(57)【要約】【課題】  高精度の微細検出電極構造を有する電気泳動プレートを安価に大量に生産することができる製造方法を提供すること。【解決手段】  電気的絶縁性を有する透明乃至半透明の基板の表面に透明乃至半透明の導電性膜を形成する導電性膜形成工程と、基板上に形成された導電性膜の表面にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、微細検出電極構造を形成するためのフォトマスクを用いてフォトレジスト膜の表面を露光する露光工程と、露光工程後に未露光領域のフォトレジストを除去するネガパターン形成工程と、ネガパターン形成工程後に露出する導電性膜の表面に鍍金処理により電極を形成する電極形成工程と、電極形成後に露光領域に存在するフォトレジスト膜及びその下側の導電性膜を除去する残留膜除去工程と、を含む電気泳動プレートの製造方法。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気的指向性を有する細菌を検出するための電気泳動プレートを製造するための製造方法において、
電気的絶縁性を有する透明乃至半透明の基板の表面に透明乃至半透明の導電性膜を形成する導電性膜形成工程と、前記基板上に形成された前記導電性膜の表面にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、微細検出電極構造を形成するためのフォトマスクを用いて前記フォトレジスト膜の表面を露光して所定形状のパターンを形成する露光・パターン形成工程と、前記露光・パターン形成工程後に露出する前記導電性膜の表面に鍍金処理により電極を形成する電極形成工程と、前記電極形成後に鍍金処理されていない前記フォトレジスト膜及びその下側の前記導電性膜を除去する残留膜除去工程と、を含むことを特徴とする電気泳動プレートの製造方法。
【請求項２】
電気的指向性を有する細菌を検出するための電気泳動プレートを製造するための製造方法において、
電気的絶縁性を有する透明乃至半透明の基板の表面に透明乃至半透明の導電性膜を形成する導電性膜形成工程と、前記基板上に形成された前記導電性膜の表面に感光性フィルムを被覆する感光性フィルム被覆工程と、微細検出電極構造を形成するためのフォトマスクを用いて前記感光性フィルムの表面を露光して所定形状のパターンを形成する露光・パターン形成工程と、前記露光・パターン形成工程後に露出する前記導電性膜の表面に鍍金処理により電極を形成する電極形成工程と、前記電極形成後に鍍金処理されていない前記感光性フィルム及びその下側の前記導電性膜を除去する残留膜除去工程と、を含むことを特徴とする電気泳動プレートの製造方法。
【請求項３】
前記基板はガラスから形成され、前記導電性膜は、ＩＴＯから形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気泳動プレートの製造方法。
【請求項４】
前記電極形成工程においては、露出する前記導電性膜の表面にニッケル、銅、金、クロム、タングステン、白金、パラジウム又はチタンの鍍金処理を施して微細検出電極構造を形成することを特徴とする請求項１又は２に記載の電気泳動プレートの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法により得られたことを特徴とする電気泳動プレート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気泳動法により細菌を検出する際に用いる電気泳動プレート及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、細菌を検出する方法の一つとして電気泳動方法が提案されている。この電気泳動方法では、細菌の電気的指向性に着目し、電極に電圧を印加すると、その電極方向に細菌が移動して集まるようになることを利用しており、このような電気的指向性を有する細菌として大腸菌、ブドウ球菌などがある。
【０００３】
このような電気泳動方法においては、現在、ゲル方式及びキャピラリ方式が主流となっているが、いずれの方法においても、細菌の検出に相当な時間がかかり、また試料中の細菌を検出する、或いは分離することはできても、細菌数を計測することは困難である。また、ゲル方式では、色素を用いて細菌を染色するために、分離した細菌を別の用途に用いることができないという問題がある。
【０００４】
