(57)【要約】  【課題】低い吐出電圧で、安定して液体吐出が可能な液体吐出ヘッドを提供する。  【解決手段】単結晶基板の異方性ウエットエッチングによって先端部が先鋭化されて作製されたインクガイド５２の近傍にインク流出口５６が設けられ、インク流出口５６から流出するインクにより先鋭部５４の側面を横切るようなインク流１４が形成される。このインク流１４から導かれた溶液の一部がインクガイド５２の先端部７５に導かれてインク滴吐出の為のメニスカス１６が形成される。また、インクガイド５２が設けられている上面５４に、制御電極４４が設けられた上蓋３２を接合し、制御基板４４とインクガイド５２の先端部７５の位置を固定する。【選択図】図４
2005096338.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯電粒子が分散した溶液を対向電極に向けて吐出させる液体吐出ヘッドであって、
前記対向電極と所定の距離離間して配置された第１の基板と、この第１の基板と一体に形成された、前記第１の基板から前記対向電極に向けて突出した突出部と、この突出部の突出端である対向電極に対向する上面に形成された、溶液を吐出させるためのガイドであって、前記上面から前記対向電極に向けて突出して先端部に近づくにつれて断面が狭くなり前記先端部が先鋭化するように傾斜面が設けられ、この傾斜面を溶液流として流れる前記溶液を前記先端部に導いて静電気力により液滴として吐出させる溶液ガイドと、前記静電気力を作用する制御電極を備え、前記溶液ガイドを配置するための貫通孔が穿孔されている第２の基板と、を有し、
前記第２の基板は、前記突出部の前記上面の一部に当接して接合されて支持されており、前記溶液ガイドは、少なくとも前記先端部が前記貫通孔を通り、この先端部が前記第２の基板の前記対向電極と対向する側の面よりも前記対向電極の側に突出し、この前記溶液ガイドの少なくとも前記先端部は単結晶材料からなり、異方性ウエットエッチングによって前記傾斜面が形成されて前記先端部が先鋭化されていることを特徴とする液体吐出ヘッド。
【請求項２】
前記貫通孔は前記第２の基板に複数穿孔されており、前記先端部が、それぞれの前記貫通孔を通り前記対向電極の側に突出するように前記溶液ガイド部が複数配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項３】
前記溶液ガイドの前記先端部は、高次の結晶面からなる斜面を有し先鋭化されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項４】
前記溶液ガイドの前記先端部の先端角が６０°以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項５】
前記溶液ガイドの前記先端部の曲率半径が４μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項６】
前記溶液ガイドの前記傾斜面に前記溶液流を形成するように前記溶液ガイド近傍に溶液を供給する溶液供給口を有する溶液供給路を備え、前記溶液供給路は、前記突出部の基部から前記上面に向かう方向に形成された突出部貫通孔によって作られていることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項７】
前記突出部貫通孔は前記突出部が設けられている前記第１の基板に形成された第１の基板貫通孔と接続され、前記第１の基板の、前記突出部の設けられた面と反対側の面に溶液流入口を開口しており、この溶液流入口より前記第１の基板貫通孔を介して溶液が供給されることを特徴とする請求項６に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項８】
前記溶液ガイドの前記傾斜面を流れた前記溶液流の溶液を前記溶液ガイド近傍より回収する溶液回収口を有する溶液回収路を備え、前記溶液回収口は、前記第２の基板に穿孔された前記貫通孔の内壁と前記突出部の上面との間隙で形成され、かつ、前記溶液回収路は前記第１の基板と前記第２の基板との間隙によって形成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の液体吐出ヘッド。
【請求項９】
第１の基板と、この第１の基板から突出し、突出端が上面を成した突出部と、溶液を先鋭な先端部に導き静電気力により液滴として吐出させる、前記上面に設けられた単結晶材料からなる溶液ガイドと、前記溶液ガイドが基板面から突出するように設けられた貫通孔を有し、前記上面と接合されて前記突出部に支持固定されている第２の基板とを備える液体吐出ヘッドの作製方法であって、
絶縁性基板を加工することにより、板状の基板に、前記突出部を成す突状部が突出端に上面を有するように形成された第１のヘッド部材を作製する工程と、
前記突状部の前記上面と単結晶基板とを接合し、前記第１のヘッド部材と前記単結晶基板とを一体化する工程と、
前記単結晶基板の異方性ウエットエッチングを行うことで、前記突状部の前記上面の所定の位置に前記溶液ガイドを成す先鋭部を作製する工程と、
所定の位置に穿孔された貫通孔を有する、第２の基板を成す第２のヘッド部材を、前記先鋭部が前記貫通孔を貫通するよう所定の位置に位置合わせし、前記第２のヘッド部材の一方の表面を前記突出部の前記上面と接合して固定する工程とを有することを特徴とする液体吐出ヘッドの作製方法。
【請求項１０】
前記先鋭部を作製する工程は、予め異方性ドライエッチングによって表面に凹凸が形成された単結晶基板の、前記凹凸の形成された表面に対して異方性ウエットエッチングを行うことで、前記突状部の前記上面の所定の位置に前記溶液ガイドを成す先鋭部を作製することを特徴とする請求項９に記載の液体吐出ヘッドの作製方法。
【請求項１１】
前記先鋭部を作製する工程において、前記単結晶基板の異方性ウエットエッチングによって前記溶液ガイドを成す前記先鋭部を複数作製し、
前記固定する工程において、所定の位置に貫通孔が複数穿孔された第２の基板を成す第２のヘッド部材を、前記先鋭部のそれぞれが前記貫通孔を貫通するよう所定の位置に位置合わせして前記第２のヘッド部材の一方の表面を前記突出部の前記上面と接合して固定することを特徴とする請求項９または１０に記載の液体吐出ヘッドの作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶媒中に帯電粒子を分散させた溶液を静電気力により吐出させる液体吐出ヘッドおよびその作製方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
