(57)【要約】【課題】  省スペース化が可能で、低コストな加工装置を提供すること。【解決手段】  ステージ５７上に、吸着プレート７３がＸＹ方向に移動可能に設けられ、ステージ５７に光学チャンバ６１、照射部６３、ラミネータ２０１、ピーラ３０１が設けられる。ガラス基板１１は、吸着プレート７３上に載置され、ラミネータ２０１により転写シート１が吸着プレート７３上に貼られ、照射部６３によりブラックマトリックスのパターンが形成され、ピールローラ３０５により転写シート１が剥がされる。【選択図】  図４
2005153300.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージと、
前記ステージ上を移動する吸着プレートと、
前記吸着プレートに載置されたガラス基板に非粘着性の転写シートを載置するラミネータと、
前記吸着プレートに載置された前記ガラス基板に前記転写シートを介してレーザ光を照射し描画を行う描画部と、
描画された前記ガラス基板から前記転写シートを剥がすピーラと、
を具備することを特徴とする加工装置。
【請求項２】
前記ラミネータと、前記描画部と、前記ピーラのうちの少なくとも２つは、前記ステージ上に設けられることを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項３】
前記吸着プレートは、吸着孔もしくは溝付の定盤と、前記定盤の上面周囲に設けられた吸着用部材を有し、
前記吸着用部材の内側に前記ガラス基板を吸着固定により載置し、前記ガラス基板上に載置された転写シートを前記吸着用部材で吸引させることを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項４】
前記吸着用部材および定盤は、吸引領域が変更可能であることを特徴とする請求項３記載の加工装置。
【請求項５】
前記吸着用部材高さは、前記定盤上に載置された前記ガラス基板高さと略等しくなるように設置されていることを特徴とする請求項３記載の加工装置。
【請求項６】
前記吸着用部材と前記ガラス基板の間に、前記ガラス基板と略同一厚さのスペーサを介在させることを特徴とする請求項３記載の加工装置。
【請求項７】
前記ガラス基板を移動させ、位置決めを行う押圧ピンを有することを特徴とする請求項３記載の加工装置。
【請求項８】
前記ガラス基板を移動させ、位置決めを行う、前記定盤もしくは前記吸着用部材もしくは前記スペーサに固定された位置決めピンを有することを特徴とする請求項３記載の加工装置。
【請求項９】
前記吸着用部材又は前記スペーサに、前記押圧ピン用の切欠きを設けることを特徴とする請求項７記載の加工装置。
【請求項１０】
前記吸着プレートは、内部にリフトピンを有し、
前記ステージは、内部を貫通するピンと、前記ピンを昇降させる昇降手段を有し、
前記昇降手段により前記ピンが上昇すると、前記ピンにより前記リフトピンが上昇し、前記リフトピンにより前記ガラス基板が持ち上げられることを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項１１】
前記ステージは、除振機構を備えることを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項１２】
前記ステージは、除振機構の固定機構を備えることを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項１３】
前記吸着プレートに載置されたガラス基板または転写シートの高さまたは厚さを測定する測定手段を備えることを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項１４】
前記描画部での描画結果を表示する表示手段を有することを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項１５】
