(57)【要約】【課題】  大型サイズの被処理基板に対しても、ブラシ洗浄面におけるブラシ毛を均一に作用させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】  基板洗浄装置１は、洗浄すべき基板Ｓの洗浄用ブラシ毛１２が、平板状のブラシ基部１１に対して植毛されてなる平面状のブラシ洗浄面１２Ｈを備えたブラシ本体部１０と、前記ブラシ基部１１の裏面１１１側に設けられ、前記ブラシ本体部１０を吊止め支持する支持材２１を備える剛直な部材からなるブラシ取り付けベース２とを具備する。ブラシ取り付けベース２取り付けられた支持材２１は、ブラシ洗浄面１２Ｈのブラシ毛先が、基板Ｓの表面と接触する長さを部分的に調整可能とする矯正手段Ａを兼ねている。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理用のブラシ毛が平板状のブラシ基部に対して立設されてなる平面状のブラシ処理面を備えたブラシ本体部と、前記ブラシ基部の裏面側に設けられ、前記ブラシ本体部を支持するブラシ取り付けベースとを備え、
前記ブラシ取り付けベースには、前記ブラシ処理面のブラシ毛先が、基板表面に作用する度合いを部分的に調整可能とする矯正手段が設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
ブラシ本体部が、ブラシ基部の裏面側を多点的に支持する支持材を備えた剛直なブラシ取り付けベースにて保持される構造とされ、
矯正手段が、前記支持材に付設され、前記ブラシ取り付けベースと前記ブラシ基部の裏面側との間隔が調整自在とされた間隔調整機構であることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
基板表面を洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給手段をさらに備え、
前記ブラシ本体部が、前記洗浄液供給手段から供給される洗浄液を基板表面へ吐出すべく、前記ブラシ基部におけるブラシ毛の立設面に設けられた洗浄液吐出孔を有する基板洗浄用のものであることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記洗浄液吐出孔は、洗浄液がブラシ毛を経由して基板表面に供給される孔配置、若しくは孔形状とされていることを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
少なくとも前記ブラシ本体部のブラシ処理面を、処理すべき基板の面と平行な方向に揺動させる揺動手段を備えることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記揺動手段が、ブラシ取り付けベースに連結されたバイブレータであることを特徴とする請求項５記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記バイブレータが、アンバランスウェイトを備えた一対の振動モータからなることを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
【請求項８】
ブラシ本体部が、平板状のブラシ基部に対しブラシ毛が処理すべき基板の進行方向と直交する方向に延在するようライン状に立設された第１のブラシ毛列と、
この第１のブラシ毛列と所定間隔を置いて配置され、同様にブラシ毛がライン状に立設された第２のブラシ毛列とを少なくとも具備することを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記第１のブラシ毛列を構成するブラシ毛と、第２のブラシ毛列を構成するブラシ毛とを、異なる性質のブラシ毛で構成したことを特徴とする請求項８記載の基板処理装置。
【請求項１０】
ブラシ基部の内部に、第１のブラシ毛列及び第２のブラシ毛列の配置形態に沿った洗浄液供給路を設け、
基板表面を洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給手段から供給される洗浄液を、第１のブラシ毛列及び第２のブラシ毛列の立設面近傍に設けられ、前記洗浄液供給路と連通する洗浄液吐出孔から吐出させるよう構成したことを特徴とする請求項８記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示デバイス（ＬＣＤ）、プラズマ表示デバイス（ＰＤＰ）、半導体デバイス等の製造プロセスにおいて、ＬＣＤまたはＰＤＰ用ガラス基板、半導体基板などの被処理基板に対して各種の処理、例えば洗浄処理を行う基板処理装置に関し、特に大型サイズの基板処理に好適な基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤまたはＰＤＰ用ガラス基板等の基板製造ラインにおいては、例えばエッチング処理等の薬液を用いた特定の処理装置の後に基板洗浄装置を設け、基板表面に残った薄膜やパーティクル等の異物を洗浄除去することが行われている。このような基板洗浄装置は、例えばローラコンベア等の搬送手段により搬送される基板に純水等の洗浄液を供給しつつ、該基板表面に円筒状のロールブラシを当接させる構成が一般的である。このようなロールブラシは、回転駆動されるブラシ軸をブラシ基部とし、該ブラシ基部の全周にブラシ毛を密に立設（植毛）して構成することで全体が円筒状を呈しており（つまり、円筒状のブラシ洗浄面を有しており）、該ロールブラシを基板に接触させた状態で前記ブラシ軸を回転駆動させることにより、当該基板に対する物理的な洗浄力を得る構成とされている。
【０００３】
一方、例えば特許文献１には、網目状の柔軟なシート部材にブラシ毛を植毛してなるブラシプレートを用いたブラシ洗浄装置、すなわち平板状のブラシ基部にブラシ毛を植毛してなる平面状のブラシ洗浄面を有するブラシプレートを具備したブラシ洗浄装置が開示されている。このブラシ洗浄装置は、前記ブラシプレートの裏面側に洗浄液を供給するハウジングを設け、洗浄液をブラシプレートの網目から吐出させつつ、洗浄液の供給圧力をもってブラシプレート（平面状のブラシ洗浄面）を洗浄すべき基板の表面に押し付ける構成である。
