(57)【要約】【課題】高い光学純度を有するアミノアルコール化合物の工業化可能な大量製造法が求められていた。【解決手段】下記一般式（１）2005104895.tif 000033［式中，ｍは０〜２の整数を示し，Ｒ１及びＲ２は各々同一でも異なっていてもよくアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。］で表されるアミノアルコール化合物のラセミ体に光学活性な酸を作用させ，生成したジアステレオマー塩を分割することを特徴とする下記一般式（２）2005104895.tif 000034［式中，ｍ，Ｒ１及びＲ２は上記と同じであり，Ｃ１＊の立体配置はＳ又はＲを示す。］で表される光学活性アミノアルコール化合物の製造方法等を提供する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）
【化１】
2005104895.tif 000019
［式中，ｍは０〜２の整数を示し，Ｒ１及びＲ２は各々同一でも異なっていてもよくアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。］で表されるアミノアルコール化合物のラセミ体に光学活性な酸を作用させ，生成したジアステレオマー塩を分割することを特徴とする下記一般式（２）
【化２】
2005104895.tif 000020
［式中，ｍ，Ｒ１及びＲ２は上記と同じ意味を示し，Ｃ１＊の立体配置はＳ又はＲを示す。］で表される光学活性アミノアルコール化合物の製造方法。
【請求項２】
Ｒ１及びＲ２が各々同一でも異なっていてもよく，メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基であり，光学活性な酸が下記一般式（３）
【化３】
2005104895.tif 000021
［式中，Ｒ３は水素又はＣ（＝Ｏ）Ｒ４を示し，Ｒ４はアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示す。］で表される光学活性な二塩基酸である請求項１に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法。
【請求項３】
Ｒ１がメチル基であり，Ｒ２がメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基であり，光学活性な酸がＬ−（＋）−酒石酸，Ｄ−（−）−酒石酸，（−）−ジアセチル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジアセチル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸，（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジ−パラ−トルイル−Ｄ−酒石酸又は（−）−ジ−パラ−トルイル−Ｌ−酒石酸である請求項１又は２に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法。
【請求項４】
Ｒ１がメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基であり，Ｒ２がメチル基であり，光学活性な酸がＬ−（＋）−酒石酸，Ｄ−（−）−酒石酸，（−）−ジアセチル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジアセチル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸，（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジ−パラ−トルイル−Ｄ−酒石酸又は（−）−ジ−パラ−トルイル−Ｌ−酒石酸である請求項１又は２に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法。
【請求項５】
ｍが０又は１であり，Ｒ１，Ｒ２が共にメチル基であり，光学活性な酸が（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸又は（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法。
【請求項６】
下記一般式（４）
【化４】
2005104895.tif 000022
［式中，Ｒ５はアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｙはアミノ基の保護基を示し，Ｃ２＊の立体配置はＳ又はＲを示す。］で表される化合物と，下記一般式（５）
【化５】
2005104895.tif 000023
［式中，ＡはＰＰｈ３＋  Ｘ−（Ｘはハロゲン原子を示す）又はＰ＝Ｏ（ＯＲ８）２（Ｒ８はアルキル基又はアリール基を示す）を示し，Ｒ６及びＲ７は各々同一でも異なっていてもよくアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｒ６及びＲ７が異なる場合，Ｃ３＊の立体はＲ又はＳを示し，ｍは０〜２の整数を示す。］で表される有機リン化合物を，塩基の存在下又は非存在下で反応して得られる下記一般式（６）
【化６】
2005104895.tif 000024
［式中，Ｙ，Ｃ２＊，Ｃ３＊，ｍ，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は上記と同じ意味を示す。］で表される化合物の二重結合の還元，アミノ基の保護基の脱保護を，段階的又は同時に行った後,メチルエーテル基を脱メチル化することを特徴とする下記一般式（７）
【化７】
2005104895.tif 000025
［式中，Ｃ２＊，Ｃ３＊，ｍ，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は上記と同じ意味を示す。］で表される光学活性アミノアルコール化合物の製造方法。
【請求項７】
Ｙが置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基であり，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が各々同一でも異なっていてもよくメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基を示す請求項６に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法。
【請求項８】
Ｙが無置換のベンジルオキシカルボニル基であり，ＡがＰＰｈ３＋  Ｂｒ−であり，ｍが１であり，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７がすべてメチル基である請求項６又は７に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法。
【請求項９】
下記一般式（４）
【化８】
2005104895.tif 000026
［式中，Ｒ５はアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｙはアミノ基の保護基を示し，Ｃ２＊の立体配置はＳ又はＲを示す。］で表される化合物と下記一般式（８）
【化９】
2005104895.tif 000027
［式中，ＢはＣＨ＝ＰＰｈ３，又はＣＨ２−Ｐ＝Ｏ（ＯＲ８）２（Ｒ８はアルキル基又はアリール基を示す）を示し，Ｒ９はアルキル基を示す。］で表される有機リン化合物とを塩基の存在下又は非存在下で反応して得られる下記一般式（９）
【化１０】
2005104895.tif 000028
［式中，Ｃ２＊，Ｙ，Ｒ５及びＲ９は上記と同じ意味を示す。］で表される化合物の二重結合の還元，アミノ基の保護基の脱保護を，段階的又は同時に行い，下記一般式（１０）
【化１１】
2005104895.tif 000029
［式中，Ｃ２＊，Ｒ５及びＲ９は上記と同じ意味を示す。］で表されるアミノエステル化合物を得，該化合物のアミノ基を下記一般式（１１）
【化１２】
2005104895.tif 000030
［式中，ｒは１〜３の整数を示し，Ｒ１０はアルキル基を示す。］で表される化合物を用いて保護後，エステル基を有機金属化合物を用いて３級アルコール化合物へ変換し，アミノ基の保護基を脱保護して得られることを特徴とする下記一般式（１２）
【化１３】
2005104895.tif 000031
［式中，Ｃ２＊，Ｒ５は上記と同じ意味を示し，Ｒ１１はアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示す。］で表される光学活性アミノアルコール化合物の製造法。
【請求項１０】
Ｙが置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基であり，Ｒ５がメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基であり，Ｒ１１がメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，ｎ−ペンチル基，フェニル基，オルトトリル基，メタトリル基，パラトリル基又は無置換ベンジル基である請求項９に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法。
【請求項１１】
Ｙが無置換のベンジルオキシカルボニル基であり，Ｒ５，Ｒ１０，Ｒ１１が共にメチル基であり，Ｒ９がエチル基であり，ｒが２である請求項９又は１０に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法。
【請求項１２】
下記一般式（２）
【化１４】
2005104895.tif 000032
［式中，ｍは０〜２の整数を示し，Ｒ１及びＲ２は各々同一でも異なっていてもよくアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｃ１＊の立体配置はＳ又はＲを示す。ただし，ｍが１であり，Ｒ１及びＲ２がメチル基である場合は除く。］で表される光学活性アミノアルコール化合物，又はその塩。
【請求項１３】
ｍが０であり，Ｒ１及びＲ２がメチル基である請求項１２に記載の光学活性アミノアルコール化合物，又はその塩。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，交感神経刺激作用を示す６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノール（ヘプタミノール）の光学活性体や，免疫抑制作用の知られた（Ｓ）−１−（５−ヒドロキシ−１，５−ジメチルヘキシル）−３−（７−チオフェン−２−イル［１，２，４］トリアゾロ［１，５−ａ］ピリミジン−２−イル）ウレア等の部分構造であり製造中間体となる（Ｓ）−６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノール等の光学活性なアミノアルコール化合物の製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
