(57)【要約】【課題】  基板処理装置内に搬送したときにこの装置を汚染させずに、装置内に付着している異物を簡便かつ確実に除去できるクリーニング機能付き搬送部材を得る。【解決手段】  搬送部材上にクリーニング層を有するクリーニング機能付き搬送部材を得るにあたり、搬送部材の裏面をあらかじめ保護材で保護し、この状態で搬送部材の主面にクリーニング層を設け、その後、上記の裏面を清浄化処理して、パーティクル、メタル不純物、シリコーン不純物などの汚染が低減された、低汚染性のクリーニング機能付き搬送部材を得る清浄化方法、とくに、上記裏面の清浄化処理が、保護材の一部または全部を除去する工程を含むか、あるいは保護材を残したまま、清浄化する工程からなる上記構成のクリーニング機能付き搬送部材の清浄化方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送部材上にクリーニング層を有するクリーニング機能付き搬送部材を得るにあたり、搬送部材の裏面をあらかじめ保護材で保護し、この状態で搬送部材の主面にクリーニング層を設け、その後、上記の裏面を清浄化処理することを特徴とするクリーニング機能付き搬送部材の清浄化方法。
【請求項２】
裏面の清浄化処理は、保護材の一部または全部を除去する工程を含む請求項１に記載のクリーニング機能付き搬送部材の清浄化方法。
【請求項３】
裏面の清浄化処理は、保護材を残したまま、清浄化する工程からなる請求項１に記載のクリーニング機能付き搬送部材の清浄化方法。
【請求項４】
清浄化処理後の裏面は、清浄化の程度として、下記の（ａ）〜（ｃ）；
（ａ）０．２００μｍ以上のパーティクル数が６．３７個／cm2 以下
（ｂ）全反射蛍光エックス線分析装置で測定されるＦｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ      ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各検出量が１．０×１０11ａｔｏｍｓ／cm2 未満
（ｃ）飛行時間型２次イオン質量分析で測定されるＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5       Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3       ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2       Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）が０．１未満
のうちのいずれか少なくともひとつを満足する請求項１〜３のいずれかに記載のクリーニング機能付き搬送部材の清浄化方法。
【請求項５】
請求項４に記載の方法により清浄化されたクリーニング機能付き搬送部材。
【請求項６】
請求項５に記載のクリーニング機能付き搬送部材を、基板処理装置内に搬送することを特徴とする基板処理装置のクリーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置をクリーニングするために用いられるクリーニング機能付き搬送部材の清浄化方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体、プラットパネルディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査装置など、異物を嫌う各種の基板処理装置では、各搬送系と基板とを物理的に接触させながら搬送する。その際、基板や搬送系に異物が付着していると、後続の基板をつぎつぎに汚染することになるため、定期的に装置を停止して洗浄処理する必要があった。このため、稼動率の低下や多大な労力が必要となるという問題があった。
【０００３】
この問題を解決するため、クリーニング部材として、搬送部材である基板上にクリーニング層である粘着性物質を固着した、いわゆるクリーニング機能付き搬送部材を作製し、これを基板処理装置内に搬送して、装置内に付着する異物をクリーニング除去する方法が提案されている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２０００−３１２８６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記の提案方法は、装置を停止して洗浄する必要がなく、稼動率の低下や多大な労力を回避するのに有効な方法である。しかし、クリーニング部材として使用するクリーニング機能付き搬送部材の作製に際し、以下のような問題があった。
上記作製では、搬送部材を搬入してこの上にクリーニング層を設けるための適宜の製造装置（たとえば、クリーニングシートの貼り合わせ装置やクリーニング塗料の塗布装置）が用いられるが、その際、搬送部材のクリーニング層形成面（主面）とは反対側の裏面が製造装置と接触し、この接触部位から上記背面にパーティクル、メタル不純物、シリコーン不純物などが付着し、作製されるクリーニング部材が汚染される。
【０００５】
このように汚染されたクリーニング部材を基板処理装置内に搬送すると、装置内で上記パーティクルやメタル不純物などが飛散したり、装置接触部にシリコーン不純物などが転写し、処理装置が汚染される。その結果、製品ウエハが二次汚染され、デバイス特性の低下による不良が多発し、製品ウエハの歩留り低下の原因となる。
したがって、クリーニング部材として使用するクリーニング機能付き搬送部材は、クリーニング層が設けられる主面とは反対側の裏面の汚染管理も重要である。
【０００６】
本発明は、上記の事情に照らし、クリーニング機能付き搬送部材の作製におけるパーティクル、メタル不純物、シリコーン不純物などによる汚染を回避し、基板処理装置内に搬送したときにこの装置を汚染させることなく、装置内に付着している異物を簡便かつ確実に除去できるクリーニング機能付き搬送部材を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記の目的を達成するため、鋭意検討した結果、搬送部材の主面にクリーニング層を設けるあたり、搬送部材の裏面をあらかじめ保護材で保護し、この状態でクリーニング層を設けたのち、上記裏面に対して、その保護材の一部または全部を除去して清浄化処理するか、保護材を除去しないまま清浄化処理することにより、搬送部材裏面のパーティクル、メタル不純物、シリコーン不純物などによる汚染が著しく低減されたクリーニング部材が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明は、搬送部材上にクリーニング層を有するクリーニング機能付き搬送部材を得るにあたり、搬送部材の裏面をあらかじめ保護材で保護し、この状態で搬送部材の主面にクリーニング層を設け、その後、上記の裏面を清浄化処理することを特徴とするクリーニング機能付き搬送部材の清浄化方法に係るのである。
とくに、本発明は、上記裏面の清浄化処理が、保護材の一部または全部を除去する工程を含むか、あるいは保護材を残したまま、清浄化する工程からなる上記構成のクリーニング機能付き搬送部材の清浄化方法に係るものである。
