(57)【要約】【課題】    本発明の目的は、インクジェット法により簡単に且つ正確な位置に液滴を吐出することが可能な表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】  表示装置１の製造方法は、配線検出装置２２により発光ダイオード３３から発光された光Ｌのうち、ガラス基板２に形成された配線に反射された光Ｌ１をフォトダイオード３４により受光することで配線を検出し、検出した配線の位置情報を制御装置２３に供給し、制御装置２３はその配線の位置情報から配線と配線の中間位置を算出してインクジェット装置２０にその中間位置に液滴２６を吐出させる。【選択図】  図４
2005108628.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線が形成された基板にその上方からインクジェット装置により表示素子用の液滴を吐出して複数の表示素子を形成する表示装置の製造方法において、
前記配線を発光素子と受光素子とを有する配線検出手段により検出し、
この配線検出手段で検出した配線の位置情報を、インクジェット装置のノズルヘッド又は基板の位置を制御する制御装置に供給し、
前記制御装置により配線と配線の間の中間位置に前記液滴を吐出するように前記ノズルヘッド又は基板の位置を制御することを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記配線は、Ｘ方向に延び等間隔で配設された複数の第１の配線と、Ｘ方向と直交するＹ方向に延び等間隔で配設された複数の第２の配線と、第１の配線と平行に配設された複数の第３の配線とを有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の配線は走査線であって、第２の配線は信号線であって、第３の配線は電源線であることを特徴とする請求項２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記配線及び電極が形成された基板の全面に亙って絶縁膜を形成する第１の工程と、
前記絶縁膜を溶解可能な溶媒に発光材料が溶解された液滴をインクジェット装置により吐出する第２の工程と、
前記絶縁膜を溶媒により溶解させつつ液滴を電極まで到達させて発光材料と電極とを電気的に接続する第３の工程と、
を備えたことを特徴とする請求項１〜３に記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置の製造方法に関し、特に、インクジェット装置により表示装置を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、複数のＥＬ素子などを備えた表示装置の様々な製造方法が提案されている。例えば、特許文献１には、インクジェット法による有機ＥＬの表示装置の製造方法が提案されている。この製造方法によれば、ガラス基板上にＩＴＯの薄膜を形成し、そのＩＴＯの薄膜をフォトリソグラフィーによりパターニングすることで陽極を形成し、次に、陽極上及びガラス基板上に絶縁層を全面に亙って形成する。次に、インクジェット法により陽極の上方に位置する絶縁層の表面に選択的に発光材料を含む液滴を塗布する。塗布された液滴は、絶縁層を溶解して下方に形成された陽極に達し、陽極と液滴が電気的に接続される。その後、液滴内の溶媒を蒸発させて、液滴内の発光材料のみを陽極と電気的に接続された状態で固化させて残す。次に、陰極をマスク真空蒸着法によりパターニングして形成する。
