(57)【要約】【課題】  吐出された材料が被吐出部上で広がりやすい吐出装置を提供すること。【解決手段】  複数回の走査により描画を行い、第一の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う工程と、第１の辺とは異なる第２の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う工程と、により描画を行う。【選択図】    図１１
2005231190.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被吐出部に液状の材料を塗布する吐出装置であって、
前記被吐出部の位置を決めるステージと、
前記材料を吐出可能な複数のノズルを有する吐出部と、
前記吐出部を保持するキャリッジと、
前記被吐出部に対して前記複数のノズルが相対移動するように、前記ステージと前記キャリッジを相対移動させる走査部と、
を備え、
単位領域における描画を複数回の走査により行い、
前記複数回の走査には、一単位領域を形成する第一の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、前記第１の辺とは異なる第２の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、
を有することを特徴とする吐出装置。
【請求項２】
請求項１記載の吐出装置であって、
前記複数のノズルのうち所定のノズルと、前記複数の単位領域とが対応するように、前記吐出部が配置されてなることを特徴とする吐出装置。
【請求項３】
被吐出部にカラーフィルタ材料を塗布するカラーフィルタの製造装置であって、
前記被吐出部の位置を決めるステージと、
前記材料を吐出可能な複数のノズルを有する吐出部と、
前記吐出部を保持するキャリッジと、
前記被吐出部に対して前記複数のノズルが相対移動するように、前記ステージと前記キャリッジを相対移動させる走査部と、
を備え、
一画素当たりにおける描画を複数回の走査により行い、
前記複数回の走査には、一画素を形成する第一の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、前記第１の辺とは異なる第２の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、
を有することを特徴とするカラーフィルタの製造装置。
【請求項４】
請求項３記載のカラーフィルタの製造装置であって、
前記複数のノズルのうち所定のノズルと、前記複数の画素とが対応するように、前記吐出部が配置されてなることを特徴とするカラーフィルタの製造装置。
【請求項５】
被吐出部にエレクトロルミネセンス材料を塗布するエレクトロルミネセンス装置の製造装置であって、
前記被吐出部の位置を決めるステージと、
前記材料を吐出可能な複数のノズルを有する吐出部と、
前記吐出部を保持するキャリッジと、
前記被吐出部に対して前記複数のノズルが相対移動するように、前記ステージと前記キャリッジを相対移動させる走査部と、
を備え、
一画素当たりにおける描画を複数回の走査により行い、
前記複数回の走査には、一画素を形成する第一の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、前記第１の辺とは異なる第２の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、
を有することを特徴とするエレクトロルミネセンス装置の製造装置。
【請求項６】
請求項５記載のカラーフィルタの製造装置であって、
前記複数のノズルのうち所定のノズルと、前記複数の画素とが対応するように、前記吐出部が配置されてなることを特徴とするカラーフィルタの製造装置。
【請求項７】
被吐出部に液状の材料を塗布する吐出方法であって、
単位領域における描画を複数回の工程により行い、
前記複数回の工程には、一単位領域を形成する第一の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う工程と、前記第１の辺とは異なる第２の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う工程と、
を有することを特徴とする吐出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マトリクス状またはストライプ状に並んだ複数の被吐出部に液状の材料を塗布する技術に関し、より具体的には、カラーフィルタ基板の製造、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造、プラズマ表示装置の背面基板の製造、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造、および配線の製造に好適な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタ基板にインクジェットヘッドからカラーフィルタ用のインク滴を吐出することで、カラーフィルタを製造する製造装置が知られている（例えば特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２６０３０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
対角３０インチ以上のマトリクス型表示装置において、１つの色に対応する典型的な画素領域の短辺方向の長さはほぼ１００μｍであり、その長辺方向の長さはほぼ３００μｍである。このような大きさの画素領域を被吐出部として、インクジェット法でフィルタ材料を塗布する場合には、１つの被吐出部に３００ｐｌ（ピコリットル）程度の液状のフィルタ材料を吐出する。吐出された液状のフィルタ材料は、被吐出部上で溶媒が気化することによって最終的に３０ｐｌ程度の体積を有する層になる。しかしながら、被吐出部の大きさが上記のような大きさであると、被吐出部に着弾したフィルタ材料が被吐出部のすべての領域を覆うように広がる前に、フィルタ材料の粘性によってフィルタ材料の広がりが止まる場合がある。このような場合には、被吐出部内に均一にフィルタ材料が広がらない。
【０００５】
本発明は上記問題を鑑みてなされたものであり、その目的は、吐出された材料が被吐出部上で広がりやすい吐出装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の吐出装置は、被吐出部に液状の材料を塗布する吐出装置であって、前記被吐出部の位置を決めるステージと、前記材料を吐出可能な複数のノズルを有する吐出部と、前記吐出部を保持するキャリッジと、前記被吐出部に対して前記複数のノズルが相対移動するように、前記ステージと前記キャリッジを相対移動させる走査部と、を備え、単位領域における描画を複数回の走査により行い、前記複数回の走査には、一単位領域を形成する第一の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、前記第１の辺とは異なる第２の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、を有することを特徴とする。
【０００７】
また、前記複数のノズルのうち所定のノズルと、前記複数の単位領域とが対応するように、前記吐出部が配置されてなることを特徴とする。
【０００８】
また、被吐出部にカラーフィルタ材料を塗布するカラーフィルタの製造装置であって、
前記被吐出部の位置を決めるステージと、前記材料を吐出可能な複数のノズルを有する吐出部と、前記吐出部を保持するキャリッジと、前記被吐出部に対して前記複数のノズルが相対移動するように、前記ステージと前記キャリッジを相対移動させる走査部と、を備え、一画素当たりにおける描画を複数回の走査により行い、前記複数回の走査には、一画素を形成する第一の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、前記第１の辺とは異なる第２の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、を有することを特徴とするカラーフィルタの製造装置。
【０００９】
また、被吐出部にエレクトロルミネセンス材料を塗布するエレクトロルミネセンス装置の製造装置であって、前記被吐出部の位置を決めるステージと、前記材料を吐出可能な複数のノズルを有する吐出部と、前記吐出部を保持するキャリッジと、前記被吐出部に対して前記複数のノズルが相対移動するように、前記ステージと前記キャリッジを相対移動させる走査部と、を備え、一画素当たりにおける描画を複数回の走査により行い、前記複数回の走査には、一画素を形成する第一の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、前記第１の辺とは異なる第２の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う走査と、を有することを特徴とするエレクトロルミネセンス装置の製造装置。
【００１０】
被吐出部に液状の材料を塗布する吐出方法であって、単位領域における描画を複数回の工程により行い、前記複数回の工程には、一単位領域を形成する第一の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う工程と、前記第１の辺とは異なる第２の辺に沿って複数の液滴の塗布を行う工程と、を有することを特徴とする吐出方法。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を、カラーフィルタ基板の製造装置、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置、プラズマ表示装置の製造装置、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置、および配線製造装置に適用した場合を例に取り、図面を参照しつつ説明する。なお、以下に示す実施例は、特許請求の範囲に記載された発明の内容を何ら限定するものではない。また、以下の実施例に示す構成のすべてが、特許請求の範囲に記載された発明の解決手段として必須であるとは限らない。
【実施例１】
【００１２】
本発明をカラーフィルタ基板の製造装置に適用した例を説明する。
【００１３】
図１（ａ）および（ｂ）に示す基板１０Ａは、後述する製造装置１（図２）による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基板１０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂを有する。
【００１４】
具体的には、基板１０Ａは、光透過性を有する支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を含む。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。
【００１５】
それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、被吐出部１８Ｂに対応する。被吐出部１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【００１６】
図１（ｂ）に示す基板１０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基板１０Ａにおいて、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、および被吐出部１８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部１８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部１８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、そして、被吐出部１８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【００１７】
被吐出部１８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部１８Ｇ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＧＸと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＢＸとも同じである。また、被吐出部１８ＲのＸ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部１８Ｇおよび被吐出部１８Ｂも被吐出部１８Ｒと同じ大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔に対応する。
【００１８】
図２に示す製造装置１は、図１の基板１０Ａの被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂのそれぞれに対して、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。具体的には、製造装置１は、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する吐出装置１００Ｒと、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する１００Ｇと、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する１００Ｂと、被吐出部１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に保護膜１６を設ける吐出装置１００Ｃと、保護膜１６を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜１６を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基板１０Ａを搬送する搬送装置１７０も備えている。
【００１９】
図３に示すように、吐出装置１００Ｒは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを保持するタンク１０１Ｒと、チューブ１１０Ｒを介してタンク１０１Ｒからカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２は、それぞれがカラーフィルタ材料を吐出可能な複数のヘッド１１４（図４）を有するキャリッジ１０３と、キャリッジ１０３の位置を制御する第１位置制御装置１０４と、基板１０Ａを保持するステージ１０６と、ステージ１０６の位置を制御する第２位置制御装置１０８と、制御部１１２と、を備えている。タンク１０１Ｒと、キャリッジ１０３における複数のヘッド１１４と、はチューブ１１０Ｒで連結されており、タンク１０１Ｒから複数のヘッド１１４のそれぞれに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが圧縮空気によって供給される。
【００２０】
本実施例における液状のカラーフィルタ材料は、本発明の液状の材料の一例である。液状の材料とは、ノズルから吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。
【００２１】
第１位置制御装置１０４はリニアモータを備えており、制御部１１２からの信号に応じて、キャリッジ１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向と直交するＺ軸方向に沿って移動させる。第２位置制御装置１０８はリニアモータを備えており、制御部１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の両方と直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。ステージ１０６はＸ軸方向およびＹ軸方向の双方と平行な平面を有していて、この平面上に基板１０Ａを固定できるように構成されている。ステージ１０６が基板１０Ａを固定するので、ステージ１０６は被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂの位置を決定できる。なお、本実施例の基板１０Ａは、受容基板の一例である。
