(57)【要約】【課題】基板における蒸着材料の蒸着層の膜厚分布のばらつきを防止し、蒸着層の膜厚分布の均一化を確実に図ることができる真空成膜方法及び真空成膜装置の提供する。【解決手段】蒸着材料を発散させる蒸着源１６と基板を対向させ、基板と蒸着源１６との間隔を保ちつつ蒸着源１６及び基板を相対移動させ、蒸着源１６からの蒸着材料を基板に堆積させることにより蒸着層を形成する真空成膜方法であって、蒸着材料を一定の幅にて帯状に蒸着源１６から発散させ、帯状に発散される蒸着材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように、蒸着源１６及び基板を相対移動させる。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着材料を発散させる蒸着源と基板を対向させ、基板と蒸着源との間隔を保ちつつ蒸着源及び基板を相対移動させ、蒸着源からの蒸着材料を基板に堆積させることにより蒸着層を形成する真空成膜方法であって、
蒸着材料を一定の幅にて帯状に蒸着源から発散させ、帯状に発散される蒸着材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように、蒸着源及び基板を相対移動させることを特徴とする真空成膜方法。
【請求項２】
第１の方向へ蒸着源を移動させるととともに、第２の方向へ基板を移動させる相対移動であることを特徴とする請求項１記載の真空成膜方法。
【請求項３】
第１の方向へ基板を移動させるとともに、第２の方向へ蒸着源を移動させる相対移動であることを特徴とする請求項１記載の真空成膜方法。
【請求項４】
第１の方向と第２の方向を含むように、蒸着源を基板に対して移動させる相対移動であることを特徴とする請求項１記載の真空成膜方法。
【請求項５】
第１の方向と第２の方向を含むように、基板を蒸着源に対して移動させる相対移動であることを特徴とする請求項１記載の真空成膜方法。
【請求項６】
第１の方向と第２の方向を含む蒸着源及び基板の相対移動が、それぞれの方向における往復移動を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の真空成膜方法。
【請求項７】
第１の方向と第２の方向を含む蒸着源及び基板の相対移動とともに、第２の方向を変動することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の真空成膜方法。
【請求項８】
第１の方向と第２の方向を含む蒸着源及び基板の相対移動では、少なくとも、第１の方向への移動距離が、第１の方向の基板の長さにほぼ等しいことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の真空成膜方法。
【請求項９】
基板と蒸着源との間に蒸着用マスクが介在されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の真空成膜方法。
【請求項１０】
蒸着層が有機エレクトロルミエッセンス素子における有機層であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の真空成膜方法。
【請求項１１】
所定の真空度を保持可能とするチャンバと、チャンバ内で基板と対向する蒸着源を具備し、基板に対して蒸着材料を発散して蒸着層を形成する真空成膜装置であって、
基板に対して一定の幅にて帯状に蒸着材料を発散させる蒸着源と、発散される帯状の蒸着材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように、蒸着源及び基板を相対移動させる相対移動手段を具備することを特徴とする真空成膜装置。
【請求項１２】
相対移動手段が、第１の方向へ蒸着源を移動させる蒸着源移動機構と、第２の方向へ基板を移動させる基板移動機構を具備することを特徴とする請求項１１記載の真空成膜装置。
【請求項１３】
相対移動手段が、第１の方向へ基板を移動させる基板移動機構と、第２の方向へ蒸着源を移動させる蒸着源移動機構を具備することを特徴とする請求項１１記載の真空成膜装置。
【請求項１４】
基板を固定する基板固定手段が備えられ、相対移動手段が、第１の方向と第２の方向を含むように、蒸着源を基板に対して移動させる第１蒸着源移動機構と第２蒸着源移動機構を具備することを特徴とする請求項１１記載の真空成膜装置。
【請求項１５】
蒸着源を固定する蒸着源固定手段が備えられ、相対移動手段が、第１の方向と第２の方向を含むように、基板を蒸着源に対して移動させる第１基板移動機構と第２基板移動機構を具備することを特徴とする請求項１１記載の真空成膜装置。
【請求項１６】
蒸着源及び基板をそれぞれの方向において往復移動させる相対移動手段であることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の真空成膜装置。
【請求項１７】
相対移動手段が、蒸着源及び基板の相対移動において第２の方向を変動させる方向変動機構を具備することを特徴とする請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の真空成膜装置。
【請求項１８】
相対移動手段が、少なくとも、第１の方向の基板の長さにほぼ等しい第１の方向への移動距離を有することを特徴とする請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の真空成膜装置。
【請求項１９】
基板と蒸着源との間に蒸着用マスクが介在されることを特徴とする請求項１１〜１８のいずれか一項に記載の真空成膜装置。
【請求項２０】
蒸着材料を発散する複数の蒸着セルが蒸着源に備えられるとともに、これらの蒸着セルが第１の方向の直角方向に向けて列状に配設されたことを特徴とする請求項１１〜１９のいずれか一項に記載の真空成膜装置。
【請求項２１】
蒸着層が有機エレクトロルミエッセンス素子における有機層であることを特徴とする請求項１１〜２０のいずれか一項に記載の真空成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、真空成膜方法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
基板上に陽極及び陰極を設け、これらの電極間に発光性の有機材料を含む有機層を形成した有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子では、電極間に電圧を印加することにより有機層から光を発することが知られている。
こうした有機ＥＬ素子のうち、低分子系材料による有機ＥＬ素子では、真空蒸着法を用いて基板上に有機材料を堆積させ、有機層を形成することが一般的である。
真空蒸着法では、吹出口を有する蒸着源に有機層を形成するための有機材料を収容しておき、所定の真空度が保たれたチャンバ内において蒸着源を加熱することにより、蒸発した有機材料を吹出口から発散させ、発散された有機材料を蒸着源から離れた基板に堆積させるようにしている。
【０００３】
ところで、従来の真空蒸着法による代表的な成膜方法としては、図１３に示される成膜装置２００の用いた成膜方法が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。
この成膜装置２００は、吹出口を有する蒸着源２０１と、蒸着用マスク２０６と共に基板２０４を保持することが可能な回転自在の基板ホルダ２０５をチャンバ２０３に備えたものである。
【０００４】
この成膜装置２００を用いた成膜方法では、蒸着源２０１に有機層の材料である有機材料を収容しておき、所定の真空度のチャンバ２０３内において蒸着源２０１を加熱し、吹出口２０２から気化あるいは昇華された有機材料を発散させ、基板ホルダ２０５により蒸着中の基板２０４を蒸着用マスク２０６とともに水平に回転（自転）させ、基板２０４に蒸着源２０１から発散された有機材料を堆積させて有機層を形成させていた。
蒸着中の基板２０４を回転させる理由は、基板２０４における膜厚分布をできるだけ均一とするためであり、特に、有機ＥＬ素子では、基板２０４における膜厚分布が均一化が不十分であると、輝度特性が低下したり、機能の安定性を確保できなくなるほか、素子としての寿命が短くなるという問題がある。
