(57)【要約】【課題】  調整の容易性、安定性、汎用性に優れ、例えば露光装置に適した様々なタイプの反射屈折型の投影光学系に対して広く適用が可能な光学調整方法。【解決手段】  第１部分光学系と第２部分光学系とを光学的に接続する光路偏向部材（ＦＭ）を備えた光学系の光学調整方法。第１基準位置（ＳＰ１）に第１曲面反射鏡（４０）を位置決めし、第１曲面反射鏡の焦点位置と第２曲面反射鏡（４１）の焦点位置とが一致するように、第２基準位置（ＳＰ２）に第２曲面反射鏡を位置決めする。第１曲面反射鏡にプローブ光を照射し、第１曲面反射鏡からの反射光に基づいてその焦点位置を検出し、同じプローブ光を光路偏向部材を介して第２曲面反射鏡に照射し、第２曲面反射鏡からの反射光に基づいてその焦点位置を検出する。第１曲面反射鏡の焦点位置情報と第２曲面反射鏡の焦点位置情報とに基づいて第１部分光学系中の各光学部材の位置決めを調整する。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１光軸を有する第１部分光学系と、第２光軸を有する第２部分光学系と、前記第１部分光学系と前記第２部分光学系とを光学的に接続する光路偏向部材とを備えた光学系の光学調整方法において、
前記第１光軸に沿った第１基準位置に第１曲面反射鏡を位置決めする第１位置決め工程と、
前記第１基準位置に位置決めされた前記第１曲面反射鏡の焦点位置または該焦点位置と共役な位置と第２曲面反射鏡の焦点位置とがほぼ一致するように、前記第２曲面反射鏡を前記第２光軸に沿った第２基準位置に位置決めする第２位置決め工程と、
前記第１曲面反射鏡にプローブ光を照射し、前記第１曲面反射鏡からの反射光に基づいて前記第１曲面反射鏡の焦点位置を検出する第１検出工程と、
前記プローブ光を前記光路偏向部材を介して前記第２曲面反射鏡に照射し、前記第２曲面反射鏡からの前記光路偏向部材を介した反射光に基づいて前記第２曲面反射鏡の焦点位置を検出する第２検出工程と、
前記第１曲面反射鏡の焦点位置情報と前記第２曲面反射鏡の焦点位置情報とに基づいて、前記第１部分光学系および前記第２部分光学系のうちの少なくとも一方の部分光学系中の１以上の光学部材の位置決めを調整する調整工程とを含むことを特徴とする光学調整方法。
【請求項２】
前記第１光軸は鉛直方向に沿って設定され、
前記調整工程では、前記第１曲面反射鏡の焦点位置と前記第２曲面反射鏡の焦点位置との光軸方向の位置ずれ情報に基づいて、前記第１部分光学系中の１以上の光学部材の前記第１光軸に沿った位置決めを調整することを特徴とする請求項１に記載の光学調整方法。
【請求項３】
前記調整工程では、前記第１曲面反射鏡の焦点位置と前記第２曲面反射鏡の焦点位置との光軸方向の位置ずれ量に対応する厚さを有する間隔環を、前記第１基準位置と前記第１部分光学系の最も第１基準位置側の光学部材との間に介在させることを特徴とする請求項２に記載の光学調整方法。
【請求項４】
前記第１光軸は鉛直方向に沿って設定され、
前記調整工程では、前記第１曲面反射鏡の焦点位置と前記第２曲面反射鏡の焦点位置との光軸直交方向の位置ずれ情報に基づいて、前記第１光軸と直交する面内における前記第１部分光学系中の１以上の光学部材の位置決めを調整することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学調整方法。
【請求項５】
前記第１基準位置に第１平面反射鏡を位置決めする第３位置決め工程と、
前記第２基準位置に第２平面反射鏡を位置決めする第４位置決め工程と、
前記第１平面反射鏡に平行光束を照射し、前記第１平面反射鏡からの反射光に基づいて前記第１平面反射鏡の角度を検出する第３検出工程と、
前記平行光束を前記光路偏向部材を介して前記第２平面反射鏡に照射し、前記第２平面反射鏡からの前記光路偏向部材を介した反射光に基づいて前記第２平面反射鏡の角度を検出する第４検出工程と、
前記第１平面反射鏡および前記第２平面反射鏡の角度情報に基づいて、前記第１部分光学系および前記第２部分光学系のうちの少なくとも一方の部分光学系中の各光学部材の位置決めを調整する第２調整工程とを含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光学調整方法。
【請求項６】
前記第１光軸は鉛直方向に沿って設定され、
前記第２調整工程では、前記第１平面反射鏡および前記第２平面反射鏡の角度情報に基づいて、前記第１部分光学系中の１以上の光学部材の光軸の前記第１光軸に対する角度をそれぞれ調整することを特徴とする請求項５に記載の光学調整方法。
【請求項７】
前記第２調整工程では、前記第１平面反射鏡と前記第２平面反射鏡とが光学的になす角度に応じたくさび角を有するくさび環を、前記第１基準位置と前記第１部分光学系の最も第１基準位置側の光学部材との間に介在させることを特徴とする請求項６に記載の光学調整方法。
【請求項８】
前記光路偏向部材を収容する空間を密閉するために、前記第１基準位置には第１透明窓が設けられ、前記第２基準位置には第２透明窓が設けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学調整方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学調整方法により光学調整されたことを特徴とする光学系。
【請求項１０】
請求項９に記載の光学系を備え、該光学系を介してマスクのパターンを感光性基板上に投影露光することを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
マスクに形成されたパターンを、請求項９に記載の光学系を介して、感光性基板上に投影露光することを特徴とする露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学系の光学調整方法、光学系、露光装置および露光方法に関し、特に半導体素子や液晶表示素子などをフォトリソグラフィ工程で製造する際に使用される露光装置の反射屈折型投影光学系の組立てにおける光学調整に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子等を製造するためのフォトリソグラフィ工程において、フォトマスクまたはレチクル（以下、総称して「マスク」という）のパターン像を投影光学系を介して、感光性基板（フォトレジスト等が塗布されたウェハまたはガラスプレート等）上に露光する露光装置が使用されている。そして、半導体素子等の集積度が向上するにつれて、露光装置の投影光学系に要求される解像力（解像度）が益々高まっている。その結果、投影光学系の解像力に対する要求を満足するために、照明光（露光光）の波長を短くするとともに投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくする必要がある。
