(57)【要約】【課題】  製造工程の簡素化を図れ、視野角が広い液晶配向用基板を提供する。【解決手段】  所定の間隔を隔てて対向して設けられる２枚の基板１，２と、これら基板１，２間に設けられた液晶３と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置において、前記２枚の基板１，２の対向面に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配向させる配向膜７，８をそれぞれ設け、これら配向膜７，８の一方の配向膜７の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域９を形成し、他方の配向膜８と該配向膜８が設けられた基板２との間であって、該傾斜配向規制領域９が形成されずに残った配向膜の残部である垂直配向規制領域７の一部に対向した箇所に、他方の配向膜８上の液晶分子の傾斜方向が基板法線方向に対して少なくとも異なる２方向に傾斜して配向させる構造物１０を設けたことことにより、前記課題を解決した。【選択図】        図２   
2005062547.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の間隔を隔てて対向して設けられる２枚の基板と、これら基板間に設けられた液晶と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置において、
前記２枚の基板の対向面に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配向させる配向膜をそれぞれ設け、これら配向膜の一方の配向膜の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成し、他方の配向膜と該配向膜が設けられた基板との間であって、該傾斜配向規制領域が形成されずに残った配向膜の残部である垂直配向規制領域の一部に対向した箇所に、他方の配向膜上の液晶分子の傾斜方向が基板法線方向に対して少なくとも異なる２方向に傾斜して配向させる構造物を設けたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記構造物が、前記液晶側に突出した突起物であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記構造物が、誘電体又は感光性レジストにより形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記傾斜配向規制領域が直線状又はジグザグ状に形成され、前記構造物が、前記傾斜配向規制領域の直線部に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状に形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記傾斜配向規制領域がジグザグ状に形成され、前記構造物が、前記傾斜配向規制領域の各直線部に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状に複数形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記傾斜配向規制領域が、直線状であって、該直線に対してほぼ直交する方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成され、前記構造物が、前記傾斜配向規制領域によって区画された直線状の垂直配向規制領域に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状であって、前記直線状の垂直配向規制領域上に１つ又は前記直線状の垂直配向規制領域の長手方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記傾斜配向規制領域が、ほぼ同じ周期のジグザグ状であって、このジグザグが延在する延在方向に対してほぼ直交する方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成され、前記構造物が、該傾斜配向規制領域の延在方向に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状であって、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域によって区画されたジグザグ状の垂直配向規制領域の各屈曲部上に形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記構造物が、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域の各屈曲部上にそれぞれ形成されていることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記構造物が、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域の１つおきの屈曲部上にそれぞれ形成されていることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記構造物が、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域によって区画された隣接するジグザグ状の垂直配向規制領域の屈曲部とは異なる位置の屈曲部上に形成されていることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
所定の間隔を隔てて対向して設けられる２枚の基板と、これら基板間に設けられた液晶と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置において、前記２枚の基板の対向面に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配向させる配向膜をそれぞれ設け、これら配向膜の一方の配向膜の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成し、他方の配向膜と該配向膜が設けられた基板との間であって、該傾斜配向規制領域が形成されずに残った配向膜の残部である垂直配向規制領域の一部に対向した箇所に、他方の配向膜上の液晶分子の傾斜方向が基板法線方向に対して少なくとも異なる２方向に傾斜して配向させる構造物を設けた垂直配向方式の液晶表示装置の製造方法であって、
前記他方の配向膜と該配向膜が設けられた他方の基板との間に、前記構造物を形成する工程、前記一方の基板の対向面上に、親水化処理可能な配向膜を形成する工程、及び、該配向膜の一部を親水化処理して傾斜配向規制領域を形成する工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記親水化処理が、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に関し、特にVA（Vertically Aligned）型に適した液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（LCD）は、液晶の電気光学的変化を利用した表示素子であり、薄型軽量、低消費電力という特性から、近年、各種ディスプレイ用の表示装置として最も広く使用されている。なかでも正の誘電異方性を有するネマティック液晶を用い、相対向する一対の電極基板のそれぞれの界面で、液晶分子を基板に対して平行に配向したいわゆるホモジニアス配向をとらせ、且つ、液晶分子の配向方向が互いに直交するように両基板を組み合せた、ノーマリーホワイトモードのTN（Twisted Nematic）方式の液晶表示装置が代表的なものである。
【０００３】
