(57)【要約】【課題】その製造効率の向上を図り得る磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】ガラス基材５１上に記録層５５が形成された平板状の中間体Ｍ上にレジスト層５８ａを形成すると共に中間体Ｍの中間体中心を特定し、特定した中間体中心とスタンパーＳに形成されているスタンパー中心特定用のマークＳｍに基づいて特定したスタンパー中心とを中間体Ｍの厚み方向で一致させるようにして中間体ＭにスタンパーＳを重ね合わせてレジスト層５８ａにスタンパーＳの凹凸パターンを転写し、凹凸パターンを転写したレジスト層５８ａを使用して中間体Ｍの記録層５５に凹部を形成してディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造する。【選択図】        図１９
2005044390.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持基材上に磁性層が形成された平板状の磁気記録媒体用中間体上に樹脂層を形成すると共に当該磁気記録媒体用中間体の中間体中心を特定し、当該特定した中間体中心と磁気記録媒体用スタンパーに形成されているスタンパー中心特定用マークに基づいて特定したスタンパー中心とを前記磁気記録媒体用中間体の厚み方向で一致させるようにして当該磁気記録媒体用中間体に当該磁気記録媒体用スタンパーを重ね合わせて前記樹脂層に当該磁気記録媒体用スタンパーの凹凸パターンを転写し、当該凹凸パターンを転写した前記樹脂層を使用して前記磁気記録媒体用中間体の前記磁性層に凹部を形成してディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記中間体中心を特定可能な中間体中心特定用マークが形成された前記磁気記録媒体用中間体を使用して、前記中間体中心特定用マークに基づいて特定した前記中間体中心と前記スタンパー中心とを前記厚み方向で一致させるようにして前記磁気記録媒体用中間体に前記磁気記録媒体用スタンパーを重ね合わせて前記樹脂層に凹凸パターンを転写する請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
ディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造するための凹凸パターンが形成されると共にその中心を特定可能なスタンパー中心特定用マークが形成されている磁気記録媒体用スタンパー。
【請求項４】
前記スタンパー中心特定用マークは、当該磁気記録媒体用スタンパーにおける中心部の一部を突出させた凸部、および当該磁気記録媒体用スタンパーにおける中心部の一部を凹ませた凹部のいずれか一方で構成されている請求項３記載の磁気記録媒体用スタンパー。
【請求項５】
ディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造可能に支持基材上に磁性層が形成されると共にその中心を特定可能な中間体中心特定用マークが形成されている磁気記録媒体用中間体。
【請求項６】
前記中間体中心特定用マークは、当該磁気記録媒体用中間体における中心部の一部を突出させた凸部、および当該磁気記録媒体用中間体における中心部の一部を凹ませた凹部のいずれか一方で構成されている請求項５記載の磁気記録媒体用中間体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、樹脂層を形成した磁気記録媒体用中間体に磁気記録媒体用スタンパーを重ね合わせてその樹脂層に凹凸パターンを転写して、その樹脂層を用いて磁気記録媒体用中間体の磁性層に凹部を形成してディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体用スタンパーおよび磁気記録媒体用中間体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
この種のディスクリートトラック型磁気記録媒体（以下、「ディスクリートトラック媒体」ともいう）の製造方法として、出願人は、ディスク状基材（Ｄ）上に形成したレジスト層（Ｒ）に転写装置（２）によってモールド（２４：スタンパー）を押し付けてマスクを形成し、このマスクを使用してディスクリートトラック媒体を製造する製造方法を特願２００３−９６２５に提案している。なお、本明細書では、以下、先行出願についての符号を括弧付きで記載する。具体的には、まず、円板状のディスク状基材（Ｄ）にレジスト材をスピンコートしてレジスト層（Ｒ）を形成する。次に、ディスク状基材（Ｄ）を加熱ステージ（２１）に固定すると共にモールド（２４）をプレス機構（２２）に固定した後に、加熱ステージ（２１）およびプレス機構（２２）を制御してディスク状基材（Ｄ）およびモールド（２４）を加熱する。次いで、プレス機構（２２）がディスク状基材（Ｄ）に向けてモールド（２４）を押圧（プレス）する。この際には、モールド（２４）の凸部（２４ｐ）がディスク状基材（Ｄ）上のレジスト層（Ｒ）に押し込まれてレジスト材がモールド（２４）の凹部に入り込む。続いて、加熱ステージ（２１）およびプレス機構（２２）による加熱を停止させてレジスト層（Ｒ）およびモールド（２４）を所定温度まで低下させた後に、プレス機構（２２）がモールド（２４）をレジスト層（Ｒ）から引き離す。これにより、レジスト層（Ｒ）にモールド（２４）の凹凸パターンが転写されてレジストパターン（マスク）がディスク状基材（Ｄ）上に形成される。
【０００３】
