(57)【要約】【目的】  比較的小規模小型な研磨装置に適した研磨廃液の処理方法を提供することを目的とする。  【構成】  研磨廃液の処理において、研磨廃液２に高分子吸水剤５を投入して攪拌処理し固化する固化工程３を含むことを特徴とする。【選択図】            図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨廃液に高分子吸水剤を投入して攪拌処理し固化する固化工程を含むことを特徴とする研磨廃液の処理方法。
【請求項２】
前記固化工程で固化した固化廃液を集めて集積する集積工程と、
この集積工程で集められた前記固化廃液に食塩などのナトリウム塩を混入して攪拌し再液化する再液化工程と、
この再液化工程で再液化した再液化廃液を最終処理する最終廃液処理工程と
を有することを特徴とする請求項１に記載の研磨廃液の処理方法。
【請求項３】
前記最終廃液処理工程には、凝集沈殿法、ろ過分離法又は遠心分離法などの固液分離工程が含まれることを特徴とする請求項２に記載の研磨廃液の処理方法。
【請求項４】
前記高分子吸水剤は澱粉系又はアクリル系高分子であることを特徴とする請求項１乃至請求項３に記載の研磨廃液の処理方法。
【請求項５】
前記高分子吸水剤はアクリル酸、アクリルアミド、アクリル酸ナトリウム及びアクリルニトリルからなる群から選ばれる一種又は複数種のグラフト重合体又はこれらから選ばれる一種又は複数種と橋かけ剤との橋かけ重合体であることを特徴とする請求項１乃至請求項４に記載の研磨廃液の処理方法。
【請求項６】
前記研磨廃液に対する前記高分子吸水剤の添加量が０．１〜５０重量％であることを特徴とする請求項１乃至請求項５に記載の研磨廃液の処理方法。
【請求項７】
前記研磨廃液は光ディスクの修復、クリーニング研磨時の研磨廃液であることを特徴とする請求項１乃至請求項６に記載の研磨廃液の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は研磨廃液の処理方法に関し、ことに廃液をゼラチン状に固形化して処理する処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、地球環境の保護の取り組みが強化される中で、各種製造工程の中で発生する廃液の処理に関しても、種々の処理方法が検討され、また、種々の規制が規定され始めている。たとえば、研磨工程から生まれる研磨剤と研磨屑が水や溶剤に含まれた研磨廃液についても、その処理が問題となる。
【０００３】
半導体製造工程などでの研磨廃液の大規模な処理では、凝集剤を添加して混和して凝集したり電気分解によって凝集するなどの方法で凝集生成物（フロック）を大きく成長させて沈殿させる凝集沈殿法（例えば特許文献１参照。）や、ＲＯ（逆浸透）膜、ＵＦ（限外ろ過）膜、ＭＦ（精密ろ過）膜やフィルタを用いて固液を分離するろ過分離法（例えば特許文献２参照。）や遠心分離機を用いて固液を分離する遠心分離法（例えば特許文献３、特許文献４参照。）などによって研磨廃液を処理する方法が採られている。しかし、このような廃液処理を実行する処理装置は大型で高価なものになりがちであり、比較的小規模な装置に対しては必ずしも適したものではない。また、小型の廃液処理装置を構築しても完全な処理を実行することが難しく、かつ、メンテナンスに手間がかかり効率的ではないという問題を有している。
【特許文献１】特開平１０−１１８６６５号公報
【特許文献２】特開２００１−２７６５２２号公報
【特許文献３】特開２００３−９４３３７号公報
【特許文献４】特開２００２−８６１９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述のように、従来の研磨廃液の処理装置は大型で高価になりがちであり、小型なものは効率が悪いという問題を有していた。
【０００５】
