(57)【要約】【課題】光沢を改良し且つ、インク吸収速度の異常が無く、表面の面質低下や塗布故障が無く、且つ表面の干渉縞の発生の無いインクジェット記録媒体を製造する手段を提供することである。【解決手段】支持体上に、少なくとも１層の、平均二次粒子径が５００ｎｍ以下のシリカ微粒子を含有する多孔質層を形成した後に、該多孔質層の上に平均乾燥厚み２００ｎｍ以下の無機微粒子含有層設けるインクジェット記録媒体の製造方法であって、該多孔質層を形成した後に該無機微粒子含有層の塗布液を塗布するに際し、該多孔質の空隙容量の９０容量％以下の塗布量で前計量タイプの塗布方式にて塗布することを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、少なくとも１層の、平均二次粒子径が５００ｎｍ以下のシリカ微粒子を含有する多孔質層を形成した後に、該多孔質層の上に平均乾燥厚み２００ｎｍ以下の無機微粒子層を設けるインクジェット記録媒体の製造方法であって、該多孔質層を形成した後に該無機微粒子層の塗布液を塗布するに際し、該多孔質層の空隙容量の９０容量％以下の塗布量で前計量タイプの塗布方式にて塗布することを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項２】
該前計量タイプの塗布方式に用いられる塗布装置が、塗布の幅方向に均一に流出するためのスリットを持つ塗布装置、あるいは、直径１００ｍｍ以下の斜線グラビアロールをリバース且つキスタッチにて使用する塗布装置であることを特徴とする請求項１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項３】
該無機微粒子層の無機微粒子が、平均一次粒子径８０ｎｍ以下のコロイダルシリカである請求項１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項４】
該無機微粒子層の塗布液の３５℃粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下である請求項１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項５】
該多孔質層に含有するシリカ微粒子が、平均一次粒子径３０ｎｍ以下で且つ平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の気相法シリカ、または平均二次粒子径を５００ｎｍ以下に粉砕された湿式法シリカである請求項１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項６】
該多孔質層が、更に親水性バインダーを含有し、該親水性バインダーの該シリカ微粒子に対する含有比率が５〜２５質量％である請求項１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項７】
該多孔質層の空隙容量が１５〜５０ｍｌ／ｍ2である請求項１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項８】
該支持体がポリオレフィン樹脂被覆紙である請求項１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はインクジェット記録媒体の製造方法に関しており、詳しくは光沢が優れ、塗布故障の少ないインクジェット記録媒体の製造方法に関している。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録は、騒音がなく、高速印字が可能であり、端末プリンターなどに採用され近年急速に普及している。また、複数個のインクノズルを使用することにより、多色記録を行うことも容易であり、各種のインクジェット記録方式による多色インクジェット記録が行われている。特にコンピューターにより作成した文字や各種図形及び写真等の画像情報のハードコピー作成装置として、複雑な画像を迅速で正確に形成する事ができるインクジェットプリンターの利用が注目されている。さらに、近年デジタルカメラの急速な普及により、デジタル写真画像が身近になりこれらの画像を安価なインクジェットプリンターで出力する写真専用のモードやインクを具備したインクジェットプリンターも同様に急速に普及している。
【０００３】
これら写真画像用途では、通常光沢が高いことが求められる。インクジェット記録媒体に於いて光沢を高める手段としては、多孔質インク受容層の上にコロイド状シリカを塗布する（例えば特許文献１参照）事、気相法シリカ層上にコロイダルシリカ層を２〜４０ｇ／ｍ2の塗布量で設ける（例えば特許文献２参照）が開示されている。これらの方法に於いては、塗布量が多い場合にはインク吸収速度が遅く成ってしまうという問題が有った。
【０００４】
バーコーターを用いてコロイド状シリカ層を乾燥重量で低塗布量で塗布する（例えば特許文献３参照）事が開示されているが、コロイド状シリカの塗液を塗布する際、多孔質層に塗液の水分が吸収されるため、多孔質層表面でコロイド状シリカ塗液の局所的濃縮が行われ、低塗布量を狙って無理に塗液を掻き落とそうとすると、経時的塗液の濃度変化と同時に塗布表面の面質低下を生じ、写真用としては不十分な面質であった。
【０００５】
エアナイフコーターとキャストドラム併用でコロイド状シリカ層を乾燥重量で低塗布量で塗布する（例えば特許文献４参照）事が開示されているが、表面の整形は良好ではあるが、上記と同様の理由でコロイド状シリカ層の乱れを生じインクの吸収速度の差に起因する微妙なムラが発生し、写真用としては不十分なものであった。また、キャストドラムの使用のため生産効率の面でも不満の残るものであった。
【０００６】
スライドビードコーターを用いてコロイド状シリカ層とその下の多孔質層を重層塗布する（例えば特許文献５参照）事が開示されている。この方法に於いては上下の層を夫々最適化した場合には互いに干渉して塗布故障が発生したり、塗布故障が発生しないように調整すると夫々の層の性能は制限されたものになるという問題があった。以上のように、何れの技術に於いても改善すべき課題が残るものであった。
【０００７】
本発明者らは以上の問題を解決するため、インク受容層としての多孔質層を形成後、その上にその空隙容量以内の湿分塗布量で無機微粒子を適用することを検討したが、この無機微粒子層が干渉縞を発生させるという新たな問題を引き起こした。
【特許文献１】特開平６−１８３１３４号、実施例
【特許文献２】特開２０００−３７９４４号
