(57)【要約】【課題】  本発明は、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能であり、ＡＣＦ接続される電極層形成部が強靭である画像表示装置を提供することを主目的とするものである。【解決手段】  上記目的を達成するために、本発明は、基材と、上記基材上に形成された表示層と、上記表示層上に形成されたガスバリア層と、上記ガスバリア層上にパターン状に形成された電極層とを有し、上記電極層がＡＣＦ接続される画像表示装置であって、上記ガスバリア層は、中間層が形成されている中間層形成領域と、中間層が形成されていない非中間層形成領域とを有し、上記表示層が設けられている表示部上のガスバリア層は中間層形成領域であり、上記表示部周囲に配置された、上記表示層が形成されていない非表示部の電極層が形成された電極層形成部上のガスバリア層は非中間層形成領域であることを特徴とする画像表示装置を提供する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上に形成された表示層と、前記表示層上に形成されたガスバリア層と、前記ガスバリア層上にパターン状に形成された電極層とを有し、前記電極層がＡＣＦ接続される画像表示装置であって、
前記ガスバリア層は、中間層が形成されている中間層形成領域と、中間層が形成されていない非中間層形成領域とを有し、
前記表示層が設けられている表示部上のガスバリア層は中間層形成領域であり、前記表示部周囲に配置された、前記表示層が形成されていない非表示部の電極層が形成された電極層形成部上のガスバリア層は非中間層形成領域であることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
前記非中間層形成領域が、非表示部の全領域であることを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載された画像表示装置における表示層が、色変換層であることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項４】
基材上に表示層を形成する表示層形成工程と、
前記表示層上にガスバリア層を形成するガスバリア層形成工程と、
前記ガスバリア層上に電極層をパターン状に形成する電極層形成工程と
を有し、
前記電極層がＡＣＦ接続される画像表示装置の製造方法であって、
前記ガスバリア層形成工程は、
前記表示層が形成されている表示部上、および前記表示部周囲に配置された、前記表示層が形成されていない非表示部上に第１バリア層を形成する第１バリア層形成工程と、
少なくとも前記非表示部の電極層が形成されている電極層形成部上には中間層が形成されないように他の領域にパターン状に中間層を形成する中間層形成工程と、
前記第１バリア層が形成された領域上に第２バリア層を形成する第２バリア層形成工程とを有するものであることを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記中間層形成工程では、前記非表示部上には中間層が形成されないように、パターン状に中間層を形成することを特徴とする請求項４に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記中間層形成工程は、
前記第１バリア層上に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程と、
前記中間層を形成する部分のみ、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により撥液性から親液性に濡れ性を変化させる濡れ性変化工程と、
前記濡れ性変化工程において親液性となった親液性領域に中間層形成用塗工液を塗布する中間層形成用塗工液塗布工程とを有することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の画像表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項４から請求項６までのいずれかの請求項に記載された画像表示装置の製造方法における表示層が、色変換層であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば有機ＥＬ素子等の画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報の多様化が進んでいる中で、情報分野における表示装置には、高輝度、高コントラスト、高い発光効率、高解像度、広視野角性、微細化、カラー化、軽さ、薄さ等の、表示素子として優れた特徴が求められ、さらに低消費電力・高速応答へ向けて活発な開発が進められている。特に、高精細なフルカラー表示装置の考案が広くなされている。
【０００３】
このようなカラー表示装置として実用化する上で重要なことは、精細なカラー表示機能を有することとともに、長期安定性を有することである。しかし、表示素子の中には、一定期間駆動すると、電流−輝度特性等の発光特性が著しく低下するという欠点を有するものがある。
【０００４】
この発光特性の低下原因の代表的なものは、ダークスポットと呼ばれる発光欠陥点の成長である。このダークスポットは、表示素子中の酸素あるいは水分による表示素子の積層構成材料の酸化あるいは凝集に起因するものと考えられている。ダークスポットの成長は、通電中（駆動中）はもちろん、保存中にも進行し、極端な場合には発光面全体に広がる。その成長は、特に、（１）表示素子の周囲に存在する酸素あるいは水分により加速され、（２）有機積層膜中に吸着物として存在する酸素あるいは水分に影響され、および（３）表示素子作製時に用いる部品に吸着している水分、もしくは製造時等における水分の浸入にも影響されると考えられている。
【０００５】
この水分の表示素子への侵入を防止する手法として、例えば有機ＥＬ素子の作製方法として、有機ＥＬ層上に、厚さ０．０１〜２００μｍの絶縁性の無機酸化膜層を設けることが開示されている（特許文献１）。また、有機ＥＬ層上に、オーバーコート層および絶縁性の無機酸化膜層を設けることが開示されている（特許文献２）。上記無機酸化膜層には、有機ＥＬ層の寿命を維持するための高い防湿性が要求され、ＪＩＳ  Ｋ７１２６の気体透過度試験方法により測定される、無機酸化膜層における水蒸気または酸素のガス透過係数は、それぞれ１０−１３ｃｃ・ｃｍ／ｃｍ２・ｓ・ｃｍＨｇ以下であることが望ましいとされている。また、上記オーバーコート層は、塗布後の表面の凹凸を平坦化させて、電極の断線を低減させるものである。
【０００６】
また、特許文献３、特許文献４に示されるように、カラーフィルタの作製方法として、カラーフィルタ層上に形成した樹脂保護層に対して、ＤＣスパッタリングによりＳｉＯＸ、ＳｉＮＸを形成する方法があり、この方法は透明導電膜の密着性を向上させる効果がある。また、低融点ガラスを焼結する方法が知られている（特許文献５）。この他に、有機ＥＬ素子を外気から遮断する封止方法として、ＣＶＤ法によりＳｉＮＸ膜を形成する方法が知られている（特許文献６）。
【０００７】
しかしながら、上記いずれの文献に記載された発明においても、有機ＥＬ素子等の表示素子の劣化を防ぐ防湿性、ガスバリア性としては十分とは言い難いといえる。
【０００８】
そこで、有機ＥＬ層上に無機酸化物層と樹脂層とを交互に積層したバリア性積層体を形成することにより、有機ＥＬ素子を封止する方法が開示されている（例えば特許文献７参照）。このようなバリア性積層体は、例えば無機酸化物層と樹脂層と無機酸化物層とで構成される３層からなる積層体とした場合、有機ＥＬ層上の１層目の無機酸化物層中のピンホールが、その上に樹脂層を形成することにより埋められ、さらにその樹脂層上に無機酸化物層を形成することにより、酸素や水分等の浸入を妨げることができる。しかしながら、表示素子の電極層形成部にＡＣＦ接続する際に強く挟み込んで接続するため、この電極層形成部上に樹脂層が設けられている場合、樹脂層が厚く柔軟であるため、無機酸化物層および電極が割れてしまうという問題があった。
【０００９】
【特許文献１】特開平８−２７９３９４号公報
【特許文献２】特開２００２−３１８５４３号公報
【特許文献３】特開平７−１４６４８０号公報
【特許文献４】特開平１０−１０５１８号公報
【特許文献５】特開２０００−２１４３１８号公報
【特許文献６】特開２０００−２２３２６４号公報
【特許文献７】特開２００２−１３４２７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能であり、ＡＣＦ接続される電極層形成部が強靭である画像表示装置を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明は、基材と、上記基材上に形成された表示層と、上記表示層上に形成されたガスバリア層と、上記ガスバリア層上にパターン状に形成された電極層とを有し、上記電極層がＡＣＦ接続される画像表示装置であって、
上記ガスバリア層は、中間層が形成されている中間層形成領域と、中間層が形成されていない非中間層形成領域とを有し、
上記表示層が設けられている表示部上のガスバリア層は中間層形成領域であり、上記表示部周囲に配置された、上記表示層が形成されていない非表示部の電極層が形成された電極層形成部上のガスバリア層は非中間層形成領域であることを特徴とする画像表示装置を提供する。
【００１２】
本発明によれば、少なくとも表示層が形成されていない非表示部の電極層が形成された電極層形成部上のガスバリア層は、中間層が形成されていない非中間層形成領域であることにより、この電極層形成部にＡＣＦ接続する際に、ガスバリア層または電極層が割れることなく接続することが可能になる。また、表示層が形成された表示部においては、ガスバリア層および中間層が積層した構造となることから、ガスバリア性の高いものとすることができ、ダークスポット等の欠陥のない画像表示が可能となる。
【００１３】
上記発明においては、上記非中間層形成領域が、非表示部の全領域であってもよい。この場合も同様に、非表示部の電極層形成部にＡＣＦ接続する際に、電極層等が割れるのを防ぐことができ、またダークスポット等の欠陥のない画像表示が可能となるからである。
【００１４】
また、本発明は、上記記載の画像表示装置における表示層が、色変換層であることを特徴とする有機ＥＬ素子を提供する。
【００１５】
本発明によれば、上述したＡＣＦ接続される電極形成部が強靭であり、かつガスバリア性の高い画像表示装置の電極層上に有機ＥＬ層等が形成されることから、経時でも酸素や水蒸気等の影響を受けることのない高品質な有機ＥＬ素子とすることができる。
【００１６】
本発明は、また、基材上に表示層を形成する表示層形成工程と、上記表示層上にガスバリア層を形成するガスバリア層形成工程と、上記ガスバリア層上に電極層をパターン状に形成する電極層形成工程とを有し、上記電極層がＡＣＦ接続される画像表示装置の製造方法であって、
上記ガスバリア層形成工程は、
上記表示層が形成されている表示部上、および上記表示部周囲に配置された、上記表示層が形成されていない非表示部上に第１バリア層を形成する第１バリア層形成工程と、
少なくとも上記非表示部の電極層が形成されている電極層形成部上には中間層が形成されないように他の領域にパターン状に中間層を形成する中間層形成工程と、
上記第１バリア層が形成された領域上に第２バリア層を形成する第２バリア層形成工程とを有するものであることを特徴とする画像表示装置の製造方法を提供する。
【００１７】
非表示部の電極層が形成された電極層形成部は、ＡＣＦ接続をする際に強く挟み込まれる部分であり、本発明においては、このＡＣＦ接続される電極層形成部に中間層が形成されていないことにより、電極層またはガスバリア層が割れるという不具合を回避することができる。また、本発明において、少なくとも表示層が設けられた表示部では、ガスバリア層と中間層が交互に積層された構造を有していることから、ガスバリア性を付与することが可能となる。したがって、本発明においては、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能であり、電極層形成部にＡＣＦ接続する際に電極層等が割れることなく、安定的に画像表示装置を製造することができるのである。
【００１８】
上記発明においては、上記中間層形成工程では、上記非表示部上には中間層が形成されないように、パターン状に中間層を形成することが好ましい。この場合も同様に、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能であり、電極層形成部にＡＣＦ接続する際に電極層等が割れることなく、安定的に画像表示装置を製造することができるからである。
【００１９】
また、上記発明においては、上記中間層形成工程は、
上記第１バリア層上に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程と、
上記中間層を形成する部分のみ、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により撥液性から親液性に濡れ性を変化させる濡れ性変化工程と、
