(57)【要約】【課題】プラスチックフィルムのような耐熱性の低い基材であっても、無機薄膜を成膜できるようにする。【解決手段】加水分解性を有する金属化合物からなるガス成分を、水分を含有させた基材の表面近傍において、基材から発生する水蒸気と反応させることにより、基材が表面温度を前記金属化合物の熱分解温度以下の状態で前記基材表面上に金属酸化物層を形成する。このように、金属化合物からなるガス成分を、水分を含有させた基材の表面近傍において、基材から発生する水蒸気と反応させることで、耐熱性の低い基材の表面上であっても無機薄膜を安定して成膜することが可能になる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
加水分解性を有する金属化合物からなるガス成分を、水分を含有させた基材の表面近傍において、基材から発生する水蒸気と反応させることにより、基材の表面温度が前記金属化合物の熱分解温度以下の状態で前記基材表面上に金属酸化物層を形成することを特徴とする無機薄膜成膜方法。
【請求項２】
底面１００ｍｍ×１００ｍｍ、高さ５０ｍｍのステンレス製箱型の容器を用い、１００ｍｍ×１００ｍｍの基材を、Ｎ2ガスにて０．３ＭＰａに加圧した状態の前記容器の底面に固定した状態で、成膜時の基材温度で１分間保持した後、前記容器内部の水分濃度を測定する水分検知法で２０ｍｇ／ｍ3以上検知される量の水分を含有させた基材を用いて成膜を行うことを特徴とする請求項１記載の無機薄膜成膜方法。
【請求項３】
前記金属化合物は、常圧，１５０℃において１Ｐａ以上の蒸気圧を有することを特徴とする請求項１または２記載の無機薄膜成膜方法。
【請求項４】
請求項１記載の無機薄膜成膜方法において、前記基材表面上に金属酸化物層を形成した後、これに連続して、前記基材の熱処理を行うことを特徴とする無機薄膜成膜方法。
【請求項５】
請求項１記載の無機薄膜成膜方法において、前記基材表面上に金属酸化物層を形成した後、これに連続して、前記基材の金属酸化物層の形成面に絶対湿度１５ｇ／ｍ3以上の水蒸気を含んだ空気を吹き付ける処理と、前記基材の熱処理を順次行うことを特徴とする無機薄膜成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチックフィルムなどの基材上に、例えば光学機能、光触媒機能、ハードコート機能、ガスバリア性機能あるいは導電性機能などの機能を付与する無機薄膜を形成するのに好適な無機薄膜成膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、基材表面に金属酸化物膜を形成させる方法としては、溶液を用いるゾルゲル法、気相反応による成膜法であるＣＶＤ法、蒸着法、スパッタ法などが知られている。しかしながら、ゾルゲル法では、成膜した後において、膜中の不純物を除去するために高温の熱処理が必要であり、使用できる基材が限定されるといった問題点がある。また、蒸着法及びスパッタ法は真空系の成膜法であるため、使用する成膜装置が処理チャンバーや真空ポンプ等の大型設備及び高度減圧下での煩雑な作業を要するといった問題点がある。
【０００３】
このような真空系設備等の問題を排除した金属酸化物薄膜の成膜法として、大気開放型ＣＶＤ法が着目されている。
【０００４】
大気開放型ＣＶＤ法は、加水分解性のある金属化合物を含む原料ガスをノズルから大気中に放出し、金属化合物が大気中の水分と反応することによって、高温に加熱された基材表面に金属酸化物膜を形成する方法である。このような成膜方法における成膜速度は水分量すなわち大気中の湿度に依存するため、常に一定条件で生産を行うことができない。
【０００５】
