(57)【要約】【課題】循環式浴槽システムにおいて、循環利用する温泉水の殺菌処理効果を高める。【解決手段】温泉の泉質に影響を与えないように紫外線による殺菌処理を施す。紫外線殺菌効率を高めるため、殺菌槽の側壁に紫外線反射板を設置する。循環パイプ内に残留する雑菌等による温泉水の汚染発生を除去するために、殺菌槽の出水口を浴槽の注水口と兼用する構造にした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
浴槽内の温水循環経路上に前記浴槽からの循環温水を殺菌灯で殺菌する殺菌槽を設け、前記殺菌槽で殺菌された温水を前記殺菌槽の出水口を経由して前記浴槽に供給するようにした温水循環システムにおいて、前記殺菌された温水の出水口は、前記浴槽の出水口であることを特徴とする温水循環システム。
【請求項２】
前記殺菌槽は内壁に前記殺菌灯からの照射光を反射させる反射手段を備えていることを特徴とする請求項１に記載の温水循環システム。
【請求項３】
前記反射手段は、前記殺菌槽の内壁に対して着脱自在であることを特徴とする請求項２に記載の温水循環システム。
【請求項４】
前記反射手段は、紫外線反射物質を合成樹脂薄膜に接着一体化して構成されることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の温水循環システム。
【請求項５】
前記反射手段は、紫外線反射物質を合成樹脂薄膜に塗布またはラミネートしたことを特徴とする請求項２または請求項３に記載の温水循環システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、浴用温水の循環利用に使用する温水浄化装置に関し、さらに詳しくは、温水浄化殺菌の効率を向上させる技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
温泉水はそれ自体が集客力を有しており、産業的な価値を有する。ただ、単位時間当たりに湧き出てくる温泉水の湯量は地域差があり、十分な供給量が確保できない場合は温泉水の循環利用が行われる。温泉水の循環利用をする場合、その循環経路上に殺菌等の処理装置を設け、雑菌等が繁殖しないようにしている。
【０００３】
温泉水中の雑菌を殺菌する方法として、塩素系の化学薬品を温水に溶融させ、その強力な酸化作用を利用するものがあるが、温泉水の殺菌には適さない。塩素剤を溶融すると含有鉱物と反応を起こし、泉質を変化させてしまい、温泉としての価値を失わせることになるからである。そのため、紫外線の持つ殺菌作用を利用することが多い。紫外線を照射すれば、泉質を変化させることなく、温泉水に溶け込んだ雑菌を効果的に殺菌することができる。
【特許文献１】特開平７−２６５８５２
【特許文献２】特開平８−８９７２５
【特許文献３】特開２００１−５７１０５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
浄化殺菌処理装置を設置したとしても、温泉水に溶け込んだ雑菌の殺菌や老廃物を完全に分解除去することは現実的には不可能である。分解されず残存した雑菌や老廃物は処理装置やそれらをつなぐ循環パイプ等の表面に付着蓄積されてゆく。これら付着物は定期的に装置内部を洗浄することで、実使用上、衛生面で問題にならない程度にまで付着物を除去することは可能である。しかしながら温泉水を循環させる循環パイプの径は一般的に小さく、パイプ内部の洗浄は困難であり、パイプ内部の付着物の蓄積は放置せざるを得ない。ただ、温泉の汲み出し口から殺菌槽に至るまでのパイプを通過する温泉水は、殺菌槽で紫外線照射による殺菌処理が施されるため、実使用上、ある程度の付着物の残留は許容されてきた。しかしながら、殺菌槽と浴槽の出水口を結ぶパイプに雑菌が付着すると、そのパイプを流れる温泉水は再び殺菌処理されることなく浴槽に流れ込むので、パイプに付着した雑菌は温泉水に混入し、浴槽に流れ出してしまうという問題があった。
【０００５】
