(57)【要約】【課題】適切な配置とすることができ、複数配列させたときの占有面積を小さくすることができるプロービングパッド、これを形成するマスクパターン、及びプロービングパッドを備えた電子デバイスを提供すること。【解決手段】基板の表面に沿って移動するプローブ２１〜２４を受け入れてこれを当接させるプロービングパッド１１〜１４であって、プローブの移動方向前方に沿ってその幅がプローブを受け入れる前端１１Ａ〜１４Ａから漸次増大する形状を有し、その幅方向の中心を通る中心線がプローブの移動方向に合致するように形成されていることを特徴とする。【選択図】      図１
2005039009.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に沿って移動するプローブを受け入れてこれを当接させるプロービングパッドであって、
前記プローブの移動方向前方に沿ってその幅が前記プローブを受け入れる前端から漸次増大する形状を有し、
その幅方向の中心を通る中心線が前記プローブの移動方向に合致するように形成されていることを特徴とするプロービングパッド。
【請求項２】
前記プローブを受け入れる前端から該プローブの移動方向に沿って末広がりとなるほぼ三角形に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のプロービングパッド。
【請求項３】
予め定められた複数の異なる移動方向のプローブを受け入れてこれを当接させるプロービングパッド群であって、
各プロービングパッドが矩形に形成され、その幅方向の中心を通る中心線が前記各プローブの移動方向に合致するように形成されていることを特徴とするプロービングパッド群。
【請求項４】
請求項２に記載のプロービングパッドを一方向に複数隣接して配置したプロービングパッド群であって、
各プロービングパッドが、前記前端を隣接方向に直交する方向に向けて配置されると共に、隣接するプロービングパッドの前端が逆方向に向けられていることを特徴とするプロービングパッド群。
【請求項５】
請求項１又は２に記載のプロービングパッドを形成するマスクパターン。
【請求項６】
請求項３又は４に記載のプロービングパッド群を形成するマスクパターン。
【請求項７】
請求項１又は２に記載のプロービングパッドを備えた電子デバイス。
【請求項８】
請求項３又は４に記載のプロービングパッド群を備えた電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は電子デバイスの回路特性評価するためのプロービングパッド、このプロービングパッドを形成するマスクパターン、及びプロービングパッドを有する電子デバイスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、電子デバイスはその製作過程においてその電子デバイスの評価を行う必要がある。これは予めウエハ上にプロービングパッドと称する電極を形成し、これに評価装置のプローブを当接させて適宜電圧を印加させたり、測定したりすることにより、これと電気的に接続された測定用回路の評価を行う。このプロービングパッドは、このようなパターンを形成する際に通常用いられる方法としてのマスクパターンを使用したレチクル・マスクを用いたフォトリソグラフィ技術によって形成される。
【０００３】
従来、上記のプロービングパッドの構成としては半導体基板上に形成された複数の集積回路（以下、ＩＣと省略する。）に対して矩形のプロービングパッドを複数列接し、ＩＣと各プロービングパッドとを導体パターンで連結したものがある。プロービングパッドを連接させ、プロービングパッドに当接させたプローブを自動的に一方向に移動させることによって評価を容易に行うことができる（例えば、特許文献１参照。）。
また、基板上に矩形の複数のプロービングパッドをこのプロービングパッドとＩＣとをボンディングワイヤ及び導体パターンによって接続したものがある。これは、プロービングパッドを適宜密に配置することによって、半導体チップ上のプロービングパッド占有面積を小さくしたものである（例えば、特許文献２参照。）。
【０００４】
【特許文献１】
特公平６−８５４０７号公報  （第１図）
【特許文献２】
特開平９−２３７８００号公報  （第１図）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来のプロービングパッドは、自動プロービングに対応したものであって、マニュアルプロービングには不適切なものである。すなわち、プロービングパッドの中央にプローブを当接させた際、プロービングパッドとプローブとの接触点に誤差が生ずることがある。この誤差範囲は、プローブの移動方向に対して末広がりとなる。図４に示すように、従来のプロービングパッド４１〜４４では、矩形のプロービングパッド４１〜４４に対しプローブ４５〜４８を当接させる際、マニュアルプロービングの場合には各プローブの移動方向が各プロービングパッドで異なる。したがって、プローブの様々な移動方向に対応した面積となっているため、プロービングパッドの面積が大きいという問題があった。
