(57)【要約】      （修正有）【課題】既存の青色材料より濃い青色発光が可能な青色発光燐光化合物及びそれを採用しているＥＬ素子を提供する。【解決手段】新しいリガンド構造を含むイリジウム化合物で、例えば化学式４，５，７及び８等で示される燐光金属化合物。2005053912.tif 000058該燐光金属化合物を有機電界発素子の発光層に用いることにより、色純度が改善された、低消費電力の青色発光素子が製造される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式１で示されるイリジウム化合物：
【化１】
2005053912.tif 000049
前記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、チオール基、ハロゲン原子、置換または非置換のＣ１−Ｃ２０のアルキル基、置換または非置換のＣ１−Ｃ２０のアルコキシ基、置換または非置換のＣ２−Ｃ２０のアルケニル基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリール基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリールアルキル基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリールオキシ基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリール基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリールアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のＣ５−Ｃ２０のシクロアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ２０のヘテロシクロアルキル基、Ｃ１−Ｃ２０のアルキルチオ基、または−Ｓｉ（Ｒ’）（Ｒ’’）（Ｒ’’’）（前記式中、Ｒ’とＲ’’とＲ’’’とはそれぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ２０のアルキル基）、−Ｎ（Ｒ’）（Ｒ’’）（前記式中、Ｒ’とＲ’’とはそれぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ２０のアルキル基）であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７のうちから選択された２つ以上が相互連結されてもよい、
Ｘは１価陰イオン性ニ座配位子であり、
ａは１ないし３の整数であり、ｂは０ないし２の整数であり、ａとｂとの和は３であり、
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７が何れも水素であり、ａが３であり、ｂが０である場合と、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ７は何れも水素であり、Ｒ５及びＲ６が何れもフッ素であり、Ｘはピコリネートであり、ａは２であり、ｂは１である場合は除外される。
【請求項２】
前記ａが３で、ｂは０であり、または、ａが２で、ｂは１であることを特徴とする請求項１に記載のイリジウム化合物。
【請求項３】
前記Ｘが、アセチルアセトネート、ヘキサフルオロアセチルアセテート、サリシリデン、ピコリネート、８−ヒドロキシキノリネート、α−アミノ酸  Ｌ−プロリン、ジベンゾイルメタン、テトラメチルへプタンジオネート、（１−（２−ヒドロキシフェニル）ピラゾレート）、３−イソキノリンカルボキシレート、１−イソキノリンカルボキシレート、１，５−ジメチル−３−ピラゾールカルボキシレート、フェニルピラゾール、キノリンカルボキシレートまたはフェニルピリジンであることを特徴とする請求項１に記載のイリジウム化合物。
【請求項４】
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は、それぞれ独立にメチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−アミル、トリフルオロメチル、ペンタフロオロエチル、パーフルオロアルキル、ベンジル、４−（ｔｅｒｔブチル）ベンジル、３，５−ジ−（ｔｅｒｔブチル）ベンジル、３，５−ジ−（イソプロピル）ベンジル、ナフチル、フェニル、フリル、チエニル、ピリジル、シアノ、メトキシ、エトキシまたはハロゲン原子であることを特徴とする請求項１に記載のイリジウム化合物。
【請求項５】
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は、それぞれ独立にハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、フェニル、メトキシまたはシアノ基であることを特徴とする請求項１に記載のイリジウム化合物。
【請求項６】
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立にメチルまたはエチルであり、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立にハロゲン原子、メチル、エチル、フェニルまたはシアノ基であることを特徴とする請求項１に記載のイリジウム化合物。
【請求項７】
化学式１で示される化合物は下記化学式４、５及び７ないし２４で示される化合物のうち１つであることを特徴とする請求項１に記載のイリジウム化合物：
【化２】
2005053912.tif 000050
【化３】
2005053912.tif 000051
【化４】
2005053912.tif 000052
【請求項８】
下記化学式３１で示されるニ座配位子を有する金属化合物：
【化５】
2005053912.tif 000053
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、チオール基、ハロゲン原子、置換または非置換のＣ１−Ｃ３０のアルキル基、置換または非置換のＣ１−Ｃ３０のアルコキシ基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のアルケニル基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリール基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリールアルキル基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリールオキシ基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリール基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリールアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のＣ５−Ｃ３０のシクロアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロシクロアルキル基、置換または非置換のＣ１−Ｃ３０のアルキルカルボニル基、置換または非置換のＣ７−Ｃ３０のアリールカルボニル基、Ｃ１−Ｃ３０のアルキルチオ基または−Ｓｉ（Ｒ’）（Ｒ’’）（Ｒ’’’）（前記式中、Ｒ’、Ｒ’’及びＲ’’’はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ３０のアルキル基）、−Ｎ（Ｒ’）（Ｒ’’）（前記式中、Ｒ’とＲ’’とはそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ３０のアルキル基）であり、ここで、前記Ｒ１〜Ｒ３とＲ４〜Ｒ７のうち選択された２つ以上が相互連結され、相互隣接した置換基が不飽和環または飽和環形態に連結されてもよい。
【請求項９】
前記化合物が下記化学式３２で示されるニ座配位子を有する請求項８に記載の金属化合物：
【化６】
2005053912.tif 000054
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は請求項８で定義された通りであり、Ｘは１価陰イオン性ニ座配位子であり、
ａは１ないし３の整数であり、ｂは０ないし２の整数であり、ただ、ａとｂとの和は３である。
【請求項１０】
前記Ｘがアセチルアセトネート、ヘキサフルオロアセチルアセトネート、サリシリデン、ピコリネート、８−ヒドロキシキノリネート、α−アミノ酸  Ｌ−プロリン、ジベンジルメタン、テトラメチルへプタンジオネート、１−（２−ヒドロキシフェニル）ピラゾレート、３−イソキノリンカルボキシレート、１−イソキノリンカルボキシレート、１，５−ジメチル−３−ピラゾールカルボキシレート、フェニルピラゾール、キノリンカルボキシレートまたはフェニルピリジンであることを特徴とする請求項９に記載の金属化合物。
【請求項１１】
前記Ｍがイリジウムであり、ａは２、ｂは１またはａは３、ｂは０であることを特徴とする請求項９に記載の金属化合物。
【請求項１２】
前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に、Ｃ１−Ｃ１２アルキル基、Ｃ５−Ｃ１０炭素環基、Ｃ６−Ｃ２０アリール基、Ｃ１−Ｃ１２アルコキシ基、シアノ基、Ｃ２−Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、Ｃ２−Ｃ２０ヘテロアリール基またはＣ６−Ｃ２０融合アリール基であることを特徴とする請求項８に記載の金属化合物。
【請求項１３】
下記化学式で示される化合物のうち１つであることを特徴とする請求項８に記載の金属化合物：
【化７】
2005053912.tif 000055
【化８】
2005053912.tif 000056
【化９】
2005053912.tif 000057
【請求項１４】
１対の電極間に有機膜を具備している有機電界発光素子において、
前記有機膜が請求項１ないし請求項７のうち何れか１項のイリジウム化合物を含むことを特徴とする有機電界発光素子。
【請求項１５】
前記有機膜が発光層であることを特徴とする請求項１４に記載の有機電界発光素子。
【請求項１６】
１対の電極間に有機膜を具備している有機電界発光素子において、
前記有機膜が第８項ないし第１３項のうち何れか１項に記載の金属化合物を含むことを特徴とする有機電界発光素子。
【請求項１７】
前記有機膜が発光層であることを特徴とする請求項１６に記載の有機電界発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はイリジウム（Ｉｒ）金属を含む有機金属化合物及びそれを採用した有機電界発光素子に係り、より詳細には、青色燐光材料として使用可能なイリジウム化合物及びそれを採用した有機電界発光素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
電界発光（ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ：ＥＬ）素子は自発光型表示素子であって、視野角が広く、コントラストが優れるだけでなく、応答時間が短いという長所を有する。
【０００３】
ＥＬ素子は発光層形成用材料によって無機ＥＬ素子と有機ＥＬ素子とに区分される。ここで、有機ＥＬ素子は無機ＥＬ素子に比べて輝度、駆動電圧及び応答速度特性が優れ、多色化が可能であるという長所を有している。
【０００４】
一般的な有機ＥＬ素子は基板上部にアノードが形成され、このアノードの上部にホール輸送層、発光層、電子輸送層及びカソードが順次に形成された構造を有している。ここで、ホール輸送層、発光層及び電子輸送層は有機化合物よりなる有機膜である。前述したような構造を有する有機ＥＬ素子の駆動原理は次のようである。
【０００５】
前記アノード及びカソード間に電圧を印加すると、アノードから注入されたホールはホール輸送層を経由して発光層に移動する。一方、電子はカソードから電子輸送層を経由して発光層に注入され、発光層領域でキャリアが再結合してエキシトンを生成する。このエキシトンが励起状態から基底状態に変化し、これによって発光層の分子が発光することにより画像が形成される。
【０００６】
発光材料はその発光メカニズムによって一重項状態のエキシトンを利用する蛍光材料と三重項状態を利用する燐光材料とに分かれる。燐光材料は一般的に重い原子を含有する有機金属化合物構造を有しており、重い原子により元の禁止転移であった三重項状態のエキシトンが許容転移を経て燐光発光するようになる。燐光材料は７５％生成確率を有する三重項エキシトンが使用できて２５％の一重項エキシトンを利用する蛍光材料より非常に高い発光効率を有しうる。
【０００７】
三重項を利用した発光材料として、イリジウム、白金金属化合物を利用したいろいろな燐光材料が発表されている（非特許文献１ないし３，特許文献１参照）。青色発光材料として、（４，６−Ｆ２フェニルピリジン（ｐｐｙ））２Ｉｒピコリネート（ｐｉｃ）（非特許文献４参照）またはフッ素化されたｐｐｙリガンド構造を基本とするイリジウム化合物（非特許文献５参照）が開発されたが、発光色が空色領域であるか、青色材料に適したホスト物質の不在などによって、赤色及び緑色燐光材料に比べて非常に低い効率及び寿命が問題であって、濃い青色発光の高効率、長寿命の青色燐光材料の開発が非常に至急な状況である。
【特許文献１】米国特許２００２０１８２４４１Ａ明細書