今日、インクを加熱してインクに発生した気泡の膨張力でインク滴を吐出させるサーマルタイプのインクジェットヘッドや、圧電素子によりインクに圧力を与えてインク滴を吐出させるピエゾタイプのインクジェットヘッドが提案されている。サーマルタイプのインクジェットヘッドではインクを部分的に３００℃以上に加熱するためインクの材質が限定されるという問題があり、またピエゾタイプのインクジェットヘッドでは構造が複雑でコストが高いといった問題がある。これらの問題を解決するインクジェットヘッドとして帯電粒子を分散させた溶液を静電気力により吐出させる液体吐出ヘッドが提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４）。
【０００３】
図８（ａ）及び（ｂ）は下記特許文献１に示される画像形成装置のインクジェットヘッドである記録ヘッドの一例の概略構成図である。図８（ａ）は記録ヘッドの概略断面図を示し、図８（ｂ）は突起板１２０を図８（ａ）中右側から見た図である。記録ヘッド１００は、絶縁性材料からなる略矩形板状の一対の支持部材１０１、１０２が対向して配置されている。これらの支持部材１０１、１０２の間隙は記録液供給路（インク供給路）１０４となっており、支持部材１０１、１０２の図中上側の端部は記録液流出口（インク流出口）１０４ａとなっている。記録液供給路１０４内は記録液１０６が図中下方から上方へ所定の圧力で流され、記録液流出口１０４ａから流出している。この記録液１０６は、正に帯電した帯電性の色材粒子１０５を分散させたインクである。記録液供給路１０４の内面（支持部材１０１、１０２の一方の表面）には、第１電極１１１がそれぞれ記録液流出口１０４ａまで形成されている。記録液供給路１０４内には先端に突起１２２を有するインクガイド部材である突起板１２０の突起１２２が記録液流出口１０４ａから突出するように配置されている。突起板１２０の表面の、支持部材１０１、１０２と対向する領域には第２電極１１２が形成されている。また、図中上方に対向電極１３０が配置されており、この対向電極１３０は接地されている。この対向電極１３０の突起１２２と対向する表面には、記録媒体１０８が配置されている。
【０００４】
このような記録ヘッド１００において、記録液流出口１０４ａから溢れた記録液１０６の一部は記録液流出口１０４ａ近傍で突起板１２０に沿って濡れ上がり、記録液１０６の供給圧力、表面張力等により、突起１２２の表面にメニスカス１４０が形成される。一方、記録液流出口１０４ａから溢れた記録液１０６の大部分は、支持部材１０１、１０２に沿って流れ図示しない記録液タンクへ回収される。
【０００５】
このように突起１２２表面に記録液のメニスカス１４０が形成された状態で、第１電極１１１及び第２電極１１２に正のバイアス電圧を印加すると、第１電極１１１及び第２電極１１２と対向電極１３０の間に電界が形成される。この電界によって記録液供給路１０４内を上昇する記録液１０６内の色材粒子１０５は突起１２２の先端に向けて移動し、突起１２２の先端近傍で凝集される。この状態で、所定のパルス幅で第１電極１１１及び第２電極１１２に電圧が重畳印加されると、第１電極１１１及び第２電極１１２と対向電極１１０間に形成された電界が強められ、メニスカス１４０にある色材粒子１０５が対向電極１３０側に引き付けられる。これにより、色材粒子１０５を含んだ記録液１０６を液滴として対向電極１３０に向けて吐出させることができる。特許文献１ではこのようにして記録液１０６の液滴を吐出させ記録媒体１０８上に色材粒子１０５を付着させている。
【０００６】
また、下記特許文献２に開示するインクジェットヘッドにおいてもインクガイド部材である突起板に沿ってインクを流し、突起板の突起にメニスカスを形成させている。この突起板は成型したアルミナ製電極ベースを、研磨により先端を尖らせたものである。
また、下記特許文献３では、インク滴の吐出方向と略垂直な方向に流れるインク層の表面から、先鋭部を有するインクガイド部材を突出させ、インク層から先鋭部の先端までインクを案内する案内溝をインクガイド部材に設け、インクガイド部材の先端から静電気力を利用してインク滴を吐出するインクジェットヘッドを開示している。このインクガイド部材はプラスティック樹脂の成型によって形成されたものである。
また、下記特許文献４では、インクガイド部材を設けず、インク供給路から流出するインクの圧力とインクの表面張力によってインク流出口に略半球状のメニスカスを形成し静電気力を利用してインク滴を吐出するインクジェットヘッドを開示している。
【特許文献１】特開平１０−７６６６４号公報
【特許文献２】特開平１１−１０５２９３号公報
【特許文献３】特開平１０−２３０６０８号公報
【特許文献４】特開平９−３０９２０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このような、静電気力により記録液であるインクを吐出させるインクジェットヘッドにおいて、小さなインク滴を吐出するには、インク滴吐出位置となるインクガイド部材の先端に形成されるメニスカスをなるべく微細に形成する必要がある。また安定した大きさ・形状の液滴を吐出するためには、このメニスカスの形状をなるべく一定に保つことが必要である。また、高い吐出周波数で、安定した形状・大きさのインク滴を吐出するには、インク滴の吐出により減少したインクをインク滴吐出位置に高速に供給し、インク吐出後のメニスカスの形状を素早くインク吐出前の状態に回復させる必要がある。また、高密度高精細に安定して液体を吐出するためには、インク滴吐出位置となるインクガイド部材の端に設けられる先鋭部を高密度高精細に形成する必要がある。
【０００８】
しかし、インクガイド部材である突起板に沿って先鋭部に向けてインクを流し、先端にインクのメニスカスを形成させる特許文献１及び特許文献２記載のインクジェットヘッドでは、インクの供給圧力の変動によってメニスカスが大きく変動する。このため、インク滴を安定した大きさ、位置精度で吐出させることができないといった問題があった。