【０００３】
しかしながら、照明光の波長が短くなると光の吸収が顕著となり、実用に耐え得る硝材（光学材料）の種類は限定される。特に、照明光の波長が１８０ｎｍ以下になると、実用的に使用可能な硝材は蛍石だけに限定される。その結果、屈折型の投影光学系では、色収差の補正が不可能となる。また、投影光学系に求められる光学性能が極めて高いため、諸収差をほぼ無収差レベルまで良好に補正することが必要となる。屈折型の投影光学系で所要の光学性能を達成するには多数のレンズ成分が必要となり、透過率の低下や製造コストの増大を避けることはできない。
【０００４】
これに対して、凹面反射鏡等のパワーを利用する反射型の光学系では色収差が発生することなく、ペッツバール和に関してレンズ成分とは符号が逆の寄与を示す。このため、反射型の光学系と屈折型の光学系とを組み合わせた投影光学系、すなわち反射屈折型の投影光学系では、レンズ枚数の増加を招くことなく、色収差を含めた諸収差をほぼ無収差レベルまで良好に補正することができる。従来技術では、露光装置に適した投影光学系として、様々なタイプの反射屈折型の光学系が提案されている。
【０００５】
また、従来技術では、たとえば露光装置に適した反射屈折型の投影光学系に関連して、異なる軸線を有する複数の鏡筒と光路偏向部材との相対位置すなわち各光軸と光路偏向部材との相対位置を高精度に位置合わせする方法が提案されている（たとえば特許文献１を参照）。
【特許文献１】特開２０００−１８７１３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述の公報に開示されている従来の光学調整方法は、特定タイプの反射屈折型光学系の光学調整に特化しており、その適用範囲が狭く、偏向ミラーを微動させるための複雑で高価な機構や工具が必要であった。
【０００７】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、調整の容易性、安定性、汎用性に優れ、例えば露光装置に適した様々なタイプの反射屈折型の投影光学系に対して広く適用が可能な光学調整方法を提供することを目的とする。
【０００８】
また、本発明は、容易性、安定性、汎用性に優れた光学調整方法を用いて高精度に光学調整された高性能な反射屈折型の光学系を提供することを目的とする。また、本発明は、高精度に光学調整された高性能な反射屈折型の光学系を介して、高解像で高精度な投影露光を行うことのできる露光装置および露光方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するために、本発明の第１形態では、第１光軸を有する第１部分光学系と、第２光軸を有する第２部分光学系と、前記第１部分光学系と前記第２部分光学系とを光学的に接続する光路偏向部材とを備えた光学系の光学調整方法において、
前記第１光軸に沿った第１基準位置に第１曲面反射鏡を位置決めする第１位置決め工程と、
前記第１基準位置に位置決めされた前記第１曲面反射鏡の焦点位置または該焦点位置と共役な位置と第２曲面反射鏡の焦点位置とがほぼ一致するように、前記第２曲面反射鏡を前記第２光軸に沿った第２基準位置に位置決めする第２位置決め工程と、
前記第１曲面反射鏡にプローブ光を照射し、前記第１曲面反射鏡からの反射光に基づいて前記第１曲面反射鏡の焦点位置を検出する第１検出工程と、
前記プローブ光を前記光路偏向部材を介して前記第２曲面反射鏡に照射し、前記第２曲面反射鏡からの前記光路偏向部材を介した反射光に基づいて前記第２曲面反射鏡の焦点位置を検出する第２検出工程と、
前記第１曲面反射鏡の焦点位置情報と前記第２曲面反射鏡の焦点位置情報とに基づいて、前記第１部分光学系および前記第２部分光学系のうちの少なくとも一方の部分光学系中の１以上の光学部材の位置決めを調整する調整工程とを含むことを特徴とする光学調整方法を提供する。
【００１０】
第１形態の好ましい態様によれば、前記第１光軸は鉛直方向に沿って設定され、前記調整工程では、前記第１曲面反射鏡の焦点位置と前記第２曲面反射鏡の焦点位置との光軸方向の位置ずれ情報に基づいて、前記第１部分光学系中の１以上の光学部材の前記第１光軸に沿った位置決めを調整する。この場合、前記調整工程では、前記第１曲面反射鏡の焦点位置と前記第２曲面反射鏡の焦点位置との光軸方向の位置ずれ量に対応する厚さを有する間隔環を、前記第１基準位置と前記第１部分光学系の最も第１基準位置側の光学部材との間に介在させることが好ましい。また、前記第１光軸は鉛直方向に沿って設定され、前記調整工程では、前記第１曲面反射鏡の焦点位置と前記第２曲面反射鏡の焦点位置との光軸直交方向の位置ずれ情報に基づいて、前記第１光軸と直交する面内における前記第１部分光学系中の１以上の光学部材の位置決めを調整することが好ましい。
【００１１】
また、第１形態の好ましい態様によれば、前記第１基準位置に第１平面反射鏡を位置決めする第３位置決め工程と、前記第２基準位置に第２平面反射鏡を位置決めする第４位置決め工程と、前記第１平面反射鏡に平行光束を照射し、前記第１平面反射鏡からの反射光に基づいて前記第１平面反射鏡の角度を検出する第３検出工程と、前記平行光束を前記光路偏向部材を介して前記第２平面反射鏡に照射し、前記第２平面反射鏡からの前記光路偏向部材を介した反射光に基づいて前記第２平面反射鏡の角度を検出する第４検出工程と、前記第１平面反射鏡および前記第２平面反射鏡の角度情報に基づいて、前記第１部分光学系および前記第２部分光学系のうちの少なくとも一方の部分光学系中の各光学部材の位置決めを調整する第２調整工程とを含む。
【００１２】
