(57)【要約】【課題】  個々の振動子の振動を直接基板に伝えて該基板をむらなく正確に振動させることができる、簡単な加振処理技術を得る。【解決手段】  テーブル１上に等しい中心角θでサークル状に配置された複数の振動子２ａ〜２ｆと、各振動子２ａ〜２ｆの上端にそれぞれ設けられ、加振すべき基板Ｗを吸着、保持する吸着パッド２６と、上記各振動子２ａ〜２ｆに個別に接続され、これらの振動子を振動させる複数の振動アクチュエータ３ａ〜３ｆと、上記吸着パッド２６に負圧を供給する負圧源６と、上記振動アクチュエータ３ａ〜３ｆを制御する制御装置４とを有する。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸着パッドを上端に備えた複数の振動子を、等しい中心角でサークル状に配置すると共に、駆動電圧の印加により振動する複数の振動アクチュエータの出力軸に個々に結合した装置を使用し、上記振動子の上に基板を載置して該基板を各振動子に直接吸着、保持させたあと、上記振動アクチュエータで各振動子を振動させて基板を加振することを特徴とする基板の加振処理方法。
【請求項２】
上記加振工程では、各振動子を一定の周波数で振動させると共に、隣接する振動子の振動の位相をずらすことにより、上記基板に、上記振動子の配列に沿ってサークル状に移動する進行波を発生させることを特徴とする請求項１に記載の加振処理方法。
【請求項３】
振動する上記各振動子を、振動波形より低い周波数と大きい振幅とで順次上下動させることにより、上記進行波が基板上を回転する回転周波数を上記振動子の振動周波数より小さくしたことを特徴とする請求項２に記載の加振処理方法。
【請求項４】
上記進行波が基板上を１回転する毎に該基板全体が１度上下動するように各振動子が制御されることを特徴とする請求項２に記載の加振処理方法。
【請求項５】
上記加振工程では、サークルの半周側に位置する第１振動子群と他の半周側に位置する第２振動子群とにおける相対する振動子を一定の周波数で互いに同期させて振動させると共に、両振動子群中の隣接する振動子の振動の位相をずらすことにより、上記基板にその一端側から他端側に向けて直線的に移動する進行波を発生させることを特徴とする請求項１に記載の加振処理方法。
【請求項６】
等しい中心角でサークル状に配置された複数の振動子と、各振動子の上端にそれぞれ設けられ、加振すべき基板を吸着、保持する吸着パッドと、上記各振動子に個別に接続され、これらの振動子を振動させる複数の振動アクチュエータと、上記吸着パッドに負圧を供給する負圧源と、上記振動アクチュエータを制御する制御装置とを有することを特徴とする基板の加振処理装置。
【請求項７】
上記制御装置が、各振動子を一定の周波数で振動させると共に、隣接する振動子間の振動の位相を順次ずらした状態で各振動子を振動させることにより、上記基板にこれらの振動子の配列に沿ってサークル状に移動する進行波を発生させるように構成されていることを特徴とする請求項６に記載の加振処理装置。
【請求項８】
上記制御装置が更に、振動する上記各振動子を振動波形より低い周波数と大きい振幅とで順次上下動させることにより、上記進行波が基板上を回転する回転周波数が上記振動子の振動周波数より小さくなるように上記各振動アクチュエータを制御可能であることを特徴とする請求項７に記載の加振処理装置。
【請求項９】
上記制御装置が更に、上記進行波が基板上を１回転する毎に該基板全体が１度上下動するように上記各振動アクチュエータを制御可能であることを特徴とする請求項７に記載の加振処理装置。
【請求項１０】
上記制御装置が、サークルの半周側に位置する第１振動子群と他の半周側に位置する第２振動子群とにおける相対する振動子を一定の周波数で互いに同期させて振動させると共に、両振動子群中の隣接する振動子間の振動の位相をずらすことにより、上記基板にその一端側から他端側に向けて直線的に移動する進行波を発生させるように構成されていることを特徴とする請求項６に記載の加振処理装置。
【請求項１１】