【０００９】
また特許文献２で開示される、アルミナ製電極ベースを研磨により先端を尖らせたインクガイド部材である突起板の作製方法では、突起板の先鋭形状の精度に限界があり、また工数も多くかかるといった問題があった。
【００１０】
また、インク案内溝を上昇したインクによってインク滴吐出位置となる先鋭部の先端にメニスカスを形成させる特許文献３に開示されるインクジェットヘッドでは、毛細管現象によってインクを先鋭部に上昇させる。このため、インクの供給に時間がかかり、安定した大きさ及び色材成分濃度のインク滴を高い吐出周波数で連続して吐出することができないといった問題があった。
【００１１】
また、従来のプラスティック樹脂の成型によるインクガイド部材の作製方法は、型からプラスティック樹脂を抜き取る際に、プラスティックが型から抜けずに断裂し、所望の形状にできないといった不具合が生じる。このため、高精度に先鋭なインクガイド部材を作製することが困難である。また、この方法では、成型された複数のインクガイド部材を基板上に位置精度を高くして配列する必要があるが、インクガイド部材の配置位置精度を高めるにも限界があり、また、配列の為の工数も増加するといった問題があった。
【００１２】
また、インクガイド部材を設けず、インク流出口から流出するインクの圧力とインクの表面張力とによって、インク流出口に略半球状のメニスカスを形成する特許文献４に開示されるインクジェットヘッドでは、微細なメニスカスを形成するためにはインク流出口を小さくする必要がある。しかし、インクの目詰まりを防止する点からインク流出口の大きさをある程度以下にすることはできない。また、流出するインクの圧力の変動によってメニスカスの形状が大きく変動してしまう。これらの理由により微細なインク滴を安定して吐出することができないといった問題があった。
【００１３】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので、溶液を静電気力で液滴として吐出させる液体吐出ヘッドであって、従来に比べて微小な径の液滴を高密度に、しかも高周波で安定して吐出させることのできる液体吐出ヘッドと、この液体吐出ヘッドを高精度に高い生産性で作製できる液体吐出ヘッドの作製方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決するために、本発明は、帯電粒子が分散した溶液を対向電極に向けて吐出させる液体吐出ヘッドであって、前記対向電極と所定の距離離間して配置された第１の基板と、この第１の基板と一体に形成された、前記第１の基板から前記対向電極に向けて突出した突出部と、この突出部の突出端である対向電極に対向する上面に形成された、溶液を吐出させるためのガイドであって、前記上面から前記対向電極に向けて突出して先端部に近づくにつれて断面が狭くなり前記先端部が先鋭化するように傾斜面が設けられ、この傾斜面を溶液流として流れる前記溶液を前記先端部に導いて静電気力により液滴として吐出させる溶液ガイドと、前記静電力を作用する制御電極を備え、前記溶液ガイドを配置するための貫通孔が穿孔されている第２の基板と、を有し、前記第２の基板は、前記突出部の前記上面の一部に当接して接合されて支持されており、前記溶液ガイドは、少なくとも前記先端部が前記貫通孔を通り、この先端部が前記第２の基板の前記対向電極と対向する側の面よりも前記対向電極の側に突出し、この前記溶液ガイドの少なくとも前記先端部は単結晶材料からなり、異方性ウエットエッチングによって前記傾斜面が形成されて前記先端部が先鋭化されていることを特徴とする液体吐出ヘッドを提供する。
【００１５】
前記溶液ガイドの前記先端部は、高次の結晶面からなる斜面を有し先鋭化されていることが好ましい。
【００１６】
また、前記溶液ガイドの前記先端部の先端角が６０°以下であることが好ましい。
【００１７】
また、前記溶液ガイドの前記先端部の曲率半径が４μｍ以下であることが好ましい。
【００１８】
また、前記溶液ガイドの前記傾斜面に前記溶液流を形成するように前記溶液ガイド近傍に溶液を供給する溶液供給口を有する溶液供給路を備え、前記溶液供給路は、前記突出部の基部から前記上面に向かう方向に形成された突出部貫通孔によって作られていることが好ましい。
【００１９】
また、前記突出部貫通孔は前記突出部が設けられている前記第１の基板に形成された第１の基板貫通孔と接続され、前記第１の基板の、前記突出部の設けられた面と反対側の面に溶液流入口を開口しており、この溶液流入口より前記第１の基板貫通孔を介して溶液が供給されることが好ましい。
【００２０】
また、前記溶液ガイドの前記傾斜面を流れた前記溶液流の溶液を前記溶液ガイド近傍より回収する溶液回収口を有する溶液回収路を備え、前記溶液回収口は、前記第２の基板に穿孔された前記貫通孔の内壁と前記突出部の上面との間隙で形成され、かつ、前記溶液回収路は前記第１の基板と前記第２の基板との間隙によって形成されていることが好ましい。
【００２１】
また、本発明は、第１の基板と、この第１の基板から突出し、突出端が上面を成した突出部と、溶液を先鋭な先端部に導き静電気力により液滴として吐出させる、前記上面に設けられた単結晶材料からなる溶液ガイドと、前記溶液ガイドが基板面から突出するように設けられた貫通孔を有し、前記上面と接合されて前記突出部に支持固定されている第２の基板とを備える液体吐出ヘッドの作製方法であって、絶縁性基板を加工することにより、板状の基板に、前記突出部を成す突状部が突出端に上面を有するように形成された第１のヘッド部材を作製する工程と、前記突状部の前記上面と単結晶基板とを接合し、前記第１のヘッド部材と前記単結晶基板とを一体化する工程と、前記単結晶基板の異方性ウエットエッチングを行うことで、前記突状部の前記上面の所定の位置に前記溶液ガイドを成す先鋭部を作製する工程と、所定の位置に穿孔された貫通孔を有する、第２の基板を成す第２のヘッド部材を、前記先鋭部が前記貫通孔を貫通するよう所定の位置に位置合わせし、前記第２のヘッド部材の一方の表面を前記突出部の前記上面と接合して固定する工程とを有することを特徴とする液体吐出ヘッドの作製方法を提供する。
【００２２】