この場合、前記第１光軸は鉛直方向に沿って設定され、前記第２調整工程では、前記第１平面反射鏡および前記第２平面反射鏡の角度情報に基づいて、前記第１部分光学系中の１以上の光学部材の光軸の前記第１光軸に対する角度をそれぞれ調整することが好ましい。またこの場合、前記第２調整工程では、前記第１平面反射鏡と前記第２平面反射鏡とが光学的になす角度に応じたくさび角を有するくさび環を、前記第１基準位置と前記第１部分光学系の最も第１基準位置側の光学部材との間に介在させることが好ましい。また、第１形態では、前記光路偏向部材を収容する空間を密閉するために、前記第１基準位置には第１透明窓が設けられ、前記第２基準位置には第２透明窓が設けられていることが好ましい。
【００１３】
本発明の第２形態では、第１形態の光学調整方法により光学調整されたことを特徴とする光学系を提供する。
【００１４】
本発明の第３形態では、第２形態の光学系を備え、該光学系を介してマスクのパターンを感光性基板上に投影露光することを特徴とする露光装置を提供する。
【００１５】
本発明の第４形態では、マスクに形成されたパターンを、第２形態の光学系を介して、感光性基板上に投影露光することを特徴とする露光方法を提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の光学調整方法では、第１光軸を有する第１部分光学系と第２光軸を有する第２部分光学系とを光学的に接続する光路偏向部材を備えた光学系において、光路偏向部材を介した第１光軸と第２光軸との位置情報や角度情報に基づいて、第１部分光学系および第２部分光学系のうちの少なくとも一方の部分光学系中の１以上の光学部材の位置決めを調整する。その結果、本発明の光学調整方法は、調整の容易性、安定性、汎用性に優れ、例えば露光装置に適した様々なタイプの反射屈折型の投影光学系に対して広く適用が可能である。
【００１７】
したがって、容易性、安定性、汎用性に優れた本発明の光学調整方法を用いて、高精度に光学調整された高性能な反射屈折型の光学系を実現することができる。その結果、本発明の露光装置および露光方法では、高精度に光学調整された高性能な反射屈折型の光学系を介して、高解像で高精度な投影露光を行うことができ、ひいては高精度で良好なマイクロデバイスを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。
図１は、本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。なお、図１において、投影光学系ＰＬの基準光軸ＡＸに平行にＺ軸を、基準光軸ＡＸに垂直な面内において図１の紙面に平行にＹ軸を、基準光軸ＡＸに垂直な面内において図１の紙面に垂直にＸ軸を設定している。
【００１９】
図１に示す露光装置は、紫外領域の照明光を供給するための光源ＬＳとして、たとえばＡｒＦエキシマレーザー光源（波長１９３ｎｍ）またはＦ2レーザー光源（波長１５７ｎｍ）を備えている。光源ＬＳから射出された光は、照明光学系ＩＬを介して、所定のパターンが形成されたレチクル（マスク）Ｒを照明する。なお、光源ＬＳと照明光学系ＩＬとの間の光路はケーシング（不図示）で密封されており、光源ＬＳから照明光学系ＩＬ中の最もレチクル側の光学部材までの空間は、露光光の吸収率が低い気体であるヘリウムガスや窒素などの不活性ガスで置換されているか、あるいはほぼ真空状態に保持されている。
【００２０】
レチクルＲは、レチクルホルダＲＨを介して、レチクルステージＲＳ上においてＸＹ平面に平行に保持されている。レチクルＲには転写すべきパターンが形成されており、たとえばパターン領域全体のうちＸ方向に沿って長辺を有し且つＹ方向に沿って短辺を有する矩形状のパターン領域が照明される。レチクルステージＲＳは、図示を省略した駆動系の作用により、レチクル面（すなわちＸＹ平面）に沿って二次元的に移動可能であり、その位置座標はレチクル移動鏡ＲＭを用いた干渉計ＲＩＦによって計測され且つ位置制御されるように構成されている。
【００２１】
レチクルＲに形成されたパターンからの光は、投影光学系ＰＬを介して、感光性基板であるウェハＷ上にレチクルパターン像を形成する。ウェハＷは、ウェハテーブル（ウェハホルダ）ＷＴを介して、ウェハステージＷＳ上においてＸＹ平面に平行に保持されている。そして、レチクルＲ上での矩形状の照明領域に光学的に対応するように、ウェハＷ上ではＸ方向に沿って長辺を有し且つＹ方向に沿って短辺を有する矩形状の露光領域にパターン像が形成される。ウェハステージＷＳは、図示を省略した駆動系の作用によりウェハ面（すなわちＸＹ平面）に沿って二次元的に移動可能であり、その位置座標はウェハ移動鏡ＷＭを用いた干渉計ＷＩＦによって計測され且つ位置制御されるように構成されている。
【００２２】
また、図示の露光装置では、投影光学系ＰＬを構成する光学部材のうち最もレチクル側に配置された光学部材と最もウェハ側に配置された光学部材との間で投影光学系ＰＬの内部が気密状態を保つように構成され、投影光学系ＰＬの内部の気体はヘリウムガスや窒素などの不活性ガスで置換されているか、あるいはほぼ真空状態に保持されている。さらに、照明光学系ＩＬと投影光学系ＰＬとの間の狭い光路には、レチクルＲおよびレチクルステージＲＳなどが配置されているが、レチクルＲおよびレチクルステージＲＳなどを密封包囲するケーシング（不図示）の内部に窒素やヘリウムガスなどの不活性ガスが充填されているか、あるいはほぼ真空状態に保持されている。
【００２３】
また、投影光学系ＰＬとウェハＷとの間の狭い光路には、ウェハＷおよびウェハステージＷＳなどが配置されているが、ウェハＷおよびウェハステージＷＳなどを密封包囲するケーシング（不図示）の内部に窒素やヘリウムガスなどの不活性ガスが充填されているか、あるいはほぼ真空状態に保持されている。このように、光源ＬＳからウェハＷまでの光路の全体に亘って、露光光がほとんど吸収されることのない雰囲気が形成されている。上述したように、投影光学系ＰＬによって規定されるレチクルＲ上の照明領域およびウェハＷ上の露光領域（すなわち実効露光領域）は、Ｙ方向に沿って短辺を有する矩形状である。
【００２４】
