(57)【要約】【課題】  ペリクルをマスクに接着する場合にペリクル板とマスクとの間隔及び平行度を高精度に保持できるペリクルマウンタ、及びペリクルのマスクへの装着方法を提供する。【解決手段】  ペリクル１及びフォトマスク３をそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクル１及びフォトマスク３のうち一方（フォトマスク３）を保持して相手側（ペリクル１）に加圧する圧力伝達部材（マスク支持部材４）ともう一方（ペリクル１）を保持する支持部材４の間にスペーサ５からなる間隔保持手段又はマイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子等からなる間隔調整手段を取り付けた。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクル及びフォトマスクのうち一方を保持して相手側に加圧する圧力伝達部材ともう一方を保持する支持部材の間にスペーサーからなる間隔保持手段又はマイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子等からなる間隔調整手段を取り付けたことを特徴とするペリクルマウンタ。
【請求項２】
ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクル及びフォトマスクのうち一方を保持して相手側に加圧する圧力伝達部材ともう一方を保持する支持部材の少なくとも一方の部材にマイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子等からなる平行度調整機構を取り付けたことを特徴とするペリクルマウンタ。
【請求項３】
ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクルまたはフォトマスクとそれを保持する支持部材の間にマイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子等からなる平行度調整機構を取り付けたことを特徴とするペリクルマウンタ。
【請求項４】
ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクルを保持する支持部材に設けた押圧部材でペリクル板面に対して一箇所以上の点または面を加圧する機構を取り付けたことを特徴とするペリクルマウンタ。
【請求項５】
ペリクルまたはフォトマスのどちらか一方を保持し、他方に対し加圧する圧力伝達部材を上方に設けた支持筐体より吊り下げ、接着すべき前記他方の部材上に降下させる機能を有するシリンダー等からなる昇降機構を備えたペリクルマウンタであって、前記シリンダー等の可動部先端と圧力伝達部材とを連結する部分にユニーバーサルジョイント等からなる自在継手機構を設けたことを特徴とするペリクルマウンタ。
【請求項６】
ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクルを保持する支持部材に開口部を設け、該開口部を通してペリクル板に対する距離を計測する非接触式の変位センサーあるいは光学的干渉計を取り付けたことを特徴とするペリクルマウンタ。
【請求項７】
ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ支持部材で保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルのフォトマスクへの装着方法であって、ペリクルの平坦度及び／又はペリクルとフォトマスク間の平行度を、スペーサからなる間隔保持手段又はマイクロメータ、精密ネジ、ピエゾ素子などからなる間隔調整手段あるいは平行度調整機構を用いて一定に保ちながら又は調整しながらペリクルをフォトマスクに接着することを特徴とするペリクルのフォトマスクへの装着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体素子または液晶表示素子などの製造に用いられ、とりわけ波長２２０ｎｍ以下の光、特にＦ２レーザー光（波長１５７．６ｎｍ）を用いる露光に好適なペリクルに関するものである。特に、上記ペリクルをフォトマスクに装着するために用いるペリクルマウンタ及びペリクルのフォトマスクへの装着方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子または液晶表示素子の製造における露光工程では、フォトマスクに異物があると、露光時にパターン欠陥（回路の短絡または断線等）が発生するので、マスクパターン面への異物付着防止のために、フォトマスクの片面または両面にペリクルを装着するのが一般的である。
