(57)【要約】    【課題】  プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができ、しかも透明性に優れた光学フィルタを提供する。    【解決手段】  プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、該光学フィルタにおいて、ショワーＤ硬度が６５未満である耐衝撃層を有し、該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１％−３．０％であり、厚みが０．５ｍｍ−３．０ｍｍであり、該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする光学フィルタである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、
（２）該光学フィルタにおいて、ショワーＤ硬度が６５未満である耐衝撃層を有し、
（３）該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１％〜３．０％であり、厚みが０．５ｍｍ〜３．０ｍｍであり、
（４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
前記耐衝撃層を作製するのに用いる樹脂が、ポリウレタン系樹脂である請求項１記載の光学フィルタ。
【請求項３】
前記ポリウレタン系樹脂が、末端に（メタ）アクリル基を１〜３個有するオリゴマーをラジカル重合させたウレタン系樹脂である請求項２記載の光学フィルタ。
【請求項４】
近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有し、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となる請求項１、２または３記載の光学フィルタ。
【請求項５】
ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となる請求項１乃至４の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項６】
可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上となる請求項１乃至５の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項７】
プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドする電磁波遮蔽層を有する請求項１乃至６の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項８】
プラズマディスプレイパネルに貼着するための粘着剤層が設けられた請求項１乃至７の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れか１項記載の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付されてなるプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる光学フィルタ、該光学フィルタを貼付したプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等にプラズマディスプレイ装置の開発、製品化が行われている。このプラズマディスプレイ装置はその構造上、他の機器に誤動作を与えたり、リモートコントロールの操作に影響を与える近赤外線や、色調に影響を与えるネオン光がディスプレイ内部から放出されるため、これらを遮断する必要がある。また、プラズマディスプレイ装置から電磁波が発生するため、人体への影響を考慮して、電磁波の放出の強さを規格内に低減化することが要求されている。
【０００３】
これらの要求に鑑みて、既にプラズマディスプレイパネルに貼付するための各種フィルタが開発されており、例えば、特開２０００−５９０８３号公報（特許文献１）には電磁波遮蔽効果と近赤外線カット、色補正、反射防止の各層を蓄積した光学フィルタが開示されている。このような光学フィルタは、透明性に優れていることが基本的要件である。
【０００４】
一方、プラズマディスプレイ装置は、大型化が進む中、軽量化・薄肉化が求められ、光学フィルタを設けた状態でのプラズマディスプレイパネルの耐衝撃性の向上がますます必要となっている。
【０００５】
しかしながら、前記各機能を有した光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに組合せた状態で、いかにしてプラズマディスプレイの十分な耐衝撃性を高めるか、どの程度の耐衝撃性が必要かが解決すべき課題となった。また、耐衝撃層を形成するのに、溶剤乾燥型樹脂を塗布して形成した場合には、乾燥時にどうしても微細な気泡が塗膜から抜けきらないため、透明性が要求されるプラズマディスプレイパネル用の光学フィルタにはヘーズが高すぎて用いることができない。また、加熱硬化型の樹脂の場合には、加熱時にフィルタ中に含まれる、近赤外線吸収色素やネオン光吸収色素などの色素に変質をもたらすという問題がある。また、プラズマディスプレイの薄肉化の要求に従い、耐衝撃層の厚みも薄くしなければならないが、必要な耐衝撃性を確保する必要がある。
【０００６】
特開２００２−２６０５３９号公報（特許文献２）には、プラズマディスプレイ前面に反射防止膜を有する光学フィルタを粘着剤層を介して貼付したプラズマディスプレイパネルが示されている。特許文献２のプラズマディスプレイパネルに貼着されている光学フィルタは、粘着剤層に耐衝撃性の改善を与えているため、耐衝撃性と接着性が必要となっている。特許文献２の実施例１では、アクリル酸共重合体を溶融してシート状に成形した粘着シートを光学フィルタに貼りつけ、次にプラズマディスプレイに貼りつけている。また、特許文献２の実施例２では、プラズマディスプレイの前面にフィルタを貼り付けるため、ディスプレイとフィルタの間隔を１ｍｍに保って透明熱硬化性シリコーンを用いて、熱処理を行って貼り合わせている。しかしながら、該実施例２のような光学フィルタとプラズマディスプレイとの貼着方法は、シリコーンの流し込み、及び加熱処理を必要とするため生産性が悪く、歩留りも悪いという問題がある。さらに、特許文献２の粘着剤層を含めた光学フィルタは、光学フィルタ自体の基本的要件である透明性の程度については一切示されていない。
【０００７】
特開２００２−２３６４９号公報（特許文献３）には、衝撃緩和積層体を構成するために、飛散防止層と２種類の割れ防止層と、透明粘着層とからなる複雑な多層構造を必要としている。        
【特許文献１】特開２０００−５９０８３号公報
【特許文献２】特開２００２−２６０５３９号公報
【特許文献３】特開２００２−２３６４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、特定の耐衝撃層を組み込んだ光学フィルタを構成し、該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼着した場合に、十分な耐衝撃性を有し、しかも、耐衝撃層に気泡を含まないようにすることにより透明性に優れ、薄肉の光学フィルタを提供すること、該光学フィルタを貼着したプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【０００９】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、反射防止性を付与した光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１０】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、近赤外線吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１１】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、ネオン光吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１２】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、透明性の高い光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１３】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、静電気及び／又は電磁波ノイズが抑制された光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１４】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタが表示面に貼着されたプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の光学フィルタは、（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、（２）該光学フィルタにおいて、ショワーＤ硬度が６５％未満である耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は内部ヘーズが０．１〜３．０であり、厚みが０．５ｍｍ〜３．０ｍｍであり、（４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする。
