(57)【要約】【課題】      ノズルの孔径、ビスフェノールＡの溶融液のノズルからの流出速度及び冷却用気体の流速、更にはノズルの孔間隔等を規定することにより安定したビスフェノールＡの生産が可能となり、造粒塔塔底へのＢＰＡの付着を抑制することができ、かつ粒径が均一で、流動性に富み、嵩密度が大きく、しかも硬度が高いビスフェノールＡプリルを効率良く製造することができる方法を提供すること。【解決手段】  ビスフェノールＡの溶融液を、造粒塔上部のノズルプレートより落下させ、造粒塔下部から冷却用気体を上部に向けて流して造粒するにあたり、下記（ａ）〜（ｃ）を満足することを特徴とするビスフェノールＡプリルの製造方法。（ａ）ノズルの孔径が０．３〜１．０ｍｍ、（ｂ）ビスフェノールＡの溶融液のノズルからの流出速度が０．５〜１．８ｍ／ｓ、（ｃ）気体の流速が０．７〜２．０ｍ／ｓ【選択図】    図  １
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビスフェノールＡの溶融液を、造粒塔上部のノズルプレートより落下させ、造粒塔下部から冷却用気体を上部に向けて流してプリルを製造するにあたり、下記（ａ）〜（ｃ）を満たすことを特徴とするビスフェノールＡプリルの製造方法。
（ａ）ノズルの孔径が０．３〜１．０ｍｍ、（ｂ）ビスフェノールＡの溶融液のノズルからの流出速度が０．５〜１．８ｍ／ｓ、（ｃ）冷却用気体の流速が０．７〜２．０ｍ／ｓ
【請求項２】
ノズルの孔間隔が５〜１２ｍｍである請求項１に記載のビスフェノールＡのプリルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビスフェノールＡ〔２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〕（以下、ＢＰＡと略すことがある。）プリルの製造方法に関するものである。
更に詳しくは、ノズルの孔径、ビスフェノールＡの溶融液のノズルからの流出速度及び冷却用気体の流速、更にはノズルの孔間隔等を規定することにより安定したビスフェノールＡの生産が可能となり、造粒塔塔底へのＢＰＡの付着を抑制することができ、かつ粒径が均一で、流動性に富み、嵩密度が大きく、しかも硬度が高いビスフェノールＡの造粒物、即ち、ビスフェノールＡプリルを効率良く製造することができる方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ビスフェノールＡは、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂等のエンジニアリングプラスチック、またはエポキシ樹脂等の原料として重要な化合物であることが知られており、近年その需要はますます増大する傾向にある。
このＢＰＡは、酸性触媒及び場合により用いられる硫黄化合物等の助触媒の存在下に、過剰のフェノールとアセトンとを縮合させることにより製造される。
このＢＰＡは、融点が１５７℃と高いことから、製品の形態は、通常、粒状やフレーク状であるが、流動性を考慮すると粒状が好ましい。
ＢＰＡの製造プロセスにおいては、通常、造粒工程を設け、加熱溶融ＢＰＡを造粒して粒子状製品（プリル）とすることが行われている。
そして、この造粒工程においては、例えば、スプレードライヤー等の造粒装置が用いられ、ＢＰＡを液滴にした後、冷却固化することにより、造粒することが行われている。
造粒工程におけるＢＰＡ液滴が大きいと、冷却固化の際の冷却効果が低下するため、ＢＰＡプリルの温度が高くなってしまう。
製造されたＢＰＡプリルは、フレコンバッグ等に入れて出荷されるが、ＢＰＡプリルの温度が高いと、輸送に際して安全性の問題が生じる。
この問題を解消するために、ガススライドクーラー等を用いてＢＰＡプリルの温度を３５℃程度にまで低下させる二次冷却工程を設けているため、設備費が高いものとなっている。
