(57)【要約】【課題】  遮光壁の壁面のだれが少なく、遮光壁を狭い間隔で微細に配列することができ、視野制御機能が向上した視野制御シート及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】  可視光透過性基材２上に、遮光壁２０を列状に設けたシート１であって、この遮光壁２０が前記基材２上に設けられた遮光パターン１０と、これをマスクとして形成された感光性樹脂組成物からなる固化物５とから構成されている。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可視光透過性基材上に、遮光壁を列状に設けたシートであって、この遮光壁が前記基材上に設けられた遮光パターンと、これをマスクとして形成された感光性樹脂組成物からなる固化物とから構成されていることを特徴とする視野制御シート。
【請求項２】
前記遮光パターンが、銀錯塩拡散転写現像法により物理現像された金属銀と、この金属銀を触媒核として、金属をめっきしためっき金属層とからなるものであることを特徴とする請求項１に記載の視野制御シート。
【請求項３】
前記感光性樹脂組成物が、紫外線感光性であることを特徴とする請求項１又は２に記載の視野制御シート。
【請求項４】
前記感光性樹脂組成物からなる固化物が、可視光を吸収することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の視野制御シート。
【請求項５】
前記感光性樹脂組成物からなる固化物が、可視光を散乱することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の視野制御シート。
【請求項６】
前記感光性樹脂組成物が、微粒子を０．５〜３０質量％含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の視野制御シート。
【請求項７】
前記遮光壁の幅が３〜３００μｍ、高さが１０〜３００μｍであって、幅／高さの比が１／３〜３であり、かつ前記遮光壁の間隔が５〜５００μｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の視野制御シート。
【請求項８】
垂直入射光の全光線透過率が４０％以上であって、３０度斜め入射光の光線透過率が２０％以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の視野制御シート。
【請求項９】
可視光透過性基材上に、遮光パターンを形成した後、前記基材及び前記遮光パターン上に、感光性樹脂組成物を被覆し、次いで前記基材側より、前記遮光パターンを介して前記感光性樹脂組成物を露光した後、露光された前記感光性樹脂組成物を除去することを特徴とする視野制御シートの製造方法。
【請求項１０】
可視光透過性基材上に予め設けられた物理現像核層に、未露光のハロゲン化銀を物理現像処理により供給し、前記物理現像核層上に任意の細線パターンで金属銀を析出させた後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきし、前記金属銀上にめっき金属層を形成して、遮光パターンを形成することを特徴とする視野制御シートの製造方法。
【請求項１１】
前記基材上に、物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順序で有する感光材料を露光し、物理現像処理により前記物理現像核層上に任意の細線パターンで金属銀を析出させ、次いで前記物理現像核層上に設けられた層を除去した後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきし、前記金属銀上にめっき金属層を形成して前記遮光パターンを形成することを特徴とする請求項９又は１０に記載の視野制御シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＣＲＴ、ＬＣＤ、ＥＬＤ、ＰＤＰ、電子ペーパー等の表示素子の表示面に貼付されて、視野を制限したり、外光を遮断する等の用途あるいはそれらの表示素子や背面透過型スクリーン等のコントラスト向上のために用いられる視野制御シート及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の視野制御シートに関しては、特許文献１に開示のものがある。この先行発明のライトコントロールフィルムは、ガラス、透明プラスチックフィルム、又はシートからなる透明支持体上に、ハロゲン化銀乳剤を塗布して、銀塩感光層を形成する。
次いで、この銀塩感光層にマスクを介して露光するか、或いはレーザーにより露光描画して潜像パターンを形成し、次いで現像、定着して透明基板上に金属塩からなるパターンを形成し、このパターンの平面形状を格子状とすることで、視野制御機能を持たすようにしたものである。