【０００９】
また、本発明は、上記構成のクリーニング機能付き搬送部材の清浄化方法として、清浄化処理後の裏面が、清浄化の程度として、下記の（ａ）〜（ｃ）；
（ａ）０．２００μｍ以上のパーティクル数が６．３７個／cm2 以下
（ｂ）全反射蛍光エックス線分析装置で測定されるＦｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ      ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各検出量が１．０×１０11ａｔｏｍｓ／cm2 未満
（ｃ）飛行時間型２次イオン質量分析で測定されるＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5       Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3       ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2       Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）が０．１未満
のうちのいずれか少なくともひとつを満足するクリーニング機能付き搬送部材の清浄化方法を提供できるものである。
さらに、本発明は、上記方法で清浄化された上記低汚染性のクリーニング機能付き搬送部材を提供できるものである。また、本発明は、この低汚染性のクリーニング機能付き搬送部材を、基板処理装置内に搬送することを特徴とする基板処理装置のクリーニング方法を提供できるものである。
【発明の効果】
【００１０】
このように、本発明は、搬送部材の裏面を保護材で保護した状態で、搬送部材の主面にクリーニング層を設け、その後上記裏面を清浄化処理することにより、裏面のパーティクル、メタル不純物、シリコーン不純物などによる汚染が低減された、低汚染性のクリーニング機能付き搬送部材を提供でき、この搬送部材を基板処理装置に搬送することにより、処理装置を汚染させることなく、したがって製品ウエハの歩留り低下をきたすことなく、処理装置内に付着する異物を簡便かつ確実にクリーニング除去できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明において、クリーニング層を設ける搬送部材としては、とくに限定はなく、異物除去の対象となる基板処理装置の種類に応じて、各種の基板が用いられる。具体的には、半導体ウエハ，ＬＣＤ，ＰＤＰなどのフラットパネルディスプレイ用基板，その他、コンパクトディスク，ＭＲヘッドなどの基板などが挙げられる。
【００１２】
本発明においては、このような搬送部材の裏面に、つまりクリーニング層を設ける主面とは反対側の面に、あらかじめ、保護材を設ける。保護材の厚さは、とくに限定されないが、通常は１〜１００μｍであるのがよい。この保護材としては、たとえば、テープ材（シート材）やコーティング材などが用いられる。
テープ材（シート材）としては、半導体製造工程で使用されているダイシングテープ、バックグラインドテープ、クリーニング用テープ、フィルムレジストなどが用いられる。また、コーティング材としては、ポリアミック酸、ポリイミド、フッ素樹脂、紫外線や熱などにより硬化する粘着剤、液状レジストなどが用いられる。
【００１３】
このような保護材の中でも、搬送部材の主面側にクリーニング層を設けたのち、最終的に保護材を除去する場合は、テープ剥離、ウェットエッチング、ドライエッチングなどにより、容易に除去できるものであることが望ましい。また、とくに、テープ材（フィルム材）では、容易に剥離除去できるように、シリコンウエハ（ミラー面）に対する１８０度引き剥がし粘着力（ＪＩＳ  Ｚ０２３７に準じて測定）が０．２Ｎ／１０mm幅以下、好ましくは０．００１〜０．１Ｎ／１０mm幅であるのがよい。
【００１４】
一方、クリーニング層の形成中に保護材表面に付着するパーティクル、メタル不純物、シリコーン不純物などの汚染物を、これ単独で除去可能であるときは、クリーニング層の形成後、保護材をあえて除去しなくてもよい。よって、この場合、上記のような容易に除去できる保護材を使用する必要はない。このように保護材を除去しない態様では、最終的に裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材が得られる。
【００１５】
本発明においては、このように搬送部材の裏面を保護した状態で、この搬送部材の主面にクリーニング層を設ける。この方法は、常法に準じ、たとえば、クリーニングシートの貼り合わせ装置やクリーニング塗料の塗布装置などの適宜の製造装置を使用し、この装置内に上記裏面を保護した搬送部材を搬入し、その主面にクリーニングシートの貼り合わせやクリーニング塗料の塗布を行うことにより、実施される。
【００１６】
上記のクリーニングシートとは、支持体の片面にクリーニング層を、反対面に粘着剤層を有するもので、上記粘着剤層を介して、搬送部材の主面に貼り合わされるものである。ここで、上記のクリーニング層は、支持体の片面にクリーニング塗料を塗布し所要の工程を経て、形成される。この目的で使用するクリーニング塗料や、搬送部材の主面に直接塗布するクリーニング塗料としては、本発明の目的上、シリコーン変性していないものが好ましく、また重金属を含まないものであるのが好ましい。
【００１７】
このようなクリーニング塗料には、（イ）ポリイミド樹脂やフッ素系樹脂などの耐熱性樹脂を用いたものが好ましい。また、（ロ）紫外線や熱などの活性エネルギー源により硬化し、分子構造が三次元網状化して粘着力が低下または消失する硬化型の粘着剤が、好ましい。このようなクリーニング塗料を用いてクリーニング層を形成すると、基板処理装置内への搬送時にクリーニング層が装置接触部と強く接着することがなく、装置内を支障なく搬送できるクリーニング機能付き搬送部材が得られる。
【００１８】
上記（イ）の耐熱性樹脂は、どのような分子構造を持つものでもかまわないが、基板処理装置を汚染する物質を含まないものが望ましい。代表的な耐熱性樹脂としては、たとえば、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格を主鎖中に有するポリアミック酸樹脂を加熱イミド化して得られるポリイミド樹脂が挙げられる。
上記のポリアミック酸樹脂は、テトラカルボン酸二無水物成分とジアミン成分とを、実質的に等モル比にて、適宜の有機溶剤中で反応させて得ることができる。
【００１９】
上記のテトラカルボン酸二無水物成分としては、たとえば、３，３′，４，４′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２′，３，３′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３′，４，４′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２′，３，３′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、４，４′−オキシジフタル酸二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、ピロメリット酸二無水物、エチレングリコールビストリメリット酸二無水物などが挙げられ、これらは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２０】
