(57)【要約】    【課題】良好な静電容量を維持しつつ、加工容易性が改善された電極箔を提供する。  【解決手段】エッチングに供されるアルミニウム箔であって、当該アルミニウム箔の一部の特定領域が、その周囲とは異なる集合組織を有することを特徴とするエッチング用アルミニウム箔に係る。    【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチングに供されるアルミニウム箔であって、当該アルミニウム箔の一部の特定領域が、その周囲とは異なる集合組織を有することを特徴とするエッチング用アルミニウム箔。
【請求項２】
アルミニウム箔における立方体集合組織の割合の平均値が９０％以上である請求項１記載のエッチング用アルミニウム箔。
【請求項３】
前記特定領域における立方体集合組織の割合の平均値が５０％以下である請求項１又は２に記載のエッチング用アルミニウム箔。
【請求項４】
特定領域が、熱的、機械的又は化学的な処理を施すことによって形成されたものである請求項１〜３のいずれかに記載のエッチング用アルミニウム箔。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のエッチング用アルミニウム箔をエッチング処理した後、陽極酸化処理することにより得られる電解コンデンサ用アルミニウム電極箔。
【請求項６】
前記特定領域を芯部としてロール状に巻かれている請求項５に記載の電解コンデンサ用アルミニウム電極箔。
【請求項７】
前記特定領域にリード端子が固定されている請求項５に記載の電解コンデンサ用アルミニウム電極箔。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電解コンデンサ製造のために用いられるエッチング用アルミニウム箔に関する。さらに、本発明は、エッチング及び陽極酸化処理の後に高い静電容量及び易加工性を達成できる電解コンデンサ用アルミニウム箔に関する。
【背景技術】
【０００２】
アルミニウム箔は、化学的又は電気化学的なエッチング処理を施しエッチングピットを形成することにより、その表面積を増大させることができる。また、アルミニウム箔に陽極酸化処理を施すことにより、その表面に誘電体として機能する陽極酸化皮膜を形成することができる。この性質を利用して、エッチング後のアルミニウム箔に使用電圧に応じた陽極酸化皮膜を形成させ、所望の耐電圧を持つアルミニウム電解コンデンサの電極として使用することができる。
【０００３】
エッチング処理で形成されるエッチングピットは、陽極酸化電圧に対応した形状に穿孔される。具体的には、中高圧用のコンデンサ用途には、厚い陽極酸化皮膜を形成する必要がある。このため、そのような厚い陽極酸化皮膜でエッチングピットが埋まらないように、中高圧陽極用アルミニウム箔では、主に直流エッチングを行うことによりエッチングピット形状をトンネルタイプとしている。
【０００４】
コンデンサの静電容量を高めるには、電極の表面積を増大させるようにエッチング処理を施せば良い。中高圧陽極用アルミニウム箔では、最も効率良くエッチングが進行するように結晶を立方体集合組織に揃え、その割合（立方体集合組織の割合）を高める必要があり、純度の高いアルミニウムを高温で焼鈍して製造している（例えば、特許文献１）。さらに具体的には、熱間圧延から加工率９０％以上の冷間加工、低温（おおむね１８０〜３５０℃）の部分焼鈍、低歪加工（おおむね５〜３５％）、高温（おおむね３００〜６５０℃）の高温焼鈍を順次施す方法（例えば、特許文献２）が、立方体集合組織の割合を高めるために一般的に行なわれている。
【０００５】
ところが、上記のように単位面積当りの表面積を拡大するために深いエッチング処理を行った上に厚い陽極酸化皮膜を形成した電極箔は非常に脆くなり、電極にリード端子を固定する際に接合不良が生じたり、小さな形状に巻く際に折れたりする問題が生じる。
【０００６】
これらの問題を解決する方法として、アルミニウム箔表面にパターンを形成し未エッチング部分を生じさせることにより強度を確保すること方法が提案されている（例えば、特許文献３）。
【０００７】
