(57)【要約】【課題】  本発明は、光の反射を抑制する反射防止機能を有することにより全光線透過率が高く、かつガスバリア性の高い反射防止ガスバリア性基板を提供することを主目的とするものである。【解決手段】  上記目的を達成するために、本発明は、基材と、上記基材上に形成された第１無機膜と、上記第１無機膜上に形成された有機膜と、上記有機膜上に形成された第２無機膜とを有しており、可視光領域における視感反射率が２０％以下、全光線透過率が８０％以上、酸素透過率が０．５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下、水蒸気透過率が０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする反射防止ガスバリア性基板を提供する。【選択図】      無し【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上に形成された第１無機膜と、前記第１無機膜上に形成された有機膜と、前記有機膜上に形成された第２無機膜とを有しており、可視光領域における視感反射率が２０％以下、全光線透過率が８０％以上、酸素透過率が０．５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下、水蒸気透過率が０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする反射防止ガスバリア性基板。
【請求項２】
前記第１無機膜の光学的膜厚（膜厚×屈折率）が１４０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であり、前記第２無機膜の光学的膜厚（膜厚×屈折率）が１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止ガスバリア性基板。
【請求項３】
前記第１無機膜の膜厚が８０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であり、前記第２無機膜の膜厚が１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項２に記載の反射防止ガスバリア性基板。
【請求項４】
前記第１無機膜および前記第２無機膜の屈折率が、１．２〜２．０の範囲内であることを特徴とする請求項２に記載の反射防止ガスバリア性基板。
【請求項５】
前記第１無機膜および前記第２無機膜が、酸化ケイ素膜または酸化窒化ケイ素膜であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかの請求項に記載の反射防止ガスバリア性基板。
【請求項６】
前記有機膜が、カルドポリマーを有することを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかの請求項に記載の反射防止ガスバリア性基板。
【請求項７】
前記有機膜上に、蒸着膜および前記有機膜が、この順序で２層〜６層の範囲内で積層されており、最上層が前記第２無機膜であることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの請求項に記載の反射防止ガスバリア性基板。
【請求項８】
前記基材における、前記第１無機膜が形成された面と反対側の面に、前記基材にかかる応力を緩和する応力緩和層が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれかの請求項に記載の反射防止ガスバリア性基板。
【請求項９】
請求項１から請求項８までのいずれかの請求項に記載の反射防止ガスバリア性基板を用いることを特徴とするディスプレイ用基板。
【請求項１０】
請求項８に記載の反射防止ガスバリア性基板における応力緩和層が、透明導電層であることを特徴とする請求項９に記載のディスプレイ用基板。
【請求項１１】
請求項９または請求項１０に記載のディスプレイ用基板を有することを特徴とする液晶表示素子。
【請求項１２】
請求項９または請求項１０に記載のディスプレイ用基板を有することを特徴とする有機ＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば有機ＥＬ素子や液晶表示素子等のディスプレイ用基板に用いられる、ガスバリア性が高く、反射防止機能を有する反射防止ガスバリア性基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報の多様化が進んでいる中で、情報分野における表示装置には、高輝度、高コントラスト、高い発光効率、高解像度、広視野角性、微細化、カラー化、軽さ、薄さ等の、表示装置として優れた特徴が求められ、さらに低消費電力・高速応答へ向けて活発な開発が進められている。特に、高精細なフルカラー表示装置の考案が広くなされている。
【０００３】
このようなカラー表示装置として実用化する上で重要なことは、精細なカラー表示機能を有することとともに、長期安定性を有することである。しかし、表示装置の中には、一定期間駆動すると、電流−輝度特性等の発光特性が著しく低下するという欠点を有するものがある。
【０００４】
この発光特性の低下原因の代表的なものは、ダークスポットと呼ばれる発光欠陥点の成長である。このダークスポットは、表示装置中の酸素あるいは水分による表示装置の積層構成材料の酸化あるいは凝集に起因するものと考えられている。ダークスポットの成長は、通電中（駆動中）はもちろん、保存中にも進行し、極端な場合には発光面全体に広がる。その成長は、特に、（１）表示装置の周囲に存在する酸素あるいは水分により加速され、（２）有機積層膜中に吸着物として存在する酸素あるいは水分に影響され、および（３）表示装置製造時に用いる部品に吸着している水分、もしくは製造時等における水分の浸入にも影響されると考えられている。
【０００５】
この水分の表示装置への浸入を防止する手法として、例えば有機ＥＬ素子の作製方法として、有機ＥＬ層上に、絶縁性の無機酸化膜層を設けることが開示されている（特許文献１）。また、有機ＥＬ層上に、オーバーコート層および絶縁性の無機酸化膜層を設けることが開示されている（特許文献２）。上記無機酸化膜層には、有機ＥＬ素子の寿命を維持するための高い防湿性が要求され、ＪＩＳ  Ｋ７１２６の気体透過度試験方法により測定される、無機酸化膜層における水蒸気または酸素のガス透過係数は、それぞれ１０−１３ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ以下であることが望ましいとされている。
【０００６】
また、特許文献３、特許文献４に示されるように、カラーフィルタの作製方法として、カラーフィルタ層上に形成した樹脂保護層に対して、ＤＣスパッタリングによりＳｉＯＸ、ＳｉＮＸを形成する方法があり、この方法は透明導電膜の密着性を向上させる効果がある。また、低融点ガラスを焼結する方法が知られている（特許文献５）。この他に、有機ＥＬ素子を外気から遮断する封止方法として、ＣＶＤ法によりＳｉＮＸ膜を形成する方法が知られている（特許文献６）。
【０００７】
しかしながら、上記いずれの文献に記載された発明においても、有機ＥＬ素子等の表示装置の劣化を防ぐ防湿性、ガスバリア性としては十分とは言い難いといえる。
【０００８】
そこで、有機ＥＬ層上に無機層と有機層とを交互に積層したガスバリア膜が開示されている（例えば特許文献７、特許文献８、特許文献９参照）。このようなガスバリア膜は、例えば無機層と有機層と無機層とで構成される３層からなる積層体とした場合、有機ＥＬ層上に形成された１層目の無機層中のピンホールが、その上に有機層を形成することにより埋められ、さらにその有機層上に無機層を形成することにより、酸素や水分等の浸入を妨げることができる。
【０００９】
また、従来では有機ＥＬ素子や液晶表示素子等の表示素子の支持基板として、ガラス基板を用いたものが知られているが、ガラス基板は重くて硬く、割れやすいという欠点を有している。そこで、特許文献１０には、表示素子の大型化、軽量化、耐衝撃性向上の観点より、ガラス基板に代えてプラスチック基板の使用が開示されている。しかしながら、プラスチック基板は軽く、フレキシブルで割れにくい反面、ガラス基板と比較してガスバリア性が悪く、長時間表示素子の性能を維持させることは困難であった。
【００１０】
一方、プラスチック基板のガスバリア性を高めるには、上記ガスバリア膜における無機層と有機層とを積層すればよいが、これらの層を何層も積層すると光の反射が大きくなり、透過率が低下するため、表示素子の輝度が低下するという問題があった。
【００１１】
そこで、特許文献１１には、無機層と有機層とが交互に積層されたガスバリア膜であって、無機層の膜厚を設計波長λに対してλ／２またはλ／４とすることにより、無機層と有機層との界面の反射を防止し、ガスバリア膜の透過率が低減するのを抑制する方法が開示されている。しかしながら、ガスバリア膜のガスバリア性については述べられていない。
【００１２】
【特許文献１】特開平８−２７９３９４号公報
【特許文献２】特開２００２−３１８５４３号公報
【特許文献３】特開平７−１４６４８０号公報
【特許文献４】特開平１０−１０５１８号公報
【特許文献５】特開２０００−２１４３１８号公報
【特許文献６】特開２０００−２２３２６４号公報
【特許文献７】特開２００３−５３８７３号公報
【特許文献８】特開２００２−１００４６９号公報
【特許文献９】特開２００２−１８９９４号公報
【特許文献１０】特開２００１−１５０５８４号公報
【特許文献１１】特開２００２−４０２０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、光の反射を抑制する反射防止機能を有することにより全光線透過率が高く、かつガスバリア性の高い反射防止ガスバリア性基板を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明は、基材と、上記基材上に形成された第１無機膜と、上記第１無機膜上に形成された有機膜と、上記有機膜上に形成された第２無機膜とを有しており、可視光領域における視感反射率が２０％以下、全光線透過率が８０％以上、酸素透過率が０．５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下、水蒸気透過率が０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とする反射防止ガスバリア性基板を提供する。
