(57)【要約】【課題】高度なガスバリア性能を有し、かつ曲げてもガスバリア性能が劣化しない透明ガスバリアフィルムを提供すること、およびこの透明ガスバリアフィルムを用いた劣化や欠点の発生等がないエレクトロルミネッセンス素子を提供する【解決手段】  樹脂基板の少なくとも片面上に、有機層および無機層がそれぞれ１層以上積層された構造のガスバリアフィルムであって、測定温度４０℃での等圧法による酸素透過率が１．０ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であり、酸素透過率の温度依存性より求めたガス透過の活性化エネルギーの値が８０ｋＪ／ｍｏｌ以下である。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基板の少なくとも片面上に、有機層および無機層がそれぞれ１層以上積層された構造のガスバリアフィルムにおいて、測定温度４０℃での等圧法による酸素透過率が１．０ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であり、酸素透過率の温度依存性より求めたガス透過の活性化エネルギーの値が８０ｋＪ／ｍｏｌ以下であるとことを特徴とする透明ガスバリアフィルム。
【請求項２】
前記無機層が珪素酸化物、珪素窒化物または珪素窒化酸化物を主成分とする請求項１記載の透明ガスバリアフィルム。
【請求項３】
前記樹脂基板がポリエチレンナフタレートフィルムであることを特徴とする請求項１または２記載の透明ガスバリアフィルム。
【請求項４】
全光線透過率が８０％以上であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の透明ガスバリアフィルム。
【請求項５】
基材上に、少なくとも透明電極層、発光層、陰極層を順次積層した積層体を、密閉された空間内に配置するエレクトロルミネッセンス素子において、該基材が、樹脂基板の少なくとも片面上に、有機層および無機層をそれぞれ１層以上積層して設けた構造のガスバリアフィルムであって、測定温度４０℃での等圧法による酸素透過率が１．０ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であり、酸素透過率の温度依存性より求めたガス透過の活性化エネルギーの値が８０ｋＪ／ｍｏｌ以下である透明ガスバリアフィルムであることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明性に優れ、酸素および水蒸気の透過に対して高度なバリア性を有するガスバリアフィルムおよびそれを用いたエレクトロルミネッセンス素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
【特許文献１】特公昭５３−１２９５３号公報
【特許文献２】特公昭５８−２１７３４４号公報。
【０００３】
従来、プラスチック基板やフィルムの表面に酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化珪素等の金属酸化物の薄膜を形成したガスバリア性フィルムは、酸素や水蒸気の遮断を必要とする物品の包装、食品や工業用品および医薬品等の変質を防止するための包装用途に多く用いられている。また、包装用途以外にも、液晶表示素子、太陽電池、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）基板等で使用されている。特に、液晶表示素子やＥＬ素子等への応用が進んでいる透明基材に関しては、軽量化、大型化という要求に加え、長期信頼性や形状の自由度が高いこと、曲面表示が可能であること等の高度な要求が加わり、重くて割れやすく大面積化が困難なガラス基板に代わって透明プラスチック等のフィルム基材が採用され始めている。また、プラスチックフィルムは上記要求に応えるだけでなく、ロール・トゥ・ロール方式が可能であることから、ガラス基板よりも生産性が良く、コストダウンの点でも有利である。
【０００４】
しかしながら、透明プラスチック等のフィルム基板は、ガラス基板に対してガスバリア性が劣るという問題がある。このようなガスバリア性に劣る基材を上記の用途に用いると、ガスが浸透して問題が生じる。例えば液晶セル内の液晶を劣化させたり、有機ＥＬ素子を劣化させたりして、表示欠陥となって表示品位を劣化させる。このような問題を解決するために、フィルム基板上に金属酸化物薄膜を形成してガスバリア性フィルム基材とすることが知られている。包装部材や液晶表示素子に使用されるガスバリアフィルムとしては、プラスチックフィルム上に酸化珪素を蒸着したもの（特許文献１）や酸化アルミニウムを蒸着したもの（特許文献２）が知られており、いずれも従来のガスバリアフィルムとしては１ｃｍ３／ｍ２／ｄａｙ程度の酸素透過率や１ｇ／ｍ２／ｄａｙ程度の水蒸気透過率を有するものである。
【０００５】
