(57)【要約】【課題】  マスクに有機物が吸着するのを防ぐとともに、コストダウンおよび作業者の安全面の改善を図ることのできるマスク保管装置を提供する。【解決手段】  マスク保管装置１は、マスクが保管されるマスク保管領域２と、マスク保管装置１内の空気が流通する空気流通路３と、マスク保管装置１内の空気をマスク保管領域２と空気流通路３との間で循環させるファン１３とを有する。マスク保管領域２の空気は、マスク保管領域２の下部に設けられた排気口１１から排出された後、ケミカルフィルタ１４を通過して空気流通路３に入る。その後、空気流通路３からマスク保管領域２の上部に設けられた吸気口１２を通じてマスク保管領域２に吸入される。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の製造工程で使用されるマスクを保管するマスク保管装置であって、
前記マスク保管装置は、前記マスクが保管されるマスク保管領域と、
前記マスク保管装置内の空気が流通する空気流通路と、
前記マスク保管装置内の空気を前記マスク保管領域と前記空気流通路との間で循環させる空気循環手段とを有し、
前記マスク保管領域の空気は、該マスク保管領域の下部に設けられた排気口から排出された後、ケミカルフィルタを通過して前記空気流通路に入り、該空気流通路から前記マスク保管領域の上部に設けられた吸気口を通じて前記マスク保管領域に吸入されることを特徴とするマスク保管装置。
【請求項２】
前記マスク保管領域には、前記マスクを収納するマスク収納容器と、
前記マスクを前記マスク保管装置の外部に取り出すためのマスク取出口とが設けられていて、
処理対象のマスクが収納された前記マスク収納容器を前記マスク取出口に移送するマスク移送手段をさらに有する請求項１に記載のマスク保管装置。
【請求項３】
半導体装置の製造工程で使用されるマスクを保管するマスク保管装置であって、
前記マスク保管装置は、前記マスクが保管されるマスク保管領域と、
前記マスク装置内の空気が流通する空気流通路と、
前記マスク保管装置内の空気を前記マスク保管領域と前記空気流通路との間で循環させる空気循環手段とを有し、
前記マスク保管装置内の空気は、所定量のオゾンと混合された後に前記マスク保管領域の上部に設けられた吸気口から前記マスク保管領域に入り、該マスク保管領域の下部に設けられた排気口から前記空気流通路に排出され、該空気流通路内でオゾンを除去された後に再び所定量のオゾンと混合されて前記吸気口から前記マスク保管領域に入ることを特徴とするマスク保管装置。
【請求項４】
前記吸気口の前段に設けられたオゾンセンサと、
前記オゾンセンサで測定されたオゾン濃度が所定の範囲内の値となるように、前記空気に混合する前記オゾンの量を調整するオゾン量調整手段とをさらに有する請求項３に記載のマスク保管装置。
【請求項５】
前記オゾン濃度が０．０１ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの範囲内にある請求項４に記載のマスク保管装置。
【請求項６】
前記空気流通路にオゾン発生器が設けられている請求項３〜５のいずれか１に記載のマスク保管装置。
【請求項７】
前記マスク保管領域には、前記マスクを収納するマスク収納容器と、
前記マスクを前記マスク保管装置の外部に取り出すためのマスク取出口とが設けられていて、
処理対象のマスクを前記マスク収納容器から前記マスク取出口へ移送するマスク移送手段をさらに有する請求項３〜６のいずれか１に記載のマスク保管装置。
【請求項８】
前記吸気口には防塵用フィルタが設けられている請求項１〜７のいずれか１に記載のマスク保管装置。
【請求項９】
前記マスク保管装置内の圧力は外圧に対して陽圧である請求項１〜８のいずれか１に記載のマスク保管装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスク保管装置、特に、半導体装置の製造工程で使用されるマスクを保管するマスク保管装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩなどの半導体装置の製造工程において使用されるフォトリソグラフィ技術には、被加工基板表面にレジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程、露光によりレジストパターン潜像を形成する工程、必要に応じて加熱処理をする工程、次いでこれを現像して所望の微細パターンを形成する工程、および、この微細パターンをマスクとして被加工基板に対してエッチングなどの加工を行う工程が含まれる。
