(57)【要約】【課題】  ＰＤＰパネル用背面板の隔壁のような大画面で高精細のものを品質的にも満足できるように元型を用いずに転写形成する。【解決手段】転写型の少なくとも一面側に密着面７ａを有したベースフィルム７上に接着性を有するパターン形成樹脂１２を積層した後、所望のパターンに対応した光パターンを照射し、光パターンに対応した潜像３４を形成した後、現像を行い、パターン形成樹脂１２の不要部を取り除き、ベースフィルム７上に凹凸パターンを形成する。【選択図】  図１
2005329712.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸パターンを有する転写型の製造方法であって、
少なくとも一面側に密着面が形成された板状又はフィルム状の基体を用意し、前記基体の前記密着面が形成された側に、接着性を有するパターン形成用感光体を塗布し、
前記パターン形成用感光体を、前記凹凸パターンに対応した露光パターンで露光し、
前記パターン形成用感光体に、前記露光パターンに対応した潜像を形成した後、現像を行い、前記基体上に前記凹凸パターンを形成する
ことを特徴とする転写型の製造方法。
【請求項２】
凹凸パターンを有する転写型の製造方法であって、
少なくとも一面側に密着面が形成された板状又はフィルム状の基体を用意し、前記基体の前記密着面が形成された側に、接着層を介して、パターン形成用感光体を塗布し、
前記パターン形成用感光体を、前記凹凸パターンに対応した露光パターンで露光し、
前記パターン形成用感光体に、前記露光パターンに対応した潜像を形成した後、現像を行い、前記基体上に前記凹凸パターンを形成する
ことを特徴とする転写型の製造方法。
【請求項３】
凹凸パターンを有する転写型の製造方法であって、
少なくとも一面側に密着面が形成された板状又はフィルム状の基体を用意し、前記基体の前記密着面が形成された側に、接着性を有するパターン形成用感光体を塗布し、
少なくとも一面側に非密着面が形成されたフィルム状の被覆体を、前記非密着面を前記基体側に向けて前記パターン形成用感光体に圧着し、
前記パターン形成用感光体を、前記凹凸パターンに対応した露光パターンで露光し、
前記パターン形成用感光体に、前記露光パターンに対応した潜像を形成し、前記被覆体を、前記パターン形成用感光体から引き離した後、現像を行い、前記基体上に前記凹凸パターンを形成する
ことを特徴とする転写型の製造方法。
【請求項４】
多段凹凸パターンを有する転写型の製造方法であって、
少なくとも一面側に密着面が形成された板状又はフィルム状の基体を用意し、前記基体の前記密着面が形成された側に、接着性を有する第１のパターン形成用感光体を塗布し、
少なくとも一面側に非密着面が形成されたフィルム状の第１の被覆体を、前記非密着面を前記基体側に向けて前記第１のパターン形成用感光体に圧着し、
前記第１のパターン形成用感光体を、第１の凹凸パターンに対応した第１の露光パターンで露光し、
前記第１のパターン形成用感光体に、前記第１の露光パターンに対応した潜像を形成し、前記第１の被覆体を、前記第１のパターン形成用感光体から引き離し、
前記第１のパターン形成用感光体に対して密着性を有する第２のパターン形成用感光体を、前記第１のパターン形成用感光体上に塗布し、
少なくとも一面側に非密着面が形成されたフィルム状の第２の被覆体を、前記非密着面を前記基体側に向けて前記第２のパターン形成用感光体に圧着し、
前記第２のパターン形成用感光体を、第２の凹凸パターンに対応した第２の露光パターンで露光し、
前記第２のパターン形成用感光体に、前記第２の露光パターンに対応した潜像を形成し、前記第２の被覆体を、前記第２のパターン形成用感光体から引き離し、
前記パターン形成用感光体の塗布工程と、前記被覆体の圧着工程と、前記凹凸パターンの形成工程と、前記被覆体の剥離工程とを、所定の回数繰り返して実施した後、現像を行い、前記基体上に前記多段凹凸パターンを形成する
ことを特徴とする転写型の製造方法。
【請求項５】
凹凸パターンを有する転写型の製造装置であって、
パターン形成用感光体を、板状又はフィルム状の基体に塗布する塗布手段と、
前記パターン形成用感光体を挟んだ状態で、前記基体とフィルム状の被覆体とを圧着する圧着手段と、
前記パターン形成用感光体を、前記凹凸パターンに対応した露光パターンで露光する露光手段と、
前記被覆体を前記パターン形成用感光体から引き離す剥離手段と、
前記露光パターンに対応した潜像が形成された前記パターン形成用感光体に、現像液を供給して現像を行い、前記基体上に前記凹凸パターンを形成する現像手段と、
前記凹凸パターンから前記現像液を除去し、前記凹凸パターンを再硬化させるための光照射を行う乾燥手段とを備えたことを特徴とする転写型製造装置。
【請求項６】
多段凹凸パターンを有する転写型の製造装置であって、
パターン形成用感光体を、板状又はフィルム状の基体に塗布する塗布手段と、
前記パターン形成用感光体を挟んだ状態で、前記基体とフィルム状の被覆体とを圧着する圧着手段と、
前記パターン形成用感光体を、所定の凹凸パターンに対応した露光パターンで露光する露光手段と、
前記被覆体を前記パターン形成用感光体から引き離す剥離手段と、
前記塗布手段、前記圧着手段、前記露光手段及び前記剥離手段が、所定の繰返回数作動した後、前記パターン形成用感光体に、現像液を供給して現像を行い、前記基体上に前記多段凹凸パターンを形成する現像手段と、
前記多段凹凸パターンから前記現像液を除去し、前記多段凹凸パターンを再硬化させるための光照射を行う乾燥手段とを備えたことを特徴とする転写型製造装置。
【請求項７】
所定の凹凸パターンを基板上に転写型を用いて形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記凹凸パターンを、請求項１乃至４のいずれか１に記載の方法を用いて製造された転写型を用いて前記基板上に形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記凹凸パターンを構成して、放電セルを画成する隔壁を、前記転写型を用いて前記基板上に形成することを特徴とする請求項７記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
共に前記凹凸パターンを構成する誘電体層と前記隔壁とを、前記転写型を用いて前記基板上に同時に形成することを特徴とする請求項８記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、パターン形成用の転写型の製造方法、転写型製造装置及びプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、特に、プラズマディスプレイパネルを製造する際に用いるパターン形成用の転写型の製造方法、転写型製造装置及びプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ガス放電パネルであるプラズマディスプレイパネルは、２枚のガラス基板に挟まれた隙間に、微小なＲＧＢ（赤青緑）に対応した多数の放電空間より構成される。隣接する表示セル間の電荷の移動を制限し、誤灯を防止するため、隣接する表示セル間は高さ１００μｍ〜１５０μｍ、幅３０μｍ〜１５０μｍの隔壁で仕切る必要がある。
【０００３】
このような立体構造を有する隔壁の作成方法として、種々な手法が現在提案されている。スクリーン印刷法、サンドブラスト法、リフトオフ法、感光性ペースト法などがその例である。
【０００４】
サンドブラスト法、リフトオフ法、感光性ペースト法などでは、位置精度やパターン形状には優れるが工程が長くなり、生産コストが高くなるという問題点を有している。一方、スクリーン印刷法においては、１回に印刷される隔壁形成用ペーストの厚さは１０μｍ前後であることから、印刷・乾燥を十数回繰り返すことの生産性の低さと電極との位置精度の調整が困難であるという問題点を有している。
【０００５】
上記問題点を解決する方法として、隔壁の形成方法として凹版や転写シートを用いた転写法が提案されている。
【０００６】
可塑性の凹版や転写シートを用いて隔壁を転写する方法は、可塑性の凹版を用いた場合が特許文献１に、可塑性の転写シートを用いた場合が特許文献２に、それぞれ記載されている。
【０００７】
従来の凹版や転写シートの作成方法は、モデル型である元型を形成し、そこから転写により凹版や転写シートを作成する。元型に金属製のモデル型を用いる場合、その作製方法は金属板を切削工具にて切削する方法や凹版印刷に用いられているような金属板を腐食させる方法などがある。
【０００８】
これらの場合、その強度は十分保たれているが、数千本にもおよぶパターンを切削することは、時間が長くかかることや格子構造や規則的に蛇行した六角形のような形状を得ることが難しいという問題点を有している。一方、元型に樹脂製のドライフィルムレジストを使用した場合、高さの異なる立体構造を形成できないという問題点を有している。
