(57)【要約】【課題】アルミニウム板に凸凹を転写するエンボスローラローラの寿命を向上できると共に、耐刷性、感度、汚れにくさに優れたアルミニウム製の平版印刷版用支持体を製造することができる。【解決手段】放電加工でローラ表面に形成した凹凸パターンの平均表面粗さＲａが、０．３μｍ〜１．０μｍであり、凹凸の基準長さにおける平均間隔ＲＳｍが３０μｍ〜１５０μｍである鋼製のエンボスローラ２２を用いて、アルミニウム板ＡＬをエンボス加工して、アルミニウム板表面に凹凸を形成する。エンボスローラ２２は、電極３８として銅、加工液３５ａとしてケロシン、印加電圧１００〜４００Ｖとしたマイナス放電で凹凸形成されたエンボス版を表面に有する。加工液３５ａには平均粒子径が１〜１０μｍ以下の微粒子が１〜２０ｇ／リットルで含まれており、微粒子としてはグラファイト等を用いる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム板の少なくとも片面に、エンボス版を有する表面加工手段で該エンボス版の凹凸パターンを転写することにより前記アルミニウム板の表面加工を行うアルミニウム板の表面加工方法において、
前記アルミニウム板に転写する前記エンボス版の凹凸パターンを放電加工により形成することを特徴とするアルミニウム板の表面加工方法。
【請求項２】
前記アルミニウム板は平版印刷版用支持体を製造するためのアルミニウム板であって、該アルミニウム板に転写する前記エンボス版の凹凸パターンは算術平均粗さＲａが０．３μｍ以上１．０μｍ以下で、平均凹凸周期ＲＳｍが１５μｍ以上１５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１のアルミニウム板の表面加工方法。
【請求項３】
前記アルミニウム板はアルミニウム化粧板を製造するためのアルミニウム板であることを特徴とする請求項１のアルミニウム板の表面加工方法。
【請求項４】
前記放電加工は、加工液にケロシンを含み、銅または真鍮を含む材料を放電電極として用いるマイナス放電加工であって、印加電圧を１００Ｖ以上４００Ｖ以下とすることを特徴とする請求項１〜３の何れか１に記載のアルミニウム板の表面加工方法。
【請求項５】
前記加工液には、平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下の微粒子が１ｇ／リットル以上２０ｇ／リットル以下の範囲で含まれると共に、前記微粒子としてグラファイト、シリコン、モリブデンサルファイドの少なくともいずれか１つが含まれていることを特徴とする請求項１〜４の何れか１に記載のアルミニウム板の表面加工方法。
【請求項６】
前記エンボス版を形成する材料のビッカース硬度は、５００Ｈｖ以上１５００Ｈｖ以下であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１に記載のアルミニウム板の表面加工方法。
【請求項７】
前記エンボス版を形成する材料が、ハードクロムメッキ、リン、あるいはリンとホウ素とを含むニッケルメッキ、炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、炭化ホウ素（Ｂ4 Ｃ）、ホウ化チタン（ＴｉＢ2 ）から選ばれる少なくとも１種類の化合物の微粒子を共析させるクロムメッキまたはニッケルメッキのいずれかひとつのメッキが施されたものであることを特徴とする請求項１〜６の何れか１に記載のアルミニウム板の表面加工方法。
【請求項８】
前記メッキを施して形成されたメッキ層を熱硬化処理し、前記熱硬化処理を３００°Ｃ以上１０００°Ｃ以下で少なくとも１時間行うことを特徴とする請求項７に記載のアルミニウム板の表面加工方法。
【請求項９】
前記エンボス版を有する表面加工手段は、ローラ周面に前記凹凸パターンが形成されたエンボスローラであり、該エンボスローラで前記アルミニウム板を冷間圧延して前記アルミニウム板に凹凸パターンを転写することを特徴とする請求項８に記載のアルミニウム板の表面加工方法。
【請求項１０】
前記冷間圧延時の圧下率は０．５〜２０％であることを特徴とする請求項９のアルミニウム板の表面加工方法。
【請求項１１】
請求項１、２、４〜１０の何れか１の表面加工方法でエンボス版の凹凸パターンが転写されたアルミニウム板に、化学的エッチング処理、及び電気化学的粗面化処理を行って製造されることを特徴とする平版印刷版用支持体。
【請求項１２】
請求項１１に記載の平版印刷版用支持体上に記録層を有して成ることを特徴とする平版印刷版。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はアルミニウム板の表面加工方法及び平版印刷版用支持体並びに平版印刷版に係り、例えば平版印刷版用支持体を製造するためのアルミニウム板の少なくとも片面に、エンボス版に予め形成した凹凸パターンを転写することによりアルミニウム板に凹凸加工する方法において、エンボス版に形成する凹凸パターンの形成技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
アルミニウム板を基板として、その基板の表面に凹凸パターンを表面加工したものとしては、例えば平版印刷版用支持体やアルミニウム化粧板などがある。
【０００３】
平版印刷版用支持体を製造するアルミニウム板の表面を予め凹凸を形成した転写ロールで圧延してエンボス加工等の凹凸加工を施すアルミニウム板の表面処理方法としては、特許文献１に、鋼製ロールの表面をショットブラスト加工した圧延用ロールでアルミニウム板の表面をエンボス加工することが記載されている。他には、特許文献２に、ホーニング加工により作製した鋼製ロール( Ｒａ＝０．５〜１．５μm 、深さ０．６μｍ以上の凹凸が５００個／ｍｍ2 以上）で、圧下率２〜２０％で圧延することによりアルミニウム板の表面をエンボス加工する方法が記載されている。また、特許文献３に、化学エッチングまたはホーニング加工でＲａ＝０．５〜１．５μｍ、深さ０．６μｍ以上の凹凸が５００個／ｍｍ2 以上としたロールで、圧下率２〜２０％で圧延することによりアルミニウム板の表面をエンボス加工する方法が記載されている。また、特許文献４に、放電加工により凹凸を作製したロール( Ｒａ＝０．７〜１．７μｍ、深さ０．６μｍ以上の凹凸が５００個／ｍｍ2 以上）で、圧下率２〜２０％で圧延することによりアルミニウム板の表面をエンボス加工する方法が記載されている。
【０００４】
平版印刷版用支持体を製造するためのアルミニウム板への表面加工技術ではないが、金属板への表面加工技術としては次のようなものもある。例えば、特許文献５には、ロールで冷間圧延を行なって、目的とする厚さのアルミニウム板またはアルミニウム合金板を製造するに際して、最終パスの圧延操作を、表面に３〜１２μｍの厚さの硬質クロムめっき皮膜が施されてなり且つロール軸方向における表面の中心線平均粗さ：Ｒａが０．２〜０．７μｍである圧延ロールを用いて行ない、光学的異方性の少ないアルミニウム板若しくはアルミニウム合金板を製造する方法が記載されている。
【０００５】
また、特許文献６には、アルミニウム板若しくはアルミニウム合金板の冷間圧延操作を、表面に３〜１２μｍの厚さの硬質クロムめっき皮膜が設けられてなると共に、かかるクロムめっき皮膜上に形成された表面突起が、ｈ／Ｄ≦０．２及びｈ≦１．５−（２．５ｈ／Ｄ）〔但し、ｈは表面突起の高さを示し、Ｄは表面突起の平面形状における外接円の直径を示す〕なる条件を満足し、且つロール軸方向における表面の中心線平均粗さ：Ｒａが０．２〜０．７μｍである圧延用ワークロールを用いて行なう方法が記載されている。
【０００６】
また、特許文献７には、ステンレス鋼板表面の粗面化方法において、塩化第二鉄水溶液中で交番電解を施して、各種被覆材との密着性に優れたステンレス鋼板を得る方法が記載されている。さらに、特許文献８には、ステンレス以外の普通鋼や特殊鋼の鋼板をアノード極とし、鋼板表面上で酸素気泡を発生させながら５０〜１５０Ａ／ｄｍ2 の電流密度でアノード電解して粗面化し、鋼板の、塗膜や接着剤との密着性を上げる粗面化方法が記載されている。
【０００７】
一方、アルミニウム化粧板は、軽量化と、鉄等の金属とは異なる美的品格を主たる目的として、例えば自動車，エアーコンディショナー，テレビセット，ラジオ等の部材や、美化的な目的から室内装飾等に使用されている。このアルミニウム化粧板に凹凸パターンを形成する目的は、１つに目に光沢感の改質、２つ目に塗装する際のペイントとの密着性向上が主たるものである。そして、従来、アルミニウム化粧板の製造は、通常、腐食や彫刻によって凹凸パターンを浮彫りとした転写ロールによってアルミニウム板を圧延することにより製造している。
【特許文献１】特開昭６０−３６１９６号公報
【特許文献２】特開昭６２−２５０９４号公報
【特許文献３】特開昭６２−１１１７９２号公報
【特許文献４】特開昭６２−２１８１８９号公報
【特許文献５】特開平１０−９９９０５号公報
【特許文献６】特開平１０−３２８７０５号公報
【特許文献７】特開平１０−２５９４９９号公報
【特許文献８】特開２００３−３３００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記の特許文献１〜４に開示されるアルミニウム板の表面加工技術は、平版印刷版用支持体を製造する上で以下の欠点がある。
【０００９】
(1) 圧延用ロールの表面は、凹凸をつけたロール表面の山の位置 (以下、「ロール表面の山の高さ」ということがある。）が揃っていることがロールの寿命アップにつながることが従来の技術から知られている。しかし、従来の平版印刷版用支持体のアルミニウム板を圧延するロールでは、特定の凹凸を形成するという技術思想がなく、エアーブラスト、ショットブラストなどのブラスト処理で研磨材を表面に打ち付けて粗面を形成するので打ち付けたロール表面の高さが不均一となるという問題がある。従って、従来のロールでは、ロール寿命が短いだけでなく、従来のロールで製造したアルミニウム製の平版印刷版用支持体は平版印刷版の印刷特性に関しても最適な特定の凹凸を有しなかった。
【００１０】
(2) また、従来技術のロールでは、ロールを用いて凹凸加工されたアルミニウム板を、平版印刷版用アルミニウム支持体、とくにＣＴＰプレート（レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート技術）用アルミニウム支持体としたときの印刷性能、特に耐刷性（印刷枚数）や感度に優れ、更には汚れにくさに優れたアルミニウム製の平版印刷版用支持体を得ることが難しかった。
【００１１】
(3) また、特許文献５〜８は、圧延ロールの研削（研磨）方法や粗面化方法が記載されているだけで、平版印刷版用支持体の製造するためのアルミニウム板の表面加工技術ではないので、平版印刷版用原版の支持体を製造するアルミニウム板に凹凸を形成するためのエンボス版にどのような凹凸パターンを形成すればよいかが開示されていない。
【００１２】
即ち、従来技術で得られたエンボス版は寿命が短いと共に、このエンボス版で凹凸が形成されたアルミニウム板を用いて製造された平版印刷版用支持体の上に記録層を有して成る平版印刷版は、印刷特性、特に耐刷性（印刷枚数）、感度、更には汚れにくさにおいて未だ十分とは言えない。
【００１３】
(4) また、従来のアルミニウム化粧板に形成される凹凸パターンは、光沢感の改質やペイントとの密着性向上の点で十分ではなく、また、平版印刷版用支持体と同様にエンボス版の寿命の点でも問題があった。このことから、光沢感の改質やペイントとの密着性に優れたアルミニウム化粧板を製造することのできる凹凸パターンのエンボス版を如何に形成するかが課題になっていた。
【００１４】
本発明はこのような事情に鑑みて成されたもので、アルミニウム板に凹凸パターンを転写するエンボス版（例えばエンボスローラ）の寿命を向上できると共に、例えば平版印刷版用支持体の製造に適用したときには、耐刷性、感度、汚れにくさに優れたアルミニウム製の平版印刷版用支持体を製造することができ、アルミニウム化粧板の製造に適用したときには光沢感やペイントとの密着性に優れたアルミニウム化粧板を製造することができるアルミニウム板の表面加工方法及び、その製造方法で製造された平版印刷版用支持体並びにその平版印刷版用支持体で製造された平版印刷版を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、放電加工により形成した特定の表面粗さの凹凸パターンを有するエンボス版、例えばエンボスローラローラを用いて、アルミニウム板に凹凸パターンを転写して、アルミニウム板の少なくとも片面に凹凸を形成し、該形成したアルミニウム板を化学的エッチング処理、電気化学的な粗面化処理を行い平版印刷版用支持体とすれば、印刷性能、特に耐刷性、感度、汚れにくさに優れた平版印刷版を製造することができると共に、エンボス版の寿命も延ばすことができるという知見を得ることができた。また、本発明におけるエンボス版の凹凸パターンを放電加工で形成する技術は、平版印刷版用支持体に限らず例えばアルミニウム化粧板にも適用でき、かかるエンボス版を使用して製造した凹凸パターンを有するアルミニウム板を使用すれば、光沢感やペイントとの密着性に優れたアルミニウム化粧板を製造することができ、しかもエンボス版の寿命も延ばすことができることが分かった。
【００１６】
本発明の請求項１のアルミニウム板の表面加工方法は、前記目的を達成するために、アルミニウム板の少なくとも片面に、エンボス版を有する表面加工手段で該エンボス版の凹凸パターンを転写することにより前記アルミニウム板の表面加工を行うアルミニウム板の表面加工方法において、前記アルミニウム板に転写する前記エンボス版の凹凸パターンを放電加工により形成することを特徴とする。
【００１７】
本発明の請求項１によれば、エンボス版の凹凸パターンの形成を放電加工により行うことで、凹凸をつけたエンボス版表面の山の位置や高さが揃っているので、エンボス版の寿命を向上することができる。また、凹凸パターンの形成を放電加工により行うことで、複雑で微細な凹凸パターンを形成することができる。従って、本発明のアルミニウム板の表面加工方法を、例えば平版印刷版用支持体の製造に適用したときには、耐刷性、感度、汚れにくさに優れたアルミニウム製の平版印刷版用支持体を製造することができ、アルミニウム化粧板の製造に適用したときには光沢感やペイントとの密着性に優れたアルミニウム化粧板を製造することができる。                          
【００１８】
請求項２は請求項１において、前記アルミニウム板は平版印刷版用支持体を製造するためのアルミニウム板であって、該アルミニウム板に転写する前記エンボス版の凹凸パターンは算術平均粗さＲａが０．３μｍ以上１．０μｍ以下で、平均凹凸周期ＲＳｍが１５μｍ以上１５０μｍ以下であることを特徴とする。
【００１９】
ここで、エンボス版の凹凸パターンは算術平均粗さＲａ、及び平均凹凸周期ＲＳｍの測定は、ＩＳＯ４２８７による。
【００２０】
請求項２によれば、エンボス版の凹凸パターンの形成を放電加工により行うことで、凹凸をつけたエンボス版表面の山の位置や高さが揃っているので、エンボス版の寿命を向上することができる。また、エンボス版に形成した凹凸パターンは、算術平均粗さＲａが０．３μｍ以上１．０μｍ以下で、平均凹凸周期ＲＳｍが１５μｍ以上１５０μｍ以下であるので、このエンボス版で凹凸パターンが転写されたアルミニウム板に、化学的エッチング処理、及び電気化学的粗面化処理を行って製造される平版印刷版用支持体を用いて平版印刷版を製造すれば、印刷性能、特に印刷枚数と感度に優れ、汚れにくさに優れた平版印刷版を得ることができる。
【００２１】
即ち、エンボス版の凹凸パターンの算術平均粗さＲａが０．３μｍ未満では、アルミニウム板に充分な凹凸を転写することができず、このアルミニウム板を用いて平版印刷版用支持体を製造したときはシャイニーが劣る平版印刷版となってしまう。また、算術平均粗さＲａが１．０μｍを超えるエンボス版を放電加工で作ったときは凸部の高さが揃わないため、このアルミニウム板を用いて平版印刷版用支持体を製造すると感度が劣る平版印刷版となってしまう。従って、エンボス版の凹凸パターンは、算術平均粗さＲａが０．５μｍ以上であることが必要であり、０．６μｍ以上がより好ましい。また、算術平均粗さＲａは１．０μｍ以下であることが必要であり、０．８μｍ以下がより好ましい。また、平均凹凸周期ＲＳｍが１５μｍ未満のエンボス版では、アルミニウム板に充分なＲａを転写することが難しく、平均凹凸周期ＲＳｍが１５０μｍを超えたエンボス版では、転写されたアルミニウム板の表面積が小さくなり、このアルミニウム板を用いて平版印刷版用支持体を製造したときには、充分な耐刷性を得ることができない。従って、平均凹凸周期ＲＳｍは１５μｍ以上であることが必要であり、２０μｍ以上がより好ましい。また、１５０μｍ以下であることが必要であり、１００μｍ以下がより好ましい。
【００２２】
請求項３は請求項１において、前記アルミニウム板はアルミニウム化粧板を製造するためのアルミニウム板であることを特徴とする。
【００２３】
請求項３によれば、エンボス版の凹凸パターンの形成を放電加工により行うことで、凹凸をつけたエンボス版表面の山の位置や高さが揃っているので、エンボス版の寿命を向上することができる。また、放電加工によりエンボス版の凹凸パターンを形成することで、光沢感やペイントとの密着性に優れたアルミニウム化粧板を製造することができる。アルミニウム化粧板を製造する際の、エンボス版の凹凸パターンは、例えば平版印刷版用支持体と同様の算術平均粗さＲａが０．３μｍ以上１．０μｍ以下で、平均凹凸周期ＲＳｍが１５μｍ以上１５０μｍ以下であるものを使用することができる。
【００２４】
請求項４は請求項１〜３の何れか１において、前記放電加工は、加工液にケロシンを含み、銅または真鍮を含む材料を放電電極として用いるマイナス放電加工であって、印加電圧を１００Ｖ以上４００Ｖ以下とすることを特徴とする。
【００２５】
請求項４によれば、放電加工のスパークによりエンボス版の表面材料が溶融したり揮発するが、加工液に含まれるケロシンも同時に局部加熱されて急速に気化する。この気化するときの体積の膨張により閉じ込め作用が生じ、これによりスパーク周辺に発生する高圧力により溶融あるいは揮発したエンボス版の表面材料が、その表面から急速に除去される。また、放電電極として電気抵抗の小さな銅又は真鍮を用いることが、微細な凹凸を形成する上で好ましい。また、マイナス放電を用いることにより、エンボス版に均一な凹凸パターンを形成することができる。更に、印加電圧は高い方が電極とエンボス版との距離が大きい状態で放電できるため、熱や溶融片の放出効率を高くできるのでよいが、本発明の凹凸パターンを形成するには印加電圧を１００Ｖ以上４００Ｖ以下にすることが好ましい。
【００２６】
請求項５は請求項１〜４の何れか１において、前記加工液には、平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下の微粒子が１ｇ／リットル以上２０ｇ／リットル以下の範囲で含まれると共に、前記微粒子としてグラファイト、シリコン、モリブデンサルファイドの少なくともいずれか１つが含まれていることを特徴とする。
【００２７】
請求項５によれば、加工液に、平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下の微粒子を１ｇ／リットル以上２０ｇ／リットル以下の範囲で含めることにより、より微細な凹凸のパターンニングをエンボス版に施すことができる。微粒子としては、グラファイト、シリコン、モリブデンサルファイドの少なくともいずれか１つを好ましく使用することができる。
【００２８】
請求項６は請求項１〜５の何れか１において、前記エンボス版を形成する材料のビッカース硬度は、５００Ｈｖ以上１５００Ｈｖ以下であることを特徴とする。
【００２９】
ビッカース硬度は、放電加工により出来上がったエンボス版の凹凸の寿命において重要であり、５００Ｈｖ未満であると、形成した凹凸パターンの算術平均粗さＲａが圧延処理で急激に低下すると共に、１５００Ｈｖを超えると脆性が大きくなって、圧延処理のときに凹凸が破損する危険がある。
【００３０】
請求項７は請求項１〜６の何れか１において、前記エンボス版を形成する材料が、ハードクロムメッキ、リン、あるいはリンとホウ素とを含むニッケルメッキ、炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、炭化ホウ素（Ｂ4 Ｃ）、ホウ化チタン（ＴｉＢ2 ）から選ばれる少なくとも１種類の化合物の微粒子を共析させるクロムメッキまたはニッケルメッキのいずれかひとつのメッキが施されたものであることを特徴とする。
【００３１】
請求項７により、放電加工されるエンボス版の表面に硬質層を形成すれば、エンボス版全体を硬質材で形成することを必要としないで、好ましい硬度であるビッカース硬度５００Ｈｖ以上１５００Ｈｖ以下を得ることができる。この場合の硬質層の厚みは５μｍ以上３００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以上１００μｍ以下がより好ましい。
【００３２】
請求項８は請求項７において、前記メッキを施して形成されたメッキ層を熱硬化処理し、前記熱硬化処理を３００°Ｃ以上１０００°Ｃ以下で少なくとも１時間行うことを特徴とする。この熱硬化処理により、メッキ層である硬質層を更に硬化することができるからである。
【００３３】
請求項９は請求項１〜８の何れか１において、前記エンボス版を有する表面加工手段は、ローラ周面に前記凹凸パターンが形成されたエンボスローラであり、該エンボスローラで前記アルミニウム板を冷間圧延して前記アルミニウム板に凹凸パターンを転写することを特徴とする。
【００３４】
エンボス版を有する表面加工手段としてエンボスローラを使用し、このエンボスローラでアルミニウム板を所望の厚みに圧延しながらアルミニウムに凹凸パターンを転写すれば、圧延工程の中で転写も一緒に行え、効率的である。この場合、最終板厚に調整する冷間圧延、または最終板厚調整後の表面形状を仕上げる仕上げ冷間圧延の工程段階でアルミニウム板に凹凸パターンを転写することが好ましい。これにより、大きなコストダウンを図ることができるからである。凹凸パターンのアルミニウム板への転写は、アルミニウム板の片面（表面）のみにするのが通常である。しかし、平版印刷版の特性上、アルミニウム板の裏面、即ち両面に凹凸パターンを形成した方が良い場合もある。
【００３５】
請求項１０は請求項９において、前記冷間圧延時の圧下率は０．５〜２０％であることを特徴とする。圧下率は転写精度に影響し、圧下率０．５〜２０％において精度の良い転写を行うことができるからである。更に好ましい圧下率は１．０〜８％であり、特に好ましい圧下率は１．０〜５％である。