【特許文献１】特開平６−２９２６７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、近年はＬＣＤやＰＤＰの大型化が求められる趨勢にあり、これらに用いられるガラス基板も大型化する傾向にある。このような大型サイズの基板に各種の処理を施す場合、例えば上述したロールブラシで洗浄処理を行う場合、装置の精度の面で問題点が表出することになる。すなわち、一般的にロールブラシは基板の進行方向に直行する方向に、基板表面側に架け渡されるように配置されるが、基板が大型化する分、ロールブラシも大型化（長尺化）することになり、この長尺化に伴いロールブラシの長手方向中央部が撓んでしまう場合がある。このような「撓み」が生ずると、ロールブラシと被処理基板との間のギャップが、ロールブラシの長手方向で一定にならない、つまりロールブラシのブラシ毛先が基板表面に接触する長さがロールブラシの長手方向において不均一になるという不都合がある。
【０００５】
上記のような「不均一」が生ずると、ブラシ毛が基板に作用する度合いが部分的に相違することとなり、例えば基板表面の洗浄度にバラツキが生じてしまうこととなる。かかる不都合を解消するために、例えばロールブラシのブラシ軸を極めて高剛性の真直性に優れる部材で構成することも考えられるが、かような特殊ブラシ軸の採用は当該基板処理装置のコストアップを招来することになる。また、ＬＣＤやＰＤＰ用ガラス基板のさらなる大型化が進捗した場合、根本的な問題解決手段とはならない。
【０００６】
また、特許文献１のように、平面状のブラシ洗浄面を備えるブラシ洗浄装置においても事情は同じである。すなわち、大型サイズの基板を処理（洗浄）させようとする場合、やはり平面状のブラシ洗浄面に上述した「撓み」等が生じてしまい、ブラシ洗浄面と被処理基板の間のギャップが均一にならないという問題がある。特に特許文献１に記載されたブラシ洗浄装置にあっては、洗浄液の供給圧力にてブラシプレートを基板表面に押し付ける構成であり、かかる構成で大型サイズの基板に対してブラシ洗浄面のブラシ毛を、全面にわたって均一に基板へ当接させるのは事実上不可能である。
【０００７】
本発明は以上のような問題点に鑑みてなされたもので、大型サイズの被処理基板に対しても、ブラシ洗浄面におけるブラシ毛を均一に作用させることができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の請求項１にかかる基板処理装置は、基板処理用のブラシ毛が平板状のブラシ基部に対して立設されてなる平面状のブラシ処理面を備えたブラシ本体部と、前記ブラシ基部の裏面側に設けられ、前記ブラシ本体部を支持するブラシ取り付けベースとを備え、前記ブラシ取り付けベースには、前記ブラシ処理面のブラシ毛先が、基板表面に作用する度合いを部分的に調整可能とする矯正手段が設けられていることを特徴とする。この構成によれば、平面状のブラシ処理面を備えたブラシ本体部が支持されるブラシ取り付けベースに前記矯正手段が設けられているので、ブラシ処理面のブラシ毛先が基板表面に作用する度合いを、平面状のブラシ処理面において部分的に調整することが可能となる。従って、例えばブラシ本体部の中央部分に撓み等が生じ、該「撓み」に起因するブラシ毛先の基板表面に対する接触長さの不均一が発生した場合でも、前記矯正手段によりその不均一さを是正することができるようになる。なお上記構成において、ブラシ毛先が「基板表面に作用する度合い」とは、ブラシ毛先を基板表面に直接接触させて処理を施すタイプの基板処理装置にあっては、「ブラシ毛先が基板表面と接触する長さ」を意味し、またブラシ毛先を基板表面に直接接触させず、洗浄液等の介在下において処理を施すタイプの基板処理装置にあっては、「ブラシ毛先と基板表面との間隔」を意味する。
【０００９】
本発明が適用される基板処理装置としては、例えば洗浄液を供給しつつブラシ毛を基板に当接させて該基板表面の洗浄を行う基板処理装置が代表的であるが、これに限定されず、例えばＬＣＤ用ガラス基板（表面の配向膜）にラビング処理を行うラビング処理装置等、ブラシ毛を平板状基板に作用させて各種の処理を行う基板処理装置全般に適用することが可能である。
【００１０】
ブラシ取り付けベースによるブラシ本体部の支持形態については特に限定はなく、ブラシ本体部を安定的に支持し得るものであれば良い。具体的には、ブラシ取り付けベースに複数の吊止め支持部を設け、この吊止め支持部にてブラシ本体部を吊止めする形態、ブラシ本体部の外周縁部を枠状部材で保持する形態等を例示することができる。
【００１１】
本発明における矯正手段は、ブラシ処理面のブラシ毛先が基板表面に作用する度合いを、当該ブラシ処理面において部分的に調整可能とするためのものである。一般的にはブラシ本体部に撓み等が生じた場合に、その撓み部分におけるブラシ毛先高さを他の部分に一致させ、当該ブラシ処理面におけるブラシ毛先高さの凹凸を是正し、これを平面化する作用を為す。この他、逆にブラシ処理面のブラシ毛先高さを意図的に一部変化させ、基板に対するブラシ毛の作用度合いを変化させる場合に用いることも可能である。矯正手段は、ブラシ毛先高さを実質的に上下動させ得る機構であれば特に制限はなく、例えばブラシ毛が立設（植毛）されているブラシ基部の裏面を部分的に押圧若しくは持ち上げる機構等を採用することができる。このような機構としては押圧ネジ若しくは牽引ネジ等のネジ調整機構、油圧機構、アクチュエータ、あるいは圧電素子による調整機構等を用いることができる。
【００１２】
請求項２にかかる基板処理装置は、請求項１において、ブラシ本体部が、ブラシ基部の裏面側を多点的に支持する支持材を備えた剛直なブラシ取り付けベースにて保持される構造とされ、矯正手段が、前記支持材に付設され、前記ブラシ取り付けベースと前記ブラシ基部の裏面側との間隔が調整自在とされた間隔調整機構であることを特徴とする。この構成によれば、剛直なブラシ取り付けベースがブラシ本体部の支持基準面となり、ブラシ本体部を支持する支持材が、前記矯正手段を兼ねる構成となる。つまり、支持材に付設された間隔調整機構により、ブラシ毛が立設されたブラシ基部の裏面とブラシ取り付けベースとの間隔が調整されることで、ブラシ処理面におけるブラシ毛先高さが連動的に調整されるようになる。
【００１３】