【非特許文献１】Ｓｅｒｇｅｙ  Ｌａｍａｎｓｋｙ  ｅｔｃ．  Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４０，１７０４−１７１１，２００１
【非特許文献２】Ｓｅｒｇｅｙ  Ｌａｍａｎｓｋｙ  ｅｔｃ．  Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２３，４３０４−４３１２，２００１
【非特許文献３】Ａ．Ｂ．Ｔａｍａｙｏ  ｅｔｃ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（２００３）’’Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ａｎｄ  Ｃｈｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｆａｃｉａｌ  ａｎｄ  Ｍｅｒｉｄｉｏｎａｌ  Ｔｒｉｓ−ｃｙｃｌｉｍｅｔａｌａｔｅｄ  Ｉｒｄｉｕｍ（ＩＩＩ）Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ
【非特許文献４】Ｃｈｉｈａｙａ  Ａｄａｃｈｉ  ｅｔｃ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，７９，２０８２−２０８４，２００１
【非特許文献５】Ｖｌａｄｉｍｉｒ  Ｖ．Ｇｒｕｓｈｉｎ  ｅｔｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１４９４−１４９５，２００１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする技術的課題は、前述した問題点を解決するために既存の青色発光物質と比較して色純度特性が改善されるとともに、低消費電力が可能な濃青色発光の新しい青色燐光化合物及びそれを利用した有機電界発光素子を提供することにある。
【０００９】
本発明が解決しようとする他の技術的課題は、新しいリガンド構造を含む燐光金属化合物及びそれを利用して発光効率及び色純度特性が改善されたＥＬ素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記技術的課題を解決するために本発明では、下記化学式１で示されるイリジウム化合物を提供する。
【００１１】
【化１】
2005053912.tif 000002
【００１２】
前記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、チオール基、ハロゲン原子、置換または非置換のＣ１−Ｃ２０のアルキル基、置換または非置換のＣ１−Ｃ２０のアルコキシ基、置換または非置換のＣ２−Ｃ２０のアルケニル基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリール基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリールアルキル基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリールオキシ基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリール基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリールアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のＣ５−Ｃ２０のシクロアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ２０のヘテロシクロアルキル基、Ｃ１−Ｃ２０のアルキルチオ基、または−Ｓｉ（Ｒ’）（Ｒ’’）（Ｒ’’’）（前記式中、Ｒ’とＲ’’とＲ’’’とはそれぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ２０のアルキル基）、−Ｎ（Ｒ’）（Ｒ’’）（前記式中、Ｒ’とＲ’’とはそれぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ２０のアルキル基）であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７のうち選択された２つ以上が相互連結されてもよく、Ｘは、１価陰イオン性ニ座配位子であり、ａは、１ないし３の整数であり、ｂは、０ないし２の整数であり、ａとｂとの和は３である。
【００１３】
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７が何れも水素であり、ａが３であって、ｂが０である場合と、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ７は何れも水素であり、Ｒ５及びＲ６が何れもフッ素であり、Ｘは、ｐｉｃであり、ａは、２であり、ｂは、１である場合は除外される。
【００１４】
また、本発明の技術的課題は下記化学式３１で示されるニ座配位子を有する金属化合物によりなされる。
【００１５】
【化２】
2005053912.tif 000003
【００１６】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、チオール基、ハロゲン原子、置換または非置換のＣ１−Ｃ３０のアルキル基、置換または非置換のＣ１−Ｃ３０のアルコキシ基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のアルケニル基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリール基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリールアルキル基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリールオキシ基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリール基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリールアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のＣ５−Ｃ３０のシクロアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロシクロアルキル基、置換または非置換のＣ１−Ｃ３０のアルキルカルボニル基、置換または非置換のＣ７−Ｃ３０のアリールカルボニル基、Ｃ１−Ｃ３０のアルキルチオ基、または−Ｓｉ（Ｒ’）（Ｒ’’）（Ｒ’’’）（前記式中、Ｒ’、Ｒ’’及びＲ’’’はそれぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ３０のアルキル基）、−Ｎ（Ｒ’）（Ｒ’’）（前記式中、Ｒ’とＲ’’とはそれぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ３０のアルキル基）であり、ここで、前記Ｒ１〜Ｒ３とＲ４〜Ｒ７のうち選択された２つ以上が相互連結され、相互隣接した置換基が不飽和環、または飽和環状に連結されてもよい。
【００１７】
本発明の他の技術的課題は１対の電極間に有機膜を具備しているＥＬ素子において、前記有機膜が前記イリジウム化合物または金属化合物を含むことを特徴とするＥＬ素子によりなされる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明による化学式１のイリジウム化合物は青色燐光材料であって、既存の青色材料より濃い青色発光が可能であり、これを利用して有機電界素子を構成する場合、色純度が改善され、低消費電力材料として有用である。また、本発明による化学式３１で示されるニ座配位子を有する金属化合物は新規リガンド構造を有し、合成収率が高く、これを利用して有機電界素子を構成する場合、フルカラー用のＥＬ材料として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明をより詳細に説明する。
【００２０】
本発明は下記化学式１で示されるイリジウム化合物を提供し、かかるイリジウム化合物は青色発光材料であって、既存の提案された分子より濃い青色発光特性を有するので、フルカラーＥＬ素子のための青色燐光ドーパントとして使用可能である。
【００２１】
【化３】
2005053912.tif 000004
【００２２】
前記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に水素原子、シアノ基、ヒドロキシ基、チオール基、ハロゲン原子、置換または非置換のＣ１−Ｃ２０のアルキル基、置換または非置換のＣ１−Ｃ２０のアルコキシ基、置換または非置換のＣ２−Ｃ２０のアルケニル基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリール基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリールアルキル基、置換または非置換のＣ６−Ｃ３０のアリールオキシ基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリール基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリールアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ３０のヘテロアリールオキシ基、置換または非置換のＣ５−Ｃ２０のシクロアルキル基、置換または非置換のＣ２−Ｃ２０のヘテロシクロアルキル基、Ｃ１−Ｃ２０のアルキルチオ基または−Ｓｉ（Ｒ’）（Ｒ’’）（Ｒ’’’）（前記式中、Ｒ’とＲ’’とＲ’’’とはそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ２０のアルキル基）、−Ｎ（Ｒ’）（Ｒ’’）（前記式中、Ｒ’とＲ’’とはそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ２０のアルキル基）であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７のうち選択された２つ以上が相互連結されてもよく、Ｘは、１価陰イオン性ニ座配位子であり、ａは、１ないし３の整数であり、ｂは、０ないし２の整数であり、ａとｂとの和は３である。
【００２３】
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７が何れも水素で、ａが３であり、ｂが０である場合と、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ７は何れも水素であり、Ｒ５及びＲ６が何れもフッ素であり、Ｘはｐｉｃであり、ａは２であり、ｂは１である場合は除外される。
【００２４】
特に、前記化学式１で前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７のうち選択された２つ以上が相互連結されて環システムが形成できる。例えば、前記Ｒ１とＲ２；Ｒ２とＲ３；Ｒ１；Ｒ２及びＲ３；Ｒ４とＲ５；Ｒ５とＲ６；Ｒ４、Ｒ５及びＲ６；Ｒ６とＲ７；Ｒ５、Ｒ６及びＲ７のうち選択された１つ以上が相互連結されて環システムが形成できる。
【００２５】
特に、前記化学式１のイリジウム化合物はａとｂとの組合せによって下記化学式２ａまたは化学式２ｂで示される。下記化学式２ｂの化合物はａが３で、ｂは０である場合であり、化学式２ａの化合物はａが２で、ｂは１である場合である。
【００２６】
【化４】
2005053912.tif 000005
【００２７】
前記式中、Ｘは化学式１で定義された通りである。
【００２８】
前記Ｘは、下記構造式で示されるアセチルアセトネート（ａｃａｃ）、ヘキサフルオロアセチルアセトネート（ｈｆａｃａｃ）、サリシリデン（ｓａｌ）、ピコリネート（ｐｉｃ）、８−ヒドロキシキノリネート（ｈｑｕｉｎ）、α−アミノ酸  Ｌ−プロリン（Ｌ−ｐｒｏ）、ジベンゾイルメタン（ｄｂｍ）、テトラメチルへプタンジオン（ｔｍｄ）、（１−（２−ヒドロキシフェニル）ピラゾレート）（ｏｐｐｚ）、３−イソキノリンカルボキシレート（３ｉｑ）、１−イソキノリンカルボキシレート（１ｉｑ）、１，５−ジメチル−３−ピラゾールカルボキシレート（ｄｍ３ＰＣ）、フェニルピラゾール（ｐｐｚ）、キノリンカルボキシレート（ｑｕｉｎ）及びｐｐｙが挙げられる。
【００２９】
【化５】
2005053912.tif 000006
【００３０】
前記化学式１で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立にメチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−アミル、トリフルオロメチル、ペンタフロオロエチル、パーフルオロアルキル、ベンジル、４−（ｔｅｒｔブチル）ベンジル、３，５−ジ−（ｔｅｒｔブチル）ベンジル、３，５−ジ−（イソプロピル）ベンジル、ナフチル、フェニル、フリル、チエニル、ピリジル、シアノ、メトキシ、エトキシ基またはハロゲン原子であることが望ましい。
【００３１】
前記化学式１で、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、メチル、エチル、プロピル、フェニルまたはシアノ基であることが望ましい。
【００３２】
