(57)【要約】【課題】  フッ素生成槽から生じる水素を処理するのに使用される装置と方法を提供する。【解決手段】  或る実施形態では、装置は、エアゾール低減ユニットと触媒燃焼ユニットを備えている。触媒燃焼ユニット内の触媒は、パイロット灯又は電気スパーク装置が無くてもよい温度に維持されている。エロゾル低減ユニットと触媒ユニットを備えているフッ素生成装置及び方法についても説明されている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素発生器から生じる、水素と残留量のＨＦとエアゾール電解質とを含んでいる流体中の水素を処理するのに使用される装置において、
ａ）エアゾール除去組成物を入れた電解質エアゾール除去ユニットであって、そのユニットを通って流体が流れる電解質エアゾール除去ユニットと、
ｂ）触媒活性化燃焼面を備えた触媒ユニットであって、強制対流ダクトの内側に配置されるようになっており、導管で前記エアゾール除去ユニットに流体連通しており、前記触媒活性化燃焼面が、代表的には前記強制対流ダクトを通って流れる空気又は空気を含んでいる排出ガスである酸素を含む気流中で前記水素を燃焼させる、触媒ユニットと、を備えている装置。
【請求項２】
前記装置はモジュールになっている、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記装置は可搬式である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記エアゾール除去組成物は台形状をしている、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記エアゾール除去組成物は、ソーダ石灰、フッ化ナトリウム、加熱活性化酸化アルミニウム、微粉化ニッケル、又はこれらの組み合わせから成る群より選択される組成物を含んでいる、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記エアゾール除去ユニットと前記触媒ユニットを流体連通している前記導管は、ニッケル管とニッケル被覆管から成る群より選択される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記エアゾール除去ユニットは、約２５℃から約２００℃の範囲の温度に保たれる、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記触媒ユニットは少なくとも７０℃の温度に維持される、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記触媒ユニットは少なくとも２００℃の温度に維持される、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記触媒活性化燃焼面は、少なくとも７０℃の温度に維持される、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記触媒活性化燃焼面は、少なくとも２００℃の温度に維持される、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記エアゾール除去ユニットと前記触媒ユニットは、前記フッ素発生器から離して配置されている、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記エアゾール除去ユニットと前記触媒ユニットは、前記フッ素発生器の上で且つそのフットプリント内に取り付けられている、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記触媒活性化燃焼面は、１つ又は複数のワイヤスクリーンの層を備えており、前記ワイヤスクリーンの各ワイヤは、組成、直径、及び向きが同じでも異なっていてもよい、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記触媒活性化燃焼面は、１０プライ層の、プラチナ９５パーセントとレニウム５パーセントの合金スクリーンである、請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