前記吸着プレートはミラーを有し、このミラーに照射された光の反射光を受光して、前記吸着プレートの位置を測定する測定手段を備えることを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項１６】
前記レーザーの照射部にミラーを有し、前記測定手段に用いる光の分光もしくは独立した光を用い、レーザー照射部の位置を測定し、前記吸着プレートとの相対的な位置の測定手段を備えることを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項１７】
前記吸着プレートに、遮蔽体を設けることを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項１８】
前記吸着プレートの速度に応じて、前記吸着プレートまたは前記ピーラ、前記ラミネータの制動開始位置を変化させることを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項１９】
リミットセンサと、
前記リミットセンサで前記吸着プレートまたは前記ピーラ、前記ラミネータが検知されると、前記吸着プレートを強制的に停止させる手段と、
を更に具備することを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項２０】
前記ピーラは、昇降機構および自重キャンセラを有するピールローラを備え、
前記吸着プレートに取り付けられたミラーと前記ピールローラが接近した場合、前記昇降機構により上昇作動することを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項２１】
前記ラミネータは、昇降機構および自重キャンセラを有するラミネートローラを備え、
前記吸着プレートに取り付けられたミラーと前記ラミネートローラが接近した場合、前記昇降機構により前記ピールローラが上昇作動することを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【請求項２２】
前記描画部は、試験的に描画された結果に基づいて補正を行い、描画することを特徴とする請求項１記載の加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非粘着性の転写シートを用いた加工装置に関するものである。より詳しく言えば、ガラス基板に非粘着性の転写シートを載置し、レーザ光を照射してガラス基板上にパターンを形成する加工装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等に用いられるカラーフィルタはフォトリソ工程で製造される他、ガラス基板に転写シートを載置し、レーザ光を照射してガラス基板上にブラックマトリックス等のパターンを形成して得られる方法がある。
レーザ転写を行う方法を記載した文献として例えば特許文献１がある。
【０００３】
【特許文献１】特開平３−１３８１６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、従来は転写シートをガラス基板上にラミネートするラミネータと、転写シートに対してレーザ光を照射してパターンを形成する描画部と、ガラス基板から転写シートを剥がすピーラとは別装置となっており、各装置を工場内に設置する場合、広いスペースを要し、また各装置も大型であり、コストが高いという問題があった。
【０００５】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、省スペースが可能で、低コストな加工装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前述した目的を達成するために本発明は、ステージと、前記ステージ上を移動する吸着プレートと、前記吸着プレートに載置されたガラス基板に非粘着性の転写シートを載置するラミネータと、前記吸着プレートに載置された前記ガラス基板に前記転写シートを介してレーザ光を照射し描画を行う描画部と、描画された前記ガラス基板から前記転写シートを剥がすピーラと、を具備することを特徴とする加工装置である。
