(57)【要約】  【課題】基板搬送用治具の精度を上げることなく、基板に形成した配向膜に対するラビング角度を高精度に設定することができるようにする。  【解決手段】対向基板２０を保持するパレット５００が載置される移動ステージ６００には、対向基板２０の裏面に当接するアライメント回転軸８１０が配設されており、対向基板２０は真空ポンプ８４０の吸引力でアライメント回転軸８１０の上端に吸着される。移動ステージ６００の移動方向Ａにはアライメントセンサ８５０が配設されており、対向基板２０が通過する際に対向基板２０の対角線上に形成されているマークＭが検出され、この２つのマークＭを通る直線ＬＭとラビング角度設定用基準線Ｌｏとのずれ角θを求め、このずれ角θが０となる方向へ対向基板２０を回動させてラビング角度を個別に設定する。【選択図】図２
2005249938.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を保持する基板保持部を備える基板搬送用治具と、
上記電気光学装置用基板の裏面から上記電気光学装置用基板を臨み、回転動作をするアライメント回転機構と、
上記電気光学装置用基板の裏面を上記アライメント回転機構に固定させる固定手段と、
上記電気光学装置用基板の回転角を検出し、角度補正信号を上記アライメント回転機構へ伝える回転角検出部と
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項２】
表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を保持する基板保持部を備える基板搬送用治具と、
上記電気光学装置用基板の裏面から上記電気光学装置用基板を臨み、回転動作をするアライメント回転機構と、
上記電気光学装置用基板の裏面を上記アライメント回転機構に固定させる固定手段と、
上記電気光学装置用基板のラビングロールに対する侵入方向とラビング角度とのずれ角を検出して、該ずれ角が０となる角度補正信号を上記アライメント回転機構へ伝える回転角度検出部と
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項３】
上記基板搬送用治具が載置されると共にラビング処理方向へ移動自在な移動手段を有し、
上記移動手段に、少なくとも上記アライメント回転機構が収容されていると共に上記基板搬送治具が載置固定される
ことを特徴とする請求項１或いは２記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項４】
ラビング処理方向へ移動自在な移動手段を有し、
上記移動手段に載置される上記基板搬送用治具に少なくとも上記アライメント回転機構が収容されている
ことを特徴とする請求項１或いは２記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項５】
上記ずれ角は、上記電気光学装置用基板に形成されている２つのアライメントマークを認識し、該両アライメントマークを結ぶ直線と、上記ラビング角度とに基づいて予め設定されているラビング角度設定用基準線との開き角に基づいて設定される
ことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項６】
上記電気光学装置用基板は大型基板から切り出した小型基板である
ことを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項７】
上記電気光学装置用基板は大型基板である
ことを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項８】
上記アライメント回転機構に、上記電気光学装置用基板の表面の高さを一定の高さに調整する昇降手段が併設されていることを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の電気光学装置の製造装置。
【請求項９】
表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を保持する工程と、
上記電気光学装置用基板のラビングロールに対する侵入方向とラビング角度とのずれ角を検出する工程と、
上記ずれ角が０となる方向へ上記電気光学装置用基板を回動させる工程と
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を保持する工程と、
上記電気光学装置用基板のラビングロールに対する侵入方向とラビング角度とのずれ角を検出する工程と、
上記ずれ角が０となる方向へ上記電気光学装置用基板を回動させる工程と、
上記電気光学装置用基板の表面の高さを一定に調整する工程と
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
上記ずれ角は、上記電気光学装置用基板に形成されている直線状に並んだ複数のアライメントマークのうち少なくとも２つを認識し、該認識されたアライメントマークを結ぶ直線と、上記ラビング角度とに基づいて予め設定されているラビング角度設定用基準線との開き角に基づいて設定される
ことを特徴とする請求項９或いは１０記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
上記ずれ角は、上記電気光学装置用基板に形成されている２つのアライメントマークを認識し、該両アライメントマークを結ぶ直線と、上記ラビング角度とに基づいて予め設定されているラビング角度設定用基準線との開き角に基づいて設定される
