(57)【要約】【課題】  遮光層からなるストライプの繋ぎ部に起因する液晶表示装置での局部的なムラやスジが発生しない形態のカラーフィルタ基板を提供する。更に具体的には、ステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた露光法にて露光を行い、遮光層からなるストライプをフォトリソ法により形成した場合にも、露光の繋ぎ部に起因する液晶表示装置での局部的なムラやスジが発生しない形態のカラーフィルタ基板を提供する。【解決手段】  表示領域の横方向に連続した開口部と、同じく横方向に連続した遮光層からなるストライプとが、表示領域の縦方向に繰返し配列され、各遮光層からなるスライプは、所定の線幅の第1 のラインと、第１のラインと同じ線幅を有し第1 のラインよりずれて配置された第２のラインと、第1 のラインと第2 のラインとをつなぐ繋ぎ部とを備えたもので、各遮光層からなるストライプの繋ぎ部は、ストライプの方向と直交する方向に揃えて配されている。【選択図】  図１
2005099232.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示装置用の基板であって、表示領域の横方向に連続した開口部と、同じく横方向に連続した遮光層からなるストライプとが、表示領域の縦方向に繰返し配列され、各遮光層からなるスライプは、所定の線幅の第1 のラインと、第１のラインと同じ線幅を有し第1 のラインよりずれて配置された第２のラインと、第1 のラインと第2 のラインとをつなぐ繋ぎ部とを備えたもので、各遮光層からなるストライプの繋ぎ部は、ストライプの方向と直交する方向に揃えて配されていることを特徴とする液晶表示装置用基板。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置用基板であって、表示領域の縦方向に並ぶように開口部に各着色層を配し、且つ、横方向のみに遮光層からなる帯状のストライプを画素の境部に設けて、縦方向に各色の画素を配列させているカラーフィルタ形成基板であることを特徴とする液晶表示装置用基板。
【請求項３】
請求項２に記載の液晶表示装置用基板であって、横電界方式のもので、着色層は、隣合う遮光層からなるストライプ間に１ヶ所以上の屈曲部を有し、該着色層上に柱状スペーサを有することを特徴とする液晶表示装置用基板。
【請求項４】
請求項１〜３に記載の液晶表示装置用基板であって、遮光層からなるストライプのパターニングはフォトリソ法により行なわれたもので、該パターニングのための露光は、ステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた露光法にて、ストライプの方向と直交する方向、所定幅だけ、ストライプの線方向にオーバラップさせて露光したものであることを特徴とする液晶表示装置用基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透過型の液晶表示装置用のカラーフィルタ基板に関し、特に、遮光層からなるストライプを画素の境部に設けたカラーフィルタ基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶用表示装置やプラズマディスプレイ装置の実用化は盛んで、ますます、その量産化が要求されており、大型化の要求も強い。
【０００３】
これに伴い、液晶用表示装置用のカラーフィルタを形成したガラス基板からなる液晶表示パネルおよびプラズマディスプレイ装置用の表示パネル等に用いられるガラス基板からなる表示パネルの作製も、大サイズ化したガラス基板での量産化対応が必要となってきた。
【０００４】
大サイズ化したガラス基板へのフォトリソ法によるパターニングは、量産性や品質面（歩留り面）から投影露光が前提となるが、以下のような制約や問題がある。
【０００５】
（１）原版（マスク）から直接、等倍で、転写露光して大サイズのガラス基板へパターニングを行う場合には、大サイズの原版用のガラス基板が必要となるが、このガラス基板としてはＱＺ（石英ガラス）のような高価な低膨張ガラス基板であることが必要で、且つ、フラットネス（平坦性）が良いことが要求され、大サイズ化に伴いガラス基板の製造自体に時間や費用が大幅にかかるようになるため、従来は生産の対象とはならずガラス基板の入手自体が難しかった。
【０００６】