４−アミノブタノール誘導体，５−アミノペンタノール誘導体，６−アミノヘキサノール誘導体等のアミノアルコール化合物のラセミ体の製造法は，例えば，非特許文献１，非特許文献２等に記載されているが，このようなアミノアルコール化合物の光学活性体の製造法については知られていない。
【０００３】
非特許文献３には，６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノールのラセミ体混合物を誘導体化し，液体クロマトグラフィーやキャピラリー電気泳動を使用して分離することによる各光学活性体の単離について報告されている。しかしながら，このような分離操作による方法は医薬品やその中間体等の工場規模の大量製造には使用できない。
【０００４】
【非特許文献１】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１５，７２５０−７２５３（１９９３）
【非特許文献２】Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｎｏ．３，５０３−５１４（１９９９）
【非特許文献３】ＣＨＩＲＡＬＩＴＹ，７，２３５−２４２（１９９５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
高い光学純度を有するアミノアルコール化合物の工業化可能な大量製造法が求められていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果，光学分割法又は不斉合成法による製造法を見出し本発明を完成した。
即ち本発明は，
１）下記一般式（１）
【０００７】
【化１】
2005104895.tif 000002
【０００８】
［式中，ｍは０〜２の整数を示し，Ｒ１及びＲ２は各々同一でも異なっていてもよくアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。］で表されるアミノアルコール化合物のラセミ体に光学活性な酸を作用させ，生成したジアステレオマー塩を分割することを特徴とする下記一般式（２）
【０００９】
【化２】
2005104895.tif 000003
【００１０】
［式中，ｍ，Ｒ１及びＲ２は上記と同じ意味を示し，Ｃ１＊の立体配置はＳ又はＲを示す。］で表される光学活性アミノアルコール化合物の製造方法；
【００１１】
２）Ｒ１及びＲ２が各々同一でも異なっていてもよく，メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基であり，光学活性な酸が下記一般式（３）
【００１２】
【化３】
2005104895.tif 000004
【００１３】
［式中，Ｒ３は水素又はＣ（＝Ｏ）Ｒ４を示し，Ｒ４はアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示す。］で表される光学活性な二塩基酸である上記１）に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法；
【００１４】
３）Ｒ１がメチル基であり，Ｒ２がメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基であり，光学活性な酸がＬ−（＋）−酒石酸，Ｄ−（−）−酒石酸，（−）−ジアセチル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジアセチル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸，（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジ−パラ−トルイル−Ｄ−酒石酸又は（−）−ジ−パラ−トルイル−Ｌ−酒石酸である上記１）又は２）に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法；
【００１５】
４）Ｒ１がメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基であり，Ｒ２がメチル基であり，光学活性な酸がＬ−（＋）−酒石酸，Ｄ−（−）−酒石酸，（−）−ジアセチル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジアセチル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸，（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジ−パラ−トルイル−Ｄ−酒石酸又は（−）−ジ−パラ−トルイル−Ｌ−酒石酸である上記１）又は２）に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法；
５）ｍが０又は１であり，Ｒ１，Ｒ２が共にメチル基であり，光学活性な酸が（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸又は（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸である上記１）〜４）のいずれか１項に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法；
【００１６】
６）下記一般式（４）
【００１７】
【化４】
2005104895.tif 000005
【００１８】
［式中，Ｒ５はアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｙはアミノ基の保護基を示し，Ｃ２＊の立体配置はＳ又はＲを示す。］で表される化合物と，下記一般式（５）
【００１９】
【化５】
2005104895.tif 000006
【００２０】
［式中，ＡはＰＰｈ３＋  Ｘ−（Ｘはハロゲン原子を示す）又はＰ＝Ｏ（ＯＲ８）２（Ｒ８はアルキル基又はアリール基を示す）を示し，Ｒ６及びＲ７は各々同一でも異なっていてもよくアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｒ６及びＲ７が異なる場合，Ｃ３＊の立体はＲ又はＳを示し，ｍは０〜２の整数を示す。］で表される有機リン化合物を，塩基の存在下又は非存在下で反応して得られる下記一般式（６）
【００２１】
【化６】
2005104895.tif 000007
【００２２】
［式中，Ｙ，Ｃ２＊，Ｃ３＊，ｍ，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は上記と同じ意味を示す。］で表される化合物の二重結合の還元，アミノ基の保護基の脱保護を，段階的又は同時に行った後,メチルエーテル基を脱メチル化することを特徴とする下記一般式（７）
【００２３】
【化７】
2005104895.tif 000008
【００２４】
［式中，Ｃ２＊，Ｃ３＊，ｍ，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は上記と同じ意味を示す。］で表される光学活性アミノアルコール化合物の製造方法；
【００２５】
７）Ｙが置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基であり，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７が各々同一でも異なっていてもよくメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基を示す上記６）に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法；
【００２６】
８）Ｙが無置換のベンジルオキシカルボニル基であり，ＡがＰＰｈ３＋  Ｂｒ−であり，ｍが１であり，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７がすべてメチル基である上記６）又は７）に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法；
９）下記一般式（４）
【００２７】
【化８】
2005104895.tif 000009
【００２８】
［式中，Ｒ５はアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｙはアミノ基の保護基を示し，Ｃ２＊の立体配置はＳ又はＲを示す。］で表される化合物と下記一般式（８）
【００２９】
【化９】
2005104895.tif 000010
【００３０】
［式中，ＢはＣＨ＝ＰＰｈ３，又はＣＨ２−Ｐ＝Ｏ（ＯＲ８）２（Ｒ８はアルキル基又はアリール基を示す）を示し，Ｒ９はアルキル基を示す。］で表される有機リン化合物とを塩基の存在下又は非存在下で反応して得られる下記一般式（９）
【００３１】
【化１０】
2005104895.tif 000011
【００３２】
［式中，Ｃ２＊，Ｙ，Ｒ５及びＲ９は上記と同じ意味を示す。］で表される化合物の二重結合の還元，アミノ基の保護基の脱保護を，段階的又は同時に行い，下記一般式（１０）
【００３３】
【化１１】
2005104895.tif 000012
【００３４】
［式中，Ｃ２＊，Ｒ５及びＲ９は上記と同じ意味を示す。］で表されるアミノエステル化合物を得，該化合物のアミノ基を下記一般式（１１）
【００３５】
【化１２】
2005104895.tif 000013
【００３６】
［式中，ｒは１〜３の整数を示し，Ｒ１０はアルキル基を示す。］で表される化合物を用いて保護後，エステル基を有機金属化合物を用いて３級アルコール化合物へ変換し，アミノ基の保護基を脱保護して得られることを特徴とする下記一般式（１２）
【００３７】
【化１３】
2005104895.tif 000014
【００３８】
［式中，Ｃ２＊，Ｒ５は上記と同じ意味を示し，Ｒ１１はアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示す。］で表される光学活性アミノアルコール化合物の製造法；
【００３９】