【００２２】
第１位置制御装置１０４は、さらに、Ｚ軸方向に平行な所定の軸の回りでキャリッジ１０３を回転させる機能も有する。Ｚ軸方向とは、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。第１位置制御装置１０４によるキャリッジ１０３のＺ軸方向に平行な所定の軸の回りでの回転によって、受容基板上に固定された座標系におけるＸ軸およびＹ軸を、Ｘ軸方向およびＹ軸方向とそれぞれ平行にできる。本実施例では、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は、ともにステージ１０６に対してキャリッジが相対移動する方向である。本明細書では、第１位置制御措置１０４および第２位置制御装置１０８を「走査部」と表記することもある。
【００２３】
キャリッジ１０３およびステージ１０６は上記以外の平行移動および回転の自由度をさらに有している。ただし、本実施例では、上記自由度以外の自由度に関する記載は説明を平易にする目的で省略されている。
【００２４】
制御部１１２は、カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２の詳細な機能は、後述する。
【００２５】
図４に示すように、キャリッジ１０３は、互いに同じ構造を有する複数のヘッド１１４を保持している。ここで、図４は、キャリッジ１０３をステージ１０６側から観察した図であり、このため図面に垂直な方向がＺ軸方向である。本実施例では、キャリッジ１０３には４個のヘッド１１４からなる列が２列配置されている。それぞれのヘッド１１４の長手方向とＸ軸方向との間の角度ＡＮは０°になるように、ヘッド１１４のそれぞれがキャリッジ１０３に固定されている。ただし、変形例で説明するように、この角度ＡＮは可変である。
【００２６】
図５に示すように、カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するためのヘッド１１４は、それぞれがヘッド１１４の長手方向に延びる２つのノズル列１１６を有している。ノズル列１１６とは、１８０個のノズル１１８が一列に並んだ列のことである。ノズル列１１６の方向をノズル列方向ＨＸと表記する。ノズル列方向ＨＸに沿ったノズル１１８の間隔は、約１４０μｍである。また、図５において、１つのヘッド１１４における２つのノズル列１１６は、互いに半ピッチ（約７０μｍ）だけ互いにずれて位置している。さらに、ノズル１１８の直径は、およそ２７μｍである。上述したように、ヘッド１１４の長手方向とＸ軸方向との間の角度が角度ＡＮだから、ノズル列方向ＨＸ、すなわち１８０個のノズル１１８が一列に並ぶ方向とＸ軸方向との間の角度も角度ＡＮである。なお、複数のノズル１１８のそれぞれの端部は、上記Ｘ軸方向およびＹ軸方向で定義される仮想的な平面上に位置している。また、ヘッド１１４がほぼＺ軸と平行に材料を吐出できるように、複数のノズル１１８のそれぞれの形状が調整されている。
【００２７】
図６（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２６と、の間には、タンク１０１Ｒから孔１３１を介して供給される液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが常に充填される液たまり１２９が位置している。また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９からカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。
【００２８】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂに駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００２９】
制御部１１２（図３）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立な信号を与えるように構成されている。このため、ノズル１１８から吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御される。さらに、ノズル１１８のそれぞれから吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変である。このため、後述するように、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。
【００３０】
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティに対応する振動子１２４と、を含んだ部分を、吐出部１２７と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。上述のように本実施例では、キャリッジ１０３はヘッド１１４を保持する。一方、ヘッド１１４のそれぞれは複数の吐出部１２７を有している。このため、本明細書では、キャリッジ１０３が複数の吐出部１２７を保持すると表記することもある。
【００３１】
吐出部は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。
【００３２】
上述のように、キャリッジ１０３は第１位置制御装置１０４（図３）によってＸ軸方向およびＺ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６（図３）は第２位置制御手段１０８（図３）によってＹ軸方向に移動させられる。この結果、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対してキャリッジ１０３が相対移動する。より具体的には、これらの動作によって、複数のヘッド１１４、複数のノズル列１１６、または複数のノズル１１８は、ステージ１０６上で位置決めされた被吐出部１８Ｒに対してＺ軸方向に所定の距離を保ちながらＸ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。さらに具体的には、ヘッド１１４は、ステージに対してＸ軸方向およびＹ軸方向に相対走査するとともに、複数のノズル１１８から材料を吐出する。本発明では、被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８を走査して、被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８から材料を吐出してもよい。「相対走査」とは吐出する側とそこからの吐出物が着弾する側（被吐出部１８Ｒ側）の少なくとも一方を他方に対して走査することを含む。また、相対走査と材料の吐出との組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。
【００３３】
次に、制御部１１２の構成を説明する。図７に示すように、制御部１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶手段２０２と、処理部２０４と、走査ドライバ２０６と、ヘッドドライバ２０８と、を備えている。バッファメモリ２０２と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と記憶手段２０２とは、相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と走査ドライバ２０６とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４とヘッドドライバ２０とは相互に通信可能に接続されている。また、走査ドライバ２０６は、第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッドドライバ２０８は、複数のヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。
【００３４】
入力バッファメモリ２００は、外部情報処理装置からカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出を行うための吐出データを受け取る。吐出データは、基板１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒの相対位置を表すデータと、すべての被吐出部１８Ｒに所望の厚さのカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布するまでに必要となる相対走査の回数を示すデータと、被吐出部上の着弾位置を示すデータと、吐出動作を行うノズル１１８を指定するデータと、吐出動作を行わないノズル１１８を指定するデータと、を含む。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶手段２０２に格納する。図７では、記憶手段２０２はＲＡＭである。
【００３５】
処理部２０４は、記憶手段２０２内の吐出データに基づいて、被吐出部１８Ｒに対するノズル列１１６の相対位置を示すデータを走査ドライバ２０６に与える。走査ドライバ２０６はこのデータに応じた駆動信号を第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に与える。この結果、被吐出部１８Ｒに対してノズル列１１６が走査される。一方、処理部２０４は、記憶手段２０２に記憶された吐出データに基づいて、対応するノズル１１８からの吐出タイミングを示すデータをヘッドドライバ２０８に与える。ヘッドドライバ２０８はこのデータに基づいて、カラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出に必要な駆動信号をヘッド１１４に与える。この結果、ノズル列１１６における対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００３６】
制御部１１２は、少なくともＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭを含んだコンピュータであってもよい。この場合には、制御部１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。
【００３７】
以上の構成によって、吐出装置１００Ｒは、制御部１１２に与えられた吐出データに応じて、カラーフィルタ材料１１１Ｒの塗布走査を行う。
【００３８】
以上は、吐出装置１００Ｒの構成の説明である。吐出装置１００Ｇの構成と、吐出装置１００Ｂの構成と、吐出装置１００Ｃの構成とは、いずれも基本的に吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置１００Ｒにおけるタンク１０１Ｒの代わりに、吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のタンクを備える点で吐出装置１００Ｇの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒの代わりに、吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のタンクを備える点で吐出装置１００Ｂの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒの代わりに、吐出装置１００Ｃが保護膜材料用のタンクを備える点で吐出装置１００Ｃの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。
【００３９】
次に、吐出装置１００Ｒの動作を説明する。吐出装置１００Ｒは、基板１０Ａ上でマトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒに同一の材料を吐出する。なお、実施例２および３で説明するように、基板１０Ａは、エレクトロルミネッセンス表示装置用の基板に置き換わってもよいし、プラズマ表示装置用背面基板の基板に置き換わってもよいし、電子放出素子を備えた画像表示装置の基板に置き換わってもよい。
【００４０】
本実施例では、吐出装置１００は、以下に説明する塗布走査（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）のいずれかを行う。
【００４１】
塗布走査（Ａ）
（Ａ１：第１の走査期間）
図８は、基板１０Ａにおける一つの被吐出部１８Ａを示す。また、図８は、基板１０Ａに対峙している１つのヘッド１１４の一部も、基板１０Ａに重ねて図示している。図８において、Ｚ軸方向は図８の紙面に垂直な方向である。図８に示す基板１０Ａは、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に固定されている。このため、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想的な平面上（例えば図８の紙面に平行な平面上）に被吐出部１８Ｒが位置する。図８において、被吐出部１８Ｒの短辺方向および長辺方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。また、被吐出部１８Ｒの範囲は、対応するＸ座標範囲と、対応するＹ座標範囲と、で決まる。より具体的には、被吐出部１８Ｒは、Ｘ座標ＸＡとＸＢとの間に位置している。また、被吐出部１８Ｒは、Ｙ座標ＹＡとＹＢとの間に位置している。
Ｘ座標ＸＡからＸＢまでが被吐出部１８ＲのＸ座標範囲であり、同様にＹ座標ＹＡからＹＢまでが被吐出部１８ＲのＹ座標範囲である。ここで、Ｘ座標ＸＡ、ＸＢは、基板１０Ａに固定された座標系におけるＸ軸上の値であり、同様に、Ｙ座標ＹＡ、ＹＢは、この座標系におけるＹ軸上の値である。また、以下の説明に現れる「Ｘ座標」、および「Ｙ座標」も、基板１０Ａ上に固定された座標系における座標である。なお、上述したように、基板１０Ａに固定された座標系におけるＸ軸およびＹ軸は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向とそれぞれ平行である。また、Ｘ座標ＸＡとＸＢとの差はほぼ１００μｍであり、Ｙ座標ＹＡとＹＢとの差はほぼ３００μｍである。
【００４２】
図８および図９に示す例では、第１の走査期間内に、互いの間の距離が最も短い２つのノズル１１８から、被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
例えば図８の場合では、図８に示されたノズル１１８のうち、上段の左側から２番目のノズル１１８と、下段の左側から３番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。なお、１回の吐出動作によって吐出される液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は、ほぼ１０ｐｌ（ピコリットルである）。
【００４３】
まず、ステージ１０６上に基板１０Ａを固定することで、ステージ１０６上に被吐出部１８を位置決めする。そして、第１の走査期間の前に、図８に図示されたノズル１１８のうち、上段の左側から２番目のノズル１１８のＸ座標をＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致させる。そのことによって、図８に図示されたノズル１１８のうち、下段の左から３番目のノズル１１８のＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ２に一致する。ノズル１１８のこのような相対移動は、制御部１１２からの信号に応じて、第１位置制御装置１０２および第２位置制御装置のうち少なくとも一方が行う。以下では、Ｘ座標Ｘ１に位置したノズル１１８をノズル１１８Ａと表記する。また、Ｘ座標Ｘ２に位置したノズル１１８をノズル１１８Ｂと表記する。図８では、ノズル１１８Ａおよびノズル１１８Ｂは、黒丸で示されている。なお、Ｘ座標Ｘ１とＸ座標Ｘ２との差は、ほぼ７０μｍである。この距離は、互いの間の距離が最も短い２つのノズル１１８同士のＸ軸方向の間隔と同じである。
