(57)【要約】【課題】光学フィルム等の高精度で薄膜の塗布が要求される分野において、塗布ムラを発生させない安定的な塗布状態を提供する。【解決手段】走行する帯状可撓性の支持体１６の下面に塗布液をグラビア塗布装置１０によって塗布し、支持体に塗布時の膜厚が５μｍ以下の塗布層を形成する塗布液の塗布方法。グラビア塗布装置に対し、支持体の走行方向上流側にプレ塗布装置１５を設け、プレ塗布装置により設計膜厚（前記塗布時の膜厚）の５０〜５００％の膜厚に塗布液を支持体に塗布する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
走行する帯状可撓性の支持体の下面に塗布液をグラビア塗布装置によって塗布し、前記支持体に塗布時の膜厚が５μｍ以下の塗布層を形成する塗布液の塗布方法において、
前記グラビア塗布装置に対し、前記支持体の走行方向上流側にプレ塗布装置を設け、該プレ塗布装置により前記塗布時の膜厚の５０〜５００％の膜厚に前記塗布液を前記支持体に塗布することを特徴とする塗布液の塗布方法。
【請求項２】
前記グラビア塗布装置がダイレクトグラビア塗布装置であり、前記プレ塗布装置がバーコータ、キスコータ、マイクログラビアコータ、又はダイコーターのいずれかである請求項１に記載の塗布液の塗布方法。
【請求項３】
前記グラビア塗布装置がグラビアキス塗布装置であり、前記プレ塗布装置がグラビアコータ、ファウンテンコータ、又はダイコーターのいずれかである請求項１に記載の塗布液の塗布方法。
【請求項４】
前記グラビア塗布装置のグラビアローラの前記支持体の走行方向上流側のビード部に、該グラビアローラと平行に直径が１ｍｍ以下のワイヤ部材を張設し、前記塗布液を該ワイヤ部材に接触させる請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布液の塗布方法。
【請求項５】
走行する帯状可撓性の支持体の下面に塗布液を塗布するグラビア塗布装置と、
前記グラビア塗布装置に対し、前記支持体の走行方向上流側に設けられるプレ塗布装置と、を備える塗布液の塗布装置であって、
前記グラビア塗布装置による前記支持体への塗布時の塗布膜厚が５μｍ以下であり、
前記プレ塗布装置によるプレ塗布時のプレ塗布膜厚が前記塗布膜厚の５０〜５００％の膜厚となっていることを特徴とする塗布液の塗布装置。
【請求項６】
前記請求項１〜４のいずれかに記載の塗布液の塗布方法を使用して前記支持体に塗布層を形成したことを特徴とする光学フィルム。
【請求項７】
前記塗布層により反射防止性能が得られている請求項６に記載の光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布液の塗布方法、装置、及び光学フィルムに係り、特に、光学補償フィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム等の光学フィルムや、液晶層のムラを改善するために有用な光学フィルム等の製造に好適に適用できる塗布液の塗布方法、装置、及びこれを使用して製造された光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学フィルムの需要が増加しつつある。この光学フィルムとしては、液晶セルに位相差板として使用される光学補償フィルムや、反射防止フィルム、防眩性フィルム等の各種の機能を有するフィルムが代表的である。
【０００３】
このような光学フィルムの製造方法の代表的なものとして、帯状可撓性の支持体（以下、「ウェブ」と言う）の表面に各種塗布装置を使用して塗布液を塗布し、これを乾燥させて各種組成の塗布膜を形成する方法が挙げられる。
【０００４】
これらの塗布装置としては、ワイヤーバーコータ、グラビアコータ又はロールコータ等が代表的である。図９及び図１０は、一般的なグラビアコータの構造を説明する断面図であり、図９は、ダイレクトグラビアコータを示し、図１０は、グラビアキスコータを示す。
【０００５】
図９のダイレクトグラビアコータは、上流ガイドローラ及び下流ガイドローラ（図示略）でガイドされて走行するウエブ１６に対して、回転駆動されるグラビアローラ１２とバックアップローラ１３とでウエブ１６を挟んで塗布液を塗布する装置である。同装置において、グラビアローラ１２の表面に形成された凹部（セル）に供給された塗布液をウエブ１６に転写し、塗布膜を形成する。図９において、塗布液は、液受けパン１４より供給され、ブレード１９により過剰量が掻き落とされる。
【０００６】
図１０のグラビアキスコータは、上流ガイドローラ及び下流ガイドローラ（図示略）でガイドされて走行するウエブ１６に対して、回転駆動されるグラビアローラ１２でウエブ１６に塗布液を塗布する装置である。同装置においても、グラビアローラ１２の表面に形成された凹部（セル）に供給された塗布液をウエブ１６に転写し、塗布膜を形成する。図１０において、塗布液は、液受けパン１４より供給され、ブレード１９により過剰量が掻き落とされる。
【０００７】
これらの塗布装置については、これまでに各種の構成のものが提案されている（特許文献１、２参照。）。
【０００８】
このうち、特許文献１は、粘着テープの製造において、グラビアローラで塗布する際、過剰の塗布液を液たまり部（ビード）へ供給して液溜まりを形成し、ウェブを張力でビードに押し当てて塗布を行う構成のものである。これにより、ウェブ裏面側の粘着剤層への転写を防いでいる。
【０００９】
特許文献２は、ロールコータを使用して塗布液を塗布し、過剰の塗布液をブレード状の部材で掻き落して、塗布層の薄層化を図る構成のものである。
【特許文献１】特開平１０−２０４３８８号公報
【特許文献２】特開平５−２９３４２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、このような塗布装置であっても、現状では十分な性能が得られているとは言えない。すなわち、近年、薄層化塗布の要求が強い。この場合、グラビアローラの表面に形成された凹部の容積を少なくしていくことで薄層化に対処できるが、転写するのに十分な液たまり部（ビード）の液量が少ないことにより、非常に小さな液たまり部を作っている。そのため、膜切れなどが起こり易い。
【００１１】
一方、従来よりのバーコータでは液たまり部（ビード）を比較的大きくできるが、塗布量はバーに巻かれているワイヤの径に依存するため、薄膜（たとえば、４μｍ以下）の塗布層を形成するのが極めて難しい。
【００１２】
また、過剰の塗布液を塗りつけておき、ワイヤバーにて掻き落として計量して塗布するメイヤーバーコータにおいても、同様に、薄膜（たとえば、４μｍ以下）の塗布層を形成するのが極めて難しい。
【００１３】
また、特許文献１に示される構成では、塗布液の掻き上げ量がコントロールできず、液たまり部（ビード）が大きく形成され、薄膜の塗布層を形成するのが極めて難しい。
【００１４】
また、特許文献２に示される構成では、塗布層の厚さをコントロールすることが難しく、光学フイルムの製造には不適当である。
【００１５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、光学フィルム等の高精度で薄膜の塗布が要求される分野において、塗布ムラを発生させない安定的な塗布状態を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、前記目的を達成するために、走行する帯状可撓性の支持体の下面に塗布液をグラビア塗布装置によって塗布し、前記支持体に塗布時の膜厚（いわゆる、ウェット膜厚、又は、湿潤膜厚）が５μｍ以下の塗布層を形成する塗布液の塗布方法において、前記グラビア塗布装置に対し、前記支持体の走行方向上流側にプレ塗布装置を設け、該プレ塗布装置により前記塗布時の膜厚の５０〜５００％の膜厚に前記塗布液を前記支持体に塗布することを特徴とする塗布液の塗布方法、及びそのための装置を提供する。
【００１７】
本発明によれば、プレ塗布装置により所期の膜厚の５０〜５００％の膜厚に塗布液を塗布し、次いで、グラビア塗布装置によって塗布液の塗布を行い、支持体に膜厚５μｍ以下の塗布層を形成する。このように、予め塗布液を塗布しておくので、液たまり部（ビード）で安定した液膜が形成され、薄膜でありながら、均一な塗布層が形成できる。
【００１８】
すなわち、従来方式による塗布時に、液たまり部（ビード）への液量供給が十分でないために、液枯れを起こすことによる塗布不良（膜形成不良）を防ぐことができる。
【００１９】
また、塗布液を予め支持体に塗布をしておくことにより、支持体との濡れ性を確保でき、安定した塗布が行える。
【００２０】
更に、同伴するエアーの巻き込みを防止し、塗布部での泡のトラップも防ぐことができ、安定した塗布が行える。
【００２１】