フッ素発生器から生じる、水素と残留量のＨＦとエアゾール電解質とを含んでいる流体中の水素を処理するための方法において、
ａ）エアゾール除去組成物を備えている電解質エアゾール除去部に流体を流し、前記流体を前記エアゾール除去組成物に接触させて、エアゾールが減少した高濃度の水素流体を形成する段階と、
ｂ）前記エアゾールが減少した高濃度の水素流体を、強制対流ダクトの内側に配置された触媒活性化燃焼面に接触させると共に、酸素を含むガスを前記強制対流ダクト内に流して、前記酸素を含むガスの気流内の酸素で前記水素を燃焼させる段階と、を備える方法。
【請求項１７】
フッ素を生成するのに使用される装置において、
ａ）高濃度水素流体を生成するように作られているフッ素発生器と、
ｂ）請求項１に記載の装置と、を備えており、前記エアゾール除去ユニットが前記フッ素発生器に流体連通され、前記高濃度水素流体を受け入れる、フッ素を生成するのに使用される装置。
【請求項１８】
フッ素を生成し、フッ素発生器から生じる、水素と残留量のＨＦとエアゾール電解質とを含んでいる流体内の副生成物である水素を処理するための方法において、
ａ）高濃度フッ素流と、少量の電解質とフッ化水素とを含む高濃度水素流と、を生成する段階と、
ｂ）前記高濃度フッ素流を浄化列に送って精製されたフッ素流を製造する段階と、
ｃ）前記高濃度水素流を請求項１に記載の装置に送って前記エアゾール成分を実質的に減少させ、前記水素を燃焼させる段階と、を備える方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概括的にはフッ素生成の分野に関する。より厳密には、本発明は、フッ素発生器から生じる水素を処理するための装置と方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フッ素は、全元素中最も反応性の高い元素であり、最も強力な酸化剤であり、電気陰性度の最も高い物質である。シリコンチップの製造は、超高純度ＨＦ及びＮＦ3などの物質を使用するウエット及びドライエッチング処理に依存している。
【０００３】
電気分解でフッ化水素（ＨＦ）からフッ素（Ｆ2）を生成する場合、水素（Ｈ2）が必ず副産物として生じる。米国特許第４，５１１，４４０号では、フッ化物の混合物の電気分解によるフッ素の製造について論じているが、ここでは、フッ素は例えばアルカリ金属フッ化物とフッ化水素との混合物から抽出されている。この種のシステムは、例えば、米国特許第３，７７３，６４４号、同第４，１３９，４４７号、及び英国特許第８５２，３６９号に開示されている。水素は陰極に発生し、フッ素は、恐らく量が変動する酸素及びその他の不純物と共に、陽極に発生する。水素とフッ素の混合気は大爆発を起こすので、そのようなフッ素槽は、２つの電極に発生する気体の混化を防止するように設計された「スカート」とも呼ばれる隔壁又は仕切りを通例として有している。
【０００４】
その可燃性と爆発性という性質により、処理に当たっては水素を制御されたやり方で燃焼させることが好ましい。しかしながら、この場合、水素流には、常に或る量のＨＦと電解質エアゾールとが含まれ、それらが水素の燃焼を更に困難にしている。更に、フッ素発生器の始動と停止の要件により、システムは活性点火源なしに水素の燃焼を完了させることができなければならない。通常は、フッ素発生器は、水素を、空気中に４％である爆発下限界濃度（ＬＥＬ）以下で空気流内に単に排気するだけである。しかしながら、水素は非常に軽い気体なので、高い領域に溜まるか又は蓄積することが知られており、下流に予期できない問題を発生させることもある。これらの問題に鑑みて、天然ガスのパイロット灯を維持すること、又は点火源を維持するための電気を供給することが必要であった。
【０００５】