【０００５】
しかしながら、こうした基板２０４は一般的に方形状であるから、基板２０４を回転させる場合には、基板２０４の縁部においては基板２０４に堆積されない有機材料が生じることになり、高価な有機材料を無駄に消費してしまうことになる。
また、基板２０４を回転させることから、蒸着源２０１及び基板２０４を収容するチャンバ２０３が基板２０４が回転する分だけ大きくなることになり、成膜装置２００が大型化するという問題がある。
さらに言うと、基板２０４の回転は有機層の膜厚分布の均一化の向上を目的としているが、実際には基板２０４の部位によりばらつきが存在し、例えば、基板２０４の中心付近と中心から最も離れた部位との比較では、顕著な差を生じることが明らかにされている。
従って、基板２０４における有機層の膜厚分布の均一化を向上させるという点でこの技術は不十分と言わざるを得ない。
【０００６】
そこで、上記の問題を解決する従来技術（従来技術１と称する）として、長手方向を有する蒸着源とし、有機材料を蒸着源から帯状に発散させ、かつ、蒸着源に対して長手方向の直角方向へ基板を移動させる技術が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。
この蒸着源の蒸着源本体には、その長手方向に沿うように所定の間隔を以って複数の吹出口が配設されており、基板の移動により蒸着源本体の長手方向の寸法にほぼ対応する幅を以って移動する基板に有機層を形成させることができるものとなっている。
従って、従来技術１に係る成膜方法によれば、基板に形成された有機層の膜厚分布が比較的均一化されるとしている。
また、同種の技術として長手方向を有する蒸着源を用い、蒸着源の長手方向と直角方向へ蒸着源を移動させ、基板に蒸着層を形成させる成膜方法も知られている（例えば、特許文献２を参照）。
【０００７】
一方、別の従来技術（従来技術２と称する）では、基板における有機層の形成領域に対応するように複数個の蒸着源を配置し、各蒸着源に複数個の吹出口を設け、これらの吹出口から有機材料を発散させるとともに、基板を基板の面と同一面内にて揺動させるとしている（例えば、特許文献３を参照。）。
この従来技術２に係る成膜方法によれば、基板に形成された有機層の膜厚分布のばらつきの低減に効果的であるとしている。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００３−７７６６２号公報（第３頁、図１、図２、図１８）
【特許文献２】
特開２００１−２４７９５９号公報（第３頁、図１）
【特許文献３】
特開２００２−１８４５７１号公報（第３−５頁、図２、図６）
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来技術１にあっては、基板に形成された有機層の膜厚分布に依然としてばらつきが存在するという問題があった。
すなわち、蒸着源全体から見ると有機材料を帯状に蒸着源から発散するように捉えられるが、基板に対する蒸着源の各吹出口は、基板の移動により相対的に直線状の軌跡を描いていることに過ぎず、例えば、有機層が形成された基板を基板の移動方向と直角方向に破断した場合、この有機層は吹出口の直下の延長線上では厚くなり、隣り合う吹出口の間の直下の延長線上では薄くなるといったように、有機層の厚さが均一ではなくなる。
こうした現象は、蒸着源と基板との距離が短くなるにつれて顕著となる傾向にある。
【００１０】
一方、従来技術２にあっては、基板における有機層の形成領域に対応する複数の蒸着源を設けなくてはならないといった煩雑さが存在した。
特に、基板の大型化を意図するとき、多数の蒸着源を組み合わせることが考えられるが、この場合では、各蒸着源から発散される有機材料が互いに同じ条件とするために、各蒸着源の基板に対する位置の調整、あるいは各蒸着源の均一な加熱等といった煩雑性をさらに助長する問題が避けられなかった。
また、基板における有機層の形成領域に対応するだけの蒸着源を設けることから、成膜装置として製作コストが増大するという問題があった。
【００１１】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたもので、本発明の目的は、蒸着層の膜厚分布の均一化を確実に図ることができる真空成膜方法及び真空成膜装置の提供にある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を達成するため、請求項１記載の発明は、蒸着材料を発散させる蒸着源と基板を対向させ、基板と蒸着源との間隔を保ちつつ蒸着源及び基板を相対移動させ、蒸着源からの蒸着材料を基板に堆積させることにより蒸着層を形成する真空成膜方法であって、蒸着材料を一定の幅にて帯状に蒸着源から発散させ、帯状に発散される蒸着材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように、蒸着源及び基板を相対移動させることを特徴とする真空成膜方法。
【００１３】
請求項１記載の発明によれば、蒸着源及び基板が、帯状に発散される蒸着材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように相対移動されるから、蒸着源から帯状に発散される蒸着材料が基板に対して満遍なく堆積される。
特に、複数の吹出口が第１の方向と直角方向に沿うように列状に配設された蒸着源を用いる場合、蒸着源に基板の蒸着層において生じがちな膜圧の不均一を解消することができる。
【００１４】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の真空成膜方法において、第１の方向へ蒸着源を移動させるととともに、第２の方向へ基板を移動させる相対移動であることを特徴とする。
請求項３記載の発明は、請求項１記載の真空成膜方法において、第１の方向へ基板を移動させるとともに、第２の方向へ蒸着源を移動させる相対移動であることを特徴とする。
請求項４記載の発明は、請求項１記載の真空成膜方法において、第１の方向と第２の方向を含むように、蒸着源を基板に対して移動させる相対移動であることを特徴とする。
請求項５記載の発明は、請求項１記載の真空成膜方法において、第１の方向と第２の方向を含むように、基板を蒸着源に対して移動させる相対移動であることを特徴とする。
請求項２〜５記載の発明は請求項１記載の同様の作用効果を奏する。
【００１５】
請求項６記載の発明は、請求項１〜５のいずれか一項に記載の真空成膜方法において、第１の方向と第２の方向を含む蒸着源及び基板の相対移動が、それぞれの方向における往復移動を含むことを特徴とする。
請求項６記載の発明によれば、蒸着源及び基板は第１の方向と、第２の方向を含むように相対移動されるが、それぞれの方向における往復移動を含む相対移動であるから、蒸着源から帯状に発散される蒸着材料が基板に対して繰り返して満遍なく堆積される。
【００１６】
請求項７記載の発明は、請求項１〜５のいずれか一項に記載の真空成膜方法において、第１の方向と第２の方向を含む蒸着源及び基板の相対移動とともに、第２の方向を変動することを特徴とする。
請求項７記載の発明によれば、蒸着源及び基板は第１の方向と第２の方向を含むように相対移動されるが、この相対移動においては第２の方向が変動するから、蒸着材料の発散の状態に応じた蒸着源及び基板の相対移動が可能となる。
【００１７】
請求項８記載の発明は、請求項１〜７のいずれか一項に記載の真空成膜方法において、第１の方向と第２の方向を含む蒸着源及び基板の相対移動では、少なくとも、第１の方向への移動距離が、第１の方向の基板の長さにほぼ等しいことを特徴とする。
請求項８記載の発明によれば、第１の方向への移動距離が基板の長さにほぼ等しいことから、基板の長さに対応する長さを有する蒸着層を形成することができる。
【００１８】
請求項９記載の発明は、請求項１〜８のいずれか一項に記載の真空成膜方法において、基板と蒸着源との間に蒸着用マスクが介在されることを特徴とする。
請求項９記載の発明によれば、基板と蒸着源との間に蒸着用マスクが介在されることから、所定のパターンに応じた蒸着層を基板に形成することができる。
【００１９】
請求項１０記載の発明は、請求項１〜９のいずれか一項に記載の真空成膜方法において、蒸着層が有機エレクトロルミエッセンス素子における有機層であることを特徴とする。
