(57)【要約】【課題】  活物質薄膜の体積変化による影響を最小限に抑えて、電極の膨張、集電体の皺寄れなどの発生を抑制し、高容量でサイクル特性の高いリチウム二次電池を提供する。【解決手段】  リチウムと合金化しない金属から形成された集電体１１と、集電体１１の表面に形成され、リチウムと合金化する元素を含む薄膜１２とを備え、薄膜１２が網目状のクラック１５ａを備えている薄膜電極とする。また、リチウムと合金化しない金属からなる集電体１１に、集電体１１の実効厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下となるように凹凸を形成する工程と、上記凹凸を形成した集電体１１の表面に、リチウムと合金化する元素を含む薄膜１２を形成する工程と、薄膜１２を形成した集電体１１を加圧して上記凹凸を平坦化する工程とを含む薄膜電極の製造方法とする。【選択図】  図４
2005108522.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
リチウムと合金化しない金属から形成された集電体と、前記集電体の表面に形成され、リチウムと合金化する元素を含む薄膜とを備えた薄膜電極であって、
前記薄膜が、網目状のクラックを備えていることを特徴とする薄膜電極。
【請求項２】
前記集電体の厚みが、５μｍ以上３０μｍ以下である請求項１に記載の薄膜電極。
【請求項３】
前記薄膜の厚みが、１μｍ以上１０μｍ以下である請求項１または２に記載の薄膜電極。
【請求項４】
前記リチウムと合金化する元素が、ケイ素、錫、およびアンチモンから選ばれる少なくとも一つの元素である請求項１〜３のいずれかに記載の薄膜電極。
【請求項５】
前記薄膜の主成分が、Ｃｕ6Ｓｎ5およびＮｉ3Ｓｎ4から選ばれるいずれか一つである請求項１〜４のいずれかに記載の薄膜電極。
【請求項６】
リチウムと合金化しない金属からなる集電体に、前記集電体の実効厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下となるように凹凸を形成する工程と、
前記凹凸を形成した集電体の表面に、リチウムと合金化する元素を含む薄膜を形成する工程と、
前記薄膜を形成した集電体を加圧して前記凹凸を平坦化する工程と、
を含むことを特徴とする薄膜電極の製造方法。
【請求項７】
前記凹凸を形成する工程において、前記凹凸の形状を、円形、三角形、四角形、五角形、および六角形から選ばれる少なくとも一つの形状に形成する請求項６に記載の薄膜電極の製造方法。
【請求項８】
前記凹凸を形成する工程において、前記凹凸を千鳥格子状に形成する請求項６または７に記載の薄膜電極の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれかに記載の薄膜電極を負極として用いたことを特徴とするリチウム二次電池。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜電極とその製造方法およびその薄膜電極を用いたリチウム二次電池に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話、ノートパソコン、ＰＤＡなどの携帯端末機器の需要が急激に拡大しており、これらの機器の小型軽量化および高機能化に伴って、それらの電源として主として用いられるリチウム二次電池のさらなる高エネルギー密度化が要求されている。しかし、現在実用化されているリチウム二次電池に用いられる炭素系負極の電気容量は理論値に近い値にまで到達しており、より高容量なリチウム二次電池を実現するためには負極材料の新規開発が必須である。
【０００３】
