(57)【要約】【課題】  基板表面への異物付着の抑制や付着した異物の除去が可能であると共に、基板表面の自然酸化膜の形成およびケースから発生するガスの吸着を抑制し、かつ緩衝材としての役割を果たす基板保管液、並びにこの保管液を用いる基板保管方法を提供する。【解決手段】  基板を保管するための保管液であって、粘度が、温度２５℃で５０ｍＰａ・ｓ以上である基板保管液、並びに上記保管液中で基板を保管する基板保管方法である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保管するための保管液であって、粘度が、温度２５℃で５０ｍＰａ・ｓ以上の液体からなることを特徴とする基板保管液。
【請求項２】
液体のｐＨが６以上である請求項１に記載の基板保管液。
【請求項３】
基板を液体中で保管する方法であって、前記液体として、請求項１または２に記載の基板保管液を用いることを特徴とする基板保管方法。
【請求項４】
基板が、ガラス基板である請求項３に記載の基板保管方法。
【請求項５】
基板が、マスクブランクである請求項３に記載の基板保管方法。
【請求項６】
基板が、表面に凹凸構造を有するものである請求項３に記載の基板保管方法。
【請求項７】
基板が、転写マスクである請求項６に記載の基板保管方法。
【請求項８】
マスクパターンを形成するための薄膜と、該薄膜を支持するための支持基板とを有するマスクブランクの製造方法において、
マスクブランクの各種製造工程の工程間に、請求項１又は２に記載の基板保管液を用いた保管工程を１回以上有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
【請求項９】
マスクパターンを形成するための薄膜と、該薄膜を支持するための支持基板とを有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をパターン化してマスクパターンを有する転写マスクを製造する方法において、
転写マスクの各種製造工程の工程間に、請求項１又は２に記載の基板保管液を用いた保管工程を１回以上有することを特徴とする転写マスクの製造方法。
【請求項１０】
基板を保管および／または搬送するためのケースであって、
少なくとも基板と、請求項１又は２に記載の基板保管液とを有することを特徴とする基板ケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板保管液、基板保管方法、マスクブランクと転写マスクの製造方法および基板ケースに関する。さらに詳しくは、本発明は、情報記録媒体、半導体装置、液晶表示装置などの製造において、各種基板を保管するために用いられる粘性が制御された液体からなる基板保管液、この基板保管液中に前記各種基板を保管する方法、並びに前記基板保管液中に保管する工程を有するマスクブランクと転写マスクの製造方法および基板ケースに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置製造および液晶表示装置等の製造に用いられるフォトマスクや、液晶表示パネル、情報記録媒体用などに用いられるガラス基板は、通常、研削・研磨・洗浄の各プロセスを経た後、大気中にて保管されている。
【０００３】
一般に、基板上へ各種膜、例えばスパッタリングやＣＶＤ法（化学的気相蒸着法）などによる蒸着膜、あるいはレジスト膜などを形成する場合、形成された膜の付着力、分布、材質などの特性は基板の表面状態に依存することが知られている。したがって、一般に、膜形成の前に、予め基板を紫外光、薬液などを用いて洗浄したり、さらには洗浄後から膜形成を実施するまでの保管期間を一定（限定）にして、基板の表面状態のばらつきを低減する処理が講じられている。
一例として、フォトマスク製造プロセスについて説明する。角型のガラス材を研削・研磨処理した後、洗浄・検査を行い、フォトマスクブランク用ガラス基板が作製されるが、得られたガラス基板は、通常、大気中に保管される。
【０００４】
次に、このガラス基板上に、スパッタ法等により位相シフト膜や遮光膜などの透過率制御膜を形成してフォトマスクブランクが作製される。フォトマスクブランクにおいて、膜の特性（光学特性や材料の面内及びブランク間均一性など）は、フォトマスクの性能を左右する非常に重要な特性である。このため、通常、膜の特性を一定範囲に制御することを目的として、スパッタ成膜の前に基板の洗浄が行われている。この洗浄により、例えばガラス基板がケース内に保管されていた場合に、ケースから発生してガラス基板表面に付着した有機物や、ガラス基板表面に付着した異物等が除去される。
【０００５】
次に、膜形成されたフォトマスクブランクに、レジストが塗布されるが、レジストの塗布特性が、塗布表面の状態に依存するため、通常、レジスト塗布前に洗浄処理が施される。