【０００３】
また、特許文献２に開示された外光反射防止遮光スクリーンは、透明板上に感光性樹脂組成物層を形成し、この上に露光マスクを置き、露光マスク側から紫外線を照射し、次いで、現像を行って非露光部分の感光性樹脂組成物を除去して、透明板上に縞又は格子模様状の突起を形成したものである。
【特許文献１】特開平１１−７２６０３号公報
【特許文献２】特公平２−１９４４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に係るライトコントロールフィルムでは、視野制御機能を担う金属銀パターンが銀塩感光層の露光、現像によってなされるため、この厚さ、すなわち、パターンの高さが数十μｍにとどまることから、視野制御機能が不充分である欠点がある。
【０００５】
また、特許文献２に係る外光反射防止遮光スクリーンでは、露光マスク側から紫外線を照射する方法を採用しており、マスクと感光性樹脂組成物との間にマスク保護用の中間層を設ける必要があるため、露光時にマスクと感光性樹脂組成物との間を完全に密着できず、紫外線の回折現象により、感光性樹脂組成物層の壁面がシャープにならず、だれることと、露光後、このマスクを除去する手間がかかるという欠点がある。
【０００６】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、遮光壁の壁面のだれが少なく、遮光壁を狭い間隔で微細に配列することができ、視野制御機能が向上した視野制御シート及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
かかる課題を解決するため、
請求項１にかかる発明は、可視光透過性基材上に、遮光壁を列状に設けたシートであって、この遮光壁が前記基材上に設けられた遮光パターンと、これをマスクとして形成された感光性樹脂組成物からなる固化物とから構成されていることを特徴とする視野制御シートである。
【０００８】
請求項２にかかる発明は、前記遮光パターンが、銀錯塩拡散転写現像法により物理現像された金属銀と、この金属銀を触媒核として、金属をめっきしためっき金属層とからなるものであることを特徴とする請求項１に記載の視野制御シートである。
【０００９】
請求項３にかかる発明は、前記感光性樹脂組成物が、紫外線感光性であることを特徴とする請求項１又は２に記載の視野制御シートである。
【００１０】
請求項４にかかる発明は、前記感光性樹脂組成物からなる固化物が、可視光を吸収することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の視野制御シートである。
【００１１】
請求項５にかかる発明は、前記感光性樹脂組成物からなる固化物が、可視光を散乱することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の視野制御シーである。
【００１２】
請求項６にかかる発明は、微粒子を０．５〜３０質量％含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の視野制御シートである。
【００１３】
請求項７にかかる発明は、前記遮光壁の幅が３〜３００μｍ、高さが１０〜３００μｍであって、幅／高さの比が１／３〜３であり、かつ前記遮光壁の間隔が５〜５００μｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の視野制御シートである。
【００１４】
請求項８にかかる発明は、垂直入射光の全光線透過率が４０％以上であって、３０度斜め入射光の光線透過率が２０％以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の視野制御シートである。
【００１５】
請求項９にかかる発明は、可視光透過性基材上に、遮光パターンを形成した後、前記基材及び前記遮光パターン上に、感光性樹脂組成物を被覆し、次いで前記基材側より、前記遮光パターンを介して前記感光性樹脂組成物を露光した後、露光された前記感光性樹脂組成物を除去することを特徴とする視野制御シートの製造方法である。
【００１６】
請求項１０にかかる発明は、可視光透過性基材上に予め設けられた物理現像核層に、未露光のハロゲン化銀を物理現像処理により供給し、前記物理現像核層上に任意の細線パターンで金属銀を析出させた後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきし、前記金属銀上にめっき金属層を形成して、遮光パターンを形成することを特徴とする視野制御シートの製造方法である。
【００１７】
