(57)【要約】【課題】  流体の流量が変動するような場合であっても、所望の二次圧力を一定に保持して圧力制御精度を高める。【解決手段】  第１の圧力制御弁Ａは、第１の弁体２７と第１の弁座２５とで構成する絞り部を通過する流体の流れ方向が、第１の弁体２７の閉弁の方向と同じとし、第２の圧力制御弁Ｂは、第２の弁体４７と第２の弁座４５とで構成する絞り部を通過する流体の流れ方向が、第２の弁体４７の開弁の方向と同じとする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
入口部と出口部との間の流体通路に、弁座および弁体を備えた絞り部を形成し、前記弁体と連結するダイアフラムにより仕切った二つのダイアフラム室のそれぞれに、互いに異なる圧力を導入するとともに、前記ダイアフラムの変位量に応じて前記弁体が移動し前記絞り部の有効通路断面積を変化させる圧力制御弁を備えた圧力制御装置において、前記圧力制御弁を、前記流体通路に対して並列になるように複数配置し、前記複数の圧力制御弁のうち少なくとも一つは、前記絞り部を通過する流体の流れ方向が前記弁体の閉弁の方向と同じ成分を有し、別の少なくとも一つは、前記絞り部を通過する流体の流れの方向が前記弁体の開弁の方向と同じ成分を有するものであることを特徴とする圧力制御装置。
【請求項２】
前記複数の圧力制御弁に対応して複数設けた流体通路のうち少なくとも二つは、前記入口部と出口部との間における屈曲部の総数を互いに同じとしたことを特徴とする請求項１記載の圧力制御装置。
【請求項３】
前記複数の圧力制御弁に対応して複数設けた流体通路のうち少なくとも一つに、流体の流れを遮断する遮断弁を設けたことを特徴とする請求項１または２記載の圧力制御装置。
【請求項４】
前記複数の圧力制御弁における各弁体のうち少なくとも二つを、互いに一体化した弁棒によって一つの共通ダイアフラムに連結したことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の圧力制御装置。
【請求項５】
前記互いに一体化した弁棒相互は、同一直線状に連結していることを特徴とする請求項４記載の圧力制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ダイアフラムの変位量に応じて弁体が移動し、絞り部の有効通路断面積を変化させる圧力制御弁を備えた圧力制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
圧力制御装置として、例えば下記特許文献１に記載のものが知られている。
【特許文献１】特開平８−３０３３２号公報
【０００３】
これは、弁本体の内部に、入口部および出口部を有する流体通路を設けるとともに、流体通路に弁座および弁体からなる絞り部を設け、ダイアフラムにより仕切った二つのダイアフラム室のそれぞれに、互いに異なる圧力を導入するように配管接続する。そして、ダイアフラムと弁体とは弁棒を介して互いに連結し、ダイアフラムの変位量に応じて弁体が移動して絞り部の有効断面積が変化する。
【０００４】
このような圧力制御装置が作動する場合には、流体は、入口部から流体通路内へ入り、絞り部で弁体を開弁方向に移動させるとともに減圧されて、出口部から排出される。これによりダイヤフラムに作用する圧力に応じて調圧がなされる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述のような従来の圧力制御装置においては、絞り部を通過する流体が弁体に与える流体力は、通過流量が増えてゆくほど大きくなるため、この影響（流体力）が大きくなると、ダイアフラム両側のダイアフラム室の圧力差による力のバランスが崩れてしまい、結果として流量が変動する場合には、調圧後の二次圧力が所望の値からずれてしまうという問題点がある。
【０００６】
