(57)【要約】【課題】高密度光記録媒体、３次元ディスプレイ、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高回折効率、良保存性、乾式処理を両立することができるホログラム記録材料、ホログラム記録材料及びホログラム記録方法を提供する。【解決手段】固有複屈折率を有する化合物を有するフォトリフラクティブ材料にて、ホログラム露光により固有複屈折率を有する化合物の配向変化を起こし、そのまま化学反応により固定化することにより、書き換えできない方式にて屈折率変調として干渉縞記録するホログラム記録方法。  上記ホログラム記録方法が可能なホログラム記録材料として、少なくとも、重合性基を有する低分子液晶性化合物、光導電性材料、重合開始剤を有し、書き換えできない方式であるホログラム記録材料。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
固有複屈折率を有する化合物を含有するフォトリフラクティブ材料を用いたホログラム記録方法であって、ホログラム露光により固有複屈折率を有する化合物の配向変化を起こし、そのまま化学反応により固定化することにより、書き換えできない方式にて屈折率変調として干渉縞記録することを特徴とするホログラム記録方法。
【請求項２】
前記固有複屈折率を有する化合物が重合性基を有し、重合により固定化することを特徴とする請求項１記載のホログラム記録方法。
【請求項３】
前記固有複屈折率を有する化合物が２次の非線形光学効果を有する化合物または液晶性化合物であることを特徴とする請求項１または２記載のホログラム記録方法。
【請求項４】
前記固有複屈折率を有する化合物が低分子液晶性化合物であることを特徴とする請求項１〜３記載のホログラム記録方法。
【請求項５】
フォトリフラクティブ材料を用いたホログラム記録材料であって、少なくとも、重合性基を有する低分子液晶性化合物、光導電性材料および重合開始剤を有し、書き換えできない方式であることを特徴とするホログラム記録材料。
【請求項６】
前記光導電性材料が下記に記載される、１）C60、２）TNF、３）TNFDM、４）TNF＋C60、５）TNFDM＋C60、６）PVK、７）PVK＋C60、８）PVK＋TNF、９）PVK＋TNFDM、10)PER＋NIACのいずれかであることを特徴とする請求項５記載のホログラム記録材料。
【化１】
2005099087.tif 000029
【請求項７】
前記重合性基を有する低分子液晶性化合物がネマチック液晶性化合物、スメクチック液晶性化合物、ディスコティックネマチック液晶性化合物、ディスコティック液晶性化合物、コレステリック液晶性化合物のいずれかであることを特徴とする請求項５または６記載のホログラム記録材料。
【請求項８】
ホログラム記録を行う際、液晶性化合物が液晶状態を取る温度にてホログラム記録を行うことを特徴とする請求項３または４記載のホログラム記録方法。
【請求項９】
ホログラム記録を行う際、電場を印加することを特徴とする請求項１〜４、８のいずれかに記載のホログラム記録方法。
【請求項１０】
体積型ホログラム記録を行うことを特徴とする請求項１〜４、８、９のいずれかに記載のホログラム記録方法。
【請求項１１】
５０回以上の多重記録を行うことを特徴とする請求項１０記載のホログラム記録方法。
【請求項１２】
請求項５〜７記載のホログラム記録材料を用いる光記録媒体。
【請求項１３】
請求項１〜４、８、９、１０、１１のいずれかに記載のホログラム記録方法を用いる３次元ディスプレイホログラム記録方法。
【請求項１４】
請求項５〜７記載のホログラム記録材料を用いる３次元ディスプレイホログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高密度光記録媒体、３次元ディスプレイ、ホログラフィック光学素子等への応用可能なホログラム記録材料及びホログラム記録方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ホログラム作製に関する一般的原理は、いくつかの文献や専門書、たとえば「ホログラフィックディスプレイ」（辻内順平編、産業図書［非特許文献１］）２章に記載されている。これらによれば、２光束のコヒーレントなレーザー光の一方を記録対象物に照射し、それからの全反射光を受け取れる位置に感光性のホログラム記録材料が置かれる。ホログラム記録材料には、対象物からの反射光の他に、もう一方のコヒーレントな光が、対象物に当たらずに直接照射される。対象物からの反射光を物体光、また直接記録材料に照射される光を参照光といい、参照光と物体光との干渉縞が画像情報として記録される。次に、処理された記録材料に参照光と同じ光（再生照明光）を照射すると、記録の際に対象物から記録材料に最初に到達した反射光の波面を再現するようにホログラムによって回折され、その結果、対象物の実像とほぼ同じ物体像を３次元的に観測することができる。
【０００３】
参照光と物体光を同じ方向からホログラム記録材料に入射させて形成されるホログラムを透過型ホログラムと呼ぶ。干渉縞は記録材料膜面方向に垂直または垂直に近い形で１ｍｍに１０００〜３０００本程度の間隔で形成される。
一方、互いにホログラム記録材料の反対側から入射させて形成したホログラムを、一般に反射型ホログラムと呼ぶ。干渉縞は記録材料膜面方向に平行または平行に近い形で１ｍｍに３０００〜７０００本程度の間隔で形成される。
【０００４】
一方、干渉縞間隔に対して膜厚が十分に厚い（通常は干渉縞間隔の５倍以上程度、または１μｍ以上程度の膜厚を言う）ホログラムを体積型ホログラムという。
それに対し膜厚が干渉縞間隔の５倍以下程度または１μｍ以下程度のホログラムを平面型または表面型という。
【０００５】
さらに、色素や銀などの吸収により干渉縞を記録するホログラムを振幅型ホログラムと呼び、表面レリーフまたは屈折率変調により記録するホログラムを位相型ホログラムと呼ぶ。振幅型ホログラムは光の吸収により、光の回折効率または反射効率が著しく低下するため光の利用効率の点で好ましくなく、通常は位相型ホログラムが好ましく用いられる。
【０００６】
体積位相型ホログラムでは、ホログラム記録材料中に光学的吸収ではなく屈折率の異なる干渉縞を多数形成することによって、光を吸収することなく光の位相を変調することができる。
特に反射型の体積位相型ホログラムはリップマン型ホログラムとも呼ばれ、ブラック回折による波長選択的反射により、高回折効率にてフルカラー化、白色再生、高解像度化が可能となり、高解像フルカラー３次元ディスプレイの提供が可能となる。
また最近ではその波長選択的反射を生かして、自動車搭載用のヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）、光ディスク用ピックアップレンズ、ヘッドマウントディスプレイ、液晶用カラーフィルター、反射型液晶反射板等に代表されるホログラム光学素子（ＨＯＥ）に広く実用化されてきている。
他にも例えば、レンズ、回折格子、干渉フィルター、光ファイバー用結合器、ファクシミリ用光偏光器、建築用窓ガラス等に実用または応用が検討されている。
【０００７】
ところで、最近の高度情報化社会の流れの中で、インターネット等のネットワークやハイビジョンＴＶが急速に普及している。また、ＨＤＴＶ（Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）の放映も間近にひかえて、民生用途においても１００GB以上の画像情報を安価簡便に記録するための高密度記録媒体の要求が高まっている。
さらにコンピューター高容量化等の流れの中で、コンピューターバックアップ用途や放送バックアップ用途等の業務用途においても、１TB程度あるいはそれ以上の大容量の情報を高速かつ安価に記録できる超高密度記録媒体が求められている。
そのような中、ランダムアクセスが不可能な磁気テープ媒体や可換不可能で故障しやすいハードディスクに対し、可換かつランダムアクセス可能で小型、安価な光記録媒体がより注目されてきている。しかしながら、ＤＶＤ−Ｒのような既存の２次元光記録媒体は物理原理上、たとえ記録再生波長を短波長化したとしてもせいぜい片面２５GB程度で、将来の要求に対応できる程の充分大きな記録容量が期待できるとは言えない状況である。
【０００８】
そこで、究極の超高密度記録媒体として、膜厚方向に記録を行う３次元光記録媒体が注目されてきている。その有力な方法として２光子吸収材料を用いる方法とホログラフィ（干渉）を用いる方法とがあり、そのため体積位相型ホログラム記録材料は、３次元光記録媒体（ホログラフィックメモリ）として、最近俄然注目を集めるようになった。
【０００９】
体積位相型ホログラム記録材料を用いたホログラフィックメモリでは、３次元物体から反射する物体光の代わりに、ＤＭＤやＬＣＤといった空間光変調素子（ＳＬＭ）を用いた２次元デジタル情報（信号光と呼ぶ）を数多く記録していく。記録の際、角度多重、位相多重、波長多重、シフト多重などの多重記録を行うため１ＴＢにも達する高容量化が可能となる。また、読み出しには通常CCDやCMOS等を用い、それらの並列書き込み、読み出しにより、１GBにも達する高転送速度化も可能となる。
【００１０】
ところが、ホログラフィックメモリに用いるホログラム記録材料に求められる要件は、下記の如く３次元ディスプレイやHOE用途よりもさらに厳しいものである。
（１）高感度であること
（２）高解像力を有すること
（３）ホログラムの回折効率が高いこと
（４）記録時の処理が乾式であり迅速であること
（５）多重記録が可能であること（ダイナミックレンジが広いこと）
（６）記録後の収縮率が小さいこと
（７）ホログラムの保存性が良いこと
【００１１】
特に、（１）高感度であることに対し、（３）回折効率が高いこと、（４）乾式処理であること、（６）記録後の収縮率が低いこと、（７）保存性が良いこと、は化学的に考えて相反する物性であり、その両立は極めて困難である。
【００１２】
ここで、公知の体積位相型ホログラム記録材料には、ライトワンス方式として重クロム酸ゼラチン方式、漂白ハロゲン化銀塩方式及び乾式処理フォトポリマー方式などが知られ、リライタブル方式として、フォトリフラクティブ方式及びフォトクロミック高分子方式などが知られる。
【００１３】
しかし、これらの公知の体積位相型ホログラム記録材料において、特に高感度ホログラフィックメモリ用途においては、求められる要件をすべて満たす材料は未だなく改良が望まれている。
具体的には例えば、重クロム酸ゼラチン方式は高い回折効率と低ノイズ特性という長所を有するが、保存性が極めて悪く、湿式処理が必要で低感度という問題を有し、ホログラフィックメモリ用途には適さない。
漂白ハロゲン化銀方式は高感度という長所を有するが、湿式処理が必要でかつ漂白処理が煩雑であり、また、散乱が大きい、耐光性に劣るという問題点を有し、ホログラフィックメモリ用途にはやはり一般的に適さない。
【００１４】
乾式処理フォトポリマー方式にはラジカル重合方式とカチオン重合方式とあり、バインダー、重合可能なモノマーおよび光重合開始剤を基本組成とする、高回折効率と乾式処理を両立できうる比較的実用的な方式といえる。
しかしながら、例えば特開平６−４３６３４号［特許文献１］、特開平２−３０８２号［特許文献２］等に開示されているラジカル重合方式においては、漂白ハロゲン化銀方式に比べると感度が１０００分の１程度であること、回折効率を高めるために２時間近い加熱定着処理を必要とすること、露光、定着後記録材料の収縮を伴い、再生時の回折波長及び角度が変化してしまう問題点があること、膜が柔らかいため保存性の点でも不足していること等の問題点がある。
その一方で、例えば特表２００１―５２３８４２号［特許文献３］、特表１１−５１２８４７号［特許文献４］等に開示されているカチオン重合方式は、重合後の収縮が少なく、酸素による重合阻害も受けず、剛性のある膜を与えるものの、その相反として、感度がさらに低下しており、実用の際には転送速度の点で大きな問題となると考えられる。また回折効率も低下しており、S／Ｎ比や多重記録の点で問題となると考えられる。
【００１５】
このように、フォトポリマー方式は物質移動を伴う方式であるため、ホログラフィックメモリへの応用を検討する際、保存性を良く、収縮性を小さくしようとすれば感度が低下し（カチオン重合方式）、逆に感度を向上させようとすれば、保存性、収縮性が悪化する（ラジカル重合方式）というジレンマに陥る。
【００１６】
一方、アゾベンゼン高分子材料等に代表されるフォトクロミック高分子方式も書き換え可能という長所を有するが、感度が極めて低く記録保存性も悪いという問題点を有する。例えば、WO９７４４３６５Ａ１号［特許文献５］には、アゾベンゼン高分子（フォトクロミック高分子）の屈折率異方性と配向制御を用いた書き換え可能なホログラム記録材料が提示されているが、アゾベンゼン異性化の量子収率が低い上に配向変化を伴う方式であるがために感度が極めて低く、また書き換え可能であることとの相反で記録保存性も悪いという問題点を有し、実用には程遠い。また、書き換え可能であることも、記録が間違って消えてしまうという点で好ましくない用途の場合も多い。