【特許文献３】特許第３３９８４７５号、実施例
【特許文献４】特開２０００−６２３１４号、実施例
【特許文献５】特開２００３−９４８００号、実施例
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って本発明が解決しようとする課題は、光沢を改良し且つ、インク吸収速度の異常が無く、表面の面質低下や塗布故障が無く、且つ表面の干渉縞の発生の無いインクジェット記録媒体を製造する手段を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
１．支持体上に、少なくとも１層の、平均二次粒子径が５００ｎｍ以下のシリカ微粒子を含有する多孔質層を形成した後に、該多孔質層の上に平均乾燥厚み２００ｎｍ以下の無機微粒子層を設けるインクジェット記録媒体の製造方法であって、該多孔質層を形成した後に該無機微粒子層の塗布液を塗布するに際し、該多孔質層の空隙容量の９０容量％以下の塗布量で前計量タイプの塗布方式にて塗布することを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。
【００１０】
２．該前計量タイプの塗布方式に用いられる塗布装置が、塗布の幅方向に均一に流出するためのスリットを持つ塗布装置、あるいは、直径１００ｍｍ以下の斜線グラビアロールをリバース且つキスタッチにて使用する塗布装置であることを特徴とする上記１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【００１１】
３．該無機微粒子層の無機微粒子が、平均一次粒子径８０ｎｍ以下のコロイダルシリカである上記１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【００１２】
４．該無機微粒子層の塗布液の３５℃粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下である上記１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【００１３】
５．該多孔質層に含有するシリカ微粒子が、平均一次粒子径３０ｎｍ以下で且つ平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の気相法シリカ、または平均二次粒子径を５００ｎｍ以下に粉砕された湿式法シリカである上記１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【００１４】
６．該多孔質層が、更に親水性バインダーを含有し、該親水性バインダーの該シリカ微粒子に対する含有比率が５〜２５質量％である上記１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【００１５】
７．該多孔質層の空隙容量が１５〜５０ｍｌ／ｍ2である上記１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【００１６】
８．該支持体がポリオレフィン樹脂被覆紙である上記１記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【発明の効果】
【００１７】
光沢に優れ、インク吸収速度の異常が無く、表面の面質低下や塗布故障が無く、且つ表面の干渉縞の無いインクジェット画像が得られるインクジェット記録媒体を、効率良く生産することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の特徴の一つは、無機微粒子層の塗布液の液体部分、主として水が多孔質層に吸収されることにより、瞬時に多孔質層表面に無機微粒子が固定され、その間塗布液は多孔質層側と反対側の面が空気以外に接触する物が無く、外乱を受けないため、均一な層を形成し、光沢を改善することである。
【００１９】
その実現のために本発明では多孔質層が形成された後に無機微粒子層が塗布される。ここで、多孔質層を形成する時期とは、支持体上に多孔質層のための塗布液（平均二次粒子径が５００ｎｍ以下のシリカ微粒子を含有する液）が塗布された後の乾燥途中の段階あるいは乾燥終了の段階で、多孔質層内に十分な容量の空隙が形成された時期である。
【００２０】
従って無機微粒子層が塗布される時期は、多孔質層の塗布液が塗布された後の乾燥途中の段階、あるいは乾燥終了後の段階である。本発明に於いて、無機微粒子層の塗布液は、多孔質層の空隙容量の９０容量％以下の塗布量で塗布される。塗布液供給量の下限としては光沢改善に十分な無機微粒子層を形成出来ること、安定に塗布出来ることが要件であり、塗布安定性の観点からは１０ｍｌ／ｍ2以上が望ましい。ここで、多孔質層の空隙容量とは、無機微粒子層が塗布される時点での空隙容量を意味する。この空隙容量は、インク吸収性能の観点から１５〜５０ｍｌ／ｍ2の範囲が好ましい。
【００２１】
本発明に於いて、空隙容量が４０ｍｌ／ｍ2未満の範囲では無機微粒子層の塗布液供給量が空隙容量の９０容量％以下、より好ましくは８０容量％以下が良い。空隙容量が４０〜５０ｍｌ／ｍ2の範囲では無機微粒子層の塗布液供給量が空隙容量の８０容量％以下、より好ましくは６５容量％以下が良い。
【００２２】
本発明で言う多孔質層の空隙容量のうち乾燥終了後の空隙容量は、水銀ポロシメーター（Autopore  II  9220；micro  meritics  instrument  corporation製）を用い測定・処理された、多孔質層部分に於ける細孔半径３ｎｍから４００ｎｍまでの累積細孔容積（ｍｌ／ｇ）に、多孔質層の塗布固形分（ｇ／ｍ2）を乗ずる事で、単位面積（ｍ2）当たりの数値として求める事が出来る。
【００２３】
また、多孔質層の乾燥終点に達する前に無機微粒子層を塗布する場合の空隙容量は、無機微粒子層塗布直前の多孔質層の残存水分量を赤外水分率計等で求め、前記乾燥終了後の空隙容量から残存水分量を減ずることで求められる。
【００２４】
無機微粒子層の均一性の観点から、外乱を受ける機会を少なくするため、多孔質層による無機微粒子層塗布液の吸収は瞬時になされることが好ましく、そのために３５℃で測定した塗液粘度は１０ｍＰａ・ｓ以下が好ましい。
【００２５】
本発明の特徴のもう一つは無機微粒子層の厚み制御による干渉縞の発生防止であるが、干渉作用が発現するということは、新たに設けた無機微粒子層が多孔質層とは光学的に識別可能、つまり屈折率に段差が有ることを意味している。
【００２６】
