(57)【要約】【課題】低照度の光源でも環境湿度に影響を受けずにインク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られるオキセタン化合物を用いた活性エネルギー線硬化型組成物、インクジェット用インク組成物及びこのインクジェット用インク組成物を用いた画像形成方法を提供すること。【解決手段】下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）または（Ｖ）で表されることを特徴とするオキセタン化合物。【化１】2005002166.tif 000056【化２】2005002166.tif 000057【化３】2005002166.tif 000058【化４】2005002166.tif 000059【化５】2005002166.tif 000060【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）または（Ｖ）で表されることを特徴とするオキセタン化合物。
【化１】
2005002166.tif 000045
（一般式（Ｉ）において、Ｒ１０１〜Ｒ１０４は水素原子または置換基を表す。Ｒ１０５は置換、無置換のアルコキシ基、または置換、無置換のアリールオキシ基を表し、ｍ１は０、１または２を表す。Ｒ１０６は置換基を表し、ｎ１は０〜３を表す。）
【化２】
2005002166.tif 000046
（一般式（ＩＩ）において、Ｒ２０１〜Ｒ２０４は水素原子または置換基を表す。Ｒ２０５は置換、無置換のアルコキシ基、または置換、無置換のアリールオキシ基を表し、ｍ２は０、１または２を表す。Ｒ２０６は置換基を表し、ｎ２は０〜３を表す。）
【化３】
2005002166.tif 000047
（一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ３０１〜Ｒ３０４は水素原子または置換基を表す。Ｒ３０５、Ｒ３０６は置換基を表し、ｍ３、ｎ３は０〜４を表す。）
【化４】
2005002166.tif 000048
（一般式（ＩＶ）において、Ｒ４０１〜Ｒ４０４は水素原子または置換基を表す。Ｒ４０５は置換基を表し、ｍ４は０〜４を表す。Ｌ１は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５の２価の連結基を表す。）
【化５】
2005002166.tif 000049
（一般式（Ｖ）において、Ｒ５０１〜Ｒ５０４は水素原子または置換基を表す。Ｒ５０５は置換、無置換のアルキル基を表す。Ｒ５０６は置換基を表し、ｍ５は０〜３を表す。Ｌ２は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５の２価の連結基、または酸素原子を表す。）
【請求項２】
３位に置換基を有することを特徴とする請求項１に記載のオキセタン化合物。
【請求項３】
３位が２つの置換、無置換のアルキル基で置換されていることを特徴とする請求項２に記載のオキセタン化合物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のオキセタン化合物を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化組成物。
【請求項５】
活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする請求項４に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
【請求項６】
活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物がオニウム塩化合物であることを特徴とする請求項５に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
【請求項７】
オニウム塩化合物がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする請求項６に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
【請求項８】
スルホニウム塩化合物が下記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）または（Ｉ−３）で表されることを特徴とする請求項７に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
【化６】
2005002166.tif 000050
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は置換基を表し、ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表す。Ｘ１１−は対イオンを表す。）
【化７】
2005002166.tif 000051
（式中、Ｒ１４は置換基を表し、ｑは０〜２の整数を表す。Ｒ１５、Ｒ１６は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ１２−は対イオンを表す。）
【化８】
2005002166.tif 000052
（式中、Ｒ１７は置換基を表し、ｒは０〜３の整数を表す。Ｒ１８は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ１９、Ｒ２０は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ１３−は対イオンを表す。）
【請求項９】
請求項４〜８のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化組成物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
【請求項１０】
２位に置換基を有さないオキセタン化合物を含有することを特徴とする請求項９に記載のインクジェット用インク組成物。
【請求項１１】
エポキシ化合物またはビニルエーテル化合物を含有することを特徴とする請求項９または１０に記載のインクジェット用インク組成物。
【請求項１２】
２位に置換基を有さないオキセタン化合物を５０〜８０質量部、エポキシ化合物を０〜５０質量部、前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表されるオキセタン化合物の少なくとも１種を１〜２０質量部含有することを特徴とする請求項１０または１１に記載のインクジェット用インク組成物。
【請求項１３】
エポキシ化合物が下記一般式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）で表される脂環式エポキシド化合物の少なくとも１種から選ばれたものであることを特徴とする請求項１１または１２に記載のインクジェット用インク組成物。
【化９】
2005002166.tif 000053
（式中、Ｒ６０１は脂肪族基を表し、ｍ６は０〜２を表す。Ｘ１は−（ＣＨ２）ｎ６−または−（Ｏ）ｎ６−を表し、ｎ６は０または１を表す。ｐ１、ｑ１はそれぞれ０または１を表す。ｒ１は１〜３を表す。Ｌ３は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基または単結合を表す。）
【化１０】
2005002166.tif 000054
（式中、Ｒ７０１は脂肪族基を表し、ｍ７は０〜２を表す。Ｘ２は−（ＣＨ２）ｎ７−または−（Ｏ）ｎ７−を表し、ｎ７は０または１を表す。ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を表す。ｒ２は１〜３を表す。Ｌ４は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基または単結合を表す。）
【化１１】
2005002166.tif 000055
（式中、Ｒ８０１は脂肪族基を表し、ｍ８は０〜２を表す。Ｘ３は−（ＣＨ２）ｎ８−または−（Ｏ）ｎ８−を表し、ｎ８は０または１を表す。Ｒ８０２、Ｒ８０３は置換基を表し、ｐ３は０または１を表す。）
【請求項１４】
請求項９〜１３のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物を用い、選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも１つのノズルを有する記録ヘッドで記録材料上にインク滴を吐出して基材面上へ噴射し、インクが着弾した後、活性エネルギー線を照射することでインクを硬化させることを特徴とする画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、オキセタン化合物及びこれを用いた活性エネルギー線硬化組成物、インクジェット用インク組成物と画像形成方法に関し、詳しくはカチオン重合性のオキセタン化合物を用い、反応性が高く高画質な画像を得ることのできる光硬化型のインクジェット用インク組成物及び画像形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、インクジェット記録方式は簡便・安価に画像を作成出来るため、写真、各種印刷、マーキング、カラーフィルター等の特殊印刷など、様々な印刷分野に応用されてきている。特に、微細なドットを出射、制御する記録装置や、色再現域、耐久性、出射適性等を改善したインク及びインクの吸収性、色材の発色性、表面光沢などを飛躍的に向上させた専用紙を用い、銀塩写真に匹敵する画質を得ることも可能となっている。今日のインクジェット記録方式の画質向上は、記録装置、インク、専用紙の全てが揃って初めて達成されている。
【０００３】
しかしながら、専用紙を必要とするインクジェットシステムは、記録媒体が制限されること、記録媒体のコストアップが問題となる。そこで、専用紙と異なる被転写媒体へインクジェット方式により記録する試みが多数なされている。具体的には、室温で固形のワックスインクを用いる相変化インクジェット方式、速乾性の有機溶剤を主体としたインクを用いるソルベント系インクジェット方式や、記録後紫外線（ＵＶ）光により架橋させるＵＶインクジェット方式などである。
【０００４】
中でも、ＵＶインクジェット方式は、ソルベント系インクジェット方式に比べ比較的低臭気であり、速乾性、インク吸収性の無い記録媒体への記録が出来る点で、近年注目されつつあり、紫外線硬化型インクジェットインクが種々開示されている（例えば、特許文献１、２参照。）。
【０００５】
ＵＶインクとしては、主にラジカル重合型、カチオン重合型が知られている。紫外線硬化型インクジェット記録方式においては、画質、即ち着弾ドット径は、着弾後の光照射タイミング、光照射照度、エネルギー、インク液滴サイズ、インクの感度、表面エネルギー、粘度、基材の濡れ性、着弾配列、誤差拡散パターンなどの因子により制御される。特に、画質を大きく左右する要因としては、インクの感度、粘度、表張、基材濡れ性と露光条件である。この中でも、インク感度は、ラジカル重合系の場合は酸素による重合阻害の影響を受けるためインク膜厚や露光照度に大きく依存し、カチオン重合系においては温度と湿度に大きく依存する。
【０００６】
ラジカル重合型紫外線硬化インクにおいては、酸素による重合阻害を改善するためには、酸素阻害を受けないモノマー、開始剤、開始助剤の工夫や、窒素などの不活性化ガスによりパージする方法等が知られている。
【０００７】
カチオン重合型紫外線硬化インクにおいては、湿度依存の影響を改善するために、着弾したインクを加熱する方法が知られている（例えば、特許文献３参照。）。カチオン重合型紫外線硬化インクで用いられるカチオン重合性のモノマーとしては、オキシラン環を持つエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物が知られている。
【０００８】
特に、エポキシ化合物とオキセタン化合物とを共に用いることにより、重合速度を顕著に増加させることが知られている。例えば、東亞合成研究年報  ＴＲＥＮＤ２号（１９９９年）、「オキセタン化合物の光カチオン硬化システムへの応用」、特許第２６７９５８６号公報等に記載されている。特に、オキセタン化合物は良好な耐熱性、接着性、耐薬品性を有することから、反応性を高めるエポキシ化合物との併用は有用である。
【０００９】
この技術の応用例として、紫外線硬化型のインクジェットに用いることが開示されている（例えば、特許文献４参照。）。紫外線によりインクを硬化する紫外線硬化型インクジェット記録方式は、インク吸収性の乏しい基材に対しても画像形成する方法として、近年注目を集めている。
【００１０】
一般的には、紫外線硬化型のインクとしては、ラジカル重合型インクのものが良く知られ、実用化されている。一方、カチオン重合型のインクは、ラジカル重合型インクに見られるような酸素による重合阻害が無く、低照度の光源を用いることができること、アクリルモノマーが持つ臭気も無いこと、素材が低刺激性であることなど有利な点があるが、未だ実用化に至っていない。
【００１１】
その一因としては、高湿下で著しく感度低下する性質、温度により感度が依存する性質が挙げられる。環境依存性のあるインクは、その画質が環境に依存するという本質的な課題を有する。
【００１２】
特開２００２−１３７３７５号公報では、カチオン重合系のインクを用い、着弾したインクを加熱して光照射する方法が開示されている。しかしながら、加熱機構はプリンターコスト、熱に弱い基材などの適用の観点で好ましいものとは言えない。また、オキセタン化合物と併用し、反応速度を向上させる化合物として、２−（４−メトキシフェニル）−３，３−ジメチルオキセタンが開示されている（例えば、特許文献５参照。）。この化合物は、ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテルなどのオキセタン化合物と脂環式エポキシ化合物との併用において、脂環式エポキシ化合物を代替できる程度の反応性がある。しかしながら、蛍光灯のような低照度光源を用いる場合においては、高湿環境における感度レベルはまだ十分なものとは言えなかった。
【００１３】
【特許文献１】
特開平６−２００２０４号公報
【００１４】
【特許文献２】
特表２０００−５０４７７８号公報
【００１５】
【特許文献３】
特開２０００−１３７３７５号公報
【００１６】
【特許文献４】
特開２００１−２２０５２６号公報
【００１７】
【特許文献５】
特開２００１−１８１３８６号公報
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、低照度の光源でも環境湿度に影響を受けずにインク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られるオキセタン化合物を用いた活性エネルギー線硬化型組成物、インクジェット用インク組成物及びこのインクジェット用インク組成物を用いた画像形成方法を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
【００２０】
１）前記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）、（ＩＶ）または（Ｖ）で表されることを特徴とするオキセタン化合物。
【００２１】
２）３位に置換基を有することを特徴とする前記１）に記載のオキセタン化合物。
【００２２】
３）３位が２つの置換、無置換のアルキル基で置換されていることを特徴とする前記２）に記載のオキセタン化合物。
【００２３】
４）前記１）〜３）のいずれか１項に記載のオキセタン化合物を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化組成物。
【００２４】
５）活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする前記４）に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
【００２５】
６）活性エネルギー線の照射により酸を発生する化合物がオニウム塩化合物であることを特徴とする前記５）に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
【００２６】
７）オニウム塩化合物がスルホニウム塩化合物であることを特徴とする前記６）に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
【００２７】
８）スルホニウム塩化合物が前記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）または（Ｉ−３）で表されることを特徴とする前記７）に記載の活性エネルギー線硬化組成物。
【００２８】
９）前記４）〜８）のいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化組成物を含有することを特徴とするインクジェット用インク組成物。
【００２９】
１０）２位に置換基を有さないオキセタン化合物を含有することを特徴とする前記９）に記載のインクジェット用インク組成物。
【００３０】
１１）エポキシ化合物またはビニルエーテル化合物を含有することを特徴とする前記９）または１０）に記載のインクジェット用インク組成物。
【００３１】
１２）２位に置換基を有さないオキセタン化合物を５０〜８０質量部、エポキシ化合物を０〜５０質量部、前記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表されるオキセタン化合物の少なくとも１種を１〜２０質量部含有することを特徴とする前記１０）または１１）に記載のインクジェット用インク組成物。
【００３２】
１３）エポキシ化合物が前記一般式（ＶＩ）〜（ＶＩＩＩ）で表される脂環式エポキシド化合物の少なくとも１種から選ばれたものであることを特徴とする前記１１）または１２）に記載のインクジェット用インク組成物。
【００３３】
１４）前記９）〜１３）のいずれか１項に記載のインクジェット用インク組成物を用い、選択的にインク滴の吐出制御可能な少なくとも１つのノズルを有する記録ヘッドで記録材料上にインク滴を吐出して基材面上へ噴射し、インクが着弾した後、活性エネルギー線を照射することでインクを硬化させることを特徴とする画像形成方法。
【００３４】
本発明者は、上記課題に鑑みて鋭意検討を行った結果、オキセタン化合物として、オキセタン環が２位の置換基を介して二官能となった二官能オキセタン類の中でも、特定の連結基を持つことを特徴とする二官能オキセタン化合物をインクジェットインクに用いた場合に、低照度の光源でも環境湿度に影響を受けずに硬化可能となり、高画質な画像が得られることを見いだし、本発明に至った次第である。
【００３５】
更に、本発明の二官能オキセタン化合物はインク組成物を構成する他の重合性化合物に対して少量添加した場合でも環境湿度による硬化反応の阻害に対して充分な改善効果を発揮することが明らかになった。
【００３６】
本発明の二官能オキセタン化合物と同様にオキセタン環の２位に電子供与性の置換基を有するベンゼン環の置換した単官能のオキセタンとしては、特開２００１−１８１３８６号公報に記載されている２−（４−メトキシフェニル）−３，３−ジメチルオキセタンがあるが、この特許では二官能のオキセタンに関しての明確な言及はない。
【００３７】
２−（４−メトキシフェニル）−３，３−ジメチルオキセタンを他のオキセタン化合物と混合して得られるインク組成物が優れた硬化性を有することも上記特許に示されているが、インク組成としては他のオキセタン化合物６０〜８０質量部に対して２０〜４０質量部の２−（４−メトキシフェニル）−３，３−ジメチルオキセタンを混合したインクが優れた硬化性を示していることは示されているものの、少量のオキセタン化合物を他の重合性化合物に添加したインクでも充分な硬化性を示すかどうかは示唆されてはいない。
【００３８】
本発明の二官能オキセタン化合物は、インク組成物を構成する他の重合性化合物に対して１〜２０質量％の添加比で添加した場合でも環境湿度による硬化反応の阻害に対して改善効果を発揮する。このような少量の添加でも効果が得られることは全く予想外のことであった。
【００３９】
本発明の二官能オキセタン化合物はオキセタン環の４位に更に電子吸引性基を置換することで、より反応性を高くすることが可能であることも判った。