そこで、この発明は、流体の流量が変動するような場合であっても、所望の二次圧力を一定に保持して圧力制御精度を高めることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するために、この発明は、入口部と出口部との間の流体通路に、弁座および弁体を備えた絞り部を形成し、前記弁体と連結するダイアフラムにより仕切った二つのダイアフラム室のそれぞれに、互いに異なる圧力を導入するとともに、前記ダイアフラムの変位量に応じて前記弁体が移動し前記絞り部の有効通路断面積を変化させる圧力制御弁を備えた圧力制御装置において、前記圧力制御弁を、前記流体通路に対して並列になるように複数配置し、前記複数の圧力制御弁のうち少なくとも一つは、前記絞り部を通過する流体の流れ方向が前記弁体の閉弁の方向と同じ成分を有し、別の少なくとも一つは、前記絞り部を通過する流体の流れの方向が前記弁体の開弁の方向と同じ成分を有するものである構成とする。
【発明の効果】
【０００８】
この発明によれば、流体の通過流量が増加した場合に、複数の弁体のうち少なくとも一つは、流体力の作用により基準バランス位置より閉弁側に動く一方、別の少なくとも一つは、逆に基準バランス位置より開弁側に動くことになり、全体としては流体力の影響をキャンセルすることが可能となり、つまり流量が変動するような場合であっても、所望の二次圧力を一定に保持することができ、結果として圧力制御精度が高まることになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
【００１０】
図１は、この発明の第１の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。入口部としてのガス供給ポート１から圧力（一次圧）Ｐ０で供給したガスは、ボディ２内に互いに並列に形成してある、流体通路としての第１のガス通路３および第２のガス通路５を通って出口部としてのガス排出ポート７へ、圧力（二次圧）Ｐ１で排出される。
【００１１】
第１のガス通路３は、ガス供給ポート１からガス排出ポート７に至る間に、第１の屈曲部９で左方向の図中で上方へ、第２の屈曲部１１で右方向の図中で右水平方向へ、第３の屈曲部１３で右方向の図中で下方へ、第４の屈曲部１５で左方向の図中で右水平方向へ、それぞれ９０度の角度で屈曲している。
【００１２】
また、第２のガス通路５は、ガス供給ポート１からガス排出ポート７に至る間に、第１のガス通路５における前記した第１の屈曲部９より下流の第１の屈曲部１７で左方向の図中で上方へ、第２の屈曲部１９で右方向の図中で右水平方向へ、第３の屈曲部２１で右方向の図中で下方へ、第１のガス通路３における前記した第４の屈曲部１５より上流の第４の屈曲部２３で左方向の図中で右水平方向へ、それぞれ９０度の角度で屈曲している。
【００１３】
第１のガス通路３および第２のガス通路５を、上記したような屈曲形状とすることで、ガス供給ポート１とガス排出ポート７とは、同一直線状に位置することになる。
【００１４】
第１のガス通路３の第１の屈曲部９と第２の屈曲部１１との間には、第１の弁座２５を設け、この第１の弁座２５とで絞り部を構成する第１の弁体２７を、第１の屈曲部９側から第１の弁座２５に対して接近離反移動可能に設置する。すなわち、この絞り部を通過する流体の流れの方向が、第１の弁体２７の閉弁の方向と同じ成分を有している。
【００１５】
第１の弁体２７は、第１の弁座２５と反対側のガス通路内壁との間に設けた第１の下部スプリング２９によって閉弁方向に押し付けられている。また、第１の弁体２７の上記第１の下部スプリング２９と反対側に第１の弁棒３１の一端を連結し、第１の弁棒３１の他端を第１のダイアフラム３３に連結している。
【００１６】
第１のダイアフラム３３は、ボディ２内に形成してある第１の差圧室３５内に設置してあり、この第１の差圧室３５を、弁棒３１と反対側の第１の上部ダイアフラム室３７と、弁棒３１側の第１の下部ダイアフラム室３９との二つの空間に仕切っている。第１の上部ダイアフラム室３７にはガス供給ポート１と同等の圧力Ｐ０を導入する一方、第１の下部ダイアフラム室３９にはガス排出ポート７と同等の圧力Ｐ１を導入する。
【００１７】
