(57)【要約】【課題】  高純度であることが要求される電子材料やシリコンウェハーなどの研磨材などの素材として好適に用いることができるとともに、シリカ微粒子の粒子径が揃っており、長期保存安定性に優れ、しかも、反応溶液中のシリカ微粒子の濃度を高濃度化することができ、生産性に優れるシリカゾル及びその製造方法を提供すること。【解決手段】  テトラメトキシシランを含む有機溶媒と、アルカリ触媒及び水を含む溶媒とを、アルカリ触媒及び水を含む有機溶媒に添加することによりテトラメトキシシランを加水分解及び重縮合させてシリカゾルを製造することを特徴とするシリカゾルの製造方法とする。  また、シリカ微粒子が水中に分散してなるシリカゾルであって、該シリカ微粒子の平均二次粒子径が２０〜１０００ｎｍ、金属不純物含有量が１ｐｐｍ以下、シリカ濃度が１０〜５０重量％であることを特徴とするシリカゾルとする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
テトラメトキシシランを含む有機溶媒と、アルカリ触媒及び水を含む溶媒とを、アルカリ触媒及び水を含む有機溶媒に添加することによりテトラメトキシシランを加水分解及び重縮合させてシリカゾルを製造することを特徴とするシリカゾルの製造方法。
【請求項２】
以下の（ａ）及び（ｂ）の各工程を含むことを特徴とするシリカゾルの製造方法。
（ａ）テトラメトキシシランを含む有機溶媒と、アルカリ触媒及び水を含む溶媒とを、アルカリ触媒及び水を含む有機溶媒に添加することによりテトラメトキシシランを加水分解及び重縮合させてシリカゾルを製造する工程。
（ｂ）シリカゾルの分散媒を水で置換する工程。
【請求項３】
前記有機溶媒がメタノールであることを特徴とする請求項１又は２に記載のシリカゾルの製造方法。
【請求項４】
前記アルカリ触媒がアンモニアであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のシリカゾルの製造方法。
【請求項５】
前記テトラメトキシシランを含む有機溶媒の濃度が３０重量％以下であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のシリカゾルの製造方法。
【請求項６】
前記アルカリ触媒及び水を含む有機溶媒の液温を０〜７０℃に維持しながら、前記テトラメトキシシランを含む有機溶媒とアルカリ触媒及び水を含む溶媒とを同時又は交互に３０分以上かけて添加することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のシリカゾルの製造方法。
【請求項７】
シリカ微粒子が水中に分散してなるシリカゾルであって、該シリカ微粒子の平均二次粒子径が２０〜１０００ｎｍ、二次粒子の平均粒子径が一次粒子の平均粒子径の１．５〜３．０倍であり、金属不純物含有量が１ｐｐｍ以下、シリカ濃度が１０〜５０重量％であることを特徴とするシリカゾル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はシリカゾル及びその製造方法に係り、その目的は高純度であることが要求される電子材料やシリコンウェハーなどの研磨材などの素材として好適に用いることができるとともに、シリカ微粒子の粒子径が揃っており、長期保存安定性に優れ、しかも、反応溶液中のシリカ微粒子の濃度を高濃度化することができ、生産性に優れるシリカゾル及びその製造方法を提供することにある。
【背景技術】
【０００２】
従来、シリカゾルの製造方法としては、水ガラスと呼ばれる珪酸ナトリウム溶液を出発原料とする製造方法が知られている（特許文献１参照）。この製造方法では、珪酸ナトリウム溶液を陽イオン交換樹脂で処理して、ナトリウムイオンを始めとするイオンを取り除くことにより出発原料の純度を上昇させた後、シリカゾルの製造に供される。
しかしながら、この製造方法では、イオン交換による高純度化に限界があり、電子材料用途に必要とされるナトリウムなどのアルカリ金属や銅・ニッケル・アルミニウムなどの金属不純物の含有量を１ｐｐｍレベル以下に到達することは困難である。