しかしながら、さらなる表面積拡大を図り、エッチング密度を高めようとすると、エッチング処理時にパターン境界付近にエッチング電流が集中し、パターン形成部が脱落しやすくなり、かえって強度が不十分となる。
【０００８】
ところで、電解コンデンサ用アルミニウム箔は、ロール状でエッチング処理及び陽極酸化処理を施し、電極箔とされている（例えば、特許文献４）。近年、製品小型化と品質安定の要求がさらに高まる中で、立方体集合組織の割合が高いのみならず、ロール状幅方向及び長手方向で立方体集合組織の割合等のバラツキが小さい電解コンデンサ用アルミニウム箔が提案されている（例えば、特許文献５及び６）。ロール状で提供されたアルミニウム箔及び電極箔は、ロール状幅方向及び長手方向に多数切断されて、それぞれ製品となるからである。
【特許文献１】特開平２−２７０９２８号公報
【特許文献２】特公昭５４−１１２４２号公報
【特許文献３】特公平３−４０９３２号公報
【特許文献４】特開平１０−２４２００１号公報
【特許文献５】特開２００２−１７３７４８号公報
【特許文献６】特開２０００−３０９８３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来技術のいずれにおいても、電極箔としたときにその静電容量を維持し、かつ、リード端子固定の際の接合不良あるいは小形状への巻き取りの際の破損不良を低減させるには未だ不十分であり、特に加工容易性という点ではさらなる改善の余地がある。
【００１０】
従って、本発明の主な目的は、良好な静電容量を維持しつつ、加工容易性が改善された電極箔を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、従来技術の問題点を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定条件下でアルミニウム箔を製造することによって上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明は、下記のエッチング用アルミニウム箔及び電解コンデンサ用アルミニウム電極箔に係る。
【００１３】
１．  エッチングに供されるアルミニウム箔であって、当該アルミニウム箔の一部の特定領域が、その周囲とは異なる集合組織を有することを特徴とするエッチング用アルミニウム箔。
【００１４】
２．  アルミニウム箔における立方体集合組織の割合の平均値が９０％以上である前記項１記載のエッチング用アルミニウム箔。
【００１５】
３．  前記特定領域における立方体集合組織の割合の平均値が５０％以下である前記項１又は２に記載のエッチング用アルミニウム箔。
【００１６】
４．  特定領域が、熱的、機械的又は化学的な処理を施すことによって形成されたものである前記項１〜３のいずれかに記載のエッチング用アルミニウム箔。
【００１７】
５．  前記項１〜４のいずれかに記載のエッチング用アルミニウム箔をエッチング処理した後、陽極酸化処理することにより得られる電解コンデンサ用アルミニウム電極箔。
【００１８】
６．  前記特定領域を芯部としてロール状に巻かれている前記項５に記載の電解コンデンサ用アルミニウム電極箔。
【００１９】
７．  前記特定領域にリード端子が固定されている前記項５に記載の電解コンデンサ用アルミニウム電極箔。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、特定領域のみ立方体集合組織の割合を低減させるので、従来法で得られる電極箔と同等の静電容量を維持した上で、加工の容易な電極箔を得るための、電解コンデンサ用アルミニウム箔を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明のエッチング用アルミニウム箔（以下「エッチング用Ａｌ箔」ともいう。）は、エッチングに供されるアルミニウム箔であって、当該アルミニウム箔の一部の特定領域が、その周囲とは異なる集合組織を有することを特徴とする。
【００２２】
特定領域は、アルミニウム箔の所望の位置に設定すれば良い。また、アルミニウム箔上の少なくとも一方の面に特定領域を設定すれば良い。
【００２３】