したがって、駆動系および干渉計（ＲＩＦ、ＷＩＦ）などを用いてレチクルＲおよびウェハＷの位置制御を行いながら、矩形状の露光領域および照明領域の短辺方向すなわちＹ方向に沿ってレチクルステージＲＳとウェハステージＷＳとを、ひいてはレチクルＲとウェハＷとを同期的に移動（走査）させることにより、ウェハＷ上には露光領域の長辺に等しい幅を有し且つウェハＷの走査量（移動量）に応じた長さを有する領域に対してレチクルパターンが走査露光される。あるいは、投影光学系ＰＬの基準光軸ＡＸと直交する平面内においてウェハＷを二次元的に駆動制御しながら一括露光を行うことにより、ウェハＷの各露光領域にはレチクルＲのパターンが逐次露光される。
【００２５】
図２は、本実施形態にかかる投影光学系の構成を概略的に示す図である。図２を参照すると、本実施形態の投影光学系ＰＬは、レチクルＲのパターンの第１中間像を形成するための屈折型の第１結像光学系Ｇ１を備えている。たとえばレンズ成分Ｌ１１〜Ｌ１７により構成された第１結像光学系Ｇ１が形成する第１中間像の形成位置の近傍には、第１光路折り曲げ鏡Ｍ１が配置されている。第１光路折り曲げ鏡Ｍ１は、第１中間像へ向かう光束または第１中間像からの光束を、反射屈折型の第２結像光学系Ｇ２に向かって偏向する。
【００２６】
第２結像光学系Ｇ２は、凹面反射鏡ＣＭと２つの負レンズＬ２１およびＬ２２とを有し、第１中間像からの光束に基づいて第２中間像を第１中間像の形成位置の近傍に形成する。第２結像光学系Ｇ２が形成する第２中間像の形成位置の近傍には、第２光路折り曲げ鏡Ｍ２が配置されている。第２光路折り曲げ鏡Ｍ２は、第２中間像へ向かう光束または第２中間像からの光束を屈折型の第３結像光学系Ｇ３に向かって偏向する。
【００２７】
たとえばレンズ成分Ｌ３１〜Ｌ３６により構成された第３結像光学系Ｇ３は、第２中間像からの光束に基づいて、レチクルＲのパターンの縮小像（第２中間像の像であって投影光学系の最終像）をウェハＷ上に形成する。なお、第１結像光学系Ｇ１は直線状に延びた光軸ＡＸ１を有し、第３結像光学系Ｇ３は直線状に延びた光軸ＡＸ３を有し、光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ３とは共通の単一光軸である基準光軸ＡＸと一致するように設定されている。
【００２８】
一方、第２結像光学系Ｇ２も直線状に延びた光軸ＡＸ２を有し、この光軸ＡＸ２は基準光軸ＡＸと直交するように設定されている。さらに、第１光路折り曲げ鏡Ｍ１および第２光路折り曲げ鏡Ｍ２はともに平面状の反射面を有し、２つの反射面を有する１つの光学部材（１つの光路折り曲げ鏡）ＦＭとして一体的に構成されている。この２つの反射面の交線（厳密にはその仮想延長面の交線）が第１結像光学系Ｇ１のＡＸ１、第２結像光学系Ｇ２のＡＸ２、および第３結像光学系Ｇ３のＡＸ３と一点で交わるように設定されている。
【００２９】
こうして、第１光路折り曲げ鏡Ｍ１は、第１光軸ＡＸ１を有する第１部分光学系としての第１結像光学系Ｇ１と第２光軸ＡＸ２を有する第２部分光学系としての第２結像光学系Ｇ２との間の光路中に配置されて、第１結像光学系Ｇ１と第２結像光学系Ｇ２とを光学的に接続する光路偏向部材を構成している。同様に、第２光路折り曲げ鏡Ｍ２は、第３光軸ＡＸ３を有する第３部分光学系としての第３結像光学系Ｇ３と第２結像光学系Ｇ２との間の光路中に配置されて、第３結像光学系Ｇ３と第２結像光学系Ｇ２とを光学的に接続する光路偏向部材を構成している。
【００３０】
図３は、本実施形態にかかる投影光学系の組立てを概略的に説明する図である。図３を参照すると、３つの光軸ＡＸ１〜ＡＸ３に沿った基準位置を有するコア鏡筒ＣＣの内部空間に、光路折り曲げ鏡ＦＭが支持部材Ｃ４に保持された状態で組み込まれる。また、図中斜線部で示すコア鏡筒ＣＣの光軸ＡＸ１に沿った基準位置ＳＰ１に対して、第１結像光学系Ｇ１のレンズ成分Ｌ１７〜Ｌ１１が分割鏡筒（レンズ室）Ｃ１７〜Ｃ１１（Ｃ１５〜Ｃ１１は不図示）にそれぞれ組み込まれた状態で順次組み立てられる。
【００３１】
同様に、コア鏡筒ＣＣの光軸ＡＸ３に沿った基準位置ＳＰ３に対して、第３結像光学系Ｇ３のレンズ成分Ｌ３１〜Ｌ３６が分割鏡筒Ｃ３１〜Ｃ３６（Ｃ３３〜Ｃ３６は不図示）にそれぞれ組み込まれた状態で順次組み立てられる。また、コア鏡筒ＣＣの光軸ＡＸ２に沿った基準位置ＳＰ２に対して、第２結像光学系Ｇ２のレンズ成分Ｌ２１、レンズ成分Ｌ２２および凹面反射鏡ＣＭが分割鏡筒Ｃ２１〜Ｃ２３にそれぞれ組み込まれた状態で順次組み立てられる。
【００３２】
本実施形態にかかる投影光学系ＰＬでは、その組立てに際して、光路偏向部材としての第１光路折り曲げ鏡Ｍ１を介して光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ２とを位置合わせすること、具体的には光軸ＡＸ１に沿って配置されるレンズ成分Ｌ１１〜Ｌ１７と光軸ＡＸ２に沿って配置されるレンズ成分Ｌ２１、レンズ成分Ｌ２２および凹面反射鏡ＣＭとを第１光路折り曲げ鏡Ｍ１を介して所要の位置関係に光学調整する必要がある。同様に、光路偏向部材としての第２光路折り曲げ鏡Ｍ２を介して光軸ＡＸ３と光軸ＡＸ２とを位置合わせすること、具体的には光軸ＡＸ３に沿って配置されるレンズ成分Ｌ３１〜Ｌ３６と光軸ＡＸ２に沿って配置されるレンズ成分Ｌ２１、レンズ成分Ｌ２２および凹面反射鏡ＣＭとを第２光路折り曲げ鏡Ｍ２を介して所要の位置関係に光学調整する必要がある。
【００３３】
図４は、本実施形態の光学調整方法における位置情報検出工程を概略的に説明する図である。また、図５は、本実施形態の光学調整方法における位置情報検出工程を構成する各工程を示すフローチャートである。図４を参照すると、光路折り曲げ鏡ＦＭが支持部材Ｃ４に保持された状態でコア鏡筒ＣＣの内部空間に高精度に組み込まれている。支持部材Ｃ４による光路折り曲げ鏡ＦＭの保持および光路折り曲げ鏡ＦＭのコア鏡筒ＣＣの内部空間に組込みについては後述する。
【００３４】