上記のジアミン成分としては、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格を有するジアミン、たとえば、下記の式（１）または式（２）で示される脂肪族ジアミン（両式中、ｍ1 ，ｍ2 は０以上の整数、ｎは１以上の整数、Ｒは単結合または有機基である）が用いられ、これらのジアミンは単独で用いてもよいし、他のジアミンと併用してもよい。
【００２１】
＜式（１）で示される脂肪族ジアミン＞
【化１】
2005329322.tif 000002
【００２２】
＜式（２）で示される脂肪族ジアミン＞
【化２】
2005329322.tif 000003
【００２３】
上記の併用されるジアミンとしては、たとえば、４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、３，４′−ジアミノジフェニルエーテル、３，３′−ジアミノジフェニルエーテル、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、４，４′−ジアミノジフェニルプロパン、３，３′−ジアミノジフェニルプロパン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、３，３′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３′−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４′−ジアミノジフェニルスルホン、３，３′−ジアミノジフェニルスルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）−２，２−ジメチルプロパン、ヘキサメチレンジアミン、１，８−ジアミノオクタン、１，１２−ジアミノドデカン、４，４′−ジアミノベンゾフェノン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンなどのジアミンが挙げられる。
【００２４】
上記のテトラカルボン酸二無水物とジアミンとは、実質的に等モル比にて、適宜の有機溶媒中で反応させることができるが、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格を有するジアミンを用いる場合には、１００℃以上の温度で反応させることにより、ゲル化を防止することができる。すなわち、これ以下の温度で重合させた場合には、上記ジアミンの使用量によっては、ゲル分が系中に残存し、目詰まりによって、ろ過による異物の除去が困難となる場合がある。また、反応が不均一となることにより、樹脂の特性にばらつきを生じる原因となる場合がある。
また、上記のテトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させる適宜の溶剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどが挙げられるが、原材料や樹脂の溶解性を調整するため、トルエンやキシレンなどの非極性の溶剤を適宜、混合して用いることができる。
【００２５】
本発明で用いられるポリイミド樹脂としては、上記の方法により得られるポリアミック酸樹脂を、不活性雰囲気下、高温で加熱処理することにより、得ることができる。溶剤の乾燥後、高温で加熱処理する温度しては、１５０℃以上がよく、樹脂の酸化劣化を防ぐため、窒素雰囲気や真空中などの不活性雰囲気下で処理することが望ましい。これにより、樹脂中に残った揮発成分を除去することができる。
【００２６】
また、上記（ロ）の硬化型の粘着剤としては、たとえば、感圧接着性ポリマーに、分子内に不飽和二重結合を１個以上有する化合物（以下、重合性不飽和化合物という）および重合開始剤と、必要により架橋剤などを含ませたものが挙げられる。
感圧接着性ポリマーとしては、（メタ）アクリル酸および／または（メタ）アクリル酸エステルを主モノマーとしたアクリル系ポリマーが好ましい。重合性不飽和化合物は、重量平均分子量が１０，０００以下の低分子量体が好ましく、たとえば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイドなどの熱重合開始剤や、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインエチルエーテルなどの光重合開始剤などがある。
【００２７】
クリーニングシートにおいて、支持体としては、ポリオレフィン、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネートなどの各種樹脂からなる、厚さが通常１０〜１００μｍのプラスチックフィルムが用いられる。また、支持体のクリーニング層とは反対側に設ける粘着剤層には、アクリル系やゴム系などの通常の粘着剤からなるものが使用できるが、重量平均分子量が１０万以下の成分が１０重量％以下であるアクリル系ポリマーを主剤としたものがとくに好ましい。この粘着剤層の厚さは、通常１〜１００μｍ程度であるのが望ましい。
【００２８】
このように搬送部材の主面に設けるクリーニング層は、その厚さに関して、とくに限定はないが、通常は０．１〜２００μｍであり、好ましくは１〜５０μｍであるのがよい。また、シリコンウエハ（ミラー面）に対する１８０度引き剥がし粘着力（ＪＩＳ  Ｚ０２３７に準じて測定）は、通常０．２Ｎ／１０mm幅以下、好ましくは０．００１〜０．１Ｎ／１０mm幅であるのがよい。粘着力が０．２Ｎ／１０mm幅を超えると、搬送時に装置内の接触部と強く接着して、搬送トラブルとなるおそれがある。
【００２９】
本発明においては、上記のように搬送部材の主面にクリーニング層を設けたのち、搬送部材の裏面を清浄化処理する。すなわち、クリーニングシートの貼り合わせ装置やクリーニング塗料の塗布装置などの製造装置を用いて、上記のように搬送部材の主面にクリーニング層を設ける間に、搬送部材の裏面に設けた保護材の表面には、上記製造装置との接触により、パーティクル、メタル不純物、シリコーン不純物などの汚染物が付着するため、この不純物を除去する清浄化処理を施すものである。
【００３０】
上記の清浄化処理には、裏面に設けた保護材の一部または全部を除去する工程を含んでいてよく、この場合、上記保護材の除去工程と同時に、裏面の清浄化処理を完結させてもよいし、上記保護材の除去工程の後に、再度、裏面の清浄化処理を施してもよい。また、裏面に設けた保護材を除去することなく、搬送部材上に残したまま、保護材の表面に付着する汚染物のみを除去する清浄化処理を施してもよい。
【００３１】
