(57)【要約】  【課題】  ブラインド駆動機構からの異物の発生を抑制できるブラインド（プロキシミティブラインド）を備えた露光装置等を提供する。  【解決手段】  ブラインド機構３０は、レチクルステージ３に固定されており、露光領域ＣＰの走査方向（Ｙ方向）に可動な２枚のＹ方向ブラインド板３１と、走査方向と直交する方向（Ｘ方向）に可動な２枚のＸ方向ブラインド板３３とを備える。各ブラインド板は、各エッジの影がピンホール欠陥フリー領域ＰＦＡに収まるように、駆動機構４１、４３で駆動される。露光中はブラインド機構３０はレチクル２に対して固定されたままレチクルステージ３とともに移動するため、駆動機構４１、４３からの異物の発生を防ぐことができる。【選択図】  図１
2005108934.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感応基板上に転写すべきパターンの形成されたマスク（レチクル含む）を搭載して移動するマスクステージと、
前記感応基板を搭載して移動する感応基板ステージと、
前記パターンを転写する露光光学系と、を具備し、
前記光学系に対して前記マスク及び感応基板を走査しながら露光する露光装置であって、
前記マスク上の露光領域を制限する、前記マスクステージに搭載された可動式のブラインドを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
露光中は前記ブラインドが前記マスクに対して固定されたまま前記マスクステージとともに移動することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記ブラインドが、
前記露光領域の走査方向（Ｙ方向）に可動な２枚のＹ方向ブラインド板と、
前記露光領域の走査方向と直交する方向（Ｘ方向）に可動な２枚のＸ方向ブラインド板と、
前記Ｙ方向ブラインド板を駆動する機構と、
前記Ｘ方向ブラインド板を駆動する機構と、
を備えることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
前記マスクステージ上において、
前記Ｙ方向ブラインド板とＸ方向ブラインド板は一部が重なって配置され、
前記Ｙ方向ブラインド板駆動機構とＸ方向ブラインド板駆動機構は重ならずに配置されていることを特徴とする請求項３記載の露光装置。
【請求項５】
感応基板上に転写すべきパターンの形成されたマスク（レチクル含む）を搭載して移動するマスクステージと、
前記感応基板を搭載して移動する感応基板ステージと、
前記パターンを転写する露光光学系と、を具備し、
前記光学系に対して前記マスク及び感応基板を走査しながら露光する露光装置であって、
前記マスクの露光領域を制限する開口が設けられた、前記マスクステージに取り付け及び取り外し可能なブラインドを有することを特徴とする露光装置。
【請求項６】
感応基板上に転写すべきパターンの形成されたマスク（レチクル含む）を搭載して移動するマスクステージと、
前記感応基板を搭載して移動する感応基板ステージと、
前記パターンを転写する露光光学系と、を具備し、
前記光学系に対して前記マスク及び感応基板を走査しながら露光する露光装置であって、
前記マスクに、該マスク上の露光領域を制限する開口が設けられた、該マスク固有のブラインドが固定されていることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
前記ブラインドは、前記マスクに形成された、該マスクの位置決めや識別等を行うためのマーク（アライメントマーク、識別ＩＤマーク等）の部分を覆っていないことを特徴とする請求項５又は６記載の露光装置。
【請求項８】
感応基板上に転写すべきパターンが形成されており、マスクステージに搭載されたマスク（レチクル含む）と、前記感応基板と、を走査しながら露光する方法であって、
前記マスクの前記マスクステージへの位置決め等の露光前操作を行った後、該マスク上の露光領域を前記マスクステージに搭載された可動式のブラインドによって制限し、その後に露光することを特徴とする露光方法。
