(57)【要約】  【課題】  真空領域中へのガス放出を抑えることができ、広域除振性能の低下を抑制できるアクティブ除振装置等を提供する。  【解決手段】  本発明に係るアクティブ除振装置１１１は、鏡筒支持部の鏡筒ベース１１３の荷重をベローズ２０内の加圧ガスの圧力で支え、低周波成分の除振をベローズ２０内の各ＶＣＭ４０、５０、６０の駆動で行なう。各ＶＣＭ４０、５０、６０は加圧ガスの溜められるベローズ２０内に配置されており、各ＶＣＭ４０、５０、６０の駆動に伴い発生するガスはベローズ２０で遮断されて外チャンバ内部（真空領域中）には漏れ出ない。したがって、別途に真空隔壁を設けることなく、アクティブ除振装置１１１単体で設置しても真空領域中へのガス放出を抑えることができる。また、真空隔壁が不要であると、装置構成がコンパクトになり、所望の装置仕様を実現し易くなる。【選択図】    図１
2005106166.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被支持物を支える加圧ガスが内部に溜められたベローズと、
該ベローズ内に配置された、前記被支持物の位置を制御するアクチュエータと、
を具備することを特徴とするアクティブ除振装置。
【請求項２】
前記ベローズの剛性を打ち消す剛性キャンセル機構をさらに具備することを特徴とする請求項１記載のアクティブ除振装置。
【請求項３】
前記剛性キャンセル機構が、磁極間の吸引力により前記ベローズの剛性を打ち消すことを特徴とする請求項２記載の真空装置。
【請求項４】
前記剛性キャンセル機構が有鉄心型ボイスコイルモータを有し、該有鉄心型ボイスコイルモータの鉄心と磁石との間の吸引力により前記ベローズの剛性を打ち消すことを特徴とする請求項１、２又は３記載の真空装置。
【請求項５】
前記ベローズ内の加圧ガスを、圧力帰還による空気圧サーボで圧力制御することを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載の真空装置。
【請求項６】
原版上のパターンを感応基板上に投影する投影光学系を収めた鏡筒と、
前記原版を移動・位置決めする原版ステージと、
前記感応基板を移動・位置決めする感応基板ステージと、
前記鏡筒、前記原版ステージ及び前記感応基板ステージを建物床上で支持するボディと、
該ボディと前記鏡筒間に真空領域を形成するチャンバと、
該チャンバ内の真空領域中で前記ボディと前記鏡筒との間に設けられた除振装置と、
を具備し、
前記除振装置が、前記請求項１〜５いずれか１項記載のアクティブ除振装置からなることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空領域中での除振を実現し得るアクティブ除振装置、及び、原版上に形成したパターンをＥＵＶ光（Extreme Ultra Violet光：極端紫外光）等のエネルギ線を用いて感応基板に転写する露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体集積回路の微細化に伴い、光の回折限界によって制限される光学系の解像力を向上させるために、１３ｎｍ程度の波長を有するＥＵＶ光を使用した投影リソグラフィー技術が開発されている。このＥＵＶ光を用いる投影露光装置は、原版上のパターンを感応基板上に投影する投影光学系を収めた鏡筒や、原版を移動・位置決めする原版ステージ、感応基板を移動・位置決めする感応基板ステージ等を備えている。
【０００３】
ＥＵＶ露光装置の投影光学系鏡筒は、ＥＵＶ光の空気による吸収を防ぐために、真空チャンバ内に配置されるのが一般的である。あるいは、ＥＵＶ露光装置以外に、電子ビームを用いる電子ビーム露光装置（ＥＰ露光装置）の投影光学系鏡筒も、真空チャンバ内等に配置されるのが一般的である。このような真空領域を形成する真空チャンバには、真空引きのための真空ポンプや、電気ケーブルや排気管等を収容するための配管等が接続される。
【０００４】