保護材の一部または全部を除去する方法としては、たとえば、保護材がテープ状物（シート状物）からなる場合、それ自体の剥離性を利用して剥離除去する方法があり、また、他の接着テープなどを用いて剥離除去する方法、適宜の薬剤を用いたウェットエッチングやドライエッチングなどの方法が採用される。保護材の除去と同時に、裏面の清浄化処理が達成される場合は、その後に清浄化処理を施す必要はない。
【００３２】
保護材の除去と同時に清浄化処理が達成されない場合、その後にさらに清浄化処理を施す必要があるが、この清浄化処理の方法は、保護材を残したまま施す場合の清浄化処理と本質的に同じである。たとえば、ウエハ両面洗浄装置を用いて、ウエハを回転させ、また洗浄水（薬剤を含む）を供給しながら、ブラシを接触させて洗浄処理する、いわゆるブラシ洗浄が挙げられる。この方法において、ウエハの回転数、洗浄水の供給圧力、ブラシの接触圧力などを調節することで、洗浄の程度を容易に調整できる。
【００３３】
本発明においては、このような清浄化処理を施すことにより、搬送部材の裏面に付着するパーティクル、メタル不純物、シリコーン不純物などの汚染物が低減された低汚染性のクリーニング機能付き搬送部材が得られる。ここで、清浄化の程度としては、下記（ａ）〜（ｃ）のうちのいずれか少なくともひとつを満足すればよい。
【００３４】
まず、パーティクルに関し、（ａ）０．２００μｍ以上のパーティクル数が６．３７個／cm2 以下であり、好ましくは１．５９個／cm2 以下である。
なお、上記のパーティクル数は、パーティクルカウンター（ＫＬＡ  Ｔｅｎｃｏｒ製の「ＳｕｒｆＳｃａｎ６２００」）で測定し、測定した搬送部材の面積より、単位面積あたりのパーティクル数を計算したものである。
【００３５】
また、メタル不純物に関し、（ｂ）全反射蛍光エックス線分析装置で測定されるＦｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各検出量が１．０×１０11ａｔｏｍｓ／cm2 未満、好ましくは５．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 以下である。
なお、これら金属の検出量は、上記分析装置（ＴＸＲＦ）としてテクノス社製の「ＴＲＥＸ６１０Ｔ」を使用し、搬送部材の裏面に付着する各金属の量を、直接または間接的に測定したものである。
【００３６】
さらに、シリコーン不純物に関し、（ｃ）飛行時間型２次イオン質量分析で測定されるＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）が０．１未満であり、好ましくは０．０９以下である。
これらの測定は、上記質量分析（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）として、ＵＬＶＡＣ−ＰＨＩ製の「ＴＲＩＦＴ−II」を用い、測定条件として、試料サイズ：１０mm×５mm、１次イオン：69Ｇａ+ 、加速電圧：１５ｋＶ、測定範囲：１００μｍとし、搬送部材の裏面に対して、帯電補正用電子銃を用い、上記各フラグメントイオンのイオン強度を測定し、正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比として、相対強度を求めたものである。
【００３７】
なお、上記の方法により、裏面が低汚染性のクリーニング機能付き搬送部材が得られるが、裏面の保護材を完全に除去する態様においては、この除去した裏面に、上記と同様の手法により、クリーニング層を設けることも可能であり、これにより、両面クリーニング機能付き搬送部材が得られる。この場合、主面側に設けたクリーニング層が保護材としての役割を果たし、裏面にクリーニング層を形成したのち、主面側のクリーニング層に対してこれを残したまま清浄化処理を施せばよい。
【００３８】
本発明においては、このようにして得られる低汚染性のクリーニング機能付き搬送部材を用い、これを基板処理装置内に搬送して、そのクリーニング層を装置の被接触部位に接触させることにより、上記部位に付着する異物を簡便かつ確実にクリーニング除去する。その際、搬送部材の裏面が低汚染性であるため、処理装置を汚染させる心配がなく、従来のように製品ウエハが二次汚染されてデバイス特性の低下による不良が多発し、製品ウエハの歩留りが低下するといった問題を引き起こすことはない。
【００３９】
本発明において、クリーニングが行われる基板処理装置としては、とくに限定されず、たとえば、露光装置、レジスト塗布装置、現像装置、アッシング装置、ドライエッチング装置、イオン注入装置、ＰＶＤ装置、ＣＶＤ装置、外観検査装置、ウエハプローバなどが挙げられる。本発明においては、上記の方法によりクリーニングされた上記の各基板処理装置を提供できるものである。
以下に、本発明の実施例を記載して、より具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例にのみ限定されるものではない。なお、以下において、部とあるのは重量部を意味するものとする。
【実施例１】
【００４０】
アクリル酸２−エチルヘキシル７５部、アクリル酸メチル２０部およびアクリル酸５部からなるモノマー混合物から得たアクリル系ポリマー（重量平均分子量７０万）１００部に、ポリエチレングリコール２００ジメタクリレート（新中村化学社製の商品名「ＮＫエステル４Ｇ」）２００部、ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業社製の商品名「コロネートＬ」）３部および光重合開始剤としてベンジルジメチルケタール（チバ・スペシャリティケミカルズ社製の商品名「イルガキュアー６５1 」）３部を、均一に混合して、紫外線硬化型の粘着剤溶液を調製した。
【００４１】
これとは別に、温度計、撹拌機、窒素導入管および還流冷却管を備えた内容量が５００ｍｌの３つ口フラスコ型反応器内に、アクリル酸２−エチルへキシル７３部、アクリル酸ｎ−ブチル１０部、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド１５部およびアクリル酸５部からなる単量体混合物、重合開始剤として２，２′−アゾビスイソブチロニトリル０．１５部、溶剤として酢酸エチル１００部を、全体が２００ｇになるように配合して投入し、窒素ガスを約１時間導入しながら撹拌し、内部の空気を窒素で置換した。その後、内部の温度を５８℃にし、この状態で約４時間保持して重合を行い、粘着剤ポリマー溶液を得た。この粘着剤ポリマー溶液１００部に、ポリイソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業社製の商品名「コロネートＬ」）３部を、均一に混合して、粘着剤溶液を得た。
【００４２】