従来のペリクルは、アルミニウム等からなる矩形フレームとニトロセルロースやフッ素樹脂などの有機樹脂等からなる数ｎｍ〜数μｍの厚みのペリクル膜とからなり、ペリクル膜は、枠状のフレームの一方の開口面に接着剤等で貼り付けられる（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
近年、パターンの微細化、高密度化の要求に応じて波長２２０ｎｍ以下の光を用いる露光が検討されている。しかし、前述の有機樹脂膜等を使用したペリクルは、露光の解像力を向上させるために短波長の露光光を使用すると、有機樹脂膜の有機分が分解されるために耐久性が低い。そこで、露光に使用する波長を十分に透過し、且つ耐性も十分にある合成石英ガラスを薄い板に加工し、有機樹脂膜の代わりに使用することが検討されている。（以降、この板を有機樹脂製のペリクル膜と区別して、ペリクル板と称する。）この合成石英ガラスは、例えば、珪素源と酸素源とを気相で反応させスートと呼ばれる酸化珪素からなる多孔質を成長させ、この多孔質を焼結して得られる実質的に酸化珪素のみからなるガラスである。
【０００４】
合成石英ガラスをペリクル板として使用したペリクルを実際に露光工程で使用すると、合成石英ガラス自体が光エネルギーを吸収し熱を持つことにより、膨張する。また、フレーム自体も熱を帯びる。このとき、ペリクルフレーム材料として従来から用いられている材料、例えばアルミニウムやチタン等は、合成石英ガラスと熱膨張係数が異なるので、ペリクル板に応力を与え複屈折による光路の変動や機械的な撓みによる光路の変動を生じさせるおそれがある。よって、ペリクルフレーム材料としては、ペリクル板と熱膨張係数が等しい合成石英ガラス、もしくは溶融石英ガラス（以降、両者を併せて石英ガラスと称する。）が適している。
【０００５】
ぺリクル板は実用上の強度を確保するために０．０５〜２．０ｍｍ程度の板厚が必要である。このため、有機樹脂のペリクル膜に比べて厚さが厚くなり、露光光の光路が変わり転写パターンの位置がずれて良好な露光が行えない場合がある。
【０００６】
ひとつは、ペリクル板内に厚みのばらつきがあると屈折光の光路が変わり転写パターンの位置がずれるためである。これ防止するためには、ペリクル板に許容される上下面の平行度は０．１μｍ／５０ｍｍ以下が必要といわれる。
【０００７】
また、ペリクルフレーム上に貼り付けられた状態でペリクル板が反っていた場合、即ち、ペリクル板とフォトマスクとの平行度が悪い場合も屈折光の光路が変わり転写パターンの位置がずれる。これを防止するためには、フレーム上に貼り付けられた状態でのペリクル板の反りはペリクル板全面で２μｍ以下が必要とされる。
【０００８】
また、ペリクル板の平行度や反りが上記の許容範囲内にあるペリクル板を使用した場合であっても、転写パターンの位置ずれが生じる場合がある。即ち、ペリクルフレームの上下面の平行度が悪いとペリクル板とフォトマスクの平行度は所定の精度に収まらない。また、ペリクル板は、ペリクルフレームに接着されるので、接着面の平坦度が悪いと、ペリクルフレームの接着面の形状に矯正されることによってペリクル板が撓んだり、あるいは、撓みに抗する矯正力によってペリクル板内の複屈折を大きくしたりするなど光学上の不具合を発生させるおそれがある。
【０００９】
さらに、ペリクルフレームのフォトマスクに装着される側の面についても平坦度が悪いと、ペリクルフレーム自体に撓みが生じ、この撓みによって、ペリクル板に撓みや複屈折が生じるおそれがある。このため、ペリクルフレームの上下面の平坦度はそれぞれの面全域で１μｍ以下とされ、同時に上下面の平行度は全域で２μｍ以下とすることが求められる。
【００１０】
しかし、ペリクルフレームに接着した状態でのペリクル板の反りや、ペリクルフレームの上下面の平坦度、平行度が上記の許容範囲内にあっても、ペリクルがフォトマスク（以下、単にマスクともいう。）に傾いて装着されると、やはり、ペリクル板とマスクとの平行度が確保できない。
【００１１】
従来、ペリクルをマスクに装着する際には、ペリクル枠のマスク側端面に粘着剤を塗布するか、あるいは粘着テープを介して、ペリクルマウンタを用いてペリクル枠全周の側面をマスクに隙間なく密着させて装着し、塵埃等が出入りする隙間が形成されないように密封する。
【００１２】
しかしながら、このようなペリクルマウンタを用いて圧着する場合にマスクとペリクル板との平行が保てない場合があることがわかってきた。マスクとペリクル板の平行が保てないと、マスクを通して半導体ウェハにパターンを転写するときに、露光位置がずれるなどの問題が生じる原因となる。
【００１３】
この点を考慮したペリクルマウンタ及びペリクルのフォトマスクへの装着方法が特許文献２に開示されている。しかしながら、この特許文献２の発明では装置としての汎用性が高いとはいえない。