【０００３】
上記のレジストパターン潜像を形成する工程では、所定のレジストパターンが形成されたマスクを介してレジスト膜に露光光を照射する。この際、マスクの表面にゴミや傷があると、これらもレジスト膜に転写されてしまい、所望のレジストパターン潜像を形成することができなくなる。そこで、従来より、マスクの保管は、クリーン度の高いマスク保管庫内で行うようにされてきた。
【０００４】
ところで、近年、半導体装置の集積度の増加に伴い個々の素子の寸法は微小化が進み、各素子を構成する配線やゲートなどのパターンの幅も微細化されている。これに伴い、パターンの微細化を図る手段の一つとして、上記のレジストパターン潜像を形成する際に使用される露光光の短波長化が進められている。
【０００５】
従来、例えば６４Ｍビットまでの集積度のＤＲＡＭ（Ｄｙｎａｍｉｃ  Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）の製造には、高圧水銀灯のｉ線（波長：３６５ｎｍ）が光源として使用されてきた。近年では、２５６メガビットＤＲＡＭの量産プロセスには、ＫｒＦ（フッ化クリプトン）エキシマレーザ（波長：２４８ｎｍ）を露光光源として用いた技術が実用化されている。また、１ギガビット以上の集積度を持つＤＲＡＭの製造には、ＡｒＦ（フッ化アルゴン）エキシマレーザ（波長：１９３ｎｍ）の実用化が検討されている。さらに、６５ｎｍ以下のデザイン・ルールに対応する微細パターンを実現する技術として、より波長の短いＦ２（フッ素）レーザ（波長：１５７ｎｍ）を露光光源として用いることも考えられている。
【０００６】
このような短波長の光を露光光源に使用する場合には、空気中の酸素（Ｏ２）による光の吸収が無視できないものとなる。例えば、ＡｒＦエキシマレーザやＦ２レーザの発振波長は真空紫外にあるが、この波長域では酸素による光の吸収が大きく、空気はほとんど光を透過しない。このため、これらの光を光源とする露光装置においては、光路中に存在する空気を窒素（Ｎ２）などの真空紫外光を吸収しないガスに置き換えることが行われている。この方法によれば、酸素による露光光の吸収を抑えて、所望のレジストパターンを形成することが可能である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、露光光が真空紫外光である場合には、上記の酸素による吸収の他に、マスクに付着した有機物による吸収という問題もあった。これについて、以下に詳細に説明する。
【０００８】
クリーンルーム内には、微量ながら様々な有機物が浮遊している。こうした有機物は、例えば、レジストに使用される有機溶剤や、プラスチック製品に使用される可塑剤などに起因している。ここで、レジストに使用される有機溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、エチルラクテート（ＥＬ）またはエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＥＣＡ）などが挙げられる。また、プラスチック製品に使用される可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）などが挙げられる。
【０００９】
空気中に浮遊している有機物は、やがて、クリーンルーム内にあるあらゆる物質の表面に吸着する。図５は、マスクの表面に有機物が吸着した様子を示したものである。図に示すように、マスク５１に吸着した有機物５２は露光光５３を吸収するので、マスク５１を透過した後の露光光５３の強度は大きく低減してしまう。このため、例えば、ポジ型レジストを用いた場合には、露光量が必要とする値に届かないことによって、現像後のレジストパターンの線幅が所望の寸法より大きくなるという問題があった。