また、前記先鋭部を作製する工程は、予め異方性ドライエッチングによって表面に凹凸が形成された単結晶基板の、前記凹凸の形成された表面に対して異方性ウエットエッチングを行うことで、前記突状部の前記上面の所定の位置に前記溶液ガイドを成す先鋭部を作製してもよい。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の液体吐出ヘッドでは、半導体微細加工技術の異方性ウエットエッチングを用いることで、第１の基板から対向電極に向けて突出した突出部の対向電極と対向する表面である上面に、先端部が高度に先鋭な溶液ガイドを備えた液体吐出ヘッドを、高い位置精度および高い形状精度で、複数同時に作製することができる。このため、低い吐出電圧で、安定して液滴を吐出することができる液体吐出ヘッドを安価に作製することが可能である。
【００２４】
また、制御電極が設けられた第２の基板を突出部の上面に当接して接合している。これにより、第２の基板の反りによる溶液ガイドと制御電極との位置ずれを生じることがなく、この位置ずれに起因する液滴の吐出電圧のばらつきを生じることがない。これにより、複数の溶液ガイドそれぞれの表面の安定したメニスカスから、溶液を低い吐出電圧で安定して吐出させることができる。
【００２５】
また、溶液ガイドのごく近傍から溶液を流出させることで、液滴の吐出位置である溶液ガイドの先端部に素早く帯電粒子を含む溶液を供給することができる。また、流出した溶液が先鋭部の斜面の一部を横切る溶液流を形成し、その一部が溶液ガイド部材の最先端部に導かれてメニスカスを形成するので、流出する溶液の圧力変動に影響されることなくメニスカスを安定に形成することができる。このため、溶液ガイドの先鋭な先端部から、微小な液滴を高周波に安定して吐出することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、添付の図面に示す実施形態に基づいて、本発明の液体吐出ヘッド及びこの液体吐出ヘッドの作製方法を説明する。図１は本発明の液体吐出ヘッドの一実施形態であるインク吐出ヘッド３を有して構成されるインク吐出装置１の概略構成図である。図１に示すように、インク吐出装置１は、インク還流ユニット２と、インク吐出ヘッド（インク吐出ユニット）３と、電源ユニット６とから構成される。また、図２（ａ）および（ｂ）は、インク吐出ヘッド３を図１中の上側から見た概略構成図を示し、図２（ａ）は、インク吐出ヘッド３を図１中の上側から見た、対向電極４０（図１参照）を除いた概略構成図を示し、図２（ｂ）は、インク吐出ヘッド３を図１中の上側から見た、対向電極４０および第２のヘッド部材３２（図１参照）を除いた概略構成図を示す。
【００２７】
インク還流ユニット２は、インク循環装置２０、インク供給パイプ２２、インク回収パイプ２４を有して構成されている。また、インク循環装置２０はインクポンプ２６およびインクタンク２８を有して構成されている。
インク循環装置２０では、インクポンプ２６とインクタンク２８とが接続されている。インクポンプ２６はインク供給パイプ２２を介しインク収容室２９と接続されている。インク収容室２９はインクを収容する略矩形形状の空間で、インク収容室２９の図１中の上側の壁面はインク吐出ヘッド３のヘッド基板３４の基板面によって構成されている。
また、インクタンク２８は、インク回収パイプ２４を介しインク吐出ヘッド３と接続されている。
【００２８】
インク吐出ヘッド３は、第１のヘッド部材３０（以降ヘッド部材３０とする）、第２のヘッド部材である上蓋３２、対向電極４０、インクガイド５２を有して構成されている。また、対向電極４０には吐出した液体を受けて所定の画像等を記録する、記録媒体４２が載置されている。
【００２９】
ヘッド部材３０は、第１の基板である板状のヘッド基板３４から対向電極に向けて突出部５０が突出して構成されている。ヘッド基板３４は例えばガラス基板などの絶縁性基板で、ヘッド基板３４の所定の位置には、ヘッド基板３４の対向電極４０と対向する側の表面にヘッド基板３４と一体化されて形成された対向電極４０に向けて突出した略直方体形状の突出部５０が設けられている。突出部５０は、図２（ｂ）に示すように、ヘッド基板３４の図２（ｂ）中の上側の端部から図２（ｂ）中の下側の端部まで連なった略直方体形状で、ヘッド基板３４の基板面から一様な高さだけ突出して形成されている。
突出部５０の対向電極４０の側の表面である上面５４はヘッド基板３４の対向電極４０と対向する側の表面と略平行であり、ヘッド基板３４に設けられた複数の突出部５０の上面５４は全て略同一な平面に形成されている。
【００３０】
突出部５０には、突出部５０の突出方向（図１中上下方向）に突出部を貫通する突出部貫通孔５０ａが形成されており、この突出部貫通孔５０ａは板状のヘッド基板３４を貫通するヘッド基板貫通孔３４ａと接続し、溶液供給路であるインク供給路５５が形成されている。このインク供給路５５の一方の端は、上面５４にインク流出口５６を開口している。また、インク供給路５５の他方の端は、インク収容室２９の図１中の上側の壁面にインク流入口５７を開口している。また、突出部５０の上面５４の一部には、上面５４から対向電極４０に向かう方向に突出した、例えばＳｉなどの単結晶基板が異方性エッチングされて形成された、先端が高度に先鋭化されたインクガイド５２が設けられている。インクガイド５２については後述する。
【００３１】
ヘッド部材３０（第１のヘッド部材３０）の図１中の上側には、第２のヘッド部材である上蓋３２がヘッド部材３０と接合されて配置されている。
上蓋３２は、ヘッド基板３４から突出した突出部５０の上面５４に当接されてヘッド基板３４と略平行に配置された状態で固定されている。ヘッド基板３４の基板面と上蓋３６とは一定の間隔で離間して配置されており、ヘッド基板３４の基板面と上蓋３６の基板面および隣り合う突出部５０の壁面で囲まれた空間はインク回収路５８を形成している。
図２（ａ）および（ｂ)に示すように、ヘッド基板３４と上蓋３２との間隙は、図２（ａ）および（ｂ）中の左側、および下側、および右側の３方が側壁３５によって閉じられており、図２（ａ）および（ｂ）中の上側の間隙は、溶液回収パイプ２４に接続している。
【００３２】
上蓋３２は、第２の基板である制御基板４３と、分離障壁４６と、ガード電極４７と、シールド電極４８とを有して構成されている。