図４および図５を参照すると、本実施形態の光学調整方法における位置情報検出工程では、第１光路折り曲げ鏡Ｍ１を介した光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ２との位置関係を検出するために、コア鏡筒ＣＣの光軸ＡＸ１に沿った基準位置ＳＰ１に検出工具としての凸面反射鏡（一般には曲面反射鏡）４０を位置決めする（Ｓ１１）とともに、コア鏡筒ＣＣの光軸ＡＸ２に沿った基準位置ＳＰ２に検出工具としての凹面反射鏡（一般には曲面反射鏡）４１を位置決めする（Ｓ１２）。ここで、光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ２とが第１光路折り曲げ鏡Ｍ１を介して所要の位置関係にあるときに凸面反射鏡４０の焦点位置と凹面反射鏡４１の焦点位置とが光学的に一致するように、凸面反射鏡４０の焦点距離および凹面反射鏡４１の焦点距離が設定されている。
【００３５】
この状態で、干渉計４２から供給された平行ビームが、フィゾーフラット４３を透過した後、集光レンズ４４により収束ビームに変換され、凸面反射鏡４０に照射される（Ｓ１３）。ここで、集光レンズ４４による平行ビームの集光点と凸面反射鏡４０の焦点位置とが光学的に一致するように、集光レンズ４４の焦点距離および配置が設定されている。凸面反射鏡４０からの反射光は、集光レンズ４４およびフィゾーフラット４３を介して、干渉計４２に戻る。干渉計４２では、フィゾーフラット４３を透過することなく反射されて戻った参照光と凸面反射鏡４０で反射されて戻った測定光との干渉に基づいて、基準位置ＳＰ１に位置決めされた凸面反射鏡４０の焦点位置を検出する（Ｓ１４）。
【００３６】
次いで、凸面反射鏡４０を基準位置ＳＰ１から取り外して、同じく干渉計４２からのプローブ光を、フィゾーフラット４３、集光レンズ４４および第１光路折り曲げ鏡Ｍ１を介して、凹面反射鏡４１に照射する（Ｓ１５）。干渉計４２では、フィゾーフラット４３を透過することなく反射されて戻った参照光と凹面反射鏡４１で反射されて戻った測定光との干渉に基づいて、基準位置ＳＰ２に位置決めされた凹面反射鏡４１の焦点位置を検出する（Ｓ１６）。こうして、凸面反射鏡４０の焦点位置情報および凹面反射鏡４１の焦点位置情報が、ひいては後述するように第１光路折り曲げ鏡Ｍ１を介した光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ２との位置関係が調整される。
【００３７】
同様に、第２光路折り曲げ鏡Ｍ２を介した光軸ＡＸ３と光軸ＡＸ２との位置関係を検出するために、コア鏡筒ＣＣの光軸ＡＸ３に沿った基準位置ＳＰ３に検出工具としての凸面反射鏡（一般には曲面反射鏡）４５を位置決めする。ここで、光軸ＡＸ３と光軸ＡＸ２とが第２光路折り曲げ鏡Ｍ２を介して所要の位置関係にあるときに凸面反射鏡４５の焦点位置と凹面反射鏡４１の焦点位置とが光学的に一致するように、凸面反射鏡４５の焦点距離が設定されている。この状態で、干渉計４２から供給された平行ビームが、フィゾーフラット４６および集光レンズ４７を介して、凸面反射鏡４５に照射される。
【００３８】
ここで、集光レンズ４７による平行ビームの集光点と凸面反射鏡４５の焦点位置とが光学的に一致するように、集光レンズ４７の焦点距離および配置が設定されている。凸面反射鏡４５からの反射光は、集光レンズ４７およびフィゾーフラット４６を介して、干渉計４２に戻る。干渉計４２では、フィゾーフラット４６を透過することなく反射されて戻った参照光と凸面反射鏡４５で反射されて戻った測定光との干渉に基づいて、基準位置ＳＰ３に位置決めされた凸面反射鏡４５の焦点位置を検出する。
【００３９】
次いで、凸面反射鏡４５を基準位置ＳＰ３から取り外して、干渉計４２からのプローブ光を、フィゾーフラット４６、集光レンズ４７および第２光路折り曲げ鏡Ｍ２を介して、凹面反射鏡４１に照射する。干渉計４２では、フィゾーフラット４６を透過することなく反射されて戻った参照光と凹面反射鏡４１で反射されて戻った測定光との干渉に基づいて、基準位置ＳＰ２に位置決めされた凹面反射鏡４１の焦点位置を検出する。こうして、凸面反射鏡４５の焦点位置情報および凹面反射鏡４１の焦点位置情報が、ひいては後述するように第２光路折り曲げ鏡Ｍ２を介した光軸ＡＸ３と光軸ＡＸ２との位置関係が調整される。
【００４０】
図６は、本実施形態の光学調整方法における角度情報検出工程を概略的に説明する図である。また、図７は、本実施形態の光学調整方法における角度情報検出工程を構成する各工程を示すフローチャートである。図６および図７を参照すると、本実施形態の光学調整方法における角度情報検出工程では、第１光路折り曲げ鏡Ｍ１を介した光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ２との角度関係を検出するために、コア鏡筒ＣＣの光軸ＡＸ１に沿った基準位置ＳＰ１に検出工具としての平面反射鏡６０を位置決めする（Ｓ２１）とともに、コア鏡筒ＣＣの光軸ＡＸ２に沿った基準位置ＳＰ２に検出工具としての平面反射鏡６１を位置決めする（Ｓ２２）。
【００４１】
この状態で、コリメータ６２からの視準光（平行ビーム）を平面反射鏡６０に照射し、コリメータ６２に戻った平面反射鏡６０からの反射光に基づいて、入射視準光に直交する面に対する平面反射鏡６０の角度を検出する（Ｓ２３）。次いで、平面反射鏡６０を基準位置ＳＰ１から取り外して、同じくコリメータ６２からの視準光を、第１光路折り曲げ鏡Ｍ１を介して平面反射鏡６１に照射し、コリメータ６２に戻った平面反射鏡６１からの反射光に基づいて、入射視準光に直交する面に対する平面反射鏡６１の角度を検出する（Ｓ２４）。こうして、平面反射鏡６０と平面反射鏡６１とが光学的になす角度情報が、ひいては後述するように第１光路折り曲げ鏡Ｍ１を介した光軸ＡＸ１と光軸ＡＸ２との角度関係が調整される。
【００４２】
同様に、第２光路折り曲げ鏡Ｍ２を介した光軸ＡＸ３と光軸ＡＸ２との角度関係を検出するために、コア鏡筒ＣＣの光軸ＡＸ３に沿った基準位置ＳＰ３に平面反射鏡６３を位置決めする。そして、コリメータ６４からの視準光（平行ビーム）を平面反射鏡６３に照射し、コリメータ６４に戻った平面反射鏡６３からの反射光に基づいて、入射視準光に直交する面に対する平面反射鏡６３の角度を検出する。次いで、平面反射鏡６３を基準位置ＳＰ３から取り外して、同じくコリメータ６４からの視準光を、第２光路折り曲げ鏡Ｍ２を介して平面反射鏡６１に照射し、コリメータ６４に戻った平面反射鏡６１からの反射光に基づいて、入射視準光に直交する面に対する平面反射鏡６１の角度を検出する。こうして、平面反射鏡６３と平面反射鏡６１とが光学的になす角度情報が、ひいては後述するように第２光路折り曲げ鏡Ｍ２を介した光軸ＡＸ３と光軸ＡＸ２との角度関係が調整される。
