(57)【要約】【課題】投影光学系を含む筐体内部の不活性ガスによるガスパージ置換が更に高純度であり、且つ、簡便な構造であり、更に少ないガス流量による効率の良いガスパージ置換及び置換時間の短縮を実現させることができる露光装置を提供すること。【解決手段】紫外光により原版を照明する照明光学系と、前記原版に描写されたパターンを基板上に転写する投影光学系と該照明光学系及び該投影光学系の少なくとも一方において、複数の光学部材が配置される筐体の内部空間を特定の気体に置換するガスパージ手段を備え、複数の該光学部材によって筐体の内部空間が区切られる複数の空間同士を繋ぐガスパージ用の通路を設け、該空間のよどみ部に該ガスパージ用通路を配置する。【選択図】図１
2005085982.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外光により原版を照明する照明光学系と、前記原版に描写されたパターンを基板上に転写する投影光学系と該照明光学系及び該投影光学系の少なくとも一方において、複数の光学部材が配置される筐体の内部空間を特定の気体に置換するガスパージ手段を備え、複数の該光学部材によって筐体の内部空間が区切られる複数の空間同士を繋ぐガスパージ用の通路を設け、該空間のよどみ部に該ガスパージ用通路を配置することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
よどみ空間に設ける前記ガスパージ用通路を、該よどみ空間部の最下流側に配置することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
紫外光により原版を照明する照明光学系と、前記原版に描写されたパターンを基板上に転写する投影光学系と該照明光学系及び該投影光学系の少なくとも一方において、複数の光学部材が配置される筐体の内部空間を特定の気体に置換するガスパージ手段を備え、複数の該光学部材によって筐体の内部空間が区切られる複数の空間同士を繋ぐガスパージ用の通路を設け、同一部材に複数のガスパージ用通路を配置し、該ガスパージ用通路が交差するように配置することを特徴とする露光装置。
【請求項４】
同一部材に設けた交差する前記ガスパージ通路の軸は、少なくとも１つは光軸方向であり、少なくとも１つは光軸と垂直な平面方向若しくは光軸と垂直な平面を９０°以下に傾けた平面方向であることを特徴とする請求請３記載の露光装置。
【請求項５】
前記光軸と垂直な平面方向若しくは該光軸と垂直な平面を９０°以下に傾けた平面方向に設けた前記ガスパージ通路は、同一部材に設けた光軸方向の該ガスパージ通路より下流側に開口を備えることを特徴とする請求項４記載の露光装置。
【請求項６】
紫外光により原版を照明する照明光学系と、前記原版に描写されたパターンを基板上に転写する投影光学系と該照明光学系及び該投影光学系の少なくとも一方において、複数の光学部材が配置される筐体の内部空間を特定の気体に置換するガスパージ手段を備え、複数の該光学部材によって筐体の内部空間が区切られる複数の空間同士を繋ぐガスパージ用の通路を設け、該ガスパージ通路を備える部材は、投影光学系を構成する部材であり、該光学素子を保持する保持部材、該保持部材を保持する筐体及び露光光が通過しない該光学素子の領域を単体又は複合して用いることを特徴とする請求項１又は３記載の露光装置。
【請求項７】
前記特定の気体は不活性ガスであり、Ｈｅや置換される気体より比重の軽い気体であることを特徴とする請求項１，３又は６記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、特に投影光学系内のガスパージ置換に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ等の固体素子の集積度及び動作速度を向上させるため、回路パターンの微細化が進んでいる。現在これらのパターン形成には、量産性と解像性能に優れた縮小投影露光法によるリソグラフィが広く用いられている。この方法は、マスク上の回路パターンを投影レンズを介して半導体ウエハ等の被露光基板上に転写するものである。その限界解像性能は露光波長に比例し、投影レンズの開口数（ＮＡ）に反比例する。そこで、従来より、投影レンズの高ＮＡ化により解像度の向上が行われてきた。
