(57)【要約】【課題】基板上の現像反応生成物等をより完全に除去できる基板処理装置を提供すること。【解決手段】基板Ｗ上に現像液を液盛りしてから所定時間経過後に、基板Ｗの上方を通過するようにリンス液供給ノズル４０を所定の順走査方向Ｌａに移動させつつ、基板Ｗ上にリンス液を吐出して、基板Ｗ上における現像反応を停止させる。リンス液供給ノズル４０が順走査方向Ｌａに移動した後、リンス液の吐出を継続したままで、リンス液供給ノズル４０を順走査方向Ｌａとは逆方向に反転移動させ、基板Ｗのうち移動終了端側の領域に、再度リンス液を供給する。【選択図】        図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にリンス液を供給する基板処理装置であって、
前記基板を保持する基板保持手段と、
前記基板の幅寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の吐出幅でリンス液を吐出する吐出部を有するリンス液供給ノズルと、
前記リンス液供給ノズルが前記基板の上方を通過するように前記リンス液供給ノズルを移動させるリンス液供給ノズル移動手段と、
を備え、
前記リンス液供給ノズルは、リンス液を吐出しつつ前記基板の上方を通過するように所定の順走査方向に移動した後、リンス液の吐出を継続したままで、前記所定の順走査方向とは逆方向に反転移動する、基板処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の基板処理装置であって、
前記リンス液供給ノズル移動手段は、前記リンス液供給ノズルを直線状に移動させる、基板処理装置。
【請求項３】
請求項２記載の基板処理装置であって、
前記リンス液供給ノズル移動手段は、前記リンス液供給ノズルを、前記基板外の回転軸を中心にして回転自在に支持して、前記基板の上方を通過するように回転させる手段であり、
前記基板の上方を通過するように前記リンス液供給ノズルを回転させつつ、前記リンス液供給ノズルの吐出部からリンス液を吐出させる、基板処理装置。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記基板保持手段に保持された基板を回転させるための基板回転駆動手段をさらに備え、
前記リンス液供給ノズルを、前記所定の順走査方向とは逆方向に反転移動させた後、
前記リンス液供給ノズルを前記基板の上方に位置させた状態で、該リンス液供給ノズルからリンス液を吐出させると共に、前記基板回転駆動手段の駆動により前記基板を回転させる、基板処理装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記リンス液供給ノズルから吐出されるリンス液が継続して前記基板上に吐出される態様にて、前記リンス液供給ノズルは、前記所定の順走査方向からその逆方向に反転する、基板処理装置。
【請求項６】
請求項１〜請求項４のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記リンス液供給ノズルから吐出されるリンス液が一旦前記基板外に吐出される経過を経る態様にて、前記リンス液供給ノズルは、前記所定の順走査方向からその逆方向に反転する、基板処理装置。
【請求項７】
基板上にリンス液を供給する基板処理方法であって、
前記基板の一端側から他端側に向けて走査して、前記基板の主面全体にリンス液を供給した後、少なくとも前記基板の他端側に再度リンス液を供給する、基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板、プラズマ表示パネル用ガラス基板等の基板に現像液やリンス液等を供給するための基板処理装置及び基板処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の基板処理装置として、基板幅以上の開口幅を有するスリット状の現像液吐出部が形成された現像液供給ノズルと、基板幅以上の開口幅を有するスリット状のリンス液吐出部が形成されたリンス液供給ノズルとを備えたものがある（例えば、特許文献１及び特許文献２参照。）。
【０００３】
この基板処理装置では、現像液供給ノズルを基板の一端側（移動開始端側）から他端側（移動終了端側）に移動させて、該基板の上面全体に現像液を供給した後（この現像液供給方法をスリットスキャン現像方法ともいう）、その後所定時間経過後に、リンス液供給ノズルを前記現像液供給ノズルの移動速度と同速度で基板の移動開始端側から他端側に移動させて、基板の上面全体にリンス液を供給して、基板上面における現像を停止させるようにしている。
【０００４】
また、リンス液供給ノズルからリンス液を供給する際、リンス液供給ノズルに対するリンス液の先行を防止するため、リンス液供給ノズルからその移動方向とは逆方向に向けてリンス液を吐出するようにしている。
【０００５】
この基板処理装置では、現像液供給ノズルの移動速度とリンス液供給ノズルの移動速度とを同じにすることによって、基板の上面全体において現像時間をほぼ同じとし、もって、現像むらを防止すると共に、現像後におけるレジストパターンの線幅均一性を向上させるようにしている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１０−３４０８３６号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上述のような基板処理装置では、リンス液供給ノズルの移動方向とは逆方向に向けてリンス液を吐出しているため、リンス液供給ノズルが通過した領域部分もリンス液の液流に曝されることになる。