上記濡れ性変化工程において親液性となった親液性領域に中間層形成用塗工液を塗布する中間層形成用塗工液塗布工程とを有することが好ましい。上記中間層形成工程においては、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により生じる濡れ性の違いによるパターンを利用することにより、中間層をパターン状に形成するものである。よって、エネルギーの照射のみで濡れ性の違いによるパターンを形成することができることから、中間層のパターニングに要する手間を大幅に省略することができる点で有用な方法であるからである。
【００２０】
また、本発明は、上記記載の画像表示装置の製造方法における表示層が、色変換層であることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【００２１】
本発明によれば、上述したＡＣＦ接続される電極形成部が強靭であり、かつガスバリア性の高い画像表示装置の電極層上に有機ＥＬ層等が形成されることから、経時でも酸素や水蒸気等の影響を受けることのない高品質な有機ＥＬ素子を製造することができるのである。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、少なくとも表示層が形成されていない非表示部の電極層が形成された電極層形成部上のガスバリア層は、中間層が形成されていない非中間層形成領域であることにより、この電極層形成部にＡＣＦ接続する際に、ガスバリア層または電極層が割れることなく接続することが可能になる。また、表示層が形成された表示部においては、ガスバリア層および中間層が積層した構造となることから、ガスバリア性の高いものとすることができ、ダークスポット等の欠陥のない画像表示が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明は、画像表示装置、それを用いた有機ＥＬ素子、およびそれらの製造方法を含むものである。以下、それぞれについて詳細に説明する。
【００２４】
Ａ．画像表示装置
まず、本発明の画像表示装置について説明する。
【００２５】
本発明の画像表示装置は、基材と、上記基材上に形成された表示層と、上記表示層上に形成されたガスバリア層と、上記ガスバリア層上にパターン状に形成された電極層とを有し、上記電極層がＡＣＦ接続される画像表示装置であって、上記ガスバリア層は、中間層が形成されている中間層形成領域と、中間層が形成されていない非中間層形成領域とを有し、上記表示層が設けられている表示部上のガスバリア層は中間層形成領域であり、上記表示部周囲に配置された、上記表示層が形成されていない非表示部の電極層が形成された電極層形成部上のガスバリア層は非中間層形成領域であることを特徴とするものである。
【００２６】
本発明の画像表示装置について、図を用いて説明する。図１は本発明の画像表示装置の一例を示す概略断面図であり、図２は本発明の画像表示装置の一例を示す概略平面図である。図１に示すように、本発明の画像表示装置は、基材１と、上記基材１上に形成された表示層２と、上記表示層２上に形成されたガスバリア層３と、上記ガスバリア層３中に形成された中間層４と、上記ガスバリア３層上に形成された電極層５とを有するものである。ガスバリア層３は、中間層４が形成されている中間層形成領域１１と、中間層４が形成されていない非中間層形成領域１２とを有しており、電極層５は、例えば図２に示すようにガスバリア層３上にパターン状に形成されている。また、図２に示すように、少なくとも表示層が形成されていない非表示部１４の電極層５が形成された電極層形成部上のガスバリア層３は非中間層形成領域１２である。
【００２７】
通常、電極層にＡＣＦ接続される際には、表示層が形成されていない非表示部の電極層が形成された電極層形成部に接続するものであり、接続時にはこの電極形成部を強く挟みこむため、この電極形成部に樹脂層等の柔軟な層が設けられている場合には、電極層が割れてしまうといった不具合が生じていた。一方、本発明においては、少なくとも表示層が形成されていない非表示部の電極層が形成された電極層形成部上のガスバリア層中に中間層が形成されていないことにより、この電極層形成部にＡＣＦ接続する際に、ガスバリア層または電極層が割れることなく接続することが可能になる。また、表示層が形成された表示部においては、ガスバリア層、中間層およびガスバリア層が順次積層した三層構造となることから、ガスバリア性の高いものとすることができる。つまり、ガスバリア層にピンホール等の欠損部位がある場合でも、二つのガスバリア層の間に中間層を形成することにより、ガスバリア層のピンホール等が塞がれ、ガスバリア層の上下に貫通するピンホール等が生成するのを防ぐことができる。これにより、ダークスポット等の欠陥のない画像表示が可能となる。
【００２８】
以下、このような画像表示装置の各構成について説明する。
【００２９】
１．基材
まず、本発明に用いられる基材について説明する。本発明において基材は、基板のみから構成されていてもよく、基板と機能層とから構成されていてもよい。以下、このような基材の各構成について説明する。
（１）基板
本発明に用いられる基板としては、基板側から光を取り出す場合や、後述する中間層を形成する際にエネルギーを基板側から照射する場合には、透明であることが好ましい。また、基板の反対側、すなわち電極層側から光を取り出す場合には、特に透明性が要求されることはない。さらに、基板としては、耐溶媒性、耐熱性を有し、寸法安定性に優れているものであることが好ましい。これにより、基板上に機能層、表示層、第１バリア層等を形成する際にも安定なものとすることができるからである。
【００３０】
このような透明な基板としては、例えばガラス板や、有機材料で形成されたフィルム状やシート状のもの等を用いることができる。
【００３１】
本発明において、透明な基板としてガラス板が用いられる場合には、可視光に対して透過性の高いものであれば、特に限定されるものではなく、例えば未加工のガラス板であってもよく、また加工されたガラス板等であってもよい。このようなガラス板としては、アルカリガラスおよび無アルカリガラスのどちらも使用可能であるが、本発明において、不純物が問題とされる場合には、例えば、パイレックス（登録商標）ガラス等の無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、加工されたガラス板の種類は、本発明の画像表示装置の用途に応じて適宜選択されるものであり、例えば透明ガラス基板に塗布加工をしたものや、段差加工を施したもの等が挙げられる。
【００３２】
このようなガラス板の膜厚は、３０μｍ〜２ｍｍの範囲内であることが好ましく、中でもフレキシブル基板として使用する場合には、３０μｍ〜２００μｍの範囲内であることが好ましく、リジッドな基板として使用する場合には２００μｍ〜２ｍｍの範囲内であることが好ましい。
【００３３】
また、透明な基板として用いられる有機材料としては、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、結晶化ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ＵＶ硬化型メタクリル樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。
【００３４】
さらに、透明な基板としては、上述した有機材料と、例えば、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フッ素系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエーテルスルフォン系樹脂等と２種以上併せて用いることができる。
【００３５】
本発明においては、上記のような有機材料を用いて透明な基板とする場合には、１０μｍ〜５００μｍの範囲内、中でも５０〜４００μｍの範囲内、特に１００〜３００μｍの範囲内の厚みであることが好ましい。上記範囲内より厚い場合は、本発明の画像表示装置を作製する際に耐衝撃性が劣ることや、巻き取り時に巻き取りが困難となり、水蒸気や酸素等のガスバリア性の劣化が見られること等があるからである。また、上記範囲内より薄い場合には、機械適性が悪く、水蒸気や酸素等に対するガスバリア性の低下が見られるからである。
【００３６】
また、透明性を有さない基板としては、例えば、アルミニウム、その合金等の金属、プラスチック、織物、不織布等を挙げることができる。
【００３７】
また、本発明においては、基板を洗浄して用いることが好ましく、その洗浄方法としては、酸素、オゾン等による紫外光照射処理や、プラズマ処理、アルゴンスパッタ処理等を行うことが好ましい。これにより、水分や酸素の吸着のない状態とすることができ、ダークスポットの低減や画像表示装置の長寿命化を図ることが可能となるからである。
【００３８】
（２）機能層
次に、本発明に用いられる機能層について説明する。本発明においては、上記基板上に機能層が形成されていてもよい。機能層としては、通常、画像表示装置に用いることができるものであれば特に限定はされなく、例えば発光層、カラーフィルタ層、対向電極等を挙げることができる。このような機能層の層構成としては、特に限定されるものではなく、本発明の画像表示装置の用途等に応じて適宜選択されるものである。
【００３９】
以下、このような機能層の例として、発光層、カラーフィルタ層および対向電極について説明する。
【００４０】
（ｉ）発光層
本発明に用いられる発光層としては、蛍光を発する材料を含み発光する層であれば特に限定はされないものである。
【００４１】
このような発光層に用いられる材料としては、色素系材料、金属錯体系材料、および高分子系材料を挙げることができる。
【００４２】
上記色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
【００４３】
また、上記金属錯体系材料としては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。
【００４４】
さらに、上記高分子系の材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素体、金属錯体系発光材料を高分子化したもの等を挙げることができる。
【００４５】
（ii）カラーフィルタ層
本発明においては、必要に応じて、上記発光層上にカラーフィルタ層が形成されたものであってもよい。これにより、色再現性の高い画像表示装置とすることができるからである。
【００４６】
本発明に用いられるカラーフィルタ層は、上述した発光層から発せられた光または色変換層を透過した光の色調をさらに調整する層であり、上記発光層または後述する色変換層の各色と対応した位置に、それぞれ青色、赤色、緑色のカラーフィルタ層が形成される。このようなカラーフィルタ層が形成されることにより、高純度な発色とすることができ、色再現性の高いものとすることができる。
【００４７】
上記カラーフィルタ層の形成材料としては、通常カラーフィルタに用いることが可能な顔料や樹脂を用いることができる。また、各色の間にブラックマトリックスが形成されるものであってもよい。
【００４８】
（iii）対向電極
本発明に用いられる対向電極は、後述する電極層と対向する電極であり、画像表示装置の用途に応じて適宜選択されるものである。また、対向電極の材料は、後述する電極層に応じて選択することが好ましい。
【００４９】
２．表示層
次に、本発明に用いられる表示層について説明する。本発明において、表示層は、上記基材上に形成され、表示層上にはガスバリア層が形成されるものである。例えば図１に示すように、表示層２は基材１上にパターン状に形成され、基材１上には、表示層２が設けられている表示部１３および表示層２が形成されていない非表示部１４の２つの領域が存在するものである。また、表示層２が形成された表示部１３上のガスバリア層３は、中間層４が形成された中間層形成領域１１である。本発明においては、表示層が形成された表示部上のガスバリア層は、ガスバリア層と中間層とが積層した構造を有していることから、ガスバリア性が高いものとすることができ、ダークスポット等の欠陥のない画像表示が可能となる。
【００５０】
本発明の画像表示装置に用いられる表示層としては、通常、画像表示装置に用いられるものであれば特に限定されるものではないが、例えば色変換層、カラーフィルタ層等が挙げられる。以下、このような表示層の例として色変換層およびカラーフィルタ層について説明する。
【００５１】
（１）色変換層
まず、本発明に用いられる色変換層について説明する。色変換層は、発光体から発光される光を吸収し、可視光域蛍光を発光する蛍光材料を含有する層であり、発光体からの光を青色、赤色、緑色とすることができるものであれば、特に限定されるものではない。例えば、青色、赤色、緑色の３色の蛍光層をそれぞれ発光する色変換層が形成されていてもよく、また青色の発光体を用いて、青色の色変換層の代わりに透明樹脂層が形成されていてもよい。
【００５２】
上記色変換層には、通常、発光体からの光を吸収し、蛍光を発光する有機蛍光色素とマトリクス樹脂とが含有されるものである。
