(57)【要約】【課題】汚泥処理において発生する排水中のフッ素濃度を低減する。【解決手段】ジルコニルにより凝集したフッ素含有汚泥をその他汚泥と一緒に貯留する汚泥貯留槽２０にポリ硫酸鉄などの酸性の無機凝集剤を添加し、汚泥のｐＨを３．５〜７の範囲内に調整する。これによって、重力濃縮槽２２の濃縮分離液、脱水装置２４の脱水ろ液中にフッ素が溶出することを防止できる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素を含む被処理水にジルコニル塩を添加することにより生じたフッ素含有汚泥を脱水するフッ素含有汚泥の処理方法であって、
当該汚泥に無機凝集剤を添加するとともに、そのｐＨを３．５から７の範囲に調整して、脱水することを特徴とするフッ素含有汚泥の処理方法。
【請求項２】
フッ素を含む被処理水にジルコニル塩を添加することにより生じたフッ素含有汚泥を脱水するフッ素含有汚泥の処理方法であって、
当該汚泥に無機凝集剤および高分子凝集剤を添加するとともに、そのｐＨを３．５から７の範囲に調整して、脱水することを特徴とするフッ素含有汚泥の処理方法。
【請求項３】
請求項２記載の方法において、
前記高分子凝集剤は、カチオン系高分子凝集剤とアニオン性高分子凝集剤の２剤の併用であることを特徴とする請求項２記載のフッ素含有汚泥の処理方法。
【請求項４】
請求項２に記載の方法において、
高分子凝集剤が両性高分子凝集剤であることを特徴とするフッ素含有汚泥の処理法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の方法において、
脱水に使用する脱水機がスクリュープレス型脱水機であることを特徴とするフッ素含有汚泥の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フッ素含有汚泥を脱水処理する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体や、液晶などを製造するエレクトロニクス産業においては、その製造工程でフッ素を使用するため、エレクトロニクス産業排水にはフッ素が含有される場合が多い。このフッ素含有水からフッ素を除去する方法としては、原水にカルシウム剤を添加して、フッ化カルシウムの微細粒子を析出させ、これらの微細粒子をＡｌ、Ｆｅ系の無機凝集剤もしくは有機高分子凝集剤で凝集させて、沈殿分離する方法が採用されている。この方法によると処理水フッ素は、１０〜２０ｍｇ／ｌに低減できる。ところが、日本においては、２００１月７月にフッ素についての排出基準値が１５ｍｇ／ｌから８ｍｇ／ｌに強化され、フッ素をさらに高度に処理する必要が出てきた。
【０００３】
フッ素を高度に処理する方法としては、上記凝集沈殿処理における凝集剤の添加量を増加させたり、上記凝集沈殿処理の後段でさらにもう一度凝集沈殿処理を行う方法が採用される。このような処理における凝集剤使用量は２０００〜５０００ｍｇ／ｌであり、ＡｌやＦｅの水酸化物にフッ素を吸着させてフッ素除去率を向上させている。この方法によって、処理水フッ素濃度が２〜８ｍｇ／ｌに低減できる。
【０００４】
他の方法として、ＺｒやＣｅの含水酸化物を樹脂に担持させたり、高分子物質で造粒したフッ素吸着剤を使用して、フッ素除去率を向上させることが提案されている（特許文献１（特公平６−７９６６５）、特許文献２（特公昭６１−４７１３４））。これらの方法により、処理水フッ素濃度が０〜１ｍｇ／ｌに低減できるとされている。
【０００５】
ここで、上記の吸着剤は、希土類元素やＴｉ、Ｚｒの塩類にアルカリを添加するか加熱して加水分解して生成した含水酸化物ＭＯn・ＸＨ2Ｏ（≒Ｍ（ＯＨ）m）で表されるような物質がＰＯ43-、Ｆ-、ＳＯ42-等の陰イオンと酸性側で陰イオン交換し、アルカリ側で陽イオン交換する性質を利用している（特許文献３（特公平２−１７２２０）、特許文献４（特開昭６０−１７２３５３））。なお、Ｍは金属、Ｘ，ｍ，ｎは任意の数である。