【０００８】
このため、リンス液の液流に曝される時間（以下、リンス液曝流時間という）が、基板のうちリンス液供給ノズルの移動開始端側の領域と移動終了端側の領域とで異なり、後者の領域におけるリンス液曝流時間の方が、前者の領域におけるリンス液曝流時間よりも短い。
【０００９】
このため、基板のうちリンス液供給ノズルの移動開始端側の領域では、十分なリンス液曝流時間でもって、現像反応生成物を基板外に放出することが可能である。
【００１０】
しかしながら、基板のうちリンス液供給ノズルの移動終了端側の領域では、リンス液曝流時間が短く、場合によっては、現像反応生成物等が基板外に放出されないまま次工程に進みそのまま基板に付着してしまう恐れがある。
【００１１】
そこで、この発明の課題は、基板上の現像反応生成物等をより完全に除去できる基板処理装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく、請求項１記載の発明は、基板上にリンス液を供給する基板処理装置であって、前記基板を保持する基板保持手段と、前記基板の幅寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の吐出幅でリンス液を吐出する吐出部を有するリンス液供給ノズルと、前記リンス液供給ノズルが前記基板の上方を通過するように前記リンス液供給ノズルを移動させるリンス液供給ノズル移動手段と、を備え、前記リンス液供給ノズルは、リンス液を吐出しつつ前記基板の上方を通過するように所定の順走査方向に移動した後、リンス液の吐出を継続したままで、前記所定の順走査方向とは逆方向に反転移動する、ものである。
【００１３】
請求項２記載の発明は、前記リンス液供給ノズル移動手段は、前記リンス液供給ノズルを直線状に移動させる、ものである。
【００１４】
請求項３記載の発明は、前記リンス液供給ノズル移動手段は、前記リンス液供給ノズルを、前記基板外の回転軸を中心にして回転自在に支持して、前記基板の上方を通過するように回転させる手段であり、前記基板の上方を通過するように前記リンス液供給ノズルを回転させつつ、前記リンス液供給ノズルの吐出部からリンス液を吐出させる、ものである。
【００１５】
請求項４記載の発明は、前記基板保持手段に保持された基板を回転させるための基板回転駆動手段をさらに備え、前記リンス液供給ノズルを、前記所定の順走査方向とは逆方向に反転移動させた後、前記リンス液供給ノズルを前記基板の上方に位置させた状態で、該リンス液供給ノズルからリンス液を吐出させると共に、前記基板回転駆動手段の駆動により前記基板を回転させる、ものである。
【００１６】
請求項５記載の発明は、前記リンス液供給ノズルから吐出されるリンス液が継続して前記基板上に吐出される態様にて、前記リンス液供給ノズルは、前記所定の順走査方向からその逆方向に反転する、ものである。
【００１７】
請求項６記載の発明は、前記リンス液供給ノズルから吐出されるリンス液が一旦前記基板外に吐出される経過を経る態様にて、前記リンス液供給ノズルは、前記所定の順走査方向からその逆方向に反転する、ものである。
【００１８】
請求項７記載の発明は、基板上にリンス液を供給する基板処理方法であって、前記基板の一端側から他端側に向けて走査して、前記基板の主面全体にリンス液を供給した後、少なくとも前記基板の他端側に再度リンス液を供給する、ものである。
【００１９】
【発明の実施の形態】
｛第１の実施の形態｝
この第１の実施の形態では、リンス液供給ノズルを直線状に移動させるようにした現像装置について説明する。
【００２０】
図１はこの発明の第１の実施の形態に係る現像装置の概略構成を示す平面図であり、図２は図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。なお、図２では、現像液供給ノズル２０又はリンス液供給ノズル４０が基板Ｗ上方に移動した状態を２点鎖線で示している。
【００２１】
この現像装置は、露光後の基板Ｗに対して現像液及びリンス液を供給して現像処理を行う装置であり、基板Ｗを保持する基板保持部１０と、現像液供給ノズル２０と、現像液供給ノズル２０を移動させるための第１ノズル移動機構３０と、リンス液供給ノズル４０と、このリンス液供給ノズル４０を移動させるための第２ノズル移動機構５０と、本装置全体の動作制御を行う制御部６０とを備えている。
【００２２】
基板保持部１０は、基板Ｗを略水平姿勢で保持する。
【００２３】
具体的には、基板保持部１０は、装置本体５の略中央部に略鉛直姿勢で配設された支持軸部１１と、その支持軸部１１の上端部に固設された支持台１２とを備えている。支持台１２は、基板Ｗを略水平姿勢で吸着保持可能に構成されている。なお、支持台１２は基板Ｗを吸着保持する構成に限定されるものではなく、その他、例えば、基板Ｗの周縁部を把持する構成であってもよい。ここで、基板Ｗの主面上にはレジスト薄膜が形成されており、該レジスト薄膜には所定のパターンが露光されている。
【００２４】