【特許文献１】特開２００３−８６３６６号公報(５−７頁,図４,図５)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、特許文献１の技術は、インクジェット装置により液滴を選択的に塗布する際に、制御装置により液滴の吐出する駆動周波数を１ＫＨｚに設定し、その駆動周波数に基づいて周期的に液滴を吐出している。従って、この技術では、配線や駆動回路などに対する吐出位置の位置ズレなどを検出することなく、周期的に液滴を吐出しているため、液滴が塗布される位置と所望の位置とのズレが必然的に大きくなってしまう。従来のように、画素間の間隔が数１００μｍ程度であれば多少ずれてもよいが、近年のように、画素間の間隔が数１０μｍ若しくはそれ以下になると、特許文献１の技術により液滴を塗布すると、所望の位置からずれた位置に液滴が落下した場合、配線や駆動回路の薄膜トランジスタなどに液滴が塗布されてショートすることになり、歩留まりが悪化する問題が生じている。
【０００４】
本発明の目的は、インクジェット法により簡単に且つ正確な位置に液滴を吐出することが可能な表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１の表示装置の製造方法は、配線が形成された基板にその上方からインクジェット装置により表示素子用の液滴を吐出して複数の表示素子を形成する表示装置の製造方法において、前記配線を発光素子と受光素子とを有する配線検出手段により検出し、この配線検出手段で検出した配線の位置情報を、インクジェット装置のノズルヘッド又は基板の位置を制御する制御装置に供給し、前記制御装置により配線と配線の間の中間位置に前記液滴を吐出するように前記ノズルヘッド又は基板の位置を制御するものである。
【０００６】
この表示装置の製造方法によれば、配線検出手段により、基板に形成された配線に発光素子から光を投光し、その配線により反射された光を受光素子が受光することで配線を検出し、この配線検出手段で検出した配線の位置情報を制御装置に供給し、制御装置により配線と配線の間の中間位置に基板の上方からインクジェット装置が表示素子用の液滴を吐出するようにノズルヘッド又は基板の位置を制御する。
【０００７】
請求項２の表示装置の製造方法は、請求項１の発明において、前記配線は、Ｘ方向に延び等間隔で配設された複数の第１の配線と、Ｘ方向と直交するＹ方向に延び等間隔で配設された複数の第２の配線と、第１の配線と平行に配設された複数の第３の配線とを有するものである。
【０００８】
この表示装置の製造方法によれば、Ｘ方向に延び等間隔で配設された複数の第２の配線のうち隣接する第２の配線の中間位置を液滴を吐出するＸ座標とし、Ｙ方向に延びる複数の第１の配線と第３の配線のうち隣接する第１の配線と第３の配線の中間位置を液滴を吐出するＹ座標とし、制御装置がインクジェット装置に液滴を吐出させる。
【０００９】
請求項３の表示装置の製造方法は、請求項２の発明において、前記第１の配線は走査線であって、第２の配線は信号線であって、第３の配線は電源線であるものである。この表示装置の製造方法は、第１の配線が走査線であり、第２の配線が信号線であり、第３の配線が電源線であるアクティブマトリックス型の表示装置の製造方法である。
【００１０】
請求項４の表示装置の製造方法は、請求項１〜３の何れかの発明において、前記配線及び電極が形成された基板の全面に亙って絶縁膜を形成する第１の工程と、前記絶縁膜を溶解可能な溶媒に発光材料が溶解された液滴をインクジェット装置により吐出する第２の工程と、前記絶縁膜を溶媒により溶解させつつ液滴を電極まで到達させて発光材料と電極とを電気的に接続する第３の工程とを備えたものである。
【００１１】
この表示装置の製造方法によれば、第１の工程において配線及び電極が形成された基板の全面に亙って絶縁膜を形成し、第２の工程において配線検出手段により検出された配線の位置情報を制御手段に供給し、制御手段により配線と配線の中間位置に、絶縁膜を溶解可能な溶媒に発光材料が溶解された液滴をインクジェット装置によって吐出させ、第３の工程において絶縁膜を溶媒により溶解させつつ液滴を電極まで到達させて発光材料と電極とを電気的に接続させる。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１の発明によれば、配線検出手段により検出させた配線の位置情報を制御装置に供給し、制御装置により配線と配線の中間位置にインクジェット装置によって表示素子用の液滴を吐出させるので、簡単に且つ正確な位置に液滴を吐出させることができる。
