(57)【要約】【課題】      カラー表示が可能な電気光学装置において、セルギャップを均一化する。【解決手段】  電気光学パネルは、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示パネルとすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。【選択図】    図２
2005099614.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、
一方の基板は、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、
前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、
一方の基板は、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、を有し、
前記着色層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする電気光学装置。
【請求項３】
一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、
一方の基板は、内面上に形成された樹脂層と、前記樹脂層に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、
前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記樹脂層の上面と同一面上にあることを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
前記着色層は、３色のカラーフィルタ層と、前記電気光学装置の表示領域の外周を規定する遮光層とを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の電気光学装置を表示部として備えることを特徴とする電子機器。
【請求項６】
一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法において、
一方の基板上に凹部を形成する工程と、
前記凹部内に着色層を形成する工程と、
前記凹部内において前記着色層上に絶縁層を形成する工程と、を有し、
前記絶縁層は、当該絶縁層の上面と、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法において、
一方の基板上に凹部を形成する工程と、
前記凹部内に着色層を形成する工程と、を有し、
前記着色層は、当該着色層の上面と、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法において、
一方の基板上に樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に凹部を形成する工程と、
前記凹部内に着色層を形成する工程と、
前記凹部内において前記着色層上に絶縁層を形成する工程と、を有し、
前記絶縁層は、当該絶縁層の上面と、前記凹部以外の領域における前記樹脂層の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
基板に、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、
前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項１０】
基板に、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、を有し、
前記着色層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置などの電気光学装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、ＰＤＡなどの携帯端末装置の表示装置として、液晶表示装置に代表される電気光学装置が利用されている。例えば、液晶表示装置を構成する液晶表示パネルは、ガラスなどの一対の透明基板間に、シール材を介して液晶を封入してなる。カラー液晶表示パネルの場合には、一対の透明基板のうちいずれか一方の基板上（即ちセル内）にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色、又は、ブラックマトリクス用の黒色を加えた４色のカラーフィルタ層が形成される。また、液晶表示パネルなどでは、上記のようなカラーフィルタ層の他にも、セル内に電極層、保護層、配向膜などの多数の層が形成される。カラーフィルタ層を備える一般的な液晶表示パネルの例が例えば特許文献１に記載されている。
【０００３】
液晶表示パネルの表示特性を表示エリア内において均一化するためには、セルギャップを均一化することが好ましい。このため、一般的に、シール材内に設けられる導電性材料や、セル内に散布されるスペーサのサイズを調整することにより、セルギャップの均一化が図られている。しかし、上述のように、液晶表示パネルのセル内には多数の層が積層されるため、セルギャップの均一化は難しい。特に、カラーフィルタ層などは各色の着色層が別工程で形成されるため、層厚のばらつきが生じやすく、セルギャップの均一化をより難しいものとしている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２２０３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、カラー表示が可能な電気光学装置において、セルギャップを均一化することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の１つの観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、一方の基板は、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする。
【０００７】
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
【０００８】
