(57)【要約】【課題】  耐刷性が優れ、高感度で、印刷機上で現像可能な平版印刷版用原版および平版印刷方法を提供する。【解決手段】  アルミニウム支持体上に、（１）７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料又は顔料、（２）カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩及び（３）エチレン性不飽和重合性化合物を含有する画像形成層を有し、インク又は湿し水によって機上現像可能で、該支持体が、粗面化されたアルミまたはアルミ合金上に、特定の式で定義される空隙率が２０〜７０％の範囲で、表面に露出したマイクロポアの直径が１５ｎｍ以下である陽極酸化皮膜を有することを特徴とする平版印刷版用原版、並びに、該原版を波長７００〜１２００ｎｍのレーザーで画像露光する工程、画像露光した原版を印刷機に装着した状態でインク又は湿し水を供給し、未露光領域の画像形成層を除去して製版する工程、製版された平版印刷版を用いて印刷する工程からなる平版印刷方法。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム支持体上に、下記成分（１）〜（３）を含有する画像形成層を有するインクおよび湿し水の少なくともいずれかによって機上現像可能な平版印刷版用原版であって、該アルミニウム支持体が、粗面化されたアルミニウムまたはアルミニウム合金上に、下記（Ａ）式で定義される空隙率が２０〜７０％の範囲であり、かつ表面に露出したマイクロポアの直径が１５ｎｍ以下である陽極酸化皮膜を有してなることを特徴とする平版印刷版用原版。
（１）７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料
（２）カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩
（３）エチレン性不飽和重合性化合物
空隙率（％）＝〔１−（酸化皮膜密度／３．９８）〕×１００     （Ａ）式
［酸化皮膜密度（ｇ／ｃｍ3）
＝単位面積あたりの酸化皮膜重量／酸化皮膜膜厚］
【請求項２】
請求項１記載の平版印刷版用原版を７００〜１２００ｎｍの波長を有するレーザーを用いて画像露光する工程、画像露光した平版印刷版用原版を印刷機に装着した状態でインクおよび湿し水の少なくともいずれかを供給し、露光していない領域の画像形成層を除去して製版する工程、製版された平版印刷版を用いて印刷する工程からなる平版印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平版印刷版用原版およびそれを用いた平版印刷方法に関し、詳細には、耐刷性が優れ、高感度で、印刷機上で現像可能な平版印刷版用原版およびそれを用いた平版印刷方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、平版印刷版は、印刷過程でインクを受容する親油性の画像部と湿し水を受容する親水性の非画像部とから成る。従来の平版印刷版は、親水性支持体上に親油性の感光性樹脂層を設けたＰＳ版に、リスフィルムを介してマスク露光した後、非画像部を現像液によって溶解除去することにより製版することが普通であった。
近年では、コンピューターが画像をデジタル情報として電子的に処理し、蓄積して、出力する。従って、デジタル画像情報に応じた画像形成処理は、レーザー光のような指向性の高い活性放射線を用いる走査露光により、リスフィルムを介することなく、平版印刷原版に対して直接画像形成を行うことが望ましい。このようにデジタル画像情報からリスフィルムを介さずに印刷版を製版する技術は、コンピューター・トゥー・プレート（ＣＴＰ）と呼ばれている。
従来のＰＳ版による印刷版の製版方法を、コンピューター・トゥー・プレート（ＣＴＰ）技術で実施しようとすると、レーザー光の波長領域と感光性樹脂の感光波長領域とが一致しないとの問題がある。
【０００３】
また、従来のＰＳ版では、露光の後、非画像部を溶解除去する工程（現像処理）が不可欠である。さらに、現像処理された印刷版を水洗したり、界面活性剤を含有するリンス液で処理したり、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で処理する後処理工程も必要であった。これらの付加的な湿式の処理が不可欠であるという点は、従来のＰＳ版の大きな検討課題となっている。前記のデジタル処理によって製版工程の前半（画像形成処理）が簡素化されても、後半（現像処理）が煩雑な湿式処理では、簡素化による効果が不充分である。
特に近年は、地球環境への配慮が産業界全体の大きな関心事となっている。環境への配慮からも、湿式の後処理は、簡素化するか、乾式処理に変更することが望ましい。
【０００４】
処理工程をなくす方法の一つに、露光済みの印刷原版を印刷機のシリンダーに装着し、シリンダーを回転しながら湿し水とインキを供給することによって、印刷原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。すなわち、印刷原版を露光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で処理が完了する方式である。
このような機上現像に適した平版印刷原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な感光層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに適した明室取り扱い性を有することが必要とされる。
従来のＰＳ版では、このような要求を満足することは、実質的に不可能であった。
【０００５】
親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体微粒子を分散させた感光層を親水性支持体上に設けた平版印刷原版が提案されている（例えば、特許文献１参照）。その製版では、赤外線レーザーで露光して、光熱変換により生じた熱で熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体（融着）させて画像形成した後、印刷機のシリンダー上に版を取り付け、湿し水及びインキの少なくともいずれかを供給することにより機上現像できる。この平版印刷原版は感光域が赤外領域であることにより、明室での取り扱い性も有している。
しかし、熱可塑性疎水性重合体微粒子を合体（融着）させて形成する画像は、強度が不充分で、印刷版としての耐刷性に問題がある。
【０００６】
熱可塑性微粒子に代えて、重合性化合物を内包するマイクロカプセルを含む平版印刷原版が提案されている（例えば、特許文献２〜７参照）。重合性化合物の反応により形成されるポリマー画像は、微粒子の融着により形成される画像よりも強度が優れている。
重合性化合物は反応性が高いため、マイクロカプセルを用いて隔離しておく方法が多く提案されている（例えば、特許文献２〜７参照）。そして、マイクロカプセルのシェルには、熱分解性のポリマーを使用する。
【０００７】
【特許文献１】特許２９３８３９７号公報
【特許文献２】特開２０００−２１１２６２号公報
【特許文献３】特開２００１−２７７７４０号公報
【特許文献４】特開２００２−２９１６２号公報
【特許文献５】特開２００２−４６３６１号公報
【特許文献６】特開２００２−１３７５６２号公報
【特許文献７】特開２００２−３２６４７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記特許文献２〜７に記載の平版印刷原版では、耐刷性が十分でなかった。
本発明の目的は、耐刷性が優れ、高感度で、印刷機上で現像可能な平版印刷版用原版および平版印刷方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、下記〔１〕の平版印刷版用原版および下記〔２〕の平版印刷方法を提供する。
【００１０】
〔１〕アルミニウム支持体上に、下記成分（１）〜（３）を含有する画像形成層を有するインクおよび湿し水の少なくともいずれかによって機上現像可能な平版印刷版用原版であって、該アルミニウム支持体が、粗面化されたアルミニウムまたはアルミニウム合金上に、下記（Ａ）式で定義される空隙率が２０〜７０％の範囲であり、かつ表面に露出したマイクロポアの直径が１５ｎｍ以下である陽極酸化皮膜を有してなることを特徴とする平版印刷版用原版。
【００１１】
（１）７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料
（２）カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩
（３）エチレン性不飽和重合性化合物
【００１２】
空隙率（％）＝〔１−（酸化皮膜密度／３．９８）〕×１００     （Ａ）式
【００１３】
［酸化皮膜密度（ｇ／ｃｍ3）
＝単位面積あたりの酸化皮膜重量／酸化皮膜膜厚］
【００１４】
〔２〕前記（１）記載の平版印刷版用原版を７００〜１２００ｎｍの波長を有するレーザーを用いて画像露光する工程、画像露光した平版印刷版用原版を印刷機に装着した状態でインクおよび湿し水の少なくともいずれかを供給し、露光していない領域の画像形成層を除去して製版する工程、製版された平版印刷版を用いて印刷する工程からなる平版印刷方法。
【００１５】
本発明の平版印刷版原版は、アルミニウム支持体として、特定の空隙率と特定サイズのマイクロポアを有する陽極酸化皮膜を有してなるものを用いることで、支持体の断熱効果が向上し、それに伴い耐刷性も向上し、また、印刷機上での現像性も良好に維持することができた。
さらに、本発明におけるカルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩を重合開始剤として用いることで、特に高い感度と耐刷性が得られ、かつ機上現像性にも優れることを見出した。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の平版印刷版用原版は、特定の空隙率と特定サイズのマイクロポアを有する陽極酸化皮膜を有してなるアルミニウム支持体上に、（１）７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料、（２）カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩および（３）エチレン性不飽和重合性化合物を含有する画像形成層を有することにより、支持体の断熱効果が向上し、それに伴い画像形成層の硬化がより良くなり耐刷性も向上し、また、印刷機上での現像性も良好に維持することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、本発明の平版印刷版用原版および平版印刷方法について詳しく説明する。
本発明の平版印刷版用原版は、アルミニウム支持体上に、（１）７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料、（２）カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩および（３）エチレン性不飽和重合性化合物を含有する画像形成層を有するものであるが、その中でも、最初に、本発明の平版印刷版用原版において最も重要な要件である、アルミニウム支持体について説明する。
【００１８】
本発明の平版印刷版用原版に用いられるアルミニウム支持体は、粗面化されたアルミニウムまたはアルミニウム合金上に、下記（Ａ）式で定義される空隙率が２０〜７０％の範囲であり、かつ表面に露出したマイクロポアの直径が１５ｎｍ以下である陽極酸化皮膜を有してなるものである。
【００１９】
空隙率（％）＝〔１−（酸化皮膜密度／３．９８）〕×１００     （Ａ）式
【００２０】
［酸化皮膜密度（ｇ／ｃｍ3）
＝単位面積あたりの酸化皮膜重量／酸化皮膜膜厚］
【００２１】
本発明の平版印刷版用原版に用いられるアルミニウム支持体としては、純アルミニウム板の他、アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板、又はアルミニウム（合金）がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルム又は紙の中から好ましく選ばれる。更に、特公昭４８−１８３２７号公報に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合シートでもかまわない。
上記アルミニウム板の製造方法としては、ＤＣ鋳造法、ＤＣ鋳造法から均熱処理、および／または、焼鈍処理を省略した方法、および連続鋳造法を用いることができる。
【００２２】
以下の説明において、上記に挙げたアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる支持体をアルミニウム支持体（本明細書において、平版印刷版用アルミニウム支持体、あるいは、単に、支持体ともいう）と総称して用いる。前記アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがあり、合金中の異元素の含有量は１０重量％以下である。本発明では純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、アルミニウムハンドブック第４版（１９９０、軽金属協会発行）に記載の従来より公知公用の素材のもの、例えばJIS A 1050、JIS A 1100、JIS A 3103、JIS A 3005などを適宜利用することができる。
また、本発明に用いられるアルミニウム支持体の厚みは、およそ０．１〜０．６ｍｍ程度である。この厚みは、印刷機の大きさ、印刷版の大きさ及びユーザーの希望により適宜変更することができる。
【００２３】
《平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法》
一般に、平版印刷版用アルミニウム支持体は、アルミニウム板に付着している圧延油を除く脱脂工程、アルミニウム板の表面のスマットを溶解するデスマット処理工程、アルミニウム板の表面を粗面化する粗面化処理工程、アルミニウム板の表面を酸化皮膜で覆う陽極酸化処理工程等を経て製造される。
上記（Ａ）式で定義した空隙率、及び、表面ポア径が前記範囲内とされた陽極酸化皮膜をアルミニウム支持体に設けるために、本発明の支持体の製造方法は、特に、酸性水溶液中で交流電流を用いてアルミニウム板を電気化学的に粗面化する粗面化処理工程（電気化学的粗面化処理工程ともいう）であって、上記アルミニウム板の陽極時電気量（ＱA）と陰極時電気量（ＱC）との比（ＱC／ＱA）が、０．５〜２．０とされた電気化学的粗面化処理工程を含むのが好ましい。
【００２４】
ここで、本発明の支持体の製造方法は、機械的粗面化処理、酸またはアルカリ水溶液中での化学的エッチング処理等を組み合わせたアルミニウム板の表面処理工程を含んでも良い。そして、本発明の電気化学的粗面化処理工程をはじめとする製造方法は、連続法でも断続法でもよいが、工業的には連続法を用いるのが好ましい。
電気化学的粗面化処理工程（必要に応じて表面処理工程と組み合わされても良い）を経た支持体には、前述したように、陽極酸化処理工程によって、特定の熱伝導率の親水性皮膜（陽極酸化皮膜）が設けられる。また、陽極酸化処理工程の後には、更に必要に応じて、酸処理工程、アルカリ処理工程、封孔処理工程または親水化処理工程が行われても良い。
以上のように好適に作製される平版印刷版原版用支持体には、形成後に、下塗層を設けても良い。
【００２５】
＜電気化学的粗面化処理工程＞
まず、本発明における電気化学的粗面化処理工程について説明する。
電気化学的粗面化処理工程は、酸性水溶液中で、アルミニウム板を電極として交流電流を通じ、該アルミニウム板表面を電気化学的に粗面化する工程であり、後述の機械的粗面化処理とは異なる。本発明においては、電気化学的粗面化処理において、アルミニウム板が陽極となる時における電気量、即ち陽極時電気量ＱAと、陰極となる時における電気量、即ち陰極時電気量ＱCとの比ＱC／ＱAを０．５〜２．０の範囲内とすることで、該アルミニウム板表面に均一なハニカムピットを生成することができる。上記ＱC／ＱAが、０．５未満では、不均一なハニカムピットとなりやすく、また、２．０を越えても不均一なハニカムピットとなりやすい。また、上記ＱC／ＱAとしては、０．８〜１．５の範囲内とすることが好ましい。
【００２６】
電気化学的粗面化処理工程に用いる交流電流の波形は、サイン波、矩形波、三角波、台形波等が挙げられ、この中でも矩形波または台形波が好ましい。
また、上記交流電流の周波数としては、電源装置を製作するコストの観点から３０〜２００Ｈｚが好ましく、４０〜１２０Ｈｚであることがより好ましい。本発明で好ましく用いられる台形波の一例を図１に示す。図１において、縦軸は電流値、横軸は時間を示し、ｔａはアノード反応時間、ｔｃはカソード反応時間、ｔｐおよびｔｐ’は電流値が０からピークに達するまでの時間、Ｉａはアノードサイクル側のピーク時の電流、および、Ｉｃはカソードサイクル側のピーク時の電流を示す。交流電流の波形として台形波を用いる場合、電流が０からピークに達するまでの時間ｔｐおよびｔｐ’は０．１〜２ｍｓｅｃが好ましく、０．３〜１．５ｍｓｅｃがより好ましい。上記時間ｔｐおよびｔｐ’が０．１ｍｓｅｃ未満であると、電源回路のインピーダンスが影響し、電流波形の立ち上がり時に大きな電源電圧が必要となり、電源の設備コストが高くなる。また、上記時間ｔｐおよびｔｐ’が２ｍｓｅｃを越えると、酸性水溶液中の微量成分の影響が大きくなり、均一な粗面化処理が行われ難くなる。
【００２７】
また、電気化学的粗面化処理工程において用いられる交流電流のｄｕｔｙは、アルミニウム板表面を均一に粗面化する点から０．２５〜０．５の範囲内とするのが好ましく、０．３〜０．４の範囲内とすることがより好ましい。本発明でいうｄｕｔｙとは、交流電流の周期Ｔにおいて、アルミニウム板の陽極反応が持続している時間（アノード反応時間）をｔａとしたときのｔａ／Ｔをいう。特に、カソード反応時のアルミニウム板表面には、水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分の生成に加え、酸化皮膜の溶解や破壊が発生し、次のアルミニウム板のアノード反応時におけるピッティング反応の開始点となるため、交流電流のｄｕｔｙの選択は均一な粗面化に与える効果が大きい。
【００２８】
上記交流電流の電流密度は、台形波または矩形波のピーク値で、交流電流のアノードサイクル側Ｉａおよびカソードサイクル側Ｉｃともに１０〜２００Ａ／ｄｍ2が好ましい。また、Ｉｃ／Ｉａは、０．９〜１．５の範囲内にあることが好ましい。電気化学的粗面化処理工程において、電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は、５０〜８００Ｃ／ｄｍ2が好ましい。
【００２９】
本発明に用いる酸性水溶液としては、通常の直流電流または交流電流を用いた電気化学的粗面化処理に用いるものを使用でき、その中でも硝酸を主体とする酸性水溶液を用いることが好ましい。ここで、本発明でいう「主体とする」とは、水溶液中に主体となる成分が、成分全体に対して、３０質量％以上、好ましくは５０質量％以上含まれていることをいう。以下、他の成分においても同様である。
上記硝酸を主体とする酸性水溶液としては、上述の通り通常の直流電流または交流電流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、例えば、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸化合物のうち１つ以上を、０．０１ｇ／ｌから飽和に達するまで、硝酸濃度５〜１５ｇ／ｌの硝酸水溶液に添加して使用することができる。上記硝酸を主体とする酸性水溶液中には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、ケイ素等のアルミニウム合金中に含まれる金属等が溶解されていてもよい。
上記硝酸を主体とする酸性水溶液としては、硝酸と、アルミニウム塩と、硝酸塩とを含有し、かつ、アルミニウムイオンが１〜１５ｇ／ｌ、好ましくは１〜１０ｇ／ｌ、およびアンモニウムイオンが１０〜３００ｐｐｍとなるように、硝酸濃度５〜１５ｇ／ｌの硝酸水溶液中に硝酸アルミニウムおよび硝酸アンモニウムを添加して得られたものを用いることが好ましい。なお、上記アルミニウムイオンとアンモニウムイオンは電気化学的な粗面化処理を行っている間に自然発生的に増加していくものである。また、この際の液温は１０〜９５℃が好ましく、４０〜８０℃がより好ましい。
【００３０】
上記粗面化処理工程で用いる電解装置としては、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の電解装置を用いることができ、特開平５−１９５３００号公報に記載のようなラジアル型電解装置が特に好ましい。図２は、本発明で用いるラジアル型電解装置の概略図である。図２において、ラジアル型電解装置は、アルミニウム板１１が主電解槽４０中に配置されたラジアルドラムローラ１２に巻装され、搬送過程で交流電源２０に接続された主極１３ａ、１３ｂによって電解処理される。酸性水溶液１４は、酸性水溶液供給口１５からスリット１６を通じてラジアルドラムローラ１２と主極１３ａ、１３ｂとの間にある酸性水溶液スリット１７に供給される。ついで、主電解槽４０で処理されたアルミニウム板１１は、補助陽極槽５０で電解処理される。この補助陽極槽５０には補助陽極１８がアルミニウム板１１と対向配置されており、酸性水溶液１４は、補助陽極１８とアルミニウム板１１との間を流れるように供給される。補助陽極１８はフェライト、酸化イリジウム、白金、または白金をチタン、ニオブ、ジルコニウム等のバルブ金属にクラッド若しくはメッキしたもの等公知の酸素発生用電極から選定することができる。主極１３ａ、１３ｂは、カーボン、白金、チタン、ニオブ、ジルコニウム、およびステンレスや燃料電池用陰極に用いる電極から選定することができるが、カーボンが特に好ましい。該カーボンとしては、一般に市販されている化学装置用不浸透性黒鉛や、樹脂含芯黒鉛等を用いることができる。
