(57)【要約】【課題】  浸炭ガスの使用量を低減でき、加熱室外部への浸炭ガスの漏出を抑制できる真空浸炭炉を提供する。【解決手段】  炉体２内の加熱室４に気密性の気密性容器８を設ける。この気密性容器８内で処理材に真空浸炭処理を行う。真空浸炭時に気密性容器８内に浸炭ガスを導入し、気密性容器内部の圧力を外部の圧力よりも小さくする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に処理材が収納される気密性を有する気密性容器と、
該気密性容器を収容する炉体と、
炉体内の気密性容器の外部に設けられ、気密性容器内を加熱するヒータと、
浸炭用ガス導入手段と、
気密性容器の内部を吸引排気して減圧する内部用真空ポンプと、を備え、
前記浸炭用ガス導入手段は、気密性容器の内部にのみ浸炭用ガスを導入して処理材を浸炭し、前記内部用真空ポンプは浸炭用ガスを気密性容器の内部から直接排気することを特徴とする真空浸炭炉。
【請求項２】
浸炭用ガスが前記気密性容器の内部に導入される時に、気密性容器の内部の圧力が炉体内のその外部の圧力よりも小さくなるようにする差圧発生手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の真空浸炭炉。
【請求項３】
前記気密性容器の内部と炉体内のその外部との差圧を計測する差圧計と、前記差圧計の計測値に基づいて、前記差圧発生手段を制御して前記差圧を調整する制御手段と、をさらに備えることを特徴とする請求項２に記載の真空浸炭炉。
【請求項４】
炉体内の気密性容器の外部に不活性ガスを導入する不活性ガス導入手段をさらに備え、
前記浸炭用ガス導入手段と前記不活性ガス導入部手段が、前記気密性容器の内部の圧力が炉体内のその外部の圧力よりも小さくなるような流量で、それぞれ浸炭用ガスと不活性ガスを気密性容器の内部と炉体内のその外部に導入することを特徴とする請求項１に記載の真空浸炭炉。
【請求項５】
前記浸炭用ガス導入手段により導入される浸炭用ガスの流量をその開度により制御する浸炭用ガス調整弁と、
前記不活性ガス導入手段により導入される不活性ガスの流量をその開度により制御する不活性ガス調整弁と、
前記気密性容器の内部と炉体内のその外部との差圧を計測する差圧計と、
該差圧計の計測値に基づいて、前記浸炭用ガス調整弁と不活性ガス調整弁の開度を制御して前記差圧を調整する制御部と、をさらに備えることを特徴とする請求項４に記載の真空浸炭炉。
【請求項６】
炉体内の気密性容器の外部を吸引排気して減圧する外部用真空ポンプをさらに備え、
浸炭用ガスが前記気密性容器の内部に導入される時に、前記内部用真空ポンプと外部用真空ポンプは、前記気密性容器の内部の圧力が炉体内のその外部の圧力よりも小さくなるように、それぞれ気密性容器の内部と炉体内のその外部を吸引排気することを特徴とする請求項１に記載の真空浸炭炉。
【請求項７】
前記内部用真空ポンプによる吸引排気量をその開度により制御する内部用調整弁と、
前記外部用真空ポンプにより吸引排気量をその開度により制御する外部用調整弁と、
前記気密性容器の内部と炉体内のその外部との差圧を計測する差圧計と、
該差圧計の計測値に基づいて、前記内部用調整弁と外部用調整弁の開度を制御して前記差圧を調整する制御部と、をさらに備えることを特徴とする請求項６に記載の真空浸炭炉。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、鉄鋼材料の真空浸炭炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
鉄鋼材料の疲労強度や耐摩耗性等の機械的性質を向上させるために、従来からガス浸炭が広く行われているが、可燃ガスによる危険性があったり、処理物表面の粒界酸化が生じてしまう等の問題がある。ガス浸炭の代わりとしてプラズマ浸炭があるが、設備費が高くなることから特殊浸炭に限定されている。
【０００３】