【０００６】
【特許文献１】特公平６−７９６６５号公報
【特許文献２】特公昭６１−４７１３４号公報
【特許文献３】特公平２−１７２２０号公報
【特許文献４】特開昭６０−１７２３５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記凝集沈殿法では、フッ素を低減させるためにＡｌ、Ｆｅ系の凝集剤を数１０００ｍｇ／ｌ添加する。このような凝集汚泥は、そのフロック強度が弱く、またそのフロック内部に水分子を取り込んでいるため、汚泥の脱水性が悪い。また、含水率が高いため汚泥発生量が非常に多くなる。従って、汚泥処分費が嵩むという問題がある。また、このような大量の廃棄物を生成する処理は、廃棄物量を削減するという社会的要請に逆行する技術である。
【０００８】
一方、フッ素吸着剤は、汚泥の増加はないものの、吸着速度が遅く吸着剤使用量が大きくなる。このため、処理コストが非常に高いという問題がある。また、エレクトロニクス産業排水に含まれる過酸化水素のような酸化剤や原水中のフッ酸により吸着剤が劣化し、母材が崩壊し流れ出してしまうという問題もある。
【０００９】
そこで、本出願人は、特願２００２−２５９３５６において、フッ素を高度に処理する方法として、フッ素含有水にジルコニル塩を添加し、生成するフッ素との不溶化物を固液分離することにより、処理水のフッ素濃度を８ｍｇ／Ｌ以下にする方法について提案した。
【００１０】
この方法によれば、フッ素を含む被処理水にジルコニル塩を添加すると下式に示す反応が生起され、フッ素が不溶化し、汚泥中にフッ素が取り込まれる。
（化１）
ＺｒＯＣｌ2＋２Ｆ-→ＺｒＯＦ2＋２Ｃｌ-
【００１１】
このような固液分離をすることにより処理水のフッ素濃度を８ｍｇ／Ｌ以下にすることができる。ジルコニル塩としては、塩化ジルコニル、硫酸ジルコニル、硝酸ジルコニルを使用することができる。また、この反応は、ｐＨ３．５〜７の範囲で速やかに進行する。従って、フッ素を含む被処理水にジルコニル塩を添加することにより、フッ素を高度に処理することが出来る。一方、この処理により生じたフッ素含有汚泥は、汚泥処理施設により、濃縮脱水処理がなされる。ここで、工場には、フッ素含有排水以外にも各種の排水があり、これらはフッ素含有排水とは別に処理されており、これら排水処理施設においても、汚泥が発生する。汚泥処理施設は、排水処理施設ごとに設けることは効率的ではなく、通常各排水処理施設で発生する汚泥を混合して処理している。
【００１２】
このような汚泥処理の中の濃縮工程や脱水工程において、排水が生じるが、この排水中のフッ素濃度がかなり高くなる場合があることがわかった。
【００１３】
本発明は、汚泥処理において発生する排水中のフッ素濃度を低減できるフッ素含有汚泥の処理方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、フッ素を含む被処理水にジルコニル塩を添加することにより生じたフッ素含有汚泥を脱水するフッ素含有汚泥の処理方法であって、
【００１５】
当該汚泥に無機凝集剤を添加するとともに、そのｐＨを３．５から7の範囲に調整して、脱水することを特徴とする。
【００１６】
また、本発明は、フッ素を含む被処理水にジルコニル塩を添加することにより生じたフッ素含有汚泥を脱水するフッ素含有汚泥の処理方法であって、当該汚泥に無機凝集剤および高分子凝集剤を添加するとともに、そのｐＨを３．５から7の範囲に調整して、脱水することを特徴とする。
【００１７】
汚泥のｐＨが３．５〜７ではフッ素は汚泥中に取り込まれているが、この範囲外ではフッ素が汚泥から溶出してしまう。一般的に各水処理工程から発生した汚泥は汚泥貯槽内で混合されるため、ｐＨがコントロールされない場合が多い。このため、ジルコニル塩で処理され生成したフッ素含有汚泥も他系統の汚泥と混合された場合に、ｐＨが上述の範囲から外れ、フッ素が脱水ろ液側に溶出し、水処理系統内に流入する。