第１の上部ダイアフラム室３７内には、第１の弁棒３１を第１の弁体２７が開弁する方向に押し付ける第１の上部スプリング４１を設けてある。この第１の上部スプリング４１と前記した第１の下部スプリング２９の初期セット荷重は、設定したい二次圧Ｐ１の大きさに応じて、第１の差圧室３５における差圧による第１のダイアフラム３３に生じる力とバランスするよう設定する。
【００１８】
また、第１の弁棒３１は、第１のガス通路３と第１の差圧室３５との間のボディ２に形成した貫通孔２ａに移動可能に挿入してあり、この貫通孔２ａの第１のガス通路３および第１の差圧室３５のそれぞれの近傍には、シール材４２，４３を設けてある。
【００１９】
第２のガス通路５の上記した第３の屈曲部２１と第４の屈曲部２３との間には、第２の弁座４５を設け、この第２の弁座４５とで絞り部を構成する第２の弁体４７を、第４の屈曲部２３側から第２の弁座４５に対して接近離反移動可能に設置する。すなわち、この絞り部を通過する流体の流れの方向が、第２の弁体４７の開弁の方向と同じ成分を有している。
【００２０】
第２の弁体４７は、第２の弁座４５と反対側のガス通路内壁との間に設けた第２の下部スプリング４９によって閉弁方向に押し付けられている。また、第２の弁体４７の上記第２の下部スプリング４９と反対側に第２の弁棒５１の一端を連結し、第２の弁棒５１の他端を第２のダイアフラム５３に連結している。
【００２１】
第２のダイアフラム５３は、ボディ２内に形成してある第２の差圧室５５内に設置してあり、この第２の差圧室５５を、弁棒５１と反対側の第２の上部ダイアフラム室５７と、弁棒５１側の第２の下部ダイアフラム室５９との二つの空間に仕切っている。第２の上部ダイアフラム室５７にはガス供給ポート１と同等の圧力Ｐ０を導入する一方、第２の下部ダイアフラム室５９にはガス排出ポート７と同等の圧力Ｐ１を導入する。
【００２２】
第２の上部ダイアフラム室５７内には、第２の弁棒５１を第２の弁体５７が開弁する方向に押し付ける第２の上部スプリング６１を設けてある。この第２の上部スプリング６１と前記した第２の下部スプリング４９の初期セット荷重は、設定したい二次圧Ｐ１の大きさに応じて、第２の差圧室５５における差圧による第２のダイアフラム５３に生じる力とバランスするよう設定する。
【００２３】
また、第２の弁棒５１は、第２のガス通路５と第２の差圧室５５との間のボディ２に形成した貫通孔２ｂに移動可能に挿入してあり、この貫通孔２ｂの第２のガス通路５および第２の差圧室５５のそれぞれの近傍には、シール材６２，６３を設けてある。
【００２４】
なお、第１のガス通路３は、第２の弁棒５１を避けるようにボディ２内に形成してあるものとする。
【００２５】
このように、上記第１の実施形態における圧力制御装置は、第１の弁体２７および第１のダイアフラム３３などを有する第１の圧力制御弁Ａと、第２の弁体４７および第２のダイアフラム５３などを有する第２の圧力制御弁Ｂとを備えている。
【００２６】
次に、第１の実施形態における第１，第２の各圧力制御弁Ａ，Ｂそれぞれの動作および、全体としての動作について説明する。
【００２７】
図２（ａ）は、第１の圧力制御弁Ａの動作説明図である。第１の弁体２７および第１の弁棒３１についての力の釣り合いを考えると、第１の上部ダイアフラム室３７と第１の下部ダイアフラム室３９との圧力差によって発生する図中で下向きの力（差圧力）Ｆｐ、第１の下部スプリング２９の初期セット荷重によって発生する図中で上向きの力（スプリング力）Ｆｓ、およびガスが第１の弁体２７と第１の弁座２５との隙間すなわち絞り部を通過するときに、第１の弁体２７に与える図中で上向きの力（流体力）Ｆｑの三つの力が存在する。
【００２８】
このうち流体力Ｆｑは、図２（ｂ）のように、ガスの流量Ｑの増加とともに大きくなるため、バランスを保つために第１の弁体２７は、自動的に差圧力Fｐを増やすように、つまり二次圧Ｐ１を減らして第１の上部ダイアフラム室３７と第１の下部ダイアフラム室３９との差圧を大きくするように動くことになる。すなわち、次式（１）が成り立つ。
【００２９】
Ｆｐ＝Ｆｓ＋Ｆｑ…（１）
