(57)【要約】【課題】  本発明は、製造工程が簡潔であり、脆性パターンの目視が不可能であるホログラム脆性シールおよびその製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】  上記目的を達成するために、本発明は、基材と、上記基材上に形成された剥離層と、上記剥離層上に形成されたホログラム層と、上記ホログラム層上に形成された反射層と、上記反射層上に形成された接着層とを有するホログラム脆性シールであって、上記剥離層および上記ホログラム層は、上記基材と上記剥離層との接着強度が強い接着部と、上記基材と上記剥離層との接着強度が弱い剥離部とを有し、上記接着部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みが、上記剥離部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みより薄いことを特徴とするホログラム脆性シールを提供する。【選択図】      図１
2005106857.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上に形成された剥離層と、前記剥離層上に形成されたホログラム層と、前記ホログラム層上に形成された反射層と、前記反射層上に形成された接着層とを有するホログラム脆性シールであって、
前記剥離層および前記ホログラム層は、前記基材と前記剥離層との接着強度が強い接着部と、前記基材と前記剥離層との接着強度が弱い剥離部とを有し、
前記接着部における前記剥離層および前記ホログラム層の総厚みが、前記剥離部における前記剥離層および前記ホログラム層の総厚みより薄いことを特徴とするホログラム脆性シール。
【請求項２】
前記接着部における前記剥離層および前記ホログラム層の総厚みが３．５μｍ以下であり、前記剥離部における前記剥離層および前記ホログラム層の総厚みが４．０μｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載のホログラム脆性シール。
【請求項３】
前記接着部における前記剥離層の厚みが、前記剥離部における前記剥離層の厚みより薄いことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のホログラム脆性シール。
【請求項４】
前記接着部における前記ホログラム層の厚みが、前記剥離部における前記ホログラム層の厚みより薄いことを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のホログラム脆性シール。
【請求項５】
基材上に剥離層を形成する剥離層形成工程と、前記剥離層上にホログラム層を形成するホログラム層形成工程と、前記ホログラム層上に反射層を形成する反射層形成工程と、前記反射層上に接着層を形成する接着層形成工程とを有するホログラム脆性シールの製造方法であって、
前記剥離層形成工程および前記ホログラム層形成工程において、前記剥離層および前記ホログラム層は、接着部における前記剥離層および前記ホログラム層の総厚みが、剥離部における前記剥離層および前記ホログラム層の総厚みより薄くなるように形成されており、
前記接着部における前記剥離層と前記基材との接着強度が、前記剥離部における前記剥離層と前記基材との接着強度より大きくなるような接着強度調整処理が行われることを特徴とするホログラム脆性シールの製造方法。
【請求項６】
前記接着部における前記剥離層および前記ホログラム層の総厚みが３．５μｍ以下となり、前記剥離部における前記剥離層および前記ホログラム層の総厚みが４．０μｍ以上となるように形成されることを特徴とする請求項５に記載のホログラム脆性シールの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラムの貼り換え等の偽造を防止するホログラム脆性シールに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ホログラムは、波長の等しい二つの光（物体光と参照光）を干渉させて物体光の波面を干渉縞として感光材料に記録したものである。このホログラムに元の参照光と同一条件の光を当てると干渉縞による回折現象が生じ、元の物体光と同一の波面が再生できる。
【０００３】
近年、ホログラムは、その同一意匠の複製が困難である特性を利用してセキュリティ用途に多く利用されており、例えばプラスチックカード、携帯電話、金券、日用品またはＣＤ−ＲＯＭのパッケージ等の一部に貼り付けるラベルやシールとして使用されている。
【０００４】
このようなホログラムのシールには、物品に貼り付けた後に悪用されないように、剥がそうとすると破壊する脆性シールがある。この脆性シールは、一般的に、基材、剥離層、ホログラム層、反射層、および接着層が順次積層された構成となっている。
【０００５】
例えば特許文献１または特許文献２には、上記の層構成の他に脆性層を設けることにより、ホログラム層自体を完全に破壊する脆性シールが開示されている。特許文献１に開示されている脆性シールの構成は、図７に示すように、基材１１、剥離層１２、ホログラム層１３、反射層１４、パターン状の脆性層１５、および接着層１６が順次積層されたものとなっており、反射層１４および脆性層１５間の接着強度が弱くなるように設計されている。この脆性シールを、図８に示すように、被着体１７に貼り付けた後に剥がすと、反射層１４および脆性層１５間の接着強度が弱いために、脆性層１５が設けられているところでは反射層１４と脆性層１５との間で剥がれ、脆性層１５が設けられていないところでは基材１１と剥離層１２とが剥がれてしまう。このようにして、脆性シールがパターン状の脆性層に沿って上下に破壊する。このような脆性シールは、剥がすと脆性層のパターンに沿って破壊されるため、他の被着体に転用することは困難であり、また、その脆性パターンにより真偽を確かめることもできる。
【０００６】
しかしながら、上記のような脆性シールは、パターン状に脆性層を設ける必要があり、製造工程が複雑になるだけでなく、脆性層の形成材料が他の層と異なるために、脆性シールを剥がす前に脆性パターンが目視可能であるという問題がある。
【０００７】
また、特許文献３には、基材、ホログラム層、反射層、および接着層が順次積層されている脆性シールであって、基材上にパターン状に表面処理を行うことにより、表面処理を行った処理部分と、表面処理を行わない非処理部分とでは、剥離強度が異なることを利用した脆性シールが開示されている。この脆性シールは、剥がすと表面処理のパターンに沿って破壊されるようになっている。このような脆性シールは、基材の表面処理により部分的に剥離強度を調整しているため、脆性パターンの目視が困難となり不正防止効果を向上させることができる。
【０００８】
しかしながら、上記のような脆性シールにおいても、基材上にパターン状に表面処理を行う必要があり、製造工程が増えるという問題がある。
【０００９】
【特許文献１】特開平８−１５２８４２号公報
【特許文献２】特開２０００−１０４５８号公報
【特許文献３】特開平９−２４４５１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、製造工程が簡潔であり、脆性パターンの目視が不可能であるホログラム脆性シールおよびその製造方法を提供することを主目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明は、基材と、上記基材上に形成された剥離層と、上記剥離層上に形成されたホログラム層と、上記ホログラム層上に形成された反射層と、上記反射層上に形成された接着層とを有するホログラム脆性シールであって、
上記剥離層および上記ホログラム層は、上記基材と上記剥離層との接着強度が強い接着部と、上記基材と上記剥離層との接着強度が弱い剥離部とを有し、
上記接着部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みが、上記剥離部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みより薄いことを特徴とするホログラム脆性シールを提供する。
【００１２】
本発明によれば、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みより薄いことにより、反射層を形成する際の熱またはホログラム層を形成する際の電離放射線の照射によって、上記総厚みの薄い接着部における剥離層が劣化または変質するため、剥離層と基材との接着力が向上する。したがって、本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けて剥がした場合、接着部では基材と剥離層との接着強度が強いために被着体と接着層との間で剥がれ、剥離部では基材と剥離層との接着強度が弱いために基材と剥離層との間で剥がれることにより、ホログラム層が部分的に破壊されるため、偽造防止効果を有するホログラム脆性シールとすることができる。また、剥離層およびホログラム層の総厚みを制御することにより、容易に脆性パターンを形成することができるため、製造工程が簡潔であるという利点を有する。さらに、脆性パターンの目視が不可能であることから、偽造防止効果が高いという利点も有する。
【００１３】
また、上記発明においては、上記接着部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みが３．５μｍ以下であり、上記剥離部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みが４．０μｍ以上であることが好ましい。上記接着部および上記剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、上述した範囲であることにより、接着部における剥離層のみを、反射層を形成する際の熱またはホログラム層を形成する際の電離放射線の照射により、効果的に劣化または変質させることができるため、接着部における剥離層と基材との接着力を向上させ、剥離部における剥離層と基材との接着力が向上することを抑制することができるからである。
【００１４】