なお、プレ塗布装置としては、特に制限がないが、バーコータ（「ロッドコータ」とも称され、メイヤーバーコータをも含む）、グラビアコータ（ダイレクトグラビアコータ、グラビアキスコータ等）、ロールコータ（トランスファロールコータ、リバースロールコータ等）、ダイコータ、エクストルージョンコータ、ファウンテンコータ、又はスライドホッパ等が採用できる。
【００２２】
本発明において、前記グラビア塗布装置がダイレクトグラビア塗布装置であり、前記プレ塗布装置がバーコータ、キスコータ、マイクログラビアコータ、又はダイコータのいずれかであることが好ましい。
【００２３】
また、本発明において、前記グラビア塗布装置がグラビアキス塗布装置であり、前記プレ塗布装置がグラビアコータ、ファウンテンコータ、又はダイコータのいずれかであることが好ましい。
【００２４】
このような組み合わせであれば、本発明の目的とする、光学フィルム等の高精度で薄膜の塗布が要求される分野において、塗布ムラを発生させない安定的な塗布状態を提供することが容易に達成できる。
【００２５】
また、本発明において、前記グラビア塗布装置のグラビアローラの前記支持体の走行方向上流側のビード部に、該グラビアローラと平行に直径が１ｍｍ以下のワイヤ部材を張設し、前記塗布液を該ワイヤ部材に接触させることが好ましい。このようなワイヤ部材を液たまり部（ビード）に配することにより、ビードの形状が安定し、塗布ムラを発生させない安定的な塗布状態を維持できる。
【００２６】
なお、光学フィルムとは、光学補償フィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム等の各種の機能を有するフィルムをも含むものである。
【発明の効果】
【００２７】
以上説明したように、本発明によれば、プレ塗布装置により所期の膜厚の５０〜５００％の膜厚に塗布液を塗布し、次いで、グラビア塗布装置によって塗布液の塗布を行い、支持体に膜厚５μｍ以下の塗布層を形成する。このように、予め塗布液を塗布しておくので、液たまり部（ビード）で安定した液膜が形成され、薄膜でありながら、均一な塗布層が形成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、添付図面に従って本発明に係る塗布液の塗布方法、装置、及び光学フィルムの好ましい実施の形態（第１の実施形態）について詳説する。図１は、本発明に係る塗布液の塗布方法、及び装置が適用される光学フィルムの製造ラインを説明する説明図である。図２及び図３は、この製造ラインのうち、塗布手段の一例を示す要部断面図であり、図２は、グラビア塗布装置１０を主に示し、図３は、プレ塗布装置として採用されたバーコータ１５を示す。
【００２９】
光学フィルムの製造ラインは、図１に示されるように、送り出し機６６から予めポリマー層が形成された透明支持体であるウエブ１６が送り出されるようになっている。ウエブ１６はガイドローラ６８によってガイドされて除塵機７４に送りこまれようになっている。除塵機７４は、ウエブ１６の表面に付着した塵を取り除くことができるようになっている。
【００３０】
除塵機７４の下流には、プレ塗布装置であるバーコータ１５とグラビア塗布装置１０からなる塗布装置１００が設けられており、塗布液がウエブ１６に塗布できるようになっている。塗布装置１００の詳細については、図２及び図３により後述する。
【００３１】
塗布装置１００の下流には、乾燥ゾーン７６、加熱ゾーン７８が順次設けられており、ウエブ１６上に液晶層が形成できるようになっている。更に、この下流には紫外線ランプ８０が設けられており、紫外線照射により、液晶を架橋させ、所望のポリマーを形成できるようになっている。そして、この下流に設けられた巻取り機８２により、ポリマーが形成されたウエブ１６が巻き取られるようになっている。
【００３２】
図２に示されるように、塗布装置１００は、プレ塗布装置であるバーコータ１５とグラビア塗布装置１０からなり、上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１８でガイドされて走行するウエブ１６に対して、先ず、バーコータ１５で過剰な塗布液を塗布し、次いで、ダイレクトグラビアコータであるグラビア塗布装置１０の回転駆動されるグラビアローラ１２とバックアップローラ１３とでウエブ１６を挟んで所期の膜厚に塗布液を塗布する装置である。
【００３３】
グラビアローラ１２、バックアップローラ１３、上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１８は、ウエブ１６の幅と略同一の長さを有する。グラビアローラ１２は、図２の矢印に示されるように反時計回りに回転駆動される。この回転方向は、ウエブ１６の走行方向に対して順転方向となる。なお、図２とは逆の逆転（時計回り）の駆動による塗布も、塗布条件によっては採用できる。
【００３４】
グラビアローラ１２の駆動方法は、インバータモータによるダイレクト駆動（軸直結）であるが、各種モータと減速機（ギアヘッド）との組み合わせ、各種モータよりタイミングベルト等の巻き掛け伝達手段による方法であってもよい。
【００３５】
バックアップローラ１３は、グラビアローラ１２の駆動により時計回りにつれ回りする。なお、バックアップローラ１３に駆動手段を設けることもできる。
【００３６】
グラビアローラ１２表面のセル（ｃｅｌｌ）形状は、公知のピラミッド型、格子型及び斜線型等のいずれであってもよい。すなわち、塗布速度、塗布液の粘度、塗布層厚等により適宜のセルを選択すればよい。
【００３７】
グラビアローラ１２の下方には、液受けパン１４が設けられており、この液受けパン１４には塗布液が満たされている。そして、グラビアローラ１２の約下半分は塗布液に浸漬されている。この構成により、グラビアローラ１２表面のセルに塗布液が供給されることとなる。
【００３８】
上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１８は、グラビアローラ１２と平行な状態で支持されている。そして、上流ガイドローラ１７及び下流ガイドローラ１８は、両端部分を軸受部材（ボール軸受等）により回動自在に支持され、駆動機構を付されない構成のものが好ましい。
【００３９】
上述したグラビア塗布装置１０は、特に薄層塗布に有効であるので、たとえば、ウエット塗布量が５ｍｌ／ｍ2 以下（塗布時の膜厚が５μｍ以下）の超薄層塗布を行う光学フィルムの製造ラインに好適に適用できる。
【００４０】
次に、プレ塗布装置であるバーコータ１５について説明する。図３に示されるように、バーコータ（ワイヤバー塗布装置）１５は、上流ガイドローラ１７等でガイドされて走行するウエブ１６に対して、塗工用ワイヤバー１１２を備えた塗布ヘッド１１４で塗布液を塗布する装置である。上流ガイドローラ１７等は、ウエブ１６が塗工用ワイヤバー１１２に近接走行するように配置されている。
【００４１】
塗布ヘッド１１４は主として、塗工用ワイヤバー１１２、バックアップ部材１２０、コーターブロック１２２、１２４で構成され、塗工用ワイヤバー１１２は、バックアップ部材１２０に回動自在に支持されている。バックアップ部材１２０と各コーターブロック１２２、１２４との間には、マニホールド１２６、１２８及びスロット１３０、１３２が形成され、各マニホールド１２６、１２８に塗布液が供給される。
【００４２】
各マニホールド１２６、１２８に供給された塗布液は、狭隘なスロット１３０、１３２を介してウエブ幅方向で均一に押し出される。これにより、塗工用ワイヤバー１１２に対してウエブ１６の送り方向の上流側に上流側塗布ビード１３４が形成され、下流側に下流側塗布ビード１３６が形成される。これらの塗布ビード１３４、１３６を介して、走行するウエブ１６に塗布液が塗布される。この塗布液の量は、グラビア塗布装置１０による塗布時の膜厚の５０〜５００％の膜厚になるように調整可能となっている。
【００４３】
マニホールド１２６、１２８から過剰に供給された塗布液は各コーターブロック１２２、１２４とウエブ１６との間からオーバーフローし、図示しない側溝を介して回収される。なお、マニホールド１２６、１２８への塗布液の供給はマニホールド１２６、１２８の中央部から行なっても、又は端部から行なってもよい。
【００４４】
塗工用ワイヤバー１１２は、図４に示されるように、丸棒状のロッド１３８にワイヤ１４０を螺旋状に密着巻回して形成されたワイヤ列１４２を備えており、このワイヤ列１４２に塗布液を保持させることにより、走行するウエブ１６に塗布液を転移塗布する。
【００４５】
本実施の形態において、塗布装置１００は、クリーンルーム等の清浄な雰囲気に設置するとよい。その際、清浄度はクラス１０００以下が好ましく、クラス１００以下がより好ましく、クラス１０以下が更に好ましい。
【００４６】
本発明において、同時に塗布される塗布液の塗布層の数は単層に限定されるものではなく、必要に応じて同時多層塗布方法にも適用できる。
