(57)【要約】【課題】汎用性プラスチックフィルム上にＣｏ含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を備えた磁気記録媒体を低コストで作製する。【解決手段】ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりなる長尺状の基体上にコバルト含有マグネタイト薄膜を形成し、続いて周面を冷却させたドラム上に基体側を接触させて走行させ、かつコバルト含有マグネタイト薄膜側に対し加熱酸化処理を施し、コバルトの含有量１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を形成する。【選択図】  図２
2005158104.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気抵抗効果型磁気ヘッド、又は巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドに対し摺動状態で用いられるテープ状の磁気記録媒体であって、
表面に、高さが５〜２０ｎｍの微小突起が、１.０×１０8〜５.０×１０8個／ｍｍ2の割合で形成されているポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりなる長尺状の基体上に、コバルトの含有量１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を有し、
前記磁性層上に、ダイヤモンドライクカーボン薄膜よりなる保護層が２ｎｍ以上２０ｎｍ未満の膜厚に形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
磁気抵抗効果型磁気ヘッド、又は巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドに対し摺動状態で用いられるテープ状の磁気記録媒体の製造方法であって、
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりなる長尺状の基体上に、コバルト含有マグネタイト薄膜を形成する工程と、
前記基体側を冷却し、かつ前記コバルト含有マグネタイト薄膜側に対し加熱酸化処理を施し、コバルトの含有量１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を形成する工程とを有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記コバルト含有マグネタイト薄膜形成後、前記基体を、冷却機構を具備する回転ドラムの周面に接触させた状態で搬送させて基体側の冷却を行い、前記コバルト含有マグネタイト薄膜に対して、加熱手段及び酸化手段により加熱酸化処理を施すことを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりなる長尺状の基体上にコバルト含有マグネタイト薄膜が形成されてなる被処理体を、周面において接触走行させる回転ドラムを具備し、
前記回転ドラムには、周面を冷却可能な冷却機構が設けられてなり、
前記回転ドラムの周面において走行する前記被処理体に対向して、加熱手段と、酸化手段とが設けられていることを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録媒体、その製造方法、及びその製造装置に関するものであり、磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）、あるいは巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＧＭＲヘッド）を用いたシステムに適用する高密度記録型の磁気記録媒体を低コストで提供するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録媒体においては、大容量のデータを取り扱うために、高密度記録化への要求が益々高まってきている。特に最近では、さらなる高密度記録化を達成するために、記録信号の再生を行う際に用いる磁気ヘッドについて、従来の誘導型ヘッドに代わり磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）や、巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッド（ＧＭＲヘッド）が適用されるようになってきており、ハードディスクだけではなく、いわゆる磁気テープに対しても適用されるようになってきている。
