(57)【要約】【課題】表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された、反射防止効果等の各種効果を有する光学シート等のエンボスシートを製造するのに使用されるエンボス型を、大面積かつ高精度で得ることが可能なエンボス型の製造方法及びこのエンボス型を使用して製造したエンボスシートを提供する。【解決手段】表面の略全面に規則的な凹凸形状パターンが形成された型を複数個使用して、型同士を平面方向に接合した表面形状のエンボス型を製造する。シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸形状パターンが形成された元型を使用し、元型表面の凹凸形状パターンを、硬化後に縦弾性係数が２．０×１０3 Ｎ／ｍｍ2 以下となる材料で転写し、この転写を複数回行うことにより複数個の反転型１０を形成する。２個以上の反転型１０の、それぞれ１辺の端部近傍を直線状に切除し、この２個以上の反転型１０の切除箇所１４同士を平面方向に接合する。【選択図】  図１
2005161530.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面の略全面に規則的な凹凸形状パターンが形成された型を複数個使用して、前記型同士を平面方向に接合した表面形状のエンボス型を製造する方法において、
シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸形状パターンが形成された元型を使用し、該元型表面の前記凹凸形状パターンを、硬化後に所定の縦弾性係数となる材料で転写し、該転写を複数回行うことにより複数個の反転型を形成する工程と、
２個以上の前記反転型の、それぞれ１辺の端部近傍を直線状に切除する工程と、
前記２個以上の反転型の前記切除した端面同士を接合する工程と、
を含むことを特徴とするエンボス型の製造方法。
【請求項２】
前記材料が、硬化後に縦弾性係数が２．０×１０3 Ｎ／ｍｍ2 以下となることを特徴とする請求項１に記載のエンボス型の製造方法。
【請求項３】
前記２個以上の反転型を、それぞれ別の平板状部材に固定した後に接合することを特徴とする請求項１又は２に記載のエンボス型の製造方法。
【請求項４】
前記切除箇所同士で接合されている前記２個以上の反転型の表面のパターンを転写することにより、前記２個以上の反転型の再反転型を形成することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のエンボス型の製造方法。
【請求項５】
前記反転型の表面のパターンの転写が電鋳により行われることを特徴とする請求項４に記載のエンボス型の製造方法。
【請求項６】
前記２個以上の反転型の転写を複数回行うことにより、複数個の再反転型を形成する工程と、
２個以上の前記再反転型の１辺の端部近傍を直線状に切除する工程と、
前記２個以上の再反転型の前記切除した端面同士を接合する工程と、
を含むことを特徴とする請求項４又は５に記載のエンボス型の製造方法。
【請求項７】
前記規則的な凹凸形状パターンのＸ方向及び／又はＹ方向のピッチが５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のエンボス型の製造方法。
【請求項８】
前記請求項１〜７のいずれか１項に記載のエンボス型の製造方法により製造されたエンボス型を使用して、シート状体の表面に前記エンボス型の規則的な凹凸形状パターンを転写形成したことを特徴とするエンボスシート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エンボス型の製造方法及びエンボスシートに係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有する光学シート等のエンボスシートを製造するのに好適なエンボス型の製造方法及びこのエンボス型を使用して製造したエンボスシートに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有する光学シートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、マイクロレンズアレイ等の光学シートが使用されている。このような光学シートとしては、従来より、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。
