(57)【要約】      （修正有）【課題】目的とするトランス異性体をより容易に得ることができ、特に、高い選択性と高い全体的な収率を有する、1,4-二置換シクロヘキサン誘導体および2,5-二置換テトラヒドロピラン誘導体の製造方法を提供する。【解決手段】例えば、下記式２で表される化合物の製造方法であって、例えば、下記式１で表される化合物が、１または２以上の同一かまたは異なるホスフィンリガンドにより安定化されている遷移金属錯体の存在下で水素化されることを特徴とする、前記製造方法。2005060399.tif 000029【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式IAまたはIB
【化１】
2005060399.tif 000025
式中、
a、b、c、dおよびeは、他とは独立に0または1であり、ここでWが-CH2-である場合にはeは１であり；
A11、A12、A13、A14およびA15は、他とは独立に1,4-シクロヘキシレン遊離基、ここでさらに、１もしくは２以上の非隣接CH2基は-O-および／または-S-により置換されていてもよく、または、1,4-フェニレン遊離基、ここでさらに１もしくは２以上の 非隣接=CH基は=N-により置換されていてもよく、あるいはナフタレン-2,6-ジイルもしくは1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基、ここでこれら遊離基は置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されており、あるいは1,3-シクロブチレン、ピペリジン-1,4-ジイルまたはデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基であり；
R11は、水素、あるいは置換されていないかまたは同一かもしくは異なる置換基により一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基であって、ここでさらにこれらの遊離基中の１もしくは２以上のCH2基 は他とは独立に、ヘテロ原子(-S-および-O-)が相互に直接結合しないように-C≡C-、-S-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよく、ここでaおよびbが同時に０であってZ12が一重結合である場合にはR11 は水素でなく； 
Wは、-CH2-または-O-であり；
Y11は、水素、 ハロゲン、-NCS、-SCN、-SF5、-CN、置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基、あるいは、ハロゲン、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2により同一または異なって一置換または多置換されている７〜16個の炭素原子を有するアラルキル遊離基であり、ここでさらにこれらの遊離基中の１もしくは２以上のCH2基は他とは独立に、鎖中のヘテロ原子(-S-および-O-)が他と直接結合しないように-C≡C-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O--により置換されていてもよく；
Z11、Z13、Z14 およびZ15は、他とは独立に、単結合、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2CF2-、-CF2CH2-、-CFH-CFH-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-COO-または-O-CO-であり；
Z12は、単結合、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-または-O-CO-である；
で表される化合物の製造方法であって、
前記製造方法は、
式IIAの化合物あるいは式IIBの化合物
【化２】
2005060399.tif 000026
式中、
f、g、h、iおよびjは、他とは独立に0または1であり、ここでWが-CH2-である場合にはjは１であり；
A21、A22、A23、A24およびA25は、他とは独立に1,4-シクロヘキシレン遊離基、ここでさらに、１もしくは２以上の非隣接CH2基は-O-および／または-S-により置換されていてもよく、または、1,4-フェニレン遊離基、ここでさらに１もしくは２以上の 非隣接=CH基は=N-により置換されていてもよく、あるいはナフタレン-2,6-ジイルもしくは1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基、ここでこれら遊離基は置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されており、あるいは1,3-シクロブチレン、ピペリジン-1,4-ジイルまたはデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル 遊離基であり；
R21は、水素、あるいは置換されていないかまたは同一かもしくは異なる置換基により一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基であって、ここでさらに、これらの遊離基中の１もしくは２以上のCH2基 は他とは独立に、ヘテロ原子(-S-および-O-)が相互に直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O- により置換されていてもよく、ここでfおよびgが同時に０であってZ22が単結合である場合にはR21 は水素でなく； 
Wは、-CH2-または-O-であり；
Y21は、水素、 ハロゲン、-NCS、-SCN、-SF5、-CN、置換されていないかまたは同一もしくは異なる置換基により一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基、あるいは、７〜16個の炭素原子を有するアラルキル遊離基であり、ここでさらにこれらの遊離基中の１もしくは２以上のCH2基は他とは独立に、鎖中のヘテロ原子(-S-および-O-)が相互に直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよく；
Z21、 Z23、 Z24およびZ25は、他とは独立に単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2CF2-、-CF2CH2-、-CFH-CFH-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-COO-または-O-CO-であり；
Z22は、単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-または-O-CO-である；
で表される化合物が、１または２以上の同一かまたは異なるホスフィンリガンドにより安定化されている遷移金属錯体の存在下で水素化されることを特徴とする、前記製造方法。
【請求項２】
遷移金属錯体が、ロジウム、イリジウムおよび／またはルテニウム錯体であることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
遷移金属錯体が、式IIIまたはIV：
[(P(A31A32A33))3RhX31]                          III
[(diene)Ir(A41)(P(A42A43A44))]Y41              IV
式中、
A31、A32およびA33は、他とは独立に、置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり、３つのリガンドP(A31A32A33)において同一または異なる意味を有し；
A41は、置換されていないかまたは置換されているヘテロシクリルまたはヘテロアリール遊離基であり；
A42、A43およびA44は、他とは独立に、置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり、ここで遊離基A42、A43およびA44のうちの１つがA41 に結合していてもよく；
X31 は、Cl、Br、I、PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2 またはCF3CO2であり；
Y41は、式Cl、Br、I、PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2またはCF3CO2の陰イオンであり；そして
ジエンは、1,5-シクロオクタジエニル、ノルボルナジエニル、(エチレン)2または(シクロオクテン)2 である、
で表される錯体から選択されることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
遷移金属錯体が、式III-1：
[(P(フェニル)3RhCl]     III-1
で表される錯体であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
遷移金属錯体が、遷移金属錯体前駆体とホスフィンリガンドとの反応によりそのまま形成されることを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項６】
遷移金属錯体前駆体が、式V、VI、VII、VIII、IX またはX：
[(diene)Ru(allyl)2]               V
[(diene)RhX61]2                   VI
[(diene)2Rh]Y71                   VII
[(diene)IrX81]2                    VIII
[(diene)2Ir]Y91                   IX
RhX1013・xH2O                     X
式中、
X61、X81およびX101は、他とは独立にCl、BrまたはIであり；
xは、0、1、2または3であり；
Y71およびY91は、他とは独立に式PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2 またはCF3CO2の陰イオンであり；
dieneは、1,5-シクロオクタジエニル（COD）、ノルボルナジエニル、(エチレン)2または(シクロオクテン)2 であり；そして
allylは、アリルまたはメタリルである；              
で表される錯体から選択され、ホスフィンリガンドが、式XIおよび／またはXII：
【化３】
2005060399.tif 000027
式中、
A111、A112、A113、A121、A122、A123およびA124は、他とは独立に置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり；そして
