(57)【要約】【課題】  転写法により着色画素をなす着色樹脂層を形成すると共に、着色樹脂層を積層転写する色重ねにより構成される微細なスペーサを、高さバラツキを抑えて均一高に精度よく形成し得るカラーフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】  少なくとも二層の着色樹脂層を、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上となるように、あるいは下層断面の最大幅を１０μｍ以上とし該下層を上層で被覆するように、積層してスペーサ部位を形成するカラーフィルタの製造方法である。【選択図】  図２
2005301137.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いて二色以上の着色画素を転写形成するカラーフィルタの製造方法において、
前記着色画素を転写形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上となるように積層してスペーサ部位を形成する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いて二色以上の着色画素を転写形成するカラーフィルタの製造方法において、
前記着色画素を転写形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上となるように積層し、少なくとも前記着色画素と積層された前記少なくとも二層の着色樹脂層とを透明電極で覆った後、弾性部材の上に感光性樹脂層を有する転写材料を用いて前記透明電極の上に前記感光性樹脂層を転写し、透明電極を介して前記着色画素の上に配向規制部材を形成すると共に積層された前記少なくとも二層の着色樹脂層の上に更に、最上層の積層面外周から該最上層に対し積層面の大きい前記上層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上となるように最上層を設けてスペーサ部位を形成する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いて二色以上の着色画素を転写形成するカラーフィルタの製造方法において、
前記着色画素を転写形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を積層し、積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上の下層と該下層を被覆する上層とで構成されたスペーサ部位を形成する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いて二色以上の着色画素を転写形成するカラーフィルタの製造方法において、
前記着色画素を転写形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を積層し、少なくとも前記着色画素と積層された前記少なくとも二層の着色樹脂層とを透明電極で覆った後、弾性部材の上に感光性樹脂層を有する転写材料を用いて前記透明電極の上に前記感光性樹脂層を転写し、透明電極を介して前記着色画素の上に配向規制部材を形成すると共に積層された前記少なくとも二層の着色樹脂層の上に更に最上層を設けて、積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上の前記着色樹脂層と該着色樹脂層を被覆する最上層とで構成されたスペーサ部位を形成する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記スペーサ部位の最上層の積層方向と直交する断面の最大幅が８μｍ以上であり、前記最上層以外の下層の積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上である請求項１又は２に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記弾性部材が、弾性支持体及び熱可塑性樹脂層の少なくとも一方である請求項１〜５のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
基体上に着色樹脂層が二色以上配列されたフィルタ部位と少なくとも二層の前記着色樹脂層が積層されてなるスペーサ部位とを含むカラーフィルタであって、
積層された前記着色樹脂層の、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上であることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項８】
基体上に着色樹脂層が二色以上配列されたフィルタ部位と少なくとも二層の前記着色樹脂層が積層されてなるスペーサ部位とを含むカラーフィルタであって、
前記スペーサ部位は、積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上の下層と該下層を被覆する上層とを有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項９】
基体上に、着色樹脂層が二色以上配列されたフィルタ部位と、前記フィルタ部位の上に透明電極を介して設けられた配向規制部材と、少なくとも二層の前記着色樹脂層および前記配向規制部材と同一材料からなる樹脂層が積層されてなるスペーサ部位とを含むカラーフィルタであって、
積層された前記着色樹脂層および前記樹脂層の、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上であることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項１０】
基体上に、着色樹脂層が二色以上配列されたフィルタ部位と、前記フィルタ部位の上に透明電極を介して設けられた配向規制部材と、少なくとも二層の前記着色樹脂層および前記配向規制部材と同一材料からなる樹脂層が積層されてなるスペーサ部位とを含むカラーフィルタであって、
前記スペーサ部位は、積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上の下層と該下層を被覆する上層とを有することを特徴とするカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ及びその製造方法に関し、詳しくは、転写法を利用したカラーフィルタ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラー画像を表示する液晶表示装置（ＬＣＤ）は、一般に、ガラス基板等の二枚の透明基板を所定の間隙を保持する間隙保持部材（以下、スペーサという。）を介して貼り合わせ、透明基板間に形成された間隙に液晶材料を充填して構成される。上記の二枚の透明基板は通常、一方をＴＦＴアレイが配設されたアレイ基板とし、他方を二色以上の着色膜が配列されてなるカラーフィルタ基板として構成することができる。
【０００３】
従来より、スペーサとしてガラスビーズや樹脂ビーズ等のビーズ材、あるいはファイバ材が使用されてきた。しかし、ビーズ材やファイバ材を用いて構成した場合、ビーズ等が本来スペーサが形成される領域のみに存在するように制御することは難しく、表示領域にまで存在してしまう結果、表示コントラストの低下や偏在による表示ムラを招来する問題があった。これは、近年普及している携帯電話機など、液晶表示部の小さい端末においては特に顕著となる。
【０００４】
一方、近年では、スペーサの形成技術として非表示エリアに、カラーフィルタ形成後にフォトリソグラフィー法により柱状物（スペーサ）を形成する方法が主流となっている。しかし、この方法では、フォトリソプロセスを行なう工程が増えるため、コストアップの一因となっている。
【０００５】
そこで、カラーフィルタ、すなわち着色画素を形成する際に、同時にスペーサをも形成する技術が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照）。これらは、着色画素の形成と同時に、スペーサを形成しようとする領域に着色画素形成用の材料を重ねて設ける（以下、「色重ね」ともいう。）ことによって柱状構造（スペーサ）を構成するものである。
【０００６】