制御基板４３は、後述する制御電極４４および配線４５（図示せず）が設けられた、例えばガラスからなる絶縁性基板３１の、吐出電極４４および配線４５を含む表面全体に、例えばＳｉＯ２等の絶縁性膜３３がコーティングされて構成されており、制御基板４３の突出部５０に対応する所定の位置には、制御基板４３を図１中の上下方向に貫通する断面が円形の制御基板貫通孔４３ａが形成されている。また、制御基板４３の対向電極４０と対向する側の面（第１の面）には、図１中上方から見て制御電極４４の周囲を囲むように、ガード電極４７が設けられており、このガード電極４７の図１中上側の表面には、表面が撥インク性を有する絶縁性材料からなる分離障壁４６が設けられている。制御基板４３のヘッド基板３４と対向する側の表面（第２の面）には、全体に接地されたシールド電極４８が設けられている。
【００３３】
図３（ａ）および（ｂ）は、図１および図２に示す複数のインクガイド５２のうちの一つのインクガイド５２と、このインクガイド５２の周辺を説明する図である。図３（ａ）はインクガイド５２と、このインクガイド５２の周辺を拡大して表した概略断面図を示し、図３（ｂ）はインクガイド５２と、このインクガイド５２の周辺を拡大して表した概略平面図を示す。
図３（ａ）および（ｂ）に示すよう、にインクガイド５２は、略直方体形状の突出部５０の対向電極４０と対向する面である上面５４に設けられており、上面５４から対向電極４０に向けて突出し先端が先鋭化している。
【００３４】
図３（ａ）において、突出部５０はヘッド基板３４の対向電極４０の側の表面に対向電極４０に向けて突出して設けられており、突出部５０の突出方向（図３（ａ）中上下方向）に突出部５０を貫通する貫通孔である突出部貫通孔５０ａおよび、ヘッド基板を貫通するヘッド基板貫通孔３４ａとが接続されてインク供給路５５が形成されており、このインク供給路５５の一方の端は突出部５０の対向電極４０の側の表面である上面５４にインク流出口５６を備え、他方の端はインク収容室２９の壁面を構成するヘッド基板３４の基板面にインク流入口５７を開口している。インクガイド５２は突出部５０の上面５４のインク流出口５６の近傍に設けられている。
【００３５】
インクガイド５２は、例えばＳｉからなる単結晶材料が異方性ウエットエッチングされて形成された、先端角が６０°以下で、かつ先端の曲率半径が４μｍ以下の高度に先鋭化された錐体構造物７２の、先端部７５を含む表面全体に、例えば金属からなる導電性膜７４がコーティングされて形成されている。このインクガイド５２の形成方法については後に詳述する。
【００３６】
図３（ａ）および（ｂ）では、錐体構造物７２の表面に導電膜７４が形成された、表面が上面５４に対してそれぞれ異なった二段階の角度の斜面で形成されたインクガイド５２が示されている。この図３（ａ）および（ｂ）は、インクガイド５２の外形の概略を示すものであり、インクガイド５２の形状を忠実に再現するものではない。インクガイド５２の形状は、上述の異方性ウエットエッチングの条件によって種々の形状が得られるものである。本発明においてインクガイド５２は、単結晶材料の異方性ウエットエッチングによって先端が高精度に先鋭化されて形成されていればよく、特に限定されない。本発明におけるインクガイド５２は、上述のように先端角が６０°以下で、かつ先端の曲率半径が４μｍ以下であることが望ましい。
【００３７】
ヘッド基板３４の図３中上方には、上蓋３２が突出部５０の上面５４に当接して接合されており、ヘッド基板３４と上蓋３２との間隙はインク回収路５８となっている。上蓋３２の制御基板４３には、図１中上下方向に制御基板４３を貫通する円形の制御基板貫通孔４３ａが形成されており、この制御基板貫通孔４３ａからは少なくともインクガイド５２の先端部７５を含む一部が突出している。
上蓋３２は、図３(ｂ) に示すように、図３（ａ）中の上方から見て制御基板貫通孔３６ａの中心とインクガイド５２の先端部とが略一致しており、制御基板貫通孔３６ａ内の領域に、溶液流出口５６と上面５４の図３（ｂ）中の左側の端部である突出部５０のエッジ５１の一部が配置される位置に調整され配置されている。インク回収路５８は、制御基板貫通孔４３ａの内壁の制御基板４３の側の端部と、突出部５０のエッジ５１とで形成された開口であるインク回収口５９（図３（ａ）および（ｂ）参照）を通じインク流出口５６およびインク供給路５５と空間的に繋がっている。
【００３８】
制御基板４３には、制御電極４４が、図１中上側からみて制御基板貫通孔４３ａの周囲を囲むように、インクガイド５２の先端部７５を中心としたリング形状に、制御基板４３を構成する、Ａｌ２Ｏ３あるいはＺｒＯ２などのセラミックスあるいはポリイミドなどの樹脂で形成された絶縁性基板３１の表面に設けられている。この吐出電極４４の内径Ｄａと、吐出電極４４から記録媒体４２側に突出するインクガイド５０の最先端部までの距離、すなわち吐出電極４４の表面からインクガイド５０の最先端部までの距離Ｈとの比（Ｄａ：Ｈ）は１：０．５〜１：２の範囲にすることが好ましく、更に好ましくは、１：０．７〜１：１．７とするのが良い（図１参照）。なお、吐出電極４４の内径Ｄａと、吐出電極４４から記録媒体４２側に突出するインクガイド５０の最先端部までの距離については、本願出願人による出願である特願２００３−２０５８５号に詳細に記載されている。
【００３９】
これら個々の吐出電極４４は絶縁性基板３１の表面に形成された金属配線４５を通じて図示しない電極パッドに接続されている。図示しない電極パッドは、電圧源ユニット６の吐出バイアス電圧源６４および吐出信号電圧源６６と接続されている。
【００４０】
電圧源ユニット６の吐出バイアス電圧源６４は、制御基板４３の制御電極４４に常にバイアス電圧Ｖｂを印加し、また、吐出信号電圧源６６は図示しない信号出力手段から入力された信号により制御電極４４に、パルス電圧である吐出電圧Ｖｃをバイアス電圧Ｖｂに重畳し印加する構成となっている。
【００４１】
このような構成のインク吐出装置１において、以下のようなインクの流れが形成されている。
インク還流ユニット２では、インクタンク２８内に、インク１２が所定量入れられている。このインク１２は正に帯電した帯電性粒子を帯電制御剤やバインダーなどともに、１０８Ωｃｍ以上の抵抗率を持つ絶縁性溶媒中に分散させた溶液である。インクタンク２８内では、図示しない濃度調整機構によりインク１２の絶縁性溶媒中の帯電性粒子、帯電制御剤およびバインダーなどの濃度が所定の濃度範囲に入るように常に調整されている。インクタンク２８内で図示しない濃度調整機構により濃度調整されたインク１２は、インクポンプ２６から所定の圧力でインク供給パイプ２２を介してインク吐出ヘッド３のインク収容室２９へ供給されている。インク収容室２９内はインク１２で満たされ、個々のインク流入口５７を通り、インク供給路５５から個々の突出部５０へ供給されている（図１参照）。