【０００３】
従来、ＢＰＡの造粒は、ＢＰＡ溶融液の温度を２００℃以下に保ち、ノズル出口における溶融液の液深を３００ｍｍ〜２０００ｍｍとし、造粒塔の高さを少なくとも１００００ｍｍとすることによって行なわれているが、冷却用気体の速度の範囲については記載がない（例えば、特許文献１参照）。
また、ＢＰＡ微粉の生成を減少するために、ＢＰＡプリルの平均粒径での理論終末落下速度Ｖｐとするとき、冷却用気体の速度Ｖｇを  ０．１Ｖｐ＜Ｖｇ＜０．８Ｖｐと規定することが提案されているが、ＢＰＡの溶融液の流出速度の範囲については記載がない（例えば、特許文献２参照）。
更に、ＢＰＡの溶融液に振動を与えながら造粒を行なう方法も提案されているが、振動用の機器が必要である（例えば、特願２００２−３０２９７８号明細書）。
また、硝酸アンモニウムの液高を７５ｍｍ、ノズル孔径を０．７５〜２ｍｍ、ノズルの孔間隔を５〜２０ｍｍ、冷却用気体の流速を０．３〜１．２ｍ／ｓの条件で硝酸アンモニウムを造粒することも知られているが、硝酸アンモニウムの溶融液の流出速度の範囲については記載がない（例えば、特許文献３参照）。
又、ノズルの交換が可能な構造となっているが、ノズル本体及びプレートの強度を確保するにはノズル間隔を広く取る必要があり、単位面積あたりの処理量が少なくなることから、造粒量を一定にするにはノズル枚数が多くなり、更には造粒塔本体の塔径を大きくせざるを得ないという問題点がある（例えば、特許文献４参照）。
【０００４】
【特許文献１】特公昭４７−８０６０号公報
【特許文献２】特開平６−１０７５８０号公報
【特許文献３】特公昭５５−２２１３７号公報
【特許文献４】特公平８−４７３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、このような状況下で、ノズルの孔径、ビスフェノールＡの溶融液のノズルからの流出速度及び冷却用気体の流速、更にはノズルの孔間隔等を規定することにより安定したビスフェノールＡの生産が可能となり、造粒塔塔底へのＢＰＡの付着及びそれに起因するスペック外製品を減少しうると共に、ＢＰＡの造粒における振動発生装置等を省略することができ、粒径が均一で、流動性に富み、嵩密度が大きく、しかも硬度が高いＢＰＡプリルを効率良く製造する方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、ビスフェノールＡの溶融液を造粒塔上部のノズルプレートより落下させ、下部から冷却用気体を上部に向けて流して造粒するにあたり、ノズルの孔径、ビスフェノールＡの溶融液のノズルからの流出速度及び冷却用気体の流速を規定することにより、上記目的を達成し得ることを見出した。
本発明は、かかる知見に基づいて完成したものである。
即ち、本発明は、
１．ビスフェノールＡの溶融液を、造粒塔上部のノズルプレートより落下させ、造粒塔下部から冷却用気体を上部に向けて流して造粒するにあたり、下記（ａ）〜（ｃ）を満たすことを特徴とするビスフェノールＡの造粒物の製造方法。
（ａ）ノズルの孔径が０．３〜１．０ｍｍ、（ｂ）ビスフェノールＡの溶融液のノズルからの流出速度が０．５〜１．８ｍ／ｓ、（ｃ）冷却用気体の流速が０．７〜２．０ｍ／ｓ
２．ノズルの孔間隔が５〜１２ｍｍである上記１に記載のビスフェノールＡの造粒物の製造方法。
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、ノズルの孔径、ビスフェノールＡの溶融液のノズルからの流出速度及び冷却用気体の流速、更にはノズルの孔間隔等を規定することにより安定したビスフェノールＡの生産が可能となり、造粒塔塔底へのＢＰＡの付着を抑制することができ、かつ粒径が均一で、流動性に富み、嵩密度が大きく、しかも硬度が高いビスフェノールＡプリルを効率良く製造することができる。
