項１〜請求項１０いずれかの導波路。
【請求項１２】
屈折率がＮ１の第１の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
前記設けられたフォトブリーチング膜に所定パターンで光を照射し、屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１）のコア層部と該コア層部の側部に位置するＮｃより小さな屈折率のクラッド層部とを構成する光照射工程と、
前記フォトブリーチング膜上に屈折率がＮ２（但し、Ｎ２＜Ｎｃ）の第２の基板を設ける工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法。
【請求項１３】
請求項１〜請求項１１いずれかの導波路の製造方法であって、
屈折率がＮ１の第１の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
前記設けられたフォトブリーチング膜に所定パターンで光を照射し、屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１）のコア層部と該コア層部の側部に位置するＮｃより小さな屈折率のクラッド層部とを構成する光照射工程と、
前記フォトブリーチング膜上に屈折率がＮ２（但し、Ｎ２＜Ｎｃ）の第２の基板を設ける工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法。
【請求項１４】
第２の基板を設ける工程が光照射工程の前であることを特徴とする請求項１２又は請求項１３の導波路の製造方法。
【請求項１５】
第２の基板を設ける工程が光照射工程の後であることを特徴とする請求項１２又は請求項１３の導波路の製造方法。
【請求項１６】
屈折率がＮ１の第１の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
屈折率がＮ２（Ｎ１とＮ２とは同じても異なっていても良い。）の第２の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
前記フォトブリーチング膜が設けられた第１の基板と前記フォトブリーチング膜が設けられた第２の基板とをフォトブリーチング膜同士が接合されるよう接合する接合工程と、
前記接合工程の後、フォトブリーチング膜に所定パターンで光を照射し、屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１，Ｎｃ＞Ｎ２）のコア層部と該コア層部の側部に位置するＮｃより小さな屈折率のクラッド層部とを構成する光照射工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法。
【請求項１７】
請求項１〜請求項１１いずれかの導波路の製造方法であって、
屈折率がＮ１の第１の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
屈折率がＮ２（Ｎ１とＮ２とは同じても異なっていても良い。）の第２の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
前記フォトブリーチング膜が設けられた第１の基板と前記フォトブリーチング膜が設けられた第２の基板とをフォトブリーチング膜同士が接合されるよう接合する接合工程と、
前記接合工程の後、フォトブリーチング膜に所定パターンで光を照射し、屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１，Ｎｃ＞Ｎ２）のコア層部と該コア層部の側部に位置するＮｃより小さな屈折率のクラッド層部とを構成する光照射工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に、フォトブリーチングポリマを用いた導波路に関する。中でも、対称構造で偏波依存性が少なく、光学特性が安定したフォトブリーチングポリマ導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、フォトブリーチング用ポリマ材料を用いた導波路として、図１０に示す構造のものが報告されている。尚、図１０は導波路の断面図を示したものである。この導波路は、基板２０の上に低屈折率Ｎｂの下部クラッド層２１が設けられ、下部クラッド層２１の上にフォトブリーチング用のポリマ層からなる矩形状で高屈折率Ｎｃのコア層２２とコア層２２の両側面に低屈折率Ｎｓの側面クラッド層２３，２４とが設けられ、これらコア層２２や側面クラッド層２３，２４の上に低屈折率Ｎｂの上部クラッド層２５が設けられた構造である。
