(57)【要約】      （修正有）【課題】捕集した溶剤を自動的に除去することが出来て連続的に稼働することが出来る減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法を提供するとともに、捕集した液体を自動的に除去することが出来る捕集装置を提供すること。【解決手段】ウエハＷの減圧乾燥処理中に塗布膜から揮発した溶剤蒸気を、排気路５の途中に設けた捕集部材３１により液化して捕集し、その後この捕集部材３１を排液室３２側に移動し、捕集部材３１を回動させて溶剤の液滴を振り切るとともに、吸引路４５から吸引排出する。これらの処理は自動的に連続して行われる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布成分を溶剤に溶解した塗布液が表面に塗布された基板を減圧雰囲気下で乾燥させるための密閉容器と、この密閉容器に接続され、減圧排気手段により排気するための排気路と、を備えた減圧乾燥装置において、
前記排気路中を流れる溶剤蒸気を冷却して捕集するための捕集部材と、
前記排気路に臨むように設けられ、捕集部材に捕集された溶剤を離脱させるための排液室と、
前記捕集部材を冷却するための冷却手段と、
前記捕集部材から離脱した溶剤を外部に排出するために前記排液室内を吸引する吸引手段と、
減圧乾燥中は排気路中に位置するように、また捕集した溶剤を排液するときには排液室内に位置するように前記捕集部材を排気路中と排液室内との間で移動させるための駆動手段と、を備えたことを特徴とする減圧乾燥装置。
【請求項２】
捕集部材は、排気路における排気方向に沿って配置されたプレートを複数枚互いに間隔を開けて積層されて構成されたことを特徴とする請求項１に記載の減圧乾燥装置。
【請求項３】
排液室内を冷却する冷却手段を更に設けたことを特徴とする請求項１または２に記載の減圧乾燥装置。
【請求項４】
冷却手段はペルチェ素子であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の減圧乾燥装置。
【請求項５】
捕集部材は回転自在に構成されており、排液室内にて回転することにより付着している溶剤を振り切ることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の減圧乾燥装置。
【請求項６】
捕集部材は冷却手段と着脱できるように構成されており、排液室内にて回転するときには冷却手段から切り離されることを特徴とする請求項５に記載の減圧乾燥装置。
【請求項７】
捕集部材は、駆動手段により上下方向に移動できるように構成され、排気路中に位置するときには上面に冷却手段が接触しており、排液室に移動するときには、冷却手段が排液室の排気路側を塞ぐ位置にて捕集部材から離れることを特徴とする請求項６記載の減圧乾燥装置。
【請求項８】
捕集部材と冷却手段とは電磁石により着脱できるように構成されていることを特徴とする請求項６または７に記載の記載の減圧乾燥装置。
【請求項９】
減圧乾燥容器内を大気に開放したときに排液室内を吸引手段により吸引することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の記載の減圧乾燥装置。
【請求項１０】
塗布成分を溶剤に溶解した塗布液が表面に塗布された基板を密閉容器内に搬入する工程と、
前記密閉容器内を排気路を介して減圧排気手段により減圧排気し、前記塗布液を乾燥させる工程と、
この工程中に、排気路中に位置させた捕集部材を冷却手段により冷却することにより溶剤蒸気を冷却して捕集する工程と、
その後、前記排気路に臨むように設けられた排液室に前記捕集部材を移動する工程と、
次いで捕集部材に捕集された溶剤を離脱させて外部に吸引排出する工程と、を備えたことを特徴とする減圧乾燥方法。
【請求項１１】
捕集部材は、排気路における排気方向に沿って配置されたプレートを複数枚互いに間隔を開けて積層されて構成されたことを特徴とする請求項１１に記載の減圧乾燥方法。
【請求項１２】
排液室内を冷却する冷却手段を更に設けたことを特徴とする請求項１０または１１に記載の減圧乾燥方法。
【請求項１３】
冷却手段はペルチェ素子であることを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載の減圧乾燥方法。
【請求項１４】