片面が剥離処理されたポリプロピレンフィルムからなるセパレータ（厚さ３０μｍ、幅２５０mm）の剥離処理面に、上記の粘着剤溶液を、乾燥後の厚さが７μｍとなるように、塗布し、乾燥して、粘着剤層を形成した。この粘着剤層上に、支持体として長尺ポリエステルフィルム（厚さ２５μｍ、幅２５０mm）を積層し、さらにそのフィルム上に、上記の紫外線硬化型の粘着剤溶液を、乾燥後の厚さが１５μｍとなるように、塗布し、乾燥して、紫外線硬化型の粘着剤層を設けた。その表面に、片面が非シリコーン系剥離剤で剥離処理された長鎖ポリエステルフィルムからなる保護フィルム（厚さ２５μｍ、幅２５０mm）の剥離処理面を貼り合わせ、積層シートとした。この積層シートに、中心波長３６５ｎｍの紫外線を積算光量１，０００ｍＪ／cm2 照射して、紫外線硬化した粘着剤層からなるクリーニング層を有するクリーニングシートＡを作製した。
【００４３】
また、片面が剥離処理されたポリプロピレンフィルムからなるセパレータ（厚さ３０μｍ、幅２５０mm）の剥離処理面に、上記の紫外線硬化型の粘着剤溶液を、乾燥後の厚さが１５μｍとなるように、塗布し、乾燥して、紫外線硬化型の粘着剤層を設けた。その表面に、片面が非シリコーン系剥離剤で剥離処理された長鎖ポリエステルフィルムからなる保護フィルム（厚さ２５μｍ、幅２５０mm）の剥離処理面を貼り合わせ、積層シートとした。この積層シートに、中心波長３６５ｎｍの紫外線を積算光量１，０００ｍＪ／cm2 照射して、紫外線硬化した粘着剤層からなる保護材を有する保護シートＡを作製した。
【００４４】
この保護シートＡをそのセパレータを剥がして、搬送部材である８インチシリコンウエハの裏面（ミラー面）にハンドローラーで貼り付け、裏面保護材付き搬送部材Ａを作製した。つぎに、この裏面保護材付き搬送部材Ａの主面（エッチング面）に、上記のクリーニングシートＡをその粘着剤層側のセパレータを剥がして、ハンドローラーで貼り付け、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ａを作製した。なお、これら一連の作業は、常用の貼り合わせ装置を使用し、これに搬入して流れ作業的に行った。
ついで、上記の裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ａの保護材を、セパレータ剥離装置（ＮＥＬ社製の「ＨＲ３００−ＣＷ」）を用いて剥離し、この剥離により裏面が清浄化されたクリーニング機能付き搬送部材Ａを得た。
【００４５】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ａについて、裏面（ミラー面）のパーティクル数に関し、パーティクルカウンター（ＫＬＡ  Ｔｅｎｃｏｒ製の「ＳｕｒｆＳｃａｎ６２００」）により、０．２００μｍ以上のパーティクルを測定した。その結果、０．４７個／cm2 のパーティクルが付着していた。
また、裏面（ミラー面）のメタル不純物に関し、全反射蛍光エックス線分析装置（ＴＸＲＦ）としてテクノス社製の「ＴＲＥＸ６１０Ｔ」を使用して、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の量を検出した。その結果、各元素とも、検出量は１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、裏面（ミラー面）のシリコーン不純物に関し、飛行時間型２次イオン質量分析（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）として、ＵＬＶＡＣ−ＰＨＩ製の「ＴＲＩＦＴ−II」を使用して、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）を、本文詳記の条件で測定した。その結果、検出量は、最大のＳｉ+ で８．５×１０-3であった。
【実施例２】
【００４６】
エチレン−１，２−ビストリメリテート，テトラカルボン酸二無水物（ＴＭＥＧ）３０．０ｇを、窒素気流下、１１０ｇのＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）中で、前記の式（１）で示される脂肪族ジアミン（宇部興産社製の「ＡＴＢＮ１３００×１６」、アミン当量９００、アクリロニトリル含有量１８％）６５．８ｇおよび２，２′−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパン（ＢＡＰＰ）１５．０ｇと、１２０℃で混合して、反応させた。この反応後、冷却して、ポリアミック酸溶液を得た。
このポリアミック酸溶液を使用して、以下のように、搬送部材の主面（エッチング面）にクリーニング層を形成するようにした以外は、実施例１の方法に準じて、クリーニング機能付き搬送部材Ｂを得た。
【００４７】
すなわち、まず、実施例１と同様に作製した裏面保護材付き搬送部材Ａを、裏面（ミラー面）を下にしてスピンコーターに設置し、その主面（エッチング面）側に上記のポリアミック酸溶液を１，０００ｒｐｍの回転数で１０秒間塗布し、９０℃で２０分乾燥して、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｂを作製した。
つぎに、この裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｂの保護材を、実施例１と同様のセパレータ剥離装置により剥離し、窒素雰囲気下、３００℃で２時間熱処理して、裏面が清浄化されたクリーニング機能付き搬送部材Ｂを得た。
【００４８】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｂについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．３４個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、４．２×１０-2であった。
【実施例３】
【００４９】
ビロメリット酸無水物３０．０ｇと１，４−ジアミノジフェニルエーテル２７．５ｇとを、ＮＭＰ中で、実施例２に準じて反応させ、ポリアミック酸溶液を得た。
つぎに、搬送部材である８インチシリコンウエハの裏面（ミラー面）に、上記のポリアミック酸溶液を塗布し、窒素雰囲気下、３００℃以上で２時間熱処理して、裏面保護材付き搬送部材Ｃを作製した。
つぎに、この裏面保護材付き搬送部材Ｃを使用した以外は、実施例１と同様にして、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃを作製した。すなわち、上記の裏面保護材付き搬送部材Ｃの主面（エッチング面）に、実施例１と同様に作製したクリーニングシートＡをその粘着剤層側のセパレータを剥がして、ハンドローラーで貼り付け、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃを作製した。
【００５０】
ついで、上記の裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃに対して、下記の方法により、裏面保護材をすべてエッチング除去し、これにより裏面が清浄化処理されたクリーニング機能付き搬送部材Ｃを得た。
すなわち、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃを、ウエハ両面洗浄装置（リックス社製の「ＪＳ−１０００Ｍ」）を用い、回転数１，０００ｒｐｍ、供給圧力０．５ＭＰａ、ブラシ接触圧力０．２kg／cm2 の条件で、ＮＭＰとモノエタノールアミン混合水溶液９０秒、純水洗浄３０秒を行い、乾燥６０秒として、清浄化処理した。その結果、裏面保護材がすべてエッチングされたクリーニング機能付き搬送部材Ｃが得られた。