【００１０】
ところで、酸素による露光光の吸収を抑えるために露光雰囲気を窒素ガスとした場合であっても、雰囲気中には０．０１ｐｐｍ〜５ｐｐｍ程度の濃度の酸素が残存している。そして、この酸素に真空紫外光が照射されるとオゾン（Ｏ３）が生成する。生成したオゾンはマスク表面に到達して、マスクに吸着している有機物を酸化する。これにより、マスク表面の有機物は徐々に減少していくので、マスクを透過した露光光の強度も大きくなって行く。図６は、この様子を示したものである。図から分かるように、露光当初は、有機物が付着しているマスクの透過率は、有機物が付着していないマスクの透過率に比較して低いものとなっている。しかしながら、露光時間が長くなると前者の透過率は次第に上昇し、やがて、後者の透過率とほとんど変わらない値になる。
【００１１】
しかしながら、上記のように、露光光に対するマスクの透過率が変化する状況下で、レジストパターンの線幅を所定の寸法に制御するのは非常に困難である。一方、マスクに真空紫外光を照射し、マスクの透過率が一定となるのを待った上で使用するのでは、生産性が低下し実用的でない。
【００１２】
また、雰囲気中に浮遊する有機物がマスク表面に吸着するのを防ぐため、従来は、使用していないマスクを窒素ガスでパージしたマスク保管庫の中へ収納していた。しかしながら、量産時に使用するマスクの総数は数百枚から数千枚に達し、このような大量のマスクを収納するために必要とする窒素ガスの量も必然的に多いものとなる。このため、大量の窒素ガスを供給することのできる窒素ガス製造装置が必要となり、設備費用および経費の増大に伴うコストアップが問題となっていた。また、従来より、クリーンルーム内の空気は、省エネルギーのために循環して使用されている。しかしながら、マスク保管庫内を大量の窒素ガスでパージした場合、クリーンルーム内の酸素濃度が低下するおそれがあり、作業者の安全面および衛生面の観点からも問題となっていた。
【００１３】
本発明は上述した問題点に鑑みてなされたものである。即ち、本発明の目的は、マスクに有機物が吸着するのを防ぐことのできるマスク保管装置を提供することにある。
【００１４】
また、本発明の目的は、設備費用や経費を削減してコストダウンを図ることのできるマスク保管装置を提供することにある。
【００１５】
さらに、本発明の目的は、クリーンルーム内の酸素濃度低下の問題を解消し、作業者の安全面および衛生面の改善を図ることのできるマスク保管装置を提供することにある。
【００１６】
本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明のマスク保管装置は、半導体装置の製造工程で使用されるマスクを保管するマスク保管装置であって、マスクが保管されるマスク保管領域と、マスク保管装置内の空気が流通する空気流通路と、マスク保管装置内の空気をマスク保管領域と空気流通路との間で循環させる空気循環手段とを有し、マスク保管領域の空気が、このマスク保管領域の下部に設けられた排気口から排出された後、ケミカルフィルタを通過して空気流通路に入り、この空気流通路からマスク保管領域の上部に設けられた吸気口を通じてマスク保管領域に吸入されることを特徴とする。
【００１８】
本発明において、マスク保管領域には、マスクを収納するマスク収納容器と、マスクをマスク保管装置の外部に取り出すためのマスク取出口とが設けられていて、処理対象のマスクが収納されたマスク収納容器をマスク取出口に移送するマスク移送手段をさらに有するものとすることができる。
【００１９】
また、本発明のマスク保管装置は、半導体装置の製造工程で使用されるマスクを保管するマスク保管装置であって、マスクが保管されるマスク保管領域と、マスク装置内の空気が流通する空気流通路と、マスク保管装置内の空気をマスク保管領域と空気流通路との間で循環させる空気循環手段とを有し、マスク保管装置内の空気が、所定量のオゾンと混合された後にマスク保管領域の上部に設けられた吸気口からマスク保管領域に入り、このマスク保管領域の下部に設けられた排気口から空気流通路に排出され、この空気流通路内でオゾンを除去された後に再び所定量のオゾンと混合されて吸気口からマスク保管領域に入ることを特徴とする。
