(57)【要約】【課題】耐摩耗性、透明性、スリップ性および機械特性を有し、かつ反りのない書き込みおよび／または読み取りを行う高密度型光ディスクを得る。【解決手段】基板、記録層、保護層、ハードコート層の順に積層された光ディスクであって、該保護層が、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（Ａ）、（Ａ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｂ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含む組成物の硬化物層であり、該ハードコート層が、コロイダルシリカ微粒子（ｄ１）および有機シラン化合物の加水分解生成物（ｄ２）を縮合反応して得られる有機被覆シリカ（Ｄ）、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）、スリップ剤（Ｆ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含む組成物の硬化物層である光ディスクであり、ハードコート層の厚みが０．３〜３μｍである光ディスク。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板、記録層、保護層、ハードコート層の順に積層された光ディスクであって、該保護層が、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（Ａ）、（Ａ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｂ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含む組成物の硬化物層であり、該ハードコート層が、コロイダルシリカ微粒子（ｄ１）および有機シラン化合物の加水分解生成物（ｄ２）を縮合反応して得られる有機被覆シリカ（Ｄ）、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）、スリップ剤（Ｆ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含む組成物の硬化物層である光ディスクであり、ハードコート層の厚みが０．３〜３μｍである光ディスク。
【請求項２】
有機シラン化合物の加水分解生成物（ｄ２）が、下記一般式（Ｉ）
【化１】
2005158253.tif 000004
（式中、Ｘはメタクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、スチリル基またはビニル基を、Ｒ1は直接結合もしくは炭素数１〜８の直鎖型または分岐型アルキレン基を、Ｒ2、Ｒ3は炭素数１〜８の直鎖型または分岐型アルキル基を、ａは１〜３の正の整数を、ｂは０〜２の正の整数を示し、ａ＋ｂは１〜３の正の整数である。）
で示される単量体を加水分解して得たシラノール化合物である、請求項１記載の光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板、記録層、保護層、ハードコート層の順に積層され、レーザー光により、ハードコート層側から記録層に対して、書き込みおよび／または読み取りを行う高密度型光ディスクに関する。
さらに詳しくは、保護層およびハードコート層が光硬化型組成物を硬化せしめて得た透明膜である、優れた耐摩耗性、透明性、スリップ性および機械的強度等の耐久性を有し、かつ反りのない光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報記録の媒体としてコンパクトディスク、追記型光ディスク、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の光ディスクが多く用いられるようになってきた。これらの光ディスクは、微細なランドおよびグルーブを形成した、ポリカーボネート等の透明樹脂基板記録面に、スパッタリング法により、記録膜や光反射膜として働く金属薄膜層を形成し、これら薄膜層の劣化を防ぐために紫外線硬化型樹脂による保護層を設けて製造することが一般的である。
【０００３】
これらの光ディスクは１．２ｍｍ厚の透明樹脂基板を用いて製造されていた。しかしながら、近年は、記録容量を高めるために、０．６ｍｍ厚の光ディスクを貼り合わせたＤＶＤ（デジタルビデオディスクまたはデジタルバーサタイルディスク）が広く、普及しつつある。
ところが、このＤＶＤでは、長時間の映像録画は未だ困難であるのが現状である。
【０００４】
そこで、次世代の高密度光ディスクとして、非特許文献１や非特許文献２に記載されているように、基板上に記録層と、１００μｍの透明カバー層を積層し、透明カバー層側から青色レーザー光により書き込みおよび／または読み取りを行うタイプの光ディスクが実用化されつつある。
【０００５】
この透明カバー層（本発明では以下、保護層という）の形成方法としては、１００μｍの透明フィルムを貼り付ける手法、紫外線硬化型樹脂を記録層上にのせ、平坦で透明なガラス板等で樹脂厚み１００μｍとなるように押しつけたのち、ガラス板を介して紫外線硬化を行い、ガラス板を離型して保護層を得る２Ｐ（フォトポリマー）法、紫外線硬化型樹脂をスピンコートして１００μｍの厚みに塗装硬化する手法等が挙げられる。
【０００６】
このような保護層の形成に用いる紫外線硬化型樹脂としては、例えば、特許文献１や特許文献２等に記載される組成物など公知の光ディスク記録層保護用のコーティング材組成物が挙げられる。
【０００７】
【特許文献１】特開平３−１３１６０５号公報
【特許文献２】特開平４−２６４１６７号公報
【非特許文献１】「日経エレクトロニクス」２０００．６．１９（No.７２２）  ５７〜６４頁
【非特許文献２】「日経エレクトロニクス」２０００．７．１７（No.７７４）  １５１頁〜１６０頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記した次世代の高密度型光ディスクはレーザー光を通すピックアップレンズと保護層表面の距離が１ｍｍ以下であり、その使用時に停電や衝撃等があった場合、ピックアップデバイス部と光ディスクの保護層が接触する可能性がある。
そのため、この保護層には、表面硬度とスリップ性が要求される。
しかしながら前記した光ディスク記録層の保護用コーティング材組成物では、このような要求を満足できない。
【０００９】
また、該組成物では硬化収縮が大きいため、１００μｍ厚みの保護層を形成する際、光ディスクに反りが生じてしまう。そこで、保護層形成面と反対側に、予め反らせて成型したディスク基板に保護層を形成しなければならない。さらに、このような方法で保護層を形成できたとしても、耐久試験を行うと徐々に光ディスクの反りが大きくなるという課題があった。
【００１０】
本発明は、基板上に記録層を形成し、１００μｍ程度の保護層を積層し、レーザー光により、保護層側から記録層に対して、書き込みおよび／または読み取りを行う高密度型光ディスクにおいて、反りがなく、作業性、透明性、表面硬度、スリップ性および耐久性に優れた光ディスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
即ち、本発明は、基板、記録層、保護層、ハードコート層の順に積層された光ディスクであって、該保護層が、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（Ａ）、（Ａ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｂ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含む組成物の硬化物層であり、該ハードコート層が、コロイダルシリカ微粒子（ｄ１）および有機シラン化合物の加水分解生成物（ｄ２）を縮合反応して得られる有機被覆シリカ（Ｄ）、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）、スリップ剤（Ｆ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含む組成物の硬化物層である光ディスクであり、ハードコート層の厚みが０．３〜３μｍである光ディスクである。
【００１２】
また本発明は、有機シラン化合物の加水分解生成物（ｄ２）が、下記一般式（Ｉ）
【００１３】
【化１】
2005158253.tif 000002
（式中、Ｘはメタクリロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基、スチリル基またはビニル基を、Ｒ1は直接結合もしくは炭素数１〜８の直鎖型または分岐型アルキレン基を、Ｒ2、Ｒ3は炭素数１〜８の直鎖型または分岐型アルキル基を、ａは１〜３の正の整数を、ｂは０〜２の正の整数を示し、ａ＋ｂは１〜３の正の整数である。）
で示される単量体を加水分解して得たシラノール化合物である上記光ディスクである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の光ディスクは、耐摩耗性、透明性、スリップ性および機械特性を有し、かつ従来の光ディスクに比べ反りがないため、青色レーザーを用いて読み取りおよび／または書き込みを行う光ディスクとして極めて有用なものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の光ディスクについて、詳細に説明する。
本発明の光ディスクは、基板、記録層、保護層、ハードコート層の順に積層され、レーザー光により、ハードコート層側から記録層に対して、書き込みおよび／または読み取りを行う高密度型光ディスクに関し、該保護層および該ハードコート層を光硬化型組成物を硬化せしめて得た透明膜とすることに特徴がある。
このような構成にすることにより、表面硬度、透明性、および耐久性に優れた、反りのない高性能な高密度型光ディスクを得ることができる。
【００１６】
本発明に使用する光ディスクの基板は、透明でも非透明であってもよく、その材質としては、ガラス、セラミックス、金属、プラスチック等、公知のものを使用することができる。
中でも、低コスト、軽量、光ディスクのランドおよびグルーブを成型する容易性の観点から、プラスチックが好ましく、特にポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アモルファスポリオレフィン樹脂の成型品が好ましい。