紫外線の殺菌効率を高めるためには、照射した紫外線をできるだけ多く温泉水が均等に吸収する構成にすればよい。従って殺菌槽の壁に紫外線を反射する素材を使用し、反射した紫外線を再び温泉水に照射するという手段を講じるとよい。以上のような紫外線殺菌効率を高めることを直接の目的としたものではないが、特開平７−２６５８５２には、殺菌槽の壁に紫外線反射板を使用した装置が開示されている。前述の理由により、反射板には雑菌や老廃物が付着し、蓄積されてゆくが、それに伴い紫外線反射率は低下し、殺菌効率が低下する。従って、反射率低下防止のために反射板に付着した老廃物を定期的にふき取る作業をしていたが、ふき取り作業手間がかかっていた。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記殺菌槽と浴槽を結ぶパイプに雑菌や老廃物が付着し雑菌が繁殖するという問題に対する解決手段として、浴槽内の温水循環経路上に前記浴槽からの循環温水を殺菌灯で殺菌する殺菌槽を設け、前記殺菌槽で殺菌された温水を前記殺菌槽の出水口を経由して前記浴槽に供給するようにした温水循環システムにおいて、前記殺菌された温水の出水口を前記浴槽の出水口と兼用するようにした。また、殺菌灯の殺菌効率を高めるため、前記殺菌槽は内壁に前記殺菌灯からの照射光を反射させる反射手段を備えた。
【０００７】
また、反射板に付着した老廃物のために紫外線反射率が低下し殺菌効率が低下するという問題に対し、簡単に反射板を取り外せる構造にしておき、紫外線反射率が低下したら新しい反射板に交換する、所謂使い捨て反射板を採用する。反射板は、紫外線反射物質を合成樹脂薄膜に接着一体化したものでもよいし、紫外線反射物質を合成樹脂薄膜に塗布またはラミネートしたもので構成してもよい。また、無電解ニッケルメッキを合成樹脂板に施したものを使用してもよい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明においては、殺菌槽の出水口が浴槽への注水口を兼用する。即ち、殺菌槽と浴槽との間に温泉水を輸送するための温水循環パイプは設けない。従って殺菌槽で殺菌された温泉水は循環パイプを経由せず直接浴槽に注がれることになる。殺菌槽においては、その出水口まで紫外線が照射されるので、温泉水に雑菌が混入する余地がない。
【０００９】
また、紫外線の殺菌効率を高めるため、殺菌槽の側壁は紫外線反射板によって覆うようにしているが、老廃物等の付着によって反射板の紫外線反射率が低下した場合、反射板に付着した老廃物等の払拭洗浄の手間をかけることなく、反射板を交換することとした。従って殺菌槽の保守工程が簡単になる。また、払拭洗浄作業に対する考慮が不要となるので殺菌槽形状に対する制約がなく自由な形状にできるので、浴槽への注水口に殺菌槽を設置するのに好都合である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下に実施例１を図１および図２に基づき説明する。図１は本発明の殺菌槽１の斜視図であって、殺菌槽内部の構造を破線で示した。図２は殺菌槽１を含む温泉水循環システムであり、最初に図２を参照しながら温泉水の循環してゆくフローを説明する。
【００１１】
輸送パイプ１０は源泉より湧き出てくる温泉水を調整槽３に供給するためのものであり、輸送パイプの一端はそのまま調整槽３への給水口となっている。輸送パイプの他端は、図示しないポンプの送水口に接続されており、源泉から汲み上げた温泉水が流入する。浴槽２は温泉入浴者が入浴する槽であって、温泉水で満たされている。浴槽２の温泉水は、殺菌槽１の給水口２２から供給されるのであるが、殺菌槽１について、さらに詳しくは後述する。浴槽２の一部は仕切り壁９によって仕切られた、温泉水回収槽８となっている。温泉水回収槽８の底には排水口２６が設けられており、温泉水回収槽８の温泉水は一定の流量で後述する調整槽３に循環パイプ１１を介して流出してゆく。仕切り壁９は入浴者の足などが排水口２６に吸い込まれたりしないように設けてある安全壁であって、温泉水の自由な移動を妨げるものではない。即ち、仕切り壁は網状でもよい。排水口２６には循環パイプ１１が接続されている。循環パイプ１１は排水口２６から流出した温泉水を調整槽３に輸送するものであるが、温泉水の輸送量の調整を行なうための調整弁３０が循環パイプ１１の途中に設けてある。調整弁３０による温泉水の輸送量の調整は、調整槽３の水位が一定値以上になると、水位検知器１６が作動し、調整弁３０を閉るという、通常の手段でおこなう。調整槽３は温泉水を一時的に蓄える槽である。調整槽３には排水パイプ１２および循環パイプ１３が接続されている。排水パイプ１２は調整槽３の清掃をおこなうなど、保守作業時に調整槽３の排水をするパイプであって、途中に弁３１が設置されており、この弁３１を開閉し、排水を行なう。循環パイプ１３は前記調整槽３から集毛器４に温泉水を輸送するためのパイプである。集毛器４は温泉水に混入した毛髪や大きなゴミなど、次に説明する循環ポンプの故障原因になる異物を除去するための装置である。集毛器４を通過した温泉水は循環ポンプ５に輸送され、該ポンプ５で必要な水圧を得て、濾過槽６に輸送される。濾過槽６は集毛器４で除去し切れない温泉水に混入したより小さなゴミを除去する。濾過槽６を通過した温泉水は熱交換器７に輸送される。熱交換器７は温泉水を加熱するものであり、循環過程で低下した循環する温泉水の水温を所望の温度にまで高める。熱交換器７を通過した温泉水は循環パイプ１４を経由して殺菌槽１の入水口２１から貯水タンク２０に送られ、後述する手段により殺菌処理がなされ、出水口２２より浴槽２に戻される。以上説明した経路で温泉水は温泉水循環システムを一巡する。