【０００９】
従来の凹版や転写シートの作成方法は、元型を金属製のモデル型あるいは樹脂製のドライフィルムレジストで作製した後、シリコーンゴムや光硬化樹脂等の転写用樹脂を用いて、元型の凹凸パターンとは逆の凸凹パターンを有する転写型を写し取る転写工程を少なくとも１回以上経る必要がある。よって、元型に転写用樹脂を塗布する際に、気泡が含有されるため、真空脱泡により気泡を取り除く作業が必要となり、工数の増加と生産タクトが長くなるという問題点を有している。
【００１０】
また、転写型ではないが、感光性樹脂積層体としては、凸版印刷に用いられる感光性のフレキソ印材がある。感光性のフレキソ版の構成は少なくとも下層から順に弾性体層、接着材層及び感光性樹脂層を有している。感光性のフレキソ版を転写型として用いるには、以下に示す問題点がある。
【００１１】
フレキソ版は、パターンの凸部表面に液体状のインクを載せ、被写体に液体状のインクを転写することで、印刷を行う版である。感光性樹脂の裏面を露光・硬化しフロアーを形成した後、パターンを前面より露光・硬化してパターンを形成するため、フレキソ版の凹部内部の形状間に高さのバラつきが存在し、転写型として使用する場合は精度が出せないという問題点を有する。
【００１２】
さらに、感光性樹脂組成物が相分離構造もしくはそれに近い構造となっていることから接着性を得るための凝集力や粘着力が乏しく、ましてや、感光性樹脂の裏面を露光・硬化しフロアーを形成した場合には甚だ凝集力や粘着力が低下してしまう。このため、フレキソ版支持体を除去した後、感光性樹脂層を裏露光し良溶剤で接着させる方法（特許文献３参照）や接着すべき面を有機活性ハロゲン含有化合物で処理し接着させる方法（特許文献４参照）では接着性が得られないという問題がある。
【００１３】
従来のフレキソ版の問題点を解決する方法として、感光性樹脂層と接着剤層の間に下引き層の熱可塑性エラストマーからなる層を介在させることで、卓越した接着性と寸法安定性とを得る方法（特許文献５参照）がある。しかし、この方法では、下引き層を新たに形成するため、工数が増加するという問題点がある。
【００１４】
何れにしろ、従来のフレキソ版並びにフレキソ版の製造方法をプラズマディスプレイパネル用隔壁の転写型として適用した場合、隔壁転写時の隔壁の高さ精度約±１μｍを満たすことは到底不可能であるという決定的な問題点を有する（特許文献６及び７参照）。
【００１５】
ここで、図１２を参照して、従来の金型から転写により転写型を作成する製造工程について説明する。
【００１６】
従来の隔壁転写用の転写型は、金型原版を切削して金型４００に隔壁パターンを形成後、紫外線硬化樹脂４１０を流し込み、裏打ちシート４２０をラミネートロール４３０により貼り付けた後（図１２（ａ）参照）、紫外ランプ４４０により紫外線４５０を照射し引きは剥がして（図１２（ｂ）参照）、シート状の転写型４６０を作成していた（図１２（ｃ）参照）。このため、金型４００の切削加工が不可避であった。
【００１７】
また、従来の金型を用いた転写型の製造方法では、１つの金型に対して、紫外線硬化樹脂の塗布工程、裏打ちシートのラミネート工程及び紫外線照射による硬化工程を、順番に行わなければならなかった。
【特許文献１】特開平８−２７３５３７号公報
【特許文献２】特開２００１−１９１３４５号公報
【特許文献３】特公平４−６８６２０号公報
【特許文献４】特公平５−５６３７４号公報
【特許文献５】特開平１１−２９５９００号公報
【特許文献６】特開２００１−２５０４７４公報
【特許文献７】特開２００２−２１６６３８公報(［０００６］参照)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
上記凹版や転写シートを製造する従来方法では、元型を作製し、かつ元型から少なくとも１回以上の転写工程を経て、凹版や転写シートを作製するため、元型の作製と脱泡工程を伴う転写工程を少なくとも１回以上行う必要がある。このため、コストと時間がかかり、凹版や転写シートを安価に大量生産できないという問題点があった。
【００１９】
このような状況のもと、転写型を用いた方法において、ＰＤＰ用背面基板の隔壁のような、大画面で高精細のものを品質等にも満足できるように形成する方法が求められていた。
【００２０】
そこで、この発明は、上記従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、ＰＤＰパネル用背面板の隔壁のような大画面で高精細のものを品質的にも満足できるように元型を用いずに転写形成できる転写型の製造方法、転写型製造装置及びプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上記課題を解決するために、請求項１記載の発明は、凹凸パターンを有する転写型の製造方法に係り、少なくとも一面側に密着面が形成された板状又はフィルム状の基体を用意し、上記基体の上記密着面が形成された側に、接着性を有するパターン形成用感光体を塗布し、上記パターン形成用感光体を、上記凹凸パターンに対応した露光パターンで露光し、上記パターン形成用感光体に、上記露光パターンに対応した潜像を形成した後、現像を行い、上記基体上に上記凹凸パターンを形成することを特徴としている。
【００２２】
また、請求項２記載の発明は、凹凸パターンを有する転写型の製造方法に係り、少なくとも一面側に密着面が形成された板状又はフィルム状の基体を用意し、上記基体の上記密着面が形成された側に、接着層を介して、パターン形成用感光体を塗布し、上記パターン形成用感光体を、上記凹凸パターンに対応した露光パターンで露光し、上記パターン形成用感光体に、上記露光パターンに対応した潜像を形成した後、現像を行い、上記基体上に上記凹凸パターンを形成することを特徴としている。
【００２３】
また、請求項３記載の発明は、凹凸パターンを有する転写型の製造方法に係り、少なくとも一面側に密着面が形成された板状又はフィルム状の基体を用意し、上記基体の上記密着面が形成された側に、接着性を有するパターン形成用感光体を塗布し、少なくとも一面側に非密着面が形成されたフィルム状の被覆体を、上記非密着面を上記基体側に向けて上記パターン形成用感光体に圧着し、上記パターン形成用感光体を、上記凹凸パターンに対応した露光パターンで露光し、上記パターン形成用感光体に、上記露光パターンに対応した潜像を形成し、上記被覆体を、上記パターン形成用感光体から引き離した後、現像を行い、上記基体上に上記凹凸パターンを形成することを特徴としている。
【００２４】
また、請求項４記載の発明は、多段凹凸パターンを有する転写型の製造方法に係り、少なくとも一面側に密着面が形成された板状又はフィルム状の基体を用意し、上記基体の上記密着面が形成された側に、接着性を有する第１のパターン形成用感光体を塗布し、少なくとも一面側に非密着面が形成されたフィルム状の第１の被覆体を、上記非密着面を上記基体側に向けて上記第１のパターン形成用感光体に圧着し、上記第１のパターン形成用感光体を、第１の凹凸パターンに対応した第１の露光パターンで露光し、上記第１のパターン形成用感光体に、上記第１の露光パターンに対応した潜像を形成し、上記第１の被覆体を、上記第１のパターン形成用感光体から引き離し、上記第１のパターン形成用感光体に対して密着性を有する第２のパターン形成用感光体を、上記第１のパターン形成用感光体上に塗布し、少なくとも一面側に非密着面が形成されたフィルム状の第２の被覆体を、上記非密着面を上記基体側に向けて上記第２のパターン形成用感光体に圧着し、上記第２のパターン形成用感光体を、第２の凹凸パターンに対応した第２の露光パターンで露光し、上記第２のパターン形成用感光体に、上記第２の露光パターンに対応した潜像を形成し、上記第２の被覆体を、上記第２のパターン形成用感光体から引き離し、上記パターン形成用感光体の塗布工程と、上記被覆体の圧着工程と、上記凹凸パターンの形成工程と、上記被覆体の剥離工程とを、所定の回数繰り返して実施した後、現像を行い、上記基体上に上記多段凹凸パターンを形成することを特徴としている。
【００２５】
また、請求項５記載の発明は、凹凸パターンを有する転写型の製造装置に係り、パターン形成用感光体を、板状又はフィルム状の基体に塗布する塗布手段と、上記パターン形成用感光体を挟んだ状態で、上記基体とフィルム状の被覆体とを圧着する圧着手段と、上記パターン形成用感光体を、上記凹凸パターンに対応した露光パターンで露光する露光手段と、上記被覆体を上記パターン形成用感光体から引き離す剥離手段と、上記露光パターンに対応した潜像が形成された上記パターン形成用感光体に、現像液を供給して現像を行い、上記基体上に上記凹凸パターンを形成する現像手段と、上記凹凸パターンから上記現像液を除去し、上記凹凸パターンを再硬化させるための光照射を行う乾燥手段とを備えたことを特徴としている。