請求項３にかかる基板処理装置は、請求項１において、基板表面を洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給手段をさらに備え、前記ブラシ本体部が、前記洗浄液供給手段から供給される洗浄液を基板表面へ吐出すべく、前記ブラシ基部におけるブラシ毛の立設面に設けられた洗浄液吐出孔を有する基板洗浄用のものであることを特徴とする。この構成によれば、本発明を基板洗浄装置に適用する場合において、洗浄液を供給するノズル等を別途設置する必要がなくなり、また洗浄液をブラシ毛による洗浄動作部位に効果的に供給できるようになる。
【００１４】
請求項４にかかる基板処理装置は、請求項３において、前記洗浄液吐出孔は、洗浄液がブラシ毛を経由して基板表面に供給される孔配置、若しくは孔形状とされていることを特徴とする。
【００１５】
請求項５にかかる基板処理装置は、請求項１において、少なくとも前記ブラシ本体部のブラシ処理面を、処理すべき基板の面と平行な方向に揺動させる揺動手段を備えることを特徴とする。この構成によれば、平面状のブラシ処理面を単に基板に接触させる場合に比べて処理作用を強化することができるようになる。例えば基板洗浄装置の場合、揺動手段によるブラシ処理面の揺動により、その洗浄効果を向上させることができる。
【００１６】
請求項６にかかる基板処理装置は、請求項５において、前記揺動手段が、ブラシ取り付けベースに連結されたバイブレータであることを特徴とする。この構成によれば、バイブレータにより発生された振動力がブラシ取り付けベースに与えられ、その振動力が支持材を介してブラシ本体部に伝達されるようになる。
【００１７】
請求項７にかかる基板処理装置は、請求項６において、前記バイブレータが、アンバランスウェイトを備えた一対の振動モータからなることを特徴とする。上記バイブレータとしては、例えばリニアガイド又はリニアブッシュでブラシ取り付けベースを支持させ、エアシリンダ又はクランク機構を用いて直線的な往復運動をさせるものであっても良い。しかし、この構成のように、アンバランスウェイトを備えた一対の振動モータを用いれば、両モータの回転方向や回転数を制御することで、被処理基板の表面と平行な二次元平面内において平面状ブラシ処理面の運動方向を適宜制御できるようになる。
【００１８】
請求項８にかかる基板処理装置は、請求項１において、ブラシ本体部が、平板状のブラシ基部に対しブラシ毛が処理すべき基板の進行方向と直交する方向に延在するようライン状に立設された第１のブラシ毛列と、この第１のブラシ毛列と所定間隔を置いて配置され、同様にブラシ毛がライン状に立設された第２のブラシ毛列とを少なくとも具備することを特徴とする。この構成によれば、第１のブラシ毛列と第２のブラシ毛列とを所定間隔を置いて配置するので、例えば両ブラシ列の間隔を調整する（つまり、基板と接触するブラシ毛量を調整する）ことで、基板とブラシ毛との接触面積（作用度合い）を調整できるようになる。なお、これらブラシ毛列は、夫々その幅を一定としておけば、基板に対する処理作用（洗浄作用）を基板幅方向にわたって均一化できるので好ましい。また、第１のブラシ毛列と第２のブラシ毛列の２列ではなく、３列以上の複数列としても勿論良い。
【００１９】
請求項９にかかる基板処理装置は、請求項８において、前記第１のブラシ毛列を構成するブラシ毛と、第２のブラシ毛列を構成するブラシ毛とを、異なる性質のブラシ毛で構成したことを特徴とする。この構成によれば、第１のブラシ毛列と第２のブラシ毛列とで、基板に対して作用の異なる複数の処理が行えるようになる。例えば基板洗浄装置の場合にあっては、第１のブラシ毛列と第２のブラシ毛列とで異なるサイズのパーティクルを洗浄ターゲットとすることができる。ここで異なる性質のブラシ毛としては、ブラシ毛の材質、ブラシ毛の外径、ブラシ毛の断面形状若しくは先端形状、ブラシ毛のしなり度等が異なるものを例示することができる。この他、全く同質のブラシ毛を用いつつも、第１のブラシ毛列と第２のブラシ毛列とで植毛密度を異ならせる等することで、両毛列全体として見たときに互いに「異なる性質」となっているような場合も含まれる。
【００２０】
請求項１０にかかる基板処理装置は、請求項８において、ブラシ基部の内部に、第１のブラシ毛列及び第２のブラシ毛列の配置形態に沿った洗浄液供給路を設け、基板表面を洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給手段から供給される洗浄液を、第１のブラシ毛列及び第２のブラシ毛列の立設面近傍に設けられ、前記洗浄液供給路と連通する洗浄液吐出孔から吐出させるよう構成したことを特徴とする。この構成によれば、第１のブラシ毛列と第２のブラシ毛列による洗浄部位に対して、効果的に洗浄液を供給することができるようになる。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１にかかる基板処理装置によれば、ブラシ毛先の基板表面に対する接触長さの不均一が発生した場合でも、前記矯正手段によりその不均一さを是正することができるので、被処理基板が大型サイズのものであって、ブラシ本体部が不可避的に撓み変形してしまうような場合（ブラシ洗浄面と被処理基板との間のギャップが不均一になる場合）でも、ブラシ洗浄面のブラシ毛を、全面にわたって均一に基板へ作用させることができる。従って、基板洗浄装置に本発明を適用した場合、ブラシ毛先の基板表面に対する作用度合いの不均一さに由来する基板表面の洗浄度のバラツキ等が抑制でき、高品質の基板処理が行えるようになるという効果を奏する。
【００２２】
請求項２にかかる基板処理装置によれば、剛直なブラシ取り付けベースがブラシ本体部の支持基準面となり、ブラシ本体部を支持する支持材が、前記矯正手段を兼ねる構成であるので、比較的簡易な構成でブラシ本体部の支持構造並びに矯正手段を構築でき、本発明を適用する基板処理装置の構造の簡素化、及びコストダウンを図ることができる。なお、このような簡易的な矯正手段を設けることは、従来のロールブラシタイプでは事実上不可能であり、この点でも従来技術に対する優位性があると言える。
【００２３】
