(57)【要約】【課題】  高精細なエレクトロルミネッセンス層を形成することができ、また蒸着マスクと被蒸着基板の着脱が容易な有機ＥＬパネルの製造方法、この製造方法を実施するための簡便な構成の有機ＥＬパネルの製造装置及びこの製造装置で製造された有機ＥＬパネルを提供する。【解決手段】  複数の層からなるエレクトロルミネッセンス層の一部又は全部を、蒸着マスク３を用いた蒸着によって形成する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、蒸着の際に、蒸着マスク３を被蒸着基板（ガラス基板４）の所定の位置に配置し、被蒸着基板を力学的に押圧して、蒸着マスク３と被蒸着基板を密着させるものである。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の層からなるエレクトロルミネッセンス層の一部又は全部を、蒸着マスクを用いた蒸着によって形成する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、
蒸着の際に、被蒸着基板を前記蒸着マスクの所定の位置に配置し、前記被蒸着基板を力学的に押圧して、前記蒸着マスクと前記被蒸着基板を密着させることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項２】
前記力学的に押圧する手段として、１又は複数の重りを使用することを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項３】
前記力学的に押圧する手段が１又は複数の弾性体を備え、該弾性体を介して前記被蒸着基板を押圧することを特徴とする請求項１又は２記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項４】
前記弾性体にプランジャピンが取付けられ、該プランジャピンを前記被蒸着基板に接触させて押圧することを特徴とする請求項３記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項５】
前記蒸着マスクが、所定の加工を施した単結晶シリコンからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を実施するための前記力学的に押圧する手段を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造装置。
【請求項７】
請求項６記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造装置で製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬという）パネルの製造方法、この有機ＥＬパネルの製造装置及び有機ＥＬパネルに関し、特に、有機ＥＬ層を高精細に形成することのできる有機ＥＬパネルの製造方法、この製造方法を実施するための有機ＥＬパネルの製造装置及びこの製造装置で製造された有機ＥＬパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のフルカラー有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、赤、緑、青の発光層を蒸着する際に、それぞれの色に対応した蒸着材料を蒸着するための真空チャンバーを３個用意し、この真空チャンバー内部で有機ＥＬ表示パネルより面積が大きく、厚さの薄いメタルマスクを用いてフルカラー有機ＥＬ表示パネルを製造していた。
【０００３】
また、従来のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法では、発光層等の蒸着をするための蒸着マスクを、単結晶シリコン基板から形成するものがあった。この単結晶シリコン基板からなる蒸着マスクは、フォトリソグラフィーやドライエッチング等の半導体製造技術を用いて形成され、加工精度の高いものである。また、単結晶シリコン基板からなる蒸着マスクは、被蒸着基板であるガラス基板と熱膨張係数がほぼ同じであるため、蒸着時の熱膨張によって発光素子等の蒸着位置がずれてしまうということがない（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、従来の有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、発光層等を蒸着する際に、磁性体マスクやメタルマスクを蒸着マスクとして用い、磁石を備えた基板保持体によってスペーサーと蒸着マスクを吸引することにより、スペーサーを介して蒸着マスクと被蒸着基板を合わせるようにしていた（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００１−１８５３５０号公報（第２頁、図１）