また、本発明による化学式１のイリジウム化合物で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立にメチルまたはエチルであり、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、メチル、エチル、フェニルまたはシアノ基であることが望ましい。かかる場合についての具体例は次の通りである。
【００３３】
【化６】
2005053912.tif 000007
【００３４】
ただし、式中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１７は何れもメチル基であり、Ｒ１４及びＲ１８はメチル基、フェニル基、シアノ基、またはハロゲン原子であり、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５及びＲ１６はそれぞれ独立にメチル基、フェニル基、シアノ基またはハロゲン原子である。
【００３５】
本発明による化学式１で示される化合物は青色発光材料、特に濃い青色発光材料である。前記化学式１のイリジウム化合物が濃い青色発光が可能な主な理由は、既存の材料とは違ってｐｐｙリガンド構造のピリジン環６角形構造をピラゾール環５角形構造に変えて発光体である主リガンドのｐコンジュゲーション長さを縮めることによって、バンドギャップ（Ｅｇ）が高まってブルーシフトを可能にしたことによるものである。特に、フェニル環に強力な電子求引基である−ＣＮ置換体を導入して分子と分子間の反発力を高めることによって揮発性質が増加して蒸着を容易にする。また、分子間相互作用を減少させて濃度減衰効果を防止し、これによって結晶化が抑制され、薄膜安定性が高まって発光効率を高める。フェニル基を置換した場合にはアロマチック環置換体を導入することによって、熱的安定性を高め、それにより、薄膜安定性を高めて発光効率を高める。メチル基のようなアルキル基の導入では、メチル基の置換で立体障害効果を誘導して分子と分子間の相互作用を減少させ、分子間相互作用の結果として現れる濃度減衰効果を防止することによって、図８で示されるように発光効率が大幅に高まったが、このような性質は薄膜内の結晶化を抑制して薄膜性質を良くすることによって発光効率を高める。
【００３６】
前記化学式１で示されるイリジウム化合物は、特に化学式４、５、７ないし２４で示される化合物であることが望ましい。ただし、化学式４，５，７ないし２４において、化合物から出ている−は−ＣＨ３を意味する。
【００３７】
【化７】
2005053912.tif 000008
【００３８】
【化８】
2005053912.tif 000009
【００３９】
【化９】
2005053912.tif 000010
【００４０】
前記化学式１で示される化合物の合成方法を説明する。化学式１の化合物は当技術分野で公知であるいろいろな反応経路によって合成可能であり、そのうちで一実施例による合成方法は次の通りである。
【００４１】
まず、下記反応式１に示されるフェニルピラゾール化合物を合成する。
【００４２】
【化１０】
2005053912.tif 000011
【００４３】
ただし、式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は前述した通りであり、Ｘは、ハロゲン原子である。
【００４４】
その後、前記フェニルピラゾール化合物と、イリジウム化合物とを反応して化学式１の化合物のうち、化学式２ｂで示されるイリジウム化合物（Ｘリガンドがない場合）を得る。ここで、前記イリジウム化合物としては、Ｉｒ（ａｃａｃ）３などを使用する。
【００４５】
化学式１の化合物のうち、化学式２ａのイリジウム化合物（Ｘリガンドが存在する場合）は、前記フェニルピラゾール化合物と、イリジウム化合物と、Ｘリガンド含有化合物（ＸＨ）とを反応して製造される。ここで、前記イリジウム化合物の例としてはＩｒＣｌ３などを使用する。
【００４６】
本発明による前述した化学式３１で示されるニ座配位子を有する金属化合物はＩｒなどのような金属を含む新しいリガンド構造を有する新規有機金属化合物であって、既存のｐｐｙ（２−フェニルピリジン）リガンド構造とは違って、ピリジン環をピラゾール環に変えるか、イミダゾール環、またはオキサゾール環に変更した新規な化合物である。
【００４７】
前記化学式３１で示されるニ座配位子を有する化合物の例として、下記化学式３２で示される金属化合物を挙げられる。
【００４８】
【化１１】
2005053912.tif 000012
【００４９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７は前述した通りであり、Ｘは１価陰イオン性ニ座配位子であり、ａは１ないし３の整数であり、ｂは０ないし２の整数であり、ただａとｂとの和は３である。
【００５０】
前記Ｘの具体例としては、下記構造式（便宜上、Ｉｒはリガンドと共に図示する）に示されるａｃａｃ、ｈｆａｃａｃ、ｓａｌ、ｐｉｃ、ｈｑｕｉｎ、Ｌ−ｐｒｏ、ｄｂｍ、ｔｍｄ、ｏｐｐｚ、３ｉｑ、１ｉｑ、ｄｍ３ＰＣ、ｐｐｚ、ｑｕｉｎ及びｐｐｙの形態が挙げられる。
【００５１】
【化１２】
2005053912.tif 000013
【００５２】
ただし、化学式１で、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に、Ｃ１−Ｃ１２アルキル基、Ｃ５−Ｃ１０炭素環基、Ｃ６−Ｃ２０アリール基、Ｃ１−Ｃ１２アルコキシ基、シアノ基、Ｃ２−Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、Ｃ２−Ｃ２０ヘテロアリール基、またはＣ６−Ｃ２０融合アリール基などが特に望ましい。
【００５３】
前記化学式１で示されるニ座配位子を有する金属化合物は特に下記化学式３３ないし６５で示される化合物であることが望ましい。ただし、化学式３３ないし６５において、化合物から出ている−は−ＣＨ３を意味する。
【００５４】
【化１３】
2005053912.tif 000014
【００５５】
【化１４】
2005053912.tif 000015
【００５６】
【化１５】
2005053912.tif 000016
【００５７】
【化１６】
2005053912.tif 000017
【００５８】
前記化学式３１で示されるニ座配位子を有する金属化合物の合成方法を説明する。
【００５９】
化学式３１で示されるニ座配位子を有する金属化合物は当技術分野で公知であるいろいろな反応経路によって合成可能であり、そのうち一実施例による合成方法は次の通りである。
【００６０】
まず、化学式３１で示されるニ座配位子含有化合物を合成した後、これをイリジウム化合物と反応してこれに対応するイリジウムダイマを作る。ここで前記イリジウム化合物としてはＩｒＣｌ３などを使用する。
【００６１】
前記イリジウムダイマはＸリガンド含有化合物を反応して製造される。ここで、前記イリジウム化合物の例としてはＩｒＣｌ３などを使用する。
【００６２】
【化１７】
2005053912.tif 000018
【００６３】
本発明で使われる置換基である非置換のＣ１−Ｃ２０のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、ｉｓｏ−アミル、へキシルなどが挙げられ、前記アルキルのうち１つ以上の水素原子はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３０のアルキル基、Ｃ１−Ｃ３０のアルコキシ基、低級アルキルアミノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アミジノ基、ヒドラジン、ヒドラゾン、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などの置換基で置換できる。
【００６４】
本発明で使用する置換基である非置換のＣ２−Ｃ２０のアルケニル基の具体例としては、エチレン基、プロピレン基、イソブチレン基、ビニル基、アリル基などがあり、前記アルケニル基のうち１つ以上の水素原子はハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ３０のアルキル基、Ｃ１−Ｃ３０のアルコキシ基、低級アルキルアミノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、アミジノ基、ヒドラジン、ヒドラゾン、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などの置換基で置換できる。
【００６５】
前記本発明の化合物で使われる置換基である非置換のＣ１−Ｃ２０のアルコキシ基の具体例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ｉｓｏ−アミルオキシ、へキシルオキシなどが挙げられ、前記アルキルのうち１つ以上の水素原子は前述したＣ１−Ｃ２０のアルキル基の場合と同様な置換基で置換可能である。
【００６６】
前記本発明の化合物で使われる置換基であるアリール基は１つ以上の環を含む炭素数６ないし３０個の炭素環芳香族システムを意味し、前記環はペンダント方法で共に付着されるか、または融合されうる。アリールとは、フェニル、ナフチル、テトラヒドラナフチルなどの芳香族システムを含む。また、前記アリール基のうち１つ以上の水素原子は前述したＣ１−Ｃ２０のアルキル基の場合と同様な置換基で置換可能である。
【００６７】
本発明の化合物で使われる置換基であるアリールアルキル基は、前記定義されたようなアリール基の水素原子のうち一部が低級アルキル、例えばメチル、エチル、プロピルなどのグループで置換されたものを意味する。例えば、ベンジル、フェニルエチル、４−（ｔｅｒｔブチル）ベンジル、３，５−ジ−（ｔｅｒｔブチル）ベンジル、３，５−ジ（イソプロピル）ベンジルなどがある。前記アリールアルキル基のうち１つ以上の水素原子は前述したＣ１−Ｃ２０のアルキル基の場合と同様な置換基で置換可能である。
【００６８】
本発明の化合物で使われる置換基であるヘテロアリール基はＮ、Ｏ、ＰまたはＳのうちから選択された１、２または３個のヘテロ原子を含み、残りの環原子がＣである環原子数２ないし３０の１価単環系環化合物、または前記環はペンダント方法で共に付着されるか、または融合されうる。前記ヘテロアリール基の例としては、ピリジル、チエニル、フリルなどがある。
【００６９】
前記ヘテロアリールアルキル基は、前記ヘテロアリール基の水素原子の一部が低級アルキル基で置換されたものを意味し、ヘテロアリールアルキル基のうちヘテロアリールに対する定義は前述した通りである。前記ヘテロアリールアルキル基のうち１つ以上の水素原子は前述したＣ１−Ｃ２０のアルキル基の場合と同様な置換基で置換可能である。
【００７０】
前記シクロアルキル基は、炭素原子数４ないし３０の１価単環系を意味する。前記シクロアルキル基のうち少なくとも１つ以上の水素原子は前述したＣ１−Ｃ２０のアルキル基の場合と同様な置換基で置換可能である。
【００７１】
前記ヘテロシクロアルキル基は、Ｎ、Ｏ、ＰまたはＳのうち選択された１、２または３個のヘテロ原子を含み、残りの環原子がＣである環原子数１ないし３０の１価単環系を意味し、前記シクロアルキル基の水素原子の一部が低級アルキル基に置換されたものを意味する。前記シクロアルキル基のうち１つ以上の水素原子は前述したＣ１−Ｃ２０のアルキル基の場合と同様な置換基で置換可能である。
【００７２】
本発明による化学式１及び３１に示される化合物は濃い青色発光材料であり、いろいろな画像表示装置に有用に適用可能である。特に、ＥＬ素子の赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）発光層の形成時にホスト物質またはドーパントとして可能である。
【００７３】
以下、前述した化学式１及び３１の化合物を採用したＥＬ素子及びその製造方法を説明する。
【００７４】
化学式１及び３１の化合物はＥＬ素子の形成時に発光層の形成材料に利用可能であり、これを利用した望ましい一実施例によるＥＬ素子（図１参照）の製造方法を説明する。
【００７５】
まず、基板１１上部にパターニングされた第１電極１２を形成する。ここで、前記基板１１は一般的にＥＬ素子で使われる基板を使用するが、透明性、表面平滑性、取扱い容易性及び防水性が優秀なガラス基板、または透明プラスチック基板が望ましい。そして、前記基板１１の厚みは０．３ないし０．７ｍｍであることが望ましい。
【００７６】
前記第１電極１２の形成材料としては、ホール注入が容易な伝導性金属、またはその酸化物よりなり、具体的な例として、ＩＴＯ（Ｉｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ニッケル、白金、金、イリジウムなどを使用する。
【００７７】
前記第１電極１２が形成された基板１１を洗浄した後、ＵＶ／オゾン処理を実施する。この時、洗浄方法としては、イソプロパノール（ＩＰＡ）、アセトンなどの有機溶媒を利用する。
【００７８】
洗浄された基板１１の第１電極１２上部にホール注入層（ＨＩＬ）１３を選択的に形成する。このようにホール注入層１３を形成すれば、第１電極１２と、ホール輸送層（ＨＴＬ）１４の接触抵抗を減少させると同時に、発光層に対する第１電極のホール輸送能力が向上して素子の駆動電圧及び寿命特性が全般的に改善される効果が得られる。かかるホール注入層１３の形成材料は、水溶性物質であるＰＥＤＯＴ｛ｐｏｌｙ（３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）｝／ＰＳＳ（ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ  ｐａｒａｓｕｌｆｏｎａｔｅ）、スターバースト系アミン物質（例：ＩＤＥ  ４０６（出光興産社製））などの物質を使用し、かかる物質を利用して第１電極１２の上部にスピンコーティングした後、これを乾燥させてホール注入層１３を形成する。
