(57)【要約】【課題】  本発明の目的は、スジムラや塗布故障が低減され、塗布均一性に優れた塗布液を液滴として噴霧して塗布する塗布装置及び塗布方法を提供することである。【解決手段】  被塗布体の搬送方向と交差する塗布幅に、塗布液を供給する塗布液ノズルと、該塗布液ノズルの開口端に近接してガスを噴出するガスノズルとを有するスロットノズルスプレー装置を用い、該ガスを該塗布液に衝突させて液滴を形成することにより、該被塗布体上に塗布する塗布装置において、該スロットノズルスプレー装置は、一対の内部ダイブロックと、該一対の内部ダイブロックの各々の外側に外部ダイブロックを有し、該一対の内部ダイブロック間に該塗布液ノズルが形成され、該内部ダイブロックと該外部ダイブロック間に該ガスノズルを構成し、該塗布液ノズルの塗布液吐出口と該ガスノズルのガス吐出口とのなす角βが、１５度以上、６０度以下であることを特徴とする塗布装置。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布体を搬送し、該被塗布体の搬送方向と交差する方向の塗布幅にわたって、塗布液を供給する塗布液ノズルと、該塗布液ノズルの開口端に近接してガスを噴出するガスノズルとを有するスロットノズルスプレー装置を用い、該ガスを該塗布液に衝突させて液滴を形成して噴霧を行うことにより、該被塗布体上に塗布液を塗布する塗布装置において、
該スロットノズルスプレー装置は、一対の内部ダイブロックと、該一対の内部ダイブロックの各々の外側に外部ダイブロックを有し、該一対の内部ダイブロック間に該塗布液ノズルが形成され、該内部ダイブロックと該外部ダイブロック間に該ガスノズルを構成し、
該塗布液ノズルの塗布液吐出口と該ガスノズルのガス吐出口とのなす角βが、１５度以上、６０度以下であることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
被塗布体を搬送し、該被塗布体の搬送方向と交差する方向の塗布幅にわたって、塗布液を供給する塗布液ノズルと、該塗布液ノズルの開口端に近接してガスを噴出するガスノズルとを有するスロットノズルスプレー装置を用い、該ガスを該塗布液に衝突させて液滴を形成して噴霧を行うことにより、該被塗布体上に塗布液を塗布する塗布装置において、
該スロットノズルスプレー装置は、一対の内部ダイブロックと、該一対の内部ダイブロックの各々の外側に外部ダイブロックを有し、該一対の内部ダイブロック間に該塗布液ノズルが形成され、該内部ダイブロックと該外部ダイブロック間に該ガスノズルを構成し、
該被塗布体と対向する位置にある一対の該外部ダイブロックの底面のなす角αが、１７０度以上、２４０度以下であることを特徴とする塗布装置。
【請求項３】
被塗布体を搬送し、該被塗布体の搬送方向と交差する方向の塗布幅にわたって、塗布液を供給する塗布液ノズルと、該塗布液ノズルの開口端に近接してガスを噴出するガスノズルとを有するスロットノズルスプレー装置を用い、該ガスを該塗布液に衝突させて液滴を形成して噴霧を行うことにより、該被塗布体上に塗布液を塗布する塗布装置において、
該スロットノズルスプレー装置は、一対の内部ダイブロックと、該一対の内部ダイブロックの各々の外側に外部ダイブロックを有し、該一対の内部ダイブロック間に該塗布液ノズルが形成され、該内部ダイブロックと該外部ダイブロック間に該ガスノズルを構成し、
該被塗布体と対向する位置にある一対の該内部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ１、Ｌ２が１ｍｍ以下であり、かつ該被塗布体と対向する位置にある一対の該外部ダイブロックの底面のそれぞれの幅Ｌ３、Ｌ４が０．１〜５０ｍｍであることを特徴とする塗布装置。
【請求項４】
前記外部ダイブロックの底面と被塗布体面との距離Ｌ５と、前記内部ダイブロックの底面と被塗布体面との距離Ｌ６との差ΔＬの絶対値が、２ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記被塗布体が、基材上にインク吸収層を有するインクジェット記録用紙であって、前記塗布液が該インク吸収層に対する機能賦与化合物を含有していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記機能賦与化合物が、ｐＨ調整剤、界面活性剤、親水性バインダーの架橋剤、画像安定剤、水溶性多価金属化合物から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の塗布装置を用いて、被塗布体上に塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布液を液滴として噴霧することにより塗布する塗布装置及び塗布方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、薄膜を、塗布膜厚の精度高く、乾燥負荷が少なく、生産性高く設ける塗布方法が望まれている。
【０００３】
高精度に均一な塗布膜厚の薄膜を、構成上に設けることが必要となる塗布製造物としては色々とあるが、例えば、下記に述べるインクジェット用の空隙型インクジェット記録媒体等が挙げられる。
【０００４】
空隙型インクジェット記録媒体は、インクジェット記録方法において、光沢感、つや感、深み等銀塩写真の様な高品位の質感が求められる出力に好ましく用いられ、樹脂被覆紙やポリエステルフィルムの様な非吸水性基材上に、インク吸収層として主に親水性バインダーと微粒子とで微細な空隙構造を形成する多孔質インク吸収層を形成し、この空隙部にインクを吸収させるものである。微粒子としては、無機または有機の微粒子が知られているが、一般的には、より微粒子で高い光沢が得られる無機微粒子が用いられる。
【０００５】
上記多孔質インク吸収層に対しては、１）高い発色性や光沢を達成するための多孔質層を形成する約０．１μｍ程度以下の安定な微粒子、２）微粒子の保持力が高く、かつインク吸収速度を低下させないための低膨潤性親水性バインダー、３）インク吸収速度や皮膜の耐水性を改良するための親水性バインダーの架橋剤、４）最適なドット径を達成するため、表面に分布した界面活性剤や親水性ポリマー、５）色素画像の滲みや耐水性を改良するためのカチオン性の定着剤、多価金属化合物、６）色素画像の光や酸化性ガスなどによる退色性を改良するための退色防止剤、７）白地を改良するための蛍光増白剤や色調調整剤（赤み剤や青み剤など）、８）表面の滑り性を改良するためのマット剤や滑り剤、９）多孔質インク吸収層に柔軟性を持たせるための各種のオイル成分やラテックス粒子あるいは水溶性可塑剤、１０）色素画像の滲みや耐水性あるいは耐候性を改良するための種々の無機塩類（多価金属塩）、１１）多孔質インク吸収層の膜面ｐＨを調整するための酸やアルカリ類等の各種添加剤の使用が提案されている。
【０００６】
しかしながら、上記の各添加剤を多孔質インク吸収層を形成する塗布液に添加した場合、微粒子の凝集を避ける等の製造工程の安定性の観点から、多くの添加剤において、素材の選択や使用量など種々の制約を受けるケースが多い。
【０００７】
そこで、多孔質インク吸収層を形成する塗布液には前記制約を受ける添加剤を含有させず、基材上に当該塗布液を構成層としてまず塗布し、減率乾燥前に前記添加剤を含有する塗布液を前記構成層上部にオーバーコートする方法や、構成層塗膜の含水量が乾燥後の多孔質層の空隙容量以下になった後、オンラインで添加剤含有溶液をオーバーコートする方法が提案されている。オーバーコート層の塗布液に含有される前記添加剤は、予め設けられた構成層に適度に浸透し、好ましい機能を付与する機能性化合物として作用することが期待される。元来、機能性化合物を多孔質インク吸収層に含浸させる目的であるから、このオーバーコート層自身はごく薄いものでもよい。また、ごく薄い層であることが好ましい。
【０００８】
この様なオーバーコート層を均一な薄膜で塗布する方法として、本件出願人は、スロットノズルスプレー装置を用い、塗布液を液滴として被塗布体上に噴霧する方法及びインクジェット記録用紙の製造条件の詳細について提案した（例えば、特許文献１〜４参照。）。
【０００９】
しかしながら、引き続き検討を行った結果、塗布液を液滴として被塗布体上に噴霧することは、塗布膜厚を極めて薄くすることに有効ではなるが、特に、高速で塗布を行う場合、搬送方向に沿ってのスジの発生、点状の故障欠陥、斑点状の塗布ムラの発生が生じることが判明した。
【特許文献１】特開２００４−９０６号公報
【特許文献２】特開２００４−９０３３０号公報
【特許文献３】特開２００４−１０６３７８号公報
【特許文献４】特開２００４−１０６３７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、スジムラや塗布故障が低減され、塗布均一性に優れた塗布液を液滴として噴霧して塗布する塗布装置及び塗布方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【００１２】
（請求項１）
被塗布体を搬送し、該被塗布体の搬送方向と交差する方向の塗布幅にわたって、塗布液を供給する塗布液ノズルと、該塗布液ノズルの開口端に近接してガスを噴出するガスノズルとを有するスロットノズルスプレー装置を用い、該ガスを該塗布液に衝突させて液滴を形成して噴霧を行うことにより、該被塗布体上に塗布液を塗布する塗布装置において、