このような中で最近では、高容量リチウム二次電池用の新たな負極材料として、Ｌｉと合金化しない材料からなる集電体上に、Ｌｉと合金化するＳｎまたはＳｎ含有合金からなる薄膜を形成し、その薄膜を負極材料として用いる薄膜電極が注目されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）。特許文献１は、集電体である銅板上に、電解めっき法によりＳｎ薄膜を形成するものであり、特許文献２は、電解めっき法により、銅箔上にＳｎ、Ｚｎ、Ｓｂ、またはそれらを含有する合金を素材とする薄膜を形成するものである。
【０００４】
Ｌｉと合金化する金属の中でも、特にＳｎは従来の黒鉛系負極材料と比較して高いエネルギー密度（９９４ｍＡｈ／ｇ）を有するため、次世代の負極材料として注目されている。しかし、実際の薄膜電極にＳｎを用いた場合は、ＬｉxＳｎの組成式でｘ＝４．４までＬｉを電気化学的に挿入すると、薄膜の体積が３〜４倍にまで膨張してしまう。かかる体積膨張はリチウム二次電池の充放電特性（サイクル特性）の低下を招くことになる。さらに、Ｓｎを単独で用いると、Ｓｎ自身が触媒能を持つために電解液を分解してしまうという問題もある。
【０００５】
上記問題を解決するために、Ｓｎ系の合金薄膜が提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。非特許文献１には、電解めっき法によりＣｕ箔上に形成されたＳｎ薄膜を、Ｓｎの融点付近で熱処理することで、Ｃｕ−Ｓｎ界面でＣｕ原子とＳｎ原子とが相互拡散した傾斜性構造の薄膜を得ることができると記載されている。即ち、Ｃｕ箔上にＳｎをめっきすることで形成した薄膜をＳｎの融点付近で長時間熱処理するとＣｕ−Ｓｎ界面で原子の相互拡散が起こり、最終的にＣｕ／Ｃｕ3Ｓｎ／Ｃｕ6Ｓｎ5／Ｓｎもしくはこの組成に近い結晶構造を有するＣｕ−Ｓｎ合金が形成される。このとき形成されるＣｕ6Ｓｎ5合金はＬｉを可逆的に吸蔵・脱離可能であり、体積変化もＳｎと比較して小さく、加えて触媒能を持たないため、前述のＳｎ薄膜特有の問題を解決できる負極材料として期待されている。
【特許文献１】特開２００１−６８０９４号公報
【特許文献２】特開２００１−２５６９６８号公報
【非特許文献１】Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｗｅｒ  Ｓｏｕｒｃｅｓ，  １０７（２００２），ｐ．４８−５５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記電解めっき法により薄膜電極を形成すると、集電箔（集電体）と活物質層とがより強固に一体化する。そのため、充放電に伴う活物質の微粉化などが発生しても集電箔から活物質が脱落しにくく、サイクル特性が向上するといった利点もある。
【０００７】
しかし、集電箔と活物質との密着性が高くなると、Ｌｉの挿入・脱離に伴う活物質薄膜の体積変化の影響を電極自体が受けやすくなるため、電極の膨張、集電箔の皺寄れなどが顕著に発生する。その結果、電極内の電子伝導性が低下するため、サイクル特性が低下することになる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、リチウムと合金化しない金属から形成された集電体と、前記集電体の表面に形成され、リチウムと合金化する元素を含む薄膜とを備えた薄膜電極であって、前記薄膜が網目状のクラックを備えていることを特徴とする薄膜電極を提供する。
【０００９】
また、本発明は、リチウムと合金化しない金属からなる集電体に、前記集電体の実効厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下となるように凹凸を形成する工程と、前記凹凸を形成した集電体の表面に、リチウムと合金化する元素を含む薄膜を形成する工程と、前記薄膜を形成した集電体を加圧して前記凹凸を平坦化する工程とを含むことを特徴とする薄膜電極の製造方法を提供する。
【００１０】