配線検出手段は発光素子と受光素子とを有し、発光素子により投光させた光のうち配線で反射された光を受光素子により受光することで、配線を検出するので、配線検出手段の構成を簡単化することができ、また、配線検知手段の制御をも簡単化することができる。
配線の位置により液滴の吐出位置を算出するので、基板にマーキングをする必要などがなく、表示装置の製造工程を簡単化することができる。
【００１３】
請求項２の発明によれば、Ｘ方向及びＹ方向に延びる配線から、液滴を吐出するためのＸ座標及びＹ座標の両方を算出することができるので、更に、正確な位置に液滴を吐出することができる。その他、請求項１の発明と同じ効果を奏することができる。
【００１４】
請求項３の発明によれば、アクティブマトリックス型の表示装置の製造方法において、インクジェット装置による液滴を正確な位置に吐出することができる。その他、請求項２の発明と同じ効果を奏することができる。
【００１５】
請求項４の発明によれば、全面に亙って形成された絶縁膜の上面に液滴を吐出するだけで、液滴内に溶解されている発光材料と電極とを電気的に接続させることができるので、絶縁膜をフォトリソグラフィーなどによりパターニングして隔壁を形成する工程を省略することができるので、表示装置の製造工程を簡単化することができる。その他、請求項１〜３と同じ効果を奏することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
インクジェット法により簡単に且つ正確な位置に液滴を吐出することが可能な表示装置の製造方法を提供するという本発明の目的を、配線が形成された基板にその上方からインクジェット装置により表示素子用の液滴を吐出して複数の表示素子を形成する表示装置の製造方法において、前記配線を発光素子と受光素子とを有する配線検出手段により検出し、この配線検出手段で検出した配線の位置情報を、インクジェット装置のノズルヘッド又は基板の位置を制御する制御装置に供給し、前記制御装置により配線と配線の間の中間位置に前記液滴を吐出するように前記ノズルヘッド又は基板の位置を制御することで実現した。
【実施例１】
【００１７】
発明の実施例について図面を参照して説明する。本発明の実施例は、アクティブマトリックス型の有機ＥＬの表示装置の製造方法に本発明を適用した場合の一例である。まず、本実施例により製造される表示装置の構成について説明する。
【００１８】
図１,図２に示すように、表示装置１は、例えば、表示素子７が４行４列のマトリックス状に配列されたものである。尚、説明の簡単化の溜めに、４行４列のマトリックス状に表示素子７が形成された表示装置１を例として説明するが、実際の表示装置１は多数行多数列に表示素子７が配列されている。表示装置１は、ガラス基板２と、表示部３と、水平駆動回路４と、垂直駆動回路５と、封止層６とを備えている。
表示部３は、１６個の表示素子７と、Ｘ方向に延び垂直駆動回路５に接続された４本の走査線１０と、Ｙ方向に延び水平駆動回路４に接続された４本の信号線１１と、走査線１０と平行で且つ所定間隔空けて形成された４本の電源線１２と、表示部３の上面のほぼ全面に亙って形成される陰極１３とを備えている。
【００１９】
図３に示すように、各表示素子７には、有機ＥＬ膜１４と、ＩＴＯ(Indiumu Tin Oxyde)で構成されガラス基板２の表面に形成された陽極１５と、薄膜トランジスタ及びコンデンサなどを有する駆動回路１６、有機ＥＬ膜１４及び各配線１０,１１,１２などを互いに絶縁するための絶縁性の隔壁１７(図５−６参照)とが設けられている。
有機ＥＬ膜１４は、例えば、ＰＶＫ(ポリビニルカルバゾール),ポリフレオレン誘導体,ポリフェニレン,ビニレン誘導体などからなり、陽極１５と陰極１３との間に電気的に接続されて形成されている。駆動回路１６により陽極１５と陰極１３との間に所定の電圧がかけられると、有機ＥＬ膜１４に電流が流れ、有機ＥＬ膜１４が発光し、発光された光は陽極１５およびガラス基板２を透過して外部に照射される。隔壁１７は、例えば、ＰＭＭＡ(ポリメチルメタクリレート)で構成され、表示部３のほぼ全面に亙って形成されている。