形成されたレジストに、描画（あるいは露光）・現像を行って所望のレジストパターンが形成され、このレジストパターンをマスクとして透過率制御膜のエッチングが行われ、レジストの剥離処理および洗浄処理された後、フォトマスクが作製される。
【０００６】
このようにして作製されたフォトマスクは、そのまま使用してもよいし、ペリクルを貼り付けて使用してもよい。作製されたフォトマスクは、保管ケースに収納し、各種メーカーに出荷される。
この一連のフォトマスク製造工程において、通常、基板は大気中に曝されている。
異物の付着については、一般に、（１）大気中からの異物が表面に付着しやすい、（２）保管環境により付着数および異物の種類が相違する、（３）凹凸形状を有するものは表面積が大きいので、異物が付着しやすい、（４）時間の経過により、異物の付着力が大きくなり、除去しにくくなる、ことが知られている。
【０００７】
また、基板を大気中で保管した場合、放置時間に依存して基板表面に自然酸化膜が形成され、その結果、表面の濡れ性が経時変化（親水性→疎水性への変化）したり、ガラス基板へ成膜する際、膜と基板との密着性に変動が生じたり、ブランクにレジストを塗布する際に、レジストと透過率制御膜の密着性・濡れ性が変動したり、さらには洗浄工程の複雑化（長時間化）や洗浄コストが増大するなど、好ましくない事態を招来する。
【０００８】
一方、基板を保管ケースに保管した場合、該保管ケースの材料に由来して発生する有機性のガスや異物が吸着（付着）し、その結果、基板表面に経時変化（親水性→疎水性への変化）が生じたり、基板のケースとの接触部が疎水化したり、ケースと基板の接触部から異物が発生するなど、好ましくない事態を招来する。
さらに、ＦＰＤ用ガラス基板や、ＦＰＤ製造に用いられるフォトマスク用ガラス基板などの大型基板は、衝撃により破損しやすい、撓みにより破損しやすい、搬送時に破損しやすい、ケースからの異物が付着しやすい、などの問題を有している。
【０００９】
各種基板の収納・保管部材として、例えばケース内の塵（パーティクル）の製品への付着防止の面から、ケース内部に塵を付着させる付着層（粘着性樹脂層）を設けた収納ケース（例えば、特許文献１参照）、不活性ガスを充填させることにより、製品の表面部に経時変化を起こさないようにした製品の保管、搬送用のケース（ボックス）（例えば、特許文献２参照）が開示されている。
【００１０】
しかしながら、前記特許文献１に記載の収納ケースにおいては、塵の付着は防止されるかも知れないが、収納ケースから発生する有機性ガスの問題は解決されていないし、特許文献２に記載のケースにおいては、塵の付着の問題は未解決である。
【特許文献１】特開２００１−２９８０７８号公報
【特許文献２】特開２００１−５３１３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、このような事情のもとで、電子・光学素子や装置の製造において、各種基板を保管するために用いられ、基板表面への異物付着の抑制や付着した異物の除去が可能であると共に、基板表面の自然酸化膜の形成およびケースから発生するガスの吸着を抑制し、かつ緩衝材としての役割を果たす基板保管液、並びにこの保管液を用いる基板保管方法、マスクブランクの製造方法、転写マスクの製造方法、およびこの保管液を用いる基板ケースを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、保管液として、ある値以上の粘度を有する粘性液であって、好ましくはｐＨが制御された液体を用い、この液体中に所望の基板を保管することにより、その目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【００１３】
すなわち、本発明は、
（１）基板を保管するための保管液であって、粘度が、温度２５℃で５０ｍＰａ・ｓ以上の液体からなることを特徴とする基板保管液、
（２）液体のｐＨが６以上である上記（１）項に記載の基板保管液、
（３）基板を液体中で保管する方法であって、前記液体として、上記（１）項または（２）項に記載の基板保管液を用いることを特徴とする基板保管方法、
（４）基板が、ガラス基板である上記（３）項に記載の基板保管方法、
（５）基板が、マスクブランクである上記（３）項に記載の基板保管方法、
（６）基板が、表面に凹凸構造を有するものである上記（３）項に記載の基板保管方法、
（７）基板が、転写マスクである上記（６）項に記載の基板保管方法、
（８）マスクパターンを形成するための薄膜と、該薄膜を支持するための支持基板とを有するマスクブランクの製造方法において、