また、本発明は、上記薄膜電極を負極として用いたことを特徴とするリチウム二次電池を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の薄膜電極は、集電体の表面に形成された活物質薄膜に網目状のクラックを形成することにより、Ｌｉの挿入・脱離に伴う活物質薄膜の体積変化によって発生した応力を多方向に分散させることができるため、応力の集中による電極の膨張、集電体の皺寄れなどの発生を抑制することができる。
【００１２】
また、本発明の薄膜電極の製造方法は、集電体の表面に形成された活物質薄膜にクラックを簡易かつ効率的に形成できる。
【００１３】
また、本発明のリチウム二次電池は、上記薄膜電極を負極に用いることにより、電池容量およびサイクル特性の向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
先ず、本発明の薄膜電極の実施の形態を説明する。本発明の薄膜電極の一例は、Ｌｉと合金化しない金属から形成された集電体と、上記集電体の表面に形成され、Ｌｉと合金化する元素を含む薄膜とを備えている。また、上記薄膜は、網目状のクラックを備えている。
【００１５】
上記網目状のクラックは、上記薄膜の全面に設けることが好ましく、これにより薄膜の全面に相互に連結したクラックのネットワークが形成され、Ｌｉの挿入・脱離に伴う活物質薄膜の体積変化によって発生した応力をこのクラックにより効果的に分散させることができる。
【００１６】
上記集電体の材質としては、Ｌｉと合金化しない金属から形成されていることが必要であり、例えば、Ｎｉ、Ｃｕ、ステンレス鋼、Ｎｉ合金、Ｃｕ合金などが好ましい。Ｌｉと合金化する金属であると、電池に組み込んだ場合に活物質層より先にＬｉと反応してしまい、集電体として機能しなくなるからである。なお、ＮｉおよびＣｕと合金化する元素としては、例えば、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｚｒなどが挙げられ、集電体の特性を損なわない範囲で合金化することができる。
【００１７】
上記Ｌｉと合金化する元素としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｇｅ、Ｓｂなどが使用でき、特にＳｉおよびＳｎから選ばれる少なくとも一つの元素であることが好ましい。これらは、Ｌｉの挿入・脱離における可逆性が高いからである。
【００１８】
上記集電体の厚みは、５μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上２０μｍ以下がより好ましい。この範囲内であれば、上記薄膜電極を作製する上で、集電体自体の強度と柔軟性とをともに確保できるからである。
【００１９】
薄膜の体積変化を減少させるためには、薄膜の厚みは小さいほうが好ましいが、厚みが小さすぎると電池容量が低下するので、上記薄膜の厚みは、１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。
【００２０】
また、上記薄膜の主成分としては、Ｃｕ6Ｓｎ5、Ｃｕ2Ｓｂ、Ｂを添加させたＳｉ、Ｎｉ3Ｓｎ4、ＭｎＳｂ、Ｍｎ2Ｓｂ、ＣｏＳｂ、Ｃｏ2Ｓｂ、Ｚｎ4Ｓｂ3などを採用できるが、Ｃｕ6Ｓｎ5、Ｂを添加させたＳｉ、およびＮｉ3Ｓｎ4から選ばれるいずれか一つであることが好ましい。これらは、Ｌｉを可逆的に吸蔵・脱離可能であり、体積変化もＳｎ、Ｓｉの単体に比べて小さいからである。ここで、主成分とは、薄膜全体の重量に対して５０重量％以上含まれていることをいう。
【００２１】
次に、本発明の薄膜電極の製造方法の実施の形態を説明する。本発明の薄膜電極の製造方法の一例は、Ｌｉと合金化しない金属からなる集電体に、上記集電体の実効厚みが１５μｍ以上１００μｍ以下となるように凹凸を形成する工程（Ａ）と、上記凹凸を形成した集電体の表面に、Ｌｉと合金化する元素を含む薄膜を形成する工程（Ｂ）と、上記薄膜を形成した集電体を加圧して上記凹凸を平坦化する工程（Ｃ）とを含んでいる。
【００２２】
