(57)【要約】【課題】光酸発生剤として期待できるスルホニウム塩や他のイオウ含有化合物の原料として有用性の高い、ナフタレン骨格に直接−ＳＨ基が導入された、新規なチオール化合物およびその製造方法を提供する。【解決手段】汎用の６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩（４）を出発原料にして、エーテル化（工程１）、スルホニルクロライド化（工程２）および還元（工程３）の各工程を経て、新規な６−アルコキシ−２−ナフタレンチオール（１）を製造する。当該化合物は、ナフタレン骨格に直接−ＳＨ基が導入されていることから、スルホニウム塩に誘導すれば光酸発生剤としての使用が期待され、また、種々のイオウ含有化合物の原料としても有用となり得る。【化１】2005179289.tif 000017【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）：
【化１】
2005179289.tif 000008
（式中、Ｒはアルキル基を表す。）
で表されることを特徴とする、６−アルコキシ−２−ナフタレンチオール。
【請求項２】
下記一般式（２）：
【化２】
2005179289.tif 000009
（式中、Ｒはアルキル基を表す。）
で表されることを特徴とする、６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライド。
【請求項３】
下記一般式（３）：
【化３】
2005179289.tif 000010
（式中、Ｒはアルキル基を表し、Ｍはアルカリ金属を表す。）
で表されることを特徴とする、６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩。
【請求項４】
下記一般式（２）：
【化４】
2005179289.tif 000011
（式中、Ｒはアルキル基を表す。）
で表される６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライドを、還元剤を用いて還元することを特徴とする、下記一般式（１）：
【化５】
2005179289.tif 000012
（式中、Ｒはアルキル基を表す。）
で表される６−アルコキシ−２−ナフタレンチオールの製造方法。
【請求項５】
下記一般式（３）：
【化６】
2005179289.tif 000013
（式中、Ｒはアルキル基を表し、Ｍはアルカリ金属を表す。）
で表される６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩を、ビルスマイヤー反応に供することを特徴とする、下記一般式（２）：
【化７】
2005179289.tif 000014
（式中、Ｒはアルキル基を表す。）
で表される６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライドの製造方法。
【請求項６】
下記一般式（４）：
【化８】
2005179289.tif 000015
（式中、Ｍはアルカリ金属を表す。）
で表される６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩を、塩基の存在下、ハロゲン化アルキルと反応させることを特徴とする、下記一般式（３）：
【化９】
2005179289.tif 000016
（式中、Ｒはアルキル基を表し、Ｍはアルカリ金属を表す。）
で表される６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光酸発生剤等の機能材料の原料や一般工業薬品の原料として有用な、新規なチオール化合物である、６−ブトキシ−２−ナフタレンチオールおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ナフタレン骨格を有するスルホニウム塩は、光酸発生剤のオニウムとして有用である（例えば、特許文献１）。ナフタレン骨格を有するチオール化合物は、上記のスルホニウム塩原料となり得、また、その他のイオウ含有化合物の原料としても有用となることが期待される。
【特許文献１】特開平１０−２３２４９０号公報（特許請求の範囲）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、光酸発生剤として期待できるスルホニウム塩や他のイオウ含有化合物の原料として有用性の高い、ナフタレン骨格に直接−ＳＨ基が導入された、新規なチオール化合物およびその製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記の課題に対して鋭意検討した結果、６−アルコキシ−２−ナフタレンチオールが、ナフタレン骨格に直接−ＳＨ基が導入されていることから光酸発生剤の原料として期待でき、また、当該化合物が、汎用の６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩を出発原料として、エーテル化、スルホニルクロライド化および還元の各工程を経ることにより、製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。なお、当該化合物およびその中間体は新規な化合物である。