【００１７】
ここで、例えば、特開平５−９８１６６号［特許文献６］、特開平６−２３５８０９号［特許文献７］、特開平１１−３８４５７号［特許文献８］等に開示されているフォトリフラクティブ材料は書き換え可能という長所を有するが、今まで開示されてきた記録方法では、書き換え可能であることとの相反で記録がすぐ消えてしまうこと、記録時に高い電場印加が必要、低感度、等の問題点を有し、ホログラフィックメモリ用途には適さなかった。特に高感度化に対し、記録保存性、必要な電場は一般にトレードオフの関係となることが問題であった。
【００１８】
そこで、フォトリフラクティブ材料を、ホログラフィックメモリへ求められる要望を満たしたホログラム記録材料へ応用するためには、そのような課題やトレードオフを抜本的に解決した、とりわけ高感度と良保存性、乾式処理、低電場印加を両立できる全く新しい記録方式の開発が強く望まれていた。
【非特許文献１】「ホログラフィックディスプレイ」、辻内順平編、産業図書
【特許文献１】特開平６−４３６３４号公報
【特許文献２】特開平２−３０８２号公報
【特許文献３】特表２００１―５２３８４２号公報
【特許文献４】特表平１１−５１２８４７号公報
【特許文献５】国際公開第９７４４３６５Ａ１号パンフレット
【特許文献６】特開平５−９８１６６号公報
【特許文献７】特開平６−２３５８０９号公報
【特許文献８】特開平１１−３８４５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
そこで本発明の目的は、高密度光記録媒体、３次元ディスプレイ、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高回折効率、良保存性、乾式処理を両立することができるホログラム記録材料及びホログラム記録方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
発明者らの鋭意検討の結果、本発明の目的は、下記の手段により達成された。
（１）固有複屈折率を有する化合物を含有するフォトリフラクティブ材料を用いたホログラム記録方法であって、ホログラム露光により固有複屈折率を有する化合物の配向変化を起こし、そのまま化学反応により固定化することにより、書き換えできない方式にて屈折率変調として干渉縞記録することを特徴とするホログラム記録方法。
（２）該固有複屈折率を有する化合物が重合性基を有し、重合により固定化することを特徴とする（１）記載のホログラム記録方法。
（３）該固有複屈折率を有する化合物が２次の非線形光学効果を有する化合物または液晶性化合物であることを特徴とする（１）または（２）記載のホログラム記録方法。
（４）該固有複屈折率を有する化合物が低分子液晶性化合物であることを特徴とする（１）〜（３）記載のホログラム記録方法。
（５）フォトリフラクティブ材料を用いたホログラム記録材料であって、少なくとも、重合性基を有する低分子液晶性化合物、光導電性材料および重合開始剤を有し、書き換えできない方式であることを特徴とするホログラム記録材料。
（６）該光導電性材料が下記に記載される、１）C60、２）TNF、３）TNFDM、４）TNF＋C60、５）TNFDM＋C60、６）PVK、７）PVK＋C60、８）PVK＋TNF、９）PVK＋TNFDM、10)PER＋NIACのいずれかであることを特徴とする（５）記載のホログラム記録材料。
【００２１】
【化１】
2005099087.tif 000002
【００２２】
（７）該重合性基を有する低分子液晶性化合物がネマチック液晶性化合物、スメクチック液晶性化合物、ディスコティックネマチック液晶性化合物、ディスコティック液晶性化合物、コレステリック液晶性化合物のいずれかであることを特徴とする（５）または（６）記載のホログラム記録材料。
（８）該重合性基を有する低分子液晶性化合物がネマチック液晶性化合物、ディスコティックネマチック液晶性化合物、コレステリック液晶性化合物のいずれかであることを特徴とする（５）、（６）または（７）記載のホログラム記録材料。
（９）該重合性基を有する低分子液晶性化合物がネマチック液晶性化合物であることを特徴とする（５）〜（８）のいずれかに記載のホログラム記録材料。
（１０）（２）または（５）における重合性基がアクリル基、メタクリル基、スチリル基、ビニル基、オキシラン基、オキソラン基、ビニルエーテル基であることを特徴とする（２）〜（４）のいずれかに記載のホログラム記録または（５）〜（９）のいずれかに記載のホログラム記録材料。
（１１）該重合開始剤がラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、アニオン重合開始剤のいずれかであることを特徴とする（５）〜（１０）のいずれかに記載のホログラム記録材料。
（１２）（１１）にて、重合開始剤がケトン、有機過酸化物、ビスイミダゾール、トリハロメチル置換トリアジン、ジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、スルホニウム塩、有機ホウ酸塩、ジアリールヨードニウム有機ホウ素錯体、スルホニウム有機ホウ素錯体、金属アレーン錯体のいずれかのラジカル重合開始剤であることを特徴とする（１１）記載のホログラム記録材料
（１３）（１２）にて、重合開始剤が、トリハロメチル置換トリアジン、ジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、スルホニウム塩、金属アレーン錯体、スルホン酸エステルのいずれかのカチオン重合開始剤（酸発生剤）であることを特徴とする（１２）記載のホログラム記録材料。
（１４）（１１）にて、重合開始剤が、一般式（１−１）〜（１−４）にて表されるアニオン重合開始剤（塩基発生剤）であることを特徴とする（１１）記載のホログラム記録材料。
【００２３】
【化２】
2005099087.tif 000003
【００２４】
一般式（１−１）〜（１−４）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基のいずれかを表し、Ｒ1、Ｒ2は互いに連結して環を形成しても良く、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15は互いに連結して環を形成しても良い。Ｒ3、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ9はそれぞれ独立に置換基を表し、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ10、Ｒ11は互いに連結して環を形成しても良い。Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ12はアリール基またはヘテロ環基を表す。ｎ１は０または１の整数を表し、ｎ２〜ｎ４はそれぞれ独立に０〜５の整数を表す。
（１５）一般式（１−１）、（１−２）にて、ｎ１が１であることを特徴とする（１４）記載のホログラム記録材料。
（１６）一般式（１−１）にて、Ｒ3が２位または２，６位に置換したニトロ基、あるいは３、５位に置換したアルコキシ基のいずれかであることを特徴とする（１４）または（１５）記載のホログラム記録材料。
（１７）一般式（１−２）にて、Ｒ6が３、５位に置換したアルコキシ基であることを特徴とする（１４）または（１５）記載のホログラム記録材料。
（１８）該液晶性化合物を有するホログラム記録材料にホログラム記録を行う際、液晶性化合物が液晶状態を取る温度にてホログラム記録を行うことを特徴とする（３）または（４）記載のホログラム記録方法。
（１９）（５）〜（１７）のいずれかに記載のホログラム記録材料を加熱しながらホログラム記録を行うことを特徴とするホログラム記録方法。
（２０）（５）〜（１７）のいずれかに記載のホログラム記録材料を用いてホログラム記録を行う際、ホログラム露光した後、全面露光、加熱処理またはその両方を行うことを特徴とする（３）、（４）（１０）、（１８）または（１９）のいずれかに記載のホログラム記録方法。
（２１）ホログラム記録を行う際、電場を印加することを特徴とする（１）〜（４）、（１０）、（１８）〜（２０）のいずれかに記載のホログラム記録方法。
（２２）（２１）にて、印加する電場が0.001〜10V／μｍの範囲であることを特徴とする（２１）記載のホログラム記録方法。
（２３）（２２）にて、印加する電場が0.001〜1V／μｍの範囲であることを特徴とする（２２）記載のホログラム記録方法。
（２４）体積型ホログラム記録を行うことを特徴とする（１）〜（４）、（１０）、（１８）〜（２３）のいずれかに記載のホログラム記録方法。
（２５）５０回以上の多重記録を行うことを特徴とする（２４）記載のホログラム記録方法。
（２６）１００回以上の多重記録を行うことを特徴とする（２５）記載のホログラム記録方法。
（２７）（２５）にて、多重記録の際の露光量がいずれの多重記録の際も終始一定のまま多重記録できることを特徴とする（２５）または（２６）記載のホログラム記録方法。
（２８）（１）〜（４）、（１０）、（１８）〜（２７）のいずれかに記載のホログラム記録方法を用いる光記録方法。
（２９）（５）〜（１７）のいずれかに記載のホログラム記録材料を用いる光記録媒体。
（３０）（５）〜（１７）のいずれかに記載のホログラム記録材料が保存時に遮光カートリッジ内に保存されていることを特徴とする光記録媒体。
（３１）（１）〜（４）、（１０）、（１８）〜（２７）のいずれかに記載のホログラム記録方法を用いる３次元ディスプレイホログラム記録方法。
（３２）（５）〜（１７）のいずれかに記載のホログラム記録材料を用いる３次元ディスプレイホログラム。
（３３）（１）〜（４）、（１０）、（１８）〜（２７）のいずれかに記載のホログラム記録方法を用いるホログラフィック光学素子製造方法。
（３４）（５）〜（１７）のいずれかに記載のホログラム記録材料を用いるホログラフィック光学素子。
【発明の効果】
【００２５】
本発明のホログラム記録材料を用いることで、フォトリフラクティブ方式により、低分子液晶性化合物等の配向変化に基くホログラム記録を書き換えできない方式にて行うことができ、保存性が良好なホログラフィックメモリ等への応用が期待される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下に本発明のホログラム記録方法及びホログラム記録材料について詳しく説明する。
本発明のホログラム記録方法は固有複屈折率を有する化合物を有するフォトリフラクティブ材料にて、ホログラム露光により固有複屈折率を有する化合物の配向変化を起こし、そのまま化学反応により固定化することにより、書き換えできない方式にて屈折率変調による干渉縞記録することを特徴とするホログラム記録方法である。
【００２７】
ここで、本明細書においてフォトリフラクティブとは、１）光照射によるキャリアの生成、２）キャリアの輸送、３）キャリアの分布による空間電場の生成、および４）電気光学効果または固有複屈折率を有する化合物の再配向による屈折率の変調、の特性を示す効果のことを言い、フォトリフラクティブ材料とは、その効果を有する材料と定義する。
また、書き換えできない方式とは、不可逆反応により記録される方式であり、一度記録されたデータは、さらに上書き記録して書き換えしようとしても書き換えされることなく保存できる方式を示す。したがって重要でかつ長期保存が必要なデータの保存に適する。ただし無論、まだ記録されていない領域に新たに追記して記録していくことは可能である。そのような意味で、一般には「追記型」または「ライトワンス型」と呼ばれる。
【００２８】
ここで、固有複屈折率を有する化合物とは、好ましくは分子固有の長軸方向の屈折率（ｎe）と短軸方向の屈折率（ｎo）の異なる化合物を表す。ここで、固有複屈折率とは分子固有の複屈折率を表し、固体、液晶状態等のバルクの複屈折率から求めることもできるが、分子軌道計算により求めることもできる値である。本発明のホログラム記録方法は、固有複屈折率を有する化合物の配向制御をフォトリフラクティブ材料の手法にてホログラム露光により行うことにより屈折率変調による記録を行う方法であるため、固有複屈折率を有する化合物の屈折率異方性Δｎ＝｜ｎe―ｎo｜は大きい程好ましく、好ましくは０．０１以上であり、さらに好ましくは０．０５以上であり、最も好ましくは０．１以上である。
したがって、本発明の固有複屈折率を有する化合物は、好ましくは棒状で分子の長軸方向に共役が長くつながった化合物を表す。
