(57)【要約】    【構成】  半導体レーザ２８からの光が複屈折板３２を経て偏光ビームスプリッタ３４に入射し、必要な０次光は９０％が対物レンズ４６の方向へ透過し、また１０％がフロントモニタ３６の方向へ分岐される。半導体レーザ２８の偏光状態が変化したとき、複屈折板３２によって集中した不要な１次光は、偏光ビームスプリッタ３４によって全反射されてフロントモニタ３６の方向に至る。フロントモニタ３６の受光部を覆う遮蔽物３８によってこの不要な１次光が遮られる。したがって、不要な１次光がフロントモニタ３６の出力に影響を与えることがない。    【効果】  偏光状態が変化したときでも不要な１次光がフロントモニタの出力に影響を与えることがないので、レーザ出力を適正に制御することができる。【選択図】  図３
2005100503.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光源からのレーザ光を偏光ビームスプリッタで対物レンズへ向かう光とフロントモニタに向かう光とに分離し、フロントモニタの出力に応じて前記レーザ光源の出力を制御する光ピックアップであって、
前記レーザ光源と前記偏光ビームスプリッタとの間に設けられた複屈折板、および
前記フロントモニタの受光部周辺に設けられ、不要な１次光を遮蔽するための遮蔽物を備える、光ピックアップ。
【請求項２】
前記遮蔽物は、前記受光部に相当する直径または幅を有する円筒状または角筒状の光吸収体を含み、その筒状光吸収体の軸が前記受光部の受光面に直交するように配置される、請求項１記載の光ピックアップ。
【請求項３】
前記筒状光吸収体は、それの直径または幅との関係で所定の高さを有するものとされる、請求項２記載の光ピックアップ。
【請求項４】
前記遮蔽物は、間隔を隔ててよろい戸状に設けられる複数の板状光吸収体を含み、その板状光吸収体の面が前記受光部の受光面に直交しかつ複屈折材の回折格子によって回折されるｎ次光が連なる方向と直交するように配置される、請求項１記載の光ピックアップ。
【請求項５】
前記板状光吸収体は、それの間隔との関係で所定の高さを有するものとされる、請求項４記載の光ピックアップ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は光ピックアップに関し、特にたとえば半導体レーザからの出射光を偏光ビームスプリッタで分岐してフロントモニタ（受光センサ）へ入力し、このフロントモニタの入射光量すなわち出力に応じて半導体レーザの出力を制御する、光ピックアップに関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の光ピックアップが特許文献１および特許文献２などに開示されている。
【０００３】
一般的に、半導体レーザは、製造時にストレスを加えると、使用時に温度や出力パワーが変化したとき、偏光状態が変化する場合がある。たとえば、偏光面方位角が傾いたり、直線偏光が楕円偏光に変わったり、楕円偏光の消光比が変化したりする。他方、偏光ビームスプリッタは入射光の偏光状態で透過率や反射率が変わり、たとえばＰ波を透過しＳ波を反射させる。したがって、偏光状態が変化すると、偏光ビームスプリッタに対しての各波成分の光量が変化するため、結果的にフロントモニタへ分岐される光量が変化する。そのため、フロントモニタ出力が変化し、半導体レーザの出力制御が正確に行なわれなくなる。
【０００４】
たとえば、偏光面方位角がθだけ傾くと、Ｐ成分は（ｃｏｓθ）２に低下し、逆にＳ成分は（ｓｉｎθ）２だけ増加する。偏光ビームスプリッタの分光特性によれば、Ｐ成分は、（ｃｏｓθ）２の９０％が対物レンズ方向へ透過し、（ｃｏｓθ）２の１０％がフロントモニタ方向へ反射する。他方、（ｓｉｎθ）２のＳ成分は全てフロントモニタへ反射される。したがって、この場合、フロントモニタへの光パワーは「（ｃｏｓθ）２×０．１＋（ｓｉｎθ）２」である。
【０００５】