【０００５】
即ち、本発明は、下記一般式（１）：
【０００６】
【化１】
2005179289.tif 000002
【０００７】
（式中、Ｒはアルキル基を表す。）
で表されることを特徴とする、新規な６−アルコキシ−２−ナフタレンチオールである。
【０００８】
また、本発明は、下記一般式（２）：
【０００９】
【化２】
2005179289.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｒはアルキル基を表す。）
で表されることを特徴とする、新規な６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライドである。
【００１１】
また、本発明は、下記一般式（３）：
【００１２】
【化３】
2005179289.tif 000004
【００１３】
（式中、Ｒはアルキル基を表し、Ｍはアルカリ金属を表す。）
で表されることを特徴とする、新規な６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩である。
【００１４】
さらに、本発明は、上記一般式（２）で表される６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライドを、還元剤を用いて還元することを特徴とする、上記一般式（１）で表される６−アルコキシ−２−ナフタレンチオールの製造方法である。
【００１５】
さらに、本発明は、上記一般式（３）で表される６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩を、ビルスマイヤー反応に供することを特徴とする、上記一般式（２）で表される６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライドの製造方法である。
【００１６】
さらに、本発明は、下記一般式（４）：
【００１７】
【化４】
2005179289.tif 000005
【００１８】
（式中、Ｍはアルカリ金属を表す。）
で表される６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩を、塩基の存在下、ハロゲン化アルキルと反応させることを特徴とする、上記一般式（３）で表される６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩の製造方法である。
【発明の効果】
【００１９】
新規な６−アルコキシ−２−ナフタレンチオールは、ナフタレン骨格に直接−ＳＨ基が導入されていることから、スルホニウム塩に誘導すれば光酸発生剤としての使用が期待され、また、種々のイオウ含有化合物の原料としても有用となり得る。当該化合物は、汎用の６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩を出発原料にして、エーテル化、スルホニルクロライド化および還元の各工程を経ることにより、容易に製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２１】
上記一般式（１）〜（３）におけるＲのアルキル基としては、炭素数１〜１０が好ましく、直鎖でも分岐鎖でもよい。具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−へプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等が挙げられる。中でも、炭素数２〜６が特に好ましい。
【００２２】
上記一般式（３）〜（４）におけるＭのアルカリ金属としては、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。
【００２３】
本発明においては、６−アルコキシ−２−ナフタレンチオールは、以下に示す工程１〜３により製造される。
【００２４】
【化５】
2005179289.tif 000006
【００２５】
以下、各工程について説明する。
【００２６】
＜工程１  ６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩（３）の製造＞
工程１では、上記一般式（４）の６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩を、塩基の存在下、ハロゲン化アルキルと反応させて、上記一般式（３）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩を製造する（ＯＨ基のエーテル化）。
【００２７】
この工程で使用するハロゲン化アルキルとしては、そのアルキル部は所望のエーテル化に応じて適宜選択され、また、ヨウ化アルキル、臭化アルキル、塩化アルキル等が使用できるが、反応性が良好である点から、ヨウ化アルキル、臭化アルキルが好適に使用される。このハロゲン化アルキルの使用量は、上記一般式（４）の６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩１モルに対して、１．１〜１．８モルの範囲、特に１．２〜１．４モルが好ましい。
