(57)【要約】【課題】  ワークの蒸気洗浄時にのみ冷却手段と洗浄槽の溶剤液面との間の処理エリアに溶剤蒸気を供給すべく構成することにより、溶剤消費なかんずく蒸気発生による自然ロスを低減させることができるワーク洗浄装置の提供を目的とする。【解決手段】  上部にワーク出入口５が形成され、下部に溶剤Ａを貯溜する洗浄槽６が形成されると共に、中間部に冷却手段７が配設されて、該冷却手段７と洗浄槽６の溶剤Ａ液面との間に処理エリア８が形成されたタンク本体１を備えてなるワーク洗浄装置であって、上記ワークの蒸気洗浄時にのみ上記処理エリア８に溶剤蒸気ａを供給する蒸気供給手段１５を備えたことを特徴とする。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部にワーク出入口が形成され、下部に溶剤を貯溜する洗浄槽が形成されると共に、中間部に冷却手段が配設されて、該冷却手段と洗浄槽の溶剤液面との間に処理エリアが形成されたタンク本体を備えてなるワーク洗浄装置であって、
上記ワークの蒸気洗浄時にのみ上記処理エリアに溶剤蒸気を供給する蒸気供給手段を備えた
ワーク洗浄装置。
【請求項２】
上記処理エリアの溶剤蒸気を吸引する蒸気吸引手段を設け、
該蒸気吸引手段で処理エリアの溶剤蒸気を吸引した時、冷却手段より下側の該処理エリアをワーク乾燥エリアに設定する
請求項１記載の
ワーク洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、電子部品、精密部品、プリント配線基板、金属部品その他の各種被洗浄物（ワーク）を洗浄処理するようなワーク洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、上述例のワーク洗浄装置としては図４に示すような構造のものがある。  
すなわち、上部にワーク出入口８１が形成され、下部に溶剤を貯溜した洗浄槽８２および蒸留槽８３が形成されると共に、上下方向の中間部には冷却手段としての冷却コイル８４が配設されて、この冷却コイル８４と洗浄槽８２の溶剤液面との間に蒸気層８５が形成されたタンク本体８６を備えてなるワーク洗浄装置である（特許文献１参照）。
【０００３】
上述の洗浄槽８２と、これに隣接された蒸留槽８３との両者には溶剤を加熱する加熱手段としてのヒータ８７，８８が設けられ、洗浄槽８２側のヒータ８７は溶剤を適量に加熱し、蒸気発生槽を兼ねる蒸留槽８３側のヒータ８８は溶剤をその沸点に加熱し、蒸気層８５における蒸気洗浄のため、または／および溶剤液の浄化のために常にヒータ８８に通電して、図４に矢印αで示すように溶剤蒸気を常時蒸気層８５に供給すべく構成している。
【０００４】
この従来装置においてワークを洗浄する場合、ワークをワークバスケット８９に収納し、まずワークバスケット８９を洗浄槽８２の溶剤液中に浸漬（ポジションＰ９１参照）し、ワーク洗浄後、ワークバスケット８９を蒸気層８５まで持ち上げて（ポジションＰ９２参照）、ワークを蒸気洗浄し、ワークの蒸気洗浄後、ワークバスケット８９を冷却コイル８４とワーク出入口８１との間のワーク乾燥エリア（ポジションＰ９３参照）まで持ち上げて乾燥処理を実行し、上述の浸漬洗浄、蒸気洗浄および乾燥の一連の処理が終了したワークはワークバスケット８９に収納された状態で次工程に搬送される。
【０００５】
ここで、上述の溶剤としてはＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）やＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）等のフッ素系溶剤、塩化メチレン（化学式ＣＨ２Ｃｌ２で示されるメチレンクロライド）やトリクロルエチレン（ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ、化学式ＣＨＣｌ＝ＣＣｌ２で示され、いわゆるトリクレンと称される）等の塩素系溶剤、アブゾール（商品名）などの臭素系溶剤、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等の低沸点アルコールが用いられる。