【００４７】
なお、塗布液のプレ塗布方法としては、上述したバーコータ１５以外に、グラビアコータ、ロールコータ（トランスファロールコータ、リバースロールコータ等）、ダイコータ、エクストルージョンコータ、ファウンテンコータ、カーテンコータ、ディップコータ、スピンコータ、スプレーコータ又はスライドホッパ等が採用できる。
【００４８】
また、図１に示される光学機能フィルムの製造ラインにおいて、ウエブ１６のテンションとしては、１００〜３００Ｎ／ｍにすることが好ましい。
【００４９】
次に、本発明に係るグラビア塗工装置を使用して製造される光学フィルムについて説明する。
【００５０】
本発明に使用するウエブ１６としては、光透過率が８０％以上であるポリマーフィルムを用いることが好ましい。ポリマーフィルムとしては、外力により複屈折が発現しにくいものが好ましい。ポリマーの例には、セルロース系ポリマー、ノルボルネン系ポリマー（たとえば、アートン（ＪＳＲ（株）製）、ゼオノア、ゼオネックス（いずれも、日本ゼオン（株）製））及びポリメチルメタクリレートが含まれる、セルロース系ポリマーが好ましく、セルロースエステルがより好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルが更に好ましい。
【００５１】
この低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースエステルとしてはセルロースアセテートが好ましく、その例としては、ジアセチルセルロース及びトリアセチルセルロースなどが挙げられる。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
【００５２】
一般に、セルロースアセテートの２、３、６の水酸基は、全体の置換度の１／３づつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアセテートの６位水酸基の置換度が、２、３位に比べて多いほうが好ましい。
【００５３】
全体の置換度に対して６位の水酸基が３０％以上４０％以下アシル基で置換されていることが好ましく、更には３１％以上、特に３２％以上であることが好ましい。更にセルロースアセテートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。
【００５４】
６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求める事ができる。
【００５５】
本発明のセルロースアセテートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載されている合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載されている合成例２、そして段落番号００５１〜００５２に記載されている合成例３の合成方法により得られたセルロースアセテートを用いることができる。
【００５６】
ポリマーフィルムのレターデーションを調整するため、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用する。
【００５７】
ポリマーフィルムとしてセルロースアセテートフィルムを用いる場合、芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、セルロースアセテート１００質量部に対して、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することが更に好ましい。二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。
【００５８】
芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることが更に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。
【００５９】
芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１、３、５−トリアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１、３、５−トリアジン環が好ましく、ベンゼン環及び１、３、５−トリアジン環が更に好ましい。芳香族化合物は、少なくとも一つの１、３、５−トリアジン環を有することが特に好ましい。
【００６０】
芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることが更に好ましく、２〜６であることが最も好ましい。二つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合及び（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。
【００６１】
（ａ）の縮合環（二つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環及びチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環及びキノリン環が好ましい。
【００６２】
（ｂ）の単結合は、二つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。
【００６３】
（ｃ）の連結基も、二つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。
ｃ１：−ＣＯ−Ｏ−
ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ３：−アルキレン−Ｏ−
ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−
ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−
ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−
ｃ10：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−
ｃ11：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−
ｃ12：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−ｃ13：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−
ｃ14：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−
ｃ15：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−
芳香族環及び連結基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、ニトロ、スルホ、カルバモイル、スルファモイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基及び非芳香族性複素環基が含まれる。
【００６４】
アルキル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、更に置換基（例、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチル及び２−ジエチルアミノエチルが含まれる。アルケニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、更に置換基を有していてもよい。
【００６５】
アルケニル基の例には、ビニル、アリル及び１−ヘキセニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、更に置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、１−ブチニル及び１−ヘキシニルが含まれる。
【００６６】
脂肪族アシル基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル、プロパノイル及びブタノイルが含まれる。脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、更に置換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。
【００６７】
アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ、エトキシ、ブトキシ及びメトキシエトキシが含まれる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル及びエトキシカルボニルが含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ及びエトキシカルボニルアミノが含まれる。
【００６８】
アルキルチオ基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオ及びオクチルチオが含まれる。
【００６９】
アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニル及びエタンスルホニルが含まれる。
【００７０】
脂肪族アミド基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド及びｎ−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ及び２−カルボキシエチルアミノが含まれる。
【００７１】
脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル及びジエチルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイル及びジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノ及びモルホリノが含まれる。レターデーション上昇剤の分子量は、３００〜８００であることが好ましい
レターデーション上昇剤の具体例としては、特開２０００−１１１９１４号公報、同２０００−２７５４３４号公報、ＰＣＴ／ＪＰ００／０２６１９号明細書等に記載されている。
【００７２】
以下、ポリマーフィルムとしてセルロースアセテートフィルムを用いる場合について具体的に説明する。ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフィルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロースアセテートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
【００７３】
有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
【００７４】
エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【００７５】
炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。
【００７６】
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることが更に好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
【００７７】
なお、技術的には、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、地球環境や作業環境の観点では、有機溶媒はハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶媒中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。また、製造したセルロースアシレートフィルムから、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素が全く検出されないことが好ましい。二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００７８】
一般的な方法でセルロースアセテート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０°Ｃ以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。セルロースアセテートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。セルロースアセテートの量は、１０〜３０質量％であることが更に好ましい。
【００７９】
有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温（０〜４０°Ｃ）でセルロースアセテートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧及び加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアセテートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０°Ｃ以上であり、好ましくは６０〜２００°Ｃであり、更に好ましくは８０〜１１０°Ｃである。
【００８０】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
【００８１】
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。たとえば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【００８２】
本発明のセルロースアセート溶液（ドープ）の調製は、冷却溶解法に従い実施され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０°Ｃ）で有機溶媒中にセルロースアセートを撹拌しながら徐々に添加される。複数の溶媒を用いる場合は、その添加順は特に限定されない。
【００８３】
たとえば、主溶媒中にセルロースアセテートを添加した後に、他の溶媒（たとえばアルコールなどのゲル化溶媒など）を添加してもよいし、逆にゲル化溶媒を予めセルロースアセテートに湿らせた後の主溶媒を加えてもよく、不均一溶解の防止に有効である。セルロースアセテートの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアセテートの量は、１０〜３０質量％であることが更に好ましい。更に、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【００８４】
次に、混合物は−１００〜−１０°Ｃ（好ましくは−８０〜−１０°Ｃ、更に好ましくは−５０〜−２０°Ｃ、最も好ましくは−５０〜−３０°Ｃ）に冷却される。冷却は、たとえば、ドライアイス・メタノール浴（−７５°Ｃ）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０°Ｃ）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアセテートと有機溶媒の混合物は固化する。冷却速度は、特に限定されないがバッチ式での冷却の場合は、冷却に伴いセルロースアセテート溶液の粘度が上がり、冷却効率が劣るために所定の冷却温度に達するために効率よい溶解釜とすることが必要である。
【００８５】
また、本発明のセルロースアセテート溶液は膨潤させたあと、所定の冷却温度にした冷却装置を短時間移送することにより達成できる。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００°Ｃ／秒が理論的な上限であり、１０００°Ｃ／秒が技術的な上限であり、そして１００°Ｃ／秒が実用的な上限である。
【００８６】
なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。更に、これを０〜２００°Ｃ（好ましくは０〜１５０°Ｃ、更に好ましくは０〜１２０°Ｃ、最も好ましくは０〜５０°Ｃ）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
【００８７】
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【００８８】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧及び減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
【００８９】
なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３°Ｃ近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。
【００９０】
したがって、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０°Ｃ程度の温度で保存する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【００９１】
