(57)【要約】      （修正有）【課題】嫌気性インタ使用時での受容性が無く、シリコンゴムを被覆したり凹版深さを変える等の制約のない高精度、高精細である厚膜化オフセット印刷の提供。【解決手段】ブランケット１２２へのインク１２受理時の粘度を１とした時、インク充填時での粘度が２以上＆５０Ｐａ・ｓ以上である事と撥水性膜を被覆した凹版とで印刷する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブランケットへのインク受理時の粘度を１とした時、インク充填時での粘度が２以上＆５０Ｐａ・ｓ以上である事と撥水性膜を被覆した凹版とで印刷する事を特徴とするオフセット印刷方法及び装置。
【請求項２】
請求項１に於ける撥水性膜として、シリコン系樹脂膜により凹版の少なくとも凹部位を被覆する事を特徴とするオフセット印刷方法及び装置。
【請求項３】
請求項１＆２に於けるシリコン系樹脂膜を電着塗装により形成する事を特徴とするオフセット印刷方法及び装置。
【請求項４】
請求項１〜３に於ける電着塗装膜が、シリコン部位を有するモノマーとメラミン部位を有するモノマーとが共重合された、共重合高分子化合物である事を特徴とするオフセット印刷方法及び装置。
【請求項５】
請求項１〜４記載のオフセット印刷に関して懸架式オフセット印刷装置を用いる事を特徴とするオフセット印刷方法及び装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はオフセット印刷方法に関するものである。詳しくは、本発明は電気部品や電子部品等に使用する高精細＆高精度パターン形成に於いて特に厚膜化パターン形成に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、従来より使用されていた大きく重いＣＲＴに代わる表示装置として液晶表示や、又は自発光型のプラズマディスプレイやＥＬ（エレクトロルミネッセンス）等のディスプレイが最近大きく技術的に進歩してきた。また更に表示画面の拡大化も求められこれらの電子機器の回路や配線の微細化はフォトリソグラフィー技術が一般的となっている。しかしこれらの大型化微細化と共に量産化による低コストが求められている。この要求に対して現行のフォトリソグラフィー法では露光装置や現像装置等設備投資に莫大な費用がかかり又装置の大型化に対する限界やタクトの問題がる。この大型表示画面のプロセスに於いてパターンを凹部で形成した凹版を作製し、この凹版の凹部にインクを充填してシリコンゴムなどの転写体によりワークにパターンを直接形成するオフセット印刷がある。このオフセット印刷は量産性が高く、低コストでタクトも短く、材料使用効率も優れているパターン形成技術である。しかしオフセット印刷技術は薄膜印刷であり、厚膜化印刷はスクリーン印刷が一般的である。また、オフセット印刷での厚膜化技技術として、嫌気性ＵＶインクを使用した印刷技術（特開平６−２３９００３）や凹版表面をシリコンゴムで被覆した特許（特開平５−１３９０６５）又は有機酸型シリコン樹脂で被覆した特許（特開平８−７２３８４）等が有り、又凹版による厚膜化手法として凹版の深さにより印刷膜厚を制御する特許（特開平８−２３６０１７）等が有る。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら上記従来例での、嫌気性ＵＶインクによる厚膜化手法では転移印刷時のワーク表面には受容層としての粘着性が必要であり、その受容層の塗布及び乾燥も必要とする。又凹版表面をシリコンで被覆すると、高精細なパターンの場合にエッジ部がダレてしまいパターン形状性に問題が有った。また、一般的に凹部内表面がインクを保持する界面張力は凹部深さが増すに従い大きくなる。この事から、凹版の深さにより印刷膜厚を制御する方法に於いては、凹版の凹部内のインクをブランケットに受理させる際のインク量に限界が生じ、厚膜化が困難となっていた。更に凹版は製作にフォト技術を使用する高精度化が要求され、一般的に高価な為、膜厚を変える毎に凹版が必要になりコスト的にも問題が有った。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明はこの様な事情に鑑みてなされたものであり、印刷時の凹版の凹部をシリコン部位を有するモノマーとメラミン部位を有するモノマーとが共重合された共重合高分子化合物を電着塗装により形成被覆し、撥水性膜とした凹版を使用する事と、印刷時のインク充填時にインク粘度を５０Ｐａ・ｓ〜２００Ｐａ・ｓの範囲内に於いて充填する事と、ブランケットにインクを受理させる時には５０Ｐａ・ｓ以下の一定粘度に制御し印刷することで、嫌気性インク使用時での受容層の必要性が無く、またシリコンゴムを被覆したり又は凹版深さを変える事等の制約が無い、高精度・高精細である厚膜化オフセット印刷を提供するものである。