また、支持軸部１１の下端部は、基板Ｗを回転させるための基板回転部であるスピンモータ１３に連結されている。そして、このスピンモータ１３の回転が支持軸部１１を介して支持台１２に伝達される。これにより、基板Ｗが鉛直軸を回転軸として水平面内で回転可能とされる。このスピンモータ１３による基板Ｗの回転速度は、後述する制御部６０により可変に制御される。
【００２５】
なお、基板保持部１０周りには、基板Ｗを囲むようにして円形状の内カップ６が設けられると共に、その内カップ６の外周周りに略方形状の外カップ７が設けられている。また、外カップ７の両側に待機ポット８が設けられている。
【００２６】
現像液供給ノズル２０は、図１〜図３に示すように、基板Ｗの幅寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の吐出幅で現像液を吐出する吐出部２２を有している。
【００２７】
本実施の形態では、横長長尺状のノズル本体部２１の下端部に、スリット状の吐出部２２が形成されている。吐出部２２は、ノズル本体部２１の長手方向に沿って延びており、その長手方向の幅寸法は、基板Ｗの幅寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の寸法を有している。
【００２８】
ここで、基板Ｗの幅寸法は、現像液供給ノズル２０の所定の順走査方向Ｌａに直交する方向における基板Ｗの幅寸法である。本実施の形態では、基板Ｗは実質的に略円形板状に形成されており、基板Ｗの幅寸法は基板Ｗの直径寸法を意味している。
【００２９】
そして、理想的な状態では、該吐出部２２から、その幅方向全体に亘ってカーテン状に、即ち、幅方向全体に亘って一様な流速かつ供給量で現像液が吐出されるようになっている。
【００３０】
なお、この現像液供給ノズル２０の吐出部２２は、現像液供給ノズル２０の順走査方向Ｌａとは逆方向へ所定角度傾く方向へ指向している（図３参照）。そして、該吐出部２２より吐出された現像液が、現像液供給ノズル２０の順走査方向Ｌａとは逆方向へ流れるようになっている。これにより、現像液が現像液供給ノズル２０の順走査方向Ｌａの前方側へ先行的に流れたりすることが無いようにしている。
【００３１】
また、この現像液供給ノズル２０には、現像液供給系機構２６が連結されている。
【００３２】
現像液供給系機構２６は、現像液を蓄えた現像液供給源及び開閉バルブ（共に図示省略）を備えており、開閉バルブの開閉タイミングに応じて前記現像液供給源からの現像液が所定のタイミングで現像液供給ノズル２０に供給されるように構成されている。
【００３３】
第１ノズル移動機構３０は、所定の順走査方向Ｌａに対して吐出部２２の延在方向（吐出幅方向）を実質的に垂直に保った姿勢で、現像液供給ノズル２０を前記順走査方向Ｌａに沿って移動させる。なお、以下の説明では、図面を参照する便宜上、現像液供給ノズル２０の延在方向と吐出部２２の延在方向とは略一致しているという前提で説明するが、これらは必ずしも一致している必要はない。
【００３４】
具体的には、第１ノズル移動機構３０は、ガイドレール３１と、該ガイドレール３１に沿って移動可能な水平駆動部３４と、支持アーム部３６とを備えている。
【００３５】
ガイドレール３１は、装置本体５の上面側であって基板保持部１０の側方に略水平姿勢で敷設されている。ガイドレール３１は、前記順走査方向Ｌａに沿って延びている。水平駆動部３４は、エアシリンダやモータ等のアクチュエータにより、ガイドレール３１に沿って往復移動可能に構成されている。支持アーム部３６は、基板保持部１０側に延びるようにして水平駆動部３４に片持ち状に支持されている。この支持アーム部３６の遊端側に、吐出部２２の延在方向、即ち、現像液供給ノズル２０の延在方向を順走査方向Ｌａに対して実質的に直交する方向に沿って配設した姿勢で、上記現像液供給ノズル２０が略水平姿勢で支持されている。この姿勢を保ったままで、現像液供給ノズル２０が基板Ｗの上方を通過する。
【００３６】
そして、水平駆動部３４の駆動により、現像液供給ノズル２０が、基板Ｗの主面の上方を、その移動開始端側から移動終了端側に向けて移動し、基板Ｗの上方を通過する。
【００３７】
リンス液供給ノズル４０は、基板Ｗの幅寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の吐出幅でリンス液を吐出する吐出部２２を有している。
【００３８】
具体的には、リンス液供給ノズル４０は、上記現像液供給ノズル２０と同様構成を有している。すなわち、リンス液供給ノズル４０は、上記ノズル本体部２１と同様構成のノズル本体部４１の下端部に、上記吐出部２２と同様構成の吐出部４２が形成された構成とされている。
【００３９】
そして、現像液供給ノズル２０の場合と同様に、理想的な状態では、吐出部４２から、その幅方向全体に亘って一様なカーテン状にリンス液が吐出され、基板Ｗの幅方向全体に亘ってリンス液を供給可能な構成となっている。
【００４０】
なお、このリンス液供給ノズル４０の吐出部４２も、その順走査方向とは逆方向へ所定角度傾く方向へ指向している（図３参照）。そして、該吐出部４２より吐出されたリンス液が、順走査（移動）方向Ｌａとは逆方向へ流れるようになっている。これにより、リンス液がリンス液供給ノズル４０の順走査方向Ｌａの前方側へ流れたり、リンス液によって基板Ｗ上の現像液がリンス液供給ノズル４０よりその順走査方向Ｌａの前方側へ押し流されたりすることを防止するようにしている。
【００４１】