【００５１】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｃについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．０９個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、３．８×１０-3であった。
【実施例４】
【００５２】
実施例３と同様に作製した裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃに対して、下記の方法により、裏面保護材を一部エッチング除去し、これにより裏面が清浄化処理された裏面保護材付きのクリーニング機能付き搬送部材Ｄを得た。
すなわち、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃを、実施例３と同様のウエハ両面洗浄装置を用い、回転数１，０００ｒｐｍ、供給圧力０．５ＭＰａ、ブラシ接触圧力０．２kg／cm2 の条件で、ＮＭＰとモノエタノールアミン混合水溶液３０秒、純水洗浄３０秒を行い、乾燥６０秒として、清浄化処理した。その結果、裏面保護材がわずかにエッチングされた、裏面保護材付きのクリーニング機能付き搬送部材Ｄが得られた。
【００５３】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｄについて、その保護材が一部付いた裏面（ミラー面）を、測定用ウエハ（三益半導体製の「ファーネスモニタ」）のミラー面に外周が重なり合うように接触させ、１Ｋｇのハンドローラーで貼り付けたのち、１分間保持させた。その後、両ウエハ同士がずれないように剥離したのち、測定用ウエハのミラー面に対して、実施例１と同様にして、パーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物の測定を行った。
その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．０９個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、３．８×１０-3であった。
【実施例５】
【００５４】
実施例３と同様に作製した裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃに対して、下記の方法により、裏面保護材を残したまま清浄化処理することにより、裏面保護材付きのクリーニング機能付き搬送部材Ｅを得た。
すなわち、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃを、実施例３と同様のウエハ両面洗浄装置を用い、ＮＭＰとモノエタノールアミン混合水溶液洗浄をやめて純水洗浄のみとし、回転数１，０００ｒｐｍ、供給圧力０．５ＭＰａ、ブラシ接触圧力０．２kg／cm2 の条件で、純水温度５０℃の純水洗浄９０秒を行い、乾燥６０秒として、清浄化処理した。その結果、裏面保護材が清浄化処理された、裏面保護材付きのクリーニング機能付き搬送部材Ｅが得られた。
【００５５】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｅについて、実施例４と同様にして、裏面接触後の測定用ウエハのミラー面のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は１．３５個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、８．６×１０-2であった。
【実施例６】
【００５６】
実施例３と同様に作製した裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃに対して、セパレータ剥離装置（ＮＥＬ社製の「ＨＲ３００−ＣＷ」）を使用して、裏面保護材を剥離除去したのち、さらに下記の方法により、清浄化処理することにより、クリーニング機能付き搬送部材Ｆを得た。
すなわち、上記のように裏面保護材を剥離除去したのち、実施例３と同様のウエハ両面洗浄装置を用い、ＮＭＰとモノエタノールアミン混合水溶液洗浄をやめて純水洗浄のみとし、回転数１，０００ｒｐｍ、供給圧力０．５ＭＰａ、ブラシ接触圧力０．２kg／cm2 の条件で、純水温度５０℃の純水洗浄９０秒を行い、乾燥６０秒として、清浄化処理した。その結果、裏面保護材を持たないクリーニング機能付き搬送部材Ｆが得られた。
【００５７】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｆについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．１３個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、７．４×１０-3であった。
【実施例７】
【００５８】
実施例３と同様に作製した裏面保護材付き搬送部材Ｃを使用し、この搬送部材Ｃの主面（エッチング面）に、実施例２で得たポリアミック酸溶液を用いて、１，０００ｒｐｍの回転数で１０秒間塗布し、９０℃で２０分乾燥し、窒素雰囲気下、３００℃で２時間熱処理して、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｇを作製した。
ついで、上記の裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃに対して、実施例３と同様にして、裏面保護材を完全にエッチング除去し、これにより裏面が清浄化されたクリーニング機能付き搬送部材Ｇを得た。
【００５９】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｇについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．０９個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、４．４×１０-3であった。
【実施例８】
【００６０】
実施例７と同様に作製した裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｇに対して、実施例４と同様にして、裏面保護材を一部エッチング除去し、これにより裏面が清浄化処理された裏面保護材付きのクリーニング機能付き搬送部材Ｈを得た。
【００６１】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｈについて、実施例４と同様にして、裏面へ接触させたのちの測定用ウエハのミラー面のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。