上記工程（Ｃ）において、凹凸を形成した集電体を加圧して平坦化することにより、集電体と薄膜とに応力が加わり、薄膜にクラックを簡易かつ効率的に形成することができる。集電体を平坦化する方法としては、例えば、ロールプレスなどにより集電体を加圧する方法などが挙げられる。
【００２３】
上記工程（Ａ）において、集電体の実効厚みが１５μｍを下回ると、平坦化工程で集電体と薄膜とに加わる応力が不十分となり、クラックの形成も不十分となる。この点で、実効厚みは３０μｍ以上がより好ましい。また、上記実効厚みが１００μｍを上回ると、集電体と薄膜とに加わる応力が大きくなりすぎ、集電体に損傷を与える可能性がある。この点で、実効厚みは５０μｍ以下がより好ましい。
【００２４】
ここで、実効厚みとは、集電体の一方の側に形成された凸部に最近接する平面と、集電体の他方の側に形成された凸部に最近接する平面との最大距離を意味する。
【００２５】
また、上記工程（Ａ）において、凹凸の形状は、円形、三角形、四角形、五角形、および六角形から選ばれる少なくとも一つの形状に形成されることが好ましく、これらの形状を複数組み合わせた凹凸を形成してもよい。クラックは主として集電体の凸部と凹部との境目で形成されるため、凹凸の形状を上記形状とすることにより、クラックを円形、三角形、四角形、五角形、六角形などの閉鎖図形にほぼ沿って形成できる。これにより、クラックが連続したループ状に形成され、薄膜の表面方向への膨張による応力を多方向により効果的に吸収できる。
【００２６】
さらに、上記工程（Ａ）において、凹凸は集電体の全面に形成することが好ましく、特に凹凸を千鳥格子状に形成することが好ましい。これにより、クラックが連続した網目状に形成でき、薄膜の全面に相互に連結したクラックのネットワークが形成され、Ｌｉの挿入・脱離に伴う活物質薄膜の体積変化によって発生した応力をこのクラックにより効果的に分散させることができる。
【００２７】
また、上記工程（Ｂ）において、薄膜と集電体とは密着して形成することが望ましく、その薄膜の形成方法としては、例えば、物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、化学的気相成長法（ＣＶＤ法）、液相成長法などが挙げられる。物理的気相成長法としては真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、分子線エピタクシー法（ＭＢＥ法）、レーザーアブレーション法など、化学的気相成長法としては熱ＣＶＤ法、有機金属ＣＶＤ法（ＭＯＣＶＤ法）、ＲＦプラズマＣＶＤ法、電子サイクロン（ＥＣＲ）プラズマＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、原子層エピタクシー法（ＡＬＥ法）など、液相成長法としてはめっき法（電解めっき法、無電解めっき法）、陽極酸化法、塗布法、ゾル−ゲル法などが挙げられる。これらの中でも、液相成長法は比較的簡易な設備で実施可能であるため望ましく、特に電解めっき法は集電体表面への密着性が良く、めっき薄膜表面の平滑性も高く、さらに大面積での成膜が容易かつ安価に行えるためより好ましい。なお、これらの薄膜形成方法は、単独で用いても複数を組み合わせて用いてもよい。
【００２８】
続いて、本発明のリチウム二次電池の実施形態を説明する。本発明のリチウム二次電池の一例は、上記で説明した薄膜電極を負極として用いたリチウム二次電池である。充放電に伴う電極の膨張、集電体の皺寄れなどの発生を抑制した薄膜電極を用いることにより、高容量でサイクル特性の高いリチウム二次電池を提供できる。
【００２９】
本実施形態のリチウム二次電池に用いる正極としては、正極活物質に導電助剤およびポリフッ化ビニリデンなどの結着剤などを適宜添加した合剤を、アルミニウム箔などの集電体を芯材として成形体に仕上げたものが用いられる。正極活物質としては、例えば、ＬｉＣｏＯ2などのリチウム・コバルト酸化物、ＬｉＭｎ2Ｏ4などのリチウム・マンガン酸化物、ＬｉＮｉＯ2などのリチウム・ニッケル酸化物、ＬｉＮｉＯ2のＮｉの一部をＣｏで置換したＬｉＮｉxＣｏ(1-x)Ｏ2、さらに、ＭｎとＮｉとを等量含んだＬｉＮｉ(1-x)/2Ｍｎ(1-x)/2ＣｏxＯ2、オリビン型ＬｉＭＰＯ4（Ｍ：Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｆｅ）を用いることができる。