【００１５】
本発明の反射防止ガスバリア性基板における視感反射率、全光線透過率、酸素透過率および水蒸気透過率が、上述した範囲であることにより、本発明の反射防止ガスバリア性基板を例えば有機ＥＬ素子に用いた場合、視感反射率が低いことから明度が高く、かつガスバリア性が良好であることからダークスポット等の欠陥がない、良好な画像表示を得ることが可能となる。
【００１６】
本発明においては、上記第１無機膜の光学的膜厚（膜厚×屈折率）が１４０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であり、上記第２無機膜の光学的膜厚（膜厚×屈折率）が１０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。第１無機膜および第２無機膜の光学的膜厚（膜厚×屈折率）が、上記範囲内であることにより、反射防止ガスバリア性基板における反射を抑制することができ、全光線透過率が低下することを抑制できるからである。
【００１７】
また、上記発明においては、上記第１無機膜の膜厚が８０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であり、上記第２無機膜の膜厚が１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。さらに、上記第１無機膜および上記第２無機膜の屈折率が、１．２〜２．０の範囲内であることが好ましい。この場合も同様に、第１無機膜および第２無機膜の膜厚および屈折率が、上記範囲内であることにより、反射防止ガスバリア性基板における反射を抑制することができ、全光線透過率が低下することを抑制できるからである。
【００１８】
さらに、本発明においては、上記第１無機膜および上記第２無機膜が、酸化ケイ素膜または酸化窒化ケイ素膜であることが好ましい。酸化ケイ素膜および酸化窒化ケイ素膜は、有機膜との密着性が良好であることから、酸化ケイ素膜または酸化窒化ケイ素膜にピンホールがある場合でも、有機膜がピンホールを効果的に埋めることができ、ガスバリア性を高くすることができるからである。
【００１９】
また、本発明においては、上記有機膜が、カルドポリマーを有することが好ましい。有機膜がカルドポリマーを有することにより、無機膜との密着性が良好となり、ガスバリア性を高くすることができるからである。
【００２０】
さらに、本発明においては、上記有機膜上に、蒸着膜および上記有機膜が、この順序で２層〜６層の範囲内で積層されており、最上層が上記第２無機膜であってもよい。
【００２１】
また、本発明においては、上記基材における、上記第１無機膜が形成された面と反対側の面に、上記基材にかかる応力を緩和する応力緩和層が形成されていることが好ましい。これにより、上記第１無機膜、有機膜および第２無機膜が形成された際に発生する応力を低減させることができ、反射防止ガスバリア性基板に反りが発生することを防止することができるからである。
【００２２】
本発明は、また、上記反射防止ガスバリア性基板を用いることを特徴とするディスプレイ用基板を提供する。本発明によれば、上記反射防止ガスバリア性基板を用いることにより、反射防止機能を有することから全光線透過率が高く、かつガスバリア性の高いディスプレイ用基板とすることができ、様々な用途に用いることが可能となる。
【００２３】
また、上記発明においては、上記反射防止ガスバリア性基板における応力緩和層が、透明導電層であることが好ましい。応力緩和層として透明導電層を形成することにより、層構成を簡略化することができ、効率的にディスプレイ用基板を製造することができるからである。
【００２４】
また、本発明は、上記ディスプレイ用基板を有することを特徴とする液晶表示素子を提供する。本発明によれば、上記ディスプレイ用基板を有することにより、経時でも酸素や水蒸気等の影響を受けないことから表示品質が低下することがなく、かつ反射防止機能を有することから高輝度の画像表示が得られる液晶表示素子とすることができる。
【００２５】
さらに、本発明は、上記ディスプレイ用基板を有することを特徴とする有機ＥＬ素子を提供する。本発明によれば、上記ディスプレイ用基板を有することにより、経時でも酸素や水蒸気等の影響を受けないことからダークスポット等の欠陥がなく、また反射防止機能を有することから高輝度の画像表示が得られる有機ＥＬ素子とすることができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、反射防止ガスバリア性基板が、優れた反射防止特性およびガスバリア性を有することにより、本発明の反射防止ガスバリア性基板を例えば有機ＥＬ素子に用いた場合、ダークスポット等の欠陥がなく、高輝度の画像表示が得られる高品質な有機ＥＬ素子とすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本発明は、反射防止ガスバリア性基板、それを用いたディスプレイ用基板、液晶表示素子および有機ＥＬ素子を含むものである。以下、それぞれについて詳細に説明する。
【００２８】
Ａ．反射防止ガスバリア性基板
まず、本発明の反射防止ガスバリア性基板について説明する。
【００２９】
本発明の反射防止ガスバリア性基板は、基材と、上記基材上に形成された第１無機膜と、上記第１無機膜上に形成された有機膜と、上記有機膜上に形成された第２無機膜とを有しており、可視光領域における視感反射率が２０％以下、全光線透過率が８０％以上、酸素透過率が０．５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下、水蒸気透過率が０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることを特徴とするものである。
【００３０】
本発明の反射防止ガスバリア性基板について図面を用いて説明する。図１は、本発明の反射防止ガスバリア性基板の一例を示すものである。図１に示すように、本発明の反射防止ガスバリア性基板は、基材１と、上記基材１上に形成された第１無機膜２と、上記第１無機膜２上に形成された有機膜３と、上記有機膜３上に形成された第２無機膜４とを有するものである。
【００３１】
本発明によれば、第１無機膜、有機膜および第２無機膜が順次積層されていることにより、第１無機膜にピンホールが存在する場合でも、第１無機膜上に有機膜を形成することによりこのピンホールが埋められ、さらにその有機膜上に第２無機膜を形成することにより、第１無機膜から第２無機膜表面まで貫通するピンホールの発生を抑制することができ、酸素や水蒸気等の浸入を妨げることが可能となる。
【００３２】
また、ガスバリア性を高めるために何層も積層することにより、各層の界面において光の反射が起こるため、光の透過率が低下するという不具合が生じていたが、本発明においては、可視光領域における視感反射率が上述した範囲であることにより、反射防止ガスバリア性基板における光の反射を抑制し、全光線透過率が低減することを抑制することができる。
【００３３】
したがって、本発明の反射防止ガスバリア性基板を用いて例えば有機ＥＬ素子とした場合、ガスバリア性が高いことからダークスポット等の欠陥がなく、かつ視感反射率が低いことから高輝度の画像表示を得ることが可能となる。
【００３４】
本発明においては、反射防止ガスバリア性基板の可視光領域における視感反射率が、２０％以下、中でも１５％以下、特に１０％以下であることが好ましい。本発明の反射防止ガスバリア性基板の視感反射率が上述した範囲であることにより、反射防止ガスバリア性基板における光の反射を抑制することができ、全光線透過率の低下を抑制することができるため、本発明の反射防止ガスバリア性基板を例えば有機ＥＬ素子に用いた場合、高輝度の画像表示を得ることが可能となるからである。
【００３５】
また、本発明においては、反射防止ガスバリア性基板の可視光領域における全光線透過率が、８０％以上、中でも８５％以上であることが好ましい。本発明の反射防止ガスバリア性基板の全光線透過率が、上述した範囲であることにより、本発明の反射防止ガスバリア性基板を例えば有機ＥＬ素子に用いた場合、高輝度の画像表示を得ることが可能となるからである。
【００３６】
なお、上記視感反射率および上記全光線透過率は、波長３８０ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内において、島津製作所（株）社製  ＵＶ−３１００を用いて測定した値の平均値である。
【００３７】
本発明においては、反射防止ガスバリア性基板における酸素透過率が、０．５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下、中でも０．１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下、特に０．０５ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、水蒸気透過率が、０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、中でも０．１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、特に０．０５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましい。本発明の反射防止ガスバリア性基板の酸素透過率および水蒸気透過率が、上述した範囲内であることにより、ガスバリア性の高いものとすることができ、酸素や水蒸気等に弱い部材を有する、例えば液晶表示素子や有機ＥＬ素子等の支持基板等に用いることも可能とすることができるからである。
【００３８】
ここで、上記酸素透過率は、測定温度２３℃、湿度９０％Ｒｈの条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ  ２／２０：商品名）を用いて測定した値であり、上記水蒸気透過率は、測定温度３７．８℃、湿度１００％Ｒｈの条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ  ３／３１：商品名）を用いて測定した値である。
【００３９】
以下、このような反射防止ガスバリア性基板の各構成について説明する。
【００４０】
１．基材
