(57)【要約】【課題】  反射防止性（良干渉振動性）に優れ、しかもギラツキ感が少なく、帯電防止性、透明性および耐擦傷性に優れた積層体およびその製造方法を提供すること。【解決手段】  本発明に係る積層体は、基材の少なくとも一面に、ハードコート層、単量体の気相重合により形成された導電性ポリマーからなる導電層が任意の順序で設けられ、さらに必要に応じて高屈折率層および低屈折率層が設けられていることを特徴とする。  また、本発明に係る上記積層体の製造方法は、基材または積層体の表面に酸化防止剤を塗布し、単量体を該酸化剤と接触させて気相重合により、基材または積層体の表面に導電性ポリマーからなる導電層を形成することを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも一面に、高屈折率層、低屈折率層および単量体の気相重合により形成された導電性ポリマーからなる導電層が、任意の順序で設けられていることを特徴とする積層体。
【請求項２】
基材の少なくとも一面に、高屈折率層、単量体の気相重合により形成した導電性ポリマーからなる導電層および低屈折率層を順次積層してなることを特徴とする請求項１記載の積層体。
【請求項３】
基材の少なくとも一面に、高屈折率層、低屈折率層および単量体の気相重合により形成した導電性ポリマーからなる導電層を順次積層してなることを特徴とする請求項１記載の積層体。
【請求項４】
基材の少なくとも一面に、単量体の気相重合により形成した導電性ポリマーからなる導電層、高屈折率層および低屈折率層を順次積層してなることを特徴とする請求項１記載の積層体。
【請求項５】
基材の少なくとも一面に、ハードコート層、単量体の気相重合により形成された導電性ポリマーからなる導電層、高屈折率層、および低屈折率層が、任意の順序で設けられていることを特徴とする積層体。
【請求項６】
基材の少なくとも一面に、ハードコート層を形成し、次いで単量体の気相重合により形成された導電性ポリマーからなる導電層、高屈折率層および低屈折率層を順次積層してなることを特徴とする請求項５記載の積層体。
【請求項７】
基材の少なくとも一面に、単量体の気相重合により形成された導電性ポリマーからなる導電層を形成し、次いでハードコート層、高屈折率層および低屈折率層を順次積層してなることを特徴とする請求項５記載の積層体。
【請求項８】
基材の少なくとも一面に、ハードコート層を形成し、次いでハードコート層上に高屈折率層を形成させ、さらに、単量体の気相重合によって導電性ポリマーからなる導電層、低屈折率層を順次積層してなることを特徴とする請求項５記載の積層体。
【請求項９】
基材の少なくとも一面に、ハードコート層を形成し、次いでハードコート層上に高屈折率層を形成させ、さらに、低屈折率層、単量体の気相重合によって導電性ポリマーからなる導電層を順次積層してなることを特徴とする請求項５記載の積層体。
【請求項１０】
基材または積層体の表面に酸化剤を塗布し、単量体を前記酸化剤と接触させて気相重合により、基材または積層体の表面に導電性ポリマーからなる導電層を形成することを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体およびその製造方法に関し、より詳細には、反射防止特性に優れ、帯電防止性、透明性に優れた積層体およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶パネル、冷陰極線管パネル、プラズマディスプレイ等の各種表示パネルの表面は、静電気によるほこりが付着しやすく、画面の視認性が悪くなるという問題点がある。また、太陽光や蛍光灯などの外光が反射して映り込むために、画面の視認性が悪くなるという問題点もある。従って、低反射率性、帯電防止性、高透明性及び高耐擦傷性の反射防止膜の出現が望まれている。
【０００３】
これらの要求に対し、蒸着法やスパッタリング法による透明反射防止膜が提案されているが、コスト的に高く、また量産性に劣るという問題点があった。
【０００４】
一方、塗布法による反射防止膜の形成材料として、例えば、熱硬化型ポリシロキサン組成物が知られている（例えば、特許文献１〜４参照）。しかしながら、このような熱硬化型ポリシロキサン組成物を利用して得られる反射防止膜は、帯電防止性や耐擦傷性に乏しかった。
【０００５】
また、基材上に、微粒子を高屈折率バインダー樹脂中に極在化させた高屈折率層と、フッ素系共重合体からなる低屈折率層とを順次に積層した光学機能性フィルムが提案されている（特許文献５参照）。しかしながら、この光学機能性フィルムは、帯電防止性、透明性が不十分である等の問題があった。
【０００６】
