(57)【要約】【課題】  製造工程の簡素化を図れ、視野角が広い液晶配向用基板を提供する。【解決手段】  第１の基板１と、その第１の基板１に対向して設けられ、電極６を有する第２の基板２と、これら基板１，２間に設けられた液晶３と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置において、前記第１の基板１の対向面に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配向させる配向膜７を設け、該配向膜７の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域９を形成し、該傾斜配向規制領域９が形成されずに残った配向膜の残部である垂直配向規制領域７の一部に対向した前記電極に、スリット１０を形成したことにより、前記課題を解決した。【選択図】        図２       
2005062546.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、その第１の基板に対向して設けられ、電極を有する第２の基板と、これら基板間に設けられた液晶と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置において、
前記第１の基板の対向面に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配向させる配向膜を設け、該配向膜の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成し、該傾斜配向規制領域が形成されずに残った配向膜の残部である垂直配向規制領域の一部に対向した前記電極に、スリットを形成したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記スリットが、前記垂直配向規制領域を分割するように配置されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記傾斜配向規制領域が直線状又はジグザグ状に形成され、前記スリットが、前記傾斜配向規制領域の直線部に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記傾斜配向規制領域がジグザグ状に形成され、前記スリットが、前記傾斜配向規制領域の各直線部に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状に複数形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記傾斜配向規制領域が、直線状であって、該直線に対してほぼ直交する方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成され、前記スリットが、前記傾斜配向規制領域によって区画された直線状の垂直配向規制領域に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状であって、前記直線状の垂直配向規制領域上に１つ又は前記直線状の垂直配向規制領域の長手方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記傾斜配向規制領域が、ほぼ同じ周期のジグザグ状であって、このジグザグが延在する延在方向に対してほぼ直交する方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成され、前記スリットが、該傾斜配向規制領域の延在方向に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状であって、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域によって区画されたジグザグ状の垂直配向規制領域の各屈曲部上に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記スリットが、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域の各屈曲部上にそれぞれ形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記スリットが、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域の１つおきの屈曲部上にそれぞれ形成されていることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記スリットが、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域によって区画された隣接するジグザグ状の垂直配向規制領域の屈曲部とは異なる位置の屈曲部上に形成されていることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記傾斜配向規制領域が、直線状に形成された第１直線部と、直線状に形成され、該第１直線部と直交して交差部を形成する第２直線部とから十字状に形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記十字状の傾斜配向規制領域が複数形成され、これら十字状の傾斜配向規制領域の交差部が画素領域に複数存在することを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記スリットが、前記交差部とほぼ同じ形状であって、前記交差部上に形成されていることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記スリットが、前記交差部より面積が大きく、かつ、各角部を丸めた正方形状に前記電極を区画する形状であって、該区画されたほぼ正方形状の電極の中心と前記交差部の中心とが重なるように形成されていることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
第１の基板と、その第１の基板に対向して設けられ、電極を有する第２の基板と、これら基板間に設けられた液晶と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置において、前記第１の基板の対向面に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配向させる配向膜を設け、該配向膜の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成し、該配向規制領域が形成されずに残った配向膜の残部である垂直配向規制領域の一部に対向した前記電極に、スリットを形成した垂直配向方式の液晶表示装置の製造方法であって、
前記第２の基板の対向面上に、前記スリットが形成された電極を形成する工程、前記第１の基板の対向面上に、親水化処理可能な配向膜を形成する工程、及び、前記配向膜の一部を親水化処理して傾斜配向規制領域を形成する工程を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記親水化処理が、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に関し、特にVA（Vertically Aligned）型に適した液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（LCD）は、液晶の電気光学的変化を利用した表示素子であり、薄型軽量、低消費電力という特性から、近年、各種ディスプレイ用の表示装置として最も広く使用されている。なかでも正の誘電異方性を有するネマティック液晶を用い、相対向する一対の電極基板のそれぞれの界面で、液晶分子を基板に対して平行に配向したいわゆるホモジニアス配向をとらせ、且つ、液晶分子の配向方向が互いに直交するように両基板を組み合せた、ノーマリーホワイトモードのTN（Twisted Nematic）方式の液晶表示装置が代表的なものである。
【０００３】
TN方式の液晶表示装置は、応答速度が遅く、視野角が狭いので、現在までに種々の研究開発が行われている。その一方で、負の誘電異方性を有するネマティック液晶を用いて相対向する一対の電極基板のそれぞれの界面で、液晶分子を基板に対して垂直に配向したいわゆるホメオトロピク配向をとらせ、電圧を印加させた際の液晶の複屈折の変化を利用したノーマリーブラックモードのVA（Vertically Aligned）方式の液晶表示装置についても研究開発されている。
【０００４】