ことを特徴とする請求項９或いは１０記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置用基板の表面に形成されている配向膜に対して最適なラビング角度でラビング処理を施すことのできる電気光学装置の製造装置、及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、各種の電気光学装置のうち、電気光学物質として液晶を用いた液晶装置は、投射型表示装置のライトバルブ、各種電子機器の表示装置などとして広い分野にわたって使用されている。ここで、液晶装置は２枚の基板間に液晶を封入して構成される。液晶ライトバルブにおいては、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor、以下、「ＴＦＴ」と称す）をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能にする。
【０００３】
ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向配置される対向基板とは、別々に製造され、互いに貼り合わされた後、液晶が封入される。
【０００４】
各基板の製造工程においては、先ず、個々に製造されたＴＦＴ基板と対向基板との対向面、即ち、ＴＦＴ基板及び対向基板の液晶層と接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が行われる。次いで、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部を形成し、このシール部を介してＴＦＴ基板と対向基板とを貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させる。その後、シール部の一部に形成された切り欠き部から、両基板の対向面間に液晶を封入する。
【０００５】
ところで、各基板に形成された配向膜にラビング処理を施すに際しては、例えば特開２００２−３１８０３号公報に開示されているように、複数の対向基板(或いはＴＦＴ基板）をパレット等の基板搬送用治具上に所定に保持させた後、基板搬送用治具をラビング処理用ステージに載置し、このラビング処理用ステージをラピングロールの方向へ移動させ、各対向基板(或いはＴＦＴ基板）の配向膜の形成されている表面全体をラビングロールにより所定の接触圧で擦っていき、ラビング処理を施す。配向膜に施すラビングにより電圧無印加時の液晶分子の配列が決定される。
【特許文献１】特開２００２−３１８０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ラビング処理は、配向膜表面に細かい溝を形成する、あるいは高分子側鎖を一方向に揃えることで配向異方性の膜にするものであり、配向膜に一定方向のラビング処理を施すことで液晶分子の配列を規定することができる。
【０００７】
配向膜に対するラビング角度にずれが生じると、画像のコントラスト、透過率に影響するため、ラビング角度は常に最適な角度に設定されていることが好ましい。
【０００８】
しかし、基板搬送用治具に形成されているポケットの外形と、これに保持される電気光学装置用基板としての対向基板(或いはＴＦＴ基板)の内形との間には僅かな遊びがあり、この遊び分によりラビング角度にずれが生じる。
【０００９】
ラビング角度のずれを最小限にするには、基板搬送用治具の精度を高め、ポケットの内形と対向基板(或いはＴＦＴ基板)の外形との間の遊びを極力少なくすれば良いが、基板搬送用治具の製造が煩雑化し、製造コストが嵩んでしまう問題がある。
【００１０】
更に、対向基板(或いはＴＦＴ基板)の外形寸法には許容誤差が予め設定されているため、ポケットを高精度に形成した場合であっても、ポケットの内形と対向基板(或いはＴＦＴ基板)の外形との間の遊びを数μｍ以下にすることはできず、ラビング角度の精度を、常に一定値(例えば±１°)以下に保持することは困難である。
【００１１】
従って、ラビング角度を高精度に設定しようとした場合、基板搬送用治具に形成するポケットを基板毎に専用化する必要が有り、実現性に乏しい。
【００１２】
そのため、従来の基板搬送用治具を用いて対向基板(或いはＴＦＴ基板)に形成されている配向膜にラビング処理を施そうとした場合、そのラビング角度を高精度に設定することは困難で、製品の品質を高める上で限界がある。
【００１３】
本発明は、上記事情に鑑み、基板搬送用治具の精度を上げることなく、この治具に保持されて搬送される基板に形成した配向膜に対するラビング角度を高精度に設定することのできる電気光学装置の製造装置、及び電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するため本発明による第１の電気光学装置の製造装置は、表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を保持する基板保持部を備える基板搬送用治具と、上記電気光学装置用基板の裏面から上記電気光学装置用基板を臨み、回転動作をするアライメント回転機構と、上記電気光学装置用基板の裏面を上記アライメント回転機構に固定させる固定手段と、上記電気光学装置用基板の回転角を検出し、角度補正信号を上記アライメント回転機構へ伝える回転角検出部とを備えることを特徴とする。
【００１５】
このような構成では、表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を、基板搬送用治具に設けた基板保持部に保持すると、基板保持部の底面に臨まされているアライメント回転機構が電気光学装置用基板の裏面に当接すると共に、この電気光学装置用基板が固定手段を介してアライメント回転機構に固定される。次いで、電気光学装置用基板の回転角が検出され、この回転角に対応する角度補正信号をアライメント回転機構へ伝える。すると、アライメント回転機構が回動し、このアライメント回転機構に固定されている電気光学装置用基板が回動して回転角度が補正される。その結果、基板搬送用治具の精度を高めることなく、電気光学装置用基板の回転方向を高精度に設定することができる。