一方、真空浸炭では、ガス浸炭の問題点を大幅に改善し、安全性が高く、粒界酸化を生じさせずに高品質が得られる。例えば、疲労強度、耐摩耗性、衝撃特性がガス浸炭に比べて優れていると認められている。これは、真空浸炭は、水と酸素のほとんどない浸炭雰囲気中で浸炭を行うので、粒界酸化が全く生じないことによると推定されている。
【０００４】
真空浸炭処理では、鉄鋼材料を真空中で加熱昇温し、各部分が所定の浸炭温度に到達するまで保持する。均一な温度になったら浸炭用ガスを導入し、浸炭雰囲気中で所定の真空度を保ちながれ浸炭を行う。一定量浸炭されたら浸炭用ガスを排出して、真空雰囲気中で表層部の炭素を芯部へ拡散させる。目的とする表面炭素量と浸炭深さが得られたら鉄鋼材料の温度を焼入温度に下げ、窒素ガスを導入し油焼入を行う（例えば、特開２０００−００１７６５）。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−１４５２５７
【特許文献２】特開２０００−００１７６５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
真空浸炭炉は、通常の真空炉と同様な炉体内に断熱材で構成され内部にヒータを有する加熱室内で浸炭処理を行う。即ち、従来において、鉄鋼材料に対してヒータで直に加熱する直接加熱方式を採用している（例えば、特開２０００−００１７６５や、関連技術である真空炉を開示している特開平９−１４５２５７）。
【０００７】
また、浸炭用ガスは加熱室内に直接導入される。しかし、加熱室自体は気密構造ではなく導入された浸炭用ガスは加熱室外へ漏出する。最終的には炉体内全体に浸炭用ガスは充満する。従って、浸炭用ガスの導入量は炉体の内容積により決まる。また、加熱室外へ漏出した浸炭用ガスは処理材の浸炭処理には寄与せず、余剰ガスとして炉外へ排気される。
【０００８】
浸炭用ガスには、プロパンやアセチレンといった炭化水素ガスが用いられている。これらのガスは、高温の炉内で変質しエチレンやメタン、ブタンといったガス成分の混合状態になる。メタンやブタンは浸炭性が弱くこれらのガスの炉内への残留がスーティング（ススへの変化）の原因と考えられている。
特に、低温部での余剰ガスの存在は、スーティングによるヒータ電極部の絶縁抵抗劣化の原因となり、浸炭炉の安全な運転を妨げる要因になる。
【０００９】
以上のように、従来の真空浸炭炉は以下の欠点を有している。（１）浸炭処理とは無関係な加熱室外部の空間まで浸炭用ガスを投入しなければならず、浸炭用ガスの無駄が多いこと（浸炭効率の低下）。（２）加熱室外部へ漏出したガスは、スーティングにより絶縁劣化を招き、安全運転の阻害要因となること。
【００１０】
本発明の目的は、簡単な構成で、浸炭用ガスの使用量を低減でき、加熱室外部への浸炭用ガスの漏出を抑制できる真空浸炭炉を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明によると、内部に処理材が収納される気密性を有する気密性容器と、該気密性容器を収容する炉体と、炉体内の気密性容器の外部に設けられ、気密性容器内を加熱するヒータと、浸炭用ガス導入手段と、気密性容器の内部を吸引排気して減圧する内部用真空ポンプと、を備え、前記浸炭用ガス導入手段は、気密性容器の内部にのみ浸炭用ガスを導入して処理材を浸炭し、前記内部用真空ポンプは浸炭用ガスを気密性容器の内部から直接排気することを特徴とする真空浸炭炉が提供される。
【００１２】
この構成によると、所定の圧力に減圧された真空状態で処理材を浸炭するのに、気密性容器内にのみ浸炭用ガスが導入され、気密性容器内から直接浸炭用ガスを排気するので、気密性容器の外部に浸炭用ガスが漏出するのを防止できる。
【００１３】
本発明の好ましい実施形態によると、上述の真空浸炭炉は、浸炭用ガスが前記気密性容器の内部に導入される時に、気密性容器の内部の圧力が炉体内のその外部の圧力よりも小さくなるようにする差圧発生手段をさらに備える。
【００１４】
これにより、浸炭用ガスが導入される気密性容器内部の圧力は、気密性容器外部の圧力よりも低くされるので、気密性容器内から外部への浸炭用ガスの漏出を最小限まで抑制することができる。