【００４３】
図８は、本実施形態の光学調整方法にしたがう投影光学系の組立て調整を概略的に説明する図である。本実施形態の光学調整方法では、上述の位置情報検出工程（Ｓ１１〜Ｓ１６）により得られた凸面反射鏡４０の焦点位置情報と凹面反射鏡４１の焦点位置情報とに基づいて、鉛直方向に沿った光軸ＡＸ１を有する第１結像光学系Ｇ１中の各レンズ成分Ｌ１１〜Ｌ１７の位置決めを調整する。具体的には、図８に示すように、凸面反射鏡４０の焦点位置と凹面反射鏡４１の焦点位置との光軸方向の位置ずれ量に対応する厚さを有する間隔環８０を、最も基準位置ＳＰ１側のレンズ成分Ｌ１７と基準位置ＳＰ１との間に介在させる。
【００４４】
すなわち、基準位置ＳＰ１との間に間隔環８０を介在させて、レンズ成分Ｌ１７が組み込まれた分割鏡筒Ｃ１７を光軸ＡＸ１に沿って組み立てる。次いで、レンズ成分Ｌ１６〜Ｌ１１が組み込まれた分割鏡筒Ｃ１６〜Ｃ１１を光軸ＡＸ１に沿って順次組み立てる。こうして、凸面反射鏡４０の焦点位置と凹面反射鏡４１の焦点位置との光軸方向の位置ずれ情報に基づいて、第１結像光学系Ｇ１中の各レンズ成分Ｌ１１〜Ｌ１７の光軸ＡＸ１に沿った位置決めをそれぞれ調整することができる。
【００４５】
また、各分割鏡筒Ｃ１７〜Ｃ１１の組立てに際して、凸面反射鏡４０の焦点位置と凹面反射鏡４１の焦点位置との光軸直交方向の位置ずれ情報に基づいて、光軸ＡＸ１と直交する面内における各分割鏡筒Ｃ１７〜Ｃ１１の位置をそれぞれ調整する。なお、光軸ＡＸ１と直交する面内における位置をそれぞれ調整しながら各分割鏡筒Ｃ１７〜Ｃ１１を組み立てるには、たとえば特開２００２−２５８１３１号公報（図４〜図６および関連する明細書の記載を参照）に開示された組立装置を用いることができる。こうして、凸面反射鏡４０の焦点位置と凹面反射鏡４１の焦点位置との光軸直交方向の位置ずれ情報に基づいて、光軸ＡＸ１と直交する面内における第１結像光学系Ｇ１中の各レンズ成分Ｌ１１〜Ｌ１７の位置決めをそれぞれ調整することができる。
【００４６】
また、本実施形態の光学調整方法では、上述の角度情報検出工程（Ｓ２１〜Ｓ２４）により得られた平面反射鏡６０および平面反射鏡６１の角度情報とに基づいて、鉛直方向に沿った光軸ＡＸ１を有する第１結像光学系Ｇ１中の各レンズ成分Ｌ１１〜Ｌ１７の位置決めを調整する。具体的には、図８に示すように、平面反射鏡６０と平面反射鏡６１とが光学的になす角度に応じたくさび角を有するくさび環８１を、最も基準位置ＳＰ１側のレンズ成分Ｌ１７と基準位置ＳＰ１との間に介在させる。
【００４７】
すなわち、基準位置ＳＰ１との間にくさび環８１を介在させて、レンズ成分Ｌ１７が組み込まれた分割鏡筒Ｃ１７を光軸ＡＸ１に沿って組み立てる。次いで、レンズ成分Ｌ１６〜Ｌ１１が組み込まれた分割鏡筒Ｃ１６〜Ｃ１１を光軸ＡＸ１に沿って順次組み立てる。こうして、平面反射鏡６０および平面反射鏡６１の角度情報に基づいて、第１結像光学系Ｇ１中の各レンズ成分Ｌ１１〜Ｌ１７の光軸（中心軸線）の光軸ＡＸ１に対する角度をそれぞれ調整することができる。
【００４８】
同様に、凸面反射鏡４５の焦点位置と凹面反射鏡４１の焦点位置との光軸方向の位置ずれ情報に基づいて、この位置ずれ量に対応する厚さを有する間隔環８２を基準位置ＳＰ３との間に介在させて、第３結像光学系Ｇ３中の各レンズ成分Ｌ３１〜Ｌ３６の光軸ＡＸ３に沿った位置決めをそれぞれ調整することができる。また、たとえば上述の組立装置を用いることにより、凸面反射鏡４５の焦点位置と凹面反射鏡４１の焦点位置との光軸直交方向の位置ずれ情報に基づいて、光軸ＡＸ３と直交する面内における第３結像光学系Ｇ３中の各レンズ成分Ｌ３１〜Ｌ３６の位置決めをそれぞれ調整することができる。
【００４９】
さらに、平面反射鏡６３および平面反射鏡６１の角度情報に基づいて、平面反射鏡６３と平面反射鏡６１とが光学的になす角度に応じたくさび角を有するくさび環８３を基準位置ＳＰ３との間に介在させて、第１結像光学系Ｇ１中の各レンズ成分Ｌ１１〜Ｌ１７の光軸（中心軸線）の光軸ＡＸ１に対する角度をそれぞれ調整することができる。なお、間隔環８０，８２とくさび環８１，８３とを併用する場合には、間隔環８０，８２の厚さの設定に際してくさび環８１，８３の平均厚さを考慮しなければならない。また、間隔環８０，８２およびくさび環８１，８３として、たとえば特開平７−３５９６３号公報に開示された位置調整装置を用いることができる。
【００５０】
なお、上述の説明では、鉛直方向に沿った光軸ＡＸ１を有する第１結像光学系Ｇ１中の各レンズ成分Ｌ１１〜Ｌ１７および鉛直方向に沿った光軸ＡＸ３を有する第３結像光学系Ｇ３中の各レンズ成分Ｌ３１〜Ｌ３６の位置決めを調整している。しかしながら、これに限定されることなく、第１結像光学系Ｇ１中の光学部材または第３結像光学系Ｇ３中の光学部材の位置決め調整に代えて、あるいは第１結像光学系Ｇ１中の光学部材または第３結像光学系Ｇ３中の光学部材の位置決め調整に加えて、水平方向に沿った光軸ＡＸ２を有する第２結像光学系Ｇ２中の光学部材（Ｌ２１，Ｌ２２，ＣＭ）の位置決めを調整することもできる。
【００５１】
以上、光路折り曲げ鏡ＦＭが支持部材Ｃ４に保持された状態でコア鏡筒ＣＣの内部空間に高精度に組み込まれていることを前提として、本実施形態の光学調整方法を説明している。以下、支持部材Ｃ４による光路折り曲げ鏡ＦＭの保持および光路折り曲げ鏡ＦＭのコア鏡筒ＣＣの内部空間に組込みについて簡単に説明する。図９は、光路折り曲げ鏡の支持部材の芯出しを概略的に説明する図である。また、図１０は、光路折り曲げ鏡の稜線位置の計測を概略的に説明する図である。また、図１１は、光路折り曲げ鏡のコア鏡筒の内部空間への組込みを概略的に説明する図である。
【００５２】
本実施形態では、図９に示すように、光路折り曲げ鏡ＦＭを保持した支持部材Ｃ４を旋盤９０に取り付け、旋盤９０の回転軸９０ａに対して４５度に設置した２つのコリメータ（不図示）を用いて、回転軸９０ａに対するＶ字状の反射面（Ｍ１，Ｍ２）の角度を測定し、旋盤９０を回転させたり、支持部材Ｃ４をあおったりして、Ｖ字状の反射面（Ｍ１，Ｍ２）の角度調整を行う。次いで、レーザ位置センサ（不図示）を用いて、旋盤９０の回転角度が０度の状態と１８０度の状態とにおけるＶ字状の反射面（Ｍ１，Ｍ２）の表面位置の差分を測定し、この差分が無くなるように回転軸９０ａをシフトさせて位置調整を行う。こうして、旋盤９０の回転軸９０ａに対するＶ字状の反射面（Ｍ１，Ｍ２）の角度および位置を調整した後に、支持部材Ｃ４の基準面９１および９２を同時に研削加工する。