【００４０】
本発明の二官能オキセタン化合物は３位に置換基を持たせることで、インクジェット用インク組成物として用いる場合に、その他の重合性化合物との相溶性を向上させることができ、安全性、疎水性、粘度、表面張力、その他の物性なども適宜設計することが可能となった。
【００４１】
また、本発明のインクジェット用インク組成物においては、本発明のオキセタン化合物と共に、２位に置換基のないオキセタン化合物と併用することで、インクジェットインクとして好ましい低粘度を得ると共に、反応性の向上、硬化膜強度の強化が可能となった。また、エポキシ化合物またはビニルエーテル化合物は、その他の併用可能なカチオン重合性モノマーであり、これらの併用により、適宜膜物性、基材への密着性、インク物性を調整することが可能となった。
【００４２】
以下、本発明の詳細について説明する。
一般式（Ｉ）のＲ１０１〜Ｒ１０４、一般式（ＩＩ）のＲ２０１〜Ｒ２０４、一般式（ＩＩＩ）のＲ３０１〜Ｒ３０４、一般式（ＩＶ）のＲ４０１〜Ｒ４０５、一般式（Ｖ）のＲ５０１〜Ｒ５０４で表される置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００４３】
Ｒ１０１とＲ１０２、Ｒ１０３とＲ１０４、Ｒ２０１とＲ２０２、Ｒ２０３とＲ２０４、Ｒ３０１とＲ３０２、Ｒ３０３とＲ３０４、Ｒ４０１とＲ４０２、Ｒ４０３とＲ４０４、Ｒ５０１とＲ５０２、Ｒ５０３とＲ５０４のように同一炭素上の２つの置換基が互いに末端で結合して２価の基となり環を形成してもよい。
【００４４】
これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【００４５】
本発明のオキセタン化合物としては、オキセタン環の３位には１つ以上の置換基を有するのが好ましい。好ましい置換基としては、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。これらは更に置換されていてもよく、置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【００４６】
本発明のオキセタン化合物としては、３位に置換、無置換のアルキル基が置換されているのが好ましく、２つのアルキル基で置換されることでオキセタンの３位が３級の炭素になることがより好ましい。アルキル基の置換基として好ましいものは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【００４７】
本発明のオキセタン化合物は、４位に電子吸引性基を置換することで、より反応性を高くすることが可能である。電子吸引性基とはハメットの置換基定数σｐが正の値を取る置換基のことであり、電子吸引性基の具体例としては、−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＳＯ２−Ａｌｋｙｌ、−ＳＯ２−Ａｒｙｌ、−ＣＯ−Ａｌｋｙｌ、−ＣＯ−Ａｒｙｌ、−ＣＯ−Ｏ−Ａｌｋｙｌ、−ＣＯ−Ｏ−Ａｒｙｌ、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子）が挙げられる。本発明のオキセタン化合物において４位の置換基として好ましい電子吸引性基は、α〜γ位の炭素原子上に前記の電子吸引性基の置換したアルキル基であり、特にフッ素原子で置換されたアルキル基が好ましい。
【００４８】
更に説明する。
一般式（Ｉ）において、Ｒ１０５は置換、無置換のアルコキシ基、または置換、無置換のアリールオキシ基を表し、ｍ１は０、１または２を表す。アルコキシ基としては炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等）が好ましい。ｍ１は１以上が好ましく２がより好ましい。ｍ１が２以上の場合、複数のＲ１０５は同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００４９】
置換位置としてはオキセタン環のｏ−位が好ましく、ｍ１が２の場合、２つアルコキシ基は互いがベンゼン環上でｐ−位になる位置か、隣り合う位置に置換するのが好ましい。ｍ１が２で２つのアルコキシ基が隣り合う位置に置換している場合、２つのアルコキシ基が末端で結合して環を形成してもよい。ｍ１が２でＲ１０５がアリールオキシの場合、２価のアリールオキシ基であるｏ−フェニレンジオキシ基として置換して環を形成してもよい。
【００５０】
Ｒ１０６は置換基を表し、ｎ１は０〜３を表す。Ｒ１０６で表される置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、置換、無置換の炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）等が挙げられる。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【００５１】
ｎ１が２以上の場合、複数のＲ１０６は同じであってもよいし、異なっていてもよい。Ｒ１０５とＲ１０６が隣り合った位置に置換した場合、互いに末端で結合して２価の基となり環を形成してもよい。
【００５２】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ２０５は置換、無置換のアルコキシ基、または置換、無置換のアリールオキシ基を表し、ｍ２は０〜３を表す。アルコキシ基としては炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基等）が好ましい。ｍ２は１以上が好ましく２がより好ましい。ｍ２が２の場合、複数のＲ２０５は同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００５３】
置換位置としてはオキセタン環のｏ−位が好ましく、ベンゼン環上のオキセタン環の位置を１，３−位とした場合、ｍ２が１の場合は４−位が好ましく、ｍ２が２の場合は４，６−位が好ましい。ｍ２が２で２つのアルコキシ基が隣り合う位置に置換している場合、２つのアルコキシ基が末端で結合して環を形成してもよい。ｍ２が２でＲ２０５がアリールオキシの場合、２価のｏ−フェニレンジオキシ基として置換して環を形成してもよい。
【００５４】
Ｒ２０６は置換基を表し、ｎ２は０〜３を表す。Ｒ２０６で表される置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、置換、無置換の炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）等が挙げられる。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基である。
【００５５】
ｎ２が２以上の場合、複数のＲ２０６は同じであってもよいし、異なっていてもよい。Ｒ２０５とＲ２０６が隣り合った位置に置換した場合、互いに末端で結合して２価の基となり環を形成してもよい。
【００５６】
一般式（ＩＩＩ）においてＲ３０５、Ｒ３０６は置換基を表し、ｍ３、ｎ３は０〜４を表す。Ｒ３０５、Ｒ３０６で表される置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。
【００５７】
ｍ３、ｎ３がそれぞれ２以上の場合、複数のＲ３０５、Ｒ３０６は各々同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００５８】
Ｒ３０５とＲ３０６がともに２つのベンゼン環を繋ぐ中央のエーテル酸素に対してｏ−位に置換した場合、Ｒ３０５とＲ３０６が結合して２価の基となり環を形成してもよい。そのような２価の基としては、−Ｏ−基、−Ｓ−基、＞Ｃ＝Ｏ基、＞Ｃ＝Ｓ基、−ＣＨ２−基、−ＣＨＲ−基、−ＣＲ２−基が挙げられる。ここで、Ｒは置換基を表す。置換基の例としてはＲ１０１〜Ｒ１０４の例として挙げたものと同じものが挙げられる。
【００５９】
一般式（ＩＶ）においてＲ４０５は置換基を表し、ｍ４は０〜４を表す。Ｒ４０５で表される置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）等が挙げられる。
【００６０】
ｍ４が２以上の場合、複数のＲ４０５は同じであってもよいし異なっていてもよい。Ｌ１は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５の２価の連結基を表す。２価の連結基の例としては、以下の基が挙げられる。
【００６１】
メチレン基［−ＣＨ２−］、エチリデン基［＞ＣＨＣＨ３］、イソプロピリデン基［＞Ｃ（ＣＨ３）２］、１，２−エチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２−］、１，２−プロピレン基［−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−］、１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−］、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−］、２，２−ジメトキシ−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ２Ｃ（ＯＣＨ３）２ＣＨ２−］、２，２−ジメトキシメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ３）２ＣＨ２−］、１−メチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２−］、１，４−ブタンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−］、１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−］、オキシジエチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−］、チオジエチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２−］、３−オキソチオジエチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２ＳＯＣＨ２ＣＨ２−］、３，３−ジオキソチオジエチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ２ＣＨ２ＣＨ２−］、１，４−ジメチル−３−オキサ−１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−］、３−オキソペンタンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＣＨ２ＣＨ２−］、１，５−ジオキソ−３−オキサペンタンジイル基［−ＣＯＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯ−］、４−オキサ−１，７−ヘプタンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−］、３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−］、１，４，７−トリメチル−３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−］、５，５−ジメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−］、５，５−ジメトキシ−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＯＣＨ３）２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−］、５，５−ジメトキシメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ３）２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−］、４，７−ジオキソ−３，８−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−ＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＯ−ＯＣＨ２ＣＨ２−］、３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯ−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−ＣＯＣＨ２ＣＨ２−］、１，３−シクロペンタンジイル基［−１，３−Ｃ５Ｈ８−］、１，２−シクロヘキサンジイル基［−１，２−Ｃ６Ｈ１０−］、１，３−シクロヘキサンジイル基［−１，３−Ｃ６Ｈ１０−］、１，４−シクロヘキサンジイル基［−１，４−Ｃ６Ｈ１０−］、２，５−テトラヒドロフランジイル基［２，５−Ｃ４Ｈ６Ｏ−］、ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ６Ｈ４−］、ｍ−フェニレン基［−ｍ−Ｃ６Ｈ４−］、α，α′−ｏ−キシリレン基［−ｏ−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−］、α，α′−ｍ−キシリレン基［−ｍ−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−］、α，α′−ｐ−キシリレン基［−ｐ−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−］、フラン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ２−Ｃ４Ｈ２Ｏ−ＣＨ２−］、チオフェン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ２−Ｃ４Ｈ２Ｓ−ＣＨ２−］、イソプロピリデンビス−ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＣＨ３）２−ｐ−Ｃ６Ｈ４−］。
【００６２】
Ｌ１は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基である。Ｌ１の置換基とＲ４０５が結合して環を形成してもよい。Ｌ１としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜８の２価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数１〜５の２価の連結基がより好ましい。
【００６３】
一般式（Ｖ）において、Ｒ５０５は置換、無置換のアルキル基を表す。好ましくは、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）であり、置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルコキシ基である。
【００６４】
Ｒ５０６は置換基を表し、ｍ５は０〜３を表す。Ｒ５０６で表される置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）等が挙げられる。ｍ５が２以上の場合、複数のＲ５０５は同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００６５】
Ｌ２は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５の２価の連結基、または酸素原子を表す。２価の連結基の例としては、以下の基、およびこれらの基の両端にカルボニル基が結合した基が挙げられる。
【００６６】
メチレン基［−ＣＨ２−］、エチリデン基［＞ＣＨＣＨ３］、イソプロピリデン基［＞Ｃ（ＣＨ３）２］、１，２−エチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２−］、１，２−エチレン−１，２−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、１，２−プロピレン−１，２−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−］、１，３−プロパンジイル−１，３−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジイル−１，３−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−］、２，２−ジメトキシ−１，３−プロパンジイル−１，３−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＯＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−］、２，２−ジメトキシメチル−１，３−プロパンジイル−１，３−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−］、１−メチル−１，３−プロパンジイル−１，３−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、１，４−ブタンジイル−１，４−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、１，５−ペンタンジイル−１，５−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、オキシジエチレン−１，５−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、チオジエチレン−１，５−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、３−オキソチオジエチレン−１，５−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＳＯＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、３，３−ジオキソチオジエチレン−１，５−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、１，４−ジメチル−３−オキサ−１，５−ペンタンジイル−１，５−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−］、３−オキソペンタンジイル−１，５−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、１，５−ジオキソ−３−オキサペンタンジイル−１，５−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＯＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯ−Ｏ−］、４−オキサ−１，７−ヘプタンジイル−１，７−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル−１，８−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、１，４，７−トリメチル−３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル−１，８−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−］、５，５−ジメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル−１，９−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、５，５−ジメトキシ−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル−１，９−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＯＣＨ３）２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、５，５−ジメトキシメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル−１，９−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ３）２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、４，７−ジオキソ−３，８−ジオキサ−１，１０−デカンジイル−１，１０−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−ＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＯ−ＯＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−１，１０−デカンジイル−１，１０−ジオキシ基［−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯ−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−ＣＯＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−］、１，３−シクロペンタンジイル−１，３−ジオキシ基［−１，３−Ｏ−Ｃ５Ｈ８−Ｏ−］、１，２−シクロヘキサンジイル−１，２−ジオキシ基［−１，２−Ｏ−Ｃ６Ｈ１０−Ｏ−］、１，３−シクロヘキサンジイル−１，３−ジオキシ基［−１，３−Ｏ−Ｃ６Ｈ１０−Ｏ−］、１，４−シクロヘキサンジイル−１，４−ジオキシ基［−１，４−Ｏ−Ｃ６Ｈ１０−Ｏ−］、２，５−テトラヒドロフランジイル−２，５−ジオキシ基［２，５−Ｏ−Ｃ４Ｈ６Ｏ−Ｏ−］、ｐ−フェニレン−１，４−ジオキシ基［−ｐ−Ｏ−Ｃ６Ｈ４−Ｏ−］、ｍ−フェニレン−１，３−ジオキシ基［−ｍ−Ｏ−Ｃ６Ｈ４−Ｏ−］、ｏ−キシリレン−α，α′−ジオキシ基［−ｏ−Ｏ−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−Ｏ−］、ｍ−キシリレン−α，α′−ジオキシ基［−ｍ−Ｏ−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−Ｏ−］、ｐ−キシリレン−α，α′−ジオキシ基［−ｐ−Ｏ−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−Ｏ−］、フラン−２，５−ジイル−ビスメチレン−α，α′−ジオキシ基［２，５−Ｏ−ＣＨ２−Ｃ４Ｈ２Ｏ−ＣＨ２−Ｏ−］、チオフェン−２，５−ジイル−ビスメチレン−α，α′−ジオキシ基［２，５−Ｏ−ＣＨ２−Ｃ４Ｈ２Ｓ−ＣＨ２−Ｏ−］。