請求項１０記載の発明によれば、蒸着層が有機エレクトロルミエッセンス素子において、膜厚分布の均一化を図れることができる。
【００２０】
請求項１１記載の発明は、所定の真空度を保持可能とするチャンバと、チャンバ内で基板と対向する蒸着源を具備し、基板に対して蒸着材料を発散して蒸着層を形成する真空成膜装置であって、基板に対して一定の幅にて帯状に蒸着材料を発散させる蒸着源と、発散される帯状の蒸着材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように、蒸着源及び基板を相対移動させる相対移動手段を具備することを特徴とする。
請求項１１記載の発明によれば、所定の真空度に保たれるチャンバ内において、相対移動手段により、蒸着源と基板が発散される帯状の蒸着材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように相対移動されるから、蒸着源から帯状に発散される蒸着材料が基板に対して満遍なく堆積される。
【００２１】
請求項１２記載の発明は、請求項１１記載の真空成膜装置において、第１の方向へ蒸着源を移動させる蒸着源移動機構と、第２の方向へ基板を移動させる基板移動機構を具備することを特徴とする。
請求項１２記載の発明によれば、相対移動手段が具備する蒸着源移動機構により蒸着源が第１の方向へ移動されるとともに、相対移動手段が具備する基板移動機構により基板が第２の方向へ移動される。
【００２２】
請求項１３記載の発明は、請求項１１記載の真空成膜装置において、相対移動手段が、第１の方向へ基板を移動させる基板移動機構と、第２の方向へ蒸着源を移動させる蒸着源移動機構を具備することを特徴とする。
請求項１３記載の発明によれば、相対移動手段が具備する基板移動機構により基板が第１の方向へ移動されるとともに相対移動手段が具備する蒸着源移動機構により蒸着源が第２の方向へ移動される。
【００２３】
請求項１４記載の発明は、請求項１１記載の真空成膜装置において、基板を固定する基板固定手段が備えられ、相対移動手段が、第１の方向と第２の方向を含むように、蒸着源を基板に対して移動させる第１蒸着源移動機構と第２蒸着源移動機構を具備することを特徴とする。
請求項１４記載の発明によれば、基板固定手段により基板が固定される一方、相対移動手段が具備する第１蒸着源移動機構及び第２蒸着源移動機構により、蒸着源が第１の方向と第２の方向を含むように基板に対して移動される。
【００２４】
請求項１５記載の発明は、請求項１１記載の真空成膜装置において、蒸着源を固定する蒸着源固定手段が備えられ、相対移動手段が、第１の方向と第２の方向を含むように、基板を蒸着源に対して移動させる第１基板移動機構と第２基板移動機構を具備することを特徴とする。
請求項１５記載の発明によれば、蒸着源固定手段により蒸着源が固定される一方、相対移動手段が具備する第１基板移動機構及び第２基板移動機構により、基板が蒸着源に対して第１の方向と第２の方向を含むように移動される。
【００２５】
請求項１６記載の発明は、請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の真空成膜装置において、蒸着源及び基板をそれぞれの方向において往復移動させる相対移動手段であることを特徴とする。
請求項１６記載の発明によれば、相対移動手段により蒸着源及び基板は第１の方向と第２の方向を含むように相対移動されるが、それぞれの方向における往復移動を含む相対移動となる。
【００２６】
請求項１７記載の発明は、請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の真空成膜装置において、相対移動手段が、蒸着源及び基板の相対移動において第２の方向を変動させる方向変動機構を具備することを特徴とする。
請求項１７記載の発明によれば、蒸着源及び基板は第１の方向と第２の方向を含むように相対移動されるが、この相対移動においては相対移動手段が具備する方向変動機構により第２の方向が変動する。
【００２７】
請求項１８記載の発明は、請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の真空成膜装置において、相対移動手段が、少なくとも、第１の方向の基板の長さにほぼ対応する第１の方向への移動距離を有することを特徴とする。
請求項１８記載の発明によれば、相対移動手段により第１の方向への移動距離を基板の長さにほぼ対応させることから、基板の長さに対応する長さを有する蒸着層を形成することができる。
【００２８】
請求項１９記載の発明は、請求項１１〜１８のいずれか一項に記載の真空成膜装置において、基板と蒸着源との間に蒸着用マスクが介在されることを特徴とする。
請求項１９記載の発明によれば、基板と蒸着源との間に蒸着用マスクが介在されることから、所定のパターンに応じた蒸着層が基板に形成される。
【００２９】
請求項２０記載の発明は、請求項１１〜１９のいずれか一項に記載の真空成膜装置において、蒸着材料を発散する複数の吹出口が蒸着源に備えられるとともに、これらの吹出口が第１の方向の直角方向に向けて列状に配設されたことを特徴とする。
請求項２０記載の発明によれば、蒸着源に備えられる複数の吹出口が第１の方向の直角方向に向けて列状に配設され、各吹出口から蒸着材料が発散されることから、蒸着源全体から見ると蒸着材料は一定の幅にて帯状に発散されることになる。
【００３０】
請求項２１記載の発明は、請求項１１〜２０のいずれか一項に記載の真空成膜装置において、蒸着層が有機エレクトロルミエッセンス素子における有機層であることを特徴とする。
請求項２１記載の発明によれば、蒸着層が有機エレクトロルミエッセンス素子における有機層であることから、基板における有機層の膜厚分布のばらつきが防止され、膜厚分布の均一化が確実に図れた有機層を形成することができる。
【００３１】
【発明の実施の形態】
（第１の実施形態）
以下、本発明の第１の実施形態を図１〜図４に基づいて説明する。
この実施形態では、蒸着層として有機ＥＬ素子における有機層に適用した例について説明する。
まず、有機ＥＬ素子の概要について説明すると、図１に示される有機ＥＬ素子１０は、ガラス基板１１、陽極１２、有機層１３、陰極１４から基本的に構成されている。
ガラス基板１１は可視光線を透過させるものであり、このガラス基板１１の一面には、透明の導電層である陽極１２が形成されている。
この実施の形態では、陽極１２は、ＩＴＯ（インジウム・錫酸化物）であり、例えば、スパッタリング等により形成されるものである。
【００３２】
そして、この実施形態では、図１に示されるように、この陽極１２の上に正孔注入層１３ａ、正孔輸送層１３ｂ、発光層１３ｃ、電子輸送層１３ｄ、電子注入層１３ｅが順番に積層されているが、この実施形態ではこれらをまとめて有機層１３と呼ぶ。
これらの層１３ａ〜１３ｅはいずれも互い種類の異なる有機材料であって、真空蒸着法により蒸着材料としての有機材料を層状に堆積して形成される。
この明細書における「基板」とは、少なくともガラス基板１１等の板材に陽極１２が形成され、かつ、有機材料等の蒸着材料による蒸着が予定されるものを含むものとしている。
例えば、陽極１２のみが形成されたガラス基板１１、あるいは、正孔注入層１３ａ、正孔輸送層１３ｂ、発光層１３ｃ、電子輸送層１３ｄ及び陽極１２が形成されたガラス基板１１といった状態のものを、ここでいう「基板」の概念に含む。
【００３３】
この有機層１３の上には陰極１４が形成されている。この陰極１４は電子注入層１３ｅに電子を注入するための電極であり、一般的には仕事関数の小さな材料であるリチウムやアルミニウム等の金属系材料が用いられる。
このように構成された有機ＥＬ素子１０では、陽極１２及び陰極１４に直流電圧を印加することにより、陽極１２から発光層１３ｃへホールが注入され、他方、陰極１４から発光層１３ｃへ電子が注入される。
そして、発光層１３ｃにて電子とホールが再結合されて励起状態となり、このときのエネルギーの放出が発光層１３ｃにおける発光現象となる。
【００３４】
次に、有機ＥＬ素子１０の有機層１３を形成するための成膜装置１５について説明する。
図２に示される成膜装置１５は、陽極１２が形成済みのガラス基板１１に対して正孔注入層１３ａの成膜を図るためのものである。