そして、この導波路は次のようにして作製されている。すなわち、先ず、図１１に示される如く、基板２０の上に低屈折率Ｎｂの下部クラッド層２１を設ける。そして、下部クラッド層２１上に屈折率がＮｐのフォトブリーチング用ポリマ層２６を設ける。このフォトブリーチング用ポリマ層２６は、例えばフォトブリーチング用ポリマの溶液をスピンコーテイングによって塗布し、その後で加熱することによって得られる。次に、図１２に示される如く、フォトブリーチング用ポリマ層２６の上にフォトマスク２７を配し、そしてフォトマスク２７上から光（紫外線）を照射する。そうすると、フォトマスク２７のパターンによって、光が照射される領域と、光が照射されない領域とが出来る。そして、光が照射されない領域におけるフォトブリーチング用ポリマ層２６には変質が起きないものの、光が照射された領域のフォトブリーチング用ポリマ層２６には変質が起きる。すなわち、光未照射領域のフォトブリーチング用ポリマ層２６の屈折率は、光照射の前後で変化の無いＮｃであるものの、光照射領域のフォトブリーチング用ポリマ層２６の屈折率は、光照射により低下した低屈折率Ｎｓのものになる。そして、光未照射領域の屈折率がＮｃの部分がコア層２２となり、光信号が伝搬するものとなる。光照射後に、フォトマスク２７を取り除くと、図１３に示されるものとなる。この後、光照射で出来た高屈折率Ｎｃのコア層２２と低屈折率Ｎｓの側面クラッド層２３，２４との上の全面に、低屈折率Ｎｂの上部クラッド層２５を設けることによって、図１０に示される導波路が得られる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、上記のフォトブリーチングポリマを用いた導波路には、次のような問題の有ることが判って来た。
（１）  図１０からも判る通り、導波路構造は厚み方向において非対称である。従って、周囲の温度変化により、光学特性が変化する。特に、ＴＥモードとＴＭモードでの伝搬損失が異なるという問題が判って来た。この為、高性能な光デバイスの実現が難しい。
（２）  湿度の変化によっても、光学特性に変動が認められる。
（３）  耐環境性に問題があり、長期的な信頼性に問題が有る。
（４）  パッケージ内に実装するに際して、導波路を切断・研磨しなければならない。しかしながら、切断や研磨が非常に難しい。特に、切断後における導波路の端面を鏡面加工することが極めて難しい。更には、切断・研磨に際して、導波路が水を被ると、光学特性が劣化してしまう。
【０００４】
従って、本発明が解決しようとする課題は、上記の問題を大きく解決することである。特に、フォトブリーチング材を用いて構成する導波路において、上記の問題を大きく解決することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記の課題は、屈折率がＮ１の第１の基板と、
屈折率がＮ２（Ｎ１とＮ２とは同じでも異なっていても良い。）の第２の基板と、
前記第１の基板と第２の基板との間に設けられた屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１，Ｎｃ＞Ｎ２）のコア層と、
前記第１の基板と第２の基板との間であって、かつ、前記コア層の一方の側部に設けられた屈折率がＮ３（但し、Ｎ３＜Ｎｃ）の第１のクラッド層と、
前記第１の基板と第２の基板との間であって、かつ、前記コア層の他方の側部に設けられた屈折率がＮ４（Ｎ４とＮ３とは同じでも異なっていても良い。但し、Ｎ４＜Ｎｃ）の第２のクラッド層
とを具備することを特徴とする導波路によって解決される。
【０００６】
特に、屈折率がＮ１の第１の基板と、
屈折率がＮ２（Ｎ１とＮ２とは同じでも異なっていても良い。）の第２の基板と、
前記第１の基板と第２の基板との間に設けられた屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１，Ｎｃ＞Ｎ２）のコア層と、
前記第１の基板と第２の基板との間であって、かつ、前記コア層の一方の側部に設けられた屈折率がＮ３（但し、Ｎ３＜Ｎｃ）の第１のクラッド層と、
前記第１の基板と第２の基板との間であって、かつ、前記コア層の他方の側部に設けられた屈折率がＮ４（Ｎ４とＮ３とは同じでも異なっていても良い。但し、Ｎ４＜Ｎｃ）の第２のクラッド層
とを具備し、
更に前記第１の基板と第２の基板とは同質に構成および／または前記第１のクラッド層と第２のクラッド層とは同質に構成されてなることを特徴とする導波路によって解決される。
【０００７】
中でも、上記の導波路において、コア層を中心として対称に構成した導波路によって解決される。
【０００８】
更には、上記の導波路において、コア層と第１のクラッド層と第２のクラッド層とは同じフォトブリーチング材を用いて構成された導波路によって解決される。