鏡筒や真空チャンバは、建物床上に、支柱やボディ等と呼ばれる構造体を介して支持される。この場合、比較的低周波のフロア振動や高周波のステージ残留振動等が、ボディを介して真空チャンバ内の投影光学系鏡筒へと伝わり、この振動の影響で露光性能が悪化するおそれがある。そこで、投影光学系鏡筒の支持部には、振動を遮断する除振装置が設けられる。このような除振装置としては、エアマウントとアクチュエータ（駆動系）を並行に配置したアクティブ除振装置が知られている。この種のアクティブ除振装置は、エアマウントによる広域フィルタ除振と、アクチュエータによる低域動的除振とを行なうものである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
除振装置のアクチュエータは、ガス放出の比較的多い部品（コイル等）を有している。このため、アクティブ除振装置を真空中に設置することは、投影光学系の光学性能に悪影響を与えるために好ましくない。そこで、ガスが真空中に放出されないようにするため、真空チャンバ内において除振装置の設置スペースを隔てる真空隔壁が必要となる。ところが、このような真空隔壁を設けるとなると、装置構成が複雑化し、真空チャンバ内の真空領域中に除振装置を含む比較的広めのスペースを確保しなければならないので所望の装置仕様を実現しにくくなる。
【０００６】
さらに、アクティブ除振装置のエアマウントや、それに接続されるホース等は、ガスリークを防止するため、比較的厚みのある硬質のゴム製のものや、金属製の蛇腹管が多い。ところが、エアマウントやそれに繋がっているホースが硬質の素材製であると、エアマウントの各軸方向の剛性が高くなるため、広域フィルタ除振機能が制限されてしまうこととなる。
【０００７】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであって、真空領域中へのガス放出を抑えることができ、広域除振性能の低下を抑制できるアクティブ除振装置を提供することを目的とする。
さらに、そのようなアクティブ除振装置を有する露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のアクティブ除振装置は、被支持物を支える加圧ガスが内部に溜められたベローズと、  該ベローズ内に配置された、前記被支持物の位置を制御するアクチュエータと、を具備することを特徴とする。
なお、被支持物の「位置」とは、被支持物の「姿勢」をも含む意味である。
【０００９】
このアクティブ除振装置によれば、被支持物の荷重はベローズ内の加圧ガスの圧力で支えられるとともに、高周波成分の除振（被支持物の位置・姿勢の微調整）はアクチュエータで行なわれる。アクチュエータは、加圧ガスの溜められるベローズ内に配置されており、アクチュエータの駆動に伴い発生するガスはベローズで遮断されるので、真空領域中に別途に真空隔壁を設けることなく、真空領域中へのガス放出を抑えることができる。そのため、装置単体を真空領域中に設置しても、アクチュエータの駆動に伴うガス放出で真空環境が悪化することがない。また、真空隔壁が不要であると、装置構成がコンパクトになり、所望の装置仕様を実現し易くなる。
【００１０】
本発明のアクティブ除振装置においては、前記ベローズの剛性を打ち消す剛性キャンセル機構をさらに具備することが好ましい。
なお、「ベローズの剛性」は、それに付設されているホースやケーブル等の剛性をも含む意味である。
ベローズの剛性は反発型（例えば、伸ばせば縮む方向への力が生じ、逆に縮めれば伸びようとする方向に力が生じる）である。そこで、剛性キャンセル機構を反発型の逆の吸引型とし、ベローズの反発力と剛性キャンセル機構の吸引力を釣り合わせてキャンセルすることで、ベローズの剛性（バネ定数）をほぼゼロとすることができる。したがって、除振装置の取り付けられるベース（建物床等）側が揺れて変位しても、被支持物側にその変位が伝わらないようにすることができ、支持性能を向上することができる。特に、真空用のベローズやホース等は、ガスリーク防止のために厚みのある硬い素材から形成されることが多く、剛性が高くなって除振性能が低下し易いが、本形態の剛性キャンセル機構によれば除振性能の低下を防止できる。