そこで、原料ガスを湿度コントロールされた環境中に放出する方法、もしくはノズルに湿度をコントロールする機能を持たせる方法などによって、一定条件で同一性能の金属酸化物薄膜を連続して成膜する試みがなされている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２０００−３８６７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前記した従来の技術のように、原料ガスが放出される環境の湿度をコントロールする場合、微量の水分量の違いにより原料の反応性が大きく異なるため、原料ガスが放出されると同時に、原料が水分と過剰な気相反応を起こし微粉化してしまうことがあり、常に一定条件で同一性能を有する金属酸化物薄膜を得ることは困難である。
【０００７】
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、原料と水分との反応により微粉化させることなく基材上に無機薄膜を安定して形成することが可能であり、しかも、プラスチックフィルムなどの耐熱性の低い基材に無機薄膜を形成することが可能な無機薄膜成膜方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の無機薄膜成膜方法は、加水分解性を有する金属化合物からなるガス成分を、水分を含有させた基材の表面近傍において、基材から発生する水蒸気と反応させることにより、基材の表面温度が前記金属化合物の熱分解温度以下の状態で前記基材表面上に金属酸化物層を形成することによって特徴づけられる。
【０００９】
本発明の無機薄膜成膜方法において、底面１００ｍｍ×１００ｍｍ、高さ５０ｍｍのステンレス製箱型の容器を用い、１００ｍｍ×１００ｍｍの基材を、Ｎ2ガスにて０．３ＭＰａに加圧した状態の前記容器の底面に固定した状態で、薄膜成膜時の基材温度で基材裏
面を１分間保持した後、前記容器内部の水分濃度を測定する水分検知法にて測定した水分検知量が、２０ｍｇ／ｍ3以上となる量の水分を含有させた基材を成膜に使用することが好ましい。
【００１０】
また、前記金属化合物については、常圧，１５０℃において１Ｐａ以上の蒸気圧を有する金属化合物を用いることが好ましい。
【００１１】
本発明の成膜方法において、前記基材表面上に金属酸化物層を形成した後、これに連続して基材の熱処理を行うことが好ましい。
【００１２】
本発明の成膜方法において、前記基材表面上に金属酸化物層を形成した後、これに連続して、基材の金属酸化物層の形成面に絶対湿度１５ｇ／ｍ3以上の水蒸気を含んだ空気を吹き付ける処理と、前記基材の熱処理を順次行うことが好ましい。
【００１３】
次に、本発明を詳細に説明する。
【００１４】
まず、本発明は、加水分解性を有する金属化合物からなるガス成分を、水分を含有させた基材の表面近傍において、基材から発生する水蒸気と反応させることにより、表面温度が金属化合物の熱分解温度以下の基材表面上に金属酸化物層（無機薄膜）を形成することを特徴とする。
【００１５】
上記加水分解性を有する金属化合物は、水分に対してより活性なものが好ましく、２０ｍｇ／ｍ3以上の水分を含む環境中に１ｇ滴下したときに、水分と反応して白煙を生じる程度の加水分解性を有する化合物が特に好ましい。具体的には、例えば、金属アルコキシド、金属アセチル化物、金属錯体、金属ハロゲン化物、金属アルキル化物、金属アミノ化物またはそれらの複合化物が挙げられる。また、上記金属としては、チタニウム、ジルコニウム、アルミニウム、錫、インジウム、タンタル、亜鉛、ハフニウム、セリウム、ニオブ、イットリウムなどが好ましい。
【００１６】
上記金属がチタニウムである場合、例えば、テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシチタニウム、テトラノルマルプロポキシチタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラノルマルブトキシチタニウム、テトライソブトキシチタニウム、テトラセカンダリーブトキシチタニウム、テトラターシャリーブトキシチタニウム、テトラキス（１−メトキシ−２−メチル−２−プロポキシ）チタニウム等の金属アルコキシド；ジ（イソプロキシ）ビス（ジアセチルアセトネート）チタニウム、ジ（ノルマルブトキシ）ビス（ジアセチルアセトネート）チタニウム等の金属アセチル化物；ジ（イソプロポキシ）ビス（ジピロバイルメタネート）チタニウム等の金属錯体；四塩化チタニウム、四臭化チタニウム等の金属ハロゲン化物；シクロペンタジエニルシクロオクタテトラエニルチタニウム、ジシクロペンタジエニルビスジメチルアミノチタニウム等の金属アルキル化物；テトラキスジメチルアミノチタニウム、テトラジエチルアミノチタニウム等の金属アミノ化物などが挙げられる。