【０００３】
このような光学シートの製造方法として、表面に規則的な微細凹凸パターンを形成してあるスタンパー（原型）を準備し、このスタンパーと熱可塑性樹脂シートを積層してホットプレス成形する方法、このスタンパーをロールの外周に巻き付けたエンボスロールとニップロールとで熱可塑性樹脂シートを加熱しながらロール加工する方法、このスタンパーを、表面に光硬化樹脂層を形成したフィルムに押し当て、光硬化樹脂層を微細凹凸パターンに倣わせた後に光重合させ（硬化させ）、その後、離型させて光学シートを得る、いわゆるフォト・ポリマリゼーション法等が公知である。
【０００４】
ところで、規則的な微細凹凸パターンがμｍオーダーの光学シートを得る場合には、これに対応したスタンパー（原型）のサイズに制約されることが多い。すなわち、規則的な微細凹凸パターンがμｍオーダーのスタンパーを作成する方法としては、ホログラム法、電子ビーム描画法、レーザービーム描画法、精密切削加工法等が一般的であるが、いずれも、装置精度や装置サイズに制約され、大面積のスタンパーを得ることが困難である。具体的なサイズとして、現状では、微細凹凸パターンのピッチがμｍオーダーのスタンパーの最大サイズは、数ｃｍ角程度にとどまっている。
【０００５】
このような問題点に対処すべく、小サイズのスタンパーを複数枚接合し、大面積のスタンパーを得る方法が提案されている（特許文献１等参照）。
【特許文献１】特開平９−２４５５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記のような従来の技術（特許文献１等）においても、解決しきれていない問題点があった。すなわち、小サイズのスタンパー同士を接合した場合に、継ぎ目を目立たないレベルにすることが非常に困難である。たとえば、特許文献１に記載のように、端面を研磨したガラス原盤同士を接合しても、継ぎ目の幅をμｍオーダー以下とすることは困難である。また、研磨後の端面のチッピングをμｍオーダー以下とすることも困難である。更に、継ぎ目において、微細凹凸パターンの山谷の形状を連続させることも困難である。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された、反射防止効果等の各種効果を有する光学シート等のエンボスシートを製造するのに使用されるエンボス型を、大面積かつ高精度で得ることが可能なエンボス型の製造方法及びこのエンボス型を使用して製造したエンボスシートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、前記目的を達成するために、表面の略全面に規則的な凹凸形状パターンが形成された型を複数個使用して、前記型同士を平面方向に接合した表面形状のエンボス型を製造する方法において、シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸形状パターンが形成された元型を使用し、該元型表面の前記凹凸形状パターンを、硬化後に所定の縦弾性係数となる材料で転写し、該転写を複数回行うことにより複数個の反転型を形成する工程と、２個以上の前記反転型の、それぞれ１辺の端部近傍を直線状に切除する工程と、前記２個以上の反転型の前記切除した端面同士を接合する工程と、を含むことを特徴とするエンボス型の製造方法を提供する。
【０００９】