TN方式の液晶表示装置は、応答速度が遅く、視野角が狭いので、現在までに種々の研究開発が行われている。その一方で、負の誘電異方性を有するネマティック液晶を用いて相対向する一対の電極基板のそれぞれの界面で、液晶分子を基板に対して垂直に配向したいわゆるホメオトロピク配向をとらせ、電圧を印加させた際の液晶の複屈折の変化を利用したノーマリーブラックモードのVA（Vertically Aligned）方式の液晶表示装置についても研究開発されている。
【０００４】
VA方式の液晶表示装置は、TN方式の液晶表示装置に比較して表示のコントラストが高く、黒表示に応答速度も速いことからも新しい液晶表示方式として注目されている。
【０００５】
このVA方式の液晶表示装置において中間調を表示する場合、白表示の時より小さな電圧を印加するが、その時、図１２（ｂ）に示すように液晶分子９４は斜めの方向に配向することになる。この場合、図示するように液晶分子は右下から左上に向かう光に対しては液晶分子は平行に配向されるので、液晶はほとんど複屈折効果を発揮しないため左側から見ると黒く見える。これに対して左下から右上に向かう光に対しては液晶分子は垂直に配向されるので液晶は入射した光に対して大きな複屈折効果を発揮し、白に近い表示になる。このようにVA方式では表示状態の視角依存が生じるという問題があった。
【０００６】
こうした問題に対して種々の提案がなされており、例えば、一画素内で液晶分子の傾斜方向が複数になるように制御する技術、すなわちマルチドメイン化技術が提案されている。マルチドメイン化技術としては、電極上に突起等の構造物を設けたり、電極にスリットを設けることが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。このマルチドメイン技術によれば、図１３に示すように、電圧オフ時においては、液晶分子９４が、例えば構造物９７の斜面にならってわずかに傾き、電圧オン時においては、わずかに傾いた液晶分子９４がその傾斜方向に沿って最初に傾き始め、その構造物９７以外の液晶分子９５もその液晶分子９４の影響を受けて順次同じ方向に傾斜する。すなわち、その構造物９７を起点として、液晶分子９４、９５の配向が２方向以上に制御されることとなる。
【特許文献１】特開平１１−２４２２２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、前述の突起状の構造物やスリットを利用した配向制御は、一対の基板の一方の基板にのみ設けるようにすると、その制御力が弱くなることがあるため、両方の基板上に設けることが提案されている。
【０００８】
つまり、両基板上に、それぞれ突起状の構造物を設けたり、両基板の電極に、それぞれスリットを設けたり、又は、一方の基板上に突起状の構造物を設けると共に他方の基板の電極にスリットを設けることが提案されている。
【０００９】
このように、両基板上に突起状の構造物やスリットを設けると、製造工程が複雑になるので、歩留まりが悪く、コストアップの問題が生じることがある。
【００１０】
本発明は、前述した問題を解決するためになされたものであって、歩留まりを向上させることができると共にコストアップを抑制することができる液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決するための請求項１の液晶表示装置は、所定の間隔を隔てて対向して設けられる２枚の基板と、これら基板間に設けられた液晶と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置において、前記２枚の基板の対向面に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配向させる配向膜をそれぞれ設け、これら配向膜の一方の配向膜の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成し、他方の配向膜と該配向膜が設けられた基板との間であって、該傾斜配向規制領域が形成されずに残った配向膜の残部である垂直配向規制領域の一部に対向した箇所に、他方の配向膜上の液晶分子の傾斜方向が基板法線方向に対して少なくとも異なる２方向に傾斜して配向させる構造物を設けたことを特徴とする。
【００１２】
この発明によれば、配向膜の一部に傾斜配向規制領域を形成したことにより、電源をオンしたとき（電圧を印加したとき）、傾斜配向規制領域上の液晶分子が配向膜上の液晶分子より先に傾斜する。傾斜配向規制領域上の液晶分子は、配向膜と傾斜配向規制領域との境界に沿って傾斜し、この傾斜配向規制領域上の液晶分子を起点として配向膜上の液晶分子が傾斜する。このとき、他方の配向膜と該配向膜が設けられた基板との間に構造物が設けられているため、構造物を境に配向膜上の液晶分子の傾斜方向が逆になり、２方向に液晶を配向制御することが可能となる。従って、一方の基板上に構造物や突起物等を設けることなく配向制御が可能であり、両方の基板上に構造物やスリット等を設ける場合に比して、製造工程の簡素化を図れ、歩留まりを向上させることができると共にコストアップを抑制することができ、かつ、広視野角特性を有することができる。
【００１３】
請求項２の発明は、請求項１に記載の液晶表示装置において、前記構造物が、前記液晶側に突出した突起物であることを特徴とする。この発明によれば、液晶分子の極角方向を確実に規定することができる。
【００１４】
請求項３の発明は、請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、前記構造物が、誘電体又は感光性レジストにより形成されていることを特徴とする。この発明によれば、構造物を簡単に形成することができ、かつ、品質の良い構造物を形成することができる。
【００１５】
請求項４の発明は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、前記傾斜配向規制領域が直線状又はジグザグ状に形成され、前記構造物が、前記傾斜配向規制領域の直線部に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状に形成されていることを特徴とする。
【００１６】
請求項５の発明は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、前記傾斜配向規制領域がジグザグ状に形成され、前記構造物が、前記傾斜配向規制領域の各直線部に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状に複数形成されていることを特徴とする。
【００１７】
この発明によれば、垂直配向規制領域と傾斜配向規制領域との境界線もジグザグ状であるため、基板法線方向からみて、液晶分子がジグザグ状に傾斜すると共に、このジグザグ状に傾斜した液晶分子の傾斜の向きが構造物を境に逆になるので、液晶を４方向に配向制御することが可能となる。従って、より確実に広視野角特性を有することができる。
【００１８】
請求項６の発明は、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、前記傾斜配向規制領域が、直線状であって、該直線に対してほぼ直交する方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成され、前記構造物が、前記傾斜配向規制領域によって区画された直線状の垂直配向規制領域に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状であって、前記直線状の垂直配向規制領域上に１つ又は前記直線状の垂直配向規制領域の長手方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成されていることを特徴とする。
【００１９】