光の干渉縞は、表面反射光と底面反射光が重なり合う時に、位置により位相が一致したり逆になったりすることで強調されたり打ち消し合ったりして発生する。本発明が問題としている干渉は、無機微粒子層表面と底面の反射光間のものである。
【００２７】
無機微粒子層が緻密な構造であり、多孔質層が疎な構造であるため平均屈折率に差が出ると考えられ、微粒子層底面での反射は自由端反射、微粒子層表面での反射は固定端反射と考えられる。従って、夫々の反射はもともと半波長位相がズレているので、無機微粒子層の厚みが限りなく０に近ければ反射強度も限りなく０に近づく。従って無機微粒子層の厚みは無制限に薄くすることは、本発明の目的に反し、最低限３０ｎｍは必要である。
【００２８】
光路程差２ｄｎｔａｎθ（ｄ＝無機微粒子層の厚み、ｎ＝その平均屈折率、θ＝光の入射角）が半波長に一致すると、反射面の性質の差による半波長の位相差と合わせて反射光が強調され、最初の干渉模様の出現となる。
【００２９】
従って、厚みｄを小さくすることは最初の干渉模様の出現する入射角を大きくすることになる。本発明者らは球形単分散の無機微粒子を用いた検討の結果、無機微粒子層が最密充填（充填率７４容量％）と仮定し、固形分塗布量を微粒子の真密度で除し、さらにその値を０．７４で除して求めた厚みｄを２００ｎｍ以下にすると干渉模様が著しく軽減されることを見いだした。本発明で言う無機微粒子層の平均乾燥厚みはこの計算値を表している。
【００３０】
本発明に於いて、無機微粒子層の平均乾燥厚みを２００ｎｍ以下にすることによって、干渉縞を防止し、かつ優れたインク吸収性が得られる。平均乾燥厚みが２００ｎｍを超えると干渉縞が出現し、インク吸収性が低下する。本発明は、通常のインクジェットプリンターはもとより、高いインク吸収速度が要求される業務用高速プリンターにも充分に対応が可能であるが、インク吸収速度を更に高めると言う意味からは、平均乾燥厚みは、１００ｎｍ以下が更に好ましい。従って、本発明の無機微粒子層の平均乾燥厚みは、３０〜２００ｎｍが好ましく、５０〜１００ｎｍの範囲がより好ましい。
【００３１】
本発明に於いて、多孔質層の上に塗布する無機微粒子としては各種金属酸化物が挙げられるが、入手のしやすさ、自己結着力が有ることからコロイド状シリカが有利に用いられる。
【００３２】
無機微粒子層のインク透過速度の観点からは、なるべく大きな粒子径のものを薄く塗ることが好ましいが、無機微粒子層全体の厚みを２００ｎｍ以下に納めるためには大粒径側には限度が有り、平均一次粒子径で８０ｎｍ以下であることが好ましい。更に１０〜５０ｎｍの範囲が好ましい。
【００３３】
本発明に於いて有利に用いることの出来るコロイド状シリカについては、上記のような粒子径の材料は市販品の中から普通に入手可能である。コロイド状シリカにはシリカゾルから弱アルカリ性下で粒子成長させたそのままのタイプ、イオン交換によりアルカリを減量したタイプ、格子の珪素原子の一部をアルミニウム原子に置換してアニオン性を強化したタイプ、アルミナ表面処理によりカチオン性にしたタイプ、アルコキシシランを原料にゾルゲル法で合成されたタイプ等各種有るが何れも使用可能である。シリカはアルカリに若干溶解するのでアルカリが残っている方が結着力の面で有利と考えられるが、イオン交換したタイプでも実用上問題なく使用出来る。また、大粒径のものと、小粒径のものを組み合わせると光沢及び透明性の面では有利になる。
【００３４】
本発明の実施に於いて、上記のような無機微粒子を主成分とする塗液の構成は、本発明の本来の目的のためには無機微粒子単独で単に濃度調整するだけで十分で他の成分は必要としないが、個々の応用に関しては適宜バインダー、添加剤を加えることは可能である。バインダーを加える場合の適正な添加量は、無機微粒子に対して１０質量％以下、好ましくは５質量％以下が良い。界面活性剤については、塗布助剤としての役割であるなら加える必要は無く、そのまま塗布可能である。マット剤等表面形状を大きく変更する成分の添加は、本発明の目的、光沢の改良という観点から好ましくない。
【００３５】
無機微粒子層塗布液中の無機微粒子濃度は０．２５〜７．５質量％、好ましくは０．５〜５質量％の範囲が良い。
【００３６】
一般的に、塗布液を供給する手段としては、エアナイフコーターやブレードコーターのように、一旦支持体に塗布液を供給してから液を掻き落とす後計量タイプの塗布装置とグラビアコーター、エクストルージョン方式やスライドビード方式のように予め計量した液量を支持体に供給する前計量タイプの塗布装置が有る。本発明の場合は塗布液を供給する対象が多孔質であるので、毛管現象のため、塗布液供給後瞬時に塗布液の濃縮が起こり、塗布液の多孔質層界面付近に濃度ムラが発生するため、後計量タイプの塗布装置では安定に２００ｎｍ以下の塗布量で塗布が出来ない。
【００３７】
本発明の実施に於いて、上記の塗布液を多孔質層の上に塗布する前計量タイプの塗布手段としては、エクストルージョン方式、スライドビード方式、スロットダイコーターのような塗布液を塗布の巾方向に均一に流出するためのスリットを持つ塗布装置、及グラビアロールを使用する塗布装置等を用いることが出来る。グラビアコーターを用いる場合でも、特許第３３９８４７４号実施例に記載されているような格子型のグラビアロールを用いると、表面にグラビアの網目模様が残り、写真用としては有利ではない。グラビアロールとしては斜線グラビアロールを使用することが好ましい。
【００３８】
斜線グラビアロール使用する場合はロール直径１００ｍｍ以下の斜線グラビアロールをリバース且つキスタッチで使用することが好ましい。これらの塗布手段の設置位置としては別途独立したコーターとしても良いが多孔質層の塗布後、乾燥工程の後或いは途中、巻き取られるまでの間とすることも出来る。多孔質層の塗布乾燥後、無機微粒子層塗布液の乾燥余力を残した位置がより好ましい。
【００３９】
塗布された塗布液の液体部分は、多孔質層に毛管現象により吸収され、排除された気体は多孔質層の未塗布部分から抜けるものと考えられる。従って、液体部分が瞬時に吸収されるためには多孔質層を構成する材料は全体として水よりも表面張力が高く、細孔径は細ければ細いほど有利である。
【００４０】
本発明の多孔質層としては、インク受容能が有り、無機微粒子層の塗布液中液体部分を瞬時に吸収する能力が有れば、それ以外の制限は無いが、一般的にインク受容層には無機微粒子が連結した多孔質凝集体をバインダーで固定した塗布層を用いることが多く、通常金属酸化物である無機微粒子は表面張力が水より高く、凝集体の細孔径も通常は十分小さいので、本発明の課題解決のためにもそのような構成が有利である。
