(57)【要約】【課題】本発明は、処理物にスパッタリング、ＣＶＤ等の真空処理が連続してできる真空処理装置を提供する。【解決手段】本発明は、複数のロードロック室を外周部に持った回転体と、ロードロック室に被処理物が出入りするための回転体外側と内側にある開口部を具備し、被処理物を大気圧雰囲気からロードロック室に入れて真空チャンバ内部で真空処理をする真空処理装置であって、前記回転体外側と内側にある開口部が回転体と同期して開口部をふさぐ事により大気圧雰囲気と真空雰囲気を遮断する蓋部とからなる事を特徴とする真空処理装置。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のロードロック室が形成されている供給ロードロック部と排出ロードロック部に外側方向と内側方向が開口し、回転する回転体を具備し、回転する回転体の外側方向と内側方向に蝶番により連設され、回転する回転体と同期して回転する回転体の開口している開口部を密閉する外蓋と内蓋を具備し、供給ロードロック部から被処理物を供給し真空チャンバー内で真空処理し、真空処理された被処理物が排出ロードロック部から排出される真空処理装置であって、供給ロードロック部の複数のロードロック室が大気圧雰囲気から徐々に排気・減圧させるための排気・吸引手段を有すると共に、複数のロードロック室が形成されている排出ロードロック部が真空状態から徐々大気圧雰囲気に戻す吸気・加圧手段を有することを特徴とした真空処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空処理装置において、前記蓋部に代え、前記ロードロック室開口部に大気圧雰囲気と真空雰囲気を遮断する扉が具備されている事を特徴とする真空処理装置。
【請求項３】
ロードロック室に給排気口をもうけ、該給排気口と真空ポンプが配管でつながり、真空ポンプによりロードロック室内部の圧力が大気圧から真空処理ができる圧力まで変えられる構造である事と、給排気口とリークバルブが配管でつながり、リークバルブが開くことによりロードロック室内部の圧力が真空から大気圧まで変えられる構造である事と、真空ポンプとリークバルブとの接続切替が回転体の角度により決まる構造である事を特徴とする請求項１または２に記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空チャンバー内で被処理物にスパッタリング、ＣＶＤ等の真空処理が連続して施すことができる真空処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の真空処理装置２００は図１１に示すように真空処理を施す被処理物１０１が大気圧雰囲気から複数具備されているロードロック室１０９の回転体の外周縁に形成されている開口部１０８から供給され、回転体１０６の外周縁と回転体外周ケーシング１０３によりロードロック室１０９がシールドされ大気圧から徐々に真空になり、被処理物１０１がロードロック室１０９から真空処理室１０７に挿入され、真空処理された後、真空処理室１０７から挿入された時と逆にロードロック室１０９の外周縁に形成された開口部１０８から挿入され、再び回転体１０６の外周縁と回転体外周ケーシング１０３によりロードロック室１０９がシールドされ、徐々に真空から大気圧に戻され、ロードロック室１０９の開口部１０８より連続して真空処理された被処理物１０１が排出される装置（例えば、特許文献１参照。）が知られている。
【特許文献１】特開平１１−３２３５５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
図１１に示すように従来の真空処理装置２００のロードロック室１０９は回転する回転体１０６の外周縁と回転しない回転体外周ケーシング１０３によりロードロック室１０９がシールドされているために、回転体１０６の外周縁と回転体外周ケーシング１０３が絶えず擦られるために定期的にシール部材１０２等の交換や、あるいはメンテナンスを頻繁に施さなければならない問題がある。
【０００４】
さらに回転する回転体１０６の外周縁と回転しない回転体外周ケーシング１０３が上記のように絶えず擦られていることにより、発塵が生じ、真空処理室１０７にコンタミ（Ｃｏｎｔａｍｉｎａｔｉｏｎ：汚染）が発生し、真空処理不良の原因となる問題点もある。
【０００５】
また、回転体１０６の外周縁と回転体外周ケーシング１０３が絶えず擦られていることにより駆動部の負荷が大きく、電力消費量も増加する問題もある。
【０００６】
本発明は上記した従来の問題点を鑑みてなされるものであり、その目的とするところは被処理物が連続的に挿入または排出されるロードロック室の移動時の擦れを防止し、且つコンタミの発生による品質不良を防止するために回転板と同期する外蓋と内蓋による蓋部を設け擦れを解消することを目的とした真空処理装置を提供することができる。
【０００７】