米国特許第５，３７８，３２４号は、フッ素生成のための工程と電解槽について開示している。他の問題はさておき、この特許では、フッ素の高腐食性により或る程度まで発生する、現在の設計に伴う保守管理問題と、電解質のエアゾールがフッ素ガスに伴出され槽外側の配管の壁に堆積し、配管が狭くなり最終的には閉塞させてしまう「ミスティング」効果の問題について述べている。一方の流れが陽極に隣接して出現し、そこにフッ素が伴出され、他方の流れが陰極に隣接して出現し、そこに水素が伴出される。フッ素と水素は、その後各電解質の流れから分離される。この特許は、電解質に伴出されるフッ素と水素はそれぞれ約１０ｖ／ｏ備えており、遊離すると或る程度のＨＦ、恐らく１５から２０ｖ／ｏのＨＦを含有し、このＨＦは既知の極低温技法により相当程度（例えば、２ｖ／ｏ未満までに）除去することができると述べている。
【０００６】
フッ素と水素の製造について論じているこの他の特許として、米国特許第４，１７６，０１８号、同４，１３９，４４７号、同４，１２５，４４３号、同２，８７９，２１２号、同３，６４２，６０３号、同３，７０７，４５７号、同４，２８４，６１７号、同５，２０７，９９９号、同６，２１０，５４９号、１９７１年１２月１０日発行のフランス特許第２，０８２，３６６号、１９７３年３月２３日発行のフランス特許第２，１４５，０６３号、２００３年２月２０日発行のロシア特許第ＲＵ２１９８９６２号、２００３年５月２９日発行の米国特許公開公報第ＵＳ２００３０９８０３８号、２００３年７月３日発行の米国特許公開公報第ＵＳ２００３１２１７９６号、及び２００３年７月１０日発行の特許協力条約国際公開出願番号第ＷＯ０３０５６０６６号が挙げられる。更に、硝酸精製プラントから発生する水素を燃焼させるためにプラチナが使用されてきたが、我々の知る限りでは、ＨＦ又は電解質が存在する用例における使用については提案されたことはない。
【０００７】
技術の進歩にも関わらず、フッ素発生器から発生する水素を効率的且つ安全に処理するための装置と方法が依然として必要とされており、特にＨＦ及びエアゾール電解質が存在する場合、及び活性点火源が利用できないか又は採用されていない場合において、そのような装置と方法が必要とされている。
【特許文献１】米国特許第４，５１１，４４０号明細書
【特許文献２】米国特許第３，７７３，６４４号明細書
【特許文献３】米国特許第４，１３９，４４７号明細書
【特許文献４】英国特許第８５２，３６９号明細書
【特許文献５】米国特許第４，１７６，０１８号明細書
【特許文献６】米国特許第４，１３９，４４７号明細書
【特許文献７】米国特許第４，１２５，４４３号明細書
【特許文献８】米国特許第２，８７９，２１２号明細書
【特許文献９】米国特許第３，６４２，６０３号明細書
【特許文献１０】米国特許第３，７０７，４５７号明細書
【特許文献１１】米国特許第４，２８４，６１７号明細書
【特許文献１２】米国特許第５，２０７，９９９号明細書
【特許文献１３】米国特許第６，２１０，５４９号明細書
【特許文献１４】フランス特許第２，０８２，３６６号明細書
【特許文献１５】フランス特許第２，１４５，０６３号明細書
【特許文献１６】ロシア特許第ＲＵ２１９８９６２号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、これまでに知られているフッ素生成装置と方法に伴う問題の多くを低減又は解消した装置及び使用法が提案されている。
本発明の第１の態様は、フッ素発生器から生じる、水素と、残留量のＨＦとエアゾール電解質とを含んでいる流体中の水素を処理するのに使用される装置に関しており、同装置は、
ａ）流体が接触するように作られた、エアゾール除去組成物、望ましくはソーダ石灰、フッ化ナトリウム、加熱活性化酸化アルミニウム、微粉化ニッケル、又は上記を組み合わせた台を備えている電解質エアゾール除去部と、
ｂ）導管によってエアゾール除去部に流体連通されている強制対流ダクトの内側に配置され、酸素を含む気流中の、代表的には強制対流ダクト内を流れる空気又は空気を含んでいる排出ガス中の水素を燃焼させるように作られた触媒活性化燃焼面と、
を備えている。
【０００９】
