(57)【要約】【課題】  各種光学用途などに有用な、表面に微粒子が、所定のパターンに規則的に配置した基板を、短時間で効率よく、かつ安定的に製造する方法を提供する。【解決手段】  微粒子と液状媒体を含む微粒子分散液中に、表面に溝を有する基板を傾斜させて、その一端を浸積させることにより、前記微粒子分散液を、前記基板の溝に沿って上昇させて溝内に満たしたのち、前記液状媒体を気化させて、前記溝に微粒子を配置する。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
微粒子と液状媒体を含む微粒子分散液中に、表面に溝を有する基板を傾斜させて、その一端を浸積させることにより、前記微粒子分散液を、前記基板の溝に沿って上昇させて溝内に満たしたのち、前記液状媒体を気化させて、前記溝に微粒子を配置することを特徴とする微粒子配置基板の製造方法。
【請求項２】
表面に溝を有する基板の一端を微粒子分散液中に浸積させる際の基板の傾斜角度が、６０°以下である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
液状媒体の２０℃における表面張力が１５０〜４００μＮ／ｃｍであり、大気圧下での沸点が３０〜１８０℃である請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
微粒子分散液が界面活性剤を含む請求項１、２または３に記載の方法。
【請求項５】
微粒子が、平均粒径０．０１〜５０μｍおよび粒度分布の変動係数（ＣＶ値）５％以下のシリカ系微粒子である請求項１ないし４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
微粒子が、表面に熱可塑性成分または未硬化熱硬化性成分の被覆層を有し、かつ配置後加熱処理して、該微粒子を固定化させる請求項１ないし５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の方法で得られたことを特徴とする微粒子配置基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微粒子配置基板の製造方法およびその方法で得られた微粒子配置基板に関する。さらに詳しくは、本発明は、各種光学用途などに有用な、表面に微粒子が、所定のパターンに規則的に配置した基板を、短時間で効率よく、かつ安定的に製造する方法、およびこの方法で得られた微粒子配置基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学的または熱的性質や形状が制御された機能性微粒子を、基板上に規則的に堆積・配列させる技術は、次世代の光機能素子や化学センサなどを構築するための基礎技術として注目されている。
例えば、光学的に制御された微粒子を表面に一次元に配列した基板は、光導波路、マイクロレンズアレイ、レーザアレイ、光カップラ、光アイソレータ、光コリメータなどの用途が考えられ、二次元に配列した基板は、光の拡散、反射、回折などの光学材料、面発光レーザ、平板型のマイクロレンズアレイ、光カップラ、光アイソレータ、光コリメータなどの用途が考えられる。また、三次元に配列した基板は、フォトニック材料などの用途が考えられる。
【０００３】
表面基板に、微粒子を六方晶格子状または正方晶格子状などに、短時間で規則的に配列させる方法として、例えば、蒸気圧および表面張力を異にする２種以上の液体を含有し、かつ均一組成を有する液体混合物から成る媒体中に、凝集相微粒子を分散し、該微粒子分散液を基板表面上に流延して液膜を形成させ、該液膜から前記媒体の一部を気化除去することにより、該微粒子を該基板表面に単層もしくは複数層に展開する微粒子薄膜の製造方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、この製造方法においては、製造条件を極めて厳密に制御しなければ、微粒子を所望の形状に規則的に配列することができず、したがって、安定した形状の微粒子配列が得られにくいという欠点がある。