他方、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープインジウム（ＩＴＯ）などの金属酸化物微粒子を分散した材料が提案されている（特許文献６参照）。しかしながら、これらの金属酸化物の充填量が７０重量％以上必要とし、透明性と帯電防止性のバランスが悪く、かつコスト的にも高いなどの問題点があった。
【特許文献１】特開昭６１−２４７７４３号公報
【特許文献２】特開平６−２５５９９号公報
【特許文献３】特開平７−３３１１１５号公報
【特許文献４】特開平１０−２３２３０１号公報
【特許文献５】特開平８−９４８０６号公報
【特許文献６】特開２００１−２１７０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、反射防止特性が良好、帯電防止性、透明性に優れた積層体を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、下記のような積層体およびその製造方法が提供される。
１．基材の少なくとも一面に、少なくともハードコート層および単量体の気相重合により形成された導電性ポリマーからなる導電層が、任意の順序で設けられていることを特徴とする積層体。
２．基材の少なくとも一面に、高屈折率層、単量体の気相重合により形成した導電性ポリマーからなる導電層および低屈折率層を順次積層してなることを特徴とする１記載の積層
体。
３．基材の少なくとも一面に、高屈折率層、低屈折率層および単量体の気相重合により形成した導電性ポリマーからなる導電層を順次積層してなることを特徴とする１記載の積層体。
４．基材の少なくとも一面に、単量体の気相重合により形成した導電性ポリマーからなる導電層、高屈折率層および低屈折率層を順次積層してなることを特徴とする１記載の積層体。
５．基材の少なくとも一面に、ハードコート層、単量体の気相重合により形成された導電性ポリマーからなる導電層、高屈折率層、および低屈折率層が、任意の順序で設けられていることを特徴とする積層体。
６．基材の少なくとも一面に、ハードコート層を形成し、次いで単量体の気相重合により形成された導電性ポリマーからなる導電層、高屈折率層および低屈折率層を順次積層してなることを特徴とする５記載の積層体。
７．基材の少なくとも一面に、単量体の気相重合により形成された導電性ポリマーからなる導電層を形成し、次いでハードコート層、高屈折率層および低屈折率層を順次積層してなることを特徴とする５記載の積層体。
８．基材の少なくとも一面に、ハードコート層を形成し、次いでハードコート層上に高屈折率層を形成させ、さらに、単量体の気相重合によって導電性ポリマーからなる導電層、低屈折率層を順次積層してなることを特徴とする５記載の積層体。
９．基材の少なくとも一面に、ハードコート層を形成し、次いでハードコート層上に高屈折率層を形成させ、さらに、低屈折率層、単量体の気相重合によって導電性ポリマーからなる導電層を順次積層してなることを特徴とする５記載の積層体。
１０．基材または積層体の表面に酸化剤を塗布し、単量体を前記酸化剤と接触させて気相重合により、基材または積層体の表面に導電性ポリマーからなる導電層を形成することを特徴とする１〜９のいずれかに記載の積層体の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の積層体によれば、気相重合方法による導電性ポリマーからなる導電層を設けることにより、反射防止特性、帯電防止性、透明性に優れた積層体を得ることができる。
【００１０】
また、本発明の積層体の製造方法によれば、低屈折率層、高屈折率層のほかに、気相重合方法による導電性ポリマーからなる導電層を設けることにより、反射防止特性、帯電防止性、透明性に優れた積層体を効率的に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の積層体の各層を形成する材料およびその製造方法の実施形態を、具体的に説明する。
【００１２】
１．基材
本発明において使用される基材の種類は特に制限されるものではないが、例えば、ポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリルカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリアクリレート樹脂、ノルボルネン樹脂、アクリルスチレン樹脂、およびガラス等からなる基材を挙げることができる。
【００１３】
これらの基材を用いることにより、カメラのレンズ部、テレビ（ＣＲＴ）の画面表示部、あるいは液晶表示装置における偏光板、プラズマディスプレイ等の広範な反射防止膜等の利用分野において、反射防止効果はもちろんのこと、優れた耐擦傷性や透明性が得られ、しかも優れた機械的強度や耐久性を得ることができる。
【００１４】
なお、これらの基材は、コロナ放電処理など、種々の表面処理がされていてもよい。ま
た、その形態は、何ら制限されるものではないが、量産性を考慮すれば、ロール形態が好ましい。