方位角がずれていない状態と比較すると、フロントモニタへのパワー増加率は、「｛（ｃｏｓθ）２×０．１＋（ｓｉｎθ）２｝／０．１」となる。この状態でＡＰＣ（Automatic Power Control：オートパワーコントロール）をかけると、フロントモニタ光量が１０％になるように半導体レーザの出力が制御される。その結果、対物レンズ方向への光量は、単純計算で、「｛（ｃｏｓθ）２×０．９｝／［｛（ｃｏｓθ）２×０．１＋（ｓｉｎθ）２｝／０．１］となる。たとえば、偏光面方位角のずれθが５°の場合、対物レンズへの光量は８４パーセントに低下し、１０°なら６９％にも低下してしまう。
【０００６】
このような偏光状態の変化による不正確なレーザ出力制御を防止するためには、偏光状態の変化時に増加するフロントモニタへのＳ波の影響を排除する必要がある。
【０００７】
しかしながら、特許文献１ではフロントモニタ（１５）の前に光量制限手段（４２）を設けているが、この光量制限手段はこのような偏光状態の変化に起因する不所望なＳ波成分の影響を除去することについては何の効果もない。
【０００８】
これに対して、特許文献２の特に図５では、半導体レーザの偏光状態の変化に起因する不要なＳ波成分がフロントモニタに入射しないようにするために、複屈折板を用いる。すなわち、偏光ビームスプリッタ（２１）で反射して凸レンズ（５１）で集光されたＰ成分が複屈折板（５３）に入射され、この複屈折板によってＰ波とＳ波とに分離され、Ｐ波が２分割受光素子の一方（５３ａ）に、Ｓ波が他方（５３ｂ）に入射される。したがって、一方受光素子（５３ａ）の出力によって     ＡＰＣを行なうことによって、半導体レーザの偏光状態の変化に影響されないレーザ出力制御が行なえる。
【特許文献１】特開平７−１０５５６７号公報［Ｇ１１Ｂ  ７／１３５  ７／１２５  １１／１０］
【特許文献２】特開平７−６５４００号公報［Ｇ１１Ｂ  ７／１２５］
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献２によれば、半導体レーザのたとえば製造時のストレスによって、使用時に偏光状態が変化しても、その偏光状態の変化に影響されず、正確な半導体レーザの出力制御を行なうことができるという利点があるものの、偏光ビームスプリッタとフロントモニタとの間に凸レンズや複屈折板を配置しなければならない。
【００１０】
他方、たとえばノートパソコンに内蔵するディスクドライブの光ピックアップの場合、限られたスペースに配置する必要があり、偏光ビームスプリッタとフロントモニタとの間に十分なスペースを確保できず、したがって、特許文献２の方法では対処できないことがある。
【００１１】
それゆえに、この発明の主たる目的は、狭いスペースにも配置でき、レーザ光源の偏光状態の変化に影響されず正確なレーザ出力制御を行なうことができる、光ピックアップを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
請求項１の発明は、レーザ光源からのレーザ光を偏光ビームスプリッタで対物レンズへ向かう光とフロントモニタに向かう光とに分離し、フロントモニタの出力に応じてレーザ光源の出力を制御する光ピックアップであって、レーザ光源と偏光ビームスプリッタとの間に設けられた複屈折板、およびフロントモニタの受光部周辺に設けられ、不要な１次光を遮蔽するための遮蔽物を備える、光ピックアップである。
【００１３】
請求項１の発明では、複屈折板の第１軸を、レーザ光源の偏光状態が変化する前の偏光面と平行に配置すると、第１軸方向と平行な方向に振動する光（必要な０次光）はこの複屈折板を素通りして偏光ビームスプリッタへ入射される。したがって、この必要な０次光はたとえば９０％が対物レンズへ向かい、１０％がフロントモニタへ向かう用に分岐される。これに対して、第１軸と直交する方向に振動する光は、１次光に集中して回折される。これを不要な１次光と呼ぶと、この不要な１次光は、偏光ビームスプリッタで全反射してフロントモニタ向かう。この不要な１次光が遮蔽物によって遮られ、フロントモニタの受光部へ入射されることがない。したがって、フロントモニタの出力は必要な０次光の入射光量にのみ依存することとなり、レーザ出力制御は、レーザ光源の偏光状態の変化の影響を受けることなく、適正に行なわれる。
【００１４】
請求項２の発明は、遮蔽物は、受光部に相当する直径または幅を有する筒状の光吸収体を含み、その筒状光吸収体の軸が受光部の受光面に直交するように配置される、請求項１記載の光ピックアップである。