【請求項９】
感応基板上に転写すべきパターンが形成されており、マスクステージに搭載されたマスク（レチクル含む）と、前記感応基板と、を走査しながら露光する方法であって、
前記マスクの前記マスクステージへの位置決め等の露光前操作を行った後、該マスクの露光領域を制限する開口が設けられた、該マスク固有のブラインドを該マスクに装着し、その後に露光することを特徴とする露光方法。
【請求項１０】
感応基板上に転写すべきパターンが形成されており、マスクステージに搭載されたマスク（レチクル含む）と、前記感応基板と、を走査しながら露光する方法であって、
前記マスクに、該マスク上の露光領域を制限する開口が設けられた、該マスク固有のブラインドを固定した状態で露光することを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＥＵＶ光（Extreme Ultra Violet光、 極端紫外光）や紫外光レーザ、荷電粒子線等のエネルギ線を用いる露光装置及び露光方法に関する。特には、原版のパターン領域を画するためのプロキシミティブラインド機構を備えた露光装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＥＵＶ露光装置を例にとって説明する。
ＥＵＶ露光装置の照明光学系と投影光学系は、反射ミラーからなる光学素子で構成されている。例えば、Ｍｏ／Ｓｉ多層膜がコートされた反射ミラーにおいては、ＥＵＶ光の垂直反射率は最大でも７０％である。照明光学系を構成するミラーとして使用が検討されている斜入射ミラーにおいては、反射率が８０〜９０％と想定されている。照明光学系や投影光学系には、複数枚（例えば、投影光学系においては４枚、６枚又は８枚）のミラーが使用されており、反射率の高い斜入射ミラーを使用した場合でも、光学系全体の反射率はかなり低くなってしまう。
このため、照明光学系や投影光学系に用いられる反射ミラーの枚数を極力少なくすることが要求されている。
【０００３】
ところで、露光装置には、照明光がレチクル上のパターン領域外に当たることを防ぐために、ブラインド機構が設けられている。レチクル上のパターン領域外の部分は吸収膜で覆われており、理想的には照明光を反射しない部分であるが、吸収膜にはピンホール欠陥等が存在する場合がある。照明光がこのような欠陥に当たると、その欠陥で照明光が反射し、投影光学系を通ってウェハまで導かれ、ウェハ上で欠陥パターンとして転写されることがある。このような現象を“かぶり”と呼んでいる。このかぶりを防止するため、ブラインド機構によって原版の露光領域を制限（露光領域外をブラインドで覆う又は隠す）し、照明光がパターン領域外に当たることを防いでいる。
【０００４】
上述のように、レチクルのパターン領域の周囲には、ピンホール欠陥が存在しないことが保証された領域（ピンホール欠陥フリー領域）が設けられている。同領域には、従来の光露光機では露光光を通さず、ＥＵＶ露光機ではＥＵＶ光を反射しないような膜が形成されている。この領域内にピンホール欠陥がないことを保証するには、同領域内を慎重に検査する必要があり、欠陥が見つかった場合は修正する必要がある。このような検査や修正作業を考慮すると、同領域の寸法は小さい方が好ましい。当然、ピンホール欠陥フリー領域を広くすると、レチクル作製コストが高くなる。
【０００５】
露光装置のブラインド機構の代表例について説明する。
現在主流の光露光機（露光光としてｉ線、ＫｒＦ、ＡｒＦなどを使用）では、一般に照明光学系の途中にレチクル面と光学的に共役な面、すなわち中間結像面を設けて、同面にブラインド機構を配置している。ブラインド機構は、照明ビーム（照明光束）の外形を決定する固定ブラインドと、レチクル上の露光領域を制限する可動式、又は、走査型の可動ブラインドから構成される。
【０００６】
固定ブラインドは、レチクルに照射される照明ビームの形状を決定するためのものである。照明ビームの短手方向の長さ（露光走査方向の幅）を事前に調整することにより、ダイナミック照度均一性を得ることができる。
