(57)【要約】【課題】  ニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体を簡便に還元して、１−（ニトロアリール）アルキルアミンを高収率で製造する方法を提供する。【解決手段】  ニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体（２）を、酸添加剤の存在下、水素化ホウ素アルカリにより還元することを特徴とする１−（ニトロアリール）アルキルアミン（１）の製法。2005330187.tif 0000192005330187.tif 000020［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基を表す。但し、Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基における１〜５個の水素原子は１〜５個の置換基により置換されてもよい。Ａｒは炭素数６〜１４のアリーレン基を表す。但し、アリーレン基における１〜５個の水素原子は１〜５個の置換基により置換されてもよい。］【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（２）で示されるニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体を、酸添加剤の存在下、水素化ホウ素アルカリにより還元することを特徴とする下式（１）で示される１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。
2005330187.tif 000013
2005330187.tif 000014
［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基を表す。但し、Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基における１〜５個の水素原子は１〜５個の置換基により置換されてもよい。Ａｒは炭素数６〜１４のアリーレン基を表す。但し、Ａｒで表されるアリーレン基における１〜５個の水素原子は１〜５個の置換基により置換されてもよい。］
【請求項２】
式（１）で示される１−（ニトロアリール）アルキルアミンが下式（１’）で示される化合物であり、式（２）で示されるニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体が下式（２’）で示される化合物である請求項１に記載の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。但し、下式（１’）及び（２’）におけるベンゼン環中の４位と５位、又は５位と６位に、さらにベンゼン環又はナフタレン環が縮合して多環式炭化水素基を形成してもよい。
2005330187.tif 000015
［式中、Ｒ１及びＲ２は、請求項１記載と同じ定義である。］
【請求項３】
式（１）及び（２）におけるアリーレン基が、フェニレン基である請求項１又は２に記載の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。
【請求項４】
式（１）、（１’）、（２）及び（２’）におけるＲ１が、メチル基である請求項１〜３のいずれかに記載の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。
【請求項５】
式（２）及び（２’）におけるＲ２が、メチル基である請求項１〜４のいずれかに記載の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。
【請求項６】
酸添加剤が、三フッ化ホウ素又は三フッ化ホウ素の錯体である請求項１〜５のいずれかに記載の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。
【請求項７】
酸添加剤が、三フッ化ホウ素とジエチルエーテルとの錯体である請求項１〜６のいずれかに記載の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。
【請求項８】
酸添加剤が、酸性度定数（ｐＫａ）３以下の酸である請求項１〜５のいずれかに記載の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。
【請求項９】
酸添加剤が、メタンスルホン酸である請求項１、２、３、４、５及び８のいずれかに記載の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。
【請求項１０】
酸添加剤が、硫酸である請求項１、２、３、４、５及び８のいずれかに記載の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。
【請求項１１】
水素化ホウ素アルカリが、水素化ホウ素ナトリウムである請求項１〜１０のいずれかに記載の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法。
【請求項１２】
下式（２’’）で示されるニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体。
2005330187.tif 000016
［式中、Ｒ１及びＲ２は請求項１と同じ定義である。−Ａｒ’−ＮＯ２は、以下の構造式からなる群より選ばれる基である。但し、以下の構造式における１〜５個の水素原子は１〜５個の置換基により置換されてもよい。］
2005330187.tif 000017
【請求項１３】