【００１７】
本発明に使用する記録層としては、特に限定されず、従来公知の記録用材料を使用すればよい。
例えば、読み取り専用光ディスクの場合は、金、銀、銀合金、アルミニウム、アルミニウム合金等の光の反射率の高い金属が使用可能であり、好ましくは低コストで耐久性の高いアルミニウム合金である。
【００１８】
また、例えば書き換え可能な光ディスクの場合には、相変化記録膜として、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ合金、Ｇｅ・Ｓｂ・Ｔｅ合金、 Ｇｅ・Ｓｎ・Ｓｂ・Ｔｅ合金、Ｓｂ・Ｔｅ合金等が使用可能であり、光磁気記録膜として、Ｔｂ・Ｆｅ・Ｃｏ系合金等が使用可能である。
さらに、これらの各種記録膜に対して、ＳｉＮ、ＺｎＳ、ＳｉＯ2等の誘電膜を積層することも可能であるが、特に限定されるものではない。これらの記録層は真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等公知の薄膜形成技術が使用可能である。
【００１９】
後述する光ディスク保護層形成用組成物を硬化させることにより、本発明の光ディスクの保護層が得られるが、この保護層の厚みは５〜２００μｍの範囲が好ましく、４０〜１６０μｍの範囲がより好ましい。
保護層の厚みが５μｍより薄いと、記録層の酸化による劣化や、水分による劣化を抑制できない傾向にあり、２００μｍを超えると、得られる光ディスクの反り角が大きくなる傾向にある。
【００２０】
該保護層のガラス転移温度（以下、Ｔｇという）は５０℃以上であることが好ましく、より好ましくは６０℃以上である。
Ｔｇが５０℃より低い保護層を有する光ディスクは、炎天下の車内等の高温条件下で使用すると、反り角が大きくなる傾向にある。
【００２１】
本発明の光ディスクは、前記保護層上に、特定の有機化処理を施したシリカ微粒子と特定の界面活性剤を含有するハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層をを設けることにより、透明性、硬さ、スリップ性および耐久性を有する光ディスクを得ることが可能となる。
【００２２】
ハードコート層の膜厚は光ディスクの反りや表面平滑性の観点から、０．１〜５μｍの範囲が好ましく、０．３〜３μｍの範囲がより好ましい。
【００２３】
この膜厚が０．１μｍ未満の場合は十分な耐摩耗性が得られず、５μｍを超える場合は、ハードコート層の硬化収縮による光ディスクの反りが増加する傾向にある。
【００２４】
ハードコート層は光ディスクドライブのピックアップデバイスが衝突した際、光ディスクおよびピックアップデバイスを傷つけないようにスリップ性が必要である。そのため、ハードコート層の動摩擦係数は０．２以下であることが好ましく、より好ましくは０．１５以下である。動摩擦係数が０．２を超えると、ハードコート層表面をピックアップデバイスが摺動した際、光ディスクおよびまたはピックアップデバイスが傷つき使用不可能になる恐れがあり好ましくない。
【００２５】
本発明の光ディスクにおいて保護層およびハードコート層は、記録層に情報を書き込みおよび／または読み取りをする場合にレーザー光が透過する。レーザー光として、波長４００ｎｍ前後の青紫色レーザー光を利用する場合、保護層およびハードコート層の２層を通した波長４００ｎｍの光線透過率が７０％以上であることが好ましく、より好ましくは７５％以上である。波長４００ｎｍの光線透過率が７０％未満の場合、光ディスクの読み取りおよびまたは書き込みエラーが発生する確率が上昇する傾向にある。
【００２６】
本発明の光ディスクは、基材、記録層、保護層、ハードコート層から構成されるが、保護層およびハードコート層を形成するためには、それぞれ、特定の光硬化型組成物を、前記した特定の膜厚範囲内でスピンコーター法等により塗装して硬化せしめればよい。特に、光ディスク外周部の盛り上がりを少なくするために、スピンコート後、回転させながら活性エネルギー線照射により硬化させたり、スピンコートの回転を止めた直後〜０．８秒以内に硬化させたりすることが好ましい。
【００２７】
また、塗布された組成物の被膜を硬化させる手段としては、光エネルギー照射、例えばα，βおよびγ線などの活性エネルギー線を公知の方法で該硬化性組成物に照射することにより行えばよいが、硬化手段として紫外線を用いることが特に好ましい。この際に用いる紫外線発生源としては、実用性、経済性の面から一般に使用されている紫外線ランプでよい。
【００２８】
紫外線ランプの具体例としては、例えば、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、セノンランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。
光エネルギー照射時の雰囲気下は、空気中でもよいし、窒素、アルゴン等の不活性ガス中でもよいが、実用性、経済性の面からは空気中が好ましい。
【００２９】
次に、本発明の光ディスクにおける保護層について詳細に説明する。
本発明の光ディスクは、前記記録層の表面を保護するために、前記記録層上に光硬化型組成物を塗布、硬化させた保護層を有する構造である。
【００３０】
該保護層は、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（Ａ）、（Ａ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｂ）、光重合開始剤（Ｃ）を含む組成物（以下、保護層形成用組成物という）を塗布、硬化してなる層である。
この組成物は、低収縮で、その硬化物は透明性が高く、記録膜保護性能や、硬度、耐衝撃性、機械的強度等の耐久性に優れるものである。
【００３１】
保護層形成用組成物の（Ａ）成分であるウレタン（メタ）アクリレート化合物は、組成物に低収縮性を、得られる硬化物に硬度、耐衝撃性等の耐久性を付与する成分である。
【００３２】
本発明に使用するウレタン（メタ）アクリレート化合物（Ａ）は、特に限定されるものではない。
【００３３】
（Ａ）成分の具体例としては、例えば、有機ジイソシアネート化合物の１種単独または２種以上の混合物に、分子中に１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基、および1個のＮＣＯ反応性ヒドロキシ基を有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルの１種単独または２種以上の混合物を反応させたウレタンポリ（メタ）アクリレート類や、アルカンジオール、ポリエーテルジオール、ポリブタジエンジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、スピログリコール、アミドヒドロキシ化合物等の１種または２種以上の混合物からなるアルコール類の水酸基に有機ジイソシアネート化合物を付加し、残ったイソシアネート基に、分子中に１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基、および1個のＮＣＯ反応性ヒドロキシ基を有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させたウレタンポリ（メタ）アクリレート類等が挙げられる。
これらは、１種または２種以上を併用して用いることができる。
【００３４】
このうち、低収縮、透明性および硬度の性能がバランスよく発現する傾向にあることから、分子内に少なくとも２個のラジカル重合性（メタ）アクリロイルオキシ基、少なくとも１個のアミド基、および少なくとも２個のウレタン基を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
【００３５】
このようなウレタン（メタ）アクリレート化合物は、例えば下記（ａ１）〜（ａ４）の４成分から合成することができる。
（ａ１）分子内に１個以上のアミド基、および少なくとも２個のＮＣＯ反応性ヒドロキシ基を有するアミドヒドロキシ化合物
（ａ２）ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールおよびポリカーボネートジオールから選ばれる少なくとも１種のジオール化合物
（ａ３）有機ジイソシナネート化合物、および
（ａ４）分子中に１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基、および1個のＮＣＯ反応性ヒドロキシ基を有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル
【００３６】
この分子内に１個以上のアミド基、および少なくとも２個のＮＣＯ反応性ヒドロキシ基を有するアミドヒドロキシ化合物（ａ１）は、本発明の組成物を重合硬化してなる硬化物の伸度を維持したまま、機械的強度を向上させるという、靭性を向上させる作用を有する成分である。
【００３７】
（ａ１）成分の具体例としては、環状ヒドロキシカルボン酸エステルとアンモニア、または１個の第一級または第二級アミノ窒素を含む化合物との反応生成物が挙げられる。
【００３８】
環状ヒドロキシカルボン酸エステルの具体例としては、例えばγ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン等が挙げられる。
これらは、１種を単独で、または２種以上を併用して用いることができるが、上記した中でもγ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトンが特に好ましい。
【００３９】
１個の第一級または第二級アミノ窒素を含む化合物の具体例としては、例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、２−アミノ−１−ブタノール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロパンジオール、６−アミノ−１−ヘキサノール、１，４−ジアミノブタン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、１，１０−ジアミノデカン等が挙げられる。
これらは、１種を単独で、または２種以上を併用して用いることができる。
