(57)【要約】【課題】水洗不足による残留塩分による析出等の欠陥、水滴等による乾燥ムラに起因する欠陥等の処理後乾燥工程で発生する欠陥を防止するハロゲン化銀写真感光材料の処理液、および処理方法を提案すること。【解決手段】一般式（Ｉ）            Ｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−Ｈ        （Ｉ）（式中、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基、ｎは７〜９の数を表す）であらわされる化合物を含有し、電気伝導度が２μＳ／ｃｍ以下であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理液、およびそれを用いた処理方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）
Ｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−Ｈ        （Ｉ）
（式中、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基、ｎは７〜９の数を表す）であらわされる化合物を含有し、電気伝導度が２μＳ／ｃｍ以下であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理液。
【請求項２】
現像・停止・定着等の画像形成工程に続いてハロゲン化銀写真感光材料を水洗後、請求項１に記載の処理液で処理後、乾燥することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【請求項３】
現像・停止・定着等の画像形成工程に続いてハロゲン化銀写真感光材料を水洗後、請求項１に記載の処理液で処理後、純水で水洗後、乾燥することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【請求項４】
乾燥工程の少なくとも１つが送風により表面の水分を除去する乾燥方式であることを特徴とする請求項２または３に記載のハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料の処理液、および処理方法に関する。詳しくはハロゲン化銀写真感光材料の処理後、乾燥工程で発生する欠陥を防止する処理液、および処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハロゲン化銀写真感光材料はＸ線用（医療・検査用等）、印刷製版用、マイクロフィルム用、一般写真用、電子回路形成用等の様々な用途で用いられている。これらハロゲン化銀写真感光材料の画像形成層は一般的にゼラチンを主たる成分とするバインダー中に感光成分でかつ画像形成成分であるハロゲン化銀が分散していることは、笹井明著「写真の化学」写真工業出版社（１９８２年）等に詳細に記載されており、広く知られるところである。ハロゲン化銀写真感光材料は現像・停止・定着等の画像形成工程に続いて、水洗されることによって層中の塩類を除去した後、乾燥されるのが一般的である。その際、水洗不足による残留塩分による析出等の欠陥、水滴等による乾燥ムラに起因するゼラチン膜面の起伏等による欠陥などが発生するため、乾燥前に処理液で処理する技術が提案されている（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
田辺功、竹花洋一、法元盛久著「フォトマスク技術の話」工業調査会（１９９６）によると、電子回路やディスプレイを製造するための露光用マスクとして、フィルムやガラス等の透明基板上にハロゲン化銀写真乳剤を塗設した感光材料が多く使用されている。近年のプリント基板の小サイズ化、精細化にともなって、露光用マスクにはこれまで以上の寸法精度が求められ、基材はフィルムからガラスへと徐々に市場がシフトしつつあり、ガラスを基材とするハロゲン化銀写真感光材料であるエマルジョンマスクが急増している。
【０００４】
プリント基板の精細化にともなって、数ミクロン〜十数ミクロンの画像を形成するため、高い精度を得るためにエマルジョンマスクは保護層を持たず、最上層が画像形成層であるものが現在でも多く使用されており、処理中に汚染されやすく、また他の用途では問題とならない微細な異常箇所まで欠陥となるため、欠陥が多量に発生した状態で使用されている状況にある。
【０００５】
近年材料の大型化に対応して自動現像機が提案され、自動処理される傾向にあるが、手動処理・自動処理にかかわらず、無欠陥で安定してフォトマスクが得られる技術が要望されているが、水洗不足による残留塩分の析出、乾燥ムラに起因するゼラチン膜面の起伏等による欠陥、特許文献１に記載されるような処理剤成分の残留による欠陥等の全ての欠陥を抑制できる効果的な対策はなく、処理液・水洗方法・乾燥方式を組み合わせた対策技術が求められている。
【特許文献１】特開２００３−１７７４９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、水洗不足による残留塩分による析出等の欠陥、水滴等による乾燥ムラに起因する欠陥等の処理後水洗・乾燥工程で発生する欠陥を防止するハロゲン化銀写真感光材料の処理液、および処理方法を提案することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは検討した結果、下記一般式（Ｉ）
Ｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−Ｈ        （Ｉ）
（式中、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基、ｎは７〜９の数を表す）であらわされる化合物を含有し、電気伝導度が２μＳ／ｃｍ以下であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理液で上記課題を解決することを見出した。
【０００８】
現像・停止・定着等の画像形成工程に続いてハロゲン化銀写真感光材料を水洗後、上記処理液で処理後、乾燥することにより上記課題を解決することを見出した。
【０００９】
より好ましい態様としては、上記処理液で処理後、乾燥前に純水で水洗することにより上記課題を解決することを見出した。さらに好ましい態様としては、乾燥工程の少なくとも１つが送風により表面の水分を除去する乾燥方式であることにより上記課題を解決することを見出した。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、水洗不足による残留塩分による析出等の欠陥、水滴等による乾燥ムラに起因する欠陥等の処理後乾燥工程で発生する欠陥を防止するハロゲン化銀写真感光材料の処理液、および処理方法を提案することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理液は下記一般式（Ｉ）であらわされる化合物を含有する。
Ｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−Ｈ        （Ｉ）
Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基を表す。アルキル基は直鎖でも分岐鎖を有してもよい。ｎは７〜９の数を表す。エチレンオキサイドの付加モル数を表すｎ値は異なるｎ値を持つ化合物の集合体の平均値を表すので、一概に整数である必要はない。具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（Ｉ−１）    Ｃ12Ｈ25−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）9−Ｈ
（Ｉ−２）    Ｃ13Ｈ27−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）8.5−Ｈ
（Ｉ−３）    Ｃ16Ｈ33−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）7−Ｈ
【００１２】
一般式（Ｉ）であらわされる化合物は、使用液１Ｌあたり０．０１ｇ〜３ｇ、好ましく
は０．０５ｇ〜１ｇ添加されるのが好ましい。本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理液には一般式（Ｉ）であらわされる化合物の他に、当業者で知られる溶剤、添加剤等を含
有せしめることができる。処理液の主たる溶媒は水であるがそれに加えてメタノール、エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等の溶剤や、界面活性剤、キレート剤等を含有せしめることができる。
【００１３】
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理液は、電気伝導度が２μＳ／ｃｍ以下である。したがって処理液を純水で調製する必要がある。当業者において写真用処理液は高濃度の原液で供給し、使用時に純水で希釈して使用するのが一般的であるが、高度に電気伝導度を管理すると言う目的からすると、使用液で供給するのが好ましい。本発明で言う純水とは、電気伝導度が２μＳ／ｃｍ以下の水をさす。イオン交換、蒸留等の当業者で知られるあらゆる方法で得ることができる。
【００１４】
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理液を用いた処理は現像・停止・定着等の画像形成工程に続いて水洗した後、乾燥前に行われる。好ましくは、乾燥前に再度純水で水洗するのがよい。現像・停止・定着等の画像形成工程後の水洗には市水を使用してよいが、好ましくは最後に純水置換するのがよい。純水置換は、材料を純水槽に浸漬する、材料に純水を吹き付ける等により、材料表面の市水を純水に置き換えることを指し、これにより本発明のハロゲン化銀写真感光材料の電気伝導度の上昇を抑制することができる。本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理液を用いて複数のハロゲン化銀写真感光材料を処理する場合、適宜補充してもよい。
【００１５】
本発明の送風により表面の水分を除去する乾燥方式とは、エアナイフやエアノズルから急速に空気を吹き付けて水分を除去する乾燥方式であり、温風を当てて水分を蒸発させる乾燥方式とは区別される。ブロアやコンプレッサーを用いて大量・高圧の空気を送風するので、空気が高温になり、エアナイフやエアノズルから急速に空気を吹き付けて水分を除去する乾燥方式でも温風によって水分を蒸発させて乾燥させる効果もありえるが、本発明では主たる乾燥機構が送風により表面の水分を除去する乾燥方式によるものを送風により表面の水分を除去する乾燥方式と呼ぶこととする。
【００１６】
エアナイフやエアノズルから空気を吹き付けて水分を除去する乾燥方式だけでも、繰り返すことによって、ゼラチン膜に水分を吸収し膨潤したハロゲン化銀写真感光材料の膜を乾燥することは可能である。この場合、前半は送風により表面の水分を除去する乾燥方式であり、後半は送風により吸収された水分を蒸発させる乾燥方式と言える。
【００１７】
本発明の送風により表面の水分を除去する乾燥方式は温風の送風・赤外線の照射等のその他の乾燥方式と組み合わせることができる。その場合は送風により表面の水分を除去する乾燥方式を他の乾燥方式より前にするのが好ましい。
【実施例】
【００１８】
下記の構成の処理液Ａ〜Ｅを調製した。
処理液Ａ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
処理液Ｂ
Ｉ−１の化合物                ０．３ｇ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
処理液Ｃ
Ｉ−２の化合物                ０．３ｇ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
処理液Ｄ
Ｉ−３の化合物                ０．３ｇ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
処理液Ｅ
ＩＩ−４の化合物              ０．３ｇ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
処理液Ｆ
ＩＩ−５の化合物              ０．３ｇ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
【００１９】
処理液ＥのＩＩ−４の化合物と処理液ＦのＩＩ−５の化合物を以下に示す。
（ＩＩ−４）    Ｃ16Ｈ33−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10−Ｈ
（ＩＩ−５）    Ｃ16Ｈ33−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20−Ｈ
【００２０】
市販のエマルジョンマスクにレーザー描画機で全面露光後、三菱製紙株式会社製ガラスマスク自動現像装置ＥＬ−ＧＰＩで処理した。自動現像装置の第１から第４槽を順に現像・停止・定着・水洗槽とし、第５槽に実施例１のＡ〜Ｆの処理液を入れて試料１〜６、および第４槽の水洗後第５槽で処理液で処理しない試料７を得た。ブロアを用いてエアナイフノズルから送風して、その前をエマルジョンマスクを往復させて水分を乾燥させた。試料１〜７について光沢を観察し、光沢異常箇所の発生状況を調べ、次の基準でグレード評価した。１：光沢異常箇所なし  ２：部分的に光沢異常箇所があるが、実用的に許容できる  ３：部分的に光沢異常箇所が発生しており、許容できない  ４：光沢異常箇所が全面に発生
【００２１】
結果を以下に示す。
処理液          光沢異常箇所発生状況
試料１           Ａ                    ３
試料２           Ｂ                    ２
試料３           Ｃ                    ２
試料４           Ｄ                    ２
試料５           Ｅ                    ３
試料６           Ｆ                    ３
試料７           なし                  ４
【００２２】
試料３において自動現像機の第６槽を純水槽とし、処理液Ｃで処理後に純水で水洗してから乾燥して得られた試料を試料８とした。同様に光沢異常箇所の発生状況を評価したところ、グレード１と判定された。一方、試料１０において乾燥にエアナイフノズルを使用せずに乾燥機中で５０℃で１０分間乾燥させて試料９を得た。同様に光沢異常箇所の発生状況を評価したところ、グレード２と判定された。