１０）Ｙが置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基又はｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基であり，Ｒ５がメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，置換基を有していてもよいフェニル基又は置換基を有していてもよいベンジル基であり，Ｒ１１がメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，sec−ブチル基，ｎ−ペンチル基，フェニル基，オルトトリル基，メタトリル基，パラトリル基又は無置換ベンジル基である上記９）に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法；
１１）Ｙが無置換のベンジルオキシカルボニル基であり，Ｒ５，Ｒ１０，Ｒ１１が共にメチル基であり，Ｒ９がエチル基であり，ｒが２である上記９）又は１０）に記載の光学活性アミノアルコール化合物の製造方法；
１２）下記一般式（２）
【００４０】
【化１４】
2005104895.tif 000015
【００４１】
［式中，ｍは０〜２の整数を示し，Ｒ１及びＲ２は各々同一でも異なっていてもよくアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｃ１＊の立体配置はＳ又はＲを示す。ただし，ｍが１であり，Ｒ１及びＲ２がメチル基である場合は除く。］で表される光学活性アミノアルコール化合物，又はその塩；
１３）ｍが０であり，Ｒ１及びＲ２がメチル基である上記１２）に記載の光学活性アミノアルコール化合物，又はその塩；
に関する。
【発明の効果】
【００４２】
本発明は，光学活性な低分子アミノアルコール化合物の光学分割法又は不斉合成法による製造方法であり，必要とする絶対配置を有する光学活性体を大量に且つ高い光学純度と優れた収率で工業化可能とする製造方法を提供する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４３】
本発明の上記一般式（２）［式中，ｍは０〜２の整数を示し，Ｒ１及びＲ２は各々同一でも異なっていてもよくアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｃ１＊の立体配置はＳ又はＲを示す。］で表される光学活性アミノアルコール化合物の光学分割法による製造法は，上記一般式（１）［式中，ｍ，Ｒ１及びＲ２は上記と同じ意味を示す。］で表されるアミノアルコール化合物のラセミ体に光学活性な酸を作用させ，生成したジアステレオマー塩を分割することを特徴とする。
【００４４】
本発明に使用される化合物においてアルキル基とは，炭素数１〜１０の直鎖又は分岐鎖の飽和炭化水素基が挙げられ，好ましくは炭素数１〜５の直鎖又は分岐鎖の飽和炭化水素基であり，例えば，メチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，ｓｅｃ−ブチル基，ｔｅｒｔ−ブチル基又はｎ−ペンチル基等が挙げられ，好ましくはメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基又はｓｅｃ−ブチル基である。
【００４５】
本発明に使用される化合物において，置換基を有していてもよいアリール基におけるアリール基としては，好ましくは炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基であり，例えばフェニル基，ナフチル基等が挙げられる。置換基を有する場合，該置換基としては炭素数１〜５の鎖状アルキル基，炭素数３〜６のシクロアルキル基，炭素数１〜５のアルコキシル基又はハロゲン原子等が挙げられ，置換数として好ましくは１〜５個である。
【００４６】
本発明に使用される化合物において，置換基を有していてもよいアラルキル基におけるアラルキル基としては，アリール基が結合したアルキル基であれば特に限定されないが，上記アリール基が結合した上記アルキル基が挙げられ，具体的には例えば，ベンジル基，フェネチル基，ジフェニルメチル基等である。置換基を有する場合，該置換基としては炭素数１〜５の鎖状アルキル基，炭素数３〜６のシクロアルキル基，炭素数１〜５のアルコキシル基又はハロゲン原子等が挙げられ，置換数として好ましくは１〜５個である。
【００４７】
本発明に使用される化合物において，置換基を有していてもよいヘテロアリール基におけるヘテロアリール基とは，窒素原子，酸素原子及び硫黄原子から選ばれる同一でも異なっていてもよい１〜３個のヘテロ原子を含む５〜１０員環の複素芳香環である。具体的にはピリジル基，フリル基，ベンゾフラニル基，チオフェニル基，ベンゾチオフェニル基，キノリニル基，ピロリル基，インドリル基，オキサゾリル基，ピラゾリル基，イソチアゾリル基，ピリダジニル基，ピリミジニル基，ピラジニル基等が挙げられる。置換基を有する場合，該置換基としては炭素数１〜５の鎖状アルキル基，炭素数３〜６のシクロアルキル基，炭素数１〜５のアルコキシル基又はハロゲン原子等が挙げられ，置換可能であれば置換数として好ましくは，１〜５個程度である。
【００４８】
上記置換基において炭素数３〜６のシクロアルキル基とは，例えばシクロプロピル基，シクロブチル基，シクロペンチル基，シクロヘキシル基を挙げることができ，好ましくはシクロペンチル基，シクロヘキシル基である。
【００４９】
上記置換基において炭素数１〜５のアルコキシル基とは，例えばメトキシ基，エトキシ基，ｎ−プロポキシ基，イソプロポキシ基，ｎ−ブトキシ基，イソブトキシ基，ｔｅｒｔ−ブトキシ基等を挙げることができ，好ましくはメトキシ基，エトキシ基である。
【００５０】
上記置換基においてハロゲン原子とは，フッ素原子，塩素原子，臭素原子，ヨウ素原子等を挙げることができ，好ましくはフッ素原子，塩素原子である。
【００５１】
光学分割は，上記一般式（１）で表される化合物のラセミ体混合物に，光学活性な酸及び溶媒，場合によっては異性化補助剤を加え，当該溶媒中でより難溶性のジアステレオマー塩の大半が晶析する溶媒量で，通常−２０℃〜用いる溶媒の沸点程度の温度，好ましくは１０℃〜１１０℃程度で，１分〜１２０時間攪拌してジアステレオマー塩のうち当該溶媒に対して難溶性のジアステレオマー塩を蓄積させた後，必要に応じて−３０℃〜３０℃に冷却し，析出した塩を分離して行う。
【００５２】
光学活性な酸としては，上記一般式（２）で表される化合物と結晶性の塩を形成することができれば特に限定されないが，上記一般式（３）で表される二塩基酸が好ましく，具体的には酒石酸あるいは酒石酸誘導体が挙げられる。当然ながらメゾ体ではない酒石酸あるいは酒石酸誘導体として具体的には，Ｌ−（＋）−酒石酸，Ｄ−（−）−酒石酸，（−）−ジアセチル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジアセチル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸，（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸，（＋）−ジ−パラ−トルイル−Ｄ−酒石酸又は（−）−ジ−パラ−トルイル−Ｌ−酒石酸が挙げられる。これらの中でも（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸，（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸が好ましい。
【００５３】
一般式（１）で表される化合物と分割剤として用いる光学活性な酸の使用割合は，一般式（１）の化合物１に対して光学活性な酸を０．７から１．５当量用いるのが分割効率の点から好ましい。
【００５４】
分別結晶化を行う溶媒としては，通常，水や，メタノール，エタノール，１−プロパノール，２−プロパノール，１−ブタノール，２−ブタノール等のアルコール類，アセトン，メチルエチルケトン，メチルイソブチルケトン，ジエチルケトン，ジ−ｎ−プロピルケトン，ジ−ｉｓｏ−プロピルケトン，メチルイソプロピルケトン等のケトン類，ベンゼン，トルエン，キシレン等の芳香族炭化水素類，テトラヒドロフラン，ジオキサン，イソプロピルエーテル，２−メトキシエチルエーテル，ジエチルエーテル等のエーテル類，ヘキサン，ヘプタン，オクタン等の炭化水素類，クロロホルム，ジクロロメタン，１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類，酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸ブチル等のエステル類，アセトニトリル，プロピオニトリル等のニトリル類，及びこれらの溶媒の適当な組み合わせからなる混合溶媒等が挙げられるが，好ましくは，メタノール，エタノール，アセトン，酢酸エチル，２−プロパノール，及びこれらの混合溶媒である。
【００５５】
又，その使用量は，用いる溶媒，一般式（１）の化合物及び光学活性な酸によって変化するが，当該溶媒中でより難溶性のジアステレオマー塩の大半が晶析する溶媒量が目安になる。おおよそ，ジアステレオマー塩１ｇに対して約１〜１００ｍＬ程度が好ましく，特に好ましくは約２〜５０ｍＬ程度である。
【００５６】
得られたジアステレオマー塩の結晶は，必要があればこれを再結晶した後，水酸化ナトリウム水溶液等の塩基性水溶液で光学活性アミノアルコール化合物を遊離させ，酢酸エチル，ジエチルエーテル，クロロホルム，ジクロロメタン,トルエン等の有機溶媒による抽出や，イオン交換樹脂の使用により，純度の高い一般式（２）で表される光学活性アミノアルコール化合物を得ることができる。
【００５７】
本発明で使用される一般式（１）で表されるラセミ体化合物は，公知のラセミ体の製造法又はそれに準じる方法により調製することができ，例えば，後記の実施例に例示する以下の反応式ａに示す合成手順に従って調製することが可能である。
【００５８】
反応式ａ
2005104895.tif 000016
【００５９】
［反応式中，Ｒ１，Ｒ２，ｍは上記と同じ意味を示し，ＴｓＯＨはパラトルエンスルホン酸，Ｂｚはベンジル基を示す。］
一般式（１３）で表される化合物は，市販の化合物を用いても，公知の化合物の製造法又はそれに準じる方法により調製して用いてもよい。
【００６０】
一般式（１）で表される化合物として特に好ましくは，５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノール，６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノール等が挙げられる。
【００６１】