【００４４】
ところで、本実施例において「走査期間」とは、図１０に示すように、Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部１８Ｒのすべてに材料を塗布ために、キャリッジ１０３の一辺がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４の一端Ｅ１（または他端Ｅ２）から他端Ｅ２（または一端Ｅ１）まで相対移動を１回行う期間を意味する。さらに、本実施例において走査範囲１３４とは、マトリクス１８Ｍに含まれる被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布するまでに、キャリッジ１０３の一辺が相対移動する範囲を意味する。しかしながら、場合によっては用語「走査範囲」は、１つのノズル１１８が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのノズル列１１６が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのヘッド１１４が相対移動する範囲を意味することもある。なお、マトリクス１８Ｍとは、被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが構成するマトリクスである。また、キャリッジ１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８が相対移動するとは、被吐出部１８Ｒに対するこれらの相対位置が変わることである。このため、キャリッジ１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８が絶対静止して、被吐出部１８Ｒのみがステージ１０６によって移動する場合であっても、キャリッジ１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８が相対移動すると表現する。
【００４５】
第１の走査期間が始ると、走査範囲１３４の一端Ｅ１からＹ軸方向の正の方向（図面上方向）に、キャリッジ１０３が相対移動し始める。この場合、ノズル１１８ＡのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致し続けるようにノズル１１８ＡはＹ軸方向に相対移動する。同様に、ノズル１１８ＢのＸ座標がＸ座標範囲内の第２のＸ座標Ｘ２に一致し続けるようにノズル１１８ＢはＹ軸方向に相対移動する。そして、第１の走査期間内に、ノズル１１８Ａと、ノズル１１８Ｂと、が、被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する場合に、対応するそれぞれの吐出部１２７は、ノズル１１８Ａおよびノズル１１８Ｂからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施例では、被吐出部１８ＲにおいてＹ軸方向にほぼ均等に並んだ複数の着弾位置にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾するように、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。具体的には、図８に示すように、ノズル１１８Ａおよびノズル１１８Ｂのそれぞれに対して、Ｙ座標範囲内に間隔ＤＹで並んだ８つの着弾位置が事前に設定されている。したがって、第１の走査期間内に１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒが８回吐出される。同様に、第１の走査期間内に、この１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ｂからもカラーフィルタ材料１１１Ｒが８回吐出される。
【００４６】
なお、図面において、着弾位置は、丸で示されている。着弾位置を示す丸の大きさは、１回の吐出によって吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積（すなわち吐出量）を表している。本実施例では、いずれの吐出でも、同じ体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。このため、着弾位置を示す丸の大きさは、すべて等しい。しかしならが、もちろん、着弾位置に応じて、適宜を吐出量を変えてもよい。
【００４７】
第１の走査期間内に、図８に示す１つの被吐出部１８だけでなく、図８の被吐出部１８ＲのＸ座標範囲と同じＸ座標範囲に位置する他の被吐出部１８Ｒに対しても、ノズル１１８Ａおよびノズル１１８Ｂから同様にカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００４８】
上記方法によれば、被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内のそれぞれ異なるＸ座標に位置する少なくとも２つのノズル１１８から、被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。このため、それぞれの着弾位置からＸ軸方向に一つ一つの液滴が塗れ広がる範囲が小さくて済む。この結果、吐出されたカラーフィルタ材料１１１Ｒが被吐出部１８Ｒ上で塗れ広がる速度が遅くても、吐出されたカラーフィルタ材料１１１Ｒによって被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内が覆われる。被吐出部１８ＲのＹ座標範囲内では、複数回吐出動作を行っているので被吐出部１８ＲのＹ座標範囲内も、吐出されたカラーフィルタ材料１１１Ｒによって充分に覆われる。
【００４９】
（Ａ２：第２の走査期間）
第１の走査期間に引き続く第２の走査期間の前に、図９に図示されたノズル１１８のうち、上段の最も左側のノズル１１８のＸ座標をＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致させる。
そのことによって、図９に図示されたノズル１１８のうち、下段の左から２番目のノズル１１８のＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ２に一致する。以下では、Ｘ座標Ｘ１に位置したノズル１１８をノズル１１８Ｃと表記する。また、Ｘ座標Ｘ２に位置したノズル１１８をノズル１１８Ｄと表記する。さらに、図９では、ノズル１１８Ｃおよびノズル１１８Ｄは、黒丸で示されている。
【００５０】
第２の走査期間が始ると、走査範囲１３４の他端Ｅ２からＹ軸方向の負の方向（図面下方向）に、キャリッジ１０３が相対移動し始める。この場合、ノズル１１８ＣのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致し続けるようにノズル１１８ＣはＹ軸方向に相対移動する。同様に、ノズル１１８ＤのＸ座標がＸ座標範囲内の第２のＸ座標Ｘ２に一致し続けるようにノズル１１８ＤはＹ軸方向に相対移動する。そして、第２の走査期間内に、ノズル１１８Ｃと、ノズル１１８Ｄと、が、被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する場合に、対応するそれぞれの吐出部１２７は、ノズル１１８Ｃおよびノズル１１８Ｄからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施例では、被吐出部１８ＲにおいてＹ軸方向にほぼ均等に並んだ複数の着弾位置にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾するように、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。具体的には、図９に示すように、ノズル１１８Ｃおよびノズル１１８Ｄのそれぞれに対して、Ｙ座標範囲内に間隔ＤＹで並んだ８つの着弾位置が事前に設定されている。ただし、ノズル１１８Ｃのために設定された着弾位置のそれぞれは、ノズル１１８Ａのために設定された着弾位置のほぼ間に位置する。同様に、ノズル１１８Ｄのために設定された着弾位置のそれぞれは、ノズル１１８Ｂのために設定された着弾位置の間に位置する。なお、第２の走査期間の着弾位置を第１の走査期間の着弾位置同士の間に位置させるだけでなく、第２の走査期間内に吐出される材料が、第１の走査期間によって塗布された材料に重なるように着弾させてもよい。そうすれば、より均一な層が形成できる。
【００５１】
上記方法によれば、第２の走査期間内に吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの着弾位置は、第１の走査期間内の着弾位置同士の間である。このため、第１の走査期間と第２の走査期間との組合せによって、それぞれの着弾位置から一つ一つの液滴がＹ軸方向に塗れ広がる範囲がさらに小さくて済む。この結果、吐出されたカラーフィルタ材料１１１Ｒが被吐出部１８Ｒ上で塗れ広がる速度が遅くても、カラーフィルタ材料１１１Ｒによって被吐出部１８ＲのＹ座標範囲内が充分に覆われる。
【００５２】
このように、第２の走査期間内に１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ｃからカラーフィルタ材料１１１Ｒが８回吐出される。同様に、第２の走査期間内に、この１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ｄからもカラーフィルタ材料１１１Ｒが８回吐出される。
【００５３】
塗布走査（Ａ）によると、第１の走査期間と、第２の走査期間とによって、１つの被吐出部１８に、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが３２回吐出される。
【００５４】
さらに塗布走査（Ａ）によると、吐出装置１００Ｒが行う製造方法は、ステージ１０６上に被吐出部１８を位置決めする第１のステップと、被吐出部１８に対してノズル１１８Ａおよびノズル１１８Ｂを相対移動させる第２のステップと、を含む。第２のステップは、第１の走査期間内には、前記ノズル１１８ＡのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致し続けるようにノズル１１８Ａを前記Ｙ軸方向に相対移動させるとともに、被吐出部１８Ｒにノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するステップを含む。さらに第２のステップは、第１の走査期間内に、ノズル１１８ＢのＸ座標がＸ座標範囲内の第２のＸ座標Ｘ２に一致し続けるようにノズル１１８ＢをＹ軸方向に相対移動させるとともに、ノズル１１８Ｂから被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するステップを含む。
【００５５】
以上のようにして、１つの被吐出部１８Ｒに対する塗布走査が完了する。そして、他の被吐出部１８Ｒについても、図８および図９同様に塗布走査することで、基板１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒが塗布される。
【００５６】
塗布走査（Ｂ）
（Ｂ１：第１の走査期間）
図１１〜図１４に示す例では、１つの被吐出部１８Ｒに所望量のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するまでに、４つの走査期間を経る。ただし、１つの走査期間毎に１つのノズル１１８から１つの被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。さらに、走査期間毎に、異なるノズル１１８から１つのノズル１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００５７】
まず、第１の走査期間の前に、図１１に示されたノズル１１８のうち、上段の左側から２番目のノズル１１８のＸ座標をＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致させる。塗布走査（Ｂ）の説明において、Ｘ座標Ｘ１に位置したノズル１１８をノズル１１８Ａと表記する。図１１では、ノズル１１８Ａは黒丸で示されている。
【００５８】
第１の走査期間が始ると、走査範囲１３４の一端Ｅ１からＹ軸方向の正の方向（図面上方向）に、キャリッジ１０３が相対移動し始める。この場合、ノズル１１８ＡのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致し続けるようにノズル１１８ＡはＹ軸方向に相対移動する。そして、第１の走査期間内に、ノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する場合に、対応する吐出部１２７はノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施例では、被吐出部１８ＲにおいてＹ軸方向にほぼ均等に並んだ複数の着弾位置にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾するように、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。具体的には、図１１に示すように、ノズル１１８Ａに対して、Ｙ座標範囲内に間隔ＤＹで並んだ８つの着弾位置が事前に設定されている。したがって、第１の走査期間内に１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８からカラーフィルタ材料１１１Ｒが８回吐出される。
【００５９】
本実施例では、第１の走査期間内に、図１１に示す１つの被吐出部１８だけでなく、図１１の被吐出部１８ＲのＸ座標範囲と同じＸ座標範囲に位置する他の被吐出部１８Ｒに対しても、第一のノズル１１８から同様にカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００６０】
（Ｂ２：第２の走査期間）
次に、第２の走査期間の前に、図１２に示されるノズル１１８のうち、下段の左側から２番目のノズル１１８のＸ座標をＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ２に一致させる。以下では、Ｘ座標Ｘ２に位置したノズル１１８をノズル１１８Ｂと表記する。図１２では、ノズル１１８Ｂは黒丸で示されている。
【００６１】
第２の走査期間が始ると、走査範囲１３４の他端Ｅ２からＹ軸方向の負の方向（図面下方向）に、キャリッジ１０３が相対移動し始める。この場合、ノズル１１８ＢのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ２に一致し続けるようにノズル１１８ＢはＹ軸方向に相対移動する。そして、第２の走査期間内に、ノズル１１８Ｂが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する場合に、対応する吐出部１２７はノズル１１８Ｂからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施例では、被吐出部１８ＲにおいてＹ軸方向にほぼ均等に並んだ複数の着弾位置にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾するように、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。具体的には、図１２に示すように、ノズル１１８Ｂに対して、Ｙ座標範囲内に間隔ＤＹで並んだ８つの着弾位置が事前に設定されている。ただし、ノズル１１８Ｂのために設定された着弾位置のＹ座標のそれぞれは、ノズル１１８Ａのために設定された着弾位置のＹ座標の間に位置する。このように、第２の走査期間内に１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ｂからカラーフィルタ材料１１１Ｒが８回吐出される。