また、造粒塔塔底へのＢＰＡの付着を抑制できることから、煩雑なハンマリングによる付着物の剥離操作が必要なく、長期運転が可能となり経済性が高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明で用いるビスフェノールＡは、例えば、（Ａ）酸性触媒の存在下、過剰のフェノールとアセトンを縮合させてビスフェノールＡを生成させ、反応混合液を得る工程、（Ｂ）反応混合液を濃縮する工程、（Ｃ）上記（Ｂ）工程で得られた濃縮残液からビスフェノールＡとフェノールとの付加物を晶析・分離する工程、（Ｄ）上記（Ｃ）工程で晶析・分離されたビスフェノールＡとフェノールとの付加物をフェノール含有溶液を用いて溶解する工程、（Ｅ）上記（Ｄ）工程で得られた溶液からビスフェノールＡとフェノールとの付加物を晶析・分離し、場合により、更に当該付加物をフェノール含有溶液を用いて溶解した後、晶析・分離する操作を１回以上繰り返す工程及び（Ｆ）上記（Ｅ）工程で晶析・分離されたビスフェノールＡとフェノールとの付加物を加熱溶融後、フェノールを留去する工程により製造することができる。
ビスフェノールＡの製造方法の（Ａ）工程においては、酸性触媒の存在下、過剰のフェノールとアセトンを縮合させて、ビスフェノールＡを生成させる。
上記酸性触媒としては、酸型イオン交換樹脂を用いることができる。
この酸型イオン交換樹脂としては、特に制限はなく、従来、ビスフェノールＡの触媒として慣用されているものを用いることができるが、特に触媒活性等の点から、スルホン酸型陽イオン交換樹脂が好適である。
【０００９】
スルホン酸型陽イオン交換樹脂については、スルホン酸基を有する強酸性陽イオン交換樹脂であればよく特に制限されず、例えば、スルホン化スチレン−ジビニルベンゼンコポリマー、スルホン化架橋スチレンポリマー、フェノールホルムアルデヒド−スルホン酸樹脂、ベンゼンホルムアルデヒド−スルホン酸樹脂等が挙げられる。
これらはそれぞれ単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１０】
上記製造方法においては、上記酸型イオン交換樹脂と共に、通常、助触媒として、メルカプタン類が併用される。
このメルカプタン類は、分子内にＳＨ基を遊離の形で有する化合物を指し、このようなものとしては、アルキルメルカプタンや、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基等の置換基一種以上を有するアルキルメルカプタン類、例えば、メルカプトカルボン酸、アミノアルカンチオール、メルカプトアルコール等を用いることができる。
このようなメルカプタン類の例としては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、ｎ−ブチルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン等のアルキルメルカプタン、チオグリコール酸、β−メルカプトプロピオン酸等のチオカルボン酸、２−アミノエタンチオール等のアミノアルカンチオール、メルカプトエタノール等のメルカプトアルコール等が挙げられるが、これらの中で、アルキルメルカプタンが助触媒としての効果の点で、特に好ましい。
また、これらのメルカプタン類は、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらのメルカプタン類は、上記酸型イオン交換樹脂上に固定化させ、助触媒として機能させることもできる。
【００１１】
上記メルカプタン類の使用量は、一般に、原料のアセトンに対して、０．１〜２０モル％、好ましくは、１〜１０モル％の範囲で選定される。
また、フェノールとアセトンとの使用割合については特に制限はないが、生成するビスフェノールＡの精製の容易さや経済性等の点から、未反応のアセトンの量はできるだけ少ないことが望ましく、従って、フェノールを化学量論的量よりも過剰に用いるのが有利である。