【００１６】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、光学フィルタにおいて、ショワーＤ硬度が６５未満であることが必要であり、ショワーＤ硬度が６５％以上だと塗膜が硬すぎ耐衝撃性が発現しない。本発明において、ショワーＤ硬度は、ＡＳＴＭ  Ｄ２２４０、ＩＳＯ  ８６８に規定される。なお、ショワーＤ硬度は４５％未満（ショワーＡ硬度９５未満に相当）だと測定が困難であるため、ショワーＤ硬度４５％未満の測定は、ショワーＡ硬度にて測定した。ショワーＡ硬度はＪＩＳＫ７３１１−１９９５による測定方法に準拠した。
【００１７】
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層は厚みは０．５ｍｍ〜３．０ｍｍであることが必要であり、０．５ｍｍ未満だと、衝撃試験において破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを達成できず、３．０ｍｍを超えるとヘーズが大きくなり、透明性が失われる。  耐衝撃層に用いる樹脂には、ポリウレタン系樹脂であることが好ましい。その理由は、耐衝撃層に適している樹脂には、通常、柔らかい樹脂が用いられるが、柔らかい樹脂を用いて耐衝撃層を作製する場合、製造過程中に、或いは取り扱い中に窪みが発生し易く、商品価値を損ないやすいが、ポリウレタン系樹脂は窪みを発生したときの復元力が高いので、好ましい。
【００１８】
衝撃試験は、図４に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定して行った。試験台８としてＳＵＳ製土台９と、厚さ１０ｍｍのガラス板１０を貼り合わせたものを用いた。該試験台８上に、プラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１として旭硝子社製の高歪点ガラス板（ＰＤ−２００：商品名、厚み２．８ｍｍ）を載置した。なお、ＰＤ−２００は、プラズマディスプレイメーカー各社が共通に使用しているプラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１である。試験台８上に前面ガラス板１１を直接載置した理由は、プラズマディスプレイの筐体によるクッション性を排除するためである。
【００１９】
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層を作製するのに用いる樹脂は、ポリウレタン系樹脂であることが好ましく、さらに好ましくは、末端に（メタ）アクリル基を１〜３個有するオリゴマーをラジカル重合させたウレタン系樹脂である。本明細書において、（メタ）アクリル基とは、アクリル基又はメタアクリル基を意味する。
【００２０】
本発明の光学フィルタは層構成中において反射防止膜を設けることが好ましく、最外層に反射防止膜を設けることが好ましい。
【００２１】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となるような、近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有することが好ましい。
【００２２】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となることが望ましい。
【００２３】
本発明の光学フィルタは、可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上であることが望ましい。
【００２４】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドするための電磁波遮蔽層を有することが望ましい。
【００２５】
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイパネルに貼着するための粘着剤層を設けることができる。
【００２６】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、前記した形態の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付して構成することができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の耐衝撃層を有する光学フィルタは、耐衝撃性と共に透明性に優れるため、本発明の光学フィルタを組み込んだプラズマディスプレイパネルは耐衝撃性に優れると共に透明性にも優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
図１は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。５は電磁波遮蔽層であり、透明基材上に接着剤により接着された金属箔をエッチングによりメッシュ状に加工したものであり、電磁波遮蔽能を有する。４は色素含有粘着剤層であり、電磁波遮蔽層５におけるメッシュ状の金属（金属メッシュ）の凹凸を平坦化すると同時に、エッチングによる凹部に残る接着剤の微細凹凸の段差を埋める作用もある。３は耐衝撃層であり、さらに耐衝撃層３上に反射防止層１が形成されている。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層３に使用されるポリウレタン系樹脂は、加熱すると接着性を有するため、耐衝撃層３と反射防止層１を粘着剤層を介さずに直接接着させることができる。反射防止層１の形成は、耐衝撃層３上に粘着剤層（図示していない）を介して設けてもよい。これらの層からなる光学フィルタは粘着剤層６を介して、プラズマディスプレイパネル７の表面に貼付される。
【００２９】
図２は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の別の一例を示す図である。図２の態様は、反射防止層１と電磁波遮蔽層５との間に、耐衝撃層３を挟んで合体させ、さらに電磁波遮蔽層５の金属メッシュの凹凸上に色素含有着色剤層４を設けたものである。これらの層からなる光学フィルタを、色素含有粘着剤層４側をプラズマディスプレイパネル７の表面に向けて貼付する。
【００３０】
図３は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造のさらに別の一例を示す図である。図３の態様の光学フィルタは、次のようにして調製される。透明基材上に接着剤により接着された金属箔をエッチングによりメッシュ状に加工してなる電磁波遮蔽層５を用意しておき、該電磁波遮蔽層５における金属メッシュの凹凸を平坦化するために、電磁波遮蔽層５上に色素含有粘着剤層４を設け、さらに該色素含有粘着剤層４上に反射防止層１を設けて、電磁波遮蔽層５／色素含有粘着剤層４／反射防止層１からなる積層体を調製する。一方、ＰＥＴフィルム製セパレータ１５／粘着剤層６／ＰＥＴフィルム製セパレータ１５からなる積層体を用意し、電磁波遮蔽層５側を内側にした前記電磁波遮蔽層５／色素含有粘着剤層４／反射防止層１からなる積層体と、ＰＥＴフィルム製セパレータ１５／粘着剤層６／ＰＥＴフィルム製セパレータ１５からなる積層体との間に、耐衝撃層３を挟み、該耐衝撃層３の粘着性を利用して積層を行うことにより光学フィルタを得る。