【００６７】
Ｌ２は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えばア、セチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基である。Ｌ２の置換基とＲ５０５が結合して環を形成してもよい。Ｌ２としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜８の２価の連結基または酸素原子が好ましく、主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜５の２価の連結基または酸素原子がより好ましい。
【００６８】
以下に、本発明のオキセタン化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６９】
【化１２】
2005002166.tif 000002
【００７０】
【化１３】
2005002166.tif 000003
【００７１】
【化１４】
2005002166.tif 000004
【００７２】
【化１５】
2005002166.tif 000005
【００７３】
【化１６】
2005002166.tif 000006
【００７４】
【化１７】
2005002166.tif 000007
【００７５】
【化１８】
2005002166.tif 000008
【００７６】
【化１９】
2005002166.tif 000009
【００７７】
【化２０】
2005002166.tif 000010
【００７８】
【化２１】
2005002166.tif 000011
【００７９】
【化２２】
2005002166.tif 000012
【００８０】
【化２３】
2005002166.tif 000013
【００８１】
本発明のオキセタン化合物の合成は、以下に文献に記載の方法に準じて、行うことができる。
【００８２】
Ａ：Ｈｕ  Ｘｉａｎｍｉｎｇ，Ｒｉｃｈａｒｄ  Ｍ．Ｋｅｌｌｏｇｇ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，５３３〜５３８，Ｍａｙ（１９９５）
Ｂ：Ａ．Ｏ．Ｆｉｔｔｏｎ，Ｊ．Ｈｉｌｌ，Ｄ．Ｅｊａｎｅ，Ｒ．Ｍｉｌｌｅｒ，Ｓｙｎｔｈ．，１２，１１４０（１９８７）
Ｃ：Ｔｏｓｈｉｒｏ  Ｉｍａｉ  ａｎｄ  Ｓｈｉｎｙａ  Ｎｉｓｈｉｄａ，Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｖｏｌ．５９，２５０３〜２５０９（１９８１）
Ｄ：Ｎｏｂｕｊｉｒｏ  Ｓｈｉｍｉｚｕ，Ｓｈｉｎｔａｒｏ  Ｙａｍａｏｋａａｎｄ  Ｙｕｈｏ  Ｔｓｕｎｏ，Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，５６，３８５３〜３８５４（１９８３）
Ｅ：Ｗａｌｔｅｒ  Ｆｉｓｈｅｒ  ａｎｄ  Ｃｙｒｉｌ  Ａ．Ｇｒｏｂ，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．，６１，２３３６（１９７８）
Ｆ：Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１０１，１８５０（１９６８）
Ｇ：“Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  ｗｉｔｈ  Ｔｈｒｅｅ−  ａｎｄ  Ｆｏｕｒ−ｍｅｍｂｅｒｅｄ  Ｒｉｎｇｓ”，Ｐａｒｔ  Ｔｗｏ，Ｃｈａｐｔｅｒ  ＩＸ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ（１９６４）
Ｈ：Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．，６１，１６５３（１９８８）  Ｉ：Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ａ２９（１０），９１５（１９９２）  Ｊ：Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ａ３０（２＆ａｍｐ；３），１８９（１９９３）
Ｋ：特開平６−１６８０４号公報
Ｌ：ドイツ特許第１，０２１，８５８号明細書
前記文献に従って、例示化合物の合成例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８３】
〔合成例１〕
例示化合物Ｉ−１：１，４−Ｂｉｓ（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｂｅｎｚｅｎｅの合成
イソブチルアルデヒド４．２当量とテレフタルアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム２．１当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物を１０倍量の水で加熱溶解し、放冷後、析出した結晶をろ過し水洗、脱水剤とともに２日間減圧乾燥した。白色結晶の１，４−Ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ−ｂｉｓ（２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌ）を得た。収率は８０〜８５％だった。
【００８４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）  δ（ｐｐｍ）：０．７７（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、０．８６（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、３．３４（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、３．４９（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、４．６１（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、７．２９（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【００８５】
このテトラオール化合物を２．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗結晶を得た。粗収率は９０〜９５％だった。
【００８６】
この粗製物をヘキサン−塩化メチレンで再結晶し、例示化合物Ｉ−１のオキセタン化合物を得た。収率は７０〜７５％だった。
【００８７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．７７（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．４０（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、４．２７（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、４．５２（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、５．５１（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、７．２９（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【００８８】
その他の一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物も、公知の文献に記載されている方法で合成することができるテレフタルアルデヒド誘導体を原料にして同様の方法で収率良く合成できる。
【００８９】
〔合成例２〕
例示化合物ＩＩ−１：１，３−Ｂｉｓ（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｂｅｎｚｅｎｅの合成
イソブチルアルデヒド４．２当量とイソフタルアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム２．１当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液を減圧濃縮し、１，３−Ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ−ｂｉｓ（２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌ）の粗製物を得た。このものには溜去しきれなかったイソ酪酸が相当量含まれているため、酸の除去を行なった。粗製物を塩化メチレン１０倍量に溶解し、３倍量のアルミナを加えて室温で３時間攪拌した。２倍量のアルミナを引いたヌチェでろ過した後、塩化メチレン５倍量で洗浄した。濾液を減圧濃縮しイソ酪酸を含まないテトラオールを得た。収率は８０〜９０％だった。
【００９０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８３（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、０．８８（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、３．４５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、３．５６（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、４．６２（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、７．２〜７．４（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【００９１】
このテトラオール化合物を２．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗製物を得た。粗収率は９０〜９５％だった。
【００９２】
この粗製物はアルミナを用いてヘキサン−塩化メチレン（１０：１）を溶離液としてカラム精製を行い、無色透明液体である例示化合物ＩＩ−２のオキセタン化合物を得た。収率は７０〜７５％だった。
【００９３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．７８（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．４４（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、４．２７（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、４．５３（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、５．５３（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、７．２〜７．４（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【００９４】
その他の一般式（ＩＩ）で表されるオキセタン化合物も、公知の文献に記載されている方法で合成することができるイソフタルアルデヒド誘導体を原料にして同様の方法で収率良く合成できる。
【００９５】
〔合成例３〕
例示化合物ＩＩＩ−１：４，４′−Ｂｉｓ（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｄｉｐｈｅｎｙｌｅｔｈｅｒの合成
３−クロロ−２，２−ジメチル−塩化プロピオニル２．２当量とジフェニルエーテル１当量に塩化アルミニウムを触媒（２当量）として用いてＦｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応を行い、４，４′−Ｂｉｓ（３−Ｃｈｌｏｒｏ−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌｐｒｏｐｉｏｎｙｌ）−ｄｉｐｈｅｎｙｌｅｔｈｅｒとした。収率は８０〜９０％だった。
【００９６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：１．５７（ｓ，１２Ｈ，ＣＨ３−）、３．８０（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ２−Ｃｌ）、７．０８（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．７７（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【００９７】
次いで、このジケトン化合物を水素化ホウ素ナトリウム２．４当量用いてアルコール中で還元し、４，４′−Ｂｉｓ（３−Ｃｈｌｏｒｏ−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）−ｄｉｐｈｅｎｙｌｅｔｈｅｒとした。収率は９０％以上だった。
【００９８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．９２（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．０２（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、３．３５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−Ｃｌ）、３．７１（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−Ｃｌ）、４．７７（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．９７（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．３２（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【００９９】
このジオール化合物を塩化メチレンに溶解し、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で１２時間反応した。反応液を水洗後、有機相を水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗製物を得た。粗収率は８５〜９０％だった。
【０１００】
この粗製物はアルミナを用いてヘキサン−塩化メチレン（１０：１）を溶離液としてカラム精製を行い、無色透明液体である例示化合物ＩＩＩ−１のオキセタン化合物を得た。収率は７５〜８０％だった。
【０１０１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８２（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．３９（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、４．２６（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、４．５４（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、５．４８（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、７．０４（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）７．２７（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１０２】
〔合成例４〕
例示化合物ＩＩＩ−３：４，４′−Ｂｉｓ（４−Ｉｓｏ−ｐｒｏｐｙｌ−３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｄｉｐｈｅｎｙｌｅｔｈｅｒの合成
ジイソプロピルケトン２．１当量をＴＨＦ中、−１０℃でリチウムジイソピロピルアミド（２．２当量分、ヘキサン溶液）と反応させリチウムエノラートを調製した。この溶液中にＯｘｙ−ｄｉ−４，４′−ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅ１当量のＴＨＦ溶液を−１０℃で３０分〜１時間で滴下した。次いで室温で６時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物から塩化メチレンで抽出を行ない、４，４′−Ｂｉｓ（２，２，４−Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌ−１−ｈｙｄｒｏｘｙ−３−ｏｘｏｐｅｎｔｙｌ）−ｄｉｐｈｅｎｙｌｅｔｈｅｒを得た。収率は７０〜８０％だった。