請求項３にかかる基板処理装置によれば、本発明を基板洗浄装置に適用する場合において、洗浄液を供給するノズル等を別途設置する必要がないことから、装置の小型化を図ることが可能となる。また洗浄液をブラシ毛による洗浄動作部位に効果的に供給できることから、確実な洗浄を行うことができる。さらに、ブラシ基部には洗浄液（純水等）が滞留してバクテリアが繁殖し、その死骸等が被洗浄基板上に落下して不具合を来たすことがあるが、この構成によればブラシ毛の立設面に洗浄液吐出孔が設けられているので、そのような洗浄液の滞留自体が発生しにくくなり、バクテリア対策としても有効である。
【００２４】
請求項４にかかる基板処理装置によれば、洗浄液がブラシ毛を経由して基板表面に供給されることから、洗浄液が吐出される度にブラシ毛自体も洗浄されることとなり、よりブラシ基部における洗浄液の滞留が生じにくくなり、従って前述のバクテリア繁殖対策の万全を期すことができる。
【００２５】
請求項５にかかる基板処理装置によれば、平面状のブラシ処理面を単に基板に接触させる場合に比べて処理作用を強化でき、例えば基板洗浄装置の場合、揺動手段によるブラシ処理面の揺動によってその洗浄効果を向上させることができるので、比較的小サイズのブラシ本体部によっても同様な洗浄効果が期待でき、その分だけ装置の小型化が図り得るという利点がある。
【００２６】
請求項６にかかる基板処理装置によれば、ブラシ本体部のブラシ処理面を、処理すべき基板の面と平行な方向に揺動させる揺動手段を、比較的簡易な構成で構成することができるようになる。
【００２７】
請求項７にかかる基板処理装置によれば、アンバランスウェイトを備えた一対の振動モータを用いることで、被処理基板の表面と平行な二次元平面内において平面状ブラシ処理面の運動方向を適宜制御できるようになることから、より基板に対する処理能力（洗浄能力）を向上させることができる。
【００２８】
請求項８にかかる基板処理装置によれば、基板とブラシ毛との接触面積（作用面積）を調整できるので、基板に対する処理作用を、ブラシ毛の立設量の調整という簡易な方法で適宜調整できるという効果を奏する。
【００２９】
請求項９にかかる基板処理装置によれば、一つのブラシ本体部に立設された第１のブラシ毛列と第２のブラシ毛列とで、基板に対して作用の異なる複数の処理が行えるようになる。従来のロールブラシ方式では、回転接触方式であるので部分的にブラシ毛の性質を変えることは出来ず、このような場合は性質の異なるブラシ毛をそれぞれ植毛したロールブラシを準備し、これを基板搬送方向に複数配置する必要があり（当然、それぞれのロールブラシに駆動機構を設ける必要がある）、基板処理装置が大型化してしまうという不都合があったが、この構成によれば格段に省スペース化を図ることができる。
【００３０】
請求項１０にかかる基板処理装置によれば、本発明にかかる基板処理装置を、上記のブラシ毛列方式を採用した基板洗浄装置に適用する場合において、洗浄液を第１のブラシ毛列及び第２のブラシ毛列による洗浄動作部位に効果的に供給できることから、確実な洗浄を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下本発明の一実施形態につき、図面に基づいて詳細に説明する。
図１は、本発明かかる基板処理装置が好適に適用されるエッチング処理装置Ｅを示す概略図である。このエッチング処理装置Ｅは、例えば液晶表示器用のガラス基板上に形成された薄膜にエッチングを施す処理を行う装置であって、ローダＥ１及びアンローダＥ２と、処理すべき基板若しくは処理後の基板をストックするカセットＣに対し基板を搬入・搬出する動作を行うロボットハンドを備える移送ロボットＥ３と、処理すべき基板を図示省略の基板搬送手段で搬送しつつ、この基板に対して各種の処理を行う基板処理部Ｅ４、すなわちエッチングユニットＥ４１、水洗処理ユニットＥ４２、及び乾燥ユニットＥ４３からなる基板処理部Ｅ４とから構成されている。
【００３２】
上記基板処理部Ｅ４のエッチングユニットＥ４１は、被処理基板にエッチング処理を施すユニットであり、例えば搬送されてくる基板の表面にノズルからエッチング液を供給し、エッチング液を基板表面に作用させて基板にエッチング加工を施すものである。水洗処理ユニットＥ４２（基板洗浄装置）は、前記エッチング処理がなされた基板の表面を清浄化すべく、基板表面に純水等を供給して基板を水洗するものである。また乾燥ユニットＥ４３は、水洗後の基板に対して温風等を供給し、該基板の表裏面を乾燥させるものである。本発明にかかる基板処理装置は、例えばこのようなエッチング処理装置Ｅにおける前記水洗処理ユニットＥ４２（基板洗浄装置）として好適に用いることができる。以下、本発明をかような基板洗浄装置に適用する場合について、その具体的実施形態を説明する。
【００３３】
図２は、本発明にかかる基板洗浄装置１を簡易的に示す構成図である。この基板洗浄装置１は、洗浄（処理）すべき基板Ｓの洗浄用のブラシ毛１２が、平板状のブラシ基部１１に対して立設（植毛）されてなる平面状のブラシ洗浄（処理）面１２Ｈを備えたブラシ本体部１０と、前記ブラシ基部１１の裏面１１１側に設けられ、前記ブラシ本体部１０を吊止め支持する支持材２１を備える剛直な部材からなるブラシ取り付けベース２とを具備している。そして、該ブラシ取り付けベース２には、ブラシ洗浄面１２Ｈのブラシ毛先が、基板Ｓの表面と接触する長さを部分的に調整可能とする矯正手段Ａが設けられるのであるが、この実施形態では、前記支持材２１が矯正手段Ａを兼ねる構成とされている。この点については、後記で詳述する。
【００３４】
該ブラシ取り付けベース２には、揺動手段３が取り付けられており、該揺動手段３から与えられる振動によりブラシ取り付けベース２が例えば図面左右方向へ揺動されることで、ブラシ取り付けベース２にて支持されているブラシ本体部１０のブラシ洗浄面１２Ｈが、洗浄される基板Ｓの表面と平行な方向に揺動されることになる。なお、揺動手段３は、ブラシ取り付けベース２に出力軸が連結されるバイブレータ３１と、該バイブレータ３１を駆動するための、電動モータや空圧機器等からなる駆動源３２とから構成されている。
【００３５】
ブラシ本体部１０のブラシ基部１１へは、洗浄液供給手段４から洗浄液が供給されるようになっている。洗浄液供給手段４は純水等の洗浄液を貯留する洗浄液タンク４１、この洗浄液タンク４１から前記ブラシ基部１１まで洗浄液を送る配管路４２、及び配管路４２の途中に設けられる供給ポンプ４３とからなる。