調製したセルロースアセテート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアセテートフィルムを製造する。またドープに、前記のレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０％、より好ましくは１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【００９２】
ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
【００９３】
ドープは、表面温度が１０°Ｃ以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、更に１００から１６０°Ｃまで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００９４】
本発明では得られたセルロースアセテート溶液を、ウエブ１６としての平滑なバンド上或いはドラム上に単層液として流延してもよいし、２層以上の複数のセルロースアセテート液を流延してもよい。複数のセルロースアセテート溶液を流延する場合、ウエブ１６の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアセテートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、たとえば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、特開平１１−１９８２８５号、などに記載の方法が適応できる。
【００９５】
また、２つの流延口からセルロースアセテート溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、たとえば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、特開平６−１３４９３３号、に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号に記載の高粘度セルロースアセテート溶液の流れを低粘度のセルロースアセテート溶液で包み込み、その高、低粘度のセルロースアセテート溶液を同時に押出すセルロースアセテートフィルム流延方法でもよい。
【００９６】
或いはまた２個の流延口を用いて、第一の流延口によりウエブ１６に成型したフィルムを剥ぎ取り、ウエブ１６面に接していた側に第二の流延を行なうことにより、フィルムを作製することでもよく、たとえば特公昭４４−２０２３５号に記載されている方法である。流延するセルロースアセテート溶液は同一の溶液でもよいし、異なるセルロースアセテート溶液でもよく特に限定されない。複数のセルロースアセテート層に機能を持たせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。
【００９７】
更に本発明のセルロースアセテート溶液は、他の機能層（たとえば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。従来の単層液では、必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアセテート溶液を押出すことが必要であり、その場合セルロースアセテート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多かった。この解決として、複数のセルロースアセテート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時にウエブ１６上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアセテート溶液を用いることにより乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができた。
【００９８】
セルロースアセテートフィルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）及びトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステルが代表的である。
【００９９】
フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。
【０１００】
その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰ及びＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることが更に好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【０１０１】
セルロースアセテートフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることが更に好ましい。添加量が０．０１質量％未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が１質量％を超えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【０１０２】
次に、ポリマーフィルムの延伸処理について説明する。作製されたセルロースアセテートフィルム（ポリマーフィルム）は、更に延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％であることが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、４０〜１４０μｍであることが好ましく、７０〜１２０μｍであることが更に好ましい。また、この延伸処理の条件を調整することにより、光学補償フィルムの遅相軸の角度の標準偏差を小さくすることができる。
【０１０３】
延伸処理の方法に特に限定はないが、その例としてテンターによる延伸方法が挙げられる。上記のソルベントキャスト法により作製したフィルムに、テンターを用いて横延伸を実施する際に、延伸後のフィルムの状態を制御することにより、フィルム遅相軸角度の標準偏差を小さくすることができる。具体的には、テンターを用いてレターデーション値を調整する延伸処理を行い、そして延伸直後のポリマーフィルムをその状態のまま、フィルムのガラス転移温度近傍で保持することにより、遅相軸角度の標準偏差を小さくすることができる。
【０１０４】
この保持の際のフィルムの温度をガラス転移温度よりも低い温度で行うと、標準偏差が大きくなってしまう。また、別の例としては、ロール間にて縦延伸を行う際に、ロール間距離を広くすると遅相軸の標準偏差を小さくできる。
【０１０５】
次に、ポリマーフィルムの表面処理について説明する。ポリマーフィルムを偏光板の透明保護膜として使用する場合、ポリマーフィルムを表面処理することが好ましい。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理を実施する。酸処理またはアルカリ処理、すなわちポリマーフィルムに対するケン化処理を実施することが特に好ましい。
【０１０６】
次に、配向膜について説明する。配向膜は、光学異方性層のディスコティック液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。更に、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
【０１０７】
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。ポリビニルアルコールが、好ましいポリマーである。疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。疎水性基は光学異方性層のディスコティック液晶性分子と親和性があるため、疎水性基をポリビニルアルコールに導入することにより、ディスコティック液晶性分子を均一に配向させることができる。
【０１０８】
疎水性基は、ポリビニルアルコールの主鎖末端または側鎖に結合させる。疎水性基は、炭素原子数が６以上の脂肪族基（好ましくはアルキル基またはアルケニル基）または芳香族基が好ましい。ポリビニルアルコールの主鎖末端に疎水性基を結合させる場合は、疎水性基と主鎖末端との間に連結基を導入することが好ましい。連結基の例には、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＮ）Ｒ1 −、−ＮＲ2 −、−ＣＳ−及びそれらの組み合わせが含まれる。上記Ｒ1 及びＲ2 は、それぞれ、水素原子または炭素原子数が１〜６のアルキル基（好ましくは、炭素原子数が１〜６のアルキル基）である。