【００４１】
本発明の多孔質層は上述したように、空隙タイプのインクジェット記録媒体のインク受容層に要求される性能を備えていれば十分使用出来る。以下に多孔質層の説明を続ける。一般には多孔質層の無機微粒子凝集体としては、凝集体内に空隙容量を十分確保出来るため、湿式法シリカ、気相法シリカ、アルミナ或いはアルミナ水和物等を用いる事が普通であるが、アルミナあるいはアルミナ水和物は屈折率が高いため、多孔質層と無機微粒子層との平均屈折率の差が小さく、顕著な光沢改善効果が得られない。
【００４２】
非晶質合成シリカは、製造法によって湿式法シリカ、気相法シリカ、及びその他に大別することができる。湿式法シリカは、さらに製造方法によって沈降法シリカ、ゲル法シリカ、ゾル法シリカに分類される。沈降法シリカは珪酸ソーダと硫酸をアルカリ条件で反応させて製造され、粒子成長したシリカ粒子が凝集・沈降し、その後濾過、水洗、乾燥、粉砕・分級の行程を経て製品化される。沈降法シリカとしては、例えば日本シリカ（株）からニップシールとして、（株）トクヤマからトクシールとして市販されている。ゲル法シリカは珪酸ソーダと硫酸を酸性条件下で反応させて製造する。熟成中に微小粒子は溶解し、他の一次粒子どうしを結合するように再析出するため、明確な一次粒子は消失し、内部空隙構造を有する比較的硬い凝集粒子を形成する。例えば、日本シリカ（株）からニップゲルとして、グレースジャパン（株）からサイロイド、サイロジェットとして市販さている。ゾル法シリカは、コロイダルシリカとも呼ばれ、ケイ酸ソーダの酸などによる複分解やイオン交換樹脂層を通して得られるシリカゾルを加熱熟成して得られ、例えば日産化学工業（株）からスノーテックスとして市販されている。
【００４３】
気相法シリカは、湿式法に対して乾式法とも呼ばれ、一般的には火炎加水分解法によって作られる。具体的には四塩化ケイ素を水素及び酸素と共に燃焼して作る方法が一般的に知られているが、四塩化ケイ素の代わりにメチルトリクロロシランやトリクロロシラン等のシラン類も、単独または四塩化ケイ素と混合した状態で使用することができる。気相法シリカは日本アエロジル（株）からアエロジル、（株）トクヤマからＱＳタイプとして市販されている。
【００４４】
本発明には、特に気相法シリカが好ましく使用できる。本発明に用いられる気相法シリカの平均一次粒子径は３０ｎｍ以下が好ましく、より高い光沢を得るためには、１５ｎｍ以下が好ましい。更に好ましくは平均一次粒子径が３〜１５ｎｍ（特に３〜１０ｎｍ）でかつＢＥＴ法による比表面積が２００ｍ2／ｇ以上（好ましくは２５０〜５００ｍ2／ｇ）のものを用いることである。尚、本発明でいう平均一次粒子径とは、微粒子の電子顕微鏡観察により一定面積内に存在する１００個の一次粒子各々の投影面積に等しい円の直径を粒子の粒子径として平均粒子径を求めたものであり、本発明で云うＢＥＴ法とは、気相吸着法による粉体の表面積測定法の一つであり、吸着等温線から１ｇの試料の持つ総表面積、即ち比表面積を求める方法である。通常吸着気体としては、窒素ガスが多く用いられ、吸着量を被吸着気体の圧、または容積の変化から測定する方法が最も多く用いられている。多分子吸着の等温線を表すのに最も著名なものは、Brunauer、Emmett、Tellerの式であってＢＥＴ式と呼ばれ表面積決定に広く用いられている。ＢＥＴ式に基づいて吸着量を求め、吸着分子１個が表面で占める面積を掛けて、表面積が得られる。
【００４５】
気相法シリカはカチオン性化合物の存在下で分散するのが好ましい。分散された気相法シリカの平均二次粒子径は、５００ｎｍ以下、好ましくは１０〜３００ｎｍ、更に好ましくは２０〜２００ｎｍである。分散方法としては、通常のプロペラ撹拌、タービン型撹拌、ホモミキサー型撹拌等で気相法シリカと分散媒を予備混合し、次にボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー等のメディアミル、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機、及び薄膜旋回型分散機等を使用して分散を行うことが好ましい。尚、本発明でいう無機微粒子の平均二次粒子径とは、得られた記録材料のインク受容層を電子顕微鏡で観察することにより求めたものである。
【００４６】
本発明では、平均二次粒子径５００ｎｍ以下に粉砕した湿式法シリカも好ましく使用できる。本発明に用いられる湿式法シリカとしては、平均一次粒子径５０ｎｍ以下、好ましくは３〜４０ｎｍであり、且つ平均凝集粒子径（粉砕する前の粒子径）が５〜５０μｍである湿式法シリカが好ましい。本発明では、これらの湿式法シリカをカチオン性化合物の存在下で、平均二次粒子径５００ｎｍ以下、好ましくは２０〜２００ｎｍ程度まで微粉砕したものが好ましい。
【００４７】
通常の方法で製造された湿式法シリカは、１μｍ以上の平均凝集粒子径を有するため、これを微粉砕して使用する。粉砕方法としては、水性媒体中に分散したシリカを機械的に粉砕する湿式分散法が好ましく使用できる。この際、分散液の初期粘度上昇が抑制され、高濃度分散が可能となり、粉砕・分散効率が上昇してより微粒子に粉砕することができることから、吸油量が２１０ｍｌ／１００ｇ以下、平均凝集粒子径５μｍ以上の沈降法シリカを使用することが好ましい。高濃度分散液を使用することによって、記録用紙の生産性も向上する。吸油量は、ＪＩＳ  Ｋ−５１０１の記載に基づき測定される。
【００４８】
本発明の平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の湿式法シリカ微粒子を得る具体的な方法としては、まず水中でシリカ粒子とカチオン性化合物を混合（添加はどちらが先であっても、また同時でも良い）しても良く、又それぞれの分散液あるいは水溶液を混合しても良く、のこぎり歯状ブレード型分散機、プロペラ羽根型分散機、またはローターステーター型分散機等の分散装置の少なくとも１つを用いて予備分散液を得る。必要であれば更に適度の低沸点溶剤等を添加してもよい。シリカ予備分散物の固形分濃度は高いほうが好ましいが、あまり高濃度になると分散不可能となるため、好ましい範囲としては１５〜４０質量％、より好ましくは２０〜３５質量％である。次に、より強い機械的手段を与えることによって、平均二次粒子径が５００ｎｍ以下の湿式法シリカ微粒子分散液が得られる。機械的手段としては公知の方法が採用でき、例えばボールミル、ビーズミル、サンドグラインダー等のメディアミル、高圧ホモジナイザー、超高圧ホモジナイザー等の圧力式分散機、超音波分散機、及び薄膜旋回型分散機等を使用することができる。