上記振動アクチュエータが、駆動電圧の印加により交番磁界を発生する励磁コイルと、この励磁コイルの交番磁界によりＮ極とＳ極とを交互に発生する極歯と、Ｎ極とＳ極とがラジアル方向に着磁され、自身の磁気力と上記極歯に発生する磁気力との相互作用によって振動的に変位する環状の永久磁石からなる可動体とを有し、この可動体が出力軸を介して上記振動子に接続されていることを特徴とする請求項６から１０の何れかに記載の加振処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハやガラス基板のような円形又は矩形の基板の表面にフォトレジスト液を供給して塗布被膜を形成する場合や、フォトレジスト液が塗布された基板の表面に現像液を供給して化学反応を起こさせる場合等に用いる、基板のための加振処理技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体ウエハやガラス基板のような円形又は矩形の基板の表面に上述したフォトレジスト液や現像液等の処理液を供給する場合、従来では、該基板上に処理液を供給したあと、この基板を超音波振動させて上記処理液を撹拌あるいは拡散させる加振処理法が一般に用いられている。例えば特許文献１には、矩形の基板を載置する基板載置台の下面に超音波振動用の圧電素子を複数並べて設置し、これらの圧電素子によって上記基板載置台に、基板の長手方向に移動する超音波振動の進行波を発生させ、この進行波で処理液を基板に沿って移動させて拡散させるようにしたものが開示されている。
【０００３】
しかしながら、上記従来の方法は、基板全体に接する１つの基板載置台を圧電素子により振動させ、この基板載置台を介して上記基板を振動させる方式であるため、圧電素子による振動が基板に正確に伝わりにくく、振動むらを生じ易いという問題がある。また、上記基板載置台を、基板を位置ずれしないように保持することができ、しかも超音波振動に耐え得るように構成しなければならないため、設計及び製作が面倒である。
【特許文献１】特開２００２−２７０４９５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、個々の振動子の振動を直接基板に伝えて該基板をむらなく正確に振動させることができる、簡単な加振処理技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため本発明によれば、吸着パッドを上端に備えた複数の振動子を、等しい中心角でサークル状に配置すると共に、駆動電圧の印加により振動する複数の振動アクチュエータの出力軸に個々に結合した装置を使用し、上記振動子の上に基板を載置して該基板を各振動子に直接吸着、保持させたあと、上記振動アクチュエータで各振動子を振動させて基板を加振することを特徴とする基板の加振処理方法が提供される。
【０００６】
上記加振工程では、１つの方法として、各振動子を一定の周波数で振動させると共に、隣接する振動子の振動の位相をずらすことにより、上記基板に、上記振動子の配列に沿ってサークル状に移動する進行波を発生させることができる。
【０００７】
この場合、振動する上記各振動子を、振動波形より低い周波数と大きい振幅とで順次上下動させることにより、上記進行波が基板上を回転する回転周波数を上記振動子の振動周波数より小さくすることができる。あるいは、上記進行波が基板上を１回転する毎に該基板全体が１度上下動するように各振動子を制御することもできる。
【０００８】
また、上記加振工程における他の方法として、サークルの半周側に位置する第１振動子群と他の半周側に位置する第２振動子群とにおける相対する振動子を一定の周波数で互いに同期させて振動させると共に、両振動子群中の隣接する振動子の振動の位相をずらすことにより、上記基板にその一端側から他端側に向けて直線的に移動する進行波を発生させることができる。
【０００９】
