(57)【要約】【課題】経時変化があった場合においても劣化がない遮光膜を有するデータ写し込み用液晶装置を提供する。【解決手段】透光状態に切り換え可能な複数のセグメントによってフィルムに写し込まれるデータパターンを形成可能な液晶装置と、写し込み可能なデータパターンに対応する複数の透光セグメントを備えた遮光膜を有し、光源からの出射光を、前記液晶装置および前記遮光膜を介して取り出してフィルムの写し込み面を露光することによりデータの写し込みを行うデータ写し込み用液晶装置において、前記液晶装置の基板２２の内側面にセグメント用の遮光膜１０１を配してなる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光状態に切り換え可能な複数のセグメントによってフィルムに写し込まれるデータパターンを形成可能な液晶装置と、写し込み可能なデータパターンに対応する複数の透光セグメントを備えた遮光膜を有し、光源からの出射光を、前記液晶装置および前記遮光膜を介して取り出してフィルムの写し込み面を露光することによりデータの写し込みを行うデータ写し込み用液晶装置において、
前記液晶装置の基板の内側面にセグメント用の遮光膜を配してなることを特徴とするデータ写し込み用液晶装置。
【請求項２】
請求項１において、
遮光膜がクロム、酸化タンタルのいずれかであることを特徴とするデータ写し込み用液晶装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
遮光膜が１５０ｎｍ以上であることを特徴とするデータ写し込み用液晶装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一つのデータ写し込み用液晶装置を備えてなることを特徴とする光学機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、本発明は、液晶パネルによって形成したデータパターンを写真フィルムに写し込むための例えばカメラ等のデータ写し込み用液晶装置及び光学機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶パネルによって形成したデータパターンを写真フィルムに写し込むためのカメラ用データ写し込み装置が提案されている（特許文献１）。
図６にデータ写し込み装置の概略を示す。図６に示すように、第１ケーシング１１内には、ＬＥＤ１６と反射ミラーと、写し込み用液晶装置１７が配置され、ＬＥＤ１６から出た光Ｌは反射ミラー１４で反射して写し込み用液晶装置１７を照明する。
【０００３】
データ写し込み用液晶装置１７は、その構成を示す図７に示すように、対向する基板２１、２２間に液晶２３が封入されたものであり、基板は、例えばガラス基板によって形成される。そして、例えばＬＥＤからの光Ｌが入射する側の基板２１の内側表面には共通電極２５が形成され、さらにその上に配向膜（図示せず）が形成される。また、光２４が出射する側の基板の内側表面には、セグメント電極２６が形成され、更のその上に配向膜（図示せず）が形成される。配向膜には一軸配向処理、例えばラビング処理が施される。セグメント電極２６は、例えば年月日を示すような数字、文字等を表現できるように配列されている。
【０００４】
図７において、光出射側の基板２２の外側表面には、図８に示すような第１の遮光膜２８が形成される。遮光膜２８は、セグメント電極２６が形成されていない領域、すなわち非セグメント領域から光が漏れ出ることを防止するために形成されるものであり、例えばＮｉ（ニッケル）めっきによって形成される。また、一方光の入射側の基板２１に外側表面には、矩形状で矩形内部が透過性の第２の遮光膜２９が散乱防止のために形成されている。
【０００５】
ここで、第１の遮光膜２８は、液晶装置の側の各セグメントと重なる領域に、対応する形状をした複数の透光セグメントから規定される透光部２８ａと、これ以外の領域に形成された遮光部２８ｂとからなる遮光マスク面を備えた構成となっている。したがって、この第１の遮光膜２８を配置することによって、データ写しこみ用液晶装置１７に照射される光Ｌから余分な光が遮断される。また、入射側の第２の遮光膜２９は矩形状としており、第１の遮光膜２８の周辺部分に光の抜けがあった場合における遮光を事前に防止している。