【００５３】
色変換層に用いられる有機蛍光色素は、発光体から発せられる近紫外領域または可視領域の光、特に青色または青緑色領域の光を吸収して異なる波長の可視光を蛍光として発光するものである。通常、発光体としては、青色の発光体が用いられることから、少なくとも赤色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上を用いることが好ましく、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素の１種類以上と組み合わせることが好ましい。
【００５４】
すなわち、光源として青色ないし青緑色領域の光を発光する発光体を用いる場合、発光体からの光を単なる赤色カラーフィルタ層に通して赤色領域の光を得ようとすると、元々赤色領域の波長の光が少ないために極めて暗い出力光になってしまう。したがって、発光体からの青色ないし青緑色領域の光を、蛍光色素によって赤色領域の光に変換することにより、十分な強度を有する赤色領域の光の出力が可能となるからである。
【００５５】
一方、緑色領域の光は、赤色領域の光と同様に、発光体からの光を別の有機蛍光色素によって緑色領域の光に変換させて出力してもよい。あるいはまた、発光体の発光が緑色領域の光を十分に含む場合には、発光体からの光を単に緑色カラーフィルタ層を通して出力してもよい。さらに、青色領域の光に関しては、発光体の光を蛍光色素を用いて変換させて出力させてもよいが、発光体の光を単なる青色カラーフィルタ層に通して出力させることが好ましい。
【００５６】
発光体から発する青色から青緑色領域の光を吸収して、赤色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えばローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、ローダミン３Ｂ、ローダミン１０１、ローダミン１１０、スルホローダミン、ベーシックバイオレット１１、ベーシックレッド２などのローダミン系色素、シアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル〕−ピリジニウム  パークロレート（ピリジン１）などのピリジン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。
【００５７】
また、発光体から発する青色ないし青緑色領域の光を吸収して、緑色領域の蛍光を発する蛍光色素としては、例えば３−（２´−ベンゾチアゾリル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）、３−（２´−ベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン７）、３−（２´−Ｎ−メチルベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン３０）、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリフルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマリン（クマリン１５３）などのクマリン系色素、あるいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５１、さらにはソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１６などのナフタルイミド系色素などが挙げられる。さらに、各種染料（直接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料など）も蛍光性があれば使用することができる。
【００５８】
なお、有機蛍光色素を、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、アルキッド樹脂、芳香族スルホンアミド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂およびこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化して、有機蛍光顔料としてもよい。また、これらの有機蛍光色素や有機蛍光顔料（以下、前記２つを合わせて有機蛍光色素と総称する）は単独で用いてもよく、蛍光の色相を調整するために２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５９】
上記有機蛍光色素は、色変換層に対して、その色変換層の重量を基準として０．０１〜５重量％、より好ましくは０．１〜２重量％含有される。有機蛍光色素の含有量が０．０１重量％未満の場合には、十分な波長変換を行うことができず、また上記含有量が５重量％を超える場合には、濃度消光等の効果により色変換効率が低下するからである。
【００６０】
また、マトリクス樹脂は、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂（レジスト）を、光および／または熱処理して、ラジカル種またはイオン種を発生させて重合または架橋させ、不溶不融化させたものを用いることができ、色変換層のパターニングを行うために、上記光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、未露光の状態において有機溶媒またはアルカリ溶液に可溶性であることが望ましい。
【００６１】
このような光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂は、（ｉ）アクロイル基やメタクロイル基を複数有するアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと、光または熱重合開始剤とからなる組成物、（ii）ボリビニルケイ皮酸エステルと増感剤とからなる組成物、（iii）鎖状または環状オレフィンとビスアジドとからなる組成物、および（iv）エポキシ基を有するモノマーと酸発生剤とからなる組成物などを含む。特に（ｉ）のアクリル系多官能モノマーおよびオリゴマーと光または熱重合開始剤とからなる組成物が、高精細なパターニングが可能であること、および耐溶剤性、耐熱性等の信頼性が高いことから好ましい。上述したように、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂に光および／または熱を作用させて、マトリクス樹脂を形成する。
【００６２】
また、色変換層に用いることができる光重合開始剤、増感剤および酸発生剤は、含まれる蛍光変換色素が吸収しない波長の光によって重合を開始させるものであることが好ましい。色変換層において、光硬化性または光熱併用型硬化性樹脂中の樹脂自身が光または熱により重合することが可能である場合には、光重合開始剤および熱重合開始剤を添加しないことも可能である。
【００６３】
また、色変換層の膜厚は、５μｍ以上であることが好ましく、中でも８μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。また、色変換層の形状は、目的とする画像表示装置により適宜選択されるものであるが、例えば赤、青、および緑の矩形または円形の区域を１組としてそれぞれ基材上に形成してもよく、またストライプ状に形成してもよい。また、特定の色変換層を、他の色変換層より多く形成することも可能である。
【００６４】
（２）カラーフィルタ層
次に、カラーフィルタ層について説明する。本発明においては、必要に応じて、上記色変換層上にカラーフィルタ層が形成されたものであってもよい。これにより、色再現性の高い画像表示装置とすることができるからである。
【００６５】
本発明に用いられるカラーフィルタ層は、透過される光の色調を調整する層であり、それぞれ青色、赤色、緑色のカラーフィルタ層が形成される。このようなカラーフィルタ層が形成されることにより、高純度な発色とすることができ、色再現性の高いものとすることができるのである。
【００６６】
上記カラーフィルタ層は、通常カラーフィルタに用いることが可能な顔料や樹脂を用いることができる。
【００６７】
３．ガスバリア層
次に、本発明に用いられるガスバリア層について説明する。本発明において、ガスバリア層は、ガスバリア性を有し、上記表示層上に形成され、ガスバリア層上には電極層が形成されるものである。また、ガスバリア層は、中間層が形成されている中間層形成領域と、中間層が形成されていない非中間層形成領域とを有するものである。
【００６８】
本発明に用いられるガスバリア層は、例えば図１に示すように、表示層２が設けられている表示部１３にはガスバリア層３中に中間層４が形成されており、中間層形成領域１１となっている。一方、表示層２が形成されていない非表示部１４にはガスバリア層３中には中間層４は形成されていなく、非中間層形成領域となっている。このように、本発明において、少なくとも表示層が設けられた表示部では、ガスバリア層、中間層およびガスバリア層が順次積層された三層構造を有していることから、高いガスバリア性を付与することが可能となる。すなわち、ガスバリア層にピンホール等の欠損部位がある場合でも、二層のガスバリア層の間に中間層が形成されているために、ガスバリア層のピンホール等が塞がれ、ガスバリア層を上下に貫通するピンホール等が生成するのを防ぐことができる。よって、本発明において、ダークスポット等の欠陥のない画像表示装置を製造することができるのである。
【００６９】
また、図２に示すように、表示層が形成されていない非表示部１４の電極層５が形成された電極層形成部上のガスバリア層３は、中間層が形成されていない非中間層形成部１２である。非表示部の電極層が形成された電極層形成部は、ＡＣＦ接続がされる際に強く挟みこまれる部分であり、本発明においては、この電極層形成部には中間層が設けられていないことから、接続の際に電極層またはガスバリア層が割れることがなく、高品質の画層表示装置を安定的に製造することができるのである。
【００７０】
以下、ガスバリア層および中間層にわけて説明する。
【００７１】
（１）ガスバリア層
本発明に用いられるガスバリア層としては、電気絶縁性を有し、かつ有機溶剤に対して耐性を有することが好ましく、さらに可視光に対して透過率が５０％以上、中でも８５％以上であることが好ましい。これにより、画像表示装置とした際に、明度の高いものとすることができるからである。ここで、可視光に対する透過率は、スガ試験株式会社製全光線透過率装置（ＣＯＬＯＵＲ  Ｓ＆Ｍ  ＣＯＭＰＵＴＥＲ  ＭＯＤＥＬ  ＳＭ−Ｃ：型番）を用いて測定した値である。
【００７２】
本発明に用いられるガスバリア層は、上述したような性質を有するものであれば、その材料は特に限定されるものではない。例えば、無機酸化膜、無機酸化窒化膜、無機窒化膜、または金属膜のいずれか１種または２種以上を組み合わせたものを使用することができる。上記無機酸化膜としては、酸化ケイ素膜、酸化窒化ケイ素膜、酸化アルミニウム膜、酸化マグネシウム膜、酸化チタン膜、酸化スズ膜、酸化インジウム合金膜が挙げられる。また、上記無機窒化膜としては、窒化ケイ素膜、窒化アルミニウム膜、窒化チタン膜が挙げられる。さらに、上記金属膜としては、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜が挙げられる。
【００７３】
また、上記の材料の中でも、酸化ケイ素膜または酸化窒化ケイ素膜であることが好ましい。これらの材料は、上記表示層との密着性が良好であるからである。このような酸化ケイ素の薄膜は、有機ケイ素化合物を原料として形成することができる。この有機ケイ素化合物として、具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。
【００７４】
また、本発明においては、ガスバリア性を向上させるために、上記のガスバリア膜を複数層積層してもよく、その組み合わせは同種、異種を問わない。
【００７５】
ここで、本発明においては、上述したようなガスバリア層の膜厚は、その材料により適宜選択されるものであるが、通常３０ｎｍ〜５０００ｎｍの範囲内であり、中でも３０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましい。また、特に上記酸化アルミニウム膜、または酸化ケイ素膜の場合には、５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記の膜厚の範囲よりも薄いと、水蒸気や酸素等に対するガスバリア性の低下が見られるからである。また、上記膜厚の範囲よりも厚い場合には、例えば本発明の画像表示装置を作製する際に、クラック等が入る可能性があり、これにより水蒸気、酸素ガス等に対するガスバリア性の劣化が見られるからである。
【００７６】
（２）中間層
次に、本発明に用いられる中間層について説明する。本発明において、中間層は、上記ガスバリア層上に形成され、中間層上にはさらにガスバリア層が形成されるものである。また、中間層は、少なくとも表示層が設けられている表示部には形成されるように、ガスバリア層上にパターン状に形成されるものである。さらに、表示層が形成されていない非表示部の電極層が形成された電極層形成部上のガスバリア層は、中間層が形成されていない非中間層形成領域であるものである。