【００３１】
上記主電解槽４０および補助陽極槽５０内を通過する酸性水溶液の供給方向はアルミニウム板１１の進行とパラレルでもカウンターでもよい。アルミニウム板に対する酸性水溶液の相対流速は、１０〜１０００ｃｍ／ｓｅｃが好ましい。
一つの電解装置には１個以上の交流電源を接続することができる。また、２個以上の電解装置を使用してもよく、各装置における電解条件は同一でもよいし異なっていてもよい。
また、電解処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さないためにニップローラによって液切りとスプレーによる水洗とを行うことが好ましい。
【００３２】
さらに、電気化学的粗面化処理においては、電解装置中のアルミニウム板がアノード反応する酸性水溶液の通電量に比例して、硝酸と水とを、例えば（i）酸性水溶液の導電率と（ii）超音波の伝搬速度と（iii）温度とから求めた硝酸およびアルミニウムイオン濃度をもとに、硝酸と水との添加量を調節しながら添加し、硝酸と水との添加容積と同量の酸性水溶液を逐次電解装置からオーバーフローさせて排出することで、上記酸性水溶液の濃度を一定に保つのが好ましい。
【００３３】
つぎに、機械的粗面化処理、酸またはアルカリ水溶液中での化学的エッチング処理、デスマット処理等を適宜含む表面処理工程について順を追って説明する。このような表面処理工程は、前述した電気化学的粗面化処理工程、及び、後に詳述する陽極酸化処理工程に加えて、電気化学的粗面化処理を施す前段階（第１の処理工程）、または、電気化学的粗面化処理工程の後であって、陽極酸化処理工程の前の段階（第２の処理工程）において施されるのが好ましい。ただし、表面処理工程の具体例として以下に示す各処理工程は例示であり、以下の各工程の内容に限定されるものではない。また表面処理工程における以下の各処理は任意で施されるものである。
【００３４】
＜表面処理工程＞
（機械的粗面化処理）
本発明でいう機械的粗面化処理とは、ブラシ等を使用してアルミニウム板表面を機械的に粗面化する処理であり、上記第１の処理工程おいて施されるのが好ましい。
機械的粗面化処理としては、毛径が０．０７〜０．５７ｍｍの回転するナイロンブラシロールと、アルミニウム板表面に供給される研磨剤のスラリー液とで処理することが好ましい。機械的粗面化処理工程に用いられる研磨剤としては公知の物を用いることができるが、特開平６−１３５１７５号公報、特公昭５０−４００４７号公報に記載されている珪砂、石英、水酸化アルミニウムまたはこれらの混合物を用いるのが好ましい。
【００３５】
上記スラリー液としては、比重が１．０５〜１．３の範囲内にあるものが好ましい。上記スラリー液をアルミニウム板表面に供給する方法としては、該スラリー液を吹き付ける方法、ワイヤーブラシを用いる方法、および凹凸を付けた圧延ロールの表面形状をアルミニウム板に転写する方法等が挙げられる。また、特開昭５５−０７４８９８号公報、特開昭６１−１６２３５１号公報、および特開昭６３−１０４８８９号公報等に記載されている方法を用いてもよい。さらに、特表平９−５０９１０８号公報に記載されているように、アルミナおよび石英からなる粒子の混合物を９５：５〜５：９５の範囲の質量比で含んでなる水性スラリー中で、アルミニウム板表面をブラシ研磨する方法を用いることもできる。このときの上記混合物の平均粒子径は、１〜４０μｍ、特に１〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。
【００３６】
上記ナイロンブラシは吸水率が低いものが好ましく、例えば、東レ（株）社製のナイロンブリッスル２００Ｔ（６，１０−ナイロン、軟化点：１８０℃、融点：２１２〜２１４℃、比重：１．０８〜１．０９、水分率：２０℃・相対湿度６５％において１．４〜１．８、２０℃・相対湿度１００％において２．２〜２．８、乾引っ張り強度：４．５〜６ｇ／ｄ、乾引っ張り伸度：２０〜３５％、沸騰水収縮率：１〜４％、乾引っ張り抵抗度：３９〜４５ｇ／ｄ、ヤング率（乾）：３８０〜４４０ｋｇ／ｍｍ2）が好ましい。
【００３７】
（アルカリ水溶液中での化学的なエッチング処理（アルカリエッチング処理））
本発明でいうアルカリエッチング処理とは、アルカリ水溶液中でアルミニウム板表面を化学的にエッチングする処理をいい、上記第１の処理工程および第２の処理工程それぞれにおいて施すのが好ましい。該アルカリ水溶液の濃度は、１〜３０質量％が好ましく、該アルカリ水溶液は、アルミニウムはもちろんアルミニウム板中に含有される合金成分を０．５〜１０質量％を含有していてよい。
上記アルカリ水溶液としては、特に水酸化ナトリウム（苛性ソーダ）を主体とする水溶液が好ましい。
【００３８】
上記アルカリエッチング処理は、アルカリ水溶液の液温を常温〜９５℃とし、１〜１２０秒間処理することが好ましい。最初にアルカリ水溶液中で化学的なエッチング液をミキシングするときには、液体水酸化ナトリウム（苛性ソーダ）とアルミン酸ナトリウム（アルミン酸ソーダ）とを用いて処理液を調製することが好ましい。
また、上記アルカリエッチング処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さないためにニップローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。
【００３９】
（酸水溶液中でのエッチング処理（酸性エッチング処理））
本発明でいう酸性エッチング処理とは、酸性水溶液中でアルミニウム板を化学的にエッチングする処理をいい、上記第２の処理工程において施すのが好ましく、上記アルカリエッチング処理の後に施すのも好ましい。アルミニウム板に上記アルカリエッチング処理を施した後に、上記酸性エッチング処理を施すと、該アルミニウム板表面のシリカを含む金属間化合物、または単体Ｓｉを除去することができ、その後の陽極酸化処理工程において生成する陽極酸化皮膜の欠陥をなくすことができる。
【００４０】
上記酸性エッチング処理に用いることのできる酸は、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、またはこれらの２以上の酸を含む混酸を用いることができ、特に硫酸水溶液が好ましい。上記酸性水溶液の濃度は、１００〜５００ｇ／ｌが好ましく、該酸性水溶液は、アルミニウムはもちろん、アルミニウム板中に含有される合金成分を含有していてよい。
【００４１】
上記酸性エッチング処理は、液温を３０〜９０℃、好ましくは４０〜７０℃とし、１〜１０秒間処理することが好ましい。このときのアルミニウム板の溶解量は０．００１〜０．２ｇ／ｍ2が好ましい。また、酸濃度、例えば硫酸濃度と、アルミニウム濃度とは、常温で晶出しない範囲から選択することが好ましい。好ましいアルミニウムイオン濃度は０．１〜１５ｇ／ｌであり、特に好ましくは５〜１５ｇ／ｌである。
上記酸性エッチング処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さないためにニップローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。
【００４２】
（酸性溶液中でのデスマット処理）
化学的なエッチング処理をアルカリの水溶液を用いて行った場合は、一般にアルミニウム板の表面にスマットが生成するので、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、またはこれらの２以上の酸からなる混酸を含む酸性溶液中で上記スマットを溶解するいわゆるデスマット処理を施すのが好ましい。該デスマット処理は、上記第１の処理工程および第２の処理工程において適宜施すのが好ましく、上記アルカリエッチング処理等の後に施すのがより好ましい。
上記酸性水溶液の濃度は、１〜３００ｇ／ｌが好ましい。さらに酸性水溶液中にはアルミニウムはもちろんアルミニウム板中に含有される合金成分が０．００１〜１５ｇ／ｌ溶解していてもよい。
【００４３】
上記デスマット処理において酸性溶液の液温は、２０℃〜９５℃が好ましく、３０〜７０℃がより好ましい。また、処理時間は１〜１２０秒が好ましく、２〜６０秒がより好ましい。
上記デスマット処理が終了した後には、処理液を次工程に持ち出さないためにニップローラーによる液切りとスプレーによる水洗を行うことが好ましい。
また、デスマット処理液（酸性溶液）としては、電気化学的粗面化処理工程で用いた酸性水溶液の廃液を用いることが、廃液量削減の上で好ましい。
【００４４】
上述の電気化学的粗面化処理工程の前段階に施す第１の処理工程としては、アルミニウム板に上記機械的粗面化処理、および／または、上記アルミニウム板の溶解量が０．０１〜２０ｇ／ｍ2となるようにアルカリエッチング処理を施した後に行われる上記酸性溶液中でのデスマット処理を好適に挙げることができる。
また、電気化学的粗面化処理工程の後であって、後述する陽極酸化処理工程の前段階に施す第２の処理工程としては、アルミニウム板に６０〜９０℃の硫酸水溶液中で１〜１０秒間酸性エッチング処理を施すか、あるいは、アルカリ水溶液中でアルミニウム板を０．０１〜５ｇ／ｍ2溶解するアルカリエッチング処理を施し、その後、上記酸性溶液中でのデスマット処理または６０〜９０℃の硫酸水溶液中で１〜１０秒間酸性エッチング処理を施すのが好ましい。なお、アルミニウム板にアルカリエッチング処理を施した場合、アルミニウム板表面のシリカを含む金属間化合物、または単体Ｓｉを除去するために、液温６０〜９０℃および１〜１０秒間の条件で上記酸性エッチング処理を施すのが好ましい。酸性エッチング処理を施すと上述の通り、その後の陽極酸化処理工程において生成する陽極酸化皮膜の欠陥をなくすことができ、その結果、印刷時にチリ状汚れと称される非画像部に点状のインクが付着するトラブルを改善することができる。
【００４５】
＜陽極酸化処理工程＞
以上のようにして処理されたアルミニウム支持体には、好ましくは以下に例示する処理によって、陽極酸化皮膜が形成される。
陽極酸化処理は、この分野で従来より行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等から選ばれた少なくとも一種を含む水溶液または非水溶液中でアルミニウム支持体に直流または交流を流すことにより、アルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液の濃度が１〜８０重量％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜７０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜２００Ｖ、電解時間１〜１０００秒の範囲が好ましい。
これらの陽極酸化処理のうちでも、特に英国  特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法および米国特許３，５１１，６６１号公報に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。また、硫酸中で陽極酸化してから更にリン酸中で陽極酸化するなどの多段陽極酸化処理を施すこともできる。
本発明においては、陽極酸化皮膜は２．０〜１００ｇ／ｍ2であることが好ましく、より好ましくは、３．０〜１５ｇ／ｍ2である。更に好ましくは、４．０〜１０ｇ／ｍ2である。
陽極酸化処理工程を経て形成された陽極酸化皮膜には、その表面に露出したマイクロポアと呼ばれる微細な凹部が一様に分布して形成されている。そして陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの空隙率（密度）は、陽極酸化処理の条件を適宜選択することによって調整することができる。
そして、陽極酸化皮膜に対して、必要に応じて、以下のポアワイド処理、封孔処理が施されることによって、最終的に、陽極酸化皮膜の空隙率及び表面ポア径が上記した本発明の規定範囲内とされる。空隙率は２０〜７０％で、３０〜６０％が好適で、４０〜５０％がより好適である。また、表面ポア径は１５ｎｍ以下で、０〜１２ｎｍが好適で、０〜１０ｎｍがより好適である。
【００４６】
（ポアワイド処理）
本発明においては、空隙率を増加させる目的で陽極酸化処理の後、酸又はアルカリ水溶液によって処理（ポアワイド処理）をすることもできる。この処理は、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム基板を酸又はアルカリ水溶液に浸漬し、陽極酸化皮膜を溶解し、マイクロポアのポア径を拡大する。このポアワイド処理は、陽極酸化皮膜の溶解量として、好ましくは０．０１〜２０ｇ／ｍ2、より好ましくは０．１〜５ｇ／ｍ2、特に好ましくは０．１〜４ｇ／ｍ2の範囲で行われる。
【００４７】
上記の陽極酸化皮膜を溶解するポアワイド処理条件として、以下の条件範囲が望ましい。この範囲内で、良好なポアワイド処理ができる。
具体的条件範囲として、酸水溶液で処理する場合には、硫酸、リン酸などの無機酸またはこれらの混合物の水溶液を用いることが好ましく、濃度としては、好ましくは１０〜１０００ｇ／ｌ、より好ましくは２０〜５００ｇ／ｌ、温度としては、好ましくは１０〜９０℃、より好ましくは３０〜７０℃、浸漬処理時間としては、好ましくは１〜３００秒、より好ましくは２〜１００秒である。一方、アルカリ水溶液で処理する場合には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、及び水酸化リチウムから選ばれた少なくとも一つの水溶液を用いることが好ましく、その水溶液のｐＨとしては、好ましくは１１〜１３、より好ましくは１１．５〜１２．５であり、温度としては、好ましくは１０〜９０℃、より好ましくは３０〜５０℃、浸漬処理時間としては、好ましくは１〜５００秒、より好ましくは２〜１００秒である。
【００４８】
（封孔処理）
本発明においては陽極酸化皮膜のマイクロポア径を所定のポア径にするためにスパッタリング、ＣＶＤ法等により次の無機皮膜を設けて用いることもできる。化合物としては酸化物、チッ化物、ケイ化物、炭化物などである。また、単体のみではなく混合物でも良い。具体的に次に挙げる。酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化クロムなどが挙げられる。また、チッ化アルミニウム、チッ化珪素、チッ化チタン、チッ化ジルコニウム、チッ化ハフニウム、チッ化バナジウム、チッ化ニオブ、チッ化タンタル、チッ化モリブデン、チッ化タングステン、チッ化クロム、チッ化珪素、チッ化ホウ素などが挙げられる。また、ケイ化チタン、ケイ化ジルコニウム、ケイ化ハフニウム、ケイ化バナジウム、ケイ化ニオブ、ケイ化タンタル、ケイ化モリブデン、ケイ化タングステン、ケイ化クロムなどが挙げられる。ホウ化チタン、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化バナジウム、ホウ化ニオブ、ホウ化タンタル、ホウ化モリブデン、ホウ化タングステン、ホウ化クロムなどが挙げられる。また、炭化アルミニウム、炭化珪素、炭化チタン、炭化ジルコニウム、炭化ハフニウム、炭化バナジウム、炭化ニオブ、炭化タンタル、炭化モリブデン、炭化タングステン、炭化クロムなどが挙げられる。
【００４９】
また、本発明においては、陽極酸化皮膜（親水性皮膜）を設けた後、アルミニウム支持体を更に親水性化合物を含有する水溶液へ浸漬処理することによって、支持体に親水性表面処理が施されてもよい（本処理を親水性化合物水溶液処理ともいう）。好適な親水性化合物としては、アルカリ金属珪酸塩、ポリビニルホスホン酸、フッ化ジルコニウムカリウム、リン酸塩／無機フッ素化合物、スルホン酸基を有する化合物、又は糖類化合物を挙げることができる。中でもアルカリ金属珪酸塩、ポリビニルホスホン酸が好適であり、最も好適なのはアルカリ金属珪酸塩である。
アルカリ金属ケイ酸塩水溶液処理は、アルカリ金属ケイ酸塩の濃度が好ましくは０．０１〜３０重量％、より好ましくは１〜１０重量％であり、２５℃でのｐＨが１０〜１３である水溶液に、好ましくは１０〜９０℃、より好ましくは２０〜７０℃で、０．５〜４０秒間、より好ましくは１〜２０秒間浸漬する。
【００５０】
本発明に用いられるアルカリ金属ケイ酸塩は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどが使用され、中でもケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウムが好ましい。アルカリ金属ケイ酸塩水溶液のｐＨを高くするために使用される水酸化物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがあり、好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが使用される。なお、上記処理液にアルカリ土類金属塩又は第IVＢ族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、リン酸塩、酢酸塩、シュウ酸塩、ホウ酸塩等の水溶性塩が挙げられる。第IVＢ族金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウム等を挙げることができる。アルカリ土類金属又は第IVＢ族金属塩は、単独又は２種以上組み合わせて使用することができる。
【００５１】
ポリビニルホスホン酸水溶液は、濃度０．１〜５重量％が好ましく、０．２〜２．５％がより好ましい。浸漬温度は１０〜７０℃が好ましく、３０〜６０℃がより好ましい。浸漬時間は１〜２０秒が好ましい。
【００５２】
フッ化ジルコニウムカリウム水溶液処理は、濃度０．１〜１０重量％が好ましく、０．５〜２重量％がより好ましい。浸漬温度は３０〜８０℃が好ましい。浸漬時間は６０〜１８０秒が好ましい。
【００５３】
リン酸塩／無機フッ素化合物処理は、リン酸塩化合物５〜２０重量％、無機フッ素化合物０．０１〜１重量％の水溶液を用いるのが好ましく、ｐＨは３〜５に調整する。浸漬温度は３０〜９０℃が好ましく、浸漬時間は２〜３００秒が好ましく、より好ましくは５〜３０秒である。
【００５４】
本発明で使用するリン酸塩としては、アルカリ金属及びアルカリ土類金属といった金属のリン酸塩が挙げられる。具体的には、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、リン酸アンモニウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸一アンモニウム、リン酸一カリウム、リン酸一ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸カルシウム、リン酸水素アンモニウムナトリウム、リン酸水素マグネシウム、リン酸マグネシウム、リン酸第一鉄、リン酸第二鉄、リン酸二水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸鉛、リン酸二アンモニウム、リン酸二水素カルシウム、リン酸リチウム、リンタングステン酸、リンタングステン酸アンモニウム、リンタングステン酸ナトリウム、リンモリブデン酸アンモニウム、リンモリブデン酸ナトリウムが挙げられる。又、亜リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリウムを挙げることができる。好ましくはリン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二カリウムを用いることができる。
【００５５】
また、本発明で使用する無機フッ素化合物としては金属フッ化物が好適である。具体的には、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化カルシウム、フッ化マグネシウム、ヘキサフルオロジルコニウムナトリウム、ヘキサフルオロジルコニウムカリウム、ヘキサフルオロチタン酸ナトリウム、ヘキサフルオロチタン酸カリウム、ヘキサフルオロジルコニウム水素酸、ヘキサフルオロチタン水素酸、ヘキサフルオロジルコニウムアンモニウム、ヘキサフルオロチタン酸アンモニウム、ヘキサフルオロケイ酸、フッ化ニッケル、フッ化鉄、フッ化リン酸、フッ化リン酸アンモニウム等が挙げられる。本発明において、水溶液中、リン酸塩及び無機フッ素化合物はそれぞれ、１種又は２種以上含有させてもよい。
【００５６】
スルホン酸基を有する化合物としては、芳香族スルホン酸、そのホルムアルデヒド縮合物、それらの誘導体及び塩が含まれる。芳香族スルホン酸としては、フェノールスルホン酸、カテコールスルホン酸、レソルシノールスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、リグニンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アセナフテン−５−スルホン酸、フェナントレン−２−スルホン酸、ベンズアルデヒド−２（または３）−スルホン酸、ベンズアルデヒド−２，４（または３，５）−ジスルホン酸、オキシベンジルスルホン酸類、スルホ安息香酸、スルファニル酸、ナフチオン酸、タウリンなどが用いられる。これらの中でベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、リグニンスルホン酸及びそれらのホルムアルデヒド縮合物が特に好ましい。さらにスルホン酸塩として使用してもよく、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、カルシウム塩、マグネシウム塩等が挙げられる。中でもナトリウム塩、カリウム塩の水溶液が特に望ましい。