さらに、上記発明においては、上記接着部における上記剥離層の厚みが、上記剥離部における前記剥離層の厚みより薄くてもよく、上記接着部における上記ホログラム層の厚みが、上記剥離部における上記ホログラム層の厚みより薄くてもよい。本発明によれば、剥離層およびホログラム層の総厚みを調整することにより、剥離層と基材との接着強度を制御することができるため、剥離層またはホログラム層の少なくともいずれか一方の厚みが調整されていればよいからである。
【００１５】
本発明は、また、基材上に剥離層を形成する剥離層形成工程と、上記剥離層上にホログラム層を形成するホログラム層形成工程と、上記ホログラム層上に反射層を形成する反射層形成工程と、上記反射層上に接着層を形成する接着層形成工程とを有するホログラム脆性シールの製造方法であって、
上記剥離層形成工程および上記ホログラム層形成工程において、上記剥離層および上記ホログラム層は、接着部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みが、剥離部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みより薄くなるように形成されており、
上記接着部における上記剥離層と上記基材との接着強度が、上記剥離部における上記剥離層と上記基材との接着強度より大きくなるような接着強度調整処理が行われることを特徴とするホログラム脆性シールの製造方法を提供する。
【００１６】
本発明によれば、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みより薄くなるように形成されることにより、反射層形成工程における反射層を形成する際の熱、またはホログラム層形成工程におけるホログラム層を形成する際の電離放射線の照射によって、上記総厚みの薄い接着部における剥離層が劣化または変質するため、剥離層と基材との接着力が向上する。したがって、本発明により製造されたホログラム脆性シールを被着体に貼り付けて剥がした場合、接着部では基材と剥離層との接着強度が強いために被着体と接着層との間で剥がれ、剥離部では基材と剥離層との接着強度が弱いために基材と剥離層との間で剥がれることにより、ホログラム層が部分的に破壊されるため、偽造防止効果を有するホログラム脆性シールとすることができる。また、剥離層およびホログラム層の総厚みを制御することにより、容易に脆性パターンを形成することができるため、製造工程が簡潔であるという利点を有する。さらに、脆性パターンの目視が不可能であることから、偽造防止効果が高いという利点も有する。
【００１７】
また、本発明においては、上記接着部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みが３．５μｍ以下となり、上記剥離部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みが４．０μｍ以上となるように形成されることが好ましい。上記接着部および上記剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、上述した範囲であることにより、接着部における剥離層のみを、反射層を形成する際の熱またはホログラム層を形成する際の電離放射線の照射により、効果的に劣化または変質させることができるため、接着部における剥離層と基材との接着力を向上させ、剥離部における剥離層と基材との接着力が向上することを抑制することができるからである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みより薄いことにより、反射層を形成する際の熱またはホログラム層を形成する際の電離放射線の照射によって、接着部における剥離層のみが劣化または変質し、剥離層と基材との接着力が向上することから、剥離層と基材とが部分的に剥離し、ホログラム層を部分的に破壊することが可能なホログラム脆性シールとすることができる。また、剥離層およびホログラム層の総厚みを制御することにより、容易に脆性パターンを形成することができるため、製造工程が簡潔であり、かつ、脆性パターンの目視が不可能であるため、偽造防止効果が高いという利点も有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明のホログラム脆性シールおよびその製造方法について詳細に説明する。
【００２０】
Ａ．ホログラム脆性シール
まず、本発明のホログラム脆性シールについて説明する。
【００２１】
本発明のホログラム脆性シールは、基材と、上記基材上に形成された剥離層と、上記剥離層上に形成されたホログラム層と、上記ホログラム層上に形成された反射層と、上記反射層上に形成された接着層とを有するホログラム脆性シールであって、上記剥離層および上記ホログラム層は、上記基材と上記剥離層との接着強度が強い接着部と、上記基材と上記剥離層との接着強度が弱い剥離部とを有し、上記接着部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みが、上記剥離部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みより薄いことを特徴とするものである。
【００２２】
本発明のホログラム脆性シールについて図面を用いて説明する。図１は、本発明のホログラム脆性シールの一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本発明のホログラム脆性シールは、基材１と、上記基材１上に形成された剥離層２と、上記剥離層２上に形成されたホログラム層３と、上記ホログラム層３上に形成された反射層４と、上記反射層４上に形成された接着層５とを有するものである。また、剥離層２およびホログラム層３は、基材１と剥離層２との接着強度が強い接着部６と、基材１と剥離層２との接着強度が弱い剥離部７とを有しており、接着部６における剥離層２およびホログラム層３の総厚みが、剥離部７における剥離層２およびホログラム層３の総厚みより薄くなっている。
【００２３】
このようなホログラム脆性シールを製造するに際して、反射層を例えば蒸着法により形成する場合、反射層の形成材料から発生される蒸気による熱により、反射層の下に形成されている剥離層が劣化または変質し、基材と剥離層との接着力が上昇してしまう場合がある。この反射層形成時の熱による影響は、剥離層およびホログラム層の厚みに依存すると考えられる。すなわち、剥離層およびホログラム層の厚みが薄いと、反射層の形成材料から発生される蒸気による熱の影響を受けやすく、剥離層は劣化または変質しやすいが、剥離層およびホログラム層の厚みが厚いと、上記の熱による影響を受けにくく、剥離層の劣化または変質を抑制することができる。
【００２４】
また、剥離層は、ホログラム層の形成材料が例えば電離放射線硬化性樹脂である場合、ホログラム層形成時の電離放射線の照射により、劣化または変質する場合もある。この場合も同様に、ホログラム層形成時の電離放射線の照射による影響は、剥離層およびホログラム層の厚みに依存すると考えられ、剥離層およびホログラム層の厚みが薄いと、電離放射線照射の影響を受けやすく、剥離層は劣化または変質しやすいが、剥離層およびホログラム層の厚みが厚いと、電離放射線照射による影響を受けにくく、剥離層の劣化または変質を抑制することができる。
【００２５】
この剥離層は、基材とホログラム層とを容易に剥離させるために設けられる層であるため、従来では、基材との接着力が上昇することは好ましくないとされていたが、本発明においては、上述したような剥離層およびホログラム層の厚みと反射層形成時の熱またはホログラム層形成時の電離放射線照射による影響との関係に着目した。すなわち、本発明によれば、剥離層およびホログラム層の総厚みを部分的に変化させることにより、剥離層と基材との接着力を部分的に上昇させることができるため、ホログラム層を部分的に破壊することが可能なホログラム脆性シールとすることができるのである。
【００２６】
ここで、本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けて剥がした後の状態を図面を用いて説明する。図３は、本発明のホログラム脆性シールの接着層５を被着体８に貼り付けて剥がした後の状態を説明する説明図である。上述したように、本発明のホログラム脆性シールは、接着部６における剥離層２およびホログラム層３の総厚みが、剥離部７における剥離層２およびホログラム層３の総厚みより薄くなっている。接着部６では剥離層２およびホログラム層３の総厚みが薄いため、ホログラム層３上に反射層４を形成した際の熱により、剥離層２が劣化または変質し、剥離層２と基材１との接着力が向上する。一方、剥離部７では剥離層２およびホログラム層３の総厚みが厚いため、ホログラム層３上に反射層４を形成した際の熱による影響を受けにくくなり、剥離層２は実質的に劣化または変質することがない。したがって、本発明のホログラム脆性シールを被着体８に貼り付けて剥がした場合、接着部６では基材１と剥離層２との接着力が高くなるために被着体８と接着層５との間で剥がれ、剥離部７では基材１と剥離層２との接着力に変化がなく、接着強度が弱いために基材１と剥離層２との間で剥がれる。これにより、ホログラム層３が部分的に破壊されるため、偽造防止効果を有するホログラム脆性シールとすることができる。
【００２７】
また、本発明によれば、剥離層およびホログラム層の総厚みを制御することにより、容易に脆性パターンを形成することができるため、製造工程が簡潔であるという利点を有する。さらに、脆性パターンの目視が不可能であることから、偽造防止効果が高いという利点も有する。
【００２８】
本発明において、剥離層とホログラム層の総厚みとしては、上述したように、接着部における剥離層とホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層とホログラム層の総厚みより薄くなっているものである。具体的には、接着部における剥離層とホログラム層の総厚みが、２．０μｍ〜３．５μｍの範囲内、中でも２．５μｍ〜３．５μｍの範囲内、特に３．０μｍ〜３．５μｍの範囲内であることが好ましい。上記接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが上記範囲内より厚いと、反射層形成時の熱等による影響を受けにくくなる可能性があり、剥離層と基材との接着力を向上させることが困難となる場合があるからである。一方、上記接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが上記範囲内より薄い場合、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みと、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みとの差が大きくなり、ホログラム層の平坦性が損なわれるため、回折格子やホログラムの干渉縞を凹凸として記録する際に、凹凸の複製に悪影響を及ぼす可能性があるからである。