【００４０】
中でも、エタノールアミン、ジエタノールアミン、およびＮ−メチルエタノールアミンが特に好ましい。
【００４１】
環状ヒドロキシカルボン酸エステルと１個の第一級または第二級アミノ窒素を含む化合物の反応は、当モル量の両者を混合し、約１００℃で６〜２４時間加熱することにより行われる。
【００４２】
最も好ましい（ａ１）成分としては、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３−ヒドロキシプロピルアミド等が挙げられる。
【００４３】
前記（ａ２）成分であるポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、およびポリカーボネートジオールから選ばれる少なくとも１種のジオール化合物は、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（Ａ）の硬化物の柔軟性と伸度をさらに向上させ、低収縮性を与える作用を有するものである。これは、特に限定されるものではなく、種々市販されている公知のものでよい。
【００４４】
（ａ２）成分の具体例としては、例えば、ポリエチレングリコール（ｎ＝６〜２０）、ポリプロピレングリコール（ｎ＝６〜２０）、ポリブチレングリコール（ｎ＝６〜２０）、１−メチルブチレングリコール（ｎ＝６〜２０）、ポリカプロラクトンジオール、アルキレン（炭素数２〜１０）ジオールのカプロラクトン付加（ｎ＝２〜１０）ジオール、ポリカーボネートジオール（炭素数４〜６の脂肪族骨格）、フタル酸とアルキレンジオールから誘導されたポリエステルジオール、マレイン酸とアルキレンジオールから誘導されたポリエステルジオール、フマル酸とアルキレンジオールから誘導されたポリエステルジオール等が挙げられる。
これらは、１種単独または２種以上を併用して用いることができる。
【００４５】
上記した中でも、ポリブチレングリコール（ｎ＝６〜２０）、ポリカプロラクトンジオール、アルキレン（炭素数２〜１０）ジオールのカプロラクトン付加（ｎ＝２〜１０）ジオールが特に好ましい。
【００４６】
また、この中でも、重量平均分子量は３００〜２０００程度のものが好ましい。
【００４７】
前記（ａ３）成分である有機ジイソシナネート化合物は、前記２種のジオール成分にウレタン結合を導入し、強靱性を増すための必須成分であるだけでなく、後述するヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルを付加するためのウレタン（メタ）アクリレート合成における必須成分である。
【００４８】
（ａ３）成分の具体例としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、ビス（４−イソシアナトフェニル）メタン、ビス（３−クロロ−４−イソシアナトフェニル）メタン、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、トリス（４−イソシアナトフェニル）メタン、１，２−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ルボルナンジイソシアネート等が挙げられる。
これらは１種単独または２種以上を併用して用いることができる。
【００４９】
上記した中でも、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，２−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネートが好ましい。
【００５０】
更に、硬化物に優れた耐候性を付与できることから、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート等の脂肪族または脂環族骨格のジイソシナネート化合物が特に好ましく、なかでも、加水分解性塩素量が１００ｐｐｍ以下であるジイソシアネート化合物を使用することが、光ディスクの記録膜保護性能向上の観点から好ましい。
【００５１】
前記（ａ４）成分である分子中に１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基、および１個のＮＣＯ反応性ヒドロキシ基を有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルは、製造したポリウレタン前駆体の末端に付加することで、ラジカル反応性を付与する成分である。
【００５２】
前記（ａ４）成分の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとカプロラクトンの付加物、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートとカプロラクトンの付加物、トリメチロールプロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
これらは、１種単独または２種以上を併用して用いることができる。
【００５３】
上記した中でも、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００５４】
本発明において、ウレタン（メタ）アクリレート化合物（Ａ）を構成する、（ａ１）〜（ａ４）の使用比率は、モル当量で、［（ａ３）］／［（ａ１）＋（ａ２）］／［（ａ４）］＝２．０／０．８〜１．２／０．８〜１．２で、かつ（ａ１）／（ａ２）＝０．２〜１．０／１．０〜０．２である。
【００５５】
具体的な合成方法としては、例えば、（ａ１）成分と（ａ２）成分の総ヒドロキシル基含有当量で０．９モル当量を合成釜内に仕込み、これに加熱・攪拌下、（ａ３）成分のイソシアネート２．０モル当量を滴下することで前駆体のイソシアネート末端ポリウレタンが得られる。これに更に（ａ４）成分の１．１から１．３モル当量分を滴下、加熱付加することにより、（Ａ）成分のウレタン（メタ）アクリレート化合物が得られる。
なお、ここでいうモル当量とは、使用する化合物のモル数と官能基数を乗じた数である。
【００５６】
具体的には、分子内に１個以上のアミド基、および少なくとも２個のＮＣＯ反応性ヒドロキシ基を有するアミドヒドロキシ化合物（ａ１）、および、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、およびポリカーボネートジオールから選ばれる少なくとも１種のジオール化合物（ａ２）の場合は、分子内のヒドロキシル基数（２）と使用モル数を乗じた数を指す。
【００５７】
有機ジイソシナネート化合物（ａ３）の場合は、分子内のＮＣＯ基数（２）と使用モル数を乗じたものを指す。
【００５８】
分子中に１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基、および1個のＮＣＯ反応性ヒドロキシ基を有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル（ａ４）の場合は、使用モル数を指す。
【００５９】
保護層形成用組成物の（Ｂ）成分である（Ａ）成分以外のエチレン性不飽和化合物化合物は、組成物を塗装に適した粘度に調整し、さらに硬化性および耐久性を向上する成分である。
【００６０】
（Ｂ）成分の具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エステル、トリスエトキシレーテッドトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エステル、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリル酸エステル、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリル酸エステル、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリル酸エステル、エトキシレーテッドペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリル酸エステル、エトキシレーテッドペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリル酸エステル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリル酸エステル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリル酸エステル等の多官能（メタ）アクリル酸エステル類；
【００６１】
ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル酸エチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸１，３−ブチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸１，４−ブタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸１，６−ヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ノナンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ネオペンチルグリコール、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリル酸エステル、ジ（メタ）アクリル酸テトラエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリプロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリシクロデカンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドビスフェノールＡ等のジ（メタ）アクリル酸エステル類；
【００６２】
（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタン、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロドデカニル、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル類；