【００１５】
本発明の好ましい実施形態によると、上述の真空浸炭炉は、前記気密性容器の内部と炉体内のその外部との差圧を計測する差圧計と、前記差圧計の計測値に基づいて、前記差圧発生手段を制御して前記差圧を調整する制御手段と、をさらに備える。
【００１６】
これにより、気密性容器内外の差圧を計測しこの計測値に基づいて、差圧が調整されるので、真空浸炭を行っている間、常に浸炭用ガスが外部に漏出しない差圧を維持することができる。
【００１７】
本発明の好ましい実施形態によると、上述の真空浸炭炉は、炉体内の気密性容器の外部に不活性ガスを導入する不活性ガス導入手段をさらに備え、前記浸炭用ガス導入手段と前記不活性ガス導入部手段が、前記気密性容器の内部の圧力が炉体内のその外部の圧力よりも小さくなるような流量で、それぞれ浸炭用ガスと不活性ガスを気密性容器の内部と炉体内のその外部に導入する。
【００１８】
これにより、前記気密性容器の内部の圧力がその外部の圧力よりも小さくなるような流量で、浸炭用ガスと不活性ガスを気密性容器の内部と炉体内のその外部に導入するので、圧力の低い気密性容器内部に導入された浸炭用ガスの外部への漏出を最小限まで抑制することができる。
【００１９】
本発明の好ましい実施形態によると、前記真空浸炭炉は、前記浸炭用ガス導入手段により導入される浸炭用ガスの流量をその開度により制御する浸炭用ガス調整弁と、前記不活性ガス導入手段により導入される不活性ガスの流量をその開度により制御する不活性ガス調整弁と、前記気密性容器の内部と炉体内のその外部との差圧を計測する差圧計と、該差圧計の計測値に基づいて、前記浸炭用ガス調整弁と不活性ガス調整弁の開度を制御して前記差圧を調整する制御部と、をさらに備える、
【００２０】
これにより、該差圧計の計測値に基づいて、前記浸炭用ガス調整弁と不活性ガス調整弁の開度を制御することで、気密性容器内外の差圧を適切に維持できる。
【００２１】
本発明の好ましい実施形態によると、上述の真空浸炭炉は、炉体内の気密性容器の外部を吸引排気して減圧する外部用真空ポンプをさらに備え、浸炭用ガスが前記気密性容器の内部に導入される時に、前記内部用真空ポンプと外部用真空ポンプは、前記気密性容器の内部の圧力が炉体内のその外部の圧力よりも小さくなるように、それぞれ気密性容器の内部と炉体内のその外部を吸引排気する。
【００２２】
これにより、吸引排気量を設定又は制御することで、気密性容器内外に差圧を発生させるので、気密性容器内部に導入された浸炭用ガスの外部への漏出を最小限まで抑制することができる。
【００２３】
本発明の好ましい実施形態によると、上述の真空浸炭炉は、前記内部用真空ポンプによる吸引排気量をその開度により制御する内部用調整弁と、前記外部用真空ポンプにより吸引排気量をその開度により制御する外部用調整弁と、前記気密性容器の内部と炉体内のその外部との差圧を計測する差圧計と、該差圧計の計測値に基づいて、前記内部用調整弁と外部用調整弁の開度を制御して前記差圧を調整する制御部と、をさらに備える。
【００２４】
これにより、該差圧計の計測値に基づいて、前記内部用調整弁と外部用調整弁の開度を制御することで、気密性容器内外の差圧を適切に維持できる。
【発明の効果】
【００２５】
このように、本発明によると、気密性の気密性容器を用い、気密性容器内外で差圧が生じるように制御することで、浸炭用ガスの使用量を削減することができ、処理材と浸炭用ガスとの反応がより効率的になることで浸炭反応自体も促進される。さらに、ヒータ設置箇所への浸炭用ガスの流入が激減することで、従来発生していたヒータ電極部での絶縁抵抗劣化の要因を除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下において、本発明の好ましい実施形態を添付の図面を参照して説明する。図１は本発明の実施形態による真空浸炭炉を示している。