近年では、液晶ディスプレイの大型化、高精細ディスプレイ、有機ＥＬ表示体等の開発により、フィルム基板へのガスバリア性能について更なる改善が要求されてきている。さらに、曲げることが可能な表示デバイスについての要望も大きく、曲げてもガスバリア性能が劣化しないバリア層が必要となってきている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、上記従来の技術において求められている高度なガスバリア性能を有し、かつ曲げてもガスバリア性能が劣化しない透明ガスバリアフィルムを提供すること、およびこの透明ガスバリアフィルムを用いた劣化や欠点の発生等がないエレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の透明ガスバリアフィルムは、樹脂基板の少なくとも片面上に、有機層および無機層をそれぞれ１層以上積層して設けた構造のものであって、測定温度４０℃での等圧法による酸素透過率が１．０ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であり、酸素透過率の温度依存性より求めたガス透過の活性化エネルギーの値が８０ｋＪ／ｍｏｌ以下であるとことを特徴とする。
【０００８】
本発明において、上記無機層は、無機層が珪素酸化物または珪素窒化物または珪素窒化酸化物を主成分として構成される。
【０００９】
本発明において、上記樹脂基板は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムであることが好ましい。また、本発明の透明ガスバリアフィルムは、全光線透過率が８０％以上であることが好ましい。
【００１０】
本発明のエレクトロルミネッセンス素子は、基材上に、少なくとも透明電極層、発光層、陰極層を順次積層した積層体を、密閉された空間内に配置したものであって、その基材として、上記の透明ガスバリアフィルムを用いたことを特徴とする。
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を説明する。  
まず、本発明の透明ガスバリアフィルムの各構成層と作製法について述べる。図１は、本発明のガスバリアフィルムの一例の模式的断面図である。ガスバリアフィルムは樹脂基板１上に有機層２および無機層３が順次積層されて設けられている。本発明において、有機層および無機層は複数存在していてもよく、また、その積層順序には特に制限はなく、いずれが樹脂基板に直接接するように設けてもよい。例えば、樹脂基板の上に複数の有機層および無機層が交互に積層された層構成、異種材料からなる有機層同士が隣接して積層された層構成、異種材料からなる無機層同士が隣接して積層された層構成などがあげられる。特に、樹脂基板上に有機層、無機層、有機層が順次設けられた層構成のものが好ましい。
【００１２】
本発明の上記層構成を有する透明ガスバリアフィルムは、測定温度４０℃での等圧法による酸素透過率が１．０ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが必要であり、好ましくは０．１ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であり、特に好ましくは０．０１ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下である。測定温度４０℃での酸素透過率の値は、例えば、ＪＩＳ Ｋ−７１２６Ｂに準ずる方法であるモコン法（ＭＯＫＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ）によって測定することができる。
【００１３】
また、本発明の透明ガスバリアフィルムは、酸素透過率の温度依存性より求めたガス透過の活性化エネルギーの値が８０ｋＪ／ｍｏｌ以下であることが必要である。ガス透過の活性化エネルギーは、上記モコン法により１０〜４０℃の範囲で酸素透過率を測定し、その酸素透過率の温度依存性により求めることができる。すなわち、ガス透過の活性化エネルギーは、ＪＩＳ Ｋ−７１２６Ｂに準ずる酸素透過率測定法において、酸素透過率の温度依存性によるアレニウスプロットより以下の式（１）から求める値である。
【００１４】
Π＝Π0exp（−ΔEｐ／RT）・・・・・（１）
式中、
Π   ： 酸素透過速度
Π0  ： 前指数因子
ΔEｐ： 活性化エネルギー
R   ： 気体定数（8.3144×103kJ／K−mol）
T   ： 絶対温度。
【００１５】
すなわち、アレニウスプロットとは、式（１）の両辺の対数をとった下式（２）の左辺ｌｎΠを縦軸に、右辺のｌ／Ｔを横軸にとってプロットしたものであり、このプロットの傾きΔＥｐ／Rから、活性化エネルギーが算出される。  
ｌｎΠ＝ｌｎΠ０−（ΔEｐ／R）／T・・・・（２）
【００１６】
つまり、アレニウスプロットとは、酸素透過率の温度依存性を表しており、活性化エネルギーの値が小さい場合、つまり式（２）の傾きが小さいと、酸素透過率の温度依存性が小さく、各温度で安定した酸素透過率が得られることになり、ガスバリアフィルムとして、温度依存性のない良好なフィルムとなる。逆に活性化エネルギーの値が高いと、式（２）の傾きが大きくなり、温度による依存性が大きいことを表し、温度依存性のあるガスバリアフィルムになる。