上記化合物を含有する水溶液のｐＨは、４〜６．５が好ましく、硫酸、水酸化ナトリウム、アンモニア等でこのｐＨ範囲に調整することができる。
又、スルホン酸基を有する化合物の水溶液は、濃度０．０２〜０．２重量％が好ましく、浸漬温度は６０〜１００℃が好ましい。浸漬時間は１〜３００秒が好ましく、より好ましくは１０〜１００秒である。
【００５７】
又、本発明で使用する糖類化合物としては、単糖類とその糖アルコール、オリゴ糖類、多糖類及び配糖体を包含する。
単糖類では、グリセロール等のトリオース類及び糖アルコール類、トレオースやエリトリトール等のテトロース及び糖アルコール類、アラビノースやアラビトール等のペントース及び糖アルコール類、グルコースやソルビトール等のヘキソース及び糖アルコール類、Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプトースやＤ−グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプチトール等のヘプトース及び糖アルコール類、Ｄ−エリトロ−Ｄ−ガラクトオクチトール等のオクトース、Ｄ−エリトロ−Ｌ−グルコ−ノヌロース等のノノースを挙げることができる。オリゴ糖類としては、サッカロース、トレハロース、ラクトースのような二糖類、ラフィノースのような三糖類が挙げられる。多糖類としては、アミロース、アラビナン、シクロデキストリン、アルギン酸セルロース等が挙げられる。
【００５８】
本発明で用いる配糖体とは、糖部分と非糖部がエーテル結合等を介して結合している化合物をいう。これらの配糖体は非糖部分により分類することができ、その例としてアルキル配糖体、フェノール配糖体、クマリン配糖体、オキシクマリン配糖体、フラボノイド配糖体、アントラキノン配糖体、トリテルペン配糖体、ステロイド配糖体、からし油配糖体等を挙げることができる。糖部分としては単糖類、オリゴ糖類、多糖類を挙げることができる。単糖類としてはグリセロール等のトリオース類及び糖アルコール類、トレオースやエリトリトール等のテトロース及び糖アルコール類、アラビノースやアラビトール等のペントース及び糖アルコール類、グルコースやソルビトール等のヘキソース及び糖アルコール類、Ｄ−グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプトースやＤ−グリセロ−Ｄ−ガラクトヘプチトール等のヘプトース及び糖アルコール類、Ｄ−エリトロ−Ｄ−ガラクトオクチトール等のオクトース、Ｄ−エリトロ−Ｌ−グルコ−ノヌロース等のノノースを挙げることができる。オリゴ糖類としては、サッカロース、トレハロース、ラクトースのような二糖類、ラフィノースのような三糖類が挙げられる。多糖類としては、アミロース、アラビナン、シクロデキストリン、アルギン酸セルロース等を挙げることができる。糖部分としては単糖又はオリゴ糖が好ましく、より好ましくは単糖又は二糖である。好ましい配糖体の例として下記一般式（Ｉ）の化合物を挙げることができる。
【００５９】
【化１】
2005053070.tif 000002
【００６０】
（式（Ｉ）中、Ｒは炭素原子数１〜２０の直鎖もしくは分枝の、アルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表す。）
【００６１】
上記一般式（Ｉ）のＲで表される炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、エイコシル基などが挙げられ、これらアルキル基は直鎖又は分枝していてもよく、環状アルキル基でもよい。アルケニル基としては、例えばアリル、２−ブテニル基など、アルキニル基としては、例えば１−ペンチニル基が挙げられる。
【００６２】
上記一般式（Ｉ）で表される具体的な化合物として、例えばメチルグルコシド、エチルグルコシド、プロピルグルコシド、イソプロピルグルコシド、ブチルグルコシド、イソブチルグルコシド、ｎ−ヘキシルグルコシド、オクチルグルコシド、カプリルグルコシド、デシルグルコシド、２−エチルヘキシルグルコシド、２−ペンチルノニルグルコシド、２−ヘキシルデシルグルコシド、ラウリルグルコシド、ミリスチルグルコシド、ステアリルグルコシド、シクロヘキシルグルコシド、２−ブチニルグルコシドが挙げられる。これらの化合物は、配糖体の一種であるグルコシドで、ブドウ糖のヘミアセタール水酸基が他の化合物をエーテル状に結合したものであり、例えばグルコースとアルコール類を反応させる公知の方法により得ることができる。これらのアルキルグルコシドの一部はドイツＨｅｎｋｅｌ社で商品名グルコポン（ＧＬＵＣＯＰＯＮ）として市販されており、本発明ではそれを使用することができる。好ましい配糖体の別の例として、サポニン類、ルチントリハイドレート、ヘスペリジンメチルカルコン、ヘスペリジン、ナリジンハイドレート、フェノール−β−Ｄ−グルコピラノシド、サリシン、３′，５，７−メトキシ−７−ルチノシドを挙げることができる。
さらに、糖類化合物の水溶液は、濃度０．５〜１０重量％が好ましく、浸漬温度は４０〜７０℃が好ましい。浸漬時間は２〜３００秒が好ましく、より好ましくは５〜３０秒である。
これらの水溶液への浸漬処理後は、全て基板は水などによって洗浄され、乾燥される。
【００６３】
これらの親水性化合物水溶液処理により、陽極酸化処理後のポアワイド処理で向上した接着性と引き替えに発生するインキ払い性劣化等の印刷汚れ問題が解消される。すなわち、ポア径が拡大したことにより、印刷時、特に印刷機が停止し、印刷版が印刷機上で放置された後の印刷再スタート時に、インキが取れにくくなる現象（インキ払い性劣化）が起こりやすくなる問題があるが、親水性化合物水溶液処理が施されていると、表面の親水性の向上により上記問題が軽減される。
【００６４】
本発明においては、画像形成層を塗布する前に、必要に応じて、例えばホウ酸亜鉛等の水溶性金属塩のような無機下塗層、又は有機下塗層が設けられてもよい。
【００６５】
この有機下塗層に用いられる有機化合物としては、例えばカルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、スルホン酸基を側鎖に有する重合体及び共重合体、ポリアクリル酸、２−アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニン等のアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩、黄色染料等から選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
【００６６】
この有機下塗層は次のような方法で設けることができる。すなわち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶媒、又はそれらの混合溶剤に、上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける。上記の有機化合物の濃度０．００５〜１０重量％の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布等いずれの方法を用いてもよい。
有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２００ｍｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2である。この範囲内で良好な耐刷性が得られる。
【００６７】
本発明の平版印刷版用原版に用いるアルミニウム支持体の、画像形成層が設けられない側には、該平版印刷版用原版を重ねた場合に画像形成層が傷付かないように、有機高分子化合物からなる被覆層（以下、「バックコート層」という場合がある。）を必要に応じて設けていてもよい。
上記バックコート層の主成分としては、ガラス転移点が２０℃以上の、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂および塩化ビニリデン共重合樹脂の群から選ばれる少なくとも一種の樹脂を用いるのが好ましい。
【００６８】
上記飽和共重合ポリエステル樹脂は、ジカルボン酸ユニットとジオールユニットからなる。本発明に用いられるポリエステルのジカルボン酸ユニットとしてはフタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、テトラブロムフタル酸、テトラクロルフタル酸などの芳香族ジカルボン酸；アジピン酸、アゼライン酸、コハク酸、蓚酸、スベリン酸、セバチン酸、マロン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸などの飽和脂肪族ジカルボン酸などが挙げられる。
【００６９】
上記バックコート層には、さらに着色のための染料や顔料、本発明の支持体との密着性を向上させるためにシランカップリング剤、ジアゾニウム塩からなるジアゾ樹脂、有機ホスホン酸、有機リン酸およびカチオン性ポリマー等、さらには滑り剤として通常用いられるワックス、高級脂肪酸、高級脂肪酸アミド、ジメチルシロキサンからなるシリコーン化合物、変性ジメチルシロキサン、ポリエチレン粉末等を適宜加えてもよい。
上記バックコート層の厚さは基本的には合紙がなくても、後述する画像形成層を傷付け難い厚みがあればよく、０．０１〜８μｍの範囲が好ましい。該厚さが０．０１μｍ未満では平版印刷版用原版を重ねて取り扱った場合の画像形成層の擦れ傷を防ぐことが困難である。また、上記厚さが８μｍを越えると印刷中、平版印刷版用原版周辺で用いられる薬品によってバックコート層が膨潤して厚みが変動し、印圧が変化して印刷特性を劣化させることがある。
【００７０】
上記バックコート層を本発明の平版印刷版用原版の支持体の裏面に被覆する方法としては種々の方法が適用できる。例えば、上記バックコート層用成分を適当な溶媒に溶解し溶液にして塗布し、または、乳化分散液して塗布し、乾燥する方法や、予めフィルム状に成形したものを接着剤や熱で本発明の支持体に貼り合わせる方法や、溶融押し出し機で溶融皮膜を形成し、本発明の支持体に貼り合わせる方法等が挙げられるが、上記の塗布量を確保する上で最も好ましいのは、上記バックコート成分を適当な溶媒に溶解し溶液にして塗布、乾燥する方法である。ここで使用される溶媒としては、特開昭６２−２５１７３９号公報に記載されているような有機溶剤を単独あるいは混合して用いることができる。
また、平版印刷版用原版の製造に当たっては裏面のバックコート層と表面の画像形成層のどちらが先に支持体上に塗布されてもよく、また両者が同時に塗布されてもよい。
【００７１】
次に、本発明の平版印刷版用原版の画像形成層について説明する。
本発明の平版印刷版用原版の画像形成層には、（１）７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料、（２）カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩および（３）エチレン性不飽和重合性化合物が含まれる。
以下、本発明の平版印刷版用原版の画像形成層に含まれる、（１）７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料、（２）カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩および（３）エチレン性不飽和重合性化合物酸について詳細に説明する。
【００７２】
（１）７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料、
７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、ナフタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、（チオ）ピリリウム塩、金属チオレート錯体、インドアニリン金属錯体系染料、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料、分子間ＣＴ色素等の染料が挙げられる。
【００７３】
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号公報、特開昭５９−８４３５６号公報、特開昭５９−２０２８２９号公報、特開昭６０−７８７８７号公報等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号公報、特開昭５８−１８１６９０号公報、特開昭５８−１９４５９５号公報等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号公報、特開昭５８−２２４７９３号公報、特開昭５９−４８１８７号公報、特開昭５９−７３９９６号公報、特開昭６０−５２９４０号公報、特開昭６０−６３７４４号公報等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号公報等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許４３４，８７５号明細書に記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【００７４】
また、米国特許第５，１５６，９３８号明細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号公報、同５８−２２０１４３号公報、同５９−４１３６３号公報、同５９−８４２４８号公報、同５９−８４２４９号公報、同５９−１４６０６３号公報、同５９−１４６０６１号公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報に記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号公報、同５−１９７０２号公報に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
【００７５】
また、染料として好ましい別の例として、米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
【００７６】
特に、下記一般式（ａ）で示されるシアニン色素は、光熱変換効率に優れるため好ましい。
【００７７】
【化２】
2005053070.tif 000003
【００７８】
一般式（ａ）中、Ｒ1及びＲ2は、各々独立に炭素原子数１〜１２のアルキル基を表し、アルキル基上にはアルコキシ基、アリール基、アミド基、アルコキシカルボニル基、水酸基、スルホ基、カルボキシル基より選択される置換基を有してもよい。Ｙ1及びＹ2は、各々独立に酸素、硫黄、セレン、ジアルキルメチレン基又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。Ａｒ1及びＡｒ2は、各々独立に芳香族炭化水素基を表し、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基より選択される置換基を有してもよく、Ｙ1及びＹ2と隣接した連続２炭素原子で芳香環を縮環してもよい。
【００７９】
一般式（ａ）中、Ｘは、電荷の中和に必要なカウンターイオンを表し、色素カチオン部がアニオン性の置換基を有する場合は必ずしも必要ではない。Ｑは、トリメチン基、ペンタメチン基、ヘプタメチン基、ノナメチン基又はウンデカメチン基より選択されるポリメチン基を表し、露光に用いる赤外線に対する波長適性と安定性の点からペンタメチン基、ヘプタメチン基又はノナメチン基が好ましく、いずれかの炭素上に連続した３つのメチン鎖を含むシクロヘキセン環又はシクロペンテン環を有することが安定性の点で好ましい。
【００８０】
一般式（ａ）中、Ｑは、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アリール基、オキシ基、イミニウム塩基、下記一般式（ｉ）で表される置換基より選択される基で置換されていてもよく、好ましい置換基としては塩素原子等のハロゲン原子、ジフェニルアミノ基等のジアリールアミノ基、フェニルチオ基等のアリールチオ基が挙げられる。
【００８１】
【化３】
2005053070.tif 000004
【００８２】
一般式（ｉ）中、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、又は炭素数６〜１０のアリール基を表す。Ｙ3は、酸素原子又は硫黄原子を表す。
【００８３】
一般式（ａ）で示されるシアニン色素のうち、波長８００〜８４０ｎｍの赤外線で露光する場合は、特に好ましいものとしては下記一般式（ａ−１）〜（ａ−４）で示されるヘプタメチンシアニン色素を挙げることができる。
【００８４】
【化４】
2005053070.tif 000005
【００８５】
一般式（ａ−１）中、Ｘ1は、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。画像形成層塗布液の保存安定性からは、Ｒ1及びＲ2は、炭素原子数２個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、Ｒ1とＲ2とは互いに結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に好ましい。
【００８６】
一般式（ａ−１）中、Ａｒ1及Ａｒ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基が挙げられる。Ｙ1及びＹ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ3及びＲ4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚａ-は、電荷の中和に必要な対アニオンを示し、この色素がその構造内にアニオン性の置換基を有し電荷の中和が必要ない場合には、Ｚａ-は必要ない。好ましいＺａ-は、画像形成層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びスルホン酸イオンである。
【００８７】
【化５】
2005053070.tif 000006
【００８８】
一般式（ａ−２）中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示し、Ｒ1とＲ2とは互いに結合し環構造を形成していてもよく、形成する環としては５員環又は６員環が好ましく、５員環が特に好ましい。Ａｒ1及びＡｒ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、該芳香族炭化水素基上の好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、ハロゲン化アルキル基等が挙げられ、電子求引性の置換基が特に好ましい。Ｙ1及びＹ2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ3及びＲ4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7及びＲ8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。Ｒ9及びＲ10は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜１０の芳香族炭化水素基、炭素原子数１〜８のアルキル基、水素原子又はＲ9とＲ10とが互いに結合し下記構造の環を形成してもよい。
【００８９】
【化６】
2005053070.tif 000007
【００９０】
一般式（ａ−２）中のＲ9及びＲ10としては、上記のうち、フェニル基等の芳香族炭化水素基が最も好ましい。
また、Ｘ-は、電荷の中和に必要な対アニオンであり、前記一般式（ａ−１）におけるＺａ-と同様の定義である。
【００９１】
【化７】
2005053070.tif 000008
【００９２】
一般式（ａ−３）中、Ｒl〜Ｒ8、Ａｒl、Ａｒ2、Ｙl、Ｙ2及びＸ-は、それぞれ前記一般式（ａ−２）におけるものと同義である。Ａｒ3は、フェニル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基、又は窒素、酸素及び硫黄原子のうち少なくとも１つを含有する単環又は多環の複素球基を示し、チアゾール系、ベンゾチアゾール系、ナフトチアゾール系、チアナフテノ−７，６，４，５−チアゾール系、オキサゾール系、ベンゾオキサゾール系、ナフトオキサゾール系、セレナゾール系、ベンゾセレナゾール系、ナフトセレナゾール系、チアゾリン系、２−キノリン系、４−キノリン系、１−イソキノリン系、３−イソキノリン系、ベンゾイミダゾール系、３，３−ジアルキルベンゾインドレニン系、２−ピリジン系、４−ピリジン系、３，３−ジアルキルベンゾ［ｅ］インドール系、テトラゾール系、トリアゾール系、ピリミジン系、及びチアジアゾール系よりなる群から選択される複素環基が好ましく、特に好ましい複素環基としては下記構造のものが挙げられる。
【００９３】
【化８】
2005053070.tif 000009
【００９４】
【化９】
2005053070.tif 000010
【００９５】