捕集部材に捕集された溶剤を離脱させて外部に吸引排出する工程は、捕集部材を排液室内にて回転させて当該捕集部材に付着している溶剤を振り切る工程を含むことを特徴とする請求項１０〜１３のいずれかに記載の減圧乾燥方法。
【請求項１５】
捕集部材は、回転するときには冷却手段から切り離されることを特徴とする請求項１４に記載の減圧乾燥方法。
【請求項１６】
捕集部材は、排気路と排液室との間を上下方向に移動し、排気路中に位置するときには上面に冷却手段が接触しており、排液室に移動するときには、冷却手段が排液室の排気路側を塞ぐ位置にて捕集部材から離れることを特徴とする請求項１５に記載の減圧乾燥方法。
【請求項１７】
捕集部材に捕集された溶剤を離脱させて外部に吸引排出する工程は、減圧乾燥容器内を大気に開放している間に行われることを特徴とする請求項１０〜１６のいずれかに記載の減圧乾燥方法。
【請求項１８】
排気路中に流れる気体を冷却して液化する捕集部材を備えた捕集装置において、
前記排気路に臨むように設けられ、捕集部材に捕集された液体を離脱させるための排液室と、
前記捕集部材を冷却するための冷却手段と、
前記捕集部材から離脱した液体を外部に排出するために前記排液室内を吸引する吸引手段と、
前記気体を液化して捕集するときには排気路中に位置するように、また捕集した液体を排液するときには排液室内に位置するように前記捕集部材を排気路中と排液室内との間で移動させるための駆動手段と、を備えたことを特徴とする捕集装置。
【請求項１９】
捕集部材は、排気路における排気方向に沿って配置されたプレートを複数枚互いに間隔を開けて積層されて構成されたことを特徴とする請求項１８に記載の捕集装置。
【請求項２０】
排液室内を冷却する冷却手段を更に設けたことを特徴とする請求項１８または１９に記載の捕集装置。
【請求項２１】
冷却手段はペルチェ素子であることを特徴とする請求項１８〜２０のいずれかに記載の捕集装置。
【請求項２２】
捕集部材は回転自在に構成されており、排液室内にて回転することにより付着している液体を振り切ることを特徴とする請求項１８〜２１のいずれかに記載の捕集装置。
【請求項２３】
捕集部材は冷却手段と着脱できるように構成されており、排液室内にて回転するときには冷却手段から切り離されることを特徴とする請求項２２に記載の捕集装置。
【請求項２４】
捕集部材は、駆動手段により上下方向に移動できるように構成され、排気路中に位置するときには上面に冷却手段が接触しており、排液室に移動するときには、冷却手段が排液室の排気路側を塞ぐ位置にて捕集部材から離れることを特徴とする請求項２３に記載の捕集装置。
【請求項２５】
捕集部材と冷却手段とは電磁石により着脱できるように構成されていることを特徴とする請求項２３または２４に記載の捕集装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上の塗布膜を乾燥させるための減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法並びに減圧乾燥装置などに好適な捕集装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程においては、半導体ウエハや露光マスク基板などの基板に塗布液を塗布して塗布膜を形成する工程があり、具体的にはレジスト成分を溶剤に溶解したレジスト液を塗布する工程、あるいはシリコン酸化膜などの前駆物質を溶剤にて溶解した薬液を塗布する工程などが挙げられる。そして基板上の塗布液を乾燥させる手法の一つとして、減圧乾燥装置を用いる方法があり、この減圧乾燥装置は一般に図１１に示すように構成されている。
【０００３】
図１１において、図中１００は蓋体１０２及び載置部１０３にて構成される密閉容器である。蓋体１０２の天井部には、排気管１０２ａの一端側が接続されるとともに、この排気管１０２ａの他端側には真空ポンプ１０４が接続され、密閉容器１００の内部を減圧することが出来るようになっている。このような装置において、ウエハＷを載置部１０３に載置し、図示しない温度調節手段によりウエハＷの温度を調節するとともに真空ポンプ１０４を作動させ、密閉容器１００内を減圧することでウエハＷ表面の塗布液中の溶剤が蒸発し、塗布液中の成膜成分により塗布膜が形成される。
【０００４】
