(57)【要約】【課題】  ジッタやノイズ等の特性が優れ、高い信頼性を有する光情報記録媒体、その製造方法を提供する。【解決手段】  基板上に、光反射層と、波長４５０ｎｍ以下のレーザー光により情報の記録が可能である記録層と、接着剤からなる接着層と、カバー層と、を順次有する光情報記録媒体の製造方法であって、前記記録層が色素を有しており、前記基板上に、スパッタパワー０．１〜１０ｋＷ、アルゴン流量１．６７×１０-3〜１．６７ｃｍ3／ｓｅｃで光反射性物質をスパッタして光反射層を形成する光反射層形成工程を有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法である。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、光反射層と、波長４５０ｎｍ以下のレーザー光により情報の記録が可能である記録層と、接着剤からなる接着層と、カバー層と、を順次有する光情報記録媒体の製造方法であって、
前記記録層が色素を有しており、
前記基板上に、スパッタパワー０．１〜１０ｋＷ、アルゴン流量１．６７×１０-3〜１．６７ｃｍ3／ｓｅｃで光反射性物質をスパッタして光反射層を形成する光反射層形成工程を有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記光反射層形成工程における成膜時間が０．５〜５秒であることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記スパッタパワーが１．５〜７ｋＷであることを特徴とする請求項１または２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記アルゴン流量が０．０５〜０．３３ｃｍ3／ｓｅｃ（３〜２０ｓｃｃｍ）であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
基板上に、スパッタパワー０．１〜１０ｋＷ、アルゴン流量１．６７×１０-3〜１．６７ｃｍ3／ｓｅｃで光反射性物質をスパッタして形成された光反射層と、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能であり、且つ色素を含有する記録層と、接着剤からなる接着層と、カバー層と、を順次有することを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項６】
基板上に、光反射層と、波長４５０ｎｍ以下のレーザー光により情報の記録が可能である記録層と、接着剤からなる接着層と、カバー層と、を順次有する光情報記録媒体の検査方法であって、
前記基板上に、光反射性物質をスパッタして光反射層を形成する光反射層形成工程と、前記記録層が形成される側の前記光反射層の表面が、十点平均粗さＲｚが７０ｎｍ以下であり、かつ中心面平均粗さＳＲａが３０ｎｍ以下であり、更に基準面から１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖが７５ｎｍ以下であることを判定する検査工程とを有することを特徴とする光情報記録媒体の検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体に関し、特に、ヒートモードによる追記型の光情報記録媒体、その製造方法、及び光情報記録媒体の検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報処理の増加に伴い、光情報記録の分野においても記録容量の向上に対し強いニーズがある。一方、従来から６３５ｎｍの記録波長を用いて記録ピットの形成が行われているが、高品位テレビジョン（ＨＤＴＶ：Ｈｉｇｈ  Ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）画質のＢＳデジタル放送の開始を間近に控え、より高密度化が求められている。特に６３５ｎｍよりも短波長の青紫色レーザ／高ＮＡピックアップを使用した光ディスクシステムの開発が検討されており、ＩＳＯＭ２０００では、相変化媒体で青紫色レーザーを使用したＤＶＲ−Ｂｌｕｅが発表されている（特開平１０−３０２２４３号公報）。
【０００３】
しかし、短波長を用いて極微小な記録ピットを形成する場合、その記録ピットの寸法並びに形状が不揃いとなり、その結果ジッタやノイズ等の特性が低下するという欠点を有している。
更にＤＶＲ−Ｂｌｕｅは高ＮＡ記録の為、カバー層から反射層までの距離が短く、反射層が粗い場合や、比較的高い突起の全体に対する割合が高い場合は、記録マーク読み込み時に与える影響が大きく、ジッタやノイズ等の特性が低下する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は前記問題点に鑑み、その問題点を解決することを目的としてなされたものである。すなわち本発明は、ジッタやノイズ等の特性が優れ、高い信頼性を有する光情報記録媒体、その製造方法、及び光情報記録媒体の検査方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題を解決すべく鋭意研究の結果、本発明者は、下記本発明が前記課題を解決することを見出し、本発明を想到するに至った。すなわち、本発明は、
【０００６】