【０００３】
このような高密度記録型の磁気記録媒体としては、従来、いわゆるスパッタリング法や真空蒸着法によって磁性層を形成した金属薄膜型の磁気記録媒体が適用されてきたが、記録密度を向上させつつ、更なる高保磁力化、低ノイズ化を図り、さらには長期に亘って信号品質の劣化を起こすことなく保存が可能な、いわゆるアーカイブ性に対する要求も厳しくなった。
【０００４】
上述したような磁気記録媒体に対する種々の要求を満足するものとして、対向ターゲット式スパッタリング法によってコバルト含有マグヘマイト薄膜の磁性層を形成した構成のハードディスク用の垂直記録媒体が提案されている（例えば、特許文献１、２参照。）。
このようなコバルト含有マグヘマイト薄膜は、金属薄膜型の磁性層に比べ保存安定性に優れ、かつ膜の硬度が高く耐久性に優れており、またスパッタ法により成膜するため粒子径が微細で従来の蒸着型の磁気テープに比べて低ノイズ化が可能であるという利点を有している。
【０００５】
一方、金属薄膜型の磁気テープは、耐食性に関しては塗布型の磁気テープより劣るという課題を有しており、データを長期に亘って保存する特性（アーカイブ性）については未だ解決課題を残している。
また、ＭＲヘッドやＧＭＲヘッドで信号の再生を行う場合、磁気ヘッドの飽和を回避するべく磁性層を一層薄くすることが必要となるが、保磁力が低下してしまい、安定した信号記録が困難になるという問題がある。
【０００６】
また、磁気ヘッドが高感度になるに従い、媒体側に起因するノイズをさらに低減化させることが重要となってくるが、磁性層を構成する磁性粒子の微細化には製造工程上の制限があり、未だノイズの低減化についても課題を残していると言える。さらに、磁性層の薄膜化に伴い、磁気記録媒体の表面においては、ベースフィルムの表面形状がそのまま反映されるようになるため、ベースフィルムの表面に関しては、磁気記録媒体の耐久性とヘッドの耐磨耗の両立を図るように設計することが重要である。
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−３２８６５１号公報
【特許文献２】特開平１１−３２８６５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述したことから、コバルトを主体とする磁性層を有する磁気テープについて課題となっていたアーカイブ性や記録信号の安定性、低ノイズ化等の課題を解決するために、コバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層をテープ媒体に応用することが提案された。
【０００９】
しかしながら、ハードディスク用の磁性層の設計をそのまま磁気テープに適用することはできない。
すなわち、磁気ヘッドが磁性層形成面に接することなく、浮上している状態で信号の記録再生動作がなされるハードディスクと異なり、磁気テープにおいては、媒体と磁気ヘッドとが高速で接触摺動するため、両者の磨耗についてはより一層精密な検討を行う必要があり、記録層表面に、スペーシングにより出力が低下しない程度に粗度を設けて摩擦を低減化させたり、製品としての信頼性の向上を図るべく、保護層や潤滑剤層を設けたりすることも必要となってくる。
【００１０】
さらには、コバルト含有マグヘマイト膜は非常に硬度が高いものであるため、直接ヘッドに触れると磁気ヘッドの磨耗量が大きくなるため、磁性層上に保護層を形成し磁気ヘッドの磨耗を極力抑えるように硬さを制御することも重要となってくる。
【００１１】
また、従来のコバルト含有マグヘマイト薄膜は、高い保磁力を得るためには、成膜時に２００℃以上の加熱処理を必要としていたため、これを磁気テープに応用するとすれば、適用する高分子フィルムの材質が制約されてしまうという問題を有している。
【００１２】
そこで本発明においては、上述した問題に鑑みて、コバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層の利点を生かしつつ、プラスチックフィルム上に磁性層が形成された構成の、特にテープ媒体について、アーカイブ性や記録信号の安定性、低ノイズ化等の課題の解決を図り、同時に走行安定性、走行耐久性等の信頼性の観点からも解決を図り、さらには、基体（ベースフィルム）の材質にかかわらず、室温〜２００℃程度の加熱温度であっても、高密度記録が可能な保磁力Ｈｃを得ることができる磁気記録媒体を低コストで提供することとした。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の磁気記録媒体は、表面に高さが５〜２０ｎｍの微小突起が１.