請求項１１にかかる発明は、前記基材上に、物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順序で有する感光材料を露光し、物理現像処理により前記物理現像核層上に任意の細線パターンで金属銀を析出させ、次いで前記物理現像核層上に設けられた層を除去した後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきし、前記金属銀上にめっき金属層を形成して前記遮光パターンを形成することを特徴とする請求項９又は１０に記載の視野制御シートの製造方法である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の視野制御シート及びその製造方法によれば、遮光壁の壁面のだれが少なく、遮光壁を狭い間隔で微細に配列し、かつ視野制御機能の向上した視野制御シートを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
［第１の実施形態］
図１は、第１の実施形態に係る視野制御シート１の断面図である。本発明の視野制御シート１は、基材２と、この基材２上に列状に設けた遮光壁２０から構成されている。
【００２０】
この基材２は、光透過性材料からなり、可視領域で透明であり、またフレキシブル性を有するものが好ましい。このような材料として、好ましくはプラスチック樹脂フィルムが挙げられる。例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、マレイミド樹脂、エポキシ樹脂等からなる厚さが１０〜２００μｍの単層又は複合フィルムが挙げられる。
また、厚さ０．１〜１０ｍｍのソーダガラス、耐熱ガラス、石英ガラス等のガラス板を用いてもよい。
【００２１】
この基材２上には、多数の遮光壁２０が、列状に立設されている。この遮光壁２０は、幅が３〜３００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍ、高さが１０〜３００μｍ、好ましくは２０〜３００μｍであって、幅／高さの比が１／３〜３、好ましくは１〜３のものである。またこの遮光壁２０の間隔は５〜５００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍである。
遮光壁２０の幅を３〜３００μｍ、高さを１０〜３００μｍ、幅／高さの比を１／３〜３、遮光壁２０の間隔を５〜５００μｍとして基材上に立設することにより、光の入射角度や出射角度を制御できるため、視野を制限したり、外光を遮断する機能を持たせることができる。
この遮光壁２０は、遮光パターン１０と、感光性樹脂組成物からなる固化物５とから構成されている。
【００２２】
この遮光パターン１０は、感光性樹脂組成物からなる固化物５を設ける際にフォトマスクとしての役割を果たすため、不透明、あるいは半透明な材料からなるものである。この遮光パターン１０は、例えば、エッチング法、スクリーン印刷、インクジェット法、銀錯塩拡散転写現像法（ＤＴＲ現像法）等の現像法により形成することができる。また、必要に応じて、無電解めっき法、電解めっき法を併用することもできる。
そのなかでも、銀、銅、ニッケル、鉄、アルミニウム等の金属やこれら１種以上の合金からなる遮光パターン１０が、パターン形成の容易な点から好ましく、銀錯塩拡散転写現像法（ＤＴＲ現像法）により物理現像された金属銀３と、この金属銀３を触媒核としてその上に銅、ニッケル、銀、鉄等の１種以上の金属をめっきしためっき金属層４とからなるのが、より好ましい。
【００２３】
この遮光パターン１０の幅と間隔は上述した遮光壁２０と等しい。そして、この遮光パターン１０を形成する金属銀３の高さは５ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１０ｎｍ〜０．５μｍであって、めっき金属層４の高さは０．３〜５μｍ、好ましくは０．５〜２μｍである。
【００２４】
この遮光パターン１０上には、遮光パターン１０と同じ幅で、感光性樹脂組成物からなる固化物５が設けられている。この感光性樹脂組成物には、感光性を有するいかなる樹脂も用いられる。そのなかでも、紫外線感光性であることが好ましい。
感光性を有する樹脂としては、例えば、紫外線露光部分が化学的に分解すること等により、アルカリ水溶液等の現像液への溶解性が向上するようなポジ型感光性樹脂が挙げられる。
【００２５】
このようなポジ型感光性樹脂としては、例えばナフトキノンジアジド、ベンゾキノンジアジド等のキノンジアジド類やジアゾ化合物、ｏ−ニトロベンジルエステル、オニウム塩、オニウム塩とポリフタルアルデヒド、コリン酸ｔ−ブチルの混合物のような光分解剤（溶解抑制剤）と、ＯＨ基を持ちアルカリに可溶なハイドロキノン、フロログルシン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン等のモノマーやフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂等のノボラック樹脂、スチレンとマレイン酸、マレイミドの共重合物フェノールとメタクリル酸、スチレン、アクリロニトリルの共重合物等のポリマー混合物や縮合物、あるいはポリメチルメタクリレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸ヘキサフルオロブチル、ポリメタクリル酸ジメチルテトラフルオロプロピル、メタクリル酸メチル−アクリロニトリル共重合体、ポリメチルイソプロペニルケトン、ポリ−α−シアノアクリレート等が挙げられる。