【００１７】
上記金属がジルコニウムである場合、例えば、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラノルマルブトキシジルコニウム、テトラセカンダリーブトキシジルコニウム、テトラターシャリーブトキシジルコニウム、テトラキス（１−メトキシ−２−メチル−２−プロポキシ）ジルコニウム等の金属アルコキシド；テトラキスアセチルアセトネートジルコニウム、テトラキスヘキサフルオロアセチルアセトネートジルコニウム等の金属アセチル化物；テトラキスジピバロイルメタネートジルコニウム、テトラキス（２，６−ジメチル−３，５−ヘプタンジオネート）ジルコニウム、（イソプロポキシ）トリス（ジピバロイルメタネート）ジルコニウム等の金属錯体；ジルコニウムテ
トラボロンハイドライド等の金属ハロゲン化物；テトラキスジメチルアミノジルコニウム、テトラキスジエチルアミノジルコニウム等の金属アミノ化物などが挙げられる。
【００１８】
上記金属化合物を水分と反応させて得られる金属酸化物としては、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化インジウム錫、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化イットリウムなどが挙げられる。
【００１９】
本発明に用いる、加水分解性を有する金属化合物からなるガス成分とは、金属化合物とそれを希釈するキャリアガスとからなるガス成分であり、キャリアガスには上記金属化合物と反応しないガスが用いられる。具体的なキャリアガスとしては、例えば、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、酸素、二酸化炭素などが挙げられる。これらは単独で使用してもよいし、２種類以上併用してもよい。
【００２０】
上記原料ガス中の金属化合物の混合比は、０．０１〜２０体積％の範囲内であることが好ましい。金属化合物の混合比が２０％を越えると、金属化合物量が多くなりすぎて、水分と気相中での反応が進行した際に粉化してしまう恐れがある。また、金属化合物の混合比が０．０１％未満であると、金属化合物量が少なくなりすぎて、基材上での成膜化が進行し難くなる恐れがある。
【００２１】
本発明に無機薄膜を成膜する基材は、特に限定されるものではないが、例えば、プラスチック、シリコンウェハー、ガラス基板などが挙げられる。
【００２２】
プラスチックの場合、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチルメタアクリレート、ポリテトラフルオロエチレン、ノルボルネン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリアミド、アクリル樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、再生セルロース、アルカリ処理されたトリアセチルセルロースなどが挙げられる。これらの形状としては、板状、フィルム状などのものが挙げられるが、特に限定されるものではない。
【００２３】
また、これらのプラスチック基材の成膜裏面にはハードコート、プロテクトフィルム、貼り合わせ用の粘着層が適宜施されてもよい。これらの基材の厚さは、特に限定されるものではないが、例えば、３０〜２００μｍ程度が好ましい。
【００２４】