【０００７】
可動ブラインドは、レチクルのパターン領域に応じ、あるいは、使用するレチクルの露光領域の寸法が変わるのに応じて動けるようになっている。スキャン露光の場合の典型的な可動ブラインドは、非走査方向（走査方向と直交する方向、Ｘ方向）に可動の２枚のＸ方向ブラインド部材と、走査方向（Ｙ方向）にレチクルと同期して移動する２枚のＹ方向ブラインド部材とから構成される。
【０００８】
Ｘ方向ブラインド部材は、各種のレチクルの露光領域の寸法（幅）に応じて、レチクル交換時にレチクルに対して相対的に移動する。そして、露光領域の外側のピンホール欠陥フリー領域内にブラインド部材のエッジの影が収まるように位置が調整される。Ｘ方向ブラインド部材は、露光に使用するレチクルの露光領域の寸法に合わせていったん位置を決めると、他のレチクルに交換するまで移動しない。
Ｙ方向ブラインド部材も、ピンホール欠陥フリー領域にブラインド部材のエッジの影が収まるように位置が調整される。Ｙ方向ブラインド部材は、レチクルの動きに同期して移動する。
このような可動ブラインドを設けることにより、ピンホール欠陥フリー領域を必要最小限の大きさにしている。
【０００９】
【特許文献１】特開平１１−２１９９００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ＥＵＶ露光機において、従来の光露光機と同様のブラインド機構を設けようとすると、照明光学系中にレチクルと共役な面を作るために、最少限のミラー構成に対して少なくとも３枚のミラーを追加する必要がある。このようにミラーを追加すると、光学系全体の反射率がさらに低下し、スループットを大幅に低下させてしまう。このため、ＥＵＶ露光機に、光露光機と同様の中間結像点設置式のブラインド機構を設けることは現実的ではない。
【００１１】
そこで、ブラインド機構として、露光装置のレチクル近傍に配置できるプロキシミティブラインドを採用することが有望とされている（例えば、特許文献１参照）。このプロキシミティブラインドは、投影光学系に対して固定された固定式のブラインドと、レチクルの移動や寸法替えに応じて移動する可動式のブラインドがある。可動式のブラインドをレチクルと同期して走査させると、ブラインドを駆動するための駆動系からの異物が発生しやすくなる。ブラインドはレチクルに近接して配置されており、また、ＥＵＶ露光用のレチクルには、光露光用のレチクルのようなパターン面を保護するペリクルが存在しない。このようなことにより異物がレチクルに付着しやすくなる。レチクルに異物が付着すると、パターン転写欠陥等が生じるおそれがあるため、異物の発生を極力低減する必要がある。
【００１２】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであって、ブラインド駆動機構からの異物の発生を抑制できるブラインド（プロキシミティブラインド）を備えた露光装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記の問題点を解決するため、本発明の第１の露光装置は、  感応基板上に転写すべきパターンの形成されたマスク（レチクル含む）を搭載して移動するマスクステージと、  前記感応基板を搭載して移動する感応基板ステージと、  前記パターンを転写する露光光学系と、を具備し、  前記光学系に対して前記マスク及び感応基板を走査しながら露光する露光装置であって、  前記マスク上の露光領域を制限する、前記マスクステージに搭載された可動式のブラインドを有することを特徴とする。
本発明においては、  露光中は前記ブラインドが前記マスクに対して固定されたまま前記マスクステージとともに移動することとできる。
【００１４】
露光中にブラインドは移動しないため、ブラインド駆動系からの異物の発生を防ぐことができる。また、露光中は、照明ビームは、予めブラインド機構で制限された露光領域をスキャンするため、照明ビームはピンホールが存在するおそれのあるような領域を照射せず、不適正露光が生じない。また、露光領域の大きさに合わせてブラインドを移動させるので、露光領域の大きさが異なる種々のマスクに対応できる。