【００１５】
２．ハードコート層
ハードコート層の構成材料についても特に制限されるものでないが、シロキサン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などの一種単独または二種以上の組み合わせを挙げることができる。さらに、シリカ粒子など無機酸化物微粒子を分散させたものも挙げることができる。
【００１６】
また、ハードコート層は、防眩（アンチグレア）処理されていても、何等問題なく使用できる。
【００１７】
一方、ハードコート層の膜厚は０．１〜５０μｍの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、ハードコート層の膜厚が０．１μｍ未満となると、高屈折率層を強固に固定することが困難となる場合があるためであり、一方、膜厚が５０μｍを超えると、製造が困難となったり、あるいは、フィルム用途に用いた場合に屈曲性が低下する場合があるためである。
【００１８】
したがって、ハードコート層の膜厚は０．１〜５０μｍ、好ましくは０．５〜３０μｍ、さらに好ましくは１〜２０μｍであることがさらに好ましい。
【００１９】
３．導電層
気相重合により形成される導電層は、たとえば特開２００３−８２１０５号公報に記載された方法などによって製造することができ、具体的には導電性ポリマーから形成することができる。すなわち、導電層が形成される基材表面に酸化剤を数μｍ単位で塗布し、単量体（モノマー）を気体状態で酸化剤塗膜と接触させることで、重合を進行させ、導電性ポリマー膜を基材上に形成する。
【００２０】
導電性ポリマー層を形成するための単量体としては、ピロール、チオフェン、フラン、セレノフェン、３，４-エチレンジオキシチオフェンおよびこれらの誘導体が１種または
２種以上の組合せて用いられる。
【００２１】
したがって導電性ポリマーとしては、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリセレノフェン、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）及びこれらの誘導体並びにこれらのポリマーのブレンド物が挙げられる。特に、ポリピロール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）が好適に用いられる。
【００２２】
酸化剤としては、ＣｕＣｌ3、トルエンスルホン酸鉄（III）、過塩素酸鉄（III）、Ｆ
ｅＣｌ3及びＣｕ（ＣｌＯ4）2・６Ｈ2Ｏから構成される群から選択された化合物が単独または組合せて用いられ、これらの化合物は、通常、有機溶剤に溶解させて用いられる。
【００２３】
このような有機溶剤としては、メチルアルコール、２−ブチルアルコール、エチルセロソルブ、エチルアルコール、シクロヘキサン、アセトン、エチルアセテート、トルエン及びメチルエチルケトンから選択される有機溶剤を用いることができる。これらは、単独または２種以上混合して用いることができ、たとえば、メチルアルコール、２−ブチルアルコール及びエチルセロソルブから構成される有機溶剤を７：２：１、６：２：２、６：３：１、５：３：２などの割合で混合して用いる。
【００２４】
酸化剤を基材に塗布する際に、接着力を向上させる意味で、有機溶剤とともに、ポリウレタン、ポリ塩化ビニール、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、キトサンなどを
併用することも可能である。
【００２５】
上記のような単量体を酸化剤が塗布された基材上で重合させて導電性ポリマーからなる導電層を形成するには、単量体を気相重合させるが、この際の反応温度は、０〜１００℃である。
【００２６】
具体的には、まず第１段階として、基材の表面に０．５〜１０重量％の酸化剤を数μｍ単位で塗布する。この際の溶剤条件は使用基材の種類によって異なり、通常２種以上の有機溶剤を混合して用いる。酸化剤が塗布された基材は、酸化剤の分解を考慮し、８０℃以下の熱風乾燥機で乾燥させる。
【００２７】
次に第２段階として、酸化剤で塗布された基材に、ピロール、チオフェン、フラン、セレノフェン、３，４−エチレンジオキシチオフェン及びこれらの誘導体から構成される群から選択された単量体を、気化して接触させ、基材の表面で重合反応を行う。この際、単量体を気化させる方法としては、密閉されたチャンバー内で単量体を０〜１００℃で蒸留させる方法と、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）による方法などが挙げられる。こ
の時、温度条件と反応時間を調整することが好ましく、重合反応は、１０秒〜４０分程度行なわれ、一般的には、単量体の種類に応じて変化するが、膜厚および表面抵抗値などが目標値に達するまで行なう。