本発明は、この問題を解決して比較的小規模小型な研磨装置に適した研磨廃液の処理方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような課題を解決するため、本発明は研磨廃液の処理方法において、研磨廃液に高分子吸水剤を投入して攪拌処理し固化する固化工程を含むことを特徴とする。
【０００７】
また、本発明は研磨廃液の処理方法において、前記固化工程で固化した固化廃液を集めて集積する集積工程と、この集積工程で集められた前記固化廃液に食塩などのナトリウム塩を混入して攪拌し再液化する再液化工程と、この再液化工程で再液化した再液化廃液を最終処理する最終廃液処理工程とを有することを特徴とする。
【０００８】
また、前記最終廃液処理工程には、凝集沈殿法、ろ過分離法又は遠心分離法などの固液分離工程が含まれることを特徴とする。
【０００９】
また、前記高分子吸水剤は澱粉系又はアクリル系高分子であることを特徴とする。
【００１０】
また、前記高分子吸水剤はアクリル酸、アクリルアミド、アクリル酸ナトリウム及びアクリルニトリルからなる群から選ばれる一種又は複数種のグラフト重合体、又はこれらから選ばれる一種又は複数種と橋かけ剤との橋かけ重合体であることを特徴とする。
【００１１】
また、前記研磨廃液に対する前記高分子吸水剤の添加量が０．１〜５０重量％であることを特徴とする。
【００１２】
また、前記研磨廃液は光ディスクの修復、クリーニング研磨時の研磨廃液であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
研磨廃液に高分子吸水剤を投入して攪拌処理し固化することにより、取り扱いの容易な可燃性の固体として廃棄することが可能になり、また、運搬することが容易になる。
【００１４】
また、固化したものを集めて再液化し、再液化したものを処理することで、多量の廃液を大型の処理装置で完全に処理することができ、また、処理を自動化できるので効率化を図ることができる。
【００１５】
また、最終廃液処理工程に固液分離工程を含ませることで廃棄物の総量を減らすことができる。
【００１６】
また、高分子吸水剤として澱粉系又はアクリル系高分子、特にアクリル酸、アクリルアミド、アクリル酸ナトリウム及びアクリルニトリルからなる群から選ばれる一種又は複数種のグラフト重合体又はこれらから選ばれる一種又は複数種の橋かけ重合体を用いることにより、研磨廃液を少量の高分子吸水剤で短時間に固化することができ、固化後の体積の増加も小さく、固化した廃液から水分が分離することがなく、べとつきがなく、ポリ袋、紙袋やダンボール箱に収納して運送することが可能になる。
【００１７】
また、研磨廃液に対する高分子吸水剤の添加量を０．１〜５０重量％とすることにより、廃液の固化が充分に行え、かつ、固化後の体積、重量を抑えることができる。
【００１８】
また、光ディスクの修復、クリーニング研磨など比較的小規模な装置の研磨廃液をまとめて効率的に処理することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明の研磨廃液の処理方法の第１の実施の形態の処理フローチャートを図１に示す。また、第２の実施の形態の処理フローチャートを図２に示す。図１及び図２において、符号１は研磨作業、符号２は研磨作業で発生する研磨廃液、符号３は固化工程、符号４は廃棄作業、符号５は吸水剤、符号６は運搬作業、符号７は集積工程、符号８は再液化工程、符号９は最終処理工程、符号１０は再利用工程、符号１１は食塩等のナトリウム塩である。
【００２０】