０×１０8〜５.０×１０8個／ｍｍ2の割合で形成されているポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりなる長尺状の基体上に、コバルトの含有量１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を有し、さらに磁性層上に、ダイヤモンドライクカーボン薄膜よりなる保護層が２ｎｍ以上２０ｎｍ未満の膜厚に形成されている構成を有するものとし、磁気抵抗効果型磁気ヘッド、又は巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドに適用する高密度記録型の磁気記録媒体であるものとする。
【００１４】
本発明方法においては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりなる長尺状の基体上に、コバルト含有マグネタイト薄膜を形成する工程と、基体側を冷却し、かつコバルト含有マグネタイト薄膜側に対し加熱酸化処理を施し、コバルトの含有量１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を形成する工程とにより、磁気抵抗効果型磁気ヘッド、又は巨大磁気抵抗効果型磁気ヘッドに好適な高密度記録型の磁気記録媒体を作製する。
【００１５】
本発明の磁気記録媒体の製造装置は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）よりなる長尺状の基体上にコバルト含有マグネタイト薄膜が形成されてなる被処理体を、周面において接触走行させる回転ドラムを具備し、前記回転ドラムには、周面を冷却可能な冷却機構が設けられてなり、回転ドラムの周面において走行する前記被処理体に対向して、加熱手段と、酸化手段とが設けられている構成を有するものとする。
【００１６】
本発明によれば、汎用プラスチックよりなる基体上に、実用上充分な保磁力Ｈｃを有するコバルト含有マグヘマイト薄膜が形成される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、保存安定性に優れ、高密度記録化が実現でき、かつ磁気記録媒体の走行耐久性と磁気ヘッドの耐磨耗性の向上について優れた効果を有する磁気記録媒体が得られた。
【００１８】
さらに、磁性層の加熱酸化処理工程において、回転ドラム周面上に接しながら基板側冷却を行い、同時に磁性層側においては加熱酸化処理を行うようにしたことにより、汎用性のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンエフタレート（ＰＥＮ）を基体として使用することが可能となり、極めて低コストで高密度記録型の磁気テープを提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明について具体的な実施形態を図を参照して説明する。なお、本発明は、以下の例に限定されるものではない。
【００２０】
先ず、本発明に係る磁気記録媒体の一例の概略断面図を図１に示す。
磁気記録媒体１０は、長尺形状で非磁性の基体１の一主面上に、磁性層２、保護層３、及び潤滑剤層４が順次形成され、他の主面上にバック層５が形成された構成を有している。
【００２１】
基体１は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）のプラスチックフィルムよりなるものとする。
基体１の磁性層形成面側には、高さ５〜２０ｎｍの微小突起が、１.０×１０8〜５.０×１０8個／ｍｍ2の割合で形成されていることが望ましい。
突起の高さが５ｎｍ未満であると磁気ヘッドとの摺動による走行耐久性が充分に確保できなくなり、２０ｎｍを超えるとスペーシングによる出力の低下やノイズの原因となる。
また、突起の形成割合を１.０×１０8〜５.０×１０8個／ｍｍ2に特定することにより、優れた走行耐久性と電磁変換特性との両立が図られる。
【００２２】
磁性層２は、コバルト含有マグヘマイト薄膜（Ｃｏ−γＦｅ2Ｏ3）の面内配向膜よりなるものとし、コバルトの含有量は１〜１０重量％であるものとする。
コバルト含有量が増加すると保磁力Ｈｃを高くすることができ、実用上充分な保磁力Ｈｃを得るためには磁性層中のコバルト含有量を１重量％以上とすることが必要であるが、１０重量％を超えると高温高湿環境下において長時間保存した場合に錆が発生してしまい、いわゆる経時安定性が低下する。