【０１０３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．９１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、０．９５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．１２（ｓ，１２Ｈ，（ＣＨ３）２ＣＨ−）、２．４９（ｓ，２Ｈ，−ＣＯ−ＣＨ−）、４．８５（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、７．０５（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．３３（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１０４】
次いで、この化合物を水素化ホウ素ナトリウム２．４当量用いて還元し、４，４′−Ｂｉｓ（２，２，４−Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｐｅｎｔｙｌ）−ｄｉｐｈｅｎｙｌｅｔｈｅｒとした。収率は９０％以上だった。
【０１０５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８０（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、０．８４（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．０２（ｓ，１２Ｈ，（ＣＨ３）２ＣＨ−）、１．７５（ｓ，２Ｈ，−ＣＨＯＨ−ＣＨ＜）、３．２０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨＯＨ−ＣＨ＜）、４．６１（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、７．０３（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．３４（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１０６】
このテトラオール化合物を２．２倍モルの塩化メタンスルホニルと２．４倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で１２時間反応した。反応液を水洗後、有機相を水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗製物を得た。粗収率は８０〜８５％だった。
【０１０７】
この粗製物はアルミナを用いてヘキサン−塩化メチレン（１０：１）を溶離液としてカラム精製を行い、無色透明液体である例示化合物ＩＩＩ−３のオキセタン化合物を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１０８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．０２（ｓ，１２Ｈ，（ＣＨ３）２ＣＨ−）、１．３７（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．９６（ｓ，２Ｈ，−ＣＨＯＨ−ＣＨ＜）、４．２３（ｓ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ＜、オキセタン環）、５．４７（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、７．０３（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）７．２６（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１０９】
〔合成例５〕
例示化合物ＩＩＩ−７：４，４′−Ｂｉｓ（４−Ｔｒｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈｙｌ−３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎ−２−ｙｌ）−ｄｉｐｈｅｎｙｌｅｔｈｅｒの合成
４，４，４−トリフルオロ−２，２−ジメチル−３−オキソ−ブタン酸クロリド２．２当量とジフェニルエーテル１当量に塩化アルミニウムを触媒（２当量）として用いてＦｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応を行い、４，４′−Ｂｉｓ（４，４，４−ｔｒｉｆｌｕｏｒｏ−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−３−ｏｘｏｂｕｔｙｒｙｌ）−ｄｉｐｈｅｎｙｌｅｔｈｅｒとした。収率は８０〜９０％だった。
【０１１０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：１．７０（ｓ，１２Ｈ，ＣＨ３−）、７．１０（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．９６（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１１１】
次いで、このジケトン化合物を水素化ホウ素ナトリウム４．６倍モル用いてアルコール中で還元し、４，４′−Ｂｉｓ（４，４，４−ｔｒｉｆｌｕｏｒｏ−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｄｉｈｙｄｒｏｘｙｂｕｔｙｌ）−ｄｉｐｈｅｎｙｌｅｔｈｅｒとした。収率は９０％以上だった。
【０１１２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、０．８９（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、４．１３（ｓ，２Ｈ，−ＣＨＣＦ３−ＯＨ）、４．６５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、７．０５（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２９（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１１３】
このテトラオール化合物を２．２倍モルの塩化メタンスルホニルと２．４倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で１２時間反応した。反応液を水洗後、有機相を水で洗い、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗製物を得た。粗収率は８５〜９０％だった。
【０１１４】
この粗製物はアルミナを用いてヘキサン−塩化メチレン（１０：１）を溶離液としてカラム精製を行い、無色透明液体である例示化合物ＩＩＩ−７のオキセタン化合物を得た。収率は７５〜８０％だった。
【０１１５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８３（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．４０（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、５．３５（ｓ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ−オキセタン環）、５．５０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、７．０５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２９（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１１６】
その他の一般式（ＩＩＩ）で表されるオキセタン化合物も、公知の文献に記載されている方法で合成することができるジフェニルエーテル誘導体を原料にして同様の方法で収率良く合成できる。
【０１１７】
〔合成例６〕
例示化合物ＩＶ−１：Ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−２，２′−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎｅ）の合成
エチレングリコール・ジ−ｐ−トルエンスルホネート１当量と４−ヒドロキシベンズアルデヒド２．２当量、炭酸カリウム２．２当量、ヨウ化カリウム０．２当量をエチレングリコール・ジ−ｐ−トルエンスルホネートの４倍量のＤＭＦに溶解し、油温１２０〜１３０℃のオイルバスで加熱し１０時間反応した。放冷後、氷水６倍量を加え、析出した結晶を濾取し、十分に水洗した後、乾燥した。得られた粗結晶の収率は８０％だった。この粗結晶をエタノールで再結晶し、Ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（４，４′−ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅ）を得た。収率は６５〜７０％だった。
【０１１８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：４．５１（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、７．０８（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．８６（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、９．９０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨＯ）。
【０１１９】
イソブチルアルデヒド４．２当量と上で得られたジアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム２．１当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物を１０倍量の水で加熱溶解し、放冷後、析出した飴状粗製物を分離した。この粗製物を塩化メチレン１０倍量に溶解し、２倍量のアルミナを加えて室温で３時間攪拌した。少量のアルミナを引いたヌチェでろ過した後、塩化メチレン１倍量で洗浄した。濾液を減圧濃縮し粗結晶を得た。この粗結晶をトルエン−塩化メチレンで再結晶し、白色結晶のＥｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−１，１′−（２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌ）を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１２０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、０．８５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、３．４７（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、３．５６（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、４．３３（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、４．６０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．９０（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２６（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１２１】
このテトラオール化合物を２．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗結晶を得た。粗収率は８０〜８５％だった。
【０１２２】
この粗結晶をアセトニトリルで再結晶し、例示化合物ＩＶ−１のオキセタン化合物を得た。収率は７０〜７５％だった。融点１１３−１１６℃（分解）。
【０１２３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８３（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．５０（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、４．２５（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、４．３３（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、４．５１（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、５．４５（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９７（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２２（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１２４】
〔合成例７〕
例示化合物ＩＶ−２：Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−２，２′−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎｅ）の合成
プロピレングリコール・ジ−ｐ−トルエンスルホネート１当量と４−ヒドロキシベンズアルデヒド２．２当量、炭酸カリウム２．２当量、ヨウ化カリウム０．２当量をエチレングリコール・ジ−ｐ−トルエンスルホネートの４倍量のＤＭＦに溶解し、油温１２０〜１３０℃のオイルバスで加熱し１０時間反応した。放冷後、氷水６倍量を加え、析出した結晶を濾取し、十分に水洗した後、乾燥した。得られた粗結晶の収率は７５％だった。この粗結晶をエタノールで再結晶しＰｒｏｐｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（４，４′−ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅ）を得た。収率は６５〜７０％だった。
【０１２５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：１．４５（ｄ，３Ｈ，ＣＨ３−）、４．２３（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ２−）、４．４５（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ２−）、４．７６（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ−）、７．００〜７．１５（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．８６（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、９．８９（ｓ，２Ｈ，−ＣＨＯ）。
【０１２６】
イソブチルアルデヒド４．２当量と上で得られたジアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム２．１当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物を１０倍量の水で加熱溶解し、放冷後、析出した飴状粗製物を分離した。この粗製物を塩化メチレン１０倍量に溶解し、２倍量のアルミナを加えて室温で３時間攪拌した。少量のアルミナを引いたヌチェでろ過した後、塩化メチレン１倍量で洗浄した。濾液を減圧濃縮し粗結晶を得た。この粗結晶をトルエン−塩化メチレンで再結晶し、白色結晶のＰｒｏｐｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−１，１’−（２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌ）を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１２７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、０．８５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）１．４０（ｓ，３Ｈ，ＣＨ３−）、３．４７（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、３．５６（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、４．０３（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ２−）、４．１５（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ２−）、４．７６（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ−）、４．６０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．９０〜７．２０（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２６（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１２８】
このテトラオール化合物を２．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗製物を得た。粗収率は８０〜８５％だった。
【０１２９】
この粗製物はアルミナを用いてヘキサン−塩化メチレン（１０：１）を溶離液としてカラム精製を行い、例示化合物ＩＶ−２のオキセタン化合物を得た。収率は７０〜７５％だった。このものは冷蔵すると固体となった。
【０１３０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．７９（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．３４（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．４５（ｄ，３Ｈ，ＣＨ３−）、４．０３（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ２−）、４．１３（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ２−）、４．２４（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、４．５０（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、４．７５（ｍ，１Ｈ，−ＣＨ−）、５．４４（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９２（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、６．９６（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２１（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１３１】
〔合成例８〕
例示化合物ＩＶ−３：２，２−Ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−２，２′−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎｅ）の合成