しかしながら、このような減圧乾燥装置に用いられる真空ポンプにあっては、塗布液から揮発する高濃度の溶剤に曝されるため、通常の真空ポンプよりも高価な防爆仕様の真空ポンプを使用する必要があった。また、排気管１０２ａ内に溶剤が液化して付着してしまうと、後続の減圧乾燥工程において、排気管１０２ａ内の溶剤を蒸発させるために時間を費やしてしまい、スループットが低下するという不利益もある。
【０００５】
そこで、排気管１０２ａ中に溶剤を捕集する捕集装置（トラップ装置）を設けることが得策である。排気中の溶剤をトラップする装置としては、排気中の溶剤をデミスター及び冷却コイルにより除去する冷却装置（特許文献１）、あるいは水分と溶剤とを分離する分離槽などにより排気中の溶剤を回収する分離回収装置が知られている（特許文献２）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−３５６６８号公報（００４３段落〜００４６段落、図５）
【０００７】
【特許文献２】特開平２−１３５１２５号公報（２ページ４欄〜３ページ４欄）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１の発明によれば、排気管を処理室内で下方側に屈曲し、この排気管から吹き出した排気ガスを処理室の上部に設けたデミスターや冷却コイルで捕集するようになっていて、排気中の溶剤が液化するとその自重により溶剤が処理室の底部に落下して回収されるようになっている。
【０００９】
しかし、このような構成ではいわばバッファ室である広い処理室を必要とし、更にその上部に冷却コイルを設けるため、装置が大型化しかつ複雑化する欠点がある。また排気管を下方側に屈曲させ、そこからの排気が上方に引かれるため、排気路のコンダクタンスが小さくなり、排気性能が落ちるという不具合もある。
【００１０】
また、特許文献２では、溶剤や水分などが含有される排気ガスを分離回収装置内に取り込み、液化二酸化炭素を噴射させることで排気ガス中の物質を固化し、固化したものを分離回収装置内で液化して、分離槽にて水分と溶剤とを分離して溶剤を回収するようになっているが、これでは二酸化炭素で排気ガスを冷却する際に、分離回収装置の外面に空気中の水分が結露して装置の故障を招くおそれがあるばかりか、水と溶剤とを分離するには装置規模が大きくなることが多く、また溶剤中には水溶性のものも含まれる可能性があることから分解槽で溶剤と水分とを分離するだけでは完全に溶剤を分離させることが困難であり、これにより分離された水分を外部に廃棄した場合には周囲の環境負荷が大きくなってしまうおそれがある。
【００１１】
本発明は上記の課題に鑑み実施されるもので、捕集した溶剤を自動的に除去することが出来て連続的に稼働することが出来る減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法を提供することを目的とする。他の目的としては、捕集した液体を自動的に除去することが出来る捕集装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、塗布成分を溶剤に溶解した塗布液が表面に塗布された基板を減圧雰囲気下で乾燥させるための密閉容器と、この密閉容器に接続され、減圧排気手段により排気するための排気路と、を備えた減圧乾燥装置において、
前記排気路中を流れる溶剤蒸気を冷却して捕集するための捕集部材と、
前記排気路に臨むように設けられ、捕集部材に捕集された溶剤を離脱させるための排液室と、
前記捕集部材を冷却するための冷却手段と、
前記捕集部材から離脱した溶剤を外部に排出するために前記排液室内を吸引する吸引手段と、
減圧乾燥中は排気路中に位置するように、また捕集した溶剤を排液するときには排液室内に位置するように前記捕集部材を排気路中と排液室内との間で移動させるための駆動手段と、を備えたことを特徴としている。
【００１３】
また捕集部材は、排気路における排気方向に沿って配置されたプレートを複数枚互いに間隔を開けて積層されて構成されていてもよい。このようにすれば、溶剤の捕集効率が向上する。また、排液室内を冷却する冷却手段を更に設けるようにしてもよく、このようにすれば、排液室内に貯留される溶剤の揮発を防止できる。また冷却手段としてはペルチェ素子を適用するようにしてもよい。
【００１４】