マスクブランクの各種製造工程の工程間に、上記（１）項または（２）項に記載の基板保管液を用いた保管工程を１回以上有することを特徴とするマスクブランクの製造方法、
（９）マスクパターンを形成するための薄膜と、該薄膜を支持するための支持基板とを有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をパターン化してマスクパターンを有する転写マスクを製造する方法において、
転写マスクの各種製造工程の工程間に、上記（１）項または（２）項に記載の基板保管液を用いた保管工程を１回以上有することを特徴とする転写マスクの製造方法、および
（１０）基板を保管および／または搬送するためのケースであって、
少なくとも基板と、上記（１）項または（２）項に記載の基板保管液とを有することを特徴とする基板ケース
を提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の基板保管液および基板保管方法は、以下に示す効果を奏する。
（１）保管液として粘性を制御したものを用いることにより、基板表面への異物の付着を抑制し得ると共に、保管液が流動することにより生じる粘性抵抗によって、付着した異物を除去することができる。さらに、保管液のｐＨを制御することによって、異物の再付着も抑制することができる。
（２）液中保管により、基板表面における自然酸化膜の形成を抑制することができる。すなわち基板の表面状態の経時変化を抑制することができる。
（３）液体が充填されている保管ケース内に基板が保管されているので、該保管ケースからの有機性ガスの吸着（付着）を防止することができる。
（４）保管液の粘性を選定することにより、緩衝材としての作用を付与することができ、衝撃による損傷、反り、撓みなどを防止することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の基板保管液は、各種基板を保管するためのものであって、温度２５℃における粘度が、５０ｍＰａ・ｓ以上であることを要する。この粘度が５０ｍＰａ・ｓ未満では、保管液の粘性抵抗が低すぎて、本発明の効果が十分に発揮されない。該保管液の粘度の上限については、特に限定されないが、通常温度２５℃で７００ｍＰａ・ｓ程度である。好ましい粘度は、温度２５℃で１００〜４００ｍＰａ・ｓであり、特に２００〜３００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましい。
【００１６】
保管液の粘度が、２５℃において５０ｍＰａ・ｓ以上であると、保管液が流動することにより生じる粘性抵抗によって、基板表面に付着した異物を除去することが可能となる。保管液の粘度は、保管する基板や異物の種類に応じて選定することが好ましい。
また、本発明の効果を有効に発揮させるには、保管液の特性として、上記粘度と共に、ｐＨが重要となる。
【００１７】
基板表面と異物のゼータポテンシャルが異符号（＋と−）の場合、基板表面と異物の間には引力が働くが、基板表面と異物のゼータポテンシャルが同符合（＋同士または−同士）の場合、基板表面と異物が反発しあうため、異物は基板表面から容易に除去され、かつ異物が基板表面に付着しにくい状態となる。
【００１８】
すなわち、表面と異物の双方に高粘度の液体を接触させ、その液体を流動させることにより、（１）異物を物理的に基板表面から剥離（粘性）し、かつ、（２）基板と異物のゼータポテンシャルを制御（表面と異物のｐＨが同符合のゼータポテンシャルになるようなｐＨの液体を使用）することにより、表面と異物を反発させ、剥離を容易にし、かつ異物の再付着を防止する、作用効果が得られる。
【００１９】
基板表面と異物のゼータポテンシャルを同符号になるように制御するためには、保管液のｐＨは６以上が好ましい。また、保管すべき基板がガラス製基板である場合には、ｐＨ６以上でゼータポテンシャルを負に制御しやすく、好ましくはｐＨ９以上である。しかし、ｐＨが高すぎると、基板の種類によっては、損傷を受けるおそれがあるので、保管すべき基板の種類や保管期間などに応じて、ｐＨの上限を適宜選定することが好ましいが、一般的には、保管液のｐＨは６〜１２の範囲が好ましく、基板の種類や保管期間によっては、９〜１１の範囲が好ましい場合がある。
【００２０】
このように、保管液の特性（粘度およびｐＨ）を制御することにより、異物の付着を抑制すると共に、保管液中から取り出す際に、物理的な力を加えなくても、付着した異物を保管液の粘性抵抗により除去することができる。さらに、基板表面のゼータポテンシャル制御により、除去された異物の基板表面への再付着を防止することができる。また、攪拌などの手段により流動させた保管液中に基板を保管することで、異物の除去および除去された異物の再付着を効果的に防止することができる。
