(57)【要約】【課題】化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクスに好適で、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランクスの収納方法等を提供する。【解決手段】化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納容器内に収納する方法において、上記マスクブランクスを少なくとも酸性物質が除去された雰囲気とともに収納容器内に収納する。たとえば、ケミカルフィルターを用いて酸性物質を除去した雰囲気のクリーンルーム内で上記マスクブランクスを収納容器内に収納する。【選択図】    図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納容器内に収納する方法であって、前記マスクブランクスを少なくとも酸性物質が除去された雰囲気とともに収納容器内に収納することを特徴とするマスクブランクスの収納方法。
【請求項２】
化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納容器内に収納する方法であって、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で前記マスクブランクスを収納容器内に収納することを特徴とするマスクブランクスの収納方法。
【請求項３】
前記収納容器は酸性物質を吸収或いは吸着する手段を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のマスクブランクスの収納方法。
【請求項４】
少なくとも酸性物質を含まない雰囲気を有する収納容器内に化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納していることを特徴とするマスクブランクス収納体。
【請求項５】
基板上にマスクパターンを形成するための薄膜を成膜した後、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で、上記薄膜上に化学増幅型レジスト膜を形成することを特徴とするマスクブランクスの製造方法。
【請求項６】
基板上にマスクパターンを形成するための薄膜を成膜して得られるマスクブランクス上に化学増幅型レジスト膜を形成する工程と、必要に応じて実施する後処理工程と、必要に応じて実施する前記レジスト膜付きマスクブランクスの検査工程と、前記レジスト膜付きマスクブランクスを収納容器内に収納、梱包する工程とを含むマスクブランクスの製造方法であって、前記各工程のうちの少なくとも一の工程は、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で実施することを特徴とするマスクブランクスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子デバイスの製造に使用されるフォトマスクを製造するためのレジスト膜付きマスクブランクスの収納方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の電子デバイス、特に半導体素子や液晶モニター用のカラーフィルター或いはＴＦＴ素子等は、ＩＴ技術の急速な発達に伴い、一層の微細化が要求されている。このような微細加工技術を支える技術の一つが、転写マスクと呼ばれるフォトマスクを用いたリソグラフィー技術である。このリソグラフィー技術においては、露光用光源の電磁波を転写マスクを通じてレジスト膜付きシリコンウエハー等に露光することにより、シリコンウエハー上に微細なパターンを形成している。この転写マスクは通常、透光性基板上に遮光性膜を形成したマスクブランクスにリソグラフィー技術を用いて原版となるパターンを形成して製造される。ところで、マスクブランクスの表面にパーティクル等の異物があると、形成されるパターンの欠陥の原因となるので、マスクブランクスの表面には異物等が付着しないように清浄に保管される必要がある。
【０００３】
このようなマスクブランクスを収納保管し運搬するための容器としては、従来では例えば下記特許文献１に記載されているようなマスク運搬用ケースが知られている。
すなわち、従来のマスクブランクスを収納保管する容器は、キャリアなどと呼ばれている内ケースにマスクブランクスを数枚乃至数十枚並べて保持させ、このマスクブランクスを保持した内ケースを外箱（ケース本体）内に収容し、さらに外箱上に蓋を被せて、マスクブランクスを収納する構造となっていた。そして、外箱と蓋との接合部上には粘着テープを貼付することにより、ケースを密封するとともに、外気や異物等の進入を防ぐようにしていた。