本発明の装置は、好適にはモジュール式、更に好適には可搬式であって、一箇所に設置し、その後、同一プラント内の、又は別のプラントの他の場所に移すことができるようになっているのが望ましい。他の好適な装置としては。電解質エアゾール除去部と触媒ユニットが、フッ素発生ユニットの上面に、望ましくは取り外し可能に取り付けられている装置である。
【００１０】
本発明の他の好適な装置としては、エアゾール除去部が台形状、即ち、粒状材料の台として設けられ、望ましくは約０℃から２００℃の温度範囲に保たれ、一方で触媒ユニットは最低７０℃に、更に、理由は後述するが、望ましくは最低でも約２００℃に維持される装置である。
【００１１】
本発明の更に別の好適な装置としては、触媒活性化燃焼面が、１つ又は複数のワイヤスクリーンの層を備えている装置であり、ワイヤスクリーンの各ワイヤは、組成、直径、及び向きが同じでも異なっていてもよい。
【００１２】
本発明の第２の態様は、フッ素発生器から生じる、水素と、残留量のＨＦとエアゾール電解質とを含んでいる流体中の水素を処理するための方法であって、同方法は、
ａ）望ましくは、ソーダ石灰、フッ化ナトリウム、加熱活性化酸化アルミニウム、微粉化ニッケル、又は上記の組み合わせの台を含むエアゾール除去組成物を備えている電解質エアゾール除去部に流体を流し、流体をエアゾール除去組成物に接触させて、エアゾールが減少した流体を形成する段階と、
ｂ）エアゾールが減少した流体を、強制対流ダクトの内側に配置された触媒活性化燃焼面に接触させると共に、酸素を含むガスを強制対流ダクト内に流して、酸素を含む流れの中の酸素で水素を燃焼させる段階と、
から成る方法である。
【００１３】
エアゾールが減少した流体は、望ましくは加熱されている触媒活性化燃焼面に流入する前に、ニッケル金属を含む導管を通過するのが望ましい。この加熱は、強制対流ダクト内の触媒活性化燃焼面を保持している支持構造を加熱することにより実施し、どの様な条件下でも確実に水素が自然発火するようになっているのが望ましい。エアゾールが減少した流体は、別途加熱してもよい。
【００１４】
前記第１及び第２の態様を含むフッ素生成装置及び方法を、本発明の他の態様とする。
本発明のこの他の態様及び利点は、以下の好適な実施形態の説明を吟味することにより明らかとなるであろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本願において組成物又は表面について言及する場合に使用する「触媒活性化」という用語は、組成物又は表面それ自体は反応で消費されることなく、化学反応を開始させ及び／又は加速するように機能することを意味する。
【００１６】
「触媒活性化燃焼面」という用語は、面が水素と酸素に触れると、水素の燃焼を開始、促進する、触媒的に活性化する面を意味している。
本願に使用する「台(bed)」という用語は、流体を通過させることのできる流路を有する、固体の塊、望ましくは粒状の材料をいう。
【００１７】
本願に使用する「モジュール」という用語は、本発明の好適な装置が、使用に際しての柔軟性と多様性を目指して、標準化されたユニットと寸法で構成されていることを意味している。
【００１８】
本発明は、電気分解フッ素生成に関し、より厳密にはフッ素の電気分解製造時に生じる水素の処理に関する。
図１は、商業的半導体製造設備にあるようなフッ素生成装置と方法を、符号１でブロック図として概略的に示しているが、これは本発明の様々な態様を説明するためのものである。電気分解フッ素発生器２は、フッ素浄化列４、顧客の処理工程６、及び排出ガス浄化システム８と共に設けられている。（フッ素浄化列、顧客の処理工程、及び排出ガス浄化システムは、本発明の態様とは考えていない。）本図では更に、エアゾール除去ユニット１０と触媒ユニット１２も示している。フッ素発生器２には、電解質、代表的にはそれぞれ符号１４と１６で表している投入物としてのフッ化水素（ＨＦ）と電気、導管１８を通してフッ素浄化列４に送られている高濃度フッ素流、及び導管２６を通してエアゾール除去ユニット１０に送られている高濃度水素流が存在する。電解質は、通常はバッチモードで利用される。