まず、本発明の反射防止ガスバリア性基板に用いられる基材について説明する。本発明に用いられる基材は、基材上に後述する第１無機膜が形成可能であれば、特に限定されるものではないが、本発明においては、可視光に対して透明である透明基材であることが好ましい。これにより、本発明の反射防止ガスバリア性基板を、例えばディスプレイ用基板等に用いることも可能となるからである。本発明において、このような透明基材として、例えばガラス板や、有機材料で形成されたフィルム状やシート状のもの等を用いることができる。
【００４１】
本発明における透明基材としてガラス板が用いられる場合には、可視光に対して透過性の高いものであれば、特に限定されるものではなく、例えば未加工のガラス板であってもよく、また加工されたガラス板等であってもよい。このようなガラス板として、アルカリガラスおよび無アルカリガラスのどちらも使用可能であるが、本発明の反射防止ガスバリア性基板において、不純物が問題とされる場合には、例えばパイレックス（登録商標）ガラス等の無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、加工されたガラス板の種類は、本発明の反射防止ガスバリア性基板の用途に応じて適宜選択されるものであり、例えば透明ガラス基板に塗布加工をしたものや、段差加工を施したもの等が挙げられる。
【００４２】
このようなガラス板の膜厚は３０μｍ〜２ｍｍの範囲内であることが好ましく、中でもフレキシブル基板として使用する場合には、３０μｍ〜１ｍｍの範囲内、特に３０μｍ〜０．５ｍｍの範囲内であることが好ましく、リジッドな基板として使用する場合には６０μｍ〜２ｍｍの範囲内であることが好ましい。
【００４３】
また、本発明における透明基材として用いられる有機材料としては、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、結晶化ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ＵＶ硬化型メタクリル樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。
【００４４】
ここで、本発明においては、反射防止ガスバリア性基板が、例えば液晶表示素子や有機ＥＬ素子等に用いられる場合には、耐熱性を有することが好ましく、このような耐熱性を有する有機材料としては、例えばシクロアルキル骨格を有した極性高分子が挙げられる。具体的には、シクロアルキル骨格を有したアクリレート化合物もしくはメタアクリレート化合物およびその誘導体等を挙げることができる。中でも、特開平１１−２２２５０８号公報に示されるようなシクロアルキル骨格を有した（メタ）アクリレート化合物（本発明において、アクリレート化合物もしくはメタアクリレート化合物を意味する。）およびその誘導体を含む樹脂組成のものを挙げることができる。
【００４５】
またこの際、耐熱性を有する有機材料においては、ガラス転移点（Ｔｇ）を示さず、室温から１５０℃の範囲内において、線膨張係数が８０ｐｐｍ以下であり、全光線透過率が８５％以上であることが好ましい。上記線膨張係数が上記範囲を超えると、高温で基材寸法が安定せず、熱膨張および収縮に伴い、バリア性能が劣化する不都合や、あるいは熱工程に耐えられないという不具合が生じやすくなるからである。よって、液晶表示素子や有機ＥＬ素子等を作製する際に２００℃程度の工程に曝される場合があるが、基材が上述したような特性を有することにより、本発明の反射防止ガスバリア性基板を用いて、安定的に液晶表示素子や有機ＥＬ素子等を作製できる。
【００４６】
ここで、線膨張係数とは、幅５ｍｍ、長さ２０ｍｍのサンプルを用い、長さ方向に一定荷重（２ｇ）をかけ、２５〜２００℃までの温度範囲を昇温速度で５℃／分で測定される寸法変動量をいうこととする。また、上記全光線透過率は、日本電色工業社製  全光線透過率測定装置を用いて、全光線透過率の試験方法  ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１により測定した値である。
【００４７】
また、本発明に用いられる基材は、上述した有機材料と、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエーテルスルフォン系樹脂等と２種以上併せて用いることができる。
【００４８】
本発明において、上記のような有機材料を用いて基材を形成する方法は、例えば上記の各種の樹脂の１種ないしはそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレーション法、その他の成膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で成膜化する方法、あるいは、２種類以上の各種の樹脂を使用して、多層共押し出し成膜化する方法、さらには、２種類以上の樹脂を使用し、成膜化する前に混合して成膜化する方法等が挙げられる。また、これらの成膜化法により、各層の樹脂のフィルムないしシートを製造し、さらに加えて、延伸を要する場合には、例えばテンター方式、あるいはチューブラー方式等を利用して、１軸ないし２軸方向に延伸してなる各種の樹脂のフィルム、ないしシートを使用することができる。また、上記の各種樹脂のフィルム、ないしシートを貼り合わせて使用することもできる。
【００４９】
また、上記の各種の樹脂の１種ないしそれ以上を使用し、その成膜化に際して例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度等を改良、改質する目的で種々のプラスチック配合剤や、添加剤を添加することができる。その添加量としては、微量から数１０％まで、目的に応じて任意に添加できる。上記において、一般的な添加剤としては、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料等を使用することができる。また、改良用樹脂等も使用できる。
【００５０】
本発明においては、上記のような有機材料を用いて基材とする場合には、１０μｍ〜５００μｍの範囲内、中でも５０〜４００μｍの範囲内、特に１００〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が上記範囲内より厚い場合は、本発明の反射防止ガスバリア性基板を加工する際に耐衝撃性が劣ることや、巻き取り時に巻き取りが困難となり、水蒸気や酸素等に対するガスバリア性の劣化が見られること等があるからである。また、膜厚が上記範囲内より薄い場合には、機械適性が悪く、水蒸気や酸素等に対するガスバリア性の低下が見られるからである。
【００５１】
また、本発明においては、上述した耐熱性を有しない材料を基材として用いる場合や、ガラス板を用いる場合等には、その基材上に、耐熱性を有する透明樹脂層を形成することが好ましい。さらに、このような耐熱性を有する透明樹脂層としては、ガラス転移点（Ｔｇ）を示さず、室温から１５０℃までの範囲内における線膨張係数が８０ｐｐｍ以下であり、全光線透過率が８５％以上であることが好ましい。これにより、基材に耐熱性を付与することが可能となるからである。
【００５２】
このような透明樹脂層としては、上述した耐熱性を有する有機材料であるシクロアルキル骨格を有した極性高分子であることが好ましい。このような材料として、具体的には、極性を有する（メタ）アクリレート化合物またはその誘導体であることが好ましく、例えば、（メタ）アクリル酸メチル単独重合体または、（メタ）アクリル酸メチルと他の共重合可能なビニル基を持つ単量体の混合物を重合して得られる共重合体が挙げられる（本発明において（メタ）アクリルとは、アクリルまたはメタアクリルを意味する。）。上記（メタ）アクリル酸メチルと共重合可能な単量体としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２,２,２−トリフルオロエチルアクリレート等のアクリル酸エステル類、エチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、２,２,２−トリフルオロエチルメタクリレート等のメタクリル酸エステル類、アクリロニトリル、スチレン等のビニル化合物、無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物、シクロヘキシルマレイミド、フェニルマレイミド等のマレイミド化合物等が挙げられる。
【００５３】
本発明において、上記透明樹脂層は、上記樹脂と、必要に応じて重合開始剤や多官能アクリレートモノマー等の添加剤と混合し、上記透明基材またはガラス基板に塗布後、紫外線照射により硬化させて形成することができる。
【００５４】
このような透明樹脂層の膜厚は、５ｎｍ〜１００μｍであることが望ましく、上述した基材の膜厚を１とした場合に、透明樹脂層の膜厚が０．００００１〜１の範囲内であることが好ましい。
【００５５】
また、本発明の反射防止ガスバリア性基板を、液晶表示素子や有機ＥＬ素子等に用いるディスプレイ用基板として使用する場合は、基材の耐熱性は、１５０℃以上、中でも２００℃以上、特には２５０℃以上を実現することが好ましい。
【００５６】
２．第１無機膜
次に、本発明に用いられる第１無機膜について説明する。本発明において、第１無機膜は、上記基材上に形成されるものであり、反射防止ガスバリア性基板における光の反射を抑制するような膜厚および屈折率を有するものである。本発明においては、第１無機膜および後述する第２無機膜の膜厚および屈折率を制御することにより、反射防止ガスバリア性基板における光の反射を抑制することができ、上記基材上に第１無機膜、有機膜および第２無機膜を積層することによる全光線透過率の低減を抑制することが可能となる。したがって、本発明の反射防止ガスバリア性基板を用いて例えば有機ＥＬ素子とした際に、全光線透過率が高く、高輝度の画像表示を得ることが可能となる。
【００５７】
本発明においては、第１無機膜の光学的膜厚（膜厚×屈折率）は、１４０ｎｍ〜１０００ｎｍ、中でも１４０ｎｍ〜５００ｎｍ、特に１５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記第１無機膜の光学的膜厚（膜厚×屈折率）が、上述した範囲内であることにより、反射防止ガスバリア性基板における反射を抑制することができ、全光線透過率が低下することを抑制することができるからである。
【００５８】
なお、本発明において、光学的膜厚とは、膜厚と屈折率とをかけた値を意味するものである。例えば、反射防止ガスバリア性基板における反射を抑制するような光学的膜厚とする場合、屈折率が低い材料を用いれば膜厚は厚くなり、屈折率が高い材料を用いれば膜厚は薄くなる。