図３（ａ）は、第２の圧力制御弁Ｂの動作説明図である。上記した第１の圧力制御弁Ａと同様、第２の弁体４７および第２の弁棒５１についての力の釣り合いを考えると、第２の上部ダイアフラム室５７と第２の下部ダイアフラム室５９との圧力差によって発生する図中で下向きの力（差圧力）Ｆｐ、第２の下部スプリング４９の初期セット荷重によって発生する図中で上向きの力（スプリング力）Ｆｓ、およびガスが第２の弁体４７と第２の弁座４５との隙間すなわち絞り部を通過するときに、第２の弁体４７に与える図中で下向きの力（流体力）Ｆｑの三つの力が存在する。
【００３０】
このうち流体力Ｆｑは、図３（ｂ）のように、ガスの流量Ｑの増加とともに大きくなるため、バランスを保つために第２の弁体４７は、自動的に差圧力Ｆｐを減らすように、つまり二次圧Ｐ１を増やして第２の上部ダイアフラム室５７と第２の下部ダイアフラム室５９との差圧を小さくするように動くことになる。すなわち、次式（２）が成り立つ。
【００３１】
Ｆｐ＝Ｆｓ−Ｆｑ…（２）
上記図２で説明した第１の圧力制御弁Ａの力の釣り合い式（１）と、図３で説明した第２の圧力制御弁Ｂの力の釣り合い式（２）とを組み合わせると、図４に示すように、Ｆｐ＝Ｆｓとなり、流体力Ｆｑの差圧力Ｆｐへの影響がキャンセルできることがわかる。
【００３２】
このように、上述した第１の実施形態によれば、流体力Ｆｑの差圧力Ｆｐへの影響を無効にすることが可能となり、つまり流体力Ｆｑが変動しても、第１，第２の各ダイアフラム３３，５３の上下に作用する差圧を一定に保つことができる。このことは、第１，第２の各弁体２７，４７を通過するガスの流量が変動するような場合であっても、所望の二次圧Ｐ２を一定に保持することができ、結果として圧力制御装置の圧力制御精度が高まるという効果が得られることになる。
【００３３】
図５は、この発明の第２の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。この実施形態は、第２のガス通路５０を、ガス供給ポート１から第２の弁体４７の設置付近まで直線状とし、第２の弁体４７の上流側で右方向（図中で下方向）へ屈曲する第１の屈曲部１７０を設けるとともに、第２の弁体４７の下流側で左方向（図中で右水平方向）へ屈曲する第２の屈曲部１９０を設け、さらにその下流側で左方向（図中で上方向）へ屈曲する第３の屈曲部２１０、およびガス排出ポート７に向けて右方向（図中で右水平方向）へ屈曲する第４の屈曲部２３０を、それぞれ設けてある。
【００３４】
第４の屈曲部２３０は、第１のガス通路３における前記した第４の屈曲部１５との合流部となっており、この合流部からガス排出ポート７に連通し、このガス排出ポート７と、ガス供給ポート１から第１の屈曲部１７０に至る直線部分の第１のガス通路５０とは、上下高さ位置が同じとなっている。
【００３５】
このため、第１の屈曲部９から左方向の図中で上方へ屈曲している第２のガス通路３に設置する第１の圧力制御弁Ａは、第１の圧力制御弁Ｂより上方に位置していることになる。その他の構成については、第１の実施形態と同様である。
【００３６】
この第２の実施形態では、ガス供給ポート１からガス排出ポート７へとつなぐ第１，第２の各ガス通路３，５０のどちらを経由しても、その各経路における９０度で屈曲する屈曲部の数は、第１から第４のまでの４箇所となっており、この屈曲部の数は、前記図１に示した第１の実施形態も同様である。
【００３７】
このように、第１，第２の各ガス通路３，５０（５）の屈曲部の数を同じとすることで、ガスがこれら各ガス通路３，５０（５）のどちらを通過しても、屈曲部による通路抵抗が等しくなる。これにより、第１，第２の各圧力制御弁Ａ，Ｂへのガス流量の配分が均等化し、第１，第２の各弁体２７，４７に作用する流体力の大きさも等しくなり、流体力キャンセル作用がより精度よく実現できることにより、圧力制御装置の圧力制御精度をより一層高めることが可能となる。
【００３８】
すなわち、複数の圧力制御弁に対応して複数設けた流体通路のうち少なくとも二つは、入口部と出口部との間における屈曲部の総数を互いに同じとしたため、ガス通路途中の屈曲部によって生じる通路抵抗について、複数のガス通路間における差が微小となり、各圧力制御弁への流量の配分をより均等化でき、つまり圧力制御装置の圧力制御精度をより一層高めることが可能となる。