【発明の効果】
【０００５】
以上説明したように、本発明によれば、印刷時の凹版の凹部にシリコン部位を有するモノマーとメラミン部位を有するモノマーとが共重合された共重合高分子化合物を電着塗装により形成被覆し、撥水性膜とした凹版を使用する事と、印刷時のインク充填時にインク粘度を５０Ｐａ・ｓ〜２００Ｐａ・ｓの範囲内に於いて充填する事と、ブランケットにインクを受理させる時に５０Ｐａ・ｓ以下の一定粘度に制御し印刷することで、受容層の必要性が無くまたシリコンゴムを被覆したり又は凹版深さを変える事等の制約無い、高精度・高精細である厚膜化オフセット印刷を提供するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
（第１の実施例）
図１は本発明を最も良く表す図面であり、図１−ａ１０はオフセット印刷に使用する撥水性凹版である。そして図１−ａ〜ｃは本発明の印刷時の工程の概略を示したものである。
【０００７】
同図に於いて、１０は印刷用凹版、１１は凹版の凹部にインクを充填するために使用するブレード、１２はインク材料、１３は凹版に充填されたインクの状態を示した図であり、１２２はインクを受理すためのブランケットであり、１０６はブランケットに受理されたインクの状態を示した図である。
【０００８】
次に図２は、本発明を実施するにあたり用いた印刷装置の一例の概略を示す図である。この図に於いて、インキ受理時は版定盤３１８上に印刷原版１０１を設置してまたインキ転移時にはワーク１０７を設置して印刷を行う。またブランケット１０５は支持ローラー３１４と３１５によって印刷定盤３１８の上方に懸架されておりブランケット表面が下方を向いてセットされている。印刷時には、加圧装置３１１の先端に取り付けられた押圧ローラー３２０がブランケット１０５の裏面を押しながら下降し、ブランケット表面は印刷原版１０１またはワーク１０７に設定押し込み量Ｄで圧着され、ブランケット１０５には両端にあるテンション装置３２５と３２６によって一定のテンションが印加される。その後、押圧ローラー３２０が印刷原版１０１またはワーク１０７の左端から右端まで移動する事によって印刷が行われる。この時、ブランケット１０５が印刷原版１０１またはワーク１０７となす進入角度αと離脱角度βは、昇降装置３２３と３２４が各々支持ローラー３１４と３１５の高さを自動調整する事により、印刷動作中は任意の設定角度に維持される。さらにブランケット支持端に設置されたロードセル３１６、３１７でリアルタイムなブランケットテンションＴ１、Ｔ２を検知しその情報を支持部に設置された、駆動部にフィードバックする事で印刷中、押圧ローラーの左右ブランケットに於いてブランケットテンションを意図的に設定する事が可能となる装置を使用した印刷の実験例について述べるが上記機能と同等な印刷装置に於いても本発明の効果は同様である。
【０００９】
（実験例）
図１の印刷装置を使用して、下記の要領で実際の印刷を行った。
【００１０】
使用ブランケット１０５    表面シリコンゴムブランケット
印刷領域：シリコンゴムのみ  巾４００mm×長さ３００mm  厚み２mm
（伸び率２００％：１００Ｋｇ／１ｍ巾荷重時）
他領域：シリコンゴム／基布  巾４００mm×長さ１５００mm  厚み２mm
（伸び率１．５％：１０００Ｋｇ／１ｍ巾荷重時）
使用印刷原版１０１    アルミ製凹版（外形：巾１００mm×長さ１００mm×厚３mm）
（パターン領域：巾  ５mm×長さ１０mm  ）
撥水膜厚    ２μｍ（下記条件で撥水膜を作製した）
撥水膜処理条件