【０００７】
前記ラミネータと、前記描画部と、前記ピーラのうちの少なくとも２つは、前記ステージ上に設けてもよい。
前記吸着プレートは、吸着孔もしくは溝付の定盤と、前記定盤の上面周囲に設けられた吸着用部材を有し、前記吸着用部材の内側に前記ガラス基板を吸着固定により載置し、前記ガラス基板上に載置された転写シートを前記吸着用部材で吸引させる。
この吸着用部材および定盤は、吸引領域が変更可能である。
【０００８】
また、前記吸着用部材と前記ガラス基板の間にスペーサを介在させてもよい。
前記ガラス基板を移動させ、位置決めを行う押圧ピンを設け、前記吸着用部材又は前記スペーサに、前記押圧ピン用の切欠きを設けるようにしてもよい。
前記吸着プレートは、内部にリフトピンを有し、前記ステージは、内部を貫通するピンと、前記ピンを昇降させる昇降手段を有し、前記昇降手段により前記ピンが上昇すると、前記ピンにより前記リフトピンが上昇し、前記リフトピンにより前記ガラス基板が持ち上げられる。
【０００９】
前記ステージは、除振機構や除振機構の固定機構を備えるようにしてもよい。
前記吸着プレートに載置されたガラス基板または転写シートの厚さ方向の位置を測定する測定手段を備えたり、前記描画部での描画結果を表示する表示手段、前記描画部の描画位置測定手段を備える。
前記吸着プレートはミラーを有し、このミラーに照射された光の反射光を受光して、前記吸着プレートの位置を測定する測定手段を備え、前記吸着プレートに、遮蔽体を設ける。
前記レーザーの照射部にミラーを有し、前記測定手段に用いる光の分光を用い、もしくは独立した光を用いて、レーザー照射部の位置を測定する測定手段を備えて、前記吸着プレートとの相対的な位置の測定手段を用いてもよい。
【００１０】
前記吸着プレートの速度に応じて、前記吸着プレートの制動開始位置を変化させてもよい。
リミットセンサと、前記リミットセンサで前記吸着プレート又は前記ピーラ、ラミネータが検知されると、前記吸着プレートを強制的に停止させる手段と、を設けてもよい。
【００１１】
前記ピーラは、自重キャンセラおよび昇降機構を有するピールローラを備え、前記吸着プレートに取り付けられたミラーと前記ピールローラが接近した場合、前記昇降機構が上昇方向に作動する。
前記ラミネータは、昇降機構を有するラミネートローラを備え、前記吸着プレートに取り付けられたミラーと前記ラミネートローラが接近した場合、前記昇降機構が上昇方向に作動してもよい。
前記描画部は、試験的に描画された結果に基づいて補正を行い、描画する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明では、省スペースが可能で、低コストな加工装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を詳細に説明する。まず、本発明の概要を説明する。図１は、本発明に用いられる転写シート１の断面図であり、図２は、転写シート１の平面図である。図１は図２のＡ１−Ａ１断面を示す。
【００１４】
図１に示されるように、転写シート１は基材３上に剥離層５、樹脂層７が積層されてなる。基材３は、透明樹脂フィルムからなり、剥離層５は、ＵＶ硬化型アクリル樹脂からなり、樹脂層７は、熱硬化型アクリル樹脂からなる。
この転写シート１にレーザ光を照射すると、樹脂層７の樹脂がガラス基板１１に転写され、所定のパターンが形成される。
【００１５】
図２に示すように、基材３の幅よりも剥離層５、樹脂層７の幅を狭くし、基材３上に剥離層５、樹脂層７の形成されていない側部９を形成する。
後述するラミネータ２０１等のチャック装置等で転写シート１をチャックする場合、側部９をチャックする。側部９を設けることにより樹脂層７がチャックにより剥離し、ガラス基板上に付着することで生じる転写不良の低減を図ることができる。
【００１６】
図３は、本発明の加工装置の概要を示すもので、図３（ａ）はラミネータ、図３（ｂ）は描画部、図３（ｃ）はピーラを示す。
【００１７】