また、面内方向の保磁力Ｈｃは、低ノイズでかつ高分解能であることを実現するために、２０００Ｏｅ（１５９ｋＡ／ｍ）以上を保つ必要がある。但し４０００Ｏｅ（３１８ｋＡ／ｍ）を超えると、充分に信号を記録することが出来なくなり、再生出力が低下するため、保磁力Ｈｃは２０００〜４０００Ｏｅ（１５９〜３１８ｋＡ／ｍ）とすることが好適である。
【００２３】
磁性層２を構成するコバルト含有マグヘマイト薄膜の残留磁化量Ｍｒと、磁性層膜厚ｔとの積Ｍｒ・ｔは０．２〜１ｍｅｍｕ／ｃｍ2であるものとする。
Ｍｒ・ｔが０．２ｍｅｍｕ／ｃｍ2未満であると、充分な再生出力が得られなくなり、１ｍｅｍｕ／ｃｍ2を超えると再生用のＧＭＲヘッドが飽和してしまい、再生出力に歪が生じるためである。
残留磁化量Ｍｒと磁性層膜厚ｔとの積Ｍｒ・ｔは、０．２〜１ｍｅｍｕ／ｃｍ2の範囲であれば、残留磁化量Ｍｒ及び磁性層膜厚ｔは任意に設定することができるが、残留磁化量Ｍｒは２００〜４００ｅｍｕ／ｃｃとすることが好ましい。
【００２４】
また、磁性層２の膜厚ｔは、最終的に得られる磁気テープのカッピングを低減化させるために薄層とすることが望ましいが、磁性層の膜厚を５ｎｍ未満とすると、例えば２０００Ｏｅ（１５９ｋＡ／ｍ）以上程度の実用上充分な保磁力Ｈｃを得ることが困難になるという問題がある。
一方、膜厚ｔが厚いと、保磁力Ｈｃが高くなる傾向にあるが、ＧＭＲヘッドのような高感度磁気ヘッドを適用する場合、磁性層が５０ｎｍよりも厚いと磁性層２を構成する磁性粒子が大きくなるためノイズが高くなり、また信号を記録した際に磁性層の深層部まで均一な磁化状態になり難く、良好な記録再生特性が得られ難くなる。
上述したことから磁性層２の膜厚ｔは５〜５０ｎｍ、さらには１０〜２０ｎｍとすることが望ましい。
【００２５】
また、基体１と磁性層２との間には、磁性層２の面内配向を高めたり、結晶粒子の微細化を促進させたり、あるいはテープの変形を抑制するために、任意の材料による下地層を設けてもよい。例えば、面内配向を高めるためにはＮｉＯ膜を形成することが望ましい。
【００２６】
磁性層上には、耐久性、耐候性を向上させるため、硬質炭素等の保護層３を形成する。
保護層３の膜厚は２ｎｍ以上２０ｎｍ未満に形成することが好ましく、さらには５〜１０ｎｍであることが望ましい。保護層３の膜厚が２ｎｍ未満であると、充分な耐久性が得られなくなるおそれがあり、膜厚が２０ｎｍ以上であると、スペーシングロスのため短波長記録を行う際に充分な出力が得られないおそれがある。
保護層３は、従来公知の金属磁性薄膜型の磁気記録媒体用の保護層として使用されているものであれば、いかなるものも適用できる。特に磁気ヘッドの磨耗の低減化を図るためにはプラズマＣＶＤ法により形成した、ＤＬＣ(ダイヤモンドライクカーボン)薄膜が好適である。その他、ＣｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＢＮ、Ｃｏ酸化物、ＭｇＯ、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｏ4、ＳｉＮ、ＳｉＣ、ＳｉＮx−ＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＴｉＣ等が挙げられる。
【００２７】
さらに、磁性層形成面側の最表面には、潤滑剤層４を形成することにより、磁気記録媒体の走行性を高めるようにすることが望ましい。
また基体１の磁性層形成面とは反対側の面にバック層５を設ける。バック層５は、例えばカーボンを主成分とする膜が好適であり、ウエットプロセスあるいはドライプロセス等、従来公知の方法により形成することができる。
【００２８】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法について説明する。
先ず、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、またはポリエチレンナフタレートよりなる長尺状の基体１を用意する。
次に、基体１の一主面上にコバルト含有マグネタイト薄膜をスパッタリング法によって形成する。
具体的には、連続搬送する基体（プラスチックフィルム）上に、コバルト含有鉄合金のターゲットを用いて、酸素を導入しながら反応スパッタを行い、コバルト含有マグネタイト膜よりなる金属磁性薄膜を形成する。
ターゲットに使用する鉄コバルト合金中のコバルト含有量は１〜１０重量％とし、最終的に成膜する磁性層２のコバルト含有量が１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜とするようにする。
【００２９】
