(57)【要約】【課題】  スペーサの破壊を防止し，上側基板と下側基板の間隔を一定に維持して，間隔変化による画質低下を防止する平板表示装置，スペーサの製造方法，及び平板表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】  平板表示装置は，所定の間隔を置いて対向配置される第１基板２及び第２基板４を含み，内部が真空に維持される真空容器６と，第１基板２及び第２基板２間に配設される複数のスペーサ８とからなり，それぞれのスペーサが，スペーサ本体８ａと，第１基板２及び第２基板４のいずれか一方に対向するスペーサ本体８ａの端部に設けられ，第１基板２及び第２基板４のいずれか一方とスペーサ本体８ａの端部間を満たすように位置するバッファ層８ｂを含む。【選択図】    図１
2005158697.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の間隔を置いて対向配置される第１基板及び第２基板を含み，内部が真空に維持される真空容器と，
前記第１基板及び前記第２基板間に配設される複数のスペーサとからなり，
前記複数のスペーサはそれぞれ，スペーサ本体と，
前記第１基板及び前記第２基板のいずれか一方に対向する前記スペーサ本体の端部に設けられ，前記第１基板及び前記第２基板のいずれか一方と前記スペーサ本体の端部との間を満たすように位置するバッファ層とを含むことを特徴とする，平板表示装置。
【請求項２】
前記バッファ層は，前記スペーサ別に異なる厚さに形成されることを特徴とする，請求項１に記載の平板表示装置。
【請求項３】
前記複数のスペーサは，前記スペーサ本体とバッファ層とを合わせた高さがすべて同一に形成されることを特徴とする，請求項１または２のいずれかに記載の平板表示装置。
【請求項４】
前記バッファ層は，前記スペーサ本体と同一の断面形状を有することを特徴とする，請求項１〜３のいずれかに記載の平板表示装置。
【請求項５】
前記平板表示装置は電界放出表示装置からなり，
前記電界放出表示装置は，
前記第１基板上に絶縁層を介在して配置されるカソード電極及びゲート電極と，
前記カソード電極に設けられる電子放出源と，
前記第２基板上に形成されるアノード電極と，
前記アノード電極の一面に位置する蛍光膜とを含むことを特徴とする，請求項１〜４のいずれかに記載の平板表示装置。
【請求項６】
スペーサ本体を製作する段階と，
前記スペーサ本体の少なくとも一端にペーストを印刷してから乾燥させて，高さ補償層を形成する段階とを含んでなることを特徴とするスペーサの製造方法。
【請求項７】
前記高さ補償層を形成する段階において，前記高さ補償層の厚さをスペーサの全高の３〜１５％に形成することを特徴とする，請求項６に記載のスペーサの製造方法。
【請求項８】
前記高さ補償層を形成する段階は，
（ａ）基板上に感光性ペーストを印刷し乾燥させて，前記高さ補償層形成のためのベース層を形成する段階と，
（ｂ）前記ベース層上に前記スペーサ本体を位置させる段階と，
（ｃ）前記スペーサ本体のベース層を除いた残りのベース層を選択的に露光させる段階と，
（ｄ）前記基板を現像して，前記露光されたベース層を除去する段階と，
（ｅ）前記基板からスペーサ本体とベース層を分離させる段階とを含むことを特徴とする，請求項６または７のいずれかに記載のスペーサの製造方法。
【請求項９】
前記（ａ）段階に先立ち，前記基板の全面にリフトオフ用金属膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする，請求項８に記載のスペーサの製造方法。
【請求項１０】
前記（ｄ）段階と前記（ｅ）段階間に，前記リフトオフ用金属膜を湿式エッチングする段階をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載のスペーサの製造方法。
【請求項１１】
第１基板及び第２基板上にイメージ具現のための構造物を形成する段階と，
スペーサ本体の少なくとも一端に高さ補償層が設けられたスペーサを製作する段階と，
前記スペーサを，前記第１基板上に設定された非画素領域に位置させる段階と，
前記スペーサを介在して前記第１基板上に前記第２基板を配置させる段階と，