【０００３】
しかし、半導体デバイスの微細化を更に進めるために露光光を短波長化する必要がでてきた。
【０００４】
最近では、ｇ線（λ＝４３５ｎｍ）、ｈ線（λ＝４０５ｎｍ）、ｉ線（λ＝３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（λ＝２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（λ＝１９３ｎｍ）照明光の露光装置が実用化され、更に短波長のＦ２ エキシマレーザ（λ＝１５７ｎｍ）照明光の露光装置が実用化に向けて技術開発が進んでいる。
【０００５】
しかし、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザを露光光とする露光装置及び更に短波長のＦ２ エキシマレーザを含めた露光光を用いる露光装置においては、更なる短波長化により、露光光が空気中の不純物を酸素と光化学反応させることが知られており、斯かる反応による生成物（曇り物質）がガラス部材に付着し、ガラス部材に不透明な「曇り」が生じるという不都合があった。
【０００６】
ここで、曇り物質としては、例えば亜硫酸ＳＯ２ が光のエネルギーを吸収し励起状態となると、空気中の酸素と反応（酸化）することによって生じる硫酸アンモニウム（ＮＨ４ ）２ ＳＯ４ が代表的に挙げられる。この硫酸アンモニウムは白色を帯びており、レンズやミラー等の光学部材の表面に付着すると前記「曇り」状態となる。そして、露光光は硫酸アンモニウムで散乱、吸収される結果前記光学系の透過率が減少することになる。
【０００７】
特に、Ｆ２
レーザのように露光光が更に短波長の１５７ｎｍ以下になる短波長領域では、露光光がより強い光化学反応を起こさせ、前記「曇り」を生じるばかりでなく、同時に露光光が更に空気中の酸素を反応させてオゾンを発生し、残存酸素と生成オゾンが共に露光光を吸収してしまう現象がある。そのため、露光光の感光基板に到達するまでの光量（透過率）が少なくなり、スループットが小さくなるという不都合も生じていた。
【０００８】
そこで、密閉構造の筺体内にレンズ等のガラス部材の配置された鏡筒を配置して、光学部品と筐体で仕切られる空間に光学部品の有効光束外に切込を入れるか、又は光学部品の支持体に開口を設ける。それにより、仕切られた空間間の気体流動を可能にし、光学筐体内の雰囲気を水分を含まない気体又は不活性ガスで置換することで酸素濃度を低く保ちオゾンの発生を防ぎ、「曇り」やオゾン等による露光光の吸収によって生じる露光光の減衰や変化を防止することが提案されている（特許文献１，２参照）。
【０００９】
図５に従来例を示すが、同図において、５１はレンズ、５２はレンズ５１を保持するレンズ支持部、５３はレンズ支持部５２に孔を形成して設けたパージ用のガス通路、５４はレンズ支持部を保持する光学系の筐体、５５は筐体５４の側壁にパージのための配管が接続されたパージ導入口、５６は筐体５４の側壁にパージのために配管が接続されたパージ排出口である。レンズ５１及びレンズ支持部５２によって筐体の内部空間が隔離され、隣り合う空間をパージ用のガス通路５３によって流体が流動することができ、隣り合うレンズ支持部５２に設けたパージ用ガス通路５３は直線上にならないように配置されている。導入口５５からパージガスが流入し、各レンズ支持部５２のパージ用のガス通路を通過して、排出口５６からガスが排出される。
【００１０】
しかしながら、特に置換する不活性ガスが筐体内の既存ガスより比重が軽い場合、様々な光学部品を組み合せた筐体内は複雑であり、窪みや隙間等の既存ガスを不活性ガスと置換するのは困難であり、これらの「曇り」やオゾン等による露光光の吸収によって生じる露光光の減衰や変化は十分防止できていない。
【００１１】
【特許文献１】特開平１１−１４５０５３号公報
【特許文献２】特開２０００−１２４１０５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上記従来例では、密閉空間の筐体内部が複雑な構造の場合、筐体内部を不活性ガスで完全に充満させるには難しく、露光光の減衰や変化は十分防止できないという欠点がある。更に、不活性ガスが既存ガス（酸素）より比重が軽い場合、複雑な構造部分の空間におけるガス置換が十分には行えていないという欠点が生じる。故に、更なる短波長露光装置を実現させる上でも、投影光学系を含む筐体の内部空間を不活性ガスで充満させ、不活性ガス純度を高めていく必要がある。