【００１５】
本発明においては、  前記ブラインドが、  前記露光領域の走査方向（Ｙ方向）に可動な２枚のＹ方向ブラインド板と、  前記露光領域の走査方向と直交する方向（Ｘ方向）に可動な２枚のＸ方向ブラインド板と、  前記Ｙ方向ブラインド板を駆動する機構と、  前記Ｘ方向ブラインド板を駆動する機構と、を備えることにより、種々の大きさの露光領域のＹ方向両端縁とＸ方向両端縁とを画することができる。
【００１６】
本発明においては、  前記マスクステージ上において、  前記Ｙ方向ブラインド板とＸ方向ブラインド板は一部が重なって配置され、  前記Ｙ方向ブラインド板駆動機構とＸ方向ブラインド板駆動機構は重ならずに配置されていることとすれば、両ブラインド板を干渉させずに駆動できる。また、両ブラインド板を比較的近い位置に（光軸方向のほぼ同じ高さ位置に）配置できるので、光学的性能の観点から好ましい。
【００１７】
本発明の第２の露光装置は、  感応基板上に転写すべきパターンの形成されたマスク（レチクル含む）を搭載して移動するマスクステージと、  前記感応基板を搭載して移動する感応基板ステージと、  前記パターンを転写する露光光学系と、を具備し、  前記光学系に対して前記マスク及び感応基板を走査しながら露光する露光装置であって、  前記マスクの露光領域を制限する開口が設けられた、前記マスクステージに取り付け及び取り外し可能なブラインドを有することを特徴とする。
【００１８】
ブラインドにマスクの露光領域の寸法に合わせた寸法の開口を予め設けておくことにより、つまり、ブラインドをマスクに合わせてオーダーメードしておくことにより、露光時に露光領域を制限するためのブラインドの移動を行う必要がない。また、ブラインドをマスクステージに取り付け取り外し可能とすれば、マスクに設けられたアライメントマーク等を使用したマスクの位置決めなどの露光前作業を行う際に、ブラインドが邪魔になることがない。なお、ブラインドの取り付け取り外しには、マスクを搬送する搬送ロボットを使用できる。
【００１９】
本発明の第３の露光装置は、  感応基板上に転写すべきパターンの形成されたマスク（レチクル含む）を搭載して移動するマスクステージと、  前記感応基板を搭載して移動する感応基板ステージと、  前記パターンを転写する露光光学系と、を具備し、  前記光学系に対して前記マスク及び感応基板を走査しながら露光する露光装置であって、  前記マスクに、該マスク上の露光領域を制限する開口が設けられた、該マスク固有のブラインドが固定されていることを特徴とする。
本発明においては、  前記ブラインドは、前記マスクに形成された、該マスクの位置決めや識別等を行うためのマーク（アライメントマーク、識別ＩＤマーク等）の部分を覆っていないことが好ましい。
【００２０】
この例においても、露光時に露光領域を制限するためのブラインドの移動を行う必要がない。また、マスクの位置決めや識別等を行うためのマークをブラインドから露出させておけば、ブラインドが固定されたマスクをマスクステージに載置した後で、マスクの位置決め等の露光前作業を行うことができる。
【００２１】
本発明の第１の露光方法は、  感応基板上に転写すべきパターンが形成されており、マスクステージに搭載されたマスク（レチクル含む）と、前記感応基板と、を走査しながら露光する方法であって、  前記マスクの前記マスクステージへの位置決め等の露光前操作を行った後、該マスク上の露光領域を前記マスクステージに搭載された可動式のブラインドによって制限し、その後に露光することを特徴とする。
【００２２】
本発明の第２の露光方法は、  感応基板上に転写すべきパターンが形成されており、マスクステージに搭載されたマスク（レチクル含む）と、前記感応基板と、を走査しながら露光する方法であって、  前記マスクの前記マスクステージへの位置決め等の露光前操作を行った後、該マスクの露光領域を制限する開口が設けられた、該マスク固有のブラインドを該マスクに装着し、その後に露光することを特徴とする。