一般式（ａ−４）中、Ｒl〜Ｒ8、Ａｒl、Ａｒ2、Ｙl及びＹ2は、それぞれ前記一般式（ａ−２）におけるものと同義である。Ｒ11及びＲ12は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子、アリル基、シクロへキシル基又は炭素原子数１〜８のアルキル基を示す。Ｚは、酸素原子又は硫黄原子を示す。
【００９６】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ａ）で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開２００１−１３３９６９号公報の段落番号［００１７］〜［００１９］、特開２００２−４０６３８号公報の段落番号［００１２］〜［００３８］、特開２００２−２３３６０号公報の段落番号［００１２］〜［００２３］、に記載されたものを挙げることができる。
【００９７】
【化１０】
2005053070.tif 000011
【００９８】
【化１１】
2005053070.tif 000012
【００９９】
【化１２】
2005053070.tif 000013
【０１００】
【化１３】
2005053070.tif 000014
【０１０１】
【化１４】
2005053070.tif 000015
【０１０２】
【化１５】
2005053070.tif 000016
【０１０３】
上記以外の染料としては、特開２００１−２４２６１３号公報に記載の複数の発色団を有する染料、特開２００２−９７３８４号公報、米国特許第６，１２４，４２５号明細書に記載の高分子化合物に共有結合で発色団が連結された色素、米国特許６，２４８，８９３号明細書に記載のアニオン染料、特開２００１−３４７７６５号公報に記載の表面配向性基を有する染料等を好適に用いることができる。
【０１０４】
本発明において使用される７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が挙げられる。
【０１０５】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【０１０６】
これらの顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０１０７】
顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは分散物の画像形成層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると画像形成層の均一性の点で好ましくない。
【０１０８】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０１０９】
本発明における「７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料」成分は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用することもできる。
本発明における「７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料」成分としては、シアニン色素が好ましい。
感度の観点からは、一般式（ａ）で示されるシアニン色素がより好ましく、一般式（ａ）で示されるシアニン色素の中でも、Ｘ1がジアリールアミノ基又はＸ2−Ｌ1であるシアニン色素が好ましく、ジアリールアミノ基を有するシアニン色素がさらに好ましい。
また、両末端のインドレニン部位に、電子吸引性基又は重原子含有置換基を有するシアニン色素も好ましく、例えば、特開２００２−２７８０５７号公報に記載のものが好適に用いられる。最も好ましくは、Ｘ1がジアリールアミノ基であり、両末端のインドレニン部位に電子吸引性基を有するシアニン色素である。
【０１１０】
（２）カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩
本発明の平版印刷版用原版の画像形成層に用いられる、カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩について説明する。
カルボン酸イオンを構成するカルボン酸は、本発明の効果（特に、脱カルボキシル反応の容易さ）の観点で（１）２位の炭素原子がアシル基、カルバモイル基（置換カルバモイル基を含む）またはシアノ基で置換されているカルボン酸（２−アシル置換カルボン酸、２−カルバモイル置換カルボン酸、２−シアノ置換カルボン酸）、（２）２位の炭素原子が複数のアリール基で置換されているカルボン酸（２，２'−ジアリール置換カルボン酸）、（３）炭素原子と水素原子以外の非金属原子が２位炭素原子に直接結合しているカルボン酸、および（４）その他のカルボン酸に分類できる。本発明では、（１）、（２）および（３）のカルボン酸が好ましい。
【０１１１】
（１）２位の炭素原子がアシル基、カルバモイル基またはシアノ基で置換されているカルボン酸
カルボン酸は、環状構造を有していてもよい。環状構造に、アシル基のカルボニル基および（置換）カルバモイル基のアミド結合が含まれていてもよい。
以下に、（１）２位の炭素原子がアシル基、カルバモイル基またはシアノ基で置換されているカルボン酸イオンの例を示す。
【０１１２】
Ａ１０１：ベンゾイル酢酸イオン
Ａ１０２：２−ベンゾイルプロピオン酸イオン
Ａ１０３：アセト酢酸イオン
Ａ１０４：シアノ酢酸イオン
Ａ１０５：２−シアノケイ皮酸イオン
Ａ１０６：２−シアノプロピオン酸イオン
Ａ１０７：５−（３，４，５−トリメチル−６−オキソ−８−ヒドロキシ−３，４，５，６−テトラヒドロイソクロメン）カルボン酸イオン
Ａ１０８：４−（３−オキソ−７，７−ジメチルビシクロ〔２．２．１〕へプタン）カルボン酸イオン
【０１１３】
（２）２位の炭素原子が複数のアリール基で置換されているカルボン酸
アリール基は、置換基を有していてもよい。アリール基の置換基は、エチレン性不飽和重合性化合物で説明した芳香族基の置換基と同様である。
以下に、（２）２位の炭素原子が複数のアリール基で置換されているカルボン酸イオンの例を示す。
【０１１４】
Ａ２０１：エチルチオジフェニル酢酸イオン
Ａ２０２：ヒドロキシジフェニル酢酸イオン
Ａ２０３：ヒドロキシ（１−ナフチル）フェニル酢酸イオン
Ａ２０４：メルカプトジフェニル酢酸イオン
Ａ２０５：メトキシジフェニル酢酸イオン
Ａ２０６：シアノジフェニル酢酸イオン
Ａ２０７：トリフェニル酢酸イオン
Ａ２０８：３，３，３−トリフルオロ−２，２−ジフェニルプロピオン酸イオンＡ２０９：ヒドロキシビス（ｐ−クロロフェニル）酢酸イオン
Ａ２１０：ヒドロキシビス（ｐ−トリル）酢酸イオン
【０１１５】
Ａ２１１：２，２−ジフェニルプロピオン酸イオン
Ａ２１２：ヒドロキシフェニル（ｐ−ニトロフェニル）酢酸イオン
Ａ２１３：クロロジフェニル酢酸イオン
Ａ２１４：２，２−ジ（１−ナフチル）プロピオン酸イオン
Ａ２１５：トリス（４−クロロフェニル）酢酸イオン
Ａ２１６：２，２−ジフェニル酪酸イオン
Ａ２１７：ジフェニル酢酸イオン
【０１１６】
（３）炭素原子と水素原子以外の非金属原子が２位炭素原子に直接結合しているカルボン酸
炭素原子と水素原子以外の非金属原子は、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、Ｏ、Ｓ、Ｎ、ＳｉおよびＰが好ましく、ハロゲン原子、Ｏ、ＳおよびＮがさらに好ましい。
カルボン酸は、環状構造を有していてもよい。環状構造に、炭素原子と水素原子以外の非金属原子が含まれていてもよい。
炭素原子と水素原子以外の非金属原子は、二価以上の置換基（例えば、オキソ、チオ、イミノ）として、２位炭素原子に直接結合してもよい。
以下に、（３）炭素原子と水素原子以外の非金属原子が２位炭素原子に直接結合しているカルボン酸イオンの例を示す。
【０１１７】
Ａ３０１：ベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３０２：ピルビン酸イオン
Ａ３０３：ｐ−メトキシベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３０４：メルカプトピルビン酸イオン
Ａ３０５：３−メチル−２−オキソ酪酸イオン
Ａ３０６：３−ｏ−ニトロフェニル−２−オキソプロピオン酸イオン
Ａ３０７：３−フェニル−２−オキソプロピオン酸イオン
Ａ３０８：ｐ−クロロベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３０９：グリオキシル酸イオン
Ａ３１０：１−ナフトイル蟻酸イオン
【０１１８】
Ａ３１１：Ｎ−フェニルカルバモイル蟻酸イオン
Ａ３１２：３−インドールカルボニル蟻酸イオン
Ａ３１３：２−オキソ酪酸イオン
Ａ３１４：ｐ−アセチルベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３１５：トリフルオロピルビン酸イオン
Ａ３１６：ペンタフルオロベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３１７：２−オキソペンタン酸イオン
Ａ３１８：３−ｐ−クロロフェニル−２−オキソプロピオン酸イオン
Ａ３１９：３，５−ジメトキシベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３２０：ベンゼンスルホニル酢酸イオン
【０１１９】
Ａ３２１：３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニル酢酸イオンＡ３２２：２−ベンゼンスルホニルプロピオン酸イオン
Ａ３２３：ｐ−メトキシベンゼンスルホニル酢酸イオン
Ａ３２４：ブタンスルホニル酢酸イオン
Ａ３２５：メタンスルホニル酢酸イオン
Ａ３２６：１−ナフタレンスルホニル酢酸イオン
Ａ３２７：２−（１，３−ジオキソラン）カルボン酸イオン
Ａ３２８：ジメトキシ酢酸イオン
Ａ３２９：メトキシ酢酸イオン
Ａ３３０：２−フェノキシプロピオン酸イオン
【０１２０】
Ａ３３１：ジエチルホスホノ酢酸イオン
Ａ３３２：２−ヒドロキシ−２−フェニルプロピオン酸イオン
Ａ３３３：３，３，３−トリフルオロ−２−フェニル−２−メトキシプロピオン酸イオン
Ａ３３４：フェニルチオ酢酸イオン
Ａ３３５：ベンジルチオ酢酸イオン
Ａ３３６：アセトキシフェニル酢酸イオン
Ａ３３７：２−チオフェンカルボン酸イオン
Ａ３３８：１−オキソイソインドリン−２−イル酢酸イオン
Ａ３３９：アニリノ酢酸イオン
Ａ３４０：２−アセトアミドプロピオン酸イオン
【０１２１】
Ａ３４１：２−アニリノプロピオン酸イオン
Ａ３４２：２−ジメチルアミノプロピオン酸イオン
Ａ３４３：アセトアミド酢酸イオン
Ａ３４４：マレイミド酢酸イオン
Ａ３４５：ｐ−メチルアニリノ酢酸イオン
Ａ３４６：ｐ−メトキシアニリノ酢酸イオン
Ａ３４７：２−（５−メチルチオフェン）カルボン酸イオン
Ａ３４８：ｔ−ブチルジフェニルシリル酢酸イオン
Ａ３４９：フェニルセレノ酢酸イオン
Ａ３５０：トリフルオロアセトキシフェニル酢酸イオン
【０１２２】
Ａ３５１：ｐ−メチルベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３５２：２，４，６−トリメチルベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３５３：４−フルオロベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３５４：ｏ−クロロベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３５５：３，５−ジクロロベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３５６：ｐ−アミノベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３５７：５−インドールカルボニル蟻酸イオン
Ａ３５８：３−フランカルボニル蟻酸イオン
Ａ３５９：２−チオフェンカルボニル蟻酸イオン
Ａ３６０：２−オキソ−５−（ピリジン−３−イル）−４−ペンテンカルボン酸イオン
【０１２３】
Ａ３６１：ブロモピルビン酸イオン
Ａ３６２：２−オキソ酪酸イオン
Ａ３６３：２−オキソペンタン酸イオン
Ａ３６４：シクロヘキサンカルボニル蟻酸イオン
Ａ３６５：３−ニトロベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３６６：３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３６７：トリクロロピルビン酸イオン
Ａ３６８：ｐ−ヒドロキシベンゾイル蟻酸イオン
Ａ３６９：メチルチオ酢酸イオン
Ａ３７０：ｐ−クロロフェニルチオ酢酸イオン
【０１２４】
Ａ３７１：ブチルフェニルアミノ酢酸イオン
Ａ３７２：３−（１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン）カルボン酸イオン
Ａ３７３：２−ベンジルオキシカルボニルアミノプロピオン酸イオン
Ａ３７４：２−ベンジルオキシカルボニルアミノ−３−メチル酪酸イオン
Ａ３７５：トリチルアミノ酢酸イオン
Ａ３７６：２−（１−ベンジルオキシカルボニルピロリジン）カルボン酸イオンＡ３７７：ニトロ酢酸イオン
Ａ３７８：２−（２，４，５−トリクロロフェノキシ）プロピオン酸イオン
Ａ３７９：フェノキシ酢酸イオン
Ａ３８０：２−ナフチルオキシ酢酸イオン
【０１２５】
Ａ３８１：２−イソプロピル−５−メチルシクロヘキシルオキシ酢酸イオン
Ａ３８２：２−オキソランカルボン酸イオン
Ａ３８３：３，３，３−トリクロロ−２，２−ジヒドロキシプロピオン酸イオンＡ３８４：マレイミドオキシ酢酸イオン
Ａ３８５：２−（１−メチルピロール）カルボン酸イオン
Ａ３８６：２−ピロールカルボン酸イオン
Ａ３８７：２−（５−ブロモフラン）カルボン酸イオン
Ａ３８８：４−イミダゾールカルボン酸イオン
Ａ３８９：２−（５−メトキシインドール）カルボン酸イオン
Ａ３９０：ヒドロキシ酢酸イオン
【０１２６】
Ａ３９１：トリクロロ酢酸イオン
Ａ３９２：パーフルオロノナン酸イオン
Ａ３９３：トリフルオロ酢酸イオン
Ａ３９４：２，４−ジオキソテトラヒドロチアゾール−３−イル酢酸イオン
Ａ３９５：２−クロロプロピオン酸イオン
Ａ３９６：クロロ酢酸イオン
Ａ３９７：パーフルオロデカン酸イオン
Ａ３９８：ブロモフェニル酢酸イオン
Ａ３９９：フェニルメトキシ酢酸イオン
Ａ４００：トリフルオロメチルフェニルメトキシ酢酸イオン
【０１２７】
Ａ４０１：ヒドロキシフェニル酢酸イオン
Ａ４０２：２−（４−オキソ−４Ｈ−クロメン）カルボン酸イオン
Ａ４０３：ｔ−ブトキシカルボニルアミノ酢酸イオン
Ａ４０４：５−（２−ピロリドン）カルボン酸イオン
Ａ４０５：４−（２−オキソイミダゾリジン）カルボン酸イオン
Ａ４０６：４−（２−オキソテトラヒドロチアゾール）カルボン酸イオン
Ａ４０７：ｐ−メチルベンゼンスルホニル酢酸イオン
Ａ４０８：ペンタフルオロベンゼンスルホニル酢酸イオン
Ａ４０９：ｐ−メトキシフェノキシ酢酸イオン
Ａ４１０：２−フランカルボン酸イオン
Ａ４１１：メルカプト酢酸
【０１２８】
（４）その他のカルボン酸
その他のカルボン酸には、様々な脂肪酸および芳香族カルボン酸が含まれる。
以下に、（４）その他のカルボン酸イオンの例を示す。
【０１２９】
Ａ５０１：安息香酸イオン
Ａ５０２：ｐ−トルイル酸イオン
Ａ５０３：ｐ−アニス酸イオン
Ａ５０４：ｐ−ブチル安息香酸イオン
Ａ５０５：２，６−ジメトキシ安息香酸イオン
Ａ５０６：２，４，６−トリメチル安息香酸イオン
Ａ５０７：ｐ−フェニル安息香酸イオン
Ａ５０８：ｐ−フェノキシ安息香酸イオン
Ａ５０９：ｐ−ベンゾイル安息香酸イオン
Ａ５１０：ｏ−フェニル安息香酸イオン
【０１３０】
Ａ５１１：ｍ−フェノキシ安息香酸イオン
Ａ５１２：ｍ−ベンジル安息香酸イオン
Ａ５１３：ｏ−ベンジル安息香酸イオン
Ａ５１４：ｏ−ベンゾイル安息香酸イオン
Ａ５１５：ｏ−（ｐ−クロロベンゾイル）安息香酸イオン
Ａ５１６：ｏ−アニリノ安息香酸イオン
Ａ５１７：３−フランカルボン酸イオン
Ａ５１８：３−（フラン−３−イル）アクリル酸イオン
Ａ５１９：３−チオフェンカルボン酸イオン
Ａ５２０：インドール−３−イル酢酸イオン
【０１３１】
Ａ５２１：４−インドールカルボン酸イオン
Ａ５２２：５−ベンゾイミダゾールカルボン酸イオン
Ａ５２３：４−ピラゾールカルボン酸イオン
Ａ５２４：３−ピリジンカルボン酸イオン
Ａ５２５：９−（２，６，６−トリメチル−１−シクロヘキセニル）−３，７−ジメチル−２，４，６，８−ノナテトラエン酸イオン
Ａ５２６：シクロプロパンカルボン酸イオン
Ａ５２７：２−ビシクロ〔２．２．１〕へプタンカルボン酸イオン
Ａ５２８：ピバル酸イオン
Ａ５２９：３−ブテン酸イオン
Ａ５３０：２−エチル酪酸イオン
【０１３２】
Ａ５３１：ｐ−フルオロ安息香酸イオン
Ａ５３２：ｐ−クロロ安息香酸イオン
Ａ５３３：ｐ−ヨード安息香酸イオン
Ａ５３４：ｐ−ブロモ安息香酸イオン
Ａ５３５：ｐ−トリフルオロメチル安息香酸イオン
Ａ５３６：ｐ−シアノ安息香酸イオン
Ａ５３７：ｍ−アニス酸イオン
Ａ５３８：２，４，６−トリフルオロ安息香酸イオン
Ａ５３９：３，５−ジクロロ安息香酸イオン
Ａ５４０：ペンタフルオロ安息香酸イオン
【０１３３】
Ａ５４１：酢酸イオン
Ａ５４２：イソ酪酸イオン
Ａ５４３：アダマンタン−１−イル酢酸イオン
Ａ５４４：シクロヘキサンカルボン酸イオン
Ａ５４５：パルミチン酸イオン
Ａ５４６：ｐ−ビニル安息香酸イオン
Ａ５４７：２，４−ペンタジエン酸イオン
Ａ５４８：プロピオン酸イオン
Ａ５４９：１−ナフトエ酸イオン
Ａ５５０：ペンタン酸イオン
【０１３４】
Ａ５５１：ヘンイコサン酸イオン
Ａ５５２：９−アントラセンカルボン酸イオン
Ａ５５３：３−インドールカルボン酸イオン
Ａ５５４：１−（１，４ａ−ジメチル−７−イソプロピル−１，２，３，４，４ａ，４ｂ，５，６，１０，１０ａ−デカヒドロフェナントレン）カルボン酸イオン
Ａ５５５：１−シクロヘキセンカルボン酸イオン
Ａ５５６：１−ビシクロ〔２．２．２〕オクタンカルボン酸イオン
Ａ５５７：３−フェニルプロピオル酸イオン
Ａ５５８：シクロペンタンカルボン酸イオン
Ａ５５９：２，６−ジメチル安息香酸イオン
Ａ５６０：５−（１−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−４−オキソ−２−シクロヘキセニル）−３−メチル−２，４−ペンタジエン酸イオン
【０１３５】
Ａ５６１：ｐ−ヒドロキシ安息香酸イオン
Ａ５６２：ｐ−ヒドロキシメチル安息香酸イオン
Ａ５６３：２，４，６−トリｔ−ブチル安息香酸イオン
Ａ５６４：ｐ−アセトアミド安息香酸イオン
Ａ５６５：ｐ−アセチル安息香酸イオン
Ａ５６６：ｐ−アミノ安息香酸イオン
Ａ５６７：ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イオン
Ａ５６８：１，４，６−トリヒドロキシ安息香酸イオン
Ａ５６９：フェニル酢酸イオン
Ａ５７０：ｐ−メチルフェニル酢酸イオン
【０１３６】
Ａ５７１：ｐ−メトキシフェニル酢酸イオン
Ａ５７２：ｐ−フルオロフェニル酢酸イオン
Ａ５７３：ケイ皮酸イオン
Ａ５７４：ｏ−クロロケイ皮酸イオン
Ａ５７５：ｍ−トリフルオロメチルケイ皮酸イオン
Ａ５７６：２，２−ビス（ヒドロキシメチル）酪酸イオン
Ａ５７７：６−ヘプテン酸イオン
Ａ５７８：アクリル酸イオン
Ａ５７９：イコサン酸イオン
Ａ５８０：３−メチルシクロヘキサンカルボン酸イオン
【０１３７】
Ａ５８１：４−（１，２−ジチオラン−３−イル）酪酸イオン
Ａ５８２：５，５−ジメチル−３−オキソ−１−シクロヘキセンカルボン酸イオン
Ａ５８３：プロピオル酸イオン
Ａ５８４：シクロヘキシル酢酸イオン
Ａ５８５：２−ナフトエ酸イオン
Ａ５８６：４−フルオロ−１−ナフトエ酸イオン
Ａ５８７：２−エトキシ−１−ナフトエ酸イオン
Ａ５８８：１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸イオン
Ａ５８９：３−アミノ−２−ナフトエ酸イオン
Ａ５９０：８−ホルミル−１−ナフトエ酸イオン
【０１３８】
Ａ５９１：３，７−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸イオン
Ａ５９２：２−ビフェニレンカルボン酸イオン
Ａ５９３：９−フルオレンカルボン酸イオン
Ａ５９４：１−フルオレンカルボン酸イオン
Ａ５９５：４−（９−オキソフルオレン）カルボン酸イオン
Ａ５９６：５−ジベンゾピランカルボン酸イオン
Ａ５９７：２−アントラキノンカルボン酸イオン
Ａ５９８：１−ピレンカルボン酸イオン
Ａ５９９：４−インドールカルボン酸イオン
Ａ６００：３−（インドール−３−イル）プロピオン酸イオン
【０１３９】
Ａ６０１：３−（５−ブロモインドール）カルボン酸イオン
Ａ６０２：５−インドールカルボン酸イオン
Ａ６０３：チオフェン−２−イル酢酸イオン
Ａ６０４：蟻酸イオン
Ａ６０５：２−エチルペンタン酸イオン
Ａ６０６：メタクリル酸イオン
Ａ６０７：１２−ヒドロキシドデカン酸イオン
Ａ６０８：４−ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸イオン
Ａ６０９：３−メトキシプロピオン酸イオン
Ａ６１０：シクロブタンカルボン酸イオン
【０１４０】
Ａ６１１：６−ニトロヘキサン酸イオン
Ａ６１２：フェニルシクロペンチル酢酸イオン
Ａ６１３：２−フェニルプロピオン酸イオン
Ａ６１４：７−フェニルへプタン酸イオン