図３（ａ）に示すように、転写シート１が巻回されたローラ２０７から転写シート１を引き出し、所定の長さで切断してガラス基板１１上に載置する。
【００１８】
図３（ｂ）に示すように、ガラス基板１１上に載置された転写シート１上に照射部６３からレーザ光を照射することにより転写シート１上の樹脂成分等がガラス基板１１に転写され、ブラックマトリックス等のパターンがガラス基板１１上に形成される。
【００１９】
図３（ｃ）に示すように、ガラス基板１１から転写シート１を剥ぎ取る。このようにして、ガラス基板１１上にブラックマトリックスのパターンが形成され、次工程にて、ガラス基板１１にＲＧＢ等の着色パターンが形成される。
【００２０】
図４は、本発明の実施の形態に係る加工装置５１の概略構成を示す斜視図であり、図５はステージ５７と吸着プレート７３に注目した加工装置５１の斜視図、図６はステージ５７、描画部６０に着目した加工装置５１の斜視図、図７はステージ５７、描画部６０、ラミネータ２０１に注目した斜視図である。
【００２１】
加工装置５１ではステージ５７上にラミネータ２０１、描画部６０、ピーラ３０１が形成される。
ステージ５７の下方にはアクティブ除振台５５を介して脚５３が設けられる。ステージ５７は直方体形状を有し、石等からなる。アクティブ除振台５５は内部にアクティブダンパが設置され、脚５３もしくはステージ５７が揺れた場合にその揺れを相殺し、ステージ５７が振動しないようにする。
【００２２】
（描画部６０）
描画部６０は光学チャンバ６１、照射部６３等からなる。
ステージ５７の側部に門型の支持体５９の脚部が設けられる。支持体５９の上部には光学チャンバ６１が設置され、この光学チャンバ６１の下面にレーザ光を照射する照射部６３が設けられる。
【００２３】
光学チャンバ６１の内部にはレーザ光源等が設けられ、レーザ光源から発せられたレーザ光が分光器で、例えば１０分光され、分光されたレーザ光が照射部６３から照射される。
【００２４】
ステージ５７の上面には１対のレール７１が設けられる。プレート７２はリニアモータ等が備えられ、レール７１上をＹ方向に走行する。吸着プレート７３はリニアモータ等を備えており、このプレート７２上をＸ方向に走行する。従って、吸着プレート７３はステージ５７上をＸＹ方向に走行可能である。
【００２５】
照射部６３でレーザ光の照射を行う場合、照射部６３は固定されているので、吸着プレート７３をＸＹ方向に移動させて吸着プレート７３上のガラス基板１１上にレーザ光を照射する。
【００２６】
図５に示されるように、吸着プレート７３の２辺にミラー７５ａ、７５ｂが設けられる。また、ステージ５７の側部にレーザ干渉計７７ａ、７７ｂが設けられる。レーザ干渉計７７ａ、７７ｂは夫々ミラーを介してレーザ光を照射し、ミラー７５ａ、７５ｂで反射されたレーザ光を受光することにより、吸着プレート７３の位置を計測する。
【００２７】
（ラミネータ２０１）
図７に示されるように、ラミネータ２０１はローラ２０７、サブローラ２０９、転写ローラ２１１等からなる。図示しないフレームに直方体形状の１対の支持板２０３が対向して設けられ、また図示しないフレームに直方体形状の１対の支持板２１３が設けられる。支持板２０３、２０３の間に転写シート１が巻かれたローラ１０７とサブローラ１０９が回転可能に設けられる。支持板２１３、２１３の間に転写ローラ２１１が設けられる。
また、図示しないチャック機構、カッタ、吸着パッド等が備えられる。
【００２８】
ガラス基板１１を搭載した吸着プレート７３がローラ２０７の下まで移動すると、ローラ２０７に巻かれた転写シート１がチャック機構により引き出され、所定の長さでカッタにより切断され、切断された転写シート１が吸着パッドに吸着されつつガラス基板１１上に載置され、吸着プレート７３の吸着用部材９５で転写シート１が吸着される。その後、転写ローラ２１１で転写シート１を押圧し転写シート１とガラス基板１１との間のエアー等を除去する。
【００２９】
（ピーラ３０１）
ピーラ３０１はピールローラ３０５、ニップローラ３０７等からなる。