該スロットノズルスプレー装置は、一対の内部ダイブロックと、該一対の内部ダイブロックの各々の外側に外部ダイブロックを有し、該一対の内部ダイブロック間に該塗布液ノズルが形成され、該内部ダイブロックと該外部ダイブロック間に該ガスノズルを構成し、
該塗布液ノズルの塗布液吐出口と該ガスノズルのガス吐出口とのなす角βが、１５度以上、６０度以下であることを特徴とする塗布装置。
【００１３】
（請求項２）
被塗布体を搬送し、該被塗布体の搬送方向と交差する方向の塗布幅にわたって、塗布液を供給する塗布液ノズルと、該塗布液ノズルの開口端に近接してガスを噴出するガスノズルとを有するスロットノズルスプレー装置を用い、該ガスを該塗布液に衝突させて液滴を形成して噴霧を行うことにより、該被塗布体上に塗布液を塗布する塗布装置において、
該スロットノズルスプレー装置は、一対の内部ダイブロックと、該一対の内部ダイブロックの各々の外側に外部ダイブロックを有し、該一対の内部ダイブロック間に該塗布液ノズルが形成され、該内部ダイブロックと該外部ダイブロック間に該ガスノズルを構成し、
該被塗布体と対向する位置にある一対の該外部ダイブロックの底面のなす角αが、１７０度以上、２４０度以下であることを特徴とする塗布装置。
【００１４】
（請求項３）
被塗布体を搬送し、該被塗布体の搬送方向と交差する方向の塗布幅にわたって、塗布液を供給する塗布液ノズルと、該塗布液ノズルの開口端に近接してガスを噴出するガスノズルとを有するスロットノズルスプレー装置を用い、該ガスを該塗布液に衝突させて液滴を形成して噴霧を行うことにより、該被塗布体上に塗布液を塗布する塗布装置において、
該スロットノズルスプレー装置は、一対の内部ダイブロックと、該一対の内部ダイブロックの各々の外側に外部ダイブロックを有し、該一対の内部ダイブロック間に該塗布液ノズルが形成され、該内部ダイブロックと該外部ダイブロック間に該ガスノズルを構成し、
該被塗布体と対向する位置にある一対の該内部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ１、Ｌ２が１ｍｍ以下であり、かつ該被塗布体と対向する位置にある一対の該外部ダイブロックの底面のそれぞれの幅Ｌ３、Ｌ４が０．１〜５０ｍｍであることを特徴とする塗布装置。
【００１５】
（請求項４）
前記外部ダイブロックの底面と被塗布体面との距離Ｌ５と、前記内部ダイブロックの底面と被塗布体面との距離Ｌ６との差ΔＬの絶対値が、２ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布装置。
【００１６】
（請求項５）
前記被塗布体が、基材上にインク吸収層を有するインクジェット記録用紙であって、前記塗布液が該インク吸収層に対する機能賦与化合物を含有していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の塗布装置。
【００１７】
（請求項６）
前記機能賦与化合物が、ｐＨ調整剤、界面活性剤、親水性バインダーの架橋剤、画像安定剤、水溶性多価金属化合物から選ばれる少なくとも１つであることを特徴とする請求項５に記載の塗布装置。
【００１８】
（請求項７）
請求項１〜６のいずれか１項に記載の塗布装置を用いて、被塗布体上に塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、スジムラや塗布故障が低減され、塗布均一性に優れた塗布液を液滴として噴霧して塗布する塗布装置及び塗布方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２１】
本発明者は、スジ状、点状の故障欠陥、斑点状の塗布ムラは、塗布液がスロットノズルスプレー部に付着することによる着弾率の変化や微粒子化の状態に左右されると考え、この方法において安定な塗布を実現するため、スロットノズルスプレー装置を構成するコーターについて詳細な検討を行った結果、スロットノズルスプレー装置を構成するコーター部の形状が大きな影響を与えていることを見出した。
【００２２】
すなわち、本発明者は、スロットノズルスプレー装置を構成するコーター部の形状について、塗布液吐出口とガス吐出口との角度、ガス吐出口を構成する外部ダイブロックの角度、塗布液吐出口とガス吐出口との距離、外部ダイブロックの幅等を最適の条件に設計することにより、塗布液の付着や不十分な微粒子化が抑えられて安定した塗布液滴の噴霧を可能とし、塗布欠陥や塗布ムラが低減されることを見出し、本発明に至った次第である。
【００２３】
以下、本発明の詳細について説明する。
【００２４】
はじめに、本発明の塗布装置であるスロットノズルスプレー装置について、図を交えてその詳細を説明する。ただし、本発明の塗布装置は、ここで例示する図で示す構成のみに限定されるものではない。
【００２５】
本発明の塗布方法は、被塗布体を搬送し、該被塗布体の搬送方向と交差する方向の塗布幅にわたって、塗布液を供給する塗布液ノズルと、該塗布液ノズルの開口端に近接してガスを噴出するガスノズルとを有するスロットノズルスプレー装置を用い、該ガスを該塗布液に衝突させて液滴を形成して噴霧を行うことにより、該被塗布体上に塗布液を塗布する。
【００２６】
ここでいう被塗布体とは、本発明の塗布方法を用いて塗布液を液滴状にし、噴霧することで、塗布を行う被塗布対象物のことであり、その形態は問わないが、長尺の帯状支持体や、該帯状支持体上にすでに構成層、例えば、インク吸収層等を有するインクジェット記録用紙であることが本発明の効果を十分に奏することができ好ましいが、これに限られるものではない。被塗布体は、板状の支持体であっても、立体形状を有するものであっても構わず、被塗布部が面積を有していればよい。
【００２７】
また、本発明において、被塗布体は、塗布装置の塗布液ノズルに対して相対的に移動させ（搬送させ）、連続的に塗布製造を行う。塗布装置の塗布液ノズルは、少なくとも被塗布体の塗布幅（被塗布体の搬送方向と交差する方向における前記被塗布体の被塗布部の長さのことを指す）に対応する長さを有し、被塗布体の搬送方向と交差するように配置させることにより、塗布装置に対して被塗布体を搬送させるだけで、被塗布体上に塗布液を塗布する。被塗布体が長尺の帯状支持体である場合、帯状支持体の長手方向に帯状支持体自身を搬送させ、塗布装置の塗布液ノズルを、帯状支持体の幅手方向に（長手方向と直行する方向に）位置させることが好ましい。塗布装置に対し、被塗布体を一方向に搬送し、塗布液を塗布幅にわたって液滴として噴霧することにより、ごく薄い塗布膜を、乾燥負荷なく、膜厚均一性高く塗布できる。
【００２８】
また、塗布装置の塗布液ノズルから噴霧される液滴は、塗布幅方向において、
１：液滴径分布が均一であること、
２：液滴が被塗布体上に落ちる面積範囲が、搬送方向落下長さ（図３のＬ７）が均一であること、
３：被塗布体上に落ちる広がり角度が均一であること、
４：被塗布体上に落ちる衝突速度が均一であること、
によって、より塗布膜厚の均一性を確保することが可能となる。
【００２９】
塗布幅方向において液滴径分布が均一であるとは、具体的には、塗布幅方向で、平均液滴径の変動が、±２０％以下であることを言う。より好ましくは±１０％以下である。
【００３０】
平均液滴径の変動は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定し、計算することが可能である。具体的には以下の測定法により行う。
【００３１】
まず、塗布液を液滴として噴霧するスロットノズルスプレー装置等のスプレー装置から、塗布液を噴霧させ、その噴霧状態を安定させる。噴霧開始直後では、塗布液の吐出量やガス圧が一定せず噴霧状態が安定しないので、所定の時間噴霧を続けることで安定させることができる。
【００３２】
次に、噴霧状態が安定した液滴群に対し、レーザー回折式粒度分布測定装置としてスプレーテックＲＴＳ５１２３（マルバーン社製）を用い、塗布幅方向において等間隔で５ヶ所、平均液滴径を測定する。被塗布体に落ちる液滴群の塗布幅方向の両端（塗布端）は、通常、噴霧濃度が極端に低くなるため有効塗布幅にはカウントしない。よって、有効塗布幅の両端を測定点の両端２点とする。具体的には、塗布端から１ｃｍ内側に入った所を測定点の両端２点とし、その内側の等間隔３点を加えて計５点とし、これを測定点とする。この５ヶ所で測定された平均液滴径から、変動率を計算する。
【００３３】
尚、平均液滴径は、スプレーテックＲＴＳ５１２３を用いれば簡単に測定できるが、前記測定箇所における液滴群の各液滴径を測定し、液滴径を横軸にとって積算プロットしたときに、体積パーセントで５０％の位置にくる液滴径のことをさす。
【００３４】
また、液滴が被塗布体上に落ちる面積範囲の搬送方向の長さが均一であるとは、塗布幅方向で、前記長さの変動が、±１０％以下であることを言う。より好ましくは±５％以下である。
【００３５】
また、被塗布体上に落ちる液滴の広がり角度が均一であるとは、塗布幅方向で、塗布装置の塗布液ノズルを基点として、被塗布体上に落ちる液滴の落下角度の変動が、±１０％以下であることをいう。より好ましくは±５％以下である。