【００２９】
また、剥離部における剥離層とホログラム層の総厚みは、４．０μｍ〜５．５μｍの範囲内、中でも４．０μｍ〜５．０μｍの範囲内、特に４．０μｍ〜４．５μｍの範囲内であることが好ましい。上記剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みが上記範囲内より薄いと、反射層形成時の熱等による影響を受けやすくなる可能性があり、剥離層と基材との接着力が向上する可能性があるからである。一方、上記剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みが上記範囲内より厚い場合、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みと、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みとの差が大きくなり、ホログラム層の平坦性が損なわれるため、回折格子やホログラムの干渉縞を凹凸として記録する際に、凹凸の複製に悪影響を及ぼす可能性があるからである。
【００３０】
さらに、上記接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みと、上記剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みとの差としては、０．５μｍ〜２．０μｍの範囲内、中でも０．５μｍ〜１．５μｍの範囲内、特に０．５μｍ〜１．０μｍの範囲内であることが好ましい。上記接着部および上記剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みの差が、上記範囲であることにより、接着部においては基材と剥離層との接着力を向上させ、剥離部においては基材と剥離層との接着力が変化することを抑制することができるからである。
【００３１】
本発明においては、上述したように、接着部および剥離部において、剥離層およびホログラム層の総厚みが部分的に異なるものとなっていればよく、図１に示すように剥離層２の厚みが部分的に異なるものであってもよく、図２に示すようにホログラム層３の厚みが部分的に異なるものであってもよい。また、剥離層およびホログラム層の両方が、部分的に厚みの異なるものであってもよい。
以下、このようなホログラム脆性シールの各構成について説明する。
【００３２】
１．基材
本発明のホログラム脆性シールに用いられる基材は、後述する剥離層が形成可能であり、ホログラムに通常用いられるものであれば、特に限定されるものではない。例えばポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリフッ化エチレン系フィルム、ポリフッ化ビニリデンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリアミドフィルム、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等のポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリオレフィンフィルム等の透明樹脂フィルムを用いることができる。
【００３３】
また、ホログラム脆性シールを被着体に貼り付ける際に、基材側から熱転写が行われる場合は、熱転写の際に加わる熱や圧力に対して耐性を有するものであることが好ましい。
【００３４】
このような基材の厚さとしては、ホログラム脆性シールの用途や種類等に応じて適宜選択されるものであるが、通常２μｍ〜２００μｍ、好ましくは６μｍ〜５０μｍの範囲内とされる。
【００３５】
２．剥離層
次に、本発明に用いられる剥離層について説明する。本発明において、剥離層は、上記基材上に形成されるものであり、上記基材との接着強度が強い接着部と、上記基材との接着強度が弱い剥離部とを有するものである。また、接着部における剥離層および後述するホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みより薄いことを特徴とするものである。
【００３６】
本発明によれば、剥離層およびホログラム層の総厚みを、接着部と剥離部とでは異なるようにすることにより、総厚みの薄い接着部においてのみ、例えば反射層形成時の熱の作用により、剥離層と基材との接着力を上昇させることができる。また、剥離層は、ホログラム脆性シールを被着体に貼り付けた後、基材を剥がすまでの間は基材とホログラム層とが容易に剥離しない程度に接着させておき、基材を剥がす際には円滑な剥離が行えるように設けられているものである。よって、剥離部では剥離層およびホログラム層の総厚みが厚いため、反射層形成時の熱の影響等を受けることがなく、基材と剥離層との接着力には変化がないことから、基材を剥がす際には基材と剥離層とが容易に剥離するようになっている。したがって、本発明においては、接着部では被着体と接着層とが剥離し、剥離部では基材と剥離層とが剥離することとなり、ホログラム層を部分的に破壊することが可能なホログラム脆性シールとすることができる。
【００３７】
本発明においては、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みより薄くなっているものである。よって、剥離層の厚みとしては、例えば図１に示すように接着部６における剥離層２の厚みが剥離部７における剥離層２の厚みより薄くてもよく、また、例えば図２に示すようにホログラム層３の厚みが接着部６および剥離部７において異なる場合は、剥離層２の厚みは接着部６および剥離部７において均一であってもよい。
【００３８】
上記剥離層の厚みとしては、上述したように、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みより薄くなっていればよく、特に限定されるものではないが、通常、０．２μｍ〜３．０μｍの範囲内、好ましくは０．５μｍ〜２．５μｍの範囲内、より好ましくは１．０μｍ〜２．０μｍの範囲内とする。剥離層の厚みが上記範囲内より薄いと、剥離性能が損なわれる可能性があり、剥離層の厚みが上記範囲内より厚いと、本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けて剥がす際に、剥離層の膜切れが悪くなる可能性があるからである。
【００３９】
本発明において、上記接着部における剥離層と基材との接着強度は、上記剥離部における剥離層と基材との接着強度より大きいものである。また、本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けた際に、上記接着部における剥離層と基材との接着強度は、接着層と被着体との接着強度より大きければ特に限定されるものではない。例えば図３に示すように、接着部６においては、基材１と剥離層２との接着強度が、接着層５と被着体８との接着強度より大きいことにより、接着層５と被着体８とが剥がれることとなるからである。このような接着部における剥離層と基材との接着強度としては、基材や剥離層の形成材料等によっても異なるが、具体的には、１００ｇ／インチ以上、中でも１５０ｇ／インチ以上、特に２００ｇ／インチ以上であることが好ましい。
【００４０】
一方、上記剥離部における剥離層と基材との接着強度としては、本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けた際に、上記剥離部における剥離層と基材との接着強度が、接着層と被着体との接着強度より小さければ特に限定されるものではない。例えば図３に示すように、剥離部７においては、基材１と剥離層２との接着強度が、接着層５と被着体８との接着強度より小さいことにより、基材１と剥離層２とが剥がれることとなるからである。このような剥離部における剥離層と基材との接着強度としては、基材や剥離層の形成材料等によっても異なるが、具体的には、３０ｇ／インチ以下、中でも２０ｇ／インチ以下、特に１５ｇ／インチ以下であることが好ましい。
【００４１】
このような剥離層としては、上述したように、剥離部においては基材から円滑に剥離し、接着部においては反射層形成時の熱やホログラム層形成時の電離放射線の照射により劣化または変質して基材との接着力が高くなるような材料であれば特に限定されるものではない。例えばアクリル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、シリコーン樹脂、塩化ゴム、カゼイン、各種界面活性剤、金属酸化物等から、１種または２種以上を混合したもの等を用いることができる。上記の中でも、分子量２００００〜１０００００程度のアクリル系樹脂単独、またはアクリル系樹脂と分子量８０００〜２００００の塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂とからなり、さらに添加剤として分子量１０００〜５０００のポリエステル樹脂が１〜５重量％含有する組成物からなることが特に好ましい。
【００４２】
また、上記の樹脂には、反射層形成時の熱やホログラム層形成時の電離放射線の照射による影響を少なくするため、安定剤を添加することができる。このような安定剤としては、塩化ビニル系樹脂の脱塩化水素を防止するもの、酸化防止剤、光安定剤等が挙げられる。
【００４３】
上記塩化ビニル系樹脂の脱塩化水素を防止するものとしては、金属石鹸系安定剤、有機錫化合物系安定剤、鉛化合物系安定剤、アンチモン化合物系安定剤等が挙げられる。また、エポキシ化合物、亜リン酸エステル系化合物、β−ジケトン系化合物等の安定化助剤と組み合わせて用いてもよい。
【００４４】
また、上記酸化防止剤としては、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（旭電化工業（株）製、アデカスタブＡＯ−５０）等のフェノール系酸化防止剤、ジラウリル−３，３´−チオジプロピオネート等の有機硫黄化合物系酸化防止剤、トリスノニルフェニルホスファイト等の有機リン化合物系酸化防止剤等が挙げられる。
