(57)【要約】  【課題】  透明性、耐傷性、防汚性、及び形状転写法による生産性に優れるとともに広い波長域において低反射率である光学部品、及び前記光学部品を用いた画像表示装置を提供すること。  【解決手段】  下記構造式（１）で表されるポリシロキサン構造を有する高分子化合物を含む光学部品用硬化性樹脂組成物を硬化させてなり、凹凸高さが５０〜１，０００ｎｍ、凹凸周期が１０〜４００ｎｍである微細凹凸構造を有することを特徴とする光学部品である。    【化２７】2005331607.tif 000033  但し、前記構造式（１）において、Ｒ１及びＲ２は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｐは１０〜５００の整数を表す。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記構造式（１）で表されるポリシロキサン構造を有する高分子化合物を含む光学部品用硬化性樹脂組成物を硬化させてなり、凹凸高さが５０〜１，０００ｎｍ、凹凸周期が１０〜４００ｎｍである微細凹凸構造を有することを特徴とする光学部品。
【化１】
2005331607.tif 000032
但し、前記構造式（１）において、Ｒ１及びＲ２は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｐは１０〜５００の整数を表す。
【請求項２】
高分子化合物が、架橋反応に関与し得る反応性基を有する請求項１に記載の光学部品。
【請求項３】
架橋反応に関与し得る反応性基が、エポキシ基又は（メタ）アクリロイル基である請求項１から２のいずれかに記載の光学部品。
【請求項４】
微細凹凸構造の屈折率をｎとした時に、次式、凹凸周期＜４００／ｎ（ｎｍ）、を満たす請求項１から３のいずれかに記載の光学部品。
【請求項５】
４５０〜６５０ｎｍの波長領域での鏡面平均反射率が２％以下である請求項１から４のいずれかに記載の光学部品。
【請求項６】
微細凹凸構造と相補的な微細凹凸構造を有するスタンパーを前記光学部品用硬化性樹脂組成物に圧接することにより該微細凹凸構造が転写されてなる、及び、相分離した２種類の樹脂の１成分のみを溶剤にて溶出させることにより該微細凹凸構造が形成されてなる、のいずれかである請求項１から５のいずれかに記載の光学部品。
【請求項７】
反射防止膜である請求項１から６のいずれかに記載の光学部品。
【請求項８】
反射防止フィルムである請求項１から６のいずれかに記載の光学部品。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の光学部品を用いたことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学特性、耐傷性等に優れた周期的微細凹凸構造を備え、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク、偏光分離素子等の種々の光学的用途に好適な光学物品、及び該光学物品を用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、前記反射防止膜及び反射防止フィルムは、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）及び液晶表示装置（ＬＣＤ）などのディスプレイ装置、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止したショウウインドウなどに用いられている。また、太陽電池において光の反射を防止して光の利用効率を高めるのに利用されている。
【０００３】
一般に、反射防止膜及び反射防止フィルムとしては、支持体上に屈折率の異なる複数の層を適切な膜厚で、蒸着、スパッタ、又は塗布などにより積層した多層膜構造のものが知られている。このような反射防止膜及び反射防止フィルムは、前記多層膜が光学干渉の原理に基づき各層界面からの反射光を互いに相殺することによって反射防止を行うものであり、層数を増やすことにより低い反射率特性、及び低い反射率波長依存性を実現できる。
前記反射防止膜及び反射防止フィルムとしては、コスト的な観点から１〜４層程度の層数のものが実用化されている。
しかしながら、これらの場合、平均反射率を０．２〜０．３％程度まで下げるには、３層以上の多層構造を、層厚を精度良く制御して構築することが必要であり、製造上煩雑であるという問題がある。
【０００４】
従来より、反射防止手段としては、サイズの大きな粒子をバインダーに混合し、皮膜表面に荒い凹凸構造を形成することによって反射光を散乱させる方法が知られており、この方法と前記多層膜による光学干渉方式とを併用することも知られている。