【特許文献２】特開２００１−２７３９７６号公報（第２頁、図４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来のフルカラー有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、パネルサイズの大きいフルカラー有機ＥＬ表示パネルを製造する際に、それに応じた大きいメタルマスクを用いる必要があるが、面積が大きく厚さの薄いメタルマスクを製造するのは非常に難しいという問題点があった。
さらにメタルマスクは、熱膨張係数が被蒸着基板であるガラス基板に比べて非常に大きいため、蒸着時の輻射熱によって膨張し、発光層等の蒸着位置がずれてしまうという問題点があった。特に、２０インチ以上の大型パネルを製造するときには、蒸着位置のずれが累積的に大きくなるため、この問題は深刻であった。
【０００６】
また、従来のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法では（例えば、特許文献１参照）、単結晶シリコンからなる蒸着マスクと被蒸着基板であるガラス基板の位置が熱膨張によってずれてしまうことはない。しかし、単結晶シリコンは非磁性であるため、特許文献２の有機ＥＬ表示パネルの製造方法のようにガラス基板の裏側から磁石によって蒸着マスクを吸引し、蒸着マスクと被蒸着基板を密着させることができないという問題点があった。このため、蒸着時にガラス基板と蒸着マスクの間に隙間ができて、蒸着材料がこの隙間の間に入り込み、蒸着パターンの精度が低下するという問題点があった。
【０００７】
また、従来の有機ＥＬ表示パネルの製造方法では（例えば、特許文献２参照）、磁性体マスクやメタルマスクを蒸着マスクとして用い、被蒸着基板であるガラス基板の裏側から磁石によってスペーサーと蒸着マスクを吸引している。しかし、例えば特許文献２のようなスペーサーを設けずに蒸着マスクと被蒸着基板を強い磁力で密着させると、蒸着マスクと被蒸着基板が張り付いて、容易に着脱することができなくなる。また磁力が弱い場合には蒸着マスクと被蒸着基板の間に隙間ができて、蒸着粒子がこの隙間に入り込み、蒸着パターンの精度が低下する。
また、特許文献２のようなスペーサーを設けても、スペーサーと被蒸着基板が張り付く等の問題が発生する可能性があり、またスペーサーの取り扱いや蒸着工程が複雑になりコストが高くなるという問題点があった。
【０００８】
本発明は、高精細なエレクトロルミネッセンス層を形成することができ、また蒸着マスクと被蒸着基板の着脱が容易な有機ＥＬパネルの製造方法、この製造方法を実施するための簡便な構成の有機ＥＬパネルの製造装置及びこの製造装置で製造された有機ＥＬパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法は、複数の層からなるエレクトロルミネッセンス層の一部又は全部を、蒸着マスクを用いた蒸着によって形成する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、蒸着の際に、蒸着マスクを被蒸着基板の所定の位置に配置し、被蒸着基板を力学的に押圧して、蒸着マスクと被蒸着基板を密着させるものである。
被蒸着基板を力学的に押圧して、蒸着マスクと被蒸着基板を密着させるため、蒸着の際、蒸着マスクと被蒸着基板の間に隙間ができることがなく、蒸着パターンの精度を向上させることができる。
また、磁気力や電気力を用いずに、古典力学的に被蒸着基板を押圧して、蒸着マスクと被蒸着基板を密着させるため、蒸着マスクと被蒸着基板が張り付いて着脱できなくなるのを防止することができる。
【００１０】
また本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法は、上記の力学的に押圧する手段として、１又は複数の重りを使用するものである。
力学的に押圧する手段として、１又は複数の重りを使用すれば、容易に蒸着マスクと被蒸着基板を密着させることができ、また簡便な製造装置で高精度のエレクトロルミネッセンス層を形成することができる。