Gは、１〜８個の炭素原子を有するアルキレンブリッジあるいは置換されていないかまたは置換されている1,2-フェニレン、2,3-ナフチレン、2,2-ビフェニレンまたは1,1'-ジ(シクロペンタジエニル)鉄である、
で表される化合物から選択されることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
遷移金属錯体前駆体が、式VI-1
[(COD)RhCl]2              VI-1
で表される錯体であり、ホスフィンリガンドがトリフェニルホスフィンまたはトリ(オルトトリル)ホスフィンであることを特徴とする、請求項５または６に記載の方法。
【請求項８】
式IA、IB、IIAおよびIIBにおいて、Wが-O-であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
式IAおよびIBまたはIIAおよびIIBにおいて、
a、d、f および iは０であり；
b および gは０または１であり； 
c および hは０または１であり； 
e および jは１であり； 
A12および A22は、bまたはgが１である場合には、置換されていない1,4-シクロヘキシレン遊離基であり；
A13および A23は、cまたはhが１である場合には、置換されていない1,4-シクロヘキシレン遊離基、あるいは置換されていないかまたはハロゲンにより一置換もしくは多置換されている1,4-フェニレン遊離基であり；
A15および A25は、置換されていないかまたはハロゲンにより一置換もしくは多置換されている1,4-フェニレン遊離基であり；
R11 および R21は、１〜８個の炭素原子を有するアルカニル遊離基 であり；
Y11および Y21は、置換されていないか、あるいは、１〜８個の炭素原子を有しFにより一置換もしくは多置換されているアルカニルまたはアルコキシ遊離基、7〜12 個の炭素原子を有し置換されていないかもしくは置換されているアラルキルまたはアラルキル-O-遊離基、F、Cl、BrあるいはCNであり；
Z12は、単結合、-CH2CH2-、-CO-O-または-O-CO-であり；
Z13 および Z23は、単結合または-CO-O-であり；
Z14 および Z24は、cまたはhが１である場合には、単結合、-CF2O-または-CO-O- であり；そして
Z22は、単結合、-CH2CH2-、-CH=CH-、-CO-O-または-O-CO-である、ことを特徴とする、請求項１〜８に記載の方法。
【請求項１０】
式IIAおよびIIBにおいて、Z22が-CH=CH-であることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
式IIAまたはIIB
【化４】
2005060399.tif 000028
式中、
f、g、h、i および jは、他とは独立に0 または1であり、ここでWが-CH2-である場合には jは１であり；
A21、A22、A23、A24 および A25は、他とは独立に1,4-シクロヘキシレン遊離基、ここでさらに、１もしくは２以上の非隣接CH2基は-O-および／または-S-により置換されていてもよく、または、1,4-フェニレン遊離基、ここでさらに１もしくは２以上の非隣接=CH基は=N-により置換されていてもよく、あるいはナフタレン-2,6-ジイルもしくは1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基、ここでこれら遊離基は置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されており、あるいは1,3-シクロブチレン、ピペリジン-1,4-ジイルまたはデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基であり；
R21は、水素、置換されていないかまたは同一かもしくは異なる置換基により一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基であって、ここでさらにこれらの遊離基中の１もしくは２以上のCH2基 は他とは独立に、ヘテロ原子(-S-および-O-)が相互に直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよく、ここでｆおよびｇが同時に０であってZ22が単結合である場合にはR21 は水素でなく； 
Wは、-CH2-または-O-であり；
Y21は、水素、ハロゲン、-NCS、-SCN、-SF5、-CN、置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基、あるいは、ハロゲン、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2により同一または異なって一置換または多置換されている７〜16個の炭素原子を有するアラルキル遊離基であり、ここでさらにこれら遊離基中の１もしくは２以上のCH2基は他とは独立に、鎖中のヘテロ原子(-S-および-O-)が相互に直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O--により置換されていてもよく；
Z21、Z23、Z24 およびZ25は、他とは独立に、単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2CF2-、-CF2CH2-、-CFH-CFH-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-COO-または-O-CO-であり；
Z22は、単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-または-O-CO-である；
で表される化合物
ならびに
１または２以上の同一かまたは異なるホスフィンリガンドにより安定化されている遷移金属錯体を含有する組成物。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、シクロヘキセンおよびジヒドロピラン誘導体の水素化のための方法、ならびに、シクロヘキセンもしくはジヒドロピラン誘導体および遷移金属錯体を含有する組成物に関する。特には、本発明は、シクロヘキセンおよびジヒドロピラン誘導体のトランス選択性水素化のための方法に関する。
シクロヘキサン環またはテトラヒドロピラン環を分子の中心的な構成として含む化合物は、例えば、天然もしくは合成の芳香や医薬、またはメソゲニックもしくは液晶化合物の材料として、あるいは、これら有用な物質の合成のための前駆体として、有機化学において重要な役割を果たしている。
【０００２】
特に、シクロヘキサン環もしくはテトラヒドロピラン環を含むメソゲニックまたは液晶化合物は、シクロヘキサン環の1-もしくは4-位置に、またはテトラヒドロピラン環の2-もしくは5-位置に、しばしば（メソゲニックな）置換基、環および／または環系を有する。ここでは通常、1-および4-位置もしくは2-および5-位置における遊離基は、それぞれ、メソゲニック性に重要な伸長した分子型を形成してビスエクアトリアル構造をとることを可能にするために、もう一方の遊離基に対してトランス位置であることが望ましい。
【０００３】
これらトランス-1,4-二置換シクロヘキサンまたはトランス-2,5-二置換テトラヒドロピラン誘導体の特異的な製造は、今まで、かなりの技術的煩雑さによって可能となってるにすぎず収率も少なかった：1,4-二置換シクロヘキセン誘導体は、通常担体に結合するラネーニッケル（Raney nickel）(EP 0 415 090 A1)、パラジウムもしくはプラチナなどの不均一系遷移金属触媒を用いて触媒水素化により、対応する1,4-二置換シクロヘクス-1-エン誘導体からしばしば製造される。最も好ましい場合では、シス-およびトランス-1,4-二置換シクロヘキサン誘導体を含む立体異性体混合物がしばしば乏しい収率で得られ、ここではシス異性体が主生成物を形成する：実際に、望ましくないシス異性体が、しばしば、触媒水素化の単離されうる唯一の生成物となる。したがって、例えばカリウムtert-ブトキシドなどの強塩基を用いたさらなる比較的強烈な条件下での反応ステップとして、例えば結晶化および／またはクロマトグラフィー法、および／または（引き続き精製を伴う）シス化合物のトランス化合物への異性化などといった異性体混合物の複合分割が必要である。多くの場合には、これは同じく乏しい収率につながる。
【０００４】
対応する状況は、例えばエニンまたは適切な置換エニンもしくはジエンからの閉環クロスメタセシス法などにより、それ自体極めて容易に入手できる環内C-C二重結合を４-位置に有する対応するジヒドロピラン誘導体
【化１】
2005060399.tif 000002
から、2,5-二置換テトラヒドロピラン誘導体を製造する場合にも適用される(それぞれドイツ特許出願 DE 10324348.8 またはDE 10324312.7 参照)。さらに、ここでは、不均一系触媒水素化の後に通常得られるシス／トランス異性体混合物の異性化における目的とするトランス生成物の収率が、テトラヒドロピラン化合物の部分的な分解によって、有意に減少することに注意しなければならない。
【０００５】
したがって、本発明の目的は、目的とするトランス異性体をより容易に得ることができ、特に、高い選択性と高い全体的な収率を有する、1,4-二置換シクロヘキサン誘導体および2,5-二置換テトラヒドロピラン誘導体の製造方法を提供することである。
【０００６】
この目的は、式IAまたはIB
【化２】
2005060399.tif 000003
式中、
a、b、c、dおよびeは、他とは独立に0または1であり、ここでWが-CH2-である場合にはeは１であり；
A11、A12、A13、A14およびA15は、他とは独立に1,4-シクロヘキシレン遊離基、ここでさらに、１もしくは２以上の非隣接CH2基は-O-および／または-S-により置換されていてもよく、または、1,4-フェニレン遊離基、ここでさらに１もしくは２以上の 非隣接=CH基は=N-により置換されていてもよく、あるいはナフタレン-2,6-ジイルもしくは1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基、ここでこれら遊離基は置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されており、あるいは1,3-シクロブチレン、ピペリジン-1,4-ジイルまたはデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基であり；
【０００７】