【００２６】
また、請求項６記載の発明は、多段凹凸パターンを有する転写型の製造装置に係り、パターン形成用感光体を、板状又はフィルム状の基体に塗布する塗布手段と、上記パターン形成用感光体を挟んだ状態で、上記基体とフィルム状の被覆体とを圧着する圧着手段と、上記パターン形成用感光体を、所定の凹凸パターンに対応した露光パターンで露光する露光手段と、上記被覆体を上記パターン形成用感光体から引き離す剥離手段と、上記塗布手段、上記圧着手段、上記露光手段及び上記剥離手段が、所定の繰返回数作動した後、上記パターン形成用感光体に、現像液を供給して現像を行い、上記基体上に上記多段凹凸パターンを形成する現像手段と、上記多段凹凸パターンから上記現像液を除去し、上記多段凹凸パターンを再硬化させるための光照射を行う乾燥手段とを備えたことを特徴としている。
【００２７】
また、請求項７記載の発明は、所定の凹凸パターンを基板上に転写型を用いて形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、上記凹凸パターンを、請求項１乃至４のいずれか１に記載の方法を用いて製造された転写型を用いて上記基板上に形成することを特徴としている。
【００２８】
また、請求項８記載の発明は、請求項７記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、上記凹凸パターンを構成して、放電セルを画成する隔壁を、上記転写型を用いて上記基板上に形成することを特徴としている。
【００２９】
また、請求項９記載の発明は、請求項８記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、共に上記凹凸パターンを構成する誘電体層と上記隔壁とを、上記転写型を用いて上記基板上に同時に形成することを特徴としている。
【発明の効果】
【００３０】
この発明の転写型の製造方法の構成によれば、直接基体上に凹凸パターン（転写パターン）を形成することによって、加工の困難な金型作成が不要となり、コストを削減し、製造期間を短縮することができる。
また、転写型の基体の、パターン形成用感光体としての例えばパターン形成樹脂との界面に密着面を形成することで、現像後、所望の凹凸パターンが形成されたパターン形成樹脂は基体上に強固に固着されるため、従来の転写版や転写シートとして用いても、凹凸パターン（転写パターン）の剥がれ落ちが無くなり、パターン転写時の耐久性を向上させることができる。
また、基体上に、例えば表面処理により密着面を形成し、接着層として熱硬化接着剤層をコートすることによって、パターン形成用感光体としての例えばパターン形成樹脂との密着力がより強固なものとなり、パターン転写時の耐久性を向上させることができる。
【００３１】
また、被覆体を被せることによって、ゴミや傷からパターン形成用感光体としての例えばパターン形成樹脂(パターン形成層)を保護することができると共に、露光時にパターン形成樹脂が例えばマスクに付着することを防止することができる。
また、被覆体表面に、例えば、シリコーンやフッ素やテフロン（登録商標）樹脂などの極性がより小さくなるような樹脂を塗布して、非密着面を形成することによって、被覆体の剥離性を向上させることができると共に、剥離力の調整を行うことができる。また、潜像形成後、被覆体に潜像が形成されたパターン形成樹脂の密着を防止する機能を有するため、転写型製造時の歩留まりを向上させることができる。
また、基体上に複数の異なる潜像を有するパターン形成用感光体としての例えばパターン形成樹脂を現像し、多段の凹凸パターン（転写パターン）を得ることにより、複雑で立体的な凹凸パターン（転写パターン）を有する転写型を容易に作成することができる。
【００３２】
この発明の転写型製造装置の構成によれば、一連の転写型の製造工程において、基体上へのパターン形成用感光体としての例えばパターン形成樹脂の塗布工程、被覆体の圧着工程、露光工程、被覆体の剥離工程、現像工程及び乾燥工程の並列処理が可能となるため連続した転写型の製造が可能となる。
さらに、本発明の転写型の製造装置を用いれば、基体上に連続して、一段および多段の転写型を作成できるため、転写型の生産性が向上し、製造コストの削減と製造期間の短縮が可能となり、安価に大量に転写型を供給可能となる。
続して転写型を製造することができる。
【００３３】
この発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の構成によれば、この発明の転写型の製造方法によって製造した安価な転写型を用いて、基板上に凹凸パターンを形成することによって、プラズマディスプレイパネルの製造コストを低減し生産性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
まず、この発明の実施の形態について説明する。
【００３５】
予めスプレー法を用いて、例えばシリコーン膜を、カバーフィルム（被覆体）上に散布して非密着面を形成し、ダイコータにより液体状のパターン形成樹脂（パターン形成用感光体）をカバーフィルムの非密着上に塗工する。
その後、予めベースフィルム（基体）上にプラズマ処理を施して密着面を形成したベースフィルムをラミネータを用いてベースフィルムの密着面とカバーフィルムの非密着面との間にパターン形成層を挟んだ状態で、上下のラミネートローラーで加圧して、貼り合わせるラミネート工程を実行し、露光フィルムを作成する。
【００３６】
その後、ベースフィルム側からマスクを介して、光を照射し、パターン形成樹脂に所望
のパターンを硬化させ潜像を形成する露光工程を実行し、カバーフィルムを剥離ローラを介してパターン形成樹脂から引き離す剥離工程を実施し、ベースフィルム上のパターン形成樹脂の未硬化部分をスプレーノズルを介して現像液を吹き付けて洗い流す。
【００３７】
次に、ベースフィルム上に凹凸パターンを形成後、現像液を水及びドライエアーで除去する現像工程を実行し、再度、光を照射し、ベースフィルム上に形成した凹凸パターン樹脂の結合を促進し、凹凸パターンの強度とベースフィルムとの結合を確実とする乾燥工程を実施し、ベースフィルム上の凹凸パターン表面にシリコーンやフッ素やテフロン（登録商標）樹脂など剥離膜をスプレーにより塗布する剥離膜形成工程を実施する。このようにして、転写型の製造について、生産性を向上させ低コスト化を図ることができる。
【００３８】
ベースフィルムとパターン形成樹脂の間に接着剤を形成する方法としては、複数のダイコータを用いるか、或いは、多層コータを用いることでプラズマ処理を施したベースフィルム上に接着剤をコートし、連続してパターン形成樹脂をコートするウエット・オン・ウエット手法を実施することで、ベースフィルム上に凹凸パターン有するパターン形成層が強固に固定される。このため、転写型の寿命が向上することで、一段と生産性を向上させることができる。
【００３９】
ここで、この実施の形態の転写型に用いたベースフィルムの素材としては、可塑性を有する金属シートやプラスチックフィルムが望ましく、特に望ましくは光透過性を有するプラスチックフィルム素材であって、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリプロピレン、セルロースアセテート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネイト、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ノルボネン系樹脂、メチルメタクリレート系樹脂、ガラス系樹脂、アクリル、ポリイミド、難溶性ＰＶＡが望ましい。
【００４０】
この実施の形態のベースフィルム上の密着面は、ベースフィルム表面を、（１）酸化する方法か、或いは（２）凹凸を施す方法により形成される。
【００４１】
（１）表面の酸化：プラスチック表面にカルボニル基やカルボキシル基が生じることにより、表面が酸化されて極性化して接着力を大きくするものである。この方法には（Ａ）コロナ放電処理（電極と金属ロールの間に高圧コロナ発生させフィルムに放電処理を行う）、（Ｂ）プラズマ処理（低減ガス下のグロー放電プラズマにより表面の酸化と凹凸が起こり、コロナ処理よりも強い効果がある）、（Ｃ）電子線処理（電子線を透過させ、様々な反応を表面に引き起こさせる）、（Ｄ）エッチング（重クロム酸カリ、次亜塩素酸ソーダによる薬剤処理）、（Ｅ）火炎処理（印刷インキの付着性改良のための高温処理）、熱風処理（加熱空気による酸化処理）及び（Ｆ）オゾン・紫外線処理（オゾン・紫外線により親水性基を形成させる）がある。