【００２０】
走査線１０と信号線１１と電源線１２は、後述する発光ダイオード３３からの光を反射することが可能な金属、例えば、Alの１層構造若しくはCrとAuとの２層構造で構成されている。図３に示すように、隣接する表示素子７の信号線１１の間隔は約１００μｍ程度に形成され、走査線１０と隣接する電源線１２との間隔のうち広い方の間隔も約１００μｍ程度に形成されている。走査線１０には、垂直駆動回路５から周期的に信号が送られ、一方、信号線１１には水平駆動回路４から信号が送られる。信号が送られている走査線１０と信号線１１とが交差する位置に配設されている表示素子７の駆動回路１６では、そのトランジスタがＯＮにされてコンデンサに電荷が溜められると共に、陽極１５と陰極１３との間に電圧がかけられて有機ＥＬ膜１４が発光する。有機ＥＬ膜１４は、次の走査線１０により信号が送られるまでの間、駆動回路１６のコンデンサに溜められた電荷により発光を継続する。
【００２１】
次に、表示装置１を製造するためのインクジェット装置２０と、配線検出装置２１と、支持台２２と、これらを制御するための制御装置２３について図４を参照して説明する。
インクジェット装置２０は、有機ＥＬ膜１４を構成する発光材料を含む液滴２６を吐出するためのものである。インクジェット装置２０は、圧電素子２５に電圧がかけられると液滴２６を吐出するノズルヘッド２４と、ステッピングモータであってノズルヘッド２４をＸ方向及びＹ方向に駆動させるためのＸ方向駆動モータ２７とＹ方向駆動モータ２８と、供給源２９に蓄えられている溶液３０をノズルヘッド２４に供給するための溶液供給手段３１などを備えている。尚、図示しないが、ノズルヘッド２４は複数設けられており、一度に複数の液滴２６を吐出することが可能に構成されている。
【００２２】
配線検出装置２１は、各配線１０,１１,１２を検出し、検出した配線１０,１１,１２の位置情報を制御装置２３に供給するものである。配線検出装置２１は、発光ダイオード３３と、フォトダイオード３４と、ステッピングモータであって発光ダイオード３３とフォトダイオード３４とをＸ方向及びＹ方向に駆動するためのＸ方向駆動モータ３５とＹ方向駆動モータ３６とを備えている。図６に示すように、配線検出装置２１は、発光ダイオード３３から投光させた光Ｌが配線１０,１１,１２に反射されると、この反射された光Ｌをフォトダイオード３４により受光することで、配線１０,１１,１２を検出し、この検出した配線１０,１１,１２の位置情報を制御装置２３に供給する。
【００２３】
支持台２２は、ガラス基板２を支持するためのものである。この支持台２２は、Ｘ方向角度調整モータ３８とＹ方向角度調整モータ３９により支持台２２をガラス基板２と共に傾斜させて、ノズルヘッド２４とガラス基板２との距離を一定に保つことができる。
【００２４】
制御装置２３は、ＣＰＵ４０とＲＯＭ４１とＲＡＭ４２とこれらを接続するバス４３とを有するコンピュータ４４と、コンピュータ４４に入出力するための入出力インターフェース４５などを備えている。入出力インターフェース４５には、配線検出装置２１のＸ方向駆動モータ３５とＹ方向駆動モータ３６とを駆動するための駆動回路４６,４７と、インクジェット装置２０のＸ方向駆動モータ２７及びＹ方向駆動モータ２８を駆動するための駆動回路４８,４９と、支持台２２のＸ方向角度調整モータ３８とＹ方向角度調整モータ３９とを駆動するための駆動回路５０,５１と、圧電素子２５を駆動するための駆動回路５３と、フォトダイオード３４から供給される位置情報の波形を整形するための波形整形器５２と、発光ダイオード３３などが接続されている。
ＲＯＭ４１には、液滴吐出位置算出処理を処理するためのプログラムなどが読出し可能に記録されている。ＲＡＭ４２には、配線検出装置２１により検出されて制御装置２３に供給された配線１０,１１,１２の位置情報Ｉ１,Ｉ２などが一時的に記憶される。