式（２’’）における−Ａｒ’−ＮＯ２が、以下の構造式で示される基である請求項１２に記載のニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体。
2005330187.tif 000018
【請求項１４】
式（２’’）におけるＲ１が、メチル基である請求項１２又は１３に記載のニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体。
【請求項１５】
式（２’’）におけるＲ２が、メチル基である請求項１２、１３又は１４に記載のニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医農薬中間体として有用な１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法、及び、該１−（ニトロアリール）アルキルアミンの原料化合物として有用なニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体をヒドリド還元して、１−（ニトロアリール）アルキルアミンを製造する方法としては、例えば、下記１）〜２）の方法が公知である。
１）メチルオキシム誘導体を、ボラン・テトラヒドロフラン錯体により還元する方法（非特許文献１を参照）
２）ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシム誘導体を、ボラン・テトラヒドロフラン錯体により還元する方法（非特許文献２を参照）
【０００３】
【非特許文献１】J．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６５，３９７１（２０００）［第３９７９頁参照］
【０００４】
【非特許文献２】Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓｅａｒｃｈ（Ｓ），１０（１９９８）［第１０頁参照］
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記１）の方法は、１−（ニトロアリール）アルキルアミンの収率が低い（５０％）という問題があった。また、上記２）の方法は、原料化合物であるｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシム誘導体の調製に数段階を要するという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の目的は、ニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体を簡便に還元して、１−（ニトロアリール）アルキルアミンを高収率で製造する方法を提供することにある。
また、本発明の別の目的は、１−（ニトロアリール）アルキルアミンを高収率で製造することが可能な、特定構造を有するニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体を提供することにある。
【０００７】
本発明者は、鋭意検討した結果、酸添加剤の存在下、水素化ホウ素アルカリによりニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体を還元すると、上記課題を解決できることを見出して、本発明を完成した。
【０００８】
すなわち、本発明の（イ）は、下式（２）で示されるニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体を、酸添加剤の存在下、水素化ホウ素アルカリにより還元することを特徴とする下式（１）で示される１−（ニトロアリール）アルキルアミンの製造方法を提供するものである。
2005330187.tif 000002
【０００９】
2005330187.tif 000003
【００１０】
［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基を表す。但し、Ｒ１及びＲ２で表されるアルキル基における１〜５個の水素原子は１〜５個の置換基により置換されてもよい。Ａｒは炭素数６〜１４のアリーレン基を表す。但し、Ａｒで表されるアリーレン基における１〜５個の水素原子は１〜５個の置換基により置換されてもよい。］
【００１１】
また、本発明（ロ）は、下式（２’’）で示されるニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体を提供するものである。
2005330187.tif 000004
［式中、Ｒ１及びＲ２は前記と同じ定義である。−Ａｒ’−ＮＯ２は、以下の構造式からなる群より選ばれる基である。但し、以下の構造式における１〜５個の水素原子は１〜５個の置換基により置換されてもよい。］
【００１２】
2005330187.tif 000005
【発明の効果】
【００１３】
本発明の（イ）によれば、式（１）で示される１−（ニトロアリール）アルキルアミンを収率良く製造することができる。
本発明（ロ）のニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体からは、式（１）で示される１−（ニトロアリール）アルキルアミンを高収率で製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の（イ）において、ニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体（２）は、例えば、Ｊ．ｏｆ  Ｌａｂｅｌｌｅｄ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄ  ＆  Ｒａｄｉｏｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ，４３（１１），１０８７（２０００）に記載の方法を参考にして、ニトロアリールアルキルケトン及びＲ２ＯＮＨ２塩酸塩等から製造することができる。