【００６３】
ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのγ−ブチロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ネオペンチルグリコールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ブチレングリコールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、シクロヘキサンジメタノールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ジシクロペンタンジオールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＦのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリル酸エステル類；
【００６４】
酢酸ビニル、酪酸ビニル、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、アジピン酸ジビニル等のビニルエステルモノマー類；エチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類；
【００６５】
ジアリルフタレート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、アリルグリシジルエーテル等のアリル化合物類；
【００６６】
アクリルアミド、 Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、 Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類；
【００６７】
フタル酸、アジピン酸等の多塩基酸、エチレングリコール、ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の多価アルコールおよび（メタ）アクリル酸またはその誘導体との反応で得られるポリエステルポリ（メタ）アクリレート類；
【００６８】
ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、テトラブロモビスフェノールＡ等のビスフェノール類とエピクロルヒドリンの縮合反応で得られるビスフェノール型エポキシ樹脂に、（メタ）アクリル酸またはその誘導体を反応させたエポキシ（メタ）アクリレート類等が挙げられる。これらの化合物は、１種または２種以上を併用して用いることができる。
【００６９】
本発明において、（Ｂ）成分は、耐水性に優れることから、分子内に環状構造を有する化合物が好ましい。
【００７０】
この分子内に環状構造を有する化合物の具体例としては、例えば、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル酸トリシクロデカンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドビスフェノールＡ、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、２−（メタ）アクリロイルオキシメチル−２−メチルビシクロヘプタン、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロドデカニル等の化合物類や、
【００７１】
ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、テトラブロモビスフェノールＡ等のビスフェノール類とエピクロルヒドリンの縮合反応で得られるビスフェノール型エポキシ樹脂に、（メタ）アクリル酸またはその誘導体を反応させたエポキシ（メタ）アクリレート類が挙げられる。
【００７２】
この中でも、粘度と耐熱性のバランスに優れることから、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレートおよびビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
【００７３】
また、そのうち、得られる組成物の粘度および重合に伴う体積収縮率が低いことから、重量平均分子量８００〜５０００の範囲にあるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００７４】
ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレートの重量平均分子量が８００より低いと、得られる組成物の重合に伴う体積収縮率が大きくなり、光ディスクの反りが大きくなる傾向にある。
また、ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレートの重量平均分子量が５０００を超えると組成物の粘度が極端に高くなり、塗工作業性が低下する傾向にある。
【００７５】
保護層形成用組成物において、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の配合比率は特に限定されないが、本発明の光ディスクにバランスよく諸物性を付与するという観点から、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の配合比率は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量１００質量％中、（Ａ）成分は２０〜８０質量％の範囲、（Ｂ）成分は２０〜８０質量％の範囲が好ましい。
特に（Ａ）成分は２５〜７５質量％の範囲がより好ましく、（Ｂ）成分は２５〜７５質量％の範囲がより好ましい。
【００７６】
（Ａ）成分が２０質量％より少ない場合、つまり（Ｂ）成分が８０質量％を超える場合には、得られる保護層の機械的強度が低下し、かつ重合硬化に伴う体積収縮率が増加して、光ディスクの反りが大きくなる傾向にある。また、（Ａ）成分が８０質量％を超える場合、つまり（Ｂ）成分が２０質量％より少ない場合には、組成物の液粘度が高くなり、光ディスクへの塗工作業性が低下する傾向にある。
【００７７】
保護層形成用組成物の（Ｃ）成分である光重合開始剤は、効率よく活性エネルギー線照射により硬化させるための成分であり、特に限定されるものではない。
【００７８】
この（Ｃ）成分の具体例としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエイト、４−フェニルベンゾフェノン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、メチルベンゾイルホルメート等が挙げられる。
これらは、１種または２種以上を併用して用いることができる。
【００７９】
例えば、光ディスクの読み取りに用いるレーザーの波長が３８０〜８００ｎｍの範囲である場合には、読みとりに必要なレーザー光が十分に保護層を通過するよう、光重合開始剤の種類および使用量を適宜選択して用いることが好ましい。
この場合、得られる保護層がレーザー光を吸収し難い、短波長感光型光重合開始剤を使用することが特に好ましい。
【００８０】
この短波長感光型光重合開始剤の具体例としては、例えば、ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエイト、４−フェニルベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、メチルベンゾイルホルメート等が挙げられる。
これらは、１種または２種以上を併用して用いることができる。
【００８１】
保護層形成用組成物において、光重合開始剤（Ｃ）の含有量は特に限定されないが、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部の範囲が好ましく、０．０１〜９質量部の範囲がさらに好ましく、０．１〜７質量部の範囲が特に好ましい。
【００８２】
本発明において、（Ｃ）成分の含有量が０．００１質量部より少ないと、塗膜の硬化性が不十分となる傾向にあり、１０質量部を超えると、塗膜の深部硬化性が不良となったり、硬化膜が着色して、青色レーザーでの記録層の情報読みとりが不良となる傾向にある。
【００８３】
更に、保護層形成用組成物には、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸アミル、４−ジメチルアミノアセトフェノン等の公知の光増感剤を添加することもできる。
【００８４】
以上が本発明の光ディスクにおける、保護層形成用組成物の構成成分であるが、その性能を損なわない範囲であれば、必要に応じて、例えば、熱可塑性高分子、滑剤、レベリング剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、無機フィラー、有機フィラー、表面有機化処理した無機フィラー等、公知の添加剤等を適宜配合して用いてもよいが、特に酸化防止剤や光安定剤が保護層の着色を防ぐために好適に用いられる。
【００８５】
また、本発明の光ディスクにおけるハードコート層について、以下に説明する。
本発明の光ディスクは、前記保護層に優れた表面硬度とスリップ性を付与するために、前記保護層上にハードコート層を有する構造である。該ハードコート層もまた、光硬化性組成物の硬化物層であり、具体的には、（ｄ１）コロイダルシリカ微粒子と（ｄ２）有機シラン化合物の加水分解生成物を縮合反応して得られる有機被覆シリカ（Ｄ）、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）、スリップ剤（Ｆ）、および光重合開始剤（Ｃ）を含む組成物（以下、ハードコート層形成用組成物という）を塗布、硬化してなる層である。
【００８６】
前記有機被覆シリカ（Ｄ）は、コロイダルシリカ微粒子（ｄ１）と有機シラン化合物の加水分解生成物（ｄ２）の存在下で、コロイダルシリカ微粒子中の分散媒を常圧または減圧下でトルエン等の非極性溶媒とともに共沸留出させ、該分散媒を非極性溶媒に置換した後、加熱下で反応させる工程で行うことにより製造できる。
この有機被覆シリカ（Ｄ）は、ハードコート層の耐摩耗性、耐久性を付与する成分である。
【００８７】