この成膜装置１５は、所定の真空度を保つことができるチャンバ（図示せず）、チャンバ内に設けられた蒸着源１６、蒸着源１６を往復移動させる蒸着源移動機構１９、およびガラス基板１１を第２の方向へ往復移動させる基板移動機構２３とを有する。
ここでいう第１の方向に対する第２の方向は、第１の方向に対して直角方向を指しており、第１の方向への蒸着源１６の移動と共に第２の方向へのガラス基板１１の移動により、蒸着源１６及びガラス基板１１の２方向を含む相対移動が図られている。
【００３５】
まず、蒸着源１６について説明すると、蒸着源１６はガラス基板１１の幅程度に設定された長細い蒸着源本体１７を備えており、この蒸着源本体１７は蒸着源本体１７の長手方向と直角方向である第１の方向へ向けて直線的に、かつガラス基板１１に対して水平に往復移動できるように、蒸着源移動機構１９により保持されている。
そして、蒸着源本体１７は蒸着材料である有機材料を収容することができ、円形状の吹出口１８を複数個備えており、これらの吹出口１８は下方のガラス基板１１に対向するように蒸着源本体１８の長手方向に沿って列状に備えられている。
また、蒸着源本体１７は加熱されるものであり、蒸着源本体１７の加熱より有機材料が気化あるいは昇華され、気化あるいは昇華された有機材料は吹出口１８を通じて発散される。
従って、蒸着源本体１７において加熱された有機材料は吹出口１８を通過し、蒸着源１６から蒸着材料が一定の幅にて発散されることになる。
【００３６】
次に、蒸着源移動機構１９について説明する。
蒸着源移動機構１９は、蒸着源１６を第１の方向へ往復移動させるためのものであり、第１の方向へ水平に向けられる第１ガイド体２０を備え、第１ガイド体２０の下面には第１ガイド体２０に対して移動自在の蒸着源ホルダ２１を備えている。
この第１ガイド体２０には蒸着源ホルダ２１を案内するためのガイド２２が設けられており、この第１ガイド体２０に沿って蒸着源ホルダ２１が往復移動する。
そして、蒸着源ホルダ２１の下面には蒸着源本体１７が取り付けられており、蒸着源１６移動用の駆動手段（図示せず）の作動により、蒸着源ホルダ２１が第１ガイド体２０に対して往復移動し、蒸着源ホルダ２１の往復移動に伴って蒸着源本体１７が第１の方向へ往復移動するようになっている。
従って、蒸着源１６は蒸着源移動機構１９により直線的に往復移動することができるとともに、吹出口１８から気化あるいは昇華された有機材料をカーテンフローの如く、ガラス基板１１に向けて帯状に発散させることができる。
なお、第１ガイド体２０における蒸着源本体１７の移動距離は、第１方向のガラス基板１１の長さにほぼ等しくなっている。
また、蒸着源１６移動用の駆動手段は蒸着源１６を往復移動させる適宜の手段でよく、定速移動あるいは可変速移動を可能とする駆動手段が好ましい。
【００３７】
次に、基板移動機構２３について説明する。
基板移動機構２３は、ガラス基板１１を第２の方向へ往復移動させるためのものであり、第２の方向へ水平に向けられる第２ガイド体２４を備え、第２ガイド体２４の上面には第２ガイド体２４に対して移動自在の基板ホルダ２５を備えている。
この第２ガイド体２４には、基板ホルダ２５を案内するためのガイド２６が設けられており、この第２ガイド体２４に沿って基板ホルダ２５が往復移動する。
そして、基板ホルダ２５はその上面にガラス基板１１を取り付けられることができるものであり、ガラス基板１１移動用の駆動手段（図示せず）の作動により、基板ホルダ２５が第２ガイド体２４に対して往復し、基板ホルダ２５の往復移動に伴ってガラス基板１１が第２の方向へ往復移動される。
ガラス基板１１移動用の駆動手段は蒸着源１６移動用の駆動手段と同様のものを採用すればよい。
【００３８】
なお、この実施形態では、第２ガイド体２４における基板ホルダ２５に取り付けられるガラス基板１１の移動距離は、蒸着源本体１７に設けられた吹出口１８のピッチにほぼ等しくなっている。
また、基板移動機構２３によるガラス基板１１の移動と、先に説明した蒸着源移動機構１９による蒸着源１６の移動は、ガラス基板１１と蒸着源１６が互いに同期しないような移動速度とすることが好ましい。ここで、ガラス基板１１の移動と蒸着源１６の移動とが同期するとは、蒸着源１６上の一点が同じ軌跡を描くことを言う。
これは、例えば、蒸着源１６の往復移動において、ガラス基板１１に対する吹出口１８の軌跡が同じ軌跡を描かないようにし、有機材料の蒸着層の膜厚分布をできるだけ均一とするためである。
【００３９】
このように、この実施形態では、蒸着材料を一定の幅にて帯状に蒸着源１６から発散させ、帯状に発散される蒸着材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように、蒸着源１６及びガラス基板１１を相対移動させることになるが、この成膜装置１５では、蒸着源１６及びガラス基板１１の相対移動は、蒸着源移動機構１９及び基板移動機構２３により実現されることから、蒸着源移動機構１９及び基板移動機構２３を備えた相対移動手段と言え、成膜装置１５が相対移動手段を具備していると言える。
【００４０】
この実施形態における蒸着用マスク２７は、ガラス基板１１にほぼ等しいサイズであり、所望のパターンで蒸着層を形成するための複数の開口部２８が備えられており、ここでは矩形の開口部２８としている。
この蒸着用マスク２７は、有機材料を蒸着させる際には、蒸着源１６とガラス基板１１との間に介在されるものであるが、この実施形態ではガラス基板１１上に蒸着用マスク２７を載置するようにしている。
【００４１】
次に、この実施形態の成膜装置１５の作用について説明する。
ここでは、陽極１２が形成されたガラス基板１１に、有機層１３の一部である正孔注入層１３ａを形成する場合を例示して説明する。
まず、陽極１２が形成されたガラス基板１１に蒸着用マスク２７を備え付け、ガラス基板１１をチャンバ内の基板ホルダ２５にセットして、両者を固定する。その後、チャンバ内を所定の真空度に保持する。
次に、蒸着源本体１７を加熱し、吹出口１８から正孔注入層１３ａの材料である有機材料を発散させる。
そして、蒸着源移動機構１９を作動させることにより、蒸着源ホルダ２１の蒸着源本体１７が蒸着用マスク２７の上面を沿うように、第１の方向へ直線的に水平移動される一方、基板移動機構２３を作動させることにより、ガラス基板１１が第２の方向へ移動される。
このため、蒸着源１６とガラス基板１１は第１の方向と第２の方向という異なる２方向を含むように相対移動されることになる。
【００４２】
このとき、蒸着源移動機構１９により第１の方向へ移動する蒸着源本体１７が、第２の方向へ移動する蒸着用マスク２７の開口部２８の上方を通過するが、蒸着源本体１７からの有機材料はガラス基板１１へ向けて帯状に発散される。
発散された有機材料は蒸着用マスク２７の開口部２８を通過し、通過した有機材料はガラス基板１１上に蒸着される。
そして、蒸着源本体１７とガラス基板１１を夫々の方向において往復移動を繰り返すことにより、ガラス基板１１に対する吹出口１８の軌跡は、同じ軌跡を描くことがなく、蒸着源本体１７から発散される有機材料がガラス基板１１に対して満遍なく堆積される。
【００４３】
この実施形態に係る成膜方法及び成膜装置１５は以下の効果を奏する。
蒸着源本体１７及びガラス基板１１が、帯状に発散される有機材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように相対移動され、ガラス基板１１は基板移動機構２３により吹出口１８のピッチ間にほぼ相当する移動距離を往復移動し、また、蒸着源本体１７は蒸着源移動機構１９によりガラス基板１１の長さに相当する移動距離を往復移動し、しかも、ガラス基板１１と蒸着源１６が互いに同期しないように移動するから、ガラス基板１１に対する吹出口１８の軌跡は、同じ軌跡を描くことがなく、蒸着源１６から帯状に発散される蒸着材料がガラス基板１１に対して満遍なく堆積される。
従って、ガラス基板１１に有機材料が堆積されることにより得られた蒸着層は、その膜厚分布の均一化が図られる。
また、蒸着用マスク２７がガラス基板１１と蒸着源１６との間に介在されるから、所望のパターンの蒸着層をガラス基板１１に形成することができる。
【００４４】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態の成膜装置３０について図５に基づき説明する。