【００５９】
ここで、上記第１無機膜の膜厚および屈折率は、ＪＯＢＩＮ  ＹＶＯＮ社製  分光エリプソメーター（型番：ＵＶＩＳＥＬ）を用いて測定した値とする。
【００６０】
また、本発明においては、上記第１無機膜の光学的膜厚（膜厚×屈折率）が、反射防止ガスバリア性基板に入射する光の波長λに対して、λ／４以上、中でもλ／３以上であることが好ましい。上記第１無機膜の光学的膜厚（膜厚×屈折率）が、上記範囲であることにより、反射防止ガスバリア性基板における反射を効果的に抑制することができ、全光線透過率が低下することを抑制することができるからである。
【００６１】
さらに、本発明においては、上記第１無機膜の膜厚が、８０ｎｍ〜５００ｎｍ、中でも８０ｎｍ〜３００ｎｍ、特に８０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記第１無機膜の膜厚が、上述した範囲内であることにより、反射防止ガスバリア性基板における反射を抑制することができ、全光線透過率が低下することを抑制することができるからである。また、上記第１無機膜の膜厚が上述した範囲より薄いと、水蒸気や酸素等に対するガスバリア性が低下する可能性があるからであり、上記第１無機膜の膜厚が上述した範囲よりも厚い場合には、例えば本発明の反射防止ガスバリア性基板を作製する際に、クラック等が入る可能性があり、これにより水蒸気、酸素ガス等に対するガスバリア性の劣化が見られるからである。
【００６２】
また、上記第１無機膜の屈折率は、１．２〜２．０、中でも１．７〜２．０、特に１．８〜２．０の範囲内であることが好ましい。本発明においては、上述したように第１無機膜の膜厚および屈折率を制御することにより、反射防止ガスバリア性基板における光の反射を効果的に抑制することができるからである。
【００６３】
本発明に用いられる第１無機膜は、上述したように、外からの写り込みを防ぎ、光の反射を防止する作用があり、さらに水蒸気や酸素の透過を遮断する作用もあるものである。よって、第１無機膜としては、電気絶縁性を有し、ガスおよび有機溶剤に対するバリア性を有し、可視光領域における透明性が高いことが好ましい。具体的な透明性としては、可視光領域における全光線透過率が８０％以上、中でも８５％以上であることが好ましい。これにより、本発明の反射防止ガスバリア性基板を有機ＥＬ素子に用いた場合、明度の高い画像表示を得ることができるからである。ここで、上記全光線透過率は、日本電色工業社製  全光線透過率測定装置を用いて、全光線透過率の試験方法  ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１により測定した値である。
【００６４】
このような第１無機膜は、上述したような性質を有するものであれば、その材料は特に限定されるものではないが、透明無機酸化膜、透明無機酸化窒化膜、透明無機窒化膜または透明金属膜のいずれか１種または２種以上を組み合わせたものを使用することが好ましい。また、第１無機膜に含まれる金属としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムであることが好ましく、１種または２種以上を含んでいてもよい。上記透明無機酸化膜としては、酸化ケイ素膜、酸化窒化ケイ素膜、酸化アルミニウム膜、酸化マグネシウム膜、酸化チタン膜、酸化スズ膜、酸化インジウム合金膜であることが好ましい。また、上記透明無機窒化膜としては、窒化ケイ素膜、窒化アルミニウム膜、窒化チタン膜であることが好ましい。さらに、透明金属膜としては、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜であることが好ましい。
【００６５】
本発明においては、上記の材料の中でも、酸化ケイ素膜または酸化窒化ケイ素膜であることが特に好ましい。これらの膜は、後述する有機膜との密着性が良好であるからである。
【００６６】
また、本発明においては、ガスバリア性を向上させるために、上記の無機膜を複数層積層してもよく、その組み合わせは同種、異種を問わない。
【００６７】
上記第１無機膜の形成は、蒸着法により行われるものであれば、特に限定されるものではない。具体的には、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物または金属を原料として用い、加熱して基材上に蒸着させる真空蒸着法；無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物または金属を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、基材上に蒸着させる酸化反応蒸着法；無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物または金属をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、基材に蒸着させるスパッタリング法；無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物または金属にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、基材上に蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）や、酸化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）等が挙げられる。
【００６８】
また、本発明においては、上述したように、第１無機膜が酸化ケイ素膜または酸化窒化ケイ素膜であることが好ましく、このような酸化ケイ素膜は、有機ケイ素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を用いて形成することができる。この有機ケイ素化合物として、具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。
【００６９】
３．第２無機膜
次に、本発明に用いられる第２無機膜について説明する。本発明において、第２無機膜は、後述する有機膜上に形成されるものであり、反射防止ガスバリア性基板における光の反射を抑制するような膜厚および屈折率を有するものである。本発明においては、上述したように、第１無機膜および第２無機膜の膜厚および屈折率を制御することにより、反射防止ガスバリア性基板における光の反射を抑制することができ、全光線透過率の低減を抑制することが可能となる。したがって、本発明の反射防止ガスバリア性基板を用いて例えば有機ＥＬ素子とした際に、全光線透過率が高く、高輝度の画像表示を得ることが可能となる。
【００７０】
本発明においては、第２無機膜の光学的膜厚（膜厚×屈折率）は、１０ｎｍ〜１０００ｎｍ、中でも１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記第２無機膜の膜厚および屈折率が、上述した範囲内であることにより、反射防止ガスバリア性基板における反射を抑制することができ、全光線透過率が低下することを抑制することができるからである。
【００７１】
また、本発明においては、上記第２無機膜の膜厚が、１０ｎｍ〜５００ｎｍ、中でも１０ｎｍ〜３００ｎｍ、特に１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記第２無機膜の膜厚が、上述した範囲内であることにより、反射防止ガスバリア性基板における反射を抑制することができ、全光線透過率が低下することを抑制することができるからである。また、上記第２無機膜の膜厚が上述した範囲よりも薄いと、水蒸気や酸素等に対するガスバリア性が低下する可能性があるからであり、上記第２無機膜の膜厚が上述した範囲よりも厚い場合には、例えば本発明の反射防止ガスバリア性基板を作製する際に、クラック等が入る可能性があり、これにより水蒸気、酸素ガス等に対するガスバリア性の劣化が見られるからである。
【００７２】
このような第２無機膜としては、上記第１無機膜と同様に、外からの写り込みを防ぎ、光の反射を防止する作用があり、さらに水蒸気や酸素の透過を遮断する作用もあるものである。よって、上記第１無機膜の欄に記載したように、ガスバリア性および可視光に対する透明性が高いことが好ましい。また、本発明の反射防止ガスバリア性基板をディスプレイ用基板に用いる際に、第２無機膜上に透明導電層が形成される場合があるが、このような場合には、上記第２無機膜は、透明導電層の形成の際に加わる力に耐えうるような硬度を有することが好ましい。具体的には、鉛筆硬度試験  ＪＩＳ  Ｋ５４００で２Ｈ以上の硬度を有することが好ましい。
【００７３】
なお、第２無機膜のその他の点については、上述した「２．第１無機膜」に記載したものと同様であるので、ここでの記載は省略する。
【００７４】
４．有機膜
次に、本発明に用いられる有機膜について説明する。本発明において、有機膜は、上記第１無機膜と第２無機膜との間に形成されるものであり、有機物を有する膜である。
【００７５】
本発明によれば、上記第１無機膜、有機膜および上記第２無機膜が順次積層されていることにより、第１無機膜にピンホールが存在する場合でも、第１無機膜上に有機膜を形成することによりこのピンホールが埋められ、さらにその有機膜上に第２無機膜を形成することにより、第１無機膜から第２無機膜表面まで貫通するピンホールの発生を抑制することができ、酸素や水蒸気等の浸入を妨げることが可能となる。
【００７６】
このような有機膜としては、第１無機膜および第２無機膜のピンホール等を埋めることができる材料であれば特に限定されるものではなく、第１無機膜および第２無機膜との密着性がよく、平坦な膜を形成できるものであればよい。これにより、有機膜上に第２無機膜を緻密かつ平坦に形成することができ、ガスバリア性の高いものとすることができるからである。
【００７７】
具体的な形成材料としては、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、光熱併用型硬化性樹脂、金属アルコキシド等が挙げられる。
【００７８】
上記熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共重合体樹脂等を使用することができる。これらの熱硬化性樹脂は、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤等を加えて使用する。