R11は、水素、あるいは、置換されていないかまたは同一かもしくは異なる置換基により一置換または多置換されている、1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基であって、ここでさらにこれらの遊離基中の１もしくは２以上のCH2基 は他とは独立に、ヘテロ原子(-S-および-O-)が他と直接結合しないように-C≡C-、-S-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよく、ここでaおよびbが同時に０であってZ12が単結合である場合にはR11 は水素でなく； 
Wは、-CH2-または-O-であり；
【０００８】
Y11は、水素、 ハロゲン、-NCS、-SCN、-SF5、-CN、置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基、あるいは、ハロゲン、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2により同一または異なって一置換または多置換されている７〜16個の炭素原子を有するアラルキル遊離基であり、ここでさらにこれらの遊離基中の１もしくは２以上のCH2基は、他とは独立に、鎖中のヘテロ原子(-S-および-O-)が他と直接結合しないように-C≡C-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O--により置換されていてもよく；
Z11、Z13、Z14 およびZ15は、他とは独立に、単結合、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2CF2-、-CF2CH2-、-CFH-CFH-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-COO-または-O-CO-であり；
Z12は、単結合、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-または-O-CO-である；
で表される化合物の製造方法であって、
【０００９】
前記製造方法は、
式IIAあるいは式IIB
【化３】
2005060399.tif 000004
式中、
f、g、h、iおよびjは、他とは独立に0または1であり、ここでWが-CH2-である場合にはjは１であり；
A21、A22、A23、A24およびA25は、他とは独立に1,4-シクロヘキシレン遊離基、ここでさらに、１もしくは２以上の非隣接CH2基は-O-および／または-S-により置換されていてもよく、または、1,4-フェニレン遊離基、ここでさらに１もしくは２以上の 非隣接=CH基は=N-により置換されていてもよく、あるいはナフタレン-2,6-ジイルもしくは1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基、ここでこれら遊離基は置換されていないかまたはハロゲンもしくはCNにより同一または異なって一置換または多置換されており、あるいは1,3-シクロブチレン、ピペリジン-1,4-ジイルまたはデカヒドロナフタレン-2,6-ジイル遊離基であり；
【００１０】
R21は、水素、あるいは置換されていないかまたは同一かもしくは異なる置換基により一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基であって、ここでさらに、これらの遊離基中の１もしくは２以上のCH2基 は他とは独立に、ヘテロ原子(-S-および-O-)が他と直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよく、ここでfおよびgが同時に０であってZ22が単結合である場合にはR21 は水素でなく； 
Wは、-CH2-または-O-であり；
Y21は、水素、ハロゲン、-NCS、-SCN、-SF5、-CN、置換されていないかまたは同一もしくは異なってハロゲンもしくはCNにより一置換または多置換されている1〜15個の炭素原子を有するアルキル遊離基、あるいは、置換されていないかまたはハロゲン、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2により同一または異なって一置換または多置換されている７〜16個の炭素原子を有するアラルキル遊離基であり、ここでさらにこれらの遊離基中の１もしくは２以上のCH2基は他とは独立に、鎖中のヘテロ原子(-S-および-O-)が他と直接結合しないように-CH=CH-、-C≡C-、-S-、-S(O)-、-S(O)2-、-O-、-CO-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよく；
【００１１】
Z21、Z23、Z24およびZ25は、他とは独立に、単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-CF2CF2-、-CH2CF2-、-CF2CH2-、-CFH-CFH-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-CF2O-、-OCF2-、-COO-または-O-CO-であり；
Z22は、単結合、-CH=CH-、-CH2CH2-、-C≡C-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-または-O-CO-である；
で表される化合物が、１または２以上の同一かまたは異なるホスフィンリガンドにより安定化されている遷移金属錯体の存在下で水素化されることを特徴とする、前記製造方法により達成される。
【００１２】
言うまでもなく、本発明の方法において、式IAの化合物が式IIAの化合物から形成され、ならびに式IBの化合物が式IIBの化合物から形成される。式Iの化合物に関して言うならば、式IAの化合物および式IBの化合物の両者を意味する；同様に、「式IIの化合物」という語は、式IIAの化合物および式IIBの化合物の両方を意味する。
【００１３】
本発明の方法は、一般に９０％以上であり多くの場合には９５％以上である、優れたまたは極めて優れた全体的な変換により進行する。驚くべきことに、本方法は、分子中に広がった分子型および多くの環を有する式IIの「大」分子に適用するものである。目的の式Iのトランス異性体は、ここでは、優れたまたは極めて優れた収率で、優れたまたは極めて優れたトランス選択性で得られる。一般には、生成混合物中の式Iのトランス生成物の比率は、７０％以上であり、多くの場合には７５％以上である。式Iの純粋なトランス生成物は、通常は適切な溶媒から１度だけ結晶化し、引き続き、例えば液晶媒体の液晶成分として用いられるか、さらなる官能基化もしくは誘導体化により他の液晶化合物に変換されるなどの、反応混合物の従来的処理の後の単純な方法で、反応の他の生成物、特にシス異性体から分離できる。いくつかの場合においては、反応混合物から主生成物であるトランス異性体が沈殿しまたは結晶化するのが観察される。
【００１４】
比較によると、例えば活性炭に担持されたパラジウムを用いるなどの式IIの化合物の不均一系触媒水素化は、主に、６０〜７５％の典型的なシス選択性で、目的でない式シス-Iの各シス異性体を与える：
【化４】
2005060399.tif 000005
(参考文献では、常に上記および下記で１種のトランス異性体または１種のシス異性体について述べられているが、一般的にテトラヒドロピラン化合物の場合においては、他方に対して対掌である２種のトランス異性体（エナンチオマー)または他方に対して対掌である２種のシス異性体（エナンチオマー)が存在することがわかる。さらに、トランスおよびシスという語は、他に記載がなければ、常に中心のシクロヘキサンまたはテトラヒドロピラン環の立体化学に関するものをいう。)
【００１５】
本発明の方法は、通常、均一系中で、式IIの出発化合物と水素ガスとを媒体中で溶解されたまたは懸濁された遷移金属錯体の存在下反応させることにより行われる。しかし、遷移金属錯体を従来的な固相担体に結合もしくは吸着させ、反応混合物をそれと共に接触させることも可能である。
【００１６】
反応媒体は、液体の溶媒または溶媒混合物、あるいは、例えば超臨界二酸化炭素(sc-CO2)などの超臨界状態の媒体が好ましい。媒体の正確な選択は、主に減少させられるべき式IIの化合物および触媒として用いられる遷移金属錯体の溶解性に依存する。適切な溶媒は、反応媒体として単独もしくは２種以上の溶媒の混合物で用いられるが、例えば、水；ヘキサン、石油エーテル、ベンゼン、トルエンもしくはキシレンなどの炭化水素；トリクロロエチレン、1,2-ジクロロエタン、クロロホルムもしくはジクロロメタンなどの塩化炭化水素；メタノール、エタノール、2-プロパノール、n-プロパノール、n-ブタノールもしくはtert-ブタノールなどのアルコール；ジエチルエーテル、ジイロプロピルエーテル、テトラヒドロフラン (THF) もしくは1,4-ジオキサンなどのエーテル；エチレングリコールモノメチルもしくはモノエチルエーテル (メチルグリコールもしくはエチルグリコールまたはエチレングリコール)またはエチレングリコールジメチルエーテル(diglyme)などのグリコールエーテル；アセトンもしくはブタノンなどのケトン；アセトアミド、ジメチルアセトアミドもしくはジメチルホルムアミド(DMF)などのアミド；アセトニトリルなどのニトリル； ジメチルスルホキシド(DMSO)などのスルホキシド；二硫化炭素；ニトロメタンもしくはニトロベンゼンなどのニトロ化合物；酢酸メチルまたは酢酸エチルなどのエステルである。好ましくは、炭化水素特にトルエン、アルコール特にメタノールおよびエタノール、塩化炭化水素特にジクロロメタンならびに、アルコールと炭化水素との混合物特にメタノール/トルエンおよびエタノール/トルエンが挙げられる。
【００１７】
本発明の方法において触媒として用いられる遷移金属錯体は、好ましくはロジウム、イリジウムおよび／またはルテニウム錯体であり、特に好ましくはロジウム錯体である。
【００１８】
安定化するホスフィンリガンドは、一般に、リン原子に結合した３つの遊離基を有するホスフィンであり、ここでこれらの遊離基は同一であっても異なっていてもよく、３つの遊離基のうちの２つが同じであって３つ目の遊離基が他の２つと異なるように選択されてもよい。前記３つの遊離基は同じであることが好ましい。前記遊離基の２つまたは３つは相互に結合していてもよい。リン原子に結合した遊離基は、不活性ガス雰囲気下および／または防湿下で単離され用いられる十分に化学的に安定なホスフィンを、リン原子とともに形成する有機および／または有機金属遊離基である。下記に示した式IIIおよびIVの錯体に用いられるP(A31A32A33)およびP(A42A43A44) ならびに以下で述べる式XIおよびXIIの他のホスフィンリガンドの他にも、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチルもしくはtert-ブチルなどの、３つの同一かまたは異なるアルキル遊離基を有するトリアルキルホスフィンが、ホスフィンリガンドを安定化するのにさらに適している。式XIIの（二座配位の）ビスホスフィンキレートリガンドの他にも、キレートリガンド、特に、例えばリガンドの１つ目の配位原子がリン原子であってリガンドの２つ目の配位原子がリン原子以外の例えば窒素原子などのヘテロ原子であるような二座配位のキレートリガンドも用いることができる。このタイプのP,N-キレートリガンドの例は、A. Lightfood et al., Angew. Chem. 1998, 100, No. 20, 3047-3050, およびDE 198 31 137 A1に記載されている。ホスフィンリガンドは、一般に、本発明の水素化反応において遷移金属錯体を安定するように、すなわち、目的の反応のための活性および目的の反応における化学的安定性をサポートするように、選択される。