【００３６】
ブラシ基部１１の内部には、洗浄液を流通させる流路１３が内設されており、この流路１３の開口端１３Ｅには、前記配管路４２の端末部が接続され、洗浄液供給手段４から送られてくる洗浄液を受け入れるようになっている。そして、この洗浄液を基板Ｓの表面へ吐出すべく、前記ブラシ基部１１におけるブラシ毛１２の立設面側には、多数の洗浄液吐出孔１３１が設けられている。
【００３７】
このように構成された基板洗浄装置１の動作を説明する。まずブラシ基部１１の高さ位置の設定がなされる。この高さ位置は、ブラシ毛１２の径や材質等、並びに洗浄ターゲットとするパーティクルの粒径等を考慮し、洗浄すべき基板Ｓにどの程度の圧力で、またどの程度の接触面積でブラシ毛１２を接触させるかの観点から決定される。次に、ブラシ洗浄面１２Ｈにおけるブラシ毛１２の毛先高さの微調整、つまりブラシ毛１２の毛先が基板Ｓの表面と接触する長さが、ブラシ洗浄面１２Ｈの全面においてほぼ同じになるよう、矯正手段Ａ（支持材２１）による調整が行われる。
【００３８】
具体的には、ブラシ基部１１が大型の基板Ｓに対応すべく大面積タイプのものとされている場合、相当特殊な材料で構成された成型品を用いない限りは、当該ブラシ基部１１の全面（つまり、ブラシ洗浄面１２Ｈの全面）にわたり完全な平面性を備えた状態にはならず、いずれかの部分が下方向に撓む等して、ブラシ毛１２の毛先高さが一部不揃いになることがある。このような事象が認められた場合、その撓んだ部分に近い矯正手段Ａ（支持材２１）を調整し、当該支持材２１によるブラシ本体部１０（ブラシ基部１１）の吊止め支持高さを高くし、撓んだ部分を上方向に持ち上げるようにし、これによりブラシ毛１２の毛先高さを揃えるようにする。すなわち、ブラシ毛１２が立設されているブラシ基部１１の撓み部分をその裏面１１１側から部分的に持ち上げる（ブラシ基部１１とブラシ取り付けベース２との間のギャップＧを部分的に小さくする）ことで、ブラシ基部１１の撓みに起因するブラシ毛１２の部分的な突出を矯正するものである。
【００３９】
このような矯正が完了された上で、基板Ｓの洗浄処理が行われる。この洗浄処理に際しては、洗浄液供給手段４の供給ポンプ４３を動作させ、洗浄液をブラシ基部１１に設けられた洗浄液吐出孔１３１から洗浄液を基板Ｓに向けて吐出させつつ、バイブレータ３１を駆動源３２で駆動してブラシ取り付けベース２を揺動させる。これにより、搬送されてくる基板Ｓの表面にブラシ洗浄面１２Ｈが、洗浄液の存在下で揺動接触することとなり、ブラシ毛１２が基板Ｓに作用してパーティクル等が除去されるものである。
【００４０】
以上が本実施形態にかかる基板洗浄装置１の全体概略構成及び概略動作であるが、続いて各要部の態様につき詳述する。図３は、図２に示した簡易的な構成図の要部、特にブラシ本体部１０及び矯正手段Ａの部分を詳細に示す一部破断側面図である。先ずブラシ本体部１０につき説明すると、ブラシ基部１１の基板Ｓとの対向面には、所定本数のブラシ毛１２が束ねられたブラシ毛束１２０の単位で、多数束が植毛されている。この植毛は、ブラシ基部１１の表面に設けられた収納凹部に、前記ブラシ毛束１２０の根元部分１２０Ｂを嵌入する方式が採られている。このように植毛されたブラシ毛１２により、その毛先１２Ｓ側において、平面状のブラシ洗浄面１２Ｈが形成されている。そして該ブラシ洗浄面１２Ｈのブラシ毛先１２Ｓが、搬送ローラ（搬送手段）５により図中矢印ａの方向に搬送されてくる基板Ｓに対し、所定の長さだけ接触することで、基板Ｓの表面に描画されているパターン溝等に付着しているパーティクル等の異物が掃き出される。
【００４１】
ブラシ基部１１の内部に設けられている洗浄液流通用の流路１３は、比較的大口径の貯留部１３２と、該貯留部１３２に連通するよう多数形成された比較的小口径の洗浄液吐出孔１３１とからなる。この、貯留部１３２と洗浄液吐出孔１３１とは主配管と分岐管の関係にあり、いわゆるマニホールド構造を呈している。洗浄液吐出孔１３１はブラシ毛束１２０の植毛間隔部に設けられており、このようにブラシ毛束１２０間に配置することで、洗浄液吐出孔１３１から吐出される洗浄液の多くが、ブラシ毛１２（ブラシ毛束１２０）を経由して基板Ｓの表面に供給されるようになる。
【００４２】
このような洗浄液の供給形態とすることで、ブラシ毛束１２０の根元部分１２０Ｂには常に新鮮な洗浄液が供給されて清浄に保たれることになる。従って、根元部分１２０Ｂに洗浄液が滞留してバクテリアが繁殖するといった問題は解消されるようになる。なお、より確実に洗浄液がブラシ毛１２の根元部分１２０Ｂに供給されるよう、洗浄液吐出孔１３１の吐出方向を前記根元部分１２０Ｂに配向する孔形状としても良い。
【００４３】
次に、矯正手段Ａの具体的態様につき説明する。この実施形態において矯正手段Ａを兼ねる支持材２１は、ブラシ基部１１に一端が固定される吊止めボルト２１０と、調整ナット２１３と、固定ナット２１４とを備えている。前記吊止めボルト２１０は、一端側に大径ネジ部２１２が設けられている一方、本体胴部２１１にはネジ部２１１Ｎが形成されている。前記大径ネジ部２１２は、ブラシ基部１１の裏面１１１側に設けられたネジ凹部１１２に螺合される。そして、前記吊止めボルト２１０は、抜け止め用の固定ナット２１４が締結されることにより、本体胴部２１１がブラシ基部１１からその背面方向に突出する形で、ブラシ基部１１にその一端側が固定される構成とされている。
【００４４】
吊止めボルト２１０の他端側は、ブラシ取り付けベース２に設けられている貫通孔２２を貫通し、ブラシ取り付けベース２の上面側に突出している。そして、該ブラシ取り付けベース２の上面側において、前記調整ナット２１３がそのネジ部２１１Ｎに螺合されている。調整ナット２１３の下面は、緩衝部材２１５を介してブラシ取り付けベース２の上面側と当接しており、該当接面において吊止めボルト２１０を係止し、これによりブラシ基部１１（ブラシ本体部１０）が吊止め支持されるようになっている。
【００４５】