【００４２】
特に、（Ｂ）のプラズマ処理は、ガスを選択することにより表面張力を制御できるので表面改質効果が大きく、また、装置の進歩も著しく、最近では作業効率の良い連続式で大気圧仕様のものが開発されている。
【００４３】
（２）表面の凹凸化：（Ａ）サンドブラスト（サンドブラストにより接着表面積が増大）及び（Ｂ）溶剤処理（トルエン、パークロロエチレンなどを高温処理し、結晶性プラスチックの非結晶部分、低分子量部分が溶解し凹凸ができる）がある。
【００４４】
この実施の形態のベースフィルム上の密着面は、上記のベースフィルム表面を（１）酸化する方法か、或いは（２）凹凸を施す方法により表面処理を施したものである。
【００４５】
この実施の形態の接着剤層は硬化後、粘着性のない接着剤が良く、光硬化性接着剤、溶剤型接着剤或いは熱硬化接着剤が好ましく、特に好ましい接着剤層はホットメルト型接着剤である。
【００４６】
この実施の形態のパターン形成樹脂は、液体状化或いは固体状の感光性樹脂や感光性シリコーン樹脂であり、ネガ、ポジの何れも使用可能である。特に好ましい感光性樹脂は、感光性に加えて耐熱性や耐久性、機械的強度などの性能を有する感光性エンジニアリングプラスチック（以下、エンプラという。）である。感光性エンプラとして特に好ましいものは、感光性ポリイミドである。また、接着性を有する光硬化性のポリイミド樹脂や光硬化性接着剤は、ベースフィルムの密着面と接着性が良好であるため特に好ましい。
【００４７】
この実施の形態のベースフィルムの密着面上へのパターン形成樹脂の塗布方法は、ブレード塗装、流延塗装、ローラー塗装、転写塗装、刷毛塗りなどのいずれの塗装方式であっても良い。
【００４８】
この実施の形態のカバーフィルムは、基材にポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリプロピレン、セルロースアセテート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネイト、シリコン樹脂、フッ素系樹脂、ノルボネン系樹脂、メチルメタクリレート系樹脂、ガラス系樹脂、アクリル、ポリイミド、難溶性ＰＶＡを用いても良いが、基材表面にシリコーンやフッ素やテフロン（登録商標）樹脂などの極性がより小さくなるような樹脂を塗布しても良い。
【００４９】
この実施の形態のカバーフィルムとベースフィルムには、両面活性剤金属塩やイミダリン型両性界面活性剤などの混合して帯電防止処理が施されている。
カバーフィルムとベースフィルムに帯電防止処理を施すことによって、ゴミの付着を防止でき、プラズマディスプレイパネル製造時の歩留まりを向上させることができる。
【００５０】
次に、この実施の形態のパターン形成層への潜像の形成方法としては、ベースフィルム、或いは、カバーフィルムのどちらか一方向より、所望パターンを描写された露光マスクを介して光を照射するか、予め、ベースフィルムかカバーフィルムのどちらかに、所望パターンをインクジエット法や熱転写法によってマスク像を形成しておき、光を照射するか、または、レーザ光により所望パターンを描写して所望パターンの潜像を形成しても良い。
例えば、露光マスクを用いることによって、転写型の位置精度を向上させることができると共に、マーカの位置も一度に形成することができる。
また、所望の凹凸パターンをベースフィルムかカバーフィルムのどちらか一方にインクジェット法や熱転写法によってマスク像を形成することで、高価なマスクを製作する必要が無くなると共に、パターン形状が容易となるため、多品種少量生産に適している。
【００５１】
次に、この実施の形態の転写型のパターン形成樹脂に形成された潜像の現像方法は、アルカリ系や炭化水素系の現像液を用いて、スプレー現像やディッピッング現像によりパターンが形成される。特に好ましい現像方法としては、現像時にアミンを含む反応性現像液を用いる反応現像画像形成（ＲＤＰ）が高精細の現像パターンを形成できることから好ましい。
反応現像画像形成（ＲＤＰ）法の大きな特徴は、現像時にアミンを含む反応性現像液で現像を行うことにより、アミンとポリイミド主鎖中のイミド基との反応によってポリマー主鎖を切断して可溶化する点である。これはポリイミドに感光性を付与するための側鎖官能基を導入する必要がないことを意味し、感光性ポリイミドの分子設計が容易になるのみでなく、側鎖導入によるポリイミドの諸特性の低下も避けられる利点がある。
【００５２】
ＲＤＰ法はカルボン酸類塩基の一つであるイミド基とアミンとの反応を利用していることから、イミド基以外のカルボン酸類塩基であるエステル基やカーボネート結合などを主鎖中に有する他のエンプラにも原理上応用可能であり、特別な側鎖官能基を持たない種々の市販エンプラに容易に感光性を付与できる。このため、感光性に加え、耐熱性や耐久性、機械的強度などの性能を有する転写型を安価に大量に供給することが可能となる。
【００５３】
上記の手順で作成された転写型に、光を照射し、凹凸形状を有するパターン形成層の反応を促進させた後、スプレー法や蒸着法によりシリコーンやフッ素やテフロン（登録商標）樹脂などの極性がより小さくなるような剥離膜を形成する。
転写型の凹凸パターン表面にシリコーンやフッ素やテフロン（登録商標）樹脂などの極性がより小さくなるような剥離膜をスプレー法などにより形成することで、隔壁転写時の剥離性が向上する。このため、転写時の欠陥が防止できるとともに、転写型の寿命が延び、コスト低下につながる。
【００５４】
また、凹凸パターン形成後に、加熱圧縮を行うことによって、現像により取り除かれた部分に熱硬化性の接着剤が染み出すと共に、圧縮されたパターン形成樹脂が圧縮から開放されて元の高さに戻るとき、パターン側面に熱硬化性の接着剤が付着し、ベースフィルムとの接着強度が増すと共に、ベースフィルム側と接する凹凸パターンの角部がＲ化される。このため、転写型として用いた場合、離型性が向上することで、欠陥の防止と転写型の寿命が延びる。
また、ベースフィルム上に凹凸を有する転写型に、酸素プラズマアッシングや極低温ブラストにより、凹凸パターン表面の角部をＲ化することによって、隔壁転写時の剥離性が向上する。このため、転写時の欠陥の発生を防止するとともに、転写型の寿命が延びてコスト低下につながる。
【００５５】
以下に、図面を参照して、この発明の実施例について詳細に説明する。
【００５６】
(第１の実施例)
この発明の第１の実施例を図１及び図２に示す。
【００５７】
図１及び図２は、それぞれ、この発明に従って凹凸パターンを有する転写型の好適な一実施例を概略的に示した側面図であり、図１は、この発明の第１の実施例に係るプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の隔壁の高さが一定な隔壁を転写して作成するための転写型の製造方法を説明するための工程図、また、図２は、同転写型を製造するための転写型製造装置の構成を示す図である。
【００５８】
この例の転写型製造装置１は、図２に示すように、ラミネート部２と、露光部３と、剥離部４と、洗浄部５と、乾燥部６とを備えてなっている。
ラミネート部２は、ベースフィルム７が巻き取られたベースフィルム供給用ローラ８と、剥離部４側から送られるカバーフィルム９を移送するカバーフィルム供給用ローラ１１と、ベースフィルム７とカバーフィルム９とをパターン形成樹脂１２を介して挟み込んで圧着し、露光フィルム１３を形成する一対のラミネートロール１４，１４と、パターン形成樹脂１２を供給するためのパターン形成樹脂供給部１５と、ブレード１６と有している。
【００５９】
露光部３は、紫外線１８を照射する紫外線照射装置１９と、マスク２１とを有している。紫外線照射装置１９としては、例えば、高圧水銀灯が用いられる。
剥離部４は、一対の剥離ロール２３，２３と、カバーフィルム供給ロール２４を有している。
洗浄部５は、現像用の複数の洗浄用スプレー部２６，２６，…を有している。
乾燥部６は、転写型巻き取りローラ２８と、紫外線２９を照射する紫外線照射装置３１と、ブロワー３２とを有している。
この例では、無端状のカバーフィルム９が、ラミネート部２→露光部３→剥離部４→ラミネート部２を順方向とする移送経路に沿って循環的に移送されるように構成されている。
【００６０】
次に、図１及び図２を参照して、この例の転写型製造装置１を用いた転写型の製造方法について説明する。
ベースフィルム７として、厚さ５００μｍのＰＥＴフィルムをカバーフィルム９としては厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを用いた。
【００６１】
大気圧プラズマ発生装置を用い、Ｎ２ガス中で発生させたグロー放電を、ベースフィルム７の表面に均一に照射することで、酸化と凹凸を発生させ表面処理を施し、ＰＥＴフィルム上に密着面７ａを形成した後、ベースフィルム用供給ロール８に巻き取った。