【００２０】
本発明のマスク保管装置は、吸気口の前段に設けられたオゾンセンサと、このオゾンセンサで測定されたオゾン濃度が所定の範囲内の値となるように、空気に混合するオゾンの量を調整するオゾン量調整手段とをさらに有することができる。この場合、オゾン濃度は０．０１ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの範囲内にあるようにすることが好ましい。
【００２１】
また、本発明のマスク保管装置は、空気流通路にオゾン発生器が設けられているものとすることができる。
【００２２】
さらに、本発明において、マスク保管領域には、マスクを収納するマスク収納容器と、マスクをマスク保管装置の外部に取り出すためのマスク取出口とが設けられていて、処理対象のマスクをマスク収納容器からマスク取出口へ移送するマスク移送手段をさらに有するものとすることができる。
【００２３】
上記のいずれの発明においても、吸気口には防塵用フィルタが設けられていることが好ましい。また、マスク保管装置内の圧力は外圧に対して陽圧であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２４】
この発明は以上説明したように、マスク保管領域から排出された空気をケミカルフィルタに通した後に空気流通路を経て再びマスク保管領域に送る構造としているので、マスク保管領域内の空気を常に有機物フリーの状態にしておくことができる。したがって、マスク収納容器内に収納されたマスクに有機物が吸着するのを防ぐことができる。
【００２５】
また、本発明によれば、オゾンを混合した空気をマスク保管領域内に送るので、空気中に浮遊している有機物のみならず、マスク保管領域内にある全ての物質の表面に吸着した有機物も除去することができる。
【００２６】
さらに、本発明によれば、マスク保管装置内を窒素ガスでパージする必要がないので、窒素ガス製造装置などの設備費用や経費を削減してコストダウンを図ることが可能となる。さらには、窒素ガスパージによるクリーンルーム内の酸素濃度低下の問題を解消し、作業者の安全面および衛生面の改善を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
実施の形態１．
図１は、本実施の形態におけるマスク保管装置の斜視図である。また、図２は、図１のマスク保管装置のＡ−Ａ′線に沿う断面図である。尚、これらの図において、同じ符号を付した部分は同じものであることを表わしている。
【００２８】
図２に示すように、マスク保管装置１は、マスクが保管されるマスク保管領域２と、マスク保管装置１内の空気が流通する空気流通路３とを有する。マスク保管領域２には、複数のマスク収納容器４が設けられている。そして、各マスク収納容器４の内部には、単数または複数のマスク（図示せず）を格納することができる。また、マスク収納容器４は、それぞれ支持部５を介してマスク移送手段に接続している。マスク移送手段は、支持部５に接続する回転部６と、回転部６に接続する駆動部７とを有する。駆動部７を通じて回転部６が回転することによって、マスク保管領域２内におけるマスク収納容器４の位置（アドレス）を変えることができる。ここで、回転部６は、例えば、両端部が互いに結合したチェーンなどを用いて形成することができる。
【００２９】
本実施の形態においては、マスク収納容器４内に収納されているマスクに関する情報をマスク収納容器４のアドレスと関連付け、これをコンピュータによって管理することが好ましい。例えば、図１の情報入力部８に処理対象となるマスクに関する情報を入力する。入力された情報が図２の駆動部７へ伝達されると、駆動部７はこの情報に基づいて回転部６を駆動する。これにより、所望のマスクが格納されたマスク収納容器４をマスク取出口９に移送させることができる。そして、マスク収納容器４がマスク取出口９の位置で停止すると、マスク取出口開閉手段１０によってマスク取出口９が開閉し、所望のマスクをマスク保管装置１の外部に取り出すことができる。尚、マスク取出口９からは、マスク収納容器４の全体が取り出せるようになっていてもよいし、マスク収納容器４内のマスクのみが取り出せるようになっていてもよい。また、図２では、図１の情報入力部８から駆動部７へ情報を伝達する手段について省略している。