前記第２基板を加圧して封着するとともに焼成して，前記高さ補償層を溶かし，加圧することにより，前記第２基板と前記スペーサ本体の端部間に前記高さ補償層を満たす段階とを含んでなることを特徴とする平板表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記スペーサを製作する段階において，前記高さ補償層の厚さを前記スペーサの全高の３〜１５％に形成することを特徴とする，請求項１１に記載の平板表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記スペーサを製作する段階は，
（ａ）前記スペーサ本体を製作する段階と，
（ｂ）基板上に感光性ペーストを印刷し乾燥させて，前記高さ補償層形成のためのベース層を形成する段階と，
（ｃ）前記ベース層上に前記スペーサ本体を位置させる段階と，
（ｄ）前記スペーサ本体のベース層を除いた残りのベース層を選択的に露光させる段階と，
（ｅ）前記基板を現像して，前記露光されたベース層を除去する段階と，
（ｆ）前記基板からスペーサ本体とベース層を分離させる段階とを含むことを特徴とする，請求項１１または１２のいずれかに記載の平板表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記（ｂ）段階に先立ち，前記基板の全面にリフトオフ用金属膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする，請求項１３に記載の平板表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記（ｅ）段階と前記（ｆ）段階間に，前記リフトオフ用金属膜を湿式エッチングする段階をさらに含むことを特徴とする，請求項１４に記載の平板表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は平板表示装置に関し，さらに詳細には，平板表示装置，スペーサの製造方法及び平板表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に，平板表示装置は，大きな体積及び高電圧を必要とする陰極線管とは異なり，厚さが薄くて低電圧で動作する実質的に平坦な表示装置を通称する。かかる平板表示装置としては，電界放出表示装置（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ），蛍光表示管（ＶＦＤ；Ｖａｃｕｕｍ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｓｐｌａｙ），液晶表示装置（ＬＣＤ；Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ），プラズマ表示装置（ＰＤＰ；Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）などがよく知られている。
【０００３】
平板表示装置は，その種類に応じて細部構造及び発光原理が異なるが，通常，上側及び下側基板の縁部を密封材で接合した後，内部を排気してなる真空容器と，該真空容器の内部に配設されるスペーサとを含む。
【０００４】
スペーサは，表示装置の内圧と外圧間の差により真空容器に加わる圧力に耐え，上側基板と下側基板を一定の間隔で維持させる役割を果たす。従来，平板表示装置用スペーサは，主としてガラス又はセラミックから製作され，柱形，棒形，十字形，球形に形成され，表示装置の特性とスペーサの用途に応じて適切なものが使用されている。
【０００５】
かかるスペーサは，射出成形，機械加工などの方法で製作されるが，近年は，感光性ガラスを用いる製造方法が適用されている。感光性ガラスからなったスペーサに関連した従来の技術は，特許文献１及び特許文献２に開示されている。
【０００６】
ところで，図１０に示すように，このような従来の平板表示装置の真空容器の内部を調べると，上側基板１と下側基板３間に位置するスペーサ５は同一高さに設けられず，相互間に高低差を有することになる。これは，工程偏差などによるスペーサ５自体の高低差や，スペーサ５を固着させるために用いる接着ペースト（図示せず）の高低差や，両基板に形成される構造物（図示せず）による高低差などに起因する。
【０００７】
これにより，従来の平板表示装置は，スペーサ５の高低差により一部のスペーサに圧力が集中して，スペーサの破壊を引き起こし，上側基板１と下側基板３の間隔が均一でなくなり，表示装置の画質が低下する問題点を抱えている。
【０００８】
【特許文献１】大韓民国特許公開第２０００−６５１９９号明細書