【００３１】
該光学フィルタをプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付するには、外側のＰＥＴフィルム製セパレータ１５を剥離して粘着剤層６側をプラズマディスプレイパネル７の表面に向けて貼付する。
【００３２】
図１〜図３において、近赤外線吸収色素、および／又は、ネオン光吸収色素等の色素を色素含有粘着剤層４中に含有しているが、光学フィルタを構成するいかなる層にも含有させることが可能である。
【００３３】
以下、本発明の光学フィルタをプラズマディスプレイに適用する場合の光学フィルタの層構成に用いられる各層を例示して説明する。
【００３４】
耐衝撃層：
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層に使用される樹脂には、ポリウレタン系樹脂を用いることが好ましい。該樹脂は、加熱時密着性があるので、加熱加圧して他の層と積層するのに適している。また、末端に（メタ）アクリル基を１〜３個有するオリゴマーをラジカル重合させたウレタン系樹脂を用いる場合には、溶剤もしくはモノマーで溶解したものを塗布し、紫外線照射等により、硬化させることにより耐衝撃層を形成する方法が適している。
【００３５】
本発明で使用するポリウレタン系樹脂は、ジイソシアネートとジオールの重付加により合成されるものをいう。本発明で使用するウレタン系樹脂の種類には、例えば、ジオールとして、ポリエステル系ポリオールとポリエーテル系ポリオール、ポリカーボネート系ポリオールが挙げられ、イソシアネートは、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４’−ジフェニルメタンジイソシナネート（ＭＤＩ）、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、４，４’−メチレンビスシクロヘキシルイソシアネート（ＨＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）が挙げられ、これらの組み合わせにより、種々のウレタン系樹脂が挙げられる。
【００３６】
（耐衝撃層の形成及び光学フィルタの製造及びプラズマディプレイパネルへの貼着）
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の形成は、どのような方法でもよいが、好ましくは、次に説明する、押出ラミネート法及び厚塗りコート法等が挙げられる。耐衝撃層はフィルム化して用いることが好ましい。通常、支持フィルム上に押し出して、支持フィルム／ウレタン樹脂フィルムの積層構造とするか、より好ましくはさらに保護フィルム（セパレータフィルム）を設けたもの、すなわち、支持フィルム／ウレタン樹脂フィルム／保護フィルムの積層構造とすることが好ましい。支持フィルムには、例えば、反射防止層となるフィルム、電磁波遮蔽層となるフィルム、或いは電磁波遮蔽層の色素含有粘着材層が積層された積層フィルム等が適用できる。
【００３７】
ｉ）押出ラミネート法
図５は、本発明の光学フィルタにおける好ましい耐衝撃層を形成するための押出ラミネート機の１例を示す図である。本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層を形成するには、図５の押出ラミネート機を用いて耐衝撃層となる熔融ポリウレタン系樹脂を押し出し、フィルムとフィルムとの間に挟み込んで内層をポリウレタン系樹脂の耐衝撃層とした積層体を得る。
【００３８】
図１の層構成の光学フィルタを得るための具体的な製法の１例には、一方のフィルムとして、セパレータフィルム３１を巻取り状態で第１フィルム供給部３５に配置しておき、他方のフィルムとして、透明基材フィルム３２上に形成した反射防止層１及び該反射防止層１上に貼付した保護フィルム３３からなる積層フィルム３４（透明基材フィルム３２／反射防止層１／保護フィルム３３）を巻取り状態で第２フィルム供給部３９に配置しておく。第１フィルム供給部３５からセパレータフィルム３１を巻き出し、一方、第２フィルム供給部３９から積層フィルム３４を巻き出しながら、押出ラミネート機のダイス４２より、ポリウレタン系樹脂をフィルム状に押し出す。このとき、セパレータフィルム３１と、透明基材フィルム３２側を内側にした積層フィルム３４との間に、該ポリウレタン系樹脂フィルムを挟み込みながら冷却ロール３７とニップロール３８との間を通すことによりラミネート成形して内側にポリウレタン系樹脂を耐衝撃層とした積層フィルム３６を排紙部４１に巻き取る。
【００３９】
一方、色素含有粘着剤層４／電磁波遮蔽層５からなる積層フィルムを用意する。該電磁波遮蔽層５は、透明基材上に金属メッシュ層が接着剤層を介して積層されたものである。前記工程で得た積層フィルム３６のセパレータフィルム３１を剥がして耐衝撃層３が露出した側を、前記積層フィルム３６の色素含有粘着剤層４と積層する。次いで、粘着剤層６の両面にセパレータフィルムが貼付されたものを用意し、一方のセパレータフィルムを剥がして粘着剤層６を露出させて前記工程で得られた積層体の電磁波遮蔽層５の透明基板側に貼付して、光学フィルタを得る。
【００４０】
次いで、得られた光学フィルタを粘着剤層６に残っているセパレータフィルムを剥がして、プラズマディプレイパネル７の表面に貼付する。最後に、反射防止層１上の保護フィルム３３を剥離する。
【００４１】
ii）シート成形法
図６は、本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、ポリウレタン系樹脂を含有する耐衝撃層を形成するのに適した、シート成形機の１例を示す概略図である。図６において、２１−１、２１−２、２１−３はポリウレタン系樹脂を収容するためのホッパーである。単一のウレタン樹脂からなる耐衝撃層を製造する場合、３箇所のホッパーに同一のポリウレタン系樹脂を収容する。ホッパー２１−１、２１−２、２１−３から供給された各ポリウレタン系樹脂は常温から約１５０℃位まで加熱され、ダイス２３に供給され、３層を形成するそれぞれの樹脂が約１６０〜２００℃に加熱され、先端が合体した３種のマニホールド２４−１、２４−２、２４−３から積層シート２５が吐出される。吐出された積層シート２５は、３個の冷却ロール２６−１、２６−２、２６−３間に導入され、約３０〜６０℃程度に冷却された積層シート２５は、排紙装置２７により排紙され、耐衝撃層が製造される。
【００４２】
図８に示す光学フィルタを形成するには、反射防止層１の裏面に、粘着剤からなる粘着剤層６介して、上記のシート成形法により得られた耐衝撃層３を貼り合わせて、反射防止層１／粘着剤層６／耐衝撃層３からなる積層シートを得る。一方、電磁波遮蔽層５の透明基材側に粘着剤を塗布することにより粘着剤層６を積層し、さらに電磁波遮蔽層５の金属メッシュ面に色素含有粘着剤を塗布することにより色素含有粘着剤層４を積層して、色素含有粘着剤層４／電磁波遮蔽層５／粘着剤層６からなる積層シートを得る。次いで、前記工程で得られた反射防止層１／粘着剤層６／耐衝撃層３からなる積層シートと、前記工程で得られた色素含有粘着剤層４／電磁波遮蔽層５／粘着剤層６からなる積層シートとを、耐衝撃層３と色素含有粘着剤層４とを向かい合わせてプレスすることにより、図８の光学フィルタを得る。
【００４３】
図８の光学フィルタの粘着剤層６の粘着性を利用してプラズマディプレイパネル７の表面に貼付することができる。
【００４４】
iii)厚塗りコート法
図２に示す光学フィルタの耐衝撃層３を形成するには、反射防止層１の裏面に、好ましくは塗工に適した粘度に希釈した、末端に（メタ）アクリレート基を１〜３個有するオリゴマーに光開始剤を添加してなる塗工液を５００ｇ／ｍ2 〜５０００ｇ／ｍ2 塗工する。
【００４５】
塗工方法は、例えば、リップコート、ダイコートなど、一般的な厚塗りコート法が好ましい。反射防止層１上に形成された塗膜にＵＶ照射を行い、粘着性のあるウレタン系樹脂の塗膜からなる耐衝撃層３が製造される。このウレタン系樹脂の塗膜は粘着性があるため、この粘着性により電磁波遮蔽層５を貼合せた後、該電磁波遮蔽層５の金属メッシュ側に色素含有粘着剤を塗布することにより色素含粘着剤層４を形成して、光学フィルタを得る。形成された色素含粘着剤層４の粘着性により、光学フィルタをプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付して用いることができる。
