(57)【要約】  【課題】  糖尿病の予防剤や治療剤として、またはその製造中間体として有用な擬似アミノ糖誘導体の新規な製造法、および上記擬似アミノ糖誘導体の製造において、原料として有用な新規なカルバ糖誘導体およびその製造法を提供することを課題とする。  【解決手段】  一般式〔I〕  【化１】2005053899.tif 000014（式中、R1は水素原子あるいは水酸基の保護基を示す。）で表される新規カルバ糖誘導体。  【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式〔I〕
【化１】
2005053899.tif 000008
（式中、R1は水素原子あるいは水酸基の保護基を示す。）
で表される新規カルバ糖誘導体。
【請求項２】
一般式〔II〕
【化２】
2005053899.tif 000009
（式中、R1は前記と同義である。）
で表される相対配置を持つ新規カルバ糖誘導体。
【請求項３】
一般式〔III〕
【化３】
2005053899.tif 000010
（式中、R1は前記と同義であり；（Ｓ）を付した炭素原子は（Ｓ）配置の炭素原子を示す。）
で表される絶対配置を持つ新規カルバ糖誘導体。
【請求項４】
２−デオキシ−イノソースのカルボニル基からスピロオキシラン環を形成させることを特徴とする、一般式〔I〕で表される新規カルバ糖誘導体の製造法。
【請求項５】
２−デオキシ−シロ−イノソースのカルボニル基からスピロオキシラン環を形成させることを特徴とする、一般式〔II〕で表される新規カルバ糖誘導体の製造法。
【請求項６】
（−）−２−デオキシ−シロ−イノソースのカルボニル基からスピロオキシラン環を形成させることを特徴とする、一般式〔III〕で表される新規カルバ糖誘導体の製造法。
【請求項７】
スピロオキシラン環の形成をジアゾメタンを作用させることにより行うことを特徴とする、請求項４〜６のいずれか１項に記載の新規カルバ糖誘導体の製造法。
【請求項８】
一般式〔III〕で表される新規カルバ糖誘導体のスピロオキシラン環を開環することを特徴とする、一般式〔IV〕
【化４】
2005053899.tif 000011
（式中、R1は前記と同義である。）
で表されるカルバ糖誘導体の製造法。
【請求項９】
一般式〔IV〕で表されるカルバ糖誘導体の5位に脱離基を導入し、5位にアジドを導入し、該アジドを還元して5位のα側にアミノ基を導入し、次いで所望により脱保護基反応に付すことを特徴とする、一般式〔V〕
【化５】
2005053899.tif 000012
（式中、R1は前記と同義である。）
で表される擬似アミノ糖またはその誘導体の製造法。
【請求項１０】
一般式〔III〕で表される新規カルバ糖誘導体のスピロオキシラン環を開環し、カルバ糖誘導体の5位に脱離基を導入し、5位にアジドを導入し、該アジドを還元して5位のα側にアミノ基を導入し、次いで所望により脱保護基反応に付すことを特徴とする、一般式〔V〕
【化６】
2005053899.tif 000013
（式中、R1は前記と同義である。）
で表される擬似アミノ糖またはその誘導体の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、糖尿病の予防剤や治療剤として、またはその製造中間体として有用な擬似アミノ糖誘導体の新規な製造法に関する。
また、本発明は、糖尿病の予防剤や治療剤として、またはその製造中間体として有用な擬似アミノ糖誘導体の製造において、原料として有用な新規なカルバ糖誘導体およびその製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
擬似アミノ糖の一種であるバリオールアミンおよびそのN−置換誘導体は強いα−グルコシダーゼ阻害活性を示し、その中でもバリオールアミンのN−置換誘導体の一つであるボグリボースは、糖尿病患者に対して食後の急激な血糖値の上昇を抑える薬剤として広く実用化されている。
バリオールアミンN-置換誘導体の製造法としては、大別して下記の3種の方法が知られている。
（１）バリダマイシンの分解反応により得られるバリエナミンあるいはバリダミンを原料に用いてバリオールアミンを合成し、このようにして得られたバリオールアミンを中間原料に用い、そのアミノ基にアルデヒド類あるいはケトン類を反応させ、次いで還元反応を行う方法（特許文献１〜６参照）。
（２）バリオールアミンのアミノ基とオキシラン誘導体とを反応させる方法（特許文献１および２参照）。
（３）バリオールアミンのアミノ基とハロゲン誘導体とを反応させる方法（特許文献１および２参照）。
【０００３】
上述したバリオールアミンN−置換誘導体の製造方法の（１）〜（３）のすべてにおいてバリオールアミンがその製造中間体である。このバリオールアミンの製造方法としては以下の方法が知られている。
（４）放線菌の一種の培養液から単離する方法（特許文献７および非特許文献１参照）。（５）バリダマイシンの分解反応により得られるバリエナミンあるいはバリダミンを原料として合成する方法（特許文献８および９参照）。
（６）キナ酸を原料として合成する方法（非特許文献２および３参照）。
（７）D-アラビノースを原料として合成する方法（非特許文献４参照）。
【０００４】
これらの製造方法のうち、上記（４）の直接発酵法による製造法は最も簡潔な方法ではあるが、収量の面で工業的方法としては問題がある。上記（５）のバリエナミンを経由する場合は出発原料であるバリダマイシンを分解して製造するため原価が割高になる欠点がある。上記（６）のキナ酸を原料とする方法は、一度開環して再度シクロヘキサン環を形成するために反応工程が全部で１４工程と長く、またキナ酸からの収率が８．４％で実用的でない。上記（７）のD−アラビノースを原料とする方法は、（６）と同様に一度開環して再度シクロヘキサン環を形成するため反応工程が全部で９工程と長く、D−アラビノースからの収率が６．７％で実用的ではない。
また、近年環境問題の観点から製造過程で排出される副反応物、反応溶媒や反応剤あるいは抽出精製溶媒などに由来する廃棄物の少ない製造方法が望まれている。
【０００５】
【特許文献１】特開昭57-200335号
【特許文献２】特開昭58-59946号
【特許文献３】特開昭58-162597号
【特許文献４】特開昭58-216145号
【特許文献５】特開昭59-73549号
【特許文献６】特開昭59-95297号
【特許文献７】特開昭57-169446号
【特許文献８】特開昭57-179174号
【特許文献９】特開昭58-46044号
【非特許文献１】「Valiolamine, a new α-glucosidase Inhibiting aminocyclitol produced by Streptomyces hygroscopicus」、「ジャーナル  オブ  アンチバイオティクス(Journal of Antibiotics)」（日本）、1984年、第37巻、第11号、p.1301
【非特許文献２】「Enantiospecific synthesis of valiolamine and its (1R),(2R),(1R,2R) diastereomers from (-)-quinic acid」、「アンゲヴァント  ヘミ（Angewandte Chemi）」、（ドイツ）、1995年、第34巻、ｐ．1643
【非特許文献３】「Facile Synthesis of Valiolamine and Its diastereomers from (-)-quinic acid. Nucleophilic Substitution Reactions of 5-(Hydroxymethyl)cyclohexane-1,2,3,4,5-pentol」、「ジャーナル  オブ  オーガニック  ケミストリー（Journal of Organic Chemistry）」、（米国）、1996年、第61巻、ｐ．8468
【非特許文献４】「Ring closing metathesis as an efficient approach to branched cyclitols and aminocyclitols:a short synthesis of valiolamine.」、「テトラヘドロン  レタース（Tetrahedron Letters）」、（英国）、1999年、第40巻、ｐ．853
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したように、バリオールアミンをはじめとする擬似アミノ糖の従来の製造方法には、まだ種々の問題点があり、バリダマイシンを原料とする以外の方法で擬似アミノ糖を大量に製造することは困難であった。
本発明の目的は、従来の製造方法が有していた問題点を解決し、入手が容易な原料を用いて、簡単な操作で擬似アミノ糖を得ることのできる新規な製造方法を提供することにある。
また、本発明の目的は、上記擬似アミノ糖やそのほかの生理活性が期待できる各種糖化合物を製造する際に原料となる新規な化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記した目的を達成するため鋭意研究した。特に、本発明者らは、微生物変換により安価に入手可能なミオ−イノシトールから製造できる（−）−２−デオキシ−シロ−イノソースをバリオールアミン部分を構築する原料として用いれば上記の既知製造方法よりも有利に光学活性な目的物を製造し得るのではないかと考え、種々検討した。
その結果、２−デオキシ−イノソースを原料とし、２−デオキシ−イノソースのカルボ
ニル基からスピロオキシラン環を形成させることにより、下記一般式[I]
【０００８】
【化１】
2005053899.tif 000002
【０００９】
（式中、R1は水素原子あるいは水酸基の保護基を示す。）