本発明の他の観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、一方の基板は、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、を有し、前記着色層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする。
【０００９】
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成される。ここで、着色層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
【００１０】
本発明の他の観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置において、一方の基板は、内面上に形成された樹脂層と、前記樹脂層に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記樹脂層の上面と同一面上にあることを特徴とする。
【００１１】
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には内面、即ちセル側の面上に樹脂層が形成され、その樹脂層に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における樹脂層の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
【００１２】
上記の電気光学装置の一態様では、前記着色層は、３色のカラーフィルタ層と、前記電気光学装置の表示領域の外周を規定する遮光層とを含むことができる。また、上記の電気光学装置を表示部として備える電子機器を構成することができる。
【００１３】
本発明の他の観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法は、一方の基板上に凹部を形成する工程と、前記凹部内に着色層を形成する工程と、前記凹部内において前記着色層上に絶縁層を形成する工程と、を有し、前記絶縁層は、当該絶縁層の上面と、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする。
【００１４】
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成される。その凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
【００１５】
本発明の他の観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法は、方の基板上に凹部を形成する工程と、前記凹部内に着色層を形成する工程と、を有し、前記着色層は、当該着色層の上面と、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする。
【００１６】
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には液晶を保持するセル側に凹部が形成される。その凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成される。ここで、着色層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
【００１７】
本発明の他の観点では、一対の基板間に電気光学物質を封入してなる電気光学装置の製造方法は、一方の基板上に樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に凹部を形成する工程と、前記凹部内に着色層を形成する工程と、前記凹部内において前記着色層上に絶縁層を形成する工程と、を有し、前記絶縁層は、当該絶縁層の上面と、前記凹部以外の領域における前記樹脂層の内面とが同一面上にあるように形成されることを特徴とする。
【００１８】
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。一対の基板の一方には内面、即ちセル側の面上に樹脂層が形成され、その樹脂層に凹部が形成される。その凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における樹脂層の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
【００１９】
本発明の他の観点では、カラーフィルタ基板は、基板に、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、前記凹部内において前記着色層上に配置された絶縁層と、を有し、前記絶縁層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする。
【００２０】
上記のカラーフィルタ基板は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置に用いることができる。基板の一方には液晶などを保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成され、着色層の上に絶縁層が形成される。ここで、絶縁層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
【００２１】
本発明の他の観点では、カラーフィルタ基板は、基板に、内面上に形成された凹部と、前記凹部内に配置された着色層と、を有し、前記着色層の上面は、前記凹部以外の領域における前記一方の基板の内面と同一面上にあることを特徴とする。
【００２２】
上記の電気光学装置は、例えば電気光学物質として液晶を用いた液晶表示装置とすることができる。基板の一方には液晶などを保持するセル側に凹部が形成されている。凹部内にカラーフィルタ層などを含む着色層が形成される。ここで、着色層の上面は、凹部以外の領域における基板の上面と一致、即ち同一面上にある。これにより、着色層を設けた側の基板のセル側の内面を平坦化することができ、セルギャップの調整を容易にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態について説明する。なお、以下の説明では、電気光学装置の例として、液晶表示装置を例に挙げて説明する。
【００２４】
［第１実施形態］
まず、本発明の第１実施形態について説明する。第１実施形態は、液晶表示パネルのセル内に形成される着色層及び絶縁層を、ガラス基板に設けられた凹部内に配置することにより、基板面を平坦化するものである。