【０００９】
又、本発明の導波路は、特に、板状構造のものである。つまり、板状のものが積層された構造のものである。尚、本明細書においては、幅が狭いものに切断されていて、板状であるとは言い難くとも、幅に比べて厚さが短いものは、板状のものと考える。
【００１０】
本発明の導波路において、基板としては各種のものを用いることが出来る。例えば、透明なガラス基板を用いることが出来る。但し、従来用いられて来た石英ガラス板のみならず、所謂、多成分系のガラス板を用いることも出来る。そして、多成分系のガラス板を用いた場合には、安価であるとか、加工し易い特長が有る。又、前記のような無機ガラス板のみならず、透明な有機樹脂を用いることも出来る。特に、フィルム状の薄膜を用いることも出来る。そして、透明材のみならず、半透明材でも不透明材でも用いることが出来る。すなわち、透明材とか半透明材とか不透明材などのベース体上に、屈折率がＮｃより小さな値の屈折率を持つ材が設けられたものを用いることも出来る。
【００１１】
又、前記の課題は、屈折率がＮ１の第１の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
前記設けられたフォトブリーチング膜に所定パターンで光を照射し、屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１）のコア層部と該コア層部の側部に位置するＮｃより小さな屈折率のクラッド層部とを構成する光照射工程と、
前記フォトブリーチング膜上に屈折率がＮ２（但し、Ｎ２＜Ｎｃ）の第２の基板を設ける工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法によって解決される。
【００１２】
特に、上記の導波路の製造方法であって、
屈折率がＮ１の第１の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
前記設けられたフォトブリーチング膜に所定パターンで光を照射し、屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１）のコア層部と該コア層部の側部に位置するＮｃより小さな屈折率のクラッド層部とを構成する光照射工程と、
前記フォトブリーチング膜上に屈折率がＮ２（但し、Ｎ２＜Ｎｃ）の第２の基板を設ける工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法によって解決される。
【００１３】
尚、上記製造方法において、第２の基板を設ける工程は、光照射工程の前とすることも、後とすることも出来る。光照射工程の前に第２の基板を設ける場合には、光照射は基板を透過した光によって行われる。従って、この場合には、基板として透明材を用いなければならない。光照射の後で第２の基板を設ける場合には、基板を透過しない光照射（直接照射）でも、基板を透過する光照射でも良い。従って、フォトブリーチング膜を直接照射する場合には、基板が透明材でなくても良く、基板に対する制約が少ない。
【００１４】
又、屈折率がＮ１の第１の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
屈折率がＮ２（Ｎ１とＮ２とは同じても異なっていても良い。）の第２の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
前記フォトブリーチング膜が設けられた第１の基板と前記フォトブリーチング膜が設けられた第２の基板とをフォトブリーチング膜同士が接合されるよう接合する接合工程と、
前記接合工程の後、フォトブリーチング膜に所定パターンで光を照射し、屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１，Ｎｃ＞Ｎ２）のコア層部と該コア層部の側部に位置するＮｃより小さな屈折率のクラッド層部とを構成する光照射工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法によって解決される。
【００１５】
特に、上記の導波路の製造方法であって、
屈折率がＮ１の第１の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
屈折率がＮ２（Ｎ１とＮ２とは同じても異なっていても良い。）の第２の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、
前記フォトブリーチング膜が設けられた第１の基板と前記フォトブリーチング膜が設けられた第２の基板とをフォトブリーチング膜同士が接合されるよう接合する接合工程と、