VA方式の液晶表示装置は、TN方式の液晶表示装置に比較して表示のコントラストが高く、黒表示に応答速度も速いことからも新しい液晶表示方式として注目されている。
【０００５】
このVA方式の液晶表示装置において中間調を表示する場合、白表示の時より小さな電圧を印加するが、その時、図１４（ｂ）に示すように液晶分子９４は斜めの方向に配向することになる。この場合、図示するように液晶分子は右下から左上に向かう光に対しては液晶分子は平行に配向されるので、液晶はほとんど複屈折効果を発揮しないため左側から見ると黒く見える。これに対して左下から右上に向かう光に対しては液晶分子は垂直に配向されるので液晶は入射した光に対して大きな複屈折効果を発揮し、白に近い表示になる。このようにVA方式では表示状態の視角依存が生じるという問題があった。
【０００６】
こうした問題に対して種々の提案がなされており、例えば、一画素内で液晶分子の傾斜方向が複数になるように制御する技術、すなわちマルチドメイン化技術が提案されている。マルチドメイン化技術としては、電極上に方向の異なる傾斜面（突起、構造物）を配置することが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。このマルチドメイン技術によれば、図１５に示すように、電圧オフ時においては、液晶分子９４がその構造物９７の斜面にならってわずかに傾き、電圧オン時においては、わずかに傾いた液晶分子９４がその傾斜方向に沿って最初に傾き始め、その構造物９７以外の液晶分子９５もその液晶分子９４の影響を受けて順次同じ方向に傾斜する。すなわち、その構造物９７を起点として、液晶分子９４、９５の配向が２方向以上に制御されることとなる。
【特許文献１】特開平１１−２４２２２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、前述した突起状の構造物を利用した配向制御においては、構造物を形成するために製造工程が複雑になるので、歩留まりの低下やコストアップの問題が生じることがある。
【０００８】
本発明は、前述した問題を解決するためになされたものであって、製造工程の簡素化を図れ、視野角が広い液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための請求項１の液晶表示装置は、第１の基板と、その第１の基板に対向して設けられ、電極を有する第２の基板と、これら基板間に設けられた液晶と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置において、前記第１の基板の対向面に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配向させる配向膜を設け、該配向膜の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成し、該傾斜配向規制領域が形成されずに残った配向膜の残部である垂直配向規制領域の一部に対向した前記電極に、スリットを形成したことを特徴とする。
【００１０】
この発明によれば、配向膜の一部に傾斜配向規制領域を形成したことにより、電源をオンしたとき（電圧を印加したとき）、傾斜配向規制領域上の液晶分子が配向膜上の液晶分子より先に傾斜する。傾斜配向規制領域上の液晶分子は、配向膜と傾斜配向規制領域との境界に沿って傾斜し、この傾斜配向規制領域上の液晶分子を起点として配向膜上の液晶分子が傾斜する。このとき、デバイス基板の電極にスリットが形成されているため、基板間に斜め電界が生じるので、スリットを境に配向膜上の液晶分子の傾斜方向が逆になり、２方向に液晶を配向制御することが可能となる。従って、構造物を形成することなく配向制御が可能であり、製造工程の簡素化を図れると共に広視野角特性を有することができる。
【００１１】
請求項２の発明は、請求項１に記載の液晶表示装置において、前記スリットが、前記垂直配向規制領域を分割するように配置されていることを特徴とする。
【００１２】
請求項３の発明は、請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、前記傾斜配向規制領域が直線状又はジグザグ状に形成され、前記スリットが、前記傾斜配向規制領域の直線部に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状に形成されていることを特徴とする。
【００１３】
請求項４の発明は、請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、前記傾斜配向規制領域がジグザグ状に形成され、前記スリットが、前記傾斜配向規制領域の各直線部に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状に複数形成されていることを特徴とする。
【００１４】
この発明によれば、垂直配向規制領域と傾斜配向規制領域との境界線もジグザグ状であるため、基板法線方向からみて、液晶分子がジグザグ状に傾斜すると共に、このジグザグ状に傾斜した液晶分子の傾斜の向きがスリットを境に逆になるので、液晶を４方向に配向制御することが可能となる。従って、より確実に広視野角特性を有することができる。
【００１５】
請求項５の発明は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、前記傾斜配向規制領域が、直線状であって、該直線に対してほぼ直交する方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成され、前記スリットが、前記傾斜配向規制領域によって区画された直線状の垂直配向規制領域に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状であって、前記直線状の垂直配向規制領域上に１つ又は前記直線状の垂直配向規制領域の長手方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成されていることを特徴とする。
【００１６】
請求項６の発明は、請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、前記傾斜配向規制領域が、ほぼ同じ周期のジグザグ状であって、このジグザグが延在する延在方向に対してほぼ直交する方向に沿って所定の間隔を隔てて２つ以上形成され、前記スリットが、該傾斜配向規制領域の延在方向に対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状であって、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域によって区画されたジグザグ状の垂直配向規制領域の各屈曲部上に形成されていることを特徴とする。
【００１７】
この発明によれば、垂直配向規制領域と傾斜配向規制領域との境界線もジグザグ状であるため、基板法線方向からみて、液晶分子がジグザグ状に傾斜すると共に、このジグザグ状に傾斜した液晶分子の傾斜の向きがスリットを境に逆になるので、液晶を４方向に配向制御することが可能となる。従って、より確実に広視野角特性を有することができる。
【００１８】
請求項７の発明は、請求項６に記載の液晶表示装置において、前記スリットが、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域の各屈曲部上にそれぞれ形成されていることを特徴とする。
【００１９】
請求項８の発明は、請求項６に記載の液晶表示装置において、前記スリットが、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域の１つおきの屈曲部上にそれぞれ形成されていることを特徴とする。
【００２０】
請求項９の発明は、請求項８に記載の液晶表示装置において、前記スリットが、前記ジグザグ状の傾斜配向規制領域によって区画された隣接するジグザグ状の垂直配向規制領域の屈曲部とは異なる位置の屈曲部上に形成されていることを特徴とする。
【００２１】
請求項１０の発明は、請求項１又は２に記載の液晶表示装置において、前記傾斜配向規制領域が、直線状に形成された第１直線部と、直線状に形成され、該第１直線部と直交して交差部を形成する第２直線部とから十字状に形成されていることを特徴とする。
【００２２】
請求項１１の発明は、請求項１０に記載の液晶表示装置において、前記十字状の傾斜配向規制領域が複数形成され、これら十字状の傾斜配向規制領域の交差部が画素領域に複数存在することを特徴とする。
【００２３】
この発明によれば、配向規制力が電極全体で均一にすることが可能となる。
【００２４】
請求項１２の発明は、請求項１０又は１１に記載の液晶表示装置において、前記スリットが、前記交差部とほぼ同じ形状であって、前記交差部上に形成されていることを特徴とする。