さらに、被蒸着基板に比べて大きさの小さい複数の重りを使用すれば、被蒸着基板の平坦度にバラツキがあった場合でも、容易に蒸着マスクと被蒸着基板を密着させることができる。
【００１１】
また本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法は、上記の力学的に押圧する手段が１又は複数の弾性体を備え、該弾性体を介して被蒸着基板を押圧するものである。
力学的に押圧する手段が１又は複数の弾性体を備え、この弾性体を介して被蒸着基板を弾性的に押圧するため、被蒸着基板が破損するのを防止することができる。また、被蒸着基板の平坦度にバラツキがあった場合でも蒸着マスクと被蒸着基板を正確に密着させることができる。
【００１２】
また本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法は、上記の弾性体にプランジャピンが取付けられ、該プランジャピンを被蒸着基板に接触させて押圧するものである。
弾性体にプランジャピンが取付けられているため、被蒸着基板の平坦度にバラツキがあった場合でも蒸着マスクと被蒸着基板を正確に密着させることができる。
また例えば、特定の方向（上下方向等）にのみ移動するプランジャピンを被蒸着基板に接触させて押圧するようにすれば、被蒸着基板の所定の位置を正確に押圧することができる。
【００１３】
また本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法は、上記の蒸着マスクが、所定の加工を施した単結晶シリコンからなるものである。
上記のように磁気力や電気力を用いずに、古典力学的に被蒸着基板を押圧して、蒸着マスクと被蒸着基板を密着させるため、金属や磁性体でない単結晶シリコンからなる蒸着マスクを使用することができる。また、この蒸着マスクをフォトリソグラフィーやドライエッチング等によって形成すれば、高精細な蒸着マスクが製造でき、高精度の蒸着パターンの形成が可能となる。
【００１４】
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造装置は、上記のいずれかの有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を実施するための力学的に押圧する手段を有するものである。
また、磁気力や電気力を用いない古典力学的に押圧する手段を有し、この押圧する手段によって被蒸着基板を押圧して、蒸着マスクと被蒸着基板を密着させるため、蒸着パターンの精度を向上させることができ、また蒸着マスクと被蒸着基板が張り付いて着脱できなくなるのを防止することができる。
なおこの力学的に押圧する手段は、上記のような重りだけでなく、製造装置に直接取付けられるようなものであってもよい。
【００１５】
本発明に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルは、上記の有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造装置で製造されたものである。
この有機エレクトロルミネッセンスパネルは、上記の力学的に押圧する手段を備えた製造装置で製造されているため、高精細なエレクトロルミネッセンス層の蒸着パターンを有し、また欠陥や破損の少ないものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
実施形態１．
図１は、本発明の実施形態１に係る有機ＥＬパネルの製造方法及び製造装置を示す概念図である。なお図１では、有機ＥＬパネルの製造装置の縦断面を示している。
有機ＥＬパネルの製造装置である蒸着チャンバー１は、例えば真空蒸着を行うものであり内部が密閉状態になっている。蒸着チャンバー１の内部の底面側に蒸着源２が設けられており、蒸着チャンバー１の内部の蒸着源２の上方には、例えば単結晶シリコンにフォトリソグラフィーやエッチング等により所定の加工を施した蒸着マスク３が設置されている。蒸着マスク３には、エッチング等により所定の形状の開口部３ａが形成されている。なおこの開口部３ａは、例えば有機ＥＬパネルの完成品の個々の画素に対応したドット形状が多数形成されているようなものでもよく、縦又は横に並んだ１列の画素を一括して蒸着できるように、細長い形状の開口部３ａが複数形成されているようなものであってもよい。
【００１７】