前記接合工程の後、フォトブリーチング膜に所定パターンで光を照射し、屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１，Ｎｃ＞Ｎ２）のコア層部と該コア層部の側部に位置するＮｃより小さな屈折率のクラッド層部とを構成する光照射工程
とを具備することを特徴とする導波路の製造方法によって解決される。
【発明の効果】
【００１６】
図１からも判る通り、厚み方向において対称である。従って、周囲の温度変化に対して、光学特性が安定している。特に、ＴＥモードとＴＭモードでの伝搬損失が異なるという問題が起き難い。すなわち、偏光依存性が殆ど無い。この為、高性能な光デバイスが実現される。
【００１７】
フォトブリーチングポリマからなるコア層は基板でサンドイッチ状に挟まれているので、気密性が保持され、耐環境性に優れている。かつ、劣化の恐れが小さい。
【００１８】
又、基板でサンドイッチ構造に挟持されているので、導波路の表面が平らであり、パッケージ内への実装が容易である。
【００１９】
又、フォトブリーチング膜にフォトマスクを介して光を照射して所定パターンの導波路を形成するに際して、例えば基板側にフォトマスクを配置した場合、即ち、基板側から露光する場合、フォトブリーチング膜の表面の汚染や不純物の付着、更には傷付き等が起き難く、導波路の伝搬損失の劣化が起き難い。
【００２０】
特に、フォトブリーチング膜を基板で挟んだ状態で露光する場合、フォトブリーチング膜の形状変化が抑制され、構造寸法を精確に制御した導波路が得られる。
【００２１】
又、基板の上に低屈折率のクラッド層が設けられていると、光学特性を安定に保つことが出来る。
【００２２】
又、基板としてガラス基板を用いる場合、ガラス基板としてコア層の側部に位置する側面クラッド層の屈折率とほぼ等しい屈折率のガラスを用いることが出来、このようなガラス材料として多成分系のガラスを用いることが出来る。このような多成分系のガラスは、これまでに用いられて来た石英ガラスに比べて、安価である。従って、安価な導波路を実現できる。
【００２３】
更には、多成分系のガラス基板は切断や研磨が容易である。従って、導波路を所望形状に加工するのが極めて容易で、かつ、低価格で実現できる。特に、導波路端面を高精度に加工することが出来る。従って、光ファイバや光部品を結合するに際して、極めて効率良く、かつ、高精度で結合できる。
【００２４】
又、導波路を作製後に、基板の外表面にＵＶカット膜、即ち、フォトブリーチング膜に影響する光のカット膜を、例えば塗布や貼り付けによって設けておくと、長期的に安定した光学特性の導波路となる。
【００２５】
又、基板として樹脂フィルムのような有機樹脂材を用いた場合、フレキシブルな導波路が得られる。
【００２６】
そして、フォトブリーチング膜と基板との接着性が悪くても、フォトブリーチング膜、即ち、コア層とクラッド層との両側に基板が有って、基板によってコア層とクラッド層とがサンドイッチ状に挟まれているから、コア層が剥離し難い。例えば、温度変動が起きても、コア層は剥離し難い。特に、基板同士を圧着、陽極接合、接着剤などで貼り合わせて接合している場合、その特長は一段と向上する。
【００２７】
又、第１の基板上にフォトブリーチング膜を設けると共に第２の基板上にフォトブリーチング膜を設け、これらフォトブリーチング膜が設けられた基板同士を接合してマルチモードの導波路を構成する場合、該膜を構成する溶液を塗布するにしても、一層塗布した後、乾燥し、その後で、再度、塗布し、乾燥すると言った工程を経る必要が無く、スピーディに製作できる。すなわち、フォトブリーチング膜を設けた第１の基板とフォトブリーチング膜を設けた第２の基板とは、同一のもので良いから、言わば、フォトブリーチング膜は一層だけ設けるものに相当し、それだけ簡単、かつ、迅速に得られる。かつ、塗膜の上に塗布すると言う工程を経ないで済むから、溶媒によって塗膜が侵される恐れが無く、即ち、フォトブリーチング膜に損傷が起き難い。特に、重ね塗りする場合には、層間に不均一な層が形成されないように行うのは極めて難しいものの、このような問題を避けることが出来る。
【００２８】