また、このリンス液供給ノズル４０には、リンス液供給系機構４６が連結されている。該リンス液供給系機構４６は、リンス液を蓄えたリンス液供給源及び開閉バルブ（共に図示省略）を備えており、開閉バルブの開閉タイミングに応じて前記リンス液供給源からのリンス液が所定のタイミングでリンス液供給ノズル４０に供給されるように構成されている。
【００４２】
第２移動機構５０は、所定の順走査方向Ｌａに対して吐出部４２の延在方向（吐出幅方向、ここでは、リンス液供給ノズル４０の延在方向と同じ）を実質的に垂直に保った姿勢で、該リンス液供給ノズル４０を前記順走査方向Ｌａに沿って移動させる。
【００４３】
具体的には、第２移動機構５０は、第１移動機構３０と同様構成を有しており、即ち、ガイドレール３１と、上記水平駆動部３４に対応する水平駆動部５４と、上記支持アーム部３６に対応する支持アーム部５６とを備えている。ガイドレール３１は、第１移動機構３０と第２移動機構５０とで共用されている。
【００４４】
そして、水平駆動部５４の駆動により、リンス液供給ノズル４０が、基板Ｗの主面の上方を、その移動開始端側から移動終了端側に向けて移動し、基板Ｗの上方を通過する。
【００４５】
制御部６０は、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭ等を備え、予め格納されたソフトウェアプログラムによって所定の演算動作を行う一般的なマイクロコンピュータにより構成されており、本装置全体の制御、特に、次に説明する一連の動作の制御を行う。
【００４６】
次に、この現像装置の動作について説明する。
【００４７】
まず、初期待機状態では、現像液供給ノズル２０，リンス液供給ノズル４０は、基板Ｗの移動開始端側（所定の順走査方向Ｌａの上流側）に位置している（図１参照）。なお、基板Ｗは、以下の動作中において、基板保持部１０に静止状態で水平姿勢に支持されている。
【００４８】
処理開始後、はじめに、図４に示すように、現像液供給ノズル２０が基板Ｗの主面上方を、基板Ｗの移動開始端側から移動終了端側に向けて移動する。現像液供給ノズル２０が基板Ｗの主面上方を通過する際、該現像液供給ノズル２０から現像液が吐出され、現像液が基板Ｗの主面全体に供給される。これにより、基板Ｗの主面上の現像液による現像液層が形成される。
【００４９】
現像液供給ノズル２０が基板Ｗの主面上方を通過した後、基板Ｗにおける現像反応に必要な所定時間が経過するタイミングに合わせて、図５に示すように、リンス液供給ノズル４０が基板Ｗの主面上方を（即ち、基板Ｗの主面上に形成された現像液層上方を）、基板Ｗの移動開始側から移動終了端側に向けて移動する。リンス液供給ノズル４０が基板Ｗの主面上方を通過する際、リンス液供給ノズル４０から基板Ｗの主面上の現像液層に向けてリンス液が吐出され、リンス液が基板Ｗの主面全体に供給される。
【００５０】
この際のリンス液供給ノズル４０の移動速度は、上記現像液供給ノズル２０の移動速度と実質的に同じ速度とするとよい。これにより、基板Ｗの主面において、現像液が供給された態様（供給方向や供給速度）と同態様でリンス液が供給され、基板Ｗの主面全体において現像時間をほぼ同じとすることができる。
【００５１】
なお、現像液供給ノズル２０の移動速度とリンス液供給ノズル４０の移動速度とは、必ずしも同じである必要はなく、現像結果等に応じて適宜変更してもよい。
【００５２】
そして、リンス液供給ノズル４０が所定の順走査方向Ｌａに移動し当該基板Ｗの移動終了端側に達すると、図６に示すように、リンス液の吐出を継続したままで、リンス液供給ノズル４０を順走査方向Ｌａとは逆方向に反転移動させる。このとき、後述するように、基板Ｗの移動終了端側の領域に再度リンス液を供給することを主目的としているので、リンス液供給ノズル４０の移動速度については特に限定はない。
【００５３】
なお、リンス液供給ノズル４０を反転移動させるタイミングについては後述する。
【００５４】
リンス液供給ノズル４０を順走査方向Ｌａとは逆方向に反転移動させた後、図７に示すように、基板Ｗの移動終了端部から所定距離移動させた後、一旦リンス液供給ノズル４０の移動を停止させ、所望の時間リンス液の供給を継続させる。ここで、リンス液供給ノズル４０を停止させる位置は、基板Ｗの移動終了端部から基板Ｗの中心までの間であり、例えば、基板の直径が２００ｍｍの場合、基板Ｗの移動終了端部から１０ｍｍ〜１００ｍｍ（基板Ｗの中心を通る直径位置）程度移動させた位置である。
【００５５】
これにより、基板Ｗの移動終了端側の領域に再度リンス液が供給され、当該領域がリンス液の液流に曝されることとなる。
【００５６】
そして、図８に示すように、基板Ｗを回転させながら、リンス液供給ノズル４０からリンス液を吐出させる（最終リンス工程）。この際のリンス液供給ノズル４０は、基板Ｗの中央の位置（例えば、基板の直径が２００ｍｍの場合、基板Ｗの移動終了端部から１００ｍｍ離れた位置）にあることが好ましい。これにより、基板Ｗ上の現像生成物がより完全に洗浄除去される。
【００５７】
最後に、リンス液供給ノズル４０からのリンス液を停止して、リンス液供給ノズル４０を基板Ｗ外へ退避移動させた後、基板Ｗを高速回転させて、該基板Ｗ上のリンス液を振り切り乾燥する。
【００５８】
次に、リンス液供給ノズル４０を反転移動させる態様について説明する。リンス液供給ノズル４０を反転移動させる態様としては、例えば、次の２つを採用することができる。