また、蒸着マスク３の上面に接するように、被蒸着基板であるガラス基板４が配置されている。このガラス基板４は、蒸着を行う工程の前に蒸着チャンバー１の内部に入れられて、位置合わせ手段（図示せず）によって蒸着マスク３の上面の所定の位置に正確に配置される。
なお、ガラス基板４を蒸着チャンバー１の内部に入れる前に、ガラス基板４の下面側（蒸着マスク３と接する側）の面には、ＩＴＯ等からなる配線や、場合によっては一部のエレクトロルミネッセンス層（後に説明する）が、あらかじめ形成されている。
【００１８】
さらに、ガラス基板４の上面には力学的に押圧する手段である重り５が、１又は複数載せらる。なお、図１では重り５が複数載せられたものを示しているが、例えば平板形状の重りを１つだけ載せるようにしてもよい。
この重り５は、磁気力や電気力を用いずに重力によってガラス基板４を押圧し、蒸着マスク３と被蒸着基板であるガラス基板４を密着させている。なお、本発明で力学的に押圧する手段とは、磁気力や電気力ではない古典力学的な力によって押圧する手段のことをいうものとし、本実施形態１に示す重り５や、後の実施形態３に示す機械的に押圧する手段等をいうものとする。
このように、蒸着マスク３、ガラス基板４及び重り５を配置した後に、蒸着源２から蒸着材料を蒸発させてガラス基板４に蒸着し、発光層等のエレクトロルミネッセンス層の一部又は全部を形成する。
【００１９】
図２は、図１の蒸着マスク３、ガラス基板４及び重り５の部分を拡大した概念図である。なお、図２でも図１と同様に、これらの部分の縦断面を示している。また、重り５は便宜上１つだけを示している。
図２（ａ）に示すように、蒸着チャンバー１の内部に入れられて、位置合わせ手段によって蒸着マスク３の上面の所定の位置に配置されたガラス基板４は、表面応力等によって大きく反っており、蒸着マスク３とガラス基板４の間に隙間６ができている。このままの状態でガラス基板４に蒸着を行うと隙間６に蒸着材料が入り込み、本来蒸着マスクで塞がれなけばいけない部分が蒸着され、蒸着パターンの精度が低下する。このため図２（ｂ）に示すように、ガラス基板４の上面に力学的に押圧する手段である重り５を載せることでガラス基板４を押圧し、蒸着マスク３とガラス基板４を密着させる。これにより隙間６がほぼ無くなるため、所定の位置に蒸着材料を蒸着させることができ、蒸着パターンの精度を向上させることができる。
【００２０】
ここで、ガラス基板４に比べて大きさの小さい複数の重り５を使用すれば、個々のガラス基板４の平坦度にバラツキがあったとしても、蒸着マスク３とガラス基板４を密着させることができる（図１参照）。図１に示す有機ＥＬパネルの製造装置では、１つのガラス基板４の蒸着が終わると、これを外部に取り出して蒸着チャンバー１の内部に次のガラス基板４が入れらて蒸着が行われる。このように次々とガラス基板４の蒸着を行っていくときに、個々のガラス基板４の平坦度（反り具合）に多少のバラツキがあることが多い。このとき図１に示すように、ガラス基板４に比べて大きさの小さい複数の重り５をガラス基板４に載せるようにすれば、個々のガラス基板４の平坦度に応じた押圧ができる。このため、ガラス基板４の平坦度に多少のバラツキがあっても蒸着を行うことができ、ガラス基板４の製造コストを削減することができる。
【００２１】
図３、図４及び図５は、本実施形態１においてガラス基板４を蒸着チャンバー１に投入してから蒸着を行うまでの工程を示した模式図である。なお図３、図４及び図５では、図１と同様に有機ＥＬパネルの製造装置の縦断面を示しており、図１よりも有機ＥＬパネルの製造装置の具体的な構成を示している。
まず図３の工程では、蒸着チャンバー１のガラス基板投入口８から、ガラス基板４を蒸着チャンバー１の内部の蒸着マスク３の上部に投入する。なお上述のように、ガラス基板４の下面には、この時点で既にＩＴＯからなる陽極等が形成されている。この際、重り５は昇降手段９によって蒸着マスク３及びガラス基板４の上方に持ち上げられており、ガラス基板４とぶつからないようになっている。なお本実施形態１では、重り５はワイヤ１０でつり下げられているものとする。また、図３の工程では蒸着源２のシャッター１１は閉じられており、蒸着源２は蒸着材料を加熱しないようになっている。またガラス基板４を蒸着チャンバー１の内部に投入するのに、上記の位置合わせ手段（図示せず）を用いているものとする。
【００２２】
次に図４の工程では、位置合わせ手段（図示せず）によって、ガラス基板４を蒸着マスク３の上面の所定の位置に正確に配置する。この際、ガラス基板４が蒸着マスク３の上面に置かれて接触するようにする。なおこの時点では、重り５は昇降手段９によって蒸着マスク３及びガラス基板４の上方に持ち上げられたままであり、シャッター１１も閉じられた状態となっている。
