(57)【要約】【課題】  加熱処理無しで結晶性薄膜からなる機能層を形成して長寿命化等を可能にし、さらには、ドット表示を可能にすることで表示の自由度を高めることのできる有機ＥＬ素子の製造方法、およびこれによって得られる有機ＥＬ素子、電子機器を提供する。 【解決手段】  機能層１１０の形成材料として、再結晶性を有した低分子系材料からなる形成材料を溶媒に溶解して液状体にし、この液状体を第１の電極１１１上に配置する工程と、この液状体の近傍での、溶媒からなる気体の分圧を、液状体をなす溶液が過飽和状態になる第１の分圧に制御することにより、液状体に結晶核を生成させる工程と、結晶核の生成後に、この液状体近傍での気体の分圧を、結晶核が結晶成長可能となる第２の分圧に低下させることにより、形成材料からなる結晶性薄膜を形成し、この結晶性薄膜から機能層１１０を構成する層を形成する工程と、を備えた有機ＥＬ素子１０の製造方法である。【選択図】        図１
2005100897.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と第２の電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に設けられた少なくとも発光層を有してなる機能層とを具備した有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記機能層を構成する層を形成する工程は、
前記機能層を構成する少なくとも一つの層の形成材料として、再結晶性を有した低分子系材料からなる形成材料を用意し、この形成材料を溶媒に溶解して液状体に調整し、得られた液状体を前記第１の電極上の所定位置に配置する工程と、
前記液状体から、前記形成材料からなる結晶性薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
前記結晶性薄膜を形成する工程は、
前記配置後の液状体の近傍での前記溶媒と同じ成分からなる気体の分圧を、該液状体をなす溶液が過飽和状態になる第１の分圧に制御することにより、前記液状体に結晶核を生成させる工程と、
前記結晶核の生成後に、この液状体近傍での前記気体の分圧を、前記結晶核が結晶成長可能となる第２の分圧に低下させることにより、前記形成材料からなる結晶性薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記液状体の、前記第１の電極上の所定位置への配置を、液滴吐出法で行うことを特徴とする請求項１または２記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
前記液状体の、前記第１の電極上の所定位置への配置を、予め前記所定位置を囲む隔壁を形成しておき、この隔壁内に液状体を配することで行うことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項５】
前記隔壁で囲まれてなる開口部の形状が略矩形であり、その各辺の長さが５μｍ以上３０μｍ以下であることを特徴とする請求項４記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項６】
前記液状体に結晶核を生成させる工程において、前記気体の分圧を第１の分圧にするための制御を、前記溶媒を請求項４に記載した隔壁上に吐出することで行うことを特徴とする請求項２記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
前記形成材料が、機能層のうちの発光層の形成材料であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
前記形成材料が、機能層のうちの正孔注入／輸送層の形成材料であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
前記形成材料が、機能層のうちの電子注入／輸送層の形成材料であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の製造方法によって得られたことを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項１１】
第１の電極と第２の電極と、これら電極間に設けられた少なくとも発光層と正孔注入／輸送層とを有してなる機能層とを具備した有機ＥＬ素子において、
前記正孔注入／輸送層が、再結晶性を有した低分子系材料からなる結晶性薄膜によって形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項１２】
第１の電極と第２の電極と、これら電極間に設けられた少なくとも発光層と電子注入／輸送層とを有してなる機能層とを具備した有機ＥＬ素子において、
前記電子注入／輸送層が、再結晶性を有した低分子系材料からなる結晶性薄膜によって形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項１３】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の製造方法によって得られた有機ＥＬ素子、あるいは請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光層等の機能層の厚膜化を可能にし、これによって長寿命化等の特性向上を図った有機ＥＬ素子の製造方法および有機ＥＬ素子と、電子機器に関する。 
【背景技術】
【０００２】
近年、自発発光型ディスプレイとして、発光層に有機物を用いた有機エレクトロルミネセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と称する）の開発が進められている。このような有機ＥＬ素子では、発光層やキャリア注入／輸送層、すなわち正孔注入／輸送層や電子注入／輸送層などの機能層を形成するための機能性材料が、得られる有機ＥＬ装置の特性等を決定するうえで重要な要素の一つとなっている。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子としては、特に発光層を高分子系材料で形成する場合、発光層を含む機能層を発光層と正孔注入／輸送層とで構成するのが一般的である。そして、その場合に、特にこの機能層の形成にあたっては、液滴吐出法の一種であるインクジェット法を用いた方法が知られている（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４参照）。
また、低分子系材料においては、正孔注入／輸送層として、フェニルアミン誘導体を蒸着で形成することが報告されている。
【０００４】
ところで、従来の有機ＥＬ素子においては、機能層の形成材料として高分子系材料を用いている場合はもちろん、低分子系材料を用いている場合にも、通常、形成する機能層はアモルファス構造を有している。これは、不完全な結晶はその不完全な部位に発生するリーク電流等によって素子が劣化してしまうからである。
しかし、例えば粒界が無いなど、不完全性が低く完全性が高い有機結晶薄膜を形成することができれば、電子や正孔などの移動度が上がることや、異方性を有することなどの有用な物性を利用することができ、したがって長寿命化や高輝度化などを達成することが可能になる。