【００３９】
図６は、この発明の第３の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。この実施形態は、第２のガス通路５における第１の屈曲部１７より上流に、ガスの流れを遮断する遮断弁６５を設けている。この遮断弁６５は、図示しない流量計あるいは差圧計が測定したガス流量信号あるいはガス圧力信号に基づき遮断弁制御回路６７が出力する制御信号によって駆動する。その他の構成は前記図１に示した第１の実施形態と同じである。
【００４０】
図７は、第３の実施形態における遮断弁６５の動きを制御するためのフローチャートであり、以下にそのアルゴリズムを説明する。
【００４１】
まず、現在のガス流量Ｑｎを流量計あるいは差圧計によって測定、あるいは算出し（ステップＳ１）、あらかじめ設定した弁開閉切替流量Ｑｃとの大小関係を、Ｑｎ≧Ｑｃによって比較する（ステップＳ２）。ここで、Ｑｎ≧Ｑｃが成立しない場合、すなわち現在のガス流量Ｑｎが弁開閉切替流量Ｑｃより小さい場合には、前記ステップＳ１に戻ってガス流量Ｑｎの更新を行う。逆にＱｎ≧Ｑｃが成立する場合は、遮断弁６５に開信号を出力し（ステップＳ３）、第１，第２の各圧力制御弁Ａ，Ｂの双方を用いた圧力制御を開始する。
【００４２】
続いて現在のガス流量Ｑｎの測定を再度行ってガス流量Ｑの更新を行った後（ステップＳ４）、弁開閉切替流量Ｑｃとの大小関係を、Ｑｎ＜Ｑｃによって比較する（ステップＳ５）。ここで、Ｑｎ＜Ｑｃが成立しない場合、すなわち現在のガス流量Ｑｎが弁開閉切替流量Ｑｃ以上の場合は、前記ステップＳ４に戻ってガス流量Ｑｎの更新を行う。逆にＱｎ＜Ｑｃの場合には、遮断弁６５に閉信号を出力し（ステップＳ６）、第１の圧力制御弁Ａのみを用いた圧力制御を開始する。
【００４３】
上述した第３の実施形態によれば、流体力の影響が小さい小流量制御時には、片側のみの第１の圧力制御弁Ａで圧力制御をすることができ、つまり圧力制御弁一つあたりの通過流量が平均的に増えることで、圧力制御が困難になる弁体の微小開度領域を使用しなくてもよくなり、結果として、特に小流量域での圧力制御精度のさらなる向上が期待できる。
【００４４】
すなわち、複数の圧力制御弁に対応して複数設けた流体通路のうち少なくとも一つに、流体の流れを遮断する遮断弁を設けたため、流体力の影響が小さい小流量制御時には、一つまたは少数の弁のみで圧力制御をすることができ、つまり圧力制御弁一つあたりの通過流量が平均的に増えることで、圧力制御が困難になる弁体の微小開度領域を使用しなくてもよくなり、結果として、特に小流量域での圧力制御精度のさらなる向上が期待できる。
【００４５】
図８は、この発明の第４の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。この実施形態は、第１の弁棒６９および第２の弁棒７１のそれぞれの上端を、連結棒７３で互いに連結して一体化し、連結棒７３の長手方向中央の上部を、連結具７５を介して一つの共通ダイアフラム７７に連結している。
【００４６】
共通ダイアフラム７７は、共通差圧室７９を、ガス供給ポート１と同等の圧力Ｐ０が導入される、連結具７５と反対側の上部共通ダイアフラム室８１と、ガス排出ポート７と同等の圧力Ｐ１が導入される、連結具７５側の下部共通ダイアフラム室８３との二つの空間に仕切っている。
【００４７】
上部共通ダイアフラム室８１内には、連結具７５を第１，第２の各弁体２７，４７が開弁する方向に押し付ける上部共通スプリング８５を設けてある。この上部共通スプリング８５と、前記した第１の下部スプリング２９および第２の下部スプリング４９の初期セット荷重は、設定したい二次圧Ｐ１の大きさに応じて、共通差圧室７９における差圧による共通ダイアフラム７７に生じる力とバランスするよう設定する。
【００４８】