次ぎに不斉合成法による光学活性なアミノアルコール化合物の製造法について説明する。即ち，上記一般式（４）［式中，Ｒ５はアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｙはアミノ基の保護基を示し，Ｃ２＊の立体配置はＳ又はＲを示す。］で表される化合物と，上記一般式（５）［式中，ＡはＰＰｈ３＋  Ｘ−（Ｘはハロゲン原子を示す）又はＰ＝Ｏ（ＯＲ８）２（Ｒ８はアルキル基又はアリール基を示す）を示し，Ｒ６及びＲ７は各々同一でも異なっていてもよくアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｒ６及びＲ７が異なる場合，Ｃ３＊の立体はＲ又はＳを示し，ｍは０〜２の整数を示す。］で表される有機リン化合物を，塩基の存在下又は非存在下で反応して得られる上記一般式（６）［式中，Ｙ，Ｃ２＊，Ｃ３＊，ｍ，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は上記と同じ。］で表される化合物の二重結合の還元，アミノ基の保護基の脱保護を，段階的又は同時に行った後,メチルエーテル基を脱メチル化することを特徴とする上記一般式（７）［式中，Ｃ２＊，Ｃ３＊，ｍ，Ｒ５，Ｒ６及びＲ７は上記と同じ。］で表される光学活性アミノアルコール化合物の製造法である。
【００６２】
上記不斉合成法による製造法において，アルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基及び置換基を有していてもよいヘテロアリール基とは，上記光学分割法による製造法におけるアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基及び置換基を有していてもよいヘテロアリール基と同じ意味であり，好ましい基も同一である。
【００６３】
本発明において使用される化合物においてアミノ基の保護基とは，通常の有機合成等に用いられるアミノ基の保護基であれば特に限定されないが，例えば置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基，ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等のカルバメート型の保護基，ホルミル基，アセチル基，トリフルオロアセチル基等のアミド型の保護基等が挙げられる。好ましくは置換基を有していてもよいベンジルオキシカルボニル基，ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等のカルバメート型の保護基が挙げられ，更に好ましくは無置換のベンジルオキシカルボニル基，ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基が挙げられる。
【００６４】
置換基を有するベンジルオキシカルボニル基の置換基としては，ベンゼン環上の１〜５個の置換基であり，炭素数１〜５のアルキル基，炭素数１〜５のアルコキシル基，炭素数１〜６のアシロキシ基，ニトロ基，ハロゲン原子等が挙げられる。該置換基における炭素数１〜５のアルキル基，炭素数１〜５のアルコキシル基及びハロゲン原子とは，上記光学分割法による製造法における炭素数１〜５のアルキル基，炭素数１〜５のアルコキシル基及びハロゲン原子と同じ意味である。
【００６５】
該置換基における炭素数１〜６のアシロキシ基としては例えば，ホルミルオキシ基，アセトキシ基，プロパノイルオキシ基，ブタノイルオキシ基，バレロキシ基，ヘキサノイルオキシ基等が挙げられ，好ましくはアセトキシ基，プロパノイルオキシ基を挙げることができる。
【００６６】
本発明の上記製造法における一般式（５）のＡにおいて，ハロゲン原子とは上記光学分割法による製造法におけるハロゲン原子と同じ意味であるが，好ましくは塩素原子，臭素原子，沃素原子であり，特に好ましくは臭素原子である。又，Ｐ＝Ｏ（ＯＲ８）２である場合のＲ８はアルキル基又はアリール基であり，上記光学分割法による製造法におけるアルキル基又はアリール基と同じ意味である。
【００６７】
本発明の上記製造法に使用される一般式（４）で表される光学活性なアルデヒド誘導体は，例えばＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８３，ｐ６７６−６７８に記載の合成方法又はそれに準じた方法に従って，以下の反応式ｂに示す合成手順により調製することが可能である。この合成手順はα−アミノ酸を出発原料としているため，一般式（４）のＲ５の置換基及びアミノ基の保護基（Ｙ）を変えた多くの誘導体が合成可能である。
【００６８】
反応式ｂ
2005104895.tif 000017
【００６９】
［反応式中，Ｙ及びＲ５は上記と同じ意味を示し，Ｍｅはメチル基，ＨＯＢｔは１-Ｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ  ｈｙｄｒａｔｅ，ＷＳＣ・ＨＣｌは１-Ｅｔｈｙｌ-３-（３'-ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｃａｒｂｏｄｉｉｍｉｄｅ  ｈｙｄｒａｔｅを示す。］
【００７０】
又，一般式（５）で表される有機リン化合物は例えば，トリフェニルホスホニウム塩等のホスホニウム塩類，ジメトキシホスホリルアルキル，ジエトキシホスホニルアルキル等のホーナー−エモンズ型化合物等であり，公知の方法，例えば，第４版実験化学講座，１９巻，ｐ５３−１０１（丸善株式会社）等に記載の方法を参考にして調製することが可能である。反応スキームの１例を以下の反応式ｃとして示す。
【００７１】
反応式ｃ
2005104895.tif 000018
［反応式中，Ｒ６，Ｒ７，ｍ，Ｃ３＊は上記と同じ意味を示し，Ｐｈはフェニル基，Ｍｅはメチル基を示す。］
【００７２】
一般式（１４）で表される化合物は，市販の化合物を用いても，公知の化合物の製造法又はそれに準じる方法により調製して用いてもよい。
【００７３】
光学活性アルデヒド誘導体である化合物（４）に化合物（５）で表される有機リン化合物によるウイティッヒ反応，又はホーナー−エモンズ反応により上記一般式（６）で表される化合物を得る反応は，有機リン化合物を化合物（４）１モルに対して１モルから１０倍モル当量，好ましくは１〜３倍モル当量用いて行われる。通常，反応に影響のない有機溶媒中で行われ，該有機溶媒としては，例えば，ヘキサン，ペンタン等の飽和炭化水素類，Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類，ジクロロメタン，クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類，ジエチルエーテル，ジオキサン，テトラヒドロフラン等のエーテル類，酢酸エチル，酢酸メチル等のエステル類，アセトニトリル，プロピロニトリル等のニトリル類，ニトロメタン，ニトロエタン等のニトロ化合物，ベンゼン，トルエン等の芳香族炭化水素類等を１種又は２種以上適宜の割合で混合して用いる。
【００７４】
又，本反応は必要に応じて塩基の存在下で行われ，該塩基としては水素化アルカリ金属類，有機アルカリ金属類，アルカリ金属アルコキシド類等が用いられ，その添加量は化合物（４）に対して約１モルから５倍モル当量である。
【００７５】
反応温度は−８０℃から１２０℃，好ましくは−２０℃から８０℃である。反応時間は３０分から１２時間程度である。
【００７６】
得られた化合物（６）の二重結合についての位置異性体及びそれらの混合物をすべて次の反応に使用し得る。
【００７７】
続いて，得られた化合物（６）は，通常は単離することなく，その二重結合の還元，アミノ基の保護基の脱保護を段階的又は同時に行う反応に付する。二重結合の還元は，好ましくは接触還元触媒及び水素存在下で行われる。接触還元触媒は化合物（６）に対し通常約０．０１から１００重量％，好ましくは約０．１から５０重量％用いる。接触還元触媒としては，パラジウム−黒，パラジウム−炭素，酸化白金，白金黒，ラネーニッケル，ラネーコバルト等が挙げられる。
【００７８】
本反応は反応に不活性な溶媒を用いて行ってもよい。このような溶媒としては反応が進行する限り特に限定されないが，例えば，水や，メタノール，エタノール，プロパノール等のアルコール類，ジエチルエーテル，テトラヒドロフラン，ジオキサン，１，２−ジメトキシエタン等のエーテル類，ベンゼン，トルエン，シクロヘキサン等の炭化水素類，酢酸エチル等のエステル類，酢酸等の有機酸類等が用いられ，これらは単独で又は２種以上の混合溶媒として用いられる。
【００７９】
用いる接触還元触媒の活性度及び量によって異なるが，反応時間は通常０．５時間から４８時間，好ましくは０．５時間から２４時間であり，反応温度は通常０℃から１２０℃，好ましくは１０℃から８０℃である。
【００８０】
アミノ基の保護基の除去方法はそれぞれ保護基に適した方法を用いればよく，公知の方法によって行われる。例えば，ベンジルオキシカルボニル基は接触還元による加水素分解により，ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基は酸処理により，パラメトキシベンジルオキシカルボニル基は接触還元又は酸処理により除去することができる。なお，このアミノ基の保護基の除去方法に接触還元を使用する場合，二重結合の還元とアミノ基の保護基の脱保護を同時に行うことができる。
【００８１】
次ぎに，一般式（７）で表される光学活性アミノアルコール化合物を得るためのメチルエーテル結合の脱メチル化反応は，例えば，ケイ素試薬により行われ，該ケイ素試薬としては，ヨードトリメチルシラン，四塩化ケイ素−ヨウ化ナトリウム，ｔ−ブチルシリルクロライド−ヨウ化ナトリウム等が用いられる。その使用量はメチルエーテル化合物に対して１モルから１０倍モル当量，好ましくは１〜３倍モル当量である。
【００８２】
本反応は通常，窒素やアルゴン等の不活性な気体雰囲気下，反応に影響のない有機溶媒中で行われる。該有機溶媒としては，例えば，ヘキサン，ペンタン等の飽和炭化水素類，ジクロロメタン，クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類，酢酸エチル，酢酸メチル等のエステル類，アセトニトリル，プロピロニトリル等のニトリル類，ベンゼン，トルエン等の芳香族炭化水素類等が用いられ，これらは単独又は２種以上適宜の割合で混合して用いてもよい。
【００８３】
反応温度は−８０℃から１２０℃，好ましくは−２０℃から８０℃であり，反応時間は通常３０分から７２時間である。
【００８４】
又，本発明には以下に説明する不斉合成法による光学活性なアミノアルコール化合物の製造法も含まれる。即ち，上記一般式（４）で表される化合物と上記一般式（８）［式中，ＢはＣＨ＝ＰＰｈ３，又はＣＨ２−Ｐ＝Ｏ（ＯＲ８）２（Ｒ８はアルキル基又はアリール基を示す）を示し，Ｒ９はアルキル基を示す。］で表される有機リン化合物とを反応して得られる上記一般式（９）［式中，Ｃ２＊，Ｙ，Ｒ５及びＲ９は上記と同じ。］で表される化合物の二重結合の還元，アミノ基の保護基の脱保護を，段階的又は同時に行い，上記一般式（１０）［式中，Ｃ２＊，Ｒ５及びＲ９は上記と同じ。］で表されるアミノエステル化合物を得，該化合物のアミノ基を上記一般式（１１）［式中，ｒは１〜３の整数を示し，Ｒ１０はアルキル基を示す。］で表される化合物を用いて保護後，エステル基を有機金属化合物を用いて３級アルコール化合物へ変換し，アミノ基の保護基を脱保護して得られることを特徴とする上記一般式（１２）［式中，Ｃ２＊，Ｒ５は上記と同じ，Ｒ１１はアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を示す。］で表される光学活性アミノアルコール化合物の製造法である。