【００１４】
【特許文献１】特開２００２−３２３７５２号公報
【特許文献２】特開２００３−１８６１７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は、ペリクルをマスクに接着する場合にペリクル板とマスクとの間隔及び平行度を高精度に保持できるペリクルマウンタ、及びペリクルのマスクへの装着方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
前記目的を達成するため、請求項１に係る発明では、ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクル及びフォトマスクのうち一方を保持して相手側に加圧する圧力伝達部材ともう一方を保持する支持部材の間にスペーサーからなる間隔保持手段又はマイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子等からなる間隔調整手段を取り付けたことを特徴とするペリクルマウンタを提供する。
【００１７】
請求項２に係る発明では、ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクル及びフォトマスクのうち一方を保持して相手側に加圧する圧力伝達部材ともう一方を保持する支持部材の少なくとも一方の部材にマイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子等からなる平行度調整機構を取り付けたことを特徴とするペリクルマウンタを提供する。
【００１８】
請求項３に係る発明では、ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクルまたはフォトマスクとそれを保持する支持部材の間にマイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子等からなる平行度調整機構を取り付けたことを特徴とするペリクルマウンタを提供する。
【００１９】
請求項４に係る発明では、ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクルを保持する支持部材に設けた押圧部材でペリクル板面に対して一箇所以上の点または面を加圧する機構を取り付けたことを特徴とするペリクルマウンタを提供する。
【００２０】
請求項５に係る発明では、ペリクルまたはフォトマスのどちらか一方を保持し、他方に対し加圧する圧力伝達部材を上方に設けた支持筐体より吊り下げ、接着すべき前記他方の部材上に降下させる機能を有するシリンダー等からなる昇降機構を備えたペリクルマウンタであって、前記シリンダー等の可動部先端と圧力伝達部材とを連結する部分にユニーバーサルジョイント等からなる自在継手機構を設けたことを特徴とするペリクルマウンタを提供する。
【００２１】
請求項６に係る発明では、ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルマウンタであって、ペリクルを保持する支持部材に開口部を設け、該開口部を通してペリクル板に対する距離を計測する非接触式の変位センサーあるいは光学的干渉計を取り付けたことを特徴とするペリクルマウンタを提供する。
【００２２】
請求項７に係る発明では、ペリクル及びフォトマスクをそれぞれ支持部材で保持し、両者を相互に押圧して接着するペリクルのフォトマスクへの装着方法であって、ペリクルの平坦度及び／又はペリクルとフォトマスク間の平行度を、スペーサからなる間隔保持手段又はマイクロメータ、精密ネジ、ピエゾ素子などからなる間隔調整手段あるいは平行度調整機構を用いて一定に保ちながら又は調整しながらペリクルをフォトマスクに接着することを特徴とするペリクルのフォトマスクへの装着方法を提供する。
【発明の効果】
【００２３】
請求項１に記載の発明によれば、ペリクルまたはフォトマスクを保持・押圧して、両者を接着するペリクルマウンタにおいて、一方を保持・加圧する圧力伝達部材ともう一方を保持する支持部材の間にスペーサー、あるいは、マイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子などを取り付けることにより、両部材の間隔及び平行度を所定の値にすることが可能になり、両部材に保持されたペリクルとフォトマスクの平行度を精度よく接着することができる。
【００２４】
請求項２に記載の発明によれば、ペリクルまたはフォトマスクを保持・押圧して、両者を接着するペリクルマウンタにおいて、一方を保持・加圧する圧力伝達部材ともう一方を保持する支持部材の少なくとも一方の部材の保持に使用しない面にマイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子等を取り付け、もう一方の部材との平行度を調整する機能を持たせることにより、両部材に保持されたペリクルとフォトマスクの平行度を制御することが可能になる。