このような背景のもとで、従来、結晶性薄膜を機能層として用いる有機ＥＬ素子の例としては、発光層の形成材料を一旦溶融した後固化することによって結晶化し、有機結晶からなる発光層を形成する方法が知られている（例えば、特許文献５参照）。
【特許文献１】特開平１０−１２３７７号公報
【特許文献２】特開平１０−１５３９６７号公報
【特許文献３】特開平１１−４０３５８号公報
【特許文献４】特開平１１−５４２７０号公報
【特許文献５】特開平５−１８２７６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前記の発光層を有機結晶によって形成する方法では、毛細管現象を利用して発光層形成材料の融液を電極間の間隙に充填し、その後、これを結晶化するといった手法が採られているが、このような手法は基本的には加熱によって結晶化を行うことから、他の構成要素への熱的影響が避けられない。また、得られる発光層を所定領域毎に分割してドット表示を可能にすることが困難であり、したがってこの有機ＥＬ素子ではその表示の自由度が著しく制限されてしまうといった課題もある。
【０００６】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、加熱処理無しで結晶性薄膜からなる機能層を形成して長寿命化等を可能にし、さらには、ドット表示を可能にすることで表示の自由度を高めることのできる有機ＥＬ素子の製造方法、およびこれによって得られる有機ＥＬ素子、電子機器を提供することにある。 
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するため本発明は、第１の電極と第２の電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に設けられた少なくとも発光層を有してなる機能層とを具備した有機ＥＬ素子の製造方法において、前記機能層を構成する層を形成する工程は、前記機能層を構成する少なくとも一つの層の形成材料として、再結晶性を有した低分子系材料からなる形成材料を用意し、この形成材料を溶媒に溶解して液状体に調整し、得られた液状体を前記第１の電極上の所定位置に配置する工程と、前記液状体から、前記形成材料からなる結晶性薄膜を形成する工程と、を備えたことを特徴としている。
また、この有機ＥＬ素子の製造方法において、前記結晶性薄膜を形成する工程は、前記配置後の液状体の近傍での前記溶媒と同じ成分からなる気体の分圧を、該液状体をなす溶液が過飽和状態になる第１の分圧に制御することにより、前記液状体に結晶核を生成させる工程と、前記結晶核の生成後に、この液状体近傍での前記気体の分圧を、前記結晶核が結晶成長可能となる第２の分圧に低下させることにより、前記形成材料からなる結晶性薄膜を形成する工程と、を備えているのが好ましい。
【０００８】
この有機ＥＬ素子の製造方法によれば、まず、第１の分圧（例えば、飽和蒸気圧と同じかこれとほぼ同じ分圧）に制御することにより、第１の電極上に配置された直後の液状体をなす溶液が過飽和状態となることにより、結晶化に必要な結晶核が前記溶液（液状体）内に生成される。
次に、前記液状体近傍での前記気体（溶媒と同じ成分からなる気体）の分圧を、前記第１の分圧（液状体をなす溶液から溶媒が蒸発し難い高い分圧）から前記第２の分圧（既に生じた結晶核の結晶成長が、更なる結晶核の生成よりも優先的に生じる低い分圧であり、例えば、飽和蒸気圧の１／１０〜１／１００）となるまで低下させることにより、結晶成長が始まる。そして、これにより前記形成材料からなる結晶性薄膜が形成され、この結晶性薄膜から前記機能層を構成する層が形成される。
したがって、特に加熱処理を必要とすることなく、比較的な簡単な操作（手法）で結晶性薄膜からなる機能層を形成することが可能となり、これによって素子の長寿命化等を図ることができる。
【０００９】
また、前記有機ＥＬ素子の製造方法においては、前記液状体の、前記第１の電極上の所定位置への配置を、液滴吐出法で行うのが好ましい。
このようにすれば、例えばドットパターンの結晶性薄膜を容易に形成することができ、したがってドット表示を可能にすることで、このような有機ＥＬ素子を多数備えた有機ＥＬ装置の表示の自由度を高めることが可能になる。
【００１０】
また、前記有機ＥＬ素子の製造方法においては、前記液状体の、前記第１の電極上の所定位置への配置を、予め前記所定位置を囲む隔壁を形成しておき、この隔壁内に液状体を配することで行うのが好ましい。その場合に、前記隔壁で囲まれてなる開口部の形状が略矩形であり、その各辺の長さが５μｍ以上３０μｍ以下であるのが好ましい。
このようにすれば、液状体から形成される結晶性薄膜の大きさ・形状を隔壁で規定することが可能になり、したがって所望の大きさ・形状からなる結晶性薄膜を形成することが可能になる。
また、隔壁で囲まれてなる開口部の形状を略矩形とし、その各辺の長さを５μｍ以上３０μｍ以下とすれば、この開口部内に配置した液状体の結晶化がより良好に起こり易くなり、したがって良好な結晶性の結晶性薄膜を形成することが可能になる。
【００１１】
また、前記有機ＥＬ素子の製造方法においては、前記液状体に結晶核を生成させる工程において、前記気体の分圧を第１の分圧にするための制御を、前記溶媒を前記隔壁上に吐出することで行うのが好ましい。
このようにすれば、液状体が直接配置されない箇所であり、かつ液状体の配置箇所の近傍となる隔壁上に溶媒を吐出することで、配置後の液状体の近傍での気体の分圧が第１の分圧となるように、より容易に制御できるようになる。
【００１２】
また、前記有機ＥＬ素子の製造方法においては、前記形成材料が、機能層のうちの発光層の形成材料であってもよく、また、正孔注入／輸送層の形成材料であってもよく、さらに、電子注入／輸送層の形成材料であってもよい。
このようにすれば、機能層のうちの発光層、または正孔注入／輸送層、または電子注入／輸送層を結晶性薄膜とすることができ、したがってこの結晶性薄膜からなる機能層のキャリア（電子、正孔、または電子と正孔とが結合したエキシトン）の移動度が高くなることなどにより、長寿命化などの特性向上が図られる。
【００１３】
本発明の有機ＥＬ素子は、前記の製造方法によって得られたことを特徴としている。
この有機ＥＬ素子によれば、特に加熱処理を必要とすることなく、比較的な簡単な操作（手法）で結晶性薄膜からなる機能層が形成されたものとなり、さらに機能層が結晶性薄膜からなることによって素子の長寿命化等が図られたものとなる。
【００１４】
また、本発明の別の有機ＥＬ素子は、第１の電極と第２の電極と、これら電極間に設けられた少なくとも発光層と正孔注入／輸送層とを有してなる機能層とを具備した有機ＥＬ素子において、前記正孔注入／輸送層が、再結晶性を有した低分子系材料からなる結晶性薄膜によって形成されていることを特徴としている。
この有機ＥＬ素子によれば、結晶性薄膜からなる正孔注入／輸送層の正孔の移動度が高くなることなどにより、特性向上が図られたものとなる。
【００１５】