【００４９】
上記気相法シリカ及び湿式法シリカの分散に使用するカチオン性化合物としては、カチオン性ポリマーまたは水溶性金属化合物を使用できる。カチオン性ポリマーとしては、ポリエチレンイミン、ポリジアリルアミン、ポリアリルアミン、アルキルアミン重合物、特開昭５９−２０６９６号、同昭５９−３３１７６号、同昭５９−３３１７７号、同昭５９−１５５０８８号、同昭６０−１１３８９号、同昭６０−４９９９０号、同昭６０−８３８８２号、同昭６０−１０９８９４号、同昭６２−１９８４９３号、同昭６３−４９４７８号、同昭６３−１１５７８０号、同昭６３−２８０６８１号、同平１−４０３７１号、同平６−２３４２６８号、同平７−１２５４１１号、同平１０−１９３７７６号公報等に記載された１〜３級アミノ基、４級アンモニウム塩基を有するポリマーが好ましく用いられる。特に、カチオン性ポリマーとしてジアリルアミン誘導体が好ましく用いられる。分散性および分散液粘度の面で、これらのカチオンポリマーの分子量は、２，０００〜１０万程度が好ましく、特に２，０００〜３万程度が好ましい。
【００５０】
水溶性金属化合物としては、例えば水溶性の多価金属塩が挙げられ、中でもアルミニウムもしくは周期律表４Ａ族金属（例えばジルコニウム、チタン）からなる化合物が好ましい。特に好ましくは水溶性アルミニウム化合物である。水溶性アルミニウム化合物としては、例えば無機塩としては塩化アルミニウムまたはその水和物、硫酸アルミニウムまたはその水和物、アンモニウムミョウバン等が知られている。さらに、無機系の含アルミニウムカチオンポリマーである塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物が知られており、好ましく用いられる。
【００５１】
前記塩基性ポリ水酸化アルミニウム化合物とは、主成分が下記の一般式１、２、または３で示され、例えば［Ａｌ6（ＯＨ）15］3+、［Ａｌ8（ＯＨ）20］4+、［Ａｌ13（ＯＨ）34］5+、［Ａｌ21（ＯＨ）60］3+、等のような塩基性で高分子の多核縮合イオンを安定に含んでいる水溶性のポリ水酸化アルミニウムである。
【００５２】
［Ａｌ2（ＯＨ）nＣｌ6-n］m                            一般式１
［Ａｌ（ＯＨ）3］nＡｌＣｌ3                           一般式２
Ａｌn（ＯＨ）mＣｌ(3n-m)    ０＜ｍ＜３ｎ              一般式３
【００５３】
これらのものは多木化学（株）よりポリ塩化アルミニウム（ＰＡＣ）の名で水処理剤として、浅田化学（株）よりポリ水酸化アルミニウム（Ｐａｈｏ）の名で、また、（株）理研グリーンよりピュラケムＷＴの名で、また他のメーカーからも同様の目的を持って上市されており、各種グレードの物が容易に入手できる。
【００５４】
本発明に用いられる周期表４Ａ族元素を含む水溶性化合物としては、チタンまたはジルコニウムを含む水溶性化合物がより好ましい。チタンを含む水溶性化合物としては、塩化チタン、硫酸チタンが挙げられる。ジルコニウムを含む水溶性化合物としては、酢酸ジルコニウム、塩化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、ヒドロキシ塩化ジルコニウム、硝酸ジルコニウム、塩基性炭酸ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、乳酸ジルコニウム、炭酸ジルコニウム・アンモニウム、炭酸ジルコニウム・カリウム、硫酸ジルコニウム、フッ化ジルコニウム化合物等が挙げられる。本発明に於いて、水溶性とは常温常圧下で水に１質量％以上溶解することを目安とする。
【００５５】
これらのシリカ微粒子を固定するバインダーとしては、透明性が高くインクのより高い浸透性が得られる親水性バインダーが用いられる。親水性バインダーの使用にあたっては、親水性バインダーがインクの初期浸透時に膨潤して空隙を塞いでしまわないことが重要であり、この観点から室温付近での膨潤性の低い親水性バインダーが好ましく用いられる。
【００５６】
ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、澱粉、デキストリン、カルボキシメチルセルロース等やそれらの誘導体が用いられるが、特に好ましい親水性バインダーは完全または部分鹸化のポリビニルアルコールまたはカチオン変性ポリビニルアルコールである。ポリビニルアルコールの中でも特に好ましいのは、鹸化度が８０％以上の部分または完全鹸化したものであり、平均重合度は５００〜５０００が好ましい。
【００５７】
また、カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば特開昭６１−１０４８３号に記載されているような、第１〜第３アミノ基や第４アンモニウム基を主鎖あるいは側鎖中に有するポリビニルアルコールが挙げられる。
【００５８】
空隙容量を１５〜５０ｍｌ／ｍ2の範囲に保つため、バインダーはシリカ微粒子に対して５〜２５質量％添加することが好ましく、塗布量としてはシリカ微粒子として１０〜３５ｇ／ｍ2が好ましく、さらに好ましくは１３〜３０ｇ／ｍ2の範囲が用いられる。
【００５９】
本発明の多孔質層は必要に応じてシリカ微粒子の種類、凝集密度、一次粒子径、バインダー配合量、添加剤等に差の有る複数の層に分けて適用されても良い。その際、空隙容量は多孔質層間に浸透阻害のような特別な障害が無い限り、複数層の合計の空隙容量で考えれば良い。
【００６０】
本発明の多孔質層はひび割れ防止、インクの定着性改良、画像の保存性改良等の目的で、多価金属化合物、カチオン性ポリマー、酸化防止剤、ラジカル禁止剤、さらには塗布助剤として界面活性剤や水溶性溶剤、粘度調整剤、ｐＨ調整剤等適宜加えることが出来る。
【００６１】
本発明に用いられる支持体としてはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、セロファン、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のフィルム、ポリオレフィン樹脂被覆紙等の非吸水性支持体、上質紙、アート紙、コート紙、キャスト塗被紙等の吸水性支持体等が用いられる。好ましくは非吸水性支持体が用いられる。非吸水性支持体の中でも特にポリオレフィン樹脂被覆紙が好ましい。これらの支持体の厚みは、約５０〜２５０μｍ程度のものが好ましく使用される。