【００２６】
この感光性樹脂組成物からなる固化物５は、パターン形成された感光性樹脂組成物を乾燥等により固化し、形成されたものであればよく、透明あるいは不透明に限定されない。
感光性樹脂組成物からなる固化物５が透明である場合でも、入射光の屈折、散乱等により、遮光パターン１０との組合せで視野制御が可能となる。視野制御機能向上のためには、感光性樹脂組成物からなる固化物５は、可視光を吸収するもの、あるいは可視光を散乱するものであることが好ましい。
【００２７】
また、感光性樹脂組成物が、微粒子を０．５〜３０質量％含有することが好ましい。このような微粒子としては、平均粒径１０ｎｍ〜１５μｍ、好ましくは５０ｎｍ〜１０μｍの透明又は不透明の微粒子を好適に用いることができる。
透明微粒子としては、ガラスビーズ、透明樹脂微粒子が挙げられ、不透明な微粒子としては、溶性アゾ顔料、不溶性アゾ顔料、金属錯塩アゾ顔料、フタロシアニン顔料、縮合多環顔料等の有機顔料、カーボンブラック、グラファイトや、ヘマタイト、マグネタイト等の酸化鉄や、クロム、鉛、カドミウム、銅クロム黒等の金属複合系等の無機顔料や、アクリル樹脂等の有機材料よりなる着色微粒子が挙げられる。そのなかでも遮光性が高い、耐候性がよい等の点から無機顔料が好ましい。
【００２８】
本発明では、複数の色の着色微粒子を混合して、使用することもできる。
さらに本発明では、微粒子の感光性樹脂組成物中の分散性を向上したり、遮光性を高める目的で、表面に高分子化合物がグラフトされている微粒子、あるいは樹脂により被覆された微粒子を用いることもできる。グラフトする高分子化合物、被覆樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。樹脂全体に対する微粒子の含有量は、好ましくは０．５〜３０質量％、最も好ましくは３〜２０質量％である。
【００２９】
この感光性樹脂組成物にはイソシアネート系化合物、メラミン系化合物、酸無水物系化合物、アミン系化合物等の架橋剤を添加することができ、露光部の感光性樹脂組成物を除去した後、遮光パターン上に形成された感光性樹脂組成物の固化物は、熱処理や電子線照射等により硬化させてもよい。
【００３０】
また、感光性樹脂組成物からなる固化物５は、遮光パターン１０上に形成した感光性樹脂組成物を染色し形成したものであってもよい。感光性樹脂組成物を染色する染料としては、例えば、カチオン染料、分散染料、酸性染料、反応性染料等を用いることができる。染色は、表面が染色されるのみでもよい。
【００３１】
本発明では、感光性樹脂組成物からなる固化物５を遮光パターン１０上に形成することにより、シートを透過する可視光の入射角度範囲を制限することにより、視野を制御することが可能となる。
【００３２】
本実施形態では、この遮光壁２０及び遮光壁２０の形成されていない基材２の上に帯電防止処理層６と防汚処理層７とが設けられている。この帯電防止処理層６は、厚さ５０ｎｍ〜５μｍのアクリル系樹脂等からなる層である。帯電防止処理層６を設けることにより、表面の抵抗値を１０１１Ω／□以下とし、帯電による汚れの付着を防止することができる。
【００３３】
また、防汚処理層７は、厚さ５０ｎｍ〜３μｍのフッ素樹脂、シリコン変性樹脂、アルキルカルバメート系樹脂等からなる層である。防汚処理層７を設けることにより、指紋やほこり等による汚染を防止することができる。
【００３４】
これら帯電防止処理層６と防汚処理層７は、基材２の遮光壁が形成された側の面だけでなく、基材２の遮光壁が形成されていない側の面に設けることができる。どちらか一方の面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。
なお、これら帯電防止処理層６と防汚処理層７を設けなくても、本発明の効果を発揮する視野制御シートが得られる。
【００３５】
この視野制御シート１は、垂直入射光の全光線透過率が４０％以上、好ましくは５０％以上、さらに好ましくは６０％以上であって、３０度斜め入射光の光線透過率が２０％以下、好ましくは１５％以下である。全光線透過率が４０％未満であると、透明性が低下するため、視野が暗くなるからである。また、３０度斜め入射光の光線透過率が２０％を超えると、視野制御できないからである。
【００３６】