本発明によれば、シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸形状パターンが形成された元型を使用し、この元型表面の凹凸形状パターンを転写して反転型を形成する際に、硬化後に所定の縦弾性係数となる材料を使用する。そして、この転写を複数回行い、複数個の反転型を形成する。このうち、たとえば２個の反転型の、それぞれ１辺の端部近傍を直線状に切除し、この２個の反転型の切除箇所同士を平面方向に接合する。この際、反転型が比較的小さい所定の縦弾性係数であるので、切断による端面のチッピングがなく、また、端面における微細凹凸パターンの変形を非常に小さくできる。したがって、継ぎ目において、微細凹凸パターンの山谷の形状を連続させることが容易である。更に、２個以上の反転型の切除箇所同士を平面方向に接合する際に、両者を押圧するように接合すれば、反転型の縦弾性係数が比較的小さいことより、両者の接合箇所が弾性変形し、継ぎ目の幅を非常に小さくすることが容易である。これにより、エンボス型を、大面積かつ高精度で得ることが可能となる。
【００１０】
本発明において、前記材料が、硬化後に縦弾性係数が２．０×１０3 Ｎ／ｍｍ2 以下となることが好ましい。このように、硬化後に縦弾性係数が２．０×１０3 Ｎ／ｍｍ2 以下となる材料を使用することにより、切断による端面のチッピングがなく、また、端面における微細凹凸パターンの変形を非常に小さくでき、継ぎ目において、微細凹凸パターンの山谷の形状を連続させることが容易である。
【００１１】
また、本発明において、前記２個以上の反転型を、それぞれ別の平板状部材に固定した後に接合することが好ましい。反転型の縦弾性係数が比較的小さいことより、接合する際の表面のレベルを一致させることは難しいが、このように、両者をそれぞれ別の平板状部材に固定した後に平面方向に接合するのであれば、両者の表面のレベルを一致させ、段差をなくすことは容易である。
【００１２】
また、本発明において、前記切除箇所同士で接合されている前記２個以上の反転型の表面のパターンを転写することにより、前記２個以上の反転型の再反転型を形成することが好ましい。このように、２個以上の反転型の再反転型を形成することにより、大面積のエンボス型を得るという本発明の目的が達成できる。
【００１３】
また、本発明において、前記反転型の表面のパターンの転写が電鋳により行われることが好ましい。このように、電鋳法を使用したパターンの転写によれば、高精度のエンボス型を得るという本発明の目的が達成できる。
【００１４】
また、本発明において、前記２個以上の反転型の転写を複数回行うことにより、複数個の再反転型を形成する工程と、２個以上の前記再反転型の１辺の端部近傍を直線状に切除する工程と、前記２個以上の再反転型の前記切除した端面同士を接合する工程と、を含むことが好ましい。このように、２個以上の再反転型を接合することにより、再反転型の略２倍のサイズの再再反転型を得ることができ、大面積のエンボス型を得るという本発明の目的が達成できる。
【００１５】
また、本発明において、前記規則的な凹凸形状パターンのＸ方向及び／又はＹ方向のピッチが５０μｍ以下であることが好ましい。このようなピッチサイズの凹凸形状パターンであれば、好ましいエンボスシートが得られる。
【発明の効果】
【００１６】
以上説明したように、本発明によれば、表面の略全面に規則的な凹凸形状パターンが形成された型を複数個使用して、これらの型同士を平面方向に接合した表面形状のエンボス型を製造する方法において、シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸形状パターンが形成された元型を使用し、この元型表面の凹凸形状パターンを転写して反転型を形成する際に、硬化後に所定の縦弾性係数となる材料を使用する。そして、この転写を複数回行い、複数個の反転型を形成する。このうち２個以上の反転型の、それぞれ１辺の端部近傍を直線状に切除し、この２個以上の反転型の切除箇所同士を平面方向に接合する。この際、反転型が所定の縦弾性係数であるので、切断による端面のチッピングがなく、また、端面における微細凹凸パターンの変形を非常に小さくできる。したがって、継ぎ目において、微細凹凸パターンの山谷の形状を連続させることが容易である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様の例について説明する。図１は、本発明の概略工程を示す概念図である。図２は、この概略工程のうち、反転型の端部近傍を切除する工程を示す概略断面図である。