【００２８】
次いで第３段階として、重合が完了した後、未反応の単量体及び酸化剤を除去するための洗浄工程を行う。この際の使用溶剤としては、通常メタノールなどのアルコール類を用い、場合によっては水で洗浄することもできる。上記のような一連の工程は、段階的または連続的に行われることができ、単量体の重合から導電膜の形成までは、一連の作業工程で処理することができる。得られた導電性ポリマーフィルムは、１Ｈ〜３Ｈ程度に鉛筆硬度を有し、基材に対する密着性は良好であり、アルコール溶剤に対する耐性も十分である。
【００２９】
導電層に用いる導電性ポリマーの膜厚は、０．０５〜５μｍであるが、透明性の観点から、通常、０．０５〜０．５μｍであることが好ましい。また、導電性ポリマーの表面抵抗は、１０2Ω／□〜１０8Ω／□であり、この表面抵抗値は、酸化剤の濃度、重合時間及び温度によって制御される。
【００３０】
４．低屈折率層
低屈折率層の屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定温度２５℃）は、１．３５〜１．５０の範囲にある。
【００３１】
低屈折率膜の屈折率が１．３５未満であると、使用可能な材料の種類が過度に制限され、一方、屈折率が１．５を超えると、高屈折率層と組み合わせた場合に、反射防止効果が低下する場合がある。
【００３２】
このように低屈折率層の屈折率は、１．３５〜１．５０、好ましくは１．３５〜１．４５、さらに好ましくは１．３５〜１．４２であることが望ましい。
【００３３】
また、低屈折率層と高屈折率層との間の屈折率差を０．０５以上の値とすると、より優れた反射防止効果が得られる。低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差が０．０５未満であると、これらの反射防止膜層での相乗効果が得られず、かえって反射防止効果が低下する場合がある。
【００３４】
したがって、低屈折率層と、高屈折率層との間の屈折率差を０．０５以上、好ましくは
０．１〜０．５、さらに好ましくは０．１５〜０．５の範囲内の値とすることが望ましい。
【００３５】
また、低屈折率層の膜厚は、特に制限されるものではないが、例えば、０．０５〜１μｍの範囲内であることが好ましい。
【００３６】
低屈折率層の膜厚が０．０５μｍ未満であると、下地としての高屈折率層に対する密着力や擦傷性が低下する場合があり、一方、かかる膜厚が１μｍを超えると、均一に製造することが困難となるばかりか、光透過率や耐擦傷性が低下する場合がある。
【００３７】
したがって、低屈折率層の膜厚は、０．０５〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍ、さらに好ましくは０．０５〜０．３μｍであることが望ましい。
【００３８】
なお、低屈折率層の膜厚は、例えば、断面切片の透過型電子顕微鏡写真から実測した平均値（１０個所）と定義されるが、下面が平坦でない塗膜の場合には、ＪＩＳ  Ｂ０６０１で規定される粗さ曲線（測定長１μｍ）における平均線間の距離として定義される。
【００３９】
低屈折率層は、たとえば低屈折率層形成用硬化性組成物を用いて形成することができる。このような低屈折率層形成用硬化性組成物としては、低屈折率材料 微粉末（例えば平
均粒子径が０．３〜２００ｎｍ好ましくは０．５〜１００ｎｍ）として、フッ化マグネシウム（例えば屈折率１．３８）、酸化シリコン（例えば屈折率１．４６）、フッ化アルミニウム（例えば屈折率１．３３〜１．３９）、フッ化カルシウム（例えば屈折率１．４４）、フッ化リチウム（例えば屈折率１．３６〜１．３７）、フッ化ナトリウム（例えば１．３２〜１．３４）、フッ化トリウム（例えば１．４５〜１．５）の中から一種類または二種類以上を、熱硬化性または紫外線硬化性樹脂バインダーに分散した組成物などを挙げることができる。
【００４０】
樹脂バインダーとしてはポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ビニール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂、塩化ビニール樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂等の中から適宜選定すればよい。
【００４１】
また、その他にフッ素系重合体などを含んだ組成物なども好適に使用することができる。
【００４２】
５．高屈折率層
高屈折率層の屈折率（Ｎａ−Ｄ線の屈折率、測定温度２５℃）は、１．４５〜２．１である。
【００４３】
高屈折率層の屈折率が１．４５未満であると、低屈折率層と組み合わせた場合に、反射防止効果が著しく低下することがあり、一方、２．１を超えると、使用可能な材料が過度に制限されることがある。