【００６２】
カバーフィルム９は、ＰＥＴフィルムの表面にシリコーンをスプレーにより塗布し非密着面９ａを形成した後、カバーフィルム供給ロール１１より供給される。
【００６３】
次に、ベースフィルム７の密着面７ａ上にパターン形成樹脂(パターン形成層)１２として、液体状の光硬化性ポリイミド樹脂をブレード１６を用いて塗工し、ベースフィルム７とカバーフィルム９の間に光硬化性ポリミド樹脂を挟んだ状態で、上下のラミネートロール１４，１４の間に通して加圧することで、ラミネートを行い、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムをカバーフィルム９として張り合わせ、気泡の含有のない露光フィルム１３（ベースフィルム７／パターン形成樹脂１２／カバーフィルム９の３層構成）を得た(図１（ａ）及び図２（ａ）参照)。
【００６４】
次に、マスク２１を介して、紫外線１８を露光フィルム１３のベースフィルム７側から照射してパターンの潜像３４（硬化パターン）を形成した（図１（ｂ）及び図２（ｂ）参照）。
【００６５】
次に、剥離ローラ２３，２３によりカバーフィルム９を剥がした（図１（ｃ）及び図２（ｃ）参照）。
【００６６】
その後、未硬化の光硬化性ポリイミド樹脂をエタノールアミン／NMP（Ｎ−Ｍｅｔｈｙｌ−２−ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）／水= １／１／１の現像液を用いた洗浄用スプレー部２６，２６，…により反応現像を行い、温風を吹きかけて、現像液を揮発除去した（図１（ｄ）及び図２（ｄ）参照）。
【００６７】
その後、紫外線２９を照射し、再硬化させ、ベースフィルム７に凹凸パターンを形成した（図１（ｅ）及び図２（ｅ）参照）。
【００６８】
図中に示してはいないが、ベースフィルム７上の凹凸パターンの表面にシリコーンをスプレーで塗布し、シリコーン皮膜を形成して転写型３５を作成した。
上記の手順で、例えば、ストライプ隔壁の逆凹凸を有するストライプ転写用の転写型を作成した。
【００６９】
このように、この例の構成によれば、直接ベースフィルム７上に凹凸パターン（転写パターン）を形成することによって、加工の困難な金型作成が不要となり、コストを削減し、製造期間を短縮することができる。
また、転写型のベースフィルム７と、パターン形成樹脂１２との界面に密着面７ａを形成することで、現像後、所望の凹凸パターンが形成されたパターン形成樹脂１２はベースフィルム７上に強固に固着されるため、従来の転写版や転写シートとして用いても、凹凸パターン（転写パターン）の剥がれ落ちが無くなり、パターン転写時の耐久性を向上させることができる。
【００７０】
また、カバーフィルム９を被覆することによって、ゴミや傷からパターン形成樹脂１２を保護することができると共に、露光時にパターン形成樹脂１２が例えばマスク２１に付着することを防止することができる。
また、カバーフィルム９表面に、例えば、シリコーンやフッ素やテフロン（登録商標）樹脂などの極性がより小さくなるような樹脂を塗布して、非密着面９ａを形成することによって、カバーフィルム９の剥離性を向上させることができると共に、剥離力の調整を行うことができる。
また、潜像形成後、カバーフィルム９に潜像が形成されたパターン形成樹脂１２の密着を防止する機能を有するため、転写型製造時の歩留まりを向上させることができる。
【００７１】
(第２の実施例)
この発明の第２の実施例を図３及び図４に示す。
【００７２】
図３及び図４は、それぞれ、この発明に従って高さが２段階に異なる凹凸パターンを有する転写型の好適な一実施例を概略的に示した側面図であり、図３は、この発明の第２の実施例に係るプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の隔壁の高さが２段階に異なる隔壁を転写して作成するための転写型の製造方法を説明するための工程図、また、図４は、同転写型を製造するための転写型製造装置の構成を示す図である。
【００７３】
この例の転写型製造装置１Ａは、図４に示すように、第１ラミネート部３７と、第１露光部３８と、第１剥離部３９と、第２ラミネート部４１と、第２露光部４２と、第２剥離部４３と、洗浄部４４と、乾燥部４５とを備えてなっている。
第１ラミネート部３７は、ベースフィルム４７が巻き取られたベースフィルム供給用ローラ４８と、ベースフィルム４７と、第１剥離部３９側からカバーフィルム供給用ローラ４９を介して送られてくるカバーフィルム５１とをパターン形成樹脂５２を介して挟み込んで露光フィルム５３を形成する一対のラミネートローラ５４，５４と、パターン形成樹脂５２を供給するためのパターン形成樹脂供給部５５と、ブレード５６と有している。
【００７４】
第１露光部３８は、紫外線５７を照射する紫外線照射装置５８と、マスク５９とを有している。紫外線照射装置５８としては、例えば、高圧水銀灯が用いられる。
第１剥離部３９は、一対の剥離ローラ６１，６１を有している。
第２ラミネート部４１は、第１剥離部３９から送られてきたベースフィルム４７と、第２剥離部４３側からカバーフィルム供給用ローラ６２を介して送られてくるカバーフィルム６３とをパターン形成樹脂６４を介して挟み込んで露光フィルム６５を形成する一対のラミネートローラ６６，６６と、パターン形成樹脂６４を供給するためのパターン形成樹脂供給部６７と、ブレード６８と有している。
【００７５】
第２露光部４２は、紫外線６９を照射する紫外線照射装置７１と、マスク７２とを有している。紫外線照射装置７１としては、例えば、高圧水銀灯が用いられる。
第２剥離部４３は、一対の剥離ローラ７３，７３を有している。
洗浄部４４は、現像用の複数の洗浄用スプレー部７４，７４，…を有している。
乾燥部４５は、転写型巻き取りローラ７５と、紫外線７６を照射する紫外線照射装置７７と、ブロワー７８とを有している。
【００７６】
この例では、無端状のカバーフィルム５１が、第１ラミネート部３７→第１露光部３８→第１剥離部４１→第１ラミネート部３７を順方向とする移送経路に沿って循環的に移送されると共に、無端状のカバーフィルム６３が、第２ラミネート部４１→第２露光部４２→第２剥離部４３→第２ラミネート部４１を順方向とする移送経路に沿って循環的に移送されるように構成されている。
【００７７】
次に、図３及び図４を参照して、この例の転写型製造装置１Ａを用いた転写型の製造方法について説明する。
第１の実施例の場合と同様に、ベースフィルム４７とカバーフィルム５１（６３）を準備する。
【００７８】
次に、ベースフィルム４７の密着面４７ａ上に第一のパターン形成樹脂(パターン形成層)５２として、第一の液体状の光硬化性ポリイミド樹脂をブレード５６を用いて塗工し、ベースフィルム４７と第一のカバーフィルム５１の間に光硬化性ポリイミド樹脂を挟んだ状態で、上下の第一のラミネートロール５４，５４の間に通して加圧することで、ラミネートを行い、厚さ１００μｍのＰＥＴフィルムを第一のカバーフィルム５１として張り合わせ、気泡の含有のない第一の露光フィルム５３（ベースフィルム４７／パターン形成樹脂５２／カバーフィルム５１の３層構成）を得た（図３（ａ−１）及び図４（ａ−１）参照)。）
【００７９】
次に、第一のストライプ状の露光パターンを有する第一のマスク５９を介して、紫外線５７を第一の露光フイルム５３のベースフィルム４７側から照射して第一のストライプパターンの潜像８１（硬化パターン）を形成した（図３（ｂ−１）及び図４（ｂ−１）参照）。
【００８０】
次に、第一の剥離ローラ６１により第一のカバーフィルム５１を剥がした（図３（ｃ−１）及び図４（ｃ−１）参照）。
【００８１】
その後、再度、第二のパターン形成樹脂(パターン形成層)６４として、第二の液体状の光硬化性ポリイミド樹脂をブレード６８を用いて塗工し、ベースフィルム４７と第２のカバーフィルム６３の間に第二のパターン形成樹脂６４としての光硬化性ポリイミド樹脂を挟んだ状態で、上下の第二のラミネートロール６６，６６の間に通して加圧することで、ラミネートを行い、厚さ５００μｍのＰＥＴフィルムを第二のカバーフィルム６３として張り合わせ、気泡の含有のない第二の露光フィルム６５（ベースフィルム４７／第一のパターン形成樹脂５２／第二のパターン形成樹脂６４／第二のカバーフィルム６３の４層構成）を得た(図３（a−２）及び図４（a−２）参照)。
【００８２】
次に、第二のストライプ状の露光パターンを有するマスク７２を介して、紫外線６９を第二の露光フィルム６５のベースフィルム４７側から照射して第二のパターンの潜像８３（硬化パターン）を形成した（図３（ｂ−２）及び図４（ｂ−２）参照）。
【００８３】
次に、第二の剥離ローラ７３，７３により第二のカバーフィルム６３を剥がした（図３（ｃ−２）及び図４（ｃ−２）参照）。