（２）また、大サイズの原版の作製を精度良く短時間で作製することは基本的に困難である。
【０００７】
精度良く描画するには、温度、位置精度を精度良く管理できる大サイズ描画用のＥＢ（電子ビーム）描画機等等の高価な描画装置が必要で、且つ、大サイズ描画であるため描画時間がかかり、パターン描画のコストアップにもつながってしまう。
【０００８】
（３）そして、投影露光による転写では原版は、その周囲を保持して固定されるため、原版が大サイズになるにしたがい自重による原版自身のベンド（たわみ）量が増大し、サイズが大き過ぎると適性な転写画像を得ることが難しくなる。
【０００９】
そして、原版のサイズが大型化するにしたがい原版と露光される基板（ガラス基板）とのギヤップを原版全面で使用できる範囲で保持することが難しくなり、原版の大サイズ化にも限界がある。
【００１０】
（４）レンズ投影ステッパー及びミラープロジエクションステッパーを用いて大サイズのガラス基板へパターニングを行う場合には、スループットが低くなり、且つ、装置が高価となってしまうという問題がある。
【００１１】
このため、従来は、例えば、ステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた、特開平９−１２７７０２号公報に記載される、図６に示すような露光装置を用い、近接露光（プロキシミティ露光とも言う）により、相対的に原版とパターニングされる大サイズのガラス基板との位置を移動させ、原版の絵柄をずらして露光、即ちステップ露光して、パターニングを行なっていた。
【特許文献１】特開平９−１２７７０２号公報  この方法は、原版と大サイズのガラス基板とを、それぞれの面が水平方向になるようにし、所定のギャップを保った状態で、原版の背面から平行光を当てる露光方法であるが、原版のサイズは、そのたわみ（ベントとも言う）の影響を考慮したものである。
【００１２】
尚、図６において、図６（ａ）は露光装置の断面図で、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＢ１−Ｂ２から見た上面図の概略図であり、図７は光源部の概略構成図である。
【００１３】
図６、図７中、６００は露光装置、６１０はステージ、６１１はＸ駆動部、６１２はＹ駆動部、６１３はＺ駆動部、６１４はθ駆動部、６１５は基板保持部、６１５Ａは３点アオリ調整部、６１５Ｂは基板リフトアップ部、６１６はマスク保持部、６１６Ａはマスクの落下防止、６２０はガラス基板供給ロボット、６２０Ａはハンド部、６２１はガラス基板排用ロボット、６２１Ａはハンド部、６３０はガラス基板（ワーク）、６４０はマスク（原版）、６５０は光源部、６５０Ａは光源、６７０はギヤップセンサー、６８０はスコープ、６９０はエッジセンサー、ｍ１、ｍ２、ｍ３は反射鏡、ｓはシヤッター、ｌはフライアイレンズである。
【００１４】
尚、全体を分かり易くするため、図６（ａ）、図６（ｂ）においては光学系を簡略ないし省略して示している。
【００１５】
また、図６に示す露光装置は、水平方向面上において、Ｙ方向に平行にその開口境界を設け、それぞれ、独立してＸ方向移動できる１対のＸ方向移動マスキングアパーチャ（遮光板とも言う、図９の７５１、７５２に相当）を備えたシャッターである。（図９（ａ）参照）
更に詳しくは、図６に示す装置は、ガラス基板６３０を、感光材面を上にして保持して、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸方向及びθ方向に微動制御でき、且つ、少なくともＸ、Ｙ方向の１方向に所定の距離だけステップ移動できるステージと、ガラス基板６３０上側にマスク（原版）６４０をマスク面を下にして保持するマスク保持部６１６と、マスク（原版）６４０の裏面かガラス基板６３０側へ露光光を照射するための光源部６５０（詳細は図６に示す）とを有し、マスク（原版）６３０の絵柄を等倍にて、露光する位置をずらして複数回、露光転写するための露光装置であり、ステージ６１０上のガラス基板６３０と、マスク（原版）６４０との位置合せを自動で行う自動アライメント機構と、原版の絵柄領域を遮蔽することにより露光領域を制御する露光領域制御機構と、該基板と原版とのギヤップを制御するギヤップ制御機構とを備えている。
【００１６】
