(57)【要約】【課題】シリコン単結晶材料で構成したノズルプレートを用いたインクジェト記録ヘッドにおいて、優れた耐擦過性（用紙ジャム対策）及びインク吐出安定性を実現すること。また、シリコン単結晶材料で構成したノズルプレートに、ノズル及び座ぐり（ノズル段差）を簡易且つ精度良く形成可能なインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供すること。【解決手段】  例えば、シリコン単結晶基板からなるノズルプレート１０と、シリコン単結晶基板からなるキャビティプレート１２と、ガラス基板１４とが積層して構成されたインクジェット記録ヘッドにおいて、インクノズル２２の周囲に座ぐり２４（ノズル段座）を設けた構成とする。また、このインクノズル２２及び座ぐり２４をインクの吐出方向側のノズルプレート１０面から、ドライエッチングにより連続的に形成する。【選択図】  図１
2005212131.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を吐出するノズルが設けられると共に、前記ノズルに連通する加圧室の内壁の一部を構成する第１シリコン単結晶基板と、
前記第１基板に積層されると共に、前記ノズルに連通する加圧室の内壁の一部を構成する第２シリコン単結晶基板と、
を備え、
前記第１シリコン単結晶基板の液体吐出方向側の面における前記ノズルの周囲に座ぐりが設けられていることを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
【請求項２】
液体を吐出するノズルが設けられると共に、前記ノズルに連通する加圧室の内壁の一部を構成する第１シリコン単結晶基板と、
前記第１基板に積層されると共に、前記ノズルに連通する加圧室の内壁の一部を構成する第２シリコン単結晶基板と、
を備え、
前記第１シリコン単結晶基板の液体吐出方向側の面における前記ノズルの周囲に座ぐりが設けられたインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
前記第１シリコン単結晶基板の液体吐出方向側の面に、ドライエッチングを施して、前記ノズルと共に前記座ぐりを形成することを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項３】
前記第１シリコン単結晶基板の液体吐出方向側の面にエッチングマスクを形成する工程と、
前記エッチングマスクに、ノズル形成用パターン領域と共に、ノズル形成用パターン領域に重ねて座ぐり形成用パターン領域を形成する工程と、
前記ノズル形成用パターン領域をマスクとして、前記第１シリコン単結晶基板にエッチングを施し、ノズルを形成する工程と、
前記座ぐり形成用パターン領域をマスクとして、前記ノズル形成用パターン領域にマスクエッチングを施し、第１シリコン単結晶基板を露出させる工程と、
前記座ぐり形成用パターン領域をマスクとして、前記第１シリコン単結晶基板にエッチングを施し、座ぐりを形成する工程と、
を有することを特徴とする請求項２に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【請求項４】
前記第１シリコン単結晶基板の液体吐出方向側の面にノズル形成パターンが設けられた第１エッチングマスクを形成する工程と、
前記第１エッチングマスク上に座ぐり形成用パターンが設けられた第２エッチングマスクを形成する工程と、
前記第１エッチングマスクを用いて、前記第１シリコン単結晶基板にエッチングを施し、ノズルを形成する工程と、
前記第２エッチングマスクを用いて、前記第１エッチングマスクにエッチングを施し、前記第１シリコン単結晶基板を露出させる工程と、
前記第２エッチングマスクを用いて、前記第１シリコン単結晶基板にエッチングを施し、座ぐりを形成する工程と、
を有することを特徴とする請求項２に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体（インク）を飛翔させて記録媒体に画像を記録するインクジェット方式の画像記録装置に利用されるインクジェット記録ヘッド及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、インクジェットプリンタのインクジェット記録ヘッドは、高精細文字を印字可能にするために、より精細でより微細な加工が要求されている。
【０００３】