で表される新規なカルバ糖誘導体を得ることに成功した。この一般式〔Ｉ〕の化合物のスピロエポシキド環は、アルカリまたは酸などで処理することにより容易に開環することができ、２−デオキシ−イノソースのカルボニル基がヒドロキシメチル基または保護されたヒドロキシメチル基および水酸基または保護された水酸基で置換された炭素原子となった化合物を得ることができる。このように、一般式〔Ｉ〕の化合物は種々のカルバ糖化合物の合成原料として有用である。
また、上記の２−デオキシ−イノソースにかえ、２−デオキシ−シロ−イノソースを原料とし、スピロオキシラン環を形成させることにより、下記一般式〔II〕
【００１０】
【化２】
2005053899.tif 000003
【００１１】
（式中、R1は前記と同義である。）
で表される相対配置を持つ新規なカルバ糖誘導体が得られた。この一般式〔II〕の化合物も、一般式〔Ｉ〕の化合物と同様に、アルカリまたは酸などで処理することにより容易にスピロオキシラン環を開環することができ、種々のカルバ糖化合物の合成原料として有用である。
さらに、２−デオキシ−シロ−イノソースにかえ、（−）−２−デオキシ−シロ−イノソースを原料として用い、スピロオキシラン環を形成させることにより、下記一般式〔III〕
【００１２】
【化３】
2005053899.tif 000004
【００１３】
（式中、Ｒ1は前記と同義であり；（Ｓ）を付した炭素原子は（Ｓ）配置の炭素原子を示す。）
で表される絶対配置を持つ新規なカルバ糖誘導体が得られた。この一般式[III]の化合物も、一般式[I]、[II]で表される化合物と同様に、アルカリまたは酸などで処理することにより容易にスピロオキシラン環を開環することができ、種々のカルバ糖化合物の合成原料として有用である。
そして、上記の一般式[I]、[II]および[III]の化合物の製造においてスピロオキシラン環の形成には、ジアゾメタンを作用させることが好ましいことがわかった。
【００１４】
上述した方法で新規に得られた一般式[III]のカルバ糖誘導体を用いて、本発明者らは、光学活性なバリオールアミンの製造に成功したのである。すなわち、一般式〔III〕のカルバ糖誘導体のスピロエポキシド部分を加水分解することにより一般式〔IV〕
【００１５】
【化４】
2005053899.tif 000005
【００１６】
（式中、Ｒ1は前記と同義である。）
で表されるカルバ糖誘導体（β−バリオール）を合成した。このβ−バリオールも種々の糖化合物の合成原料として有用である。さらに、このカルバ糖誘導体の5位に脱離基を導入し、5位にアジドを導入し、該アジドを還元して5位のα側にアミノ基を導入し、次いで所望により脱保護基反応に付すことにより一般式〔V〕
【００１７】
【化５】
2005053899.tif 000006
【００１８】
（式中、Ｒ1は前記と同義である。）
で表される光学活性な擬似アミノ糖（バリオールアミン）誘導体を得た。
【００１９】
さらに、このようにして得られたバリオールアミンとケトン類、アルデヒド類、イノソース類などを公知の方法により縮合反応させ、次いで還元反応に付し、所望により脱保護基反応に付すことなどにより各種バリオールアミン−N−置換誘導体を製造することができる。
【発明の効果】
【００２０】
化合物〔III〕は、本発明の合成方法による種々の光学活性カルバ糖誘導体、特にβ−バリオール、バリオールアミン、Ｎ−置換バリオールアミン誘導体やその他のバリオールアミン関連化合物製造のための中間原料化合物として有用な化合物である。化合物〔III〕の製造原料である（−）−２−デオキシ−シロ−イノソースは、ミオ−イノシトールを原料にしてある種の細菌を用いた発酵生産により安価に大量製造することが可能であるので、本発明の合成方法は種々のカルバ糖誘導体、特にバリオールアミン、Ｎ−置換バリオールアミン誘導体やその他のバリオールアミン関連化合物の製造方法として新規で有用な方法である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明を詳細に説明する。
一般式〔I〕〜〔V〕の化合物の式中のR1で示される水酸基の保護基としては、糖の化学で水酸基の保護基として用いられる保護基、例えばアシル型保護基、エーテル型保護基、アセタール型保護基、ケタール型保護基、オルトエステル型保護基などが用いられる。
【００２２】
アシル型保護基としては例えば、下記のものである。
・ハロゲン原子、炭素数1〜5の低級アルコキシル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいフェノキシ基で置換されていてもよい炭素数1〜5のアルカノイル基；
・ニトロ基、フェニル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜5の低級アルキル基あるいは炭素数2〜6の低級アルキルオキシカルボニル基で置換されていてもよいベンゾイル基；
・ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基；
・炭素数3〜5のアルケニルオキシカルボニル基；
・炭素数1〜5の低級アルコキシル基、またはニトロ基で置換されていてもよいべンジルオキシカルボニル基；
・ニトロ置換フェノキシカルボニル基。
【００２３】
上記のハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素などが、炭素数1〜5のアルコキシル基としては、例えばハロゲン原子で置換されていてもよいメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ビニルオキシ、アリルオキシ基などが、炭
素数1〜5のアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert-ブチル、ぺンチル、イソぺンチルまたはネオペンチル基などが、炭素数1〜5のアルカノイル基としては、例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、イソバレリル、ピバロイル基などが用いられる。上記の炭素数3〜5のアルケニルオキシカルボニル基における炭素数2〜4のアルケニル基としてはビニル、アリル、イソプロペニル、1−プロペニル、1−ブテニル、２-ブテニル、3−ブテニルなどが用いられる。
【００２４】
アシル型保護基の例を更に具体的に示せば、ホルミル、アセチル、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、メトキシアセチル、トリフェニルメトキシアセチル、フェノキシアセチル、p−クロロフェノキシアセチル、プロピオニル、イソプロピオニル、3−フェニルプロピオニル、イソブチリル、ピバロイル、べンゾイル、p-ニトロべンゾイル、p-フェニルべンゾイル、o-（ジブロモメチル）べンゾイル、o-（メトキシカルボニル）べンゾイル、2，4，6−トリメチルべンゾイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、2，2，2−トリクロロエトキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、べンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシべンジルオキシカルボニル、3，4−ジメトキシべンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロべンジルオキシカルボニルまたはｐ−ニトロフェノキシカルボニルなどである。
【００２５】
エーテル型保護基としては例えば、下記のものである。
・ハロゲン原子、炭素数1〜5の低級アルコキシル基、べンジルオキシ基、またはフェニル基で置換されていてもよい炭素数1〜5の低級アルキル基；
・炭素数2〜4のアルケニル基；
・置換基が、炭素数1〜5の低級アルキル基、フェニル基、またはべンジル基などであるトリ置換シリル基；
・ハロゲン原子、炭素数1〜5の低級アルコキシ基、またはニトロ基で置換されていてもよいべンジル基；
・炭素数1〜5の低級アルコキシル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいテトラヒドロピラニル基またはテトラヒドロフラニル基など。
【００２６】
上記のハロゲン原子、炭素数1〜5の低級アルコキシル基、炭素数1〜5の低級アルキル基および炭素数2〜4のアルケニル基はアシル型保護基の場合と同様のものが用いられる。
エーテル型保護基を更に具体的に示せば、メチル、メトキシメチル、べンジルオキシメチル、tert-ブトキシメチル、2−メトキシエトキシメチル、2，2，2−トリクロロメトキシメチル、エチル、1−エトキシエチル、1−メチル−1−メトキシエチル、2，2，2−トリクロロエチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、エトキシエチル、トリフェニルメチル、ｐ−メトキシフェニルジフェニルメチル、アリル、トリメチルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−ブチルジフェニルシリル、べンジル、ｐ−メトキシべンジル、ｐ−ニトロべンジル、p−クロロべンジル、テトラヒドロピラニル、3−ブロモテトラヒドロピラニル、4−メトキシテトラヒドロピラニルまたはテトラヒドロフラニルなどである。
【００２７】
アセタール型、ケタール型およびオルトエステル型保護基は好ましくは1〜10の炭素数からなる。その具体例を示せば、メチレン、エチリデン、1− tert−ブチルエチリデン、1−フェニルエチリデン、2，2，2−トリクロロエチリデン、イソプロピリデン、ブチリデン、シクロぺンチリデン、シクロヘキシリデン、シクロヘプチリデン、べンジリデン、ｐ−メトキシべンジリデン、2，4−ジブロモメトキシべンジリデン、ｐ−ジメチルアミノべンジリデン、o−ニトロべンジリデン、メトキシメチレン、エトキシメチレン、ジメトキシメチレン、1−メトキシエチリデンまたは1，2−ジメトキシエチリデンなどである。