そして、ガラス基板６３０とマスク（原版）６４０とを近接させ、間隔を所定のギヤップに保ちながら露光を行う近接露光にて、ガラス基板６３０を所定のピッチでステップ移動させ、複数の位置にてマスク（原版）６４０を介してガラス基板６３０への露光を行い、マスク原版６４０の絵柄をガラス基板６３０に転写露光するものである。
【００１７】
尚、マスク（原版）６４０は、転写に際してのたわみが許容範囲内となるサイズである。
【００１８】
あるいは、特開平０９−１４１８０４号公報に記載されるような、マスク原版の自重によるたわみを考慮し、上記図６に示す露光装置を、マスク原版やガラス基板の面が鉛直方向に沿うように回転して配した露光装置が用いられるようになってきた。
【特許文献２】特開平０９−１４１８０４号公報  この場合の光源部の概略構成は図８のようになる  実用レベルでは、先の図６に示す露光装置が用いられているのが実際である。
【００１９】
原版マスクからガラス基板へのステップ露光方法について、ここで、１例を、図９に基づいて簡単に説明しておく。
【００２０】
先ず、第１の位置にて、ガラス基板７３０とマスク７４０とを前述のアライメント機構とギヤップ制御機構により制御して、位置合せし、ギヤップ調整を完了した後、光源部のシヤッター（図示していない）を開放し、所定の時間だけ光源部からの光を採り入れ、マスク７４０の絵柄全領域（単位の絵柄領域７１０、８個分）を露光する第１の露光を行う。
【００２１】
第１の露光によるガラス基板７３０での潜像は図９（ｂ）（イ）のようになる。
【００２２】
図９（ａ）（イ）のマスク７４０の全絵柄７４０Ａがガラス基板側に転写される。
【００２３】
次いで、所定のピッチだけＸ方向にステージ１１０をズラシた第２の位置にて、再度で、位置合せし、ギヤップ調整を完了した後、図９（ａ）（イ）に示す絵柄７４０Ａの所定の領域のみを、マスキングアパーチャ７５１、７５２にて遮蔽した図９（ａ）（ロ）の状態で、所定の時間だけ光学系からの光を採り入れ、マスク７４０の絵柄７４０Ａの一部領域（単位の絵柄領域７１０、４個分）を露光する第２の露光を行う。
【００２４】
第２の露光によるガラス基板７３０での潜像は図９（ｂ）（ロ）のようになる。
【００２５】
結局、第１の露光と第２の露光とによる潜像の併せて図９（ｂ）（ハ）のようになり、目的とする図９（ｃ）に示す絵柄７４０Ｂを得ることができる。
【００２６】
尚、７１０ａは、単位の絵柄領域７１０を現像したものである。
【００２７】
このように、ステージをステップ移動しながら、各位置で露光を行い、合せて目的とする潜像を得る露光方式をステップ露光方式と言う。
【００２８】
表示パネルの大サイズ化が進む中、透過型の液晶表示装置においては、ますます、その画像品質の向上も求められており、局部的なムラやスジについても、その許容範囲がますます厳しく求められてきており、これに伴ない、透過型の液晶表示装置用の大サイズのカラーフィルタ基板へのフォトリソ法による、格子状のブラックマトリクスあるいは線状のブラックストライプからなる画素の境界部や、各着色層のパターニングにおいても、品質向上が求められている。
【００２９】
そして、最近では、局部的なムラやスジについては、画素の境界部の影響も無視できないことが分かってきた。
【００３０】
勿論、ここでの大サイズのカラーフィルタ基板へのフォトリソ法によるパターニングの露光は、図６に示すような装置を用いステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた露光法にて露光を行う。
【００３１】
尚、液晶表示装置としては、視認性が良く、カラー表示、動画表示に向いていることより、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）をアクティブ素子として各画素単位に配置し、これにより、各画素領域の液晶に独立に電圧を加え画素に明暗をつけ、画像や文字情報を表示する透過型のアクティブマトリックス方式（ＴＦＴ駆動方式とも言う）とよばれる駆動方式のものが多々使用されており、通常、図４に示すような断面構造で、そのカラーフィルタ基板は、例えば、図５のような断面構造をしている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００３２】