ところが、スピンナー等の公知の塗布法を利用して着色レジストを複数層重ねていく方法では、一様に塗布しても、既設の構造物上における塗布液の塗布厚が薄くなりやすく、逆に構造物上での塗布厚を所定厚に調整しようとすると本来所望の着色画素を構成するのに必要な色相、厚みが得られなくなり、現実には塗布面全体において厚みを一様にすることは困難である。また、既設の構造物に起因する塗布ムラも発生する。したがって、スペーサの高さを均一に制御することはできない。
【０００７】
また、転写法を利用して着色レジストを複数層重ねていく方法では、単層を形成するには膜厚の均一性の点で優れるものの（例えば、特許文献４参照）、既設の構造物が存在する被転写面に転写する場合には、構造物の大きさによっては転写（ラミネート）時の圧力や温度の影響を大きく受けて、既設の構造物上に更に積層転写しようとする場合に厚み（特に既設の層等の構造物の厚み）の低下や変形を招き、スペーサを所望の高さに均一に形成することは困難となる。これは、形成しようとするスペーサのサイズが小さくなるに伴ない顕著となる。また、既設の構造物上に重ねて転写する場合に、構造物の積層面の平面性が悪く、重ねる位置によっても高さが不均一になる問題もある。
【特許文献１】特開平１１−２４８９２１号公報
【特許文献２】特開２０００−３１０７７２号公報
【特許文献３】特開２００１−１００２２１号公報
【特許文献４】特開平１１−２４８９２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記のように、転写法等を利用した色重ねによってスペーサを形成する技術は提案されているものの、特に携帯電話機などの小型の端末の液晶表示部において、微細なスペーサを高さ精度を保持して均一高に転写形成する技術は未だ確立されていないのが現状である。
【０００９】
本発明は、上記に鑑みなされたものであり、転写法を利用して被形成面に着色画素をなす着色樹脂層を形成すると共に、該着色樹脂層を積層転写する色重ねにより構成される微細なスペーサを、高さバラツキを抑えて均一高に精度よく形成することが可能なカラーフィルタの製造方法、及び複数の着色樹脂層が積層転写されてなるスペーサ部位が均一な高さに精度よく一様に設けられたカラーフィルタを提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、着色画素を構成する着色樹脂層を複数色重ねて積層構造のスペーサを構成する場合に、上層の下層に対する位置関係および下層の断面等のサイズが重要であるとの知見に基づくものである。前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
【００１１】
＜１＞  弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いて二色以上の着色画素を転写形成するカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素を転写形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上となるように積層してスペーサ部位を形成する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１２】
本明細書中において、積層面とは、上層及び下層が積層状態にある場合において上層側の積層面は下層と対向もしくは接触する面であり、下層側の積層面は上層と対向もしくは接触する面である。三層以上が積層されている場合、例えば三層のときには、最上層と中間層との間では最上層の中間層との接触面、中間層の最上層との接触面が積層面であり、最上層と最下層との間では最上層及び最下層の各中間層との接触面が積層面である。
【００１３】
＜２＞  弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いて二色以上の着色画素を転写形成するカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素を転写形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上となるように積層し、少なくとも前記着色画素と積層された前記少なくとも二層の着色樹脂層とを透明電極で覆った後、弾性部材の上に感光性樹脂層を有する転写材料を用いて前記透明電極の上に前記感光性樹脂層を転写し、透明電極を介して前記着色画素の上に配向規制部材を形成すると共に積層された前記少なくとも二層の着色樹脂層の上に更に、最上層の積層面外周から該最上層に対し積層面の大きい前記上層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上となるように最上層を設けてスペーサ部位を形成する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１４】
＜３＞  弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いて二色以上の着色画素を転写形成するカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素を転写形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を積層し、積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上の下層と該下層を被覆する上層とで構成されたスペーサ部位を形成する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１５】
＜４＞  弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いて二色以上の着色画素を転写形成するカラーフィルタの製造方法において、前記着色画素を転写形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を積層し、少なくとも前記着色画素と積層された前記少なくとも二層の着色樹脂層とを透明電極で覆った後、弾性部材の上に感光性樹脂層を有する転写材料を用いて前記透明電極の上に前記感光性樹脂層を転写し、透明電極を介して前記着色画素の上に配向規制部材を形成すると共に積層された前記少なくとも二層の着色樹脂層の上に更に最上層を設けて、積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上の前記着色樹脂層と該着色樹脂層を被覆する最上層とで構成されたスペーサ部位を形成する工程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００１６】
＜５＞  前記スペーサ部位の最上層の積層方向と直交する断面の最大幅が８μｍ以上であり、前記最上層以外の下層の積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上である前記＜１＞又は＜２＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜６＞  前記弾性部材が、弾性支持体及び熱可塑性樹脂層の少なくとも一方である前記＜１＞〜＜５＞のいずれか一つに記載のカラーフィルタの製造方法である。
【００１７】
＜７＞  基体上に着色樹脂層が二色以上配列されたフィルタ部位と少なくとも二層の前記着色樹脂層が積層されてなるスペーサ部位とを含むカラーフィルタであって、積層された前記着色樹脂層の、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上であることを特徴とするカラーフィルタである。
【００１８】
＜８＞  基体上に着色樹脂層が二色以上配列されたフィルタ部位と少なくとも二層の前記着色樹脂層が積層されてなるスペーサ部位とを含むカラーフィルタであって、前記スペーサ部位は、積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上の下層と該下層を被覆する上層とを有することを特徴とするカラーフィルタである。
【００１９】
＜９＞  基体上に、着色樹脂層が二色以上配列されたフィルタ部位と、前記フィルタ部位の上に透明電極を介して設けられた配向規制部材と、少なくとも二層の前記着色樹脂層および前記配向規制部材と同一材料からなる樹脂層が積層されてなるスペーサ部位とを含むカラーフィルタであって、積層された前記着色樹脂層および前記樹脂層の、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上であることを特徴とするカラーフィルタである。