【０００３】
高純度シリカゾルを得るその他の方法として正珪酸エチルなどの高純度アルコキシシランの加水分解による方法が知られている（特許文献２乃至４参照）。
しかしながら、従来知られているアルコキシシランの加水分解による製造方法では、反応溶液中のシリカ微粒子の濃度がある一定以上に上昇すると、シリカ微粒子の成長が均一に行なわれず、微細な粒子が混合したゾルが形成される。このために、粒子径の揃ったシリカゾルを得ようとすると、シリカ微粒子の濃度を低下させざるを得ず、生産性の面で問題があった。
【０００４】
【特許文献１】特開昭６１−１５８８１０号公報
【特許文献２】特開昭６３−７４９１１号公報
【特許文献３】特開平６−３１６４０７号公報
【特許文献４】特開平１１−６０２３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の解決しようとする課題は、高純度であることが要求される電子材料やシリコンウェハーなどの研磨材などの素材として好適に用いることができるとともに、シリカ微粒子の粒子径が揃っており、長期保存安定性に優れ、しかも、反応溶液中のシリカ微粒子の濃度を高濃度化することができ、生産性に優れるシリカゾル及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は上記課題を解決するためになされた発明であって、請求項１に係る発明は、テトラメトキシシランを含む有機溶媒と、アルカリ触媒及び水を含む溶媒とを、アルカリ触媒及び水を含む有機溶媒に添加することによりテトラメトキシシランを加水分解及び重縮合させてシリカゾルを製造することを特徴とするシリカゾルの製造方法に関する。
請求項２に係る発明は、（ａ）テトラメトキシシランを含む有機溶媒と、アルカリ触媒及び水を含む溶媒とを、アルカリ触媒及び水を含む有機溶媒に添加することによりテトラメトキシシランを加水分解及び重縮合させてシリカゾルを製造する工程、（ｂ）シリカゾルの分散媒を水で置換する工程の（ａ）及び（ｂ）の各工程を含むことを特徴とするシリカゾルの製造方法に関する。
請求項３に係る発明は、前記有機溶媒がメタノールであることを特徴とする請求項１又は２に記載のシリカゾルの製造方法に関する。
請求項４に係る発明は、前記アルカリ触媒がアンモニアであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のシリカゾルの製造方法に関する。
請求項５に係る発明は、前記テトラメトキシシランを含む有機溶媒の濃度が３０重量%以下であることを特徴とする請求項１乃至４いずれかに記載のシリカゾルの製造方法に関する。
請求項６に係る発明は、前記アルカリ触媒及び水を含む有機溶媒の液温を０〜７０℃に維持しながら、前記テトラメトキシシランを含む有機溶媒とアルカリ触媒及び水を含む溶媒とを同時又は交互に３０分以上かけて添加することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のシリカゾルの製造方法に関する。
請求項7に係る発明は、シリカ微粒子が水中に分散してなるシリカゾルであって、該シリカ微粒子の平均二次粒子径が２０〜１０００ｎｍ、二次粒子の平均粒子径が一次粒子の平均粒子径の１．５〜３．０倍であり、金属不純物含有量が１ｐｐｍ以下、シリカ濃度が１０〜５０重量％であることを特徴とするシリカゾルに関する。
【発明の効果】
【０００７】
請求項１及び２に係る発明は、高純度であることが要求される電子材料やシリコンウェハーなどの研磨材などの素材として好適に用いることができるとともに、シリカ微粒子の粒子径が揃っており、長期保存安定性に優れ、しかも、反応溶液中のシリカ微粒子の濃度を高濃度化することができ、生産性に優れるシリカゾルの製造方法を提供することができる。
請求項３に係る発明は、有機溶媒としてメタノールを使用することにより、テトラメトキシシランの加水分解により生じるアルコールと同一種類のアルコールとなり、有機溶媒の回収再利用を容易に行なうことができる。