【００１８】
図１（ａ）は、シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸形状パターンが形成された元型（図示略）を使用し、この元型表面の凹凸形状パターンを転写することにより形成した反転型１０の平面図である。転写された凹凸形状パターン１２は、反転型１０の中央に位置する。
【００１９】
この凹凸形状パターン１２としては、求められる製品としてのエンボスシートの特性により各種の形状が採用できる。たとえば、一次元の配列のレンチキュラーレンズ、二次元の配列のフライアイレンズ、マイクロレンズアレイ等の形状が採用できる。このような凹凸形状パターン１２とすれば、液晶等の電子ディスプレイの用途の、反射防止効果を有する光学シート、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート等の光学シートの成形型として適用できる。
【００２０】
また、規則的な凹凸パターン１２が、多数個の微小な錐体をＸＹ方向に配列した形状とすることもできる。このような錐体形状の規則的な凹凸であれば、反射防止効果等を有する光学シートとして好ましい特性が得られる。ここで、「錐体」とは、平面上の閉じた曲線（又は折線）の周上を一周する点と、この平面外の一定点とを結ぶ直線によってつくられる曲面（又は幾つかの平面の一部）で囲まれた空間の一部分を言い、円錐、角錐が代表的なものである。
【００２１】
元型の材質としては、たとえばシリコン、各種金属等が採用できる。元型の表面に微細な凹凸パターンを形成する方法としては、既述したホログラム法、電子ビーム描画法、レーザービーム描画法、精密切削加工法等が採用できる。但し、既述したように、微細凹凸パターンのピッチがμｍオーダーの場合には、この元型の表面に形成できる微細な凹凸パターンの全体サイズは数ｃｍ角程度である。
【００２２】
元型表面の凹凸形状パターンを転写することにより形成する反転型１０の材質としては、転写方法、凹凸パターンの形状、製品としてのエンボスシートの特性、用途等により左右されるが、いずれも硬化後に縦弾性係数が２．０×１０3 Ｎ／ｍｍ2 以下となる材料であることが求められる。このような材料を使用することにより、切除工程における端面のチッピングがなく、継ぎ目において、微細凹凸パターンの山谷の形状を連続させることが容易であり、弾性変形により継ぎ目の幅を非常に小さくすることが容易であるからである。
【００２３】
なお、反転型１０の材質の縦弾性係数として０．１〜１．０×１０3 Ｎ／ｍｍ2 が好ましく、０．２〜０．８×１０3 Ｎ／ｍｍ2 がより好ましい。このような、硬化後に縦弾性係数が２．０×１０3 Ｎ／ｍｍ2 以下となる材料としては、各種の樹脂材料が該当するが、樹脂材料以外のものでも種類は少ないが適用できる。また、熱を与えて所望の縦弾性係数に調整することもできる。
【００２４】
樹脂材料として、熱可塑性樹脂を採用する場合、この熱可塑性樹脂としては、公知の各種プラスチック、たとえば、炭化水素系プラスチックとして、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等が、極性ビニル系プラスチックとして、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリメチルメタクリレート、ＡＢＳ樹脂等が、線状構造プラスチックとして、ポリアセタール、ポリアミド、ポリカーボネート等が、セルロース系プラスチックとして、酢酸セルロース、セルロイドセロファン等が挙げられる。
【００２５】
樹脂材料として光重合性樹脂を採用する場合、この光重合性樹脂は、光重合性のモノマーと重合開始剤よりなる。この光重合性樹脂には、紫外線や電子線等の活性化エネルギー線で重合する公知の樹脂が採用できる。光重合性のモノマーは、ラジカル重合性不飽和基、エポキシ基等の重合性官能基を有する化合物からなる。光重合性樹脂の粘度は、未硬化状態で１〜２０００ｍＰａ・ｓのものが使用でき、未硬化状態で１００〜１０００ｍＰａ・ｓのものが好ましく使用できる。また、硬化時の収縮が少ないものが好ましい。