上記方法を実施するため、本発明によれば、等しい中心角でサークル状に配置された複数の振動子と、各振動子の上端にそれぞれ設けられ、加振すべき基板を吸着、保持する吸着パッドと、上記各振動子に個別に接続され、これらの振動子を振動させる複数の振動アクチュエータと、上記吸着パッドに負圧を供給する負圧源と、上記振動アクチュエータを制御する制御装置とを有することを特徴とする基板の加振処理装置が提供される。
【００１０】
上記制御装置の一つの構成例では、各振動子を一定の周波数で振動させると共に、隣接する振動子間の振動の位相を順次ずらした状態で各振動子を振動させることにより、上記基板にこれらの振動子の配列に沿ってサークル状に移動する進行波を発生させるように構成される。
【００１１】
この場合、振動する上記各振動子を振動波形より低い周波数と大きい振幅とで順次上下動させることにより、上記進行波が基板上を回転する回転周波数が上記振動子の振動周波数より小さくなるように上記各振動アクチュエータを制御可能である。あるいは、上記進行波が基板上を１回転する毎に該基板全体が１度上下動するように上記各振動アクチュエータを制御可能である。
【００１２】
上記制御装置の他の構成例では、サークルの半周側に位置する第１振動子群と他の半周側に位置する第２振動子群とにおける相対する振動子を一定の周波数で互いに同期させて振動させると共に、両振動子群中の隣接する振動子間の振動の位相をずらすことにより、上記基板にその一端側から他端側に向けて直線的に移動する進行波を発生させるように構成される。
【００１３】
本発明においては、上記振動アクチュエータが、駆動電圧の印加により交番磁界を発生する励磁コイルと、この励磁コイルの交番磁界によりＮ極とＳ極とを交互に発生する極歯と、Ｎ極とＳ極とがラジアル方向に着磁され、自身の磁気力と上記極歯に発生する磁気力との相互作用によって振動的に変位する環状の永久磁石からなる可動体とを有し、この可動体が出力軸を介して上記振動子に接続されている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、複数の振動子にそれぞれ吸着パッドを設け、各振動子で直接基板を吸着、保持して加振するようにしているため、個々の振動子の振動を直接基板に伝えて該基板をむらなく正確に振動させることができ、その構成も簡単である。しかも、複数の振動子をサークル状に配置し、これらの振動子の振動の順序をコントロールして基板を振動させる方式であるため、発生する進行波を各振動子に沿ってサークル状に移動させたり、直線状に移動させたりすることができ、この結果、基板上の処理液をむらなく均一に撹拌あるいは拡散させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明に係る基板の加振処理技術について図面を参照しながら詳細に説明する。図１及び図２は、半導体ウエハやガラス基板等の円形又は矩形の被処理基板Ｗを加振処理するための装置の要部を概略的に示すものである。この処理装置は、該装置の機体に図示しない固定手段で固定された矩形のテーブル１と、このテーブル１の上面に出力軸５を鉛直に向けて固定された複数の振動アクチュエータ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｆと、各振動アクチュエータ２ａ〜２ｆの出力軸５の上端にそれぞれ連結され、各振動アクチュエータで縦方向（上下方向）に個別に振動させられる複数の振動子３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｆと、上記振動アクチュエータ２ａ〜２ｆを制御する制御装置４とを有している。
【００１６】
なお、以下の説明においては、各振動アクチュエータ２ａ〜２ｆ及び各振動子３ａ〜３ｆをそれぞれ区別して表示する必要がある場合を除き、振動アクチュエータの場合は共通符号「２」で表示し、振動子の場合は共通符号「３」で表示するものとする。
【００１７】
上記振動アクチュエータ２は、上記テーブル１の中心Ｏの回りに等しい中心角θでループ状に配設されている。図示の例では、第１〜第６の６個の振動アクチュエータ２ａ〜２ｆが６０度間隔で配設されている。従って、上記振動子３ａ〜３ｆの数も第１〜第６までの６個で、それらの配設間隔も６０度ということになる。上記振動アクチュエータ２ａ〜２ｆ即ち振動子３ａ〜３ｆを配置するループの形は、必ずしも完全な円形である必要はなく、楕円形などであっても構わないが、複数の振動子３が中心対象に位置していることが必要である。