その一つとして、実用化されているインクジェット記録ヘッドにおいては、ノズル周辺の耐擦過性（用紙ジャム対策）のために、ノズルの吐出口周囲に座ぐり（ノズル段差）を形成している（例えば、特開平１１−３３４０６９号公報参照）。
【０００４】
この構成により、ノズルの吐出口周囲に設けられた表面処理膜（撥水膜）の劣化を防ぎ、インク吐出の安定化が図られている。
【特許文献１】特開平１１−３３４０６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来、樹脂材料で構成されたノズルプレートに、レーザ加工によりノズル及び座ぐりが設けたられたものは知られているが、ノズルプレートとしてシリコン単結晶材料で構成したものについては実現されていないのが現状である。
【０００６】
従って、本発明の第１の目的は、シリコン単結晶材料で構成したノズルプレートを用いたインクジェト記録ヘッドにおいて、優れた耐擦過性（用紙ジャム対策）及びインク吐出安定性を実現することである。
また、本発明の第２の目的は、シリコン単結晶材料で構成したノズルプレートに、ノズル及び座ぐり（ノズル段差）を簡易且つ精度良く形成可能なインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
本発明のインクジェット記録ヘッドは、液体を吐出するノズルが設けられると共に、前記ノズルに連通する加圧室の内壁の一部を構成する第１シリコン単結晶基板と、前記第１基板に積層されると共に、前記ノズルに連通する加圧室の内壁の一部を構成する第２シリコン単結晶基板と、を備え、
前記第１シリコン単結晶基板の液体吐出方向側の面における前記ノズルの周囲に座ぐりが設けられていることを特徴としている。
【０００８】
本発明のインクジェット記録ヘッドでは、ノズルの周囲に座ぐりが設けられているため、ノズル先端は第１シリコン単結晶基板のインク方向側の面よりも凹んだ位置に設けられている。このため、用紙がノズルに接触し難くなり、表面処理膜（撥水膜）の劣化を防ぎ、インク吐出の安定化を図ることができる。これをシリコン単結晶材料で構成されたノズル形成基板で実現している。
【０００９】
一方、本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法は、液体を吐出するノズルが設けられると共に、前記ノズルに連通する加圧室の内壁の一部を構成する第１シリコン単結晶基板と、前記第１基板に積層されると共に、前記ノズルに連通する加圧室の内壁の一部を構成する第２シリコン単結晶基板と、を備え、前記第１シリコン単結晶基板の液体吐出方向側の面における前記ノズルの周囲に座ぐりが設けられたインクジェット記録ヘッドの製造方法であり、
前記第１シリコン単結晶基板の液体吐出方向側の面に、ドライエッチングを施して、前記ノズルと共に前記座ぐりを形成することを特徴としている。
【００１０】
本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法では、ヘッド完成時の外壁となる第１シリコン単結晶基板面からドライエッチングを施すため、ウエットエッチングを採用する場合に比べ精度良く且つ簡易にノズル及び座ぐりを形成することができる。
【００１１】
本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法においては、前記第１シリコン単結晶基板の液体吐出方向側の面にエッチングマスクを形成する工程と、前記エッチングマスクに、ノズル形成用パターン領域と共に、ノズル形成用パターン領域に重ねて座ぐり形成用パターン領域を形成する工程と、前記ノズル形成用パターン領域をマスクとして、前記第１シリコン単結晶基板にエッチングを施し、ノズルを形成する工程と、前記座ぐり形成用パターン領域をマスクとして、前記ノズル形成用パターン領域にマスクエッチングを施し、第１シリコン単結晶基板を露出させる工程と、前記座ぐり形成用パターン領域をマスクとして、前記第１シリコン単結晶基板にエッチングを施し、座ぐりを形成する工程と、を有することが好適である。このように、異方性ドライエッチングにより、同一作業で連続的に精度良くノズル及び座ぐりを形成することができる。
【００１２】