本発明の視野制御シート１の製造方法は、以下の通りである。まず、基材２上に、遮光パターン１０を形成した後、基材２及び遮光パターン１０上に、感光性樹脂組成物を被覆し、次いで遮光パターン１０を設けた基材２の反対側より、この遮光パターン１０を介して感光性樹脂組成物を露光した後、露光された感光性樹脂組成物を除去する。
【００３７】
この遮光パターン１０を形成するには、特公昭４２−２３７４５号公報に記載された銀錯塩拡散転写現像法（ＤＴＲ現像法）を応用することができる。この方法は、基材上に、物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順序で有する感光材料層を露光し、物理現像処理により、前記物理現像核層上に任意の細線パターンで金属銀を析出させ、次いで前記物理現像核層上に設けられた層を除去した後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきし、前記金属銀上にめっき金属層を形成するものである。
【００３８】
具体的には、基材２上に、物理現像核層を設け、この上にハロゲン化銀乳剤層を塗布して感光層を形成した後、この感光層を露光し、物理現像処理により露光された物理現像核層上に金属銀３を析出させ、次いでこの物理現像核層の上に設けられた余分のハロゲン化銀乳剤層を除去した後、物理現像された金属銀３を触媒核として金属をめっきし、金属銀３上にめっき金属層４を形成するものである。
【００３９】
この物理現像核層とは、金属銀３を析出させるため、還元反応の出発点となるものである。この物理現像核層には、物理現像核と親水性バインダーが含まれている。この物理現像核としては、重金属又はその硫化物からなる微粒子（粒子サイズは１〜数十ｎｍ程度）が用いられる。例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられる。
【００４０】
また、親水性バインダーとしては、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース、アルブミン、カゼイン、アルギン酸ナトリウム、各種デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとビニルイミダゾールの共重合体等を用いることができる。
【００４１】
この物理現像核層の形成には、物理現像核と親水性バインダー等からなる組成物を、ディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング等で塗布する方法が用いられる。
【００４２】
この物理現像核層の上に、金属銀３を析出させるためのハロゲン化銀乳剤層を塗布する。このハロゲン化銀乳剤層とは、ハロゲン化銀乳剤を含有するものであり、ハロゲン化銀写真感光材料の一般的なハロゲン化銀乳剤の製造方法に従って製造することができるものである。
物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層とは、この順に一体的に基材２上に設けて感光層を形成してもよい。
【００４３】
次いで、この感光層を露光し、物理現像処理により物理現像核層上に金属銀３を析出させた後、この物理現像核層の上に設けられた余分のハロゲン化銀乳剤層を除去する。
露光に際しては、ストライプ状のパターンが描かれた透過原稿とこの感光層を密着させて露光させることができる。
【００４４】
露光方法として、パターンの透過原稿とハロゲン化銀乳剤層を密着して紫外光で露光する方法、あるいは各種レーザー光を用いて走査露光する方法等がある。
前者の紫外光を用いた密着露光は、ハロゲン化銀の感光性は比較的低くても可能であるが、レーザー光を用いた走査露光の場合は比較的高い感光性が要求される。従って、後者の露光方法を用いる場合は、ハロゲン化銀の感光性を高めるために、ハロゲン化銀は化学増感あるいは増感色素による分光増感を施してもよい。化学増感としては、金化合物や銀化合物を用いた金属増感、硫黄化合物を用いた硫黄増感、あるいはこれらの併用が挙げられる。好ましくは、金化合物と硫黄化合物を併用した金−硫黄増感である。
【００４５】
上記したレーザー光で露光する方法においては、４５０ｎｍ以下の発振波長の持つレーザー光、例えば４００〜４３０ｎｍに発振波長を有する青色半導体レーザー（バイオレットレーザーダイオードとも云う）を用いることによって、明室下（明るいイエロー蛍光灯下）でも取り扱いが可能となる。
【００４６】
この感光層を、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下、アルカリ液中で物理現像処理することにより、銀錯塩拡散転写現像（ＤＴＲ現像）が起こる。この時、露光された部分はハロゲン化銀乳剤層中で化学現像されて黒化した金属銀となる。一方、非露光部のハロゲン化銀は、可溶性銀錯塩形成剤により溶解されて銀錯塩となり、これが物理現像核上で還元剤により還元されてコロイド状の金属銀を形成する。このコロイド状の金属銀が先の黒化銀上に吸着して析出し、透過原稿のパターンに応じた銀色の金属銀３（物理現像された金属銀）を得ることができる。