ネオペンチルグリコール・ジ−ｐ−トルエンスルホネート１当量と４−ヒドロキシベンズアルデヒド２．２当量、炭酸カリウム２．２当量、ヨウ化カリウム０．２当量をエチレングリコール・ジ−ｐ−トルエンスルホネートの４倍量のＤＭＦに溶解し、油温１２０〜１３０℃のオイルバスで加熱し１０時間反応した。放冷後、氷水６倍量を加え、析出した結晶を濾取し、十分に水洗した後、乾燥した。得られた粗結晶の収率は８０％だった。この粗結晶をエタノールで再結晶し２，２−Ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（４，４′−ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅ）を得た。収率は６５〜７０％だった。
【０１３２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：１．２０（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、３．９４（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、７．００（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．８２（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、９．８７（ｓ，２Ｈ，−ＣＨＯ）。
【０１３３】
イソブチルアルデヒド４．２当量と上で得られたジアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム２．１当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物を１０倍量の水で加熱溶解し、放冷後、析出した飴状粗製物を分離した。この粗製物を塩化メチレン１０倍量に溶解し、２倍量のアルミナを加えて室温で３時間攪拌した。少量のアルミナを引いたヌチェでろ過した後、塩化メチレン１倍量で洗浄した。濾液を減圧濃縮し粗結晶を得た。この粗結晶をトルエン−塩化メチレンで再結晶し、白色結晶の２，２−Ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−１，１′−（２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌ）を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１３４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．７９（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、０．８３（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．１５（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、３．４３（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、３．５３（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、３．８３（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、４．５５（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．８３（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２０（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１３５】
このテトラオール化合物を２．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗結晶を得た。粗収率は８０〜８５％だった。
【０１３６】
この粗結晶をアセトニトリルで再結晶し、例示化合物ＩＶ−３のオキセタン化合物を得た。収率は７０〜７５％だった。融点９３−９５℃（分解）。
【０１３７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．７８（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．１６（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．３６（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、３．８３（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、４．２３（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、４．４９（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、５．４３（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９０（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．１９（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１３８】
〔合成例９〕
例示化合物ＩＶ−２４：Ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（２，６−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−２，２′−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎｅ）の合成
丸善（株）発行の新実験科学講座１４巻「有機化合物の合成と反応〔ＩＩ〕」７０４頁の〔実験例４・２７〕に記載の方法で２、６−キシレノールを原料に４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンズアルデヒドを合成した。収率は９５％以上だった。
【０１３９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：２．３１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、５．４２（ｓ，１Ｈ，−ＯＨ）、７．５１（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、９．８１（ｓ，１Ｈ，−ＣＨＯ）。
【０１４０】
エチレングリコール・ジ−ｐ−トルエンスルホネート１当量と４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンズアルデヒド２．２当量、炭酸カリウム２．２当量、ヨウ化カリウム０．２当量をエチレングリコール・ジ−ｐ−トルエンスルホネートの４倍量のＤＭＦに溶解し、油温１２０〜１３０℃のオイルバスで加熱し１０時間反応した。放冷後、氷水６倍量を加え、析出した結晶を濾取し、十分に水洗した後、乾燥した。得られた粗結晶の収率は８０％だった。この粗結晶をエタノールで再結晶しＥｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（３，５−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−４，４′−ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅ）を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１４１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：２．４１（ｓ，１２Ｈ，ＣＨ３−）、４．２０（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、７．５９（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、９．９２（ｓ，２Ｈ，−ＣＨＯ）。
【０１４２】
イソブチルアルデヒド４．２当量と上で得られたジアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム２．１当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物を１０倍量の水で加熱溶解し、放冷後、析出した飴状粗製物を分離した。この粗製物を塩化メチレン１０倍量に溶解し、２倍量のアルミナを加えて室温で３時間攪拌した。少量のアルミナを引いたヌチェでろ過した後、塩化メチレン１倍量で洗浄した。濾液を減圧濃縮し粗結晶を得た。この粗結晶をトルエン−塩化メチレンで再結晶し、白色結晶のＥｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（２，６−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｐ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−１，１′−（２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌ）を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１４３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．９０（ｓ，１２Ｈ，ＣＨ３−）、２．３４（ｓ，１２Ｈ，ＣＨ３−Ｐｈ）、３．４７（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、４．１３（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２−Ｏ−）、４．５８（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．９８（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１４４】
このテトラオール化合物を２．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗製物を得た。粗収率は８０〜８５％だった。
この粗製物はアルミナを用いてヘキサン−塩化メチレン（１０：１）を溶離液としてカラム精製を行い、無色透明粘調液体である例示化合物ＩＶ−２４のオキセタン化合物を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１４５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８２（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．４２（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、２．４２（ｓ，１２Ｈ，ＣＨ３−）、４．１２（ｓ，４Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−）、４．２５（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、４．５０（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、５．４０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．９４（ｄ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１４６】
その他の一般式（ＩＶ）で表されるオキセタン化合物も、公知の文献に記載されている方法で合成することができる４−ヒドロキシベンズアルデヒド誘導体を原料にして同様の方法で収率良く合成できる。
【０１４７】
〔合成例１０〕
例示化合物Ｖ−２：Ｍｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｂｉｓ（ｐ−ｍｅｔｈｏｘｙ−ｍ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−２，２′−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎｅ）の合成
４−メトキシベンズアルデヒド２．０当量を５倍量の塩化メチレンに溶解し、０．２当量の塩化亜鉛を添加した。この中に１．５当量のクロルメチルメチルエーテルを１時間で滴下した。反応液の温度が４０℃を超えないように随時冷却した。滴下が終了した後、室温で４時間反応した。反応終了後、反応液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、粗結晶を得た。粗結晶の収率は８０％だった。この粗結晶をエタノールで再結晶しＭｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｂｉｓ−３，３′−（４−ｍｅｔｈｏｘｙ  ｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅ）を得た。収率は６５〜７０％だった。
【０１４８】
１Ｈ−ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：３．８４（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−Ｏ−）、３．９０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ２−）、７．０（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．７０〜７．７５（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、９．９０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨＯ）。
【０１４９】
イソブチルアルデヒド４．２当量と上で得られたジアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム２．１当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物を１０倍量の水で加熱溶解し、放冷後、析出した飴状粗製物を分離した。この粗製物を塩化メチレン１０倍量に溶解し、２倍量のアルミナを加えて室温で３時間攪拌した。少量のアルミナを引いたヌチェでろ過した後、塩化メチレン１倍量で洗浄した。濾液を減圧濃縮し粗結晶を得た。この粗結晶をトルエン−塩化メチレンで再結晶し、白色結晶のＭｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｂｉｓ（２−ｍｅｔｈｏｘｙ−ｍ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−１，１′−（２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌ）を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１５０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８０（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、０．８４（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、３．４５（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、３．５３（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、３．８４（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−Ｏ−）、３．９０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ２−）、４．５６（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．７８（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１５１】
このテトラオール化合物を２．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗結晶を得た。粗収率は８０〜８５％だった。
【０１５２】
この粗結晶をアセトニトリルで再結晶し、例示化合物Ｖ−２のオキセタン化合物を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１５３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８４（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．５１（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、３．８４（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−Ｏ−）、３．９０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ２−）、４．２４（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、４．５０（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、５．４４（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．８２（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．２〜７．３（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１５４】
〔合成例１１〕
例示化合物Ｖ−６：Ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（ｐ−ｍｅｔｈｏｘｙ−ｍ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−２，２′−（３，３−ｄｉｍｅｔｈｙｌｏｘｅｔａｎｅ）の合成
エチレングリコール・ジ−ｐ−トルエンスルホネート１当量と３−ヒドロキシ−４−メトキシベンズアルデヒド２．２当量、炭酸カリウム２．２当量、ヨウ化カリウム０．２当量をエチレングリコール・ジ−ｐ−トルエンスルホネートの４倍量のＤＭＦに溶解し、油温１２０〜１３０℃のオイルバスで加熱し１０時間反応した。放冷後、氷水６倍量を加え、析出した結晶を濾取し、十分に水洗した後、乾燥した。得られた粗結晶の収率は８０％だった。この粗結晶をエタノールで再結晶しＥｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ−３，３′−（４−ｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅ）を得た。収率は６５〜７０％だった。
【０１５５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：３．８２（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−Ｏ−）、４．４９（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、６．９９（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．３７（ｍ，２Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、７．４５（ｍ，４Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）、９．９０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨＯ）。