以下、（Ｄ）成分の製法について、具体例を挙げて詳細に説明する。
ここでいうコロイダルシリカ微粒子（ｄ１）と有機シラン化合物の加水分解生成物（ｄ２）の存在下とは、有機シラン化合物の加水分解生成物が一般式（Ｉ）で示される単量体を加水分解して得たシラノール化合物である場合、下記２通りの方法により得られる状態を意味する。
【００８８】
［１］  （ｄ１）成分と一般式（Ｉ）で示される単量体を混合した後、加水分解触媒を加え、常温または加熱下で攪拌する等の常法により（ｄ１）および（ｄ２）を共存させる手法。
［２］  予め一般式（Ｉ）で示される単量体を加水分解して得た（ｄ２）成分と（ｄ１）成分を混合し、共存させる手法。
【００８９】
前記［１］および前記［２］の方法により得られたものに、一般式（Ｉ）で示される単量体１モルに対して、アルコール溶媒等有機溶媒の存在下または非存在下において、前記［１］の方法の場合には（ｄ１）成分も存在下、０．５〜６モルの水、あるいは０．００１〜０．１規定の塩酸または酢酸水溶液等の加水分解触媒を加え、加熱下で攪拌しつつ、加水分解で生じるアルコールを系外に除去することにより、加水分解生成物は製造できる。
【００９０】
次いで行われる縮合反応は、以下の如く行えばよい。
具体的には、前記［１］の方法で得られた（ｄ２）成分存在下、前記［２］の方法ではここで（ｄ２）成分を加えて、まず、コロイダルシリカ微粒子（ｄ１）中の分散媒と縮合反応で生じる水を常圧または減圧下で６０〜１００℃、好ましくは７０〜９０℃の温度で共沸留出させ、固形分濃度を５０〜９０質量％とする。
【００９１】
次に系内にトルエン等の非極性溶媒を加え、この非極性溶媒、水、およびコロイダルシリカ微粒子の分散媒をさらに共沸留出させながら６０〜１５０℃、好ましくは８０〜１３０℃の温度で固形分濃度を３０〜９０質量％、好ましくは５０〜８０質量％に保持しながら、０．５〜１０時間攪拌し縮合反応を行う。
この際、反応を促進させる目的で、水、酸、塩基、塩等の触媒を用いてもよい。
このようにして、有機被覆シリカ（Ｄ）を得ることができる。
【００９２】
ハードコート層形成用組成物は、このようにして得られた、親水性であるコロイダルシリカ微粒子表面をシリコーンで被覆して疎水化した有機被覆シリカ（Ｄ）を用いることにより、組成物に含まれるエチレン性不飽和化合物（Ｅ）との相溶性が向上し、透明性が良好な硬化被膜が得られる。
【００９３】
以下、ハードコート層形成用組成物において、有機被覆シリカ（Ｄ）を得るために用いる（ｄ１）成分および（ｄ２）成分について説明する。
（ｄ１）成分であるコロイダルシリカ微粒子は、一次粒子径が１〜２００ｎｍの範囲の無水ケイ酸の超微粒子を、水または有機溶媒に分散させた状態のものであるが、特に限定されるものではない。
【００９４】
この無水ケイ酸の超微粒子の分散に使用される分散媒の具体例としては、例えば水；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、イソブタノール、ｎ−ブタノールなどのアルコール系溶剤；エチレングリコールなどの多価アルコール系溶剤；エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどの多価アルコール誘導体；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコールなどのケトン系溶剤；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどのモノマー類等が挙げられる。
【００９５】
この中でも、炭素数３以下のアルコール系溶剤が、（ｄ２）成分との反応工程上、特に好ましい。
このようなコロイダルシリカ微粒子（ｄ１）は、公知の方法で製造することもできるが、市販もされている。
【００９６】
本発明において、（ｄ１）成分の一次粒子径は１〜２００ｎｍの範囲であることが好ましく、５〜８０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００９７】
（ｄ１）成分の一次粒子径が１ｎｍより小さい場合には、（ｄ２）成分との反応工程においてゲル化を起こしやすく、また、一次粒子径が２００ｎｍを超える場合には、硬化被膜の透明性が低下する傾向にある。
【００９８】
コロイダルシリカ微粒子（ｄ１）は、硬化被膜の耐摩耗性を著しく改善でき、特に、ケイ砂等の微粒子に対する耐摩耗性の改善効果が大きい。しかしながら、コロイダルシリカを単独で硬化被膜とした場合には、透明性が低下したり、保護層に対する密着性が劣る。
【００９９】
（ｄ２）成分を得るための有機シラン化合物としては、特に限定されるものではなく、公知のものを使用することができる。
【０１００】
この具体例としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ビニルトリス（３−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
これらは、１種または２種以上を併用して用いることができる。
【０１０１】
また、これらの化合物のエポキシ基やグリシジル基に（メタ）アクリル酸を付加したシラン化合物、アミノ基に（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有する化合物をマイケル付加したシラン化合物、アミノ基やメルカプト基に（メタ）アクリロイルオキシ基およびイソシアネート基を有する化合物を付加したシラン化合物、イソシアネート基に（メタ）アクリロイルオキシ基および水酸基を有する化合物を付加したシラン化合物等も用いることができる。
【０１０２】
この中でも、ハードコート層形成用組成物において、最も好ましい有機シラン化合物は、前記一般式（Ｉ）で示される単量体である。
【０１０３】
一般式（Ｉ）で示される単量体は、加水分解してシラノール化合物とし、コロイダルシリカ微粒子（ｄ１）と予め反応させることにより、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）との相溶性を向上させる成分である。
【０１０４】
一般式（Ｉ）で示される単量体としては、活性エネルギー線照射により重合活性を示すアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、スチリル基またはビニル基を有するシラン化合物が用いられる。
このようなシラン化合物を用いることにより、（Ｅ）成分との化学結合形成が可能な光硬化性の有機被覆シリカ（Ｄ）を形成することができ、かつ得られる硬化被膜に強靭性を付与することができる。
【０１０５】
ハードコート層形成用組成物において用いる、一般式（Ｉ）で示される単量体の具体例としては、例えば、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−メタクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、２−アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、２−メタクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、２−アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。
これらは、１種または２種以上を併用して用いることができる。
【０１０６】
この中でも、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランから選択されるシラン化合物は、（Ｅ）成分との反応性が優れる点で特に好ましい。
【０１０７】
ハードコート層形成用組成物において、有機被覆シリカ（Ｄ）を得る際に用いる非極性溶媒は、誘電率、双極子能率あるいは水素結合パラメータを基準として選ばれるものであり、広義には、中程度の極性を有する溶媒も含むものである。
例えば、２０℃の誘電率が２〜１０の範囲の非極性溶媒が本発明においては好ましい溶媒である。
【０１０８】
非極性溶媒の具体例としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン等の炭化水素類；トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン等のハロゲン化炭化水素類；１，４−ジオキサン、ジブチルエーテル等のエーテル類；メチルイソブチルケトン等のケトン類；酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類；１−メトキシ−２プロパノール、エチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコール誘導体等を挙げることができる。
【０１０９】
また、エチレン性不飽和化合物、例えば、１分子中に１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する単量体を非極性溶媒として用いることもできる。
【０１１０】
これらの非極性溶媒のなかでも、炭化水素類、芳香族炭化水素類、または多価アルコール誘導体は、（ｄ１）成分と（ｄ２）成分との反応の面から好ましく、特に好ましい非極性溶媒としては、トルエン、１−メトキシ−２プロパノールを挙げることができる。
【０１１１】
（Ｄ）成分の製造工程において、反応中の固形分濃度は３０〜９０質量％の範囲が好ましい。
【０１１２】
この固形分濃度が３０質量％より低い、すなわち溶媒が７０質量％を超える場合には、（ｄ１）成分と（ｄ２）成分との反応が不十分となり、これを用いた被覆組成物を用いて得られる架橋硬化被膜は、透明性が劣る傾向にある。
一方、この固形分濃度が９０質量％を超えると、縮合反応が急激に起こり、反応系がゲル化状態となる等、組成物の塗工作業性や得られる硬化物の物性が不良となる傾向にある。
【０１１３】
（Ｄ）成分を得るために行う縮合反応中の温度は、６０〜１５０℃の範囲が好ましい。これは、反応温度が６０℃より低い場合には、反応が十分に進行しないため反応時間が長くなる傾向にあり、一方反応温度が１５０℃を超える場合には、シラノールの縮合以外の反応が起こったり、またはゲルが生成する等の不都合が生じる傾向にある。
【０１１４】