【００５９】
第１の態様は、図９に示すように、リンス液供給ノズル４０から吐出されるリンス液Ｌが一旦基板Ｗ外に吐出される経過を経る態様である。例えば、リンス液供給ノズル４０を、基板Ｗの他端部より外側に位置するまで移動させた後、順走査方向Ｌａとは逆方向に反転移動させた場合である。
【００６０】
この場合、リンス液Ｌが一旦基板Ｗ外に吐出される経過を経るので、これにあわせて、基板Ｗ上のリンス液Ｌが基板Ｗ外に押流されることとなる。
【００６１】
第２の態様は、図１０に示すように、リンス液供給ノズル４０から吐出されるリンス液Ｌが継続して基板Ｗ上に吐出される態様である。例えば、リンス液供給ノズル４０を基板Ｗの他端部上方であってその外側にはみ出ない位置まで移動させた後、順走査方向Ｌａとは逆方向に反転移動させた場合である。
【００６２】
例えば、基板Ｗ外に吐出されているリンス液Ｌが基板Ｗ上に供給され始める時点では（基板Ｗに対するリンス液Ｌの初期あたり）、その衝撃により、リンス液Ｌが飛散したり、基板Ｗが大きく振動する恐れがある。
【００６３】
第２の態様では、リンス液Ｌが継続して基板Ｗ上に吐出されているので、リンス液Ｌの飛散や基板Ｗの大きな振動は防止されることとなる。
【００６４】
以上のように構成された現像装置によると、基板Ｗの移動終了端側でリンス液供給ノズル４０が反転移動するため、基板Ｗの移動終了端側の領域に、再度リンス液が供給されることとなる。そして、このリンス液の液流により、現像反応生成物等がより確実に基板Ｗ外に放出される。このため、基板Ｗ上の現像反応生成物等をより完全に除去して現像欠陥の発生を防止することができる。
【００６５】
また、従来のように、リンス液供給ノズル４０を所定の移動方向に移動させただけでは、基板Ｗの移動終了端側の領域で、リンス液の液流に曝される時間が極端に少なく、従って、当該移動終了端側の領域で現像液の濃度が比較的高い状態となり、リンス液供給ノズル４０の順走査方向Ｌａに沿って配線幅の不均一性を生じる可能性がある。これに対して、本実施の形態では、基板Ｗの移動終了端側の領域に、再度リンス液が供給されるため、当該移動終了端側の領域でも、現像液の濃度を薄めることができる。これにより、基板Ｗの全体で現像反応の均一性、ひいては、配線幅の均一化を図ることができる。
【００６６】
さらに、上記第１の態様にて、リンス液供給ノズル４０を反転移動させた場合には、リンス液が一旦基板Ｗ外に吐出される経過を経るので、これにあわせて、基板Ｗ上のリンス液が基板Ｗ外に押流されることとなる。そして、リンス液が基板Ｗ外に押流されるのと一緒に、基板Ｗ上の溶解生成物等が押流されることになり、基板Ｗ上の溶解生成物等をより確実に除去できる。
【００６７】
また、上記第２の態様にて、リンス液供給ノズル４０を反転移動させた場合には、リンス液供給ノズル４０から吐出されるリンス液が継続して基板Ｗ上に吐出されているため、その反転移動に際して、吐出されているリンス液が基板Ｗ上に初期あたりすることなく、従って、リンス液の飛散や基板の振動を防止することができる。また、リンス液が基板Ｗ外に吐出されないので、リンス液の無駄な消費を抑えることができると共に、移動距離が比較的短いので、処理時間の短縮化を図ることもできる。
【００６８】
また、リンス液供給ノズル４０を反転移動させて基板Ｗの移動終了端側に再度リンス液を供給した後、引続いて、基板Ｗを回転させながら、リンス液供給ノズル４０からリンス液を吐出させて最終リンス工程を行うため、効率的に欠陥の発生原因となる溶解生成物等を抑制することができる。特に、この後、乾燥工程に移行することができるため、処理時間の短縮化を図ることができる。
【００６９】
なお、リンス液供給ノズル４０とは別に最終リンス用の最終リンス液供給ノズルを設け、リンス液供給ノズル４０から供給されるリンス液にて最終リンス処理を行った後、リンス液供給ノズル４０を基板Ｗ外に退避移動させた後、続いて、当該最終リンス液供給ノズルから基板Ｗ上にリンス液を供給しつつ、基板Ｗを回転させて、２回目の最終リンス処理を行うようにしてもよい。これにより、より確実に基板Ｗ上の溶解生成物等を除去することができる。
【００７０】
また、リンス液供給ノズル４０から供給されるリンス液にて最終リンス処理を行わずに、最終リンス液供給ノズルから供給されるリンス液にて最終リンス処理を行うようにしてもよい。
【００７１】
｛第２の実施の形態｝
第２の実施の形態では、基板を回転させると共に、基板の上方を通過するようにリンス液供給ノズルを回転させるようにした現像装置について説明する。すなわち、上記第１の実施の形態では、基板Ｗの上方を直線状に通過するようにリンス液供給ノズルを移動させていたが、本実施の形態では、基板Ｗの上方を非直線的な弧状に通過するようにリンス液供給ノズルを移動させる。
【００７２】
図１１はこの発明の第２の実施の形態に係る現像装置の概略構成を示す平面図である。なお、上記第１の実施の形態において説明したものと同様構成要素については同一符号を付してその説明を省略する。
【００７３】
この現像装置は、露光後の基板Ｗに対して処理液として現像液及びリンス液を供給して現像処理を行う装置であり、基板Ｗを保持する基板保持部１０と、基板Ｗを回転させるための基板回転駆動部としてのスピンモータ１３と、現像液供給ノズル２０と、現像液供給ノズル２０を移動させるための第１ノズル移動機構３０と、リンス液供給ノズル１４０と、このリンス液供給ノズル１４０を回転させるためのリンス液供給ノズル回転手段である第２ノズル移動機構１５０と、本装置全体の動作制御を行う制御部１６０とを備えている。