【０００６】
しかし、上述の従来装置においては溶剤消費（いわゆる溶剤ロス）が多いので、次のような問題点があった。  
つまり、ＨＦＣ、ＨＦＥは単価が高い溶剤ロスによりランニングコストが大となり、塩化メチレン乃至ＩＰＡの他の溶剤が大気中に持ち出されると環境悪化を招く問題点があった。
【０００７】
上述の従来装置における溶剤ロスは自然ロスと持ち出しロスとに大別され、自然ロスは蒸気層８５の溶剤蒸気が冷却コイル８４で凝縮されなかった際、これが蓄積してワーク出入口８１から大気中に拡散するもので、この自然ロスを抑制するためには冷却コイル８４からワーク出入口８１までの長さＬいわゆるフリーボードを長く設定する必要があるが、このフリーボードの設定には限界があり、長く設定し過ぎると、装置が大型化するのみならず、ワークの出し入れ性が大幅に悪化する。
【０００８】
一方、持ち出しロスはポジションＰ９２における蒸気洗浄後、ワークバスケット８９を冷却コイル８４上の乾燥エリア（ポジションＰ９３参照）に持ち上げる際、ワークまたはワークバスケット８９に付着した溶剤が乾燥エリアに持ち込まれ、かつワークバスケット８９のポジションＰ９２からポジションＰ９３への上昇移動時に溶剤蒸気が乾燥エリアに吹き上がり、この乾燥エリアに持ち込まれた溶剤が大気中に拡散するロスである。  
何れにしても、このような溶剤消費（溶剤ロス）を低減させることが望まれていた。
【特許文献１】特許第３３４９６５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、この発明は、ワークの蒸気洗浄時にのみ冷却手段と洗浄槽の溶剤液面との間の処理エリアに溶剤蒸気を供給すべく構成することにより、溶剤消費なかんずく蒸気発生による自然ロスを低減させることができるワーク洗浄装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この発明によるワーク洗浄装置は、
上部にワーク出入口が形成され、下部に溶剤を貯溜する洗浄槽が形成されると共に、中間部に冷却手段が配設されて、該冷却手段と洗浄槽の溶剤液面との間に処理エリアが形成されたタンク本体を備えてなるワーク洗浄装置であって、  
上記ワークの蒸気洗浄時にのみ上記処理エリアに溶剤蒸気を供給する蒸気供給手段を備えたものである。
【００１１】
上述の溶剤としてはＨＦＣ（ハイドロ・フルオロ・カーボン）やＨＦＥ（ハイドロ・フルオロ・エーテル）等のフッ素系溶剤、塩化メチレン（化学式ＣＨ２Ｃｌ２で示されるメチレンクロライド）やトリクロルエチレン（ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ、化学式ＣＨＣｌ＝ＣＣｌ２で示され、いわゆるトリクレンと称される）等の塩素系溶剤、アブゾール（商品名）などの臭素系溶剤、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等の低沸点アルコールその他の揮発性のある溶剤を用いることができる。
【００１２】
上記構成によれば、蒸気供給手段がワークの蒸気洗浄時にのみ上述の処理エリアに溶剤蒸気を供給するので、従来の蒸気層に常時溶剤蒸気を供給するものに対して、溶剤消費なかんずく蒸気発生による自然ロスを大幅に低減させることができる。
【００１３】
この発明の一実施態様においては、  
上記処理エリアの溶剤蒸気を吸引する蒸気吸引手段を設け、  
該蒸気吸引手段で処理エリアの溶剤蒸気を吸引した時、冷却手段より下側の該処理エリアをワーク乾燥エリアに設定するものである。