この（Ｄ）成分の製造において、反応工程での（ｄ１）成分の固形分と（ｄ２）成分の固形分との使用割合は、質量比で（ｄ１）／（ｄ２）＝４０〜９０／１０〜６０、好ましくは５０〜８０／２０〜５０（合計１００質量部）である。
【０１１５】
（ｄ１）成分の含有量が９０質量部を超えると、反応系が白濁したり、ゲルが生成したりする等の不都合が生じる傾向にあり、またこれを用いた硬化被膜はクラックが発生し易い傾向にある。
【０１１６】
一方、（ｄ１）成分が４０質量部より少ないと、反応が不十分となり、また、これを用いた硬化被膜の耐摩耗性が低下する傾向にある。
【０１１７】
このように、非極性溶媒中で（ｄ１）成分と（ｄ２）成分とを反応させることにより、本発明のハードコート層形成用組成物は硬化性が改善され、５μｍ以下の薄膜ハードコート層を形成することが可能となり、かつ大気雰囲気下においても透明で耐摩耗性に優れるハードコート層の形成が可能となる。
【０１１８】
前記の方法以外で製造された有機被覆シリカを用いたハードコート層形成用組成物では、その硬化性が十分でなく、５μｍ以下の薄膜、かつ大気雰囲気下では十分に硬化できず、透明性の低下等、外観欠陥が起こりやすく、また、ハードコート層に十分な耐摩耗性や耐久性等を付与することができない。
【０１１９】
ハードコート層形成用組成物の配合比率は特に限定されないが、本発明の光ディスクにバランスよく諸物性を付与するという観点から、（Ｄ）成分の含有量は、固形分量で（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）成分の合計量１００質量％中１０〜７０質量％の範囲、好ましくは２０〜６０質量％の範囲、さらに好ましくは２５〜５５質量％の範囲である。
【０１２０】
（Ｄ）成分の含有量が１０質量％より少ない場合には、硬化性が十分ではなく、得られる硬化被膜に十分な耐摩耗性や耐久性が発現しない傾向にあり、一方、７０質量％を超える場合には、得られるハードコート層にクラックが発生しやすい傾向にある。
【０１２１】
ハードコート層形成用組成物において、（Ｅ）成分として用いるエチレン性不飽和化合物は、（Ｄ）成分と効率よく反応し、該組成物の硬化性を向上させる成分であり、また、保護層との密着性も付与する必須成分である。
【０１２２】
（Ｅ）成分の具体例としては、例えば前記（Ａ）成分および前記（Ｂ）成分と同様の化合物を用いることができる。
【０１２３】
これらの中でも、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレ−ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレ−ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト−ルテトラ（メタ）アクリレ−ト、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレ−ト、ビス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートの３量体に２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを反応させたウレタントリ（メタ）アクリレート、有機ジイソシアネートとペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとを反応させたウレタンヘキサ（メタ）アクリレート等が特に好ましい。
【０１２４】
ハードコート層形成用組成物において、（Ｅ）成分の含有量は、（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）成分の合計量１００質量％中２０〜８９．９９質量％の範囲である。また、好ましくは３０〜８０質量％の範囲、より好ましくは４０〜７５質量％の範囲である。
【０１２５】
（Ｅ）成分の含有量が、２０質量％より少ない場合には、得られるハードコート層の耐久性、および基材との密着性が低下する傾向にあり、一方８９．９９質量％を超える場合には、得られるハードコート層の耐摩耗性が低下する傾向にある。
【０１２６】
ハードコート層形成用組成物において、（Ｆ）成分として用いられるスリップ剤は、得られるハードコート層にスリップ性を付与するための成分である。
【０１２７】
（Ｆ）成分は特に限定されるものではないが、例えば、ポリジメチルシロキサン等のシリコーンオイルや変性シリコーンオイル等を挙げることができる。
この中でも、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、カルビノール変性、メタクリル変性、アクリル変性、メルカプト変性、フェノール変性、ポリエーテル変性、メチルスチリル変性、アルキル変性、高級脂肪酸エステル変性、高級アルコキシ変性、フッ素変性等の変性シリコーンが好ましい。
【０１２８】
また、メタクリル変性、アクリル変性、ポリエーテル変性、メチルスチリル変性、アルキル変性、高級脂肪酸エステル変性および高級アルコキシ変性シリコーンがより好ましい。
【０１２９】
これらのスリップ剤（Ｆ）のうち、より好ましい例として、市販品である信越化学工業（株）製Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−２４０４、ＫＦ−３５１、ＫＦ−３５２、ＫＦ−４１０、ＫＦ−４１２、ＫＦ−４１３、ＫＦ−４１４、Ｘ−２２−７１５、Ｘ−２２−９０４、ＫＦ−９０５およびＫＦ８５１、日本ユニカー（株）製Ｌ−７７、Ｌ−７２０、Ｌ−７２２、Ｌ７００１、Ｌ−７００２、Ｌ７６０２、Ｌ−７６０４、Ｌ−７６０５、Ｌ７６０７Ｎ、Ｙ７００６、ＦＺ２１０４、ＦＺ−２１１０、ＦＺ２１６１、ＦＺ２１６２、ＦＺ２１６３、ＦＺ２１６４、ＦＺ２１６５、ＦＺ２１６６およびＦＺ２１７１、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製ＳＨ５１０、ＳＨ５５０、ＳＨ７１０、ＳＨ２０３、ＳＨ２３０、ＳＦ８４２７、ＢＹ１６−００５、ＳＨ３７４６、ＳＨ３７７１、ＳＨ８４００、ＳＨ３７４９、ＳＨ３７４８、ＳＦ８４１０、ＳＨ２８ＰＡ、ダイセル・ユーシービー（株）製ＥＢ３５０、ＥＢ１３６０等を挙げることができる。
【０１３０】
（Ｆ）成分の含有量は、（Ｄ）、（Ｅ）および（Ｆ）成分の合計量１００質量％中０．０１〜１０質量％の範囲である。
また、好ましくは０．０５〜８質量％の範囲、より好ましくは０．１〜５質量％の範囲である。
【０１３１】
（Ｆ）成分の含有量が０．０１質量％より少ない場合には、得られるハードコート層の動摩擦係数が０．２を超え、スリップ性が低下する傾向にあり、１０質量％を超えると、耐摩耗性と空気中での反応性が低下する傾向にある。
【０１３２】
光重合開始剤（Ｃ）は、ハードコート層形成用組成物を効率よく活性エネルギー線硬化法により硬化させるために必要な成分である。
【０１３３】
（Ｃ）成分の具体例としては、保護層形成用組成物で前記した通りであるが、５μｍ以下の薄膜で空気中において硬化させる場合には、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェン、メチルオルトベンゾイルベンゾエイト、４−フェニルベンゾフェノン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１−オン、メチルベンゾイルホルメート等が好ましい例として挙げられる。
【０１３４】
さらに、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸アミル、４−ジメチルアミノアセトフェノン等の公知の光増感剤を添加してもよい。
【０１３５】
以上が本発明に用いるハードコート層形成用組成物を構成する必須成分であるが、さらに、必要に応じて、有機溶剤、酸化防止剤、黄変防止剤、ブルーイング剤、顔料、レベリング剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、帯電防止剤、防曇剤、紫外線吸収剤、光安定剤等の各種の添加剤が含まれていてもよい。
【０１３６】
前記ハードコート層形成用組成物を塗装するためには、粘度調整の他、分散安定性、さらには基材との密着性およびハードコート層の平滑性、均一性などの面から、有機溶剤を用いることが好ましい。
【０１３７】
この有機溶剤としては特に限定されるものではなく、（Ｄ）〜（Ｆ）成分の合計量１００質量部に対して３０〜２０００質量部の範囲で、好ましくは５０〜１０００質量部の範囲で、少なくとも１種の有機溶剤を配合すればよい。
【０１３８】
使用可能な有機溶剤としては、アルコール系、炭化水素系、ケトン系、エーテル系、エステル系、多価アルコール誘導体、ハロゲン化炭化水素系等の有機溶剤から選ばれる少なくとも１種以上を挙げることができる。
【０１３９】
該有機溶剤の具体例としては、例えば、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール系溶剤、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、高沸点芳香族溶剤（スワゾール１０００等）等の炭化水素系溶剤、ＭＥＫ、ＭＩＢＫ、ＤＩＢＫ、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、エチルエーテル等のエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸アミル、酢酸メトキシプロピル、酢酸エトキシエチル等のエステル系溶剤、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロパノール、メトキシプロピルアセテート、メトキシブタノール、エチルジグリコール等の多価アルコール誘導体溶剤が挙げられる。
これらは、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１４０】
これらのうち、ハードコート層形成用組成物の均一溶解性、分散安定性、さらには基材との密着性および被膜の平滑性、均一性などの面から、メトキシプロパノールおよびメトキシプロピルアセテートが特に好ましいが、該溶剤を使用する場合、塗装後、活性エネルギー線による硬化を行う前に溶剤を揮発させる必要がある。
その手法としては特に限定されるものではないが、自然乾燥のほか、赤外線乾燥または熱風炉による乾燥等公知の手段を用いて、２０〜１２０℃で１〜６０分間の熱処理を行ってもよい。