【００７４】
すなわち、この現像装置は、第１の実施の形態において説明したのと同様の構成にて、基板Ｗを略水平姿勢に保持すると共に回転させ、また、基板Ｗの上方を直線状に通過するように現像液供給ノズル２０を往復移動させる。
【００７５】
この現像装置と第１の実施の形態における現像装置との主な相違点は、本実施の形態に係る現像装置では、リンス液供給ノズル１４０を回転させるようにした点である。
【００７６】
すなわち、リンス液供給ノズル１４０は、基板Ｗの幅寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の吐出幅で処理液を吐出する吐出部を有している。ここでは、リンス液供給ノズル１４０は、上記第１の実施の形態におけるリンス液供給ノズル４０と同様構成とされている。
【００７７】
また、このリンス液供給ノズル１４０には、リンス液供給系機構４６が連結されており、所定のタイミングでリンス液がリンス液供給ノズル１４０に供給される。
【００７８】
第２ノズル移動機構１５０は、リンス液供給ノズル１４０の一端側を回転自在に支持して、基板Ｗの上方を通過するように該リンス液供給ノズル１４０を回転移動させる構成となっている。
【００７９】
具体的には、第２ノズル移動機構１５０は、ノズル回転駆動部１５２と支持アーム部１５４とを備えている。
【００８０】
ノズル回転駆動部１５２は、スピンモータ等のアクチュエータにより構成されており、現像液供給ノズル２０の基端部の一側部に固定されたブラケット１５６に取付支持されている。このノズル回転駆動部１５２の回転軸部は、現像液供給ノズル２０が図１１に示す所定の位置に移動した状態で、基板Ｗの周縁部に外接する正方形の一頂点上に位置するように設定されている。
【００８１】
また、支持アーム部１５４の一端部はノズル回転駆動部１５２に連結固定されいる。この支持アーム部１５４の他端側にリンス液供給ノズル１４０が略水平姿勢で片持ち支持されている。
【００８２】
そして、上記回転駆動部１５２の駆動によりその回転軸部を回転させると、基板Ｗの上方を通過するように、リンス液供給ノズル１４０が所定の順回転走査方向Ｌｃに回転する。リンス液供給ノズル１４０が基板Ｗの上方を通過する際に、その吐出部からリンス液を供給することで、基板Ｗの主面上にリンス液が供給されることとなる。なお、前記所定の順回転走査方向Ｌｃとは逆方向にリンス液供給ノズル１４０を回転させつつ、リンス液を吐出するようにしてもよい。
【００８３】
なお、本実施の形態では、第２ノズル移動機構１５０を現像液供給ノズル２０に一体化しているため、リンス液供給ノズル１４０は現像液供給ノズル２０と共に移動することとなる。必ずしもその必要はなく、例えば、第２ノズル移動機構１５０を装置本体１０５側に固定して設置するようにしてもよい。
【００８４】
また、リンス液供給ノズル１４０の吐出部は、上記リンス液供給ノズル４０と同様に、順回転走査（移動）方向Ｌｃとは逆方向へ所定角度傾く方向へ指向しており、吐出されたリンス液がリンス液供給ノズル１４０の順回転走査方向Ｌｃとは逆方向へ流れるようになっている。
【００８５】
制御部１６０は、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭ等を備え、予め格納されたソフトウェアプログラムによって所定の演算動作を行う一般的なマイクロコンピュータにより構成されており、本装置全体の制御、特に、次に説明する一連の動作制御を行う。
【００８６】
なお、この現像装置では、リンス液供給ノズル１４０とは別に最終リンス用の最終リンス液供給ノズル１７０が設けられている。最終リンス液供給ノズル１７０は、ノズル支持アーム１７１の先端部とそれよりも手前の位置に供給口１７２が２つ設けられた構成とされている。各供給口１７２には、リンス液供給系機構４６から図示省略の配管を介してリンス液が供給される。ノズル支持アーム１７１の基端部は、装置本体１０５に回転自在に支持されている。
【００８７】
そして、図示省略のモータ等の駆動により、ノズル支持アーム１７１の基端部を中心にしてリンス液供給ノズル１４０を回転させ、先端部の供給口１７２を基板Ｗの中央部上方に配設すると共に、それよりも手前の位置の供給口１７２を基板Ｗの外周側部分の上方に配設した状態で、各供給口１７２からリンス液を吐出させることで、基板Ｗ上にリンス液が供給されるようになっている。
【００８８】
なお、上記現像液供給ノズル２０及びリンス液供給ノズル１４０の待機位置や移動軌跡には、適宜待機ポットや液受用のカップ等が設置されているが、これらについては図示を省略している。
【００８９】
次に、この現像装置の動作について説明する。
【００９０】
まず、初期状態では、現像液供給ノズル２０とリンス液供給ノズル１４０とが所定の順走査方向Ｌｂの下流側に位置している。
【００９１】
処理開始後、まず、図１２に示すように、第１ノズル移動機構３０の駆動により、現像液供給ノズル２０とリンス液供給ノズル１４０とを所定の順走査方向Ｌｂとは逆向けに移動させて、基板Ｗの外周部であって順走査方向の上流側に位置させる。
【００９２】