この真空浸炭炉１０は、炉体２と、加熱室４を区画する断熱材６と、加熱室４内に設けられる気密性容器８と、加熱室４の内部であるが気密性容器８の外部に設けられたヒータ１２とを備える。ヒータ１２は、電気ヒータ、ラジアントチューブヒータなどの本実施形態に適切などのようなヒータであってもよい。
【００２７】
また、真空浸炭炉１０は、気密性容器８内に浸炭用ガスを直接導入する浸炭用ガスノズル１４と、加熱室４内に窒素などの不活性ガスを導入する不活性ガスノズル１６とを備える。気密性容器８は気密にできており、これにより気密性容器８内に導入された浸炭用ガスが気密性容器８外に漏出することを防止できる。
【００２８】
気密性容器８は、例えば開閉可能な遮断扉又は蓋を有する箱型のものでよく、遮断扉を閉じた状態で内部の気密性が保たれるようになっている。遮断扉の開閉により処理材（鉄鋼材料）を気密性容器８内に収容したり、気密性容器内から取り出すことができるようになっている。気密性容器８は、グラファイトや金属性材料等の気密性を有する材料で作られる。また、グラファイトや金属性材料以外の気密性を有する他の適切な材料から作られてもよい。
【００２９】
図示されるように、浸炭用ガスノズル１４は、浸炭用ガス管１８を通して浸炭用ガス供給源１９に接続される。浸炭用ガス管１８には、浸炭用ガスの流量を調整するための開閉可能な流量調整弁２０が設けられている。同様に、不活性ガスノズル１６は、不活性ガス管２２を通して不活性ガス供給源２３に接続される。不活性ガス管２２には、不活性ガスの流量を調整するための開閉可能な流量調整弁２４が設けられている。
【００３０】
真空浸炭時において、浸炭用ガスノズル１４から気密性容器８内に浸炭用ガスを導入すると同時に、気密性容器８内を所定の圧力の真空状態にするために、気密性容器８内の浸炭用ガスを外部に吸引排気（真空排気）するための排気管２５とこれに接続させる真空ポンプ２６が設けられている。排気管２５の一端部は気密性容器８内に開口しており、他端部は、例えば排気ガスの流量を調整する流量調整弁３０を介して真空ポンプ２６に接続されている。
【００３１】
さらに、真空浸炭時において、気密性容器８外の炉体２内（加熱室４）を所定の圧力の真空状態にするために、排気管２７とこれに接続される真空ポンプ２８が設けられる。図１に示されるように排気管２７の一端部は、炉体２内に開口しており、他端部は、ガス流量を制御するための流量調整弁３２を介して真空ポンプ２８に接続されている。なお、新たな、真空ポンプ２８を設けないで、気密性容器８の内部を吸引排気する真空ポンプ２６が、気密性容器８の外部も吸引排気してもよい。この場合には、排気管２７の他端部は流量調整弁３２を介して真空ポンプ２６に接続される。
【００３２】
上述の例では、真空浸炭時に気密性容器８内外で差圧（内部圧＜外部圧）を発生させるために、気密性容器８の内部への浸炭用ガスの流量を流量調整弁２０により調整し、気密性容器８の外部への不活性ガスの流量を流量調整弁２４により調整する構成としたが、この構成の代わりに、又はこの構成に加えて以下のように気密性容器８内外に差圧を発生させてもよい。
【００３３】
真空浸炭時において、２つの真空ポンプ２６、２８により気密性容器８の内部と外部を吸引排気するが、このとき、流量調整弁３０の開度を制御することにより、気密性容器８の内部を排気する量（流量）を制御し、流量調整弁３２の開度を制御することにより、気密性容器８の外部を排気する量（流量）を制御することで気密性容器８内外に差圧を発生させてもよい。
【００３４】
また、真空浸炭炉１０には、気密性容器８の外部の圧力と、気密性容器８の内部の圧力との差を検出するための差圧計３４が設けられている。この差圧計３４が、気密性容器内部と外部との差圧を検出し、検出信号を制御部３６へ出力する。制御部３６は、差圧計３４から検出信号を受けてこの検出信号に基づき流量調整弁２０、２４に制御信号を送りこれらの開度を制御することで、真空浸炭時における気密性容器８内外の差圧の調整を行ってもよい。
【００３５】
