(57)【要約】【課題】  加工結果を均一なものにすることができるレーザ加工機を提供すること。【解決手段】  ビーム分波器（光路偏向装置）７で偏向されたビーム８およびビーム９を反射するミラー２３をレーザ照射部１０ａの軸心Ｏ１とレーザ照射部１０ｂの軸心Ｏ２を通る中心線ｍの中点Ｋを通り中心線ｍに垂直な直線ｐ上に配置し、全反射ミラー１２ａと全反射ミラー１２ｂ、ミラー１１ａとミラー１１ｅ、ミラー１１ｂとミラー１１ｆ、ミラー１１ｃとミラー１１ｇを直線ｐに関して対称に配置する。  ビーム分波器７から軸心Ｏ１に至るビーム８の光路長とビーム分波器７から軸心Ｏ２に至るビーム９の光路長が等しいので、ワークに照射されるビーム８とビーム９のエネルギは同じになる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２個のレーザ照射部を備え、レーザ発振器から出力されたレーザ光の外径をレーザ光の外径整形手段により所望の大きさに整形した後、光路偏向装置により前記レーザ照射部のいずれか一方に供給するようにしたレーザ加工機において、前記光路偏向装置を２つの前記レーザ照射部から略等距離の位置に配置し、前記光路偏向装置から前記レーザ照射部に至る光路が対称に形成されることを特徴とするレーザ加工機。
【請求項２】
前記光路偏向装置から前記レーザ照射部に至る光路を規定する光学部品が第１のプレート上に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザ加工機。
【請求項３】
レーザ光の外径を所望の大きさに整形する手段および前記光路偏向装置が第２のプレート上に配置されていることを特徴とする請求項２に記載のレーザ加工機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は２個のレーザ照射部を備え、レーザ発振器から出力されたレーザ光の外径を所望の大きさに整形した後、前記レーザ照射部のいずれか一方に供給するようにしたレーザ加工機に関する。
【背景技術】
【０００２】
図２は、従来のレーザ加工機の要部を示す平面図である。
レーザ発振器２から出力されたレーザビーム３は、全反射ミラー４を介して、ビーム整形器５により外径を整形される。アパーチャ６を透過したレーザビーム３は、ビーム分波器（例えば、音響光学素子）７により、２つの光路のいずれかを指定される。一方の光路を指定されたビーム８は、ミラー１１ａ〜１１ｃに反射され、２点鎖線で示すミラー１１ｄにより光路を紙面に垂直な方向に偏向されてレーザ照射部１０ａの軸心Ｏ１に入射する。また、他方の光路を指定されたビーム９は、ミラー１１ｅ〜１１ｈに反射され、２点鎖線で示すミラー１１ｊにより光路を紙面に垂直な方向に偏向されてレーザ照射部１０ｂの軸心Ｏ２に入射する。
【０００３】
レーザ発振器２、全反射ミラー４、ビーム整形器５、アパーチャ６、ビーム分波器７、およびミラー１１ａ〜１１ｊは光路プレート１の表面側に、レーザ照射部１０ａとレーザ照射部１０ｂは光路プレート１の裏面側にそれぞれ配置されている。
【０００４】
なお、レーザ照射部１０ａ、１０ｂは、図示を省略する１対のガルバノスキャナおよびｆθレンズ等から構成されており、レーザ照射部１０ａとレーザ照射部１０ｂの構成は同じである。
【０００５】
特開２００３−１１２２７８号では、アパーチャ６からレーザ照射部１０ａまでの光路長とレーザ照射部１０ｂまでの光路長を同じにすることにより、レーザ照射部１０ａとレーザ照射部１０ｂで加工される穴の径を同一にしている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１１２２７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１の技術を含め、限られたスペース内で光路長を合わせるため、アパーチャ６とレーザ照射部１０ａとの間に配置されるミラーの数と、アパーチャ６とレーザ照射部１０ｂとの間に配置されるミラーの数と、が相違する。ミラーの反射率の差により、ミラーの数が多い側は加工点に照射されるパワーがミラーの数が少ない側よりも小さくなり、均一な加工結果を得ることが困難であった。
【０００８】
本発明の目的は上記の課題を解決し、加工結果を均一なものにすることができるレーザ加工機を提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するため、本発明は、２個のレーザ照射部を備え、レーザ発振器から出力されたレーザ光の外径をレーザ光の外径整形手段により所望の大きさに整形した後、光路偏向装置により前記レーザ照射部のいずれか一方に供給するようにしたレーザ加工機において、前記光路偏向装置を２つの前記レーザ照射部から略等距離の位置に配置し、前記光路偏向装置から前記レーザ照射部に至る光路が対称に形成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