【００２５】
図１に第１実施形態に係る液晶表示パネルの平面図を示し、図２にそのＡ−Ａ’断面による断面図を示す。図示のように、液晶表示パネル１００は、いわゆるパッシブマトリクス式の液晶表示パネルであり、上側基板１ａと下側基板ｎ１ｂとをシール材２を介して貼り合わせて構成される。上側基板１ａ及び下側基板１ｂはともにガラスなどの透明基板である。下側基板１ｂは、その一辺（図１における下辺）において上側基板１ａより広い張り出し領域を有し、その張り出し領域に例えばドライバＩＣ１５などが実装される。上側基板１ａと下側基板１ｂとにより形成されたセル内に、液晶５が封入される。
【００２６】
カラーフィルタ基板でもある下側基板１ｂには矩形の凹部２５が形成される。凹部２５は、図１において、シール材２の内周より若干小さい領域に形成される。凹部２５内には、図２に示されるように、着色層４が形成される。着色層４は、ＲＧＢ各色のカラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ及び４Ｂと、隣接するカラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ及び４Ｂの境界を規定するブラックマトリクスとしての遮光層４ＢＫと、表示領域の外周を規定する枠状の遮光層４ＦＬとを含む。平面視すると、図１に示すように、枠状の遮光層４ＦＬの内部に遮光層４ＢＫが縦横にマトリクス状に配置され、その間に各色のカラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ及び４Ｂが設けられる（図１では図示を省略）。
【００２７】
着色層４の上には、例えばＳｉＯ2などの絶縁層２４が形成される。絶縁層２４は、着色層４の保護層としての役割も有する。ここで、絶縁層２４は、その上面（セル側の面）３８が、凹部以外の領域における下側基板１ｂの上面（同じく、セル側の面）３７と一致する、即ち、同一水平面上に位置するように凹部２５内に形成される。これにより、下側基板１ｂの上面は平坦となる。
【００２８】
絶縁層２４の上には、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）などの透明電極６が形成され、さらにその上に配向膜８が設けられる。なお、下側基板１ｂの外面には偏光板１１が貼り付けられる。
【００２９】
一方、上側基板１ａの下面（セル側の面）には透明電極７が設けられ、その上に配向膜９が設けられる。なお、上側基板１ａの透明電極７と下側基板１ｂの透明電極６はいずれもストライプ形状を有し、相互に垂直方向に交差するように形成される。透明電極６と透明電極７の交差領域が１つの絵素（Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれかのサブピクセル）を構成し、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色分により１つのカラー画素が構成される。また、上側基板１ａの外面には偏光板１２が設けられている。
【００３０】
このように、本実施形態では、下側基板１ｂに形成された凹部内にカラーフィルタを含む着色層４及び絶縁層２４が設けられ、絶縁層２４の上面３８と下側基板１ｂの凹部以外の領域における上面３７とが平坦に構成される。よって、その上に透明電極６や配向膜８などが設けられた場合でも、下側基板１ｂの上面の平坦性を高めることができ、セルギャップの均一化が容易となる。なお、本実施形態では、絶縁層２４上に形成される電極や配向膜などの構造には制限はなく、各種の層構造を採用することができる。
【００３１】
次に、上述の液晶表示パネル１００の製造方法について説明する。まず、着色層４が設けられた下側基板１ｂ（以下、「ＣＦ基板」とも呼ぶ。）の製造方法について図３及び図４を参照して説明する。図３はＣＦ基板の製造方法のフローチャートであり、図４は各工程における層構造を示す断面図である。
【００３２】
まず、ガラス基板である下側基板１ｂの全面にレジスト２２を塗布し（工程Ｓ１）、これを露光、パターニングし、凹部２５を形成すべき凹部領域のレジスト２２を剥離する（工程Ｓ２）。これにより、下側基板１ｂ上には、凹部２５以外の領域にマスクとして機能するレジスト２２が残った状態となる。
【００３３】
次に、ガラスエッチングにより、凹部領域のガラスを除去し、凹部２５を形成する（工程Ｓ３）。そして、凹部２５が形成されるとレジスト２２を剥離する（工程Ｓ４）。こうして、ガラスの下側基板１ｂに凹部２５が形成される。ここで、凹部２５は、後工程で形成する着色層４の層厚と絶縁層２４の層厚の和に対応する深さで形成される。
【００３４】
次に、凹部２５内に通常の方法によりカラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ及、４Ｂ、ブラックマトリクス４ＢＫ及び遮光層４ＦＬを含む着色層４を形成し（工程Ｓ５）、さらにその上にＳｉＯ2などの絶縁層２４を形成する（工程Ｓ６）このとき、絶縁層２４は、その上面が下側基板１ｂの凹部２５以外の領域における上面と一致するように形成される。これにより、着色層４及び絶縁層２４が形成された状態で、下側基板１ｂの上面（セル側の面）が平坦となる。そして、その下側基板１ｂ上に透明電極６及び配向膜８を形成し（工程Ｓ７）、ＣＦ基板が完成する。
【００３５】
次に、このＣＦ基板を用いた液晶表示パネル１００の製造方法について図５のフローチャートを参照して説明する。まず、図３及び図４を参照して説明した方法によりＣＦ基板を製造する（工程Ｓ１１）とともに、上側基板１ａを製造する（工程Ｓ１２）。なお、上側基板１ａは、ガラス基板１ａ上に透明電極７及び配向膜９を形成することにより製造される。
【００３６】
次に、シール材２を介して上側基板１ａと下側基板１ｂとを貼り合わせ、セル構造を形成する（工程Ｓ１３）。そして、セル構造内に液晶を注入して注入口を封止する（工程Ｓ１４）。最後に、上側基板１ａ及び下側基板１ｂの外面に偏光板１１、１２などを取り付け（工程Ｓ１４）、液晶表示パネル１００が完成する。
【００３７】
