(57)【要約】【課題】  ジッター等の特性を良好に維持できる保存性の高い光記録媒体を提供する。【解決手段】  支持体上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、光透過層とを備えた光記録媒体であって、前記記録層と前記光透過層との間に硫黄を実質的に含まない中間層が設けられてなることを特徴とする光記録媒体である。前記中間層中の硫黄の含有量は、１質量％以下であることが好ましい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、光透過層とを備えた光記録媒体であって、
前記記録層と前記光透過層との間に硫黄を実質的に含まない中間層が設けられてなることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記中間層中の硫黄の含有量が、１質量％以下であることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体に関し、特に、記録層に有機色素を含有する追記型の光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタルハイビジョン放送の開始によって、さらなる画像データ量の増加が見こまれており、それに伴い、記録媒体にも、高容量、高データ転送速度が求められるようになってきた（例えば、特許文献１参照）。デジタルハイビジョン放送を家庭で録画しようとした場合、ＤＶＤ±Ｒでは既に容量が不足すると言われており、次世代ＤＶＤの開発が盛んに行われている。一例として、ＢＳデジタルハイビジョン放送を２時間録画・再生できるというブルーレイディスクレコーダーが発売されている。
【０００３】
このブルーレイディスクレコーダー用の記録媒体も同時に発売されたが、これは相変化型の記録層を有する媒体であった。相変化型の媒体の製造には大掛かりな真空成膜装置が必要であったり、その層構成が複雑であったりする。その点を考慮して、前記ブルーレイディスクも含めた次世代ＤＶＤシステムでも、より安価に記録媒体を製造するため、有機色素を用いた追記型のブルーレイディスク媒体の開発が進められている。有機色素をスピンコートで成膜する手法を採用した場合、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒの製造で用いられてきた製造設備を継続して使用できるというメリットがある。
また、その反面、追記型のブルーレイディスク媒体にも従来のＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒと同様に高い保存性が求められている。
【０００４】
ところで、追記型のブルーレイディスク媒体は、例えば、基板上に、反射層、記録層、透明シートがこの順に積層された構成となっている。前記透明シートは、例えば、粘着剤を介して貼り合わされる。この粘着剤による記録層へ影響を防ぐため、通常は、中間層が設けられる。光学特性や成膜速度、相変化型光ディスク媒体での使用実績等を考慮して、中間層には、硫黄を含有する材料を使用することが提案されている。しかし、中間層に硫黄が含まれていると、当該硫黄と反射層を構成する金属（例えば、Ａｇ等）とが反応し、硫化物を形成して保存性を低下させる問題があった。
なお、従来のＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒでは、貼り合わせに粘着剤を使用することがないため、上記のような中間層は必要ではなかった。
【特許文献１】特開平１１−１２０６１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
以上から、本発明は、上記課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、ジッター等の特性を良好に維持できる保存性の高い光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、下記本発明により解決される。
すなわち、本発明は、支持体上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、光透過層とを備えた光記録媒体であって、
前記記録層と前記光透過層との間に硫黄を実質的に含まない中間層が設けられてなることを特徴とする光記録媒体である。
前記中間層中の硫黄の含有量は、１質量％以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の光記録媒体は、ジッター等の特性を良好に維持できるため、高い保存性を発揮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の光記録媒体は、支持体上に、少なくとも、有機色素を含有する記録層と、光透過層とを備えている。そして、記録層と光透過層との間には、硫黄を実質的に含まない中間層が設けられている。
【０００９】
中間層に硫黄を実質的に含有させないことで、光透過層形成時に使用する粘着剤による影響を抑えながら、反射層を構成する金属の変質（硫化物の形成）を防ぐことができる。この結果、ジッター等の特性を良好に維持しながら高い保存性を発揮することができる。
【００１０】
ここで、「硫黄を実質的に含有しない」とは、硫黄が不可避不純物として含有される場合を考慮して、中間層中の硫黄の含有量が１質量％以下であることを意味し、好ましくは０．８質量％以下、より好ましくは、０．５質量％以下、さらに好ましくは、０質量％である。含有量を１質量％以下とすることで、硫黄と反射層の金属成分とが反応して、硫化物が生成することを防ぐことができる。
【００１１】
硫黄の含有量は、例えば、蛍光Ｘ線測定により測定することができる。具体的には、基板上に直接中間層を形成した後で、当該蛍光Ｘ線測定を行うことで、硫黄の含有量を求めることができる。