Ａ６１５：２−フェニル酪酸イオン
Ａ６１６：３−ベンゾイルプロピオン酸イオン
Ａ６１７：ｏ−メチルフェニル酢酸イオン
Ａ６１８：ｏ−メトキシフェニル酢酸イオン
Ａ６１９：ｏ−フルオロフェニル酢酸イオン
Ａ６２０：ｏ−ブロモフェニル酢酸イオン
【０１４１】
Ａ６２１：ｍ−クロロフェニル酢酸イオン
Ａ６２２：ｍ−アミノフェニル酢酸イオン
Ａ６２３：ｍ−ニトロフェニル酢酸イオン
Ａ６２４：２，６−ジフルオロフェニル酢酸イオン
Ａ６２５：ｐ−クロロフェニル酢酸イオン
Ａ６２６：２，４−ジメチルフェニル酢酸イオン
Ａ６２７：２，５−ジフルオロフェニル酢酸イオン
Ａ６２８：２，４，５−トリクロロフェニル酢酸イオン
Ａ６２９：ペンタフルオロフェニル酢酸イオン
Ａ６３０：３−（３，４，５−トリメトキシフェニル）プロピオン酸イオン
【０１４２】
Ａ６３１：２−メチルケイ皮酸イオン
Ａ６３２：ｏ−フルオロケイ皮酸イオン
Ａ６３３：ｍ−ホルミルケイ皮酸イオン
Ａ６３４：３，４−メチレンジオキシフェニル酢酸イオン
Ａ６３５：２−ナフチル酢酸イオン
Ａ６３６：１−ナフチル酢酸イオン
Ａ６３７：ｐ−イソプロピル安息香酸イオン
Ａ６３８：ｍ−メトキシ安息香酸イオン
Ａ６３９：ｍ−フルオロ安息香酸イオン
Ａ６４０：１，５−ジメチル安息香酸イオン
【０１４３】
Ａ６４１：４−ヒドロキシ−３−メトキシ安息香酸イオン
Ａ６４２：３−アミノ−４−フルオロ安息香酸イオン
Ａ６４３：２，４，６−トリヒドロキシ安息香酸イオン
Ａ６４４：３，５−ジヒドロキシ−４−メチル安息香酸イオン
Ａ６４５：サリチル酸イオン
Ａ６４６：６−オキソへプタン酸イオン
Ａ６４７：４−ｔ−ブチルシクロヘキサンカルボン酸イオン
Ａ６４８：５−（ビシクロ〔２．２．１〕へプタン−２−エン）カルボン酸イオン
Ａ６４９：５−（６−メチルビシクロ〔２．２．１〕へプタン−２−エン）カルボン酸イオン
Ａ６５０：１−アダマンタンカルボン酸イオン
Ａ６５１：２，５−シクロヘキサジエンカルボン酸イオン
【０１４４】
カルボン酸イオンと塩を構成するオニウムイオンは、アンモニウムイオン、ジアゾニウムイオン、ホスホニウムイオン、アルソニウムイオン、スチボニウムイオン、オキソニウムイオン、スルホニウムイオン、セレノニウムイオン、スタンノニウムイオン、ヨードニウムイオンであることが好ましい。アンモニウムイオン、ホスホニウムイオン、スルホニウムイオンおよびヨードニウムイオンがさらに好ましく、スルホニウムイオンおよびヨードニウムイオンが最も好ましい。
アンモニウムイオンは下記式（IV）、ジアゾニウムイオンは下記式（Ｖ）、ホスホニウムイオンは下記式（VI）、アルソニウムイオンは下記式（VII)、スチボニウムイオンは下記式(VIII)、オキソニウムイオンは下記式（IX）、スルホニウムイオンは下記式（Ｘ）、セレノニウムイオンは下記式（XI）、スタンノニウムイオンは下記式（XII)、ヨードニウムイオンは下記式(XIII)で定義される。
【０１４５】
アンモニウムイオン：  （IV）Ｎ+ Ｒ4
ジアゾニウムイオン：  （Ｖ）ＮＮ+ Ｒ
ホスホニウムイオン：  （VI）Ｐ+ Ｒ4
アルソニウムイオン：  （VII)Ａｓ+ Ｒ4
スチボニウムイオン：  (VIII)Ｓｂ+ Ｒ4
オキソニウムイオン：  （IX）Ｏ+ Ｒ3
スルホニウムイオン：  （Ｘ）Ｓ+ Ｒ3
セレノニウムイオン：  （XI）Ｓｅ+ Ｒ3
スタンノニウムイオン：（XII)Ｓｎ+ Ｒ3
ヨードニウムイオン：  (XIII)Ｉ+ Ｒ2
【０１４６】
各式において、Ｒは、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基である。一つのオニウム基に含まれる複数のＲは、異なっていてもよい。複数のＲが結合して、複素環を形成してもよい。Ｒは、芳香族基であることが特に好ましい。
以下に、オニウムイオンの例を示す。
【０１４７】
Ｃ１：トリフェニルスルホニウムイオン
Ｃ２：ｐ−ｔ−ブチルフェニルジフェニルスルホニウムイオン
Ｃ３：ビス（ｐ−クロロフェニル）フェニルスルホニウムイオン
Ｃ４：トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムイオン
Ｃ５：メチルジフェニルスルホニウムイオン
Ｃ６：ジフェニルヨードニウムイオン
Ｃ７：ビス（ｐ−ｔ−ペンチルフェニル）ヨードニウムイオン
Ｃ８：ビス（ｐ−へプタンアミドフェニル）ヨードニウムイオン
Ｃ９：ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムイオン
Ｃ１０：ベンゾイルオキシピリジニウムイオン
【０１４８】
Ｃ１１：トリブチルベンジルアンモニウムイオン
Ｃ１２：テトラフェニルホスホニウムイオン
Ｃ１３：ビス（ｐ−トリル）フェニルスルホニウムイオン
Ｃ１４：ｐ−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムイオン
Ｃ１５：ビス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムイオン
Ｃ１６：ビス（ｍ−クロロフェニル）ヨードニウムイオン
Ｃ１７：ｐ−トリルジフェニルスルホニウムイオン
Ｃ１８：ｐ−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムイオン
Ｃ１９：ｐ−ヒドロキシフェニルジフェニルスルホニウムイオン
Ｃ２０：トリス（ｐ−トリル）スルホニウムイオン
【０１４９】
Ｃ２１：トリス（ｐ−フルオロフェニル）スルホニウムイオン
Ｃ２２：ベンジルジフェニルスルホニウムイオン
Ｃ２３：ベンゾイルチオラニウムイオン
Ｃ２４：ｐ−オクチルオキシフェニルフェニルヨードニウムイオン
Ｃ２５：ベンジルメチルピペリジニウムイオン
Ｃ２６：テトラキス（ｐ−クロロフェニル）ホスホニウムイオン
Ｃ２７：ｐ−トリルフェニルヨードニウムイオン
Ｃ２８：２，４，６−トリメチルフェニルジフェニルスルホニウムイオン
Ｃ２９：トリエチルベンジルアンモニウムイオン
Ｃ３０：ビス（ｐ−ヘキシルフェニル）ヨードニウムイオン
【０１５０】
Ｃ３１：ビス（ｍ−トリフルオロフェニル）ヨードニウムイオン
Ｃ３２：ビス（ｐ−ペンタンアミドフェニル）ヨードニウムイオン
Ｃ３３：ビス（ｐ−ブトキシフェニル）ヨードニウムイオン
Ｃ３４：ビス（ｐ−フルオロフェニル）ヨードニウムイオン
Ｃ３５：ｐ−ブトキシフェニルフェニルヨードニウムイオン
Ｃ３６：ビス（ｐ−フタルイミドフェニル）ヨードニウムイオン
Ｃ３７：ヘキシルメチルフェニルスルホニウムイオン
Ｃ３８：トリブチルスルホニウムイオン
【０１５１】
カルボン酸イオンとオニウムイオンとの組み合わせについて、特に制限はない。以下に、カルボン酸イオンとオニウムイオンからなる塩の例を示す。以下の例示では、カルボン酸イオンの例示番号（Ａ）とオニウムイオンの例示番号（Ｃ）を引用する。例えば、（１）のＡ３０１Ｃ１は、ベンゾイル蟻酸（Ａ３０１）トリフェニルスルホニウム（Ｃ１）を意味する。
【０１５２】
１：Ａ３０１Ｃ１、      ２：Ａ３０２Ｃ１、      ３：Ａ３０３Ｃ１、
４：Ａ３０４Ｃ１、      ５：Ａ３０５Ｃ１、      ６：Ａ３０６Ｃ１、
７：Ａ３０７Ｃ２、      ８：Ａ３０８Ｃ２、      ９：Ａ３０９Ｃ３、
１０：Ａ３１０Ｃ３、    １１：Ａ３１１Ｃ３、    １２：Ａ３０１Ｃ４、
１３：Ａ３１２Ｃ４、    １４：Ａ３１３Ｃ５、    １５：Ａ３１４Ｃ５、
１６：Ａ３０１Ｃ６、    １７：Ａ３０２Ｃ６、    １８：Ａ３０１Ｃ７、
１９：Ａ３１５Ｃ７、    ２０：Ａ３１６Ｃ８、    ２１：Ａ３１７Ｃ８、
２２：Ａ３１８Ｃ９、    ２３：Ａ３１９Ｃ９、    ２４：Ａ３０１Ｃ１０、
２５：Ａ３０２Ｃ１１、  ２６：Ａ３０１Ｃ１２、  ２７：Ａ３０１Ｃ１３、
２８：Ａ３０１Ｃ３、    ２９：Ａ３２０Ｃ１、    ３０：Ａ４０７Ｃ１、
３１：Ａ４０８Ｃ１、    ３２：Ａ３２５Ｃ４、    ３３：Ａ３２０Ｃ４、
【０１５３】
３４：Ａ３２１Ｃ４、    ３５：Ａ３２２Ｃ４、    ３６：Ａ３２３Ｃ１４、
３７：Ａ３２０Ｃ１５、  ３８：Ａ３２４Ｃ１５、  ３９：Ａ３２５Ｃ１６、
４０：Ａ３２６Ｃ１６、  ４１：Ａ１０１Ｃ１、    ４２：Ａ１０２Ｃ１、
４３：Ａ１０３Ｃ１、    ４４：Ａ１０４Ｃ１、    ４５：Ａ３２７Ｃ１７、
４６：Ａ３２８Ｃ１７、  ４７：Ａ３２９Ｃ１、    ４８：Ａ３３０Ｃ１、
４９：Ａ１０５Ｃ１、    ５０：Ａ３３１Ｃ１８、  ５１：Ａ３３２Ｃ１９、
５２：Ａ３３３Ｃ１、    ５３：Ａ３３４Ｃ１、    ５４：Ａ３３５Ｃ１、
５５：Ａ３３６Ｃ１、    ５６：Ａ４０９Ｃ１、    ５７：Ａ２０４Ｃ２０、
５８：Ａ３３７Ｃ２０、  ５９：Ａ３３８Ｃ１、    ６０：Ａ３３９Ｃ１、
６１：Ａ３４０Ｃ１、    ６２：Ａ３４１Ｃ２１、  ６３：Ａ３４２Ｃ２２、
６４：Ａ３４３Ｃ２３、  ６５：Ａ３４４Ｃ７、    ６６：Ａ３４５Ｃ７、
【０１５４】
６７：Ａ３４６Ｃ２４、  ６８：Ａ３４７Ｃ２４、  ６９：Ａ３３９Ｃ２５、
７０：Ａ３２７Ｃ１５、  ７１：Ａ３４８Ｃ１５、  ７２：Ａ３４９Ｃ１５、
７３：Ａ３３９Ｃ２６、  ７４：Ａ３５０Ｃ２７、  ７５：Ａ１０２Ｃ２７、
７６：Ａ２０１Ｃ１、    ７７：Ａ２０２Ｃ１、    ７８：Ａ２０３Ｃ１、
７９：Ａ２０４Ｃ１、    ８０：Ａ２０５Ｃ２８、  ８１：Ａ２０７Ｃ２８、
８２：Ａ２０８Ｃ２８、  ８３：Ａ２０９Ｃ２８、  ８４：Ａ２１０Ｃ２８、
８５：Ａ２１１Ｃ２８、  ８６：Ａ２０１Ｃ７、    ８７：Ａ２１２Ｃ７、
８８：Ａ２１３Ｃ７、    ８９：Ａ２０１Ｃ２９、  ９０：Ａ２０７Ｃ２５、
９１：Ａ５０１Ｃ６、    ９２：Ａ５０２Ｃ６、    ９３：Ａ５０３Ｃ６、
９４：Ａ５０４Ｃ６、    ９５：Ａ５０５Ｃ６、    ９６：Ａ５０６Ｃ６、
９７：Ａ５０７Ｃ６、    ９８：Ａ５０８Ｃ６、    ９９：Ａ５０９Ｃ６、
【０１５５】
１００：Ａ５１０Ｃ６、  １０１：Ａ５１１Ｃ６、  １０２：Ａ５１２Ｃ６、
１０３：Ａ５１３Ｃ６、  １０４：Ａ５１４Ｃ６、  １０５：Ａ５１５Ｃ６、
１０６：Ａ５１６Ｃ６、  １０７：Ａ３８５Ｃ６、  １０８：Ａ３８６Ｃ６、
１０９：Ａ５１７Ｃ６、  １１０：Ａ３８７Ｃ６、  １１１：Ａ５１８Ｃ６、
１１２：Ａ５１９Ｃ６、  １１３：Ａ３８８Ｃ６、  １１４：Ａ５２０Ｃ６、
１１５：Ａ５２１Ｃ６、  １１６：Ａ３８９Ｃ６、  １１７：Ａ５２２Ｃ６、
１１８：Ａ５２３Ｃ６、  １１９：Ａ５２４Ｃ６、  １２０：Ａ５２５Ｃ６、
１２１：Ａ５２６Ｃ６、  １２２：Ａ５２７Ｃ６、  １２３：Ａ５２８Ｃ６、
１２４：Ａ５２９Ｃ６、  １２５：Ａ５３０Ｃ６、  １２６：Ａ５０１Ｃ７、
１２７：Ａ５３１Ｃ７、  １２８：Ａ５３２Ｃ７、  １２９：Ａ５３３Ｃ７、
１３０：Ａ５３４Ｃ７、  １３１：Ａ５３５Ｃ７、  １３２：Ａ５３６Ｃ７、
【０１５６】
１３３：Ａ５０３Ｃ７、  １３４：Ａ５３７Ｃ７、  １３５：Ａ５３８Ｃ７、
１３６：Ａ５３９Ｃ７、  １３７：Ａ５４０Ｃ７、  １３８：Ａ５４１Ｃ７、
１３９：Ａ５４２Ｃ７、  １４０：Ａ３９０Ｃ７、  １４１：Ａ５４３Ｃ７、
１４２：Ａ５４４Ｃ７、  １４３：Ａ３９１Ｃ７、  １４４：Ａ３９２Ｃ７、
１４５：Ａ５２８Ｃ７、  １４６：Ａ５４５Ｃ７、  １４７：Ａ５２１Ｃ７、
１４８：Ａ５０１Ｃ３０、１４９：Ａ５０２Ｃ３０、１５０：Ａ５０３Ｃ３０、１５１：Ａ５３３Ｃ３０、１５２：Ａ５４６Ｃ３０、１５３：Ａ５１７Ｃ３０、１５４：Ａ５２８Ｃ３０、１５５：Ａ５３４Ｃ３１、１５６：Ａ５３３Ｃ３１、１５７：Ａ５３９Ｃ３１、１５８：Ａ５４７Ｃ３１、１５９：Ａ５４８Ｃ３１、１６０：Ａ５４０Ｃ１５、１６１：Ａ５３５Ｃ１５、１６２：Ａ５４９Ｃ１５、１６３：Ａ５４１Ｃ１５、１６４：Ａ３９３Ｃ１５、１６５：Ａ５４４Ｃ１５、
【０１５７】
１６６：Ａ５５０Ｃ１５、１６７：Ａ３９０Ｃ１５、１６８：Ａ５４３Ｃ１５、１６９：Ａ５５１Ｃ１５、１７０：Ａ５４２Ｃ３２、１７１：Ａ５２７Ｃ３２、１７２：Ａ５０１Ｃ３２、１７３：Ａ５５２Ｃ３２、１７４：Ａ５５３Ｃ３２、１７５：Ａ５０１Ｃ３３、１７６：Ａ５３１Ｃ３３、１７７：Ａ５３２Ｃ３３、１７８：Ａ５３３Ｃ３３、１７９：Ａ５３４Ｃ３３、１８０：Ａ５３５Ｃ３３、１８１：Ａ５３６Ｃ３３、１８２：Ａ５０３Ｃ３３、１８３：Ａ５３７Ｃ３３、１８４：Ａ５３８Ｃ３３、１８５：Ａ５３９Ｃ３３、１８６：Ａ５４０Ｃ３３、１８７：Ａ５５４Ｃ３３、１８８：Ａ５４１Ｃ３３、１８９：Ａ５４２Ｃ３３、１９０：Ａ３９０Ｃ３３、１９１：Ａ６５０Ｃ３３、１９２：Ａ５４４Ｃ３３、１９３：Ａ３９１Ｃ３３、１９４：Ａ３９２Ｃ３３、１９５：Ａ５２８Ｃ３３、１９６：Ａ５５５Ｃ３４、１９７：Ａ５５６Ｃ３４、１９８：Ａ５５７Ｃ３４、
【０１５８】
１９９：Ａ１０７Ｃ３４、２００：Ａ５３２Ｃ３５、２０１：Ａ５３３Ｃ３５、２０２：Ａ５３４Ｃ３５、２０３：Ａ５３５Ｃ３５、２０４：Ａ５３６Ｃ３５、２０５：Ａ５０３Ｃ３５、２０６：Ａ５３７Ｃ３５、２０７：Ａ５３８Ｃ３５、２０８：Ａ５３９Ｃ３５、２０９：Ａ５４０Ｃ３５、２１０：Ａ６５１Ｃ３５、２１１：Ａ５４１Ｃ３５、２１２：Ａ５４２Ｃ３５、２１３：Ａ５２７Ｃ３５、２１４：Ａ５４４Ｃ３５、２１５：Ａ３９１Ｃ３５、２１６：Ａ３９２Ｃ３５、２１７：Ａ５２８Ｃ３５、２１８：Ａ３９３Ｃ３６、２１９：Ａ５５８Ｃ３６、２２０：Ａ４１０Ｃ３６、２２１：Ａ５５９Ｃ３６、２２２：Ａ５５２Ｃ３６、２２３：Ａ５６０Ｃ３６、２２４：Ａ１０８Ｃ３６、２２５：Ａ３９４Ｃ３６、２２６：Ａ５０１Ｃ１、  ２２７：Ａ５０２Ｃ１、  ２２８：Ａ５０３Ｃ１、
２２９：Ａ５０４Ｃ１、  ２３０：Ａ５０５Ｃ１、  ２３１：Ａ５０６Ｃ１、
【０１５９】
２３２：Ａ５０７Ｃ１、  ２３３：Ａ５０８Ｃ１、  ２３４：Ａ５０９Ｃ１、
２３５：Ａ５１０Ｃ１、  ２３６：Ａ５１１Ｃ１、  ２３７：Ａ５１２Ｃ１、
２３８：Ａ５１３Ｃ１、  ２３９：Ａ５１４Ｃ１、  ２４０：Ａ５１５Ｃ１、
２４１：Ａ５１６Ｃ１、  ２４２：Ａ５４０Ｃ１、  ２４３：Ａ５３１Ｃ１、
２４４：Ａ５３２Ｃ１、  ２４５：Ａ５３３Ｃ１、  ２４６：Ａ５３４Ｃ１、
２４７：Ａ５３５Ｃ１、  ２４８：Ａ５３６Ｃ１、  ２４９：Ａ５３８Ｃ１、
２５０：Ａ５３９Ｃ１、  ２５１：Ａ５６１Ｃ１、  ２５２：Ａ５６２Ｃ１、
２５３：Ａ５６３Ｃ１、  ２５４：Ａ５６４Ｃ１、  ２５５：Ａ５６５Ｃ１、
２５６：Ａ５６６Ｃ１、  ２５７：Ａ５６７Ｃ１、  ２５８：Ａ３３９Ｃ１、
２５９：Ａ５６８Ｃ１、  ２６０：Ａ５６９Ｃ１、  ２６１：Ａ５７０Ｃ１、
２６２：Ａ５７１Ｃ１、  ２６３：Ａ５７２Ｃ１、  ２６４：Ａ３７９Ｃ１、
【０１６０】
２６５：Ａ５７３Ｃ１、  ２６６：Ａ５７４Ｃ１、  ２６７：Ａ５７５Ｃ１、
２６８：Ａ５４１Ｃ１、  ２６９：Ａ５４５Ｃ１、  ２７０：Ａ５４２Ｃ１、
２７１：Ａ５２８Ｃ１、  ２７２：Ａ３９０Ｃ１、  ２７３：Ａ５４３Ｃ１、
２７４：Ａ３９２Ｃ１、  ２７５：Ａ５７６Ｃ１、  ２７６：Ａ４１１Ｃ１、
２７７：Ａ３９３Ｃ１、  ２７８：Ａ３９５Ｃ１、  ２７９：Ａ５４７Ｃ１、
２８０：Ａ５７７Ｃ１、  ２８１：Ａ５７８Ｃ１、  ２８２：Ａ５７９Ｃ１、
２８３：Ａ５３０Ｃ１、  ２８４：Ａ６１０Ｃ１、  ２８５：Ａ５８０Ｃ１、
２８６：Ａ５８１Ｃ１、  ２８７：Ａ５８２Ｃ１、  ２８８：Ａ５８３Ｃ１、
２８９：Ａ１０７Ｃ１、  ２９０：Ａ５０１Ｃ２８、２９１：Ａ５０２Ｃ２８、２９２：Ａ５０３Ｃ２８、２９３：Ａ５０４Ｃ２８、２９４：Ａ５４０Ｃ２８、２９５：Ａ５７３Ｃ２８、２９６：Ａ５８３Ｃ２８、２９７：Ａ５４４Ｃ２８、
【０１６１】
２９８：Ａ５３１Ｃ２、  ２９９：Ａ５２７Ｃ２、  ３００：Ａ５４１Ｃ１８、３０１：Ａ５４９Ｃ１８、３０２：Ａ５４０Ｃ３７、３０３：Ａ５２６Ｃ３７、３０４：Ａ５３７Ｃ３７、３０５：Ａ５４８Ｃ５、  ３０６：Ａ５３３Ｃ５、
３０７：Ａ３９１Ｃ３８、３０８：Ａ３８２Ｃ３８、３０９：Ａ５４９Ｃ１、
３１０：Ａ５８５Ｃ１、  ３１１：Ａ５８６Ｃ１、  ３１２：Ａ５８７Ｃ１、
３１３：Ａ５８８Ｃ１、  ３１４：Ａ５８９Ｃ１、  ３１５：Ａ５９０Ｃ１、
３１６：Ａ５９１Ｃ１、  ３１７：Ａ５９２Ｃ１、  ３１８：Ａ５９３Ｃ１、
３１９：Ａ５９４Ｃ１、  ３２０：Ａ５９５Ｃ１、  ３２１：Ａ５５２Ｃ１、
３２２：Ａ５９６Ｃ１、  ３２３：Ａ５９７Ｃ１、  ３２４：Ａ５９８Ｃ１、
３２５：Ａ５５３Ｃ１、  ３２６：Ａ５９９Ｃ１、  ３２７：Ａ６００Ｃ１、
３２８：Ａ６０１Ｃ１、  ３２９：Ａ６０２Ｃ１、  ３３０：Ａ３３７Ｃ１、
３３１：Ａ６０３Ｃ１、  ３３２：Ａ５１９Ｃ１、  ３３３：Ａ５１７Ｃ１、
３３４：Ａ５１８Ｃ１、  ３３５：Ａ４１０Ｃ１、  ３３６：Ａ３８６Ｃ１
【０１６２】
カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩を二種類以上併用してもよい。
カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩およびその合成方法については、特開２００１−３４３７４２号、同２００２−１４８７９０号の各公報に記載がある。
カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩は、２５℃における水への溶解度が５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることがさらに好ましく、３０質量％以上であることがさらにまた好ましく、４０質量％以上であることが最も好ましい。上記溶解度は、１００ｇの水溶液に溶解している溶質の質量（ｇ）を意味する。
画像形成層は、カルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩を、０．１乃至３０質量％の範囲で含むことが好ましく、０．５乃至２５質量％の範囲で含むことがより好ましく、１乃至２０質量％の範囲で含むことがさらに好ましく、５乃至１５質量％の範囲で含むことが最も好ましい。
【０１６３】
（３）エチレン性不飽和重合性化合物
エチレン性不飽和重合性化合物は、複数のエチレン性不飽和基を有する（２官能以上である）ことが好ましく、３個以上のエチレン性不飽和基を有する（３官能以上である）ことがより好ましく、４官能以上であることがさらに好ましく、５官能以上であることがさらにまた好ましく、６官能以上であることが最も好ましい。
エチレン性不飽和重合性化合物は、下記式（Ｉ）で表されることが好ましい。
【０１６４】
（Ｉ）        Ｌ1 （−ＣＲ1 ＝ＣＲ2 Ｒ3 ）m
【０１６５】
式（Ｉ）において、Ｌ1 はｍ価の連結基であり、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基であり、そして、ｍは２以上の整数である。
ｍが２の場合、Ｌ1 は、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基、二価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2 −およびそれらの組み合わせから選ばれる二価の基であることが好ましい。Ｒは、アルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である。
アルキレン基およびアルキル基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。アルキレン基およびアルキル基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１５であることがより好ましく、１乃至１０であることがさらに好ましく、１乃至８であることが最も好ましい。
【０１６６】
置換アルキレン基および置換アルキル基の置換基の例には、ハロゲン原子、アリール基、置換アリール基およびアルコキシ基が含まれる。
アリーレン基は、フェニレンであることが好ましく、ｐ−フェニレンであることが最も好ましい。アリール基は、フェニルであることが好ましい。
二価の複素環基は、置換基を有していてもよい。
置換アリーレン基、置換アリール基および置換複素環基の置換基の例には、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基およびアルコキシ基が含まれる。
【０１６７】
ｍが３以上の場合、Ｌ1 は、三価以上の脂肪族基、三価以上の芳香族基、三価以上の複素環基、あるいはそれらとアルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基、二価の複素環基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−Ｎ＜、−ＣＯ−、−ＳＯ−または−ＳＯ2 −との組み合わせであることが好ましい。Ｒは、アルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である。
三価以上の脂肪族基は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、１乃至２０であることが好ましく、１乃至１５であることがより好ましく、１乃至１０であることがさらに好ましく、１乃至８であることが最も好ましい。
脂肪族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アリール基、置換アリール基およびアルコキシ基が含まれる。
芳香族基は、ベンゼン環残基であることが好ましい。芳香族基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基およびアルコキシ基が含まれる。
