(57)【要約】【課題】  石英系光導波路をする第１の素子と、Ｂｉ2Ｏ3系光導波路を有する第２の素子とからなり、接損損失の少ない光導波路回路を提供する。【解決手段】  波長１．５５μｍの光に対する屈折率が１．６以下である光導波路をクラッド内に形成してなる第１の素子と、基板上に形成したクラッド内にＢｉ2Ｏ3系光導波路を形成してなる第２の素子とを、石英系光導波路の端面とＢｉ2Ｏ3系光導波路の端面とが対面するように両クラッドの端面を接合してなる光導波路であって、第１の素子のクラッドの接続側端面の垂線と石英系光導波路の軸とがなす角度αが５°〜１４°、第２の素子のクラッドの接続側端面の垂線とＢｉ2Ｏ3系光導波路の軸とがなす角度βが４°〜１０°で、かつβ＜αである光導波路。【選択図】  図３
2005156579.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長１．５５μｍの光に対する屈折率が１．６以下である光導波路をクラッド内に形成してなる第１の素子と、基板上に形成したクラッド内にＢｉ2Ｏ3系光導波路を形成してなる第２の素子とを、石英系光導波路の端面とＢｉ2Ｏ3系光導波路の端面とが対面するように両クラッドの端面を接合してなる光導波路であって、
第１の素子のクラッドの接続側端面の垂線と石英系光導波路の軸とがなす角度αが５°〜１４°、第２の素子のクラッドの接続側端面の垂線とＢｉ2Ｏ3系光導波路の軸とがなす角度βが４°〜１０°で、かつβ＜αであることを特徴とする光導波路。
【請求項２】
石英系光導波路の屈折率とＢｉ2Ｏ3系光導波路の屈折率との間の屈折率を有する紫外線硬化型接着剤で接合されていることを特徴とする請求項１記載の光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば基板上に形成したクラッド内に石英ガラス光導波路等、波長１．５５μｍの光に対する屈折率が１．６以下である光導波路（以下、石英系光導波路という）を形成してなる第１の素子と、基板上に形成したクラッド内にＢｉ2Ｏ3系光導波路を形成してなる第２の素子とを、石英系光導波路の端面とＢｉ2Ｏ3系光導波路の端面とが対面するように両クラッドの端面を接合してなる光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
光通信システムでは、伝送容量の拡大を図るために波長多重光通信方式（ＷＤＭ）が提案されている。ＷＤＭにおいては、波長多重のチャンネル数が増加するほど伝送容量が大きくなる。そのため、ＷＤＭで使用される１．２〜１．７μｍの波長の光に対し広帯域で増幅可能な光増幅媒体が求められている。
【０００３】
このような光増幅媒体として、従来はＥｒなどの希土類元素を添加した希土類含有ガラスファイバが主流であったが、１．２〜１．７μｍの波長の光に対し利得が得られる波長幅Δλが狭く、具体的にはＣバンドでは約３５ｎｍ（１．５３０〜１．５６５μｍ）であり、Ｌバンドでは約３２ｎｍ（１．５７５〜１．６０７μｍ）である。この問題を解決する光増幅媒体として、Ｂｉ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＣｅＯ2などからなるマトリクスガラスにＥｒを添加したＢｉ2Ｏ3系ガラスの使用が検討されている。このＢｉ2Ｏ3系ガラスのΔλは一般に１００ｎｍ以上であり、Ｅｒ含有石英系ガラスの２．５倍以上である。
【０００４】
一方で、光ファイバを光増幅媒体とする光増幅器は、その大きさの点からノード装置内のスイッチの損失補償用に多数用いることに向いておらず、更に光スイッチや光合分波素子等の他のノード内機能素子等と集積化という点では問題がある。また、他の光ファイバとの接続に際して調芯して融着しなければならず、接続作業が煩雑となるという問題もある。このような背景から、シリコンや石英などからなる基板上に、上記のＢｉ2Ｏ3系ガラスからなる光導波路を形成した素子が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３３５３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