【００５３】
また、本実施形態では、図１０に示すように、三次元測定器１００を用い、反射面（Ｍ１，Ｍ２）および支持部材Ｃ４の高さ基準位置の複数箇所の位置測定を行って、支持部材Ｃ４の高さ基準位置から光路折り曲げ鏡ＦＭの稜線（厳密には２つの反射面Ｍ１，Ｍ２の仮想的な延長面同士の交線）までの高さ位置を計測する。こうして、支持部材Ｃ４の高さ基準位置から光路折り曲げ鏡ＦＭの稜線までの高さ寸法Ｌの設計値からの誤差を確認する。さらに、本実施形態では、図１１に示すように、図示を省略した三次元測定器を用いて、支持部材Ｃ４の各主要箇所の寸法に関し、設計値からの誤差を測定する。次いで、光路折り曲げ鏡ＦＭの稜線までの高さ寸法Ｌの誤差および支持部材Ｃ４の各主要箇所の寸法誤差を考慮し、コア鏡筒ＣＣの基準位置ＳＰ４との間に所要厚さの間隔環１１０を介在させて、光路折り曲げ鏡ＦＭを保持した支持部材Ｃ４をコア鏡筒ＣＣに取り付ける。こうして、光路折り曲げ鏡ＦＭの稜線がコア鏡筒ＣＣの中心線１および２上に設置されることになる。
【００５４】
そして、コア鏡筒ＣＣの基準位置ＳＰ１〜ＳＰ３に透明窓部材１１１〜１１３をそれぞれ設置し、これらの透明窓部材１１１〜１１３によって密閉されたコア鏡筒ＣＣの内部空間をドライな不活性ガス（たとえば窒素）で満たすことが好ましい。この構成により、コア鏡筒ＣＣの内部空間に位置決めされた光路折り曲げ鏡ＦＭの反射面を有機物や水分などの汚染から保護することができる。なお、図３、図４、図６および図８では、図面の明瞭化のために、間隔環１１０および透明窓部材１１１〜１１３の図示を省略している。こうして、光路折り曲げ鏡ＦＭが支持部材Ｃ４に保持された状態でコア鏡筒ＣＣの内部空間に高精度に組み込まれる。
【００５５】
なお、図６および図７に示す角度情報検出工程（Ｓ２１〜Ｓ２４）では、平面反射鏡６０と平面反射鏡６１とが光学的になす角度および平面反射鏡６３と平面反射鏡６１とが光学的になす角度を参照し、これらの角度ができるだけ小さくなるように、光路折り曲げ鏡ＦＭを保持した支持部材Ｃ４をその中心軸線廻りに（光軸ＡＸ２廻りに）微小回転させたり、たとえば基準位置ＳＰ４との間にくさび環（不図示）を介在させることにより支持部材Ｃ４の中心軸線を光軸ＡＸ２に対して微小角度だけ傾斜させたりすることが望ましい。
【００５６】
この場合、本実施形態の光学調整方法では、角度情報検出工程（Ｓ２１〜Ｓ２４）を行った後に、位置情報検出工程（Ｓ１１〜Ｓ１６）を行うことが望ましい。また、光軸ＡＸ２に沿った光路折り曲げ鏡ＦＭの稜線位置の温度変化に起因する微小移動を調整するために、光路折り曲げ鏡ＦＭを保持した支持部材Ｃ４をその中心軸線に沿って（光軸ＡＸ２に沿って）微小移動させる調整機構を備えることが望ましい。
【００５７】
なお、本実施形態では、図２に示すタイプの反射屈折型の光学系に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなく、たとえば図１２〜図１５に示すような様々なタイプの反射屈折型の光学系に対しても、同様に本発明の光学調整方法を適用することができる。図１２に示すタイプの反射屈折型光学系の詳細な構成および作用については、たとえば特願２００３−１０７１７０号の図１およびそれに関連する明細書の記載を参照することができる。
【００５８】
図１３に示すタイプの反射屈折型光学系の詳細な構成および作用については、たとえば特願２００３−１０７１７０号の図８およびそれに関連する明細書の記載を参照することができる。図１４に示すタイプの反射屈折型光学系の詳細な構成および作用については、たとえばＷＯ０３／００７０４６号公報の第６図およびそれに関連する明細書の記載を参照することができる。図１５に示すタイプの反射屈折型光学系の詳細な構成および作用については、たとえば特願２００２−１０１０９６号の図１９およびそれに関連する明細書の記載を参照することができる。
【００５９】
以上のように、本実施形態の光学調整方法は、調整の容易性、安定性、汎用性に優れ、例えば露光装置に適した様々なタイプの反射屈折型の投影光学系に対して広く適用が可能である。したがって、本実施形態では、容易性、安定性、汎用性に優れた光学調整方法を用いて高精度に光学調整された高性能な反射屈折型の投影光学系を実現することができる。その結果、本実施形態の露光装置および露光方法では、高精度に光学調整された高性能な反射屈折型の投影光学系を介して、高解像で高精度な投影露光を行うことができる。
【００６０】
上述の実施形態の露光装置では、照明装置によってレチクル（マスク）を照明し（照明工程）、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを感光性基板に露光する（露光工程）ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等）を製造することができる。以下、本実施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例につき図１６のフローチャートを参照して説明する。
【００６１】
先ず、図１６のステップ３０１において、１ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次のステップ３０２において、そのｌロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布される。その後、ステップ３０３において、本実施形態の露光装置を用いて、マスク上のパターンの像がその投影光学系を介して、その１ロットのウェハ上の各ショット領域に順次露光転写される。その後、ステップ３０４において、その１ロットのウェハ上のフォトレジストの現像が行われた後、ステップ３０５において、その１ロットのウェハ上でレジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに対応する回路パターンが、各ウェハ上の各ショット領域に形成される。