さらに、擦れを解消することにより、駆動負荷が減少し円滑な駆動と品質の優れた真空処理物を安定して持続生産することが可能となる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は上記の課題を解決するためになされるもので、請求項１に係る発明は、複数のロードロック室が形成されている供給ロードロック部と排出ロードロック部に外側方向と内側方向が開口し、回転する回転体を具備し、回転する回転体の外側方向と内側方向に蝶番により連設され、回転する回転体と同期して回転する回転体の開口している開口部を密閉する外蓋と内蓋を具備し、供給ロードロック部から被処理物を供給し真空チャンバー内
で真空処理し、真空処理された被処理物が排出ロードロック部から排出される真空処理装置であって、供給ロードロック部の複数のロードロック室が大気圧雰囲気から徐々に排気・減圧させるための排気・吸引手段を有すると共に、複数のロードロック室が形成されている排出ロードロック部が真空状態から徐々大気圧雰囲気に戻す吸気・加圧手段を有することを特徴とした真空処理装置である。
【０００９】
請求項２に係る発明は、請求項１に記載の真空処理装置において、前記蓋部に代え、前記ロードロック室開口部に大気圧雰囲気と真空雰囲気を遮断する扉が具備されている事を特徴とする真空処理装置である。
【００１０】
請求項３に係る発明は、請求項１記載または請求項２記載の真空処理装置において、前記ロードロック室に給排気口を設け、該給排気口と真空ポンプおよびリークバルブが接続され、該真空ポンプによりロードロック室内部の圧力が大気圧から真空処理ができる圧力まで変えられる構造とリークバルブの開口によりロードロック室内部の圧力が真空から大気圧まで変えられる構造であり、さらに真空ポンプとリークバルブとの接続切替が回転体の角度により選定できる構造である事を特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、回転体外周部にあるロードロック室のシールドが外蓋と内蓋の固定式であり、外壁等と擦れる事がないため、シールド部の密封性が向上し、さらにシール部材の交換やメンテナスを頻繁に施す必要もなくなり長期間安定した状態で生産できる。
【００１２】
また、ロードロック室のシールド部分が擦れることがなくなるために発塵がなくなり、真空処理室のコンタミの発生が防止され、さらに被処理物の品質の向上が計れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の真空処理装置を実施の形態に沿って以下に図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の真空処理装置の一実施例の断面の概略を示す説明図である。図１に示すように本発明の真空処理装置５０は被処理物６を処理する真空処理部３０と被処理物６を大気雰囲気から供給し大気圧上から真空処理する圧力まで減圧しながら真空処理室９に搬送する搬送ロードロック部２０と被処理物６が真空処理されて真空処理室９から再び真空から大気圧に戻しながら大気雰囲気に排出する排出ロードロック部４０から形成されている。
【００１４】
次ぎに、図２は本発明の真空処理装置の搬送ロードロック部２０の一実施例の概略を示す説明図である。図２に示すように搬送ロードロック部２０は反時計回りに回転し、外蓋４と内蓋５により蓋部が形成されている。また、蓋部はそれぞれが回転自在にチエーン状に接続され、ロードロック室１と同期し、ガイドレール等によりガイドされてロードロック室１の開閉が行われる。
【００１５】
さらに、ロードロック室１は外周方向に外側開口部３、中央に内側開口部２が形成され、被処理物６は外蓋４が開口されている外側開口部３からロードロック室１に供給され外蓋４が閉じられると、ロードロック室１の内部の圧力が大気圧から真空処理をする圧力まで減圧されながら中央に進み、真空状態で内蓋５が開口され被処理物６が回転体の中心部に移動する。
【００１６】
次ぎに、図３は図２のＡ−Ａ′線の断面の概略を示す説明図である。図３に示すように被処理物６はロードロック室１から内部が真空である回転体７の中心部に移動して回転体７の中空軸内部８を通り真空処理室９に挿入される。
【００１７】
また、図３に示すようにロードロック室１には給排気口が施され、図には示していないが給気口は真空ポンプと接続され、排気口はリークバルブと接続され、真空ポンプとリークバルブとの接続切り替えは回転体の位置（角度）によって行われる。
【００１８】
次ぎに、図４は搬送ロードロック部２０と真空処理部３０の断面の概略を示す説明図である。図４示すように回転体７の中空軸内部８を通り真空処理室９に挿入された被処理物６は真空処理室９で処理された後、図７に示すように真空処理室９から真空処理された被処理物１１が排出され、さらに図５または図６に示すように時計回りしている排出ロードロック部４０に挿入される。
【００１９】