ゲル方式及びキャピラリ方式などに存在する上述した問題を解決する方式として、電気泳動プレートを用いたプレート方式が提案されている。このプレート方式では、例えばガラスなどの電気的に絶縁性を有する基板が用いられ、この基板の表面に電極が形成される。このような電気泳動プレートを用いる場合、電極に所定電圧を印加すると、電気指向性を有する細菌がこの電極に向けて移動し、かかる電極の縁部に固定的に集まり、このように集まった細菌を検出するようになり、従って、試料中の細菌を短時間に且つ容易に検知することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このようなプレート方式においては、微細検出電極構造に固定的に集まった細菌を光学顕微鏡などを用いて検出するものであり、それ故に、微細検出電極構造の電極縁部は顕微鏡レベルでもって凹凸が存在していては細菌を検出することができない。即ち、電極縁部の凹凸が細菌の大きさよりも大きいと、顕微鏡観察を行う際に検出しようとする細菌が電極縁部の凹凸に紛れてしまって正確に見分けることが困難となり、このことが原因となって細菌の検出誤差が生じる。このようなことから、電極縁部の凹凸の大きさは、検出しようとする細菌の大きさよりも小さくする必要があり、例えば大腸菌を検出しようとすると、この凹凸の大きさは０．５μｍ以下にする必要がある。
【０００６】
また、このようなプレート方式では、電極に電圧を印加したときに、検出すべき細菌は、基板と接していない側の角部（電極の上面と側面とが接する部位）に集中する傾向にあり、それ故に、断面として見たときに、電極の上記角部はできるだけ直角であるのが望ましい。仮に、電極の上記角部に丸みがあると、顕微鏡観察を行う際に、電極と検出すべき細菌とが重なって見え、細菌が電極縁部に固定的に集まったとしても集まった細菌を正確に見る見分けることが困難となり、このようなことが原因となっても細菌の検出誤差が生じる。また、上述したように細菌は電極の上記角部に集まる傾向にあるので、この電極はある程度の厚みが必要である。また、基板と電極との間には実用に耐える程度の密着性が必要であり、更にまた電気泳動の効果を得るためには、各電極間の間、即ち基板には充分な電気的絶縁特性が要求される。
【０００７】
電気的絶縁特性を有する基板の表面に上述した高精度の電極を形成する方法としては、例えば、半導体の製造過程で用いられるフォトマスクを用いる方法なども考えられるが、大腸菌などの身近な細菌を安価に検出するという目的から、低価格で大量に提供することが求められ、製作コスト、量産性などを考慮すると、このフォトマスクを用いる方法も実用的でない。
【０００８】
本発明の目的は、電気泳動方法によって細菌を正確に検出することができるとともに、製作コストも安価で大量生産に適した電気泳動プレートを提供することである。
また、本発明の他の目的は、高精度の微細検出電極構造を有する電気泳動プレートを安価に大量に生産することができる製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の請求項１に記載の電気泳動プレートの製造方法は、電気的指向性を有する細菌を検出するための電気泳動プレートを製造するための製造方法において、
電気的絶縁性を有する透明乃至半透明の基板の表面に透明乃至半透明の導電性膜を形成する導電性膜形成工程と、前記基板上に形成された前記導電性膜の表面にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程と、微細検出電極構造を形成するためのフォトマスクを用いて前記フォトレジスト膜の表面を露光して所定形状のパターンを形成する露光・パターン形成工程と、前記露光・パターン形成工程後に前記導電性膜の表面に鍍金処理により電極を形成する電極形成工程と、前記電極形成後に鍍金処理されていない前記フォトレジスト膜及びその下側の前記導電性膜を除去する残留膜除去工程と、を含むことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の請求項２に記載の電気泳動プレートの製造方法は、電気的指向性を有する細菌を検出するための電気泳動プレートを製造するための製造方法において、