【特許文献１】特開２００２−２８６９６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、このような事情のもとで、各種光学用途などに有用な、表面に微粒子が、所定のパターンに規則的に配置した基板を、短時間で効率よく、かつ安定的に製造する方法、およびこの方法で得られた微粒子配置基板を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、表面に所定パターンの溝が形成された基板を、傾斜させて、その一端を微粒子分散液中に浸積させることにより、その目的を達成し得ることを見出し、その知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００６】
すなわち、本発明は、
（１）微粒子と液状媒体を含む微粒子分散液中に、表面に溝を有する基板を傾斜させて、その一端を浸積させることにより、前記微粒子分散液を、前記基板の溝に沿って上昇させて溝内に満たしたのち、前記液状媒体を気化させて、前記溝に微粒子を配置することを特徴とする微粒子配置基板の製造方法、
（２）表面に溝を有する基板の一端を微粒子分散液中に浸積させる際の基板の傾斜角度が、６０°以下である上記（１）項に記載の方法、
（３）液状媒体の２０℃における表面張力が１５０〜４００μＮ／ｃｍであり、大気圧下での沸点が３０〜１８０℃である上記（１）または（２）項に記載の方法、
（４）微粒子分散液が界面活性剤を含む上記（１）、（２）または（３）項に記載の方法、
（５）微粒子が、平均粒径０．０１〜５０μｍおよび粒度分布の変動係数（ＣＶ値）５％以下のシリカ系微粒子である上記（１）ないし（４）項のいずれか１項に記載の方法、
（６）微粒子が、表面に熱可塑性成分または未硬化熱硬化性成分の被覆層を有し、かつ配置後加熱処理して、該微粒子を固定化させる上記（１）ないし（５）項のいずれか１項に記載の方法、および
（７）上記（１）ないし（６）項のいずれか１項に記載の方法で得られたことを特徴とする微粒子配置基板、
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、各種光学用途などに有用な、表面に微粒子が、所定のパターンに規則的に配置した基板を、短時間で効率よく、かつ安定的に製造する方法、およびこの方法で得られた微粒子配置基板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の微粒子配置基板の製造方法においては、微粒子と液状媒体を含む微粒子分散液中に、表面に溝を有する基板を傾斜させて、一端を浸積させることにより、前記溝に微粒子を配置する方法が用いられる。
前記微粒子分散液を構成する液状媒体（以下、分散媒と称すことがある。）としては、２０℃における表面張力が１５０〜４００μＮ／ｃｍであり、かつ大気圧下での沸点が３０〜１８０℃である液体が好ましく、特に上記表面張力が２００〜３５０μＮ／ｃｍであり、かつ上記沸点が４０〜１３０℃の範囲にある液体が好ましい。このような液体の具体例としては、メタノール（２４０μＮ／ｃｍ、６５℃）、エタノール（２４０μＮ／ｃｍ、７８℃）、プロパノール（２３０〜２５０μＮ／ｃｍ、８２〜９７℃）、ブタノール（２４０μＮ／ｃｍ、８２〜１１７℃）、アセトニトリル（３２０μＮ／ｃｍ、８１℃）、メチルエチルケトン（２８０μＮ／ｃｍ、８０℃）、酢酸イソブチル（２６０μＮ／ｃｍ、１１７℃）、１−ヘプタン（２２０μＮ／ｃｍ、９４℃）、硫化ジエチル（３５０μＮ／ｃｍ、５３℃）などを挙げることができる。なお、上記（  ）内の数値は、前者が２０℃での表面張力を示し、後者が大気圧下での沸点を示す。分散媒は一種類、あるいは、相溶性を有する二種類以上の液体の混合物でもよい。
これらの液体を、微粒子分散液の液状媒体として用いる場合には、蒸留などの精製操作によって、純度を１００％近くにする必要はなく、むしろ数質量％程度の水を含むことが、実質的に好ましい。
【０００９】