【００１９】
本発明のいくつかの態様においては、遷移金属錯体は、式IIIおよび式IVI
[(P(A31A32A33))3RhX31]                          III
[(diene)Ir(A41)(P(A42A43A44))]Y41               IV
式中、
A31、A32およびA33は、他とは独立に、置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり、３つのリガンドP(A31A32A33)において同一または異なる意味を有し、すなわち、３つのリガンドP(A31A32A33)は同じであるか異なっており；
A41は、置換されていないかまたは置換されているヘテロシクリルまたはヘテロアリール遊離基であり；
A42、A43およびA44は、他とは独立に、置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり、ここで遊離基A42、A43およびA44のうちの１つが例えば単結合またはアルキレンブリッジを介してA41に結合していてもよく、キレートリガンドを形成し；
X31は、リガンドあるいは式Cl、Br、I、PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2 またはCF3CO2の陰イオンであり；
Y41は、リガンドあるいは式Cl、Br、I、PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2またはCF3CO2の陰イオンであり；そして
ジエンは、1,5-シクロオクタジエニル(COD)、ノルボルナジエニル、(エチレン)2または(シクロオクテン)2 である、
で表される錯体から選択される。
【００２０】
(「BARF」は、テトラキス[3,5-ビス(トリフルオロメチル)フェニルボレート] 陰イオンを表す
【化５】
2005060399.tif 000006
【００２１】
式IIIの錯体は、３つの同じかまたは異なるホスフィンリガンドP(A31A32A33)を含み、好ましくは３つのリガンドは同じである。
A31、A32およびA33 は、各場合において、同じ意味かまたは異なる意味を有し、A31、A32およびA33 のうちの２つが同じ意味を有し、A31、A32およびA33 のうちの３つ目が異なる意味を有してもよい。好ましくは、A31、A32およびA33 は同じ意味を有する。
【００２２】
A42、A43 およびA44 は、各場合において、同じ意味かまたは異なる意味を有し、A42、A43 およびA44 のうちの２つが同じ意味を有し、A42、A43およびA44のうちの３つ目が異なる意味を有してもよい。好ましくは、A42、A43 およびA44 は同じ意味を有する。
【００２３】
式IIIのA31、A32およびA33ならびに式IVのA42、A43およびA44が、置換されていないかまたはアリール置換基により置換されている場合には、置換されていないフェニル、あるいは、同一かまたは異なって、アルカニル、特にはメチル、エチル、イソプロピル、n-ブチルもしくはtert-ブチル、アルコキシ、特にはメトキシ、-NH2 あるいは-N(アルカニル)2、特には-N(メチル)2、-N(エチル)2、-N(イソプロピル)2もしくは-N(エチル)(イソプロピル)により一置換または多置換されている、ナフチル遊離基またはフェニル遊離基が好ましく、置換される場合には一置換が特に好ましい。特に、アリール置換基は、置換されていないフェニル遊離基であることが好ましい。ヘテロシクリルまたはヘテロアリール遊離基による置換もさらに好ましく、特に4,5-ジヒドロオキサゾールまたはピリジンによる置換が好ましい。
【００２４】
式IIIのA31、A32およびA33ならびに式IVのA42、A43およびA44が、置換されていないかまたは置換されているビフェニル置換基である場合には、ビフェニル遊離基の2-または2'-位置を介してホスフィンリガンドのリン原子に結合していることが好ましい。ビフェニル置換基は、好ましくは、置換されていないか、2-位置を介した結合の場合には2'-位置がアルカニル、特にはメチル、エチル、イソプロピル、n-ブチルもしくはtert-ブチル、アルコキシ、特にはメトキシ、-NH2 あるいは-N(アルカニル)2、特には-N(メチル)2、-N(エチル)2、-N(イソプロピル)2もしくは-N(エチル)(イソプロピル)により置換されていることが好ましい。特には、ビフェニル置換基は置換されていないことが好ましい。
【００２５】
式IIIのA31、A32およびA33ならびに式IVのA42、A43およびA44が、置換されていないかまたは置換されているヘテロシクリル置換基である場合には、ヘテロ原子として酸素および／または窒素原子を含む5-もしくは6-員環ヘテロシクリルであることが好ましい。ヘテロシクリル遊離基はまた、部分的に不飽和であってもよい。ヘテロシクリル置換基は、特に好ましくは、ジヒドロイミダゾール、ジヒドロピラゾール、ジヒドロイソオキサゾールであって、中でもジヒドロオキサゾールが特に好ましい。
【００２６】
式IIIのA31、A32およびA33ならびに式IVのA42、A43およびA44が、置換されていないかまたは置換されているヘテロアリール置換基である場合には、ヘテロ原子として酸素および／または窒素原子を含む5-もしくは6-員環ヘテロアリールであることが好ましい。ヘテロアリール置換基は、特に好ましくは、フラニル遊離基、特には2-フラニル遊離基あるいは、ピリジル遊離基、特には2-ピリジル遊離基である。
【００２７】
式IIIのA31、A32およびA33ならびに式IVのA42、A43およびA44が、置換されていないかまたは置換されているシクロアルキル置換基である場合には、5-、6-もしくは7-員環シクロアルキルであることが好ましく、これはアルカニルによって置換されていてもよい。特に好ましいのは、シクロヘキシル遊離基である。
【００２８】
A41は、好ましくは置換されていないヘテロアリール遊離基、特に好ましくはヘテロ原子として窒素原子を含む5-もしくは6-員環ヘテロアリールである。極めて特に好ましくは、A41は、それ自身の窒素原子を介して遷移金属が配位しているピリジル遊離基である。A41は、さらに好ましくは、A31、A32、A33、A42、A43およびA44で定義された通りのヘテロシクリル遊離基であり、特にはジヒドロオキサゾールである。
【００２９】
本発明の特に好ましい態様においては、A41は、それ自身の2-位置を介してフェニル環であるA42の2-位置に単結合で結合している4,5-ジヒドロオキサゾリル遊離基である；A43およびA44はしたがって置換されていないかまたは置換されているアリールであり、特にはフェニルもしくはオルト-トリルであって、A41およびP(A42A43A44)がリン原子および窒素原子を介して配位している二座配位キレートリガンドを形成する(A. Lightfood et al., Angew. Chem. 1998, 110, No. 20, 3047-3050; DE 198 31 137 A1参照)。
【００３０】
X31 は、好ましくはCl またはBrであって、特にはClである。
Y41は、好ましくはPF6、SbF6、BF4、BARF、またはClO4であり、特にはPF6である。
式ＩＶでのdieneは、好ましくは1,5-シクロオクタジエニル(COD)、ノルボルナジエニルであり、特にはCODである。
【００３１】
式IIIおよびIVの錯体のうち、式IIIの錯体が好ましい。特に好ましいのは、A31、A32およびA33が同じ意味を有し、置換されていないかアルカニルにより一置換されているフェニル遊離基であり、X31 がClである式IIIの錯体である。極めて特に好ましいのは、式III-1：         
[(P(フェニル)3RhCl]                III-1
の遷移金属錯体である。
【００３２】
本発明の特に好ましい態様においては、本発明の水素化は、X31 = Clである錯体IIIの存在下、特には錯体III-1の存在下、ならびにアルカリ金属または臭化もしくはヨウ化テトラアルキルアンモニウムの存在下で行われる。それにより変換とトランス選択性がさらに増加する。臭化もしくはヨウ化テトラメチル-、テトラエチル-およびテトラブチルアンモニウムの他に、臭化リチウムおよびヨウ化リチウムが特に好ましいが、臭化リチウムがとりわけ好ましい。加える臭素またはヨウ素の量は、一般に、遷移金属錯体を基準にして約０．１〜５０当量であり、好ましくは１〜２５当量、特には２〜１５当量である。
【００３３】
本発明のさらなる態様においては、式IIの化合物の水素化を触媒する遷移金属錯体は、反応媒体に加えずに、適切な遷移金属錯体前駆体と安定化しているホスフィンリガンドとの反応によりそのまま形成される。遷移金属錯体前駆体とホスフィンリガンドは、通常、１：１〜１：５のモル比で、特には１：２〜１：３のモル比で用いられる。ここでは、（１種の）１つのホスフィンリガンドを用いるのが好ましい。本発明にしたがって、前記方法をこのように行う場合には、水素化を触媒する実際の遷移金属錯体は、詳細に知られている正確な構造をとらなくてもそのまま形成される。
【００３４】
遷移金属錯体前駆体は、好ましくは、式V、VI、VII、VIII、IXおよびX：
[(diene)Ru(allyl)2]                V
[(diene)RhX61]2                   VI
[(diene)2Rh]Y71                   VII
[(diene)IrX81]2                  VIII
[(diene)2Ir]Y91                  IX
RhX1013・xH2O                     X
式中、
X61、X81およびX101は、他とは独立にCl、BrまたはIであり；
xは、0、1、2または3であり；