【００３６】
本発明の請求項１１の平版印刷版用支持体は前記目的を達成するために、請求項１、２、４〜１０の何れか１の表面加工方法でエンボス版の凹凸パターンが転写されたアルミニウム板に、化学的エッチング処理、及び電気化学的粗面化処理を行って製造されることを特徴とする。
【００３７】
本発明のアルミニウム板の表面加工方法で凹凸が形成されたアルミニウムに、化学的エッチング処理、及び電気化学的粗面化処理を行うことで、より印刷特性に優れた平版印刷版用支持体を得ることができるからである。
【００３８】
本発明の請求項１２の平版印刷版は、請求項１１に記載の平版印刷版用支持体上に記録層を有して成ることを特徴とする。
【００３９】
本発明の表面加工方法で凹凸が形成されたアルミニウム板に、化学的エッチング処理、及び電気化学的粗面化処理を行うことで平版印刷版用支持体を製造し、この平版印刷版用支持体の上に記録層を形成した製造した平版印刷版源版は、印刷特性、特に耐刷性、感度、及び汚れにくさに優れている。
【発明の効果】
【００４０】
本発明のアルミニウム板の表面加工方法及び平版印刷版用支持体並びに平版印刷版によれば、アルミニウム板に凹凸パターンを転写するエンボス版（例えばエンボスローラ）の寿命を向上できると共に、例えば平版印刷版用支持体の製造に適用したときには、耐刷性、感度、汚れにくさに優れたアルミニウム製の平版印刷版用支持体を製造することができ、アルミニウム化粧板の製造に適用したときには光沢感やペイントとの密着性に優れたアルミニウム化粧板を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下、添付図面に従って、本発明に係るアルミニウム板の表面加工方法及び平版印刷版用支持体並びに平版印刷版の好ましい実施の形態について詳説する。尚、本実施の形態では、主として平版印刷版用支持体を製造する例で説明するが、エンボス版の凹凸パターンを放電加工で形成する技術は、アルミニウム化粧板の製造にも適用することができる。また、エンボス版を有する表面加工手段としてエンボスローラ（転写ローラという場合もある）の例で以下に説明するが、平板状のエンボス版でアルミニウム板をプレスすることでエンボス版の凹凸パターンをアルミニウム板に転写してもよい。
【００４２】
本発明者らは鋭意研究の結果、特定の表面粗さ形状を有するエンボスローラを用いて、アルミニウム板を圧延して、アルミニウム板表面に凹凸を形成し、化学的エッチング処理、電気化学的な粗面化処理を行い平版印刷版用支持体とすれば、印刷性能、特に印刷枚数と感度に優れ、汚れにくさに優れた平版印刷版が得られることを知見し、アルミニウム板表面に凹凸を形成する方法を発明した。
【００４３】
本発明の表面加工方法で凹凸が形成されたアルミニウム板は、平版印刷版用支持体に用いることが好ましい。最も好ましいのはＣＴＰ用平版印刷板用支持体として用いることである。本発明の表面加工方法で凹凸が形成されたアルミニウム板には、角度が急峻でかつ深い凹部が生成しにくいため、感度の高い平版印刷版用支持体を得ることができる。
【００４４】
[アルミニウム板表面に凹凸を形成する方法］
本発明の表面加工方法は、ロール表面を放電加工で凹凸パターンを形成し、該凹凸パターンの算術平均粗さＲａを０．３μｍ以上１．０μｍ以下とし、平均凹凸周期ＲＳｍを１５μｍ以上１５０μｍ以下である鋼製のエンボスローラを用いて、アルミニウム板を圧延して、アルミニウム板表面に凹凸を形成する。
【００４５】
＜エンボスローラ表面の特性＞
本発明のアルミニウム板の表面加工方法に用いるエンボスローラは、表面を放電加工で粗面形成し、算術平均粗さＲａを０．３μｍ以上１．０μｍ以下、平均凹凸周期ＲＳｍを１５μｍ以上１５０μｍ以下の形状を有する。これは、Ｒａが０．３μｍ未満では充分な凹凸を転写することができず、このアルミニウム板を用いて平版印刷版用支持体を製造したときはシャイニーが劣る平版印刷版となってしまう。Ｒａが１．０μｍを超えるロール表面を放電加工で作ったときは凸部の高さが揃わないため、このアルミニウム板を用いて平版印刷版用支持体を製造すると感度が劣る平版印刷版となってしまう。従って、エンボスローラのロール表面の平均表面粗さＲａは、０．５μｍ以上が好ましく、０．６μｍ以上がより好ましい。また、０．９μｍ以下が好ましく、０．８μｍ以下がより好ましい。以上が、平版印刷版を製造する際にシャイニーと感度とを両立できる優れた凹凸を有する平版印刷版用支持体を製造する上で好ましい範囲である。
【００４６】
平均凹凸周期ＲＳｍが１５μｍ未満のロールでは圧延後のアルミニウム板に充分なＲａを得ることが難しく、ＲＳｍが１５０μｍを超えると、平版印刷版用支持体を製造したときに充分な印刷枚数が得られる平版印刷版にならない。従って、ＲＳｍは、１５μｍ以上が好ましく、２０μｍ以上がより好ましい。また、１５０μｍ以下であるのが好ましく、１００μｍ以下がより好ましい。この理由は、ＲＳｍが大きいと表面積が小さくなり充分な耐刷性が得られないからである。
【００４７】
＜エンボスローラの製造方法＞
本発明におけるエンボスローラの製造方法は特に限定されないが、以下の製造方法が特に好ましい。
【００４８】
［１] エンボスローラの材質と前処理
エンボスローラは鋼製、特に鍛鋼製のものが好ましく使用される。しかし、本発明に用いるエンボスローラのロール材質は、特にこだわるものではなく普通鋼、一般的に圧延用ロールとして用いられる工具鋼（ＳＫＤ）、ハイス鋼（ＳＫＨ）、高炭素クロム軸受鋼（ＳＵＪ）、炭素とクロムとモリブデンとバナジウムの合金元素を含む鍛造鋼など、いずれでも良い。ロール寿命を延長するためにクロム１０〜２０質量％程度含有させた高クロム合金鋳鉄を用いてもよい。
【００４９】
エンボスローラの円筒度、平行度を出すために予め砥石などで研磨されるが、その表面をミクロ的に観察したときには筋状の凹凸が存在している。それを更に鏡面仕上げをして筋状の凹凸を無くすことにより、その後の放電加工でローラ表面を粗面化したときに高さの揃った凸部を得られ易くなる。鏡面仕上げとしては砥石による研削、バフ研磨処理、電解研磨処理などが挙げられるが、バフ研磨処理が特に好ましい。本発明に用いるエンボスローラは、陽極とした電解処理を行う前に、焼き入れ、またはラジカル窒化処理など硬質化処理をすることが好ましい。
【００５０】
機械的又は電気化学的に凹凸を形成する前のエンボスローラのロール表面の平均表面粗さＲａは、０．０１〜０．３μｍ、Ｒｙ０．０１〜３μｍ、特に好ましくは、Ｒａが０．１５〜０．２５μｍ、Ｒｙが０．０５〜２μｍであることが好ましい。Ｒａが０．０１μｍ未満の表面を安価に得ることは困難であり、Ｒａが０．３μｍを超えると、ローラ表面に機械的または電気化学的に凹凸を形成したときのローラ表面の凸部の高さが揃わず、エンボスローラの寿命が短くなることがある。Ｒｙが０．０１未満の表面を安価に得ることは困難であり、Ｒｙが３μｍを超えると、ローラ表面に機械的または電気化学的に凹凸を形成したときのローラ表面の凸部の高さが揃わず、エンボスローラの寿命が短くなる。
【００５１】
［２］ エンボスローラのローラ表面に凹凸を形成する工程
次に、エンボスローラにおけるエンボス版について詳細に説明する。エンボスローラは、金属表面に凹凸を形成する種々の方法、つまり、放電加工、ショット加工、エッチング加工、レーザー加工等にて作成することができるが、本発明においては、放電加工を適用することが重要である。
【００５２】
図１は、本発明のアルミニウム板の表面加工方法において、アルミニウム板に凹凸を転写するエンボスローラのローラ表面（エンボス版部分）に凹凸パターンを放電加工により形成する概略図である。
【００５３】
放電加工機３３は、主として、ヘッド３４と、加工液３５ａの供給槽３５と、電源３７と、電極３８とで構成される。電極３８と被加工物であるエンボスローラ２２とは近接しており、供給槽３５内の加工液３５ａがポンプ３９によりヘッド３４を通過して電極３８に送られる。そして、この加工液３５ａは、被加工物であるエンボスローラ２２の表面の加工対象箇所に達する。電極３８及びエンボスローラ２２の両表面は、完全な平滑面ではないために、電源３７がＯＮとされ次第に電界強度が増すと、電極３８あるいはエンボスローラ２２の表面のある１点で、電界強度がその点の加工液３５ａの局部電離を引き起こすのに十分な値となり、この間でスパーク放電が発生する。この各単発放電により、エンボスローラ２２の表面に微小なクレータが生成される。このクレータの累積により、エンボスローラのローラ表面に凹凸パターン（エンボスパターン）が形成される。この場合、別途加工液槽を設けて、エンボスローラ２２及び電極３８を、加工液３５ａの中に浸漬した状態で放電させることもできる。
【００５４】
スパーク温度は数１０００°Ｃ以上となるので、スパークが発生した微小な領域では、エンボスローラ２２の表面材料が溶融したり揮発したりする。本実施の形態では、加工液３５ａとしてケロシンを用いており、ケロシンも同時に局部加熱され、急速に気化し、体積が膨張する。周辺のケロシンの慣性による閉じこめ作用が起こり、スパーク箇所周辺は高圧力が発生するが、この圧力により、溶融あるいは揮発したエンボスローラ２２の材料は、その表面から急速に除去される。この場合、加工液３５ａにケロシンが含まれていればよい。また、エンボスローラ２２は、幅方向への駆動及び回転駆動されることにより、その外周面全体を連続して放電加工される。但し、外周面全体に対する加工は、エンボスローラ２２の幅方向駆動と回転駆動とによる連続方式に限定されるものではなく、電極側を稼働式とするものや、あるいは一定範囲毎に加工を施す方式であってもよい。
【００５５】
エンボスローラ２２の少なくともエンボス版部分であるローラ表面の金属は、ビッカーズ硬度が５００Ｈｖ以上の、炭素とクロムを含む鉄合金であればいずれでも良く、好ましくは５００Ｈｖ以上１５００Ｈｖ以下のものである。これらの金属としては、高炭素鋼、クロム−モリブデン鋼、ステンレス鋼などが挙げられる。ここで、ビッカーズ硬度は、対面角１３６度の正四角錐ダイアモンド圧子を用いて材料に荷重を加え、その際の荷重量と材料面上のピラミッド形圧痕の対角線長さから評価される物性値である。但し、好ましい硬さは、ビッカース硬度による上記値に限定されず、他の硬さ測定法においても、上記の好ましい値と一般的に対応されるべく同等なレベルであればよい。
【００５６】
また、エンボスローラのローラ表面を硬化する目的で、窒化処理や、メッキ処理等を適用することができる。窒化処理は、ステンレスに代表される鉄合金を真空下でアンモニアなどの窒素化合物を導入して、高温反応させるものであり、メッキ処理としては、ハードクロムメッキが代表的な例であり、更にリンあるいはリンとホウ素とを含むニッケルメッキ（日本カニゼン株式会社のカニゼンメッキ、カニボロンメッキ）や、炭化チタン（ＴｉＣ）、炭化タングステン（ＷＣ）、炭化ケイ素（ＳｉＣ）、炭化ホウ素（Ｂ4 Ｃ）、ホウ化チタン（ＴｉＢ2 ）から選ばれる少なくとも１種類の化合物の微粒子を共析させたクロムメッキまたはニッケルメッキも挙げることができ、凹凸パターンを形成する前にエンボス版部分の表面に施される。これらのメッキ層（硬質層）が付与されたあと、このメッキ層を３００°Ｃ以上１０００°Ｃ以下で少なくとも１時間熱硬化させると更に好ましい。尚、共析とは、冷却につれて、液体から２種類以上の固体が同時に析出することである。これら硬質なメッキ層は５μｍ以上３００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以上１００μｍ以下がさらに好ましい。
【００５７】
エンボスローラ２２の放電加工が施されるローラ表面の材質の重要なパラメータは硬度と、融点と、熱伝導係数とであり、これらは放電によって発生する熱で表面が彫られていく形状や速度に影響する。即ち、硬度や融点が異なると、放電で同じ熱量が発生しても、ローラ表面の材料が融解して彫られる量や形が異なるものとなる。また、熱伝導係数もスパークで局所的に加熱された熱が拡散する速度に影響するため、凹凸周期や深さに反映されるものとなる。
【００５８】
エンボスローラ２２のローラ表面に、上述の様々な硬化処理を行った場合、同じ放電加工によって得られるエンボスローラ２２の凹凸パターンは、算術平均粗さＲａや平均凹凸周期ＲＳｍのみならず、大小の凹凸が重なりあった結果の複合波形や凹凸配置の不規則性が変化する。その結果、凹凸パターンが付与された後のアルミニウム板の耐刷性や感度といった明らかに表面形状に依存する特性だけでなく、シャイニーや汚れにくさなどにも大きく影響する。本発明のように、エンボスローラ２２の凹凸パターンを放電加工により作製することにより、放電加工条件とエンボスローラ２２のローラ表面材質との組み合わせを適宜設定することにより、様々な特性のアルミニウム板を作製することができる。
【００５９】
本発明において、放電加工は、汎用の形彫放電加工機（例えば、三菱電機社製、Ｓｏｄｉｃｋ社製等）等を利用することができる。微細な凹凸形状を得るためには、μｍ単位の位置制御が可能な、ＣＡＤ／ＣＡＭ機能を搭載している機種が好ましい。
【００６０】
放電加工には電極に正の電位を掛けるプラス放電と負の電位を掛けるマイナス放電とがあるが、本発明ではマイナス放電とすることが好ましい。プラス放電の場合、ワーク表面で発生する熱量が高いため加工速度は速いが、不均一な凹凸パターンとなることがしばしば起こる。これに対して、マイナス放電の場合には、電極の消耗は激しいが、エンボスローラ２２に形成される凹凸パターンはより均一となるからである。
【００６１】
本発明においては、放電電極は、電気抵抗が低く熱伝導係数が高い銅を用いることが好ましい。この場合、一つ一つの局所放電を微小にし、放電エネルギーを小さくして微細な凹凸パターンを得るためには平板電極が好ましく、その平板電極の厚みを好ましくは５ｍｍ以下、更に好ましくは３ｍｍ以下、最も好ましくは２ｍｍ以下にするとよい。尚、銅電極で十分な剛性が得られない場合には、真鍮を用いることが好ましい。
【００６２】
また、放電電圧の制御には、電源側でパルスを発生させる方法と、電源回路と放電加工機とが形成するＲＣ回路を利用するコンデンサー放電とがある。近年では電源のスイッチング技術が向上し、高い電圧−電流においても正確なパルス制御が可能となっているが、本発明においてはコンデンサー放電の方が広い面積で、均質な凹凸パターンが得られ好ましい。本発明の目的とする不規則で微細な凹凸面（凹凸パターンが形成される前のローラ面）に対して放電を発生させる場合には、電源側のパルス発生では十分な制御が困難であり、放電電流の波形が乱れているからである。
【００６３】
また、印加電圧は高い方が電極とエンボスローラ２２間の距離が大きい状態で放電できるため、熱や溶融片の放出効率が高く好ましい。半導体電源の上限に当たる１００Ｖ以上５００Ｖ以下を用いるが、本発明においては、１００Ｖ以上４００Ｖ以下とすることが好ましい。
【００６４】
本発明における放電加工に用いる加工液３５ａは、一般的な加工液としての各種ケロシンを利用することができる。また、ケロシンに、平均粒子径が１μｍ以上１０μｍ以下のグラファイト、シリコン、モリブデンサルファイド、アルミナ、シリコンカーバイド等の粒子を、１ｇ／Ｌ以上２０ｇ／Ｌ以下の濃度で添加することによって、より微細な凹凸パターンニングを施すことができる。これらの微粒子は、それぞれを単独で用いてもよいし、複数種を組み合わせて用いてもよい。
【００６５】
＜エンボスローラを用いてアルミニウム板表面に凹凸を形成する方法＞
本発明においては、上記に示されるようなアルミニウム板をその圧延工程等において、本発明におけるエンボスローラ２２を用いてプレス圧延、転写等により凹凸を形成させることが好ましい。
【００６６】
圧延工程の中でも、最終板厚に調整する冷間圧延、又は最終板厚調整後の表面形状を仕上げる仕上げ冷間圧延とともに、エンボスローラ２２の凹凸面をアルミニウム板に圧接させて凹凸パターンをアルミニウム板に転写し、これによりアルミニウム板の表面に凹凸パターンを形成させる方法が好ましい。最後の冷間圧延と共にアルミニウム板の表面に凹凸をつけ、工程を簡単化することにより、大きなコストダウンを可能にできる。このような方法として、具体的には、特開平６−２６２２０３号公報に記載されている方法を用いることができる。
【００６７】
このように、本発明における特定の凹凸パターンを有するエンボスローラ２２で凹凸が転写されたアルミニウム板を用いて平版印刷版用支持体を製造することにより、ブラシと研磨材とで凹凸を形成した平版印刷版用支持体より、平均ピッチと深さが均一な凹凸パターンを得ることができるので耐汚れ性が向上する。また、本発明の表面加工後のアルカリエッチング処理及び粗面化処理で消費されるエネルギーを少なくしつつ、印刷機上における湿し水の量の調整を容易にすることができ、シャイニーに優れる。また、後述する第一アルカリエッチング処理において、エッチング量を１０ｇ／ｍ2 程度以下と少なくすることができ、コストの削減が可能になる。さらに、凹凸パターンを有するアルミニウム板を用いると得られる平版印刷版用支持体の表面積が増大するため、耐刷性により優れる。
【００６８】
エンボスローラによるアルミニウム板への凹凸パターンの転写は、通常のアルミニウム板の最終冷間圧延工程で行うのが特に好ましい。また、転写により形成される凹凸は、アルミニウム板の両面に形成されるのがより好ましい。これにより、表面と裏面のアルミニウム板の伸び率を同程度に調整できるので平面性のよいアルミニウム板を得ることができるからである。
【００６９】
上述のエンボスローラ２２を用いてアルミニウム板を圧延するときの好ましい圧下率は０．５〜２０％であり、１〜８％であるのがより好ましく、１〜５％が最も好ましい。転写のための圧延を１〜３パスで行ってもよい。また、本発明の表面加工方法により凹凸パターンが形成されたアルミニウム板の表面形状は、ＪＩＳで規定のＲａ、０．４〜１．０μm 、R Ｓｍ、１５〜１５０μm 、Ｒｙ、１〜１０μm 、Δａ、１〜１０度の範囲にあることが好ましい。
【００７０】
＜基板としてのアルミニウム板＞
本発明において平版印刷版用支持体やアルミニウム化粧板の基板として用いられるアルミニウム板は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属、即ちアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。純アルミニウム板のほか、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板や、アルミニウムまたはアルミニウム合金がラミネートされ又は蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙を用いることもできる。更に、特公昭４８−１８３２７号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートを用いることもできる。尚、本実施の形態では、上記に挙げたアルミニウムもしくはアルミニウム合金からなる各種の基板またはアルミニウムもしくはアルミニウム合金からなる層を有する各種の基板をアルミニウム板と総称して用いる。前記のアルミニウム合金に含まれてもよい異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等があり、合金中の異元素の含有量は１０質量％以下である。
【００７１】
本発明においては、アルミニウム板として純アルミニウム板を用いるのが好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、わずかに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に用いられるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材の、例えば、ＪＩＳ  Ａ１０５０、ＪＩＳ  Ａ１１００、ＪＩＳ  Ａ３００５、国際登録合金  ３１０３Ａ等のアルミニウム合金板を適宜利用することができる。
【００７２】
本発明に用いられるアルミニウム板の厚みは、０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度であり、０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍであるのが好ましく、０．２ｍｍ〜０．３ｍｍであるのがより好ましい。この厚みは、平版印刷版用支持体の場合には印刷機の大きさ、印刷版の大きさ、ユーザーの希望等により適宜変更することができる。また、アルミニウム化粧板の場合もユーザーの希望等により適宜変更することができる。
【００７３】
アルミニウム板としてアルミニウム合金を使用する場合には、例えば、下記の方法を採用することができる。まず、所定の合金成分含有量に調整したアルミニウム合金溶湯に、常法に従い、清浄化処理を行い、鋳造する。清浄化処理には、溶湯中の水素等の不要ガスを除去するために、フラックス処理、アルゴンガス、塩素ガス等を用いる脱ガス処理、セラミックチューブフィルタ、セラミックフォームフィルタ等のいわゆるリジッドメディアフィルタや、アルミナフレーク、アルミナボール等をろ材とするフィルタや、グラスクロスフィルタ等を用いるフィルタリング処理、あるいは、脱ガス処理とフィルタリング処理を組み合わせた処理が行われる。
【００７４】
これらの清浄化処理は、溶湯中の非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥や、溶湯に溶け込んだガスによる欠陥を防ぐために実施されることが好ましい。溶湯のフィルタリングに関しては、特開平６−５７４３２号、特開平３−１６２５３０号、特開平５−１４０６５９号、特開平４−２３１４２５号、特開平４−２７６０３１号、特開平５−３１１２６１号、特開平６−１３６４６６号の各公報等に記載されている。また、溶湯の脱ガスに関しては、特開平５−５１６５９号公報、実開平５−４９１４８号公報等に記載されている。本願出願人も、特開平７−４００１７号公報において、溶湯の脱ガスに関する技術を提案している。
【００７５】
ついで、上述したように清浄化処理を施された溶湯を用いて鋳造を行う。鋳造方法に関しては、ＤＣ鋳造法に代表される固体鋳型を用いる方法と、連続鋳造法に代表される駆動鋳型を用いる方法がある。
【００７６】