【００１４】
上記構成によれば、冷却手段よりも下側の処理エリアをワーク乾燥エリアに設定し、ワークの乾燥時には処理エリアの溶剤蒸気を蒸気吸引手段にて吸引するので、適切にワークの乾燥を行なうことができ、またワーク乾燥後において該ワークをワーク乾燥エリアから冷却手段上方に持ち上げても溶剤の持ち出しロスが極めて僅少となる。
【００１５】
換言すれば、冷却手段よりも下側の同一の処理エリアを蒸気洗浄時には蒸気層に設定し、ワーク乾燥時には蒸気を吸引してワーク乾燥エリアに設定するので、溶剤消費を大幅に低減させることができる。
【発明の効果】
【００１６】
この発明によれば、ワークの蒸気洗浄時にのみ冷却手段と洗浄槽の溶剤液面との間の処理エリアに溶剤蒸気を供給すべく構成したので、溶剤消費なかんずく蒸気発生による自然ロスを低減させることができる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
溶剤消費なかんずく蒸気発生による自然ロスを低減させるという目的を、ワークの蒸気洗浄時にのみ冷却手段と洗浄槽の溶剤液面との間の処理エリアに溶剤蒸気を供給する構成で実現した。
【実施例】
【００１８】
この発明の一実施例を以下図面に基づいて詳述する。  
図面はワーク洗浄装置を示し、図１において、このワーク洗浄装置は上部開放構造のタンク本体１と、このタンク本体１とは別体かつ密閉型の第1冷却槽２、密閉型の蒸気発生槽３、密閉型の第２冷却槽４を備えている。
【００１９】
上述のタンク本体１はワークを浸漬洗浄、蒸気洗浄、乾燥するために用いる装置で、このタンク本体１の上部は開放されていて、ワーク出入口５（開口部）が形成されると共に、タンク本体１の下部には溶剤Ａ（詳しくは溶剤液）を貯溜した洗浄槽６が形成されている。
【００２０】
また上述のタンク本体1の上下方向の中間部には冷却手段としての冷却コイル7（または冷却ジャケット）がワーク出し入れを阻害しないように方形枠状に配設されていて、この冷却コイル7の下部と洗浄槽6の溶剤液面との間には処理エリア８が形成されている。
【００２１】
この処理エリア８はワーク蒸気洗浄時（蒸気リンス時）には蒸気層（ワーク蒸気洗浄エリア）となり、ワークの乾燥処理時にはワーク乾燥エリアになるのである。  
さらに上述の洗浄槽６の底部には溶剤Ａを適温に加熱（使用される溶剤に対応してワーク洗浄に最適な温度に調整するものであって、沸点までには加熱しない）する加熱手段（温度調整手段）としてのヒータ９が設けられている。
【００２２】
一方、ワークはワークバスケット１０に収納され、ワーク出入口５からタンク本体１内に挿入された後に溶剤液中に浸漬（ポジションＰ１参照）され、浸漬洗浄後には処理エリア８（ポジションＰ２参照）まで持ち上げられ、冷却コイル７よりも下側の該処理エリア８にて蒸気洗浄され、この蒸気洗浄後に同一の処理エリア８にて乾燥処理され、乾燥後にはポジションＰ２から可及的低速にて冷却コイル７よりも上方に持ち上げられ、さらにワーク出入口５から搬出されて、次工程へ搬送されるものである。
【００２３】
ここで、上述の洗浄槽６に超音波振動子を設けると、該洗浄槽６を超音波洗浄槽に設定することができる。  
また上述のワーク出入口５にはワーク搬入、搬出時にワーク出入口５を開放し、それ以外の時にワーク出入口５を閉塞する開閉リッドを設けてもよく、この場合、開閉リッドは水平方向つまり横方向にスライド開閉する構造のリッドが望ましい。
【００２４】
なお、上述の冷却コイル７の下方部には水分離槽が設けられるが、この水分離槽の図示は省略している。上述の冷却コイル７で溶剤蒸気を凝縮する時、空気中の水分も凝縮されるので水分離槽により水分または水を分離するものである。
【００２５】
