(57)【要約】【課題】  塗布型磁気記録媒体のバインダーを短時間かつ効果的に架橋・硬化し、電磁変換特性および耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することを目的とする。【解決手段】  双極子モーメントが２以上の官能基を含む結合剤または架橋剤の少なくとも一方を含有する塗布層に６ＭＨｚ〜１００ＧＨｚの電磁波を照射する工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製造法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
双極子モーメントが２以上の官能基を含む結合剤または架橋剤の少なくとも一方を含有する塗布層に６ＭＨｚ〜１００ＧＨｚの電磁波を照射する工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁性層に強磁性粉末を含む磁気記録媒体の製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、録音用テープ、ビデオテープ、あるいはフロッピー（登録商標）ディスク等の磁気記録媒体として、強磁性粉末を結合剤中に分散させた磁性層を非磁性支持体上に設けた磁気記録媒体が用いられている。磁気記録媒体は、電磁変換特性、走行耐久性および走行性能などの諸特性が優れていることが要求されている。このように優れた電磁変換特性を有すると同時に、磁気記録媒体は良好な走行耐久性を持つことが要求されている。そして、良好な走行耐久性を得るために、一般には研磨剤および潤滑剤が磁性層中に添加されてきた。
【０００３】
磁気記録媒体の使用機器において媒体と磁気ヘッドが摺動接触するために、磁気記録媒体の結合剤中の低分子成分が磁性層表面付近に浮上して磁気ヘッドに付着する磁気ヘッド汚れが生じるという問題があった。磁気ヘッド汚れは電磁変換特性の劣化の原因となっている。とくに、高密度記録用の機器では、磁気ヘッド回転数が上昇しており、デジタルビデオテープレコーダにあっては家庭用でも、磁気ヘッドの回転数が９６００回転／分と、アナログビデオテープレコーダの民生用の１８００回転／分、業務用の５０００回転／分に比べて回転数が格段に高くなっており、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの摺動する速度が高くなってきた。また、磁気ヘッドも薄膜ヘッド等のように小型のものが用いられており、磁気記録媒体から生じる成分による磁気ヘッド汚れの改善が求められている。特に高温高湿環境などの苛酷な環境で使用されても、データを正確に再生でき、かつヘッドや走行系などを汚染したり劣化させないことが重要である。さらに、フロッピーディスクに代えて用いられる高密度記録用の磁気記録媒体にあっても、同様に強度が大きく信頼性の高い磁気記録媒体が要求されている。
【０００４】
また、高度情報化社会の進展に伴い、磁気記録媒体に対する高密度化の要求はますます高まっており、従来に比べ極めて高度な耐久性を有し、かつ電磁変換特性も優れた磁気記録媒体が要求されている。テープ系で言えばＤＶＣ、ＤＶＣ−ＰＲＯのような極めて記録密度の高いビデオシステム用のテープ、あるいはＤＤＳ４、ＬＴＯ、など大容量のデータを高速で転送できるコンピューターバックアップテープ、ディスク系で言えば、Ｚｉｐ、Ｚｉｐ２５０のようなとりわけ記録再生ヘッドの回転数が７００ｒｐｍ以上の高速回転の記録システムで高い耐久性と高度な電磁変換特性を達成することが要求されている。
【０００５】
ところで、一般に広く使用されている磁気記録媒体は、結合剤として塩酢ビ系樹脂、塩ビ−塩化ビニリデン系樹脂、セルロース樹脂、アセタール樹脂、ウレタン樹脂、アクリロニトリルブタジエン樹脂等の熱可塑性樹脂を単独あるいは混合して用いている。しかし、これらの結合剤を使用した磁性層は、耐摩耗性が劣り、磁気ヘッド汚れのみならず磁気テープの走行経路を汚してしまうという欠点を有していた。この問題に対しては、フエノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素樹脂などの熱硬化性樹脂を用いることや、上記熱可塑性樹脂に化学反応による架橋性の結合剤、例えばイソシアネート化合物、エポキシ化合物などを添加することなどの改善がなされてきた。
【０００６】
これらの磁気記録媒体はその高度な電磁変換特性を達成するため極めて平滑な表面粗さで、例えば、０．０５μｍ〜０．２μｍと極めて薄い磁性層を有することが要求される。磁性層の厚みはただ薄いだけでなく、厚みの均一性が不充分であるとノイズの原因になるため、高度な均一性も要求される。このような磁性層をもつ塗布型磁気記録媒体として、非磁性層の上に薄層磁性層を設け、イソシアネート硬化剤を使用した磁気記録媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
ところで、従来、バインダーに硬化性樹脂ないしは硬化剤を使用した塗布型磁気記録媒体のバインダーの硬化・架橋は下記の方法で行ってきた。
（１）塗布後、放置して硬化させる。
（２）加熱工程を設けて、（１）の過程を促進させる。
（３）電子ビームやＵＶ／ＶＩＳなどで励起することのできるバインダー（架橋剤）を用いる（例えば、特許文献２参照）。