上記のオキシム誘導体（２）は、上記製造法以外の方法により製造された化合物を使用してもよい。
【００１５】
本発明の（イ）において、式（１）におけるＲ１及び式（２）におけるＲ２は、それぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基を表す。Ｒ１及びＲ２で表される炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基やｎ−デシル基等が挙げられる。該アルキル基における１〜５個の水素原子は、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、アミノ基、炭素数１〜１０のアルキルアミノ基、炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基、ニトロ基、炭素数１〜１１のアルコキシカルボニル基及びハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子やヨウ素原子）からなる群より選ばれる１〜５個の置換基で置換されてもよい。
【００１６】
より好ましいＲ１及びＲ２としては、炭素数１〜５の直鎖状アルキル基が挙げられる。特に好ましいＲ１及びＲ２としては、メチル基が挙げられる。
【００１７】
本発明の（イ）において、上式（１）及び（２）におけるＡｒは、炭素数６〜１４のアリーレン基を表す。但し、該アリーレン基における１〜５個の水素原子は、１〜５個の置換基により置換されてもよい。
【００１８】
Ａｒで表される炭素数６〜１４のアリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、フェナントリレン基やビフェニレン基等が挙げられる。これらの基における１〜５個の水素原子は、炭素数１〜１０のアルキル基、ヒドロキシル基、炭素数１〜１０のアルコキシル基、アミノ基、炭素数１〜１０のアルキルアミノ基、炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基、ニトロ基、炭素数１〜１１のアルコキシカルボニル基及びハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子やヨウ素原子）からなる群より選ばれる１〜５個の置換基で置換されてもよい。
より好ましいＡｒとしては、フェニレン基やナフチレン基が挙げられる。特に好ましいＡｒとしては、フェニレン基が挙げられる。
【００１９】
本発明の（イ）においては、式（１）で示される１−（ニトロアリール）アルキルアミンが下式（１’）で示される化合物であり、式（２）で示されるニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体が下式（２’）で示される化合物が好ましい。但し、式（１’）及び（２’）におけるベンゼン環中の４位と５位、又は５位と６位に、さらにベンゼン環又はナフタレン環が縮合して多環式炭化水素基を形成してもよい。
2005330187.tif 000006
［式中、Ｒ１及びＲ２は、上記と同じ定義である。］
【００２０】
本発明（イ）におけるニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体（２’）としては、好ましくは、以下の構造式で示される化合物が挙げられる。
【００２１】
2005330187.tif 000007
【００２２】
本発明の（イ）において、水素化ホウ素アルカリとしては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウムや水素化ホウ素カリウム等が挙げられる。好ましい水素化ホウ素アルカリは水素化ホウ素ナトリウムや水素化ホウ素リチウムであり、特に好ましい水素化ホウ素アルカリは水素化ホウ素ナトリウムである。
【００２３】
本発明の（イ）における水素化ホウ素アルカリの使用量は、ニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体（２）に対して、通常は１〜１０モル倍の範囲であり、好ましくは１〜７モル倍の範囲であり、より好ましくは２〜５モル倍の範囲である。
【００２４】
本発明の（イ）における酸添加剤としては、ルイス酸（三フッ化ホウ素や三フッ化ホウ素の錯体等）又は酸性度定数（ｐＫａ）３以下のブレンステッド酸が挙げられる。
上記の三フッ化ホウ素の錯体としては、例えば、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素ジメチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素ジブチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素テトラヒドロフラン錯体、三フッ化ホウ素酢酸錯体、三フッ化ホウ素メチルスルフィド錯体、三フッ化ホウ素リン酸錯体や三フッ化ホウ素フェノール錯体等が挙げられる。
酸性度定数（ｐＫａ）３以下のブレンステッド酸としては、例えば、硫酸、過塩素酸、臭化水素酸、塩酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸やリン酸等が挙げられる。