＜１＞  基板上に、光反射層と、波長４５０ｎｍ以下のレーザー光により情報の記録が可能である記録層と、接着剤からなる接着層と、カバー層と、を順次有する光情報記録媒体の製造方法であって、前記記録層が色素を有しており、前記基板上に、スパッタパワー０．１〜１０ｋＷ、アルゴン流量１．６７×１０-3〜１．６７ｃｍ3／ｓｅｃで光反射性物質をスパッタして光反射層を形成する光反射層形成工程を有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法である。
【０００７】
＜２＞  前記光反射層形成工程における成膜時間が０．５〜５秒であることを特徴とする前記＜１＞に記載の光情報記録媒体の製造方法である。
【０００８】
＜３＞  前記スパッタパワーが１．５〜７ｋＷであることを特徴とする前記＜１＞または＜２＞に記載の光情報記録媒体の製造方法である。
【０００９】
＜４＞  前記アルゴン流量が０．０５〜０．３３ｃｍ3／ｓｅｃ（３〜２０ｓｃｃｍ）であることを特徴とする前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光情報記録媒体の製造方法である。
【００１０】
＜５＞  基板上に、スパッタパワー０．１〜１０ｋＷ、アルゴン流量１．６７×１０-3〜１．６７ｃｍ3／ｓｅｃで光反射性物質をスパッタして形成された光反射層と、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能であり、且つ色素を含有する記録層と、接着剤からなる接着層と、カバー層と、を順次有することを特徴とする光情報記録媒体である。
【００１１】
＜６＞  基板上に、光反射層と、波長４５０ｎｍ以下のレーザー光により情報の記録が可能である記録層と、接着剤からなる接着層と、カバー層と、を順次有する光情報記録媒体の検査方法であって、前記基板上に、光反射性物質をスパッタして光反射層を形成する光反射層形成工程と、前記記録層が形成される側の前記光反射層の表面が、十点平均粗さＲｚが７０ｎｍ以下であり、かつ中心面平均粗さＳＲａが３０ｎｍ以下であり、更に基準面から１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖが７５ｎｍ以下であることを判定する検査工程とを有することを特徴とする光情報記録媒体の検査方法である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は、ジッタやノイズ等の特性が優れ、高い信頼性を有する光情報記録媒体、その製造方法、及び光情報記録媒体の検査方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の光情報記録媒体の製造方法は、基板上に、光反射層と、波長４５０ｎｍ以下のレーザー光により情報の記録が可能である記録層と、接着剤からなる接着層と、カバー層と、を順次有する光情報記録媒体の製造方法であって、前記記録層が色素を有しており、前記基板上に、スパッタパワー０．１〜１０ｋＷ、アルゴン流量１．６７×１０-3〜１．６７ｃｍ3／ｓｅｃで光反射性物質をスパッタして、前記記録層が形成される側の前記光反射層の表面が、十点平均粗さＲｚが７０ｎｍ以下であり、かつ中心面平均粗さＳＲａが３０ｎｍ以下であり、更に基準面から１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖが７５ｎｍ以下である光反射層を形成する光反射層形成工程を有することを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の光情報記録媒体は、基板上に、スパッタパワー０．１〜１０ｋＷ、アルゴン流量１．６７×１０-3〜１．６７ｃｍ3／ｓｅｃで光反射性物質をスパッタして形成された光反射層と、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能であり、且つ色素を含有する記録層と、接着剤からなる接着層と、カバー層と、を順次有することを特徴とする。
【００１５】
さらに、本発明の光情報記録媒体の検査方法は、基板上に、光反射層と、波長４５０ｎｍ以下のレーザー光により情報の記録が可能である記録層と、接着剤からなる接着層と、カバー層と、を順次有する光情報記録媒体の検査方法であって、前記基板上に、光反射性物質をスパッタして光反射層を形成する光反射層形成工程と、前記記録層が形成される側の前記光反射層の表面が、十点平均粗さＲｚが７０ｎｍ以下であり、かつ中心面平均粗さＳＲａが３０ｎｍ以下であり、更に基準面から１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖが７５ｎｍ以下であることを判定する検査工程とを有することを特徴とする。
【００１６】
ここで、十点平均粗さＲｚ、中心面平均粗さＳＲａ、１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖは、カバー層を剥離後、アルコール系溶剤にて記録層を除去したときの値である。
尚、本発明において平均突起径Ｄｖとは、突起の断面が円であるとみなしたときの直径の平均値である。一方、本発明において基準面とは、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）で測定したときの高さＺ方向の平均値Ｚ0となる高さの平面である。つまりＺデータの平均値をＺ0とするとき、Ｚ＝Ｚ0で表される平面で、ＸＹ平面と平行な面である。