しかしながら、この場合、粗い凹凸構造がヘイズの上昇及びコントラストの低下を招く等の弊害が起こりやすいという問題があった。
【０００５】
近年、皮膜表面に可視光波長以下の周期的微細凹凸構造を形成することにより、可視光を散乱させることなく、低屈折率の皮膜を形成できることが知られており、このような周期的微細凹凸構造を備えた光学物品の、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、偏光分離素子などの光学的用途への展開可能性が注目を集めている（非特許文献１参照）。
更に、前記周期的微細凹凸構造を円錐、三角錐形状等の断面形状とすることにより、空気の屈折率から皮膜形成材料の屈折率まで皮膜の厚み方向で連続的に所望の屈折率を得ることができ、明確な界面を形成せず、広い波長域で低反射率を得ることができ、更に、光の入射角依存性が少なく極めて優れた反射防止効果を得ることができることが知られている（非特許文献２参照）。
一般に、前記微細凹凸構造の形成方法としては、バインダー量を減らして微粒子を充填する方式、エッチング方式（例えば、ホウ珪酸塩のゾルゲル反応で得られる皮膜を酸に浸漬し、酸の拡散に従って皮膜表面から内部に向かってホウ酸塩成分の溶出量を変化させる等の方法）等が知られている。
しかしながら、この場合、可視光波長以下の微細凹凸形状の精密なコントロールが困難であり、形成された微細凹凸構造の精度が劣るという問題がある。
【０００６】
また、従来より、前記微細凹凸構造の形成方法としては、電子線レジストやレーザーの２光束干渉露光方式による直接描画により微細なレリーフ形状を形成する方法が開発されている（非特許文献１参照）。
しかしながら、この場合、露光に時間がかかり、大面積、大量生産には適していないという問題がある。
【０００７】
一方、近年、前記微細凹凸構造の形成方法として、射出成型法、プレス加工法等の形状転写法が知られている（非特許文献３及び特許文献１参照）。これらの形成方法は、電子線レジストやレーザーの２光束干渉露光方式による描画方法によってレジスト材料に微細な凹凸形状を形成したマスターを作製した後に、電鋳加工により前記マスターと相補的な微細構造を有するスタンパー（金型）を作製し、該スタンパーを利用して樹脂等に前記微細凹凸構造を転写するものである。
また、近年、前記微細凹凸構造の形成方法として、樹脂の相分離を利用した方式も知られている（特許文献２参照）。
【０００８】
しかしながら、前記微細凹凸構造が形成される樹脂として熱可塑性樹脂、紫外線硬化樹脂等の公知の材料（特許文献１及び２参照）を用いた場合には、前記樹脂に形成された前記微細凹凸構造の耐傷性が小さく、該微細凹凸構造が外力によって潰れやすく、前記微細凹凸構造の形状保持性が劣るという問題がある。
【０００９】
一方、前記微細凹凸構造が、皮膜表面に形成された反射防止膜及び反射防止フィルムなどでは、前記微細凹凸構造への油滴の染み込み等を防止して、皮膜表面に付着した汚れが容易に除去できることが望ましい。
従来より、樹脂中に、フッ素を添加することにより、撥水性を付与して、防汚性を発現させることが知られているが（特許文献３参照）、十分な撥水性を発現させるために、前記微細凹凸構造が形成される樹脂中に多量のフッ素を添加すると、前記微細凹凸構造自体の強度が低下するとともに、前記微細凹凸構造が形成された皮膜層と、該皮膜層の下層である支持体との屈折率差が生じ、皮膜層での反射率が増加するために、低反射率化と防汚性の両立が困難であるという問題がある。
更に、前記微細凹凸構造を前記形状転写法により、スタンパーを利用して連続的に精度良く大量に形成する場合には、皮膜形成樹脂と金型との剥離性が問題となる。
従来より、シリコーン等のポリシロキサン構造を有する化合物を皮膜形成樹脂に導入することで、樹脂の剥離性が改良されることが知られている。
しかしながら、この場合、単に皮膜形成樹脂中にポリシロキサン構造を有する化合物を添加するだけでは、該化合物と前記被膜形成樹脂を構成する他の組成物との相溶性が不足して透明性を損なうという問題があるとともに、皮膜形成樹脂の柔軟性が劣り、離型時に、金型が摩耗、変形して、前記微細凹凸構造の形状転写精度が低下するという問題がある。
【非特許文献１】菊田久雄  電子情報通信学会論文  Ｊ８３−Ｃ（３），ｐｐ．１７３−１８１（２０００年）
【非特許文献２】Ｂｅｒｎｈａｒｄ，Ｃ．Ｇ．，Ｅｎｄｅａｖｏｕｒ，Ｖｏｌ．２６，ｐｐ．７９（１９６７年）
【非特許文献３】Ａ．Ｇｏｍｂｅｒｔ  ｅｔ．ａｌ．，Ｔｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ，Ｖｏｌ．３５１，ｐｐ．７３（１９９３年）