上記のように、液晶表示装置用のカラーフィルター形成側のガラス基板側へのブラックマトリクスのフォトリソ法による形成のための露光を、図６に示すような装置を用いステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた露光法にて露光を行う場合においても、最近では、局部的なムラやスジに影響のないものが求められている。
【００３３】
このようなステップ露光方式でパタンを繋いで形成された遮光パタンは、繋ぎ部に起因するムラやスジが発生する。
【００３４】
この現象は、横電界方式の液晶表示装置において特に問題となっている。
【００３５】
本発明は、これに対応するもので、遮光層からなるストライプの繋ぎ部に起因する液晶表示装置での局部的なムラやスジが発生しない形態のカラーフィルタ基板を提供しようとするもので、更に具体的には、ステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた露光法にて露光を行い、遮光層からなるストライプをフォトリソ法により形成した場合にも、露光の繋ぎ部に起因する液晶表示装置での局部的なムラやスジが発生しない形態のカラーフィルタ基板を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００３６】
本発明の液晶表示装置用基板は、液晶表示装置用の基板であって、表示領域の横方向に連続した開口部と、同じく横方向に連続した遮光層からなるストライプとが、表示領域の縦方向に繰返し配列され、各遮光層からなるスライプは、所定の線幅の第1 のラインと、第１のラインと同じ線幅を有し第1 のラインよりずれて配置された第２のラインと、第1 のラインと第2 のラインとをつなぐ繋ぎ部とを備えたもので、各遮光層からなるストライプの繋ぎ部は、ストライプの方向と直交する方向に揃えて配されていることを特徴とするものである。
【００３７】
そして上記の液晶表示装置用基板であって、表示領域の縦方向に並ぶように開口部に各着色層を配し、且つ、横方向のみに遮光層からなる帯状のストライプを画素の境部に設けて、縦方向に各色の画素を配列させているカラーフィルタ形成基板であることを特徴とするものであり、横電界方式のもので、着色層は、隣合う遮光層からなるストライプ間に１ヶ所以上の屈曲部を有し、該着色層上に柱状スペーサを有することを特徴とするものである。
また、上記のいずれかに記載の液晶表示装置用基板であって、遮光層からなるストライプのパターニングはフォトリソ法により行なわれたもので、該パターニングのための露光は、ステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた露光法にて、ストライプの方向と直交する方向、所定幅だけ、ストライプの線方向にオーバラップさせて露光したものであることを特徴とするものである。
【００３８】
尚、ここで、表示領域の縦方向とは、表示領域の横方向に直交する方向のことである。      
【００３９】
（作用）
本発明の液晶表示装置用基板は、このような構成にすることにより、は、ストライプの繋ぎ部に起因する液晶表示装置での局部的なムラやスジが発生しない形態のカラーフィルタ基板の提供を可能としている。
【００４０】
具体的には、遮光層からなるストライプのパターニングはフォトリソ法により行なわれたもので、該パターニングのための露光は、ステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた露光法にて、ストライプの方向と直交する方向、所定幅だけ、ストライプの線方向にオーバラップさせて露光したものである場合に、露光のつなぎ部に起因する液晶表示装置での局部的なムラやスジが発生しない液晶表示装置用のカラーフィルタ基板の提供を可能としている。
【発明の効果】
【００４１】
本発明は、上記のように、遮光層からなるストライプの繋ぎ部に起因する液晶表示装置での局部的なムラやスジが発生しない形態のカラーフィルタ基板の提供を可能とした。
【００４２】
更に具体的には、ステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた露光法にて露光を行い、遮光層からなるストライプをフォトリソ法により形成した場合にも、露光の繋ぎ部に起因する液晶表示装置での局部的なムラやスジが発生しない形態のカラーフィルタ基板の提供を可能とした。
【００４３】
