(57)【要約】【課題】  テクスチャーを有するとともに、アルカリ金属の析出による欠陥の発生を抑制することができる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供する。を提供する。【解決手段】  情報記録媒体用ガラス基板は、その主表面に凹凸状のテクスチャーを有するとともに、当該テクスチャーの表面は耐候層によって覆われている。この耐候層は、ガラス基板の内部に比べてガラス組成中における珪素酸化物の含有率を高めることで形成されたものである。すなわち、ガラス基板にテクスチャー加工を施す前に予め脱アルカリ処理を施して主表面に耐候層を形成するとともに、テクスチャー加工を施した後にも脱アルカリ処理を施すことにより、テクスチャーの表面を覆うように耐候層が形成される。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス組成中に少なくとも珪素酸化物を含む多成分系のガラス材料からなる円盤状の情報記録媒体用ガラス基板であって、
主表面に凹凸状のテクスチャーを有するとともに、当該テクスチャーの表面には、その内部に比べてガラス組成中における珪素酸化物の含有率を高めた耐候層を設けたことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】
前記主表面を原子間力顕微鏡で１μｍ四方を測定範囲として測定した際、当該主表面と平行な面でテクスチャーを切断したときの測定範囲の全面積に対するテクスチャーの切断面の面積の割合をベアリングレシオ（ＢＲ）とし、そのＢＲが５０％のときの切断面の高さを基準高さとし、各ＢＲにおける基準高さから切断面までの高さをベアリングハイト（ＢＨ）とした場合、ＢＲが０．０１％のときのＢＨと、ＢＲが０．４％のときのＢＨとの差が０．０１〜１．０ｎｍであるとともに、ＢＲが０．４％のときのＢＨと、ＢＲが１．０％のときのＢＨとの差が０．１５〜０．２０ｎｍであることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項３】
前記耐候層の厚みが０．６〜３．０ｎｍであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項４】
前記多成分系のガラス材料は、アルミノシリケートガラスであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項５】
円盤状に形成された素基板の主表面を砥粒を使用して研磨し、当該主表面に凹凸状のテクスチャーを形成するテクスチャー加工を施す工程と、当該テクスチャーの表面に耐候層を設ける耐候層形成処理を施す工程とを備える情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記耐候層形成処理は前記テクスチャー加工を挟んで少なくとも２段階に分けて施され、耐候層形成処理の各段階のうちテクスチャー加工よりも前の段階では素基板の主表面に予め耐候層を形成する１次脱アルカリ処理を施し、耐候層形成処理の各段階のうちテクスチャー加工よりも後の段階ではテクスチャーの表面に耐候層を形成する２次脱アルカリ処理を施すとともに、
前記１次脱アルカリ処理で形成する耐候層の厚みを０．２〜２．０ｎｍとし、前記２次脱アルカリ処理で形成する耐候層の厚みを、前記１次脱アルカリ処理で形成された耐候層との合計で、０．６〜３．０ｎｍとすることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記脱アルカリ処理は、処理液としてアルカリ性水溶液を使用し、当該アルカリ性水溶液で素基板の主表面又はテクスチャーの表面をエッチングする処理を含むことを特徴とする請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばハードディスク等のような情報記録装置の磁気記録媒体である磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、上記のような情報記録媒体用ガラス基板（以下、略して「ガラス基板」とも記載する）は、その主表面に磁性膜等を形成することにより、情報記録媒体である磁気ディスク等とされる。このガラス基板は、搬送、保管等のため磁性膜等を形成する迄に期間をおいた場合、主表面にヤケと呼ばれる欠陥を発生させることがある。このヤケは、ガラス組成中のアルカリ金属が炭酸塩等となって主表面に析出し、凸部を形成することによって発生する。また一方で、当該ガラス基板には情報記録媒体としたときの高記録密度化を図るために主表面の平滑化を要求されており、このようなヤケの発生はガラス基板の品質を低下させる原因となることからヤケの発生を抑制する必要がある。そこで、ヤケの発生を抑制する方法として、ガラス基板を脱アルカリ処理して主表面のガラス組成中からアルカリ金属成分を除去する方法が提案されている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。なお、この脱アルカリ処理では、酸性水溶液、温水等が使用される。他に、ガラス基板の主表面に一旦ヤケを発生させた後、このヤケを洗浄し、除去することによって脱アルカリ処理する方法も提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開２０００−１２８５８３号公報
【特許文献２】特開平１０−２２６５３９号公報
【特許文献３】特開２００１−３３５３４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、近年は情報記録媒体のさらなる高記録密度化、磁気特性向上等を目的とし、ガラス基板の主表面に微細な凹凸状のテクスチャーを設けたものが提供されている。しかし、このテクスチャーを設けたガラス基板の場合、上記従来の方法ではヤケの発生を十分に抑制することができないという問題があった。例えば、ガラス基板の製造時において、テクスチャーを形成する前に脱アルカリ処理をした場合、テクスチャーの形状が崩れる可能性が高い。これは、脱アルカリ処理が施されたガラス基板の主表面は多孔質状で脆くなっており、テクスチャーが正確に形成されず、バリ等と呼ばれる異常な高さの突起等が形成されてしまうためである。このような場合、テクスチャー形成後のガラス基板は、却って主表面の平滑性が低下した品質の低いものとなってしまう。これとは逆に、ガラス基板の製造時において、テクスチャーを形成した後に脱アルカリ処理をした場合、テクスチャーそのものが除去されてしまう可能性が高い。これは、脱アルカリ処理時において、テクスチャーの微細な凹凸が薬液の影響等によって消失してしまうためである。このような場合、ガラス基板は、テクスチャーの形成による高記録密度化、磁気特性向上等といった目的を達成することが不可能となってしまう。