通常、アセトン１モル当たり、３〜３０モル、好ましくは５〜１５モルのフェノールが用いられる。
また、このビスフェノールＡの製造においては、反応溶媒は、反応液の粘度が高すぎたり、凝固して運転が困難になるような低温で反応させる以外は、一般に必要ではない。
【００１２】
上記製造方法におけるフェノールとアセトンとの縮合反応は、回分式及び連続式のいずれであってもよいが、酸型イオン交換樹脂を充填した反応塔に、フェノールとアセトンとメルカプタン類（メルカプタン類が酸型イオン交換樹脂に固定化されない場合）を連続的に供給して反応させる固定床連続反応方式を用いるのが有利である。
この際、反応塔は１基でもよく、また２基以上を直列に配置してもよいが、工業的には、酸型イオン交換樹脂を充填した反応塔を２基以上直列に連結し、固定床多段連続反応方式を採用するのが、特に有利である。
【００１３】
この固定床連続反応方式における反応条件について説明する。
まず、アセトン／フェノールモル比は、通常１／３０〜１／３、好ましくは１／１５〜１／５の範囲で選ばれる。
このモル比が１／３０より小さい場合、反応速度が遅くなりすぎるおそれがあり、１／３より大きいと不純物の生成が多くなり、ビスフェノールＡの選択率が低下する傾向がある。
一方、メルカプタン類が酸型イオン交換樹脂に固定化されない場合、メルカプタン類／アセトンモル比は、通常０．１／１００〜２０／１００、好ましくは１／１００〜１０／１００の範囲で選ばれる。
このモル比が０．１／１００より小さい場合、反応速度やビスフェノールＡの選択率の向上効果が十分に発揮されないおそれがあり、２０／１００より大きいとその量の割りには効果の向上はあまり認められない。
【００１４】
また、反応温度は、通常４０〜１５０℃、好ましくは６０〜１１０℃の範囲で選ばれる。
該温度が４０℃未満では反応速度が遅い上、反応液の粘度が極めて高く、場合により、固化するおそれがあり、１５０℃を超えると反応制御が困難となり、かつビスフェノールＡ（ｐ，ｐ′−体）の選択率が低下する上、触媒の酸型イオン交換樹脂が分解又は劣化することがある。
更に、原料混合物のＬＨＳＶ（液空間速度）は、通常０．２〜３０ｈｒ-1、好ましくは０．５〜１０ｈｒ-1の範囲で選ばれる。
【００１５】
上記製造方法においては、このようにして得られた反応混合液を、まず、フィルターによりろ過することが好ましい。
ビスフェノールＡ含有溶解液をフィルターでろ過することにより、該溶解液中に含まれる夾雑物を取り除くことができ、後工程の高温条件下におけるビスフェノールＡの分解を防止することができる。
その結果、着色物質の生成が抑制され、色相の向上した製品ビスフェノールＡが得られる。
このようなろ過により、触媒残渣や触媒破砕物を除去する。
触媒残渣や触媒破砕物は、製品のビスフェノールＡの分解を助長し、色相を悪化させるからである。
反応混合液の後処理又は上記ろ過に引き続いて行われる後処理としては、以下に示す（Ｂ）工程〜（Ｆ）工程と共に、ビスフェノールＡとフェノールとの付加物をフェノール含有溶液を用いて溶解する工程と、この溶液から当該付加物を晶析・分離する工程の間の少なくとも一つに、フィルターによるろ過工程を施すことが行われる。
【００１６】
次に、（Ｂ）工程〜（Ｆ）工程について説明する。
（Ｂ）工程
この（Ｂ）工程は、上記の実質上酸型イオン交換樹脂を含まない反応混合液を濃縮する工程である。
この濃縮工程においては、通常、まず、蒸留塔を用いた減圧蒸留により、未反応アセトン、副生水及びアルキルメルカプタン等の低沸点物質を除去することが行われる。
この減圧蒸留は、一般に圧力６．５〜８０ｋＰａ程度及び温度７０〜１８０℃程度の条件で実施される。
この際、未反応フェノールが共沸し、その一部が上記低沸点物質と共に、蒸留塔の塔頂より系外へ除かれる。
この蒸留においては、ビスフェノールＡの熱分解を防止するために、使用する加熱源の温度は１９０℃以下とすることが望ましい。