【００３０】
マスク保管装置１内の空気は、マスク保管領域２の下部に設けられた排気口１１から排出されて、空気流通路３を通った後、マスク保管領域２の上部に設けられた吸気口１２を通じてマスク保管領域２に吸入される。このようなマスク保管領域２と空気流通路３との間の空気の循環は、ガス流通路３に設けられた空気循環手段としてのファン１３の回転によって達成される。そして、マスク保管領域２の下部に排気口１１を設け、上部に吸気口１２を設けているので、マスク保管領域２内の空気がダウンフローになるようにすることができる。
【００３１】
本実施の形態においては、排気口１１から排出された空気は、ケミカルフィルタ１４を通ってから空気流通路３に入ることを特徴としている。ケミカルフィルタ１４は、有機物を除去することのできるフィルタであり、例えば、酸化チタン、活性炭またはイオン交換樹脂などを含むものを用いることができる。このようにすることによって、マスク保管領域２内の空気に含まれていた有機物をケミカルフィルタ１４によって除去した後に、再びマスク保管領域２内に送り込むことができる。したがって、マスク保管装置１内の空気を循環させることによって、マスク保管領域２内の空気が常に有機物フリーの状態になるようにしておくことが可能となる。
【００３２】
尚、図２に示すように、ケミカルフィルタ１４をマスク保管装置１の下部に設け、マスク保管装置１の前面１ａから引き出して取り外せる構造としておくことによって、スムーズにケミカルフィルタ１４の交換を行うことが可能となる。
【００３３】
一方、吸気口１２には、防塵用フィルタが設けられていることが好ましい。これにより、ガス流通路３からマスク保管領域２内にゴミなどが入り込むのを防ぐことができる。防塵用フィルタとしては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）などの樹脂またはアルミナなどのセラミクスなどからなるものを用いることができる。
【００３４】
また、マスク取出口９を開放する際などに外部からマスク保管装置１内に空気が侵入するのを抑制するため、マスク保管装置１内の圧力が外圧（クリーンルーム内の圧力）に対して陽圧になるように設定しておくことが好ましい。具体的には、排気口１１とケミカルフィルタ１４との間の空間に空気取入口１５を設け、空気取入口１５から取り入れるクリーンルーム内の空気の量、排気口１１から排出するマスク保管領域２内の空気の量、およびファン１３の回転速度を調整することによって、マスク保管装置１内の圧力が陽圧になるよう制御することが可能である。ここで、空気取入口１５から取り入れる空気の量は、例えば、開口部を有する空気量調整板１６を空気取入口１５に設け、この空気量調整板１６をスライドして空気取入口１５の開口面積を変えることによって調整することができる。同様に、排気口１１から排出するマスク保管領域２内の空気の量も、排気口１１に空気量調整板１７を設けることによって調整することができる。
【００３５】
以上述べたように、本実施の形態によれば、マスク保管領域と空気流通路とを別個に設け、マスク保管領域から排出された空気をケミカルフィルタに通した後に空気流通路を経て再びマスク保管領域に送る構造としているので、マスク保管領域内の空気を常に有機物フリーの状態にしておくことができる。したがって、マスク収納容器内に収納されたマスクに有機物が吸着するのを防ぐことができるので、有機物による露光光の吸収を原因としてマスクの透過率が低下するのを抑えることができる。また、露光雰囲気中に発生したオゾンによって有機物の酸化反応が起きた場合であっても、マスクの透過率の変化を小さいものとすることができる。
【００３６】
また、本実施の形態によれば、マスク保管装置内を窒素ガスでパージする必要がないので、窒素ガス製造装置などの設備費用や経費を削減してコストダウンを図ることが可能となる。さらには、窒素ガスパージによるクリーンルーム内の酸素濃度低下の問題を解消し、作業者の安全面および衛生面の改善を図ることができる。