また、基材としてプラスチックフィルムを使用する場合、成膜表面にハードコートが塗工されているものが基材に含有させる水分の安定化から望ましい。ハードコートの厚さは、特に限定されるものではないが、３〜２０μｍ程度ある。
【００２５】
本発明において、原料である金属酸化物と反応させる水分量は単位時間における成膜膜厚（例えばÅ／分）が小さくなる場合があるため、水分量は２０ｍｇ／ｍ3以上が好ましい。
【００２６】
上記基材に含有させた水分量の検知は、１００ｍｍ×１００ｍｍの形状にした基材を、Ｎ2ガスにより０．３ＭＰａに加圧したステンレス製箱型の容器（底面１００ｍｍ×１００ｍｍ、高さ４０ｍｍ）の底面に固定し、成膜時の基材温度において裏面を１分間保持した後、容器内部の露点を露点計により測定し、露点・水分濃度換算表から水分量に換算する方法を用いて行うことが好ましい。
【００２７】
上記基材中に含ませる水分量について２０ｍｇ／ｍ3以上を達成するには、湿度が０．
０２〜２００ｇ／ｍ3の範囲で制御される環境下に基板を３０秒〜２４時間保持して調湿を行った後に、成膜に使用するのが好ましい。
【００２８】
本発明において、金属化合物の成膜時における基材の表面温度は、基材の耐熱性の観点から、使用する機材の耐熱温度を考えて設定する必要があり、一般的には、５０〜２００℃で成膜を行うことが好ましい。特にプラスチックフィルムである場合、基材の表面温度は５０〜９０℃程度することが好ましい。
【００２９】
本発明の無機薄膜成膜方法を実施する装置は、特に限定されるものではないが、基材搬送部、原料ガスを供給するノズル、及び、原料ガスを排気するノズルからなる装置が好ましい。また、原料ガス供給するノズルと基材搬送部の配置方式としては、平行平板型、円筒対向平板型、球対向平板型、双曲面対向平板型、同軸円筒型構造などが挙げられる。
【００３０】
具体的な装置としては、例えば、図１に示すように、基材搬送用の平板１及びこの平板１に平行に対向配置された平板２からなる平行平板１０と、それら一対の平板１，２間に原料ガスを供給する給気ノズル３と、原料ガスを排気する排気ノズル４とを備えた装置が挙げられる。
【００３１】
また、原料ガスを供給する供給ノズルの構造に関しては、特に限定されるものではないが、例えば、ガス供給方向に対向する斜板を設け、ガス供給通路を次第に狭めて供給ノズル付近に狭窄部を設け、その狭窄部を通過した原料ガスを拡散させると同時に、基材の搬送方向に略平行に混合ガス流を変更させた後、スリット状もしくは多数の小孔が一列に並べられた吹き出し口から成膜空間（例えば平行平板間）に向けて吹き出す方式であってもよい。排気ノズルも供給ノズルと同じ構造であってもよい。各ノズルの材質としては、耐熱性物質であることが求められ、好ましくは、ステンレス鋼、アルミニウムなどが挙げられる。
【００３２】
原料ガスを供給ノズルから、例えば平行平板間に供給する場合、原料ガスは平行平板内の全域にわたって供給され周囲に漏れのないことが好ましい。また、平行平板内への外気の流入を防ぐことが好ましい。これらを実現する方式は、特に限定されるものではないが、例えば、平行平板のガス及び基材（フィルム）の進入をシールする方式、あるいは、成膜装置周囲を希釈用キャリアガスに用いるものと同様のガスで置換する方式などが挙げられる。
【００３３】
原料ガスの供給方式としては、原料である有機金属化合物が室温で液体である場合、例えば図２に示すように、原料供給容器１１にて加圧・供給された液体を、液体マスフローコントローラ１２に導いて液量を制御した後に、気化器１３において加熱・気化し、この加熱・気化したガス（有機金属化合物ガス）と、マスフローコントローラ１４にて流量制御したキャリアガスとを混合して原料ガスとし、給気ノズルから供給する方式を挙げることができる。
【００３４】
また、金属化合物が室温で固体の場合は、（１）溶媒で溶液にして、図２の方式で供給する方法、あるいは、（２）金属化合物を加熱し昇華させキャリアガスと混合する手法を挙げることができるが、原料制御の観点からは、（１）の溶液状態での供給方式が好ましい。
【００３５】