上述の第１冷却槽２はその内部に冷却コイル（図示せず）を備えており、溶剤蒸気を約１０℃に冷却して凝縮液化させるものである。また上述の蒸気発生槽３（詳しくは再生・蒸気発生槽）は溶剤の蒸気ａ（図２、図３参照）を発生させると共に、浸漬洗浄に供された溶剤Ａ（洗浄槽６内の溶剤）を再生するためのもので、この蒸気発生槽３内には溶剤Ａ（詳しくは溶剤液）を貯溜すると共に、溶剤の蒸気を発生させるために、この溶剤Ａをその沸点に加熱する加熱手段をしてのヒータ１１を設けている。さらに上述の第２冷却槽４はその内部に冷却フィン等の冷却手段（図示せず）を備えており、溶剤蒸気を約−２０℃に冷却して凝縮液化させる回収手段である。
【００２６】
そして、上述のタンク本体１における洗浄槽６の液面対応部と、蒸気発生槽３との間をこの蒸気発生槽３側が低くなるオーバフローライン１２で接続し、オーバフローした溶剤液を蒸気発生槽３に自然流下にて導くように構成している。
【００２７】
また、第１冷却槽２の貯液部と洗浄槽６との間をリターンライン１３で接続し、第1冷却槽２にて液化された凝縮液を洗浄槽６に戻して浸漬洗浄に供するように構成している。
【００２８】
しかも、蒸気発生槽３の上部とタンク本体１の処理エリア８との間を蒸気供給ライン１４で接続し、この蒸気供給ライン１４には開閉手段としての電磁弁Ｘ１を介設し、この電磁弁Ｘ１の開弁時に溶剤蒸気ａ（図２、図３参照）を処理エリア８に供給すべく構成している。つまり、蒸気発生槽３と、蒸気供給ライン１４と電磁弁Ｘ１との三者により、ワークの蒸気洗浄時にのみ処理エリア８に溶剤蒸気ａを供給する蒸気供給手段１５を構成したものである。
【００２９】
上述の処理エリア８と第１冷却槽２との間をサクションライン１６で接続し、このサクションライン１６には開閉手段としての電磁弁Ｘ２を介設すると共に、第１冷却槽２とエアポンプ１７の吸引側とを別のサクションライン１８で接続し、
このサクションライン１８には開閉手段としての電磁弁Ｘ３を介設し、これらの各電磁弁Ｘ２，Ｘ３の開弁時に処理エリア８の溶剤蒸気ａ（図３参照）を吸引すべく構成している。つまり、各サクションライン１６，１８と各電磁弁Ｘ２，Ｘ３とエアポンプ１７とで、処理エリア８の溶剤蒸気ａを吸引する蒸気吸引手段１９を構成したものである。
【００３０】
また、上述のエアポンプ１７の吐出ライン２０は第２冷却槽４（いわゆる回収手段）のインレットポート４ａに接続し、この第２冷却槽４のアウトレットポート４ｂと処理エリア８との間をライン２１で接続して、各要素１６Ｘ２，２，１８Ｘ３，１７，２０，４ａ，４，４ｂ，２１から成る閉ループ状の循環路Ｒ１（第１のルート）を構成している。
【００３１】
さらに、蒸気発生槽３と第１冷却槽２とを、蒸気ライン２２で接続し、この蒸気ライン２２には開閉手段としての電磁弁Ｙ１を介設すると共に、第１冷却槽２と処理エリア８との間をライン２３で接続し、このライン２３には開閉手段としての電磁弁Ｙ２を介設している。
【００３２】
そして、上述の各電磁弁Ｙ1，Ｙ２の開弁時に蒸気発生槽３からの濃度１００％の溶剤蒸気を一旦第１冷却槽２で液化させ、凝縮液化されなかった低濃度たとえば約２０万ｐｐｍ以下の蒸気を処理エリア８に導くよう構成している。
【００３３】
また、処理エリア８とエアポンプ１７の吸引側とをサクションライン２４で接続し、このサクションライン２４には開閉手段としての電磁弁Ｙ３を介設し、この電磁弁Ｙ３の開弁時に処理エリア８の溶剤蒸気を吸引すべく構成している。
つまり上述のサクションライン２４、電磁弁Ｙ３、エアポンプ１７の三者でも蒸気吸引手段２５を構成し、この蒸気吸引手段２５で処理エリア８の溶剤蒸気を吸引した時、冷却コイル７よりも下側の該処理エリア８をワーク乾燥エリアに設定すべく構成したものである。
【００３４】
さらに、上述のエアポンプ１７の吐出ライン２０は第２冷却槽４のインレットポート４ａに接続し、この第２冷却槽４のアウトレットポート４ｂと処理エリア８との間をライン２１で接続したことについては既述した通りであって、各要素２４，Ｙ３，１７，２０，４ａ，４，４ｂ，２１から成る閉ループ状の循環路Ｒ２（第２のルート）が構成されている。