その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．８０個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、８．２×１０-3であった。
【実施例９】
【００６２】
実施例７と同様に作製した裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｇに対して、実施例５と同様に、裏面保護材を残したまま清浄化処理することにより、裏面保護材付きのクリーニング機能付き搬送部材Ｉを得た。
【００６３】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｉについて、実施例４と同様にして、裏面へ接触させたのちの測定用ウエハのミラー面のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。
その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は１．２０個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、６．７×１０-2であった。
【実施例１０】
【００６４】
実施例７と同様に作製した裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｇに対して、実施例６と同様に、裏面保護材をセパレータ剥離装置にて剥離除去し、さらに清浄化処理して、クリーニング機能付き搬送部材Ｊを得た。
【００６５】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｊについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．０８個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、７．７×１０-3であった。
【実施例１１】
【００６６】
実施例７と同様に作製した裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｇに対して、バッチ洗浄装置（プレテック社製）により、ＳＣ−１洗浄液に５分間浸漬して、裏面保護材を剥離し、純水洗浄を５分、湯煎洗浄を１分行い、引き上げて、自然乾燥した。これにより、裏面が清浄化処理されたクリーニング機能付き搬送部材Ｋを得た。
【００６７】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｋについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は１．５０個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、９．２×１０-3であった。
【実施例１２】
【００６８】
実施例３と同様に作製した裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃに対して、下記の方法により、裏面保護材を完全にエッチング除去し、これにより裏面が清浄化されたクリーニング機能付き搬送部材Ｌを得た。
すなわち、上記の裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｃを、実施例３と同様のウエハ両面洗浄装置により、２．３８重量％に希釈した東洋合成工業社製の「ＴＭＡＨ−１０」（水酸化テトラメチルアンモニウム）を用い、回転数１，０００ｒｐｍ、供給圧力０．５ＭＰａ、ブラシ接触圧力０．２kg／cm2 の条件で、裏面保護材を完全にエッチングし、純水洗浄９０秒を行ったのち、乾燥６０秒を行い、清浄化処理した。これにより裏面が清浄化されたクリーニング機能付き搬送部材Ｌが得られた。
【００６９】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｌについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．１３個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、９．５×１０-3であった。
【実施例１３】
【００７０】
実施例３と同様に作製した裏面保護材付き搬送部材Ｃの主面（エッチング面）側に、実施例２と同様にして、スピンコーターにより実施例２で得たポリアミック酸溶液を塗布し乾燥して、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｍを作製した。
つぎに、上記の裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｍに対して、実施例１２と同様に、裏面保護材を完全にエッチング除去し、これにより裏面が清浄化されたクリーニング機能付き搬送部材Ｍを得た。
【００７１】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｍについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．０９個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、８．２×１０-3であった。
【実施例１４】
【００７２】
搬送部材である８インチシリコンウエハの裏面（ミラー面）に、液状レジスト（ＪＳＲ社製の「ＭＥＳ  ＥＰ３０Ｇ」）を、スピンコーターにより１，０００ｒｐｍの回転数で３０秒間塗布し、１３０℃で９０秒乾燥したのち、露光機（日立製作所製の「ＨＬ７００Ｄ」）にて、Ｖａｃｃ＝５０ｋｅＶ、Ｃｕｒｅｎｔ  Ｄｅｎｓｉｔｙ＝５Ａ／cm2 で全面露光し、裏面保護材付き搬送部材Ｎを作製した。
【００７３】
つぎに、この裏面保護材付き搬送部材Ｎの主面（エッチング面）側に、実施例２と同様にして、スピンコーターにより実施例２で得たポリアミック酸溶液を塗布し乾燥して、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｎを作製した。
ついで、上記の裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｎに対して、実施例１２と同様に、裏面保護材を完全にエッチング除去し、これにより裏面が清浄化されたクリーニング機能付き搬送部材Ｎを得た。
【００７４】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｎについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．０９個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、８．２×１０-3であった。
【実施例１５】
【００７５】