【００１２】
硫黄を実質的に含有させない方法として、後述するような硫黄を含有しない材料を使用すればよい。なお、不可避不純物として硫黄を含む場合は、その硫黄の含有量が、既述の実質的に含有しない量に該当すれば問題はない。
【００１３】
中間層を構成する材料としては、硫黄を含有しなければ種々の材料を使用することが可能で、例えば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｌａ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｃａ、Ｎｄ、Ｃｅ，Ｐｂ、Ｎａ−Ａｌ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｙ、Ｍｇ、Ｔｈ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ、Ｃｅ、Ｔｉ、Ｂｉ、Ｇｄ、Ｉｎ―Ｓｎ、Ｉｎ―Ｚｎ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ａｕ、Ａｕ合金、Ａｇ、Ａｇ合金、Ｐｔ、Ｚｎ、Ｓｅ等を少なくとも１種含有した材料を挙げられ、これら１以上を含むフッ化物、酸化物、窒化物等も使用することができる。
【００１４】
なかでも、Ｚｎまたはその酸化物を含有する材料を使用することが好ましい。Ｚｎまたはその酸化物の他に、ＡｌやＧａ等の酸化物（他の酸化物）を含有させてもよい。ＺｎＯを使用し、他の成分を含む場合、ＺｎＯと他の酸化物との質量比（ＺｎＯ：他の酸化物）は、９５：５〜５：９５であることが好ましく、９０：１０：〜５０：５０であることがより好ましく、８０：２０〜６０：４０であることがさらに好ましい。９５：５〜５：９５とすることで、短波長域での光の透過率を向上させることが可能となる。
【００１５】
中間層の厚さは１〜１００ｎｍとすることが好ましく、１〜５０ｎｍとすることがより好ましく、１．５〜２０ｎｍとすることがさらに好ましい。
中間層の厚さを１〜１００ｎｍとすることで、記録層の有機色素と粘着層との間の分離能を十分なものとり、信号記録時の粘着層側への変形を抑えることができる。
【００１６】
中間層は、例えば、スパッタリングにより成膜することができる。
成膜時の圧力は１×１０-2〜１×１０-5ｔｏｒｒとすることが好ましく、レート（スパッタ速度）は１〜１０ｎｍ／ｓｅｃとすることが好ましい。ガスの種類はＡｒ等を使用することが可能で、ガス流量は１〜５０ｓｃｃｍ（１〜５０ｍｌ／ｍｉｎ）とすることが好ましい。スパッタ電力は０．５〜８ｋＷとすることが好ましく、０．７〜７ｋＷとすることがより好ましく、１〜５ｋＷとすることがさらに好ましい。
【００１７】
ＲＦスパッタ法により成膜する場合、そのチューニング（マッチング）を調整して、ＦＷＤに対するＲＥＦは１０％以下、好ましくは５％以下、更に好ましくは２．５％以下とする。また、酸化物や窒化物の場合、それらのガスをスパッタガス中に混合して反応性スパッタにより成膜する事がある。
【００１８】
本発明の光記録媒体の好ましい層構成は、基板上に、（中間層）、反射層、（中間層）、記録層、中間層、接着層、光透過層、（ハードコート層）をこの順に設けた構成である。なお、これ以外として、各層の間に、接着性・記録特性・保存性等を高める目的で他の層が設けられても構わない。また、上記構成中、カッコ内に記載された層は、必要に応じて形成される層を意味する。
以下、上記光記録媒体を具体例として、本発明の光記録媒体の基板やその他の層等について説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１９】
（基板）
基板材料の具体例としては、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さ（記録層が形成される領域の平均の厚さ）は、１．１±０．３ｍｍの範囲とすることが好ましい。
【００２０】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（基板の凸部をオングルーブといい、凹部をイングルーブという。ここで、「オングルーブ」を「グルーブ」ということがある。）が形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。
【００２１】
グルーブのトラックピッチは、３００〜３６０ｎｍの範囲とすることが好ましい。より好ましくは、３１０〜３４０ｎｍの範囲とする。
また、グルーブの深さ（溝深さ）は、２０〜５０ｎｍの範囲とすることが好ましい。かかる範囲とすることで、トラッキングエラー信号が小さくなってトラッキングがかかりにくくなることを防ぎながら、成形が困難となることを防ぐことができる。より好ましくは、２５〜４０ｎｍである。
【００２２】
オングルーブの半値幅は、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。かかる範囲とすることで、トラッキングエラーが低下を防ぎながら、ジッターを低減させることができる。より好ましくは７０〜１９０ｎｍの範囲とし、さらに好ましくは９０〜１８０ｎｍとする。
【００２３】
なお、後述する反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成してもよい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００２４】
（反射層）
反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率の高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、ＡｇまたはＡｇを主成分とする合金（Ａｇ：５０質量％以上）である。