ＤＣ鋳造においては、冷却速度が０．５〜３０°Ｃ／秒の範囲で凝固する。０．５°Ｃ／秒未満であると粗大な金属間化合物が多数形成されることがある。ＤＣ鋳造を行った場合、板厚３００〜８００ｍｍの鋳塊を製造することができる。その鋳塊を、常法に従い、必要に応じて面削を行い、通常、表層の１〜３０ｍｍ、好ましくは１〜１０ｍｍを切削する。その前後において、必要に応じて、均熱化処理を行う。均熱化処理を行う場合、金属間化合物が粗大化しないように、４５０〜６２０°Ｃで１〜４８時間の熱処理を行う。熱処理が１時間より短い場合には、均熱化処理の効果が不十分となることがある。尚、均熱化処理を行わない場合には、コストを低減させることができるという利点がある。
【００７７】
その後、熱間圧延、冷間圧延を行ってアルミニウム板の圧延板とする。熱間圧延の開始温度は３５０〜５００°Ｃが適当である。熱間圧延の前もしくは後、またはその途中において、中間焼鈍処理を行ってもよい。中間焼鈍処理の条件は、バッチ式焼鈍炉を用いて２８０〜６００°Ｃで２〜２０時間、好ましくは３５０〜５００°Ｃで２〜１０時間加熱するか、連続焼鈍炉を用いて４００〜６００°Ｃで６分以下、好ましくは４５０〜５５０°Ｃで２分以下加熱するかである。連続焼鈍炉を用いて１０〜２００°Ｃ／秒の昇温速度で加熱して、結晶組織を細かくすることもできる。
【００７８】
以上の工程によって、所定の厚さ、例えば、０．１〜０．５ｍｍに仕上げられたアルミニウム板は、更にローラレベラ、テンションレベラー等の矯正装置によって平面性を改善してもよい。平面性の改善は、アルミニウム板をシート状にカットした後に行ってもよいが、生産性を向上させるためには、連続したコイルの状態で行うことが好ましい。また、所定の板幅に加工するため、スリッタラインを通してもよい。また、アルミニウム板同士の摩擦による傷の発生を防止するために、アルミニウム板の表面に薄い油膜を設けてもよい。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、不揮発性のものが適宜用いられる。
【００７９】
一方、連続鋳造法としては、双ロール法（ハンター法）、３Ｃ法に代表される冷却ロールを用いる方法、双ベルト法（ハズレー法）、アルスイスキャスターＩＩ型に代表される冷却ベルトや冷却ブロックを用いる方法が、工業的に行われている。連続鋳造法を用いる場合には、冷却速度が１００〜１０００°Ｃ／秒の範囲で凝固する。連続鋳造法は、一般的には、ＤＣ鋳造法に比べて冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対する合金成分固溶度を高くすることができるという特徴を有する。連続鋳造法に関しては、本願出願人によって提案された技術が、特開平３−７９７９８号、特開平５−２０１１６６号、特開平５−１５６４１４号、特開平６−２６２２０３号、特開平６−１２２９４９号、特開平６−２１０４０６号、特開平６−２６３０８号の各公報等に記載されている。
【００８０】
連続鋳造を行った場合において、例えば、ハンター法等の冷却ロールを用いる方法を用いると、板厚１〜１０ｍｍの鋳造板を直接、連続鋳造することができ、熱間圧延の工程を省略することができるというメリットが得られる。また、ハズレー法等の冷却ベルトを用いる方法を用いると、板厚１０〜５０ｍｍの鋳造板を鋳造することができ、一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に圧延することで、板厚１〜１０ｍｍの連続鋳造圧延板が得られる。
【００８１】
これらの連続鋳造圧延板は、ＤＣ鋳造について説明したのと同様に、冷間圧延、中間焼鈍、平面性の改善、スリット等の工程を経て、所定の厚さ、例えば、０．１〜０．５ｍｍの板厚に仕上げられる。連続鋳造法を用いた場合の中間焼鈍条件および冷間圧延条件については、本願出願人によって提案された技術が、特開平６−２２０５９３号、特開平６−２１０３０８号、特開平７−５４１１１号、特開平８−９２７０９号の各公報等に記載されている。
【００８２】
本発明に用いられるアルミニウム板は、ＪＩＳに規定されるＨ１８の調質が行われているのが好ましい。
【００８３】
このようにして製造されるアルミニウム板には、以下に述べる種々の特性を有することが好ましい。
【００８４】
アルミニウム板の強度は、平版印刷版用支持体として必要な腰の強さを得るため、０．２％耐力が１２０ＭＰａ以上であるのが好ましい。また、バーニング処理を行った場合にもある程度の腰の強さを得るためには、２７０°Ｃで３〜１０分間加熱処理した後の０．２％耐力が８０ＭＰａ以上であるのが好ましく、１００ＭＰａ以上であるのがより好ましい。特に、アルミニウム板に腰の強さを求める場合は、マグネシウム（Ｍｇ）やマンガン（Ｍｎ）を添加したアルミニウム材料を採用することができるが、腰を強くすると印刷機の版胴へのフィットし易さが劣ってくるため、用途に応じて、材質および微量成分の添加量が適宜選択される。これらに関して、本願出願人によって提案された技術が、特開平７−１２６８２０号公報、特開昭６２−１４０８９４号公報等に記載されている。
【００８５】
また、アルミニウム板は、引張強度が１６０±１５Ｎ／ｍｍ2 、０．２％耐力が１４０±１５ＭＰａ、ＪＩＳ  Ｚ２２４１およびＺ２２０１に規定される伸びが１〜１０％であるのがより好ましい。
【００８６】
アルミニウム板の結晶組織は、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理を行った場合、アルミニウム板の表面の結晶組織が面質不良の発生の原因となることがあるので、表面においてあまり粗大でないことが好ましい。アルミニウム板の表面の結晶組織は、幅が２００μｍ以下であるのが好ましく、１００μｍ以下であるのがより好ましく、５０μｍ以下であるのが更に好ましい。また、結晶組織の長さが５０００μｍ以下であるのが好ましく、１０００μｍ以下であるのがより好ましく、５００μｍ以下であるのが更に好ましい。これらに関して、本願出願人によって提案された技術が、特開平６−２１８４９５号、特開平７−３９９０６号、特開平７−１２４６０９号の各公報等に記載されている。
【００８７】
アルミニウム板の合金成分分布は、化学的粗面化処理や電気化学的粗面化処理を行った場合、アルミニウム板の表面の合金成分の不均一な分布に起因して面質不良が発生することがあるので、表面においてあまり不均一でないことが好ましい。これらに関して、本願出願人によって提案された技術が、特開平６−４８０５８号、特開平５−３０１４７８号、特開平７−１３２６８９号の各公報等に記載されている。
【００８８】
本発明に用いられるアルミニウム板は、連続した帯状のシート材または板材である。即ち、アルミニウムウェブであってもよく、製品として出荷される平版印刷版に対応する大きさ等に裁断された枚葉状シートであってもよい。
【００８９】
アルミニウム板の表面のキズは平版印刷版用支持体やアルミニウム化粧板に加工した場合に欠陥となる可能性があるため、平版印刷版用支持体とする表面処理工程の前の段階でのキズの発生は可能な限り抑制する必要がある。そのためには安定した形態で運搬時に傷付きにくい荷姿であることが好ましい。アルミニウムウェブの場合、アルミニウムの荷姿としては、例えば、鉄製パレットにハードボードとフェルトとを敷き、製品両端に段ボールドーナツ板を当て、ポリチュ−ブで全体を包み、コイル内径部に木製ドーナツを挿入し、コイル外周部にフェルトを当て、帯鉄で絞め、その外周部に表示を行う。また、包装材としては、ポリエチレンフィルム、緩衝材としては、ニードルフェルト、ハードボードを用いることができる。この他にもいろいろな形態があるが、安定して、キズも付かず運送等が可能であればこの方法に限るものではない。
【００９０】
以上の放電加工に関する技術、及び基板としてのアルミニウム板の特性は、アルミニウム化粧板を製造するエンボス版の場合も同様であり、次からは平版印刷版用支持体を製造するための工程である。
【００９１】
＜凹凸パターンを転写されたアルミニウム板の粗面化＞
凹凸パターンを転写されたアルミニウム板は、その後、化学的エッチング処理および電気化学的粗面化処理され、平版印刷版用アルミニウム支持体が製造され、感光層等の記録層を塗布されて平版印刷版が製造される。この場合、機械的粗面化、化学的粗面化、電気化学的粗面化処理、陽極酸化処理、親水化処理、封孔処理を行ってもよい。
【００９２】
好ましい粗面化処理の実施態様は以下の通りである。
（Ｉ）粗面化処理実施態様１
アルミニウム板を順に、
(1) 化学的にエッチング処理し
(2) 硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処理し
(3) 化学的にエッチング処理し
(4) 塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処理し
(5) 化学的にエッチング処理し
(6) 陽極酸化処理する方法。
（II）粗面化処理実施態様２
アルミニウム板を順に、
(1) 化学的にエッチング処理し
(2) 硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処理し
(3) 化学的にエッチング処理し
(4) 陽極酸化処理する方法。
（III）粗面化処理実施態様３
アルミニウム板を順に、
(1) 化学的にエッチング処理し
(2) 塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処理し
(3) 化学的にエッチング処理し
(4) 陽極酸化処理する方法。
（IV）粗面化処理実施態様４
アルミニウム板を順に、
(1) 化学的にエッチング処理し
(2) 塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処理し
(3) 化学的にエッチング処理し
(4) 硝酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処理し
(5) 化学的にエッチング処理し
(6) 陽極酸化処理する方法。
（Ｖ）粗面化処理実施態様５
アルミニウム板を順に、
(1) 化学的にエッチング処理し
(2) 塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処理し
(3) 化学的にエッチング処理し
(4) 塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的に粗面化処理し
(5) 化学的にエッチング処理し
(6) 陽極酸化処理する方法。
【００９３】
陽極酸化処理した後に、親水化処理、封孔処理、親水化処理と封孔処理を行うことが更に好ましく、封孔処理、または、封孔処理と親水化処理をおこなうことが特に好ましい。また、化学的なエッチング処理の後には酸性水溶液中でデスマット処理することが好ましい。
【００９４】
＜機械的粗面化処理＞
本発明においては、上述の表面に凹凸パターンを有するアルミニウム板に、以下で説明する回転するブラシと研磨材とを用いた機械的粗面化処理を行ってもよい。ブラシと研磨材とを用いた機械的粗面化処理を行うと、転写による凹凸パターンで表面積が少ない場合でも後のブラシグレイン処理で表面積を大きくとることができ、適切な保水性とすることができるからである。また、従来のように、ブラシと研磨材とでのみ粗面化処理を行っていた場合には、とがった凹凸が形成されて、残膜が残り易く、エッジのところに汚れが残り易いという問題があるが、本発明のように、表面に凹凸パターンを有するアルミニウム板に、ブラシと研磨材とを用いた機械的粗面化処理を行えば、この問題も解決することができる。また、後のアルカリエッチング量を少なくできコスト的にも有利である。
【００９５】
次に、機械的粗面化処理として好適に用いられるブラシグレイン法について詳しく説明する。
【００９６】
ブラシグレイン法は、一般に、円柱状の胴の表面に、ナイロン（商標名）、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛等のブラシ毛を多数植設したローラ状ブラシを用い、回転するローラ状ブラシに研磨材を含有するスラリー液を噴きかけながら、上記アルミニウム板の表面の一方または両方を擦ることにより行う。上記ローラ状ブラシおよびスラリー液の代わりに、表面に研磨層を設けたローラである研磨ローラを用いることもできる。
【００９７】
ローラ状ブラシを用いる場合、曲げ弾性率が好ましくは１０，０００〜４０，０００ｋｇ／ｃｍ2 、より好ましくは１５，０００〜３５，０００ｋｇ／ｃｍ2 であり、かつ、毛腰の強さが好ましくは５００ｇ以下、より好ましくは４００ｇ以下であるブラシ毛を用いる。ブラシ毛の直径は、一般的には、０．２〜０．９ｍｍである。ブラシ毛の長さは、ローラ状ブラシの外径および胴の直径に応じて適宜決定することができるが、一般的には、１０〜１００ｍｍである。
【００９８】
ナイロンブラシは複数本用いるのが好ましく、具体的には、３本以上がより好ましく、４本以上が特に好ましい。ブラシの本数を調整することにより、アルミニウム板表面に形成される凹部の波長成分を調整できる。
【００９９】
また、ブラシを回転させる駆動モータの負荷は、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して１ｋＷプラス以上が好ましく、２ｋＷプラス以上がより好ましく、８ｋＷプラス以上が特に好ましい。該負荷を調整することにより、アルミニウム板表面に形成される凹部の深さを調整することができる。ブラシの回転数は、１００回転以上が好ましく、２００回転以上が特に好ましい。
【０１００】
研磨材は公知の物を用いることができる。例えば、パミストン（パミスストーン）、ケイ砂、水酸化アルミニウム、アルミナ粉、炭化ケイ素、窒化ケイ素、火山灰、カーボランダム、金剛砂等の研磨材；これらの混合物を用いることができる。中でも、パミストン、ケイ砂が好ましい。ケイ砂は、パミストンに比べて硬く、壊れにくいので粗面化効率に優れる。また、水酸化アルミニウムは過度の荷重がかかると粒子が破損するため、局所的に深い凹部を生成させたくない場合に好適である。
【０１０１】
研磨材のメジアン径は、粗面化効率に優れ、かつ、砂目立てピッチを狭くすることができる点で、２〜１００μｍであるのが好ましく、２０〜６０μｍであるのがより好ましい。研磨材のメジアン径を調整することにより、アルミニウム板表面に形成される凹部の深さを調整することができる。
【０１０２】
研磨材は、例えば、水中に懸濁させて、スラリー液として用いる。スラリー液には、研磨材のほかに、増粘剤、分散剤（例えば、界面活性剤）、防腐剤等を含有させることができる。スラリー液の比重は０．５〜２であるのが好ましい。
【０１０３】
機械的粗面化処理に適した装置としては、例えば、特公昭５０−４００４７号公報に記載された装置を挙げることができる。ブラシと研磨材とを用いて機械的粗面化処理を行う装置の詳細については、本願出願人によって、特開２００２−２１１１５９号公報に記載されているものを用いることができる。
【０１０４】
本発明では、転写により表面に形成された凹凸パターンを有するアルミニウム板を、更に回転するブラシと研磨材とを用いて機械的粗面化処理する場合、Ｒａの増加量は０．３μｍ以下とするのが好ましく、更には０．２μｍ以下、０．１μｍ以下とするのがより好ましい。
【０１０５】
＜化学的表面処理＞
本発明における平版印刷版用支持体は、上記の表面に凹凸パターンが形成されたアルミニウム板に、化学的エッチング処理及び電気化学的粗面化処理（本発明において、両者を合わせて化学的表面処理という。）を施して製造される。
【０１０６】
粗面化処理は、上述した粗面化処理実施態様Ｉ〜Ｖの処理を行うのが好ましく、例えば
、アルカリ水溶液中でのエッチング処理（第一）、酸性水溶液中でのデスマット処理（第一）、硝酸または塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理、アルカリ水溶液中でのエッチング処理（第二）、酸性水溶液中でのデスマット処理（第二）、塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理、アルカリ水溶液中でのエッチング処理（第三）及び酸性水溶液中でのデスマット処理（第三）、陽極酸化処理をこの順に施すのが例示できる。
【０１０７】
本発明の平版印刷版用支持体を製造する方法においては、上記以外の各種の工程を含んでいてもよい。
【０１０８】
上記陽極酸化処理の後に、更に親水化処理を施すのも好ましい。
【０１０９】
以下、表面処理の各工程について、詳細に説明する。
【０１１０】
＜第一アルカリエッチング処理＞
アルカリエッチング処理は、上述したアルミニウム板をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解する処理である。
【０１１１】
第一電解処理の前に行われる第一アルカリエッチング処理は、第一電解処理で均一な凹部を形成させること、及びアルミニウム板（圧延アルミ）の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として行われる。
【０１１２】
第一アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、０．１ｇ／ｍ2 以上であるのが好ましく、０．５ｇ／ｍ2 以上であるのがより好ましく、１ｇ／ｍ2 以上であるのが更に好ましい。また、エッチング量は、１０ｇ／ｍ2 以下であるのが好ましく、８ｇ／ｍ2 以下であるのがより好ましく、５ｇ／ｍ2 以下であるのが更に好ましい。エッチング量の下限が上記範囲にあると、第一電解処理において均一なピットを生成でき、更に処理ムラの発生を防止できる。エッチング量の上限が上記範囲にあると、アルカリ水溶液の使用量が少なくなり、経済的に有利となる。
【０１１３】
アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、メタケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩；炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩；アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩；グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩；第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第一リン酸ソーダ、第一リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点および安価である点から、カセイアルカリの溶液、および、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。
【０１１４】
第一アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、３０ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、３００ｇ／Ｌ以上であるのがより好ましく、また、５００ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、４５０ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。
【０１１５】
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、１ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、５０ｇ／Ｌ以上であるのがより好ましく、また、２００ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、１５０ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。このようなアルカリ溶液は、例えば、水と４８質量％カセイソーダ水溶液とアルミン酸ソーダとを用いて調製することができる。
【０１１６】
第一アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の温度は、３０°Ｃ以上であるのが好ましく、５０°Ｃ以上であるのがより好ましく、また、８０°Ｃ以下であるのが好ましく、７５°Ｃ以下であるのがより好ましい。第一アルカリエッチング処理の処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、２秒以上であるのがより好ましい。また、第一アルカリエッチング処理の処理時間は、３０秒以下であるのが好ましく、１５秒以下であるのがより好ましい。
【０１１７】
アルミニウム板を連続的にエッチング処理していくと、アルカリ溶液中のアルミニウムイオン濃度が上昇していき、アルミニウム板のエッチング量が変動する。そこで、エッチング液の組成管理を、以下のようにして行うのが好ましい。
【０１１８】
即ち、カセイソーダ濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度とのマトリクス、または、電導度と超音波伝搬速度と温度とのマトリクスをあらかじめ作成しておき、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度によって液組成を測定し、液組成の制御目標値になるようにカセイソーダと水とを添加する。そして、カセイソーダと水とを添加することによって増加したエッチング液を、循環タンクからオーバーフローさせることにより、その液量を一定に保つ。添加するカセイソーダとしては、工業用の４０〜６０質量％のものを用いることができる。
【０１１９】
電導度計および比重計としては、それぞれ温度補償されているものを用いるのが好ましい。比重計としては、差圧式のものを用いるのが好ましい。
【０１２０】
アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板をアルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。中でも、アルカリ溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が好ましい。具体的には、φ２〜５ｍｍの孔を１０〜５０ｍｍピッチで有するスプレー管から、スプレー管１本あたり、１０〜１００Ｌ／ｍｉｎの量でエッチング液を吹き付ける方法が好ましい。スプレー管は複数本設けるのが好ましい。
【０１２１】