【００７９】
また、上記光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂を含む樹脂組成物としては、（ｉ）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる樹脂組成物、（ii）ボリビニルケイ皮酸エステルと増感剤とからなる樹脂組成物、（iii）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる樹脂組成物、および（iv）エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる樹脂組成物などを挙げることができる。特に（ｉ）のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる樹脂組成物が、耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いことから好ましい。上記の樹脂組成物に光および／または熱を作用させることにより、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂が形成される。また、光熱併用型硬化性樹脂を用いる場合には、軟化点を４５℃以上とすることができる点から、平均分子量が３０００以上であることが好ましい。
【００８０】
さらに、上記金属アルコキシドの金属元素としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｎａ等を挙げることができる。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメトキシメチルシラン、ジメチルジエトキシシラン、[2-(3-シクロヘキセニル)エチル]トリメトキシシラン、[2-(3-シクロヘキセニル)エチル]トリエトキシシラン、シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、（3-シクロペンタジエニルプロピル）トリエトキシシラン、シクロペンチルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物；テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム等のジルコニウムアルコキシド化合物；テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシチタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラブトキシチタニウム等のチタンアルコキシド化合物等を挙げることができる。これらの金属アルコキシドは、１種または２種以上を組み合わせて使用することもできる。上記の金属アルコキシドとしては、その取扱性、硬化反応性、経済性、その他等の点から、特に、アルコキシシラン化合物を使用することが好ましい。
【００８１】
また、上記アルコキシシラン化合物には、シランカップリング剤を架橋剤等として添加することができる。シランカップリング剤としては、例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルシリコーンの１種または２種以上を組み合わせて使用することができる。その使用量としては、微量添加するだけでよい。
【００８２】
このような金属アルコキシドは、水またはアルコールの共存下で加水分解反応および縮重合反応を起こし、または、この反応の過程や反応終了後に有機物や触媒を添加し、高分子化して、加熱することにより、非晶質のセラミック質の透明な膜を形成することができる。この金属アルコキシドを用いて形成される膜は、ガスバリア性が高いことから、有機膜として有用である。
【００８３】
また、有機膜の形成材料としては、上記アルコキシシラン化合物以外にも、ヘキサメチルジシロキサン、オクタテトラメチルシラン、シクロペンタシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、2,2,5,5-テトラメチル-2,5-ジシラ-１-オキサシクロペンタン、（シクロヘキセニロキシ）トリメチルシラン、シクロペンタジエニルトリメチルシラン、シクロペンタメチレンジメチルシラン、（シクロペンテニロキシ）トリメチルシラン、シクロテトラメチルジメチルシラン、シクロトリメチレンジメチルシラン等の有機ケイ素化合物を使用することができる。
【００８４】
本発明において、上記有機膜の形成材料としては、中でもカルドポリマーを有するものであることが好ましい。これにより、有機膜と第１無機膜および第２無機膜との密着性をより良好なものとすることができ、第１無機膜および第２無機膜に存在するピンホールをより効果的に埋めることができるからである。また、カルドポリマーを有することにより、平坦性が良好な有機膜が形成されることから、この有機膜上に第２無機膜がより緻密に形成されるため、ガスバリア性を高いものとすることができるからである。
【００８５】
このようなカルドポリマーとしては、例えば、（ｉ）フルオレン骨格を有するエポキシアクリレート樹脂と多塩基酸無水物との付加生成物、（ii）多官能アクリレートモノマー、（iii）重合開始剤および（iv）エポキシ基を１分子中に２つ以上有するエポキシ樹脂を必須成分とするものが挙げられる。
【００８６】
また、本発明に用いられるカルドポリマーは、下記一般式（１）で示されるビスフェノール化合物から誘導されるフルオレン骨格を有する樹脂を含有することが好ましい。
【００８７】
【化１】
2005096108.tif 000002
【００８８】
（Ｒ１およびＲ２は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、またはハロゲン原子であり、互いに同じであってもよく、異なるものであってもよい。）
【００８９】
このような一般式（１）で示されるビスフェノール化合物としては、具体的には、例えば、9,9-ビス（4-ヒドロキシフェニル）フルオレン、9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3-メチルフェニル）フルオレン、9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3-クロロフェニル）フルオレン、9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3-ブロモフェニル）フルオレン、9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3-フルオロフェニル）フルオレン、9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3-メトキシフェニル）フルオレン、9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3,5-ジメチルフェニル）フルオレン、9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3,5-ジクロロフェニル）フルオレン、9,9-ビス（4-ヒドロキシ−3,5-ジブロモフェニル）フルオレン等を挙げることができ、これらはその１種のみを単独で用いることができるほか、２種以上を併用することもできる。
【００９０】
また、本発明において、上記カルドポリマーは、エポキシ基を１分子中に２つ以上もつエポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸とを反応させて得たエポキシ（メタ）アクリレート樹脂と多塩基酸無水物とから誘導されるエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物であることが好ましい。
【００９１】
このようなエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物の形成に用いられるエポキシ樹脂として、具体的には、ビス（4-ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（4-ヒドロキシフェニル）スルホン、2，2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（4-ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（4-ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、9，9-ビス（4-ヒドロキフェニル）フルオレン、ビス（4-ヒドロキシフェニル）ジメチルシラン、4，4´-ビフェノール、テトラメチル-4，4´-ビフェノール等のビスフェノール類、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ナフトールまたはナフタレンジオールと、1,4-ビスキシレノールとの縮合化合物等の多官能フェノール類や、これら芳香環水素の一部または全てがハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基に置換した多官能フェノール類をエピクロロヒドリンと反応させて得られた１分子中にエポキシ基を２つ以上有するものが挙げられる。このエポキシ樹脂をエポキシ樹脂と当量のアクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類を公知の手法により反応させることにより、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂とすることができ、さらに、このエポキシ（メタ）アクリレート樹脂を多塩基酸無水物と反応させることにより、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂と多塩基酸無水物との付加生成物とすることができるのである。
【００９２】
このような付加生成物の形成に用いられる多塩基酸無水物として、具体的には、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水メチルハイミック酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物などの脂環式酸無水物類、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビストリメリテート無水物、グリセロールトリストリメリテート無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物などの芳香族酸無水物類、無水ヘット酸、テトラブロモ無水フタル酸などのハロゲン系酸無水物類等が挙げられる。また、上記エポキシ樹脂、アクリレート、酸無水物類は１種であっても、２種以上の混合物であってもよい。