【００２６】
元型表面の凹凸形状パターンを転写することにより反転型１０を形成する方法としては、既述のような、元型と熱可塑性樹脂シートを積層してホットプレス成形する方法、元型の表面に液状の樹脂（たとえば、１液性又は２液性のエポキシ樹脂）を塗布し、樹脂が硬化した後に元型から剥離する方法、元型を表面に光硬化樹脂層を形成したフィルムに押し当て、光硬化樹脂層を微細凹凸パターンに倣わせた後に光重合させ（硬化させ）、その後、離型する方法（いわゆるフォト・ポリマリゼーション法）等が採用できる。また、微細な凹凸パターンの全体サイズが数ｃｍ角程度であることより実現性が低いが、元型をロールの外周に巻き付けたエンボスロールとニップロールとで熱可塑性樹脂シートを加熱しながらロール加工する方法も採用できる。
【００２７】
以上に説明した反転型１０を複数枚、元型より形成する。反転型１０の厚さとしては、たとえば、２〜５ｍｍとできる。
【００２８】
次に、図１（ｂ）に示されるように、反転型１０の１辺の端部近傍を直線状に切除する。切除後の反転型１０は、図１（ｃ）に示される。また、図２に概略断面図で示される工程のうち、（ａ）は切断前の反転型１０の断面図であり、（ｂ）は切断後の反転型１０の断面図である。
【００２９】
図２に示されるように、切断装置において、反転型１０はダミー板２０の上面に固定した状態で切断される。このように、反転型１０をダミー板２０の上面に固定して切断することにより、高精度の切断が可能となる。反転型１０のダミー板２０の上面への固定方法は、接着等公知の各種方法が採用できる。
【００３０】
図２（ｂ）に示されるように、反転型１０の切断は、凹凸形状の谷部（谷底）において切断する態様が好ましい。すなわち、凹凸形状の山部（山頂）において切断する場合には、凹凸形状の山部（山頂）が変形したりして切断工具２２の先端よりずれる可能性が高いが、凹凸形状の谷部（谷底）において切断する場合には、切断工具２２の先端が谷部（谷底）よりずれる可能性は低い。
【００３１】
図２（ｂ）に示されるように、反転型１０を切断するのに使用する切断装置には、切断工具２２の先端と切除箇所１４（凹凸形状パターン）との位置関係が拡大して観察できる顕微鏡撮像装置を備えていることが好ましい。たとえば、図１（ｂ）に示される切除箇所１４の凹凸形状パターン１２における上端部１４Ａ近傍と下端部１４Ｂ近傍とが、２台の顕微鏡で撮像され、この拡大映像が２台の並んだＣＲＴモニターにそれぞれ同時に表示される構成のものが好ましい。
【００３２】
そして、切断装置には、このモニター映像に対応させて、反転型１０のＸ、Ｙ、θ方向の位置を微動調整できるような、Ｘ、Ｙ、θ方向の微動調整機構が備わったステージを備えることが好ましい。このような切断装置によれば、反転型１０の切断が高精度で行える。
【００３３】
切断装置における切断工具２２は、反転型１０の切断が高精度で行えるものであれば、超鋼製のブレード（固定刃）でも、ダイシングブレード（回転刃）でも適用できる。たとえば、固定刃を採用する切断装置としては、精密スクライバーが採用でき、回転刃を採用する切断装置としては、ダイシング装置が採用できる。また、同様に機能が得られれば、これ以外の装置を切断装置として採用できる。
【００３４】
次に、２個の反転型１０、１０の切除箇所１４、１４同士を平面方向に接合する工程について説明する。既述の図１の（ｄ）及び（ｅ）は、この概略工程を示す概念図である。このうち、（ｄ）は、図中の矢印方向に接合する状態を示し、（ｅ）は、接合後の状態を示す。以下、この工程の詳細について図３により説明する。
【００３５】
図３（ａ）において、左図は、断面図であり、右図は、平面図である。同図において、反転型１０、１０は、それぞれ別の平板状部材１６、１６上に固定されている。そして、いずれの反転型１０も、切除箇所１４において平板状部材１６の端部より先端が飛び出した状態で平板状部材１６上に固定されている。
【００３６】