【００１８】
上記振動アクチュエータ２は、可動磁石形のリニアアクチュエータであって、図３に示すように、非磁性体製の上部カバー１１と下部カバー１２との間に、通電値に応じた磁気力を発生する電磁部１０と、この電磁部１０からの磁気力を推力として変位する永久磁石製の可動体１３とを有し、この可動体１３の変位が上記出力軸５に伝達されるようになっている。そして、上記下部カバー１２に取り付けられたホルダー７を介してボルト８で上記テーブル１上の所定の位置に固定されている。
【００１９】
上記電磁部１０は、制御装置４による駆動電圧の印加によって交番磁界を発生する励磁コイル１５と、該励磁コイル１５による交番磁界の作用でＮ極とＳ極とを交互に発生するコア・アセンブリ１６とを有している。このコア・アセンブリ１６は、円筒状をしたアウターコア１７と、該アウターコア１７の内周面に一体に結合され、円筒状の極歯１８ａ，１８ｂ同士が互いに間隔を保って相対する一対のＬ形断面をしたサイドコア１８Ａ，１８Ｂと、これらのサイドコア１８Ａ，１８Ｂの極歯１８ａ，１８ｂの内側に間隔を保って同軸状に位置する円筒状のインナーコア１９とを有していて、上記アウターコア１７とサイドコア１８Ａ，１８Ｂの極歯１８ａ，１８ｂとの間に上記励磁コイル１５が設けられている。
【００２０】
また、上記可動体１３は、円筒形の永久磁石からなるもので、Ｎ極とＳ極とがラジアル方向に着磁されており、図示の例では、可動体１３の内周側にＮ極が着磁され、外周側にＳ極が着磁されている。この可動体１３は、非磁性体製の可動体ホルダー２１に保持されていて、上記サイドコア１８Ａ，１８Ｂの極歯１８ａ，１８ｂとインナーコア１９との間に、この可動体ホルダー２１と一緒に軸線方向に変位自在なるように配設されている。上記可動体ホルダー２１の中心孔の内部には、上記出力軸５が貫通していて、この出力軸５の係止部５ａに上記可動体ホルダー２１が係止しており、この状態で該出力軸５に固定ナット２２をねじ付けてることにより、これらの可動体ホルダー２１と出力軸５とが互いに結合され、これによって上記可動体１３の変位がこの可動体ホルダー２１を介して出力軸５に伝達されるようになっている。
【００２１】
上記下部カバー１２と可動体ホルダー２１との間には、バランス用の支持ばね２３が介在し、この支持ばね２３のばね力によって該可動体ホルダー２１即ち可動体１３が、第１極歯１８ａ側に向けて常時上向きに弾撥されている。この支持ばね２３は、各振動子３の上に基板Ｗが載置されていない状態では、そのばね力によって可動体１３を第１極歯１８ａ側に向けて図３の位置まで押し上げ、各振動子３の上に基板Ｗが載置されると、この基板Ｗの重量で一定量だけ圧縮され、上記可動体１３を第１極歯１８ａと第２極歯１８ｂのちょうど中間に位置させるように機能するものである。従ってこの支持ばね２３のばね力は、加振対象となる基板Ｗの重量に関連づけて設定されている。
【００２２】
そして、上記基板Ｗを振動子３の上に載置した状態、つまり、上記可動体１３が第１極歯１８ａと第２極歯１８ｂとのちょうど中間に位置している状態で、上記制御装置４で所要の周波数（例えば７０〜１００Ｈｚ程度）に調整された駆動用の交番電圧を上記励磁コイル１５に印加すると、この励磁コイル１５で発生する交番磁界の作用によって上記サイドコア１８Ａ，１８Ｂの第１極歯１８ａと第２極歯１８ｂとにＮ極とＳ極とが交互に発生するため、これらの磁極と永久磁石からなる可動体１３の磁極との相互作用によって該可動体１３が振動し、この振動が出力軸５を介して上記振動子３に伝達され、基板Ｗが加振される。
【００２３】