次に、ディスク状基材（Ｄ）上のレジストパターン全体を酸素プラズマ処理することにより、レジストパターンにおける凹部の底面からディスク状基材（Ｄ）の磁性層（Ｆ）を露出させる。次いで、レジストパターンにおける凸部の先端面、およびレジストパターンにおける凹部の底面から露出している磁性層（Ｆ）の表面（凹部の底面）に金属を蒸着して金属層（Ｍ）を形成する。続いて、レジストパターンにおける凸部の先端部に形成されている金属層（Ｍ）をリフトオフ処理によってレジスト材と共に除去する。これにより、磁性層（Ｆ）の表面に形成した金属層（Ｍ）のみがディスク状基材（Ｄ）上に残留して金属パターンが形成される。次に、金属パターンをマスクとして使用して、磁性層（Ｆ）に対して反応性イオンエッチング処理を行う。これにより、マスクによって覆われていない部位の磁性層（Ｆ）が除去されて複数の溝が磁性層（Ｆ）に同心円状に形成される。次いで、反応性イオンエッチング処理を行うことによって磁性層（Ｆ）上に残留している金属パターンを除去する。この後、表面仕上げ処理等を行うことにより、記録データを記録するための複数のデータ記録用トラック（ディスクリートトラック：以下、「トラック」ともいう）が同心円状に形成されて、ディスクリートトラック媒体が製造される。
【０００４】
【先行出願１】
特願２００３−９６２５
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、出願人が提案しているディスクリートトラック媒体の製造方法には、以下の改善すべき課題がある。すなわち、出願人が提案している製造方法では、加熱ステージ（２１）にディスク状基材（Ｄ）を固定すると共にプレス機構（２２）にモールド（２４）を固定した状態でプレス機構（２２）がディスク状基材（Ｄ）に向けてモールド（２４）を移動させてその凸部（２４ｐ）をレジスト層（Ｒ）に押し付けて凹凸パターンを転写している。この場合、この種の製造方法に従って製造されるディスクリートトラック媒体は、前述したように、記録データを記録するための各トラックがその製造時に形成される。このため、記録データの記録再生時において各トラックに対して正確かつ容易にトラッキングを可能とするためには、記録データの記録再生時におけるディスクリートトラック媒体の回転中心（すなわち、ディスクリートトラック媒体の中心）と各トラックの中心とが一致するようにして磁性層（Ｆ）に溝を形成する必要がある。したがって、ディスク状基材（Ｄ）の磁性層（Ｆ）に溝を形成するためのレジストパターン（マスク）をディスク状基材（Ｄ）の中心に対して偏心させることなく形成する必要がある。このため、レジストパターンの形成に際しては、ディスク状基材（Ｄ）の中心と、モールド（２４）の中心（モールド（２４）における凹凸パターンの中心）とをディスク状基材（Ｄ）の厚み方向で一致させた状態でディスク状基材（Ｄ）上のレジスト層（Ｒ）にモールド（２４）を押し付ける必要がある。
【０００６】
この場合、出願人は、ディスク状基材（Ｄ）の中心を加熱ステージ（２１）における基準点に一致させた状態で固定すると共に、モールド（２４）の中心をプレス機構（２２）の基準点に一致させた状態で固定して、加熱ステージ（２１）およびプレス機構（２２）の両基準点がディスク状基材（Ｄ）の厚み方向で一致するようにディスク状基材（Ｄ）に向けてモールド（２４）を移動させて凹凸パターンを転写することにより、ディスク状基材（Ｄ）の中心に対するレジストパターン（マスク）の偏心（レジスト層（Ｒ）に転写された凹凸パターンのディスク状基材（Ｄ）に対する偏心）を回避している。この際に、一例として、工場顕微鏡等を使用してディスク状基材（Ｄ）の外縁部における任意の３点についてその座標を計測し、この計測結果に基づいてディスク状基材（Ｄ）の中心を演算して特定する必要がある。また、モールド（２４）については、一例として、その凹凸パターンにおける任意の凸部（２４ｐ）上の３点についてその座標を計測し、この計測結果に基づいてモールド（２４）の中心を演算して特定する必要がある。したがって、この計測作業および演算処理が煩雑のため、出願人が提案している製造方法には、ディスクリートトラック媒体の製造効率の向上を図るのが困難であるという課題が存在する。
【０００７】
本発明は、かかる改善すべき課題に鑑みてなされたものであり、その製造効率の向上を図り得る磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体用スタンパーおよび磁気記録媒体用中間体を提供することを主目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく本発明に係る磁気記録媒体の製造方法は、支持基材上に磁性層が形成された平板状の磁気記録媒体用中間体上に樹脂層を形成すると共に当該磁気記録媒体用中間体の中間体中心を特定し、当該特定した中間体中心と磁気記録媒体用スタンパーに形成されているスタンパー中心特定用マークに基づいて特定したスタンパー中心とを前記磁気記録媒体用中間体の厚み方向で一致させるようにして当該磁気記録媒体用中間体に当該磁気記録媒体用スタンパーを重ね合わせて前記樹脂層に当該磁気記録媒体用スタンパーの凹凸パターンを転写し、当該凹凸パターンを転写した前記樹脂層を使用して前記磁気記録媒体用中間体の前記磁性層に凹部を形成してディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造する。なお、本発明におけるディスクリートトラック型磁気記録媒体には、同心円状に形成した複数の溝（グルーブ）または螺旋状に形成した溝によって隣り合うデータ記録用トラック（磁性体部）が磁気的に互いに分離されたデータ記録領域を有する磁気記録媒体のみならず、データ記録領域をメッシュ状またはドット状に区切って（各データ記録用トラックをその長手方向においても磁気的に複数に分離させて）形成したデータ記録部（磁性体部）が島状（アイランド状）に孤立している、いわゆるパターンド媒体も含まれる。