【００１６】
第２の電気光学装置の製造装置は、表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を保持する基板保持部を備える基板搬送用治具と、上記電気光学装置用基板の裏面から上記電気光学装置用基板を臨み、回転動作をするアライメント回転機構と、上記電気光学装置用基板の裏面を上記アライメント回転機構に固定させる固定手段と、上記電気光学装置用基板のラビングロールに対する侵入方向とラビング角度とのずれ角を検出して、該ずれ角が０となる角度補正信号を上記アライメント回転機構へ伝える回転角度検出部とを備えることを特徴とする。
【００１７】
このような構成では、表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を、基板搬送用治具に設けた基板保持部に保持すると、基板保持部の底面に臨まされているアライメント回転機構が電気光学装置用基板の裏面に当接すると共に、この電気光学装置用基板が固定手段を介してアライメント回転機構に固定される。次いで、電気光学装置用基板のラビングロールに対する侵入方向とラビング角度とのずれ角が検出され、このずれ角が０となる角度補正信号をアライメント回転機構へ出力する。すると、アライメント回転機構が回動し、このアライメント回転機構に固定されている電気光学装置用基板が回動してラビング角度が設定される。その結果、基板搬送用治具の精度を高めることなく、ラビング角度を高精度に設定することができる。
【００１８】
第３の電気光学装置の製造装置は、第１或いは第２の電気光学装置の製造装置において、上記基板搬送用治具が載置されると共にラビング処理方向へ移動自在な移動手段を有し、上記移動手段に、少なくとも上記アライメント回転機構が収容されていると共に上記基板搬送治具が載置固定されることを特徴とする。
【００１９】
このような構成では、電気光学装置用基板に対するアライメントをラビングロール方向へ移動しながら行うことができ、作業の効率化を実現することができる。
【００２０】
第４の電気光学装置の製造装置は、第１或いは第２の電気光学装置の製造装置において、ラビング処理方向へ移動自在な移動手段を有し、上記移動手段に載置される上記基板搬送用治具に少なくとも上記アライメント回転機構が収容されていることを特徴とする。
【００２１】
このような構成では、ラビング処理方向へ移動自在な移動手段に載置される基板搬送用治具に少なくともアライメント回転機構を収容したので、ラビング処理を行う前工程において、電気光学装置用基板のラビング角度を適正に設定することができる。
【００２２】
第５の電気光学装置の製造装置は、第１〜第４の電気光学装置の製造装置において、上記ずれ角は、上記電気光学装置用基板に形成されている２つのアライメントマークを認識し、該両アライメントマークを結ぶ直線と、上記ラビング角度とに基づいて予め設定されているラビング角度設定用基準線との開き角に基づいて設定されることを特徴とする。
【００２３】
このような構成では、電気光学装置用基板に形成されている２つのアライメントマークを認識し、両アライメントマークを結ぶ直線と、ラビング角度とに基づいて予め設定されているラビング角度設定用基準線との開き角から、ラビング角度のずれ角を求めるようにしたので、ずれ角を簡単に修正することができる。
【００２４】
第６の電気光学装置の製造蔵置は、上記電気光学装置用基板は大型基板から切り出した小型基板であることを特徴とする。
【００２５】
このような構成では、電気光学装置用基板が大型基板から切り出した小型基板であっても、全ての電気光学装置用基板を最適なラビング角度に設定することができる。
【００２６】
第７の電気光学装置の製造蔵置は、上記電気光学装置用基板は大型基板であることを特徴とする。
【００２７】
このような構成では、電気光学装置用基板が大型基板であっても、電気光学装置用基板を最適なラビング角度に簡単に設定することができる。
【００２８】
第８の電気光学装置の製造蔵置は、上記アライメント回転機構に、上記電気光学装置用基板の表面の高さを一定の高さに調整する昇降手段が併設されていることを特徴とする。
【００２９】
このような構成では、アライメント回転機構に、電気光学装置用基板の表面の高さを一定の高さに調整する昇降手段を併設したので、異なる板厚の電気光学装置用基板を保持した場合であっても、全ての電気光学装置用基板の表面の高さを常に一定にすることができるため、適正な接触圧でラビング処理を行うことができる。
【００３０】
本発明による第１の電気光学装置の製造方法は、表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を保持する工程と、上記電気光学装置用基板のラビングロールに対する侵入方向とラビング角度とのずれ角を検出する工程と、上記ずれ角が０となる方向へ上記電気光学装置用基板を回動させる工程とを備えることを特徴とする。
【００３１】
このような構成では、先ず、表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を保持した後、この電気光学装置用基板のラビングロールに対する侵入方向とラビング角度とのずれ角を検出し、このずれ角が０となる方向へ電気光学装置用基板を回動させる。その結果、電気光学装置用基板のラビング角度を高精度に設定することができる。
【００３２】
第２の電気光学装置の製造方法は、表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を保持する工程と、上記電気光学装置用基板のラビングロールに対する侵入方向とラビング角度とのずれ角を検出する工程と、上記ずれ角が０となる方向へ上記電気光学装置用基板を回動させる工程と、上記電気光学装置用基板の表面の高さを一定に調整する工程とを備えることを特徴とする。