複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例には、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アルコキシ基、オキソ（＝Ｏ）およびチオ（＝Ｓ）が含まれる。
Ｌ1 は、ｍ個の繰り返し単位からなるポリマーの主鎖を構成してもよい。
【０１６８】
Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子または炭素原子数が１乃至６のアルキル基であることがより好ましく、水素原子または炭素原子数が１乃至３のアルキル基であることがさらに好ましく、水素原子またはメチルであることがさらにまた好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
【０１６９】
前記式（Ｉ）の連結基Ｌ1 が、ウレタン結合（−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−または−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、Ｒは、アルキル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリール基である）を含むと、耐刷性が優れたポリマー画像を形成することができる。ウレタン結合を含む重合性化合物は、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号および特開２００１−１１７２１７号の各公報に記載がある。
【０１７０】
前記式（Ｉ）の連結基Ｌ1 が、液晶性を有する部分構造であってもよい。言い換えると、エチレン性不飽和基（前記式（Ｉ）の−ＣＲ1 ＝ＣＲ2 Ｒ3 ）を有する液晶性化合物を、重合性化合物として用いることができる。重合性基を有する液晶性化合物は、光学材料の技術分野、特に位相差板や光学補償シートの製造で普通に使用されている。
エチレン性不飽和基を有する液晶性化合物の融点は、３０乃至３００℃が好ましく、５０乃至２７０℃がより好ましく、７０乃至２４０℃がさらに好ましく、９０乃至２１０℃が最も好ましい。
液晶化合物に含まれるエチレン性不飽和基の割合は、液晶性化合物１ｇ当たり５．０ミリモル以上であることが好ましく、７．０ミリモル以上であることがさらに好ましい。
液晶性化合物は、棒状液晶性化合物および円盤状液晶性化合物が好ましい。液晶性化合物は、高分子液晶でもよい。
【０１７１】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましい。
棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。
棒状液晶性化合物は、その棒状分子構造の両端に、二個のエチレン性不飽和基を有することが好ましい。
【０１７２】
棒状液晶性化合物よりも、円盤状（ディスコティック）液晶性化合物の方が好ましい。すなわち、液晶性化合物は、多くのエチレン性不飽和基を有することが好ましい。棒状液晶性化合物（一般に、エチレン性不飽和基の数は二個以下）よりも、円盤状液晶性化合物（一般に、四個以上のエチレン性不飽和基を導入可能）の方が、多数のエチレン性不飽和基を有することができる。
円盤状液晶性化合物の例としては、C．Destradeらの研究報告、Mol．Cryst． 71巻、111頁（1981年）に記載されているベンゼン誘導体、C．Destradeらの研究報告、Mol．Cryst．122巻、141頁（1985年）、Physics lett，A，78巻、82頁（1990）に記載されているトルキセン誘導体、B．Kohneらの研究報告、Angew．Chem．96巻、70頁（1984年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びJ．M．Lehnらの研究報告、J．Chem．Commun．，1794頁（1985年）、J．Zhangらの研究報告、J．Am．Chem．Soc．116巻、2655頁（1994年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルを挙げることができる。
【０１７３】
円盤状液晶性化合物は、一般的な分子構造として、上記の分子中心の母核に対して放射線状に、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が置換した構造の化合物であって、液晶性を示す。
円盤状液晶性化合物の例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。重合性基を有する円盤状液晶性化合物については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。
【０１７４】
円盤状液晶性化合物にエチレン性不飽和基を導入するためには、円盤状液晶性化合物の円盤状コアに、置換基としてエチレン性不飽和基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアにエチレン性不飽和基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアとエチレン性不飽和基との間に、連結基を導入することが好ましい。従って、エチレン性不飽和基を有する円盤状液晶性化合物は、下記式（II）で表わされることが好ましい。
【０１７５】
（II）Ｄ（−Ｌ−Ｑ）ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり；Ｌは二価の連結基であり、Ｑはエチレン性不飽和基（前記式（Ｉ）の−ＣＲ1 ＝ＣＲ2 Ｒ3 ）であり、そして、ｎは４乃至１２の整数である。
円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（またはＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）とエチレン性不飽和基（Ｑ）との組み合わせを意味する。
【０１７６】
【化１６】
2005053070.tif 000017
【０１７７】
【化１７】
2005053070.tif 000018
【０１７８】
【化１８】
2005053070.tif 000019
【０１７９】
式（II）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１乃至１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２乃至１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６乃至１０であることが好ましい。
【０１８０】
二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
【０１８１】
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
【０１８２】
Ｌ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−（Ｏ−ＡＬ）ｍ−
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−（Ｏ−ＡＬ）ｍ−Ｏ−
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−（Ｏ−ＡＬ）ｍ−ＣＯ−
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−（Ｏ−ＡＬ）ｍ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２０：−Ｓ−ＡＬ−
【０１８３】
Ｌ２１：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２４：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−
（註）ｍ：１〜６の整数
【０１８４】
式（II）において、ｎは４乃至１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＱの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
【０１８５】
前記式（Ｉ）の連結基Ｌ1 が、環状アミド構造を含むことも好ましい。
環状アミド構造は、５員環または６員環であることが好ましい。
環状構造内には、複数のアミド結合が存在することが好ましく、３個以上のアミド結合が存在することがさらに好ましい。
環状アミド構造の例には、２−イミダゾリジノン環（エチレン尿素環）、トリメチレン尿素環、２，４−イミダゾリジンジオン環、２，４−チアゾリジンジオン環、ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジンジオン環、２，４，５−イミダゾリジントリオン環、テトラヒドロ−１，２，４−トリアゾールジオン環、２−オキサゾリジオン環、ウラシル環、バルビツール酸環およびイソシアヌル酸環が含まれる。ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジンジオン環、ウラシル環、バルビツール酸環およびイソシアヌル酸環が好ましく、バルビツール酸環およびイソシアヌル酸環がさらに好ましく、イソシアヌル酸環が最も好ましい。
環状アミドは、エチレン性不飽和性基または他の環状アミドとの連結基以外にも、置換基を有していてもよい。置換基の例は、式（Ｉ）における複素環基の置換基の例と同様である。
環状アミドは、ケト型（例えば、イソシアヌル酸）とエノール型（例えば、シアヌル酸）との互変異性がある。環状アミドとの名称はケト型を意味するが、環状アミドがエノール型の環状構造になっていてもよい。
【０１８６】
前記式（Ｉ）の連結基Ｌ1 は、複数の環状アミド構造を含むことがさらに好ましい。複数の環状アミド構造は、直結するよりも連結基を介して結合している方が好ましい。環状アミド構造とエチレン性不飽和性基との間も、直結するよりも連結基を介して結合している方が好ましい。
複数の環状アミド構造を含む重合性化合物は、下記式（III）で表されることが好ましい。
【０１８７】
（III）Ｌ3 ［−Ｃｙ｛−Ｌ8 （−Ｑ）r ｝q ］p
【０１８８】
式（III）において、Ｌ3 は、ｐ価の連結基である。ｐは、２以上の整数である。連結基の定義は、式（Ｉ）のＬ1 と同様である。
以下に、Ｌ3 の例を示す。
【０１８９】
【化１９】
2005053070.tif 000020
【０１９０】
【化２０】
2005053070.tif 000021
【０１９１】
【化２１】
2005053070.tif 000022
【０１９２】
【化２２】
2005053070.tif 000023
【０１９３】
【化２３】
2005053070.tif 000024
【０１９４】
【化２４】
2005053070.tif 000025
【０１９５】
【化２５】
2005053070.tif 000026
【０１９６】
式（III）において、Ｃｙは、ｑ＋１価の環状アミドである。ｑは、１以上の整数である。
以下に、Ｃｙの例を示す。
【０１９７】
【化２６】
2005053070.tif 000027
【０１９８】
式（III）において、Ｌ8 は、ｒ価の連結基である。ｒは、１以上の整数である。連結基の定義は、式（Ｉ）のＬ1 と同様である。
以下に、Ｌ8 の例を示す。
【０１９９】
【化２７】
2005053070.tif 000028
【０２００】
【化２８】
2005053070.tif 000029
【０２０１】
以下に、複数の環状アミド構造を含むエチレン性不飽和重合性化合物の例を示す。以下の例では、前述した式（III)におけるＬ3 、ＣｙおよびＬ8 の例示番号を引用する。Ｖｉはビニル基、ｉＰｒはイソプロペニル基で、いずれもエチレン性不飽和重合性基である。
【０２０２】
Ｍ−１：Ｌ３１［−Ｃｙ１｛−Ｌ８４−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−２：Ｌ３２［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−３：Ｌ３３［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−４：Ｌ３４［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−５：Ｌ３５［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−ｉＰｒ｝2 ］2
Ｍ−６：Ｌ３６［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−ｉＰｒ｝2 ］2
Ｍ−７：Ｌ３７［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−８：Ｌ３８［−Ｃｙ２｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−９：Ｌ３９［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−１０：Ｌ４０［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
【０２０３】
Ｍ−１１：Ｌ４１［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−ｉＰｒ｝2 ］2
Ｍ−１２：Ｌ４２［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−ｉＰｒ｝2 ］2
Ｍ−１３：Ｌ４３［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−１４：Ｌ４４［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−１５：Ｌ４５［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−１６：Ｌ４６［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−１７：Ｌ４７［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−１８：Ｌ４８［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−ｉＰｒ｝2 ］3
Ｍ−１９：Ｌ４９［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］4
Ｍ−２０：Ｌ５０［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
【０２０４】
Ｍ−２１：Ｌ５１［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−２２：Ｌ５２［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−２３：Ｌ５３［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−２４：Ｌ５４［−Ｃｙ２｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−２５：Ｌ５５［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−２６：Ｌ５６［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］3
Ｍ−２７：Ｌ５７［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−２８：Ｌ５８［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−２９：Ｌ５９［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−３０：Ｌ６０［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
【０２０５】
Ｍ−３１：Ｌ６１［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−３２：Ｌ６２［−Ｃｙ１｛−Ｌ８３−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−３３：Ｌ６３［−Ｃｙ１｛−Ｌ８２（−Ｖｉ）2 ｝2 ］2
Ｍ−３４：Ｌ６４［−Ｃｙ１｛−Ｌ９０−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−３５：Ｌ６５［−Ｃｙ１｛−Ｌ９１（−Ｖｉ）3 ｝2 ］2
Ｍ−３６：Ｌ６６［−Ｃｙ２｛−Ｌ９２（−Ｖｉ）2 ｝2 ］2
Ｍ−３７：Ｌ６７［−Ｃｙ３−Ｌ９３−Ｖｉ］2
Ｍ−３８：Ｌ６７［−Ｃｙ４−Ｌ８１−Ｖｉ］2
Ｍ−３９：Ｌ６８［−Ｃｙ１｛−Ｌ８９（−Ｖｉ）（−ｉＰｒ） ｝2 ］2
Ｍ−４０：Ｌ３９［−Ｃｙ１｛−Ｌ８４−Ｖｉ｝2 ］2
【０２０６】
Ｍ−４１：Ｌ６９［−Ｃｙ１｛−Ｌ８５−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−４２：Ｌ７０［−Ｃｙ１｛−Ｌ８２（−Ｖｉ）（−ｉＰｒ） ｝2 ］3
Ｍ−４３：Ｌ７１［−Ｃｙ１｛−Ｌ８２（−Ｖｉ）2 ｝2 ］2
Ｍ−４４：Ｌ７２［−Ｃｙ１｛−Ｌ８６−Ｖｉ｝2 ］2
Ｍ−４５：Ｌ７３［−Ｃｙ１｛−Ｌ８７（−Ｖｉ）2 ｝2 ］2
Ｍ−４６：Ｌ７４［−Ｃｙ１｛−Ｌ８７（−Ｖｉ）（−ｉＰｒ）｝2 ］2
Ｍ−４７：Ｌ７５［−Ｃｙ１｛−Ｌ８９（−ｉＰｒ）2｝2 ］2
Ｍ−４８：Ｌ７６［−Ｃｙ１｛−Ｌ８１−Ｖｉ｝2 ］3
【０２０７】
エチレン性不飽和重合性化合物は、４００以上の分子量を有することが好ましく、６００乃至３０００の分子量を有することがさらに好ましい。
二種類以上の重合性化合物を併用してもよい。
画像形成層は、エチレン性不飽和重合性化合物を５乃至８０質量％の範囲で含むことが好ましく、１０乃至７０質量％の範囲で含むことがより好ましく、１５乃至６０質量％の範囲で含むことがさらに好ましく、２０乃至５０質量％の範囲で含むことが最も好ましい。
【０２０８】
（４）ポリマーバインダー
本発明の平版印刷版用原版の画像形成層には、ポリマーバインダーが含有されていてもよい。
ポリマーバインダーは従来公知のものであれは、特に限定無く使用できる。疎水性ポリマーであっても、親水性ポリマーであってもよいが、疎水性ポリマーであることが好ましい。
バインダーポリマーの主鎖は、炭化水素（ポリオレフィン）、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエーテルおよびそれらの組み合わせから選ばれることが好ましい。炭化水素またはポリウレタンを含む主鎖がより好ましい。炭化水素主鎖からなるポリマーは、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリ（メタ）アクリルアミド、ポリ（メタ）アクリロニトリル、ポリスチレン、ポリビニルアセタールまたはそれらのコポリマーであることが好ましい。ポリビニルアセタールおよびポリウレタンが特に好ましい。
画像形成層に用いられる各種ポリマーについては、「POLYMER HANDBOOK」、FORTH EDITION、J. BRANDRUP, E. H. IMMERGUT, and E. A. GRULKE編集、JOHN WILEY & SONS, INC. に記載がある。
【０２０９】
バインダーポリマーは、酸性基を含まないことが好ましい。酸性基を含むポリマーは支持体に吸着されて、機上現像を阻害する場合がある。酸性基は、酸解離定数（ｐＫａ）が７未満の基、例えば、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＯＳＯ3Ｈ、−ＰＯ3Ｈ2、−ＯＰＯ3Ｈ2を意味する。
ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は、５０乃至３００℃が好ましく、７０乃至２５０℃がさらに好ましく、８０乃至２００℃が最も好ましい。ポリマーのガラス転移温度を高めるために、ポリマーの側鎖にアミド結合（−ＮＲＣＯ−）、イミド結合（−Ｎ＝ＣＯ−）、ウレタン結合（−ＮＲＣＯＯ−）、ウレア結合（−ＮＲＣＯＮＲ−）、スルホンアミド結合（−ＳＯ2ＮＲ−）、スルホニル結合（−ＳＯ2−）またはシアノ基（−ＣＮ）を導入できる。上記Ｒは、水素原子または炭化水素基である。ガラス転移温度を高める機能がある側鎖を有するバインダーポリマーは、特開２０００−２５０２１６号、同２００１−５１４０８号、同２００１−１０９１３８号、同２００１−２４２６１２号、同２００２−１２２９８４号、同２００２−１２２９８９号の各公報に記載がある。
【０２１０】
バインダーポリマーは、側鎖に付加重合性基を有していることが好ましい。付加重合性基は、エチレン性不飽和基であることが好ましく、エチレン性不飽和重合性化合物で説明した式（Ｉ）の−ＣＲ1 ＝ＣＲ2 Ｒ3 に相当するエチレン性不飽和基であることがさらに好ましい。エチレン性不飽和基は、ビニル（Ｒ1 ：水素原子、Ｒ2 ：水素原子、Ｒ3 ：水素原子）またはイソプロペニル（Ｒ1 ：メチル、Ｒ2 ：水素原子、Ｒ3 ：水素原子）が好ましい。ビニルはメチレン（ビニル＋メチレン＝アリル）またはカルボニル（ビニル＋カルボニル＝アクリロイル）に結合していることが好ましく、イソプロペニルはカルボニル（イソプロペニル＋カルボニル＝メタクリロイル）に結合していることが好ましい。アクリロイルまたはメタクリロイルがさらに好ましく、メタクリロイルがさらに好ましい。