【００３６】
また、被塗布体上に落ちる衝突速度が均一であるためには、微粒化した塗布液の噴霧速度が均一であればよい。
【００３７】
上述のような均一な噴霧を達成するため、本発明では、スロットノズルスプレー装置を用いることが特徴である。スロットノズルスプレー装置とは、塗布液を吐出する塗布液ノズル孔を塗布幅方向に複数有する。各塗布液ノズル孔は、塗布幅方向に一列に並んでいても、千鳥に並んでいてもよい。そして、前記塗布液ノズル孔に近接してガスを噴出するガスノズル孔を有し、ここから噴出されるガスを前記塗布液ノズル孔から吐出された塗布液に衝突させて液滴を形成する機構を有する。
【００３８】
本発明に好ましく用いることのできるスロットノズルスプレー装置としては、例えば、特開平６−１７０３０８号公報に記載されているものを適用することが可能である。特開平６−１７０３０８号公報では、このスロットノズルスプレー装置を用いて、使い捨ておむつの接着剤を繊維上に塗布する例が開示されているが、極めて高粘度の塗布液（接着剤）をスロットノズルスプレー装置の塗布液ノズル（塗布液吐出部）からファイバー状に落下させるものであり、塗布装置と被塗布体（繊維）とが、前記ファイバー状の塗布液でつながっている。つまり、本発明の塗布方法のように不連続な液滴として被塗布体上に付与するものではない。塗布幅にわたって設けられた複数の塗布液ノズルおのおのから平行に落下するファイバー状塗布液が、前記塗布液ノズルに近接して設けられたガスノズルから噴出されるガスにより攪乱され、垂直落下することが妨げられ、被塗布体上のある面積範囲内でランダムに着地するのみである。ガスノズルなしでは、ファイバー状の塗布液がそのまま垂直落下することになるが、ガスノズルからガスを噴出することで、より広範囲に塗布液を分散して着地させることが可能となっているが、ラーメンを広げて載せただけのような塗布層となり、インクジェット記録用紙の例で述べたような被塗布体全面にわたり、厳密に塗布膜厚の均一性が求められる塗布ではない。また、接着剤を塗布するものであるから、形成される塗布膜も極めて厚いものである。
【００３９】
また、特開平５−３０９３１０号公報に開示されるスロットノズルスプレー塗布装置も、本発明に好ましく用いることができる。特開平５−３０９３１０号公報で開示されている例は、上述の特開平６−１７０３０８号公報と同様に、ホットメルトタイプの接着剤を被塗布体上に塗布するものである。これも極めて高粘度の塗布液（接着剤）であるために、同様に塗布液を被塗布体表面にファイバー状に、連続的に、吐出する方法であり、厳密な膜厚均一性はなく、かつ形成する塗布膜も極めて厚膜なものである。
【００４０】
このようなスロットノズルスプレー装置を用いて、上述のごとく塗布幅にわたって噴霧状態の均一性を高める方法としては、塗布液の粘度を比較的低くすること、ガスノズルから噴出するガス圧を高くすることにより可能である。また、スロットノズルスプレー装置の塗布液ノズル開口端の面積を小さくすること、該開口端のピッチを狭くすることなどにより、噴霧の均一性を高めることができる。
【００４１】
塗布液の粘度としては、好ましくは０．１〜２５０ｍＰａ・ｓ、より好ましくは０．１〜５０ｍＰａ・ｓ、更に好ましくは０．１〜２０ｍＰａ・ｓであり、このような低粘度の塗布液をスロットノズルスプレー装置に適用することで、塗布幅にわたって均一な液滴の噴霧が可能である。
【００４２】
また、塗布幅にわたって均一な液滴の噴霧を行うには、塗布液の表面張力を２０〜７０ｍＮ／ｍに調整すること、好ましくは２０〜５０ｍＮ／ｍ、更に好ましくは２０〜３０ｍＮ／ｍとすることである。
【００４３】
また、スロットノズルスプレー装置等を用いて、ガスを塗布液に衝突させて液滴を形成するときのガス内圧は、１０ｋＰａ以上、好ましくは２０ｋＰａ以上、更に好ましくは５０ｋＰａ以上とすると均一な噴霧が行い易い。ガスの流量としては、３．５ＣＭＭ／ｍ以上、好ましくは７ＣＭＭ／ｍ以上、更に好ましくは１０ＣＭＭ／ｍ以上である。
【００４４】
上記手段を用いて、塗布幅にわたり、連続ファイバー状ではなく、不連続な液滴状に飛散させることにより、塗布液が少量であっても、均一に、塗布液を被塗布体上に供給できる。結果として、塗布膜厚を均一にすることができる。また、不連続な液滴の被塗布体上への供給であって、塗布液量が少なくなるので、乾燥負荷もかからない。
【００４５】
次いで、本発明の塗布装置に用いるスロットノズルスプレー塗布装置の具体的な形態について、説明する。
【００４６】
図１は、本発明の塗布方法を説明するための概略図である。図中、参照符号１は、スロットノズルスプレー装置（全容は不図示）のスロットノズルスプレー部、９は長尺の帯状支持体タイプの被塗布体である。
【００４７】
スロットノズルスプレー部１は、一対の内部ダイブロック３ａ、３ｂと、該一対の内部ダイブロック３ａ、３ｂの各々の外側に外部ダイブロック２ａ、２ｂを有し、一対の内部ダイブロック３ａ、３ｂ間に塗布液ノズルＣが形成され、内部ダイブロック３ａと外部ダイブロック２ａ間、及び内部ダイブロック３ｂと外部ダイブロック２ｂ間にそれぞれガスノズルＤが構成されている。
【００４８】
被塗布体９は、被塗布体９の長手方向である図中の矢印の搬送方向に、図示しない搬送手段により一定の速度で搬送される。スロットノズルスプレー部１の塗布液ノズルＣは、搬送方向と直交する方向である被塗布体９の幅手方向に長さを有し、被塗布体９の塗布面に対向するように配置されている。塗布液ノズルＣからは、塗布液が液滴状に噴霧され、搬送される被塗布体９上に液滴が着地することにより塗布が行われる。このとき被塗布体９の幅手方向の塗布液が付着する長さが図中矢印で示した塗布幅に相当する。図１では、塗布幅は、被塗布体９の幅手方向の長さよりも短くなっているが、同じでももちろん構わない。
【００４９】
図２は、図１で説明したスロットノズルスプレー部を含むスロットノズルスプレー装置の一例を示す概略断面図である。
【００５０】
図２において、スロットノズルスプレー部１には、ガスポケットＡを有する１対のガスノズルＤと塗布液ポケットＢを有する塗布液ノズルＣを有している。塗布液は、ファイバー状にならず液滴を形成できる粘度（０．１〜２５０ｍＰａ・ｓが好ましい）を有する例えば機能賦与化合物含有溶液などの塗布液を調製釜４に入れ、ポンプ５、流量計６を経て、塗布液ポケットＢに供給されて塗布液ノズル３に導かれる。一方、ガスノズル２へは、加圧空気源７より、弁８を介して、ガスポケットＡに加圧空気が供給される。塗布に際しては、塗布液ノズルＣより規定の塗布量となるように調製釜４より塗布液を供給すると同時に、一対のガスノズルＤより加圧空気を吹き付け、塗布液を液滴状にして、被塗布体９上に噴霧、吐着させるものである。本発明の塗布方法においては、塗布液を、ファイバー状ではなく、微細な液滴として噴霧することができることが大きな特徴である。塗布液を微細な液滴として、被塗布体９表面に供給することにより、極めて均一性の高い薄膜を、乾燥負荷なく、高速で形成することができる。
【００５１】
次に、図３を用いて、スロットノズルスプレー部とそこで形成される液滴の形成及び飛翔状態を説明する。
【００５２】
図３において、塗布液ノズルＣより吐出された塗布液Ｅは、塗布液ノズルＣの両サイドに近接して設けられたガスノズルＤより供給される圧縮空気Ｇにより、細分化、液滴化され球形に近い液滴粒子１２となり、飛翔し、ギャップＬ５を隔てた被塗布体９表面に均一に着弾する。図３では、被塗布体９は、基材１０上にインク吸収層１１を構成層として塗布したモデルで示してある。被塗布体９上に着地する塗布液の液滴粒子１２の面積範囲は、常に均一であることが好ましいが、特に、搬送方向における落下長さ（図中、落下長さＬ７と記載）が塗布幅にわたって均一であることが好ましい。また、塗布液ノズルＣの開口端を基点として被塗布体に対し、噴霧される液滴群の広がり角度θは、塗布幅にわたって均一であることが好ましい。
【００５３】
図４は、本発明で用いるスロットノズルスプレー部の構成の特徴を示す概略断面図である。
【００５４】
図４において、内部ダイブロック３ａ、３ｂ間に構成される塗布液ノズルＣと、内部ダイブロック３ａと外部ダイブロック２ａ間、及び内部ダイブロック３ｂと外部ダイブロック２ｂ間で構成されるガスノズルＤとがなす角度βが、１５度以上、６０度以下であることが特徴の１つである。具体的には、多くの場合、塗布液ノズルＣは、被塗布体面に対し垂直に配置されるケースが多く、その場合、ガスノズルＤは、垂直方向に対し１５度以上、６０度以下の傾斜角を設けて配置されることになる。この様に、塗布液ノズルＣとガスノズルＤとを、特定の角度を設けて配置させることにより、安定した塗布液の液滴形成が可能となり、スジムラや塗布故障が低減され、高い塗布均一性を有する塗布を実現することができる。
【００５５】
また、本発明の塗布装置においては、被塗布体と対向する位置にある一対の外部ダイブロックの底面のなす角αが、１７０度以上、２４０度以下であることを特徴とする。
【００５６】