請求項７の発明は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、前記傾斜配向規制領域が、ほぼ同じ周期のジグザグ状であって、このジグザグが延在する延在方向に対してほぼ直交する方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成され、前記構造物が、該傾斜配向規制領域の延在方向に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状であって、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域によって区画されたジグザグ状の垂直配向規制領域の各屈曲部上に形成されていることを特徴とする。
【００２０】
この発明によれば、垂直配向規制領域と傾斜配向規制領域との境界線もジグザグ状であるため、基板法線方向からみて、液晶分子がジグザグ状に傾斜すると共に、このジグザグ状に傾斜した液晶分子の傾斜の向きが構造物を境に逆になるので、液晶を４方向に配向制御することが可能となる。従って、より確実に広視野角特性を有することができる。
【００２１】
請求項８の発明は、請求項７に記載の液晶表示装置において、前記構造物が、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域の各屈曲部上にそれぞれ形成されていることを特徴とする。
【００２２】
請求項９の発明は、請求項７に記載の液晶表示装置において、前記スリットが、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域の１つおきの屈曲部上にそれぞれ形成されていることを特徴とする。
【００２３】
請求項１０の発明は、請求項９に記載の液晶表示装置において、前記スリットが、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域によって区画された隣接するジグザグ状の垂直配向規制領域の屈曲部とは異なる位置の屈曲部上に形成されていることを特徴とする。
【００２４】
なお、請求項４，５，７，８，９，１０に記載の液晶表示装置において、前記液晶が画素毎に少なくとも一つの画素領域を有し、該画素領域内に前記傾斜配向規制領域のジグザグ状の屈曲部が少なくとも１つ配置されていることが好ましい。これにより、視野角を確実に広くすることができる。
【００２５】
また、請求項４乃至１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、前記２枚の基板の前記液晶とは反対側に、互いに偏光軸が直交すると共に、これら偏光軸が前記傾斜配向規制領域の直線部に対してそれぞれ４５°に傾斜した位置上に位置されるように２枚の偏光板をそれぞれ設けることが好ましい。これにより、液晶分子傾斜時の透過率を最大にすることができる。
【００２６】
また、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、前記配向膜が、疎水性領域であり、前記傾斜配向規制領域が、親水性領域であることが好ましい。
【００２７】
前記課題を解決するための請求項１１の液晶表示装置の製造方法は、所定の間隔を隔てて対向して設けられる２枚の基板と、これら基板間に設けられた液晶と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置において、前記２枚の基板の対向面に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配向させる配向膜をそれぞれ設け、これら配向膜の一方の配向膜の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成し、他方の配向膜と該配向膜が設けられた基板との間であって、該傾斜配向規制領域が形成されずに残った配向膜の残部である垂直配向規制領域の一部に対向した箇所に、他方の配向膜上の液晶分子の傾斜方向が基板法線方向に対して少なくとも異なる２方向に傾斜して配向させる構造物を設けた垂直配向方式の液晶表示装置の製造方法であって、前記他方の配向膜と該配向膜が設けられた他方の基板との間に、前記構造物を形成する工程、前記一方の基板の対向面上に、親水化処理可能な配向膜を形成する工程、及び、該配向膜の一部を親水化処理して傾斜配向規制領域を形成する工程を含むことを特徴とする。
【００２８】
この発明によれば、親水化処理可能な疎水性の配向膜の一部を親水化処理することにより、極めて容易な工程により、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜させる傾斜配向規制領域を有する配向膜が得られる。その結果、液晶分子の配向制御を可能にする液晶表示装置を効率的に製造することができ、歩留まりの低下を防止することができると共に、コストダウンに寄与することができる。
【００２９】
請求項１２の発明は、請求項１１に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記親水化処理が、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われることを特徴とする。
【００３０】
この発明によれば、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われるので、露光時の光触媒の作用により疎水性の配向膜を極めて容易に傾斜配向規制領域に変化させることができると共に、露光処理するだけで極めて容易に配向制御可能な表面を形成することができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明の液晶表示装置によれば、一方の基板上に構造物や突起物等を設けることなく配向制御が可能であり、両方の基板上に構造物やスリット等を設ける場合に比して、製造工程の簡素化を図れ、歩留まりを向上させることができると共にコストアップを抑制することができ、かつ、広視野角特性を有することができる。
【００３２】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、親水化処理可能な疎水性の配向膜の一部を親水化処理することにより、極めて容易な工程により、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜させる傾斜配向規制領域を有する配向膜が得られる。その結果、液晶配向用基板及び液晶表示装置を効率的に製造することができ、歩留まりの低下を防止することができると共にコストダウンに寄与することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明の液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法について図面を参照しつつ説明する。
【００３４】
（液晶表示装置）
図１は、垂直配向方式の液晶表示装置において、基板間に電圧を与えたときの液晶分子のダイレクタの変化を示す模式図である。図１（ａ）は、電源オフ（Ｖ＝０）時において液晶分子のダイレクタが基板法線方向Ｙに沿って配向している態様を示したものである。図１（ｂ）は、液晶分子が傾き始める臨界電圧Ｖｃを与えたときの態様を示したものである。図１（ｃ）は、液晶分子が十分に傾斜する飽和電圧Ｖsat を与えたときの態様を示したものである。なお、ダイレクタとは、液晶分子の平均的配向方向を表す単位ベクトルのことである。
【００３５】
本発明の液晶表示装置は、図１に示すように、第１の基板１と、第２の基板２と、これら対向する基板１，２間に注入された液晶３と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置である。
【００３６】
液晶３は、垂直配向方式の液晶表示装置において現在一般的に使用されている負の誘電率異方性のものであれば特に限定されず、具体的には例えば、メルク社製のＭＬＣ−６６０８、ＭＬＣ−２０３７、ＭＬＣ−２０３８、ＭＬＣ−２０３９等が挙げられる。
【００３７】