【００４７】
このような可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、アルカノールアミン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩等が挙げられる。
【００４８】
また、還元剤としては、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。例えば、ハイドロキノン、カテコール等のポリヒドロキシベンゼン類、１−フェニル−４−ジメチル−３−ピラゾリドン等の３−ピラゾリドン類等が挙げられる。
【００４９】
現像後、余分のハロゲン化銀乳剤層を水洗除去して、金属銀３を基材２表面に露出させる。次いで、この物理現像された金属銀３を触媒核として金属をめっきし、金属銀３上にめっき金属層４を形成して遮光パターン１０を作製する。
【００５０】
この金属めっき方法は、公知の方法で行うことができるが、例えば、無電解めっき法、電解めっき法又は両者を組み合わせためっき法のいずれでも可能である。電解メッキ法としては、銅、ニッケル、銀、金、半田、若しくは銅及び／又はニッケルの多層あるいは複合系等の従来公知の方法を使用できる。
【００５１】
その後、基材２及び遮光パターン１０上に、感光性樹脂組成物を被覆し、次いで遮光パターン１０を設けた基材２の反対側より、この遮光パターン１０を介して感光性樹脂組成物に紫外線を照射して露光する。
【００５２】
この感光性樹脂組成物からなる固化物５は、上記に説明した樹脂を、ディップコーティング、バーコーティング、ロールコーティング等で塗布又は積層することにより形成できる。
【００５３】
次いで、紫外線露光部分は現像液に対する溶解性が向上しているため、この溶解性の高い感光性樹脂組成物を除去する。この除去には、アルカリ水又は溶剤等の現像液による溶解等の公知の除去方法を用いることができる。露光部の感光性樹脂組成物を除去することにより、遮光パターン１０上に形成された感光性樹脂組成物からなる固化物５のみを残し、これ以外の余分に塗布又は積層した感光性樹脂組成物を取り除くことができる。
【００５４】
現像液としては、上記の感光性樹脂組成物の露光部の溶解性は高いのだが、未露光部の溶解性が低い、あるいは全く溶解しないものを用いる。具体的な現像液としては、例えばメタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の無機アルカリ、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド等の有機アルカリのアルカリ水溶液、エタノールアミンのアルコール溶液、アルコール等の有機溶剤等が挙げられるが、均一で精度の高い現像、水系化が可能である点からアルカリ水溶液が好ましい。
遮光パターン１０上に形成された感光性樹脂組成物からなる固化物５は、強度、形状維持、耐熱性の向上のため、熱処理、電子線照射等の処理を行ってもよい。
【００５５】
この感光性樹脂組成物からなる固化物５の上に、アクリル系樹脂等の帯電防止処理層６及びフッ素樹脂、シリコン変性樹脂、アルキルカルバメート系樹脂等の防汚処理層７を、ディップコーティング、バーコーティング、ロールコーティング等の塗布・乾燥方法でコートしたり、酸化錫、酸化インジウム等の金属酸化物の帯電防止処理層６及び酸化チタン等の防汚処理層７を、ＣＶＤ法、スパッタリング法、蒸着法等の薄膜形成方法により形成することができる。
【００５６】
［第２の実施形態］
図２は、第２の実施形態に係る視野制御シート１の断面図である。本実施形態の視野制御シート１は、基材２と、この基材２上に列状に設けた遮光壁２０及び透明樹脂層８とから構成される。以下に、第１の実施形態と異なる部分を説明し、第１の実施形態と同様の部分の説明は省略する。
【００５７】
本実施形態では、第１の実施形態と異なり、遮光壁２０の列間に透明樹脂層８が、遮光壁２０と同じ高さで設けられている。ここで、感光性樹脂組成物からなる固化物５は、透明あるいは不透明に限定されないが、可視光を吸収するもの又は散乱するもので形成されていることが好ましい。そして、この遮光壁２０と透明樹脂層８の上に、帯電防止処理層６及び防汚処理層７が設けられている。
【００５８】
この透明樹脂層８には、透明ないかなる樹脂組成物も用いられる。そのなかでも、アクリル系等、エポキシ系等の光重合性樹脂等の放射線硬化型樹脂やエポキシ系、ウレタン系等の熱硬化型樹脂が挙げられる。これらの透明樹脂層８は、遮光パターン上に形成した感光性樹脂組成物の固化物５を硬化する際、同時に放射線や熱等により硬化することもできる。
【００５９】