特に、遮光層からなるストライプと、隣合うストライプ間に１ヶ所以上の屈曲部を有する着色層と、この着色層上に柱状スペーサを有する構成は、遮光パタンの繋ぎ部に起因するムラやスジが発生せず、視野角依存性が少なく、さらにギャップムラが発生しない横電界方式の液晶表示装置に好適なカラーフィルタ基板の提供を可能とした。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
本発明の実施の形態例を図に基づいて説明する。
【００４５】
図１（ａ）は本発明の液晶表示装置用基板の概略全体図で、図１（ｂ）は画素部の一部（繋ぎ部のない領域）を示した図で、図１（ｃ）はストライプの繋ぎ部における状態を示した図で、図２は本発明の液晶表示装置用基板のストライプのパターニング方法の実施の形態の１例を説明するための図で、図２（ａ１）は第１の露光における原版の露光領域を示し、図２（ａ２）は第１の露光による潜像形成状態を示し、図２（ｂ１）は第２の露光における原版の露光領域領域を示し、図２（ｂ２）は第２の露光による潜像形成状態を示し、図２（ｃ）は図２（ｂ２）の第１の露光と第２の露光の境界部を含む領域Ａ１の一部拡大図であり、図３は第１の比較例のストライプのパターニングにおける露光状態（潜像状態）を示した図である。  図１、図２、図３において、１０は液晶表示装置用基板（カラーフィルタ基板）、１１は基板、１５は表示領域（画素領域とも言う）、２０はストライプ、２５は繋ぎ部、３０は画素、３１はＲ着色画素部、３２はＧ着色画素部、３３はＢ着色画素部、４０は着色層、４１はＲ着色層、４２はＧ着色層、４３はＢ着色層、１１０は原版、１１１はパターン部、１１２は遮光部、１２０は（カラーフィルタ基板用の）基板、１２１は第１の露光による潜像、１２１Ａは（第１の露光による）ストライプパターン潜像、１２２は第２の露光による潜像、１２２Ａは（第２の露光による）ストライプパターン潜像、１２５は（第の露光領域と第２の露光領域との）境界部、１３１、１３２はマスキングアパーチャ、２２１は（第１の露光による）ストライプパターン潜像、２２２は（第２の露光による）ストライプパターン潜像、α１、α２はパターンずれである。
【００４６】
本発明の液晶表示装置用基板の実施の形態の１例を図１に基づいて説明する。
【００４７】
本例の液晶表示装置用基板１０は、透過型の液晶表示装置用のカラーフィルタ基板で、表示領域１５の縦方向（図１（ａ）の表示領域短辺方向）にＲ着色層４１、Ｇ着色層４２、Ｂ着色層４３をそれぞれ帯状に配し、且つ、それら着色層に直交する横方向のみに遮光層からなる帯状のストライプ２０を画素３０の境部に設けて、図１（ｂ）に示すように、前記縦方向に長い形状の画素を配列させているもので、ストライプ２０の方向と直交する縦方向に揃えて、各ストライプ２０は、所定幅Ｌで、その線方向にオーバラップする繋ぎ部２５（図１（ｃ）に示す）を、設けているものである。
【００４８】
本例の液晶表示装置用基板１０は、遮光層からなるストライプ２０のパターニングはフォトリソ法により行なわれたもので、そのパターニングのための露光は、ステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた露光法にて、ストライプの方向と直交する方向、所定幅だけ、ストライプ２０の線方向にオーバラップさせて露光したものである。
【００４９】
このような露光方法にて、オーバーラップして露光され、パターニングされたもので、繋ぎ部においては、露光ずれが発生し、現像処理あるいは現像処理とエッチング処理を経て、図１（ｃ）に示すように、所定幅Ｌの部分だけ他の箇所よりも、ストライプが太くなる。
【００５０】
尚、基板としては、通常、ガラス基板が用いられるが、透過率、熱膨張率等の特性や処理性や耐性が良いものであればこれに限定はされない。
【００５１】
遮光層からなるストライプ２０としては、通常、クロムや酸化クロム、窒化クロム、酸化窒化クロムやこれらを積層した金属層をフォトリソ法にて、パターンニングし、更にエッチングして形成、あるいは、黒色感光材を塗布しこれをフォトリソ法にてパターン形成する。
【００５２】
Ｒ着色層４１、Ｇ着色層４２、Ｂ着色層４３は、染色形成、顔料分散感光材を製版形成、印刷形成、電着形成等により形成され、特に限定はされない。
【００５３】
本例の液晶表示装置用基板１０は、横電界方式の液晶表示装置用カラーフィルタ基板として好適に用いられる。
【００５４】