【００２５】
この発明によれば、スリットによって基板間に交差部の中心を核とした放射状の斜め電界が生じ、また、傾斜配向規制領域が十字状に形成されていることによって、基板法線方向からみて、その交差部の中心を核として液晶分子が放射状に傾斜するので、液晶を無限方向に配向制御することが可能となる。従って、より一層確実に広視野角特性を有することができる。
【００２６】
請求項１３の発明は、請求項１０又は１１に記載の液晶表示装置において、前記スリットが、前記交差部より面積が大きく、かつ、各角部を丸めた正方形状に前記電極を区画する形状であって、該区画されたほぼ正方形状の電極の中心と前記交差部の中心とが重なるように形成されていることを特徴とする。
【００２７】
この発明によれば、各角部を丸めた正方形状に電極を区画するスリットによって基板間にその電極の中心を核とした放射状の斜め電界が生じ、また、傾斜配向規制領域が十字状に形成されていることによって、基板法線方向からみて、その交差部の中心を核として液晶分子が放射状に傾斜するので、液晶を無限方向に配向制御することが可能となる。従って、より一層確実に広視野角特性を有することができる。
【００２８】
なお、請求項３，４，６，７，８，９に記載の液晶表示装置において、前記液晶が画素毎に少なくとも一つの画素領域を有し、該画素領域内に前記傾斜配向規制領域のジグザグ状の屈曲部が少なくとも１つ配置されていることが好ましい。これにより、視野角を確実に広くすることができる。
【００２９】
また、請求項３乃至１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、前記２枚の基板の前記液晶とは反対側に、互いに偏光軸が直交すると共に、これら偏光軸が前記傾斜配向規制領域の直線部に対してそれぞれ４５°に傾斜した位置上に位置されるように２枚の偏光板をそれぞれ設けることが好ましい。これにより、液晶分子傾斜時の透過率を最大にすることができる。
【００３０】
また、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、前記配向膜が、疎水性領域であり、前記傾斜配向規制領域が、親水性領域であることが好ましい。
【００３１】
前記課題を解決するための請求項１４の液晶表示装置の製造方法は、第１の基板と、その第１の基板に対向して設けられ、電極を有する第２の基板と、これら基板間に設けられた液晶と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置において、前記第１の基板の対向面に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に沿って配向させる配向膜を設け、該配向膜の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成し、該配向規制領域が形成されずに残った配向膜の残部である垂直配向規制領域の一部に対向した前記電極に、スリットを形成した垂直配向方式の液晶表示装置の製造方法であって、
前記第２の基板の対向面上に、前記スリットが形成された電極を形成する工程、前記第１の基板の対向面上に、親水化処理可能な配向膜を形成する工程、及び、前記配向膜の一部を親水化処理して傾斜配向規制領域を形成する工程を含むことを特徴とする。
【００３２】
この発明によれば、親水化処理可能な疎水性の配向膜の一部を親水化処理することにより、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜させる傾斜配向規制領域を形成できるので、従来のような構造物等を形成しなくとも、極めて容易な工程により、電圧印加時、液晶分子のダイレクタを少なくとも２方向に配向させることができる。その結果、液晶表示装置を効率的に製造することができ、歩留まりの低下を防止することができると共に、コストダウンに寄与することができる。
【００３３】
請求項１５の発明は、請求項１４に記載の液晶表示装置の製造方法において、前記親水化処理が、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われることを特徴とする。
【００３４】
この発明によれば、光触媒層を有するマスクを用いた露光処理により行われるので、露光時の光触媒の作用により疎水性の配向膜を極めて容易に傾斜配向規制領域に変化させることができると共に、露光処理するだけで極めて容易に配向制御可能な表面を形成することができる。
【発明の効果】
【００３５】
本発明の液晶表示装置によれば、デバイス基板の電極にスリットを形成すると共に、カラーフィルター基板の配向膜の一部に傾斜配向規制領域を形成したので、構造物等を形成することなく配向制御が可能であり、製造工程の簡素化を図れると共に広視野角特性を有することができる。
【００３６】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、配向膜を露光することにより傾斜配向規制領域を形成できるので、従来のような構造物を形成しなくとも、極めて容易な工程により液晶の配向制御を可能にする傾斜配向規制領域を形成することができる。その結果、液晶配向用基板及び液晶表示装置を効率的に製造することができ、歩留まりの低下を防止することができると共にコストダウンに寄与することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下、本発明の液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法について図面を参照しつつ説明する。
【００３８】
（液晶表示装置）
図１は、垂直配向方式の液晶表示装置において、基板間に電圧を与えたときの液晶分子のダイレクタの変化を示す模式図である。図１（ａ）は、電源オフ（Ｖ＝０）時において液晶分子のダイレクタが基板法線方向Ｙに沿って配向している態様を示したものである。図１（ｂ）は、液晶分子が傾き始める臨界電圧Ｖｃを与えたときの態様を示したものである。図１（ｃ）は、液晶分子が十分に傾斜する飽和電圧Ｖsat を与えたときの態様を示したものである。なお、ダイレクタとは、液晶分子の平均的配向方向を表す単位ベクトルのことである。
【００３９】
本発明の液晶表示装置は、図１に示すように、第１の基板１と、第２の基板２と、これら対向する基板１，２間に注入された液晶３と、を有する垂直配向方式の液晶表示装置である。
【００４０】
液晶３は、垂直配向方式の液晶表示装置において現在一般的に使用されている負の誘電率異方性のものであれば特に限定されず、具体的には例えば、メルク社製のＭＬＣ−６６０８、ＭＬＣ−２０３７、ＭＬＣ−２０３８、ＭＬＣ−２０３９等が挙げられる。
【００４１】
第１の基板１の液晶３側表面（対向面）及び第２の基板２の液晶３側表面（対向面）には、それぞれ電極（一対の電極）５，６が設けられている。電極５，６は、基板によって異なり、カラーフィルター基板である場合にあっては透明電極であり、デバイス基板である場合にあっては画素電極である。電極５，６の構成材料としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等が挙げられる。電極５，６の形成法については一般的な各種の方法を適用でき特に限定されないが、例えば各種の印刷手段やスパッタ法により形成することができる。電極５，６の厚さは、約１００ｎｍ〜１５０ｎｍであることが好ましい。
【００４２】
電極５，６上には、電源オフ時に液晶分子４のダイレクタを基板法線方向Ｙに沿って配向させる配向膜７，８がそれぞれ設けられている。
【００４３】
配向膜７，８としては、例えば、側鎖の長い疎水性の膜（高分子膜）がよく、もともと疎水性であるが親水化処理をすることにより親水性とすることができる膜であることが好ましい。例えば、疎水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂、垂直配向膜形成用のポリイミド樹脂、又はアルコキシシラン系化合物等により形成された膜等が挙げられる。疎水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂としては、例えば、東芝シリコーン製等の撥水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂等々の市販の感光性樹脂等が挙げられる。また、垂直配向膜形成用のポリイミド樹脂としては、垂直配向用のポリイミド樹脂である日産化学製のＳＥ−１２１１等の市販の感光性樹脂等が挙げられる。
【００４４】
配向膜７，８の厚さについては特に限定されないが、例えば１０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。配向膜７，８は、配向膜形成用の材料を基板の全面にスピンコート等の塗布手段や各種の印刷手段で塗布されて形成される。
