(57)【要約】【課題】  遷移金属錯体を提供すること。【解決手段】  式（１）2005179322.tif 000036（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の元素を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基等を示し、Ｒ９およびＲ１０は、同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基を示し、ｎは０または１を示す。）で示される遷移金属錯体。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2005179322.tif 000033
（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の元素を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されていてもよいアミノ基を示し、Ｒ９およびＲ１０は、同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基を示し、ｎは０または１を示す。）
で示される遷移金属錯体。
【請求項２】
Ｍがチタン原子である請求項１に記載の遷移金属錯体。
【請求項３】
式（２）
2005179322.tif 000034
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびｎは、前記と同じ意味を表す。）
で示される置換フェノールと式（３）
2005179322.tif 000035
（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の元素を示し、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたアミノ基を示し、Ｌは中性配位子を示し、ｌとｍは独立に０〜２の整数を示す。）
で示される遷移金属化合物とを反応させることを特徴とする式（１）で示される遷移金属錯体の製造方法。
【請求項４】
塩基の存在下に反応させることを特徴とする請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
請求項１または２のいずれかに記載の遷移金属錯体および下記化合物（Ａ）を組合わせてなることを特徴とするオレフィン重合用触媒。
化合物（Ａ）：  下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
（Ａ１）：  式 （Ｅ1）a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される有機アルミニウム化合物、
（Ａ２）:  式  ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサン、
（Ａ３）：  式  （Ｅ3） ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c Ａｌ（Ｅ3）2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または３を、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
【請求項６】
請求項１または２のいずれかに記載の遷移金属錯体と上記化合物（Ａ）および下記化合物（Ｂ）を組合わせてなることを特徴とするオレフィン重合用触媒。
化合物（Ｂ）:  下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
（Ｂ１）：  式  ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物、
（Ｂ２）：  式  Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物、
（Ｂ３）：  式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は同一または相異なり、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたアミノ基を示す。）
【請求項７】
請求項５または６のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合させることを特徴とするオレフィン重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は遷移金属錯体、オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、少なくとも２個の水酸基とホスフィンを有する有機化合物と遷移金属との反応物（例えば、２，２'−（フェニルホスフィド）ビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）（テトラヒドロフラン）チタニウムジクロライド）を、オレフィン重合体の製造方法に用いる例（例えば、特許文献１参照。）などが報告されている。
【特許文献１】特開平１０−２１８９２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、優れた重合用触媒を開発することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは上記の目的を達成するために、遷移金属錯体およびオレフィン重合用触媒について鋭意研究を続けてきた。その結果、新規な遷移金属錯体を発見し、本発明を完成させるに至った。
【０００５】
すなわち、本発明は式（１）
2005179322.tif 000002
（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の元素を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されていてもよいアミノ基を示し、Ｒ９およびＲ１０は、同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子または置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基を示し、ｎは０または１を示す。）
で示される遷移金属錯体、製造方法；該遷移金属錯体と、下記化合物（Ａ）を組合わせてなるオレフィン重合用触媒；およびさらに下記化合物（Ｂ）を組合わせてなるオレフィン重合用触媒ならびにオレフィン重合体の製造方法を提供するものである。
化合物（Ａ）：  下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
（Ａ１）：  式 （Ｅ1）a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される有機アルミニウム化合物、
（Ａ２）:  式  ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサン、
（Ａ３）：  式  （Ｅ3） ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c Ａｌ（Ｅ3）2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または３を、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
化合物（Ｂ）:  下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
（Ｂ１）：  式  ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物、
（Ｂ２）：  式  Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物、
（Ｂ３）：  式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は同一または相異なり、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたアミノ基を示す。）