上述の図４において、外部ダイブロック２ａ、２ｂの被塗布体９と対向する位置にあるそれぞれの底面を２ｃ、２ｄとしたとき、底面２ｃと底面２ｄとのなす角αが１７０度以上、２４０度以下である。図４においては、ぞれぞれの底面２ｃ、２ｄが被塗布体９に対し水平に位置し、角度αが１８０度である状態を例示してあるが、図５に示すように、それぞれの底面２ｃ、２ｄが被塗布体９に対し傾きを有する状態で形成されていても良い。
【００５７】
この様に、被塗布体と対向する位置にある一対の外部ダイブロックの底面を、特定の角度を設けて配置させることにより、安定した塗布液の液滴形成が可能となり、スジムラや塗布故障が低減され、高い塗布均一性を有する塗布を実現することができる。
【００５８】
また、本発明の塗布装置においては、被塗布体と対向する位置にある一対の内部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ１、Ｌ２が１ｍｍ以下であり、かつ被塗布体と対向する位置にある一対の外部ダイブロックの底面のそれぞれの幅Ｌ３、Ｌ４が０．１〜５０ｍｍであることを特徴とする。
【００５９】
すなわち、図４において、内部ダイブロック３ａ、３ｂの被塗布体９と対向する位置にあるそれぞれの底面を３ｃ、３ｄとしたとき、底面３ｃ、３ｄのそれぞれの幅Ｌ１、Ｌ２が１ｍｍ以下であることが特徴であり、好ましく０．２〜１．０ｍｍである。
【００６０】
また、外部ダイブロック２ａ、２ｂの被塗布体９と対向する位置にあるそれぞれの底面を２ｃ、２ｄとしたとき、底面２ｃ、２ｄのそれぞれの幅Ｌ３、Ｌ４が０．１〜５０ｍｍであることを特徴とし、好ましくは０．１〜３０ｍｍである。
【００６１】
本発明に係る内部ダイブロック３ａ、３ｂの底面３ｃ、３ｄの形状としては、図４に記載の様に被塗布体９に対し水平の状態で構成されていても、あるいは図６に記載のように、湾曲状の形態を有していても良い。図６に示す湾曲状である場合には、本発明で規定する幅Ｌ１、Ｌ２は、それぞれの傾斜面の接点と垂直面の先端部との幅と定義する。
【００６２】
また、本発明に係る外部ダイブロック２ａ、２ｂの底面２ｃ、２ｄの形状としては、図４に記載の様に被塗布体９に対し全底面が水平の状態で構成されていても、あるいは、図７に記載のように、塗布液ノズルＣとガスノズルＤと隣接した一部を突出した形態とし、その領域で底面２ｃ、２ｄを形成しても良い。この様に、被塗布体と対向する位置にある内部ブロックあるいは外部ダイブロックの底面の幅を特定の条件で配置させることにより、安定した塗布液の液滴形成が可能となり、スジムラや塗布故障が低減され、高い塗布均一性を有する塗布を実現することができる。
【００６３】
また、本発明の塗布装置においては、外部ダイブロックの底面と被塗布体面との距離Ｌ５と、内部ダイブロックの底面と被塗布体面との距離Ｌ６との差ΔＬが、２ｍｍ以下であることが好ましく、より好ましく０．１〜２ｍｍである。
【００６４】
図８は、本発明で用いるスロットノズルスプレー部の構成の特徴の他の一例を示す概略断面図である。
【００６５】
図８において、内部ダイブロック３ａ、３ｂの被塗布体９と対向する位置にあるそれぞれの底面３ｃ、３ｄと、被塗布体の最表面との距離をＬ６とし、外部ダイブロック２ａ、２ｂの被塗布体９と対向する位置にあるそれぞれの底面を２ｃ、２ｄと、塗布体の最表面との距離をＬ５としたとき、その距離の差ΔＬ（Ｌ５−Ｌ６）の絶対値が、２ｍｍ以下であることを意味する。なお、本発明でいう被塗布体の最表面とは、例えば、基材１０上にインク吸収層１１を構成層として塗布したインクジェット記録用紙においては、インク吸収層１１の最表面を意味する。この様に、外部ダイブロックの底面と被塗布体面との距離と、内部ダイブロックの底面と被塗布体面との距離との差ΔＬを特定の条件とすることにより、安定した塗布液の液滴形成が可能となり、スジムラや塗布故障が低減され、高い塗布均一性を有する塗布を実現することができる。
【００６６】
図９および図１０は、図２のスロットノズルスプレー部を塗布液ノズルＣ側から見た概略図である。塗布幅方向に配置された複数の塗布液ノズルＣの開口端とガスノズルＤの開口端とを示している。
【００６７】
図９に示す塗布液ノズルは、円形の開口端を有する塗布液ノズルＣが、塗布幅方向に２１個並んでいる。そして、各塗布液ノズルＣの開口端の両サイドに近接して、ガスノズルＤが設けられている態様である。各塗布液ノズルＣは、それぞれ等間隔に配列されており、同様に各ガスノズルＤも等間隔に配列されている。ここでは、一つの塗布液ノズルＣと対応する２つのガスノズルＤが塗布幅方向と直行する方向に一直線上に配置されているが、塗布液ノズルＣとガスノズルＤとが、互い違いに、千鳥状に配置されていても構わない。塗布液ノズルＣの開口端またはガスノズルＤの開口端の間隔（ピッチ）は一定であることが好ましい。
【００６８】
図１０に示す塗布液ノズルは、図９に記載の形態とは別のものである。矩形の開口端を有する塗布液ノズルＣが塗布幅方向に１１個並んでいる。そして、塗布幅にわたって、全部の塗布液ノズルＣに対し、その開口端の両サイドに近接して、スリット状のガスノズルＤが一つずつ設けられている。この形態においても、複数の矩形の塗布液ノズルの開口は等間隔に配列されている。
【００６９】
図１１は、図９のタイプの塗布液ノズルを有するスロットノズルスプレー部の分解斜視図である。図中、参照符号の３ａおよび３ｂは、所定の距離を有する塗布液用スリットを形成し、このスリットに塗布液を流下させるための内部ダイブロックである。片方のダイブロック３ａは、図示しない塗布液供給源から供給される塗布液を受け入れ、塗布液ポケットＢまで連通する塗布液供給管６１を有している。塗布液ポケットＢに滞留した塗布液は、内部ダイブロック３ａおよび３ｂの間に形成された塗布液用スリットを流下することになる。１ｄは、内部ブロック３ａおよび３ｂに挟まれたシム（詰め金）であり、２つの内部ダイブロック３ａおよび３ｂの間隙に形成された塗布液用スリットを垂直方向に分断して塗布幅方向に複数の塗布液ノズルを形成する。
【００７０】
また、２ａおよび２ｂは、ガス供給用の外部ダイブロックで、外部ダイブロック２ａおよび２ｂのそれぞれとの間隙に圧縮ガスが流通するガスノズルＤ（不図示）を形成する。この場合のガスノズルＤは塗布幅方向に延びるスリットである。図示しないエア供給源から圧縮エアがそれぞれの外部ダイブロック２ａ、２ｂのそれぞれのエア供給管８１に供給され、一端ガスポケットＡに滞留した後、内部ダイブロックと外部ダイブロックとの間隙に形成されたガスノズルＤ（不図示）を圧力をもって流下する。
【００７１】
上記シム１ｄの間を流下してきた塗布液および２つのガスノズルを流下してきた圧縮エアは、スロットノズルスプレー部１の底部である塗布液ノズルにおいて衝突し、液滴を形成して、被塗布対象物である被塗布体上に飛翔する。
【００７２】
本発明に用いられるスロットノズルスプレー装置において、塗布液ノズルの開口端の形状としては、円形でも矩形でも良く、そのサイズとしては５０〜３００μｍの範囲で用いることができ、それらのピッチ（間隔）は、１００〜３０００μｍとすることが好ましい。一方、ガスノズルの開口端の形状としては、円形でも塗布幅に延びるスリット状でもよく、このときの円形での直径（図９に示すｄ）、あるいはスリット間隔（図１０に示すｗ）としては、概ね５０〜５００μｍの範囲で用いることができる。塗布液ノズルに対するガスノズルの角度としては、１５〜６０度の範囲であることが特徴であるが、好ましくは１５〜４５度である。また、スロットノズルスプレー部の塗布液ノズルと被塗布体間の距離（図２に示すＬ５）は、概ね０．２〜１０ｃｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．５〜６．０ｃｍであり、更に好ましくは１．０〜３．５ｃｍである。
【００７３】
塗布液ノズルからの塗布液の供給量は、所望の塗布膜厚、塗布液の濃度、塗布速度等により一概には規定できないが、概ね被塗布体上の塗設量として、１〜５０ｇ／ｍ2の範囲が好ましい。１ｇ／ｍ2未満では、安定で均一な塗布膜を形成するのが難しく、逆に５０ｇ／ｍ2を越えると乾燥負荷等に影響が表れ、本発明の効果を有効に発揮させることが難しくなる。塗布液の湿潤膜厚としては、１〜５０μｍであることが特徴であり、好ましくは５〜３０μｍである。
【００７４】
一方、ガスノズルから噴出されるガスは、塗布に適した気体であればよく、一般にはエア（空気）を用いるが、ガスの供給条件としては、概ね１〜５０ＣＭＭ／ｍ（塗布幅あたりの流量）の範囲が好ましく、その時のガスノズルでの内圧としては、塗布の均一性の観点から、１０ｋＰａ以上であることが好ましい。
【００７５】
エアー線速度ｖは、１００〜４００ｍ／ｓであることが本発明の目的を顕著に達成できるという観点において好ましい。特に、ｖが１００ｍ／ｓ以上であれば塗布乾燥性の観点で好ましく、また４００ｍ／ｓ以下であれば塗布収率の観点で好ましい。
【００７６】
本発明でいうエアー線速度とは、ガスノズル出口直後におけるエアー線速度であり、レーザードップラ風速計、例えば、ＫＡＮＯＭＡＸ社製の１Ｄ  ＦＬＶ  ｓｙｓｔｅｍ８８５１により測定して求めることができる。また、塗布収率とは、被塗布体上に塗布された塗布液量／供給した全塗布液量×１００（％）であり、質量法により算出する。すなわち、被塗布体上に塗布された塗布液量は、被塗布体上への塗布前後の質量変化から算出し、供給した全塗布液量は塗布液ノズルへ送液、供給した質量、すなわち、送液流量×塗布時間より求めることができる。