光増幅器とするには、上記のＢｉ2Ｏ3系光導波路を形成した素子と、石英系光導波路を形成した素子とを、両光導波路の端面同士を対面配置して構成する。しかし、石英系光導波路の屈折率（約１．４６）とＢｉ2Ｏ3系光導波路の屈折率（約２．０）とが大きく異なるため、両光導波路同士の接続端面での損失（接続損失）が増大するという問題が生じる。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、石英系光導波路を有する第１の素子と、Ｂｉ2Ｏ3系光導波路を有する第２の素子とからなり、接続損失が少ない光導波路を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために本発明は、波長１．５５μｍの光に対する屈折率が１．６以下である光導波路をクラッド内に形成してなる第１の素子と、基板上に形成したクラッド内にＢｉ2Ｏ3系光導波路を形成してなる第２の素子とを、石英系光導波路の端面とＢｉ2Ｏ3系光導波路の端面とが対面するように両クラッドの端面を接合してなる光導波路であって、第１の素子のクラッドの接続側端面の垂線と石英系光導波路の軸とがなす角度αが５°〜１４°、第２の素子のクラッドの接続側端面の垂線とＢｉ2Ｏ3系光導波路の軸とがなす角度βが４°〜１０°で、かつβ＜αであることを特徴とする光導波路を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、石英系光導波路とＢｉ2Ｏ3系光導波路とを備え、接続損失が少ない光導波路が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明に関して図面を参照して詳細に説明する。なお、本発明はこれに限定されない。例えば、第１の素子としては図１の符号１０で示すものに限定されず、基板上に掘られたＶ溝に光ファイバを固定したもの、同様にして６４芯程度までの光ファイバを保持したファイバアレイ、さらにはアレイ導波路素子等も例示される。
【００１１】
図１は本発明の光導波路の一実施の形態を示す外観斜視図であり、図２は図１のＸ−Ｚ平面図であり、図３は図２に従い接合部分を拡大して示す部分拡大図である。図示されるように、本発明の光導波路回路は、基板（図示せず）上に形成したクラッド１０ａ内に石英系光導波路１２が形成された第１の素子１０と、基板（図示せず）上に形成したクラッド１０ｂ内にＢｉ2Ｏ3系光導波路１３が形成された第２の素子１１とを、石英系光導波路１２の端面とＢｉ2Ｏ3系光導波路１３の端面とが対面するようにそれぞれの接続側端面１０ｂ、１１ｂを接合して構成される。
【００１２】
第１の素子１０において、石英系光導波路１２の形成材料には制限がなく、例えば屈折率１．４６の石英ガラスが挙げられる。また、クラッド１０ａも石英系光導波路１２を伝播する光を漏洩しない材質であれば制限はなく、例えば、屈折率１．５０の石英ガラスが挙げられる。
【００１３】
石英系光導波路１２の形状は、シングルモードで光を伝播させるためには、断面が正方形であることが好ましく、その際、一辺の長さを１〜１２μｍとすることができる。また、クラッド１０ａの形状には制限がないが、例えば断面形状で、幅（図中Ｚ方向）４〜５００μｍ、高さ（図中Ｙ方向）４〜５００μｍの長方形とすることができ、その中心軸に沿って石英系光導波路１２が貫設されている。クラッド１０ａの全長（図中Ｘ方向）は１〜１００ｍｍとすることができる。
【００１４】