【特許文献２】大韓民国特許公開第２０００−４６６６３号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで，本発明は，このような問題に鑑みてなされたもので，その目的とするところは，表示装置の内部にスペーサを同一高さに設けることで，スペーサの破壊を防止し，上側基板と下側基板の間隔を一定に維持して，間隔変化による画質低下を防止することができる，新規かつ改良された，平板表示装置，スペーサの製造方法，及び平板表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために，本発明のある観点によれば，所定の間隔を置いて対向配置される第１基板及び第２基板を含み，内部が真空に維持される真空容器と，第１基板及び第２基板間に配設される複数のスペーサとからなり，複数のスペーサはそれぞれ，スペーサ本体と，第１基板及び第２基板のいずれか一方に対向するスペーサ本体の端部に設けられ，第１基板及び第２基板のいずれか一方とスペーサ本体の端部との間を満たすように位置するバッファ層とを含むことを特徴とする，平板表示装置が提供される。
【００１１】
かかる構成により，上記複数のスペーサは真空容器に加わる圧力に耐え，第１基板および第２基板を一定の間隔に維持することができる。
【００１２】
上記バッファ層を，スペーサ別に異なる厚さに形成し，スペーサを，スペーサ本体とバッファ層とを合わせた高さがすべて同一になるように形成するのが好ましい。また，バッファ層は，スペーサ本体と同一の断面形状を有するのが好ましい。
【００１３】
かかる構成により，すべてのスペーサに均等な圧力が加わり，スペーサの高低差により一部スペーサに圧力が集中して，スペーサが破壊されるのを防止する。
【００１４】
また，平板表示装置は電界放出表示装置を用いてもよい。該電界放出表示装置は，第１基板上に絶縁層を介在して配置されるカソード電極及びゲート電極と，カソード電極に設けられる電子放出源と，第２基板上に形成されるアノード電極と，アノード電極の一面に位置する蛍光膜とを含んでもよい。
【００１５】
上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，スペーサ本体を製作する段階と，スペーサ本体の少なくとも一端にペーストを印刷してから乾燥させて，高さ補償層を形成する段階とを含んでなるスペーサの製造方法が提供される。高さ補償層の厚さは，スペーサの全高の３〜１５％に形成することが好ましい。
【００１６】
上記高さ補償層を形成する段階は，基板上に感光性ペーストを印刷し乾燥させて，高さ補償層形成のためのベース層を形成する段階と，該ベース層上にスペーサ本体を位置させる段階と，スペーサ本体のベース層を除いた残りのベース層を選択的に露光させる段階と，基板を現像して，露光されたベース層を除去する段階と，基板からスペーサ本体とベース層を分離させる段階とを含んでもよい。
【００１７】
また，上記ベース層を形成する段階に先立ち，基板の全面にリフトオフ（ｒｉｆｔ−ｏｆｆ）用金属膜を形成する段階をさらに含んでもよい。また，上記ベース層を除去する段階と上記スペーサ本体とベース層を分離させる段階との間に，リフトオフ用金属膜を湿式エッチングする段階をさらに含んでもよい。
【００１８】
かかる構成により，スペーサの製造工程が単純化し，スペーサを大量生産することが可能となる。
【００１９】
上記課題を解決するために，本発明の別の観点によれば，第１基板及び第２基板上にイメージ具現のための構造物を形成する段階と，スペーサ本体の少なくとも一端に高さ補償層が設けられたスペーサを製作する段階と，スペーサを，第１基板上に設定された非画素領域に位置させる段階と，スペーサを介在して第１基板上に第２基板を配置させる段階と，第２基板を加圧して封着するとともに焼成して，高さ補償層を溶かして加圧することにより，第２基板とスペーサ本体の端部間に高さ補償層を満たす段階とを含んでなる平板表示装置の製造方法が提供される。
【００２０】
高さ補償層の厚さは，スペーサの全高の３〜１５％に形成することが好ましい。かかる構成により，高さ補償層が第２基板とスペーサ本体の端部との間に隙間なく設けられ，第２基板とすべてのスペーサが密着して形成することができる。
【００２１】
また，上記スペーサを製作する段階は，スペーサ本体を製作する段階と，基板上に感光性ペーストを印刷し乾燥させて，高さ補償層形成のためのベース層を形成する段階と，ベース層上にスペーサ本体を位置させる段階と，スペーサ本体のベース層を除いた残りのベース層を選択的に露光させる段階と，基板を現像して，露光されたベース層を除去する段階と，基板からスペーサ本体とベース層を分離させる段階とを含んでもよい。