【００７７】
また、このときの塗布液の液滴の平均粒径は、１０〜７０μｍであることが本発明の目的を顕著に達成できるという観点において好ましい。本発明でいう液滴の平均粒径とは、塗布ギャップ（塗布液ノズルと被塗布体間の距離Ｌ５）位置における平均粒径であり、レーザ回折方式粒径測定機、例えば、ＭＡＬＶＡＮ社製のＲＴＳ１１４により測定して、求めることができる。
【００７８】
図１２は、上記説明したようなスロットノズルスプレー装置を配置した塗布製造ラインの一例を示している。ここでは、被塗布体としては支持体上に構成層を塗布したものを用いている。該構成層を塗布後、乾燥する工程内に、複数（多段で）スロットノズルスプレー装置を配置した。このように同一ライン上で、構成層の形成と本発明によるオーバーコート層（最表層）の塗布とを行うことをオンライン塗布と呼んでいる。
【００７９】
図示しない搬送手段によって支持体の元巻きから、支持体が搬送ローラ２１を通過し、更にバックアップロール２２の位置にて反転搬送される過程で流量規制型のスライドビード塗布装置２０より供給される多孔質インク吸収層（構成層）用の塗布液が塗布される。この多孔質インク吸収層用の塗布液は、親水性バインダを含有しているので、冷却ゾーン３０で一端冷却して固定する。この支持体上に構成層を有する被塗布体９は、乾燥工程に搬送される。乾燥工程では、エアを吹き出して塗布膜表面と非接触で反転搬送させるリバーサ２３と被塗布体９の裏面に接触して反転搬送させる通常の搬送ローラ２４とを交互に設けて、被塗布体９を蛇行搬送させている。この乾燥工程においては、温風を吹き付けられて乾燥される（温風吹きつけ手段は不図示）。この乾燥工程の途中、好ましくは減率乾燥以降の位置に、２つのスロットノズルスプレー装置１によって本発明の上記説明したような液滴噴霧による塗布が行われる。２つのスロットノズルスプレーのうち、少なくとも１つは、乾燥終点以降の位置に載置されることが乾燥性の観点で好ましい。ここでは２つのスロットノズルスプレー装置を使用したが、１つでももちろんよく、３つ以上でもかまわない。多段に分けて液滴噴霧による塗布を行うことにより、乾燥負荷がより少なくなると同時に、膜厚均一性も高まることがわかった。
【００８０】
本発明の塗布方法を用いて、被塗布体上に薄膜を形成する際の塗布速度としては、用いる塗布液の種類、濃度、溶媒含有量、乾燥能力等により変化し、一概に規定することはできないが、塗布速度として、５０〜５００ｍ／ｍｉｎであることが好ましく、より好ましくは１００〜３００ｍ／ｍｉｎである。
【００８１】
本発明の塗布方法を用いて、少なくとも１層の構成層を支持体上に有する被塗布体上に、塗布を行う場合の塗布時期としては、支持体上に形成した構成層の減率乾燥以降、好ましくは乾燥終点以降である。また、前記構成層をスライドビード塗布等を用いて行う塗布工程と本発明のスロットノズルスプレー装置を用いる等により行う塗布工程は、同じ製造ライン上で、連続して行うことが好ましい（オンライン塗布と言う）。本発明にかかる塗布方法は、少量の塗布液であっても塗布が可能であるため、該構成層が完全に乾燥していない状態で行っても乾燥負荷が少なく、該構成層への悪影響も少ない。また、該構成層が完全に乾燥する前に本発明にかかる塗布を行う方が、かえって構成層のひび割れ等のデメリットを防ぐことも出来ることがわかった。
【００８２】
本発明の塗布方法は、乾燥負荷が少ないので、該構成層の乾燥工程内において実施することができる。乾燥工程は、通常は、湿潤状態の塗布膜を連続的に搬送しながら、その表面あるいは裏面より、特定の温度及び湿度条件に制御された乾燥風を吹き付けて乾燥させることが好ましい。
【００８３】
湿潤状態の塗布膜の乾燥過程は、主に以下のように分類することができる。乾燥の初期は、恒率乾燥部と呼ばれ、塗布液の溶媒である水や溶剤が蒸発潜熱を奪いながら蒸発していくため、構成層の表面温度はほぼ一定である。この一定温度の期間を恒率乾燥部という。恒率乾燥部以降では、塗布液の溶質とインターラクションのある水や溶剤を蒸発させるため、蒸発潜熱の他にそのインターラクションを解くためのエネルギーも必要となるので表面温度は上昇する。この期間を減率乾燥部という。減率乾燥とは、表面からの溶媒の蒸発が層内の塗膜中の水分移動が勝るときに起きる現象である。次いで、減率乾燥が終了すると、乾燥風の温度とインクジェット記録用紙の表面温度が一致する領域に入る。この時点が、乾燥終点と呼ばれている。
【００８４】
以上説明した恒率乾燥部、減率乾燥部及び乾燥終点の確認方法としては、特に制限はないが、例えば、表面温度をモニターして、表面温度が一定である領域を恒率乾燥部、表面温度が上昇する領域を減率乾燥部及び乾燥温度と同一となった時点を、乾燥終点として求めることができる。
【００８５】
また、他の方法としては、各領域に含水量計を設置し、塗膜の含水量をモニターし、含水量の減少曲線がフラットになった領域を乾燥終点として規定することができる。
【００８６】
本発明の塗布方法における塗布液の粘度は、０．１〜２５０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。より好ましくは０．１〜５０ｍＰａ・ｓである。更に好ましくは０．１〜２０ｍＰａ・ｓである。
【００８７】
本発明の塗布方法は、薄層を均一に形成することができ、幅広い分野に適用することができ、例えば、一般銀塩感光材料の最表面に機能層を賦与する、反射防止膜の形成、電子写真で用いる感光体の電荷発生層、電荷輸送層の塗布、インクジェット記録用紙上への塗布等に用いることができるが、特に好ましくはインクジェット記録用紙上へのオーバーコート層の塗布に適用することである。
【００８８】
本発明の塗布方法が好ましく適用できるインクジェット記録用紙は、支持体上に親水性バインダーと微粒子を含有する多孔質インク吸収層を構成層として有し、その上に本発明の塗布方法でオーバーコート層を設けたものである。
【００８９】
多孔質インク吸収層は、主に微粒子と親水性バインダーから形成される。微粒子としては、気相法で合成された微粒子シリカを、親水性バインダーとしては、ポリビニルアルコールなどが好ましく用いられる。
【００９０】
このようなインクジェット記録用紙に用いられる支持体としては、吸水性支持体（例えば、紙など）や非吸水性支持体を用いることができるが、より高品位なプリントが得られる観点から、非吸水性支持体が好ましい。このような支持体としては、紙の両面をポリオレフィン樹脂でラミネートした紙支持体がある。
【００９１】
上記ポリビニルアルコールと微粒子シリカを含有する多孔質インク吸収層用（構成層用）の塗布液は、高温で低粘度、低温で高粘度になりやすい。それ故に、上記水溶性塗布液を支持体上に塗布した後は、塗布液を冷却して著しく増粘させることが好ましい。
【００９２】
多孔質インク吸収層の塗布温度は、一般的には、３０〜６０℃であり、塗布後の冷却温度は塗膜温度が概ね２０℃以下になるようにすれば良く、特に、１５℃以下にすることが好ましい。
【００９３】
冷却工程は、塗布後、例えば１５℃以下に冷却されたゾーンを一定時間（好ましくは５秒間以上）通過させることで行うことができる。この冷却時点では、あまり強い風を吹き付けないことが、液ヨリを起こさず均一でムラのない塗膜を得る観点から好ましい。
【００９４】
一旦冷却した以降は、強い風を吹き付けても、塗布液自体の増粘のため、液ヨリを起こしにくくなり、強い風を吹き付けても液ヨリの発生を抑制することができる。また、吹き付ける強い風の温度は、２０℃以上の風を吹き付けることができるが、徐々に風の温度を上げるのが好ましい。
【００９５】
多孔質インク吸収層用の塗布液を支持体上に塗布した後の乾燥工程は、風を吹き付けたり高温状態のゾーンを通過させる、もしくは両者を併用することで行われる。
【００９６】
高温ゾーンを通過させて乾燥させる場合、５０〜１５０℃の乾燥ゾーンを通過させる。この際、乾燥温度は、支持体の耐熱性や塗膜への悪影響などを考慮して適切な乾燥温度を選択することが好ましい。乾燥する風は、通常、相対湿度が１０〜５０％、好ましくは１５〜４０％の風で行われる。乾燥時間は、湿潤膜厚にもよるが、概ね１０分以内が好ましく、５分以内にするのが特に好ましい。
【００９７】
塗布速度は、湿潤膜厚や設備の乾燥能力に依存するが、概ね１分当たり１０〜１０００ｍ、好ましくは２０〜５００ｍである。
【００９８】
上記多孔質インク吸収層用の塗布液の塗布方法としては、公知の方法から適宜選択して行うことができ、例えば、グラビアコーティング法、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、押し出し塗布方法、カーテン塗布方法あるいは米国特許第２，６８１，２９４号公報に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法が好ましく用いられる。
【００９９】
次に、本発明のスロットノズルスプレー装置を用いて、インクジェット記録用紙の多孔質インク吸収層上にオーバーコート層を設ける場合の、該オーバーコート層用の塗布液について、以下に説明する。
【０１００】