また、本発明の別の有機ＥＬ素子は、第１の電極と第２の電極と、これら電極間に設けられた少なくとも発光層と電子注入／輸送層とを有してなる機能層とを具備した有機ＥＬ素子において、前記電子注入／輸送層が、再結晶性を有した低分子系材料からなる結晶性薄膜によって形成されていることを特徴としている。
この有機ＥＬ素子によれば、結晶性薄膜からなる電子注入／輸送層の電子の移動度が高くなることなどにより、特性向上が図られたものとなる。
【００１６】
本発明の電子機器は、前記の製造方法によって得られた有機ＥＬ素子、あるいは前記の有機ＥＬ素子を備えたことを特徴としている。
この電子機器によれば、長寿命化等が図られた有機ＥＬ素子を備えていることにより、電子機器自体も例えば有機ＥＬ素子からなる表示部の特性向上が図られたものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を詳しく説明する。 
まず、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法を説明するに先立ち、この製造方法が適用される有機ＥＬ素子を多数備えた有機ＥＬ装置の一例を、図１を参照して説明する。図１は、有機ＥＬ装置における表示領域の断面構造を拡大した図であり、図１中符号１は有機ＥＬ装置、１０は有機ＥＬ素子である。なお、図１では３つの有機ＥＬ素子１０を示しており、これら各有機ＥＬ素子１０はそれぞれが単一のドットを形成するものとなっている。
【００１８】
有機ＥＬ装置１は、基板２上に、ＴＦＴなどの回路等が形成された回路素子部１４と、機能層１１０が形成されたＥＬ素子部１１とが順次積層されて構成されたものである。
この有機ＥＬ装置１においては、機能層１１０から基板２側に発した光が、回路素子部１４及び基板２を透過して基板２の下側（観測者側）に出射されるとともに、機能層１１０から基板２の反対側に発した光が対向電極（陰極）１２により反射されて、回路素子部１４及び基板２を透過して基板２の下側（観測者側）に出射されるようになっている。
なお、対向電極（陰極）１２として透明な材料を用いることにより、この対向電極（陰極）１２側から光を出射させることも可能である。
【００１９】
回路素子部１４には、基板２上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜２ｃが形成され、この下地保護膜２ｃ上には多結晶シリコンからなる島状の半導体膜１４１が形成されている。なお、半導体膜１４１には、ソース領域１４１ａ及びドレイン領域１４１ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みによって形成されており、また、Ｐが導入されなかった部分はチャネル領域１４１ｃとなっている。
さらに、回路素子部１４には、下地保護膜２ｃ及び半導体膜１４１を覆う透明なゲート絶縁膜１４２が形成され、ゲート絶縁膜１４２上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極１４３（走査線１０１）が形成され、ゲート電極１４３及びゲート絶縁膜１４２上には透明な第１層間絶縁膜１４４ａと第２層間絶縁膜１４４ｂとが形成されている。ゲート電極１４３は、半導体膜１４１のチャネル領域１４１ｃに対応する位置に設けられている。
【００２０】
また、第１、第２層間絶縁膜１４４ａ、１４４ｂには、半導体膜１４１のソース・ドレイン領域１４１ａ、１４１ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール１４５、１４６が形成されており、これらコンタクトホール１４５、１４６内にはそれぞれ導電材料が埋め込まれている。
そして、第２層間絶縁膜１４４ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極（第１の電極、陽極）１１１が所定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール１４５がこの画素電極１１１に接続されている。
また、もう一方のコンタクトホール１４６が電源線１０３に接続されている。
このようにして、回路素子部１４には、各画素電極１１１に接続された薄膜トランジスタ１２３が形成されている。
なお、回路素子部１４には、保持容量（図示せず）や他の薄膜トランジスタ（図示せず）も形成されている。
【００２１】
ＥＬ素子部１１は、複数の画素電極１１１…上の各々に積層された機能層１１０と、各画素電極１１１及び機能層１１０の間に備えられて各機能層１１０を区画する隔壁１１２と、機能層１１０上に形成された対向電極（第２の電極、陰極）１２とを主体として構成されている。
ここで、画素電極１１１は、透明導電性材料、例えばＩＴＯによって形成されたもので、平面視略矩形にパターニングされたものである。この各画素電極１１１…の間には隔壁１１２が設けられている。
【００２２】
隔壁１１２は、基板２側にＳｉＯ２等からなる無機バンク１１２ａと、この無機バンク１１２ａ上に形成された有機バンク１１２ｂとから構成されたものである。
無機バンク１１２ａは、画素電極１１１の周縁部上に乗上げるように形成されたもので、平面視した状態で画素電極１１１の周囲と無機バンク１１２ａとが平面的に重なるように配置された構造となっている。また、有機バンク１１２ｂも、平面視した状態で画素電極１１１の一部と重なるように配置されている。なお、有機バンク１１２ｂは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のある材料によっって形成されている。
【００２３】
また、有機バンク１１２ｂには、この有機バンク１１２ｂで囲まれてなる開口部１１２ｃが形成されており、後述するようにこの開口部１１２ｃ内に機能層の形成材料が配置され成膜されることにより、機能層１１０が形成されるようになっている。ここで、この開口部１１２ｃは、本発明において隔壁で囲まれてなる開口部となっており、その形状、すなわち平面視した状態での形状は、略矩形であり、その各辺の長さが５μｍ以上３０μｍ以下となっているのが好ましい。なお、ここで言う略矩形とは、例えばその角部（隅部）が丸められて長円や楕円に近い形状となったものをも含んでいる。また、各辺の長さとは、その長辺および短辺をいい、これらの辺は、前述したようにいずれも５μｍ以上３０μｍ以下の範囲内となっているのが好ましい。開口部１１２ｃをこのような形状および大きさにすれば、後述するようにこの開口部１１２ｃ内に配置した液状体の結晶化をより良好に起こり易くすることができ、したがって良好な結晶性の結晶性薄膜をより容易に形成することができるようになる。
【００２４】
機能層１１０は、前述したように本発明における機能層によって構成されたもので、画素電極（陽極、第１の電極）１１１と対向電極（陰極、第２の電極）１２との間に配設されたことにより、これら画素電極１１１と対向電極１２と共に有機ＥＬ素子を構成するものとなっている。ここで、本例においては、フルカラー表示をなすべく、有機ＥＬ素子１０は、赤色の発光をなすドットとなるものと、緑色の発光をなすドットとなるものと、青色の発光をなすドットとなるものとをそれぞれ構成するようになっている。
【００２５】