【００２３】
本発明の第３の露光方法は、  感応基板上に転写すべきパターンが形成されており、マスクステージに搭載されたマスク（レチクル含む）と、前記感応基板と、を走査しながら露光する方法であって、  前記マスクに、該マスク上の露光領域を制限する開口が設けられた、該マスク固有のブラインドを固定した状態で露光することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２４】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、ブラインドをレチクルステージもしくはレチクルに固定しているため、レチクルの露光中に、レチクルステージとともに移動し、ブラインド部材は駆動しない。このため、ブラインド駆動系からの異物の発生を防ぐことができる。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
まず、ＥＵＶ露光装置の一例について説明する。
図３は、本発明の実施の形態に係るＥＵＶ露光装置（４枚投影系）の構成を概略的に示す図である。
ＥＵＶ露光装置は、光源を含む照明系ＩＬを備えている。照明系ＩＬから放射されたＥＵＶ光（一般に５〜２０ｎｍの波長の光が用いられ、具体的には、１３．５ｎｍの波長の光が使用される）は、折り返しミラー１で反射してレチクル（マスク）２に照射される。
【００２６】
反射型レチクル２は、パターン面を重力方向下側に向けた状態で、レチクルステージ（マスクステージ）３に吸着保持されている。このレチクルステージ３は、走査方向（Ｙ方向）に１００ｍｍ以上のストロークをもち、この走査方向と直交する方向（Ｘ方向）に微小ストロークをもち、光軸方向（Ｚ方向）にも微小ストロークをもっている。ＸＹ方向の位置は、図示せぬレーザ干渉計によって高精度にモニタされ、Ｚ方向位置はレチクルフォーカス送光系４とレチクルフォーカス受光系５からなるレチクルフォーカスセンサでモニタされている。
【００２７】
レチクルステージ３の下面には、ブラインド機構３０が配置されている。ブラインド機構３０の構成については後述する。
【００２８】
レチクル２で反射したＥＵＶ光は、図中下側の投影光学鏡筒１４内に入射する。このＥＵＶ光は、レチクル２に描かれた回路パターンの情報を含んでいる。レチクル２には、ＥＵＶ光を反射する多層膜（例えば、Ｍｏ／ＳｉやＭｏ／Ｂｅ）が成膜されており、この多層膜上に吸着層（例えばＮｉやＡｌ）の有無でパターニングされている。
【００２９】
光学鏡筒１４内に入射したＥＵＶ光は、第１ミラー６で反射した後、第２ミラー７、第３ミラー８、第４ミラー９で順次反射し、最終的にはウェハ１０に対して垂直に入射する。これらのミラー等からなる投影光学系の縮小倍率は、例えば１／４や１／５である。この図では、ミラーは４枚であるが、Ｎ．Ａ．をより大きくするためには、ミラーを６枚あるいは８枚にすると効果的である。鏡筒１４の近傍には、アライメント用のオフアクシス顕微鏡１５が配置されている。
【００３０】
ウェハ１０は、ウェハステージ１１上に載置されている。ウェハステージ１１は、光軸と直交する面内（ＸＹ平面）を移動することができ、移動ストロークは例えば３００〜４００ｍｍである。ウェハステージ１１は、光軸方向にも微小のストロークで上下移動でき、光軸方向位置（Ｚ方向位置）はウェハオートフォーカス送光系１２とウェハオートフォーカス受光系１３からなるウェハオートフォーカスセンサでモニタされている。ウェハステージ１１のＸＹ方向位置は、図示せぬレーザ干渉計によって高精度でモニタされている。露光動作において、レチクルステージ３とウェハステージ１１は、投影光学系の縮小倍率と同じ速度比、すなわち、４：１あるいは５：１で同期走査する。
【００３１】