オーバーコート層用の塗布液は、インクジェット記録用紙の構成層表面に対する機能賦与化合物を含有していることが特徴である。
【０１０１】
その機能賦与化合物の使用により、ｐＨが変化する有機または無機の酸、もしくは各種のアルカリ性の添加剤、水溶性多価金属イオンの水溶性塩、アニオン、カチオン、両性、もしくはノニオン系の各種界面活性剤、退色防止剤、カチオン性定着剤、親水性バインダーの架橋剤等が挙げられる。
【０１０２】
多孔質インク吸収層の膜面ｐＨを低下させる目的で使用できる酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸、燐酸などの無機酸、クエン酸、ギ酸、酢酸、フタル酸、こはく酸、蓚酸、ポリアクリル酸などの有機酸を挙げることができる。
【０１０３】
多孔質インク吸収層の膜面ｐＨを増大させる目的で使用されるアルカリとしては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ほう砂、燐酸ナトリウム、水酸化カルシウム、有機アミンなどが挙げられる。
【０１０４】
上記ｐＨ調整剤は、多孔質形成する塗布液中のｐＨが記録媒体の好ましい膜面ｐＨと異なる場合に、特に好ましい。
【０１０５】
記録媒体の多孔質インク吸収層の膜面ｐＨは、インクの種類によっても異なるが、一般には、より酸性側で染料の耐水性や滲みが改善されるが、耐光性はより高ｐＨ側で改良される傾向が大きいため、使用するインクとの組み合わせで最適なｐＨは選定される。好ましい多孔質表面の膜面ｐＨは、３〜７であり、特に３．５〜６．５が好ましい。ここでいう膜面ｐＨとは、Ｊ．ＴＡＰＰＩ  ４９に規定される紙の表面ｐＨ測定方法にしたがって測定した値であり、具体的には、記録媒体表面に５０μｌの純水（ｐＨ＝６．２〜７．３）を滴下し、市販の平面電極を用いて測定した値を言う。
【０１０６】
前記機能賦与化合物としては、界面活性剤であってもよい。
【０１０７】
界面活性剤は、インクジェット記録時にドット径をコントロールすることが可能であり、そのような界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性、両性、もしくはノニオン系界面活性剤を挙げることができる。また、界面活性剤は、２種以上を併用することもできる。界面活性剤の添加量は、記録媒体１ｍ2当たり概ね０．０１〜５０ｍｇである。５０ｍｇを越えると、インクジェット記録時にマダラ状のムラになりやすい。
【０１０８】
前記機能賦与化合物としては、親水性バインダーの架橋剤であってもよい。
【０１０９】
このような架橋剤としては、公知のものを使用でき、好ましいものとしては、前述のホウ酸類、ジルコニウム塩、アルミニウム塩もしくはエポキシ系架橋剤である。
【０１１０】
前記機能賦与化合物としては、画像安定剤（以下、退色防止剤ともいう）であってもよい。退色防止剤は、光照射による退色およびオゾン、活性酸素、ＮＯx、ＳＯxなどの各種の酸化性ガスによる退色を抑制するものである。
【０１１１】
前記機能賦与化合物としては、カチオン性ポリマーを使用することができる。
【０１１２】
一般に、カチオン性ポリマーは、染料の定着剤として作用し、耐水性や滲みを防止するため、予め多孔質受容層を形成する塗布液に添加しておくことが好ましいが、塗布液中に添加した際に問題が発生する場合には、オーバーコート法で供給することもできる。例えば、カチオン性ポリマーの添加により、塗布液が経時で増粘したり、あるいは、多孔質層内でカチオン性ポリマーの分布を持たせて発色性を改善する場合などでは、オーバーコート法で供給することが好ましい。カチオン性ポリマーをオーバーコート法で供給する場合、記録媒体１ｍ2当たり概ね０．１〜５ｇの範囲である。
【０１１３】
前記機能性付与化合物としては、水溶性多価金属化合物であってもよい。
【０１１４】
水溶性多価金属化合物は、一般に、無機微粒子含有の塗布液中に存在すると凝集を起こしやすく、これにより微少な塗布故障や光沢性の低下を引き起こしやすいため、特にオーバーコート法が供給するのが好ましい。
【０１１５】
そのような多価金属化合物としては、例えば、Ｍｇ2+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+、Ｚｒ2+、Ｎｉ2+、Ａｌ3+などの硫酸塩、塩化物、硝酸塩、酢酸塩等が用いられる。
【０１１６】
上記の各機能性付与化合物は、単独で使用しても、あるいは２種以上を併用することもできる。具体的には、退色防止剤を２種以上含む水溶液を用いることも、また、退色防止剤と架橋剤を含有する溶液、退色防止剤と界面活性剤を含有する溶液、更には架橋剤、水溶性の多価金属化合物、および退色防止剤を併用することもできる。
【０１１７】
上記機能性付与化合物の溶媒としては、水または水混和性の有機溶媒と水との混合溶液であることができ、水を用いることが特に好ましい。また、水と水混和性を有する低沸点有機溶媒（例えば、メタノール、エタノール、ｉ−プロパノール、ｎ−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン等）との混合溶媒も好ましい溶媒である。水と水混和性の有機溶媒とを併せて使用する場合、水の含有率としては質量比で５０質量％以上であることが好ましい。
【０１１８】
ここで水混和性を有する低沸点有機溶媒とは、室温で水に対して１０質量％以上の溶解性を有し、沸点が約１２０℃以下の有機溶媒を言う。
【０１１９】
また、本発明の塗布方法に用いる塗布液の表面張力は、室温で２０〜６０ｍＮ／ｍであることが、均一な塗布性を得る観点から好ましい。
【実施例】
【０１２０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２１】
実施例１
《被塗布体１の作製》
４層構成の多孔質インク吸収層を構成層として支持体上に形成した被塗布体１を作製した。
【０１２２】
〔支持体の作製〕
含水率が６％、坪量が２００ｇ／ｍ2の写真用原紙の裏面側に、押し出し塗布法により密度が０．９２の低密度ポリエチレンを３５μｍの厚さで塗布した。次いで、表面側にアナターゼ型酸化チタンを５．５％含有する密度が０．９２の低密度ポリエチレンを４０μｍの厚さで押し出し塗布法で塗布して両面をポリエチレンで被覆した支持体を作製した。表側にコロナ放電を行いポリビニルアルコールからなる下引き層を０．０３ｇ／ｍ2、裏面にもコロナ放電を行った後ラテックス層を０．１２ｇ／ｍ2に成るように塗布した。
【０１２３】
〔各分散液の調製〕
（シリカ分散液１の調製）
一次粒子の平均粒径が約１２ｎｍの気相法シリカ（トクヤマ製：レオロシールＱＳ−２０）１６０ｋｇを、三田村理研工業株式会社製のジェットストリーム・インダクターミキサーＴＤＳを用いて、硝酸でｐＨを２．５に調整した４８０Ｌの純水（エタノール１０Ｌを含有）中に室温で吸引分散した後、全量を６００Ｌに純水で仕上げて、シリカ分散液１を調製した。
【０１２４】
（シリカ分散液２の調製）
カチオン性ポリマー（ＨＰ−１）を２．１２ｋｇ、エタノールを２．２Ｌ、ｎ−プロパノールを１．１Ｌ含有する水溶液（ｐＨ＝２．３）１５Ｌに、上記シリカ分散液１の６０．０Ｌを攪拌しながら添加し、次いで、ホウ酸３２０ｇとホウ砂１９０ｇを含有する水溶液８．０Ｌを添加し、サンノブコ株式会社消泡剤ＳＮ３８１を２ｇ含有する水溶液２００ｍｌを添加した。
【０１２５】
この混合液を三和工業株式会社製高圧ホモジナイザーで分散し、全量を純水で８５Ｌに仕上げて、シリカ分散液２を調製した。
【０１２６】
【化１】
2005193229.tif 000003
【０１２７】
（オイル分散液の調製）
ジイソデシルフタレート２０ｋｇと酸化防止剤（ＡＯ−１）２０ｋｇとを４５ｋｇの酢酸エチルに加熱溶解し、酸処理ゼラチン８ｋｇ、カチオン性ポリマーＨＰ−１を２．９ｋｇおよびサポニン５ｋｇとを含有するゼラチン水溶液２１０Ｌと５５℃で混合し、高圧ホモジナイザーで乳化分散した後、全量を純水で３００Ｌに仕上げて、オイル分散液を調製した。
【０１２８】
【化２】
2005193229.tif 000004
【０１２９】
〔インク吸収層の塗布液の調製〕
下記の構成からなるインク吸収層用の各塗布液を調製した。なお、各層の添加量は塗布液１Ｌ当たりの量で表示した。実施例中で「％」は、特に断りのない限り質量％を表す。
【０１３０】
〈第１層用塗布液：最下層〉
シリカ分散液２                                                    ５８０ｍｌ
ポリビニルアルコール（クラレ社製：ＰＶＡ２０３）１０％水溶液          ５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３８００  ケン化度８８％）６．５％水溶液
２９０ｍｌ
オイル分散液                                                        ３０ｍｌ
ラテックス分散液（昭和高分子社製：ＡＥ８０３）                      ４２ｍｌ
エタノール                                                        ８．５ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げる