また、接合の際に反作用の力で平板状部材１６上で反転型１０がＸ方向（左右方向）に滑ったり、Ｘ方向（左右方向）に変形したりするのを防止すべく、第一のフレーム３０、３０が平板状部材１６上に固定（たとえば、磁力による固定）されている。更に、接合の際に反作用の力で平板状部材１６上で反転型１０がＹ方向（右図の上下方向）に変形するのを防止すべく、第二のフレーム３２、３２が平板状部材１６上に固定（たとえば、磁力による固定）されている。
【００３７】
接合の際に平板状部材１６、１６のうちの一方（たとえば、左の平板状部材１６）が固定され、他方（たとえば、右の平板状部材１６）が移動可能となっている構成が一般的に採用できる。この際、他方の平板状部材１６は、接合の動作に必須となるＸ方向（左右方向）の微動機能のみならず、Ｙ方向（右図の上下方向）及びθ方向（鉛直軸回りの回転方向）の微動機能を備えていることが好ましい。また、この微動機能は、反転型１０、１０同士の接合部にＺ方向に段差を生じないように、Ｚ方向のがたを生じない構造とすることが好ましい。
【００３８】
また、この装置には、接合箇所が拡大して観察できる顕微鏡撮像装置を備えていることが好ましい。たとえば、図３（ｂ）の右図（平面図）に示される接合箇所における上端部１８Ａ近傍と下端部１８Ｂ近傍とが、２台の顕微鏡で撮像され、この拡大映像が２台の並んだＣＲＴモニターにそれぞれ同時に表示される構成のものが好ましい。
【００３９】
以上で説明したような微動機能と顕微鏡撮像装置とを備えていることにより、接合箇所において、微細凹凸パターンの山谷の形状を連続させて接合させることが容易となる。
【００４０】
図３（ｂ）は、右方の平板状部材１６を移動させて、２個の反転型１０、１０の切除箇所１４、１４同士を平面方向に接合させた状態を示す。この状態において、第一のフレーム３０、３０と、第二のフレーム３２、３２とにより２個の反転型１０、１０には矢印方向に力が加えられている。
【００４１】
なお、接合させた際に、既述のように、反転型１０、１０同士を押圧するように接合すれば、反転型１０の縦弾性係数が比較的小さいことより、両者の接合箇所が弾性変形し、継ぎ目の幅を非常に小さくすることが容易である。
【００４２】
図３（ｂ）に示されるように、２個の反転型１０、１０同士が接合された状態において、両者を永久的又は半永久的に固定する必要がある。一方、第一のフレーム３０、３０と、第二のフレーム３２、３２とで２個の反転型１０、１０の平面方向の動きが規制できていても、平板状部材１６、１６による反転型１０、１０の固定を解除すると、反転型１０、１０がＺ方向に変形するおそれがある。
【００４３】
そのため、図３（ｃ）に示されるように、接合された状態の２個の反転型１０、１０の上表面に仮固定プレート３４を当てて、２個の反転型１０、１０のＺ方向の動きを規制した状態で、平板状部材１６、１６による固定を解除する。ここで使用される仮固定プレート３４としては、たとえば、下面の平坦度を良好な状態に加工した多孔質セラミックスを採用できる。そして、この仮固定プレート３４に接続した減圧手段、たとえばロータリー式真空ポンプの作用により、接合された状態の２個の反転型１０、１０を仮固定プレート３４に吸着固定させる。
【００４４】
更に、図３（ｃ）に示される状態において、接合された状態の２個の反転型１０、１０の裏面（下面）に接着剤３６を介して樹脂板３８を固定する。これにより、後工程に耐えうる状態で、２個の反転型１０、１０同士を永久的又は半永久的に固定できる。図３（ｄ）は、この状態を示している。
【００４５】
最後に、第一のフレーム３０、３０と、第二のフレーム３２、３２とを取り外し、図３（ｅ）に示される状態の、接合された状態の２個の反転型１０、１０が得られる。図３（ｅ）において、左図は、断面図であり、右図は、平面図である。この状態であれば、接合された状態の２個の反転型１０、１０の表面のパターンを転写することが可能であり、転写により２個の反転型の再反転型を形成することができる。
【００４６】
転写により２個の反転型１０、１０の再反転型を形成する際には、予め反転型１０、１０の表面に蒸着等により白金等の薄膜を形成しておき、剥離が容易な状態にしておくことが好ましい。
【００４７】