横電界方式の液晶表示装置用カラーフィルタ基板においては、遮光層からなるストライプの材料としては、黒色顔料として酸化チタンを含むネガ型感光性樹脂が、繋ぎ部のパタンのずれが目立ちにくいため好ましい。
【００５５】
この方式の場合、遮光層からなる隣合うストライプ間に１ヶ所以上の屈曲部を有する着色層は、アクティブ素子側基板の電極の屈曲角度とほぼ同一の角度が好ましい。
【００５６】
また、柱状スペーサは、開口部上にあってもよいが、遮光層からなるストライプ上に形成するのが好ましい。
【００５７】
また着色層上に平坦化保護層を設け、その上に柱状スペーサを形成することが、さらに好ましい。
【００５８】
尚、柱状スペーサは、液晶を封止する際の、および封止以降のギャップを制御するためのものである。
【００５９】
縦方向に同一色の着色層を配列する方法としては、３色すべて帯状、３色すべて独立したパタン、以上いずれの配列をとることもできる。
【００６０】
本例の液晶表示装置用基板１０のストライプのパターニングにおける露光方法を図２に基づいて説明する。
【００６１】
フォトリソ法により、ストライプ形成のためのパターンニングを行うもので、露光方法は、ステップ露光方式で、且つ、近接露光（プロキシミティ露光）方式を採り入れた露光法にて、図６に示す露光装置を用いて行うものである。
【００６２】
そして、基板１２０に形成する所望のパターン領域よりも小さい、パターン領域１１１を有する原版１１０を用いて、基板１２０に所望のパターンを形成するもので、先ず原版のパターン領域全体を露光する第１の露光を行い、次いで、図６に示すステージ６１０を移動し、且つ、原版１１０を第１の露光の位置と同じ位置に固定したまま、その露光範囲をマスキングアパーチャ１３１、１３２により制限して、一部露光領域をオーバーラップさせて、所定の露光領域に第２の露光を行うものである。
【００６３】
この際、繋ぎ部となる領域をオーバーラップさせる露光は、ストライプの線方向を、所定幅ＯＬ１だけオーバーラップさせるもので、図２（ｂ２）に示すＡ１部は図２（ｃ）のようになる。
【００６４】
この場合、ストライプパターン潜像１２１Ａとストライプパターン潜像１２２Ａとのずれ量がα１とすると、現像処理あるいは現像処理とエッチング処理を経てストライプを形成した場合、このオーバーラップ領域における透過光の減少率は、ストライプパターンの線幅、ピッチを、それぞれＷ１、Ｐ１とすれば、α１／（Ｐ１ーＷ１）となる。
【００６５】
一方、第１の比較例として、透過型の液晶表示装置用のカラーフィルタ基板で、表示領域１５の縦方向（図１（ａ）の表示領域１５短方向）にＲ着色層４１、Ｇ着色層４２、Ｂ着色層４３をそれぞれ帯状に配し、且つ、それら着色層に沿う方向直のみ、画素の境界に、遮光層からなる帯状のストライプを設けたものも挙げられる。
【００６６】
この場合も、図１に示す実施例と同じように、パターニングが行なわれるとし、ストライプパターンの線方向に直交する方向に所定幅ＯＬ２だけオーバーラップさせる露光を行うと、潜像の重なりは図３に示すようになり、第１の露光によるストライプパターン潜像２２１と第２の露光によるストライプパターン潜像２２２とのずれ量がα２とすると、現像処理あるいは現像処理とエッチング処理を経てストライプを形成した場合、このオーバーラップ領域における透過光の減少率は、ストライプパターンの線幅、ピッチをＷ２、Ｐ２とすれば、α２／（Ｐ２ーＷ２）となる。
【００６７】
ここで、Ｗ１＝Ｗ２、Ｐ１＝Ｐ２、α１＝α２とすれば、透過率の減少の面では、本例と図３に示す潜像を得る比較例の露光方法とは差はないが、潜像が形成された後、現像処理、あるいは現像処理とエッチング処理を更に行い、パターン形成されたストライプ形成基板や、更に着色層を形成されたカラーフィルタ基板について、ライトテーブルを用いて透過光にて視覚検査を行なって場合、ムラ、スジは、本例のカラーフィルタ基板の方が、第１の比較例のものに比べ格段に良好である。
【００６８】
視覚検査は、ストライプの方向は液晶表示装置の上下方向で、画素の長手方向方向を人が見る上下方向として検査を行うもので、人の視覚の特性からこのような結果が得られると思われる。
【００６９】
カラーフィルタ基板の画素の境界形態の別の例としては、透過型の液晶表示装置用のカラーフィルタ基板の、各着色層の境界に位置する格子状に遮光層からなるブラックマトリクスを備えたものが第２の比較例として挙げられる。
【００７０】