【００６２】
支持体として、フィルムや樹脂被覆紙等の非吸水性支持体を使用する場合には、インク受容層を設ける面上に天然高分子化合物や合成樹脂を主体とするプライマー層を設けるのが好ましい。支持体上に設けられるプライマー層はゼラチン、カゼイン等の天然高分子化合物や合成樹脂を主体とする。係る合成樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニリデン、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。プライマー層は、支持体上に０．０１〜５μｍの膜厚（乾燥膜厚）で設けられる。好ましくは０．０１〜２μｍの範囲である。
【００６３】
本発明における支持体には筆記性、帯電防止性、搬送性、カール防止性などのために、各種のバックコート層を塗設することができる。バックコート層には無機帯電防止剤、有機帯電防止剤、親水性バインダー、ラテックス、顔料、硬化剤、界面活性剤などを適宜組み合わせて含有せしめることができる。
【００６４】
フィルム支持体や樹脂被覆紙に多孔質層の塗工液を塗布する場合、塗布に先立って、好ましくはコロナ放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、プラズマ処理等が行われる。
【００６５】
本発明において、多孔質層を構成している各層の塗布方法は、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スライドビード方式、カーテン方式、エクストルージョン方式、エアナイフ方式、ロールコーティング方式、ロッドバーコーティング方式等がある。
【００６６】
以下、実施例により本発明を詳しく説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。尚、以下特に断りが無い限り部及び％は各々質量部、質量％を表す。
【実施例１】
【００６７】
＜ポリオレフィン樹脂被覆紙支持体の調整＞広葉樹クラフトパルプをカナディアン  スタンダード  フリーネス３００ｍｌに叩解し、カチオン変性澱粉を対パルプ１．５質量％、両性ポリアクリルアミドを対パルプ１．０質量％、サイズ剤アルキルケテンダイマーを対パルプ０．２質量％、ポリアミドポリアミンエピクロルヒドリンを対パルプ０．２質量％加え、１質量％に濃度を調整し、紙料スラリーとした。次いでこの紙料を長網抄紙機で適度なタービュランスを与えながら、坪量１７０ｇ／ｍ2、密度１．０６ｇ／ｃｍ3になるよう調製して樹脂被覆紙の基紙を抄造した。
【００６８】
基紙を走行させながら先ずそのワイヤー面をコロナ放電処理し、識別用裏印刷を行った。次いで再びワイヤー面をコロナ放電処理し、３２０℃の溶融した裏面用樹脂を２０ｇ／ｍ2押出し被覆して粗面形状の裏樹脂層を形成した。次いで基紙のフェルト面をコロナ放電処理し、３２０℃の溶融した表面用樹脂を３０ｇ／ｍ2押出し被覆して鏡面形状の表樹脂層を形成した。さらに、裏樹脂面をコロナ放電処理し帯電防止用バックコート塗布液を固形分として０．６ｇ／ｍ2、表樹脂面をコロナ放電処理し下引き液を５０ｍｇ／ｍ2、夫々塗布乾燥し巻き取りポリオレフィン樹脂被覆紙支持体を製造した。
【００６９】
＜裏樹脂配合＞
低密度ポリエチレン                                          ３０部
（密度０．９２０ｇ／ｃｍ3）
高密度ポリエチレン                                          ７０部
（密度０．９６７ｇ／ｃｍ3）
＜表樹脂配合＞
マスターバッチ                                              １５部
（密度０．９１８ｇ／ｃｍ3の低密度ポリエチレン３９．１部、Ａｌ2Ｏ3換算０．８質量％の表面被覆アナタ−ゼ型酸化チタン６０部、ステアリン酸亜鉛０．９部をバンバリーミキサーで混練）
低密度ポリエチレン                                          ８５部
（密度０．９２０ｇ／ｃｍ3）
＜バックコート塗液配合＞
無水マレイン酸重合体のアルカリ加水分解物２５％液              ４部
コロイド状シリカ２０％スラリー
（日産化学工業（株）製スノーテックス２０）                    ２０部
エポキシタイプ架橋剤１０％液                                  １．５部
スルフォコハク酸−２−エチルヘキシルエステル塩５％液          ０．５部
水にて全量を１００部とした。
＜下引き液配合＞
石灰処理ゼラチン２％水溶液                                  ５０部
スルフォコハク酸−２−エチルヘキシルエステル塩５％液          ０．５部
クロム明ばん５％水溶液                                        ２部
水にて全量を１００部とした。
【００７０】
上記支持体に下記組成の多孔質層塗布液をスライドビードコーターで気相法シリカ換算２５ｇ／ｍ2で塗布、乾燥した。この時点で採取した試料の空隙容量を水銀ポロシメーターを用い求めたところ、３０ｍｌ／ｍ2であった。
＜多孔質層塗布液配合１＞
気相法シリカ２０％スラリー                                  ７０部
（平均一次粒径１２ｎｍ）
ポリジメチルアリルアンモニウムクロライド１０％水溶液          ２．８部
硼酸１０％水溶液                                              ４．２部
ポリビルアルコール１０％水溶液                              ２１部
（鹸化度８８％、平均重合度３５００）
界面活性剤５％水溶液                                          ０．８４部
水にて全量を１００部とした。
【００７１】
さらに多孔質層の上に下記配合の無機微粒子層塗布液をスロットコーターを用いて湿分塗布量１９ｍｌ／ｍ2で塗布乾燥し、実施例１のインクジェット記録媒体を得た。
＜無機微粒子層塗布液配合１＞
コロイド状シリカ２０％スラリー                                ８部
（日産化学工業（株）製スノーテックスＯ；平均一次粒径１５ｎｍ）