請求項４に係る発明は、アルカリ触媒としてアンモニアを使用することにより、後工程において極めて容易に除去することができる。
請求項５に係る発明は、テトラメトキシシランを含む有機溶媒やアルカリ触媒及び水を含む有機溶媒との混和性に優れ、粒径の揃った高品質のシリカゾルを製造することができる。
請求項６に係る発明は、凝集やゲル化が生じ難く、粒径の揃った高品質のシリカゲルを製造することができる。
請求項７に係る発明は、高純度であることが要求される電子材料やシリコンウェハーなどの研磨材などの素材として好適に用いることができるとともに、シリカ微粒子の粒子径が揃っており、長期保存安定性に優れ、しかも、反応溶液中のシリカ微粒子の濃度を高濃度化することができるシリカゾルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明に係るシリカゾル及びその製造方法について詳細に説明する。
本発明に係るシリカゾルの製造方法は、テトラメトキシシランを含む有機溶媒（以下、Ａ液という。）と、アルカリ触媒及び水を含む溶媒（以下、Ｃ液という。）とを、アルカリ触媒及び水を含む有機溶媒（以下、Ｂ液という。）に添加することによりテトラメトキシシランを加水分解及び重縮合させてシリカゾルを製造することを特徴とする。
【０００９】
この工程（以下、（ａ）工程という。）は、ゾルゲル法によって、シリカゾルの調製が行なわれる。ゾルゲル法とは、金属の有機化合物溶液を出発原料として、溶液中の化合物の加水分解・重縮合によって溶液を金属の酸化物、或いは水酸化物の微粒子が溶解したゾルとし、更に反応を進ませてゲル化してできた非晶質ゲルを得る方法であり、本発明では、テトラメトキシシランをアルコール水溶液中で加水分解してシリカゾルを得る。
【００１０】
Ａ液は、テトラメトキシシランを有機溶媒に溶解することにより調製される。
有機溶媒としては、親水性の有機溶媒が用いられ、具体的には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類を例示することができる。
特に本発明では、アルコール類を用いることが好ましく、メタノール、エタノール、イソプロパノールを用いることがより好ましい。この理由は、後述する水置換の際に、加熱蒸留により容易に水と置換することができるからである。
さらには、有機溶媒として、テトラメトキシシランの加水分解により生じるアルコールと同一種類のアルコールであるメタノールを使用することがさらに好ましい。有機溶媒としてメタノールを用いることにより、溶媒の回収、再利用を容易に行なうことができる。
有機溶媒は一種を単独で使用することもでき、二種以上の有機溶媒を混合して使用することもできる。
【００１１】
Ａ液中のテトラメトキシシランの含有量は特に限定されないが、７０重量％以上１００重量％未満、より好ましくは８５〜９５重量％とされる。７０重量％未満の場合、初期のＢ液量が少なすぎて均一に攪拌し難くなる場合がある。１００重量％ではＢ液との混和性に劣り、ゲル状物が生成し易くなる。
【００１２】
Ｂ液中に含まれるアルカリ触媒は、アルカリ触媒として従来公知のものを使用することができるが、金属不純物の混入を極力低減するために、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、アンモニア、尿素、エタノールアミン、テトラメチル水酸化アンモニウムなどを例示することができる。
アルカリ触媒は一種を単独で使用することもでき、二種以上のアルカリ触媒を混合して使用することも可能である。
特に本発明では、触媒作用に優れるとともに、揮発性が高く、後工程で容易に除去することができるアンモニアを使用することが好ましい。
【００１３】
Ｂ液中に含まれる有機溶媒としては、親水性の有機溶媒が用いられ、具体的には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類を例示することができる。