【００８５】
本発明の上記製造法に使用される一般式（８）で表される化合物のＢがＣＨ２−Ｐ＝Ｏ（ＯＲ８）２において，Ｒ８はアルキル基又はアリール基，又，Ｒ９はアルキル基であるが，上記光学分割法による製造法におけるアルキル基又はアリール基と同じ意味である。なお，Ｐｈはフェニル基の略号である。
【００８６】
一般式（８）で表される有機リン化合物は，前記と同様に公知の方法，例えば，第４版実験化学講座１９巻，ｐ５３−１０１（丸善株式会社）等に記載の方法を参考にして製造することが可能である。
【００８７】
本発明の上記製造法に使用される一般式（１１）で表される化合物におけるＲ１０はアルキル基であるが，上記光学分割法による製造法におけるアルキル基と同じ意味である。
【００８８】
本発明の上記製造法において一般式（１２）で表される光学活性アミノアルコール化合物におけるＲ１１においてアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基及び置換基を有していてもよいアラルキル基としては，上記光学分割法による製造法におけるアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基及び置換基を有していてもよいアラルキル基と同じ意味であり，好ましい基も同一である。
【００８９】
光学活性アルデヒド誘導体である化合物（４）に化合物（８）で表される有機リン化合物によるウイティッヒ反応，又はホーナー−エモンズ反応により上記一般式（９）で表される化合物を得る反応は，上記の製造法において化合物（４）と化合物（５）のウイティッヒ反応，又はホーナー−エモンズ反応とほぼ同様な条件で行うことができる。
【００９０】
得られた化合物（９）の二重結合についての位置異性体及びそれらの混合物はすべて次の反応に使用しうる。
【００９１】
化合物（９）は，上記の製造法において化合物（６）を付したのと同様な条件にて二重結合の還元及びアミノ基の保護基の脱保護を行い，上記一般式（１０）で表される化合物へ変換される。
【００９２】
上記一般式（１０）で表される化合物に有機金属化合物を反応させる際には，有機金属化合物，例えば，グリニャール試薬や有機リチウム試薬等との反応性が低く，且つその反応時にアミンが活性化されて環化反応を防ぐために，適当なアミノ基の保護基を導入することが必要である。
【００９３】
該保護基として一般式（１１）で表される化合物，例えば，市販されている１，２−ビス（クロロジメチルシリル）エタン，１，３，−ジクロロ−１，１，３，３−テトライソプロピルジシロキサン等が挙げられ，その使用量はアミノエステル化合物（１０）に対して１〜５倍モル当量，好ましくは１〜３倍モル当量である。本反応は通常，反応に影響のない有機溶媒中で行われ，該有機溶媒としては，例えば，ヘキサン，ペンタン等の飽和炭化水素類，ジクロロメタン，クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類，ジエチルエーテル，ジオキサン，テトラヒドロフラン等のエーテル類，ベンゼン，トルエン等の芳香族炭化水素類等が用いられ，これらは１種又は２種以上適宜の割合で混合して用いてもよい。
【００９４】
反応温度は−３０℃〜１００℃，好ましくは０℃〜５０℃である。反応時間は通常３０分〜２４時間である。
【００９５】
続いて，有機金属化合物と反応させてエステル基を３級アルコール基へ変換後，酸によりアミノ基の保護基を除去して，上記一般式（１２）で表される光学活性アミノアルコール化合物を製造する。
【００９６】
有機金属化合物としては，エステル基を３級アルコール基へ変換できれば特に限定されないが，グリニャール試薬や有機リチウム試薬等が挙げられる。具体的にはグリニャール試薬としては，メチルマグネシウムブロミド，エチルマグネシウムブロミド，フェニルマグネシウムブロミド，ベンジルマグネシウムブロミド等が，有機リチウム試薬としては，メチルリチウム，ｎ−ブチルリチウム，フェニルリチウム，ｔ−ブチルリチウム，ｓ−ブチルリチウム等の市販又は公知の有機金属化合物が挙げられ，その使用量はエステル体に対して２モルから１０倍モル当量，好ましくは２〜５倍モル当量である。
【００９７】
本反応は通常，反応に影響のない有機溶媒中で行われ，該有機溶媒としては例えば，ヘキサン，ペンタン等の飽和炭化水素類，ジエチルエーテル，ジオキサン，テトラヒドロフラン等のエーテル類，ベンゼン，トルエン等の芳香族炭化水素類等が用いられ，これらは１種又は２種以上適宜の割合で混合して用いてもよい。
【００９８】
反応温度は−５０℃から１００℃，好ましくは−２０℃から５０℃である。反応時間は通常３０分から２４時間である。
【００９９】
アミノ基のシリル型保護基の酸による脱保護は，１Ｎ塩酸等の弱酸を用いて行われる。脱保護後，一般式（１２）で表される光学活性アミノアルコール化合物は，ジクロロメタン，クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類での抽出や強酸性のイオン交換樹脂を使用し単離することができる。
【０１００】
本発明の製造法が多段階である場合，途中の段階で分離精製により中間生成物を単離しても，後処理後に続けて次の反応に付してもすべて本発明の製造法に含まれる。又，本発明に使用される化合物及び本発明の製造法により得られる化合物には，その塩も含まれる。
【０１０１】
更に，本発明には上記一般式（２）［式中，ｍは０〜２の整数を示し，Ｒ１及びＲ２は各々同一でも異なっていてもよくアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し，Ｃ１＊の立体配置はＳ又はＲを示す。ただし，ｍが１であり，Ｒ１及びＲ２がメチル基である場合は除く。］で表される光学活性アミノアルコール化合物，又はその塩も含まれる。なお，一般式（２）でｍが１でＲ１及びＲ２がメチル基である場合，即ち，６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノールの光学活性体は非特許文献３に記載された化合物である。
【０１０２】
本発明の光学活性アミノアルコール化合物において，アルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基及び置換基を有していてもよいヘテロアリール基とは，上記光学分割法による製造法におけるアルキル基，置換基を有していてもよいアリール基，置換基を有していてもよいアラルキル基及び置換基を有していてもよいヘテロアリール基と同じ意味であり，好ましい基も同一である。但し，６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノールを除く。
【０１０３】
本発明の光学活性アミノアルコール化合物の塩としては，塩酸，硫酸，硝酸等の無機酸，酢酸，蓚酸，フマル酸，メタンスルホン酸，酒石酸，ジベンゾイル酒石酸，パラトルエンスルホン酸等の有機酸との塩が挙げられる。
【０１０４】
本発明の光学活性アミノアルコール化合物として具体的には，（Ｒ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノール，（Ｓ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノール等が挙げられる。
【実施例】
【０１０５】
以下に実施例により本発明を具体的に説明するが，本発明はこれにより限定されるものではない。又，以下で室温とは１０℃〜３０℃を示す。なお，実施例のＮＭＲ値は，テトラメチルシラン（ＴＭＳ）を内部標準として測定した値δ（ｐｐｍ）である。
【０１０６】
光学純度（ｅ．ｅ．）は以下の方法で測定した。
得られた化合物１０ｍｇに１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（０．２ｍＬ）と水（３．０ｍＬ）を加え，ジクロロメタン又はクロロホルム（４．０ｍＬ×３）で抽出後，有機層を飽和食塩水にて洗浄し，炭酸カリウムにて乾燥後，減圧下溶媒留去した。得られた残渣にテトラヒドロフラン（２．０ｍＬ）とフェニルイソシアナート（２μＬ）を加え，室温で２０分間攪拌し，減圧下溶媒留去（必要であればショートカラムも実施）後，アセトニトリル（５．０ｍＬ）と水（５．０ｍＬ）を加え，その溶液の５〜１０μＬを光学活性カラム（ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｒ）を用いた高速液体クロマトグラフィーにより分析した。
【０１０７】
ＨＰＬＣ測定条件は，次のとおりである。
５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノール
［Ｃｏｌｕｍｎ：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｒ，４．６ｘ２５０ｍｍ；Ｅｌｕｅｎｔ  Ｈ２Ｏ：ＣＨ３ＣＮ＝８０：２０；Ｃｏｌｕｍｎ  ｏｖｅｎ  ３０℃；流速０．８ｍｌ／ｍｉｎ；検出波長２５４ｎｍ］
Ｒｅｔｅｎｔｉｏｎ  ｔｉｍｅ；Ｒ体  ２０．０分，Ｓ体  ２３．４分
【０１０８】
６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノール
［Ｃｏｌｕｍｎ：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−Ｒ，４．６ｘ２５０ｍｍ；  Ｅｌｕｅｎｔ  Ｈ２Ｏ：ＭｅＯＨ：ＣＨ３ＣＮ＝７０：１５：１５；  Ｃｏｌｕｍｎ  ｏｖｅｎ  ３８℃；流速０．９ｍｌ／ｍｉｎ；検出波長２５４ｎｍ］
Ｒｅｔｅｎｔｉｏｎ  ｔｉｍｅ；Ｒ体  ３２．５分，Ｓ体３５．３分
【０１０９】
参考例１  （±）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノールの合成