また、第１の弁棒６９を移動可能に挿入してある貫通孔２ａの上端および、第２の弁棒７１を移動可能に挿入してある貫通孔２ｂの上端は、連結棒移動空間２ｃに突出し、この連結棒移動空間２ｃに連結棒７３が上下動可能に収容してある。さらに連結棒移動空間２ｃと共通差圧室７９とを連通する貫通孔２ｄ内に連結具７５を移動可能に挿入し、貫通孔２ｄの共通差圧室７９近傍にはシール材８７を設けてある。その他の構成は、前述した第１の実施形態と同じである。
【００４９】
上述した第４の実施形態によれば、共通ダイアフラム７７および、共通ダイアフラム７７によって共通差圧室７９を形成することで、これらを一つにまとめることができて装置全体を簡素化でき、保守や調整の手間が省くことができる。さらに、部品点数低減によるコスト低減効果も得ることができる。
【００５０】
すなわち、複数の圧力制御弁における各弁体のうち少なくとも二つを、互いに一体化した弁棒によって一つの共通ダイアフラムに連結したため、ダイアフラムおよび、ダイアフラムを挟む二つのダイアフラム室を簡素化でき、さらに部品点数低減によるコスト低減効果も得ることができる。
【００５１】
図９は、この発明の第５の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。この実施形態は、ガス供給ポート１とガス排出ポート７との間に形成してある流体通路としての第１のガス通路１０３および第２のガス通路１０５を、互いに同一直線状に位置するガス供給ポート１およびガス排出ポート７を中心として図中で上下にそれぞれ配置している。
【００５２】
つまり、第１のガス通路１０３は、第１の屈曲部１０７で左方向（図中で上方）へ、第２の屈曲部１０９で右方向（図中で右水平方向）へ、第３の屈曲部１１１で右方向（図中で下方）へ、さらに第４の屈曲部１１３で左方向（図中で右水平方向）へ、それぞれ９０度の角度で屈曲してガス排出ポート７へ連通する。
【００５３】
一方、第２のガス通路１０５は、第１の屈曲部１１５で右方向（図中で下方）へ、第２の屈曲部１１７で左方向（図中で右水平方向）へ、第３の屈曲部１１９で左方向（図中で上方）へ、さらに第４の屈曲部１２１で右方向（図中で右水平方向）へ、それぞれ９０度の角度で屈曲してガス排出ポート７へ連通する。
【００５４】
第２のガス通路１０５の上記した第３の屈曲部１１９と第３の屈曲部１２１との間には、第２の弁座１２３を設け、この第２の弁座１２３とで絞り部を構成する第２の弁体４７を、第３の屈曲部１１９側から第２の弁座１２３に対して接近離反移動可能に設置する。すなわち、この絞り部を通過する流体の流れの方向が、第２の弁体４７の閉弁の方向と同じ成分を有している。また、この第２の弁体４７は、第２の弁座１２３と反対側のガス通路内壁との間に設けた下部スプリング１２５によって、閉弁方向に押し付けられている。
【００５５】
一方、第１のガス通路１０３の上記した第３の屈曲部１１１と第４の屈曲部１１３との間には、第１の弁座１２７を設け、この第１の弁座１２７とで絞り部を構成する第１の弁体２７を、第４の屈曲部１１３側から第１の弁座１２７に対して接近離反移動可能に設置する。すなわち、この絞り部を通過する流体の流れの方向が、第１の弁体２７の開弁の方向と同じ成分を有している。
【００５６】
また、第１の弁体２７と第２の弁体４７とは、第２の弁棒１２９によって互いに連結し、第１の弁体２７の第３の屈曲部１１１側は、第１の弁棒１３１の一端に連結し、第１の弁棒１３１の他端は、共通ダイアフラム１３３に連結している。
【００５７】
共通ダイアフラム１３３は、ボディ２内に形成してある共通差圧室１３５内に設置してあり、この共通差圧室１３５は、共通ダイアフラム１３３によって、ガス供給ポート１と同等の圧力Ｐ０が導入される、第１の弁棒１３１と反対側の上部共通ダイアフラム室１３７と、ガス排出ポート７と同等の圧力Ｐ１が導入される、第１の弁棒１３１側の下部共通ダイアフラム室１３９との二つの空間に仕切ってある。
【００５８】
上部共通ダイアフラム室１３７内には、第１の弁棒１３１を第１，第２の各弁体２７，４７が開弁する方向に押し付ける上部共通スプリング１４１を設けてある。この上部共通スプリング１４１と、前記した下部共通スプリング１２５の初期セット荷重は、設定したい二次圧Ｐ１の大きさに応じて、共通差圧室１３５における差圧による共通ダイアフラム１３３に生じる力とバランスするよう設定する。