【００６２】
（Ｂ３：第３の走査期間）
次に、第３の走査期間の前に、図１３に示されるノズル１１８のうち、上段の最も左側のノズル１１８のＸ座標をＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ３に一致させる。以下では、Ｘ座標Ｘ３に位置したノズル１１８をノズル１１８Ｃと表記する。図１３では、ノズル１１８Ｃは黒丸で示されている。
【００６３】
第３の走査期間が始ると、走査範囲１３４の一端Ｅ１からＹ軸方向の正の方向（図面上方向）に、キャリッジ１０３が相対移動し始める。この場合、ノズル１１８ＣのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ３に一致し続けるようにノズル１１８ＣはＹ軸方向に相対移動する。そして、第３の走査期間内に、ノズル１１８Ｃが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する場合に、対応する吐出部１２７はノズル１１８Ｂからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施例では、被吐出部１８ＲにおいてＹ軸方向にほぼ均等に並んだ複数の着弾位置にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾するように、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。具体的には、図１３に示すように、ノズル１１８Ｃに対して、Ｙ座標範囲内に間隔ＤＹで並んだ８つの着弾位置が事前に設定されている。ただし、ノズル１１８Ｃのために設定された着弾位置のＹ座標のそれぞれは、ノズル１１８Ｂのために設定された着弾位置のＹ座標の間に位置する。また、ノズル１１８Ｃのための複数の着弾位置のＹ座標のそれぞれは、ノズル１１８Ａの為に設定された複数の着弾位置のＹ座標のそれぞれと同じである。このように、第３の走査期間内に１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ｃからカラーフィルタ材料１１１Ｒが８回吐出される。
【００６４】
（Ｂ４：第４の走査期間）
次に、第４の走査期間の前に、図１４に示されるノズル１１８のうち、下段の最も左側のノズル１１８のＸ座標をＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ４に一致させる。以下では、Ｘ座標Ｘ４に位置したノズル１１８をノズル１１８Ｄと表記する。図１４では、ノズル１１８Ｄは黒丸で示されている。
【００６５】
第４の走査期間が始ると、走査範囲１３４の他端Ｅ２からＹ軸方向の負の方向（図面下方向）に、キャリッジ１０３が相対移動し始める。この場合、ノズル１１８ＤのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ４に一致し続けるようにノズル１１８ＤはＹ軸方向に相対移動する。そして、第４の走査期間内に、ノズル１１８Ｄが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する場合に、対応する吐出部１２７はノズル１１８Ｂからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施例では、被吐出部１８ＲにおいてＹ軸方向にほぼ均等に並んだ複数の着弾位置にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾するように、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。具体的には、図１４に示すように、ノズル１１８Ｄに対して、Ｙ座標範囲内に間隔ＤＹで並んだ８つの着弾位置が事前に設定されている。ただし、ノズル１１８Ｄのために設定された着弾位置のＹ座標のそれぞれは、ノズル１１８Ｃのために設定された着弾位置のＹ座標のそれぞれの間に位置する。また、ノズル１１８Ｄのための複数の着弾位置のＹ座標のそれぞれは、ノズル１１８Ｂの為に設定された複数の着弾位置のＹ座標のそれぞれと同じである。このように、第４の走査期間内に１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ｄからカラーフィルタ材料１１１Ｒが８回吐出される。
【００６６】
塗布走査（Ｂ）によると、第１の走査期間と第２の走査期間と第３の走査期間と第４の走査期間とによって、１つの被吐出部１８に、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが３２回吐出される。
【００６７】
さらに塗布走査（Ｂ）によると、吐出装置１００Ｒが行う製造方法は、ステージ１０６上に被吐出部１８を位置決めする第１のステップと、被吐出部１８に対してノズル１１８Ａおよびノズル１１８Ｂを相対移動させる第２のステップと、を含む。第２のステップは、第１の走査期間内には、前記ノズル１１８ＡのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致し続けるようにノズル１１８Ａを前記Ｙ軸方向に相対移動させるとともに、被吐出部１８Ｒにノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するステップを含む。さらに第２のステップは、第２の走査期間内に、ノズル１１８ＢのＸ座標がＸ座標範囲内の第２のＸ座標Ｘ２に一致し続けるようにノズル１１８ＢをＹ軸方向に相対移動させるとともに、ノズル１１８Ｂから被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するステップを含む。
【００６８】
上記方法によれば、被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内のそれぞれ異なるＸ座標に位置する少なくとも２つのノズル１１８から、被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。このため、それぞれの着弾位置からＸ軸方向に一つ一つの液滴が塗れ広がる範囲が小さくて済む。この結果、吐出されたカラーフィルタ材料１１１Ｒが被吐出部１８Ｒ上で塗れ広がる速度が遅くても、吐出されたカラーフィルタ材料１１１Ｒによって被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内が覆われる。被吐出部１８ＲのＹ座標範囲内では、複数回吐出動作を行っているので被吐出部１８ＲのＹ座標範囲内も、吐出されたカラーフィルタ材料１１１Ｒによって充分に覆われる。
【００６９】
以上のようにして、１つの被吐出部１８Ｒに対する塗布走査が完了する。そして、他の被吐出部１８Ｒについても、図１１〜図１４を参照しながら説明した方法と同じ方法で塗布走査することで、基板１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒが塗布される。
【００７０】
なお、上記例では４回の工程に分けて塗布したが、この工程を2回としても良い。すなわち、図１１にあるように第１走査期間により、画素の一つの辺に沿って（すなわちＸ１に沿って）描画を行い、次の工程を図１４にあるように画素の他の辺（前記一つの辺と対向する辺）に沿って描画を行うのである。当然のことながら、6回、８回というように複数回行うことも可能である。その際、基本的に辺に沿って、且つ辺の付近に液滴を塗布するように描画を行えばよい。
【００７１】
このような描画方法を採用することにより、画素の周辺、角部へ液滴が広がりやすくなり、画素全体にわたって均一に液滴を塗布することが可能となる。特に、長方形の画素も当然のことながら、凸部があるような形状の画素に特に有効である。例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）に対応する部分が除かれた形状のカラーフィルタに有効である。
【００７２】
また、図８、図９の描画方法においても、画素の中心部に対し液滴を塗布するのではなく、辺に沿って、辺（もしくはバンク、隔壁）の付近を描画することにより、画素の周辺、角部への広がりを良くする、という効果も得られる。
【００７３】
更に、塗布に関しては、画素の辺に当たる部分はバンクに相当するため、（1）バンクと画素の中心部（もしくは中心線）との間で、バンクに当たらないように描画する方法、（2）バンクに液滴を当てるように描画する方法、を条件に応じて適用することができる。これは、液滴の特性にもより、例えば液滴の濡れ性、広がり特性にも応じて変わってくるが、広がりが良い液を用いる場合は、（1）の方式により描画が可能である。広がりが悪い場合には、（2）のような方法が適当である。
【００７４】
また、例えばＸ１を描画するノズルとＸ４を描画するノズルとは異なる方が望ましい。
塗布走査（Ｃ）
【００７５】
（Ｃ１：第１の走査期間）
図１５〜図１８に示す例では、１つの被吐出部１８Ｒに所望量のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するまでに、８つの走査期間を経る。ただし、１つの走査期間毎に１つのノズル１１８から１つの被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒが４回吐出される。さらに、走査期間毎に、異なるノズル１１８から１つの被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００７６】
まず、第１の走査期間の前に、図１５に示されたノズル１１８のうち、上段の左側から２番目のノズル１１８のＸ座標をＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致させる。そのことによって、以下では、Ｘ座標Ｘ１に位置したノズル１１８をノズル１１８Ａと表記する。図１５では、ノズル１１８Ａは黒丸で示されている。
【００７７】
第１の走査期間が始ると、走査範囲１３４の一端Ｅ１からＹ軸方向の正の方向（図面上方向）に、キャリッジ１０３が相対移動し始める。この場合、ノズル１１８ＡのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致し続けるようにノズル１１８ＡはＹ軸方向に相対移動する。そして、第１の走査期間内に、ノズル１１８Ａが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する場合に、対応する吐出部１２７はノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施例では、被吐出部１８ＲにおいてＹ軸方向にほぼ均等に並んだ複数の着弾位置にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾するように、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。具体的には、図１５に示すように、ノズル１１８Ａに対して、Ｙ座標範囲内に間隔２ＤＹで並んだ４つの着弾位置が事前に設定されている。間隔２ＤＹの長さは、塗布走査（Ａ）および（Ｂ）で採用する間隔ＤＹの２倍の長さである。したがって、第１の走査期間内に１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒが４回吐出される。
【００７８】
第１の走査期間内に、図１５に示す１つの被吐出部１８だけでなく、図１５の被吐出部１８ＲのＸ座標範囲と同じＸ座標範囲に位置する他の被吐出部１８Ｒに対しても、ノズル１１８Ａから同様にカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００７９】
（Ｃ２：第２の走査期間）
次に、第２の走査期間の前に、図１６に示されたノズル１１８のうち、下段の左側から２番目のノズル１１８のＸ座標をＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致させる。以下では、Ｘ座標Ｘ１に位置したノズル１１８をノズル１１８Ｂと表記する。図１６では、ノズル１１８Ｂは黒丸で示されている。
【００８０】
第２の走査期間が始ると、走査範囲１３４の他端Ｅ２からＹ軸方向の負の方向（図面下方向）に、キャリッジ１０３が相対移動し始める。この場合、ノズル１１８ＢのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致し続けるようにノズル１１８ＢはＹ軸方向に相対移動する。そして、第２の走査期間内に、ノズル１１８Ｂが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する場合に、対応する吐出部１２７はノズル１１８Ｂからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施例では、被吐出部１８ＲにおいてＹ軸方向にほぼ均等に並んだ複数の着弾位置にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾するように、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。具体的には、図１６に示すように、ノズル１１８Ｂに対して、Ｙ座標範囲内に間隔２ＤＹで並んだ４つの着弾位置が事前に設定されている。ただし、ノズル１１８Ｂのために設定された着弾位置のそれぞれは、ノズル１１８Ａのために設定された着弾位置のそれぞれの間に位置する。このように、第２の走査期間内に１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ｂからカラーフィルタ材料１１１Ｒが４回吐出される。
【００８１】
（Ｃ３：第３の走査期間）
次に、第３の走査期間の前に、図１７に示されたノズル１１８のうち、上段の最も左側のノズル１１８のＸ座標をＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ２に一致させる。以下では、Ｘ座標Ｘ２に位置したノズル１１８をノズル１１８Ｃと表記する。図１７では、ノズル１１８Ｃは黒丸で示されている。
【００８２】
第３の走査期間が始ると、走査範囲１３４の他端Ｅ２からＹ軸方向の正の方向（図面上方向）に、キャリッジ１０３が相対移動し始める。この場合、ノズル１１８ＣのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ２に一致し続けるようにノズル１１８ＣはＹ軸方向に相対移動する。そして、第３の走査期間内に、ノズル１１８Ｃが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する場合に、対応する吐出部１２７はノズル１１８Ｂからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施例では、被吐出部１８ＲにおいてＹ軸方向にほぼ均等に並んだ複数の着弾位置にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾するように、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。具体的には、図１７に示すように、ノズル１１８Ｃに対して、Ｙ座標範囲内に間隔２ＤＹで並んだ４つの着弾位置が事前に設定されている。ただし、ノズル１１８Ｃのために設定された着弾位置のＹ座標のそれぞれは、ノズル１１８Ａおよびノズル１１８Ｂのために設定された着弾位置のＹ座標と重ならない。このように、第３の走査期間内に１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ｃからカラーフィルタ材料１１１Ｒが４回吐出される。
【００８３】
（Ｃ４：第４の走査期間）