これら有機ＥＬ素子１０は、その機能層１１０を構成するいずれかの層、すなわち発光層１５０、正孔注入／輸送層１５１、さらには３つの有機ＥＬ素子１０のうち１つのみに示した電子注入／輸送層１５２のうちの少なくとも一層が、結晶性薄膜によって形成されている。この結晶性薄膜は、再結晶性を有した低分子系材料からなっている。なお、再結晶性とは、結晶性物質が溶媒に溶解された後、適当な方法で再び結晶として析出し、結晶化する性質をいう。
【００２６】
ここで、正孔注入／輸送層１５１は、画素電極（陽極）１１１の正孔を発光層１５０に注入する機能を有し、または正孔をその内部において輸送する機能を有したものであり、一方、電子注入／輸送層１５２は、対向電極（陰極）１２の電子を発光層１５０に注入する機能を有し、または電子をその内部において輸送する機能を有したものである。このような正孔注入／輸送層を画素電極１１１と発光層１５０との間に設け、さらには電子注入／輸送層を対向電極１２と発光層１５０との間に設けることにより、発光層１５０の発光効率、寿命等の特性を向上させることができる。また、発光層１５０では、画素電極１１１側から注入された正孔と、対向電極（陰極）１２側から注入された電子とが再結合してエキシトンが生成され、これにより発光がなされるようになっている。
【００２７】
このような有機ＥＬ素子１０における各機能層１１０上には、対向電極（陰極）１２がＥＬ素子部１１の全面に形成されている。この対向電極（陰極）１２は、画素電極１１１と対になって機能層１１０に電流を流すよう機能するもので、ＣａとＡｌとの積層膜（Ｃａ／Ａｌ）によって形成されている。ここで、Ｃａは例えば２０ｎｍ程度の厚さに形成され、Ａｌは２００ｎｍ程度の厚さに形成されている。
また、このような対向電極（陰極）１２上にＳｉＯ、ＳｉＯ２ 、ＳｉＮ等からなる酸化防止用の保護層（図示せず）を設けても良い。
そして、このように形成した有機ＥＬ素子１０上に封止基板（図示せず）が配置され、さらに封止基板が封止樹脂（図示せず）によって接着されたことにより、有機ＥＬ装置１が構成されている。
【００２８】
次に、このような構成の有機ＥＬ装置１の製造方法に基づき、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法を説明する。
（第１の実施形態）
まず、本発明の製造方法の第１の実施形態として、正孔注入／輸送層１５１を結晶性薄膜によって形成する場合について説明する。
前記構成の有機ＥＬ装置１を製造するには、まず、従来と同様にして図２に示すように基板２上に薄膜トランジスタ１２３や各種配線等を形成し、さらに層間絶縁膜や平坦化膜を形成する。
次に、この基板２上に蒸着法等によってＩＴＯを成膜し、さらにパターニングすることによって画素電極１１１を形成する。
【００２９】
続いて、前記画素電極１１１の周囲を囲むようにして基板２上にＳｉＯ２からなる無機バンク１１２ａを形成する。さらに、図３に示すようにこの無機バンク１１２ａ上に樹脂からなる有機バンク１１２ｂを形成し、これにより画素電極１１１上に開口部１１２ｃを形成する。ここで、この開口部１１２ｃについては、前述したように平面視した状態で略矩形であり、その各辺の長さが５μｍ以上３０μｍ以下となるようにして形成する。なお、前記有機バンク１１２ｂに用いられる材料としては、ポリイミド、アクリル樹脂などが挙げられる。これらの材料としては、予めフッ素元素を含有したものを用いてもよい。
次いで、無機バンク１１２ａ、有機バンク１１２ｂで囲まれた開口部１１２ｃに対して酸素プラズマ-ＣＦ４プラズマの連続処理を行うことにより、基板２上の濡れ性を制御する。なお、このような基板２上の濡れ性の制御するための方法としては、例えば自己組織化膜を形成する方法を採用することもできる。
【００３０】
次いで、正孔注入／輸送層の形成材料、本実施形態では再結晶性を有した低分子系材料としてトリフェニルアミン（例えば、aldrich社製のT8160-4が使用可能）を用い、その濃度が例えば０．１重量％となるようにして溶媒（例えばドデシルベンゼン）に溶解し、液状体とする。なお、この液状体については、特に限定されることはないものの、前記形成材料（低分子系材料）の濃度として、該形成材料がその飽和濃度の１／１０以上となる量を含有する濃度であるのが好ましい。
【００３１】
そして、この液状体をインクジェット法等の液滴吐出法により、前記開口部１１２ｃ内に選択的に配置する。なお、この液状体を開口部１１２ｃ内に配置する操作とは別に、これの直前または直後、あるいはこの操作と並行して、開口部１１２ｃ内の近傍での雰囲気における、前記液状体中の前記溶媒と同じ成分からなる気体の分圧を、該液状体をなす溶液が過飽和状態になる第１の分圧に制御しておく。ここで、この第１の分圧は、具体的には飽和蒸気圧と同じかこれとほぼ同じ分圧であり、このような分圧にすることにより、前記の液状体をなす溶液から溶媒が蒸発し難くなる。
なお、前記開口部１１２ｃ内の近傍での雰囲気の、前記気体の分圧を第１の分圧にするための制御としては、特に限定されることはないものの、例えば前記溶媒を前記隔壁１１２（有機バンク１１２ｂ）上に吐出することにより、行うのが好ましい。また、これに代えて、予め基板２上に前記溶媒をスピンコート法で塗布しておいてもよく、さらには、密閉容器内に予め前記溶媒を配置しておいてもよい。ただし、これらの溶媒は、開口部１１２ｃ近傍での雰囲気の調整のために配置するもので、特にスピンコート法で塗布した場合においても、基本的には液状のままで基板２上に残すことなく、蒸発させて前記雰囲気中の溶剤蒸気濃度を高めるために用いられるものである。
【００３２】
ここで、液滴吐出法による液滴吐出を行う液滴吐出装置としては、図４（ａ）に示すような液滴吐出ヘッド３１０を備えて構成されたものが好適に用いられる。液滴吐出ヘッド３１０は、例えばステンレス製のノズルプレート３１２と振動板３１３とを備え、両者を仕切部材（リザーバプレート）３１４を介して接合したものである。ノズルプレート３１２と振動板３１３との間には、仕切部材３１４によって複数の空間３１５と液溜まり３１６とが形成されている。各空間３１５と液溜まり３１６の内部は液状体で満たされており、各空間３１５と液溜まり３１６とは供給口３１７を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート３１２には、空間３１５から液状体を噴射するためのノズル孔３１８が一列に配列された状態で複数形成されている。一方、振動板３１３には、液溜まり３１６に液状体を供給するための孔３１９が形成されている。
【００３３】
また、振動板３１３の空間３１５に対向する面と反対側の面上には、図４（ｂ）に示すように圧電素子（ピエゾ素子）３２０が接合されている。この圧電素子３２０は、一対の電極３２１の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子３２０が接合されている振動板３１３は、圧電素子３２０と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間３１５の容積が増大するようになっている。したがって、空間３１５内に増大した容積分に相当する液状体が、液溜まり３１６から供給口３１７を介して流入する。また、このような状態から圧電素子３２０への通電を解除すると、圧電素子３２０と振動板３１３はともに元の形状に戻る。したがって、空間３１５も元の容積に戻ることから、空間３１５内部の液状体の圧力が上昇し、ノズル孔３１８から基板に向けて液状体の液滴３２２が吐出される。