【００６２】
その後、更に上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。なお、ステップ３０１〜ステップ３０５では、ウェハ上に金属を蒸着し、その金属膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチングの各工程を行っているが、これらの工程に先立って、ウェハ上にシリコンの酸化膜を形成後、そのシリコンの酸化膜上にレジストを塗布、そして露光、現像、エッチング等の各工程を行っても良いことはいうまでもない。
【００６３】
また、本実施形態の露光装置では、プレート（ガラス基板）上に所定のパターン（回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得ることもできる。以下、図１７のフローチャートを参照して、このときの手法の一例につき説明する。図１７において、パターン形成工程４０１では、本実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板（レジストが塗布されたガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィ工程が実行される。この光リソグラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフィルター形成工程４０２へ移行する。
【００６４】
次に、カラーフィルター形成工程４０２では、Ｒ（Red）、Ｇ（Green）、Ｂ（Blue）に対応した３つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、またはＲ、Ｇ、Ｂの３本のストライプのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列されたりしたカラーフィルターを形成する。そして、カラーフィルター形成工程４０２の後に、セル組み立て工程４０３が実行される。セル組み立て工程４０３では、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板、およびカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルター等を用いて液晶パネル（液晶セル）を組み立てる。
【００６５】
セル組み立て工程４０３では、例えば、パターン形成工程４０１にて得られた所定パターンを有する基板とカラーフィルター形成工程４０２にて得られたカラーフィルターとの間に液晶を注入して、液晶パネル（液晶セル）を製造する。その後、モジュール組み立て工程４０４にて、組み立てられた液晶パネル（液晶セル）の表示動作を行わせる電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶表示素子をスループット良く得ることができる。
【００６６】
なお、上述の実施形態では、露光装置に搭載される投影光学系に対して本発明を適用している。しかしながら、これに限定されることなく、第１光軸を有する第１部分光学系と、第２光軸を有する第２部分光学系と、第１部分光学系と第２部分光学系とを光学的に接続する光路偏向部材とを備えた反射屈折型の光学系に対して本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の実施形態にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】本実施形態にかかる投影光学系の構成を概略的に示す図である。
【図３】本実施形態にかかる投影光学系の組立てを概略的に説明する図である。
【図４】本実施形態の光学調整方法における位置情報検出工程を概略的に説明する図である。
【図５】本実施形態の光学調整方法における位置情報検出工程を構成する各工程を示すフローチャートである。
【図６】本実施形態の光学調整方法における角度情報検出工程を概略的に説明する図である。
【図７】本実施形態の光学調整方法における角度情報検出工程を構成する各工程を示すフローチャートである。
【図８】本実施形態の光学調整方法にしたがう投影光学系の組立て調整を概略的に説明する図である。
【図９】光路折り曲げ鏡の支持部材の芯出しを概略的に説明する図である。
【図１０】光路折り曲げ鏡の稜線位置の計測を概略的に説明する図である。
【図１１】光路折り曲げ鏡のコア鏡筒の内部空間への組込みを概略的に説明する図である。
【図１２】本発明の光学調整方法を適用可能な第１のタイプの反射屈折型光学系の構成を概略的に示す図である。
【図１３】本発明の光学調整方法を適用可能な第２のタイプの反射屈折型光学系の構成を概略的に示す図である。
【図１４】本発明の光学調整方法を適用可能な第３のタイプの反射屈折型光学系の構成を概略的に示す図である。
【図１５】本発明の光学調整方法を適用可能な第４のタイプの反射屈折型光学系の構成を概略的に示す図である。
【図１６】マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法のフローチャートである。
【図１７】マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得る際の手法のフローチャートである。
【符号の説明】
【００６８】
ＬＳ  光源
ＩＬ  照明光学系
Ｒ  レチクル
ＲＳ  レチクルステージ
ＰＬ  投影光学系
Ｗ  ウェハ
ＷＳ  ウェハステージ
ＡＸ  光軸
ＣＭ  凹面反射鏡
Ｌｉ  レンズ成分
Ｇ１〜Ｇ３  結像光学系
ＳＰ１〜ＳＰ４  基準位置
ＣＣ  コア鏡筒
８０，８２  間隔環
８１，８３  くさび環
【図１】
2005062583.tif 000003
【図２】
2005062583.tif 000004
【図３】
2005062583.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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