【００１３】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とする処は、投影光学系を含む筐体内部の不活性ガスによるガスパージ置換が更に高純度であり、且つ、簡便な構造であり、更に少ないガス流量による効率の良いガスパージ置換及び置換時間の短縮を実現させることができる露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するため、請求項１記載の発明は、紫外光により原版を照明する照明光学系と、前記原版に描写されたパターンを基板上に転写する投影光学系と該照明光学系及び該投影光学系の少なくとも一方において、複数の光学部材が配置される筐体の内部空間を特定の気体に置換するガスパージ手段を備え、複数の該光学部材によって筐体の内部空間が区切られる複数の空間同士を繋ぐガスパージ用の通路を設け、該空間のよどみ部に該ガスパージ用通路を配置することを特徴とする。
【００１５】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、よどみ空間に設ける前記ガスパージ用通路を、該よどみ空間部の最下流側に配置することを特徴とする。
【００１６】
請求項３記載の発明は、紫外光により原版を照明する照明光学系と、前記原版に描写されたパターンを基板上に転写する投影光学系と該照明光学系及び該投影光学系の少なくとも一方において、複数の光学部材が配置される筐体の内部空間を特定の気体に置換するガスパージ手段を備え、複数の該光学部材によって筐体の内部空間が区切られる複数の空間同士を繋ぐガスパージ用の通路を設け、同一部材に複数のガスパージ用通路を配置し、該ガスパージ用通路が交差するように配置することを特徴とする。
【００１７】
請求項４記載の発明は、請求項３記載の発明において、同一部材に設けた交差する前記ガスパージ通路の軸は、少なくとも１つは光軸方向であり、少なくとも１つは光軸と垂直な平面方向若しくは光軸と垂直な平面を９０°以下に傾けた平面方向であることを特徴とする。
【００１８】
請求項５記載の発明は、請求項４記載の発明において、前記光軸と垂直な平面方向若しくは該光軸と垂直な平面を９０°以下に傾けた平面方向に設けた前記ガスパージ通路は、同一部材に設けた光軸方向の該ガスパージ通路より下流側に開口を備えることを特徴とする。
【００１９】
請求項６記載の発明は、請求項１又は３記載の発明において、紫外光により原版を照明する照明光学系と、前記原版に描写されたパターンを基板上に転写する投影光学系と該照明光学系及び該投影光学系の少なくとも一方において、複数の光学部材が配置される筐体の内部空間を特定の気体に置換するガスパージ手段を備え、複数の該光学部材によって筐体の内部空間が区切られる複数の空間同士を繋ぐガスパージ用の通路を設け、該ガスパージ通路を備える部材は、投影光学系を構成する部材であり、該光学素子を保持する保持部材、該保持部材を保持する筐体及び露光光が通過しない該光学素子の領域を単体又は複合して用いることを特徴とする。
【００２０】
請求項７記載の発明は、請求項１，３又は６記載の発明において、前記特定の気体は不活性ガスであり、Ｈｅや置換される気体より比重の軽い気体であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、レンズ保持部材に設けたガスパージ置換用の通路は構造的に簡便であり、適用する環境・条件範囲も広いことにより、ガスパージ置換用の通路を適用した鏡筒を含む投影光学系の設計が容易となり、高純度なパージガスで露光光が通過する鏡筒内部の空間が充満され、「曇り」やオゾン等による露光光の吸収によって生ずる露光光の減衰や変化を最小限に抑えることが可能となる。又、鏡筒内部の既存ガスとパージガスの置換が速やかに行われ、時間短縮が図られる。
【００２２】
従って、光学特性及び照明光の均一性の維持と保証による露光装置の信頼性の維持及び向上、少ないガス流量による効率の良いガスパージ置換及び置換時間の短縮による露光装置のコストの低減、露光量減少の抑止による露光装置のスループットの信頼性維持及び向上を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