【０００９】
この場合、前記中間体中心を特定可能な中間体中心特定用マークが形成された前記磁気記録媒体用中間体を使用して、前記中間体中心特定用マークに基づいて特定した前記中間体中心と前記スタンパー中心とを前記厚み方向で一致させるようにして前記磁気記録媒体用中間体に前記磁気記録媒体用スタンパーを重ね合わせて前記樹脂層に凹凸パターンを転写するのが好ましい。
【００１０】
また、本発明に係る磁気記録媒体用スタンパーは、ディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造するための凹凸パターンが形成されると共にその中心を特定可能なスタンパー中心特定用マークが形成されている。
【００１１】
この場合、前記磁気記録媒体用スタンパーにおける中心部の一部を突出させた凸部、および当該磁気記録媒体用スタンパーにおける中心部の一部を凹ませた凹部のいずれか一方で前記スタンパー中心特定用マークを構成するのが好ましい。
【００１２】
さらに、本発明に係る磁気記録媒体用中間体は、ディスクリートトラック型磁気記録媒体を製造可能に支持基材上に磁性層が形成されると共にその中心を特定可能な中間体中心特定用マークが形成されている。
【００１３】
この場合、前記磁気記録媒体用中間体における中心部の一部を突出させた凸部、および当該磁気記録媒体用中間体における中心部の一部を凹ませた凹部のいずれか一方で前記中間体中心特定用マークを構成するのが好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体用スタンパーおよび磁気記録媒体用中間体の好適な実施の形態について、添付図面を参照して説明する。なお、以下の説明において参照する各図面では、本発明についての理解を容易とするために、各層の厚みの比や、凸部および凹部の幅、高さ、深さ等について、実際とは相違する比、幅、高さ、深さで図示している。
【００１５】
最初に、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法に従ってディスクリートトラック型磁気記録媒体（以下、「ディスクリートトラック媒体」ともいう）を製造する磁気記録媒体製造装置１の構成について、図面を参照して説明する。
【００１６】
磁気記録媒体製造装置１は、図１に示すように、中間体製造装置２によって製造された磁気記録媒体用中間体（以下、「中間体」ともいう）Ｍと、スタンパー製造装置３によって製造された磁気記録媒体用スタンパー（以下、「スタンパー」ともいう）Ｓとを使用してディスクリートトラック媒体Ｄを製造可能に構成された製造装置であって、塗布装置１１、インプリント装置１２およびエッチング装置１３を備えて構成されている。この場合、ディスクリートトラック媒体Ｄは、垂直磁気記録型の磁気記録媒体であって、図２に示すように、下地層５２、軟磁性層５３、配向層５４、記録層５５（本発明における磁性層）、保護層５６を直径２１．６ｍｍ程度のガラス基材５１（本発明における支持基材）上にこの順で積層して構成されている。また、ディスクリートトラック媒体Ｄには、配向層５４に達する深さの複数の溝Ｆ，Ｆ・・が同心円状に形成され、これにより、記録データを記録するための複数のディスクリートトラック（以下、「トラック」ともいう）Ｔ，Ｔ・・が同心円状に形成されている。
【００１７】
また、図３に示すように、中間体Ｍは、下地層５２、軟磁性層５３、配向層５４、記録層５５および保護層５６，５７をガラス基材５１上にこの順で積層して構成され、図４に示すように、全体として円板状に形成されている。この中間体Ｍの中心には、本発明における中間体中心特定用マークに相当するマークＭｍが形成されている。この場合、図３に示すように、マークＭｍは、中間体Ｍにおける中心部の一部を凹ませて形成された直径９９．８μｍ程度、深さ２９．９μｍ程度の円形凹部で構成されている。また、図５に示すように、スタンパーＳは、導電膜６３および金属膜６４を積層して構成され、図６に示すように、全体として円板状に形成されている。また、スタンパーＳの表面には、後述するように中間体Ｍ上にマスク５８を形成するための同心円状の凹凸パターン（一例として、形成ピッチが１５０ｎｍ程度の凹凸パターン）が形成されると共に、その中心には、本発明におけるスタンパー中心特定用マークに相当するマークＳｍが形成されている。この場合、図５に示すように、マークＳｍは、スタンパーＳにおける中心部の一部を凹ませて形成された直径９０μｍ程度、深さ０．２μｍ程度の円形凹部で構成されている。
【００１８】
一方、塗布装置１１は、中間体Ｍの上にレジストをスピンコートすることによってレジスト層５８ａ（本発明における樹脂層の一例：図１８参照）を形成する。インプリント装置１２は、図１に示すように、出願人が提案している転写装置（２）の加熱ステージと同様に構成されたプレス用ベース部１２ａと、転写装置（２）のプレス機構と同様に構成されたプレス用ヘッド部１２ｂとを備えている。このインプリント装置１２は、塗布装置１１によって形成されたレジスト層５８ａにスタンパーＳを押し付けることによってスタンパーＳの凹凸パターンをレジスト層５８ａに転写して中間体Ｍ上にマスク５８（図２１参照）を形成する。エッチング装置１３は、インプリント装置１２によって形成されたマスクを使用して中間体Ｍをエッチングすることにより、中間体Ｍに溝Ｆ，Ｆ・・を形成してディスクリートトラック媒体Ｄを製造する。なお、エッチング装置１３は、実際には、酸素ガスまたはオゾンガスを用いたプラズマによるドライエッチングを行うエッチング装置と、ＣＦ４ガスまたはＳＦ６ガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングを行うエッチング装置と、ＮＨ３ガスが添加されたＣＯガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングを行うエッチング装置と、ＳＦ６ガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングを行うエッチング装置とを備えて構成されている。