【００２２】
また，上記ベース層を形成する段階に先立ち，基板の全面にリフトオフ（ｒｉｆｔ−ｏｆｆ）用金属膜を形成する段階をさらに含んでもよい。また，上記ベース層を除去する段階と上記スペーサ本体とベース層を分離させる段階との間に，リフトオフ用金属膜を湿式エッチングする段階をさらに含んでもよい。
【発明の効果】
【００２３】
以上説明したように本発明によれば，平板表示装置の内部に位置する全てのスペーサに均等な圧力が加わり，スペーサの破壊を抑制し，スペーサの支持力を増大させ，第１基板と第２基板の間隔を一定に維持させて，平板表示装置の画質を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２５】
図１及び図２は，本発明の実施形態による平板表示装置の部分断面図，図３は図１及び図２に示す真空容器とスペーサの概略図である。
【００２６】
図１〜３に示すように，本発明の実施形態による平板表示装置は，所定間隔を置いて対向配置される第１基板２及び第２基板４を含み，内部が真空に維持される真空容器６と，第１基板２と第２基板４間に配設される複数のスペーサ８とを基本構成とする。スペーサ８は，表示装置の内圧及び外圧の差により真空容器６に加わる圧力に耐え，第１基板２及び第２基板４を一定の間隔で維持させる役割を果たす。
【００２７】
図１及び図２においては，平板表示装置の一例として電界放出表示装置を示した。本実施形態において，第１基板２には，カソード電極１０とゲート電極１２が絶縁層１４を介在して互いに交差するストライプパターンに形成される。また，カソード電極１０とゲート電極１２が交差する画素領域ごとに，ゲート電極１２と絶縁層１４を貫通する開口部１６が形成される。そして，開口部１６により露出したカソード電極１０上に，電子放出源であるエミッタ１８が位置する。
【００２８】
第１基板２と対向する第２基板４の一面には，蛍光膜２０及び黒色層２２からなる蛍光スクリーン２４が形成される。蛍光スクリーン２４の一面には，アノード電極として機能する金属膜２６が形成される。金属膜２６には数百〜数千ボルトの正電圧が印加され，エミッタ１８から放出された電子を第２基板側に加速させる。一方，第２基板と蛍光スクリーン間には，少なくとも１層の透明導電膜（図示せず）を配置することができる。
【００２９】
すなわち，第１基板２と対向する第２基板４の一面にはアノード電極２６が形成される。アノード電極２６の一面には，蛍光膜２０及び黒色層２２からなる蛍光スクリーン２４が形成される。ここで，アノード電極２６は，例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）のような透明電極からなる。一方，蛍光スクリーン２４の表面には，メタルバック（ｍｅｔａｌ  ｂａｃｋ）効果により画面の輝度を高める金属膜（図示せず）を形成することができる。この場合，透明電極が省略され，金属膜に高電圧が印加されることにより，金属膜がアノード電極として機能する。
【００３０】
したがって，カソード電極１０とゲート電極１２に所定の駆動電圧を印加すると，両電極の電圧差によりエミッタ１８の周囲に電界が形成されることにより，エミッタ１８から電子が放出され，放出された電子は金属膜２６に印加された正電圧により第２基板４側に引き寄せられて，当該画素の蛍光膜２０に衝突し，これを発光させて所定の表示を行う。
【００３１】
このとき，スペーサ８は第１基板２上に設定された非画素領域に配置され，真空容器６内に同一高さに設けられて，第１基板２と第２基板４の間隔を一定に維持させる。スペーサ８は，スペーサ本体８ａと，バッファ層８ｂからなる。バッファ層８ｂは，第１基板２及び第２基板４のいずれかの基板に対応するスペーサ本体８ａの端部，一例として第２基板４と対向するスペーサ本体８ａの上端に設けられ，第２基板４とスペーサ本体８ａの上端間に介在する。
【００３２】
スペーサ本体８ａはガラス，セラミック，感光性ガラスなどからなるもので，柱形，棒形，十字形，球形などで形成される。本実施形態では，一例として，十字形スペーサ本体を示した。スペーサ本体８ａは，工程偏差などにより，高低差を有することになる。そして，バッファ層８ｂはスペーサ本体８ａと同一の断面形状を有する一種の膜であり，バッファ層８ｂは，感光性物質などの物質からなる。