【０００４】
本発明は、上記のような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、テクスチャーを有するとともに、アルカリ金属の析出による欠陥の発生を抑制することができる情報記録媒体用ガラス基板を提供することにある。その他の目的とするところは、テクスチャーの形状を維持しつつ、アルカリ金属の析出による欠陥の発生を抑制することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の発明は、ガラス組成中に少なくとも珪素酸化物を含む多成分系のガラス材料からなる円盤状の情報記録媒体用ガラス基板であって、主表面に凹凸状のテクスチャーを有するとともに、当該テクスチャーの表面には、その内部に比べてガラス組成中における珪素酸化物の含有率を高めた耐候層を設けたことを要旨とする。
【０００６】
請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の発明は、請求項１に記載の発明において、前記主表面を原子間力顕微鏡で１μｍ四方を測定範囲として測定した際、当該主表面と平行な面でテクスチャーを切断したときの測定範囲の全面積に対するテクスチャーの切断面の面積の割合をベアリングレシオ（ＢＲ）とし、そのＢＲが５０％のときの切断面の高さを基準高さとし、各ＢＲにおける基準高さから切断面までの高さをベアリングハイト（ＢＨ）とした場合、ＢＲが０．０１％のときのＢＨと、ＢＲが０．４％のときのＢＨとの差が０．０１〜１．０ｎｍであるとともに、ＢＲが０．４％のときのＢＨと、ＢＲが１．０％のときのＢＨとの差が０．１５〜０．２０ｎｍであることを要旨とする。
【０００７】
請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の発明は、請求項１又は請求項２に記載の発明において、前記耐候層の厚みが０．６〜３．０ｎｍであることを要旨とする。
請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の発明は、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の発明において、前記多成分系のガラス材料は、アルミノシリケートガラスであることを要旨とする。
【０００８】
請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、円盤状に形成された素基板の主表面を砥粒を使用して研磨し、当該主表面に凹凸状のテクスチャーを形成するテクスチャー加工を施す工程と、当該テクスチャーの表面に耐候層を設ける耐候層形成処理を施す工程とを備える情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記耐候層形成処理は前記テクスチャー加工を挟んで少なくとも２段階に分けて施され、耐候層形成処理の各段階のうちテクスチャー加工よりも前の段階では素基板の主表面に予め耐候層を形成する１次脱アルカリ処理を施し、耐候層形成処理の各段階のうちテクスチャー加工よりも後の段階ではテクスチャーの表面に耐候層を形成する２次脱アルカリ処理を施すとともに、前記１次脱アルカリ処理で形成する耐候層の厚みを０．２〜２．０ｎｍとし、前記２次脱アルカリ処理で形成する耐候層の厚みを、前記１次脱アルカリ処理で形成された耐候層との合計で、０．６〜３．０ｎｍとすることを要旨とする。
【０００９】
請求項６に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の発明は、請求項５に記載の発明において、前記脱アルカリ処理は、処理液としてアルカリ性水溶液を使用し、当該アルカリ性水溶液で素基板の主表面又はテクスチャーの表面をエッチングする処理を含むことを要旨とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、テクスチャーを有するとともに、アルカリ金属の析出による欠陥の発生を抑制することができる情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。また、テクスチャーの形状を維持しつつ、アルカリ金属の析出による欠陥の発生を抑制することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、この発明を具体化した一実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１及び図２に示すように、情報記録媒体用ガラス基板１１（以下、略して「ガラス基板１１」とも記載する）は円盤状に形成されるとともに、その中心には円孔１２が設けられている。また、当該ガラス基板１１は、情報記録媒体としたときに要求される耐衝撃性、耐振動性、耐熱性等を満たすため、化学強化されている。そして、当該ガラス基板１１の主表面１３に、例えばコバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）、鉄（Ｆｅ）等の金属又は合金よりなる磁性膜、さらに保護膜等の膜体を形成することにより、磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体が構成される。なお、主表面１３とは、情報記録媒体とした際に情報が記録される記録面となる部分であり、具体的には外周端面及び内周端面を除くガラス基板１１の表裏面全体を示している。
【００１２】