【００４５】
さらに、光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、アクリレート系、サリシレート系、オキザニリド系、ヒンダードアミン系等の紫外線吸収剤が挙げられる。
【００４６】
このような安定剤は、安定剤の種類にもよるが、質量基準で、上記樹脂に対して１／１０００００〜１／１００、好ましくは１／１００００〜１／１０００程度の割合で添加するとよい。
【００４７】
３．ホログラム層
次に、本発明に用いられるホログラム層について説明する。本発明において、ホログラム層は、上記剥離層上に形成されるものであり、上記基材と上記剥離層との接着強度が強い接着部と、上記基材と上記剥離層との接着強度が弱い剥離部とを有するものである。また、接着部における上記剥離層およびホログラム層の総厚みが、剥離部における上記剥離層およびホログラム層の総厚みより薄いことを特徴とするものである。
【００４８】
本発明によれば、上述したように、剥離層およびホログラム層の総厚みを、接着部と剥離部とでは異なるようにすることにより、総厚みの薄い接着部においてのみ、例えば反射層形成時の熱の作用により、剥離層と基材との接着力を上昇させることができる。また、剥離部では剥離層およびホログラム層の総厚みが厚いため、反射層形成時の熱の影響等を受けることがなく、基材と剥離層との接着力には変化がないことから、基材を剥がす際には基材と剥離層とが容易に剥離するようにさせることができる。したがって、本発明においては、接着部では被着体と接着層とが剥離し、剥離部では基材と剥離層とが剥離することとなり、ホログラム層を部分的に破壊することが可能なホログラム脆性シールとすることができる。
【００４９】
本発明においては、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みより薄くなっているものである。よって、ホログラム層の厚みとしては、例えば図２に示すように接着部６におけるホログラム層３の厚みが剥離部７におけるホログラム層３の厚みより薄くてもよく、また、例えば図１に示すように剥離層２の厚みが接着部６および剥離部７において異なる場合は、ホログラム層３の厚みは均一であってもよい。
【００５０】
上記接着部におけるホログラム層の厚みとしては、上述したように、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みより薄くなっていればよく、特に限定はされないが、通常、１．５μｍ〜３．３μｍの範囲内、好ましくは２．０μｍ〜３．０μｍの範囲内、より好ましくは２．５μｍ〜３．０μｍの範囲内とする。ホログラム層の厚みが上記範囲内より薄い場合は、回折格子やホログラムの干渉縞を凹凸として記録する際に、凹凸の賦型が不十分になる可能性があり、ホログラム層の厚みが上記範囲内より厚い場合は、本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けて剥がす際に、ホログラム層の膜切れが悪くなる可能性があるからである。
【００５１】
本発明においては、ホログラム層の表面に微細な凹凸が賦型されることによりホログラムが形成されるものである。このようなホログラムとしては、表面ホログラムであっても、体積ホログラムであってもよい。具体的には、レリーフホログラム、リップマンホログラム、フルネルホログラム、フラウンホーファーホログラム、レンズレスフーリエ変換ホログラム、レーザー再生ホログラム（イメージホログラムなど）、白色光再生ホログラム（レインボーホログラムなど）、カラーホログラム、コンピューターホログラム、ホログラムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグラム、ホログラフィック回折格子等が挙げられる。
【００５２】
本発明に用いられるホログラム層の形成材料としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等を使用することができる。
【００５３】
上記熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、アクリレート樹脂等を挙げることができる。例えばポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系アクリレート等を用いることができる。
【００５４】
また、上記熱可塑性樹脂としては、アクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂（ＰＭＭＡなど）等を挙げることができる。
【００５５】
これら熱硬化性樹脂および熱可塑性樹脂は、単独重合体または２種以上の共重合体として使用してもよい。さらには、ラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質、あるいは、これらにラジカル重合性不飽和単量体を加えて、電離放射線硬化性樹脂としたものであってもよい。
【００５６】
また、上記電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、特開２０００−２７２２９５号公報に記載のウレタン変性アクリレート樹脂等を挙げることができる。
【００５７】
本発明においては、上記の中でも、電離放射線硬化性樹脂および熱硬化性樹脂を使用することが好ましい。これらは、熱可塑性樹脂と比較して、耐久性に優れているからである。
【００５８】
上記の樹脂は、ホログラム層中に、１０〜９０重量％の範囲内、好ましくは２５〜８５重量％の範囲内で含有させるとよい。
【００５９】
また、上記の樹脂以外にも、銀塩、重クロム酸ゼラチン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモクロミックス材料、カルコゲンガラス等の感光材料等も使用することができる。
【００６０】
本発明においては、上述した熱硬化性樹脂または電離放射線硬化性樹脂に、熱硬化剤あるいは紫外線硬化剤を配合することができる。熱硬化剤あるいは紫外線硬化剤としては、イソシアネート樹脂、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛等の金属石鹸ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルスルフィド等を挙げることができる。
【００６１】
また、本発明においては、上述した電離放射線硬化性樹脂に、架橋構造、粘度の調整等を目的として、以下に示すような単官能または多官能のモノマー、オリゴマーおよびポリマー等を包含させることができる。
【００６２】
単官能のモノマーおよびオリゴマーとしては、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ビニルピロリドン、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、（メタ）アクリロイルオキシエチルフタレート等のモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００６３】
また、多官能のモノマー、オリゴマーおよびポリマーとしては、骨格構造で分類するとポリオール（メタ）アクリレート（エポキシ変性ポリオール（メタ）アクリレート、ラクトン変性ポリオール（メタ）アクリレート等）、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリブタジエン系、イソシアヌール酸系、ヒダントイン系、メラミン系、リン酸系、イミド系、フォスファゼン系等の骨格を有するポリ（メタ）アクリレートであり、紫外線、電子線硬化性である様々なモノマー、オリゴマー、ポリマーを使用することができる。
【００６４】
具体的には、２官能のモノマーおよびオリゴマーとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。３官能のモノマーおよびオリゴマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。また、４官能のモノマーおよびオリゴマーとしては、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テトラ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。さらに、５官能以上のモノマーおよびオリゴマーとしては、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００６５】
上記単官能または多官能のモノマーおよびオリゴマーの官能基数は特に限定されるものではないが、官能基数が３〜２０のものが好ましい。官能基数が３より小さいと耐熱性が低下する傾向があり、官能基数が２０を超えて大きいと柔軟性が低下する傾向があるからである。
【００６６】
本発明において、上記電離放射線硬化性樹脂を用いてホログラム層を形成する場合は、この電離放射線硬化性樹脂を硬化させる際の電離放射線の照射により、上記剥離層が劣化または変質する場合があるため、接着部において剥離層およびホログラム層の総厚みを所定の厚さとなるように薄くし、剥離層と基材との接着力を向上させるものである。また、剥離部においては、剥離層およびホログラム層の総厚みを所定の厚さとなるように厚くし、電離放射線の照射による影響を抑制している。よって、電離放射線の照射量としては、接着部の剥離層は劣化または変質させてもよいが、剥離部における剥離層は劣化または変質させない程度の量であることが好ましい。
【００６７】
また、ホログラムの干渉縞を記録する際に、電離放射線の照射量を調整することが困難である場合は、例えばホログラム層に電離放射線硬化性樹脂として紫外線硬化性樹脂を用いた場合、ホログラム層に紫外線吸収剤を添加して、剥離層の劣化または変質への紫外線照射の影響を制御することができる。この場合、ホログラム層側から紫外線を照射することにより、ホログラム層に含まれる紫外線吸収剤が照射された紫外線を吸収するため、ホログラム層の下に形成されている剥離層は、紫外線による影響が少なくなる。
【００６８】
このような紫外線吸収剤としては、上記剥離層の欄に記載したものを用いることができる。
【００６９】