以下、本発明の光情報記録媒体について説明し、該光情報記録媒体の説明を通じてその製造方法、及び光情報記録媒体の検査方法をも示す。
【００１７】
［基板］
本発明における基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
前記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートがより好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、１．１±０．３ｍｍとすることが好ましい。
【００１８】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのプレグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。プレグルーブのトラックピッチは、２００〜４００ｎｍの範囲とすることを必須とし、２８０〜３４０ｎｍの範囲であることが好ましい。また、プレグルーブの深さ（溝深さ）は、２０〜１５０ｎｍの範囲とすることを必須とし、３０〜８０ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００１９】
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
前記下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
前記下塗層は、前記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。前記下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００２０】
［光反射層］
本発明において、前記記録層が形成される側の光反射層の表面は、十点平均粗さＲｚが７０ｎｍ以下であり、かつ中心面平均粗さＳＲａが３０ｎｍ以下であり、更に１５ｎｍ高さでの平均突起径Ｄｖが７５ｎｍ以下であることを特徴とする。
前記十点平均粗さＲｚが７０ｎｍ以下であり、前記中心面平均粗さＳＲａが３０ｎｍ以下であり、前記１５ｎｍ高さでの平均突起径Ｄｖが７５ｎｍ以下であれば、反射率の低下、ノイズ増大、ジッタの特性劣化等を防ぐことが出来る。
【００２１】
また、前記十点平均粗さＲｚは、０．５〜７０ｎｍの範囲内であることが好ましく、０．５〜５０ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。
更に前記中心面平均粗さＳＲａは、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。
一方、前記１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖは、５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２２】
尚、本発明において、十点平均粗さＲｚ及び中心面平均粗さＳＲａは、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）による１０μｍ角の測定を行ったときの値である。
【００２３】
光反射層を基板上に形成する方法としては、後述する光反射性物質を蒸着、スパッタまたはイオンプレーティングする方法等が挙げられるが、この中で、スパッタによれば、十点平均粗さＲｚ、中心面平均粗さＳＲａ、１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖの制御が可能である。すなわち、十点平均粗さＲｚ、中心面平均粗さＳＲａ、１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖは、反射層の厚さ、光反射性物質をスパッタするときのスパッタパワー及びアルゴン流量により制御することができる。そして、本発明の光情報記録媒体の製造方法における光反射層形成工程により、スパッタパワー及びアルゴン流量を制御することにより、十点平均粗さＲｚ、中心面平均粗さＳＲａ、１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖを前記範囲内とする。
また、本発明の光情報記録媒体の検査方法における検査工程では、十点平均粗さＲｚ、中心面平均粗さＳＲａ、１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖが前記範囲内であることを判定することにより、ジッタやノイズ等の優れた特性に寄与する光反射層を有する光情報記録媒体を得る（選別する）ことができる。
【００２４】
光反射層の厚さは、１０〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましく、６０〜１５０ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
前記光反射層の厚さが１０ｎｍ未満であると、反射率が低下する場合がある。一方、前記光反射層の厚さが３００ｎｍを超えると、前記光反射層の表面の一部に偏析が発生し、光反射層表面の表面粗さが粗くなり、突起径が大きくなる場合がある。
【００２５】