また、矩形であるため、プローブパッドを密に配置したとしてもプロービングパッドの占有面積の縮小に限界があるという問題があった。
【０００６】
本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、主にマニュアルプロービングにおいて、適切な配置とすることができ、複数配列させたときの占有面積を小さくすることができるプロービングパッド、これを形成するマスクパターン、及びプロービングパッドを備えた電子デバイスを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するため、本発明は、以下の手段を提案する。
請求項１に係る発明は、基板の表面に沿って移動するプローブを受け入れてこれを当接させるプロービングパッドであって、前記プローブの移動方向前方に沿ってその幅が前記プローブを受け入れる前端から漸次増大する形状を有し、その幅方向の中心を通る中心線が前記プローブの移動方向に合致するように形成されているプロービングパッドを提案する。
【０００８】
プローブをプロービングパッドに向けて移動させて測定用回路の評価を行う場合には、プロービングパッドの中央にプローブを当接させた際、プロービングパッドとプローブとの接触点に誤差が生ずることがある。この誤差範囲は、プローブの移動方向に対して末広がりとなる。
この発明によれば、マスクパターンによって形成されたプロービングパッドの幅方向の中心を通る中心線がプローブの受け入れ方向に合致しているため、プローブをプロービングパッドに当接させた際にその接触点の誤差範囲に合わせたプロービングパッドの配置とすることができる。したがって、適切な電気的接触を得ることができる。
【０００９】
請求項２に係る発明は、前記プローブを受け入れる前端から該プローブの移動方向に沿って末広がりとなるほぼ三角形に形成されているプロービングパッドを提案する。
この発明によれば、プロービングパッドをほぼ三角形とすることで、更にプロービングパッド面積を小さくすることができる。したがって、プロービングパッドによる寄生容量を低減することができる。
【００１０】
請求項３に係る発明は、予め定められた複数の異なる移動方向のプローブを受け入れてこれを当接させるプロービングパッド群であって、各プロービングパッドが矩形に形成され、その幅方向の中心を通る中心線が前記各プローブの移動方向に合致するように形成されているプロービングパッド群を提案する。
この発明によれば、マスクパターンによって形成されたプロービングパッドの幅方向の中心を通る中心線がプローブの受け入れ方向に合致しているため、プローブをプロービングパッドに当接させた際にその接触点の誤差範囲に合わせたプロービングパッドの配置とすることができる。
【００１１】
請求項４に係る発明は、請求項２に記載のプロービングパッドを一方向に複数隣接して配置したプロービングパッド群であって、各プロービングパッドが、前記前端を隣接方向に直交する方向に向けて配置されると共に、隣接するプロービングパッドの前端が逆方向に向けられているプロービングパッド群を提案する。
この発明によれば、プロービングパッドの頂部を一方向に直交する方向に交互且つ逆方向を向くように配置されることによって、プロービングパッド群の占有面積を小さくすることができる。
【００１２】
請求項５に係る発明は、請求項１又は２に記載のプロービングパッドを形成するマスクパターンを提案する。また、請求項６に係る発明は、請求項３又は４に記載のプロービングパッド群を形成するマスクパターンを提案する。請求項７に係る発明は、請求項１又は２に記載のプロービングパッドを備えた電子デバイスを提案する。請求項８に係る発明は、請求項３又は４に記載のプロービングパッドを備えた電子デバイスを提案する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るマスクパターンの第１の実施形態を、図１を参照しながら説明する。
本実施形態による電子デバイスは、図１に示されるように、シリコンやガリウム・ヒ素等の半導体からなる基板上に回路特性評価部１が形成されている。
回路特性評価部１は、トランジスタ、サイリスタ、ダイオード等の測定回路素子１０と、アルミニウムや金等の導体で形成された電極であるプロービングパッド１１〜１４を備えたプロービングパッド群１５と、同様にアルミニウムや金等の導体で形成され測定回路素子１０と各プロービングパッドとを接続する第１、第２、第３、及び第４の配線部１６〜１９とを備えている。