またジブチルスタニル、トリブチルスタニルなどのスタンオキサン型保護基、環状カルボナート型保護基または環状ボロナート型保護基なども同様に用いられる。
【００２８】
化合物〔I〕〜〔V〕中のＲ1で示される水酸基の保護基の種類はすべて同じであってもよいし、2種以上の異なった保護基を含んでいてもよい。また、例えば、環状アセタール型、環状ケタール型、環状オルトエステル型、環状カルボナート型、環状ボロナート型あるいはスタンオキサン型保護基の場合のように2個の水酸基を１個の保護基で保護してもよい。
【００２９】
化合物[II]の原料である２−デオキシ−シロ−イノソースは、例えばＤＬ−ビボ−クエルシトールをアセトバクター・スボキシダンス（Acetobacter suboxydans）により酸化させ、DL‐2,4/3,5‐tetrahydroxycyclohexanone（（−）−２−デオキシ−シロ−イノソースと（＋）−２−デオキシ-シロ−イノソースとの混合物(ラセミ体)）を製造する方法(ザ・ジャーナル・オブ・アンチバイオティックス（THE JOURNAL OF ANTIBIOTICS）, 1977年,第30巻，第1号, p.98-105)などにより製造できる。
化合物〔III〕の原料である（−）−２−デオキシ−シロ−イノソースは、例えばミオ−イノシトールを原料にして液体培養液中でアグロバクテリウム属に属する微生物またはサルモネラ属に属する微生物を作用させて、まず（−）−ビボ−クエルシトールに変換し（特開平１１−０１２２１０号）、次いでグルコノバクター（Gluconobacter）属に属する微生物（例えばグルコノバクター・エスピーＡＢ１０２７７株（産業技術総合研究所特許微生物寄託センターに寄託番号ＦＥＲＭ  Ｐ−１９３２０として寄託されている。））を（−）−ビボ−クエルシトールを含有する液体培地中で培養することによって（−）−２−デオキシ−シロ−イノソースに変換することにより製造できる。
【００３０】
（−）−ビボ−クエルシトールから（−）−２−デオキシ−シロ−イノソースの変換に用いる微生物の液体培地の組成は、目的が達せられる限り何等特別の制限はなく、合成培地・天然培地のいずれであってもよいが、炭素源、窒素源、有機栄養源、無機塩類などを含有する培地が好ましい。液体培地には炭素源として、原料の（−）−ビボ−クエルシトールを０．１〜４０％、好ましくは４〜２０％添加し、窒素源として、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硝酸アンモニウム、あるいは尿素などを０．０１％〜１．０％、好ましくは０．０５〜０．５％添加することが好ましい。有機栄養源として、酵母エキス、ペプトン、カザミノ酸を適量（０．００５〜１．０％）添加すると、菌株によっては有効な場合がある。その他必要に応じ、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、コバルト、マンガン、亜鉛、鉄、銅、モリブデン、リン酸、硫酸などのイオンを生成することができる無機塩類を培地中に添加することが有効である。培養液の水素イオン濃度をｐＨ６〜１０、好ましくはｐＨ７〜９に調整して培養すると、効率よく（−）−２−デオキシ−シロ−イノソースを得ることができる。
【００３１】
培養条件は、菌株や培地の種類によっても異なるが、培養温度は５〜４０℃、好ましくは２０〜３５℃であり、培養期間は通常１〜７日、好ましくは２〜５日である。また、培養は液体培地を振とうしたり、液体培地中に空気を吹き込むなどして好気的に行えばよい。培養液から目的物を採取する方法は、通常の水溶性中性物質を単離精製する一般的な方法を応用することができる。すなわち、培養後の培養液を活性炭やイオン交換樹脂などで処理することにより、簡単に（−）−２−デオキシ−シロ−イノソースを採取して、精製することができる。
【００３２】
一般式[I]、[II]または[III]の化合物を製造する際、スピロオキシラン環の形成は、例えばスピロオキシラン環形成剤を作用させて行うことができ、スピロオキシラン環形成剤としては、カルボニル基と反応してオキシラン環を形成するものであればよく、ジアゾメタンまたはトリメチルシリルジアゾメタンなどのジアゾメタン誘導体、ジメチルスルホニ
ウムメチリドまたはジメチルオキソスルホニウムメチリドなどの硫黄イリド誘導体などを用いることができる。この中でも、簡単に製造でき、反応後の後処理が容易なため、ジアゾメタンを使用するのが好ましい。
【００３３】
以下に、（−）−２−デオキシ−シロ−イノソース〔VI〕から、新規なカルバ糖誘導体[III]を経て、光学活性擬似アミノ糖（バリオールアミン）誘導体〔V〕を製造する方法を工程別に詳細に説明する。
【００３４】
【化６】
2005053899.tif 000007
【００３５】
なお、上記製造工程において、R1は水素原子または水酸基の保護基を示し、R2およびR3は水酸基の保護基を示し、R4は脱離基を示す。
【００３６】
＜製造工程１＞
化合物〔III〕は化合物〔VI〕のカルボニル基をスピロエポキシ化することにより製造することができる。化合物〔VI〕の水酸基は保護しなくても、または適当な保護基で保護してもよい。水酸基の保護基の好ましい例としてはアセチル基などが挙げられる。このスピロエポキシ化反応はカルボニル基と反応してオキシラン環を合成する慣用の方法が用いられる。例えばジアゾメタンまたはトリメチルシリルジアゾメタンなどのジアゾメタン誘導体、ジメチルスルホニウムメチリドまたはジメチルオキソスルホニウムメチリドなどの硫黄イリド誘導体などを用いることができる。反応溶媒としては化合物〔VI〕が溶解し、この反応に悪影響を及ぼさない溶媒が使用でき、メタノール、エタノール、プロパノ−ル、イソプロパノール、エチルエーテル、クロロホルム、ジクロロメタンまたは酢酸エチルなどが挙げられる。
【００３７】
本工程の好ましい方法としては、無保護の化合物（〔VI〕でＲ1＝  Ｈの場合）をメタノール溶媒中、ジアゾメタンと反応させる方法が挙げられる。通常、反応温度は特に限定されず、冷却下、室温あるいは加温下に反応が行われる。
【００３８】
＜製造工程２＞
化合物〔IV〕は化合物〔III〕の１，７−アンヒドロ結合を開裂反応に付すことによって製造することができる。化合物〔III〕のＲ1で示される保護基はなくてもかまわないが、保護する場合は好ましい例としてベンゾイル基などが挙げられる。このアンヒドロ結合
の開裂反応においてはオキシラン環の開裂反応として慣用の方法が用いられる。例えばアンヒドロ結合の開裂はアルカリまたは酸の存在下に行われる。適当なアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸ナトリウムあるいは強塩基性または弱塩基性のイオン交換体などが挙げられる。反応溶媒としては水、メタノール、エタノール、プロパノ−ル、イソプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイドなどあるいはその他この反応に悪影響を及ぼさない溶媒が単独または混合溶媒として使用される。適当な酸としては、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、トリニトロベンゼンスルホン酸、過塩素酸、過ヨウ素酸、フッ化ホウ素あるいは強酸性または弱酸性のイオン交換体などが挙げられ、酸を用いた場合は開裂反応後、生成したエステルを水酸化ナトリウム水溶液または炭酸ナトリウム水溶液などで加水分解する。
【００３９】
本工程の好ましい方法としては、水およびジメチルホルムアミドの混合溶媒中酢酸ナトリウムと反応させる方法、水酸化カリウム水溶液中で反応させる方法などが挙げられる。アルカリ加水分解の場合、通常反応は加熱下に行われ、５０℃から１５０℃の温度範囲で行われる。好ましくは９０℃から１２０℃の範囲で行われる。酸で開裂する場合は、通常反応温度は特に限定されず、冷却下、室温あるいは加温下に反応が行われる。反応後、必要ならば保護基の脱離および再導入を行ってもよい。例えば、反応生成物の抽出・精製を容易にするためアセチル化した後に抽出精製を行い、単離した化合物について保護基の脱離を行ってもよい。
【００４０】
＜製造工程３＞
化合物〔VII〕は化合物〔IV〕の２位および７位の水酸基を環状アセタール系保護基などで保護することにより製造することができる。例えば、この環状アセタール化反応は６員環アセタール形成を優先する糖の水酸基の環状アセタール化のための慣用の方法〔例えば、Ｔ．Ｗ．グリーン（Ｇｒｅｅｎｅ）著、プロテクティブ  グループス  イン  オーガニック  シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）１９９１年、１１８頁〕を用いて行うことができる。この６員環形成を優先する環状アセタール系保護基の導入反応に適したアセタール化の方法としては、（１）α，α−ジメトキシトルエンまたはα，α−ジメトキシ−ｐ−メトキシトルエンとｐ−トルエンスルホン酸またはテトラフルオロホウ酸を用いる方法、（２）α，α−ジブロモトルエンと酸化バリウムを用いる方法、あるいは（３）ベンズアルデヒドとｐ−トルエンスルホン酸、硫酸または塩化亜鉛を反応させる方法などでベンジリデンケタールを形成させる方法などが挙げられる。
【００４１】
好ましくは、α，α−ジメトキシトルエンとｐ−トルエンスルホン酸を反応させる方法が挙げられる。この６員環状アセタール形成反応に用いる溶媒としてはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、アセトニトリル、ジエチルエーテルなどが挙げられる。その他この反応に悪影響を及ぼさない溶媒が単独あるいは混合溶媒として使用され得る。通常、反応温度は特に限定されず、冷却下、室温あるいは加温下に反応が行われる。