当該ガラス基板１１は、ガラス組成中に少なくとも珪素酸化物を含み、同珪素酸化物の他に、アルミニウム酸化物及びアルカリ土類金属酸化物のうちの少なくとも１種を含む多成分系のガラス材料より形成されている。この多成分系のガラス材料としては、フロート法、ダウンドロー法、リドロー法又はプレス法で製造されたアルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられる。これら多成分系のガラス材料のうち、当該ガラス基板１１には、アルミノシリケートガラスを使用することが好ましい。これは、アルミノシリケートガラス製のガラス基板１１は、低温かつ短時間で化学強化することができるためである。
【００１３】
なお、前記アルミノシリケートガラスは、そのガラス組成中にＳｉＯ2と、アルミニウム酸化物としての酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）と、アルカリ金属酸化物であるＲ2Ｏ（Ｒ＝カリウム（Ｋ）、ナトリウム（Ｎａ）、リチウム（Ｌｉ））とを主成分として含むガラス材料である。ソーダライムガラスは、そのガラス組成中に珪素酸化物としての二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）と、酸化ナトリウム（Ｎａ2Ｏ）と、アルカリ土類金属酸化物としての酸化カルシウム（ＣａＯ）とを主成分として含むガラス材料である。結晶化ガラスとしては、酸化リチウム（Ｌｉ2Ｏ）−ＳｉＯ2系ガラス、Ｌｉ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス、ＲＯ−Ａｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2系ガラス等が挙げられる。なお、ＲＯはアルカリ土類金属酸化物を示し、そのＲとしてマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）等が挙げられる。また、ガラス素板に使用する多成分系のガラス材料として、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等のガラス組成中に酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）や酸化チタン（ＴｉＯ2）等を含ませた化学強化用ガラスを使用してもよい。
【００１４】
当該ガラス基板１１の主表面１３には、凹凸状のテクスチャー１４が設けられている。このテクスチャー１４は、凸部である複数の尾根部１５と、各尾根部１５の間にそれぞれ形成された凹部である複数の谷部１６とから構成されている。各尾根部１５及び谷部１６は、ガラス基板１１の周方向へ延びるようにそれぞれ形成されており、互いに同心円を描くように配設されている。当該テクスチャー１４は、ガラス基板１１の主表面１３を平滑としながらも、情報記録媒体とした際に記録面とヘッドとの接触面積を低減するために形成されている。
【００１５】
すなわち、情報記録媒体においては、記録面の平滑性が高まるに従ってヘッドが記録面に密着される現象（超密着現象）が生じやすくなる。このような現象が生じると情報記録媒体が回転不能となる等の不具合が発生する。このため、ガラス基板１１の主表面１３にテクスチャー１４を設け、情報記録媒体とした際の記録面とヘッドとの接触面積を低減することにより、超密着現象の発生を抑制している。加えて、テクスチャー１４が設けられたガラス基板１１は、情報記録媒体とした際に高い磁気異方性と保磁力とを有するものとなる。これについては未だ詳細な理由が明らかとなっていないが、発明者等は、磁性膜を形成する金属の原子がテクスチャー１４の尾根部１５の斜面で配向良く並べられることによるものと推定している。
【００１６】
当該ガラス基板１１の主表面１３は平滑性を高くするため、テクスチャー１４が設けられた状態で、算術平均粗さ（Ｒａ）が好ましくは０．５ｎｍ以下であり、微小うねりの高さ（ＮＲａ）が好ましくは０．２ｎｍ以下である。Ｒａが０．５ｎｍを超える又はＮＲａが０．２ｎｍを超えるガラス基板１１は、主表面１３の荒れた平滑性の低いものとされている。これは、近年の情報記録媒体に要求されている高密度記録化を図るためである。すなわち、情報記録媒体の高密度記録化を図るためには、情報記録媒体の記録面とヘッドとの距離を出来る限り短くする必要があり、Ｒａ及びＮＲａが大きいとヘッドが凹凸に引っ掛かったり、衝突したり等の不具合が頻繁に発生しやすくなるためである。なお、Ｒａとは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を使用して得られた測定値から、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に規定される方法に従って算出された値を示す。ＮＲａとは、Ｚｙｇｏ社製の三次元表面構造解析顕微鏡（ＮｅｗＶｉｅｗ２００）を用い、測定波長（λ）を０．２〜１．４ｍｍとして表面の所定領域を白色光で走査して測定された値を示す。
【００１７】
前記テクスチャー１４は、ＡＦＭによる測定結果に基づいて算出されたベアリングレシオ（ＢＲ）及びベアリングハイト（ＢＨ）の２つの値から、その形状を測定することができる。ＢＲは次に示す手順で算出される。すなわち、第１に、１μｍ四方を測定範囲として、主表面１３の表面状態がＡＦＭによって測定される。第２に、主表面１３と平行な面でテクスチャー１４が切断され、当該テクスチャー１４の切断面の面積が算出される。第３に、測定範囲の全面積に対するテクスチャー１４の切断面の面積の割合が算出され、この割合がＢＲとして示される。例えば、基準面積に対する測定面積の割合が５０％ならば、ＢＲは５０％である。一方、ＢＨは次に示す手順で算出される。すなわち、第１に、ＢＲが５０％となるときのテクスチャー１４の切断面の高さが求められ、この高さが基準高さとされる。第２に、ＢＲが所定値となるときのテクスチャー１４の切断面の高さが求められ、この高さが測定高さとされる。第３に、各ＢＲ毎に基準高さから測定高さまでの高低差が算出され、この高低差がＢＨとして示される。例えば、ＢＲが１０％のときの高低差が０．５ｎｍならば、ＢＨは０．５ｎｍである。
【００１８】