【００７９】
ホール注入層が水溶性物質であるＰＥＤＯＴである場合には、前記乾燥温度は１００ないし２５０℃であることが望ましく、特に、約２００℃であることがさらに望ましい。その他に、真空蒸着可能な物質である場合には特別な措置なしに次の層を積層する。
【００８０】
前記ホール注入層１３の上部にホール輸送層１４を形成する。
【００８１】
前記ホール輸送層１４の形成材料は、特別に制限されず、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）、化学式２５で示されるＮ，Ｎ’−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（α−ＮＰＢ）などが使われ、ホール輸送層の形成方法は特別に制限されないが、スピンコーティング法または真空蒸着法を利用し、低分子である場合、真空蒸着を利用する。
【００８２】
【化１８】
2005053912.tif 000019
【００８３】
次いで、前記ホール輸送層１４上部に発光層（ＥＭＬ）１５を形成する。この時、前記発光層１５の形成時、化学式１のイリジウム化合物を単独で利用するか、これをドーパントとして使用して通常的なホスト物質と併用可能である。
【００８４】
前記ホスト物質としては、化学式２６で示されるＣＢＰ（４，４’−Ｂｉｓ（ｃａｒｂａｚｏｌ−９−ｙｌ）−ｂｉｐｈｅｎｙｌ）などを利用する。
【００８５】
【化１９】
2005053912.tif 000020
【００８６】
前記発光層１５の形成方法は特別に制限されないが、共蒸着法を利用する。そして、化学式１の化合物がドーパントとして使われる場合、その含量が特別に制限されるものではなく、発光層１５の形成材料１００質量部を基準として５ないし４０質量部であることが望ましい。もしドーパントの含量が前記範囲を外れれば、ＥＬ素子の発光特性が低下して望ましくない。
【００８７】
前記発光層の形成時、化学式３１で示される燐光金属化合物を使用する場合について説明する。化学式３１の燐光金属化合物は単独で利用されるか、これをホストとして使用して通常的なドーパント物質と併用して発光層が形成できる。
【００８８】
前記発光層の形成方法は特に制限されないが、共蒸着方法を利用する。そして、化学式３１の化合物がホストとして使われる場合、その含量が特に制限されることはなく、発光層形成材料１００質量部を基準として６０ないし９５質量部であることが望ましい。もしホストの含量が前記範囲を外れれば、ＥＬ素子の発光特性が低下して望ましくない。
【００８９】
前記発光層１５の膜厚は１００ないし５００Åであることが望ましい。もし発光層１５の厚みが１００Å未満である場合には発光効率が低下し、５００Åを超過する場合には駆動電圧が上昇して望ましくない。
【００９０】
前記発光層１５の上部に発光物質で形成されるエキシトンが電子輸送層に移動することを防ぐか、ホールが電子輸送層（ＥＴＬ）１７に移動することを防ぐ役割をするホール抑制層（ＨＢＬ）１６を形成する。この時、ホール抑制層１６の形成材料としては、フェナントロリン系化合物（例：ＵＤＣ社製、ＢＣＰ）、イミダゾール系化合物、トリアゾール系化合物、オキサジアゾール系化合物（例：ＰＢＤ）、アルミニウム錯体（ｃｏｍｐｌｅｘ）（ＵＤＣ社製）、下記構造式のＢＡｌｑなどを使用する。そして、この形成方法は特に制限されず、その形成材料によって蒸着またはスピンコーティング方法を利用する。
【００９１】
前記ホール抑制層１６の上部に電子輸送層１７を形成する。前記電子輸送層１７の形成材料としては、化学式２７の化合物、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、トリアゾール系化合物、イソチアゾール系化合物、オキサジアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、ペリレン系化合物、アルミニウム錯体（例：Ａｌｑ３（トリス（８−キノリノラト）−アルミニウム）、ＢＡｌｑ、ＳＡｌｑ、Ａｌｍｑ３）、ガリウム錯体（例：Ｇａｑ’２ＯＰｉｖ、Ｇａｑ’２ＯＡｃ、２（Ｇａｑ’２））を使用する。そして、電子輸送層１７の形成方法は形成材料によって真空蒸着方法またはスピンコーティング方法を利用する。
【００９２】
【化２０】
2005053912.tif 000021
【００９３】
前記電子輸送層１７の上部には電子注入層（ＥＩＬ）１８を積層する。この形成材料としては、前述した構造式を有するＡｌｑ３、ＬｉＦ、ＮａＣｌ、ＣｓＦなどを利用し、この形成方法は形成材料によって真空蒸着方法、またはスピンコーティング方法を利用する。そして、電子注入層（ＥＩＬ）１８の厚みは１ないし１５Åの範囲であることが望ましい。
【００９４】
前記電子注入層１８の上部に第２電極１９を形成し、前記結果物を封止して有機ＥＬ素子を完成する。
【００９５】
前記第２電極１９は仕事関数の小さな金属、すなわち、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｍｇ合金を利用してこれを蒸着して形成する。前記第２電極１９の厚みは８００ないし３０００Åであることが望ましい。
【００９６】
本発明のＥＬ素子は図１に示されるような積層構造を有し、必要に応じて１層または２層の中間層をさらに形成することも可能である。また、ホール抑制層、電子注入層などは選択的に形成可能な層であって、場合によっては形成しなくても構わない。
【実施例】
【００９７】
以下、本発明は実施例を挙げてより詳細に説明するが、本発明の技術的思想が実施例に限定されるものではない。
【００９８】
（使われる試薬）
リン酸カルシウム三塩基性モノハイドレート、１，４−ジオキサン、ヨード化銅、（＋，−）−トランス−１，２−ジアミノシクロへキサンはＡｃｒｏｓ社の製品を使用し、イリジウムクロライドハイドレート、イリジウムクロライドアセチルアセトネート、グリセロール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、１−ピラゾール、３−メチル−１−フェニルピラゾール、３−メチル−１−ｍ−トリルピラゾール、３，５−ジメチル−１−フェニルピラゾール、３−ヨードベンゾニトリル、４−ヨードベンゾニトリル、アセチルアセトン、ピコリン酸はアルドリッチ社の製品を使用した。そして、メチレンクロライド、メタノール、へキサン、硫酸マグネシウム、炭酸マグネシウムは徳山化学社の製品をそのまま使用した。
【００９９】
また、ピラゾール、２−ヨードアニソール、アセトフェノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミドジメチルアセタル、ジメチルスルフェート、１Ｈ−４−フェニルイミダゾール、２−ブロモアセトフェノン、アセトアミドはＴＣＩ（東京化成社）の製品を使用し、ニトロベンゼン、炭酸カルシウム、ＨＢｒ、ヒドラジンモノハイドレート、エタノール、アセトン、エチルセロソルブ、炭酸ナトリウム、１，２−ジクロロエタン、２−ピリジンカルボン酸、アセチルアセトン、ＴＨＦ、ＮａＨ及びニトロベンゼンは和光純薬社の製品を使用した。イリジウムクロライドヒドロクロライドハイドレート、イリジウムクロライド、３，４−ジフルオロアセトフェノン、３−シアノアセトフェノン、３−メチル−１−フェニルピラゾール、３−メチル−１−ｍ−トリルピラゾール、１−フェニルピラゾール、１−イソキノリンカルボン酸、３−イソキノリンカルボン酸はアルドリッチ社の製品を使用した。そして、メチレンクロライド、硫酸マグネシウムは徳山化学社の製品をそのまま使用した。
【０１００】
（一般的な方法）
あらゆる新しい化合物は１Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲ、そしてＵＶと分光蛍光法を利用して構造を確認した。１Ｈ−ＮＭＲ及び１３Ｃ−ＮＭＲはＢｒｕｋｅｒ  ＡＭ−３００分光器を使用して記録し、ＵＶはＢＥＣＫＭＡＮ  ＤＵ−６５０、分光蛍光測定機としてはＪＡＳＣＯ  ＦＰ−７５００を使用した。あらゆる化学的移動度は溶媒を基準としてｐｐｍ単位で記録した。
【０１０１】
（合成例１：化学式３で示される３−ピラゾール−ベンゾニトリルの製造）
【０１０２】
【化２１】
2005053912.tif 000022
【０１０３】
密封チューブ（ｓｅａｌｅｄ  ｔｕｂｅ）にヨード化銅（０．０１ｍｍｏｌ）とリン酸カルシウム三塩基性モノハイドレート（２．１ｍｍｏｌ）、１−ピラゾール（１．２ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン（１０ｍＬ）を添加し、ここに窒素を注入して３０分間撹拌した。次いで、前記反応混合物に、３−ヨードベンゾニトリル、（＋，−）−トランス−１，２−ジアミノシクロへキサン（０．１ｍｍｏｌ）を加えた後、栓を閉じ、１１０℃で約２４時間加熱しながら撹拌した。
【０１０４】
反応混合物の反応状態を薄膜クロマトグラフィ（Ｔｈｉｎ  Ｌａｙｅｒ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ：ＴＬＣ）で確認して反応を完結させた後、高真空減圧蒸留法で溶媒を除去した。次いで、前記結果物をメチレンクロライドで抽出した後、これを飽和ＮａＣｌ水溶液で洗った。抽出されたメチレンクロライド溶液はＭｇＳＯ４を利用して乾燥し、フラッシュカラムクロマトグラフィ（溶離液：メチレンクロライドとメタノール）を実施して固体物質を得た。このように得られた固体物質を真空条件下で３時間乾燥して化学式３の化合物を得た（収率：５０％）。
【０１０５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．０４（ｄ，Ｊ＝１．１１．１Ｈ）７．９９−７．９５（ｍ，２Ｈ）７．７８（ｄ，Ｊ＝１．５３，１Ｈ）７．６２−７．５３（ｍ，２Ｈ）６．５４（ｔ，Ｊ＝２．１１．１Ｈ）
【０１０６】
【化２２】
2005053912.tif 000023
【０１０７】
（合成例２：化合物（Ａ）の製造）
室温で２−メトキシエタノール（１００ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後、ここにイリジウムクロライドヒドロクロライドハイドレート（４ｍｍｏｌ）と３−ピラゾール−ベンゾニトリル（１０ｍｍｏｌ）を添加し、窒素ガス雰囲気下で、１２時間加熱した。
【０１０８】
前記反応を完結した後、反応混合物を高真空減圧蒸留して溶媒を除去した後、メチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗った後、抽出されたメチレンクロライド溶液はＭｇＳＯ４を利用して水を除去した。次いで、前記結果物を減圧蒸留して溶媒を最少量に残した後、へキサンを添加すると、固体の物質が得られた。得られた固体物質を濾過した後、これを真空条件下で、約３時間乾燥して化合物（Ａ）を得た（収率：５０％）。
【０１０９】
（合成例３：化学式４で示される化合物Ｉｒ（５−ＣＮｐｈｅｎｙｌ−ｐｙｒａｚｏｌ）２（ａｃａｃ）の製造）
室温で２−エトキシエタノール（１００ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後、化合物Ａ（５ｍｍｏｌ）とａｃａｃ塩（１５ｍｍｏｌ）とを加え、塩基として３Ｎ  Ｎａ２ＣＯ３（２．５ｍｌ）を添加した。窒素ガス雰囲気下で１２時間加熱しながら撹拌した後、ＴＬＣで反応を確認した。高真空減圧蒸留で溶媒を除去した後、メチレンクロライドで抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗った。抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、これを減圧蒸留して溶媒を最少量に残した後、へキサンを添加して固体の物質を得た。前記結果物を濾過した後、カラムクロマトグラフィによってもう一度精製し、真空ポンプ下で３時間乾燥して化学式４の化合物を得た（収率：５０％）。
【０１１０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．８２（ｄ，Ｊ＝２．８７４Ｈｚ，２Ｈ），７．８６（ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，２Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝２．１５７Ｈｚ，２Ｈ），６．９７−６．５２（ｍ，４Ｈ），６．４１（ｄ，Ｊ＝７．７７３Ｈｚ，２Ｈ），５．３４（ｓ，１Ｈ），１．７７（ｓ，、６Ｈ）
【０１１１】
【化２３】
2005053912.tif 000024
【０１１２】
（合成例４：化学式５の化合物Ｉｒ（５−ＣＮｐｈｅｎｙｌ−ｐｙｒａｚｏｌ）２（ｐｉｃ））の製造）
室温で２−エトキシエタノール（１００ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後、化合物（Ａ）（５ｍｍｏｌ）、ピコリン酸（１５ｍｍｏｌ）及び３Ｎ  Ｎａ２ＣＯ３（２．５ｍｌ）を添加した。窒素雰囲気下で反応混合物を１２時間加熱しながら撹拌した後、ＴＬＣで反応進行の程度を確認した。
【０１１３】
前記反応混合物を高真空減圧蒸留して溶媒を除去した後、メチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗った。抽出されたメチレンクロライド溶液はＭｇＳＯ４を用いて水を除去し、減圧蒸留で溶媒を最少量に残した後、ここにへキサンを添加して固体の物質を得た。これを濾過した後、カラムクロマトグラフィによってもう一度精製し、真空ポンプ下で３時間乾燥して化学式５の化合物を得た（収率：５０％）。