【００２９】
本発明の固有複屈折率を有する化合物としてはいわゆる２色性化合物（色素）や、２次の非線形光学効果を有する化合物、液晶性化合物が好ましいが、より好ましくは、２次の非線形光学効果を有する化合物または液晶性化合物であり、さらに好ましくは低分子液晶性化合物であり、最も好ましくは少なくとも２環の環をコア部に有する低分子液晶性化合物である。
【００３０】
本発明の固有複屈折率を有する化合物、好ましくは２次の非線形光学効果を有する化合物または液晶性化合物は、ホログラム露光による配向変化後、配向がそのまま固定化されることが好ましい。したがって、本発明の固有複屈折率を有する化合物、好ましくは２次の非線形光学効果を有する化合物または液晶性化合物は反応性基を有していてホログラム露光時、あるいはその後の処理にて反応してその配向を固定化できることが好ましい。化学反応としては、不可逆的反応が好ましく、付加反応、開環付加反応、縮合反応、開環縮合反応、環化反応、求核反応、求電子反応、ラジカル反応、錯体化反応等が好ましい。
なお本発明において、化学反応は重合反応であることがより好ましい。重合反応としては、付加重合反応、開環付加重合反応、縮重合反応、開環縮重合反応、錯体化反応等が挙げられ、より好ましくは付加重合反応または開環付加重合反応が挙げられる。またその際、ラジカル重合反応、カチオン重合反応、アニオン重合反応のいずれかが起こることが好ましい。
したがって、本発明の固有複屈折率を有する化合物、好ましくは２次の非線形光学効果を有する化合物または液晶性化合物、より好ましくは低分子液晶性化合物は重合性基を有することがより好ましく、重合反応により固定化されることがより好ましい。その際の重合性基として好ましくは、アクリル基、メタクリル基、スチリル基、ビニル基、オキシラン基、オキソラン基、ビニルエーテル基である。
【００３１】
なお、本発明の液晶性化合物は、ネマチック液晶性化合物、スメクチック液晶性化合物、ディスコティックネマチック液晶性化合物、ディスコティック液晶性化合物、コレステリック液晶性化合物のいずれかであることが好ましく、ネマチック液晶性化合物、ディスコティックネマチック液晶性化合物、コレステリック液晶性化合物のいずれかであることがより好ましく、ネマチック液晶性化合物であることがさらに好ましい。
従って、本発明の液晶性化合物としては、上記のような相をとる、重合性基を有する低分子液晶性化合物であることがより好ましい。
【００３２】
本発明の液晶性化合物を有するホログラム記録材料にホログラム記録を行う際は、液晶性化合物が液晶状態を取る温度にてホログラム記録を行うことが好ましく、それが室温より高い温度の際はホログラム記録材料を加熱しながらホログラム記録を行うことも好ましい。
【００３３】
本発明のホログラム記録材料は、ホログラム記録方法が可能なホログラム記録材料として、少なくとも、重合性基を有する低分子液晶性化合物、光導電性材料、重合開始剤を有することが好ましい。
【００３４】
本発明の光導電性材料はホログラム露光時光を吸収して電荷分離により電荷を発生し伝導させて内部電場を形成できる材料を表し、光電荷分離材料、または光電荷分離材料及び電荷輸送材料から構成されることが好ましい。
本発明の光導電性材料として好ましくは、１）C60、２）TNF、３）TNFDM、４）TNF＋C60、５）TNFDM＋C60、６）PVK、７）PVK＋C60、８）PVK＋TNF 、９）PVK＋TNFDM、10)PER＋NIACのいずれかである。
【００３５】
本発明の重合開始剤は好ましくはラジカルを発生するラジカル重合開始剤、酸を発生するカチオン重合開始剤、塩基を発生するアニオン重合開始剤のいずれかである。
本発明の重合開始剤は、光導電性材料の励起状態からエネルギー移動または電子移動により、あるいは直接励起によりラジカル、酸または塩基を発生することが好ましい。
【００３６】
本発明のホログラム記録材料は低分子液晶性化合物、光導電性材料、重合開始剤の他にバインダー（高分子マトリックス化合物）を用いることも好ましい。バインダーは膜強度を増す、製膜性向上等の目的で用いられる。なお、低分子液晶性化合物の配向制御等の目的で高分子液晶性化合物をバインダーも兼ねて用いても良い。
さらに本発明のホログラム記録材料においては、必要に応じて重合性モノマー、重合性オリゴマー、架橋剤、熱安定剤、可塑剤、溶媒等の添加物を用いる。
ただし、本発明のホログラム記録材料での干渉縞記録（屈折率変調）自体においては、バインダー、重合性モノマー、重合性オリゴマー等は必ずしも必要なく、これらが用いられる時は、膜硬化、製膜性向上、保存性向上、収縮率低下等の目的によるためである。
【００３７】
本発明のホログラム記録材料にホログラム記録を行う際、光導電性材料による内部電場形成を促進するために電場を印加してもよい。その際、印加する電場としては、小さい方が実用上好ましく、0.001〜10V／μｍの範囲であることがより好ましく、0.001〜1V／μｍの範囲であることがさらに好ましい。
なお、電場を印加する際は、本発明のホログラム記録材料をITOのような透明導電性ガラス、または他の透明導電性膜を用いて片面または両面はさむことにより光記録媒体等を作成することが好ましい。
【００３８】
なお、本発明のホログラム記録材料は、ホログラム露光後湿式処理を行わないことが好ましい。
【００３９】
本発明のホログラム記録材料は好ましくは体積位相型のホログラム記録を行うための記録材料である。体積位相型のホログラム記録とは、先述したように、記録材料の膜面と平行もしくは平行に近い形（反射型）または垂直もしくは垂直に近い形（透過型）で、膜厚方向に１ｍｍに１０００〜７０００本の多数の干渉縞を屈折率変調として記録するものである。
【００４０】
本発明のホログラム記録材料においては、ホログラム露光の後に、光または熱、あるいはその両方により定着工程を行っても良い。
光定着の場合は、ホログラム記録材料全域に紫外光または可視光を全面照射（非干渉露光）する。用いる光源として好ましくは、可視光レーザー、紫外光レーザー、カーボンアーク、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍光ランプ、タングステンランプ、LED、有機ELなどが挙げられる。
熱定着の場合は、好ましくは４０℃〜１６０℃、より好ましくは６０℃〜１３０℃にて定着工程を行うことが好ましい。
光定着と熱定着を両方行う際は、光と熱を同時に加えても、光と熱を別々に加えてもよい。
【００４１】
なお、干渉縞記録の際の屈折率変調は０．００１〜０．５であることが好ましく、０．００５〜０．３であることがより好ましい。
【００４２】
ホログラム記録材料の回折効率ηは以下の式で与えられる。
η＝Ｉdiff／Ｉo      (式１)
ここでＩoは入射光強度であり、Ｉdiffは回折（透過型）または反射（反射型）された光強度である。回折効率は０〜１００％のいずれかの値を取るが、３０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが最も好ましい。
【００４３】
本発明のホログラム露光に用いる光は好ましくは波長２００〜２０００ｎｍの紫外光、可視光、赤外光のいずれかであり、より好ましくは波長３００〜７００ｎｍの紫外光または可視光であり、さらに好ましくは４００〜７００ｎｍの可視光である。
さらに、本発明のホログラム露光に用いる光としては、コヒーレントな（位相及び波長のそろった）レーザー光が好ましい。用いられるレーザーとしては、固体レーザー、半導体レーザー、気体レーザー、液体レーザーのいずれでも良いが、好ましいレーザー光としては例えば、５３２ｎｍのＹＡＧレーザー２倍波、３５５ｎｍのＹＡＧレーザー３倍波、４０５〜４１５ｎｍ付近のＧａＮレーザー、４８８または５１５ｎｍのＡｒイオンレーザー、６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザー、６４７ｎｍのＫｒイオンレーザー、６９４ｎｍのルビーレーザーや６３６、６３４、５３８、５３４、４４２ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザーなどが挙げられる。
また、ナノ秒やピコ秒オーダーのパルスレーザーを用いることも好ましい。
本発明のホログラム記録材料を光記録媒体に使用する場合は、５３２ｎｍのＹＡＧレーザー２倍波または４０５〜４１５ｎｍ付近のＧａＮレーザーを用いることが好ましい。
ホログラム露光（記録）に用いる光の波長に対し、ホログラム再生に用いる光の波長は同じであるか、長波長であることが好ましく、同じであることがより好ましい。
【００４４】
ホログラム記録材料の感度は、一般に単位面積当たりの露光量（ｍJ／cm2）で表され、この値が小さい程感度が高いと言える。しかし、どの時点の露光量をもって感度とするかは、文献、特許によってまちまちであり、記録（屈折率変調）のはじまる露光量とする場合、最大回折効率（最大屈折率変調）を与える露光量とする場合、最大回折効率の半分の回折効率を与える露光量とする場合、露光量Eに対し、回折効率の傾きが最大となる露光量とする場合などある。
そこで、本発明においては、感度は「最大回折効率の半分の回折効率を与える露光量（ｍJ／cm2）」と定義する。本発明のホログラム記録材料の感度は50mJ／cm2以下であることが好ましく、20mJ／cm2以下であることがより好ましいく、10mJ／cm2以下であることがさらに好ましく、１mJ／cm2以下であることが最も好ましい。
【００４５】
本発明のホログラム記録材料は、光記録媒体に用いる際、容量（記録密度）を向上させるために多重記録を行うことが必須である。その際、５０回以上の多重記録を行うことがより好ましく、１００回以上の多重記録を行うことがさらに好ましい。さらに、多重記録の際の露光量がいずれの多重記録の際も終始一定のまま多重記録できることが記録システム簡略化、S／Ｎ比向上等の点でより好ましい。
【００４６】
以下に本発明のホログラム記録材料の各成分について詳しく説明する。
なお、本発明において、特定の部分を「基」と称した場合には、特に断りの無い限りは、一種以上の（可能な最多数までの）置換基で置換されていても、置換されていなくても良いことを意味する。例えば、「アルキル基」とは置換または無置換のアルキル基を意味する。また、本発明における化合物に使用できる置換基は、どのような置換基でも良い。
また、本発明において、特定の部分を「環」と称した場合、あるいは「基」に「環」が含まれる場合は、特に断りの無い限りは単環でも縮環でも良く、置換されていても置換されていなくても良い。
例えば、「アリール基」はフェニル基でもナフチル基でも良く、置換フェニル基でも良い。
【００４７】
まず本発明の液晶性化合物について説明する。
【００４８】
先述したように、本発明の液晶性化合物は好ましくは低分子液晶性化合物であり、さらに好ましくは少なくとも２環以上の環をコア部に有する低分子液晶性化合物である。
さらに本発明の液晶性化合物は反応性基を有することが好ましく、重合性基を有することがより好ましい。したがって本発明の液晶性化合物としては、重合性基を有する低分子液晶性化合物であることがより好ましい。
【００４９】
本発明の重合性基を有する低分子液晶性化合物として好ましくは、下記一般式（２）にて表される。
【００５０】
【化３】
2005099087.tif 000004
【００５１】
一般式（２）中、L101は液晶性コア部を表し、液晶性コア部の例としては、岡野光治、小林駿介共著、「液晶基礎編」、培風館、1985年、「化学総説No.22、液晶の化学」、1994年等に記載されているが、本発明において好ましくは、以下のいずれかにて表される。図中液晶性コア部から伸びた線は置換位置を表す。ただし線が記載されている以外の個所に置換基が置換しても良い。
【００５２】
【化４】
2005099087.tif 000005
【００５３】
【化５】
2005099087.tif 000006
【００５４】
また、液晶性コア部には液晶性の出現を助長するアルキル基（好ましくは炭素原子数（以下C数という）１〜２０、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ベンジル）、アルケニル基（好ましくはＣ数２〜２０、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、１，３−ブタジエニル）、アルキニル基（好ましくはＣ数２〜２０、例えばエチニル、２−プロピニル、１，３−ブタジイニル、２−フェニルエチニル）、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、アルコキシ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えばメトキシ、エトキシ）、アシルアミノ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ）、アミノ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ）等が１個または複数個置換しても良い。