また、図５は本発明の真空処理装置の排出ロードロック部４０の一実施例の概略を示す説明図である。また図６は図５のＢ−Ｂ′線の断面の概略を示す説明図である。図６に示すように真空処理室９から真空処理された被処理物１１が回転体７の中空軸８の内部を通り回転体７の中心に移動し、図５に示す内蓋５が開口されている内側開口部２からロードロック室１に入り内蓋５が閉じられ、ロードロック室１の排気口に接続されているリークバルブによってロードロック室１の圧力は真空から大気圧まで戻される。
【００２０】
次ぎに、図１０は本発明の真空処理装置の他の一実施例の断面の概略を示す説明図である。本発明の真空処理装置は図１０に示すように真空処理部６０と真空処理を施す被処理物６を大気雰囲気から供給し大気圧から真空に減圧しながら真空処理室９に搬送し、さらに真空処理室９で真空処理された被処理物１１を真空処理室９から再び真空から大気圧に戻しながら排出するために回転体７に設けられているロードロック部７０から形成されている。
【００２１】
上記のように本発明の真空処理装置８０は被処理物６の供給と真空処理室９で真空処理された被処理物１１の排出を同じロードロック部７０で施す事もできる。
【００２２】
次ぎに、図８は図１０に示す本発明の真空処理装置８０のロードロック部７０の他の一実施例の概略を示した説明図である。図８に示すようにロードロック部７０は外周方向に外側開口部３、中心方向に内側開口部２が形成されている。また、ロードロック室１は回転体７と同期し、さらにロードロック室１の密封は蝶番１２により連設されている外扉１３と内扉１４により施される。
【００２３】
また、被処理物は図８に示すように外扉１３が開いた外側開口部３からロードロック室１に供給された後、外扉１３が閉じられロードロック室１内部の圧力が大気圧から真空処理をする圧力まで下げられる。また、ロードロック室１内部の圧力はロードロック室１に設けられた図には示していないが給排気口と接続されている真空ポンプによりロードロック室１内部が真空に施される。
【００２４】
さらに、ロードロック室１内部が真空処理室９と同様の真空に減圧されると内扉１４が開き、図９に示すように被処理物６は回転体７中心部に移動し、真空処理室９に挿入され、真空処理室９で真空処理された被処理物１１は回転体７の中心部から内扉１４が開いた内側開口部２からロードロック室１に入り図には示していないがロードロック室１に施されている給排気口の排気口と接続されているリークバルブによってロードロック室１の内部の圧力が真空から大気圧まで戻され真空処理された被処理物１１が真空処理装置の外に排出される。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
本発明の活用例としては、ボトルの成膜装置のほかに瓶あるいは缶またはプラスチックボトルなど洗浄、殺菌あるいは塗工など広い分野で利用できる素晴らしい発明である。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の真空処理装置の一実施例の断面の概略を示す説明図である。
【図２】本発明の真空処理装置の搬入ロードロック部の一実施例の概略を示す説明図である。
【図３】図２のＡ−Ａ′線の断面の概略を示す説明図である。
【図４】搬送ロードロック部と真空処理部の一部の断面の概略を示す説明図である。
【図５】本発明の本発明の真空処理装置の排出ロードロック部の一実施例の概略を示す説明図である。
【図６】図５のＢ−Ｂ′線の断面の概略を示す説明図である。
【図７】排出ロードロック部と真空処理部の断面の概略を示す説明図である。
【図８】本発明の真空処理装置の供給ロードロック部の一実施例の概略を示す説明図である。
【図９】本発明の真空処理装置の供給・排出ロードロック部の一実施例の概略を示す説明図である。
【図１０】本発明の真空処理装置の他の一実施例の断面の概略を示す説明図である。
【図１１】従来の真空処理装置の一例を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００２７】
１・・・ロードロック室
２・・・外側開口部
３・・・内側開口部
４・・・外蓋
５・・・内蓋
６・・・被処理物
７・・・回転体
８・・・中空軸
９・・・真空処理室
１０・・・給排気口
１１・・・真空処理された被処理部
１２・・・蝶番
１３・・・外扉
１４・・・内扉
２０・・・供給ロードロック部
３０・・・真空処理部
４０・・・排出ロードロック部
５０・・・真空処理装置
６０・・・真空処理装置
７０・・・ロードロック部
８０・・・・真空処理装置
【図１】
2005213607.tif 000003
【図２】
2005213607.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2005213607.tif 000010
【図９】
2005213607.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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