これらのうち、適合する工程条件や製品の特性から、（２）が最も広く用いられてきた。たとえば、前記のイソシアネート硬化剤を使用した磁気記録媒体も加熱により、バインダーを硬化している。しかし、加熱工程で媒体がリールに巻かれていると、バック層の突起が磁性層に転写してドロップアウトが増加したり、あるいは長時間にわたって熱に暴露されるため、テープの変形が発生したりする。このため、より高記録密度の媒体においては（２）の工程は不適当である。
【０００８】
架橋剤の官能基が高い双極子モーメントをもつ場合、マイクロ波あるいはラジオ波でエネルギーを与えることによって架橋を促進させることができる（例えば特許文献３参照）。特許文献３は、磁気記録媒体を対象としたものではない。
【０００９】
【特許文献１】特開平１０-２２２８３８号公報
【特許文献２】特開２００２-１２３９２２号公報
【特許文献３】特開平６−１９９９８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
イソシアネート基等双極子モーメントの大きい官能基を有するバインダーを用いた磁気記録媒体において、バインダーを短時間かつ効果的に架橋・硬化し、電磁変換特性および耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の目的は双極子モーメントが２以上の官能基を含む結合剤または架橋剤の少なくとも一方を含有する塗布層に６ＭＨｚ〜１００ＧＨｚの電磁波を照射する工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体の製造法より達成される。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、塗布型磁気記録媒体の製造過程に６ＭＨｚから１００ＧＨｚの周波数をもつ電磁波を照射して硬化・架橋させる工程を設けることにより、長時間の熱暴露による弊害を抑制すると共に製造時間の短縮が図れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の電磁波を照射する工程は、所定の周波数の電磁波に塗布層を曝すことであり、塗布層が有する双極子モーメントが２以上の官能基を含む結合剤または架橋剤の少なくとも一方の分子の回転モードを励起させる。このエネルギーは該分子の運動エネルギーに変換されて分子の会合確率が高くなり、即ち、熱となり、結合剤同士、結合剤と架橋剤、架橋剤同士等の官能基を介した結合反応が進行し、塗布層の硬化が行われる。
電磁波を照射する工程において、印加する周波数帯が６〜１００ＭＨｚの場合をDielectric Heating（誘電加熱）、GHz帯の周波数帯をMicrowave Heating（マイクロ波加熱）という。
【００１４】
電磁波による加熱は一般的に以下の式で表される。
Ｐ=ＫｆＥ2ε'ｔａｎδ
ここで、Ｋは定数、Ｐは電磁波によって生じたパワー（Ｗ／ｃｍ3）、ｆは電磁波の周波数（Ｈｚ）、Ｅは電界の強さ（Ｖ／ｃｍ）、ε'は誘電率、ｔａｎδは誘電損失である。誘電加熱では、アークの発生等を抑えなければならないため、電界(Ｅ)を強くすることができず、ε'およびｔａｎδが大きいことが必須となるが、マイクロ波加熱では、ｆが誘電加熱の１００倍以上のため、Ｅを強くすることなしに高いパワーを磁気記録媒体に与えることができる。
本発明は、磁気記録媒体の硬化・架橋に要する時間を短縮でき、長時間の熱暴露による弊害を抑制できる。また、電子線照射に比し、製造コストを低く抑えることが可能と考えられる。
【００１５】
電磁波を照射する方法としてはいかなる方法でも構わないが、以下のような方法が挙げられる。
（１）リール等に巻かれたテープ状あるいはウェブ状の媒体を電磁波の共振器内で照射する。
（２）塗布以後乃至塗布乾燥以後、テープまたはウェブを走行させながらアンテナ等を用いて電磁波に暴露する。
塗布層への電磁波の照射時間は、１００Ｗ／ｃｍ3で０．１〜６００秒までが好ましく、１〜１０秒が更に好ましい。
【００１６】
双極子モーメントが２以上の官能基を含む結合剤または架橋剤の少なくとも一方は、塗布層に含有されるが、該塗布層としては、磁気記録媒体の構成層の任意の部位であってよい。塗布層としては、例えば、磁性層、非磁性層、バック層、下塗り層等が挙げられる。
当該官能基としては、イソシアネート基、ヒドロキシル基、エポキシ基、ウレア基、スルホン基、アミノ基、アミド基、ニトリル基、ケトン基等が挙げられる。
該官能基を含む結合剤としては、各種ポリマーが挙げられ、例えば、後述する結合剤あるいはそれに適宜上記官能基を導入したものが挙げられる。
該官能基を含む架橋剤としては、該官能基を２以上含むものが好ましく、ポリマーではない有機化合物、例えば、後述するポリイソシアネートが好ましいものとして挙げられる。
また、本発明においては、該官能基の反応を促進する触媒を用いることもできる。例えば、第３級アミン、第４級アンモニウム塩、又はテトラアルキルホスホニウムハロゲン化物等が挙げられる。これらは、独国特許第3,323,084号、同第3,323,122号、同第3,323,123号、同第3,323,153号、同第3,600,767号、又は米国特許第3,687,897号及び同第4,742,142号に記載されている。
この触媒は、官能基１モルに対して０．０１〜１モル用いることができる。
【００１７】
本発明により製造される磁気記録媒体の構成は少なくとも支持体上に磁性層を有するものであれば、特に制限されるものではないが、支持体の一方の面上に、非磁性層、磁性層を順に有し、他面上にバック層を有する磁気記録媒体について説明する。