次に、図１の露光装置に搭載されているブラインド機構３０について説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る露光装置に搭載されているブラインド機構の形状を示す図であり、図１（Ａ）は平面図、図１（Ｂ）は側面図である。
まず、レチクル２の構成について説明する。
レチクル２は、ウェハステージ３に設けられたチャック２１（図１（Ｂ）参照）に、パターン面が下となるように吸着されている。レチクル２のパターン面の中央部には、長方形のパターン領域ＣＰ（格子状ハッチングの部分）が設けられている。このパターン領域ＣＰの周囲には、ピンホール欠陥フリー領域ＰＦＡ（斜めハッチングの部分）が額縁状に設けられている。ピンホール欠陥フリー領域ＰＦＡとは、前述のようにピンホール欠陥がないことが保証された領域である。パターン領域ＣＰは、パターン成形開口（図示されず）で輪帯状に成形された照明ビームＩＢでスキャン露光される。この照明ビームＩＢは、露光装置の投影光学系の光軸に対しては固定されているが、レチクル２がＹ方向にスキャン移動すると、パターン領域ＣＰ上を走査される。そして、ウェハ１０もレチクル２と同期でスキャンし、ウェハ１０上にレチクル２のパターン領域ＣＰのパターンが投影される。
【００３２】
次に、ブラインド機構３０について説明する。
ブラインド機構３０は、走査方向（Ｙ方向）に可動の一対のＹ方向ブラインド板３１Ａ、３１Ｂと、走査方向と直交する方向（Ｘ方向）に可動の一対のＸ方向ブラインド板３３Ａ、３３Ｂとを備える。レチクル２のパターン領域ＣＰのＹ方向両端は、Ｙ方向ブラインド板３１で画され、Ｘ方向両端は、Ｘ方向ブラインド板３３で画される。各ブラインド板３１、３３は、厚さ０．５ｍｍ程度の金属板等で作製される。
【００３３】
Ｘ方向ブラインド板３３とＹ方向ブラインド板３１は、Ｚ方向に離れて配置され、この例では、図１（Ｂ）に示すように、レチクル２のすぐ下方にＸ方向ブラインド板３３が配置され、このＸ方向ブラインド板３３の下方にＹ方向ブラインド板３１が配置される。レチクル２のパターン面（下側の面）と、Ｘ方向ブラインド板３３との間隔は、一例で、１〜２ｍｍである。
【００３４】
各Ｙ方向ブラインド板３１は、レチクルステージ３下面のＸ方向の両側縁に設けられた駆動機構４１Ａ、４１Ｂによって、Ｙ方向に互いに接近する方向、及び、離れる方向に移動する。また、各Ｘ方向ブラインド板３３は、レチクルステージ３下面のＹ方向の両側縁に設けられた駆動機構４３Ａ、４３Ｂによって、Ｘ方向に互いに接近する方向、及び、離れる方向に移動する。図１（Ａ）に示すように、各Ｘ方向ブラインド板３３と各Ｙ方向ブラインド板３１とは、レチクルステージ３の４つの隅で重なっている。しかし、各ブラインド板の駆動機構４３、４１は、ステージ３下面の各辺に沿って配置されており、重なっていない。
【００３５】
図２は、ブラインド板の駆動機構の一例を示す図であり、図２（Ａ）は平面図、図２（Ｂ）は側面図である。ここでは、Ｘ方向ブラインド板３３の駆動機構４３について説明する。Ｙ方向ブラインド板３１の駆動機構４１も同様の構成を有する。
駆動機構４３は、例えば、２個のアクチュエータ固定子４７と、４個のアクチュエータ移動子４５とから構成される。アクチュエータとしては、例えば、電磁リニアモータ、超音波リニアモータなどを使用できる。各アクチュエータ固定子４７は、例えば、厚さが０．１ｍｍの金属板等で作製され、レチクルステージ３下面のＹ方向両側縁に固定されている。一方のアクチュエータ固定子４７−１には、２個のアクチュエータ移動子４５−１、４５−２が配置され、他方のアクチュエータ固定子４７−２にも２個のアクチュエータ移動子４５−３、４５−４が配置されている。
【００３６】
各ブラインド板３３は、２本の固定子４７−１、４７−２間を掛け渡すように配置されている。そして、一方のブラインド板３３Ａの両端部は、固定子４７−１上の移動子４５−１と、固定子４７−２上の移動子４５−３に固定されている。他方のブラインド板３３Ｂの両端部は、固定子４７−１上の移動子４５−２と、固定子４７−２上の移動子４５−４に固定されている。アクチュエータが作動すると、各移動子４５は固定子４７に沿って移動し、各ブラインド板３３が固定子４７の長さ方向（Ｘ方向）に移動する。