【００３３】
第１基板２の縁部に密封材（図示せず）を位置させ，高温雰囲気で第２基板４を第１基板２上に押し付けて接合させる封着工程の際，上述したスペーサ８は，バッファ層８ｂが高温により溶けて圧着されながら，第２基板４とスペーサ本体８ａの上端間を満たして，スペーサ本体８ａ間の高低差を補償する。
【００３４】
スペーサ８のバッファ層８ｂが，スペーサ本体８ａ間の高低差を補償することにより，スペーサ本体８ａとバッファ層８ｂを合わせたすべてのスペーサの高さが均等になる。したがって，本実施形態による平板表示装置は，スペーサ８の高さが同一となり，全てのスペーサ８に均等な圧力が加わり，第１基板２と第２基板４間の間隔が一定に維持されて，表示装置の品質を向上させる利点を有する。
【００３５】
図１及び図２においては，説明の便宜上，毎列のカソード電極１０と毎列のゲート電極１２間にスペーサ８が配設されたものを示したが，実際に電界放出表示装置においては，複数のカソード電極１０列と複数のゲート電極１２列間の非画素領域に前述したスペーサ８が配設される。
【００３６】
一方，上記では平板表示装置の一例として電界放出表示装置を挙げたが，平板表示装置は電界放出表示装置に限定されず，蛍光表示管，液晶表示装置，プラズマディスプレイパネルなどからなることもできる。また，電界放出表示装置の構成は図１および図２の構成に限らなく，多様に変形可能なものである。
【００３７】
つぎに，図４〜図９に基づき，スペーサを用いた平板表示装置の製造方法について説明する。
【００３８】
まず，図１に示すように，第１基板２と第２基板４上に，イメージ具現のための構造物を形成する。一例として，平板表示装置が電界放出表示装置である場合，第１基板２上にカソード電極１０と，絶縁層１４と，ゲート電極１２と，エミッタ１８とを形成し，第２基板４上に蛍光スクリーン２４と金属膜２６とを形成する。
【００３９】
ついで，図４に示すように，スペーサ８のスペーサ本体８ａを製作する。スペーサ本体８ａは，ガラス又はセラミックを用いて，射出成形，機械加工などの方法により製作することも，感光性ガラスを用いて，露光及び現像過程により所望形状に製作することもできる。本実施形態では，一例として，十字形スペーサ本体を示した。スペーサ本体８ａは，工程偏差などにより，スペーサ本体８ａ間の任意の高低差を有することになる。本実施形態では，スペーサ本体８ａ間の高低差を補正するために，スペーサ本体８ａの一端に高さ補償層を形成する。
【００４０】
高さ補償層を形成するための一つの方法として，図５〜図８に示す方法を適用することができる。これを具体的に説明すると，図５に示すように，基板２８を用意し，基板２８上にリフトオフ（ｌｉｆｔ−ｏｆｆ）用金属膜３０を形成し，この金属膜３０上に感光性ペーストを印刷及び乾燥して，高さ補償層形成のためのベース層３２を形成する。
【００４１】
リフトオフ用金属膜３０としては，クロム（Ｃｒ）又はアルミニウム（Ａｌ）が好ましく，公知の真空蒸着又はスパッタリング工程によりおよそ５００〜２，０００Åの厚さに形成する。
【００４２】
ついで，図６に示すように，ベース層３２上にスペーサ本体８ａを位置させ，基板２８の上側に設けられた光源（図示せず）から紫外線を照射して，ベース層３２を露光させる。このような露光過程により，スペーサ本体８ａの下側のベース層３２はスペーサ本体８ａにより紫外線への露出が防止され，そのほかのベース層３２は紫外線に露出して選択的露光がなされる。そして，基板２８を現像して，図７に示すように，露光されたベース層を選択的に除去することで，スペーサ本体８ａの下側のベース層３２のみを基板２８上に残留させる。
【００４３】
上述した露光及び現像工程により，スペーサ本体８ａが露光マスクの役割をするので，本実施形態においては，別途の露光マスクと整列段階が不要である。したがって，上記の方法は，感光性ペーストの全面印刷とスペーサ本体８ａによる選択的露光により，スペーサ８の製作工程が単純化し，大量生産が容易な利点を有する。また，必要に応じて，紫外線遮断効果を高めて，ベース層３２のパターニングをより容易に行うこともできる。
【００４４】
つぎに，図７に示す基板２８をリフトオフ用金属膜３０用エッチング液で湿式エッチングして，リフトオフ用金属膜３０を除去し，基板２８からスペーサ本体８ａとベース層３２を分離させる。これにより，図８に示すように，スペーサ本体８ａと高さ補償層８ｃからなるスペーサ８が完成する。
【００４５】