【００３０】
上記リチウム二次電池に用いる電解質の溶媒としては、例えば、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、ジエチルカーボネート、ジメチルカーボネート、エチルメチルカーボネートなどが挙げられ、これらは複数を同時に使用することもできる。また、この溶媒には必要に応じて他の成分を添加することも可能である。
【００３１】
上記電解質の溶質としては、例えば、ＬｉＣｌＯ4、ＬｉＰＦ6、ＬｉＢＦ4、ＬｉＡｓＦ6、ＬｉＳｂＦ6、ＬｉＣＦ3ＳＯ3、ＬｉＣ4Ｆ9ＳＯ3、ＬｉＣＦ3ＣＯ2、Ｌｉ2Ｃ2Ｆ4（ＳＯ3）2、ＬｉＮ（ＣＦ3ＳＯ2）2、ＬｉＮ（ＣＦ3ＳＯ2）2、ＬｉＣnＦ2n+1ＳＯ3（ｎ≧２）、ＬｉＮ（ＲｆＯＳＯ2）2［ここで、Ｒｆはフルオロアルキル基を示す。］、ＬｉＮ（ＣＦ3ＳＯ2）（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2）、ＬｉＮ（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）（Ｃ4Ｆ9ＳＯ2）、ＬｉＮ（ＣＦ3ＳＯ2）（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）などが挙げられる。
【００３２】
さらに、上記電解質（電解液）以外にも、Ｌｉイオンの輸送体であれば制約無く用いることができ、例えば、各種ポリマーからなるゲルポリマー電解質、真性ポリマー電解質、ＬｉＰＯＮなどの無機固体電解質、Ｌｉイオン含有常温溶融塩などを用いることができる。
【００３３】
上記リチウム二次電池に用いるセパレータとしては、強度が充分で上記電解液を多く保持できるものが良く、この点から、厚み１０〜５０μｍ、開口率３０〜７０％のポリプロピレン製、ポリエチレン製、またはポリプロピレンとポリエチレンのコポリマー製のフィルムや不織布からなるセパレータが好ましい。
【００３４】
さらに、本実施形態の薄膜電極は、上記リチウム二次電池以外にも、リチウム一次電池などの電極としても使用することができる。
【００３５】
次に、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００３６】
（実施形態１）
本発明の薄膜電極の製造方法の一例は、図１に示すように、先ず、Ｌｉと合金化しない金属からなる集電体１１に、集電体１１の実効厚みｄが１５μｍ以上１００μｍ以下となるように凸部１３ａ、１３ｂおよび凹部１４ａ、１４ｂを形成する。本実施形態では、凹凸の形状を四角形とし、且つその凹凸を千鳥格子状に配置した。
【００３７】
ここで、実効厚みとは、集電体１１の一方の側に形成された凸部１３ａに最近接する平面と、集電体１１の他方の側に形成された凸部１３ｂに最近接する平面との最大距離ｄを意味する。なお、図１において、ｔは集電体１１の厚みを表す。
【００３８】
次に、図２に示すように、凸部１３ａ、１３ｂおよび凹部１４ａ、１４ｂを形成した集電体１１の表面に、Ｌｉと合金化する元素を含む薄膜１２を形成する。図３は、図２のＡ−Ａ部の要部断面図である。
【００３９】
その後、薄膜１２を形成した集電体１１を真空、不活性雰囲気、または還元性雰囲気の下で１５０〜２２０℃程度の温度で加熱する。これにより、薄膜１２と集電体１１とは完全に密着する。
【００４０】