一方、前記微粒子分散液を構成する微粒子の種類については、特に制限はなく、様々な種類のもの、例えば無機系、有機高分子系、無機有機ハイブリッド系粒子などの中から、形成される微粒子配置基板の用途に応じて適宜選択して用いられる。
ここで、無機系粒子としては、例えばシリカ粒子、アルミナ粒子、チタニア粒子、ジルコニア粒子、酸化鉄粒子、カーボンなどが挙げられ、有機高分子系粒子としては、例えばポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアクリルアミド、ベンゾグアナミン樹脂、ベンゾグアナミン／メラミン／ホルムアルデヒド樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂などの粒子が挙げられる。
【００１０】
一方、無機有機ハイブリッド系粒子としては、例えばメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、メチルエチルジメチルシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、エチルフェニルジメトキシシラン、エチルフェニルジエトキシシランなどのオルガノアルコキシシランの加水分解・縮重合によって得られるポリオルガノシロキサン粒子を挙げることができる。
【００１１】
本発明においては、これらの微粒子は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、微粒子の比重としては、分散媒として用いられる液状媒体よりも大きければよく、特に制限はないが、あまり大きすぎると、微粒子分散液での沈降速度が速すぎるため、安定した微粒子分散液が得られにくく、操作中に微粒子が沈降するおそれがある。したがって、比重の上限は５程度である。
【００１２】
さらに、当該微粒子は、分散媒に分散可能であることが肝要であり、したがって、分散媒に容易に分散し得るように表面処理してもよい。表面処理の方法としては、前記無機系粒子の場合は、シランカップリング剤で表面処理する方法を用いることができる。また、前記の無機系粒子や有機系粒子を、前記の無機有機ハイブリッド系粒子の原料として例示したオルガノアルコキシシランの加水分解・縮重合ゾルに投入し、その表面にポリオルガノシロキサンを被覆して、コア／シェル構造とする方法を用いることができる。
【００１３】
さらに、微粒子表面に接着性成分の被覆層を設けることができる。この被覆層としては、熱可塑性樹脂または未硬化熱硬化性樹脂からなる層が挙げられる。このような接着性成分の被覆層を設けることにより、この微粒子が配置した基板を加熱処理することにより、該微粒子を微粒子同士および基板と固着させ、密着性よく、固定化することができる。なお、前述のコア／シェル構造の微粒子においては、シェルが接着性成分としての機能も有している。
【００１４】
当該微粒子の形状については特に制限はなく、単分散な真球状、繭型形状、等方多面体など、いずれであってもよい。また、その大きさは、球状の場合は、通常平均粒径で０．０１〜５０μｍ程度、好ましくは０．１〜２０μｍである。また、粒度分布の変動係数（ＣＶ値）は５％以下が好ましく、より好ましくは３％以下、さらに好ましくは２％以下である。
なお、変動係数（ＣＶ値）は、下式により求めることができる。
ＣＶ値（％）＝（粒径の標準偏差／平均粒径）×１００
本発明においては、微粒子として、特に平均粒径が０．０１〜５０μｍでＣＶ値が５％以下のシリカ系微粒子が好ましい。
【００１５】
本発明においては、微粒子分散液の濃度は、当該微粒子の比重や粒径などによって異なるが、通常０．１〜５質量％程度である。なお、粒径が数μｍ程度のシリカ系粒子の場合は、１質量％程度とすることが好ましい。
また、この微粒子分散液には、該微粒子の分散性および分散媒の表面張力を調整するために、界面活性剤を添加することができる。この界面活性剤は、使用する分散媒と微粒子の組み合わせ、あるいは後述の基板の材質などによって、公知の界面活性剤の中から適宜選択すればよい。界面活性剤の使用量は特に制限はないが、分散媒に対し、通常０．００１〜１質量％程度、好ましくは０．００５〜０．５質量％である。
【００１６】