【００１５】
請求項２の発明では、遮蔽物は、たとえば黒色の光吸収材のブロックに形成されたアパーチャまたは孔であったり、あるいは光吸収材ではないブロックに形成された孔の内面に形成された光吸収層であったりする。
【００１６】
請求項３の発明は、筒状光吸収体は、それの直径または幅との関係で所定の高さを有するものとされる、請求項２記載の光ピックアップである。
【００１７】
請求項３の発明では、筒状光吸収体の径をｄとし、受光部遠端角をＤとするとき、高さｈは、たとえば「ｔａｎＤ≧ｄ／ｈ」を満足する高さに設定される。そうすれば、不要な１次光を確実に遮蔽することができる。
【００１８】
請求項４の発明は、遮蔽物は、間隔を隔ててよろい戸状に設けられる複数の板状光吸収体を含み、その板状光吸収体の面が受光部の受光面に直交しかつ複屈折材の回折格子によって回折されるｎ次光が連なる方向と直交するように配置される、請求項１記載の光ピックアップである。
【００１９】
請求項４の発明では、遮蔽物は、たとえば薄い透明ガラスを複屈折材の回折格子によって回折されるｎ次光が連なる方向と直交する方向に積層し、そのガラス間に光吸収体を挟み込むことによって、間隔を隔てて複数の板状光吸収体をよろい戸状に配置できる。
【００２０】
請求項５の発明は、板状光吸収体は、それの間隔との関係で所定の高さを有するものとされる、請求項４記載の光ピックアップである。
【００２１】
請求項５の発明では、板状光吸収体の間隔をｂとし、受光部遠端角をＤとするとき、高さｈは、たとえば「ｔａｎＤ≧ｂ／ｈ」を満足する高さに設定される。そうすれば、不要な１次光を確実に遮蔽することができる。
【発明の効果】
【００２２】
この発明によれば、レーザ光源と偏光ビームスプリッタとの間に複屈折板を設け、偏光ビームスプリッタとフロントモニタとの間にはフロントモニタの受光側に遮蔽物だけを設けたので、偏光ビームスプリッタとフロントモニタとの間にあまり大きなスペースは不要となり、狭いスペースに配置でき、しかもレーザ光源の偏光状態の変化の影響を回避してレーザ出力を適正に制御することができる。
【００２３】
この発明の上述の目的，その他の目的，特徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳細な説明から一層明らかとなろう。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
図１を参照して、この発明の一実施例である光ディスク装置１０は、信号を記録再生する媒体として、たとえばＤＶＤ−Ｒ／ＲＷのようなディスク１２を用いる。なお、この図１では、ディスク１２の下方の構成部品を明示するために、ディスク１２の外形のみを想像線で表している。ディスク１２は保時部１４に保持され、スピンドルモータ１６によって回転される。ディスク１２の下方に、このディスク１２に信号を記録したりディスク１２から信号を再生するための光ピックアップ１８が設けられ、この光ピックアップ１８は、シャフト２０によって、このシャフト２０の軸方向に移動可能に、保持される。そして、このシャフト２０はシャフトホルダ２２によって保持され、このシャフトホルダ２２は、スピンドルモータ１６とともに、シャーシ２４上に固定される。
【００２５】
図示しないが、ディスク１２の表面には透明なカバーガラス層が形成され、その下層の信号面には、周知の方法で信号が記録される。信号の記録方法は、微細な凹凸であるピットによる方法、屈折率や反射率の大小の違いを持たせて記録する方法、または磁気極性の違いを持たせて記録する方法等などがよく知られているが、この発明は、このような任意の光ディスクの物理フォーマットに適用できる。ただし、各種の記録再生原理は周知であり、ここでは説明を省略する。
【００２６】
光ピックアップ１８から出射された光は、ディスク１２の信号面上に結像され、微小なスポットを形成する。光ピックアップ１８はシャフト２０に沿って、駆動部（図示せず）によって移動される。したがって、光ピックアップ１８によるスポットは、ディスク１２上で２次元的に走査される。このスポットの照射によって信号がディスク１２の信号面に記録され、また信号面に照射された光によって信号が再生される。