【００３７】
さらに、本実施の形態によれば、マスク保管装置内を循環する空気の流通路にケミカルフィルタを設けることによって有機物を除去しているので、大掛かりな除去装置をマスク保管装置とは別に設置する必要はなく、また、マスク保管装置内の構造を複雑化する必要もない。したがって、簡便に有機物の除去を行うことが可能である。
【００３８】
実施の形態２．
図３は、本実施の形態におけるマスク保管装置の斜視図である。また、図４は、図３のマスク保管装置のＢ−Ｂ′線に沿う断面図である。尚、これらの図において、同じ符号を付した部分は同じものであることを表わしている。
【００３９】
図４に示すように、マスク保管装置２１は、マスク保管領域２２と空気流通路２３とを有する。本実施の形態においては、空気流通路２３が、オゾン発生器２４が設けられた第１の空気流通路２３ａと、オゾン除去器２５が設けられた第２の空気流通路２３ｂとからなることを特徴としている。
【００４０】
マスク保管装置２１内の空気は、マスク保管領域２２の上部に設けられた吸気口２７からマスク保管領域２２に入り、マスク保管領域２２の下部に設けられた排気口２６から第２の空気流通路２３ｂに排出される。その後、第１の空気流通路２３ａを経て再び吸気口２７からマスク保管領域２２に入る。このようなマスク保管領域２２と空気流通路２３との間の空気の循環は、第２のガス流通路２３ｂと第１のガス流通路２３ａとの間に設けられた空気循環手段としてのファン２８の回転によって達成される。また、マスク保管領域２２の上部に吸気口２７を設け、マスク保管領域２２の下部に排気口２６を設けているので、マスク保管領域２２内の空気をダウンフローにすることができる。
【００４１】
本実施の形態においては、第１の空気流通路２３ａにオゾン発生器２４が設けられている。そして、オゾン発生器２４で発生したオゾンは、配管２９を通った後、ファン２８の排気口付近に排出される。これにより、オゾンは、ファン２８から排出された空気と混合する。その後、さらに、オゾン混流器３０によって均一な濃度の混合ガスとなった後、パンチングされた天板３１を経て、吸気口２７からマスク保管領域２２へと導入される。
【００４２】
ここで、空気の流通経路において、吸気口２７の前段にはオゾンセンサが設けられていることが好ましい。図４の例では、天板３１と吸気口２７の間の空間にオゾンセンサ３２が設けられていて、混合ガス中のオゾン濃度を測定できるようになっている。例えば、空気中の有機物濃度が高い場合には、有機物の酸化反応にオゾンが大量に消費される結果、混合ガス中のオゾン濃度は低下する。一方、空気中の有機物濃度が低い場合にはオゾンの消費量が少なくなるので、混合ガス中のオゾン濃度は高くなる。したがって、オゾンセンサ３２によりオゾン濃度を測定し、オゾン濃度が所定の範囲内の値となるようにオゾンの量を調整するオゾン量調整手段（図示せず）を設けることによって、マスク保管装置２１内の空気に含まれる有機物の量を常に少ない状態に保つことができるとともに、過剰のオゾンの発生を抑制することが可能となる。ここで、オゾン量調整手段は、オゾン発生器２４でのオゾンの生成量を調整する手段とすることができる。また、空気中のオゾン濃度は、０．０１ｐｐｍ〜１００ｐｐｍの範囲内に調整することが好ましい。
【００４３】
吸気口２７には、防塵用フィルタが設けられていることが好ましい。これにより、空気流通路２３からマスク保管領域２２内にゴミなどが入り込むのを防ぐことができる。防塵用フィルタとしては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）などの樹脂またはアルミナなどのセラミクスなどからなるものを用いることができる。
【００４４】
マスク保管領域２２に導入された空気は一定量のオゾンを含んでいるので、このオゾンによってマスク保管領域２２にある有機物を酸化分解することができる。したがって、マスクへの有機物の吸着を抑制することが可能となる。
【００４５】