また捕集部材は回転自在に構成されており、排液室内にて回転することにより付着している溶剤を振り切るようにしてもよく、このようにすれば、簡便に捕集部材に付着した溶剤の液滴を排液室内に振り切ることが出来る。捕集部材は冷却手段と着脱できるように構成されており、排液室内にて回転するときには冷却手段から切り離されるようにしてもよく、捕集部材は、駆動手段により上下方向に移動できるように構成され、排気路中に位置するときには上面に冷却手段が接触しており、排液室に移動するときには、冷却手段が排液室の排気路側を塞ぐ位置にて捕集部材から離れるようにしてもよい。このようにすれば、溶剤を捕集部材から振り切る際に捕集部材を容易に回転させることが出来るようになる。
【００１５】
また捕集部材と冷却手段とは電磁石により着脱できるように構成されるようにしてもよく、このようにすれば、捕集部材の上部のみならず下部も冷却することが可能となり、これにより溶剤の捕集効率が向上する。
【００１６】
また、減圧乾燥容器内を大気に開放したときに排液室内を吸引手段により吸引するようにしても良い。
【００１７】
他の発明としては、溶剤を減圧下で乾燥させる減圧乾燥方法において、塗布成分を溶剤に溶解した塗布液が表面に塗布された基板を密閉容器内に搬入する工程と、
前記密閉容器内を排気路を介して減圧排気手段により減圧排気し、前記塗布液を乾燥させる工程と、
この工程中に、排気路中に位置させた捕集部材を冷却手段により冷却することにより溶剤蒸気を冷却して捕集する工程と、
その後、前記排気路に臨むように設けられた排液室に前記捕集部材を移動する工程と、
次いで捕集部材に捕集された溶剤を離脱させて外部に吸引排出する工程と、を備えたことを特徴としている。
【００１８】
また、他の発明としては、排気路中に流れる気体を冷却して液化する捕集部材を備えた捕集装置において、
前記排気路に臨むように設けられ、捕集部材に捕集された液体を離脱させるための排液室と、
前記捕集部材を冷却するための冷却手段と、
前記捕集部材から離脱した液体を外部に排出するために前記排液室内を吸引する吸引手段と、
前記気体を液化して捕集するときには排気路中に位置するように、また捕集した液体を排液するときには排液室内に位置するように前記捕集部材を排気路中と排液室内との間で移動させるための駆動手段と、を備えたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、基板表面から蒸発した溶剤を排気路中にて捕集部材により捕集しているため、防爆仕様の真空ポンプを用いなくとも済む。そして、捕集部材を排液室に移動させて捕集部材から溶剤を離脱させ、離脱した溶剤を吸引排気するようにしているため、捕集した溶剤を自動的に除去することが出来、従って減圧乾燥装置を連続的に稼働させることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
まず、図１は、本発明の減圧乾燥装置の実施の形態の全体構成を示す概略図である。本発明の減圧乾燥装置は、密閉容器１と、密閉容器１から排出される排気ガスの流路としての排気管５と、排気ガス中に含まれる溶剤を捕集する排気管５の中間に設けられている捕集装置３と、密閉容器１内を減圧した状態とする真空ポンプ６とから構成されている。捕集装置３は、減圧乾燥装置に収容可能な比較的小型な装置とされている。
【００２１】
また、これらの減圧乾燥装置の動作を制御する制御部７も設けられていて、密閉容器１、捕集装置３、また、排気管５に設けられている後述する各バルブや駆動手段の動作を制御するようになっている。
【００２２】
まず、密閉容器１について図１に基づき説明すると、まず、図示しない塗布装置で塗布液が塗布された基板としてのウエハＷを載置するための載置台１０を備えている。この載置台１０には、載置されたウエハＷの温度を調節するための第１の温度調節手段１１、例えばペルチェ素子からなる冷却部が埋設されていて、載置台１０と、第１の温度調節手段１１により温調プレートが構成されている。詳しくは、ウエハＷが載置台１０の表面から僅かな空間、例えば、０．１ｍｍ程度浮いた状態で載置されるようにウエハＷの裏面側の周縁に対応する位置に基板保持用の突起部１２が設けられている。また図示しないが載置台１０にはウエハＷを密閉容器１内に搬入出する際、ウエハＷの裏面を下方向から支持して昇降するように基板支持ピンが、載置台１０を上下方向に貫通し、昇降機構により突没自在に設けられており、ウエハＷは図示しない搬送アームと基板支持ピンとの協働作用により載置台１０に載置されるように構成されている。
【００２３】