【００２７】
この発明を適用する光学系の構成は、記録再生方式の上述のような違いに応じて若干異なるが、図１実施例ではディスク１２がＤＶＤ−Ｒ／ＲＷである場合の光学系を示す。ただし、この発明はこれに限定されるものではない。
【００２８】
図２に示すように、光ピックアップ１８のハウジング２６内には、信号の記録再生のための光源である半導体レーザ２８が設けられ、この半導体レーザ２８からの光は回折格子３０に入射される。回折格子３０は入射した光を３つに分け、複屈折板３２を通して、偏光ビームスプリッタ３４に入射する。複屈折板３２は、回折格子３０から出力される半導体レーザ２８の出射光の偏光面を揃えるためのものであり、複屈折材料と回折格子とを用いて構成した偏光フィルタである。
【００２９】
複屈折材料は入射偏光面の違いによって屈折率が異なる物質で、ここでは２軸タイプを想定する。便宜上、第１軸および第２軸と呼ぶ。第１軸と平行に振動する光に対しては、回折格子の溝深さの光路長が波長の整数倍となっており、回折格子としては機能しない。第２軸に平行に振動する光に対しては屈折率つまり溝深さの光路長が異なるので、回折格子として作用する。しかも、格子断面形状を矩形とし、凹凸比率を１：１とし、第２軸での溝深さ光路長を「波長の整数倍＋半波長」に設定すれば、第２軸方向に振動する光の回折光のうち０次光はゼロとなり、１次光に集中する。したがって、複屈折板３２によれば、必要な偏光面の光は透過し、それに直交する偏光面の光は１次光として０次光から分離できるので、偏光フィルタとして用いることができる。
【００３０】
なお、この実施例では、複屈折板３２は、第１軸が偏光状態が変動する前の偏光面と平行になるように配置している。
【００３１】
偏光ビームスプリッタ３４は、光をその偏光に応じて、反射あるいは透過させる。そして、この偏光ビームスプリッタ３４の手前側側面には、光量を検出するためのフロントモニタ３６が配置される。このフロントモニタ３６の偏光ビームスプリッタ３４側には、遮蔽物３８が設けられる。この遮蔽物３８はフロントモニタ３６の受光部３６ａ（図４）を囲い、光の進行方向に高さｈを有する。
【００３２】
図４を参照して具体的に説明すると、この遮蔽物３８は、光を吸収する黒い材質たとえばプラスチックからなる高さｈのブロックであり、その中央に直径ｄのアパーチャまたは細長い孔３９（図４）を形成する。この孔３９がフロントモニタ３６の受光部３６ａと一致またはほぼ一致するように遮蔽物３８が配置される。遮蔽物３８は、アパーチャないし孔３９の軸が偏光ビームスプリッタ３４へ向かう「必要な０次光」の光軸と一致するように配置する。
【００３３】
また、偏光ビームスプリッタ３４の前方には、放射光を平行光に変換するためのコリメータレンズ４０が設けられ、このコリメータレンズ４０を通過した光は、直線偏光と円偏光との変換を行う１／４（４分の１）波長板４２に与えられる。
【００３４】
１／４波長板４２を出た光は、反射ミラー４４によって反射されて、対物レンズ４６を通して、ディスク１２上に結像される。対物レンズ４６は対物レンズホルダ４８によって固定的に保持される。対物レンズホルダ４８は、ワイヤサスペンション５０によって保持され、このワイヤサスペンション５０は、ワイヤサスペンションプレート５２によって保持される。
【００３５】
また、偏光ビームスプリッタ３４の後面側側面には、非点収差を発生させるシリンドリカルレンズ５４が設けられ、受光センサ５６は、このシリンドリカルレンズ５４からの光を受け、その光を電気信号（電流または電圧）に変換する。
【００３６】
ここで、図３を用いて、通常の信号再生に用いられる光の流れを説明する。
【００３７】
半導体レーザ２８から放射状に出射された光は、球面波であり、回折格子３０を通過することで、それぞれに仮想光源を持った３つの球面波に分かれる。１つは、コリメータレンズ４０の光軸上の半導体レーザ２８を光源とする０次光の主光線であり、残りは、＋１次光および−１次光である。０次光は、光量が大きいメインビームとなり、信号の記録再生に用いられ、±１次光は、光量が小さい２つのサブビームとなり、ディファレンシャルプッシュプル法と呼ばれるトラッキングサーボに用いられる。ただし、この信号処理の手法はこの発明に直接は関係しないので、ここでは説明を省略する。同様に、±１次光も説明は省略し、以下には０次光だけを説明する。