そして、図１３に示すように、基板Ｗを静止させた状態で、現像液供給ノズル２０から現像液を吐出させつつ、基板Ｗの上方を通過するように、現像液供給ノズル２０及びリンス液供給ノズル１４０を順走査方向Ｌａに直線状に移動させる。そして、リンス液供給ノズル１４０が基板Ｗの外周部に外接する位置にて、現像液供給ノズル２０及びリンス液供給ノズル１４０を停止させる。これにより、現像液が基板Ｗ上に液盛りされる。
【００９３】
そして、現像液供給ノズル２０が基板Ｗの主面上方を通過した後、基板Ｗにおける現像反応に必要な所定時間が経過すると、図１４に示すように、基板Ｗの主面上方を通過するように、リンス液供給ノズル１４０を順回転走査方向Ｌｃに回転移動させると共に、これに合わせて基板Ｗを回転させる。この際、基板Ｗの一端側の移動開始端（図１３〜図１５で黒丸で示す）と、他端側の移動終了端（図１３〜図１５で黒塗りの三角印で示す）とを結ぶ仮想走査方向Ｌｘと、リンス液供給ノズル１４０の吐出部の延在方向とが略直交するように、それらの回転速度を制御することが好ましい。例えば、基板Ｗの回転速度とリンス液供給ノズル１４０の回転速度とを略同じにすることで、仮想走査方向Ｌｘと、リンス液供給ノズル１４０の吐出部の延在方向とを略直交させることができる。これにより、基板Ｗの主面において、現像液が供給された態様（供給方向や供給速度）と同態様でリンス液が供給され、基板Ｗの主面全体において現像時間をほぼ同じにして、基板Ｗ上における現像反応を停止させることができる。
【００９４】
そして、リンス液供給ノズル１４０が所定の順回転走査方向Ｌｃに移動し基板の周縁部（ここでは基板Ｗの移動終了端）に達すると、図１５に示すように、リンス液の吐出を継続したままで、リンス液供給ノズル１４０を順回転走査方向Ｌｃとは逆方向に反転移動させる。このとき、後述するように、基板Ｗの移動終了端側の領域に再度リンス液を供給することを主目的としているので、リンス液供給ノズル１４０の回転速度については特に限定はない。
【００９５】
なお、リンス液供給ノズル１４０を反転移動させるタイミングとしては、例えば、第１の実施の形態で述べた２つの態様を適用できる。
【００９６】
そして、リンス液供給ノズル１４０を順回転走査方向Ｌｃとは逆方向に反転移動させた後、図１６に示すように、基板Ｗの移動終了端部から所定距離移動させて、一旦リンス液供給ノズル１４０の移動を停止させ、所望の時間リンス液の供給を継続させる。ここで、リンス液供給ノズル１４０を反転させる際、及び、反転後の移動中に、基板Ｗは静止状態にしてもよいし、比較的低速で回転させるようにしてもよい。また、リンス液供給ノズル１４０を停止させる位置は、基板Ｗの周縁部から基板Ｗの中心までの間であり、例えば、基板の直径が２００ｍｍの場合、基板Ｗの周縁部から中心に向けて１０ｍｍ〜１００ｍｍ（基板Ｗの中心を通る直径位置）程度移動させた位置である。
【００９７】
この後、リンス液供給ノズルから吐出されるリンス液を停止して、図１７に示すように、リンス液供給ノズル１４０を基板Ｗ外へ退避移動させた後、最終リンス液供給ノズル１７０を回転させて、その各供給口１７２を基板Ｗ上に配設する。そして、各供給口１７２からリンス液を吐出させつつ、基板Ｗを回転させることで、最終リンス処理が行われる。
【００９８】
最後に、リンス液供給ノズル１４０からのリンス液を停止して、リンス液供給ノズル１４０を基板Ｗ外へ退避移動させた後、基板Ｗを高速回転させて、該基板Ｗ上のリンス液を振り切り乾燥する。
【００９９】
以上のように構成された現像装置によると、リンス液供給ノズル１４０は、リンス液を吐出しつつ基板Ｗの上方を通過するように所定の回転走査方向に移動した後、リンス液の吐出を継続したままで、前記回転走査方向とは逆方向に反転移動するため、基板Ｗのうちリンス液供給ノズル１４０の移動終了端側の領域に、再度リンス液が供給される。このため、上記第１の実施の形態の場合と同様の効果を得ることができる。
【０１００】
また、図１８は、リンス液供給ノズル１４０の延在方向を基板Ｗの仮想走査方向Ｌｘに対して実質的に直交させるようにして基板Ｗ及びリンス液供給ノズル１４０を回転させた場合において、基板Ｗに対するリンス液供給ノズル１４０の相対的な移動軌跡を示す説明図である。
【０１０１】
この場合、リンス液供給ノズル１４０は、基板Ｗに対して仮想走査方向Ｌｘに沿って非直線的に、即ち、円弧状に移動することとなる。このため、リンス液供給ノズル１４０が基板Ｗに対して仮想走査方向Ｌｘに沿って移動する際、仮想走査方向Ｌｘと実質的に垂直な方向にずれることとなる。このため、例えば、リンス液供給ノズル１４０の延在方向に沿った所定箇所でリンス液の非供給箇所が生じた場合でも、その後の、仮想走査方向Ｌｘに直交する方向へずれながらの移動により、前記非供給箇所にもリンス液が供給されることになる。従って、リンス液の供給態様の均一性を向上させることができる。
【０１０２】
もっとも、必ずしも、リンス液供給ノズル１４０の延在方向を基板Ｗの仮想走査方向Ｌｘに対して実質的に直交させるようにして基板Ｗ及びリンス液供給ノズル１４０を回転させる必要はない。要するに、基板Ｗの上方を通過するように、リンス液供給ノズル１４０を回転させて、扇状に移動さえることで、リンス液の供給態様の均一性を向上させることができる。
【０１０３】