また、本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法においては、前記第１シリコン単結晶基板の液体吐出方向側の面にノズル形成パターンが設けられた第１エッチングマスクを形成する工程と、前記第１エッチングマスク上に座ぐり形成用パターンが設けられた第２エッチングマスクを形成する工程と、前記第１エッチングマスクを用いて、前記第１シリコン単結晶基板にエッチングを施し、ノズルを形成する工程と、前記第２エッチングマスクを用いて、前記第１エッチングマスクにエッチングを施し、前記第１シリコン単結晶基板を露出させる工程と、前記第２エッチングマスクを用いて、前記第１シリコン単結晶基板にエッチングを施し、座ぐりを形成する工程と、を有することも好適である。このように、異方性ドライエッチングにより、同一作業で連続的に精度良くノズル及び座ぐりを形成することができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のインクジェット記録ヘッドによれば、シリコン単結晶材料で構成したノズルプレートを用いたインクジェト記録ヘッドにおいて、優れた耐擦過性（用紙ジャム対策）及びインク吐出安定性を実現することができる。
また、本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法によれば、シリコン単結晶材料で構成したノズルプレートに、ノズル及び座ぐり（ノズル段差）を簡易且つ精度良く形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明について、図面を参照しつつ説明する。なお、実質的に同一の機能を有する部材には全図面通して同じ符合を付与して説明する。
【００１５】
（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを示す概略断面図である。図２は、本発明の第１実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法を示す工程図である。
【００１６】
本実施形態に係るインクジェット記録ヘッドは、シリコン単結晶基板からなるノズルプレート１０（第１シリコン単結晶基板）と、シリコン単結晶基板からなるキャビティプレート１２（第２シリコン単結晶基板）と、ガラス基板１４とが積層して構成されている。
【００１７】
キャビティプレート１２には、複数のインクキャビティ１６と、各インクキャビティ１６にインクを供給する共通のインクリザーバ１８が形成されている。ノズルプレート１０の側には、各インクキャビティ１６に連通した複数のインクノズル２２と、各インクキャビティ１６を共通のインクリザーバ１８に連通しているインク供給口２０が形成されている。そして、ノズルプレート１０とキャビティプレート１２とは重ね合わせた状態で、これらのインクキャビティ１６、インクリザーバ１８及びインク供給口２０の内壁を構成している。また、インクリザーバ１８には、不図示のインク供給路を介して外部のインク供給源からインクが供給可能となっている。
【００１８】
そして、ノズルプレート１０には、インクキャビティ１６と連通するインクノズル２２が設けられている。ノズルプレート１０のインク吐出方向面におけるインクノズル２２の周囲には、座ぐり２４（ノズル段差）が設けられている。座ぐり２４はインクノズル２２の周囲を囲むように設けられており、インクノズル２２はノズルプレート１０のインク吐出方向側の面より凹んだ位置に設けられている。
【００１９】
なお、本実施形態では、インクを吐出させるための吐出手段については図示しないが、公知のピエゾ方式、或いはサーマル方式の吐出手段がインクキャビティ１６に対応して設けられる。例えば、ピエゾ方式の場合、圧電素子を配設しインクキャビティ１６の内の容積を変化させることおでインクをインクノズル２２から吐出させる。また、サーマル方式の場合、発熱抵抗体を配設しインクに熱エネルギーを付与させることでインクをインクノズル２２から吐出させる。
【００２０】
以下、本実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法について説明する。
本実施形態に係るインクジェット記録ヘッドは、ノズルプレート１０、キャビティプレート１２及びガラス基板１４を個別に製造し、しかる後に、これらを貼り合わせることにより製造される。キャビティプレート１２及びガラス基板１４は、例えば、特開平５−５０６０１号公報などに記載されている公知の方法によって製造できる。従って、本明細書においては、インクノズル２２のエッチング方法を中心にノズルプレート１０の製造方法を説明する。
【００２１】
先ず、例えば、厚さが１８０μｍのシリコンウエハ２６を用意し、当該シリコンウエハ２６を熱酸化させて、その全周囲にマスクとしての厚さが例えば１．２μｍのＳｉＯ2膜２８ａを形成する。