【００１１】
本発明のアクティブ除振装置においては、前記剛性キャンセル機構が、磁極間の吸引力により前記ベローズの剛性を打ち消すことができる。
剛性キャンセル機構としては、ローレンツ電磁力原理に基づくボイルコイルモータ（ＶＣＭ）等を用いることができる。このＶＣＭにより、前述の吸引力（ベローズの反発力の逆の力）を実現することができる。
【００１２】
本発明のアクティブ除振装置においては、前記剛性キャンセル機構が有鉄心型ボイスコイルモータを有し、該有鉄心型ボイスコイルモータの鉄心と磁石との間の吸引力により前記ベローズの剛性を打ち消すことができる。
この場合、有鉄心型ボイスコイルモータの駆動方向と垂直方向において、永久磁石が対抗する方向に吸引力（負の剛性）を生じさせ、ベローズ及びその内部の加圧ガスの剛性（正の剛性）を打ち消すことができる。
【００１３】
本発明のアクティブ除振装置においては、前記ベローズ内の加圧ガスを、圧力帰還による空気圧サーボで圧力制御することができる。
この場合、ベローズ内の加圧ガスの圧力を適切にコントロールすることができる。
【００１４】
本発明の露光装置は、原版上のパターンを感応基板上に投影する投影光学系を収めた鏡筒と、  前記原版を移動・位置決めする原版ステージと、  前記感応基板を移動・位置決めする感応基板ステージと、  前記鏡筒、前記原版ステージ及び前記感応基板ステージを建物床上で支持するボディと、  該ボディと前記鏡筒間に真空領域を形成するチャンバと、  該チャンバ内の真空領域中で前記ボディと前記鏡筒との間に設けられた除振装置と、を具備し、  前記除振装置が、前記請求項１〜５いずれか１項記載のアクティブ除振装置からなることを特徴とする。
【００１５】
この露光装置によれば、真空領域中へのガス放出を抑えることができ、広域除振性能の低下を抑制できるアクティブ除振装置を備えることで、露光性能を向上させることが可能となる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、真空領域中へのガス放出を抑えることができ、広域除振性能の低下を抑制できるアクティブ除振装置等を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
まず、図３を参照しつつ、本発明の一実施例に係る露光装置の機械構造例を、ＥＵＶＬ投影露光装置の場合について説明する。このＥＵＶ露光装置は、図３中には図示されていないが、ＥＵＶ光を放射するＥＵＶ源を含む照明光学系を備えている。
【００１８】
図３は、本発明の一実施例に係るＥＵＶ露光装置の機械構造例を示す断面図である。
図３に示す露光装置１００は、装置の中段部において、水平方向に延びる構造体であるボディ１０１を備えている。このボディ１０１は、その両端部において、支柱１０３を介して建物床（底盤）１０５上に配置されている。ボディ１０１下面と支柱１０３上面間には、防振台（エアマウント等）１０７が介装されている。ボディ１０１は中空状の部材であって、中央に空洞１０１ａが形成されている。
【００１９】
ボディ１０１の空洞１０１ａ周縁上には、後述するアクティブ除振装置１１１を介して、円盤状の鏡筒ベース１１３が配置されている。アクティブ除振装置１１１は、鏡筒ベース１１３の周方向３箇所に配置されている。この鏡筒ベース１１３の側部と建物床１０５間には、支脚１１５が配置されている。鏡筒ベース１１３側部と支脚１１５上端間には、防振台（エアマウント等）１１９が介装されている。
【００２０】
ボディ１０１の空洞１０１ａ内には、投影光学系鏡筒１２０下部が配置されている。この鏡筒１２０は、中央部側面に張り出したフランジ部１２０ａを備えている。鏡筒１２０は、フランジ部１２０ａが鏡筒ベース１１３上に載置された状態で、全体がボディ１０１・支柱１０３に支持されている。鏡筒１２０のフランジ部１２０ａと鏡筒ベース１１３間には、マウント１２１が介装されている。
【００２１】