特に本発明では、アルコール類を用いることが好ましく、メタノール、エタノール、イソプロパノールを用いることがより好ましい。この理由は、後述する水置換の際に、加熱蒸留により容易に水と置換することができるからである。
さらには、有機溶媒として、テトラメトキシシランの加水分解により生じるアルコールと同一種類のアルコールであるメタノールを使用することや、Ａ液に含まれるアルコールと同種のアルコールを使用することがさらに好ましい。
有機溶媒は一種を単独で使用することもでき、二種以上の有機溶媒を混合して使用することもできる。
【００１４】
Ｂ液に含まれる水は、金属不純物の混入を極力低減するために、純水又は超純水を使用することが好ましい。
【００１５】
Ｃ液に含まれるアルカリ触媒としては、アルカリ触媒として従来公知のものを使用することができるが、金属不純物の混入を極力低減するために、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミン、アンモニア、尿素、エタノールアミン、テトラメチル水酸化アンモニウムなどを例示することができる。
特に本発明では、触媒作用に優れるとともに、揮発性が高く、後工程で容易に除去することができるアンモニアを使用することが好ましく、Ｂ液に含まれるアルカリと同種のアルカリであることが好ましい。
Ｃ液には、水が含有される。Ｃ液に含まれる水は、金属不純物の混入を極力低減するために、純水又は超純水を使用することが好ましい。
【００１６】
上述したＡ液とＣ液とをＢ液に添加することによりテトラメトキシシランを加水分解及び重縮合させて本発明に係るシリカゾルを製造することができる。
この加水分解・重縮合反応は、減圧下、常圧下、加圧下のいずれの圧力条件下で行なうことも可能である。
Ａ液とＣ液をＢ液に添加する際、Ａ液とＣ液は、それぞれ略一定量を同時または交互にＢ液に添加するようにする。Ａ液やＣ液の液量によっても異なるが、Ａ液及びＣ液の全量をＢ液に添加する際に要する時間は、好ましくは３０分以上、より好ましくは６０〜３００分程度とされる。
【００１７】
Ａ液及びＣ液をＢ液に添加する際の液温は特に限定されないが、０〜７０℃、好ましくは２０〜５０℃程度とされる。０℃未満の場合、未反応物が多く残りゲル状物が生成し易くなる場合があり、７０℃を超えると、気相で反応が起り、固い粒子が生成し易くなる場合がある。
【００１８】
Ａ液、Ｂ液及びＣ液それぞれの添加量は特に限定されず、Ａ液、Ｂ液及びＣ液中に含まれるテトラメトキシシランやアルカリ触媒の含有量によって適宜任意に決定されるが、反応液全量（Ａ液＋Ｂ液＋Ｃ液）中の水濃度が２〜１２ｍｏｌ／Ｌ、より好ましくは３〜１０ｍｏｌ／Ｌとなるように調整される。２ｍｏｌ／Ｌ未満では未反応物が残り易く、１２ｍｏｌ／Ｌを超える場合、ゲル状物が副生して分散性が悪くなり、好ましくない。
テトラメトキシシランの濃度は０．５〜３．５ｍｏｌ／Ｌ、より好ましくは１．５〜２．５ｍｏｌ／Ｌとなるように調整される。０．５ｍｏｌ／Ｌ未満の場合、生産性が悪く、３．５ｍｏｌ／Ｌを超える場合、シリカ濃度が高くなり過ぎて凝集物が生成し易くなり、好ましくない。
【００１９】
さらに、本発明では、上述した（ａ）工程に加えて、以下に説明する（ｂ）工程及び／又は（ｃ）工程を付加することができる。
本発明に係る製造方法の（ｂ）工程は、シリカゾル中の溶媒を水で置換する工程である。
シリカゾル中の溶媒を水で置換する方法は特に限定されないが、シリカゾルの液量を一定量以上に保ちながら、水を滴下して加熱蒸留によって置換する方法を例示することができる。この際、置換操作は液温及び塔頂温が置換する水の沸点に達するまで行なうことが好ましい。また、一定シリカ濃度以下で水置換しないと、未反応物によって増粘、凝集し、ついには沈降性ゲルとなる。さらには、シリカゾルのｐＨが６．０〜９．０、好ましくはｐＨ７．０〜８．０の中性域となるまで置換を行なうことが好ましい。
シリカゾル中の分散媒を水で置換することによって、シリカゾルのｐＨを中性域に調整することができるとともに、シリカゾル中に含まれていた未反応物を除去して、長期間安定なシリカゾルを得ることができる。