【００９３】
このようにして得られるエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物の中でも、本発明においては、特開昭60-152091号公報、特開平6-1938号公報、特開平8-146311号公報に見られるように、同一分子内にカルボキシル基と光重合可能な不飽和基とを有する重量平均分子量１０００以上の樹脂が有機膜に含有されることが好ましい。具体的には、フルオレン骨格を持つエポキシアクリレートの酸付加体である新日鐵化学社製V259M、V301Mや、日本化薬社製のクレゾールノボラック型エポキシアクリレートの酸付加体が挙げられる。
【００９４】
また、上記フルオレン骨格を持つエポキシアクリレート樹脂は、9,9-ビス（4-ヒドロキフェニル）フルオレンから得られるエポキシ樹脂とアクリル酸類とを反応させて得られるものが好適に用いられる。
【００９５】
また、本発明に用いられる上記多官能アクリレートモノマーとして、具体的には、常圧において１００℃以上の沸点を有し、かつ、１分子中に少なくとも２つのエチレン性不飽和基を有する付加重合性化合物であるものが挙げられる。このような材料としては、多価アルコールとα，β−不飽和カルボン酸とを結合して得られるもの、例えばジエチレングリコール（メタ）アクリレート（ジアクリレートまたはジメタアクリレートを意味する、以下同じ）、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオール（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレートや相当の多官能メタクリレート、2,2-ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-メタクリロキシペンタエトキシフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパンの混合物〔新中村化学（株）製商品名:BEP-500〕等や、グリシル基含有化合物にアクリル酸やメタクリル酸などのα，β−不飽和カルボン酸を付加して得られるもの、例えばトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジクリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フルオレン環を有するジグリシジルエーテルのアクリル酸付加体（新日鐵化学（株）製商品名:ASF400）等や、不飽和アミド類、例えばメチレンビスアクリロアミド、1,6-ヘキサメチレンビスアクリルアミド等や、ビニルエステル類、例えばジビニルサクシネート、ジビニルアジベート、ジビニルフタレート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−1,3-ジスルホネート等が挙げられる。
【００９６】
ここで、有機膜は、上述したようにカルドポリマーを有するものであれば、その組成は特に限定されるものではない。よって、有機膜が熱硬化性樹脂を有する場合は、重合開始剤として熱重合開始剤が用いられ、有機膜が光硬化性樹脂を有する場合は、重合開始剤として光重合開始剤が用いられる。
【００９７】
このような光重合開始剤としては、公知のものを単独にまたは数種併用することができ、例えば、2-メチル−1-〔4-（メチルチオ）フェニル〕-2-モルフォリノ−プロパン−1-オン（市販品チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア９０７）、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-（4-モルフォリノフェニル）ブタノン-1（市販品チバスペシャリティケミカルズ社製イルガキュア３６９）、ビス（2,4,6-トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド（チバスペシャリティケミカルズ社製商品名ＣＧＩ８１９）、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド（BASF製Lucirin TPO）、2,4-トリクロロメチル-（ピプロロニル）-6-トリアジン（市販品日本シーベルヘグナー社製商品名トリアジンPP）等が使用できる。
【００９８】
また、熱重合開始剤としては、加熱時にラジカルを発生し、カルドポリマーを有する熱硬化性樹脂および多官能アクリレートモノマーの不飽和基を重合させて硬化膜を形成させることが可能であれば、公知のものを用いることができるが、１０時間半減期温度が８０℃以上から硬化温度以下であることが好ましく、１００℃以上から硬化温度であることがより好ましい。
【００９９】
さらに、上記エポキシ基を１分子中に２つ以上有するエポキシ樹脂としては、加水分解性塩素分が１０００ｐｐｍ未満と少ないエポキシ化合物が好ましく、例えば、油化シェル（株）製テトラメチルジフェニル型エポキシ樹脂YX４０００、日本化薬（株）製EOCNシリーズ（EOCN1020, 4400, 102S, 103S, 104Sなど）のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、東都化成（株）製液状３官能エポキシ樹脂ＺＸ−１５４２、エポキシ化合物中の２級ヒドロキシル基にグリシジル基を導入した多官能エポキシ化合物等が挙げられる。このようなエポキシ樹脂は、加熱等によりエポキシ基が、カルドポリマーを含有する樹脂成分中のカルボキシル基と反応し、上記カルドポリマーを含有する樹脂および多官能アクリレートの不飽和基に加えて架橋構造を形成するものである。
【０１００】
また、本発明においては、上述した有機膜の材料に、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤等の添加剤を加えることができる。また、成膜性向上およびピンホールの生成防止等のために、適切な樹脂や添加剤を使用してもよい。さらに、有機膜を形成する際には、ジエチレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、エタノール、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒に溶解または分散させて調製することができる。
【０１０１】
上記有機膜の形成方法としては、特に限定されるものではなく、スピンコーティング法、スプレー法、ブレードコーティング法、ディップ法、ローラーコーター機、ランドコーター機等によるウェットコーティング法、または蒸着法等によるドライコーティング法を用いることができる。
【０１０２】
本発明においては、上記有機膜の膜厚は、０．０５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。この際、上記有機膜がウェットコーティング法により形成される場合には、０．５〜１０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、０．０５μｍ〜５μｍの範囲内、中でも０．０５μｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機膜の膜厚が上述した範囲内であることにより、第１無機膜および第２無機膜との密着性を良好なものとすることが可能となるからである。また、上記有機膜の膜厚が上記範囲より小さい場合、第１無機膜または第２無機膜のピンホールを十分に埋めることができない可能性があり、ガスバリア性が低下するおそれがあるからである。一方、上記有機膜の膜厚が上記範囲内より大きい場合、反射防止ガスバリア性基板の厚みが厚くなり、全光線透過率が低下する可能性があるからである。
【０１０３】
また、上記有機膜の形成材料である樹脂の屈折率は、通常１．３〜１．６であるが、本発明においては、上記有機膜の屈折率としては、上述した第１無機膜および第２無機膜の屈折率に近い値であることが好ましいことから、中でも１．４〜１．６の範囲内であることが好ましい。上記第１無機膜および第２無機膜と有機膜との屈折率差が大きいと、それぞれの膜の界面において光の反射が大きくなり、全光線透過率が低下してしまうおそれがあるからである。
【０１０４】
また、上記有機膜の平坦性としては、表面平均粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以下、特に１ｎｍ以下であることが好ましく、また最大高低差（Ｐ−Ｖ）が５０ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以下であることが好ましい。上記有機膜の表面粗さおよび最大高低差が、上述した範囲内であることにより、上述した第２無機膜を上記有機膜上に形成した場合に、緻密かつ平坦に形成することが可能となり、ガスバリア性の高いものとすることができるからである。また、ガスバリア性は吸着（溶解）および拡散の２つの機構に関連しており、有機膜の表面を平坦にすると、有機膜の表面における吸着（溶解）および拡散が抑制されるからである。さらに、本発明の反射防止ガスバリア性基板を用いて例えば有機ＥＬ素子とする際に、上記第２無機膜上に透明導電層が形成される場合があるが、第２無機膜に凹凸が存在すると、第２無機膜上に形成される透明導電層にもこの凹凸形状が反映されることとなり、厚みの薄い有機ＥＬ素子に静電破壊等による欠陥が発生し易くなる。このような欠陥箇所は不良箇所（ダークエリア）となり、表示品質を低下させる原因となる。よって、上記有機膜の表面粗さおよび最大高低差が、上述した範囲内であることにより、上述したようなダークエリアの発生を抑制することができ、本発明の反射防止ガスバリア膜を用いて有機ＥＬ素子とした場合に、良好な画像表示を得ることが可能となるからである。
【０１０５】
ここで、上記表面粗さおよび最大高低差は、スキャン範囲１００μｍ、スキャン速度９０ｓｅｃ／ｆｒａｍｅの条件下で、原子間顕微鏡（Ｎａｎｏｐｉｃｓ：商品名、セイコーインスツルメンツ社製）を用いて測定した値である。