光反射性物質をスパッタするときのスパッタパワーは、０．１〜１０ｋｗの範囲内であることが好ましく、０．２〜７ｋｗの範囲内であることがより好ましく、１．５〜７ｋｗの範囲内であることがさらに好ましい。
前記スパッタパワーが１０ｋｗを超えると、反射層表面の表面粗さが粗くなり、突起径が大きくなる場合がある。
【００２６】
光反射性物質をスパッタするときのアルゴン流量は、１．６７×１０-3〜１．６７ｃｍ3／ｓｅｃ（０．１〜１００ｓｃｃｍ）とすることが好ましく、３．３×１０-3〜０．３３ｃｍ3／ｓｅｃ（０．２〜２０ｓｃｃｍ）とすることがより好ましく、０．０５〜０．３３ｃｍ3／ｓｅｃ（３〜２０ｓｃｃｍ）とすることがさらに好ましい。
前記アルゴン流量が１．６７ｃｍ3／ｓｅｃを超えると、前記反射層の表面の一部に偏積が発生し、反射層表面の表面粗さが粗くなり、突起径が大きくなることがある。
また、成膜時間は、特に限定はないが、好ましくは、０．５〜５秒である。
【００２７】
本発明における光反射層に用いられる光反射性物質は、レーザ光に対する反射率が７０％以上であれば何れでも構わない。
前記レーザ光に対する反射率が７０％以上である光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ａｕ、Ａｇ、あるいは、Ａｕ、Ａｇの合金であり、特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、あるいは、Ａｕ、Ａｇを主成分とする合金である。
【００２８】
［記録層］
記録層は、前記光反射層上に形成され、波長４５０ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能で、記録物質としての色素を含有している。当該記録層に含有される色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、なかでも、フタロシアニン色素が好ましい。
【００２９】
また、前記記録層に用いられる色素としては、極大吸収波長は、４００ｎｍ以下であることが好ましい。前記極大吸収波長が４００ｎｍを超えると、波長４００ｎｍ以上のレーザーを使用したときに有効な記録再生ができなくなる場合がある。
【００３０】
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素も好適に用いられる。
【００３１】
記録層は、色素等の記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に形成された光反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００３２】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
前記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００３３】
結合剤を使用する場合に、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００３４】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることが出来る。
記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲内であり、３０〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましく、５０〜１００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。
【００３５】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００３６】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００３７】
［接着層］
本発明における接着層は、前記記録層と後述するカバー層との接着性を高めるために形成される。接着層を形成する接着剤としては、紫外線硬化樹脂あるいは粘着剤であることが好ましい。接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましく、５〜５００μｍの範囲がより好ましく、１０〜１００μｍの範囲が特に好ましい。
【００３８】
本発明における接着剤として用いることが出来る紫外線硬化樹脂は、一般的な紫外線硬化樹脂で構わない。
一方、本発明における接着剤として用いることが出来る粘着剤とは、両面テープやラベルの裏等に塗布されているような非常にわずかな圧力で瞬間的に接着する接着剤をいう。
【００３９】
前記接着剤として紫外線硬化樹脂を使用する場合は、該紫外線硬化樹脂をそのまま、もしくはメチルエチルケトン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、記録層上にこれを塗布し、カバー層を形成して、該カバー層上から紫外線を照射して、接着剤を硬化させることで、接着層を形成することができる。
【００４０】