そして図５の工程では、昇降手段９によって重り５をガラス基板４の上面に載せる。この重り５にかかる重力によってガラス基板４が押圧され、蒸着マスク３とガラス基板４が密着することとなる。なお昇降手段９の制御は、作業者が操作パネル（図示せず）等を操作して行うようなものであっても、自動的に重り５の昇降が行われるようなものであってもよい。
この図５の工程の後に、ガラス基板投入口８を開閉扉（図示せず）で封鎖し、シャッター１１を開く。そして、蒸着源２を加熱して蒸着材料を蒸発させて発光層等のエレクトロルミネッセンス層の蒸着を行う。なおこの蒸着が終了した後に、ガラス基板４は蒸着チャンバー１の外部に取り出される。
【００２３】
本実施形態１では、重り５によって被蒸着基板であるガラス基板４を押圧して、蒸着マスク３とガラス基板４を密着させるため、蒸着の際、蒸着マスク３とガラス基板４の間に隙間６ができることがなく、蒸着パターンの精度を向上させることができる。
また、磁気力や電気力を用いない古典力学的にガラス基板４を押圧して、蒸着マスク３とガラス基板４を密着させるため、蒸着マスク３とガラス基板４が張り付いて着脱できなくなるのを防止することができる。
【００２４】
実施形態２．
図６は、本発明の実施形態２に係る有機ＥＬパネルの製造装置を示す模式図である。なお図６では、実施形態１の図１と同様に、有機ＥＬパネルの製造装置の縦断面を示している。また、本実施形態２に係る有機ＥＬパネルの製造装置は力学的に押圧する手段として、重り５ａ、バネ１３、プランジャピン１４を用いている。その他の点については、実施形態１の有機ＥＬパネルの製造装置と同様であり、図３等における昇降手段９、ワイヤ１０等は省略している。
【００２５】
本実施形態２に係る有機ＥＬパネルの製造装置は、１つの重り５ａが、蒸着チャンバー１の内部の蒸着マスク３、ガラス基板４の上方に設けられている。この重り５ａには、弾性体として複数のバネ１３が設けられており、このバネ１３にはそれぞれプランジャピン１４が取付けられている。このプランジャピン１４は、重り５ａに設けられた筒状のガイド１５の内部を上下方向にのみ移動するようになっている。なお、バネ１３、プランジャピン１４は１つずつであってもよい。
【００２６】
本実施形態２では、ガラス基板４が蒸着チャンバー１の内部に入れられて、位置合わせ手段（図示せず）によって蒸着マスク３の上面の所定の位置に配置された後に、ワイヤ１０（図６において図示せず）に繋がれた重り５ａを昇降手段１０（図６において図示せず）によって下げていく。重り５ａが下げられると、プランジャピン１４がガラス基板４に接触し、バネ１３を介してガラス基板４を押圧する。これにより、蒸着マスク３とガラス基板４が密着することとなる。
なお、プランジャピン１４を設けずにバネ１３等の弾性体で直接ガラス基板４を押圧してもよい。また、後の実施形態３に示すように、重り５ａを金属棒等を介して駆動手段によって上下させ、ガラス基板４を押圧するようにしてもよい。さらに、このような重り５ａ、バネ１３、プランジャピン１４の代わりに平板状の重りを用い、この重りの下面にスポンジ状の弾性体を取付けてガラス基板４を押圧するようにしてもよい。
【００２７】
本実施形態２では、重り５ａが１又は複数のバネ１３を備え、このバネ１３を介してガラス基板４を弾性的に押圧するため、ガラス基板４が破損するのを防止することができる。また、ガラス基板４の平坦度にバラツキがあった場合でも蒸着マスク３とガラス基板４を正確に密着させることができる。
さらに、特定の方向にのみ移動するプランジャピン１４をガラス基板４に接触させて押圧するようにしているため、ガラス基板４の所定の位置を正確に押圧することができる。
その他の効果は、実施形態１の場合と同様である。
【００２８】
実施形態３．
図７は、本発明の実施形態３に係る有機ＥＬパネルの製造装置を示す模式図である。なお図７では、実施形態１の図１と同様に、有機ＥＬパネルの製造装置の縦断面を示している。また、本実施形態３に係る有機ＥＬパネルの製造装置は力学的に押圧する手段として、アーム１７、駆動手段１８を用いている。その他の点については、実施形態１の有機ＥＬパネルの製造装置と同様である。
【００２９】