アルカリエッチング処理が終了した後は、ニップローラで液切りし、更に、１〜１０秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りするのが好ましい。水洗処理は、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、更に、スプレー管を用いて水洗するのが好ましい。
【０１２２】
図２は、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置の概念図である。
【０１２３】
図２に示されているように、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置１００は、主として、水１０２を貯留する貯水タンク１０４と、貯水タンク１０４に水を供給する給水筒１０６と、貯水タンク１０４から自由落下カーテン状の液膜をアルミニウム板ＡＬに供給する整流部１０８とで構成される。
【０１２４】
装置１００においては、給水筒１０６から給水タンク１０４に水１０２が供給され、水１０２が給水タンク１０４からオーバーフローする際に、整流部１０８により整流され、自由落下カーテン状の液膜がアルミニウム板ＡＬに供給される。装置１００を用いる場合、液量は１０〜１００Ｌ／ｍｉｎであるのが好ましい。また、装置１００とアルミニウムＡＬとの間の水１０２が自由落下カーテン状の液膜として存在する距離Ｌは、２０〜５０ｍｍであるのが好ましい。また、アルミニウム板の角度αは、水平方向に対して３０〜８０°であるのが好ましい。
【０１２５】
図２に示されるような自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置１００を用いると、アルミニウム板ＡＬに均一に水洗処理を施すことができるので、水洗処理の前に行われた処理の均一性を向上させることができる。自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する具体的な装置としては、例えば、特開２００３−９６５８４号公報に記載されている装置が好適に挙げられる。
【０１２６】
また、水洗処理に用いられるスプレー管としては、例えば、扇状に噴射水が広がるスプレーチップをアルミニウム板ＡＬの幅方向に複数個有するスプレー管を用いることができる。スプレーチップの間隔は２０〜１００ｍｍであるのが好ましく、また、スプレーチップ１本あたりの液量は０．５〜２０Ｌ／ｍｉｎであるのが好ましい。スプレー管は複数本用いるのが好ましい。
【０１２７】
＜第一デスマット処理＞
第一アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い（第一デスマット処理）を行うのが好ましい。デスマット処理は、アルミニウム板を酸性溶液に接触させることにより行う。デスマット処理に用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。尚、第一アルカリエッチング処理の後に行われる第一デスマット処理においては、第一電解処理として引き続き硝酸電解が行われる場合には、硝酸電解に用いられる電解液のオーバーフロー廃液を用いるのが好ましい。
【０１２８】
デスマット処理液の組成管理においては、アルカリエッチング処理の場合と同様に、酸性溶液濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と温度で管理する方法、電導度と比重と温度とで管理する方法、および、電導度と超音波の伝搬速度と温度とで管理する方法のいずれかを選択して用いることができる。
【０１２９】
第一デスマット処理においては、１〜４００ｇ／Ｌの酸および０．１〜５ｇ／Ｌのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。酸性溶液の温度は、２０°Ｃ以上であるのが好ましく、３０°Ｃ以上であるのがより好ましく、また、７０°Ｃ以下であるのが好ましく、６０°Ｃ以下であるのがより好ましい。第一デスマット処理においては、処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、４秒以上であるのがより好ましく、また、６０秒以下であるのが好ましく、４０秒以下であるのがより好ましい。
【０１３０】
アルミニウム板を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。中でも、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が好ましい。具体的には、φ２〜５ｍｍの孔を１０〜５０ｍｍピッチで有するスプレー管から、スプレー管１本あたり、１０〜１００Ｌ／ｍｉｎの量でエッチング液を吹き付ける方法が好ましい。スプレー管は複数本設けるのが好ましい。
【０１３１】
デスマット処理が終了した後は、ニップローラで液切りし、更に、１〜１０秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りするのが好ましい。水洗処理は、アルカリエッチング処理の後の水洗処理と同様である。ただし、スプレーチップ１本あたりの液量は１〜２０Ｌ／ｍｉｎであるのが好ましい。尚、第一デスマット処理において、デスマット処理液として、引き続き行われる硝酸電解に用いられる電解液のオーバーフロー廃液を用いる場合には、デスマット処理後にニップローラによる液切り及び水洗処理を行わず、アルミニウム板の表面が乾かないように、必要に応じて適宜デスマット処理液をスプレーしながら、硝酸電解工程までアルミニウム板をハンドリングするのが好ましい。
【０１３２】
＜第一電解処理＞
第一電解処理は、最初に行われる硝酸または塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理である。
【０１３３】
前述した粗面化処理実施態様Ｉ，IV，Ｖで示すように第一電解処理、第二電解処理を行
うと、均一性の高い凹凸構造を重畳した砂目形状をアルミニウム板の表面に形成させることができ、耐汚れ性および耐刷性を優れたものにすることができる。尚、第一電解処理後のアルミニウム板表面の平均粗さは０．４５〜０．８５μｍであるのが好ましい。
【０１３４】
粗面化処理実施態様II、III においては硝酸または塩酸を用いた電解粗面化がそれぞれ行われる。粗面化処理実施態様IVでは塩酸電解の後に硝酸電解が行われ、粗面化処理実施態様Ｖでは塩酸電解が２回行われる。以下では主として粗面化処理実施態様Ｉについて説明するが、これ以外の実施態様では、それぞれの条件をそれぞれの実施態様の特徴に応じて変えることができる。
【０１３５】
（硝酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理）
硝酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理（硝酸電解）により、好適な凹凸構造をアルミニウム板の表面に形成させることができる。本発明において、アルミニウム板がＣｕを比較的多量に含有している場合には、硝酸電解において、比較的大きく、かつ、均一な凹部が形成される。その結果、本発明により得られる平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版は、耐刷性が優れたものになる。
【０１３６】
硝酸を含有する水溶液は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、濃度１〜１００ｇ／Ｌの硝酸の水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオンを有する硝酸化合物の少なくとも一つを１ｇ／Ｌから飽和するまでの範囲で添加して使用することができる。また、硝酸を含有する水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。次亜塩素酸や過酸化水素を１〜１００ｇ／Ｌ添加してもよい。
【０１３７】
具体的には、硝酸濃度５〜１５ｇ／Ｌの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を３〜７ｇ／Ｌとなるように調整した液が好ましい。
【０１３８】
更に、Ｃｕと錯体を形成しうる化合物を添加して使用することによりＣｕを多く含有するアルミニウム板に対しても均一な砂目立てが可能になる。Ｃｕと錯体を形成しうる化合物としては、例えば、アンモニア；メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、シクロヘキシルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、ＥＤＴＡ（エチレンジアミン四酢酸）等のアンモニアの水素原子を炭化水素基（脂肪族、芳香族等）等で置換して得られるアミン類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸塩類が挙げられる。また、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム、炭酸アンモニウム等のアンモニウム塩も挙げられる。
【０１３９】
硝酸を含有する水溶液の温度は、３０°Ｃ以上であるのが好ましく、また、５５°Ｃ以下であるのが好ましい。
【０１４０】
硝酸電解により、平均開口径１〜１０μｍのピットを形成することができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、１０μｍを超えるハニカムピットも生成する。
【０１４１】
このような砂目を得るためには、電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１５０Ｃ／ｄｍ2 以上であるのが好ましく、１７０Ｃ／ｄｍ2 以上であるのがより好ましく、また、６００Ｃ／ｄｍ2 以下であるのが好ましく、５００Ｃ／ｄｍ2 以下であるのがより好ましい。この際の電流密度は、交流を用いる場合には電流のピーク値で２０〜１００Ａ／ｄｍ2 であるのが好ましく、直流を用いる場合には２０〜１００Ａ／ｄｍ2 であるのが好ましい。
【０１４２】
硝酸電解の前に、下記プレ電解を行うと、硝酸電解において、より均一な凹部が形成される。プレ電解は、硝酸電解時のピット形成の起点を形成させる工程である。アルミニウム板の材質の影響を受けにくく、非常に腐食性の高い塩酸を用いてわずかに電解を行うことにより、表面に均一に起点となるピットを形成させることができる。プレ電解において、塩酸濃度は１〜１５ｇ／Ｌであるのが好ましく、また、陽極時の電気量は３０〜７０Ｃ／ｍ2 であるのが好ましい。プレ電解の後は、スマット除去のためにアルカリエッチングを行うのが好ましい。アルカリエッチングにおけるアルミニウム溶解量は、０．２〜０．６ｇ／ｍ2 であるのが好ましい。
【０１４３】
（塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理）
塩酸を含有する水溶液は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、１〜３０ｇ／Ｌ、好ましくは２〜１０ｇ／Ｌの塩酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを有する塩酸又は硝酸化合物の１つ以上を１ｇ／Ｌ〜飽和まで添加して使用することができる。また、上記した銅と錯体を形成する化合物を１〜２００ｇ／Ｌの割合で添加することもできる。塩酸を含有する水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。次亜塩素酸や過酸化水素を１〜１００ｇ／Ｌ添加してもよい。
【０１４４】
塩酸水溶液は、好ましくは塩酸を２〜１０ｇ／Ｌ、含有する水溶液に、アルミニウム塩（塩化アルミニウム、ＡｌＣｌ3 ・６Ｈ2 Ｏ）を２７〜６３ｇ／Ｌの割合で添加してアルミニウムイオン濃度を３〜７ｇ／Ｌ、好ましくは４〜６／Ｌにした水溶液であることが特に好ましい。このような塩酸水溶液を用いて電気化学的粗面化処理を行うと、該粗面化処理による表面形状が均一になり、低純度のアルミニウム圧延板でも高純度のアルミニウム圧延板を使用しても、該粗面化処理による処理ムラが発生せず、平版印刷版としたときに優れた耐刷性および耐汚れ性を両立できる。
【０１４５】
塩酸を含有する水溶液の温度は、２５°Ｃ以上であるのが好ましく、３０°Ｃ以上であるのがより好ましい。また、塩酸を含有する水溶液の温度は、５５°Ｃ以下であるのが好ましく、４０°Ｃ以下であるのがより好ましい。
【０１４６】
塩酸を含有する水溶液中への添加物、装置、電源、電流密度、流速、温度としては公知の電気化学的な粗面化に使用するものを用いることができる。電気化学的な粗面化に用いる電源は交流または直流が用いられるが、交流が特に好ましい。
【０１４７】
塩酸はそれ自身のアルミニウム溶解力が強いため、わずかな電解を加えるだけで表面に微細な凹凸を形成させることが可能である。この微細な凹凸は、平均開口径が０．０１〜０．４μｍであり、アルミニウム板の表面の全面に均一に生成する。
【０１４８】
更に、電気量を増やしていくと平均開口径０．０１〜０．４μｍのピットを表面に有する平均開口径１〜１５μｍのピットが生成する。このような砂目を得るためには電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１０Ｃ／ｄｍ2 以上であるのが好ましく、５０Ｃ／ｄｍ2 以上であるのがより好ましく、さらには１００Ｃ／ｄｍ2 以上であるのが好ましい。また、２０００Ｃ／ｄｍ2 以下であるのが好ましく、６００Ｃ／ｄｍ2 以下であるのがより好ましい。
【０１４９】
第一塩酸電解においては、アノード反応にあずかる電気量の総和を１５０〜２０００Ｃ／ｄｍ2 と大きくすることでクレーター状の大きなうねりを同時に形成することも可能である。この場合でも平均開孔径０．０１〜０．４μｍの微細な凹凸を表面に有する平均開口径１〜１５μｍのピットが生成する。この際の電流密度は、電流のピーク値で２０〜１００Ａ／ｄｍ2 であるのが好ましい。
【０１５０】
上記大電気量でアルミニウム板を塩酸電解すると、大きなうねりと微細な凹凸を同時に形成させることができ、後述する第二アルカリエッチング処理により該大きなうねりをより均一にすることで、耐汚れ性を向上させることができる。
【０１５１】
硝酸または塩酸を含有する水溶液を用いる第一電解処理は、例えば、特公昭４８−２８１２３号公報および英国特許第８９６，５６３号明細書に記載されている電気化学的グレイン法（電解グレイン法）に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭５２−５８６０２号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平３−７９７９９号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭５５−１５８２９８号、特開昭５６−２８８９８号、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭６０−１９０３９２号、特開昭５８−１２０５３１号、特開昭６３−１７６１８７号、特開平１−５８８９号、特開平１−２８０５９０号、特開平１−１１８４８９号、特開平１−１４８５９２号、特開平１−１７８４９６号、特開平１−１８８３１５号、特開平１−１５４７９７号、特開平２−２３５７９４号、特開平３−２６０１００号、特開平３−２５３６００号、特開平４−７２０７９号、特開平４−７２０９８号、特開平３−２６７４００号、特開平１−１４１０９４号の各公報に記載されている方法も適用できる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、米国特許第４，２７６，１２９号明細書および同第４，６７６，８７９号明細書に記載されている。
【０１５２】
電解槽および電源については、種々提案されているが、米国特許第４，２０３，６３７号明細書、特開昭５６−１２３４００号、特開昭５７−５９７７０号、特開昭５３−１２７３８号、特開昭５３−３２８２１号、特開昭５３−３２８２２号、特開昭５３−３２８２３号、特開昭５５−１２２８９６号、特開昭５５−１３２８８４号、特開昭６２−１２７５００号、特開平１−５２１００号、特開平１−５２０９８号、特開昭６０−６７７００号、特開平１−２３０８００号、特開平３−２５７１９９号の各公報等に記載されているものを用いることができる。
【０１５３】
また、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５３−１２７３８号、特開昭５３−１２７３９号、特開昭５３−３２８２１号、特開昭５３−３２８２２号、特開昭５３−３２８３３号、特開昭５３−３２８２４号、特開昭５３−３２８２５号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭５５−１２２８９６号、特開昭５５−１３２８８４号、特公昭４８−２８１２３号、特公昭５１−７０８１号、特開昭５２−１３３８３８号、特開昭５２−１３３８４０号、特開昭５２−１３３８４４号、特開昭５２−１３３８４５号、特開昭５３−１４９１３５号、特開昭５４−１４６２３４号の各公報等に記載されているもの等も用いることができる。
【０１５４】
アルミニウム板を連続的に電解粗面化処理していくと、アルカリ溶液中のアルミニウムイオン濃度が上昇していき、第一電解処理により形成されるアルミニウム板の凹凸の形状が変動する。そこで、硝酸電解液または塩酸電解液の組成管理を、以下のようにして行うのが好ましい。即ち、硝酸濃度または塩酸濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度とのマトリクス、または、電導度と超音波伝搬速度と温度とのマトリクスをあらかじめ作成しておき、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度によって液組成を測定し、液組成の制御目標値になるように硝酸または塩酸と水とを添加する。そして、硝酸または塩酸と水とを添加することによって増加した電解液を、循環タンクからオーバーフローさせることにより、その液量を一定に保つ。添加する硝酸としては、工業用の３０〜７０質量％のものを用いることができる。添加する塩酸としては、工業用の３０〜４０質量％のものを用いることができる。
【０１５５】
電導度計および比重計としては、それぞれ温度補償されているものを用いるのが好ましい。比重計としては、差圧式のものを用いるのが好ましい。
【０１５６】
液組成の測定に用いるために電解液から採取されたサンプルは、電解液とは別の熱交換機を用いて、一定温度（例えば、４０±０．５°Ｃ）に制御した後に、測定に用いるのが、測定の精度が高くなる点で好ましい。
【０１５７】
電気化学的粗面化処理に用いられる交流電源波は、特に限定されず、サイン波（ｓｉｎ波）、矩形波、台形波、三角波等が用いられるが、サイン波、矩形波または台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。第一塩酸電解の場合には、平均直径１μｍ以上のピットが均一に生成しやすくなる点でサイン波が特に好ましい。サイン波とは、図３に示したものをいう。
【０１５８】
台形波とは、図４に示したものをいう。この台形波において電流がゼロからピークに達するまでの時間（ＴＰ）は０．５〜３ｍｓｅｃであるのが好ましい。ＴＰが３ｍｓｅｃを超えると、特に硝酸を含有する水溶液を用いると、電解処理で自然発生的に増加するアンモニウムイオン等に代表される電解液中の微量成分の影響を受け易くなり、均一な砂目立てが行われにくくなる。その結果、平版印刷版としたときの耐汚れ性が低下する傾向にある。
【０１５９】
交流のｄｕｔｙ比（ｔａ／Ｔ、１サイクルに占めるアノード反応時間の割合）は１：２〜２：１のものが使用可能であるが、特開平５−１９５３００号公報に記載されているように、アルミニウムにコンダクタロールを用いない間接給電方式においてはｄｕｔｙ比が１：１のものが好ましい。
【０１６０】
交流の周波数は０．１〜１２０Ｈｚのものを用いることが可能であるが、５０〜７０Ｈｚが設備上好ましい。５０Ｈｚよりも低いと、主極のカーボン電極が溶解しやすくなり、また、７０Ｈｚよりも高いと、電源回路上のインダクタンス成分の影響を受けやすくなり、電源コストが高くなる。
【０１６１】
図５は、本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
【０１６２】
電解槽には１個以上の交流電源を接続することができる。主極に対向するアルミニウム板に加わる交流の陽極と陰極との電流比をコントロールし、均一な砂目立てを行うことと、主極のカーボンを溶解することとを目的として、図５に示したように、補助陽極を設置し、交流電流の一部を分流させることが好ましい。図５において、ＡＬはアルミニウム板であり、１２はラジアルドラムローラであり、１３ａおよび１３ｂは主極であり、１４は電解処理液であり、１５は電解液供給口であり、１６はスリットであり、１７は電解液通路であり、１８は補助陽極であり、１９ａおよび１９ｂはサイリスタであり、２０は交流電源であり、４０は主電解槽であり、５０は補助陽極槽である。整流素子又はスイッチング素子を介して電流値の一部を二つの主電極とは別の槽に設けた補助陽極に直流電流として分流させることにより、主極に対向するアルミニウム板ＡＬ上で作用するアノード反応にあずかる電流値と、カソード反応にあずかる電流値との比を制御することができる。主極に対向するアルミニウム板ＡＬ上で、陽極反応と陰極反応とにあずかる電気量の比（陰極時電気量／陽極時電気量）は、０．３〜０．９５であるのが好ましい。
【０１６３】
電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平５−１９５３００号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。電解槽内を通過する電解液は、ウエブ状のアルミニウム板ＡＬの進行方向に対してパラレルであってもカウンターであってもよい。
【０１６４】
また、直流を用いた電気化学的粗面化処理には、通常の直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液を用いることができる。具体的には、上記交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液と同様のものを用いることができる。
【０１６５】
電気化学的粗面化処理に用いられる直流電源波は、極性の変化しない電流であれば特に限定されず、くし形波、連続直流、商用交流をサイリスタで全波整流したもの等が用いられるが、平滑化された連続直流が好ましい。
