(57)【要約】【課題】  作物に対する高い安全性と雑草に対する優れた殺草活性を併せ持つ新規な除草剤を提供する。【解決手段】  一般式（Ｉ）：【化１】2005053902.tif 000042（式中、Ｒ1はＨ、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、（置換）フェニル、（置換）フェニルC1-C8アルキル、（置換）フェニルアミノ、（置換）フェノキシ等、Ｒ2はＨ、アルキル、アルケニル、アルキルカルボニル、アルキルスルホニル等、Ｒ3はＨ、ＣＮ、アルキル等、Ｒ4はハロゲン、ＣＮ、ＮＯ2、ＯＨ、カルボキシ、ペンタフルオロサルファニル（−ＳＦ5）、アルキルスルフィニル等、Ｒ5はハロゲン、アルキル、アルキルスルフィニル、アルコキシカルボニル等、Ｘは−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯｑ−。ｔは０〜２、ｍは０〜３、ｎは１〜５、ｐは０又は１）で表されるフェニルピリジン類又はその塩類、その製造中間体及び該化合物を含む除草剤並びにその使用方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2005053902.tif 000040
（式中、Ｒ1は水素原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルキルアミノ基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アミノ基、ＳＨ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C2-C6アルケニルチオ基、ハロC2-C6アルケニルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジC1-C6アルキルアミノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基、フェニルC1-C8アルキル基、同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アミノ基、ＳＨ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C2-C6アルケニルチオ基、ハロC2-C6アルケニルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジC1-C6アルキルアミノ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルC1-C8アルキル基、フェニルアミノ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アミノ基、ＳＨ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C2-C6アルケニルチオ基、ハロC2-C6アルケニルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジC1-C6アルキルアミノ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルアミノ基、フェノキシ基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アミノ基、ＳＨ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C2-C6アルケニルチオ基、ハロC2-C6アルケニルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジC1-C6アルキルアミノ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェノキシ基を示す。Ｒ2は
水素原子、C1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、シアノC1-C8アルキル基、C1-C8アルキルカルボニル基、ハロC1-C8アルキルカルボニル基、C2-C8アルケニルカルボニル基、C1-C8アルキルスルホニル基又はハロC1-C8アルキルスルホニル基を示す。又、Ｒ1とＲ2は一緒になってＸ（Ｘは後記に示す。）、炭素原子、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含む４〜８員環を形成することができる。Ｒ3は同一又は異なっても良く、水素原子、シアノ基又はC1-C8アルキル基を示し、又、２つのＲ3は一緒になって炭素原子、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含む３〜６員環を形成することができる。Ｒ4は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、カルボキシ基、ペンタフルオロサルファニル基（−ＳＦ5）、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシカルボニル基、C1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、C1-C8アルキルアミノ基又は同一若しくは異なっても良いジC1-C8アルキルアミノ基を示す。Ｒ5は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、ハロC2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、ハロC2-C8アルキニル基、C1-C8 アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルキルスルホニルアミノ基、ハロC1-C8アルキルスルホニルアミノ基、C1-C8アルキルチオ基、ハロC1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、ハロC1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、ハロC1-C8アルキルスルホニル基、C1-C8アルキルカルボニル基、C1-C8アルコキシカルボニル基、C1-C8アルキルカルボニルオキシ基、ハロC1-C8アルキルカルボニルオキシ基、水酸基、ホルミル基、シアノ基、ニトロ基、トリメチルシリル基、ペンタフルオロサルファニル基（−ＳＦ5）又は−Ｃ（Ｒ6）＝ＮＯＲ7（式中、Ｒ6及びＲ7は同一又は異なっても良く、水素原子、C1-C5アルキル基又はハロC1-C5アルキル基を示す。）で表される基を示し、又、２つの隣接するＲ5は互いに一緒になってジフルオロメチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2Ｏ−）、テトラフルオロエチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2ＣＦ2Ｏ−）、メチレンジオキシ基又はエチレンジオキシ基を示すことができる。Ｘは−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−又は−ＳＯｑ−（式中、ｑは１又は２を示す。）で表される基を示す。ｔは０〜２の整数を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示し、ｐは０又は１を示す。）で表されるフェニルピリジン類又はその塩類。
【請求項２】
Ｒ1が水素原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C1-C8アルコキシ基、C1-C8アルキルアミノ基、フェニル基又は同一若しくは異なってもよく、ハロゲン原子又はC1-C8アルキル基から選択される１〜５個ので置換された置換フェニル基であり、Ｒ2が水素原子、C1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基又はC1-C8アルキルカルボニル基であり、Ｒ3が同一又は異なっても良く、水素原子又はC1-C8アルキル基であり、Ｒ4が同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、カルボキシ基、C1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシカルボニル基、C1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基又はC1-C8アルキルスルホニル基であり、Ｒ5が同一又は異なっても良く、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、C1-C8アルキルカルボニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、水酸基、トリメチルシリル基、−Ｃ（Ｒ6）＝ＮＯＲ7（式中、Ｒ6及びＲ7は請求項１に同じ。）で表される基、メチレンジオキシ基、ジフルオロメチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2Ｏ−）又はテトラフルオロエチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2ＣＦ2Ｏ−）である請求項１記載のフェニルピリジン類又はその塩類。
【請求項３】
ｍが１である請求項１又は２いずれか１項記載のフェニルピリジン類又はその塩類。
【請求項４】
Ｒ1がC1-C5アルキル基である請求項１乃至３いずれか１項記載のフェニルピリジン類又はその塩類。
【請求項５】
Ｒ5が同一又は異なっても良く、ハロC1-C5アルキル基、ハロC1-C5アルコキシ基又はジフルオロメチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2Ｏ−）である請求項１乃至４いずれか１項記載のフェニルピリジン類又はその塩類。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれか１項記載のフェニルピリジン類又はその塩類を有効成分として含有する除草剤。
【請求項７】
請求項６記載の除草剤の有効量を土壌又は植物に処理することを特徴とする除草剤の使用方法。
【請求項８】
一般式（II）
【化２】
2005053902.tif 000041