ヘキサン−２，５−ジオン（１３７ｇ）をベンゼン（３００ｍＬ）に溶解し，エチレングリコール（１００ｍＬ）及びｐ−トルエンスルホン酸（１１．４ｇ）を加えて，５時間脱水加熱還流した。酢酸エチルにて希釈し，飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水にて洗浄後，有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。溶媒を減圧下留去後，残渣を減圧蒸留（８０〜８２℃，３ｍｍＨｇ）により分取し，４−（２−メチル［１，３］ジオキソラン−２−イル）ブタン−２−オン（５６．８３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．３２（３Ｈ，ｓ），１．９８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．１６（３Ｈ，ｓ），２．５２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８８−３．９８（４Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ）
【０１１０】
得られた４−（２−メチル［１，３］ジオキソラン−２−イル）ブタン−２−オン（２７．６０ｇ）をテトラヒドロフラン（２２０ｍＬ）に溶解し，臭化メチルマグネシウム（３Ｍテトラヒドロフラン溶液，８５ｍＬ）を室温にて加えた。４０分間撹拌後，飽和塩化アンモニウム水溶液（３００ｍＬ）を加え，酢酸エチル（３００ｍＬ×３）にて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄後，無水硫酸ナトリウムにて乾燥し，減圧下溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（５０％酢酸エチル−ヘキサンにて溶出）にて精製し，２−メチル−４−（２−メチル［１，３］ジオキソラン−２−イル）ブタン−２−オール（２１．１８ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．２２（６Ｈ，ｓ），１．３４（３Ｈ，ｓ），１．５４−１．８２（４Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），３．９−４．０（４Ｈ，ｍ）
【０１１１】
得られた２−メチル−４−（２−メチル［１，３］ジオキソラン−２−イル）ブタン−２−オール（２１．１８ｇ）をアセトン（１６５ｍＬ）に溶解し，１Ｍ塩酸水溶液（６．６ｍＬ）を加えて室温にて２時間撹拌した。反応液を１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液にて中和後，飽和食塩水（１００ｍＬ）を加え，減圧下アセトンを留去した。クロロホルム（２００ｍＬ×４）にて抽出後，有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し，減圧下溶媒留去して，５−ヒドロキシ−５−メチルヘキサン−２−オン（１４．２３ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．２２（６Ｈ，ｓ），１．７７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．１９（３Ｈ，ｓ），２．５９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）
【０１１２】
得られた５−ヒドロキシ−５−メチルヘキサン−２−オン（１４．２３ｇ）を塩化メチレン（５２０ｍＬ）に溶解し，ベンズヒドリルアミン（２１．００ｇ）を加え，室温にて一晩撹拌した。反応液にトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（４６．３０ｇ）を加え，室温にて４時間撹拌した。蒸留水（１７３ｍＬ）を加えた後，６Ｍ水酸化ナトリウム水溶液を液性がｐＨ１２になるまで加えた。クロロホルムにて抽出後，有機層を飽和食塩水にて洗浄し，無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。減圧下溶媒留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（６７％酢酸エチル−ヘキサンにて溶出）にて精製し，５−（ベンズヒドリルアミノ）−２−メチルヘキサン−２−オール（２２．８０ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．０７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．３１（３Ｈ，ｓ），１．３４−１．８４（４Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），２．５８（１Ｈ，ｍ），３．８６−３．９６（４Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），４．９８（１Ｈ，ｓ），７．１８−７．４４（１０Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ）
【０１１３】
得られた５−（ベンズヒドリルアミノ）−２−メチルヘキサン−２−オール（５．２０ｇ）をメタノール（２５０ｍＬ）に溶解し，この溶液をオートクレーブに注ぎこみ，水酸化パラジウム（２．００ｇ）を加えた。オートクレーブを密閉した後，水素圧９ｋｇ／ｃｍ２をかけ，２．５時間撹拌した。開封後，反応液をろ過剤（セライト）にてろ過後，ろ液を減圧下濃縮した。残渣に蒸留水（５０ｍＬ）を加え，１Ｍ塩酸水溶液にて液性をｐＨ２．０とした後，ジエチルエーテル（１００ｍＬ×３）にて洗浄した。水層に６Ｍ水酸化ナトリウム水溶液を液性がｐＨ１２になるまで加えた後，クロロホルム（１００ｍＬ×３）にて抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し，無水硫酸ナトリウムにて乾燥後，減圧下溶媒留去して，５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノール（２．０１ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．１２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），１．２２（６Ｈ，ｓ），１．３−１．７（４Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），２．９０（１Ｈ，ｍ）
【０１１４】
実施例１  （Ｒ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノールの合成
（±）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノールと（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸の１：１の混合物（１９．１ｇ，３７．６ｍｍｏｌ）をメタノール：酢酸エチル＝１：２の溶液（塩１ｇに対し溶媒量３〜６ｍＬ）で再結晶を３回行ったところ，（Ｒ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノールの（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸塩（１．３０ｇ，２．４６ｍｍｏｌ，５１．３％ｅ．ｅ．）が得られた。得られた結晶に３Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（１．８ｍＬ）と水（２．０ｍＬ）を加え，クロロホルム（１０ｍＬ×４）で抽出後，有機層を飽和食塩水にて洗浄し，炭酸カリウムにて乾燥後，減圧下溶媒留去して，（Ｒ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノール（２９１ｍｇ，２．２１ｍｍｏｌ，５１．３％ｅ．ｅ．，収率５．９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．１２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），１．２２（６Ｈ，ｓ），１．３−１．７（４Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），２．９０（１Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ，ＰＯＳ）ｍ／ｚ：１３１［Ｍ＋Ｈ］＋
【０１１５】
実施例２  （Ｓ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノールの合成
（±）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノールと（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸の１：１の混合物（８．０ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）をメタノール：酢酸エチル＝１：２の溶液（塩１ｇに対し溶媒量３〜６ｍＬ）で再結晶を２回行ったところ，（Ｓ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノールの（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸塩（１．４７ｇ，２．８０ｍｍｏｌ，４２．６％ｅ．ｅ．）が得られた。得られた結晶に３Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（２．０ｍＬ）と水（２．０ｍＬ）を加え，クロロホルム（１０ｍＬ×４）で抽出後，有機層を飽和食塩水にて洗浄し，炭酸カリウムにて乾燥後，減圧下溶媒留去して，（Ｓ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノール（１５６ｍｇ，１．１８ｍｍｏｌ，４２．６％ｅ．ｅ．，収率７．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．１２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），１．２２（６Ｈ，ｓ），１．３−１．７（４Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），２．９０（１Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ，ＰＯＳ）ｍ／ｚ：１３１［Ｍ＋Ｈ］＋
【０１１６】
実施例３  （Ｓ）−６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノールの合成