当該ガラス基板１１のテクスチャー１４は、ＢＲが０．０１％のときのＢＨと、ＢＲが０．４％のときのＢＨとの差が０．０１〜１．０ｎｍであるとともに、ＢＲが０．４％のときのＢＨと、ＢＲが１．０％のときのＢＨとの差が０．１５〜０．２０ｎｍであることが好ましい。各ＢＲにおけるＢＨの差をこのような範囲内とすることによって、テクスチャー１４を良好な形状で維持することが可能となる。例えば、ＢＲが０．０１％のときのＢＨと、ＢＲが０．４％のときのＢＨとの差が０．０１ｎｍ未満の場合、テクスチャー１４の尾根部１５の峰が鈍化したり、同峰に凹みが形成されたり等している可能性が高い。ＢＲが０．０１％のときのＢＨと、ＢＲが０．４％のときのＢＨとの差が１．０ｎｍを超える場合、テクスチャー１４の尾根部１５の峰にバリと呼ばれる異常な高さの突起が形成されている可能性が高い。一方、ＢＲが０．４％のときのＢＨと、ＢＲが１．０％のときのＢＨとの差が０．１５ｎｍ未満の場合、尾根部１５の斜面の途中で勾配が急激に変化してバリが形成されていたり、同斜面が凸状に膨らんでいたり等している可能性が高い。ＢＲが０．４％のときのＢＨと、ＢＲが１．０％のときのＢＨとの差が０．２０ｎｍを超える場合、尾根部１５の斜面にバリが形成されていたり、同斜面が凹んでいたり等している可能性が高い。
【００１９】
当該ガラス基板１１において、テクスチャー１４の表面、つまり各尾根部１５の表面及び谷部１６の内面には耐候層１７がそれぞれ形成されている。当該耐候層１７は、テクスチャー１４の表面のガラス組成中からアルカリ金属イオン及びアルカリ土類金属イオンのうち少なくとも一方を除去することによって形成されたものである。なお、ガラス組成中のアルカリ金属イオンとしては、リチウムイオン（Ｌｉ1+）、ナトリウムイオン（Ｎａ1+）、カリウムイオン（Ｋ1+）等が挙げられる。ガラス組成中のアルカリ土類金属イオンとしては、カルシウムイオン（Ｃａ2+）、マグネシウムイオン（Ｍｇ2+）等が挙げられる。
【００２０】
当該耐候層１７がテクスチャー１４の表面に設けられたガラス基板１１は、耐候性が向上しており、ヤケと呼ばれる欠陥の発生を抑制することが可能である。すなわち、このヤケは、ガラス基板の表面でガラス組成中に含まれるアルカリ金属イオン又はアルカリ土類金属イオンが炭酸塩等の結晶物となって析出し、この結晶物が突起を形成することで発生する欠陥である。このようなヤケの発生したガラス基板は、主表面の平滑性の低下を招き、品質が悪化することとなる。特に、化学強化されたガラス基板の場合、このようなヤケを発生させやすい。これは、化学強化されたガラス基板は、その表面でガラス組成中のＬｉ1+、Ｎａ1+等の一価の金属イオンが、これよりもイオン半径の大きな一価の金属イオンへとイオン交換されているためである。そして、当該ガラス基板１１は、このヤケの原因となるアルカリ金属イオン及びアルカリ土類金属イオンのうち少なくとも一方をガラス組成中から除去した耐候層１７を形成することにより、耐候性の向上が図られている。
【００２１】
当該耐候層１７のガラス組成とテクスチャー１４の内部のガラス組成とを比較した場合、珪素酸化物のケイ素イオン（Ｓｉ4+）のイオン数に変化はない。このため、当該耐候層１７のガラス組成は、アルカリ金属イオン又はアルカリ土類金属イオンを除去した分、内部のガラス組成に比べて珪素酸化物の含有率が相対的に高まっている。また、耐候層１７の厚みは、好ましくは０．６〜３．０ｎｍである。厚みが０．６ｎｍ未満の場合、テクスチャー１４の内部のアルカリ金属イオン又はアルカリ土類金属イオンが耐候層１７を通り抜け、ヤケを発生させるおそれがある。厚みが３．０ｎｍを超える場合、当該耐候層１７がテクスチャー１４の形状に与える影響が大きくなるおそれがある。つまり、洗浄時等において耐候層１７が薄くなったり、除去されたり等した場合、テクスチャー１４の尾根部１５に凹み等の大きな欠陥が形成されやすくなる。
【００２２】
次に、前記ガラス基板の製造方法について説明する。
ガラス基板１１は、素基板にテクスチャー処理及び耐候層形成処理を施すことによって製造される。この素基板は、工程順に、円盤加工工程、端面面取り工程、ラップ工程、化学強化工程及び研磨工程を経て円盤状に形成されたものである。すなわち、前記円盤加工工程においては、超硬合金又はダイヤモンド製のカッターを用いることにより、平面四角形状をなすガラス素板から円盤状をなす素基板が切り抜かれる。前記端面面取り工程においては、素基板の外周端面及び内周端面が研削され、外径及び内径寸法が所定長さとされるとともに、外周端面及び内周端面の角部が面取りされる。前記ラップ工程においては、研磨装置を用いてラップ処理が施されることにより、素基板の反りが修正される。
【００２３】
前記化学強化工程においては、加熱溶融された化学強化塩中に素基板を浸漬することによって化学強化処理が施される。化学強化塩の具体例としては、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、硝酸銀等をそれぞれ単独、あるいは少なくとも２種を混合したものが挙げられる。この化学強化処理で素基板は、その表面でガラス組成中のリチウムイオン、ナトリウムイオン等の一価の金属イオンを、これよりもイオン半径の大きなナトリウムイオン、カリウムイオン等の一価の金属イオンへとイオン交換されることにより、化学強化される。
【００２４】
前記研磨工程においては、ガラス基板１１に要求される主表面１３の平滑性を満たすことを目的として、素基板の主表面に研磨装置を用いて研磨処理が施される。研磨処理は、少なくとも２段階に分けて施され、各段階を経る毎に素基板の主表面が段階的に平滑化される。この実施形態の研磨処理は、粗研磨処理と精密研磨処理の２段階に分けて施される。粗研磨処理では研磨パッドとして硬質ポリッシャを使用し、研磨による取り代が所定値となるように素基板の主表面が粗研磨され、主表面の大きな欠陥が修正される。精密研磨処理では研磨パッドして軟質ポリッシャを使用し、研磨による取り代に係わらず、粗研磨処理時に形成された痕等の主表面の小さな欠陥を取り除くため、素基板の主表面が精密研磨される。また、当該研磨処理では、前記化学強化処理よりも後の工程とすることにより、主表面の平滑化を図る一手段として、化学強化処理時に主表面に付着した鉄粉、主表面に形成された突起等の欠陥を取り除くことも目的としている。
【００２５】
前記テクスチャー処理工程においては、ガラス基板１１の主表面１３にテクスチャー１４を設けることを目的として、素基板の主表面にテクスチャー加工が施される。このテクスチャー加工は、テクスチャーマシンと呼ばれる装置を使用し、素基板の主表面に砥粒を供給しながら研磨部材を摺接させることによって施される。この研磨部材としては織物、不織布、植毛品等をテープ状に形成したテープ部材等が挙げられるとともに、同研磨部材は合成ゴム等で形成されたローラーによって素基板の主表面に押し付けられるようになっている。また、研磨部材の材質は特に制限されず、例えば化学繊維、天然繊維等のようにこの種のテクスチャーマシンで使用されるものであればいかなるものも使用可能である。