【００４２】
突出部５０付近では、インクポンプ２６の作用によりインク収容室２９に供給されたインク１２が、インク供給路５５を図３(ａ) において下方から上方へ向かう方向へ流れ、インク流出口５６から流出している。このとき、このインク流出口５６から流出したインク１２が、突出部５０の上面５４に設けられたインクガイド５２の表面を横切り（図３（ａ）、（ｂ）中の矢印X方向の流れ）、インク回収口５９を通過してインク回収路５８に流入するようなインク流１４が形成されるようにインクポンプ２６によるインク１２の供給圧力が調整されている。
【００４３】
インク１２の一部はインクガイド５２の表面を横切る際、インク１２の表面張力の作用により、インクガイド５２の先端部７５に導かれる。先端部部７５に導かれたインク１２は、図３（ａ）に点線で示すような、インクガイド７２の少なくとも先端部７５を覆うメニスカス１６を形成している。このとき、メニスカス１６は主にインク１２の表面張力により形成されており、インクポンプ２６の脈動等に起因するインク１２の供給圧力の微小な変動による影響をほとんど受けることなく安定した形状に形成されている。また、上蓋３２の分離障壁４６により、隣接するインクガイド５２の表面に形成されたメニスカス１６同士が繋がることなく分離されている。インク吐出装置１では、このように個々のインクガイド５２の先端部７５に常に一定濃度の帯電性粒子を含むインク１２が供給されメニスカス１６が形成される構成となっている。
【００４４】
このように、個々のインクガイド５２に供給されたインク１２の一部はメニスカス１６を形成し、その他の大部分のインク１２はインク回収口５９を通りインク回収路５８へと流入し、インク回収路５８内をヘッド基板３４および制御基板３６と平行な方向（図２（ｂ）中の矢印Ｙで示す方向）に流れ、インク回収パイプ２４を通りインクタンク２８へと回収される。インクタンク２８に回収されたインク１２は、ここで再び濃度調整され、インクポンプ２６から所定の圧力でインク供給パイプ２２を介してインク収容室２９内へ再び送り出されている。本発明によるインク吐出装置１では、このようにインク還流ユニット２によって、インク吐出ヘッド３に常に一定濃度の帯電性粒子を含むインク１２が供給される構成となっている。
【００４５】
次に、インク吐出装置１における液体吐出動作について説明する。図４は本実施形態のインク吐出ヘッド３の液体吐出動作について説明する図で、図１に示す複数のインクガイド５２のうちの一つのインクガイド５２を拡大して表した概略断面図である。インク吐出ヘッド３には、前述のように一定濃度の帯電性粒子を含むインク１２が循環しており、インクガイド５２の表面には、少なくとも先端部７５を覆うメニスカス１６が形成されている。この状態で電源ユニット６のバイアス電源６２から例えば９００Ｖのバイアス電圧Ｖｂが印加されると、このバイアス電圧Ｖｂにより、制御電極４４と対向電極４０との間に電界が形成される。ここで図示しない信号出力手段から入力された信号により、電源ユニット６の駆動電源６４から、所望のインクガイド５２の周囲に形成された駆動電極４４に、例えば２５０Ｖのパルス電圧である駆動電圧Ｖｃが重畳されて計１１５０Ｖの電圧が印加される。すると、駆動電極４４と対向電極４０との間に形成された電界が強められ、この強められた電界によって、メニスカス１６からインク滴１８が静電気力により対向電極４０に向けて吐出し、記録媒体４２に付着する。
【００４６】
このとき、駆動電極４４から図３中下方向へ向かう電界も形成される。しかし、駆動電極４４の図４中下方向には、駆動電極４４と対向し接地されたシールド電極４８が設けられており、図４中下方向へ向かう電界はこのシールド電極４８に向かって集中し、シールドされる。これにより、駆動電極４４から図４中下方向へ向かう電界は、図４中左右方向への拡がりが抑制される。よって、インク供給路５５内には図４中の下方向へ向かう電界が形成されず、インク供給路５５内を図４中上方向に移動するインク１２には静電気力が働かない。このように、インク供給路５５内のインク１２は駆動電極４４に電圧を印加することで形成される電界による影響を受けず、インク供給路５５内を図４中下方から上方へ向けて、一定の帯電粒子の濃度で流れている。
【００４７】
制御電圧Ｖｃが印加されてインク滴１８が吐出すると、その直後に制御電極４４の電圧がバイアス状態に戻される。さらに吐出の直後、メニスカス１６において不足した分のインクが、先端部７５の近傍を流れるインク流１４から供給され、メニスカス１６の形状が素早く回復する。
【００４８】
本実施形態のインク吐出ヘッド３のインクガイド５２には導電膜７４が形成されている。この導電膜７４によりインクガイド５２の先端部７５が導電性を帯び、先端部７５周りの電界を強めることができる。本発明においては、所定の電界の強さを得られるのであれば、導電膜７４が形成されることを必ずしも必要としない。
【００４９】
また、本実施形態のインク吐出ヘッド３の制御電極４４の周囲には分離障壁４６を設けたが、本発明では必ずしも必要としない。しかし、隣接するインクガイド５２に形成されたメニスカス１６を分離し、隣接するインクガイド５２からインク滴１８が吐出するときのメニスカス１６の変動の影響を受けることなく、個々のインクガイド５２に形成された個々のメニスカス１６を安定して維持する点から分離障壁４６を設けるのが好ましい。
また、分離障壁４６の壁面へのインクの這い上がりを防止し、隣接するインクガイド５２に形成されたメニスカス１６をより確実に分離するために、分離障壁４６の少なくとも表面が撥インク性を有することが好ましい。撥インク性とは、インクが水性の場合は撥水性を、インクが油性の場合は親水性であることをいう。
【００５０】