【００２８】
この工程で使用する塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられるが、中でも、水酸化ナトリウムが好適に使用される。この塩基の使用量は、上記一般式（４）の６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩１モルに対して、１．０〜１．５モルの範囲、特に１．１〜１．２モルが好ましい。この塩基は、必要に応じて、以下の溶媒に予め溶解して使用してもよい。
【００２９】
この工程で使用する溶媒としては、水や、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール等が挙げられるが、水が好適に使用される。この溶媒の使用量は、上記一般式（４）の６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩に対して、体積比で３〜７倍の範囲、特に４〜５倍が好ましい。
【００３０】
この工程の反応では、上記一般式（４）の６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩、ハロゲン化アルキルおよび溶媒の混合物中に、塩基を添加することが好ましく、また、この添加は室温で行うことが好ましい。
【００３１】
塩基の添加後、反応を進行させるために温度を上げるが、低温であると反応が進み難く、高温であると反応性は高くなるが不純物の副生が起き易くなることから、５０〜９０℃の範囲、特に７０〜８０℃で行うことが好ましい。また、反応時間は、短すぎると生成率が悪く、長時間行うと不純物の副生量が多くなることから、１０〜１８時間の範囲、特に１３〜１５時間が好ましい。
【００３２】
反応終了後、反応系を室温まで冷却し、結晶を濾取する。生成物の上記一般式（３）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩は難水溶性のため、濾取した結晶に対して、体積比で４〜６倍の水で攪拌洗浄を行って、水溶性の不純物を除去することが好ましい。洗浄後、乾燥して、生成物である上記一般式（３）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩を得る。
【００３３】
＜工程２  ６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライド（２）の製造＞
工程２では、工程１で製造された上記一般式（３）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩を、ビルスマイヤー反応に供して、上記一般式（２）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライドを製造する（−ＳＯ3Ｍ基のスルホニルクロライド化）。ここで、上記のビルスマイヤー反応とは、上記一般式（３）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩とビルスマイヤー錯体との反応をいう。
【００３４】
この工程で使用するビルスマイヤー錯体とは、基質となる、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のＮ，Ｎ−ジ置換アミド化合物と、塩化チオニル、オキシ塩化リン等の塩素化剤とから形成される錯体であり、これらの中でも、Ｎ，Ｎ−ジ置換アミド化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが好適に使用され、塩素化剤としては、塩化チオニル、オキシ塩化リンが好適に使用される。
【００３５】
例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと塩化チオニルを使用する場合、以下のようにビルスマイヤー錯体が形成されて、ビルスマイヤー反応が行われる。
【００３６】
【化６】
2005179289.tif 000007
【００３７】
このビルスマイヤー錯体の基質となるＮ，Ｎ−ジ置換アミド化合物の使用量は、上記一般式（３）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩１モルに対して、０．１〜０．５モルの範囲、特に０．１〜０．３モルが好ましい。また、塩素化剤の使用量は、上記一般式（３）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩１モルに対して、１．２〜２．０モルの範囲、特に１．３〜１．５モルが好ましい。
【００３８】
この工程で使用する溶媒としては、特に限定されないが、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒が好適である。この溶媒の使用量は、上記一般式（３）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩に対して、体積比で４〜１２倍の範囲、特に６〜８倍が好ましい。