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−３３７９６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来の遮光膜２８はその材料として例えばニッケルを用いているので、黒化して見映えの低下が低下するという問題がある。また、めっきにより膜が形成されているので、傷が生じやすく、光漏れが生ずるという問題がある。特に、基板の外側にニッケルがめっきされているので、データ写し込み用液晶装置の製造時において、基板を搬送する場合に用いる真空チャック装置により機械的に把持される場合に問題となる。
【０００８】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、遮光膜のきず付きを防止するとともに、経時変化があった場合においても劣化がない遮光膜を有するデータ写し込み用液晶装置及び光学機器を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のデータ写し込み用液晶装置は、透光状態に切り換え可能な複数のセグメントによってフィルムに写し込まれるデータパターンを形成可能な液晶装置と、写し込み可能なデータパターンに対応する複数の透光セグメントを備えた遮光膜を有し、光源からの出射光を、前記液晶装置および前記遮光膜を介して取り出してフィルムの写し込み面を露光することによりデータの写し込みを行うデータ写し込み用液晶装置において、前記液晶装置の基板の内側面にセグメント用の遮光膜を配してなることを特徴とする。
【００１０】
このデータ写し込み用液晶装置によれば、液晶装置の基板の内面側に遮光膜を配するので、経時変化による劣化がなく、見栄えが低下することもない。また、内部に遮光膜を配するので、静電チャックなどの把持手段によっても傷つくことが防止される。
【００１１】
また、好ましい態様によれば、遮光膜がクロム、酸化タンタル等の金属膜とするとよい。この金属膜により、良好な遮光性能を発揮できる。
【００１２】
また、より好ましい態様によれば、遮光膜が１５０ｎｍ以上であるとよい。１５０ｎｍ以上とすることで光の抜けがなく、しかも従来よりも薄い膜で良好な遮光機能を発揮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明に係るデータ写し込み用液晶装置の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施例により本発明が限定されるものではない。
【実施例】
【００１４】
図１は、本実施例に係るデータ写し込み用液晶装置の構成図、図２はその製造方法の工程図、図３は従来法による工程図、図４はカメラの斜視図、図５はカメラ用データ写し込み装置である。
【００１５】
先ず、光学機器に設けられるデータ写し込み装置の概要について説明する。
図４に示すように、光学機器である例えばカメラは、レンズ光学系１及びシャッターボタン２が取り付けられたボディー３と、そのボディー３の中に形成されたフィルム搬送路４と、そのフィルム搬送路４に対向して配設されたカメラ用データ写し込み装置６とを有する。フィルム搬送路４にはフィルム７が間欠的に送り出される。
【００１６】
前記カメラ用データ写し込み装置６は、図５に示すように、回路基板８を挟んで組み付けられた第１ケーシング１１及び第２ケーシング１２を有する。第１ケーシング１１には表示用液晶装置１３及び反射ミラー１４が取り付けられ、回路基板８には点状光源として作用する例えばＬＥＤ１６が取り付けられ、そして、第２ケーシング１２に写し込み用液晶装置１７が取り付けられる。表示用液晶装置１３の可視像表示面は、図４においてカメラボディー３の外部へ露出する。一方、写し込み用液晶装置１００の可視像表示面はフィルム搬送路４に対向して位置する。
【００１７】
そして、例えばＬＥＤ１６からの出射光Ｌは、反射ミラー１４によってデータ写し込み用液晶装置１００に導かれ、このデータ写し込み用液晶装置１００で余分な光が遮断された後に、写真フィルム７に導かれる。この結果、データパターンに対応するデータ画像がフィルム７に写し込まれる。
【００１８】
本実施例にかかるデータ写し込み用液晶装置１００は、図１に示すように、対向する基板２１、２２間に液晶２３が封入されたものであり、基板は、例えばガラス基板によって形成される。そして、例えばＬＥＤからの光Ｌが入射する側の基板２１の内側表面には共通電極２５が形成され、さらにその上に配向膜（図示せず）が形成される。また、光Ｌが出射する側の基板２２の内側表面には、金属膜からなる遮光膜１０１が形成され、該遮光膜の内側にセグメント電極２６が形成され、更のその上に配向膜（図示せず）が形成される。