このように吊止めボルト２１０の取り付け構造とされていることから、前記調整ナット２１３を回転させることにより、ブラシ取り付けベース２の下面とブラシ基部１１の裏面１１１とのギャップＧの長さを調整することができる。つまり前記ギャップＧの間隔調整機構として機能する。従って、ブラシ基部１１に下方向の撓みが生じている部位があれば、その近傍に取り付けられている吊止めボルト２１０の調整ナット２１３を締め付け方向に回転させ、当該部位を上方向に持ち上げるようにすることで、前記の「撓み」を矯正できるようになる。
【００４６】
以上説明したような矯正手段Ａを兼ねる吊止めボルト２１０の、該ブラシ取り付けベース２に対する配置は、ブラシ基部１１の裏面１１１を多点的に支持でき、前記の「撓み」を効果的に矯正できる配置間隔とされていれば特に制限はない。例えば図４（ａ）に示すように、長方形状のブラシ取り付けベース２である場合には、吊止めボルト２１０を千鳥状に配置することができる。また図４（ｂ）に示すように、正方形に近いブラシ取り付けベース２である場合には、吊止めボルト２１０をｎ×ｍ列状に配置することができる。
【００４７】
なお、ブラシ基部１１が成型クセや熱履歴等の要因で上方向に反っている部位があれば、上記の場合とは逆に調整ナット２１３を緩める方向に回転させ、当該部位に押圧力を与えることで、前記の「反り」等を矯正することができるようになる。なお、特に「撓み」や「反り」が存在しない場合は、ブラシ本体部１０を安定的に支持するために最低限必要な部位（例えばブラシ取り付けベース２のコーナー部に位置する部位）の吊止めボルト２１０に対してのみ前記調整ナット２１３を螺合させ、その他の吊止めボルト２１０には調整ナット２１３を螺合させないようにしても良い。
【００４８】
続いて、図５〜図９に基づいて、揺動手段３の具体的態様につき説明する。図５は、クランク機構部３０（バイブレータ３１）を用いてブラシ取り付けベース２（ブラシ洗浄面１２Ｈ）を、基板Ｓの進行方向（図中矢印ｂで表示）と直交する方向（図中矢印ｃの方向）に、直線的な往復運動をさせる揺動手段３の例を示している。このクランク機構部３０は、電動モータ（駆動源）３２により駆動されるものであって、電動モータ３２の回転軸３２１に結合された回転円板３１１の外周部付近に軸支ピン３１２が突設され、この軸支ピン３１２に駆動シャフト３１３の一端側に設けられた連結孔が遊嵌されてなる。そして駆動シャフト３１３の他端側に設けられた連結孔と、ブラシ取り付けベース２の側端縁に突設された軸支部２３とが、連結ピン２３１により回動自在に連結されている。
【００４９】
一方、ブラシ取り付けベース２はリニアガイド２４１により、図中矢印ｃの方向への直線的な往復動が可能なように支持されている。このリニアガイド２４１に代えて、リニアブッシュ等を用いるようにしても良い。
【００５０】
このような構成において、電動モータ３２が駆動されると、電動モータ３２の回転軸３２１に結合された回転円板３１１が回転され、該回転円板３１１に突設されている軸支ピン３１２に一端側が連結されている駆動シャフト３１３が、図面左右方向のクランク動作を行うことになる。このクランク動作により、連結ピン２３１により駆動シャフト３１３に連結されているブラシ取り付けベース２は、前記リニアガイド２４１によりガイドされつつ、図中矢印ｃの方向へ往復運動（振動）するものである。なお、このようなクランク機構部３０と電動モータ３２とを用いた直線往復動機構に代えて、エアシリンダ等を用いた直線往復動機構を採用するようにしても良い。
【００５１】
図６は、揺動機構３の他の実施形態を示す側面図である。洗浄効果を高めるには、単純な直線往復振動をもってブラシ洗浄面１２Ｈを基板Ｓに当接させるよりも、様々な振動軌跡をもって当接させることが肝要となる。そこでこの実施形態では、ブラシ取り付けベース２（ブラシ洗浄面１２Ｈ）が、基板Ｓと平行な二次元平面を自由運動可能なように構成することをコンセプトとしている。
【００５２】
この実施形態においては、ブラシ取り付けベース２は前記の自由運動が行い得るよう、ボールベアリング２５１を備える支持具２５にてその両端下面が保持されていると共に、ブラシ取り付けベース２の運動範囲を規制するために保持バネ２４２により、その側端が保持されている。なお、このような保持方式に代えて、磁気浮上方式等により、ブラシ取り付けベース２を基板Ｓと平行な二次元平面を自由運動可能なように保持させることもできる。
【００５３】
ブラシ取り付けベース２の端部には、振動源となる電動モータ３３が締め付けボルト３３４により固定されている。なお電動モータ３３は、ブラシ取り付けベース２の端部に設けられた貫通孔２０１にその回転軸３３１が貫通するように、電動モータ３２の軸出力面がブラシ取り付けベース２と対向して固定されている。そして回転軸３３１の先端側には、アンバランス部３３３を備えたアンバランスウェイト３３２が取り付けられている。
【００５４】
このような構成において、電動モータ３３が回転駆動されるとアンバランスウェイト３３２も回転されるが、この際、アンバランス部３３３が存在することにより回転軸３３１には偏心力が発生することとなる。そして、電動モータ３３は締め付けボルト３３４でブラシ取り付けベース２に固定されていることから、アンバランスウェイト３３２の回転により生成される偏心力は、ブラシ取り付けベース２に対する振動力として伝播されるようになる。前述の通り、ブラシ取り付けベース２は保持バネ２４２とボールベアリング２５１を備える支持具２５とにより基板Ｓと平行な二次元平面を自由運動可能なように保持されているので、図中矢印ｄに示すように、二次元平面内を様々な方向に移動するものである。このような移動をさせる態様については、電動モータ３３の回転数や、アンバランスウェイト３３２におけるアンバランス部３３３の設定具合により、適宜選択することができる。
【００５５】
図７は、揺動機構３のさらに他の実施形態を示す側面図である。この実施形態は、ブラシ取り付けベース２の両端に、アンバランスウェイト３４２、３５２をそれぞれ備えた第１の電動モータ３４、第２の電動モータ３５を固定配置することで、ブラシ取り付けベース２（ブラシ洗浄面１２Ｈ）を種々の軌跡を描いて運動するよう制御可能とした揺動機構３を例示している。
【００５６】