【００５５】
なお、本発明の液晶性コア部は、ネマチック液晶性、スメクチック液晶性、ディスコティックネマチック液晶性、ディスコティック液晶性、コレステリック液晶性のいずれかであることが好ましく、ネマチック液晶性、ディスコティックネマチック液晶性、コレステリック液晶性のいずれかであることがより好ましく、ネマチック液晶性であることがさらに好ましい。
【００５６】
一般式（２）中、R101は重合性基または水素原子を表し、好ましくはアクリル基、メタクリル基、スチリル基、ビニル基、オキシラン基、オキソラン基、ビニルエーテル基、水素原子を表し、より好ましくはアクリル基、メタクリル基、オキシラン基、またはオキソラン基を表す。
【００５７】
一般式（２）中、L102は連結基を表し、好ましくはL102はアルキレン基（好ましくはＣ数１〜２０、例えばメチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、オクチレン）、アルケニレン基（好ましくはＣ数２〜２０、例えばエテニレン、プロペニレン、ブテニレン、ブタジエニレン）、アルキニレン基（好ましくはＣ数２〜２０、例えばエチニレン、ブタジイニレン）、アリーレン基（好ましくはＣ数６〜２６、例えば1,4−フェニレン、１，４−ナフチレン、２，６−ナフチレン）、ヘテリレン基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、２，５−チエニレン、２，５−ピロリレン、２，５−ピリジニレン、２，５−ピリミジニレン）、−O−、−S−、−NR102−、−COO−、−CONR103−が単独あるいは複数個連結して成る連結基である。なお、R102、R103はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基（好ましくはＣ数１〜２０、例えばメチル、エチル、ベンジル）、アルケニル基（好ましくはＣ数２〜２０、例えばビニル、アリル）、シクロアルキル基（好ましくはＣ数３〜２０、例えばシクロヘキシル、シクロペンチル）、アリール基（好ましくはＣ数６〜２０、たとえばフェニル、２−ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば２−チエニル、２−ピリジニル、２−ピリミジニル）が挙げられる。
【００５８】
一般式（２）中、n101は１〜８の整数を表し、L101がネマチック液晶性コア部、スメクチック液晶性コア部、コレステリック液晶性コア部の時はn101は１または２が好ましく、L101がディスコティックネマチック液晶性コア部、ディスコティック液晶性コア部のときはn101は３〜８の整数であることが好ましい。
n102は０または１を表す。
【００５９】
なお、一般式（２）で表される化合物は少なくとも１個の重合性基を有する。
【００６０】
以下に一般式（２）で表される、本発明の重合性基を有する液晶性化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるわけではない。
【００６１】
【化６】
2005099087.tif 000007
【００６２】
【化７】
2005099087.tif 000008
【００６３】
【化８】
2005099087.tif 000009
【００６４】
なお、本発明の液晶性化合物は、岡野光治、小林駿介共著、「液晶基礎編」、培風館、1985年、「化学総説No.22、液晶の化学」、1994年等に記載の方法等を参考にして合成することができる。
【００６５】
次に、本発明の２次の非線形光学効果を有する化合物について説明する。
【００６６】
本発明の２次の非線形光学効果として好ましくは、ポッケルス効果（電気光学効果）である。本発明の２次の非線形光学効果を有する化合物は重合性基を有することが好ましい。
【００６７】
以下に、本発明の重合性基を有する２次の非線形効果を有する化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれに限定されるわけではない。
【００６８】
【化９】
2005099087.tif 000010
【００６９】
【化１０】
2005099087.tif 000011
【００７０】
次に本発明のホログラム記録材料における重合開始剤について詳しく説明する。
本発明の重合開始剤とは、光導電性材料の励起状態からエネルギー移動または電子移動（電子を与えるまたは電子を受ける）を行うことにより、または直接励起されることによりラジカルまたは酸（ブレンステッド酸またはルイス酸）、塩基（ブレンステッド塩基またはルイス塩基）を発生し、重合性化合物の重合を開始することができる化合物のことである。
本発明の重合開始剤は好ましくは、ラジカルを発生して重合性化合物のラジカル重合を開始することができるラジカル重合開始剤と、ラジカルを発生することなく酸のみ発生して重合性化合物のカチオン重合のみを開始することができるカチオン重合開始剤と、ラジカル及び酸を両方発生して、ラジカル及びカチオン重合両方を開始することができる重合開始剤、塩基を発生してアニオン重合を開始できるアニオン重合開始剤のいずれかである。
【００７１】
まず、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤及びその両方を開始することができる開始剤について説明する。
本発明の重合開始剤としては好ましくは、以下の１２個の系が挙げられる。なお、これらの重合開始剤は、必要に応じて任意の比率で２種以上の混合物として用いてもよい。
【００７２】
１）ケトン系重合開始剤
２）有機過酸化物系重合開始剤
３）ビスイミダゾール系重合開始剤
４）トリハロメチル置換トリアジン系重合開始剤
５）ジアゾニウム塩系重合開始剤
６）ジアリールヨードニウム塩系重合開始剤
７）スルホニウム塩系重合開始剤
８）ホウ酸塩系重合開始剤
９）ジアリールヨードニウム有機ホウ素錯体系重合開始剤
10）スルホニウム有機ホウ素錯体系重合開始剤
11)金属アレーン錯体系重合開始剤
12)スルホン酸エステル系重合開始剤
【００７３】
１）ケトン系重合開始剤
【００７４】
ケトン系重合開始剤としては、好ましくは芳香族ケトン、芳香族ジケトン等が挙げられる。
好ましい例としては例えば、ベンゾフェノン誘導体（例えばベンゾフェノン、ミヒラーズケトン）、ベンゾイン誘導体（例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−アリルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン）、アセトイン誘導体（アセトイン、ピバロイン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）、アシロインエーテル誘導体（例えばジエトキシアセトフェノン）、α−ジケトン誘導体（ジアセチル、ベンジル、４，４´−ジメトキシベンジル、ベンジルジメチルケタール、２，３−ボルナンジオン（カンファーキノン）、２，２，５，５−テトラメチルテトラヒドロ−３，４−フラン酸（イミダゾールトリオン））、キサトン誘導体（例えばキサントン）、チオキサントン誘導体（例えば、チオキサントン、２−クロロチオキサントン）、ケトクマリン誘導体等が挙げられる。
【００７５】
市販品としては例えば、チバガイギー社より上市されている下記式で表されるイルガキュアー１８４、６５１、９０７等が挙げられる。
【００７６】
【化１１】
2005099087.tif 000012
【００７７】
また、好ましい例としてキノン系重合開始剤（例えば、９,１０−アンスラキノン、１−クロロアンスラキノン、２−クロロアンスラキノン、２−メチルアンスラキノン、２−エチルアンスラキノン、２−ｔ−ブチルアンスラキノン、オクタメチルアンスラキノン、１,４−ナフトキノン、９,１０−フェナンスレンキノン、１,２−ベンズアンスラキノン、２,３−ベンズアンスラキノン、２−メチル−１,４−ナフトキノン、２,３−ジクロロナフトキノン、１,４−ジメチルアンスラキノン、２,３−ジメチルアンスラキノン、２−フェニルアンスラキノン、２,３−ジメチルアンスラキノン、アンスラキノンアルファ−スルホン酸のナトリウム塩、３−クロロ−２−メチルアンスラキノン、レテネキノン、７,８,９,１０−テトラヒドロナフタセンキノン、並びに１,２,３,４−テトラヒドロベンズ(ａ)アンスラセン−７,１２−ジオン）も挙げられる。
【００７８】
２）有機過酸化物系重合開始剤
【００７９】
好ましい例としては、ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド、特開昭５９−１８９３４０号公報および特開昭６０−７６５０３号公報記載の３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００８０】
３）ビスイミダゾール系重合開始剤
【００８１】
ビスイミダゾール系重合開始剤にて好ましいのは、ビス（2,4,5−トリフェニル）イミダゾール誘導体であり、例えばビス（２，４，５−トリフェニル）イミダゾール、２−（ｏ−クロロフェニル）−4,5−ビス（ｍ−メトキシフェニル）−イミダゾールダイマー（CDM−HABI）、1,1′−ビイミダゾール、2,2′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−4,4′5,5′−テトラフェニル（o−Cl−HABI）、1H−イミダゾール、2,5−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４−〔3,4−ジメトキシフェニル〕−ダイマー（TCTM−HABI）などが挙げられる。
【００８２】
ビスイミダゾール系重合開始剤は水素供与体と共に用いられることが好ましい。水素供与体として好ましくは、２−メルカプトベンズオキサゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、４−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール−３−チオール、などが挙げられる。
【００８３】
４）トリハロメチル置換トリアジン系重合開始剤
【００８４】
トリハロメチル置換トリアジン系重合開始剤は好ましくは以下の一般式（１１）にて表される。
【００８５】
【化１２】
2005099087.tif 000013
【００８６】
一般式（１１）中、R21、R22、R23はそれぞれ独立にハロゲン原子を表し、好ましくは塩素原子を表す。R24、R25はそれぞれ独立に水素原子,−CR21R22 R23、置換基を表す。