本発明において用いられる基板の材質については特に制限はなく、形成される微粒子配置基板の用途に応じて、有機高分子化合物、ガラス、セラミックス、金属、半金属などの中から適宜選択することができる。基板の素材としては、例えばポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ポリメチルペンテン、エポキシ樹脂などの有機高分子化合物、ソーダ石灰ガラス、無アルカリガラス、石英ガラスなどのガラス、アルミナ、ジルコニアなどのセラミックス、アルミニウム、チタン、シリコンなどの金属および半金属が挙げられる。基板の材質に応じて、分散媒の種類や界面活性剤の種類を適宜選択する。
【００１７】
本発明においては、基板として、表面に溝が形成された基板が用いられる。後で説明するように、この溝に沿って微粒子分散液が上昇し、微粒子が配置される。したがって、溝のパターンについては特に制限はなく、微粒子の所望配置パターンに応じて、適宜選択される。この溝は直線状に設けてもよいし、曲線状に設けてもよく、また１列設けてもよいし、複数列設けてもよい。複数列設ける場合、隣接する列同士の間隔は同じでも、異なってもよい。
【００１８】
溝の断面形状としては、特に制限はなく、例えば凹形状、Ｖ形状、半円形状などを挙げることができるが、特にＶ形状が好ましい。Ｖ形状の場合、溝底角度は１２０°以下が好ましく、より好ましくは４５〜９０°、特に好ましくは６０°近辺である。また、溝幅は、使用する微粒子の平均粒径に対して１０倍以下が好ましく、より好ましくは５倍以下、さらに好ましくは１〜２倍である。溝深さは、該微粒子の平均粒径の０．１〜５倍程度が好ましく、より好ましくは０．５〜３．０倍である。
【００１９】
本発明においては、溝の形成方法については特に制限はなく、基板の材質の種類に応じて、様々な方法の中から、適宜選択することができる。具体的には、射出成形法、エッチング法、フォトリソグラフィ法、熱転写法、ゾル−ゲルエンボス法などの方法を採用することができる。
本発明においては、このようにして表面に溝を設けてなる基板を傾斜させて、その一端を微粒子分散液中に浸積させることにより、該微粒子分散液を前記基板の溝に沿って上昇させて溝内を満たしたのち、分散媒を気化させ、前記溝に微粒子を配置させる。
【００２０】
微粒子分散液中に、基板の一端を浸積させる際の基板の傾斜角度（浸積角度）は特に制限はないが、６０°以下が好ましく、特に５〜４５°が好ましい。また、基板の浸積時間については、特に制限はなく、基板のサイズと溝の形成パターンによって、最適時間が選定される。例えば、基板のサイズが３ｃｍ×４ｃｍ程度であれば、３〜１０分程度が好ましい。さらに、浸積速度および引上げ速度については特に制限はないが、それぞれ１ｍｍ／ｓ程度が好ましい。
【００２１】
溝に沿って微粒子分散液を上昇させ、形成された液膜から分散媒を気化させる方法としては特に制限はなく、目的に応じて最適乾燥条件が設定される。
このようにして、乾燥し、分散媒を気化させることにより、微粒子が所定パターンの溝に沿って規則的に配置した基板が得られる。また、接着性成分が被覆された微粒子を用いた場合には、乾燥後に、前記接着性成分の種類に応じて、適当な温度で加熱処理することにより、該微粒子は、密着性よく固定化される。
【００２２】
本発明方法によれば、基板表面に所定パターンの溝を形成することにより、その溝に沿って微粒子が配置するので、溝のパターンを選択することで、微粒子が所望パターン形状に規則的に配置した基板を、安定して製造することができる。
本発明はまた、このような本発明の方法で得られた微粒子配置基板をも提供する。
この微粒子配置基板の用途としては、その形状と次元によって、以下に示す用途が考えられる。例えば、一次元に配列した場合においては、光導波路、マイクロレンズアレイ、レーザアレイ、光カップラ、光アイソレータ、光コリメータなどが考えられる。また二次元に配列した場合においては、光の拡散・反射・回折などの光学材料、面発光レーザ、平板型のマイクロレンズアレイ、光カップラ、光アイソレータ、光コリメータなどが考えられる。さらに三次元に配列した場合においては、結晶性を持つように微粒子を配列、積層することで、フォトニック材料、低温超塑性セラミックスなどの機能材料、微小圧力センサなどが考えられる。