載置台１０の上方側には、蓋体１２が蓋体昇降機構１３により昇降自在に設けられている。この蓋体１２は、ウエハＷの搬入出時には上昇し、減圧乾燥を行うときには下降して、蓋体１２と載置台１０とにより密閉容器１を形成する構成となっている。蓋体昇降機構１３には、蓋体１２の上部に設けられて蓋体１２を昇降させる昇降部材１３ａと、昇降部材１３ａを動作させる昇降モータ１３ｂとから構成されており、制御部７の制御により昇降モータ１３ｂが動作することで、蓋体１２を昇降させることが出来るようになっている。また蓋体１２の天井部の中心付近には排気口１４が設けられ、この排気口１４は、排気管５を介して捕集装置３や真空ポンプ５に接続されている。
【００２４】
また載置台１０の上方側には、ウエハＷの表面と対向するように例えばウエハＷと同じかそれ以上の大きさの円形状の整流板１５が設けられている。この整流板１５はその周縁部を例えば３箇所で支持部材１７により支持されており、これら支持部材１７は載置台１０を貫通し、昇降ベース１８を介して接続された昇降手段１９により高さ調整が出来るようになっている。
【００２５】
また、前記排気管５には複数のバルブが設けられている。バルブ２１は密閉容器１の上流部に、バルブ２２は密閉容器１の下流部に、バルブ２３は捕集装置３の下流部分に夫々設けられている。密閉容器１の上流部には、パージガス供給管２４が設けられており、バルブ２１を開いて窒素ガスを密閉容器１内に充填することで密閉容器１を減圧状態から解放することができる。
【００２６】
次いで、前記捕集装置（トラップ装置）３について図２に基づき説明すると、この捕集装置３は全体の形状は略円筒形に形成された本体３ａを備え、上から見たときに互いに直径方向に対向するように流入部（流入ポート）３０及び流出部（流出ポート）４４が本体３ａの上部側部位に接続されている。密閉容器１から排気されたガスは流入部３０から本体３ａ内の上部側空間Ｓを通って流出部４４に流れ、従ってこれら流入部３０、空間Ｓ及び流出部４４は排気路の一部をなしている。また本体３ａ内の下部側空間は排液室３３２を構成しており、排液室３２は、排気路に臨む位置に設けられていることになる。更に、捕集装置３は排気ガス中から溶剤蒸気を捕集する捕集部材３１を備えている。
【００２７】
捕集部材３１は、詳しくは図３に示すように、金属製、好ましくは熱伝導性が良好なステンレススチールからなる円板状の複数枚例えば４枚の捕集板（プレート）３３と、複数枚の捕集板３３を一定間隔に串刺した状態で固定する、捕集板３３と同様にアルミニウムからなる接続棒体３４とから構成されており、接続棒体３４の下部は、捕集部材３１が上下方向に昇降したり、接続棒体３４を中心にして鉛直軸方向に回動したりすることが可能なようにモータ等を含む駆動手段３５が接続されている。本実施の形態では最上に位置する捕集板３３の大きさが最も大きくなるようになっている。これは、後述する冷却手段３６により捕集板３３が冷却される際にその冷却効率を高めて溶剤の捕集効率を高めるためである。
【００２８】
捕集板３３の上部には、捕集板３３を冷却して溶剤蒸気の捕集を促進するための冷却手段３６が、排液室３２の上方を閉じる蓋体３７の内部に設けられている。この冷却手段３６にはペルチェ素子が適用されていて、ここでは蓋体３７の下面が溶剤の沸点以下の温度であって、排気路中の部位の中で最も低い温度で冷却されるようになっている。すなわち捕集板３３を冷却して捕集される溶剤や排液室３２から排液される溶剤が液化するように冷却効率の高いペルチェ素子が適用されている。蓋体３７の側面には、数カ所例えば４箇所に凸部３８が形成されていて、この凸部３８により、後述する装置外部へ溶剤を排出する際に蓋体３７が下降して排液室３２の上部を閉じた場合に、凸部３８と排液室３２の入り口との間に生じる隙間から排液室３２内に気体が流入することが出来るようになるために、排液が促進されるようになる。
【００２９】
蓋体３７と、最上に位置する捕集板３３とは、減圧下において溶剤を捕集する際には接しており、蓋体３７に内蔵されている冷却手段３６により捕集板３３の冷却効率が上がり、これにより捕集板３３付近を通過する気化された溶剤成分は捕集板３３に付着して液化されるようになる。
【００３０】
排液室３２は、捕集部材３１が収容可能な大きさの空間に形成されるとともに、本体３ａは二重構造となっていて、その周囲空間、底部空間には、排液室３２の内方の温度を溶剤の沸点以下に冷却して、捕集された溶剤を液体の状態で保ち、排液室３２から逃がさないように、冷却手段３９としてペルチェ素子が設けられている。