【００４６】
図７はダイコートによる耐衝撃層の形成装置を示す。セパレーターフィルム３１を巻取り状態で第１フィルム供給部３５に配置しておき、セパレーターフィルム３１を巻きだしながら、ダイコートヘッド４３らかポリウレタン系樹脂を吐出して、セパレーターフィルム３１上に厚塗りを行う。次いで、ＵＶ照射装置４４−１、４４−２により紫外線照射して塗膜を硬化させ、次いでポリウレタン系樹脂を耐衝撃層とした粘着性のある耐衝撃層を有する積層体を排紙部４１に巻き取る。
【００４７】
一方、電磁波遮蔽層５を用意しておく。前記工程で得られた積層体の耐衝撃層３側を、耐衝撃層３の粘着性を利用して、電磁波遮蔽層５に貼り合わせた後、色素粘着剤を塗布して色素粘着剤層４を形成し、次いで、反射防止層１を形成して、光学フィルタを得る。
【００４８】
上記工程で得られた光学フィルタをプラズマディスプレイパネル７の表面に積層するには、色素粘着剤層４側をプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付する。
【００４９】
図３に示す光学フィルタを製造するには、ＰＥＴフィルム製保護フィルム（セパレータフィルムを用意し、該セパレートフィルムの片面に、好ましくは塗工に適した粘度に希釈した、末端に（メタ）アクリル基を１〜３個有するオリゴマー（光開始剤添加品）を５００ｇ／ｍ2 〜５５００ｇ／ｍ2 塗工する。塗工方法は、例えば、リップコート、ダイコートなど、一般的な厚塗りコート法が好ましい。この塗膜にＵＶ照射を行い、粘着性のあるウレタン系接着剤の塗膜を形成する。この塗膜の形成方法は、前記に説明した図７の耐衝撃層の形成装置と同様である。
【００５０】
一方、反射防止層１と色素含有粘着剤層４を介して貼り合わせてある電磁波遮蔽層５を用意し、該電磁遮蔽層５の透明基板側と、前記工程で得られたセパレータフィルム上に形成した耐衝撃層とを、貼り合わせることにより光学フィルタを得る。
【００５１】
上記工程で得られた光学フィルタをプラズマディスプレイパネル７の表面に積層するには、セパレータフィルムを剥離して、露出した粘着剤層６側をプラズマディスプレイパネル７の表面に貼付する。
【００５２】
図９に示す光学フィルタを製造するには、ポリエチレンテレフタレート製の保護フィルム（離型フィルム）を用意し、該保護フィルムの片面に、好ましくは塗工に適した粘度に希釈した、末端に（メタ）アクリル基を１〜３個有するオリゴマー（光開始剤添加品）を５００ｇ／ｍ2 〜５０００ｇ／ｍ2 塗工する。塗工方法には、例えば、リップコート、ダイコートなど、一般的な厚塗りコート法が好ましく適用でき、さらに具体的には、前記に説明した図７のダイコートによる耐衝撃層の形成装置が使用できる。得られた塗膜に、ＵＶ照射を行ない、粘着性のあるウレタン系樹脂の塗膜からなる耐衝撃層３ができる。
【００５３】
一方、電磁波遮蔽層５の金属メッシュ側に、色素含有粘着剤層４が形成され、さらに該色素含有粘着剤層４上に反射防止層１が形成されている積層体を用意し、該積層体における電磁遮蔽層５の透明基板側と、前記工程で得られたポリエチレンテレフタレート製の保護フィルム（離型フィルム）上に形成した耐衝撃層３とを、貼り合わせることにより、図９に示す層構成の光学フィルタを得る。
【００５４】
上記工程で得られた光学フィルタの保護フィルム（離型フィルム）を剥離したものを、プラズマディプレイパネル７の表面に貼付する。
【００５５】
電磁波遮蔽層：
電磁波遮蔽層５は、透明基材、接着剤層（図示していない）、金属メッシュ層がこの順に積層された積層構造を有するものである。
【００５６】
（金属メッシュ層）
金属メッシュ層は、積層構造の電磁波遮蔽層５を構成する一部の層である。本発明に用いられる金属メッシュ層は、プラズマディスプレイ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものである。このような金属メッシュ層は、後述する透明基材上に、接着剤層により金属箔が貼り合わせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。本発明においては、この金属メッシュ層は、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、チタン等を用いることができる。本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に、電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよい金属メッシュ層とすることができ、また、金属メッシュ層の表面に黒化処理が施された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
【００５７】
ここで、本発明においては、上記金属箔の一方の面または両面に黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュ層の表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この酸化処理面は、観察者側の面となるように配置される。この黒化処理により金属メッシュ層表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な透過性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行なうことができる。
【００５８】
黒化処理の方法としては、ＣｒＯ2 水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、６価クロムの一部を３価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、透明基材上に、接着剤層または粘着剤層により金属箔が貼り合わせられ、メッシュ状にエッチングされた後に行なわれるものであってもよい。
【００５９】
この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が０．６以上であることが好ましい。これにより、より非視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、ＣＯＬＯＲ  ＣＯＮＴＲＯＬ  ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ  ＳＰＭ１００−１１（商品名、（株）ＫＩＭＯＴＯ製）を用いて、観測視野角１０°、観測光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩ  Ｔに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。
【００６０】
また、上記金属箔の膜厚は、１μｍ〜１００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より膜厚が薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。
【００６１】
さらに、上記金属箔は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠する十点平均粗さが０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着剤やレジスト等を塗布することが困難となるからである。
【００６２】
ここで、金属箔のエッチングは、後述する透明基材上に、接着剤層または粘着剤層を介して金属箔が貼り合わせられた後に行なわれるものである。このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行なうことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後、レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行なうことにより得ることができる。
【００６３】
本発明に用いられる上述したような金属メッシュ層は、表面抵抗が１０-6Ω／□〜５Ω／□の範囲内、中でも１０-4Ω／□〜３Ω／□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置ロレスターＧＰ、（株）ダイヤインスツルメンツ製にてＪＩＳ  Ｋ７１９４「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験法」に記載される方法にて測定された値である。