第１の基板１の液晶３側表面（対向面）及び第２の基板２の液晶３側表面（対向面）には、それぞれ電極（一対の電極）５，６が設けられている。電極５，６は、基板によって異なり、カラーフィルター基板である場合にあっては透明電極であり、デバイス基板である場合にあっては透明電極等の画素電極である。電極５，６の構成材料としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等が挙げられる。電極５，６の形成法については一般的な各種の方法を適用でき特に限定されないが、例えば各種の印刷手段やスパッタ法により形成することができる。電極５，６の厚さは、約１００ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００３８】
電極５，６上には、電源オフ時に液晶分子４のダイレクタを基板法線方向Ｙに沿って配向させる配向膜７，８がそれぞれ設けられている。
【００３９】
配向膜７，８としては、例えば、側鎖の長い疎水性の膜（高分子膜）がよく、もともと疎水性であるが親水化処理をすることにより親水性とすることができる膜であることが好ましい。例えば、疎水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂、垂直配向膜形成用のポリイミド樹脂、又はアルコキシシラン系化合物等により形成された膜等が挙げられる。疎水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂としては、例えば、東芝シリコーン製等の撥水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂等々の市販の感光性樹脂等が挙げられる。また、垂直配向膜形成用のポリイミド樹脂としては、垂直配向用のポリイミド樹脂である日産化学製のＳＥ−１２１１等の市販の感光性樹脂等が挙げられる。
【００４０】
配向膜７，８の厚さについては特に限定されないが、例えば１０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。配向膜７，８は、配向膜形成用の材料を基板の全面にスピンコート等の塗布手段や各種の印刷手段で塗布されて形成される。
【００４１】
第１の基板１又は第２の基板２のいずれか一方の基板、例えば第１の基板１の配向膜７の一部には、液晶分子４のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域９が形成されている。
【００４２】
傾斜配向規制領域９は、液晶分子４のダイレクタを基板法線方向Ｙに対して傾斜して配向させるものである。
【００４３】
傾斜配向規制領域９は、液晶分子４のダイレクタを基板法線方向Ｙに対して傾斜して配向させることができるならばどのように構成してもよく、例えば疎水性の配向膜７を親水化処理することによって得られた親水性領域等である。
【００４４】
このように、傾斜配向規制領域９を形成することにより、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４は基板法線方向Ｙに対して傾斜して配向されるため、電源オン時（基板１，２間に電圧が印加された時）に、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４が垂直配向規制領域（傾斜配向規制領域９が形成されずに残った配向膜の残部）７上の液晶分子４よりさきにさらに傾斜することとなる。また、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４は、垂直配向規制領域７の液晶分子と密接しているため、基板法線方向Ｙに対して傾斜せずに平行に配向していることもある。この場合、電源オン時（基板１，２間に電圧が印加された時）、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４が垂直配向規制領域７上の液晶分子４よりさきに傾斜することとなる。その結果、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４を起点として垂直配向規制領域７上の他の液晶分子４も一斉に傾斜する。
【００４５】
傾斜配向規制領域９は、どのような形状に形成してもよく、例えば、図２に示すように直線状や図３乃至図６に示すようにジグザグ状に形成することが好ましい。傾斜配向規制領域９は、図２乃至図６に示すように所定の間隔を隔てて２つ以上互いに平行に形成されていることが好ましい。傾斜配向規制領域９と垂直配向規制領域７との境界（境界線）は、直線状に形成することが好ましい。
【００４６】
傾斜配向規制領域９の幅Ｗ１は、特に限定されず液晶分子４の種類や配向パターン、偏光板等に応じて任意に決められるが、例えば、１０μｍ〜３０μｍであることが好ましい。傾斜配向規制領域９の間隔（垂直配向規制領域７の幅）Ｗ２は、特に限定されず液晶分子４の種類や配向パターン、偏光板等に応じて任意に決められるが、例えば、２０μｍ〜９０μｍであることが好ましい。このような範囲が好ましいのは、傾斜配向規制領域９が狭すぎる場合には液晶分子４の配向力が乏しくなる傾向となり、他方広すぎる場合には液晶分子４が基板に垂直に配向しなくなる傾向となるからである。
【００４７】
傾斜配向規制領域９をジグザグ状に形成する場合には、そのジグザグ形状は、特に限定されず、周期や屈曲角度が一定しない無秩序に屈曲するジグザグ形状でもよいが、好ましくは、一定の周期で屈曲角度がほぼ同じジグザグ形状であることがよい。
【００４８】
傾斜配向規制領域９のジグザグ状の屈曲部の角度は、液晶分子４の種類や配向パターン、偏光板等に応じて任意に決められるが、例えば、９０°であり、ジグザグ状の直線部の方位は偏光軸に対して４５°になるように形成することが好ましい。
【００４９】
傾斜配向規制領域６のジグザグ状の屈曲部間の幅（隣接する屈曲部の間隔）Ｗ３は、特に限定されないが、２００μｍ〜４００μｍであることが好ましく、特に好ましくは、２９０μｍ〜３１０μｍである。傾斜配向規制領域６のジグザグ状の屈曲部間の幅（隣接する屈曲部の間隔）Ｗ３が２００μｍ未満であると、配向力が乏しくなる傾向となり、他方、４００μｍを越えると広視野角特性が悪くなる傾向となるからである。
【００５０】
傾斜配向規制領域６のジグザグ状の屈曲の幅Ｗ４は、特に限定されないが、５０μｍ〜１５０μｍであることが好ましく、特に好ましくは、９０μｍ〜１１０μｍである。傾斜配向規制領域６のジグザグ状の屈曲の幅Ｗ４が５０μｍ未満であると、配向力が乏しくなる傾向となり、他方、１５０μｍを越えると広視野角特性が悪くなる傾向となるからである。
【００５１】
このように、傾斜配向規制領域９をジグザグ状に形成することにより、電源オン時において傾斜配向規制領域９上の液晶分子４が垂直配向規制領域７上の液晶分子４より先に傾斜する。このとき、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４は、垂直配向規制領域７と傾斜配向規制領域９との境界に沿って傾斜し、この傾斜配向規制領域９上の液晶分子４を起点として垂直配向規制領域７上の液晶分子４が傾斜するので、ジグザグを形成する２つの辺（直線部）に沿った少なくとも２方向に配向制御されると考えられる。すなわち、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されているため、垂直配向規制領域７上の液晶分子４は傾斜方向がほぼ９０°異なる２つの傾斜領域に分かれることになる。
【００５２】
傾斜配向規制領域９は、例えば、液晶３が画素毎に少なくとも一つの画素領域を有し、該画素領域毎に対応して屈曲部が１つ又は２つ以上位置されるように位置決めされることが好ましい。特に好ましくは、傾斜配向規制領域９によって垂直配向規制領域７上の液晶分子４を配向制御する２つの傾斜領域が１つの画素領域内でほぼ同じ割合になるように配置することが好ましい。なお、「画素」は、一般に、表示を行う最小単位として定義される。本発明において画素領域とは、「画素」に対応する液晶表示装置の一部の領域をいう。
【００５３】
他方の基板例えば、第２の基板２と配向膜８との間には、図２乃至図７に示すように、２つの基板１，２の対向方向に沿った方向（基板法線方向）からみたとき、垂直配向規制領域７の一部に対応する位置に配置される構造物１０が設けられている。