第１の素子１０は、例えば、凸型プロセスによって作製することができる。すなわち、適当な基板上に、先ず、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、レーザーアブレーション法、電子ビーム蒸着法などの公知の成膜方法により基板上にクラッド１０ａの形成材料を所定の厚さで堆積して下部クラッド層を形成する。次いで、下部クラッド層の上に石英系光導波路１２の形成材料を同様の成膜方法で所定の厚さで堆積し、所定の幅となるようにエッチング法などによりパターニングを行い石英系光導波路１２を形成する。そして、同様の成膜方法により、石英系光導波路１２を包囲するようにクラッド１０ａの形成材料を再び堆積して所定厚の上部クラッド層を形成する。ここで、上部クラッド層と下部クラッド層とが一体となってクラッド１０ａを構成する。なお、基板としては、Ｓｉや石英製の平板が適当である。
【００１５】
第２の素子１１において、Ｂｉ2Ｏ3系光導波路１３の形成材料は、Ｂｉ2Ｏ3を３０モル％以上含有するマトリクスガラスにＥｒが質量百分率表示で０．１〜１０％添加されているガラスであり、励起光の存在下で１．４５〜１．６４μｍの波長の信号光を増幅できる光増幅機能を有する。Ｂｉ2Ｏ3系光導波路１３の波長１．５５μｍの光に対する屈折率は１．７以上であることが好ましく、より好ましくは１．８以上である。
【００１６】
上記マトリクスガラスにはＥｒの他に例えば、光増幅率をより大きくし、または濃度消光特性を向上させるために、Ｙｂを質量百分率表示で５％まで添加してもよい。５％超では光増幅率がかえって小さくなるおそれがある。
【００１７】
マトリクスガラス中のＢｉ2Ｏ3が３０モル％未満では、屈折率が小さくなりすぎ、所望の光増幅機能が得られない。好ましくは４０モル％以上、より好ましくは６６モル％以上、特に好ましくは７０モル％以上である。以下、マトリクスガラスにおける含有量モル％を単に％と表示する。また、マトリクスガラスは光増幅率をより大きくするために、Ｇａ2Ｏ3またはＡｌ2Ｏ3を含有することが好ましい。
【００１８】
マトリクスガラスをより安定化するために、ＳｉＯ2を１〜６０％の範囲で含有し、Ｂｉ2Ｏ3の含有量を４０〜９９％とすることが好ましい（態様Ａ）。ＳｉＯ2が１％未満ではガラスが不安定になるおそれがある。より好ましくは５％以上、さらに好ましくは１０％以上、特に好ましくは１５％以上、最も好ましくは２０％である。６０％超では、利得が得られる波長幅Δλが小さくなるおそれがある。Ｂｉ2Ｏ3は、より好ましくは９５％以下、さらに好ましくは９０％以下、特に好ましくは８５％以下、最も好ましくは８０％以下である。
【００１９】
態様Ａにおけるマトリクスガラスは、実質的に、Ｂｉ2Ｏ3 ４０〜９９％、ＳｉＯ2 １〜６０％、Ｇａ2Ｏ3 ０〜５９％、Ａｌ2Ｏ3 ０〜５９％、からなることが好ましい。Ｇａ2Ｏ3およびＡｌ2Ｏ3について以下に説明する。
【００２０】
Ｇａ2Ｏ3は必須ではないが、光増幅率を大きくする効果を有する。５９％超では屈折率が小さくなる。Ｇａ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は５％以上であることが好ましい。Ａｌ2Ｏ3は必須ではないが、光増幅率を大きくする効果を有する。５９％超ではｎが小さくなる。Ａｌ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は５％以上であることが好ましい。
【００２１】
上記態様Ａの好ましいマトリクスガラスにおいては、本発明の目的を損なわない範囲で上記４成分以外の成分（他成分）を含有してもよいが、該他成分の含有量の合計は３０％以下であることが好ましい。
【００２２】
マトリクスガラスの屈折率を大きくするためには、ＳｉＯ2を実質的に含有しないことが好ましい（態様Ｂ）。態様Ｂにおけるマトリクスガラスは、実質的に、Ｂｉ2Ｏ3 ３０〜１００％、Ｇａ2Ｏ3 ０〜７０％、Ａｌ2Ｏ3 ０〜７０％、からなることが好ましい。Ｇａ2Ｏ3およびＡｌ2Ｏ3について以下に説明する。
【００２３】