（式中、Ｒ2は水素原子、C1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、シアノC1-C8アルキル基、C1-C8アルキルカルボニル基、ハロC1-C8アルキルカルボニル基、C2-C8アルケニルカルボニル基、C1-C8アルキルスルホニル基又はハロC1-C8アルキルスルホニル基を示す。Ｒ3は同一又は異なっても良く、水素原子、シアノ基又はC1-C8アルキル基を示し、又、２つのＲ3は一緒になって炭素原子、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含む３〜６員環を形成しても良い。Ｒ4は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、カルボキシ基、ペンタフルオロサルファニル基（−ＳＦ5）、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシカルボニル基、C1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、C1-C8アルキルアミノ基又は同一若しくは異なっても良いジC1-C8アルキルアミノ基を示す。Ｒ5は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、ハロC2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、ハロC2-C8アルキニル基、C1-C8 アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルキルスルホニルアミノ基、ハロC1-C8アルキルスルホニルアミノ基、C1-C8アルキルチオ基、ハロC1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、ハロC1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、ハロC1-C8アルキルスルホニル基、C1-C8アルキルカルボニル基、C1-C8アルコキシカルボニル基、C1-C8アルキルカルボニルオキシ基、ハロC1-C8アルキルカルボニルオキシ基、水酸基、ホルミル基、シアノ基、ニトロ基、トリメチルシリル基、ペンタフルオロサルファニル基（−ＳＦ5）又は−Ｃ（Ｒ6）＝ＮＯＲ7（式中、Ｒ6及びＲ7は同一又は異なっても良く、水素原子、C1-C5アルキル基又はハロC1-C5アルキル基を示す。）で表される基を示し、又、２つの隣接するＲ5は互いに一緒になってジフルオロメチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2Ｏ−）、テトラフルオロエチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2ＣＦ2Ｏ−）、メチレンジオキシ基又はエチレンジオキシ基を示すことができる。ｔは０〜２の整数を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示し、ｐは０又は１を示す。）で表
されるフェニルピリジルアルキルアミン類又はその塩類。
【請求項９】
Ｒ2が水素原子、C1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基又はC1-C8アルキルカルボニル基であり、Ｒ3が同一又は異なっても良く、水素原子又はC1-C8アルキル基であり、Ｒ4が同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、カルボキシ基、C1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシカルボニル基、C1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基又はC1-C8アルキルスルホニル基であり、Ｒ5が同一又は異なっても良く、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、C1-C8アルキルカルボニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、水酸基、トリメチルシリル基、−Ｃ（Ｒ6）＝ＮＯＲ7（式中、Ｒ6及びＲ7は請求項８に同じ。）で表される基、メチレンジオキシ基、ジフルオロメチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2Ｏ−）又はテトラフルオロエチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2ＣＦ2Ｏ−）である請求項８記載のフェニルピリジルアルキルアミン類又はその塩類。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なフェニルピリジン類又はその塩類及びこれらを有効成分として含有する除草剤並びにその使用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ある種のピリジン誘導体が除草活性及び植物成長調節作用を有することが知られている（例えば、特許文献１乃至６参照。）。又、フェノキシピリジルメチルアミン誘導体が除草活性を示すことが（例えば、特許文献７参照。）、フェニルピリジルメチルアミン誘導体が医薬中間体として有用であることが知られている（例えば、非特許文献１参照。）。しかしながら、本発明による、特定の位置でベンゼン環とピリジン環とが直結したフェニルピリジン類及びその除草活性については、これまで知られていない。
【０００３】
【特許文献１】欧州特許出願公開第０９５５３００号明細書
【特許文献２】国際公開第９８／０４５５０号パンフレット
【特許文献３】欧州特許出願公開第０９５５２９２号明細書
【特許文献４】国際公開第００／７５１１２号パンフレット
【０００４】
【特許文献５】国際公開第０１／００５８０号パンフレット
【特許文献６】国際公開第９９／２８３０１号パンフレット
【特許文献７】国際公開第０３／０００６７９号パンフレット
【非特許文献１】Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，３４，７２５−７３６（１９９１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近い将来予想される世界人口増加に伴う食料危機の解消には、食料の安定供給が必要不可欠である。安定した食料の供給には、その栽培及び収穫時に障害となる雑草の経済的かつ効率のよい枯殺あるいは防除が必要であり、その解決策となる新しい除草剤や植物成長調節剤の開発がますます重要となっている。
本発明は、このような社会の要請に応えるべく、作物に対する高い安全性と雑草に対する優れた殺草活性を併せ持つ新規な除草剤を提供することを課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、新規なフェニルピリジン骨格を有する化合物群が上記課題を解決し得る優れた除草活性を有することを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、下記一般式（Ｉ）：
【化１】
2005053902.tif 000002
（式中、Ｒ1は水素原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルキルアミノ基、フェニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アミノ基、ＳＨ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C2-C6アルケニルチオ基、ハロC2-C6アルケニルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジC1-C6アルキルアミノ基から選択される１〜５個の置換基を有する置換フェニル基、フェニルC1-C8アルキル基、同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アミノ基、ＳＨ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C2-C6アルケニルチオ基、ハロC2-C6アルケニルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジC1-C6アルキルアミノ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルC1-C8アルキル基、
【０００７】
フェニルアミノ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アミノ基、ＳＨ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C2-C6アルケニルチオ基、ハロC2-C6アルケニルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジC1-C6アルキルアミノ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェニルアミノ基、フェノキシ基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、アミノ基、ＳＨ基、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C2-C6アルケニル基、ハロC2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、ハロC2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、C1-C6アルキルチオ基、ハロC1-C6アルキルチオ基、C2-C6アルケニルチオ基、ハロC2-C6アルケニルチオ基、C1-C6アルキルスルフィニル基、ハロC1-C6アルキルスルフィニル基、C1-C6アルキルスルホニル基、ハロC1-C6アルキルスルホニル基、C1-C6アルキルカルボニル基、ハロC1-C6アルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基、C1-C6アルコキシカルボニル基、モノC1-C6アルキルアミノ基又は同一若しくは異なって良いジC1-C6アルキルアミノ基から選択される１〜５個の置換基を環上に有する置換フェノキシ基を示す。Ｒ2は水素原子、C1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、シアノC1-C8アルキル基
、C1-C8アルキルカルボニル基、ハロC1-C8アルキルカルボニル基、C2-C8アルケニルカルボニル基、C1-C8アルキルスルホニル基又はハロC1-C8アルキルスルホニル基を示す。又、Ｒ1とＲ2は一緒になってＸ（Ｘは後記に示す。）、炭素原子、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含む４〜８員環を形成することができる。
【０００８】