【０１６６】
直流を用いた電気化学的粗面化処理は、回分法、半連続法および連続法のいずれでも行うことができるが、連続法で行うのが好ましい。
【０１６７】
直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる装置は、交互に配置された陽極と陰極との間に直流電圧を印加し、アルミニウム板ＡＬを該陽極および該陰極と、間隔を保って通過させることができるものであれば、特に限定されない。
【０１６８】
例えば、図６に示される一つの電解槽を有する装置が挙げられる。図６において、アルミニウム板ＡＬは、電解液６４で満たされた電解槽６５を通過する。電解槽６５に交互に配置された陽極６２と陰極６３との間には、直流電圧が印加されている。電解槽６５においては、電解液６４が供液ノズル６６から供給され、排液管６７を通じて排出される。
【０１６９】
また、図７に示される陽極６２の槽と陰極６３の槽とが別個の電解槽である装置も挙げられる。図７において、アルミニウム板ＡＬは、電解液６４で満たされた複数の電解槽６５を通過する。各電解槽６５には、陽極６２または陰極６３が、交互になるように配置されている。交互に配置された陽極６２と陰極６３との間には、直流電圧が印加されている。各電解槽６５においては、電解液６４が供液管６８から供給され、排液管６７を通じて排出される。
【０１７０】
電極は、特に限定されず、電気化学的粗面化処理に用いられる従来公知の電極を用いることができる。
【０１７１】
陽極としては、例えば、チタン、タンタル、ニオブ等のバルブ金属に白金族系の金属をめっきし、またはクラッドしたもの；バルブ金属に白金族系の金属の酸化物を塗布し、または焼結させたもの；アルミニウム；ステンレスが挙げられる。中でも、バルブ金属に白金をクラッドしたものが好ましい。電極の内部に水を通して水冷化するなどの方法により、陽極の寿命を更に長くすることができる。
【０１７２】
陰極としては、例えば、ブールベイダイヤグラムから、電極電位を負としたときに溶解しない金属等を選択して用いることができる。中でも、カーボンが好ましい。
【０１７３】
電極の配列は、適宜選択することができる。また、陽極と陰極とのアルミニウム板の進行方向の長さを変えたり、アルミニウム板ＡＬの通過速度を変えたり、電解液の流速、液温、液組成、電流密度等を変えることにより、調整することができる。また、図７に示す装置のように、陽極の槽と陰極の槽とを別個の電解槽とした場合には、各処理槽の電解条件を変えることもできる。
【０１７４】
第一電解処理で生成する凹部の平均開口径の測定は、例えば、電子顕微鏡を用いて支持体の表面を真上から倍率２０００倍または５００００倍で撮影し、得られた電子顕微鏡写真において、それぞれで生成した、ピットの周囲が環状に連なっているピットをそれぞれ少なくとも５０個抽出し、その直径を読み取って開口径とし、平均開口径を算出することにより行う。
【０１７５】
また、測定のバラツキを抑制するために、市販の画像解析ソフトによる等価円直径測定を行うこともできる。この場合、上記電子顕微鏡写真をスキャナーで取り込んでデジタル化し、ソフトウェアにより二値化した後、等価円直径を求める。
【０１７６】
本発明者が測定したところ、目視測定の結果とデジタル処理の結果とは、ほぼ同じ値を示した。
【０１７７】
第一電解処理が終了した後は、ニップローラで液切りし、更に、１〜１０秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りするのが好ましい。
【０１７８】
水洗処理は、スプレー管を用いて水洗するのが好ましい。水洗処理に用いられるスプレー管としては、例えば、扇状に噴射水が広がるスプレーチップをアルミニウム板の幅方向に複数個有するスプレー管を用いることができる。スプレーチップの間隔は２０〜１００ｍｍであるのが好ましく、また、スプレーチップ１本あたりの液量は１〜２０Ｌ／ｍｉｎであるのが好ましい。スプレー管は複数本用いるのが好ましい。
【０１７９】
＜第二アルカリエッチング処理＞
第一電解処理と第二電解処理との間に行われる第二アルカリエッチング処理は、第一電解処理で生成したスマットを溶解させること、および、第一電解処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。これにより、第一電解処理によって形成された大きなピットのエッジ部分が溶解して表面が滑らかになり、インキを該エッジ部分にひっかかりにくくするため、耐汚れ性に優れる平版印刷版を得ることができる。
【０１８０】
第二アルカリエッチング処理は、基本的に第一アルカリエッチング処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。
【０１８１】
第二アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、０．０５ｇ／ｍ2 以上であるのが好ましく、０．１ｇ／ｍ2 以上であるのがより好ましく、また、４ｇ／ｍ2 以下であるのが好ましく、３．５ｇ／ｍ2 以下であるのがより好ましい。エッチング量が０．０５ｇ／ｍ2 以上であると、平版印刷版の非画像部において、第一電解処理で生成したピットのエッジ部分が滑らかとなり、インキがひっかかりにくくなるため、耐汚れ性が優れる。一方、エッチング量が４ｇ／ｍ2 以下であると、第一電解処理で生成した凹凸が大きくなるため、耐刷性が優れる。
【０１８２】
第二アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、３０ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、３００ｇ／Ｌ以上であるのがより好ましく、また、５００ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、４５０ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。
【０１８３】
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、１ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、５０ｇ／Ｌ以上であるのがより好ましく、また、２００ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、１５０ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。
【０１８４】
＜第二デスマット処理＞
第二アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い（第二デスマット処理）を行うのが好ましい。第二デスマット処理は、第一デスマット処理と同様の方法で行うことができる。
【０１８５】
第二デスマット処理においては、硝酸または硫酸を用いるのが好ましい。
【０１８６】
第二デスマット処理においては、１〜４００ｇ／Ｌの酸および０．１〜８ｇ／Ｌのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。
【０１８７】
硫酸を用いる場合は、具体的には、硫酸濃度１００〜３５０ｇ／Ｌの硫酸水溶液に、硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を０．１〜５ｇ／Ｌとなるように調整した液を用いることができる。また、後述する陽極酸化処理に用いられる電解液のオーバーフロー廃液を用いることもできる。
【０１８８】
第二デスマット処理においては、処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、４秒以上であるのがより好ましく、また、６０秒以下であるのが好ましく、２０秒以下であるのがより好ましい。
【０１８９】
第二デスマット処理においては、酸水溶液の温度は、２０°Ｃ以上であるのが好ましく、３０°Ｃ以上であるのがより好ましく、また、７０°Ｃ以下であるのが好ましく、６０°Ｃ以下であるのがより好ましい。
【０１９０】
＜第二電解処理＞
例えば前述した粗面化処理実施態様Ｉ、Ｖでは、第二電解処理は、塩酸を含有する水溶
液中での交流または直流を用いた電気化学的粗面化処理である。本発明においては、上述した第一電解処理と、この第二電解処理とを組み合わせることにより、複雑な凹凸構造をアルミニウム板の表面に形成させることができ、ひいては、耐刷性を優れたものにすることができる。また、第二電解処理は、第二アルカリエッチングで滑らかにしたアルミニウム表面に平均直径０．０１〜０．４μｍの凹部を生成させる。それによって、耐刷性を高めることができる。
【０１９１】
第一電解処理の後に行う第二塩酸電解は、上記第一塩酸電解で説明したのと基本的に同様である。
【０１９２】
第二塩酸電解における塩酸を含有する水溶液中での電気化学的な粗面化でアルミニウム板が陽極反応にあずかる電気量の総和は、電気化学的な粗面化処理が終了した時点で、１０〜２００Ｃ／ｄｍ2 の範囲から選択でき、１０〜１００Ｃ／ｄｍ2 が好ましく、５０〜８０Ｃ／ｄｍ2 が特に好ましい。
【０１９３】
第一電解処理として第一塩酸電解を行う場合には、第一塩酸電解での電解反応が終了した時点でのアノード反応にあずかる電気量の総和Ｑ1 が、第二塩酸電解での電解反応が終了した時点でのアノード反応にあずかる電気量Ｑ2 の総和より大（Ｑ1 ＞Ｑ2 ）であるのが好ましい。これにより、第一塩酸電解で生成した平均開口径１〜１５μｍのピットによりアルミニウム板の表面積が増大し、その上に設けられる画像記録層との密着性が向上して耐刷性に優れる。
【０１９４】
＜第三アルカリエッチング処理＞
第二電解処理の後に行われる第三アルカリエッチング処理は、第二電解処理で生成したスマットを溶解させること、および、第二電解処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。第三アルカリエッチング処理は、基本的に第一アルカリエッチング処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。
【０１９５】
第三アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、０．０５ｇ／ｍ2 以上であるのが好ましく、０．１ｇ／ｍ2 以上であるのがより好ましく、また、０．３ｇ／ｍ2 以下であるのが好ましく、０．２５ｇ／ｍ2 以下であるのがより好ましい。エッチング量が０．０５ｇ／ｍ2 以上であると、平版印刷版の非画像部において、第二塩酸電解で生成したピットのエッジ部分が滑らかとなり、インキがひっかかりにくくなるため、耐汚れ性が優れる。一方、エッチング量が０．３ｇ／ｍ2 以下であると、第一塩酸電解および第二塩酸電解で生成した凹凸が大きくなるため、耐刷性が優れる。
【０１９６】
第三アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、３０ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、また、前段の塩酸交流電解によって生じた凹凸を小さくしすぎないようにするため、１００ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、７０ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。
【０１９７】
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、１ｇ／Ｌ以上であるのが好ましく、３ｇ／Ｌ以上であるのがより好ましく、また、５０ｇ／Ｌ以下であるのが好ましく、８ｇ／Ｌ以下であるのがより好ましい。このようなアルカリ溶液は、例えば、水と４８質量％カセイソーダ水溶液とアルミン酸ソーダとを用いて調製することができる。
【０１９８】
第三アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の温度は、２５°Ｃ以上であるのが好ましく、３０°Ｃ以上であるのがより好ましく、また、６０°Ｃ以下であるのが好ましく、５０°Ｃ以下であるのがより好ましい。第三アルカリエッチング処理においては、処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、２秒以上であるのがより好ましく、また、３０秒以下であるのが好ましく、１０秒以下であるのがより好ましい。
【０１９９】
＜第三デスマット処理＞
第三アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い（第三デスマット処理）を行うのが好ましい。第三デスマット処理は、基本的に第一デスマット処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。
【０２００】
第三デスマット処理においては、引き続き行われる陽極酸化処理に用いられる電解液（例えば、硫酸）と同じ種類の液を用いるのが、第三デスマット処理と陽極酸化処理との間の水洗工程を省略することができる点で好ましい。
【０２０１】
第三デスマット処理においては、５〜４００ｇ／Ｌの酸および０．５〜８ｇ／Ｌのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。硫酸を用いる場合は、具体的には、硫酸濃度１００〜３５０ｇ／Ｌの硫酸水溶液に、硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を１〜５ｇ／Ｌとなるように調整した液が好ましい。第三デスマット処理においては、処理時間は、１秒以上であるのが好ましく、４秒以上であるのがより好ましく、また６０秒以下であるのが好ましく、１５秒以下であるのがより好ましい。
【０２０２】
第三デスマット処理において、デスマット処理液として、引き続き行われる陽極酸化処理に用いられる電解液と同じ種類の液を用いる場合には、デスマット処理後にニップローラによる液切りおよび水洗処理を省略することができる。
【０２０３】
＜陽極酸化処理＞
以上のように処理されたアルミニウム板には、更に、陽極酸化処理が施される。陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で行うことができる。この場合、例えば、硫酸濃度５０〜３００ｇ／Ｌで、アルミニウム濃度が５質量％以下の溶液中で、アルミニウム板を陽極として通電して陽極酸化皮膜を形成させることができる。陽極酸化処理に用いられる溶液としては、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、アミドスルホン酸等を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。この際、少なくともアルミニウム板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分が電解液中に含まれていても構わない。更には、第二、第三の成分が添加されていても構わない。ここでいう第二、第三の成分としては、例えば、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ等の金属のイオン；アンモニウムイオン等の陽イオン；硝酸イオン、炭酸イオン、塩化物イオン、リン酸イオン、フッ化物イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、ホウ酸イオン等の陰イオンが挙げられ、０〜１００００ｐｐｍ程度の濃度で含まれていてもよい。
【０２０４】
陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液濃度１〜８０質量％、液温５〜７０°Ｃ、電流密度０．５〜６０Ａ／ｄｍ2 、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１５秒〜５０分であるのが適当であり、所望の陽極酸化皮膜量となるように調整される。
【０２０５】
また、特開昭５４−８１１３３号、特開昭５７−４７８９４号、特開昭５７−５１２８９号、特開昭５７−５１２９０号、特開昭５７−５４３００号、特開昭５７−１３６５９６号、特開昭５８−１０７４９８号、特開昭６０−２００２５６号、特開昭６２−１３６５９６号、特開昭６３−１７６４９４号、特開平４−１７６８９７号、特開平４−２８０９９７号、特開平６−２０７２９９号、特開平５−２４３７７号、特開平５−３２０８３号、特開平５−１２５５９７号、特開平５−１９５２９１号の各公報等に記載されている方法を使用することもできる。これらの中でも、特開昭５４−１２８５３号公報および特開昭４８−４５３０３号公報に記載されているように、電解液として硫酸溶液を用いるのが好ましい。電解液中の硫酸濃度は、１０〜３００ｇ／Ｌ（１〜３０質量％）であるのが好ましく、５０〜２００ｇ／Ｌ（５〜２０質量％）であるのがより好ましく、また、アルミニウムイオン濃度は、１〜２５ｇ／Ｌ（０．１〜２．５質量％）であるのが好ましく、２〜１０ｇ／Ｌ（０．２〜１質量％）であるのがより好ましい。このような電解液は、例えば、硫酸濃度が５０〜２００ｇ／Ｌである希硫酸に硫酸アルミニウム等を添加することにより調製することができる。
【０２０６】
電解液の組成管理は、上述した硝酸電解等の場合と同様の方法を用いて、硫酸濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度により管理するのが好ましい。
【０２０７】
電解液の液温は、２５〜５５°Ｃであるのが好ましく、３０〜５０°Ｃであるのがより好ましい。
【０２０８】
硫酸を含有する電解液中で陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板と対極との間に直流を印加してもよく、交流を印加してもよい。
【０２０９】
アルミニウム板に直流を印加する場合においては、電流密度は、１〜６０Ａ／ｄｍ2 であるのが好ましく、５〜４０Ａ／ｄｍ2 であるのがより好ましい。
【０２１０】
連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板の一部に電流が集中していわゆる「焼け」（皮膜が周囲より厚くなる部分）が生じないように、陽極酸化処理の開始当初は、５〜１０Ａ／ｍ2 の低電流密度で電流を流し、陽極酸化処理が進行するにつれ、３０〜５０Ａ／ｄｍ2 またはそれ以上に電流密度を増加させるのが好ましい。
【０２１１】
具体的には、直流電源の電流配分を、下流側の直流電源の電流が上流側の直流電源の電流以上にするのが好ましい。このような電流配分とすることにより、いわゆる焼けが生じにくくなり、その結果、高速での陽極酸化処理が可能となる。連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム板に、電解液を介して給電する液給電方式により行うのが好ましい。このような条件で陽極酸化処理を行うことによりポア（マイクロポア）と呼ばれる孔を多数有する多孔質皮膜が得られるが、通常、その平均ポア径は５〜５０ｎｍ程度であり、平均ポア密度は３００〜８００個／μｍ2 程度である。
【０２１２】
陽極酸化皮膜の量は１〜５ｇ／ｍ2 であるのが好ましい。１ｇ／ｍ2 未満であると版に傷が入りやすくなり、一方、５ｇ／ｍ2 を超えると製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利となる。陽極酸化皮膜の量は、１．５〜４ｇ／ｍ2 であるのがより好ましい。また、アルミニウム板の中央部と縁部近傍との間の陽極酸化皮膜量の差が１ｇ／ｍ2 以下になるように行うのが好ましい。
【０２１３】
陽極酸化処理に用いられる電解装置としては、特開昭４８−２６６３８号、特開昭４７−１８７３９号、特公昭５８−２４５１７号、特開２００１−１１６９８号の各公報等に記載されているものを用いることができる。これらの中でも、図５に示す装置が好適に用いられる。
【０２１４】
図８は、アルミニウム板の表面を陽極酸化処理する装置の一例を示す概略図である。
【０２１５】
図８に示される陽極酸化処理装置４１０では、アルミニウム板ＡＬに電解液を経由して通電するために、アルミニウム板ＡＬの進行方向の上流側に給電槽４１２、下流側に陽極酸化処理槽４１４を設置してある。アルミニウム板ＡＬは、パスローラ４２２および４２８により、図８中矢印で示すように搬送される。アルミニウム板ＡＬが最初に導入される給電槽４１２においては、直流電源４３４の正極に接続された陽極４２０が設置されており、アルミニウム板ＡＬは陰極となる。したがって、アルミニウム板ＡＬにおいてはカソード反応が起こる。
【０２１６】
アルミニウム板ＡＬが引き続き導入される陽極酸化処理槽４１４においては、直流電源４３４の負極に接続された陰極４３０が設置されており、アルミニウム板ＡＬは陽極となる。したがって、アルミニウム板ＡＬにおいてはアノード反応が起こり、アルミニウム板ＡＬの表面に陽極酸化皮膜が形成される。アルミニウム板ＡＬと陰極４３０の間隔は５０〜２００ｍｍであるのが好ましい。陰極４３０としてはアルミニウムが用いられる。陰極４３０としては、アノード反応により発生する水素ガスが系から抜けやすくなるようにするために、広い面積を有する電極でなく、アルミニウム板ＡＬの進行方向に複数個に分割した電極であるのが好ましい。
【０２１７】
給電槽４１２と陽極酸化処理槽４１４との間には、図８に示されるように、中間槽４１３と呼ばれる電解液が溜まらない槽を設けるのが好ましい。中間槽４１３を設けることにより、電流がアルミニウム板ＡＬを経由せず陽極４２０から陰極４３０にバイパスすることを抑止することができる。中間槽４１３にはニップローラ４２４を設置して液切りを行うことにより、バイパス電流を極力少なくするようにするのが好ましい。液切りにより出た電解液は、排液口４４２から陽極酸化処理装置４１０の外に排出される。
【０２１８】
給電槽４１２に貯留される電解液４１８は、電圧ロスを少なくするために、陽極酸化処理槽４１４に貯留される電解液４２６よりも高温および／または高濃度とする。また、電解液４１８および４２６は、陽極酸化皮膜の形成効率、陽極酸化皮膜のマイクロポアの形状、陽極酸化皮膜の硬さ、電圧、電解液のコスト等から、組成、温度等が決定される。
【０２１９】
給電槽４１２および陽極酸化処理槽４１４には、給液ノズル４３６および４３８から電解液を噴出させて給液する。電解液の分布を一定にし、陽極酸化処理槽４１４でのアルミニウム板ＡＬの局所的な電流集中を防ぐ目的で、給液ノズル４３６および４３８にはスリットが設けられ、噴出する液流を幅方向で一定にする構造となっている。