【００２６】
前記砥粒としては、セリウム、ランタン等の希土類酸化物、コロイダルシリカ、ダイヤモンド砥粒等が挙げられる。これらのうち、ダイヤモンド砥粒は、素基板の主表面に固着しにくく、ガラス組成に化学的な影響を与えにくいため、砥粒として好ましい。砥粒をダイヤモンド砥粒とした場合、その粒径は平均粒径（Ｄ50）で好ましくは０．０５〜０．３μｍ、より好ましくは０．０８〜０．２５μｍである。平均粒径が０．０５μｍ未満の場合、素基板に対する研磨能力の低下を招き、歩留まりの低下、加工コストの高騰を招くおそれがある。一方、０．３μｍを越えると、テクスチャー１４の形状が崩れたり、テクスチャー１４の高さが不均一となったり等の不具合が生じるおそれがある。
【００２７】
前記耐候層形成処理は、図１に示したように、ガラス基板１１のテクスチャー１４の表面に耐候層１７を設けることを目的としており、前記テクスチャー加工を挟んで少なくとも２段階に分けて施される。この耐候層形成処理では、何れかの段階で素基板に脱アルカリ処理が施されてガラス組成中のアルカリ金属イオン又はアルカリ土類金属イオンの含有率を低減させることにより、素基板内部に比べて珪素酸化物の含有率が相対的に高まった耐候層が形成される。そして、当該耐候層形成処理では素基板に対し、テクスチャー加工よりも前の段階で１次脱アルカリ処理が、テクスチャー加工よりも後の段階で２次脱アルカリ処理が施される。
【００２８】
なお、この実施形態の耐候層形成処理においては、１次脱アルカリ処理及び２次脱アルカリ処理のうち少なくとも一方を施した後、各脱アルカリ処理でそれぞれ使用された処理液の除去を目的として素基板に洗浄処理（リンス処理）が施される。例えば、１次脱アルカリ処理後及び２次脱アルカリ処理後の両方で洗浄処理を施した場合、耐候層形成処理は、順番に１次脱アルカリ処理、洗浄処理、２次脱アルカリ処理、洗浄処理の４段階に分けて施される。あるいは、２次脱アルカリ処理後のみ洗浄処理を施した場合、耐候層形成処理は、順番に１次脱アルカリ処理、２次脱アルカリ処理、洗浄処理の３段階に分けて施される。また、リンス処理で使用される洗浄液は、処理液を除去可能なものであれば何れでもよく、特には限定されない。
【００２９】
当該１次脱アルカリ処理は、図３（ａ）に示したように、テクスチャー加工前の素基板１１ａの主表面１３に耐候層１７を予め形成することを目的として施される。この１次脱アルカリ処理は、さらに前段と後段の２段階に分けて施される。なお、１次脱アルカリ処理の前段及び後段のうち、少なくとも何れか一方を施した後で素基板に前記リンス処理を施してもよい。まず１次脱アルカリ処理の前段では、素基板が処理液である酸性水溶液に浸漬される。このとき、素基板の主表面に付着した研磨剤、鉄粉等の付着物が除去されるとともに、主表面のガラス組成中に含まれるアルカリ金属酸化物又はアルカリ土類金属酸化物がアルカリ金属イオン又はアルカリ土類金属イオンとなって処理液中に溶出し、除去される。つまり、この１次脱アルカリ処理の前段を施した後、素基板１１ａの主表面１３には耐候層１７が厚く形成されている。この耐候層は、アルカリ金属イオン又はアルカリ土類金属イオンが除去されて形成されたものであることから分子レベルの隙間を有しており、耐薬品性が低下している。なお、例えばアルミノシリケートガラスのようなガラス組成中にアルミニウム酸化物が含まれているものの場合、処理液中にアルミニウムイオンも溶出するため、より大きな分子レベルの隙間が形成されることとなる。
【００３０】
この後、１次脱アルカリ処理の後段では、素基板が処理液であるアルカリ性水溶液に浸漬される。すると、１次脱アルカリ処理の前段で形成された耐候層の一部が除去され、また指紋、皮脂等の有機物による汚れも、この工程で除去される。すなわち、素基板内部に比べて分子レベルの隙間を有している分だけ耐候層には水酸化物イオンが浸入しやすくなっており、耐候層ではガラス組成中のＳｉ−Ｏ結合が切断されやすいことから、同耐候層はエッチングされやすいものとなっている。そして、エッチングにより一部が除去された耐候層は、所定厚さとされる。この所定厚さとされた耐候層が、図３（ａ）に示された耐候層１７である。なお、このときエッチングのための処理液であるアルカリ性水溶液の水酸化物イオン濃度（ｐＨ）を制御することにより、耐候層の除去程度を任意に制御することができる。
【００３１】
当該１次脱アルカリ処理で予め耐候層１７が形成された後、同耐候層１７は、前記テクスチャー加工で研磨される。この耐候層１７は、前述のように分子レベルの隙間を有しており、アルカリ金属イオン等の除去量が増せば同隙間も大きなものとなるため、素基板の内部に比べて硬度が低下している、つまり脆くなっている。テクスチャー１４は、素基板１１ａの主表面１３が必要十分な硬度を有していれば、その形状を制御しつつ形成することが可能となる。しかし、当該耐候層１７が設けられた状態でテクスチャー加工を施す場合、耐候層１７が脆く、テクスチャー加工時に削り取られやすいことから、想定外の箇所まで削り取られたり等してテクスチャー１４の形状が崩れてしまうおそれがある。
【００３２】
そこで、前記１次脱アルカリ処理では、素基板１１ａの主表面１３がテクスチャー１４の形状が崩れない程度の必要十分な硬度を維持できるように耐候層１７を形成することが重視される。そして、主表面１３をテクスチャー１４の形状が崩れない程度に適度な硬度とするには、耐候層１７の厚みを調整することが簡易かつ効果的な方法である。このため、１次脱アルカリ処理において、耐候層１７は、その厚みが０．２〜２．０ｎｍとなるように形成されることが好ましい。耐候層１７の厚みが２．０ｎｍを超える場合、想定外の箇所まで削り取られたり等してテクスチャー１４の形状が崩れてしまうおそれがある。また、耐候層１７の厚みが０．２ｎｍ未満の場合には、テクスチャー加工で全ての耐候層１７が削り取られてしまうおそれがある。この耐候層１７の厚みは、処理液中への素基板の浸漬時間、処理液の濃度、温度等を適宜調整することによって制御することが可能である。なお、酸性水溶液の濃度は特に限定されない。これは、アルカリ性水溶液への浸漬時に耐候層１７の厚みが制御されるためである。この酸性水溶液としては、フッ化水素酸、ケイフッ化水素酸、硫酸、硝酸、塩酸、スルファミン酸、酢酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、マロン酸、シュウ酸等が挙げられる。そして、これらの中から少なくとも１種が選択され、使用される。