Ｒ3は同一又は異なっても良く、水素原子、シアノ基又はC1-C8アルキル基を示し、又、２つのＲ3は一緒になって炭素原子、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含む３〜６員環を形成することができる。Ｒ4は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、カルボキシ基、ペンタフルオロサルファニル基（−ＳＦ5）、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシカルボニル基、C1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、C1-C8アルキルアミノ基又は同一若しくは異なっても良いジC1-C8アルキルアミノ基を示す。Ｒ5は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、ハロC2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、ハロC2-C8アルキニル基、C1-C8 アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルキルスルホニルアミノ基、ハロC1-C8アルキルスルホニルアミノ基、C1-C8アルキルチオ基、ハロC1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、ハロC1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、ハロC1-C8アルキルスルホニル基、C1-C8アルキルカルボニル基、C1-C8アルコキシカルボニル基、C1-C8アルキルカルボニルオキシ基、ハロC1-C8アルキルカルボニルオキシ基、水酸基、ホルミル基、シアノ基、ニトロ基、トリメチルシリル基、ペンタフルオロサルファニル基（−ＳＦ5）又は−Ｃ（Ｒ6）＝ＮＯＲ7（式中、Ｒ6及びＲ7は同一又は異なっても良く、水素原子、C1-C5アルキル基又はハロC1-C5アルキル基を示す。）で表される基を示し、又、２つの隣接するＲ5は互いに一緒になってジフルオロメチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2Ｏ−）、テトラフルオロエチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2ＣＦ2Ｏ−）、メチレンジオキシ基又はエチレンジオキシ基を示すことができる。Ｘは−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−又は−ＳＯｑ−（式中、ｑは１又は２を示す。）で表される基を示す。ｔは０〜２の整数を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示し、ｐは０又は１を示す。）で表されるフェニルピリジン類又はその塩類及びこれらを有効成分とする除草剤並びにその使用方法に関する。
【０００９】
更に本発明はその中間体である下記一般式（II）
【化２】
2005053902.tif 000003
（式中、Ｒ2は水素原子、C1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、シアノC1-C8アルキル基、C1-C8アルキルカルボニル基、ハロC1-C8アルキルカルボニル基、C2-C8アルケニルカルボニル基、C1-C8アルキルスルホニル基又はハロC1-C8アルキルスルホニル基を示す。Ｒ3は同一又は異なっても良く、水素原子、シアノ基又はC1-C8アルキル基を示し、又、２つのＲ3は一緒になって炭素原子、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を含む３〜６員環を形成しても良い。Ｒ4は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、カルボキシ基、ペンタフルオロサルファニル基（−ＳＦ5）、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキ
シカルボニル基、C1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、C1-C8アルキルアミノ基又は同一若しくは異なっても良いジC1-C8アルキルアミノ基を示す。Ｒ5は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、C1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、ハロC2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、ハロC2-C8アルキニル基、C1-C8 アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルキルスルホニルアミノ基、ハロC1-C8アルキルスルホニルアミノ基、C1-C8アルキルチオ基、ハロC1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、ハロC1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、ハロC1-C8アルキルスルホニル基、C1-C8アルキルカルボニル基、C1-C8アルコキシカルボニル基、C1-C8アルキルカルボニルオキシ基、ハロC1-C8アルキルカルボニルオキシ基、水酸基、ホルミル基、シアノ基、ニトロ基、トリメチルシリル基、ペンタフルオロサルファニル基（−ＳＦ5）又は−Ｃ（Ｒ6）＝ＮＯＲ7（式中、Ｒ6及びＲ7は同一又は異なっても良く、水素原子、C1-C5アルキル基又はハロC1-C5アルキル基を示す。）で表される基を示し、又、２つの隣接するＲ5は互いに一緒になってジフルオロメチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2Ｏ−）、テトラフルオロエチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2ＣＦ2Ｏ−）、メチレンジオキシ基又はエチレンジオキシ基を示すことができる。ｔは０〜２の整数を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎは１〜５の整数を示し、ｐは０又は１を示す。）で表されるフェニルピリジルアルキルアミン類又はその塩類にも関する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、高い除草効果を示し、かつ、重要作物に対して十分な安全性を示す除草剤及びそれに用いられる有用な化合物を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下本発明を詳細に説明する。
本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類又はその塩類の定義において、「ハロゲン原子」とは塩素原子、臭素原子、沃素原子又はフッ素原子を示す。「C1-C8アルキル基」とは、炭素原子数１〜８個の直鎖状、炭素原子数３〜８個の分岐鎖状又は脂環式のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、１−メチルシクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、シクロプロピルメチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基、ノルマルヘキシル基、シクロヘキシル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、２−メチルシクロペンチル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。「ハロC1-C8アルキル基」とは、同一又は異なっても良い１以上のハロゲン原子により置換された炭素原子数１〜８個の直鎖状、炭素原子数３〜８個の分岐鎖状又は脂環式のアルキル基を示し、例えばクロロメチル基、２−クロロエチル基、２−フルオロエチル基、２,２−ジフルオロエチル基、２,２,２−トリフルオロエチル基、２,２,２−トリクロロエチル基、３−クロロプロピル基、３−ブロモプロピル基、３,３,３−トリフルオロプロピル基、２,２,３,３−テトラフルオロプロピル基、２,２,３,３,３−ペンタフルオロプロピル基、１−メチル−２,２,２−トリフルオロエチル基、２,２,２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル基、１−メチル−２,２,３,３,３−ペンタフルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、３−ブロモプロピル基、４−クロロブチル基、４,４,４−トリフルオロブチル基、５，５，５−トリフルオロペンチル基、６，６，６−トリフルオロヘキシル基、７−フルオロヘプチル基、８−クロロオクチル基、２，２−ジフルオロシクロプロピル基、（２，２−ジフルオロシクロプロピル）メチル基、２，２−ジクロロシクロプロピル基、（２，２−ジクロロシクロプロピル）メチル基、パーフルオロオクチル基等が挙げられる。「C2-C8アルケニル基」とは、炭素原子数２〜８個の直鎖状、炭素原子数３〜８個の分岐鎖状又は脂環式のアルケニル基を示し、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−メ
チル−２−プロペニル基、１−メチル−２−ブテニル基、２−メチル−２−ブテニル、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基、２−シクロヘキセニル基等が挙げられる。「C2-C8アルキニル基」とは、炭素原子数２〜８個の直鎖状、炭素原子数５〜８個の分岐鎖状又は脂環式のアルキニル基を示し、例えば、プロパルギル基、２−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−シクロヘキシニル基等が挙げられる。
【００１２】
「C1-C8アルコキシ基」とは、炭素原子数１〜８個の直鎖アルコキシ基、炭素原子数３〜８個の分岐鎖状又は脂環式アルコキシ基を示し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ノルマルプロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロプロポキシ基、ノルマルブトキシ基、セカンダリーブトキシ基、ターシャリーブトキシ基、ノルマルペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、ノルマルヘキシルオキシ基、ノルマルオクチルオキシ基等が挙げられる。「ハロC1-C8アルコキシ基」とは、同一又は異なっても良い１以上のハロゲン原子により置換された炭素原子数１〜８個の直鎖アルコキシ基、炭素原子数３〜８個の分岐鎖状又は脂環式アルコキシ基を示し、例えば、クロロメトキシ基、フルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２−クロロエトキシ基、２−フルオロエトキシ基、２,２−ジフルオロエトキシ基、２,２,２−トリフルオロエトキシ基、２,２,２−トリクロロエトキシ基、３−クロロプロポキシ基、３−ブロモプロポキシ基、３,３,３−トリフルオロプロポキシ基、２,２,３,３−テトラフルオロプロポキシ基、２,２,３,３,３−ペンタフルオロプロポキシ基、２，２−ジフルオロシクロプロポキシ基、２，２−ジクロロシクロプロポキシ基、１−メチル−２,２,２−トリフルオロエトキシ基、２,２,２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エトキシ基、１−メチル−２,２,３,３,３−ペンタフルオロプロポキシ基、３−クロロプロポキシ基、３−ブロモプロポキシ基、４−クロロブトキシ基、４,４,４−トリフルオロブトキシ基、５，５，５−トリフルオロペンチルオキシ基、６，６，６−トリフルオロヘキシルオキシ基等を示す。