＜実施の形態１＞
図１は本発明を適用した半導体露光装置の投影光学系ユニットの一部である。
【００２４】
図１において、１は本実施例の半導体露光装置における投影光学系を含む鏡筒体、２は鏡筒１を支持する本体定盤、３は表面に感光剤を塗布してあるウエハ、４はウエハ３を支持するウエハステージ、５はウエハ３に転写するパターンを描写したレチクル（原版）、６はレチクル５を保持するレチクルステージ、７はレチクル５に露光光で照射する照明系光学ユニットの一部、８は本体定盤２上に位置し、レチクルステージ６を保持する外筒、９は鏡筒１の側壁にパージ配管口を設け、パージガスの入り口となる導入口、１０は鏡筒１の側壁にパージ配管口を設け、パージガスの出口となる排出口である。
【００２５】
照明系光学ユニット７によりレチクル５を露光し、投影光学系レンズ（鏡筒１の内部）を介してウエハ３にレチクル５のパターンを転写する。導入口９からパージガスを鏡筒１の内部空間に徐々に挿入し、排出口１０で鏡筒１の内部空間のガスを排出し、鏡筒１の内部空間のガスパージ置換を行う。
【００２６】
図２は本発明の特徴を最も良く表す断図面であり、同図において、１１は投影光学系の一部であるレンズ、１２はレンズを接着により保持する保持部材、１３は保持部材を保持する鏡筒、１４は保持部材１２に光軸と平行な貫通穴を円周状に設け、レンズ１１等の光学部材によって鏡筒１３内の仕切られた空間の隣り合う空間同士でガス交換を行う縦穴通路、１５は保持部材１２の内径面側に光軸と平行でない縦穴通路１４への貫通穴を縦穴通路１４と同位相の位置に設け、縦穴通路１４より下流位置に導入口がある、ガス交換を行う横穴通路、１６は内側と外側の同位相の位置に円周状に貫通穴を配置した円環状の板ばね、１７は片面に板ばね１６と同位相のボルト穴を設け、対面となる保持部材１２と接する面に３ヶ所等間隔の突起物を設けた円環状の押え環、１８は板ばね１６と鏡筒１３とを締結するボルト、１９は板ばね１６と押え環１７とを締結するボルトである。
【００２７】
上記の構成において、鏡筒１３を含む複数の鏡筒によって構成される鏡筒体内の内部空間が、レンズ１１及び保持部材１２を含む複数の光学部品により区切られる。図２においては、鏡筒１３の内部空間がレンズ１１及び保持部材１２によって上流（Ａ面）側と下流（Ｂ面）側に区切られる。
【００２８】
鏡筒１３内部に既存している空気又は置換前の初期気体を既存ガスより比重の軽いパージガス、例えばＨｅに置換するために、上流（Ａ面）側から流入し、既存ガスより比重が軽いため上流側から空間を埋め、鏡筒１３内部に充満していた既存ガスの多くは、縦穴通路１４を通って徐々に下流（Ｂ面）側に流動する。
【００２９】
レンズ１１の上面の空間やレンズ１１の外周近辺等の、縦穴通路１４の導入口より下流側に位置する空間（図２の斜線部）の既存ガスは、横穴通路１５を通って徐々に下流（Ｂ面）側に流動する。横穴通路１５は縦穴通路１４に貫通し、斜線部の空間の既存ガスが下流側へ流動し易くするため、縦穴通路１４との貫通位置より導入口は上流側に位置する。保持部材１２に設けた縦穴通路１４及び横穴通路１５より、保持部材１２の剛性が低減するため、光学性能に影響しない程度に両通路を設ける。
【００３０】
本実施の形態において、保持部材１２はレンズ１１を保持することによる光軸方向の変形を最小限にするため、保持部材１２自身の剛性を低減させる光軸方向の厚みにおいては限界がある。レンズ形状及び周辺構造等によるが、レンズ１１上面空間及びレンズ１１の外周と保持部材１２によって形成される窪み（図２の斜線部）が縦穴通路１４の導入口より下流側に位置する場合、パージガスのＨｅが鏡筒１１に既存していた空気より比重が軽いため、レンズ１１上面空間及びレンズ１１の外周と保持部材１２によって形成される窪み（図２の斜線部）に既存する空気は下流（Ｂ面）側には流動しにくい。そのため、縦穴通路１４より下流側に導入口を配置した横穴通路１５を設け、下流（Ｂ面）側に流動させることにより、簡便な構造で少ないＨｅの流量で鏡筒体全体の効率の良いガスパージ置換が可能となり、置換時間も短縮し、且つ、パージガスのＨｅ純度を高める効果を持つ。
【００３１】
＜実施の形態２＞