次に、第４の走査期間の前に、図１８に示されたノズル１１８のうち、下段の最も左側のノズル１１８のＸ座標をＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ２に一致させる。以下では、Ｘ座標Ｘ２に位置したノズル１１８をノズル１１８Ｄと表記する。図１８では、ノズル１１８Ｄは黒丸で示されている。
【００８４】
第４の走査期間が始ると、走査範囲１３４の他端Ｅ２からＹ軸方向の負の方向（図面下方向）に、キャリッジ１０３が相対移動し始める。この場合、ノズル１１８ＤのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ２に一致し続けるようにノズル１１８ＤはＹ軸方向に相対移動する。そして、第４の走査期間内に、ノズル１１８Ｄが被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する場合に、対応する吐出部１２７はノズル１１８Ｂからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施例では、被吐出部１８ＲにおいてＹ軸方向にほぼ均等に並んだ複数の着弾位置にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾するように、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。具体的には、図１８に示すように、ノズル１１８Ｄに対して、Ｙ座標範囲内に間隔２ＤＹで並んだ４つの着弾位置が事前に設定されている。ただし、ノズル１１８Ｄのために設定された着弾位置のそれぞれは、ノズル１１８Ｃのために設定された着弾位置のそれぞれの間に位置する。このように、第４の走査期間内に１つの被吐出部１８Ｒに対してノズル１１８Ｃからカラーフィルタ材料１１１Ｒが４回吐出される。
【００８５】
引き続く第５の走査期間、第６の走査期間、第７の走査期間、第８の走査期間では、図１９に示すように、さらに異なる４つのノズル１１８を用いて、被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ３およびＸ４で表される部分に対して、上記（Ｃ１）〜（Ｃ４）と同様に塗布走査する。
【００８６】
塗布走査（Ｃ）によると、第１の走査期間から第８の走査期間によって、１つの被吐出部１８に、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが３２回吐出される。
【００８７】
さらに塗布走査（Ｃ）によると、吐出装置１００Ｒが行う製造方法は、ステージ１０６上に被吐出部１８を位置決めする第１のステップと、被吐出部１８に対してノズル１１８Ａおよびノズル１１８Ｃを相対移動させる第２のステップと、を含む。第２のステップは、第１の走査期間内には、前記ノズル１１８ＡのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ１に一致し続けるようにノズル１１８Ａを前記Ｙ軸方向に相対移動させるとともに、被吐出部１８Ｒにノズル１１８Ａからカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するステップを含む。さらに第２のステップは、第２の走査期間内に、ノズル１１８ＣのＸ座標がＸ座標範囲内の第２のＸ座標Ｘ２に一致し続けるようにノズル１１８ＣをＹ軸方向に相対移動させるとともに、ノズル１１８Ｃから被吐出部１８Ｒに対してカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するステップを含む。
【００８８】
上記方法によれば、被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内のそれぞれ異なるＸ座標に位置する少なくとも２つのノズル１１８から、被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。このため、それぞれの着弾位置からＸ軸方向に一つ一つの液滴が塗れ広がる範囲が小さくて済む。この結果、吐出されたカラーフィルタ材料１１１Ｒが被吐出部１８Ｒ上で塗れ広がる速度が遅くても、吐出されたカラーフィルタ材料１１１Ｒによって被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内が覆われる。被吐出部１８ＲのＹ座標範囲内では、複数回吐出動作を行っているので被吐出部１８ＲのＹ座標範囲内も、吐出されたカラーフィルタ材料１１１Ｒによって充分に覆われる。
【００８９】
さらに、１つの被吐出部１８に対して、８つのノズル１１８（すなわち８つの吐出部１２７）からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出している。このため、ノズル間の吐出量のバラツキが、カラーフィルタ層１１１ＦＲの体積のバラツキとして現れにくい。１つの被吐出部１８Ｒの塗布走査により多くのノズルが寄与すればするほど、ノズルからの吐出量における誤差が相殺される可能性が高くなるからである。
【００９０】
このようにして、１つの被吐出部１８Ｒに対する塗布走査が完了する。そして、他の被吐出部１８Ｒについても、図１５から図１９を参照しながら説明した方法と同じ方法で塗布走査することで、基板１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒが塗布される。
【００９１】
なお、上記例では４回の工程に分けて塗布したが、この工程においても２回の走査（工程）としても良い。すなわち、図１５、図１６にあるように画素の一つの辺に沿って（すなわちＸ１に沿って）描画を行い、次の工程を図１９にあるように画素の他の辺（前記一つの辺と対向する辺）に沿って描画を行うのである。当然のことながら、６回、８回というように複数回行うことも可能である。その際、基本的に辺に沿って、且つ辺の付近に液滴を塗布するように描画を行えばよい。
【００９２】
このような描画方法を採用することにより、画素の周辺、角部へ液滴が広がりやすくなり、画素全体にわたって均一に液滴を塗布することが可能となる。特に、長方形の画素も当然のことながら、凸部があるような形状の画素に特に有効である。例えば、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）に対応する部分が除かれた形状のカラーフィルタに有効である。
【００９３】
また、画素の中心部に対し液滴を塗布するのではなく、辺に沿って、辺（もしくはバンク、隔壁）の付近を描画することにより、画素の周辺、角部への広がりを良くする、という効果も得られる。
【００９４】
更に、塗布に関しては、画素の辺に当たる部分はバンクに相当するため、（1）バンクと画素の中心部（もしくは中心線）との間で、バンクに当たらないように描画する方法、（2）バンクに液滴を当てるように描画する方法、を条件に応じて適用することができる。これは、液滴の特性にもより、例えば液滴の濡れ性、広がり特性にも応じて変わってくるが、広がりが良い液を用いる場合は、（1）の方式により描画が可能である。広がりが悪い場合には、（2）のような方法が適当である。
【００９５】
更には、Ｘ１に沿っての描画を行い、次にＸ４の描画を行い、続いて、Ｘ１に沿っての描画を再度行い、最後にＸ４に沿っての描画を再度行うことも可能である。Ｘ１，Ｘ４の２度目の描画は、図１６、１９にあるように、最初の液滴を塗布した位置の間にしても良いし、同じ位置であっても良い。いずれにしても、画素の周辺、もしくはバンク付近に塗布するようにすればどのような塗布方法も可能である。また、例えばＸ１を描画するノズルとＸ４を描画するノズルとは異なる方が望ましい。
【００９６】
以上に説明した製法方法、製造装置は、以下に示す例に全て適用できる。また、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程のみを説明した。
【００９７】
以下では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。
【００９８】
まず、以下の手順にしたがって図１の基板１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上工程によって、基板１０Ａが得られる。
【００９９】
なお、バンク１６に代えて、樹脂ブラックからなるバンクを用いても良い。その場合は、金属薄膜（ブラックマトリクス１４）は不要となり、バンク層は、1層のみとなる。
【０１００】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基板１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基板１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂとなる。なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂである。
【０１０１】
被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成された基板１０Ａは、搬送装置１７０によって、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２０（ａ）に示すように、吐出装置１００Ｒは、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。吐出装置１００Ｒのカラーフィルタ材料１１１Ｒの塗布走査の方法は、上記塗布走査（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかの方法である。基板１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基板１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。
【０１０２】
次に搬送装置１７０は、基板１０Ａを吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２０（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｇは、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する。吐出装置１００Ｇのカラーフィルタ材料１１１Ｇの塗布走査の方法は、上記塗布走査（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかの方法である。基板１０Ａの被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基板１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。
【０１０３】
次に搬送装置１７０は、基板１０Ａを吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２０（ｃ）に示すように、吐出装置１００Ｂは、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する。吐出装置１００Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂの塗布走査の方法は、上記塗布走査（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかの方法である。基板１０Ａの被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基板１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。
【０１０４】
次に搬送装置１７０は、基板１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０はフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。
【０１０５】
次に搬送装置１７０は、基板１０Ａを吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜１６が形成されるように、液状の保護膜材料を吐出する。フィルタ層１１１ＦＲ，１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜１６が形成された後に、搬送装置１７０は基板１０Ａをオーブン１５０Ｃ内に位置させる。そして、オーブン１５０Ｃが保護膜１６を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜１６を加熱して完全に硬化することで、基板１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。
【０１０６】
以上まとめると本実施例によると、製造装置１が備える吐出装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂのそれぞれは、Ｘ座標範囲とＹ座標範囲とで決まる被吐出部に液状の材料を塗布する吐出装置である。吐出装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂのそれぞれは、被吐出部１８Ｒの位置を決めるステージ１０６と、材料を吐出可能なノズル１１８Ａを有する第１の吐出部１２７と、材料を吐出可能なノズル１１８Ｂを有する第２の吐出部１２７と、第１の吐出部１２７と第２の吐出部１２７とを保持するキャリッジ１０３と、被吐出部１８に対してノズル１１８Ａおよびノズル１１８Ｂが相対移動するように、ステージ１０６に対してキャリッジ１０３を相対移動させる走査部と、を備えている。ここで、本実施の形態では、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８が走査部の一例である。このような吐出装置１００Ｒ，１００Ｇ、１００Ｂのそれぞれにおいて、ノズル１１８ＡのＸ座標がＸ座標範囲内の第１のＸ座標Ｘ１に一致し続けるようにノズル１１８ＡがＹ軸方向に相対移動する期間内に、第１の吐出部１２７は被吐出部１８Ｒにノズル１１８Ａから材料を吐出する。一方、ノズル１１８ＢのＸ座標がＸ座標範囲内のＸ座標Ｘ２に一致し続けるようにノズル１１８Ｂが前記Ｙ軸方向に相対移動する期間内に、第２の吐出部１２７は前記ノズル１１８Ｂから被吐出部１８Ｒに対して材料を吐出する。
【０１０７】
本実施例によれば、１つの被吐出部のＸ座標範囲内のそれぞれ異なるＸ座標に位置する２つのノズルから、１つの被吐出部に対して液状のカラーフィルタ材料が吐出される。このため、吐出されたカラーフィルタ材料によって１つの被吐出部の全領域が覆われるまでに、それぞれの着弾位置から一つ一つの液滴が塗れ広がる範囲が小さくて済む。この結果、吐出されたカラーフィルタ材料が広がる速度が遅くても、吐出されたカラーフィルタ材料によって被吐出部が完全に覆われる。したがって、被吐出部に均一な層を形成できる製造装置が得られる。
【０１０８】
さらに、１つの被吐出部に対して複数のノズルが液状のカラーフィルタ材料を吐出する。このため、ノズル間の吐出量の不均一さが、それぞれの被吐出部に吐出された最終的なカラーフィルタ材料の体積間の不均一さとして現れる可能性を低下できる。
【実施例２】
【０１０９】
次に、本発明をエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置に適用した例を説明する。  
【０１１０】
図２１（ａ）および（ｂ）に示す基板３０Ａは、後述する製造装置２（図２２）による処理によって、エレクトロルミネッセンス表示装置３０となる基板である。基板３０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。
【０１１１】
具体的には、基板３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。
【０１１２】