【００１７】
次に、反応混合物から低沸点物質を除いた、ビスフェノールＡ及びフェノール等を含む塔底液に減圧蒸留を施してフェノールを留去させ、ビスフェノールＡを濃縮する。
この濃縮条件については特に制限はないが、通常温度１００〜１７０℃程度及び圧力５〜７０ｋＰａ程度の条件が採用される。
この温度が１００℃より低いと高真空が必要となり、１７０℃より高いと次の晶析工程で余分の除熱が必要となり、好ましくない。
また、濃縮残液中のビスフェノールＡの濃度は、好ましくは２０〜５０質量％、より好ましくは２０〜４０質量％の範囲である。
この濃度が２０質量％未満ではビスフェノールＡの回収率が低く、５０質量％を超えると晶析後のスラリー移送が困難となるおそれがある。
【００１８】
（Ｃ）工程
この（Ｃ）工程は、上記（Ｂ）工程で得られた濃縮残液からビスフェノールＡとフェノールとの１：１付加物（以下、フェノールアダクト称することがある。）を晶析・分離する工程である。
この工程においては、まず、上記濃縮残液を４０〜７０℃程度に冷却し、フェノールアダクトを晶析させ、スラリーとする。
この際の冷却は、外部熱交換器を用いて行ってもよく、また、濃縮残液に水を加え、減圧下での水の蒸発潜熱を利用して冷却する真空冷却晶析法によって行ってもよい。
この真空冷却晶析法においては、該濃縮残液に、水を３〜２０質量％程度添加し、通常温度４０〜７０℃、圧力３〜１３ｋＰａの条件で晶析処理が行われる。
上記水の添加量が３質量％未満では除熱能力が十分ではなく、２０質量％を超えるとビスフェノールＡの溶解ロスが大きくなり、好ましくない。
このような晶析操作において、晶析温度が４０℃未満では晶析液の粘度の増大や固化をもたらすおそれがあり、７０℃を超えるとビスフェノールＡの溶解ロスが大きくなり、好ましくない。
次に、このようにして晶析されたフェノールアダクトを含むスラリーを、ろ過や遠心分離等の公知の手段により、フェノールアダクトと、反応副生物を含む晶析母液とに分離する。
【００１９】
（Ｄ）工程
この（Ｄ）工程は、上記（Ｃ）工程で晶析・分離されたフェノールアダクトを、フェノール含有溶液を用いて溶解する工程である。
この工程において用いられるフェノール含有溶液としては特に制限はなく、例えば、上記（Ｂ）工程の濃縮工程で得られた回収フェノール、（Ｃ）工程の晶析・分離工程で生成するフェノールアダクトの洗浄液、本（Ｄ）工程以降の工程で生成する、晶析したフェノールアダクトの固液分離における母液や該フェノールアダクトの洗浄液等を挙げることができる。
【００２０】
（Ｃ）工程で得られたフェノールアダクトに上記フェノール含有溶液を加え、８０〜１１０℃程度に加熱し、該フェノールアダクトを加熱溶解させ、次工程の晶析操作に好ましいビスフェノールＡ濃度を有するビスフェノールＡ含有溶液を調製する。
このようにして調製されたビスフェノールＡ含有溶液は、比較的低い温度でも粘度が低くて取扱いが比較的容易であり、次工程において晶析したフェノールアダクトの固液分離をフィルターで行うのに適している。
【００２１】
（Ｅ）工程
この（Ｅ）工程は、上記（Ｄ）工程で得られたビスフェノールＡ含有溶液から、フェノールアダクトを晶析・分離し、場合により高純度の製品を得るために、更に当該フェノールアダクトをフェノール含有溶液を用いて溶解した後、晶析・分離する操作を１回以上繰り返す工程である。
この工程におけるフェノールアダクトの晶析・分離操作及びフェノールアダクトのフェノール含有溶液による溶解操作は、それぞれ上記の（Ｃ）工程及び（Ｄ）工程と同じである。
【００２２】
（Ｆ）工程
この（Ｆ）工程は、上記（Ｅ）工程で晶析・分離されたフェノールアダクトを加熱溶融後、フェノールを留去させる工程である。
この工程においては、まず、フェノールアダクトを１００〜１６０℃程度に加熱・溶融して液状混合物となし、次いで、減圧蒸留によってフェノールを留去し、溶融状態のビスフェノールＡを回収する。