【００１８】
磁性層および非磁性層の結合剤、その他を以下に説明する。
［磁性層］
＜磁性層および非磁性層の結合剤等＞
本発明の磁性層、非磁性層に使用される結合剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度のものが使用される。
【００１９】
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載されている。
【００２０】
以上の樹脂は単独または組合せで使用できるが、本発明において好ましいものとして、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂およびポリイソシアネートを組み合わせたものがあげられる。
【００２１】
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯＭ、ＳＯ3 Ｍ、ＯＳＯ3Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、 Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、Ｎ（Ｒ）2、Ｎ+（Ｒ）3 （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものをもちいることが好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇである。
ポリウレタン樹脂中の水酸基の含有量は、１分子あたり３〜２０個であるのが好ましく、より好ましくは１分子あたり４〜５個である。１分子あたり３個未満であるとポリイソシアネート硬化剤との反応性が低下するために、塗膜強度と耐久性が低下しやすい。また、２０個より多いと、溶剤への溶解性と分散性が低下しやすい。ポリウレタン樹脂中の水酸基の含有量を調整するために、ポリウレタン樹脂の合成に際し、水酸基が３官能以上の化合物を用いることができる。具体的には、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、無水トリメリット酸、グリセリン、ペンタエリスリトール、ヘキサントリオール、特公平６−６４７２６号に記載されるポリエステルポリオールを原料とする２塩基酸と該化合物をグリコール成分として得られる３官能以上水酸基を有する分岐ポリエステル、ポリエーテルエステル等が挙げられる。好ましいのは３官能のものであり、４官能以上になると反応過程においてゲル化しやすくなる。
【００２２】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製、ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。
【００２３】
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４´−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレンー１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製デスモジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とももちいることができる。
【００２４】
磁性層に用いられる結合剤は強磁性粉末に対し、また非磁性層に用いられる結合剤は非磁性無機粉末に対し、各々通常、５〜５０重量％の範囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも可能である。
【００２５】
このような磁気記録媒体では、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれら以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁性層、各磁性層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることができる。
【００２６】
＜強磁性粉末＞
磁性層に使用する強磁性粉末としては、α−Ｆｅを主成分とする強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことがさらに好ましい。
【００２７】
強磁性合金微粉末には少量の水酸化物、または酸化物が含まれてもよい。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００２８】
磁性層に使用する強磁性粉末としては六方晶フェライト微粉末も使用できる。六方晶フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライト、これらの各置換体、例えば、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。
［非磁性層］