ディスクの反りを防止するため、接着層を構成する紫外線硬化樹脂は、一般的な紫外線硬化樹脂を用いることが出来、硬化収縮率の小さい紫外線硬化樹脂が好ましい。このような紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インク社製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インク社製）、ＳＤ−６９４（大日本インク社製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。
【００４１】
接着剤として粘着剤を使用する場合は、テープ状の粘着剤を適当な大きさに調節し、記録層上に貼付し、セパレータ等を剥して、カバー層を設ければよい。
粘着剤として、両面接着テープを使用する場合、該両面接着テープの基材としては、特に制限されるものでなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、塩化ビニル等のプラスチックフィルムや、クラフト紙、上質紙、クレコート紙、和紙等の紙、レーヨン、ポリエステル等の不織布、ポリエステル、ナイロン、アクリル等の合成繊維よりなる織布、アルミニウム、銅、ステンレス鋼等の金属箔が用いられるが、基材上に離型剤層をスジ状に均一に塗布する点からは、プラスチックフィルムが好ましい。
【００４２】
また、両面接着テープに使用される離型剤としては、シリコーン系離型剤や長鎖アルキル系離型剤等の従来から使用されている各種離型剤を適宜選択して用いることができる。
【００４３】
さらに、接着に寄与する接着剤としては、何ら限定されず例えば、アクリル系粘着剤や、天然ゴム、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体（ＳＩＳ）、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体（ＳＢＳ）等のゴム系粘着剤を適宜選択して用いることができる。
【００４４】
［カバー層］
本発明におけるカバー層は、光情報記録媒体内部への水分の侵入を防ぐために形成されたもので、記録再生に使用するレーザー光に対して、透過率８０％以上の材質であることが好ましい。具体的には、ポリカーボネート（帝人製ピュアエース、帝人化成製パンライト）、三酢酸セルロース（富士フイルム製フジタック）、ＰＥＴ（東レ製ルミラー）が好ましく、中でもポリカーボネート、三酢酸セルロースがより好ましい。
【００４５】
カバー層は、接着層を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を所定温度で記録層上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、例えばプラスチックの押出加工で得られた三酢酸セルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）をラミネートし、ラミネートしたＴＡＣフィルムの上から光を照射して塗布膜を硬化させて、形成される。前記ＴＡＣフィルムとしては、紫外線吸収剤を含むものが好ましい。本発明におけるカバー層の厚さは、０．０１〜０．５ｍｍの範囲であり、好ましくは０．０５〜０．２ｍｍの範囲内であることが好ましい。
【００４６】
粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好ましく、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。
ディスクの反りを防止するため、塗布膜の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、紫外線照射器）を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ2以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ2以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好ましい。
【００４７】
＜本発明の光情報記録媒体を使用した情報の記録方法および再生方法＞
次に、本発明の光情報記録媒体への情報の記録方法および記録した情報の再生方法について説明する。
光情報記録媒体への情報の記録は、例えば、次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を定線速度または定角速度にて回転させながら、カバー層側から記録用のレーザ光を照射する。このレーザ光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。
【００４８】
４５０ｎｍ以下（好ましくは３８０〜４３４ｎｍ）の発振波長を有するレーザ光源としては、例えば４００〜４１０ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長４０５ｎｍの青緑色半導体レーザ等を挙げることができる。記録密度を高めるために、より短波長のレーザを得ることが可能な青紫色半導体レーザを用いることが特に好ましい。また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズのＮＡは０．７以上が好ましく、０．８５以上がより好ましい。
【００４９】
一方、記録された情報の再生は、光情報記録媒体を前記と同一の定線速度で回転させながらレーザ光をカバー層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【００５０】