【００２５】
次に、表示装置１の製造方法について図５〜図７を参照して説明する。
まず、配線形成工程において、ガラス基板２上に、走査線１０,信号線１１,電源線１２と、トランジスタ,コンデンサなどを有する駆動回路１６をフォトリソグラフィー法などの手法により形成する。
次に、陽極形成工程において、ガラス基板２上に、蒸着によりＩＴＯ薄膜５５を厚さ１５０ｎｍで形成する(図５−1)。次に、ＩＴＯ薄膜５５をフォトレジスト及びエッチングによりパターニングして陽極１５を形成する(図５−２)。
【００２６】
次に、洗浄工程において、陽極１５の表面の汚れを除去し且つ表面の酸素欠陥を減少させるために、陽極１５の表面を中性洗剤洗浄,アセトン洗浄,イソプロピルアルコール洗浄,及びＵＶ洗浄により洗浄する。
次に、絶縁膜形成工程において、陽極１５,各配線１０,１１,１２上を覆うように、スピンコート法若しくはスプレイ法などによりＰＶＫからなる絶縁膜５６を形成する(図５−３)。尚、この絶縁膜５６の厚みは、陽極１５と陰極１３とが絶縁できる程度の厚みであればよい(第１の工程に相当する)。
【００２７】
次に、配線検出工程における、配線検出装置２１による配線１０,１１,１２の検出について図６,図７を参照して説明する。尚、全ての配線１０,１１,１２を配線検出装置２１により検出するが、各配線１０,１１,１２の検出方法はほぼ同様のため、信号線１１の検出についてのみ詳細に説明する。図６の上図に示すように、Ｘ方向駆動モータ３５によりＸ方向に発光ダイオード３３を駆動しつつ発光させると、発光ダイオード３３から発光された光Ｌは、ガラス基板２に対して約４５度の角度で絶縁膜５５に入射し、絶縁膜５５に入射した光Ｌのうち、陽極１５に入射した光Ｌ２は陽極１５及びガラス基板２を透過するが、一方、信号線１１に投光した光Ｌ１は信号線１１の表面で反射されてフォトダイオード３４に受光される。反射光Ｌ１がフォトダイオード３４に受光されて信号線１１が検出されると、検出信号が波形整形器５２により整形され、信号線１１の位置情報Ｉ１としてコンピュータ４４に供給される。図６の下図に示すように、位置情報Ｉ１は、走査線１０の位置に対応する個所のみがピークＰを示す方形波である。尚、光Ｌはガラス基板２に対して４５°の角度で入射させることで反射光Ｌ１の強度を強くすることができるが、入射角度４５°に限定するものではない。
【００２８】
走査線１０及び電源線１２を検出する場合には、Ｙ方向駆動モータ３６により発光ダイオード３３をＹ方向に駆動させつつ発光させる。発光ダイオード３３により発光した光のうち、走査線１０及び電源線１２により反射された光をフォトダイオード３４により受光することで、走査線１０及び電源線１２の位置を検出し、図７に示すような位置情報Ｉ２が得られる。この位置情報Ｉ２は、電源線１２に対応するピークＰ１と、走査線１０に対応するピークＰ２とを有する。
【００２９】
次に、この位置情報Ｉ１及びＩ２が供給された制御装置２３における液滴吐出位置を算出する液滴吐出位置算出処理について説明する。まず、位置情報Ｉ１に含まれるピークＰから隣接する夫々のピークＰの中間位置Ｍを算出し、その算出された中間位置Ｍを液滴吐出位置のＸ座標とする。次に、位置情報Ｉ２に含まれるピークＰ１の中間位置である第１中間位置とピークＰ２の中間位置である第２中間位置とを算出し、これら隣接する第１,第２中間位置の中間位置Ｍ１を算出し、この中間位置Ｍ１を液滴吐出位置のＹ座標とする。尚、液滴吐出位置のＹ座標は、隣接するピークＰ１とピークＰ２のうち間隔の広い方の中間位置Ｍ１を求めることで算出してもよい。
【００３０】
次に、支持台平行工程において、上記の位置情報Ｉ１,Ｉ２のピークＰ,Ｐ１,Ｐ２の間隔が理論値からずれている場合には、ガラス基板２が傾斜しているものと制御装置２３が判断し、制御装置２３がＸ方向角度調整モータ３８及びＹ方向角度調整モータ３９を駆動させることで、支持台２２と共にガラス基板２を回動させて、ノズルヘッド２４が移動してもガラス基板２との距離が常に一定距離を保持するように設定する。