この実施形態は、ガラス基板１１を移動させずにチャンバ内におけるガラス基板１１の位置を固定しておき、ガラス基板１１に対して蒸着源３９を第１の方向及び第２の方向を含むように相対移動させる成膜装置の例である。
従って、この実施形態では、説明の便宜上、先に説明した第１の実施形態で用いた符号を一部共通して用い、共通または類似する構成についてはその説明を省略する。
【００４５】
この実施形態の成膜装置３０は、図５に示されるように、基板固定手段としての基板載置台３１、第１蒸着源移動機構３２と第２蒸着源移動機構３６とを有する。
基板載置台３１はガラス基板１１および蒸着用マスクを載置して固定するためのものであり、チャンバ内においてその位置が固定されている。
第１蒸着源移動機構３２は蒸着源３９を第１の方向へ往復移動させるためのものであり、第１の方向へ平行に向けられる第１ガイド体３３を備え、第１ガイド体３３の下面には第１ガイド体３３に対して移動自在の移動体３４を備えている。
この第１ガイド体３３には移動体３４を案内するためのガイド３５を備えており、移動体３４移動用の駆動源（図示せず）により、この第１ガイドに沿って移動体３４が往復移動するものとなっている。
そして、移動体３４の下面には第２蒸着源移動機構３６が取り付けられており、移動体３４が第１ガイド体３３に対して往復移動し、移動体３４の往復移動に伴ってる第２蒸着源移動機構３６が第１の方向へ往復移動するようになっている。
【００４６】
第２蒸着源移動機構３６は、蒸着源３９を第２の方向へ往復移動させるためのものであり、第２の方向へ平行に向けられる第２ガイド体３７を備え、第２ガイド体３７の下面には第２ガイド体３７に対して移動自在の蒸着源ホルダ（図示せず）を備えている。
この第２ガイド体３７には、蒸着源ホルダを案内するためのガイド３８が備えられており、この第２ガイド体３７に沿って蒸着源ホルダが往復移動する。
そして、蒸着源ホルダの下面には、蒸着源本体４０が取り付けられており、蒸着源ホルダ移動用の駆動手段（図示せず）の作動により、蒸着源ホルダが第２ガイド体３７に対して往復し、蒸着源ホルダの往復移動に伴って蒸着源本体４０が第２の方向へ往復移動する。
【００４７】
なお、この実施形態では、第１ガイド体３３における蒸着源本体４０の第１の方向への移動距離は、第１の方向のガラス基板１１の長さにほぼ等しくなっており、第２ガイド体３７における蒸着源本体４０の第２の方向への移動距離は、蒸着源本体４０に設けられた円形の吹出口４１のピッチにほぼ等しくなっている。
また、第１蒸着源移動機構３２による移動体３４の移動と、第２蒸着源移動機構３６による蒸着源ホルダとの移動は、第１の実施形態と同様の理由から、両者が互いに同期しないようにすることが好ましい。
【００４８】
この実施形態では、蒸着材料を一定の幅にて帯状に蒸着源３９から発散させ、帯状に発散される蒸着材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように、固定されたガラス基板１１に対して蒸着源３９を移動させることになるが、この成膜装置３０では、ガラス基板１１に対する蒸着源本体４０の移動は、第１蒸着源移動機構３２及び第２蒸着源移動機構３６により実現されることから、第１蒸着源移動機構３２及び第２蒸着源移動機構３６を備えた相対移動手段と言え、成膜装置３０が相対移動手段を具備していると言える。
【００４９】
そして、この実施形態の成膜装置３０によれば、第１蒸着源移動機構３２及び第２蒸着源移動機構３６により蒸着源３９がガラス基板１１に対して移動されることになるが、蒸着源３９とガラス基板１１との相対移動という点では、発散される有機材料のガラス基板１１への堆積は、第１の実施形態と同じとなる。
従って、蒸着源３９から帯状に発散される蒸着材料がガラス基板１１に対して満遍なく堆積される。
【００５０】
（第３の実施形態）
次に、第３の実施形態の成膜装置５０について図６に基づき説明する。
この実施形態は、蒸着源５９を移動させずにチャンバ内の位置を固定しておき、蒸着源５９に対してガラス基板１１を第１の方向及び第２の方向を含むように相対移動させる成膜装置の例である。
従って、この実施形態では、説明の便宜上、先に説明した第１の実施形態で用いた符号を一部共通して用い、共通または類似する構成についてはその説明を省略る。
【００５１】
この実施形態の成膜装置５０は、図６に示されるように、蒸着源固定手段としての蒸着源固定杆５１、第１基板移動機構５２と第２基板移動機構５５とを有する。
蒸着源固定杆５１は蒸着源本体６０を吊持して固定するためのものであり、チャンバ内において位置が固定されている。
第１基板移動機構５２はガラス基板１１を第１の方向へ往復移動させるためのものであり、第１の方向へ平行に向けられる第１ガイド体５３を備え、第１ガイド体５３の上面には第１ガイド体５３に対して移動自在の移動体（図示せず）を備えている。
この第１ガイド体５３には移動体を案内するためのガイド５４を備えており、移動体移動用の駆動手段（図示せず）により、この第１ガイド体５３に沿って移動体が往復移動する。
そして、移動体の上面には第２基板移動機構５５が取り付けられており、移動体が第１ガイド体５３に対して往復移動し、移動体の往復移動に伴って第２基板移動機構５５が第１の方向へ往復移動するようになっている。
【００５２】
第２基板移動機構５５は、ガラス基板１１を第２の方向へ往復移動させるためのものであり、第２の方向へ平行に向けられる第２ガイド体５６を備え、第２ガイド体５６の上面には第２ガイド体５６に対して移動自在の基板ホルダ５７を備えている。
この第２ガイド体５６には、基板ホルダ５７を案内するためのガイド５８が備えられており、基板ホルダ５７移動用の駆動手段（図示せず）により、この第２ガイドに沿って基板ホルダ５７が往復移動する。
そして、基板ホルダ５７の上面にはガラス基板１１が取り付けられており、基板ホルダ５７が第２ガイド体５６に対して往復移動し、基板ホルダ５７の往復移動に伴ってガラス基板１１が第２の方向へ往復移動する。
【００５３】
なお、この実施形態では、第１ガイド体５３における移動体の移動距離は、第１の方向のガラス基板１１の長さにほぼ等しく、第２ガイド体５６における基板ホルダ５７に取り付けられるガラス基板１１の第２の方向への移動距離は、蒸着源本体６０に設けられた円形の吹出口６１のピッチにほぼ等しい。
また、第１基板移動機構５２による移動体の移動と、第２基板移動機構５５による基板ホルダ５７との移動は、先の実施形態と同様の理由から、両者が互いに同期しないようにすることが好ましい。
【００５４】
この実施形態では、有機材料を一定の幅にて帯状に蒸着源５９から発散させ、帯状に発散される有機材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように、固定された蒸着源５９に対してガラス基板１１を移動させることになるが、この成膜装置５０では、蒸着源５９に対するガラス基板１１の移動は、第１基板移動機構５２及び第２基板移動機構５５により実現されることから、第１基板移動機構５２及び第２基板移動機構５５を備えた相対移動手段と言え、成膜装置５０が相対移動手段を具備していると言える。
【００５５】
そして、この実施形態の成膜装置５０によれば、第１基板移動機構５２及び第２基板移動機構５５によりガラス基板１１が蒸着源５９に対して移動されることになるが、蒸着源５９とガラス基板１１との相対移動という点では、発散される有機材料のガラス基板１１への堆積は第１及び第２の実施形態と同じとなる。
従って、蒸着源５９から帯状に発散される有機材料がガラス基板１１に対して満遍なく堆積される。
【００５６】
（第４の実施形態）
次に、第４の実施形態の成膜装置７０について図７に基づき説明する。
この実施形態は、ガラス基板１１を第１の方向へ往復移動させ、ガラス基板１１に対して蒸着源７９を第２の方向へ往復移動させるようにした成膜装置の例である。
この実施形態では、説明の便宜上、先に説明した第１の実施形態で用いた符号を一部共通して用い、共通または類似する構成についてはその説明を省略する。
【００５７】
この実施形態の成膜装置７０は、図７に示されるように、第１の方向へガラス基板１１を移動させる基板移動機構７１、第２の方向へ蒸着源本体８０を移動させる蒸着源移動機構７５から基本的に構成されている。