【００２０】
＜１０＞  基体上に、着色樹脂層が二色以上配列されたフィルタ部位と、前記フィルタ部位の上に透明電極を介して設けられた配向規制部材と、少なくとも二層の前記着色樹脂層および前記配向規制部材と同一材料からなる樹脂層が積層されてなるスペーサ部位とを含むカラーフィルタであって、前記スペーサ部位は、積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上の下層と該下層を被覆する上層とを有することを特徴とするカラーフィルタである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、転写法を利用して被形成面に着色画素をなす着色樹脂層を形成すると共に、該着色樹脂層を積層転写する色重ねにより構成される微細なスペーサを、高さバラツキを抑えて均一高に精度よく形成することが可能なカラーフィルタの製造方法、及び複数の着色樹脂層が積層転写されてなるスペーサ部位が均一な高さに精度よく一様に設けられたカラーフィルタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法について詳細に説明すると共に、該説明を通じて本発明のカラーフィルタの詳細についても述べる。
【００２３】
本発明の第１の態様のカラーフィルタの製造方法は、弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いた転写法により、二色以上の着色樹脂層を転写して複数色の着色画素を形成すると共に、少なくとも二層の着色樹脂層を、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上となるように積層してスペーサ部位を形成する工程を設けて構成したものである。本態様では、下層の積層面縁端から中心側に２μｍ以上を有して上層の積層面縁端が位置するように上層が積層されるので、一様な高さの高精度なスペーサを簡易かつ安価に形成することができる。
【００２４】
本発明の第２の態様のカラーフィルタの製造方法は、弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いた転写法により、二色以上の着色樹脂層を転写して複数色の着色画素を形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を、上層の積層面外周から該上層に対し積層面の大きい下層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上となるように積層し、少なくとも前記着色画素と前記上層及び下層とを透明電極で覆った後、弾性部材の上に感光性樹脂層を有する転写材料を用いて前記透明電極の上に前記感光性樹脂層を転写し、透明電極を介して前記着色画素の上に配向規制部材を形成すると共に前記上層の上に更に、最上層の積層面外周から該最上層に対し積層面の大きい前記上層の積層面外周までの最短距離が２μｍ以上となるように最上層を設けてスペーサ部位を形成する工程を設けて構成したものである。本態様によっても、一様な高さの高精度なスペーサを簡易かつ安価に形成することができる。
【００２５】
本発明の第３の態様のカラーフィルタの製造方法は、弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いた転写法により、二色以上の着色樹脂層を転写して複数色の着色画素を形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を積層し、積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上の下層と該下層を被覆する上層とで構成されたスペーサ部位を形成する工程を設けて構成したものである。本態様では、下層の露出面全体を覆うようにして上層を積層すると共に下層の積層方向との直交断面の最大幅を１０μｍ以上とするので、上層積層時の下層の欠損が効果的に防止され、一様な高さの高精度なスペーサを簡易かつ安価に形成することができる。
【００２６】
本発明の第４の態様のカラーフィルタの製造方法は、弾性部材の上に感光性の着色樹脂層を有する転写材料を用いた転写法により、二色以上の着色樹脂層を転写して複数色の着色画素を形成すると共に、少なくとも二層の前記着色樹脂層を積層し、少なくとも前記着色画素と前記積層された着色樹脂層とを透明電極で覆った後、弾性部材の上に感光性樹脂層を有する転写材料を用いて前記透明電極の上に前記感光性樹脂層を転写し、透明電極を介して前記着色画素の上に配向規制部材を形成すると共に前記積層された着色樹脂層の上に更に最上層を設けて、積層方向と直交する断面の最大幅が１０μｍ以上の前記積層された着色樹脂層と該着色樹脂層を被覆する最上層とで構成されたスペーサ部位を形成する工程を設けて構成したものである。本態様によっても、上層積層時の下層の欠損が効果的に防止され、一様な高さの高精度なスペーサを簡易かつ安価に形成できる。
【００２７】
本発明に係る転写材料には特に、弾性部材の上に少なくとも一層の、着色画素形成用の感光性の着色樹脂層、あるいは無色もしくは有色の感光性樹脂層（他の樹脂層）が設けられたものを用いる。弾性部材としては、クッション性や可撓性を有する弾性支持体や、熱可塑性樹脂等で構成された樹脂層などが挙げられ、これにより転写時に被転写面の凹凸に追従しうるクッション性を付与することができる。
【００２８】
前記弾性支持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等が好適であり、前記転写材料は例えば、弾性支持体の表面に直接、感光性の着色樹脂層又は他の樹脂層が設けられた感光性転写材料であってもよい。また、転写材料としては、所望の仮支持体上に感光性の着色樹脂層又は他の樹脂層と共に熱可塑性樹脂層を有する感光性転写材料、例えば、仮支持体側から順に熱可塑性樹脂層と中間層と感光性の着色樹脂層又は他の樹脂層とが積層されてなる感光性転写材料であってもよい。
【００２９】
中でも、仮支持体と感光性の着色樹脂層又は他の樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を有する感光性転写材料によるのが好ましい。例えば図１に示すように、仮支持体１１上に、該仮支持体側から順に熱可塑性樹脂層１２、中間層１３、単色の着色樹脂層１４、及びカバーフィルム１５を積層した構成とすることができる（感光性転写材料１０）。なお、感光性の着色樹脂層又は他の樹脂層や熱可塑性樹脂層、仮支持体、及び被転写材であるカラーフィルタを構成する基体等の詳細については後述する。
【００３０】
転写材料を用いた転写法は、一般に所定の圧力、温度を付与してラミネート、剥離処理を行なうことで被転写材上に着色画素及びスペーサをなす着色樹脂層又は他の樹脂層を転写形成するものであるが、本発明に係る転写材料を弾性部材を用いて構成することで、特に既設の着色樹脂層（既設層）の上に更に色相の異なる着色樹脂層又は他の樹脂層を積層して積層構造（色重ね）とする場合に、単に既設層間へのエアの巻き込みを防止するだけでなく、被転写面の凹凸に追従するクッション性を有するように、即ちラミネートによる圧力負荷が既設層表面及び未転写の被転写材表面を含む被転写材全面に均一に及ぶようにするので、形成された積層構造（スペーサ）、すなわち色重ねにより構成されるスペーサの上層及び／又は下層の厚みが変動することに伴なう高さバラツキを抑え、微細でありながら一様な高さに構成された高精度のスペーサを形成することができる。
【００３１】
カラーフィルタの製造にはいくつかの方法が考えられるが、図２〜図１２を参照して、本発明のカラーフィルタの製造方法の例（第１の例〜第５の例）について具体的に説明する。
【００３２】
第１の例は、赤色(Ｒ)、緑色(Ｇ)、及び青色(Ｂ)の着色樹脂層（着色画素）間にブラックマトリクスが設けられない形態であり、図２〜図３を参照して説明する。あらかじめ洗浄しておいた透明なガラス基板（密着性を高めるための表面処理がなされていてもよい。）１００と、図１と同様の積層構造に構成された３種の感光性転写材料（転写シート１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）とを用意する。以下において、転写シート１０Ｒ、１０Ｇ、及び１０Ｂの着色樹脂層１４を、それぞれＲ層１４、Ｇ層１４、及びＢ層１４という。
【００３３】