【００３９】
この工程の反応では、上記一般式（３）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩、ビルスマイヤー錯体の基質となるＮ，Ｎ−ジ置換アミド化合物および溶媒の混合物中に、塩素化剤を添加することが好ましく、また、この添加は、２０〜５０℃の範囲、特に４０〜４５℃の範囲で、１〜２時間で連続滴下することが好ましい。
【００４０】
塩素化剤の添加後、反応を進行させるために温度を上げるが、低温であると反応が進み難く、高温であると反応性は高くなるが副生物が生成する可能性があることから、４０〜６０℃の範囲、特に５０〜５５℃の範囲が好ましい。また、反応時間は４〜５時間の範囲が好ましい。
【００４１】
反応終了後、反応系を室温まで冷却し、次いで、原料の上記一般式（３）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホン酸アルカリ金属塩に対して、質量比で通常１．５〜３倍の範囲、好ましくは１．５〜２倍の範囲の水で数回洗浄する。洗浄後、減圧下で濃縮するが、この時、アルカリ水溶液（例えば、水酸化ナトリウム水溶液）のトラップに接続して、有機層に含まれている亜硫酸ガスが系外に放出されないようにする。
【００４２】
生成物を単離する際には、この減圧濃縮を、生成物の理論量に対して、質量比で１．０〜２．０倍の範囲となるまで行った後、飽和脂肪族系溶媒（好ましくはｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン）を、生成物の理論量に対して、体積比で４〜９倍の範囲で加えて晶析を行う。析出した結晶を濾取後、乾燥して、生成物である上記一般式（２）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライドを得る。
【００４３】
なお、有機層に含まれている亜硫酸ガスを除去した後、生成物の単離を行わずに、有機層をそのまま次の工程３に供してもよい。その場合、必要に応じて、溶媒を追加してもよい。
【００４４】
＜工程３  ６−アルコキシ−２−ナフタレンチオール（１）の製造＞
工程３では、工程２で製造された上記一般式（２）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライドを、還元剤を用いて還元して、上記一般式（１）の６−アルコキシ−２−ナフタレンチオールを製造する（−ＳＯ2Ｃｌ基の還元）。
【００４５】
この工程で使用する還元剤としては、特に限定されないが、亜鉛と酸の組み合わせ、スズと酸の組み合わせ、塩化スズと酸の組み合わせ、リチウムアルミニウムハイドライド等が挙げられ、中でも、亜鉛と酸の組み合わせが好適に使用される。ここで、酸としては、塩酸、硫酸等が挙げられ、中でも塩酸が好適に使用される。
【００４６】
亜鉛の使用量は、上記一般式（２）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライド１モルに対して、３〜７モルの範囲、特に５〜６モルが好ましい。また、塩酸としては濃塩酸を使用するのがよく、その使用量は、上記一般式（２）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライド１モルに対して、１２〜１８モルの範囲、特に１４〜１５モルが好ましい。
【００４７】
この工程で使用する溶媒としては、特に限定されないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒が好適である。この溶媒の使用量は、上記一般式（２）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライドに対して、体積比で７〜１２倍の範囲、特に９〜１０倍が好ましい。なお、上記の工程２で生成物の単離を行わずに有機層のままこの工程３に供する場合は、必要に応じて、工程２で使用した溶媒と同じ溶媒を追加してもよい。
【００４８】
この工程の反応では、上記一般式（２）の６−アルコキシナフタレン−２−スルホニルクロライド、亜鉛および溶媒の混合物中に、塩酸を添加することが好ましく、また、この添加は、０〜３０℃の範囲、特に０〜２５℃の範囲で連続滴下することが好ましい。塩酸の添加後は、塩酸添加時の温度を４〜５時間そのまま維持して反応を進行させる。
【００４９】
反応終了後、水層と未反応の亜鉛を除去し、次いで、生成物の理論量に対して、質量比で通常１．５〜３倍の範囲、好ましくは１．５〜２倍の範囲の水で有機層を数回洗浄する。次いで、有機層を減圧濃縮し、飽和脂肪族系溶媒（好ましくはｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン）を、生成物の理論量に対して、体積比で７〜１２倍の範囲、好ましくは７〜９倍加えて晶析を行う。析出した結晶を濾取後、乾燥して、生成物である上記一般式（１）の６−アルコキシ−２−ナフタレンチオールを得る。