この鏡筒１２０には、直列接続されたターボ分子ポンプＴＭＰ・ドライポンプＤＰ（有振動型真空ポンプ）が連結されている。ターボ分子ポンプＴＭＰは、薄い金属の羽（ローター）を分子の運動速度程度となるように高速で回転させ、吸気側から通り抜ける分子の数よりも排気側から通り抜ける分子の数を多くすることで排気する機械ポンプである。ドライポンプＤＰは、水や油を使用せず蒸気のない低真空を得るためのポンプである。このターボ分子ポンプＴＭＰ・ドライポンプＤＰにより、鏡筒１２０内部が所定圧に減圧される。
【００２２】
ボディ１０１上面には、ボックス状の支持台１３０が固定されている。この支持台１３０は、鏡筒ベース１１３と鏡筒１２０との上部に立ち上がっている。支持台１３０の内部は、１０−２〜１０−１Ｐａ程度に減圧されている。支持台１３０上面には、レチクルチャンバ１３５（内チャンバ）下端がボルトで固定されている。このレチクルチャンバ１３５内には、レチクルＲを静電吸引して移動・位置決めするレチクルステージ装置１３７が配置されている。このレチクルステージ装置１３７は、マウント１３９を介して支持台１３０上面に配置されている。レチクルチャンバ１３５の内側において、支持台１３０上端はベローズ１６２を介して鏡筒１２０の上端に接続されている。レチクルステージ装置１３７の下面には、ブラインド装置１３８が設けられている。このブラインド装置１３８は、レチクルＲの露光領域を制限するためのものである。
【００２３】
レチクルチャンバ１３５には、クライオポンプＣＰ（無振動型真空ポンプ）と、ターボ分子ポンプＴＭＰ・ドライポンプＤＰ（有振動型真空ポンプ）とが並列接続されている。クライオポンプＣＰは、気体分子を極低温面に凝縮させて捕捉するためこみ式真空ポンプである。このクライオポンプＣＰにより、レチクルチャンバ１３５内部の気体分子が凝縮されて捕捉される。このクライオポンプは、Pulse Tube方式のものを用いることが好ましい。一方、ターボ分子ポンプＴＭＰ・ドライポンプＤＰは前述と同様のものであって、レチクルチャンバ１３５内部が１０−４Ｐａ程度に減圧される。レチクルチャンバ１３５内において、クライオポンプＣＰの対向位置には、ヒートパネルＨＰが立ち上げられている。このヒートパネルＨＰは、レチクルステージ装置１３７側の面が鏡面金属面となっている。ヒートパネルＨＰにより、クライオポンプＣＰからレチクルステージ装置１３７への冷熱輻射を遮蔽することができる。
【００２４】
レチクルチャンバ１３５内側において、支持台１３０上面には孔１３０ａが開けられている。このチャンバ孔１３０ａ内側には、鏡筒１２０の上端が配置されている。鏡筒１２０の上端は、レチクルチャンバ１３５内のブラインド装置１３８直下に位置している。支持台１３０及びレチクルチャンバ１３５の外側は、さらに上真空チャンバ（外チャンバ）１４０で覆われている。この上真空チャンバ１４０はボックス状をしており、ボディ１０１上面に固定されている。上真空チャンバ１４０には、ターボ分子ポンプＴＭＰ・ドライポンプＤＰが連結されている。このターボ分子ポンプＴＭＰ・ドライポンプＤＰも前述と同様のものであって、上真空チャンバ１４０内部が所定圧に減圧される。
【００２５】
ボディ１０１下面には、ボックス状の支持台１５０が固定されている。この支持台１５０の内側には、さらにウェハチャンバ１５５（内チャンバ）が配置されている。ウェハチャンバ１５５下端は、支持台１５０内側底面にボルトで固定されている。このウェハチャンバ１５５の内側には、ウェハＷを載置して移動・位置決めするウェハステージ装置１５７が配置されている。このウェハステージ装置１５７は、マウント１５９を介して支持台１５０上面に配置されている。
【００２６】
ウェハチャンバ１５５には、クライオポンプＣＰと、ターボ分子ポンプＴＭＰ・ドライポンプＤＰとが並列接続されている。クライオポンプＣＰは前述と同様のものであって、ウェハチャンバ１５５内部の気体分子が極低温面に凝縮されて捕捉される。ターボ分子ポンプＴＭＰ・ドライポンプＤＰも前述と同様のものであって、ウェハチャンバ１５５内部が１０−４Ｐａ程度に減圧される。ウェハチャンバ１５５内において、クライオポンプＣＰの対向位置には、ヒートパネルＨＰが立ち上げられている。このヒートパネルＨＰも前述と同様のものであって、クライオポンプＣＰからの冷熱輻射が遮蔽される。