次に、工程Ｓ３におけるガラスエッチングについて説明する。エッチング液としては、フッ酸系の薬液を好適に使用することができる。例えば、フッ酸液、フッ化硫酸液、ケイフッ化水素酸、フッ化アンモニウム、フッ化水素酸などのエッチング液を好適に使用することができる。また、それらを含む水溶液も使用することができる。例えば、フッ化水素酸と硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムの混合水溶液、フッ化水素酸とフッ化アンモニウムと硝酸の混合水溶液、フッ化水素酸と水素ニフッ化アンモニウムの水溶液、フッ化水素酸と水素二フッ化アンモニウムと硝酸の水溶液などを使用することができる。また、エッチング速度が遅いという面はあるが、苛性ソーダ（NaOH）、水酸化カリウム（KOH）などの強アルカリ性の薬液を使用することもできる。
【００３８】
エッチング方法としては、一般的なガラスのエッチング方法である、上述のようなエッチング液を使用したウェットエッチングが好適であるが、エッチングガスを用いたドライエッチング方法なども使用できる。
【００３９】
また、液晶パネルを構成するガラス基板の原料は特に問わず、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラスなど各種のガラスを使用することができる。
【００４０】
エッチング処理を行う際のマスク方法としては、エッチング液として使用する薬液に対する耐性を有する耐薬品性材料を使用する方法、ポジレジストやネガレジストを塗布する方法などがある。耐薬品性材料としては、例えばワックス、油性のコーティングを行う、耐薬品性のテープを貼る、パテや粘度状の材料で被マスク部位を覆うなどの方法がある。
【００４１】
なお、本実施形態においては着色層４の形成方法は問わない。即ち、顔料などのレジストを用いたフォトリソグラフィーによる方法、インクジェットを利用する方法など各種の方法を採用することができる。
【００４２】
また、上記の説明は、いわゆるパッシブマトリクス方式の液晶表示パネルの例であったが、本発実施形態はスイッチング素子としてＴＦＤ（Thin Film Diode）素子やＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子などを用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示パネルにも適用が可能である。
【００４３】
図６に、本実施形態をＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示パネル２００に適用した例を示す。図６において、上側基板１ａが素子基板として構成される。上側基板１ａの領域２１０の拡大図に示すように、上側基板１ａ上にＴＦＤ素子２１１と、画素電極２１３とが交互に形成されている。画素電極２１３に対応する下側基板１ｂの領域にＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂが形成され、ＴＦＤ素子２１１に対応する領域には遮光層４ＢＫが形成される。
【００４４】
また、図７に、本実施形態をＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示パネル３００に適用した例を示す。図７において、上側基板１ａが素子基板として構成される。上側基板１ａの領域３１０の拡大図に示すように、上側基板１ａ上にＴＦＴ素子３１１と、画素電極３１２とが交互に形成されている。画素電極３１２に対応する下側基板１ｂの領域にＲ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層４Ｒ、４Ｇ、４Ｂが形成され、ＴＦＴ素子３１１に対応する領域には遮光層４ＢＫが形成される。
【００４５】
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態について説明する。第１実施形態は、下側基板１ｂに形成した凹部２５内に着色層４及び絶縁層２４を形成し、絶縁層２４の上面と、凹部以外の領域における下側基板１ｂの上面とが同一平面となるようにした。これに対して、第２実施形態では、下側基板１ｂに形成した凹部２５内に着色層４のみを形成し、着色層４の上面と凹部以外の領域における下側基板１ｂの上面とが同一平面となるようにした。
【００４６】
図８に第２実施形態によるパッシブマトリクス方式の液晶表示パネル４００の断面図を示す。なお、この断面図は図１に示すＡ−Ａ’断面に対応する。第１実施形態と同一の構成部分については説明を省略する。
【００４７】
図８に示すように、下側基板１ｂには凹部２５が形成されており、その凹部２５内に着色層４が形成されている。ここで、着色層４の上面６１は、凹部２５以外の領域における下側基板１ｂの上面６２と一致している、即ち同一平面上にある。絶縁層２４は下側基板１ｂ及び着色層４を覆うように形成される。また、絶縁層２４上には第１実施形態と同様に、透明電極６及び配向膜８が形成される。
【００４８】
このように、着色層４を凹部２５内に形成し、その上面６１を下側基板１ｂの上面と一致させることによっても、下側基板１ｂの上面を平坦化することができる。一般的に、着色層４は絶縁層２４や他の各種の保護層などと比較して凹凸が生じやすいので、着色層４のみを下側基板１ｂに設けた凹部２５内に収容することとしても、下側基板１ｂを平坦化する効果は得られる。
【００４９】
第２実施形態による液晶表示パネル４００の製造方法は、第１実施形態による液晶表示パネル１００と基本的に同様である。但し、下側基板１ｂに形成する凹部２５の深さは、着色層４の深さと一致させる。
【００５０】
また、第２実施形態も第１実施形態と同様に、ＴＦＤ素子やＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示パネルに適用可能である。
【００５１】
［第３実施形態］
次に、本発明の第３実施形態について説明する。第１実施形態は、下側基板１ｂに形成した凹部２５内に着色層４及び絶縁層２４を形成し、絶縁層２４の上面と凹部以外の領域における下側基板１ｂの上面とが同一平面となるようにした。これに対して、第３実施形態では、下側基板１ｂに凹部２５を形成する代わりに、下側基板１ｂ上にまず樹脂層を形成し、その樹脂層に凹部を形成することとした。
【００５２】
図９に第３実施形態によるパッシブマトリクス方式の液晶表示パネル５００の断面図を示す。なお、この断面図は図１に示すＡ−Ａ’断面に対応する。第１実施形態と同一の構成部分については説明を省略する。
【００５３】