【００５０】
以下に、実施例を挙げて、本発明をより詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００５１】
＜６−ｎ−ブチルオキシナフタレン−２−スルホン酸ナトリウムの製造（工程１）＞
１０リットル４ッ口フラスコに、撹拌棒、ジムロート冷却管、温度計をセットし、６−ナフトール−２−スルホン酸ナトリウム８００ｇ（純度８３．３％、他は水、２．７１ｍｏｌ）、１−ブロモブタン４８２．０ｇ（３．５０ｍｏｌ）、純水３０００ｇを入れ、緩やかに撹拌を開始し、系が均一に混ざるまで攪拌の回転数を上げた。
【００５２】
次に、４８％水酸化ナトリウム水溶液２４８．０ｇ（２．９８ｍｏｌ）を系内のスラリー性に注意しながら添加した。予め用意しておいた油浴を８７℃に設定し、内温を還流温度８０℃まで上げた。系内の還流に伴い泡立ちが激しく起きるので油浴の温度を調整（８５〜８７℃）し、１３時間還流下反応を行った。
【００５３】
次に、内温を１時間かけて室温まで冷却した後、ヌッチェを用いて濾過（ケーク洗浄純水＝４６００ｇ）し、ケーク８０２．０ｇを得た。これを再度１０リットル４ッ口フラスコに仕込み、純水３２００ｇを加えた後、撹拌棒、ジムロート冷却管、温度計をセットし、内温を８０℃まで昇温した。８０〜８５℃で１時間攪拌を行い、その後、内温を１時間かけて室温まで冷却し、ヌッチェを用いて濾過し、６−ｎ−ブチルオキシナフタレン−２−スルホン酸ナトリウムの湿体６８３．４ｇを得た。この湿体を５０℃で減圧乾燥して、乾燥品５５１．１ｇを得た。収率＝６７．３％（理論収量＝８１９．３ｇ）。
【００５４】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ−ＤＭＳＯ）  δppm
０．９５（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ，ＣＨ3），
１．４３−１．５２（ｍ，２Ｈ），
１．７２−１．７９（ｍ，２Ｈ），
４．０８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ），
７．１４（ｄｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２．４Ｈｚ，１Ｈ），
７．２８（ｄ，Ｊ＝２．４，１Ｈ），
７．６３（ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１．７Ｈｚ，１Ｈ），
７．７１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），
７．８４（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），
８．０３（ｓ，１Ｈ）。
【００５５】
ＩＲ（ＫＢｒ錠剤法）  νmax（ｃｍ-1）
２９５７（ｍ），２９３６（ｍ），２８７３（ｍ），１６２６（ｍ），
１６０１（ｍ），１４７１（ｍ），１２３８（ｓ），１２１９（ｍ），
１１９０（ｓ），１１３４（ｓ），１１０９（ｓ），１０５３（ｓ），
８６０（ｓ），８２０（ｍ），６８０（ｓ），６８１（ｍ），
６６５（ｓ），４７６（ｍ）。
【００５６】
熱分析
吸熱ピーク  ３８７．６℃
吸熱ピーク  ４１２．７℃（重量減少３８％）。
【実施例２】
【００５７】
＜６−ｎ−ブチルオキシナフタレン−２−スルホニルクロライドの製造（工程２）＞
１０リットル４ッ口フラスコに、撹拌棒、ジムロート冷却管、温度計をセットし、６−ｎ−ブチルオキシナフタレン−２−スルホン酸ナトリウム５４０．０ｇ（１．７９ｍｏｌ）、トルエン２７００ｇ、ＤＭＦ２６．０ｇ（０．３６ｍｏｌ）を加え、フラスコ内気相部を窒素ガスに置換後、攪拌を開始した。
【００５８】
次に、予め用意しておいた油浴を５０℃に設定し、内温を４０℃まで上げた後、排ガス吸収用１０％水酸化ナトリウム水溶液トラップ（ＮａＯＨ分７６ｇ、１．９ｍｏｌ、１０％水溶液７６０ｇ）をジムロートの排ガス部にゴム管を使って接続した。塩化チオニル３１８．９ｇ（２．６８ｍｏｌ）を内温４０〜４３℃範囲で滴下し、滴下終了後缶内温度をガスの発生に注意しながら５０℃まで昇温し、内温５０〜５５℃で４時間攪拌を続けた。その後、内温を室温まで冷却した後、３０℃以下で、純水９６６ｇを滴下して攪拌した後、静置分液を行った。再度純水９７０ｇを系内に仕込み有機層の洗浄を行った。
【００５９】
水層分液後、トルエン中に溶解している亜硫酸ガスを除去する目的で、内温を５０℃に昇温した後、１０％水酸化ナトリウム水溶液トラップを排ガスラインに接続し、トルエン９２５ｇを減圧留去した。留去後、内温を室温まで冷却し、留去量と同量のトルエンを添加し、トルエン溶液のまま、次の６−ｎ−ブチルオキシ−２−ナフタレンチオールの製造（実施例３）の原料として使用した。
【００６０】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ−ＤＭＳＯ）  δppm
０．９５（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ，ＣＨ3），