【００２７】
支持台１５０の内側において、ウェハチャンバ１５５上端はベローズ１６１を介して鏡筒１２０の下端に接続されている。鏡筒１２０の下端は、ウェハチャンバ１５５内のウェハステージ装置１５７に載置されたウェハＷ直上に位置している。支持台１５０及びウェハチャンバ１５５の外側は、さらに下真空チャンバ１６０（外チャンバ）で覆われている。この下真空チャンバ１６０はボックス状をしており、ボディ１０１下面に固定されている。この下真空チャンバ１６０内も、前述の上真空チャンバ１４０と同様に所定圧に減圧されている。
【００２８】
支持台１３０内の鏡筒１２０上端近傍、ならびに、ボディ１０１の孔１０１ａ内の鏡筒１２０下端近傍には、それぞれステージメトロロジーリング１７１、１７２が配置されている。これらのリング１７１、１７２は、それぞれ鏡筒ベース１１３から延びる脚１７１ａ、１７２ａにより支持されている。リング１７１、１７２は、鏡筒１２０とレチクルステージ装置１３７、ウェハステージ装置１５７との相対位置を測定する測定器が取り付けられるフレーム部材である。
【００２９】
この実施例の投影光学系鏡筒１２０は、６枚のミラーＭ１〜Ｍ６を備える６枚投影系である。なお、実際には、各ミラーＭ１〜Ｍ６はミラーホルダーとミラー本体からなるが、図示は省略してある。各ミラーＭ１〜Ｍ６は、上流側から順に番号が付されている。照明光学系（図示されず）から放射されたＥＵＶ光（図３中一点鎖線で示す）は、レチクルＲで反射した後、鏡筒１２０内の第１〜第６ミラーＭ１〜Ｍ６で順次反射し、ウェハＷ上に至る。鏡筒１２０内において、第５ミラーＭ５と第６ミラーＭ６との間には、イオンポンプＩＰが配置されている。イオンポンプＩＰは、内面にアブソーバを有する筒状の磁石を有するものであって、気体をイオン化して磁石内側のアブソーバにインプラントするとともに、イオン化した気体を収着して排気するものである。このイオンポンプＩＰの下端には、イオン化装置が付設されている。
【００３０】
ウェハＷのレジストにＥＵＶ光が照射されると、化学反応によってコンタミネーションが発生する。このコンタミネーションが投影光学系鏡筒１２０内に放出されてミラーに付着すると、ミラーの反射率の低下等が起こる。本実施例では、イオン化装置によりコンタミネーションをイオン化し、このイオン化されたコンタミネーションをイオンポンプＩＰで収着することにより、ミラーへのコンタミネーションの付着を低減することができる。なお、コンタミネーションが既に電荷を帯びている場合には、イオンポンプＩＰの代わりに前述したクライオポンプを用い、コンタミネーションを磁場で収着させることも可能である。
【００３１】
さらに、露光装置１００は、装置内から外部に延び出る複数の配管１９１〜１９６を有している。なお、これら各配管１９１〜１９６をフレキシブル管とすると、配管からチャンバ１３５、１５５へと加わる力や振動を少なくすることができる。
配管１９１は、鏡筒１２０上部の図中左方から装置外部に延び出ている。この配管１９１は、鏡筒１２０内を排気する際の真空排気管である。
配管１９２は、ブラインド装置１３８から装置外部に延び出ている。この配管１９２は、ブラインド装置１３８の電気ケーブル等を収容する管である。
配管１９３（１９５）は、レチクルステージ装置１３７（ウェハステージ装置１５７）からチャンバ外に延び出ている。この配管１９３（１９５）は、ステージ装置の電気ケーブル等を収容する管である。
配管１９４（１９６）は、レチクルチャンバ１３５（ウェハチャンバ１５５）のクライオポンプＣＰからチャンバ外に延び出ている。この配管１９４（１９６）は、チャンバ内を排気する際の真空排気管である。
【００３２】
次に、図１及び図２を参照しつつ、前述したアクティブ除振装置１１１について詳細に説明する。なお、以下の説明において、Ｘ、Ｙ、Ｚ方向は、図１及び図２に示す矢印方向を指すものとする。