【００５４】
構造物１０は、構造物１０を境に液晶分子４の傾斜方向を基板法線方向に対して少なくとも異なる２方向に傾斜して配向させるものであり、好ましくは、構造物１０境に液晶分子４の傾斜方向を逆にするものがよい。この傾斜角度は、光が透過しない（人間の目では見えない程度）程度とすることが好ましい。
【００５５】
構造物１０は、どのように構成してもよく、例えば、第２の基板２上に設けた電極６と一体的に形成したものでもよいが、好ましくは、液晶側に突出する個別の突起物であることが好ましい。
【００５６】
突起物１０は、第２の基板２と電極６との間に設けてもよいし、電極６と配向膜８との間、つまり電極６上に設けてもよい。
【００５７】
突起物１０は、どのような形状に形成してもよいが、突起物１０を設けた位置を境に垂直配向規制領域７上の液晶分子４の傾斜方向が逆になるような形状が好ましく、例えば、直線状であって、断面半球状、半楕円状等の曲面形状や、断面三角形状等に形成することが好ましい。具体的には例えば、突起物１０は、図示するように、断面ほぼ半円状に形成することが好ましい。
【００５８】
突起物１０の幅Ｗ５は、液晶分子４の傾斜方向を基板法線方向に対して少なくとも異なる２方向に傾斜して配向させることができるならば特に限定されないが、好ましくは、５μｍ〜１０μｍである。
【００５９】
突起物の高さＷ６は、特に限定されないが、好ましくは、０．５μｍ〜１μｍである。
【００６０】
突起物１０の形成材料としては、特に限定されず、例えば、誘電体や感光性樹脂等である。突起物の形成方法については、特に限定されないが、例えば、フォトリソグラフィー、印刷、フィルムレーザー転写等が挙げられる。
【００６１】
突起物１０は、垂直配向規制領域７を２つ以上に分割するように配置することが好ましい。また、突起物１０は、傾斜配向規制領域９が直線状又はジグザグ状に形成されている場合には、図２及び図６に示すように、傾斜配向規制領域９の直線部（直線状の部分）に対してほぼ直交する方向に方向に沿って延在する直線状に形成することが好ましい。また、突起物１０は、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されている場合には、図３乃至図５に示すように、傾斜配向規制領域９の延在方向に対してほぼ直交する方向に方向に沿って延在する直線状に形成することが好ましい。
【００６２】
すなわち、突起物１０は、図２に示すように、傾斜配向規制領域９が直線状に形成されている場合には、２つの基板１、２を対向させてその対向方向に沿った方向（基板法線方向）からみたとき、垂直配向規制領域７を分割するように直線状に１つ又は所定の間隔を隔てて互いに平行に２つ以上設けることがよい。具体的には例えば、図２（ｂ）に示すように、スリット１０は、電極６を２分割すると共に、直線状の傾斜配向規制領域９に対してほぼ直交する方向に沿って配置されるように形成することが好ましい。
【００６３】
また、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に所定の間隔を隔てて２以上形成されている場合には、図３及び図４に示すように、突起物１０は、直線状に所定の間隔を隔てて複数形成するようにしてもよい。この場合、突起物１０は、２つの基板１，２の対向方向に沿った方向からみたとき、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の延在方向Ｘに対してほぼ直交する方向（ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の屈曲部の角度を２等分する方向）に沿って延在する直線状に形成することが好ましい。また、各突起物１０は、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の１つおきのまたは全ての屈曲部９ａ上にそれぞれ配置されるように形成することが好ましい。すなわち、傾斜配向規制領域９をほぼ同じ周期でほぼ同じ屈曲角度のジグザグ状に所定の間隔を隔てて２つ以上形成すると、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の屈曲部９ａは、対向するジグザグ状の傾斜配向規制領域９の屈曲部９ａとを結ぶ直線状に配置されるので、この直線のうちの１つおきのまたは全ての直線上に突起物１０が配置されるように設けることが好ましい。
【００６４】
また、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に所定の間隔を隔てて２以上形成されている場合には、図５に示すように、２つの基板１，２の対向方向に沿った方向からみたとき、各垂直配向規制領域７をそれぞれ個別に分割するように突起物１０を複数形成するようにしてもよい。
【００６５】
具体的には例えば、各突起物１０は、２つの基板１，２の対向方向に沿った方向（基板法線方向）からみたとき、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の延在方向Ｘに対してほぼ直交する方向（ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の屈曲部の角度を２等分する方向）に沿って延在する直線状であって、傾斜配向規制領域９の間隔とほぼ同じ寸法に形成されている。また、突起物１０は、ジグザグ状の傾斜配向規制領域の屈曲部９ａとその屈曲部９ａと対向する屈曲部（隣接する傾斜配向規制領域の屈曲部）９ａとを結ぶ直線のうちの１つおきの直線上に配置されるように形成されている。また、突起物１０は、一の垂直配向規制領域７と、その垂直配向規制領域７に隣接する垂直配向規制領域７とでは、屈曲部９ａの位置が１つずれるように形成されている。
【００６６】
また、図６に示すように、各突起物１０は、２つの基板１，２の対向方向に沿った方向からみたとき、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の直線部９ｂと、その直線部９ｂと対向する直線部（隣接する傾斜配向規制領域９の直線部）９ｂとを結ぶ各直線上に配置されるように複数形成するようにしてもよい。すなわち、傾斜配向規制領域９によってジグザグ状に区画される垂直配向規制領域７の各直線領域７ａを、その直線領域７ａの延在方向のほぼ中央部から２つに分割するように突起物１０が形成されている。
【００６７】
このように、第２の基板２上に突起物１０を設けることにより、電源オン時において、図７に示すように、突起物１０を境に特に垂直配向規制領域７上の液晶分子４の傾斜方向が逆になる。このため、傾斜配向規制領域９が直線状に形成されていると共に、この傾斜配向規制領域９に対してほぼ直交する方向に沿って配置されるように突起物１０が設けられている場合には、垂直配向規制領域７上の液晶分子４は突起物１０を境に傾斜方向が逆になり、２方向に液晶３を配向制御することが可能となる。
【００６８】
すなわち、図２に示すように、第１の基板１の配向膜７に交互に並んだ親水性領域と疎水性領域の境界線の延長方向に液晶分子４の傾斜方向を規定することができる。そして、第２の基板２に形成された1つ又は２つ設けられた直線状の突起物１０により、液晶分子４を電圧無印加時に予め、前述した傾斜方向上で少なくとも２方向に傾斜させることができる。つまり、突起物１０と液晶３との界面が斜面になるため、電圧無印加時に液晶分子４が傾斜する。これにより、従来の突起物のみで配向制御したものよりも方位角制御力に優れた２分割配向を実現することができる。
【００６９】
また、図３に示すように、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されていると共に、突起物１０がジグザグ状の傾斜配向規制領域９の１つおきの屈曲部９ａ上に配置されるように設けられている場合には、特に垂直配向規制領域７上の液晶分子４は突起物１０を境に迅速に同じ方向に傾斜して、２方向に液晶３を配向制御することが可能となる。
【００７０】