また、記録物質として色素等の有機化合物を含有する記録層を備えた光情報記録媒体の例について説明したが、記録層は、相変化により記録を行う相変化記録層、光磁気により記録を行う光磁気記録層であってもよい。例えば、相変化記録層とする場合には、誘電体層はＺｎＳ−ＳｉＯ2等から構成し、光透過層の代わりに誘電体層を設ける。また、相変化記録層には、記録物質としてＳｂ、Ｔｅ、Ａｇ、Ｉｎ等のカルコゲナイド等の金属化合物を使用することができる。
【実施例】
【００５１】
本発明を以下に示す実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５２】
（実施例１）
厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍのスパイラル状のグルーブ（深さ１００ｎｍ、幅０．１２０μｍ、トラックピッチ３００ｎｍ）を有する射出成形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネート、商品名パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブを有する面上に、Ａｇをスパッタパワー０．２ｋｗ、アルゴン流量０．３ｃｍ3／ｓｅｃの条件でスパッタして膜厚１００ｎｍの光反射層を形成した。
【００５３】
その後、色素としてオラゾールブルＧＮ（ｃｉｂａスペシャリティケミカル社製）を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールと混合し、超音波振動機を用い２時間かけて溶解し色素塗布液を得た。この色素塗布液をスピンコート法により回転数を３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで２時間保存し、紫外線硬化接着剤（大日本インキ化学社製ＳＤ−３４７、色素の溶解率０．０５質量％）をスピンコート法により１００〜３００ｒｐｍで塗布し、カバー層用シートとして三酢酸セルロース膜（フジタック、富士写真フイルム製、厚み：８０μｍ）を重ね合わせ、その後３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら全面に紫外線硬化接着剤を広げた後、紫外線照射ランプにて紫外線を照射して硬化させ、サンプル（光情報記録媒体）を作製した。
【００５４】
（実施例２）
ＡｇをＡｌに変更し、Ａｌをスパッタパワー３．０ｋｗ、アルゴン流量３ｃｍ3／ｓｅｃの条件でスパッタして膜厚８０ｎｍの光反射層を形成した以外、実施例１と同様に光情報記録媒体を作製した。
【００５５】
（実施例３）
Ａｇのスパッタ条件をスパッタパワー８．５ｋｗ、アルゴン流量４７ｃｍ3／ｓｅｃに変更してスパッタすることにより膜厚１８０ｎｍの光反射層を形成した以外、実施例１と同様に光情報記録媒体を作製した。
【００５６】
（比較例１）
Ａｇのスパッタ条件をスパッタパワー０．２ｋｗ、アルゴン流量０．３ｃｍ3／ｓｅｃに変更してスパッタすることにより膜厚３００ｎｍの光反射層を形成した以外、実施例１と同様に光情報記録媒体を作製した。
【００５７】
（比較例２）
Ａｇのスパッタ条件をスパッタパワー１３．５ｋｗ、アルゴン流量０．３ｃｍ3／ｓｅｃに変更してスパッタすることにより膜厚２３０ｎｍの光反射層を形成した以外、実施例１と同様に光情報記録媒体を作製した。
【００５８】
（比較例３）
Ａｇのスパッタ条件をスパッタパワー３５ｋｗ、アルゴン流量０．３ｃｍ3／ｓｅｃに変更してスパッタすることにより膜厚１００ｎｍの光反射層を形成した以外、実施例１と同様に光情報記録媒体を作製した。
【００５９】
（比較例４）
Ａｇのスパッタ条件をスパッタパワー０．２ｋｗ、アルゴン流量６５ｃｍ3／ｓｅｃに変更してスパッタすることにより膜厚１００ｎｍの光反射層を形成した以外、実施例１と同様に光情報記録媒体を作製した。
【００６０】
（評価）
前記作製した光情報記録媒体について、下記評価を行った。その結果を表１に示す。
［ノイズ評価］
作製した光情報記録媒体を４０５ｎｍレーザ、ＮＡ０．８５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）にてクロック周波数６６ＭＨｚ／（線速５．６ｍ／ｓ）にて、未記録部の反射率をオシロスコープで測定し、「（信号の振幅）／（信号の大きさ）」をノイズとした。光情報記録媒体としては、ノイズが１０％以下であることが好ましい。
【００６１】
［ジッタ評価］
作製した光情報記録媒体を４０５ｎｍレーザ、ＮＡ０．８５ピックアップを積んだ記録再生評価機（パルステック社製：ＤＤＵ１０００）にてクロック周波数６６ＭＨｚ／（線速５．６ｍ／ｓ）にて、１−７ＰＰ変調信号を記録、再生し、タイムインタテーバルアナライザーにてジッタを測定した。光情報記録媒体としては、ジッタが１０％以下であることが好ましい。
【００６２】
［十点平均粗さＲｚ、中心面平均粗さＳＲａ、１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖの測定］
ノイズ及びジッタ測定後の前記サンプル（光情報記録媒体）のカバー層を剥離、アルコール系溶剤にて記録層を除去後速やかに、下記の条件でＡＦＭ測定を行い、十点平均粗さＲｚ、中心面平均粗さＳＲａ、１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖを測定した。