【特許文献１】特開２００１−１５４３４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年の電子デバイスの高性能化に伴って、転写マスクに形成されるパターンも一段と微細化が要求されており、このような微細化パターンを形成するためにもマスクブランクスの清浄度は極めて高いものでないと許容できなくなってきている。従って、マスクブランクスに異物等が付着するのを出来るだけ抑制することにより、特にマスクブランクスの保管中は出来るだけ高い清浄度に維持する必要がある。中でも、表面にレジスト膜を有するマスクブランクスの場合、表面に異物等が一旦付着すると取れ難く、しかもこの段階で洗浄ができないため、異物等が付着したままパターニングが行われて、パターン欠陥を生じることになる。
【０００５】
ところで、最近、フォトマスク用のレジストとして化学増幅型レジストが注目されている。この化学増幅型レジストに関しては例えば特開２０００−６６３８０号公報等に記載がある。この化学増幅型レジストは、感度やコントラストなどの特性が従来のフォトレジストに比べて優れているため、微細化パターンを形成するのに有利である。化学増幅型レジストには、レジスト作用を備える高分子化合物（ポジ型）、或いは、架橋反応等により高分子化合物を生成する低分子化合物（ネガ型）と触媒性物質とが含有されている。電子線或いは電磁波などのエネルギー線を化学増幅型レジストに照射することにより、含有されている触媒性物質を感光させてレジスト中に酸性触媒物質を生成せしめることができる。この酸性触媒物質が上記高分子化合物を現像液に可溶化させる或いは高分子化合物を生成して現像液に不溶化させる化学反応（化学増幅反応）に対する触媒作用を有する。
但し、この化学増幅型レジストは、その反応メカニズム上、塩基性化学物質のコンタミによる影響を受けやすいことが指摘されている。つまり、ある種の塩基性化学物質、例えばアンモニア類やアミン類などのコンタミがあると、化学増幅反応の触媒となる酸性触媒物質の生成を阻害したり、生成した酸性触媒物質の機能を抑制乃至阻害（例えば失活）し、所望の性能が得られなくなる場合が生じる。このため、化学増幅型レジスト膜が形成されたマスクブランクスの場合は、単にパーティクル等の異物を排除するだけでは足りず、塩基性化学物質のコンタミによる影響をも排除するため特に清浄な雰囲気で保管する必要がある。
【０００６】
ところが、本発明者の検討によると、上記塩基性化学物質による汚染を防止しても必ずしも安定したレジスト性能が得られず、所望のレジストパターンが形成できるとは限らないことを突き止めた。つまり、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスの製造工程において、アミン類等の塩基性物質の発生原因を徹底的に究明し、またマスクブランクスの収納梱包環境にも十分に注意を払ったが、それでもなお形成されるレジストパターンの精度がばらつくという問題が発生することを突き止めた。
従って、本発明は、上記従来の問題点を解消し、特に清浄な雰囲気で保管される必要がある化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクスに好適で、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランクスの収納方法等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述したように、化学増幅型レジストの汚染物質は、アミン類などの塩基性化学物質であると従来は考えられていたが、本発明者の検討によれば、このような塩基性化学物質を排除した環境下でマスクブランクスを保管しても、安定したレジスト性能が得られないことがあり、マスク製造時に所望の微細パターンを形成できない場合があることを突き止めた。
そこで、本発明者は、前記課題を解決するため鋭意検討した結果、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスは、意外にも、塩基性物質だけでなく、酸性物質の付着によっても汚染され、安定した微細パターン形成が阻害される場合があることを見い出した。そして、この酸性物質は、主に化学増幅型レジストの感度に影響を与えるもので、化学増幅効果を所望以上に増進させてしまう作用があることも見い出した。本発明は、これら得られた一連の知見に基づいて完成するに至ったものである。
【０００８】
すなわち、本発明は以下の構成を有するものである。
（構成１）化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納容器内に収納する方法であって、前記マスクブランクスを少なくとも酸性物質が除去された雰囲気とともに収納容器内に収納することを特徴とするマスクブランクスの収納方法。
（構成２）化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納容器内に収納する方法であって、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で前記マスクブランクスを収納容器内に収納することを特徴とするマスクブランクスの収納方法。