電気的絶縁性を有する透明乃至半透明の基板の表面に透明乃至半透明の導電性膜を形成する導電性膜形成工程と、前記基板上に形成された前記導電性膜の表面に感光性フィルムを被覆する感光性フィルム被覆工程と、微細検出電極構造を形成するためのフォトマスクを用いて前記感光性フィルムの表面を露光して所定形状のパターンを形成する露光・パターン形成工程と、前記露光・パターン形成工程後に露出する前記導電性膜の表面に鍍金処理により電極を形成する電極形成工程と、前記電極形成後に鍍金処理されていない前記感光性フィルム及びその下側の前記導電性膜を除去する残留膜除去工程と、を含むことを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の請求項３に記載の電気泳動プレートの製造方法では、前記基板はガラスから形成され、前記導電性膜は、ＩＴＯから形成されていることを特徴とする。
また、本発明の請求項４に記載の電気泳動プレートの製造方法では、前記電極形成工程においては、露出する前記導電性膜の表面にニッケル、銅、金、クロム、タングステン、白金、パラジウム又はチタンの鍍金処理を施して微細検出電極構造を形成することを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の請求項５に記載の電気泳動プレートは、請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法により得られたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の請求項１に記載の電気泳動プレートの製造方法によれば、電気的絶縁性を有する基板の表面に導電性膜を形成し、さらにその表面にフォトレジスト膜を形成し、その後、フォトマスクを用いて露光した後に所定形状のパターン（即ち、得ようとする微細検出電極構造に対応するパターン）の導電性膜を露出させる。ネガパターンを形成する場合、ネガパターン用のフォトレジスト膜及びフォトマスクを用い、フォトマスクを用いた露光後に未露光領域のフォトレジストを除去して所定のネガパターンを形成する。また、ポジパターンを形成する場合、ポジパターン用のフォトレジスト膜及びフォトマスクを用い、フォトマスクを用いた露光後に露光領域のフォトレジストを除去して所定のポジパターンを形成する。
【００１４】
そして、露光・パターン形成後、この露出した導電性膜の表面に鍍金処理を施すことによって、この露出する部分に電極を形成し、その後、鍍金処理されていないフォトレジスト及び導電性膜を除去する。このようにフォトレジストを除去して形成される電極は、フォトマスクのパターンに忠実なものとなり、形状的に高精度なものを形成することができる。このとき、この電極の高さを露光領域のフォトレジスト膜の高さよりも低くするのが好ましく、このように構成することによって、より高精度で且つその上端角部（基板と接触しない側の角部であって、電極の上面と側面とが接続する部位）を直角に形成することができる。また、電極を形成する手段として鍍金処理を用いるので、スパッタリングや真空蒸着などの手段に比して比較的容易に且つ安価に製作することができ、更に短時間で製作できる。また、基板及び導電性膜が透明乃至半透明であるので、照明光などの光が透過し、電極に集まった細菌を比較的容易に検出することができる。
【００１５】
また、本発明の請求項２に記載の電気泳動プレートの製造方法によれば、フォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成工程に代えて、感光性フィルムを設ける感光性フィルム被覆工程が採用され、基板上の導電性膜の表面に感光性フィルムが被覆され、この感光性フィルムがフォトマスクを用いて露光されて所定形状のパターンが形成され、ネガパターン用の感光性フィルム及びフォトマスクを用いてネガパターンを形成する場合と、ポジパターン用の感光性フィルム及びフォトマスクを用いてポジパターンを形成する場合とがあり、その他の工程は請求項１の製造方法と同一である。このようにして感光性フィルムを除去して形成される電極も、フォトマスクのパターンに忠実なものとなり、形状的に高精度なものを形成することができる。このとき、この電極の高さを露光領域の格好性フィルムの高さよりも低くするのが好ましく、このように構成することによって、より高精度で且つその上端角部（基板と接触しない側の角部であって、電極の上面と側面とが接続する部位）を直角に形成することができる。また、電極を形成する手段として鍍金処理を用いるので、スパッタリングや真空蒸着などの手段に比して比較的容易に且つ安価に製作することができ、更に短時間で製作できる。
【００１６】