【００８４】
その後、未硬化の光硬化性ポリイミド樹脂をエタノールアミン／NMP（Ｎ−Ｍｅｔｈｙｌ−２−ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）／水= １／１／１の現像液を用いた現像用の洗浄スプレー部７４，７４，…により反応現像を行った（図３（ｄ）及び図４（ｄ）参照）。
【００８５】
その後、ブロワー７８で温風を吹きかけて、現像液を揮発除去した後、紫外線７６を照射し、樹脂の硬化を促進させ、ベースフィルム４７上に高さの異なる凹凸パターンを形成した（図３（ｅ）及び図４（ｅ）参照）。
【００８６】
図中に示してはいないが、ベースフィルム４７上の凹凸パターンの表面にシリコーンをスプレーで塗布し、シリコーン皮膜を形成し、高さの異なる隔壁パターンを有する転写型を作成した。
上記の手順で、例えば、横隔壁の高さが縦隔壁の高さより２０μｍ低い段差隔壁の逆凹凸を有する段差井桁の転写型を作成した。
【００８７】
このように、この例の構成によれば、ベースフィルム４７上に複数の異なる潜像を有するパターン形成樹脂５２、６４を現像し、多段の凹凸パターン（転写パターン）を得ることにより、複雑で立体的な凹凸パターン（転写パターン）を有する転写型を容易に作成することができる。
【００８８】
(第３の実施例)
以下にこの発明の第３の実施例について説明する。この発明の第３の実施例を図５及び図６に示す。
【００８９】
図５及び図６は、それぞれ、この発明に従って凹凸パターンを有する転写型の好適な一実施例を概略的に示した側面図であり、図５は、この発明の第３の実施例に係るプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の隔壁の角部にＲ形状を有する隔壁を転写して作成するための転写型の製造方法を説明するための工程図、また、図６は、同転写型を製造するための転写型製造装置の構成を示す図である。
【００９０】
この例の転写型製造装置１Ｂは、図６に示すように、塗工部８６と、第１乾燥部８７と、露光部８８と、洗浄部８９と、第２乾燥部９１と、加熱圧縮部９２と、冷却部９３とを備えてなっている。
塗工部８６は、ベースフィルム９４が巻き取られたベースフィルム供給用ローラ９５から供給されたベースフィルム９４の密着面９４ａ上に接着剤層９６を形成するためのダイコータ９７と、接着剤層９６が形成されたベースフィルム９４にパターン形成樹脂(パターン形成層)９８を塗布するためのダイコータ９９とを有している。
【００９１】
第１乾燥部８７は、熱風を吹き当ててパターン形成樹脂９７を乾燥させるための乾燥炉１０１を有している。
露光部８８は、紫外線１０２を照射する紫外線照射装置１０３と、マスク１０４とを有している。紫外線照射装置１０３としては、例えば、高圧水銀灯が用いられる。
いる。
洗浄部８９は、現像用の複数の洗浄用スプレー部１０５，１０５，…を有している。
第２乾燥部９１は、ブロワー１０６と、紫外線１０７を照射する紫外線照射装置１０８とを有している。
加熱圧縮部９２は、加熱炉１０９，１０９と、一対のラミネータローラ１１１，１１１からなる加圧ラミネータ１１２とを有している。
冷却部９３は、ブロワー１１３，１１３と、転写型巻き取りローラ１１４とを有してい
【００９２】
次に、図５及び図６を参照して、この例の転写型製造装置１Ｂを用いた転写型の製造方法について説明する。
ベースフィルム９４として、厚さ５００μｍのＰＥＴフィルムを用いた。
【００９３】
大気圧プラズマ発生装置を用い、Ｎ２ガス中で発生させたグロー放電を、ベースフィルム９４の表面に均一に照射することで、酸化と凹凸を発生させ  表面処理を施し、ＰＥＴフィルム上に密着面９４ａを形成した後、ベースフィルム用供給ロール９５に巻き取った。
【００９４】
次に、ベースフィルム９４の密着面９４ａ上に接着剤層９６としてポリエステル系ホットメルト樹脂をダイコータ９７により塗工後、パターン形成樹脂(パターン形成層)９８として液体状の感光性ポリイミド樹脂をダイコータ９９を用い連続塗工を行い、乾燥炉１０１により熱風乾燥を行うことで、露光フィルム（ベースフィルム９４／接着剤層９６／パターン形成樹脂９８の３層構成）を得た（図５（ａ）及び図６（ｉ）〜（ｊ）参照）。
【００９５】
次に、マスク１０４を介して、紫外線１０２を露光フィルム１００のベースフィルム９４側から照射してパターンの潜像１１５（硬化パターン）を形成した（図５（ｂ）及び図６（ｋ）参照）。
【００９６】
次に、露光した感光性ポリイミド樹脂を現像液としてアルカリ水溶液を用いた現像用の洗浄スプレー部１０５により現像を行い、ブロワー１０６により温風を吹きかけて、水分を除去した後、紫外線１０７を照射し、再硬化させ、ベースフィルム９４上に凹凸パターンを形成した後、加熱炉１０９で１００℃に加熱し、接着剤層９６を溶融させた状態で加圧ラミネータ１１２により加圧後冷却することで、転写型にＲ部１１６を形成する（図５（ｄ）〜（ｇ）及び図６（ｌ）〜（ｏ）参照）。
【００９７】
図中に示してはいないが、ベースフィルム９４上の凹凸パターンの表面にシリコーンをスプレーで塗布し、シリコーン皮膜を形成し、転写型を作成した。
【００９８】
このように、この例の構成によれば、凹凸パターン形成後に、加熱圧縮を行うことによって、現像により取り除かれた部分に熱硬化性の接着剤が染み出すと共に、圧縮されたパターン形成樹脂９８が圧縮から開放されて元の高さに戻るとき、パターン側面に熱硬化性の接着剤が付着し、ベースフィルム９４との接着強度が増すと共に、ベースフィルム９４側と接する凹凸パターンの角部が滑らかになるように変形してＲ部１１６が形成される。このため、転写型として用いた場合、離型性が向上することで、欠陥を防止することができると共に、転写型の長寿命化を図ることができる。
【００９９】
(第４の実施例)
この発明の第４の実施例を図７乃至図１０に示す。
【０１００】
図７は、この発明の第４の実施例に係るプラズマディスプレイパネルの構成を説明するための説明図、図８は、同プラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための説明図、図９は、同プラズマディスプレイパネルの製造方法のうち、背面ガラス基板に白色誘電体層及び隔壁を形成する白色誘電体層・隔壁形成工程を説明するための説明図、また、図１０は、同白色誘電体層・隔壁形成工程を説明するための工程図である。
【０１０１】
この例では、プラズマディスプレイパネルの製造方法のうち、背面ガラス基板に白色誘電体層及び隔壁を形成する白色誘電体層・隔壁形成工程を実施する際に、上述した第１の実施例の製造方法で製造した転写型としての凹板を用いる。
この例に係るプラズマ表示装置は、３電極面放電方式ＡＣ型のプラズマ表示装置であり、背面基板のアドレス電極と前面基板の走査電極との間で表示（発光）すべき放電セルを選択する書込放電を行い、次に、前面基板の走査電極と維持電極との間で選択したセルの面放電による維持放電（表示放電）を行うように構成されている。走査電極と維持電極とは電極対を構成している。
このようなプラズマディスプレイパネルで、背面基板の内面に、赤色、緑色、及び青色の各蛍光体層を形成して多色発光を可能としたカラープラズマディスプレイ装置が提供されている。
上記プラズマ表示装置の主要部を構成するプラズマディスプレイパネル１２１は、図７に示すように、前面基板１２２と、背面基板１２３とが互いに対向するように配置され、前面基板１２２と背面基板１２３との間に放電ガス空間１２４が形成されて概略構成されている。
【０１０２】
前面基板１２２は、ガラス等の透明材料からなる前面ガラス基板１２５と、前面ガラス基板１２５の内面に行方向に沿って互いに平行に形成された酸化錫やＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなる透明電極１２６ａ，１２７ａ及び透明電極１２６ａ，１２７ａの一部にそれぞれ抵抗値を小さくするためのＡｌ，Ｃｕ、Ａｇ等からなるバス電極１２６ｂ，１２７ｂからなる走査電極１２６及び維持電極１２７と、走査電極１２６及び維持電極１２７を被覆するＰｂＯ（酸化鉛）のような低融点ガラス等からなる透明誘電体層１２８と、動作中に発生する放電から透明誘電体層１２８を保護するために、二次電子放出係数が大きく、耐スパッタ性に優れたＭｇＯ（酸化マグネシウム）等からなる保護膜１２９とを備えてなっている。
【０１０３】
また、背面基板１２３は、ガラス等の透明材料からなる背面ガラス基板１３０と、背面ガラス基板１３０の内面に列方向に沿って互いに平行に形成されたＡｌ，Ｃｕ、Ａｇ等からなるアドレス電極１３１と、アドレス電極１１１を被覆する白色誘電体層１３２と、Ｈｅ（ヘリウム）、Ｎｅ（ネオン）、Ｘｅ（キセノン）等の放電用ガスが単独で又は混合されて充填され上記放電ガス空間１２４を確保するとともに個々の放電セルを区切るために垂直方向に沿って形成された低融点ガラス等からなる隔壁１３３と、隔壁１３３によって画成される放電セルの底部や側部に配置され放電用ガスの放電により発生する紫外線を可視光に変換する赤色、緑色、及び青色の各蛍光体層に塗り分けられた蛍光体層１３４とを備えてなっている。