非磁性層には、通常、無機粉末が加えられる。非磁性層に用いられる無機粉末は、非磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から選択することができる。非磁性層にカーボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。下層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。また非磁性層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。非磁性層の潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００２９】
〔添加剤〕
本発明の磁性層、非磁性層等に使用される添加剤としては、ヘッド研磨効果、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。具体的にはＷＯ９８／３５３４５号等に記載のものが挙げられる。
【００３０】
［バック層］
磁気ディスクでもバック層を設けることはできるが、一般に、コンピューターデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰り返し走行に対する耐久性が強く要求される。このような高い走行耐久性を維持させるために、バック層には、カーボンブラックと無機粉末が含有されていることが好ましい。結合剤、各種添加剤は、磁性層や非磁性層の処方が適用される。
【００３１】
［支持体］
本発明の磁気記録媒体に用いられる支持体は、非磁性可撓性支持体であることが好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、芳香族又は脂肪族ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリアラミド、ポリベンゾオキサゾールなどの公知のフィルムが使用できる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行ってもよい。また支持体としてアルミ又はガラス基板を適用することも可能である。
【００３２】
［製造法］
磁性層と非磁性層は、上記成分を溶媒に溶解乃至分散して各々の塗料を作製し、支持体（ウェブ）上に順じ塗布することにより作製できる。非磁性層が湿潤状態にあるうち磁性層を塗布するウエット・オン・ウエット方式でも非磁性層が乾燥した上に塗布するウエット・オン・ドライ方式でもよい。塗布乾燥されたウェブは適宜配向処理、カレンダ処理、スリット乃至打ち抜き処理が施されて、目的の磁気記録媒体が製造される。
本発明の電磁波による照射は、上記塗布と同時以降出荷前であれば、任意の時間に１度以上行うことができる。
【実施例】
【００３３】
以下に本発明を具体的実施例で詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるべきものではない。
【００３４】
［実施例１］
実施例中の「部」の表示は「質量部」を示す。
【００３５】
＜塗布液の作製＞
磁性層用塗料組成
強磁性金属粉末    組成Ｆｅ／Ｃｏ＝８８／１２（原子比）      １００部
抗磁力Ｈｃ：１７９ｋＡ／ｍ（２２５０Oe）
ＢＥＴ法による比表面積：５９ｍ2／ｇ
結晶子サイズ：１７８Å
平均長軸長：９２ｎｍ
平均針状比：７
飽和磁化σs：１３３Ａ・ｍ2／ｋｇ
ｐＨ：８．４
水溶性Ｎａ：７０ｐｐｍ、水溶性Ｃａ：１０ｐｐｍ
水溶性Ｆｅ：１０ｐｐｍ
塩化ビニル系共重合体（日本ゼオン社製ＭＲ−１１０）            １２部
（−ＳＯ3Ｎａ含有量：５×１０-6ｅｑ／ｇ、重合度：３５０、
エポキシ基（モノマー単位で３．５質量％）
ポリエステルポリウレタン樹脂                                    ３部
（ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ
＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4ｅｑ／ｇ含有）
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）          ３部
αアルミナ（平均粒径：0.２μm）                                 ５部
カーボンブラック（平均粒径：0.1μm）                        ０．５部
ブチルステアレート                                              １部
ステアリン酸                                                    ２部
メチルエチルケトン                                          １５０部
シクロヘキサノン                                              ７５部
【００３６】
非磁性層用塗料組成
非磁性粉末  ＴｉＯ2  結晶系ルチル                             ９０部
平均粒径：０．０３５μｍ
ＢＥＴ法による比表面積：４０ｍ2／ｇ
ｐＨ：７
Ｔｉ０2含有量：９０％以上
ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｍｌ／１００ｇ
表面被覆化合物（Ａｌ2Ｏ3）：１．５質量％
モース硬度：６．０
カーボンブラック（三菱カーボン（株）製）                      １０部
平均一次粒子径：１６ｎｍ
ＤＢＰ吸油量：８０ｍｌ／１００ｇ
ｐＨ：８．０
ＢＥＴ法による比表面積：２５０ｍ2／ｇ
揮発分：１．５％