この種のフッ素発生器は半導体技術では周知であり、詳しい説明は不要であろう。フッ素発生器の一例を挙げると、ニュージャージー州、マリーヒルのＢＯＣグループの一部門であるフローラガス(Fluorogas)から市販されている商標「ジェネレーション(Generation)-F８０」として知られているモジュール式の現場フッ素生成キャビネットがあるが、これは、フッ素生成、精製、圧縮と密集式貯蔵、通風エンクロージャ、を一体化したオンデマンド電気分解フッ素発生器である。このシステムは、毎時８０標準リットルの産出率を有しており、顧客の処理ツールに１日当たり３．２ｋｇまでの高純度フッ素を送ることができる。この装置は、２０８ボルト７０アンペアの電気供給で作動し、窒素と冷却水の配管設備を有し、１．３slpm以下の水素と０．１slpm以下のＨＦを含有する排出空気を約１３．５ｍ3／分で排気する。
【００１９】
導管１８は高濃度フッ素流をフッ素浄化列４に送り、フッ素浄化列４は精製されたフッ素流を生成し、このフッ素流は導管２０で顧客の処理工程６に送られ、顧客の処理工程６は導管２２を介して排出ガスシステム８に接続されている。導管２４は、浄化された排出ガスを次の処理工程又は大気中に送り出す。
【００２０】
導管２６は、高濃度水素流をエアゾール除去ユニット１０に送り、その作用については後述するが、ここではエアゾールの減少した高濃度水素流が作られ、導管２８を介して触媒ユニット１２に送られる。詳しく説明すると、触媒ユニット１２は、触媒燃焼処理によって水素をほぼ全て除去し、廃ガス流を発生させ、廃ガス流は導管３４で示すように安全に排気される。触媒ユニットには、電気だけでなく、酸素、代表的には空気又は改質空気（不純物を含んだ空気）流を含むガスが投入される。ガスを加熱して確実に水素を燃焼させるために電気の投入が必要である。
【００２１】
図２は、本発明の実施形態１００を概略的に示しており、ここではフッ素発生器にはエアゾール除去及び触媒ユニットは取り付けられていない。フッ素発生器１０１には出口が２つある。フッ素生産配管１０２は、フッ素と残留ＨＦを含んでいる高濃度フッ素流を送り出し、通常は顧客の処理工程（図示せず）に送られるまでに１つ又は複数の精製ユニットに送られる。同時に、高濃度水素流が同じ速度で生じ、導管１０３を通して送られる。水素流はＨＦで飽和されており、更に非常に微粒の電解質エアゾールが高濃度水素流中に含まれている。この流れの中の水素の含有率は、１パーセント以下から９９．９パーセントまで広い濃度範囲に亘っているが、通常は容積基準で水素約９０から９８パーセントの範囲にある。高濃度水素流は、少量のＨＦとエアゾール形態の電解質も含んでいる。電解質とＨＦは、通常、約０．１パーセントから約５パーセントまでの量で存在する。
【００２２】
導管１０３は、高濃度水素流を、エアゾール除去組成物が入っているエアゾール除去ユニット１０４に送る。エアゾール除去組成物は、望ましくは粒状台形状(bed form)をしており、ソーダ石灰、フッ化ナトリウム、加熱活性化酸化アルミニウム、微粉化ニッケル、又はこれらの組み合わせから成る群から選択されるのが望ましい。ソーダ石灰（ＣＡＳ：８００６−２８−８）は、酸化カルシウムと水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムとの混合物であり、通常は二酸化炭素と水蒸気の吸着剤として使用されている。ソーダ石灰には、或る程度のＨＦを除去する（ＨＦの一部が酸化カルシウムの一部と反応してフッ化カルシウムを形成することによると考えられる）という付加的な利点があるが、これは厳密な要件ではない。
【００２３】
ガスは、エアゾール除去ユニット１０４を通過した後、エアゾールが減少又は無くなったガスとして、強制対流ダクト１１２の内側に配置された触媒活性化燃焼面１０９に送られる。強制対流ダクト１１２には、酸素を含む気流、代表的には空気又は空気及びその他の残留廃ガスを含んでいるガスの流れが満ちている。多くの半導体製造設備では、例えば、窒素をパージガスとして使用しており、窒素はその後排気システムに放出される。二酸化炭素、一酸化炭素、過フッ化炭化水素化合物、及び幾らかの未反応前駆的化学物質も存在する。ダクト１１２は、導管１０５、望ましくはニッケル又はニッケル被覆導管で、エアゾール除去ユニット１０４に流体連通されている。触媒活性化燃焼面１０９は、ダクト１１２内を流れる酸素を含む気流中で水素を燃焼させるようになっている。