図１に沿って第１の実施の形態の処理を説明する。湿式研磨作業１で研磨廃液２が発生する。この研磨廃液２に高分子吸水剤５を所定量投入して攪拌し固化工程３を実行する。これにより、研磨廃液２は廃棄や運搬の際に取り扱いが容易なゼリー状に固化される。このときの研磨廃液２に対する高分子吸水剤５の添加量は０．１〜５０％である。高分子吸水剤５には、澱粉系又はアクリル系高分子、特にアクリル酸、アクリルアミド、アクリル酸ナトリウム及びアクリルニトリルからなる群から選ばれる一種又は複数種のグラフト重合体又はこれらから選ばれる一種又は複数種の橋かけ重合体を用いる。これらの高分子吸水剤５として用い、上述の添加量を取るとき、特に他の処理剤を併用しなくても研磨廃液２を少量の高分子吸水剤５で短時間に充分固化することができ、固化に際しての体積膨張も少なく、固化廃液に圧力が加わっても水分が分離されることがなく、表面にべとつきがなく、固化物をポリ袋、紙袋や段ボール箱にも詰めることができる。この固化廃液は廃棄作業４で可燃性の産業廃棄物として廃棄することができ、これによって、廃棄処理をきわめて容易にすることができる。
【００２１】
次に第２の実施の形態の処理を図２に沿って説明する。固化工程３までは第１の実施の形態と同じである。固化された廃液は運搬作業６で最終処理工程９が実行される処理作業場に適宜運搬され、集積工程７で所定の量になるまで集積される。所定量の集積がなされたとき、又は適当な時期に、再液化工程８で集積された固化廃液に食塩等１１を混ぜて攪拌し、固化廃液を再液化する。固化廃液は食塩等のナトリウム塩を加えることにより、短時間に再度液化される。
【００２２】
最終処理工程９では再液化された廃液に対して凝集沈殿法、ろ過分離法、遠心分離法などまたはこれらの複合処理などで固液分離を施して、再利用工程１０で再利用できるものは再利用し、廃棄作業４での廃棄物の量をできるだけ少なくなるようにして種々の規制にかなうような処理を実行する。
【００２３】
これにより、比較的小規模な装置の研磨廃液をまとめて効率的に処理することが容易になり、最終処理を実行する装置の規模を大きくしても全体として効率的な処理を行うことができる。
【実施例】
【００２４】
本発明の実施例として、本発明を光ディスクの修復装置の研磨廃液に用いた場合について説明する。
【００２５】
この光ディスク修復装置は、光ディスクの表面部についた傷によって記録された情報が正しく読み出せなくなることを防ぐため、それらの表面を研磨したりクリーニングすることで修復する装置で、一度に最大５０枚までの光ディスクを自動的に修復することができる。
【００２６】
図３にこの装置の正面扉を外した正面図を示す。図３において、符号２１は電源スイッチ、符号２２は液晶タッチパネル、符号２３はストップスイッチ、符号２４は５０連装チェンジャー、符号２５は修復パフユニット、符号２６は修復層、符号２７はコンパウンドタンク、符号２８は修復液タンク、符号２９はキャスターである。このうち、電源スイッチ２１は装置全体の電源をオンオフするスイッチであり、ストップスイッチ２３は研磨作業を一時的に停止するスイッチである。また、キャスター２９は装置の運搬を容易にするために設けられている。
【００２７】
この光ディスク修復装置の主な仕様を図４の図表に示す。
【００２８】
光ディスクの修復にあたっては、修復したい光ディスクを最大５０枚まで５０連装チェンジャー２４にセットし、必要枚数をセットし終わったら、チェンジャー２４を本体にセットする。そうして、液晶タッチパネル２２の表示に従って一枚ごとに修理メニューを指定する。指定される修理メニューは光ディスク種類の選択と修復モードの選択からなり、光ディスク種類としてはＣＤ（音楽ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭを含む）、ＤＶＤ、ＰＳ（カラーディスク：裏面に色がついた光ディスク）の中のいずれか、修復モードとしては粗研、深い傷、浅い傷、標準、汚取り、拭き上げのいずれかが選択される。
【００２９】