【００１４】
プロービングパッド１１〜１４は、各プロービングパッドに当接するプローブの移動方向であるＡ方向、Ｂ方向、Ｃ方向、及びＤ方向がプローブを受け入れる前端１１Ａ〜１４Ａの幅方向の中心を通る中心線に合致するように配列されている。
なお、上記のプロービングパッド１１〜１４は、図１に示すような配置の形状を有するマスクパターンを使用して形成されたものである。
【００１５】
上記の構成からなる電子デバイスにおいて、測定回路素子１０の特性評価方法を説明する。
マニュアルプロービングによりプローブ２１をＡ方向からプロービングパッド１１に移動させて中心点に当接させる。同様にプローブ２２〜２４をＢ、Ｃ、及びＤ方向からそれぞれプロービングパッド１２〜１４に移動させて当接させる。各プローブに対し所定の電圧を印加又は測定することによって、測定回路素子１０の特性を評価する。
【００１６】
上記の構成によれば、複数のプロービングパッド１１〜１４がその幅方向の中心を通る中心線と各プロービングパターンに侵入するプローブの受け入れ方向と合致するように形成されているため、プローブを各プロービングパッドに当接させた際に、その接触点の誤差範囲に合わせたプロービングパッドの配置とすることができる。したがって、適切な電気的接触を得ることができる。
【００１７】
次に、第２の実施形態について、図２を参照しながら説明する。
なお、ここで説明する実施形態はその基本的構成が上述した第１の実施形態と同様であり、上述の第１の実施形態に別の要素を付加したものである。したがって、図２においては、図１と同一構成要素に同一符号をし、この説明を省略する。
【００１８】
第２の実施形態と第１の実施形態との異なる点は、第１の実施形態の回路特性評価部１では、プロービングパッド１１〜１４が矩形であったのに対し、第２の実施形態の回路特性評価部３０は、プロービングパッド３１〜３４がそれぞれプローブを受け入れる前端３１Ａ〜３４Ａからプローブの移動方向に向けて末広がりとなるほぼ三角形とされて形成されたプロービングパッド群３５を有している。
また、各プロービングパッドに対するプローブの移動方向に合致するように、各プロービングパッドの前端３１Ａ〜３４Ａが逆方向に向けられて配列されている。
【００１９】
上記の構成によれば、各プロービングパッドをほぼ三角形とすることで、図３に示すように、矩形であるプロービングパッドに比べ、更に面積を小さくすることができる。したがって、各プロービングパッドによる寄生容量を矩形の時に比べ約半分に低減することができる。
また、各プロービングパッドの前端が隣接するプロービングパッドの前端が逆方向に向けて配列されていることによって、プロービングパッド群による占有面積を小さくすることができる。
【００２０】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、上記実施形態では、プロービングパッドの形状を矩形や三角形としたが、これに限らず、プローブの移動方向に向けてその幅が前端側の幅に増大して形成された台形形状等であってもよい。
【００２１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のマスクパターンによれば、プローブをプロービングパッドに接触させた際に、その接触点の誤差範囲に合わせたプロービングパッドの配置とすることができる。また、プロービングパッドの面積が縮小するため、プロービングパッドの寄生容量を低減することができると共に、複数配列したプロービングパッドの占有面積を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる第１の実施形態に係る電子デバイスを示す概略平面図である。
【図２】本発明にかかる第２の実施形態に係る電子デバイスを示す概略平面図である。
【図３】本発明にかかる第２の実施形態に係るプロービングパッドを示す平面図である。
【図４】従来のプローブパッドの一例を示す概略平面図である。
【符号の説明】
１、３０…回路特性評価部、１０…測定回路素子、１１〜１４、３１〜３４…プロービングパッド、１１Ａ〜１４Ａ、３１Ａ〜３４Ａ…前端、１５、３５…プロービングパッド群、１６〜１９…配線部、２１〜２４…プローブ、４１〜４４…プロービングパッド、４５〜４８…プローブ
【図１】
2005039009.tif 000003
【図２】
2005039009.tif 000004
【図３】
2005039009.tif 000005
【図４】
2005039009.tif 000006