【００４４】
したがって、高屈折率層の屈折率は、１．４５〜２．１、好ましくは１．５５〜２．０、さらに好ましくは１．６〜１．９であることが望ましい。
【００４５】
高屈折率層の膜厚は、特に制限されるものではないが、例えば、０．０５〜３０μｍであることが好ましい。
【００４６】
高屈折率層の膜厚が０．０５μｍ未満であると、低屈折率層と組み合わせた場合に、反
射防止効果や基板に対する密着力がそれぞれ低下する場合があり、一方、高屈折率層の膜厚が３０μｍを超えると、非連続の高屈折率層を均一に形成することが困難となる場合があるためである。
【００４７】
したがって、高屈折率層の膜厚は、０．０５〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜５μｍ、さらに好ましくは０．０６〜０．５μｍであることが望ましい。
【００４８】
なお、高屈折率層の膜厚は、低屈折率層と同様に、例えば、断面切片の透過型電子顕微鏡写真から実測した平均値（１０個所）と定義されるが、下面が平坦でない塗膜の場合には、ＪＩＳ  Ｂ０６０１で規定される粗さ曲線（測定長１μｍ）における平均線間の距離として定義される。
【００４９】
また、平坦な高屈折率層の一部に穴やスリット等が形成され、実質的に平坦な底面および上面を有する非連続層である場合には、かかる高屈折率層の膜厚は、底面から上面までの垂直方向距離（断面高さ）を意味する。
【００５０】
高屈折率層は、たとえば高屈折率層形成用硬化性組成物を用いて形成することができる。このような高屈折率層形成用組成物は、高屈折率材料微粉末（例えば平均粒径が０．３〜２００ｎｍ、好ましくは０．５〜１００ｎｍ）として、酸化セリウム（例えば屈折率２．２〜２．５）、硫化亜鉛（例えば屈折率２．２〜２．３）、酸化チタン（例えば屈折率２．２〜２．７）、酸化ジルコニウム（例えば屈折率１．９５〜２．０）、酸化アルミニウム（例えば屈折率１．５９〜１．６２）をバインダー樹脂に分散してなる熱硬化性または紫外線硬化性組成物を挙げることができる。
【００５１】
バインダー樹脂としては、低屈折率層を形成するための組成物と同様のものを挙げることができる。
【００５２】
６．積層体
本発明の積層体における、ハードコート層、導電層、高屈折率層、低屈折率層などの各層は、基材の上面に設けられていてもよく下面に設けられていてもよく、場合によっては両面に設けてもよい。
【００５３】
基材の上面あるいは下面のいずれか、あるいは両面にハードコート層と導電性ポリマーからなる導電層とを有する積層体は、帯電防止性に優れている。
【００５４】
また、基材の少なくとも一方の面に、少なくともハードコート層、導電性ポリマー層、屈折率１．４５〜２．１である高屈折率層、および屈折率１．３５〜１．５である低屈折率層が積層されてなる積層体は、帯電防止性および反射防止性に優れている。
【００５５】
本発明の積層体においては、各層の間に必要に応じてさらに中屈折率層や保護層などを適宜設けることが可能である。
【００５６】
本発明の積層体においては、表面抵抗は１０6〜１０12Ω／□、また、全光線透過率は
８０％以上であることが好ましい。
【００５７】
本発明の積層体は、液晶表示装置における偏光板、プラズマディスプレイパネルの前面板、冷陰極線管（ＣＲＴ）の画面表示部、カメラのレンズ部などの反射防止膜等として幅広い分野で好適に用いられ、しかも、帯電防止効果、反射防止効果、耐擦傷性、透明性、機械的強度、耐久性などに優れている。
【００５８】
［実施例］
以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例の記載に限定されるものではない。また、実施例中、各成分の配合量は特に記載のない限り重量部を意味している。
【００５９】
（合成例）触媒溶液の調製
酸化剤としてのＦｅＣｌ3を、メチルアルコール、２−ブチルアルコール及びエチルセ
ロソルブがそれぞれ６：３：１の割合で混合された溶剤に３重量％溶解させて触媒溶液を調製した。
【００６０】
［実施例１］
下記の方法で、図４に示すような積層体を製造した。
【００６１】
ポリエステルフィルムＡ４３００（東洋紡績（株）製、膜厚１００μｍ）の上面に、ハードコート剤として「デソライトＺ７５０１」（ＪＳＲ株式会社製）を塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚３μｍの
ハードコート層を形成した。
【００６２】
ハードコート層を設けたポリエステルフィルム表面に、前記合成例で製造した触媒溶液をスピンコーティングした後、得られた触媒塗膜を６０℃で３分間乾燥させた。触媒溶液が塗布されたポリエステルフィルムあるいはハードコート層を設けたポリエステルフィルムは薄黄色であった。
【００６３】