ついで、液晶タッチパネル２２から処理をスタートさせると、５０連装チェンジャー２４にセットされた光ディスクが自動的に修復層２６に取り込まれ、修復層２６内で研磨される。装置の修復パフユニット２５には６種類のパフ（砥石）がセットされており、修復モードの選択によってこれらのパフの何種類かが順次選択される。６種類のパフは粗い順に＃８００相当、＃１２００相当、＃２５００相当、布パフ、スポンジパフ、拭き上げスポンジからなり、このうち＃８００相当から＃２５００相当までのパフによる研磨は、コンパウンドタンク２７から供給されるコンパウンドを研磨面に塗布し、修復液タンク２８から供給される界面活性剤を添加した水からなる修復液を研磨面に供給して、湿式研磨法で実行され、布パフ、スポンジパフの場合は、修復液を研磨面に滴下して研削される。この湿式研磨法により、研磨面の過熱を防止することができる。
【００３０】
例えば、ＣＤの深い傷の場合、６種類のパフが粗い順に順次選択され、約２０μｍ程度の研磨が６工程で約６．５分程度で実行される。ＣＤの標準研磨の場合は４種類のパフが粗い順に順次選択され、約２μｍ程度の研磨が４工程で約３．５分程度で実行される。これらの際の、各パフでの研磨時間、研磨モータの回転速度、押圧などは装置内臓のコンピュータによって自動的に最適な値に制御される。
【００３１】
研磨の最終の拭き上げ工程では、修復、クリーニング時に発生した研磨かすなどを修復液で洗い流して、光ディスクを仕上げる。拭き上げ工程を含む研磨工程で用いた修復液は、フィルタを通して修復液タンク２８に回収される。回収された修復液は修復液タンク２８内の修復液と混和されて再使用される。
【００３２】
このようにして修復液タンク２８の修復液は繰り返し使用されるが、液中に溶け込んだコンパウンドや研磨かす等の不純物が次第に増えて汚れてくると、修復液の循環系に目詰まりをおこすなど不具合の原因になる。このため、所定の時間が経過した後では、この修復液タンク２８内に溜まった研磨廃液を処理しなければならない。この際に、本発明の処理方法を用いることができる。
【００３３】
修復液タンク２８の修復液が汚れてきた場合、修復液を取り出して適当な容器に移して高分子吸水剤を混ぜて攪拌し固化する。固化した修復液（研磨廃液）は、そのまま可燃性の産業廃棄物として廃棄処理する。あるいはこの固化した研磨廃液を処理作業場まで運搬し、ある程度溜まったところで再液化し、処理作業場で再液化された研磨廃液を固体成分と液体成分とに分離するなどの最終処理を行って、しかる後に再利用できるものは再利用し、利用できないものは廃棄する。
【００３４】
このようにすることによって、光ディスクの修復装置のような比較的小型の装置の少量の研磨廃液を容易に効率的に処理することが可能になる。
【産業上の利用可能性】
【００３５】
本発明の研磨廃液の処理方法は、以上に述べた光ディスクの修復装置の廃液の他、半導体製造工程での湿式研磨法やＣＭＰ（化学機械研磨）法などでの研磨廃液、一般の湿式研磨機械の廃液の処理などで比較的小規模のものに有効に利用できる。またこの発明での考え方は、種々の廃液の処理、たとえば印刷や製版の現像液、メッキなどの老化液、ごみ処理廃液などの処理にも有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の研磨廃液の処理方法の処理フローチャート。
【図２】本発明の研磨廃液の処理方法の処理フローチャート。
【図３】本発明が用いられる光ディスク修復装置の正面図。
【図４】本発明が用いられる光ディスク修復装置の仕様。
【符号の説明】
【００３７】
１    研磨作業
２    研磨廃液
３    固化工程
４    廃棄作業
５    吸水剤
６    運搬作業
７    集積工程
８    再液化工程
９    最終処理工程
１０  再利用工程
１１  ナトリウム塩
２１  電源スイッチ
２２  液晶タッチパネル
２３  ストップスイッチ
２４  ５０連装チェンジャー
２５  修復パフユニット
２６  修復層
２７  コンパウンドタンク
２８  修復液タンク
２９  キャスター
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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