なお、液滴吐出ヘッド３１０の構造としては、前記の圧電素子３２０を用いたピエゾジェットタイプ以外の、公知の方式のものを採用してもよい。
【００３４】
また、このような液滴吐出ヘッド３１０については、例えば減圧ポンプ付きの密閉空間内に配置しておき、この密閉空間内に前記基板２を入れて液状体の配置（吐出）を行う。
すなわち、このような液滴吐出ヘッド３１０により、正孔注入／輸送層用の前記液状体を、１滴あたり例えば２０ピコリットルで吐出し、開口部１１２ｃ内に所定の量の液状体を配置する。また、前述したように、液状体の吐出とは別に、開口部１１２ｃ内の近傍での雰囲気における、前記液状体中の前記溶媒と同じ成分からなる気体の分圧を、該液状体をなす溶液が過飽和状態になる第１の分圧に制御しておく。すると、前記開口部１１２ｃ内に配置された液状体に結晶核が生成する。
【００３５】
ここで、液状体近傍での前記気体（液状体をなす溶液の溶媒と同じ成分からなる気体）の分圧が低いと、溶媒が液状体から蒸発し易いため、液状体をなす溶液の濃度が急上昇して溶液の過飽和度も急激に高くなり、多数の結晶核が形成されて溶質が粉末化し易くなる。これに対して、前記のように吐出とその雰囲気の調整を行えば、液状体をなす溶液が比較的低い過飽和度の過飽和状態で安定する（すなわち、液状体をなす溶液の過飽和度の上昇度合いが穏やかになる）ため、少数（理想的には１個）の核だけが生成する。なお、単結晶の薄膜を形成するためには、１個の核が生成された後にこの核のみを結晶成長させ、他の核形成を生じさせないようにする必要がある。しかし、液状体配置直後の液状体近傍での前記気体の分圧が高いままであると、更なる核が生成されることになる。
【００３６】
そこで、本発明では、前記結晶核の生成後に、この液状体近傍での前記気体の分圧を、前記の既に生成した結晶核が結晶成長可能となり、したがって更なる結晶核の生成よりも結晶成長が優先的に起こる第２の分圧、例えば前記溶媒の飽和蒸気圧の１／１０〜１／１００に低下させる。このような前記第１の分圧から第２の分圧への分圧低下処理については、前記液状体に少数（理想的には１個）の結晶核が生成した後、直ちに行う。例えば、液状体の配置を終了させる同時に前記減圧ポンプを稼働させ、密閉空間内を、前記第１の分圧（飽和蒸気圧と同じかこれとほぼ同じ分圧）から第２の分圧、例えば１．３Ｐａ（１０−２torr）にまで１〜１０秒間で低下させ、この状態を例えば６時間保持する。すると、結晶成長が始まり、これによって前記形成材料からなる結晶性薄膜が形成され、この結晶性薄膜から図５に示すように正孔注入／輸送層１５１が形成される。
なお、正孔注入／輸送層の形成材料となる再結晶性を有した低分子系材料としては、前記のトリフェニルアミン以外にも、例えばＣｕＰｃ（銅フタロシアニン）や、さらに以下の化合物１〜１４等が使用可能である。
【００３７】
【化１】
2005100897.tif 000003
【００３８】
【化２】
2005100897.tif 000004
【００３９】
【化３】
2005100897.tif 000005
【００４０】
【化４】
2005100897.tif 000006
【００４１】
【化５】
2005100897.tif 000007
【００４２】
【化６】
2005100897.tif 000008
【００４３】
【化７】
2005100897.tif 000009
【００４４】
【化８】
2005100897.tif 000010
【００４５】
【化９】
2005100897.tif 000011
【００４６】
【化１０】
2005100897.tif 000012
【００４７】
【化１１】
2005100897.tif 000013
【００４８】
【化１２】
2005100897.tif 000014
【００４９】
【化１３】
2005100897.tif 000015
【００５０】
【化１４】
2005100897.tif 000016
【００５１】
次いで、図６に示すように前記開口部１１２ｃ内の結晶性薄膜からなる正孔注入／輸送層１５１上に発光層１５０を形成する。この発光層１５０の形成については、その形成材料として、例えばＰＰＶ（ポリ（パラフェニレンビニレン））またはその誘導体の前駆体が好適に用いられる。なお、このＰＰＶまたはその誘導体の前駆体を溶解する溶媒としては、前記の正孔注入／輸送層１５１を再溶解させない溶媒あるいは分散媒として、特に水やメタノール、エタノール等の極性溶媒が好適に用いられる。
【００５２】
また、この発光層１５０の形成にあたっても、前記の液滴吐出法が好適に用いられる。すなわち、前記の発光層形成材料を、前記液滴吐出ヘッド３１０を用いて開口部１１２ｃ内の正孔注入／輸送層１５１上に吐出配置し、その後、これを乾燥処理し、さらに焼成処理することにより、発光層１５０を形成する。なお、有機ＥＬ装置１がフルカラー表示をなすものである場合、各有機ＥＬ素子１０はそれぞれ赤、緑、青のうちのいずれかの色の発光をなすドットとなり、これらが規則的に配置される必要がある。そこで、その場合には、予め発光層形成材料として各色用のものを３種類用意し、これらを予め設定した位置にそれぞれ選択的に吐出配置することにより、各発光層を形成する。
【００５３】
このようにして機能層１１０を形成したら、従来と同様にして蒸着法等により機能層１１０および有機バンク１１２ｂを覆った状態にＣａ（カルシウム）を厚さ２０ｎｍ程度に成膜し、さらにこの上にＡｌ（アルミニウム）を厚さ２００ｎｍ程度に成膜することにより、図７に示すようにＣａ／Ａｌの積層構造からなる対向電極（陰極）１２を形成する。そして、これにより画素電極（陽極）１１１と機能層１１０と対向電極（陰極）１２とからなり、特に機能層１１０を構成する正孔注入／輸送層１５１が結晶性薄膜によって形成された有機ＥＬ素子１０を得る。
その後、対向電極１２上に保護層、封止樹脂を形成し、さらに封止基板を貼設することにより、有機ＥＬ装置１を得る。
【００５４】
このようにして得られた有機ＥＬ装置１において、各ドットを構成する有機ＥＬ素子１０にあっては、機能層１１０を構成する正孔注入／輸送層１５１が結晶性薄膜からなっているので、この結晶性薄膜からなる正孔注入／輸送層１５１での正孔の移動度が高くなる。したがって、例えばこの正孔注入／輸送層１５１の膜厚を従来より厚くしても、正孔の移動度が高くなっている分、正孔が注入され輸送されることによって発光層１５０に到達するまでの時間は変わらなくなる。一方、陽極（画素電極１１１）側からの不純物イオンが可動イオンとなって正孔注入／輸送層１５１中を発光層１５１側に移動するが、正孔注入／輸送層１５１の膜厚を従来より厚くすることにより、この不純物イオンが発光層１５０に到達するまでの時間を遅らせることができ、さらに、正孔注入／輸送層１５１中での不純物イオンの濃度を下げることもできる。したがって、この不純物イオンに起因する発光層１５０や正孔注入／輸送層１５１の機能劣化を防止することができ、これにより長寿命化などの特性向上を図ることができる。また、正孔の移動度が高くなることにより、ジュール熱などによる電気効率の低下が抑えられ、これによって表示の高輝度化、さらには高精細化等を図ることもできる。