本発明の無機薄膜成膜方法において、基材表面上に金属酸化物を形成した後に、これに連続して熱処理することにより品質を向上することができる。
【００３６】
連続して熱処理とは、成膜後に速やかに熱処理することであり、５分以内が好ましく、
さらに好ましくは１分以内に熱処理することがよい。金属酸化物形成後の熱処理タイミングについては、連続処理することにより、顕微鏡で確認される成膜後のクラック発生を防止することができる。
【００３７】
熱処理温度は、基材温度が成膜時の基材温度以上になるように熱処理することが後処理効果の点で好ましく、基材の耐熱性により最適化が必要である。
【００３８】
熱処理方法としては、加熱方式として熱風発生機による熱風を用いる方法、遠赤外線や近赤外線による加熱方法、加熱された金属ロールに接触させる方法がある。
【００３９】
耐熱性の低い基材の場合、基材裏面を冷却する方式の併用が基材劣化防止の観点から好ましい。冷却方式としては、冷風等を用いた送風、冷却された金属や金属ロールに接触させる冷却等がある。より具体的な熱処理方式としては、（１）基材の金属酸化物形成面を熱風により加熱しながら基材の裏面（金属酸化物形成面の反対側の面）を冷風により冷却する方式、（２）基板の裏面を加熱ロールにより熱処理する方式、（３）金属酸化物形成後の基材を近赤外線により加熱しながら金属酸化物形成面を送風しながら冷却する方式がある。
【００４０】
また、金属酸化物を形成した基材の無機薄膜に、連続して絶対湿度１５ｇ／ｍ3以上の水蒸気を含んだ空気を吹き付けて、さらに基材を熱処理することにより、品質をより一層向上させることができる。
【００４１】
空気中の水蒸気量として、３０℃の相対湿度５０％以上の絶対湿度が１５ｇ／ｍ3以上で成膜環境より多量の水蒸気を含んだ空気を吹き付け可能であることが好ましい。なお、水蒸気を含んだ空気の湿度は基材の耐熱性により制限されるが成膜温度以上が好ましい。
【００４２】
金属酸化物層（無機薄膜層）を成膜した後に連続して実行する水蒸気噴霧は、金属酸化物層成膜後に金属酸化物層内の未反応部分に再度加水分解を促進させ、熱処理により完結することを目的として行う。
【発明の効果】
【００４３】
本発明によれば、プラスチックフィルムのような耐熱性の低い基材に対して、基材の耐熱温度以下で無機成膜の成膜が可能となり、基材表面に光学機能、光触媒機能、ハードコート機能、ガスバリア性機能、あるいは導電性機能などの機能を付与することが可能となる。その中でも光学機能については、例えば光透過、反射防止／反射、あるいは選択的反射などの機能付与が可能となり、それらの性能を活かした各種用途製品を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
本発明は、前記した図１の成膜装置を用い、加水分解性を有する金属化合物からなるガス成分（原料ガス）を、水分を含有させた基材（例えばポリエチレンテレフタレートフィルムプラスチックフィルム等）Ｓの表面近傍において、基材Ｓから発生する水蒸気と反応させることにより、基材Ｓの表面温度を前記金属化合物の熱分解温度以下にした状態で基材Ｓの表面上に金属酸化物層（例えば酸化チタン膜）を形成することを特徴とする無機薄膜成膜方法である。
【００４５】
この無機薄膜成膜方法において、基材Ｓの表面上に金属酸化物層を形成した後、これに連続して、図３に示すように、基材Ｓの金属酸化物形成面を熱風ノズル２１からの熱風によって加熱しながら、基材Ｓの裏面を冷風ノズル２２からの冷風にて冷却するという熱処理を行うことが好ましい。
【００４６】
また、基材Ｓの表面上に金属酸化物層を形成した後、これに連続して、図４に示すように、基材Ｓの裏面を加熱ロール２３に接触させながら搬送するとともに、基材Ｓの酸化チタン形成面（金属酸化物面）に温風ノズル２４から温風を送風するという熱処理を行うことが好ましい。
【００４７】