【００４５】
第１の基板１の配向膜７の一部には、液晶分子４のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域９が形成されている。
【００４６】
傾斜配向規制領域９は、液晶分子４のダイレクタを基板法線方向Ｙに対して傾斜して配向させるものである。
【００４７】
傾斜配向規制領域９は、液晶分子４のダイレクタを基板法線方向Ｙに対して傾斜して配向させることができるならばどのように構成してもよく、例えば疎水性の配向膜７を親水化処理することによって得られた親水性領域等である。
【００４８】
このように、傾斜配向規制領域９を形成することにより、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４は基板法線方向Ｙに対して傾斜して配向されるため、電源オン時（基板１，２間に電圧が印加された時）に、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４が垂直配向規制領域（傾斜配向規制領域９が形成されずに残った配向膜の残部）７上の液晶分子４よりさきにさらに傾斜することとなる。また、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４は、垂直配向規制領域７の液晶分子と密接しているため、基板法線方向Ｙに対して傾斜せずに平行に配向していることもある。この場合、電源オン時（基板１，２間に電圧が印加された時）、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４が垂直配向規制領域７上の液晶分子４よりさきに傾斜することとなる。その結果、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４を起点として垂直配向規制領域７上の他の液晶分子４も一斉に傾斜する。
【００４９】
傾斜配向規制領域９は、どのような形状に形成してもよく、例えば、図２に示すように直線状、図３乃至図６に示すようにジグザグ状、図７及び図８に示すように十字状に形成することが好ましい。傾斜配向規制領域９は、図２乃至図８に示すように複数形成することが好ましい。傾斜配向規制領域９と垂直配向規制領域７との境界（境界線）は、直線状に形成することが好ましい。
【００５０】
傾斜配向規制領域９の幅Ｗ１は、特に限定されず液晶分子４の種類や配向パターン、偏光板等に応じて任意に決められるが、例えば、１０μｍ〜３０μｍであることが好ましい。傾斜配向規制領域９の間隔（垂直配向規制領域７の幅）Ｗ２は、特に限定されず液晶分子４の種類や配向パターン、偏光板等に応じて任意に決められるが、例えば、２０μｍ〜９０μｍであることが好ましい。このような範囲が好ましいのは、傾斜配向規制領域９が狭すぎる場合には液晶分子４の配向力が乏しくなる傾向となり、他方広すぎる場合には液晶分子４が基板に垂直に配向しなくなる傾向となるからである。
【００５１】
傾斜配向規制領域９をジグザグ状に形成する場合には、そのジグザグ形状は、特に限定されず、周期や屈曲角度が一定しない無秩序に屈曲するジグザグ形状でもよいが、好ましくは、一定の周期で屈曲角度がほぼ同じジグザグ形状であることがよい。
【００５２】
傾斜配向規制領域９のジグザグ状の屈曲部の角度は、液晶分子４の種類や配向パターン、偏光板等に応じて任意に決められるが、例えば、９０°であり、ジグザグ状の直線部の方位は偏光軸に対して４５°になるように形成することが好ましい。
【００５３】
傾斜配向規制領域６のジグザグ状の屈曲部間の幅（隣接する屈曲部の間隔）Ｗ３は、特に限定されないが、２００μｍ〜４００μｍであることが好ましく、特に好ましくは、２９０μｍ〜３１０μｍである。傾斜配向規制領域６のジグザグ状の屈曲部間の幅（隣接する屈曲部の間隔）Ｗ３が２００μｍ未満であると、配向力が乏しくなる傾向となり、他方、４００μｍを越えると広視野角特性が悪くなる傾向となるからである。
【００５４】
傾斜配向規制領域６のジグザグ状の屈曲の幅Ｗ４は、特に限定されないが、５０μｍ〜１５０μｍであることが好ましく、特に好ましくは、９０μｍ〜１１０μｍである。傾斜配向規制領域６のジグザグ状の屈曲の幅Ｗ４が５０μｍ未満であると、配向力が乏しくなる傾向となり、他方、１５０μｍを越えると広視野角特性が悪くなる傾向となるからである。
【００５５】
このように、傾斜配向規制領域９をジグザグ状に形成することにより、電源オン時において傾斜配向規制領域９上の液晶分子４が垂直配向規制領域７上の液晶分子４より先に傾斜する。このとき、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４は、垂直配向規制領域７と傾斜配向規制領域９との境界（境界線）に沿って傾斜し、この傾斜配向規制領域９上の液晶分子４を起点として垂直配向規制領域７上の液晶分子４が傾斜するので、ジグザグを形成する２つの辺（直線部）に沿った少なくとも２方向に配向制御されると考えられる。すなわち、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されているため、垂直配向規制領域７上の液晶分子４は傾斜方向がほぼ９０°異なる２つの傾斜領域に分かれることになる。
【００５６】
傾斜配向規制領域９は、例えば、液晶３が画素毎に少なくとも一つの画素領域を有し、該画素領域毎に対応して屈曲部が１つ又は２つ以上位置されるように位置決めされることが好ましい。特に好ましくは、傾斜配向規制領域９によって垂直配向規制領域７上の液晶分子４を配向制御する２つの傾斜領域が１つの画素領域内でほぼ同じ割合になるように配置することが好ましい。なお、「画素」は、一般に、表示を行う最小単位として定義される。本発明において画素領域とは、「画素」に対応する液晶表示装置の一部の領域をいう。
【００５７】
傾斜配向規制領域９を十字状に形成する場合には、その十字形状は、特に限定されず、各々の大きさやその形成位置の間隔が一定しない無秩序な形状でもよいが、好ましくは、一定の間隔で各々の大きさが同じ十字形状であることがよい。
【００５８】
傾斜配向規制領域９の十字形状の一辺の長さW５は、カラーフィルターのブラックマトリクス開口部の面積に応じて任意に決められるが、例えば、５０μｍ〜１００μｍであることが好ましい。このような範囲が好ましいのは、一辺の長さが短すぎる場合には液晶分子４の配向力が配向力が乏しくなる傾向となり、他方長すぎる場合には広視野角特性が悪くなる傾向となるからである。
【００５９】
十字状の傾斜配向規制領域９の形成間隔W６は、カラーフィルターのブラックマトリクス開口部の面積に応じて任意に決められるが、例えば、１０μｍ〜２０μｍであることが好ましい。このような範囲が好ましいのは、間隔が狭すぎる場合には液晶分子４が放射配向し難くなる傾向となり、他方広すぎる場にはディスクりネーション領域が広くなる傾向となるからである。
【００６０】
十字状の傾斜配向規制領域９は、例えば、前記画素領域に対応して１つ又は２つ以上位置されるように位置決めされることが好ましい。
【００６１】
このように、傾斜配向規制領域９を十字状に形成することにより、電源オン時において傾斜配向規制領域９上の液晶分子４が垂直配向規制領域７上の液晶分子４より先に傾斜する。このとき、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４は、垂直配向規制領域７と傾斜配向規制領域９との境界（境界線）に沿って傾斜し、この傾斜配向規制領域９上の液晶分子４を起点として垂直配向規制領域７上の液晶分子４を起点として垂直配向規制領域７上の液晶分子４が傾斜するので、傾斜配向規制領域９付近では、十字を形成する２つの辺（直線部）に沿った２方向に配向制御されると共に、垂直配向規制領域７付近では、その２方向の中間方向に配向制御されると考えられる。
【００６２】
デバイス基板である第２の基板２の電極（画素電極）６には、２つの基板１、２を対向させてその対向方向に沿った方向（基板法線方向）からみたとき、垂直配向規制領域７の一部に対応する位置に配置されるスリット１０が形成されている。
【００６３】
スリット１０は、基板１，２間に斜め電界を生じさせて、スリット１０を境に液晶分子４の傾斜方向を逆にするためのものである。スリット１０は、どのような形状に形成してもよく、例えば、直線状に形成することが好ましい。
【００６４】