図１（Ａ）は本発明の一実施例に係るアクティブ除振装置の構成を示す断面図であり、図１（Ｂ）はＹ駆動有鉄心型ボイスコイルモータの拡大図である。
図２（Ａ）は図１（Ａ）のＩＩ−ＩＩ線断面図であり、図２（Ｂ）はＸ駆動有鉄心型ボイスコイルモータの拡大図である。
これらの図に示すアクティブ除振装置１１１は、前述の通り、ボディ１０１の空洞１０１ａ周縁上と鏡筒ベース１１３との間において、鏡筒１２０の周方向３箇所に配置されている。
【００３３】
図１及び図２に示すように、アクティブ除振装置１１１は、ボディ１０１上面に固定される支持部材１を備えている。この支持部材１は、内側に張り出したフランジ部１ａを有している。支持部材１の固定状態において、ボディ１０１上面とフランジ部１ａ下面間には内凹部５が形成される。支持部材１の内側には、基台１０が配置されている。この基台１０の下端には、外側に張り出したフランジ部１０ａが形成されている。基台１０のフランジ部１０ａは、支持部材１の内凹部５内に配置されており、基台１０上端は支持部材１よりも上側に突出している。支持部材１のフランジ部１ａと基台１０のフランジ部１０ａ間にはＯリング（図示されず）が介装されており、両フランジ部１ａ、１０ａはボルト（図示されず）で結合されている。なお、支持部材１とボディ１０１上面との間にもＯリング（図示されず）が介装されている。
【００３４】
基台１０上端の周囲において、支持部材１上面にはベローズ２０が取り付けられている。このベローズ２０は、真空対応用の比較的厚めの硬質ゴム等から形成されており、支持部材１上面に取り付けられるジャバラ部２１と、このジャバラ部２１の上側のバレル部２２とを備えている。ベローズ２０は、伸ばせば縮む方向への力が生じ、逆に縮めれば伸びようとする方向に力が生じる反発特性（バネ定数：正の剛性）を有する。ベローズ２０のバレル部２２の上端には、天板２５が取り付けられている。この天板２５の上面には、鏡筒ベース１１３が取り付けられる（図３参照）。
【００３５】
ベローズ２０内部には、加圧ガスが充填されている。ベローズ２０内の加圧ガスは、後述する圧力センサ８５の検出結果に基づき、ホース３１を介して、圧力帰還による空気圧サーボで圧力制御されるようになっている。このホース３１は、基台１０内部を貫通してボディ１０１内側へと延び出ている。このホース３１には、サーボバルブ３３が組み込まれている。このサーボバルブ３３には、装置外部へと延びる排気管３５と、圧力源へと繋がる接続管３７が連結されている。ベローズ２０内部の加圧ガスの圧力により、鏡筒ベース１１３及び鏡筒１２０の荷重が支えられる。
【００３６】
ベローズ２０内において、基台１０と天板２５間には、一対のＹ駆動有鉄心型ボイスコイルモータ（略してＹ−ＶＣＭ：図１（Ｂ）参照）４０と、一対のＸ駆動有鉄心型ボイスコイルモータ（略してＸ−ＶＣＭ：図２（Ｂ）参照）５０と、これらＹ−ＶＣＭ４０とＸ−ＶＣＭ５０との間のＺ駆動ボイスコイルモータ（略してＺ−ＶＣＭ：図１（Ａ）及び図２（Ａ）参照）とが設けられている。これらＶＣＭ４０、５０、６０の駆動により、高周波成分の除振（鏡筒ベース１１３及び鏡筒１２０の位置の微調整）が行なわれる。
【００３７】
Ｙ−ＶＣＭ４０は、Ｙ方向（Ｘ方向と直交する方向）に沿って配置されている。図１に示すように、Ｙ−ＶＣＭ４０は、基台１０上面から立ち上がった鉄心４１を備えている。この鉄心４１の両側には、コイル４３が固定されている。コイル４３が固定された鉄心４１の外側には、断面コ字状のヨーク４５が配置されている。このヨーク４５の両内側面には、Ｓ極部４７ａとＮ極部４７ｂとが積層された永久磁石４７が設けられている。ヨーク４５の永久磁石４７と鉄心４１のコイル４３との間にはスキマが存在し、これら両者間にはＸ方向の吸引力（負の剛性）が生じる。ヨーク４５の上端は、天板２５下面に固定されたブロック４４に取り付けられている。
【００３８】