水にて全量を１００部とした。（シリカ濃度１．６質量％）
粘度は１．３ｍＰａ・ｓであった。
（算定厚み１８７ｎｍ：湿分塗布量（１９ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．０１６）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【実施例２】
【００７２】
実施例１の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合２に代える以外は同様にして実施例２のインクジェット記録媒体を得た。
＜無機微粒子層塗布液配合２＞
コロイド状シリカ２０％スラリー                                ６部
（日産化学工業（株）製スノーテックスＯ；平均一次粒径１５ｎｍ）
水にて全量を１００部とした。（シリカ濃度１．２質量％）
粘度は１．３ｍＰａ・ｓであった。
（算定厚み１４０ｎｍ：湿分塗布量（１９ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．０１２）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【実施例３】
【００７３】
実施例１の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合３に代える以外は同様にして実施例３のインクジェット記録媒体を得た。
＜無機微粒子層塗布液配合３＞
コロイド状シリカ２０％スラリー                                ４部
（日産化学工業（株）製スノーテックスＯ；平均一次粒径１５ｎｍ）
水にて全量を１００部とした。（シリカ濃度０．８質量％）
粘度は１．３ｍＰａ・ｓであった。
（算定厚み９３ｎｍ：湿分塗布量（１９ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．００８）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【００７４】
（比較例１）
実施例１の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合４に代える以外は同様にして比較例１のインクジェット記録媒体を得た。
＜無機微粒子層塗布液配合４＞
コロイド状シリカ２０％スラリー                              ２０部
（日産化学工業（株）製スノーテックスＯ；平均一次粒径１５ｎｍ）
水にて全量を１００部とした。（シリカ濃度４．０質量％）
粘度は１．３ｍＰａ・ｓであった。
（算定厚み４７７ｎｍ：湿分塗布量（１９ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．０４）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【００７５】
（比較例２）
実施例３に於いて無機微粒子層塗布液の塗布量を３０ｍｌ／ｍ2にする以外は同様にして比較例２のインクジェット記録媒体を得た。
（算定厚み１４７ｎｍ：湿分塗布量（３０ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．００８）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【実施例４】
【００７６】
実施例２に於いて無機微粒子層塗布液の塗布方法を以下の方法に代える以外は同様にして実施例４のインクジェット記録媒体を得た。直径６０ｍｍ、斜線角度４５度、線数９０線／インチ、溝深さ１１０ミクロンの斜線グラビアロールを用い、リバース回転且つキスタッチで塗布を行った。斜線グラビアロールの回転数を調整し湿分塗布量２０ｍｌ／ｍ2で塗布を行い、乾燥した。湿分塗布量は塗布中における単位時間当たりの塗液減少量から計算された。
（算定厚み１４７ｎｍ：湿分塗布量（２０ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．０１２）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【実施例５】
【００７７】
実施例４の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合３に代える以外は同様にして実施例５のインクジェット記録媒体を得た。
（算定厚み９８ｎｍ：湿分塗布量（２０ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．００８）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【００７８】
（比較例３）
実施例４の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合４に代える以外は同様にして比較例３のインクジェット記録媒体を得た。
（算定厚み５０２ｎｍ：湿分塗布量（２０ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．０４）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【実施例６】
【００７９】
実施例４の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合５に代える以外は同様にして実施例６のインクジェット記録媒体を得た。
＜無機微粒子層塗布液配合５＞
コロイド状シリカ２０％スラリー                                ６部
（扶桑化学工業製クォートロンＰＬ−３Ｌ、平均一次粒径３５ｎｍ）
水にて全量を１００部とした。（シリカ濃度１．２質量％）
粘度は１．３ｍＰａ・ｓであった。
（算定厚み１４７ｎｍ：湿分塗布量（２０ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．０１２）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【実施例７】
【００８０】
実施例４の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合６に代える以外は同様にして実施例７のインクジェット記録媒体を得た。
＜無機微粒子層塗布液配合６＞