オゾンによる有機物の酸化は、例えば、式（１）のような化学反応式によって表わされる。式（１）では、炭化水素（ＣｍＨｎ）は、オゾン（Ｏ３）と反応して、二酸化炭素（ＣＯ２）と水（Ｈ２Ｏ）に分解される。
【００４６】
ＣｍＨｎ  ＋  （２ｍ＋ｎ／２）Ｏ３ 
→  ｍＣＯ２  ＋  （ｎ／２）Ｈ２Ｏ  ＋  （２ｍ＋ｎ／２）Ｏ２    ・・・（１）
【００４７】
マスク保管領域２２を通過したオゾンを含む空気は、排気口２６から第２の空気流通路２３ｂへと進む。第２の空気流通路２３ｂの途中にはオゾン除去器２５が設けられていて、マスク保管領域２２から第２の空気流通路２３ｂへと排出された空気のすべてがオゾン除去器２５を経るように構成されている。このようにすることによって、空気中のオゾンを除去することができるので、オゾン除去器２５から排出される空気はオゾンを含まない空気になる。このオゾンを含まない空気は、第２の空気流通路２３ｂからファン２８によって吸気されて、再び第１の空気流通路２３ｂへと排気される。
【００４８】
このように、マスク保管装置２１内を循環する空気は、まず、マスク保管領域２２内にある有機物を一定値以下の値に抑えることのできる量のオゾンと混合した状態でマスク保管領域２２に導入される。次に、マスクク保管領域２２内の有機物をオゾンによって酸化した後、マスク保管領域２２から排出される。排出された空気は残存オゾンを除去された後、新たに適当量のオゾンと混同されて再びマスク保管領域２２に導入される。これが繰り返されることによって、マスク保管領域２２内を常に有機物フリーの状態にしておくことができる。さらに、本実施の形態によれば、オゾンによる酸化反応を利用して有機物を積極的に分解除去するので、空気中に浮遊している有機物のみならず、マスク保管領域２２内にある全ての物質の表面に吸着した有機物も除去することができる。したがって、実施の形態１よりもさらに効果的に有機物を除去することが可能であり、また、露光時間によってマスクの透過率が変化するのも一層抑制することができる。
【００４９】
本実施の形態においても実施の形態１と同様に、マスク保管装置２１内に外部から空気が入り込むのを防ぐため、マスク保管装置２１内の圧力が外圧（クリーンルーム内の圧力）に対して陽圧になるように調整することが好ましい。具体的には、オゾン除去器２５とファン２８との間の第２の空気流通路２３ｂに空気取入口３３を設け、空気取入口３３から取り入れるクリーンルーム内の空気の量、排気口２６から排出するマスク保管領域２２内の空気の量、およびファン２８の回転速度を調整することによって、マスク保管装置２１内の圧力が外圧に対して陽圧になるよう制御することができる。ここで、空気取入口３３から取り入れる空気の量は、例えば、開口部を有する空気量調整板３４を空気取入口３３に設け、空気量調整板３４をスライドして空気取入口３３の開口面積を変えることによって調整することができる。同様に、排気口２６から排出するマスク保管領域２２内の空気の量も、排気口２６に空気量調整板３５を設けることによって調整することができる。
【００５０】
次に、本実施の形態におけるマスクの取り出し方法について説明する。
【００５１】
マスク保管領域２２には、複数のマスク収納容器３６が設けられている。そして、各マスク収納容器３６の内部には、複数のマスク（図示せず）を格納することができる。また、マスク保管領域２２には、処理対象のマスクをマスク収納容器３６からマスク取出口４４へ移送するマスク移送手段が設けられている。
【００５２】
図４の例では、マスク移送手段は、マスクを支持する第１の支持部３７と、図の垂直方向に延在し第１の支持部３７を支持する第２の支持部３８と、図の水平方向に延在し第２の支持部３８を支持する第３の支持部３９とを有する。第２の支持部３８にはレール（図示せず）が設けられていて、第１の支持部３７がこのレールに沿って移動することにより、マスクを垂直方向に移動させることができる。また、マスク保管装置２１の底部にもレール４０が設けられていて、第３の支持部３９に取り付けられた車輪４１がレール４０に沿って移動することにより、第２の支持部３８を介して第１の支持部３７を水平方向に移動させることができる。さらに、第２の支持部３８は、第３の支持部３９上で回動可能なように取り付けられている。以上により、マスク保管領域２２内の任意の位置にあるマスク収納容器３６から所望のマスクを取り出すとともに、取り出したマスクをマスク取出口４４へ移送することが可能となる。