具体的に説明すると、上記励磁コイル１５に、上記第１極歯１８ａがＮ極になりかつ第２極歯１８ｂがＳ極になる向きに電流が流れている瞬間には、上記可動体１３は、上記第１極歯１８ａとの間の磁気吸引力及び第２極歯１８ｂとの間の磁気反発力によって第１極歯１８ａ側、即ち上向きに変位する。そして、上記電流の向きが反転して上記第１極歯１８ａがＳ極になりかつ第２極歯１８ｂがＮ極になると、上記可動体１３は第２極歯１８ｂ側に向けて下向きに変位する。この変位が繰り返されることによって振動子３は、上記周波数に応じて振動するのである。この場合の振幅は、例えば±０．５ｍｍ程度であり、この振幅は印加電圧の大きさや周波数に応じて変化させることができる。
【００２４】
なお、上記振動アクチュエータ２に印加される交番電圧は、単相であっても３相であっても良く、また、その電圧波形は矩形波であっても正弦波であっても良い。３相の交番電圧を印加する場合には、上記各振動アクチュエータ２の励磁コイル１５は、例えば星形結線やデルタ結線などの、３相による制御が可能な形態に接続される。
【００２５】
上記振動子３の上端には、加振すべき基板Ｗを吸着するための吸着パッド２６が取り付けられ、この吸着パッド２６が、上記振動子３及び出力軸５の内部に形成された通孔２７と、この出力軸５の下端部に接続された配管チューブ２８とを通じて、真空ポンプ等の負圧源６に接続され、この負圧源６が上記制御装置４に接続されている。そして、基板Ｗが上記振動子３上に載置されると、上記制御装置４の制御を受けて負圧源６が動作し、上記吸着パッド２６に負圧が発生して基板Ｗが振動子３に直接吸着、保持され、その状態で加振されることになる。従って、上記振動子３が基板Ｗの保持手段と加振手段とを兼ねるものであって、この振動子３以外に基板Ｗを保持する手段は有していない。
【００２６】
なお、図示した実施例では、上記振動アクチュエータ２の出力軸５の上端部が振動子３となっていて、これらの出力軸５と振動子３とが一体に形成されているが、上記振動子３を出力軸５とは別に形成し、該出力軸５の上端に結合しても良い。
また、上記テーブル１の上方位置には、基板Ｗ上に処理液を供給するための処理液供給手段が設置されているが、この処理液供給手段の図示は省略されている。
【００２７】
図中３０は、上記両カバー１１，１２にそれぞれ取り付けられたダンパであって、上記出力軸５が往復両ストロークエンドでそれぞれ当接するものである。また、１５ａは上記励磁コイル１５のコイル端子、３１はテーブル状に設置された接続端子で、上記コイル端子１５ａがこの接続端子３１を介してリード線３２により上記制御装置４に接続されている。
【００２８】
上記加振処理装置で基板Ｗの加振処理を行う場合には、上記振動子３の上に基板Ｗを水平に載置して該基板Ｗを各振動子３に直接吸着、保持させたあと、該基板Ｗ上に上記処理液供給手段から処理液を供給し、上記制御装置４で各振動アクチュエータ２ａ〜２ｆを制御して各振動子３ａ〜３ｆを振動させることにより、上記基板Ｗを加振して処理液を均一に撹拌又は拡散させる。
【００２９】
上記加振工程においては、各振動アクチュエータ２ａ〜２ｆを一定の周波数で同期的に振動させることにより各振動子３ａ〜３ｆも互いに同期させて振動させることができ、あるいは、各振動アクチュエータ２ａ〜２ｆの振動に位相差を持たせることによって各振動子３ａ〜３ｆの振動にも同じ位相差を持たせることができる。しかし、各振動子３ａ〜３ｆを同期して振動させるよりも、何らかの位相差を持たせて振動させる方が、基板Ｗの表面に振動子３ａ〜３ｆの配列に沿って移動する進行波が発生し、この進行波によって基板全体がほぼ均等に加振されて処理液が均等に撹拌又は拡散されるため、該処理能力に勝れていることが確かめられている。以下に好ましい加振方法の幾つかを説明する。
【００３０】
先ず、第１の加振方法として、図４に示す進行波形のように、各振動アクチュエータ２に正弦波の交番電圧を印加することにより、各振動子３ａ〜３ｆを一定の周波数で振動させると共に、隣接する振動子の振動の位相を一定角度ずつ順次ずらして振動させる方法がある。振動子３がｎ個ある場合、それらの位相差は「３６０／ｎ」度である。上記実施例の場合は振動子３ａ〜３ｆが６個であるから、それらの位相差は６０度である。
【００３１】