【００３３】
このような構成では、先ず、表面に配向膜が形成されている電気光学装置用基板を保持した後、この電気光学装置用基板のラビングロールに対する侵入方向とラビング角度とのずれ角を検出し、このずれ角が０となる方向へ電気光学装置用基板を回動させて、電気光学装置用基板のラビング角度を適正な状態とし、更に、電気光学装置用基板の表面の高さを一定の高さに調整する。その結果、異なる板厚の電気光学装置用基板に対して同時にラビング処理を施した場合であっても、各電気光学装置用基板のラビングロールに対する接触圧が常に一定となる。
【００３４】
第３の電気光学装置の製造方法は、第１或いは第２の電気光学装置の製造方法において、上記ずれ角は、上記電気光学装置用基板に形成されている直線状に並んだ複数のアライメントマークのうち少なくとも２つを認識し、該認識されたアライメントマークを結ぶ直線と、上記ラビング角度とに基づいて予め設定されているラビング角度設定用基準線との開き角に基づいて設定されることを特徴とする。
【００３５】
このような構成では、電気光学装置用基板に形成されている直線状に並んだ複数のアライメントマークのうち少なくとも２つを認識し、認識したアライメントマークを結ぶ直線と、ラビング角度とに基づいて予め設定されているラビング角度設定用基準線との開き角から、ラビング角度のずれ角を求めるようにしたので、ずれ角を簡単に修正することができる。
【００３６】
第４の電気光学装置の製造方法は、第１或いは第２の電気光学装置の製造方法において、上記ずれ角は、上記電気光学装置用基板に形成されている２つのアライメントマークを認識し、該両アライメントマークを結ぶ直線と、上記ラビング角度とに基づいて予め設定されているラビング角度設定用基準線との開き角に基づいて設定されることを特徴とする。
【００３７】
このような構成では、電気光学装置用基板に形成されている２つのアライメントマークを認識し、両アライメントマークを結ぶ直線と、ラビング角度とに基づいて予め設定されているラビング角度設定用基準線との開き角から、ラビング角度のずれ角を求めるようにしたので、ずれ角を簡単に修正することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３８】
以下、図面に基づいて本発明の一形態を説明する。図１〜図７に本発明の第１形態を示す。図１は液晶装置の概略断面図である。
【００３９】
先ず、図１を参照して電気光学装置の一例である液晶装置の全体構成について説明する。液晶装置１は、石英基板、ガラス基板等からなるＴＦＴ基板１０と、これに対向配置されるガラス基板や石英基板等からなる対向基板２０とがシール材５２を介して貼り合わされており、シール材５２によって形成された両基板１０，２０の対向面間に、電気光学物質としての液晶５０が封入されている。
【００４０】
ＴＦＴ基板１０上には画素を構成する画素電極（ＩＴＯ）９ａ等がマトリクス状に配置され、又、対向基板２０上には全面に対向電極（ＩＴＯ）２１が設けられている。更に、ＴＦＴ基板１０の画素電極９ａ上、及び対向基板２０上の全面に渡って形成された対向電極２１上に、ラビング処理が施された配向膜１６，２２が各々形成されている。尚、各配向膜１６，２２は、ポリイミド膜等の透明な有機膜で構成されている。
【００４１】
このような液晶装置１を製造するにあたっては、所定に洗浄・乾燥させたＴＦＴ基板１０、及び大型基板から切り出した小型基板としての対向基板２０の各々に配向膜１６，２２を形成した後（配向膜形成工程）、各配向膜１６，２２の表面をラビングロールで擦ってラビング処理を行う（ラビング処理工程）。
【００４２】
次いで、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とを再び洗浄・乾燥した後、シール材５２によって所定の間隙を介して貼り合わせた後（貼り合わせ工程）、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との対向面間のシール材５２で区画された領域に液晶５０を封入する（封入工程）。
【００４３】
これらの工程のうち、配向膜形成工程、ラビング処理工程、及びその前後の洗浄過程では、複数枚の対向基板２０を、基板搬送用治具の一例であるパレット５００に形成されている基板保持部としての基板保持用ポケット５１０にそれぞれ保持した状態で搬送し、一括処理される。基板保持用ポケット５１０はパレット５００に対し、搬送方向沿って２列に配列されている。尚、基板保持用ポケット５１０は１列であっても、３列以上であっても良い。
【００４４】
又、対向基板２０の配向膜２２が形成されている面の四隅の予め設定されている位置に、ＴＦＴ基板１０との貼り合わせの際に使用するアライメントマークＭが形成されている。このアライメントマークは、小丸、三角、四角等何れの形状をしてしても良い。
【００４５】
パレット５００は、樹脂成型品、或いは平板を加工して形成されたもので、図２、図４、図５に示すように、基板保持用ポケット５１０は、その内周が対向基板２０の外形とほぼ相似する形に形成されており、中央に底面に貫通する孔部５１１が形成されている。基板保持用ポケット５１０の内周は、対向基板２０の外周に対して、ある程度の余裕を持った寸法に形成されている。又、パレット５００の四隅には、位置決め用ダボ孔５０１が穿設されている。
【００４６】
図２に示すように、ラビング処理工程は、パレット５００が移動手段としての移動ステージ６００に載置された状態で行われる。移動ステージ６００の上面には、パレット５００に穿設されている位置決め用ダボ孔５０１に係入するダボ６０１が、各位置決め用ダボ孔５０１に対応する位置に各々突設されている。
【００４７】