市販の６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノール（ラセミ体）と（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸の１：１の混合物（２６９ｇ，５１６ｍｍｏｌ）をメタノール：アセトン＝１：１の溶液（塩１ｇに対し溶媒量５〜１５ｍＬ）で再結晶を４回行ったところ，（Ｓ）−６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノールの（＋）−ジベンゾイル−Ｄ−酒石酸塩（５１．６２ｇ，９９．０ｍｍｏｌ，９８．４％ｅ．ｅ．，収率１９．２％，）が得られた。得られた結晶（５０ｇ）に５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）と水（１２０ｍＬ）を加え，ジクロロメタン（１５０ｍＬ×４）で抽出後，有機層を飽和食塩水にて洗浄し，硫酸ナトリウムにて乾燥後，減圧下溶媒留去して，（Ｓ）−６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノール（１１．０５ｇ，７６．１ｍｍｏｌ，９８．４％ｅ．ｅ．，収率１４．７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．０７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．２１（６Ｈ，ｓ），１．２７−１．５５（６Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），２．９０（１Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ，ＰＯＳ）ｍ／ｚ：１４５［Ｍ＋Ｈ］＋
比施光度：[α］Ｄ２５＝＋６．４°（ＣＨＣｌ３，ｃ＝１．１７）
【０１１７】
実施例４  （Ｒ）−６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノールの合成
市販の６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノール（ラセミ体）と（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸・１水和物の１：１の混合物（３５．９ｇ，６８．９ｍｍｏｌ）をメタノール：アセトン＝１：１の溶液（塩１ｇに対し溶媒量５〜１５ｍＬ）で再結晶を４回行ったところ，（Ｒ）−６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノールの（−）−ジベンゾイル−Ｌ−酒石酸塩（７．５１ｇ，１４．４ｍｍｏｌ，収率２０．９％，９９．６％ｅ．ｅ．）が得られた。得られた結晶（６．０ｇ）に５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（５．０ｍＬ）と水（１３．５ｍＬ）を加え，ジクロロメタン（１８ｍＬ×４）で抽出後，有機層を飽和食塩水にて洗浄し，硫酸ナトリウムにて乾燥後，減圧下溶媒留去して，（Ｒ）−６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノール（１．３１ｇ，９．０ｍｍｏｌ，９９．６％ｅ．ｅ．，収率１５．８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．０７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．２１（６Ｈ，ｓ），１．２７−１．５５（６Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），２．９０（１Ｈ，ｍ）
ＭＳ（ＥＳＩ，ＰＯＳ）ｍ／ｚ：１４５［Ｍ＋Ｈ］＋
比施光度：[α］Ｄ２５＝−６．３°（ＣＨＣｌ３，ｃ＝１．０５）
【０１１８】
参考例２  （Ｓ）−２−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）アミノプロピオンアルデヒドの合成
市販のＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｌ−アラニン（Ｚ−Ｌ−アラニン，６５．３ｇ）を塩化メチレン（５００ｍＬ）に溶解し，氷冷下，Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩（３４．４ｇ），１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（５１．３ｇ），１−（３−ジメチルアミノプロピル）−１−エチルカルボジイミド塩酸塩（７２．８ｇ）及びＮ−メチルモルホリン（４９．７ｍＬ）を加え，一昼夜撹拌した。クロロホルム（５００ｍＬ）にて希釈し，飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３００ｍＬ×２），１Ｍ塩酸水溶液（３００ｍＬ×２）及び飽和食塩水にて順次洗浄した。無水硫酸ナトリウムにて乾燥後，減圧下濃縮し，得られた残渣をヘキサン−酢酸エチル混合溶媒より結晶化し，（Ｓ）−２−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）アミノ−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルプロピオンアミド（Ｚ−Ｌ−アラニンＮ，Ｏ−ジメチルヒドロキサミド，７６．７ｇ，収率９８％）を得た。
【０１１９】
得られた（Ｓ）−２−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）アミノ−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチルプロピオンアミド（２６．６２ｇ）をテトラヒドロフラン（４００ｍＬ）に溶解し，−２５℃にて冷却下，水素化リチウムアルミニウム（４．７５ｇ）を加えた後，室温にて１時間撹拌した。氷冷下，０．２７Ｍ硫酸水素カリウム水溶液（５００ｍＬ）を加え，ジエチルエーテル（５００ｍＬ×３）にて抽出した。有機層を１Ｍ塩酸水溶液（３００ｍＬ×３），飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２５０ｍＬ×２）及び飽和食塩水にて洗浄後，減圧下溶媒留去して，（Ｓ）−２−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）アミノプロピオンアルデヒド（Ｚ−Ｌ−アラニナール，１８．００ｇ，収率８７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．３８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），４．３２（１Ｈ，ｍ），５．１３（２Ｈ，ｓ，２Ｈ），５．３９（１Ｈ，ｂｒｓ），７．３０−７．４５（５Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），９．５７（１Ｈ，ｓ）
【０１２０】
実施例５  （Ｓ）−６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノールの合成
（ｉ）  （３−メトキシ−３−メチルブチル）トリフェニルフォスフォニウム  ブロミドの合成
市販の３−メトキシ−３−メチル−１−ヘキサノール（１５．５３ｇ，１２８ｍｍｏｌ）と四臭化炭素（５３．２ｇ，１６０ｍｍｏｌ）を無水ジクロロエタン（２４０ｍＬ）に加え，氷冷下トリフェニルフォスフィン（５０．３６ｇ，１９２ｍｍｏｌ）加え，室温で２５分間攪拌した。ジクロロメタンを留去後，ｎ−ペンタン（１００ｍＬ）を加え，粉末化した。得られた粉末を濾取し，ジエチルエーテル（３００ｍＬ）で洗浄した。得られた粉体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９：１にて溶出）にて精製し，１−ブロモ−３−メトキシ−３−メチルブタン（９．２７ｇ，５１．２ｍｍｏｌ，収率４２．７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．１７（６Ｈ，ｓ），２．０８（２Ｈ，ｍ），３．１９（３Ｈ，ｓ），３．４２（２Ｈ，ｍ）
【０１２１】
得られた１−ブロモ−３−メトキシ−３−メチルブタン（９１６９ｍｇ，５０．６ｍｍｏｌ）とトリフェニルフォスフィン（１２．６ｇ，４８．１ｍｍｏｌ）をトルエン（５０ｍＬ）に加え，１０時間還流した。室温まで冷却後，トルエンをデカントし，オイル状の物をヘキサンで洗浄し粉末化した。その粉末を濾取し，（３−メトキシ−３−メチルブチル）トリフェニルフォスフォニウム  ブロミド（５２８０ｍｇ，１１．９ｍｍｏｌ，収率２３．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．２６（６Ｈ，ｓ），１．８１（２Ｈ，ｍ），３．１０（３Ｈ，ｓ），３．６２（２Ｈ，ｍ），７．６０−７．９５（１５Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ）
【０１２２】
（ｉｉ）  （５−メトキシ−１，５−ジメチル−２−ヘキセニル）カルバミックアシッド  ベンジルエステルの合成
（ｉ）で得られた（３−メトキシ−３−メチルブチル）トリフェニルフォスフォニウム  ブロミド（１５７０ｍｇ，３．５４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解し，１Ｍナトリウムヘキサメチルジシラジド（３．５４ｍＬ，３．５４ｍｍｏｌ）を加え，４５分間還流した。室温まで冷却後，テトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解した（Ｓ）−２−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）アミノプロピオンアルデヒド（７３３ｍｇ，３．５４ｍｍｏｌ）を加え，室温にて１時間半撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（２０ｍＬ）を加え，酢酸エチル（２０ｍＬ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し，硫酸ナトリウムで乾燥後，減圧下溶媒留去し，得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１にて溶出）にて精製し，（５−メトキシ−１，５−ジメチル−２−ヘキセニル）カルバミックアシッド  ベンジルエステル（３０２ｍｇ，１．０３ｍｍｏｌ，収率２９．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．１４（６Ｈ，ｓ），１．２２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．２０−２．４０（２Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），３．１９（３Ｈ，ｓ），４．５１（１Ｈ，ｍ），４．７３（１Ｈ，ｍ），５．２８−５．６２（２Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），７．３０−７．４０（５Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ）