この実施形態においても、ブラシ取り付けベース２は、保持バネ２４２とボールベアリングを備える支持具２５とにより基板Ｓと平行な二次元平面を自由運動可能なように保持される。前記ブラシ取り付けベース２の一端側下面には、締め付けボルト３４４により第１の電動モータ３４の裏面側が固定されている。そして第１の電動モータ３４の回転軸３４１には、アンバランス部３４３を有するアンバランスウェイト３４２が固定されている。同様にブラシ取り付けベース２の他端側下面には、第２の電動モータ３５が締め付けボルト３５４により固定され、その回転軸３５１にはアンバランス部３５３を有するアンバランスウェイト３５２が固定されている。なお、この実施形態で用いられる第１の電動モータ３４、第２の電動モータ３５は、正転及び逆転が自在に制御できるリバーシブルモータが用いられる。
【００５７】
このような構成において、第１、第２の電動モータ３４、３５の回転方向、及び回転位相（アンバランスウェイトの位置）等を制御することにより、様々な振動モードを得ることができる。例えば第１、第２の電動モータ３４、３５を互いに逆方向回転させた場合、図８に示すような各種の直線的な振動モードを得ることができる。すなわち、図８（ａ）に示すように、第１の電動モータ３４が備えるアンバランスウェイト３４２のアンバランス部３４３と、第２の電動モータ３５が備えるアンバランスウェイト３５２のアンバランス部３５３とが、同期して接近・離間する位相関係として逆回転させれば、振動モードの欄に示すように上下方向の振動が発生する。これは図７に示すように第１、第２の電動モータ３４、３５がブラシ取り付けベース２に取り付けられている場合では、図面奥行き方向の直線振動モードとなる。
【００５８】
また図８（ｂ）に示すように、アンバランス部３４３をアンバランス部３５３に対して９０°進み位相で逆方向回転させると、右斜め方向の振動モードとなる。また、図８（ｃ）に示すように、アンバランス部３４３とアンバランス部３５３とを１８０°位相をずらして逆方向回転させた場合は、水平方向の振動モードとなる。これは、図７に示す揺動機構３の場合は、図面左右方向の直線振動モードとなる。さらに、図８（ｄ）に示すように、アンバランス部３４３をアンバランス部３５３に対して９０°遅れ位相で逆方向回転させると、左斜め方向の振動モードを得ることができるものである。
【００５９】
一方、第１、第２の電動モータ３４、３５を同じ方向回転させた場合、図９に示すような回転軌跡を描く振動モードを得ることができる。すなわち、図９（ａ）に示すように、第１の電動モータ３４が備えるアンバランスウェイト３４２のアンバランス部３４３と、第２の電動モータ３５が備えるアンバランスウェイト３５２のアンバランス部３５３とが、同位置で同期して回転する位相関係として回転させれば、振動モードの欄に示すように大きな円軌道の振動モードとなる。これを図７に示す揺動機構３にあてはめた場合、ブラシ取り付けベース２が基板Ｓと平行な二次元平面において大きくローリング振動するモードとなる。
【００６０】
また図９（ｂ）に示すように、アンバランス部３４３をアンバランス部３５３に対して９０°遅れ位相で同方向回転させた場合、或いは図９（ｄ）に示すように、アンバランス部３４３をアンバランス部３５３に対して９０°進み位相で同方向回転させた場合では、比較的小さな円軌道の振動モードとなる。一方、また図９（ｃ）に示すように、アンバランス部３４３をアンバランス部３５３に対して１８０°位相をずらして同方向回転させると、互いの振動モードが打ち消されて無振動モードとなる。
【００６１】
このようにアンバランスウェイト３４２、３５２を備えた一対の第１、第２の電動モータ（振動モータ）３４、３５の、その回転方向やアンバランス部３４３、３５３の位相関係を適宜選定することで、ブラシ洗浄面１２Ｈを様々な軌跡で基板Ｓに当接させることができ、基板Ｓの洗浄効果をより一層向上させることが可能となる。また、図８及び図９に示した振動モードは、第１、第２の電動モータ３４、３５を同速度で回転させることを前提としたものであるが、両者の回転数を相対的に相違させることで、より複雑な運動軌跡を描かせることができるものである。
【００６２】
次に、ブラシ本体部１０の具体的実施形態につき説明する。図１０は、ブラシ本体部１０の好適な一例を示す斜視図であり、図１１は、図１０のＸ−Ｘ線の部分的断面図である。この実施形態では、平板状のブラシ基部１１ａに対し、ブラシ毛が処理すべき基板Ｓの進行方向と直交する方向に延在するようライン状に立設された第１のブラシ毛列１２１と、この第１のブラシ毛列１２１と基板進行方向に所定間隔Ｄ１を置いて配置され、同様にブラシ毛がライン状に立設された第２のブラシ毛列１２２と、同様に第２のブラシ毛列１２２に対して所定間隔Ｄ２を置いて配置された第３のブラシ毛列１２３とが備えられて、ブラシ本体部１０が構成されている。
【００６３】
第１のブラシ毛列１２１は、図１１に示すように、帯状のブラシ根元部１２１Ｂに多数のブラシ毛束１２１Ｕが規則的に植毛されてなり、そのブラシ毛先側が細長い平面状とされたブラシ洗浄面１２１Ｈとなっている。第２のブラシ毛列１２２、第３のブラシ毛列１２３も同様な構成であり、それぞれ細長い平面状のブラシ洗浄面１２２Ｈ、１２３Ｈを備えている。また、第１〜第３のブラシ毛列１２１〜１２３の幅は、基板Ｓに対する処理作用を、基板Ｓの幅方向において一定とするため、それぞれ長手方向に亘って一定幅とされている。
【００６４】
ブラシ基部１１ａの内部には、洗浄液を受け入れる空洞である貯留部１３０が内設されており、該貯留部１３０に外部から洗浄液が供給されるよう、洗浄液タンクから洗浄液を導く配管路４２が接続されている。この貯留部１３０は、ブラシ基部１１ａの端部側に設けられており、該貯留部１３０には第１〜第３のブラシ毛列１２１〜１２３に対応する位置に帯状に設けられた分岐流路１３３が備えられている。
【００６５】
前記分岐流路１３３は、ブラシ基部１１ａの下面側に開口した幅広の凹溝状を呈しており、その開口上端縁には、帯状のブラシ根元部１２１Ｂを両側から挟持するための係止部１３３Ｅを有している。すなわち、この係止部１３３Ｅにより帯状ブラシ根元部１２１Ｂの側部が嵌め込み固定され、かかる嵌め込み固定により分岐流路１３３の開口が閉塞され、これにより前記分岐流路１３３が洗浄液流通路としての機能を果たすように為されているものである。つまり、ブラシ根元部１２１Ｂの取り付け部と洗浄液流通のための流路とを、分岐流路１３３に兼用させることで、ブラシ基部１１ａの構造の簡素化を図るようにしている。