このような構成により、両ブラインド板を光軸方向に対してほぼ同じ高さ位置に配置できる。このため、後述するブラインド板の位置決めの際に、両ブラインド板のエッジの影の出方がほぼ同じになり、位置決めしやすくなる。
【００３７】
次に、ブラインド機構３０の作動を説明する。
レチクルステージ３にレチクル２を搭載する際や、レチクル２を交換する際は、各ブラインド板３１、３３は最も離れる方向に移動して、レチクルステージ２のチャック２１下方に、レチクル２をチャック２１に搬送するための空間を空けておく。そして、レチクル２がチャック２１に搭載された後、ブラインド板３１、３３を最も離れる方向に移動させたままで、レチクル２の位置合わせや、レチクル表面の平坦度測定を行う。
【００３８】
その後、図１に示すように、Ｘ方向ブラインド板駆動機構４３を駆動して、各Ｘ方向ブラインド板３３を、同板のエッジの影が、レチクル２のパターン領域ＣＰのＸ方向両端のピンホール欠陥フリー領域ＰＦＡに収まるように移動させる。また、Ｙ方向ブラインド板駆動機構４１を駆動して、各Ｙ方向ブラインド板３１も、同板のエッジの影が、レチクル２のパターン領域ＣＰのＹ方向両端のピンホール欠陥フリー領域ＰＦＡに収まるように移動させる。
【００３９】
そして、この状態で走査露光を行う。走査露光時には、レチクルステージ３はＹ方向に移動し、照明ビームＩＢはパターン領域ＣＰをスキャンする。ブラインド機構３０はレチクルステージ３に固定されているため、レチクルステージ３とともにＹ方向に移動する。つまり、スキャン中にはブラインド機構３０は駆動しないため、ブラインド板駆動機構４１、４３からの異物の発生を防ぐことができる。また、露光中は、照明ビームＩＢは、ブラインド機構３０で制限されたパターン領域ＣＰをスキャンするため、ピンホールの無い領域を確実に露光する。
【００４０】
次に、本発明の他の実施の形態について説明する。
図４は、本発明の第２の実施の形態に係る露光装置のブラインド機構の構成を示す図であり、図４（Ａ）は平面図、図４（Ｂ）は側面図である。
この例のブラインド機構５０は、額縁状のブラインド板５１で構成される。ブラインド板５１の大きさは、レチクル２の大きさとほぼ等しい。ブラインド板５１の中央には矩形の開口５３が形成されている。開口５３の大きさは、レチクル２のパターン領域ＣＰの大きさに合わせて予め決められている。言い換えれば、レチクル２のパターン領域ＣＰの大きさに合わせた開口５３をもつブラインド板５１をオーダーメードしておく。開口５３の寸法は、具体的には、ブラインド板５１がレチクルステージ３に取り付けられたときに、同板の開口５３のエッジが、露光に供されるレチクル２のパターン領域ＣＰの周囲のピンホール欠陥フリー領域内ＰＦＡに収まる寸法である。
【００４１】
このブラインド板５１は、レチクルステージ３上に取り外し可能に取り付けられる。取り付けられたとき、ブラインド板５１とレチクル２とは直接接触していない。同板５１をレチクルステージ２に固定する手段としては、静電チャックや機械的なチャック等がある。
【００４２】
露光時には、まず、レチクル２をステージ３のチャック２１に搭載し、レチクル２の位置合わせやレチクル表面の平坦度測定等を行う。その後、レチクル搬送ロボットを利用するなどして、ブラインド板５１をレチクルステージ３に取り付ける。その後、上述の例と同様に露光を行う。
【００４３】
ブラインド機構５０を使用するレチクルに合わせてオーダーメードしておくことにより、露光時にパターン領域ＣＰを制限するためのブラインド板の移動作業を行う必要がない。
【００４４】
図５は、本発明の第３の実施の形態に係る露光装置のブラインド機構の構成を示す図である。上側に示す図は平面図、下側に示す図は側面図である。