Ｘ−ＶＣＭ５０は、Ｘ方向（Ｙ方向と直交する方向）に沿って配置されている。図２に示すように、Ｘ−ＶＣＭ５０は、基本的には前述のＹ−ＶＣＭ４０と同様の構成を有する。すなわち、Ｘ−ＶＣＭ５０は、コイル５０が固定された鉄心５１を備えている。鉄心５１の外側には断面コ字状のヨーク５５が配置されており、ヨーク５５の両内側面にはＳ極部５７ａとＮ極部５７ｂとが積層された永久磁石５７が設けられている。ヨーク５５の永久磁石５７と鉄心５１のコイル５３との間にはスキマが存在し、これら両者間にはＹ方向の吸引力（負の剛性）が生じる。ヨーク５５の上端は、天板２５下面に固定されたブロック５４に取り付けられている。
【００３９】
Ｚ−ＶＣＭ６０は、基台１０上の中央ブロック６１に支持されたコイル６３を備えている。図２に示すように、コイル６３はループ状をしている。図１に示すように、コイル６３の外側には、断面コ字状のヨーク６９が配置されている。このヨーク６９の両内側面には、Ｓ極部６５ａとＮ極部６５ｂとが積層された永久磁石６５が設けられている。ヨーク６９の上端は、天板２５下面に固定されたブロック６７に取り付けられている。ヨーク６９の永久磁石６５とコイル６３との間にはスキマが存在する。しかし、このコイル６３は鉄心を備えておらず、これら両者間にはＸ方向及びＹ方向の吸引力（負の剛性）は生じない。これら永久磁石６５とコイル６３は、Ｚ方向への駆動部の役割を果たす。
【００４０】
Ｚ−ＶＣＭ６０は、Ｚ方向の吸引力（負の剛性）を生じさせるＺ剛性発生部７０を備えている。図１に示すように、Ｚ剛性発生部７０は、ヨーク６９の上端両側部に固定された鉄心７１を備えている。各鉄心７１は、Ｙ方向に沿って延びる帯状をしている。各鉄心７１の外側には、断面コ字状のヨーク７３が配置されている。両ヨーク７３は、開口部が互いに対向するように配置されている。各ヨーク７３の上下内側面には、Ｓ極部７５ａとＮ極部７５ｂとが積層された永久磁石７５が設けられている。各ヨーク７３の下端は、基台１０上面に固定されたブロック６２にそれぞれ取り付けられている。鉄心７１とヨーク７３の永久磁石７５との間にはスキマが存在し、これら両者間にはＺ方向の吸引力（負の剛性）が生じる。
【００４１】
図１に示すように、ベローズ２０内にはＸ方向兼Ｚ方向変位センサ８１が設けられている。このセンサ８１は、Ｙ−ＶＣＭ４０のヨーク４５下端に取り付けられた変動部８１ａと、基台１０側部に取り付けられた固定部８１ｂとを有する。一方、図２に示すように、ベローズ２０内にはＹ方向変位センサ８３が設けられている。このセンサ８３は、Ｘ−ＶＣＭ５０のヨーク５５下端に取り付けられた変動部８３ａと、基台１０側部に取り付けられた固定部８３ｂとを有する。これらセンサ８１、８３により、基台１０に対する天板２５のＸ、Ｙ、Ｚ方向の変位が検出される。これらセンサ８１、８３の検出結果に基づき、前述の各ＶＣＭ４０、５０、６０のＸ、Ｙ、Ｚ各方向への駆動量が制御される。
【００４２】
図１及び図２に示すように、ベローズ２０内において、基台１０の側面には圧力センサ８５が設けられている。この圧力センサ８５は、ベローズ２０内の圧力を検出するものである。圧力センサ８５の検出結果に基づき、前述のホース３１に組み込まれたサーボバルブ３３が開閉作動し、加圧ガスが圧力帰還による空気圧サーボで圧力制御される。
【００４３】
このアクティブ除振装置１１１は、鏡筒ベース１１３及び鏡筒１２０（図３参照）の荷重をベローズ２０内の加圧ガスの圧力で支え、低周波成分の除振（位置の微調整）をベローズ２０内の各ＶＣＭ４０、５０、６０の駆動で行なう。各ＶＣＭ４０、５０、６０は加圧ガスの溜められるベローズ２０内に配置されており、各ＶＣＭ４０、５０、６０の駆動に伴い発生するガスはベローズ２０で遮断されて外チャンバ１４０（図３参照）内部には漏れ出ない。したがって、別途に真空隔壁を設けることなく、アクティブ除振装置１１１単体で設置しても外チャンバ１４０内へのガス放出を抑えることができる。また、真空隔壁が不要であると、装置構成がコンパクトになり、所望の装置仕様を実現し易くなる。
【００４４】