まず、第１の画素を転写形成するための転写シート１０Ｒからカバーフィルム１５を取除き、露出したＲ層１４の表面をガラス基板１００の片側の表面に貼り合わせた後、仮支持体１１と熱可塑性樹脂層１２との間で剥離することにより仮支持体１１を除去してガラス基板上にＲ層１４、中間層１３及び熱可塑性樹脂層１２を転写し、転写された層を露光、現像して、図２に示すように第１の画素２０Ｒ及び矩形の第１柱層２１を形成する。ここでは、画素２０Ｒ及び第１柱層２１は一体構造となっている。次いで、第２の画素を転写形成するための転写シート１０Ｇからカバーフィルム１５を取除き、露出したＧ層１４の表面をガラス基板１００の画素２０Ｒの形成面に貼り合わせ、上記同様に仮支持体１１と熱可塑性樹脂層１２との間で剥離することにより仮支持体１１を除去してガラス基板１００上にＧ層１４、中間層１３及び熱可塑性樹脂層１２を転写し、転写された層を露光、現像して、図２〜図３に示すように、画素２０Ｒ非形成領域に第２の画素２０Ｇを形成すると共に、第１柱層２１上に矩形の第２柱層２２を形成する。引き続いて、第３の画素を転写形成するための転写シート１０Ｂからカバーフィルム１５を取除き、露出したＢ層１４の表面をガラス基板１００の画素２０Ｒ及び２０Ｇの形成面に貼り合わせ、上記同様に剥離することによってガラス基板１００上にＢ層１４、中間層１３及び熱可塑性樹脂層１２を転写し、転写された層を露光、現像して、図２〜図３に示すように画素２０Ｒ及び２０Ｂの非形成領域に第３の画素２０Ｂを形成すると共に、第２柱層２２上に更に矩形の第３柱層２３を形成する。以上のようにして、被形成面に着色画素をなす着色樹脂層を転写形成する工程を経ることによって、３色の着色画素を形成すると共に、着色樹脂層が積層された三層構造（色重ね）よりなる微細なスペーサ２４が形成される。上記において、剥離は、熱可塑性樹脂層１２と中間層１３との間で行なうようにしてもよい（以下、第２の例〜第５の例において同様）。
【００３４】
上記のようにして形成されたスペーサ２４は、図４に示すように、上層ほど積層方向と略直交する断面の幅が小さくなる（幅Ａ＞幅Ｂ）ように構成されている。この場合、土台をなす下層の積層面、例えば図５に示すような第２柱層２２の、第３柱層２３が積層される表面は、転写法によっても縁端近傍が凸状に盛り上がって傾斜ができやすいことから、幅Ａの全幅のうち縁端近傍を回避して上層を設けることが重要である。この凸状の盛り上がった傾斜領域は一般に０．０２〜０．２μｍ程度の高さがあり、従来はこの傾斜領域に形成されるのが通常であり、またプロセス条件の変動に起因する高さ変動も生ずるため、縁端の傾斜領域に上層を形成するとスペーサの高さは大きく変動する。
【００３５】
したがって、本発明においては図４〜図５に示すように、上層（例えば第３柱層２３）の積層面外周から下層（例えば第２柱層２２）の積層面外周までの最短距離Ｃが２μｍ以上（より好ましくは５μｍ以上）となるように、特に好ましくは上層が下層の積層面の中央部に位置するように（上層及び下層の積層方向に直交する断面の中心点が同一中心線に位置するように）、上層を該上層に対し積層面の面積の大きい下層の上に積層する。このようにスペーサを構成することで、上層ほど積層方向と直交する断面の面積が小さくなる形状に構成されると共に、３色の着色画素が形成されると同時に一様な高さの高精度なスペーサを簡易かつ安価に形成することが可能となる。
【００３６】
なお、上記例では、第１柱層２１は画素２０Ｒと一体をなすため、第１柱層縁端は１辺のみであり（図３及び図５参照）、この１辺において凸状の傾斜領域ができるが、第１柱層が独立した凸状物として設けられたときには４辺に凸状に盛り上がった傾斜領域ができる。
【００３７】
上記では、スペーサを三層構造に構成する場合を説明したが、二層構造に構成する場合も同様であり、図６−(Ａ)に示すように、上層２７を形成するために下層２５を覆って転写された層２６において、下層２５上部の平坦面をなす部分（例えば図６−(Ａ)中の一点鎖線で表される部分）を選択して上層２７を形成する必要があり、図６−(Ｂ) 及び(Ｃ)のように縁端の傾斜領域で上層を構成すると、最終的に形成されるスペーサの高さは大きく変動する。したがって、二層構造に構成する場合も上記同様に、図６−(Ａ)に示すように、形成される上層２７における積層面外周から上層２７より積層面の大きい下層２５の積層面外周までの最短距離Ｃが２μｍ以上となるように、特に好ましくは下層の積層面の中央部に位置するように（上層及び下層の積層方向に直交する断面の中心点が同一中心線に位置するように）、上層を下層の上に積層するようにする。
【００３８】
本発明において、スペーサを構成する各層のうち、最上層（例えば上記例の第３柱層２３）の積層方向と直交する断面の最大幅（例えば図３中の対角線Ｐ）を８μｍ以上（上限については５０μｍ以下、更には３０μｍ以下が望ましい。）とし、かつ最上層以外の下層（例えば上記例の第１柱層２１及び第２柱層２２）の積層方向と直交する断面の最大幅（例えば図３中の対角線Ｑ）を１０μｍ以上（上限については１００μｍ以下、更には５０μｍ以下が望ましい。）とする形態が好ましい。特に微細なスペーサに構成しようとする場合、色相の組合せに依らず、最上層を上記範囲のサイズとすることで、スペーサ形状を損なうことなく容易に現像処理する点でより効果的であり、最上層以外の下層を上記範囲のサイズとすることで、スペーサの高さ変動を防止するうえで特に効果的である。
【００３９】
なお、上記の例では、各柱層は積層方向に直交する断面形状が矩形の場合を説明したが、該断面形状が例えば、円形の場合には各直径にてＰ，Ｑを決定し、八角形の場合には最長の対角線にてＰ，Ｑを決定することができ、他の断面形状の場合にも最長の長さにてＰ，Ｑを決定すればよい。
【００４０】
次に、第２の例について説明する。第２の例は、赤色(Ｒ)、緑色(Ｇ)、青色(Ｂ)の着色樹脂層（着色画素）間に先付けのブラックマトリクス（ＢＭ）を有する形態であり、ＲＧＢの着色樹脂層の転写形成前にＢＭを形成し、形成されたＢＭと重なり領域を有するように第１の画素、第２の画素、及び第３の画素を順次形成すると共に、同時にスペーサをも形成するものである。図７〜図８を参照してより具体的に説明する。
【００４１】
あらかじめ洗浄及びＢＭ３４の形成を行なった透明なガラス基板（基板面は密着性を高めるための表面処理がなされていてもよい。）２００と、図１と同様の積層構造に構成された３種の感光性転写材料（転写シート１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）とを用意する。上記同様に、転写シート１０Ｒ、１０Ｇ、及び１０Ｂの着色樹脂層１４を、それぞれＲ層１４、Ｇ層１４、及びＢ層１４という。ＢＭ３４の形成は、図１と同様に構成された黒色層（着色樹脂層１４）を有する感光性転写材料を用いた転写形成、金属膜の蒸着形成、感光性の液状黒色組成物による塗布形成などの方法から適宜選択して行なうことができる。
【００４２】
まず、第１の画素を転写形成するための転写シート１０Ｒからカバーフィルム１５を取除いて露出したＲ層１４の表面を、ＢＭ３４が形成されたガラス基板２００のＢＭ形成面に貼り合わせた後、既述の第１の例と同様に仮支持体１１を除去してガラス基板上にＲ層１４、中間層１３及び熱可塑性樹脂層１２を転写し、転写された層を露光、現像して、図７に示すように端部にＢＭ３４との重なり領域が形成されるように第１の画素３０Ｒを形成する。次いで、第２の画素を転写形成するための転写シート１０Ｇからカバーフィルム１５を取除き、露出したＧ層１４の表面をガラス基板２００のＢＭ３４及び画素３０Ｒの形成面に貼り合わせて上記同様にＧ層１４、中間層１３及び熱可塑性樹脂層１２を転写し、転写された層を露光、現像して、図７〜図８に示すように、ＢＭ３４との重なり領域が形成されるように第２の画素３０Ｇを形成すると共に、ＢＭ３４上に矩形の第１柱層３１を形成する。引き続いて、第３の画素を転写形成するための転写シート１０Ｂからカバーフィルム１５を取除き、露出したＢ層１４の表面をガラス基板２００のＢＭ３４並びに画素３０Ｒ及び３０Ｇの形成面に貼り合わせて上記同様にＢ層１４、中間層１３及び熱可塑性樹脂層１２を転写し、転写された層を露光、現像して、図７〜図８に示すように、ＢＭ３４との重なり領域が形成されるように第３の画素３０Ｂを形成すると共に、第１柱層３１上に更に矩形の第２柱層３２を形成する。以上のようにして、３色の着色画素を形成すると共に、着色樹脂層がＢＭ部に積層された積層構造（色重ね）よりなる微細なスペーサ３３が形成される。スペーサ３３における第２柱層３２（上層）と第１柱層３１（下層）との位置関係も、図８及び図４〜図６に示すように、既述の第１の例の場合と同様である。