【００３１】
次に、液滴吐出工程において、ノズルヘッド２４をＸ方向駆動モータ２７及びＹ方向駆動モータ２８により駆動させつつ、上述の液滴吐出位置算出処理により求められた液滴吐出位置のＸ座標及びＹ座標にノズルヘッド２４が達した状態で、圧電素子２５に駆動回路５３を介して駆動パルスを送ってノズルヘッド２４から液滴２６を吐出させる(図５−４)(第２の工程に相当する)。
【００３２】
このとき吐出させる液滴２６は、
ホール輸送性ポリマーである、カルバゾール誘導体を主鎖若しくは側鎖に有する高分子化合物(ＰＶＫ；ポリビニルカルバゾール)：１６重量比
電子輸送材料(ＢＮＤ)：４重量比
発光中心形成化合物(ＴＰＢ；ジアミン誘導体)：１重量比
で構成される溶剤が、炭化水素系のテトラリンに濃度２％で溶解されたものである。尚、液滴２６の粘度は、１×１０-3〜１×１０Pa・s程度であればよいが、液滴２６を吐出する際の液滴の径を制御するために５×１０-3〜１.５×１０-2Pa・s程度が望ましい。また、液滴２６の表面張力は、吐出された液滴２６の飛行曲がりを抑えるために、２０〜５０mN/m程度であることが望ましい。
【００３３】
吐出された液滴２６は、陽極１５の上方に位置に対応する絶縁膜５６に達すると、液滴２６に含まれる溶媒が絶縁膜５５を溶解しつつ下方へ沈み、陽極１５まで達する。次に、液滴２６を５０〜６０℃で３０分間乾燥させて、液滴２６内の溶媒を蒸発させると、不揮発性成分である有機ＥＬ膜１４が陽極１５と電気的に接続された状態で固化する(第３の工程に相当する)。
尚、有機ＥＬ膜１４を構成する組成物は、液滴２６に含まれる溶媒に対する溶解度が絶縁膜５６よりも大きいため、液滴２６により溶解された絶縁膜５６は液滴２６は滴下された部分の周辺部に偏析するので、有機ＥＬ膜１４を構成する組成物は液滴２６が滴下された部分の中央部において固化する。液滴２６が滴下されなかった部分の絶縁膜５６は、各有機ＥＬ膜１４を隔離する隔壁１７を構成する(図５−５)。
【００３４】
次に、陰極１３を形成するために、真空蒸着法により、隔壁１７及び有機ＥＬ膜１４の全面に亙ってＬｉＦ層を１００ｎｍ,Ａｌ層を１０００ｎｍ蒸着する(図５−６)。
次に、表示部３,水平駆動回路４,垂直駆動回路５を封止するための封止層６を形成する(図１参照)。この封止層６は、ガラスで構成されている。封止層６と表示部３との間には０.３〜０.５ｍｍ程度の隙間を形成し、その隙間には窒素ガスを充填すると共に乾燥剤を取り付けている。
【００３５】
次に上述した実施例の作用及び効果について説明する。
この実施例においては、配線検出装置２１により配線１０,１１,１２を検出し、その配線１０,１１,１２の位置情報Ｉ１,Ｉ２を制御装置２３に供給する。制御装置２３はその位置情報、例えば、信号線１１の位置情報Ｉ１から隣接する信号線１１の中間位置Ｍを算出して液滴２６を吐出するＸ座標とし、走査線１０及び電源線１２の位置情報から隣接する走査線１０及び隣接する電源線１２の各中間位置を算出してその両中間位置の中間位置Ｍ１を算出し、その中間位置Ｍ１を液滴２６を吐出するＹ座標とするので、液滴２６を簡単に且つ正確な位置に吐出することができる。
【００３６】
配線検出装置２１は、発光ダイオード３３により配線１０,１１,１２に投光された光をフォトダイオード３４により受光することで配線１０,１１,１２を検出するので、配線検出装置２１の構成を簡単化することができ、また、その制御をも簡単化することができる。
全面に亙って形成されている絶縁膜５６上の正確な位置に吐出された液滴２６は、液滴２６に含まれる溶媒により絶縁膜５６が溶解されて陽極１５まで達し、陽極１５と発光材料とを電気的に接続させ、溶解されずに残った絶縁膜５６は、配線１０,１１,１２や電極１３,１５などを電気的に隔離する隔壁１７となる。即ち、液滴２６を正確な位置に吐出すことで、隔壁１７も正確な位置に形成されることになるので、隔壁１７を形成するためのマスク合わせなどの複雑な工程を含むリソグラフィーの工程を省略することができる。