【００１８】
本発明によれば、汚泥のｐＨが３．５〜７の範囲内に維持されるため、フッ素が脱水ろ液側に溶出することを抑制することができる。
【００１９】
また、前記高分子凝集剤は、カチオン系高分子凝集剤とアニオン性高分子凝集剤の２剤の併用であることが好適である。
【００２０】
また、高分子凝集剤が両性高分子凝集剤であることが好適である。
【００２１】
また、脱水に使用する脱水機がスクリュープレス型脱水機であることが好適である。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、本発明によれば、フッ素を含む被処理水にジルコニル塩を添加することにより生じたフッ素含有汚泥を脱水するにあたり、他系統の汚泥と混合され汚泥のｐＨが上昇する際も、無機凝集剤添加により所定のｐＨに調整することで、汚泥からのフッ素の溶出を抑制することができる。また、高分子凝集剤を添加し脱水を行えば、脱水性も向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態について、図面に基づいて説明する。
【００２４】
図１は、本発明の実施形態に係るフッ素含有排水処理およびその汚泥処理のための構成を示すブロック図である。
【００２５】
フッ酸などのフッ素を含有するフッ素含有排水は、ジルコニル反応槽１０に導入される。このジルコニル反応槽１０には、ジルコニル塩の水溶液が供給されるとともに水酸化ナトリウムなどのｐＨ調整剤（原水のｐＨを下げる場合には酸、上げる場合にはアルカリ）が供給される。このジルコニル反応槽１０には、撹拌機などが設けられ、これによって急速撹拌（回転速度は例えば、１５０ｒｐｍ）される。ジルコニル塩と原水が撹拌混合される。なお、撹拌は、曝気などによって行ってもよい。
【００２６】
これによって、下式に示すような反応が生起され、
（化１）
ＺｒＯＣｌ2＋２Ｆ-→ＺｒＯＦ2＋２Ｃｌ-
フッ素が不溶化される。また、水酸化ナトリウム等によって、ジルコニル反応槽１０内のｐＨを３．５〜７の範囲に調整する。これによって、上述の反応が速やかに進行する。
【００２７】
ジルコニル反応槽１０の処理水は、凝集槽１２に供給される。この凝集槽１２には、高分子凝集剤が供給され、内部は撹拌機などによって緩速撹拌（例えば、４０ｒｐｍ）されている。ジルコニル反応槽１０で生成したフッ素の不溶化物が凝集粗大化される。高分子凝集剤は、カチオン系、アニオン性、ノニオン性のいずれのものでもよく、凝集効果のよいものを適宜採用する。さらに、高分子凝集剤に代えて、アルミ系や鉄系の無機凝集剤を採用することもでき、また両者を併用してもよい。
【００２８】
凝集槽１２からの凝集処理水は、沈殿槽１４に導入され、ここで固形物が沈殿分離される。すなわち、上述したＺｒＯＦ2の凝集物が沈殿分離され、上澄み液としてフッ素濃度の低い処理水が得られる。なお、固液分離手段としては、沈殿槽１４に限定されることなく、膜分離装置など各種の装置を利用することができる。特に、膜分離装置を採用した場合には、高分子凝集剤による凝集処理を省略することもできる。
【００２９】
ここで、ジルコニル反応槽１０において添加するジルコニル塩としては、塩化ジルコニル、硫酸ジルコニル、硝酸ジルコニルを使用することができる。その添加量は、原水フッ素（Ｆ）に対してＺｒとして反応当量以上添加することが好適である。すなわち、モル比として、Ｚｒ／Ｆ＝１／２以上添加するとよい。また、原水のフッ素濃度としては、経済的観点から２０ｍｇ／ｌ以下の原水に適用するのがよく、Ｚｒ濃度としては２００ｍｇ／ｌ以下が良い。反応のｐＨとしては、３．５〜７でよいが、４．０〜５．５がより好ましい。
【００３０】