移動ステージ６００は、ラビングロール７００の方向（矢印Ａ方向）へ、図示しないレールなどに沿って往復移動自在にされており、ラビングロール７００の上流側の待機位置（図示せず）において、パレット５００が装着される。
【００４８】
移動ステージ６００に載置されたパレット５００が、ラビングロール７００を通過する際に、対向基板２０の表面全体が所定の接触圧でラビングロール７００に擦られ、ラビング処理が行われる。ラビングロール７００は、アルミニウム等の金属ロール７０１の表面に、レーヨン布等のラビング布７０２を巻き付けたものであり、対向基板２０の侵入方向と反対の方向(矢印Ｂ方向)に回転している。
【００４９】
図２に示すように、移動ステージ６００上のパレット５００が載置される位置の内側に凹部６０２が形成されている。この凹部６０２から、アライメント装置８００Ａを構成するアライメント回転機構８０１に設けられているアライメント回転軸８１０の上部が突出されている。アライメント回転機構８０１はパレット５００に形成されている基板保持用ポケット５１０に対応する数だけ配設されている。
【００５０】
又、各アライメント回転機構８０１から延出されているアライメント回転軸８１０は、載置されるパレット５００に形成されている基板保持用ポケット５１０に対応する位置に各々配設されている。図５に示すように、移動ステージ６００上にパレット５００をセットすると、アライメント回転軸８１０の上部が、パレット５００に形成されている基板保持用ポケット５１０に穿設されている孔部５１１に臨まされると共に、その上端が、基板保持用ポケット５１０の底面よりもやや突出される。
【００５１】
従って、図５に示すように、パレット５００を移動ステージ６００に載置すると、基板保持用ポケット５１０に保持されている対向基板２０の背面が、アライメント回転軸８１０の上端に押圧されて、基板保持用ポケット５１０の底面からやや浮き上がる。
【００５２】
図３に示すように、各アライメント回転機構８０１のアライメント回転軸８１０の基部側にウォームホイール８２１が形成されており、このウォームホイール８２１に噛合するウォーム８２２がマイクロモータ等のモータ８３０の回転軸８３１に一体形成されている。又、アライメント回転軸８１０の軸芯部分に吸引孔８１１が貫通されており、この吸引孔８１１に、吸着、固定手段としての真空ポンプ８４０が接続されている。
【００５３】
一方、ラビングロール７００の上流で、パレット５００の通過する位置に、一対のアライメントセンサ８５０が配設されている。このアライメントセンサ８５０は、移動ステージ６００上のパレット５００に保持されている各対向基板２０に形成されているアライメントマークＭを認識するＣＣＤイメージセンサ、或いはＣ−ＭＯＳイメージセンサ等であり、通過する２列の対向基板２０に対応する位置に１つずつ配列されている。
【００５４】
アライメントセンサ８５０で受光した信号は信号処理部８６０に送信されて、所定に信号処理された後、回転角検出部としての角度アライメント部８７０に出力される。
【００５５】
角度アライメント部８７０は、信号処理部８６０から出力された信号に基づき、対向基板２０の四隅に形成されているアライメントマークＭのうち、少なくとも対角線上のアライメントマークＭを認識し、認識したアライメントマークＭに基づいて、対向基板２０のラビングロール７００に対する侵入角とラビング角度との開き角に応じたずれ角θを検出し、このずれ角θを０になる方向へ補正する角度補正信号をモータ駆動部８８０へ出力する。尚、角度アライメント部８７０で実行されるずれ角θの調整処理は、後述する図６に示すフローチャートに従って行われる。
【００５６】
そして、この角度アライメント部８７０からモータ駆動部８８０に対し、ずれ角θを補正する角度アライメント信号を出力する。その結果、モータ駆動部８８０からモータ８３０に角度アライメント信号に相当する駆動信号が出力され、モータ８３０のアライメント回転軸８１０が、ずれ角θを修正する方向へ回動する。
【００５７】
次に、このような構成による本形態の作用について説明する。大型基板から切り出した対向基板２０に対してラビング処理を行うに際しては、先ず、パレット５００に形成されている各基板保持用ポケット５１０に対し、対向基板２０を、配向膜２２が形成される面を上にして各々装着し、保持する。
【００５８】
次いで、複数の対向基板２０を保持するパレット５００を洗浄工程へ搬送し、所定に洗浄・乾燥させる。続いて、配向膜形成工程へ搬送し、対向基板２０の表面に配向膜２２を形成する。
【００５９】
その後、パレット５００をラビング処理工程へ搬送する。図２に示すように、ラビング処理工程の上流の待機位置に移動ステージ６００が待機している。この移動ステージ６００に対し、パレット５００を載置し、パレット５００の四隅に穿設されている位置決め用ダボ孔５０１を、移動ステージ６００の上面に突設されているダボ６０１に装着する。
【００６０】
すると、パレット５００が移動ステージ６００に対して位置決めされた状態で載置・固定される。又、このとき、パレット５００に形成されている各基板保持用ポケット５１０に穿設されている孔部５１１に、移動ステージ６００の上面に突出する、アライメント回転機構８０１に設けられているアライメント回転軸８１０の先端部が臨まされる。
【００６１】
アライメント回転軸８１０の先端は、パレット５００に形成されている基板保持用ポケット５１０の底面の高さよりもやや高く設定されているため、各対向基板２０の背面が、アライメント回転軸８１０の先端に当接すると共に基板保持用ポケット５１０の底面からやや浮揚する（図５参照）。
【００６２】
又、図３に示すように、各アライメント回転軸８１０の軸芯部分に貫通する吸引孔８１１には真空ポンプ８４０が連通されており、各対向基板２０は真空ポンプ８４０による吸引力で、アライメント回転軸８１０の上端に吸着されて固定される。
【００６３】
そして、移動ステージ６００上にパレット５００が所定に載置、固定されると、移動ステージ６００がラビングロール７００の方向へ移動する（図４参照）。