【発明の効果】
【０００６】
本発明により得られる遷移金属錯体を、触媒成分として用いることにより、優れた触媒活性でポリオレフィンを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明について詳細に説明する。
式（１）で示される遷移金属錯体において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９またはＲ１０における、ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくはフッ素原子が挙げられる。
【０００８】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９またはＲ１０における炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基等が例示され、さらにこれらの基がハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換された置換基が例示され、その具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、トリクロロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、トリメチルシリルメチル基などが例示される。置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基のうち、メチル基、エチル基、イソプロピル基、 ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基等が好ましいものとして例示され、さらに好ましくはメチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられる。
【０００９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８における炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、ジフェニルメチル基等が例示され、これらの基は、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、
（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、
（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、
（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示される。好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基としてはベンジル基が例示される。
【００１０】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８における置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
これらの基は、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、 ｎ−ペンチルフェニル基、 ネオペンチルフェニル基、 ｎ−ヘキシルフェニル基、 ｎ−オクチルフェニル基、 ｎ−デシルフェニル基、 ｎ−ドデシルフェニル基、 ｎ−テトラデシルフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、４−トリメチルシリルフェニル基などが例示される。特に好ましい置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル基が例示される。
【００１１】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８における炭素原子数１〜１０のアルコキシル基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基等が例示される。これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示される。
置換されたアルコキシル基の具体例としては、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フルオロエトキシ基、ジフルオロエトキシ基、トリフルオロエトキシ基、テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロプロポキシ基、パーフルオロブチルオキシ基、パーフルオロペンチルオキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、パーフルオロデシルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、メトキシメトキシ基、フェノキシメトキシ基、ジメチルアミノメトキシ基、トリメチルシリルメトキシ基などが例示される。好ましい置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、 ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が例示される。
【００１２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８における置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基などの炭素原子数６〜２０のアリール基等が挙げられる。かかる炭素数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基としては、例えば、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの１置換シリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの２置換シリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリ−イソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの３置換シリル基等が挙げられ、好ましくはトリメチルシリル基、 ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基が挙げられる。これらの置換シリル基はいずれもがその炭化水素基がハロゲン原子、例えば、フッ素原子で置換されたものも例示される。
【００１３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８における炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基、ジフェニルメトキシ基が例示され、
これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ペンチルフェニル）メトキシ基、（ネオペンチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ドデシルフェニル）メトキシ基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示される。特に好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としてはベンジルオキシ基が例示される。
【００１４】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８における炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基が挙げられる。
これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、