【００３５】
ここで、上述の電磁弁Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３と電磁弁Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３について説明すると、一方の電磁弁Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３は蒸気洗浄時に開弁され、これら各電磁弁Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３が開弁されている時には他方の電磁弁Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３は開弁されている。
【００３６】
また、他方の電磁弁Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３は浸漬洗浄時、ワーク乾燥時、ワークの待機時に開弁され、これら各電磁弁Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３が開弁されている時には一方の電磁弁Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３は開弁されている。但し、電磁弁Ｘ２，Ｘ３の開弁タイミングと電磁弁Ｙ３の開弁タイミングとの間に若干のオーバラップ期間を設定して、蒸気洗浄後において、処理エリア８内の溶剤蒸気ａをより一層迅速に吸引すべく構成してもよい。
【００３７】
さらに、上述のエアポンプ１７で処理エリア８内に負圧を付勢して、溶剤蒸気の供給および吸引が円滑に行なわれるように構成している。  
ところで、図１に実線で示す第２冷却槽４およびライン２１を省略し、これに代えてエアポンプ１７の吐出ライン２０に同図に仮想線で示す深冷式回収器２６を設けてもよい。
【００３８】
この冷却式回収器２６は溶剤蒸気に約６ｋｇ／ｃｍ２の圧力を付勢すると共に、冷却手段（図示せず）にて溶剤蒸気を約−３０℃に冷却して凝縮液化させた後に、液化されなかった残りの溶剤成分を活性炭で吸着処理して、大気中に溶剤濃度零ｐｐｍにて排気するものである。
【００３９】
なお、上述の各ラインは図示の便宜上、線図にて示したが実際には溶剤液通路や溶剤蒸気通路を形成する耐溶剤性のパイプ部材等により構成されるものである。
【００４０】
このように構成したワーク洗浄装置の作用を以下に詳述する。  
図２は、ワークを溶剤液に浸漬して洗浄するワークの浸漬洗浄時、乾燥時および待機時の状態（蒸気洗浄時以外の状態）を示し、この場合、電磁弁Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３を開弁し、電磁弁Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３を開弁する。なお、これらの各電磁弁はシーケンス回路による制御またはＣＰＵ制御にて自動的に切換えられる。
【００４１】
蒸気発生槽３で発生した濃度１００％の溶剤蒸気ａは図２に矢印で示すように蒸気ライン２２を通って第１冷却槽２に供給され、この第１冷却槽２にて凝縮液化され、この液化された溶剤液はリターンライン１３を介して洗浄槽６に流入する。
【００４２】
一方、この第１冷却槽２で凝縮液化されなかった低濃度たとえば約２０万ｐｐｍ以下（濃度２０％以下に相当）の蒸気はライン２３を介してタンク本体１の処理エリア８に導かれる。  