スリット１０は、垂直配向規制領域７を２つ以上に分割するように配置することが好ましい。また、スリット１０は、傾斜配向規制領域９が直線状又はジグザグ状に形成されている場合には、図２及び図６に示すように、傾斜配向規制領域９の直線部（直線状の部分）に対してほぼ直交する方向に方向に沿って延在する直線状に形成することが好ましい。また、スリット１０は、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されている場合には、図３乃至図５に示すように、傾斜配向規制領域９の延在方向に対してほぼ直交する方向に方向に沿って延在する直線状に形成することが好ましい。
【００６５】
すなわち、スリット１０は、図２に示すように、傾斜配向規制領域９が直線状に形成されている場合には、２つの基板１、２を対向させてその対向方向に沿った方向からみたとき、垂直配向規制領域７を２分割するように直線状に１つ又は所定の間隔を隔てて互いに平行に２つ以上設けることがよい。具体的には例えば、図２（ｂ）に示すように、スリット１０は、電極６を２分割すると共に、直線状の傾斜配向規制領域９に対してほぼ直交する方向に沿って配置されるように形成することが好ましい。
【００６６】
また、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に所定の間隔を隔てて２つ以上形成されている場合には、図３及び図４に示すように、スリット１０は、直線状に所定の間隔を隔てて複数形成するようにしてもよい。この場合、スリット１０は、２つの基板１、２を対向させてその対向方向に沿った方向からみたとき、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の延在方向Ｘに対してほぼ直交する方向（ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の屈曲部の角度を２等分する方向）に沿って延在する直線状に形成することが好ましい。また、各スリット１０は、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の１つおきのまたは全ての屈曲部９ａ上にそれぞれ配置されるように形成することが好ましい。すなわち、傾斜配向規制領域９をほぼ同じ周期でほぼ同じ屈曲角度のジグザグ状に所定の間隔を隔てて２つ以上形成すると、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の屈曲部９ａは、対向するジグザグ状の傾斜配向規制領域９の屈曲部９ａとを結ぶ直線状に配置され、この直線のうちの１つおきのまたは全ての直線上にスリット１０が配置されるように電極６に形成することが好ましい。
【００６７】
また、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に所定の間隔を隔てて２以上形成されている場合には、図５に示すように、２つの基板１、２を対向させてその対向方向に沿った方向からみたとき、各垂直配向規制領域７をそれぞれ個別に分割するようにスリット１０を複数形成するようにしてもよい。
【００６８】
具体的には例えば、各スリット１０は、２つの基板１、２の対向方向に沿った方向（基板法線方向）からみたとき、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の延在方向Ｘに対してほぼ直交する方向に沿って延在する直線状であって、傾斜配向規制領域９の間隔とほぼ同じ寸法に形成されている。また、スリット１０は、ジグザグ状の傾斜配向規制領域の屈曲部９ａとその屈曲部９ａと対向する屈曲部（隣接する傾斜配向規制領域の屈曲部）９ａとを結ぶ直線のうちの１つおきの直線上に配置されるように形成されている。また、スリット１０は、一の垂直配向規制領域７と、その垂直配向規制領域７に隣接する垂直配向規制領域７とでは、屈曲部９ａの位置が１つずれるように形成されている。すなわち、スリット１０は、１つの傾斜配向規制領域９においては、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の各屈曲部９ａから交互に隣接する一方の相対する傾斜配向規制領域９の屈曲部９ａと隣接する他方の相対する傾斜配向規制領域９の屈曲部９ａとまでのそれぞれの直線上に配置されるように複数形成されている。
【００６９】
また、図６に示すように、各スリット１０は、２つの基板１、２を対向させてその対向方向に沿った方向からみたとき、ジグザグ状の傾斜配向規制領域９の直線部９ｂと、その直線部９ｂと対向する直線部（隣接する傾斜配向規制領域９の直線部）９ｂとを結ぶ各直線上に配置されるように複数形成するようにしてもよい。すなわち、傾斜配向規制領域９によってジグザグ状に区画される垂直配向規制領域７の各直線領域７ａを、その直線領域７ａの延在方向のほぼ中央部から２つに分割するようにスリット１０が形成されている。
【００７０】
また、傾斜配向規制領域９が十字状に所定の間隔を隔てて２つ以上形成されている場合には、図７に示すように、スリット１０は、十字状の傾斜配向規制領域９の交差部とほぼ同じ形状に形成してもよい。この場合、このスリット１０は、基板法線方向からみたとき十字状の傾斜配向規制領域９の交差部に重なる位置に形成することが好ましい。
【００７１】
また、傾斜配向規制領域９が十字状に所定の間隔を隔てて２つ以上形成されている場合には、図８に示すように、スリット１０は、傾斜配向規制領域９の十字形状の一辺の長さW５と一辺の長さがほぼ同じ寸法の正方形状であって、各角部が丸まったほぼ正方形状の電極を一定の間隔を隔てて規則正しく配列されるように電極が区画形成するような形状に形成することが好ましい。また、ほぼ正方形状の電極間は互いに電気的に接続する接続部で接続用にすることが好ましく、この接続部の線幅W７は、特に限定されないが、好ましくは５μｍ〜１０μｍであることがよい。この場合、このスリット１０は、基板法線方向からみたときほぼ正方形状の電極の中心と傾斜配向規制領域９の交差部の中心とが重なる位置で、かつ、ほぼ正方形状の電極の各辺に傾斜配向規制領域９の十字状の各先端部が重なる位置に形成することが好ましい。
【００７２】
このように、デバイス基板２の電極６にスリット１０を形成することにより、電源オン時において、基板１，２間に斜め電界が生じるので、図９に示すように、スリット１０を境に特に垂直配向規制領域７上の液晶分子４の傾斜方向が逆になる。このため、傾斜配向規制領域９が直線状に形成されていると共に、この傾斜配向規制領域９に対してほぼ直交する方向に沿って配置されるようにスリット１０が形成されている場合には、垂直配向規制領域７上の液晶分子４はスリット１０を境に傾斜方向が逆になり、２方向に液晶３を配向制御することが可能となる。
【００７３】
また、図３に示すように、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されていると共に、スリット１０がジグザグ状の傾斜配向規制領域９の１つおきの屈曲部９ａ上に配置されるように形成されている場合には、特に垂直配向規制領域７上の液晶分子４はスリット１０を境に迅速に同じ方向に傾斜して、２方向又は全体的に４方向に液晶３を配向制御することが可能となる。
【００７４】
また、図４に示すように、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されていると共に、スリット１０がジグザグ状の傾斜配向規制領域９の全ての各屈曲部９ａ上にそれぞれ配置されるように形成されている場合には、特に垂直配向規制領域７上の液晶分子４はスリット１０を境に迅速に同じ方向に傾斜して、２方向に液晶３を配向制御することとなる。従って、全体的には４方向に液晶３を配向制御することが可能となる。
【００７５】
また、図５に示すように、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されていると共に、スリット１０が、１つの傾斜配向規制領域９において各屈曲部９ａから１つおきに交互に隣接する一方の相対する屈曲部９ａと隣接する他方の相対する屈曲部９ａとまでのそれぞれの直線上に配置されるように複数形成されている場合には、傾斜配向規制領域９によって区画されるジグザグ状の垂直配向規制領域７上の液晶分子４と隣接する垂直配向規制領域７上の液晶分子４とでは傾斜方向が異なり、２方向となる。従って、全体的には４方向に液晶３を配向制御することが可能となる。
【００７６】
また、図６に示すように、傾斜配向規制領域９がジグザグ状に形成されていると共に、スリット１０が、傾斜配向規制領域９によってジグザグ状に区画される垂直配向規制領域７の各直線領域７ａを、その直線領域７ａの延在方向のほぼ中央部から２つに分割するように形成されている場合には、ジグザグ状の垂直配向規制領域７の直線領域７ａの液晶分子４はスリット１０を境に傾斜方向が逆になるので、全体的には４方向に液晶３を配向制御することが可能となる。
【００７７】