Y71およびY91は、他とは独立に式PF6、[PF3(C2F5)3]、SbF6、BF4、BARF、ClO4、CF3SO3、CH3CO2 またはCF3CO2の陰イオンであり；
dieneは、1,5-シクロオクタジエニル（COD)、ノルボルナジエニル、(エチレン)2または(シクロオクテン)2 であり；そして
allylは、アリルまたはメタリルである；              
で表される錯体から選択され、
そして
【００３５】
ホスフィンリガンドは、式XIおよび／またはXII：
【化６】
2005060399.tif 000007
式中、
A111、A112、A113、A121、A122、A123およびA124は、他とは独立に、置換されていないかまたは置換されているアリール、ビフェニル、ヘテロアリール、ヘテロシクリルあるいはシクロアルキル遊離基であり；そして
Gは、１〜８個の炭素原子を有するアルキレンブリッジあるいは置換されていないかまたは置換されている1,2-フェニレン、2,3-ナフチレン、2,2-ビフェニレンまたは1,1'-ジ(シクロペンタジエニル)鉄である、
で表される化合物から選択される。
【００３６】
X61およびX81は、好ましくはClまたはBrであり、特にはClである。
X101は、好ましくはBrまたはIであり、特にはBrである。
xは、好ましくは3である。
Y71およびY91は、好ましくはPF6、SbF6、BF4、BARFまたはClO4の陰イオンであり、特にはBF4またはBARFである。
式V〜IXのジエンは、好ましくは1,5-シクロオクタジエニル（COD)またはノルボルナジエニルであり、特にはCODである。
式V〜IXのアリルは、好ましくはメタリルである。
【００３７】
式XIのホスフィンリガンドについては、A111、A112およびA113 は同じ意味を有しても異なる意味を有してもよく、A111、A112およびA113 のうちの２つが同じ意味を有し、A111、A112およびA113 のうちの３つ目が異なる意味を有してもよい。好ましくは、A111、A112およびA113 は同じ意味を有する。
【００３８】
式XIIのホスフィンリガンドについては、A121、A122、A123 およびA124 は同じ意味を有しても異なる意味を有してもよく、A121、A122、A123 およびA124 のうちの２つもしくは３つが同じ意味を有し、A121、A122、A123 およびA124 のうちの他の２つもしくは４つ目が異なる意味を有してもよい。好ましくはＡ121と、より好ましくはA121、A122、A123 およびA124 の全てが同じ意味を有する。
【００３９】
式XIのA111、A112およびA113 ならびに式XIIのA121、A122、A123 およびA124が、置換されていないかまたはアリール置換基により置換されている場合には、置換されていないフェニル、あるいは、同一かまたは異なって、アルカニル、特にはメチル、エチル、イソプロピル、n-ブチルもしくはtert-ブチル、アルコキシ、特にはメトキシ、-NH2 あるいは-N(アルカニル)2、特には-N(メチル)2、-N(エチル)2、-N(イソプロピル)2もしくは-N(エチル)(イソプロピル)により一置換または多置換されている、ナフチル遊離基またはフェニル遊離基が好ましく、置換される場合には一置換が特に好ましい。特に、アリール置換基は、置換されていないフェニル遊離基あるいはメチルにより置換されているフェニル遊離基(o-、m-および／またはp-トリル）であることが好ましい。
【００４０】
式XIのA111、A112およびA113 ならびに式XIIのA121、A122、A123 およびA124が、置換されていないかまたは置換されているビフェニル置換基である場合には、ビフェニル遊離基の2-または2'-位置を介してホスフィンリガンドのリン原子に結合していることが好ましい。ビフェニル置換基は、好ましくは、置換されていないか、2-位置を介した結合の場合には2'-位置がアルカニル、特にはメチル、エチル、イソプロピル、n-ブチルもしくはtert-ブチル、アルコキシ、特にはメトキシ、-NH2 あるいは-N(アルカニル)2、特には-N(メチル)2、-N(エチル)2、-N(イソプロピル)2もしくは-N(エチル)(イソプロピル)により置換されていることが好ましい。特には、ビフェニル置換基は置換されていないことが好ましい。
【００４１】
式XIのA111、A112およびA113 ならびに式XIIのA121、A122、A123 およびA124が、置換されていないかまたは置換されているヘテロアリール置換基である場合には、ヘテロ原子として酸素および／または窒素原子を含む5-もしくは6-員環ヘテロアリールであることが好ましい。ヘテロアリール遊離基は、特に好ましくは、フラニル遊離基、特には2-フラニル遊離基あるいは、ピリジル遊離基、特には2-ピリジル遊離基である。
【００４２】
式XIのA111、A112およびA113 ならびに式XIIのA121、A122、A123 およびA124が、置換されていないかまたは置換されているヘテロシクリル置換基である場合には、ヘテロ原子として酸素および／または窒素原子を含む5-もしくは6-員環ヘテロシクリルであることが好ましい。ヘテロシクリル遊離基はまた、部分的に不飽和であってもよい。ヘテロシクリル置換基は、特に好ましくは、ジヒドロイミダゾール、ジヒドロピラゾール、ジヒドロイソオキサゾールであって、ジヒドロオキサゾールがとりわけ好ましい。
【００４３】
式XIのA111、A112およびA113 ならびに式XIIのA121、A122、A123 およびA124が、置換されていないかまたは置換されているシクロアルキル置換基である場合には、5-、6-もしくは7-員環シクロアルキルであることが好ましく、これはアルカニルによって置換されていてもよい。特に好ましいのは、シクロヘキシル遊離基である。
【００４４】
式XIIにおいてGがアルキレンブリッジである場合には、好ましくは１、２、３、４、５もしくは６個の炭素原子を有する。アルキレンブリッジは、好ましくは-CH2CH2-、 -CH2CH2CH2-または-(CH2)4-である。
【００４５】
式XIIにおいてGが1,2-フェニレン遊離基もしくは2,3-ナフチレン遊離基である場合には、これらはアルカニルもしくはアルコキシにより一置換または二置換されているか、あるいは、好ましくは置換されていない。Gは、特に好ましくは置換されていない1,2-フェニレン遊離基である。
【００４６】
Gは、2,2'-ビフェニルラジカルである場合には、これは置換されていないかあるいは、同一かまたは異なって、アルカニル、特にはメチル、エチル、イソプロピル、n-ブチルもしくはtert-ブチル、アルコキシ、特にはメトキシ、-NH2あるいは-N(アルカニル)2、特には-N(メチル)2、-N(エチル)2、-N(イソプロピル)2もしくは-N(エチル)(イソプロピル)により一置換または多置換されている。その置換位置は、5-、6-、5'-および／または6'-位置である。ビフェニル遊離基は特に好ましくは置換されていない。
本発明の態様においては、Gは1,1'-フェロセニル遊離基（1,1'-ジ(シクロペンタジエニル)鉄)である。
【００４７】
遷移金属錯体前駆体に加えられるホスフィンリガンドは、好ましくは式XIのホスフィンリガンドである。さらに好ましくは、A111、A112およびA113が同じであり、アリール置換基であって、特に好ましくは、置換されていないフェニル遊離基もしくはメチル置換フェニル遊離基(o-、m-および／またはp-トリル）である。
【００４８】
本発明の好ましい態様においては、遷移金属錯体前駆体は、式VI-1：
[(COD)RhCl]2              VI-1
で表される錯体であり、ホスフィンリガンドはトリフェニルホスフィンまたはトリ(オルトトリル)ホスフィンである。
【００４９】
式Xの遷移金属錯体前駆体が本発明の方法において用いられる場合には、適切なら、さらに、反応中形成されるハロゲン化水素酸を取り除くのに十分な量の、トリエチルアミンなどの塩基を反応混合物に加えてもよい。
【００５０】
遷移金属錯体のリガンドおよび遷移金属錯体前駆体の少なくとも１つ、あるいは加えられるホスフィンリガンドのうちの１つが、例えばそれ自身キラルであるかまたはC2-対称を有するため、本発明の水素化を触媒する種がキラル情報を誘導するように選択される場合には、2-位置にキラル中心を持つ式IIのラセミ体のジヒドロピランの場合に、トランス選択的水素化が行われるだけでなく、速度論的ラセミ化分解をベースとして２つの可能なトランス異性体のうちの１つのみを優先的に形成するようにジアステレオ選択的にも行われる。水素化されるべき式IIのジヒドロピランが、すでに純粋な（2-位置を基準にした）エナンチオマーからなる場合には、トランス水素化にキラルリガンドを用いなくても、5-位置に一様のキラリティを持つ２つ目のキラル中心が得られ、対応する立体構造のキラルリガンドの使用がキラル誘導を増加させることができる。
【００５１】
本発明の方法は、通常、反応媒体に通すかまたは媒体に溶解させた水素(H2) を用いて行われる。水素圧はそれ自体重要でなく、とりわけ反応速度に依存して選択される。水素化は、１〜２００バール、好ましくは３〜１００バール、特には６〜６０バールの水素圧で行われる。
水素化は耐圧容器中で行われ、好ましくは酸素を排除して行われる。
【００５２】
水素化が、反応物質および試薬の望ましくない分解を伴わずに十分に素速く進行する場合には、反応温度の選択はそれ自体重要ではない。一般に、反応温度は、約０℃〜約２００℃、好ましくは約１０〜約１５０℃、特に好ましくは約６０℃〜１３０℃、とりわけ約８０℃〜約１００℃の範囲である。
【００５３】
用いられる触媒の量は、十分に高い反応速度および最高の可能な変換を達成する必要性により決定され、他方、できる限り少ない触媒量を維持する経済的必要性、ならびに、用いる錯体の触媒活性の持続時間もしくは触媒が失活する速さによって決定される。触媒として用いられる遷移金属錯体もしくは遷移金属錯体前駆体と基質、すなわち式IIの化合物のモル比は、通常、１：５００００〜１：５０であり、すなわち、遷移金属錯体もしくは遷移金属錯体前駆体は基質を基準として約０．０２モル％〜約２モル％の量で用いられる。触媒の量は、好ましくは、０．２モル％〜１．５モル％であり、特には０．８モル％〜１．２モル％である。遷移金属錯体もしくは遷移金属錯体前駆体は、通常、一回分を反応混合物に加えるが、反応を通して、それを複数回に加えてもよい。
【００５４】
反応時間は、本質的に反応速度により決定され、通常、約１分〜約１４日である。好ましくは約３０分〜約４８時間、特に好ましくは約２時間〜約２４時間の間から選択される。
【００５５】
本発明の方法は、特にＷが酸素原子(-O-)である式IIの化合物のトランス選択性水素化、すなわち、式IIのジヒドロピラン誘導体の式Iのテトラヒドロピランへの還元に適している。本発明の方法は、式IIAのジヒドロピランから式IAのテトラヒドロピランを製造するのに特に好ましい。