ＡＦＭ測定条件
装置：セイコーインスツルメント社製ＳＰＡ５００
モード：ＡＦＭモード（コンタクトモード）
測定用探針：ＳＩ  ＡＦ０１（バネ定数  ０．１Ｎ／ｍ）
測定範囲：１０μｍ角
スキャンライン：５１２×５１２
スキャンスピード：２Ｈｚ
【００６３】
【表１】
2005228474.tif 000002
【００６４】
表１は、十点平均粗さＲｚ、中心面平均粗さＳＲａ、１５ｎｍ高さでの平均突起径Ｄｖが本発明における規定範囲内である実施例１〜３は、ノイズが小さく抑えられ、ジッタが低く、優れた特性と高い信頼性とを有する光情報記録媒体が得られていることを示している。
一方、比較例１及び４は、十点平均粗さＲｚが７０ｎｍ以上であり、かつ１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖが７５ｎｍ以上であり、ノイズが大きく、ジッタも高い。
比較例２は、十点平均粗さＲｚが７０ｎｍ以上であり、ノイズが大きい。
比較例３は、１５ｎｍの高さでの平均突起径Ｄｖが７５ｎｍ以上であり、ノイズが大きく、ジッタも高い。
また、表１から、反射層が、十点平均粗さＲｚ、中心面平均粗さＳＲａ、１５ｎｍ高さでの平均突起径Ｄｖが本発明における規定範囲内であることを判定することにより（検査工程）、ノイズが小さく抑えられ、ジッタが低く、優れた特性と高い信頼性とを有する光情報記録媒体が得られることも読み取ることができる。
【００６５】
以下に、上述した光反射層の好ましいスパッタ条件により光反射層を形成した実施例４〜２４の光情報記録媒体を示す。
【００６６】
（実施例４〜２１）
厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍのスパイラル状のグルーブ（深さ４０ｎｍ、幅１５０ｎｍ、トラックピッチ３２０ｎｍ）を有する射出成形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネート、商品名：パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブを有する面上に、各実施例毎に、表２に示す条件で反射層材質をスパッタして光反射層を形成し、その後、下記構造式で表される有機物を乳酸メチルと混合して３％とし、超音波振動機を用いて２時間かけて溶解し色素塗布液を得た。この色素塗布液をスピンコート法により回転数を３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、２３℃５０％ＲＨで２時間アニールを行った。その後、ＺｎＳ−ＳｉＯ2を５０ｎｍの厚さでスパッタし、ＵＶ硬化性接着剤（大日本インキ化学工業（株）製、ＳＤ−６６１）をスピンコート法により１００〜３００ｒｐｍで塗布し、ポリカーボネートシート（帝人社製、ピュアエース、膜厚：８０μｍ）を重ね合わせ、その後、３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら全面にＵＶ硬化性接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線を照射して硬化させ、実施例４〜２１の光情報記録媒体を作製した。
【００６７】
【化１】
2005228474.tif 000003
【００６８】
（実施例２２〜２４）
厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍのスパイラル状のグルーブ（深さ４０ｎｍ、幅１５０ｎｍ、トラックピッチ３４０ｎｍ）を有する射出成形ポリカーボネート樹脂（帝人社製ポリカーボネート、商品名：パンライトＡＤ５５０３）基板のグルーブを有する面上に、各実施例毎に、表２に示す条件で反射層材質をスパッタして膜厚１２０ｎｍの反射層を形成し、その後、オラゾールブルーＧＮ（ｃｉｂａファインケミカル社製）を２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールと混合して３％とし、超音波振動機を用いて２時間かけて溶解し色素塗布液を得た。この色素塗布液をスピンコート法により回転数を３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら２３℃５０％ＲＨの条件で塗布した。その後、ＳｉＯ2を５０ｎｍの厚さでスパッタし、ＵＶ硬化性接着剤（大日本インキ化学工業（株）製、ＳＤ−６６１）をスピンコート法により１００〜３００ｒｐｍで塗布し、ポリカーボネートシート（帝人社製、ピュアエース、膜厚：８０μｍ）を重ね合わせ、その後、３００ｒｐｍから４０００ｒｐｍまで変化させながら全面にＵＶ硬化性接着剤を広げた後、ＵＶ照射ランプにて紫外線を照射して硬化させ、実施例２２〜２４の光情報記録媒体を作製した。
【００６９】
以上の実施例４〜２４の光情報記録媒体に対して、波長４０５ｎｍのレーザー光を出力し、Ｎ／Ａ０．８５のピックアップを搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック社製）を用い、未記録のＲＦ信号の幅及び未記録反射率を測定し、未記録ノイズを、ＲＦ信号の幅を未記録反射率で割って求めた。結果を表２に示す。
【００７０】
【表２】
2005228474.tif 000004