〈第２層用塗布液〉
シリカ分散液２                                                    ６００ｍｌ
ポリビニルアルコール（クラレ社製：ＰＶＡ２０３）１０％水溶液          ５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３８００  ケン化度８８％）６．５％水溶液
２７０ｍｌ
オイル分散液                                                        ２０ｍｌ
ラテックス分散液（昭和高分子社製：ＡＥ８０３）                      ２２ｍｌ
エタノール                                                            ８ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げる
〈第３層用塗布液〉
シリカ分散液２                                                    ６３０ｍｌ
ポリビニルアルコール（クラレ社製：ＰＶＡ２０３）１０％水溶液          ５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３８００  ケン化度８８％）６．５％水溶液
２７０ｍｌ
オイル分散液                                                        １０ｍｌ
ラテックス分散液（昭和高分子社製：ＡＥ８０３）                        ５ｍｌ
エタノール                                                            ３ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げる
〈第４層用塗布液：最上層〉
シリカ分散液２                                                    ６６０ｍｌ
ポリビニルアルコール（クラレ社製：ＰＶＡ２０３）１０％水溶液          ５ｍｌ
ポリビニルアルコール（平均重合度：３８００  ケン化度８８％）６．５％水溶液
２５０ｍｌ
ベタイン型界面活性剤の４％水溶液                                      ３ｍｌ
サポニンの２５％水溶液                                                ２ｍｌ
エタノール                                                            ３ｍｌ
純水で全量を１０００ｍｌに仕上げる。
【０１３１】
〔インク吸収層の塗布〕
次に、上記の各塗布液を下記の湿潤膜厚となるよう、４０℃で上記支持体上に、図１２に記載の工程からなる塗布ラインを用いて、スライドビード型塗布装置により４層同時塗布して、被塗布体１を作製した。
【０１３２】
〈湿潤膜厚〉
第１層：４２μｍ
第２層：３９μｍ
第３層：４４μｍ
第４層：３８μｍ
インク吸収層用塗布液の塗布後は、５℃に保った冷却ゾーンを１５秒間通過させて膜面の温度を１３℃にまで低下させたあと、以下の温度の風を順次インク吸収層表面に吹き付けながら乾燥工程３０の各ゾーンを通過させて乾燥した。
【０１３３】
なお、全乾燥工程は３６０秒とし、このうち前半の２７０秒は、吹き付ける風の平均相対湿度を３０％以下とした。２７０秒以降は、相対湿度が４０〜６０％の調湿ゾーンとした。
【０１３４】
《オーバーコートの実施》
〔塗布１０１〕
（オーバーコート液１の調製）
下記水溶性染料を１．０質量％含む水溶液を調製し、これをオーバーコート液１とした。
【０１３５】
【化３】
2005193229.tif 000005
【０１３６】
（オーバーコート）
図１２に記載の塗布ライン（図１２に記載の後半のオーバーコートゾーンを使用し、コーターは１台とした）で、図２、図４に記載の構成からなるスロットノズルスプレー装置を用いて、上記調製したオーバーコート液１を、前記作製した被塗布体１上に、塗布速度１００ｍ／ｍｉｎ、湿潤膜厚１０．０μｍとなるように５分間の連続塗布を行い、これを塗布１０１とした。なお、塗布１０１に用いたスロットノズルスプレー装置は、外部ダイブロックの底面のなす角αを１６０度、塗布液ノズルの塗布液吐出口とガスノズルのガス吐出口とのなす角βを３０度、内部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ１、Ｌ２を０．５ｍｍ、外部ダイブロックの底面のそれぞれの幅Ｌ３、Ｌ４を４０ｍｍとし、外部ダイブロックの底面と被塗布体表面との距離を２ｃｍとした。また、ガスノズルより供給するガスは、空気を使用し、ガスノズルより、１６０ｍ／ｓｅｃの風速で供給した。
また、用いた各ノズル形状は図１０に記載の構成とし、塗布液ノズルの開口端は１２０μｍ角の矩形、ピッチは１０００μｍで、ガスノズルは２００μｍ巾のスリット状とした。
【０１３７】
〔塗布１０２〜１０６〕
上記塗布１０１において、外部ダイブロックの底面のなす角αを、それぞれ１７０度、１８０度、２００度、２４０度、２７０度に変更した以外は同様にして、塗布１０２〜１０６を行った。なお、２００度、２４０度、２７０度に変更したスロットノズルスプレー装置は、図５で記載の装置を用いた。
【０１３８】
《塗布性の評価結果》
上記塗布１０１〜１０６を行った際に、スロットノズルスプレー装置の底面部の状態、塗布液の飛翔状態及び塗布面品質について目視観察を行い、下記の結果を得た。
【０１３９】
〈塗布１０１（α＝１６０度）〉
塗布直後から外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄにオーバーコート液滴が付着・成長し、塗布３分後から大きな液滴となり、飛沫が断続的に飛翔し、塗膜面上に塗布故障が発生した
〈塗布１０２（α＝１７０度）〉
外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着はなく、均一な塗布性が得られた
〈塗布１０３（α＝１８０度）〉
外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着はなく、均一な塗布性が得られた
〈塗布１０４（α＝２００度）〉
外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着はなく、均一な塗布性が得られた
〈塗布１０５（α＝２４０度）〉
被塗布体へのオーバーコート液滴の着弾率がやや低下したが、外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着はなく、均一な塗布性が得られた
〈塗布１０６（α＝２７０度）〉
被塗布体へのオーバーコート液滴の着弾率が著しく低下し、形成された塗膜面の塗布幅手方向における着弾量（塗布量）分布が大きく劣化した
以上の結果より、外部ダイブロックの底面のなす角αが１７０〜２４０度であるスロットノズルスプレー装置を用いた本発明の塗布方法は、比較例に対し外部ダイブロックの底面への液付着がなく、塗布均一性に優れていることが分かる。
【０１４０】
実施例２
実施例１に記載の塗布１０３（α＝１８０度、β＝３０度）において、塗布液ノズルの塗布液吐出口とガスノズルのガス吐出口とのなす角βを、１５度、４５度、６０度、７５度に変更した以外は同様にして、塗布２０１〜２０４を行い、実施例１で行った塗布１０３と共に、スロットノズルスプレー装置の底面部の状態、塗布液の飛翔状態及び塗布面品質について目視観察を行い、下記の結果を得た。
【０１４１】
〈塗布２０１（β＝１５度）〉
外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着はなく、均一な塗布性が得られた
〈塗布１０３（β＝３０度）〉
外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着はなく、均一な塗布性が得られた
〈塗布２０２（β＝４５度）〉
外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着はなく、均一な塗布性が得られた
〈塗布２０３（β＝６０度）〉
被塗布体の搬送方向に、オーバーコート液の噴霧の幅が拡がり、被塗布体へのオーバーコート液滴の着弾率がやや低下したが、均一な塗布性が得られた。
【０１４２】
〈塗布２０４（β＝７５度）〉
被塗布体へのオーバーコート液滴の着弾率が著しく低下し、また外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着が激しい
以上の結果より、塗布液ノズルの塗布液吐出口とガスノズルのガス吐出口とのなす角βが１５〜６０度であるスロットノズルスプレー装置を用いた本発明の塗布方法は、比較例に対し、被塗布体への着弾率（塗布効率）が良好で、外部ダイブロックの底面への液付着がなく、塗布均一性に優れていることが分かる。