【０１０９】
ポリビニルアルコールの側鎖に疎水性基を導入する場合は、ポリビニルアルコールの酢酸ビニル単位のアセチル基（−ＣＯ−ＣＨ3 ）の一部を、炭素原子数が７以上のアシル基（−ＣＯ−Ｒ3 ）に置き換えればよい。Ｒ3 は、炭素原子数が６以上の脂肪族基または芳香族基である。市販の変性ポリビニルアルコール（例、ＭＰ１０３、ＭＰ２０３、Ｒ１１３０、クラレ（株）製）を用いてもよい。配向膜に用いる（変性）ポリビニルアルコールのケン化度は、８０％以上であることが好ましい。（変性）ポリビニルアルコールの重合度は、２００以上であることが好ましい。
【０１１０】
ラビング処理は、配向膜の表面を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施する。長さ及び太さが均一な繊維を均一に植毛した布を用いることが好ましい。なお、光学異方性層のディスコティック液晶性分子を配向膜を用いて配向後、配向膜を除去しても、ディスコティック液晶性分子の配向状態を保つことができる。すなわち、配向膜は、ディスコティック液晶性分子を配向するため楕円偏光板の製造において必須であるが、製造された光学補償フィルムにおいては必須ではない。
【０１１１】
配向膜を透明ウエブ１６と光学異方性層との間に設ける場合は、更に下塗り層（接着層）を透明ウエブ１６と配向膜との間に設けることが好ましい。また面状安定化の為に、クエン酸エステルを必要に応じ添加してもよい。
【０１１２】
次に、光学異方性層について説明する。光学異方性層はディスコティック液晶性分子から形成する。ディスコティック液晶性分子は、一般に、光学的に負の一軸性を有する。本発明の光学補償フィルムにおいては、ディスコティック液晶性分子は、図２に示したように、円盤面と透明ウエブ１６面とのなす角が、光学異方性層の深さ方向において変化している（ハイブリッド配向している）ことが好ましい。ディスコティック液晶性分子の光軸は、円盤面の法線方向に存在する。
【０１１３】
ディスコティック液晶性分子は、光軸方向の屈折率よりも円盤面方向の屈折率が大きな複屈折性を有する。光学異方性層は、上記の配向膜によってディスコティック液晶性分子を配向させ、その配向状態のディスコティック液晶性分子を固定することによって形成することが好ましい。ディスコティック液晶性分子は、重合反応により固定することが好ましい。
【０１１４】
なお、光学異方性層には、レターデーション値が０となる方向が存在しない。言い換えると、光学異方性層のレターデーションの最小値は、０を超える値である。具体的には、光学異方性層は、下記式（Ｉ）により定義されるＲｅレターデーション値が１０〜１００ｎｍの範囲にあり、下記式（II）により定義されるＲthレターデーション値が４０〜２５０ｎｍの範囲にあり、そして、ディスコティック液晶性分子の平均傾斜角が２０〜５０゜であることが好ましい。
【０１１５】
(Ｉ）  Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（II）  Ｒth＝｛（ｎ２＋ｎ３）／２−ｎ１｝×ｄ
式（Ｉ）において、ｎｘは、光学異方性層面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙは、光学異方性層面内の進相軸方向の屈折率であり、そして、ｄは、光学異方性層の厚さである。式（II）において、ｎ１は、光学異方性層を屈折率楕円体で近似した場合の屈折率主値の最小値であり、ｎ２及びｎ３は、光学異方性層の他の屈折率主値であり、そして、ｄは、光学異方性層の厚さである。
【０１１６】
ディスコティック液晶性分子は、様々な文献（C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (1981) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Co ｍｍ., page 1794 (1985) ；J. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994)）に記載されている。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
【０１１７】
ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。したがって、重合性基を有するディスコティック液晶性分子は、下記式（III ）で表わされる化合物であることが好ましい。  （III ）  Ｄ（−Ｌ−Ｑ）n 
式（III ）において、Ｄは、円盤状コアであり、Ｌは、二価の連結基であり、Ｑは、重合性基であり、そして、ｎは、４〜１２の整数である。
【０１１８】
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（またはＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｑ）との組み合わせを意味する。
【０１１９】
式（Ｉ）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが更に好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−及び−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好まし。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。
【０１２０】
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ10：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ11：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ12：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ13：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ14：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ15：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ16：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ17：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ18：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ19：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ20：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ21：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ22：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ23：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ24：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
式（Ｉ）の重合性基（Ｑ）は、重合反応の種類に応じて決定する。
【０１２１】
重合性基（Ｑ）は、不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ７）またはエポキシ基（Ｑ８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることが更に好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｑ１〜Ｑ６）であることが最も好ましい。式（III ）において、ｎは４〜１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＱの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【０１２２】