又、導波路はガラス基板のような硬質材でサンドイッチ状に挟まれていると、切断や研磨が容易であり、かつ、導波路端面を鏡面状態に加工することも容易である。そして、導波路端面に光ファイバを低損失で、かつ、高機械的強度で接続できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明の導波路、特に、平板状の導波路は、屈折率がＮ１の第１の基板と、屈折率がＮ２（Ｎ２≠Ｎ１でも良いが、特にはＮ２＝Ｎ１）の第２の基板と、前記第１の基板と第２の基板との間に設けられた屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１，Ｎｃ＞Ｎ２）のコア層と、前記第１の基板と第２の基板との間であって、かつ、前記コア層の一方の側部に設けられた屈折率がＮ３（Ｎ３＜Ｎｃ。特に、Ｎ３＝Ｎ１）の第１のクラッド層と、前記第１の基板と第２の基板との間であって、かつ、前記コア層の他方の側部に設けられた屈折率がＮ４（Ｎ４＜Ｎｃ。Ｎ４≠Ｎ３でも良いが、特にはＮ４＝Ｎ３）の第２のクラッド層とを具備する。ここで、第１の基板と第２の基板とは、特に、同じ材料で構成されている。厚さも同じである。又、第１のクラッド層と第２のクラッド層とは、特に、同じ材料で構成されている。厚さも同じである。そして、上記の導波路において、コア層を中心として対称に構成されている。又、コア層と第１のクラッド層と第２のクラッド層とは共通のフォトブリーチング材を用いて構成されている。すなわち、フォトブリーチング材を露光することで構成される。基板としては各種のものが用いられる。例えば、透明なガラス基板を用いることが出来る。ガラス基板としては、所謂、多成分系のガラス板が用いられる。勿論、無機ガラスのみならず、透明な有機樹脂を用いることも出来る。特に、フィルム状の薄膜を用いることも出来る。そして、透明材のみならず、半透明材でも不透明材でも用いることが出来る。すなわち、半透明材とか不透明材などを用いた場合には、このような半透明材とか不透明材のベース体上に、屈折率がＮｃより小さな値の屈折率を持つ材が設けられたものを用いれば良い。
【００３０】
本発明になる導波路の製造方法は、屈折率がＮ１の第１の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、前記設けられたフォトブリーチング膜に所定パターンで光を照射し、屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１）のコア層部と該コア層部の側部に位置するＮｃより小さな屈折率のクラッド層部とを構成する光照射工程と、前記フォトブリーチング膜上に屈折率がＮ２（但し、Ｎ２＜Ｎｃ）の第２の基板を設ける工程とを具備する。特に、上記の導波路の製造方法である。この製造方法において、第２の基板を設ける工程は、光照射工程の前でも後でも良い。光照射工程の前に第２の基板を設ける場合には、光照射は基板を透過した光によって行われる。従って、この場合には、基板として透明材を用いる。光照射の後で第２の基板を設ける場合には、基板を透過しない光照射（直接照射）でも、基板を透過する光照射でも良い。
【００３１】
又、本発明になる導波路の製造方法は、屈折率がＮ１の第１の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、屈折率がＮ２の第２の基板上にフォトブリーチング膜を設ける成膜工程と、前記フォトブリーチング膜が設けられた第１の基板と前記フォトブリーチング膜が設けられた第２の基板とをフォトブリーチング膜同士が接合されるよう接合する接合工程と、前記接合工程の後、フォトブリーチング膜に所定パターンで光を照射し、屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１，Ｎｃ＞Ｎ２）のコア層部と該コア層部の側部に位置するＮｃより小さな屈折率のクラッド層部とを構成する光照射工程とを具備する。特に、上記の導波路の製造方法である。
【００３２】
以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
【実施例】
【００３３】
図1は、本発明になる導波路の第1実施例を示す断面図である。
【００３４】
図１中、１は屈折率がＮ１の第１の基板である。２は屈折率がＮ１の第２の基板である。すなわち、基板１と基板２とは、同じ屈折率で同じ厚さの板状の基板である。ここで、基板１，２は、例えば安価なカバーグラス用の硼珪酸ガラス（屈折率：１．５２７、波長：６３３ｎｍ）やソーダ石灰ガラス（屈折率：１．５１４、波長：６３３ｎｍ）が用いられる。
【００３５】
３は、第１の基板１と第２の基板２との間にサンドイッチ状に挟まれて設けられた屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１）のコア層である。
【００３６】
４は、第１の基板１と第２の基板２との間にサンドイッチ状に挟まれ、かつ、前記コア層３の一方の側部に設けられた屈折率がＮ３の第１のクラッド層である。
【００３７】
５は、第１の基板１と第２の基板２との間にサンドイッチ状に挟まれ、かつ、前記コア層３の他方の側部に設けられた屈折率がＮ３の第２のクラッド層である。