【００１２】
次に殺菌槽１の温泉水の殺菌について説明するが、最初に殺菌槽の構造を説明し、その後、温泉水殺菌の手順を説明する。
【００１３】
前記殺菌槽１は図１に示すように、貯水タンク２０と上蓋２３と紫外線ランプ２４とからなる。貯水タンク２０の底面には入水口２１が設けられ、貯水タンク２０の側壁上部には出水口２２が設けられている。なお、出水口２２は浴槽２への注水口を兼用する。貯水タンク２０は上蓋２２が取り付けられている。上蓋２２には紫外線ランプ２４が取り付けられている。紫外線ランプ２４は図１に示すように紫外線発光部のみが貯水タンク２０に露出して設置され、電極２５は貯水タンク２０の外に設置する。上蓋２２と紫外線ランプ２４との接続部には漏水防止処理を施し、前記電気設備の絶縁を担保する。電極２５には図示しないソケットをはめ、紫外線ランプ２４を点灯する。
【００１４】
貯水タンク２０および上蓋２２は耐酸性および耐アルカリ性に優れているステンレス３１６Ｌの薄板を使用した。貯水タンク２０の内壁および上蓋２２の底面、即ち紫外線ランプ２４の発する紫外線光が直接照射される面は、６００番程度の研磨材を使用し回転バフによりその表面を研磨し、鏡面仕上げを施した。
【００１５】
殺菌槽１に輸送されてきた温泉水は以下に説明する手順で殺菌される。まず、循環パイプ１４より輸送されてきた温泉水は、入水口２１を通り、まず、貯水タンク２０の底に留まろうとする。しかしながら、入水口２１には続けて温泉水が輸送されてくるので、先の温泉水は貯水タンク２０内を上へ押し上げられてゆく。そして、出水口２２の高さに達すると、出水口２２から浴槽２に流れだす。一方、貯水タンク２０内に露出して設置された紫外線ランプ２４は点灯しており、常に紫外線光を放っている。入水口２１から流入した温泉水に雑菌が混入していても、貯水タンク２０内を底から出水口２２に移動してゆく間、紫外線ランプ２４から放射される殺菌作用をもった紫外線光に晒されるので、死滅する。
【００１６】
以上説明したように、温泉水は貯水タンク２０内では常に紫外線に晒されており、その状態は、温泉水が出水口２２から放出されるまで維持されている。言い換えれば出水口２２まで温泉水の紫外線による殺菌処理は続けられている。放出された温泉水はパイプなどを経ず直接浴槽２へ注ぎこまれる。従って殺菌槽１から浴槽２までの間に雑菌が繁殖する余地がない。
【００１７】
また、貯水タンク２０の内壁および上蓋２２の底面は鏡面仕上げが施されているので、紫外線ランプ２４が発する紫外線光は、貯水タンク２０の内壁および上蓋２２の底面に到達すると、そこで反射し、再び該貯水タンク内の温泉水に照射され、温泉水に殺菌作用を及ぼす。即ち紫外線ランプ２４からの直接光と貯水タンク２０の内壁および上蓋２２の底面で反射した反射光の両者が温泉水に殺菌作用を及ぼすことになるので、結果として紫外線ランプの殺菌効率が高くなる。
【００１８】
温泉水には酸性を示すものもあればアルカリ性を示すものもある。いずれの化学特性を持つ温泉水に対してもステンレス３１６Ｌは腐食等の化学反応を起こさず安定であるため、貯水タンク２０の内壁および上蓋２２の底面にほどこした鏡面処理状態が長期間にわたって安定に維持できる。
【００１９】
紫外線照射によって得られる殺菌効果は、単位時間当たり循環させる温泉水の水量や泉質や紫外線透過率等により異なる。本発明の殺菌槽においては、紫外線ランプのソケットや安定器など電気系部品は上蓋部に集中して設置する。従って、殺菌槽の他の部分はそのままにしておき、上蓋部に簡単な設計変更を施すだけで、紫外線ランプの本数を増減できる。即ち、使用条件に対応させて、臨機応変に紫外線ランプの本数の変更ができる。
【００２０】