光学異方性層は、ディスコティック液晶性分子及び必要に応じて重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することにより形成できる。光学異方性層の厚さは、０．５〜１００μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることが更に好ましい。
【０１２３】
配向させたディスコティック液晶性分子を、配向状態を維持して固定する。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１２４】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることが更に好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2 であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2 であることが更に好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。また面状安定化の為に、クエン酸エステルを必要に応じ添加してもよい。
【０１２５】
次に、図１に示される光学フィルムの製造ラインを使用した光学フィルムの製造方法について説明する。先ず、送り出し機６６から、予めポリマー層が形成された、厚さが４０〜３００μｍのウエブ１６が送り出される。ウエブ１６はガイドローラ６８によってガイドされて除塵機７４に送りこまれ、これにより、ウエブ１６の表面に付着した塵が取り除かれる。そして、塗布装置１００により塗布液がウエブ１６に塗布される。
【０１２６】
塗布装置１００において、先ず、バーコータ１５により、塗布液の量が後段のグラビア塗布装置１０による塗布時の膜厚の５０〜５００％の膜厚になるように、塗布を行う。次いで、グラビア塗布装置１０により塗布を行う。
【０１２７】
このような塗布を行うと、バーコータ１５による塗布膜厚が設計値の膜厚の５０〜５００％であっても、グラビア塗布装置１０のグラビアローラ１２表面の凹部（セル）の容積により所定の塗布量に計量され、これにより最終的には設計値の膜厚（５μｍ以下の所定膜厚）となる。
【０１２８】
このように、予め塗布液を塗布しておくので、液たまり部（ビード）で安定した液膜が形成され、薄膜でありながら、均一な塗布層が形成できる。すなわち、従来方式による塗布時に、液たまり部（ビード）への液量供給が十分でないために、液枯れを起こすことによる塗布不良（膜形成不良）を防ぐことができる。
【０１２９】
また、塗布液を予め支持体に塗布をしておくことにより、支持体との濡れ性を確保でき、安定した塗布が行える。更に、同伴するエアーの巻き込みを防止し、塗布部での泡のトラップも防ぐことができ、安定した塗布が行える。
【０１３０】
塗布が終了した後には、乾燥ゾーン７６、加熱ゾーン７８を経て、液晶層が形成される。更に紫外線ランプ８０により液晶層を照射し、液晶を架橋させることにより、所望のポリマーが形成される。そして、このポリマーが形成されたウエブ１６は巻取り機８２により巻き取られる。
【０１３１】
次に、本発明に係る塗布液の塗布方法、装置、及び光学フィルムの第２の実施形態について説明する。図５は、塗布装置１００’の全体構成の他の例を説明する断面図である。なお、図１及び図２と同一、類似の部材については、同様の符号を附し、その説明を省略する。
【０１３２】
この塗布装置１００’は、プレ塗布装置であるグラビア塗布装置２００とグラビア塗布装置１０’からなる。プレ塗布装置であるグラビア塗布装置２００は、ダイレクトグラビアコータであり、グラビア塗布装置１０’は、グラビアキスコータである。
【０１３３】
グラビア塗布装置２００は、同様のダイレクトグラビアコータであるグラビア塗布装置１０（図１及び図２に示される第１の実施形態）と異なり、ブレード１１９が設けられており、これにより過剰量の塗布液が掻き落とされる。また、グラビアローラ２１２の表面に形成された凹部（セル）の容量は、設計値の膜厚の５０〜５００％に対応するように、グラビアローラ１２（図１及び図２に示される第１の実施形態）より大きく形成されている。
【０１３４】
グラビア塗布装置１０’も、グラビア塗布装置１０（図１及び図２に示される第１の実施形態）と異なり、グラビアキスコータであり、また、グラビアローラ１２の回転方向が逆の時計回りに回転駆動される。この回転方向は、ウエブ１６の走行方向に対して逆転方向となる。なお、図５とは逆の順転（反時計回り）の駆動による塗布も、塗布条件によっては採用できる。更に、ブレード１９が設けられており、これにより過剰量の塗布液が掻き落とされ、所定量に計量される。
【０１３５】
この塗布装置１００’を、図１の光学フィルムの製造ラインに適用した、光学フィルムの製造方法について説明する。ただし、第１の実施形態との重複記載となる部分は省略する。
【０１３６】
塗布装置１００’において、先ず、グラビア塗布装置２００により、塗布液の量が後段のグラビア塗布装置１０’による塗布時の膜厚の５０〜５００％の膜厚になるように、塗布を行う。次いで、グラビア塗布装置１０’により塗布を行う。
【０１３７】
このような塗布を行うと、グラビア塗布装置２００による塗布膜厚が設計値の膜厚の５０〜５００％であっても、グラビア塗布装置１０’のグラビアローラ１２表面の凹部（セル）の容積、及びブレード１９により所定の塗布量に計量され、これにより最終的には設計値の膜厚（５μｍ以下の所定膜厚）となる。
【０１３８】
このように、予め塗布液を塗布しておくので、第１の実施形態と同様の効果（液枯れによる塗布不良の防止、同伴するエアーの巻き込みの防止等）が得られる。
【０１３９】
次に、本発明に係る塗布液の塗布方法、装置、及び光学フィルムの第３の実施形態について説明する。図６は、グラビア塗布装置の他の例を説明する断面図である。なお、図１、図２及び図５と同一、類似の部材については、同様の符号を附し、その説明を省略する。
【０１４０】
このグラビア塗布装置１０’’は、塗布装置１００のグラビア塗布装置１０（第１の実施形態）、又は、塗布装置１００’のグラビア塗布装置１０’（第２の実施形態）に代えて導入されるもので、この前段にはプレ塗布装置として、バーコータ１５（第１の実施形態）、グラビア塗布装置２００（第２の実施形態）、又は更に他の種類の塗布装置が採用できる。
【０１４１】
このグラビア塗布装置１０’’は、グラビアキスコータである。図５に示されるグラビア塗布装置１０’と相違する点は、グラビアローラ１２の上流側に近接して、グラビアローラ１２と平行に直径が１ｍｍ以下のワイヤ（ワイヤ部材）２１が張設されていることである。このワイヤ２１は、液たまり部（ビード）に配されることにより、ビードの形状を安定化し、塗布ムラを発生させず、安定的な塗布状態を維持するために設けられる。
【０１４２】
すなわち、塗布液の物性によっては、液たまり部の過剰な塗布液が、不均一に流動の道を形成して流れ落ちることがある。その際、その流れにより、液たまり部の、ウエブ１６とグラビアローラ１２とに挟まれている塗布液にかかる圧力が、ウエブ１６の幅方向で不均一になることがある。その結果、ウエブ１６の幅方向の膜厚の均一性が悪化して、塗布不良となる。ところが、ワイヤ２１を設けることにより、この現象を防止することができる。
【０１４３】
このワイヤ２１は、液たまり部（ビード）に配される必要があるので、直径を１ｍｍ以下とする必要がある。
【０１４４】
なお、万一、塗布液に泡が混入しても、ワイヤ２１が設けられていることにより、この泡は速やかに除去される。
【０１４５】
このグラビア塗布装置１０’’を図１の光学フィルムの製造ラインに適用した光学フィルムの製造方法について説明する。ただし、第１及び第２の実施形態との重複記載となる部分は省略する。
【０１４６】
塗布装置１００、１００’等において、先ず、プレ塗布装置により、塗布液の量が後段のグラビア塗布装置１０’’による塗布時の膜厚の５０〜５００％の膜厚になるように、塗布を行う。次いで、グラビア塗布装置１０’’により塗布を行う。
【０１４７】
このような塗布を行うと、プレ塗布装置による塗布膜厚が設計値の膜厚の５０〜５００％であっても、グラビア塗布装置１０’’のグラビアローラ１２表面の凹部（セル）の容積、及びブレード１９により所定の塗布量に計量され、これにより最終的には設計値の膜厚（５μｍ以下の所定膜厚）となる。また、ワイヤ２１が設けられているので、良好な塗布状態が安定的に維持される。
【０１４８】
また、予め塗布液を塗布しておくので、第１の実施形態と同様の効果（液枯れによる塗布不良の防止、同伴するエアーの巻き込みの防止等）が得られる。
【０１４９】
以上、本発明に係る塗布液の塗布方法、装置、及び光学フィルムの実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【０１５０】
たとえば、本実施形態では、塗布液の塗布方法、装置の用途として光学フィルムが採用されているが、これ以外の各種の塗布にも適用できる。