【００７７】
例えば図１に示すように、中間層４は、少なくとも表示層２が形成されている表示部１３には形成されるように、ガスバリア層３の間にパターン状に形成されるものである。このように、本発明において、少なくとも表示層が設けられた表示部では、ガスバリア層、中間層およびガスバリア層が順次積層された構造を有していることから、ガスバリア性を付与することが可能となる。すなわち、ガスバリア層にピンホール等の欠損部位がある場合でも、二層のガスバリア層中に中間層が形成されているために、ガスバリア層のピンホール等が塞がれ、ガスバリア層を上下に貫通するピンホール等が生成するのを防ぐことができる。
【００７８】
また、図２に示すように、表示層が形成されていない非表示部１４の電極層５が形成された電極層形成部上のガスバリア層３は、中間層が形成されていない非中間層形成部１２である。非表示部の電極層が形成された電極層形成部は、ＡＣＦ接続がされる際に強く挟みこまれる部分であり、この電極層形成部には中間層が設けられていないことから、接続の際に電極層またはガスバリア層が割れることがないのである。
【００７９】
したがって、本発明においては、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能であり、ＡＣＦ接続される電極層形成部が強靭である画像表示装置を製造することができるのである。
【００８０】
また、中間層の形成位置としては、ガスバリア層の間であって、少なくとも表示層が設けられている表示部上に形成されており、非表示部の電極層が形成されている電極層形成部のガスバリア層上に形成されていないものであればよい。また、中間層は、非表示部の電極層が形成されている電極層形成部およびその周囲のガスバリア層上に形成されていなくてもよい。ＡＣＦ接続する電極層形成部の周囲のガスバリア層上に中間層が形成されている場合、ＡＣＦ接続する際に電極層等が割れてしまう可能性があるからである。ここでいう電極層形成部の周囲とは、非表示部の電極層が形成されている電極層形成部から幅１μｍ〜５μｍの範囲にある領域をいうこととする。さらに、中間層は、表示部のガスバリア層上に形成されており、非表示部全体のガスバリア層上には形成されていないものでもよい。
【００８１】
このような中間層としては、ガスバリア層のピンホール等を埋めることができる材料であれば特に限定されるものではないが、例えばポリアミック酸、ポリエチレン樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオール樹脂、ポリ尿素樹脂、ポリアゾメチン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂等の樹脂材料、二官能エポキシ樹脂と二官能フェノール類との重合体である高分子量エポキシ重合体を含有する硬化性エポキシ樹脂、および上述の基材の形成材料として用いることできる樹脂材料を使用することができる。また、アルキルチタネート等の有機チタン系樹脂、イソシアネート系樹脂、ポリエチレンイミン系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、カゼイン、ワックス、ポリブタジエン系樹脂、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリブテンポリマー、ポリエチレン、またはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマール酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等の樹脂材料も使用することができる。
【００８２】
上記の樹脂の中でも、本発明においては、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。
【００８３】
また、中間層の形成材料としては、金属アルコキシドを用いることもできる。金属アルコキシドの金属元素としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｎａ等を挙げることができる。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメトキシメチルシラン、ジメチルジエトキシシラン等のアルコキシシラン化合物；テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラブトキシジルコニウム等のジルコニウムアルコキシド化合物；テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシチタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、テトラブトキシチタニウム等のチタニウムアルコキシド化合物等を挙げることができる。これらの金属アルコキシドは、１種または２種以上を組み合わせて使用することもできる。上記の金属アルコキシドとしては、その取扱性、硬化反応性、経済性、その他等の点から、アルコキシシラン化合物を使用することが好ましい。
【００８４】
さらに、上記金属アルコキシドには、シランカップリング剤を架橋剤等として添加することができる。シランカップリング剤としては、例えば、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルシリコーンの１種または２種以上を組み合わせて使用することができる。その使用量としては、微量添加するだけでよい。
【００８５】
このような金属アルコキシドは、水またはアルコールの共存下で加水分解反応および縮重合反応を起こし、または、この反応の過程や反応終了後に有機物や触媒を添加し、高分子化して、加熱することにより、非晶質のセラミック質の透明な膜を形成することができる。この金属アルコキシドを用いて形成される膜は、ガスバリア性が高いことから、中間層として有用である。
【００８６】
中間層の厚みは、使用する材料により適宜設定することが好ましいが、３００ｎｍ〜５０００ｎｍ、中でも３５０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００８７】
（３）その他
本発明において、上述したように、少なくとも表示層が設けられた表示部では、ガスバリア層、中間層およびガスバリア層が順次積層された三層構造を有していることから、ガスバリア性が付与されるものである。この三つの層が積層された積層体のガスバリア性としては、水の透過性が０．０１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、中でも１０−６ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、酸素透過率が０．１ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下、中でも１０−３ｃｃ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましい。
【００８８】
ここで、酸素透過率は、測定温度２３℃、湿度９０％Ｒｈの条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ  ２／２０：商品名）を用いて測定した値であり、水蒸気透過率は、測定温度３７．８℃、湿度１００％Ｒｈの条件下で、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ  ３／３１：商品名）を用いて測定した値である。
【００８９】
４．電極層
次に、本発明に用いられる電極層について説明する。本発明に用いられる電極層は、上記ガスバリア層上にパターン状に形成され、電極層が形成された電極層形成部にはＡＣＦ接続されるものである。
【００９０】
本発明において、例えば図２に示すように、電極層５は、ガスバリア層３上にパターン状に形成される。また、表示層が設けられていない非表示部１４の電極層５が形成された領域（図２中の領域１２）の一部にＡＣＦ接続するため、この領域は中間層が形成されていない非中間層形成領域１２である。非表示部の電極層が形成された電極層形成部は、ＡＣＦ接続をする際に強く挟み込まれる部分であり、本発明においては、このＡＣＦ接続される電極層形成部に中間層が形成されていないことにより、電極層またはガスバリア層が割れることなく、高品質な画像表示装置を安定的に製造できるのである。
【００９１】
また、本発明において、表示部は画像が表示される領域であるため、表示部においては電極層が透明電極である必要がある。このような透明電極としては、例えばＳｎＯ２膜、ＩＴＯ膜、ＩＺＯ膜等が挙げられる。
【００９２】
また、必要に応じて、上記透明電極に加えて補助電極を用いてもよい。
【００９３】
一方、非表示部は画像表示に影響を及ぼさない領域であることから、非表示部において電極層は透明である必要はない。例えば金属電極を用いることができ、具体的にはＴｉ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｗ等が挙げられる。また、ＡＣＦ接続される領域の電極層としては、設計上、上記金属電極のみから構成されていてもよく、上記金属電極および上記透明電極が積層されて構成されていてもよい。
【００９４】
このような電極層の膜厚としては、透明電極である場合は、１５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、金属電極である場合は、１００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。また、透明電極および金属電極が積層されている場合は、２５０ｎｍ〜５００ｎｍ位の範囲内が好ましい。電極層の膜厚が上記範囲よりも薄いと、導電性の低下が見られ、また電極層の膜厚が上記範囲を超えて厚い場合には、後加工の工程が進むにつれ、クラックなどにより導電性の劣化が見られるので好ましくないからである。
【００９５】
５．画像表示装置
本発明の画像表示装置としては、液晶表示装置のようなバックライトの明るさをシャッターすることにより階調をつけて表示を行う非発光型ディスプレイと、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬ）のように蛍光体を何らかのエネルギーによって光らせて表示を行う自己発光型ディスプレイとを挙げることができる。本発明の画像表示装置は、中でも有機ＥＬ素子として好適に用いられる。
【００９６】
６．その他
本発明においては、例えば図３に示すように上記表示層２とガスバリア層３との間であって、表示層２が形成された表示部１３上に平坦化層６を形成してもよい。上記表示層は、膜厚が比較的高く、この表示層上にガスバリア層等を形成した場合には、平坦な層を形成することが困難であり、またガスバリア層形成時に表示層が侵食される等の問題がある。本発明おいては、上記平坦化層を表示層上に形成することにより、表示層を保護すると同時に、表示層による凹凸を解消し、さらに表面を平坦化することができるからである。また、これにより、ガスバリア層を緻密、かつ平坦に形成することができ、ガスバリア性の高いものとすることができるからである。
【００９７】
このような平坦化層の平坦性としては、表面平均粗さ（Ｒａ）が６ｎｍ以下、中でも２ｎｍ以下であることが好ましく、また最大高低差（Ｐ−Ｖ）が６０ｎｍ以下、中でも２０ｎｍ以下であることが好ましい。表面粗さおよび上記最大高低差が、上記範囲内であることにより、ガスバリア層を上記平坦化層上に形成した場合に、緻密かつ平坦に形成することが可能となるからである。ここで、上記表面粗さおよび最大高低差は、スキャン範囲２０μｍ、スキャン速度９０ｓｅｃ／ｆｒａｍｅの条件下で、原子間顕微鏡（Ｎａｎｏｐｉｃｓ：商品名、セイコーインスツルメンツ社製）を用いて測定した値である。
【００９８】
また、上記平坦化層は、可視光に対して透過率の高いものであることが好ましく、具体的には、可視光（４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内）の透過率が５０％以上、中でも８５％以上であることが好ましい。これにより、画像表示装置とした際に、明度の高いものとすることができるからである。ここで、上記可視光の透過率は、分光光度計（型番：ＵＶ-３１００ＰＣ  島津製作所製）で測定した値である。
【００９９】
さらに、上記平坦化層の材料等は、上述したような平坦性を有する層であれば、特に限定されるものではないが、有機物を用いることが好ましい。これにより、上記のような平坦性を有する層を形成することが容易であり、また上記表示層およびガスバリア層との密着性が良好な平坦化層とすることができるからである。具体的には、フルオレン骨格を有するビスフェノール化合物とエピクロヒドリンとから誘導されるエポキシ樹脂、あるいはこのエポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸とから誘導されるエポキシ（メタ）アクリレート、更にはこのエポキシ（メタ）アクリレートと酸無水物から誘導されるエポキシ（メタ）アクリレート酸付加物等を挙げることができる。