【０１１４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．３８（ｄ，Ｊ＝７．６２６Ｈｚ，１Ｈ），８．１９（ｄ，Ｊ＝２．８５９Ｈｚ，１Ｈ），８．１６５（ｄ，Ｊ＝２．８７Ｈｚ，１Ｈ），８．０１７（ｔｄ，Ｊ＝１．４５Ｈｚ，７．７１３Ｈｚ，１Ｈ），７．４６７（ｍ，３Ｈ），７．０２９（ｄｄ，Ｊ＝１．５３Ｈｚ，７．７８Ｈｚ，１Ｈ），６．９６（ｄｄ，Ｊ＝１．４２８Ｈｚ，７．７３Ｈｚ，１Ｈ），６．８３９２（ｄ，Ｊ＝２．１７２Ｈｚ，１Ｈ），６．７５１４（ｔ，Ｊ＝５．１５４Ｈｚ，１Ｈ），６．５７７２（ｔ，Ｊ＝５．０５Ｈｚ，１Ｈ），６．５０２２（ｄ，Ｊ＝７．８２Ｈｚ，１Ｈ），６．１７７２（ｄ，Ｊ＝７．７９７Ｈｚ，１Ｈ）
【０１１５】
【化２４】
2005053912.tif 000025
【０１１６】
（合成例５：化学式６で示される化合物（４−ｐｙｒａｚｏｌ−ｂｅｚｏｎｉｔｒｉｌｅ）の製造）
密封チューブにヨード化銅（０．０１ｍｍｏｌ）とリン酸カルシウム三塩基性モノハイドレート（２．１ｍｍｏｌ）、１−ピラゾール（１．２ｍｍｏｌ）、１，４−ジオキサン（１０ｍＬ）を添加し、これを窒素ガス雰囲気下で３０分間撹拌した。次いで、前記反応混合物に、４−ヨードベンゾニトリル、（＋，−）−トランス−１，２−ジアミノ−シクロへキサン（０．１ｍｍｏｌ）を加えた後、栓を閉じて１１０℃で約２４時間加熱しながら撹拌した。
【０１１７】
ＴＬＣで前記反応混合物の完結を確認した後、高真空減圧蒸留して溶媒を除去した。次いで、反応混合物はメチレンクロライドを利用して抽出した後、これを飽和ＮａＣｌ水溶液で洗った。抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、フラッシュカラムクロマトグラフィ（溶離液：メチレンクロライド及びメタノール）を実施して固体物質を得た。このようにして得た固体物質を真空ポンプ下で３時間程度乾燥して化学式６で示される化合物を得た（収率：７５％）。
【０１１８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．００（ｄ，Ｊ＝２．８６，１Ｈ）７．８４−７．８１（ｍ，２Ｈ）７．７７−７．７１（ｍ，３Ｈ）６．５３（ｔ，Ｊ＝２．０６，１Ｈ）
【０１１９】
【化２５】
2005053912.tif 000026
【０１２０】
（合成例６：化合物（Ｂ）の製造）
室温で２−メトキシエタノール（１００ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後、イリジウムクロライドヒドロクロライドハイドレート（４ｍｍｏｌ）と４−ピラゾール−ベンゾニトリル（１０ｍｍｏｌ）とを加え、窒素ガス雰囲気下で加熱しながら撹拌した。
【０１２１】
ＴＬＣで反応の進行状態を確認して反応が完結した後、反応混合物を高真空減圧蒸留で溶媒を除去した後、メチレンクロライドで抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗った。抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留で溶媒を最少量に残した後、へキサンを添加すると、固体物質が得られた。このように得た固体物質を濾過した後、これを真空ポンプ下で３時間程度乾燥して化合物（Ｂ）を得た（収率：７５％）。
【０１２２】
（合成例７：化学式７で示される化合物（Ｉｒ（４−ＣＮｐｈｅｎｙｌ−ｐｙｒａｚｏｌ）２（ａｃａｃ））の製造）
室温で２−エトキシエタノール（１００ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後、化合物（Ｂ）（５ｍｍｏｌ）とａｃａｃ塩（１５ｍｍｏｌ）とを加え、塩基として３Ｎ  Ｎａ２ＣＯ３（２．５ｍｌ）を添加した。前記反応混合物を窒素ガス雰囲気下で１２時間加熱しながら撹拌した。
【０１２３】
ＴＬＣで反応混合物の反応状態を確認して反応を完結した後、高真空減圧蒸留して溶媒を除去した。反応混合物はメチレンクロライドを利用して抽出した後、抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗った。
【０１２４】
抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去し、減圧蒸留して溶媒を最少量に残した後、へキサンを添加して固体の物質を得た。これを濾過した後、カラムクロマトグラフィによって再度精製し、真空ポンプ下で３時間乾燥して化学式７で示される化合物を得た（収率：５０％）。
【０１２５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．１５（ｄ，Ｊ＝２．７８Ｈｚ，２Ｈ），７．６６（ｄ，Ｊ＝１．７４Ｈｚ，２Ｈ），７．２２（ｄ，Ｊ＝４．５９Ｈｚ，４Ｈ），６．７８（ｔ，Ｊ＝４．７３４Ｈｚ，２Ｈ），６．４７７８（ｓ，２Ｈ），５．２９０２（ｓ，１Ｈ），１．８５０８（ｓ，６Ｈ），１．５８４８（ｓ，５Ｈ）
【０１２６】
【化２６】
2005053912.tif 000027
【０１２７】
（合成例８：化学式８で示される化合物（Ｉｒ（４−ＣＮｐｈｅｎｙｌ−ｐｙｒａｚｏｌ）２（ｐｉｃ））の製造）
室温で２−エトキシエタノール（１００ｍｌ）に窒素を注入し、これを３０分間撹拌した後、ここに化合物（Ｂ）（５ｍｍｏｌ）、ピコリン酸（１５ｍｍｏｌ）及び塩基として３Ｎ  Ｎａ２ＣＯ３（２．５ｍｌ）を添加した。
【０１２８】
窒素ガス雰囲気下で、反応混合物を１２時間加熱しながら撹拌した後、ＴＬＣで反応の完結状態を確認した。次いで、反応混合物を高真空減圧真空して溶媒を除去した後、メチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗った後、メチレンクロライド相をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残した後、へキサンを添加して固体物質を得た。次いで、前記固体物質を濾過した後、これはカラムクロマトグラフィによってもう一度精製し、真空ポンプ下で３時間乾燥して化学式８で示される化合物を得た（収率：５０％）。
【０１２９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、３００ＭＨｚ）：δ（ｐｐｍ）８．３７（ｄ，Ｊ＝７．７９Ｈｚ，１Ｈ），８．１７６（ｔ，Ｊ＝５．２８Ｈｚ，２Ｈ），８．００８４（ｔｄ，１Ｈ），８．３８３４（ｄ，Ｊ＝２．３６４Ｈｚ，２Ｈ），７．４４９２（ｔｄ，１４．２９Ｈｚ，１Ｈ），７．３４５６（ｓ，２Ｈ），７．２８１２（ｍ，３Ｈ），６．８５８０（ｄ，Ｊ＝２．１８Ｈｚ，１Ｈ），６．７７４２２（ｔ，Ｊ＝５．１８７Ｈｚ，１Ｈ），６．６４２０９（ｍ，２Ｈ），６．４５２８２（ｓ，１Ｈ）
【０１３０】
【化２７】
2005053912.tif 000028
【０１３１】
（合成例９：化学式９で示される化合物（ｆａｃ  Ｉｒ（５−ｍｅｔｈｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｐｙｒａｚｏｌ）３）の製造）
窒素ガス雰囲気下で、室温でグリセロール（１００ｍＬ）を３０分間撹拌した後、ここにＩｒ（ａｃａｃ）３と３−メチル−１−フェニルピラゾール（６ｅｑ）とを加え、１８０〜２００℃で２４時間程度加熱しながら撹拌した。
【０１３２】
前記反応混合物の反応が完結した後、ここに水を添加してガラスフィルタで粗生成物を得、これをへキサンで洗浄した。前記結果物をメチレンクロライドで溶解した後、フラッシュクロマトグラフィによってもう一度精製し、これを真空ポンプの下で３時間程度乾燥して化学式９の化合物を得た（収率：２０％）。メチレンクロライドにメタノールを１質量部溶かした後、へキサンを分散させて得た化学式９化合物の結晶構造を図１２に示す。
【０１３３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：７．９３（ｄ，Ｊ＝２．３１，３Ｈ）７．１８（ｄ，Ｊ＝１３．４４，３Ｈ）６．９２（ｔ，Ｊ＝３．５８，３Ｈ）６．７４−６．６２（ｍ，６Ｈ）６．１４（ｄ，Ｊ＝２．５５，３Ｈ）１．７０８（ｓ，９Ｈ）
【０１３４】
【化２８】
2005053912.tif 000029
【０１３５】
（合成例１０：化学式１０で示される化合物（ｆａｃ  Ｉｒ（３，５−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｐｈｅｎｙｌｐｙｒａｚｏｌ）３）の製造）
窒素ガス雰囲気下で、室温でグリセロール（１００ｍＬ）を３０分間撹拌した後、ここにＩｒ（ａｃａｃ）３と３，５−ジメチル−１−フェニルピラゾール（６ｅｑ）とを加えて１８０〜２００℃で２４時間程度加熱しながら撹拌した。
【０１３６】
前記反応混合物の反応が完結した後、反応混合物に水を添加し、ガラスフィルタで粗生成物を得、これをへキサンで洗浄した。前記結果物をメチレンクロライドで溶解した後、フラッシュクロマトグラフィによって再度精製し、真空ポンプの下で３時間程度乾燥して化学式１０で示される化合物を得た（収率：２０％）。
【０１３７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：７．３９（ｄ，Ｊ＝８．０４，３Ｈ）６．９０−６．８４（ｍ，３Ｈ）６．７０−６．６１（ｍ，６Ｈ）５．８６（ｓ，３Ｈ）２．７５（ｓ，９Ｈ）１．６２（ｓ，９Ｈ）
【０１３８】
【化２９】
2005053912.tif 000030
【０１３９】
（合成例１１：化学式１１の化合物（ｆａｃ  Ｉｒ（５−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ−４−ｍｅｔｈｙｌｐｙｒａｚｏｌ）３）の製造）
窒素ガス雰囲気下で、室温でグリセロール（１００ｍＬ）を３０分間撹拌した後、ここにＩｒ（ａｃａｃ）３と３−メチル−１−ｍ−トリル−ピラゾール（６ｅｑ）とを加えて１８０〜２００℃で２４時間程度加熱しながら撹拌した。
【０１４０】
前記反応混合物の反応が完結した後、水を添加してガラスフィルタで粗生成物を得、これをへキサンで洗浄した。前記結果物をメチレンクロライドで溶解した後、フラッシュクロマトグラフィによって再度精製した後、真空ポンプの下で３時間程度乾燥して化学式１１の化合物を得た。（収率：２０％）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：８．３６（ｓ，３Ｈ）７．２０（ｓ，３Ｈ）６．８１（ｓ，３Ｈ）６．４８−６．４１（ｍ，６Ｈ）２．１７（ｓ，９Ｈ）２．０２（ｓ，９Ｈ）
【０１４１】
【化３０】
2005053912.tif 000031
【０１４２】
（合成例１２：化学式１２の化合物（Ｉｒ（５−ｍｅｔｈｙｌ−ｐｈｅｙｎｙｌｐｙｒａｚｏｌ）２（ｏｐｐｚ））の製造）
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−メトキシエタノールを３０分間撹拌した後、イリジウムクロライドヒドロクロライドハイドレート（４ｍｍｏｌ）と３−メチル−１−フェニルピラゾール（１０ｍｍｏｌ）とを加え、１２時間窒素下で加熱しながら撹拌した。
【０１４３】
前記反応混合物の反応の進行程度をＴＬＣで確認し、反応が完結した後、反応混合物を高真空減圧蒸留して溶媒を除去した。前記結果物をメチレンクロライドで抽出し、抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄した。抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残した後、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマを得た（収率：５０％）。
【０１４４】
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−エトキシエタノール（１００ｍｌ）を３０分間撹拌した後、ここに前記ダイマ（５ｍｍｏｌ）及びＯＨｐｐｚ（１５ｍｍｏｌ）を加え、塩基として３Ｎ  Ｎａ２ＣＯ３（２．５ｍｌ）を添加した。窒素ガス雰囲気下で前記反応混合物を１２時間加熱しながら撹拌した後、ＴＬＣで反応の進行状態を確認した。反応が完結した後、反応混合物を高真空減圧蒸留して溶媒を除去し、これをメチレンクロライドで抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄し、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残し、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過した後、カラムクロマトグラフィによって再度精製し、真空ポンプ下で３時間乾燥して化学式１２の化合物を得た（収率：５０％）。
【０１４５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：８．０２（ｄ，Ｊ＝２．７６，２Ｈ）７．９８（ｄ，Ｊ＝２．１２，２Ｈ）７．８５７（ｄ，Ｊ＝２．７６，１Ｈ）７．２０５（ｄ，Ｊ＝７．６３８，１Ｈ）７．１３４−７．０８２（ｍ，２Ｈ）６，９５５−６．８６（ｍ，３Ｈ）６．７４９−６．６３６（ｍ，４Ｈ）６．５３９−６，４８（ｍ，２Ｈ）６．３４−６．２８（ｍ，３Ｈ）６．０９９（ｄ，Ｊ＝２．７３，１Ｈ）
【０１４６】
【化３１】
2005053912.tif 000032
【０１４７】
（合成例１３：化学式１３の化合物（Ｉｒ（２−（４−ｐｈｅｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌ）−５−ｍｅｔｈｙｌｐｙｒａｚｏｌ）２（ｏｐｐｚ））の製造）