【００６４】
このエッチング処理された後の金属メッシュ層は、５０μｍ□〜５００μｍ□の範囲内、中でも１００μｍ□〜４００μｍ□の範囲内、特に２００μｍ□〜３００μｍ□の範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細かい場合には、断線が起こる場合があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。
【００６５】
透明基材：
透明基材は積層構造の電磁波遮蔽層５を構成する一部の層である。本発明に用いられる透明基材は透明性を有し、かつ接着剤層が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトンからなるフィルムで可視領域の光線透過率が８０％以上のフィルムが挙げられる。
【００６６】
これらのフィルムは本発明の目的を妨げない程度であれば着色していてもよく、さらに単層で使うこともできるが、２層以上組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。中でも透明性、耐熱性、コストや取扱い性の面等から、ＰＥＴが最も好ましい。可視領域の光線透過率はできる限り高いことが望ましいが、これは最終製品としては５０％以上の光線透過率が必要なことから最低２枚を積層する場合でも透明基材としては８０％を有すれば目的に適うからである。透過率が高ければ高いほど透明基材を複数枚積層できるため、光線透過率は好ましくは８５％以上、最も好ましくは９０％以上であり、このために厚さを薄化するのも有効な手段である。この透明基材の厚さは、透明性さえ満足すれば特に制限されるものではないが、加工性上からは１２μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。厚さ１２μｍ未満の場合はフィルムが柔軟過ぎ、導電層である金属メッシュ層の成膜や加工する際の張力により伸張やシワが発生しやすく、そのため金属メッシュ層の亀裂や剥離が生じやすく適さない。３００μｍを超えるとフィルムの可撓性が減少し、各工程での連続巻き取りが困難で適さない。さらに複数枚を積層する際は加工性が大幅に劣るといった問題もある。
【００６７】
接着剤層：
接着剤層は図１〜図３のプラズマディスプレイパネルの前面に貼付される光学フィルタにおける電磁波遮蔽層中に存在する層であり、透明基材と金属箔とを接着するのに用いられる層（図１〜図３において図示していない）である。接着剤層は、金属メッシュ層および透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュ層を構成する金属箔および透明基材を接着剤層を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着剤層も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンエステル樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明基材との密着性や、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素との相溶性、分散性などの観点からアクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。
【００６８】
また、接着剤層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価および酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が樹脂中の反応基と反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
【００６９】
接着剤層を介してドライラミネーション法等により透明基材および金属メッシュ層を形成するための金属箔とを接着することができる。また、この接着剤層の膜厚が０．５μｍ〜５０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜２０μｍであることが好ましい。これにより、透明基材および金属メッシュ層とを強固に接着することができ、また、金属メッシュ層を形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。
【００７０】
色素含有粘着剤層：
図１〜図３に示すように、本発明の光学フィルタに用いられる色素含有粘着剤層４は、上記した電磁波遮蔽性を有する金属メッシュ層の凹凸を平坦化するための層であり、金属メッシュ層の凹凸によって光学フィルタの透明性が低下することを防ぐ機能を有するものである。また、金属メッシュ層の形成の際に行なわれるエッチングによって、接着剤層表面が劣化することにより低下する透明性の改良や、金属メッシュ層を斜めから見た際の断面の乱反射を防止することも可能である。本発明において用いられる色素含有粘着剤層４は、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明では色素含有粘着剤層４に用いる樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１５０℃の範囲内、中でも４０℃〜１２０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、樹脂を溶剤等に溶解させて、金属メッシュ層上に塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面に金属メッシュ層の凹凸により形成される凹凸を、透明基材のＴｇ以上の温度で、例えば、ミラーロール等を用いて圧力をかけることにより平坦化することができ、透明性の高い高品質な光学フィルタとすることができるからである。この色素含有粘着剤層４を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常５０℃〜１７０℃の範囲内であり、また圧力は線圧０．１ｋｇ／ｃｍ2 〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の範囲内であることが好ましい。
【００７１】
上述したような性質を有する樹脂としては、具体的には、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂を挙げることができ、中でも透明性の観点からアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。また、上記樹脂の平均分子量は、５００〜６００，０００の範囲内、中でも１万〜４０万であることが好ましい。これにより、上記のような性質を有する透明樹脂とすることができるからである。
【００７２】
本発明において、このような色素含有粘着剤層４の膜厚は、金属メッシュ層が形成されていない部分の膜厚が、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。これにより、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能となるからである。本発明の光学フィルタの色素含有粘着剤層４における、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上を含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価、および／または、酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸基により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
【００７３】
反射防止層：
反射防止層に関しては、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカス手法を採用することができる。すなわち、光を散乱もしくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化することが基本であり、この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により基体表面を直接粗面化する方法、基体表面に放射線、熱の何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂中にシリカなどの無機フィラーや、樹脂粒子などの有機フィラーを含有させた粗面化層を設ける方法、および基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法を挙げることができる。