【００３８】
偏光ビームスプリッタ３４は、光のＰ波成分を所定の割合、たとえば９：１で、透過光と反射光とに分光し、Ｓ波成分を所定の割合、たとえば０：１０で、透過光と反射光とに分光する。だたし、この実施例の光学系においては、半導体レーザ２８から出射される光は、全てＰ波となる。したがって、全光量の１０分の１が反射され、フロントモニタ３６に入射され、残りの１０分の９の光が透過する。
【００３９】
フロントモニタ３６に入射した光は、電気信号に変換され、オートパワーコントロールに利用される。制御回路は、たとえば目標光量に対応した電気信号とフロントモニタ３６の出力との差に応じた電気信号をレーザドライバＩＣに与え、それによって半導体レーザ２８に供給する電流値を変化させる。つまり、電気信号が所定の値に保たれるように半導体レーザ２８に供給される電流が制御され、結果的に、対物レンズ４６から出射されるメインビームが、所定の光出力のものとされる。
【００４０】
偏光ビームスプリッタ３４を透過した光は、コリメータレンズ４０によって、球面波から平面波へ、言い換えれば、放射光から平行光に変換される。方向は、光軸に平行である。
【００４１】
コリメータレンズ４０で変換された平行光は、１／４波長板４２に入射し、直線偏光が円偏光に変換される。円偏光とは、光のＰ波とＳ波の位相が１／４波長ずれた状態を言う。そして、その光は、反射ミラー４４で向きを変え、対物レンズ４６に入射する。この光は、ディスク１２の信号面で結像し、反射される。
【００４２】
反射光は、往路を逆に辿り、先ず、対物レンズ４６で平行光に変換された後、１／４波長板４２を通過する。このとき、円偏光から直線偏光に変換されるが、Ｐ波とＳ波の位相差はさらに１／４波長ずれ、すなわち、往路と比べて位相差は１／２波長となり、変更面は９０°回転したことになるので、変換された直線偏光の偏光面は、偏光ビームスプリッタ３４におけるＳ波平面と平行になる。
【００４３】
次に、１／４波長板４２からの平行光がコリメータレンズ４０で集束光に変換され偏光ビームスプリッタ３４に入射する。この光はＳ波に直線偏光しているので、偏光ビームスプリッタ３４では、１００％反射され、その反射光は受光センサ５６の方向へ向きを変える。
【００４４】
受光センサ５６へ向かった光のうち、有効光束は、シリンドリカルレンズ５４に入射し、非点隔差が発生する。これは、フォーカスサーボに非点収差法を用いるためである。非点収差法はよく用いられている方法であり、原理も周知なことなので、ここでの説明は省略する。
【００４５】
シリンドリカルレンズ５４から出た光は、受光センサ５６付近の光軸上で集光する。この受光センサ５６は光軸位置に配置された４分割センサ（図示せず）を含み、記録信号を再生すると同時に、フォーカスサーボ、トラッキングサーボのためのエラー信号を生成する。ただし、このようなエラー信号の生成に関しては、周知であるため、ここでは説明を省略する。
【００４６】
ここで、半導体レーザ２８の出射光の偏光状態が変動した場合を考える。
【００４７】
上述のように、複屈折板３２の第１軸は、偏光面方位角が変化する前の偏光面と平行に設定されているため、偏光状態が変動した光のうち第１軸と平行に振動する光は、複屈折板３２を素通りする。この光を「必要な０次光」と呼ぶ。そして、その光量比率は、（ｃｏｓθ）２となる。ただし、θは偏光方位角の傾き角である。
【００４８】
実施例の場合、上述のように複屈折板３２の格子断面形状を矩形とし、凹凸比率を１：１とし、第２軸での溝深さ光路長を「波長の整数倍＋半波長」に設定しているので、第２軸方向に振動する光の回折光のうち０次光はゼロとなり、±１次光に集中する。つまり、偏光状態が変動した光のうち第１軸と直交する方向に振動する光は、±１次光に集中して回折される。この光を「不要な１次光」と呼ぶ。ただし、この「不要な１次光」は先に説明したサブビームのことではない。
【００４９】