【００４２】
＜製造工程４＞
化合物〔VIII〕は化合物〔VII〕の３位および４位の水酸基を環状アセタール系保護基などで保護することにより製造することができる。例えば、この環状アセタール化反応は５員環アセタール形成を優先する糖の水酸基の環状アセタール化のための慣用の方法〔例えば、Ｔ．Ｗ．グリーン（Ｇｒｅｅｎｅ）著、プロテクティブ  グループス  イン  オーガニック  シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）１９９１年、１１８頁〕を用いて行うことができる。この５員環形成を優先する環状アセタール系保護基の導入反応に適したアセタール化の方法としては、（１）アセトアルデヒドまたはα，α−ジメトキシエタンを用いてエチリデンアセタール
を形成させる方法、（２）２−メトキシプロペン、２，２−ジメトキシプロパンまたはアセトンなどを用いてイソプロピリデンケタール（アセトナイド）を形成させる方法、（３）シクロヘキサノン、１，１−ジメトキシシクロヘキサンまたは１−（トリメチルシロキシ）シクロヘキセンを用いてシクロヘキシリデンケタールを形成させる方法、および（４）１，１，１−トリメトキシエタンを用いて１−メトキシエチリデンオルソエステルを形成させる方法などが挙げられる。これらの反応は触媒として酸を必要とするが、酸の例としては塩酸、臭化水素酸、酢酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸などが挙げられる。
【００４３】
好ましくは、２−メトキシプロペンとｐ−トルエンスルホン酸を反応させる方法が挙げられる。この５員環状アセタール形成反応に用いる溶媒としてはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、アセトニトリル、ジエチルエーテルなどが挙げられる。その他この反応に悪影響を及ぼさない溶媒が単独あるいは混合用媒として使用され得る。通常、反応温度は特に限定されず、冷却下、室温あるいは加温下に反応が行われる。
【００４４】
＜製造工程５＞
化合物〔IX〕は化合物〔VIII〕の５位の水酸基に置換反応に用いる良好な脱離基を結合させることにより製造することができる。脱離基としては水酸基の脱離反応に用いる慣用の脱離基を用いることができる。このような脱離基の導入試薬の例としてはｐ-トルエンスルホニルクロライド、メタンスルホニルクロライド、トリフルオロメタンスルホニルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライドまたはｐ-クロロベンゼンスルホニルクロライドなどが挙げられる。例えば、これらの試薬を塩基の存在下水酸基と反応させることにより脱離基を導入することができる。最も好ましい脱離基導入反応としてはｐ-トルエンスルホニル化などが挙げられる。適当な塩基としてはピリジン、トリエチルアミン、ジエチルアミンまたはジメチルアミノピリジンなどが挙げられる。これらは単独あるいは混合して使用してもよい。反応溶媒としてはピリジンなどを溶媒として用いてもよいし、クロロホルム、ジクロロエタン、ジエチルエーテル、トルエン、酢酸エチル、ヘキサンなどあるいはその他この反応に悪影響を及ぼさない溶媒が単独または混合溶媒として使用される。通常反応温度は特に限定されず、冷却下、室温あるいは加温下に反応が行われる。反応後必要ならば保護基の脱離および再導入を行ってもよい。
【００４５】
＜製造工程６＞
化合物〔X〕は化合物〔IX〕の５位のｐ-トルエンスルホン酸などの脱離基を脱離させアジド基を導入する置換反応を行うことにより製造することができる。このアジ化反応に用いる試薬としては金属アジ化物などを用いることができる。このような金属アジ化物の例としてはアジ化ナトリウムやアジ化リチウムなどが挙げられる。また、反応試薬の塩基性を高め、反応を促進するためクラウンエーテルなどを添加してもよい。クラウンエーテルの例としては１２-クラウン-４-エーテル、１５-クラウン-５-エーテルまたは１８-クラウン-６-エーテルなどが挙げられる。例えば、クラウンエーテルは金属アジ化物と等モル添加する。反応溶媒としては水、メタノール、エタノール、プロパノ−ル、イソプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ジクロロエタンなどあるいはその他この反応に悪影響を及ぼさない溶媒が単独または混合溶媒として使用される。通常、反応は加熱下に行われ、５０℃から１５０℃の温度範囲で行われる。好ましくは９０℃から１２０℃の範囲で行われる。反応後必要ならば保護基の脱離および再導入を行ってもよい。
【００４６】
＜製造工程７＞
化合物〔XI〕は化合物〔X〕のアジド基を還元することにより製造することができる。例えば、この還元反応はアジド基を還元するための慣用の方法を用いて行うことができる。アジド基の還元反応として接触還元あるいは各種の水素化金属錯体還元剤による還元反応などの手段を用いることができる。すなわち、接触還元の場合は化合物〔X〕を適当な
溶媒中で接触還元用触媒の存在下に水素気流中で振盪または撹拌することなどにより行われる。接触還元用触媒としては、例えば、ラネーニッケル、パラジウム-炭酸カルシウム（リンドラー触媒）、パラジウムカーボン、パラジウム黒、白金黒または二酸化白金などが用いられる。通常用いられる溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、Ｎ，Ｎ-ジメチルホルムアミドまたはこれらの混合溶媒などが挙げられる。また、溶媒として無水酢酸を単独であるいは上記の有機溶媒などと混合して用い、アミンへの還元と同時にアミノ基のアセチル化を行ってもよい。反応は通常、常温常圧下で行われるが、加圧下に行ってもよく、また加温してもよい。水素化金属錯体還元剤による還元の場合は化合物〔X〕を適当な溶媒中で水素化金属錯体還元剤の存在下に振盪または撹拌することにより行われる。より好ましくは窒素、アルゴンなどの不活性ガスの雰囲気中で還元を行うこともできる。水素化金属錯体還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウムまたは水素化ホウ素リチウム、水素化トリメトキシホウ素ナトリウムなどの水素化ホウ素アルカリ金属、例えば、シアノ水素化ホウ素ナトリウムなどのシアノ水素化ホウ素アルカリ金属、例えば、水素化アルミニウムリチウムなどの水素化アルミニウムアルカリ金属、例えば、ジメチルアミンボランなどのジアルキルアミンボランなどが有利に用いられる。なお、シアノ水素化ホウ素アルカリ金属、例えば、シアノ水素化ホウ素ナトリウムを用いる場合には、酸性の条件、例えば塩酸、酢酸などの存在下に反応を行うことが好ましい。適当な反応溶媒としては水、メタノール、エタノール、プロパノ−ルまたはイソプロパノールなどのアルコール類、アセトニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、メチルセロソルブ、ジメチルセロソルブまたはジエチレングリコールジメチルエーテルなどのグライム類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類など、その他この反応に悪影響を及ぼさない溶媒が単独または混合溶媒として使用される。この還元反応の反応温度は特に限定されないが、通常、室温、場合によっては、特に反応初期においては氷冷下に、また場合によっては１００℃程度まで加熱して行われ、還元剤の種類によって差異がある。反応時間も反応温度により、また還元剤の種類によって差異が有るが、通常、数分ないし２４時間程度反応させることによって目的を達することができる。
【００４７】
＜製造工程８＞
化合物〔V〕は化合物〔XI〕の保護基を脱離することにより製造することができる。保護基の脱離反応はそれ自体公知の方法を用いて行うことができる。例えば、ベンジリデン基、イソプロピリデン基またはシクロヘキシリデン基などのアセタール型保護基、アセチル基またはベンゾイル基などのアシル型保護基およびトリチル基などは塩酸、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸またはスルホン酸型樹脂などの酸で加水分解することなどによって脱離することができる。なお、アシル型保護基の場合はアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化バリウムまたはナトリウムメトキシドなどのアルカリで加水分解することなどによっても脱離することができる。また、ベンジル基、ｐ-メトキシベンジル基などのベンジルエーテル型保護基は、接触還元反応、接触トランスファー水素化反応などの水素化分解反応あるいは液体アンモニア中での金属ナトリウムによる還元分解反応に付すことなどにより脱離することができる。なお、化合物〔V〕の５位アミノ基が保護されていない場合、各種ケトン類と縮合して得られるシッフ塩基を還元し、バリオールアミンのＮ-置換誘導体を製造することもできる。
【００４８】
反応生成物〔III〕、〔V〕およびそれらの合成中間体などはそのまま精製してもよいし、あるいは必要に応じて適当な保護基(例えばアセチル基など)を導入して精製後、保護基を脱離してもよい。単離、精製は公知の手段で行うことができる。例えば、ろ過、遠心分離、濃縮、減圧濃縮、乾燥、凍結乾燥、吸着、脱着、各種溶媒に対する溶解度差を利用する方法（例えば、溶媒抽出、転溶、沈殿、結晶化、再結晶化など）、クロマトグラフィー（例えば、イオン交換樹脂、セファデックスイオン交換体、セルロースイオン交換体、活性炭、ハイポーラスポリマー、ＯＤＳシリカゲル、セファデックス、セルロース、シリカゲル、アルミナなどを用いるクロマトグラフィーなど）などが挙げられる。