また、シリカゾルを沈殿・分離、遠心分離によりシリカ微粒子を分離した後に、水に再分散させる方法も例示することができる。
この工程で用いられる水は、金属不純物の混入を極力低減するために、純水又は超純水を用いることが好ましい。
【００２０】
本発明に係る製造方法の（ｃ）工程は、シリカゾルを濃縮する工程である。
シリカゾルや水置換シリカゾルを濃縮する方法は特に限定されず、シリカゾルを濃縮する通常の方法を採用することができ、例えば、加熱濃縮法、膜濃縮法などを例示することができる。
加熱濃縮法によってシリカゾルを濃縮するには、シリカゾルを常圧下、又は減圧下で加熱濃縮すればよい。
膜濃縮法によってシリカゾルを濃縮するには、シリカ微粒子を濾過することができる限外濾過法による膜分離が好ましい。
限外濾過膜の分画分子量は特に限定されないが、生成する粒径に合わせて分画分子量を選別する必要がある。
限外濾過膜を構成する材質は特に限定されないが、ポリスルホン、ポリアクリルニトリル、焼結金属、セラミック、カーボンなどを例示することができる。限外濾過膜の形態は特に限定されないが、スパイラル型、チューブラー型、中空糸型等を例示することができる。
また操作圧力は特に限定されないが、使用する限外濾過膜の使用圧力以下に設定すればよい。
【００２１】
本発明に係る製造方法では、（ｂ）工程及び（ｃ）工程は、適宜（ａ）工程と組み合わせることができる。即ち、（ａ）工程で得られたシリカゾルを濃縮（（ｃ）工程）してもよく、（ａ）工程で得られたシリカゾル中の溶媒を水で置換（（ｂ）工程）してもよく、（ａ）工程で得られたシリカゾルを濃縮（（ｃ）工程）した後に、シリカゾル中の溶媒を水で置換（（ｂ）工程）してもよく、（ａ）工程で得られたシリカゾル中の分散媒を水で置換（（ｂ）工程）した後に濃縮（（ｃ）工程）してもよく、（ａ）工程で得られたシリカゾルを濃縮（（ｃ）工程）した後に、シリカゾル中の溶媒を水で置換（（ｂ）工程）し、さらに濃縮（（ｃ）工程）しても構わない。
【００２２】
以上説明した製造方法によって得られる本発明に係るシリカゾルに含まれるシリカ微粒子は大きさの揃った球状の微粒子であり、その平均二次粒子径は２０〜１０００ｎｍ、好ましくは２０〜３００ｎｍである。
本発明に係るシリカゾルに含まれる金属不純物、例えば、Ａｌ，Ｃａ，Ｂ，Ｂａ，Ｃｏ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｆｅ，Ｍｇ，Ｍｎ，Ｎａ，Ｎｉ，Ｐｂ，Ｓｒ，Ｔｉ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｕ，Ｔｈなどの金属不純物の合計の含有量は１ｐｐｍ以下である。
本発明に係るシリカゾルのシリカ濃度は１０〜５０重量％、好ましくは３０〜５０重量％であり、シリカゾルのｐＨは６．０〜９．０、好ましくはｐＨ７．０〜８．０である。
本発明に係るシリカゾル中のシリカ微粒子は、シリカ濃度が高濃度であっても二次粒子の平均粒子径が一次粒子の平均粒子径の３倍以下、好ましくは１．５〜３．０倍、より好ましくは１．５〜２．５倍であり、シリカ微粒子の凝集やゲル化が生じ難く、長期保存安定性に優れたシリカゾルである。
【実施例１】
【００２３】
以下、本発明を実施例に基づき説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
（実施例１；高純度シリカゾルの調製）
純水４６３．１ｇ、２６％アンモニア水１０４．８ｇ、メタノール４２５５．０ｇの混合液に、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）３０４４．４ｇ、メタノール２２９．４ｇの混合液および純水６４３．２ｇ、２６％アンモニア水１０４．８ｇの混合液を、液温を３５℃に保ちつつ１５０分かけ滴下し、シリカゾルを得た。
このシリカゾルを常圧下、加熱蒸留しつつ、純水を容量を一定に保ちつつ滴下し、塔頂温が１００℃に達し且つｐＨが８以下になったのを確認した時点で純水の滴下を終了し、高純度シリカゾルを得た。
【００２４】