次に、本発明の実施の形態２について説明する。
【００３２】
図３の断面図において、２１は投影光学系の一部であるレンズ、２２はレンズを接着により保持し、外周面の一部に突出した円周状の帯部を設けた保持部材、２３は保持部材を保持する鏡筒、２４は保持部材２２に光軸と平行な貫通穴を円周状に設け、レンズ２１及び保持部材２２等の光学部材によって鏡筒２３内の区切られた空間の隣り合う空間同士でガス交換を行う縦穴通路（保持）、２５は保持部材２２の外径面側に光軸と平行でない、縦穴通路（保持）２４への貫通穴を縦穴通路（保持）２４と同位相の位置に設け、縦穴通路（保持）２４より下流位置に導入口がある、ガス交換を行う横穴通路（保持）、２６は鏡筒２３に光軸と平行な貫通穴を円周状に設け、レンズ２１及び保持部材２２等の光学部材によって鏡筒２３内の区切られた空間の隣り合う空間同士でガス交換を行う縦穴通路（鏡筒）、２７は鏡筒２３の内径面側に光軸と平行でない、縦穴通路（鏡筒）２６への貫通穴を縦穴通路（鏡筒）２６と同位相の位置に設け、縦穴通路（鏡筒）２より下流位置に導入口がある、ガス交換を行う横穴通路（鏡筒）、２８は内側と外側の同位相の位置に円周状に貫通穴を配置した円環状の板ばね、２９は片面に板ばね２８と同位相のボルト穴を設け、対面となる保持部材２２と接する面に３ヶ所等間隔の突起物を設けた円環状の押え環、３０は板ばね２８と鏡筒２３とを締結するボルト、３１は板ばね２６と押え環２９とを締結するボルトである。
【００３３】
上記の構成において、鏡筒２３を含む複数の鏡筒によって構成される鏡筒体内の内部空間がレンズ２１及び保持部材２２を含む複数の光学部品により区切られる。図３においては、鏡筒２３の内部空間がレンズ２１、保持部材２２及び鏡筒２３によって上流（Ａ面）側と下流（Ｂ面）側に区切られる。
【００３４】
鏡筒２３内部に既存している空気又は置換前の初期気体を既存ガスより比重の軽いパージガス、例えばＨｅに置換するために、上流（Ａ面）側から流入し、既存ガスより比重が軽いため上流側から空間を埋め、鏡筒２３内部に充満していた既存ガスの多くは、縦穴通路（保持）２４及び縦穴通路（鏡筒）２６を通って徐々に下流（Ｂ面）側に流動する。
【００３５】
保持部材２２及び鏡筒２３間の隙間空間（図３）に存在する既存ガスは、横穴通路（保持）２５及び横穴通路（鏡筒）２７を通って徐々に下流（Ｂ面）側に流動する。横穴通路（保持）２５は縦穴通路（保持）２４に、横穴通路（鏡筒）２７は縦穴通路（鏡筒）２６に貫通し、斜線部の空間の既存ガスが下流側へ流動し易くするため、縦穴通路（保持）２４及び縦穴通路（鏡筒）２６は各々の貫通位置より導入口は上流側に位置する。保持部材２２及び鏡筒２３に設けた縦穴通路２４，２６及び横穴通路２５，２７より、保持部材２２及び鏡筒２３の剛性が低減するため、光学性能に影響しない程度に両通路を設ける。
【００３６】
本実施の形態において、保持部材２２と鏡筒２３間の隙間空間に代表されるような複雑な又は狭い空間を持つ構造部分に既存している空気を置換するのは困難であり、保持部材２２と鏡筒２３に設けた縦穴通路２４，２６に貫通する横穴通路２５，２７より、隙間空間の空気を下流（Ｂ面）側にスムーズに流動させることが可能となる。よって、簡便な構造で少ないＨｅの流量で鏡筒体全体の効率の良いガスパージ置換が可能となり、置換時間も短縮し、且つ、パージガスのＨｅ純度を高めることができる。
【００３７】
＜実施の形態３＞
次に、本発明の実施の形態３について説明する。
【００３８】
図４の断図面において、４１はカタディオ光学系の一部であり、レンズ中心部又は全面に露光光が通過しないレンズ、４２はレンズを接着により保持する保持部材、４３は保持部材を保持する鏡筒、４４は露光光が通過しないレンズ４１に光軸上の貫通穴を設け、レンズ４１等の光学部材によって鏡筒４３内の仕切られた空間の隣り合う空間同士で、ガス交換を行う縦穴通路（中心）、４５は露光光が通過しないレンズ４１の端部に光軸と平行な貫通穴を円周状に設け、レンズ４１等の光学部材によって鏡筒４３内の仕切られた空間の隣り合う空間同士でガス交換を行う縦穴通路（端）、４６は保持部材４２に光軸と平行な貫通穴を円周状に設け、レンズ４１等の光学部材によって鏡筒４３内の仕切られた空間の隣り合う空間同士でガス交換を行う縦穴通路（保持）、４７は内側と外側の同位相の位置に円周状に貫通穴を配置した円環状の板ばね、４８は片面に板ばね４７と同位相のボルト穴を設け、対面となる保持部材４２と接する面に３ヶ所等間隔の突起物を設けた円環状の押え環、４９は板ばね４７と鏡筒４３とを締結するボルト、５０は板ばね４７と押え環４８とを締結するボルトである。