【００２５】
酸添加剤としては、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、メタンスルホン酸や硫酸が好ましい。酸添加剤としては、還元反応液の流動性が良好であるという観点から、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体が殊に好ましい。
【００２６】
酸添加剤がルイス酸である場合、その使用量は、水素化ホウ素アルカリに対して、通常は０．５〜５モル倍の範囲であり、好ましくは１〜２モル倍の範囲であり、より好ましくは１〜１．５モル倍の範囲である。
【００２７】
酸添加剤がブレンステッド酸である場合、その使用量は、水素化ホウ素アルカリに対して、通常はプロトン換算で０．５〜５モル倍の範囲であり、好ましくはプロトン換算で１〜２モル倍の範囲であり、より好ましくはプロトン換算で１〜１．５モル倍の範囲である。ブレンステッド酸として、例えばメタンスルホン酸等のような一価の酸を用いた場合、該一価の酸の使用量は、水素化ホウ素アルカリに対して、通常は０．５〜５モル倍の範囲であり、好ましくは１〜２モル倍の範囲であり、より好ましくは１〜１．５モル倍の範囲である。ブレンステッド酸として、例えば硫酸等のような二価の酸を用いた場合、該二価の酸の使用量は、水素化ホウ素アルカリに対して、通常は０．２５〜２．５モル倍の範囲であり、好ましくは０．５〜１モル倍の範囲であり、より好ましくは０．５〜０．７５モル倍の範囲である。
【００２８】
本発明（イ）の製造方法は、通常は反応溶媒の存在下に還元される。該反応溶媒としては、例えば、次のものが挙げられる。
＜エーテル系溶媒＞
テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジメトキシエタンやジエトキシメタン等。
＜次の芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒又はハロゲン系溶媒と、上記のエーテル系溶媒の混合溶媒＞
（芳香族炭化水素系溶媒）
ベンゼン、トルエン、クロロベンゼンやｏ−ジクロロベンゼン等。
（脂肪族炭化水素系溶媒）
ヘキサンやヘプタン等。
（ハロゲン系溶媒）
ジクロロメタンや１，２−ジクロロエタン等。
【００２９】
上記反応溶媒の使用量は、ニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体（２）に対して、通常は１〜１００重量倍、好ましくは５〜５０重量倍、さらに好ましくは５〜２０重量倍の範囲である。
【００３０】
本発明（イ）における還元反応温度は、通常は−２０〜１５０℃の範囲であり、好ましくは０〜１００℃の範囲であり、特に好ましくは０〜７０℃の範囲である。本発明（イ）における還元反応は、２０℃以下で開始し、ニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体（２）や反応中間体の濃度が低下した後、約７０℃まで昇温して反応を完結させることが殊に好ましい。
【００３１】
還元反応終了後、反応液に塩酸や硫酸水溶液等の酸を滴下して加熱攪拌する。その後、減圧下に有機溶媒を留去する。留去後の濃縮残分に、水と、上記の芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒やハロゲン系溶媒とを加えて攪拌後、分液して水層を得る。次に、該水層に上記の芳香族炭化水素系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒やハロゲン系溶媒を加え、アルカリ水溶液を加えて液をアルカリ性にした後、有機層に生成物を抽出する。該生成物を抽出した有機層は、必要に応じて水洗した後、水洗後の有機層を減圧下に濃縮して、上記の有機溶媒を留去する。留去により得られた濃縮残分は、さらに、蒸留、晶析又はシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製してもよい。別の精製法としては、反応で生成した１−（ニトロアリール）アルキルアミンを塩酸で処理して塩酸塩とした後、該塩酸塩を晶析により精製してもよい。かくして、１−（ニトロアリール）アルキルアミン（１）を得ることができる。
【００３２】
本発明（ロ）は、下式（２’’）で示されるニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体である。
【００３３】
2005330187.tif 000008
［式中、Ｒ１及びＲ２は上記と同じ定義である。−Ａｒ’−ＮＯ２は、以下の構造式からなる群より選ばれる基である。但し、以下の構造式における１〜５個の水素原子は１〜５個の置換基により置換されてもよい。］
2005330187.tif 000009
【００３４】
好ましいＲ１及びＲ２としては、炭素数１〜５の直鎖状アルキル基が挙げられ、より好ましいＲ１及びＲ２としては、メチル基が挙げられる。好ましいＡｒ’としては、フェニレン基やナフチレン基が挙げられ、より好ましいＡｒ’としては、フェニル基が挙げられる。
【００３５】
ニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体（２’’）としては、例えば、ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシム等が挙げられる。
【実施例】
【００３６】
以下、参考例や実施例等により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【００３７】
参考例１
［ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムの製造例］
2005330187.tif 000010
【００３８】
メトキシアミン塩酸塩６０．７ｇ（０．７２７ｍｏｌ）、ｍ−ニトロアセトフェノン１００．０ｇ（０．６０６ｍｏｌ）及びメタノール４８０ｇの混合物中に、ピリジン５７．５ｇ（０．７２７ｍｏｌ）をトルエン１００ｇに溶解した溶液を、攪拌下に２５℃で１時間かけて滴下した。滴下終了後、２５℃で２時間攪拌した。得られた反応液に、トルエン２００ｇと１０％塩化ナトリウム水溶液４００ｇを加えて攪拌した。静置、分液後、得られた有機層を水２００ｇで洗浄し、分液した。得られた有機層を濃縮して、ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムの１１５．８ｇを含むトルエン溶液２１７．２ｇを得た（収率９８．５％）。
さらに、上記トルエン溶液の一部を濃縮して得た残分（ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムの含量は９４．８％）を、ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して３重量倍のメタノールと、ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して２重量倍の水との溶液から再結晶して、含量９９．４％のｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシム（淡黄色固体）を得た。
【００３９】
［ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムの１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ；ＣＤＣｌ３）データ］
δ：２．２６（ｓ，３Ｈ），４．０４（ｓ，３Ｈ），７．５４（ｄｄ，１Ｈ），８．００（ｄ，１Ｈ），８．２０（ｄ，１Ｈ），８．５０（ｓ，１Ｈ）
【００４０】
実施例１
［１−（３−ニトロフェニル）エチルアミンの製造例］
2005330187.tif 000011
【００４１】
水素化ホウ素ナトリウム３７．４ｇ（０．９８９ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン４７５ｇ及び参考例１で得たｍ−ニトロアセトフェノン Ｏ−メチルオキシムのトルエン溶液１８０．０ｇ（純分９６．０ｇ、０．４９４ｍｏｌ）の混合物中に、攪拌下、２０〜３０℃で三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯体１８２．４ｇ（１．２８５ｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、同温度で１５時間攪拌し、次いで、５５〜６５℃で５時間攪拌した。反応終了後、２０℃以下に冷却した。次に、１０％塩酸２３４．３ｇ（０．６４３ｍｏｌ）を２０〜５０℃で滴下した。滴下終了後、６０〜６４℃で３時間攪拌した。得られた反応液を２０℃以下に冷却後、減圧下に濃縮して、有機溶媒を留去した。得られた濃縮残分に６０〜６５℃で攪拌下に水２５０ｇ及びトルエン１９２ｇを加えた。次いで、得られた混合液を静置した後、分液により有機層を除去して、水層を得た。得られた水層を２０℃以下に冷却後、トルエン３８４ｇを加え、２８％水酸化ナトリウム水溶液の３２５ｇを滴下して、水層ｐＨを１２以上に調整後、静置、分液した。分液後、得られた有機層を水９６ｇで２回洗浄した。水洗後の有機相を減圧下に濃縮して、含量９７．６％の１−（３−ニトロフェニル）エチルアミンの７６．１ｇ（純分７４．３ｇ）収率９０．５％で得た。
表１に、反応条件と、反応液（反応終了時）中の生成物の液体クロマトグラフ（ＬＣ）による分析値（ＬＣ面百値）を示す。
【００４２】
実施例２
ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムの仕込量を１２０．０ｇ（純分）とし、テトラヒドロフランをｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して１０重量倍使用し、且つ、反応液の保温を２５℃／２時間及び６５℃／４時間にする以外は、実施例１と同様にして操作して、含量９５．８％の１−（３−ニトロフェニル）エチルアミン９７．４ｇを得た（収率９０．８％）。
【００４３】
実施例３
ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムの仕込量を３．００ｇ（純分）とし、三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯体の仕込量をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して２．０モル倍とし、テトラヒドロフランの使用量をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して１０重量倍とし、且つ、反応液の保温を２５℃／３時間及び６５℃／４時間にする以外は、実施例１と同様にして操作した。１０％塩酸で処理後、有機溶媒を濃縮した後の残分中の１−（３−ニトロフェニル）エチルアミンを定量分析したところ、１−（３−ニトロフェニル）エチルアミンの収率は９０．１％であった。
【００４４】
実施例４
ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムの仕込量を４４９ｇ（純分）とし、水素化ホウ素ナトリウムの仕込量をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して３．０モル倍とし、三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯体の替わりにメタンスルホン酸をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して３．０モル倍用い、テトラヒドロフランの使用量をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して１０重量倍とし、且つ、反応液の保温条件を２８℃／１５時間及び６２℃／１１時間とした以外は、実施例１と同様に操作した。そして、含量８５．５％の１−（３−ニトロフェニル）エチルアミン３８６．５ｇを得た（収率８６．０％）。
【００４５】
実施例５
ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシム仕込量を３．００ｇ（純分）とし、水素化ホウ素ナトリウムの仕込量をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して３．０モル倍とし、三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯体の替わりにメタンスルホン酸をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して３．０モル倍用い、テトラヒドロフランの使用量をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して１２重量倍とし、且つ、反応液の保温条件を０℃／１４時間、３０℃／１８時間及び６５℃／３時間とした以外は実施例１と同様に操作した。そして、１０％塩酸で処理後、有機溶媒を濃縮した後の残分中の１−（３−ニトロフェニル）エチルアミンを定量分析したところ、１−（３−ニトロフェニル）エチルアミンの収率は１００％であった。
【００４６】
実施例６
ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシム仕込量を３．００ｇ（純分）とし、水素化ホウ素ナトリウムの仕込量をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して５．０モル倍とし、三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯体の替わりに硫酸をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して２．５モル倍用い、テトラヒドロフランの使用量をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して１１重量倍とし、且つ、反応液の保温条件を０℃／１８時間、３０℃／２７時間及び６５℃／４時間とした以外は、実施例１と同様に操作した。そして、１０％塩酸処理後の有機層中の１−（３−ニトロフェニル）エチルアミンを定量分析したところ、１−（３−ニトロフェニル）エチルアミンの収率は８７％であった。
【００４７】
実施例７
ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシム仕込量を１．００ｇ（純分）とし、水素化ホウ素ナトリウムの仕込量をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して５．０モル倍とし、三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯体の替わりに硫酸をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して２．５モル倍用い、テトラヒドロフランの使用量をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して４７重量倍とし、且つ、反応液の保温条件を０℃／１４時間及び２７℃／２５時間とした以外は、実施例１と同様に操作して、反応液中の１−（３−ニトロフェニル）エチルアミンのＬＣ面百値を分析した（表１参照）。反応終了時のＬＣ面百値は９２％であった。
【００４８】
比較例１
ｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムの仕込量を１．００ｇ（純分）とし、水素化ホウ素ナトリウムと三フッ化ホウ素のジエチルエーテル錯体の替わりに、ボラン・テトラヒドロフラン溶液（１Ｍ濃度）をｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して５．０モル倍用い、テトラヒドロフランをｍ−ニトロアセトフェノンＯ−メチルオキシムに対して４２重量倍用い、且つ、反応液の保温条件を０℃／１５時間及び２７℃／１９時間とした以外は、実施例１と同様に操作して、反応液中の１−（３−ニトロフェニル）エチルアミンのＬＣ面百値を分析した（表１参照）。反応終了時のＬＣ面百値は５０％であった。
【００４９】
【表１】
2005330187.tif 000012
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明（イ）の方法で得られる１−（ニトロアリール）アルキルアミンは、乾癬・自己免疫疾患治療薬の合成用中間体化合物として有用である（ＵＳＰ６，４９８，１７８を参照）。また、本発明（ロ）のニトロアリールアルキルケトンのオキシム誘導体は、上記の１−（ニトロアリール）アルキルアミンの原料化合物として有用である。