上述の処理エリア８にはサクションライン２４を介してエアポンプ１７の吸引力が作用しているので、処理エリア８の低濃度（約２０万ｐｐｍ以下）の蒸気（いわゆるガス）は上記サンクションライン２４を介してエアポンプ１７に吸引され、その吐出側から吐出ライン２０に吐出される。
【００４３】
エアポンプ１７の吐出ライン２０に吐出された低濃度（約２０万ｐｐｍ以下）の溶剤蒸気は第２冷却槽４（いわゆる回収槽）で凝縮液化される。  
この第２冷却槽４で液化されずに残った極低濃度（約５万ｐｐｍ以下）の溶剤蒸気はライン２１を介して処理エリア８に導かれる。
【００４４】
ワークを洗浄する場合、ワークを収納したワークバスケット１０をタンク本体１のワーク出入口５から洗浄槽６の溶剤Ａ中に浸漬する（ポジションＰ１参照）。
【００４５】
ワークの浸漬洗浄後、該ワークは蒸気洗浄されるが、この場合、図３に示すように、電磁弁Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３を開弁し、電磁弁Ｙ１，Ｙ２，Ｙ３を開弁する。つまり装置全体を図２の状態から図３に示す状態に切換える。
【００４６】
図３はワークの蒸気洗浄時の状態を示し、蒸気発生槽３で発生した濃度１００％の溶剤蒸気ａは同図に矢印で示すように蒸気供給ライン１４を介してタンク本体１の処理エリア８に供給されるので、ワークバスケット１０を図３のポジションＰ２まで持ち上げて濃度１００％の溶剤蒸気ａにて蒸気洗浄することができる。
【００４７】
上述の処理エリア８にはサクションライン１６，１８を介してエアポンプ１７の吸引力が作用しているので、処理エリア８における蒸気洗浄に必要な蒸気量を維持した状態下（処理エリア８に溶剤蒸気を充満させた状態下）において、該処理エリア８の濃度１００％の蒸気は上述のサクションライン１６を介して第１冷却槽２に導かれる。
【００４８】
この第１冷却槽２では濃度１００％の蒸気が凝縮液化され、この第１冷却槽２で凝縮液化されなかった低濃度たとえば約２０万ｐｐｍ以下の蒸気はサクションライン１８を介してエアポンプ１７に吸引され、その吐出側から吐出ライン２０に吐出される。
【００４９】
エアポンプ１７の吐出ライン２０に吐出された低濃度（約２０万ｐｐｍ以下）の溶剤蒸気は第２冷却槽４で凝縮液化される。  
この第２冷却槽４で液化されずに残った極低濃度（約５万ｐｐｍ以下）の溶剤蒸気はライン２１を介して処理エリア８に導かれる。
【００５０】
上述の処理エリア８でワークの蒸気洗浄が終了すると、次に、このワークは乾燥処理されるが、この場合、装置全体は図３の状態から図２に示す状態に切換えられる。
【００５１】
装置全体が図２に示すように切換えられると、処理エリア８内の溶剤蒸気（濃度１００％の蒸気）はサクションライン２４および開弁された電磁弁Ｙ３を介してエアポンプ１７で迅速に吸引されるので、ワークバスケット１０をポジションＰ２に維持した状態のままで、ワークを乾燥処理することができる。つまり、ワークバスケット１０の位置を何等移動させることはなく、ワークは冷却コイル７よりも下側の処理エリア８（ワークを蒸気洗浄したエリア８と同一の処理エリア８）において乾燥される。
【００５２】
このワークの乾燥時には処理エリア８に約５万ｐｐｍ以下（濃度５％以下に相当）の乾燥に何等支障のない極低濃度の溶剤蒸気が存在するので、ワーク乾燥終了後にはワークバスケット１０をポジションＰ２から冷却コイル７よりも上方へ低速で可及的ゆっくり持ち上げて極低濃度の溶剤蒸気であっても冷却コイル７よりも上方に持ち込まないようにする。
【００５３】
また、上述の閉ループ状の循環路Ｒ１，Ｒ２を設けたことにより、溶剤ロスがさらに低減されると共に、第１冷却槽２と第２冷却槽４とに常時ほぼ同等の負荷を与えることができ、各要素７，２，４に接続した冷凍機（図示せず）の装置ダウンを防止して、該冷凍機を安定して運転することができる。
【００５４】