２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基２−フルオロフェノキシ基、３−フルオロフェノキシ基、４−フルオロフェノキシ基、３，５−ジフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、２−メトキシフェノキシ基、３−メトキシフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−フェノキシフェノキシ基、４−ジメチルアミノフェノキシ基、４−トリメチルシリルフェノキシ基などが例示される。特に好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基が例示される。
【００１５】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８における置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されていてもよいアミノ基の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基などの炭素原子数６〜２０のアリール基、またはピロール基等が挙げられる。かかる炭素数１〜２０の炭化水素で置換されたアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、 ｔｅｒｔ −ブチルイソプロピルアミノ基、 ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ピロール基等が挙げられる。置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されていてもよいアミノ基の好ましいものとしては無置換アミノ基、ジメチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ピロール基等が挙げられる。
【００１６】
式（１）で示される遷移金属錯体のＭは元素周期律表の第４族の元素を示し、具体的にはチタン原子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子等が挙げられ、好ましくは、チタン原子が挙げられる。
【００１７】
式（１）で示される遷移金属錯体としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005179322.tif 000003
【００１８】
2005179322.tif 000004
【００１９】
2005179322.tif 000005
【００２０】
2005179322.tif 000006
【００２１】
2005179322.tif 000007
【００２２】
2005179322.tif 000008
【００２３】
2005179322.tif 000009
【００２４】
2005179322.tif 000010
【００２５】
2005179322.tif 000011
【００２６】
2005179322.tif 000012
【００２７】
かかる式（１）で示される遷移金属錯体は、式（２）
2005179322.tif 000013
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびｎは、前記と同じ意味を表す。）
で示される置換フェノールと式（３）
2005179322.tif 000014
（式中、Ｍは前記と同じ意味を表し、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたアミノ基を示し、Ｌはエーテル、スルフィド、アミン、ホスフィン、オレフィンなどの中性配位子を示し、ｌとｍは独立に０〜２の整数を示す。）
で示される遷移金属化合物とを反応させることにより製造することができる。
式（２）で示される置換フェノールと式（３）で示される遷移金属化合物の反応モル比は特に限定されないが、１：０．１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：５の範囲である。
【００２８】
反応に際しては、必要により塩基が用いられる。かかる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水素化物、例えばメチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム、アリルリチウムなどの有機リチウム化合物といった有機アルカリ金属化合物などが挙げられ、その使用量は式（２）で示される置換フェノールに対して通常０．５〜５モル倍の範囲である。
【００２９】
上記反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２）で示される置換フェノールに対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
【００３０】
上記反応は例えば、溶媒に式（２）で示される置換フェノールに必要に応じて塩基を加えたのち式（３）で示される遷移金属化合物を加えることによって行うことができる。反応温度は通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜１００℃の範囲である。
【００３１】
得られた反応混合物から通常の方法、例えば生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して固形物を析出させるなどの手法により、式（１）で示される遷移金属錯体を取得することができる。
【００３２】
式（２）で示される置換フェノールの具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005179322.tif 000015
【００３３】
2005179322.tif 000016
【００３４】
2005179322.tif 000017
【００３５】
2005179322.tif 000018
【００３６】
2005179322.tif 000019
【００３７】
2005179322.tif 000020
【００３８】
2005179322.tif 000021
【００３９】
2005179322.tif 000022
【００４０】
2005179322.tif 000023
【００４１】
2005179322.tif 000024
【００４２】
2005179322.tif 000025
【００４３】
2005179322.tif 000026
【００４４】
2005179322.tif 000027
【００４５】
2005179322.tif 000028
【００４６】
2005179322.tif 000029
【００４７】
かかる式（２）で示される置換フェノールは例えば、以下に示す方法により合成される。
2005179322.tif 000030
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびｎは、前記と同じ意味を表し、Ｒ１１は、置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基または置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）
【００４８】
式（３）で示される遷移金属錯体のＸ１、Ｘ２またはＸ３における、ハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子が挙げられる。
【００４９】
Ｘ１、Ｘ２またはＸ３における置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基が例示され、さらにこれらの基がハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換された置換基が例示され、その具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、トリクロロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、トリメチルシリルメチル基などが例示される。
置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基のうち、メチル基、エチル基、イソプロピル基、 ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基等が好ましいものとして例示され、さらに好ましくはメチル基が挙げられる。