【０１４３】
実施例３
実施例１に記載の塗布１０３（Ｌ１、Ｌ２＝０．５ｍｍ）において、内部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ１、Ｌ２を、０．０５ｍｍ、１．０ｍｍ、１．５ｍｍ、２．０ｍｍに変更した以外は同様にして、塗布３０１〜３０４を行い、実施例１で行った塗布１０３と共に、塗布面品質（スジ故障、点状故障の有無）について目視観察を行い、下記の結果を得た。
【０１４４】
〈塗布３０１（Ｌ１、Ｌ２＝０．０５ｍｍ）〉
得られた塗膜面に、スジ故障、点状故障の発生は認められない
〈塗布１０３（Ｌ１、Ｌ２＝０．５ｍｍ）〉
得られた塗膜面に、スジ故障、点状故障の発生は認められない
〈塗布３０２（Ｌ１、Ｌ２＝１．０ｍｍ）〉
得られた塗膜面を詳細に観察すると、ごく弱いランダムな縦スジ状のムラが認められるが、点状故障の発生はなく実用上許容される品質である
〈塗布３０３（Ｌ１、Ｌ２＝１．５ｍｍ）〉
得られた塗膜面に、強い縦スジ状の故障が発生し、実用上問題となる品質である
〈塗布３０４（Ｌ１、Ｌ２＝２．０ｍｍ）〉
得られた塗膜面に、強い縦スジ状故障の発生に加え、噴霧状とならない粗大オーバーコート液滴が着弾し、強い点状故障が発生している
以上の結果より、内部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ１、Ｌ２が１ｍｍ以下であるスロットノズルスプレー装置を用いた本発明の塗布方法は、比較例に対し、スジ故障及び点状故障の発生がなく、塗布均一性に優れていることが分かる。
【０１４５】
実施例４
上記実施例３に記載の塗布３０１〜３０４、塗布１０３において、スロットノズルスプレー装置として、図４に記載の装置に代えて、図６に記載の内部ダイブロックの底面が円弧状の形態からなるスロットノズルスプレー装置を用いた以外は同様にしてオーバーコートを行った結果、実施例３に記載の結果と同様に、内部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ１、Ｌ２が１ｍｍ以下であるスロットノズルスプレー装置を用いた本発明の塗布方法は、比較例に対し、スジ故障及び点状故障の発生がなく、塗布均一性に優れているを確認することができた。
【０１４６】
実施例５
実施例１に記載の塗布１０３（Ｌ３、Ｌ４＝４０ｍｍ）において、外部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ３、Ｌ４を、１．０ｍｍ、１０ｍｍ、５０ｍｍ、６０ｍｍに変更した以外は同様にして、塗布５０１〜５０４を行い、実施例１で行った塗布１０３と共に、スロットノズルスプレー装置の底面部の状態、塗布液の飛翔状態及び塗布面品質について目視観察を行い、下記の結果を得た。
【０１４７】
〈塗布５０１（Ｌ３、Ｌ４＝１．０ｍｍ）〉
僅かに外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着が認められたが、ほぼ均一な塗布性が得られた
〈塗布５０２（Ｌ３、Ｌ４＝１０ｍｍ）〉
外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着はなく、均一な塗布性が得られた
〈塗布１０３（Ｌ３、Ｌ４＝４０ｍｍ）〉
外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着はなく、均一な塗布性が得られた
〈塗布５０３（Ｌ３、Ｌ４＝５０ｍｍ）〉
僅かに外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄへのオーバーコート液滴の付着が認められたが、ほぼ均一な塗布性が得られた
〈塗布５０４（Ｌ３、Ｌ４＝６０ｍｍ）〉
オーバーコート直後から外部ダイブロックの底面２ｃ、２ｄにオーバーコート液滴の付着・成長し、塗布３分後から大きな液滴となり、飛沫が断続的に飛翔し、塗膜面上に塗布故障が発生した
以上の結果より、外部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ３、Ｌ４が０．１〜５０ｍｍの範囲内にあるスロットノズルスプレー装置を用いた本発明の塗布方法は、比較例に対し外部ダイブロックの底面への液付着がなく、塗布均一性に優れていることが分かる。
【０１４８】
実施例６
上記実施例５に記載の塗布５０１〜５０４、塗布１０３において、スロットノズルスプレー装置として、図５に記載の様に外部ダイブロックの底面のなす角αを２４０度に変更した以外は同様にして、オーバーコートを行った結果、実施例５に記載の結果と同様に、外部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ３、Ｌ４が０．１〜５０ｍｍの範囲内にあるスロットノズルスプレー装置を用いた本発明の塗布方法は、比較例に対し外部ダイブロックの底面への液付着がなく、塗布均一性に優れていることを確認することができた。
【０１４９】
実施例７
実施例２に記載の塗布２０３（α＝１８０度、β＝６０度）において、内部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ１、Ｌ２を０．１ｍｍ、外部ダイブロックの底面のぞれぞれの幅Ｌ３、Ｌ４を３．０ｍｍとし、更に図８に記載の外部ダイブロックの底面と被塗布体表面との距離Ｌ５と内部ダイブロックの底面と被塗布体表面との距離Ｌ６とを、表１に記載のように変更した以外は同様にして、塗布７０１〜７０５を行い、塗布面品質（斑点状故障の有無）について目視観察を行い、得られた結果を表１に示す。
【０１５０】
【表１】
2005193229.tif 000006
【０１５１】
表１の結果より明らかなように、外部ダイブロックの底面と被塗布体表面との距離Ｌ５と内部ダイブロックの底面と被塗布体表面との距離Ｌ６との差ΔＬを２ｍｍ以下とすることにより、斑点状故障の発生を抑制できより好ましい条件であることが分かる。
【０１５２】
実施例８
上記実施例１〜７に記載の塗布方法において、染料水溶液に代えて、機能賦与化合物として、ｐＨ調整剤、界面活性剤、親水性バインダーの架橋剤、画像安定剤、水溶性多価金属化合物をそれぞれ含む各オーバーコート液を用いて、同様の塗布を行った結果、記実施例１〜７に記載の結果と同様に、本発明で規定する構成からなるスロットノズルスプレー装置を用いた本発明の塗布方法は、比較例に対し、スジムラや塗布故障が低減され、優れた塗布均一性を確認することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１５３】
【図１】本発明の塗布方法を説明するための概略図である。
【図２】スロットノズルスプレー部を含むスロットノズルスプレー装置の一例を示す概略断面図である。
【図３】スロットノズルスプレー部とそこで形成される液滴の形成及び飛翔状態を説明する模式図である。
【図４】本発明で用いるスロットノズルスプレー部の構成の一例を示す概略断面図である。
【図５】本発明で用いるスロットノズルスプレー部の構成の他の一例を示す概略断面図である。
【図６】本発明で用いるスロットノズルスプレー部の構成の更に他の一例を示す概略断面図である。
【図７】本発明で用いるスロットノズルスプレー部の構成の更に他の一例を示す概略断面図である。
【図８】本発明で用いるスロットノズルスプレー部の構成の更に他の一例を示す概略断面図である。
【図９】図２のスロットノズルスプレー部を塗布液ノズルＣ側から見た一例を示す概略図である。
【図１０】図２のスロットノズルスプレー部を塗布液ノズルＣ側から見た他の一例を示す概略図である。
【図１１】スロットノズルスプレー部の一例を示す分解斜視図である。
【図１２】スロットノズルスプレー装置を配置した塗布製造ラインの一例を示す図である。
【符号の説明】
【０１５４】
１  スロットノズルスプレー部
１ｄ  シム
２ａ、２ｂ  外部ダイブロック
２ｃ、２ｄ  外部ダイブロックの底面
３ａ、３ｂ  内部ダイブロック
３ｃ、３ｄ  内部ダイブロックの底面
４  調整釜
５  ポンプ
６  流量計
７  加圧空気源
８  弁
９  被塗布体
１０  基材
１１  インク吸収層
１２  液滴粒子
２０  スライドビード塗布装置
３０  冷却ゾーン
Ａ  ガスポケット
Ｂ  塗布液ポケット
Ｃ  塗布液ノズル
Ｄ  ガスノズル
Ｅ  塗布液
Ｇ  圧縮空気
Ｌ１、Ｌ２  内部ダイブロックの底面の幅
Ｌ３、Ｌ４  外部ダイブロックの底面の幅
【図１】
2005193229.tif 000007
【図２】
2005193229.tif 000008
【図３】
2005193229.tif 000009
【図４】
2005193229.tif 000010
【図５】
2005193229.tif 000011
【図６】
2005193229.tif 000012
【図７】
2005193229.tif 000013
【図８】
2005193229.tif 000014
【図９】
2005193229.tif 000015
【図１０】
2005193229.tif 000016
【図１１】
2005193229.tif 000017
【図１２】
2005193229.tif 000018