【００７４】
また、反射防止層を形成する他の方法としては、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化（マルチコート）することで、表面の反射が抑えられ、良好な反射防止効果を得ることができる。通常、この反射防止層は、ＳｉＯ2 に代表される低屈折率材料と、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 等の高屈折率材料とを交互に蒸着等により成膜する気相法等によって形成される。
【００７５】
反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ2 （屈折率ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、Ｎａ3 ＡｌＦ6 （屈折率ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ2 （屈折率ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。
【００７６】
さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系および有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ2 として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。
【００７７】
低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法で、高屈折率層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。
【００７８】
高屈折率層の形成は、屈折率を高くするために高屈折率のバインダ樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダ樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。
【００７９】
高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。
【００８０】
高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2 （屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）またはＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Ａｌ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ2 （屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの微粒子は単独または混合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。
【００８１】
高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。
【００８２】
また反射防止層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が２０％以下、中でも１０％以下、５７０−６００ｎｍにおける光線透過率が３０％以下、中でも２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂が水酸基価および酸価が所定の値以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸価により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収能、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとなる。
【００８３】
粘着剤層：
図１〜図３の粘着剤層６は、光学フィルタを構成する各層を接着するための層であり、例えば、市販の両面接着テープ（例、ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）が使用できる。
【実施例１】
【００８４】
耐衝撃層の調製（押出ラミネート機による調製）
図５の押出ラミネート機において、第１フィルム供給部３５にセパレーターフィルム３１（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、ＰＥＴフィルム製セパレータフィルム、厚み８０μｍ）を巻き出し可能に配置した。反射防止フィルムとしてリアルック８２００ＵＶ［商品名、日本油脂（株）製、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（透明基材フィルム３２）／厚み５μｍの反射防止層１／厚み４０μｍの保護フィルム３３からなる積層フィルム３４］を用意し、図５に示される第２フィルム供給部３９に巻き出し可能に配置した。
【００８５】
第１フィルム供給部３５からセパレーターフィルム３１を巻き出すと同時に、第２フィルム供給部３９から積層フィルム３４を巻き出しながら、両フィルムの間にエーテル系ウレタン樹脂（Ｔ−８１９０：商品名、ＤＩＣバイエルポリマー株式会社製）を押出ラミネート機のダイス４２より吐出された樹脂フィルムを挟み込んで冷却ロール３７とニップロール３８とによりプレスして、両フィルムの間に耐衝撃層３を形成することにより積層フィルム３６を得た。該耐衝撃層のショワーＡ硬度は９０、即ち、ショワーＤ硬度において４５未満であった。該積層フィルム３６において、耐衝撃層３の厚みを５００μｍ、１５００μｍ、２５００μｍと異なるものを計３種類製造した。
【００８６】
電磁波遮蔽フィルムの調製
片面がクロメート処理により黒化処理されている、銅箔（古川サーキットフォイール製、ＥＸＰ−ＷＳ：商品名、厚さ９μｍ）と、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製  Ａ４３００  厚み１００μｍ）とを、ウレタン系接着剤（Ｔｇ２０℃、平均分子量３万、酸価１、水酸基価９）にてドライラミネーション加工し貼り合わせた後、上記銅箔上にレジストを塗布後、露光、現像、エッチング、レジスト除去を行なうことにより３００μｍ□、線幅１０μｍの金属メッシュを形成することにより電磁波遮蔽層５からなる電磁磁波遮蔽フィルムを得た。なお、この際黒化処理面はプラズマディスプレイパネルが製造される場合、見る側（人間側）になるように設置するものである。
【００８７】
次いで、得られた電磁波遮蔽層の黒化処理面側に、次の組成からなる色素含有粘着剤を塗布して色素含有粘着剤層４を形成した。即ち、ｎ−ブチルアクリレート７８．４重量％、２エチルヘキシルアクリレート１９．６重量％、およびアクリル酸２．０重量％を共重合させて得たアクリル酸エステル共重合体を熔融撹拌した後、近赤外線吸収剤０．０３重量％（日本触媒（株）製  商品名”イーエクスカラー”ＴＸ−ＥＸ−８０５Ｋ）０．０１５重量％、染料（三井化学（株）製  商品名”ＰＳブルーＢＮ”０．０００１重量％、ネオン吸収化合剤（旭電化（株）製  商品名  ＴＹ−１０２）０．００１３重量％を加えたものを色素含有粘着剤として用いた。
【００８８】
光学フィルタの製造
前記耐衝撃層の形成工程で得た３種類の積層フィルム３６のセパレーターフィルム３１を剥離し、各耐衝撃層を、前記電磁波遮蔽フィルムの調製工程で得た色素含有粘着剤層４が形成された電磁波遮蔽フィルムの色素含有粘着剤層４側と該色素含有粘着剤層４の粘着力で貼り合わせた。
【００８９】