また、図４に示すように、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されていると共に、突起物１０がジグザグ状の傾斜配向規制領域９の各屈曲部９ａ上にそれぞれ配置されるように設けられている場合には、特に垂直配向規制領域７上の液晶分子４は突起物１０を境に迅速に同じ方向に傾斜して、２方向に液晶３を配向制御することとなる。従って、全体的には４方向に液晶３を配向制御することが可能となる。
【００７１】
また、図５に示すように、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されていると共に、突起物１０が、１つの傾斜配向規制領域９において各屈曲部９ａから１つおきに交互に隣接する一方の相対する屈曲部９ａと隣接する他方の相対する屈曲部９ａとまでのそれぞれの直線上に配置されるように複数設けられている場合には、傾斜配向規制領域９によって区画されるジグザグ状の垂直配向規制領域７上の液晶分子４と隣接する垂直配向規制領域７上の液晶分子４とでは傾斜方向が異なり、２方向となる。従って、全体的には４方向に液晶３を配向制御することが可能となる。
【００７２】
また、図６に示すように、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されていると共に、突起物１０が、傾斜配向規制領域９によってジグザグ状に区画される垂直配向規制領域７の各直線領域７ａを、その直線領域７ａの延在方向のほぼ中央部から２つに分割するように設けられている場合には、ジグザグ状の垂直配向規制領域７の直線領域７ａの液晶分子４は突起物１０を境に傾斜方向が逆になるので、全体的には４方向に液晶３を配向制御することが可能となる。
【００７３】
以上のように、この液晶表示装置は、電源オン時において、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４を容易に傾斜させることができるので、その液晶分子４を起点として他の液晶分子４を一斉に傾斜させることができる。また、傾斜配向規制領域９内の液晶分子４が少なくとも２方向に配向した複数の液晶ドメインを形成する。その結果、このように配向制御された液晶表示装置は視野角が広くなる。さらに、この配向状態は、互いに連続であるので、垂直配向規制領域７の間（境界）にディスクリネーションが形成されることがなく、表示品位の低下が起こらない。
【００７４】
したがって、本発明の液晶表示装置は、第１の基板１の配向膜７の一部に傾斜配向規制領域９を形成すると共に、第２の基板２に突起物１０を設けたので、第２の基板２上に構造物や突起物等を設けることなく配向制御が可能であり、両方の基板上に構造物やスリット等を設ける場合に比して、製造工程の簡素化を図れ、歩留まりを向上させることができると共にコストアップを抑制することができ、かつ、広視野角特性を有することができる。
【００７５】
次に、上述した配向膜及び構造物が設けられる基板について説明する。第１の基板１及び第２の基板２は、図１１の液晶表示装置に示すように、カラーフィルター基板１０１とデバイス（ＴＦＴ）基板１０２の何れかを構成している。
【００７６】
カラーフィルター基板１０１は、基板１１２上にマトリクス状（格子状）のカラーフィルター層１０７が形成された基板であり、さらに詳しくは、基板１１２の内側面に、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の各画素領域を形成するカラーフィルター層１０７と、漏れ光を遮蔽するためにその画素領域の周縁部に形成されているブラックマトリクス層１０８とを有する基板である。カラーフィルター層１０７上には共通透明電極１０９が形成され、さらにその共通透明電極１０９上には液晶分子のダイレクタを基板法線方向に配向させる疎水性の配向膜（図示しない）が形成されている。なお、本発明を構成するカラーフィルター基板１０１は、現在一般的に使用されている構成を有するものであれば特に限定されず、前記以外の構成を備えているものであっても構わない。
【００７７】
一方、デバイス基板１０２は、基板１１２上にマトリクス状のＴＦＴ素子１０５が個々の画素領域として形成された基板であり、さらに詳しくは、基板１１２の内側面に、マトリックス状に配置された画素電極（透明電極）１０４、薄膜電界トランジスタ（ＴＦＴ）素子１０５及びライン電極１０６が形成され、さらにその画素電極１０４上には、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に配向させる疎水性の配向膜（図示しない）が形成されている。なお、本発明を構成するデバイス基板１０２は、現在一般的に使用されている構成を有するものであれば特に限定されず、前記以外の構成を備えているものであっても構わない。
【００７８】
なお、液晶表示装置において、基板１１２としては、ガラス基板又は透明プラスチック基板等が挙げられる。また、カラーフィルター基板１０１とデバイス基板１０２との間隔を所定の値にするためのスペーサが形成され、セルギャップを一定の値にしている。各基板の外側には、それぞれ偏光板１１３が設けられ、デバイス基板側のさらに外側にはバックライトが設けられる。
【００７９】
２枚の偏光板１１３は、図２乃至図６に示すように、互いに偏光軸が直交すると共に、これら偏光軸が前記傾斜配向規制領域９の直線部に対してそれぞれ４５°に傾斜した位置上に位置されるようにそれぞれ設けることが好ましい。これにより、液晶分子が傾斜したときの透過率を最大にすることができる。
【００８０】
２枚の偏光板１１３は、図２乃至図６に示すように、互いに偏光軸が直交すると共に、これら偏光軸が前記傾斜配向規制領域９の直線部に対してそれぞれ４５°に傾斜した位置上に位置されるようにそれぞれ設けることが好ましい。これにより、液晶分子が傾斜したときの透過率を最大にすることができる。
【００８１】
（液晶表示装置の製造方法）
次に、液晶表示装置の製造方法について説明する。本発明の液晶表示装置の製造方法は、上述した構成からなる液晶表示装置の製造方法であって、その特徴は、（ｉ）第２の基板（例えば、デバイス基板）の対向面上に、突起物を設ける工程、（ｉｉ）第１の基板（例えば、カラーフィルター基板）の対向面上に、親水化処理可能な疎水性の配向膜を形成する工程、（ｉｉｉ）その配向膜の一部を親水化処理して、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成する工程、を有することにある。なお、液晶表示装置を製造するためのその他の製造工程、例えば図１１に示すようなカラーフィルター層、ブラックマトリクス層、透明電極層、ＴＨＴ素子等の形成工程については従来公知の方法と同様である。
【００８２】
前記（ｉ）の工程において、突起物の材料としては、例えば、誘電体や感光性樹脂等が挙げられる。これらの材料を用いて、例えば、フォトリソグラフィー、印刷、フィルムレーザー転写により基板上に突起物が設けられる。
【００８３】
前記（ｉｉ）の工程において、親水化処理可能な疎水性の配向膜を形成するための樹脂としては、疎水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂、垂直配向膜形成用のポリイミド樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、基板の全面にスピンコート等の塗布手段や各種の印刷手段で塗布される。
【００８４】
前記（ｉｉｉ）の工程において、配向膜の一部を傾斜配向規制領域にする手段は、（１）配向膜である疎水性被膜を光触媒層を有するマスクで露光することにより、露光された部分の側鎖のみが置換されて傾斜配向規制領域を形成する方法（図８参照）、（２）光触媒を含有する疎水性樹脂をコーティングして光触媒含有配向膜を形成した後、その配向膜を露光することにより、露光された部分の側鎖のみが置換されて傾斜配向規制領域を形成する方法（図９参照）、等を挙げることができる。
【００８５】