【０１００】
また、上記平坦化層の膜厚は、５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。これにより、上記表示層の表面を平坦化することが可能となり、また上記ガスバリア層形成時に表示層が侵食されること等を防止することが可能となるからである。
【０１０１】
Ｂ．有機ＥＬ素子
次に、本発明の有機ＥＬ素子について説明する。本発明の有機ＥＬ素子は、上記画像表示装置における表示層が色変換層であることを特徴とするものである。
【０１０２】
本発明の有機ＥＬ素子は、上記画像表示装置の欄で説明したように、基材と色変換層とガスバリア層と中間層と電極層とを有しており、さらに有機ＥＬ層と、その有機ＥＬ層上に形成され、上記電極層と対向する対向電極とを有するものであれば、特に層構成等は限定されるものではなく、有機ＥＬ素子の用途等に応じて適宜選択されるものである。本発明においては、上述したように、基材は、基板のみから構成されていてもよく、基板と機能層とから構成されていてもよいものである。よって、基材が基板のみからなる場合は、上記電極層上に有機ＥＬ層および対向電極が形成されるものであり、基材が基板と機能層とからなる場合は、上記有機ＥＬ層および対向電極は機能層として形成されていてもよく、上記電極層上に有機ＥＬ層および対向電極が形成されていてもよい。
【０１０３】
本発明によれば、上述したＡＣＦ接続される電極形成部が強靭であり、かつガスバリア性の高い電極層上に有機ＥＬ層等が形成されることから、経時でも酸素や水蒸気等の影響を受けることのない高品質な有機ＥＬ素子とすることができるのである。
【０１０４】
本発明の有機ＥＬ素子は、上記電極層と、その電極層と反対の電極を有し、かつ対向するように形成された対向電極との間に有機ＥＬ層が形成されたものである。ここで、本発明でいう有機ＥＬ層とは、通常有機ＥＬ素子に用いられるものを用いることが可能であり、少なくとも発光層を含む１層もしくは複数層の有機層から形成されるものである。すなわち、有機ＥＬ層とは、少なくとも発光層を含む層であり、その層構成が有機層１層以上の層をいう。通常、塗布による湿式法で有機ＥＬ層を形成する場合は、溶媒との関係で多数の層を積層することが困難であることから、１層もしくは２層の有機層で形成される場合が多いが、有機材料を工夫したり、真空蒸着法を組み合わせたりすることにより、さらに多数層とすることも可能である。
【０１０５】
発光層以外に有機ＥＬ層内に形成される有機層としては、通常有機ＥＬ層に用いられる層を用いることが可能であり、例えば正孔注入層や電子注入層といった電荷注入層を挙げることができる。さらに、その他の有機層としては、発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、発光層に電子を輸送する電子輸送層といった電荷輸送層を挙げることができるが、通常これらは上記電荷注入層に電荷輸送の機能を付与することにより、電荷注入層と一体化されて形成される場合が多い。その他、有機ＥＬ層内に形成される有機層としては、キャリアブロック層のような正孔あるいは電子の突き抜けを防止し、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。
【０１０６】
なお、本発明に用いられる基材、色変換層、ガスバリア層、中間層および電極層に関しては、上述した「Ａ．画像表示装置」に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１０７】
Ｃ．画像表示装置の製造方法
次に、本発明の画像表示装置の製造方法について説明する。
【０１０８】
本発明において、画像表示装置の製造方法は、基材上に表示層を形成する表示層形成工程と、上記表示層上にガスバリア層を形成するガスバリア層形成工程と、上記ガスバリア層上に電極層をパターン状に形成する電極層形成工程とを有し、上記電極層がＡＣＦ接続されるものであって、上記ガスバリア層形成工程は、上記表示層が形成されている表示部上、および上記表示部周囲に配置された、上記表示層が形成されていない非表示部上に第１バリア層を形成する第１バリア層形成工程と、少なくとも上記非表示部の電極層が形成されている電極層形成部上には中間層が形成されないように他の領域にパターン状に中間層を形成する中間層形成工程と、上記第１バリア層が形成された領域上に第２バリア層を形成する第２バリア層形成工程とを有することを特徴とするものである。
【０１０９】
本発明の画像表示装置の製造方法について図を用いて説明する。図４および図５は、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を示す工程図である。まず、基材１上に表示層２を形成する表示層形成工程が行わる（図４（ａ）、図５（ａ））。次に、上記表示層２上に第１バリア層３ａを形成し（図４（ｂ）、図５（ｂ））、上記第１バリア層３ａ上に中間層４を形成し（図４（ｃ）、図５（ｃ））、上記中間層４上に第２バリア層３ｂを形成する（図４（ｄ）、図５（ｄ））ガスバリア層形成工程が行われる。さらに、上記第２バリア層３ｂ上に電極層５を形成する電極層形成工程が行われる（図４（ｅ）、図５（ｅ））。
【０１１０】
また、電極層形成工程においては、例えば図５（ｅ）に示すように、電極層５は第２バリア層３ｂ上にパターン状に形成されるものである。さらに、ガスバリア層形成工程においては、例えば図５（ｅ）に示すような表示層が設けられていない非表示部１４の電極層５が形成されている電極層形成部には、中間層が形成されないように、図５（ｃ）に示すように中間層４は、第１バリア層３ａ上にパターン状に形成されるものである。
【０１１１】
非表示部の電極層が形成された電極層形成部は、ＡＣＦ接続をする際に強く挟み込まれる部分であり、本発明においては、このＡＣＦ接続される電極層形成部に中間層が形成されていないことにより、電極層またはガスバリア層が割れるという不具合を回避することができる。また、本発明において、少なくとも表示層が設けられた表示部では、ガスバリア層と中間層が交互に積層された構造を有していることから、ガスバリア性を付与することが可能となる。すなわち、ガスバリア層にピンホール等の欠損部位がある場合でも、ガスバリア層中に中間層が形成されているために、ガスバリア層のピンホール等が塞がれ、ガスバリア層を上下に貫通するピンホール等が生成するのを防ぐことができる。したがって、本発明においては、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能であり、ＡＣＦ接続される電極層形成部が強靭である画像表示装置を製造することができるのである。
【０１１２】
以下、このような画像表示装置の製造方法における各工程について説明する。
【０１１３】
１．表示層形成工程
まず、本発明においては、基材上に表示層を形成する表示層形成工程が行われる。例えば図４（ａ）および図５（ａ）に示すように、表示層２は基材１上にパターン状に形成され、基材１上には表示層２が形成された表示部１３および表示層２が形成されていない非表示部１４の二つの領域が存在する。
【０１１４】
本発明に用いられる表示層としては、通常、画像表示装置に用いられるものであれば特に限定されるものではなく、例えば色変換層やカラーフィルタ層を挙げることができる。
【０１１５】
なお、本工程に用いられる基材および表示層に関しては、上述した「Ａ．画像表示装置」に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１１６】
このような表示層の形成は、基材上に表示層形成用塗工液を塗布し、パターニングすることにより形成することができる。上記パターニングは、一般的な方法により行うことができる。
【０１１７】
２．ガスバリア層形成工程
次に、本発明においては、上記表示層上にガスバリア層を形成するガスバリア層形成工程が行われる。ガスバリア層形成工程は、上記表示層が形成されている表示部上、および表示部周囲に配置された、上記表示層が形成されていない非表示部上に第１バリア層を形成する第１バリア層形成工程と、少なくとも非表示部の電極層が形成されている電極層形成部上には中間層が形成されないように他の領域にパターン状に中間層を形成する中間層形成工程と、第１バリア層が形成された領域上に第２バリア層を形成する第２バリア層形成工程とを有するものである。
【０１１８】
例えば図４に示すように、上記表示層２上に第１バリア層３ａを形成し（図４（ｂ））、上記第１バリア層３ａ上に中間層４を形成し（図４（ｃ））、上記中間層４上に第２バリア層３ｂを形成する（図４（ｄ））。このとき、例えば図４（ｅ）に示すような表示層が設けられていない非表示部１４の電極層５が形成されている電極層形成部には、中間層が形成されないように、図５（ｃ）に示すように中間層４は、第１バリア層３ａ上にパターン状に形成されるものである。非表示部の電極層が形成された電極層形成部は、ＡＣＦ接続をする際に強く挟み込まれる部分であり、本発明においては、このＡＣＦ接続される電極層形成部に中間層が形成されていないことにより、電極層またはガスバリア層が割れるという不具合を回避することができる。また、本発明において、少なくとも表示層が設けられた表示部では、ガスバリア層と中間層が交互に積層された構造を有していることから、ガスバリア層にピンホール等の欠損部位がある場合でも、ガスバリア層中に中間層が形成されているために、ガスバリア層のピンホール等が塞がれ、ガスバリア層を上下に貫通するピンホール等が生成するのを防ぐことができ、ガスバリア性を付与することが可能となる。したがって、本発明においては、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能であり、ＡＣＦ接続される電極層形成部が強靭である画像表示装置を製造することができるのである。
【０１１９】
以下、このようなガスバリア層形成工程における各工程について説明する。
【０１２０】
（１）第１バリア層形成工程
まず、ガスバリア層形成工程においては、上記表示層上に第１バリア層を形成する第１バリア層形成工程が行われる。第１バリア層は、上記表示層が形成されている表示部上、および表示部周囲に配置された、上記表示層が形成されていない非表示部上に形成されるものである。
【０１２１】
本発明において、第１バリア層の形成は、蒸着法により行なわれるものであれば、特に限定されるものではない。例えば無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物または金属等を加熱して基材上に蒸着させる真空蒸着法、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、または金属を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、基材上に蒸着させる酸化反応蒸着法、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、または金属をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより基材に蒸着させるスパッタリング法、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、または金属にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、基材上に蒸着させるイオンプレーティング法、また酸化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマＣＶＤ法等が挙げられる。
【０１２２】
なお、第１バリア層に用いられる材料等に関しては、上述した「Ａ．画像表示装置」のガスバリア層の欄に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１２３】
（２）中間層形成工程
次に、ガスバリア層形成工程においては、上記第１バリア層上に中間層を形成する中間層形成工程が行われる。中間層は、少なくとも非表示部の電極層が形成されている電極層形成部上には形成されないように、他の領域にパターン状に形成されるものである。
【０１２４】
例えば図５（ｅ）に示すような表示層が設けられていない非表示部１４の電極層５が形成されている電極層形成部には、中間層が形成されないように、図５（ｃ）に示すように中間層４は、第１バリア層３ａ上にパターン状に形成されるものである。
【０１２５】
また、発明において、中間層は、非表示部の電極層が形成されている電極層形成部だけでなく、非表示部全体にわたって形成されないように、パターン状に形成するものであってもよい。つまり、この場合、中間層は表示部のみに形成されることとなる。
【０１２６】
なお、中間層に用いられる材料等に関しては、上述した「Ａ．画像表示装置」に記載したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【０１２７】