【０１５６】
イソブチルアルデヒド４．２当量と上で得られたジアルデヒド１．０当量をメタノールに溶解し、室温で、水酸化カリウム２．１当量のメタノール溶液を滴下した。次いで６０℃で４時間反応した後、反応液を減圧濃縮した。濃縮後の混合物を１０倍量の水で加熱溶解し、放冷後、析出した飴状粗製物を分離した。この粗製物を塩化メチレン１０倍量に溶解し、２倍量のアルミナを加えて室温で３時間攪拌した。少量のアルミナを引いたヌチェでろ過した後、塩化メチレン１倍量で洗浄した。濾液を減圧濃縮し粗結晶を得た。この粗結晶をトルエン−塩化メチレンで再結晶し、白色結晶のＥｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙ  ｂｉｓ（ｐ−ｍｅｔｈｏｘｙ−ｍ−ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）−ｂｉｓ−１，１′−（−２，２−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−１，３−ｐｒｏｐａｎｅｄｉｏｌ）を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１５７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８０（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、０．８４（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、３．４６（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、３．５４（ｄ，２Ｈ，−ＣＨ２−ＯＨ）、３．８２（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−Ｏ−）、４．３０（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、４．５８（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ（−ＯＨ）−ベンジル位）、６．８〜６．９（ｍ，６Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１５８】
このテトラオール化合物を２．１倍モルの塩化メタンスルホニルと２．２倍モルのトリエチルアミンを用いて塩化メチレン中でスルホネートとした。反応液を水層のｐＨが７になるまで水洗した後、１モル％のテトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩と５０％水酸化ナトリウム溶液（１０当量分）を加えて３０±５℃で６時間反応した。反応液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、減圧濃縮し、目的のオキセタン粗結晶を得た。粗収率は８０〜８５％だった。
【０１５９】
この粗結晶をアセトニトリルで再結晶し、例示化合物Ｖ−６のオキセタン化合物を得た。収率は７０〜７５％だった。
【０１６０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：０．８０（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、１．４９（ｓ，６Ｈ，ＣＨ３−）、４．２５（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、４．３０（ｓ，４Ｈ，−ＣＨ２−）、４．５０（ｄ，２Ｈ，−Ｏ−ＣＨ２−オキセタン環）、５．４０（ｓ，２Ｈ，−ＣＨ−Ｏ−オキセタン環上ベンジル位）、６．８〜６．９（ｍ，６Ｈ，−ＣＨ−ベンゼン環）。
【０１６１】
その他の一般式（Ｖ）で表されるオキセタン化合物も、公知の文献に記載されている方法で合成することができる４−アルコキシベンズアルデヒド誘導体を原料にして収率良く合成できる。
【０１６２】
本発明のインクジェット用インク組成物においては、本発明のオキセタン化合物と共に、２位が置換されていないオキセタン化合物と併用することで、感度向上効果あるいは硬化膜物性の改良効果を得ることができ好ましい。
【０１６３】
以下、２位が置換されていないオキセタン化合物について説明する。
２位が置換されていないオキセタン化合物の一例としては、下記一般式（１０１）で示される化合物が挙げられる。
【０１６４】
【化２４】
2005002166.tif 000014
【０１６５】
一般式（１０１）において、Ｒ１は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基またはチエニル基である。Ｒ２はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜６個のアルキル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等の炭素数２〜６個のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等の炭素数２〜６個のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等の炭素数２〜６個のアルコキシカルボニル基、またはエチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等の炭素数２〜６個のＮ−アルキルカルバモイル基等である。本発明で使用するオキセタン化合物としては、１個のオキセタン環を有する化合物を使用することが、得られる組成物が粘着性に優れ、低粘度で作業性に優れるため、特に好ましい。
【０１６６】
２個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式（１０２）で示される化合物等が挙げられる。
【０１６７】
【化２５】
2005002166.tif 000015
【０１６８】
一般式（１０２）において、Ｒ１は上記一般式（１０１）におけるそれと同様の基である。Ｒ３は、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等の線状または分枝状アルキレン基、ポリ（エチレンオキシ）基、ポリ（プロピレンオキシ）基等の線状または分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等の線状または分枝状不飽和炭化水素基、またはカルボニル基またはカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基等である。
【０１６９】
また、Ｒ３としては、下記一般式（１０３）、（１０４）及び（１０５）で示される基から選択される多価基も挙げることができる。
【０１７０】
【化２６】
2005002166.tif 000016
【０１７１】
一般式（１０３）において、Ｒ４は水素原子やメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜４個のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、またはカルバモイル基である。
【０１７２】
【化２７】
2005002166.tif 000017
【０１７３】
一般式（１０４）において、Ｒ５は酸素原子、硫黄原子、メチレン基、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ２、Ｃ（ＣＦ３）２、またはＣ（ＣＨ３）２を表す。
【０１７４】
【化２８】
2005002166.tif 000018
【０１７５】
一般式（１０５）において、Ｒ６はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。ｎは０〜２０００の整数である。Ｒ７はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。Ｒ７としては、更に下記一般式（１０６）で示される基から選択される基も挙げることができる。
【０１７６】
【化２９】
2005002166.tif 000019
【０１７７】
一般式（１０６）において、Ｒ８はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数１〜４個のアルキル基、またはアリール基である。ｍは０〜１００の整数である。
【０１７８】
２個のオキセタン環を有する化合物の具体例としては、下記化合物が挙げられる。
【０１７９】
【化３０】
2005002166.tif 000020
【０１８０】
例示化合物１１は、前記一般式（１０２）において、Ｒ１がエチル基、Ｒ３がカルボキシル基である化合物である。また、例示化合物１２は、前記一般式（１０２）において、Ｒ１がエチル基、Ｒ３が前記一般式（１０５）でＲ６及びＲ７がメチル基、ｎが１である化合物である。
【０１８１】
２個のオキセタン環を有する化合物において、上記の化合物以外の好ましい例としては、下記一般式（１０７）で示される化合物がある。
【０１８２】
【化３１】
2005002166.tif 000021
【０１８３】
一般式（１０７）において、Ｒ１は前記一般式（１０１）のＲ１と同義である。
また、３〜４個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、下記一般式（１０８）で示される化合物が挙げられる。
【０１８４】
【化３２】
2005002166.tif 000022
【０１８５】
一般式（１０８）において、Ｒ１は前記一般式（１０１）におけるＲ１と同義である。Ｒ９としては、例えば、下記Ａ〜Ｃで示される基等の炭素数１〜１２の分枝状アルキレン基、下記Ｄで示される基等の分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基または下記Ｅで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。ｊは３または４である。
【０１８６】
【化３３】
2005002166.tif 000023
【０１８７】
上記Ａにおいて、Ｒ１０はメチル基、エチル基またはプロピル基等の低級アルキル基である。また、上記Ｄにおいて、ｐは１〜１０の整数である。
【０１８８】
３〜４個のオキセタン環を有する化合物の一例としては、例示化合物１３が挙げられる。
【０１８９】
【化３４】
2005002166.tif 000024
【０１９０】
更に、上記説明した以外の１〜４個のオキセタン環を有する化合物の例としては、下記一般式（１０９）で示される化合物が挙げられる。
【０１９１】
【化３５】
2005002166.tif 000025
【０１９２】
一般式（１０９）において、Ｒ８は前記一般式（１０６）のＲ８と同義である。Ｒ１１はメチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基またはトリアルキルシリル基であり、ｒは１〜４である。
【０１９３】
本発明で使用するオキセタン化合物の好ましい具体例としては、以下に示す化合物がある。
【０１９４】
【化３６】
2005002166.tif 000026
【０１９５】
【化３７】
2005002166.tif 000027
【０１９６】
上述したオキセタン環を有する各化合物の製造方法は、特に限定されず、従来知られた方法に従えばよく、例えば、パティソン（Ｄ．Ｂ．Ｐａｔｔｉｓｏｎ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３４５５，７９（１９５７））が開示している、ジオールからのオキセタン環合成法等がある。また、これら以外にも、分子量１０００〜５０００程度の高分子量を有する１〜４個のオキセタン環を有する化合物も挙げられる。これらの具体的化合物例としては、以下の化合物が挙げられる。
【０１９７】
【化３８】
2005002166.tif 000028
【０１９８】
また、本発明のインクジェット用インク組成物においては、本発明のオキセタン化合物と共に、エポキシ化合物またはビニルエーテル化合物を含有することが好ましい。
【０１９９】
エポキシ化合物において、芳香族エポキシドとして好ましいものは、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジまたはポリグリシジルエーテルであり、例えば、ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル、ならびにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。
【０２００】
脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセンまたはシクロペンテン環等のシクロアルケン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによつて得られる、シクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましい。
【０２０１】
脂肪族エポキシドの好ましいものとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテルまたは１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジまたはトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル等のポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイド等が挙げられる。
【０２０２】
これらのエポキシドのうち、迅速な硬化性を考慮すると、芳香族エポキシドおよび脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシドの１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０２０３】
脂環式エポキシドとして特に好ましいのは、前記一般式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）または（ＶＩＩＩ）で表される化合物である。
【０２０４】
一般式（ＶＩ）中、Ｒ６０１は脂肪族基を表し、ｍ６は０〜２を表す。Ｘ１は−（ＣＨ２）ｎ６−または−（Ｏ）ｎ６−を表し、ｎ６は０または１を表す。ｐ１、ｑ１はそれぞれ０または１を表す。ｒ１は１〜３を表す。Ｌ３は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基または単結合を表す。
【０２０５】
一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ７０１は脂肪族基を表し、ｍ７は０〜２を表す。Ｘ２は−（ＣＨ２）ｎ７−または−（Ｏ）ｎ７−を表し、ｎ７は０または１を表す。ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を表す。ｒ２は１〜３を表す。Ｌ４は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基または単結合を表す。
【０２０６】
一般式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ８０１は脂肪族基を表し、ｍ８は０〜２を表す。Ｘ３は−（ＣＨ２）ｎ８−または−（Ｏ）ｎ８−を表し、ｎ８は０または１を表す。Ｒ８０２、Ｒ８０３は置換基を表し、ｐ３は０または１を表す。
【０２０７】
更に、一般式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）または（ＶＩＩＩ）で表される脂環式エポキシドについて説明する。上記の式中、Ｒ６０１、Ｒ７０１、Ｒ８０１は脂肪族基を表わす、脂肪族基としては炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）が挙げられる。好ましくは炭素数１〜３個のアルキル基であり、メチル基、エチル基がより好ましい。ｍ６、ｍ７、ｍ８は０〜２を表し、１以上が好ましい。Ｘ１は−（ＣＨ２）ｎ６−または−（Ｏ）ｎ６−を、Ｘ２は−（ＣＨ２）ｎ７−または−（Ｏ）ｎ７−を、Ｘ３は−（ＣＨ２）ｎ８−または−（Ｏ）ｎ８−を表す。ｎ６、ｎ７、ｎ８は０または１を表し、ｎ６、ｎ７、ｎ８が０の場合はＸ１、Ｘ２、Ｘ３が存在しないことを表す。ｍ６＋ｎ６、ｍ７＋ｎ７またはｍ８＋ｎ８は１以上が好ましい。
【０２０８】
Ｌ３は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５のｒ１＋１価の連結基あるいは単結合を、Ｌ４は主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５のｒ２＋１価の連結基あるいは単結合を表す。主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜１５の２価の連結基の例としては以下の基およびこれらの基と−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
【０２０９】