【０２２０】
陽極酸化処理槽４１４においては、陽極４３０からみてアルミニウム板ＡＬを挟んだ反対側にはしゃへい板４４０が設けられ、電流がアルミニウム板ＡＬの陽極酸化皮膜を形成させたい面の反対側に流れるのを抑止する。アルミニウム板ＡＬとしゃへい板４４０の間隔は５〜３０ｍｍであるのが好ましい。直流電源４３４は複数個用いて、正極側を共通に接続して用いるのが好ましい。これによって、陽極酸化処理槽４１４中の電流分布を制御することができる。
【０２２１】
＜封孔処理＞
本発明においては、必要に応じて陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアを封じる封孔処理を行ってもよい。陽極酸化処理の後に封孔処理をおこなうことで、更に現像性（感度）の良い平版印刷版用原板とすることができる。
【０２２２】
陽極酸化皮膜が、皮膜面に大略垂直な方向にポアと称する細孔を有する多孔質皮膜であることはよく知られている。本発明は、その多孔質皮膜が高封孔率の封孔処理をされていることが特に好ましい。封孔率は５０％以上、より好ましくは７０％以上、より好ましくは９０％以上である。ここで、封孔率（％）は下記の式で定義される。
【０２２３】
封孔率＝１００×（未封孔の表面積−封孔後の表面積）÷（未封孔の表面積）
上記表面積は、簡易BET 方式であるQUANTASORB（カンタソーブ、湯浅アイオニクス（株）製）を使って測定した値である。
【０２２４】
陽極酸化処理したアルミニウム板は、その後、封孔処理、親水化処理されることでさらに好ましい平版印刷版用アルミニウム支持体となる。
【０２２５】
封孔処理としては、熱水処理、沸騰水処理、水蒸気処理、重クロム酸塩処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム塩処理、電着封孔処理、ケイ酸ソーダ処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等の公知の方法に従って行うことができる。特公昭３６−２２０６３号公報などに開示されているようなフッ化ジルコン酸処理を用いることもできる。特公昭５６−１２５１８号公報、特開平４−４１９４号公報、特開平５−２０２４９６号公報、特開平５−１７９４８２号公報等に記載されている装置および方法で封孔処理を行ってもよい。あるいは、特開平９−２４４２２７号公報に開示されているリン酸塩および無機フッ素化合物を含む水溶液で処理する方法を用いることができる。また、特開平９−１３４００２号公報に開示されている糖を含む水溶液で処理する方法を用いることもできる。そのほか、特願平１０−２５２０７８号および同１０−２５３４１１号に記載されているチタンとフッ素を含む水溶液で処理する方法を用いることができる。また、アルカリ金属珪酸塩を用いた処理を行ってもよく、その場合は、米国特許３，１８１，４６１号などに開示されている方法を用いることができる。
【０２２６】
アルカリ金属珪酸塩処理では、液のゲル化および陽極酸化皮膜の溶解を起こすことのない２５°ＣでのｐＨが１０〜１３であるアルカリ金属珪酸酸塩水溶液を用いて、アルカリ金属珪酸塩濃度、処理温度、処理時間などの処理条件を適宜選択して封孔処理を行うことができる。好適なアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムなどを挙げることができる。また、アルカリ金属珪酸塩水溶液のｐＨを高く調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどを配合することができる。
【０２２７】
更に必要に応じて、アルカリ金属珪酸塩水溶液にアルカリ土類金属塩もしくは第ＩＶＢ族金属塩を配合してもよい。このアルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、これらのアルカリ土類金属の硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、硼酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第ＩＶＢ族金属塩としては、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは第ＩＶＢ族金属塩は、単独または２種以上組み合わせて使用することができる。これらの金属塩の好ましい使用量範囲は０．０１〜１０質量％であり、さらに好ましい範囲は０．０５〜５．０質量％である。
【０２２８】
好適な封孔処理の別の一例として、フッ化ジルコン酸処理が挙げられる。フッ化ジルコン酸処理は、フッ化ジルコン酸ナトリウム、フッ化ジルコン酸カリウムなどのフッ化ジルコン酸塩を用いて行われる。フッ化ジルコン酸ナトリウムを含む水溶液を用いることが特に好ましい。これにより、平版印刷版の露光・現像時の現像性（感度）が優れたものとなる。そのときの好ましいフッ化ジルコン酸塩溶液の濃度は０．０１〜２質量％であるのが好ましく、０．１〜０．３質量％であるのがより好ましい。
【０２２９】
前記フッ化ジルコン酸塩の水溶液には、リン酸二水素ナトリウムを添加することがさらに好ましい。そのときの好ましい濃度は０．０１〜３質量％であり、０．１〜０．３質量％が特に好ましい。前記封孔処理の好ましい温度は、２０〜９０°Ｃが好ましく、５０〜８０°Ｃがより好ましい。前記封孔処理の好ましい処理時間（水溶液中への浸漬時間）は、１〜２０秒が好ましく、５〜１５秒がより好ましい。
【０２３０】
また必要に応じて、封孔処理をした後、珪酸ナトリウムなどのアルカリ珪酸塩水溶液に浸す処理、ポリビニルホスホン酸、ポリアクリル酸、スルホン酸基を側鎖に有するポリマーまたはコポリマーあるいは特開平１１−２３１５０９号公報に記載の（ａ）アミノ基、および（ｂ）ホスフィン基、ホスホン基およびリン酸基から選択された基を有する有機化合物またはその塩などを含む溶液に浸す処理、あるいは該溶液を下塗りする処理などの表面処理を行うことができる。
【０２３１】
本発明の親水層に用いられる親水性バインダーポリマーは、合成単独重合体または共重合体、例えばポリビニルアルコール、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリルアミド、ポリ（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、ポリビニルメチルエーテル、または天然高分子、例えばゼラチン、多糖、例えばデキストラン、プルラン、セルロース、アラビアゴム、アルギン酸である。
【０２３２】
＜親水化処理＞
陽極酸化処理後または封孔処理後、親水化処理を行ってもよい。親水化処理としては、例えば、米国特許第２，９４６，６３８号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第３，２０１，２４７号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第１，１０８，５５９号に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第１，０９１，４３３号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第１，１３４，０９３号明細書および英国特許第１，２３０，４４７号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭４４−６４０９号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第３，３０７，９５１号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭５８−１６８９３号公報および特開昭５８−１８２９１号公報に記載されている親油性有機高分子化合物と２価の金属との塩による処理、米国特許第３，８６０，４２６号明細書に記載されているように、水溶性金属塩（例えば、酢酸亜鉛）を含む親水性セルロース（例えば、カルボキシメチルセルロース）の下塗層を設ける処理、特開昭５９−１０１６５１号公報に記載されているスルホ基を有する水溶性重合体を下塗りする処理が挙げられる。
【０２３３】
また、特開昭６２−０１９４９４号公報に記載されているリン酸塩、特開昭６２−０３３６９２号公報に記載されている水溶性エポキシ化合物、特開昭６２−０９７８９２号公報に記載されているリン酸変性デンプン、特開昭６３−０５６４９８号公報に記載されているジアミン化合物、特開昭６３−１３０３９１号公報に記載されているアミノ酸の無機または有機酸、特開昭６３−１４５０９２号公報に記載されているカルボキシ基またはヒドロキシ基を含む有機ホスホン酸、特開昭６３−１６５１８３号公報に記載されているアミノ基とホスホン酸基を有する化合物、特開平２−３１６２９０号公報に記載されている特定のカルボン酸誘導体、特開平３−２１５０９５号公報に記載されているリン酸エステル、特開平３−２６１５９２号公報に記載されている１個のアミノ基とリンの酸素酸基１個を持つ化合物、特開平３−２１５０９５号公報に記載されているリン酸エステル、特開平５−２４６１７１号公報に記載されているフェニルホスホン酸等の脂肪族または芳香族ホスホン酸、特開平１−３０７７４５号公報に記載されているチオサリチル酸のようなＳ原子を含む化合物、特開平４−２８２６３７号公報に記載されているリンの酸素酸のグループを持つ化合物等を用いた下塗りによる処理も挙げられる。更に、特開昭６０−６４３５２号公報に記載されている酸性染料による着色を行うこともできる。
【０２３４】
また、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸せきさせる方法、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法等により、親水化処理を行うのが好ましい。
【０２３５】
ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第２，７１４，０６６号明細書および米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されている方法および手順に従って行うことができる。
【０２３６】
アルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を適当量含有してもよい。
【０２３７】
また、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、アルカリ土類金属塩または４族（第ＩＶＡ族）金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩；硫酸塩；塩酸塩；リン酸塩；酢酸塩；シュウ酸塩；ホウ酸塩が挙げられる。４族（第ＩＶＡ族）金属塩としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。これらのアルカリ土類金属塩および４族（第ＩＶＡ族）金属塩は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【０２３８】
アルカリ金属ケイ酸塩処理によって吸着するＳｉ量は蛍光Ｘ線分析装置により測定することができ、その吸着量は約１．０〜１５．０ｍｇ／ｍ2 であるのが好ましい。
【０２３９】
このアルカリ金属ケイ酸塩処理により、平版印刷版用支持体の表面のアルカリ現像液に対する耐溶解性向上の効果が得られ、アルミニウム成分の現像液中への溶出が抑制されて、現像液の疲労に起因する現像カスの発生を低減することができる。
【０２４０】
また、親水性の下塗層の形成による親水化処理は、特開昭５９−１０１６５１号公報および特開昭６０−１４９４９１号公報に記載されている条件および手順に従って行うこともできる。
【０２４１】
この方法に用いられる親水性ビニルポリマーとしては、例えば、ポリビニルスルホン酸、スルホ基を有するｐ−スチレンスルホン酸等のスルホ基含有ビニル重合性化合物と（メタ）アクリル酸アルキルエステル等の通常のビニル重合性化合物との共重合体が挙げられる。また、この方法に用いられる親水性化合物としては、例えば、−ＮＨ2 基、−ＣＯＯＨ基およびスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも一つを有する化合物が挙げられる。
【０２４２】
＜乾燥＞
上述したようにして平版印刷版用支持体を得た後、画像記録層を設ける前に、平版印刷版用支持体の表面を乾燥させるのが好ましい。乾燥は、表面処理の最後の処理の後、水洗処理およびニップローラで液切りしてから行うのが好ましい。
【０２４３】
乾燥温度は、７０°Ｃ以上であるのが好ましく、８０°Ｃ以上であるのがより好ましく、また、１１０°Ｃ以下であるのが好ましく、１００°Ｃ以下であるのがより好ましい。乾燥時間は、１秒以上であるのが好ましく、２秒以上であるのがより好ましく、また２０秒以下であるのが好ましく、１５秒以下であるのがより好ましい。
【０２４４】
＜液組成の管理＞
本発明においては、上述した表面処理に用いられる各種の処理液の組成を、特開２００１−１２１８３７号公報に記載されている方法で管理するのが好ましい。あらかじめ、種々の濃度の多数の処理液サンプルを調製し、それぞれ二つの液温における超音波の伝搬速度を測定し、マトリクス状のデータテーブルを作成しておき、処理中に、液温および超音波の伝搬速度をリアルタイムに測定し、それに基づいて濃度の制御を行うのが好ましい。特に、デスマット処理において、硫酸濃度２５０ｇ／Ｌ以上の電解液を用いる場合においては、上述する方法により、濃度の制御を行うのが好ましい。
【０２４５】
なお、電解粗面化処理および陽極酸化処理に用いられる各電解液は、Ｃｕ濃度が１００ｐｐｍ以下であるのが好ましい。Ｃｕ濃度が高すぎると、ラインを停止するとアルミニウム板上にＣｕが析出し、ラインを再度稼動した際に析出したＣｕがパスロールに転写されて、処理ムラの原因となる場合がある。
【０２４６】
封孔処理の後には公知の親水化処理をおこなうことが、更に好ましい。
【０２４７】
［平版印刷版］
本発明により得られる平版印刷版用支持体には、画像記録層を設けて本発明の平版印刷版とすることができる。画像記録層には感光性組成物が用いられる。
【０２４８】
本発明に好適に用いられる感光性組成物としては、例えば、アルカリ可溶性高分子化合物と光熱変換物質とを含有するサーマルポジ型感光性組成物（以下、この組成物およびこれを用いた画像記録層について、「サーマルポジタイプ」という。）、硬化性化合物と光熱変換物質とを含有するサーマルネガ型感光性組成物（以下、同様に「サーマルネガタイプ」という。）、光重合型感光性組成物（以下、同様に「フォトポリマータイプ」という。）、ジアゾ樹脂または光架橋樹脂を含有するネガ型感光性組成物（以下、同様に「コンベンショナルネガタイプ」という。）、キノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性組成物（以下、同様に「コンベンショナルポジタイプ」という。）、特別な現像工程を必要としない感光性組成物（以下、同様に「無処理タイプ」という。）が挙げられる。以下、これらの好適な感光性組成物について説明する。
【０２４９】
＜サーマルポジタイプ＞
（感光層）
サーマルポジタイプの感光性組成物は、アルカリ可溶性高分子化合物と光熱変換物質とを含有する。サーマルポジタイプの画像記録層においては、光熱変換物質が赤外線レーザ等の光のエネルギーを熱に変換し、その熱がアルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ溶解性を低下させている相互作用を効率よく解除する。
【０２５０】
アルカリ可溶性高分子化合物としては、例えば、分子中に酸性基を含有する樹脂およびその２種以上の混合物が挙げられる。特に、フェノール性ヒドロキシ基、スルホンアミド基（−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ（式中、Ｒは炭化水素基を表す。））、活性イミノ基（−ＳＯ2 ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ2 ＮＨＳＯ2 Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ2 Ｒ（各式中、Ｒは上記と同様の意味である。））等の酸性基を有する樹脂がアルカリ現像液に対する溶解性の点で好ましい。とりわけ、赤外線レーザ等の光による露光での画像形成性に優れる点で、フェノール性ヒドロキシ基を有する樹脂が好ましく、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール／クレゾール（ｍ−、ｐ−およびｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）混合−ホルムアルデヒド樹脂（フェノール−クレゾール−ホルムアルデヒド共縮合樹脂）等のノボラック樹脂が好適に挙げられる。
【０２５１】
更に、特開２００１−３０５７２２号公報（特に段落番号００２３〜００４２）に記載されている高分子化合物、特開２００１−２１５６９３号公報に記載されている一般式（１）で表される繰り返し単位を含む高分子化合物、特開２００２−３１１５７０号公報（特に段落番号０１０７）に記載されている高分子化合物も好適に挙げられる。
【０２５２】
光熱変換物質としては、記録感度の点で、波長７００〜１２００ｎｍの赤外域に光吸収域がある顔料または染料が好適に挙げられる。染料としては、例えば、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体（例えば、ニッケルチオレート錯体）が挙げられる。中でも、シアニン染料が好ましく、とりわけ特開２００１−３０５７２２号公報に記載されている一般式（Ｉ）で表されるシアニン染料が好ましい。
【０２５３】
サーマルポジタイプの感光性組成物中には、溶解阻止剤を含有させることができる。溶解阻止剤としては、例えば、特開２００１−３０５７２２号公報の段落番号００５３〜００５５に記載されているような溶解阻止剤が好適に挙げられる。
【０２５４】
また、サーマルポジタイプの感光性組成物中には、添加剤として、感度調節剤、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着色剤としての染料等の化合物、塗布性および処理安定性を向上させるための界面活性剤を含有させるのが好ましい。これらについては、特開２００１−３０５７２２号公報の段落番号００５６〜００６０に記載されているような化合物が好ましい。
【０２５５】
上記以外でも、特開２００１−３０５７２２号公報に詳細に記載されている感光性組成物が好ましく用いられる。
【０２５６】
また、サーマルポジタイプの画像記録層は単層に限らず、２層構造であってもよい。
【０２５７】
２層構造の画像記録層（重層系の画像記録層）としては、支持体に近い側に耐刷性および耐溶剤性に優れる下層（以下「Ａ層」という。）を設け、その上にポジ画像形成性に優れる層（以下「Ｂ層」という。）を設けたタイプが好適に挙げられる。このタイプは感度が高く、広い現像ラチチュードを実現することができる。Ｂ層は、一般に、光熱変換物質を含有する。光熱変換物質としては、上述した染料が好適に挙げられる。
【０２５８】
Ａ層に用いられる樹脂としては、スルホンアミド基、活性イミノ基、フェノール性ヒドロキシ基等を有するモノマーを共重合成分として有するポリマーが耐刷性および耐溶剤性に優れている点で好適に挙げられる。Ｂ層に用いられる樹脂としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するアルカリ水溶液可溶性樹脂が好適に挙げられる。
【０２５９】
Ａ層およびＢ層に用いられる組成物には、上記樹脂のほかに、必要に応じて、種々の添加剤を含有させることができる。具体的には、特開２００２−３２３３７６９号公報の段落番号００６２〜００８５に記載されているような種々の添加剤が好適に用いられる。また、上述した特開２００１−３０５７２２号公報の段落番号００５３〜００６０に記載されている添加剤も好適に用いられる。
【０２６０】
Ａ層およびＢ層を構成する各成分およびその含有量については、特開平１１−２１８９１４号公報に記載されているようにするのが好ましい。
【０２６１】
（中間層）
サーマルポジタイプの画像記録層と支持体との間には、中間層を設けるのが好ましい。中間層に含有される成分としては、特開２００１−３０５７２２号公報の段落番号００６８に記載されている種々の有機化合物が好適に挙げられる。
【０２６２】
（その他）
サーマルポジタイプの画像記録層の製造方法および製版方法については、特開２００１−３０５７２２号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。
＜サーマルネガタイプ＞
サーマルネガタイプの感光性組成物は、硬化性化合物と光熱変換物質とを含有する。サーマルネガタイプの画像記録層は、赤外線レーザ等の光で照射された部分が硬化して画像部を形成するネガ型の感光層である。
【０２６３】
（重合層）
サーマルネガタイプの画像記録層の一つとして、重合型の画像記録層（重合層）が好適に挙げられる。重合層は、光熱変換物質と、ラジカル発生剤と、硬化性化合物であるラジカル重合性化合物と、バインダーポリマーとを含有する。重合層においては、光熱変換物質が吸収した赤外線を熱に変換し、この熱によりラジカル発生剤が分解してラジカルが発生し、発生したラジカルによりラジカル重合性化合物が連鎖的に重合し、硬化する。
【０２６４】
光熱変換物質としては、例えば、上述したサーマルポジタイプに用いられる光熱変換物質が挙げられる。特に好ましいシアニン色素の具体例としては、特開２００１−１３３９６９号公報の段落番号００１７〜００１９に記載されているものが挙げられる。ラジカル発生剤としては、オニウム塩が好適に挙げられる。特に、特開２００１−１３３９６９号公報の段落番号００３０〜００３３に記載されているオニウム塩が好ましい。
【０２６５】
ラジカル重合性化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物が挙げられる。
【０２６６】
バインダーポリマーとしては、線状有機ポリマーが好適に挙げられる。水または弱アルカリ水に対して可溶性または膨潤性である線状有機ポリマーが好適に挙げられる。中でも、アリル基、アクリロイル基等の不飽和基またはベンジル基と、カルボキシ基とを側鎖に有する（メタ）アクリル樹脂が、膜強度、感度および現像性のバランスに優れている点で好適である。