【実施例】
【００２３】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
実施例１
（１）微粒子分散液の調製
水とエタノールとの質量比１：９９の混合媒体（分散媒）に、シリカ微粒子（宇部日東化成社製、商品名「ハイプレシカＳＳ」、平均粒径１０．０μｍ、ＣＶ値０．９％）を、０．００２質量％濃度になるように添加し、分散させて微粒子分散液を調製した。
（２）溝付き基板の作製
長さ４０ｍｍ、幅３０ｍｍ、厚さ０．１ｍｍのポリメチルペンテン製基板に金型プレス法により、幅４０μｍ、深さ１５μｍのＶ溝を、４０μｍの間隔で並列に複数設け、溝付き基板を作製した。
（３）微粒子配置基板の作製
上記（２）で作製した溝付き基板を、図１（符合１は微粒子分散液、２は基板装置用治具、３は溝付き基板）の治具２に固定し、該基板３を微粒子分散液１の水面に対して１０度になるように傾斜させ、その一端を、室温（２５℃）、大気圧下で上記微粒子分散液中にゆっくりと浸積させた。すると、分散媒の基板に対する表面張力（濡れ性）と分散媒の蒸発による対流効果によって、微粒子分散液が基板の溝に沿って上昇し、その上昇の際に、同時に微粒子が基板の溝に沿って配列する。溝構造は、分散液／基板間の接触面積を増大させ、該分散液の流動を促進させる効果をもたらす。
基板の一端を微粒子分散液中に浸積した状態（室温、大気圧下）を５分間維持したのち、基板を微粒子分散液から引き上げ、基板上に残存している分散媒を除去するために、風乾を行った。
（４）微粒子配置状態の観察
上記（３）で得られた基板について、ＣＣＤカメラ付光学顕微鏡を用いて、数百倍から千倍程度の倍率で、微粒子の配列状態を観察した。図２に、この観察写真を示す。ピッチ４０μｍの溝に沿って、微粒子が配置されていることが観察された。
実施例２
実施例１（１）の微粒子分散液の調製において、分散媒中に、ノニオン性界面活性剤（和光純薬工業社製、平均分子量６００のポリエチレングリコール）を０．０１質量％になるように添加した以外は、実施例１と同様な操作を行い、微粒子配置基板を作製した。
この基板について、実施例１（４）と同様な観察を行ったところ、実施例１と同様に微粒子が配列されていることが分かった。
実施例３
（１）微粒子分散液の調製
フェニルトリエトキシシラン［ＰｈＳｉ（ＯＥｔ）３］（信越化学工業社製）のエタノール（ＥｔＯＨ）溶液に、０．０１質量％濃度の希塩酸（和光純薬特級を使用）を加えて、室温で２時間加水分解処理を行った。次いで、この溶液を４質量％濃度のアンモニア水（和光純薬特級を使用）中に一気に投入して、さらに２時間加水分解・重縮合を行い、ポリフェニルシルセスキオキサン（ＰｈＳｉ３／２）微粒子を含むゾルを調製した。
ゾル液の組成は、モル比で［ＰｈＳｉ（ＯＥｔ）３］：ＥｔＯＨ：Ｈ２Ｏ（希塩酸中の水）：Ｈ２Ｏ（アンモニア水中の水）＝１：４：５０：ｘとした。５０≦ｘ≦１００で平均粒径約１μｍのＰｈＳｉＯ３／２微粒子を作製することができた。
得られたゾル中から、微粒子のみを遠心分離機（パソリナ小型遠心機）を用いて、室温下１０００ｒｐｍで分離し、乾燥機（ヤマト科学社製）を用いて５０℃で３時間乾燥処理を行った。得られた微粒子をエタノールに分散し、１質量％濃度の微粒子分散液を調製した。
（２）微粒子配置基板の作製
幅１．６μｍ、深さ０．５μｍのＶ溝が１．６μｍの間隔で並列に複数設けられたガラス製溝付き基板を用い、実施例１（３）と同様な操作を行い、微粒子配置基板を作製した。
（３）微粒子配置状態の観察
上記（２）で得られた基板について、光学顕微鏡および電界放出型走査型電子顕微鏡（日立製作所製、ＦＥ−ＳＥＭ−Ｓ４０００）を用いて観察を行ったところ、実施例１と同様に、溝に粒子が配列されていることが分かった。
実施例４
実施例１において、溝付き基板として、断面が半径２０μｍの半円状の溝を４０μｍの間隔で並列に複数設けた溝付きポリメチルペンテン製基板を用いた以外は、実施例１と同様な操作を行い、微粒子配置基板を作製した。