【０２１１】
エチレン性不飽和基は、ポリマー１ｇ中に０．１乃至１０．０ミリモル含まれることが好ましく、１．０乃至７．０ミリモル含まれることがよりに好ましく、２．０乃至５．０ミリモル含まれることがさらに好ましい。ポリマー中のエチレン性不飽和基の含有量は、ヨウ素滴定により容易に測定できる。
側鎖に付加重合性基を有するバインダーポリマーは、特開２０００−３５２８２４号、同２００１−１０９１３９号、同２００１−１２５２６５号、同２００１−１１７２２９号、同２００１−１２５２５７号、同２００１−２２８６０８号、同２００２−６２６４８号、同２００２−１５６７５７号、同２００２−２５１００８号、同２００２−２２９２０７号、同２００２−１６２７４１号の各公報に記載がある。
【０２１２】
ポリマーの質量平均分子量は、５００乃至１００万が好ましく、１０００乃至５０万がより好ましく、２０００乃至３０万がさらに好ましく、５０００乃至２０万が最も好ましい。
バインダーポリマーは、画像形成層に５乃至８０質量％含まれていることが好ましく、１０乃至７０質量％含まれていることがより好ましく、１５乃至６０質量％含まれていることがさらに好ましく、２０乃至５０質量％含まれていることが特に好ましい。
【０２１３】
疎水性ポリマーの主鎖は、置換基を有することができる。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、メルカプト、シアノ、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−Ｏ−Ｒ、−Ｓ−Ｒ、−ＣＯ−Ｒ、−ＮＨ−Ｒ、−Ｎ（−Ｒ）2 、−Ｎ+ （−Ｒ）3 、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ、−ＣＯ−ＮＨ−Ｒ、−ＮＨ−ＣＯ−Ｒおよび−Ｐ（＝Ｏ）（−Ｏ−Ｒ）2 が含まれる。上記Ｒは、それぞれ、脂肪族基、芳香族基または複素環基である。
主鎖の複数の置換基が結合して、脂肪族環または複素環を形成してもよい。形成される環は、主鎖とスピロ結合の関係になっていてもよい。形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、上記主鎖の置換基に加えて、オキソ（＝Ｏ）が含まれる。
【０２１４】
親水性ポリマーの親水性基は、ヒドロキシルまたはポリエーテルが好ましく、ヒドロキシルがさらに好ましい。ヒドロキシルは、フェノールよりもアルコールの方が好ましい。親水性ポリマーは、ノニオン性親水性基に加えて、他の親水性基（カチオン性基、アニオン性基）を有していてもよい。
親水性ポリマーとしては、様々な天然または半合成ポリマーあるいは合成ポリマーが使用できる。
天然または半合成ポリマーとしては、多糖類（例、アラビアゴム、澱粉誘導体、カルボキシメチルセルロース、そのナトリウム塩、セルロースアセテート、アルギン酸ナトリウム）またはタンパク質（例、カゼイン、ゼラチン）を用いることができる。
【０２１５】
ヒドロキシルを親水性基として有する合成ポリマーの例には、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリヒドロキシプロピルアクリレート、ポリヒドロキシブチルメタクリレート、ポリヒドロキシブチルアクリレート、ポリアリルアルコール、ポリビニルアルコールおよびポリ−Ｎ−メチロールアクリルアミドが含まれる。
その他の親水性基（例、アミノ、エーテル結合、親水性複素環基、アミド結合、スルホ、エステル結合）を有する合成ポリマーの例には、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、ポリＮ−イソプロピルアクリルアミド、ポリＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、ポリＮ−アクリロイルモルホリン、ポリＮ−ビニルピロリドン、ポリ２−エチル−２−オキサゾリン、ポリ２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸およびその塩、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリルアミド、ポリビニルメチルエーテルが含まれる。
【０２１６】
親水性合成ポリマーの繰り返し単位を二種類以上有するコポリマーを用いてもよい。親水性合成ポリマーの繰り返し単位と、疎水性合成ポリマー（例、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン）の繰り返し単位とを含むコポリマーを用いてもよい。コポリマーの例には、ビニルアルコール−酢酸ビニルコポリマー（ポリ酢酸ビニルの部分ケン化ポリマー）が含まれる。ポリ酢酸ビニルの部分ケン化により、ビニルアルコール−酢酸ビニルコポリマーを合成する場合は、ケン化度は６０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。
二種類以上のポリマーバインダーを併用してもよい。
ポリマーバインダーは、画像形成層に５乃至９０質量％含まれていることが好ましく、３０乃至８０質量％含まれていることがさらに好ましい。
【０２１７】
［画像形成層の他の任意成分］
画像形成層には、画像形成後の画像部と非画像部との区別を目的として、着色剤を添加することができる。着色剤としては、可視領域に大きな吸収を有する染料または顔料を用いる。着色剤の例には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）およびメチレンブルー（ＣＩ５２０１５）が含まれる。着色剤として用いられる染料については、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載がある。酸化チタンのような無機顔料も着色剤として用いることができる。
着色剤の添加量は、画像形成層の０．０１乃至１０質量％であることが好ましい。
【０２１８】
画像形成層に無機微粒子を添加してもよい。微粒子を構成する無機化合物は、酸化物（例、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、二酸化チタン）または金属塩（例、炭酸マグネシウム、アルギン酸カルシウム）が好ましい。
無機微粒子の平均粒径は、５ｎｍ乃至１０μｍが好ましく、１０ｎｍ乃至１μｍがさらに好ましい。
無機微粒子は、画像形成層に１．０乃至７０質量％含まれることが好ましく、５．０乃至５０質量％含まれることがさらに好ましい。
【０２１９】
画像形成層には、ノニオン界面活性剤（特開昭６２−２５１７４０号、特開平３−２０８５１４号の各公報記載）、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤（特開平２−１９５３５６号公報記載）、両性界面活性剤（特開昭５９−１２１０４４号、特開平４−１３１４９号の各公報記載）または含フッ素界面活性剤を添加することができる。その中でも、ノニオン界面活性剤およびアニオン界面活性剤が好ましい。機上現像には、アニオン界面活性剤の使用が特に好ましい。
界面活性剤は、画像形成層に０．０５乃至１５質量％含まれることが好ましく、０．１乃至５質量％含まれることがさらに好ましい。
【０２２０】
画像形成層に柔軟性を付与するため、可塑剤を添加してもよい。可塑剤の例には、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチルおよびオレイン酸テトラヒドロフルフリルが含まれる。
可塑剤の画像形成層への添加量は、０．１乃至５０質量％であることが好ましく、１乃至３０質量％であることがさらに好ましい。
【０２２１】
本発明においては、上記の構成成分を画像形成層に含有させる方法として、いくつかの態様を用いることができる。一つは、例えば、特開２００２−２８７３３４号公報に記載のごとく、該構成成分を適当な溶媒に溶解して塗布する分子分散型（均一）画像形成層である。もう一つの態様は、例えば、特開２００１−２７７７４０号公報、特開２００１−２７７７４２号公報に記載のごとく、該構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させて画像形成層に含有させるマイクロカプセル型画像形成層である。さらに。マイクロカプセル型画像形成層において、該構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。ここで、マイクロカプセル型画像形成層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。
【０２２２】
上記の構成成分をマイクロカプセル化する方法としては、公知の方法が適用できる。例えばマイクロカプセルの製造方法としては、米国特許第２８００４５７号、同第２８００４５８号明細書にみられるコアセルベーションを利用した方法、米国特許第３２８７１５４号の各明細書、特公昭３８−１９５７４号、同４２−４４６号の各公報にみられる界面重合法による方法、米国特許第３４１８２５０号、同第３６６０３０４号明細書にみられるポリマーの析出による方法、米国特許第３７９６６６９号明細書に見られるイソシアナートポリオール壁材料を用いる方法、米国特許第３９１４５１１号明細書に見られるイソシアナート壁材料を用いる方法、米国特許第４００１１４０号、同第４０８７３７６号、同第４０８９８０２号の各明細書にみられる尿素−ホルムアルデヒド系又は尿素ホルムアルデヒド−レゾルシノール系壁形成材料を用いる方法、米国特許第４０２５４４５号明細書にみられるメラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ヒドロキシセルロース等の壁材を用いる方法、特公昭３６−９１６３号、同５１−９０７９号の各公報にみられるモノマー重合によるｉｎ  ｓｉｔｕ法、英国特許第９３０４２２号、米国特許第３１１１４０７号明細書にみられるスプレードライング法、英国特許第９５２８０７号、同第９６７０７４号の各明細書にみられる電解分散冷却法などがあるが、これらに限定されるものではない。
【０２２３】
本発明に用いられる好ましいマイクロカプセル壁は、３次元架橋を有し、溶剤によって膨潤する性質を有するものである。このような観点から、マイクロカプセルの壁材は、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミド、及びこれらの混合物が好ましく、特に、ポリウレア及びポリウレタンが好ましい。また、マイクロカプセル壁に、上記バインダーポリマーに導入可能なエチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を有する化合物を導入しても良い。
上記のマイクロカプセルの平均粒径は、０．０１〜３．０μｍが好ましい。０．０５〜２．０μｍがさらに好ましく、０．１０〜１．０μｍが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。
【０２２４】
画像形成層は、マイクロカプセルを含む各成分を適当な液状媒体中に溶解、分散または乳化して塗布液を調製し、前述のアルミニウム支持体上に塗布し、および乾燥して液状媒体を除去することにより形成することができる。塗布液に使用する液状媒体の例には、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエンおよび水が含まれる。二種類以上の液体を混合して用いてもよい。
塗布液の全固形分濃度は、０．１乃至５０質量％であることが好ましい。
画像形成層の乾燥塗布量は、０．５乃至５．０ｇ／ｍ2 であることが好ましい。
【０２２５】
また、本発明においては以上の基本成分の他に画像形成性組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ―ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ―ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、平版印刷用原版とする場合、支持体等への塗布後の乾燥の過程でその画像形成層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５質量％〜約１０質量％が好ましい。
【０２２６】
［中間層］
また、本発明の印刷方法に用いられる平版印刷版用原版は、その支持体と画像形成層との間に、支持体と画像形成層との密着性等を高める目的で中間層を設けても良い。
この中間層としては特に限定されないが、特開２００１−１７５００１号、特開２００２−３１２０６８号、特開２００２−３２３７７０号の各公報に記載のもの等が挙げられる。
【０２２７】
［水溶性オーバーコート層］
親油性物質による画像形成層表面の汚染防止のため、画像形成層の上に、水溶性オーバーコート層を設けることができる。
水溶性オーバーコート層は、印刷時に容易に除去できる材料から構成する。そのためには、水溶性の有機ポリマーから水溶性オーバーコート層を構成することが好ましい。水溶性の有機ポリマーの例には、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリメタクリル酸、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、ポリアクリルアミド、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸、そのアルカリ金属塩もしくはアミン塩、アラビアガム、セルロースエーテル（例、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、メチルセルロース）、デキストリンおよびその誘導体（例、ホワイトデキストリン、酵素分解エーテル化デキストリンプルラン）が含まれる。
【０２２８】
水溶性の有機ポリマーの繰り返し単位を二種類以上有するコポリマーを用いてもよい。コポリマーの例には、ビニルアルコール−酢酸ビニルコポリマー（ポリ酢酸ビニルの部分ケン化ポリマー）およびビニルメチルエーテル−無水マレイン酸コポリマーが含まれる。ポリ酢酸ビニルの部分ケン化により、ビニルアルコール−酢酸ビニルコポリマーを合成する場合は、ケン化度は６５質量％以上であることが好ましい。
二種類以上の水溶性有機ポリマーを併用してもよい。
【０２２９】
オーバーコート層に、前記の７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料を添加してもよい。オーバーコート層に添加する７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料は、水溶性であることが好ましい。
オーバーコート層の塗布液には、ノニオン界面活性剤（例、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンドデシルエーテル）を添加することができる。
また、７００〜１２００ｎｍの波長を有するレーザーの透過性に優れ、かつ露光に係わらない波長の光を効率良く吸収しうる、着色剤（例、水溶性染料）を添加し、感度低下を起こすことなく、セーフライト適性を高めることができる。
オーバーコート層（保護層）については、米国特許第３４５８３１１号明細書および特開昭５５−４９７２９号公報に記載がある。
オーバーコート層の塗布量は、０．０１乃至３．０ｇ／ｍ2であることが好ましい。０．０５乃至２．５ｇ／ｍ2であることがより好ましく、０．１乃至２．０ｇ／ｍ2であることがさらに好ましく、０．２乃至１．５ｇ／ｍ2であることがさらにまた好ましく、０．２５乃至１．０ｇ／ｍ2であることが最も好ましい。
【０２３０】
［画像露光工程］
平版印刷版用原版は、７００〜１２００ｎｍの波長を有するレーザーを用い、オリジナルのデータ（通常はデジタルデータ）に対応させた走査露光によって画像露光される。７００〜１２００ｎｍの波長を有するレーザーとしては、固体高出力赤外線レーザー（例えば、半導体レーザー、ＹＡＧレーザー）が好ましい。画像形成機構としては、７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料を含む画像形成層への７００〜１２００ｎｍの波長を有するレーザー露光によって、光熱変換が起こり、発生した熱でカルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩が分解、活性種（ラジカル）を発生、この活性種によってエチレン性不飽和重合性化合物の重合が起こり、インクおよび湿し水で除去不能な画像部が形成すると考えられる（いわゆるヒートモード）。しかし、７００〜１２００ｎｍに極大吸収を有する染料または顔料からカルボン酸イオンとオニウムイオンとの塩への電子移動やエネルギー移動による活性種の発生、いわゆるフォトンモード、さらにヒートモードとフォトンモードの混在であっても構わない。
【０２３１】
［製版工程および印刷工程］
画像状に加熱した平版印刷版用原版は、直ちに印刷機に装着し、インクと湿し水を用いて通常の手順で印刷するだけで、製版と印刷を連続して実施できる。すなわち、平版印刷版用原版を印刷機に装着した状態で、印刷機を稼動させると、湿し水、インク、または擦りにより非加熱部分（非画像部）の画像形成層を除去することができる。
【０２３２】
なお、レーザー露光装置を有する印刷機（特許２９３８３９８号公報記載）を用いると、平版印刷版用原版を印刷機シリンダー上に取りつけた後に、印刷機に搭載されたレーザーにより露光し、その後に湿し水又はインクをつけて機上現像する（露光〜印刷を連続して処理する）ことも可能である。
また、製版した印刷版をさらに全面加熱して、画像部に残存する未反応の熱反応性化合物を反応させ、印刷版の強度（耐刷性）をさらに改善することもできる。
【実施例】
【０２３３】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２３４】
下記表１に示す組成Ａ〜組成Ｅの合金成分を含有する５種類のアルミニウム合金溶湯から本発明の実施例、比較例に使用するアルミニウム板を作製した。該アルミニウム板の製造は以下の通りである。まず、アルミニウム合金溶湯に、脱ガスおよび濾過からなる溶湯処理を施し、ＤＣ鋳造法で厚さ５００ｍｍの鋳塊を作製した。該鋳塊表面を１０ｍｍに面削した後、鋳塊を加熱し、均熱化処理を行わずに４００℃で熱間圧延を開始し、板厚４ｍｍになるまで圧延した。つぎに冷間圧延で厚み１．５ｍｍにし、中間焼鈍を行った後、再度冷間圧延で０．２４ｍｍに仕上げ、平面性を矯正した後、本発明の実施例および比較例用のアルミニウム板を作製した。
組成Ａ〜Ｄは、Ａｌ純度と全ての不純物元素が所定範囲内であり、本発明に好ましい範囲内である。また、組成ＥはＡｌ純度とＦｅ，Ｓｉ，Ｍｎ，Ｍｇ，Ｚｎの５種の不純物元素が所定範囲内の組成であり、本発明に好ましい範囲内である。
【０２３５】
【表１】
2005053070.tif 000030
【０２３６】
表１のＡ〜Ｅに示す組成のアルミニウム板を用いて、それぞれ下記に示す（１）〜（６）の手順で各処理をおこない、平版印刷版用アルミニウム支持体Ａ〜Ｅを製造した。また、各表面処理および水洗の後にはニップローラで液切りを行い、水洗は、スプレー管から水を吹き付けて行った。
【０２３７】
（１）機械的粗面化処理
比重１．１２の珪砂（研磨剤、平均粒径２５μｍ）と水との懸濁液を研磨スラリー液として、スプレー管によってアルミニウム板の表面に供給しながら、ナイロンブラシが回転するブラシローラを用いて機械的な粗面化を行った。
使用したナイロンブラシの材質はナイロン−６，１０であり、毛長５０ｍｍ、毛の直径は０．２９５ｍｍであった。上記ナイロンブラシはΦ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛されたものである。
また、上記ブラシローラには、ナイロンブラシが３本使用されており、ブラシ下部に備えられた２本の支持ローラ（Φ２００ｍｍ）間の距離は３００ｍｍであった。
【０２３８】
上記ブラシローラは、ブラシを回転させる駆動モータの負荷を、ナイロンブラシがアルミニウム板に押さえつけられる前の負荷に対して管理し、粗面化後のアルミニウム板の平均表面粗さ（Ｒａ）が０．４５μｍになるように押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。その後、アルミニウム板を水洗した。
また、研磨剤の濃度は、予め研磨剤濃度と温度と比重との関係から作成したテーブルを参照し、温度および比重から研磨剤濃度を求め、フィードバック制御によって水と研磨剤とを添加し、上記研磨剤の濃度を一定に保った。また、研磨剤が粉砕して粒度が小さくなると粗面化されたアルミニウム板の表面形状が変化するので、サイクロンによって粒度の小さな研磨剤は系外に逐次排出した。研磨剤の粒径は１〜３５μｍの範囲であった。
【０２３９】
（２）アルカリ水溶液中でのエッチング処理：
ＮａＯＨを２７質量％およびアルミニウムイオンを６．５質量％含有する、液温７０℃の水溶液をスプレー管によってアルミニウム板に吹きつけて、該アルミニウム板のアルカリエッチング処理を行った。アルミニウム板の、後に電気化学的粗面化処理を行う側面の溶解量は８ｇ／ｍ2であり、その裏面の溶解量は２ｇ／ｍ2であった。