また、本発明の請求項３に記載の電気泳動プレートの製造方法によれば、基板がガラスから形成されているので、充分な電気的絶縁が確保することができ、また電気泳動プレートを安価に提供することができる。また、導電性膜がＩＴＯ（インジューム・スズ酸化物）から形成されているので、ＡＴＯ（アンチモン・スズ酸化物）、ＺｎＯ（亜鉛酸化物）などの他の透明乃至半透明の導電性膜に比して電気抵抗が低く、電極を形成するための鍍金処理を短時間で行うことができ、電気泳動プレートの量産性を高めることができる。
【００１７】
また、本発明の請求項４に記載の電気泳動プレートの製造方法によれば、導電性膜の表面にニッケル、銅、金、クロム、タングステン、白金、パラジウム又はチタンの鍍金処理を施して電極を形成するので、所望のパターンの微細検出電極構造の電極を形成することができ、特にニッケル、銅又は金から形成することによって、導電性膜と電極との間の密着性も高めることができる。
【００１８】
また、本発明の請求項５に記載の電気泳動プレートによれば、高精度の微細検出電極構造を有する電気泳動プレートを安価に大量に生産することができ、電気泳動方式の細菌検出に最適なものとして提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、添付図面を参照して、本発明に従う電気泳動プレートの最適な実施形態及びこれを製造するための最適な製造方法について説明する。図１は、本発明に従う電気泳動プレートの一実施形態を示す平面図であり、図２は、図１の電気泳動プレートを製作する工程を示す工程図であり、図３は、基板の表面に導電性膜を形成した状態を示す断面図であり、図４は、導電性膜の表面にフォトレジスト膜を形成した状態を示す断面図であり、図５は、フォトマスクを用いて露光した後に未露光領域のフォトレジスト膜を除去した状態を示す断面図であり、図６は、露出した導電性膜の表面に鍍金処理を施して電極を形成した状態を示す断面図であり、図７は、露光領域のフォトレジスト膜を除去した状態を示す断面図であり、図８は、露光領域のフォトレジスト膜の下側の導電性膜をも除去した状態を示す断面図である。
【００２０】
図１において、図示の電気泳動プレート２は矩形状のプレート本体４を備え、このプレート本体４の片側部（図１において左部）に第１電極６が設けられ、その他側部に第２電極８が設けられている。電気的指向性を有する細菌、例えば大腸菌、ブドウ球菌などを検出するときには、第１電極６と第２電極８との間に直流電源１０が電気的に接続され、かかる直流電源１０からの電圧がこれら電極６，８間に印加される。
【００２１】
この実施形態では、第１電極６及び第２電極８の対向する端面は鋸歯状に形成され、これら両先端面間に微小間隙１２が設けられる。細菌を含んだ試料は、例えば図１に一点鎖線１４で示すように、第１電極６及び第２電極８にわたって滴下される。そして、かく滴下した状態で第１電極６及び第２電極８間に電圧を印加すると、試料中に存在する細菌は第１電極６及び第２電極８の上端角部（各電極６，８の上面と側面とが接続する部位）に向けて移動して固定的に集まるようになり、光学顕微鏡など用いることによってこの集まった細菌を容易に検出することができ、またその数のカウントも比較的容易に行うことができる。また、試料中の細菌はその電気的指向性により瞬時的に電極６，８の上記上端角部に固定的に集まるようになり、従って、それらを例えば光学的顕微鏡を用いて検出することによって従来に比して非常に短い時間でもって細菌を検出することができる。
【００２２】
このような電気泳動プレート２は、例えば、次のようにして製作することができる。図２〜図８を参照して、プレート本体４の基板として透明乃至半透明で且つ電気的絶縁性を有するもの、例えばガラス基板１６を用い、このガラス基板１６の表面をきれいに洗浄した後に、図３に示すようにその表面に透明乃至半透明の導電性膜１８を実質上均一に形成する（導電性膜形成工程Ｓ１）。ガラス基板１６としては、例えば、縦７６ｍｍ、横２６ｍｍ、厚さ０．７ｍｍであるプレパラートが用いられる。また、導電性膜１８はＩＴＯ（インジューム・スズ酸化物）であるのが好ましく、１０００〜１００００Å程度の厚さに形成される。この導電性膜１８の形成は、例えば、スパッタリング法、ＣＶＤ法などの乾式方法、或いはスピンコート法、ディップコート法などの湿式方法などにより形成することができる。尚、電気泳動プレートを製作する際に導電性膜１８を形成することに代えて、導電性膜１８が予めガラス基板１６上に形成された市販のものを用いるようにしてもよい。
【００２３】
次に、図４に示すように、導電性膜１８の表面にフォトレジストを実質上均一に塗布してフォトレジスト膜２０を形成する（フォトレジスト膜形成工程Ｓ２）。このフォトレジスト膜２０は１〜１５μｍ程度の厚さに形成される。このフォトレジスト膜２０の厚さは、後の電極形成工程で形成される電極の厚さと関係し、形成される電極の厚さよりも厚く形成される。