基板移動機構７１はガラス基板１１を第１の方向へ往復移動させるためのものであり、第１の方向へ平行に向けられる第１ガイド体７２を備え、第１ガイド体７２の上面には第１ガイド体７２に対して移動自在の基板ホルダ７３を備えている。
この第１ガイド体７２は基板ホルダ７３を案内するためのガイド７４を備えており、基板ホルダ７３移動用の駆動手段（図示せず）により、この第１ガイド体７２に沿って基板ホルダ７３が往復移動する。
【００５８】
一方、基板ホルダ７３の上方には、蒸着源７９を有する蒸着源移動機構７５が備えられている。蒸着源移動機構７５は蒸着源７９を第２の方向へ往復移動させるためのものであり、第２の方向へ平行に向けられる第２ガイド体７６を備え、第２ガイド体７６の下面には第２ガイド体７６に対して移動自在の蒸着源ホルダ７７を備えている。
この第２ガイド体７６には、蒸着源ホルダ７７を案内するためのガイド７８が備えられており、蒸着源ホルダ７７移動用の駆動手段（図示せず）により、この第２ガイド体７６に沿って蒸着源ホルダ７７が往復移動する。
そして、蒸着源ホルダ７７の下面には蒸着源本体８０が取り付けられており、蒸着源ホルダ７７が第２ガイド体７６に対して往復移動し、蒸着源ホルダ７７の往復移動に伴って蒸着源本体８０が第２の方向へ往復移動する。
【００５９】
なお、この実施形態では、第１ガイド体７２におけるガラス基板１１の移動距離は、第１の方向のガラス基板１１の長さにほぼ等しく、第２ガイド体７６における蒸着源ホルダ７７に取り付けられる蒸着源本体８０の第２の方向への移動距離は、蒸着源本体８０に設けられた吹出口８１のピッチにほぼ等しい。
また、基板移動機構７１によるガラス基板１１の移動と、蒸着源移動機構７５による蒸着源本体８０との移動は、第１及び第２の実施形態と同じ理由から、両者が互いに同期しないようにすることが好ましい。
【００６０】
この実施形態では、有機材料を一定の幅にて帯状に蒸着源７９から発散させ、帯状に発散される有機材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように、ガラス基板１１及び蒸着源７９を相対移動させることになるが、この成膜装置７０では、ガラス基板１１の移動は基板移動機構７１により実現され、蒸着源７９の移動は蒸着源移動機構７５により実現されることから、基板移動機構７１及び蒸着源移動機構７５を備えた相対移動手段と言え、成膜装置７０が相対移動手段を具備していると言える。
【００６１】
そして、この実施形態の成膜装置７０によれば、基板移動機構７１によりガラス基板１１が第１の方向へ移動し、蒸着源移動機構７５により蒸着源７９が第２の方向へ移動することになり、蒸着源７９とガラス基板１１との相対移動という点では、発散される有機材料のガラス基板１１への堆積は第１〜３の実施形態と同じとなる。
従って、蒸着源７９から帯状に発散される有機材料がガラス基板１１に対して満遍なく堆積される。
【００６２】
（第５の実施形態）
次に、第５の実施形態の成膜装置９０について図８及び図９に基づき説明する。
この実施形態は、蒸着源１６を第１の方向へ往復移動させるとともに、ガラス基板１１を第２の方向を含むように移動させるものであるが、蒸着源１６とガラス基板１１との相対移動において、移動するガラス基板１１の第２の方向が経時的に変動する例である。具体的にはガラス基板１１の姿勢を保持しつつ円の軌跡を描くようにガラス基板１１を移動させるものとなっている。
この実施形態では、説明の便宜上、先に説明した第１の実施形態で用いた符号を一部共通して用い、共通または類似する構成についてはその説明を省略する。
また、図９においては、蒸着用マスク２７及びガラス基板１１が示されていないが、蒸着の際には蒸着用マスク２７及びガラス基板１１を用いることは言うまでもない。
【００６３】
図８及び図９に示されるこの実施形態の成膜装置９０は、チャンバ、蒸着源１６、蒸着源移動機構１９及び基板移動機構９１とから基本的に構成されている。
蒸着源１６及び蒸着源移動機構１９は、第１の実施形態と同じ構成であるから説明を省略し、基板移動機構９１について説明する。
この実施形態の基板移動機構９１は、図９に示されるように、基台９２、基台９２上に備えられた平行リンク９３、平行リンク９３に設けられた基板ホルダ９４及び駆動源９５から基本的に構成されている。
【００６４】
基台９２はチャンバ内においてその位置が固定されており、平行リンク９３が基台９２上に備えられているほか、平行リンク９３を作動させるための駆動手段９５が基台９２に備えられている。
基台９２上の平行リンク９３について説明すると、この平行リンク９３は基台９２の上面において所定の間隔を保って垂直に備えられた一対の回転軸９３ａ９３ａと、両回転軸９３ａ、９３ａにそれぞれ固定された回転アーム９３ｂ、９３ｂと、両回転アーム９３ｂ、９３ｂの開放端を軸着する連結杆９３ｃから構成されている。
この回転アーム９３ｂ、９３ｂは互いに平行となるように連結杆９３ｃにより軸着されており、一方の回転軸９３ａは駆動源９５により回転されるものとなっている。
従って、駆動源９５の作動により一方の回転アーム９３ｂが回転されると、連結杆９３ｃを介して他方の回転アーム９３ｂが回転されるものとなっている。
回転アーム９３ｂ、９３ｂが回転するとき、連結杆９３ｃはその姿勢を保ちつつ円の軌跡を描くことになる。
従って、連結杆９３ｃに基板ホルダ９４が設けられ、基板ホルダ９４にガラス基板１１がセットされた状態で駆動源９５を作動させると、ガラス基板１１は姿勢を保ちつつ、円の軌跡を描くことになる。
【００６５】
ところで、この実施形態では、蒸着源１６とガラス基板１１との相対移動において、移動するガラス基板１１の第２の方向が、第１の方向に対して経時的に変動する。
そして、基板移動機構９１によりガラス基板１１が円の軌跡を描くように移動されることから、この実施形態では第２の方向の変動は第１の方向に対して０〜３６０度の範囲を含むと言える。
例えば、図８に示されるように、ガラス基板１１の第２の方向は、第１の方向と一致する方向Ｆａ、第１の方向と直角方向Ｆｂ、第１の方向に対して４５度の方向Ｆｃ等を含むことになる。
このため、この実施形態の基板移動機構９１は、ガラス基板１１の移動における第２の方向を変動させる方向変動機構としての基板移動機構９１と言うことができる。
【００６６】
なお、この実施形態では、第１ガイド体２０における蒸着源本体１７の移動距離は、第１の方向のガラス基板１１の長さにほぼ等しい。
また、基板移動機構９１においては回転アーム９３ｂ、９３ｂの長さが、蒸着源本体１７に設けられた吹出口１８のピッチの１／２にほぼ等しい。
このため、ガラス基板１１の第２の方向が第１の方向と一致する方向にあるとき、第１の方向と直角方向へのガラス基板１１の移動距離は吹出口１８のピッチとほぼ等しくなる。
【００６７】
この実施形態では、有機材料を一定の幅にて帯状に蒸着源１６から発散させ、相対移動において変動する第２の方向を含むようにガラス基板１１を移動させ、このガラス基板１１に対して蒸着源１６を第１の方向へ移動させることになるが、この成膜装置９０では、蒸着源１６の移動は蒸着源移動機構１９により実現され、ガラス基板１１の移動は基板移動機構９１により実現される。
従って、蒸着源移動機構１９及び基板移動機構９１を備えた相対移動手段と言えるほか、成膜装置９０が相対移動手段を具備していると言え、さらに言うと相対移動手段は方向変動機構を具備していると言える。
【００６８】
そして、この実施形態の成膜装置９０によれば、蒸着源移動機構１９及び基板移動機構９１により蒸着源１６がガラス基板１１に対して移動することになるが、蒸着源１６とガラス基板１１との相対移動という点では、発散される有機材料のガラス基板１１への堆積は第１〜第４の実施形態とほぼ同じとなる。
従って、蒸着源１６から帯状に発散される有機材料がガラス基板１１に対して満遍なく堆積される。
【００６９】
（第６の実施形態）
次に、第６の実施形態の成膜装置１００について図１０に基づき説明する。
この実施形態は、ガラス基板１１を移動させずにチャンバ内の位置を固定しておき、ガラス基板１１に対して蒸着源１０３を第１の方向及び第２の方向を含むように相対移動させる成膜装置の例である。
従って、この実施形態では、説明の便宜上、先に説明した第１、第２の実施形態で用いた符号を一部共通して用い、共通または類似する構成についてはその説明を省略する。