本実施形態３に係る有機ＥＬパネルの製造装置では、実施形態１の重り５に代えて、アーム１７によってガラス基板４を押圧するようになっている。アーム１７は、駆動手段１８によって上下に移動できるようになっており、例えば駆動手段１８が蒸着チャンバー１の内部の上面に設けられていて、蒸着チャンバー１にアーム１７が直接的に取付けられた状態となっている。このアーム１７によってガラス基板４を押圧し、蒸着マスク３とガラス基板４を密着させる。
【００３０】
ここで駆動手段１８の制御は、作業者がアーム１７の位置等を確認しながらアームの移動をしてもよく、また駆動手段１８に圧力センサ（図示せず）等を設けて、所定の圧力がガラス基板４にかかるように自動制御するようにしてもよい。また上記のように、実施形態２の図６に示したような重り５ａ、バネ１３、プランジャピン１４を、金属棒等のアームに取付けて駆動手段によって移動させるようにしてもよい。
なおアーム１７、駆動手段１８は、古典力学的にガラス基板４を押圧しているが、駆動手段１８自身の駆動力として電気力等を使ってもよいのは言うまでもない。
【００３１】
本実施形態３では、アーム１７によって被蒸着基板であるガラス基板４を押圧して、蒸着マスク３とガラス基板４を密着させるため、蒸着の際、蒸着マスク３とガラス基板４の間に隙間ができることがなく、蒸着パターンの精度を向上させることができる。
また、磁気力や電気力を用いないアーム１７、駆動手段１８によってガラス基板４を押圧して、蒸着マスク３とガラス基板４を密着させるため、蒸着マスク３とガラス基板４が張り付いて着脱できなくなるのを防止することができる。
【００３２】
実施形態４．
図８は、本発明の実施形態４に係る有機ＥＬパネルの製造工程を示す縦断面図である。なお図８では、画素等を模式的に示しており、実際の有機ＥＬパネルでは多数の画素が形成されるものとする。
この有機ＥＬパネルは、実施形態１、実施形態２及び実施形態３に示すような有機ＥＬパネルの製造装置で製造されている。図８では、駆動方式がパッシブ型であって、無アルカリガラス４ａ側（図８の紙面下側）に光を出射するボトム・エミッション方式の有機ＥＬパネルを示しているが、駆動方式がアクティブ型のものやトップエミッション方式のものでも製造工程はほぼ同様であり、同じ有機ＥＬパネルの製造装置を使用して製造することができる。
【００３３】
まず、無アルカリガラス４ａの一方の面に、スパッタ等によりＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等からなる陽極２０を画素ごとに形成し、それ以外の部分に酸化シリコン層２１を形成する（図８（ａ））。なお、この陽極２０及び酸化シリコン層２１をスパッタで形成する際に、実施形態１、２及び３で示した有機ＥＬパネルの製造装置を使ってスパッタを行ってもよい。
次に、陽極２０及び酸化シリコン層２１の上面に、正孔注入層２２及び正孔輸送層２３を蒸着する（図８（ｂ））。図８（ｂ）の工程では正孔注入層２２及び正孔輸送層２３を画素ごとではなく、周辺部２５を除いた陽極２０及び酸化シリコン層２１の上面に一括して蒸着している。このとき周辺部２５の部分を遮蔽するため、専用の蒸着マスク（図示せず）を用いており、この蒸着マスクの押圧のために実施形態１等の有機ＥＬパネルの製造装置を使用してもよい。
なお、陽極２０、酸化シリコン層２１、正孔注入層２２、正孔輸送層２３の形成された無アルカリガラス４ａをガラス基板４というものとする。上述の実施形態１、２及び３におけるガラス基板４も、図８（ｂ）までの処理が行われているものとする。
【００３４】
そして、実施形態１、２及び３に示すような有機ＥＬパネルの製造装置を用いて、ガラス基板４の上面に赤色発光層２６Ｒ、緑色発光層２６Ｇ及び青色発光層２６Ｂを蒸着によって形成する（図８（ｃ））。なおこのとき、蒸着マスク３の開口部３ａ（図１参照）は、１色の発光層に相当する部分のみが開口しており、例えば、赤色発光層２６Ｒの蒸着が終わった後に蒸着マスク３を移動させ、緑色発光層２６Ｇを蒸着し、同様に青色発光層２６Ｂを蒸着するようにしている。また、この発光層の蒸着の工程は、一般的に有機ＥＬ材料のホスト材とドープ材を共蒸着することにより行われる。
特に、この赤色発光層２６Ｒ、緑色発光層２６Ｇ及び青色発光層２６Ｂを蒸着する際に、ガラス基板４を押圧し蒸着マスク３とガラス基板４を密着させることで、高精細な有機ＥＬパネルを製造することができる。
【００３５】