さらに、WがCH2 である場合には、本発明の方法は式IBのシクロヘキセン誘導体を用いて行われるのが好ましい。
【００５６】
式IIの化合物は、少なくとも中心のシクロヘキセンもしくはジヒドロピラン環に加えてさらに少なくとも１つの環を含むことがさらに好ましい。ここでは、式IIにおけるf、g、h、iおよびｊの総計ならびにこれに対応する式Iにおけるa、b、c、ｄおよびeの総計が３以下であることが特に好ましい。極めて特に好ましくは、これらの総計は１または２であり、すなわち、式IおよびIIの化合物が中心的なシクロヘキセンもしくはジヒドロピラン環に加えて１または２以上のさらなる環もしくは環系を含む。
【００５７】
本発明の好ましい態様においては、式IおよびIIにおける遊離基、環、指数は：
a、d、f および iは０であり；
b および gは０または１であり； 
c および hは０または１であり； 
e および jは１であり； 
A12および A22は、bまたはgが１である場合には、置換されていない1,4-シクロヘキセン遊離基であり；
A13および A23は、cまたはhが１である場合には、置換されていない1,4-シクロヘキセン遊離基、あるいは置換されていないかまたはハロゲンにより一置換もしくは多置換されている1,4-フェニレン遊離基であり；
A15 および A25は、置換されていないかまたはハロゲンにより一置換もしくは多置換されている1,4-フェニレン遊離基であり；
【００５８】
R11 および R21は、１〜８個の炭素原子を有するアルカニル遊離基であり；
Y11および Y21は、置換されていないか、あるいは１〜８個の炭素原子を有しFにより一置換もしくは多置換されているアルカニルまたはアルコキシ遊離基、7〜12個の炭素原子を有し置換されていないかもしくは置換されているアラルキルまたはアラルキル-O-遊離基、F、Cl、BrあるいはCNであり；
Z12は、単結合、-CH2CH2-、-CO-O-または-O-CO-であり；
Z13 および Z23は、単結合または-CO-O-であり；
Z14 および Z24は、cまたはhが１である場合には、単結合、-CF2O-または-CO-O- であり；そして
Z22は、単結合、-CH2CH2-、-CH=CH-、-CO-O-または-O-CO-である、
から選択される。
【００５９】
ここでは、Z22が、本発明の方法が行われる場合に中心的なシクロヘキセンもしくはジヒドロピラン環の環内C-C二重結合に加えて同様に水素化されるCH=CH基であることが特に好ましい。（同じことがさらに、式IIの化合物に存在する他の脂肪族もしくは環脂肪族C-C二重結合にも適用される。）Z22は、極めて特に好ましくは、特にW=-O-である式IIAの化合物においてCH=CHである。
【００６０】
本発明の方法により水素化されるべきW=-O-である式IIAの好ましい化合物は、下記化合物：
【化７】
2005060399.tif 000008
【００６１】
【化８】
2005060399.tif 000009
である。
これらの式において、ｎは1、2、3、4、5、6、7または8、特には1、2、3、4 または5であり、式IIAh、IIAiおよびIIAjの化合物においてはさらに０である。Y21 は、上記式IIAにおけるのと同じ意味を有し、好ましくはF、Cl、Br、CF3、OCH3、OCF3もしくはアラルキル-O-であり、特に好ましくはFである。置換基L21およびL22 は、他とは独立にH、Cl、BrもしくはFであり、好ましくは少なくとも１つがFであり、特には両者がFである。
【００６２】
本発明の方法によって水素化されるべきW = -CH2-である式IIBの好ましい化合物は、下記化合物：
【化９】
2005060399.tif 000010
である。
【００６３】
これらの式において、ｎは1、2、3、4、5、6、7または8、特には1、2、3、4 または5である。Y21 は、上記式IIBにおけるのと同じ意味を有し、好ましくはF、Cl、Br、CF3、OCH3、OCF3もしくはアラルキル-O-であり、特に好ましくはFもしくはOCH3である。置換基L21、L22、L23およびL24は、他とは独立にH、Cl、BrもしくはFであり、好ましくはL21、L22、L23およびL24のうちの２つがFであり、他の２つがHである。特に好ましくは、L21およびL22がFであってL23およびL24はHであるか、あるいは、L21およびL23がFであってL22およびL24はHである。
【００６４】
本発明の方法において用いられる式IIのさらなる実例化合物は、添付の実施例により明らかにされる。  
本発明の好ましい態様においては、式IIの化合物の水素化はさらなる工程ステップとして、例えばメタノールもしくはエタノールなどのアルコール溶媒といった適切な溶媒から式Iのトランス異性体の結晶化が引き続き行われる。
【００６５】
式IIのシクロヘキセン化合物は、文献により知られている。それらは、文献において記載されているそれ自体知られた方法により公知の前記反応に適した反応条件下で正確に製造されうる (合成有機化学の標準的著作として例えば Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [有機化学の方法], Georg-Thieme-Verlag, Stuttgartなど)。しかしながら、使用は、それ自体知られているがここでは詳細に述べていない種々の変法でなされる。適切な一般的方法は、EP 0 415 090 A1においていくつかの化合物についての説明において記載されており、それ自体適切に置換されているシクロヘキサノン誘導体のカルボニル基における適切な置換アルキル-、シクロアルキル-もしくはアリール-グリニャール化合物の、引き続きグリニャール反応において形成された三級アルコール基の脱離と環内C-C二重結合の形成を伴う付加反応を含む。
【００６６】
式IIのジヒドロピラン誘導体は、また、文献により知られているかまたは文献において記載されているそれ自体知られた方法により公知の前記反応に適した反応条件下で正確に入手できる(合成有機化学の標準的著作として例えば Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie [有機化学の方法], Georg-Thieme-Verlag, Stuttgartなど)。しかし、使用は、それ自体知られているがここでは詳細に述べていない種々の変法でなされる。それぞれの場合において適切な金属カルベン錯体(例えばグラブスIまたはグラブスII触媒もしくは関連触媒；WO 96/04289; WO 97/06185; T.M. Trnka et al., Acc. Chem. Res. 2001, 34, 18; S.K. Armstrong, J. Chem. Soc., Perkin Trans. I, 1998, 371; J. Renaud et al., Angew. Chem. 2000, 112, 3231参照)の存在下、Z22がC-C二重結合でない式IIのジヒドロピラン誘導体は、閉環クロスメタセシスにより特に簡潔な方法で製造され(DE10324312.7)、Z22がC-C二重結合である式IIのジヒドロピラン誘導体は、エニンメタセシスにより、望ましくはさらなるクロス-メタセシス(DE 10324348.8)により製造される。これらの２方法はスキーム1aおよびスキーム1bにおいてそれぞれ式IIAの化合物で描かれており、式IIBの化合物の方法にも容易に適用できる。
【００６７】
【化１０】
2005060399.tif 000011
スキーム1a
【００６８】
【化１１】
2005060399.tif 000012
スキーム1b
【００６９】
本発明による還元および／または従来のもしくは引き続く反応および／または処理の間の望ましくない反応に対する分子中の任意の反応性官能基もしくは置換基の保護のためには、反応が完結した場合に再び切断されうる保護基を用いることができる。適切な保護基の使用のための方法は、当業者に知られており、例えばT.W. Greene, P.G.M. Wuts: Protective Groups in Organic Synthesis, 3rd Ed., John Wiley & Sons (1999)などに記載されている。
【００７０】
用いられる試薬は、特に遷移金属錯体および遷移金属錯体前駆体は、文献により知られており、通常、例えばSigma-Aldrich Chemicals (Steinheim, Germany) もしくはStrem Chemicals (Newburyport, MA, USA)などにより市販されている。また、それらは、文献に記載されているようにそれ自体知られた方法により、公知の前記反応に適した反応条件下で正確に製造されうる(例えば"Inorganic Syntheses" (McGraw-Hill or Wiley, New York, 1939 ff.)などの標準的著作)。 しかし、使用は、それ自体知られているがここでは詳細に述べていない種々の変法でなされる。
【００７１】
本発明は、さらに、
上記で定義された式IIAもしくはIIBの化合物、および、１または２以上の同一かまたは異なる上記で定義されたホスフィンリガンドにより安定化されている遷移金属錯体を含む組成物、ならびに、式IAもしくはIBの化合物の製造のための前記組成物の使用に関する。
【００７２】
本発明に関して、「アルキル」という語は、他に明細書もしくは請求項において定義されていなければ、１〜１５(すなわち1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14もしくは15)個の炭素原子を有する直鎖または分枝脂肪族炭化水素遊離基を示す；前記遊離基は置換されていないかあるいは、同一かもしくは異なってF、Cl、Br、Iもしくはシアノにより一置換または多置換されている。
【００７３】
前記アルキル遊離基は、飽和している遊離基である場合には、「アルカニル」としても知られている。さらに、「アルキル」という語は、他に明細書もしくは請求項において各場合において定義されていなければ、炭化水素遊離基であって、前記炭化水素遊離基は
置換されていないかあるいは、同一かもしくは異なってF、Cl、Br、Iおよび／または-CNにより一置換または多置換されており、１または２以上のCH2基が、ヘテロ原子(OおよびS)が他と直接結合しないように-O-（「アルコキシ」もしくは「オキサアルキル」）、-S-（「チオアルキル」）、-CH=CH-（「アルケニル」）、-C≡C-（「アルキニル」）、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよい。（式Iの化合物において、「アルキル」はアルケニル遊離基を含まない。）アルキルは、好ましくは、直鎖または分枝であって、1、2、3、4、5、6、7もしくは8個の炭素原子を有する置換されていないかまたは置換されているアルカニル、アルケニルもしくはアルコキシ遊離基である。アルキルがアルカニル遊離基である場合には、好ましくはメチル、エチル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、ネオペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル；CF3、CHF2、CH2F；CF2CF3である。アルカニル遊離基は、特に好ましくは、直鎖であって、置換されていないかまたはFにより置換されている。