コロイド状シリカ２０％スラリー                                ４部
（扶桑化学工業製クォートロンＰＬ−３Ｌ、平均一次粒径３５ｎｍ）
水にて全量を１００部とした。（シリカ濃度０．８質量％）
粘度は１．３ｍＰａ・ｓであった。
（算定厚み９８ｎｍ：湿分塗布量（２０ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．００８）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【００８１】
（比較例４）
実施例４の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合７に代える以外は同様にして比較例４のインクジェット記録媒体を得た。
＜無機微粒子層塗布液配合７＞
コロイド状シリカ２０％スラリー                              ２０部
（日産化学工業（株）製スノーテックスＯ；平均一次粒径１５ｎｍ）
水にて全量を１００部とした。（シリカ濃度４．０質量％）
（算定厚み５０２ｎｍ：湿分塗布量（２０ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．０４）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【実施例８】
【００８２】
実施例４の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合８に代える以外は同様にして実施例８のインクジェット記録媒体を得た。
＜無機微粒子層塗布液配合８＞
コロイド状シリカ１２％スラリー                              １０部
（扶桑化学工業製クォートロンＰＬ−１、平均一次粒径１５ｎｍ）
水にて全量を１００部とした。（シリカ濃度１．２質量％）
粘度は１．３ｍＰａ・ｓであった。
（算定厚み１４７ｎｍ：湿分塗布量（２０ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．０１２）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【実施例９】
【００８３】
実施例４の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合９に代える以外は同様にして実施例９のインクジェット記録媒体を得た。
＜無機微粒子層塗布液配合９＞
コロイド状シリカ１２％スラリー                                ６．７部
（扶桑化学工業製クォートロンＰＬ−１、平均一次粒径１５ｎｍ）
水にて全量を１００部とした。（シリカ濃度０．８質量％）
（算定厚み９８ｎｍ：湿分塗布量（２０ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．００８）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【００８４】
（比較例５）
実施例４の無機微粒子層塗布液配合を無機微粒子層塗布液配合１０に代える以外は同様にして比較例５のインクジェット記録媒体を得た。
＜無機微粒子層塗布液配合１０＞
コロイド状シリカ１２％スラリー                              ３３部
（扶桑化学工業製クォートロンＰＬ−１、平均一次粒径１５ｎｍ）
水にて全量を１００部とした。（シリカ濃度４．０質量％）
（算定厚み５０２ｎｍ：湿分塗布量（２０ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．０４）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
なお、実施例１〜９及び比較例１〜４の無機微粒子層塗液の吸収所要時間は何れも０．３秒以内であった。
【００８５】
（比較例６）
実施例９の塗布方法をアプリケーターロールで塗布液を供給後、エアナイフで掻き落として塗布量を調節する後計量タイプの塗布方式に変更して比較例６のインクジェット記録媒体を得た。湿分塗布量は塗布中における単位時間当たりの塗液減少量から計算された。
（算定厚み８８ｎｍ：湿分塗布量（１８ｍｌ／ｍ2）×塗布液濃度（０．００８）÷二酸化珪素の密度（２．２ｇ／ｃｍ3）÷０．７４）
【００８６】
（比較例７）
実施例１の無機微粒子層塗布前の試料を比較例７のインクジェット記録媒体とした。
【００８７】
＜インクジェット記録媒体の評価＞
これらインクジェット記録媒体は、密封包装のもと５０℃２４時間経時後、以下の評価を行った。
＜インク吸収性＞
インクジェット記録媒体を２３℃、湿度５５％ＲＨに一昼夜調湿後、同条件下でセイコーエプソン社製インクジェットプリンターＭＪ−８００Ｃで黒ベタ印字後、時間間隔を変化して印字面にＰＰＣ用紙を重ねて軽く圧着し、剥がしてＰＰＣ用紙へのインク裏写りを評価した。
◎；２０秒後でも全く裏写り無し。
○；２０秒後ではやや裏写り有るが、２５秒後では全く裏写り無し。
△；２５秒後ではやや裏写り有るが、３０秒後では全く裏写り無し。
×；３０秒後でも裏写りが有る
【００８８】
＜光沢性＞
インクジェット記録媒体の印字していない部分の光沢を目視で判定した。
○；写真用印画紙並で非常に良好。
△；アート、コート紙のレベルで良好。
×；マット紙に近く大幅に悪い。
【００８９】
＜干渉縞＞
インクジェット記録媒体の観察角度を変えながら干渉縞の見え方を分類した。
○；十分に傾けて干渉縞を探すと見える。
△；普通は見えないが大きく傾けた時、干渉縞が見える。
×；通常の観察角度の範囲でも干渉縞が見えることが有る。
また、表中「−」は無機微粒子層が無いか、表面の乱れのため光沢が無く、干渉縞の評価が出来ないことを表す。
【００９０】
＜塗布面の乱れ＞
外観上の故障の有無を観察した。以上結果を表１に示す。
【００９１】
【表１】
2005161836.tif 000002
【００９２】
実施例のインクジェット記録媒体は何れも、インク吸収速度に優れ、且つ、実用上干渉縞が画像観察に影響を与えない。無機微粒子層の平気乾燥厚みが２００ｎｍを超える比較例１、３〜５はインク吸収速度の低下が見られ、且つ、干渉縞が観察された。無機微粒子層の塗布液量が空隙容量の９０容量％を超えた比較例２は塗布面の乱れを生じ光沢が悪化した。また、後計量方式の比較例６は表面に乱れが有り、無機微粒子層の無い比較例７と比べても光沢自体がかえって悪化する。