これらの基が「C1-C8アルキル」、「ハロC1-C8アルキル」等として部分を示す場合も上記「C1-C8アルキル基」、「ハロC1-C8アルキル基」等と同じ意味の部分を示す。又、「C1-C5」、「C1-C6」等は炭素数１〜５、１〜６のように炭素数の範囲を示す。
【００１３】
一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類において、Ｒ1として好ましくはC1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、ハロC2-C8アルケニル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、C1-C6アルキル基、ハロC1-C6アルキル基、C1-C6アルコキシ基、ハロC1-C6アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基から選択される１以上の置換基を有するフェニル基であり、更に好ましくは、C1-C5アルキル基、ハロC1-C5アルキル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、ハロC1-C5アルキル基又はハロC1-C5アルコキシ基から選択される１以上の置換基を有するフェニル基である。
Ｒ2として好ましくは水素原子、C1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、シアノC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、C1-C8アルキルカルボニル基、ハロC1-C8アルキルカルボニル基又はC2-C8アルケニルカルボニル基であり、更に好ましくは水素原子、C1-C8アルキル基又はC1-C8アルキルカルボニル基である。
Ｒ3として好ましくは水素原子又はC1-C8アルキル基である。
Ｒ4として好ましくはC1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、ハロC2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、ハロC2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、ペンタフルオロサルファニル基（−ＳＦ5）、C1-C8アルキルチオ基、C1-C8アルキルスルフィニル基、C1-C8アルキルスルホニル基、モノC1-C8アルキルアミノ基又はジC1-C8アルキルアミノ基であり、更に好ましくは、C1-C5アルキル基、ハロC1-C5アルキル基、C1-C5アルコキシ基又はハロC1-C5アルコキシ基であり、好ましいＲ4の置換位置はピリジン環４位である。
【００１４】
Ｒ5として好ましくはC1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルキル基、C1-C8アルコキシC1-C8 
アルキル基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、C2-C8アルケニル基、ハロC2-C8アルケニル基、C2-C8アルキニル基、ハロC2-C8アルキニル基、C1-C8アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシ基、C1-C8アルコキシC1-C8 アルコキシ基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルコキシ基、ペンタフルオロサルファニル基（−ＳＦ5）、トリメチルシリル基、C1-C8アシルオキシ基、ハロC1-C8アシルオキシ基、C1-C8アルキルスルホニルアミノ基、ハロC1-C8アルキルスルホニルアミノ基、C1-C8アルキルカルボニル基、C1-C8アルコキシカルボニル基であり、更に好ましくはハロC1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルコキシC1-C8アルキル基、ハロC1-C8アルコキシ基又はジフルオロメチレンジオキシ基（−ＯＣＦ2Ｏ−）である。
Ｘとして好ましくは−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基であり、ｔとして好ましくは１であり、ｍとして好ましくは１であり、ｎとして好ましくは１又は２であり、ｐとして好ましくは０である。
一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類の塩類としては、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩、シュウ酸塩、アジピン酸塩、ドデカン二酸塩、ラウリン酸塩、ステアリン酸塩、トリフルオロ酢酸塩、フマール酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、フタル酸塩等のカルボン酸塩類；メタンスルホン酸塩、１，３−プロパンジスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩等のスルホン酸塩類；塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、炭酸塩等の無機酸塩類等が例示できる。
【００１５】
一般式（Ｉ）で表される本発明のフェニルピリジン類は新規化合物であり、例えば下記製造方法１〜８に従って製造できる。
製造方法１．  酸ハライド類又は酸無水物類とアミン類との反応による製造
【化３】
2005053902.tif 000004
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ、ｔ、ｍ、ｎ及びｐは前記に同じくし、Ｙはハロゲン原子を示す。）
一般式（III）で表される酸ハライド類又は一般式（IV）で表される酸無水物類と一般式（II）で表されるフェニルピリジルアルキルアミン類とを不活性溶媒及び塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類を製造することができる。
【００１６】
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；水；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
本反応で使用できる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；無機塩類；ピリジン、DBU、トリエチルアミン等の有機塩基類等を挙げることができ、その使用量は一般式（III）で表される酸ハライド類又
は一般式（IV）で表される酸無水物類に対して等モル〜過剰モルの範囲で適宜選択して反応を行えば良い。
【００１７】
本反応は等モル反応であるので一般式（III）で表される酸ハライド類又は一般式（IV）で表される酸無水物類と一般式（II）で表されるフェニルピリジルアルキルアミン類を等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもでき、好ましくは一般式（III）で表される酸ハライド類又は一般式（IV）で表される酸無水物類を過剰に使用するのが良い。
反応温度は−５０℃〜使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えば良く、好ましくは０℃〜８０℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分〜４８時間の範囲である。
反応後、目的物である本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類を単離するには、水に溶解する溶媒を用いた場合は、減圧下溶媒を留去し、水を加えた後、水に不溶のベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素；酢酸エチル等のエステル類で抽出し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシウム等の乾燥剤で乾燥し、減圧下で溶媒を留去すれば良い。水に不溶の溶媒を用いた場合は、反応混合物に水を加えた後分液し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウム、無水硫酸マグネシウム等の乾燥剤で乾燥し、減圧下で溶媒を留去すれば良い。更に必要により、溶媒留去後得られた残渣を、再結晶、懸濁洗浄、カラムクロマトグラフィー等で精製することもできる。
【００１８】
製造方法２．  イソシアナート類又はイソチオシアナート類とアミン類との反応による製造
【化４】
2005053902.tif 000005
（式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、ｔ、ｍ、ｎ及びｐは前記に同じくし、Ｒ8は置換されてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェニル基を示し、Ｚは酸素原子又は硫黄原子を示す。）
一般式（Ｖ）で表されるイソシアナート類又はイソチオシアナート類と一般式（II）で表されるフェニルピリジルアルキルアミン類とを不活性溶媒及び塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより本発明の一般式（Ｉ−１）で表されるフェニルピリジン類を製造することができる。
本反応は製造方法１に同じくすれば良い。
【００１９】
製造方法３．  カルボン酸類とアミン類との反応による製造
【化５】
2005053902.tif 000006
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、ｔ、ｍ、ｎ及びｐは前記に同じ。）
一般式（VI）で示されるカルボン酸と一般式（II）で示されるフェニルピリジルアルキルアミン類を不活性溶媒、塩基及び縮合剤の存在下又は非存在下に反応させることにより本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類を製造することができる。
本反応で使用できる縮合剤としてはカルボニルジイミダゾール、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ヨウ化２−クロロ−１−メチルピリジニウム等を挙げることができ、その使用量は一般に式（VI）で表されるカルボン酸に対して等モル〜過剰モルの範囲で適宜選択して反応を行えば良い。
本反応は等モル反応であるので一般式（VI）で表されるカルボン酸及び一般式（II）で表されるフェニルピリジルアルキルアミン類を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもできる。
本反応で使用できる不活性溶媒、塩基、反応温度、反応時間及び単離方法は製造方法１に同じくすれば良い。