（実施例２；高純度シリカゾルの調製）
純水４４０．８ｇ、２６％アンモニア水１３５．０ｇ、メタノール３６６９．０ｇの混合液に、テトラメトキシシラン３０４４．４ｇ、メタノール２２９．２ｇの混合液および純水６２１．０ｇ、２６％アンモニア水１３４．９ｇの混合液を、液温を３５℃に保ちつつ１５０分かけ滴下し、シリカゾルを得た。
このシリカゾルを常圧下にて、容量が４５００ｍｌになるまで加熱濃縮を行った。この濃縮液をさらに、常圧下、加熱蒸留しつつ、純水を容量を一定に保ちつつ滴下し、塔頂温が１００℃に達し且つｐＨが８以下になったのを確認した時点で純水の滴下を終了し、高純度シリカゾルを得た。
【００２５】
（実施例３；高純度シリカゾルの調製）
反応温度を５０℃に変更した以外は実施例１と同様に操作して、高純度シリカゾルを得た。
【００２６】
（実施例４；高純度シリカゾルの調整）
純水１５４６．６ｇ、２６％アンモニア水３４０．６ｇ、メタノール８３６３．２ｇの混合液に、テトラメトキシシラン６０８８．０ｇおよび純水１１８６．２ｇ、２６％アンモニア水３４０．６ｇの混合液を、液温を２０℃に保ちつつ１００分かけ滴下し、シリカゾルを得た。
このシリカゾルを常圧下にて、容量が８２５０ｍｌになるまで、加熱濃縮を行った。この濃縮液をさらに、常圧下、加熱蒸留しつつ、純水を容量を一定に保ちつつ滴下し、塔頂温が１００℃に達し且つｐＨが８以下になったのを確認した時点で純水の滴下を終了し、高純度シリカゾルを得た。
【００２７】
（試験例1；物性値の測定）
上記調製した実施例１〜４の高濃度シリカゾル中のシリカ微粒子の比表面積、一次粒子径、二次粒子径、シリカ濃度、金属不純物の濃度を測定した。結果を表1に記載する。
尚、シリカ微粒子の比表面積はBET法により測定した。
一次粒子径は次式１（数1）により算出した。
二次粒子径は光子相関法により測定した。
シリカ濃度はシリカゾルを乾固後、８００℃で灼熱し、その残量より算出した。
【００２８】
【数１】
2005060217.tif 000002
【００２９】
【表１】
2005060217.tif 000003
【００３０】
（試験例２；粒径成長の確認１）
上記実施例１において、Ａ液及びＢ液をＣ液に添加する際に、Ａ液及びＣ液が添加されたＢ液から少量のサンプルを採取して、形成されたシリカ微粒子の比表面積を測定することで、テトラメトキシシランの添加濃度と形成されたシリカ微粒子の比表面積との関係を測定した。結果を図１に記載する。
【００３１】
（試験例３；粒径成長の確認２）
純水５９０．６ｇ、２６％アンモニア水７８．６ｇ、メタノール２３１１．４ｇの混合液に、テトラメトキシシラン１２１７．８ｇ、メタノール３３０．４ｇ混合液を、液温を２０℃に保ちつつ１２０分かけ滴下し、シリカゾルを得た。
Ａ液及びＢ液をＣ液に添加する際に、Ａ液及びＣ液が添加されたＢ液から少量のサンプルを採取して、形成されたシリカ微粒子の比表面積を測定することで、テトラメトキシシランの添加濃度と形成されたシリカ微粒子の比表面積との関係を測定した。結果を図２に記載する。
【００３２】
図１に示されるように、実施例１の場合、テトラメトキシシランの添加濃度が増加するにつれシリカ微粒子の比表面積が小さく（シリカ微粒子の粒子径が大きく）なることが確認された。即ち、実施例１では、テトラメトキシシランの濃度が高くなっても、添加濃度に比例してシリカ微粒子が成長し、安定的に反応が進行することが分かる。
一方、図２に示されるように、比較例１の場合、テトラメトキシシランの添加濃度が高くなると、比表面積の増加が確認された。即ち、比較例１では、反応途中で微細粒子が生成したことが確認され、安定的に反応が進行していないことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】実施例１のＴＭＯＳ濃度と比表面積との関係を示すグラフである。
【図２】比較例１のＴＭＯＳ濃度と比表面積との関係を示すグラフである。
【図１】
2005060217.tif 000004
【図２】
2005060217.tif 000005