ついで，図９に示すように，第１基板２上に設定された非画素領域に上述したスペーサ８を装着する。スペーサ８は，一例として図示しない接着ペーストを介して，図１に示す絶縁層１４上の非画素領域に固定できる。そして，第１基板２の縁部に密封材を（図示せず）設け，第１基板２上に第２基板４を位置させる。
【００４６】
このように，スペーサ８を介在して第１基板２上に第２基板４を位置させると，スペーサ本体８ａ間の高低差のため，あるスペーサは第２基板４と密着するが，ほかのスペーサは第２基板４から任意の間隔を置いて位置することになる。
【００４７】
ついで，第１基板２及び第２基板４を高温雰囲気（およそ４５０〜５００℃）で封着と同時に焼成することにより，両基板を接合させる。この過程において，スペーサ８の高さ補正層８ｃが高温により溶け，第２基板４を押し付ける力により加圧されて，第２基板４との間に隙間なく，第２基板４とスペーサ本体８ａの端部間を満たしてバッファ層８ｂを形成する。そして，密封材も高温により溶け，第２基板４を押し付ける力により加圧されて，第１基板２及び第２基板４の縁部が接合され，第１基板２と第２基板４が一体となるように形成される。
【００４８】
図９に示したように，高さ補償層８ｃの厚さｔ１は，封着工程前の第２基板４とスペーサ８間の最大間隔ｔ２より大きく形成することが好ましい。具体的には，高さ補償層８ｃの高さをスペーサ８の全高の３〜１５％に形成することにより，バッファ層８ｂが第２基板４との間に隙間なく，第２基板４とスペーサ本体８ａの端部間を緊密に満たすことができる。
【００４９】
このように，封着工程前に多様な高さを有するスペーサ８は，封着工程後，高さ補正部８ｃが高温で溶けることにより，同一高さとなる。また，それぞれのスペーサ８は高さ補正部８ｃにより第２基板４に固着されるので，スペーサ８の位置移動及び離脱が防止される。
【００５０】
最後に，第１基板２に形成された排気口（図示せず）を介して両基板間の内部空間を排気させた後，排気口を密封して真空容器６を形成することにより，図１及び図２に示した平板表示装置が完成する。
【００５１】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明は平板表示装置に適用可能であり，特に，スペーサを備えた平板表示装置，スペーサの製造方法及び平板表示装置の製造方法に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施形態による平板表示装置の部分断面図である。
【図２】本発明の実施形態による平板表示装置の部分断面図である。
【図３】図１及び図２に示す真空容器及びスペーサの概略断面図である。
【図４】本発明の実施形態によるスペーサ本体の斜視図である。
【図５】本発明の実施形態による平板表示装置の製造方法を説明する各段階の概略図である。
【図６】本発明の実施形態による平板表示装置の製造方法を説明する各段階の概略図である。
【図７】本発明の実施形態による平板表示装置の製造方法を説明する各段階の概略図である。
【図８】本発明の実施形態による平板表示装置の製造方法を説明する各段階の概略図である。
【図９】本発明の実施形態による平板表示装置の製造方法を説明する各段階の概略図である。
【図１０】従来技術による平板表示装置の真空容器及びスペーサの概略断面図である。
【符号の説明】
【００５４】
２      第１基板
４      第２基板
６      真空容器
８      スペーサ
８ａ    スペーサ本体
８ｂ    バッファ層
８ｃ    高さ補償層
１０    カソード電極
１２    ゲート電極
１４    絶縁層
１６    開口部
１８    エミッタ
２０    蛍光膜
２２    黒色層
２４    蛍光スクリーン
２６    金属膜
２８    基板
３０    金属膜
３２    ベース層
【図１】
2005158697.tif 000003
【図２】
2005158697.tif 000004
【図３】
2005158697.tif 000005
【図４】
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【図５】
2005158697.tif 000007
【図６】
2005158697.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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