【００３１】
排液室３２の底面は傾斜しており、その傾斜面の最下限部位に吸引路４５が接続されるとともに、この吸引路４５には、排液された溶剤成分を外部に排出する排出手段としてのバルブ４０とイジェクタ４１が設けられている。本実施の形態では、イジェクタ４１で排液室３２内を吸引することにより捕集板３３から離脱した溶剤を排液室３２から素早く外部に排出することが出来るようになっている。
【００３２】
また、排液室３２の側面には、乾燥ガス例えば窒素ガスを前記冷却手段３９が設けられる空間内に絶えず充填、排気するようになっている。このように、乾燥ガスを通流させる理由は、二重構造内の空間内に水分が存在すると結露して装置の故障を招くおそれがあることから、常に乾燥した窒素ガスを空間内に充填して特に冷却手段３９周辺の結露を防止するためである。
【００３３】
また、前記流入部３０の上方には、捕集装置３の外面を温める目的でヒータ４２が設けられている。、これは捕集装置３はその内方が冷却されるようになることから、捕集装置３全体の温度も低下することが考えられ、これにより、捕集装置３の外面に空気中の水分が結露して半導体製造が実施されるクリーンルーム内に水滴が垂れるといったことを避けるためである。
【００３４】
次いで、本実施の形態における減圧乾燥工程を溶剤の捕集動作を含めて図４のフローチャートと、図２及び図５とに基づき説明する。
【００３５】
まず、ステップＳ１において、蓋部１２が上昇した状態において、塗布液塗布装置などで塗布液の塗布されたウエハＷを密閉容器１内に搬入し、次いで昇降手段１９が動作して整流板１５が待機位置まで下降し、蓋体１２が下降して密閉される。
【００３６】
次いで、ステップＳ２において蓋体昇降機構１３を動作させて密閉容器１の蓋体１２を閉じる。
【００３７】
次いで、ステップＳ３においてバルブ２２、２３を開き、真空ポンプ６により密閉容器１内を減圧状態として、ウエハＷの乾燥を実施し、ウエハＷが乾燥する際に排出される排気ガス中に含まれる溶剤成分、つまり塗布液から揮発した溶剤蒸気を捕集装置３により捕集する。この時の捕集装置３の様子については、図２に示すように、排気路（上部側空間Ｓ）中に捕集部材３１が位置するように制御し、流入部３０内に流れ込む溶剤成分を、前記冷却手段３６により溶剤の沸点以下の温度まで冷却された捕集板３３で捕集するようになっている。捕集板３３は、溶剤の沸点以下の温度まで冷却されているために、捕集板３３付近を通過する溶剤成分は捕集板３３に付着して液化される。この時、捕集部材３１の最上に位置する捕集板３３の上面と、冷却手段３６が内蔵された蓋体３７の下面とが接触するようにして、捕集板３３の温度を常に溶剤が液化する温度まで下げながら溶剤の捕集を行うようになっている。
【００３８】
ウエハＷの減圧乾燥が終了すると、ステップＳ４において開放されていたバルブ２２、２３を閉じ、バルブ２１を開いて窒素ガスをパージガス供給管２４から密閉容器１内に流入させて、密閉容器１内を大気圧に復帰させる。
【００３９】
しかる後、ステップＳ５において密閉容器１の蓋体１２を上方に開放するとともに、捕集装置３１では、図５に示すように、溶剤成分を捕集した捕集部材３１を下降させて排液室３２内に収容する。この時捕集部材３１の上面に載置されていた蓋体３７が、排液室３２に受け渡されて、最上の捕集板３３の上面から切り離され、前記蓋体３７により、排液室３２の上部が略閉鎖される。
【００４０】
次いでステップＳ６においては排液室３２内のバルブ４０を開き、かつイジェクタ４１を作動させるとともに溶剤が液化された状態で捕集されている捕集部材３１を鉛直軸周りに回動させて、遠心力により溶剤を排液室３２内に振り落として離脱させる。排気管５の上流側は待機に開設されていることからイジェクタ４１の吸引動作により空気が蓋体３７と排液室３２との隙間から排液室３２内を通って吸引路４５に吸引され、排液室３２内に排液された（飛散した）溶剤の液滴は、この吸引路４５により速やかに捕集装置３（排液室３２）の外部へ排出される。このようにイジェクタ４１の吸引動作により溶剤を外部に排出することで、減圧乾燥処理全体にかかる時間が少なく済むために、他の製造工程におけるタイムロスが少なくなる。
【００４１】
その後溶剤の排液室３２からの排出が終了した時点でステップＳ７においてバルブ４０を閉じ、捕集部材３１の回動を停止して、捕集部材３１を再び排気路中まで上昇させ、次の溶剤捕集処理に備える。