さらに、基材Ｓの表面上に金属酸化物層を形成した後、これに連続して、図５に示すように、基材Ｓの金属酸化物層形成面に絶対湿度１５ｇ／ｍ3以上の水蒸気を含んだ空気を加湿ノズル２５から吹き付ける処理を行い、次いで、基材Ｓの金属酸化物形成面を熱風ノズル２１からの熱風によって加熱しながら、基材Ｓの裏面を冷風ノズル２２からの冷風にて冷却するという熱処理を行うことが好ましい。
【実施例】
【００４８】
以下、本発明の実施例を比較例とともに説明する。
【００４９】
＜実施例１＞
図１に示した成膜装置を用いて以下の条件で成膜を行った。
【００５０】
［装置構成］
図１の成膜装置の平板１と平板２との間隔を５ｍｍに設定するとともに、流れ方向長さを２０ｃｍに設定し、平板１の表面温度を７０℃、平板２の表面温度を９５℃、給気ノズル３及び排気ノズル４の温度をともに１２０℃に設定した。また、平行平板１０内（平板１と平板２との間）に外気が侵入しないように、周囲を窒素ガスにて置換した。
【００５１】
［基材］
厚み７５μｍ、幅１３００ｍｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムという）上に厚み５μｍのアクリル系ハードコート層が塗工されたものを基材Ｓとし、そのＰＥＴフィルムを、２５℃，５０ＲＨ％の環境下に２４時間保管し、水分量が３０ｍｇ／ｍ3検知されたものを成膜に用いた。
【００５２】
ただし、基材（ＰＥＴフィルム）の水分検知には、１００ｍｍ×１００ｍｍの形状にした基材を、Ｎ2ガスにより０．３ＭＰａに加圧したステンレス製箱型の容器（底面１００ｍｍ×１００ｍｍ、高さ４０ｍｍ）の底面に固定し、成膜時の基材温度において裏面を１分間保持した後、容器内部の露点を露点計により測定し、露点・水分濃度換算表から水分量に換算する方法を用いた。
【００５３】
［条件］
前記ＰＥＴフィルムを、図１の成膜装置の平板１上に密着させた状態で、走行速度１ｍ／分にてＰＥＴフィルムを走行させた。また、給気ノズル３から［アルゴン（水分が１０ｍｇ／ｍ3未満）］：［テトライソプロポキシチタン（加水分解性の金属化合物）］＝１００：０．１０（体積比）の原料ガスを、平行平板１０内（平板１と平板２との間）に１００ｓｌｍ導入するとともに、排気ノズル４にて１００ｓｌｍの排気を行って、ＰＥＴフィルム上に酸化チタン膜（ＴｉＯ2膜）を成膜することにより試料を作製した。
【００５４】
以上の成膜処理で得られた試料について以下の方法で評価を行った。
【００５５】
［光学特性評価方法］
上記成膜処理で得られた試料の光学特性を以下の方法で分析した。
【００５６】
まず、上記酸化チタンを成膜したＰＥＴフィルムを５ｃｍ角に切り抜き、裏面を＃４０
０のサンドペーパーで荒らした後に、黒インクにて約直径２ｃｍの大きさに塗りつぶしてサンプルを作製した。この裏面処理したサンプルについて、波長３８０〜７８０ｎｍの反射率スパクトルを分光度計（島津製作所社製、型式「ＵＶ−３１０１ＰＣ」）を用いて測定した。この反射率スパクトルを、光学特性計算ソフト（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社  Ｖ．Ａ．Ｓ．Ｅ．ｆｏｒ  Ｗｉｎｄｏｗｓ（Ｒ））にて解析して、膜厚、及び、波長５５０ｎｍにおける屈折率を算出した。さらに、ヘイズメーター（ＴＯＫＹＯ  ＤＥＮＳＨＯＫＵ  ＣＯ．ＬＴＤ製）を用いてサンプルのヘイズを評価した。
【００５７】
また、酸化チタンを成膜したＰＥＴフィルムをガラス板に粘着剤を用いて貼り付け、９０℃の恒温槽に３日（７２時間）放置した膜厚を前記分光光度計にて測定し、その測定結果から膜厚変化率を下記の式にて求めた。
【００５８】
膜厚変化率（％）＝［１−（経時変化後膜厚／初期膜厚）］×１００
以上の各結果を下記の表１に示す。
【００５９】
【表１】
2005060817.tif 000002
＜実施例２＞
実施例１と同じ処理にて基材Ｓ（ＰＥＴフィルム）上に酸化チタン膜を成膜した後、図３に示すように、基材Ｓの酸化チタン形成面（金属酸化物面）を熱風ノズル２１からの熱風によって加熱しながら、基材Ｓの裏面を冷風ノズル２２からの冷風にて冷却するという熱処理を行うことにより試料を作製した。ただし、加熱と冷却の各条件は下記の表２に示す条件とした。