無色のシリコン・メラミン系樹脂１５ｗｔ％（例えば商品名：「ハニーブライトＨＴ−８」ハニー化成社製）の電着塗料を製作した。次にアルミ凹版を３０ｇ／リットルに調整したアルカリクリーナ（パクナＪＹ３０：ユケン化学社製）に６０℃、５分間浸漬処理し水洗い後、更に化成処理として苛性ソーダ５０ｇ／リットル液に８０℃、５分間浸漬処理し、その後、更に水洗いした後、前記電着塗料を用いて電着塗装を施した。電着塗装の条件は、ＰＨ８．０〜８．２：浴温２０〜２５℃とし、アルミ製凹版を陽極に、対極には厚みが０．５mmのステンレス板を用い、直流電源の印加電圧を１０Ｖ＆６０秒で電着塗装により、アルミ製凹版に厚み２μｍのアクリル・メラミンシリコン樹脂膜である撥水膜を作製した。
【００１１】
使用ワーク１０７        青板ガラス（外形：巾１００mm×長さ１００mm×厚３mm）
使用インキ            顔料系カーボンインク    含有溶剤：ターピネオール＆ＢＣＡ
粘度  １００Ｐａ・ｓ（ａｔ１０℃）
（カーボン粒径φ０．０１μｍ）
使用押圧ローラー  ３２０      鋼鉄製（直径３５mm×巾４５０mm）
使用ドクターブレード          鋼鉄製（外形：巾４５０mm×高さ２０mm×厚２mm）
上記部材を用意した上で、撥水処理されたアルミ製凹版１０１に１０度に制御したブレード装置内の温度雰囲気中で粘度１００Ｐａ・ｓ（ａｔ１０℃）インキを充填した。この時撥水膜充によるインク充填不良は無く分に凹版内にインクは充填された。次に印刷定盤３１８上に前記凹版を置きブランケット１０５の裏面を押しながら押圧ローラー３２０を圧着させた。このときの前記押圧ローラー値は１００Ｋｇで行った。次にテンション装置３２５と３２６によってブランケット部に各々１０Ｋｇのテンションを印加しながら、４０℃に制御した印刷装置内に於いて印刷速度１mm／秒で受理印刷を行った。この時のインクの粘度は３０Ｐａ・ｓであった。次に印刷原版とワークを入れ替え、テンション装置３２５と３２６によりブランケットテンションを同様に左右１０Ｋｇ一定値に印加して転移印刷を行った。印刷する事で本発明のオフセット印刷が完了した。
【００１２】
即ち、凹版の凹部に撥水膜を施すと、インク充填に於いて凹部に充填されるインクが弾かれ必印刷に要なインクが充填されない。この現象はインクの粘度が低いと特に顕著である。インク充填時にインクの粘度を上げて、撥水硬化を極端に減少させインクを凹版凹部に充填し、その後、ブランケットに受理させる時に温度等でインク粘度を下げて、撥水性の特性が生かされるようにして、ブランケットにインクを受理し、ワークに転移して印刷を終了した。
【００１３】
なお、本実験では図３に示す５ｍｍ×１０ｍｍ印刷パターンを用いた。
【００１４】
また、上記印刷実施例でワーク１０７上に印刷されたパターンを表面形状測定器（キーエンス社製）で測定した所、４μｍ〜５μｍ厚の厚膜パターンの形成を確認した。
【００１５】
（他の実施例１）
実施例１に於いて、印刷装置内の雰囲気を４０℃にして印刷を行ったが、インク温度を制御すれば良いので、印刷機定盤を加熱し凹版自体を４０℃にしてインク温度を制御して印刷を行っても良い。受理時に於いてブランケットテンション値を増加させてグラディエーショ上記印刷実施例でワーク１０７上に印刷されたパターンを表面形状測定器（キーエンス社製）で測定した所、４μｍ〜５μｍ厚の厚膜パターンの形成を確認した。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施例に関わる印刷凹版と工程概略図。
【図２】本発明の実施例に関わる印刷機概略図。
【符号の説明】
【００１７】
１０  印刷用撥水性凹版
１１  印刷用ブレード
１２  印刷用インク
１３  充填されたインク状態
１１１  印刷時加圧装置
１１２  ローラー走行用ガイド左側支柱
１１３  ローラー走行用ガイド右側支柱
１１４  ブランケット支持右側ローラー
１１５  ブランケット支持左側ローラー
１１６  ブランケットテンション制御用左側ロードセル
１１７  ブランケットテンション制御用右側ロードセル
１１８  定盤
１１９ａ  ワーク
１１９ｂ  ガラス原版
１２０  印刷時押圧ローラー
１２１  押圧ローラー走行用ガイド
１２２  印刷用ブランケット
１２３  ブランケット支持ローラー用左側支柱
１２４  ブランケット支持ローラー用右側支柱
１２５  ブランケット左側テンション装置
１２６  ブランケット右側テンション装置
【図１】
2005153198.tif 000003
【図２】
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