また、図７に示すように、傾斜配向規制領域９が十字状に形成されていると共に、スリット１０が十字状の傾斜配向規制領域９の交差部とほぼ同じ形状であって、基板法線方向からみたとき十字状の傾斜配向規制領域９の交差部に重なる位置に形成されている場合には、十字状の傾斜配向規制領域９上の液晶分子４はスリット１０を境に傾斜方向が逆になるので、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４は４方向に傾斜する。また、垂直配向規制領域７上の液晶分子４も傾斜配向規制領域９の液晶分子４に影響を受け、十字方向の中間方向に沿って傾斜する。よって、全体的には、スリット１０を核として液晶分子４が放射状に傾斜するので、液晶を無限方向に配向制御することが可能となる。
【００７８】
また、図８に示すように、傾斜配向規制領域９が十字状に形成されていると共に、スリット１０が各角部が丸まったほぼ正方形状の電極を一定の間隔を隔てて規則正しく配列されるように電極が区画形成するような形状であって、基板法線方向からみたときほぼ正方形状の電極の中心と傾斜配向規制領域９の交差部の中心とが重なる位置で、かつ、ほぼ正方形状の電極の各辺に傾斜配向規制領域９の十字状の各先端部が重なる位置に形成されている場合には、十字状の傾斜配向規制領域９上の液晶分子４はスリット１０を境に傾斜方向が逆になるので、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４は４方向に傾斜する。また、垂直配向規制領域７上の液晶分子４も傾斜配向規制領域９の液晶分子４と電極端部の影響を受け、十字方向の中間方向で、かつ十字の中心方向に沿って傾斜する。よって、全体的には、スリット１０を核として液晶分子４が放射状に傾斜するので、液晶を無限方向に配向制御することが可能となる。
【００７９】
以上のように、この液晶表示装置は、電源オン時において、傾斜配向規制領域９上の液晶分子４を容易に傾斜させることができるので、その液晶分子４を起点として他の液晶分子４を一斉に傾斜させることができる。また、傾斜配向規制領域９内の液晶分子４が少なくとも２方向に配向した複数の液晶ドメインを形成することができる。その結果、このように配向制御された液晶表示装置は視野角が広くなる。さらに、この配向状態は、互いに連続であるので、垂直配向規制領域７の間（境界）にディスクリネーションが形成されることがなく、表示品位の低下が起こらない。
【００８０】
したがって、本発明の液晶表示装置は、カラーフィルター基板の配向膜７の一部に傾斜配向規制領域９を形成すると共に、デバイス基板の電極６にスリット１０を形成したので、構造物等を形成することなく配向制御が可能であり、製造工程の簡素化を図れると共に広視野角特性を有することができる。
【００８１】
次に、上述した配向膜及び電極が形成される基板について説明する。第１の基板１及び第２の基板２は、図１３の液晶表示装置に示すように、カラーフィルター基板１０１とデバイス（ＴＦＴ）基板１０２の何れかを構成している。
【００８２】
カラーフィルター基板１０１は、基板１１２上にマトリクス状（格子状）のカラーフィルター層１０７が形成された基板であり、さらに詳しくは、基板１１２の内側面に、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の各画素領域を形成するカラーフィルター層１０７と、漏れ光を遮蔽するためにその画素領域の周縁部に形成されているブラックマトリクス層１０８とを有する基板である。カラーフィルター層１０７上には共通透明電極１０９が形成され、さらにその共通透明電極１０９上には液晶分子のダイレクタを基板法線方向に配向させる疎水性の配向膜（図示しない）が形成されている。なお、本発明を構成するカラーフィルター基板１０１は、現在一般的に使用されている構成を有するものであれば特に限定されず、前記以外の構成を備えているものであっても構わない。
【００８３】
一方、デバイス基板１０２は、基板１１２上にマトリクス状のＴＦＴ素子１０５が個々の画素領域として形成された基板であり、さらに詳しくは、基板１１２の内側面に、マトリックス状に配置された画素電極（透明電極）１０４、薄膜電界トランジスタ（ＴＦＴ）素子１０５及びライン電極１０６が形成され、さらにその画素電極１０４上には、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に配向させる疎水性の配向膜（図示しない）が形成されている。なお、本発明を構成するデバイス基板１０２は、現在一般的に使用されている構成を有するものであれば特に限定されず、前記以外の構成を備えているものであっても構わない。
【００８４】
なお、液晶表示装置において、基板１１２としては、ガラス基板又は透明プラスチック基板等が挙げられる。また、カラーフィルター基板１０１とデバイス基板１０２との間隔を所定の値にするためのスペーサが形成され、セルギャップを一定の値にしている。各基板の外側には、偏光板１１３が設けられ、デバイス基板側のさらに外側にはバックライトが設けられる。
【００８５】
２枚の偏光板１１３は、図２乃至図６に示すように、互いに偏光軸が直交すると共に、これら偏光軸が前記傾斜配向規制領域９の直線部に対してそれぞれ４５°に傾斜した位置上に位置されるようにそれぞれ設けることが好ましい。これにより、液晶分子が傾斜したときの透過率を最大にすることができる。
【００８６】
（液晶表示装置の製造方法）
次に、液晶表示装置の製造方法について説明する。本発明の液晶表示装置の製造方法は、上述した構成からなる液晶表示装置の製造方法であって、その特徴は、（ｉ）第１の基板（デバイス基板）の対向面上に、スリットが形成された電極を形成する工程、（ｉｉ）第２の基板（カラーフィルター基板）の対向面上に、親水化処理可能な疎水性の配向膜を形成する工程、（ｉｉｉ）その配向膜の一部を親水化処理して、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成する工程、を有することにある。なお、液晶表示装置を製造するためのその他の製造工程、例えば図１３に示すようなカラーフィルター層、ブラックマトリクス層、透明電極層、ＴＨＴ素子等の形成工程については従来公知の方法と同様である。
【００８７】
前記（ｉ）の工程において、電極の構成材料としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等が挙げられる。これらの電極材料を用いて、例えば各種の印刷手段やスパッタ法により電極が形成される。
【００８８】
前記（ｉｉ）の工程において、親水化処理可能な疎水性の配向膜を形成するための樹脂としては、疎水膜形成用のフッ素系シリコーン樹脂、垂直配向膜形成用のポリイミド樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、基板の全面にスピンコート等の塗布手段や各種の印刷手段で塗布される。
【００８９】
前記（ｉｉｉ）の工程において、配向膜の一部を傾斜配向規制領域にする手段は、（１）配向膜である疎水性被膜を光触媒層を有するマスクで露光することにより、露光された部分の側鎖のみが置換されて傾斜配向規制領域を形成する方法（図１０参照）、（２）光触媒を含有する疎水性樹脂をコーティングして光触媒含有配向膜を形成した後、その配向膜を露光することにより、露光された部分の側鎖のみが置換されて傾斜配向規制領域を形成する方法（図１１参照）、等を挙げることができる。
【００９０】
前記（１）工程においては、疎水性の配向膜として、上述したフッ素系シリコーン被膜やポリイミド被膜を挙げることができる。光触媒層を有するマスクを利用した処理は、図１０に示すように、先ず、ジグザグ状のマスクパターン３３が形成された基板３２上に光触媒層３４を形成したマスク３０と、疎水性の配向膜３１が形成された第１の基板及び第２の基板とを準備する（図１０（ａ））。その光触媒層３４を有するマスク３０と疎水性の配向膜３１とを所定の間隔を隔てて対向させ（図１０（ｂ））、マスク３０を介して配向膜３１に露光光（例えばＵＶ光）３５を照射することにより（図１０（ｃ））、親水性領域（傾斜配向規制領域）３６を形成する処理方法（親水化処理方法）である（図１０（ｄ））。
【００９１】
光触媒層３４は、バインダー中に光触媒である酸化チタンを含有させたものである。酸化チタンは、アナターゼ型のものが好ましく、また、バインダー中に２０〜４０重量％の割合で含有させることが好ましい。酸化チタンの平均粒径はおよそ５〜２０μｍであることが好ましい。酸化チタンの代わりに、ＺｎＯなどを光触媒として用いてもよい。こうした光触媒層３４に例えば３８０ｎｍ以下の露光光が照射されることにより、光触媒粒子内で光電気化学反応が起こり、露光された疎水性の配向膜３１の側鎖を−ＯＨ基に置換させることができる。その結果、配向膜３１を親水性領域３６に変化させることができる。
【００９２】