続いて、図４に示すように、薄膜１２を形成した集電体１１をロールプレスなどで加圧することにより、凸部１３ａ、１３ｂおよび凹部１４ａ、１４ｂが平坦化されて、薄膜１２の全面に主たるクラック１５ａが形成されるとともに、従たるクラック１５ｂも形成され、本実施形態の薄膜電極１６が完成する。主たるクラック１５ａは、図４の矢印で示すように、集電体１１の凸部１３ａ、１３ｂと凹部１４ａ、１４ｂとの境目で主として形成される。図５は、本実施形態の薄膜電極１６の平面図であり、薄膜１２の全面に相互に連結した主たるクラック１５ａのネットワークが形成され、また、従たるクラック１５ｂも形成される。
【００４１】
（実施形態２）
本発明の薄膜電極の製造方法の他の一例は、図６および図７に示すように、Ｌｉと合金化しない金属からなる集電体２１に、集電体２１の実効厚みｄが１５μｍ以上１００μｍ以下となるように凸部２３および凹部２４を形成する。本実施形態では、凹凸の形状を六角形とした。この後は、実施形態１と同様にして本実施形態の薄膜電極を形成できる。なお、図６は本実施形態に使用する集電体の平面図、図７は、図６の集電体の側面図である。また、図７において、ｔは集電体２１の厚みを表す。
【００４２】
上記実施形態１および実施形態２ではともに、上記Ｌｉと合金化する元素としては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｇｅ、Ｓｂなどが使用でき、特にＳｉおよびＳｎから選ばれる少なくとも一つの元素であることが好ましい。これらは、Ｌｉの挿入・脱離における可逆性が高いからである。また、上記薄膜の主成分としては、Ｃｕ6Ｓｎ5およびＮｉ3Ｓｎ4から選ばれるいずれか一つであることが好ましい。これらは、Ｌｉを可逆的に吸蔵・脱離可能であり、体積変化もＳｎ、Ｓｉの単体に比べて小さいからである。ここで、主成分とは、薄膜全体の重量に対して５０重量％以上含まれていることをいう。
【００４３】
特に、上記実施形態１、実施形態２で、集電体としてＣｕ箔を用い、その集電体の表面に例えば厚み１５μｍ以下のＳｎ薄膜を形成した場合、その後に真空、不活性雰囲気、または還元性雰囲気の下で１５０〜２３０℃で加熱することにより、薄膜の主成分をＬｉの可逆性に優れたＣｕ6Ｓｎ5合金とすることができる。形成されたＣｕ6Ｓｎ5合金は、大きな硬度を有するため割れやすく、その後に集電体を平坦化することにより、Ｃｕ6Ｓｎ5合金薄膜に容易にクラックを形成できる。
【００４４】
なお、上記Ｃｕ6Ｓｎ5合金を効率よく形成するためには、上記Ｃｕ箔上に例えば厚み５μｍ以下のＳｎ薄膜と厚み２μｍ以下のＣｕ薄膜とを交互に所定層数を形成した後に、上記加熱処理を行うことが好ましい。
【実施例】
【００４５】
次に、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００４６】
（実施例１）
古河サーキットフォイル社製の厚み１５μｍの電解銅箔をエンボス加工することにより、図１に示すように四角形の凹凸を形成した。凹凸の大きさは５０μｍ×５０μｍとし、電解銅箔の実効厚みは８０μｍとした。その後、凹凸を形成した電解銅箔を５０ｍｍ×３０ｍｍに切り出して本実施例の集電体とした。
【００４７】
次に、表面の酸化被膜、油脂、汚れなどを除去するために、上記集電体を４０℃に加熱した濃度１０％の硫酸水溶液中に４分間浸漬した。その後、水酸化ナトリウム５ｇ／ｄｍ3、オルトケイ酸ナトリウム２０ｇ／ｄｍ3、炭酸ナトリウム（無水）１０ｇ／ｄｍ3、ｎ−ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド１ｇ／ｄｍ3をそれぞれ溶解させた脱脂水溶液を準備し、この脱脂水溶液を６０℃に加熱した浴中で、上記集電体を５Ａ／ｄｍ2の電流密度で１分間の陰極電解脱脂を行った。次に、この集電体を蒸留水で水洗した後、再び濃度１０％の硫酸水溶液中に浸漬して集電体表面を中和するとともに脱脂剤を完全に除去した。
【００４８】
続いて、硫酸第一錫４０ｇ／ｄｍ3、硫酸６０ｇ／ｄｍ3、クレゾールスルホン酸４０ｇ／ｄｍ3、ゼラチン２ｇ／ｄｍ3、β−ナフトール１ｇ／ｄｍ3を溶解させた水溶液からなるＳｎめっき液を調製した。このめっき液をスターラーで攪拌しながら、めっき液中に上記集電体を浸漬して、１Ａ／ｄｍ2の電流密度で１５０分間の電解めっきを行い、集電体表面に厚み７μｍのＳｎめっき薄膜を形成し、その後水洗して薄膜電極を得た。