図４に示されるように、図示しないフレームに１対の支持板３０３が対向して設けられる。支持板３０３、３０３の間にピールローラ３０５、ニップローラ３０７ａ、３０７ｂ、３０７ｃ等が設けられる。
【００３０】
ニップローラ３０７ｂ、３０７ｃ等は図４では単一のローラとして表しているが、実際には１対のローラであり、このローラ間に転写シート１が挟まれて移動する。
【００３１】
ピールローラ３０５は、真空ポンプに接続された吸着パッド等を内部に備え、回転しながら転写シート１を吸着し、吸着プレート７３から転写シート１を剥がす。剥がされた転写シート１は、ニップローラ３０７ｂ、３０７ｃ等を介して、外部に排出される。
【００３２】
次に、吸着プレート７３について説明する。
図８はステージ５７と吸着プレート７３の断面図、図９はアクチュエータ８１とプレート８３の斜視図、図１０は吸着プレート７３の平面図、図１１はアクチュエータ８１が作動し、リフトピン８９が上昇した場合の吸着プレート７３の断面図である。
【００３３】
吸着プレート７３は上面に吸着用の孔または溝を備えた平板状の定盤９１の上面の周囲に吸着用部材９５を設けたものである。
図１０に示すように、吸着用部材９５は定盤９１の上面の周囲に口の字型に設けられる。吸着用部材９５はアルミニウム等の中に多数の孔を有するもので、図示しない真空ポンプに連結され、真空ポンプが作動すると、吸着用部材９５上に載置された転写シート１が吸着される。吸着用部材９５は部分ごとに吸着が可能であり、例えば図１０に示す下辺の吸着用部材９５aでは吸着範囲９９ａ、９９ｂ、９９ｃ、９９ｄが設定され、この部分が独立して吸着を行う。また、右辺の吸着用部材９５ｂでは、吸着範囲９９ｅ、……、９９ｈが設定され、この部分が独立して吸着を行う。
【００３４】
図１０に示すように、吸着用部材９５の内部に一対のスペーサ９３が設けられ、このスペーサ９３の内側にガラス基板１１が置かれる。吸着用部材９５には切欠き９６ａが設けられ、スペーサ９３にも切欠き９６ｂが設けられる。この切欠き９６ａ、９６ｂに押圧ピン９７ａ、９７ｂを挿入し、図１０のＸ１、Ｙ１方向に押圧ピン９７ａ、９７ｂを移動させる。ガラス基板１１がスペーサ９３及び吸着用部材９５上に設置された位置決めピンに接触するまでガラス基板１１を移動させ、ガラス基板１１の位置決めを行う。
【００３５】
図８、図９に示すように、ステージ５７の下面にアクチュエータ８１が設けられ、このアクチュエータ８１にプレート８３が設けられ、このプレート８３にピン８７が設けられる。ピン８７はステージ５７内を貫通する。また、ステージ５７の下面にガイド８５が設けられ、プレート８３はこのガイド８５に沿って上下方向に移動する。
定盤９１内を貫通するようにリフトピン８９が設けられる。このリフトピン８９の下部はピン８７と接触する。
【００３６】
図１１に示すように、アクチュエータ８１を作動させるとプレート８３が上方向に移動し、これに伴いピン８７、リフトピン８９も上昇し、ガラス基板１１がリフトピン８９によって持ち上げられる。
【００３７】
このように、ピン８７とリフトピン８９を分割し、アクチュエータ８１でピン８７、リフトピン８９を持ち上げる構成としたことにより、ストロークを短くすることができる。
ストロークを短くできる理由は、ピン８７とリフトピン８９を分割しなければ、吸着プレートが移動中は、リフトピン８９の上面がステージ５７の上面より下方に位置しなければならないため、アクチュエータ８１のストロークが、基板リフトアップ量より定盤厚さ多く必要となるからである。
【００３８】
ガラス基板１１を吸着プレート７３に載置する場合、図１１に示すようにリフトピン８９を上昇させた状態で、リフトピン８９上にガラス基板１１を載置し、その後、リフトピン８９を下降させ、図８に示すように定盤９１上にガラス基板１１を載置させる。そして、図１０に示すように押圧ピン９７ａ、９７ｂによりガラス基板１１の位置決めを行う。
【００３９】