特定領域の形状は限定的でなく、例えば多角形、方形、円形、楕円形、不定形等のいずれでもよい。
【００２４】
特定領域の総面積は、アルミニウム箔の１０％以下、好ましくは５％以下とすれば良い。前記総面積が、アルミニウム箔の１０％を越えると、静電容量が低下するおそれがある。また、１個所の特定領域の面積の下限値は、形成可能であれば特に限定されないが、一般に５ｍｍ2以上とすれば良い。
【００２５】
特定領域の集合組織は、エッチング処理時にエッチングピットの密度、成長速度及び成長方向が異なることにより、その周囲とは異なる強度を持つことができるものであれば組織の形態は特に限定されない。特に、立方体集合組織の割合の平均値が９０％以上のアルミニウム箔であって、特定領域の立方体集合組織の割合の平均値が５０％以下（好ましくは１０％以下）であるものが好ましい。このようなエッチング用Ａｌ箔は、静電容量が高く、特定領域のエッチングピットの密度が少なく成長速度が遅いため、陽極酸化処理を施して電極箔としたときに特定領域の強度を周囲組織のそれよりも高くすることができる。
（１）エッチング用Ａｌ箔の組成
エッチング用Ａｌ箔の組成は限定的ではないが、特にアルミニウム純度が「ＪＩＳ Ｈ ２１１１」に記載された方法に準じて測定された値で９９.９質量％以上のものが好ましい。このようなアルミニウム箔としては、Ｐｂ、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｇａ、Ｎｉ及びＢの少なくとも１種の有意又は不可避の不純物元素を必要範囲内において配合又は規制したアルミニウム箔も包含される。
【００２６】
これらの中でも、特に少なくともＰｂが含有されていることが好ましい。Ｐｂの存在により、エッチング処理に使用する電解液とアルミニウム箔との反応を促進し、初期のエッチングピット数を増加させる働きがあるので、いっそう高い静電容量を達成することが可能となる。
【００２７】
Ｐｂの含有量は、上記のような効果が達成できるように適宜調整することができるが、好ましくは、アルミニウム箔の表面から深さ０．１μｍまでの領域において４０〜２０００ｐｐｍの範囲となるように設定することが望ましい。上記範囲内に設定することによって、静電容量をよりいっそう高めることができる。
【００２８】
なお、Ｐｂ含有量の調整は、例えばアルミニウム箔の製造段階においてアルミニウム溶湯に添加するＰｂ量を調節し、さらに焼鈍温度を４５０℃以上の範囲内で制御することによって実施することができる。
【００２９】
具体的なエッチング用Ａｌ箔の組成としては、例えばＰｂ：０．０１〜１０ｐｐｍ、Ｓｉ：５〜１５０ｐｐｍ、Ｆｅ：５〜１５０ｐｐｍ及びＣｕ：２０〜２００ｐｐｍ含有するアルミニウム箔を好適に用いることができる。
（２）エッチング用Ａｌ箔の調製
エッチング用Ａｌ箔は、特定領域がその周囲と異なる集合組織をもつようにできる限り、その製法は特に制限されない。具体的には、アルミニウム原料から圧延箔を経て高温焼鈍する所定のアルミニウム箔を製造するに際し、熱間圧延工程より後のいずれかの工程で、高温焼鈍後において特定領域に周囲とは異なる集合組織とするための工程を付加すれば良い。
【００３０】
特定領域がその周囲と異なる集合組織をもつようにするためには、熱間圧延工程より後のいずれかの工程で、特定領域に熱的、機械的又は化学的な処理を施し、特定領域以外の部分と異なる熱加工履歴を付与したり、異なる表面状態に処理すればよい。
【００３１】
熱的処理の方法としては、例えば焼き鏝、バーナー、レーザー光等による処理のように、所望の寸法精度で加熱できる方法であれば特に限定されない。特定領域への加熱処理の温度は、周囲の温度より１００℃以上高く、かつ、溶融点未満とすることが好ましい。特定領域への加熱処理の温度と、周囲の温度との差が１００℃より小さいと、特定領域がその周囲と異なる集合組織をもつエッチング用Ａｌ箔を得ることが困難になることがある。
【００３２】