【００２４】
エアゾール除去ユニット１０４と触媒活性化燃焼面１０９は、導管１０５で流体連通している。導管１０５は、エアゾールの減少した流れ（この段階では、約９５から９９パーセントの水素と、残量ＨＦを含んでいる）をヘッド部１０８へ送るが、このヘッド部は、金属ブロック、望ましくはエアゾールの減少した流体を受け入れるように機械加工されたニッケルブロックと、以下に説明する他の構成要素とで構成されている。エアゾールの減少した流体は流路１１１を通って流れ、出て行くが、流路１１１は、ヘッド部１０８の面１１４を垂直方向に穿孔して形成するのが望ましい。ニッケル板１１４の外側には触媒活性化面１０９、望ましくはワイヤメッシュが取り付けられている。触媒活性化燃焼面は、１つ又は複数のワイヤスクリーンの層を備えており、スクリーンの各ワイヤは、組成、直径、及び向きが同じでも異なっていてもよい。例えば、個々のワイヤ又は繊維は、ワイヤスクリーンのように非ランダムに配置してもよいし、スチールウールのようにランダムに配置してもよい。或る好適な触媒面は、各ワイヤの直径が約３ミル（０．００３インチ、０．００７６２ｃｍ）の、１０プライ層(10-ply layer)の９５パーセントのプラチナと５パーセントのレニウムの合金スクリーンである。触媒活性化燃焼面１０９は、水素の着火温度を著しく下げ、水素を、強制対流ダクト１１２を通過する酸素を含む流れと混合する。
【００２５】
どのような条件の下でも確実に自然発火させるため、金属ブロック１０８は、望ましくはニッケル板１１４に埋め込まれているヒーター１０７で、少なくとも７０℃に、望ましくは少なくとも２００℃まで加熱せねばならない。加熱されたニッケル板１１４は、ガスとメッシュを、ガスが流路１１１を出るときに触媒活性化燃焼面１０９の相当部分に亘って広がり炎を形成するのに十分な温度にまで温める。水素の完全燃焼を保証するために、強制対流ダクト１１２内の酸素を含むガスの流れ（１０６で示す）は、毎秒２メートル以上の速度に保たれるのが望ましい。この流速度から僅かにずれても、ずれが一時的である限りは許容できる。これにより「空気」が確実に触媒活性化燃焼面１０９を飽和させることになるので、「空気」が流路１１を出て行く高濃度水素の、実質的にエアゾールのない気流と出会う際には、触媒活性化燃焼面１０９付近で燃焼が起きることになる。
【００２６】
水素を含む流体の流体流量は、毎分約１標準立方センチメートル(sccm)の水素から、毎分３標準立方メートル（slpm）の水素を超える流れまでの範囲にあればよい。流量が増すと、酸素を含むガスと水素とが適切に分布するようにするため、複数の流路１１１とポートを有する多少異なる実施形態が必要になる。
【００２７】
本発明の別の実施形態では、エアゾール除去ユニットと触媒燃焼ユニットを非常に接近させ、望ましくはフッ素発生器キャビネットの上で且つそのフットプリント内に取り付けて配置している。この実施形態を図３に符号２００で示している。フッ素発生器２０１は、導管２０２を通って出て行く高濃度フッ素流と、導管又は管２０３を通って出て行く高濃度水素流を発生させ、導管２０３は、フッ素発生器２０１の上に直接取り付けられているエアゾール除去ユニット２０４に直接繋がっている。ニッケル又はニッケル被覆管２０５は、金属ヘッド部２０８の流路２１１に繋がっている。ヘッド部２０８はニッケル板２１４を有しており、これに流路２１１が穿孔又は他のやり方で形成され、エアゾールの減少した高濃度水素流体が触媒活性化面２０９に接触するようにしている。酸素を含む流体を強制対流ダクト２１２に流しながら（矢印２０６で図示）、電気ヒーター２０７でエアゾールの減少した高濃度水素流体を上記温度（少なくとも７０℃、望ましくは少なくとも２００℃）にまで加熱する。
【００２８】