（構成３）前記収納容器は酸性物質を吸収或いは吸着する手段を有することを特徴とする構成１又は２に記載のマスクブランクスの収納方法。
（構成４）少なくとも酸性物質を含まない雰囲気を有する収納容器内に化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納していることを特徴とするマスクブランクス収納体。
（構成５）基板上にマスクパターンを形成するための薄膜を成膜した後、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で、上記薄膜上に化学増幅型レジスト膜を形成することを特徴とするマスクブランクスの製造方法。
（構成６）基板上にマスクパターンを形成するための薄膜を成膜して得られるマスクブランクス上に化学増幅型レジスト膜を形成する工程と、必要に応じて実施する後処理工程と、必要に応じて実施する前記レジスト膜付きマスクブランクスの検査工程と、前記レジスト膜付きマスクブランクスを収納容器内に収納、梱包する工程とを含むマスクブランクスの製造方法であって、前記各工程のうちの少なくとも一の工程は、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で実施することを特徴とするマスクブランクスの製造方法。
【０００９】
本発明において、除去すべき酸性物質としては、化学増幅型レジスト膜に付着等して、化学増幅型レジストの化学増幅作用に影響を及ぼす酸性汚染物質が特に挙げられる。このような酸性物質としては、例えば、塩素イオンを含む物質、硫酸イオンを含む物質、リン酸イオンを含む物質、硝酸イオンを含む物質等を挙げることが出来る。これらの酸性物質は、主に化学増幅型レジストの感度に影響を与えるもので、化学増幅効果を所望以上に増進させてしまう作用があり、安定したレジスト性能が得られなくなり、その結果、安定したレジストパターンの形成が阻害され、マスク製造時に所望の微細パターンを形成できない場合がある。
これら酸性物質の除去の程度は、必ずしも１００％である必要はなく、雰囲気中に存在しても化学増幅型レジスト膜を汚染しない程度に除去されていればよい。勿論、酸性物質の除去の程度が高ければ高いほど清浄度が良くなるので品質上好ましいが、製造コストを圧迫する場合があるので、採算ラインの範囲内で且つ製品障害が発生しない程度に酸性物質が雰囲気中から除去されるようにしてもよい。具体的な数値を一例として挙げると、雰囲気１立方メートル当り、例えば塩素イオンを含む物質の場合であれば塩素イオンが０．０５μｇ以下、硫酸イオンを含む物質の場合であれば硫酸イオンが０．１μｇ以下、硝酸イオンを含む物質の場合であれば硝酸イオンが０．７μｇ以下とするのが好ましい。
【００１０】
酸性物質を雰囲気中から除去する方法としては、化学物質を吸着させるフィルター（ケミカルフィルター）を用いることが挙げられる。酸性物質を除去するためのケミカルフィルターとしては、酸中和物質を混合したケミカルフィルターを用いることが好ましい。酸中和物質としては、炭酸塩物質を好ましく挙げることが出来る。このような炭酸塩物質としては、炭酸カリウムを好ましく挙げることが出来る。なお、このようなケミカルフィルターとしては、活性炭等の吸着材を含有する活性炭フィルターを好ましく用いることができ、この活性炭等の吸着材に上記酸中和物質を含有させたフィルターを好ましく用いることができる。
本発明においては、構成１にあるように、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを少なくとも酸性物質が除去された雰囲気とともに収納容器内に収納することを特徴とする。すなわち、上記マスクブランクスを収納容器内に収納するにあたり、少なくとも酸性物質を除去した雰囲気を供給することにより、この雰囲気とともにマスクブランクスを収納して保管する。これにより、マスクブランクスへの酸性汚染物質の付着を実用上最も好ましく防止することが出来る。
【００１１】
酸性物質を除去した雰囲気を供給する方法としては、上述のケミカルフィルターを用いて酸性物質を除去した雰囲気をマスクブランクスの収納作業の環境に供給する方法や、収納容器に上記雰囲気を供給して収納容器内部を置換する方法、或いは、上記雰囲気で収納容器をパージする方法などを挙げることができる。
たとえば構成２にあるように、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納容器内に収納することが好適である。通常、マスクブランクスの収納作業は、クリーンルームなどで行われるため、このマスクブランクスの収納作業の環境に、更にケミカルフィルター等を用いて酸性物質を除去した雰囲気を供給することが容易だからである。