前記（１）工程においては、疎水性の配向膜として、上述したフッ素系シリコーン被膜やポリイミド被膜を挙げることができる。光触媒層を有するマスクを利用した処理は、図８に示すように、先ず、ジグザグ状のマスクパターン３３が形成された基板３２上に光触媒層３４を形成したマスク３０と、疎水性の配向膜３１が形成された第１の基板及び第２の基板とを準備する（図８（ａ））。その光触媒層３４を有するマスク３０と疎水性の配向膜３１とを所定の間隔を隔てて対向させ（図８（ｂ））、マスク３０を介して配向膜３１に露光光（例えばＵＶ光）３５を照射することにより（図８（ｃ））、親水性領域（傾斜配向規制領域）３６を形成する処理方法（親水化処理方法）である（図８（ｄ））。
【００８６】
光触媒層３４は、バインダー中に光触媒である酸化チタンを含有させたものである。酸化チタンは、アナターゼ型のものが好ましく、また、バインダー中に２０〜４０重量％の割合で含有させることが好ましい。酸化チタンの平均粒径はおよそ５〜２０μｍであることが好ましい。酸化チタンの代わりに、ＺｎＯなどを光触媒として用いてもよい。こうした光触媒層３４に例えば３８０ｎｍ以下の露光光が照射されることにより、光触媒粒子内で光電気化学反応が起こり、露光された疎水性の配向膜３１の側鎖を−ＯＨ基に置換させることができる。その結果、配向膜３１を親水性領域３６に変化させることができる。
【００８７】
また、マスク３０と疎水性の配向膜３１との間隔は、光触媒反応により生じた活性酸素種等をその隙間に容易に発生させて作用させ、配向膜３１を親水性領域３６に変化させることができる間隔であることが好ましく、およそ５〜２０μｍであることが好ましい。
【００８８】
前記（２）工程においては、疎水性の配向膜として、上述した光触媒を含有するフッ素系シリコーン被膜やポリイミド被膜を挙げることができる。非疎水領域である親水性領域の形成は、図９に示すように、先ず、基板３２上にマスクパターン３３が形成されたマスク４０と、光触媒を含有する疎水性の配向膜３７が形成された第１の基板及び第の基板２を準備する（図９（ａ））。そのマスク４０と、光触媒を含有する疎水性の配向膜３７とを所定の間隔を隔てて対向させ（図９（ｂ））、マスク４０を介して配向膜３６に露光光（例えばＵＶ光）３５を照射することにより（図９（ｃ））、親水性領域（傾斜配向規制領域）３６を形成する方法（親水化処理方法）である（図９（ｄ））。
【００８９】
疎水性の配向膜３７は、バインダー中に光触媒である酸化チタンを含有させたものである。酸化チタンは、前記同様、アナターゼ型のものが好ましく、また、バインダー中に２０〜４０重量％の割合で含有させることが好ましい。酸化チタンの平均粒径はおよそ５〜２０μｍであることが好ましい。酸化チタンの代わりに、ＺｎＯなどを光触媒として用いてもよい。こうした疎水性の配向膜３７に例えば３８０ｎｍ以下の露光光３５が照射されることにより、含有する光触媒粒子内で光電気化学反応が起こり、配向膜３７の側鎖を−ＯＨ基に置換させることができる。その結果、配向膜３７の一部を親水性領域３６に変化させることができる。また、マスク４０と配向膜３７との間隔についても、前記(１)の場合と同様である。なお、(１)の工程と(２)の工程とを比べると、(１)の工程をより好ましく適用することができる。
【００９０】
図１０は、疎水性の配向膜の一部が親水性領域（傾斜配向規制領域）に変化する表面反応の一例を示す説明図である。図１０（ａ）は、疎水性の配向膜表面の側鎖に活性酸素種等がアタックし、その側差の結合を切断する様子を示しており、図１０（ｂ）は、切断された部位に水酸基が結合して親水性に変化する様子を示している。
【００９１】
図１０の表面反応を生じさせる処理に際しては、疎水性の配向膜と光触媒層を有するマスクとを、所定の間隔（例えば５〜２０μｍ）で配置することが好ましい。疎水性の配向膜と光触媒層を有するマスクとを所定の間隔に配置することにより、光触媒反応により生じた活性酸素種等をその隙間に容易に発生させることができる。活性酸素種等としては、光触媒粒子内での光電気化学反応に基づいて生じる活性酸素又は活性水酸基が挙げられ、それらの活性酸素種等が図１０（ａ）に示す側鎖（例えばアルキル側鎖）にアタックし、その側差の結合が切断される。側鎖が切断された部分には、その活性酸素種等が入れ替わって結合し、図１０（ｂ）に示す親水性に変化する。
【００９２】
以上のように、本発明の液晶表示装置の製造方法は、極めて容易な工程により配向膜の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成することができるので、液晶表示装置を効率的に製造することができ、歩留まりの低下を防止することができると共に、コストダウンに寄与することができる。
【実施例１】
【００９３】
＜デバイス基板＞
先ず、ガラス基板（例えば、無アルカリガラス（ＮＡ３５（ＮＨテクノガラス製）、ＯＡ１０（日本電気硝子製）の対向面となる表面の全面に、ポジレジストを用いたフォトリソ工程により酸化インジウム錫（ＩＴＯ）よりなる透明電極を形成した。この透明電極上に、ネガ型もしくはポジ型のレジストを約１．０μｍ〜１．５μｍ塗布し、これをプリベーク後、フォトリソグラフィ法により、図２（ｂ）及び（ｃ）に示すようなな直線状の突起物（WR=10μm）を設けた。
【００９４】
つぎに、その突起物及び透明電極上に、疎水性樹脂組成物（フッ素系シリコーン樹脂（東芝シリコーン製、ＴＳＬ８２３３及びＴＳＬ８１１４）を１０００ｒｐｍで５秒間スピンコートし、１５０℃で１０分間乾燥させ、厚さ６０ｎｍの疎水性の配向膜を設けた。
【００９５】
こうして、突起物を有する透明電極を形成したデバイス基板を作成した。
【００９６】
＜カラーフィルター基板＞
先ず、透明電極としてＩＴＯが形成されたガラス基板（例えば、無アルカリガラス（ＮＡ３５（ＮＨテクノガラス製）、ＯＡ１０（日本電気硝子製）を準備し、その透明電極上に、疎水性樹脂組成物（フッ素系シリコーン樹脂（東芝シリコーン製、ＴＳＬ８２３３及びＴＳＬ８１１４）を１０００ｒｐｍで５秒間スピンコートし、１５０℃で１０分間乾燥させ、厚さ６０ｎｍの疎水性の配向膜を設けた。
【００９７】
次に、その疎水性の配向膜上に、光触媒層を有すると共にマスクパターンを有するフォトマスクを密着させ、その後、フォトマスク側から波長２００ｎｍ〜３７０ｎｍの紫外線でマスクを介して配向膜を露光処理した。露光された部分は、疎水性の配向膜から傾斜配向規制領域に変化し、ストライプ状の配向膜と傾斜配向規制領域とが形成された。
【００９８】
なお、フォトマスクは、石英ガラス基板上にクロム薄膜からなるマスクパターンが形成され、そのマスクパターン上にシラン系化合物（東芝シリコーン製、ＴＳＬ８１１４）を７５０ｒｐｍで５秒間スピンコーティングし、１５０℃で１０分間乾燥させた。この上に、さらにそのマスクパターン上にアナターゼ型酸化チタン粒子を光触媒として含有する厚さ０．０５μｍ〜０．５μｍの光触媒層を３５０ｒｐｍで５秒間スピンコーティングし、１５０℃で１０分間乾燥させて作成した光触媒含有層付フォトマスク（パターン付与基板）である。マスクパターンは、幅Ｗ２が７５μｍの配向膜と幅Ｗ１が２５μｍの直線状の傾斜配向規制領域とが交互にストライプ状に配置させるものを用いた。また、この光触媒層は、バインダー樹脂（シリコーン樹脂）中に酸化チタン粒子が約１０〜１００重量％含有されている。なお、酸化チタン１００重量％とは、酸化チタンのみで光触媒層を形成した場合である。
【００９９】
こうして、ガラス基板の透明電極上の疎水性の配向膜の一部を、傾斜配向規制領域に変化させたカラーフィルター基板を作成した。
【０１００】
＜液晶表示装置＞
前記の方法により作成した２枚の基板を一定の間隔を隔てて対向させ、これら基板間の外周を熱硬化性樹脂を用いて塗布して、基板を貼り合わせた。なお、２枚の基板は、デバイス基板の突起物と、傾斜配向規制領域と配向膜との境界と、が図２（ｂ）に示すように、ほぼ直交するように貼り合せた。また、基板間の間隔を制御するため、シール剤（三井化学製、ＸＮ−５Ａ）にスペーサー（積水ファインケミカル製、ＳＰシリーズ）を０．４重量％含ませたものを用いて、セルギャップを４．０μｍに制御して基板をプレスしながら加熱して、シール剤を硬化させて基板を貼り合わせ、液晶セルを作成した。
