(57)【要約】      （修正有）【課題】繋ぎ目部分が視認されにくい多面付けホログラムを提供する。【解決手段】単位干渉縞２が互いに隣接するように連続して形成された多面付けホログラム３であって、隣接する前記単位干渉縞の一方の端部４ａと他方の端部４ｂとの距離ｄが１μｍ以下である。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
単位干渉縞が互いに隣接するように連続して形成された多面付けホログラムであって、隣接する前記単位干渉縞の一方の端部と他方の端部との距離が１μｍ以下であることを特徴とする多面付けホログラム。
【請求項２】
ホログラム原版の表面に形成された単位干渉縞を、互いに隣接するように連続して被転写体へ転写することにより形成される多面付けホログラムの製造方法において、
隣接する前記単位干渉縞の端部の距離が１μｍ以下になるように、前記単位干渉縞を転写することを特徴する多面付けホログラムの製造方法。
【請求項３】
前記被転写体は基材層に溶融層が積層され、前記溶融層と前記ホログラム原版の前記表面とを重ね合わせ、その重ね合わせた部分にエネルギー線を照射し、そのエネルギー線の熱に基づいて前記溶融層を溶融させつつ、そのエネルギー線を前記干渉縞をなぞるように移動させることにより、前記単位干渉縞を前記被転写体へ順次転写することを特徴とする請求項２に記載の多面付けホログラムの製造方法。
【請求項４】
請求項２又は３の製造方法によって製造された多面付けホログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多面付けホログラム及び多面付けホログラムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
多面付けホログラムの製造方法としては、ホログラム原版に形成された単位干渉縞を隣接するように連続して被転写体へ転写することにより、当該単位干渉縞が大面積化された多面付けホログラムを得る方法が既に知られている。また、多面付けホログラムの隣接する単位干渉縞の繋ぎ目部分を目立たなくする方法も知られている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開平１−２５３７８６
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、これらの方法であっても、単位干渉縞の繋ぎ目部分が視認できてしまう多面付けホログラムしか得ることができず、特に地模様等の繰り返しパターンを有するホログラムにおいて繋ぎ目部分の境界線を視認させない大面積ホログラムを得ることは困難であった。
【０００５】
そこで、本発明は、繋ぎ目部分が視認されにくい多面付けホログラム及び多面付けホログラムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の多面付けホログラムは、単位干渉縞（２）が互いに隣接するように連続して形成された多面付けホログラム（３）であって、隣接する前記単位干渉縞の一方の端部（４ａ）と他方の端部（４ｂ）との距離（ｄ）が１μｍ以下であることにより、上記の課題を解決する。
【０００７】
発明者は、多面付けホログラムにおける単位干渉縞の繋ぎ目が目立つ原因が光の正反射を伴う連続した継ぎ目の断面であり、当該正反射の視認性が継ぎ目同士の距離及び継ぎ目に沿った連続性に依存していることを突き止めた。更に隣接する単位干渉縞の距離が１μｍ以下、望ましくは０．５μｍ以下になると繋ぎ目が視認されにくくなることを確認した。従って、隣接する単位干渉縞の一方の端部と他方の端部との距離が１μｍ以下の多面付けホログラムであれば、その繋ぎ目部分が視認されにくい多面付けホログラムを得ることができ、より高精度なホログラムの大面積化が実現できる。
【０００８】
「単位干渉縞」とは多面付けホログラムを形成する所定の単位面積を有する干渉縞である。単位干渉縞はホログラム原版とほぼ同じ大きさである場合と、ホログラム原版の一部に形成されていている場合とを含む。また、「ホログラム」は凹凸パターンを有する光回折構造をいい、所定のホログラム像を形成する干渉縞で構成されるいわゆるホログラムと、一様の凹凸パターンである回折格子とを含む。尚、干渉縞は機械的に生産された回折格子も含む。
【０００９】
本発明の多面付けホログラムの製造方法は、ホログラム原版（１）表面に形成された単位干渉縞（２）を、互いに隣接するように連続して被転写体（１０）へ転写することにより形成される多面付けホログラム（３）の製造方法において、隣接する前記単位干渉縞の端部（４ａ、４ｂ）の距離（ｄ）が１μｍ以下になるように、前記単位干渉縞を転写することにより、上記課題を解決する。
【００１０】
上述したように、隣接する単位干渉縞の距離が１μｍ以下であると、その繋ぎ目部分が視認されにくいので、上記製造方法によって繋ぎ目部分が視認されにくい多面付けホログラムを得ることができる。「単位干渉縞」及び「ホログラム」に関する解釈は上記と同様である。
【００１１】
また、前記被転写体は基材層（１０ａ）に溶融層（１０ｂ）が積層され、前記溶融層と前記ホログラム原版の前記表面とを重ね合わせ、その重ね合わせた部分にエネルギー線（Ｌ）を照射し、そのエネルギー線の熱に基づいて前記溶融層を溶融させつつ、そのエネルギー線を前記干渉縞をなぞるように移動させ、前記単位干渉縞を前記溶融層へ順次転写することにより、前記単位干渉縞を形成してもよい。
【００１２】