【００６４】
移動ステージ６００がラビングロール７００の方向へ移動する過程において、パレット５００に保持されている２列の対向基板２０が、一対のアライメントセンサ８５０の下方を通過する。その際、各アライメントセンサ８５０は通過する対向基板２０を撮像し、その画像信号を信号処理部８６０へ出力する。信号処理部８６０は、アライメントセンサ８５０からの画像信号をデジタル信号に変換して、角度アライメント部８７０へ出力する。
【００６５】
角度アライメント部８７０は、入力された画像信号に基づき、各対向基板２０の四隅に形成されているアライメントマークＭを認識し、このアライメントマークＭに基づき、適正なラビング角度に対するずれ角θを検出し、ずれ角θを修正する角度アライメント信号をモータ駆動部８８０へ出力する。この角度アライメント部８７０での角度アライメント処理は、具体的には、図６に示す角度アライメントルーチンに従って処理される。
【００６６】
このルーチンでは、先ず、ステップＳ１で、信号処理部８６０から出力された画像信号に基づき、対向基板２０の四隅に形成されているアライメントマークＭを検出する。アライメントマークＭの検出方法については、種々のものが考えられ、例えばアライメントマークに相当するテンプレート画像を予め記憶しておき、このテンプレート画像とのパターンマッチングにより検出するようにしても良い。
【００６７】
次いで、ステップＳ２へ進み、予め設定されている位置（例えば、図７(b)に示すように移動ステージ６００の進行方向に対して前部且つ右側）のアライメントマークＭを原点Ｍ１として設定する。
【００６８】
その後、ステップＳ３へ進み、原点Ｍ１の対角線上にあるアライメントマークＭをＭ２として設定し、このアライメントマークＭ２の座標点を検出する。
【００６９】
次いで、ステップＳ４へ進み、原点Ｍ１と対角線上のアライメントマークＭ２とを結ぶ直線ＬＭを求めると共に、予め記憶されているラビング角度設定用基準線Ｌｏを原点Ｍ１を通る直線とし、このラビング角度設定用基準線Ｌｏと直線ＬＭとのずれ角θを算出する。ラビング角度設定用基準線Ｌｏは、配向膜２２に対する最適なラビング角度を基準として、対向基板２０の対角線上に形成されているアライメントマークＭを結ぶ直線の最適角度を求め、この最適角度に基づいて設定したものであり、図示しない記憶手段に記憶されている。
【００７０】
その後、ステップＳ５へ進み、ずれ角θに対応するモータ駆動信号をモータ駆動部８８０へ出力してルーチンを終了する。
【００７１】
モータ駆動部８８０は、角度アライメント部８７０から出力されたモータ駆動信号に対応する駆動信号をモータ８３０へ出力する。すると、モータ８３０の回転軸８３１が所定角度だけ回動し、先端部に形成されているウォーム８２２がアライメント回転軸８１０の基部側に形成されているウォームホイール８２１を介してアライメント回転軸８１０を、ずれ角θを修正する方向へ所定角度だけ回動させる。
【００７２】
すると、このアライメント回転軸８１０に吸着、固定されている対向基板２０が、アライメント回転軸８１０と一体に回転し、対向基板２０の原点Ｍ１と対角線上のアライメントマークＭ２とを結ぶ直線ＬＭが、ラビング角度設定用基準線Ｌｏとほぼ一致する。
【００７３】
ラビング角度設定用基準線Ｌｏは、配向膜２２に対するラビング角度を基準として設定されているため、対向基板２０の原点Ｍ１と対角線上のアライメントマークＭ２とを結ぶ直線ＬＭを、ラビング角度設定用基準線Ｌｏにほぼ一致させることで、配向膜２２のラビング角度を最適な状態に設定することができる。尚、対向基板２０に対するずれ角θの修正は、移動ステージ６００が移動している際に行われ、ラビングロール７００に差し掛かる手前で修正動作が完了するように設定されている。
【００７４】
次に、アライメント装置８００Ａによる対向基板２０のラビング角度修正動作の一例を、図７の動作図を用いて簡単に説明する。
【００７５】
同図（ａ）に示すように、パレット５００の基板保持用ポケット５１０に対して対向基板２０が、例えば反時計回り方向へ位置ずれしている状態で保持されている場合、同図（ｂ）に示すように、この対向基板２０がアライメントセンサ８５０を通過すると、アライメントセンサ８５０にて対向基板２０の四隅に形成されているアライメントマークＭが検出される。
【００７６】
角度アライメント部８７０は、各アライメントマークＭから原点Ｍ１となるアライメントマークＭを選択する。本形態では移動ステージ６００の進行方向に対して、前部且つ右側のアライメントマークＭを原点Ｍ１とするように設定されている。そして、この原点Ｍ１と、この原点Ｍ１の対角線上に位置するアライメントマークＭ２とを結ぶ直線ＬＭと、原点Ｍ１を通るラビング角度設定用基準線Ｌｏとのずれ角θを求め、ずれ角θを修正する角度だけ、対向基板２０を回動させる。
【００７７】
その結果、図７（ｃ）に示すように、対向基板２０のラビング角度は、ラビングロール７００に差し掛かる手前で最適な角度に自動的にアライメントされる。
【００７８】
このように、本形態によれば、アライメント装置８００Ａにより、各対向基板２０のラビング角度をラビングロール７００に差し掛かる手前で自動的に最適な角度にアライメントするようにしたので、各対向基板２０毎に最適なラビング角度を設定することができる。
【００７９】
又、ラビング角度を対向基板２０毎に個別にアライメントするようにしたので、パレット５００に高い精度が要求されず、パレットの構造を簡素化することができ、安価に製造することができる。
【００８０】
更に、対向基板２０がアライメント回転軸８１０に吸着、固定されており、しかも、アライメントされた状態でラビング処理されるので、その後、ＴＦＴ基板１０に対して貼り合わせする場合、例えばパレット５００に吸着、固定されている対向基板２０に対してＴＦＴ基板１０を貼り合わせるようにすれば、両基板１０，２０の位置合わせが容易になる。