【００４２】
この溶剤の捕集処理は、密閉容器１内で１枚のウエハＷの乾燥が行われる毎に連続して実施されるようになっている。これは１枚のウエハＷから排出される溶剤の量は１〜１０ｃｃ程度であるが、多量に捕集しようとすると溶剤を吸着しきれず、捕集能力の低下を招く原因ともなる。
【００４３】
上記した実施の形態においては、ウエハＷの減圧乾燥処理中に塗布膜から揮発した溶剤蒸気を、排気路の途中に設けた捕集部材３１により液化して捕集し、その後この捕集部材３１を排液室３２側に移動し、捕集部材３１を回動させて液滴を振り切るとともに、吸引路４５から吸引排出するようにしている。従って、排気ガス中に含まれる溶剤を確実に捕集装置３により捕集することができるため、防爆仕様でない通常の真空ポンプを適用することが出来る。また、捕集部材３１で捕集した溶剤を自動的に排出できるため、連続して減圧乾燥装置を稼働することが出来る。更にまたウエハＷを減圧乾燥処理するときには、それ以前の処理時の溶剤が排気路５中から除去されているので、当該ウエハＷの乾燥処理を速やかに行うことが出来る。そしてまた吸引路４５の排出側に溶剤回収装置を設ければ、工場排気が清浄化され環境負荷が低減される。
【００４４】
また複数枚のウエハＷの連続処理（減圧乾燥処理）を行う場合に、１枚のウエハＷの乾燥が終了した時点で、排液された溶剤が捕集装置３の外方に排出されるので、速やかに排液を排液室３２から排出出来ることから、ウエハＷの入れ替えの時間を利用して捕集部材３１に付着した溶剤を除去できる。
【００４５】
捕集部材３１は複数枚の円板状の捕集板３３に限らず、例えば図６に示すように、接続棒体３４の上部に漏斗状の形状（逆円錐形状）をなす捕集体４３を設けるようにしても良い。このようにすれば、捕集装置３内に排気ガスが流入した際に、捕集漏斗体４３の表面に溶剤が付着して排液されるとともに、排気ガスの一部の流れが捕集漏斗体４３に触れて水平方向な流れから下向きな流れに変向され、これにより、冷却されている排液室３２内に直接溶剤成分の含有された排気ガスが侵入するようになることから、前述した実施の形態において適用された捕集板３３を用いなくとも溶剤成分を捕集することができる。
【００４６】
さらに他の実施の形態について図７、図８に基づき説明すると、この実施の形態は、捕集部材３１に最下位側の捕集板３３にも冷却手段４６としてペルチェ素子が付着して最下位の捕集板３３も冷却する例を示すものである。
【００４７】
この冷却手段４６はリング状に形成されるとともに、上面に電磁石４７が設けられていて通電することで磁性体であるステンレススチールからなる最下位の捕集板３３の下面に吸着するようになっている。
【００４８】
ここでは、排液室３２内に捕集部材３１が下降した場合には、冷却手段３６と同様に冷却手段４６も最下位の捕集板３３から離れるようになっていて、排液室３２の傾斜している下面から突出している受け部材４８に、冷却手段４６の下面の凹部４９が嵌合して受け渡され、電磁石４７への通電が切られて、その後に捕集部材３１が、上方に若干移動して電磁石４７から離脱するようになっている。その後捕集部材３１は、駆動手段３５を駆動する事により回転し、捕集板３３に付着している溶剤の液滴を排液室３２内に振り落とした後、捕集部材３１を冷却手段４６の上面と最下位の捕集板３３とが接触するまで下降させた後、電磁石４７を再び通電して、冷却手段４６を捕集板３３の下面に付着させて、その後に排気路（上部側空間Ｓ）中に捕集部材３１が位置するように捕集部材３１を上昇させるようになっている。
【００４９】
最後に、本実施の形態における減圧乾燥ユニットが組み込まれる塗布・現像装置の一例について図９、図１０に基づき説明する。図９、図１０中５１は、例えば２５枚のウエハＷが収納されたカセットＣを搬入出するためのカセットステーションであり、このカセットステーション５１には前記カセットＣを載置する載置部５１ａと、カセットＣからウエハＷを取り出すための受け渡し手段５２とが設けられている。カセットステーション５１の奥側には、例えばカセットステーション５１から奥を見て例えば右側には塗布・現像系のユニットＵ１が、左側、手前側、奥側には加熱・冷却系及び減圧乾燥などのユニットを多段に積み重ねた棚ユニットＵ２、Ｕ３、Ｕ４が夫々配置されているとともに、塗布・現像ユニットＵ１と、棚ユニットＵ２、Ｕ３、Ｕ４との間でウエハＷの受け渡しを行うための搬送アームＭＡが設けられている。ただし図９では便宜上受け渡し手段５２、ユニットＵ２及び搬送アームＭＡは描いていない。