その後、吸着プレート７３がステージ５７上を移動し、ラミネータ２０１で転写シート１が載置され、描画部６０でレーザ光が照射され、ブラックマトリックスのパターンが形成され、ピーラ３０１で転写後の転写シート１がガラス基板１１から剥がされる。
【００４０】
図１２はステージ５７の下部の詳細図であり、ステージ５７の下面には突出片１２５が設けられる。床に設置された支持体１２１に固定装置１２３が設けられ、この固定装置１２３と突出片１２５が固定される。この固定装置１２３はアクティブ除振台にて吸収できない振動発生時にステージ５７を固定させる。
【００４１】
また、吸着プレート７３にガラス基板１１や転写シート１が載置された場合、ガラス基板１１または転写シート１の高さまたは厚さを測定するレーザセンサや、接触式の測長手段等を設けてもよい。
また、照射部６３によりガラス基板１１上に描画を行った場合、図示しないカメラで描画結果を撮像し、画像処理を行い、ディスプレイ等に表示させて描画結果を観察し、ブラックマトリックスの間隔等を測定する。
【００４２】
図１３は、加工装置５１の制御系を示す図である。制御部１５１はパーソナルコンピュータ等であり、図４に示す加工装置５１の近くに置かれる。この制御部１５１に吸着プレート駆動部１５３、レーザ照射部駆動部１５５、ラミネータ駆動系１５７、ピーラ駆動系１５９等が接続される。
【００４３】
吸着プレート駆動部１５３はシーケンサ等であり、制御部１５１からの指令に基づき吸着プレート７３を移動させたり、アクチュエータ８１等を駆動する。
【００４４】
レーザ照射部駆動部１５５は、光学式チャンバ６１内のレーザ光源等を制御して照射部６３からレーザ光を照射し、所定のパターンを描画する。
ラミネータ駆動系１５７はラミネータ２０１を制御するもので、具体的には図示しないチャック機構、カッタ、吸着パッド、転写ローラ２１１等の制御を行う。
【００４５】
ピーラ駆動系１５９はピーラ３０１を制御するもので、具体的にはサクションローラであるピールローラ３０５を回転させつつ吸引し、吸着プレート７３上の転写シート１を剥がし、剥がされた転写シート１をニップローラ３０７で搬送し、ステージ５７の外部に排出させる。
【００４６】
このようにこの加工装置５１では、ステージ５７上にラミネータ２０１、描画部６０、ピーラ３０１を設けるようにしたので、加工装置５１自体が小型化し、省スペースが可能となる。
【００４７】
次に、この加工装置５１の全体の概略動作を説明する。図１４から図１９は加工装置５１の概略動作を説明するための説明図である。
図１４に示すように、ケース５０１からガラス基板１１を取り出し、台車５０３に載置する。
【００４８】
図１５に示すように、台車５０３を加工装置５１の吸着プレート７３の上方まで移動させる。この状態で図１１に示すようにリフトピン８９が上昇し、台車５０３上のガラス基板１１がリフトピン８９により持ち上げられる。台車５０３は加工装置５１の外部に移動させる。
【００４９】
その後、リフトピン８９が下降し、図８に示すようにガラス基板１１が定盤９１上に載置される。
そして、図１０に示すように、押圧ピン９７ａ、９７ｂによりガラス基板１１がスペーサ９３や吸着用部材９５に設置された位置決めピンに接するまで移動し、位置決めが行われ、図示されない定盤上の吸着孔もしくは溝にて吸着固定される。
【００５０】
次に、図１６に示すように吸着プレート７３がラミネータ２０１まで移動する。ラミネータ２０１の図示しないチャック機構でローラ２０７に巻かれている転写シート１が取り出され、所定の長さまで取り出されると、図示しないカッタにより所定の長さの転写シート１が切り取られる。切り取られた転写シート１は図示しない吸着パッドにより吸着プレート７３上に載置される。このとき、吸着プレート７３の吸着用部材９５により吸着が行われ、吸着プレート７３に転写シート１が吸着される。その後、転写ローラ２１１により吸着プレート７３上の転写シート１に加圧が行われ、ガラス基板１１と転写シート１の間にある空気等が除かれる。
【００５１】