回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成されたポリイミドなどの層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図２０（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。
【０１１３】
基板３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、被吐出部３８Ｂに対応する。被吐出部３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＧＢが形成されるべき領域である。
【０１１４】
図２１（ｂ）に示す基板３０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基板３０Ａにおいて、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、および被吐出部３８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部３８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部３８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部３８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【０１１５】
被吐出部３８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部３８Ｇ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＧＸと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＢＸとも同じである。また、被吐出部３８ＲのＸ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部３８Ｇおよび被吐出部３８Ｂも被吐出部３８Ｒと同じ大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔に対応する。
【０１１６】
図２２に示す製造装置２は、図２１の基板３０Ａの被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂのそれぞれに対して、対応する発光材料を吐出する装置である。製造装置２は、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒを塗布する吐出装置２００Ｒと、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇを塗布する吐出装置２００Ｇと、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂを塗布する吐出装置２００Ｂと、被吐出部３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基板３０Ａを搬送する搬送装置２７０も備えている。
【０１１７】
図２３に示す吐出装置２００Ｒは、液状の発光材料２１１Ｒを保持するタンク２０１Ｒと、チューブ２１０Ｒを介してタンク２０１Ｒから発光材料２１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施例１の吐出走査部１０２（図３）の構成と同じであるため、同様な構成要素には同一の参照符号を付けるとともに、重複する説明を省略する。また、吐出装置２００Ｇの構成と吐出装置２００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置２００Ｒにおけるタンク２０１Ｒの代わりに、吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇ用のタンクを備える点で吐出装置２００Ｇの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒの代わりに、吐出装置２００Ｂが発光材料２０１Ｂ用のタンクを備える点で吐出装置２００Ｂの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。
【０１１８】
製造装置２を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法を説明する。まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図２１に示す基板３０Ａを製造する。
【０１１９】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基板３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基板３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）されて、このことで有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。なお、画素電極３６の材質、無機バンク４０の材質、および有機バンク４０の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。
【０１２０】
ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極上３６と、後述の発光層２１１ＲＦ、２１１ＧＦ、２１１ＢＦと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層を設ける場合には、正孔輸送層と、バンク４０と、によって規定された凹部が、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。
【０１２１】
なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂをインクジェット法により形成することも可能である。この場合、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成するための材料を含む溶液を各画素領域ごとに所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層を形成することができる。
【０１２２】
被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成された基板３０Ａは、搬送装置２７０によって、吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２４（ａ）に示すように、吐出装置２００Ｒは、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｒを吐出する。吐出装置２００Ｒが行う発光材料２１１Ｒの塗布走査は、実施例１における塗布走査（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかと同じである。基板３０Ａの被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基板３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。
【０１２３】
次に搬送装置２７０は、基板３０Ａを吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２４（ｂ）に示すように、吐出装置２００Ｇは、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料Ｇを吐出する。吐出装置２００Ｇが行う発光材料２１１Ｇの塗布走査は、実施例１における塗布走査（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかと同じである。基板３０Ａの被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基板３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｇ上の発光材料Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。
【０１２４】
次に搬送装置２７０は、基板３０Ａを吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２４（ｃ）に示すように、吐出装置２００Ｂは、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料Ｂを吐出する。吐出装置２００Ｂが行う発光材料２１１Ｂの塗布走査は、実施例１における塗布走査（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかと同じである。基板３０Ａの被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基板３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。
【０１２５】
図２４（ｄ）に示すように、次に、発光層２１１ＦＲ，２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は陰極として機能する。
その後、封止基板４８と基板３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図２４（ｄ）に示すエレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。なお、封止基板４８と基板３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。
【０１２６】
エレクトロルミネッセンス表示装置５０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、画素電極３６と、回路素子層３４と、支持基板３２と、を介して射出する。このように回路素子層３４を介して光を射出するエレクトロルミネッセンス表示装置は、ボトムエミッション型の表示装置と呼ばれる。
【０１２７】
本実施例によれば、１つの被吐出部のＸ座標範囲内のそれぞれ異なるＸ座標に位置する２つのノズルから、１つの被吐出部に対して液状の発光材料が吐出される。このため、吐出された発光材料によって１つの被吐出部の全領域が覆われるまでに、それぞれの着弾位置から一つ一つの液滴が塗れ広がる範囲が小さくて済む。この結果、吐出された発光材料が広がる速度が遅くても、吐出された発光材料によって被吐出部が完全に覆われる。したがって、被吐出部に均一な層を形成できる製造装置が得られる。
【０１２８】
さらに、１つの被吐出部に対して複数のノズルが液状の発光材料を吐出する。このため、ノズル間の吐出量の不均一さが、それぞれの被吐出部に吐出された最終的な発光材料の体積間の不均一さとして現れる可能性を低下できる。
【実施例３】
【０１２９】
本発明をプラズマ表示装置の背面基板の製造装置に適用した例を説明する。図２５（ａ）および（ｂ）に示す基板５０Ａは、後述する製造装置３（図２６）による処理によって、プラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる基板である。基板５０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂを有する。
【０１３０】
具体的には、基板５０Ａは、支持基板５２と、支持基板５２上にストライプ状に形成された複数のアドレス電極５４と、アドレス電極５４を覆うように形成された誘電体ガラス層５６と、格子状の形状を有するとともに複数の画素領域を規定する隔壁６０と、を含む。複数の画素領域はマトリクス状に位置しており、複数の画素領域が形成するマトリクスの列のそれぞれは、複数のアドレス電極５４のそれぞれに対応する。このような基板５０Ａは、公知のスクリーン印刷技術で形成される。
【０１３１】
基板５０Ａのそれぞれの画素領域において、誘電体ガラス層５６およびバンクによって規定される凹部が、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、被吐出部５８Ｂに対応する。被吐出部５８Ｒは、赤の波長域の光線を蛍光する蛍光層３１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｇは、緑の波長域の光線を蛍光する蛍光層３１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｂは、青の波長域の光線を蛍光する蛍光層３１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【０１３２】
図２５（ｂ）に示す基板５０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基板５０Ａにおいて、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、および被吐出部５８Ｂは、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部５８Ｒ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部５８Ｇ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部５８Ｂ同士はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【０１３３】
被吐出部５８Ｒ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部５８Ｇ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＧＸと同じであり、被吐出部５８Ｂ同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＢＸとも同じである。また、被吐出部５８ＲのＸ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部５８Ｇおよび被吐出部５８Ｂも被吐出部５８Ｒと同じ大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔に対応する。
【０１３４】
図２６に示す製造装置３は、図２５の基板５０Ａの被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂのそれぞれに対して、対応する蛍光材料を吐出する装置である。製造装置３は、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒを塗布する吐出装置３００Ｒと、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを乾燥させる乾燥装置３５０Ｒと、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料Ｇを塗布する吐出装置３００Ｇと、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料Ｇを乾燥させる乾燥装置３５０Ｇと、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂを塗布する吐出装置３００Ｂと、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置３５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置３は、吐出装置３００Ｒ、乾燥装置３５０Ｒ、吐出装置３００Ｇ、乾燥装置３５０Ｇ、吐出装置３００Ｂ、乾燥装置３５０Ｂの順番に基板５０Ａを搬送する搬送装置３７０も備えている。
【０１３５】