不要な１次光の光量比率は、（ｓｉｎθ）２となる。複屈折板３２の回折格子の溝をＳ面に平行にすると、ｎ次光を連ねた平面はＰ面と平行になる。１次光はＰ面内にあって、回折角だけ傾いている。その状態を図５に示す。ここでは、簡単のために、片側１次光のみを図示している。
【００５０】
偏光ビームスプリッタ３４にとってＰ波である、必要な０次光は、先に説明したように、その９０％が偏光ビームスプリッタ３４を透過して対物レンズ４６に向かい、１０％がフロントモニタ３６へ向かう。その光量比率は、「（ｃｏｓθ）２×０．１」である。この光は、フロントモニタ３６の前に設けられた遮蔽物３８によって、一部遮られフロントモニタ３６の受光部に入射する。その比率をαとすると、光量比率は、「（ｃｏｓθ）２×０．１×α」となる。
【００５１】
他方、偏光ビームスプリッタ３４にとってＳ波である不要な１次光は、偏光ビームスプリッタ３４によって全反射されてフロントモニタ３６に向かう。その光量比率は、（ｓｉｎθ）２である。
【００５２】
この不要な１次光は、回折角度だけ傾いているため、図６および図７に示すように、フロントモニタ３６の前の遮蔽物３８で殆どが遮られる。ここで、図６はフロントモニタ３６および遮蔽物３８に対する、必要な０次光および不要な１次光の関係を図示し、図７は不要な１次光だけを示す。
【００５３】
フロントモニタ３６の受光部３６ａの、回折光が連なる平面内すなわち実施例ではＰ面内に投影した方向の幅をｄ（図４）とし、図８に示すように、このときにフロントモニタ３６に入射する１次光の仮想光源と受光部３６ａの外縁遠端Ｂとを結ぶ線Ａと０次光の主光線方向すなわちレンズ光軸方向である軸Ｃとがなす角度をＤ（この角度Ｄを便宜上、「受光部遠端角」と呼ぶ。）とすると、遮蔽物３８の孔３９のアスペクト比が「ｔａｎＤ≧ｄ／ｈ」となるように設定すれば、不要な１次光のフロントモニタ３６の受光部３６ａへの入射を完全に遮ることができる。したがって、不要な１次光がフロントモニタ３６で受光される光量比率はゼロ（０）となる。
【００５４】
偏光状態の変化がなければ、フロントモニタ３６への光量比率は上述のように「０．１×α」であり、対物レンズ４６への光量比率は０．９である。
【００５５】
偏光状態が変化すると、フロントモニタ３６への光量比率は「（ｃｏｓθ）２×０．１×α」となり、対物レンズ４６への光量比率は、「（ｃｏｓθ）２×０．９」となる。
【００５６】
したがって、偏光状態が変化する前と後とでのフロントモニタ３６への光量比率は、「｛（ｃｏｓθ）２×０．１×α｝／０．１×α＝（ｃｏｓθ）２」である。これは偏光状態が変化する前と同じであり、これでＡＰＣを掛けたときには、半導体レーザ２８の出力が１／（ｃｏｓθ）２となるように制御される。したがって、対物レンズ４６への光量は単純計算で、「｛（ｃｏｓθ）２×０．９｝／ｃｏｓθ」２＝０．９」となる。これは偏光状態の変化がないときと同じである。
【００５７】
つまり、この実施例のようにフロントモニタ３６の受光部への不要な１次光の入射を遮る遮蔽物３８を用いれば、半導体レーザ２８の出射光の偏光状態が変化しても、ＡＰＣによって適正にレーザ出力を制御することができる。
【００５８】
なお、実施例では遮蔽物３８全体を光を吸収する黒い材料で形成した。しかしながら、図９に示すように、全体が黒色ではなく、孔３９の内面にたとえば黒色材料のような光吸収層５８を形成し、その光吸収層５８で光を吸収するようにしてもよい。この場合には、光吸収層５８が不要１次光を遮蔽する。ただし、この場合にも、孔３９すなわち光吸収層５８のアスペクト比は受光部遠端角Ｄとの関係で「ｔａｎＤ≧ｄ／ｈ」を満足する必要がある。なお、この図９実施例の光吸収層５８や図４実施例の孔３９は、いずれも、受光部３６ａに相当する直径ｄを有する、円筒状光吸収体として機能する。そして、いずれの場合も、円筒状光吸収体の軸が図４や図９に示すようにフロントモニタ３６の受光部３６ａの受光面に直交するように、遮蔽物３８が配置される。
【００５９】
また、上述の説明では直径ｄの円筒状の光吸収体としたが、これは、幅ｄの角筒上の光吸収体であってもよい。つまり、上述の孔３９や光吸収層５８は角筒状であってよい。
【００６０】