【０１０６】
本発明においては、上記第１無機膜の形成方法や有機膜の形成材料によっては、第１無機膜と有機膜との密着性やガスバリア性の効果が異なるものとなる。例えば、第１無機膜をイオンプレーティング法により形成した場合、第１無機膜上に有機膜を形成する際に、有機膜に水酸基を有する材料を用いると、この水酸基が加水分解反応を起こすことにより、ガラスライクな酸化度の高い有機膜となり、ガスバリア性が向上すると考えられる。また、第１無機膜をスパッタリング法により形成した場合、第１無機膜上に有機膜を設けることにより、第１無機膜の微細なピンホール等が埋められるため、ガスバリア性が高くなる。さらに、第１無機膜をプラズマ化学気相成長法により形成した場合、第１無機膜上に有機膜を設けることにより、２つの膜の親和性が向上すると考えられる。
【０１０７】
５．その他
（積層構造）
本発明においては、上述した有機膜上に、蒸着膜および上記有機膜が形成されており、最上層が上記第２無機膜であってもよい。例えば図２に示すように、基材１上に第１無機膜２が形成され、上記第１無機膜２上に有機膜３が形成され、上記有機膜３上に蒸着膜５が形成され、上記蒸着膜５上に有機膜３が形成され、上記有機膜３上に第２無機膜４が形成され、最上層が第２無機膜４とされたものであってもよい。
【０１０８】
上記のように有機膜と第２無機膜との間にさらに蒸着膜および有機膜を積層することにより、ガスバリア性が向上するからである。また、本発明においては、基材上に形成する膜の構成において、最下層である第１無機膜、および最上層である第２無機膜の膜厚および屈折率を調整することにより、反射防止ガスバリア性基板における光の反射を抑制することができ、全光線透過率が低下することを抑制することができる。よって、上述したように蒸着膜および有機膜を積層した場合においても、本発明の反射防止ガスバリア性基板を例えば有機ＥＬ素子に用いた場合、ガスバリア性が高いことからダークスポット等の欠陥がなく、かつ光の反射を抑制することから高輝度の良好な画像表示を得ることが可能となる。
【０１０９】
また、上記蒸着膜および有機膜の順序としては、交互に積層されている必要がある。本発明において、第１無機膜または第２無機膜と蒸着膜との間や、２層の蒸着膜の間に有機膜が形成されることより、第１無機膜、第２無機膜および蒸着膜のピンホールを埋めることができ、酸素や水蒸気の浸入を防ぐことができるからである。
【０１１０】
さらに、上記蒸着膜および有機膜の積層数としては、２層〜６層の範囲内であることが好ましい。上記蒸着膜および有機膜が、上記範囲を超えて積層される場合、本発明の反射防止ガスバリア性基板の厚みが厚くなったり、膜の界面が増加してしまうため、光の反射が起こり易くなり、全光線透過率が低下する可能性があるからである。
【０１１１】
このような蒸着膜の形成材料としては、上述した第１無機膜および第２無機膜と同様のものを用いることができる。また、蒸着膜の膜厚としては、第１無機膜および第２無機膜とは異なり、特に限定されるものではないが、通常１０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内とする。上記蒸着膜の膜厚が上述した範囲よりも薄いと、水蒸気や酸素等に対するガスバリア性を向上させるには不十分であり、上記蒸着膜の膜厚が上述した範囲よりも厚い場合には、例えば本発明の反射防止ガスバリア性基板を作製する際に、クラック等が入る可能性があり、これにより水蒸気、酸素ガス等に対するガスバリア性の劣化が見られるからである。
【０１１２】
なお、積層された場合に用いられる有機膜に関しては、上述した有機膜と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１１３】
（応力緩和層）
本発明の反射防止ガスバリア性基板は、上記基材における、上記第１無機膜が形成された面と反対側の面に、上記基材にかかる応力を緩和する応力緩和層が形成されていることが好ましい。例えば図３に示すように、基材１上に第１無機膜２、有機膜３および第２無機膜４が順次形成されており、基材１の第１無機膜２が形成されている面と反対側の面に応力緩和層６が形成されているものである。これにより、上記第１無機膜、有機膜および第２無機膜が形成された際に発生する応力を低減させることができ、反射防止ガスバリア性基板に反りが発生することを防止することができるからである。
【０１１４】
このような応力緩和層としては、応力を緩和することが可能な層であれば、特に限定されるものではないが、本発明においては、蒸着法により形成することが好ましい。蒸着法に用いられる材料としては、例えば上述した第１無機膜や第２無機膜に記載したものを用いることができる。これにより、反射防止ガスバリア性基板の第１無機膜等が形成されている面の反対側の面にもガスバリア性を付与することができるため、さらにガスバリア性の高い反射防止ガスバリア性基板とすることができるからである。またこの際、応力緩和層は１層に限定されず、例えば上述した蒸着膜と有機膜とを積層したもの等であってもよい。
【０１１５】
上記応力緩和層の膜厚としては、基材上に形成された第１無機膜、第２無機膜および蒸着膜の膜厚の合計値と同程度であることが好ましく、具体的には、第１無機膜、第２無機膜および蒸着膜の膜厚の合計値の±２００ｎｍの範囲であることが好ましい。これにより、効果的に上記第１無機膜、有機膜、第２無機膜等が形成された際に発生する応力を低減させることができ、反射防止ガスバリア性基板に反りが発生することを防止することができるからである。なお、基材にかかる応力として、有機膜による応力は、第１無機膜および第２無機膜による応力と比較して小さいため、応力緩和層の膜厚を設定する際に、有機膜の膜厚は考慮に入れないこととする。
【０１１６】
（反射防止ガスバリア性基板）
本発明においては、反射防止ガスバリア性基板の表面平均粗さが５ｎｍ以下、中でも１ｎｍ以下であり、最大高低差が５０ｎｍ以下、中でも１０ｎｍ以下であることが好ましい。本発明の反射防止ガスバリア性基板を用いて例えば有機ＥＬ素子とする際に、反射防止ガスバリア性基板上に透明導電層が形成される場合があるが、反射防止ガスバリア性基板に凹凸が存在すると、反射防止ガスバリア性基板上に形成される透明導電層にもこの凹凸形状が反映されることとなり、厚みの薄い有機ＥＬ素子に静電破壊等による欠陥が発生し易くなる。このような欠陥箇所はダークエリアとなるが、上記反射防止ガスバリア性基板の平均表面粗さおよび最大高低差が上記範囲であることにより、このダークエリアの発生を抑制することができ、本発明の反射防止ガスバリア性基板を用いて表示素子とした場合に、良好な画像表示を得ることが可能となる。これにより、本発明の反射防止ガスバリア性基板を、例えば液晶表示素子や有機ＥＬ素子のディスプレイ用基板等、様々な用途に用いることが可能となる。
【０１１７】
ここで、上記表面粗さおよび最大高低差は、スキャン範囲１００μｍ、スキャン速度９０ｓｅｃ／ｆｒａｍｅの条件下で、原子間顕微鏡（Ｎａｎｏｐｉｃｓ：商品名、セイコーインスツルメンツ社製）を用いて測定した値である。
【０１１８】
Ｂ．ディスプレイ用基板
次に、本発明のディスプレイ用基板について説明する。本発明のディスプレイ用基板は、上述した反射防止ガスバリア性基板を用いたものである。
【０１１９】
本発明によれば、上述した反射防止ガスバリア性基板を用いることから、反射防止機能を有することにより全光線透過率が高く、かつガスバリア性の高いディスプレイ用基板とすることができ、様々な用途に用いることが可能となる。
【０１２０】
本発明のディスプレイ用基板は、上記反射防止ガスバリア性基板上に透明導電層を有していることが好ましい。透明導電層の形成位置としては、上記反射防止ガスバリア性基板の第２無機膜上に形成されていてもよく、基材上に形成されていてもよい。
【０１２１】
本発明においては、中でも、透明導電層が基材上に形成されていることが好ましい。上記反射防止ガスバリア性基板の第１無機膜、有機膜および第２無機膜が形成された際に発生する応力を緩和する応力緩和層として透明導電層を形成することができるため、ディスプレイ用基板の層構成を簡略化することができ、効率的にディスプレイ用基板を製造することができるからである。
【０１２２】
本発明に用いられる透明導電層としては、可視光に対して透明な導電層であれば、陽極であっても陰極であってもよく、本発明のディスプレイ用基板の用途に応じて適宜選択されるものである。
【０１２３】
このような透明導電層としては、具体的には、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等が好適に用いられる。また、これらの透明導電層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法等により形成することができる。
【０１２４】
また、本発明に用いられる透明導電層の膜厚は５０ｎｍ〜５００ｎｍ位の範囲が好ましい。上記の透明導電層の膜厚よりも薄いと、導電性の低下が見られ、さらに上記よりも透明電極層の膜厚が厚い場合には、後加工の工程が進むにつれ、導電膜のクラックなどにより導電性の劣化が見られるので好ましくないからである。なお、透明導電層が応力緩和層として形成されている場合は、上述した応力緩和層の欄に記載した膜厚となることが好ましい。
【０１２５】
本発明のディスプレイ用基板が用いられる表示素子としては、液晶表示素子のようなバックライトの明るさをシャッターすることにより階調をつけて表示を行う非発光型ディスプレイと、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ）のように蛍光体を何らかのエネルギーによって光らせて表示を行う自己発光型ディスプレイとを挙げることができる。
【０１２６】
Ｃ．液晶表示素子
次に、本発明の液晶表示素子について説明する。本発明の液晶表示素子は、上記ディスプレイ用基板を有するものである。
【０１２７】
本発明によれば、上記ディスプレイ用基板を有することにより、経時でも酸素や水蒸気等の影響を受けることがないことから表示品質が低下することなく、かつ反射防止機能を有することから全光線透過率が高く、高輝度の画像表示が得られる高品質な液晶表示素子とすることができる。
【０１２８】