また、上記酸性物質とともに、化学増幅型レジストの所望の化学増幅効果を阻害する塩基性化学物質、例えばアンモニア類、アミン類等の物質も除去することが好ましい。このような塩基性化学物質を除去する方法としては、リン酸などのアルカリ中和物質を混合したケミカルフィルターを用いる方法が挙げられる。ケミカルフィルターとしては、活性炭等の吸着材を含有する活性炭フィルターを好ましく用いることができ、この活性炭等の吸着材に上記アルカリ中和物質を含有させたフィルターを好ましく用いることができる。
【００１２】
また、上記酸性物質や塩基性物質を除去するためのケミカルフィルターにエアーフィルターを併用することが好ましい。このようなエアーフィルターとしては、ＨＥＰＡフィルター（high efficiency particulate air filter）やＵＬＰＡフィルター（ultra low penetration particulate air filter）を好ましく挙げることができる。ＨＥＰＡフィルターは、高効率のエアーフィルターで、材質は主にガラス繊維製である。また、ＵＬＰＡフィルターは、超々高性能フィルターで、材質はガラス繊維製、フッ素系樹脂製が主である。フィルターの能力は、0.05μｍ以上のパーティクルを捕捉できるフィルターであることが好ましい。ＨＥＰＡフィルターやＵＬＰＡフィルター等のエアーフィルターの選択は費用対効果などを勘案して適宜選択することができる。
【００１３】
また、本発明で使用するマスクブランクスを収納するための収納容器は特に制約はない。図１乃至図４はマスクブランクスの収納容器の一例を示すもので、図１は収納容器の蓋を示す斜視図、図２はマスクブランクスを中ケースに収納する状態を示す斜視図、図３は収納容器の容器本体（外ケース）を示す斜視図、図４は収納容器にマスクブランクスを収納した状態の縦方向の断面図である。
本例の収納容器は、主表面が正方形のガラス基板の一主表面上に例えばクロム膜等の遮光性薄膜を成膜し、その上に前述の化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクス１を中ケース２に収納し、この中ケース２を容器本体３に収納し、この容器本体３の開口部側に蓋４を被せる構造である（図４）。
なお、上記中ケース２を使用せずに、マスクブランクス１を容器本体３に直接溝等を設けて収納する形態とすることもできる。但し、本例のように中ケース２を使用すると、数枚乃至数十枚のマスクブランクスをまとめて中ケース２に入れた状態で取り扱えるので便利である。
【００１４】
上記中ケース２は、開口部側（上方）から底面側（下方）に向けて複数の溝２１，２２を一方の互いに対向する内側面に所定間隔をおいて一対をなして形成し、その溝２１，２２の底面側の底部と中ケース底面にはそれぞれ開口窓２３，２４と開口部２７が設けられ、さらに中ケース底面側には基板支持部２６が形成され、この基板支持部２６でマスクブランクス１の下方端面を支持している（図２、図４）。そして、この中ケース２を容器本体３に収納して固定するための凹面部２８，２９がそれぞれ中ケースの他方の互いに対向する外側面に底面側から開口部側の途中まで形成されている（図２）。なお、中ケース２の開口部側の上端面２５から前記基板支持部２６までの高さ寸法は、収納するマスクブランクス１の高さ寸法の主要部分に相当し、マスクブランクス１を中ケース２に収納したとき、マスクブランクス１の上方部分が中ケース２の上端面２５からとび出る構造となっている（図４）。数枚のマスクブランクス１を中ケース２の一対の溝２１，２２に沿って入れると、これらのマスクブランクスは所定間隔をおいて互いに平行に林立する。本例の形態では垂直方向に林立するが、傾斜方向にしてもよい。
【００１５】
上記容器本体３は、前述した中ケース２の凹面部２８，２９と当接するに適合した突出部３１，３２を、互いに対向する内側面に形成し、その突出部３１，３２の底部は容器本体３底面とも接合している（図３）。また、一方の対向する外側面の開口部側には凸部３３，３４が形成されている。そして、容器本体３の開口縁３５のやや下方の位置に続く外周面３６と上記凸部３３，３４の凸面とは略同一面に形成されている。
上記蓋４は、その一方の対向する下方縁（容器本体へ差し込む開口部側の縁であって、図１では上方へ向いている）４７から延びた係合片４１，４２に凹部４３，４４を形成している。これにより、蓋４を容器本体３に被せたときに、上記凹部４３，４４が前記容器本体３の凸部３３，３４とそれぞれ係合することで、蓋４と容器本体３とが固定される（図４）。また、中ケース２の開口部側上端面２５と当接して中ケース２を垂直方向において支持固定するストッパー４５，４６を一方の内側面に互いに対向させて形成している（図１）。なお、蓋４の凹部４３，４４と容器本体３の凸部３３，３４を設けないで、蓋４を容器本体３にそのまま被せる構成としてもよい。また、蓋４の凹部と容器本体３の凸部とを係合させる構成とする場合においても、対向する一方の側だけでなく、四方にそれぞれこのような係合手段を形成してもよい。