【００５０】
Ｘ１、Ｘ２またはＸ３における炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基またはジフェニルメチル基等が例示され、これらの基は、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、
（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、
（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、
（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示される。特に好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基としてはベンジル基が例示される。
【００５１】
Ｘ１、Ｘ２またはＸ３における炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
これらの基は、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、 ｎ−ペンチルフェニル基、 ネオペンチルフェニル基、 ｎ−ヘキシルフェニル基、 ｎ−オクチルフェニル基、 ｎ−デシルフェニル基、 ｎ−ドデシルフェニル基、 ｎ−テトラデシルフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、４−トリメチルシリルフェニル基などが例示される。特に好ましい置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル基が例示される。
【００５２】
Ｘ１、Ｘ２またはＸ３における炭素原子数１〜１０のアルコキシル基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基が例示される。これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示される。
置換されたアルコキシル基の具体例としては、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フルオロエトキシ基、ジフルオロエトキシ基、トリフルオロエトキシ基、テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロプロポキシ基、パーフルオロブチルオキシ基、パーフルオロペンチルオキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、パーフルオロデシルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、メトキシメトキシ基、フェノキシメトキシ基、ジメチルアミノメトキシ基、トリメチルシリルメトキシ基などが例示される。特に好ましい置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルコキシ基としては、メトキシ基が例示される。
【００５３】
Ｘ１、Ｘ２またはＸ３における炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基、ジフェニルメトキシ基が例示され、
これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ペンチルフェニル）メトキシ基、（ネオペンチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ドデシルフェニル）メトキシ基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示される。特に好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としてはベンジルオキシ基が例示される。
【００５４】
Ｘ１、Ｘ２またはＸ３における炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基が挙げられる。
これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基または炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、
２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基２−フルオロフェノキシ基、３−フルオロフェノキシ基、４−フルオロフェノキシ基、３，５−ジフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、２−メトキシフェノキシ基、３−メトキシフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−フェノキシフェノキシ基、４−ジメチルアミノフェノキシ基、４−トリメチルシリルフェノキシ基などが例示される。特に好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基が例示される。
【００５５】
Ｘ１、Ｘ２またはＸ３における置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたアミノ基の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基などの炭素原子数６〜２０のアリール基等が挙げられる。かかる炭素数１〜２０の炭化水素で置換されたアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、 ｔｅｒｔ −ブチルイソプロピルアミノ基、 ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
【００５６】
Ｌで示される中性配位子とは、エーテル、スルフィド、アミン、ホスフィン、オレフィンなどの中性官能基を有する分子を示し、分子内に複数箇所の配位官能基を有していてもよい。
【００５７】
かかる中性配位子としては、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル  ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、フラン、テトラヒドロフラン、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、メチル  ｔｅｒｔ−ブチルスルフィド、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、エチレンジチオール  ジメチルスルフィド、エチレンジチオール  ジエチルスルフィド、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリフェニルアミン、トリシクロヘキシルアミン、ピリジン、２，２’−ビピリジン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラエチルエチレンジアミン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、ビス（ジフェニルホスフィノ）ビナフチル、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、オクテン、オクタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、ノルボルネン、ノルボルナジエン等が挙げられる。
【００５８】
式（３）で示される遷移金属化合物としては、例えばテトラベンジルチタン、テトラネオペンチルチタン、四塩化チタン、テトライソプロポキシチタン、ジイソプロポキシチタニウム  ジクロライド、テトラキス（ジメチルアミノ）チタン、テトラキス（ジエチルアミノ）チタン、ビス（ジメチルアミノ）チタニウム  ジクロライド、ビス（ジエチルアミノ）チタニウム  ジクロライド、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）チタニウム、ビス（トリフルオロアセトキシ）チタニウム  ジクロライド、三塩化チタン−３テトラヒドロフラン錯体、四塩化チタン−２テトラヒドロフラン錯体、