転写により２個の反転型１０、１０の再反転型を形成する方法としては、公知の各種方法が採用できるが、電鋳法により行われることが好ましい。たとえば、ニッケルの電鋳法を使用したパターンの転写によれば、高精度のエンボス型を得るという本発明の目的が達成できるからである。
【００４８】
形成された再反転型の微細な凹凸パターンの全体サイズは、反転型１０の微細な凹凸パターンの全体サイズの約２倍となる。そして、この再反転型を元型として、本実施態様と同様の処理を行うことにより、再反転型の微細な凹凸パターンの全体サイズの約２倍、すなわち、反転型１０の微細な凹凸パターンの全体サイズの約４倍の再再反転型が得られる。以下、このような処理を行うことにより、倍倍でエンボス型を大きく形成できる。図４は、このようにして接合を４回繰り返し行って製造したエンボス型の平面図であり、反転型１０の約１６倍の全体サイズの微細な凹凸パターンのものである。
【００４９】
以上に説明した、エンボス型の製造方法により製造されたエンボス型を使用して、シート状体の表面にこのエンボス型の規則的な凹凸形状パターンを転写形成すれば、所期の性能のエンボスシートが得られる。
【００５０】
以上、本発明に係るエンボス型の製造方法及びエンボスシートの実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００５１】
たとえば、本実施形態の例では、反転型１０を平板状部材１６に仮固定し、接合後に接着剤３６と樹脂板３８とで永久固定する態様を採用したが、接合前に接着剤３６と樹脂板３８とで永久固定し、接合後に樹脂板３８、３８同士を更に永久固定する態様も採用できる。
【実施例】
【００５２】
ステンレス鋼の平板にニッケルメッキを施した基盤の表面に、ダイヤモンドバイトを使用して切削加工を行い、多数個の微小な四角錐をＸＹ方向に配列した形状を形成した。四角錐のピッチ（底辺の１辺長さ）は１０μｍであり、四角錐の高さは１０μｍである。凹凸パターンの全体サイズは２０ｍｍ角である。これを元型として、本実施態様と同様の処理を行った。
【００５３】
反転型１０の材料として、エポキシ系紫外線硬化樹脂を使用した。このエポキシ系紫外線硬化樹脂の硬化後の縦弾性係数は、２．０×１０3 Ｎ／ｍｍ2 以下となる。元型の表面に、このエポキシ系紫外線硬化樹脂を均一に塗布し、紫外線の照射により硬化させた後、元型より剥離して反転型１０を得た。この反転型１０を２個製作した。
【００５４】
精密切断装置により、２個の反転型１０の１辺の端部近傍を直線状に切除した。
【００５５】
図３に示される既述の工程により、２個の反転型１０、１０同士を接合した。接着剤３６としてウレタン系の接着剤を使用し、樹脂板３８として厚さ３００μｍのシートを使用した。接合により、凹凸パターンの全体サイズを２０×４０ｍｍとできた。この表面に、蒸着により白金の薄膜を形成した後、エポキシ系紫外線硬化樹脂を均一に塗布し、紫外線の照射により硬化させた。その後、反転型１０、１０より剥離して再反転型を得た。
【００５６】
以上の接合、転写を４回繰り返し行い、図４に示されるエンボス型を作成できた。このエンボス型の凹凸パターンの全体サイズは８０×８０ｍｍであった。このエンボス型の表面形状を電鋳法により転写してスタンパーを得、このスタンパーを使用してホットプレス成形により樹脂シートに凹凸パターンを転写して光学シートを得た。
【００５７】
この光学シートにおいて、接合部における凹凸パターンの乱れ、段差等は見られなかった。また、光学シートとしての所期の特性が得られた。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の概略工程を示す概念図
【図２】反転型の端部近傍を切除する工程を示す概略断面図
【図３】本発明の工程の一部を示す概略断面図等
【図４】接合を４回繰り返し行って製造したエンボス型の平面図
【符号の説明】
【００５９】
１０…反転型、１２…凹凸形状パターン、１４…切除箇所、１６…平板状部材
【図１】
2005161530.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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