【００２４】
次いで、微細検出電極構造を形成するための所定形状のフォトマスク（図示せず）を用いてフォトレジスト膜２０の表面を露光し（露光工程Ｓ３）、その後、図５に示すように、露光工程Ｓ３において未露光であった未露光領域のフォトレジスト膜２０を除去する（パターン形成工程Ｓ４）。この実施形態では、ネガパターンを形成するネガパターン用のフォトレジスト及びフォトマスクが用いられ、未露光領域のフォトレジストが除去されてネガパターンが形成される。このフォトレジスト膜２０の除去は、使用したフォトレジストに対応する専用の現像溶液を用いて行うことができ、このように除去すると、露光工程Ｓ３において露光された露光領域においてはフォトレジスト膜２０が残るが、上記未露光領域においては下側の導電性膜１８が外側に露出する。このようなネガパターンの形成は、公知のフォトリソグラフィ法を用いて行うことができ、露光工程Ｓ３とパターン形成工程Ｓ４とでもって露光・パターン形成工程を構成する。
【００２５】
上述した実施形態では、ネガパターンを形成しているが、ポジパターン用のフォトレジスト及びフォトマスクを用いてポジパターンを形成するようにしてもよい。この場合、ポジパターン用フォトマスク（図示せず）を用いてフォトレジスト膜２０の表面を露光し（露光工程）、その後、露光工程において露光された露光領域のフォトレジスト膜を除去してポジパターンを形成する（パターン形成工程）。
【００２６】
その後、図６に示すように、導電性膜１８の表面にそれ自体公知の鍍金処理（電気化学的鍍金法）を施して鍍金層２２，２４を形成し、このように形成された鍍金層２２，２４が図１における第１電極６及び第２電極８となる（電極形成工程Ｓ５）。このように鍍金処理を行うと、露出する導電性膜１８の表面に鍍金層２２，２４が形成され、その厚さは、フォトレジスト膜２０よりも薄く、例えば０．２〜８μｍ程度に形成される。このようにして鍍金層２２，２４を形成すると、図４に示すように、鍍金層２２，２４の間にフォトレジスト膜２０が存在し、鍍金層２２，２４の側面を導電性膜１８の表面から垂直に立ち上げることができ、これによって、鍍金層２２，２４（即ち、第１電極６及び第２電極８）の上端角部（ガラス基板１６から離れた側における側面と上面とが接続する部位）を直角に形成することができる。このような鍍金層２２，２４は、ニッケル鍍金によるニッケル鍍金層でよく、或いは金鍍金による金鍍金層、銅鍍金による銅鍍金層でもよい。或いは、クロム、タングステン、白金、パラジウム、チタンなどの鍍金を施してその鍍金層を形成するようにしてもよい。このように鍍金処理により電極を形成するので、比較的容易に且つ安価に電極を形成することができる。
【００２７】
次に、図７に示すように、露光工程Ｓ３時の露光領域に残留するフォトレジスト膜２０を除去し（残留フォトレジスト膜除去工程Ｓ６）、次いで、図８に示すように、残留フォトレジスト膜２０の下側に存在する残留導電性膜１８を除去する（残留導電性膜除去工程Ｓ７）。残留フォトレジスト膜２０除去は、フォトレジスト膜を除去するための専用の剥離溶液を用いて行うことができ、また残留導電性膜１８の除去は、導電性膜を除去するための専用の溶解液を用いて行うことができ、このようにして残留フォトレジスト膜２０及び残留導電性膜１８を除去する（残留フォトレジスト膜除去工程Ｓ６及び残留導電性膜除去工程Ｓ７が残留膜除去工程を構成する）と、ガラス基板１６の表面に微細検出電極構造、即ち、下側が導電性膜１８で、上側が鍍金層２２，２４から構成される電極構造が形成され、図１に示す通りの電動泳動プレート２が形成される。この電気泳動プレート２においては、上述した記載から理解されるように、第１電極６は導電性膜１８及び鍍金層２２から構成され、第２電極８は導電性膜１８及び鍍金層２４から構成され、残留フォトレジスト膜２０及び残留導電性膜１８を除去した部位が、両電極６，８間の微小間隙１２となり、高精度な所定形状の電極６，８を有する電動泳動プレート２を安価に大量に製作することができる。
【００２８】