メチレン基［−ＣＨ２−］、エチリデン基［＞ＣＨＣＨ３］、イソプロピリデン基［＞Ｃ（ＣＨ３）２］、１，２−エチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２−］、１，２−プロピレン基［−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−］、１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−］、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−］、２，２−ジメトキシ−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ２Ｃ（ＯＣＨ３）２ＣＨ２−］、２，２−ジメトキシメチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ３）２ＣＨ２−］、１−メチル−１，３−プロパンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２−］、１，４−ブタンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−］、１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−］、オキシジエチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−］、チオジエチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ２ＣＨ２−］、３−オキソチオジエチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２ＳＯＣＨ２ＣＨ２−］、３，３−ジオキソチオジエチレン基［−ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ２ＣＨ２ＣＨ２−］、１，４−ジメチル−３−オキサ−１，５−ペンタンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−］、３−オキソペンタンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＣＨ２ＣＨ２−］、１，５−ジオキソ−３−オキサペンタンジイル基［−ＣＯＣＨ２ＯＣＨ２ＣＯ−］、４−オキサ−１，７−ヘプタンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−］、３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−］、１，４，７−トリメチル−３，６−ジオキサ−１，８−オクタンジイル基［−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＯＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−］、５，５−ジメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−］、５，５−ジメトキシ−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＯＣＨ３）２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−］、５，５−ジメトキシメチル−３，７−ジオキサ−１，９−ノナンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ（ＣＨ２ＯＣＨ３）２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２−］、４，７−ジオキソ−３，８−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−ＣＯＣＨ２ＣＨ２ＣＯ−ＯＣＨ２ＣＨ２−］、３，８−ジオキソ−４，７−ジオキサ−１，１０−デカンジイル基［−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯ−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｏ−ＣＯＣＨ２ＣＨ２−］、１，３−シクロペンタンジイル基［−１，３−Ｃ５Ｈ８−］、１，２−シクロヘキサンジイル基［−１，２−Ｃ６Ｈ１０−］、１，３−シクロヘキサンジイル基［−１，３−Ｃ６Ｈ１０−］、１，４−シクロヘキサンジイル基［−１，４−Ｃ６Ｈ１０−］、２，５−テトラヒドロフランジイル基［２，５−Ｃ４Ｈ６Ｏ−］、ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ６Ｈ４−］、ｍ−フェニレン基［−ｍ−Ｃ６Ｈ４−］、α，α′−ｏ−キシリレン基［−ｏ−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−］、α，α′−ｍ−キシリレン基［−ｍ−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−］、α，α′−ｐ−キシリレン基［−ｐ−ＣＨ２−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ２−］、フラン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ２−Ｃ４Ｈ２Ｏ−ＣＨ２−］、チオフェン−２，５−ジイル−ビスメチレン基［２，５−ＣＨ２−Ｃ４Ｈ２Ｓ−ＣＨ２−］、イソプロピリデンビス−ｐ−フェニレン基［−ｐ−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＣＨ３）２−ｐ−Ｃ６Ｈ４−］。
【０２１０】
３価以上の連結基としては、以上に挙げた２価の連結基から任意の部位の水素原子を必要なだけ除いてできる基、およびそれらと−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＳ−基を複数組み合わせてできる基を挙げることができる。
【０２１１】
Ｌ３、Ｌ４は置換基を有していてもよい。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基である。
【０２１２】
Ｌ３、Ｌ４としては主鎖に酸素原子または硫黄原子を含んでもよい炭素数１〜８の２価の連結基が好ましく、主鎖が炭素のみからなる炭素数１〜５の２価の連結基がより好ましい。Ｌ３、Ｌ４としては主鎖に２級以上の炭素による分岐を有するものが好ましく、３級炭素による分岐を有するものがより好ましい。ｐ１、ｑ１はそれぞれ０または１を表し、ｐ１＋ｑ１が１以上であるのが好ましい。ｐ２、ｑ２はそれぞれ０または１を表し、それぞれ１が好ましい。ｒ１、ｒ２はそれぞれ１〜３を表し、それぞれ１または２が好ましい。
【０２１３】
Ｒ８０２、Ｒ８０３は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜８個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数１〜８個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）等が挙げられる。置換基として好ましいのは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基である。これらの置換基は更に置換されていてもよい。置換基の例としては先に挙げたものと同じものが挙げられる。Ｒ８０２とＲ８０３が末端で結合して環を形成してもよいし、Ｒ８０２とＲ８０３が同じ炭素上に置換してもよい。ｐ３は０または１を表し、１が好ましい。
【０２１４】
以下に、好ましい脂環式エポキシドの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２１５】
【化３９】
2005002166.tif 000029
【０２１６】
【化４０】
2005002166.tif 000030
【０２１７】
【化４１】
2005002166.tif 000031
【０２１８】
【化４２】
2005002166.tif 000032
【０２１９】
ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジまたはトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−ｏ−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
【０２２０】
これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度を考慮すると、ジまたはトリビニルエーテル化合物が好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。本発明では、上記ビニルエーテル化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【０２２１】
本発明のインクジェット用インク組成物においては、本発明のオキセタン化合物と共に、光酸発生剤を含有することが特徴である。
【０２２２】
カチオン重合型インクで用いる光酸発生剤としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる（有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版（１９９３年）、１８７〜１９２ページ参照）。本発明に好適な化合物の例を以下に挙げる。
【０２２３】
第１に、ジアゾニウム、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウムなどの芳香族オニウム化合物のＢ（Ｃ６Ｆ５）４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−、ｐ−ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−塩、ＣＦ３ＳＯ３−塩などのスルホン酸塩を挙げることができる。
【０２２４】
対アニオンとしてボレート化合物をもつものおよびＰＦ６−塩が酸発生能力が高く好ましい。オニウム化合物の具体的な例を以下に示す。
【０２２５】
【化４３】
2005002166.tif 000033
【０２２６】
第２に、スルホン酸を発生するスルホン化物を挙げることができる。具体的な化合物を以下に例示する。
【０２２７】
【化４４】
2005002166.tif 000034
【０２２８】
第３に、ハロゲン化水素を発生するハロゲン化物も用いることができる。以下に具体的な化合物を例示する。
【０２２９】
【化４５】
2005002166.tif 000035
【０２３０】
第４に、鉄アレン錯体を挙げることができる。
【０２３１】
【化４６】
2005002166.tif 000036
【０２３２】
本発明で用いられる光酸発生剤としては、アリールスルホニウム塩誘導体（例えば、ユニオン・カーバイド社製のサイラキュアＵＶＩ−６９９０、サイラキュアＵＶＩ−６９７４、旭電化工業社製のアデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２）、アリルヨードニウム塩誘導体（例えば、ローディア社製のＲＰ−２０７４）、アレン−イオン錯体誘導体（例えば、チバガイギー社製のイルガキュア２６１）、ジアゾニウム塩誘導体、トリアジン系開始剤及びその他のハロゲン化物等の酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤は、カチオン重合性を有する化合物１００質量部に対して、０．２〜２０質量部の比率で含有させることが好ましい。光酸発生剤の含有量が０．２質量部未満では、硬化物を得ることが困難であり、２０質量部を越えて含有させても、更なる硬化性向上効果はない。これら光酸発生剤は、１種または２種以上を選択して使用することができる。
【０２３３】
本発明で用いられる光酸発生剤として好ましいのはスルホニウム塩、ヨードニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、等のオニウム塩であり、中でもスルホニウム塩化合物が好ましい。より好ましいスルホニウム塩化合物の構造として、前記一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩が挙げられる。
【０２３４】
一般式（Ｉ−１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は置換基を表し、ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表す。Ｘ１１−は対イオンを表す。
【０２３５】
一般式（Ｉ−２）中、Ｒ１４は置換基を表し、ｑは０〜２の整数を表す。Ｒ１５、Ｒ１６は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ１２−は対イオンを表す。
【０２３６】
一般式（Ｉ−３）中、Ｒ１７は置換基を表し、ｒは０〜３の整数を表す。Ｒ１８は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ１９、Ｒ２０は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。Ｘ１３−は対イオンを表す。
【０２３７】
更に、一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩について説明する。一般式（Ｉ−１）で、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。
【０２３８】
置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アシル基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。ｍ、ｎ、ｐは０〜２の整数を表わしそれぞれが１以上であることが好ましい。Ｘ１１−は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ４−、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−などの錯イオン、ｐ−ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−、ＣＦ３ＳＯ３−などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ６−が酸発生能力が高く好ましい。
【０２３９】
一般式（Ｉ−２）で、Ｒ１４は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基である。これらの置換基のうち可能なものは更に置換されていてもよい。ｑは０〜２の整数を表わし１以上であることが好ましく、より好ましくは２である。
【０２４０】
またＲ１５、Ｒ１６は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数１〜６個のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフトキシ基等）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、水酸基等が挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基である。
【０２４１】
Ｒ１５、Ｒ１６として好ましくは、置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基、水酸基である。
【０２４２】
Ｘ１２−は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ４−、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−などの錯イオン、ｐ−ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−、ＣＦ３ＳＯ３−などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ６−が酸発生能力が高く好ましい。
【０２４３】
一般式（Ｉ−３）で、Ｒ１７は置換基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基、等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。ｒは０〜３の整数を表わし１以上であることが好ましく、より好ましくは２である。
【０２４４】
Ｒ１８は水素原子または置換、無置換のアルキル基を表し、Ｒ１９、Ｒ２０は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアルケニル基、置換、無置換のアルキニル基、または置換、無置換のアリール基を表す。置換基の例としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、炭素数１〜６個のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等）、炭素数３〜６個のシクロアルキル基（例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、炭素数１〜６個のアルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基等）、炭素数１〜６個のアルキニル基（例えば、アセチレニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基等）、炭素数１〜６個のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等）、炭素数６〜１４のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等）、炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等）、炭素数４〜８のヘテロ原子含有芳香族環基（例えば、フリル基、チエニル基等）、ニトロ基、シアノ基等が挙げられる。好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。
【０２４５】
Ｒ１８として好ましくは、水素原子または無置換の低級アルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基）であり、Ｒ１９、Ｒ２０として、好ましくは置換、無置換のアルキル基、または置換、無置換のアリール基であり、置換基として、好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基である。Ｘ１３−は対アニオンを表す。対アニオンとしては、ＢＦ４−、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−などの錯イオン、ｐ−ＣＨ３Ｃ６Ｈ４ＳＯ３−、ＣＦ３ＳＯ３−などのスルホネートイオンを挙げることができる。対アニオンとしてはボレートイオンおよびＰＦ６−が酸発生能力が高く好ましい。
【０２４６】
以下に、一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（Ｉ−３）で表されるスルホニウム塩の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２４７】
【化４７】
2005002166.tif 000037
【０２４８】
【化４８】
2005002166.tif 000038
【０２４９】
【化４９】
2005002166.tif 000039
【０２５０】
【化５０】
2005002166.tif 000040
【０２５１】
【化５１】
2005002166.tif 000041
【０２５２】
光重合促進剤としては、アントラセン、アントラセン誘導体（例えば、旭電化工業社製のアデカオプトマーＳＰ−１００）、フェノチアジン（１０Ｈ−フェノチアジン）、フェノチアジン誘導体（例えば、１０−メチルフェノチアジン、１０−エチルフェノチアジン、１０−デシルフェノチアジン、１０−アセチルフェノチアジン１０−デシルフェノチアジン−５−オキシド、１０−デシルフェノチアジン−５，５−ジオキシド、１０−アセチルフェノチアジン−５，５−ジオキシド）が挙げられる。これらの光重合促進剤は１種または複数を組み合わせて使用することができる。
【０２５３】
本発明のインクジェット用インク組成物には、上記説明した構成要素の他に、各種の添加剤を用いることができる。
【０２５４】
本発明のインクジェット用インク組成物で用いる色材としては、重合性化合物の主成分に溶解または分散できる色材が使用出来るが、耐候性の点から顔料が好ましい。
【０２５５】
本発明で好ましく用いることのできる顔料を、以下に列挙する。
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ−１、３、１２、１３、１４、１７、８１、８３、８７、９５、１０９、４２、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ−１６、３６、３８、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ−５、２２、３８、４８：１、４８：２、４８：４、４９：１、５３：１、５７：１、６３：１、１４４、１４６、１８５、１０１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ−１９、２３、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ−１５：１、１５：３、１５：４、１８、６０、２７、２９、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｇｒｅｅｎ−７、３６、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｗｈｉｔｅ−６、１８、２１、
Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌａｃｋ−７、
上記顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等を用いることができる。また、顔料の分散を行う際に分散剤を添加することも可能である。分散剤としては、高分子分散剤を用いることが好ましく、高分子分散剤としてはＡｖｅｃｉａ社のＳｏｌｓｐｅｒｓｅシリーズが挙げられる。また、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。これらの分散剤および分散助剤は、顔料１００質量部に対し、１〜５０質量部添加することが好ましい。分散媒体は、溶剤または重合性化合物を用いて行うが、本発明に用いる活性光線硬化型インクでは、インク着弾直後に反応・硬化させるため、無溶剤であることが好ましい。溶剤が硬化画像に残ってしまうと、耐溶剤性の劣化、残留する溶剤のＶＯＣの問題が生じる。よって、分散媒体は溶剤ではなく重合性化合物、その中でも最も粘度の低いモノマーを選択することが分散適性上好ましい。