機械的処理の方法としては、例えばプレス加工、ポンチ加工、エンボス加工、ブラスト加工等、所望の寸法精度で加工できる方法であれば特に限定されない。特定領域への加工処理による厚み減少量は、周囲より０．５％以上高く、かつ高温焼鈍後に１０％より小さくなるように設定することが望ましい。特定領域とその周囲との厚み減少量の差が０．５％より小さいと、特定領域がその周囲と異なる集合組織をもつエッチング用Ａｌ箔を得ることが困難になるおそれがある。また、高温焼鈍後に特定領域が周囲よりも１０％以上薄くなると、特定領域の強度が低下する場合がある。
【００３３】
化学的処理の方法としては、例えば印刷法を利用した湿式又は乾式エッチング処理、スタンプ法を利用した腐食処理等のように、所望の寸法精度で加工できる方法であれば特に限定されない。特定領域への化学的処理による厚み減少量は、周囲より０．５％以上高く、かつ高温焼鈍後に１０％より小さくなるように適宜設定することが望ましい。特定領域とその周囲との厚み減少量の差が０．５％より小さいと、特定領域がその周囲と異なる集合組織をもつエッチング用Ａｌ箔を得ることが困難になることがある。また、高温焼鈍後に特定領域がその周囲よりも１０％以上薄くなると、特定領域の強度が低下するおそれがある。
【００３４】
アルミニウム原料から圧延箔を経て高温焼鈍する所定のアルミニウム箔は、次のようにして製造される。
【００３５】
まず、アルミニウム溶湯から熱間圧延板を製造する段階では、所定の組成を有するアルミニウム溶湯を調製し、これを鋳造して得られた鋳塊を４５０〜６６０℃程度で均質化処理した後、熱間圧延を施すことにより熱間圧延板を得ることができる。
【００３６】
熱間圧延後の冷間圧延による冷間加工率は、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９３％以上である。冷間加工率が９０％未満になると、高温焼鈍後のアルミニウム箔における立方体集合組織の割合が低くなり、電極としたときに静電容量が低下するおそれがある。冷間加工率は、熱間圧延板の厚みにより適宜調整すればよい。
【００３７】
冷間圧延後の部分焼鈍の温度及び時間は、アルミニウム箔の組成により適宜選択すれば良く、好ましくは１８０〜３５０℃で５秒〜１５０時間、さらに好ましくは１８０〜３００℃で１〜５０時間である。部分焼鈍の温度及び時間が上記範囲外になると、高温焼鈍後のアルミニウム箔における立方体集合組織の割合が低くなり、電極としたときに静電容量が低下するおそれがある。
【００３８】
部分焼鈍後の低歪加工による加工率は、アルミニウム箔の組成により適宜選択すれば良く、好ましくは５〜３５％、さらに好ましくは８〜２０％である。加工率が上記範囲外になると、高温焼鈍後のアルミニウム箔における立方体集合組織の割合が低くなり、電極としたときに静電容量が低下するおそれがある。加工率は、冷汗圧延箔の厚みにより適宜調整すればよい。
【００３９】
低歪加工後の高温焼鈍の温度は、アルミニウム箔の組成により適宜選択すれば良く、一般的には３００〜６５０℃、好ましくは４５０〜６６０℃、さらに好ましくは５００〜６２０℃である。高温焼鈍の温度が３００℃未満になると、高温焼鈍後のアルミニウム箔における立方体集合組織の割合が低くなり、電極としたときに静電容量が低下するおそれがある。高温焼鈍の時間は、焼鈍温度等にもよるが、一般的には１〜１００時間程度とすれば良い。高温焼鈍の雰囲気は、真空又は不活性ガスとすることが望ましい。ただし、昇温及び降温の工程も含め３５０℃を超える場合には、高温焼鈍の雰囲気中の酸素濃度を１．０体積％以下とすることが望ましい。高温焼鈍の雰囲気中の酸素濃度が１．０体積％を越えると、均一で適当な厚さの熱酸化皮膜が得られなくなり、エッチング処理を行っても所望の形状のエッチングピットが得られなくなる結果、静電容量が低下するおそれがある。
【００４０】
エッチング用Ａｌ箔における立方体集合組織の割合の平均値は９０％以上、好ましくは９３％以上である。立方体集合組織の割合が９０％未満になると静電容量が低下するおそれがある。なお、上限値は、特に限定されないが、通常９９．９９％である。
【００４１】
エッチング用Ａｌ箔の特定領域における立方体集合組織の割合の平均値は５０％以下、特に好ましくは１０％以下とする。
【００４２】
特定領域は、エッチング処理及び陽極酸化処理を施し電極箔としたときに、強度を要する部分に配置することが好ましい。電極箔としたときに強度を要する部分としては、巻き込みの芯部、リード端子の固定部等となるような部位が挙げられる。