【００１６】
以上の中ケース２、容器本体３及び蓋４の材質は、例えばポリプロピレン、アクリル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエチルサルファイト等の樹脂から適宜選択される。これらの中でも、ポリカーボネート或いはポリエステルが好ましい。また、容器本体３及び蓋４の材質としてはポリカーボネートが好ましく、中ケース２の材質としてはポリエステルが好ましい。このポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ），ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等が好ましい。なお、マスクブランクスの保管中にチャージが溜まると、マスク製造過程において放電破壊を起こし、パターン欠陥となる場合があるので、たとえば容器本体３の構成樹脂にカーボン等を混ぜ込んで導電性を付与することが好ましい。
容器本体３の上から蓋４を被せて、蓋４の凹部４３，４４を容器本体３の凸部３３，３４と係合させて蓋４と容器本体３とを固定すると、蓋４の下方縁に続く外周面４８と容器本体３の開口縁に続く外周面３６とが前後に重なり合って接合される。
【００１７】
なお、構成３のように、上記収納容器は酸性物質を吸収或いは吸着する手段を有することが好ましい。マスクブランクスを酸性物質が除去された雰囲気とともに収納容器に収納しても、そのマスクブランクス収納体の輸送、保管中に、例えば収納容器の蓋と容器本体との接合部より、外気とともに酸性物質が進入する場合が考えられるが、このような場合であっても、収納容器が酸性物質を吸収或いは吸着する手段を有することにより、外気に含まれる酸性物質を取り除き、収納容器内部を清浄な雰囲気に保つことが出来るからである。酸性物質を吸収或いは吸着する手段としては、例えば、酸性物質を吸収或いは吸着する材料（酸性物質の吸収或いは吸着剤）を収納容器内に設置するのが簡易な方法である。酸性物質を吸収或いは吸着する材料としては、例えば炭酸カリウムなどの炭酸塩物質を含む材料を用いることが出来る。また、収納容器を構成する材料中に、酸性物質を吸収或いは吸着する材料を含有させてもよい。また、活性炭等の吸着材を併用してもよい。
また、構成４にあるように、本発明によるマスクブランクス収納体は、少なくとも酸性物質を含まない雰囲気を有する収納容器内に化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納している。なお、酸性物質を含まないとは、必ずしも雰囲気中に全く存在しない場合に限られるわけではなく、化学増幅型レジスト膜を汚染しない程度であれば雰囲気中に若干含まれていてもよい。雰囲気中に酸性物質が含まれる場合の具体的な許容値は、前述の酸性物質の除去の程度と同様である。
【００１８】
以上のようにマスクブランクスを収納する際に酸性物質を除去した雰囲気を用いてもよいが、マスクブランクスの製造工程においても上記雰囲気を用いることが好ましい。すなわち、構成５にあるように、ガラス基板等の基板上にマスクパターンを形成するための薄膜を成膜した後、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で、上記薄膜上に化学増幅型レジスト膜を形成することにより、レジスト膜付きマスクブランクスの製造段階で酸性物質の付着等を防止することができる。
また、マスクブランクスの製造から収納梱包までの一連の工程において、上記雰囲気を用いることが好適である。すなわち、構成６にあるように、基板上にマスクパターンを形成するための薄膜を成膜して得られるマスクブランクス上に化学増幅型レジスト膜を形成する工程と、必要に応じて実施する後処理工程と、必要に応じて実施する前記レジスト膜付きマスクブランクスの検査工程と、前記レジスト膜付きマスクブランクスを収納容器内に収納梱包する工程とを含む一連の工程において、各工程のうちの少なくとも一の工程は、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で実施することが好ましい。必要に応じて実施する後処理工程とは、例えば前記レジスト膜の密着性を向上させるための加熱（ベーク）工程、乾式の洗浄工程などが挙げられる。
特に、上記マスクブランクス上に化学増幅型レジスト膜を形成する工程からレジスト膜付きマスクブランクスを収納梱包する工程まで一貫して、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で実施することが好適である。