次に、ＰＥＴフィルム製セパレータフィルム（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）／粘着剤層６（ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）／ＰＥＴフィルム製セパレータフィルム（Ｕ４２６：商品名、東レ（株）製、厚み８０μｍ）からなる粘着シートを用意し、該粘着シートの片側のセパレータを剥がした粘着シート状の粘着剤層６側を、前記工程で得られた色素含有粘着剤層４を有する３種類の積層体における透明基板側に貼り付け、最後に、反射防止層に貼付されている保護フィルムを剥離して図１に示す光学フィルタを得た。得られた３種類の反射防止膜付光学フィルタの耐衝撃層の厚みが５００μｍ、１５００μｍ、２５００μｍの場合の耐衝撃層のヘーズ（反射防止膜付）［％］はそれぞれ１．６、２．１、２．７、また、内部ヘーズはそれぞれ０．２％、０．６％、１．９％であった。
【００９０】
プラズマディスプレイパネルの製造
次に、プラズマディスプレイパネルの前面に上記工程で得られた３種類の反射防止膜付光学フィルタの粘着剤層６に添付されている残りのセパレータフィルムを剥がして、プラズマディスプレイパネルの表面ガラス毎に１種類貼り付け、計３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【００９１】
得られた各プラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験として図４に示す衝撃試験装置を用いて行い、直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定したところ、耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが１５００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが２５００μｍの場合、０．８Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．９Ｊで割れた。
【００９２】
これらの結果を下記の表１に示す。
【００９３】
表１に示す「ヘーズ（反射防止膜付）」とは、反射防止層、耐衝撃層、色素含有粘着剤層、電磁波遮蔽層を含む全積層体の、全体のヘーズを意味し、「ヘーズ（内部）」とは、耐衝撃層の単体でのヘーズを意味する。ヘーズ測定法はＪＩＳ−Ｋ７１０５−１９８１に準じて行った。
【００９４】
本実施例１で得られた反射防止膜付光学フィルタの視感度平均反射率は、０．５％であった。また、本実施例１で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例１の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【実施例２】
【００９５】
反射防止層として、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム／厚み５μｍの反射防止層／厚み４０μｍの保護フィルムからなる積層フィルム（リアルック８２００ＵＶ：商品名、日本油脂（株）製）を用意した。該反射防止層の裏面に、耐衝撃層を形成するための樹脂として（メタ）アクリル基を１〜３個有するオリゴマーをラジカル重合させたウレタン系樹脂（ビームセット５０２Ｈ：商品名、荒川化学（株）製、官能基数が２（即ち、アクリル基が２個）、ショワーＡ硬度６５、即ち、ショワーＤ硬度４５未満）１００質量部を主剤とし、光開始剤としてチバスペシャリティケミカルズ製ダロキュアー１１７３を２質量部配合したものを、前記の「耐衝撃層  （耐衝撃層の形成）  iii)厚塗りコート法」の欄に説明した図７に示すダイコート法及び塗工装置により塗工し、２４０ｍＪ／ｃｍの積算光量でＵＶ照射して硬化させて反射防止層／耐衝撃層からなる積層フィルムを得た。該積層フィルムにおける耐衝撃層は粘着性を有している。
【００９６】
この粘着性により、前記工程で得られた積層フィルムの耐衝撃層側を、耐衝撃層の粘着性を利用して、電磁波遮蔽層に貼り合わせた後、色素粘着剤を塗布して色素粘着剤層を形成し、次いで、反射防止層を形成して、光学フィルタを得た。
【００９７】
上記工程で得られた光学フィルタの耐衝撃層の厚みが各５００μｍ、１５００μｍ、２５００μｍを有する３種類の光学フィルタ及びプラズマディスプレイパネルを得た。得られた光学フィルタにおける耐衝撃層の厚みが５００μｍ、１５００μｍ、２５００μｍの場合の耐衝撃層のヘーズ（反射防止膜付）はそれぞれ１．８％、２．２％、２．９％、また、内部ヘーズはそれぞれ０．３％、０．９％、１．８％であった。
【００９８】
上記工程で得られた光学フィルタの色素粘着剤層側をプラズマディスプレイパネルの表面側に向けて光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付した。
【００９９】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、０．６Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが１５００μｍの場合、０．７Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．８Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが２５００μｍの場合、０．９Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、１．０Ｊで割れた。
【０１００】
これらの結果を下記の表１に示す。
【０１０１】
本実施例２で得られた反射防止膜付光学フィルタの視感度平均反射率は、０．７％であった。また、本実施例２で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例２の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【実施例３】
【０１０２】
耐衝撃層を形成するための樹脂としてウレタン系樹脂（Ｄｅｓ−４６０、ＤＩＣバイエルポリマー株式会社製、ショワーＤ硬度６０）を前記の「耐衝撃層  （耐衝撃層の形成） ii ）シート成形法」の欄に説明した図６に示すシート形成装置によりシートを形成して厚みが各５００μｍ、１５００μｍ、２５００μｍを有する３種類の耐衝撃層を得た。
【０１０３】
前記工程で得られた耐衝撃層を、反射防止層の裏面に、アクリル系粘着剤（日東電工社製ＣＳ−９６１１：商品名）を用いて貼り合わせた。一方、電磁波遮蔽層の透明基材側にアクリル系粘着剤（例えば、日東電工社製ＣＳ−９６１１）を塗布することにより粘着剤層を積層形成し、さらに金属メッシュ面に色素含有粘着剤を塗布することにより色素含有粘着剤層を積層形成して、図８に示す光学フィルタを得た。
【０１０４】
得られた反射防止膜付光学フィルタの耐衝撃層の厚みが５００μｍ、１５００μｍ、２５００μｍの３種類の耐衝撃層のヘーズ（反射防止膜付）はそれぞれ１．６％、２．１％、２．７％、また、内部ヘーズはそれぞれ０．２％、０．６％、１．９％であった。
【０１０５】
次に、プラズマディスプレイパネルの前面に上記工程で得られた３種類の反射防止膜付光学フィルタの粘着剤層に添付されている残りのセパレータフィルムを剥がして、一つプラズマディスプレイパネルの表面ガラス毎に１種類貼り付け、計３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１０６】
得られた各プラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが１５００μｍの場合、０．５Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが２５００μｍの場合、０．７Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．８Ｊで割れた。
【０１０７】
これらの結果を下記の表１に示す。
【０１０８】
本実施例３で得られた反射防止膜付光学フィルタの視感度平均反射率は、０．７％であった。また、本実施例３で得られたプラズマディスプレイパネルは気泡の発生や、フィルタの剥離は無かった。本実施例３の反射防止膜付光学フィルタの近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において８５％以上であり、また、ネオン光遮断性能は、５８７ｎｍの波長において４０％以下であった。
【０１０９】
【表１】
2005249854.tif 000002
【０１１０】