また、被処理水の性状に応じて無機凝集剤を併用することも好適である。無機凝集剤の種類は特に限定するものではないが、例えばアルミニウム系（ＰＡＣ、硫酸バンド）、鉄系（塩化鉄、ポリ硫酸鉄）が挙げられる。添加方法は、ジルコニル反応槽１０に直接添加してもよいし、別途、無機凝集剤反応槽を設けてもよい。無機凝集剤反応槽を新たに設ける場合は、ジルコニル反応槽１０の前後（凝集槽１２との間）のいずれでもよい。
【００３１】
なお、半導体工場などにおいて発生するフッ素含有排水は、かなり高濃度のフッ素を含有しており、この排水については従来通りのカルシウム塩による凝集処理を行った後に、ジルコニル反応槽１０に流入させる。
【００３２】
沈殿槽１４において、得られるフッ素含有汚泥は、汚泥貯留槽２０に導入される。この汚泥貯留槽２０には、フッ素含有排水以外の他の排水を処理する排水処理施設からの汚泥も導入され、これらが混合されて貯留される。汚泥貯留槽２０の汚泥は、重力濃縮槽２２に導入され、ここで重力濃縮され、上澄みとして得られる濃縮分離液は別途処理される。例えば、他の排水処理施設に流入される。
【００３３】
重力濃縮槽２２において得られる濃縮汚泥は、脱水装置２４に導入され、脱水される。本例では、脱水装置２４としてスクリュープレス型脱水機が採用されており、得られたろ液は、濃縮分離液と一緒にさらに処理される。一方、脱水汚泥は、焼却などによって処分される。
【００３４】
そして、本実施形態では、汚泥貯留槽２０において、ｐＨ調整剤として酸性の無機凝集剤が混合され、汚泥のｐＨが３．５から７の範囲内に調整される。すなわち、フッ素含有汚泥は、通常３〜７の範囲内であるが、このフッ素含有汚泥は通常多くのカルシウムを含んでおり、時間の経過に従い、ｐＨが高くなる傾向がある。また、汚泥貯留槽２０には、その他の汚泥も流入されるため、このその他汚泥によって、汚泥貯留槽２０内のｐＨが７を超えてしまう場合も生じる。本実施形態では、汚泥貯留槽２０内の汚泥のｐＨを計測し、その値が３〜７の範囲内になるように、無機凝集剤としてポリ硫酸鉄を添加する。このｐＨ調整により、ジルコニルと反応したフッ素が汚泥から溶出することがなくなり、重力濃縮槽２２からの濃縮分離液や、脱水装置２４の脱水ろ液中にフッ素が溶出することを抑制することができる。
【００３５】
さらに、無機凝集剤を添加することで、汚泥の凝集を促進することができ、重力濃縮槽２２における濃縮、および脱水装置２４における脱水を効果的に行うことが可能になる。
【００３６】
なお、脱水装置２４としてスクリュープレス型脱水機を採用した場合には、濃縮汚泥に対し、高分子凝集剤を添加して、凝集させた後、脱水装置２４に供給することが好ましい。この場合、高分子凝集剤としては、カチオン系高分子凝集剤およびアニオン性高分子凝集剤の両方を添加したり、両性の高分子凝集剤を利用することが好適である。
【００３７】
また、汚泥のｐＨは、脱水装置２４の終了まで３〜７の範囲内にある必要がある。そこで、脱水装置２４の脱水ろ液のｐＨを計測し、このｐＨが３〜７の範囲内に維持できるように無機凝集剤の添加を制御することも好ましい。
【００３８】
さらに、無機凝集剤の添加に加え、塩酸や水酸化ナトリウムなどの酸、アルカリをｐＨ調整のために併用することも好適である。すなわち、ポリ硫酸鉄などの無機凝集剤の添加量は、一定または所定範囲内に設定しておき、その場合にｐＨが範囲内に入らない時には、酸またはアルカリで、ｐＨ調整を行うとよい。
【００３９】
さらに、汚泥のｐＨは、４．０〜５．５の範囲内に調整することがより好適である。
【００４０】