【０１５１】
また、既述したように、プレ塗布装置の種類は、上記実施形態に限定されるものではなく、更に、グラビア塗布装置としても、上記実施形態以外の態様（回転方向、ブレードの有無等）も採用できる。
【実施例】
【０１５２】
（実施例１）
図１に示される光学フィルムの製造ラインを使用して各種の条件で光学フィルム（防眩フィルム）の製造を行った。ただし、塗布装置１００（図２の構成）に代えて塗布装置１００’（図５の構成）を採用した。
【０１５３】
ウエブ１６として、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を使用した。
【０１５４】
防眩層用の塗布液は、次のように調整した。ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）７５ｇ、粒径約３０ｎｍの酸化ジルコニウム超微粒子分散物含有ハードコート塗布液（デソライトＺ−７４０１、ＪＳＲ（株）製）２４０ｇを、１０４ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に溶解した。
【０１５５】
得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバファインケミカルズ（株）製）１０ｇを加え、攪拌溶解した後に、２０重量％の含フッ素オリゴマーのメチルエチルケトン溶液からなるフッ素界面活性剤（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）０．９３ｇを添加した。（なお、この溶液を塗布、紫外線硬化させて得られた塗布膜の屈折率は１．６５であった。）
更に、この溶液に個数平均粒径２．０μｍ、屈折率１．６１の架橋ポリスチレン粒子（ＳＸ−２００ＨＳ、綜研化学（株）製）２０ｇを、１６０ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン＝５４／４６重量％の混合溶媒に高速ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌分散し、孔径１０μｍ、３μｍ、１μｍのポリプロピレン製フィルタ（それぞれＰＰＥ−１０、ＰＰＥ−０３、ＰＰＥ−０１、いずれも富士写真フイルム（株）製）にて濾過して得られた分散液２９ｇを添加、攪拌した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して防眩層用の塗布液（Ａ液）として調製した。
【０１５６】
この塗布液（Ａ液）の粘度は０．００５Ｎ・ｓ／ｍ2 であり、表面張力は０．０２５Ｎ／ｍであった。
【０１５７】
また、この塗布液の溶媒量を調整し、粘度が０．０１２Ｎ・ｓ／ｍ2 であり、表面張力が０．０３０Ｎ／ｍのＢ液を準備した。
【０１５８】
ウェブ１６を走行速度２０ｍ／分で走行させながら、塗布装置１００’によりウェブ１６のハードコート層上に、Ａ液の塗布液量がウェブ１６の面積１ｍ2 当り５ｍｌ（Ｎｏ１〜Ｎｏ４）になるように、また、Ｂ液の塗布液量がウェブ１６の面積１ｍ2 当り３．５ｍｌ（Ｎｏ５〜Ｎｏ７）になるように塗布した。この際、プレ塗布装置による塗布量を調整し、設計塗布量の０〜６００％まで変化させた。
【０１５９】
各試料において、塗布膜の塗布状態を目視による官能検査で判定した。以上の製造条件及び評価結果を図７の表に纏める。
【０１６０】
プレ塗布装置によるＡ液の塗布量が０ｍｌ（設計塗布量の０％）であるＮｏ１は、斑点状の欠陥を生じ、塗布不良であった。
【０１６１】
プレ塗布装置によるＡ液の塗布量が３ｍｌ（設計塗布量の６０％）であるＮｏ２は、良好な塗布状態であった。
【０１６２】
プレ塗布装置によるＡ液の塗布量が２０ｍｌ（設計塗布量の４００％）であるＮｏ３は、落下液起因のスジが見られたものの、ほぼ良好な塗布状態であった。
【０１６３】
プレ塗布装置によるＡ液の塗布量が３０ｍｌ（設計塗布量の６００％）であるＮｏ４は、塗布膜厚に若干の厚さ偏差を生じていた。
【０１６４】
プレ塗布装置によるＢ液の塗布量が０ｍｌ（設計塗布量の０％）であるＮｏ５は、斑点状の欠陥を生じ、塗布不良であった。
【０１６５】
プレ塗布装置によるＢ液の塗布量が３．５ｍｌ（設計塗布量の１００％）であるＮｏ６は、良好な塗布状態であった。
【０１６６】
プレ塗布装置によるＢ液の塗布量が２０ｍｌ（設計塗布量の５７１％）であるＮｏ７は、ウェブ１６の幅方向に塗布膜厚の厚さ偏差を生じていた。
【０１６７】
以上の結果より、塗布時の膜厚が５μｍ以下の塗布層を形成する際に、プレ塗布装置による塗布膜厚を、設計膜厚の５０〜５００％に塗布することが好ましいことが確認できた。
【０１６８】
（実施例２）
実施例１と略同一の条件で光学フィルム（反射防止フィルム）の製造を行った。ウエブ１６の材質は実施例１と同一とした。
【０１６９】
塗布液は、以下のように調整した。屈折率が１．４２であり、熱架橋性含フッ素ポリマーの６重量％のメチルエチルケトン溶液（ＪＮ−７２２８、ＪＳＲ（株）製）９３ｇに、ＭＥＫ−ＳＴ（平均粒径１０ｎｍ〜２０ｎｍ、固形分濃度３０重量％のＳｉＯ2 ゾルのメチルエチルケトン分散物、日産化学（株）製）８ｇ、メチルエチルケトン９４ｇ及びシクロヘキサノン６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルタ（ＰＰＥ−０１）で濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。この塗布液（Ｃ液）の粘度は０．００１Ｎ・ｓ／ｍ2 であり、表面張力は０．０２２Ｎ／ｍであった。
【０１７０】
ただし、図１及び図２のグラビア塗布装置１０に、図６に示されるワイヤ（ワイヤ部材）２１を張設した条件で塗布を行い（Ｎｏ５及びＮｏ６）、ワイヤ２１を張設しない条件（Ｎｏ１〜Ｎｏ４）と比較した。
【０１７１】
ウェブ１６を走行速度２０ｍ／分で走行させながら、塗布装置１００により上記の塗布液Ｃをハードコート層上に、塗布液量がウェブ１６の面積１ｍ2 当り３ｍｌになるように塗布した。この際、プレ塗布装置による塗布量を調整し、設計塗布量の０〜３３４％まで変化させた。
【０１７２】
各試料において、塗布膜の塗布状態を目視による官能検査で判定した。以上の製造条件及び評価結果を図８の表に纏める。
【０１７３】
プレ塗布装置によるＣ液の塗布量が０ｍｌ（設計塗布量の０％）であるＮｏ１は、斑点状の欠陥を生じ、塗布不良であった。
【０１７４】
プレ塗布装置によるＣ液の塗布量が３ｍｌ（設計塗布量の１００％）であるＮｏ２は、若干のスジ欠陥を生じていた。
【０１７５】
プレ塗布装置によるＣ液の塗布量が５ｍｌ（設計塗布量の１６７％）であるＮｏ３は、若干のスジ欠陥を生じていた。
【０１７６】
プレ塗布装置によるＣ液の塗布量が１０ｍｌ（設計塗布量の３３４％）であるＮｏ４は、塗布膜厚にわずかな厚さ偏差を生じていた。
【０１７７】
グラビア塗布装置１０にワイヤ２１が張設され、プレ塗布装置によるＣ液の塗布量が１０ｍｌ（設計塗布量の３３４％）であるＮｏ５は、ほぼ良好な塗布状態であった。
【０１７８】
グラビア塗布装置１０にワイヤ２１が張設され、プレ塗布装置によるＣ液の塗布量が３ｍｌ（設計塗布量の１００％）であるＮｏ６は、良好な塗布状態であった。
【０１７９】
以上の結果より、同一の塗布条件（Ｎｏ２とＮｏ６、及び、Ｎｏ４とＮｏ５）でありながら、ワイヤ２１の有無により塗布状態が異なっており、ワイヤ２１を設置した効果が確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０１８０】
【図１】本発明に係る塗布液の塗布方法、装置が適用される光学フィルムの製造ラインを説明する説明図
【図２】塗布装置の全体構成を説明する断面図
【図３】バーコータの構成を説明する断面図
【図４】塗工用ワイヤバーを説明する部分拡大断面図
【図５】塗布装置の全体構成の他の例を説明する断面図
【図６】グラビア塗布装置の他の例を説明する断面図
【図７】実施例１の結果を示す表
【図８】実施例２の結果を示す表
【図９】一般的なダイレクトグラビアコータの構造を説明する断面図
【図１０】一般的なグラビアキスコータの構造を説明する断面図
【符号の説明】
【０１８１】
１０…グラビア塗布装置、１２…グラビアローラ、１３…バックアップローラ、１４…液受けパン、１５…バーコータ、１６…ウエブ、１７…上流ガイドローラ、１８…下流ガイドローラ、６６…送り出し機、６８…ガイドローラ、７４…除塵機、７６…乾燥ゾーン、７８…加熱ゾーン、８０…紫外線ランプ、８２…巻取り機
【図１】
2005279338.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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