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−メトキシエタノールを３０分間撹拌した後、ここにイリジウムクロライドヒドロクロライドハイドレート（４ｍｍｏｌ）と１−ビフェニル−４−イル−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール（１０ｍｍｏｌ）とを加え、１２時間窒素ガス雰囲気下で加熱しながら撹拌した。
【０１４８】
ＴＬＣで反応を確認した後、高真空減圧蒸留で溶媒を除去した後、メチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗い、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残した後、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマを得た（収率：５０％）。
【０１４９】
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−エトキシエタノール（１００ｍｌ）を３０分間撹拌した後、ここに前記ダイマ（５ｍｍｏｌ）及びＯＨｐｐｚ（１５ｍｍｏｌ）を加え、塩基として３Ｎ  Ｎａ２ＣＯ３（２．５ｍｌ）を添加した。窒素ガス雰囲気下で前記反応混合物を１２時間加熱しながら撹拌した後、ＴＬＣで反応の進行状態を確認した。反応が完結した後、反応混合物を高真空減圧蒸留して溶媒を除去し、これをメチレンクロライドで抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄し、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残し、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過した後、カラムクロマトグラフィによって再度精製し、真空ポンプ下で３時間乾燥して化学式１３の化合物を得た（収率：５０％）。
【０１５０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：８．５７（ｄ，Ｊ＝２．７９，１Ｈ）８．３７（ｄ，Ｊ＝２．６５，２Ｈ）７．５５（ｄ，Ｊ＝８．１７，１Ｈ）７．４４〜７．０９（ｍ，１４Ｈ）６．８７−６．８０（ｍ，２Ｈ）６．７２（ｄ，Ｊ＝１．９４，１Ｈ）６．５６−６．４０（ｍ，５Ｈ）６．３２（ｄ，Ｊ＝２，７５，１Ｈ）
【０１５１】
【化３２】
2005053912.tif 000033
【０１５２】
（合成例１４：化学式１４の化合物（Ｉｒ（２−（４−ｐｈｅｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌ）−５−ｍｅｔｈｙｌｐｙｒａｚｏｌ）２（ｐｉｃ））の製造）
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−メトキシエタノールを３０分間撹拌した後、ここにイリジウムクロライドヒドロクロライドハイドレート（４ｍｍｏｌ）と１−ビフェニル−４−イル−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール（１０ｍｍｏｌ）とを加え、１２時間窒素ガス雰囲気下で加熱しながら撹拌した。
【０１５３】
ＴＬＣで反応を確認した後、高真空減圧蒸留で溶媒を除去した後、メチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗い、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残した後、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマを得た（収率：５０％）。
【０１５４】
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−エトキシエタノール（１００ｍｌ）を３０分間撹拌した後、ここに前記ダイマ（５ｍｍｏｌ）及びピコリン酸（１５ｍｍｏｌ）を加え、塩基として３Ｎ  Ｎａ２ＣＯ３（２．５ｍｌ）を添加した。窒素ガス雰囲気下で前記反応混合物を１２時間加熱しながら撹拌した後、ＴＬＣで反応の進行状態を確認した。反応が完結した後、反応混合物を高真空減圧蒸留して溶媒を除去し、これをメチレンクロライドで抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄し、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残し、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過した後、カラムクロマトグラフィによって再度精製し、真空ポンプ下で３時間乾燥して化学式１４の化合物を得た（収率：５０％）。
【０１５５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：８．３７（ｓ，１Ｈ）８．００−７．９６（ｍ，４Ｈ）７．３９−７．１９（ｍ，１７Ｈ）６．４４−６．４０（ｍ，２Ｈ）２．５１（ｓ，３Ｈ）１．６５（ｓ，３Ｈ）
【０１５６】
【化３３】
2005053912.tif 000034
【０１５７】
（合成例１５：化学式１５の化合物（Ｉｒ（２−（５−ｐｈｅｎｙｌ−ｐｈｅｎｙｌ）−５−ｍｅｔｈｙｌｐｙｒａｚｏｌ）２（ｐｉｃ））の製造）
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−メトキシエタノールを３０分間撹拌した後、ここにイリジウムクロライドヒドロクロライドハイドレート（４ｍｍｏｌ）と１−ビフェニル−３−イル−３−メチル−１Ｈ−ピラゾール（１０ｍｍｏｌ）とを加え、１２時間間窒素ガス雰囲気下で加熱しながら撹拌した。
【０１５８】
ＴＬＣで反応を確認した後、高真空減圧蒸留で溶媒を除去した後、メチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗い、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残した後、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマを得た（収率：５０％）。
【０１５９】
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−エトキシエタノール（１００ｍｌ）を３０分間撹拌した後、ここに前記ダイマ（５ｍｍｏｌ）及びピコリン酸（１５ｍｍｏｌ）を加え、塩基として３Ｎ  Ｎａ２ＣＯ３（２．５ｍｌ）を添加した。窒素ガス雰囲気下で前記反応混合物を１２時間加熱しながら撹拌した後、ＴＬＣで反応の進行状態を確認した。反応が完結した後、反応混合物を高真空減圧蒸留して溶媒を除去し、これをメチレンクロライドで抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄し、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残し、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過した後、カラムクロマトグラフィによって再度精製し、真空ポンプ下で３時間乾燥して化学式１５の化合物を得た（収率：５０％）。
【０１６０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：９．０１（ｔ，Ｊ＝３．５８，２Ｈ）８．１１（ｓ，２Ｈ）７．９８（ｄ，Ｊ＝１．７０，１Ｈ）７．９４−７．９０（ｍ，２Ｈ）７．７０−７．６２（ｍ，６Ｈ）７．４４−７．３８（ｍ，４Ｈ）７．３１−７．２９（ｍ，２Ｈ）７．０９−７．０６（ｍ，２Ｈ）７．０１（ｄ，Ｊ＝７．４１，１Ｈ）６．８１（ｔ．Ｊ＝２．４９，１Ｈ）６．７６（ｔ，Ｊ＝２．５４，１Ｈ）６．３５（ｄ，Ｊ＝７．８０，１Ｈ）６．２３（ｄ，Ｊ＝７．８０，１Ｈ）
【０１６１】
【化３４】
2005053912.tif 000035
【０１６２】
（合成例１６：化学式１６の化合物（ｆａｃＩｒ（ｐｐｚ）２（ｏｐｐｚ））の製造）
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−メトキシエタノールを３０分間撹拌した後、ここにイリジウムクロライドヒドロクロライドハイドレート（４ｍｍｏｌ）とｐｐｚ（１０ｍｍｏｌ）とを加え、１２時間窒素ガス雰囲気下で加熱しながら撹拌した。
【０１６３】
ＴＬＣで反応を確認した後、高真空減圧蒸留で溶媒を除去した後、メチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗い、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残した後、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマを得た（収率：５０％）。
【０１６４】
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−エトキシエタノール（１００ｍｌ）を３０分間撹拌した後、ここに前記ダイマ（５ｍｍｏｌ）及び化合物（Ｂ−１）（１５ｍｍｏｌ）を加え、塩基として３Ｎ  Ｎａ２ＣＯ３（２．５ｍｌ）を添加した。窒素ガス雰囲気下で前記反応混合物を１２時間加熱しながら撹拌した後、ＴＬＣで反応の進行状態を確認した。反応が完結した後、反応混合物を高真空減圧蒸留して溶媒を除去し、これをメチレンクロライドで抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄し、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残し、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過した後、カラムクロマトグラフィによって再度精製し、真空ポンプ下で３時間乾燥して化学式１６の化合物を得た（収率：５０％）。
【０１６５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，３００ＭＨｚ）：８．０２（ｄ，Ｊ＝２．７６，１Ｈ）７．９６−７．９２（ｍ，２Ｈ）７．３２（ｄ，Ｊ＝１．８９，１Ｈ）７．１７−７．０２（ｍ，７Ｈ）６．８９−６．８２（ｍ，２Ｈ）６．７４−６．６６（ｍ，２Ｈ）６．６２−６．５４（ｍ，１Ｈ）６．５０−６．３６（ｍ，４Ｈ）６．２３（ｄ，Ｊ＝７．３５，１Ｈ）
【０１６６】
【化３５】
2005053912.tif 000036
【０１６７】
（合成例１７：化学式１７の化合物（Ｉｒ（２−（５−ｐｈｅｎｙｌ）−ｐｈｅｎｙｌｐｙｒａｚｏｌ）２（ｏｐｐｚ））の製造）
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−メトキシエタノールを３０分間撹拌した後、ここにイリジウムクロライドヒドロクロライドハイドレート（４ｍｍｏｌ）と１−ビフェニル−３−イル−１Ｈ−ピラゾール（１０ｍｍｏｌ）とを加え、１２時間窒素ガス雰囲気下で加熱しながら撹拌した。
【０１６８】
ＴＬＣで反応を確認した後、高真空減圧蒸留で溶媒を除去した後、メチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗い、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残した後、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマを得た（収率：５０％）。
【０１６９】
窒素ガス雰囲気下で、室温で２−エトキシエタノール（１００ｍｌ）を３０分間撹拌した後、ここに前記ダイマ（５ｍｍｏｌ）及び化合物（Ｂ−１）（１５ｍｍｏｌ）を加え、塩基として３Ｎ  Ｎａ２ＣＯ３（２．５ｍｌ）を添加した。窒素ガス雰囲気下で前記反応混合物を１２時間加熱しながら撹拌した後、ＴＬＣで反応の進行状態を確認した。反応が完結した後、反応混合物を高真空減圧蒸留して溶媒を除去し、これをメチレンクロライドで抽出した。抽出されたメチレンクロライド相を飽和ＮａＣｌ水溶液で洗浄し、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、減圧蒸留して溶媒を最少量に残し、ここにへキサンを添加すると、固体物質が得られた。前記固体物質を濾過した後、カラムクロマトグラフィによって再度精製し、真空ポンプ下で３時間乾燥して化学式１７の化合物を得た（収率：５０％）。化学式１７の化合物のＣＨＣｌ３溶液状態でのＮＭＲスペクトルを図６に示す。
【０１７０】
前記合成例によって製造された化学式４、５、７及び８で示されるイリジウム化合物のＣＨ２Ｃｌ２溶液状態でのＰＬ（Ｐｈｏｔｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）特性を調べ、その結果、得られたＰＬスペクトルを図２に示す。
【０１７１】
図２を参照すると、シアノ基で置換したフェニルピラゾールリガンドのイリジウム化合物は４３５ないし４５０ｎｍの非常に濃い青色領域でＰＬ特性を示すことが分かった。
【０１７２】
常温でない低温７７ＫでのＰＬ特性を調査すれば、イリジウム化合物のＭＬＣＴ（ｍｅｔａｌ  ｔｏ  ｌｉｇａｎｄ  ｃｈａｒｇｅ  ｔｒａｎｓｆｅｒ）やＬＣ（ｌｉｇａｎｄ  ｃｅｎｔｅｒｅｄ）のような発光ピークの位置がよく分かるので、前記化学式７及び８のイリジウム化合物の７７ＫでのＰＬ特性を調査し、その結果を図３及び４に示す。