塩化ビニル系共重合体                                          １２部
日本ゼオン製ＭＲ−１１０
ポリエステルポリウレタン樹脂                                    ５部
（ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ
＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基：１×１０-4ｅｑ／ｇ含有）
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）          ３部
ブチルステアレート                                              １部
ステアリン酸                                                    ２部
メチルエチルケトン                                          １５０部
シクロヘキサノン                                              ５０部
【００３７】
テープ状磁気記録媒体の作製
上記の磁性層用塗料及び非磁性層用塗料のそれぞれについて、各成分をオープンニーダで混練した後、サンドミルを用いて分散させて、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層用塗料と非磁性層用塗料をそれぞれ調製した。
得られた非磁性層用塗料を乾燥後の厚さが１．５μｍになるよう、さらにその直後に、非磁性層上に磁性層の厚みが０．１μｍになるよう、厚さ５μｍ、磁性層塗布面の中心線平均粗さが４．０ｎｍで、かつ１００ｃｍ2当たりの高さ２７０ｎｍ以上のポリエチレンナフタレート支持体上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに３００Ｔ・ｍ（３０００Ｇ）の磁力をもつコバルト磁石と１５０Ｔ・ｍ（１５００Ｇ）の磁力をもつソレノイドにより配向させ、乾燥後、金属ロールとエポキシ樹脂ロールとで構成される７段のカレンダを用いて温度４０℃、分速２００ｍ／ｍｉｎ．で表面処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック層を塗布した。１２．６５ｍｍの幅にスリットし、磁気テープを作製した。
得られた、磁気テープ６００ｍの長さをＬＴＯリールに巻き、共振器内に置き、マイクロ波（２．４５ＧＨｚ、１００Ｗ／ｃｍ3）を５分照射して試料を作製した。
【００３８】
［比較例１］
実施例１のマイクロ波照射の代わりに６５℃の環境に３６時間暴露した以外は実施例１と全く同様に試料を作製した。
【００３９】
［比較例２］
実施例１のマイクロ波照射を行わなかった以外は実施例１と全く同様に試料を作製した。
【００４０】
＜試料の評価および結果＞
実施例１、比較例１、２の試料につき、磁性層ヤング率は超微小押し込み硬度計（エリオニクス社製）を用いて測定した。また、磁性層の動粘弾性率（Ｅ’、Ｅ’’）は東洋ボールドウィン社製レオバイブロン試験機を用いて測定した。昇温速度は２℃／分、振動周波数は１１０Ｈｚである。ドロップアウト（ＤＯ）数は２５μｍ幅書き込みヘッドにて９０kfciの信号を書き込み、その信号を１０μｍ幅MRヘッドを用いて再生、６５％以上の出力落ちが１ｍあたり何回起きたかを測定した。耐久性テストは、改造したＩＢＭ社製ＬＴＯドライブを用いて、ＢＯＴより５００ｍの位置に書き込んだ１００ＭＢのデータを読み、ＢＯＴまで戻るという動作を繰り返し行なうことで評価した。この動作を２３℃５０％ＲＨの環境と４０℃８０％ＲＨの環境で行って評価した。評価結果を表１に示す。
【００４１】
【表１】
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【００４２】
表１から明らかなように、実施例１では、磁性層ヤング率は比較例１と同等で耐久性に優れている一方、バック層の突起が磁性層に転写しておらず、ＤＯ数も少ない。一方で比較例１では、同じく磁性層ヤング率は高く耐久性に優れているが、ＤＯ数が多い。これは熱硬化をするために長時間高温に暴露したために、バック層の突起が磁性層に転写してくぼみを形成しているためである。比較例２は必要な硬化処理を行っていない。これはヤング率が低く耐久性に問題がある。
また、図１に磁性層の動粘弾性率を示す。実施例では、Ｅ’は６０℃に至るまで１０ＧＰａ以上の高い値を示す一方、Ｅ’’は０．５ＧＰａ以下と低い値を維持している。これは、比較例１に示す熱硬化処理系と同等の力学特性と温度依存性を示している。しかし、比較例２では、２０℃〜６０℃においてＥ’も１０ＧＰａ以下で、かつＥ’’は高温で上昇し０．５ＧＰａを超える。
耐久性テストでも、４０℃８０％ＲＨの環境でごく初期の段階でエラー停止するばかりでなく、ヘッドを汚染して劣化させた。ヘッドは出力低下を発生しており、ブラシによるクリーニングやクリーニングテープによっても復帰しなかった。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】実施例における磁性層の動粘弾性率を示すグラフである。
【図１】
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