【００４３】
上記では、第２及び第３の画素形成時にスペーサ３３を構成する柱層を形成するようにしたが、第１及び第３の画素形成時、あるいは第１、第２、及び第３全ての画素形成時において柱層を形成するようにすることもできる。これは、一層の層厚や対向基板との間に液晶材料を充填するために形成するセルギャップの設定により決定される。
なお、ＢＭは、第１〜第３の画素を転写形成した後（画素間にＢＭ幅に相当する隙間を空けておく。）、ＢＭ形成用の感光性転写材料を更に各画素を覆うように画素形成面にラミネート等して貼り合わせて転写し、画素非形成面側から全面露光（裏露光）することによって設けることも可能である。
【００４４】
次に、第３の例について説明する。第３の例は、配向規制部材を形成する際に同時にスペーサを構成する最上の柱層をも形成する形態であり、図９を参照して説明する。液晶表示装置（ＬＣＤ）には、その視野角を拡大する目的で液晶配向を規制する突起を形成することがあり、第１〜第３の画素と二層以上が積層されたスペーサの一部をなす柱構造（図９の場合は二層構造）を形成後、これらを覆うようにＩＴＯ電極を形成し、更にその上に配向規制部材と柱層とを同時形成するものである。
【００４５】
第１の例と同様に、あらかじめ洗浄しておいた透明なガラス基板（密着性を高めるための表面処理がなされていてもよい。）３００と３種の転写シート１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ（各々の着色樹脂層１４は、それぞれＲ層１４、Ｇ層１４、及びＢ層１４という。）と図１と同様の積層構造に構成された透明の樹脂層１４（Ｃ層１４）を有する感光性転写材料（転写シート１０Ｃ）とを用意する。
【００４６】
まず、第１の画素を転写形成するための転写シート１０Ｒからカバーフィルム１５を取除き、露出したＲ層１４の表面をガラス基板３００の片側の表面に貼り合わせた後、第１の例と同様にＲ層１４、中間層１３及び熱可塑性樹脂層１２を転写し、露光、現像して、図９に示すように第１の画素４０Ｒ及び第１柱層４１を形成する。ここでは、画素４０Ｒ及び第１柱層４１は一体構造となっている。次いで同様に、第２の画素を転写形成するための転写シート１０Ｇからカバーフィルム１５を取除いて露出したＧ層１４の表面を、ガラス基板３００の画素４０Ｒの形成面に貼り合わせてＧ層１４、中間層１３及び熱可塑性樹脂層１２を転写し、露光、現像して、図９に示すように画素４０Ｒ非形成領域に第２の画素４０Ｇを形成すると共に、第１柱層４１上に第２柱層４２を形成する。引き続き、第３の画素を転写形成するための転写シート１０Ｂからカバーフィルム１５を取除き、露出したＢ層１４の表面をガラス基板３００の同一面側に貼り合わせてＢ層１４、中間層１３及び熱可塑性樹脂層１２を転写し、露光、現像して、図９に示すように第３の画素４０Ｂを形成する。その後、第１〜第３の画素４０Ｒ、４０Ｇ、及び４０Ｂ並びに第１柱層４１及び第２柱層４２を被覆するようにしてＩＴＯ膜４５を形成する。次いで、形成されたＩＴＯ膜４５上に、転写シート１０Ｃからカバーフィルム１５を取除き、露出したＣ層１４の表面をＩＴＯ膜表面に張り合わせてＣ層１４、中間層１３及び熱可塑性樹脂層１２を転写し、露光、現像して、図９に示すように配向制御突起４６を形成すると同時に、第２柱層４２の上部となる位置に第３柱層４３を形成する。以上のようにして、３色の着色画素及び配向制御突起を形成すると共に、複数層の積層構造よりなる微細なスペーサ４４が形成される。
配向形成突起４６とスペーサをなす最上の第３柱層４３とを別の材料で構成することも可能であるが、工程短縮の観点からは同一材料で同時形成するのが好ましい。
【００４７】
次に、第４の例について説明する。第４の例は、既述の第１の例等の積層構造とは逆に、図１０に示すように、上層ほど積層方向と略直交する断面の幅が大きくなる（幅Ａ＜幅Ｂ）スペーサに構成したものである。
本例では既述の第１の例と同様の操作を行なうことによって、図１１に示すようにガラス基板４００の片側の表面に、第１の画素２０Ｒ及び第１柱層５１を形成し（画素２０Ｒ及び第１柱層５１は一体構造である。）、画素２０Ｒ非形成領域に第２の画素２０Ｇを形成すると共に第１柱層５１上に第２柱層５２を形成し、引き続いて画素２０Ｒ及び２０Ｂの非形成領域に第３の画素２０Ｂを形成すると共に更に、第２柱層５２全体を被覆するようにして第３柱層５３を形成する。このような積層形態（既述の第２の態様）によっても、３色の着色画素を形成すると共に、着色樹脂層が積層された三層構造（色重ね）よりなる微細なスペーサ５４が形成される。
【００４８】
第４の例において、第３柱層５３の下層である第２柱層５２の積層方向と直交する断面の最大幅（本例では矩形断面の対角線）は１０μｍ以上（上限については１００μｍ以下、更には５０μｍ以下が望ましい。）とする。特に微細なスペーサに構成しようとする場合などには、色相の組合せに依らず下層を上記範囲のサイズとすることで、既設の下層の形状等の欠損が防止され、スペーサの高さ変動を効果的に防止することができる。好ましくは、１０〜３０μｍである。また、下層を被覆する上層（第３柱層５３）の積層方向と直交する断面の最大幅（本例では矩形断面の対角線）は下層断面の最大幅＋５μｍ以上（上限については１００μｍ以下、更には５０μｍ以下が望ましい。）が好適である。
【００４９】
次に、第５の例について説明する。第５の例もまた、既述の第１の例等の積層構造とは逆に、積層方向と略直交する断面の幅が下層より大きい上層を積層した構造にスペーサを構成したものである。
本例では既述の第３の例と同様の操作を行なうことによって、図１２に示すようにガラス基板５００の片側の表面に、第１の画素４０Ｒ及び第１柱層６１を形成し（画素４０Ｒ及び第１柱層６１は一体構造である。）、画素４０Ｒ非形成領域に第２の画素４０Ｇを形成すると共に第１柱層６１上に第２柱層６２を形成し、続いて画素４０Ｒ及び４０Ｂの非形成領域に第３の画素４０Ｂを形成する。その後、第１〜第３の画素４０Ｒ、４０Ｇ、及び４０Ｂ並びに第１柱層６１及び第２柱層６２を被覆するようにしてＩＴＯ膜４５を形成する。次いで、形成されたＩＴＯ膜４５上に、既述の第３の例と同様にして、図１２に示すように配向制御突起６６を形成すると同時に、第２柱層６２全体をＩＴＯ膜を介して被覆するようにして第３柱層６３を形成する。このような積層形態（既述の第４の態様）によっても、３色の着色画素を形成すると共に、着色樹脂層が積層された三層構造（色重ね）よりなる微細なスペーサ６４が形成される。
配向形成突起６６とスペーサをなす最上の第３柱層６３とを別の材料で構成することも可能であるが、工程短縮の観点からは同一材料で同時形成するのが好ましい。
【００５０】
第５の例においても、第３柱層６３の下層である第２柱層６２の積層方向と直交する断面の最大幅（本例では矩形断面の対角線）は１０μｍ以上（上限については１００μｍ以下、更には５０μｍ以下が望ましい。）とする。特に微細なスペーサに構成しようとする場合などには、色相の組合せに依らず下層を上記範囲のサイズとすることで、既設の下層の形状等の欠損が防止され、スペーサの高さ変動を効果的に防止することができる。好ましくは、１０〜３０μｍである。また、下層を被覆する上層（第３柱層５３）の積層方向と直交する断面の最大幅（本例では矩形断面の対角線）は下層断面の最大幅＋５μｍ以上（上限については１００μｍ以下、更には５０μｍ以下が望ましい。）が好適である。
【００５１】
本発明のカラーフィルタの製造方法における被転写材であって、カラーフィルタを構成する基体としては、透明基板が好適であり、例えば、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、あるいはプラスチックフィルム等が挙げられる。
【００５２】
また、転写は、公知のラミネータ（例えば、ソマール社製のオートカットラミネータ  ＡＳＬ−２４や大成ラミネータ（株）製のＶＡ２−７００Ｓ型など）を使用して行なうことができる。転写は一般に加熱及び加圧下にて行なわれるが、本発明においては、加熱温度は１００〜１５０℃の範囲が、転写圧は０．８〜２．０ＭＰａの範囲が好ましい。
【００５３】
次に、転写材料を構成する熱可塑性樹脂層、及び感光性の着色樹脂層又は他の樹脂層や中間層、仮支持体等について述べる。
【００５４】
熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性の熱可塑性樹脂を主に用いて構成することができ、必要に応じて他の成分を含有していてもよい。この層は、複数の画素を順次転写（ラミネートして）により形成する際に、単に既設の画素等の凹凸に起因する気泡混入防止のためだけでなく、被転写面の凹凸に追従するクッション性、すなわちラミネートによる圧力負荷が既設の層（画素）表面と未転写の被転写材表面とを含む被転写材全面に均一に及ぶように制御し、積層構造（色重ね）に構成されるスペーサの上層及び／又は下層の厚みが変動することに伴なう高さバラツキを効果的に抑えることができる。その結果、微細でありながら一様な高さに構成された高精度のスペーサの形成が可能となる。
【００５５】
熱可塑性樹脂としては、実質的な軟化点が８０℃以下であるものが好ましい。軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂として、エチレンとアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、および（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物等が挙げられる。熱可塑性樹脂は、一種単独で用いる以外に二種以上を併用してもよい。
【００５６】
また、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）に記載の、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうち、アルカリ水溶液に可溶なものを使用できる。
【００５７】
更に、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質であっても、その有機高分子物質中に該有機高分子物質と相溶性のある各種の可塑剤を添加して、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて使用することも可能である。有機高分子物質中には、後述する仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を超えない範囲で各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、離型剤等を加えることができる。可塑剤の例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート等が好適に挙げられる。
【００５８】
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂及び必要に応じて他の成分を有機溶剤に溶解して塗布液（熱可塑性樹脂層形成用の塗布液）を調製し、公知の塗布方法により仮支持体上に塗布等して形成することができる。前記有機溶剤としては、メチルエチルケトン、１−メトキシ−２−プロパノール等が挙げられる。
【００５９】
熱可塑性樹脂層の層厚としては、６μｍ以上が好ましい。一般に画素及びスペーサをなす柱層を形成するための感光性の着色樹脂層は２〜３μｍ程度の膜厚を有するため、前記層厚が６μｍ未満であると、既設の構造物（先行画素やスペーサの下層柱層など）の凹凸を完全に吸収することが困難になることがある。また、上限としては、現像性、製造適性の点から５０μｍ以下が好ましい。
【００６０】
転写材料を構成する感光性の着色樹脂層又は他の樹脂層には、例えば、特開２００３−２２７９１８号公報の段落［００１９］〜［００３５］に記載のものを適宜選択して適用することができる。なお、他の樹脂層を無色透明とする場合は、着色材料を用いない以外は着色樹脂層と同様に構成することができる。
【００６１】
転写材料を構成する仮支持体としては、既述の弾性支持体で構成する以外に、前記熱可塑性樹脂層を設けるか否かに関わらず、可撓性であって、感光性の着色樹脂層等と良好な剥離性を有する化学的及び熱的に安定な物質で構成することができる。具体的には、特開２００３−２２７９１８号公報の段落［００１４］〜［００１８］に記載のものを選択することができる。
【００６２】
また、転写材料は、中間層や保護層を設けて構成することもでき、中間層及び保護層の詳細については特開２００３−２２７９１８号公報に記載があり、該公報中の記載から適宜選択して適用することができる。
【実施例】
【００６３】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【００６４】
＜感光性転写シートの作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム支持体（ＰＥＴ仮支持体）上に、下記処方Ａからなる塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥層厚１５μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。この層は、後述のように複数色の画素を順次ラミネートにより形成する際に、特にラミネートによる圧力負荷が既設の層（画素）表面と未転写の被転写材表面とを含む被転写材全面に均一に及ぶように制御し、積層構造（色重ね）に構成されるスペーサの上層及び／又は下層の厚みが変動するのを防止する機能を有するものである。
【００６５】
〔熱可塑性樹脂層の処方Ａ〕
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体〔共重合比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８；重量平均分子量８００００〕                                …  ４．５部
・スチレン／アクリル酸共重合体〔共重合比（重量比）＝７／３；重量平均分子量８０００〕                                                  …１０．５部
・ＢＰＥ−５００（新中村化学（株）製）                …  ７部
・メガファックＦ１７７Ｐ                              …  ０．２６部
（大日本インキ化学工業（株）製；界面活性剤）
・メチルエチルケトン                                  …１８．６部
・メタノール                                          …３０．６部
・１−メトキシ−２−プロパノール                      …  ９．３部
【００６６】
次に、形成した熱可塑性樹脂層上に、下記処方Ｂからなる塗布液を塗布、乾燥させて、乾燥層厚１．６μｍの中間層を形成した。この層は、下記において該層上に積層される感光性樹脂層と先に形成した熱可塑性樹脂層とが混じり合わないようにするためのバリアー層として働くものである。また、酸素遮断膜としての機能も有する。
【００６７】
〔中間層の処方Ｂ〕
・ポリビニルアルコール                            …  １３部
（ＰＶＡ−２０５、（株）クラレ製）
・ポリビニルピロリドン                            …    ６部
（ＰＶＰ−Ｋ３０、五協産業（株）製）
・メタノール                                      …１７３部
・水                                              …２１１．４部
【００６８】
上記のようにして熱可塑性樹脂層及び中間層が形成されたＰＥＴ仮支持体を５枚準備し、各々の中間層上にさらに、下記表１の処方よりなる黒色（Ｋ）、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、もしくは青色（Ｂ）の感光性溶液、又は下記処方Ｃよりなるポジ型の感光性溶液を塗布、乾燥させて、乾燥層厚１．７μｍの黒色の感光性着色樹脂層Ｋ、乾燥層厚２μｍのＲＧＢ３色の感光性着色樹脂層Ｒ、Ｇ、Ｂ、乾燥層厚１．８μｍのポジ型感光性樹脂層Ｃを形成した。
【００６９】
以上のようにして、ＰＥＴ仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性着色樹脂層又は感光性樹脂層（Ｋ，Ｒ，Ｇ，Ｂ，又はＣ）の積層構造に構成した後、さらに各樹脂層の表面に厚さ１２μｍのポリプロピレン製フィルムをカバーフィルムとして貼り付けて、５種類の感光性転写シートＫ，Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｃを得た。
【００７０】
〔ポジ型の感光性樹脂層の処方Ｃ〕