【００１９】
次に、中間体製造装置２の構成、および中間体製造装置２によって中間体Ｍを製造する製造方法について、図面を参照して説明する。
【００２０】
中間体製造装置２は、図７に示すように、射出成形機２１、研磨装置２２および成膜装置２３〜２５を備えて構成されている。射出成形機２１は、円板状のガラス板５１ａ（図８参照）を成形する。研磨装置２２は、射出成形機２１によって成形されたガラス板５１ａの表裏両面を研磨することによってガラス基材５１を製作する。成膜装置２３は、例えばスパッタリング法によって下地層５２、軟磁性層５３、配向層５４および記録層５５をこの順でガラス基材５１上に成膜する。成膜装置２４は、例えばＣＶＤ法によって記録層５５上に保護層５６を成膜する。成膜装置２５は、例えばスパッタリング法によって保護層５６上に保護層５７を成膜して中間体Ｍを製造する。
【００２１】
この中間体製造装置２によって中間体Ｍを製造する際には、まず、射出成形機２１によって厚み０．５０ｍｍ程度の円板状のガラス板５１ａを成形する。この際に、図８に示すように、ガラス板５１ａの中心には、直径１００μｍ程度、深さ１５０μｍ程度の円形凹部５１ｍが形成される。また、射出成形機２１によって成形されたガラス板５１ａは、その表面に極く小さな凹凸が存在する状態（僅かに荒れた状態）となっている。次いで、研磨装置２２が同図に示す破線の部位までガラス板５１ａの表面を０．１２ｍｍ程度研磨することによって厚み０．３８ｍｍ程度のガラス基材５１を製作する。この際に、研磨装置２２によってガラス板５１ａの表面が研磨されることにより、円形凹部５１ｍの深さが３０μｍ程度となる。続いて、図９に示すように、成膜装置２３がガラス基材５１の表面（円形凹部５１ｍが形成された面）に下地層５２、軟磁性層５３、配向層５４および記録層５５をこの順で成膜する。この際に、成膜装置２３は、ガラス基材５１上にＣｒ（クロム）またはＣｒ合金をスパッタリングすることによって厚み１０ｎｍ〜２００ｎｍ程度の下地層５２を成膜する。また、成膜装置２３は、下地層５２上にＦｅ（鉄）またはＣｏ（コバルト）をスパッタリングすることによって厚み５０ｎｍ〜３００ｎｍ程度の軟磁性層５３を成膜する。さらに、成膜装置２３は、軟磁性層５３上にＣｏＯ、ＭｇＯおよびＮｉＯのいずれかをスパッタリングすることによって厚み３ｎｍ〜３０ｎｍ程度の配向層５４を成膜する。また、成膜装置２３は、配向層５４上にＣｏＣｒＰｔ（コバルト−クロム−プラチナ）を含むＣｏ合金、またはＣｏをスパッタリングすることによって厚み１０ｎｍ〜３０ｎｍ程度の記録層５５を成膜する。この場合、軟磁性層５３、配向層５４および記録層５５を成膜するための材料は、上記に例示した材料に限定されず、各種材料を適宜選定することができる。
【００２２】
この場合、ガラス基材５１の中心に円形凹部５１ｍが形成されているため、成膜装置２３によってガラス基材５１上に各層を順に成膜した際には、ガラス基材５１の厚み方向で円形凹部５１ｍと重なる部位がそれぞれ凹んで、直径９９．８μｍ程度、深さ２９．９μｍ程度の円形凹部５５ｍが記録層５５に形成される。次に、図１０に示すように、成膜装置２４が記録層５５の上にＣＶＤ法によってダイヤモンドライクカーボン（炭素を主成分とするアモルファス構造で、ビッカーズ硬度測定による測定値（硬度）が２００〜８０００ｋｇｆ／ｍｍ２程度の材料）を堆積させることにより、厚み１〜５ｎｍの保護層５６を成膜する。この際に、記録層５５に円形凹部５５ｍが形成されているため、成膜装置２４によって記録層５５上に保護層５６を成膜した際には、ガラス基材５１の厚み方向で円形凹部５５ｍと重なる部位が凹んで、直径９９．８μｍ程度、深さ２９．９μｍ程度の円形凹部５６ｍが保護層５６に形成される。次いで、成膜装置２５が保護層５６の上にＴｉＮ（窒化チタン）をスパッタリングすることにより、図３に示すように、厚み１０〜５０ｎｍの保護層５７を成膜する。この際に、保護層５６に円形凹部５６ｍが形成されているため、成膜装置２５によって保護層５６上に保護層５７を成膜した際には、ガラス基材５１の厚み方向で円形凹部５６ｍと重なる部位が凹んで、直径９９．８μｍ程度、深さ２９．９μｍ程度の円形凹部（マークＭｍ）が保護層５７に形成される。これにより、同図に示すように、中間体Ｍが完成する。
【００２３】
次いで、スタンパー製造装置３の構成、およびスタンパー製造装置３によってスタンパーＳを製造する製造方法について、図面を参照して説明する。
【００２４】