さらに、蒸気洗浄後において処理エリア８内の濃度１００％の溶剤蒸気を吸引完了するまでの所定時間は別にして、エアポンプ１７の吸引側には図２の状態におけるサクションライン２４の溶剤濃度も低濃度（約２０万ｐｐｍ以下）であり、図３の状態におけるサクションライン１８の溶剤濃度も低濃度（約２０万ｐｐｍ以下）であるから、各電磁弁の切換え時または切換え後におけるエアポンプ１７の負荷を可及的同等に設定することができる。
【００５５】
このように上記実施例のワーク洗浄装置は、  
上部にワーク出入口５が形成され、下部に溶剤Ａ（詳しくは溶剤液）を貯溜する洗浄槽６が形成されると共に、中間部に冷却手段（冷却コイル７参照）が配設されて、該冷却手段（冷却コイル７参照）と洗浄槽６の溶剤液面との間に処理エリア８が形成されたタンク本体１を備えてなるワーク洗浄装置であって、
上記ワークの蒸気洗浄時（図３参照）にのみ上記処理エリア８に溶剤蒸気ａを供給する蒸気供給手段１５を備えたものである。  
この構成によれば、蒸気供給手段１５がワークの蒸気洗浄時（図３参照）にのみ上述の処理エリア８に濃度１００％の溶剤蒸気ａを供給し、浸漬洗浄時（ポジションＰ１参照）、ワーク乾燥時（ポジションＰ２参照）および待機時においては濃度１００％の溶剤蒸気ａを処理エリア８に供給しないので、従来の蒸気層に常時溶剤蒸気を供給するものに対して、溶剤消費なかんずく蒸気発生による自然ロスを大幅に低減させることができる。
【００５６】
また、上記処理エリア８の溶剤蒸気aを吸引する蒸気吸引手段１９，２５を設け、該蒸気吸引手段１９，２５で処理エリア８の溶剤蒸気aを吸引した時、冷却手段（冷却コイル７参照）より下側の該処理エリア８をワーク乾燥エリアに設定するものである。
【００５７】
この構成によれば、冷却手段（冷却コイル７参照）よりも下側の処理エリア８をワーク乾燥エリアに設定し、ワークの乾燥時には処理エリア８の溶剤蒸気aを蒸気吸引手段１９，２５にて吸引するので、適切にワークの乾燥を行なうことができ、またワーク乾燥後において該ワークをワーク乾燥エリア（ポジションＰ２参照）から冷却手段（冷却コイル７参照）上方に持ち上げても溶剤の持ち出しロスが極めて僅少となる。
【００５８】
換言すれば、冷却手段（冷却コイル７参照）よりも下側の同一の処理エリア８を蒸気洗浄時には蒸気層に設定し、ワーク乾燥時には蒸気を吸引してワーク乾燥エリアに設定するので、溶剤消費（溶剤ロス）を大幅に低減させることができる。
【００５９】
この結果、装置のランニングコストの低減を図ることができ、またフリーボードを従来装置のように高く設定する必要がなくなるので、装置の小型化が達成できるうえ、ワークの出し入れも容易となる。  
この発明の構成と、上述の実施例との対応において、  
この発明の冷却手段は、実施例の冷却コイル７に対応し、
以下同様に、  
蒸気吸引手段は、少なくともエアポンプ１７に対応するも、  
この発明は、上述の実施例の構成のみに限定されるものではない。
【００６０】
例えば、上記実施例において開示した冷却温度約１０℃、約−２０℃、約−３０℃の数値、並びに溶剤蒸気の濃度約２０万ｐｐｍ、約５万ｐｐｍの数値は一例であって、これに限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明のワーク洗浄装置を示す系統図。
【図２】浸漬洗浄時、ワーク乾燥時、待機時の説明図。
【図３】蒸気洗浄時の説明図。
【図４】従来のワーク洗浄装置を示す断面図。
【符号の説明】
【００６２】
１…タンク本体
５…ワーク出入口
６…洗浄槽
７…冷却コイル（冷却手段）
８…処理エリア
１５…蒸気供給手段
１７…エアポンプ（蒸気吸引手段）
Ａ…溶剤
ａ…溶剤蒸気
【図１】
2005074319.tif 000003
【図２】
2005074319.tif 000004
【図３】
2005074319.tif 000005
【図４】
2005074319.tif 000006