【００３３】
前記アルカリ性水溶液としては、ｐＨが８〜１２のものを使用することが好ましい。ｐＨが８未満の場合、耐候層に対するエッチング能が過剰に低く、当該耐候層の除去に長時間を要し、生産量の低下等といった問題が生じてしまうおそれがある。一方、ｐＨが１２を超える場合、耐候層に対するエッチング能が過剰に高く、エッチング量を細かく調整できない等といった厚みの制御に係る問題、アルカリ水溶液の除去に長時間を要し生産量が低下する等の問題が生じてしまうおそれがある。このアルカリ性水溶液としては、水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、アンモニア水等の無機アルカリ水溶液、テトラアンモニウムハイドライド等の有機アルカリ水溶液等が挙げられる。そして、これらの中から少なくとも１種が選択され、使用される。
【００３４】
当該１次脱アルカリ処理で予め形成された耐候層１７は、前記テクスチャー加工で研磨されることにより、図３（ｂ）に示したように、残留した一部がテクスチャー１４の尾根部１５の峰（上部）を形成するものとなる。つまり、この状態では、テクスチャー１４の表面で尾根部１５の斜面及び谷部１６の内面に耐候層１７が設けられておらず、このような箇所でヤケが発生してしまうおそれがある。そこで、当該２次脱アルカリ処理は、テクスチャー１４の尾根部１５の峰のみならず、テクスチャー１４の表面全体、特に尾根部１５の斜面及び谷部１６の内面に耐候層１７を形成することを目的として施される。
【００３５】
前記２次脱アルカリ処理では、素基板が処理液であるアルカリ性水溶液に浸漬される。このとき、テクスチャー１４の表面のガラス組成がアルカリ性水溶液によって侵され、若干エッチングされる。このようにテクスチャー１４の表面が若干エッチングされるとき、ガラス組成中のアルカリ金属イオン又はアルカリ土類金属イオンが処理液中に溶出し、耐候層１７が形成される。
【００３６】
当該２次脱アルカリ処理では、前述のように、テクスチャー１４の表面がアルカリ性水溶液によってエッチングされるときに耐候層１７が形成される。この際、エッチングが過剰に行われれば、テクスチャー加工時にテクスチャー１４の形状が維持されたとしても、当該２次脱アルカリ処理でテクスチャー１４の形状が崩されてしまうおそれがある。特に、テクスチャー加工時に砥粒から主表面１３に加わる応力の微妙な差により、テクスチャー１４の表面の各箇所で単位時間当たりのエッチング量（エッチングレート）にも差が生じている可能性が高く、均質なエッチングが行われないおそれがある。
【００３７】
そこで、当該２次脱アルカリ処理では、アルカリ性水溶液によるエッチングをテクスチャー１４の形状が崩されない程度の必要十分なものに留めることが重視される。そして、テクスチャー１４の形状が崩されない程度に適度なエッチングを行うためには、耐候層１７の厚みを調整することが簡易かつ効果的な方法である。このため、当該２次脱アルカリ処理において、耐候層１７は、その厚みが１次脱アルカリ処理で予め形成された耐候層１７との合計の厚みで０．６〜３．０ｎｍとなるように形成されることが好ましい。耐候層１７の厚みが３．０ｎｍを超える場合、エッチングが過剰に行われていることを示し、テクスチャー１４の形状が崩されてしまうおそれがある。また、耐候層１７の厚みが０．６ｎｍ未満の場合、エッチングが十分に行われておらず、テクスチャー１４の表面の一部で耐候層１７が形成されないおそれがある。耐候層１７の厚みは、処理液中への素基板の浸漬時間、処理液の濃度、温度等を適宜調整することによって制御することが可能である。
【００３８】
前記アルカリ性水溶液としては、ｐＨが９〜１１のものを使用することが好ましい。ｐＨが９未満の場合、エッチング能の低下に伴い、例えば空気中の炭酸ガスがアルカリ性水溶液に溶解する等してエッチングレートの制御制が低下する等の問題が生じるおそれがある。また、ｐＨが１１を超える場合、エッチング能が過剰に高くなることでエッチングレートの制御制が低下する等の問題が生じるおそれがある。また、アルカリ性水溶液としては、水酸化カリウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、アンモニア水等の無機アルカリ水溶液、テトラアンモニウムハイドライド等の有機アルカリ水溶液等が挙げられる。そして、これらの中から少なくとも１種が選択され、使用される。
【００３９】
ここで、当該２次脱アルカリ処理を施さず、テクスチャー加工前の段階である１次脱アルカリ処理のみでテクスチャー１４の全ての表面に耐候層１７を設けることは非常に難しい。これは、１次脱アルカリ処理のみでテクスチャー１４の全ての表面に耐候層１７を設けようとすれば、耐候層１７を厚く形成し、この耐候層１７が設けられた範囲内でテクスチャー１４を形成しなければならなくなるためである。つまり、１次脱アルカリ処理のみとすれば、テクスチャー１４を構成する尾根部１５及び谷部１６の全体を耐候層１７によって形成しなければならず、テクスチャー加工時にテクスチャー１４の形状が崩れてしまう可能性が高い。
【００４０】
また、１次脱アルカリ処理を施さず、テクスチャー加工後の段階である当該２次脱アルカリ処理前のみでテクスチャー１４の全ての表面に耐候層１７を設けることも難しい。これは、当該２次脱アルカリ処理でテクスチャー１４の全ての表面に耐候層１７を形成しようとする場合、アルカリ性水溶液によるエッチング時間が長くなり、その分テクスチャー１４の形状が崩されやすくなるためである。従って、耐候層形成処理は、テクスチャー加工を挟んで少なくとも２段階に分け、テクスチャー加工前の段階でテクスチャー１４の一部に耐候層１７を設け、テクスチャー加工後の段階でテクスチャー１４の残りの箇所に耐候層１７を設ける必要がある。
【００４１】