【０１７３】
図３及び４を参照すると、シアノ基で置換したイリジウム化合物の主発光ピークは常温と類似した４５４，４４８ｎｍの濃い青色領域で発光特性を示すことが分かった。
【０１７４】
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）高分子は発光していない分子であるので、化合物をドーピングした時、化合物の薄膜状態の発光特性が観察できるために、前記化学式８のイリジウム化合物６質量部をＰＭＭＡ高分子９４質量部にドーピングして作ったフィルムにおける固体ＰＬ特性を調べ、その結果を図５に示す。
【０１７５】
図５を参照すると、化合物６は薄膜状態でも主発光ピークが４５２ｎｍの青色領域で現れて自己凝集による赤色遷移はそれほど問題にならないことが分かった。
【０１７６】
前記合成例によって製造された化学式９、１０、１１のイリジウム化合物とＩｒ（ｐｐｚ）３において、ＣＨ２Ｃｌ２溶液状態でのＰＬ特性を調べ、その結果を図７に示す。
【０１７７】
図７を参照すると、化合物９、１０、１１は４４０ｎｍ付近の濃い青色領域で発光し、発光効率はＩｒ（ｐｐｚ）３より大きく現れることが分かった。
【０１７８】
前記化学式１１のイリジウム化合物において、ＣＨ２Ｃｌ２溶液状態での常温及び７７ＫでのＰＬ特性を調べ、その結果を図８に示す。
【０１７９】
図８を参照すると、化学式１１は常温（ｒ．ｔ．）及び７７Ｋで何れも４３５ｎｍ付近の濃い青色領域で発光することが分かった。
【０１８０】
前記合成例によって製造された化学式１２、１３、１６及び１７のＣＨ２Ｃｌ２溶液状態でのＰＬ特性を調べ、その結果を図９に示す。
【０１８１】
図９を参照すると、化学式１２、１３、１６及び１７は４３０ないし４４０ｎｍ付近の青色発光をし、同じ濃度で撮った発光強度は化学式１３が最も大きいことが分かった。
【０１８２】
前記合成例によって製造された化学式１５のイリジウム化合物のＣＨ２Ｃｌ２溶液状態でのＰＬ特性及び前記化学式１７のイリジウム化合物の７７Ｋ下のＰＬ特性を調べ、その結果を図１０及び１１に示す。
【０１８３】
図１０及び１１を参照すると、化学式１５は主発光ピークが４３２ｎｍ青色領域であることが、化学式１７は主発光ピークが４６３ｎｍの青色領域であることが分かった。
【０１８４】
（合成例１８：化合物（Ａ−１）の製造）
【０１８５】
【化３６】
2005053912.tif 000037
【０１８６】
アセトフェノン（３４９．８ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタル（１３９９ｍｍｏｌ）とを加えて１時間還流させた後、ここにヒドラジンモノハイドレート（２１７．６ｍｍｏｌ）とエタノール（１００ｍｌ）とを加え、１時間還流させた。
【０１８７】
ＴＬＣで反応を確認した後、ジメチルスルフェート（２１３．５ｍｍｏｌ）を添加し、アセトン、炭酸カルシウム（２３４．９ｍｍｏｌ）を加え、１時間還流して化合物（Ａ−１）を得た。収率は２９．６％である。
【０１８８】
前記過程によって得た化合物の（Ａ−１）の構造は、図１３ＡのＮＭＲスペクトルを通じて確認した。
【０１８９】
（合成例１９：化合物（Ｂ−１）の製造）
【０１９０】
【化３７】
2005053912.tif 000038
【０１９１】
密封チューブに銅（７．８６ｍｍｏｌ）と炭酸カルシウム（２１０．６ｍｍｏｌ）、ニトロベンゼン（１０ｍｌ））を加え、ピラゾール（３５．１０ｍｍｏｌ）、２−ヨードアニソール（３５．１０ｍｍｏｌ）を加えた後、栓を閉じて還流しながら約１０時間加熱しながら撹拌した。ここに、４８％  ＨＢｒ（５０ｍｌ）を加え、１０時間還流して化合物（Ｂ−１）を得た。収率は８３。５％である。
【０１９２】
（合成例２０：化学式３３で示される化合物の製造）
【０１９３】
【化３８】
2005053912.tif 000039
【０１９４】
室温でエチルセロールソルブ（２０ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後に化合物（Ａ−１）（２６．１ｍｍｏｌ）とイリジウムクロライドヒドロクロライドハイドレート（１３．０５ｍｍｏｌ）とを加え、２４時間加熱しながら撹拌した。前記反応が完結したことをＴＬＣで確認した後、反応混合物はメチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、これを濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマ構造物を得た。収率は７０．７％である。
【０１９５】
室温でエチルセロソルブ（２０ｍｌ）にダイマ（３．７５５ｍｍｏｌ）と化合物（Ｂ−１）（７．５１ｍｍｏｌ）とを加え、塩基としてＮａ２ＣＯ３（８。２６ｍｌ）を添加した。窒素下で２４時間加熱しながら撹拌した後にＴＬＣで反応を確認した。収率は２０％である。
【０１９６】
前記過程によって得た化学式３３の化合物の構造及び質量は、図１４のＮＭＲスペクトル及び図１５の質量分析結果によって確認し、熱的特性は図１３ＢのＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析データから確認可能である。図１３Ｂを参照すると、Ｔｍ＝２９６℃であることが分かった。
【０１９７】
また、前記化学式３３の化合物の固体状態でのＰＬスペクトルを図１６に示す。これを参照すると、４６０ｎｍ近くで青色発光することが分かった。
【０１９８】
（合成例２１：化合物（Ｃ−１）の製造）
【０１９９】
【化３９】
2005053912.tif 000040
【０２００】
３，４−ジフルオロアセトフェノン（１７１．５ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタル（６８６ｍｍｏｌ）とを混合して１時間還流した。ここにヒドラジンモノハイドレート（１０６．７ｍｍｏｌ）を添加し、エタノール溶媒（１００ｍｌ）下で１時間還流した。ここで得られた物質にジメチルスルフェート（１０３ｍｍｏｌ）を添加し、アセトン（１００ｍｌ）下でＫ２ＣＯ３（１１３．３ｍｍｏｌ）を加え、３時間還流させて化合物（Ｃ−１）を得た。収率は３０％である。
【０２０１】
前記過程によって得た化合物（Ｃ−１）の構造及び質量は図１７のＮＭＲスペクトルと図１８の質量分析結果によって確認した。
【０２０２】
（合成例２２：化学式３４の化合物の製造）
【０２０３】
【化４０】
2005053912.tif 000041
【０２０４】
室温でエチルセロソルブ（１０ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後に化学式７（１３．７ｍｍｏｌ）とイリジウム（ＩＩＩ）クロライド（６．８５ｍｍｏｌ）を添加し、２４時間加熱しながら撹拌した。ＴＬＣで反応が完結したことを確認した後、メチレンクロライドで抽出した後、抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、これを濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマを得た。収率は９５．１％である。
【０２０５】
室温でエチルセロソルブ（１０ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後にダイマ（２．４６ｍｍｏｌ）とアセチルアセトン（４．９２ｍｍｏｌ）とを加え、塩基としてＮａ２ＣＯ３（５．４１２ｍｌ）を添加した。窒素下で２４時間加熱しながら撹拌した後にＴＬＣで反応を確認した。収率は３０％である。
【０２０６】
前記過程によって得た化合物３４の質量は図２０の質量分析結果によって確認し、吸光波長特性は図１９に示し、ＤＳＣ分析結果は図２１に示す。図１９及び２１を参照すると、吸光は２３０ｎｍでＴｍ＝３２４℃であることが分かった。
【０２０７】
（合成例２３：化合物（Ｄ−１）の製造）
【０２０８】
【化４１】
2005053912.tif 000042
【０２０９】
密封チューブに１Ｈ−４−フェニルイミダゾール（９２．０４ｍｍｏｌ）とジメチルスルフェート（９２．０４ｍｍｏｌ）とを添加し、アセトン（１００ｍｌ）下でＫ２ＣＯ３（１０１．２ｍｍｏｌ）を加えた後、栓を閉じて還流しながら約３時間加熱しながら撹拌した。この時、ＴＬＣで反応の進行状態を確認した。収率は４１．２％である。
【０２１０】
前記過程によって得た化合物（Ｄ−１）の構造は、図２２のＮＭＲスペクトル及び図２３の質量分析結果によって確認した。
【０２１１】
（合成例２４：化学式３７の化合物の製造）
【０２１２】
【化４２】
2005053912.tif 000043
【０２１３】
室温でエチルセロソルブ（１０ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後に化学式９（１６．５８ｍｍｏｌ）とイリジウム（ＩＩＩ）クロライド（８．２９２ｍｍｏｌ）とを加え、２４時間加熱しながら撹拌した。ＴＬＣで反応の進行状態を確認した後、メチレンクロライドで抽出した。抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、これを濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマを得た。収率は４４。５％である。
【０２１４】
室温で１，２−ジクロロエタン（１０ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後にダイマ（１．４８７ｍｍｏｌ）と２−ピリジンカルボン酸（２．９７４ｍｍｏｌ）を加え、塩基としてＮａ２ＣＯ３（５．４１２ｍｌ）を添加した。窒素下で２４時間加熱しながら撹拌した後にＴＬＣで反応を確認した。収率は５３．５％である。
【０２１５】
前記過程によって得られた化合物のＤＳＣ分析結果を図２４に示す。図２４を参照すると、Ｔｍ＝３６１℃であることが分かった。
【０２１６】
（合成例２５：化学式３６の化合物の製造）
【０２１７】
【化４３】
2005053912.tif 000044
【０２１８】
室温でエチルセロソルブ（１０ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後に化学式９（２４．８８ｍｍｏｌ）とイリジウム（ＩＩＩ）クロライド（１２．４４ｍｍｏｌ）とを加え、２４時間加熱して撹拌した。ＴＬＣで反応を確認した後、反応混合物はメチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド溶液をＭｇＳＯ４で水を除去した後、これを濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマを得た。収率は４４。５％である。
【０２１９】
室温でエチルセロソルブ（１０ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後でダイマ（２．５０４ｍｍｏｌ）と化合物（Ｂ−１）（５．００７ｍｍｏｌ）とを加え、塩基としてＮａ２ＣＯ３（５．５０８ｍｌ）を添加した。窒素下で２４時間加熱しながら撹拌した後にＴＬＣで反応を確認した。収率は３０％である。
【０２２０】
前記過程によって得た化合物３６の質量は図２６の質量分析結果によって確認し、ＤＳＣ分析結果を図２７に示す。図２７を参照すると、Ｔｍが３０６℃であることが分かった。
【０２２１】
（合成例２６：化合物（Ｅ−１）の製造）
【０２２２】
【化４４】
2005053912.tif 000045
【０２２３】
２−ブロモアセトフェノン（１０９．１ｍｍｏｌ）とアセトアミド（２１８．２ｍｍｏｌ）とを添加して２時間還流した。収率は１６．５％である。
【０２２４】
前記過程によって得た化合物（Ｅ−１）の構造は、図２８のＮＭＲスペクトルによって確認した。
【０２２５】
（合成例２７：化学式３５の化合物の製造）
【０２２６】
【化４５】
2005053912.tif 000046
【０２２７】
室温でエチルセロソルブ（３０ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後に化学式Ｅ−１の化合物（１８ｍｍｏｌ）とイリジウム（ＩＩＩ）クロライド（９ｍｍｏｌ）とを加え、２４時間加熱して撹拌した。ＴＬＣで反応が完結されたことを確認し、反応混合物はメチレンクロライドを利用して抽出した。抽出されたメチレンクロライド相をＭｇＳＯ４で水を除去した後、これを濾過し、真空ポンプ下で３時間程度乾燥してダイマを得た。収率は３１．１％である。
【０２２８】
室温でエチルセロソルブ（４０ｍｌ）に窒素を注入し、３０分間撹拌した後、前記過程によって得たダイマ（１．３４５ｍｍｏｌ）と化合物（Ｂ−１）（２．６９ｍｍｏｌ）とを加え、塩基としてＮａ２ＣＯ３（２．６ｍｍｏｌ）を添加した。窒素下で２４時間加熱しながら撹拌した後に、ＴＬＣで反応が完結したことを確認した。収率は５６．７％である。
【０２２９】
前記過程によって得た化合物３５の構造は、図２９のＮＭＲスペクトル及び図３０の質量分析結果から確認し、前記化合物のＤＳＣ分析結果を図３１に示す。図３１からＴｍが２７１℃であることが分かった。
【０２３０】
（合成例２８：化合物（Ｆ−１）の製造）
【０２３１】
【化４６】
2005053912.tif 000047
【０２３２】
３−シアノアセトフェノン（６８．４９ｍｍｏｌ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタル（２７４ｍｍｏｌ）を混合して１時間還流した。ここに、ヒドラジンモノハイドレート（４８．４２ｍｍｏｌ）を加え、エタノール溶媒（１００ｍｌ）下で１時間還流した。前記混合物にヨード化メチル（５５．９２ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（５０ｍｌ）溶媒下でＮａＨ（６１．５１ｍｍｏｌ）を添加した後、３時間還流させて化合物（Ｆ−１）を得た。収率は４８．８％である。