【００４９】
本発明で製造される化合物〔V〕および合成中間体[XI]の塩としては、薬学的に許容できる酸との塩が用いられる。このような塩としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸、硝酸などの無機酸、例えば酢酸、リンゴ酸、クエン酸、アスコルビン酸、マンデル酸、メタンスルホン酸などの有機酸との塩が用いられる。
また、本発明で製造される化合物[I]〜[III]、〔V〕およびそれらの合成中間体は、その一形態として任意の結晶形として存在することができ、水和物または溶媒和物として存在することもできる。本発明には本発明の化合物[I]〜[III]のこのような結晶形、水和物または溶媒和物も含まれる。
【実施例】
【００５０】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。
＜実施例１＞
工程１：(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−１，７−アンヒドロ−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントールの合成（一般式〔III〕でＲ1＝  Ｈの化合物）
（−）−２−デオキシ−シロ−イノソース〔（２Ｓ）−（２，４／３，５）−２，３，４，５−テトラヒドロキシ−シクロヘキサノン（一般式〔VI〕でＲ1＝  Ｈの化合物）〕、２０ｇ（１２３．３mmol）をメタノール（３００ｍｌ）に溶解し、この溶液に氷冷下、反応直前に調製したジアゾメタン−ジエチルエーテル溶液（約０.８M 、１６０ｍｌ）を３０分間に渡って滴下した。滴下後反応溶液を室温にて撹拌し、さらに２、３、４および６時間後にもジアゾメタン−ジエチルエーテル溶液を各４０ｍｌずつ加え、反応溶液が透明になるまで撹拌を継続した。次いで、反応溶液にジエチルエーテル（４００ｍｌ）を徐々に加え、生成した不溶物をろ紙にてろ過し除去した。室温で放置し、ある程度結晶が析出したところで、冷蔵庫内にて溶液を放置した。3日後、析出した結晶を吸引濾過し、減圧乾燥することにより、(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−１，７−アンヒドロ−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール（スピロエポキシド体）を無色板状結晶（９.６８ｇ、収率：44％）として得た。
【００５１】
薄層クロマトグラフィー（シリカゲルＴＬＣ、６０F２５４、メルク社製）：アセトニトリル−水（１０：１  ｖ／ｖ）、三重展開、Ｒｆ＝０.７９、クロロホルム−メタノール−水（５：５：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．４９、ｎ−ブタノール−酢酸−水（２：１：１
ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．４２
［α］D：−３７.４゜（ｃ＝０.７２、Ｈ2Ｏ）
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：１.５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５.１，１３.８，Ｈ−６ｅｑ）、１．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７，１３．８，Ｈ−６ａｘ）、２.５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５.１，Ｈ−７）、２.９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５.１，Ｈ−７）、３.２８（１Ｈ，ｍ，Ｈ−４）、３.３４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３）、３.５８（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５）、３.６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９.４，Ｈ−２）
13Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：３７.７８（ｔ，Ｃ−６）、４８.７０（ｔ，Ｃ−７）、５８.７１（ｓ，Ｃ−１）、７０.９５（ｄ，Ｃ−５）、７１.３３（ｄ，Ｃ−２）、７６.７１（ｄ，Ｃ−３）、７８.９１（ｄ，Ｃ−４）
分子式：Ｃ7Ｈ12Ｏ5      分子量（計算値）：１７６．１７
【００５２】
＜実施例２＞
工程２−１：(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，３，４，５，７−ペンタ−
Ｏ−アセチル−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール（一般式〔IV〕でＲ1＝  ＣＨ3ＣＯ−の化合物）の合成
(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−１，７−アンヒドロ−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール、１００ｍｇ（0.568mmol）を80％ジメチルホルムアミド−水溶液（2.Oml）に溶解し、酢酸ナトリウム、372.5mg（4.54mmol）を加え、120℃にて3時間撹拌した。反応後、室温まで放冷し、減圧濃縮した。得られた残渣をピリジン、2.5mlに溶解し、氷冷下無水酢酸、1.3mlを加え、室温にて13時間撹拌した。メタノール、1.3mlを加えて反応を停止させた後、減圧下で濃縮乾固した。得られた残渣に酢酸エチル、45mlを加えて溶解し、次いで、蒸留水、15mlで2回および飽和食塩水、15mlで順次洗浄した。この酢酸エチル溶液を芒硝で乾燥後、芒硝を濾別し、濾液を減圧下で濃縮乾固した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、７７３４、メルク社製、25g、ヘキサン：アセトン＝７：１）で分離精製し、(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，３，４，５，７−ペンタ−Ｏ−アセチル−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントールを無色針状結晶として235.3mg（収率：100％）単離した。
【００５３】
薄層クロマトグラフィー（シリカゲルＴＬＣ、６０F２５４、メルク社製）：クロロホルム−メタノール（４：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．７８、ｎ−ブタノール−酢酸−水（２：１：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．８６
［α］D：−２１．７゜（ｃ＝１．１０、ＭｅＯＨ）
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：１．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．７，１３．８，Ｈ−６ａｘ）、１．９５（３Ｈ，ｓ，Ａｃ）、１．９８（３Ｈ，ｓ，Ａｃ）、１．９９（３Ｈ，ｓ，Ａｃ）、２．０３（３Ｈ，ｓ，Ａｃ）、２．０４（３Ｈ，ｓ，Ａｃ）、２.１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５.１，１３．８，Ｈ−６ｅｑ）、３．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２，Ｈ−７）、４．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．２，Ｈ−７）、５.１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９.９，Ｈ−２）、５．１８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９.５，Ｈ−４）、５．２９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５.１，９.７，１１．６，Ｈ−５）、５．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９.７，Ｈ−３）
13Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：２０．４８（ｑ，Ａｃ）、２０．５３（ｑ，Ａｃ）、２０．５６（ｑ，Ａｃ）、２０．６４（ｑ，Ａｃ）、２０．７６（ｑ，Ａｃ）、３６．１２（ｔ，Ｃ−６）、６７．０９（ｔ，Ｃ−７）、７０．２０（ｄ，Ｃ−５）、７２．６１（ｄ，Ｃ−３）、７２．７５（ｓ，Ｃ−１）、７３．４６（ｄ，Ｃ−２）、７４．７５（ｄ，Ｃ−４）、１７１．４９（ｓ，Ａｃ）、１７１．５３（ｓ，Ａｃ）、１７１．５８（ｓ，Ａｃ）、１７１．６４（ｓ，Ａｃ）、１７２．１０（ｓ，Ａｃ）
分子式：Ｃ17Ｈ24Ｏ11      分子量（計算値）：４０４．３７
【００５４】
＜実施例３＞
工程２−２：(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール（β−バリオール、一般式〔IV〕でＲ1＝  Ｈの化合物）の合成