【０１０１】
このように作成した液晶セル中に真空注入法によって液晶材料を注入して液晶を形成した。液晶材料としては、メルク社製ＭＬＣ−６６０８（Δε＜０）（カイラル剤無）を使用した。この液晶材料は、負の誘電率異方性を有し、電圧印加時、液晶分子のダイレクタが電界方向と垂直になる性質がある。
【０１０２】
このようにして得られた液晶表示装置を、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、突起物を境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、２方向に液晶が配向制御された。また、この液晶表示装置は、従来の突起物のみで配向制御したものよりも方位角制御力に優れたものであった。
【実施例２】
【０１０３】
実施例１において、図３に示すように突起物を設けると共に傾斜配向規制領域をジグザグ状に形成した他は、実施例１と同様にして、実施例２の液晶表示装置を作成した。なお、突起物の線幅W５は１０μｍとした。カラーフィルター基板における傾斜配向規制領域の幅Ｗ１は２５μｍ、配向膜の幅Ｗ２は７５μｍとした。また、２枚の基板は、図３（ｃ）及び（ｄ）に示すように貼り合せた。
【０１０４】
この液晶表示装置は、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、突起物を境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、２方向に液晶が配向制御された。また、この液晶表示装置は、従来の突起物のみで配向制御したものよりも方位角制御力に優れたものであった。
【実施例３】
【０１０５】
実施例１において、図４に示すように突起物を設けると共に傾斜配向規制領域をジグザグ状に形成した他は、実施例１と同様にして、実施例３の液晶表示装置を作成した。なお、突起物の線幅W５は１０μｍとした。カラーフィルター基板における傾斜配向規制領域の幅Ｗ１は２５μｍ、配向膜の幅Ｗ２は７５μｍとした。また、２枚の基板は、図３（ｃ）及び（ｄ）に示すように貼り合せた。
【０１０６】
この液晶表示装置は、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、突起物を境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、４方向に液晶が配向制御された。また、この液晶表示装置は、従来の突起物のみで配向制御したものよりも方位角制御力に優れたものであった。
【実施例４】
【０１０７】
実施例１において、図５に示すように突起物を設けると共に傾斜配向規制領域をジグザグ状に形成した他は、実施例１と同様にして、実施例３の液晶表示装置を作成した。なお、突起物の線幅は１０μｍとした。カラーフィルター基板における傾斜配向規制領域の幅Ｗ１は２５μｍ、配向膜の幅Ｗ２は７５μｍとした。また、２枚の基板は、図５（ｃ）に示すように貼り合せた。
【０１０８】
この液晶表示装置は、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、突起物を境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、４方向に液晶が配向制御された。また、この液晶表示装置は、従来の突起物のみで配向制御したものよりも方位角制御力に優れたものであった。
【実施例５】
【０１０９】
実施例１において、図６に示すように突起物を設けると共に傾斜配向規制領域をジグザグ状に形成した他は、実施例１と同様にして、実施例４の液晶表示装置を作成した。なお、突起物の線幅は１０μｍとした。カラーフィルター基板における傾斜配向規制領域の幅Ｗ１は２５μｍ、配向膜の幅Ｗ２は７５μｍとした。また、２枚の基板は、図６（ｃ）に示すように貼り合せた。
【０１１０】
この液晶表示装置は、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、突起物を境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、４方向に液晶が配向制御された。また、この液晶表示装置は、従来の突起物のみで配向制御したものよりも方位角制御力に優れたものであった。
【図面の簡単な説明】
【０１１１】
【図１】垂直配向方式の液晶表示装置において、基板間に電圧を与えたときの液晶分子のダイレクタの変化を示す模式図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の一例を示す図で、その（ａ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の第１の基板と第２の基板とを対向させた状態を示す概略斜視図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の他の例を示す図で、その（ａ）は本発明の突起物の一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｃ）は本発明の第１の基板と第２の基板とを対向させた状態を示す概略斜視図、その（ｄ）は本発明の傾斜配向形成領域と突起物との対応関係を示す平面図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の他の例を示す図で、その（ａ）は本発明の突起物の一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｃ）は本発明の第１の基板と第２の基板とを対向させた状態を示す概略斜視図、その（ｄ）は本発明の傾斜配向形成領域と突起物との対応関係を示す平面図である。
【図５】本発明の液晶表示装置の他の例を示す図で、その（ａ）は本発明の突起物の一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｃ）は本発明の傾斜配向形成領域と突起物との対応関係を示す平面図である。
【図６】本発明の液晶表示装置の他の例を示す図で、その（ａ）は本発明の突起物の一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｃ）は本発明の傾斜配向形成領域と突起物との対応関係を示す平面図である。
【図７】第２の基板上に突起物を設けたときの液晶分子の傾斜状態を示す図である。
【図８】光触媒を用いた傾斜配向規制領域の形成方法の一例を示す説明図である。
【図９】光触媒を用いた傾斜配向規制領域の形成方法の他の一例を示す説明図である。
【図１０】疎水性の配向膜が親水性に変化する表面反応の一例を示す説明図である。
【図１１】一般的な液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図１２】垂直配向方式の液晶表示装置を説明するための図である。
【図１３】従来のマルチドメイン化技術の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１１２】
１    第１の基板
２    第２の基板
３    液晶
４    液晶分子
５    電極
６    電極
７    配向膜（垂直配向規制領域）
８    配向膜
９    傾斜配向規制領域
１０  突起物（構造物）
３０、４０  マスク
３１  配向膜
３２  基板
３３  マスクパターン
３４  光触媒層
３５  露光光
３６  傾斜配向規制領域
３７  光触媒を含有する配向膜
１０１  カラーフィルター基板
１０２  ＴＦＴ基板
１０３  液晶
１０４  画素電極
１０５  ＴＦＴ素子
１０６  ライン電極
１０７  カラーフィルター層
１０８  ブラックマトリクス層
１０９  共通透明電極
１１２  基板
１１３  偏光板
Ｙ  基板法線方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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