図８に示すように、下側基板１ｂ上には樹脂層４７が形成されており、樹脂層４７に凹部２５ａが形成されている。凹部２５ａ内には、着色層４及び絶縁層２４が形成されている。ここで、絶縁層２４の上面７１は、凹部２５ａ以外の領域における樹脂層４７の上面７２と一致している、即ち同一平面上にある。絶縁層２４上には第１実施形態と同様に、透明電極６及び配向膜８が形成される。
【００５４】
このように、絶縁層２４の上面７１と、凹部２５ａ以外の領域における樹脂層４７の上面７２とを一致させているので、第１実施形態と同様に、セルギャップの均一化が容易となる。また、ガラス基板である下側基板１ｂに凹部を形成する代わりに、樹脂層４７を形成してそこに凹部を形成することにより、ガラスエッチングなどの処理を行う必要がなくなるので、製造工程を簡略化することができる。
第３実施形態による液晶表示パネル５００の製造方法は、下側基板１ｂにガラスエッチングにより凹部を構成する工程の代わりに、下側基板１ｂ上に樹脂層４７を形成し、次にその樹脂層４７に対して第１実施形態と同様に凹部２５ａを形成するようにすればよい。それ以外の、着色層４、絶縁層２４その他の各層の形成方法などは第１実施形態と同様である。また、樹脂層４７に形成する凹部２５ａの深さは、着色層４と絶縁層２４の厚さの和と一致させる。
【００５５】
また、第３実施形態も第１実施形態と同様に、ＴＦＤ素子やＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示パネルに適用可能である。
【００５６】
［電子機器］
次に、本発明による液晶表示装置１００乃至５００を電子機器の表示装置として用いる場合の実施形態について説明する。
【００５７】
図１０は、本実施形態の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記の液晶表示パネル１００乃至５００と、これを制御する制御手段４１０を有する。ここでは、液晶表示パネル１００乃至５００を、パネル構造体４０１と、半導体ＩＣなどで構成される駆動回路４０２とに概念的に分けて描いてある。また、制御手段４１０は、表示情報出力源４１１と、表示情報処理回路４１２と、電源回路４１３と、タイミングジェネレータ４１４と、を有する。
【００５８】
表示情報出力源４１１は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ４１４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路４１２に供給するように構成されている。
【００５９】
表示情報処理回路４１２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫとともに駆動回路４００Ｂへ供給する。駆動回路４００Ｂは、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路４１３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００６０】
次に、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器の具体例について図１１を参照して説明する。
【００６１】
まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図１１（ａ）は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ７１０は、キーボード７１１を備えた本体部７１２と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部７１３とを備えている。
【００６２】
続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図１１（ｂ）は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機７２０は、複数の操作ボタン７２１のほか、受話口７２２、送話口７２３とともに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部７２４を備える。
【００６３】
なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図１１（ａ）に示したパーソナルコンピュータや図１１（ｂ）に示した携帯電話機の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
【００６４】
なお、本発明の電気光学装置は、上述のＴＦＤ素子やＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶表示パネルのみならず、パッシブマトリクス型の液晶表示パネルだけも同様に適用することが可能である。
【００６５】
また、本発明は、液晶表示装置のみでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置（Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等）などの各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】第１実施形態に係る液晶表示パネルの平面図である。
【図２】第１実施形態に係る液晶表示パネルの断面図である。
【図３】液晶表示パネルのＣＦ基板の製造方法を示すフローチャートである。
【図４】液晶表示パネルのＣＦ基板の製造工程における断面図である。
【図５】液晶表示パネルの製造方法を示すフローチャートである。
【図６】ＴＦＤ素子を利用した液晶表示パネルへの適用例を示す。
【図７】ＴＦＴ素子を利用した液晶表示パネルへの適用例を示す。
【図８】第２実施形態に係る液晶表示パネルの断面図である。
【図９】第３実施形態に係る液晶表示パネルの断面図である。
【図１０】本発明の液晶表示パネルを適用した電子機器の回路ブロック図である。
【図１１】本発明の液晶表示パネルを適用した電子機器の例である。
【符号の説明】
【００６７】
１ａ  上側基板、  １ｂ  下側基板、  ２  シール材、  ４  着色層、  ５  液晶層、
６，７  透明基板、  ８、９  配向膜、  １１、１２  偏光板、  ２４  絶縁層、
２５  凹部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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