【００５５】
さらに、結晶性薄膜からなる正孔注入／輸送層１５１の形成について、特に加熱処理を必要とすることなく、比較的な簡単な操作（手法）でこれを形成することができることから、例えば粒界が無いなど完全性が高い有機結晶薄膜を形成することができ、これにより素子の長寿命化等を図ることができる。
また、液滴吐出法によって各機能層１１０を選択的に形成することにより、ドット表示が可能になり、したがって得られた有機ＥＬ装置１は表示の自由度が高いものとなる。
【００５６】
（第２の実施形態）
次に、本発明の製造方法の第２の実施形態として、電子注入／輸送層１５２を結晶性薄膜によって形成する場合について説明する。
前記構成の有機ＥＬ装置１を製造するには、まず、前記第１の実施形態と同様にして基板２上に薄膜トランジスタ１２３や各種配線等を形成し、さらにＩＴＯを成膜してこれをパターニングすることにより、画素電極１１１を形成する。続いて、図３に示したように無機バンク１１２ａを形成しさらにこの無機バンク１１２ａ上に樹脂からなる有機バンク１１２ｂを形成し、これによって画素電極１１１上に略矩形の開口部１１２ｃを形成する。そして、無機バンク１１２ａ、有機バンク１１２ｂで囲まれた開口部１１２ｃに対して酸素プラズマ-ＣＦ４プラズマの連続処理を行うことにより、あるいは自己組織化膜を形成することにより、基板２上の濡れ性を制御する。
【００５７】
次いで、正孔注入／輸送層の形成材料として、例えば３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とポリスチレンスルフォン酸（ＰＳＳ）との混合物を主成分とし、これを水等の分散媒に分散させてなる液状体を用意する。そして、この正孔注入／輸送層形成材料を、前記液滴吐出ヘッド３１０を用いて開口部１１２ｃ内の画素電極１１１上に吐出配置し、その後、これを乾燥処理し、さらに焼成処理することにより、正孔注入／輸送層１５１を形成する。
【００５８】
次いで、前記の第１の実施形態と同様にして、発光層形成材料を液滴吐出法によって正孔注入／輸送層１５１上に吐出配置し、さらに乾燥・焼成を行うことにより、図６に示したように発光層１５１を形成する。なお、発光層形成材料としては、前記のＰＰＶまたはその誘導体の前駆体に代えて、ポリフルオレン系の高分子系材料を用いることができる。また、本実施形態においても、有機ＥＬ装置１がフルカラー表示をなすものである場合、発光層形成材料として赤、緑、青の各色用のものを用意し、これらを選択的に打ち分けるようにする。
【００５９】
このようにして発光層１５１を形成した後、本実施形態では、第１の実施形態とは異なり、電子注入／輸送層１５２を形成する。まず、電子注入／輸送層の形成材料として、本実施形態では再結晶性を有した低分子系材料としてカルシウムアセチルアセトナートを用い、その濃度が例えば０．２重量％となるようにして溶媒（例えば２−ブトキシエタノール）に溶解し、液状体とする。なお、この液状体については、特に限定されることはないものの、前記形成材料（低分子系材料）の濃度として、該形成材料がその飽和濃度の１／１０以上となる量を含有する濃度であるのが好ましい。
【００６０】
そして、この液状体を前記液滴吐出法によって前記開口部１１２ｃ内の発光層１５０上に選択的に配し、電子注入／輸送層１５２を形成する。なお、この液状体を開口部１１２ｃ内に配置する操作とは別に、前記第１の実施形態における正孔注入／輸送層１５１の形成の際と同様にして、これの直前または直後、あるいはこの操作と並行して、開口部１１２ｃ内の近傍での雰囲気における、前記液状体中の前記溶媒と同じ成分からなる気体の分圧を、該液状体をなす溶液が過飽和状態になる第１の分圧に制御しておく。ここで、この第１の分圧は、具体的には飽和蒸気圧と同じかこれとほぼ同じ分圧であり、このような分圧にすることにより、前記の液状体をなす溶液から溶媒が蒸発し難くなる。
なお、前記開口部１１２ｃ内の近傍での雰囲気の、前記気体の分圧を第１の分圧にするための制御としては、第１の実施形態と同様、例えば前記溶媒を前記隔壁１１２（有機バンク１１２ｂ）上に吐出することにより、行うのが好ましい。また、これに代えて、予め基板２上に前記溶媒をスピンコート法で塗布しておいてもよく、さらには、密閉容器内に予め前記溶媒を配置しておいてもよい。
【００６１】
また、このような液状体の吐出による配置に際しても、前記第１の実施形態と同様に、液滴吐出ヘッド３１０を例えば減圧ポンプ付きの密閉空間内に配置しておき、この密閉空間内に前記基板２を入れて液状体の配置（吐出）を行う。
すなわち、このような液滴吐出ヘッド３１０により、電子注入／輸送層用の前記液状体を、１滴あたり例えば２０ピコリットルで吐出し、開口部１１２ｃ内に所定の量の液状体を配置する。また、前述したように、液状体の吐出とは別に、開口部１１２ｃ内の近傍での雰囲気における、前記液状体中の前記溶媒と同じ成分からなる気体の分圧を、該液状体をなす溶液が過飽和状態になる第１の分圧に制御しておく。すると、前記開口部１１２ｃ内に配置された液状体に結晶核が生成する。
【００６２】
ここで、液状体近傍での前記気体（液状体をなす溶液の溶媒と同じ成分からなる気体）の分圧が低いと、前述したように溶媒が液状体から蒸発し易いため、液状体をなす溶液の濃度が急上昇して溶液の過飽和度も急激に高くなり、多数の結晶核が形成されて溶質が粉末化し易くなる。これに対して、前記のように吐出とその雰囲気の調整を行えば、液状体をなす溶液が比較的低い過飽和度の過飽和状態で安定する（すなわち、液状体をなす溶液の過飽和度の上昇度合いが穏やかになる）ため、少数（理想的には１個）の核だけが生成する。なお、単結晶の薄膜を形成するためには、１個の核が生成された後にこの核のみを結晶成長させ、他の核形成を生じさせないようにする必要がある。しかし、液状体配置直後の液状体近傍での前記気体の分圧が高いままであると、更なる核が生成されることになる。
【００６３】
そこで、本実施形態においても、前記結晶核の生成後に、この液状体近傍での前記気体の分圧を、前記の既に生成した結晶核が結晶成長可能となり、したがって更なる結晶核の生成よりも結晶成長が優先的に起こる第２の分圧、例えば前記溶媒の飽和蒸気圧の１／１０〜１／１００に低下させる。このような前記第１の分圧から第２の分圧への分圧低下処理については、前記液状体に少数（理想的には１個）の結晶核が生成した後、直ちに行う。例えば、液状体の配置を終了させる同時に前記減圧ポンプを稼働させ、密閉空間内を、前記第１の分圧（飽和蒸気圧と同じかこれとほぼ同じ分圧）から第２の分圧、例えば１．３Ｐａ（１０−２torr）にまで１〜１０秒間で低下させ、この状態を例えば６時間保持する。すると、結晶成長が始まり、これによって前記形成材料からなる結晶性薄膜が形成され、この結晶性薄膜から図８に示すように電子注入／輸送層１５２が形成される。
なお、電子注入／輸送層の形成材料となる再結晶性を有した低分子系材料としては、前記のカルシウムアセチルアセトナート以外にも、例えばＬｉキノリロールや以下の化合物１５〜１８等が使用可能である。