【００４３】
また、特定領域をストライプ状または網目状に配置して、エッチング用Ａｌ箔全体の強度を上げることもできる。
【００４４】
高温焼鈍の後、エッチング用Ａｌ箔に対し、必要に応じて脱脂、表面調整等の公知の処理を施した後、常法に従ってエッチング処理及び陽極酸化処理を実施すれば、本発明の電解コンデンサ用アルミニウム電極箔を得ることができる。すなわち、本発明のエッチング用Ａｌ箔に上記処理を施して得られたアルミニウム箔は、電解コンデンサ用アルミニウム電極箔として好適に用いることができる。
【実施例】
【００４５】
以下に実施例及び従来例を示し、本発明の特徴をさらに明確にする。ただし、本発明の範囲は、これら実施例に限定されるものではない。
【００４６】
以下の実施例と従来例に従って電解コンデンサ用アルミニウム箔を作製した。なお、実施例と比較するために比較例を作製した。
【００４７】
１）各実施例等では、まずエッチング用アルミニウム箔を作製し、得られたアルミニウム箔を、次に示す条件でエッチング処理し、次いでホウ酸水溶液（６５ｇ／Ｌ）中で２００Ｖの陽極酸化処理を施して電極箔とした。
＜エッチング処理条件＞
・一次エッチング
エッチング液：塩酸及び硫酸の混合液（塩酸濃度：１モル／Ｌ、硫酸濃度：３モル／Ｌ、８０℃）
電解：ＤＣ２００ｍＡ／ｃｍ2×２分３０秒
・二次エッチング
エッチング液：塩酸及びシュウ酸の混合液（塩酸濃度：２モル／Ｌ、シュウ酸濃度：０．０１モル／Ｌ、８０℃）
電解：ＤＣ５０ｍＡ／ｃｍ2×９分
２）得られたアルミニウム箔について、立方体集合組織の割合を次のように測定した。
＜立方体集合組織の割合＞
・アルミニウム箔全体
５０容量％ＨＣｌ、４８容量％ＨＮＯ3及び２容量％ＨＦを含む混合溶液を液温３０℃にし、５０ｍｍ×５０ｍｍのアルミニウム箔２０〜５０枚をそれぞれ３０秒間浸漬し、水洗乾燥した。出現した組織を画像解析装置を用いて分析し、その立方体集合組織の割合を求めた。なお、測定面積はそれぞれ３０ｍｍ×３０ｍｍとし、測定面積における特定領域の割合がアルミニウム箔総面積における特定領域の割合とほぼ等しくなるように、２０枚以上の平均値を求めた。
・特定領域の割合
画像解析装置を用いて、上記試料の特定領域の総面積に対する立方体集合組織の割合を求めた。
３）得られた電極箔について、その静電容量及び強度を次のように測定した。
＜静電容量＞
ＬＣＲメーターを用い、ホウ酸アンモニウム水溶液（８g／Ｌ）にて測定した。なお、測定面積はそれぞれ３０ｍｍ×３０ｍｍとし、測定面積における特定領域の割合がアルミニウム箔総面積における特定領域の割合とほぼ等しくなるように、２０枚以上の平均値を求め、従来例を１００としたときの相対値で示した。
＜強度＞
・折曲強度
周囲とは異なる集合組織を持つ特定領域が被折曲部分になるようにした上で、ＪＩＳ  Ｐ  ８１１５に準じて、ＭＩＴ形自動折曲試験機により測定した。曲率半径１ｍｍ、荷重２５０ｇ、折曲角度４５°の条件とし、往復の折曲を１回として切断されるまでの回数を測定した。周囲と異なる集合組織を持つ部位がない場合は、任意の部位を測定した。
・リード端子固定強度
周囲とは異なる集合組織を持つ特定領域が被固定部分になるようにし、２５ｍｍ×５０ｍｍの電極箔に厚さ１５０μｍ、幅２ｍｍ、固定長さ７ｍｍ、全長２０ｍｍの平角純アルミニウム線をリード端子として２個所スポット溶接した。１０個の試料を作成し、リード端子固定状態を目視で観察し、次のＡ〜Ｃで評価した。周囲と異なる集合組織を持つ部位がない場合は、任意の部位を被試験部分とした。
【００４８】
Ａ：リード端子全てが圧着され、電極箔に破損がない
Ｂ：リード端子全てが圧着されているが、電極箔に亀裂がある
Ｃ：リード端子又は電極箔に脱落部分がある
（従来例）
アルミニウム溶湯（Ｓｉ：１５ｐｐｍ、Ｆｅ：１５ｐｐｍ、Ｃｕ：５０ｐｐｍ、残部：Ａｌ及び不可避不純物）を半連続鋳造して、厚さ５００ｍｍの鋳塊を得た。この鋳塊を５５０℃で均質化処理をした後、熱間圧延により１０ｍｍとし、続いて冷間圧延を実施して１４０μｍとした。２８０℃１０時間の中間焼鈍後、冷間圧延により１１０μｍの箔とし、真空雰囲気中で５５０℃１０時間の高温焼鈍を施すことによりエッチング用アルミニウム箔を得た。また、このアルミニウム箔を前記の方法によって処理することにより電極箔を得た。これらアルミニウム箔及び電極箔の評価結果を表１に示す。