【００３８】
コア層３と第１のクラッド層４と第２のクラッド層５とは、全てが同じ厚さである。そして、同一のフォトブリーチングポリマを用い、これに紫外線照射することで構成されたものである。ここでは、フォトブリーチングポリマとして、ポリシラン、ポリシランにシリコーンを添加した材料が用いられる。ポリシランを用いた場合においては、２５０℃で加熱処理すると、屈折率Ｎｃは１．６１０（波長：６３３ｎｍ）であり、３００℃で加熱処理すると、屈折率Ｎｃは１．５８２（波長：６３３ｎｍ）である。そして、これを紫外線で露光すると、２５０℃で加熱処理した場合の露光部における屈折率Ｎ３（波長：６３３ｎｍ）は１．５３７と低下し、又、３００℃で加熱処理した場合の露光部における屈折率Ｎ３（波長：６３３ｎｍ）は１．５３６と低下している。すなわち、露光により、コア層３とクラッド層４，５との間の屈折率の差を１〜４．５％程度のものと出来る。尚、コア層３と基板１，２との間の屈折率の差を２．５５〜５．１５％程度のものと出来る。
【００３９】
次に、図１に示される上下方向の二等分位置において上下対称（更には、左右方向の二等分位置において左右対称）な第１実施例の導波路の製造方法について説明する。
【００４０】
先ず、図２に示される如く、屈折率がＮ１の第１の基板１の上にフォトブリーチングポリマ含有溶液（例えば、ポリシランをキシレンで溶いた溶液）をスピンコーテイング法により塗布し、そして例えば１２０℃程度でプリベークを行った後、３００℃でポストベークを行い、所定厚さのフォトブリーチングポリマ膜６を設ける。尚、フォトブリーチングポリマ膜６の厚さは、スピンコーテイングの際の回転数やポリマ溶液の濃度などの調整で制御できる。例えば、フォトブリーチングポリマ膜６の厚さとして１４μｍのものを得た。
【００４１】
この後、図３に示される如く、フォトブリーチングポリマ膜６上にフォトマスク７を配置し、そして紫外線（例えば、波長３３０ｎｍ付近に吸収ピークを持つ紫外線）を照射する。
【００４２】
この紫外線照射後にフォトマスク７を取り除くと、図４に示される如く、フォトブリーチングポリマ膜６の紫外線照射部分は屈折率が低下し、クラッド層４，５となり、クラッド層４とクラッド層５との間の紫外線未照射部分は屈折率がそのままのコア層３が出来ているものとなる。
【００４３】
この後、クラッド層４−コア層３−クラッド層５の上に屈折率がＮ１の第２の基板を設けることによって、図１に示される導波路が得られる。
【００４４】
そして、上記のようにして得た導波路について、この導波路の一方の端面から波長１５５０ｎｍの光信号を入力し、他方の端面からの出射光を検出することによって、導波路の損失を評価した。その結果、損失はＴＥモードで０．１ｄＢ／ｃｍ，ＴＭモードで０．１１ｄＢ／ｃｍであった。
【００４５】
本実施例の導波路は、次のようにしても得られる。
【００４６】
すなわち、先ず、図２と同様にしてフォトブリーチングポリマ膜６が設けられた第１の基板１を用意する。
【００４７】
次に、図５に示される如く、フォトブリーチングポリマ膜６に対して第２の基板２を接合する。
【００４８】
この後、図６に示される如く、一方のガラス基板、例えば基板２上にフォトマスク７を配置し、そして紫外線を照射し、基板２を透過した紫外線でフォトブリーチングポリマ膜６を露光する。
【００４９】
この紫外線照射後にフォトマスク７を取り除くと、図１に示される如くの導波路が得られる。
【００５０】
このようにして導波路を製作した場合、露光時にフォトマスク７等でフォトブリーチングポリマ膜６が汚染されたり損傷したりすることが無い特長を有する。但し、本方法は、光が基板を透過できることが前提となるから、基板として不透明材を選択することが出来ない。
【００５１】
図７は、本発明になる導波路の第２実施例を示す断面図である。
【００５２】
図７中、１は屈折率がＮ１の第１の基板である。２は屈折率がＮ１の第２の基板である。尚、基板１と基板２とは、同じ屈折率で同じ厚さの板状のガラス基板であり、前記実施例で述べた材料と同様な材料で構成される。
【００５３】
３ａ，３ｂは、第１の基板１と第２の基板２との間にサンドイッチ状に挟まれて設けられた屈折率がＮｃ（但し、Ｎｃ＞Ｎ１）のコア層である。
【００５４】
４ａ，４ｂは、第１の基板１と第２の基板２との間にサンドイッチ状に挟まれ、かつ、前記コア層３ａ，３ｂの一方の側部に設けられた屈折率がＮ３の第１のクラッド層である。
【００５５】
５ａ，５ｂは、第１の基板１と第２の基板２との間にサンドイッチ状に挟まれ、かつ、前記コア層３ａ，３ｂの他方の側部に設けられた屈折率がＮ３の第２のクラッド層である。
【００５６】