【００２１】
本発明の保管液の種類については、粘度およびｐＨが前記範囲にある液体であればよく、特に制限はないが、人体に対する安全性、環境非汚染性、難引火性などを考慮すると、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどの高分子量グリコール類；グリセリンなどの多価アルコールのエチレンオキシド付加物やプロピレン付加物；非イオン性界面活性剤；などの水溶性化合物を含む水性溶液を好ましく挙げることができる。
【００２２】
ここで、非イオン性界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマー、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルなどが挙げられる。
【００２３】
前記水溶性化合物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、ｐＨ調整剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウムなどが挙げられ、これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２４】
本発明はまた、前記の基板保管液中で基板を保管する、基板保管方法を提供する。本発明の方法が適用される基板としては、ガラス基板のような基板単体だけでなく、膜付きの基板や、表面に凹凸構造を有する基板等も含む。すなわち、表面に異物が付着するのを嫌う基板であれば特に制限はないが、例えばガラス基板（情報記録媒体用、フォトマスク用、液晶ディスプレイパネル用ガラス基板など）、フォトマスクブランクなどの膜付き基板、表面に凹凸構造を有する基板、具体的にはフォトマスクを好ましく挙げることができる。
【００２５】
本発明の基板保管方法としては、保管液中に基板を保管する方法や、保管液中に基板を保管すると同時に基板を搬送する方法等がある。後者の方法では、前者の方法における作用効果に加えて、搬送時に保管液が流動することによる異物除去効果が得られる。
【００２６】
ガラス基板に、本発明の保管方法を適用する場合、保管液のｐＨは６以上、好ましくは９〜１２の範囲で選定される。しかし、ガラスはアルカリでゆっくりと侵食されるため、長期間（例えば１週間以上）の保管では、ｐＨは９〜１１の範囲がより好ましい。本発明の方法で保管されたガラス基板は、その表面に異物の付着がなく、かつ表面の経時変化が抑制されるので、該ガラス基板を用いてマスクブランクを作製した場合、ブランク内、ブランク間において、膜の密着性が安定したマスクブランクが得られる。また、位相シフトマスクブランクにおいては、ブランク内、ブランク間において、膜厚分布、位相差分布、透過率分布などの膜の特性が安定した位相シフトマスクブランクが得られる。
【００２７】
またフォトマスクブランクに、本発明の保管方法を適用する場合、フォトマスクブランクは、通常透光性基板上に半透過膜、遮光膜が順次積層された構造を有しているため、ｐＨが高いと表面の遮光膜が侵食される可能性があり、したがって、保管液のｐＨは６以上、好ましくは９〜１１の範囲で選定される。
本発明の方法で保管されたマスクブランクは、その表面に異物がなく、また遮光膜上にレジストを密着性よく設けることができ、かつその密着性の再現性もよい。
【００２８】
さらに、表面に凹凸構造を有する転写マスクに、本発明の保管方法を適用する場合、ｐＨが高いと基板上の遮光パターンおよびガラスが侵食される可能性があり、したがって、保管液のｐＨは６以上、好ましくは９〜１１の範囲で選定される。
表面に凹凸構造を有する転写マスク、例えば基板掘り込み型位相シフトマスクは、異物の付着頻度が高く、かつ付着した異物を除去するのが困難であるが、本発明の保管方法を適用することにより、異物の付着のない転写マスクを得ることができる。
ここで、マスクブランク、転写マスクとしては、ＫｒＦ、ＡｒＦ、Ｆ２エキシマレーザ、ＥＵＶ、Ｘ線等に用いられるフォトマスクブランク、フォトマスクや、電子線用マスク等があり、これらのマスクブランク、転写マスクに対して、本発明の作用効果が得られる。
【００２９】
本発明の基板保管方法においては、例えば保管液を満たしたケースに基板を収納し、該基板を保管・運搬・出荷することができる。これにより、ＬＣＤ用などの大型で薄いガラス基板でも、保管液が緩衝材となって、破損、損傷、変形などをもたらすことがなく、安全に搬送することも可能となる。
【００３０】