なお、本実施の形態では、リンス液供給ノズル１４０からのリンス液の吐出により基板Ｗ上の現像反応を停止させた後（図１４参照）、最終リンス液供給ノズル１７０を用いて最終リンス処理を行っているが、上記第１の実施の形態と同様に、最終リンス液供給ノズル１７０を省略し、リンス液供給ノズル１４０により基板Ｗ上の現像反応を停止させた後、引続いて、リンス液供給ノズル１４０からリンス液を吐出させると共に、基板Ｗを回転させて最終リンス処理を行うようにしてもよい。この場合、リンス液供給ノズル１４０を、基板Ｗの中心を通る直径ライン上（例えば、基板の直径が２００ｍｍの場合、基板の周縁部から中心に向けて１００ｍｍ移動させた位置）に配設することが好ましい。これにより、効率的に欠陥の発生原因となる溶解生成物等を抑制することができる。特に、この後、他の最終リンス工程を経ることなく、乾燥工程に移行することができ、処理時間の短縮化を図ることができる。
【０１０４】
また、リンス液供給ノズル１４０からのリンス液の吐出により基板Ｗに対して最終リンス処理を行った後、再度、最終リンス液供給ノズル１７０からのリンス液の吐出により最終リンスを行うようにしてもよい。
【０１０５】
【発明の効果】
以上のように、この発明の請求項１〜請求項６記載の基板処理装置によると、リンス液供給ノズルの反転により、基板のうちリンス液供給ノズルの移動終了端側の領域に、再度リンス液が供給され、このリンス液の液流により、現像反応生成物等が基板外に放出される。このため、基板上の現像反応生成物等をより完全に除去できる。
【０１０６】
また、請求項３記載の発明によれば、基板の上方を通過するようにリンス液供給ノズルを回転させつつ、そのリンス液供給ノズルからリンス液を供給するため、リンス液供給ノズルは扇状に移動することとなり、リンス液の供給態様の均一性を向上させることができる。
【０１０７】
さらに、請求項４記載の発明によれば、前記リンス液供給ノズルを、前記所定の順走査方向とは逆方向に反転移動させた後、引続いて、同リンス液供給ノズルにより、現像反応停止後の最終リンス工程（基板を回転しつつリンス液を吐出する工程）が行われるため、効率的に欠陥の発生原因となる溶解生成物等を抑制することができる。
【０１０８】
また、請求項５記載の発明によれば、リンス液供給ノズルが反転する際、リンス液が継続して基板上に吐出されるため、リンス液の飛散や基板の振動を防止できる。
【０１０９】
また、請求項６記載の発明によれば、リンス液供給ノズルが反転する際、リンス液が一旦基板外に吐出されるため、現像液や現像反応生成物等をより確実に基板外に押流すことができる。
【０１１０】
また、この発明の請求項７記載の基板処理方法によると、基板の一端側から他端側に向けて走査しつつ、基板の主面全体にリンス液を供給した後、少なくとも前記基板の他端側に再度リンス液を供給するため、この供給されたリンス液の液流により、現像反応生成物等が基板外に放出される。このため、基板上の現像反応生成物等をより完全に除去できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施の形態に係る現像装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】現像液供給ノズルを示す断面図である。
【図４】第１の実施の形態に係る現像装置による現像液供給途中状態を示す説明図である。
【図５】同上の現像装置によるリンス液供給途中状態を示す説明図である。
【図６】同上の現像装置においてリンス液供給ノズルの反転移動状態を示す説明図である。
【図７】同上の現像装置においてリンス液供給ノズルの反転移動後状態を示す説明図である。
【図８】同上の現像装置において最終リンス処理状態を示す説明図である。
【図９】リンス液供給ノズルが反転移動する第１の態様を示す説明図である。
【図１０】リンス液供給ノズルが反転移動する第２の態様を示す説明図である。
【図１１】この発明の第２の実施の形態に係る現像装置の概略構成を示す平面図である。
【図１２】同上の現像装置による現像液供給前状態を示す説明図である。
【図１３】同上の現像装置による現像液供給途中状態を示す説明図である。
【図１４】同上の現像装置によるリンス液供給途中状態を示す説明図である。
【図１５】同上の現像装置によるリンス液供給ノズルの反転移動状態を示す説明図である。
【図１６】同上の現像装置においてリンス液供給ノズルの反転移動後状態を示す説明図である。
【図１７】同上の現像装置において最終リンス処理状態を示す説明図である。
【図１８】基板に対するリンス液供給ノズルの相対的な移動軌跡を示す説明図である。
【符号の説明】
１０  基板保持部
１３  スピンモータ
２０  現像液供給ノズル
４０  リンス液供給ノズル
４２  吐出部
４６  リンス液供給系機構
５０  第２ノズル移動機構
６０  制御部
１４０  リンス液供給ノズル
１５０  第２ノズル移動機構
１５２  ノズル回転駆動部
１６０  制御部
Ｌａ  順走査方向
Ｌｃ  順回転走査方向
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
2005044898.tif 000017
【図１６】
2005044898.tif 000018
【図１７】
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【図１８】
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