【００３９】
上記の構成において、鏡筒４３を含む複数の鏡筒によって構成される鏡筒体内の内部空間が、レンズ４１及び保持部材４２を含む複数の光学部品により区切られる。図４においては、鏡筒４３の内部空間がレンズ４１及び保持部材４２によって上流（Ａ面）側と下流（Ｂ面）側に区切られる。
【００４０】
鏡筒４３内部に既存している空気又は置換前の初期気体を既存ガスより比重の軽いパージガス、例えばＨｅに置換するために、上流（Ａ面）側から流入し、既存ガスより比重が軽いため上流側から空間を埋めていく。鏡筒４３内部に充満していた既存ガスの多くは、縦穴通路（保持）４６を通って徐々に下流（Ｂ面）側に流動し、レンズ上面の空間の既存ガスは縦穴通路（保持）４６より下流側に位置しているため、縦穴通路（中心）４４及び縦穴通路（端）４５より下流（Ｂ面）側に流動していく。
【００４１】
図４のように、レンズ４１が凹レンズであるならば、レンズ中心付近によどみ部が存在するため、レンズ中心に露光光が通過しない光学系において、レンズ中心に設けるガスパージ通路は有効な手段である。レンズ４１に設けた縦穴通路４４，４５により、レンズ４１の剛性が低減するため、光学性能に影響しない程度に通路を設ける。
【００４２】
本実施の形態において、レンズ４１の露光領域がレンズ全面ではなく、一部のみ使用している場合、レンズ４１上面の空間に既存している空気をレンズに開口を設けることで下流（Ｂ面）側へ流動させることができ、簡便な構造で且つパージガスの純度を高めることができる。更に、少ないＨｅの流量で鏡筒体全体の効率の良いガスパージ置換が可能となり、置換時間の短縮にも繋がる。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明は、光学特性及び照明光の均一性の維持と保証による露光装置の信頼性の維持及び向上、少ないガス流量による効率の良いガスパージ置換及び置換時間の短縮による露光装置のコストの低減、露光量減少の抑止による露光装置のスループットの信頼性維持及び向上の実現に資することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明の実施の形態１に係る半導体露光装置の投影光学系ユニットを説明する図である。
【図２】本発明の実施の形態１において鏡筒内のガスパージ通路を設けたレンズ保持部材を説明する図である。
【図３】本発明の実施の形態２において鏡筒内のガスパージ通路を設けたレンズ保持部材を説明する図である。
【図４】本発明の実施の形態３において鏡筒内のガスパージ通路を設けたレンズ保持部材を説明する図である。
【図５】従来例を説明する図である。
【符号の説明】
【００４５】
１    鏡筒
２    本体定盤
３    ウエハ
４    ウエハステージ
５    レチクル（原版）
６    レチクルステージ
７    照明系光学ユニットの一部
８    外筒
９    導入口
１０  排出口
１１  レンズ
１２  保持部材
１３  鏡筒
１４  縦穴通路
１５  横穴通路
１６  板ばね
１７  押え環
１８  ボルト
１９  ボルト
２１  レンズ
２２  保持部材
２３  鏡筒
２４  縦穴通路（保持）
２５  横穴通路（保持）
２６  縦穴通路（鏡筒）
２７  横穴通路（鏡筒）
２８  板ばね
２９  押え環
３０  ボルト
３１  ボルト
４１  レンズ
４２  保持部材
４３  鏡筒
４４  縦穴通路（中心）
４５  縦穴通路（端）
４６  縦穴通路（保持）
４７  板ばね
４８  押え環
４９  ボルト
５０  ボルト
５１  レンズ
５２  レンズ支持部
５３  パージ用のガス通路
５４  光学系の筐体
５５  導入口
５６  排出口
【図１】
2005085982.tif 000003
【図２】
2005085982.tif 000004
【図３】
2005085982.tif 000005
【図４】
2005085982.tif 000006
【図５】
2005085982.tif 000007