Ｇａ2Ｏ3は必須ではないが、光増幅率を大きくする効果を有する。７０％超ではガラス中に結晶が析出しやすくなる。Ｇａ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は２０％以上であることが好ましい。Ａｌ2Ｏ3は必須ではないが、光増幅率を大きくする効果を有する。７０％超ではガラス中に結晶が析出しやすくなる。Ａｌ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は５％以上であることが好ましい。
【００２４】
上記態様Ｂの好ましいマトリクスガラスにおいては、本発明の目的を損なわない範囲で上記３成分以外の成分（他成分）を含有してもよいが、該他成分の含有量の合計は３０％以下であることが好ましい。
【００２５】
また、クラッド１１ａの形成材料は、Ｂｉ2Ｏ3系光導波路１３を伝播する光が漏洩しない材料であれば制限はない。但し、クラッド１０ａの波長１．５５μｍの光に対する屈折率をｎ2とし、Ｂｉ2Ｏ3系光導波路１３の同光に対する屈折率をｎ1とすると、０．０００３≦（ｎ1−ｎ2）／ｎ1≦０．１を満足することが好ましく、このような関係を満たす材料を選択することが好ましい。（ｎ1−ｎ2）／ｎ1（以下：Δｎ／ｎ1）が０．０００３未満では、Ｂｉ2Ｏ3系光導波路１３を伝播する光が漏洩するそれがある。Δｎ／ｎ1は、より好ましくは０．００１以上、特に好ましくは０．００３以上である。Δｎ／ｎ1が０．１超では、シングルモードで光を伝播することが困難になるおそれがある。Δｎ／ｎ1は、より好ましくは０．０８以下、特に好ましくは０．０５以下である。
【００２６】
このような要件を満たすクラッド１１ａの形成材料としては、Ｂｉ2Ｏ3を３０モル％以上含有するガラスが好ましく、Ｂｉ2Ｏ3系光導波路１３のマトリクスガラスの態様Ａまたは態様Ｂと同じ組成範囲のガラスであることがより好ましい。
【００２７】
第２の素子１１におけるＢｉ2Ｏ3系光導波路１３およびクラッド１１ａの形状は、それぞれ第１の素子の石英系導波路１２およびクラッド１０ａと同一形状としてもよく、異なっていてもよい。
【００２８】
第２の素子１１は、第１の素子１０と同様に凸型プロセスによって作製することができる。即ち、適当な基板上に、先ず、同様の成膜方法により基板上にクラッド１１ａの形成材料を第１の素子１０の下部クラッド層と同一の厚さとなるように堆積して下部クラッド層を形成する。次いで、下部クラッド層の上にＢｉ2Ｏ3系光導波路１３の形成材料を第１の素子１０の石英系光導波路１２と同一の厚さとなるように堆積し、更に石英系光導波路１２と同一の幅となるようにパターニングしてＢｉ2Ｏ3系光導波路１３を形成する。そして、同様の成膜方法により、Ｂｉ2Ｏ3系光導波路１３を包囲するようにクラッド１１ａの形成材料を第１の素子１０の上部クラッド層と同一の厚さとなるように堆積して上部クラッド層を形成する。なお、基板は、ヤング率が５０ＧＰａ以上の物質からなることが好ましく、例えばＳｉ、ＧａＡｓ、Ａｌ2Ｏ3、ＭｇＯ、サファイアなどの結晶、石英ガラスなどのガラスなどからなる平板が適当であり、その板厚は第１の素子１０と同一とする。
【００２９】
上記の第１の素子１０および第２の素子１１は、接続損失を抑えるために、それぞれの接続側端面１０ｂ，１１ｂが以下のように加工される。
【００３０】
図３に拡大して示すように、第１の素子１０においては、クラッド１０ａの接続側端面１０ｂの垂線ＰSと石英系光導波路１２の軸ＣSとがなす角度αが５°〜１４°となるように接続側端面１０ｂが加工される。また、第２の素子においては、クラッド１１ａの接続側端面１１ｂの垂線ＰBとＢｉ2Ｏ3系光導波路１３の軸ＣBとがなす角度βが４°〜１０°となるように接続側端面１１ｂが加工される。更に、αおよびβは、β＜αを満足しなければならない。
【００３１】