上記各振動子３ａ〜３ｆをこのような位相差を持たせて振動させると、上記基板Ｗは、ある時間ｔにおいて、進行波形の山の位置（上昇端の位置）にある振動子３と接触している部分は局部的に上方に弾性変形し、進行波形の谷の位置（下降端の位置）にある振動子３と接触している部分は局部的に下方に弾性変形し、山と谷の中間の位置にある振動子３と接触している部分は中間の変形状態を維持している。そして、これらの変形が、上記進行波形の位相のずれに従って基板Ｗ上をサークル状に移動する。
【００３２】
図５には、上方に変形した山形の変形部分Ｗａが代表的に示されていて、この変形部分Ｗａがサークル状に移動することが示されている。即ち、該基板Ｗには、上記変形部分Ｗａの変位により、上記振動子３ａ〜３ｆの配列に沿ってサークル状に回転する進行波が発生することになり、この進行波によって処理液が加振され、均等に撹拌又は拡散されて該基板Ｗの表面全面にむらなく均一に接触することになる。
【００３３】
ここで、上記振動子３の振動周波数を７０Ｈｚとした場合、進行波が基板Ｗ上を回転する回転周波数も７０Ｈｚになる。つまり、上記進行波は基板Ｗ上を１秒間に７０回回転することになる。しかし、上記振動子３の振動周波数と進行波の回転周波数とを違えることもできる。即ち、図６に示すように、周波数が高くかつ振幅の小さい振動用波形Ｓ１と、周波数が低くかつ振幅の大きい昇降用波形Ｓ２とを重畳させ、この重畳波に沿って上記各振動子３を振動させながら上下動させることにより、上記進行波の回転周波数を上記振動子３の振動周波数より小さくすることができる。例えば、上記各振動子３を７０Ｈｚの周波数で振動させながら、これらの振動子３ａ〜３ｆを１Ｈｚの周波数で位相差を持たせて順次上下動させた場合には、上記変形部分Ｗａが基板Ｗ上を１秒間に１回転することになり、進行波の回転周波数は１Ｈｚとなる。このような制御は、７０Ｈｚの振動用電圧を１Ｈｚの上下動用電圧に重畳させることによって得られた制御用電圧を、各振動アクチュエータ２に印加することにより行うことができる。
【００３４】
次に、第２の加振方法として、図７に示すように、上記複数の振動子３ａ〜３ｆを、サークルの半周側に位置する第１〜第３の振動子３ａ，３ｂ，３ｃからなる第１振動子群３Ａと、他の半周側に位置する第４〜第６の振動子３ｄ，３ｅ，３ｆからなる第２振動子群３Ｂとに分け、図８に示す進行波形のように、第１振動子群３Ａと第２振動子群３Ｂとの互いに相対する振動子３ａと３ｆ、３ｂと３ｅ、３ｃと３ｄを一定の周波数で互いに同期させて振動させると共に、両振動子群３Ａ，３Ｂ中の隣接する振動子３ａ，３ｂ，３ｃ及び３ｆ，３ｅ，３ｄの振動の位相をそれぞれ６０度ずつずらして順次振動させる方法がある。
【００３５】
このような加振方法を用いた場合、図１０に示すように、上記基板Ｗの変形は、両振動子群３Ａ，３Ｂの互いに相対する振動子３ａと３ｆ、３ｂと３ｅ、３ｃと３ｄが進行波形の山又は谷の位置にあるときに最も大きくなり、その山形の変形部分Ｗａは、隣接する振動子３ａ，３ｂ，３ｃ及び３ｆ，３ｅ，３ｄの振動の位相差に従って基板Ｗ上をその一端側から他端側に向けて直線的に移動する。即ち、両振動子群３Ａ，３Ｂに沿って直線的に移動する進行波を発生させることができる。
【００３６】
なお、図８では、上記両振動子群３Ａ，３Ｂ中の隣接する振動子３ａ，３ｂ，３ｃ及び３ｆ，３ｅ，３ｄ間の振動の位相差を６０度としているが、図９に示すように、１２０度の位相差を持たせた場合でも同様の結果を得ることができる。
【００３７】
上述したように基板Ｗ上を回転する進行波を発生させたり、基板Ｗ上を直線状に移動する進行波を発生させる加振制御は、矩形波の駆動電圧を用いても行うことができる。図１１は、３相の矩形波を用いる場合の電圧波形の一例を示すもので、このような矩形波電圧が、スター結線された振動アクチュエータ２ａ〜２ｆの励磁コイルに図示されたパターンで印加されるようになっている。同図において、波形上のプラスとマイナスは電流の向きを示しており、各相Ｕ、Ｖ、Ｗとも、２／６周期に相当する時間だけ励磁コイルに通電されるようになっている。このような制御は、ステッピングモーターの制御と良く似ているため、ステッピングモーター用のドライバを使用することができる。