ここで、本実施形態において用いる無機凝集剤について説明する。利用可能な無機凝集剤としては、例えば、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、ポリ硫酸鉄、塩化第一鉄、塩化第二鉄、ポリ塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム（硫酸バンド）、塩化アルミニウム等の多価金属塩等が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。これら無機凝集剤は、単独もしくは混合物として用いることができる。また、高分子添加後にｐＨ３．５〜７の範囲を外れる場合は、ｐＨ調整剤（塩酸、水酸化ナトリウム等）を添加してｐＨを調整するとよい。
【００４１】
また、利用可能な高分子凝集剤としては、カチオン系高分子凝集剤、アニオン性高分子凝集剤が挙げられる。カチオン系高分子凝集剤は、分子構造中にカチオン性を有する官能基を含む高分子凝集剤であり、両性高分子凝集剤も含む。例えば、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートの３級塩及び／又は４級塩（例えば、塩化メチルの４級塩）の重合物、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートの３級塩及び／又は４級塩（例えば、塩化メチル４級塩）とアクリルアミドの共重合物、Ｎ−ビニルアクリルアミジン塩単位含有高分子凝集剤（例えば、特開平５−１９２５１３号報、特開平８−１５５５００号報、特開平８−２４３６００号報、特開平９−８７３２３号報等に開示される高分子凝集剤）等のカチオン系高分子凝集剤、並びに、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートの３級塩及び／又は４級塩（例えば、塩化メチル４級塩）等から選ばれる一種以上のカチオン系単量体とアクリル酸及びその塩類等から選ばれた一種以上のアニオン性単量体とアクリルアミドとの共重合物類などの両性高分子凝集剤などが挙げられるが、特に限定されるものではない。これらのカチオン系高分子凝集剤は、単独で又は混合物として用いることができる。
【００４２】
上記のＮ−ビニルアクリルアミジン塩単位含有高分子凝集剤は、この高分子凝集剤を製造するに当たって、Ｎ−ビニルアクリルアミジン塩を単量体として用いると言う意味ではなく、上記の各公開公報を参照すればわかるように、最終的に得られる高分子凝集剤がＮ−ビニルアクリルアミジン塩単位を含有するという意味である。
【００４３】
例えば、単量体としてのＮ−ビニルホルムアミドを重合、部分加水分解、アミジン化することによりＮ−ビニルアクリルアミジン塩単位含有高分子凝集剤を製造すると（特開平９−８７３２３号公報）、Ｎ−ビニルアクリルアミジン塩単位及びビニルアミン（塩）単位を含有するものとなり、また、単量体としてのアクリロニトリルとＮ−ビニルホルムアミドを共重合、（部分）加水分解、アミジン化することによりＮ−ビニルアクリルアミジン塩単位含有高分子凝集剤を製造すると（特開平５−１９２５１３号公報）、Ｎ−ビニルアクリルアミジン塩単位に加えてアクリロニトリル単位、Ｎ−ビニルホルムアミド単位及び／又はビニルアミン（塩）単位を含有するものとなる。アミン系の全てが塩の形であってもよいが、一部遊離の形であっても良く、また、酸系の単位を含む場合は、水素イオンの一部又は全部がアルカリ金属イオンやアンモニウムイオン等に置換された塩の形であってもよい。
【００４４】
Ｎ−ビニルアクリルアミジン塩単位含有高分子凝集剤の好ましい一例は、アクリルアミド単位、アクリロニトリル単位、Ｎ−ビニルアクリルアミジン塩酸塩単位、Ｎ−ビニルアクリルアミド単位、ビニルアミン塩酸塩単位、Ｎ−ビニルホルムアミド単位からなる共重合物である。
【００４５】
このような各種のＮ−ビニルアクリルアミジン塩単位含有高分子凝集剤は、単独又は混合して用いることができ、また、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートの重合物及び又はジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートとアクリルアミドの共重合物及び又は両性高分子凝集剤との混合物として用いることもできる。