(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−１，７−アンヒドロ−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール、２０．５６ｇ（１１６mmol）を０．３Ｍ水酸化カリウム水溶液、２０ｍｌに溶解し、１００℃にて６時間撹拌した。加水分解反応後、室温まで放冷し、ＣＭ−セファデックスカラム（Ｈ+型、１００ｍｌ）を通過させ、蒸留水、３００ｍｌで洗うことにより、水酸化カリウムを除去した。次いで、通過液をＱＡＥ−セファデックス（ＯＨ−型、１００ｍｌ）カラムを通過させ、水洗を行った。通過液を５０ｍｌに減圧濃縮し、活性炭カラム（和光純薬製、クロマトグラフ
用、２００ｍｌ）にかけた。２０ｍｌずつ分取しながら蒸留水で溶出すると主成分は５本目から１３本目にかけて溶出された。この画分を減圧下シロップ状になるまで濃縮し、６０℃に加熱下メタノール、１０ｍｌを加えて溶解させた。この中にβ−バリオールの結晶を少量添加し、結晶化させた。４℃で一夜放置後、結晶をろ過し、少量のメタノールで洗浄した後、減圧下で乾燥することにより、(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントールを無色プリズム結晶として７．２１ｇ（収率：３２％）単離した。
【００５５】
薄層クロマトグラフィー（シリカゲルＴＬＣ、６０F２５４、メルク社製）：クロロホルム−メタノール−水（５：５：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．６５、ｎ−ブタノール−酢酸−水（２：１：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．３３
［α］D：−２１．４゜（ｃ＝３．２９、ＭｅＯＨ）
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，Ｄ2Ｏ）δ（ｐｐｍ）：１．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．９，１３．８，Ｈ−６ａｘ）、１．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，１３．８，Ｈ−６ｅｑ）、３．０７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．４，Ｈ−４）、３．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５，Ｈ−２）、３．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４，Ｈ−７）、３．３７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．４，Ｈ−３）、３．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４，Ｈ−７）、３．５６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．０，９．４，１１．９，Ｈ−５）
13Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：３７．２９（ｔ，Ｃ−６）、６６．４０（ｔ，Ｃ−７）、６９．２５（ｄ，Ｃ−５）、７３．７３（ｄ，Ｃ−２）、７４．３９（ｄ，Ｃ−３）、７４．５２（Ｓ，Ｃ−１）、７７．９０（ｄ，Ｃ−４）
分子式：Ｃ7Ｈ14Ｏ6      分子量（計算値）：１９４．１８
【００５６】
＜実施例４＞
工程３：(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，７−Ｏ−ベンジリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール（一般式〔VII〕でＲ2＝  Ｃ6Ｈ5ＣＨ＝の化合物）の合成
(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，３，４，５，７−ペンタ−Ｏ−アセチル−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール、５.７７g（14.27mmol）をメタノール、28.85mlに溶解し、氷冷下、１Ｍナトリウムメトキシド−メタノール溶液、５.７７mlを加え、室温にて1時間撹拌した。アセチル基の脱離反応後、反応液を強酸性イオン交換樹脂アンバーライトIR−120B（H+型）で中和し、樹脂を濾別した。濾液を濃縮乾固し、得られた残渣をジメチルホルムアミド、４１.５ｍｌに溶解し、α，α−ジメトキシトルエン、６.３４ｍｌ（42.82mmol）とｐ−トルエンスルホン酸、０.５４ｇ（2.85mmol）を加え、50℃にて減圧下3時間撹拌した。反応後、反応液をトリエチルアミンで中和し、減圧下で濃縮乾固した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、７７３４、メルク社製、400g、クロロホルム：メタノール＝５：１〜１２：１）にて分離精製し、(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，７−Ｏ−ベンジリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントールを無色透明シロップ状物質として２.３７ｇ（収率：59％）単離した。
【００５７】
薄層クロマトグラフィー（シリカゲルＴＬＣ、６０F２５４、メルク社製）：クロロホルム−メタノール（４：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．３２、ｎ−ブタノール−酢酸−水（２：１：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．６７
［α］D：−３２．２゜（ｃ＝１．１８、ＭｅＯＨ）
1Ｈ-ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：１.３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１.６，１３.２，Ｈ−６ａｘ）、１．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，１３．２，Ｈ−６ｅｑ）、３.３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９.０，Ｈ−４）、３.６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９.４，Ｈ−２）、３.８１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９.０，Ｈ−３）、３.８７（２Ｈ，ｓ，Ｈ−７）、３.９
４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５.１，９.２，１１.６，Ｈ−５）、５.６４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−７'）、７.３９（３Ｈ，ｍ，Ｈ−２'，４'，６'）、７.６４（２Ｈ，ｍ，Ｈ−３'，５'）
13Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：３７.１１（ｔ，Ｃ−６）、６７.６０（ｓ，Ｃ−１）、７０.０９（ｄ，Ｃ−５）、７２.８０（ｄ，Ｃ−３）、７６.８８（ｔ，Ｃ−７）、７９.８８（ｄ，Ｃ−４）、８４.３８（ｄ，Ｃ−２）、１０３.４７（ｄ，Ｃ−７'）、１２７.６７（ｄ，Ｃ−３'，５'）、１２９.００（ｄ，Ｃ−２'，６'）、１２９.８７（ｄ，Ｃ−４'）、１３９.４８（ｓ，Ｃ−１'）
分子式：Ｃ14Ｈ18Ｏ6      分子量（計算値）：２８２．２９
【００５８】
＜実施例５＞
工程４：(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール（一般式〔VIII〕でＲ2＝  Ｃ6Ｈ5ＣＨ＝、Ｒ3＝  （ＣＨ3）2Ｃ＝の化合物）の合成
(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，７−Ｏ−ベンジリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール、１.７６ｇ（6.23mmol）をジメチルホルムアミド、３５.２ｍｌに溶解し、氷冷下、２−メトキシプロペン、１.４９ｍｌ（15.6mmol）とｐ−トルエンスルホン酸、１１８.６ｇ（0.623mmol）を加え、室温にて4時間撹拌した。反応後、反応液をトリエチルアミンで中和し、減圧下で濃縮乾固した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、７７３４、メルク社製、200g、ヘキサン：酢酸エチル＝３：２〜２：３）で分離精製し、(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントールを無色針状結晶として０.８２ｇ（収率：41％）単離した。
【００５９】
薄層クロマトグラフィー（シリカゲルＴＬＣ、６０F２５４、メルク社製）：クロロホルム−メタノール（４：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．７１、ｎ−ブタノール−酢酸−水（２：１：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．８５
［α］D：−３６．７゜（ｃ＝０．９８、ＭｅＯＨ）