差圧計３４から検出信号を受けた制御部３６は、浸炭用ガスの導入量を制御する流量調整弁２０の開度と、不活性ガスの導入量を制御する流量調整弁２４の開度を制御する代わりに、気密性容器８の内部を吸引排気する量を制御する流量調整弁３０の開度と、気密性容器８の外部を吸引排気する量を制御する流量調整弁３２の開度を制御してもよい。即ち、制御部３６は、流量調整弁２０、２４に制御信号を送る代わりに、流量調整弁３０、３２に制御信号を送り、これらの開度を調整して気密性容器８内外の差圧を調整してもよい。
【００３６】
図２は、図１の真空浸炭炉１０とこれに関連する冷却室３８と焼き入れ油槽４０を示している。冷却室３８には開閉可能な前扉４２と中間扉４４が取り付けられている。処理材は、前扉４２を通して冷却室３８に搬送することができ、中間扉４４を通して処理材を冷却室３８から真空浸炭炉１０内の気密性容器８内に搬送することができる。また、エレベータ４５を下降させることで処理材を油槽の油中に浸して焼き入れ処理を行うことができる。なお、外部と、冷却室３８と、真空浸炭炉１０内の気密性容器８との間の処理材の搬送は図示されない搬送装置によって行われる。
【００３７】
また、冷却室３８を所定の圧力の真空状態にするための排気管（図示せず）とこれに接続される真空ポンプ（図示せず）が設けられる。  
【００３８】
次に、上記構成を持つ真空浸炭炉１０を用いた浸炭処理について説明する。
まず、ヒータ１２により気密性容器８内を９３０℃から１１００℃まで昇温する。これと同時に流量調整弁３０を開けて真空ポンプ２６により気密性容器８の内部を所定の圧力（一般的に、１Ｔｏｒｒ以下）にしておく。
【００３９】
この時、同様に、流量調整弁３２を開けて真空ポンプ２８により気密性容器８外の加熱室４を吸引排気して所定の圧力の真空状態にしておく。
この時、気密性容器８の外部は、気密性容器８の内部の圧力よりも高い圧力の真空状態にしておく。即ち、真空ポンプにより、気密性容器８内と、気密性容器８外の加熱室４とに差圧を生じさせておく。この差圧のため、後で気密性容器８内に浸炭用ガスが供給された時に、気密性容器８外への浸炭用ガスの漏出を最小限まで抑制することができる。
【００４０】
また、気密性容器８の内部と外部との差圧は、差圧計３４によって検出されて、この検出信号を受けた制御部３６が、それぞれ流量調整弁２０、２４の開度を調整して所望の差圧が得られるようにしておくことができる。
一方、この時、冷却室３８には例えば図示されないガス供給管から窒素ガスが供給されて冷却室３８の圧力は大気圧とされる。
【００４１】
次に、前扉４２を開けて処理材を冷却室３８に搬送し、前扉４２を閉じる。その後、真空ポンプによって冷却室３８の圧力を、図示されない真空ポンプにより例えば１Ｔｏｒｒ以下にし、冷却室３８の圧力と気密性容器８内の圧力を同じにする。
気密性容器８内と冷却室３８を同圧にした後、中間扉４４を開けて処理材を気密性容器８内に搬送し、中間扉４４を閉じる。中間扉４４を閉じたら気密性容器８内が処理温度（９３０℃から１１００℃）に復温するのを待つ。復温したら、気密性容器８内にて処理材を所定時間（一般に、４０分以上）保持して予熱を行う。この際、冷却室３８の圧力を６００Ｔｏｒｒ程度まで復圧しておく。
【００４２】
予熱が完了したら、浸炭用ガスノズル１４から浸炭用ガスを気密性容器８内に供給する。この時、気密性容器８は気密に構成されているので、気密性容器８内部から外部への浸炭用ガスの漏出を防止できる。さらに、上述したように、気密性容器８内の圧力は、気密性容器８外の圧力よりも低くされている。従って、気密性容器８内の供給された浸炭用ガスは、無駄なく浸炭反応に用いられ、浸炭用ガスの気密性容器８外への漏出は最小限まで抑制できる。また、浸炭用ガスの気密性容器８外への漏出が防止できるので、漏出ガスによるヒータ１２の電極部の絶縁劣化をも防止することができる。
【００４３】
なお、排気管２５、２７に設けられた流量調整弁３０、３２の開度を制御して気密性容器８内外で差圧を生じさせる代わりに、又はこれに加えて、浸炭用ガス管１８に設けられた流量制御弁２０の開度と、不活性ガス管２２に設けられた流量調整弁２４の開度を制御することにより、差圧を発生させてもよい。また、差圧は、真空ポンプ２６、２８の吸引力を制御することで、発生させたり、浸炭用ガスの導入量と不活性ガスの導入量を流量調整弁２０、２４によらないで他の適切な手段で制御することで差圧を発生させ調整することも可能である。