【００２０】
製造方法４．  カルボニル化合物とオキシアミン類との反応による製造
【化６】
2005053902.tif 000007
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7、Ｘ、ｔ、ｍ及びｐは前記に同じ。）
一般式（Ｉ−３）で表されるカルボニル化合物と一般式（VII）で表されるオキシアミン類又はその酸付加塩類とを不活性溶媒及び塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより本発明の一般式（Ｉ−４）で表されるフェニルピリジン類を製造することができる。
【００２１】
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；水；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、などのエーテル類；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
本反応で使用できる塩基としては、製造方法１に同じくすれば良い。
本反応は等モル反応であるので一般式（Ｉ−３）で表されるカルボニル化合物及び一般式（VII）で表されるオキシアミン類を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過
剰に使用することもでき、好ましくは一般式（VII）で表されるオキシアミン類を過剰に使用するのが良い。
反応温度は−５０℃〜使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えばよく、好ましくは室温〜８０℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分〜４８時間の範囲である。
反応後、目的物である本発明の一般式（Ｉ−４）で表されるフェニルピリジン類を単離するには、製造方法１に同じくすれば良い。
【００２２】
製造方法５．  クロスカップリング反応による製造
【化７】
2005053902.tif 000008
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ、ｔ、ｍ、ｎ及びｐは前記に同じくし、Wは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチルスルホニルオキシ基、ｐ−トリルスルホニルオキシ基、トリフルオロメチルスルホニルオキシ基等の脱離基を示す。）
一般式（VIII）で表されるピリジン類と一般式（IX）で表されるフェニルボロン酸類とを塩基及び遷移金属触媒の存在下、配位子又は不活性溶媒の存在下若しくは非存在下に反応させることにより本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類を製造することができる。
【００２３】
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；水；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
本反応で使用できる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；弗化カリウム等の無機塩類；ピリジン、トリエチルアミン等のアミン類等を挙げることができ、その使用量は一般式（IX）で表されるフェニルボロン酸類に対して等モル〜過剰モルの範囲で適宜選択して反応を行えば良く、好ましくは２倍モル用いるのが良い。
本反応で使用できる遷移金属触媒としては、パラジウム炭素、酢酸パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、トリス（ジベンジルアセトン）パラジウム等のパラジウム化合物類、ビス（トリフェニルホスフィン）ニッケルクロリド及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル等のニッケル化合物等を挙げることができ、その使用量は一般式（VIII）で表されるピリジン類に対して０．０００１倍モル〜等モルの範囲で適宜選択して反応を行えば良く、好ましくは０．０００１倍モル〜０．２倍モル用いるのが良い。
【００２４】
本反応で使用できる配位子としては、トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、トリｔ−ブチルホスフィン等のホスフィン配位子等を挙げることができ、その使用量は
遷移金属触媒に対して０．５倍モル〜１００倍モルの範囲で適宜選択すれば良く、好ましくは等モル〜１０倍モルの範囲である。又、配位子を使用しないで反応させることもできる。
本反応は等モル反応であるので一般式（VIII）で表されるピリジン類及び一般式（IX）で表されるフェニルボロン酸類を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもでき、好ましくは一般式（IX）で表されるフェニルボロン酸類を過剰に使用するのが良い。
反応温度は−５０℃〜使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えば良く、好ましくは室温〜１２０℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分〜４８時間の範囲である。
反応後、目的物である本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類を単離するには、製造方法１に同じくすれば良い。
【００２５】
製造方法６．  フェニルピリジン類の窒素原子上の水素原子置換反応による製造
【化８】
2005053902.tif 000009
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ、Ｗ、ｔ、ｍ、ｎ及びｐは前記に同じ。）
一般式（Ｉ−５）で表されるアミン類と一般式（Ｘ）で示される化合物とを不活性溶媒及び塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類を製造することができる。
本反応は製造方法１に同じくすれば良い。
【００２６】
製造方法７．  ピリジン類の酸化反応による製造
【化９】
2005053902.tif 000010
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ、ｔ、ｍ及びｎは前記に同じ。）
一般式（Ｉ−６）で示されるフェニルピリジン類と酸化剤を不活性溶媒存在下又は非存在下に反応させることにより一般式（Ｉ−７）で表されるピリジン−Ｎ−オキシド類を製造することができる。
【００２７】
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；水；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類；アセトニトリル、N，N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種
類以上を混合して使用することができる。
本反応で使用できる酸化剤としてはｍ−クロロ安息香酸、過酸化水素、過酢酸等を挙げることができる。
本反応は等モル反応であるので一般式（Ｉ−６）で表されるフェニルピリジン類及び酸化剤をを等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもでき、好ましくは酸化剤を過剰に使用するのが良い。
反応温度は−５０℃〜使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えば良く、好ましくは０℃〜２５℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分〜４８時間の範囲である。
反応後、目的物である一般式（Ｉ−７）で表されるピリジン−Ｎ−オキシド類を単離するには、製造方法１に同じくすれば良い。
【００２８】
製造方法８．  フェニルピリジン類の塩類の製造
【化１０】
2005053902.tif 000011
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ、ｔ、ｍ、ｎ及びｐは前記に同じくし、Ａは酸を示す。）
一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類と酸類とを不活性溶媒存在下又は非存在下に反応させることにより一般式（Ｉ−８）で表される酸付加塩類を製造することができる。
【００２９】
本反応で使用できる酸としては有機酸、無機酸を用いることができ、有機酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、アジピン酸、ドデカン二酸、ラウリン酸、ステアリン酸、トリフルオロ酢酸、フマール酸、マレイン酸、安息香酸、フタル酸等のカルボン酸類；メタンスルホン酸、１，３−プロパンジスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸類等を挙げることができる。無機酸としては塩酸、硫酸、硝酸、炭酸等を挙げることができる。
本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；水；酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類；テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒等を挙げることができる。
本反応は等モル反応であるので一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類及び酸類を等モル使用すればよいが、いずれかの反応剤を過剰に使用することもでき、好ましくは酸類を過剰に使用するのがよい。
反応温度は−５０℃〜使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えばよく、好ましくは０℃〜２５℃の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分〜４８時間の範囲である。
反応後、目的物である一般式（Ｉ−８）で表されるフェニルピリジン類の酸付加塩類を単離するには、溶媒を減圧留去し、析出した結晶をろ別すれば良い。そのままでも十分純品であることもあるが、必要に応じて、前記の不活性溶媒で洗浄することにより精製することができる。
【００３０】
中間体である一般式（II）で表されるアミン類は国際公開第０３／０００６７９号パンフレット、特開２００２−３６３１６４号公報又はＪ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９１，
３４，７２５−７３６記載の方法に準じて製造できるが、以下に示す中間体製造方法によっても製造することができる。
中間体製造方法１．  フェニルシアノピリジン類の還元反応による製造
【化１１】
2005053902.tif 000012
（式中、Ｒ4、Ｒ5、ｍ、及びｎは前記に同じ。）