実施例１４と同様に作製した裏面保護材付き搬送部材Ｎを使用し、実施例１と同様にして、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｏを作製した。すなわち、上記の裏面保護材付き搬送部材Ｎの主面（エッチング面）に、実施例１と同様に作製したクリーニングシートＡをその粘着剤層側のセパレータを剥がして、ハンドローラーで貼り付け、裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｏを作製した。
ついで、上記の裏面保護材付きクリーニング機能付き搬送部材Ｏに対して、実施例１２と同様に、裏面保護材を完全にエッチング除去し、これにより裏面が清浄化されたクリーニング機能付き搬送部材Ｏを得た。
【００７６】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｏについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は０．０８個／cm2 であった。また、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉの各元素の検出量は、いずれも、１．０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満であった。
さらに、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、４．２×１０-3であった。
【００７７】
比較例１
搬送部材である８インチシリコンウエハの裏面（ミラー面）に保護材を全く設けずに、主面（エッチング面）に対して、実施例１と同様に作製したクリーニングシートＡをその粘着剤層側のセパレータを剥がして、ハンドローラーで貼り付け、クリーニング機能付き搬送部材Ｐを得た。なお、これら一連の作業は、常用の貼り合わせ装置を使用し、これに搬入して流れ作業的に行った。
【００７８】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｐについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は１０．２個／cm2 であった。
また、メタル不純物については、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｔｉは、下記のとおり、ＣｕはＮＤ（検出限界値０．１６×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満）、ＣｏはＮＤ（検出限界値０．２３×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満）、ＭｎはＮＤ（検出限界値０．３８×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満）、ＫはＮＤ（検出限界値２．４０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満）、ＣａはＮＤ（検出限界値１．７０×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満）であった。
Ｆｅ：  １．２×１０11ａｔｏｍｓ／cm2 
Ｎｉ：  ７．４×１０11ａｔｏｍｓ／cm2 
Ｃｒ：  ３．２×１０11ａｔｏｍｓ／cm2 
Ｚｎ：  １．３×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 
Ｔｉ：  ８．４×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 
さらに、シリコーン不純物について、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、０．３７であった。
【００７９】
比較例２
搬送部材である８インチシリコンウエハの裏面（ミラー面）に保護材を全く設けずに、主面（エッチング面）に対し、実施例２と同様にして、クリーニング層を形成した。すなわち、上記シリコンウエハを裏面（ミラー面）を下にしてスピンコーターに設置し、その主面（エッチング面）に実施例２で得たポリアミック酸溶液を１，０００ｒｐｍの回転数で１０秒間塗布し、９０℃で２０分乾燥し、窒素雰囲気下３００℃で２時間熱処理して、クリーニング機能付き搬送部材Ｑを得た。
【００８０】
このようにして得られたクリーニング機能付き搬送部材Ｑについて、実施例１と同様にして、裏面（ミラー面）のパーティクル、メタル不純物およびシリコーン不純物を測定した。その結果、０．２００μｍ以上のパーティクル数は８．２個／cm2 であった。
また、メタル不純物については、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉは、下記のとおり、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｋ、ＣａはＮＤであり、また、ＺｎもＮＤ（検出限界値０．１３×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 未満）であった。
Ｆｅ：  ２．３×１０11ａｔｏｍｓ／cm2 
Ｎｉ：  １．４×１０11ａｔｏｍｓ／cm2 
Ｃｒ：  ８．６×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 
Ｔｉ：  ９．２×１０10ａｔｏｍｓ／cm2 
さらに、シリコーン不純物について、ＣＨ3 Ｓｉ+ 、Ｃ3 Ｈ9 Ｓｉ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ2 Ｏ+ 、Ｃ5 Ｈ15Ｓｉ3 Ｏ3 + 、Ｃ7 Ｈ21Ｓｉ3 Ｏ2 + 、Ｓｉ+ 、ＣＨ3 ＳｉＯ- 、ＣＨ3 ＳｉＯ2 - の各フラグメントイオンの相対強度（正イオンはＣ2 Ｈ3 + 比、負イオンはＯ- 比）は、最大のＳｉ+ で、０．２４であった。
【００８１】
つぎに、実施例１〜１５および比較例１，２の各クリーニング機能付き搬送部材について、下記の方法で、ドライエッチング処理装置の異物除去試験を行った。
すなわち、クリーニング機能付き搬送部材を、異物が付着しているドライエッチング処理装置内に搬送し、装置内の異物をクリーニング除去した。この操作を５回繰り返した。新品の８インチシリコンウエハを用い、レーザー表面検査装置によりクリーニング前後の０．２００μｍ以上の異物の数を測定し、異物除去率を算出した。
【００８２】
その結果は、実施例１〜１５の各クリーニング機能付き搬送部材では、いずれも、９０％以上の異物除去率が得られていた。これに対して、比較例１，２の両クリーニング機能付き搬送部材では、異物除去率が約７０％程度と低かった。
また、実施例１〜１５の各クリーニング機能付き搬送部材は、裏面が低汚染性のため、これらを上記ドライエッチング処理装置内に搬送したときに、処理装置を汚染させる心配はほとんどなかった。これに対し、比較例１，２の両クリーニング機能付き搬送部材は、裏面の汚染度合いが高いため、これらを上記のドライエッチング処理装置内に搬送したときに、処理装置を著しく汚染させ、製品ウエハが二次汚染されて、デバイス特性の低下による不良が多発し、製品ウエハの歩留りが低下した。