この基板について、実施例１（４）と同様に観察を行ったところ、実施例１と同様に配列されていることが分かった。
実施例５
（１）微粒子配置基板の作製
実施例１（１）の微粒子分散液の調製において、シリカ微粒子の代わりに、ポリスチレン樹脂を表面に被覆したシリカ微粒子（宇部日東化成社製、商品名「ハイプレシカＮ３Ｐ１４」、平均粒径５．２μｍ、樹脂被覆厚み０．１μｍ、ＣＶ値１．７％）を用い、かつ溝付き基板として、ポリメチルペンテン製の代わりに、ガラス製のものを用い、実施例１と同様な操作を行い、基板の溝に微粒子を配列させた。その後、オーブン中にて１２０℃で２時間加熱処理し、微粒子配置基板を作製した。
（２）微粒子配置状態の観察
実施例１と同様に観察を行ったところ、同様に配列されていることが分かった。
その状態で、光学顕微鏡（拡大倍率１００倍）にて粒子個数（粒子個数Ａ）を計測した。その後、専用ノズル（ノズル口径１．５ｍｍ）を４５°、距離１０ｍｍの条件になるよう設置し、設置後、ノズルから窒素ガスを０．１ＭＰａで１０秒間吹き付けて粒子を引き飛ばした。その後、粒子個数（粒子個数Ｂ）を計測し、粒子残存率（％）［（Ｂ／Ａ）×１００］を求め、固着力を評価した。その結果、残存率が９８％であった。
実施例６
（１）シェル／コア構造を有するシリカ粒子の作製
フェニルトリエトキシシランのエタノール溶液に、０．０１質量％濃度の希塩酸を加えて、室温で加水分解を行い、ここにシリカ微粒子（宇部日東化成社製、商品名「ハイプレシカＳＳ」、平均粒径１０．０μｍ、ＣＶ値０．９％）を加えて、さらに４質量％濃度のアンモニア水を添加することにより、ポリフェニルシルセスキオキサンが表面に被覆されたシェル／コア構造を有するシリカ微粒子を作製した。このシリカ微粒子は、平均粒径が１５μｍであり、シリカ粒子表面にポリフェニルシルセスキオキサンが２．５μｍ形成されていた。
（２）微粒子配置基板の作製
上記（１）で得られたシェル／コア構造を有するシリカ粒子を用い、実施例５と同様にして、基板の溝に微粒子を配列させた。その後、オーブン中にて３００℃で２時間加熱処理し、微粒子配置基板を作製した。
（３）微粒子配置状態の観察
実施例１と同様に観察を行ったところ、表面に被覆されていたポリフェニルシルセスキオキサンが融着を起こし、粒子同士が接着されていることと、実施例５同様に配列されていることが分かった。
その状態で、光学顕微鏡（拡大倍率１００倍）にて粒子個数（粒子個数Ａ）を計測した。その後、専用ノズル（ノズル口径１．５ｍｍ）を４５°、距離１０ｍｍの条件になるよう設置し、設置後、ノズルから窒素ガスを０．１ＭＰａで１０秒間吹き付けて粒子を引き飛ばした。その後粒子個数（粒子個数Ｂ）を計測し、粒子残存率（％）［（Ｂ／Ａ）×１００］を求め、固着力を評価した。その結果、残存率が１００％であった。
比較例１
実施例１において、溝付きポリメチルペンテン製基板の代わりに、溝を形成していないポリメチルペンテン製基板を用いた以外は、実施例１と同様な操作を行い、微粒子配置基板を作製した。
この基板について、実施例１と同様に観察を行ったところ、微粒子はち密に充填しているが、方向性をもって配列していないことが分かった。
【産業上の利用分野】
【００２４】
本発明によれば、表面に微粒子が、所定のパターンに規則的に配置した基板を、短時間で効率よく、かつ安定的に製造することができる。このようにして得られた微粒子配置基板は、光学分野における種々の用途が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】実施例及び比較例において、基板の一端を微粒子分散液中に浸積させる方法を示す説明図である。
【図２】実施例１で得られた微粒子配置基板における微粒子の配列状態を示す光学顕微鏡による観察写真図である。
【符合の説明】
【００２６】
１  微粒子分散液
２  基板装着用治具
３  溝付き基板
【図１】
2005161175.tif 000002
【図２】
2005161175.tif 000003