スタンパー製造装置３は、図１１に示すように、塗布装置３１、描画装置３２、現像装置３３、エッチング装置３４、成膜装置３５および電鋳装置３６を備えて構成されている。塗布装置３１は、その表面に導電処理が施されたガラス基材６１上に例えばスピンコート法によってレジストを塗布してレジスト層６２ａを形成する（図１２参照）。描画装置３２は、塗布装置３１によって形成されたレジスト層６２ａに電子線ＥＢを照射することによって潜像６２ｂを形成する（図１２参照）。現像装置３３は、描画装置３２による潜像６２ｂの形成が完了したレジスト層６２ａを現像することによってガラス基材６１上にマスク６２を形成する（図１３参照）。エッチング装置３４は、現像装置３３によって形成されたマスク６２を使用してガラス基材６１に凹部６１ａ，６１ａ・・を形成する（図１４参照）。成膜装置３５は、凹部６１ａが形成されたガラス基材６１を覆うようにして導電膜６３を形成する（図１５参照）。電鋳装置３６は、電解めっき処理によって導電膜６３の上に金属膜６４を形成する（図１６参照）。
【００２５】
このスタンパー製造装置３によるスタンパーＳの製造に際しては、まず、図１２に示すように、塗布装置３１がスピンコート法によってガラス基材６１の上にレジスト（一例として、日本ゼオン（株）製  ＺＥＰ５２０Ａ：ポジ型レジスト）を塗布して、一例として厚み２００ｎｍ程度のレジスト層６２ａを形成する。次に、例えば１８０℃で５分程度のベーク処理を実行してレジスト層６２ａを硬化させた後に、この状態のガラス基材６１を描画装置３２にセットする。次いで、描画装置３２が、スタンパーＳの凹凸パターンにおける凸部を形成すべき部位に、パターニング用の電子線ＥＢを照射する。これにより、同心円状の潜像６２ｂ，６２ｂ・・がレジスト層６２ａに形成される。次に、現像装置３３が、この状態のレジスト層６２ａを現像することにより、図１３に示すように、潜像６２ｂの部位を除去してガラス基材６１の表面の一部を露出させる。この際に、現像液として、例えば、商品名ＺＥＤ−Ｎ５０（日本ゼオン（株）製）を用い、現像液を例えば２６℃にして基材を３分間浸漬する。これにより、ガラス基材６１の上にマスク６２（レジストパターン）が形成される。この場合、このスタンパー製造装置３では、描画装置３２および現像装置３３によるマスク６２の形成に際して、一例として、その直径が９０μｍ程度で深さ０．２μｍの円柱状の凸部６２ｍをガラス基材６１の中心に形成する。次いで、この状態のガラス基材６１を例えば２３℃（室温）のリンス液（一例として、商品名ＺＭＤ−Ｄ（日本ゼオン（株）製））に浸した後に、窒素ガスを吹き付けることによってマスク６２を乾燥させる。
【００２６】
次に、図１４に示すように、エッチング装置３４が、マスク６２を使用してガラス基材６１をエッチングする。この際には、ガラス基材６１におけるマスク６２によって覆われていない部位がエッチングされてガラス基材６１の表面に凹部が形成されて、深さ２００ｎｍ程度、幅１００ｎｍ程度の同心円状の凹部６１ａ，６１ａ・・がガラス基材６１に形成される。また、ガラス基材６１の中心には、マスク６２の凸部６２ｍによって覆われていた部位に、その直径が９０μｍ程度で高さが０．２μｍ程度の円柱状の凸部６１ｍが形成される。次いで、この状態のガラス基材６１をレジスト剥離液に浸すことにより、ガラス基材６１上に残留しているマスク６２を除去する。次に、図１５に示すように、成膜装置３５がガラス基材６１の表面（凹部６１ａ，６１ａ・・等が形成された面）にＮｉ（ニッケル）を蒸着することにより、厚みが３０ｎｍ程度の導電膜６３を成膜する。次いで、図１６に示すように、電鋳装置３６が、導電膜６３を電極として使用して電解めっき処理（析出処理）を実行することにより、導電膜６３の上に厚み３００μｍ程度の金属膜（電解ニッケル膜）６４を形成する。続いて、図１７に示すように、導電膜６３および金属膜６４の積層体をガラス基材６１から剥離することにより、図５に示すように、スタンパーＳが完成する。この場合、ガラス基材６１の中心に円柱状の凸部６１ｍが形成されているため、完成したスタンパーＳの中心部には、直径が９０μｍ程度で深さが０．２μｍ程度の円形凹部（マークＳｍ）が形成される。
【００２７】
続いて、磁気記録媒体製造装置１によって中間体ＭおよびスタンパーＳを使用してディスクリートトラック媒体Ｄを製造する製造方法について、図面を参照して説明する。
【００２８】
まず、図１８に示すように、塗布装置１１が中間体Ｍの上に例えばレジスト（一例として、住友化学工業（株）製  ＮＥＢ２２Ａ：ネガ型レジスト）をスピンコートすることにより、厚み１００ｎｍ程度のレジスト層５８ａを形成する。この際に、中間体Ｍ（保護層５７）に直径９９．８μｍ程度、深さ２９．９μｍ程度のマークＭｍ（円形凹部）が形成されているため、塗布装置１１によって中間体Ｍ上にレジスト層５８ａを形成した際には、ガラス基材５１の厚み方向でマークＭｍと重なる部位が凹んで、直径９９．６μｍ程度、深さ２９．８μｍ程度の円形凹部５８ｍがレジスト層５８ａに形成される。次に、例えば１８０℃で５分程度のベーク処理を実行してレジスト層５８ａを硬化させる。
【００２９】
次いで、レジスト層５８ａの硬化が完了した中間体Ｍをインプリント装置１２のプレス用ベース部１２ａにセットする。この際には、まず、例えば工場顕微鏡を用いて中間体Ｍ（レジスト層５８ａ）の表面を観察することにより、中間体Ｍの中心を特定する。この場合、レジスト層５８ａの表面に円形凹部５８ｍが形成されているため、この円形凹部５８ｍの位置（すなわち、中間体ＭのマークＭｍの位置）に基づいて中間体Ｍの中心を特定することが可能となる。したがって、工場顕微鏡を用いて中間体Ｍの外縁部における任意の３点の座標を求めて中心を演算する方法と比較して、約１／５程度の時間で中間体Ｍの中心を特定することが可能となる。次に、図１９に示すように、特定した中心がプレス用ベース部１２ａの基準位置Ｐ１に対して中間体Ｍの厚み方向で一致するように中間体Ｍの位置を微調整した後に、中間体Ｍをプレス用ベース部１２ａに固定する。これにより、中間体Ｍのセットが完了する。