また、マスク３０と疎水性の配向膜３１との間隔は、光触媒反応により生じた活性酸素種等をその隙間に容易に発生させて作用させ、配向膜３１を親水性領域３６に変化させることができる間隔であることが好ましく、およそ５〜２０μｍであることが好ましい。
【００９３】
前記（２）工程においては、疎水性の配向膜として、上述した光触媒を含有するフッ素系シリコーン被膜やポリイミド被膜を挙げることができる。非疎水領域である親水性領域の形成は、図１１に示すように、先ず、基板３２上にマスクパターン３３が形成されたマスク４０と、光触媒を含有する疎水性の配向膜３７が形成された第１の基板及び第の基板２を準備する（図１１（ａ））。そのマスク４０と、光触媒を含有する疎水性の配向膜３７とを所定の間隔を隔てて対向させ（図１１（ｂ））、マスク４０を介して配向膜３６に露光光（例えばＵＶ光）３５を照射することにより（図１１（ｃ））、親水性領域（傾斜配向規制領域）３６を形成する方法（親水化処理方法）である（図１１（ｄ））。
【００９４】
疎水性の配向膜３７は、バインダー中に光触媒である酸化チタンを含有させたものである。酸化チタンは、前記同様、アナターゼ型のものが好ましく、また、バインダー中に２０〜４０重量％の割合で含有させることが好ましい。酸化チタンの平均粒径はおよそ５〜２０μｍであることが好ましい。酸化チタンの代わりに、ＺｎＯなどを光触媒として用いてもよい。こうした疎水性の配向膜３７に例えば３８０ｎｍ以下の露光光３５が照射されることにより、含有する光触媒粒子内で光電気化学反応が起こり、配向膜３７の側鎖を−ＯＨ基に置換させることができる。その結果、配向膜３７の一部を親水性領域３６に変化させることができる。また、マスク４０と配向膜３７との間隔についても、前記(１)の場合と同様である。なお、(１)の工程と(２)の工程とを比べると、(１)の工程をより好ましく適用することができる。
【００９５】
図１２は、疎水性の配向膜の一部が親水性領域（傾斜配向規制領域）に変化する表面反応の一例を示す説明図である。図１２（ａ）は、疎水性の配向膜表面の側鎖に活性酸素種等がアタックし、その側差の結合を切断する様子を示しており、図１２（ｂ）は、切断された部位に水酸基が結合して親水性に変化する様子を示している。
【００９６】
図１２の表面反応を生じさせる処理に際しては、疎水性の配向膜と光触媒層を有するマスクとを、所定の間隔（例えば５〜２０μｍ）で配置することが好ましい。疎水性の配向膜と光触媒層を有するマスクとを所定の間隔に配置することにより、光触媒反応により生じた活性酸素種等をその隙間に容易に発生させることができる。活性酸素種等としては、光触媒粒子内での光電気化学反応に基づいて生じる活性酸素又は活性水酸基が挙げられ、それらの活性酸素種等が図１２（ａ）に示す側鎖（例えばアルキル側鎖）にアタックし、その側差の結合が切断される。側鎖が切断された部分には、その活性酸素種等が入れ替わって結合し、図１２（ｂ）に示す親水性に変化する。
【００９７】
以上のように、本発明の液晶表示装置の製造方法は、極めて容易な工程により配向膜の一部に、液晶分子のダイレクタを基板法線方向に対して傾斜して配向させる傾斜配向規制領域を形成することができるので、液晶表示装置を効率的に製造することができ、歩留まりの低下を防止することができると共に、コストダウンに寄与することができる。
【実施例１】
【００９８】
＜デバイス基板＞
先ず、ガラス基板（例えば、無アルカリガラス（ＮＡ３５（ＮＨテクノガラス製）、ＯＡ１０（日本電気硝子製）の対向面となる表面に、ポジレジストを用いたフォトリソ工程により酸化インジウム錫（ＩＴＯ）よりなる透明電極を形成した。この透明電極には、図２に示すようなスリットを形成した。なお、スリットの線幅は１０μｍとした。
【００９９】
つぎに、その透明電極上に、疎水性樹脂組成物（フッ素系シリコーン樹脂（東芝シリコーン製、ＴＳＬ８２３３及びＴＳＬ８１１４）を１０００ｒｐｍで５秒間スピンコートし、１５０℃で１０分間乾燥させ、厚さ６０ｎｍの疎水性の配向膜を設けた。
【０１００】
こうして、スリットを有する透明電極を形成したデバイス基板を作成した。
【０１０１】
＜カラーフィルター基板＞
先ず、透明電極としてＩＴＯが形成されたガラス基板（例えば、無アルカリガラス（ＮＡ３５（ＮＨテクノガラス製）、ＯＡ１０（日本電気硝子製）を準備し、その透明電極上に、疎水性樹脂組成物（フッ素系シリコーン樹脂（東芝シリコーン製、ＴＳＬ８２３３及びＴＳＬ８１１４）を１０００ｒｐｍで５秒間スピンコートし、１５０℃で１０分間乾燥させ、厚さ６０ｎｍの疎水性の配向膜を設けた。
【０１０２】
次に、その疎水性の配向膜上に、光触媒層を有すると共にマスクパターンを有するフォトマスクを密着させ、その後、フォトマスク側から波長２００ｎｍ〜３７０ｎｍの紫外線でマスクを介して配向膜を露光処理した。露光された部分は、疎水性の配向膜から傾斜配向規制領域に変化し、ストライプ状の配向膜と傾斜配向規制領域とが形成された。
【０１０３】
なお、フォトマスクは、石英ガラス基板上にクロム薄膜からなるマスクパターンが形成され、そのマスクパターン上にシラン系化合物（東芝シリコーン製、ＴＳＬ８１１４）を７５０ｒｐｍで５秒間スピンコーティングし、１５０℃で１０分間乾燥させた。この上に、さらにそのマスクパターン上にアナターゼ型酸化チタン粒子を光触媒として含有する厚さ０．０５μｍ〜０．５μｍの光触媒層を３５０ｒｐｍで５秒間スピンコーティングし、１５０℃で１０分間乾燥させて作成した光触媒含有層付フォトマスク（パターン付与基板）である。マスクパターンは、幅Ｗ２が７５μｍの配向膜と幅Ｗ１が２５μｍの直線状の傾斜配向規制領域とが交互にストライプ状に配置させるものを用いた。また、この光触媒層は、バインダー樹脂（シリコーン樹脂）中に酸化チタン粒子が約１０〜１００重量％含有されている。なお、酸化チタン１００重量％とは、酸化チタンのみで光触媒層を形成した場合である。
【０１０４】
こうして、ガラス基板の透明電極上の疎水性の配向膜の一部を、傾斜配向規制領域に変化させたカラーフィルター基板を作成した。
【０１０５】
＜液晶表示装置＞
前記の方法により作成した２枚の基板を一定の間隔を隔てて対向させ、これら基板間の外周を熱硬化性樹脂を用いて塗布して、基板を貼り合わせた。なお、２枚の基板は、デバイス基板のスリットと、傾斜配向規制領域と配向膜との境界と、が図２（ｂ）に示すように、ほぼ直交するように貼り合せた。また、基板間の間隔を制御するため、シール剤（三井化学製、ＸＮ−５Ａ）にスペーサー（積水ファインケミカル製、ＳＰシリーズ）を０．４重量％含ませたものを用いて、セルギャップを４．０μｍに制御して基板をプレスしながら加熱して、シール剤を硬化させて基板を貼り合わせ、液晶セルを作成した。
【０１０６】
このように作成した液晶セル中に真空注入法によって液晶材料を注入して液晶を形成した。液晶材料としては、メルク社製ＭＬＣ−６６０８（Δε＜０）（カイラル剤無）を使用した。この液晶材料は、負の誘電率異方性を有し、電圧印加時、液晶分子のダイレクタが電界方向と垂直になる性質がある。
【０１０７】
このようにして得られた液晶表示装置を、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、スリットを境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、２方向に液晶が配向制御された。
【実施例２】
【０１０８】
実施例１において、図３に示すようにスリットを形成すると共に傾斜配向規制領域をジグザグ状に形成した他は、実施例１と同様にして、実施例２の液晶表示装置を作成した。なお、スリットの線幅は１０μｍとした。カラーフィルター基板における傾斜配向規制領域の幅Ｗ１は２５μｍ、配向膜の幅Ｗ２は７５μｍとした。また、２枚の基板は、図３（ｃ）及び（ｄ）に示すように貼り合せた。
【０１０９】
この液晶表示装置は、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、スリットを境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、２方向に液晶が配向制御された。
【実施例３】
【０１１０】
実施例１において、図４に示すようにスリットを形成すると共に傾斜配向規制領域をジグザグ状に形成した他は、実施例１と同様にして、実施例３の液晶表示装置を作成した。なお、スリットの線幅は１０μｍとした。カラーフィルター基板における傾斜配向規制領域の幅Ｗ１は２５μｍ、配向膜の幅Ｗ２は７５μｍとした。また、２枚の基板は、図４（ｃ）及び（ｄ）に示すように貼り合せた。
【０１１１】
この液晶表示装置は、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、スリットを境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、４方向に液晶が配向制御された。