この例のブラインド機構６０も、第２の例と同様に、中央に矩形の開口６３が形成された額縁状のブラインド板６１で構成されるが、ブラインド板６１の寸法が小さく、ブラインド板６１が予めレチクル２に固定されている。ブラインド板６１をレチクル２に固定する手段としては、例えば、接着剤による貼り付けを使用できる。開口６３の寸法は、開口６３のエッジが、レチクル２のパターン領域ＣＰの周囲のピンホール欠陥フリー領域ＰＦＡ内に収まる寸法である。
【００４５】
一般に、レチクル２のパターン面には、アライメントマークＡＭやレチクル識別ＩＤマーク等ＩＤが形成されている。この例では、アライメントマークＡＭが、レチクル２のピンホール欠陥フリー領域ＰＦＡの外側に、Ｙ方向に並んで配置されている。また、識別ＩＤマークＩＤが、レチクル２の図の右辺の中央付近に配置されている。
【００４６】
ブラインド板６１のＸ方向両辺は、アライメントマークＡＭの内側で、かつ、ピンホール欠陥フリー領域ＰＦＡの外側に位置する。つまり、アライメントマークＡＭや識別ＩＤマークＩＤはブラインド板で覆われていない。
【００４７】
この例においては、まず、レチクル２にブラインド板６１を貼り付ける。その後、同レチクル２をステージ３のチャック２１に搭載し、レチクル２の位置決めや識別、レチクル表面の平坦度測定を行う。この際、アライメントマークＡＭや識別ＩＤマークＩＤはブラインド板５１で覆われていないため、通常のアライメントや識別作業を行うことができる。そして、上述の例と同様に露光を行う。
【００４８】
この例においても、露光時にパターン領域ＣＰを制限するためのブラインドの移動を行う必要がない。また、レチクルの位置決めや識別等を行うためのマークがブラインド板６１から露出しているので、ブラインド板６１が固定されたレチクルをレチクルステージ３に載置した後で、レチクルの位置決め等の露光前作業を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の実施の形態に係る露光装置に搭載されているブラインド機構の形状を示す図であり、図１（Ａ）は平面図、図１（Ｂ）は側面図である。
【図２】ブラインド板の駆動機構の一例を示す図であり、図２（Ａ）は平面図、図２（Ｂ）は側面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係るＥＵＶ露光装置（４枚投影系）の構成を概略的に示す図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態に係る露光装置のブラインド機構の構成を示す図であり、図４（Ａ）は平面図、図４（Ｂ）は側面図である。
【図５】本発明の第３の実施の形態に係る露光装置のブラインド機構の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００５０】
１  折り返しミラー                  ２  レチクル
３  レチクルステージ                ４  レチクルフォーカス送光系
５  レチクルフォーカス受光系        ６  第１ミラー
７  第２ミラー                      ８  第３ミラー
９  第４ミラー                    １０  ウェハ
１１  ウェハステージ                １４  光学鏡筒
１５  オフアクシス顕微鏡            １２  ウェハオートフォーカス送光系
１３  ウェハオートフォーカス受光系  ２１  チャック
３０  ブラインド機構                ３１  Ｙ方向ブラインド板
３３  Ｘ方向ブラインド板            ４１  駆動機構
４３  駆動機構                      ４５  移動子
４７  固定子
５０  ブラインド機構                ５１  ブラインド板
５３  開口
６０  ブラインド機構                ６１  ブラインド板
６３  開口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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