【００４６】
カチオン系高分子凝集剤の添加量は特に限定されないが、効果と経済性の観点から１〜１０００ｍｇ／Ｌの範囲が好ましい。
【００４７】
次に、アニオン性高分子凝集剤について説明する。利用可能なアニオン性高分子凝集剤としては、例えば、アクリル酸又はその塩の重合物、アクリル酸又はその塩とアクリルアミドとの共重合物、アクリルアミドと２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸塩の共重合物、アクリル酸またはその塩とアクリルアミドと２-アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸の３元共重合物、ポリアクリルアミドの部分加水分解物などが挙げられるが、特に限定されるものではない。アニオン性高分子凝集剤の分子量の範囲は特に限定されないが、５００万〜２０００万の範囲が好ましい。これらのアニオン性高分子凝集剤は、単独で又は混合物として用いることができる。アニオン性高分子凝集剤の添加量も特に限定されないが、効果と経済性の観点から１〜１０００ｍｇ/Ｌが好ましい。
【００４８】
また、脱水装置２４としては、スクリュープレス型脱水機の他、例えば、フィルタープレス型脱水機、ベルトプレス型脱水機、遠心脱水機、多重円盤型脱水機等が挙げられる。
【実施例】
【００４９】
以下、実施例により、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００５０】
以下、実施例と比較例において使用したカチオン系高分子凝集剤（Ｃ）、アニオン性高分子凝集剤（Ａ）、両性高分子凝集剤（Ｒ）をそれらのコロイド当量値と共に表１に示す。使用した無機凝集剤はポリ硫酸鉄である。
【００５１】
【表１】
2005052798.tif 000003
【００５２】
また、以下の実施例及び比較例に使用した汚泥の性状を表２に示す。遊離フッ素濃度は、汚泥を０.４５μｍで濾過したろ液中のフッ素濃度である。この汚泥は、試験機にてフッ素含有排水（フッ素濃度１００ｍｇＦ／Ｌ）に対してジルコニル塩を添加することにより生成した汚泥である。ジルコニル塩を添加する際の、凝集沈殿処理方法については特願２００２−２５９３５６に示されている。
【００５３】
【表２】
2005052798.tif 000004
【００５４】
実施例１及び比較例１は表２に示したフッ素含有汚泥を水酸化ナトリウムを用いてｐＨ９．０に調整した後に、実施例１では無機凝集剤を添加、比較例１では無添加で、フィルタープレス型脱水機を想定し、空気圧を利用するバッチ式の加圧ろ過実験装置を用い、面圧０．５ＭＰａ、脱水時間３分で行った。
【００５５】
実施例２〜４及び比較例２〜４では、表２に示したフッ素含有汚泥を水酸化ナトリウムを用いてｐＨ９．０に調整した後に、各薬剤を添加して、直接スクリュープレス型脱水機で脱水処理を行った。スクリュープレス型脱水機は、ドラム径が１００ｍｍφ、ドラム長さが３００ｍｍのものである。各試験は室温でスクリュー回転数が０．５ｒｐｍの条件下で行った。
【００５６】
フッ素含有汚泥をｐＨ９．０に調整したのは、フッ素含有汚泥が他系統の汚泥と混合されて、ｐＨが上昇するのを模擬したものである。
【００５７】
以下に、実施例１〜８および比較例１〜４についての条件を列記する。また、実験結果を表３に示す。
【００５８】
［実施例１］
ｐＨ９．０に調整された汚泥に無機凝集剤をｐＨが５.５になるまで添加した後、フィルタープレス型脱水機で脱水を行った。
［実施例２］
ｐＨ９．０に調整された汚泥に無機凝集剤をｐＨが５.５になるまで添加した後、カチオン系高分子凝集剤を添加し、スクリュープレス型脱水機で脱水を行った。