図３に示す装置は、半導体製造プラントにとって重要な考慮点であるが、追加装置に必要なフットプリントが少なくて済む。ここに概略説明した条件で適正な流量を維持するには、別個の強制対流ダクトが必要になるかもしれない。エアゾール低減ユニットがソーダ石灰台を有している場合、この台はかなり長期間ＨＦを除去することができる。しかしながら、交換しないでいると、ＨＦがエアゾール除去ユニットを通過することになるが、それでも触媒燃焼ユニットの作動に影響を及ぼすことはない。従って、エアゾール除去ユニットは、交換する必要はないが、本発明の装置を非常に長期に使用する場合には交換するほうが望ましい。長期運転の場合には、ソーダ石灰が柔らかくなるほどＨＦを吸収して、流路２０３及び２０５が詰まり始める。活性化酸化アルミニウム台は、符号２１５で示すヒーターで約１００℃から約２００℃の範囲に加熱すると、ＨＦが台の粒子を完全に飽和させた後のソーダ石灰よりも長くその粒状の性状を維持することができる。
【００２９】
本発明の１つの目的は、水素を確実に着火させるためのパイロット灯も点火源も必要としない、信頼性の高い燃焼処理法を提供することであるが、パイロット灯や点火源は冗長バックアプとして設けてもよい。本発明の装置と方法を使用してこれまでに行った実験に基づくと、水素が存在すれば、着火することになる。強制対流、代表的には空気の流れと触媒活性面が上記条件に維持される限り、水素は確実に存在しなくなる。長期運転でも僅かな保守管理しか必要としないことは明らかである。ＨＦ蒸気は、凝結して、触媒活性化燃焼面と金属ブロックのその他の機構にある程度の腐食を生じさせることもある。しかしながら、腐食とＨＦの堆積は、本発明の装置の運転には影響しないと思われる。試験に使用した１０プライのプラチナ／レニウムのワイヤメッシュは、ＨＦの存在による影響を受けなかった。本発明の装置と方法は、フッ素生成に影響を及ぼすことなく、或いはパイロット灯を維持するための天然ガスのような他のガス又は点火スパークを維持するための電気を必要とすることなく、水素が溜まる潜在的な危険性を高い信頼性をもって取り除く。
【００３０】
上記説明は本発明を表現することを目的としており、特許請求の範囲に述べる内容の範囲を何ら限定する意図はない。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の方法と装置のブロック図である。
【図２】本発明の一の装置と方法の概略構成図である。
【図３】本発明の他の装置と方法の概略構成図である。
【符号の説明】
【００３２】
１、１０１、２０１  フッ素発生器
２          電気分解フッ素発生器
４          フッ素浄化列
６          顧客の処理工程
８          排出ガス浄化システム
１０、１０４、２０４  エアゾール除去ユニット
１２        触媒ユニット
１４        フッ化水素
１６        電気
１８、２０、２２、２４、２６、２８、３４、１０３、１０５、２０２  導管
１００、２００  エアゾール除去触媒ユニット
１０２      フッ素生産ライン
１０７、２０７  ヒーター
１０８、２０８  ヘッド部（金属ブロック）
１０９、２０９  触媒活性化燃焼面
１１１、２０３、２０５、２１１  流路
１１２、２１２      強制対流ダクト
１１４      ニッケル板
２０５      ニッケル管又はニッケル被覆管
【図１】
2005224797.tif 000003
【図２】
2005224797.tif 000004
【図３】
2005224797.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成17年3月15日(2005.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005224797.tif 000006
【図２】
2005224797.tif 000007
【図３】
2005224797.tif 000008
【外国語明細書】
2005224797000001.pdf