【００２５】
請求項３に記載の発明によれば、ペリクルまたはフォトマスクを保持・押圧して、両者を接着するペリクルマウンタにおいて、ペリクルまたはフォトマスクとそれを保持する支持部材の間にマイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子等を取り付け、もう一方の部材との平行度を調整することによりペリクルとフォトマスクの平行度を制御することが可能になる。
【００２６】
請求項４に記載の発明によれば、ペリクルまたはフォトマスクを保持・押圧して、両者を接着するペリクルマウンタにおいて、ペリクルを保持する支持部材に設けた端子等の押圧部材でペリクル板面、特にはペリクルの有効面に傷をつけないためフレームとの接着面上に対して一箇所以上の点または面で加圧することにより、ペリクルの反りやフォトマスクとの平行度を調整することが可能になる。
【００２７】
請求項５に記載の発明によれば、ペリクルまたはフォトマスのどちらか一方を保持・加圧する圧力伝達部材を、上方に設けた支持筐体より吊り下げ、シリンダー等の昇降機構で接着すべきもう一方の部材上に降下させるペリクルマウンタにおいて、シリンダー等の可動部先端と支持部材とを連結する部分にユニーバーサルジョイント等の自由度を持つ自在継手機構を用いることにより、ペリクルとフォトマスクが密着するときに、支持部材に保持されたペリクルまたはフォトマスクの傾きに下降する側が倣うことで両者の平行度を良好に形成することができる。
【００２８】
請求項６に記載の発明によれば、ペリクルまたはフォトマスクを保持・押圧して、両者を接着するペリクルマウンタにおいて、ペリクルを保持する支持部材に開口部を設け、該開口部側にペリクル板に対する距離計測用の非接触式の変位センサーあるいは光学的干渉計を取り付け、接着前後のペリクルの反りやフォトマスクとの平行度を装置上で計測することが可能になり、平行度を調整しながら接着することができる。
【００２９】
請求項７に係る発明によれば、ペリクルまたはフォトマスクを保持・押圧して、両者を接着する場合に、一方を保持・加圧する圧力伝達部材ともう一方を保持する支持部材の間にスペーサー、あるいは、マイクロメーター、精密ねじ、ピエゾ素子などを取り付けることにより、両部材の間隔及び平行度を所定の値に保ちながらペリクルをフォトマスクに接着するため、両部材に保持されたペリクルとフォトマスクの平行度を精度よく接着することができる。
【００３０】
以上のように、本発明によれば、転写パターンの位置ずれのないペリクル付フォトマスクを作成するためのマウンタを得ることができ、転写パターンの位置ずれの少ない高性能なペリクル付フォトマスクを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、図面に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。
図１は、請求項１に記載されたスペーサを用いたマウンタの主要部の断面模式図を示す。ペリクル１は、ペリクルフレーム１aとこれに接着されたペリクル板１ｂとからなり、ペリクル支持部材２上に保持されている。ペリクルの開口側（図で上側）のフレーム面には、粘着剤または粘着テープ（不図示）が貼り付けられている。一方、ペリクル１の上方にはマスク支持部材（圧力伝達部材）４に保持されたマスク３があり、これが下降することによりペリクルとマスクを密着させ両者を接着する。このとき、ペリクル１とマスク３の間隔及び平行度を一定に保つために両部材２，４のどちらか一方に間隔保持手段としてスペーサ５を設ける。スペーサ５の高さ（保持すべき一定の間隔）は、接着するペリクル１の高さとマスク３の厚みと粘着剤または粘着テープの厚みから決定される。
【００３２】
このとき、両部材の向かい合ったそれぞれの面の平坦度が良好でないと、粘着剤や粘着テープの弾性によりペリクルやフォトマスクが撓んでしまい接着後の平行度が悪化してしまう。このため各々の面の平坦度は２μｍ以下であることが望ましい。
【００３３】
なお、平坦度とは、面の起伏における最大の高さと最小の高さとの差をいう。また、平行度とは、一定の面積（ここでは、ペリクル板の面積）の範囲で２つの面の間の距離における最大値と最小値との差をいう。
【００３４】
同様にスペーサ５の上下面の平坦度と平行度が良好でなければ、ペリクルとマスクの平行度が悪化してしまう。よって、上下面の平坦度は２μｍ以下、平行度についても２μｍ以下が望ましい。
【００３５】