一般式（XI）で表されるフェニルシアノピリジン類を不活性溶媒の存在下又は非存在下に還元することにより一般式（II−１）で表されるフェニルピリジルアルキルアミン類を製造することができる。
【００３１】
本反応は公知の文献（例えば、日本化学会編，「新実験化学講座」，２０巻，p．２７９，１９７７年，丸善株式会社  参照。）記載の方法に準じて行うことができ、好ましい還元方法としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等の金属水素化物を還元剤として用いる方法、金属触媒と水素による接触水素添加等を挙げることができる。
金属水素化物を還元剤として用いる場合、本反応は化学量論反応であるので一般式（XI）と金属水素化物を化学量論量用いれば良いが、好ましくは金属水素化物を過剰に使用するのが良い。反応温度は−１００℃〜不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えば良く、好ましくは−７８℃〜室温の範囲である。反応時間は反応の規模及び反応温度により一定しないが、数分〜４８時間の範囲である。
金属触媒と水素による接触水素添加の場合、金属触媒としては、例えばラネーニッケル、パラジウム炭素、酸化白金等を挙げることができる。
【００３２】
反応温度は室温〜使用する不活性溶媒の沸点域の範囲で適宜行えばよく、好ましくは室温〜５０℃の範囲である。水素圧力は常圧〜１００Ｋｇｆ／ｃｍ2の範囲で適宜行えば良く、好ましくは常圧〜１０Ｋｇｆ／ｃｍ2の範囲である。反応時間は反応の規模、温度および圧力により一定しないが数分〜４８時間の範囲である。又、前記文献に記載されているように、反応速度の改善や副生成物抑制の目的で酸、塩基等の添加物を添加することもできる。
溶媒としては、本反応に直接関与しないものであれば特に限定されず、例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類；水；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ピリジン等の極性溶媒等を挙げることができ、これらの不活性溶媒は単独で又は２種類以上を混合して使用することができる。
反応後、目的物である一般式（II−１）で表されるフェニルピリジルアルキルアミン類を単離するには、残存する金属水素化合物を処理後、又は金属触媒をろ過後、減圧下溶媒を留去すれば良い。そのままでも十分純品であることもあるが、必要に応じて、蒸留、カ
ラムクロマトグラフィー等の手段で精製することができる。
【００３３】
中間体製造方法２．  オキシム類の還元による製造
【化１２】
2005053902.tif 000013
（式中、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、ｍ及びｎは前記に同じくし、Ｒ9は水素原子又はC1-C6アルキル基を示す。）
一般式（XII）で表されるオキシム類を不活性溶媒の存在下又は非存在下に還元することにより一般式（II−２）で表されるフェニルピリジルアルキルアミン類を製造することができる。
本反応は中間体製造方法１に同じくすれば良い。
原料である一般式（XII）で表されるオキシム類は製造方法４に準じて製造できる。
【００３４】
中間体製造方法３．  フェニルピリジルアルキルアミン類の塩類の製造
【化１３】
2005053902.tif 000014
（式中、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、ｔ、ｍ、ｎ及びｐは前記に同じくし、Ａは酸を示す。）
即ち、一般式（II）で表されるフェニルピリジルアルキルアミン類と酸類とを不活性溶媒存在下又は非存在下に反応させることにより一般式（II−２）で表されるフェニルピリジルアルキルアミン類の塩類を製造することができる。
本反応は製造方法８に同じくすれば良い。
【００３５】
中間体製造方法４．  シアノピリジン類の製造
一般式（XI）で表されるシアノピリジン類の一部は新規化合物であり、下記方法により製造することができる。
【化１４】
2005053902.tif 000015
（式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｗ、ｍ、ｎ及びｐは前記に同じ。）
一般式（XIII）で表されるピリジン類と一般式（IX）で表されるフェニルボロン酸類とを塩基及び遷移金属触媒の存在下、配位子又は不活性溶媒の存在下若しくは非存在下に反応させることにより一般式（XI）で表されるシアノピリジン類を製造することができる。
本反応は製造方法５に同じくすれば良い。
中間体である一般式（XIII）で表されるピリジン類は特開昭６０−１８５７６４号公報又はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，４１，４９４１（１９８５）記載の方法に準じて製造できる。
【００３６】
中間体製造方法５．
製造方法５における中間体である一般式（VIII）で表されるピリジン類は以下の方法で製造できる。
【化１５】
2005053902.tif 000016
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ8、Ｘ、Ｙ、Ｗ、Ｚ、ｔ、ｍ、ｎ及びｐは前記に同じ。）
一般式（III）で表される酸ハライド類又は一般式（VI）で表される酸無水物類と一般式（XIV）で表されるアミン類とを不活性溶媒及び塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより一般式（VIII）で表されるピリジン類を製造することができる。
又、一般式（V）で表されるイソシアナート類若しくはイソチオシアナート類と一般式（XIV）で表されるアミン類とを不活性溶媒及び塩基の存在下又は非存在下に反応させることにより一般式（VIII−１）で表されるピリジン類を製造することができる。
本反応は製造方法１又は２に同じくすれば良い。
【００３７】
前記製造方法により製造することができる本発明化合物及びその中間体を第１表〜第６表に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、表中、「ｎ−」はノルマルを、「ｉ−」はイソを、「ｃ−」はシクロを、「ｔ−」はターシャリーを、「−」は無置換を示す。又、化合物Ｎｏ．に付記した「＊」は塩酸塩であることを示す。
【００３８】
【表１】
2005053902.tif 000017
【００３９】
【表２】
2005053902.tif 000018
【００４０】
【表３】
2005053902.tif 000019
【００４１】
【表４】
2005053902.tif 000020
【００４２】
【表５】
2005053902.tif 000021
【００４３】
【表６】
2005053902.tif 000022
【００４４】
【表７】
2005053902.tif 000023
【００４５】
【表８】
2005053902.tif 000024
【００４６】
【表９】
2005053902.tif 000025
【００４７】
【表１０】
2005053902.tif 000026
【００４８】
【表１１】
2005053902.tif 000027
【００４９】
本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類又はその塩類を除草剤として使用する場合、農薬製剤上の常法に従い、使用上都合の良い形状に製剤して使用するのが一般的である。即ち、本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類又はその塩類は、
これらを適当な不活性担体に、又は必要に応じて補助剤と一緒に、適当な割合に配合して溶解、分離、懸濁、混合、含浸、吸着若しくは付着させ、適宜の剤形、例えば懸濁剤、乳懸濁剤、乳剤、液剤、水和剤、粒剤、粉剤、錠剤、ジャンボ剤、パック剤等に製剤して使用すれば良い。
本発明で使用できる不活性担体としては固体又は液体の何れであっても良く、固体の担体になり得る材料としては、例えば植物質粉末類（例えばダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鋸粉、タバコ茎粉、クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉末、植物エキス抽出後の残渣等）、粉砕合成樹脂等の合成重合体、粘土類（例えばカオリン、ベントナイト、酸性白土等）、タルク類｛例えばタルク、ピロフィライト等）、シリカ類（例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン（含水微粉珪素、含水珪酸ともいわれる合成高分散珪酸で、製品により珪酸カルシウムを主成分として含むものもある。）｝、活性炭、天然鉱物質類（例えばイオウ粉末、軽石、焼成珪藻土、アタパルジャイトおよびゼオライト等）、焼成珪藻土、レンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、プラスチック担体等（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン等）、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、硫安、燐安、硝安、尿素、塩安等の化学肥料、堆肥等を挙げることができ、これらは単独で若しくは二種以上の混合物の形で使用される。
【００５０】
液体の担体になり得る材料としては、それ自体溶媒能を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助剤の助けにより有効成分化合物を分散させ得ることとなるものから選択され、例えば代表例として次に挙げる担体を例示できるが、これらは単独で若しくは２種以上の混合物の形で使用され、例えば水、アルコール類（例えばメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール等）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル類（例えばエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（例えばケロシン、鉱油等）、芳香族炭化水素類（例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、アルキルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例えばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等）、エステル類（例えば酢酸エチル、ジイソプピルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート等）、アミド類（例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ニトリル類（例えばアセトニトリル等）、ジメチルスルホキシド類等を挙げることができる。