【００７４】
アルキル遊離基における１または２以上のCH2基は-O-により置換されていてもよいので、「アルキル」という語は「アルコキシ」もしくは「オキサアルキル」遊離基をも含む。「アルコキシ」という語は、酸素原子が直接アルコキシ遊離基により置換されている基もしくは置換されている環に直接結合しているO-アルキル遊離基を意味し、「アルキル」は上記で定義したとおりである；アルキルは好ましくはアルカニル、あるいは、遊離基が式Iの化合物中に存在しない場合にはアルケニルである。好ましいアルコキシ遊離基は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシおよびオクトキシであり、これら遊離基は置換されていてもよく、好ましくは１または２以上のフッ素原子により置換されている。アルコキシは、特に好ましくは、-OCH3、-OC2H5、-O-n-C3H7、-O-n-C4H9、-O-t-C4H9、-OCF3、-OCHF2、-OCH2Fもしくは-OCHFCHF2である。本発明に関しては、「オキサアルキル」という語は、少なくとも１つの末端でないCH2基が 隣接しないヘテロ原子(OおよびS)が存在するように-O-により置換されているアルキル遊離基を示す。オキサアルキルは、好ましくは、eおよびfが、他とは独立に1、2、3、4、5、6、7、8、9もしくは10である式CeH2e+1-O-(CH2)f-の直鎖遊離基を含む；特に好ましくは、eは１〜６の整数であり、fは１または２である。
【００７５】
上記で定義されたアルキル遊離基中の１または２以上のCH2基が硫黄原子により置換されている場合には、「チオアルキル」となる。「チオアルキル」は、好ましくは、eが1、2、3、4、5、6、7、8、9もしくは10であってならびにfが0、1、2、3、4、5、6、7、8、9もしくは10である式CeH2e+1-S-(CH2)f- の直鎖遊離基を含む；特に好ましくは、eは１〜６までの整数であり、fは0、1もしくは2である。チオアルキルは、F、Cl、Br、Iおよび／または-CNにより置換されていてもよく、好ましくは置換されていない。
【００７６】
本発明に関しては、「アルケニル」という語は、１または２以上の-CH=CH-基が存在する上記に定義されたアルキル遊離基を示す。遊離基中に２つの-CH=CH-基が存在している場合には、これは「アルカジエニル」と言ってもよい。アルケニル遊離基は、２〜１５（すなわち2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14もしくは15）個の炭素原子を含んでよく、分枝鎖であってもよいが好ましくは直鎖である。前記遊離基は、置換されていないかあるいは、同一かもしくは異なってF、Cl、Br、Iおよび／または-CNにより一置換または多置換されている。さらに、１または２以上のCH2基が、ヘテロ原子(OおよびS)が他と直接結合しないように-O-、-S-、-C≡C-、-COO-、-O-CO-または-O-CO-O-により置換されていてもよい。CH=CH基が両炭素原子に水素でなく遊離基を有する場合には、例えば末端の基でなければCH=CH基は２つの立体構造、すなわE-異性体およびZ-異性体、をとることができる。一般にはE-異性体（トランス）が好ましい。アルケニル遊離基は、好ましくは、2、3、4、5、6もしくは7個の炭素原子を含み、ビニル、1E-プロペニル、1E-ブテニル、1E-ペンテニル、1E-ヘキセニル、1E-ヘプテニル、2-プロペニル、2E-ブテニル、2E-ペンテニル、2E-ヘキセニル、2E-ヘプテニル、3-ブテニル、3E-ペンテニル、3E-ヘキセニル、3E-ヘプテニル、4-ペンテニル、4Z-ヘキセニル、4E-ヘキセニル、4Z-ヘプテニル、5-ヘキセニルもしくは6-ヘプテニルである。特に好ましいアルケニル遊離基は、ビニル、1E-プロペニルおよび3E-ブテニルである。
【００７７】
アルキル遊離基において１または２以上のCH2基が-C≡C-により置換されている場合には、アルキニル遊離基となる。１つのCH2基が-CO-により置換されている場合には、アルキルケト基となる。１または２以上のCH2基が-CO-O-もしくは-O-CO-により置換されていてもよい。ここで好ましいこれら遊離基は下記：アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペンタノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ペンタノイルオキシメチル、2-アセトキシエチル、2-プロピオニルオキシエチル、2-ブチリルオキシエチル、2-アセトキシプロピル、3-プロピオニルオキシプロピル、4-アセトキシブチル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニルメチル、2-(メトキシカルボニル)エチル、2-(エトキシカルボニル)エチル、2-(プロポキシカルボニル)エチル、3-(メトキシカルボニル)プロピル、3-(エトキシカルボニル)プロピル or 4-(メトキシカルボニル)ブチルである。
【００７８】
本発明に関して、「アルキレン」もしくは「アルキレンブリッジ」とは、明細書または請求項において他に定義されていなければ、鎖中に１、2、3、4、5、6、7もしくは8の炭素原子を有する二価脂肪族炭化水素遊離基を表し、これは任意にハロゲン、CN、カルボキシル、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2により一置換または多置換されていてもよく、同じかまたは異なる置換基により多置換されていてもよい。「アルキレン」もしくは「アルキレンブリッジ」は、好ましくは、直鎖であって、置換されていないかまたは1-もしくは2-メチル置換された、１、2、3、4、5もしくは6個の炭素原子を有する飽和脂肪族遊離基を表し、特には-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-(CH2)4- または-CH2C(CH3)2CH2-を表す。
【００７９】
本発明に関して、「アリール」という語は、各場合で明細書または請求項において他に定義されていなければ、６〜１４個の炭素原子を有する芳香族炭化水素を示し、これは任意に、同一かまたは異なって、ハロゲン、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2により一置換または多置換されていてもよく、特にはフェニルもしくはナフチル遊離基である。
【００８０】
本発明に関して、「シクロアルキル」という語は、３〜１６個の炭素原子を有する環脂肪族遊離基を示し、これは飽和していても部分的に不飽和でもよく、任意に、同一かまたは異なってハロゲン、カルボキシル、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2 により一置換または多置換されていてもよい。好ましくは、置換されておらず、5、6もしくは7個の炭素原子を有する。特には、シクロアルキルはシクロヘキシル遊離基を表す。
【００８１】
本発明のためには、「ヘテロアリール遊離基」という語は、環中に炭素原子の他に１または２以上の同一かまたは異なるヘテロ原子を含む５〜１８の環原子を有する環（ヘテロ）芳香族有機遊離基を意味し、前記ヘテロ原子は窒素、酸素、硫黄原子から選択される。前記ヘテロ環遊離基は少なくとも１つの環を有し、２もしくは３以上の環を有していてもよく、前記環は任意に、少なくとも１のヘテロ原子を含む多くの環のうちの少なくとも１つである他と結合していてもよい。上記で定義したアリール遊離基と同様に、ヘテロアリール遊離基は、置換されていないかあるいは、同一かまたは異なって、ハロゲン、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2 により一置換または多置換されていてもよい。ヘテロアリール遊離基は環原子のいずれを介して結合していてもよい。ヘテロアリール遊離基は、好ましくは、ピロリル、ピラゾリル、イミダゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、インドリル、フラニル、チエニル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、ピラニル、ベンゾフラニルおよびベンゾチエニルからなる群より選択される。特に好ましいヘテロアリールは、ピリジニルもしくはフラニルである。
【００８２】
本発明のためには、「ヘテロシクリル遊離基」という語は、環中の２つの原子の間に少なくとも１つの飽和（環内）結合を有する、５〜１８個の環原子を有する環有機遊離基を意味し、芳香族ではなく、窒素、酸素、硫黄原子から選択される１または２以上の同一かまたは異なるヘテロ原子を含む。前記ヘテロ環遊離基は少なくとも１つの環を有し、２もしくは３以上の環を有していてもよく、それらは任意に相互に縮合していて、多くの環のうちの少なくとも１つは少なくとも１のヘテロ原子を含む。上記で定義したアリール遊離基と同様に、ヘテロシクリル遊離基は、置換されていないかあるいは、同一かまたは異なって、ハロゲン、ニトロ、アルカニル、アルコキシ、-NH2もしくは-N(アルカニル)2 により一置換または多置換されていてもよい。ヘテロシクリル遊離基は環原子のいずれを介して結合していてもよい。ヘテロシクリル遊離基は、好ましくは、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジヒドロピラゾール、ジヒドロイミダゾール、ジヒドロオキサゾール、テトラヒドロオキサゾール、ジヒドロイソオキサゾールおよびテトラヒドロイソオキサゾールからなる群より選択される。特に好ましくは、ヘテロシクリル遊離基はジヒドロオキサゾールである。
【００８３】
本発明に関して、「アラルキル」という語は、アリールアルキル遊離基、すなわち、アリール置換基がアルキルブリッジを介して原子、鎖、他の遊離基もしくは官能基に結合している遊離基を表す。アルキルブリッジは、好ましくは、飽和二価炭化水素遊離基であって、特には、メチレン(-CH2-)もしくはエチレン(-CH2-CH2-)である。アラルキル遊離基の好ましい例は、ベンジルおよびフェネチルである。本発明のためには、「アラルキル-O-遊離基」とは、アルキルブリッジに結合した酸素原子を介して他の原子、鎖、他の遊離基もしくは官能基に結合しているアラルキル遊離基をいう。アラルキル-O-遊離基の好ましい例は、O-ベンジルおよびO-CH2CH2フェニルである。