【００５９】
また、第１の弁棒１３１は、第１のガス通路１０３と共通差圧室１３５との間のボディ２に形成した貫通孔２ｅに移動可能に挿入してあり、この貫通孔２ｅの第１のガス通路１０３および共通差圧室１３５のそれぞれの近傍には、シール材１４２，１４３を設けてある。
【００６０】
上述した第５の実施形態によれば、共通ダイアフラム１３３および、共通ダイアフラム１３３によって共通差圧室１３５を形成することで、これらを一つにまとめることができて装置全体の簡素化と部品点数低減ができることはもちろん、弁棒を複数個別に用意する必要がなく、第１の弁棒１３１および第２の弁棒１２９を互いに直線状となるよう一体化したものを使用できるので、さらなるコスト低減効果が得られる上に、圧力制御装置全体の軽量化、小スペース化にも寄与することが期待できる。
【００６１】
すなわち、互いに一体化した弁棒相互は、同一直線状に連結しているため、ダイアフラムおよび、ダイアフラムを挟む二つのダイアフラム室を簡素化できることはもちろん、弁棒を一体化した１本に削減でき、さらなるコスト低減効果が得られる上に、圧力制御装置全体の軽量化、小スペース化にも寄与することが期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】この発明の第１の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。
【図２】（ａ）は第１の実施形態における第１の圧力制御弁の動作説明図、（ｂ）はガス流量と差圧力との関係を、スプリング力と流体力とを考慮して示した説明図である。
【図３】（ａ）は第１の実施形態における第２の圧力制御弁の動作説明図、（ｂ）はガス流量と差圧力との関係を、スプリング力と流体力とを考慮して示した説明図である。
【図４】第１，第２の各圧力制御弁の動作を組み合わせたときの説明図である。
【図５】この発明の第２の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。
【図６】この発明の第３の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。
【図７】第３の実施形態における遮断弁の動きを制御するためのフローチャートである。
【図８】この発明の第４の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。
【図９】この発明の第５の実施形態を示す圧力制御装置の全体構成図である。
【符号の説明】
【００６３】
Ａ  第１の圧力制御弁
Ｂ  第２の圧力制御弁
１  ガス供給ポート（入口部）
３，１０３  第１のガス通路（流体通路）
５，５０，１０５  第２のガス通路（流体通路）
７  ガス排出ポート（出口部）
９，１７，１７０，１０７，１１５  第１の屈曲部
１１，１９，１９０，１０９，１１７  第２の屈曲部
１３，２１，２１０，１１１，１１９  第３の屈曲部
１５，２３，２３０，１１３，１２１  第４の屈曲部
２５，１２７  第１の弁座（絞り部）
２７  第１の弁体（絞り部）
３３  第１のダイアフラム
３７  第１の上部ダイアフラム室
３９  第１の下部ダイアフラム室
４７  第２の弁体（絞り部）
４５，１２３  第２の弁座（絞り部）
５３  第２のダイアフラム
５７  第２の上部ダイアフラム室
５９  第２の下部ダイアフラム室
６５  遮断弁
６９，１３１  第１の弁棒（互いに一体化した弁棒）
７１，１２９  第２の弁棒（互いに一体化した弁棒）
７７，１３３  共通ダイアフラム
８１，１３７  上部共通ダイアフラム室
８３，１３９  下部共通ダイアフラム室
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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