【００５３】
本実施の形態においては、マスク収納容器３６内に収納されているマスクに関する情報をマスク収納容器３６のアドレスと関連付け、これをコンピュータによって管理することが好ましい。例えば、図３の情報入力部４２に処理対象となるマスクに関する情報を入力する。入力された情報が駆動部４３へ伝達されると、駆動部４３はこの情報に基づいてマスク移送手段を駆動する。これにより、所望のマスクが格納されたマスク収納容器３６に第１の支持部３７を移動させることができる。その後、第１の支持部３７によってマスクを取り出してから、再びマスク移送手段を駆動してマスクをマスク取出口４４へ移送する。そして、マスクがマスク取出口４４の位置で停止すると、マスク取出口開閉手段４５によってマスク取出口４４が開閉し、所望のマスクをマスク保管装置２１の外部へと取り出すことができる。尚、図４では、図３の情報入力部４２から駆動部４３へ情報を伝達する手段について省略している。
【００５４】
以上述べたように、本実施の形態によれば、マスク保管領域内の空気を常に有機物フリーとしておくことができるので、マスク収納容器内に格納されたマスクに有機物が吸着するのを防ぐことができる。また、マスク保管領域内に吸着した有機物も分解除去することができるので、有機物による露光光の吸収を原因としてマスクの透過率が低下するのを効果的に抑制することができる。
【００５５】
また、本実施の形態によれば、マスク保管装置内を窒素ガスでパージする必要がないので、窒素ガス製造装置などの設備費用や経費を削減してコストダウンを図ることが可能となる。さらには、窒素ガスパージによるクリーンルーム内の酸素濃度低下の問題を解消し、作業者の安全面および衛生面の改善を図ることができる。
【００５６】
尚、本実施の形態においては、マスク保管装置の内部にオゾン発生器が設けられている例について述べたが、本発明はこれに限られるものではない。マスク保管装置の外部にオゾン発生器が設けられており、マスク保管装置に接続した配管を通じて外部からオゾンが供給される構造であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】実施の形態１にかかるマスク保管装置の斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ′線に沿う断面図である。
【図３】実施の形態２にかかるマスク保管装置の斜視図である。
【図４】図３のＢ−Ｂ′線に沿う断面図である。
【図５】有機物が吸着した従来のマスクにおける露光光の透過率変化の説明図である。
【図６】有機物が吸着した従来のマスクの露光時間に対する透過率変化を示す図である。
【符号の説明】
【００５８】
１，２１  マスク保管装置
２，２２  マスク保管領域
３，２３  空気流通路
４，３６  マスク収納容器
５  支持部
６  回転部
７，４３  駆動部
８，４２  情報入力部
９，４４  マスク取出口
１０，４５  マスク取出口開閉手段
１１，２６  排気口
１２，２７  吸気口
１３，２８  ファン
１４  ケミカルフィルタ
１５，３３  空気取入口
１６，１７，３４，３５  空気量調整板
２４  オゾン発生器
２５  オゾン除去器
２９  配管
３０  オゾン混流器
３１  天板
３２  オゾンセンサ
３７  第１の支持部
３８  第２の支持部
３９  第３の支持部
４０  レール
４１  車輪
【図１】
2005156771.tif 000003
【図２】
2005156771.tif 000004
【図３】
2005156771.tif 000005
【図４】
2005156771.tif 000006
【図５】
2005156771.tif 000007
【図６】
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