次に、図１７に示されるように吸着プレート７３が照射部６３の下方まで移動し、吸着プレート７３がＸＹ方向に移動しつつ照射部６３からレーザ光が転写シート１を介してガラス基板１１に向けて照射され、ガラス基板１１上にブラックマトリックスのパターンが形成される。
【００５２】
次に、図１８に示すように吸着プレート７３はピーラ３０１まで移動する。ピールローラ３０５は真空ポンプに接続された吸着パッド等を内部に備えており、回転しながら転写シート１を吸着し、吸着プレート７３から転写シート１が剥がされ、転写シート１は、ニップローラ３０７で搬送される。
【００５３】
そして、図１９に示すように剥がされた転写シート１はゴミ箱５０５に排出され、吸着プレート７３は光学チャンバ６１の下方まで移動する。アクチュエータ８１が駆動され、吸着プレート７３のリフトピン８９が上昇し、ガラス基板１１が持ち上げられる。この状態で台車５０３の一部が加工装置５１の内部に挿入され、ガラス基板１１が台車５０３に搭載される。
【００５４】
図２０は、ピーラ３０１の詳細を示す図である。ピールローラ３０５は支持体３１１により支持され、この支持体３１１は回転軸３０９の周りにＲ１、Ｒ２方向に回転できる。尚、ニップローラ３０７も支持体３１１と一体となって移動する。
【００５５】
ラミネート時、描画時は支持体３１１がＲ１方向に回転し、ピールローラ３０５とステージ５７との間に吸着プレート７３が通過できる空間が構成される。描画が終了した吸着プレート７３がピーラ３０１の下方に送られてくる場合、この状態で吸着プレート７３がＹ２方向に移動し、ピーラ３０１の下方に到る。
【００５６】
図２１は、ピールローラ３０５によりピールを行う場合の説明図である。吸着プレート７３がステージ５７の端部まで移動すると停止し、吸着プレート７３は移動方向をＹ３方向に変える。そして、支持体３１１がＲ２方向に回転し、ピールローラ３０５は下方に移動し、吸着プレート７３に接近する。この状態でピールローラ３０５は図示しない吸着パッド等により吸引を行いつつ回転し、吸着プレート７３上の転写シート１を剥がす。剥がされた転写シート１はピールローラ３０５とニップローラ３０７ａとの間でニップされ、また各ニップローラ３０７ｂ、３０７ｃ等の間でニップされつつステージ５７外に排出される。
【００５７】
図２１に示すように、吸着プレート７３がＹ３方向に移動しつつ転写シート１が剥がされるが、吸着プレート７３にはミラー７５ｂが備えられており、ミラー７５ｂは高価であるのでミラー７５とピールローラ３０５とが接触してミラーが破損しないような制御が行われる。
【００５８】
すなわち、図２１のように吸着プレート７３が移動しつつピールを行う場合、吸着プレート７３の移動速度に応じて吸着プレート７３の制動をかける位置を変える。例えば、吸着プレート７３が早いスピードで移動している場合には、早めに制動をかけてピールローラ３０５とミラー７５ｂが接触することを防ぐ。吸着プレート７３のスピードが遅い場合には制動をかけるタイミングを遅くする。
【００５９】
また、リミットセンサを設置し、吸着プレート７３がこのリミットセンサで検知された場合には、強制的に吸着プレート７３に制動をかけて吸着プレート７３を停止させる。支持体３１１には自重キャンセラを設置し、リミットセンサで吸着プレート７３が検知された場合、上昇機構を作動させ、ピールローラ３０５を迅速に上昇させ、ミラー７５ｂとの接触を避ける。
【００６０】
更に、吸着プレート７３に遮蔽体１０１を設け、万が一、ピールローラ３０５とミラー７５ｂとが接触するような事態が生じてもピールローラ３０５が遮蔽体１０１と接触し、ミラー７５ｂを保護する。
【００６１】
このように、ピーラ３０１において、吸着プレート７３が移動しつつ転写シート１が剥がされる場合、ピルローラ３０５とミラー７５ｂとが接触しないように構成されているので、高価なミラー７５ｂの破損等を防ぐことができる。特に、停電時等において、吸着プレート７３が自走した場合でも、ミラー７５ｂの破損を防ぐことができる。
【００６２】
次に、描画部６０における描画処理について説明する。
図２２は、描画処理を示すフローチャートである。描画を行うに際しては、キャリブレーションを行い、キャリブレーション結果に基づいて補正を行う。