また、本実施形態の制御基板の対向電極４０と対向する側と反対の側の表面は、駆動電極４４と対向してシールド電極４８により形成されているが、このシールド電極４８は必ずしも必要としない。しかしこのシールド電極４８によって駆動電極４４から図３中下方向へ向かう電界をシールドすることで、図３中下方向へ向かう電界の図３中の左右方向への広がりが抑制される。これにより、インク供給路５５内のインク１２の移動方向と逆向きの電界がインク供給路５５内に形成されるのを防ぐことができ、安定した濃度の帯電粒子を含むインク１２をインク流出口５６から流出させることができる。これにより、メニスカス１６内の帯電粒子の濃度を安定させ、吐出するインク滴１８の大きさ、形状が安定する点で、シールド電極４８を設けるのが好ましい。
【００５１】
このように本実施形態のインク吐出ヘッド３を有して構成されるインク吐出装置１によると、単結晶基板の異方性ウエットエッチングによって作製された、高精度に先鋭化されたインクガイド５２の先端部７５を覆うメニスカス１６を、インクポンプ２６の脈動等に起因するインク１２の供給圧力の変動に影響されることなく安定した形状に形成できる。また、メニスカス１６が形成される先端部７５の近傍を流れるインク流１４からメニスカス１６へインク１２が供給されるので、インク滴１８が吐出した後のメニスカス１６も素早く回復することができる。これらの効果により安定した大きさ、形状の微小なインク滴１８を高周波数で吐出することができる。
【００５２】
本発明で作製される液体吐出ヘッドは、色材粒子を含むインクの吐出に限定されず溶媒中に分散させた帯電性粒子を含む溶液を吐出するヘッドであればよく、溶液の種類は限定されない。
【００５３】
このようなインク吐出ヘッド３は以下のように作製することができる。
図５（ａ）〜（ｅ）および図６（ａ）〜（ｅ）は、本発明のインク吐出ヘッドの作製方法を説明する概略断面図である。
【００５４】
まず、絶縁性基板である、両面研磨された石英ガラスからなるガラス基板６７が用意され、このガラス基板６７の一方の表面（図５（ａ）中上側の面）に、フォトリソグラフィーを用いて所定の形状の金属パターン６８が形成される。この金属パターン６８を図５中の上側から見た形状は、図２（ｂ）に示す、突出部５０の上面５４を図１中上側からみた形状と同様の形状で、上面５４に対応する略長方形状のパターン６９のそれぞれの所定の位置に、溶液供給口５６に対応する開口７１が形成されている形状となっている。ここでは、絶縁性の基板として、石英ガラス基板が用いられているが、ホウケイ酸ガラスなどのガラス基板を用いることもできる。
【００５５】
次に、図５（ａ）に示すように、ガラス基板６７の金属パターン６８と対向する側の面（図５中下側の面）に、フォトリソグラフィーを用いて、例えばＣｒやＮｉ等からなる所定の形状の金属パターン７６が形成される。この金属パターン７６は、ガラス基板６７の金属パターン６８と対向する側の面全体に金属層が設けられ、この金属層に図５（ａ）中の下側から見て、金属パターン６８の開口５７と略一致するように、溶液流入口５７に対応する開口７７が設けられている形状となっている。
この金属パターンは、ＣｒやＮｉに限定されず、ＣＦ４ガスによるドライエッチングに耐性のあるものであればよい。
【００５６】
次に、図５（ｂ）に示すように、金属パターン６８をエッチングマスクとして、ガラス基板６７が図５中の上側の表面より所定の深さドライエッチングされて、ガラス基板６７の表面に凹凸が形成される。これにより、ガラス基板６７は、板状の基板部７０の表面から、断面が金属パターン６８に即した形状の突状部８０が突出した形状に加工される。このドライエッチングにより、突状部８０には、断面が開口部７１に即した形状の突状部貫通孔８０ａが形成されている。
【００５７】
次に、図５（ｃ）に示すように、金属パターン７６をエッチングマスクとして、ガラス基板６７が、このガラス基板６７の図５中の下側の表面からドライエッチングされる。これにより断面が開口７７に即した形状の、基板部貫通孔７０ａが穿孔され、この基板部貫通孔７０ａと突状部貫通孔８０ａとが接続し、ガラス基板６７の上下方向に貫通したガラス基板貫通孔６７ａが形成される。次に、金属パターン６８および７６がエッチング除去される（図５（ｄ)参照）。これにより、ヘッド基板３４に対応する基板部７０の所定の位置から、突出部５０に対応する略直方体形状の突状部８０が突出し、基板部７０および突状部８０とを図５中の上下方向に連通する、インク供給路５５に対応するガラス基板貫通孔６７ａを備える第１のヘッド部材３０が作製される。
【００５８】
次に、図５（ｅ)に示すように、突状部８０の図５中の上側の表面である上面８１に、両面が研磨された（１００）結晶面を表面にもつ単結晶Ｓｉ基板７８が、表面活性化接合法により接合される。この基板同士の接合は表活性化接合法に限定されずＫＯＨエッチャントに耐久性のあるソルダや、接着剤を用いて行われてもよい。また、ガラス基板６７を石英ガラス基板ではなくホウケイ酸ガラスなどのアルカリイオンを含むガラス基板とした場合、この基板同士の接合は陽極接合法を用いて行うことができる。
【００５９】
次に、図６(ａ)に示すように、単結晶Ｓｉ基板７８の表面に、例えば熱酸化法あるいはＣＶＤ法によりＳｉＯ２膜が形成され、フォトリソグラフィーおよびエッチングにより、単結晶Ｓｉ基板７８の〈１１０〉と〈１−１０〉結晶方位を辺とする、所定の大きさの正方形のＳｉＯ２パターン８２が第１のヘッド部材３０の突状部８０に対応する位置に形成される。
【００６０】
次に、このＳｉＯ２パターン８２をエッチングマスクとして、単結晶Ｓｉ基板７８のＳＦ６ドライエッチングを行い、Ｓｉを所定量エッチングすることで、図６（ｂ）に示すように、Ｓｉからなる四角柱構造物８４を複数形成する。
【００６１】
次に、ＳｉＯ２パターン８２をＣＦ４ドライエッチングを行うことで除去する（図６（ｃ））。その後、全体を３４ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を７０℃程度に加熱した液に浸し、Ｓｉの異方性エッチングを行う。このエッチングでは、特に四角柱構造物８４の各エッジおよび各頂点部分からのエッチング速度が高く、高次の結晶面をエッチング表面としつつエッチングが進行する。このエッチングにより、高次の結晶面からなる斜面で形成された、先端角が約６０°以下で曲率半径４μｍ以下の尖った先端をもつ、Ｓｉからなる錐体構造物８６が柱状部８０の基板上面８１に作製される。この錐体構造物８６の表面に図６（ｄ）に示すように、スパッタ法などを用いて導電膜８７が形成され、ヘッド部材３０のヘッド基板３４（基板部７０）の表面から突出した、突出部５０（突状部８０）の上面５４（基板上面８１）に、インクガイド５２に対応する先鋭部材８８が作製される。