【００４９】
次に、上記薄膜電極を真空電気炉にて２２０℃で１７時間熱処理してＳｎめっき薄膜をＣｕ合金化した後、室温まで徐冷した。続いて、この薄膜電極をロールプレス機を用いてギャップを調節して加圧し、集電体の凹凸を平坦化した。次に、この平坦化した薄膜電極をアルゴン雰囲気中のドライボックスに移し、４１ｍｍ×２５．５ｍｍに打ち抜いて実施例１の負極とした。
【００５０】
上記負極を顕微鏡により観察したところ、表面に網目状のクラックが確認された。
【００５１】
（実施例２）
図６に示すように、集電体の凹凸の形状を一辺５０μｍの六角形とし、その実効厚みを５０μｍとした以外は、実施例１と同様にして実施例２の負極を作製した。この負極を顕微鏡により観察したところ、表面にクラックが確認された。
【００５２】
（実施例３）
集電体の実効厚みを３０μｍとした以外は、実施例２と同様にして実施例３の負極を作製した。この負極を顕微鏡により観察したところ、表面にクラックが確認された。
【００５３】
（比較例１）
集電体に凹凸を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして比較例１の負極を作製した。この負極を顕微鏡により観察したところ、表面にクラックは確認されなかった。
【００５４】
（比較例２）
集電体の実効厚みを３μｍとした以外は、実施例１と同様にして比較例２の負極を作製した。この負極を顕微鏡により観察したところ、表面にクラックはほとんど確認されなかった。
【００５５】
（比較例３）
集電体の実効厚みを１２０μｍとした以外は、実施例１と同様にして比較例３の負極の作製を試みたが、集電体の凹凸を平坦化する工程で集電体が部分的に切断したため、その時点で作業を中止した。
【００５６】
上記実施例１〜３および比較例１〜３の負極の主な構成を表１に示す。
【００５７】
【表１】
2005108522.tif 000003
次に、上記で作製した負極と組み合わせるための正極を以下のように作製した。先ず、正極活物質であるＬｉＣｏＯ2を９０重量部、導電助剤であるカーボンブラックを６重量部、バインダとしてポリフッ化ビニリデンを４重量部、溶剤としてＮ−メチルピロリドンを４０重量部、をそれぞれ均一になるように混合して正極合剤含有ペーストを調製した。続いて、集電体となる厚さ２０μｍのアルミニウム箔の片面に、上記正極合剤含有ペーストを、単位面積あたりの合剤重量が３２ｍｇ／ｃｍ2になるように塗布して乾燥した後、カレンダー処理を行って、全厚９４μｍ、電極密度３．２ｇ／ｃｍ3となるように正極合剤層の厚みを調整した。その後、４１ｍｍ×２５．５ｍｍに打ち抜いて正極とした。
【００５８】
電解液としては、１ｍｏｌ／ｄｍ3のＬｉＰＦ6を、エチレンカーボネートとジエチレンカーボネートの混合溶媒（混合体積比＝１：２）に溶解したものを用いた。セパレータとしては、ヘキストセラニーズ社製のポリプロピレン製セパレータ“Ｃｅｌｇａｒｄ♯２４００”（商品名、厚さ１０μｍ）を用いた。
【００５９】
上記正極と、実施例１〜３および比較例１、２の負極とをそれぞれ組み合わせ、その正極と負極との間に上記セパレータを配置して積層した後、アルミラミネートフィルム製の外装材に挿入し、上記電解液を注入し、外装材の電解液注入口をヒートシールにより封止して、モデルセルを作製した。
【００６０】
このモデルセルを用いて温度２５℃にて充放電試験を行った。充電は、電流密度０．５ｍＡ／ｃｍ2の定電流で４．３Ｖまで充電後、４．３Ｖの定電圧で充電電流が０．０５ｍＡ／ｃｍ2に到達するまで充電し、放電は、電流密度０．５ｍＡ／ｃｍ2の定電流で放電終止電圧３Ｖまで放電し、初回充電容量および初回放電容量を測定して、下記式１により初回充放電効率を算出した。なお、初回充電とは電池作製後の第１回目の充電をいい、初回放電とは電池作製後の第１回目の放電をいう。