この透明樹脂層８は、遮光パターン１０上に、感光性樹脂組成物からなる固化物５を形成した後、上記樹脂を、ディップコーティング、バーコーティング、ロールコーティング等で塗布する方法や、透明熱可塑性樹脂組成物からなるホットメルト剤を溶融して付着、塗布する方法で形成することができる。
この透明樹脂層８を設けることにより、視野制御シート１の機械的強度を向上させることができる。
【００６０】
本実施形態の視野制御シートでは、感光性樹脂組成物の固化物５と透明樹脂層８の上に、さらに透明プラスチックフィルム又は透明樹脂よりなる保護層を形成し、シートの強度を向上することもできる。これらの保護層は、感光性樹脂組成物の固化物５と透明樹脂層８の上部に、熱融着、接着剤による接着等の方法により積層形成することができる。その際、帯電防止処理層６及び防汚処理層７は、この保護層上に設けられることが好ましい。
【００６１】
本発明の視野制御シートは、遮光パターンをマスクとして利用することにより、露光時にマスクと感光性樹脂組成物との間が完全に密着できるため、紫外線の回折現象による遮光壁の壁面のだれを少なくすることができる。
【００６２】
また、本発明の視野制御シートは、遮光パターンとして、銀錯塩拡散転写現像法により物理現像した金属銀を用いるため、幅の細い遮光壁を狭い間隔で微細に配列させることができる。
【実施例】
【００６３】
以下、実施例により、本発明をさらに詳しく説明する。本発明は、下記実施例に何ら制限されるものではない。
【００６４】
［実施例１］
〈視野制御シートの作製〉
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムに、固形分で１ｍｇ／ｍ２の硫化パラジウムのヒドロゾル液を塗布し、乾燥して物理現像核層を設けた。続いて、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造したハロゲン化銀乳剤層（塩化銀９０モル％と臭化銀１０モル％で、平均粒径が０．２３μｍになるように調製）を上記物理現像核層の上に塗布した。ハロゲン化銀乳剤層の銀（硝酸銀）／ゼラチンの質量比は１．５で、ハロゲン化銀量（硝酸銀に換算）が２ｇ／ｍ２になるように塗布して感光層を作製した。
【００６５】
この感光層を水銀灯を光源とする明室用密着プリンターで、幅２０μｍ、この幅と幅との間隔が５０μｍのストライプ状の透過原稿を介して露光し、続いて市販の銀錯塩拡散転写用現像液で、２５℃で４０秒間浸漬現像した後、ハロゲン化銀乳剤層を水洗除去して、幅２０μｍ、幅と幅との間隔５０μｍ、高さ７０ｎｍの物理現像した金属銀を形成した。
【００６６】
次いで、平均粒径１μｍのカーボンブラックを５質量％含有した紫外線ポジ型樹脂  ノボラック樹脂／キノンジアジド系樹脂溶液（シプレイ・ファーイースト（株）製）３０μｍをアプリケーターで塗布し、波長３６５ｎｍ、３００ｍＪの紫外線を照射した。露光部をアルカリ水溶液で洗浄して除去し、乾燥し、遮光壁を形成した。さらに、１２０℃で１０分の熱処理を行った。
その上に、アクリル系帯電防止コート剤を厚さ１μｍ塗布し帯電防止層を形成し、さらにフッ素樹脂コート剤を厚さ０．５μｍ塗布して防汚層を形成した。
【００６７】
〈評価方法〉
得られた視野制御シートの全光線透過率（％）は、ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１の測定法に従って測定した。基材とのなす角度が９０度の垂直入射光の全光線透過率と基材とのなす角度が３０度斜め入射光の光線透過率を測定した。
これらの結果を表１に示す。
【００６８】
【表１】
2005331819.tif 000003
【００６９】
［実施例２］
実施例１と同様にして遮光壁を形成した後、アクリル樹脂からなる紫外線硬化型透明樹脂“デナオプトＸＮＲ５４７２Ｆ”（ナガセケムテックス（株）製）をアプリケーターで塗布し、さらに溝のないバーでスキージし、遮光壁の列間にのみ透明樹脂が残るよう余分の樹脂を除去した。つづいて波長３６５ｎｍ、４００ｍＪの紫外線を照射して、透明樹脂を硬化し、遮光壁の列間に透明樹脂を埋め込んだ。その後、実施例１と同様にして、帯電防止層と防汚層を形成した。
得られた視野制御シートは、実施例１と同様に評価した。
結果を表１に示す。
【００７０】
以上の結果から、本発明による視野制御シートは、垂直入射光の全光線透過率が４０％以上であって、３０度斜め入射光の光線透過率が２０％以下であることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】第１の実施形態に係る視野制御シートの断面図である。
【図２】第２の実施形態に係る視野制御シートの断面図である。
【符号の説明】
【００７２】
１  視野制御シート
２  基材
３  金属銀
４  めっき金属層
５  感光性樹脂組成物からなる固化物
１０  遮光シート
２０  遮光壁
【図１】
2005331819.tif 000004
【図２】
2005331819.tif 000005