他の補助剤としては次に例示する代表的な補助剤を挙げることができ、これらの補助剤は目的に応じて使用され、単独で、ある場合は二種以上の補助剤を併用し、又ある場合には全く補助剤を使用しないことも可能である。有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び／又は湿潤の目的のために界面活性剤が使用され、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート、アルキルアリールスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、リグニンスルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル等の界面活性剤を例示することができる。
【００５１】
又、有効成分化合物の分散安定化、粘着及び／又は結合の目的のために、次に例示する補助剤を使用することもでき、例えばカゼイン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、松根油、糠油、ベントナイト、リグニンスルホン酸塩等の補助剤を使用することもできる。固体製品の流動性改良のために次に挙げる補助剤を使用することもでき、例えばワックス、ステアリン酸塩、燐酸アルキルエステル等の補助剤を使用できる。懸濁性製品の解こう剤として、例えばナフタレンスルホン酸縮合物、縮合燐酸塩等の補助剤を使用することもできる。消泡剤としては、例えばシリコーン油等の補助剤を使用することもできる。
有効成分化合物の配合割合は必要に応じて加減することができ特に制限されないが、下
限はおよそ０．００１重量％程度〜上限は９０重量％程度である。例えば粉剤或いは粒剤とする場合の下限は０．０１重量％程度が好ましく、より好ましくは０．１重量％程度、上限は５０重量％程度が好ましく、より好ましくは１０重量％程度であり、乳剤、水和剤或いは顆粒水和剤等とする場合の下限は０．０１重量％程度が好ましく、より好ましくは０．１重量％程度、上限は９０重量％程度が好ましく、より好ましくは６０重量％程度である。
【００５２】
本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類又はその塩類を含有する製剤を水で希釈して施用する場合、付着性や拡展性等を向上させ、除草効果を高めるために、散布液中に展着剤等の補助剤を添加しても良い。使用される展着剤等の補助剤としては、界面活性剤（前記の非イオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性系界面活性剤）、パラフィン、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸塩、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、クロップオイル（鉱物油、動植物油等）、液体肥料等が挙げられる。これらの補助剤は、必要に応じて２種以上を同時に使用しても良い。展着剤等の補助剤の使用量は、その種類によって異なるが、通常、散布液中に０．０１〜５重量%を添加するのが適当である。また、補助剤の種類によっては、製剤中の成分としてあらかじめ添加しておくことも可能である。
本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類又はその塩類を有効成分とする除草剤の施用量は、化合物の構造や対象雑草、処理時期、処理方法、土壌の性質等の条件によって異なるが、通常、１ヘクタール当りの有効成分量としては２〜２０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇの範囲が適当である。
【００５３】
本発明の除草剤の対象雑草としては、畑地においては、例えば、シロザ、アカザ、イヌタデ、ハルタデ、イヌビユ、アオビユ、ハコベ、ホトケノザ、イチビ、オナモミ、マルバアサガオ、チョウセンアサガオ、セイヨウカラシナ、ヤエムグラ、セイヨウスミレ、オロシャギク、コセンダングサ等の広葉雑草、メヒシバ、オヒシバ、イヌビエ、エノコログサ等の狭葉雑草が挙げられる。また、水田においては、例えば、キカシグサ、アゼナ、コナギ、アブノメ、ミゾハコベ、ヘラオモダカ、オモダカ、ウリカワ等の広葉雑草、タイヌビエ、タマガヤツリ、イヌホタルイ、ミズガヤツリ等の狭葉雑草が挙げられる。
本発明の除草剤は、畑地及び水田において、土壌処理、茎葉処理及び湛水処理のいずれの処理方法によっても上記雑草を防除することが可能である。また、本発明の除草剤は、例えば、トウモロコシ、コムギ、オオムギ、イネ、ダイズ等の遺伝形質を改良し薬剤耐性等を付与した作物も含む栽培作物に対し、土壌処理及び茎葉処理のいずれにおいても影響が少なく、これらの作物の栽培において選択的除草剤として使用することが可能である。
本発明の除草剤は、同一分野に用いる殺虫剤、殺菌剤、植物成長調節剤等の他の農薬、及び肥料等と混合施用することができる。また、除草効果をより安定化させるために他の除草剤と混合施用することもできる。本発明の一般式（Ｉ）で表されるフェニルピリジン類又はその塩類と他の除草剤を混合施用する場合、両者の各々の製剤を施用時に混合しても良いが、あらかじめ両者を含有する製剤として施用しても良い。上記目的で好適に混合施用することができる除草剤としては、例えば以下のものが挙げられる。
【００５４】
グリホサート及びその塩、グリホシネート及びその塩、ビアラホス及びその塩、ブタミホス、アニロホス、ベンスリド等の有機リン系除草剤、スルファレート、ジアレート、トリアレート、ＥＰＴＣ、ブチレート、エスプロカルブ、チオベンカルブ（ベンチオカーブ）、モリネート、イソポリネート、ジメピペレート、ピリブチカルブ、フェンメディファム、クロルプロファム、アシュラム等のカ−バメ−ト系除草剤、ジウロン、リニュロン、フルオメツロン、ジフェノキスロン、ダイムロン、イソプロツロン、イソウロン、テブチウロン、メタベンズチアズロン、メトベンズロン、クロロトルロン等のウレア系除草剤、メタザクロール、アラクロール、ブタクロール、プレチラクロール、アセトクロール、メ
トラクロール、テニルクロール、ジエタチル、ジメテナミド、プロパニル、ジフルフェニカン、メフェナセット、フルフェナセット、ブロモブチド、イソキサベン（ベンザミゾール）等のアミド系除草剤、トリフルラリン、ベンフルラリン、プロジアミン、オリザリン、ブトラリン、ペンディメタリン等のジニトロアニリン系除草剤、
【００５５】
２，４−Ｄ及びその誘導体、２，４，５−Ｔ及びその誘導体、ＭＣＰＡ及びその誘導体、ジクロプロップ及びその誘導体、メコプロップ及びその誘導体、ＭＣＰＢ及びその誘導体、ジカンバ及びその誘導体、２，３，６−ＴＢＡ及びその誘導体、キンクロラック及びその誘導体、キンメラック及びその誘導体、クロピラリド及びその誘導体、ピクロラム及びその誘導体、トリクロピル及びその誘導体、フルロキシピル及びその誘導体、ベナゾリン及びその誘導体、ジクロホップ及びその誘導体、フルアジホップ及びその誘導体、ハロキシホップ及びその誘導体、フェノキサプロップ及びその誘導体、キザロホップ及びその誘導体、クロジナホップ及びその誘導体、シハロホップ及びその誘導体等のカルボン酸系除草剤、ブロモキシニル及びその誘導体、アイオキシニル及びその誘導体、ジノテルブ及びその誘導体等のフェノール系除草剤、アロキシジム及びその塩、セトキシジム、シクロキシジム、トラルコキシジム、ブトロキシジム、クレトジム、テプラロキシジム、スルコトリオン、メソトリオン、ベンゾビシクロン等のシクロヘキサンジオン系除草剤、
【００５６】
クロルニトロフェン、クロメトキシニル、オキシフルオルフェン、ビフェノックス、アシフルオルフェン及びその塩、フルオログリコフェン、ラクトフェン、ホメサフェン、アクロニフェン等のジフェニルエ−テル系除草剤、アミドスルフロン、クロリムロンエチル、スルホメッロンメチル、プリミスルフロン、ベンスルフロンメチル、エトキシスルフロン、シクロスルファムロン、クロルスルフロン、メトスルフロンメチル、トリベニュロンメチル、トリアスルフロン、シノスルフロン、エタメトスルフロンメチル、トリフルスルフロンメチル、プロスルフロン、チフェンスルフロンメチル、ピラゾスルフロンエチル、ハロスルフロンメチル、フラザスルフロン、リムスルフロン、ニコスルフロン、フルピルスルフロン及びその塩、イマゾスルフロン、スルホスルフロン、ヨードスルフロン、トリトスルフロン、メソスルフロン等のスルホニルウレア系除草剤、パラコート、ジクワット等のビピリジニウム系除草剤、ピラゾレート、ピラゾキシフェン、ベンゾフェナップ等のピラゾール系除草剤、シマジン、アトラジン、シアナジン、シメトリン、ジメタメトリン、トリアジフラム、メトリブジン等のトリアジン系除草剤、イマザメタベンズ、イマザピル及びその塩、イマザキン及びその塩、イマゼタピル及びその塩、イマザモックス及びその塩等のイミダゾリノン系除草剤、
【００５７】
その他の除草剤として、インダノファン、フルリドン、フルロクロリドン、フルルタモン、ノルフルラゾン、カフェンストロール、フェントラザミド、スルフェントラゾン、カルフェントラゾンエチル、ペントキサゾン、オキサジアゾン、オキサジアルギル、ピラフルフェンエチル、イソプロパゾール、フルポキサム、クロマゾン、イソキサフルトール、イソキサクロルトール、ジチオピル、チアゾピル、ピリチオバック及びその塩、ピリミノバックメチル、ビスピリバック及びその塩、ブロマシル、ターバシル、レナシル、フルプロパシル、オキサジクロメホン、シンメチリン、クロルフタリム、フルミクロラックペンチル、フルミオキサジン、シニドンエチル、アザフェニジン、フルチアセットメチル、フルメツラム、メトスラム、クロランスラムメチル、ベンフレセート、エトフメセート、ベンタゾン、ピラクロニル、ベフルブタミド、ピコリナフェン、フロラスラム、プロポキシカルバゾン、フルカルバゾン及びその塩、シニドンエチル、ピノキサベン等が挙げられる。
【実施例】
【００５８】
以下本発明を実施例、製剤例及び試験例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限りこれらに限定されることはない。
【００５９】
実施例１．  Ｎ−［６−（３−トリフルオロメトキシフェニル）−２−ピリジル］メチルシクロプロパンカルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．２−３）の製造
６−（３−トリフルオロメトキシフェニル）−２−ピリジルメチルアミン（０．３ ｇ、１．１ミリモル）、トリエチルアミン（０．５ｍｌ、３．６ミリモル）とトルエン（２０ｍｌ）の混合物を０〜４℃に冷却後、シクロプロパンカルボニルクロリド（０．１２ｇ、１．１ミリモル）のトルエン（５ｍｌ）溶液を加え３０分間撹拌した。反応混合物に水（２０ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出後、希塩酸、水及び飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄して目的物０．３１ｇを得た。
収率：８４％
物性：融点  １２６〜１２７℃
【００６０】