本発明はさらに、マスクパターンを形成するための薄膜と、該薄膜を支持するための支持基板とを有するマスクブランクの製造方法において、マスクブランクの各種製造工程の工程間に、前述の本発明の基板保管液を用いた保管工程を１回以上有するマスクブランクの製造方法、ならびにマスクパターンを形成するための薄膜と、該薄膜を支持するための支持基板とを有するマスクブランクを用いて、前記薄膜をパターン化してマスクパターンを有する転写マスクを製造する方法において、転写マスクの各種製造工程の工程間に、前述の本発明の基板保管液を用いた保管工程を１回以上有することを特徴とする転写マスクの製造方法をも提供する。
ここで、マスクブランクの各種製造工程として、支持基板材を用いて支持基板を得るための研削工程、研磨工程、洗浄工程や、支持基板を用いてマスクブランクを得るための成膜工程、洗浄工程等が挙げられる。
また、転写マスクの各種製造工程として、マスクブランクの洗浄工程、レジスト塗布工程、描画（又は露光）工程、現像工程、薄膜のパターン化工程、レジスト剥離工程、洗浄工程等が挙げられる。
【００３１】
また、保管工程とは、上述のような各種製造工程間に、本発明の基板保管液中に保管する工程や、基板保管液中に保管すると同時に搬送する工程を指す。
マスクブランクの製造方法、および転写マスクの製造方法において、各種製造工程の工程間に、このような保管工程を行なうことで、表面状態の経時変化を抑制することが可能となり、また、各工程間の搬送時に保管液が流動するため、表面に付着した異物が除去され、また除去された異物の再付着を防止することが可能となり、さらに、緩衝材としての作用を有するために破損、損傷、変形等を防止することが可能となる等、高品位のマスクブランクおよび転写マスクを安定して製造することが可能となる。
本発明はまた、基板を保管および／又は搬送するためのケースであって、少なくとも基板と、本発明の基板保管液とを有する基板ケースを提供する。
【実施例】
【００３２】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
実施例１  保管液Ａの調製
非イオン性界面活性剤であるポリオキシエチレンアルキルエーテル［ライオン社製、商品名「レオコール」］に精製水と水酸化ナトリウム水溶液を添加して、温度２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓで、ｐＨが１０である保管液Ａを調製した。
実施例２  保管液Ｂの調製
実施例１と同様な操作により、温度２５℃における粘度が２００ｍＰａ・ｓで、ｐＨが１２である保管液Ｂを調製した。
実施例３  ガラス基板の保管
（１）保管液Ａ中での保管
フォトマスク用透光性基板（１５２．４ｍｍ×１５２．４ｍｍ×厚６．３５ｍｍ、合成石英製）を、常法に従って研磨・洗浄工程を施したのち、保管液Ａ中に入れ、クリーンルーム内（約２５℃）にて１ケ月間保管した。
なお、上記洗浄工程では、研磨材の除去、基板表面のクリーニングを目的として、フッ酸などによる洗浄を行う。
（２）保管液Ｂ中での保管
上記（１）で用いたものと同じフォトマスク用透光性基板を、上記（１）と同様に研磨・洗浄工程を施したのち、保管液Ｂで洗浄し、そのまま保管液Ｂ中に入れたまま、クリーンルーム内（約２５℃）にて２週間保管した。
【００３３】
なお、保管液Ａ、保管液Ｂ中に保管された基板は、使用時に純水などで保管液を除去したのち、乾燥処理または洗浄処理を行う。この際、洗浄処理としては、ＡＰＭ洗浄（アンモニア・過酸化水素水洗浄）、ＳＰＭ洗浄（硫酸・過酸化水素水洗浄）、機能水洗浄、オゾン水洗浄、ＩＰＡ洗浄（イソプロピルアルコール洗浄）などが行われる。
（３）結果
大気中に保管した場合には、保管中に付着した異物が、洗浄工程を経ても除去できないことがあったが、上記（１）、（２）のように保管液中に保管した場合には、使用時に異物の付着は発見されなかった。
【００３４】
ガラス基板がフォトマスクブランク用基板の場合、上記（１）、（２）のように保管液中に保管していたガラス基板の上に透過率制御膜を成膜してフォトマスクブランクを作製した際、ブランク内、ブランク間において、膜の密着性が安定したフォトマスクブランクを製造することができた。これは、基板表面の経時変化を抑制できたことによる。
さらに、位相シフトマスクブランクにおいては、ブランク内、ブランク間において、膜の特性（膜厚分布、位相差分布、透過率分布）が安定し、かつ欠陥の少ない位相シフトマスクブランクを製造することができた。
【００３５】
なお、保管液Ａ又は保管液Ｂを満たした保管ケースにガラス基板を収納し、該ガラス基板を保管・運搬・出荷することも可能である。
実施例４  マスクブランクの保管
（１）保管液Ａ中での保管