コバルト含有マグネタイト膜を成膜するスパッタ法は、特に限定されるものではなく、ＲＦマグネトロンスパッタ法や、ＥＣＲスパッタ法、対向ターゲット式スパッタ法等、いずれの方法も適用することができる。これらのスパッタ法においては、それぞれ酸素流量とガス圧、投入電力を任意に制御するものとする。
【００３０】
コバルト含有マグネタイト膜よりなる金属磁性薄膜を形成し、堆積させる時の基体１の温度は、基体１となるＰＥＴやＰＥＮのプラスチックフィルムの熱変形を回避するため１００℃以下に設定するものとし、好ましくは８０℃以下、さらには７０℃以下とする。
【００３１】
次に、コバルト含有マグネタイト膜よりなる金属磁性薄膜に加熱酸化処理を施し、コバルト含有マグヘマイト膜とする。
この加熱酸化処理工程について、製造装置の一例の概略構成図を図２に示して説明する。
この製造装置２０は、連続巻き取り式の構成を有しているものとし、真空排気系２１により所望のガス雰囲気下とされた処理室２２内に、送りロール２３と、巻き取りロール２４とが設けられ、これら送りロール２３から巻き取りロール２４に長尺状のマグネタイト膜形成後の基体（被処理体１１）が順次走行するようになされている。
【００３２】
送りロール２３から巻き取りロール２４に被処理体１１が走行する中途部には、矢印Ａ方向に定速で回転する回転ドラム２５が設けられている。
この回転ドラム２５は、内部に冷却機構（図示せず）を具備しており、被処理体１１が走行する周面を冷却する機能を有している。
【００３３】
回転ドラムの周面において走行する被処理体１１に対向するように、例えば輻射熱により加熱処理を施すハロゲンランプよりなる加熱手段２６ａ〜２６ｃ、及び例えば酸素イオンを照射するイオンガンよりなる酸化手段２７ａ、２７ｂが配設されている。なお、加熱手段２６ａ〜２６ｃや酸化手段２７ａ、２７ｂの配置数や位置は任意に選定することができる。
【００３４】
上述したような構成を有する製造装置２０を用いてコバルト含有マグネタイト薄膜に加熱酸化処理を施すには、回転ドラム２５の周面上に基体１側を接触させて走行させ、基体側冷却を行い、同時にコバルト含有マグネタイト薄膜形成面に対し、加熱手段２６ａ〜２６ｃにより輻射熱の放射を行い、かつ酸化手段２７ａ、２７ｂにより酸素イオンを照射してコバルト含有マグヘマイト膜よりなる磁性層を形成する。
【００３５】
磁性層２を形成した後、磁性層２上に保護層３をプラズマＣＶＤ法によって形成し、さらにパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を塗布することによって潤滑剤層４を形成し、さらに例えばカーボンを含有する塗料を塗布してバック層５を形成することによって、磁気記録媒体１０が作製される。
【００３６】
上述したように、コバルト含有マグヘマイト膜形成の際の加熱酸化処理工程において基体１側に対して冷却処理を施すこととすることにより、比較的耐熱性が低い安価な汎用性プラスチック材料を基体１として用いた場合においても、熱変形を生じることなく、マグヘマイト薄膜を形成することが可能となる。
【実施例】
【００３７】
以下、具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００３８】
〔実施例１〕
基体１として、磁性層形成面側に、高さ１０ｎｍの微小突起が３×１０8個／ｍｍ2形成されている膜厚７．５μｍの二層ＰＥＴフィルムを用意した。
次に、対向ターゲット式スパッタ装置を用い、反応スパッタ法により、基体１とターゲットとの距離を１５０ｍｍに設定して、１０ｍ／ｍｉｎの送り速度で搬送させた基体１上に、室温（３０℃）で全圧０．３０Ｐａ、アルゴン２０ｓｃｃｍ、酸素３０ｓｃｃｍの流量中で、Ｆｅ＋４重量％Ｃｏ金属合金ターゲットを２０ｗ／ｃｍ2の投入電力にてスパッタリングして、Ｃｏ含有マグネタイト薄膜を膜厚１５ｎｍに形成した。
【００３９】
次に、図２に示す装置２０を用いて、冷却機構により−２０℃に周面を冷却した回転ドラム２５上に、被処理体１１の基体１側を接触させながら走行させ、かつ、ハロゲンランプ２６ａ〜２６ｃによる輻射熱でその表面温度が２５０〜３５０℃になるようにし、かつイオンガン２７ａ、２７ｂにより酸素イオンを照射して加熱酸化処理を行い、Ｃｏ含有マグヘマイト膜よりなる磁性層２を形成した。
【００４０】
次に、プラズマＣＶＤ法により膜厚５ｎｍのダイヤモンドライクカーボン膜よりなる保護層３を形成し、保護層３上にパーフルオロポリエーテルを塗布して潤滑剤層４を形成し、磁性層形成面側とは反対側の面に、カーボンブラック、炭酸カルシウム、ポリエステル樹脂、ニトロセルロース樹脂を主成分とした塗料を塗布することにより、バック層５を形成した。その後、８ｍｍ幅にスリットしてサンプルとなる磁気テープを作製した。
【００４１】