上記説明した実施例１の殺菌槽１の温泉水に対する殺菌効果を測定した。殺菌槽１で使用した紫外線ランプは松下電器産業株式会社が製造するGL13/Qであって、この紫外線ランプを６本設置した。測定に使用した温泉水はpH8.9であった。使用水量は略１２トンであり、この温泉水を上記の温泉水循環システムで循環させた。比較のため、紫外線ランプを点灯せず、温泉水循環システムで４８時間循環させた後、温泉水を出水口２２で採集し、レジオネラ菌の量を測定したところ6064CFU/100ml（CFUはColony Forming Unit、即ちコロニー形成単位のこと。厚生労働省の基準はレジオネラ菌は10CFU/100ml以下。）であった。このレジオネラ菌が繁殖した状態にある温泉水をそのまま使用して、今度は殺菌槽１の紫外線ランプ６本を点灯して温泉水循環システムで８時間循環させた後、温泉水を出水口２２で採集し、レジオネラ菌の量を測定したところ0CFU/100mlとなり全く検出されなかった。
【００２１】
次に、本発明の実施例２について説明する。浴用温水浄化装置を含む温水循環システムは実施例１と同一である。本実施例では、反射板に老廃物等が付着し紫外線の反射率が低下した場合、反射板の表面を払拭洗浄する手間をかけず、反射板を交換するという手段を用いる。従って殺菌槽は必ずしもステンレス材で形成する必要はない。取替え交換する反射板にはアクリル樹脂等の合成樹脂材の薄板を使用する。紫外線反射効果を高めるために、例えばアクリル樹脂薄板に白色塗装を施すようにしてもよいし、アルミニウム箔をアクリル樹脂フィルムでラミネートしてもよい。また、例えば無電解ニッケルメッキをアクリル樹脂板に施したものを反射板として使用してもよい。
【００２２】
以上、実施例１および実施例２において、紫外線反射板は鏡面として説明を行った。しかしながら、本発明は、紫外線の殺菌効率を高めるために、紫外線ランプから直接照射される紫外線のみならず、殺菌槽内壁面で反射した紫外線を再び温泉水に照射させるという技術思想なので、必ずしも鏡面である必要はない。反射板で紫外線が乱反射してもよい。反射板における紫外線の吸収率が低くおさえられれば良いのである。従って、アルミニウム箔は必ずしも滑らかな平面を有している必要はない。また、ラミネートするアクリル樹脂フィルムの表面も、必ずしも滑らかな平面である必要はない。同様の理由により、アクリル樹脂薄板も滑らかな平面でなくとも良い。
【００２３】
実施例２で説明した取替え交換するアクリル樹脂板は、殺菌槽内の温水圧によって常時殺菌槽内壁に向かって押し付けられる方向の力を受ける。従って、特別な装着手段は使用せず、温水圧を利用して、アクリル樹脂板を殺菌槽内壁に張り付ける。このため、取り付け取り外し作業は簡単になるという副次的な効果がある。
【００２４】
なお、給水口２１から貯水タンク２０に流入した温泉水は、紫外線光に晒される時間が均等になるように貯水タンク２０内をくまなく循環させた後に出水口２２から浴槽２に注がれるようにするために、図３に示すごとく着脱自在の仕切り板２７を殺菌槽内に設置してもよい。好ましくは、紫外線を反射するように鏡面仕上げのステンレス３１６Ｌの薄板で仕切り板を形成する。当然、給水口２１から流入した温泉水が貯水タンク２０内をくまなく循環した後に出水口２２に到達する位置にくるように出水口２２を設ける。また、仕切り板２７によって仕切られた貯水タンク２０内の温泉水にくまなく紫外線を照射するため、区切られた部分ごとに紫外線ランプ２４を設置している。
【００２５】
また、図４に示すごとく補助殺菌槽１７を熱交換器７と殺菌槽１との間に設けてもよい。補助殺菌槽１７は、殺菌槽１と同様の構成を有している。従って、補助殺菌槽１７においても、温泉水に紫外線を照射し、殺菌処理を行なう。本構成を採用すれば、より強力な殺菌処理ができる。
【産業上の利用可能性】
【００２６】
本発明の浴用温水浄化装置は、循環利用する浴用水の雑菌等による汚染を防止機する能を提供するものであり、循環式浴槽設備すべてに適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第一の殺菌槽の斜視図である。
【図２】本発明の第一の温水循環システム図である。
【図３】本発明の第二の殺菌槽の斜視図である。
【図４】本発明の第二の温水循環システム図である。
【符号の説明】
【００２８】
１      殺菌槽
２      浴槽
３      調整槽
４      集毛器
５      循環ポンプ
６      濾過槽
７      熱交換器
８      温泉水回収槽
９      仕切り壁
１７    補助殺菌槽
２０    貯水タンク
２１    給水口
２２    出水口  
２３    上蓋
２４    紫外線ランプ
２５    電極
２７    仕切り板  
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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