ここで、蛍光体材料のうち、赤色蛍光体としては、（Y，Gｄ）BO：Eu、（Y，Gｄ）BO３：Eu、緑色蛍光体としては、Zn２SiO４：Mn、青色蛍光体としては、BaMgAl１０O１７：Euが用いられる。
【０１０４】
この３電極面放電方式ＡＣ型のプラズマディスプレイパネル１２１の製造方法について説明する。
まず、図７に示すように、前面基板１２２を製造するために、前面ガラス基板１２５の内面に水平方向Ｈに沿って平行に透明電極１２６ａ，１２７ａを形成する（ステップＳＡ１１（図８））。
次に、抵抗値を小さくするためのバス電極１２６ｂ，１２７ｂを水平方向に沿って透明電極１２６ａ，１２７ａの上に（図７においては下面側に）形成する（ステップＳＡ１２）。すなわち、電極材料として銀を選択する場合は、銀粉体とガラスフリットと有機バインダとからなる銀ペーストを、スクリーン印刷等によってパターニングし、この後、銀ペーストを焼成処理して、有機バインダの焼失とガラスフリットの軟化を行い、バス電極パターンを前面ガラス基板１２５に固着させてバス電極１２６ｂ，１２７ｂを形成する。
【０１０５】
こうして、透明電極１２６ａ，１２７ａ及びバス電極１２６ｂ，１２７ｂとから走査電極１２６及び維持電極１２７が形成される。
次に、走査電極１２６及び維持電極１２７を被覆する透明誘電体層１２８を形成する（ステップＳＡ１３）。すなわち、ガラスフリットと有機バインダとからなるガラスペーストを、スクリーン印刷やテーブルコータ等によって形成し、この後、ガラスペーストを焼成処理して、有機バインダの焼失とガラスフリットの軟化を行い、透明誘電体層パターンを前面ガラス基板１２５に固着させて透明誘電体層１２８を形成する。
次に、透明誘電体層１２８を放電から保護するための保護膜１２９を形成する（ステップＳＡ１４）。こうして、前面基板１２２が完成する。
【０１０６】
一方、図７に示すように、背面基板１２３を製造するために、背面ガラス基板１３０の上面に垂直方向に沿って平行にアドレス電極１３１を形成する（ステップＳＢ１１（図８））。すなわち、電極材料として銀を選択する場合は、銀粉体とガラスフリットと有機バインダとからなる銀ペーストを、スクリーン印刷等によってパターニングし、この後、銀ペーストを焼成処理して、有機バインダの焼失とガラスフリットの軟化を行い、アドレス電極パターンを背面ガラス基板１３０に固着させてアドレス電極１３１を形成する。
次に、アドレス電極１３１を被覆する白色誘電体層１３２と、放電セルを画成するためのストライプ状の隔壁１３３とを形成する（ステップＳＢ１２）。
【０１０７】
この白色誘電体層・隔壁形成工程では、凹板を用いた転写法を採用する。
まず、図１０（ａ）に示すように、形成すべき隔壁パターンの転写型としての凹部１３６ａを有する凹板１３６を用意する。この凹板１３６は、例えば、第１の実施例の製造方法によって製造された転写型を用いる。
次に、同図（ｂ）に示すように、感光性の絶縁ペースト１３７をスキージ１３８により凹部１３６ａを含む凹板１３６の全面に塗布する（ステップＳＤ１１（図９））。
【０１０８】
次に、同図（ｃ）に示すように、予め、アドレス電極１３１を形成した透明な背面ガラス基板１３０をアドレス電極面を凹板１３６と対向させ（ステップＳＤ１２）、同図（ｄ）に示すように、背面ガラス基板１３０を凹板１３６に重ねた状態で背面ガラス基板１３０の裏面から紫外線を照射して、感光性の絶縁ペースト１３７を固化する（ステップＳＤ１３）。
次に、同図（ｅ）に示すように、凹板１３６を剥離して、凹部１３６ａのパターンを転写することにより（ステップＳＤ１４）、アドレス電極１３１を被覆する白色誘電体層１３２の形成と、同時に隔壁１３３を形成する。
【０１０９】
次に、隔壁１３３，１３３間に蛍光体層１３４を形成する（ステップＳＢ１３（図８））。
次に、背面ガラス基板１３０の外周部に、シールフリットを塗布し、これを焼成して、背面基板１２３を完成させる（ステップＳＢ１４）。
次に、前面基板１２２と背面基板１２３とを１００μｍ程度のギャップを隔てて互いに対向した状態で、電極対の延長方向（行方向）とアドレス電極１３１の延長方向（列方向）とが互いに直交するように、かつ、両基板１２２，１２３間に放電ガス空間１２４が形成されるように、貼り合わせて配置し（ステップＳＣ１５（図８））、その周縁部を、例えば、フリットガラスからなる封止材によって気密封着する（ステップＳＣ１６）。
【０１１０】
すなわち、背面基板１２３の周縁部にフリットガラスを塗布した後、前面基板１２２と背面基板１２３とを貼り合わせた状態で焼成処理を施し、フリットガラスを溶かして、前面基板１２２と背面基板１２３とを接合してパネル状とする。ここで、隔壁１３３によって放電セルが画成されている。
次に、パネル状の前面基板１２２及び背面基板１２３を加熱炉内に導入するとともに、通気管を介して、前面基板１２２と背面基板１２５との間に形成された放電空間と接続して、放電空間内の排気を行いながら、真空加熱を行い、放電ガス空間１２４に、例えばキセノンを含む混合希ガスからなる放電ガスを所定の圧力で導入して充填した後、通気管を過熱によってチップオンし、開口端部を閉塞する（ステップＳＣ１７）。このようにして、放電ガス空間１２４内に放電ガスが充填される。
【０１１１】
次に、放電セル内で放電を発生させて、一定時間継続させることで、放電を安定化させる（ステップＳＣ１８）。
このようにして、放電ガス空間１２４内に放電ガスが充填されて、プラズマディスプレイパネル１２１が完成する。
なお、発明者が、転写型によりストライプ状の隔壁を作成したプラズマディスプレイパネルと、隔壁をサンドブラストで作成したプラズマディスプレイパネルの発光特性を比較したところ、同等の結果が得られた。
【０１１２】
このように、この例の構成によれば、安価に製造された転写型としての凹板１３６を用いて、背面ガラス基板１３０上に隔壁パターン（凹凸パターン）を形成することによって、プラズマディスプレイパネル１２１の製造コストを低減し生産性を向上させることができる。
【０１１３】
(第５の実施例)
この発明の第５の実施例を図１１に示す。
【０１１４】
図１１は、この発明の第５の実施例に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法のうち、背面ガラス基板に白色誘電体層及び隔壁を形成する白色誘電体層・隔壁形成工程を説明するための工程図である。
【０１１５】
この例の白色誘電体層・隔壁形成工程では、転写シートを用いた転写法を採用する。
まず、事前準備として、転写シートと基板支持固定台とのアライメント調整を行う。  まず、図１１（ａ）に示すように、基板支持固定台１４１の上に、転写シート１４２を転写面が基板支持固定台１４１に向き合うように配置する。
次に、転写シート１４２のアライメントマーカと、基板支持固定台１４１のアライメントマーカとを、ＣＣＦカメラにより一致させ、転写シート１４２の一端をラミネートローラ１４３によって固定し、転写シート１４２をラミネートローラ１４３側に巻き上げる。
【０１１６】
次に、ガラス基板１４４と基板支持固定台１４１とのアライメント調整を行う。
背面ガラス基板１４４の受入れ準備が完了した後、未硬化のペーストＰが塗布された背面ガラス基板１４４を基板支持固定台１４１に導入し、背面ガラス基板１４４のアライメントマーカと基板支持固定台１４１のアライメントマーカとを一致させる。
【０１１７】
次に、隔壁転写工程に移る。
同図（ｂ）に示すように、ラミネートローラ１４３に転写シート１４２を巻き付けた状態で、ラミネートローラ１４２を、アドレス電極が形成された背面ガラス基板１４４上を転がし、未硬化のペーストＰを転写シート１４２の凹部に充填しながら、転写シート１４２の端まで到達させ、転写シート１０２と背面ガラス基板１４４との間に未硬化のペーストＰを挟んだ状態とし、転写を行う。
【０１１８】
ここで、ペーストとしては、その組成が、例えば、フィラー（Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２）：１４％、ガラス（ＰｂＯ，Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２）：７２％、紫外線硬化樹脂：１４％の重量比で混合して調製した光硬化ペーストを用いた。
また、背面ガラス基板１４４上への光硬化ペーストの塗布は、テーブルコータを用いて行い、膜厚を略１２０μｍとした。
【０１１９】