上述した実施形態では、微細検出電極構造のネガパターンを形成するのにフォトレジストを用いているが、これに代えて、感光性フィルムを用いるようにしてもよい。この場合、導電性膜１８を形成した（導電性膜形成工程Ｓ１）後に、導電性膜１８の表面に感光性フィルムを被覆し（感光性フィルム被覆工程）、その後、上述したと同様にしてフォトマスクを用いて感光性フィルムの表面を露光し（露光工程）、そして、露光後に未露光領域の感光性フィルムを除去し（パターン形成工程）、露出した導電性膜１８の表面に鍍金処理により鍍金層を形成するようになり（電極形成工程）、その他の工程は、上述した工程と実質上同一であり、このようにしても上述した電気泳動プレートを製作することができる。尚、感光性フィルムを用いる場合においても、ネガパターンに代えてポジパターンを形成するようにしてもよく、この場合、導電性膜１８を形成した（導電性膜形成工程Ｓ１）後その表面に感光性フィルムを被覆し（感光性フィルム被覆工程）、その後、上述したと同様にしてフォトマスクを用いて感光性フィルムの表面を露光し（露光工程）、そして、露光後に露光された露光領域の感光性フィルムを除去してポジパターンを形成する（パターン形成工程）。
【実施例】
【００２９】
基板としてガラス製プレパラートの表面に導電性膜が形成されたものを用いた。導電性膜はＩＴＯであり、その膜厚は約５０００Åであった。次に、フォトレジスト（東京応化株式会社から商品名「ネガレジスト」として販売されているもの）を用い、スピンコート法により導電性膜の表面に形成し、その膜厚は約１０μｍであった。そして、所定形状のパターンが描かれたフォトマスクをフォトレジスト膜の表面に密着させて紫外線露光を行った。次いで、未露光領域のフォトレジスト膜を専用現像液を用いて除去し、ネガパターンを形成した。しかる後、導電性膜の表面にニッケル鍍金処理を施してニッケル鍍金層を形成し、その層厚が約５μｍであった。その後、専用剥離溶液を用いて露光領域のフォトレジスト膜を除去し、その後専用導電性膜溶解液を用いて導電性膜を除去し、微小間隙が約８０μｍである電気泳動プレートを製作した。
【００３０】
このようにして得られた実施例の電気泳動プレートは、第１電極及び第２電極の対向する側面（微小間隙を規定する側面、換言すると、鍍金層の対向する側面）の凹凸は極めて小さく、加えて第１電極及び第２電極の上端角部（各電極の上面と側面との接続部位）は直角で、丸みはほとんど帯びていなかった。
【００３１】
この実施例の電気泳動プレートを用い、第１電極と第２電極との間に電圧を印加して電気泳動法により大腸菌を検出した。電圧を印加した後に、この電気泳動プレートの表面、特に両電極間の微小間隙を光学顕微鏡を用いて観察したところ、第１電極及び第２電極の上端角部に固定的に集まった大腸菌を検出することができた。このことから、上述したように製作した電気泳動プレートを用いることによって、電気泳動法により大腸菌を短時間で検出できることが実証できた。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
この電気泳動プレートは、電気的指向性を有する細菌、例えば大腸菌、ブドウ球菌などを電気泳動法で検出するのに好都合に用いることができ、従来の検出方法に比して検査時間の大幅な短縮を図ることができる。また、微細検出電極構造を高精度に形成することができるので、細菌を比較的容易に且つ正確に検出することができる。また、この製造方法では、電気泳動プレートを安価に量産することが可能となり、電気泳動プレートを用いた検査を安価な検査システムとして提供することが可能となり、食品工場などにおける食品衛生検査に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明に従う電気泳動プレートの一実施形態を示す平面図である。
【図２】図１の電気泳動プレートを製作する工程を示す工程図である。
【図３】基板の表面に導電性膜を形成した状態を示す断面図である。
【図４】導電性膜の表面にフォトレジスト膜を形成した状態を示す断面図である。
【図５】フォトマスクを用いて露光した後に未露光領域のフォトレジスト膜を除去した状態を示す断面図である。
【図６】露出した導電性膜の表面に鍍金処理を施して電極を形成した状態を示す断面図である。
【図７】露光領域のフォトレジスト膜を除去した状態を示す断面図である。
【図８】露光領域のフォトレジスト膜の下側の導電性膜をも除去した状態を示す断面図である。
【符号の説明】
【００３４】
２  電気泳動プレート
４  プレート本体
６，８  電極
１２  微小間隙
１６  ガラス基板
１８  導電性膜
２０  フォトレジスト膜
２２，２４  鍍金層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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