・ＦＨ２４５                                        …１０００部
（クレゾールノボラック樹脂、ナフトキノンジアジドエステル、プロピレングリコールモノエチルアセテート；富士フイルムアーチ（株）製）
・テトラヒドロフルフリルアルコール                  …  ５００部
【００７１】
【表１】
2005301137.tif 000003
【００７２】
〜顔料分散液１の調製〜
下記に示す組成をモーターミルＭ−５０（アイガー社製）により直径０．６５ｍｍのジルコニアビーズを用いて周速９ｍ／ｓで９時間分散し、顔料分散液１を調製した。
〔顔料分散液１の組成〕
・カーボンブラック                                …１３．１ｇ
・下記顔料分散剤１                                …  ０．７ｇ
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体〔共重合比（モル比）＝７２／２８、分子量３００００〕の４０％プロピレングリコールモノメチルアセテート溶液                                                            …１６．６ｇ
・プロピレングリコールモノメチルアセテート        …６９．７ｇ
【００７３】
【化１】
2005301137.tif 000004
【００７４】
＜カラーフィルタの作製＞
上記より得られた５種類の感光性転写シートＫ，Ｒ，Ｇ，Ｂ，Ｃを用い、転写法によって以下のようにしてカラーフィルタを作製した。
【００７５】
（実施例１）
本実施例では、感光性転写シートＲ，Ｇ，Ｂを用いて以下のようにしてラミネート、転写を行なうことにより、図２〜図３と同様に構成されたカラーフィルタを作製した。
【００７６】
まず、洗浄した厚さ０．７ｍｍ、４００ｍｍ×３００ｍｍの透明のガラス基板（コーニング  ＃１７３７）を、シランカップリング剤（ＫＢＭ−６０３、信越化学（株）製）０．３％水溶液中に３０秒間浸漬した後、３０秒間純水でリンスし、エアーナイフで乾燥させた。この工程は、後述するように転写形成される感光性着色樹脂層又は感光性樹脂層のガラス基板表面との密着性を高めるためのものである。
【００７７】
次に、赤色画素形成用の感光性転写シートＲのカバーフィルムを剥離しながら、露出した感光性着色樹脂層Ｒの表面を１００℃に加熱されたガラス基板に向けてラミネータ（オートカットラミネータ  ＡＳＬ−２４、ソマール社製）により加圧（１．２ＭＰａ）、加熱（１２０℃）して貼り合わせた。ガラス基板が常温になった後、剥離界面とガラス基板表面とをイオナイザーで除電しながらＰＥＴ仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、ガラス基板上に感光性着色樹脂層Ｒを転写した。引き続き、フォトマスクを介して感光性着色樹脂層Ｒの露光、現像を行ない、更にポスト露光した後に、コンベクションオーブンで２２０℃で加熱処理して、幅８０μｍのストライプ状の赤色画素（図２〜図３中の画素２０Ｒ）と、該赤色画素の形成と同時に、スペーサを形成しようとする部位に２０μｍ×２０μｍの赤色矩形の第１柱層（図２中の第１柱層２１）を感光性着色樹脂層Ｒで形成した。なお、上記の転写、露光、現像、ポスト露光、及び加熱処理の各条件は下記表２に示す通りである。
【００７８】
次に、緑色画素形成用の感光性転写シートＧを用い、上記した赤色画素及び第１柱層の形成と同様の方法を繰り返し、感光性着色樹脂層Ｇの転写、露光、現像、並びにポスト露光及び加熱処理を行なって、赤色画素非形成領域に幅８０μｍのストライプ状の緑色画素（図２〜図３中の画素２０Ｇ）を形成すると共に、緑色画素の形成と同時に、第１柱層の上部に２０μｍ×２０μｍの緑色矩形の第２柱層（図２中の第２柱層２２）を感光性着色樹脂層Ｇで形成した。続いて、青色画素形成用の感光性転写シートＢを用い、上記した赤色及び緑色の場合と同様の方法を更に繰り返すことにより、感光性着色樹脂層Ｂの転写、露光、現像、並びにポスト露光及び加熱処理を行なって、赤色及び緑色画素非形成領域に幅８０μｍのストライプ状の青色画素（図２〜図３中の画素２０Ｂ）を形成すると共に、青色画素の形成と同時に、第２柱層の上部に１０μｍ×１０μｍの青色矩形の第３柱層（図２中の第３柱層２３）を感光性着色樹脂層Ｂで形成した。本実施例においては、第１柱層〜第３柱層は各々、積層方向に直交する断面の中心点が同一中心線に位置するようにして形成した。
【００７９】
ここで、上記した転写、露光、現像、ポスト露光、及び加熱処理の各条件について下記表２に示す。
【表２】
2005301137.tif 000005
【００８０】
以上のようにして、図２〜図３に示すように、着色画素２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ（フィルタ部位）及び三層構造に構成されたスペーサ２４が設けられてなるカラーフィルタを得た。得られたカラーフィルタは、スペーサ２４を構成する各柱層に欠損もなく、画素からのスペーサ高さの平均値は３．３μｍであり、スペーサ高さのバラツキは±０．１５μｍに抑えられ、一様な高さに精度よく形成することができた。
【００８１】
本実施例では、全ての画素に柱層を形成するようにしたが、柱層の大きさや物性によっては形成密度は増減することが可能である。
【００８２】
（実施例２）
本実施例では、感光性転写シートＫ，Ｒ，Ｇ，Ｂを用いて以下のようにしてラミネート、転写を行なうことにより、図７〜図８と同様に構成されたカラーフィルタを作製した。
【００８３】
洗浄した厚さ０．７ｍｍ、４００ｍｍ×３００ｍｍの透明のガラス基板（コーニング  ＃１７３７）を、実施例１と同様にしてシランカップリング剤への浸漬、リンス、乾燥を行なった後、感光性転写シートＫのカバーフィルムを剥離しながら、露出した感光性着色樹脂層Ｋの表面を１００℃に加熱されたガラス基板に向けてラミネータ（オートカットラミネータ  ＡＳＬ−２４、ソマール社製）により加圧（１．２ＭＰａ）、加熱（１２０℃）して貼り合わせ、ガラス基板が常温になってから実施例１と同様に除電しながらＰＥＴ仮支持体を剥離し、ガラス基板上に感光性着色樹脂層Ｋを転写した。そして、実施例１と同様に、感光性着色樹脂層Ｋの露光、現像、ポスト露光、及び加熱処理を経てブラックマトリクス（図８中のＢＭ３４）を形成した。ブラックマトリクス（ＢＭ）は、画面サイズ１０．４インチの中に幅２４μｍにて形成されており、ＢＭで区画された画素形成用の領域は８６μｍ×３０４μｍ（画素数４８０×６４０）となっている。ブラックマトリクス形成時の、転写、露光、現像、ポスト露光、及び加熱処理の各条件を下記表３に示す。
【００８４】
【表３】
2005301137.tif 000006
【００８５】
次に、赤色画素形成用の感光性転写シートＲのカバーフィルムを剥離しながら、露出した感光性着色樹脂層Ｒの表面を１００℃に加熱されたガラス基板のＢＭ形成面にラミネータ（オートカットラミネータ  ＡＳＬ−２４、ソマール社製）により加圧（１．２ＭＰａ）、加熱（１２０℃）して貼り合わせ、ガラス基板が常温になってから、実施例１と同様に除電しながらＰＥＴ仮支持体を剥離し、感光性着色樹脂層Ｒを転写した。転写後、実施例１と同様の条件（表２参照）にて感光性着色樹脂層Ｒの露光、現像、ポスト露光、及び加熱処理を順次行ない、ＢＭとその縁端から３μｍの範囲で重なり領域が形成されるように幅８０μｍのストライプ状の赤色画素（図７〜図８中の画素３０Ｒ）を形成した。
【００８６】
続いて、緑色画素形成用の感光性転写シートＧを用い、実施例１と同様の方法及び条件（表２参照）にて感光性着色樹脂層Ｇの転写、露光、現像、並びにポスト露光及び加熱処理を行なって、ＢＭとその縁端から３μｍの範囲で重なり領域が形成されるように幅８０μｍのストライプ状の緑色画素（図７〜図８中の画素３０Ｇ）を形成すると共に、緑色画素の形成と同時に、ＢＭの上部に１５μｍ×１５μｍの緑色矩形の第１柱層（図７〜図８中の第１柱層３１）を感光性着色樹脂層Ｇで形成した。続いて、青色画素形成用の感光性転写シートＢを用いて同様（表２参照）に、ＢＭとその縁端から３μｍの範囲で重なり領域が形成されるように幅８０μｍのストライプ状の青色画素（図７〜図８中の画素３０Ｂ）を形成すると共に、同時に第１柱層の上部に８μｍ×８μｍの青色矩形の第２柱層（図７〜図８中の第２柱層３２）を感光性着色樹脂層Ｇで形成した。本実施例では、第１柱層及び第２柱層の積層方向に直交する断面の中心点が同一中心線にあるように形成した。