【実施例４】
【０１１２】
実施例１において、図５に示すようにスリットを形成すると共に傾斜配向規制領域をジグザグ状に形成した他は、実施例１と同様にして、実施例３の液晶表示装置を作成した。なお、スリットの線幅は１０μｍとした。カラーフィルター基板における傾斜配向規制領域の幅Ｗ１は２５μｍ、配向膜の幅Ｗ２は７５μｍとした。また、２枚の基板は、図５（ｃ）に示すように貼り合せた。
【０１１３】
この液晶表示装置は、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、スリットを境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、４方向に液晶が配向制御された。
【実施例５】
【０１１４】
実施例１において、図６に示すようにスリットを形成すると共に傾斜配向規制領域をジグザグ状に形成した他は、実施例１と同様にして、実施例４の液晶表示装置を作成した。なお、スリットの線幅は１０μｍとした。カラーフィルター基板における傾斜配向規制領域の幅Ｗ１は２５μｍ、配向膜の幅Ｗ２は７５μｍとした。また、２枚の基板は、図６（ｃ）に示すように貼り合せた。
【０１１５】
この液晶表示装置は、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、スリットを境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、４方向に液晶が配向制御された。
【実施例６】
【０１１６】
実施例１において、図７に示すようにスリットを形成すると共に傾斜配向規制領域を十字状に形成した他は、実施例１と同様にして、実施例６の液晶表示装置を作成した。なお、スリットは一辺が１０μｍの正方形とした。カラーフィルター基板における傾斜配向規制領域の幅Ｗ１は１０μｍ、傾斜配向規制領域の十字形状の一辺の長さW５は４０μｍ、十字形状の傾斜配向規制領域の形成間隔W６は１５μｍとした。また、２枚の基板は、図７（ｃ）に示す関係になるように貼り合せた。
【０１１７】
この液晶表示装置は、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、スリットを境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、４方向に傾斜し、また、垂直配向規制領域上の液晶分子も傾斜配向規制領域上の液晶分子に影響を受け、傾斜配向規制領域の十字方向の中間方向に沿って傾斜し、全体的には、スリットを核として放射配向となり、無限方向に液晶が配向制御された。この液晶表示装置はリベットとスリット構造による配向制御に比較してリベット作成工程がなくなるため、材料費削減及び製造歩留まり向上を実現できた。
【実施例７】
【０１１８】
実施例１において、図８に示すようにスリットを形成すると共に傾斜配向規制領域を十字状に形成した他は、実施例１と同様にして、実施例７の液晶表示装置を作成した。なお、スリットは、この実施例の場合、ほぼ正方形状の電極の値であり、形成間隔は、十字形状の傾斜配向規制領域の形成間隔W６と同じであり、１５μｍとした。また、ほぼ正方形の一辺は４０μｍ、隣接したほぼ正方形の電極を接続する電極の線幅W７は５μｍとした。カラーフィルター基板における傾斜配向規制領域の幅Ｗ１は１０μｍ、傾斜配向規制領域の十字形状の一辺の長さW５は４０μｍとした。また、２枚の基板は、図８（ｃ）に示す関係になるように貼り合せた。
【０１１９】
この液晶表示装置は、電源オンにしたとき、液晶分子が傾斜配向規制領域と配向膜との境界に沿って傾斜すると共に、スリットを境に液晶分子の傾斜方向が逆になり、４方向に傾斜し、また、垂直配向規制領域上の液晶分子も傾斜配向規制領域上の液晶分子に影響を受け、傾斜配向規制領域の十字方向の中間方向に沿って傾斜し、全体的には、スリットを核として放射配向となり、無限方向に液晶が配向制御された。この液晶表示装置はリベットとスリット構造による配向制御に比較してリベット作成工程がなくなるため、材料費削減及び製造歩留まり向上を実現できた。
【図面の簡単な説明】
【０１２０】
【図１】垂直配向方式の液晶表示装置において、基板間に電圧を与えたときの液晶分子のダイレクタの変化を示す模式図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の一例を示す図で、その（ａ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の第１の基板と第２の基板とを対向させた状態を示す概略斜視図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の他の例を示す図で、その（ａ）は本発明のスリットの一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｃ）は本発明の第１の基板と第２の基板とを対向させた状態を示す概略斜視図、その（ｄ）は本発明の傾斜配向形成領域とスリットとの対応関係を示す平面図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の他の例を示す図で、その（ａ）は本発明のスリットの一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｃ）は本発明の第１の基板と第２の基板とを対向させた状態を示す概略斜視図、その（ｄ）は本発明の傾斜配向形成領域とスリットとの対応関係を示す平面図である。
【図５】本発明の液晶表示装置の他の例を示す図で、その（ａ）は本発明のスリットの一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｃ）は本発明の傾斜配向形成領域とスリットとの対応関係を示す平面図である。
【図６】本発明の液晶表示装置の他の例を示す図で、その（ａ）は本発明のスリットの一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｃ）は本発明の傾斜配向形成領域とスリットとの対応関係を示す平面図である。
【図７】本発明の液晶表示装置の他の例を示す図で、その（ａ）は本発明のスリットの一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｃ）は本発明の傾斜配向形成領域とスリットとの対応関係を示すと共に電圧を印加したときの液晶分子の状態を示す平面図、その（ｄ）は、（ｃ）の斜視図である。
【図８】本発明の液晶表示装置の他の例を示す図で、その（ａ）は本発明のスリットの一例を示す平面図、その（ｂ）は本発明の傾斜配向形成領域の一例を示す平面図、その（ｃ）は本発明の傾斜配向形成領域とスリットとの対応関係を示すと共に電圧を印加したときの液晶分子の状態を示す平面図、その（ｄ）は、（ｃ）の斜視図である。
【図９】電極にスリットを形成したときの液晶分子の傾斜状態を示す図である。
【図１０】光触媒を用いた傾斜配向規制領域の形成方法の一例を示す説明図である。
【図１１】光触媒を用いた傾斜配向規制領域の形成方法の他の一例を示す説明図である。
【図１２】疎水性の配向膜が親水性に変化する表面反応の一例を示す説明図である。
【図１３】一般的な液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図１４】垂直配向方式の液晶表示装置を説明するための図である。
【図１５】従来のマルチドメイン化技術の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１２１】
１    第１の基板（カラーフィルター基板）
２    第２の基板（デバイス基板）
３    液晶
４    液晶分子
５    電極
６    電極
７    配向膜（垂直配向規制領域）
８    配向膜
９    傾斜配向規制領域
１０  スリット
３０、４０  マスク
３１  配向膜
３２  基板
３３  マスクパターン
３４  光触媒層
３５  露光光
３６  傾斜配向規制領域
３７  光触媒を含有する配向膜
１０１  カラーフィルター基板
１０２  ＴＦＴ基板
１０３  液晶
１０４  画素電極
１０５  ＴＦＴ素子
１０６  ライン電極
１０７  カラーフィルター層
１０８  ブラックマトリクス層
１０９  共通透明電極
１１２  基板
１１３  偏光板
Ｙ  基板法線方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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