【０２６７】
ラジカル重合性化合物およびバインダーポリマーについては、特開２００１−１３３９６９号公報の段落番号００３６〜００６０に詳細に記載されているものを用いることができる。
【０２６８】
サーマルネガタイプの感光性組成物中には、特開２００１−１３３９６９号公報の段落番号００６１〜００６８に記載されている添加剤（例えば、塗布性を向上させるための界面活性剤）を含有させるのが好ましい。
【０２６９】
重合層の製造方法および製版方法については、特開２００１−１３３９６９号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。
【０２７０】
（酸架橋層）
また、サーマルネガタイプの画像記録層の一つとして、酸架橋型の画像記録層（酸架橋層）も好適に挙げられる。酸架橋層は、光熱変換物質と、熱酸発生剤と、硬化性化合物である酸により架橋する化合物（架橋剤）と、酸の存在下で架橋剤と反応しうるアルカリ可溶性高分子化合物とを含有する。酸架橋層においては、光熱変換物質が吸収した赤外線を熱に変換し、この熱により熱酸発生剤が分解して酸が発生し、発生した酸により架橋剤とアルカリ可溶性高分子化合物とが反応し、硬化する。
【０２７１】
光熱変換物質としては、重合層に用いられるのと同様のものが挙げられる。
【０２７２】
熱酸発生剤としては、例えば、光重合の光開始剤、色素類の光変色剤、マイクロレジスト等に使用されている酸発生剤等の熱分解化合物が挙げられる。
【０２７３】
架橋剤としては、例えば、ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基で置換された芳香族化合物；Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基またはＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物；エポキシ化合物が挙げられる。
【０２７４】
アルカリ可溶性高分子化合物としては、例えば、ノボラック樹脂、側鎖にヒドロキシアリール基を有するポリマーが挙げられる。
【０２７５】
＜フォトポリマータイプ＞
光重合型感光性組成物は、付加重合性化合物と、光重合開始剤と、高分子結合剤とを含有する。
【０２７６】
付加重合性化合物としては、付加重合可能なエチレン性不飽和結合含有化合物が好適に挙げられる。エチレン性不飽和結合含有化合物は、末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。具体的には、例えば、モノマー、プレポリマー、これらの混合物等の化学的形態を有する。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミドが挙げられる。
【０２７７】
また、付加重合性化合物としては、ウレタン系付加重合性化合物も好適に用いることができる。
【０２７８】
光重合開始剤としては、種々の光重合開始剤または２種以上の光重合開始剤の併用系（光開始系）を、使用する光源の波長により適宜選択して用いることができる。例えば、特開２００１−２２０７９号公報の段落番号００２１〜００２３に記載されている開始系が好適に挙げられる。
【０２７９】
高分子結合剤は、光重合型感光性組成物の皮膜形成剤として機能するだけでなく、画像記録層をアルカリ現像液に溶解させる必要があるため、アルカリ水に対して可溶性または膨潤性である有機高分子重合体が用いられる。そのような有機高分子重合体としては、特開２００１−２２０７９号公報の段落番号００３６〜００６３に記載されているものが好適に挙げられる。
【０２８０】
フォトポリマータイプの光重合型感光性組成物中には、特開２００１−２２０７９号公報の段落番号００７９〜００８８に記載されている添加剤（例えば、塗布性を向上させるための界面活性剤、着色剤、可塑剤、熱重合禁止剤）を含有させるのが好ましい。
【０２８１】
また、フォトポリマータイプの画像記録層の上に、酸素の重合禁止作用を防止するために酸素遮断性保護層を設けることが好ましい。酸素遮断性保護層に含有される重合体としては、例えば、ポリビニルアルコール、その共重合体が挙げられる。
【０２８２】
更に、特開２００１−２２８６０８号公報の段落番号０１２４〜０１６５に記載されているような中間層または接着層を設けるのも好ましい。
【０２８３】
＜コンベンショナルネガタイプ＞
コンベンショナルネガタイプの感光性組成物は、ジアゾ樹脂または光架橋樹脂を含有する。中でも、ジアゾ樹脂とアルカリ可溶性または膨潤性の高分子化合物（結合剤）とを含有する感光性組成物が好適に挙げられる。
【０２８４】
ジアゾ樹脂としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒド等の活性カルボニル基含有化合物との縮合物；ｐ−ジアゾフェニルアミン類とホルムアルデヒドとの縮合物とヘキサフルオロリン酸塩またはテトラフルオロホウ酸塩との反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂無機塩が挙げられる。特に、特開昭５９−７８３４０号公報に記載されている６量体以上を２０モル％以上含んでいる高分子量ジアゾ化合物が好ましい。
【０２８５】
結合剤としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須成分として含む共重合体が挙げられる。具体的には、特開昭５０−１１８８０２号公報に記載されているような２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸等のモノマーの多元共重合体、特開昭５６−４１４４号公報に記載されているようなアルキルアクリレート、（メタ）アクリロニトリルおよび不飽和カルボン酸からなる多元共重合体が挙げられる。
【０２８６】
コンベンショナルネガタイプの感光性組成物には、添加剤として、特開平７−２８１４２５号公報の段落番号００１４〜００１５に記載されている焼出し剤、染料、塗膜の柔軟性および耐摩耗性を付与するための可塑剤、現像促進剤等の化合物、塗布性を向上させるための界面活性剤を含有させるのが好ましい。
【０２８７】
コンベンショナルネガタイプの感光層の下には、特開２０００−１０５４６２号公報に記載されている、酸基を有する構成成分とオニウム基を有する構成成分とを有する高分子化合物を含有する中間層を設けるのが好ましい。
【０２８８】
＜コンベンショナルポジタイプ＞
コンベンショナルポジタイプの感光性組成物は、キノンジアジド化合物を含有する。中でも、ｏ−キノンジアジド化合物とアルカリ可溶性高分子化合物とを含有する感光性組成物が好適に挙げられる。
【０２８９】
ｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂またはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、米国特許第３，６３５，７０９号明細書に記載されている１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルが挙げられる。
【０２９０】
アルカリ可溶性高分子化合物としては、例えば、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−クレゾール−ホルムアルデヒド共縮合樹脂、ポリヒドロキシスチレン、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドの共重合体、特開平７−３６１８４号公報に記載されているカルボキシ基含有ポリマー、特開昭５１−３４７１１号公報に記載されているようなフェノール性ヒドロキシ基を含有するアクリル系樹脂、特開平２−８６６号公報に記載されているスルホンアミド基を有するアクリル系樹脂、ウレタン系の樹脂が挙げられる。
【０２９１】
コンベンショナルポジタイプの感光性組成物には、添加剤として、特開平７−９２６６０号公報の段落番号００２４〜００２７に記載されている感度調節剤、焼出剤、染料等の化合物や、特開平７−９２６６０号公報の段落番号００３１に記載されているような塗布性を向上させるための界面活性剤を含有させるのが好ましい。
【０２９２】
コンベンショナルポジタイプの感光層の下には、上述したコンベンショナルネガタイプに好適に用いられる中間層と同様の中間層を設けるのが好ましい。
【０２９３】
＜無処理タイプ＞
無処理タイプの感光性組成物には、熱可塑性微粒子ポリマー型、マイクロカプセル型、スルホン酸発生ポリマー含有型等が挙げられる。これらはいずれも光熱変換物質を含有する感熱型である。光熱変換物質は、上述したサーマルポジタイプに用いられるのと同様の染料が好ましい。
【０２９４】
熱可塑性微粒子ポリマー型の感光性組成物は、疎水性かつ熱溶融性の微粒子ポリマーが親水性高分子マトリックス中に分散されたものである。熱可塑性微粒子ポリマー型の画像記録層においては、露光により発生する熱により疎水性の微粒子ポリマーが溶融し、互いに融着して疎水性領域、即ち、画像部を形成する。
【０２９５】
微粒子ポリマーとしては、微粒子同士が熱により溶融合体するものが好ましく、表面が親水性で、湿し水等の親水性成分に分散しうるものがより好ましい。具体的には、ＲｅｓｅａｃｈＤｉｓｃｌｏｓｕｒｅＮｏ．３３３０３（１９９２年１月）、特開平９−１２３３８７号、同９−１３１８５０号、同９−１７１２４９号および同９−１７１２５０号の各公報、欧州特許出願公開第９３１，６４７号明細書等に記載されている熱可塑性微粒子ポリマーが好適に挙げられる。中でも、ポリスチレンおよびポリメタクリル酸メチルが好ましい。親水性表面を有する微粒子ポリマーとしては、例えば、ポリマー自体が親水性であるもの；ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール等の親水性化合物を微粒子ポリマー表面に吸着させて表面を親水性化したものが挙げられる。
【０２９６】
微粒子ポリマーは、反応性官能基を有するのが好ましい。
【０２９７】
マイクロカプセル型の感光性組成物としては、特開２０００−１１８１６０号公報に記載されているもの、特開２００１−２７７７４０号公報に記載されているような熱反応性官能基を有する化合物を内包するマイクロカプセル型が好適に挙げられる。
【０２９８】
スルホン酸発生ポリマー含有型の感光性組成物に用いられるスルホン酸発生ポリマーとしては、例えば、特開平１０−２８２６７２号公報に記載されているスルホン酸エステル基、ジスルホン基またはｓｅｃ−もしくはｔｅｒｔ−スルホンアミド基を側鎖に有するポリマーが挙げられる。
【０２９９】
無処理タイプの感光性組成物に、親水性樹脂を含有させることにより、機上現像性が良好となるばかりか、感光層自体の皮膜強度も向上する。親水性樹脂としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、アミノ基、アミノエチル基、アミノプロピル基、カルボキシメチル基等の親水基を有するもの、親水性のゾルゲル変換系結着樹脂が好ましい。
【０３００】
無処理タイプの画像記録層は、特別な現像工程を必要とせず、印刷機上で現像することができる。無処理タイプの画像記録層の製造方法および製版印刷方法については、特開２００２−１７８６５５号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。
【０３０１】
＜バックコート＞
このようにして、本発明により得られる平版印刷版用支持体上に各種の画像記録層を設けて得られる本発明の平版印刷版の裏面には、必要に応じて、重ねた場合における画像記録層の傷付きを防止するために、有機高分子化合物からなる被覆層を設けることができる。
【０３０２】
［製版方法（平版印刷版の製造方法）］
本発明により得られる平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版は、画像記録層に応じた種々の処理方法により、平版印刷版とされる。
【０３０３】
像露光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプが挙げられる。レーザビームとしては、例えば、ヘリウム−ネオンレーザ（Ｈｅ−Ｎｅレーザ）、アルゴンレーザ、クリプトンレーザ、ヘリウム−カドミウムレーザ、ＫｒＦエキシマーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザが挙げられる。
【０３０４】
上記露光の後、画像記録層がサーマルポジタイプ、サーマルネガタイプ、コンベンショナルネガタイプ、コンベンショナルポジタイプおよびフォトポリマータイプのいずれかである場合は、露光した後、現像液を用いて現像して平版印刷版を得るのが好ましい。
【０３０５】
現像液は、アルカリ現像液であるのが好ましく、有機溶剤を実質的に含有しないアルカリ性の水溶液であるのがより好ましい。
【０３０６】
また、アルカリ金属ケイ酸塩を実質的に含有しない現像液も好ましい。アルカリ金属ケイ酸塩を実質的に含有しない現像液を用いて現像する方法としては、特開平１１−１０９６３７号公報に詳細に記載されている方法を用いることができる。
【０３０７】
また、アルカリ金属ケイ酸塩を含有する現像液を用いることもできる。
【実施例】
【０３０８】
以下に実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限られるものではない。
【０３０９】
［１］エンボスローラの製作
（エンボスローラＡの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラを放電加工し、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．３μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）６９μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＡを得た。放電加工は、ケロシン加工液中に平均粒径１．５μｍのグラファイト粒子を３ｇ／Ｌ添加し、放電加工機（型式；型彫放電加工機ＥＡ８型、三菱電機社製）を用いて、厚み０．５ｍｍの銅電極にてマイナスのコンデンサー放電加工を電圧３５０Ｖの条件とした。尚、ローラ表面の硬度は３００Ｈｖ（ビッカース硬度）であり、本発明の好ましい放電加工条件である５００〜１５００Ｈｖ（ビッカース硬度）の下限よりも小さかった。
【０３１０】
（エンボスローラＢの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。次に、エンボスローラＡと同様の条件で放電加工し、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．６μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１６μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＢを得た。ローラ表面の硬度は９００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＢは、本発明における好ましい放電加工条件を全て満たしていた。
【０３１１】
（エンボスローラＣの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をカニゼンメッキ処理（日本カニゼン株式会社）して３０μｍ厚のメッキ層を得た。続いて、ケロシン加工液中に平均粒径１．５μｍのグラファイト粒子を３ｇ／Ｌ添加し、厚み２ｍｍの真鍮電極にてマイナスのコンデンサー放電加工を電圧３５０Ｖで実施した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．４μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）５５μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＣを得た。ローラ表面の硬度は５００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＣは、本発明における好ましい放電加工条件を全て満たしていた。
【０３１２】
（エンボスローラＤの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をカニゼンメッキ処理（日本カニゼン株式会社）して、３０μｍ厚のメッキ層を得た後に４００℃で熱処理した。続いて、ケロシン加工液中に平均粒径１．５μｍのグラファイト粒子を３ｇ／Ｌ添加し、厚み２ｍｍの真鍮電極にてマイナスのコンデンサー放電加工を電圧３５０Ｖで実施した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．４μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）５０μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＤを得た。ローラ表面の硬度は９００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＤは、本発明における好ましい放電加工条件を全て満たしていた。
【０３１３】
（エンボスローラＥの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をカニボロンメッキ処理（日本カニゼン株式会社）し、３０μｍ厚のメッキ層を得た後に４００℃で熱処理した。続いて、ケロシン加工液中に平均粒径１．５μｍのグラファイト粒子を３ｇ／Ｌ添加し、厚み２ｍｍの真鍮電極にてマイナスのコンデンサー放電加工を電圧３５０Ｖで実施した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．５μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）４１μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＥを得た。ローラ表面の硬度は９５０Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＥは、本発明における好ましい放電加工条件を全て満たしていた。
【０３１４】
（エンボスローラＦの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、電源のスイッチングにより、２μｓ周期のパルス放電した以外はエンボスローラＢと同様の条件で放電加工した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．３μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）９６μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＦを得た。ローラ表面の硬度は９００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＦは、パルス放電した点が本発明の好ましい放電加工条件であるマイナスのコンデンサー放電加工とは相違していた。
【０３１５】
（エンボスローラＧの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、プラス放電した以外はエンボスローラＢと同様の条件で放電加工した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．８μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１１６μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＧを得た。ローラ表面の硬度は９００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＧは、プラス放電した点が本発明の好ましいマイナス放電とは相違していた。
【０３１６】
（エンボスローラＨの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、グラファイト粒子を添加しなかった以外はエンボスローラＢと同様の条件で放電加工した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．４μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）６３μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＨを得た。ローラ表面の硬度は９００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＨは、加工液に微粒子を添加していないがその他は本発明の放電加工条件を満足する場合である。
【０３１７】
（エンボスローラＩの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、グラファイトを平均粒径７μｍのシリコン粒子に換えた以外はエンボスローラＢと同様の条件で放電加工した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．６μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）４１μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＩを得た。ローラ表面の硬度は９００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＩは、本発明における好ましい放電加工条件を全て満たしていた。
【０３１８】