【００６４】
【化１５】
2005100897.tif 000017
【００６５】
【化１６】
2005100897.tif 000018
【００６６】
【化１７】
2005100897.tif 000019
【００６７】
【化１８】
2005100897.tif 000020
【００６８】
このようにして電子注入／輸送層１５２を形成し、これにより機能層１１０を形成したら、第１の実施形態と同様にして蒸着法等により機能層１１０および有機バンク１１２ｂを覆った状態にＣａ（カルシウム）を成膜し、さらにこの上にＡｌ（アルミニウム）を成膜することにより、図９に示すようにＣａ／Ａｌの積層構造からなる対向電極（陰極）１２を形成する。そして、これにより画素電極（陽極）１１１と機能層１１０と対向電極（陰極）１２とからなり、特に機能層１１０を構成する電子注入／輸送層１５２が結晶性薄膜によって形成された有機ＥＬ素子１０を得る。
その後、対向電極１２上に保護層、封止樹脂を形成し、さらに封止基板を貼設することにより、有機ＥＬ装置１を得る。
【００６９】
このようにして得られた有機ＥＬ装置１において、特に機能層１１０を構成する電子注入／輸送層１５２が結晶性薄膜によって形成された有機ＥＬ素子１０にあっては、この結晶性薄膜からなる電子注入／輸送層１５２での正孔の移動度が高くなる。したがって、例えばこの電子注入／輸送層１５２の膜厚を従来より厚くしても、電子の移動度が高くなっている分、電子が注入され輸送されることによって発光層１５０に到達するまでの時間は変わらなくなる。一方、陰極（対向電極１２）側からの不純物イオンが可動イオンとなって電子注入／輸送層１５２中を発光層１５０側に移動するが、電子注入／輸送層１５２の膜厚を従来より厚くすることにより、この不純物イオンが発光層１５０に到達するまでの時間を遅らせることができ、さらに、電子注入／輸送層１５２中での不純物イオンの濃度を下げることもできる。したがって、この不純物イオンに起因する発光層１５０や電子注入／輸送層１５２の機能劣化を防止することができ、これにより長寿命化などの特性向上を図ることができる。また、電子の移動度が高くなることにより、ジュール熱などによる電気効率の低下が抑えられ、これによって表示の高輝度化、さらには高精細化等を図ることもできる。
【００７０】
さらに、結晶性薄膜からなる電子注入／輸送層１５２の形成について、特に加熱処理を必要とすることなく、比較的な簡単な操作（手法）でこれを形成することができることから、例えば粒界が無いなど完全性が高い有機結晶薄膜を形成することができ、これにより素子の長寿命化等を図ることができる。
また、液滴吐出法によって各機能層１１０を選択的に形成することにより、ドット表示が可能になり、したがって得られた有機ＥＬ装置１は表示の自由度が高いものとなる。
【００７１】
（第３の実施形態）
次に、本発明の製造方法の第３の実施形態として、発光層１５０を結晶性薄膜によって形成する場合について説明する。
前記構成の有機ＥＬ装置１を製造するには、まず、前記第２の実施形態と同様にして基板２上に正孔注入／輸送層１５１までを形成する。
【００７２】
次いで、発光層１５０を形成するが、この発光層の形成材料として、本実施形態では再結晶性を有した低分子系材料としてキノリノール−アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）を用い、その濃度が例えば０．２重量％となるようにして溶媒（例えば２，３−dihydrobenzofurane）に溶解し、液状体とする。なお、この液状体については、特に限定されることはないものの、前記形成材料（低分子系材料）の濃度として、該形成材料がその飽和濃度の１／１０以上となる量を含有する濃度であるのが好ましい。
【００７３】
そして、この液状体を前記液滴吐出法によって前記開口部１１２ｃ内の正孔注入／輸送層１５１上に選択的に配し、発光層１５０を形成する。なお、この液状体を開口部１１２ｃ内に配置する操作とは別に、前記第１の実施形態における正孔注入／輸送層１５１の形成の際と同様にして、これの直前または直後、あるいはこの操作と並行して、開口部１１２ｃ内の近傍での雰囲気における、前記液状体中の前記溶媒と同じ成分からなる気体の分圧を、該液状体をなす溶液が過飽和状態になる第１の分圧に制御しておく。ここで、この第１の分圧は、具体的には飽和蒸気圧と同じかこれとほぼ同じ分圧であり、このような分圧にすることにより、前記の液状体をなす溶液から溶媒が蒸発し難くなる。
なお、前記開口部１１２ｃ内の近傍での雰囲気の、前記気体の分圧を第１の分圧にするための制御としては、第１の実施形態と同様、例えば前記溶媒を前記隔壁１１２（有機バンク１１２ｂ）上に吐出することにより、行うのが好ましい。また、これに代えて、予め基板２上に前記溶媒をスピンコート法で塗布しておいてもよく、さらには、密閉容器内に予め前記溶媒を配置しておいてもよい。
【００７４】
また、このような液状体の吐出による配置に際しても、前記第１の実施形態と同様に、液滴吐出ヘッド３１０を例えば減圧ポンプ付きの密閉空間内に配置しておき、この密閉空間内に前記基板２を入れて液状体の配置（吐出）を行う。
すなわち、このような液滴吐出ヘッド３１０により、発光層用の前記液状体を、１滴あたり例えば２０ピコリットルで吐出し、開口部１１２ｃ内に所定の量の液状体を配置する。また、前述したように、液状体の吐出とは別に、開口部１１２ｃ内の近傍での雰囲気における、前記液状体中の前記溶媒と同じ成分からなる気体の分圧を、該液状体をなす溶液が過飽和状態になる第１の分圧に制御しておく。すると、前記開口部１１２ｃ内に配置された液状体に結晶核が生成する。
【００７５】
ここで、液状体近傍での前記気体（液状体をなす溶液の溶媒と同じ成分からなる気体）の分圧が低いと、前述したように溶媒が液状体から蒸発し易いため、液状体をなす溶液の濃度が急上昇して溶液の過飽和度も急激に高くなり、多数の結晶核が形成されて溶質が粉末化し易くなる。これに対して、前記のように吐出とその雰囲気の調整を行えば、液状体をなす溶液が比較的低い過飽和度の過飽和状態で安定する（すなわち、液状体をなす溶液の過飽和度の上昇度合いが穏やかになる）ため、少数（理想的には１個）の核だけが生成する。なお、単結晶の薄膜を形成するためには、１個の核が生成された後にこの核のみを結晶成長させ、他の核形成を生じさせないようにする必要がある。しかし、液状体配置直後の液状体近傍での前記気体の分圧が高いままであると、更なる核が生成されることになる。
【００７６】
そこで、本実施形態においても、前記結晶核の生成後に、この液状体近傍での前記気体の分圧を、前記の既に生成した結晶核が結晶成長可能となり、したがって更なる結晶核の生成よりも結晶成長が優先的に起こる第２の分圧、例えば前記溶媒の飽和蒸気圧の１／１０〜１／１００に低下させる。このような前記第１の分圧から第２の分圧への分圧低下処理については、前記液状体に少数（理想的には１個）の結晶核が生成した後、直ちに行う。例えば、液状体の配置を終了させる同時に前記減圧ポンプを稼働させ、密閉空間内を、前記第１の分圧（飽和蒸気圧と同じかこれとほぼ同じ分圧）から第２の分圧、例えば１．３Ｐａ（１０−２torr）にまで１〜１０秒間で低下させ、この状態を例えば６時間保持する。すると、結晶成長が始まり、これによって前記形成材料からなる結晶性薄膜が形成され、この結晶性薄膜から図６に示したように発光層１５０が形成される。