【００２５】
反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００２６】
（記録層）
記録層は、反射層上に形成され、波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能な層で、有機色素を含有する色素型である。
前記有機色素の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。
【００２７】
また、有機色素としては、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素が好適に用いられる。
さらに、トリアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物等の有機化合物も、記録層素材として好適に用いられる。これらの化合物の中では、シアニン化合物、アミノブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタロシアニン化合物が特に好ましい。
【００２８】
記録層は、有機色素である記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に形成された反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００２９】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００３０】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００３１】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００３２】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００３３】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、有機色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、さらに好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００３４】
（中間層）
中間層は、既述の硫黄を実質的に含まない材料を用いて既述の方法により記録層上に形成される。なお、中間層は、記録層と光透過層との間に形成されることを必須とし、その他、「基板と反射層との間」および「反射層と記録層と間」の少なくともいずれかに形成されていてもよい。
【００３５】
（光透過層）
光透過層は、光記録媒体内部を汚染や傷、衝撃などから防ぐため、あるいは水分の浸入などを防ぐなどのために形成される。材料としては、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等からなる透明シートで、少なくとも一方の面に粘着剤が付与されたものを挙げることができる。
なお、「透明」とは、記録光および再生光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００３６】
透明シートの粘着剤が付与された面とは反対の面には、透明シートの傷つき防止のためハードコート層形成しておいてもよい。かかる透明シートを記録層上に形成するには、以下のようにして行うことが好ましい。
まず、ロール状に巻回された透明シートの一方の面に、放射線硬化樹脂塗布液を連続的に塗布する。塗布により形成された塗膜に放射線を連続照射し、硬化させて透明シート上にハードコート層を設ける。その後、カバーフィルムの他方の面に、粘着剤からなる粘着層を連続的に設け、ハードコート層及び粘着層が設けられた透明シートを所定の形状（ディスク状）に打ち抜く。このディスク状の透明シートの粘着層を貼り合わせ面として、記録層上に当該透明シートを設けて、光透過層を形成する。なお、透明シートの貼り合わせ方法等は、単なる例示であり、種々の方法を適用することができる。
【００３７】
透明シートの厚さは、０．０３〜０．１５ｍｍの範囲であることが好ましく、０．０５〜０．１２ｍｍの範囲であることがより好ましい。このような範囲とすることにより、取り扱いが容易となり、しかも、コマ収差を抑えることができるという利点がある。
【００３８】
粘着剤としては、アクリル系、ゴム系、シリコン系の粘着剤を使用することができるが、透明性、耐久性の観点から、アクリル系の粘着剤が好ましい。かかるアクリル系の粘着剤としては、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを主成分とし、凝集力を向上させるために、短鎖のアルキルアクリレートやメタクリレート、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、メチルメタクリレートと、架橋剤との架橋点となりうるアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド誘導体、マレイン酸、ヒドロキシルエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなどと、を共重合したものを用いることが好ましい。主成分と、短鎖成分と、架橋点を付加するための成分と、の混合比率、種類を、適宜、調節することにより、ガラス転移温度（Ｔｇ）や架橋密度を変えることができる。なお、予め粘着剤が付与された市販の透明シートを使用することもできる。
【００３９】
また、ハードコート層に使用される放射線硬化樹脂としては、放射線照射により硬化可能な樹脂であればよく、より詳細には、分子中に、２個以上の放射線官能性の２重結合を有する樹脂であることが好ましい。