このような中間層の形成は、中間層形成用塗工液を第１バリア層上に塗布し、パターニングすることにより形成することができる。中間層形成用塗工液の塗布方法としては、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレイコート等を用いることができ、その後、溶剤や希釈剤等を乾燥除去して形成するウェット形成法により中間層を形成することができる。また、上記パターニングは、一般的な方法を用いることができ、例えば、フォトリソグラフィー法、インクジェット法、スクリーン印刷法、光触媒を用いる方法等により行うことができる。
【０１２８】
本発明においては、中間層の形成方法の中でも、パターニング方法として光触媒を用いる方法を使用することが好ましい。この光触媒を用いるパターニング方法は、エネルギー照射されると、それに伴う光触媒の作用から、濡れ性が変化することを利用したものである。すなわち、この濡れ性の違いによるパターンを利用することにより、中間層をパターン状に形成するのである。このように光触媒を用いる中間層の形成方法は、エネルギーの照射のみで濡れ性の違いによるパターンを形成することができることから、中間層のパターニングに要する手間を大幅に省略することができる点で有用な方法である。
【０１２９】
以下、このような光触媒を用いた中間層形成工程について説明する。
【０１３０】
（光触媒を用いた中間層形成工程）
本発明において、光触媒を用いた中間層形成工程は、第１バリア層上に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層を形成する濡れ性変化層形成工程と、中間層を形成する部分のみ、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により撥液性から親液性に濡れ性を変化させる濡れ性変化工程と、上記濡れ性変化工程において親液性となった親液性領域に中間層形成用塗工液を塗布する中間層形成用塗工液塗布工程とを有するものである。
【０１３１】
また、本発明においては、濡れ性変化層の濡れ性を変化させる際に、光触媒が含有された濡れ性変化層にエネルギー照射する方法（第１の態様）と、濡れ性変化層と光触媒が含有された光触媒含有層とを所定の間隙をおいて配置しエネルギー照射する方法（第２の態様）の２つの態様がある。以下、各態様に分けて説明する。
【０１３２】
（ｉ）第１の態様
本発明において、中間層形成工程の第１の態様は、濡れ性変化層が光触媒を含有しているものである。光触媒を含有した濡れ性変化層にエネルギーを照射することにより、濡れ性を変化させ、撥液性から親液性に濡れ性が変化した親液性領域に中間層形成用塗工液を塗布することにより、パターン状に中間層を形成することができる。
【０１３３】
図６は、本発明の画像表示装置の製造方法における中間層形成工程の一例を示す工程図である。光触媒を用いた中間層形成工程においては、まず第１バリア層３ａ上に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層２１を形成する濡れ性変化層形成工程を行う（図６（ａ））。次に、フォトマスク２２を介してエネルギー２３を照射し（図６（ｂ））、撥液性から親液性に濡れ性を変化させて親液性領域２１´を形成する（図６（ｃ））、濡れ性変化工程を行う。さらに、上記濡れ性変化工程において親液性となった親液性領域２１´に中間層形成用塗工液２４を塗布する中間層形成用塗工液塗布工程を行う（図６（ｄ））。上記一連の工程により中間層が第１バリア層上にパターン状に形成される。
【０１３４】
このような濡れ性変化層は、光触媒を含有していればよいものである。光触媒と光触媒の作用により濡れ性が変化する材料とを有する層であっても、光触媒により濡れ性が変化する材料を有する層と光触媒を有する層とが積層されたものであってもよい。
【０１３５】
上記濡れ性変化層に用いられる材料としては、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性が変化する材料で、かつ光触媒の作用により劣化、分解しにくい主鎖を有するバインダであれば特に限定されるものではなく、具体的にはオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。本態様においては、中でも上記オルガノポリシロキサンが、フルオロアルキル基を含有するオルガノポリシロキサンであることが好ましい。
【０１３６】
このようなオルガノポリシロキサンとしては、例えば、（１）ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、（２）撥水牲や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等のオルガノポリシロキサンを挙げることができる。
【０１３７】
上記の（１）の場合、一般式：
ＹｎＳｉＸ（４−ｎ）
（ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数である。）
で示される珪素化合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。なお、ここでＹで示される基の炭素数は１〜２０の範囲内であることが好ましく、また、Ｘで示されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。
【０１３８】
また、特にフルオロアルキル基を含有するオルガノポリシロキサンが好ましく用いることができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシランの１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものを使用することができる。
【０１３９】
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ  ＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ  ＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２；
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；
ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；および
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）Ｃ２Ｈ４ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  。
【０１４０】
上記のようなフルオロアルキル基を含有するポリシロキサンをバインダとして用いることにより、濡れ性変化層のエネルギー未照射部の撥液性が大きく向上し、中間層形成用塗工液を全面塗布した場合に、この中間層形成用塗工液の付着を妨げることが可能となり、エネルギー照射部である親液性領域のみに中間層形成用塗工液を付着させることが可能となる。
【０１４１】
また、上記の（２）の反応性シリコーンとしては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げることができる。
【０１４２】
【化１】
2005158481.tif 000003
【０１４３】
ただし、ｎは２以上の整数であり、Ｒ１，Ｒ２はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であり、モル比で全体の４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルである。また、Ｒ１、Ｒ２がメチル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モル比でメチル基が６０％以上であることが好ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少なくとも１個以上の水酸基等の反応性基を有する。
【０１４４】
また、上記のオルガノポリシロキサンとともに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしない安定なオルガノシリコーン化合物を混合してもよい。
【０１４５】
本態様においては、このようにオルガノポリシロキサン等の種々の材料を濡れ性変化層に用いることができるのであるが、上述したように、濡れ性変化層にフッ素を含有させることが、濡れ性のパターン形成に効果的である。したがって、光触媒の作用により劣化・分解しにくい材料にフッ素を含有させる、具体的にはオルガノポリシロキサン材料にフッ素を含有させて濡れ性変化層とすることが好ましいといえる。
【０１４６】
本態様における濡れ性変化層には、光触媒の作用により分解し、かつ分解されることにより濡れ性を変化させる機能を有する界面活性剤を含有させることができる。具体的には、日光ケミカルズ（株）製ＮＩＫＫＯＬ  ＢＬ、ＢＣ、ＢＯ、ＢＢの各シリーズ等の炭化水素系、デュポン社製ＺＯＮＹＬ  ＦＳＮ、ＦＳＯ、旭硝子（株）製サーフロンＳ−１４１、１４５、大日本インキ化学工業（株）製メガファックＦ−１４１、１４４、ネオス（株）製フタージェントＦ−２００、Ｆ２５１、ダイキン工業（株）製ユニダインＤＳ−４０１、４０２、スリーエム（株）製フロラードＦＣ−１７０、１７６等のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤を挙げることができ、また、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもできる。
【０１４７】
また、濡れ性変化層には上記の界面活性剤の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレート、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマー、ポリマー等を含有させることができる。
【０１４８】
上記のような光触媒の作用により濡れ性を変化させる機能を有する分解物質を濡れ性変化層に含有させる場合は、濡れ性変化層に用いられるバインダとしては、特に光触媒の作用により濡れ性変化層上の濡れ性を変化させる機能を有さなくてもよい。このようなバインダとしては、バインダの主骨格が光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであれば特に限定されるものではない。例えば、無定形シリカ前駆体を用いることができる。この無定形シリカ前駆体は、一般式ＳｉＸ４で表され、Ｘはハロゲン、メトキシ基、エトキシ基、またはアセチル基等であるケイ素化合物、それらの加水分解物であるシラノール、または平均分子量３０００以下のポリシロキサンが好ましい。具体的には、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラメトキシシラン等が挙げられる。また、この場合には、無定形シリカの前駆体と光触媒の粒子とを非水性溶媒中に均一に分散させ、第１バリア層上に空気中の水分により加水分解させてシラノールを形成させた後、常温で脱水縮重合することにより濡れ性変化層を形成できる。シラノールの脱水縮重合を１００℃以上で行えば、シラノールの重合度が増し、膜表面の強度を向上できる。また、これらの結着剤は、単独あるいは２種以上を混合して用いることができる。
【０１４９】
このような濡れ性変化層は、上述した成分を必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を第１バリア層上に塗布することにより形成することができる。使用する溶剤としては、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好ましい。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等の一般的な塗布方法により行うことができる。また、紫外線硬化型の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理を行うことにより濡れ性変化層を形成することができる。
【０１５０】
本態様において、この濡れ性変化層の厚みは、光触媒による濡れ性の変化速度等の関係より、０．００１μｍ〜１μｍであることが好ましく、特に好ましくは０．０１〜０．１μｍの範囲内である。
【０１５１】
また、上記光触媒としては、光半導体として知られる例えば二酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３）、酸化タングステン（ＷＯ３）、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）、および酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）を挙げることができ、これらから選択して１種または２種以上を混合して用いることができる。