【００３０】
次いで、凹凸パターンの形成面を下向きにしてスタンパーＳをインプリント装置１２のプレス用ヘッド部１２ｂにセットする。この際には、まず、例えば工場顕微鏡を用いてスタンパーＳの表面を観察することにより、スタンパーＳの中心を特定する。この場合、スタンパーＳの中心にマークＳｍが形成されているため、このマークＳｍの位置に基づいてスタンパーＳの中心を特定することが可能となる。したがって、工場顕微鏡を用いてスタンパーＳにおける凹凸パターンの任意の凸部について任意の３点の座標を求めて中心を演算する方法と比較して、約１／５程度の時間でスタンパーＳの中心を特定することが可能となる。次に、特定した中心がプレス用ヘッド部１２ｂの基準位置Ｐ２に対してスタンパーＳの厚み方向で一致するようにスタンパーＳの位置を微調整した後に、スタンパーＳをプレス用ヘッド部１２ｂに固定する。これにより、スタンパーＳのセットが完了する。
【００３１】
次に、インプリント装置１２が中間体Ｍ（レジスト層５８ａ）およびスタンパーＳを加熱する。この際に、中間体Ｍ上のレジスト層５８ａがプレス用ベース部１２ａによってガラス転位点以上の温度（一例として、１７０℃程度）に加熱される。次いで、プレス用ヘッド部１２ｂがプレス用ベース部１２ａ上の中間体Ｍ（レジスト層５８ａ）に向けてスタンパーＳを移動させ、図２０に示すように、スタンパーＳの凹凸パターンにおける凸部をレジスト層５８ａに押し込む。この際に、インプリント装置１２は、プレス用ヘッド部１２ｂの基準位置Ｐ２がプレス用ベース部１２ａの基準位置Ｐ１に対して中間体Ｍの厚み方向で一致するようにスタンパーＳを中間体Ｍに向けて移動させる。この結果、中間体ＭのマークＭｍとスタンパーＳのＳｍとが中間体Ｍの厚み方向において一致させられる。また、インプリント装置１２は、一例として、１７０ｋｇ／平方ｃｍの圧力でスタンパーＳを押圧する。この結果、ガラス転位点まで加熱されているレジスト（レジスト層５８ａ）がスタンパーＳの凹凸パターンにおける凹部内に入り込む。続いて、プレス用ベース部１２ａおよびプレス用ヘッド部１２ｂによる中間体ＭおよびスタンパーＳの加熱を停止させてレジスト層５８ａなどを所定温度（一例として、５０℃程度）まで低下させた後に、プレス用ヘッド部１２ｂがレジスト層５８ａからスタンパーＳを引き剥がす。これにより、図２１に示すように、レジスト層５８ａにスタンパーＳの凹凸パターンが転写されてマスク５８が中間体Ｍ上に形成される。
【００３２】
次いで、エッチング装置１３が、酸素ガスまたはオゾンガスを用いたプラズマによって中間体Ｍ上のマスク５８全体を均一にドライエッチングする。この際には、マスク５８の凹凸パターンにおける凹部底面のレジストが除去されてマスク５８から保護層５７が露出する。続いて、エッチング装置１３は、ＣＦ４ガスまたはＳＦ６ガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングによって、マスク５８から露出している保護層５７をエッチングする。この際には、図２２に示すように、保護層５６と記録層５５の一部とが保護層５７と共にエッチングされて記録層５５に達する深さの溝Ｆ，Ｆ・・が形成される。また、この際には、マスク５８の大半が消失する。次に、エッチング装置１３は、ＮＨ３ガスが添加されたＣＯガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングによって記録層５５をエッチングすることにより、配向層５４に達する深さの溝Ｆ，Ｆ・・を形成する。この後、エッチング装置１３は、ＳＦ６ガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングを実行することにより、保護層５６上に残留している保護層５７を除去する。これにより、図２に示すように、ディスクリートトラック媒体Ｄが完成する。
【００３３】
このように、このディスクリートトラック媒体Ｄの製造方法によれば、スタンパーＳに形成されているマークＳｍに基づいて特定したスタンパーＳの中心と中間体Ｍの中心とを中間体Ｍの厚み方向で一致させるように重ね合わせてレジスト層５８ａにスタンパーＳの凹凸パターンを転写することにより、例えばスタンパーＳの凹凸パターンにおける任意の凸部上の３点についてその座標を計測してスタンパーＳの中心を演算して特定する方法と比較して、スタンパーＳの中心を短時間でしかも確実かつ容易に特定することができる。したがって、インプリント装置１２に対してスタンパーＳを短時間で位置決めすることができる結果、ディスクリートトラック媒体Ｄの製造効率を十分に向上させることができる。
【００３４】
また、このディスクリートトラック媒体Ｄの製造方法によれば、マークＭｍに基づいて中間体Ｍの中心を特定することにより、例えば中間体Ｍの外縁部における任意の３点についてその座標を計測して中間体Ｍの中心を演算して特定する方法と比較して、中間体Ｍの中心を短時間でしかも確実かつ容易に特定することができる。したがって、インプリント装置１２に対して中間体Ｍを短時間で位置決めすることができる結果、ディスクリートトラック媒体Ｄの製造効率を一層向上させることができる。
【００３５】
この場合、本発明の実施の形態に係るスタンパーＳによれば、その中心部の一部を凹ませた円形凹部でマークＳｍを構成したことにより、マークＳｍの位置を確実に認識させることができる。
【００３６】
また、本発明の実施の形態に係る中間体Ｍによれば、その中心部の一部を凹ませた円形凹部でマークＭｍを構成したことにより、マークＭｍの位置を確実に認識させることができる。