【００５９】
テトラベンジルジルコニウム、テトラネオペンチルジルコニウム、四塩化ジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、ジイソプロポキシジルコニウム  ジクロライド、テトラキス（ジメチルアミノ）ジルコニウム、テトラキス（ジエチルアミノ）ジルコニウム、ビス（ジメチルアミノ）ジルコニウム  ジクロライド、ビス（ジエチルアミノ）ジルコニウム  ジクロライド、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）ジルコニウム、ビス（トリフルオロアセトキシ）ジルコニウム  ジクロライド、三塩化ジルコニウム−３テトラヒドロフラン錯体、四塩化ジルコニウム−２テトラヒドロフラン錯体、
【００６０】
テトラベンジルハフニウム、テトラネオペンチルハフニウム、四塩化ハフニウム、テトライソプロポキシハフニウム、ジイソプロポキシハフニウム  ジクロライド、テトラキス（ジメチルアミノ）ハフニウム、テトラキス（ジエチルアミノ）ハフニウム、ビス（ジメチルアミノ）ハフニウム  ジクロライド、ビス（ジエチルアミノ）ハフニウム  ジクロライド、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）ハフニウム、ビス（トリフルオロアセトキシ）ハフニウム  ジクロライド、三塩化ハフニウム−３テトラヒドロフラン錯体、四塩化ハフニウム−２テトラヒドロフラン錯体
などが挙げられる。好ましくは、四塩化チタン、四塩化チタン−２テトラヒドロフラン錯体、四塩化ジルコニウム−２テトラヒドロフラン錯体などが挙げられる。
【００６１】
かくして製造される式（１）で示される遷移金属錯体は、化合物（Ａ）、あるいはさらに化合物（Ｂ）を、重合の際にに任意の順序で仕込み使用することができるが、またそれらの任意の化合物の組合せを予め接触させて得られた反応物を用いることもできる。
【００６２】
〔化合物（Ａ）〕
本発明において用いられる化合物（Ａ）としては、公知の有機アルミニウム化合物が使用できる。好ましくは、前記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物が挙げられる。
（Ａ１）：  式  Ｅ1 a Ａｌ（Ｚ）3-a で示される有機アルミニウム化合物、
（Ａ２）:  式  ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサン、
（Ａ３）：  式  Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c Ａｌ（Ｅ3） 2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または３で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
【００６３】
式  Ｅ1 a ＡｌＺ3-a で示される有機アルミニウム化合物（Ａ１）の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド等を例示することができる。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等が挙げられる。
【００６４】
式  ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサン（Ａ２）または、式  Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c ＡｌＥ3 2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ａ３）における、Ｅ2 、Ｅ3 の具体例としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基を例示することができる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ2またはＥ3 はメチル基、イソブチル基であり、ｂは２〜４０、ｃは１〜４０である。これらの具体例としてはメチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、モディファイドメチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、ブチルアルミノキサン（ＢＡＯ）などが挙げられる。
【００６５】
上記のアルミノキサンは市販のものを用いてもよいし、各種の方法で造られるものを用いてもよい。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて造ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を水と接触させて造る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて造る方法が例示できる。
【００６６】
〔化合物Ｂ〕
本発明において化合物（Ｂ）としては、（Ｂ１）式ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物、（Ｂ２）式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物、（Ｂ３）式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物を用いる。
【００６７】
式  ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物（Ｂ１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ3 はハロゲン原子、炭素数１〜２０個の炭化水素基、炭素数１〜２０個のハロゲン化炭化水素基、炭素数１〜２０個の炭化水素で置換されたシリル基、炭素数１〜２０個のアルコキシ基または炭素数１〜２０個の炭化水素で置換されたアミノ基であり、それらは同じであっても異なっていてもよい。好ましいＱ1 〜Ｑ3としてはハロゲン原子、炭素数１〜２０個の炭化水素基、炭素数１〜２０個のハロゲン化炭化水素基等が挙げられる。
【００６８】
（Ｂ１）の具体例としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等が挙げられるが、好ましくは、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランが挙げられる。
【００６９】
式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物（Ｂ２）において、Ｚ+ は無機または有機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｂ１）におけるＱ1 〜Ｑ3 と同様のものが挙げられる。
【００７０】
式  Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、無機のカチオンであるＺ+ には、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチオンであるＺ+ には、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４ートリフルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。
【００７１】
これらの具体的な組み合わせとしては、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１'−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。
【００７２】