上記減圧蒸留は、一般に圧力１〜１１ｋＰａ、温度１５０〜１９０℃の範囲の条件で実施される。
残存フェノールは、更に、スチームストリッピングにより除去することができる。
【００２３】
このように、ビスフェノールＡ含有溶解液をフィルターでろ過することにより、該溶解液中に含まれる夾雑物を取り除くことができ、後工程の高温条件下におけるビスフェノールＡの分解を防止することができる。
その結果、着色物質の生成が抑制され、色相の向上した製品ビスフェノールＡが得られる。
【００２４】
造粒塔は、ＢＰＡ溶融液を液滴とするノズルプレートを塔頂に設置し、冷却用気体を吹き込むダクトを塔底に備えた装置である。
ノズルプレートとしては、多数の孔が設けられた金属板等が使用され、ＢＰＡの固化を防止するため、電気ヒーターやスチーム等により加温できるようになっている。
塔高は、ＢＰＡ液滴の冷却時間により決まるが、通常１０〜５０ｍ程度である。
造粒装置としては、例えば、図１に示すものを用いることができる。
ＢＰＡ溶融液は、造粒ノズル１から流出してＢＰＡ液滴となり、造粒塔２内をシャワー状に落下する。
このＢＰＡ液滴は、冷却用気体導入口３から導入された気体により冷却されてＢＰＡプリルとなり、このＢＰＡプリルは、造粒送出口４から排出される。
冷却に使用された気体は、気体排出口５から排出される。
ＢＰＡ溶融液の温度は１５７〜２００℃が好ましい。
ＢＰＡ溶融液の温度が１５７℃未満であると、固化するおそれがあり、２００℃を超えると、着色するおそれがある。
【００２５】
造粒ノズル１は、プレートにノズルが設けられたものである。
本発明においては、ノズルの孔径（直径）は０．３〜１．０ｍｍ、好ましくは０．４〜０．７ｍｍ、より好ましくは０．５〜０．６ｍｍとすることにより、平均粒径が０．５〜１．５ｍｍ程度のＢＰＡプリルを得ることができる。
本発明においては、造粒ノズル１から流出されるＢＰＡ溶融液の流出速度を０．５〜１．８ｍ／ｓとすることを要し、好ましくは１．０〜１．８ｍ／ｓ、より好ましくは１．４〜１．８ｍ／ｓである。
ＢＰＡ溶融液の流出速度が０．５ｍ／ｓ以上であると、ＢＰＡ液滴同士が合一して大きくならず、ＢＰＡ溶融液の流出速度が１．８ｍ／ｓ以下であると、ＢＰＡ液滴同士が合一せず、その大きさは均一となる。
大きな粒径となったＢＰＡ液滴は冷却され難くなることから、ＢＰＡの溶融液が残った状態で造粒塔の塔底に達し、塔底に付着する。
なお、ＢＰＡ溶融液の流出速度は、ノズルへのＢＰＡ溶融液の流量等により調整することができる。
また、本発明のノズルの孔の間隔は、５〜１２ｍｍ、好ましくは７〜１１ｍｍ、より好ましくは８〜１０ｍｍである。
尚、孔間隔とは、隣接する孔の中心間の距離を指す。
ノズル孔間隔が１２ｍｍを超えると、ＢＰＡの液滴同士の間隔が広がるため、ＢＰＡの溶融液がノズルより多少斜めに流出しても液滴同士の合一がおこり難くなるが、ＢＰＡ溶融液量が多くなるとノズルプレートの枚数が多くなり、造粒塔の塔径を大きくせざるを得なくなる。
即ち、ノズル孔間隔が１２ｍｍ以下であると、ノズルプレートの数が適切で、造粒塔の塔径を大きくする必要はない。
また、ノズルの孔の汚染等により、ＢＰＡの溶融液が偏流をおこし、斜めに流出した液滴同士が合一することがあるが、ノズルの孔間隔が５ｍｍ以上であると、偏流がおこってもＢＰＡの液滴の合一はおこり難くなる。
冷却気体導入口３から導入される気体としては、ＢＰＡが酸化され易い性質を有するため、通常不活性な窒素を用いる。
冷却用気体を用いる場合、造粒塔２におけるガスの流速は０．７〜２．０ｍ／ｓ、好ましくは０．９〜１．８ｍ／ｓ、より好ましくは１．０〜１．６ｍ／ｓである。
冷却用気体の流速を０．７〜２．０ｍ／ｓとすることにより、造粒塔２内部の温度を４０〜９０℃とすることができ、ＢＰＡプリルの温度を５０〜６０℃に冷却することができる。