１．４３−１．５２（ｍ，２Ｈ），
１．７２−１．７９（ｍ，２Ｈ），
４．０８（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），
７．１４（ｄｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２．４Ｈｚ，１Ｈ），
７．２９（ｄ，Ｊ＝２．４，１Ｈ），
７．６３（ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１．７Ｈｚ，１Ｈ），
７．７２（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），
７．８５（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），
８．０４（ｓ，１Ｈ）。
【００６１】
ＩＲ（ＫＢｒ錠剤法）  νmax（ｃｍ-1）
２９６４（ｍ），２９４３（ｍ），２８７６（ｍ），１６１８（ｓ），
１５０４（ｍ），１４６０（ｓ），１３９１（ｓ），１３６７（ｓ），
１２６３（ｓ），１２２１（ｍ），１１６５（ｓ），１１２４（ｍ），
１０６９（ｍ），１００３（ｍ），８５８（ｍ），８１３（ｍ），
７５０（ｓ），６５４（ｓ），５８１（ｓ），５２３（ｓ）。
【００６２】
熱分析
吸熱ピーク  ８６．５℃
発熱ピーク  ２７０．８℃（重量減少７２％）。
【実施例３】
【００６３】
＜６−ｎ−ブチルオキシ−２−ナフタレンチオールの製造（工程３）＞
１０リットル４ッ口フラスコに、撹拌棒、ジムロート冷却管、温度計をセットし、実施例２で得られた６−ｎ−ブチルオキシナフタレン−２−スルホニルクロライドのトルエン溶液全量を仕込み、更にトルエン８８１ｇを加え、全トルエン量が３６７０ｇになるように調整した。次いで、亜鉛パウダー５８４．０ｇ（８．９３ｍｏｌ）を加え、フラスコ内気相部を窒素ガスに置換後、攪拌を開始した。
【００６４】
次に、内温を１０℃まで冷却した後、３５％塩酸２６０５ｇ（２５．０ｍｏｌ）を内温１０〜２５℃範囲で約２時間かけて滴下した。滴下終了後、内温２０〜２５℃で４時間攪拌を続けた。
【００６５】
反応後、未反応亜鉛を除去後、分液を行った。有機層は更に純水９５０ｇで２回洗浄した。水洗浄後、乾固状態までトルエンを除去後、ｎ−ヘプタン１７００ｇを加え、一度内温を５０℃まで昇温して完全に溶解した後、１０℃まで３時間かけて冷却した。ヌッチェを用いて濾過し、６−ｎ−ブチルオキシ−２−ナフタレンチオールの湿体４１２．０ｇを得た。この湿体を５０℃で減圧乾燥を行い、乾燥品３４４．６ｇを得た。６−ｎ−ブチルオキシナフタレン−２−スルホン酸ナトリウムからの収率＝８３．０％（理論収量＝４１５ｇ）。
【００６６】
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ｄ−ＤＭＳＯ）  δppm
０．９４（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ，ＣＨ3），
１．４１−１．５１（ｍ，２Ｈ），
１．７０−１．７７（ｍ，２Ｈ），
４．０４（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），
５．４３（ｓ，１Ｈ），
７．１１（ｄｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，２．２Ｈｚ，１Ｈ），
７．２４（ｄ，Ｊ＝２．２，１Ｈ），
７．３４（ｄｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１．７Ｈｚ，１Ｈ），
７．６６（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），
７．６８（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），
７．７２（１ｄ，Ｊ＝１．２，１Ｈ）。
【００６７】
ＩＲ（ＫＢｒ錠剤法）  νmax（ｃｍ-1）
２９５７（ｓ），２９３６（ｓ），２８７４（ｍ），２５５６（ｗ），
１６２６（ｍ），１５９１（ｓ），１４９７（ｓ），１４６８（ｍ），
１３８９（ｓ），１２５９（ｓ），１２１５（ｓ），１１６９（ｓ），
１０６９（ｍ），１０２４（ｍ），９８０（ｍ），８５８（ｓ），
８２２（ｓ），６５３（ｗ），４７５（ｓ）。
【００６８】
熱分析
吸熱ピーク  ６９．２℃
吸熱ピーク  ２２７．６℃（重量減少９１％）。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
新規な６−アルコキシ−２−ナフタレンチオールは、ナフタレン骨格に直接−ＳＨ基が導入されていることから、スルホニウム塩に誘導すれば光酸発生剤としての使用が期待され、また、種々のイオウ含有化合物の原料としても有用となり得る。当該化合物は、汎用の６−ナフトール−２−スルホン酸アルカリ金属塩を出発原料にして、エーテル化、スルホニルクロライド化および還元の各工程を経ることにより、容易に製造できるので、工業的な利用価値が大きい。