【００１９】
この遮光膜１０１は例えばクロム、酸化タンタルなどの金属膜がめっき処理により施されている。その膜厚は、約１５０ｎｍ以上としている。これは１５０ｎｍ未満であると、光が抜ける場合があり、遮光性の機能を良好に発揮できないからである。
また、金属膜は単層であっても、同種又は異種の材料からなる複層であってもよい。
なお、従来のニッケルめっきによる遮光膜の場合では、少なくとも２５０ｎｍ必要であったので、薄くすることが可能となる。
【００２０】
このように、遮光膜１０１を基板２２の内側に設けることにより、経時的な酸化による劣化がなく、見栄えの低下を防止することができる。
また、基板２２の内側に設けるようにしているので、製造工程における静電チャックなどの把持手段による把持をする場合でも、遮光膜に傷が付くのが防止される。
【００２１】
金属膜の形成は、蒸着法などによって行うことができるが、本発明は限定されるものではない。
【００２２】
図２に、本実施例の製造工程の一例を示す。
図２に示すように、ガラス製基板２２を用意し、クロムを蒸着させ、フォト工程により、パターニングする。次に、オーバーコート層１０２を形成し、電極であるＩＴＯを形成し、ＩＴＯのパターニングにより所望の電極形状とする。
その後、配向膜を形成し、ラビング処理をして、基板同士を組み立て、切断処理、液晶注入処理、封止処理を施し、検査を経て製品を得る。
【００２３】
一方、従来の工程では、図３に示すように、ガラス製基板２２の両面に先ず電極２６であるＩＴＯを形成し、めっき処理により電極２６の表面にニッケルをめっきして遮光膜２８とし、その後、フォト工程を経た後に、片面（基板の内側面）のめっきを除去することで、基板２の外側となる面に遮光膜２８を形成し、その後両面側にフォト工程によりパターニングしている。電極を形成するのはガラス製基板２２に直接ニッケルめっきを施すことができないからである。さらに、従来法では、片側のめっきを除去する必要もある。
【００２４】
このように、遮光膜の形成においても、片側面のみの工程でよいので、工程が簡略化されることになる。またこれ共に、位置決めが片面のみでよいので、従来法のような両側からフォト工程を行うことが不要となり、位置合わせ精度及び露光精度が良好となり、高精度なデータ写し込み用液晶装置を提供することができる。
【００２５】
また、図９に示すのと同様な散乱防止のための矩形状の透過部を有する遮光膜を基板２１の内側に更に設け、遮光膜１０１の周辺部分に光の抜けがあった場合における遮光を事前に防止するようにしてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００２６】
以上のように、本発明に係るデータ写し込み用液晶装置は、遮光膜の傷付が防止され、特に、カメラ等の光学機器などのデータの写し込みに適している。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本実施例にかかるデータ写し込み用液晶装置の構成図。
【図２】本実施例にかかる製造方法の工程図。
【図３】従来法の製造方法の工程図。
【図４】カメラの斜視図。
【図５】カメラ用データ写し込み装置図。
【図６】カメラ用データ写し込み装置の断面図
【図７】従来のデータ写し込み用液晶装置の構成図。
【図８】第１の遮光膜の概略図。
【図９】第２の遮光膜の概略図。
【符号の説明】
【００２８】
１００  データ写し込み用液晶装置、１０１  遮光膜、２１，２２  基板、２３  液晶、２５共通電極、２６セグメント電極、Ｌ  光
【図１】
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【図２】
2005099306.tif 000004
【図３】
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【図４】
2005099306.tif 000006
【図５】
2005099306.tif 000007
【図６】
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【図７】
2005099306.tif 000009
【図８】
2005099306.tif 000010
【図９】
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