その後、正孔輸送層２３、赤色発光層２６Ｒ、緑色発光層２６Ｇ及び青色発光層２６Ｂの上面に、一括して電子輸送層２７を成膜し、更にその上面に非常に薄い電子注入層（図示せず）及びアルミニウム等からなる陰極２８をスパッタ等により形成する（図８（ｄ））。このとき、図８（ｂ）の工程と同様に専用の蒸着マスク（図示せず）で、周辺部２５に電子輸送層２７等が成膜されないようにする。なお本発明でエレクトロルミネッセンス層とは、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、赤色発光層２６Ｒ、緑色発光層２６Ｇ、青色発光層２６Ｂ、電子輸送層２７、電子注入層をいうものとする。但し、これらの層は必ずしもすべて形成する必要はない。
最後に、乾燥剤２９の取付けられた封止ガラス３０を、電子輸送層２７等の形成されたガラス基板４に接着剤等により接合することにより、有機ＥＬパネルが完成する（図８（ｅ））。
【００３６】
なお本実施形態４では、赤色発光層２６Ｒ、緑色発光層２６Ｇ及び青色発光層２６Ｂのみを上記の有機ＥＬパネルの製造装置を用いて蒸着しているが、正孔注入層２２や正孔輸送層２３を実施形態１、２及び３に示すような有機ＥＬパネルの製造装置を使用して画素ごとに個別に形成するようにしてもよい。また、電子輸送層２７や電子注入層等も画素ごとに個別に形成してもよい。
【００３７】
本実施形態４の有機ＥＬパネルは、実施形態１、２及び３に示すような力学的に押圧する手段を備えた製造装置で製造されているため、高精細なエレクトロルミネッセンス層の蒸着パターンを有し、また欠陥や破損の少ないものである。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明の実施形態１、２及び３に示すような有機ＥＬパネルの製造方法及び製造装置は、色素蒸着法による液晶ディスプレイのカラーフィルタの製造や、有機トランジスタ等の製造にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】実施形態１に係る有機ＥＬパネルの製造方法及び製造装置を示す概念図。
【図２】図１の蒸着マスク、ガラス基板及び重りの部分を拡大した概念図。
【図３】実施形態１においてガラス基板に蒸着を行うまでの工程を示した模式図。
【図４】図３の続きの工程を示した模式図。
【図５】図４の続きの工程を示した模式図。
【図６】本発明の実施形態２に係る有機ＥＬパネルの製造装置を示す模式図。
【図７】本発明の実施形態３に係る有機ＥＬパネルの製造装置を示す模式図。
【図８】本発明の実施形態４に係る有機ＥＬパネルの製造工程を示す縦断面図。
【符号の説明】
【００４０】
１  蒸着チャンバー、２  蒸着源、３  蒸着マスク、３ａ  開口部、４  ガラス基板、４ａ  無アルカリガラス、５  重り、５ａ  重り、６  隙間、８  ガラス基板投入口、９  昇降手段、１０  ワイヤ、１１  シャッター、１３  バネ、１４  プランジャピン、１５  ガイド、１７  アーム、１８  駆動手段、２０  陽極、２１  酸化シリコン層、２２  正孔注入層、２３  正孔輸送層、２５  周辺部、２６Ｒ  赤色発光層、２６Ｇ  緑色発光層、２６Ｂ  青色発光層、２７  電子輸送層、２８  陰極、２９  乾燥剤、３０  封止ガラス。
【図１】
2005158571.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【手続補正書】
【提出日】平成16年10月15日(2004.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本実施形態２では、ガラス基板４が蒸着チャンバー１の内部に入れられて、位置合わせ手段（図示せず）によって蒸着マスク３の上面の所定の位置に配置された後に、ワイヤ１０（図６において図示せず）に繋がれた重り５ａを昇降手段９（図６において図示せず）によって下げていく。重り５ａが下げられると、プランジャピン１４がガラス基板４に接触し、バネ１３を介してガラス基板４を押圧する。これにより、蒸着マスク３とガラス基板４が密着することとなる。
なお、プランジャピン１４を設けずにバネ１３等の弾性体で直接ガラス基板４を押圧してもよい。また、後の実施形態３に示すように、重り５ａを金属棒等を介して駆動手段によって上下させ、ガラス基板４を押圧するようにしてもよい。さらに、このような重り５ａ、バネ１３、プランジャピン１４の代わりに平板状の重りを用い、この重りの下面にスポンジ状の弾性体を取付けてガラス基板４を押圧するようにしてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
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