【００７０】
この実施形態の成膜装置１００は、図１０に示されるように、基板固定手段としての基板載置台３１、第１蒸着源移動機構３２と第２蒸着源移動機構１０１とを有している。
基板載置台３１及び第１蒸着源移動機構３２は第２の実施形態と実質的に同じであることから、ここでは第２蒸着源移動機構１０１について説明する。
第２蒸着源移動機構１０１は、蒸着源１０３を第２の方向へ移動させるためのものであるが、この実施形態の第２蒸着源移動機構１０１は、第１蒸着源移動機構３２が備える移動体３４の下面に備えられ、第５の実施形態で説明した平行リンク９３と同種の平行リンク１０２を備えている。
この平行リンク１０２は回転軸１０２ａ、１０２ａ、回転アーム１０２ｂ、１０２ｂ、連結杆１０２ｃを備えており、連結杆１０２ｃの下面に蒸着源本体１０４が取り付けられている。
従って、移動体３４が第１ガイド体３３に対して往復移動される一方、第２蒸着源移動機構１０１が第２の方向へ往復移動されるが、蒸着源１０３は姿勢を保ちつつ円の軌跡を描くことになる。
【００７１】
このため、この実施形態の第２蒸着源移動機構１０１は、蒸着源１０３とガラス基板１１との相対移動において、移動する蒸着源１０３の第２の方向が経時的に変動するから、蒸着源１０３の移動における第２の方向を変動させる方向変動機構としての第２蒸着源移動機構１０１と言うことができる。
【００７２】
この実施形態では、有機材料を一定の幅にて帯状に蒸着源１０３から発散させ、帯状に発散される有機材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、変動される第２の方向を含むように、固定されたガラス基板１１に対して蒸着源１０３を移動させることになるが、この成膜装置１００では、ガラス基板１１に対する蒸着源１０３の移動は、第１蒸着源移動機構３２及び第２蒸着源移動機構１０１により実現される。
従って、第１蒸着源移動機構３２及び第２蒸着源移動機構１０１を備えた相対移動手段と言えるほか、成膜装置１００が相対移動手段を具備していると言え、さらに言うと相対移動手段は方向変動機構を具備していると言える。
【００７３】
そして、この実施形態の成膜装置１００によれば、第１蒸着源移動機構３２及び第２蒸着源移動機構１０１により蒸着源１０３がガラス基板１１に対して移動されることになるが、蒸着源１０３とガラス基板１１との相対移動という点では、発散される有機材料のガラス基板１１への堆積は第５の実施形態と同じとなる。
従って、蒸着源１０３から帯状に発散される有機材料がガラス基板１１に対して満遍なく堆積される。
【００７４】
（第７の実施形態）
次に、第７の実施形態の成膜装置１１０について図１１に基づき説明する。
この実施形態は、蒸着源５９を移動させずにチャンバ内の位置を固定しておき、蒸着源５９に対してガラス基板１１を第１の方向及び第２の方向を含むように相対移動させる成膜装置の例である。
従って、この実施形態では、説明の便宜上、先に説明した第３の実施形態で用いた符号を一部共通して用い、共通または類似する構成についてはその説明を省略する。
また、図１１においては、蒸着用マスク２７及びガラス基板１１が示されていないが、蒸着の際には蒸着用マスク２７及びガラス基板１１を用いることは言うまでもない。
【００７５】
図１１に示されるこの実施形態の成膜装置１１０は、蒸着源固定手段としての蒸着源固定杆５１、第１基板移動機構５２と第２基板移動機構１１１とを有する。
この実施形態の成膜装置１１０における蒸着源固定杆５１及び第１基板移動機構５２は第３の実施形態のものと実質的に同一であるから、ここでは第２基板移動機構１１１について説明する。
第２基板移動機構１１１は、ガラス基板１１を第２の方向へ移動させるためのものであるが、この実施形態の第２基板移動機構１１１は、第１基板移動機構５２の上面に備えられている。
第２基板移動機構１１１は第１基板移動機構５２より移動される基台１１４と、第５、６の実施形態で説明した平行リンク９３、１０２と同種の平行リンク１１２を備えている。
この平行リンクは回転軸１１２ａ、１１２ａ、回転アーム１１２ｂ、１１２ｂ、連結杆１１２ｃを備えており、連結杆１１２ｃの上面に基板ホルダ１１３が取り付けられている。
【００７６】
従って、ガラス基板１１が第１基板移動機構５２により往復移動される一方、第２基板移動機構１１１が第２の方向へ往復移動するが、ガラス基板１１は姿勢を保ちつつ円の軌跡を描くことになる。
このため、この実施形態の第２基板移動機構１１１は、蒸着源５９とガラス基板１１との相対移動において、移動するガラス基板１１の第２の方向が経時的に変動するから、ガラス基板１１の移動における第２の方向を変動させる方向変動機構としての第２基板移動機構１１１と言うことができる。
【００７７】
この実施形態では、有機材料を一定の幅にて帯状に蒸着源５９から発散させ、帯状に発散される有機材料の幅方向と直角方向である第１の方向と、第１の方向と異なる第２の方向を含むように、固定された蒸着源５９に対してガラス基板１１を移動させることになるが、この成膜装置１１０では、蒸着源５９に対するガラス基板１１の移動は、第１基板移動機構５２及び第２基板移動機構１１１により実現される。
従って、第１基板移動機構５２及び第２基板移動機構１１１を備えた相対移動手段と言えるほか、相対移動手段は方向変動機構を具備していると言え、さらに言うと成膜装置１１０は相対移動手段を具備していると言える。
【００７８】
そして、この実施形態の成膜装置１１０によれば、第１基板移動機構５２及び第２基板移動機構１１１によりガラス基板１１が蒸着源５９に対して移動されることになるが、蒸着源５９とガラス基板１１との相対移動という点では、発散される有機材料のガラス基板１１への堆積は先の実施形態と同じとなる。
従って、蒸着源５９から帯状に発散される有機材料がガラス基板１１に対して満遍なく堆積される。
【００７９】
（第８の実施形態）
次に、第８の実施形態の成膜装置１２０について図１２基づき説明する。
この実施形態は、ガラス基板１１を第１の方向へ往復移動させ、ガラス基板１１に対して蒸着源本体１２５を第２の方向へ往復移動させるようにした成膜装置の例である。
従って、この実施形態では、説明の便宜上、先に説明した第１、第４の実施形態で用いた符号を一部共通して用い、共通または類似する構成についてはその説明を省略する。
【００８０】
この実施形態の成膜装置１２０は、図１２に示されるように、第１の方向へガラス基板１１を移動させる基板移動機構７１、第２の方向へ蒸着源１２６を移動させる蒸着源移動機構１２１とを有している。
この実施形態の基板移動機構７１は、ガラス基板を第１の方向へ移動させるものであるが、第４の実施形態と実質的に同じであることから説明を省き、ここでは、蒸着源移動機構１２１について説明する。
【００８１】
蒸着源移動機構１２１は、蒸着源１２４を第２の方向へ移動させるためのものであるが、この実施形態の蒸着源移動機構１２１は、上方から下方へ設けられた固定杆１２２が備える固定体１２３の下面に備えられ、第６の実施形態で説明した平行リンク１０２と同種の平行リンク１２４を備えている。
この平行リンク１２４は回転軸１２４ａ、１２４ａ、回転アーム１２４ｂ、１２４ｂ、連結杆１２４ｃを備えており、連結杆１２４ｃの下面に蒸着源本体１１５が取り付けられている。
【００８２】
従って、平行リンク１２４に接続されている駆動手段１２３の作動により、蒸着源移動機構１２１が第２の方向へ往復移動されるが、蒸着源１２４は姿勢を保ちつつ円の軌跡を描くことになる。
このため、この実施形態の蒸着源移動機構１２１は、蒸着源１２６とガラス基板１１との相対移動において、移動する蒸着源１２６の第２の方向が経時的に変動するから、蒸着源１２６の移動において第２の方向を変動させる方向変動機構と言うことができる。
【００８３】
この実施形態では、有機材料を一定の幅にて帯状に蒸着源１２６から発散させ、帯状に発散される有機材料の幅方向と直角方向である第１の方向へガラス基板１１が移動される一方、変動される第２の方向を含むように、移動するガラス基板１１に対して蒸着源１２６を移動させることになるが、この成膜装置１２０では、ガラス基板１１に対する蒸着源１２６の移動は、蒸着源移動機構１２１により実現される。