【００１７】
活性化エネルギーの値を低く抑える手段としては、有機層と無機層の積層数を増やしたり、膜厚を厚くする方法、無機層の製膜条件を最適化することにより、欠陥の少ない無機層膜を作製したり、各層間の密着力を上げたりして、膜およびフィルムの欠陥を低下させる方法、および、各材料として温度依存性の低いものを用いる方法等があげられる。
【００１８】
本発明において、樹脂基板としては、バリア性を有する膜を保持することができる有機材料で形成された膜であれば特に限定されるものではない。具体的には、エチレン、プロピレン、ブテン等の単独重合体または共重合体または共重合体等のポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレン−２,６−ナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１２、共重合ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラート樹脂、ポリアリレート樹脂、フッ素系樹脂等を用いることができる。中でも、ポリエチレン−２,６−ナフタレート樹脂等のポリエチレンナフタレート樹脂はガスバリア性が良好であり、特に酸素透過率および水蒸気透過率が低いので、本発明において、樹脂基板としては、ポリエチレンナフタレートフィルムを用いるのが好ましい。これら樹脂フィルムの厚みは、１２〜５００μｍであることが好ましい。また、透明性が高いことが必要である。
【００１９】
上記樹脂基板上に設ける有機層は、特に制限はないが、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル系樹脂、オレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂等を使用することができる。また、有機層の厚さは、特に制限はないが、０．１μｍから１０μｍの範囲が好ましい。樹脂基板上に設ける有機層は、樹脂基板の表面を平滑にする役割を担う。また、フレキシブル性を考慮に入れた場合、曲げによる無機層のクラックを防止する役割も担う。また、有機層には、撥水性能、吸水性能、酸素吸着性能等の機能を持たせることで、更にガスバリア性能の向上が図られるために、撥水性能、吸水性能、酸素吸着性能を有する樹脂や添加物を加えることも可能である。また、有機層は透明性が高いことが必要である。
【００２０】
有機層は、上記樹脂を適当な溶媒に溶解した溶液を、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法により樹脂基板上にコーティングすることによって形成することができる。
【００２１】
また、無機層は、透明性とガスバリア性、フレキシブル性等のバランスから、珪素酸化物、珪素窒化物、珪素窒化酸化物のいずれかを主成分とするものである。また、無機層の厚みは１ｎｍから５００ｎｍの範囲が好ましい。さらに１０〜３００ｎｍの範囲がより好ましい。無機層が上記の範囲よりも厚くなると曲げ応力に対してクラックを発生する恐れがあり、薄くしすぎると膜が均一ではなくなり、バリア性能の低下を招く。無機層の形成手法としては、抵抗加熱蒸着法、電子線蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、スパッタリング法等が適用でき、目的の無機層が得られる方法であれば特に制限はない。
【００２２】
本発明の透明ガスバリアフィルムは、樹脂基板の少なくとも片面上に有機層と無機層を１層以上積層した層構成を有するが、特に、液晶表示素子や有機ＥＬ素子等のディスプレイの用途に使用される場合は、高度なガスバリア性能を必要とされるために、有機層と無機層を２層以上積層して高度なガスバリア要求性能に対応するようにするのが好ましい。また、樹脂基板の両面に有機層および無機層を積層してもよく、その場合は、上下対称構造となるように積層するのが好ましい。樹脂基板の両面に有機層および無機層を積層した場合には、透明ガスバリアフィルムの反りを低減する効果が生じる。
【００２３】
また、積層した最終的なガスバリアフィルムは、透明性を有するのが好ましい。例えば、透明性の目安として、全光線透過率が８０％以上とするのが好ましく、より好ましくは８８％以上のものである。なお、全光線透過率の測定はＪＩＳ  Ｋ７１３６−１による。
【００２４】
次に、本発明のエレクトロルミネッセンス素子の構造と作製法について述べる。  
図２は本発明のエレクトロルミネッセンス素子の模式的断面図である。図において、エレクトロルミネッセンス素子は、基材１０上に、透明電極層４、発光層５、陰極層６が順次積層され、その積層体が封止材によって封止され、密閉された空間に配置された構造を有している。図２ａにおいては、この積層体が金属材料、プラスチック等で形成された封止材７ａによって封止され、図２ｂにおいては、透明ガスバリアフィルム等の樹脂材料よりなる封止材７ｂによって封止された場合を示している。