【００８７】
以上のようにして、図７〜図８に示すように、着色画素３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ（フィルタ部位）と共に、ＢＭ上に二層構造に構成されたスペーサ３３が設けられたカラーフィルタを得た。得られたカラーフィルタは、スペーサ３３を構成する各柱層に欠損もなく、画素からのスペーサ高さの平均値は３．１５μｍであり、スペーサ高さのバラツキは±０．１４μｍに抑えられ、一様な高さに精度よく形成することができた。
【００８８】
（実施例３）
本実施例では、感光性転写シートＲ，Ｇ，Ｂ，Ｃを用いて以下のようにしてラミネート、転写を行なうことにより、図９と同様に構成されたカラーフィルタを作製した。
【００８９】
洗浄した厚さ０．７ｍｍ、４００ｍｍ×３００ｍｍの透明のガラス基板（コーニング  ＃１７３７）を、実施例１と同様にしてシランカップリング剤への浸漬、リンス、乾燥を行なった後、さらに実施例１と同様（表２参照）に、感光性転写シートＲ及びＧを用いて赤色画素及び緑色画素並びに第１柱層及び第２柱層（図９中の画素４０Ｒ及び４０Ｇ並びに第１柱層４１及び第２柱層４２）を形成した。引き続き、青色画素形成用の感光性転写シートＢを用いて、実施例１と同様の条件（表２参照）にて赤色及び緑色画素非形成領域に幅８０μｍのストライプ状の青色画素（図９中の画素４０Ｂ）のみを形成した。この段階で、２４０℃で５０分間の加熱処理を行なった。
【００９０】
次に、スパッタリングにより、図９に示すように、画素４０Ｒ、４０Ｇ及び４０Ｂ並びに第１柱層４１及び第２柱層４２を覆うようにして、ＩＴＯ膜を１４００Åの膜厚にて形成した。次に、ＩＴＯ膜上に、ポジ型の感光性転写シートＣを用いて、感光性転写シートＲ等を用いた場合と同様の方法により転写、露光、現像、及び加熱処理を行なって、配向規制突起４６を形成すると同時に第２柱層４２上にＩＴＯ膜４５を介して内接円の直径が１０μｍである断面八角形（積層方向に直交する断面）の第３柱層（図９中の第３柱層４３）を形成した。第３柱層形成時の、転写、露光、現像、及び加熱処理の各条件を下記表４に示す。
【００９１】
【表４】
2005301137.tif 000007
【００９２】
以上のようにして、図９に示すように、着色画素４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂ（フィルタ部位）と共に、ＩＴＯ膜を介して三層構造に構成されたスペーサ４４が設けられたカラーフィルタを得た。得られたカラーフィルタは、スペーサ４４を構成する各柱層に欠損もなく、画素からのスペーサ高さの平均値は３．２５μｍであり、スペーサ高さのバラツキは±０．１６μｍに抑えられ、一様な高さに精度よく形成することができた。
本実施例では、全ての画素に柱層を形成するようにしたが、柱層の大きさや物性によっては形成密度は増減することが可能である。
【００９３】
（比較例１）
実施例１において、感光性転写シートＲ，Ｇ，Ｂを、熱可塑性樹脂層及び中間層を設けずに、ＰＥＴ仮支持体上に直接感光性着色樹脂層（Ｒ，Ｇ，Ｂ）が設けられた三色の感光性転写シートに代えたこと以外、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
本比較例で形成されたカラーフィルタは、スペーサ高さの平均値が２．９５μｍと低く、スペーサ高さのバラツキも±０．４μｍもあり、均一で高精度なスペーサを形成することはできなかった。
【００９４】
（比較例２）
実施例１において、第１柱層、第２柱層、及び第３柱層の各々のサイズを順に、８μｍ×８μｍ、２０μｍ×２０μｍ、及び６μｍ×６μｍに代えてスペーサを形成したこと以外、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
本比較例で形成されたカラーフィルタは、最下層がその上層に比し小サイズに構成されており、スペーサ高さの平均値が３．０８μｍと低く、スペーサ高さのバラツキも±０．３４μｍもあり、均一で高精度なスペーサを形成することはできなかった。また、第３柱層の欠損が２０％であった。
【００９５】
（比較例３）
実施例１において、最上層である１０μｍ×１０μｍの第３柱層を、第１柱層、第２柱層、及び第３柱層の各々における積層方向に直交する断面の中心点を通る中心線から５μｍずらした位置に形成するようにしたこと以外、実施例１と同様にしてカラーフィルタを作製した。
本比較例で形成されたカラーフィルタは、スペーサ高さの平均値が３．４μｍ、スペーサ高さのバラツキが±０．３μｍであり、均一で高精度なスペーサを形成することはできなかった。
【００９６】
（実施例４）
実施例１において、緑色矩形の第２柱層及び青色矩形の第３柱層を感光性着色樹脂層Ｇ及びＢで形成する場合の露光範囲を代え、第１柱層の上部に１５μｍ×１５μｍの緑色矩形の第２柱層（図１１中の第２柱層５２）を、第２柱層の上部に２５μｍ×２５μｍの青色矩形の第３柱層（図１１中の第３柱層５３）をこの第２柱層全体を被覆するように形成したこと以外、実施例１と同様にして、図１１に示すように、着色画素２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ（フィルタ部位）及び三層構造に構成されたスペーサ５４が設けられてなるカラーフィルタを得た。
【００９７】
スペーサ５４を構成する各柱層には欠損はなく、画素からのスペーサ高さの平均値は３．２μｍであり、スペーサ高さのバラツキは±０．１６μｍに抑えられ、一様な高さに精度よく形成することができた。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】熱可塑性樹脂層を有する転写材料の構成例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のカラーフィルタの製造方法の第１の例により作製されたカラーフィルタの断面構造を示す概略構成図である。
【図３】本発明のカラーフィルタの製造方法の第１の例により作製されたカラーフィルタを示す概略平面図である。
【図４】第１及び第２の態様に係るスペーサの積層構造を説明するための概念図である。
【図５】図２のスペーサ部位の断面構造を拡大して示す図である。
【図６】（Ａ）は二層構造に構成する場合の上層が下層の平坦部に形成される場合を示す図であり、（Ｂ）及び（Ｃ）は上層が下層の傾斜部に形成される場合を示す図である。
【図７】本発明のカラーフィルタの製造方法の第２の例により作製されたカラーフィルタの断面構造を示す概略構成図である。
【図８】本発明のカラーフィルタの製造方法の第２の例により作製されたカラーフィルタを示す概略平面図である。
【図９】本発明のカラーフィルタの製造方法の第３の例により作製されたカラーフィルタの断面構造を示す概略構成図である。
【図１０】第３及び第４の態様に係るスペーサの積層構造を説明するための概念図である。
【図１１】本発明のカラーフィルタの製造方法の第４の例により作製されたカラーフィルタの断面構造を示す概略構成図である。
【図１２】本発明のカラーフィルタの製造方法の第５の例により作製されたカラーフィルタの断面構造を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【００９９】
１０…転写材料
１２…熱可塑性樹脂層
１４…感光性の着色樹脂層、無色もしくは有色の感光性樹脂層（他の樹脂層）
２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ，３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂ，４０Ｒ，４０Ｇ，４０Ｂ…着色画素
２４，３３，４４，５４，６４…スペーサ
４６，６６…配向規制部材
【図１】
2005301137.tif 000008
【図２】
2005301137.tif 000009
【図３】
2005301137.tif 000010
【図４】
2005301137.tif 000011
【図５】
2005301137.tif 000012
【図６】
2005301137.tif 000013
【図７】
2005301137.tif 000014
【図８】
2005301137.tif 000015
【図９】
2005301137.tif 000016
【図１０】
2005301137.tif 000017
【図１１】
2005301137.tif 000018
【図１２】
2005301137.tif 000019