上記の樹脂を用いて形成したホログラム形成用層へホログラムを形成する際には、一般的に用いられる方法により形成することができる。例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型として用い、上記の樹脂からなるホログラム形成用層上に上記原版を重ねて加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。
【００７０】
ここで、ホログラム形成用層とは、回折格子や干渉縞が記録される前の上記樹脂からなる層を意味するものであり、ホログラム層とは、ホログラム形成用層に回折格子や干渉縞を記録した後、上記の樹脂を硬化したものを意味する。
【００７１】
本発明においては、上記の樹脂からなるホログラム形成用層が原版から容易に剥離できるように、上記の樹脂に予め離型剤を添加させることができる。このような離型剤としては、一般に用いられている離型剤、例えばポリエチレンワックス、アミドワックス、テフロン（登録商標）パウダー等の固形ワックス、弗素系、リン酸エステル系の界面活性剤、シリコーン等を使用することができる。特に、離型剤として変性シリコーンを使用することが好ましい。
【００７２】
上記変性シリコーンとしては、（１）変性シリコーンオイル側鎖型、（２）変性シリコーンオイル両末端型、（３）変性シリコーンオイル片末端型、（４）変性シリコーンオイル側鎖両末端型、（５）トリメチルシロキケイ酸を含有するメチルポリシロキサン（シリコーンレジンと呼ぶ）、（６）シリコーングラフトアクリル樹脂、（７）メチルフェニルシリコーンオイル等を挙げることができる。
【００７３】
また、上記変性シリコーンオイルは、反応性シリコーンオイルと非反応性シリコーンオイルとに分けられる。反応性シリコーンオイルとしては、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシル基変性、カルビノール変性、メタクリル変性、メルカプト変性、フェノール変性、片末端反応性、異種官能基変性等が挙げられる。一方、非反応性シリコーンオイルとしては、ポリエーテル変性、メチルスチリル変性、アルキル変性、高級脂肪エステル変性、親水性特殊変性、高級アルコキシ変性、高級脂肪酸変性、フッ素変性等が挙げられる。
【００７４】
上述した変性シリコーンオイルの中でも、上記の樹脂と反応性である基を有する種類の反応性シリコーンオイルは、上記樹脂の硬化とともにこの樹脂と反応して結合するため、後に凹凸が形成されたホログラム形成用層の表面にブリードアウトすることがなく、特徴的な性能を付与することができる。特に、蒸着法により形成された反射層等の蒸着膜との密着性向上には有効である。
【００７５】
４．反射層
次に、本発明に用いられる反射層について説明する。本発明において、反射層は、上記ホログラム層と後述する接着層との間に形成されるものであり、この反射層に光を反射する例えば金属薄膜等を用いると、不透明タイプのホログラムとなり、ホログラム層と屈折率差がある透明な物質を用いた場合には、透明タイプのホログラムとなるが、いずれも本発明に用いることが可能である。
【００７６】
このような不透明タイプのホログラムを形成する金属薄膜としては、例えば、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｒｂ等の金属およびその酸化物、窒化物等を単独若しくは２種類以上組み合わせて形成される薄膜が挙げられる。上記金属薄膜の中でもＡｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ等が特に好ましい。
【００７７】
一方、透明タイプのホログラムを形成する薄膜としては、ホログラム効果を発現できる光透過性のものであれば、いかなる材質のものも使用できる。例えば、上記ホログラム層の形成材料である樹脂と、屈折率の異なる透明材料が挙げられる。この場合の屈折率は、上記ホログラム層の形成材料である樹脂の屈折率より大きくても、小さくてもよいが、屈折率の差は０．３以上が好ましく、より好ましくは０．５以上であり、１．０以上が最適である。このような透明薄膜としては、金属性反射膜が挙げられ、好適に使用される透明タイプ反射層としては、ＴｉＯ２、ＺｎＳ、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｓ３、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＳｉＯ２、ＬｉＦ、ＭｇＦ２、ＡｌＦ３、Ｃｕ・Ａｌ複合金属酸化物等が挙げられる。
【００７８】
さらに、透明タイプ反射層に用いられる透明材料としては、上記ホログラム層の形成材料である樹脂と屈折率の異なる透明な樹脂も使用することができ、例えばポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート等が挙げられる。
【００７９】
上記反射層を例えば蒸着法により形成する場合、反射層の形成材料から発生される蒸気による熱により、反射層の下に形成されている剥離層が劣化または変質し、基材と剥離層との接着力が上昇してしまう場合がある。この反射層形成時の熱による影響は、剥離層およびホログラム層の厚みに依存すると考えられ、剥離層およびホログラム層の厚みが薄いと、反射層の形成材料から発生される蒸気による熱の影響を受けやすく、剥離層は劣化または変質しやすいが、剥離層およびホログラム層の厚みが厚いと、上記の熱による影響を受けにくく、剥離層の劣化または変質を防止することができる。よって、本発明においては、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みを所定の厚さとなるように薄くすることにより、剥離層を劣化または変質させて、剥離層と基材との接着力を向上させ、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みを所定の厚さとなるように厚くすることにより、反射層形成時の熱による影響を抑制しているものである。
【００８０】
この反射層形成時の熱による影響は、反射層の膜厚によって異なる。反射層の膜厚が厚いと、反射層の形成材料から発生される蒸気による熱の量が多くなるため、剥離層の劣化または変質に大きく影響することとなるのである。よって、反射層の膜厚としては、接着部の剥離層は劣化または変質させてもよいが、剥離部における剥離層は劣化または変質させない程度の厚みであることが好ましい。具体的に、不透明タイプの反射層の膜厚としては、１〜１０，０００ｎｍ、中でも２０〜２００ｎｍの範囲であることが好ましい。一方、透明タイプの反射層の膜厚は、薄膜を形成する透明材料の透明領域であればよく、通常は１０〜１００ｎｍであることが好ましい。また、透明タイプの反射層として金属性反射膜を用いた場合の膜厚は、２０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００８１】
５．接着層
次に、本発明のホログラム脆性シールに用いられる接着層について説明する。本発明において、接着層は、ホログラム脆性シールの基材と反対側の表面に形成される層であり、ホログラム脆性シールを被着体上に貼り付ける際に密着させて加熱等することによりホログラム脆性シールと被着体とを接着する層である。
【００８２】
このような接着層としては、本発明のホログラム脆性シールと被着体とを接着できる材料であれば特に限定はされなく、一般に接着剤として用いられる材料を使用することができる。例えばエチレン−酢酸ビニル共重合樹脂（ＥＶＡ）、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、エチレン−イソブチルアクリレート共重合樹脂、ブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニルおよびその共重合体樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、セルロース系樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリプロピレン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、スチレンブタジエンスチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレンイソプレンスチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、スチレンエチレンブチレンスチレンブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、スチレンエチレンプロピレンスチレンブロック共重合体（ＳＥＰＳ）等の熱可塑性樹脂を用いることができる。上記の中でも、１８０℃以下の温度でヒートシール可能な層であることが好ましく、さらにエチレン−酢酸ビニル共重合樹脂（ＥＶＡ）の酢酸含量２５％以上のものを用いることが好ましい。また、上記樹脂に、必要に応じて接着層が着色されたものであってもよい。
【００８３】
本発明においては、上記接着層に、昇華転写リボン等の転写リボンとサーマルヘッド等を用いた転写により、文字や画像を形成してもよい。これは、接着層に文字や画像を形成した場合、本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けた後は、文字や画像を有する接着層が反射層やホログラム層等により覆われるため、文字や改ざんが困難となるといった利点を有するからである。また、接着層に文字や画像を形成する場合には、転写リボンと接着層とが熱融着しないように、接着層にシリコーンオイルやシリコーン樹脂等の離型剤を添加することが好ましい。
【００８４】
上記接着層の膜厚としては、通常１μｍ〜２０μｍの範囲内とすることが好ましい。
【００８５】
また、本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けた際に、接着層と被着体との接着強度は、接着部における剥離層と基材との接着強度より小さく、剥離部における剥離層と基材との接着強度より大きいことが好ましい。例えば図３に示すように、接着部６においては、接着層５と被着体８との接着強度が、基材１と剥離層２との接着強度より小さいことにより、接着層５と被着体８との間で剥がれ、剥離部７においては、接着層５と被着体８との接着強度が、基材１と剥離層２との接着強度より大きいことにより、基材１と剥離層２とが剥がれることとなるからである。