なお、耐候層形成処理で使用する各処理液には、得られるガラス基板１１の主表面１３の清浄度を高めるため、添加剤を加えてもよい。このような添加剤としては、界面活性剤、キレート剤、有機溶剤等の助剤（ビルダー）、イソプロピルアルコール等のアルコール、機能水等が挙げられる。また、機能水には、塩化ナトリウム等のアルカリ金属塩等といった無機塩の水溶液を電気分解することにより得られた電解水、ガスが溶解されたガス溶解水等があり、何れを使用してもよい。
【００４２】
前記実施形態によって発揮される効果について、以下に記載する。
・  本実施形態のガラス基板１１は、その主表面１３にテクスチャー１４を有するとともに、当該テクスチャー１４を覆うように、テクスチャー１４の表面には耐候層１７が形成されている。この耐候層１７は、ガラス組成中からアルカリ金属イオン又はアルカリ土類金属イオンを除去して形成されたものであり、これに基づきガラス組成中の珪素酸化物の含有率が相対的に高められたものである。このため、当該ガラス基板１１においては、主表面１３におけるアルカリ金属の析出を抑制することができ、このアルカリ金属の析出による欠陥の発生を抑制することができる。
【００４３】
・  また、テクスチャー１４は、ＢＲが０．０１％のときのＢＨと、ＢＲが０．４％のときのＢＨとの差が０．０１〜１．０ｎｍとなり、ＢＲが０．４％のときのＢＨと、ＢＲが１．０％のときのＢＨとの差が０．１５〜０．２０ｎｍとなるように形成されている。このため、ガラス基板１１の製造時において、テクスチャー１４の形状が崩れることを抑制し、テクスチャー１４の形状を良好なものとすることができる。
【００４４】
・  また、耐候層１７は、その厚みが０．６〜３．０ｎｍとあんるように設けられている。このため、耐候層１７の形成時にテクスチャー１４の形状が崩されることを抑制することができ、テクスチャー１４の形状を良好に維持することができる。
【００４５】
・  また、ガラス基板１１は、アルミノシリケートガラス製のものである。このアルミノシリケートガラス製のガラス基板１１は、化学強化しやすいものではあるが、またアルカリ金属の析出による欠陥を発生させる可能性も高いものである。そして、当該ガラス基板１１によれば、このようにアルカリ金属の析出による欠陥を発生させやすいものであっても、その欠陥の発生を有効に抑制することができる。
【００４６】
・  また、当該ガラス基板１１の製造においては、耐候層形成処理がテクスチャー加工を挟んで、１次脱アルカリ処理と２次脱アルカリ処理との２段階に分けて施されている。そして、１次脱アルカリ処理及びテクスチャー加工でテクスチャー１４の表面の一部に耐候層１７を形成し、２次脱アルカリ処理でテクスチャー１４の残りの部分に耐候層１７を形成している。このため、テクスチャー１４の形状を維持しつつ、テクスチャー１４の表面全体に耐候層１７を設けることができる。
【００４７】
・  また、１次脱アルカリ処理では耐候層１７を厚みが０．２〜２．０ｎｍとなるように形成し、２次脱アルカリ処理では耐候層１７を、１次脱アルカリ処理の耐候層１７との合計の厚みが０．６〜３．０ｎｍとなるように形成している。このため、過剰なエッチング等によってテクスチャー１４の形状が崩れること及び崩されることを防止することができ、テクスチャー１４の形状を良好に維持することができる。
【００４８】
・  また、１次及び２次脱アルカリ処理は、処理液としてアルカリ性水溶液を使用している。このため、エッチング量等を細かく調整することができ、テクスチャー１４の形状を効果的に維持することができる。
【実施例】
【００４９】
以下、前記実施形態をさらに具体化した実施例について説明する。
（素基板の製造）
工程順に、円盤加工工程、端面面取り工程、ラップ工程、化学強化工程及び研磨工程を施してアルミノシリケートガラス製の素基板を製造した。このとき、素基板のサイズは、厚み０．６ｍｍ、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍであった。アルミノシリケートガラスのガラス組成は、ＳｉＯ2が６３モル％、Ａｌ2Ｏ3が１６モル％、Ｎａ2Ｏが１１モル％、Ｌｉ2Ｏが４モル％、ＭｇＯが２モル％、ＣａＯが４モル％であった。
【００５０】
（ガラス基板の製造）
上記のようにして得られた素基板に対し、工程順に、１次脱アルカリ処理、テクスチャー加工、２次脱アルカリ処理を施し、実施例１〜５及び比較例１〜３のガラス基板を得た。各実施例及び比較例における処理液の種類、温度等の処理内容の詳細を表１に示す。なお、各実施例及び比較例において、何れかの工程を省略したものについては表１中に「省略」と記載した。また、実施例２及び３については、各工程は同じ処理を施したものの、実施例２では化学強化されていない素基板を使用している。加えて、テクスチャー加工は、機械式テクスチャー方式により、テクスチャーマシンを使用して行った。テクスチャー加工時の製造条件は、粒子径が０．２μｍのダイヤモンド砥粒と織布からなるテープ部材を使用し、素基板の回転速度を５回転毎秒（３００ｒｐｍ）、素基板にテープ部材を押し付けるためのローラーの硬度を５０ｄｕｒｏ、ローラーによる押し圧力を３０Ｎとした。
【００５１】
【表１】
2005179151.tif 000002
（耐候性及びテクスチャー形状の評価）
実施例１〜５及び比較例１〜３について、耐候層の厚みをそれぞれ測定するとともに、耐候性及び、テクスチャーの形状について評価した。これらの結果を表２に示す。なお、テクスチャーの形状については、比較例４としてヤケを故意に発生させた後、同ヤケを洗浄にて擦り落とし、テクスチャー加工を施したものについても評価した。
【００５２】
【表２】
2005179151.tif 000003
ここで、耐候層の厚みの測定方法、耐候性の評価方法について説明する。
【００５３】
まず、前記耐候層の厚みの測定方法を説明する。耐候層の厚みは、１次脱アルカリ処理後の耐候層の厚みと、２次脱アルカリ処理後の耐候層の厚みとを測定した。
１次脱アルカリ処理後の耐候層の厚みの測定は、まず第１にスパッタリングによって素基板の主表面に部分的に膜体を形成し、この膜体が形成された部分と、膜体が形成されていない部分との段差をＤ１とし、このＤ１を測定した。その後第２に、素基板をｐＨ１３．０のアルカリ性水溶液に浸漬して耐候層のみを完全に除去した状態で、膜体が形成された部分と、膜体が形成されていない部分との段差をＤ２とし、このＤ２を測定した。そして、Ｄ２とＤ１の差（Ｄ２−Ｄ１）を算出し、これを１次脱アルカリ処理後の耐候層の厚みとした。なお、当該膜体は、スパッタリングによって形成したクロム製のものであり、ｐＨ１３のアルカリ性水溶液に侵食されないものである。