【００３７】
次に上述した実施例を部分的に変更した変更例について説明する。
１)上記実施例においては、アクティブマトリックス型の表示装置について本発明を適用したが、パッシブマトリックス型の表示装置の製造方法に本発明を適用してもよい。パッシブマトリックス型の有機ＥＬの表示装置は、図８に示すように、ＩＴＯで構成されＹ方向に延びる陽極６０と、ＬｉＦやＡｌで構成されＸ方向に延び陽極６０から所定間隔上方に形成された陰極６１と、両電極６０,６１に電気的に接続され陽極６０と陰極６１との間に形成されている有機ＥＬ膜６２などを備えている。陽極６０の上面の一部には、有機ＥＬ膜６２との界面での抵抗を減らすためにCrで構成されたクロムガードライン６３が形成されている。尚、図８は、上述の実施例における図３に相当する図である。
【００３８】
この表示装置の製造方法について説明する。尚、制御系については上述の実施例と同様の構成のため同一符号をつけて説明を省略する。陽極６０及びクロムガードライン６３をパターニングして形成した後、絶縁膜(図示略)を形成する。次に、配線検出装置２１により、陽極６０上に形成されたクロムガードライン６３の位置を検出する。次に、検出されたクロムガードライン６３の位置情報に基づいて、隣接するクロムガードライン６３の中間位置を算出し、その中間位置を制御装置２３により液滴２を吐出するＸ座標とし、このＸ座標に基づいて制御装置２３がインクジェット装置２０に液滴２６を吐出させる。
【００３９】
尚、この実施例においては、ノズルヘッド２４のＸ方向のみをクロムガードライン６３の位置情報から算出しているが、クロムガードライン６３を陽極６０の全長に亙って形成するのではなく、クロムガードライン６３を陽極６０と有機ＥＬ膜６２とが接触する位置にのみ部分的に形成することで、そのクロムガードライン６３の形成されていない個所の位置情報により液滴２６を吐出するＹ方向の座標を算出してもよい。
【００４０】
２)  上述の実施例においては、絶縁膜５６(隔壁１７)をＰＭＭＡで構成しているが、ＰＭＭＡの代わりに、例えば、ポリスチレン、ナイロン（ポリアミド）、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアミドイミド、ポリイミド、フッ素樹脂のいずれかにより構成してもよい。
【００４１】
３)  上述の実施例においては、インクを構成するホール輸送ポリマーをカルバゾール誘導体を主鎖あるいは側鎖に有する高分子（ＰＶＫ）により構成したが、例えば、トリフェニルアミン誘導体を主鎖あるいは側鎖に有する高分子化合物（例えばＰＴＰＤＥＳ）で構成してもよい。また、電子輸送性ポリマーをＢＮＤで構成したが、例えば、オキサジアゾール誘導体を主鎖あるいは側鎖に有する高分子化合物（例えばＰＶＭＯＸＤ）、ＰＰＶ（ポリパラフェニレンビニレン）、ＰＰＦ、ＰＰＴ、などにより構成してもよい。
【００４２】
４)  上述の実施例においては、液滴２６を構成する溶媒を炭化水素系溶媒(テトラリン)により構成したが、例えば、ハロゲン炭化水素系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン、アルデヒド、ドデシルベンゼン、テトラリン、ジクロルエタン、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノエチルエーテルなどで構成してもよい。
【００４３】
５)  上述の実施例においては、発光中心形成化合物をＴＰＢにより構成したが、ポリパラフェレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリチオフェン誘導体などの高分子発光材料や、ペリレン、クマリン、ルブレン、ナイルレッド、ＤＣＭ、ＤＣＪＴＢ、スクアリリウム、アルミニウム錯体（例えばＡｌＱ３）等の低分子発光材料で構成してもよい。