表１において、○○は、２回の耐衝撃試験において、２回ともＰＤＰパネルが割れないことを示し、●●は、２回の耐衝撃試験において、２回ともＰＤＰパネルが割れたことを
示す。  
【０１１１】
［比較例１］
耐衝撃層を形成するための樹脂としてポリエーテル系樹脂（Ｄｅｓ  ＫＡ−８３３３、ＤＩＣバイエルポリマー株式会社製、ショワーＤ硬度６６、ショワーＡ硬度９８）を前記の「耐衝撃層  （耐衝撃層の形成） ii ）シート成形法」の欄に説明した図６に示すシート形成装置によりシートを形成して厚みが各５００μｍ、１５００μｍ、２５００μｍを有する３種類の耐衝撃層を得た。得られた光学フィルタにおける耐衝撃層の厚みが５００μｍ、１５００μｍ、２５００μｍの場合の耐衝撃層のヘーズ（反射防止膜付）はそれぞれ１．４％、１．８％、２．４％、また、内部ヘーズはそれぞれ０．４％、０．８％、１．４％であった。
【０１１２】
得られ光学フィルタを、前記実施例３と同様にして、計３種類のプラズマディスプレイパネルを得た。
【０１１３】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、０．２Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．３Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが１５００μｍの場合、０．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．４Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが２５００μｍの場合、０．３Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．４Ｊで割れた。
これらの結果を下記の表２に示す。
【０１１４】
［比較例２］
耐衝撃層を形成するための樹脂としてアクリル系樹脂（Ｕ−４ＨＡ、新中村化学社製、、４官能分子量５９８、アクリル当量１４９、ハードコートタイプ、無黄変タイプ、硬化後の鉛筆硬度７Ｈ、硬化前の粘度２０，０００Ｐａ’ｓ、ショワーＤ硬度７０）を前記の「耐衝撃層  （耐衝撃層の形成） ii ）シート成形法」の欄に説明した図６に示すシート形成装置によりシートを形成して厚みが各５００μｍ、１５００μｍ、２５００μｍを有する３種類の耐衝撃層を得た。得られた光学フィルタにおける耐衝撃層の厚みが５００μｍ、１５００μｍ、２５００μｍの場合の耐衝撃層のヘーズ（反射防止膜付）はそれぞれ１．７％、２．１％、２．８％、また、内部ヘーズはそれぞれ０．３％、０．８％、１．５％であった。
【０１１５】
上記工程で得られた光学フィルタの色素粘着剤層側をプラズマディスプレイパネルの表面側に向けて光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付した。
【０１１６】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、耐衝撃層の厚みが５００μｍの場合、０．１Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．２Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが１５００μｍの場合、０．２Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．３Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが２５００μｍの場合、０．２Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．３Ｊで割れた。
これらの結果を下記の表２に示す。
【０１１７】
［比較例３］
色素含有粘着剤層を介して反射防止層を貼り合わせてある電磁波遮蔽層を用意し、電磁波遮蔽層のＰＥＴ面側に、ポリエチレンテレフタレート製の保護フィルム（離型フィルム）を有するアクリル系粘着剤シート（日東電工社製ＣＳ−９６１１：商品名）の粘着剤が露出している面を貼り合わせて光学フィルタを得た。得られた光学フィルタには耐衝撃層が形成されていない。
【０１１８】
得られた光学フィルタにおける保護フィルムを剥がし、露出したアクリル系粘着剤シートをプラズマディスプレイパネルの表面に貼付した。図１０に、プラズマディスプレイパネルの前面に耐衝撃層の無い光学フィルタを配置した場合の比較例３のプラズマディスプレイパネルの積層構造を示す。
【０１１９】
得られたプラズマディスプレイパネルについて、衝撃試験を前記実施例１と同様にして行い、その結果、０．１Ｊではプラズマディスプレイパネルが割れず、０．２Ｊで割れた。これらの結果を下記の表２に示す。
【０１２０】
【表２】
2005249854.tif 000003
【０１２１】
表２において、○○は、２回の耐衝撃試験において、２回ともＰＤＰパネルが割れないことを示し、●●は、２回の耐衝撃試験において、２回ともＰＤＰパネルが割れたことを
示す。  
【産業上の利用可能性】
【０１２２】
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイの前面に貼付した場合に、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造の別の一例を示す図である。
【図３】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造のさらに別の一例を示す図である。
【図４】衝撃試験装置を示す図である。
【図５】本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、ポリウレタン系樹脂を含有する耐衝撃層を形成するのに適した、押出ラミネート機の１例を示す概略図である。
【図６】本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、ポリウレタン系樹脂を含有する耐衝撃層を形成するのに適した、シート成形機の１例を示す概略図である。
【図７】本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層として、ポリウレタン系樹脂を含有する耐衝撃層を形成するのに適した、シート成形機のさらに別の１例を示す概略図である。
【図８】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造のさらに別の一例を示す図である。
【図９】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造のさらに別の一例を示す図である。
【図１０】プラズマディスプレイの前面に比較例としての耐衝撃層の無い光学フィルタを配置した場合の積層構造の一例を示す図である。
【符号の説明】
【０１２４】
１    反射防止層
３    耐衝撃層
４    色素含有粘着剤層
５    電磁波遮蔽層
６    粘着剤層
７    プラズマディスプレイパネル
８    試験台
９    土台
１０  ガラス板
１１  前面ガラス板
１２  鋼球
１５  セパレータ
２１−１，２１−２，２１−３  ホッパー
２３    ダイス
２４−１，２４−２，２４−３  マニホールド
２５  積層シート
２６−１，２６−２，２６−３  冷却ロール
２７  排紙装置
３１  セパレーターフィルム
３２  透明基材フィルム
３３  保護フィルム
３４  積層フィルム
３５  第１フィルム供給部
３６  積層フィルム
３７  冷却ロール
３８  ニップロール
３９  第２フィルム供給部
４１  排紙部
４２  ダイス
４３  ダイコートヘッド
４４−１，４４−２  ＵＶ照射装置
【図１】
2005249854.tif 000004
【図２】
2005249854.tif 000005
【図３】
2005249854.tif 000006
【図４】
2005249854.tif 000007
【図５】
2005249854.tif 000008
【図６】
2005249854.tif 000009
【図７】
2005249854.tif 000010
【図８】
2005249854.tif 000011
【図９】
2005249854.tif 000012
【図１０】
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