このスペーサ５の形状は、図１ではペリクル１を囲むように設置された枠体としているが、複数個の円柱や角柱でも目的を達することができる。但し、複数個のスペーサを設置した場合には、それぞれの高さのばらつきを２μｍ以下にする必要がある。
【００３６】
また、スペーサ５の材質は、接着時の温度変化を受けないように熱膨張係数の小さい材料であることが望ましいが、ペリクルやマスクの主要材料が石英ガラスであることを考慮すると、同一の材料であることがより望ましい。
【００３７】
図２は、図１で説明したスペーサに替えて両部材の間に間隔調整手段としてピエゾ素子６を設置した例である。ピエゾ素子を用いることにより、固定された間隔を保つのではなく、ペリクルやマスクの個々の厚みばらつきを吸収しながら間隔を調整できるといった利点がある。間隔調整手段として、このピエゾ素子の替わりにマイクロメータや精密ねじ等を使用した場合でも、同様の効果を得ることができる。
【００３８】
図３は、請求項２に記載された構成を示し、ペリクル支持部材２とマスク支持部材４との間に平行度調整機構を備えた場合を示す断面模式図である。ペリクル支持部２材のペリクル１を保持している領域の下側に複数個の平行度調整用のマイクロメータ７を設けることにより、もう一方のマスク支持部材４との間の平行度を制御することが可能である。
【００３９】
この機構は、二つの部材２，４のどちらか一方に取り付けることで有効に機能するが、より効果的にするために両方の部材に取り付けることもできる。
【００４０】
また、マイクロメータ７に替えて精密ねじやピエゾ素子等を使用することができる。
【００４１】
図４は、請求項３に記載された構成を示し、ペリクルとそれを保持するペリクル支持部材４との間に平行度調整機構を取り付けた断面模式図である。精密ねじ８を取り付けることでワーク（ペリクル）の姿勢を直接制御し、もう一方のワーク（マスク）との間の平行度を調整する。この図で示す精密ねじ８に替わって、マイクロメータやピエゾ素子等を使用することができる。
【００４２】
また、フォトマスク３についても同様にマスク３とマスク支持部材４との間に平行度調整機構を設けることができる。
この図４の平行度調整機構はペリクル側又はマスク側のいずれか一方に設けてもよいし、あるいは両方にも受けてもよい。
【００４３】
このような平行度調整機構を取り付けた場合には、少なくともこの機構を取り付けた側の部材の平坦度を高精度にする必要がないといった利点がある。
【００４４】
図５は、請求項４に記載された構成であり、ペリクル板面を押圧してペリクルの反りや平行度を制御する機構を示す。ペリクル１を保持するペリクル支持部材２に設けたメカニカルプッシャー９等（端子や突起でもよい）からなる押圧部材でペリクル板面に対して一箇所以上の点または面を加圧することにより、ペリクル１の反りやペリクル板とマスク３との間の平行度を調整しながら接着する機構を搭載したペリクルマウンタである。
【００４５】
図６は、請求項５に記載された構成を示し、マスク支持部材４の吊り下げ機構を示す断面模式図である。マスク支持部材（圧力伝達部材）４を吊り下げるために該支持部材４の上方に吊り下げ用筐体１０を設置し、筐体上にエアシリンダ１１等の吊り下げ昇降機構を取り付ける。エアシリンダ１１のロッド先端とマスク支持部材４は、ユニバーサルジョイント１２で結合され、マスク支持部材（圧力伝達部材）４に保持されたマスク２がペリクル１上に降下することで両者を密着させる。自在継手であるユニバーサルジョイント１２はジョイント部を中心として自由度を持っているため、下方に置かれたペリクル１が傾いていた場合であっても、傾きに倣ってマスク３を密着させることができるのでペリクル１とマスク３の平行度を良好に保った状態で接着することが可能である。
【００４６】
また、この自在継手機構を使用すれば、均等に接着圧をかけることが可能であるため前述の請求項１〜４までのいずれかの機構と組み合わせることで、より精度の高い接着が可能となる。
【００４７】
上記図１〜６の説明では、基本的にペリクル１を支持部材２に保持し、マスク３を圧力伝達部材４に保持した形態で詳細を記述したが、ペリクル１を上側の圧力伝達部材４にマスク３を下側の支持部材２に置き換えても効果を損なうものではない。
【００４８】
図７は、光学的干渉計を用いた測定機構付のマウンタを示す断面模式図である。ペリクル支持部材２に設けた開口部１３を通して光学的干渉計１４によりペリクル１の反りや傾きを測定することが可能である。また。光学的なノイズを消すことによって、ペリクル１とマスク３の平行度を測定することが可能である。この、光学的干渉計は、フィゾー干渉計やマイケルソン干渉計等を用いることができる。また、光学的干渉計に替り、レーザー変位計等の非接触式の変位計を用いる事も可能である。
【００４９】
この測定機構と前述の請求項１〜４の何れかの支持部材間の間隔・平行度を調整する機構を組み合わせることで、より精密な調整が可能となる。
【実施例】
【００５０】
次に本発明実施例について図を用いて説明する。図８は、本発明の実施に当たり使用したマウンタの主要部を示す断面模式図である。合成石英製のペリクル板１ｂと石英ガラス製のフレーム１ａからなるぺリクル１（１２６ｍｍ×１４８ｍｍ×４．４ｔ）は、合成石英ガラス製のペリクル支持部材２上に載置される。ペリクル支持部材２は、上下面を両面研磨機により鏡面研磨されており、そのうちのペリクル１を保持する面の平坦度は、１５２ｍｍ×１５２ｍｍの範囲で１．５μｍであった。
【００５１】
ペリクル支持部材２と該支持部材２を固定する支持プレート２０には、開口部２１があり、装置下部に設けられたフィゾー干渉計１４によって接着中のペリクル１の反りやフォトマスク３との間の平行度が計測可能となっている。
【００５２】
ペリクル支持部材２を保持する移動ステージ１８ごとレール１７上を実線で示すマウンタ中心部より引き出すことにより、ペリクル１をペリクル支持部材２に載置することができる。また、ペリクル支持部材２とマスク支持部材４の平行度は、ペリクル支持部材２下部の４箇所に設けたペリクル支持部材調整ねじ１６によって調整することができる。
【００５３】
一方、公知の方法で得られたフォトマスク３（１５２ｍｍ×１５２ｍｍ×６．３５ｍｍ）は、同じく合成石英ガラス製のマスク支持部材４に吸着孔（不図示）を介して吸着保持されている。マスク支持部材４も両面研磨機により鏡面研磨されており、１５２ｍｍ×１５２ｍｍの範囲の平坦度は０．５μｍであった。この支持部材４は、左端の蝶番１９により１８０度反転が可能となっていると同時にスリットにより上下の移動が可能となっている。これによりマスク３を保持した状態でペリクル１側に反転したとき、マスク３と支持部材４の自重によりペリクルに対し接着圧がかかるようになっている。
【００５４】
図の左の点線は、反転した状態でのマスク３の保持機構部（マスク保持部材４）を示し、この状態でマスク３はマスク支持部材４に保持される。また、必要に応じて、支持部材２，４同士の平行度を調整できるように、該支持部材４の４箇所にマスク支持部材調整ねじ１５が設けられている。
【００５５】
実際に貼り合せを行った手順を以下に示す。
最初に、左点線で示す状態でマスク３をマスク支持部材４に保持させた。
【００５６】
次に、右点線で示す状態で移動ステージ１８上のペリクル支持部材２に粘着剤付ペリクル１を載置し、ステージ１８ごと装置中心部に移動させる。このときのペリクル１の反りは下側に凸形状をしており、４．３μｍであった。また、２.０μｍの傾きが計測されたので、ペリクル支持部材調整ねじ１６によって１．０μｍまで傾きを修正した。
【００５７】
続いて、マスク支持部材４を１８０度反転させ、ペリクル１とマスク３を重ね合わせた。このときのペリクル１の反りを測定したところ、下側に凸形状で４．８μｍであり、傾きは接着前と同様に１．０μｍであった。
【００５８】
本実施例では、支持部材４や支持プレート２０の移動方法として蝶番１９を用いた反転方式や、レール１７による水平移動方式を用いたが、これらに限定されるものではなく、所定の目的を満たすものであれば方法は問わない。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】支持部材の間隔・平行度を一定にするためのスペーサを用いたマウンタの主要部を示す断面模式図
【図２】支持部材間に設置した間隔・平行度調整機構を示す断面模式図
【図３】支持部材の保持反対面に設置した間隔・平行度調整機構を示す断面模式図
【図４】ワークの姿勢を直接制御する機構を示す断面模式図
【図５】ペリクル板面を押圧しペリクルの反りや平行度を制御する機構を示す断面模式図
【図６】支持部材の吊り下げ機構を示す断面模式図
【図７】光学的干渉計を用いた測定機構を示す断面模式図
【図８】マウンタの実施例を示す断面模式図
【符号の説明】
【００６０】
１：ペリクル、２：ペリクル支持部材、３：フォトマスク、
４：フォトマスク支持部材、５：スペーサ、
６：間隔・平行度調整用ピエゾ素子、
７：間隔・平行度調整用マイクロメータ、８：精密ねじ、
９：メカニカルプッシャー、１０：吊り下げ用筐体、
１１：エアシリンダ、
１２：ユニバーサルジョイント、１３：開口部、１４：光学的干渉計、
１５：フォトマスク支持部材調整ねじ、
１６：ペリクル板支持部材調整ねじ、１７：レール、
１８：移動ステージ、１９：蝶番、２０：支持プレート、２１：開口部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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