（エンボスローラＪの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、電圧を７０Ｖに下げた以外はエンボスローラＢと同様の条件で放電加工した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．１μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１３μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＪを得た。ローラ表面の硬度は９００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＪは、電圧が７０Ｖと低く、本発明の好ましい放電電圧条件である１００Ｖ以上４００Ｖ以下と相違した。また、凹凸パターンの算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍで本発明の０．３μｍ以上しい１．０μｍ以下から外れると共に、平均凹凸周期（ＲＳｍ）が１３μｍで本発明の１５μｍ以上１５０μｍ以下から外れる点で本発明を満足しなかった。
【０３１９】
（エンボスローラＫの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、電圧を１５０Ｖに下げた以外はエンボスローラＢと同様の条件で放電加工した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）０．３μｍ（本発明の算術平均粗さの下限値）、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１５μｍ（本発明の平均凹凸周期の下限値）の凹凸パターンを有するエンボスローラＫを得た。ローラ表面の硬度は９００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＫは、本発明における好ましい放電加工条件を全て満たしていた。
【０３２０】
（エンボスローラＬの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、グラファイト粒子を添加しないと共に電圧を１５０Ｖにした以外はエンボスローラＢと同様の条件で放電加工した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）１．０μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１５０μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＬを得た。ローラ表面の硬度は９００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＬは、加工液に微粒子を添加していないがその他の点では本発明の放電加工条件を満足する場合である。
【０３２１】
（エンボスローラＭの製作）
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ローラの表面をメッキ処理して５０μｍ厚のハードクロム層を得た。電極の材質を真鍮とし、プラス放電とし、グラファイト粒子を添加しなかった以外はエンボスローラＢと同様の条件で放電加工した。そして、ローラ面（エンボス版部分）に、算術平均粗さ（Ｒａ）１．２μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）１５０μｍの凹凸パターンを有するエンボスローラＭを得た。ローラ表面の硬度は９００Ｈｖ（ビッカース硬度）であった。即ち、エンボスローラＭは、プラス放電とし、グラファイト粒子を添加しなかった点が本発明の好ましい放電加工条件とは相違すると共に、凹凸パターンの算術平均粗さ（Ｒａ）が１．２μｍで本発明の０．３μｍ以上１．０μｍ以下の上限を満足しない場合である。
【０３２２】
［２］アルミニウム板の製作
上記エンボスローラＡ〜Ｍを用いて表１に示す組成のアルミニウム板を圧延（転写）処理し、アルミニウム板表面に凹凸パターンを転写した。圧下率は２％とした。
【０３２３】
【表１】
2005329451.tif 000003
【０３２４】
このアルミニウム板の板厚は０．３ｍｍであり、算平均粗さＲａ及び平均凹凸周期ＲＳｍは表２に示すとおりであった。尚、表面形状の測定は、触針式粗さ計（（株）ミツトヨ社製２次元粗さ計ＳＪ−４００型）で２次元粗さ測定を行い、ＩＳＯ４２８７に規定されている算術平均粗さＲａを５回測定し、その平均値を平均粗さＲａとした。凹凸の平均間隔（基準長さ中での間隔の平均値）ＲＳｍも同様にして測定した。
【０３２５】
＜測定条件＞
カットオフ値０．８ｍｍ、傾斜補正ＡＬＬ、フィルターＧＡＵＳＳ、走査速度０．１ｍｍ／ｓｅｃ、触針先端径２μｍ。
【０３２６】
【表２】
2005329451.tif 000004
【０３２７】
［３］平版印刷版用支持体の作製
得られたアルミニウム板に対して、順に下記の処理をし、平版印刷版用支持体を作製した。
【０３２８】
＜表面処理＞
(1) アルカリ水溶液中でのエッチング処理
アルミニウム板に、ＮａＯＨを３７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオンを１００ｇ／Ｌ含有する６０°Ｃの水溶液を、スプレー管より吹き付けてアルミニウム板のエッチング処理を行った。後の工程で電気化学的に粗面化処理する面のアルミニウム板の溶解量は３ｇ／ｍ2 であった。その後、ニップローラで液切りし、水洗し、更にニップローラで液切りを行った。この水洗処理は、自由落下カーテン状液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、その後、スプレー管に取り付けられたスプレーチップより扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理した。
【０３２９】
(2) 酸性水溶液中でのデスマット
次に、デスマット処理を行った。次工程の電気化学的な粗面化に用いた硝酸の廃液を用いた。その液温は３５°Ｃであった。デスマット液はスプレーにて吹き付けて５秒間デスマット処理を行った。その後、ニップローラで液切りを行わず、次の工程までアルミニウム板に硝酸が付着している状態でハンドリングした。デスマット処理槽を通過後、硝酸が付着している状態でのハンドリング時間は２５秒であった。
【０３３０】
(3) 硝酸水溶液中での電気化学的な粗面化処理
液温３５°Ｃ、硝酸濃度１０．４ｇ／Ｌの水溶液に硝酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を４．５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。
【０３３１】
電気化学的な粗面化処理を行う直前に、アルミニウム板に電気化学的な粗面化処理に用いる硝酸電解液と同じ組成と温度の電解液を吹き付けた。交流電流を発生する電源を用いて電気化学的な粗面化処理を行った。その交流電流の周波数は６０Ｈｚ、電流のゼロからピークに達するまでの時間Ｔｐは１．２ｍｓｅｃであった。交流のｄｕｔｙ（ｔａ／Ｔ）は０．５であった。電流密度は交流のピーク時におけるアルミニウム板のアノード反応時で６０Ａ／ｄｍ2 であった。アルミニウム板のアノード反応時の電気量の総和とカソード反応時の電気量の総和の比は０．９５であった。アルミニウム板に加わる電気量は、アルミニウム板のアノード反応時の電気量の総和で２１５  Ｃ／ｄｍ2 であった。
【０３３２】
電解処理槽は図５に示すラジアル型のものを２槽用いた。アルミニウム板と電解液の相対速度は、電解槽内の平均で１．５m/sec （１〜２m/sec)であった。
【０３３３】
その後、ニップローラで液切りし、水洗し、その後、スプレー管に取り付けられたスプレーチップより扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理した。更にニップローラで液切りを行った。
【０３３４】
(4) アルカリ水溶液中でのエッチング処理
アルミニウム板に、ＮａＯＨを３７０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオンを１００ｇ／Ｌ含有する６４°Ｃの水溶液を、スプレー管より吹き付けて、７秒間処理し、アルミニウム板のエッチング処理を行った。後の工程で電気化学的に粗面化処理する面のアルミニウム板の溶解量は３ｇ／ｍ2 であった。その後、ニップローラで液切りし、水洗し、更にニップローラで液切りを行った。この水洗処理は、自由落下カーテン状液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、その後、スプレー管に取り付けられたスプレーチップより扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理した。更にニップローラで液切りを行った。
【０３３５】
(5) 酸性水溶液中でのデスマット
次に、デスマット処理を行った。硫酸３００ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン２ｇ／Ｌ溶解して用い、液温３５°Ｃで１０秒間デスマット処理を行った。その後、ニップローラで液切りし、さらに、スプレー管に取り付けられたスプレーチップより扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理した。最後にニップローラで液切りを行った。
【０３３６】
(6) 塩酸水溶液中での電気化学的な粗面化処理
液温３５°Ｃ、塩酸濃度５ｇ／Ｌの水溶液に、塩化アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を５ｇ／Ｌに調整した電解液を用いた。台形波交流電流を発生する電源を用いて電気化学的な粗面化処理を行った。その交流電流の周波数は６０Ｈｚ、交流のゼロからピークに達するまでの時間Ｔｐは０．８ｍｓｅｃであった。交流のduty（ｔａ／Ｔ）は０．５であった。電流密度は交流のピーク時でアルミニウム板のアノード反応時５０Ａ／ｄｍ2 であり、アルミニウム板がアノード反応時の電気量の総和とカソード反応時の電気量の総和の比は０．９５であった。アルミニウム板に加わる電気量は、アルミニウム板のアノード反応時の電気量の総和で６５Ｃ／ｄｍ2 であった。
【０３３７】
電解処理槽は図５に示すラジアル型のものを1 槽用いた。
【０３３８】
アルミニウム板と電解液の相対速度は、電解槽内の平均で１．５m/sec であった。その後、ニップローラで液切りし、水洗し、更にニップローラで液切りを行った。
【０３３９】
(7) アルカリ水溶液中でのエッチング処理
アルミニウム板に、ＮａＯＨを５０ｇ／Ｌ、アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ含有する３５°Ｃの水溶液を、スプレー管より吹き付けて、アルミニウム板を０．２ｇ／ｍ2 溶解するエッチング処理を行った。その後、ニップローラで液切りし、水洗し、更にニップローラで液切りを行った。この水洗処理は、自由落下カーテン状液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、その後、スプレー管に取り付けられたスプレーチップより扇状に噴き出す水で５秒間水洗処理した。更にニップローラで液切りを行った。
【０３４０】
(8) 酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、デスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、次工程の陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５ｇ／Ｌ溶解）を用い、液温３５°Ｃで５秒間デスマット処理を行った。その後、ニップローラで液切りした。液切り後、陽極酸化するまでの間は水洗処理を行わなかった。
【０３４１】
(9) 陽極酸化処理
次に、この板を、下記の条件で陽極酸化処理した。硫酸１７０ｇ／Ｌに硫酸アルミニウムを添加してアルミニウムイオン濃度を５ｇ／Ｌとした３３°Ｃの電解液を用いて、電解処理槽内のアルミニウム板に加わる電流密度が、アルミニウム板がアノード反応する間の平均電流密度で１５Ａ／ｄｍ2 となるような条件で、２．４ｇ／ｍ2 の直流陽極酸化被膜を設けた。
【０３４２】
(10)親水化処理
珪酸ソーダ１．０質量％含む水溶液２０°Ｃに１０秒間浸せきする親水化処理を行った。このアルミニウム板の表面のＳｉ量を蛍光Ｘ線分析装置で測定したアルミニウム表面のＳｉ量は３．５ｍｇ／ｍ2 であった。その後、ニップローラで液切りし、水洗し、更にニップローラで液切りを行った。その後、９０°Ｃの風を１０秒間吹き付けて乾燥した。
【０３４３】
このアルミニウム板の表面形状を走査型電子顕微鏡で倍率５００００倍で観察したところ、その表面に直径０．１μｍの微細な凹凸が均一且つ緻密に生成していた。また、走査型電子顕微鏡で倍率２０００倍で観察したところ、このアルミニウム板の表面には直径１〜５μｍの凹凸が生成していた。前記、直径０．１μｍの微細な凹凸は直径１〜５μｍの凹凸に重畳して生成していた。
【０３４４】
［４］平版印刷版の作製
上記で得られた各平版印刷版用支持体に、以下のようにしてサーマルポジタイプの画像記録層を塗布・乾燥し、平版印刷版試料１〜１３を作製して印刷した。
【０３４５】
平版印刷版用支持体上に、下記組成の下塗液を塗布し、８０°Ｃで１５秒間乾燥し、下塗層の塗膜を形成させた。乾燥後の塗膜の被覆量は１５ｍｇ／ｍ2 であった。
【０３４６】
＜下塗液組成＞
・下記高分子化合物…０．３ｇ
・メタノール      …１００ｇ
・水              …１ｇ
【０３４７】
【化１】
2005329451.tif 000005
【０３４８】
更に、下記組成の感熱層塗布液を調製し、下塗層を設けた平版印刷版用支持体に、この感熱層塗布液を乾燥後の塗布量（感熱層塗布量）が１．８ｇ／ｍ2 になるよう塗布し、乾燥させて感熱層（サーマルポジタイプの画像記録層）を形成させ、平版印刷版を得た。
【０３４９】
＜感熱層塗布液組成＞
・ノボラック樹脂（ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾール＝６０／４０、質量平均分子量７，０００、未反応クレゾール０．５質量％含有）…０．９０ｇ
・メタクリル酸エチル／メタクリル酸イソブチル／メタクリル酸共重合体（モル比３５／３５／３０）…０．１０ｇ
・下記の化２の構造式で表されるシアニン染料Ａ…０．１ｇ
・テトラヒドロ無水フタル酸…０．０５ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸…０．００２ｇ
・エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸にしたもの…０．０２ｇ
・フッ素系界面活性剤（ディフェンサＦ−７８０Ｆ、大日本インキ化学工業社製、固形分３０質量％）…０．００４５ｇ（固形分換算）
・フッ素系界面活性剤（ディフェンサＦ−７８１Ｆ、大日本インキ化学工業社製、固形分１００質量％）…０．０３５ｇ
・メチルエチルケトン…１２ｇ
【０３５０】
【化２】
2005329451.tif 000006
【０３５１】
［５］平版印刷版の評価
上記の通り作成した平版印刷版試料１〜１３の耐刷性、感度、及び汚れにくさの各印刷特性について、下記の方法で評価した。
【０３５２】
（１）耐刷性（印刷枚数）
得られた平版印刷版をＣｒｅｏ社製ＴｒｅｎｄＳｅｔｔｅｒを用いてドラム回転速度１５０ｒｐｍ、ビーム強度１０Ｗで画像状に描き込みを行った。その後、下記組成のアルカリ現像液を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサー９４０Ｈを用い、液温を３０°Ｃに保ち、現像時間２０秒で現像し、平版印刷版を得た。
【０３５３】
＜アルカリ現像液Ｂ組成＞
・Ｄ−ソルビット…２．５質量％
・水酸化ナトリウム…０．８５質量％
・ポリエチレングリコールラウリルエーテル（質量平均分子量１０００）…０．５質量％
・水…９６．１５質量％
得られた平版印刷版を、小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、大日本インキ化学工業社製のＤＩＣ−ＧＥＯＳ（Ｎ）墨のインキを用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を◎、○、△、×の４段階評価を行った。
【０３５４】
◎：  印刷枚数が４万枚以上
○：  印刷枚数が３万枚以上、４万枚未満
△：  印刷枚数が２万枚以上、３万枚未満
×：  印刷枚数が２万枚未満
（２）感度
平版印刷版を出力５００ｍＷ、波長８３０ｎｍ、ビーム径１７μｍ（１／ｅ2 ）の半導体レーザを装備したＣＲＥＯ社製ＴｒｅｎｄＳｅｔｔｅｒ３２４４を用いて、主走査速度５ｍ／秒、版面エネルギー量１４０ｍＪ／ｃｍ2 で像様露光した。感度の評価のために、版面エネルギー量を４５〜１８０ｍＪ／ｃｍ2 まで５ｍＪ／ｃｍ2 間隔で変えて露光を行ったサンプルを準備した。
【０３５５】
現像処理は、上記組成の現像液Ｂを満たした自動現像機ＰＳ９００ＮＰ（富士写真フイルム（株）製）を用いて、現像温度２５°Ｃ、１２秒の条件で行った。現像処理が終了した後、水洗工程を経て、ガム（ＧＵ−７（１：１））等で処理して、製版が完了した平版印刷版を得た。版面エネルギー量を変化させたサンプルから、現像処理後画像形成できた最低露光量を感度とした。即ち、版面エネルギー量が小さいほど感度が良いことを示し、その感度を、版面エネルギー量に基づいて◎、○、△、×の４段階評価を行った。
【０３５６】
◎：  エネルギー量（ｍＪ／ｃｍ2 ）が５０ｍＪ／ｃｍ2 未満
○：  エネルギー量１００ｍＪ／ｃｍ2 未満、５０ｍＪ／ｃｍ2 以上
△：  エネルギー量１５０ｍＪ／ｃｍ2 未満、１００ｍＪ／ｃｍ2 以上
×：  エネルギー量１５０ｍＪ／ｃｍ2 以上
（３）耐汚れ性（汚れにくさ）
上記（１）耐刷性の評価と同様にして得られた平版印刷版を用い、三菱ダイヤ型Ｆ２印刷機（三菱重工業社製）で、ＤＩＣ−ＧＥＯＳ（ｓ）紅のインキを用いて印刷し、１万枚印刷した後におけるブランケットの汚れを目視で評価した。評価は汚れ具体に応じてＡ，Ｂ，Ｃの３段階評価を行い、Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの汚れ具体は次の通りである。
【０３５７】
Ａ：ブランケットがほとんど汚れていないもの
Ｂ：ブランケットが少し汚れていたもの
Ｂ〜Ｃ：ブランケットが汚れているものの許容できる範囲にあるもの
Ｃ：ブランケットが汚れており印刷物が明らかに汚れているもの  
（４）エンボスローラのローラ寿命
幅１２ｃｍのエンボスローラ（エンボス版）に対して、１０ｃｍ幅のアルミニウム板を長さ１００ｍエンボス処理した後に、アルミニウム板の端部が当たった部位（ローラ幅内側の１ｃｍ位置）の傷や削れを目視検査にて、次のＡ，Ｂ，Ｃの３段階評価を行った。
【０３５８】
Ａ：傷がない
Ｂ：うっすらと傷跡が見える
Ｃ：明らかに削れている
上記の方法で評価した評価結果を表３に示す。                                  
【０３５９】
【表３】
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【０３６０】
表３より明らかな様に、本発明による放電加工条件を全て満足するように作製したエンボスローラで凹凸パターンをアルミニウム板に転写した試料２〜５、９、１１については、平版印刷版の重要な特性である感度、耐刷性、並びに汚れにくさに優れ、エンボス転写に伴うロール寿命も良好であった。また、加工液に微粒子を添加しなかった以外の放電加工条件を満足した試料８及び１２は、感度の点で全ての放電加工条件を満足した試料よりも多少劣るものの合格ラインであった。
【０３６１】
一方、本発明による放電加工条件の条件の凹凸パターンのＲａとＲＳｍ、表面硬度、放電形態の何れかを１つ以上満足しない試料１、６、７、１０、１３については、感度が低かったり、耐刷性に欠けたりなど、高品位の平版印刷版として満足できないレベルであった。また、ローラ表面の硬度が十分高くないエンボスローラＡではロール寿命が短かった。
【図面の簡単な説明】
【０３６２】
【図１】エンボスローラのローラ面に凹凸パターンを放電加工で形成する概略図
【図２】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における水洗処理に用いられる自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置の概念図
【図３】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられるサイン波形の一例を示す図
【図４】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形の一例を示す図
【図５】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図
【図６】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる装置の一例を示す側面図
【図７】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる装置の別の一例を示す側面図
【図８】本発明の平版印刷版用支持体の製造方法における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図
【符号の説明】
【０３６３】
ＡＬ…アルミニウム板、１２…ラジアルドラムローラ、１３ａ、１３ｂ…主極、１４…電解処理液、１５…電解液供給口、１６…スリット、１７…電解液通路、１８…補助陽極、１９ａ、１９ｂ…サイリスタ、２０…交流電源、２２…エンボスローラ、３３…放電加工機、３５ａ…加工液、３８…電極、４０…主電解槽、５０…補助陽極槽、６１…アルミニウム板、６２…陽極、６３…陰極、６４…電解液、６５…電解槽６６…供液ノズル、６７…排液管、６８…供液管、１００…自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置、１０２…水、１０４…貯水タンク、１０６…給水筒、１０８…整流部、４１０…陽極酸化処理装置、４１２…給電槽、４１３…中間槽、４１４…陽極酸化処理槽、４１６…アルミニウム板、４１８、４２６…電解液、４２０…陽極、４２２、４２８…パスローラ、４２４…ニップローラ、４３０…陰極、４３４…直流電源、４３６、４３８…給液ノズル、４４０…しゃへい板、４４２…排液口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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