【実施例】
【０１４１】
以下、本発明について実施例を用いて詳細に説明する。
なお、実施例中の反り角とは、光ディスク最外周における保護層側への半径方向の最大反り角を意味する。
【０１４２】
<合成例１>［ウレタンアクリレート（ＵＡ１：Ａ成分）の製造］
（１）攪拌機、温度調節器、温度計および凝縮器を備えた内容積５リットルの三つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート（住友バイエルウレタン社製デスモジュールＩ：加水分解塩素量６０ｐｐｍ）１１１２ｇ（１０モル当量）、およびジブチル錫ジラウレート０．５ｇを仕込んでウオーターバスで内温が７０℃になるように加熱した。
【０１４３】
（２）Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３−ヒドロキシプロピルアミド１９３ｇ（２．４モル当量）とポリブチレングリコール（ｎ＝１２；平均分子量：８５０）１１０５ｇ（２．６モル当量）を均一に混合溶解させた液を側管付きの滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を、上記（１）のフラスコ中の内容物を撹拌しつつ、フラスコ内温を６５〜７５℃に保ちながら４時間等速滴下により滴下し、同温度で２時間撹拌して反応させた。
【０１４４】
（３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に下げた後、別の滴下ロートに仕込んだ２−ヒドロキシエチルアクリレート５８１ｇ（５モル当量）とハイドロキノンモノメチルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液をフラスコ内温を５５〜６５℃に保ちながら２時間等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７５〜８５℃に保って４時間反応させて、ウレタンアクリレート（ＵＡ１）を製造した。反応の終点は残存イソシアネート当量の測定により判断し、反応率９９％以上であることを確認して、ウレタンアクリレートＵＡ１を得た。
【０１４５】
<合成例２>［ウレタンアクリレート（ＵＡ２：Ａ成分）の製造］
（１）攪拌機、温度調節器、温度計および凝縮器を備えた内容積５リットルの三つ口フラスコに、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン（住友バイエルウレタン社製デスモジュールＷ：加水分解塩素量４ｐｐｍ）１３２４ｇ（１０モル当量）、およびジブチル錫ジラウレート０．５ｇを仕込んでウオーターバスで内温が７０℃になるように加熱した。
【０１４６】
（２）Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３−ヒドロキシプロピルアミド２７４ｇ（３．４モル当量）とポリブチレングリコール（ｎ＝１２；平均分子量：８５０）６８０ｇ（１．６モル当量）を均一に混合溶解させた液を側管付きの滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を、上記（１）のフラスコ中の内容物を撹拌しつつ、フラスコ内温を６５〜７５℃に保ちながら４時間等速滴下により滴下し、同温度で２時間撹拌して反応させた。
【０１４７】
（３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に下げた後、別の滴下ロートに仕込んだ２−ヒドロキシエチルアクリレート５８１ｇ（５モル当量）とハイドロキノンモノメチルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液をフラスコ内温を５５〜６５℃に保ちながら２時間等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７５〜８５℃に保って４時間反応させて、ウレタンアクリレート（ＵＡ２）を製造した。反応の終点は残存イソシアネート当量の測定により判断し、反応率９９％以上であることを確認して、ウレタンアクリレートＵＡ２を得た。
【０１４８】
<合成例３>［ウレタンアクリレート（ＵＡ３：Ａ成分）の製造］
（１）攪拌機、温度調節器、温度計および凝縮器を備えた内容積５リットルの三つ口フラスコに、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン１３２４ｇ（１０モル当量）、およびジブチル錫ジラウレート０．５ｇを仕込んでウオーターバスで内温が７０℃になるように加熱した。
【０１４９】
（２）Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシブチルアミド７０ｇ（０．８モル当量）とポリカプロラクトンジオール（ダイセル化学工業(株)製プラクセル２０５；平均分子量：５３０）８４８ｇ（３．２モル当量）を均一に混合溶解させた液を側管付きの滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を、上記（１）のフラスコ中の内容物を撹拌しつつ、フラスコ内温を６５〜７５℃に保ちながら４時間等速滴下により滴下し、同温度で２時間撹拌して反応させた。
【０１５０】
（３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に下げた後、別の滴下ロートに仕込んだ２-ヒドロキシエチルアクリレート６９６ｇ（６モル当量）とハイドロキノンモノメチルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液をフラスコ内温を５５〜６５℃に保ちながら２時間等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７５〜８５℃に保って４時間反応させて、ウレタンアクリレート（ＵＡ３）を製造した。反応の終点は残存イソシアネート当量の測定により判断し、反応率９９％以上であることを確認して、ウレタンアクリレートＵＡ３を得た。
【０１５１】
<合成例４>［ウレタンアクリレート（ＵＡ４：Ａ成分）の製造］
（１）攪拌機、温度調節器、温度計および凝縮器を備えた内容積５リットルの三つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート１１１２ｇ（１０モル当量）、およびジブチル錫ジラウレート０．５ｇを仕込んでウオーターバスで内温が７０℃になるように加熱した。
【０１５２】
（２）Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３−ヒドロキシプロピルアミド１６１ｇ（２モル当量）とポリカーボネートジオール（旭化成(株)製ＣＸ−４７１０；平均分子量：１００２）１３０３ｇ（２．６モル当量）を均一に混合溶解させた液を側管付きの滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を、上記（１）のフラスコ中の内容物を撹拌しつつ、フラスコ内温を６５〜７５℃に保ちながら４時間等速滴下により滴下し、同温度で２時間撹拌して反応させた。
【０１５３】
（３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に下げた後、別の滴下ロートに仕込んだ２−ヒドロキシエチルアクリレート６２６ｇ（５．４モル当量）とハイドロキノンモノメチルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液をフラスコ内温を５５〜６５℃に保ちながら２時間等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７５〜８５℃に保って４時間反応させて、ウレタンアクリレート（ＵＡ４）を製造した。反応の終点は、残存イソシアネート当量の測定により判断し、反応率９９％以上であることを確認して、ウレタンアクリレートＵＡ４を得た。
【０１５４】
<合成例５>［エポキシアクリレート（ＥＡ１：ｂ１成分）の製造］
攪拌機、温度調節器、温度計および凝縮器を備えた内容積２リットルの三つ口フラスコに、油化シェルエポキシ(株)製エピコート１００１（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ当量４７９）９５８ｇ、アクリル酸１４４ｇ、メタクリル酸ジメチルアミノエチル１１ｇ、テトラヒドロフルフリルアクリレート２７８．６ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル１．１ｇ、２，６−ジ−ターシャリーブチル−４−メチルフェノール０．５ｇ仕込み、９５℃で２４時間反応させた。反応の終点は酸価測定により行い、酸価１ｍｇＫＯＨ／ｇであることを確認し、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（ＥＡ１）８０質量％およびテトラヒドロフルフリルアクリレート２０質量％の混合物を得た。得られた混合物をＧＰＣ測定したところ、ＥＡ１の重量平均分子量は２３６０であった。
【０１５５】
<合成例６>［エポキシアクリレート（ＥＡ２：ｂ１成分）の製造］
攪拌機、温度調節器、温度計および凝縮器を備えた内容積２リットルの三つ口フラスコに、油化シェルエポキシ(株)製エピコート１００３（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ当量７４３）８９１．６ｇ、アクリル酸８６．４ｇ、メタクリル酸ジメチルアミノエチル９．８ｇ、テトラヒドロフルフリルアクリレート２４７．２ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル１ｇ、２，６−ジ−ターシャリーブチル−４−メチルフェノール０．５ｇ仕込み、９５℃で２４時間反応させた。反応の終点は酸価測定により行い、酸価１ｍｇＫＯＨ／ｇであることを確認し、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（ＥＡ２）８０質量％およびテトラヒドロフルフリルアクリレート２０質量％の混合物を得た。得られた混合物をＧＰＣ測定したところ、ＥＡ２の重量平均分子量は３９１０であった。
【０１５６】
<合成例７>［エポキシアクリレート（ＥＡ３：ｂ１成分）の製造］