【００８１】
更に、各対向基板２０のラビング角度を個別にアライメントするようにしたので、例えば、図５の向かって右側に一点鎖線で示すように、サイズの異なる対向基板２０を１つのパレット５００に保持させてラビング処理を行うことも可能となる。その結果、サイズ毎に、使用するパレット５００を交換する必要が無くなり、ラビング処理を連続的に行うことができ、作業の効率化を実現することができる。
【００８２】
尚、本形態では、アライメントセンサ８５０を２列の対向基板２０に対応して２個配設したが、１つのアライメントセンサ８５０で、２列の対向基板２０を同時に撮像するようにしても良い。
【００８３】
更に、本形態は、対向基板２０に対するラビング処理以外に、ＴＦＴ基板１０に対するラビング処理を、大型基板から切り出した後に行う場合に適用できることは云うまでもない。
【００８４】
又、図８に本発明の第２形態による図２相当の斜視図を示す。上述した第１形態は、大型基板から切り出した対向基板２０に対してラビング処理を行う場合のラビング角度のアライメントについて説明したが、本形態では、大型基板のままでラビング処理を行う場合のラビング角度のアライメントについて説明する。尚、第１形態と同一の構成部分については同一の符号を付して説明を省略する。
【００８５】
例えば、ＴＦＴ基板１０に対するラビング処理が、大型基板１００のままで行う場合、パレット５００には、大型基板１００を保持する基板保持用ポケット５２０が形成されている。基板保持用ポケット５２０は、第１形態の基板保持用ポケット５１０と同様、その内周が大型基板１００の外形とほぼ相似する形に形成されており、中央に、底面に貫通する孔部５２１が形成されている。
【００８６】
又、基板保持用ポケット５２０の内周は、大型基板１００の外周に対して、ある程度の余裕を持った寸法に形成されている。更に、基板保持用ポケット５２０の移動方向の上方にアライメントセンサ８５０が配設されている。
【００８７】
尚、大型基板１００の、後工程により切り出されてＴＦＴ基板１０となる領域には、便宜的にＴＦＴ基板１０と同一の符号を付す。又、図においては、２つの基板保持用ポケット５２０が１列に形成されている場合について示されているが、１列に３つ以上の基板保持用ポケット５２０が形成されていても良く、又、２列以上配列されていても良い。
【００８８】
大型基板１００の予め設定された位置にはオリフラ１０１が形成されており、このオリフラ１０１が、基板保持用ポケット５２０に対する大まかな位置決め部となる。又、大型基板１００の上面の予め設定した四箇所にアライメントマークＭが形成されている。
【００８９】
各基板保持用ポケット５２０に大型基板１００を保持した状態で、パレット５００を、移動ステージ６００上に所定に位置決めした状態でセットすると、基板保持用ポケット５２０に開口されている孔部５２１から、移動ステージ６００に固設されているアライメント回転機構８０１（図３参照）のアライメント回転軸８１０が臨まされ、この先端に大型基板１００が当接されると共に、大型基板１００が基板保持用ポケット５２０の底面からやや浮揚される。
【００９０】
このとき大型基板１００の裏面は、アライメント回転軸８１０の上端に、真空ポンプ８４０による吸引孔８１１からの吸引により吸着、固定される。
【００９１】
移動ステージ６００の移動により、アライメント回転軸８１０に吸着、固定されている大型基板１００が、アライメントセンサ８５０を通過すると、アライメントセンサ８５０により撮像した画像信号が、図３に示す信号処理部８６０へ出力され、信号処理部８６０で信号処理された後、角度アライメント部８７０へ出力される。
【００９２】
角度アライメント部８７０は、大型基板１００に形成されているアライメントマークＭを検出し、特定の位置のアライメントマークＭを原点Ｍ１として設定する。又、この原点Ｍ１に対して対角線上にあるアライメントマークＭをＭ２として設定する。そして、第１形態と同様、原点Ｍ１とアライメントマークＭ２とを結ぶ直線ＬＭと、原点Ｍ１を通るラビング角度設定用基準線Ｌｏとのずれ角θを求める。その後、ずれ角θに応じたモータ駆動信号をモータ駆動部８８０を介して、モータ８３０へ出力する。
【００９３】
すると、モータ８３０の回転軸８３１にウォーム８２２及びウォームホイール８２１を介して連設するアライメント回転軸８１０が、ずれ角θを修正する方向へ回動し、アライメント回転軸８１０の上端に吸着、固定されている大型基板１００を一体に回動させてラビング角度をアライメントする。
【００９４】
従って、大型基板１００であっても、第１形態と同様の効果を得ることができる。尚、対向基板２０に対するラビング処理を大型基板のままで行う場合にも、本形態が適用できることは云うまでもない。
【００９５】
尚、第１形態、及び第２形態では、対角線上に形成されているアライメントマークＭを結ぶ直線ＬＭに基づいてラビング角度のずれを検出するようにしているが、一辺の両側に形成されている２つのアライメントマークＭを結ぶ直線と、これに対する基準線とを比較することでラビング角度のずれを検出するようにしても良い。更に、アライメントマークＭはラビング角度を調整するためのものとして専用のものを形成しても良い。
【００９６】
又、図９、図１０に本発明の第３形態を示す。図９は図５相当の概略断面図、図１０はアライメント装置８００Ｂの斜視図である。尚、第１形態と同一の構成部分については同一の符号を付して説明を省略する。
【００９７】
上述した第１形態では、ラビング角度のアライメントについて説明したが、本形態によるアライメント装置８００Ｂは、ラビング角度のアライメントに加えて、対向基板２０の高さ調整が行えるようにしたものである。
【００９８】