コア層３ａと第１のクラッド層４ａと第２のクラッド層５ａとは、全てが同じ厚さである。又、コア層３ｂと第１のクラッド層４ｂと第２のクラッド層５ｂとは、全てが同じ厚さである。そして、コア層３ａと第１のクラッド層４ａと第２のクラッド層５ａは、同一のフォトブリーチングポリマを用い、これに紫外線照射することで構成されたものである。又、コア層３ｂと第１のクラッド層４ｂと第２のクラッド層５ｂは、同一のフォトブリーチングポリマを用い、これに紫外線照射することで構成されたものである。勿論、これらのフォトブリーチングポリマが同一で構成されたものでも良く、本実施例では一種類のフォトブリーチングポリマで構成されている。すなわち、上記実施例で用いたのと同じフォトブリーチングポリマで構成されている。
【００５７】
本実施例のものは、光が伝播されるコア層がコア層３ａとコア層３ｂとで構成され、一層のみの場合の倍の厚さになっているから、所謂、マルチモード導波路となっている。
【００５８】
本実施例の導波路の製造方法は次の通りである。すなわち、途中までは前記実施例と同様に行われる。すなわち、図２、図３、図４までは同様に行われる。そして、図４で得られたものを、第１のクラッド層４ａ−コア層３ａ−第２のクラッド層５ａと第１のクラッド層４ｂ−コア層３ｂ−第２のクラッド層５ｂとが突き合わされるように接合し、一体化することによって、図７に示される導波路が得られる。
【００５９】
図８は、本発明になる導波路の第３実施例を示す断面図である。
【００６０】
本実施例と第１実施例との相違点は、本実施例にあっては、基板１，２の表面に下部クラッド層８，９を設けたことに過ぎない。従って、同一部分には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００６１】
尚、下部クラッド層８，９は、その屈折率がクラッド層４，５の屈折率と同じであるように構成されている。このような下部クラッド層８，９は、クラッド層４，５と同じフォトブリーチングポリマ膜を設け、そして同じように紫外線照射することによって構成される。それ以外にも、シリコーン材料などのポリマ材料や、ＳｉＯ２層，ＳｉＯ２中に屈折率制御用添加剤を添加した層などの無機材料で構成することも出来る。
【００６２】
本実施例では、基板１，２として透明なガラス基板を用いた場合で説明したが、下部クラッド層８，９が設けられたことから、基板１，２として不透明材や半透明材であっても良い。
【００６３】
図９は、本発明になる導波路の第４実施例を示す断面図である。
【００６４】
本実施例にあっては、第２実施例の構造と第３実施例の構造とが共に採用された場合のものである。従って、同一部分には同一符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００６５】
その他にも、基板１，２としてプラスチック基板を用いる場合も有る。更には、目的に応じて、Ｓｉ，ＧａＡｓ等の半導体基板や、セラミック基板、強誘電体基板などを用いる場合も有る。又、石英系のガラス基板（石英ガラス、バイコールガラスなど）を用いることも出来る。
【００６６】
又、上記構造の導波路に対して、その表面にＵＶカット材などの光カット材を設け、コア層が変質し難いようにしておくことは好ましいことである。
又、基板を接合する場合、特に圧着により固着する場合は、真空雰囲気下で圧着すると、密着性が向上し、気密性が一層高まり、均一に接合できる。かつ、層間に気泡が混入し難くなる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】第1実施例になる導波路の断面図
【図２】第1実施例になる導波路の製造工程の説明図
【図３】第1実施例になる導波路の製造工程の説明図
【図４】第1実施例になる導波路の製造工程の説明図
【図５】第1実施例になる導波路の他の製造方法での工程の説明図
【図６】第1実施例になる導波路の他の製造方法での工程の説明図
【図７】第２実施例になる導波路の断面図
【図８】第３実施例になる導波路の断面図
【図９】第４実施例になる導波路の断面図
【図１０】従来の導波路の断面図
【図１１】従来の導波路の製造工程の説明図
【図１２】従来の導波路の製造工程の説明図
【図１３】従来の導波路の製造工程の説明図
【符号の説明】
【００６８】
１    第１の基板
２    第２の基板
３    コア層
４    第１のクラッド層
５    第２のクラッド層
６    フォトブリーチングポリマ膜
７    フォトマスク
代理人  宇  高    克  己
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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