例えば、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等が挙げられる。中でも、好ましくは、２官能以上のアクリレート化合物、メタクリレート化合物である。
【００４０】
次に、本発明の光記録媒体への情報の記録方法および記録した情報の再生方法について説明する。
光記録媒体への情報の記録は、例えば、次のように行われる。
まず、光記録媒体を定線速度にて回転させながら、透明シート側（基板の反対側）から記録用の３５０〜５００ｎｍ（好ましくは、４００〜４４０ｎｍ）のレーザ光を照射する。このレーザ光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性が変化する。この光学的特性の変化により、情報が記録される。
【００４１】
３５０〜５００ｎｍの発振波長を有するレーザ光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長約４３０ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズの開口率（ＮＡ）は０．７以上が好ましく、０．８０以上がより好ましい。
【００４２】
一方、記録された情報の再生は、光記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら、情報の記録に使用したレーザと同一波長もしくはそれ以下の波長のレーザ光を透明シート側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【実施例】
【００４３】
（実施例１）
帝人化成（株）社製ポリカーボネート樹脂（パンライトＡＤ５５０３）を用いて射出成形により厚さ１．１ｍｍの基板を成形した。基板の溝トラックピッチは３２０ｎｍ、オングルーブ部の半値幅は１２０ｎｍ、溝深さは３５ｎｍであった。
【００４４】
この基板上に、Ａｇ：９８．１質量部、Ｐｄ：０．９質量部、Ｃｕ：１．０質量部、からなるターゲットを用いて、真空成膜法により反射層を１００ｎｍの厚みで成膜した。投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は５ｓｃｃｍで行った。
【００４５】
下記化学式で表される有機色素を、ＴＦＰ１００ｍｌに対し２．５ｇの比率になるよう秤量して溶解させた。該液に超音波を２時間照射して色素を溶解させた後、２３℃５０％の環境に０．５時間以上静置し、０．２μｍのフィルターで濾過した。この液を用いて、スピンコート法で反射層上に厚さ１４０ｎｍの記録層を形成した。その後、８０℃のクリーンオーブン中で１時間加熱処理した。
【００４６】
【化１】
2005228402.tif 000002
【００４７】
加熱処理後、真空成膜法により、ＺｎＯ：７０質量部、Ｇａ2Ｏ3：３０質量部、からなるターゲットを用いて７ｎｍの厚みの中間層を成膜した。投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は５０ｓｃｃｍ、ＲＦのチューニングを最適化した結果、ＦＷＤ＝２０００に対してＲＥＦ＝４０であった。
【００４８】
中間層を形成した後、一方の面に厚さ２０μｍの粘着層が形成されたポリカーボネートフィルム（厚み８０μｍ）を貼り合せて光記録媒体を作製した。
【００４９】
作製した光記録媒体を、波長：４０３ｎｍ、ＮＡ＝０．８５のレーザー光学系を搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック工業社製）にセットして、５．５ｍＷのパワーで１−７変調されたランダム信号（２Ｔ〜８Ｔ）を記録し、０．３５ｍＷのパワーで再生してジッターを評価した。この時、線速は５．２８ｍ／ｓで、記録時のレーザーの発光パターンを最適化して行った。ジッターはコンベンショナルイコライザーを使用して測定した。結果を下記表１に示す。
【００５０】
また、作製した光記録媒体を、８０℃８５％の環境に９６時間保存した後、記録済みトラックのジッターを、保存前と同条件で測定し、保存前のジッターと比較した（アーカイバルジッター変化）。結果を下記表１に示す。
【００５１】
さらに、保存後に新規未記録トラックに対して保存前と同様にジッターを評価し、保存前に評価したジッターと比較した（シェルフジッター変化）。
保存後の試料を、微分干渉顕微鏡で１００倍の倍率で観察し、黒ブツ状欠陥（硫化物）の有無を観察した。結果を下記表１に示す。
【００５２】
（実施例２）
中間層成膜時、ＺｎＯ：７０質量部、Ａ１2Ｏ3：３０質量部、からなるターゲットを用いた以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【００５３】
（実施例３）
中間層成膜時、Ｓｉからなるターゲットを用いた以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。なお、この時、投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は５０ｓｃｃｍ、ＤＣスパッタで成膜した。その他は実施例１と同様とした。
【００５４】
（比較例１）
中間層成膜時、ＺｎＳ：８０質量部、ＳｉＯ2：２０質量部からなるターゲットを用いた以外は、実施例１と同様にして光記録媒体を作製し、評価を行った。
【００５５】
なお、中間層を形成した後のそれぞれの光記録媒体（積層体）について、蛍光Ｘ線測定を行ったところ、実施例１〜３の光記録媒体では、硫黄の含有量は、１質量％以下であったのに対し、比較例１の光記録媒体は、２５質量％であった。
【００５６】
【表１】
2005228402.tif 000003
【００５７】
上記表１より、実施例１〜３の光記録媒体は、いずれも、硫化銀に起因する黒ブツの発生が見られず、種々の保存条件において、良好なジッター値を維持していた。