置換基として好ましい例は例えば、アルキル基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ベンジル、３−スルホプロピル、４−スルホブチル、カルボキシメチル、５−カルボキシペンチル）、アルケニル基（好ましくはＣ数２〜２０、例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、１，３−ブタジエニル）、シクロアルキル基（好ましくはＣ数３〜２０、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル）、アリール基（好ましくはＣ数６〜２０、例えば、フェニル、２−クロロフェニル、４−メトキシフェニル、３−メチルフェニル、１−ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ）、アルキニル基（好ましくはＣ数２〜２０、例えば、エチニル、２−プロピニル、１，３−ブタジイニル、２−フェニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、アミノ基（好ましくはＣ数０〜２０、例えば、アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、アニリノ）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基、アシル基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、アルコキシ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、メトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（好ましくはＣ数６〜２６、例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキルチオ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、メチルチオ、エチルチオ）、アリールチオ基（好ましくはＣ数６〜２０、例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、アルキルスルホニル基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくはＣ数６〜２０、例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンンスルホニル）、スルファモイル基（好ましくはＣ数０〜２０、例えばスルファモイル、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、カルバモイル基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル）、アシルアミノ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ）、イミノ基（好ましくはＣ数２〜２０、例えばフタルイミノ）、アシルオキシ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ）、アルコキシカルボニル基（好ましくはＣ数２〜２０、例えば、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル）、カルバモイルアミノ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えばカルバモイルアミノ、Ｎ−メチルカルバモイルアミノ、Ｎ−フェニルカルバモイルアミノ）、であり、より好ましくは、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基である。
R24は好ましくは−CR21R22R23を、より好ましくは−CCl3基を表し、R25 は好ましくは, −CR21R22R23、アルキル基、アルケニル基、アリール基である
。
【００８７】
トリハロメチル置換トリアジン系重合開始剤の具体例としては、２−メチル−４,６−ビス(トリクロロメチル)−１,３,５−トリアジン、２,４,６−トリス(トリクロロメチル)−１,３,５−トリアジン、２−フェニル−４,６−ビス(トリクロロメチル)−１,３,５−トリアジン、２−（４’−メトキシフェニル）−４,６−ビス(トリクロロメチル)−１,３,５−トリアジン、２−（４’−トリフルオロメチルフェニル）−４,６−ビス(トリクロロメチル)−１,３,５−トリアジン、２,４−ビス(トリクロロメチル)−６−(p−メトキシフェニルビニル)−１,３,５−トリアジン、２−(４'−メトキシ−１'−ナフチル)−４,６−ビス(トリクロロメチル)−１,３,５−トリアジンなどが例示される。好ましい例として、英国特許１３８８４９２号および特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物も挙げられる。
【００８８】
５）ジアゾニウム塩系重合開始剤
【００８９】
ジアゾニウム塩系重合開始剤は好ましくは以下の一般式（１２）にて表される。
【００９０】
【化１３】
2005099087.tif 000014
【００９１】
R26はアリール基またはヘテロ環基を表し、好ましくはアリール基であり、より好ましくはフェニル基である。
R27は置換基を表し（以上置換基として好ましくはR24にて挙げた置換基の例に同じ）、a21は０〜５の整数を表し、好ましくは０〜２の整数を表す。a21が２以上の時、複数のR27は同じでも異なっても良く、互いに連結して環を形成しても良い。
X21-は、HX21がpKa４以下（水中、25℃）、好ましくは３以下、より好ましくは２以下の酸となる陰イオンで、好ましくは例えば、クロリド、ブロミド、ヨージド、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート、パークロレート、トリフルオロメタンスルホネート、９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホネート、メタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、トシレート、テトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどである。
【００９２】
ジアゾニウム系酸発生剤の具体例としては例えば、ベンゼンジアゾニウム、４−メトキシジアゾニウム、４−メチルジアゾニウムの上記X21-塩などが挙げられる。
【００９３】
６）ジアリールヨードニウム塩系重合開始剤
【００９４】
ジアリールヨードニウム塩系重合開始剤は好ましくは以下の一般式（１３）にて表される。
【００９５】
【化１４】
2005099087.tif 000015
【００９６】
一般式（１３）中、X21-は一般式（１２）と同義である。R28、R29はそれぞれ独立に置換基を表し（以上置換基として好ましくはR24にて挙げた置換基の例に同じ）、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基を表す。
a22、a23はそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、好ましくは０〜１の整数を表す。a21が２以上の時、複数のR28、R29は同じでも異なっても良く、互いに連結して環を形成しても良い。
【００９７】
ジアリールヨードニウム塩系重合開始剤の具体例としては、ジフェニルヨードニウム、４,４'−ジクロロジフェニルヨードニウム、４,４'−ジメトキシジフェニルヨードニウム、４,４'−ジメチルジフェニルヨードニウム、４,４'−ジ−t-ブチルジフェニルヨードニウム、４,４'−ジ−t-アミルジフェニルヨードニウム、３,３'−ジニトロジフェニルヨードニウム、フェニル（ｐ−メトキシフェニル）ヨードニウム、フェニル（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−シアノフェニル）ヨードニウムなどのクロリド、ブロミド、ヨージド、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート、パークロレート、トリフルオロメタンスルホネート、９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホネート、メタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、トシレート、テトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、パーフルオロブタンスルホネート、ペンタフルオロベンゼンスルホネートなどが挙げられる。
また、「マクロモレキュールス（Macromolecules）」、第１０巻、ｐ１３０７（１９７７年）に記載の化合物、特開昭５８−２９８０３号公報、特開平１−２８７１０５号公報、特願平３−５５６９号に記載されているようなジアリールヨードニウム塩類も挙げられる。
【００９８】
７）スルホニウム塩系重合開始剤
【００９９】
スルホニウム塩系重合開始剤は好ましくは以下の一般式（１４）にて表される。
【０１００】
【化１５】
2005099087.tif 000016
【０１０１】
一般式（１４）中、X21-は一般式（１２）と同義である。R30、R31、R32 はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基、ヘテロ環基（以上好ましい例はR24に同じ）を表し、好ましくは、アルキル基、フェナシル基、アリール基を表す。
【０１０２】
スルホニウム塩系重合開始剤の具体例としては、トリフェニルスルホニウム、ジフェニルフェナシルスルホニウム、ジメチルフェナシルスルホニウム、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム、４−ターシャリーブチルトリフェニルスルホニウム、トリス(４−メチルフェニル)スルホニウム、トリス(４−メトキシフェニル)スルホニウム、４−フェニルチオトリフェニルスルホニウム、ビス−１−（４−（ジフェニルスルホニウム）フェニル）スルフィドなどのスルホニウム塩のクロリド、ブロミド、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート、パークロレート、トリフルオロメタンスルホネート、９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホネート、メタンスルホネート、ベンゼンスルホネート、４−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、トシレート、テトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、パーフルオロブタンスルホネート、ペンタフルオロベンゼンスルホネートなどが例示される。
【０１０３】
８)ホウ酸塩系重合開始剤
【０１０４】
ホウ酸塩系重合開始剤は好ましくは以下の一般式（１５）にて表される。
【０１０５】
【化１６】
2005099087.tif 000017
【０１０６】
一般式（１５）中、R33、R34、R35、R36はそれぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基を表し（以上好ましい例はR24に同じ）、好ましくはアルキル基またはアリール基である。ただし、R33、R34、R35、R36の全てが同時にアリール基となることはない。X22+ は陽イオンを表す。
より好ましくはR33、R34、R35はアリール基であり、R36がアルキル基であり、最も好ましくはR33、R34、R35はフェニル基であり、R36はn−ブチル基である。
【０１０７】
ホウ酸塩系重合開始剤の具体例としては、テトラブチルアンモニウムｎ−ブチルトリフェニルボレート、テトラメチルアンモニウムsec−ブチルトリフェニルボレートなどが挙げられる。
【０１０８】
９）ジアリールヨードニウム有機ホウ素錯体系重合開始剤
【０１０９】
ジアリールヨードニウム有機ホウ素錯体塩系重合開始剤は好ましくは以下の一般式（１６）にて表される。
【０１１０】
【化１７】
2005099087.tif 000018
【０１１１】
一般式（１６）中、R28、R29、a22、a23は一般式（１３）と同義であり、R33、R34、R35、R36は一般式（１５）と同義である。
【０１１２】
ジアリールヨードニウム有機ホウ素錯体塩系重合開始剤の具体例としては以下に示すI-1〜I-3が挙げられる。
【０１１３】
【化１８】
2005099087.tif 000019
【０１１４】
さらに、特開平３−７０４号公報記載のジフェニルヨードニウム（ｎ−ブチル）トリフェニルボレートなどのヨードニウム有機ホウ素錯体も好ましい例として挙げられる。
【０１１５】
１０）スルホニウム有機ホウ素錯体系重合開始剤
【０１１６】
スルホニウム有機ホウ素錯体塩系重合開始剤は好ましくは以下の一般式（１７）にて表される。
【０１１７】
【化１９】
2005099087.tif 000020
【０１１８】
一般式（１７）中、R33、R34、R35、R36は一般式（１５）と同義である。R37、R38、R39はそれぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基であり（以上好ましい例はR24に同じ）、より好ましくはアルキル基、フェナシル基、アリール基、アルケニル基である。R37、R38、R39は互いに連結して環を形成しても良い。R40は酸素原子もしくは孤立電子対を表す。
【０１１９】
スルホニウム有機ホウ素錯体塩系重合開始剤の具体例としては以下に示すI-４〜I-１０が挙げられる。
【０１２０】
【化２０】
2005099087.tif 000021
【０１２１】
さらに、特開平５−２５５３４７号、特開平５−２１３８６１号記載のスルホニウム有機ホウ素錯体も好ましい例として挙げられる。
【０１２２】
１１）金属アレーン錯体系重合開始剤
【０１２３】
金属アレーン錯体系重合開始剤としては、金属は鉄またはチタンが好ましい。