このアクティブ除振装置１１１では、Ｙ方向の位置制御を行なうＹ−ＶＣＭ４０でＸ方向の吸引力（負の剛性）を生じさせ、Ｘ方向の位置制御を行なうＸ−ＶＣＭ５０でＹ方向の吸引力を生じさせ、さらにＺ方向の位置制御を行なうＺ−ＶＣＭ６０のＺ剛性発生部７０でＺ方向の吸引力を生じさせることができる。そして、これら各ＶＣＭ４０、５０、６０の吸引力で、ベローズ２０のＸ、Ｙ、Ｚ方向の反発特性（バネ定数：正の剛性）がほとんどゼロとなるようにキャンセルできるので、除振装置の広域除振性能の低下を抑制することができる。したがって、アクティブ除振装置１１１の取り付けられるボディ１０３側が揺れて変位しても、鏡筒１２０側にその変位が伝わらないようにすることができ、支持性能を向上することができる。そして、このようなアクティブ除振装置１１１を備える露光装置１００（図３参照）は、振動の悪影響が低減されるので、露光性能を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】図１（Ａ）は本発明の一実施例に係るアクティブ除振装置の構成を示す断面図であり、図１（Ｂ）はＹ駆動有鉄心型ボイスコイルモータの拡大図である。
【図２】図２（Ａ）は図１（Ａ）のＩＩ−ＩＩ線断面図であり、図２（Ｂ）はＸ駆動有鉄心型ボイスコイルモータの拡大図である。
【図３】本発明の一実施例に係るＥＵＶ露光装置の機械構造例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  支持部材                            １０  基台
２０  ベローズ                          ２１  ジャバラ部
２２  バレル部                          ２５  天板
３１  ホース                            ３３  サーボバルブ
４０  Ｙ−ＶＣＭ
４１  鉄心                              ４３  コイル
４５  ヨーク                            ４７  永久磁石
５０  Ｘ−ＶＣＭ
５１  鉄心                              ５３  コイル
５５  ヨーク                            ５７  永久磁石
６０  Ｚ−ＶＣＭ
６３  コイル                            ６５  永久磁石
６９  ヨーク                            ７０  Ｚ剛性発生部
７１  鉄心                              ７３  ヨーク
７５  永久磁石                          ８１  Ｘ方向兼Ｚ方向変位センサ
８３  Ｙ方向変位センサ                  ８５  圧力センサ
１００  露光装置                        １０１  ボディ
１０３  支柱                            １０５  建物床（底盤）
１０７、１１９  防振台                  １１１  アクティブ除振装置
１１３  鏡筒ベース                      １２０  投影光学系鏡筒
１３５  レチクルチャンバ                １３７  レチクルステージ装置
１４０  上真空チャンバ                  １５５  ウェハチャンバ
１５７  ウェハステージ装置              １６０  下真空チャンバ
Ｍ１〜Ｍ６  ミラー                      ＨＰ  ヒートパネル
ＩＰ  イオンポンプ                      ＣＰ  クライオポンプ
ＴＭＰ  ターボ分子ポンプ                ＤＰ  ドライポンプ
【図１】
2005106166.tif 000003
【図２】
2005106166.tif 000004
【図３】
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