【００２５】
基材は、上記の透明ガスバリアフィルムが使用される。
【００２６】
透明電極層は、発光層に正孔を供給する陽極としての機能を有するものであって、例えば、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）等の導電性金属酸化物や金、銀、アルミニウム等の金属を用いることができ、その形状、構造、大きさ等についても特に制限されるものではない。透明電極層の作製法は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の中から前記材料との適性を考慮して適宜選択すればよい。透明電極層のパターニングは、フォトリソグラフィーによる化学的エッチング法、レーザー等による物理的エッチング法、マスクを用いる真空蒸着法やスパッタリング法、又はリフトオフ法や印刷法等により行うことができる。厚さは、１０ｎｍ〜５μｍの範囲が適当である。
【００２７】
発光層は、少なくとも１種の発光材を含有するものであり、必要に応じて、正孔や電子の発生や移動を容易にする正孔注入材、正孔輸送材や電子注入材、電子輸送材等を含有させていてもよい。また、正孔注入材、正孔輸送材や電子注入材、電子輸送材等が発光層とは別の層として発光層に積層されていても構わない。
【００２８】
発光材としては、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリデン誘導体、８−キノリール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体の高分子化合物があげられる。これらは一種又は二種以上を混合して用いることができる。
【００２９】
正孔注入材、正孔輸送材としては、低分子正孔輸送材および高分子正孔輸送材のいずれも使用可能であり、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、及び陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有していれば限定されない。正孔輸送材としては、例えば、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリデン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物等があげられる。これらは一種または二種以上を併用して用いてもよい。
【００３０】
電子注入材および電子輸送材としては、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれかを有しているものであれば制限されることはなく、例えば、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体や、メタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾジアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体等の高分子化合物があげられる。これらは一種または二種以上を併用して用いてもよい。
【００３１】
発光層は、蒸着やスパッタリング等の乾式法、ディッピング、スピンコート、ディップコート、キャスト、ダイコート、ロールコート、バーコート、グラビアコート等の湿式法等のいずれかによって好適に製膜することができる。これらの製膜法は、発光層の材料に応じて適宜選択することができる。膜厚は、一般に１ｎｍ〜１０μｍ、好ましくは１０ｎｍ〜１μｍの範囲に設定される。正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層も発光層の場合と同様の方法で作製することができる。
【００３２】
陰極層は、形状、構造、大きさ等に特に制限はなく、発光層に電子を注入する電極として機能すればよい。その形状、構造、大きさ等も特に制限はないが、厚さは、１０ｎｍ〜５μｍの範囲が適当である。陰極用材料としては、アルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ等）、アルカリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属等が挙げられる。これらのなかから、２種以上併用しても構わない。
【００３３】
陰極層の形成は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ等を用いることができ、陰極の材料との適性を考慮して適宜選択すればよい。陰極のパターニングは、フォトリソグラフィー、レーザー等による物理的エッチング、マスクを用いる真空蒸着法やスパッタリング法、又はリフトオフ法や印刷法等を採用することができる。
【００３４】