1Ｈ-ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：１.３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０.５，１３.４，Ｈ−６ａｘ）、１.４７（３Ｈ，ｓ，Ｈ−２''または３''）、１.４９（３Ｈ，ｓ，Ｈ−２''または３''）、１.９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５.０，１３.６，Ｈ−６ｅｑ）、３.４８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝０.７，８.１，９.９，Ｈ−４）、３.９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１.２，Ｈ−７）、３.９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１.２，Ｈ−７）、４.０１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２）、４.０３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３）、４.１９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５.０，１０.３，Ｈ−５）、５.７１（１Ｈ，ｓ，Ｈ−７'）、７.４０（３Ｈ，ｍ，Ｈ−２'，４'，６'）、７.６1（２Ｈ，ｍ，Ｈ−３'，５'）
13Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：２７.０６（ｑ，Ｃ−２''，３''）、３９.０７（ｔ，Ｃ−６）、６８.１４（ｄ，Ｃ−５）、６９.３４（ｓ，Ｃ−１）、７６.８５（ｔ，ｄ，Ｃ−７，２）、８２.４９（ｄ，Ｃ−３）、８４.２５（ｄ，Ｃ−４）、１０３.０１（ｄ，Ｃ−７'）、１１２.２５（ｓ，Ｃ−１''）、１２７.５２（ｄ，Ｃ−３'，５'）、１２９.０５（ｄ，Ｃ−２'，６'）、１２９.９４（ｄ，Ｃ−４'）、１３９.１５（ｓ，Ｃ−１'）
分子式：Ｃ17Ｈ22Ｏ6      分子量（計算値）：３２２．３６
【００６０】
＜実施例６＞
工程５：(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｏ−トシル−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール（一般式〔IX〕でＲ2＝  Ｃ6Ｈ5ＣＨ＝、Ｒ3＝  （Ｃ
Ｈ3）2Ｃ＝、Ｒ4＝  ｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ4ＳＯ2−の化合物）の合成
(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール、２０.３ｍｇ（0.0630mol）をピリジン、０.３ｍｌに溶解し、氷冷下、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド、８４ｍｇ（0.441mmol）と少量のジメチルアミノピリジンを加え、室温にて16時間撹拌した。反応後、反応液を３０ｍｌの酢酸エチルで希釈し、飽和重曹水（10ml）、蒸留水（10ml）および飽和食塩水（10ml）で順次洗浄した。酢酸エチル層を芒硝で乾燥後、芒硝を濾別し、濾液を減圧下で濃縮乾固した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコーゲル  C-３００、和光純薬製、２ｇ、ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で分離精製し、(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｏ−トシル−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントールを無色針状結晶として３０.８ｍｇ（収率：１００％）単離した。
【００６１】
薄層クロマトグラフィー（シリカゲルＴＬＣ、６０F２５４、メルク社製）：クロロホルム−メタノール（４：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．８３、ｎ−ブタノール−酢酸−水（２：１：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．９４
［α］D：−３９．９゜（ｃ＝０.８３、ＭｅＯＨ）
1Ｈ-ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：１.３０（３Ｈ，ｓ，Ｈ−２'''または３'''）、１.３３（３Ｈ，ｓ，Ｈ−２'''または３'''）、１.６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０.５，１３.２，Ｈ−６ａｘ）、２．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，１３．４，Ｈ−６ｅｑ）、２.５０（３Ｈ，ｓ，Ｈ−７''）、３.６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８.６，１０.１，Ｈ−４）、３.８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６.９，Ｈ−７）、３.９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７.６，Ｈ−７）、３.９３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２）、４.０２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−３）、４.９１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝５.１，１０.５，Ｈ−５）、５.６６（１Ｈ，ｓ，Ｈ−７'）、７.３８（３Ｈ，ｍ，Ｈ−２'，４'，６'）、７.４６（２Ｈ，ｍ，Ｈ−３''，５''）、７.５９（２Ｈ，ｍ，Ｈ−３'，５'）、７.８６（２Ｈ，ｍ，Ｈ−２''，６''）
13Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：２１.５７（ｑ，Ｃ−７''）、２６.６７（ｑ，Ｃ−２'''または３'''）、２６.８８（ｑ，Ｃ−２'''または３'''）、３７.０３（ｔ，Ｃ−６）、６９.２７（ｓ，Ｃ−１）、７６.３５（ｔ，Ｃ−７）、７６.８４（ｄ，Ｃ−３）、７８.６０（ｄ，Ｃ−５）、８０.６３（ｄ，Ｃ−４）、８１.５９（ｄ，Ｃ−２）、１０２.９６（ｄ，Ｃ−７'）、１１２.６９（ｓ，Ｃ−１'''）、１２７.５０（ｄ，Ｃ−３'，５'）、１２９.０５（ｄ，Ｃ−２'，６'）、１２９.２８（ｄ，Ｃ−２''，６''）、１２９.９７（ｄ，Ｃ−４'）、１３０.８１（ｄ，Ｃ−３''，５''）、１３５.２７（ｓ，Ｃ−４''）、１３８.９７（ｓ，Ｃ−１'）、１４６.４２（ｓ，Ｃ−１''）分子式：Ｃ24Ｈ28Ｏ8Ｓ      分子量（計算値）：４７６．５４
【００６２】
＜実施例７＞
工程６：(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４，５／１，３) −５−アジド−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロール（一般式〔X〕でＲ2＝  Ｃ6Ｈ5ＣＨ＝、Ｒ3＝  （ＣＨ3）2Ｃ＝の化合物）の合成
(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４／１，３，５)−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−５−Ｏ−トシル−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４，５−シクロヘキサンペントール、２５９.２ｍｇ（0.544ｍｇ）をジメチルホルムアミド、３.９ｍｌに溶解し、アジ化ナトリウム、３５３.６ｍｇ(5.44mmol）と15−クラウン−5−エーテル（１．０８ｍｌ）を加え、オイルバス中で120℃、14時間撹拌した。反応後、室温まで放冷し、減圧下で濃縮乾固した。得られた残渣を酢酸エチル、４５ｍｌに溶解し、蒸留水、１５ｍｌで２回および飽和食塩水、１５ｍｌで順次洗浄した。酢酸エチル層を芒硝で乾燥後、芒硝を濾別し、濾液を減圧下で濃縮乾固した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（１８ｇ、ヘキサン：酢酸エチル＝１２：７）で分離精製することにより、5位にアジドがアクシャル置換した化合物、(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４，５／１，３) −５−アジド−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロールを無色透明シロップ状物質として、１６６.9ｍｇ（収率：88％）得た。
【００６３】
薄層クロマトグラフィー（シリカゲルＴＬＣ、６０F２５４、メルク社製）：クロロホルム−メタノール（４：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．２０、ｎ−ブタノール−酢酸−水（２：１：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．６４
［α］D：−１４．４゜（ｃ＝１．８５、ＭｅＯＨ）