【００２２】
次に、図２（Ａ）に示すように、シリコンウエハ２６の一方の側の表面２６ｂを覆っているＳｉＯ2膜２８ａの一部分をエッチングして、インク供給口２０及びインクリザーバ１８を形成するためのパターンを形成する。エッチング液としては、フッ化アンモニウム（ＨＦ：ＮＨ4Ｆ＝８８０ｍｌ：５６１０ｍｌ）を使用することができる。
【００２３】
そして、シリコンウエハ２６をエッチング液に漬けてシリコンウエハ２６ｂの露出部分（インク供給口２０及びインクリザーバ１８を形成するためのパターンの部分）に対して異方性ウエットエッチングを施し、インク供給口２０及びインクリザーバ１８に対応する三角形断面の溝３０を形成する。この場合に使用するエッチング液としては、水酸化カリウム水溶液であって、濃度が１５ｗｔパーセントで液温９０℃のものを使用できる。エッチング終了後は、ＳｉＯ2膜２８ａをフッ酸水溶液で全て剥離する。
【００２４】
次に、図２（Ｂ）に示すように、再度、シリコンウエハ２６の全周囲を熱酸化して、マスクとしてのＳｉＯ2膜２８ｂを形成する。この場合においても、ＳｉＯ2膜２８ｂの厚みは１．２μｍにすればよい。そして、シリコンウエハ２６の反対側の表面２６ａを覆っているＳｉＯ2膜２８ｂの一部分をエッチングして、インクノズル２２を開口させる領域周辺に対応したパターン３２ａを形成する。エッチング液としては、フッ化アンモニウム（ＨＦ：ＮＨ4Ｆ＝８８０ｍｌ：５６１０ｍｌ）を使用することができる。
【００２５】
次に、図２（Ｃ）に示すように、シリコンウエハ２６をエッチング液に漬けてシリコンウエハ２６の露出部分（パターン３２ａ）に対して異方性ウエットエッチングを施し、インクノズル２２を開口させる領域周辺に対応した溝３２を形成する。この場合に使用するエッチング液は、水酸化カリウム水溶液であり、その濃度は１５ｗｔパーセントで液温９０℃のものを使用できる。エッチング終了後は、ＳｉＯ2膜２８ｂをフッ酸水溶液で全て剥離する。
【００２６】
次に、図２（Ｄ）に示すように、再度、シリコンウエハ２６の全周囲を熱酸化して、マスクとしてのＳｉＯ2膜２８ｃを形成する。ＳｉＯ2膜２８ｃがノズル及び座ぐり形成用のエッチングマスクとなる。この場合においても、ＳｉＯ2膜２８ｃの厚みは１．２μｍにすればよい。
【００２７】
そして、ＳｉＯ2膜２８ｃ上にレジスト膜３４を形成し、レジスト膜３４に座ぐり２４に対応したパターン３４ａを形成する。パターン３４ａが設けられたレジスト膜３４をマスクとして、異方性ドライエッチング（ＲＩＥ）によりＳｉＯ2膜２８ｃにハーフエッチングを施し、ＳｉＯ2膜２８ｃに座ぐり形成用パターン３６ａを形成し、座ぐり形成用パターン領域３６を設ける。
【００２８】
次に、図２（Ｅ）に示すように、レジスト膜３４上にレジスト膜３８を形成し、レジスト膜３８にインクノズル２２に対応したパターン３８ａを形成する。パターン３８ａが設けられたレジスト膜３８をマスクとして、異方性ドライエッチング（ＲＩＥ）によりＳｉＯ2膜２８ｃにエッチングを施し、ＳｉＯ2膜２８ｃにノズル形成用パターン４０ａを形成し、ノズル形成用パターン領域４０を設ける。
【００２９】
このようにして、エッチングマスクとしてのＳｉＯ2膜２８ａに座ぐり形成用パターン領域３６とノズル形成用パターン領域４０とが重ねられて設けられる。
【００３０】
次に、図２（Ｆ）に示すように、ＳｉＯ2膜２８ｃにおけるノズル形成用パターン領域４０をマスクとして、インク吐出方向側の表面から、ＩＣＰ放電による異方性ドライエッチングをシリコンウエハ２６に施す。これにより、ノズル形成用パターン４０ａに対応した形状にエッチングされて、シリコンウエハ２６を貫通する貫通孔４２が形成される。この貫通孔４２が、インクノズル２２となる。
【００３１】
次に、図２（Ｇ）に示すように、ノズル側全面（マスクレス）の異方性ドライエッチング（ＲＩＥ）によりノズル形成用パターン領域４０（ＳｉＯ2膜２８ｃ）にエッチングを施して除去する。これにより、座ぐり形成用パターン３６ａに対応してシリコンウエハ２６が露出される。
【００３２】
次に、図２（Ｈ）に示すように、ＳｉＯ2膜２８ｃにおける座ぐり形成用パターン領域３６をマスクとして、ＩＣＰ放電による異方性ドライエッチングによりシリコンウエハ２６にエッチングを施す。これにより、インクノズル２２の周囲に座ぐり２４が形成される。そして、エッチング終了後は、ＳｉＯ2膜２８ｃをフッ酸水溶液で全て剥離する。
【００３３】