ラビング処理による配向特性（コントラスト、透過率等）は、ラビング角度と共にラビングロール７００に対する接触圧によっても影響を受ける。本形態では、対向基板２０の高さ方向を調整し、対向基板２０が常に最適な接触圧でラビングロール７００に接触させることで、配向膜２２の配向特性をより向上させるようにしたものである。尚、ラビング角度の修正については、第１形態と同様であるため説明を省略する。
【００９９】
図１０に示すように、アライメント回転軸８１０に対して円筒体８９１が外装されており、この円筒体８９１に、ウォームホイール８２１の上面に固設された昇降手段としての垂直アクチュエータ８９２のプランジャが固設されている。
【０１００】
又、図９に示すように、この円筒体８９１の上端が、アライメント回転軸８１０の上端よりもやや突出されている。従って、パレット５００を移動ステージ６００にセットしたとき、対向基板２０の裏面が円筒体８９１の上端に当接して、基板保持用ポケット５２０の底面からやや浮揚される。
【０１０１】
尚、円筒体８９１の内周とアライメント回転軸８１０の外周との間は、僅かな隙間を有しており、ここから吸引孔８１１に吸い込まれる空気により、対向基板２０の吸着力はやや低下するが、その分、真空ポンプ８４０の吸引力を相対的に大きくすることで、吸引力の低下を相殺することができる。
【０１０２】
又、ラビングロール７００の上流の、パレット５００が通過する両側に、レベルセンサ８９３が配設されている。このレベルセンサ８９３は、例えば、一次元ラインセンサを縦方向へ配列したものが採用される。
【０１０３】
パレット５００に保持されている対向基板２０がレベルセンサ８９３を通過すると、レベルセンサ８９３で検出した信号が信号処理部８６０へ出力され、デジタル信号に変換された後、高さ調整部８９４へ出力される。
【０１０４】
高さ調整部８９４では、レベルセンサ８９３で検出した対向基板２０の上面のレベル（以下「上面レベル」と称する）と基準レベルとを比較する。この基準レベルは、ラビングロール７００に対して対向基板２０の上面が、最適な接触圧で接触する位置を、実験などから求めて設定したものであり、図示しない記憶手段に記憶されている。
【０１０５】
そして、高さ調整部８９４からアクチュエータ駆動部８９５を介して垂直アクチュエータ８９２に対し、上面レベルが基準レベルとなる方向へ動作させる駆動信号を出力する。すると、垂直アクチュエータ８９２が円筒体８９１を進退動作させて、対向基板２０の高さ方向のレベルを調整する。尚、垂直アクチュエータ８９２はウォームホイール８２１に固設されているため、アライメント回転軸８１０と一体回動する。
【０１０６】
その結果、１つのパレット５００に保持されている対向基板２０の板厚にばらつきがあっても、或いは１つのパレット５００に異なる板厚の対向基板２０を保持させた場合であっても、全ての対向基板２０に対して、ラビングロール７００を常に一定の接触圧で接触させることができ、良好な配向特性を得ることができる。
【０１０７】
尚、本形態は、対向基板２０に付いて説明したが、ＴＦＴ基板１０に対するラビング処理を大型基板から切り出した後に行う場合、このＴＦＴ基板に対しても適用でき、更に、大型基板に対しても適用できることは云うまでもない。
【０１０８】
又、基板保持用ポケット５１０或いは５２０は、移動ステージ６００に一体に形成されている場合も本発明を適用することができる。この場合、基板搬送用治具は、移動ステージ６００となる。更に、パレット５００にアライメント回転機構８０１が固設されていても良い。この場合、各アライメント回転機構８０１はパレット５００と一体に移動することになる。
【０１０９】
又、電気光学装置は、ＴＦＴアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置に限らず、パッシブマトリックス型の液晶装置、ＴＦＤ（薄型ダイオード）をスイッチング素子として備えた液晶装置であっても良い。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】第１形態による液晶装置の概略断面図
【図２】同、ラビング処理工程におけるパレットと移動ステージとラビングロールとを示す分解斜視図
【図３】同、アライメント装置の概略構成図
【図４】同、ラビング処理工程におけるパレットを移動ステージにセットした状態の斜視図
【図５】同、図４のＶ−Ｖ断面図
【図６】同、角度アライメントルーチンを示すフローチャート
【図７】同、対向基板のアライメントを示す説明図
【図８】第２形態による図２相当の斜視図
【図９】第３形態による図５相当の概略断面図
【図１０】同、アライメント装置の斜視図
【符号の説明】
【０１１１】
１…液晶装置、１０…ＴＦＴ基板、１６，２２…配向膜、２０…対向基板、θ…ずれ角、１００…大型基板、５００…パレット、５１０，５２０…基板保持用ポケット、６００…移動ステージ、７００…ラビングロール、８００Ａ，８００Ｂ…アライメント装置、８１０…アライメント回転軸、８１１…吸引孔、８４０…真空ポンプ、８５０…アライメントセンサ、８６０…信号処理部、８７０…角度アライメント部、８８０…モータ駆動部、８９１…円筒体、８９２…垂直アクチュエータ、８９３…レベルセンサ、８９４…高さ調整部、８９５…アクチュエータ駆動部、ＬＭ…対角線のアライメントマークを結ぶ直線、Ｌｏ…ラビング角度設定用基準線、Ｍ…アライメントマーク、Ｍ１…原点
【図１】
2005249938.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2005249938.tif 000008
【図７】
2005249938.tif 000009
【図８】
2005249938.tif 000010
【図９】
2005249938.tif 000011
【図１０】
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