（実施例１）
従来例１で得られた１１０μｍの冷間圧延箔に対し、電極箔としたときに所望の位置及び形状になる部位の片面に１容量％苛性ソーダ水溶液を塗布し、７０℃で３０秒反応させた後、温水洗浄及び乾燥し、真空雰囲気中で５５０℃１０時間の高温焼鈍を施した。処理した部位の厚みは１０９μｍであった。このようにしてエッチング用アルミニウム箔を得た。また、このアルミニウム箔を前記の方法によって処理することにより電極箔を得た。これらアルミニウム箔及び電極箔の評価結果を表１に示す。得られたアルミニウム箔及び電極箔の評価結果を表１に示す。
【００４９】
図１に得られた電極箔の模式図を示す。幅５００ｍｍ長さ３００ｍのロール状電極箔から、幅２０ｍｍ長さ６００ｍｍを切り出して電極箔製品単位とする。電極箔製品単位の中で、リード線取付け部分にあたる左上部６ｍｍ×６ｍｍを特定領域とした。また、得られた電極箔の特定領域付近の断面図を図２に示す。
（実施例２）
従来例１で得られた１１０μｍの冷間圧延箔に対し、真空雰囲気中で４５０℃５時間の高温焼鈍を行なった後、電極箔としたときに所望の位置及び形状になる部位の片面にプレス加工を施し、再度、真空雰囲気中で５８０℃５時間の高温焼鈍を施した。処理した部位の厚みは１０５μｍであった。このようにしてエッチング用アルミニウム箔を得た。また、このアルミニウム箔を前記の方法によって処理することにより電極箔を得た。これらアルミニウム箔及び電極箔の評価結果を表１に示す。得られたアルミニウム箔及び電極箔の評価結果を表１に示す。
（実施例３）
従来例１で得られた１１０μｍの冷間圧延箔に対し、電極箔としたときに所望の位置及び形状になる部位の片面にプレス加工を施し、真空雰囲気中で５５０℃１０時間の高温焼鈍を施した。処理した部位の厚みは１０５μｍであった。このようにしてエッチング用アルミニウム箔を得た。また、このアルミニウム箔を前記の方法によって処理することにより電極箔を得た。これらアルミニウム箔及び電極箔の評価結果を表１に示す。得られたアルミニウム箔及び電極箔の評価結果を表１に示す。
（実施例４）
従来例１で得られた１４０μｍの冷間圧延箔に対し、電極箔としたときに所望の位置及び形状になる部位の片面に炭酸ガスレーザーを照射した。炭酸ガスレーザー照射処理した部分の最高温度は４２０℃であった。得られた箔を、２８０℃１０時間の中間焼鈍後、冷間圧延により１１０μｍの箔とし、真空雰囲気中で５５０℃１０時間の高温焼鈍を施した。このようにしてエッチング用アルミニウム箔を得た。また、このアルミニウム箔を前記の方法によって処理することにより電極箔を得た。これらアルミニウム箔及び電極箔の評価結果を表１に示す。
（実施例５）
アルミニウム溶湯（Ｓｉ：７０ｐｐｍ、Ｆｅ：７０ｐｐｍ、Ｃｕ：１００ｐｐｍ、残部：Ａｌ及び不可避不純物）を半連続鋳造して、厚さ５００ｍｍの鋳塊を得た。この鋳塊を５５０℃で均質化処理をした後、熱間圧延により６ｍｍとし、続いて冷間圧延を実施して１４０μｍとした。２８０℃５時間の中間焼鈍後、冷間圧延により１１０μｍの箔とし、真空雰囲気中で５５０℃１０時間の高温焼鈍を施した後、電極箔としたときに所望の位置及び形状になる部位の片面にブラスト処理をし、再度真空雰囲気中で５５０℃１０時間の高温焼鈍を施した。ブラスト処理した部分は粗面化されたが厚みの変化はなかった。このようにしてエッチング用アルミニウム箔を得た。また、このアルミニウム箔を前記の方法によって処理することにより電極箔を得た。これらアルミニウム箔及び電極箔の評価結果を表１に示す。
【００５０】
【表１】
2005290469.tif 000002
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】実施例１で得られた電極箔の模式図
【図２】実施例１で得られた電極箔の断面図
【図１】
2005290469.tif 000003
【図２】
2005290469.tif 000004