ここで、エッチングマスクとしてのＳｉＯ2膜２８ｃに座ぐり形成用パターン領域３６とノズル形成用パターン領域４０を形成するためのレジスト膜には、感光性の樹脂レジスト膜が用いられる。レジスト膜を、溝３２の面に均一に形成することは、スピンコートを用いては困難である。故に、この部分の樹脂レジスト膜は、均一な厚さになるようにスプレーを用いて塗布することにより形成される。このようにしてエッチングマスクとしてのＳｉＯ2膜エッチング用のレジスト膜を形成する。
【００３４】
次に、図２（Ｉ）に示すように、ノズルプレート１０とは別に作製された、キャビティプレート１２、及びガラス基板１４を張り合わせる。ノズルプレート１０とキャビティプレート１２とを張り合わせることで、当該プレート壁を内壁として構成されたインクキャビティ１６、インク供給口２０、インクリザーバ１８が形成される。
【００３５】
このようにして、本実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを製造することができる。
【００３６】
以上、説明したように、本実施形態では、シリコン単結晶材料からなるノズルプレート１０において、インクノズル２２の周囲を囲んで座ぐり２４が設けている。これにより、インクノズル２２はノズルプレート１０のインク吐出方向側の面より凹んだ位置に設けられることとなり、用紙などがインクノズル２２に接触することがなく、表面処理膜（撥水膜）の劣化を防ぎ、インク吐出の安定化を図っている。
【００３７】
また、本実施形態では、ＩＣＰ放電による異方性エッチングを施してインクノズル２２及び座ぐり２４を形成するので、ウエットエッチングを採用する場合に比べ精度良く且つ簡易にインクノズル２２及び座ぐり２４を形成することができる。
【００３８】
また、本実施形態では、エッチングマスクとしてのＳｉＯ2膜２８ｃに異方性エッチングを施して、座ぐり形成用パターン領域３６とノズル形成用パターン領域４０を設けて、インクノズル２２と座ぐり２４とを形成する。このため、同一作業で連続して精度良くインクノズル２２と座ぐり２４を形成することができる。
【００３９】
（第２実施形態）
図３は、第２実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法を示す工程図である。
【００４０】
本実施形態は、上記第１実施形態に対して製造工程が異なるものである。このため、製造方法以外については説明は省略する。
【００４１】
先ず、例えば、厚さが１８０μｍのシリコンウエハ２６を用意し、当該シリコンウエハ２６を熱酸化させて、その全周囲にマスクとしての厚さが例えば１．２μｍのＳｉＯ2膜２８ａを形成する。
【００４２】
次に、図３（Ａ）に示すように、シリコンウエハ２６の一方の側の表面２６ｂを覆っているＳｉＯ2膜２８ａの一部分をエッチングして、インク供給口２０及びインクリザーバ１８を形成するためのパターンを形成する。エッチング液としては、フッ化アンモニウム（ＨＦ：ＮＨ4Ｆ＝８８０ｍｌ：５６１０ｍｌ）を使用することができる。
【００４３】
そして、シリコンウエハ２６をエッチング液に漬けてシリコンウエハ２６の露出部分（インク供給口２０及びインクリザーバ１８を形成するためのパターンの部分）に対して異方性ウエットエッチングを施し、インク供給口２０及びインクリザーバ１８に対応する三角形断面の溝３０を形成する。この場合に使用するエッチング液としては、水酸化カリウム水溶液であって、濃度が１５ｗｔパーセントで液温９０℃のものを使用できる。エッチング終了後は、ＳｉＯ2膜２８ａをフッ酸水溶液で全て剥離する。
【００４４】
次に、図３（Ｂ）に示すように、再度、シリコンウエハ２６の全周囲を熱酸化して、マスクとしてのＳｉＯ2膜２８ｂを形成する。この場合においても、ＳｉＯ2膜２８ｂの厚みは１．２μｍにすればよい。そして、シリコンウエハ２６の反対側の表面２６ａを覆っているＳｉＯ2膜２８ｂの一部分をエッチングして、インクノズル２２を開口させる領域周辺に対応したパターン３２ａを形成する。エッチング液としては、フッ化アンモニウム（ＨＦ：ＮＨ4Ｆ＝８８０ｍｌ：５６１０ｍｌ）を使用することができる。
【００４５】
次に、図３（Ｃ）に示すように、シリコンウエハ２６をエッチング液に漬けてシリコンウエハ２６の露出部分（パターン３２ａ）に対して異方性ウエットエッチングを施し、インクノズル２２を開口させる領域周辺に対応した溝３２を形成する。この場合に使用するエッチング液は、水酸化カリウム水溶液であり、その濃度は１５ｗｔパーセントで液温９０℃のものを使用できる。エッチング終了後は、ＳｉＯ2膜２８ｂをフッ酸水溶液で全て剥離する。