具体的には、特開平１−５４４４０号、ヨーロッパ特許第１０９８５１号、ヨーロッパ特許第１２６７１２号および「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエンス（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」、第３０巻、第１７４頁（１９８６年）記載の鉄アレーン錯体、「オルガノメタリックス（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ）」、第８巻、第２７３７頁（１９８９年）記載の鉄アレーン有機ホウ素錯体、「Ｐｒｏｇ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ、第２１巻、７〜８頁（１９９６年）記載の鉄アレーン錯体塩、特開昭６１−１５１１９７号公報に記載されるチタセノン類、などが好ましい例として挙げられる。
【０１２４】
１２）スルホン酸エステル系重合開始剤
【０１２５】
スルホン酸エステル系重合開始剤としては、好ましくはスルホン酸エステル類、スルホン酸ニトロベンジルエステル類、イミドスルホネート類、等を挙げることができる。
【０１２６】
スルホン酸エステル類の具体例としては好ましくは、ベンゾイントシレート、ピロガロールトリメシレート、スルホン酸ニトロベンジルエステル類の具体例としては好ましくは、ｏ−ニトロベンジルトシレート、２，６−ジニトロベンジルトシレート、２'，６'−ジニトロベンジル−４−ニトロベンゼンスルホネート、ｐ−ニトロベンジル−９，１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネート、２−ニトロベンジルトリフルオロメチルスルホネート、イミドスルホネート類の具体例として好ましくはＮ−トシルフタル酸イミド、９−フルオレニリデンアミノトシレート、α−シアノベンジリデントシルアミン、等が挙げられる。
【０１２７】
１３）その他の重合開始剤
【０１２８】
前記１）〜１２）以外の重合開始剤としては、４，４’−ジアジドカルコンのような有機アジド化合物、Ｎ−フェニルグリシンなどの芳香族カルボン酸、ポリハロゲン化合物（ＣＩ4、ＣＨＩ3、ＣＢｒＣＩ3）、１−ベンジル−２−シアノピリジニウム塩ヘキサフルオロアンチモネートのようなピリジニウム塩、フェニルイソオキサゾロン、シラノールアルミニウム錯体、特開平３−２０９４７７号公報に記載されるアルミナート錯体などが挙げられる。
【０１２９】
ここで、本発明のラジカルまたはカチオン重合開始剤は、
ａ）ラジカル重合を活性化できる重合開始剤
ｂ）カチオン重合のみ活性化できる重合開始剤
ｃ）ラジカル重合とカチオン重合を同時に活性化できる重合開始剤
分類することができる。
【０１３０】
ａ）ラジカル重合を活性化できる重合開始剤とは、光導電性材料の励起状態からエネルギー移動または電子移動（増感色素に電子を与えるまたは増感色素から電子を受ける）を行うか、あるいは直接励起によりラジカルを発生し、重合性化合物のラジカル重合を開始することができる重合開始剤のことである。
前記の中では、以下の系がラジカル重合を活性化することができる重合開始剤系である。
１）ケトン系重合開始剤
２）有機過酸化物系重合開始剤
３）ビスイミダゾール系重合開始剤
４）トリハロメチル置換トリアジン系重合開始剤
５）ジアゾニウム塩系重合開始剤
６）ジアリールヨードニウム塩系重合開始剤
７）スルホニウム塩系重合開始剤
８）ホウ酸塩系重合開始剤
９）ジアリールヨードニウム有機ホウ素錯体系重合開始剤
10）スルホニウム有機ホウ素錯体系重合開始剤
11）金属アレーン錯体系重合開始剤
【０１３１】
ラジカル重合を活性化できる重合開始剤としてより好ましくは、
１）ケトン系重合開始剤
３）ビスイミダゾール系重合開始剤
４）トリハロメチル置換トリアジン系重合開始剤
６）ジアリールヨードニウム塩系重合開始剤
７）スルホニウム塩系重合開始剤
が挙げられ、さらに好ましくは、
３）ビスイミダゾール系重合開始剤
６）ジアリールヨードニウム塩系重合開始剤
７）スルホニウム塩系重合開始剤
が挙げられる。
【０１３２】
カチオン重合のみ活性化できる重合開始剤とは、光導電性材料の励起状態からエネルギー移動または電子移動を行うか、あるいは直接励起によりラジカルを発生することなく酸（ブレンステッド酸またはルイス酸）を発生し、酸により重合性化合物のカチオン重合を開始することができる重合開始剤のことである。
【０１３３】
前記の系の中では、以下の系がカチオン重合のみを活性化することができる重合開始剤系である。
１２）スルホン酸エステル系重合開始剤
【０１３４】
なお、カチオン重合開始剤としては、例えば「ＵＶ硬化;科学と技術(ＵＶＣＵＲＩＮＧ;ＳＣＩＥＮＣＥ  ＡＮＤ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ)」[p．２３〜７６、Ｓ．ピーター・パーパス(Ｓ．ＰＥＴＥＲ  ＰＡＰＰＡＳ)編集、ア・テクノロジー・マーケッティング・パブリケーション(Ａ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹＭＡＲＫＥＴＩＮＧ  ＰＵＢＬＩＣＡＴＩＯＮ)]及び「コメンツ・インオーグ．ケム．(Ｃomments Ｉnorg．Ｃhem．)」[Ｂ．クリンゲルト、Ｍ．リーディーカー及びＡ．ロロフ(Ｂ．ＫＬＩＮＧＥＲＴ、Ｍ．ＲＩＥＤＩＫＥＲ  and Ａ．ＲＯＬＯＦＦ)、第７巻、Ｎo．３、p１０９−１３８(１９８８)]などに記載されているものを用いることもできる。
【０１３５】
ラジカル重合とカチオン重合を同時に活性化できる重合開始剤とは、光導電性材料の励起状態からエネルギー移動または電子移動を行うか、あるいは直接励起によりラジカルまたは酸（ブレンステッド酸またはルイス酸）を同時発生し、発生するラジカルにより重合性化合物のラジカル重合を、また発生する酸により重合性化合物のカチオン重合を開始することができる重合開始剤のことである。
【０１３６】
前記の系の中では、以下の系がラジカル重合とカチオン重合を同時に活性化できる重合開始剤系である。
４）トリハロメチル置換トリアジン系重合開始剤
５）ジアゾニウム塩系重合開始剤
６）ジアリールヨードニウム塩系重合開始剤
７）スルホニウム塩系重合開始剤
13）金属アレーン錯体系重合開始剤
【０１３７】
ラジカル重合とカチオン重合を活性化できる重合開始剤として好ましくは、
６）ジアリールヨードニウム塩系重合開始剤
７）スルホニウム塩系重合開始剤
を挙げることができる。
【０１３８】
次に、本発明のアニオン重合開始剤について述べる。本発明のアニオン重合開始剤は、好ましくは塩基（ブレンステッド塩基またはルイス塩基）を発生してアニオン重合を開始できる塩基発生剤のことである。
その際、塩基発生剤とは、光導電性材料の励起状態からのエネルギー移動または電子移動か、あるいは直接励起により塩基を発生することができる化合物である。塩基発生剤は暗所では安定であることが好ましい。本発明における塩基発生剤は、光導電性材料の励起状態からの電子移動により塩基を発生することができる化合物であることが好ましい。
本発明の塩基発生剤は、光によりブレンステッド塩基を発生することが好ましく、有機塩基を発生することがさらに好ましく、有機塩基としてアミン類を発生することが特に好ましい。
【０１３９】
本発明のアニオン重合開始剤、つまり塩基発生剤として好ましくは、一般式（１−１）〜（１−４）で表される。なお、これらの塩基発生剤は、必要に応じて任意の比率で２種以上の混合物として用いてもよい。
【０１４０】
一般式（１−１）または（１−２）にて、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基（好ましくは炭素原子数（以下Ｃ数という）１〜２０、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−オクタデシル、ベンジル、３−スルホプロピル、４−スルホブチル、カルボキシメチル、５−カルボキシペンチル）、アルケニル基（好ましくはＣ数２〜２０、例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、１，３−ブタジエニル）、シクロアルキル基（好ましくはＣ数３〜２０、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル）、アリール基（好ましくはＣ数６〜２０、例えば、フェニル、２−クロロフェニル、４−メトキシフェニル、３−メチルフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ）のいずれかを表し、より好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基を表し、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基を表す。
Ｒ1、Ｒ2は互いに連結して環を形成しても良く、形成するヘテロ環として好ましくは、ピペリジン環、ピロリジン環、ピペラジン環、モロホリン環、ピリジン環、キノリン環、イミダゾール環であり、より好ましくは、ピペリジン環、ピロリジン環、イミダゾール環であり、最も好ましくはピペリジン環である。
Ｒ1、Ｒ2のより好ましい組み合わせとしては、Ｒ1が置換しても良いシクロヘキシル基でＲ2が水素原子、Ｒ1が置換しても良いアルキル基でＲ2が水素原子、Ｒ1、Ｒ2が連結してピペリジン環またはイミダゾール環を形成、等が挙げられる。
【０１４１】
一般式（１−１）または（１−２）にて、ｎ１は０または１であり、好ましくは１である。
【０１４２】
一般式（１−１）にて、Ｒ3はそれぞれ独立に置換基を表し、置換基として好ましい例は例えば、アルキル基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ベンジル、３−スルホプロピル、４−スルホブチル、カルボキシメチル、５−カルボキシペンチル）、アルケニル基（好ましくはＣ数２〜２０、例えば、ビニル、アリル、２−ブテニル、１，３−ブタジエニル）、シクロアルキル基（好ましくはＣ数３〜２０、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル）、アリール基（好ましくはＣ数６〜２０、例えば、フェニル、２−クロロフェニル、４−メトキシフェニル、３−メチルフェニル、１−ナフチル）、ヘテロ環基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピロリジノ、ピペリジノ、モルホリノ）、アルキニル基（好ましくはＣ数２〜２０、例えば、エチニル、２−プロピニル、１，３−ブタジイニル、２−フェニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、アミノ基（好ましくはＣ数０〜２０、例えば、アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、アニリノ）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基、アシル基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、アルコキシ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、メトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、アリールオキシ基（好ましくはＣ数６〜２６、例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ）、アルキルチオ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、メチルチオ、エチルチオ）、アリールチオ基（好ましくはＣ数６〜２０、例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、アルキルスルホニル基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、アリールスルホニル基（好ましくはＣ数６〜２０、例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンンスルホニル）、スルファモイル基（好ましくはＣ数０〜２０、例えばスルファモイル、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、カルバモイル基（好ましくはＣ数１〜２０、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル）、アシルアミノ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ）、イミノ基（好ましくはＣ数２〜２０、例えばフタルイミノ）、アシルオキシ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ）、アルコキシカルボニル基（好ましくはＣ数２〜２０、例えば、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル）、カルバモイルアミノ基（好ましくはＣ数１〜２０、例えばカルバモイルアミノ、Ｎ−メチルカルバモイルアミノ、Ｎ−フェニルカルバモイルアミノ）、であり、より好ましくは、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基である。