上記アルカリエッチング処理に用いたエッチング液の濃度は、予めＮａＯＨ濃度と、アルミニウムイオン濃度と、温度と、比重と、液の導電率と、の関係から作成したテーブルを参照し、温度、比重、および導電率からエッチング液濃度を求め、フィードバック制御によって水と４８質量％ＮａＯＨ水溶液とを添加し、エッチング液の濃度を一定に保った。その後、水洗処理を行った。
【０２４０】
（３）デスマット処理：
つぎに液温３５℃の硝酸水溶液をスプレーを用いてアルミニウム板に吹き付けて、１０秒間デスマット処理を行った。このデスマットに用いる硝酸水溶液は、次の工程で用いる電解装置からのオーバーフロー廃液を使用した。ついで、デスマット処理液を吹き付けるスプレー管を数カ所設置して、次の工程までアルミニウム板の表面が乾かないようにした。
【０２４１】
（４）硝酸水溶液中での電気化学的粗面化処理：
図１に示した台形波の交流電流と図２に示した電解装置を２槽用いて連続的に電気化学的粗面化処理を行った。酸性水溶液としては、硝酸１質量％の硝酸水溶液（アルミニウムイオン０．５質量％、アンモニウムイオン０．００７質量％を含む）を用い、液温は５０℃であった。また、交流電流は、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ｔｐ及びｔｐ’が１ｍｓｅｃであり、カーボン電極を対極とした。交流電流のピーク時の電流密度は、アルミニウム板が陽極時および陰極時ともに５０Ａ／ｄｍ2であった。さらに、交流電流の陽極時電気量（ＱA）と陰極時電気量（ＱC）との比（ＱC／ＱA）、ｄｕｔｙ、周波数および陽極時の電気量の総和は下記表２に示す通りであった。その後、スプレーによって水洗を行った。
【０２４２】
【表２】
2005053070.tif 000031
【０２４３】
硝酸水溶液の濃度コントロールは、６７質量％の硝酸原液と水とを、通電量に比例して添加し、硝酸と水との添加容積と同量の酸性水溶液（硝酸水溶液）を逐次電解装置からオーバーフローさせて電解装置系外に排出して行った。また、これとともに、予め硝酸濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と液の導電率と液の超音波伝搬速度との関係から作成したテーブルを参照し、硝酸水溶液の温度、導電率、超音波伝搬速度から該硝酸水溶液の濃度を求め、硝酸原液と水との添加量を逐次調整する制御を行って濃度を一定に保った。
【０２４４】
（５）アルカリ水溶液中でのエッチング処理：
ＮａＯＨを２６質量％、アルミニウムイオンを６．５質量％含有する液温４５℃の水溶液を、アルミニウム板にスプレーを用いて吹き付け、アルミニウム板のアルカリエッチング処理を行った。アルミニウム板の溶解量は１ｇ／ｍ2であった。上記エッチング液の濃度は予めＮａＯＨ濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と比重と液の導電率との関係から作成したテーブルを参照し、温度、比重および導電率からエッチング液濃度を求め、フィードバック制御によって水と４８質量％ＮａＯＨ水溶液とを添加して、一定に保った。その後、水洗処理を行った。
【０２４５】
（６）酸性水溶液中でのエッチング処理：
つぎに、硫酸３００ｇ／ｌ、アルミイオン濃度１５ｇ／ｌの酸性エッチング液を用いて、これをスプレー管からアルミニウム板に８０℃、８秒間吹付けて、酸性エッチング処理を行った。酸性エッチング液の濃度は、予め硫酸濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と比重と液の導電率との関係から作成したテーブルを参照して、温度、比重および導電率から酸性エッチング液濃度を求め、フィードバック制御によって水と５０質量％硫酸とを添加して、一定に保った。その後、水洗処理を行った。
【０２４６】
次に、粗面化されたアルミニウム支持体Ａ〜Ｅのそれぞれに対して以下の陽極酸化処理を施すことにより、平版印刷版用アルミニウム支持体（Ｉ）〜（Ｖ）を作製した。
（７）陽極酸化処理：
硫酸濃度１７０ｇ／ｌの水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）を陽極酸化溶液として用いて、直流電圧を用い、電流密度２Ａ／ｄｍ2、温度４３℃、６分で陽極酸化処理を行った。陽極酸化処理液の濃度は、予め硫酸濃度とアルミニウムイオン濃度と温度と比重と液の導電率との関係から作成したテーブルを参照して、温度、比重および導電率から液濃度を求め、フィードバック制御によって水と５０質量％硫酸とを添加して、一定に保った。その後、スプレーによって水洗を行い、硫酸１７０ｇ／ｌ、５０℃、に１分間浸漬処理を行い、水洗を行った。次に、３号珪酸ソーダ２．５％水溶液にて７０℃、１０秒間処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行い、平版印刷版用アルミニウム支持体（Ｉ）〜（Ｖ）を作製した。
【０２４７】
支持体の製造例６
機械的な粗面な処理を除いた他は実施例１と同様にして平版印刷版用アルミニウム支持体（ＶＩ）を作製した。
【０２４８】
支持体の製造例７
粗面化したアルミニウム支持体（ＶＩ）を硫酸濃度１７０ｇ／ｌ（アルミニウムイオン０．５％を含む）、温度４０℃、３０Ａ／ｄｍ2、２０秒にて陽極酸化し、水洗してから、ｐＨ１３の水酸化ナトリウム水溶液に３０℃、４５秒浸漬し、水洗した後、ＮａＦ０．１％／ＮａＨ2ＰＯ4  １０％の混合水溶液に１００℃、１分間浸漬処理、水洗した。次に、３号珪酸ソーダ２．５％水溶液にて７０℃、１０秒間処理を行い、平版印刷版用アルミニウム支持体（ＶＩＩ）を作製した。
【０２４９】
支持体の製造例８
粗面化したアルミニウム支持体（ＶＩ）をシュウ酸５０ｇ／Ｌ、温度３０℃、電流密度１２Ａ／ｄｍ2、電解時間２分間、陽極酸化処理し、水洗してから、ｐＨ１３の水酸化ナトリウム水溶液の浸漬処理を５０℃、３０秒間浸漬処理し、水洗し、次に、３号珪酸ソーダ２．５％水溶液にて７０℃、１０秒間処理を行い、平版印刷版用アルミニウム支持体（ＶＩＩＩ）を作製した。
【０２５０】
比較用支持体の製造例１
粗面化したアルミニウム支持体（Ｉ）を硫酸１００ｇ／ｌ、電流密度２０Ａ／ｄｍ2、３０秒間陽極酸化処理し、水洗した。次に、３号珪酸ソーダ２．５％水溶液にて７０℃、１０秒間処理を行い、水洗し、平版印刷版用アルミニウム支持体（ｉ）を作製した。
比較用支持体の製造例２
粗面化したアルミニウム支持体（Ｉ）をシュウ酸５０ｇ／Ｌ、温度３０℃、電流密度１２Ａ／ｄｍ2、電解時間２分間、陽極酸化処理し、水洗してから、ｐＨ１３の水酸化ナトリウム水溶液の浸漬処理を５０℃、６０間浸漬処理し、水洗し、次に、３号珪酸ソーダ２．５％水溶液にて７０℃、１０秒間処理を行い、平版印刷版用アルミニウム支持体（ｉｉ）を作製した。
比較用支持体の製造例３
陽極酸化後の浸漬処理時間を４分とした以外は、アルミニウム支持体（Ｉ）と同様に、比較例３の平版印刷版用アルミニウム支持体（ｉｉｉ）を作製した。
【０２５１】
＜空隙率の測定＞
陽極酸化皮膜の空隙率は下記（Ａ）式により求めた。
【０２５２】
空隙率（％）＝〔１−（酸化皮膜密度／３．９８）〕×１００      （Ａ）式
【０２５３】
ここで、酸化皮膜密度（ｇ／ｃｍ3）は［単位面積あたりの酸化皮膜重量／酸化皮膜膜厚］より求めた。なお、３．９８は化学便覧による酸化アルミニウムの密度（ｇ／ｃｍ3）である。
単位面積あたりの酸化皮膜重量は、陽極酸化処理した基板を所定の大きさに切断し、クロム酸／リン酸からなるメイソン液にて溶解し、減少分より算出した。また、膜厚は陽極酸化皮膜の破断面を日本電子製走査型顕微鏡Ｔ２０にて１万倍にて観察し、５０箇所を実測して平均膜厚を算出した。結果を表３に併記する。
【０２５４】
＜表面ポア径の測定＞
陽極酸化皮膜の表面に露出したマイクロポアの直径（表面ポア径）を、日立製作所製走査型電子顕微鏡Ｓ−９００にて加速電圧１２ｋＶ、蒸着なしの条件にて１５万倍で観察したＳＥＭ写真から求めた。表面ポア径は無作為に選んだ５０個のポア径の平均値とした。結果を表３に併記する。
【０２５５】
得られた支持体（Ｉ）〜（ＶＩＩＩ）および比較用支持体（ｉ）〜（ｉｉｉ）の空隙率と表面ポア径を下記第３表に示す。
【０２５６】
【表３】
2005053070.tif 000032
【０２５７】
［実施例１〜８および比較例１〜３］
（画像形成層の形成）
得られた支持体（Ｉ）〜（ＶＩＩＩ）および比較用支持体（ｉ）〜（ｉｉｉ）上に、下記組成の画像形成層（１）塗布液をワイヤーバーで塗布し、１２０℃で６０秒間乾燥して画像形成層を形成した。塗布量は、１．０ｇ／ｍ2 であった。
【０２５８】
〔画像形成層（１）塗布液組成〕
下記の赤外線吸収色素（Ｄ−１）                      ２  質量部
下記の開始剤（Ｉ−１）                            １０  質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート          ５５  質量部
（ＮＫエステル  A‐DPH、新中村化学工業（株）製）
下記のバインダーポリマー（Ｂ−１）                ３７  質量部
下記フッ素系界面活性剤（Ｗ−１）                    ６  質量部
メチルエチルケトン                              ９００  質量部
【０２５９】
【化２９】
2005053070.tif 000033
【０２６０】
（平版印刷版用原版の評価）
得られた平版印刷版用原版に対し、イメージセッター（Trendsetter 3244VX、Creo社製）にてビーム強度１０．２Ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍでテストパターンを画像露光した。次に、現像処理することなく、印刷機（SPRINT S26、（株）小森コーポレーション製）のシリンダーに取り付け、市販の湿し水原液（IF-102、富士写真フイルム（株）製）の４％希釈液を湿し水として供給し、次に黒インク（Values-G（墨）、大日本インキ化学工業（株）製）を供給し、さらに紙を供給して印刷を行った。良好な印刷物が得られるようになるのに要した紙の枚数（機上現像性）と、画像が汚れやかすれを生ずることなく、印刷できた紙の枚数（耐刷性）を評価した。結果を下記第４表に示す。
【０２６１】
【表４】
2005053070.tif 000034
【０２６２】
［実施例９〜１６および比較例４〜６］
画像形成層（１）の上に、さらに下記組成の水溶性オーバーコート層（１）塗布液を、乾燥後の塗布量が０．５ｇ／ｍ2となるように塗布し、１２５℃で７５秒間乾燥した。作製した平版印刷版用原版を、実施例１〜８および比較例１〜３と同様に画像露光および評価した。結果を第５表に示す。
【０２６３】
〔水溶性オーバーコート層（１）塗布液組成〕
ポリビニルアルコール                                ９５  質量部
（ケン化度：９８モル％、重合度：５００）
ポリビニルピロリドン／酢酸ビニル共重合体              ４  質量部
（Luvitec VA 64W、BASF社製）
ノニオン界面活性剤                                    １  質量部
（EMALEX710、日本エマルション（株）製）
純水                                            ３０００  質量部
【０２６４】
【表５】
2005053070.tif 000035
【０２６５】
［実施例１７〜２４および比較例７〜９］
実施例１〜８および比較例１〜３で用いた画像形成層（１）塗布液に代えて、下記組成の画像形成層（２）塗布液をワイヤーバーで塗布し、１００℃で６０秒間乾燥して塗布量を０．７ｇ／ｍ2 とした。作製した平版印刷版用原版を、実施例１〜８および比較例１〜３と同様に画像露光および評価した。結果を第６表に示す。
【０２６６】
〔画像形成層（２）塗布液組成〕
下記の赤外線吸収色素（Ｄ−２）                          ７  質量部
下記の開始剤（Ｉ−２）                                １５  質量部
下記の重合性化合物（Ｍ−１）                          ５５  質量部
ポリビニルアセタール樹脂（エレックスＢ                ２７  質量部
ＢＭ−Ｓ、積水化学工業（株）製）
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム                    ６  質量部
（ネオペレックスＧ−２５、花王（株）製）
メチルエチルケトン                                  ９００  質量部
【０２６７】
【化３０】
2005053070.tif 000036
【０２６８】
［比較例１０〜１７］
実施例１７〜２４で用いた画像形成層（２）塗布液に代えて、下記組成の比較画像形成層（１）塗布液を用いた以外は、実施例１７〜２４および比較例７〜９と同様にして画像露光および評価した。結果を第６表に示す。
【０２６９】
〔比較画像形成層（１）塗布液組成〕
上記の赤外線吸収色素（Ｄ−２）                          ７  質量部
下記の開始剤（ＩＲ−１）                              １５  質量部
上記の重合性化合物（Ｍ−１）                          ５５  質量部
ポリビニルアセタール樹脂（エレックスＢ                ２７  質量部
ＢＭ−Ｓ、積水化学工業（株）製）
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム                    ６  質量部
（ネオペレックスＧ−２５、花王（株）製）
メチルエチルケトン                                  ９００  質量部
【０２７０】
【化３１】
2005053070.tif 000037
【０２７１】
【表６】
2005053070.tif 000038
【０２７２】
［実施例２５〜３２および比較例１８〜２０］
実施例１〜８および比較例１〜３で用いた画像形成層（１）塗布液に代えて、下記組成の画像形成層（３）塗布液をワイヤーバーで塗布し、１００℃で６０秒間乾燥して塗布量を１．２ｇ／ｍ2 とした。作製した平版印刷版用原版を、実施例１〜８および比較例１〜３と同様に画像露光および評価した。結果を第７表に示す。
【０２７３】
〔画像形成層（３）塗布液組成〕
画像形成層（１）で用いた赤外線吸収色素（Ｄ−１）        ２  質量部
画像形成層（１）で用いた開始剤（Ｉ−１）              １０  質量部
下記の重合性化合物（Ｍ−２）                          ４６  質量部
下式のバインダーポリマー（Ｂ−２）                    ４６  質量部
画像形成層（１）で用いたフッ素系界面活性剤（Ｗ−１）    ６  質量部
メチルエチルケトン                                  ９００  質量部
【０２７４】
【化３２】
2005053070.tif 000039
【０２７５】
【表７】
2005053070.tif 000040
【０２７６】
［実施例３３〜４０および比較例２１〜２３］
実施例１〜８および比較例１〜３で用いた画像形成層（１）塗布液に代えて、下記組成の画像形成層（４）塗布液をワイヤーバーで塗布し、１００℃で６０秒間乾燥して塗布量を０．７ｇ／ｍ2 とした。作製した平版印刷版用原版を、実施例１〜８および比較例１〜３と同様に画像露光および評価した。結果を第８表に示す。
【０２７７】
〔画像形成層（４）塗布液組成〕
画像形成層（１）で用いた赤外線吸収色素（Ｄ−１）        ５  質量部
画像形成層（１）で用いた開始剤（Ｉ−１）              １０  質量部
下記の重合性化合物（Ｍ−３）                          ５０  質量部
下式のバインダーポリマー（Ｂ−３）                    ４２  質量部
画像形成層（１）で用いたフッ素系界面活性剤（Ｗ−１）    ３  質量部
メチルエチルケトン                                  ９００  質量部
【０２７８】
【化３３】
2005053070.tif 000041
【０２７９】
【表８】
2005053070.tif 000042
【０２８０】
［実施例４１〜４８および比較例２４〜２６］
（マイクロカプセル分散液の調製）
酢酸エチル１７．７質量部に、トリメチロールプロパンとキシリレンジイソシアナートの１：３（モル比）付加物（タケネートＤ−１１０Ｎ、三井武田ケミカル（株）製、２５質量％の酢酸エチル含有）６質量部、画像形成層（２）で用いた重合性化合物（Ｍ−２）７．５質量部、下記の赤外線吸収色素（Ｄ−３）１．５質量部およびアニオン系界面活性剤（パイオニンＰ−Ａ４１Ｃ、竹本油脂（株）製）０．１質量部を溶解して油相を得た。
別に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製）の４質量％水溶液３７．５質量部を調製して水相とした。油相と水相とを混合し、ホモジナイザーを用いて、水冷下１２０００ｒｐｍにて１０分間乳化した。乳化物に水２４．５質量部を加え、室温で３０分、さらに４０℃で３時間攪拌し、マイクロカプセル分散液を調製した。分散液の固形分濃度は２０．０質量％、マイクロカプセルの平均粒径は０．３６μｍであった。
【０２８１】
【化３４】
2005053070.tif 000043
【０２８２】
（平版印刷版用原版の作製）
水１０５質量部、調製したマイクロカプセル分散液４５質量部、画像形成層（１）で用いた開始剤（Ｉ−１）１質量部およびフッ素系界面活性剤（メガファック  Ｆ−１７１、大日本インキ化学工業（株）製）０．１質量部を混合して、画像形成層（５）塗布液を調製した。画像形成層（５）塗布液を、実施例１〜８および比較例１〜３で用いたアルミニウム支持体上に塗布し、オーブンを用いて７０℃で９０秒乾燥し、画像形成層（５）を形成した。乾燥後の画像形成層の塗布量は、いずれも１．０ｇ／ｍ2 であった。このようにして、平版印刷版用原版を製造した。
（製版、印刷および評価）
作製した平版印刷版用原版を実施例１〜８および比較例１〜３と同様に画像露光および評価した。結果を第９表に示す。
【０２８３】
［比較例２７〜３４］
実施例４１〜４８で用いた画像形成層（５）塗布液に代えて、画像形成層（５）塗布液の開始剤（Ｉ−１）を下記（ＩＲ−２）に変更して調整した比較画像形成層（２）塗布液を用いた以外は、実施例４１〜４８および比較例２４〜２６と同様にして画像露光および評価した。結果を第９表に示す。
【０２８４】
【化３５】
2005053070.tif 000044
【０２８５】
【表９】
2005053070.tif 000045
【０２８６】
［実施例４９〜５６および比較例３５〜３７］
（マイクロカプセル分散液の調製）
酢酸エチル１７質量部に、トリメチロールプロパンとキシリレンジイソシアナートの１：３（モル比）付加物（タケネートＤ−１１０Ｎ、三井武田ケミカル（株）製、２５質量％の酢酸エチル含有）１０質量部、画像形成層（３）で用いた重合性化合物（Ｍ−３）３．１５質量部、下記の赤外線吸収色素（Ｄ−４）０．３５質量部、３−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−６−メチル−７−アニリノフルオラン（ＯＤＢ、山本化成（株）製）１質量部およびアニオン系界面活性剤（パイオニンＰ−Ａ４１Ｃ、竹本油脂（株）製）０．１質量部を溶解して油相を得た。
別に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製）の４質量％水溶液４０質量部を調製して水相とした。
油相と水相とを混合し、ホモジナイザーを用いて、水冷下１２０００ｒｐｍにて１０分間乳化した。乳化物に水２５質量部を加え、室温で３０分、さらに４０℃で３時間攪拌し、マイクロカプセル分散液を調製した。分散液の固形分濃度は１９．８質量％、マイクロカプセルの平均粒径は０．３０μｍであった。
【０２８７】
【化３６】
2005053070.tif 000046
【０２８８】
（平版印刷版用原版の作製）
水１００質量部、調製したマイクロカプセル分散液２５質量部、画像形成層（１）で用いた開始剤（Ｉ−１）０．５質量部および画像形成層（１）で用いたフッ素系界面活性剤（Ｗ−１）０．２質量部を混合して、画像形成層（６）塗布液を調製した。画像形成層（６）塗布液を、実施例１〜８および比較例１〜３で用いたアルミニウム支持体上に塗布し、オーブンを用いて７０℃で６０秒乾燥し、画像形成層（６）を形成した。乾燥後の画像形成層の塗布量は、１．２ｇ／ｍ2 であった。このようにして、平版印刷版用原版を製造した。
（製版、印刷および評価）
作製した平版印刷版用原版を実施例１〜８および比較例１〜３と同様に画像露光および評価した。結果を第１０表に示す。
【０２８９】
【表１０】
2005053070.tif 000047
【図面の簡単な説明】
【０２９０】
【図１】電気化学的粗面化処理工程に用いることのできる交流電流の台形波を示す図である。
【図２】ラジアル型電解装置の概略図である。
【符号の説明】
【０２９１】
１１  アルミニウム板
１２  ラジアルドラムローラ
１３ａ，１３ｂ  主極
１４  酸性水溶液
１５  酸性水溶液供給口
１６  スリット
１７  酸性水溶液スリット
１８  補助陽極
１９ａ，１９ｂ  サイリスタ
２０  交流電源
４０  主電解槽
５０  補助陽極槽
【図１】
2005053070.tif 000048
【図２】
2005053070.tif 000049