また、式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表されるホウ素化合物（Ｂ３）においては、Ｌは中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）+ はブレンステッド酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｂ１）におけるＱ1 〜Ｑ3 と同様のものが挙げられる。
【００７３】
式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- で表される化合物の具体例としては、ブレンステッド酸である（Ｌ−Ｈ）+ には、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられ、（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）- には、前記と同様のものが挙げられる。
【００７４】
これらの具体的な組み合わせとしては、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、好ましくは、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。
【００７５】
各触媒成分の使用量は、化合物（Ａ）／遷移金属錯体（１）のモル比が０．１〜１００００で、好ましくは５〜２０００、化合物（Ｂ）／遷移金属錯体（１）のモル比が０．０１〜１００で、好ましくは０．５〜１０の範囲にあるように、各成分を用いることが望ましい。
各触媒成分を溶液状態で使う場合の濃度については、遷移金属錯体（１）が、０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットル、化合物（Ａ）が、Ａｌ原子換算で、０．０１〜５００ミリモル／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミリモル／リットル、化合物（Ｂ）は、０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルの範囲にあるように、各成分を用いることが望ましい。
【００７６】
本発明において、重合に使用するモノマーは、炭素原子数２〜２０個からなるオレフィン、ジオレフィン等のいずれをも用いることができ、同時に２種類以上のモノマーを用いることもできる。かかるモノマーを以下に例示するが、下記化合物に限定されるものではない。かかるオレフィンの具体例としては、エチレン、プロピレン、ブテン−１、ペンテン−１、ヘキセン−１、ヘプテン−１、オクテン−１、ノネン−１、デセン−１、５−メチル−２−ペンテン−１、ビニルシクロヘキセン等が例示される。ジオレフィン化合物としては、炭化水素化合物の共役ジエン、非共役ジエンが挙げられ、かかる化合物の具体例としては、非共役ジエン化合物の具体例として、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−ペンタジエン、１，７−オクタジエン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロオクタジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロナフタレン等が例示され、共役ジエン化合物の具体例としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、１，３−シクロオクタジエン、１，３−シクロヘキサジエン等を例示することができる。
共重合体を構成するモノマーの具体例としては、エチレンとプロピレン、エチレンとブテン−１、エチレンとヘキセン−１、プロピレンとブテン−１等、およびそれらにさらに５−エチリデン−２−ノルボルネンを使用する組み合わせ等が例示されるが、本発明は、上記化合物に限定されるものではない。
【００７７】
本発明では、モノマーとして芳香族ビニル化合物も用いることができる。芳香族ビニル化合物の具体例としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
【００７８】
重合方法も、特に限定されるべきものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、又はメチレンジクロライド等のハロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能である。
【００７９】
重合温度は、−５０℃〜２００℃の範囲をとり得るが、特に、−２０℃〜１００℃程度の範囲が好ましく、重合圧力は、常圧〜６ＭＰａ（６０ｋｇ／ｃｍ２  Ｇ）が好ましい。重合時間は、一般的に、目的とするポリマーの種類、反応装置により適宜選定されるが、１分間〜２０時間の範囲をとることができる。また、本発明では共重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
【実施例】
【００８０】
以下、実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。また、実施例におけるポリマーの性質は、下記の方法により測定した。
【００８１】
[分子量および分子量分布]
ＲａｐｉｄＧＰＣ（Ｓｙｍｙｘ社製）を用いて以下の条件により測定した。
送液装置  ：（ＬＣポンプ）Ｇｉｌｓｏｎ社製  
Ｍｏｄｅｌ３０５(ポンプヘッド２５.ＳＣ)  
カラム    ：ＰｏｌｙｍｅｒＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ (ＰＬ)社製  
ＰＬｇｅｌ  Ｍｉｘｅｄ−Ｂ  １０μｍ
7.5mmφ×300mm  
移動相    ：o-ジクロロベンゼン
溶解溶媒  ：1,2,4-トリクロロベンゼン              
流量      ：２ｍｌ／分
カラム温度：１６０℃
検量線    ：ＰＬ社標準品  ポリスチレン(ＰＳ)  ８試料  
（標準ＰＳ分子量）5,000、10,050、28,500、65,500
185,400、483,000、1,013,000、3,390,000
【００８２】
[融点]
ＳＡＭＭＳ（Ｓｅｎｓｏｒ  Ａｒｒａｙ  Ｍｏｄｕｌａｒ  Ｓｙｓｔｅｍ）（Ｓｙｍｙｘ社製）を用いて以下の条件により測定した。
測定モード    ：熱容量スペクトロスコピーによる融解温度測定
雰囲気ガス    ：真空条件(3.0×10―４Torr以下)
温度プログラム：（スタート）室温
（昇温速度）約５０℃／分
（ホールド）２００℃（０分）
【００８３】
[Ｍｅ分岐]
ＩＲ（Ｂｒｕｋｅｒ社製ＥＱＵＩＮＯＸ５５）を用いて以下の条件により測定した。
測定モード：反射透過法（鏡面にフィルム作成）
ブランク  ：鏡面（Air）
測定条件  ：(分解能)２ｃｍ―１、(積算回数)１２８回、
(波長)４００〜４０００ｃｍ―１
【００８４】
合成
［合成参考例１］
［化合物３の合成］
2005179322.tif 000031
１-メトキシメトキシ−２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルベンゼン（２０．８ｇ、１００．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１４０．７ｍＬ）に−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（６７．３ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を三塩化リン（７．９５g、５０．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（９３．８mL）に−７８℃にて滴下し、室温に昇温し５時間攪拌した。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより化合物［１］を定量的に得た。
ペンタフルオロブロモベンゼン（７．４１ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１１６．８ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（２１．２ｍL）を滴下し１時間攪拌した。反応混合溶液に化合物［１］（１４．４３ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（５０．０ｍＬ）を滴下し室温まで昇温し５時間攪拌した。脱イオン水（１００ｍＬ）とトルエン（１００ｍＬ）を加え反応を停止し、有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を留去し白色固体として化合物［２］を１７．９ｇ（収率９８．０％）得た。