【００３８】
また、図１２（Ａ）は、基板Ｗ上を回転する進行波を発生させる場合の各振動子３ａ〜３ｆと印加電圧の位相との関係を示すものであり、図１２（Ｂ）は、基板Ｗ上を直線状に移動する進行波を発生させる場合の各振動子３ａ〜３ｆと印加電圧の位相との関係を示すものである。これらの図において、Ｕ、Ｖ、Ｗの上に横線が付されているものと横線が付されていないものとは、振動アクチュエータの励磁コイルに流れる電流の向きが互いに逆の関係にあることを示すものである。
【００３９】
図１３は、３相の矩形波を用いる場合の電圧波形の異なる例を示すものである。この例では、各相Ｕ、Ｖ、Ｗの通電時間が図１１に示す場合の半分と短く、１／６周期に相当する時間となっている。このような矩形波電圧を、図１３及び図１４に示すような励磁パターンで各アクチュエータ２ａ〜２ｆに通電し、振動子３ａ〜３ｆを振動させると、基板Ｗ上を回転する進行波が発生すると同時に、該基板Ｗ全体が上下動を行い、進行波が基板Ｗ上を１回転する毎に、該基板全体が１度上下動するようになる。即ち、図１３のパターン１〜３においては各相Ｕ、Ｖ、Ｗが全てプラスであるため、基板は例えば上昇した位置にあり、パターン４〜６においては各相Ｕ、Ｖ、Ｗが全てマイナスであるため、基板は下降した位置にあり、パターン１〜６の制御の間に基板は１度上下動する。この結果、処理液の撹拌効果又は拡散効果がより高くなることが実験で確かめられている。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明に係る加振処理装置の要部を概略的に示す平面図である。
【図２】図１の断面図である。
【図３】１つの振動アクチュエータと振動子を拡大して示す部分断面図である。
【図４】第１の加振方法における印加電圧波形と各振動子の変位との関係を示す線図である。
【図５】第１の加振方法による加振を行った場合に基板上に発生する進行波の変位を示す平面図である。
【図６】振動子を加振するための異なる波形を示す線図である。
【図７】図１の振動子の配置を模式的に示す平面図である。
【図８】第２の加振方法における印加電圧波形と各振動子の変位との関係の一例を示す線図である。
【図９】第２の加振方法における印加電圧波形と各振動子の変位との関係の他例を示す線図である。
【図１０】第２の加振方法による加振を行った場合に基板上に発生する進行波の変位を示す平面図である。
【図１１】矩形波を用いる場合の印加電圧波形の一例を示す線図である。
【図１２】図１１の矩形波を印加する場合の各振動子と電圧の位相との関係を模式的に示す平面図で、（Ａ）は回転する進行波を発生させる場合、（Ｂ）は直線的に移動する進行波を発生させる場合である。
【図１３】矩形波を用いる場合の印加電圧波形の他例を示す線図である。
【図１４】図１３の矩形波を印加する場合の各振動子と電圧の位相との関係を模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
【００４１】
Ｗ      基板
θ      中心角
２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，２ｅ，２ｆ      振動アクチュエータ
３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄ，３ｅ，３ｆ      振動子
３Ａ      第１振動子群
３Ｂ      第２振動子群
４      制御装置
５      出力軸
６      負圧源
１３      可動体
１５      励磁コイル
１８ａ，１８ｂ      極歯
２６      吸着パッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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