［実施例３］
ｐＨ９．０に調整された汚泥に無機凝集剤をｐＨが５.５になるまで添加した後、カチオン系高分子凝集剤、続いてアニオン性高分子凝集剤を添加し、実施例２と同じ処理条件で脱水した。
［実施例４］
ｐＨ９．０に調整された汚泥に無機凝集剤をｐＨが５.５になるまで添加した後、両性高分子凝集剤を添加し、実施例２と同じ処理条件で脱水した。
［実施例５］
ｐＨ９．０に調整された汚泥に無機凝集剤を添加し、ｐＨ７．０になるようにｐＨ調整剤にて調整した後、フィルタープレス型脱水機で脱水を行った。
［実施例６］
ｐＨ９．０に調整された汚泥に無機凝集剤を添加し、ｐＨ７．０になるようにｐＨ調整剤にて調整した後、スクリュープレス型脱水機で脱水を行った。
［実施例７］
ｐＨ９．０に調整された汚泥に無機凝集剤を添加し、ｐＨ７．０になるようにｐＨ調整剤にて調整した後、続いてアニオン性高分子凝集剤を添加し、実施例６と同じ処理条件で脱水した。
［実施例８］
ｐＨ９．０に調整された汚泥に無機凝集剤を添加し、ｐＨ７．０になるようにｐＨ調整剤にて調整した後、実施例２と同じ処理条件で脱水した。
【００５９】
［比較例１］
ｐＨ９．０に調整された汚泥をそのまま、実施例１、５と同じ処理条件で脱水した。
［比較例２］
ｐＨ９．０に調整された汚泥にカチオン系高分子凝集剤を添加し、実施例２、６と同じ処理条件で脱水した。
［比較例３］
ｐＨ９．０に調整された汚泥にカチオン系高分子凝集剤、続いてアニオン性高分子凝集剤を添加し、比較例２と同じ処理条件で脱水した（実施例３、７に対応する）。
［比較例４］
ｐＨ９．０に調整された汚泥に両性高分子凝集剤を添加し、比較例２と同じ処理条件で脱水した（実施例４、８に対応する）。
【００６０】
【表３】
2005052798.tif 000005
【００６１】
以下、表３の結果を考察する。試験機にて作製したフッ素含有汚泥は、表２に示す通りｐＨ５．７であり、水側に遊離しているフッ素は３．１ｍｇＦ/Ｌである。これは、所定のｐＨ範囲内でジルコニル塩が添加されたことにより、フッ素とジルコニル塩が反応し、汚泥中に取り込まれ、水側には僅かなフッ素しか存在していないことを示している。この汚泥をｐＨ９．０に上昇させ、比較例１〜４に示すように無機凝集剤の添加なしに、すなわちｐＨ３.５〜７の範囲内への調整なしに高分子凝集剤を添加し、脱水操作を行うと、ろ液側のフッ素濃度が上昇してしまう。しかしながら、実施例１〜４に示すように、無機凝集剤添加によりｐＨ５.５に調整し、すなわちｐＨ３.５〜７の範囲内に調整し、高分子凝集剤を添加（実施例１は高分子凝集剤の添加なし）、脱水操作を行うと、表２に示した元々の汚泥の遊離フッ素濃度と同程度であり、脱水ろ液側へのフッ素の溶出を抑えることができたことがわかる。また、各々の比較例に比べてケーキ含水率も低下し、フッ素のリークを抑制しながら効率よく脱水できていることがわかる。また、実施例５〜８に示すように、無機凝集剤添加によりｐＨ７．０に調整し、高分子凝集剤を添加（実施例５は高分子凝集剤の添加なし）、脱水操作を行うと、フッ素濃度が５．３〜５．５ｍｇ／Ｌと実施例１〜４に比べ高濃度になるが、比較例１〜４に比べ十分低濃度に抑えることができた。また、ケーキ含水率についても、実施例１〜４に比べ０．２〜０．３％程度上昇しているが、比較例に比べて低下することが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】実施形態に係る装置による処理を説明するブロック図である。
【符号の説明】
【００６３】
１０  ジルコニル反応槽、１２  凝集槽、１４  沈殿槽、２０  汚泥貯留槽、２２  重力濃縮槽、２４  脱水装置。
【図１】
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