冷却用気体の速度が０．７ｍ／ｓ以上となると、ＢＰＡ溶融液の冷却が適切で、逆に２．０ｍ／ｓ以下であると、ＢＰＡの粒子が落下し易くなるため、ＢＰＡ粒子同士の衝突がおこらず、ＢＰＡの微粉の生成が減少し、ＢＰＡプリルの収率が上昇する。
また、（Ａ）工程から造粒塔までの機器の材質としては、一般にＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６及びＳＵＳ３１６Ｌ等が用いられる。
【実施例】
【００２６】
次に、本発明を実施例により更に詳しく説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
参考例１
陽イオン交換樹脂〔三菱化学（株）製、「ダイヤイオンＳＫ１０４Ｈ」〕を充填した固定床反応塔に、モル比１０：１のフェノールとアセトンを、エチルメルカプタンと共に、連続的にＬＨＳＶ３ｈｒ-1で通液し、７５℃で反応を行った。
得られた反応混合液から、塔底温度１７０℃、圧力６７ｋＰａの条件で減圧蒸留によりアセトン、水、エチルメルカプタン等を除去した後、更に温度１３０℃、圧力１４ｋＰａの条件で減圧蒸留し、フェノールを留去させ、ビスフェノールＡ濃度が４０質量％になるまで濃縮し、フェノール・ビスフェノールＡ溶液を得た。
【００２７】
次に、このビスフェノールＡ濃度が４０質量％のフェノール・ビスフェノールＡ溶液に水を加え、減圧下で５０℃に冷却保持することにより、ビスフェノールＡ・フェノールアダクトを晶析させてスラリー溶液を得た。
次いで、得られたスラリー溶液を固液分離することにより、ビスフェノールＡ・フェノールアダクトを得た。
このアダクトにフェノールを加え、９０℃に加熱してフェノール６０質量％及びビスフェノールＡ４０質量％を含む溶液を調製した。
再度、同様の真空冷却晶析及び固液分離を行い、ビスフェノールＡ・フェノールアダクトを得た。
次いで、このアダクトを精製フェノールにより洗浄を行い、ビスフェノールＡ・フェノールアダクト結晶を得た。
このアダクト結晶を１３０℃にて加熱溶融した後、脱フェノールしてビスフェノールＡを得た。
上記ビスフェノールＡを空気雰囲気下で２２０℃、４０分間加熱し、ＡＰＨＡ標準色を用い、目視にて色相評価した結果、ＡＰＨＡ１５であった。
【００２８】
実施例１
塔径２．２ｍ、塔高３０ｍの造粒塔へ、４０℃の窒素ガスをガス速度が１．６ｍ／ｓとなるように塔底より供給した。
この造粒塔の塔頂には、直径０．５ｍｍの孔が９ｍｍの間隔で開けられたノズルプレートが設置されている。
このプレートに温度１７０℃のビスフェノールＡ溶融液を流出速度が１．４ｍ／ｓとなるように供給し、ＢＰＡの造粒を行なった。
その結果、平均粒径１．０ｍｍのＢＰＡプリルを２週間にわたり安定に製造することができた。
造粒塔を２週間後点検したところ、塔底にはＢＰＡの付着等は殆ど見られなかった。
試験の結果を表１に示す。
【００２９】
実施例２
実施例１と同一のノズルプレートと造粒塔を使用し、４０℃の窒素ガスのガス速度を１．０ｍ／ｓ、温度１７０℃のビスフェノールＡ溶融液の流出速度を１．８ｍ／ｓとなるように供給し、ＢＰＡの造粒を行なった。
その結果、平均粒径１．１ｍｍのＢＰＡプリルを２週間にわたり安定に製造することができた。
造粒塔を２週間後点検したところ、塔底にはＢＰＡの付着等は殆ど見られなかった。
試験の結果を表１に示す。
【００３０】
実施例３
実施例１と同一の造粒塔の塔頂に、直径０．６ｍｍの孔が５ｍｍの間隔で開けられたノズルプレートを設置した。
これに、４０℃の窒素ガスのガス速度を１．６ｍ／ｓ、温度１７０℃のビスフェノールＡ溶融液の流出速度を１．５ｍ／ｓとなるように供給し、ＢＰＡの造粒を行なった。
その結果、平均粒径１．１ｍｍのＢＰＡプリルを２週間にわたり安定に製造することができた。
造粒塔を２週間後点検したところ、塔底にはＢＰＡの付着等は殆ど見られなかった。
試験の結果を表１に示す。
【００３１】
実施例４