【００６１】
また、この条件で充放電試験を行い、下記式２によりサイクル特性を算出した。なお、下記放電容量および充電容量は、Ｓｎ（錫）１ｇあたりの電気容量（ｍＡｈ／ｇ）で表される。
【００６２】
（数１）
初回充放電効率（％）＝（初回放電容量／初回充電容量）×１００  （式１）
（数２）
サイクル特性（％）＝（２０サイクル後の放電容量／初回放電容量）×１００  （式２）
また、初回充電時の電池の厚み変化をすべて負極の厚み変化によるものとして、下記式３により充電時の負極の厚み変化率（％）を算出した。
【００６３】
（数３）
厚み変化率（％）＝〔（初回充電時の電池厚み）−(充電前の電池厚み）〕／(充電前の負極の厚み)×１００  （式３）
充電前の負極の厚みの測定は、マイクロメーターを用いて行った。また、電池の厚みの測定は、上記各モデルセルをミツトヨ社製のレーザホロゲージに取り付けてカウンタ装置によって厚み変化を測定した。その結果を表２に示す。
【００６４】
【表２】
2005108522.tif 000004
表２から明らかなように、実施例１〜３は、比較例１に比べて、サイクル特性が高く、厚み変化率が低かった。これは、実施例１〜３では、活物質薄膜の体積膨張による応力を薄膜電極のクラックが緩和し、電極の膨張、集電体の皺寄れなどの発生が抑制されているためと考えられる。また、集電体の実効厚みが１５μｍを下回った比較例２では、活物質薄膜の体積膨張による応力の緩和が不十分となり、厚み変化率が高くなったため、サイクル特性も低下したもと考えられる。
【００６５】
なお、初回放電容量は、活物質であるＳｎの量に依存するため、薄膜のクラックの有無に関わりなく約６６０ｍＡｈ／ｇの容量となった。
【産業上の利用可能性】
【００６６】
本発明の薄膜電極は、活物質薄膜の体積変化による影響を最小限に抑えて、電極の膨張、集電体の皺寄れなどの発生を抑制することが可能である。このため、本発明の薄膜電極を用いることでサイクル特性などの信頼性に優れ、かつ高容量のリチウム二次電池の作製が可能となり、このリチウム二次電池を電源とする各種の携帯電子端末機器などの小型軽量化に貢献できる。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明に用いる集電体の一例を示す斜視図である。
【図２】図１の集電体に薄膜を形成した状態を示す斜視図である。
【図３】図２のＡ−Ａ部の要部断面図である。
【図４】本発明の薄膜電極の製造工程の一部を示す断面図である。
【図５】本発明の薄膜電極の一例を示す平面図である。
【図６】本発明に用いる集電体の他の一例を示す平面図である。
【図７】図６の集電体の側面図である。
【符号の説明】
【００６８】
１１、２１      集電体
１２            薄膜
１３ａ、１３ｂ  凸部
１４ａ、１４ｂ  凹部
１５ａ          主たるクラック
１５ｂ          従たるクラック
１６            薄膜電極
２３            凸部
２４            凹部
ｄ              集電体の実効厚み
ｔ              集電体の厚み
【図１】
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【図２】
2005108522.tif 000006
【図３】
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【図４】
2005108522.tif 000008
【図５】
2005108522.tif 000009
【図６】
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【図７】
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