【００４４】
６)  上述の実施例においては、絶縁膜５６を全面に亙って形成した後、液滴２６を吐出したが、絶縁膜５６をパターニングして隔壁１７を形成した後に、液滴２６を吐出してもよい。
【００４５】
７)  上述の実施例においては、インクジェット装置２０のノズルヘッド２４及び配線検出装置２１をＸ及びＹ方向に駆動させるように構成したが、ノズルヘッド２４及び配線検出装置２１を固定し、支持台２２にＸ方向駆動モータ及びＹ方向駆動モータを設けて、基板をＸ及びＹ方向に駆動させるように構成してもよい。
【００４６】
８)  上述の実施例においては、配線検出装置２１により配線１０,１１,１２を検出した後、インクジェット装置２０により液滴２６を吐出するが、配線検出装置２１により配線１０,１１,１２を検出しつつ、インクジェット装置２０により液滴２６を吐出させるように構成してもよい。
【００４７】
９)  上述の実施例においては、有機ＥＬの表示装置の製造方法に本発明を適用したが、液晶により構成される表示装置に本発明を適用してもよい。
１０)  上述の実施例においては、インクジェット装置２０により１種類の液滴２６を吐出させているが、ＲＧＢの夫々に対応する液滴を吐出させるようにインクジェット装置を構成してもよい。
【００４８】
本発明は以上説明した実施例に限定されるものではなく、当業者であれば、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、前記実施例に種々の変更を付加して実施することができ、本発明はそれらの変更形態をも包含するものである。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の実施例に係る表示装置の製造方法により製造される表示装置の全体斜視図である。
【図２】表示装置の平面図である。
【図３】表示素子の平面拡大図である。
【図４】表示装置の製造装置の制御系のブロック図である。
【図５−１】表示装置の製造方法を説明する工程図である。
【図５−２】表示装置の製造方法を説明する工程図である。
【図５−３】表示装置の製造方法を説明する工程図である。
【図５−４】表示装置の製造方法を説明する工程図である。
【図５−５】表示装置の製造方法を説明する工程図である。
【図５−６】表示装置の製造方法を説明する工程図である。
【図６】配線検知装置による配線を検知する工程を説明する図である。
【図７】走査線及び電源線の位置情報を説明する図である。
【図８】パッシブマトリックス型の表示素子の平面図である。
【符号の説明】
【００５０】
１     表示装置
２     ガラス基板
１０   走査線
１１   信号線
１２   電源線
１４   有機ＥＬ膜
１７   隔壁
２０   インクジェット装置
２１   配線検出装置
２３   制御装置
２４   ノズルヘッド
２６   液滴
３０   溶液
３３   発光ダイオード
３４   フォトダイオード
５６   絶縁膜
６０   陽極
６２   有機ＥＬ膜
６３   クロムガードライン
Ｉ１   位置情報
Ｉ２   位置情報
Ｌ     光
Ｌ１   反射光
Ｌ２   光
【図１】
2005108628.tif 000003
【図２】
2005108628.tif 000004
【図３】
2005108628.tif 000005
【図４】
2005108628.tif 000006
【図５−１】
2005108628.tif 000007
【図５−２】
2005108628.tif 000008
【図５−３】
2005108628.tif 000009
【図５−４】
2005108628.tif 000010
【図５−５】
2005108628.tif 000011
【図５−６】
2005108628.tif 000012
【図６】
2005108628.tif 000013
【図７】
2005108628.tif 000014
【図８】
2005108628.tif 000015