【００５４】
２次脱アルカリ処理後の耐候層の厚みの測定は、まず第１に、ビーコ社製のＡＦＭを用い、素基板の主表面で所定箇所に形成されたテクスチャーの形状を観察し、同テクスチャーの高さをＨ１とし、このＨ１を測定した。その後第２に、素基板をｐＨ１３．０のアルカリ性水溶液に浸漬して耐候層のみを完全に除去した状態で、前記Ｈ１を測定した箇所と同一箇所でテクスチャーの形状を観察し、同テクスチャーの高さをＨ２とし、このＨ２を測定した。そして、Ｈ２とＨ１の差の絶対値（｜Ｈ２−Ｈ１｜）を算出し、これを２次脱アルカリ処理後の耐候層の厚みとした。なお、Ｈ２とＨ１の測定場所は、該測定場所を中心とした半径５μｍ以内に前記膜体が存在する場所とした。また、Ｈ２とＨ１の測定時には、前記膜体の最表面の一点を高さの基準点とした。
【００５５】
前記耐候性の評価方法を説明する。まず第１に、素基板に曝露処理を施した。この曝露処理は、ホルダー等を用いて素基板を垂直（主表面が横向きとなるように縦置き）に保持した状態で、当該素基板を温度が２５℃、湿度が４０％に保たれたクリーンルーム内に放置して行った。そして、当該曝露処理を施す前後において、素基板の主表面でヤケの発生数を測定し、耐候性を評価した。
【００５６】
ヤケの発生数は、素基板の主表面を倍率２００倍の光学顕微鏡（暗視野）で観察し、該視野中で観測される輝点をヤケとして、２００μｍ正方の視野中における輝点数を数えることで測定した。つまり、この測定された輝点数がヤケの発生数である。表２中では、ヤケの発生数が１００個以上を「×」、１００〜６１個を「○」、６０個以下を「◎」とし、「◎」が最も耐候性が良好であるものとして、耐候性を３段階で評価した。
【００５７】
なお、耐候性の評価前において、素基板の主表面で確認された１視野内におけるヤケの発生数は、１個以下であった。また、ヤケの発生数の測定では、前記曝露処理時に素基板の主表面に付着した微細な塵埃等の付着物も輝点として観測されてしまう。このような輝点は、当該測定におけるバックグラウンドノイズとなることから、当該測定に先立ちバックグラウンドノイズが測定結果に与える影響を確認した。この確認は、保護膜を形成してヤケが発生しないよう構成した素基板に対して前記曝露処理を施すことで行った。その結果、１視野内におけるヤケの発生数は１０個以下であった。表２に示したように、曝露処理によるヤケの発生数は、１視野内において５０〜１００個である。従って、曝露処理によるヤケの発生数は、バックグラウンドノイズに比べて十分に多いことから、当該バックグラウンドノイズによる影響は無視できることを確認した。
【００５８】
耐候性及びテクスチャー形状の評価結果について考察する。表２の結果から、実施例１〜５については耐候層が所定の厚みを有するとともに、ヤケの発生数は少なく、テクスチャーも所望とする形状を満たすものであった。これに対し、比較例１は、耐候層が４ｎｍ以上であり厚いものであることからヤケの発生は抑えられるものの、テクスチャーの形状、特にはＢＨ０．０１−ＢＨ０．４で所定値を満たさず、バリの発生が見られた。比較例２は、耐候層が０．４ｎｍと薄く、テクスチャーは所望の形状を満たすものの、ヤケの発生が抑えられず耐候性の低いものとなった。比較例３は、２次脱アルカリ処理後の耐候層が５．２ｎｍと厚く、ヤケの発生は抑えられるものの、テクスチャーは所望の形状を全く満たしていないものとなった。さらに、比較例４はテクスチャーは所望の形状を全く満たしていないものとなった。
【００５９】
なお、前記実施形態又は実施例を次のように変更して構成してもよい。
・  円盤加工工程、端面面取り工程、ラップ工程、化学強化工程、研磨工程、テクスチャー処理工程及び耐候層形成処理工程のうち、少なくともいずれか１つの工程後、必要に応じて素基板又はガラス基板を洗浄するための洗浄工程を設けてもよい。なお、同洗浄工程の洗浄には、素基板又はガラス基板の表面に付着した研磨粉、鉄粉、研磨剤、塵埃、指紋、皮脂等の有機物による汚れ等の付着物を除去するための洗浄の他、素基板又はガラス基板の表面に残留する洗浄液を除去するための洗浄も含むものとする。この洗浄工程で使用する洗浄液としては、前に挙げた酸性水溶液、アルカリ性水溶液、中性水溶液が使用される。
【００６０】
・  情報記録媒体として要求される耐衝撃性等を満たすことが可能であれば、化学強化処理を省略してもよい。
・  テクスチャー１４は、ガラス基板１１の周方向へ同心円状に延びるものに限らず、ドット状等に形成してもよい。
【００６１】
・  テクスチャー加工前に予め形成される耐候層１７の厚み制御を十分に行うことが可能であるならば、１次脱アルカリ処理は必ずしも前段と後段とに分けて施す必要はなく、前段又は後段のいずれか、特には前段を省略してもよい。
【００６２】
さらに、前記実施形態から把握できる技術的思想について以下に記載する。
・  前記テクスチャーは、円周方向へ同心円を描きながら延びるように形成されたものであることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
【００６３】
・  化学強化されたものであることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
・  前記テクスチャー加工よりも前の工程で化学強化処理を施すことを特徴とする請求項５から請求項７のいずれか一項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】実施形態のガラス基板を示す一部を拡大した断面図。
【図２】実施形態のガラス基板を示す平面図。
【図３】（ａ）は１次脱アルカリ処理が施された素基板の一部を示す断面図、（ｂ）はテクスチャー加工が施された素基板の一部を示す断面図。
【符号の説明】
【００６５】
１１…情報記録媒体用ガラス基板、１１ａ…素基板、１３…主表面、１４…テクスチャー、１７…耐候層。
【図１】
2005179151.tif 000004
【図２】
2005179151.tif 000005
【図３】
2005179151.tif 000006