実施例２．  Ｎ−｛６−［３−（１−メトキシイミノエチル）フェニル］−２−ピリジル｝メチルシクロプロパンカルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．２−３６）の製造
Ｎ−［６−（３−アセチルフェニル）−２−ピリジル］メチルシクロプロパンカルボン酸アミド（０．３０ｇ、１．０ミリモル）、メトキシアミン塩酸塩（０．４０ｇ、４．８ミリモル）、炭酸カリウム（０．５０ｇ、３．６ミリモル）、エタノール（５ｍｌ）と水（５ｍｌ）の混合物を６０℃で３０分間撹拌した。溶媒を減圧留去したのち水を加え、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた結晶をヘキサンで洗浄して目的物０．２７ｇを得た。
収率：８４％
物性：融点  １１７〜１１８ ℃
【００６１】
実施例３．Ｎ−［６−（３−シアノフェニル）−２−ピリジル］メチルシクロプロパンカルボン酸アミド（化合物Ｎｏ．２−１２）の製造
窒素気流下、Ｎ−（６−クロロ−２−ピリジル）メチルシクロプロパンカルボン酸アミド（０．３０ｇ、１．４ミリモル）、３−シアノフェニルボロン酸（０．２５ｇ、１．７ミリモル）、２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液（２．０ｍｌ、４．０ミリモル）、トルエン（２．０ｍｌ)、ジオキサン（１．０ｍｌ）と水（１．０ｍｌ）の混合物を７０℃に昇温後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．１０ｇ、０．０８７ミリモル）を加え、加熱還流下で３時間撹拌した。反応混合物に水（２０ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出後、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、得られた結晶をヘキサンで洗浄して目的物０．２５ｇを得た。
収率：６４％
物性：融点  １６１〜１６３℃
【００６２】
実施例４．  ６−（３−トリフルオロメトキシフェニル）−２−ピリジルメチルアミン（化合物Ｎｏ．５−５）の製造
２−シアノ−６−（３−トリフルオロメトキシフェニル）ピリジン（１２．５ ｇ、４７．３ミリモル）、１０％パラジウム炭素（２．４７ｇ、２．３２ミリモル）、濃塩酸（１２．４ｍｌ）とエタノール（２５０ｍｌ）混合物を、５．０Ｋｇｆ／ｃｍ2の水素圧下、室温で４時間撹拌した。２８％ナトリウムメトキシドメタノール溶液を加えて塩基性にした後、触媒をろ別、溶媒を減圧留去した。残渣に水（１００ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、減圧蒸留して目的物９．２３ｇを得た。
収率：７３％
物性：沸点  １３７〜１３８℃／１．０ｍｍＨｇ
【００６３】
実施例５．  ６−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−２−ピリジルメチルアミン
塩酸塩（化合物Ｎｏ．５−２）の製造
６−（４−トリフルオロメトキシフェニル）−２−ピリジルメチルアミン（９．２５ｇ、３４．５ミリモル）のメタノール（５０ｍｌ）溶液に濃塩酸（６ｍｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、結晶をメタノールで洗浄して目的物９．３５ｇを得た。
収率：９０％
物性：融点  ２０５〜２０７℃（分解）
【００６４】
実施例６．  ２−シアノ−６−（３−トリフルオロメトキシフェニル）ピリジン（化合物Ｎｏ．６−６）の製造
窒素気流下、２−クロロ−６−シアノピリジン（８．４ｇ、６１ミリモル）、３−トリフルオロメトキシフェニルボロン酸（１５．０ｇ、７３ミリモル）、トルエン（１２０ｍｌ）と２Ｍ炭酸ナトリウム水溶液（６０ｍｌ、１２０ミリモル）の混合物を８０℃に昇温後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（３．５ｇ、３．０ミリモル）を加え、加熱還流下３時間撹拌した。水（２００ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄後無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的物１３．１ｇを得た。
収率：８１％
物性：融点  ４８〜４９℃であった。
【００６５】
以下に本発明の代表的な製剤例及び試験例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、製剤例中、部とあるのは重量部を示す。
製剤例１．
本発明化合物                                      １０部
キシレン                                          ７０部
Ｎ−メチルピロリドン                              １０部
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルと
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物    １０部
以上を均一に混合溶解して乳剤とする。
製剤例２．
本発明化合物                                        ３部
クレー粉末                                        ８２部
珪藻土粉末                                        １５部
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。
【００６６】
製剤例３．
本発明化合物                                        ５部
ベントナイトとクレーの混合粉末                    ９０部
リグニンスルホン酸カルシウム                        ５部
以上を均一に混合し、適量の水を加えて混練し、造粒、乾燥して粒剤とする。
製剤例４．
本発明化合物                                      ２０部
カオリンと合成高分散珪酸                          ７５部
ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルと
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物      ５部
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
【００６７】
試験例１． 出芽前の水田雑草に対する除草効果試験
７５ｃｍ2のプラスチックポットに土壌（埴壌土）を充填し、水田雑草であるイヌホタルイの種子を播種し、コナギ、アゼナ、ミゾハコベの種子を混和した土壌７５ｃｍ3で覆
土した後、水深５ｃｍの状態に湛水した。翌日に、製剤例１〜４に準じて調製した本発明化合物を有効成分とする薬剤の所定有効薬量（ｇ／ｈａ）を水で希釈し水面に滴下処理をした。ついで、温室内で育成し、処理２８日後に除草効果を調査し、無処理と比較して下記の基準に従って除草効果を評価した。
除草効果の判定基準
０・・・０％の除草効果
１・・・１％〜３９％の除草効果
２・・・４０％〜６９％の除草効果
３・・・７０％〜８９％の除草効果
４・・・９０％以上の除草効果
結果を第７表に示す。尚、表中の「−」は未評価を示す。
【００６８】
【表１２】
2005053902.tif 000028
【００６９】
【表１３】
2005053902.tif 000029
【００７０】
【表１４】
2005053902.tif 000030
【００７１】
【表１５】
2005053902.tif 000031
【００７２】
【表１６】
2005053902.tif 000032
【００７３】
試験例２． 出芽後の水田雑草に対する除草効果試験。
７５ｃｍ2のプラスチックポットに土壌（埴壌土）を充填し、水田雑草であるイヌビエ、イヌホタルイの種子を播種し、アゼナ、ミゾハコベの種子を混和した土壌７５ｃｍ3で覆土した後、水深５ｃｍの状態に湛水し、温室内で育成した。供試植物が一葉期の時期に、本発明化合物を有効成分とする薬剤を所定有効薬量（ｇ／ｈａ）の薬液として処理をした。ついで、温室内で育成し、処理２８日後に除草効果を調査し、試験例１の基準に従って除草効果を評価した。結果を第８表に示す。尚、表中の「−」は未評価を示す。
【００７４】
【表１７】
2005053902.tif 000033
【００７５】
【表１８】
2005053902.tif 000034
【００７６】
【表１９】
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【００７７】
【表２０】
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【００７８】
【表２１】
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【００７９】
試験例３：畑地茎葉処理試験
面積２００ｃｍ2の樹脂製バットに洪積性埴壌土の畑土壌を充填し、施肥後、スミレ、ハコベ、ヤエムグラ、イヌカミツレ及びコムギを播種し、均一に覆土を行った。その後、温室で栽培管理を続け、供試雑草の生育葉令が１.０〜２.０葉期に達した時、製剤例１により得た本発明化合物を有効成分とする乳剤を水で希釈調整し、有効成分が所定薬量（ｇ／ｈａ）となるように所定量を小型動力加圧噴霧器で均一に噴霧処理した。その後、温室内で栽培管理を続け、薬剤処理後２１日目に除草効果及び薬害について調査を行った。
尚、除草効果及び薬害の評価は下記数式により除草率又は薬害率を求め、下記の基準に従って評価した。
［数１］
処理区における雑草の地上部生体重
除草率又は薬害率（％）＝（１−  ―――――――――――――――――  ）×１００
無処理区における雑草の地上部生体重
除草効果又は薬害の判定基準      除草率又は薬害率（％）
０・・・・・・・・・・・・０〜２０
１・・・・・・・・・・・・２０〜５０
２・・・・・・・・・・・・５１〜７０
３・・・・・・・・・・・・７１〜９０
４・・・・・・・・・・・・９１〜９９
５・・・・・・・・・・・・１００
その結果を第９表に示す。
【００８０】
【表２２】
2005053902.tif 000038
【００８１】
試験例４：畑地土壌処理試験
面積２００cm2の樹脂製バットに洪積性埴壌土の畑土壌を充填し、施肥後、スミレ、ハコベ、イヌカミツレ、ノスズメノテッポウ及びコムギを播種し、均一に覆土を行った。製剤例４により得た本発明化合物を有効成分とする水和剤を水で希釈調整し、有効成分が所定薬量（ｇ／ｈａ）となるように所定量を小型動力加圧噴霧器で土壌表面に均一に噴霧処理した。その後、温室内で栽培管理を続け、薬剤処理後２１日目に除草効果及び薬害について調査を行った。試験例３と同じ基準に従って除草効果と薬害を評価した。その結果を第１０表に示す。
【００８２】
【表２３】
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