実施例１と同一の造粒塔の塔頂に、直径０．５ｍｍの孔が５ｍｍの間隔で開けられたノズルプレートを設置した。
これに、４０℃の窒素ガスのガス速度を１．１ｍ／ｓ、温度１７０℃のビスフェノールＡ溶融液の流出速度を１．８ｍ／ｓとなるように供給し、ＢＰＡの造粒を行なった。
その結果、平均粒径１．１ｍｍのＢＰＡプリルを２週間にわたり安定に製造することができた。
造粒塔を２週間後点検したところ、塔底にはＢＰＡの付着等は殆ど見られなかった。
試験の結果を表１に示す。
【００３２】
比較例１
実施例４と同一の造粒塔（直径０．５ｍｍの孔が５ｍｍの間隔で開けられたノズルプレートを設置）に、４０℃の窒素ガスのガス速度を１．１ｍ／ｓ、温度１７０℃のビスフェノールＡ溶融液の流出速度を２．９ｍ／ｓとなるように供給し、ＢＰＡの造粒を行なった。
その結果、平均粒径１．６ｍｍのＢＰＡプリルを２週間にわたり安定に製造することができたが、造粒塔を２週間後に点検したところ、塔底にはＢＰＡが厚さ１０ｍｍ程度付着していた。
この付着物に、造粒塔外部から衝撃を与えたところ容易に剥離した。
試験の結果を表１に示す。
【００３３】
比較例２
実施例１と同一の造粒塔（直径０．５ｍｍの孔が９ｍｍの間隔で開けられたノズルプレートを設置）に、４０℃の窒素ガスのガス速度を０．５ｍ／ｓ、温度１７０℃のビスフェノールＡ溶融液の流出速度を１．８ｍ／ｓとなるように供給し、ＢＰＡの造粒を行なった。
その結果、平均粒径１．３ｍｍのＢＰＡプリルを２週間にわたり安定に製造することができたが、造粒塔を２週間後に点検したところ、塔底にはＢＰＡが厚さ５０ｍｍ程度付着していた。
この付着物に、造粒塔外部から衝撃を与えたところ容易に板状となって剥離した。
試験の結果を表１に示す。
【００３４】
比較例３
実施例１と同一の造粒塔（直径０．５ｍｍの孔が９ｍｍの間隔で開けられたノズルプレートを設置）に、４０℃の窒素ガスのガス速度を１．６ｍ／ｓ、温度１７０℃のビスフェノールＡ溶融液の流出速度を０．４ｍ／ｓとなるように供給し、ＢＰＡの造粒を行なった。
その結果、ＢＰＡ溶融液の液滴が合一し、大粒径となり、完全に固化せず落下し、造粒塔塔底に衝突して付着、堆積し、ついには造粒塔が閉塞してしまった。
試験の結果を表１に示す。
【００３５】
比較例４
実施例３と同一の造粒塔（直径０．６ｍｍの孔が５ｍｍの間隔で開けられたノズルプレートを設置）に、４０℃の窒素ガスのガス速度を２．５ｍ／ｓ、温度１７０℃のビスフェノールＡ溶融液の流出速度を１．５ｍ／ｓとなるように供給し、ＢＰＡの造粒を行なった。
その結果、平均粒径１．２ｍｍのＢＰＡプリルを２週間にわたり安定に製造することができたが、窒素ガス出口中のＢＰＡ微粉が増加した。
また、造粒塔を２週間後に点検したところ、造粒塔塔底にはＢＰＡの付着は殆ど認められなかったが、ＢＰＡプリルの収率は低下した。
試験の結果を表１に示す。
【００３６】
比較例５
実施例１と同一の造粒塔（直径０．５ｍｍの孔が３ｍｍの間隔で開けられたノズルプレートを設置）に、４０℃の窒素ガスのガス速度を１．０ｍ／ｓ、温度１７０℃のビスフェノールＡ溶融液の流出速度を１．８ｍ／ｓとなるように供給し、ＢＰＡの造粒を行なった。
その結果、平均粒径１．６ｍｍのＢＰＡプリルを２週間にわたり安定に製造することができたが、造粒塔を２週間後に点検したところ、塔底にはＢＰＡが厚さ３０ｍｍ程度付着していた。
試験の結果を表１に示す。
【００３７】
【表１】
2005213190.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明で用いた造粒装置の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００３９】
１  造粒ノズル
２  造粒塔
３  冷却用気体導入口
４  製品送出口
５  冷却用気体排出口
【図１】
2005213190.tif 000004