【０２５６】
顔料の分散は、顔料粒子の平均粒径を０．０８〜０．５μｍとすることが好ましく、最大粒径は０．３〜１０μｍ、好ましくは０．３〜３μｍとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を適宜設定する。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インクの保存安定性、インク透明性および硬化の感度を維持することができる。
【０２５７】
本発明のインクジェット用インク組成物においては、色材濃度として、インク全体の１質量％乃至１０質量％であることが好ましい。
【０２５８】
本発明においては、吐出安定性、保存性を向上させる目的で、熱塩基発生剤も用いることができる。
【０２５９】
熱塩基発生剤としては、例えば、加熱により脱炭酸して分解する有機酸と塩基の塩、分子内求核置換反応、ロッセン転位、ベックマン転位等の反応により分解してアミン類を放出する化合物や、加熱により何らかの反応を起こして塩基を放出するものが好ましく用いられる。具体的には、英国特許第９９８，９４９号明細書に記載のトリクロロ酢酸の塩、米国特許第４，０６０，４２０号明細書に記載のアルファースルホニル酢酸の塩、特開昭５９−１５７６３７号公報に記載のプロピール酸類の塩、２−カルボキシカルボキサミド誘導体、特開昭５９−１６８４４０号公報に記載の塩基成分に有機塩基の他にアルカリ金属、アルカリ土類金属を用いた熱分解性酸との塩、特開昭５９−１８０５３７号公報に記載のロッセン転位を利用したヒドロキサムカルバメート類、加熱によりニトリルを生成する特開昭５９−１９５２３７号公報に記載のアルドキシムカルバメート類等が挙げられる。その他、英国特許第９９８，９４５号、米国特許第３，２２０，８４６号、英国特許第２７９，４８０号の各明細書、特開昭５０−２２６２５号、同６１−３２８４４号、同６１−５１１３９号、同６１−５２６３８号、同６１−５１１４０号、同６１−５３６３４号〜同６１−５３６４０号、同６１−５５６４４号、同６１−５５６４５号の各公報に記載の熱塩基発生剤が有用である。
【０２６０】
更に具体的に例を挙げると、トリクロロ酢酸グアニジン、トリクロロ酢酸メチルグアニジン、トリクロロ酢酸カリウム、フェニルスルホニル酢酸グアニジン、ｐ−クロロフェニルスルホニル酢酸グアニジン、ｐ−メタンスルホニルフェニルスルホニル酢酸グアニジン、フェニルプロピオール酸カリウム、フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルプロピオール酸セシウム、ｐ−クロロフェニルプロピオール酸グアニジン、ｐ−フェニレン−ビス−フェニルプロピオール酸グアニジン、フェニルスルホニル酢酸テトラメチルアンモニウム、フェニルプロピオール酸テトラメチルアンモニウムがある。上記の熱塩基発生剤は広い範囲で用いることができる。
【０２６１】
本発明のインクジェット用インク組成物は、特開平８−２４８５６１号、同９−３４１０６号の各公報をはじめとし、既に公知となっている活性光線の照射で発生した酸により新たに酸を発生する酸増殖剤を含有することも可能である。
【０２６２】
本発明のインクジェット用インク組成物は、活性エネルギー線硬化性化合物、顔料分散剤と共に、顔料をサンドミル等の通常の分散機を用いてよく分散することにより製造される。予め、顔料高濃度の濃縮液を調製しておき、活性エネルギー線硬化性化合物で希釈することが好ましい。通常の分散機による分散でも充分な分散が可能であり、このため、過剰な分散エネルギーがかからず、多大な分散時間を必要としないため、インク成分の分散時の変質を招きにくく、安定性に優れたインクが調製される。インクは、孔径３μｍ以下、更には１μｍ以下のフィルターにて濾過することが好ましい。
【０２６３】
本発明のインクジェット用インク組成物は、２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓと高めに調整することが好ましい。２５℃での粘度が５〜５０ｍＰａ・ｓのインクは、特に通常の４〜１０ＫＨｚの周波数を有するヘッドから、１０〜５０ＫＨｚの高周波数のヘッドにおいても安定した吐出特性を示す。粘度が５ｍＰａ・ｓ未満の場合は、高周波数のヘッドにおいて、吐出の追随性の低下が認められ、５０ｍＰａ・ｓを越える場合は、加熱による粘度の低下機構をヘッドに組み込んだとしても吐出特性そのものの低下を生じ、吐出の安定性が不良となり、全く吐出できなくなる。
【０２６４】
また、本発明のインクジェット用インク組成物は、ピエゾヘッドにおいては、１０μＳ／ｃｍ以下の電導度とし、ヘッド内部での電気的な腐食のないインクとすることが好ましい。また、コンティニュアスタイプにおいては、電解質による電導度の調整が必要であり、この場合には、０．５ｍＳ／ｃｍ以上の電導度に調整する必要がある。
【０２６５】
本発明においては、インクの２５℃における表面張力が、２５〜４０ｍＮ／ｍの範囲にあることが好ましい。２５℃におけるインクの表面張力が２５ｍＮ／ｍ未満では、安定した出射が得られにくく、また４０ｍＮ／ｍを越えると所望のドット径を得ることができない。２５〜４０ｍＮ／ｍの範囲外では、本発明のように、インクの粘度や含水率を制御しながら出射、光照射しても、様々な支持体に対して均一なドット径を得ることが困難となる。
【０２６６】
表面張力を調整するために、必要に応じて、界面活性剤を含有させてもよい。本発明に使用される界面活性剤としては、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第４級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤、重合性基を有する界面活性化合物などが挙げられる。これらの中で特に、シリコーン変性アクリレート、フッ素変性アクリレート、シリコーン変性エポキシ、フッ素変性エポキシ、シリコーン変性オキセタン、フッ素変性オキセタンなど、不飽和結合やオキシラン、オキセタン環など重合性基を有する界面活性化合物が好ましい。
【０２６７】
本発明のインクジェット用インク組成物には、上記説明した以外に様々な添加剤を用いることができる。例えば、レベリング添加剤、マット剤、膜物性を調整するためのポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類を添加することが出来る。記録媒体との密着性を改善するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。この場合、耐溶剤性やＶＯＣの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その使用量は０．１〜５％の範囲であり、好ましくは０．１〜３％である。また、ラジカル重合性モノマーと開始剤を組み合わせ、ラジカル・カチオンのハイブリッド型硬化インクとすることも可能である。
【０２６８】
本発明の画像形成方法においては、インク組成物をインクジェット記録方式により記録材料上に吐出、描画し、次いで紫外線などの活性光線を照射してインクを硬化させる。
【０２６９】
本発明の画像形成方法においては、インク出射時にはインクをインクジェットノズルごと加温し、インク液を低粘度させることが好ましい。加熱温度としては、３０〜８０℃、好ましくは３５〜６０℃である。
【０２７０】
本発明において、インクが着弾し、活性光線を照射して硬化した後の総インク膜厚が２〜２０μｍであることが好ましい。スクリーン印刷分野の活性光線硬化型インクジェット記録では、総インク膜厚が２０μｍを越えているのが現状であるが、記録材料が薄いプラスチック材料であることが多い軟包装印刷分野では、前述した記録材料のカール・しわの問題でだけでなく、印刷物全体のこし・質感が変わってしまうという問題が有るため使えない。また、本発明では、各ノズルより吐出する液滴量が２〜１５ｐｌであることが好ましい。
【０２７１】
本発明においては、高精細な画像を形成するためには、照射タイミングができるだけ早い方が好ましいが、本発明においては、インクの粘度または含水率が好ましい状態となるタイミングで光照射を開始することが好ましい。
【０２７２】
詳しくは、発生光線の照射条件として、インク着弾後０．００１〜２．０秒の間に活性光線照射を開始することが好ましく、より好ましくは０．００１〜０．４秒である。また、０．１〜３秒後、好ましくは０．２〜１秒以内に、インクの流動性が失われる程度まで光照射を行なった後、終了させることが好ましい。上記条件とすることにより、ドット径の拡大やドット間の滲みを防止することができる。
【０２７３】
活性光線の照射方法として、その基本的な方法が特開昭６０−１３２７６７号公報に開示されている。これによると、記録ヘッドユニットの両側に光源を設け、シャトル方式で記録ヘッドと光源を走査する。照射は、インク着弾後、一定時間を置いて行われることになる。更に、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させる。米国特許第６，１４５，９７９号明細書では、照射方法として、光ファイバーを用いた方法や、コリメートされた光源を記録ヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へＵＶ光を照射する方法が開示されている。本発明の画像形成方法においては、これらのいずれの照射方法も用いることができる。
【０２７４】
また、活性光線を照射を２段階に分け、まずインク着弾後０．００１〜２．０秒の間に前述の方法で活性光線を照射し、かつ、全印字終了後、更に活性光線を照射する方法も好ましい態様の１つである。活性光線の照射を２段階に分けることで、よりインク硬化の際に起こる記録材料の収縮を抑えることが可能となる。
【０２７５】
活性光線照射で用いる光源の例としては、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、螢光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン複写ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ＵＶランプ、低圧水銀ランプ、ＵＶレーザー、キセノンフラッシュランプ、捕虫灯、ブラックライト、殺菌灯、冷陰極管、ＬＥＤをなどがあるが、これらに限定されないが、この中でも蛍光管が低エネルギー・低コストであり、好ましい。光源波長としては２５０〜３７０ｎｍ、好ましくには２７０〜３２０ｎｍに発光波長のピークがある光源が、感度の点で好ましい。照度は、１〜３０００ｍＷ／ｃｍ２、好ましくは１〜２００ｍＷ／ｃｍ２である。また、電子線により硬化させる場合には、通常３００ｅＶの以下のエネルギーの電子線で硬化させるが、１〜５Ｍｒａｄの照射量で瞬時に硬化させることも可能である。
【０２７６】
本発明のインクジェット用インク組成物を用いて、被記録媒体（基材ともいう）への画像印字を行うが、被記録媒体としては、従来各種の用途で使用されている広汎な合成樹脂を全て用いることができ、具体的には、例えば、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリウレタン、ポリプロピレン、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブタジエンテレフタレート等が挙げられ、これらの合成樹脂基材の厚みや形状は何ら限定されない。
【０２７７】
本発明で用いることのできる基材としては、通常の非コート紙、コート紙などの他に、非吸収性支持体を用いることができるが、その中でも、基材として非吸収性支持体を用いることが好ましい。
【０２７８】
本発明においては、非吸収性支持体としては、各種非吸収性のプラスチックおよびそのフィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルム、ＰＥフィルム、ＴＡＣフィルムを挙げることができる。その他のプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ポリアセタール、ＰＶＡ、ゴム類などが使用できる。また、金属類やガラス類にも適用可能である。これらの記録材料の中でも、特に熱でシュリンク可能な、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルムへ画像を形成する場合に本発明の構成は、有効となる。これらの基材はインクの硬化収縮、硬化反応時の発熱などにより、フィルムのカール、変形が生じやすいばかりでなく、インク膜が基材の収縮に追従し難い。
【０２７９】
これら、各種プラスチックフィルムの表面エネルギーは大きく異なり、記録材料によってインク着弾後のドット径が変わってしまうことが、従来から問題となっていた。本発明の構成では、表面エネルギーの低いＯＰＰフィルム、ＯＰＳフィルムや表面エネルギーの比較的大きいＰＥＴまでを含むが、基材として、濡れ指数が４０〜６０ｍＮ／ｍであることが好ましい。
【０２８０】
本発明において、包装の費用や生産コスト等の記録材料のコスト、プリントの作成効率、各種のサイズのプリントに対応できる等の点で、長尺（ウェブ）な記録材料を使用する方が有利である。
【０２８１】
【実施例】
以下、本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。
【０２８２】
《インクジェットインクの調製》
（マゼンタインク１の調製）
下記の組成からなるマゼンタインク１を調製した。マゼンタインク１は、光酸発生剤を除く各組成物を、サンドグラインダーを用いて４時間分散した後、光酸発生剤を添加し、０．８μｍのメンブランフィルターで濾過を行った後、５０℃に加熱しながら減圧脱水を行って調製した。
【０２８３】
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８４                              ３質量部
オキセタン化合物Ａ                                        ２０質量部
アロンオキセタンＯＸＴ２２１                              ８０質量部
ソルスパース２４０００（Ａｖｅｃｉａ社製）                  １質量部
ＵＶＩ６９９０                                              ５質量部
（マゼンタインク２〜２０の調製）
顔料、エポキシ化合物、オキセタン化合物、光酸発生剤を以下に示す表１に記載したような構成に変更した以外は、マゼンタインク１と同様に調製して本発明の活性エネルギー線硬化型のインクジェット用インクであるマゼンタインク２〜２０を得た。
【０２８４】
【表１】
2005002166.tif 000042
【０２８５】
表１に記載の各化合物の詳細を、以下に示す。
〈顔料〉
Ｐ０：Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８４
Ｐ１：粗製銅フタロシアニン（東洋インク製造社製「銅フタロシアニン」）の２５０部、塩化ナトリウムの２５００部及びポリエチレングリコール（東京化成社製「ポリエチレングリコール３００」）の１６０部を、スチレン製４．５５Ｌ（１ガロン）のニーダー（井上製作所社製）に仕込み、３時間混練した。次に、この混合物を２．５リットルの温水に投入し、約８０℃に加熱しながらハイスピードミキサーで約１時間攪拌しスラリー状とした後、濾過、水洗を５回繰り返して塩化ナトリウムおよび溶剤を除き、次いでスプレードライをして乾燥して顔料Ｐ１を得た。
【０２８６】
Ｐ２：キナクリドン系赤顔料（Ｃｉｂａ  Ｇｅｉｇｙ社製「シンカシアマゼンタＲＴ−３５５−Ｄ」）の２５０部、塩化ナトリウムの２５００部及び「ポリエチレングリコール３００」の１６０部を、スチレン製４．５５Ｌ（１ガロン）ニーダーに仕込み、Ｐ１と同様にして顔料Ｐ２を得た。
【０２８７】
〈エポキシ化合物〉
セロキサイド３０００  ：脂環式エポキシ（ダイセルＵＣＢ社製）
セロキサイド２０２１Ｐ：脂環式エポキシ（ダイセルＵＣＢ社製）
〈光酸発生剤〉
ＳＰ−１５２：トリフェニルスルホニウム塩（アデカオプトマーＳＰ−１５２旭電化社製）
ＵＶＩ６９９０：トリフェニルスルホニウム塩（サイラキュアＵＶＩ６９９０ユニオンカーバイド社製）
〈オキセタン化合物〉
ＯＸＴ２２１：ジ〔１−エチル（３−オキセタニル）〕メチルエーテル（東亞合成社製）
オキセタン化合物Ａ：２−（４−メトキシフェニル）−３，３−ジメチルオキセタン（特開２００１−１８１３８６号公報に記載のオキセタン）
《インクジェット画像記録及び評価》
上記調製した各マゼンタインクを用いて、下記の方法に従って画像記録及び得られた画像の評価を行った。
【０２８８】
〔画像評価Ａ〕
（画像記録）
得られた各マゼンタインクを、液滴サイズ７ｐｌが得られるピエゾタイプのインクジェットノズル（ノズルピッチ３６０ｄｐｉ、本発明でいうｄｐｉとは２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）を、ノズル部分を５０℃に加熱制御し、コロナ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを基材として用いて出射し、マゼンタベタ画像と６ポイントＭＳ明朝体文字を印字した。光源は、３０８ｎｍに主ピークを持つ蛍光管を用い、光源直下、基材面の照度が１０ｍＷ／ｃｍ２の条件で、着弾後０．２秒後に露光を開始し、０．７秒後に露光を終了させた。なお、露光エネルギーは５ｍＪ／ｃｍ２であった。この画像印字を低湿環境（２５℃、２０％ＲＨ）及び高湿環境（２５℃、８０％ＲＨ）にて行った。
【０２８９】
（画像の評価）
以上のようにして得られた各画像について、下記の評価を行った。
【０２９０】
〈インク硬化性の評価〉
各環境下で形成した印字画像について、下記の基準に則りインク硬化性の評価を行った。
【０２９１】
○：露光終了直後に触っても画像はタッキネスがない
△：露光終了直後に触ると画像はタッキネスが若干あるが、１分後にはタッキネスが無くなる
×：露光終了１分後でもタッキネスが残る
〈基材密着性の評価〉
各環境下で形成したベタ画像上に、幅２５ｍｍのセロテープ（Ｒ）を貼り付けて強く圧着した後、９０度の剥離角度で素早く剥離し、隔離後の画像の状態を目視観察し、下記の基準に則り基材密着性の評価を行った。
【０２９２】
○：テープ剥離でも画像は剥がれない
△：テープ剥離で画像が一部剥がれる
×：テープ剥離で画像が全て剥がれる
〈画像滲み耐性の評価〉
各環境下で形成した６ポイントＭＳ明朝体文字をルーペで観察し、隣り合うドットの状態を観察し、下記の基準に則り画像滲み耐性の評価を行った。
【０２９３】
○：２ドット間の滲みが殆どない
△：２ドット間の滲みが僅かに見られる
×：ドットが大きく滲む
以上により得られた結果を表２に示す。
【０２９４】
【表２】
2005002166.tif 000043
【０２９５】
〔画像評価Ｂ〕
上記画像評価Ａにおいて、インクを印字した後の露光照射開始時間を０．６秒に、また露光照射終了時間を１．１秒後に変更した以外は、同様にして、画像記録及び評価を行った。露光時間、露光エネルギーは画像評価Ａと同じくそれぞれ０．５秒間、５ｍＪ／ｃｍ２であった。得られた結果を表３に示す。
【０２９６】
【表３】
2005002166.tif 000044
【０２９７】
表２、表３より明らかなように、本発明のオキセタン化合物を含有するインクは、比較例に対し、高湿環境下や様々な露光環境でも優れたインク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られることが分かる。
【０２９８】
【発明の効果】
本発明により、低照度の光源でも環境湿度に影響を受けずにインク硬化性、基材密着性に優れ、滲みのない高品位の画像を得られるオキセタン化合物と活性エネルギー線硬化型組成物、インクジェット用インク組成物及びこのインクジェット用インク組成物を用いた画像形成方法を提供することができた。