透光性基板（１５２．４ｍｍ×１５２．４ｍｍ×厚６．３５ｍｍ、合成石英製）上に、ＭｏＳｉＮ（モリブデン、ケイ素および窒素を含むことを意味し、それらの含有率を規定するものではない）を含む材料からなる半透光膜、Ｃｒを含む材料からなる遮光膜が順に積層されたマスクブランクを、保管液Ａ中に入れ、クリーンルーム内（約２５℃）にて１ケ月間保管した。
【００３６】
なお、保管液Ａ中に保管されたマスクブランクは、使用時には保管液Ａを純水で除去したのち、乾燥処理または洗浄処理を行った。
（２）結果
大気中に保管した場合には、保管中に付着した異物が、洗浄工程を経ても除去できないことがあったが、上記（１）のように保管液中に保管した場合には、使用時に異物の付着は発見されなかった。
【００３７】
従来、大気中に保管していたマスクブランクにレジストを塗布する場合には、レジスト塗布工程前に、保管期間に応じた洗浄を行う必要があった。すなわち、保管期間が長いほど、表面改質を行うような強い洗浄が必要であった。それに対して、保管液中に保管したマスクブランクでは、レジスト塗布工程前の洗浄において、洗浄方法（内容）を統一化でき、さらにレジストと遮光膜との密着性（レジストの濡れ性）を良好（安定）に再現することが可能となった。これは、基板表面の経時変化を抑制できたことによると思われる。
【００３８】
なお、保管液Ａを満たした保管ケースにマスクブランクを収納し、マスクブランクを保管・運搬・出荷することも可能である。
実施例５  フォトマスクの保管
（１）保管液Ａ中での保管
Ｃｒを含む材料からなる遮光パターンを有する、いわゆる基板掘り込み型位相シフトマスク（１５２．４ｍｍ×１５２．４ｍｍ×厚６．３５ｍｍ、基板は合成石英製）を、保管液Ａ中に入れ、クリーンルーム内（約２５℃）にて１週間保管した。
ここで、保管したフォトマスクは、露光時のパターン転写精度を考慮して、遮光パターンの下部がアンダーカット形状を有している（遮光パターンがオーバーハング形状となっている。）。
なお、保管液Ａ中に保管されたフォトマスクは、使用時には保管液Ａを純水などで除去したのち、乾燥処理又は洗浄処理を行った。
（２）結果
保管前後の遮光パターン形状および位相差（基板掘り込み量）の変動は見られず、かつ遮光パターン下部のアンダーカット部分をはじめ、フォトマスク全体において異物の付着は確認されなかった。
大気中あるいは純水中などに保管した場合、付着した異物を除去するのは困難であった。特に遮光パターン下部のアンダーカット部分については、高圧水などの物理洗浄を行うと、パターンを破壊してしまうため、このような物理洗浄は採用できず、付着した異物を除去するのは困難であった。
【００３９】
これに対し、保管液中に保管した場合、保管液を除去する際に、保管液の粘性抵抗が異物に働くことにより、付着した異物を容易に除去することができる。さらに、保管液中のｐＨを制御することで、フォトマスクと異物のゼータポテンシャルを制御することができるため、除去した異物がフォトマスクに再付着するのを防ぐことができる。なお、保管期間が短い場合には（例えば１日間以内）、保管液のｐＨを高くすることで（例えば、保管液Ｂを使用）、保管中においても洗浄効果を得ることが可能である。したがって、従来では除去できなかった異物を、遮光パターンになんら影響を与えることなしに除去することができ、フォトマスクを清浄な状態に保管することができる。
【００４０】
この保管方法は、遮光パターンの下部にアンダーカット形状を有していないフォトマスクに対しても、もちろん有効である。
なお、保管液Ａを満たした保管ケースにフォトマスクを収納し、フォトマスクを保管・運搬・出荷することも可能である。
実施例６  大型基板の保管
基板サイズが８００ｍｍ×９２０ｍｍ×厚１０ｍｍ（液晶ディスプレイ製造用フォトマスク用基板、合成石英製）の大型基板を、保管液ＡまたはＢを満たした保管ケースに収納することで、破損、変形などが生じることなく、安全に、保管・運搬・出荷することが可能であった。
【００４１】
ＬＣＤ用ガラス基板は、さらに大型（１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ、またはそれ以上）で、薄板（１ｍｍ以下）であるため、ＬＣＤ製造工程において、本発明の保管液を、該基板の搬送時の緩衝材として使用することで、破損や変形をもたらすことがなく、安全に搬送することが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明の基板保管方法は、基板表面への異物付着の抑制や付着した異物の除去が可能であると共に、基板表面の自然酸化膜の形成およびケースから発生するガスの吸着を抑制することができ、ガラス基板、マスクブランク、転写マスクなどの保管に好適に用いられる。また、保管液が緩衝材として作用し、ＬＣＤ用ガラス基板などの大型で薄い基板を、破損や変形などをもたらすことがなく、安全に搬送することができる。