攪拌機、温度調節器、温度計および凝縮器を備えた内容積５リットルの三つ口フラスコに、油化シェルエポキシ(株)製エピコート８２８（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、エポキシ当量１８９）７５６ｇ、アクリル酸２８８ｇ、メタクリル酸ジメチルアミノエチル１０．４ｇ、テトラヒドロフルフリルアクリレート２６３．９ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル１ｇ、２,６-ジ−ターシャリーブチル−４−メチルフェノール０．５ｇ仕込み、９５℃で２４時間反応させた。反応の終点は酸価測定により行い、酸価１ｍｇＫＯＨ／ｇであることを確認し、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（ＥＡ３）８０質量％およびテトラヒドロフルフリルアクリレート２０質量％の混合物を得た。得られた混合物をＧＰＣ測定したところ、ＥＡ３の重量平均分子量は７００であった。
【０１５７】
<合成例８>〔光硬化性シリコーン（ＣＳ１：Ｄ成分）の製造〕
攪拌機、温度計およびコンデンサーを備えた３リットルの４ツ口フラスコに、イソープロパノールシリカゾル（分散媒；イソ−プロパノール、ＳｉＯ2濃度；３０質量％、一次粒子径；１２ｍμ、商品名；ＩＰＡ−ＳＴ、日産化学工業（株））（以下、ＩＰＡ−ＳＴと略記する。）２，０００部と、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（商品名；ＴＳＬ−８３７０、東芝シリコン（株））（以下、ＴＳＬ−８３７０と略記する。）３８２部を計量し、攪拌しながら昇温させ、揮発成分の還流が始まると同時に純水を１５０部徐々に滴下させ、滴下終了後、還流下で２時間攪拌しながら加水分解を行った。
【０１５８】
加水分解終了後、常圧状態でアルコール、水等の揮発成分を留出させ、固形分（ＩＰＡ−ＳＴのＳｉＯ2６００部とＴＳＬ−８３７０の３１７部の合計量９１７部）濃度が約６０％の時点でトルエン６００部を追加し、アルコール、水等をトルエンと一緒に共沸留出させた。
次に、トルエン１，５００部を数回に分けて追加し、完全に溶媒置換を行い、トルエン分散系とした。このときの固形分濃度は約４０質量％であった。
【０１５９】
さらに、トルエンを留出させながら１１０℃で４時間反応を行ない、固形分濃度を約６０質量％とした。この後さらにメトキシプロパノール１０００部を追加し、トルエンを蒸発留出させ溶媒置換を行い、メトキシプロパノール分散系とした。得られた光硬化性シリコーン（以下、ＳＣ−１と略記する。）は、黄色状でニュートン流体の透明、粘稠な液体であり、２５℃の粘度が３０ｍＰ・ｓであった。また、固形分濃度は加熱残分で５８質量％であった。
【０１６０】
なお、加熱残分は、（加熱後の重量（ｇ）／加熱前重量（ｇ））１００（質量％）で示し、加熱条件は１０５℃で３時間である。
【０１６１】
このようにして合成例１〜８で得られた化合物を使用して、以下実施例を行った。
【０１６２】
［実施例１］
（１）保護層形成用組成物の調製
（Ａ）成分として合成例１で得られたＵＡ１を５０質量部、（Ｂ）成分として合成例６で得られたビスフェノールＡ型エポキシアクリレートＥＡ２とテトラヒドロフルフリルアクリレートの混合物を１８．７５質量部（その内、ＥＡ２は１５質量部、テトラヒドロフルフリルアクリレートは３．７５質量部）、テトラヒドロフルフリルアクリレート１６．２５質量部、イソボルニルアクリレート１５質量部、（Ｃ）成分として１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン３質量部を混合溶解し、保護層形成用組成物を得た。
【０１６３】
（２）ハードコート層形成用組成物の調製
（Ｄ）成分として合成例８で得られたＳＣ−１を８６．２質量部（固形分として５０質量部、溶剤成分として１−メトキシ−２−プロパノールを３６．２質量部含む）、（Ｅ）成分としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４７質量部、（Ｆ）成分として日本ユニカー（株）製ポリエーテル変性シリコーンＬ−７００１を３質量部、（Ｃ）成分としてチバスペシャリティーケミカルズ（株）製光重合開始剤イルガキュア９０７を６質量部混合溶解し、ハードコート層形成用組成物を得た。
【０１６４】
（３）評価用光ディスクの作製および評価
帝人化成（株）製パンライトＡＤ９０００ＴＧ（ポリカーボネート樹脂）を射出成型して得た光ディスク形状を有する透明円盤状基板（直径１２ｃｍ、板厚１．１ｍｍ、反り角０度）に、前記保護層形成用組成物をスピンコーターを用いて、平均膜厚９８μｍとなるように塗装し、ランプ高さ１０ｃｍの高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）により、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で硬化させて、保護層を有する透明円盤を得た。
さらにその保護層上に前記ハードコート層形成用組成物をスピンコーターを用いて平均膜厚２μｍとなるように塗装し、室温で１分間放置して組成物中に含有されるメトキシプロパノールを揮発させた後、ランプ高さ１０ｃｍの高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）により、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で硬化させて、保護層およびハードコート層を有する透明円盤を得た。
【０１６５】
得られた透明円盤について、ジャパンイーエム（株）製ＤＬＤ−３０００光ディスク光学機械特性測定装置を用いて、２０℃、５０％ＲＨ環境下にて、反り角を測定したところ、反り角は０．１度であり、良好な機械特性を示した。
【０１６６】
該円盤を８０℃、８５％ＲＨの環境条件下に１００時間放置した後、取り出して２０℃、５０％ＲＨの環境条件下に１００時間放置して、再び反り角を測定したところ、反り角は０．２度であり、良好な機械特性を示した。なお、反り角の範囲は０〜０．３度を許容範囲とした。
更に、ＪＩＳ Ｋ−７１２５準拠し、滑り片としてＡＢＳ樹脂を用い、動摩擦係数を測定したところ、０．１であり、良好なスリップ性を示した。なお、動摩擦係数の範囲は０．２未満を許容範囲とした。
【０１６７】
次にＡＳＴＭ Ｄ−１０４４に準拠し、摩耗輪ＣＳ−１０Ｆ、荷重５００ｇ、回転数１００サイクルの条件で摩耗テストを行った。摩耗した後、試料を中性洗剤を用いて洗浄し、ヘーズメータで曇価を測定して、初期との曇価の差をデルタヘーズとして測定したところ、２％であり良好な耐摩耗性を示した。なお、耐摩耗性はデルタヘーズ１０％未満を許容範囲とした。
【０１６８】
次に、帝人化成（株）製パンライトＡＤ９０００ＴＧを射出成型して得た、直径１２ｃｍ、板厚１．１ｍｍの透明円盤にバルザース（株）製スパッタリング装置ＣＤＩ−９００により、アルミニウム合金を膜厚５０ｎｍでスパッタリングし、信号記録面にアルミ合金反射膜を有する光ディスクを得た。
【０１６９】
得られた光ディスクのアルミ合金反射膜上に、前記保護層形成用組成物をスピンコーターで平均膜厚９８μｍとなるように塗装し、ランプ高さ１０ｃｍの高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）により、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で硬化させて、保護層を有する光ディスクを得た。
さらにその保護層上に前記ハードコート層形成用組成物をスピンコーターを用いて平均膜厚２μｍとなるように塗装し、室温で１分間放置して組成物中に含有されるメトキシプロパノールを揮発させた後、ランプ高さ１０ｃｍの高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）により、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で硬化させて、記録層、保護層およびハードコート層を有する光ディスクを得た。
【０１７０】
該光ディスクを８０℃、８５％ＲＨの環境条件下に１００時間放置した後、取り出して、微分干渉顕微鏡にて８００倍の倍率でアルミ合金面を観察したところ、白化やピンホール等の腐食は発生しておらず、良好な保護性能を示した。
また、同様にして得られた光ディスクのアルミ合金面から、保護層およびハードコート層を一体で剥離し、得られた透明膜について、日立製作所（株）製分光光度計Ｕ−３４００を用いて、波長４００ｎｍでの光線透過率を測定したところ８５％であり、良好な光透過率であった。
なお、４００ｎｍ光線透過率は７０％以上を許容範囲とした。
【０１７１】
［実施例２〜５、比較例４］
表１の実施例２〜３および比較例４の欄に示す保護層形成用組成物およびハードコート層形成用組成物を用いて、実施例１と同様にして光ディスクを得て、評価を行った。この評価結果は、それぞれ表１に示した。
【０１７２】
［比較例１〜３］
表１の比較例１〜３の欄に示す保護層形成用組成物を用いて、実施例１と同様に保護層を形成した。このハードコート層を有さない光ディスクについて、実施例１と同様に評価を行い、この評価結果を表１に示した。
【０１７３】
【表１】
2005158253.tif 000003
【０１７４】
表１中の略号は、以下の通りである。
注１：反り角が測定装置の測定可能範囲（１度）を大きく超え、測定不可能
ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート
ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート
ＴＣＤＡ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート
ＢＰＥ４：ビスフェノールＡテトラオキシエチレンジアクリレート
ＨＤＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＨＣＰＫ：１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン
ＢＮＰ：ベンゾフェノン
ＥＰＡ：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート