(57)【要約】【課題】保存安定性及び硬化性に優れた活性エネルギー線硬化型組成物を提供することである。【解決手段】親水性単量体（ａ）、親水性重合体（ｂ）及び無機質フィラー（ｃ）を必須成分としてなるインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物（Ａ）であって、（Ａ）が式（１）を満たしてなることを特徴とするインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物を用いる。【数１】2005104067.tif 000016式中αは膜厚２５μｍの（Ａ）からなる塗膜を鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ５４００−１９９０）Ｂの硬さまで硬化させるのに必要な活性エネルギー線の積算エネルギー照射量（ｍJ／ｃｍ2）、βは（Ａ）の製造２４時間後の粘度（β１）と、４０℃で６ヶ月間（Ａ）を密閉保存した後の粘度（β２）との比（β２／β１）を表し、粘度はＪＩＳ  Ｚ８８０３−１９９１に準拠して測定される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
親水性単量体（ａ）、親水性重合体（ｂ）及び無機質フィラー（ｃ）を必須成分としてなるインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物（Ａ）であって、（Ａ）が式（１）を満たしてなることを特徴とするインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物。
【数１】
2005104067.tif 000013
（１）式中、αは、膜厚２５μｍの（Ａ）からなる塗膜を鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ ５４００−１９９０、８．４ 鉛筆引っかき値、８．４．１試験機法に準拠）Ｂの硬さまで硬化させるのに必要な活性エネルギー線の積算エネルギー照射量（ｍJ／ｃｍ2）、βは、（Ａ）の製造２４時間後の粘度（β１）と、４０℃で６ヶ月間（Ａ）を密閉保存した後の粘度（β２）との比（β２／β１）を表し、粘度は、ＪＩＳ  Ｚ８８０３−１９９１  ９．円すい及び円すい−平板形回転粘度計による粘度測定方法に準拠し、半径７ｍｍ、角度５．２４×１０-2ｒａｄの円すいを用いて２５℃、１００ｒｐｍで測定される。
【請求項２】
（Ａ）の製造２４時間後の粘度（β１）が１〜６Ｐａ・ｓであり、かつ（Ａ）のチクソトロピーインデックス（ＴＩ値）が１．５〜４．０である請求項１に記載の組成物。
ただし、粘度（β１）は、ＪＩＳ  Ｚ８８０３−１９９１  ９．円すい及び円すい−平板形回転粘度計による粘度測定方法に準拠して半径７ｍｍ、角度５．２４×１０-2ｒａｄの円すいを用いて２５℃、１００ｒｐｍで測定される値である。また、ＴＩ値は、（β１）と同様にして測定される１０ｒｐｍの粘度（β３）と、（β１）との比（β３／β１）である。
【請求項３】
無機質フィラー（ｃ）として、１次粒子の体積平均粒子径が１ｎｍ〜５０μｍであって、燃焼法により製造され得る非結晶シリカ微粒子（ｃ１）を（ｃ）の重量に基づいて１〜２０重量％含有してなる請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
親水性重合体（ｂ）が（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の重量に基づいて１〜５０重量％含有してなる請求項１〜３のいずれかに記載の組成物。
【請求項５】
親水性単量体（ａ）として、一般式（２）又は（３）で表されるアミドを（ａ）の重量に基づいて１〜９０重量％含有してなる請求項１〜４のいずれかに記載の組成物。
【化１】
2005104067.tif 000014
（２）式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基、Ｒ2及びＲ3は水素原子又は炭素原子数１〜１２の有機基を表し、Ｒ2とＲ3とは同じであっても異なっていてもよく、Ｒ2とＲ3は互いに結合し環を形成していてもよい。
【化２】
2005104067.tif 000015
（３）式中、Ｒ4は水素原子又はメチル基、Ｒ5及びＲ6は水素原子又は炭素原子数１〜１２の有機基を表し、Ｒ5とＲ6とは同じであっても異なっていてもよく、Ｒ5とＲ6は互いに結合し環を形成していてもよい。
【請求項６】
親水性重合体（ｂ）がポリビニルピロリドンである請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物に関する。さらに詳しくは、極性溶媒を含むインクの印刷に適した硬化被膜を与えることができ、保存安定性に優れた活性エネルギー硬化型組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
水溶性染料及び極性溶媒を含有するインクジェット用インクのハジキやカスレを改善し、インク受容性を向上させた活性エネルギー線硬化型親水性単量体組成物（特許文献１）が知られている。また、そのような組成物の保存安定性（粘度上昇、自然硬化、ゲル化等）を向上させるための方法として、ラジカル重合禁止剤等の保存安定化剤を１０〜１００００ｐｐｍ添加することが知られている（特許文献２）。
【特許文献１】特開平７−４０６４９号公報
【特許文献２】特開２００２−３２７０３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、１０〜２０００ｐｐｍの保存安定化剤を添加しても、４０℃以上の高温下では充分な保存安定性が得られず、粘度上昇又は自然硬化が生じるという問題がある。一方、２０００ｐｐｍを超える保存安定化剤を添加すると、保存安定性は改良されるが、活性エネルギー線硬化型組成物自体の硬化性が悪くなるという欠点がある。
すなわち、本発明の目的は、保存安定性及び硬化性に優れた活性エネルギー線硬化型組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は、上記問題を解決すべく鋭意検討した結果、特定の特性を持つ組成物が硬化性を悪化させることなく、保存安定性に優れることを見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明は、親水性単量体（ａ）、親水性重合体（ｂ）及び無機質フィラー（ｃ）を必須成分としてなるインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物（Ａ）であって、（Ａ）が式（１）を満たしてなることを特徴とするインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物である。
【数１】
2005104067.tif 000002
（１）式中、αは、膜厚２５μｍの（Ａ）からなる塗膜を鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ ５４００−１９９０、８．４ 鉛筆引っかき値、８．４．１試験機法に準拠）Ｂの硬さまで硬化させるのに必要な活性エネルギー線の積算エネルギー照射量（ｍJ／ｃｍ2）、βは、（Ａ）の製造２４時間後の粘度（β１）と、４０℃で６ヶ月間（Ａ）を密閉保存した後の粘度（β２）との比（β２／β１）を表し、粘度は、ＪＩＳ  Ｚ８８０３−１９９１  ９．円すい及び円すい−平板形回転粘度計による粘度測定方法に準拠し、半径７ｍｍ、角度５．２４×１０-2ｒａｄの円すいを用いて２５℃、１００ｒｐｍで測定される。
【発明の効果】
【０００５】
本発明のインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物は、極めて優れた保存安定性（粘度上昇、自然硬化、ゲル化等）及び硬化性をもつ。すなわち、本発明の組成物は、４０℃以上の高温度下においても熱による重合やゲル化が起こりにくく保存安定性に優れ、紫外線等の活性エネルギー線で容易に硬化してインク受容層が形成できる。さらに、インク定着後の温湿度変化に対する信頼性（インクのハガレ、にじみ等）と基材への密着性にも優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
親水性単量体（ａ）としては、（Ｎ置換）カルバモイル基含有モノマー（ａ１）、カルボニルオキシ基及び／又はオキシカルボニル基を含有するモノマー（ａ２）、スルホ基含有モノマー（ａ３）、カルボキシル基含有モノマー（ａ４）、ホスホ基含有モノマー（ａ５）、及びその他親水性モノマー（ａ６）等が含まれる。なお、（Ｎ置換）カルバモイル基は、カルバモイル基又はＮ置換カルバモイル基を意味する。
【０００７】
（Ｎ置換）カルバモイル基含有モノマー（ａ１）としては、一般式（２）又は（３）で表されるアミド等が含まれる。
【化１】
2005104067.tif 000003
（２）式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基、Ｒ2及びＲ3は水素原子又は炭素原子数１〜１２の有機基を表し、Ｒ2とＲ3とは同じであっても異なっていてもよく、Ｒ2とＲ3は互いに結合し環を形成していてもよい。
【０００８】
【化２】
2005104067.tif 000004
（３）式中、Ｒ4は水素原子又はメチル基、Ｒ5及びＲ6は水素原子又は炭素原子数１〜１２の有機基を表し、Ｒ5とＲ6とは同じであっても異なっていてもよく、Ｒ5とＲ6は互いに結合し環を形成していてもよい。
【０００９】
炭素原子数１〜１２の有機基としては、一般式（４）で表される（Ｎ置換）アミノアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルキル基、アルコキシアルキル基、環状飽和炭化水素素基及びヘテロ原子含有環状飽和炭化水素基等が含まれる。
【化３】
2005104067.tif 000005
（４）式中、ｎは１〜４の整数を表す。Ｒ7及びＲ8は水素原子又は炭素原子数１〜１１のアルキル基を表し、Ｒ7とＲ8とは同じであっても異なっていてもよい。
【００１０】
一般式（４）で表される（Ｎ置換）アミノアルキル基としては、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノプロピル、ジメチルアミノプロピル及びＮ−デシルアミノエチル等が挙げられる。なお、（Ｎ置換）アミノアルキルは、アミノアルキル、又はＮ置換アミノアルキルを意味する。
ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、２−ヒドロキシブチル及び１２−ヒドロキシドデシル等が挙げられる。
アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、２−エチルヘキシル及びドデシル等が挙げられる。
アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、イソプロポキシメチル、プロポキシプロピル、ブトキシメチル、ブトキシプロピル、２−エチルヘキシルオキシメチル、２−ジメトキシエチル、メトキシイソプロピル、メトキシイソブチル及びドデシルオキシ等が挙げられる。
環状飽和炭化水素基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル、４−シクロヘキシルヘキシル及び３，５−ジプロピルヘキシル等が挙げられる。
ヘテロ原子含有環状飽和炭化水素基としては、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、１，３−ジオキソラニル、１，４−ジオキサニル、ピペラジノ、ピペリジノ及びピロリジノ等が挙げられる。
【００１１】
一般式（２）において、Ｒ2とＲ3とが互いに結合し、形成される環としては、含窒素飽和ヘテロ環並びに、酸素及び窒素を含む飽和へテロ環等が含まれる。
Ｒ2とＲ3とが互いに結合した基としては、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、１−アザブチレン、２−アザブチレン、３−アザペンチレン、２−オキサブチレン、３−オキサペンチレン及び２，４−ジメチル−３−オキサペンチレン等が挙げられる。
一般式（３）において、Ｒ5とＲ6とが互いに結合した基としては、プロピレン、ブチレン、２−オキサブチレン及び１−メチルプロピレン等が挙げられる。
【００１２】
一般式（２）で表されるアミドのうち、Ｒ2及びＲ3が水素原子であるアミドとしては、（メタ）アクリルアミドが挙げられる。なお、（メタ）アクリ・・・は、アクリ・・・及び／又はメタクリ・・・を意味する。
【００１３】
また、Ｒ2及び／又はＲ3が（Ｎ置換）アミノアルキル基であるアミドとしては、Ｎ−｛Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノプロピル｝（メタ）アクリルアミド、Ｎ−｛Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル｝（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ビス｛Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル｝（メタ）アクリルアミド及びＮ−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【００１４】
また、Ｒ2及び／又はＲ3がヒドロキシアルキル基であるアミドとしては、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【００１５】
また、Ｒ2及び／又はＲ3がアルキル基であるアミドとしては、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド及びＮ−メチル−Ｎ−ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【００１６】
また、Ｒ2及び／又はＲ3がアルコキシアルキル基であるアミドとしては、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロポキシプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２，２−ジメトキシエチル）−Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−１−メチル−2−メトキシエチル（メタ）アクリルアミド及びＮ−１−メトキシメチルプロピル（メタ）アクリルアミ等が挙げられる。
【００１７】
また、Ｒ2又はＲ3が環状飽和炭化水素素基であるアミドとしては、Ｎ−シクロプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロペンチル（メタ）アクリルアミド及びＮ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【００１８】
また、Ｒ2又はＲ3がヘテロ原子含有環状飽和炭化水素基であるアミドとしては、Ｎ−（１，３−ジオキソラン−２−イル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（１，４−ジオキサン−２−イル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（テトラヒドロフラン−２−イル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（オキソラン−２−イル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ピペラジン−２−イル）（メタ）アクリルアミド及びＮ−（ピペリジン−３−イル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【００１９】
また、Ｒ2とＲ3とが互いに結合し環を形成しているアミドとしては、Ｎ−（メタ）アクリロイルピペリジン、Ｎ−（メタ）アクリロイルピロリジン、Ｎ−（メタ）アクリロイルピペラジン、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ−（メタ）アクリロイル−２，６−ジメチルモルホリン及びＮ−（メタ）アクリロイルイミダゾリジン等が挙げられる。
【００２０】
一般式（３）で表されるアミドのうち、Ｒ5及びＲ6が水素原子であるアミドとしては、Ｎ−ビニルホルムアミド及びＮ−イソプロペニルホルムアミドが挙げられる。
【００２１】
また、Ｒ5又はＲ6が（Ｎ置換）アミノアルキル基であるアミドとしては、Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（３−ジエチルアミノプロピル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル）−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（３−ジエチルアミノプロピル）−ホルムアミド、３−ジメチルアミノ−Ｎ−ビニル−プロパン酸アミド、４−ジメチルアミノ−Ｎ−ビニル−ブタン酸アミド、４−ジエチルアミノ−Ｎ−ビニル−ブタン酸アミド、３−ジメチルアミノ−Ｎ−イソプロペニル−プロパン酸アミド、４−ジメチルアミノ−Ｎ−イソプロペニル−ブタン酸アミド及び４−ジエチルアミノ−Ｎ−イソプロペニル−ブタン酸アミド等が挙げられる。
【００２２】
また、Ｒ5及び／又はＲ6がヒドロキシアルキル基であるアミドとしては、Ｎ−（ヒドロキシメチル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシブチル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、３−ヒドロキシ−Ｎ−ビニル−プロパン酸アミド、４−ヒドロキシ−Ｎ−ビニル−ブタン酸アミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（ヒドロキシメチル）−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（３−ヒドロキシプロピル）−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎブチルアミド−（４−ヒドロキシブチル）−ホルムアミド、３−ヒドロキシ−Ｎ−イソプロペニルプロパン酸アミド及び４−ヒドロキシ−Ｎ−イソプロペニルブタン酸アミド等が挙げられる。
【００２３】
また、Ｒ5及び／又はＲ6がアルキル基であるアミドとしては、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−プロピル−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ブチル−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルプロパン酸アミド、Ｎ−ビニルブタン酸アミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−メチル−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−エチル−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−プロピル−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−ブチル−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニルアセトアミド、Ｎ−イソプロペニルプロパン酸アミド及びＮ−イソプロペニルブタン酸アミド等が挙げられる。
【００２４】
また、Ｒ5又はＲ6が環状飽和炭化水素素基であるアミドとしては、Ｎ−ビニルシクロブタンカルボン酸アミド、Ｎ−ビニルシクロヘキサンカルボン酸アミド、Ｎ−シクロプロピル−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−シクロブチル−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−イソプロペニルシクロブタンカルボン酸アミド、Ｎ−イソプロペニルシクロヘキサンカルボン酸アミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−シクロプロピル−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−シクロブチル−ホルムアミド及びＮ−イソプロペニル−Ｎ−シクロヘキシル−ホルムアミド等が挙げられる。
【００２５】
また、Ｒ5又はＲ6がヘテロ原子含有環状飽和炭化水素基であるアミドとしては、Ｎ−（１，３−ジオキソラン−２−イル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（テトラヒドロフラン−２−イル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（オキソラン−２−イル））−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（ピペラジン−２−イル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−（ピペリジン−３−イル）−Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニル−１，３−ジオキソラン−２−カルボン酸アミド、Ｎ−ビニルテトラヒドロフラン−２−カルボン酸アミド、Ｎ−ビニルオキソラン−２−カルボン酸アミド、Ｎ−ビニルピペラジン−２−カルボン酸アミド、Ｎ−ビニルピペリジン−３−カルボン酸アミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（１，３−ジオキソラン−２−イル）−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（テトラヒドロフラン−２−イル）−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（オキソラン−２−イル））−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（ピペラジン−２−イル）−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−Ｎ−（ピペリジン−３−イル）−ホルムアミド、Ｎ−イソプロペニル−１，３−ジオキソラン−２−カルボン酸アミド、Ｎ−イソプロペニルテトラヒドロフラン−２−カルボン酸アミド、Ｎ−イソプロペニルオキソラン−２−カルボン酸アミド、Ｎ−イソプロペニルピペラジン−２−カルボン酸アミド及びＮ−イソプロペニルピペリジン−３−カルボン酸アミド等が挙げられる。
【００２６】
また、Ｒ5とＲ6とが互いに結合し、形成される環としては、Ｎ置換環状アミドが含まれる。
Ｒ5とＲ6とが互いに結合し、環を形成しているアミドとしては、Ｎ−ビニルピロリドン、１−ビニル−ピペリジン−２−オン、４−ビニル−モルホリン−３−オン、１−イソプロペニル−ピペリジン−２−オン、Ｎ−イソプロペニルピロリドン及び４−イソプロペニル−モルホリン−３−オン等が挙げられる。
【００２７】
以上のアミドの他に（Ｎ置換）カルバモイル基含有モノマー（ａ１）として、２−（メタ）アクリロイルアミノ｝−２−メチルプロパンスルホン酸、（３−（メタ）アクリロイルアミノ−プロピル）トリメチルアンモニウム・クロライド、Ｎ−（トリメチルアンモニオエチル）（メタ）アクリルアミド・クロライド等も使用できる。
【００２８】
これらの（Ｎ置換）カルバモイル基含有モノマー（ａ１）のうち、保存安定性の観点から、一般式（２）で表されるアミドが好ましく、さらに好ましくは一般式（２）において、Ｒ2及び／又はＲ3がアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアルキル基、又は（Ｎ置換）アミノアルキル基であるアミド、特に好ましくはＮ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド及びＮ−｛Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル｝（メタ）アクリルアミドである。
【００２９】
カルボニルオキシ基及び／又はオキシカルボニル基を含有するモノマー（ａ２）としては、一般式（５）、（６）又は（７）で表されるエステル等が含まれる。
【化４】
2005104067.tif 000006
（５）式中、Ｒ9は水素原子又はメチル基、Ｒ10は水素原子又は炭素原子数１〜１２の有機基又は一般式（８）で表されるポリ（オキシアルキレン）基を表す。
【００３０】
【化５】
2005104067.tif 000007
（６）式中、Ｒ11は水素原子又はメチル基、Ｒ12は水素原子又は炭素原子数１〜１２の有機基、又は一般式（８）で表されるポリ（オキシアルキレン）基を表す。
【００３１】
【化６】
2005104067.tif 000008
（７）式中、Ｒ13及びＲ14は水素原子又はメチル基、Ｘは炭素原子数１〜４０のｍ価の有機基、ｍは１〜６の整数を表す。
【００３２】
【化７】
2005104067.tif 000009
（８）式中、Ｒ15は水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基又は炭素原子数６〜９の（置換）フェニル基を表し、Ｙは炭素原子数１〜４のアルケニル基、ｑは２〜２０の整数を表す。なお、（置換）フェニル基とは、フェニル基及び／又は置換フェニル基を意味する。
【００３３】
一般式（５）及び（６）において、炭素原子数１〜１２の有機基としては、一般式（４）で説明した炭素原子数１〜１２の有機基と同じものを挙げることが出来る。
また、一般式（８）で表されるポリ（オキシアルキレン）基としては、メチルポリ（重合度１〜４）（オキシエチレン）オキシエチル基、フェニルポリ（重合度１〜１３）（オキシエチレン）オキシエチレン基、ヒドロキシエチレン（ポリ（重合度１〜１８）オキシエチレン）オキシエチレン基、ヒドロキシプロピレン（ポリ（重合度０〜１１）オキシプロピレン）オキシプロピレン基等が挙げられる。
【００３４】
また、炭素原子数２〜４０のヒドロキシアルキレンポリ（オキシアルキレン）オキシアルキル基としては、ヒドロキシエチレンポリ（重合度１〜１４）（オキシエチレン）オキシエチル基、ヒドロキシプロピレンポリ（重合度１〜１０）（オキシプロピレン）オキシプロピル基、ヒドロキシブチレンポリ（重合度１〜８）（オキシブチレン）オキシブチル基及びヒドロキシエチレンテトラ（オキシプロピレン）オキシエチル基等が挙げられる。
【００３５】
一般式（７）において、炭素原子数１〜４０のｍ価の有機基（Ｘ）としては、アルキレン基、ヒドロキシアルキレン基及びポリ（アルキレンオキシ）アルキレン基等が含まれる。
【００３６】
アルキレン基としては、炭素数２〜６のアルキレン等が含まれ、エチレン、プロピレン、１，２−ジメチルエチレン、１，２，３−プロパントリイル、２，２−ジメチルプロピレン、２−メチレン−プロパン−１，３−ジイル及び２，２−ジメチレン−プロパン−１，３−ジイル等が挙げられる。
【００３７】
ヒドロキシアルキレン基としては、炭素数２〜６のヒドロキシアルキレン等が含まれ、２−ヒドロキシプロピレン、ヒドロキシメチルエチレン、２−ヒドロキシメチル−２−メチレン−プロピル−１，３−ジイル及び２−ヒドロキシメチルプロピレン等が挙げられる。
【００３８】
ポリ（アルキレンオキシ）アルキレン基としては、ポリ（重合度１〜１４）（エチレンオキシ）エチレン、ポリ（重合度１〜１２）（プロピレンオキシ）プロピレン、及びエチレンオキシ（ポリ（重合度１〜９）（プロピレンオキシ））エチレン等が挙げられる。
【００３９】
一般式（５）で表されるエステルのうち、Ｒ10が（Ｎ置換）アミノアルキル基であるエステルとしては、｛Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル｝（メタ）アクリレート、Ｎ−メチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−プロピルアミノエチル（メタ）アクリレート及び｛Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル｝（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４０】
また、Ｒ10がヒドロキシアルキル基であるエステルとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、１-ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２-ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−ブトキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、及びペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４１】
また、Ｒ10がアルキル基であるエステルとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、及びｎ−プロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４２】
また、Ｒ10がアルコキシアルキル基であるエステルとしては、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート及び３−メトキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４３】
また、Ｒ10が環状飽和炭化水素基であるエステルとしては、シクロプロピル（メタ)アクリレート、シクロブチル（メタ）アクリレート、クロペンチル（メタ）アクリレート及びシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４４】
また、Ｒ10がヘテロ原子含有環状飽和炭化水素基であるエステルとしては、（テトラヒドロフラン−２−イル）（メタ）アクリレート、（テトラヒドロピラン−４−イル）（メタ)アクリレート、（１，３−ジオキソラン−２−イル）（メタ）アクリレート、（１，４−ジオキサン−２−イル）（メタ）アクリレート、（ピペラジン−２−イル）（メタ）アクリレート、（テトラヒドロフラン−２−イルメチル）（メタ）アクリレート、及び（テトラヒドロピラン−４−イルメチル）（メタ)アクリレート等が挙げられる。
【００４５】
また、Ｒ10が、一般式（８）で表されるポリ（オキシアルキレン）基であるエステルとしては、メトキシエチレン（オキシエチレン）（メタ）アクリレート、メトキシエチレントリ（オキシエチレン）（メタ）アクリレート、メトキシエチレンポリ（重合度４〜５）オキシエチレン（メタ）アクリレート、エトキシエチレン（オキシエチレン）（メタ）アクリレート、フェノキシエチレンジ（オキシエチレン）（メタ）アクリレート、フェノキシエチレントリ（オキシエチレン）（メタ）アクリレート、フェノキシエチレンポリ（重合度４〜１４）オキシエチレン（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（重合度４〜２０）エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（重合度４〜１３）プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、及びポリ（重合度１〜２）プロピレングリコールエチレンオキサイド２〜４モル付加物の（メタ）アクリル酸エステル等が挙げられる。
【００４６】
一般式（６）で表されるエステルのうち、Ｒ12が（Ｎ置換）アミノアルキル基であるエステルとしては、３−ジメチルアミノプロピオン酸ビニルエステル、３−ジメチルアミノプロピオン酸イソプロペニルエステル及び４−ジメチルアミノブタン酸ビニルエステル等が挙げられる。
【００４７】
また、Ｒ12がヒドロキシアルキル基であるエステルとしては、ヒドロキシ酢酸ビニルエステル、３−ヒドロキシプロピオン酸ビニルエステル、２-ヒドロキシプロピオン酸ビニルエステル、４−ヒドロキシブタン酸ビニルエステル、５−ヒドロキシペンタン酸ビニルエステル、ヒドロキシ酢酸イソプロペニルエステル、３−ヒドロキシプロピオン酸イソプロペニルエステル、２-ヒドロキシプロピオン酸イソプロペニルエステル、４−ヒドロキシブタン酸イソプロペニルエステル及び５−ヒドロキシペンタン酸イソプロペニルエステル等が挙げられる。
【００４８】
また、Ｒ12がアルキル基であるエステルとしては、酢酸ビニルエステル、プロピオン酸ビニルエステル、酢酸イソプロペニルエステル、及びプロピオン酸イソプロペニルエステル等が挙げられる。
【００４９】
また、Ｒ12がアルコキシアルキル基であるエステルとしては、メトキシ酢酸ビニルエステル、エトキシ酢酸ビニルエステル、３−メトキシプロピオン酸ビニルエステル、メトキシ酢酸イソプロペニルエステル、エトキシ酢酸イソプロペニルエステル、及び３−メトキシプロピオン酸イソプロペニルエステル等が挙げられる。
【００５０】
また、Ｒ12が環状飽和炭化水素基であるエステルとしては、シクロプロパン酸ビニルエステル、シクロペンタン酸ビニルエステル、シクロヘキシル酢酸ビニルエステル、シクロプロパン酸イソプロペニルエステル、シクロペンタン酸イソプロペニルエステル、シクロヘキシル酢酸イソプロペニルエステル等が挙げられる。
【００５１】
また、Ｒ12がヘテロ原子含有環状飽和炭化水素基であるエステルとしては、（テトラヒドロフラン−２−カルボン酸）ビニルエステル、（テトラヒドロピラン−４−カルボン酸）ビニルエステル、及び（テトラヒドロピラン−４−酢酸）イソプロペニルエステル等が挙げられる。
【００５２】
また、Ｒ12が一般式（８）で表されるポリ（オキシアルキレン）基であるエステルとしては、ヒドロキシエチレン（ポリ（重合度１〜１８）エチレン）オキシプロピオン酸ビニルエステル、ヒドロキシプロピレン（ポリ（重合度１〜１１）プロピレン）オキシプロピオン酸ビニルエステル、ヒドロキシエチレン（ポリ（重合度１〜１８）エチレン）オキシプロピオン酸イソプロペニルエステル、及びヒドロキシプロピレン（ポリ（重合度１〜１１）プロピレン）オキシプロピオン酸イソプロペニルエステル等が挙げられる。
【００５３】
一般式（７）で表されるエステルのうち、Ｘがアルキレン基であるエステルとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物（付加モル数３〜９）のトリ（メタ）アクリレート、及びジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５４】
また、Ｘがヒドロキシアルキレン基であるエステルとしては、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、及び等が挙げられる。
【００５５】
また、Ｘがポリ（アルキレンオキシ）アルキレン基であるエステルとしては、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリ（重合度４〜１４）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、及びポリ（重合度２〜１３）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５６】
上記のエステルの他に、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、キシルロースジ（メタ）アクリレート、アルトローストリ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸モノエステル、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルフタル酸モノエステル、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸モノエステル、Ｎ，Ｎ−（ビスメトキシメチル）カルバミルオキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−メトキシメチルカルバミルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルリン酸エステル、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチルスルホン酸、及び（メタ）アクリロイルオキシエチルスルホン酸アンモニウム等が使用できる。
【００５７】
これらのカルボニルオキシ基及び／又はオキシカルボニル基を含有するモノマー（ａ２）のうち、保存安定性の観点から、一般式（５）で表されるエステルが好ましく、さらに好ましくは一般式（５）において、Ｒ10がヒドロキシアルキル基、（Ｎ置換）アミノアルキル基、又はヒドロキシアルキレンポリ（オキシアルキレン）オキシアルキル基であるエステル、特に好ましくは２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、１-ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２-ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、及び４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートである。なお、（メタ）アクリレートは、アクリレート及び／又はメタクリレートを意味する。
【００５８】
スルホ基含有モノマー（ａ３）としては、２−アリルオキシ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、スルホフェニルマレイミド、スルホフェニルイタコンイミド、並びにこれらのアルカリ金属（リチウム、ナトリウム及びカリウム等）塩及びアンモニウム塩等が挙げられる。
【００５９】
カルボキシル基含有モノマー（ａ４）としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、並びにそれらのアルカリ金属（リチウム、ナトリウム及びカリウム等）塩及びアンモニウム塩が挙げられる。
【００６０】
ホスホ基含有モノマー（ａ５）としては、イソプロペニルホスホン酸、アリルホスホン酸、ビニルホスホン酸、並びにそれらのアルカリ金属（リチウム、ナトリウム及びカリウム）塩及びアンモニウム塩等が挙げられる。
【００６１】
また、その他親水性モノマー（ａ６）としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ビニルイソプロピルエーテル、１−ビニルイミダゾール、２−ビニルピリジン、及び４−ビニルピリジン等が挙げられる。
【００６２】
これらの親水性単量体（ａ）のうち、（Ｎ置換）カルバモイル基含有モノマー（ａ１）及びカルボニルオキシ基及び／又はオキシカルボニル基含有モノマー（ａ２）が好ましく、さらに好ましくは（ａ１）、特に好ましくは一般式（２）又は（３）で表される（Ｎ置換）アミド、最も好ましくはＮ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−｛Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル｝（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルホリン、及びビニルホルムアミドである。
【００６３】
親水性単量体（ａ）の脱イオン水１００ｇに対する溶解度（ｇ／１００ｇ、２５℃）は、０．１以上が好ましく、さらに好ましくは１以上、特に好ましくは５以上、最も好ましくは１０以上である。この範囲であると、インク受容性がさらに良好となり、また保存安定性がさらに良好となる。
【００６４】
これらの親水性単量体（ａ）は、１種又は２種以上の混合物でもよい。
２種以上の混合物の場合、一般式（２）又は（３）で表されるアミドを含むことが好ましく、さらに好ましくはこのアミドを（ａ）の重量に基づいて１〜９５重量％含有すること、特に好ましくは１０〜９０重量％含有すること、最も好ましくは５０〜８５重量％含有することである。一般式（２）又は（３）で表されるアミドを含むと、保存安定性がさらに良好となる。
また、（ａ）の粘度（ｍＰａ・ｓ）は１００〜２０００にすることが好ましく、さらに好ましくは２００〜１０００、特に好ましくは３００〜８００である。この範囲であると、保存安定性がさらに良好となる。なお、粘度は、ＪＩＳ  Ｚ８８０３−１９９１  ９．円すい及び円すい−平板形回転粘度計による粘度測定方法に準拠して半径７ｍｍ、角度５．２４×１０-2ｒａｄの円すいを用いて２５℃、５０ｒｐｍで測定される粘度である。
【００６５】
親水性単量体（ａ）の含有量（重量％）は、（ａ）、親水性重合体（ｂ）及び無機質フィラー（ｃ）の重量の基づき、２０〜９０が好ましく、さらに好ましくは３０〜８５、特に好ましくは４０〜８０である。この範囲であると、保存安定性及び硬化性がさらに良好となる。
【００６６】
親水性重合体（ｂ）としては、以下のものが含まれる。
（ｂ１）ビニル（共）重合体
（ｉ）ポリビニルアミド
ポリ（Ｎ−ビニルビロリドン）、Ｎ−ビニルピロリドン／ビニルアセテート共重合体（共重合比率１：１０〜１０：１）、Ｎ−ビニルピロリドン／Ｎ−ビニルイミダゾール共重合体（共重合比率１：１０〜１０：１）、Ｎ−ビニルピロリドン／Ｎ−ビニルカプロラクタム共重合体（共重合比率１：１０〜１０：１）及びポリ（Ｎ−ビニルホルムアミド）等。
【００６７】
（ｉｉ）ポリ（メタ）アクリルアミド
ポリ（メタ）アクリルアミド、ポリ｛Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド｝、ポリ｛Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド｝、ポリ（ジメチル（メタ）アクリルアミド）、ポリ（ジエチル（メタ）アクリルアミド）、ポリ（Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド）、ポリ（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド）、ポリ（Ｎ−（メタ）アクリロイルピペリジン）、ポリ（Ｎ−（メタ）アクリロイルピロリジン）、及びポリ（Ｎ−（メタ）アクリロイルモルホリン）等。
【００６８】
（ｉｉｉ）ポリビニルアルコール
ポリビニルアルコール（ケン化度６０〜１００モル％）、ビニルアルコール−ビニルアセテート共重合体（共重合比率１：１００〜５０：５０）、アニオン変性ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、シリル変性ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体（共重合比１：１００〜５０：５０）、エチレン−プロピレン−ビニルアルコール共重合体（共重合比１：１：１００〜２５：２５：５０）等。
【００６９】
アニオン変性ポリビニルアルコールとしては、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、スルホ基変性ポリビニルアルコール、ホスホ基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。カルボキシル基変性ポリビニルアルコールとしては、ビニルアルコール−（メタ）アクリル酸共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、ビニルアルコール−フタル酸共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、及びビニルアルコール−イタコン酸共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）等が挙げられる。
スルホ基変性ポリビニルアルコールとしては、ビニルアルコール−ビニルスルホン酸共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、ビニルアルコール−スチレンスルホン酸共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、ビニルアルコール−アリルスルホン酸共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、ビニルアルコール−メタアリルスルホン酸共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、及びビニルアルコール−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸酸共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）等が挙げられる。
ホスホ基変性ポリビニルアルコールとしては、ビニルアルコール−ビニルホスホン酸共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、及びビニルアルコール−２−（メタ）アクリロイルオキシエチルリン酸エステル共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）等が挙げられる。
【００７０】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、ビニルアルコール−ビニルアミン共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、ビニルアルコール−Ｎ−（トリメチルアンモニオエチル）（メタ）アクリルアミド・クロライド共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、及びビニルアルコール−トリメチル−３−（１−アクリルアミド−１，１−ジメチル−プロピル）アンモニウムクロリド共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）等が挙げられる。
シリル変性ポリビニルアルコールとしては、ビニルアルコール−トリエトキシビニルシラン共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、ビニルアルコール−トリブトキシビニルシラン共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、ビニルアルコール−トリメトキシビニルシラン共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、ビニルアルコール−メチルジメトキシビニルシラン共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）、及びビニルアルコール−ジメチルメトキシビニルシラン共重合体（共重合比２５：７５〜９９：１モル％）等が挙げられる。
【００７１】
（ｉｖ）ポリビニルエーテル
ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリ（エチレングリコールビニルエーテル）、メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体（共重合比１：１０〜１０：１）等。
【００７２】
（ｖ）ポリビニルアミン
ポリ（２−ビニルピリジン）、ポリ（４−ビニルピリジン）、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルアミン、ポリビニルアミン塩酸塩、及びポリビニルアミン−ポリビニルアミン塩酸塩共重合体（共重合比１：１０〜１０：１）等。
【００７３】
（ｖｉ）ポリカルボン酸
ポリ（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸ナトリウム共重合体、ポリフタル酸、スチレン−マレイン酸共重合体（共重合比率５０：５０）、及びポリイタコン酸等。
【００７４】
（ｂ２）多糖類
ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、酢酸セルロース、酢酸セルロースヒドロキシジエンフタレート、ケルザン及び澱粉等。
【００７５】
（ｂ３）ポリアルキレン（炭素数２〜３）グリコール
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びエチレンオキシド−プロピレンオキシドブロック共重合体等。
【００７６】
（ｂ４）ポリ（メタ）アクリレート
（４−１）アンモニオ基含有ポリ（メタ）アクリレート
ポリ［（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロリド］、ポリ  ｛（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライド｝等。
【００７７】
（４−２）ポリオキシアルキレン基含有ポリ（メタ）アクリレート
ポリ｛メチルテトラ（オキシエチレン）（メタ）アクリレート｝、ポリ｛メチルノナ（オキシエチレン）（メタ）アクリレート｝、ポリ｛メチルトリエイコサ（オキシエチレン）（メタ）アクリレート、ノニルフェニルポリ（重合度２〜１０）オキシエチレン（メタ）アクリレート、ノニルフェニルポリ（重合度２〜１０）オキシプロピレン（メタ）アクリレート等。
【００７８】
（４−３）ホスホニオ基含有ポリ（メタ）アクリレート
ポリ（トリ−ブチル｛２−（メタ）アクリロイルオキシエチル｝ホスホニウムクロライド）等。
【００７９】
（４−４）カルボキシ基含有ポリ（メタ）アクリレート
ポリ｛２−（メタ）アクリロイルオキシエチルフタル酸モノエステル｝、ポリ｛２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルフタル酸モノエステル｝、ポリ｛２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸モノエステル｝等。
【００８０】
（４−５）水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート
ポリ｛ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート｝、ポリ｛ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート｝等。
【００８１】
（４−６）ホスホ基含有ポリ（メタ）アクリレート
ポリ｛２−（メタ）アクリロイルオキシエチル｝リン酸エステル、ポリ｛１０−（メタ）アクリロイルオキシデシル｝リン酸エステル、ポリ｛β−（メタ）アクリロイルオキシエチルフェニル｝リン酸エステル等。
【００８２】
（ｂ５）その他親水性重合体
ポリエチレンイミン及びその塩酸塩、絹、カゼイン、ゼラチン等。
【００８３】
これらの親水性重合体（ｂ）のうち、（ｂ１）ビニル（共）重合体及び（ｂ５）（メタ）アクリル樹脂が好ましく、さらに好ましくは（ｂ１）ビニル（共）重合体、特に好ましくは（ｉ）ポリビニルアミド、最も好ましくはポリ（Ｎ−ビニルビロリドン）及びＮ−ビニルピロリドン／ビニルアセテート共重合体である。
【００８４】
親水性重合体（ｂ）の脱イオン水１００ｇに対する溶解度（ｇ／１００ｇ、２５℃）は、０．１以上が好ましく、さらに好ましくは１以上、特に好ましくは５以上、最も好ましくは１０以上である。この範囲であると、インク受容性がさらに良好となり、また保存安定性がさらに良好となる。
【００８５】
親水性重合体（ｂ）の重量平均分子量は、５００〜５００，０００が好ましく、さらに好ましくは７００〜３００，０００、特に好ましくは８００〜５０，０００である。この範囲であると、保存安定性及び硬化性がさらに良好となる。
なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより、分子量既知のポリエチレングリコールを標準物質として測定される。
また、（ｂ）の２５℃における１０重量％水溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）が１０〜１０００であることが好ましく、さらに好ましくは５０〜７００、特に好ましくは１００〜５００である。この範囲であると、保存安定性がさらに良好となる。
【００８６】
親水性重合体（ｂ）は１種類のみを使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
親水性重合体（ｂ）の親水性単量体（ａ）１００ｇに対する溶解度（ｇ／１００ｇ、２５℃）の下限は、５が好ましく、さらに好ましくは７、特に好ましくは１０、最も好ましくは１５である。この範囲であると、インク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物（Ａ）からなる塗膜がさらに均質となりやすい。
【００８７】
すなわち、親水性重合体（ｂ）は親水性単量体（ａ）に２５℃で均一溶解していることが好ましく、このような（ａ）と（ｂ）の組み合わせとしては、次の組み合わせが好ましく例示できる。
【表１】
2005104067.tif 000010
【００８８】
親水性重合体（ｂ）の含有量（重量％）は、親水性単量体（ａ）、（ｂ）及び無機質フィラー（ｃ）の重量の基づき、１〜５０が好ましく、さらに好ましくは２〜４０、特に好ましくは５〜３０である。この範囲であると、保存安定性及び硬化性がさらに良好となる。
【００８９】
無機質フィラー（ｃ）としては、無機微粒子であれば特に制限無く使用できる。
無機質フィラー（ｃ）の体積平均粒子径は、０．１ｎｍ〜１００μｍが好ましく、さらに好ましくは１ｎｍ〜５０μｍ、特に好ましくは１ｎｍ〜２０μｍ、最も好ましくは５ｎｍ〜５μｍである。この範囲であると、保存安定性及び硬化性がさらに良好となる。
【００９０】
なお、体積平均粒子径は、測定試料を適当な分散媒（例えば、水、メタノール及びこれらの混合物）に分散させ、動的光散乱式粒度分布計（例えば、堀場製作所製ＬＢ−５００）、レーザー回折/散乱式粒度分布計（例えば、堀場製作所製ＬＡ−９２０）又はコールコー法粒子数・粒度分布測定装置（ベックマン・コールター製マルチサイザー３）等により測定される。
【００９１】
無機質フィラー（ｃ）としては、シリカ｛結晶シリカ及び非結晶シリカ［湿式法により製造され得る非結晶シリカ（含水珪酸又は微粉含水珪酸）、エアロゲル法により製造され得る非結晶シリカ、加熱法により製造され得る非結晶シリカ及び燃焼法により製造され得る非結晶シリカ等］｝、ケイ酸塩（微粉ケイ酸マグネシウム、タルク、ケイ酸カルシウム、アルミノケイ酸マグネシウム及びアルミノケイ酸ソーダ等）、炭酸塩｛沈降性（活性、乾式、重質又は軽質）炭酸カルシウム、寒水クレー、胡粉、及び炭酸マグネシウム等｝、クレー（カオリン質クレー、セリサイト質クレー、バイロフィライト質クレー、モンモリロナイト質クレー及びベントナイト、酸性白土等）、アルミナ（酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及びアルミナホワイト等）、硫酸アルミニウム（硫酸バンド、硫酸アルミナ及びサチンホワイト等）、硫酸バリウム（バライト粉、沈降性硫酸バリウム及びリトポン等）、石膏（無水セッコウ及び半水セッコウ等）、鉛白、雲母粉、亜鉛華、酸化チタン、ゼオライト、セメント、二硫化モリブデン、ガラスファイバー、及びロックファイバー等が挙げられる。
これらの無機質フィラー（ｃ）のうち、シリカ、アルミナ、炭酸塩及びクレーが好ましく、さらに好ましくはシリカ、特に好ましくは非結晶シリカ、最も好ましくは燃焼法により製造される非結晶シリカ（ｃ１）である。
【００９２】
無機質フィラー（ｃ）は、公知の方法で製造され得るものが使用できる。すなわち、燃焼法による非結晶シリカ（ｃ１）としては、気化させた四塩化珪素と水素とを混合したものを、１，６００〜２，０００℃にて、空気中で燃焼させて製造されるもの、例えば、市場から入手できる商品シリーズ名として、アエロジル（日本アエロジル社製（デグサ社製））、レオロシール（トクヤマ社製）、Ｃａｂ−Ｏ−Ｓｉｌ（Ｃａｂｏｔ社製）及びクォートロンＳＰ（扶桑化学社製）等が挙げられる。
また、結晶性シリカは、天然に産出する高純度石英を原料とし、粉砕することにより製造されるものが使用できる。
湿式法により製造され得る非結晶性シリカとしては、珪酸ナトリウムと鉱酸（硫酸等）と塩類（塩化カルシウム等）を反応させた後、濾過脱水し、乾燥粉砕することで製造されるもの、例えば、トクシール（トクヤマ製）、ファインシール（トクヤマ製）、ニップシール（日本シリカ工業製）、サイリシア（富士シリシア化学製）等が挙げられる。
エアロゲル法により製造され得る非結晶性シリカとしては、珪酸ナトリウムと塩類を反応させた後、オートクレーブ中で加熱、気化させ製造されるもの、例えば、Ｓａｎｔｏｃｅｌ（Ｍｏｎｓａｎｔｏ製）、サイロジェト（グレースデビソン製）が挙げられる。
加熱法により製造され得る非結晶性シリカとしては、珪砂とコークスと空気とを混合したものをアーク炉にて加熱して製造されるもの、例えば、Ｆｒａｎｓｉｌ（Ｆｒａｎｓｏｌ製）やＡｒｃ Ｓｉｌｉｃａ（ＰＰＧ Ｉｎｄ，製）が挙げられる。
【００９３】
ケイ酸塩のうち、微粉ケイ酸マグネシウムとしては、例えばケイ酸塩とマグネシウム塩を反応することで製造されるものが使用でき、例えば富田製薬製のものが挙げられる。また、タルクとしては、例えば日本タルク製のＭＩＣＲＯ  ＡＣＥシリーズ及びＳＧシリーズ、浅田製粉製のＪＡシリーズ及びＳＷシリーズ等が挙げられる。また、ケイ酸カルシウムとしては、水酸化カルシウムと酸化ケイ素と水との水熱合成で製造されるもの、例えば河合石灰工業製のＰＣＭライトシリーズ及びＣＳＨ、宇部マテリアルズ製のゾノハイジ等が使用できる。
【００９４】
炭酸塩のうち、炭酸カルシウムとしては、石灰石を焼成し、水と混合した後炭酸ガスと反応させ、濾過、乾燥させる方法や、石灰石を微粉砕する方法で得られるものが使用でき、例えば宇部マテリアルズ製のＣＳシリーズ、日東粉化工業製ＮＳシリーズ及びＮＩＴＯＲＥＸシリーズ、神島化学製ＥＣ及びＫＦＷ−２００及びカルシーズシリーズ、新見化学製ラスカル、東洋電化製トヨライト、奥多摩工業製ＴＰシリーズ、ファイマテック製ＦＭＴシリーズ、白石工業製ののも等が挙げられる。また、炭酸マグネシウムとしては、神島化学製のもの、協和化学製のもの等が使用できる。
【００９５】
クレーは、天然に産出する鉱物原料を微粉砕したり、硫酸処理等で純度を高めた後に微粉砕することで生産され得るものが使用でき、このようなクレーとしては、例えば白石工業製のもの、共立マテリアル製のもの、水澤化学工業製ミズカエース等が挙げられる。
【００９６】
アルミナのうち、酸化アルミニウムとしては、ボーキサイトから得られた水酸化アルミニウムを焼成することで得られるものが使用でき、例えばデグサ製の超微粒子酸化アルミニウム等が使用できる。また、水酸化アルミニウムとしては、例えば昭和電工製ハイジライト、住友化学製Ｃ−３００シリーズ等が使用できる。また、アルミナホワイトとしては、例えば、大明化学製のもの、山水色素製のもの等が使用できる。
硫酸バンド、硫酸アルミナ及びサチンホワイト等の硫酸アルミニウムとしては、水酸化アルミニウムを硫酸と反応させることで得られるものが使用でき、例えば住友化学製のもの、多木化学製のもの、南海化学製のもの、水澤化学製のもの等が使用できる。
【００９７】
バライト粉、沈降性硫酸バリウム及びリトポン等の硫酸バリウムとしては、重晶石を粉砕する方法や、重晶石から得た硫化バリウム溶液とボウ硝溶液を反応させる方法で得られるものが使用でき、例えば堺化学製Ｂシリーズ、日本化学工業製のもの等が使用できる。
【００９８】
酸化チタンとしては、石原産業製タイペーク、堺化学製Ｒシリーズ、富士チタン工業製ＴＡシリーズ及びＴＲシリーズ等が挙げられる。
【００９９】
ゼオライトとしては、水酸化アルミニウムとカ性ソーダとケイ酸ソーダを反応させる方法で得られるものを使用できる。
【０１００】
セメントとしては、例えば石灰石および粘土を焼成すること等で得られるポルトランドセメント、微粉状の石炭灰を混合したフライアッシュセメント等が使用できる。
二硫化モリブデンとしては、三酸化モリブデンと硫黄または硫化水素との反応で製造され得るものが使用できる。
【０１０１】
ガラスファイバーとしては、例えば溶融したガラス原料を飛散させることで得られるもが使用できる。
ロックファイバーとしては、例えば溶融した鉄鉱石等の鉱滓を飛散させることで得られるものが使用できる。
【０１０２】
無機質フィラー（ｃ）の形状としては、球状、立方体状、棒状、中空状、繊維状、燐片状、ウィスカー、無定形粒状及び無定型破砕状等のいずれであってもよいが、球状、無定形破砕状及び燐片状が好ましく、さらに好ましくは球状、無定形粒状及び無定形破砕状である。      
【０１０３】
これらの無機質フィラー（ｃ）は１種類のみを使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
２種以上の混合物の場合、燃焼法により製造され得る非結晶シリカ（ｃ１）を含むことが好ましく、さらに好ましくはこの（ｃ１）を無機質フィラー（ｃ）の全重量に基づいて１〜２０重量％含有すること、特に好ましくは３〜１５重量％含有すること、最も好ましくは５〜１０重量％含有することである。燃焼法により製造され得る非結晶シリカ（ｃ１）を含むと、保存安定性がさらに良好となる。
【０１０４】
無機質フィラー（ｃ）の含有量（重量％）は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の重量の基づき、１〜５０が好ましく、さらに好ましくは３〜４０、特に好ましくは５〜３０である。この範囲であると、保存安定性及び硬化性がさらに良好となる。
【０１０５】
インク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物（Ａ）には、光重合開始剤（ｄ）を配合することが出来る。
光重合開始剤（ｄ）としては、ラジカル開始剤（ｄ１）及びカチオン開始剤（ｄ２）等が含まれる。
ラジカル開始剤（ｄ１）としては、紫外線又は可視光線（波長２００〜８００ｎｍ程度）を受けることによりラジカルを発生する化合物であれば制限なく使用でき、ベンゾイル基含有ラジカル開始剤、モルフォニル基含有ラジカル開始剤、リン原子含有ラジカル開始剤及びイオウ原子含有ラジカル開始剤等が使用できる。
ベンゾイル基含有ラジカル開始剤としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン及びベンゾフェノン等が挙げられる。
モルフォニル基含有ラジカル開始剤としては、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン及び２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン等が挙げられる。
リン原子含有ラジカル開始剤としては、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルフォスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド及び２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
イオウ原子含有ラジカル開始剤としては、２，４−ジエチルチオキサントン及びイソプロピルチオキサントン等が挙げられる。
【０１０６】
カチオン開始剤（ｄ２）としては、紫外線又は可視光線（波長２００〜８００ｎｍ程度）を受けることによりカチオンを発生する化合物であれば制限なく使用でき、ヘキサフルオロリン酸塩及びヘキサフルオロアンチモン塩等が使用できる。
ヘキサフルオロリン酸塩としては、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロフォスフェート及び（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
ヘキサフルオロアンチモン酸塩としては、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−クロルフェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルフォニオ）フェニル］スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート及びジアリルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。
これらの光重合開始剤（ｄ）は単独で用いてもよいし、また２種類以上を併用してもよい。
これらの光重合開始剤（ｄ）のうち、ラジカル開始剤（ｄ１）が好ましく、さらに好ましくはベンゾイル基含有ラジカル開始剤、モルフォニル基含有ラジカル開始剤及びリン原子含有ラジカル開始剤、特に好ましくはモルフォニル基含有ラジカル開始剤及びリン原子含有ラジカル開始剤である。
【０１０７】
光重合開始剤（ｄ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の重量に基づいて、１〜３０が好ましく、さらに好ましくは２〜２０、特に好ましくは３〜１５である。この範囲であると、活性エネルギー線として波長２００〜８００ｎｍの光を使用する場合、保存安定性及び硬化性がさらに良好となる。
【０１０８】
インク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物（Ａ）には、光重合開始剤（ｄ）と共に光増感剤（ｅ）を併用してもよい。
光増感剤（ｅ）としては、公知の光増感剤等が使用でき、アルキルアミノ光増感剤（ｅ１）及びジアルキルアミノフェニル光増感剤（ｅ２）等が含まれる。
アルキルアミノ光増感剤（ｅ１）としては、モノアルキルアミン（ｎ−ブチルアミン及び２−エチルヘキシルアミン等）、ジアルキルアミン（ジｎ−ブチルアミン、ジエタノールアミン及びメチルデシルアミン等）、トリアルキルアミン（トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン及び２−ジメチルアミノエチル安息香酸等）が挙げられる。
ジアルキルアミノフェニル光増感剤（ｅ２）としては、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジメチルアミノ安息香酸２−（ｎ−ブトキシ）エチル及びジメチルアミノ安息香酸イソアシル等が挙げられる。
これらの他に、トリｎ−ブチルホスフィン等のりん化合物も使用できる。
これらの光増感剤（ｅ）のうち、トリアルキリアミン及びジアルキルアミノフェニル光増感剤（ｅ２）が好ましく、さらに好ましくはジアルキルアミノフェニル増感剤、特に好ましくは４，４’−ジアルキルアミノベンゾフェノンである。
【０１０９】
光増感剤（ｅ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、光重合開始剤（ｄ）の重量に基づいて、５〜１００が好ましく、さらに好ましくは１０〜８０、特に好ましくは２０〜５０である。この範囲であると、活性エネルギー線として波長２００〜８００ｎｍの光を使用する場合、保存安定性及び硬化性がさらに良好となる。
【０１１０】
インク受容層形成用活性エネルギー線硬化性組成物（Ａ）には、熱重合開始剤（ｆ）を含有してもよい。なお、熱重合開始剤（ｆ）は、単独で含有してもよく、光重合開始剤（ｄ）と共に含有してもよい。
熱重合開始剤（ｆ）としては、過酸化物（ｆ１）及びアゾ化合物（ｆ２）等が含まれる。
過酸化物（ｆ１）としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酢酸、過コハク酸、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド、ｔ−ブチルヒドロパーオキシド及びクメンヒドロパーオキシド等が挙げられる。
アゾ化合物開始剤（ｆ２）としては、２，２'−アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１'−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２'−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、ジメチル２，２'−アゾビス（２−メチルプロピオネイト）、２，２'−アゾビス［２−（ヒドロキシメチル）プロピオニトリル］及び１，１'−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）等が挙げられる。
これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの熱重合開始剤（ｆ）のうち、過酸化物（ｆ１）が好ましい。
【０１１１】
熱重合開始剤（ｆ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の合計重量に基づいて、０．０１〜１０が好ましく、さらに好ましくは０．０３〜５、特に好ましくは０．０５〜３である。この範囲であると、保存安定性及び硬化性がさらに良好となる。
【０１１２】
インク受容層形成用活性エネルギー線硬化性組成物（Ａ）には、親水性単量体（ａ）と親水性重合体（ｂ）との溶解性を向上させる目的で、さらに溶剤（ｇ）を含有することができる。溶剤（ｇ）としては、水（ｇ０）、アルコール（ｇ１）、ケトン（ｇ２）、エステル（ｇ３）、エーテル（ｇ４）、芳香族炭化水素（ｇ５）、脂環式炭化水素（ｇ６）及び脂肪族炭化水素（ｇ７）等が含まれる。
【０１１３】
水（ｇ０）としては、脱イオン水、蒸留水、水道水及び工業用水等が挙げられる。
アルコール（ｇ１）としては、炭素数１〜１０のアルコール等が使用でき、メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ノルマルブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル及びプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
【０１１４】
ケトン（ｇ２）としては、炭素数３〜６のケトン等が使用でき、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等が挙げられる。
エステル（ｇ３）としては、炭素数４〜１０のエステル等が使用でき、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。
エーテル（ｇ４）としては、炭素数４〜１０のエーテル等が使用でき、エチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル及び１，４−ジオキサン等が挙げられる。
【０１１５】
芳香族炭化水素（ｇ５）としては、炭素数６〜９の芳香族炭化水素等が使用でき、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びトリメチルベンゼン等が挙げられる。
脂環式炭化水素（ｇ６）としては、炭素数５〜１０の脂環式炭化水素等が使用でき、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロペプタン、シクロオクタン、シクロノナン及びシクロデカン等が挙げられる。
脂肪族炭化水素（ｇ７）としては、炭素数５〜１０の脂肪族炭化水素等が使用でき、ペンタン、ヘキサン、ペプタン、オクタン、ノナン及びデカン等が挙げられる。
【０１１６】
これらの溶剤（ｇ）のうち、親水性単量体（ａ）と親水性重合体（ｂ）とを容易に均一混合できる点で、水（ｇ０）、アルコール（ｇ１）、ケトン（ｇ２）及びエーテル（ｇ４）が好ましく、さらに好ましくは水（ｇ０）、アルコール（ｇ１）及びケトン（ｇ２）、特に好ましくは水（ｇ０）及びアルコール（ｇ１）である。
【０１１７】
これらの溶剤は単独で用いてもよいし、また２種類以上を併用してもよい。併用する場合は水（ｇ０）、アルコール（ｇ１）及びケトン（ｇ２）の中から少なくとも２つ以上を併用することが好ましい。
なお、溶剤（ｇ）を含有する場合、この含有量（重量％）は、（ｂ）の重量に基づいて１０〜１００が好ましく、さらに好ましくは２０〜９０、特に好ましくは３０〜８０である。
【０１１８】
インク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物（Ａ）には、さらに添加剤（ｈ）｛レベリング剤、消泡剤、保存安定化剤、着色剤及び抗菌剤等｝を含有させてこれらの機能を付与することができる。
【０１１９】
レベリング剤としては、塗料用として一般に使用されるレベリング剤が使用でき、そのようなレベリング剤としては、ポリオキシアルキレン化合物、シリコーンオイル等が挙げられる。
消泡剤としては塗料用として一般に使用される消泡剤が使用でし、そのような消泡剤としては、ソルビタンあるいはその脂肪酸エステルなどのノニオン活性剤、オクタノール，シクロヘキサノール，アセチレングリコールなどの高級アルコールやグリコール、シリカシリコーン，シリコーンコンパウンドなどのシリコーン消泡剤等が挙げられる。
保存安定化剤としては、ハイドロキノン、モノ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、カテコール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾキノン、２，５−ジフェニル−ｐ−ベンゾキノン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、Ｎ‐ニトロソフェニルヒドロキシルアミン、Ｎ‐ニトロソフェニルヒドロキシルアミンの金属塩、（ジ，トリス）ノニルフェニルフォスファイト等の重合禁止剤が挙げられる。
着色剤としては、酸化チタン、群青、紺青、亜鉛華、ベンガラ、黄鉛、鉛白、カーボンブラック、透明酸化鉄、アルミニウム粉などの無機顔料、アゾ顔料、トリフェニルメタン顔料、キノリン顔料、アントラキノン顔料、フタロシアニン顔料などの有機顔料などの顔料等が挙げられる。
抗菌剤としては、トリクロサン、クロルヘキシジン、ジンクピリチオン、クロルキシレノール等の有機抗菌剤や、銀ゼオライト、抗菌ガラス，リン酸ジルコニウム銀、銀錯体等の無機抗菌剤及び、キトサン、カテキン、ヒノキチオール、孟宗竹等の天延抗菌剤が挙げられる。
【０１２０】
レベリング剤を添加する場合、この含有量（重量％）は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の重量に基づいて、０．０１〜５が好ましく、さらに好ましくは０．０３〜２、特に好ましくは０．０５〜１である。消泡剤を添加する場合、この含有量（重量％）は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の重量に基づいて、０．０５〜５が好ましく、さらに好ましくは０．１〜２、特に好ましくは０．５〜１である。保存安定化剤を添加する場合、この含有量（重量％）は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の重量に基づいて、０．００５〜０．５が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜０．４、特に好ましくは０．０３〜０．３である。着色剤を添加する場合、この含有量（重量％）は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の重量に基づいて、０．０１〜５が好ましく、さらに好ましくは０．０３〜２、特に好ましくは０．０５〜１である。抗菌剤を添加する場合、この含有量（重量％）は、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の重量に基づいて、０．１〜１５が好ましく、さらに好ましくは０．５〜１０、特に好ましくは１〜５である。
【０１２１】
本発明のインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物は式（１）を満たすことにより極めて優れた保存安定性（粘度上昇、自然硬化、ゲル化等）及び硬化性を発揮することができる。
（１）式中、αは、膜厚２５μｍの（Ａ）からなる塗膜を鉛筆硬度Ｂの硬さまで硬化させるのに必要な活性エネルギー線の積算エネルギー照射量（ｍJ／ｃｍ2）である。
【０１２２】
塗膜の形成は、ＪＩＳ  Ｋ５４００（１９９０）「３．３試験片の作成（７．５）バーコーター塗り」に記載されたバーコーターＮｏ．１１と同等のバーコーターを用いて、ガラス板上（厚み２ｍｍ、塗工面とは反対の面をアルミホイルで覆うことで遮光してある。）に２５μｍの厚みで（Ａ）を塗工し、塗工面に活性エネルギー線を垂直に照射し、硬化することによって得られる。
活性エネルギー線の積算エネルギー照射量は、上記の塗膜が鉛筆硬度Ｂの硬さまで硬化するまでのエネルギー照射量を市販の積算線量計｛マイドーズＰＤＭ−１１２（アロカ製）、ＲＡＭＴＥＣ１０００ｐｌｕｓ（東洋メディック製）等｝又は、積算光量計｛ＵＶパワーメータＣ８０２６（浜松ホトニクス製）、ＵＩＴ−１５０（ウシオ製）等｝を用いて測定される。
活性エネルギー線とは、電子線、γ線、ｘ線、紫外線、可視光線等が含まれる。これらのうち、装置が簡便性の観点等から、電子線、紫外線及び可視光線が好ましく、さらに好ましくは紫外線及び可視光線、特に好ましくは紫外線である。
【０１２３】
積算エネルギー照射量（α）（ｍＪ／ｃｍ2）は、１０〜７００が好ましく、さらに好ましくは３０〜６００、特に好ましくは５０〜５００である。この範囲であると、さらに簡便に硬化させることができ、硬化後のインク受容層のインク受容性等にさらに影響が少ない。
【０１２４】
β１は、インク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物を製造した後、密閉遮光容器中に入れ、２５±１℃の恒温水槽中で２４時間放置した後に測定される粘度である。
また、β２は、インク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物を製造した後、密閉遮光容器中に入れ、４０±１℃の恒温水槽中で６ヶ付間放置した後に測定される粘度である。
粘度（β１）（Ｐａ・ｓ）は、保存安定性、取扱性及び塗工性の観点等から、１〜６が好ましく、さらに好ましくは２〜５、特に好ましくは２．５〜４．５である。粘度（β２）（Ｐａ・ｓ）は、保存安定性、取扱性及び塗工性の観点等から、２〜１５が好ましく、さらに好ましくは２〜１３、特に好ましくは２〜１０である。
比（β）は保存安定性の観点等から、１〜３が好ましく、更に好ましくは１〜２、特に好ましくは１〜１．５である。
【０１２５】
積算エネルギー照射量（α）を好ましい範囲にするには、次のような手段が適応できる。すなわち、親水性単量体（ａ）の種類を選択することによって（α）を好ましい範囲にすることができ、（ａ）として上記の好ましいものを使用することによりこれを達成できる。また、（ａ）の含有量によっても（α）を好ましい範囲にすることができ、（ａ）の含有量を上記の好ましい範囲とすることによりこれを達成できる。（ａ）としては、一般式（２）又は（３）で表されるアミドを含有させることが望ましく、特に好ましくは上記の範囲で含有させることである。また、親水性重合体（ｂ）の含有量を上記の好ましい範囲とすることによっても達成される。また、（ｂ）としてポリビニルピロリドンを用いることが特に望ましい。また、光重合開始剤（ｄ）やその他の添加剤（ｈ）として保存安定化剤を上記の範囲で添加することによっても達成される。
【０１２６】
粘度（β１）を好ましい範囲にするには、例えば次のような手段が適用できる。すなわち、（ｂ）の含有量を上記の好ましい範囲にすることによりこれを達成することができる。
また、（ｂ）の２５℃における１０重量％水溶液粘度（ｍＰａ・ｓ）を上記の好ましい範囲とすることによって達成することができる。
また、親水性単量体（ａ）の粘度（ｍＰａ・ｓ）を上記の好ましい範囲とすることによって達成することが出来る。
また、（ｃ）の含有量を上記の好ましい範囲にすることによって達成することが出来る。
また、溶剤（ｇ）を好ましい範囲で含有させることによって達成することが出来る。
【０１２７】
（β２）を好ましい範囲にするには、例えば次のような方法が適用できる。すなわち、インク受容層形成用活性エネルギー線硬化組成物（Ａ）のＴＩ値によって好ましい粘度（β２）にすることができ、ＴＩ値を１．５〜４．０にすることが好ましく、さらに好ましくは１．７〜３．８、特に好ましくは２〜３．５であり、ＴＩ値をこの好ましい範囲にすることによりこれを達成することができる。また、その他の添加剤（ｈ）として保存安定化剤を上記の範囲で添加することによっても達成される。なお、ＴＩ値とは、ＪＩＳ  Ｚ８８０３−１９９１  ９．円すい及び円すい−平板形回転粘度計による粘度測定方法に準拠して半径７ｍｍ、角度５．２４×１０-2ｒａｄの円すいを用いて２５℃、１００ｒｐｍで測定される粘度（β１）と、（β１）と同様にして測定される１０ｒｐｍの粘度（β３）との比（β３／β１）である。
そして、ＴＩを好ましい範囲とするには、粘度（β３）によって達成することができ、（β３）を２〜２０にすることが好ましく、さらに好ましくは３〜１５、特に好ましくは４〜１０である。
また、粘度（β３）を好ましい範囲とするには、親水性重合体（ｂ）の含有量及び無機質フィラー（ｃ）の含有量により達成でき、これらの含有量は、上記の好ましい範囲とすることがさらに望ましく、さらに望ましくは燃焼法により製造され得る非結晶シリカ微粒子（ｃ１）を含有させること、特に好ましくは（ｃ１）を上記の範囲で含有することである。
そして、粘度（β１）及び粘度（β２）を好ましい範囲にすることにより、比（β）の好ましい範囲１〜３、さらに好ましい範囲１〜２、特に好ましい範囲１〜１．５とすることができる。
【０１２８】
そして、インク受容層形成用活性エネルギー線硬化組成物（Ａ）について、積算エネルギー照射量（α）及び比（β）を好ましい範囲にすることにより、式（１）は満たしやすくなる。また、粘度（β１）を１〜６Ｐａ・ｓとし、かつ（Ａ）のＴＩ値を１．５〜４．０とすることにより、さらに式（１）を満たしやすくなる。また、無機質フィラー（ｃ）として、１次粒子の個数平均粒子径が１〜５０ｎｍであって、燃焼法により製造され得る非結晶シリカ微粒子（ｃ１）を上記の好ましい範囲の量で含有させることにより、さらに式（１）を満たしやすくなる。また、親水性重合体（ｂ）を上記の好ましい範囲の量で含有させることによりさらに式（１）を満たしやすくなる。また、親水性単量体（ａ）として、一般式（２）又は（３）で表されるアミドを上記の好ましい範囲で含有させることによりさらに式（１）を満たしやすくなる。また、親水性重合体（ｂ）としてポリビニルピロリドンを用いることによりさらに式（１）を満たしやすくなる。
【０１２９】
本発明のインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物は、親水性アクリル単量体（ａ）、親水性重合体（ｂ）及び無機質フィラー（ｃ）、並びに、必要に応じて、溶媒、光重合開始剤（ｄ）、光増感剤（ｅ）、熱重合開始剤（ｆ）、溶剤（ｇ）及び／又は添加剤（ｈ）を、撹拌混合することにより得ることができる。
【０１３０】
（ａ）〜（ｈ）の撹拌混合する順番には熱重合開始剤（ｇ）を除き特に制限がなく、均一に撹拌混合できればよい。熱重合開始剤（ｇ）は、（ａ）〜（ｈ）｛（ｇ）を除く｝を均一混合した後、２０℃以下に冷却し、（ｇ）を加え、均一に攪拌混合することが好ましい。撹拌混合温度（℃）としては熱重合開始剤（ｇ）を除き均一撹拌混合できれば特に制限はないが、２５〜６０が好ましく、さらに好ましくは３０〜５０、特に好ましくは３５〜４５である。熱重合開始剤（ｇ）の撹拌混合温度（℃）としては、−１０〜２０が好ましく、さらに好ましくは−５〜１５、特に好ましくは０〜１０である。撹拌混合時間（時間）としては熱重合開始剤（ｇ）を除き均一撹拌混合できれば特に制限はないが、０．５〜１００が好ましく、さらに好ましくは１〜８０、特に好ましくは１．５〜６０である。熱重合開始剤（ｇ）の撹拌混合時間（時間）としては均一撹拌混合できれば特に制限はないが、０．５〜５が好ましく、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは２〜３である。
【０１３１】
本発明の組成物を攪拌混合する為の方法としては、任意の方法をとることができる。混合撹拌設備としては、通常使用される混合拡販設備が使用でき、羽型撹拌機、高速ホモミキサー、ホモジナイザー、ディゾルバー、ボールミル、ニーダー、サンドミル、三本ロール、超音波分散機等が使用できる。これらのうち、保存安定性及び、（ｃ）の過剰な粉砕防止の観点等から、高速ホモミキサー及びホモジナイザーが好ましい。
【０１３２】
本発明の組成物は、紙、木材、石、ガラス、コンクリート、金属、プラスチック及び／又は金属蒸着プラスチック等にコーティングすることにより、インク受容層形成を形成することができる。これらのうち、プラスチック及び／又は金属蒸着プラスチック等のインク受容層形成に好適であり、特にプラスチックのインク受容層形成に好適である。
【０１３３】
本発明の組成物は、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷及びインクジェット方式等の各種の印刷方式、並びにハケ塗り、浸漬塗り、スピンコーティング、スプレー塗装及びロールコーティング等の印刷法によりコーティングすることができる。これらのうち、インク受容層の厚みの観点から、スクリーン印刷が好ましい。
そして、このコーティング層に活性エネルギー線を照射して硬化膜とすることができる。インクジェットインクに対して十分な受容性能を与えるためには、硬化膜（インク受容層）の厚みは、５〜１００μｍが好ましく、さらに好ましくは１０〜８０μｍ、特に好ましくは２０〜５０μｍである。
【０１３４】
インク受容層に印刷されるインクは、溶剤（水、アルコール及び／又は有機溶剤等）、着色剤（染料又は顔料）、並びに必要に応じて浸透剤、乾燥防止剤、ｐＨ調整剤、防腐剤及び／又は防かび剤等を構成成分として含有する液体状インクであれば特に制限無く使用できる。また、このようなインクは、本発明の組成物の硬化によって得られたインク受容層上に、スクリーン印刷、オフセット印刷、フェルトペン等の筆記具で書き込む方法、インクジェットプリンターによって書き込む方法によって印刷される。
本発明の組成物は、インク受容層形成用として適しているが、その他用のコーティング剤としても使用できる。その他のコーティング剤としては、プラスチックハードコーティング剤、インク用バインダー、プラスチック用接着剤又は建築材料用成型体ハードコーティング剤等が挙げられる。
【実施例】
【０１３５】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれに限定されない。
表２において、各実施例に対応する組成を各配合量で次のようにして均一配合した。
すなわち、各組成のうち、ｃ２〜ｃ４及びｃ１１を除く各組成を空気雰囲気下４０℃に温調し、この温度で４時間混合攪拌したのち、ｃ２〜ｃ４又はｃ１１を仕込み、空気雰囲気下４０℃に温調し、この温度で高速ホモミキサー（日本精機製作所製エクセルオートホモジナイザー）を用いて回転数６００ｒｐｍで２時間攪拌混合して、本発明のインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物１〜２０（実施例１〜２０）及び比較用のインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物２１〜２６（比較例１〜６）を得た。なお、表中の数値は重量部を表し、表２で記載する略号の意味は次の通りである。
【０１３６】
ａ１１：Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
ａ１２：Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド
ａ１３：Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド
ａ１４：Ｎ−（Ｎ’，Ｎ’−ジメチルアミノエチル）アクリルアミド
ａ１５：Ｎ−アクリロイルモルホリン
ａ１６：ビニルホルムアミド
ａ２１：２−ヒドロキシエチルアクリレート
ａ２２：４−ヒドロキシブチルアクリレート
ａ２３：メトキシポリ（ｎ＝９）エチレングリコールアクリレート
ａ２４：トリメチロールプロパンジアクリレート
ａ２５：ポリ（ｎ＝９）エチレングリコールモノアクリレート
ａ２６：２−アクリロイルオキシエチルコハク酸モノエステル
【０１３７】
ｂ１１：ＢＡＳＦ製ルビテックＫ９０パウダー（ポリビニルピロリドン）
ｂ１２：ＢＡＳＦ製ルビテックＶＡ６４（ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重合体）
ｂ１３：クラレ製ＰＶＡ１１７（完全ケン化ポリビニルアルコール）
ｂ１４：クラレ製ＣＭ−３１８（カチオン変性ポリビニルアルコール）
ｂ１５：クラレ製ＰＶＡ Ｒ−１１３０（シリル変性ポリビニルアルコール）
【０１３８】
ｃ２：トクヤマ製ファインシールＸ−３７Ｂ（湿式法により製造され得る非結晶性シリカ）
ｃ３：富士シリシア製サイリシア４７０（湿式法により製造され得る非結晶性シリカ）
ｃ４：グレースデビソン製サイロジェット７０３Ａ（エアロゲル法により製造され得る非結晶シリカ）
ｃ１１：日本アエロジル製アエロジル２００（燃焼法により製造された非結晶球状シリカ）
【０１３９】
ｄ１１：２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン
ｄ１２：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
ｈ１：ハイドロキノンモノメチルエーテル
ｈ２：ハイドロキノン
【０１４０】
【表２】
2005104067.tif 000011
【０１４１】
インク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物１〜２６の保存安定性、及び硬化性、及び印刷性として硬化後のインク受容層上の印刷画像の耐水性、及びインク受容層上の印刷画像のにじみについて評価し、これらの評価結果を表３に示した。
【０１４２】
＜製造後の粘度（β１）＞
Ｅ型粘度計（東機産業製ＲＥ８０Ｌ）を用い、ＪＩＳ  Ｚ８８０３−１９９１  ９．円すい及び円すい−平板形回転粘度計による粘度測定方法に準拠し、半径７ｍｍ、角度５．２４×１０-2ｒａｄの円すいを用いて２５℃、１００ｒｐｍで測定した。
【０１４３】
＜ＴＩ値＞
（β１）と同様の装置を使用し、２５℃、１０ｒｐｍで測定される値（β３）とβ１とを用い、その比（β３／β１）を算出した。
【０１４４】
＜β＞
４０℃で６ヶ月間、測定試料を密閉保存した後の粘度（β２）をβ１と同様に測定し、β２とβ１との比（β２／β１）を保存安定性の指標とした。この値が１に近いほど、保管中の粘度の増加がなく、保存安定性に優れる。
【０１４５】
＜硬化に必要なエネルギー照射量（α）＞
ＪＩＳ  Ｋ５４００（１９９０）「３．３試験片の作成（７．５）バーコーター塗り」に記載されたバーコーターＮｏ．１１と同等のバーコーター（コーティングテスター工業製バーコーター１１番）を用いて、ガラス板上（厚み２ｍｍ、塗工面とは反対の面をアルミホイルで覆うことで遮光してある。）に２５μｍの厚みで測定試料を塗工し、塗工面に活性エネルギー線を垂直に照射し、塗膜が鉛筆硬度Ｂの硬さまで硬化するまでのエネルギー照射量を市販の積算光量計｛マイドーズＰＤＭ−１１２（アロカ製）｝を用いて測定した。鉛筆硬度はＪＩＳ  Ｋ ５４００−１９９０、８．４ 鉛筆引っかき値、８．４．１試験機法に準拠して測定した。
【０１４６】
＜硬化性＞
上記のαの測定値を用い、下記の判定基準で評価した。
αが５００未満：硬化性が良好（◎）
αが５００〜７００：若干硬化性が劣るが実用上支障なし（○）
αが７００を超える：硬化が遅く実用上支障あり（△）
硬化しなかったもの：実用性なし（×）
【０１４７】
＜保存安定性＞
上記のβの値を用い、下記の判定基準で評価した。
βが１．５未満：保存安定性が良好（◎）
βが１．５〜３：増粘は見られるが実用上支障なし（○）
βが３を超える：増粘が激しく実用上支障あり（△）
ゲル化または硬化した：実用性なし（×）
【０１４８】
＜印刷性＞
（１）印刷画像評価用試料の調整
コクヨ製インクジェットプリンタ用ＯＨＰフィルム（品番ＶＦ−１１００Ｎ）に、ＪＩＳ  Ｋ５４００（１９９０）「３．３試験片の作成（７．５）バーコーター塗り」に記載されたバーコーターＮｏ．１８と同等のバーコーター（コーティングテスター工業製バーコーター１８番）を用いて、インク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物を塗工し、塗工面に紫外線（メタルハライドランプ）を垂直に照射することによって硬化して、評価用試料を調整した。
なお、紫外線の照射にはコンベア式露光機｛ウシオ電機製ユニキュアＵＶＣ−０２５１６Ｓ１ＡＧＭ０１）｝を用いた。
また、印画は、セイコーエプソン社製のインク ジェットプリンタ（機種名：ＭＣ９０００）で、純正インクを使用して行った。
【０１４９】
（２）印刷画像の耐水性
シアン、マゼンタ、イエロー及びブラック混色の黒をベタ印画し、印画５分後に印画部にスポイトで蒸留水を一滴垂らし、蒸留水が完全に吸収されたときのインク 流出の度合いを目視で観察し、下記の判定基準で評価した。
◎：流出なし
○：流出が若干発生したが、実用上支障なし
△：流出が発生し、実用上支障あり
×：流出が多く発生し、実用上支障あり
【０１５０】
（３）印刷画像のにじみ
レッド（マゼンタとイエローの混色）及びグリーン（シアンとイエローの混色）を使用し、マット印刷モード（使用したプリンターのモードのうち、インク の噴射量が多いランクに属する。）において、インク 噴射量１７０％で白抜き文字を印画したときのインクのにじみの状態を目視し、下記の判定基準で評価した。
◎：にじみなし
○：にじみが若干発生したが、実用上支障なし
△：にじみが発生し、実用上支障あり
×：にじみが多く発生し、実用上支障あり
【０１５１】
【表３】
2005104067.tif 000012
【０１５２】
本発明のインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物（実施例１〜２０）は、比較例１〜５の活性エネルギー線硬化型組成物に比較して、硬化性及び保存安定性及び印刷性に遙かに優れており、特に保存安定性に極めて優れている。比較例６の組成物は、光重合開始剤及び保存安定化剤の量が異常に多く、硬化性及び保存安定性は問題ないものの、実用的なコストにはならない等の問題点があり、実用的ではない。
また、実施例１〜１９（一般式（２）又は（３）で表されるアミドを親水性単量体の重量に基づいて５０〜８５重量％含有する）の場合、印刷性が特に良好である。中でも、実施例１〜１０、及び１５〜１８（燃焼法により製造され得る非結晶シリカ（ｃ１）を無機質フィラーの全重量に基づいて５〜１０重量％含有する）では、保存安定性及び硬化性のいずれが極めて良好である。
【産業上の利用可能性】
【０１５３】
本発明のインク受容層形成用活性エネルギー線硬化型組成物は、種々の基材に塗工され、その基材にインクジェット印刷適性を付与することができる。そのような印刷の適用用途としては、皮、布、プラスチック、金属、紙、ダンボール、陶磁器等に対する印刷、即ち、プリペイドカード、音楽用コンパクトディスク、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ディジタルビデオディスク（ＤＶＤ）、ＩＣカード、磁気カード、照明用アクリル樹脂板、ポリカーボネート板、看板、表示パネル、商品展示用パネル、表札、ネームプレート、銘板、包装容器、袋等に適用できる。