次に、隔壁硬化工程に移る。
同図（ｃ）に示すように、光照射ランプ１４５を平坦な転写シート１４２上に配置した後、転写シート１４２を通して紫外線を背面ガラス基板１４４上の未硬化のペーストＰに照射して、ペーストを硬化させ、背面ガラス基板１４４上に隔壁パターンを固定する。この後、光照射ランプ１４５を後退させる。
ここで、光照射ランプ１４５として、例えば、４ｋＷ高圧水銀灯を用い、ランプ高さ１５ｃｍに設置し、１枚の背面ガラス基板につき、３０ｋＪ／ｍ２の光量を照射した。
【０１２０】
次に、剥離工程に移る。
同図（ｄ）に示すように、ラミネートローラ１４３を転写開始位置まで移動させ、転写シート１４２の端を圧着し、転写シート１４２を固定する。自由になった転写シート１４２の端から、隔壁パターンが形成されたガラス基板１４４から転写シート１４２を引き離す。こうして、ガラス基板１４４上への隔壁パターン１４６の形成が完了する。
【０１２１】
このように、この例の構成によれば、第４の実施例と略同一の効果を得ることができる。
【０１２２】
(第６の実施例)
この例のプラズマディスプレイパネルの製造方法では、白色誘電体層・隔壁形成工程を実施する際に、第２の実施例の製造方法で製造した転写型を用いる。
発明者は、段差井桁の転写型を用いて、第４の実施例と同様の手順で、プラスマディスプレイパネルを作成し、発光特性を測定した。サンドブラストで作成した井桁隔壁を有するプラスマディスプレイパネルと比較したところ、横隔壁の高さが低いことで排気が容易となり、駆動電圧の低下が観測され、良好な光学特性が得られた。
【０１２３】
このように、この例の構成によれば、第４の実施例と略同一の効果を得ることができる。
加えて、段差井桁の隔壁を容易に形成することができ、良好な光学特性を有するプラズマディスプレイパネルを製造することができる。
【０１２４】
(第７の実施例)
この例のプラズマディスプレイパネルの製造方法では、白色誘電体層・隔壁形成工程を実施する際に、第３の実施例の製造方法で製造した転写型を用いる。
発明者は、Ｒ部を有する転写型を用いて、第４の実施例と同様の手順で、プラスマディスプレイパネルを作成し、発光特性を測定した。サンドブラストで作成した井桁隔壁を有するプラスマディスプレイパネルと比較したところ、横隔壁の高さが低いことで排気が容易となり、駆動電圧の低下が観測され、良好な光学特性が得られた。
また、Ｒ部を有する転写型を用いて転写耐久性を調査したところ、４０回以上転写を行っても、剥離欠陥の発生が無いことを確認した。
【０１２５】
このように、この例の構成によれば、第４の実施例と略同一の効果を得ることができる。
加えて、Ｒ部を有する転写型を用いることによって、プラズマディスプレイパネルの製造コストを一段と低減し生産性を向上させることができる。
【０１２６】
以上、この発明の実施例を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれる。
例えば、上述した実施例では、転写型を用いて、隔壁を形成する場合について述べたが、隔壁以外の凹凸パターンを形成する場合にも適用することができる。
また、このパターン形成方法は、プラズマディスプレイパネルの製造方法以外にも適用することができる。
【０１２７】
また、上述した実施例では、転写型を用いて、白色誘電体層と隔壁とを同時に形成する場合について述べたが、隔壁のみを転写型を用いて形成するようにしても良い。
また、ベースフィルム上に、例えば表面処理により密着面を形成し、接着層として熱硬化接着剤層を被覆するようにしても良い。これによって、パターン形成樹脂との密着力を一段と強固にし、パターン転写時の耐久性を向上させることができる。
また、第４の実施例で、例えば第１の実施例の方法で製造した転写型の裏面に、必要に応じて、強度補強のための裏打ち板を貼り付けて、凹板として用いるようにしても良い。
また、第５の実施例では、ペーストとして光硬化ペーストを用いる場合について述べたが、通常の加熱硬化ペースト、或いは冷却硬化ペーストを用いても良いし、ペーストの硬化条件に対応するように、硬化部の機能を光照射ではなく、加熱機構或いは冷却機構としても良い。
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】この発明の第１の実施例に係るプラズマディスプレイパネルの隔壁の高さが一定な隔壁を転写して作成するための転写型の製造方法を説明するための工程図である。
【図２】同転写型を製造するための転写型製造装置の構成を示す図である。
【図３】この発明の第２の実施例に係るプラズマディスプレイパネルの隔壁の高さが２段階に異なる隔壁を転写して作成するための転写型の製造方法を説明するための工程図である。
【図４】同転写型を製造するための製造装置の構成を示す図である。
【図５】この発明の第３の実施例に係るプラズマディスプレイパネルの隔壁の角部にＲ形状を有する壁を転写して作成するための転写型の製造方法を説明するための工程図である。
【図６】同転写型を製造するための転写型製造装置の構成を示す図である。
【図７】この発明の第４の実施例に係るプラズマディスプレイパネルの構成を説明するための説明図である。
【図８】同プラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための説明図である。
【図９】同プラズマディスプレイパネルの製造方法のうち、背面ガラス基板に白色誘電体層及び隔壁を形成する白色誘電体層・隔壁形成工程を説明するための説明図である。
【図１０】同白色誘電体層・隔壁形成工程を説明するための工程図である。
【図１１】この発明の第５の実施例に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法のうち、背面ガラス基板に白色誘電体層及び隔壁を形成する白色誘電体層・隔壁形成工程を説明するための工程図である。
【図１２】従来の金型から転写により転写型を作成する工程を説明するための工程図である。
【符号の説明】
【０１２９】
１，１Ａ，１Ｂ    転写型製造装置
２      ラミネート部（圧着手段）
３      露光部（露光手段）
４      剥離部（剥離手段）
５      洗浄部（現像手段）
６      乾燥部（乾燥手段）
７      ベースフィルム（基体）
７ａ      密着面
９      カバーフィルム（被覆体）
９ａ      非密着面
１２      パターン形成樹脂（パターン形成用感光体）
１３      露光フィルム
１９      紫外線照射装置
２１      マスク
３５      転写型
３７      第１ラミネート部（圧着手段）
３８      第１露光部（露光手段）
３９      第１剥離部（剥離手段）
４１      第２ラミネート部（圧着手段）
４２      第２露光部（露光手段）
４３      第２剥離部（剥離手段）
４４      洗浄部（現像手段）
４５      乾燥部（乾燥手段）
４７      ベースフィルム（基体）
４７ａ    密着面
５１      カバーフィルム（第１の被覆体）
５１ａ      非密着面
５２      パターン形成樹脂（第１のパターン形成用感光体）
５３      露光フィルム
５９      マスク
６３      カバーフィルム（第２の被覆体）
６３ａ      非密着面
６４      パターン形成樹脂（第２のパターン形成用感光体）
６５      露光フィルム
８６      塗工部（塗布手段）
８７      第１乾燥部（乾燥手段）
８８      露光部（露光手段）
８９      洗浄部（現像手段）
９１      第２乾燥部（乾燥手段）
９２      加熱圧縮部
９３      冷却部
９４      ベースフィルム（基体）
９８      パターン形成樹脂（パターン形成用感光体）
１１６      Ｒ部
１２１      プラズマディスプレイパネル
１２３      背面基板
１３０      背面ガラス基板（基板）
１３１      アドレス電極
１３２      白色誘電体層
１３３      隔壁
１３６      凹板（転写型）
１４２      転写シート（転写型）
【図１】
2005329712.tif 000003
【図２】
2005329712.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2005329712.tif 000010
【図９】
2005329712.tif 000011
【図１０】
2005329712.tif 000012
【図１１】
2005329712.tif 000013
【図１２】
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