図４は、本発明の液晶表素子の一例を示すものである。図４に示すように、本発明の液晶表示素子は、２枚のディスプレイ用基板１０を有している。このディスプレイ用基板１０は、基材１と、この基材１上に形成された第１無機膜２と、この第１無機膜２上に形成された有機膜３と、この有機膜３上に形成された第２無機膜４と、上記基材１の第１無機膜２が形成されている面と反対側の面に形成された透明導電層１１とを有している。上記２枚のディスプレイ用基板１０は、透明導電層１１が相対向するように配置されており、この透明導電層１１上には、液晶分子を規則正しく配列させるための役割を有する配向膜１２がそれぞれ形成されている。また、ディスプレイ用基板１０は、シール材１５を介して貼り合わされており、このシール材１５の内側における２枚のディスプレイ用基板１０の間には液晶材料１４が封入されている。さらに、２枚のディスプレイ用基板１０の配向膜１２の間には、複数のスペーサ１６が設けられている。また、２枚のディスプレイ用基板１０の第２無機膜４上には、それぞれ偏向板１３が設けられている。
【０１２９】
本発明の液晶表示素子は、上記ディスプレイ用基板を有するものであれば、特に層構成等は限定されるものではなく、液晶表示素子の用途等に応じて適宜選択されるものである。
【０１３０】
本発明に用いられる配向膜を構成する材料としては、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、ジルコニア、フッ化マグネシウム、酸化セリウム、フッ化セリウム、シリコン窒化物、シリコン炭化物、ホウ素窒化物等の無機物や、ポリイミド、アクリル樹脂等の有機物が用いられる。
【０１３１】
また、本発明に用いられるシール材としては、通常、有機系シール材が用いられる。
【０１３２】
さらに、本発明に用いられるスペーサとしては、無機系スペーサであっても、有機系スペーサであってもよい。また、スペーサの形状としては、棒状、球状、柱状等が挙げられる。
【０１３３】
なお、図４においては２枚のディスプレイ用基板の第２無機膜上にそれぞれ偏向板が形成されているが、本発明においては、２枚のディスプレイ用基板の第２無機膜上のいずれか一方にのみ形成されるものであってもよい。
【０１３４】
Ｄ．有機ＥＬ素子
次に、本発明の有機ＥＬ素子について説明する。本発明の有機ＥＬ素子は、上記ディスプレイ用基板を有するものである。
【０１３５】
本発明によれば、上記ディスプレイ用基板を有することにより、経時でも酸素や水蒸気等の影響を受けることがないことからまたダークスポット等の欠陥がなく、かつ反射防止機能を有することから全光線透過率が高く、高輝度の画像表示が得られる高品質な有機ＥＬ素子とすることができる。
【０１３６】
本発明の有機ＥＬ素子は、上記ディスプレイ用基板の透明導電層上に形成された有機ＥＬ層と、その有機ＥＬ層上に形成された対向電極とを有するものであれば、特に層構成等は限定されるものではなく、有機ＥＬ素子の用途等に応じて適宜選択されるものである。
【０１３７】
ここで、本発明でいう有機ＥＬ層とは、通常有機ＥＬ素子に用いられるものを用いることが可能であり、少なくとも発光層を含む１層もしくは複数層の有機層から形成されるものである。すなわち、有機ＥＬ層とは、少なくとも発光層を含む層であり、その層構成が有機層１層以上の層をいう。通常、塗布による湿式法で有機ＥＬ層を形成する場合は、溶媒との関係で多数の層を積層することが困難であることから、１層もしくは２層の有機層で形成される場合が多いが、有機材料を工夫したり、真空蒸着法を組み合わせたりすることにより、さらに多数層とすることも可能である。
【０１３８】
発光層以外に有機ＥＬ層内に形成される有機層としては、通常有機ＥＬ層に用いられる層を用いることが可能であり、例えば正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層を挙げることができる。さらに、その他の有機層としては、発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を挙げることができるが、通常これらは上記電荷注入層に電荷輸送の機能を付与することにより、電荷注入層と一体化されて形成される場合が多い。その他、ＥＬ層内に形成される有機層としては、キャリアブロック層のような正孔あるいは電子の突き抜けを防止し、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。
【０１３９】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１４０】
以下、実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。
【０１４１】
［実施例１］
（第１無機膜の形成）
透明基材を、マグネトロンスパッタリング装置のチャンバー内に配置した。ターゲットには窒化珪素を使用し、以下の成膜条件で、酸化窒化珪素の膜厚が１００ｎｍになるまで、成膜を行った。
成膜圧力：２．５×１０−１Ｐａ
アルゴンガス流量：２０ｓｃｃｍ
窒素ガス流量：９ｓｃｃｍ
周波数：１３．５６ＭＨｚ
電力：１．２ｋＷ
【０１４２】
（有機膜の形成）
上記第１無機膜の上に、フルオレンを骨格とするカルドポリマーを有する樹脂をスピンコート法にて塗布し、１６０℃で１時間加熱することにより、有機膜を形成した。有機膜の膜厚は、第１無機膜上において１μｍであった。このとき、第１無機膜には変形が無く、かつ、有機膜は表面粗さＲａが０．８ｎｍ、最大高低差Ｐ−Ｖが８ｎｍであった。
【０１４３】
（第２無機膜の形成）
上記有機膜上に、上記第１無機膜と同様にして、第２無機膜を形成した。これにより、反射防止ガスバリア性基板を得た。
【０１４４】
（透明導電層の形成）
上記反射防止ガスバリア性基板の上記第１無機膜等を形成した面と反対側の面に、スパッタリング法によりＩＴＯ膜を形成した。これによりディスプレイ用基板を得た。
【０１４５】
（液晶表示素子の作製）
上記ディスプレイ用基板の透明導電層上に、配向膜を形成し、このような２枚のディスプレイ用基板を相対向させ、シール材を介して貼り合わせ、その間に液晶材料を封入することにより液晶表示素子を作製した。
【０１４６】
［実施例２〜５］
第１無機膜の膜厚および第２無機膜の膜厚を、表１に示すように設定した以外は、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。
【０１４７】
［実施例６］
（第１無機膜の形成）
透明基材を、マグネトロンスパッタリング装置のチャンバー内に配置した。ターゲットには珪素を使用し、以下の成膜条件で、酸化窒化珪素の膜厚が１００ｎｍになるまで、成膜を行った。
成膜圧力：２．５×１０−１Ｐａ
アルゴンガス流量：３０ｓｃｃｍ
窒素ガス流量：２０ｓｃｃｍ
周波数：１３．５６ＭＨｚ
電力：１．２ｋＷ
【０１４８】
（有機膜の形成）
実施例１と同様にして、上記第１無機膜上に有機膜を形成した。
【０１４９】
（第２無機膜の形成）
上記有機膜上に、上記第１無機膜と同様にして、第２無機膜を形成した。これにより、反射防止ガスバリア性基板を得た。
【０１５０】
（透明導電層の形成）
実施例１と同様にして、上記反射防止ガスバリア性基板の上記第１無機膜等を形成した面と反対側の面にＩＴＯ膜を形成し、ディスプレイ用基板を得た。
【０１５１】
（液晶表示素子の作製）
実施例１と同様にして、液晶表示素子を作製した。
【０１５２】
［実施例７］
（第１無機膜の形成）
透明基材をイオンプレーティング装置のチャンバー内に配置した。昇華材料には酸化珪素を使用し、以下の成膜条件で、酸化窒化珪素の膜厚が１００ｎｍになるまで、成膜を行った。
成膜圧力：１．５×１０−１Ｐａ
アルゴンガス流量：１２ｓｃｃｍ
窒素ガス流量：２０ｓｃｃｍ
成膜電流値：１００Ａ
【０１５３】
（有機膜の形成）
実施例１と同様にして、上記第１無機膜上に有機膜を形成した。
【０１５４】
（第２無機膜の形成）
上記有機膜上に、上記第１無機膜と同様にして、膜厚が５０ｎｍとなるように第２無機膜を形成した。これにより、反射防止ガスバリア性基板を得た。
【０１５５】
（透明導電層の形成）
実施例１と同様にして、上記反射防止ガスバリア性基板の上記第１無機膜等を形成した面と反対側の面にＩＴＯ膜を形成し、ディスプレイ用基板を得た。
【０１５６】
（液晶表示素子の作製）
実施例１と同様にして、液晶表示素子を作製した。
【０１５７】
［実施例８］
第１無機膜の膜厚を１５０ｎｍとした以外は、実施例７と同様にして液晶表示素子を作製した。
【０１５８】
［比較例１］
第１無機膜の膜厚を７０ｎｍ、および第２無機膜の膜厚を３０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。
【０１５９】
［比較例２］
第１無機膜の膜厚を５０ｎｍ、および第２無機膜の膜厚を５０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。
【０１６０】
［比較例３］
第１無機膜の膜厚を８００ｎｍ、および第２無機膜の膜厚を５０ｎｍとした以外は、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。
【０１６１】
［評価］
実施例１〜８および比較例１〜３の液晶表示素子における反射防止ガスバリア性基板の可視光領域における視感反射率、全光線透過率、酸素透過率および水蒸気透過率の評価結果を表１に示す。
【０１６２】
【表１】
2005096108.tif 000003
【０１６３】
表１から明らかなように、実施例１〜８の液晶表示素子では、反射が抑制され、全光線透過率が高く、ガスバリア性が高いため、高輝度の良好な画像表示が得られることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【０１６４】
【図１】本発明の反射防止ガスバリア性基板の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の反射防止ガスバリア性基板の他の例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の反射防止ガスバリア性基板の他の例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の液晶表示素子の一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【０１６５】
１…基材
２…第１無機膜
３…有機膜
４…第２無機膜
【図１】
2005096108.tif 000004
【図２】
2005096108.tif 000005
【図３】
2005096108.tif 000006
【図４】
2005096108.tif 000007