【００６０】
【表２】
2005060817.tif 000003
以上の処理で得られた試料について実施例１と同じ評価を行った。その評価結果を上記
下表１に示す。
【００６１】
＜実施例３＞
実施例１と同じ処理にて基材Ｓ（ＰＥＴフィルム）上に酸化チタン膜を成膜した後、図４に示すように、基材Ｓの裏面を加熱ロール２３に接触させながら搬送するとともに、基材Ｓの酸化チタン形成面（金属酸化物面）に温風ノズル２４から温風を送風するという処理を行って試料を作製した。ただし、温風と加熱ロールの各条件は下記の表３及び表４に示す条件とした。
【００６２】
【表３】
2005060817.tif 000004
【００６３】
【表４】
2005060817.tif 000005
以上の処理で得られた試料について実施例１と同じ評価を行った。その評価結果を上記表１に示す。
【００６４】
＜実施例４＞
実施例２において、スリット幅が基材幅と同じでスリット間隔が５ｍｍの加湿ノズル２５を熱処理工程の前段に配置し（図５参照）、熱処理工程の前に、絶対湿度が１１７ｇ／ｍ3である８０℃で相対湿度４０％の水蒸気を基材Ｓの酸化チタン形成面に流量５ｓｌｍで吹き付けたこと以外は、実施例２と同じとして試料を作製した。
【００６５】
以上の処理で得られた試料について実施例１と同じ評価を行った。その評価結果を上記表１に示す。
【００６６】
＜比較例１＞
図１の成膜装置を用い、平板１及び平板２の表面温度を２５０℃として熱ＣＶＤ法によりＰＥＴフィルム上に酸化チタンを成膜しようとしたが、ＰＥＴフィルムが耐熱温度以上となって基材が劣化してしまい、膜形成が不可能であった。
【００６７】
＜比較例２＞
実施例１において、成膜を行う直前に、加熱ロール（設定温度８０℃）を基材Ｓの裏面（酸化チタン膜形成面の裏面）に接触させて１時間保持し、水分量が５ｍｇ／ｍ3検知された基材Ｓを用いたこと以外は、実施例１と同じとして試料を作製した。得られた試料について実施例１と同じ評価を行った。その評価結果を上記表１に示す。
【００６８】
＜比較例３＞
実施例２において、酸化チタンの成膜後から１時間放置した後に基材Ｓの熱処理を行ったこと以外は、実施例２と同じとして試料を作製した。得られた試料について実施例１と
同じ評価を行った。その評価結果を上記表１に示す。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明の成膜方法は、プラスチックフィルムのような耐熱性の低い基材の表面に、光透過、反射防止／反射または選択的反射などの光学機能、光触媒機能、ハードコート機能、ガスバリア性機能、あるいは導電性機能などの機能を付与するのに有効に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の無機薄膜成膜方法を実施する成膜装置の一例を模式的に示す図である。
【図２】原料供給系の構成を模式的に示す図である。
【図３】本発明の無機薄膜成膜方法を実施する成膜装置の他の例を模式的に示す図である。
【図４】本発明の無機薄膜成膜方法を実施する成膜装置の別の例を模式的に示す図である。
【図５】本発明の無機薄膜成膜方法を実施する成膜装置の別の例を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００７１】
１，２  平板
３  給気ノズル
４  排気ノズル
１０  平行平板
１１  液体原料容器
１２  液体マスフローコントローラ
１３  気化器
１４  マスフローコントローラ
２１  熱風ノズル
２２  冷風ノズル
２３  加熱ロール
２４  温風ノズル
２５  加湿ノズル
Ｓ  基材
【図１】
2005060817.tif 000006
【図２】
2005060817.tif 000007
【図３】
2005060817.tif 000008
【図４】
2005060817.tif 000009
【図５】
2005060817.tif 000010