【０１４３】
一般式（１−１）にて、Ｒ3はニトロ基またはアルコキシ基であることが好ましく、ニトロ基またはメトキシ基であることがより好ましく、ニトロ基であることが最も好ましい。
一般式（１−１）にて、ｎ２は０〜５の整数であり、好ましくは０〜３の整数であり、より好ましくは１または２である。ｎ２が２以上の時、複数のＲ3は同じでも異なっても良く、連結して環を形成しても良く、形成する環として好ましくはベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
一般式（１−１）にて、Ｒ3がニトロ基である時、２位または２，６位に置換することが好ましく、Ｒ3がアルコキシ基である時、３、５位に置換することが好ましい。
【０１４４】
一般式（１−１）にて、Ｒ4、Ｒ5はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し（置換基として好ましくはR3にて挙げた置換基の例に同じ）好ましい例はＲ3に同じ）、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基のいずれかを表し、より好ましくは水素原子、メチル基、２−ニトロフェニル基のいずれかを表す。
Ｒ4、Ｒ5のより好ましい組み合わせとしては、Ｒ4、Ｒ5共水素原子、Ｒ4 がメチル基でＲ5が水素原子、Ｒ4、Ｒ5共メチル基、Ｒ4が２−ニトロフェニル基でＲ5が水素原子、等が挙げられ、さらに好ましくはＲ4、Ｒ5共水素原子である。
【０１４５】
一般式（１−２）にて、Ｒ6、Ｒ7は置換基を表し（置換基として好ましくはR3にて挙げた置換基の例に同じ）、好ましくは、アルコキシ基、アルキルチオ基、ニトロ基、アルキル基を表し、より好ましくはメトキシ基を表す。
一般式（１−２）にて、ｎ３、ｎ４はそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、好ましくは０〜２の整数を表す。ｎ３、ｎ４が２以上の時、複数のＲ6、Ｒ7は同じでも異なっても良く、連結して環を形成しても良く、形成する環として好ましくはベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。
一般式（１−２）にて、Ｒ6は３、５位に置換したアルコキシ基であることがより好ましく、３、５位に置換したメトキシ基であることがさらに好ましい。
【０１４６】
一般式（１−２）にて、Ｒ8は水素原子または置換基を表し（置換基として好ましくはR3にて挙げた置換基の例に同じ）、好ましくは水素原子またはアリール基であり、より好ましくは水素原子である。
【０１４７】
一般式（１−３）にて、Ｒ9は置換基を表し（置換基として好ましくはR3にて挙げた置換基の例に同じ）、好ましくはアルキル基、アリール基、ベンジル基、アミノ基であり、より好ましくは置換しても良いアルキル基、ｔ−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、置換しても良いアニリノ基、シクロヘキシルアミノ基を表す。
なお、一般式（１−３）で表される化合物はＲ9からポリマー鎖に連結した化合物であっても良い。
【０１４８】
一般式（１−３）にて、Ｒ10、Ｒ11はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し（置換基として好ましくはR3にて挙げた置換基の例に同じ）、好ましくはアルキル基またはアリール基を表し、より好ましくはメチル基、フェニル基、２−ナフチル基を表す。
Ｒ10、Ｒ11は互いに連結して環を形成しても良く、形成する環としては例えばフルオレン環が好ましい。
【０１４９】
一般式（１−４）にて、Ｒ12はアリール基またはヘテロ環基を表し、より好ましくは下記アリール基またはヘテロ環基である。
【０１５０】
【化２１】
2005099087.tif 000022
【０１５１】
一般式（１−４）にて、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基（以上好ましい例はＲ1、Ｒ2に同じ）のいずれかを表し、好ましくはアルキル基を表し、より好ましくはブチル基を表す。なお、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15は互いに連結して環を形成しても良く、形成するヘテロ環として好ましくは、ピペリジン環、ピロリジン環、ピペラジン環、モロホリン環、ピリジン環、キノリン環、イミダゾール環であり、より好ましくは、ピペリジン環、ピロリジン環、イミダゾール環である。
【０１５２】
一般式（１−４）にて、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18はフェニル基であり、Ｒ19はｎ−ブチル基またはフェニル基であることがより好ましい。
【０１５３】
本発明の塩基発生剤は一般式（１−１）または（１−３）で表されることが好ましく、一般式（１−１）で表されることがより好ましい。
【０１５４】
以下に、本発明の塩基発生剤の好ましい具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１５５】
【化２２】
2005099087.tif 000023
【０１５６】
【化２３】
2005099087.tif 000024
【０１５７】
【化２４】
2005099087.tif 000025
【０１５８】
【化２５】
2005099087.tif 000026
【０１５９】
本発明のホログラム記録材料においては、バインダーが好ましく用いられる。
バインダーは組成物の成膜性、膜厚の均一性、保存時安定性を向上させる等の目的で通常使用される。バインダーとしては、液晶性化合物、重合開始剤、光導電性材料と相溶性の良いものが好ましい。
バインダーとしては、溶媒可溶性の熱可塑性重合体が好ましく、単独又は互いに組合せて使用することができる。
【０１６０】
バインダーは反応性部位を有して、架橋剤や重合性モノマーやオリゴマーと反応して架橋、硬膜等されても良い。その際の反応性部位としては、ラジカル反応性部位として、アクリル基、メタクリル基に代表されるエチレン性不飽和基、カチオン反応性部位としてオキシラン化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル基、縮重合反応部位としてカルボン酸、アルコール、アミン等が好ましく挙げられる。
【０１６１】
本発明に用いるバインダーとして好ましくは例えば、アクリレート及びアルファ−アルキルアクリレートエステル及び酸性重合体及びインターポリマー（例えばポリメタクリル酸メチル及びポリメタクリル酸エチル，メチルメタクリレートと他の(メタ)アクリル酸アルキルエステルの共重合体）、ポリビニルエステル（例えば、ポリ酢酸ビニル、ポリ酢酸／アクリル酸ビニル、ポリ酢酸／メタクリル酸ビニル及び加水分解型ポリ酢酸ビニル）、エチレン／酢酸ビニル共重合体、飽和及び不飽和ポリウレタン、ブタジエン及びイソプレン重合体及び共重合体及びほぼ４,０００〜１,０００,０００の重量平均分子量を有するポリグリコールの高分子量ポリ酸化エチレン、エポキシ化物（例えば、アクリレート又はメタクリレート基を有するエポキシ化物）、ポリアミド（例えば、Ｎ−メトキシメチルポリヘキサメチレンアジパミド）、セルロースエステル（例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートサクシネート及びセルロースアセテートブチレート）、セルロースエーテル（例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、エチルベンジルセルロース）、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール（ポリビニルブチラール及びポリビニルホルマール）、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、適当なバインダーとして機能する酸含有重合体及び共重合体として、米国特許３,４５８,３１１中及び米国特許４,２７３,８５７中に開示されているものなどが挙げられる。
さらに、ポリスチレン重合体、並びに例えばアクリロニトリル、無水マレイン酸、アクリル酸、メタクリル酸及びそのエステルとの共重合体、塩化ビニリデン共重合体（例えば、塩化ビニリデン／アクリロニトリル共重合体、ビニリデンクロリド／メタクリレート共重合体、塩化ビニリデン／酢酸ビニル共重合体）、ポリ塩化ビニル及び共重合体（例えば、ポリビニルクロリド／アセテート、塩化ビニル／アクリロニトリル共重合体）、ポリビニルベンザル合成ゴム（例えば、ブタジエン／アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体、メタクリレート／アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合体、２−クロロブタジエン−１,３重合体、塩素化ゴム、スチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重合体）、コポリエステル（例えば、式ＨＯ(ＣＨ2)nＯＨ（式中ｎは、２〜１０の整数である）のポリメチレングリコール、並びに(１)ヘキサヒドロテレフタル酸、セバシン酸及びテレフタル酸、(２)テレフタル酸、イソフタル酸及びセバシン酸、(３)テレフタル酸及びセバシン酸、(４)テレフタル酸及びイソフタル酸の反応生成物から製造されたもの、並びに(５)該グリコール及び(ｉ)テレフタル酸、イソフタル酸及びセバシン酸及び(ii)テレフタル酸、イソフタル酸、セバシン酸及びアジピン酸から製造されたコポリエステルの混合物）、ポリＮ−ビニルカルバゾール及びその共重合体、並びにH．カモガワらによりJournal of Polymer Science：Polymer Chemistry Edition,１８巻、９〜１８頁（１９７９）中開示されているようなカルバゾール含有重合体などが挙げられる。
【０１６２】
また、フッ素原子含有高分子も低屈折率バインダーとして好ましい。好ましいものとしては、フルオロオレフィンを必須成分とし、アルキルビニルエーテル、アリサイクリックビニルエーテル、ヒドロキシビニルエーテル、オレフィン、ハロオレフィン、不飽和カルボン酸およびそのエステル、およびカルボン酸ビニルエステルから選ばれる１種もしくは２種以上の不飽和単量体を共重合成分とする有機溶媒に可溶性の重合体である。好ましくは、その重量平均分子量が５，０００から２００，０００で、またフッ素原子含有量が５ないし７０質量％であることが望ましい。
【０１６３】
フッ素原子含有高分子におけるフルオロオレフィンとしては、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデンなどが使用される。また、他の共重合成分であるアルキルビニルエーテルとしては、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテルなど、アリサイクリックビニルエーテルとしてはシクロヘキシルビニルエーテルおよびその誘導体、ヒドロキシビニルエーテルとしてはヒドロキシブチルビニルエーテルなど、オレフィンおよびハロオレフィンとしてはエチレン、プロピレン、イソブチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど、カルボン酸ビニルエステルとしては酢酸ビニル、ｎ−酪酸ビニルなど、また不飽和カルボン酸およびそのエステルとしては（メタ）アクリル酸、クロトン酸などの不飽和カルボン酸、および（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸ラウリルなどの（メタ）アクリル酸のＣ1 からＣ18のアルキルエステル類、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸のＣ2からＣ8のヒドロキシアルキルエステル類、およびＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらラジカル重合性単量体はそれぞれ単独でも、また２種以上組み合わせて使用しても良く、更に必要に応じて該単量体の一部を他のラジカル重合性単量体、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、（メタ）アクリロニトリルなどのビニル化合物と代替しても良い。また、その他の単量体誘導体として、カルボン酸基含有のフルオロオレフィン、グリシジル基含有ビニルエーテルなども使用可能である。