【０１５２】
本態様においては、特に二酸化チタンが、バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性もなく、入手も容易であることから好適に使用される。二酸化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本発明ではいずれも使用することができるが、アナターゼ型の二酸化チタンが好ましい。アナターゼ型二酸化チタンは励起波長が３８０ｎｍ以下にある。
【０１５３】
このようなアナターゼ型二酸化チタンとしては、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（石原産業（株）製ＳＴＳ−０２（平均粒径７ｎｍ）、石原産業（株）製ＳＴ−Ｋ０１）、硝酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（日産化学（株）製ＴＡ−１５（平均粒径１２ｎｍ））等を挙げることができる。
【０１５４】
光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効果的に起こるので好ましく、平均粒径か５０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下の光触媒を使用するのが特に好ましい。
【０１５５】
上記濡れ性変化層中の光触媒の含有量は、５〜６０重量％、好ましくは２０〜４０重量％の範囲で設定することができる。
【０１５６】
本態様でいうエネルギー照射とは、光触媒による濡れ性変化層の濡れ性を変化させることが可能ないかなるエネルギー線の照射をも含む概念であり、可視光の照射に限定されるものではない。
【０１５７】
通常このようなエネルギー照射に用いる光の波長は、４００ｎｍ以下の範囲、好ましくは３８０ｎｍ以下の範囲から設定される。これは、上述したように濡れ性変化層に用いられる好ましい光触媒が二酸化チタンであり、この二酸化チタンにより光触媒作用を活性化させるエネルギーとして、上述した波長の光が好ましいからである。
【０１５８】
このようなエネルギー照射に用いることができる光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマランプ、その他種々の光源を挙げることができる。
【０１５９】
上述したような光源を用い、フォトマスクを介したパターン照射により行う方法の他、エキシマ、ＹＡＧ等のレーザを用いてパターン状に描画照射する方法を用いることも可能である。
【０１６０】
また、エネルギー照射に際してのエネルギーの照射量は、濡れ性変化層表面が光触媒含有層中の光触媒の作用により濡れ性変化層表面の特性の変化が行われるのに必要な照射量とする。
【０１６１】
本態様において、親液性領域は、撥液性領域より水との接触角が小さい領域であれば、特に限定されるものではなく、親液性領域内の濡れ性が均一であっても、不均一であってもよい。
【０１６２】
（ii）第２の態様
本発明において、中間層形成工程の第２の態様は、光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層と光触媒が含有された光触媒含有層とを所定の間隙をおいて配置しエネルギー照射するものである。これにより、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により濡れ性を変化させ、光触媒含有層を取り外し、撥液性から親液性に濡れ性が変化した親液性領域に中間層形成用塗工液を塗布することにより、パターン状に中間層を形成することができる。
【０１６３】
図７は、本発明の画像表示装置の製造方法における中間層形成工程の一例を示す工程図である。光触媒を用いた中間層形成工程においては、まず第１バリア層３ａ上に光触媒の作用により濡れ性が変化する濡れ性変化層２１を形成する濡れ性変化層形成工程を行う（図７（ａ））。次に、濡れ性変化層２１上に光触媒含有層側基板２５を所定の間隙をおいて配置し、フォトマスク２２を介してエネルギー２３を照射し（図７（ｂ））、撥液性から親液性に濡れ性を変化させて親液性領域２１´を形成する（図７（ｃ））、濡れ性変化工程を行う。このとき、光触媒含有層側基板２５は濡れ性変化層２１上から取り外される。さらに、上記濡れ性変化工程において親液性となった親液性領域２１´に中間層形成用塗工液２４を塗布する中間層形成用塗工液塗布工程を行う（図７（ｄ））。上記一連の工程により中間層が第１バリア層上にパターン状に形成される。
【０１６４】
本態様に用いられる光触媒含有層は、光触媒含有層中の光触媒が、所定の間隙をおいて配置された濡れ性変化層の濡れ性を変化させるような構成であれば、特に限定されるものではない。また、その表面の濡れ性は特に親水性であっても撥水性であってもよい。
【０１６５】
本態様において用いられる光触媒含有層は、基板上に形成されたものであってもよいが、基板上にパターン状に形成されたものであってもよい。このように光触媒含有層をパターン状に形成することにより、光触媒含有層を濡れ性変化層と所定の間隙をおいて配置してエネルギーを照射する際に、フォトマスク等を用いるパターン照射をする必要がなく、全面に照射することにより、濡れ性変化層上に親水性領域と撥水性領域とからなる濡れ性パターンを形成することができる。
【０１６６】
この光触媒含有層のパターニング方法は、特に限定されるものではないが、例えばフォトリソグラフィー法等により行うことが可能である。
【０１６７】
また、光触媒含有層と濡れ性変化層とを対向させてエネルギー照射を行う場合には、実際に光触媒含有層の形成された部分のみの濡れ性が変化するものであるので、エネルギーの照射方向は上記光触媒含有層と濡れ性変化層とが対向する部分にエネルギーが照射されるものであれば、いかなる方向から照射されてもよく、さらには、照射されるエネルギーも特に平行光等の平行なものに限定されないという利点を有するものとなる。
【０１６８】
また、光触媒含有層および濡れ性変化層の配置は、光触媒含有層と濡れ性変化層とを光触媒の作用が及ぶように所定の間隙をおいて配置するものである。ここでいう配置とは、実質的に光触媒の作用が濡れ性変化層表面に及ぶような状態で配置された状態をいうこととし、実際に物理的に接触している状態の他、所定の間隙を隔てて上記光触媒含有層と濡れ性変化層とが配置された状態とする。
【０１６９】
本態様において上記間隙は、２００μｍ以下であることが好ましい。中でも、パターン精度が極めて良好であり、光触媒の感度も高く、したがって濡れ性変化層の濡れ性変化の効率が良好である点を考慮すると、特に０．２μｍ〜１０μｍの範囲内、好ましくは１μｍ〜５μｍの範囲内とすることが好ましい。このような間隙の範囲は、特に間隙を高い精度で制御することが可能である小面積の濡れ性変化層に対して特に有効である。
【０１７０】
一方、例えば３００ｍｍ×３００ｍｍ以上といった大面積の濡れ性変化層に対して処理を行う場合は、接触することなく、かつ上述したような微細な間隙を光触媒含有層と濡れ性変化層との間に形成することは極めて困難である。したがって、濡れ性変化層が比較的大面積である場合は、上記間隙は、１０〜１００μｍの範囲内、特に５０〜７５μｍの範囲内とすることが好ましい。間隙をこのような範囲内とすることにより、パターンがぼやける等のパターン精度の低下の問題や、光触媒の感度が悪化して濡れ性変化の効率が悪化する等の問題が生じることなく、さらに濡れ性変化層上の濡れ性変化にムラが発生しないといった効果を有するからである。
【０１７１】
このように比較的大面積の濡れ性変化層をエネルギー照射する際には、エネルギー照射装置内の光触媒含有層と濡れ性変化層との位置決め装置における間隙の設定を、１０μｍ〜２００μｍの範囲内、特に２５μｍ〜７５μｍの範囲内に設定することが好ましい。設定値をこのような範囲内とすることにより、パターン精度の大幅な低下や光触媒の感度の大幅な悪化を招くことなく、かつ光触媒含有層と濡れ性変化層とが接触することなく配置することが可能となるからである。
【０１７２】
このように光触媒含有層と濡れ性変化層表面とを所定の間隔で離して配置することにより、酸素と水および光触媒作用により生じた活性酸素種が脱着しやすくなる。すなわち、上記範囲より光触媒含有層と濡れ性変化層との間隔を狭くした場合は、上記活性酸素種の脱着がしにくくなり、結果的に濡れ性変化速度を遅くしてしまう可能性があることから好ましくない。また、上記範囲より間隔を離して配置した場合は、生じた活性酸素種が濡れ性変化層に届き難くなり、この場合も濡れ性変化の速度を遅くしてしまう可能性があることから好ましくない。
【０１７３】
また、このような極めて狭い間隙を均一に形成して光触媒含有層と濡れ性変化層とを配置する方法としては、例えばスペーサを用いる方法を挙げることができる。そして、このようにスペーサを用いることにより、均一な間隙を形成することができると共に、このスペーサが接触する部分は、光触媒の作用が濡れ性変化層表面に及ばないことから、このスペーサを目的とする濡れ性変化パターンと同様のパターンを有するものとすることにより、濡れ性変化層上に所定の濡れ性変化パターンを形成することが可能となる。また、このようなスペーサを用いることにより、光触媒の作用により生じた活性酸素種が拡散することなく、高濃度で濡れ性変化層表面に到達することから、効率よく高精細な濡れ性変化パターンを形成することができる。
【０１７４】
本態様においては、このような光触媒含有層と濡れ性変化層との配置状態は、少なくともエネルギー照射の間だけ維持されればよい。
【０１７５】
また、本態様に用いられる濡れ性変化層は、光触媒の作用により濡れ性が変化するものであればよく、上記第１の態様に記載した材料を用いることができる。
【０１７６】
また、本態様における光触媒含有層は、光触媒単独で形成されたものであってもよく、またバインダと混合して形成されたものであってもよい。光触媒のみからなる光触媒含有層の場合は、濡れ性変化層上の濡れ性の変化に対する効率が向上し、処理時間の短縮化等のコスト面で有利である。一方、光触媒とバインダとからなる光触媒含有層の場合は、光触媒含有層の形成が容易であるという利点を有する。光触媒含有層に用いられる材料としては、濡れ性変化層に用いられる材料と同様のものを用いることができる。
【０１７７】
また、上記光触媒含有層が形成される基板としては、可撓性を有するもの、例えば樹脂製フィルム等であってもよいし、可撓性を有さないもの、例えばガラス基板等であってもよい。このように、本態様において、光触媒含有層側基板に用いられる基板は、特にその材料を限定されるものではないが、この光触媒含有層側基板は、繰り返し用いられるものであることから、所定の強度を有し、かつその表面が光触媒含有層との密着性が良好である材料が好適に用いられる。具体的には、ガラス、セラミック、金属、プラスチック等を挙げることができる。
【０１７８】
なお、基板表面と光触媒含有層との密着性を向上させるために、基板上にプライマー層を形成するようにしてもよい。このようなプライマー層としては、例えば、シラン系、チタン系のカップリング剤等を挙げることができる。
【０１７９】
なお、本態様に用いられる濡れ性変化層に用いられる材料、光触媒、エネルギー照射等に関しては、上述した第１の態様に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１８０】
また、本発明においては、濡れ性変化層と光触媒含有層とを所定の間隙をおいて配置し、エネルギー照射することにより濡れ性を変化させる本態様の中間層形成工程により中間層を形成することが好ましい。第１の態様においては、光触媒を含有する濡れ性変化層が、画像表示装置の構成に含まれるため、内部に含有される光触媒の半永久的な作用により、画像表示装置が光触媒の影響を受ける可能性が考えられるが、本態様においては、エネルギー照射後は光触媒が含有された光触媒含有層を取り外すものであることから、光触媒の影響の少ない画像表示装置の製造することができるからである。
【０１８１】
（３）第２バリア層形成工程
次に、ガスバリア層形成工程においては、上記中間層上に第２バリア層を形成する第２バリア層形成工程が行われる。第２バリア層は、中間層を覆うように第１バリア層が形成された領域上に形成されるものである。本発明において、上記中間層は少なくとも表示層が設けられた表示部上に形成されるものであり、表示部においては第１バリア層、中間層および第２バリア層が積層された三層構造となる。よって、第１バリア層または第２バリア層にピンホール等の欠損部位がある場合でも、第１バリア層と第２バリア層との間に中間層が形成されているため、第１バリア層または第２バリア層のピンホール等が塞がれ、第１バリア層から第２バリア層まで貫通するピンホール等が生成するのを防ぐことができ、ガスバリア性を付与することが可能となる。したがって、本発明においては、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能である画像表示装置を製造することができるのである。
【０１８２】