【００３７】
なお、本発明は、上記した発明の実施の形態に限らず、適宜変更が可能である。例えば、本発明の実施の形態では、中間体ＭのマークＭｍおよびスタンパーＳのマークＳｍをそれぞれ円形凹部で構成した例について説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、図２３に示す中間体Ｍｘのように、ディスクリートトラック媒体Ｄの製造時に中間体Ｍｘの中心を特定可能とするために、その中心に円柱状（凸状）のマークＭｍｘを形成する構成を採用することができる。このマークＭｍｘについては、その中心に高さ０．２μｍ程度の凸部５１ｍｘが形成されたガラス基材５１ｘ上に下地層５２、軟磁性層５３、配向層５４、記録層５５および保護層５６，５７を順に成膜することにより、ガラス基材５１ｘの厚み方向で凸部５１ｍｘに重なる部位を突出させることによって形成することができる。また、例えば、図２４に示すスタンパーＳｘのように、ディスクリートトラック媒体Ｄの製造時にスタンパーＳｘの中心を特定可能とするために、その中心に円柱状（凸状）のマークＳｍｘを形成する構成を採用することができる。
【００３８】
さらに、本発明の実施の形態では、円形凹部で構成したマークＭｍを有する中間体Ｍ、および円形凹部で構成したマークＳｍを有するスタンパーＳを例に挙げて説明したが、本発明における中間体中心特定用マークおよびスタンパー中心特定用マークの形状はこれに限定されず、例えば図２５に示すマークＭｍ１，Ｓｍ１のように、中間体Ｍ（スタンパーＳ）の中心部の一部を「＋」字状に突出させて（または凹ませて）中心位置を特定可能に形成することができる。また、本発明における中間体中心特定用マークおよびスタンパー中心特定用マークは、中間体Ｍの中心およびスタンパーＳの中心を特定可能である限り、中心点にマークが存在する必要はない。具体的には、図２６に示すように、例えば上記のマークＭｍ１，Ｓｍ１における交点部分（中間体中心およびスタンパー中心を示す部分）が存在しないマークＭｍ２，Ｓｍ２によって中心位置を特定させる構成を採用することができる。さらに、本発明における中間体中心特定用マークおよびスタンパー中心特定用マークは、中間体Ｍ（スタンパーＳ）の中心部の一部を突出させて（または凹ませて）形成したものに限定されず、例えば保護層５７の一部をその周囲とは区別（識別）可能に改質して中間体中心特定用マークを形成した構成を採用することができる。
【００３９】
また、本発明の実施の形態において説明したマークＭｍおよびマークＳｍの直径や深さは、あくまでも例示であって、これに限定されるものではない。さらに、本発明の実施の形態では、円板状のガラス基材５１を支持基材として使用した中間体Ｍを用いてディスクリートトラック媒体Ｄを製造する例について説明したが、本発明はこれに限定されず、セラミック基材や金属製基材などの各種支持基材を使用した中間体Ｍを用いてディスクリートトラック媒体Ｄを製造することができる。また、本発明の実施の形態では、ガラス基材６１を支持基材として使用してスタンパーＳを製造する製造方法を例に挙げて説明したが、本発明における磁気記録媒体用スタンパーの製造方法はこれに限定されず、セラミック基材や金属製基材などの各種支持基材を使用してスタンパーＳを製造することができる。この場合、絶縁性材料で形成された支持基材（セラミック基材等）を使用すると共に電子線ＥＢを照射してレジスト層６２ａに潜像６２ｂを形成する製造方法を採用するときには、電子線ＥＢの照射時におけるチャージアップを回避するために、支持基材の表面に導電処理を施すのが好ましい。
【００４０】
さらに、本発明の実施の形態では、スタンパーＳの製造に際して成膜装置３５がガラス基材６１の表面にＮｉ（ニッケル）を蒸着することによって導電膜６３を成膜する例について説明したが、本発明における磁気記録媒体用スタンパーの製造方法はこれに限定されず、無電解めっき処理やスパッタリングによって導電膜６３を形成することもできる。また、本発明の実施の形態では、中間体Ｍの中心について、マークＭｍに基づいて特定する製造方法について説明したが、本発明はこれに限定されず、例えば、中間体Ｍの外縁部における任意の３点の座標を求めて中心を演算して特定することもできる。
【００４１】
【発明の効果】
以上のように、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法によれば、磁気記録媒体用スタンパーに形成されているスタンパー中心特定用マークに基づいて特定したスタンパー中心と磁気記録媒体用中間体の中間体中心とを磁気記録媒体用中間体の厚み方向で一致させるように重ね合わせて樹脂層に磁気記録媒体用スタンパーの凹凸パターンを転写することにより、例えば磁気記録媒体用スタンパーの凹凸パターンにおける任意の凸部上の３点についてその座標を計測してスタンパー中心を演算して特定する方法と比較して、スタンパー中心を短時間でしかも確実かつ容易に特定することができる。したがって、磁気記録媒体製造装置（インプリント装置）に対して磁気記録媒体用スタンパーを短時間で位置決めすることができる結果、ディスクリートトラック媒体の製造効率を十分に向上させることができる。
【００４２】
また、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法によれば、中間体中心特定用マークに基づいて中間体中心を特定することにより、例えば磁気記録媒体用中間体の外縁部における任意の３点についてその座標を計測して中間体中心を演算して特定する方法と比較して、中間体中心を短時間でしかも確実かつ容易に特定することができる。したがって、磁気記録媒体製造装置（インプリント装置）に対して磁気記録媒体用中間体を短時間で位置決めすることができる結果、ディスクリートトラック媒体の製造効率を一層向上させることができる。