【００６６】
前記係止部１３３Ｅの根元部分（第１のブラシ毛列１２１の立設面近傍）には、洗浄液を基板Ｓの表面へ吐出させるための洗浄液吐出孔１３４がそれぞれ設けられている。さらに、ブラシ根元部１２１Ｂにも、専ら洗浄液をブラシ毛束１２１Ｕの根元部分から、ブラシ毛を経由して基板Ｓの表面に供給させるための洗浄液吐出孔１３５が設けられている。なお、このような洗浄液吐出孔の設置態様についてはこれに限定されるものではなく、ブラシ根元部１２１Ｂの洗浄液吐出孔１３５を省略しても良い。また、ブラシ根元部１２１Ｂの取り付け部をブラシ基部１１ａの下面側に設け、別途閉管路として設けた分岐流路１３３から、当該ブラシ根元部１２１Ｂの近傍に洗浄液吐出孔を設ける構成としても良い。
【００６７】
このように構成されたブラシ本体部１０によれば、配管路４２から貯留部１３０へ洗浄液が供給され、その洗浄液が各分岐流路１３３へ流通し、各洗浄液吐出孔１３４、１３５から第１〜第３のブラシ毛列１２１〜１２３による基板洗浄部位に吐出されつつ、搬送されてくる基板Ｓに対して順次各ブラシ洗浄面１２１Ｈ〜１２３Ｈによる洗浄が行われるものである。
【００６８】
また、この構成によれば、従来のロールブラシ方式ではブラシ毛先を基板Ｓと線接触状態でしか事実上当接させ得なかったのに比べ、面接触としてブラシ毛先を基板Ｓに当接できるので洗浄効果の向上が期待できるだけでなく、第１のブラシ毛列１２１と第２のブラシ毛列１２２との配置間隔Ｄ１、若しくは第２のブラシ毛列１２２と第３のブラシ毛列１２３との配置間隔Ｄ２を適宜調整する（つまり、基板Ｓと接触するブラシ毛量を調整する）ことで、基板Ｓとブラシ毛との接触面積（ブラシ洗浄面の基板への接面面積）を調整でき、適正な洗浄効果を得ることができるようになる。
【００６９】
このようなブラシ基部１１ａにおいて、第１のブラシ毛列１２１を構成するブラシ毛と、第２のブラシ毛列１２２及び／又は第３のブラシ毛列を構成するブラシ毛とを、異なる性質のブラシ毛で構成することもできる。すなわち、例えば第１のブラシ毛列１２１をナイロン繊維で構成し、第２、第３のブラシ毛列１２２、１２３を径の異なるテフロン（登録商標）（デュポン社商品名）繊維で構成するようにすることで、各々のブラシ毛列で、異なるサイズのパーティクルを洗浄ターゲットとすることができるようになる。
【００７０】
従来のロールブラシ方式によれば、異種のパーティクルをターゲットとして洗浄する場合、各ターゲットに応じたブラシ毛を備えるロールブラシを縦列配置する必要があり、基板洗浄装置の大型化の要因となっていたが、本実施形態にかかる構成によれば、１枚の平板状ブラシ基部１０ａに、各ターゲットに応じたブラシ毛束から構成されるブラシ毛列を多列的に配置することで同様な効果が得られ、しかも装置の大型化を招来することがないという利点がある。
【００７１】
以上説明した実施形態においては、ブラシ毛先を基板表面に直接接触させて処理を施すタイプの基板処理装置（基板洗浄装置１）について説明したが、本発明はブラシ毛先を基板表面に直接接触させず、洗浄液等の介在下において処理を施すタイプの基板処理装置にも適用可能である。例えば、平面状のブラシ処理面を基板表面に対して所定長さ離間して対向配置し、両者間に洗浄液を介在させつつブラシ本体部を高速運動（高速周回運動、高速回転運動等）させることで、基板表面の洗浄処理を施すような基板洗浄装置にも適用可能である。この場合、ブラシ毛先が基板表面に作用する度合いは、当該ブラシ毛先と基板表面との間隔に依存することになるが、このような両者間の間隔調整を上記実施形態で詳述した矯正手段Ａにより適宜部分的に行うようにすれば、上記と同様にブラシ毛先の作用度合いの不均一さを是正することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明かかる基板処理装置が好適に適用されるエッチング処理装置Ｅを示す概略図である。
【図２】本発明にかかる基板洗浄装置を簡易的に示す構成図である。
【図３】図２に示す基板洗浄装置の要部であるブラシ本体部、矯正手段を詳細に示す一部破断側面図である。
【図４】矯正手段の配置の例を示す平面図である。
【図５】揺動手段の実施態様を示す平面図である。
【図６】揺動手段の他の実施態様を示す側面図である。
【図７】揺動手段のさらに他の実施態様を示す側面図である。
【図８】図７に示す揺動手段による振動モード（逆方向回転）を説明するための模式図である。
【図９】図７に示す揺動手段による振動モード（同方向回転）を説明するための模式図である。
【図１０】ブラシ本体部の好適な実施形態を示す斜視図である。
【図１１】図１０のＸ−Ｘ線の部分的断面図である。
【符号の説明】
【００７３】
１        基板洗浄装置
１０      ブラシ本体部
１１      ブラシ基部
１１１    ブラシ基部の裏面側
１２      ブラシ毛
１２Ｓ    ブラシ毛先
１２Ｈ    ブラシ洗浄面
１２１    第１のブラシ毛列
１２２    第２のブラシ毛列
１２３    第３のブラシ毛列
１３      洗浄液流通用の流路
１３１、１３４、１３５  洗浄液吐出孔
１３３    分岐流路（ブラシ毛列の配置形態に沿った洗浄液供給路）
２        ブラシ取り付けベース
２１      支持材（矯正手段）
３        揺動手段
３１      バイブレータ
３２、３３、３４、３５    電動モータ（駆動源、振動モータ）
３３２、３４２、３５２  アンバランスウェイト
４        洗浄液供給手段
Ｓ        基板
【図１】
2005279451.tif 000003
【図２】
2005279451.tif 000004
【図３】
2005279451.tif 000005
【図４】
2005279451.tif 000006
【図５】
2005279451.tif 000007
【図６】
2005279451.tif 000008
【図７】
2005279451.tif 000009
【図８】
2005279451.tif 000010
【図９】
2005279451.tif 000011
【図１０】
2005279451.tif 000012
【図１１】
2005279451.tif 000013