化合物［２］（４．１４ｇ、６．７６ｍｍｏｌ）の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液（１６５．０ｍＬ）に室温でアセチルクロライド（２．６５ｇ、３３．８ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間攪拌した。溶媒を減圧留去することにより、白色固体として化合物［３］を２，５５ｇ（７２．０％）で得た。
【００８５】
［実施例１］
［錯体４の合成］
2005179322.tif 000032
６０％のＮａＨ（０．１８ｇ、４．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフランスラリー（２．６６ｍＬ）に、０℃で化合物３（０．３９ｇ、０．７５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３．５４ｍＬ）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。過剰のＮａＨを濾過することで除去し、濾液にトリクロロチタニウム−３テトラヒドロフラン錯体（０．２８ｇ、０．７５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２．６６ｍＬ）を０℃で滴下した。室温まで昇温し１０時間攪拌し溶媒を減圧留去後、トルエン（５．０ｍＬ）を加え、不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより、錯体［４］を赤色固体として、２４８．２ｍｇ（６０．６％）得た。
ＭＳスペクトル（ＥＩ）  １０９２（Ｍ＋）
【００８６】
重合
［実施例２］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体［４］（０．１０μｍｏｌ）を加え、２０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、１．５×１０６ｇ製造した。
【００８７】
［実施例３］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．０×１０５ｇ製造した。
【００８８】
［実施例４］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、４．３×１０６ｇ製造した。
【００８９】
［実施例５］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．９×１０６ｇ製造した。
【００９０】
［実施例６］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体４（０．１０μmol）を加え３．６分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝３．４×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=６．３、融点（Ｔｍ）＝１２５．７℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．３×１０６ｇ製造した。
【００９１】
［実施例７］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例６と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．０×１０５ｇ製造した。
【００９２】
［実施例８］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例６と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝６．２×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=６．５、融点（Ｔｍ）＝１２４．８℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり１１であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、４．０×１０６ｇ製造した。
【００９３】
［実施例９］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例６と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝４．６０×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=５．５、融点（Ｔｍ）＝１２４．８℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり１０であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、３．６×１０６ｇ製造した。
【００９４】
［実施例１０］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（５０μL）を仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体［４］（０．１０μmol）を加え２０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、７．０×１０５ｇ製造した。
【００９５】
［実施例１１］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例１０と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝６．７×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=３．８、融点（Ｔｍ）＝１２０．９℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．０×１０６ｇ製造した。
【００９６】
［実施例１２］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例１０と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝６．７×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=３．７、融点（Ｔｍ）＝１２１．０℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．３×１０７ｇ製造した。
【００９７】
［実施例１３］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（４０μL）を仕込み、１３０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１０μmol）、錯体［４］（０．１０μmol）を加え５分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．０×１０５ｇ製造した。
【００９８】
［実施例１４］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．０３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例１３と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、３．００×１０５ｇ製造した。
【００９９】
［実施例１５］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例１３と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、３．０×１０５ｇ製造した。