【００４３】
さらに、本発明に係る磁気記録媒体用スタンパーによれば、スタンパー中心を特定可能なスタンパー中心特定用マークを形成して磁気記録媒体用スタンパーを構成したことにより、例えば磁気記録媒体用スタンパーの凹凸パターンにおける任意の凸部上の３点についてその座標を計測してスタンパー中心を演算して特定する方法と比較して、スタンパー中心を短時間でしかも確実かつ容易に特定することができる。したがって、磁気記録媒体製造装置（インプリント装置）に対して磁気記録媒体用スタンパーを短時間で位置決めすることができる結果、ディスクリートトラック媒体の製造効率を十分に向上させることができる。
【００４４】
また、本発明に係る磁気記録媒体用スタンパーによれば、磁気記録媒体用スタンパーにおける中心部の一部を突出させた凸部、または中心部の一部を凹ませた凹部でスタンパー中心特定用マークを構成したことにより、スタンパー中心特定用マークの位置を確実に認識させることができる。
【００４５】
さらに、本発明に係る磁気記録媒体用中間体によれば、中間体中心を特定可能な中間体中心特定用マークを形成して磁気記録媒体用中間体を構成したことにより、例えば磁気記録媒体用中間体の外縁部における任意の３点についてその座標を計測して中間体中心を演算して特定する方法と比較して、中間体中心を短時間でしかも確実かつ容易に特定することができる。したがって、磁気記録媒体製造装置（インプリント装置）に対して磁気記録媒体用中間体を短時間で位置決めすることができる結果、ディスクリートトラック媒体の製造効率を一層向上させることができる。
【００４６】
また、本発明に係る磁気記録媒体用中間体によれば、磁気記録媒体用中間体における中心部の一部を突出させた凸部、または中心部の一部を凹ませた凹部で中間体中心特定用マークを構成したことにより、中間体中心特定用マークの位置を確実に認識させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係る磁気記録媒体製造装置１の構成を示すブロック図である。
【図２】磁気記録媒体製造装置１によって製造したディスクリートトラック媒体Ｄの構成を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る中間体Ｍの構成を示す断面図である。
【図４】中間体Ｍの外観斜視図である。
【図５】本発明の実施の形態に係るスタンパーＳの構成を示す断面図である。
【図６】スタンパーＳの外観斜視図である。
【図７】本発明の実施の形態に係る中間体製造装置２の構成を示すブロック図である。
【図８】射出成形機２１によって成形されたガラス板５１ａの断面図である。
【図９】下地層５２、軟磁性層５３、配向層５４、記録層５５をガラス基材５１上にこの順で形成した状態の断面図である。
【図１０】記録層５５上に保護層５６を形成した状態の断面図である。
【図１１】本発明の実施の形態に係るスタンパー製造装置３の構成を示すブロック図である。
【図１２】ガラス基材６１上にレジスト層６２ａを形成した状態の断面図である。
【図１３】レジスト層６２ａを現像してマスク６２を形成した状態の断面図である。
【図１４】マスク６２を使用してガラス基材６１をエッチングして凹部６１ａ，６１ａ・・を形成した状態の断面図である。
【図１５】凹部６１ａ，６１ａ・・が形成されたガラス基材６１に導電膜６３を成膜した状態の断面図である。
【図１６】導電膜６３の上に金属膜６４を形成した状態の断面図である。
【図１７】導電膜６３および金属膜６４の積層体（スタンパーＳ）をガラス基材６１から剥離した状態の断面図である。
【図１８】中間体Ｍ上にレジストを塗布してレジスト層５８ａを形成した状態の断面図である。
【図１９】中間体ＭのマークＭｍ（レジスト層５８ａの円形凹部５８ｍ）とプレス用ベース部１２ａの基準位置Ｐ１とを一致させると共に、スタンパーＳのマークＳｍとプレス用ヘッド部１２ｂの基準位置Ｐ２とを一致させた状態の断面図である。
【図２０】中間体Ｍ上のレジスト層５８ａにスタンパーＳの凹凸パターンにおける凸部を押し込んだ状態の断面図である。
【図２１】図２０に示す状態のスタンパーＳをレジスト層５８ａから引き剥がした状態の断面図である。
【図２２】マスク５８を使用して中間体Ｍをエッチングした状態の断面図である。
【図２３】本発明の他の実施の形態に係る中間体Ｍｘの断面図である。
【図２４】本発明の他の実施の形態に係るスタンパーＳｘの断面図である。
【図２５】本発明における中間体中心特定用マークおよびスタンパー中心特定用マークの他の一例であるマークＭｍ１，Ｓｍ１の平面図である。
【図２６】本発明における中間体中心特定用マークおよびスタンパー中心特定用マークのさらに他の一例であるマークＭｍ２，Ｓｍ２の平面図である。
【符号の説明】
１  磁気記録媒体製造装置
２  中間体製造装置
３  スタンパー製造装置
１１  塗布装置
１２  インプリント装置
１３  エッチング装置
５１  ガラス基材
５５  記録層
５８  マスク
５８ａ  レジスト層
Ｄ  ディスクリートトラック媒体
Ｍ，Ｍｘ  中間体
Ｍｍ，Ｍｍｘ，Ｍｍ１，Ｍｍ２，Ｓｍ，Ｓｍｘ，Ｓｍ１，Ｓｍ２  マーク
Ｓ，Ｓｘ  スタンパー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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