上記角度αが５°未満では充分な反射減衰量を得ることが困難になり、好ましくは７°以上である。但し、角度αが１４°超では接続損失が大きくなり、好ましくは１２°以下である。一方、上記角度βが４°未満では充分な反射減衰量を得ることが困難になり、好ましくは６°以上である。但し、角度βが１０°超では接続損失が大きくなり、好ましくは８°以下である。また、（α−β）は２°〜３°であることがより好ましい。
【００３２】
第１の素子１０および第２の素子１１は、石英系光導波路１２の端面とＢｉ2Ｏ3系光導波路１３の端面とを対面させて配置されるが、対面部分に空気層が存在すると、両導波路１２，１３と空気との屈折率差からこの部分での伝送損失が発生する。また、外部からの振動などにより石英系光導波路１２の端面とＢｉ2Ｏ3系光導波路１３の端面とを対面させて配置されるが石英系光導波路１２とＢｉ2Ｏ3系光導波路１３とが軸ズレを起こすこともある。そこで、同じく図３に示すように、第１の素子１０と第２の素子１１との接合を、接着剤２０を介して行うことが好ましい。
【００３３】
接着剤２０は、熱硬化型接着剤でもよいが、硬化時に膨張するため、調芯した石英系光導波路１２とＢｉ2Ｏ3系光導波路１３とが軸ズレを起こしやすい。そのため、接着剤２０としては紫外線硬化型接着剤が好ましく、中でも屈折率が石英系光導波路１２の屈折率とＢｉ2Ｏ3系光導波路１３の屈折率との間の範囲にある紫外線硬化型接着剤が好適である。このような紫外線硬化型接着剤として、例えば、ＮＴＴアドバンステクノロジー株式会社製エポキシ系紫外線硬化型接着剤「GA700H」、「GA700L」、「AT-3925M」、「AT-9390」、「AT−7195M」、「AT-9575M」；同社製アクリル系紫外線硬化型接着剤「AT8224」、「AT8378」、「AT6001」、「AT6390」；ＮＯＬＡＮＤ社製紫外線硬化型接着剤「NOA60」、「NOA61」、「NOA63」、「NOA65」、「NOA68」、「NOA71」、「NOA72」、「NOA73」、「NOA76」、「NOA77」、「NOA81」、「NOA83H」、「NOA88」；ＥＭＩ社製エポキシ系紫外線硬化型接着剤「3505HM」、「3506HM」、「3507HM」、「3508HM」、「3514HM」、「3553HM」、「3553LV」、「3553HM」、「3553LV-UTF」、「3553HV-HM-VM」；株式会社アデル製紫外線硬化型接着剤「MO5（主成分：PDMS変性アクリレート）」、「ES89（主成分：ウレタンアクリレート）」、「UT20（主成分：変性メタクリルレート）」、「HV153（主成分：変性メタクリルレート）」、「HV16（主成分：変性エポキシアクリレート）」、「V3００（主成分：ウレタン変性アクリレート）」、「OPM55（主成分：変性アクリレート）」；株式会社エポテック製アクリル系紫外線硬化型接着剤「OG112」、「OG113」、「OG114」、「OG115」、「OG116」、「OG119」、「OG124」、「OG125」、「OG127」、「OG134」、「OG146」、「OG160」、「OG161」、「OG162」；ｌｕｖａｎｔｉｘ社製アクリル系紫外線硬化型接着剤「EFIRON OA9352HT」、「EFIRON OA9352LT」、「EFIRON OA9352HN」、「EFIRON OA9352MI」、「EFIRON OA9352LN」などを市場から入手できる。
【００３４】
また、接着剤２０の厚さは５０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１０〜３０μｍである。ここで、石英系光導波路１２のスポット径をω１、Ｂｉ2Ｏ3系光導波路１３のスポット径をω２、両光導波路の軸方向における離間距離（ここでは接着剤２０の厚さ）をΔｚ、接着剤２０の屈折率をｎとすると、結合効率ηは下記式に従うことが知られており、スポット径が同じ場合、Δｚが大きくなるほど、即ち接着剤２０が厚くなるほど結合効率ηが小さくなり、換言すると結合損失が大きくなる。そのため、本発明では接着剤２０の厚さを上記値とすることが好ましい。