従って、蒸着源移動機構１２１及び基板移動機構７１を備えた相対移動手段と言えるほか、成膜装置１２０が相対移動手段を具備していると言え、さらに言うと相対移動手段は方向変動機構を具備していると言える。
【００８４】
そして、この実施形態の成膜装置１２０によれば、基板移動機構７１及び蒸着源移動機構１２１により蒸着源１２６とガラス基板１１が相対移動することになるが、蒸着源１２６とガラス基板１１との相対移動という点では、発散される有機材料のガラス基板１１への堆積は先の実施形態と同じとなる。
従って、蒸着源１２６から帯状に発散される有機材料がガラス基板１１に対して満遍なく堆積される。
【００８５】
【実施例】
次に本発明の実施例について説明する。
この実施例は、有機ＥＬ素子における有機層を真空蒸着法によりガラス基板上に形成した例であり、この実施例では第１の実施形態に係る成膜装置と同種の成膜装置を使用した。
この実施例では、チャンバ（真空度：１０−４Ｐａ）にガラス基板（基板サイズ：３２０ｍｍ×３２０ｍｍ）をセットし、ガラス基板を第１の方向へ往復移動（移動速度：３ｍｍ／ｓ、移動距離：６０ｍｍ）させるとともに、蒸着源（本体形状：直方体、本体幅：３００ｍｍ、６０ｍｍ間隔で５個の吹出口を一列に配置）を第１の方向と直角方向である第２の方向へ往復移動（移動速度：２０ｍｍ／ｓ、移動距離：２５０ｍｍ）させ、蒸着源から発散させた有機材料によりガラス基板上に蒸着層を形成した（蒸着速度：１２Å／ｓ）。
そして、ガラス基板上に形成された蒸着層の膜厚分布を測定した。
この蒸着層の膜厚分布の測定結果に基く実施例のグラフを表１に示す。
【００８６】
次に、比較例について説明する。比較例ではガラス基板を往復移動させることなくチャンバ内に固定しており、ガラス基板の往復移動を除くその他の条件は実施例と同一である。
そしてガラス基板上に形成された蒸着層の膜厚分布を測定した。
この蒸着層の膜厚分布の測定結果に基く比較例のグラフを表２に示す。
【００８７】
【表１】
2005044593.tif 000003
【００８８】
【表２】
2005044593.tif 000004
【００８９】
実施例及び比較例における蒸着層の膜厚分布を両グラフにより比較すると、実施例に係る蒸着層の膜厚分布は、蒸着層の各層を問わず比較的均一な状態にあることが示されている。
これは、ガラス基板が第１の方向へ移動される一方、第２の方向への蒸着源が往復移動されることにより、蒸着源から発散される有機材料がガラス基板に対して満遍なく堆積されることを示すものと言える。
他方、比較例に係る蒸着層では、その表面に波形状の凹凸が形成されているが、これは、比較例においてはガラス基板が第２の方向へ往復移動されることがないから、吹出口の配列状態を反映されていることを示し、発散される有機材料がガラス基板に対して不均一な状態で堆積されていることを示している。
【００９０】
なお、本発明は、上記した第１〜第８の実施形態に限定されるものではなく発明の趣旨の範囲内で種々の変更が可能であり、例えば、次のように変更してもよい。
○  第１〜８の実施形態では、有機ＥＬ素子の正孔輸送層を形成したが、正孔輸送層の形成に限定されるものではなく、有機ＥＬ素子を構成するどの有機層の形成にも適用することができる。
○  第１〜８の実施形態では、有機ＥＬ素子における有機層を形成するものとしたが、真空蒸着法における蒸着材料は有機材料に限定するものではなく、例えば無機材料に適用してもよい。
○  第１〜８の実施形態では、蒸着源本体の幅を基板の幅にほぼ対応させたが、例えば、基板の幅の半分程度の幅を有する蒸着源本体とし、蒸着源本体が往復移動するとき、蒸着源本体の往路と復路を異なるようにしてもよい。また、基板２枚分の幅を有する蒸着源本体とし、２枚の基板を一度に蒸着させる等、複数の基板に対応する蒸着源本体としてもよい。
○  第１〜第８の実施形態では、蒸着材料である有機材料を一列に配列された吹出口から発散させるようにしたが、２列あるいは３列等の複数列の吹出口を配列した蒸着源本体としてもよく、あるいは、複数の蒸着源を並設してもよい。
○  第１〜８の実施形態では、蒸着源本体における吹出口の形状を円形状の孔としたが、矩形状や多角形状あるいは長孔状としてもよい。
○  第１〜８の実施形態では、ガラス基板の上方に蒸着源を設置したが、蒸着源を吹出口が上方に向くように設置し、ガラス基板をその上方に設置してもよい。この場合、各種機構等の位置や向きも適宜変更すればよい。
○  第１〜４の実施形態では、蒸着源と基板の相対移動において、第１の方向に対する第２の方向を第１の方向の直角方向としたが、第２の方向を第１の方向と直角方向以外の方向としてもよく、この場合、第１の方向と直角方向に近い方向が蒸着源の膜厚分布の均一化には好適である。
○  第１〜第２の実施形態では、第２の方向への基板又は蒸着源の移動距離を、蒸着源が備える吹出口のピッチと一致させたが、特に限定する主旨ではなく、蒸着源と基板との距離や蒸着速度等の諸条件により適宜変更してもよい。
○  第５〜８の実施形態では、蒸着源と基板の相対移動において、変動する第２の方向として、円の軌跡を例示したが、変動する第２の方向は円の軌跡に限らず、例えば楕円あるいは円弧、楕円弧等の軌跡であってもよい。
○  第５〜８の実施形態では、蒸着源と基板の相対移動において、円の軌跡に示す第２の方向を変動させる手段として平行リンクを用いたが、平行リンクに限定されるものではなく、例えば、２軸移動の組み合わせによる手段を用いて第２の方向を変動させるようにしてもよい。
【００９１】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、真空蒸着法により基板への成膜の際に、基板における蒸着材料の蒸着層の膜厚分布のばらつきを防止し、蒸着層の膜厚分布の均一化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施形態に係る有機ＥＬ素子の概要を示す概略断面図である。
【図２】第１の実施形態に係る成膜装置の概要を示す概略斜視図である。
【図３】第１の実施形態に係る成膜装置の概要を破断して示す側面図である。
【図４】第１の実施形態に係る成膜装置の概要を破断して示す正面図である。
【図５】第２の実施形態に係る成膜装置の概要を示す概略斜視図である。
【図６】第３の実施形態に係る成膜装置の概要を示す概略斜視図である。
【図７】第４の実施形態に係る成膜装置の概要を示す概略斜視図である。
【図８】第５の実施形態に係る成膜装置の概要を示す概略平面図である。
【図９】第５の実施形態に係る成膜装置の概要を示す概略斜視図である。
【図１０】第６の実施形態に係る成膜装置の概要を示す概略斜視図である。
【図１１】第７の実施形態に係る成膜装置の概要を示す概略斜視図である。
【図１２】第８の実施形態に係る成膜装置の概要を示す概略斜視図である。
【図１３】従来の成膜装置の要部を示す概略側面図である。
【符号の説明】
１０  有機ＥＬ素子
１１  ガラス基板
１２  陽極
１３  有機層
１４  陰極
１５、３０、５０、７０、９０、１００、１１０、１２０、２００  成膜装置
１６、３９、５９、７９、１０３、１２６  蒸着源
１７、４０、６０、８０、１０４、１２７  蒸着源本体
１８、４１、６１、８１、１０５、１２８  吹出口
１９、７５、１２１  蒸着源移動機構
２３、７１、９１  基板移動機構
２７  蒸着用マスク
３２  第１蒸着源移動機構
３６、１０１  第２蒸着源移動機構
５２  第１基板移動機構
５５、１１１  第２基板移動機構
【図１】
2005044593.tif 000005
【図２】
2005044593.tif 000006
【図３】
2005044593.tif 000007
【図４】
2005044593.tif 000008
【図５】
2005044593.tif 000009
【図６】
2005044593.tif 000010
【図７】
2005044593.tif 000011
【図８】
2005044593.tif 000012
【図９】
2005044593.tif 000013
【図１０】
2005044593.tif 000014
【図１１】
2005044593.tif 000015
【図１２】
2005044593.tif 000016
【図１３】
2005044593.tif 000017