図２７に示す吐出装置３００Ｒは、液状の蛍光材料３１１Ｒを保持するタンク３０１Ｒと、チューブ３１０Ｒを介してタンク３０１Ｒからカラーフィルタ材料が供給される吐出走査部３０２と、を備える。この点を除いて、本実施例の吐出走査部３０２は、実施例１の吐出走査部１０２（図３）と基本的に同じである。
【０１３６】
吐出装置３００Ｇの構成と吐出装置３００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置３００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置３００Ｒにおけるタンク３０１Ｒに代わりに、吐出装置３００Ｇが蛍光材料３１１Ｇ用のタンクを備える点で吐出装置３００Ｇの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク３０１Ｒに代えて、吐出装置３００Ｂが蛍光材料３１１Ｂ用のタンクを備える点で吐出装置３００Ｂの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。
【０１３７】
製造装置３を用いたプラズマ表示装置の製造方法を説明する。まず、公知のスクリーン印刷技術によって、支持基板５２上に、複数のアドレス電極５４と、誘電体ガラス層５６と、隔壁６０と、を形成して、図２５に示す基板５０Ａを得る。
【０１３８】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基板５０Ａを親液化する。この処理によって、隔壁６０および誘電体ガラス層５６によって規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）の隔壁６０の表面、誘電体ガラス層５６の表面が、親液性を呈し、これらの表面が被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂとなる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、隔壁６０と、誘電体ガラス層５６と、によって規定された凹部の表面は、被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂである。
【０１３９】
被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成された基板５０Ａは、搬送装置３７０によって、吐出装置３００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２８（ａ）に示すように、吐出装置３００Ｒは、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料の層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｒを吐出する。吐出装置３００Ｒの行う蛍光材料３１１Ｒの塗布走査は、実施例１における塗布走査（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかと同じである。基板５０Ａの被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基板５０Ａを乾燥装置３５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｒ上に蛍光層３１１ＦＲを得る。
【０１４０】
次に搬送装置３７０は、基板５０Ａを吐出装置３００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２８（ｂ）に示すように、吐出装置３００Ｇは、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｇを吐出する。吐出装置３００Ｇが行う蛍光材料３１１Ｇの塗布走査は、実施例１における塗布走査（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかと同じである。基板５０Ａの被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基板５０Ａを乾燥装置３５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｇ上に蛍光層３１１ＦＧを得る。
【０１４１】
次に搬送装置３７０は、基板５０Ａを吐出装置３００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２８（ｃ）に示すように、吐出装置３００Ｂは、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料Ｂを吐出する。吐出装置３００Ｂが行う蛍光材料３１１Ｂの塗布走査は、実施例１における塗布走査（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかと同じである。基板５０Ａの被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基板５０Ａを乾燥装置３５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｂ上に蛍光層３１１ＦＢを得る。
【０１４２】
以上の工程によって、基板５０Ａはプラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる。
【０１４３】
次に図２９に示すように、背面基板５０Ｂと、前面基板５０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせてプラズマ表示装置５０が得られる。前面基板５０Ｃは、ガラス基板６８と、ガラス基板６８上で互いに平行にパターニングされた表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂと、表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂとを覆うように形成された誘電体ガラス層６４と、誘電体ガラス層６４上に形成されたＭｇＯ保護層６２と、を有する。背面基板５０Ｂと前面基板５０Ｃとは、背面基板５０Ｂのアドレス電極５４と、前面基板５０Ｃの表示電極６６Ａ・表示スキャン電極６６Ｂとが、互いに直交するように位置合わせされている。各隔壁６０で囲まれるセル（画素領域）には、所定の圧力で放電ガス６９が封入されている。
【０１４４】
本実施例によれば、１つの被吐出部のＸ座標範囲内のそれぞれ異なるＸ座標に位置する２つのノズルから、１つの被吐出部に対して液状の蛍光材料が吐出される。このため、吐出された蛍光材料によって１つの被吐出部の全領域が覆われるまでに、それぞれの着弾位置から一つ一つの液滴が塗れ広がる範囲が小さくて済む。この結果、吐出された蛍光材料が広がる速度が遅くても、吐出された蛍光材料によって被吐出部が完全に覆われる。したがって、被吐出部に均一な層を形成できる製造装置が得られる。
【０１４５】
さらに、１つの被吐出部に対して複数のノズルが液状の蛍光材料を吐出する。このため、ノズル間の吐出量の不均一さが、それぞれの被吐出部に吐出された最終的な蛍光材料の体積間の不均一さとして現れる可能性を低下できる。
【実施例４】
【０１４６】
次に本発明を、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置に適用した例を説明する。
【０１４７】
図３３（ａ）および（ｂ）に示す基板７０Ａは、後述する製造装置３（図３４）による処理によって、画像表示装置の電子源基板７０Ｂとなる基板である。基板７０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部７８を有する。
【０１４８】
具体的には、基板７０Ａは、基体７２と、基体７２上に位置するナトリウム拡散防止層７４と、ナトリウム拡散防止層７４上に位置する複数の素子電極７６Ａ、７６Ｂと、複数の素子電極７６Ａ上に位置する複数の金属配線７９Ａと、複数の素子電極７６Ｂ上に位置する複数の金属配線７９Ｂと、を備えている。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＹ軸方向に延びる形状を有する。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＸ軸方向に延びる形状を有する。金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとの間には絶縁膜７５が形成されているので、金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとは電気的に絶縁されている。
【０１４９】
１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを含む部分は１つの画素領域に対応する。
１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂは、互いに所定の間隔だけ離れてナトリウム拡散防止層７４上で対向している。ある画素領域に対応する素子電極７６Ａは、対応する金属配線７９Ａと電気的に接続されている。また、その画素領域に対応する素子電極７６Ｂは、対応する金属配線７９Ｂと電気的に接続されている。なお、本明細書では、基体７２とナトリウム拡散防止層７４とを合わせた部分を支持基板と表記することもある。
【０１５０】
基板７０Ａのそれぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４とが、被吐出部７８に対応する。より具体的には、被吐出部７８は、導電性薄膜４１１Ｆ（図３７）が形成されるべき領域であり、導電性薄膜４１１Ｆは、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａ，７６Ｂの間のギャップとを覆うように形成される。図３３（ｂ）において点線で示すように、本実施例における被吐出部７８の形状は円形である。このように、本発明のＸ座標範囲とＹ座標範囲で決まる被吐出部の形状は矩形に限定されず、本実施例において説明するような円形でも構わない。
【０１５１】
図３３（ｂ）に示す基板７０Ａは、Ｘ軸方向およびＹ軸方向で規定される仮想平面と平行に位置している。そして、複数の被吐出部７８が形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基板７０Ａにおいて、被吐出部７８は、Ｘ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。さらに、被吐出部７８はＹ軸方向に所定の間隔をおいて１列に並んでいる。
【０１５２】
被吐出部７８同士のＸ軸方向に沿った間隔ＬＲＸは、ほぼ１９０μｍである。また、被吐出部７８ＲのＸ軸方向の長さ（Ｘ座標範囲の長さ）はほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さ（Ｙ座標範囲の長さ）もほぼ１００μｍである。被吐出部７８同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、画素領域同士の間隔に対応する。
【０１５３】
図３４に示す製造装置４は、図３３の基板７０Ａの被吐出部７８のそれぞれに対して、導電性薄膜材料４１１を吐出する装置である。製造装置４は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１を塗布する吐出装置４００と、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を乾燥させる乾燥装置４５０と、を備えている。さらに製造装置４は、吐出装置４００、乾燥装置４５０の順番に基板７０Ａを搬送する搬送装置４７０も備えている。
【０１５４】
図３５に示す吐出装置４００は、液状の導電性薄膜材料４１１を保持するタンク４０１と、チューブ４１０と、チューブ４１０を介してタンク４０１Ｒからカラーフィルタ材料が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の説明は、実施例１で説明したため省略する。なお、本実施例では、液状の導電性薄膜材料４１１は有機パラジウム溶液である。
【０１５５】
製造装置４を用いた画像表示装置の製造方法を説明する。まず、ソーダガラスなどから形成された基体７２上に、ＳｉＯ２を主成分とするナトリウム拡散防止層７４を形成する。具体的には、スパッタ法を用いて基体７２上に厚さ１μｍのＳｉＯ２膜を形成することによってナトリウム拡散防止層７４を得る。次に、ナトリウム拡散防止層７４上に、スパッタ法または真空蒸着法によって厚さ５ｎｍのチタニウム層を形成する。そして、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、そのチタニウム層から、互いに所定の距離だけ離れて位置する１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを複数対形成する。その後、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ａ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｙ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ａを形成する。次に、スクリーン印刷技術を用いて、各金属配線７９Ａの一部分にガラスペーストを塗布して焼成することで、絶縁膜７５を形成する。そして、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ｂ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｘ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ｂを形成する。なお、金属配線７９Ｂを作製する場合には、金属配線７９Ｂが絶縁膜７５を介して金属配線７９Ａと交差するようにＡｇペーストを塗布する。以上のような工程によって、図３３に示す基板７０Ａを得る。
【０１５６】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基板７０Ａを親液化する。この処理によって、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出した支持基板の表面とは、親液化される。そして、これらの表面が被吐出部７８となる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４の表面とは、被吐出部７８となる。
【０１５７】
被吐出部７８が形成された基板７０Ａは、搬送装置４７０によって、吐出装置４００のステージ１０６に運ばれる。そして、図３６に示すように、吐出装置４００は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜４１１Ｆが形成されるように、ヘッド１１４から導電性薄膜材料４１１を吐出する。吐出装置４００の行う導電性薄膜材料４１１の塗布走査は、実施例１における塗布走査（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかと同じである。本実施例では、被吐出部７８上に着弾した導電性薄膜材料４１１の液滴の直径が６０μｍから８０μｍの範囲となるように、制御部１１２はヘッド１１４に信号を与える。基板７０Ａの被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１の層が形成された場合には、搬送装置４７０が基板７０Ａを乾燥装置４５０内に位置させる。そして、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を完全に乾燥させることで、被吐出部７８上に酸化パラジウムを主成分とする導電性薄膜４１１Ｆを得る。このように、それぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間に露出したナトリウム拡散防止層７４と、を覆う導電性薄膜４１１Ｆが形成される。