なお、発光層の形成材料となる再結晶性を有した低分子系材料としては、前記のキノリノール−アルミニウム錯体以外にも、例えばｐ−ターフェニル等が使用可能である。
【００７７】
このようにして発光層１５０を形成したら、前記第１の実施形態と同様にして蒸着法等により発光層１５０および有機バンク１１２ｂを覆った状態にＣａ（カルシウム）を成膜し、さらにこの上にＡｌ（アルミニウム）を成膜することにより、図７に示すようにＣａ／Ａｌの積層構造からなる対向電極（陰極）１２を形成する。そして、これにより画素電極（陽極）１１１と機能層１１０と対向電極（陰極）１２とからなり、特に機能層１１０を構成する発光層１５０が結晶性薄膜によって形成された有機ＥＬ素子１０を得る。
その後、対向電極１２上に保護層、封止樹脂を形成し、さらに封止基板を貼設することにより、有機ＥＬ装置１を得る。
【００７８】
このようにして得られた有機ＥＬ装置１において、特に機能層１１０を構成する発光層１５２が結晶性薄膜により形成された有機ＥＬ素子１０にあっては、この結晶性薄膜からなる発光層１５０での電子や正孔の移動度が高くなることから、発光層１５０の膜厚を従来より厚くしても、電子と正孔とが再結合することによるエキシトンの生成が低下することがない。そして、このように発光層１５０の膜厚を従来より厚くすると、エキシトンの移動が局部的に集中することで生じるエキシトン間の衝突が、発光層１５０が広くなることで起こり難くなり、したがってこの衝突に起因してエキシトンによる発光作用が打ち消されてしまうといった現象が低減し、発光効率が高まる。
【００７９】
また、陽極（画素電極１１１）や陰極（対向電極１２）側からの不純物イオンが可動イオンとなって発光層１５０内に移動するが、発光層１５０の膜厚を従来より厚くすることにより、発光層１５０中での不純物イオン濃度を低くすることができ、したがってこの不純物イオンに起因する発光層１５０の劣化を軽減することができる。
よって、長寿命化などの特性向上を図ることができ、また、正孔や電子、さらにエキシトンの移動度が高くなることにより、ジュール熱などによる電気効率の低下が抑えられ、これによって表示の高輝度化、さらには高精細化等を図ることもできる。
【００８０】
また、このように発光層１５０が結晶性薄膜からなることにより、これが異方性を有することによって得られる有機ＥＬ素子１０が偏光性を有するものとなる。したがって、例えば偏光板を挿入した際、これによる減衰が最小限に抑えられることから、必要輝度を下げることが可能となる。よって、これからも長寿命化を図ることが可能になる。
さらに、結晶性薄膜からなる発光層１５０の形成について、特に加熱処理を必要とすることなく、比較的な簡単な操作（手法）でこれを形成することができることから、例えば粒界が無いなど完全性が高い有機結晶薄膜を形成することができ、これにより素子の長寿命化等を図ることができる。
また、液滴吐出法によって各機能層１１０を選択的に形成することにより、ドット表示が可能になり、したがって得られた有機ＥＬ装置１は表示の自由度が高いものとなる。
【００８１】
なお、前記実施形態では、機能層１１０を構成する層のうち、正孔注入／輸送層１５１のみを結晶性薄膜とする場合と、電子注入／輸送層１５２のみを結晶性薄膜とする場合と、発光層１５２のみを結晶性薄膜とする場合とについて説明したが、本発明はこれらに限定されることなく、機能層１１０を構成する層のうちのいずれか二つを結晶性薄膜としてもよく、もちろん正孔注入／輸送層１５１と発光層１５０と電子注入／輸送層１５２の全てを結晶性薄膜としてもよい。
【００８２】
次に、前記構成からなる有機ＥＬ素子１０を備えた電子機器の具体例について説明する。
図１０は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１０において、符号６００は携帯電話本体を示し、符号６０１は前記の有機ＥＬ素子１０を構成要素として備えた表示部を示している。
この電子機器にあっては、前記の長寿命化等の特性向上が図られた有機ＥＬ素子１０を表示部の構成要素として備えているので、表示部について十分特性向上が図られたものとなる。
なお、本発明の有機ＥＬ素子は、例えばワープロ、パソコン等の携帯型情報処理装置や、腕時計型電子機器など、各種の電子機器における表示部として好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】本発明に係る有機ＥＬ装置の一例の要部側断面図である。
【図２】図１に示した有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための要部側断面である。
【図３】図１に示した有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための要部側断面である。
【図４】（ａ）、（ｂ）は液滴吐出ヘッドの内部構造を示す図である。
【図５】図１に示した有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための要部側断面である。
【図６】図１に示した有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための要部側断面である。
【図７】図１に示した有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための要部側断面である。
【図８】図１に示した有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための要部側断面である。
【図９】図１に示した有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための要部側断面である。
【図１０】本発明の電子機器を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００８４】
１…有機ＥＬ装置、１０…有機ＥＬ素子、１２…対向電極（陰極［第２の電極］）、
１１０…機能層、１１１…画素電極（陽極［第１の電極］）、
１１２…隔壁、１１２ａ…無機バンク、１１２ｂ…有機バンク、
１５０…発光層、１５１…正孔注入／輸送層、１５２…電子注入／輸送層、
６００…携帯電話本体（電子機器）
【図１】
2005100897.tif 000021
【図２】
2005100897.tif 000022
【図３】
2005100897.tif 000023
【図４】
2005100897.tif 000024
【図５】
2005100897.tif 000025
【図６】
2005100897.tif 000026
【図７】
2005100897.tif 000027
【図８】
2005100897.tif 000028
【図９】
2005100897.tif 000029
【図１０】
2005100897.tif 000030