【００８６】
このような接着層と被着体との接着強度としては、接着層や被着体の材料等により異なるが、具体的には、３０〜１００ｇ／インチの範囲内、中でも４０〜９０ｇ／インチの範囲内、特に５０〜８０ｇ／インチの範囲内であることが好ましい。
【００８７】
６．ホログラム脆性シール
本発明のホログラム脆性シールを使用する際には、例えば図４に示すように、ホログラム脆性シール１０を、その接着層５が被着体８と接触するようにして被着体８上に重ね、平板プレスやロールプレス等により、加熱および加圧して、被着体８上にホログラム脆性シール１０を接着させる。これにより、被着体８上にホログラム脆性シール１０を貼り付けることができる。
【００８８】
図５は、上述したようにして得ることができる記録媒体の一例を示すものである。カードの形態の被着体８の右側にホログラム脆性シール１０が貼り付けられており、上辺に沿ったやや内側に磁気記録層２１を有し、このほか、文字２２が形成されたものである。
【００８９】
本発明のホログラム脆性シールは、上記のようなカードに使用されるだけではなく、種々の用途に合わせて使用するものである。例えば、ＩＤ（本人確認）用のカードに用いることができ、具体的には、銀行等の預貯金カード、クレジットカード、身分証明書等が挙げられる。また、必ずしもカードに用いる必要はなく、受験票、パスポート等でもよい。さらに、紙幣、商品券、株券、証券、預金通帳、乗車券、航空券等に使用することもできる。また、交通機関や公衆電話用のプリペイドカードにも使用でき、これらには金額等の情報が記録されている。
【００９０】
また、本発明のホログラム脆性シールは、高額な物品の真正性の証明用に用いる場合もある。例えば、高級腕時計、貴金属、宝飾品等、いわゆるブランド品といわれる世界的に著名な高級商品やそれらの収納箱やケースに用いられる。また、音楽ソフト、映像ソフト、コンピュータソフト、もしくはゲームソフト等が記録された磁気的記録媒体等の記憶媒体やそれらのケース等にも適用することができる。
【００９１】
７．その他
（１）密着向上層
本発明においては、上記剥離層と上記ホログラム層との間に、密着向上層を設けてもよい。この密着向上層は、剥離層とホログラム層との密着性を向上させるための層である。剥離層は、上述したように、基材との接着強度を制御したものであり、剥離層とホログラム層との間の接着力が低下する場合があるため、密着向上層としては、剥離層を形成する樹脂、およびホログラム層を形成する樹脂を混合したものを用いて形成することが好ましい。また、剥離層およびホログラム層の各々を形成する樹脂と反応し得る官能基を有する樹脂を用いて形成することもできる。さらに、ウレタン樹脂やエポキシ樹脂のような、表面に対する濡れ性のよい樹脂を用いて形成してもよい。
【００９２】
また、上記ホログラム層を形成する際に、ホログラム層に例えば紫外線硬化性樹脂を用いた場合、紫外線照射により、剥離層が劣化または変質することがある。本発明においては、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みを所定の厚さとなるように薄くし、紫外線照射等による影響により、剥離層を劣化または変質させて、剥離層と基材との接着力を向上させ、一方、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みを所定の厚さとなるように厚くし、紫外線照射等の影響を抑制することにより、剥離層の劣化または変質を防止している。
【００９３】
このように本発明においては、紫外線照射等による剥離層への影響を利用しているものであり、紫外線の照射量を適宜選択することが好ましいが、紫外線の照射量を調整することが困難である場合は、上記密着向上層に紫外線吸収剤を添加して、剥離層の劣化または変質への紫外線照射の影響を制御することができる。この場合、ホログラム層側から紫外線を照射することにより、密着向上層に含まれる紫外線吸収剤が照射された紫外線を吸収するため、密着向上層の下に形成された剥離層は、紫外線による影響が少なくなる。
【００９４】
このような紫外線吸収剤としては、上記剥離層の欄に記載したものを使用することができる。
【００９５】
（２）プライマー層
本発明においては、上記反射層と上記接着層との間にプライマー層を設けてもよい。このプライマー層は、反射層が金属や金属酸化物である場合、反射層と接着層との接着力が低下することを補うための層である。
【００９６】
このプライマー層に用いられる材料は、上記接着層および反射層の材料を考慮して選択することが好ましい。例えば、上記密着向上層に用いられるウレタン樹脂やエポキシ樹脂のような、表面に対する濡れ性のよい樹脂を用いることができる。
【００９７】
また、このようなプライマー層は、反射層とホログラム層との接着力の低下を補うために、反射層とホログラム層との間に設けてもよい。
【００９８】
Ｂ．ホログラム脆性シールの製造方法
次に、本発明のホログラム脆性シールの製造方法について説明する。
【００９９】
本発明のホログラム脆性シールの製造方法は、基材上に剥離層を形成する剥離層形成工程と、上記剥離層上にホログラム層を形成するホログラム層形成工程と、上記ホログラム層上に反射層を形成する反射層形成工程と、上記反射層上に接着層を形成する接着層形成工程とを有するホログラム脆性シールの製造方法であって、
上記剥離層形成工程および上記ホログラム層形成工程において、上記剥離層および上記ホログラム層は、接着部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みが、剥離部における上記剥離層および上記ホログラム層の総厚みより薄くなるように形成されており、
上記接着部における上記剥離層と上記基材との接着強度が、上記剥離部における上記剥離層と上記基材との接着強度より大きくなるような接着強度調整処理が行われることを特徴とするものである。
【０１００】
本発明のホログラム脆性シールの製造方法について、図面を用いて説明する。図６は、本発明のホログラム脆性シールの製造方法の一例を示す工程図である。図６（ａ）に示すように、まず基材１上に剥離層２を形成する（剥離層形成工程）。次に、上記剥離層２上にホログラム層３を形成する（図６（ｂ）、ホログラム層形成工程）。この剥離層形成工程およびホログラム層形成工程においては、剥離層２およびホログラム層３は、接着部６における剥離層２およびホログラム層３の総厚みが、剥離部７における剥離層２およびホログラム層３の総厚みより薄くなるように形成されている。さらに、上記ホログラム層３上に反射層４を形成する（図６（ｃ）、反射層形成工程）。最後に、上記反射層４上に接着層５を形成する（図６（ｄ）、接着層形成工程）。
【０１０１】
また、本発明においては、上記ホログラム層形成工程または上記反射層形成工程においては、接着部６における剥離層２と基材１との接着強度が、剥離部７における剥離層２と基材１との接着強度より大きくなるような接着強度調整処理が行われる。この接着強度調整処理について以下に説明する。
【０１０２】
すなわち、例えば反射層を蒸着法により形成する場合、反射層の形成材料から発生される蒸気による熱により、反射層の下に形成されている剥離層が劣化または変質し、基材と剥離層との接着力が上昇してしまう場合がある。また、ホログラム層の形成材料が例えば電離放射線硬化性樹脂である場合、ホログラム層形成時の電離放射線の照射により、剥離層が劣化または変質する場合もある。このような熱または電離放射線による影響は、剥離層およびホログラム層の厚みに依存すると考えられる。よって、本発明においては、剥離層およびホログラム層の総厚みを接着部および剥離部において異なるものとすることにより、接着部における剥離層と基材との接着強度が、剥離部における剥離層と基材との接着強度より大きくなるように、接着強度を調整することができる。
【０１０３】
本発明においては、上記のような加熱または電離放射線照射等の処理を行うことにより、剥離層と基材との接着強度を部分的に変化させることを、接着強度調整処理ということとする。
【０１０４】
ここで、本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けて剥がした後の状態を図面を用いて説明する。図３は、本発明のホログラム脆性シールの接着層５を被着体８に貼り付けて剥がした後の状態を説明する説明図である。上述したように、本発明のホログラム脆性シールは、接着部６における剥離層２およびホログラム層３の総厚みが、剥離部７における剥離層２およびホログラム層３の総厚みより薄くなっている。接着部６では剥離層２およびホログラム層３の総厚みが薄いため、ホログラム層３上に反射層４を形成した際の熱により、剥離層２が劣化または変質し、剥離層２と基材１との接着力が向上する。一方、剥離部７では剥離層２およびホログラム層３の総厚みが厚いため、ホログラム層３上に反射層４を形成した際の熱による影響を受けにくくなり、剥離層２は実質的に劣化または変質することがない。したがって、本発明のホログラム脆性シールを被着体８に貼り付けて剥がした場合、接着部６では基材１と剥離層２との接着力が高くなるために被着体８と接着層５との間で剥がれ、剥離部７では基材１と剥離層２との接着力に変化がなく、接着強度が弱いために基材１と剥離層２との間で剥がれる。これにより、ホログラム層３が部分的に破壊されるため、偽造防止効果を有するホログラム脆性シールとすることができる。
【０１０５】
また、本発明によれば、剥離層およびホログラム層の総厚みを制御することにより、容易に脆性パターンを形成することができるため、製造工程が簡潔であるという利点を有する。さらに、脆性パターンの目視が不可能であることから、偽造防止効果が高いという利点も有する。
以下、このようなホログラム脆性シールの製造方法の各工程について説明する。
【０１０６】
１．剥離層形成工程
本発明のホログラム脆性シールの製造方法においては、基材上に剥離層を形成する剥離層形成工程が行われる。
【０１０７】
本発明においては、本工程および後述するホログラム層形成工程において、剥離層およびホログラム層は、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みより薄くなるように形成されるものである。