また、本発明が適用されるマスクブランクスは、ガラス基板などの透光性基板上にＣｒ等の遮光性膜を形成したマスクブランクス、基板上にハーフトーン（半透光性）膜を形成した位相シフト型マスク用のマスクブランクス、基板上に、露光光を反射する例えばＭｏ／Ｓｉ多層反射膜と露光光を吸収する例えばＴａ系吸収体膜を形成した反射型マスク用のマスクブランクス等が含まれる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納容器に収納する際に、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気を用いたことにより、化学増幅型レジスト膜の所望の化学増幅効果に影響を及ぼし化学増幅効果を所望以上に増進させてしまうような酸性物質の付着による汚染を防止することが出来る。従って、マスクブランクス保管後に安定したレジスト性能が得られ、その結果、マスク製造時に安定したレジストパターンが形成され、所望のマスクパターンを形成した高品位の転写マスクを得ることができる。
また、本発明によれば、化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスが収納容器に収納されたマスクブランクス収納体を交通手段を利用して遠隔地等に輸送しても、収納されたマスクブランクスのレジスト膜の汚染を抑制できるので、遠隔地等へのマスクブランクスの輸送に対する高い信頼性を保障することが出来る。
また、本発明によれば、基板上にマスクパターンを形成するための薄膜を成膜した後、少なくとも酸性物質が除去された雰囲気下で、化学増幅型レジスト膜を形成することにより、レジスト膜付きマスクブランクスの製造段階での酸性物質の付着等を防止することができる。
また、マスクブランクスの製造から収納梱包までの一連の工程において、上記酸性物質が除去された雰囲気を用いることにより、酸性物質による汚染を好適に防止することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、具体的な実施例により本発明を説明する。
（実施例）
石英基板（６インチ×６インチ）上にスパッタ法でハーフトーン膜を形成し、その上にスピンコート法でレジスト膜を形成してレジスト膜付きマスクブランクスを製造した。このとき、ハーフトーン膜としてＭｏＳｉ系金属膜を用い、レジスト膜としてはポジ型の化学増幅型レジスト膜を用いた。なお、レジスト膜の形成は、炭酸カリウムを含有させた活性炭フィルター及びＵＬＰＡフィルターで清浄化されたクリーンルーム内で行った。
このようにして製造した１００枚のマスクブランクスを前述の図１乃至図４に示す形態の収納容器１０箱に分けて収納した。なお、蓋と容器本体の材質はポリカーボネート、中ケースの材質はポリブチレンテレフタレートを用いた。収納作業は活性炭フィルター及びＵＬＰＡフィルターで清浄化されたクリーンルーム内で行い、活性炭フィルターとしては、炭酸カリウムを含有させた活性炭フィルターとリン酸を含有させた活性炭フィルターを組み合わせて使用した。
この収納容器を更に梱包袋に梱包して、航空機でカーゴ輸送を行った。そして、輸送された収納容器を上記と同様のクリーンルーム内で開封し、取り出したマスクブランクスに所定の電子線描画を行い、続いて所定の現像、エッチングを行って、位相シフト型転写マスクを製造した。製造した位相シフト型マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、１００枚の何れからも特に問題となる欠陥は発見されなかった。
【００２１】
（比較例）
上述の実施例において、クリーンルームにおける炭酸カリウムを含有させた活性炭フィルターを使用しなかった点以外は、実施例と同様にしてマスクブランクスを製造し、収納し、輸送を行った。
輸送後のマスクブランクスを用いて実施例と同様にして製造された位相シフト型マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、１００枚の何れからもパターンの線幅に乱れが生じていることが発見された。これは、何らかの酸性物質がクリーンルーム内の雰囲気中に存在し、収納容器内に取り込まれたまま梱包され、輸送中にマスクブランクスの化学増幅型レジスト膜がこの酸性物質によって化学的に汚染されたことに起因しているものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】収納容器の蓋を示す斜視図である。
【図２】マスクブランクスを中ケースに収納する状態を示す斜視図である。
【図３】収納容器の容器本体（外ケース）を示す斜視図である。
【図４】収納容器にマスクブランクスを収納した状態の縦方向の断面図である。
【符号の説明】
【００２３】
１  マスクブランクス
２  中ケース
３  容器本体
４  蓋
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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