加工点に照射されるパワーが同じになり、加工品質が均一になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下本発明を実施形態により更に詳細に説明する。
図１は、本発明に係るレーザ加工機の要部を示す平面図であり、図２と同じものまたは同一機能のものは同一の符号を付して説明を省略する。
【００１２】
全反射ミラーは図示の全反射ミラー４ａに加えてもう１個の全反射ミラー４ｂが設けられている。全反射ミラー４ａ、ビーム整形器５、アパーチャ６、ビーム分波器７およびミラー２３は第１のプレート２０に載置されており、レーザ発振器２と全反射ミラー４ｂはプレート２０の下側に配置されている。また、第２のプレート２１には、全反射ミラー１２ａ、全反射ミラー１２ｂおよびミラー１１ａ〜１１ｈが載置されている。
【００１３】
ここで、全反射ミラー１２ａと全反射ミラー１２ｂ、ミラー１１ａとミラー１１ｅ、ミラー１１ｂとミラー１１ｆ、ミラー１１ｃとミラー１１ｇは、レーザ照射部１０ａの軸心Ｏ１とレーザ照射部１０ｂの軸心Ｏ２を通る中心線ｍの中点Ｋを通り中心線ｍに垂直な直線ｐに関して対称に配置されている。
【００１４】
また、プレート２０は、ミラー２３で反射されたビーム８とビーム９が直線ｐに関してほぼ対称になるような位置に配置されている。
【００１５】
次に、本発明の動作を説明する。
レーザ発振器２から出力されたレーザビーム３は全反射ミラー４ｂを介して全反射ミラー４ａに入射し、ビーム整形器５により外径を整形される。アパーチャ６を透過したレーザビーム３は、ビーム分波器７により、２つの光路のいずれかを指定される。
【００１６】
一方の光路を指定されたビーム８は、ミラー２３，全反射ミラー１２ａ、ミラー１１ａ〜１１ｃに反射され、ミラー１１ｄにより光路を紙面に垂直な方向に偏向されてレーザ照射部１０ａの軸心Ｏ１に入射する。
【００１７】
また、他方の光路を指定されたビーム９は、ミラー２３、全反射ミラー１２ｂ、ミラー１１ｅ〜１１ｇに反射され、ミラー１１ｊにより光路を紙面に垂直な方向に偏向されてレーザ照射部１０ｂの軸心Ｏ２に入射する。
【００１８】
ビーム分波器７から軸心Ｏ１までの光路長とビーム分波器７から軸心Ｏ２までの光路長
はほぼ同じであるので、ワークに照射されるビーム８とビーム９のエネルギは同じになるので、レーザ照射部１０ａで加工された加工部とレーザ照射部１０ｂで加工された加工部とは加工結果がほぼ同じになる。
【００１９】
なお、この実施形態では、ビーム分波器７から出力されるビーム８とビーム９をミラー２３を介して全反射ミラー１２ａ、全反射ミラー１２ｂに入射するようにしたが、ビーム分波器７から出力されるビーム８とビーム９が直接全反射ミラー１２ａ、全反射ミラー１２ｂに入射するようにビーム分波器７を配置してもよい。
【００２０】
ところで、レーザの種類を変更する（例えば、炭酸ガスレーザをＵＶレーザに）場合、レーザ発振器と共にビーム整形手段であるビーム整形器５、アパーチャ６およびビーム分波器７も変更しなければならない場合が多い。
【００２１】
レーザ加工機においては、光路プレート１あるいはプレート２０，２１は床面から１．５ｍ程度に配置されているため、レーザの種類を変更する場合には、段取り時間が長くなった。
【００２２】
この実施形態では、ビーム整形手段であるビーム整形器５、アパーチャ６およびビーム分波器７をプレート２０に載置するようにしたので、プレート２０を交換すれば良く、段取り時間を短縮することができる。また、ビーム整形手段であるビーム整形器５、アパーチャ６およびビーム分波器７等の光軸を予め同軸にしておくことができるので、調整時間もほとんど必要がない。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明に係るレーザ加工機の要部を示す平面図である。
【図２】従来のレーザ加工機の要部を示す平面図である。
【符号の説明】
【００２４】
７  ビーム分波器（光路偏向装置）
８、９  ビーム
１０ａ、１０ｂ  レーザ照射部
１１ａ〜１１ｇ  ミラー
１２ａ、１２ｂ  全反射ミラー
２３  ミラー
Ｏ１、Ｏ２  軸心
ｍ  軸心Ｏ１、Ｏ２を通る中心線
Ｋ  中点  
ｐ  中心線ｍに垂直な直線
【図１】
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【図２】
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