1Ｈ-ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：１.５０（６Ｈ，ｓ，Ｈ−２'''，３'''）、１.６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４.０，１５.２，Ｈ−６ａｘ）、１．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，１５．２，Ｈ−６ｅｑ）、３.７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３.５，９.２，Ｈ−４）、３.８９（２Ｈ，ｓ，Ｈ−７）、４.０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０.１，Ｈ−２）、４.３６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝２.４，６.４，Ｈ−５）、４.３８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９.６，Ｈ−３）、５.７１（１Ｈ，ｓ，Ｈ−７'）、７.４１（３Ｈ，ｍ，Ｈ−２'，４'，６'）、７.６１（２Ｈ，ｍ，Ｈ−３''，５''）
13Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：２６.６１（ｑ，Ｃ−２'''または３'''）、２７.２５（ｑ，Ｃ−２'''または３'''）、３３.４６（ｔ，Ｃ−６）、５７．３７（ｄ、Ｃ−５）、６９．４６（ｓ、Ｃ−１）、７３．７８（ｄ、Ｃ−３）、７６．７１（ｄ、Ｃ−７）、８１．０８（ｄ、Ｃ−４）、８３．２６（ｄ、Ｃ−２）、１０３．１１（ｄ、Ｃ−７'）、１１２．３７（ｓ、Ｃ−１''）、１２７．５１（ｄ、Ｃ−３'，５'）、１２９．０８（ｄ、Ｃ−２'，６'）、１２９．９８（ｄ、Ｃ−４'）、１３９．０６（ｓ、Ｃ−１'）
分子式：Ｃ17Ｈ21Ｎ3Ｏ5      分子量（計算値）：３４７．３７
【００６４】
＜実施例８＞
工程７：(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４，５／１，３) −５−（（アセチル）アミノ）−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロール（一般式〔XI〕でＲ2＝  Ｃ6Ｈ5ＣＨ＝、Ｒ3＝  （ＣＨ3）2Ｃ＝、Ｒ1＝  ＣＨ3ＣＯの化合物）の合成
(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４，５／１，３) −５−アジド−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロール、１６６.９ｍｇ（0.480mmol）をエタノール、２.Oｍｌに溶解し、少量のラネーニッケル（T−4、スパチュラー杯）と無水酢酸、０.９ｍｌ（9.6mmol）を加え、水素気流下室温にて5時間撹拝した。反応後、ラネーニッケルを濾別し、濾液を減圧下濃縮乾固した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０、７７３４、メルク社製、１７g，ヘキサン：アセトン＝３：２）で分離精製することにより、５位がＮ−アセチルアミノ化した化合物、(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４，５／１，３) −５−（（アセチル）アミノ）−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロールを無色針状結晶として、１３３.７ｍｇ（収率：76％）得た。
【００６５】
薄層クロマトグラフィー（シリカゲルＴＬＣ、６０F２５４、メルク社製）：クロロホルム−メタノール（４：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．７２、ｎ−ブタノール−酢酸−水（２：１：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．７７
［α］D：−２２．７゜（ｃ＝０.８８、ＭｅＯＨ）
1Ｈ-ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：１.４４（３Ｈ，ｓ，Ｈ−２'''または３'''）、１.４７（３Ｈ，ｓ，Ｈ−２'''または３'''）、１.７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４.２，１４.９，Ｈ−６ａｘ）、１．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６，１４．９，Ｈ−６ｅｑ）、２.０４（３Ｈ，ｓ，Ａｃ）、３.６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３.９，９.４，Ｈ−４）、３.９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１.２，Ｈ−７）、３.９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１.２，Ｈ−７）、４.０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９.９，Ｈ−２）、４.２０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９.７，Ｈ−３）、４.７２（１Ｈ，ｂｄｔ，Ｊ＝２.６，６.４，Ｈ−５）、５.７３（１Ｈ，ｓ，Ｈ−７'）、７.４２（３Ｈ，ｍ，Ｈ−２'，４'，６'）、７.６１（２Ｈ，ｍ，Ｈ−３'，５'）
13Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤ3ＯＤ）δ（ｐｐｍ）：２２.９４（ｑ，Ａｃ）、２６.７４（ｑ，Ｃ−２''または３''）、２７.１８（ｑ，Ｃ−２''または３''）、３３.７７（ｔ，Ｃ−６）、４６.５３（ｄ，Ｃ−５）、７０.６４（ｓ，Ｃ−１）、７４.２１（ｄ，Ｃ−３）、７６.４６（ｔ，Ｃ−７）、８０.１６（ｄ，Ｃ−４）、８３.０５（ｄ，Ｃ−２）、１０２.９５（ｄ，Ｃ−７'）、１１１.８５（ｓ，Ｃ−１''）、１２７.４６（ｄ，Ｃ−３'，５'）、１２９.０８（ｄ，Ｃ−２'，６'）、１２９.９８（ｄ，Ｃ−４'）、１３９.０８（ｓ，Ｃ−１'）、１７２.８８（ｓ，Ａｃ）
分子式：Ｃ19Ｈ25ＮＯ6      分子量（計算値）：３６３．４１
【００６６】
＜実施例９＞
工程８：(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４，５／１，３)−５−アミノ−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロール（バリオールアミン）（一般式〔V〕でＲ1＝  Ｈの化合物）の合成
(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４，５／１，３) −５−（（アセチル）アミノ）−２，７−Ｏ−ベンジリデン−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロール、１１３.５ｍｇ（０.３１２ｍｍｏｌ）を2Nの塩酸、３.４ｍｌに溶解しオイルバス中80℃にて3時間撹拌した。加水分解後、室温まで放冷し、減圧下濃縮乾固した。得られた残渣をダウエックス５０W−Ｘ２（アンモニア型）イオン交換樹脂カラム（６ｇ）にかけ、1％アンモニア−水で溶出分離精製することにより(１Ｓ)−(１(ＯＨ)，２，４，５／１，３)−５−アミノ−１−Ｃ−(ヒドロキシメチル)−１，２，３，４−シクロヘキサンテトロール（バリオールアミン）を淡黄色透明シロップ状物質として、５４.３ｍｇ（収率：90％）得た。
【００６７】
薄層クロマトグラフィー（シリカゲルＴＬＣ、６０F２５４、メルク社製）：クロロホルム−メタノール（４：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．００、ｎ−ブタノール−酢酸−水（２：１：１  ｖ／ｖ）、Ｒｆ＝０．２６
［α］D：＋１８．５゜（ｃ＝１．０３、Ｈ2Ｏ）
1Ｈ-ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，Ｄ2Ｏ）δ（ｐｐｍ）：１.５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３.８５，１５.４１，Ｈ−６ｅｑ）、１．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９３，１５．４１，Ｈ−６ａｘ）、３.１９（１Ｈ，ｂｑ，Ｈ−５）、３.２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９.５４，Ｈ−２）、３.２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１.００，Ｈ−７）、３.３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１.３７，Ｈ−７）、３.４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４.２２，９.９０，Ｈ−４）、３.６３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９.５４，Ｈ−３）
13Ｃ-ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，Ｄ2Ｏ）δ（ｐｐｍ）：３２.９４（ｔ，Ｃ−６）、５１.１０（ｄ，Ｃ−５）、６６.２１（ｔ，Ｃ−７）、７１.８７（ｄ，Ｃ−３）、７４.０４（ｄ，Ｃ−４）、７４.４２（ｄ，Ｃ−２）、７６.７２（ｓ，Ｃ−１）
分子式：Ｃ7Ｈ15ＮＯ5      分子量（計算値）：１９３．２０