まず、制御部１５１は、描画データを作成する(ステップ１００１)。
この描画データに基づいてレーザ照射部駆動部１５５は、照射部６３を駆動し、ガラス基板１１上の転写シート１を介して描画を行う(ステップ１００２)。
【００６３】
描画が終了し、転写シート１がピールされ、加工装置１外にガラス基板１１が取り出されると、取り出されたガラス基板１１上の描画データを測定し、ステップ１００１で作成された描画データの基準値と比較し(ステップ１００３)、補正データを作成する(ステップ１００４)。
【００６４】
キャリブレーション終了後は、補正データを基にして、制御部１５１は、描画すべきデータに補正を行い、補正を行ったデータを描画データとする。
図２３（ａ）は、描画データの基準値を示し、図２３（ｂ）は、ガラス基板に描画された描画データを示す。
【００６５】
この場合、図２３（ａ）、（ｂ）の描画データを比較し、図２３（ａ）の描画データを用いて実際に描画を行った場合にガラス基板１１上に図２３（ａ）のデータが描画されるように制御部１５１は原描画データに対して補正を行った後に、照射部６３で描画が行われる。
【００６６】
図２４は伸縮、図２５は回転、図２６は直交度の補正を行う例を示す。
【００６７】
このように、キャリブレーションを行うことによって、テスト的にガラス基板上に描画を行い、ガラス基板に原描画データと同じ描画データが形成されるように、原描画データに補正を行った後に描画を行う。
【００６８】
なお、前述した加工装置５１は、ステージ５７上に描画部６０、ラミネータ２０１、ピーラ３０１を搭載する構成としたが、ラミネータとピーラを一つのステージ上に載置し、描画部を別のステージ上に載置する構成としても良い。
また、図２７に示すように、描画部６１とラミネータ２０１とピーラ３０１を別の装置としても良い。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】転写シート１の断面図
【図２】転写シート１の平面図
【図３】加工装置５１の処理の概要を示す図
【図４】加工装置５１の概略構成を示す斜視図
【図５】ステージ５７と吸着プレート７３に着目した加工装置５１の斜視図
【図６】ステージ５１、吸着プレート７３、描画部６０に着目した加工装置５１の斜視図
【図７】ステージ５１、吸着プレート７３、描画部６０、ラミネータ２０１に着目した加工装置５１の斜視図
【図８】吸着プレート７３の断面図
【図９】アクチュエータ８１、プレート８３の斜視図
【図１０】吸着プレート７３の平面図
【図１１】吸着プレート７３の断面図
【図１２】ステージ５７の固定装置１２３近傍を示す図
【図１３】加工装置５１の制御系を示す図
【図１４】加工装置５１の処理手順を示す図
【図１５】加工装置５１の処理手順を示す図
【図１６】加工装置５１の処理手順を示す図
【図１７】加工装置５１の処理手順を示す図
【図１８】加工装置５１の処理手順を示す図
【図１９】加工装置５１の処理手順を示す図
【図２０】ピーラ３０１を示す図
【図２１】ピーラ３０１を示す図
【図２２】描画処理を示す図
【図２３】キャリブレーションとその補正の説明図
【図２４】キャリブレーションとその補正の説明図
【図２５】キャリブレーションとその補正の説明図
【図２６】キャリブレーションとその補正の説明図
【図２７】描画部、ラミネータ、ピーラを別装置とした場合の説明図
【符号の説明】
【００７０】
１………転写シート
１１………ガラス基板
５１………加工装置
５７………ステージ
６０………描画部
７３………吸着プレート
９１………定盤
９５………吸着用部材
２０１………ラミネータ
２０７………ローラ
２１１………転写ローラ
３０１………ピーラ
３０５………ピールローラ
３０７………ニップローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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