〔実施例２〜８〕、〔比較例１〜５〕
使用する基体１の表面設計（突起高さ、突起数）、保護層３の膜厚を制御して各種サンプル磁気テープを作製した。
【００４２】
なお、基体１の表面設計、すなわち突起高さ及び突起数は、下記に示す方法により測定した。
（突起高さ）
デジタルインスツルメンタル社製「Nanoscope III」を用いて５μｍ角のエリアで基体表面を測定し、微小突起１０個の高さの平均値を突起高さと定義した。
（突起個数）
電子顕微鏡で１００００倍の倍率で撮影した基体表面の写真を用いて、高さ１０ｎｍ以上の微小突起の個数を数え、１ｍｍ2当たりの数を算出した。
【００４３】
上述のようにして作製した各サンプル磁気テープについて、下記に示す方法により、電磁変換特性、走行耐久性、磁気ヘッド磨耗、及び粉落ちについての評価を行い、評価結果を表１に示した。
【００４４】
〔電磁変換特性〕
電磁変換特性の測定は、記録波長０．１μｍにて信号情報を記録した後、シールド型のスピンバルブヘッドにより再生出力、ノイズレベルの測定を行った。再生に用いたスピンバルブヘッドは再生ヘッド幅（トラック幅）が０．８μｍ、シールド間距離が０．１８μｍとした。
〔走行耐久性〕
走行耐久性の試験としては、ドラムテスタにより再生出力を測定し、繰り返し記録再生して１時間後の出力低下が１．５ｄＢ以内のものを○とし、出力の低下が１．５ｄＢを超えたものを×として評価した。
〔磁気ヘッド磨耗〕
市販のＡＩＴ２ドライブ（ＳＤＸ−５００Ｃ）を改造してＧＭＲヘッドを使用可能にした記録再生装置を用い、各サンプルテープについて６０分の再生を３００回繰り返した。次いで繰り返し走行後のＧＭＲヘッドを光学顕微鏡を用いて観察し、ＧＭＲヘッド磨耗量を測定した。
ＧＭＲヘッドの磨耗量は初期のＧＭＲヘッドの高さと６０分の再生を３００回繰り返した後の高さの差が１μｍを超えるとヘッドの再生能力が著しく低下するため、１μｍ以下の場合を○、１μｍを超える場合を×として評価した。
〔粉落ち〕
市販のＡＩＴ２ドライブ（ＳＤＸ-５００Ｃ）を改造してＧＭＲヘッドを使用可能にした記録再生装置を用い、各サンプルテープについて６０分の再生を３００回繰り返した。その後ＧＭＲヘッドに付着している粉落ちを測定した。粉落ちは４段階に評価し、粉落ちが殆ど見られないレベルを◎、粉落ちは見られるが出力に影響しないレベルを○、粉落ちが見られ出力に影響するレベルを△、粉落ちが著しく走行中にクロッグが発生するレベルを×として評価した。
【００４５】
【表１】
2005158104.tif 000003
【００４６】
上記表１に示すように、高さ５〜２０ｎｍの微小突起が、１.０×１０8〜５.０×１０8個／ｍｍ2の割合で形成されているプラスチックフィルムよりなる長尺状の基体上に、コバルト含有マグネタイト薄膜を成膜し、続いて基体１側を冷却し、かつマグネタイト薄膜側を加熱しながら加熱酸化処理を施し、コバルトの含有量１〜１０重量％のコバルト含有マグヘマイト薄膜よりなる磁性層を形成した実施例１〜８の磁気テープにおいては、いずれも良好な電磁変換特性が得られ、走行耐久性、磁気ヘッド磨耗、及び粉落ちについての評価も良好であった。
【００４７】
比較例１の磁気テープは、基体１の表面の突起が低すぎ、極めて表面が平滑であるため、磁気ヘッドとの摩擦が高くなりすぎ走行耐久性が劣化した。
比較例２の磁気テープは、基体１の表面の突起が高すぎ、表面の粗度が大きくなりすぎたため、ノイズが増加しＣ／Ｎの劣化を招来し、また磁気ヘッドの磨耗量も大きくなった。
比較例３の磁気テープは、突起数が少なすぎるため充分な走行安定性が悪化し、耐久性、磁気ヘッド磨耗及び粉落ちについての評価が劣化した。
比較例４の磁気テープは、突起数が多すぎるため、ノイズが増加しＣ／Ｎの劣化を招来し、また走行耐久性、磁気ヘッド磨耗及び粉落ちについての評価が劣化した。
比較例５の磁気テープは、保護層が厚すぎるためスペーシングロスにより出力が低下し、Ｃ／Ｎが劣化した。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明の磁気記録媒体の概略断面図を示す。
【図２】本発明方法において適用する酸化処理装置の一例の概略構成図を示す。
【符号の説明】
【００４９】
１……基体、２……磁性層、３……保護層、４……潤滑剤層、５……バック層、１０……磁気記録媒体、１１……被処理体、２０……製造装置、２１……真空排気系、２２……処理室、２３……送りロール、２４……巻き取りロール、２５……回転ドラム、２６ａ〜ｃ……加熱手段、２７ａ、ｂ……酸化手段
【図１】
2005158104.tif 000004
【図２】
2005158104.tif 000005