【０１０８】
なお、本工程に用いられる剥離層の形成材料、厚み等に関しては、上述した「Ａ．ホログラム脆性シール」の剥離層の欄に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１０９】
上記剥離層の形成方法としては、基材上に剥離層形成用塗工液を塗布し、乾燥させる方法を挙げることができる。
【０１１０】
剥離層形成用塗工液を塗布する際には、必要に応じて溶媒を添加することができる。このような溶媒としては、一般に上述した剥離層の材料に用いられる溶媒を使用することができ、例えばアルコール等の有機溶媒や水が挙げられる。
【０１１１】
また、塗布方法としては、スピンコーター、グラビアコーター、コンマコーター、バーコーター等の方法を使用することができる。
【０１１２】
本発明においては、剥離層形成用塗工液を塗布する際に、コーティング版の深さを部分的に変化させることにより、接着部および剥離部における剥離層の厚みを変化させることができることから、本発明のホログラム脆性シールの製造方法において製造工程が増えることなく、効率的にホログラム脆性シールを製造することができる。また、剥離層またはホログラム層の少なくともいずれかの厚みを変化させることにより、脆性パターンを形成することができるため、脆性パターンが目視不可能であり、偽造防止効果が高いという利点も有する。
【０１１３】
２．ホログラム層形成工程
次に、本発明におけるホログラム層形成工程について説明する。本発明のホログラム脆性シールの製造方法においては、上記剥離層上にホログラム層を形成するホログラム層形成工程が行われる。
【０１１４】
本発明においては、上記剥離層形成工程および本工程において、剥離層およびホログラム層は、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みが、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みより薄くなるように形成されるものである。
【０１１５】
なお、本工程に用いられるホログラム層の形成材料、厚み等に関しては、上述した「Ａ．ホログラム脆性シール」のホログラム層の欄に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１１６】
本発明において、ホログラム層の形成は、まず上述した「Ａ．ホログラム脆性シール」のホログラム層の欄に記載した樹脂や添加剤等を有するホログラム層形成用塗工液を、例えば目的とする基材上に一般的なコーティング手段により塗布し、必要に応じて乾燥して、ホログラム形成用層とする。また、ホログラム形成用層は、例えば２枚のガラス板等の基材の間に樹脂組成物を注入することによって形成されたものであってもよい。次に、例えば凹凸が形成されている原版をプレス型として用い、この原版をホログラム形成用層に圧着し、凹凸をホログラム形成用層の表面に形成し、干渉縞を記録する。さらに、ホログラム形成用層を硬化させることにより、ホログラム層が形成される。
【０１１７】
このように、ホログラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する方法は、量産性があり、コストも低くできる点で特に好ましい。
【０１１８】
また、上記の方法以外にも、上述した「Ａ．ホログラム脆性シール」のホログラム層の欄に記載した感光材料を基材上に塗布し、原版を重ねて、紫外線等を照射することにより感光材料を硬化させ、ホログラム層を形成することもできる。
【０１１９】
上記ホログラム層形成用塗工液は、塗布の際、必要に応じて溶媒を用いてもよい。このような溶媒としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、酢酸エチル、１，４−ジオキサン、１，２−ジクロロエタン、ジクロルメタン、クロロホルム、メタノール、エタノール、イソプロパノール等を使用することができる。また、これらの溶媒を１種または２種以上を混合して用いてもよい。
【０１２０】
また、ホログラム層形成用塗工液の塗布方法としては、スピンコーター、グラビアコーター、コンマコーター、バーコーター等の方法を使用することができる。
【０１２１】
本発明においては、ホログラム層形成用塗工液を塗布する際に、上述したように、コーティング版の深さを部分的に変化させることにより、接着部および剥離部におけるホログラム層の厚みを変化させることができることから、本発明のホログラム脆性シールの製造方法において製造工程が増えることなく、効率的にホログラム脆性シールを製造することができる。また、上記剥離層またはホログラム層の少なくともいずれかの厚みを変化させることにより、脆性パターンを形成することができるため、脆性パターンが目視不可能であり、偽造防止効果が高いという利点も有する。
【０１２２】
また、ホログラム層の用途や種類によって適宜選択されるものであるが、上記ホログラム層形成用塗工液の塗布量は、通常１ｇ／ｍ２〜１００ｇ／ｍ２の範囲内とされる。
【０１２３】
ここで、上述したようにレリーフホログラムは、例えば凹凸が形成されている原版プレス型として用いて、この原版をホログラム形成用層に圧着し、凹凸をホログラム形成用層の表面に形成し、干渉縞を記録するものである。このような干渉縞を記録する方法としては一般に用いられる方法を使用することができる。例えば、光学的な投影方式により、特定情報を有する微細な凹凸からなる原版を作製し、さらに原版から複製されたニッケル製のプレス版を使用する。このプレス版を加熱し、ホログラム形成用層に押し当てることにより、凹凸を複製する、いわゆるエンボス法を用いることができる。
【０１２４】
上記原版を作製する際に、通常ホログラフィー露光装置に用いられるレーザー光は、コヒーレンス性の優れた光（例えば波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの光）による露光によって、目的とする凹凸を記録する。上記レーザー光としては、可視レーザー、例えばアルゴンイオンレーザー（４５８ｎｍ、４８８ｎｍ、５１４．５ｎｍ）、クリプトンイオンレーザー（６４７．１ｎｍ）、ヘリウム−ネオンレーザー（６３３ｎｍ）、ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）等を使用することができる。
【０１２５】
また、ホログラム層が電離放射線硬化性樹脂を含有している場合は、凹凸形状を保持するため、エンボス時および／またはエンボス後に、紫外線等の電離放射線を照射し、硬化させる方法を用いることもできる。
【０１２６】
本発明においては、本工程において、接着部における剥離層と基材との接着強度が、剥離部における剥離層と基材との接着強度より大きくなるような接着強度調整処理が行われてもよい。例えばホログラム層の形成材料として電離放射線硬化性樹脂を用いた場合は、この電離放射線硬化性樹脂を硬化させる際の電離放射線の照射により、接着部における剥離層と基材との接着強度が、剥離部における剥離層と基材との接着強度より大きくなるように処理することができる。すなわち、電離放射線照射により、接着部においては剥離層およびホログラム層の総厚みが薄いために、剥離層が劣化または変質し、剥離層と基材との接着力を向上させることができる。また、剥離部においては、剥離層およびホログラム層の総厚みが厚いために、電離放射線の照射による影響を抑制することができる。これにより、接着部および剥離部における基材と剥離層との接着強度を調整することができるのである。
【０１２７】
また、電離放射線を照射する際の照射量としては、接着部の剥離層は劣化または変質させてもよいが、剥離部における剥離層は劣化または変質させない程度の量であることが好ましい。
【０１２８】
３．反射層形成工程
次に、本発明における反射層形成工程について説明する。本発明のホログラム脆性シールの製造方法においては、上記ホログラム層上に反射層を形成する反射層形成工程が行われる。
【０１２９】
本発明において、反射層の形成方法としては、昇華、真空蒸着、スパッタリング、反応性スパッタリング、イオンプレーティング、電気めっき等の一般に用いられる方法を使用することが可能である。
【０１３０】
本発明においては、本工程において、反射層を形成する際の熱により、接着部における剥離層と基材との接着強度が、剥離部における剥離層と基材との接着強度より大きくなるような接着強度調整処理が行われてもよい。
【０１３１】
例えば反射層を真空蒸着、スパッタリング等の蒸着法により形成する場合、反射層の形成材料から発生される蒸気による熱により、反射層の下に形成されている剥離層が劣化または変質し、基材と剥離層との接着力が上昇してしまう場合がある。この反射層形成時の熱による影響は、剥離層およびホログラム層の厚みに依存すると考えられ、剥離層およびホログラム層の厚みが薄いと、反射層の形成材料から発生される蒸気による熱の影響を受けやすく、剥離層は劣化または変質しやすいが、剥離層およびホログラム層の厚みが厚いと、上記の熱による影響を受けにくく、剥離層の劣化または変質を抑制することができる。よって、本発明においては、接着部における剥離層およびホログラム層の総厚みを所定の厚さとなるように薄くすることにより、剥離層と基材との接着力を向上させ、剥離部における剥離層およびホログラム層の総厚みを所定の厚さとなるように厚くすることにより、反射層形成時の熱による影響を抑制している。これにより、接着部および剥離部における基材と剥離層との接着強度を調製することができる。
【０１３２】
反射層形成時に反射層の形成材料から発生される蒸気による熱は、材料によっても異なるが、通常、８００℃〜１２００℃程度である。
【０１３３】
また、反射層形成時の熱による影響は、反射層の膜厚によっても異なる。反射層の膜厚が厚いと、反射層の形成材料から発生される蒸気による熱の量が多くなるため、剥離層の劣化または変質に大きく影響することとなる。よって、反射層の膜厚としては、接着部の剥離層は劣化または変質させてもよいが、剥離部における剥離層は劣化または変質させない程度の厚みであることが好ましい。
【０１３４】
なお、反射層の形成材料および膜厚等に関しては、上述した「Ａ．ホログラム脆性シール」の反射層の欄に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１３５】
４．接着層形成工程