【００４４】
気密性容器８内に浸炭用ガスを供給している際に、差圧計３４は、気密性容器８内と気密性容器８外（加熱室４内）との差圧を計測し、制御部３６は、その計測値に基づいて流量調整弁２０、２４又は流量調整弁３０、３２の開度を調整する。これにより、気密性容器８の内部と外部の差圧が調整される。
【００４５】
このように所定時間、気密性容器８内に浸炭用ガスを導入して浸炭が行われた後、浸炭用ガスの供給を停止し、真空ポンプ２６により気密性容器８内を真空引してもとの真空度に戻し拡散処理を行う。拡散処理が終了したら、処理材を焼き入れ温度まで降温して、均熱する。この後、不活性ガスノズル１６や図示しない不活性ガス導入管により気密性容器８内と炉体２内に例えば窒素ガスを導入して、例えば６００Ｔｏｒｒに復圧した後、気密性容器４内部、炉体２内部及び冷却室３８を同圧にする。
【００４６】
引き続いて、中間扉４４を開いて気密性容器内８から処理材を冷却室３８へ移動しエレベータ４５の上へ搬送し、中間扉４４を閉じてエレベータ４５を下降させ油槽４０の油中に処理材を浸して焼き入れ処理を行う。焼き入れ処理が終わったらエレベータ４５を上昇させて油を切り冷却室３８の圧力を大気圧に戻し前扉を開けて処理材を冷却室３８から搬出する。このようにして、１サイクルの真空浸炭処理が行われる。
【００４７】
上述した本発明の実施形態による真空浸炭炉１０を用いた真空浸炭処理では、浸炭用ガスの導入は、加熱室４に設けられた気密構造の気密性容器８内に限定され、さらに浸炭用ガスを気密性容器８内部から直接排気をするので、気密性容器外部への浸炭用ガスの漏出を防止することができる。
また、真空浸炭時に、気密性容器８の内部の圧力を外部の圧力よりも低くするので、気密性容器８外への浸炭用ガスの漏出を最小限まで抑制することが可能になる。
【００４８】
このように、本発明によると、気密性の気密性容器を用い、気密性容器内外で差圧が生じるように制御することで、浸炭用ガスの使用量を削減することができ、処理材と浸炭用ガスとの反応がより効率的になることで浸炭反応自体も促進される。さらに、ヒータ設置箇所への浸炭用ガスの流入が激減することで、従来発生していたヒータ電極部での絶縁抵抗劣化の要因を除去することができる。
特許請求の範囲における浸炭用ガス導入手段は、浸炭用ガスノズル１４、浸炭用ガス管１８及び浸炭用ガス供給源１９に対応し、不活性ガス導入手段は、不活性ガスノズル１６、不活性ガス管２２及び不活性ガス供給源２３に対応する。
【００４９】
なお、本発明は上述した実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得ることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の実施形態による真空浸炭炉を示す図である。
【図２】図１の真空浸炭炉を用いた真空浸炭装置を示す図である。
【符号の説明】
【００５１】
２  炉体
４  加熱室
６  断熱材
８  気密性容器
１０  真空浸炭炉
１２  ヒータ
１４  浸炭用ガスノズル
１６  不活性ガスノズル
１８  浸炭用ガス管
１９  浸炭用ガス供給源
２０  流量調整弁（浸炭用ガス調整弁）
２２  不活性ガス管
２３  不活性ガス供給源
２４  流量調整弁（不活性ガス調整弁）
２５  排気管
２６  真空ポンプ（内部用真空ポンプ）
２７  排気管
２８  真空ポンプ（外部用真空ポンプ）
３０  流量調整弁（内部用調整弁）
３２  流量調整弁（外部用調整弁）
３４  差圧計
３６  制御部（制御手段）
３８  冷却室
４０  油槽
４２  前扉
４４  中間扉
４５  エレベータ
【図１】
2005325371.tif 000003
【図２】
2005325371.tif 000004