【００５０】
塗布・現像系のユニットＵ１においては、例えば上段には２個の現像ユニット５３が、下段には２個の塗布ユニット５４が設けられている。棚ユニットＵ２、Ｕ３、Ｕ４においては、加熱ユニット、冷却ユニットの他、既述の減圧乾燥装置である減圧乾燥ユニット、ウエハＷの受け渡しユニットや疎水化処理ユニットなどが上下に割り当てされている。
【００５１】
この搬送アームＭＡや塗布・現像ユニットＵ１などが設けられている部分を処理ブロックと称することとすると、当該処理ブロックはインターフェイスブロック５５を介して露光ブロック５６と接続されている。インターフェイスブロック５５は、ウエハＷの受け渡し手段５７により前記処理ブロックと露光ブロック５６との間でウエハＷの受け渡しを行うものである。
【００５２】
この装置のウエハＷの流れについて説明すると、まず外部からウエハＷが収納されたカセットＣが載置部５１ａに載置され、受け渡し手段５２によりカセットＣ内からウエハＷが取り出され、加熱・冷却ユニットＵ３の棚の一つである受け渡し台を介して搬送アームＭＡに受け渡される。次いでユニットＵ３の一つの棚の処理部内にて疎水化処理が行われた後、塗布ユニット５４にて塗布液が塗布される。その後ウエハＷは減圧乾燥ユニットに搬送され、減圧乾燥処理により塗布膜が形成される。塗布膜が形成されたウエハＷは、加熱ユニットで加熱された後、ユニットＵ４に設けられた冷却ユニットで所定の温度に冷却される。しかる後にユニットＵ４に設けられた受け渡しユニット、インターフェイスブロック５５、受け渡し手段５７を介して露光装置５６に送られ、ここでパターンに対応するマスクを介して露光が行われる。露光処理後のウエハＷを受け渡し手段５７で受け取り、ユニットＵ４に設けられた受け渡しユニットを介して処理ブロックの搬送アームＭＡに受け渡される。
【００５３】
この後、ウエハＷは加熱ユニットで所定温度に加熱され、しかる後冷却ユニットで所定温度に冷却され、続いて現像ユニット５３に送られて現像処理され、塗布膜のマスクパターンが形成される。しかる後ウエハＷは載置部５１ａ上のカセットＣ内に戻されるようになっている。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の実施の形態における減圧乾燥ユニットの概略図である。
【図２】本発明の実施の形態における捕集装置の断面図であり、排気ガス中から溶剤を捕集する様子を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態における捕集部材の斜視図である。
【図４】本発明の実施の形態における溶剤を回収する動作を示すフローチャートである。
【図５】本発明の実施の形態における捕集装置の断面図であり、溶剤が排液されている状態を示す図である。
【図６】本発明の他の実施の形態における捕集部材を示す図である。
【図７】本発明の他の実施の形態における捕集装置を示す図である。
【図８】本発明の他の実施の形態における捕集装置を示す図である。
【図９】本発明が適用された塗布膜形成装置の概略図である。
【図１０】本発明が適用された塗布膜形成装置の概略図である。
【図１１】本発明の従来例を示す図である。
【符号の説明】
【００５５】
１        密閉容器
３        捕集装置
５        排気管
６        真空ポンプ
７        制御部
３１      捕集部材
３２      排液室
３３      捕集板
３５      駆動手段
４１      イジェクタ
４５      吸引路
Ｗ        ウエハ
【図１】
2005085814.tif 000003
【図２】
2005085814.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2005085814.tif 000008
【図７】
2005085814.tif 000009
【図８】
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【図９】
2005085814.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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