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）ｍ／ｚ：２９２［Ｍ＋Ｈ］＋，５８３［２Ｍ＋Ｈ］＋
【０１２３】
（ｉｉｉ）  ５−メトキシ−１，５−ジメチルヘキシルアミンの合成
（ｉｉ）で得られた（５−メトキシ−１，５−ジメチル−２−ヘキセニル）カルバミックアシッド  ベンジルエステル（３０２ｍｇ，１．０３ｍｍｏｌ）をエタノール（１５ｍＬ）に溶解し，１Ｍ塩酸水溶液（１．１ｍＬ）及び１０％パラジウム炭素（エヌ・イーケムキャット社，５０%含水，６０ｍｇ）を加えて，水素雰囲気下室温にて１６時間撹拌した。反応液をろ過し，得られたろ液を減圧下濃縮して，５−メトキシ−１，５−ジメチルヘキシルアミン（２１３ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．０７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ），１．１４（６Ｈ，ｓ），１．２０−１．５５（６Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），２．９０（１Ｈ，ｍ），３．１８（３Ｈ，ｓ）
ＭＳ（ＦＡＢ，ＰＯＳ）ｍ／ｚ：１６０［Ｍ＋Ｈ］＋，１８２［Ｍ＋Ｎａ］＋
【０１２４】
（ｉｖ）  （Ｓ）−６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノールの合成
（ｉｉｉ）で得られた５−メトキシ−１，５−ジメチルヘキシルアミン（４０ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２ｍＬ）に溶解し，窒素雰囲気下，ヨウ化ナトリウム（３０ｍｇ）とｔ−ブチルシリルクロライド（２２ｍｇ）を加え，室温で４８時間攪拌した。反応液に，水（３ｍＬ）を加えｐＨを約１１に調整後，クロロホルム（５ｍＬ×３）で抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し，炭酸カリウムで乾燥後，減圧下溶媒留去して，（Ｓ）−６−アミノ−２−メチル−２−ヘプタノール（１２．３ｍｇ，０．０８５ｍｍｏｌ，９１．８％ｅ．ｅ．，収率４２．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．０７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．２１（６Ｈ，ｓ），１．２７−１．５５（６Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），２．９０（１Ｈ，ｍ）
【０１２５】
実施例６  （Ｓ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノールの合成
（ｉ）  （Ｓ）−４−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）アミノペンタ−２−エン酸エチルエステルの合成
（Ｓ）−２−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）アミノプロピオンアルデヒド（１８．００ｇ）をテトラヒドロフラン（１８２ｍＬ）に溶解し，氷冷下エトキシカルボニルメチレントリフェニルホスホラン（東京化成株式会社製，３３．３２ｇ）を加え，室温にて１時間半撹拌した。反応液を減圧下濃縮後，シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１にて溶出）にて精製し，（Ｓ）−４−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）アミノペンタ−２−エン酸エチルエステル（２２．５１ｇ，収率９３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．２８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．２９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），４．２０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．４７（１Ｈ，ｍ），４．７５（１Ｈ，ｍ），５．１２（２Ｈ，ｓ），５．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．７，１．６Ｈｚ），６．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１５．７，５．１Ｈｚ），７．３０−７．４０（５Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ）
【０１２６】
（ｉｉ）  （Ｓ）−４−アミノペンタン酸エチルエステル塩酸塩の合成
（ｉ）で得られた（Ｓ）−４−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）アミノペンタ−２−エン酸エチルエステル（１５．２４ｇ）をエタノール（５４０ｍＬ）に溶解し，１Ｍ塩酸水溶液（７５ｍＬ）及び１０％パラジウム炭素（エヌ・イーケムキャット社，５０%含水，３．３０ｇ）を加えて，水素雰囲気下室温にて３．５時間撹拌した。反応液をろ過し，得られたろ液を減圧下濃縮して，（Ｓ）−４−アミノペンタン酸エチルエステル塩酸塩（９．８７ｇ，収率９８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤ３ＯＤ）：
１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．２９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ），１．７０−２．０８（２Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），２．４８（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．２，１．１Ｈｚ），３．３４（１Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
【０１２７】
（ｉｉｉ）  （Ｓ）−４−（２，２，５，５−テトラメチル［１，２，５］アザジシロリジン−１−イル）ペンタン酸エチルエステルの合成
（ｉｉ）で得られた（Ｓ）−４−アミノペンタン酸エチルエステル塩酸塩（９．８７ｇ）を塩化メチレン（９５ｍＬ）に懸濁し，氷冷下トリエチルアミン（２４．０８ｍＬ）及び１，２−ビス（クロロジメチルシリル）エタン（１１．６３ｇ）を加え，室温にて２時間撹拌した。ヘキサン（９５ｍＬ）を加え，不溶物をろ別後，ろ液を減圧下濃縮した。得られた残渣にヘキサン−ジエチルエーテル（２：１）の混合溶媒（３００ｍＬ）を加え，不溶物を再びろ別後，ろ液を減圧下濃縮して，（Ｓ）−４−（２，２，５，５−テトラメチル［１，２，５］アザジシロリジン−１−イル）ペンタン酸エチルエステル（１４．３５ｇ，収率９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
０．０８（１２Ｈ，ｓ），０．６８（４Ｈ，ｍ），１．１３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），１．７０（２Ｈ，ｍ），２．３１（２Ｈ，ｍ），３．０２（１Ｈ，ｍ），４．１３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）
【０１２８】
（ｉｖ）  （Ｓ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノールの合成
（ｉｉｉ）で得られた（Ｓ）−４−（２，２，５，５−テトラメチル［１，２，５］アザジシロリジン−１−イル）ペンタン酸エチルエステル（３１．０ｇ）をテトラヒドロフラン（３２０ｍＬ）に溶解し，−１５℃にて冷却下，塩化メチルマグネシウム（３Ｍテトラヒドロフラン溶液，７９．０ｍＬ）を滴下し，氷冷下１時間撹拌後，更に室温にて１．５時間撹拌した。氷冷下，反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（２１０ｍＬ）及び飽和食塩水（１１０ｍＬ）を加え，酢酸エチル−テトラヒドロフラン（４：１）の混合溶媒（１０００ｍＬ×１，５００ｍＬ×１）にて抽出した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥後，減圧下溶媒留去して，粗生成物（１４．０８ｇ）を得た。又，上記水層をクロロホルム（３００ｍＬ×３）にて抽出し，有機層を減圧下濃縮して，粗生成物（０．８６ｇ）を得た。
【０１２９】
これら粗生成物（１４．５８ｇ）を酢酸エチル−テトラヒドロフラン（４：１）の混合溶媒（２５０ｍＬ）に溶解し，１Ｍ塩酸水溶液（４０ｍＬ×３）にて抽出した。水層を酢酸エチル−テトラヒドロフラン（４：１）の混合溶媒（２００ｍＬ）にて洗浄後，６Ｍ水酸化ナトリウム水溶液にて液性をｐＨ１０に合わせた。減圧下濃縮後，シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル容積：３５０ｍＬ，クロロホルム−メタノール−濃アンモニア水（３２：６：１〜１６：６：１）にて溶出）及びアルミナカラムクロマトグラフィー（アルミナ容積：１８０ｍＬ，クロロホルム−メタノール（２０：１〜５：１）にて溶出）にて精製し，（Ｓ）−５−アミノ−２−メチル−２−ヘキサノール（３．０５ｇ，９８．０％ｅ．ｅ．，収率４４％）を得た．
１Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ，ＴＭＳ，ＣＤＣｌ３）：
１．１２（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．２１（６Ｈ，ｓ），１．３−１．７（４Ｈ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ），２．９０（１Ｈ，ｍ）
比施光度：[α]Ｄ２５＝＋１２．２°（ＣＨＣｌ３，ｃ＝１．１２）