これは、実施の形態例のストライプと第１の比較例のストライプとを合せ設け、画素の境界部に格子状にした形態のものである。
【００７１】
第２の比較例についても、先に述べたライトテーブルを用いた視覚検査方法で、第１の比較例の場合と同様、実施の形態例のものに比べ、ムラ、スジの面で劣るという結果が得られた。
【００７２】
尚、原版マスクとしては、所定のサイズの乾板やクロム等の遮光膜、感光剤をこの順に配設したガラス基板基板等に、データを用いて露光を行う露光装置にて露光描画し、現像され、ないし、現像、エッチングされ、パターニングされたものもの（オリジナルとも言う）、あるいは、該オリジナルから別の乾板やクロム等の遮光膜、感光剤をこの順に配設したガラス基板基板に密着露光により転写する工程を１回以上用いて、パターニング形成されたものもの（コピーとも言う）を用いる。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】図１（ａ）は本発明の液晶表示装置用基板の概略全体図で、図１（ｂ）は画素部の一部（繋ぎ部のない領域）を示した図で、図１（ｃ）はストライプの繋ぎ部における状態を示した図である。
【図２】図２は本発明の液晶表示装置用基板のストライプのパターニング方法の実施の形態の１例を説明するための図で、図２（ａ１）は第１の露光における原版の露光領域を示し、図２（ａ２）は第１の露光による潜像形成状態を示し、図２（ｂ１）は第２の露光における原版の露光領域領域を示し、図２（ｂ２）は第２の露光による潜像形成状態を示し、図２（ｃ）は図２（ｂ２）の第１の露光と第２の露光の境界部を含む領域Ａ１の一部拡大図である。
【図３】第１の比較例のストライプのパターニングにおける露光状態（潜像状態）を示した図である。
【図４】透過型のアクティブマトリックス方式（ＴＦＴ駆動方式とも言う）とよばれる駆動方式の液晶表示装置の断面構造を示した断面図である。。
【図５】図４に示す液晶表示装置におけるカラーフィルタ基板の断面構造の１例を示した断面図である。
【図６】図６（ａ）は露光装置の断面図で、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＢ１−Ｂ２から見た上面図の概略図である。
【図７】光源部の概略構成図である。
【図８】光源部の概略構成図である。
【図９】原版マスクからガラス基板への露光方法について説明するための図である。
【符号の説明】
【００７４】
１０                液晶表示装置用基板（カラーフィルタ基板）
１１                基板
１５                表示領域（画素領域とも言う）
２０                ストライプ
２５                繋ぎ部
３０                画素
３１                Ｒ着色画素部
３２                Ｇ着色画素部
３３                Ｂ着色画素部
４０                着色層
４１                Ｒ着色層
４２                Ｇ着色層
４３                Ｂ着色層
１１０              原版
１１１              パターン部
１１２              遮光部
１２０            （カラーフィルタ基板用の）基板
１２１              第１の露光により潜像
１２１Ａ          （第１の露光による）ストライプパターン潜像
１２２              第２の露光による潜像
１２２Ａ          （第２の露光による）ストライプパターン潜像
１２５            （第の露光領域と第２の露光領域との）境界部
１３１、１３２      マスキングアパーチャ
２２１            （第１の露光による）ストライプパターン潜像
２２２            （第２の露光による）ストライプパターン潜像
α１、α２          パターンずれ
【図１】
2005099232.tif 000003
【図２】
2005099232.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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