【００８４】
本発明に関して、ハロゲンとは、フッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素である。
【００８５】
下記実施例は本発明の範囲を限定することなく本発明をより詳細に説明するためのものである。
【００８６】
例
実施例中で用いられる出発化合物は、文献により知られた方法により製造した。
用いた遷移金属錯体および遷移金属触媒はStrem ChemicalsまたはMerck KGaA (Darmstadt, Germany)から購入し、さらなる精製をすることなく用いた。 
溶媒は、分析的に純粋なものを用い、使用前に脱気した。
反応は、脱酸素下で行われた。
水素化変換は、ガスクロマトグラフィー(GC)(Varian Chrompack CP-3800, 標準条件)により決定した。生成混合物の組成および反応のシス／トランス選択性もガスクロマトグラフィーにより決定した。
【００８７】
[実施例１］
【化１２】
2005060399.tif 000013
37 mg (0.04 mmol)のトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドを、0.73 g (2.0 mmol)のオレフィン1 に高圧オートクレーブ中で加えた。6 mlのエタノールおよび2 mlのトルエンを加えた後、オートクレーブを密閉して5バールの窒素を注入することにより３回脱気し、引き続いて減圧した。6バールの水素を注入して混合物を100℃に加熱した。21時間後、反応容器を冷却し、内容物をガスクロマトグラフィーにより分析した。出発物質は７３％まで反応していた。生成物２が７６％のトランス含有量で得られた。 
【００８８】
比較例１
トリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドを活性炭に担持した５％パラジウムに置き換えた以外は、実施例１と同じ条件下で、オレフィン1の水素化を行った。室温、１バールの水素圧でのTHF中の１００％の反応で、生成物２が３８％のトランス含有量で得られた。
【００８９】
［実施例２］
【化１３】
2005060399.tif 000014
56 mg (0.06 mmol)のトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドを、1.94 g (6.0 mmol)のジエン３に高圧オートクレーブ中で加えた。36 mlのメタノールおよび12 ml のトルエンを加えた後、オートクレーブを密閉して10バールの窒素を注入することにより３回脱気し、引き続いて減圧した。60バールの水素を注入して混合物を80℃に加熱した。20時間後、反応容器を冷却し、内容物をガスクロマトグラフィーにより分析した。出発物質は９９％まで反応していた。生成物４が７３％のトランス含有量で得られた。 
【００９０】
比較例２
【化１４】
2005060399.tif 000015
トリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドを活性炭に担持した５％パラジウムに置き換えた以外は、実施例２と同じ条件下で、オレフィン5の水素化を行った。室温、１バールの水素圧でのヘプタン中の１００％の反応で、生成物６が27％のトランス含有量で得られた。
【００９１】
［実施例３］
【化１５】
2005060399.tif 000016
141 mg (0.15 mmol)のトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドを、6.20 g (16.0 mmol)のジエン７に高圧オートクレーブ中で加えた。50 mlのメタノールおよび15 mlのトルエンを加えた後、オートクレーブを密閉して10バールの窒素を注入することにより３回脱気し、引き続いて減圧した。60バールの水素を注入して混合物を80℃に加熱した。20時間後、反応容器を冷却し、内容物をガスクロマトグラフィーにより分析した。出発物質は９６％まで反応していた。生成物８が７4％のトランス含有量で得られた。 
【００９２】
［実施例４］
【化１６】
2005060399.tif 000017
9 mg (0.01 mmol)のトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライド および12 mg の臭化リチウムを、0.10 g (0.3 mmol) のオレフィン９に高圧オートクレーブ中で加えた。 6 mlのエタノールを加えた後、オートクレーブを密閉して5バールの窒素を注入することにより３回脱気し、引き続いて減圧した。7バールの水素を注入して混合物を100℃に加熱した。15時間後、反応容器を冷却し、内容物をガスクロマトグラフィーにより分析した。出発物質は88％まで反応していた。生成物10が77％のトランス含有量で得られた。 
【００９３】
同じ反応を、臭化リチウムを加えずに同じ条件下で行う場合には、８０％が変換され、生成物10が73％のトランス含有量で得られる。
【００９４】
［実施例５］
【化１７】
2005060399.tif 000018
1.8 g (1.95 mmol)のトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライド を、14.7 g (38.3 mmol) のオレフィン11に高圧オートクレーブ中で加えた。180 mlのエタノール および60 mlのトルエンを加えた後、オートクレーブを密閉して10バールの窒素を注入することにより３回脱気し、引き続いて減圧した。10バールの水素を注入して混合物を100℃に加熱した。45時間後、反応容器を冷却し、内容物をガスクロマトグラフィーにより分析した。出発物質は100％まで反応していた。生成物12が77％のトランス含有量で得られた。 
【００９５】
［実施例６］
【化１８】
2005060399.tif 000019
0.75 g (0.81 mmol)のトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドを、11.1 g (40.6 mmol)のオレフィン13に高圧オートクレーブ中で加えた。60 mlのエチルメチルケトンおよび60 ml のトルエンを加えた後、オートクレーブを密閉して10バールの窒素を注入することにより３回脱気し、引き続いて減圧した。11バールの水素を注入して混合物を100℃に加熱した。17時間後、反応容器を冷却し、内容物をガスクロマトグラフィーにより分析した。出発物質は100％まで反応していた。生成物14が61％のトランス含有量で得られた。 
【００９６】
［実施例７］
【化１９】
2005060399.tif 000020
4.50 g(4.86 mmol)のトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドを、150 g (0.48 mol)のジエン15に高圧オートクレーブ中で加えた。1200mlのエタノールおよび400 mlのトルエンを加えた後、オートクレーブを密閉して50バールの窒素を注入することにより３回脱気し、引き続いて減圧した。8バールの水素を注入して混合物を85〜95℃に加熱した。34時間後、反応容器を冷却し、内容物をガスクロマトグラフィーにより分析した。出発物質は100％まで反応していた。生成物16が79％のトランス含有量で得られた。
【００９７】
［実施例８］
【化２０】
2005060399.tif 000021
0.40 g (0.43 mmol)のトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドを、12.5 g (40.6 mmol) のオレフィンン17に高圧オートクレーブ中で加えた。100 mlのエタノール および30 mlのトルエンを加えた後、オートクレーブを密閉して50バールの窒素を注入することにより３回脱気し、引き続いて減圧した。16バールの水素を注入して混合物を80℃に加熱した。17時間後、反応容器を冷却し、内容物をガスクロマトグラフィーにより分析した。出発物質は100％まで反応していた。生成物18が79％のトランス含有量で得られた。
【００９８】
［実施例９］
実施例２の反応を、種々の実験条件下で、異なる遷移金属錯体もしくは遷移金属錯体前駆体を用いて行った。各錯体を錯体全体を基準として１モル％、望ましくは安定化しているホスフィンの約２もしくは約３当量用いる。反応時間は１５時間である。実験条件ならびにその結果を表１に示す。
表１
【表１】
2005060399.tif 000022
【００９９】
［実施例１０］
【化２１】
2005060399.tif 000023
56 g (0.233 mol) のオレフィン19を、2.2 gのトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドとともに450 mlのメタノールおよび120 ml のトルエン中で、4時間、水素圧8バール、80℃にて水素化を行った。冷却後、反応混合物を減圧下で蒸発させ、トルエン／ヘプタン(3:7)を用いてシリカゲルでろ過した。溶媒蒸発後のろ過残渣を、0.8ミリバールで蒸留し、148℃〜167℃で得られたフラクションをシリカゲルクロマトグラフィーにかけた（溶出剤：トルエン／ヘプタン(5/95〜2/8)）。蒸発により、33.0gの水素化産物２０を、油として８５％のトランス含有量で得られた。
【０１００】
トランス-2-(4-クロロフェニル)-5-プロピルテトラヒドロピランが、対応するオレフィンから同様に７８％のトランス含有量で製造され、トランス-2-(4-クロロフェニル)-5-(トランス-4-プロピルシクロヘキシル)テトラヒドロピランが、対応するオレフィンから同様に86％のトランス含有量で製造される。
【０１０１】
［実施例１１］
【化２２】
2005060399.tif 000024
10 g (34 mmol)のオレフィン21を、 17.5時間 、8バール、80℃で、314 mg (339 μmol) のトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)クロライドとともに60 mlのメタノールおよび18 ml のトルエン中で、理論水素量が取り込まれるまで水素化を行った。反応混合物を冷却して溶媒を蒸発させた後、トルエン／ヘプタン(3:7)を用いてシリカゲルでろ過した。ろ過残渣の蒸留により8.1gの残渣が得られ、トランスおよびシス異性体は71：29の比率で存在していた。
トランス-2-(4-ブロモフェニル)-5-エチルテトラヒドロピランは、同様に、対応するオレフィンから76％のトランス含有量で製造される。