【００６２】
次に、図６（ｅ）に示されるように、突状部８０の上面５４に、別途作製された、所定の位置に穿孔された貫通孔と、この貫通孔を囲うように形成された前記制御電極を成す金属パターンとを備える第２のヘッド部材３２が当接されて、例えば接着剤により貼り合わされ、第１のヘッド部材３０と第２のヘッド部材３２が接合される。この後、第１のヘッド部材３０と第２のヘッド部材３２に、上述の側壁３５が配置・接合されることで、インク吐出ヘッド３が形成される（図１および図２（ａ）、（ｂ）参照）。
【００６３】
本発明におけるインクジェットヘッド３は、第１の実施形態における、Ｓｉ単結晶基板７８のエッチング工程（図６（ｂ）〜（ｄ）で示される工程）を以下のようにして作製することも可能である。図７は、本発明のインク吐出ヘッド３の作製方法の第２の実施形態における、Ｓｉ単結晶基板７８のエッチング工程について説明する概略断面図である。
この第２の実施形態では、図６(ａ)に示される、単結晶Ｓｉ基板７８の〈１１０〉と〈１−１０〉結晶方位を辺とする、所定の大きさの正方形のＳｉＯ２パターン８２が形成された後、このＳｉＯ２パターン８２をエッチングマスクとして、３４ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を７０℃に加熱した液に上記基板を浸し、Ｓｉの異方性エッチングを行う。このエッチング工程において、単結晶Ｓｉ基板７８は正方形のＳｉＯ２パターン８２をエッチングマスクとしてエッチングされる。このエッチングでは、ＳｉＯ２パターン８２の正方形のコーナー部分からアンダーカットが進行し、ＳｉＯ２パターン８２が単結晶Ｓｉ基板７８の表面から離脱するまでエッチングが行われる。これにより、図７に示すように、高次の結晶面からなる斜面で形成された、先端角が約６０°以下で曲率半径４μｍ以下の尖った先端をもつ、Ｓｉからなる錐体構造物８６が柱状部８０の基板上面８１に作製される。
この後、第１の実施形態と同様、図６（ｅ）で示す工程が行われてインク吐出ヘッド３が作製される。
【００６４】
上述の第１の実施形態では、ＳＦ６反応ガスによるＳｉの四角柱構造を形成するためのエッチングマスクとしてＳｉＯ２を用いたが、ＣｒやＡｌ等のフッ素系ガスに耐性のある金属をマスクとして用いてもよい。
【００６５】
また、上述の第１の実施形態では、ＳＦ６反応ガスによるドライエッチングにより、Ｓｉの四角柱構造を形成したが、直接Ｓｉをサンドブラスト、超音波加工などの微細加工法を用いて同様の柱状構造を作製してもよい。
【００６６】
上述の、第１の実施形態および第２の実施形態では、Ｓｉの単結晶基板を異方性エッチングして先鋭なインクガイドを作製した。本発明においては、異方性エッチングすることで先鋭なインクガイドが作製できるならば、単結晶基板の材料は、必ずしもＳｉでなくともよい。本発明のインク吐出ヘッドの作製方法では、異方性エッチングすることで先鋭なインクガイドが作製できるならば、例えば化合物半導体単結晶基板などからインクガイドを作製しても構わない。
【００６７】
また、上述の、第１の実施形態および第２の実施形態では、異方性エッチングによって高次の結晶面を斜面とする先端が先鋭なインクガイドを作製した。本発明においては、必ずしもインクガイドは高次の結晶面を斜面としていなくてもよく、例えば（１１１）面で形成されていてもよい。
【００６８】
また、上述の、第１の実施形態および第２の実施形態では、インクガイドの先端角を６０°以下、かつ先端の曲率半径を４μｍ以下とした。本発明においては、所望の吐出電圧において、インクガイド先端から安定して液滴が吐出されるならば、インクガイドの先端をこの程度まで高先鋭に形成しなくともかまわない。ただし、より低い吐出電圧でより安定にインクを吐出するためには、インクガイドの先端は先端角を６０°以下、かつ先端の曲率半径を４μｍ以下にすることが好ましい。
【００６９】
以上、本発明の液体吐出ヘッドの一実施形態であるインク吐出ヘッドについて詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の液体吐出ヘッドの一実施形態であるインク吐出ヘッド３を有して構成されるインク吐出装置１の概略構成図である。
【図２】（ａ）および（ｂ）は、インク吐出ヘッド３を図１と異なる方向から見た概略構成図である。
【図３】（ａ）および（ｂ）は、図１および図２に示す複数のインクガイド５２のうちの一つのインクガイドと、このインクガイドの周辺を説明する図である。
【図４】本実施形態のインク吐出ヘッド３の液体吐出動作について説明する図である。
【図５】（ａ）〜（ｅ）は本発明のインク吐出ヘッドの作製方法を説明する図である。
【図６】（ａ）〜（ｅ）は、本発明のインク吐出ヘッドの作製方法を説明する図で、図５（ｅ）に示される工程以降の工程を示す図である。
【図７】本発明のインク吐出ヘッドの第２の実施形態における、Ｓｉ単結晶基板のエッチング工程について説明する図である。
【図８】従来のインクジェット記録装置のインクジェットヘッドの一例の概略構成図である。
【符号の説明】
【００７１】
１  インク吐出装置
２  インク還流ユニット
３  インク吐出ヘッド
６  電圧源ユニット
１４  インク流
１６、１４０  メニスカス
２０  インク循環装置
２２  インク供給パイプ
２４  インク回収パイプ
２６  インクポンプ
２８  インクタンク
２９  インク収容室
３０  ヘッド部材
３２  上蓋
３４  ヘッド基板
３５  側壁
４０、１１０  対向電極
４３  制御基板
５０  突出部
５２  インクガイド
５４  上面
５５  インク供給路
５６  インク流出口
５７  インク流入口
５８  インク回収路
５９  インク回収口
６４  吐出バイアス電源
６６  吐出信号電圧源
６７  石英ガラス基板
７５  先端部
７６  金属パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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