【０１６４】
前記したフッ素原子含有高分子の具体例として、例えば水酸基を有する有機溶媒可溶性の「ルミフロン」シリーズ（例えばルミフロンＬＦ２００、重量平均分子量：約５０，０００、旭硝子社製）が挙げられる。この他にも、ダイキン工業（株）、セントラル硝子（株）、ペンウオルト社などからも有機溶媒可溶性のフッ素原子含有高分子が市販されており、これらも使用することができる。
【０１６５】
なお、低分子液晶性化合物の配向制御等の目的で高分子液晶性化合物をバインダーも兼ねて用いても良い。その際に用いる好ましい高分子液晶性化合物としては例えば以下のものが挙げられるが、本発明はこれに限定されるわけではない。
【０１６６】
【化２６】
2005099087.tif 000027
【０１６７】
本発明のホログラム記録材料は、必要により重合性モノマー、重合性オリゴマー、架橋剤、熱安定剤、可塑剤、溶媒等の添加物を適宜用いることができる。
【０１６８】
重合性モノマー、重合性オリゴマー、架橋剤を本発明のホログラム記録材料に用いる際の好ましい例としては例えば、特願２００３−８２７３２号に記載のものが挙げられる。
【０１６９】
本発明のホログラム記録材料は連鎖移動剤を用いる方が好ましい場合がある。好ましい連鎖移動剤としてはチオール類であり、例えば、２−メルカプトベンズオキサゾール、２−メルカプトベンズチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、４−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール−３−チオール、４，４−チオビスベンゼンチオール、ｐ−ブロモベンゼンチオール、チオシアヌル酸、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、ｐ−トルエンチオールなど、また、ＵＳＰ第４４１４３１２号や特開昭６４−１３１４４号記載のチオール類、特開平２−２９１５６１号記載のジスルフィド類、ＵＳＰ第３５５８３２２号や特開昭６４−１７０４８号記載のチオン類、特開平２−２９１５６０号記載のＯ−アシルチオヒドロキサメートやＮ−アルコキシピリジンチオン類なども挙げられる。
特に重合開始剤が2,4,5−トリフェニルイミダゾリルダイマーの場合は連鎖移動剤を用いることが好ましい。
連鎖移動剤の使用量は、組成物全体に対して１．０〜３０質量％が好ましい。
【０１７０】
本発明のホログラム記録材料には、保存時の保存性を向上させるために熱安定剤を添加することができる。
有用な熱安定剤にはハイドロキノン、フェニドン、ｐ−メトキシフェノール、アルキルおよびアリール置換されたハイドロキノンとキノン、カテコール、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、2-ナフトール、2,6−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、フェノチアジン、およびクロルアニールなどが含まれる。Pazos氏の米国特許第4,168,982号中に述べられた、ジニトロソダイマ類もまた有用である。
【０１７１】
可塑剤はホログラム記録材料の接着性、柔軟性、硬さ、およびその他の機械的諸特性を変えるために用いられる。可塑剤としては例えば、トリエチレングリコールジカプリレート、トリエチレングリコールビス（２−エチルヘキサノエート）、テトラエチレングリコールジヘプタノエート、ジエチルセバケート、ジブチルスベレート、トリス（２−エチルヘキシル）ホスフェート、トリクレジルホスフェート、ジブチルフタレート等が挙げられる。
【０１７２】
特に、本発明のホログラム記録材料においては、感度向上のために可塑剤を用いることも好ましい。その際に用いる好ましい可塑剤としては例えば以下のものが挙げられるが、本発明はこれに限定されるわけではない。
【０１７３】
【化２７】
2005099087.tif 000028
【０１７４】
本発明のホログラム記録材料及び組成物中の各成分の割合は、一般的に組成物の全質量を基準に以下の％の範囲内であることが好ましい。
バインダー：好ましくは０〜９５質量％、より好ましくは０〜７０質量％、
液晶性化合物または２次の非線形効果を有する化合物
：好ましくは１０〜９９質量％、より好ましくは３０〜９９質量％、
可塑剤：好ましくは０〜４０質量％、より好ましくは０〜２５質量％、
光導電性材料：好ましくは0.01〜５０質量％、より好ましくは0.1〜１０質量％、
重合開始剤：好ましくは0.1〜２０質量％、より好ましくは１〜１０質量％、
【０１７５】
本発明のホログラム記録材料は通常の方法で調製されてよい。例えば上述の必須成分および任意成分をそのままもしくは必要に応じて溶媒を加えて調製することができる。
溶媒としては例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールジアセテート、乳酸エチル、セロソルブアセテートなどのエステル系溶媒、シクロヘキサン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶媒、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールなどのフッ素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、N、N−ジ
メチルホルムアミドなどのアミド系溶媒などが挙げられる。
【０１７６】
本発明のホログラム記録材料は、スピンコーター、ロールコーターまたはバーコーターなどを用いることによって基板上に直接塗布することも、あるいはフィルムとしてキャストしついで通常の方法により基板にラミネートすることもでき、それらによりホログラム記録材料とすることができる。
ここで、「基板」とは、任意の天然又は合成支持体、好適には柔軟性又は剛性フィルム、シートまたは板の形態で存在することができるものを意味する。
基板として好ましくは、ポリエチレンテレフタレート、樹脂下塗り型ポリエチレンテレフタレート、火炎又は静電気放電処理されたポリエチレンテレフタレート、セルロースアセテート、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリビニルアルコール、ガラス等である。
使用した溶媒は乾燥時に蒸発除去することができる。蒸発除去には加熱や減圧を用いても良い。
なお、ホログラム記録時に電場を印加する際は、本発明のホログラム記録材料をITOのような透明導電性ガラス、あるいは透明導電膜、アルミ板のような導電性金属または半導体上に塗布することが好ましい。
【０１７７】
本発明において、液晶性化合物を配向させるために基板に配向膜を用いても良い。配向膜はラビング処理されたものでも光配向処理されたものでも良い。ラビングによる配向膜としては例えばポリビニルアルコール、ポリイミドなどが挙げられる。光配向による配向膜としては例えば「液晶」１９９９年、３巻、３頁に記載のものが挙げられる。また、「応用物理」１９９３年、６２巻、９９８頁、「高分子加工」２０００年、４９巻、５０頁記載のいわゆる「コマンドサーフェス」を用いることもできる。
【０１７８】
さらに、ホログラム記録材料の上に、酸素遮断のための保護層を形成してもよい。保護層は、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンテレフタレートまたはセロファンフィルムなどのプラスチック製のフィルムまたは板を静電的な密着、押し出し機を使った積層等により貼合わせるか、前記ポリマーの溶液を塗布してもよい。また、ガラス板を貼合わせてもよい。また、保護層と感光膜の間および／または、基材と感光膜の間に、気密性を高めるために粘着剤または液状物質を存在させてもよい。
なお、ホログラム記録時に電場を印加する際は、導電性の基板上に塗布された本発明のホログラム記録材料の上にITOのような透明導電性ガラス、あるいは透明導電膜、アルミ板のような導電性金属または半導体を配置することが好ましい。
その際、ホログラム記録材料の片面または両面に透明導電性材料が用いられる。
【０１７９】
本発明のホログラム記録材料をホログラフィック光メモリ用途に用いる場合、ホログラム記録材料はホログラム記録前後で収縮等が起こらない方が信号再生時のＳ／Ｎ比向上の点でより好ましい。
そのため、例えば本発明のホログラム記録材料に特開２０００−８６９１４号記載の膨張剤を用いたり、特開２０００−２５０３８２号、２０００−１７２１５４、特開平１１−３４４９１７号記載の耐収縮性のあるバインダーを用いることも好ましい。
また、特開平３−４６６８７号、５−２０４２８８号、特表平９−５０６４４１号等記載の拡散要素を用いて干渉縞間隔を調節することも好ましい。
【０１８０】
なお、本発明のホログラム記録材料を光記録媒体に用いる際は、保存時ホログラム記録材料は遮光カートリッジ内に保存されていることが好ましい。
【０１８１】
さらに、本発明のホログラム記録材料は、光記録媒体の他にも、３次元ディスプレイホログラム、ホログラフィック光学素子（HOE、例えば、自動車搭載用のヘッドアップディスプレイ（ＨＵＤ）、光ディスク用ピックアップレンズ、ヘッドマウントディスプレイ、液晶用カラーフィルター、反射型液晶反射板、レンズ、回折格子、干渉フィルター、光ファイバー用結合器、ファクシミリ用光偏光器、建築用窓ガラス）、書籍、雑誌等の表紙、ＰＯＰなどのディスプレイ、ギフト、偽造防止用のセキュリティ目的としてクレジットカード、紙幣、包装などに好ましく用いることができる。
【０１８２】
[実施例]
以下に本発明の実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるわけではない。
【実施例１】
【０１８３】
暗室下にて、光導電性材料C600.1質量％、重合開始剤O-Cl-HABI、３質量％、２−メルカプトベンゾオキサゾール２質量％、重合性基を有する液晶性化合物LC−1、43質量％、LC-２、42質量％、高分子液晶性化合物B-２、9.9質量％をクロロホルム300質量％に溶解し、ホログラム記録材料１０１を調液した。
同様に、光導電性材料TNF２質量％、重合開始剤O-Cl-HABI、３質量％、２−メルカプトベンゾオキサゾール２質量％、重合性基を有する液晶性化合物LC−1、37質量％、LC-２、36質量％、高分子液晶性化合物B-3、20質量％をクロロホルム300質量％に溶解し、ホログラム記録材料１０２を調液した。
このホログラム記録材料１０１、１０２を厚さが約１０μｍになるようにアプリケーターを用いてITO基板に塗布し感光層を形成した後、４０℃で３分間加熱乾燥して溶媒を留去した。さらに感光層上をITO基板で覆うことにより、ホログラム記録材料１０１、１０２を作製した。
【０１８４】
ホログラム記録材料１０１、１０２に、３Vの電圧（約0.3V／μｍ）を印加しながら、図１に示す透過型ホログラム記録用の２光束光学系により、光源としてYAGレーザー２倍波（５３２ｎｍ、出力２W）を用いてホログラム露光し記録を行った。物体光と参照光のなす角は３０度である。ビームは０．８ｃｍの直径と１０mW/cm2の強度とを有していた。
【０１８５】
記録を行ったホログラム記録材料１０１、１０２に、He-Neレーザー６３３ｎｍのビームをブラック角にて露光領域の中心に通し、回折が観察され、ホログラム記録できていることが確認できた。さらに室温にてキセノンランプで可視光〜紫外光を全面照射すると、記録は保存されたまま全面重合により固定化させることができる。その後さらに書き換え記録を行おうとしても記録することができず、また記録したホログラムを加熱したり全面露光したりしても記録が消えないことから、記録が良好に保存できる。
【図面の簡単な説明】
【０１８６】
【図１】ホログラム露光用の２光束光学系を説明する概略図である。
【符号の説明】
【０１８７】
１０  ＹＡＧレーザー
１２  レーザービーム
１４  鏡
１６  ビームエレベーター
１８  アテマエーター
２０  ビームスプリッター
２２  ビームセグメント
２４  鏡
２６  空間フィルター
４０  コリメーターレンズ
３０  ホログラム記録材料
２８  試料
３２  Ｈｅ−Ｎｅレーザービーム
３４  Ｈｅ−Ｎｅレーザー
３６  検出器
３８  干渉レーザービーム
【図１】
2005099087.tif 000030