【０１５８】
次に素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間に、パルス状の所定の電圧を印加することで、導電性薄膜４１１Ｆの一部分に電子放出部４１１Ｄを形成する。なお、素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間の電圧の印加を、有機物雰囲気下および真空条件下でもそれぞれ行うことが好ましい。そうすれば、電子放出部４１１Ｄからの電子放出効率がより高くなるからである。素子電極７６Ａと、対応する素子電極７６Ｂと、電子放出部４１１Ｄが設けられた導電性薄膜４１１Ｆと、は電子放出素子である。また、それぞれの電子放出素子は、それぞれの画素領域に対応する。
【０１５９】
以上の工程によって、図３７に示すように、基板７０Ａは電子源基板７０Ｂとなる。
【０１６０】
次に図３８に示すように、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせて画像表装置７０が得られる。前面基板７０Ｃは、ガラス基板８２と、ガラス基板８２上にマトリクス状に位置する複数の蛍光部８４と、複数の蛍光部８４を覆うメタルプレート８６と、を有する。メタルプレート８６は、電子放出部４１１Ｄからの電子ビームを加速するための電極として機能する。電子源基板７０Ｂと前面基板７０Ｃとは、複数の電子放出素子のそれぞれが、複数の蛍光部８４のそれぞれに対向するように、位置合わせされている。また、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃとの間は、真空状態に保たれている。
【０１６１】
本実施例によれば、１つの被吐出部のＸ座標範囲内のそれぞれ異なるＸ座標に位置する２つのノズルから、１つの被吐出部に対して液状の導電性薄膜材料が吐出される。このため、吐出された蛍光材料によって１つの被吐出部の全領域が覆われるまでに、それぞれの着弾位置から一つ一つの液滴が塗れ広がる範囲が小さくて済む。この結果、吐出された導電性薄膜材料が広がる速度が遅くても、吐出された導電性薄膜材料によって被吐出部が完全に覆われる。したがって、被吐出部に均一な層を形成できる製造装置が得られる。
【０１６２】
さらに、本実施例によれば、１つの被吐出部に対して複数のノズルが液状の導電性薄膜材料を吐出する。このため、ノズル間の吐出量の不均一さが、それぞれの被吐出部に吐出された最終的な導電性薄膜材料の体積間の不均一さとして現れる可能性を低下できる。
【０１６３】
（実施例１〜４の変形例）
（１）実施例１〜４において、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する被吐出部はマトリクス状に配置されている。しかしながら、図３０に示すように、Ｒ，Ｇ、Ｂに対応する被吐出部がデルタ状（千鳥状）に配置されていても、本発明を適用できる。なお、デルタ配置とは、奇数ラインの被吐出部の並びと、偶数ラインの被吐出部の並びとが、互いに半ピッチずれた配置をいう。ここでいうピッチとは、互いに隣接する２つの被吐出部間の間隔である。例えば、ピッチとは、隣接する被吐出部の中心位置間の距離に等しい。
【０１６４】
具体的には、図３０（ａ）の第１ラインに属する被吐出部Ｒ１、Ｇ１、Ｇ１と、第３ラインに属する被吐出部Ｒ３、Ｇ３、Ｂ３は、図３０（ｂ）に示すように、１つのマトリクスを構成する。同様に、第２ラインに属する被吐出部Ｒ２、Ｇ２、Ｂ２と、第４ラインに属する被吐出部Ｒ４、Ｇ４、Ｂ４は、１つの他のマトリクスを構成する。したがって、実施例１〜４の塗布走査の方法を、奇数ラインに属する被吐出部と、偶数ラインに属する被吐出部とに分けて行えばよい。
【０１６５】
（２）実施例１〜４において、マトリクス状に配置された被吐出部に対して材料を吐出する製造装置を説明した。しかしながら、ストライプ状に配置された被吐出部に対して液状の材料を吐出する製造装置にも本発明を適用できる。そのような製造装置の一例は配線製造装置であり、図３１は、配線製造装置が、プラズマ表示装置における支持基板５２上にアドレス電極５４を形成する場合を示している。配線製造装置は、実施例１〜４において説明された塗布方法（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のいずれかにしたがって、被吐出部８０のそれぞれにヘッド１１４から配線材料を塗布する。複数の被吐出部８０のそれぞれは、Ｙ軸方向に延びるストライプ形状を有する。なお、この配線製造装置における吐出装置は、実施例１において説明した吐出装置１００Ｒの構造と基本的に同じ構造を有している。
【０１６６】
（３）実施例１〜４では、ノズル列方向ＨＸとＸ軸方向とがなす角度ＡＮは０°であった。しかしながら、角度ＡＮは０°に限らず、任意の角度であってよい。具体的には、ノズル１１８同士のＸ軸方向の間隔が、適切な間隔となるように、角度ＡＮの値を適宜設定すればよい。例えば、角度ＡＮを０°より大きい角度にすれば、Ｘ座標範囲の長さが７０μｍよりも短い被吐出部に対しても、１回の走査期間内に２つのノズルから材料を吐出することができる。角度ＡＮを０°以外の角度にすることによって、ノズル列の方向がＸ軸方向と平行でなくなり、この結果、互いの間の距離が最も短い２つのノズル１１８のＸ軸方向の間隔が７０μｍより短くなるからである。なお、角度ＡＮの値を適切な値にするためには、キャリッジ１０３に対するヘッドの相対角度を変更すればよい。
【０１６７】
（４）実施例１〜４では、キャリッジがＹ軸方向に沿って走査範囲の一端Ｅ１から他端Ｅ２まで相対走査を１回する期間内（すなわち１回の走査期間内）に、全てのノズルから材料が吐出されなくてもよい。つまり、１回の走査期間内に、吐出動作を行わないノズルが存在してもよい。このようなノズルを非吐出ノズルと表記する。しかしながら、この場合には、１回の走査期間に亘って、非吐出ノズルに対応するキャビティ内の材料に振動を与えることが好ましい。キャビティ内の材料に振動を与える構成の具体例は以下の通りである。
【０１６８】
まず、ピエゾ素子に印加する電圧（すなわち印加電圧）の最大値と最小値との差が所定値ＳＡＢを超える場合に、対応したノズルから液状の材料が吐出されるとする。例えば、図３２（ａ）に示すように、ノズルが被吐出部に対応した領域に侵入する場合には、互いに極性が逆のＴＡおよびＴＢの間で印加電圧を変化させる。具体的には、１つの液滴を吐出する場合に、印加電圧を、期間Ｐ１１の間に０からＴＡに変化させ、期間Ｐ１１に引き続く期間Ｐ１２の間でＴＡからＴＢに変化させ、期間Ｐ１２に引き続く期間Ｐ１３の間に０に戻し、期間Ｐ１３に続く期間Ｐ１４の間０に維持する。ＴＡおよびＴＢは、それぞれ印加電圧の最大値および最小値である。そして、ＴＡとＴＢとの差ＴＡＢは所定値ＳＡＢよりも大きい。時間軸に沿ってこのような波形パターンを有する印加電圧を、あるノズルに対応するピエゾ素子に与えることで、そのノズルから液状の材料が吐出される。図３２（ａ）に示す例では、期間１１、Ｐ１２、Ｐ１３、Ｐ１４からなる波形パターンが１つの液滴の吐出に対応する。また、図３２（ａ）では、この波形パターンが３つ隣接している。
【０１６９】
一方、非吐出ノズルに対応するピエゾ素子に印加する電圧（すなわち印加電圧）の最大値と最小値との差は、図３２（ｂ）に示すように、所定値ＳＡＢ以下である。図３２（ｂ）に示す例では、互いに極性が逆であるＲＡとＲＢとの間で印加電圧を変化させる。より具体的には、印加電圧を、期間Ｐ２１の間に０からＲＡに変化させ、期間Ｐ２１に引き続く期間Ｐ２２の間でＲＡからＲＢに変化させ、期間Ｐ２２に引き続く期間Ｐ２３の間に０に戻す。そして、期間Ｐ２１、Ｐ２２、Ｐ２３を含む波形パターン（印加電圧）を所定の周期でピエゾ素子に与える。ＲＡおよびＲＢは、それぞれ印加電圧の最大値および最小値である。そして、ＲＡとＲＢとの差は所定値ＳＡＢ以下である。なお、本明細書では、所定値ＳＡＢを「非吐出電圧差」と表記することもある。
【０１７０】
最大値と最小値との差が所定値ＳＡＢ以下となるように変化する印加電圧によってピエゾ素子は振動するが、しかしながら、その振動によって材料は吐出されない。本明細書では、ノズルから材料を吐出させない程度の振動を「非吐出振動」と表記することもある。
非吐出ノズルに対応するピエゾ素子が非吐出振動をすることで、非吐出ノズルに対応するキャビティ内に充填された液状の材料が、その振動を受けてキャビティ内で対流する。液状の材料が対流すると、大気に触れている面の材料が常に流動するので、液状の材料から溶媒が気化することを防止できる。そして、溶媒の気化を防げるため、液状の材料の粘性が増加することを防止でき、このため非吐出ノズルが、次の走査期間に材料を吐出すべきノズルになる場合に、このノズルからの吐出不良を防止できる。なお、印加電圧の最大値および最小値の差を所定値以下にする以外にも、波形パターンの周波数を変えることでも非吐出振動を実現できるし、最大値・最小値の差および周波数の双方を調整することでも非吐出振動を実現できる。
【０１７１】
キャリッジがＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を１回する期間内（つまり１回の走査期間内）にノズルが材料を複数回吐出する場合には、吐出のタイミング間にそのノズルに対応するピエゾ素子に非吐出振動をさせてもよい。そうすれば、そのノズルからの材料の吐出がより安定する。
【０１７２】
（５）実施例１〜４の吐出装置において、キャリッジがＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査する前に毎回、キャリッジを走査範囲の外側の所定位置に移動させて、ノズルから材料を吐出してもよい。そうすれば、たとえ何らかの理由でノズルからの材料の吐出量が規定の吐出量よりも少なくなった場合でも、その位置で吐出動作を続ければ規定の吐出量が回復する可能性が高いからである。本明細書では、このような走査範囲外での吐出動作を「予備吐出」と表記することもある。予備吐出を行うことで、キャリッジがＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで新たに相対走査する前に、ノズルから材料が安定して吐出されるようになる。予備吐出は、予備吐出の工程に引き続いて行われる塗布走査の工程において材料を吐出すべきノズルとなるノズルに対してのみ行ってもよいし、キャリッジにおけるすべてのノズルに対して行ってもよい。また、予備吐出は、キャリッジがＹ軸方向に沿って走査範囲の一端から他端まで相対走査を１回する毎に行ってもよいし、複数回毎に行ってもよい。
【０１７３】
（６）実施例１〜３において説明した被吐出部の形状は矩形である。被吐出部が矩形である場合には、矩形の四隅に材料が広がらないこともある。このような場合には、実施例１〜３に示した着弾位置に加えて、矩形の四隅にそれぞれ着弾位置を設定してもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１７４】
【図１】（ａ）および（ｂ）は実施例１の基板の断面および平面をそれぞれ示す模式図。
【図２】実施例１の製造装置を示す模式図。
【図３】実施例１の吐出装置を示す模式図。
【図４】実施例１のキャリッジを示す模式図。
【図５】実施例１のヘッドを示す模式図。
【図６】（ａ）および（ｂ）は図５のヘッドにおける吐出部を示す模式図。
【図７】吐出装置における制御部を示す模式図。
【図８】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図９】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図１０】走査範囲を示す模式図。
【図１１】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図１２】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図１３】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図１４】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図１５】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図１６】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図１７】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図１８】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図１９】実施例１の塗布走査を示す模式図。
【図２０】（ａ）〜（ｄ）は実施例１の製造方法を示す模式図。
【図２１】（ａ）および（ｂ）は実施例２の基板の断面および平面をそれぞれ示す模式図。
【図２２】実施例２の製造装置を示す模式図。
【図２３】実施例２の吐出装置を示す模式図。
【図２４】（ａ）〜（ｄ）は実施例２の製造方法を示す模式図。
【図２５】（ａ）および（ｂ）は実施例３の基板の断面および平面をそれぞれ示す模式図。
【図２６】実施例３の製造装置を示す模式図。
【図２７】実施例３の吐出装置を示す模式図。
【図２８】（ａ）〜（ｃ）は実施例３の製造方法を示す模式図。
【図２９】実施例３の製造方法を示す模式図。
【図３０】（ａ）および（ｂ）は被吐出部の他の配列の例を示す模式図。
【図３１】（ａ）〜（ｃ）は配線製造装置が配線を製造する様子を示す図。
【図３２】（ａ）はノズルから液状の材料を吐出するための駆動波形を示す模式図であり、（ｂ）は被吐出振動を起こす駆動波形を示す模式図。
【図３３】（ａ）および（ｂ）は実施例４の基板の断面および平面をそれぞれ示す模式図。
【図３４】実施例４の製造装置を示す模式図。
【図３５】実施例４の吐出装置を示す模式図。
【図３６】実施例４の製造方法を示す模式図。
【図３７】実施例４の電子源基板を示す模式図。
【図３８】実施例４の製造装置によって製造される表示装置を示す模式図。
【符号の説明】
【０１７５】
１、２、３、４…製造装置、１０Ａ、３０Ａ、５０Ａ、７０Ａ…基板、１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂ、３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂ、５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂ、７８Ｒ、７８Ｇ、７８Ｂ…被吐出部、１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ…吐出装置、１０２…吐出走査部、１０３…キャリッジ、１０４…第１位置制御装置、１０８…第２位置制御装置、１０６…ステージ１０６、１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｇ…カラーフィルタ材料、１１２…制御部、１１４…ヘッド、１１６…ノズル列、１１８…ノズル、１２０…キャビティ１２０、１２４…振動子、１２７…吐出部、１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂ…乾燥装置、２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂ…吐出装置、２００…入力バッファメモリ、２０２…記憶手段、２０４…処理部、２０６…走査ドライバ、２０８…ヘッドドライバ、２１１Ｒ、２１１Ｇ、２１１Ｂ…発光材料、２５０Ｒ、２５０Ｇ、２５０Ｂ…乾燥装置、２７０…搬送装置、３１１Ｒ、３１１Ｇ、３１１Ｂ…蛍光材料、３００Ｒ、３００Ｇ、３００Ｂ…吐出装置、３５０Ｒ、３５０Ｇ，３５０Ｂ…乾燥装置、３７０…搬送装置、４１１…導電性薄膜材料、４００…吐出装置、４５０…乾燥装置、４７０…搬送装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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