【０２３３】
前記過程によって得た化合物（Ｆ−１）の構造は、図３２のＮＭＲスペクトル及び図３３の質量分析結果によって確認した。
【０２３４】
（合成例２９：化学式４７の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに１−フェニルピラゾールを、化合物（Ｂ−１）の代りに３ｉｑを使用して化学式４７の化合物を得た。
【０２３５】
（合成例３０：化学式４８の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに３−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾールを、化合物（Ｂ−１）の代りに３ｉｑを使用して化学式４８の化合物を得た。
【０２３６】
（合成例３１：化学式４９の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに４−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号公報参照）を、化合物（Ｂ−１）の代りに３ｉｑを使用して化学式４９の化合物を得た。
【０２３７】
（合成例３２：化学式５０の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに３，５−ジメチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号公報参照）を、化合物（Ｂ−１）の代りに３ｉｑを使用して化学式５０の化合物を得た。
【０２３８】
（合成例３３：化学式５１の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに１−ｐ−トリル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、化合物（Ｂ−１）の代りに３ｉｑを使用して化学式５１の化合物を得た。
【０２３９】
（合成例３４：化学式５２の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに１−ｍ−トリル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、そして化合物（Ｂ−１）の代りに３ｉｑを使用して化学式５２の化合物を得た。
【０２４０】
（合成例３５：化学式５３の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに１−ｏ−トリル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、そして化合物（Ｂ−１）の代りに３ｉｑを使って化学式５３の化合物を得た。
【０２４１】
（合成例３６：化学式５４の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに４−メチル−１−ｍ−トリル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、そして化合物（Ｂ−１）の代りに３ｉｑを使用して化学式５４の化合物を得た。
【０２４２】
（合成例３７：化学式５５の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに１−フェニルピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、そして化合物（Ｂ−１）の代りに１ｉｑを使用して化学式５５の化合物を得た。
【０２４３】
（合成例３８：化学式５６の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに３−メチル−１−フェニル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、そして化合物（Ｂ−１）の代りに１ｉｑを使って化学式５６の化合物を得た。
【０２４４】
（合成例３９：化学式５７の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに４−メチル−１−ｍ−トリル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、そして化合物（Ｂ−１）の代りに１ｉｑを使用して化学式５７の化合物を得た。
【０２４５】
（合成例４０：化学式５８の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに３，５−ジメチル−フェニルピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、そして化合物（Ｂ−１）の代りに１ｉｑを使用して化学式５８の化合物を得た。
【０２４６】
（合成例４１：化学式５９の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに１−ｏ−トリル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、そして化合物（Ｂ−１）の代りに１ｉｑを使用して化学式５９の化合物を得た。
【０２４７】
（合成例４２：化学式６０の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに１−ｍ−トリル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、そして化合物（Ｂ−１）の代りに１ｉｑを使用して化学式６０の化合物を得た。
【０２４８】
（合成例４３：化学式６１の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに１−ｐ−トリル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）を、そして化合物（Ｂ−１）の代りに１ｉｑを使用して化学式６１の化合物を得た。
【０２４９】
（合成例４４：化学式６２の化合物の製造）
合成例２０で化合物（Ａ−１）の代りに４−メチル−１−ｍ−トリル−１Ｈ−ピラゾール（製造方法は本出願人による大韓民国特許出願０３−５４７７８号参照）、そして化合物（Ｂ−１）の代りに１ｉｑを使用して化学式６２の化合物を得た。
【０２５０】
前記過程によって得た化合物のＰＬスペクトルを調べ、その結果を下記表１に示す。
【０２５１】
【表１】
2005053912.tif 000048
【０２５２】
［実施例１］
アノードとしてはコーニング社の１０Ω／ｃｍ２  ＩＴＯ基板を使用し、前記基板上部にＩＤＥ  ４０６を真空蒸着してホール注入層を６００Åに形成した。次いで、前記ホール注入層の上部に前記ＴＰＤ化合物を３００Åに真空蒸着してホール輸送層を形成した。前記ホール輸送層の上部に化学式４の化合物ＣＢＰをスピンコーティングして２００Åに発光層を形成した。
【０２５３】
その後、前記発光層の上部にＢＣＰを真空蒸着して５０Åのホール抑制層を形成した。その後、前記発光層の上部にＡｌｑ３を真空蒸着して２００Åの電子輸送層を形成した。この電子輸送層の上部にＬｉＦ  １０ÅとＡｌ  ３０００Åとを順に真空蒸着してＬｉＦ／Ａｌ電極を形成することによって、ＥＬ素子を完成した。
【０２５４】
製造されたＥＬ素子において、輝度、色座標及び効率特性を測定した。
【０２５５】
測定結果、高効率と低電圧とで駆動されることが分かり、色座標も青色発光物質として適した特性を有していることが確認できた。
【０２５６】
［実施例２］
アノードとしてはコーニング社の１０Ω／ｃｍ２  ＩＴＯ基板を使用し、前記基板の上部にＩＤＥ  ４０６を真空蒸着してホール注入層を６００Åに形成した。次いで、前記ホール注入層の上部に前記ＴＰＤ化合物を３００Åに真空蒸着してホール輸送層を形成した。前記ホール輸送層の上部に化学式３３の化合物を真空蒸着して２００Åの発光層を形成した。
【０２５７】
その後、前記発光層の上部にＢＣＰを真空蒸着して５０Åのホール抑制層を形成した。その後、前記発光層の上部にＡｌｑ３を真空蒸着して２００Åの電子輸送層を形成した。この電子輸送層の上部にＬｉＦ  １０ÅとＡｌ  ３０００Åとを順に真空蒸着してＬｉＦ／Ａｌ電極を形成することによって、ＥＬ素子を完成した。
【０２５８】
製造されたＥＬ素子において、輝度、色座標及び効率特性を測定した。
【０２５９】
測定結果、高効率と低電圧とで駆動されることが分かり、ＥＬ材料として優れた特性を有していることが確認できた。
【０２６０】
本発明の幾つかの実施例のみが示されて説明されたが、発明の原理及び精神、そして特許請求の範囲及びそれらの等価物により規定される範囲を外れずにもこれら実施例に対して変形が行なわれることが当業者により理解されねばならない。
【産業上の利用可能性】
【０２６１】
本発明による化学式１のイリジウム化合物は及びそれを採用したＥＬ素子、例えば画像表示装置に効果的に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０２６２】
【図１】本発明による代表的なＥＬ素子の構造を示す断面図である。
【図２】本発明の化学式４、５、７、８で示されるイリジウム化合物のＣＨ２Ｃｌ２溶液状態での光発光（ＰＬ：ｐｈｏｔｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）スペクトルを示す図面である。
【図３】本発明の化学式７の化合物において、７７ＫでのＰＬスペクトルを示す図面である。
【図４】本発明の化学式８の化合物において、７７ＫでのＰＬスペクトルを示す図面である。
【図５】本発明の化学式８の化合物６質量部をＰＭＭＡ高分子９４質量部にドーピングして作ったフィルムの固体ＰＬ特性を示す図面である。
【図６】本発明の化学式１７で示されるイリジウム化合物のＣＨＣｌ３溶液状態でのＮＭＲスペクトルを示す図面である。
【図７】Ｉｒ（ｐｐｚ）３と本発明の化学式９、１０及び１１で示されるイリジウム化合物のＣＨ２Ｃｌ２溶液状態において、ＰＬスペクトルを示す図面である。
【図８】本発明の化学式１１で示されるイリジウム化合物のＣＨ２Ｃｌ２溶液状態において、常温（ｒ．ｔ．）及び７７Ｋ下のＰＬスペクトルを示す図面である。
【図９】本発明の化学式１２、１３、１６及び１７で示されるイリジウム化合物のＣＨ２Ｃｌ２溶液状態において、ＰＬスペクトルを示す図面である。
【図１０】本発明の化学式１５で示されるイリジウム化合物のＣＨ２Ｃｌ２溶液状態において、ＰＬスペクトルを示す図面である。
【図１１】本発明の化学式１７で示されるイリジウム化合物の７７Ｋで得たＰＬスペクトルを示す図面である。
【図１２】本発明の化学式９で示されるイリジウム化合物の結晶構造を示す図面である。
【図１３Ａ】Ａは、図２は本発明の化学式（Ａ−１）で示される化合物のＣＨＣｌ３溶液中でＮＭＲスペクトルを示す図面である。
【図１３Ｂ】Ｂは、本発明の化学式３３で示されるＥＬ化合物のＤＳＣを示す図面である。
【図１４】本発明の化学式３３で示されるＥＬ化合物のＣＨＣｌ３溶液中でＮＭＲスペクトルを示す図面である。
【図１５】本発明の化学式３３で示されるＥＬ化合物の質量分析を示す図面である。
【図１６】本発明の化学式３３で示されるＥＬ化合物の固体状態でのＰＬスペクトルを示す図面である。
【図１７】本発明の化学式（Ｃ−１）で示される化合物のＣＨＣｌ３溶液中でＮＭＲスペクトルを示す図面である。
【図１８】本発明の化学式（Ｃ−１）で示される化合物の質量分析を示す図面である。
【図１９】本発明の化学式３４で示されるＥＬ化合物の吸光波長スペクトルを示す図面である。
【図２０】本発明の化学式３４で示されるＥＬ化合物の質量分析を示す図面である。
【図２１】本発明の化学式３４で示されるＥＬ化合物のＤＳＣを示す図面である。
【図２２】本発明の化学式（Ｄ−１）で示される化合物のＣＨＣｌ３溶液中でＮＭＲスペクトルを示す図面である。
【図２３】本発明の化学式（Ｄ−１）で示される化合物の質量分析を示す図面である。
【図２４】本発明の化学式３７で示されるＥＬ化合物のＤＳＣを示す図面である。
【図２５】本発明の化学式３７で示されるＥＬ化合物の質量分析を示す図面である。
【図２６】本発明の化学式３６で示されるＥＬ化合物の質量分析を示す図面である。
【図２７】本発明の化学式３６で示されるＥＬ化合物のＤＳＣを示す図面である。
【図２８】本発明の化学式（Ｅ−１）で示される化合物のＣＨＣｌ３溶液中でＮＭＲスペクトルを示す図面である。
【図２９】本発明の化学式３５で示されるＥＬ化合物のＣＨＣｌ３溶液中でＮＭＲスペクトルを示す図面である。
【図３０】本発明の化学式３５で示されるＥＬ化合物の質量分析を示す図面である。
【図３１】本発明の化学式３５で示されるＥＬ化合物のＤＳＣを示す図面である。
【図３２】本発明の化学式（Ｆ−１）で示される化合物のＣＨＣｌ３溶液中でＮＭＲスペクトルを示す図面である。
【図３３】本発明の化学式（Ｆ−１）で示される化合物の質量分析を示す図面である。
【符号の説明】
【０２６３】
１１    基板
１２    第１電極
１３    ＨＩＬ
１４    ＨＴＬ
１５    ＥＭＬ
１６    ＨＢＬ
１７    ＥＴＬ
１８    ＥＩＬ
１９    第２電極。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図１２】
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