封止材としては、アルミニウム管など、公知のものが使用されるが、本発明における上記透明ガスバリアフィルムを封止材として使用してもよい。
【発明の効果】
【００３５】
本発明の透明ガスバリアフィルムは、上記のように、特定酸素透過率およびガス透過の活性化エネルギー値を有するので、従来よりも高いガスバリア性能を持ち、透明で、かつ曲げてもそのバリア性が劣化しない透明ガスバリアフィルムを得ることができる。そして、その透明ガスバリアフィルムを用いることにより、劣化や欠点の発生等がないエレクトロルミネッセンス素子を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
次に、本発明のさらに好ましい形態を説明する。本発明の好ましい透明ガスバリアフィルムは、樹脂基板として、ポリエチレンナフタレートフィルムを、有機層として、アクリル樹脂を、また、無機層として、珪素酸化物または珪素窒化物または珪素窒化酸化物を用いて構成されたものであって、測定温度４０℃での等圧法による酸素透過率が０．０１ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であり、酸素透過率の温度依存性より求めたガス透過の活性化エネルギーの値が４０ｋＪ／ｍｏｌ以下のものである。
【００３７】
以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００３８】
樹脂基板としてポリエチレンナフタレートフィルム（１００μｍ）を用い、有機層としてアクリル樹脂（大日本インキ化学社製、ユニディック  Ｖ−４２６３）に光重合開始剤を添加したものを１μｍの厚さで塗工し、紫外線を当てて硬化し、次に無機層として酸化珪素を積層した。積層方法は、プラズマＣＶＤ法を用い、テトラメトキシシラン、酸素ガスを出発物質とし、膜厚１００ｎｍの酸化珪素膜を積層した。更に、最外層にアクリル樹脂層を塗工し、透明ガスバリアフィルムを作製した。
【実施例２】
【００３９】
樹脂基板としてポリエチレンナフタレートフィルム（１００μｍ）を用い、有機層としてアクリル樹脂（大日本インキ化学社製、ユニディック  Ｖ−４２６３）に光重合開始剤を添加したものを１μｍの厚さで塗工し、紫外線を当てて硬化し、次に無機層として酸化珪素を積層した。積層方法は、プラズマＣＶＤ法を用い、テトラメトキシシラン、酸素ガスを出発物質とし、膜厚１００ｎｍの酸化珪素膜を積層した。更に、有機層と無機層を上記と同様にしてもう１層交互に積層し、最外層にアクリル樹脂層を塗工し、無機層が２層存在する透明ガスバリアフィルムを作製した。
【実施例３】
【００４０】
樹脂基板としてポリエチレンナフタレートフィルム（１００μｍ）を用い、有機層としてアクリル樹脂（大日本インキ化学社製、ユニディック  Ｖ−４２６３）に光重合開始剤を添加したものを１μｍの厚さで塗工し、紫外線を当てて硬化し、次に無機層として酸化珪素を積層した。積層方法は、プラズマＣＶＤ法を用い、テトラメトキシシラン、酸素ガスを出発物質とし、膜厚１００ｎｍの酸化珪素膜を積層した。更に、有機層と無機層を上記と同様にして２層ずつ交互に積層し、最外層にアクリル樹脂層を塗工し、無機層が３層存在する透明ガスバリアフィルムを作製した。
【００４１】
（比較例１）
樹脂基板としてのポリエチレンナフタレートフィルム（１００μｍ）そのものを用いた。  
（比較例２）
樹脂基板としてのポリエチレンナフタレートフィルム（１００μｍ）を用い、その上に無機層として、酸化珪素を積層した。積層方法は、プラズマＣＶＤ法を用い、テトラメトキシシラン、酸素ガスを出発物質とし、膜厚１００ｎｍの酸化珪素膜を積層したガスバリアフィルムを作製した。
【００４２】
（評価）
実施例および比較例で作製したフィルムの酸素透過率を酸素透過率測定装置（ＭＯＫＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ ２／２１ ＭＬ）を用いて温度１０、２０、３０、４０℃／湿度９０％の条件で測定した。活性化エネルギーは、上記測定した酸素透過率の値を絶対温度の逆数でプロットしたアレニウスプロットより求めた。
【００４３】
【表１】
2005212230.tif 000002
【００４４】
なお、全光線透過率はヘーズメータ（Ｈａｚｅ Ｍｅｔｅｒ ＮＤＨ２０００、日本電色社製）を用いて測定した値である。また、屈曲後の酸素透過率は、直径２ｃｍの円柱の棒に透明ガスバリアフィルムを巻き付けた後の測定値である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の透明ガスバリアフィルムの模式的断面図。
【図２】本発明のエレクトロルミネッセンス素子の模式的断面図。
【符号の説明】
【００４６】
１…樹脂基板、２…有機層、３…無機層、４…透明電極層、５…発光層、６…陰極層、７ａ，７ｂ…封止材、１０…基材（透明ガスバリアフィルム）。
【図１】
2005212230.tif 000003
【図２】
2005212230.tif 000004