【００４６】
次に、図３（Ｄ）に示すように、再度、シリコンウエハ２６の全周囲を熱酸化して、マスクとしてのＳｉＯ2膜２８ｃを形成する。この場合においても、ＳｉＯ2膜２８ｃの厚みは１．２μｍにすればよい。
【００４７】
そして、ＳｉＯ2膜２８ｃ上にレジスト膜を形成し、レジスト膜をマスクとして、異方性ドライエッチング（ＲＩＥ）によりＳｉＯ2膜２８ｃに施し、ＳｉＯ2膜２８ｃにインクノズル２２に対応したノズル形成用パターン４４を形成する。このパターン４４が設けられたＳｉＯ2膜２８ｃを、ノズル形成用のエッチングマスク（第１エッチングマスク）として利用する。
【００４８】
次に、図３（Ｅ）に示すように、ＳｉＯ2膜２８ｃ上にレジスト膜４６上を形成し、レジスト膜４６に座ぐり２４に対応した座ぐり形成用パターン４８を形成する。このパターン４８が設けられたレジスト膜４６を、座ぐり形成用のエッチングマスク（第２エッチングマスク）として利用する。
【００４９】
次に、図３（Ｆ）に示すように、ノズル形成用パターン４４が設けられたＳｉＯ2膜２８ｃをマスクとして、インク吐出方向側の表面から、ＩＣＰ放電による異方性ドライエッチングをシリコンウエハ２６に施す。これにより、ノズル形成用パターン４４に対応した形状にエッチングされて、シリコンウエハ２６を貫通する貫通孔４２が形成される。この貫通孔４２が、インクノズル２２となる。
【００５０】
次に、図２（Ｇ）に示すように、座ぐり形成用パターン４８が設けられたレジスト膜４６をマスクとして、異方性ドライエッチング（ＲＩＥ）によりＳｉＯ2膜２８ｃの一部（座ぐり形成用パターン４８により露出したＳｉＯ2膜２８ｃ）にエッチングを施して除去する。これにより、座ぐり形成用パターン４８に対応してシリコンウエハ２６が露出される。
【００５１】
次に、図２（Ｈ）に示すように、座ぐり形成用パターン４８が設けられたレジスト膜４６をマスクとして、ＩＣＰ放電による異方性ドライエッチングによりシリコンウエハ２６にエッチングを施す。これにより、インクノズル２２の周囲に座ぐり２４が形成される。そして、エッチング終了後は、ＳｉＯ2膜２８ｃをフッ酸水溶液で全て剥離する。
【００５２】
ここで、レジスト膜には、感光性の樹脂レジスト膜が用いられる。レジスト膜を溝３２の面に均一に形成することは、スピンコートを用いては困難である。故に、この部分の樹脂レジスト膜は、均一な厚さになるようにスプレーを用いて塗布することにより形成される。このようにしてエッチングマスクとしてのＳｉＯ2膜エッチング用のレジスト膜を形成する。
【００５３】
次に、図２（Ｉ）に示すように、ノズルプレート１０とは別に作製された、キャビティプレート１２、及びガラス基板１４を張り合わせる。ノズルプレート１０とキャビティプレート１２とを張り合わせることで、当該プレート壁を内壁として構成されたインクキャビティ１６、インク供給口２０、インクリザーバ１８が形成される。
【００５４】
このようにして、本実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを製造することができる。
【００５５】
以上、説明したように、本実施形態では、ノズル形成用のエッチングマスク（ＳｉＯ2膜２８ｃ）と座ぐり形成用のエッチングマスク（レジスト膜４６）を別々に形成するため、上記第１実施形態に比べ、ハーフエッチングなどの精度が要求される作業を施す必要がなく、簡易に簡易にノズル及び座ぐりを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の第１実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを示す概略断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法を示す工程図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法を示す工程図である。
【符号の説明】
【００５７】
１０   ノズルプレート
１２   キャビティプレート
１４   ガラス基板
１６   インクキャビティ
１８   インクリザーバ
２０   インク供給口
２２   インクノズル
２４   座ぐり
２６   シリコンウエハ
【図１】
2005212131.tif 000003
【図２】
2005212131.tif 000004
【図３】
2005212131.tif 000005