この転写方法によれば、エネルギー線を照射した部分のみが加熱され、加熱された箇所から順次干渉縞が転写される。エネルギー線の照射による加熱範囲が転写範囲であり、転写範囲以外には熱の影響が及ばない。また、加圧する必要もない。従って、加熱や加圧による被転写体の変形を防ぐことができるので、単位干渉縞の端部の変形を抑えることができる。また、特別な冷却装置や加圧装置を必要とせず、エネルギー線を照射するピッチも調節可能であることから、簡易な方法で高精度な多面付けホログラムを得ることができる。
【００１３】
「エネルギー線の熱」とは、エネルギー線が自体が熱を有する場合とエネルギー線によって照射範囲が発熱する場合とを含む。また、「熱に基づいて」とは、当該熱のみによって溶融層を溶融する場合と当該熱とは別の条件が必要な場合とを含む。また、本発明は、上述した製造方法によって製造された多面付けホログラム（３）として具現化されてもよい。
【発明の効果】
【００１４】
以上説明したように、本発明によれば、隣接する単位干渉縞の距離を１μｍ以下にすることにより、繋ぎ目部分が視認されにくい多面付けホログラム等を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１（ａ）は本形態におけるホログラム原版１を示す。ホログラム原版１の表面にはホログラム像を形成する単位干渉縞２が一面に形成されている。本形態の単位干渉縞２は、地模様等の繰り返しパターンを形成する計算機ホログラムである。図１（ｂ）はホログラム原版１の単位干渉縞２が連続して隣接するように転写されることによって形成された多面付けホログラム３を示す図である。
【００１６】
以下、多面付けホログラム３において、１つの単位干渉縞２が転写されて形成される部分を転写面４という。多面付けホログラム３は、転写面４が水平方向に４面、垂直方向に３面の計１２面で構成されている。また、隣接する転写面４の間には繋ぎ目部分５が存在する。
【００１７】
ホログラム原版１の単位干渉縞２を被転写体１０へ転写することにより多面付けホログラム３を製造する方法について図２、図３（ａ）及び（ｂ）を用いて説明する。本形態における被転写体１０は、基材層１０ａに溶融層１０ｂが積層された構造を有する。溶融層１０ｂはＷＡＸ等、レーザー光Ｌの熱によって溶融される素材で構成され、基材層１０ａはその熱によって溶融されない素材で構成されている。
【００１８】
被転写体１０の溶融層１０ｂ側とホログラム原版１の単位干渉縞２が施された表面を重ね合わせる。最初の転写面４を転写する場合であれば、その転写面４が多面付けホログラム３の１行１列の位置になるようにホログラム原版１を重ね合わせる。次に、レーザー光Ｌをホログラム原版１側から照射する。レーザー光Ｌの照射範囲Ｗが加熱されることにより、その照射範囲Ｗの溶融層１０ｂが溶融され、その照射範囲Ｗの単位干渉縞２の凹凸パターンが溶融層１０ｂへ転写される。
【００１９】
レーザー光Ｌを所定の方向に所定のピッチでホログラム原版１上を移動させることにより、照射範囲Ｗの移動に伴って干渉縞が順次転写され、結果として単位干渉縞２の全ての干渉縞が溶融層１０ｂ、即ち被転写体１０へ転写される。尚、レーザー光Ｌの移動速度は、溶融層１０ｂを構成する素材や照射ピッチ等に応じて、溶融層１０ｂが溶融され、かつすぐに冷却される速度を適宜決めればよい。
【００２０】
次に、上述した方法によって転写された転写面４に隣接する転写面４を、同様の方法によって形成する。隣接する転写面４は、図３（ａ）及び（ｂ）に示すように、隣接する転写面４即ち単位干渉縞２の一方の端部４ａと他方の端部４ｂとの距離ｄが１μｍ以下になるように形成する。即ち、一方の端部４ａの任意の点ｐと、当該点ｐに隣接すべき他方の端部４ｂの点ｑとの関係が、点ｐを中心とする半径１μｍの球Ｓ内に点ｑが位置するように形成すればよい。
【００２１】
これにより、隣接する転写面４の距離は１μｍ以下であるため、繋ぎ目部分５はほとんど視認されない。従って、上述した転写面４を水平方向及び垂直方向に繰り返して形成することにより、繋ぎ目部分５がほとんど視認されない多面付けホログラム３を得ることができる。
【００２２】
本発明は上述した実施形態に限定されず、種々の形態にて実施してよい。例えば、ホログラム原版の単位干渉縞の形状は矩形に限らず、複数の単位干渉縞が隣接できる形状であればよい。ホログラム原版に施されたホログラムは計算機ホログラムに限らず、凹凸パターンを有するものであればよい。また、被転写体は溶融層が最上層であれば、２層以上の積層体であってもよい。レーザー光は被転写体の基材層側から照射してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】（ａ）は本形態におけるホログラム原版を示す図であり、（ｂ）は（ａ）に示すホログラム原版から得られる多面付けホログラムを示す図。
【図２】図１（ａ）のホログラム原版の干渉縞をレーザー光によって転写するようすを示す図。
【図３】（ａ）は隣接する単位転写面の拡大図であり、（ｂ）は（ａ）のｘｚ面に関する断面図。
【符号の説明】
【００２４】
１      ホログラム原版
２      単位干渉縞
３      多面付けホログラム
４      転写面
５      繋ぎ目部分
１０    被転写体
１０ｂ  溶融層
Ｌ      レーザー光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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