図１０は、上述の実施例とは異なる遮蔽物６０を用いたこの発明の他の実施例を示す。この実施例の遮蔽物６０は、図１１に示すように、Ｐ面内で複数の薄い透明なガラス板６２を重ね、そのガラス板６２の間にたとえば黒い材料からなる光吸収体６４を挟み込んだものである。つまり、この実施例の遮蔽物６０は、間隔ｂで連なるよろい戸状の光吸収体６４を含み、その間隔ｂを通して必要な０次光が受光部３６ａに入射され得る。換言すれば、この実施例の場合、板状の光吸収体の面が図１１に示すようにフロントモニタ３６の受光部３６ａの受光面に直交しかつ複屈折材の回折格子によって回折されるｎ次光が連なる方向と直交する方向に、遮蔽物６０が配置される。
【００６１】
この実施例においても、複屈折板３２の回折格子の溝をＳ面に平行にすると、ｎ次光を連ねた平面はＰ面と平行になる。１次光はＰ面内にあって、回折角だけ傾いている。その状態を図１２に示す。ここでは、簡単のために、片側１次光のみを図示している。
【００６２】
図１２に示すように、偏光ビームスプリッタ３４にとってＰ波である、必要な０次光は、先に説明したように、その９０％が偏光ビームスプリッタ３４を透過して対物レンズ４６に向かい、１０％がフロントモニタ３６へ向かう。そのフロントモニタ３６方向へ分岐された光は、フロントモニタ３６の前に設けられた遮蔽物６０によって、一部遮られはするものの、殆どがフロントモニタ３６の受光部３６ａに入射する。
【００６３】
他方、偏光ビームスプリッタ３４にとってＳ波である不要な１次光は、偏光ビームスプリッタ３４によって全反射されてフロントモニタ３６に向かう。この不要な１次光は、回折角度だけ傾いているため、フロントモニタ３６の前の遮蔽物６０で殆どが遮られる。
詳しく述べると、光吸収体６２のＰ面内の間隔をｂ（図１１）とし、受光部遠端角を図１３に示すようにＤとすると、遮蔽物６０のアスペクト比が「ｔａｎＤ≧ｂ／ｈ」となるように設定すれば、不要な１次光のフロントモニタ３６の受光部３６ａへの入射を完全に遮ることができる。
【００６４】
図１１実施例の遮蔽物６０を用いれば、図４または図９実施例の遮蔽物３８に比べて、高さｈを小さくできるという利点がある。具体的には、ｄ＝０．７ｍｍ、Ｄ＝１５°の場合、第１実施例では、ｈ≧０．７／ｔａｎ１５°＝２．６ｍｍとなる。第２実施例では薄いガラス板が利用できるので、たとえばｂ＝０．２ｍｍとすると、ｈ≧０．２／ｔａｎ１５°＝０．７５ｍｍとなり、第１実施例に比べて高さｈを小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】図１はこの発明が適用されるディスク装置の一例を示す図解図である。
【図２】図２は光ピックアップの第１実施例を示す図解図である。
【図３】図３は図２の光ピックアップにおけるメインビームの経路を示す図解図である。
【図４】図４は第１実施例に用いた遮蔽物を示す図解図である。
【図５】図５は実施例を適用しない場合のフロントモニタへ入射する光を示す図解図である。
【図６】図６は第１実施例を適用した場合のフロントモニタへ入射する光を示す図解図である。
【図７】図７は第１実施例を適用した場合のフロントモニタへ入射する不要な１次光だけを示す図解図である。
【図８】図８は第１実施例に用いた遮蔽物のアスペクト比を受光部遠端角との関係で示す図解図である。
【図９】図９は第１実施例で用いる遮蔽物の変形例を示す図解図である。
【図１０】図１０は光ピックアップの第２実施例を示す図解図である。
【図１１】図１１は第２実施例に用いる遮蔽物を示す図解図である。
【図１２】図１２は第２実施例を適用した場合のフロントモニタへ入射する光を示す図解図である。
【図１３】図１３は第２実施例に用いた遮蔽物のアスペクト比を受光部遠端角との関係で示す図解図である。
【符号の説明】
【００６６】
１０  …光ディスク装置
１８  …光ピックアップ
２８  …半導体レーザ
３２  …複屈折板
３４  …偏向ピームスプリッタ
３６  …フロントモニタ
３６ａ…受光部
３８，６０  …遮蔽物
３９  …孔
５８  …光吸収層
６２  …ガラス板
６４  …光吸収体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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