なお、第２バリア層に用いられる材料等に関しては、上述した「Ａ．画像表示装置」のガスバリア層の欄に記載したものと同様であり、また第２バリア層の形成方法等に関しては、上述した第１バリア層形成工程の欄に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１８３】
３．電極層形成工程
次に、ガスバリア層形成工程においては、上記第２バリア層上に電極層を形成する電極層形成工程が行われる。例えば図４（ｅ）に示すように、電極層５は第２バリア層３ｂ上にパターン状に形成されるものである。また、表示層が形成されていない非表示部の電極層が形成された電極層形成部にはＡＣＦ接続されるものである。本発明においては、このＡＣＦ接続される電極層形成部に中間層が形成されていないことにより、ＡＣＦ接続をする際にこの電極層形成部を強く挟み込んでも、電極層またはガスバリア層が割れるという不具合を回避することができる。
【０１８４】
本発明に用いられる電極層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法等により形成することができる。また、電極層のパターニングは、一般的な方法を用いることができる。
【０１８５】
なお、電極層に関しては、上述した「Ａ．画像表示装置」の電極層の欄に記載したものと同様であるのでここでの説明は省略する。
【０１８６】
４．その他
本発明においては、例えば図３に示すように上記表示層２とガスバリア層３との間であって、表示層２が形成された表示部１３上に平坦化層６を形成してもよい。上記表示層は、膜厚が比較的高く、この表示層上にガスバリア層等を形成した場合には、平坦な層を形成することが困難であり、またガスバリア層形成時に表示層が侵食される等の問題がある。本発明おいては、上記平坦化層を表示層上に形成することにより、表示層を保護すると同時に、表示層による凹凸を解消し、さらに表面を平坦化することができるからである。また、これにより、ガスバリア層を緻密、かつ平坦に形成することができ、ガスバリア性の高いものとすることができるからである。
【０１８７】
このような平坦化層の形成方法としては、上記表示層上に、平坦化層の形成材料である樹脂等を例えばスピンコーティング法、スプレー法、ブレードコーティング法、ディップ法、ローラーコーター機、ランドコーター機等によるウェットコーティング法により平坦化層を形成することができる。
【０１８８】
なお、平坦化層に用いられる材料等に関しては、上述した「Ａ．画像表示装置」に記載したものと同様であるのでここでの説明は省略する。
【０１８９】
Ｄ．有機ＥＬ素子の製造方法
次に、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法について説明する。本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、上記画像表示装置の製造方法における表示層が色変換層であることを特徴とするものである。また、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、上記画像表示装置の製造方法において、有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ層形成工程と、この有機ＥＬ層上に対向電極を形成する対向電極形成工程とを有するものである。
【０１９０】
本発明によれば、上述したＡＣＦ接続される電極形成部が強靭であり、かつガスバリア性の高い画像表示装置の電極層上に有機ＥＬ層等が形成されることから、経時でも酸素や水蒸気等の影響を受けることのない高品質な有機ＥＬ素子を製造することができるのである。
【０１９１】
このような有機ＥＬ層および対向電極の形成方法は、通常用いられる方法を使用することができる。
【０１９２】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１９３】
［実施例１］
（表示層の形成）
ガラス基材の上に表示層として、カラーフィルタ層を次のように形成した。
【０１９４】
まず、基材上に、スパッタリングにより酸化クロムの薄膜を形成した。この酸化クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、および酸化クロム薄膜のエッチングを順次行なって、マトリックス状に配列したブラックマトリックスを形成した。
【０１９５】
次に、赤色、緑色および青色の各色カラーフィルタ層形成用の感光性塗料組成物を調製して、上記のブラックマトリックスが形成された基材上に塗布し、乾燥後、フォトマスクを用いて露光し現像して、三色の各パターンが配列したカラーフィルタ層を形成した。
【０１９６】
ブラックマトリックスおよびカラーフィルタ層が形成された上に、青色変換蛍光体を分散させた透明感光性樹脂組成物を塗布し、フォトリソグラフィー法によりパターニングを行い、上記青色カラーフィルタ層上に青色変換蛍光層を形成した。次いで、上記と同様の手順により、緑色変換蛍光層を上記緑色カラーフィルタ層上に形成し、さらに、赤色変換蛍光層を上記赤色カラーフィルタ層上に形成することにより、色変換層を形成した。
【０１９７】
次いで、色変換層が形成された上に、アクリレート系紫外線硬化性樹脂（新日鐵化学（株）製  Ｖ−２５９ＰＡ／ＰＨ５）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した保護層形成用塗工液を用い、スピンコート法により塗布し、温度１２０℃で５分間のプリベイクを行った後、紫外線を照射線量が３００ｍＪになるよう全面露光を行い、露光後、温度２００℃で６０分間のポストベイクを行って、色変換層上の全体を覆うように、厚み５μｍの透明な保護層を形成した。
【０１９８】
（第１バリア層の形成）
次に、上記の色変換層の上に、スパッタ法により、酸化窒化珪素（ＳｉＯＮ）膜を全面に以下の成膜条件で形成した。
ターゲット材：ＳｉＮ
Ａｒ／Ｎ２：４００ｓｃｃｍ／１０ｓｃｃｍ（４０：１）
成膜圧力：５ｍＴｏｒｒ
印加パワー：４．３ｋＷ
成膜温度：非加熱（程度１１０℃）
膜厚：３０００Å
【０１９９】
（中間層のパターンの形成）
次に、上記のように作製されたＳｉＯＮ膜のバリア層上に、下記の方法により中間層のパターンを形成した。
【０２００】
まず、フルオロアルキルシラン（ＴＳＬ８２２３  ＧＥ東芝シリコーン製）１．５ｇ、テトラメトキシシラン（ＴＳＬ８１１４  ＧＥ東芝シリコーン製）５．０ｇ、および０．１Ｎ塩酸３．０ｇを２４時間常温にて攪拌して撥液性付与剤を作製した。次に、チタニアゾル（ＳＴＳ−０１  石原産業製）を水とイソプロパノールとの混合液（重量比１：１）にてＴｉＯ２濃度が０．５ｗｔ％となるように希釈した。この液４５ｇに上記撥液性付与剤を０．３ｇと水５．０ｇとを添加して、１０分間攪拌しパターン形成用塗工液とした。
【０２０１】
このパターン形成用塗工液を、上記ＳｉＯＮ膜の上にスピンコーターにて０．１μｍ厚に塗布し、１５０℃、１０分間乾燥して、濡れ性変化層（ＴｉＯ２膜）を形成し、この濡れ性変化層の水との接触角を測定したところ、９７°であった。次に、超高圧水銀ランプ（３６５ｎｍ、３０ｍＷ／ｃｍ２）を用いてフォトマスクを介して４５秒間露光すると、その露光部分は水との接触角が１０°以下になった。このフォトマスクは上記表示層が設けられた表示部に相当する個所が透過するパターンを使用した。
【０２０２】
さらに、エポキシ系熱硬化性樹脂（新日鐵化学（株）製  Ｖ−２５９ＥＨ／２１０Ｘ６）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した中間層形成用塗工液を調整し、これを上記濡れ性変化工程により親液性となった親液性領域に、スピンコート法により塗布し、親液性領域にのみ中間層のパターンを５μｍ厚で形成した。次に、温度１２０℃で５分間のプリベイクを行った後、温度２００℃で６０分間のポストベイクを行って、親液性領域にのみ中間層のパターンを形成することができた。
【０２０３】
（第２バリア層の形成）
上記の中間層上に、酸化窒化珪素（ＳｉＯＮ）膜を、第１バリア層の形成と同様の条件にて全面に形成した。
【０２０４】
これにより、表示部におけるガスバリア層の構成は、ＳｉＯＮ膜、ＴｉＯ２膜、中間層、ＳｉＯＮ膜の無機／有機／無機の複合膜となり、一方、非表示部は、ＳｉＯＮ膜、ＴｉＯ２膜、ＳｉＯＮ膜の全て無機膜で形成されることとなった。上記一連の操作により、ガスバリア性基材１を作製した。
【０２０５】
（画像表示装置の作製）
上記のガスバリア性基材１上に電極層を形成後、有機ＥＬ層を形成し、この有機ＥＬ層上に対向電極を形成して画像表示装置を作製した。
【０２０６】
［実施例２］
実施例１のガスバリア性基材１における非表示部の濡れ性変化層がＡＣＦ接続に悪影響を及ぼすか否かの確認として、非表示部の濡れ性変化層を除去したガスバリア性基材２を作製した。濡れ性変化層の除去は次の方法にて行った。
【０２０７】
実施例１と同様にして濡れ性変化層の親液性領域にのみ中間層を形成し、ポストベイクして硬化させた後に、ＫＯＨの２０％水溶液に浸し超音波洗浄を３分行い、続いてＩＰＡによる超音波洗浄を２分行い、濡れ性変化層を非表示部から取り除いた。その後、ＳｉＯＮ膜を実施例１と同様に形成してガスバリア性基材２とした。
【０２０８】
さらに、上記ガスバリア性基材２を用いて、実施例１と同様にして画像表示装置を作製した。
【０２０９】
［実施例３］
紫外線硬化性樹脂を用いて中間層を形成し、ＳｉＯＮ膜（無機）／中間層（有機）／ＳｉＯＮ膜（無機）のガスバリア層とした以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性基材３を作製した。ＳｉＯＮ膜は実施例１と同条件で成膜を行い、中間層は濡れ性変化層を用いずにフォトリソグラフィー法にて形成した。以下に中間層の形成方法を示す。
【０２１０】
ＳｉＯＮ膜上に、アクリレート系紫外線硬化性樹脂（新日鐵化学（株）製  Ｖ−２５９ＰＡ／ＰＨ５）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した中間層形成用塗工液を用い、スピンコート法により塗布し、温度１２０℃で５分間のプリベイクを行った後、紫外線を照射線量が３００ｍＪになるよう全面露光を行い、露光後、温度２００℃で６０分間のポストベイクを行って、厚み５μｍの中間層を形成した。
【０２１１】
さらに、上記ガスバリア性基材３を用いて、実施例１と同様にして画像表示装置を作製した。
【０２１２】
［比較例１］
中間層をパターニングしない以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性基材４を作製し、画像表示装置を作製した。
【０２１３】
ここで、ガスバリア性基材１は中間層をパターニングしＡＣＦ接続を考慮したものであるが、ガスバリア性基材４は中間層をパターニングせずＡＣＦ接続を考慮しないものである。
【０２１４】
［評価］
実施例１〜３および比較例１の画像表示装置では、いずれのガスバリア性基材もガスバリア性がＰＭ駆動１５０ｃｄ／ｍ２  １００００ｈ以上となり良好であった。特に、熱硬化性樹脂を用いて中間層を形成した実施例１および２の画像表示装置は、製品耐久性が良好であり、高温ＰＭ駆動８５°／１５０ｃｄ／ｍ２  輝度半減１０００ｈ以上もクリアし、ダークスポットの発生も無かった。
【０２１５】
ただし、ＡＣＦ接続を考慮しない比較例１の画像表示装置は、ＡＣＦ接続が不安定で最初から表示不良が発生する部分があった。
【０２１６】
また、濡れ性変化層を表示部には有し、非表示部の電極取り出し部には有していない実施例２の画像表示装置は、ＡＣＦ接続にも何らの問題も生じなかった。さらに、濡れ性変化層を含むガスバリア性基材を用いた実施例１および２の画像表示装置は、いずれも良好な結果を示したことから、濡れ性変化層はＡＣＦ接続に影響を及ぼさないことがわかった。
【図面の簡単な説明】
【０２１７】
【図１】本発明の画像表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の画像表示装置の一例を示す概略平面図である。
【図３】本発明の画像表示装置の他の例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の画像表示装置の製造方法の一例を示す工程図である。
【図５】本発明の画像表示装置の製造方法の他の例を示す工程図である。
【図６】本発明の画像表示装置の製造方法における中間層形成工程の一例を示す工程図である。
【図７】本発明の画像表示装置の製造方法における中間層形成工程の他の例を示す工程図である。
【符号の説明】
【０２１８】
１…基材
２…表示層
３…ガスバリア層
３ａ…第１バリア層
３ｂ…第２バリア層
４…中間層
５…電極層
１１…中間層形成領域
１２…非中間層形成領域
１３…表示部
１４…非表示部
【図１】
2005158481.tif 000004
【図２】
2005158481.tif 000005
【図３】
2005158481.tif 000006
【図４】
2005158481.tif 000007
【図５】
2005158481.tif 000008
【図６】
2005158481.tif 000009
【図７】
2005158481.tif 000010