【００３５】
【数１】
2005156579.tif 000003
【００３６】
なお、接着剤２０の塗布方法には制限がなく、また硬化条件も接着剤２０の種類に応じて適宜選択される。
【実施例】
【００３７】
図３に示すように角度αが８．０°となるように一方の端面を研磨した第１の素子を用意した。
【００３８】
また、第２の素子を次のようにして作製した。
Ｂｉ2Ｏ3：４２．４モル％、Ｙｂ2Ｏ3：０．５モル％、ＳｉＯ2：２８．１モル％、Ｇａ2Ｏ3：２８．１モル％からなるマトリクスガラスに、Ｅｒ2Ｏ3を１．０モル％添加してＢｉ2Ｏ3系光導波路用ガラス原料を調製した。また、Ｂｉ2Ｏ3：４３モル％、ＳｉＯ2：４３モル％、Ｇａ2Ｏ3：１４モル％からなるクラッド用ガラス材料を調製した。
【００３９】
室温の石英ガラス基板上に、上記クラッド用ガラス材料をターゲットとし、スパッタリング法（ガス流量比：Ａｒ／Ｏ2＝３０／０．７５（ＳＣＣＭ）、雰囲気圧力０．３Ｐａ、投入電力２．５Ｗ／ｃｍ2、２. ４時間）により厚さ１０μｍの下部クラッド層を形成した。
【００４０】
次いで、下部クラッド層上に、上記Ｂｉ2Ｏ3系光導波路用ガラス材料をターゲットとし、スパッタリング法（ガス流量比：Ａｒ／Ｏ2＝３０／０．７５（ＳＣＣＭ）、雰囲気圧力：０．３Ｐａ、投入電力：２．５Ｗ／ｃｍ2、５７分間）により４μｍの厚さとなるように層を形成し、更にエッチングにより幅４μｍにパターニングして一辺が４μｍのＢｉ2Ｏ3系光導波路を形成した。
【００４１】
次いで、再び上記クラッド用ガラス材料をターゲットとし、スパッタリング法（ガス流量比：Ａｒ／Ｏ2＝３０／０．７５（ＳＣＣＭ）、雰囲気圧力：０．３Ｐａ、投入電力：２．５Ｗ／ｃｍ2、４．８時間）により、Ｂｉ2Ｏ3系光導波路を覆うように厚さ２０μｍの上部クラッド層を形成した。
【００４２】
そして、石英ガラス基板ごと幅１μｍ、長さ５０ｍｍに切り出し、更に図３に示すように角度βが５．８°となるように一方の端面を研磨して第２の素子とした。
【００４３】
（評価）
上記第１の素子および第２の素子を、図３に示すように、石英系光導波路とＢｉ2Ｏ3系光導波路とを調芯して対向させ、更にＮＴＴアドバンステクノロジー株式会社製のアクリル系紫外線硬化型接着剤「ＡＴ６００１」を用いて両接続側端面を接合し、光導波路回路を作製した。なお、接着剤の厚さは２０μｍとした。
【００４４】
作製した光導波路回路の伝播損失を測定したところ、１．５６μmの波長の光に対しては０．２ｄＢ、１．３１μmの波長の光に対しては０．３ｄＢ、０．９８μmの波長の光に対しては０．４ｄＢであった。なお、０．９８μmの波長の光は、１．２〜１．７μmの波長の光の増幅に用いられる励起光として典型的な光の一つである。０．９〜１．７μmの波長の光に対する伝播損失は０．５ｄＢ以下であることが好ましいが、この光導波路回路はこれを満足している。
【００４５】
また、第２の素子側から１．３１μmの波長の光を入射して光反射減衰量を測定したところ５３ｄＢであった。これは光増幅器を安定して動作させるのに充分な反射減衰量である。ここで、反射減衰量とは入射した光のパワーとその光が反射して戻ってきたパワーの比である。なお、反射は主に接続面で起こっていると考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明に係る光導波路回路の一実施形態を示す外観斜視図である。
【図２】図１のＸ−Ｚ平面図である。
【図３】図２の部分拡大図（接続部分）である。
【符号の説明】
【００４７】
１０  第１の素子
１１  第２の素子
１０ａ，１１ａ  クラッド
１０ｂ、１１ｂ  接続側端面
１２  石英系光導波路
１３  Ｂｉ2Ｏ3系光導波路
２０  接着剤
【図１】
2005156579.tif 000004
【図２】
2005156579.tif 000005
【図３】
2005156579.tif 000006