次に、本発明における接着層形成工程について説明する。本発明のホログラム脆性シールの製造方法においては、上記反射層上に接着層を形成する接着層形成工程が行われる。
【０１３６】
上記接着層の形成方法としては、上記反射層上に接着層形成用塗工液を塗布し、乾燥させる方法を挙げることができる。
【０１３７】
接着層形成用塗工液を塗布する際には、必要に応じて溶媒を添加することができる。このような溶媒としては、一般に接着層の形成材料に用いられる溶媒を使用することができ、例えばアルコール等の有機溶媒や水が挙げられる。
【０１３８】
また、塗布方法としては、スピンコーター、グラビアコーター、コンマコーター、バーコーター等の方法を使用することができる。
【０１３９】
なお、接着層の形成材料等に関しては、上述した「Ａ．ホログラム脆性シール」の接着層の欄に記載したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１４０】
５．その他
本発明のホログラム脆性シールは、上記基材、ホログラム層、反射層および接着層を、それぞれ順次積層して製造されるものであってもよいが、各部材をそれぞれ独立の工程によって準備し、これらを積層することによって製造されるものであってもよい。
【０１４１】
例えば、干渉縞を記録したホログラム層、剥離層を形成した基材、反射層および接着層を準備し、これらを積層する方法等が挙げられる。各部材をそれぞれ独立の工程によって準備する場合には、例えば基材上に剥離層等をドライプロセス等により形成することが可能となり、様々な材料を用いることや、製造効率等の面から好ましいものとすることができる。
【０１４２】
また例えば、上記基材上に剥離層を形成し、ホログラム層に干渉縞を記録した部材と、反射層と、接着層とを準備し、これらを積層するもの等であってもよい。この場合、上述したホログラム層を形成するホログラム層形成用塗工液を支持体上に塗布し、例えば原版を重ねて紫外線等を照射することにより硬化させて凹凸を記録し、上記基材および剥離層と積層する。続いて、上記支持体を剥離して、反射層を形成し、さらに接着層を例えば１００℃〜１８０℃に加熱しながら積層する方法等とすることができる。
【０１４３】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１４４】
以下、本発明について実施例および比較例を用いて具体的に説明する。
【０１４５】
［実施例１］
厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ（株）製、ルミラー）を基材として用い、このＰＥＴフィルムの一方の面に剥離層、ホログラム層、反射層、接着層を順次、以下の条件にて積層し、ホログラム脆性シールを作製した。
【０１４６】
（剥離層の形成）
上記ＰＥＴフィルム上に、下記組成の塗工液を、グラビアコーティングにより、グラビア版の線数（深さ）の違いによって、接着部では乾燥時の膜厚が０．５μｍ、剥離部では乾燥時の膜厚が１．２μｍとなるように塗布し、乾燥させて、剥離層を形成した。
ノルボルネン系樹脂（日本合成ゴム（株）製、アートンＧ）          ４０重量部
アクリルポリオール樹脂                                          １０重量部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比２／８）                    ５０重量部
【０１４７】
（ホログラム層の形成）
上記剥離層上に、下記組成の塗工液を、グラビアコーティングにより、乾燥時の膜厚が３．０μｍとなるように塗布し、乾燥させて、ホログラム形成用層を形成した。ホログラムの凹凸パターンが形成されたニッケル製プレス版と、上記ホログラム形成用層とを重ねて、加熱押圧することにより、ホログラム形成用層に凹凸を形成し、ホログラム層を形成した。
アクリル樹脂                                                  １００重量部
ウレタンアクリレート                                            ２５重量部
シリコーン                                                        １重量部
光重合開始剤                                                      ５重量部
メチルエチルケトン                                            １００重量部
【０１４８】
（反射層の形成）
上記ホログラム層上に、ＴｉＯ２を真空蒸着法により蒸着させ、厚さ５０ｎｍの反射層を形成した。
【０１４９】
（接着層の形成）
上記反射層上に、下記組成の接着剤を、乾燥状態において塗工量が１５ｇ／ｍ２となるように塗布し、接着層を形成した。
アクリル共重合体（綜研化学（株）製、ＳＫダイン１３１０Ｌ）      ４８重量部
エポキシ樹脂（綜研化学（株）製、硬化剤Ｅ−ＡＸ）            ０．３６重量部
酢酸エチル                                                ５１．６４重量部
【０１５０】
さらに、上記接着層の面に、下記に示す離型シート（離型層）を対向させてラミネートし、ホログラム脆性シールを作製した。
【０１５１】
＜離型シート＞
基体として、表面コロナ処理の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムで、この基体内部にミクロボイドを有するフィルムである、東洋紡績（株）製、クリスパーＧ２３１１、厚み３８μｍのフィルムを用いた。この基体上に、下記組成の離型層をセル版を用いたグラビア印刷により、乾燥状態で０．１ｇ／ｍ２の塗工量で形成し、乾燥フードの前で表面が平らなスムージングロールを離型層の面に当てた。
付加重合型シリコーン（信越化学工業（株）製、ＫＳ８４７Ｈ）    １００重量部
トルエン                                                      ２００重量部
【０１５２】
［実施例２］
（剥離層の形成）
厚さ２５μｍのＰＥＴフィルム（東レ（株）製、ルミラー）上に、実施例１と同様の組成の塗工液を、グラビアコーティングにより、乾燥時の膜厚が１．０μｍとなるように塗布し、乾燥させて、剥離層を形成した。
【０１５３】
（ホログラム層の形成）
上記剥離層上に、実施例１と同様の組成の塗工液を、グラビアコーティングにより、グラビア版の線数（深さ）の違いによって、接着部では乾燥時の膜厚が２．４μｍ、剥離部では乾燥時の膜厚が３．２μｍとなるように塗布し、乾燥させて、ホログラム形成用層を形成した。ホログラムの凹凸パターンが形成されたニッケル製プレス版と、上記ホログラム形成用層とを重ねて、加熱押圧することにより、ホログラム形成用層に凹凸を形成し、ホログラム層を形成した。
【０１５４】
（ホログラム脆性シールの作製）
上記ホログラム層上に、実施例１と同様にして、反射層、接着層を順次形成し、ホログラム脆性シールを作製した。
【０１５５】
［比較例１］
接着部における剥離層の厚みを１．０μｍ、剥離部における剥離層の厚みを１．２μｍとした以外は、実施例１と同様にして、ホログラム脆性シールを作製した。
【０１５６】
［比較例２］
接着部における剥離層の厚みを０．４μｍ、剥離部における剥離層の厚みを０．９μｍとし、ホログラム層の厚みを２．５μｍとした以外は、実施例１と同様にして、ホログラム脆性シールを作製した。
【０１５７】
［評価］
実施例１、２および比較例１、２のホログラム脆性シールの脆質性について観察した結果を表１に示す。
【０１５８】
（脆質性）
○：ホログラム脆性シールを被着体に貼り付けて剥がすと、ホログラム層が破壊される。
×：ホログラム脆性シールを被着体に貼り付けて剥がしても、ホログラム層が破壊されない。
【０１５９】
【表１】
2005106857.tif 000003
【０１６０】
実施例１および２のホログラム脆性シールは、被着体に貼り付けて剥がすとホログラム層が破壊されるため、貼り換え不可能となった。一方、比較例１のホログラム脆性シールは、被着体に貼り付けて剥がそうとすると剥離層と基材との間で全体的に剥がれ、不正防止効果が得られなかった。また、比較例２のホログラム脆性シールは、被着体に貼り付けて剥がそうとすると接着層と被着体との間で全体的に剥がれ、不正防止効果が得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１６１】
【図１】本発明のホログラム脆性シールの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明のホログラム脆性シールの他の例を示す概略断面図である。
【図３】本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けて剥がした後の状態を説明する説明図である。
【図４】本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けた状態の一例を示す概略断面図である。
【図５】本発明のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けた状態の他の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明のホログラム脆性シールの製造方法の一例を示す工程図である。
【図７】従来のホログラム脆性シールの一例を示す概略断面図である。
【図８】従来のホログラム脆性シールを被着体に貼り付けて剥がした後の状態を説明する説明図である。
【符号の説明】
【０１６２】
１  …  基材
２  …  剥離層
３  …  ホログラム層
４  …  反射層
５  …  接着層
６  …  接着部
７  …  剥離部
【図１】
2005106857.tif 000004
【図２】
2005106857.tif 000005
【図３】
2005106857.tif 000006
【図４】
2005106857.tif 000007
【図５】
2005106857.tif 000008
【図６】
2005106857.tif 000009
【図７】
2005106857.tif 000010
【図８】
2005106857.tif 000011