次いでこのハードコート層および触媒塗膜が形成されたポリエステルフィルムを飽和状態の３，４−エチレンジオキシチオフェン単量体が生成されるように設計されたＣＶＤチャンバーに載置し、３，４-エチレンジオキシチオフェンを３０秒間重合反応させた後、
未反応物を除去するためにメタノール溶剤で洗浄し導電層を形成した。
【００６４】
次いで、高屈折率層形成用硬化性組成物として「デソライトＫＺ７９８７Ｂ」（ＪＳＲ株式会社製）を、ワイヤーバーコータを用いて、導電層上に塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥し、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚が０．１μｍである
高屈折率層を形成した。
【００６５】
さらに、低屈折率層形成用硬化性組成物として「オプスターＪＮ７２１５」（ＪＳＲ株式会社製）を、高屈折率層上に、ワイヤーバーコータを用いて塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。この塗膜を、オーブンを用いて１４０℃、１分の条件で加熱し、膜厚が０．１μｍの低屈折率層を形成した。
【００６６】
積層体の評価
得られた積層体における、反射率、全光線透過率、および濁度（ヘイズ値）、表面抵抗を下記に示す測定法により測定した。
【００６７】
１）反射率および全光線透過率
得られた積層体における反射率（測定波長における最低反射率）および全光線透過率を、分光反射率測定装置（大型試料室積分球付属装置１５０−０９０９０を組み込んだ自記分光光度計Ｕ−３４１０、日立製作所（株）製）により、ＪＩＳ  Ｋ７１０５（測定法Ａ）に準拠して、波長３５０〜８００ｎｍの範囲で測定した。
【００６８】
すなわち、アルミの蒸着膜における反射率を基準（１００％）として、５５０ｎｍ近辺の干渉振動の中心点における反射率および全光線透過率を測定した。結果を表１に示す。
【００６９】
なお、ここで、干渉振動性を以下のように定義する。すなわち、５５０ｎｍ近辺に最大反射率をＡ、最小反射率をＢとし場合、干渉振動性Ｃは、Ｃ＝Ａ／Ｂと表す。結果を表１にしめす。例えば、下記図３の場合、Ａ＝１．１％、Ｂ＝０．８％でＣ＝１．４となる。この値が小さい方が、ギラツキ感が少なく、反射防止特性は優れている。
【００７０】
２）濁度（ヘイズ値）
得られた積層体につき、カラーヘイズメーター（須賀製作所（株）製）を用いて、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３に準拠してヘイズ値を測定した。得られた結果を表１に示す。
【００７１】
３）表面抵抗
得られた積層体につき、ハイレジスタンスメーター（ヒューレット・パッカード社製造ＨＰ４３３９）並びに三菱化学製ロレスターＥＰを用い測定した。
【００７２】
［実施例２］
図５の膜構成を有する積層体を実施例１と同様にして作製し、反射率、表面抵抗等の評価を行った。得られた結果を表１に示す。導電層としては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）を用いた。
【００７３】
［実施例３］
図４の膜構成の積層体を実施例１と同様にして作製し、反射率、表面抵抗等の評価を行った。得られた結果を表１に示す。導電層としては、ポリピロールを用いた。
【００７４】
［実施例４］
図５の膜構成を有する積層体を、基材上に導電層、ハードコート層の順序で形成した以外は、実施例１と同様にして作製し、反射率、表面抵抗等の評価を行った。得られた結果を表１に示す。導電層としては、ポリピロールを用いた。
【００７５】
［比較例１］
比較例１では、導電層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして積層体を作製し、反射率、表面抵抗等の評価を行った。得られた結果を表１に示す。
【００７６】
【表１】
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【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】本発明の積層体の断面図である（その１）。
【図２】本発明の積層体の断面図である（その２）。
【図３】本発明の積層体の断面図である（その３）。
【図４】本発明の積層体の断面図である（その４）。
【図５】本発明の積層体の断面図である（その５）。
【図６】本発明の積層体の断面図である（その６）。
【図７】本発明の積層体の断面図である（その７）。
【図８】干渉振動性を説明するための反射率チャート。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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