【特許文献１】特開２００２−２６７８１６号公報
【特許文献２】欧州公開特許第１０９４１０３号公報
【特許文献３】特開２００３−８２０４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、透明性、耐傷性、防汚性、及び形状転写法による生産性に優れるとともに広い波長域において低反射率である光学部品、及び前記光学部品を用いた画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
＜１＞  下記構造式（１）で表されるポリシロキサン構造を有する高分子化合物を含む光学部品用硬化性樹脂組成物を硬化させてなり、凹凸高さが５０〜１，０００ｎｍ、凹凸周期が１０〜４００ｎｍである微細凹凸構造を有することを特徴とする光学部品である。
【化１】
2005331607.tif 000002
但し、前記構造式（１）において、Ｒ１及びＲ２は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｐは１０〜５００の整数を表す。
＜２＞  高分子化合物が、架橋反応に関与し得る反応性基を有する前記＜１＞に記載の光学部品である。
＜３＞  架橋反応に関与し得る反応性基が、エポキシ基又は（メタ）アクリロイル基である前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光学部品である。
＜４＞  微細凹凸構造の屈折率をｎとした時に、次式、凹凸周期＜４００／ｎ（ｎｍ）、を満たす前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光学部品である。
＜５＞  ４５０〜６５０ｎｍの波長領域での鏡面平均反射率が２％以下である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光学部品である。
＜６＞  微細凹凸構造と相補的な微細凹凸構造を有するスタンパーを前記光学部品用硬化性樹脂組成物に圧接することにより該微細凹凸構造が転写されてなる、及び、相分離した２種類の樹脂の１成分のみを溶剤にて溶出させることにより該微細凹凸構造が形成されてなる、のいずれかである前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光学部品である。
＜７＞  反射防止膜である前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光学部品である。
＜８＞  反射防止フィルムである前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光学部品。
＜９＞  前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の光学部品を用いたことを特徴とする画像表示装置である。
本発明の光学部品は、微細凹凸構造が、前記構造式（１）で表されるポリシロキサン構造を有する高分子化合物を含む光学部品用硬化性樹脂組成物からなるために、前記微細凹凸構造が優れた柔軟性を有するとともに、表面の滑り性が良好となり、耐傷性、防汚性、形状転写法による生産性に優れる。更に、前記構造式（１）で表されるポリシロキサン構造を有する高分子化合物は、前記光学部品用硬化性樹脂組成物における他の組成物との相溶性が良好であるため透明性に優れる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によると、従来における前記問題を解決し、透明性、耐傷性、防汚性、及び形状転写法による生産性に優れるとともに広い波長域において低反射率である光学部品、及び前記光学部品を用いた画像表示装置を提供することができる。
なお、本明細書においては、数値が物性値、特性値を表す「（数値１）〜（数値２）」という記載は、「（数値１）以上（数値２）以下」を意味し、また、「（メタ）アクリロイル」は、「アクリロイル及びメタクリロイルの少なくともいずれか」を意味する。「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリル酸」等の記載も同様である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（光学部品）
本発明の光学部品は、光学部品用硬化性樹脂組成物を硬化させてなり、凹凸高さが５０〜１，０００ｎｍ、凹凸周期が１０〜４００ｎｍである微細凹凸構造を有し、更に、必要に応じてその他の構成を有する。
【００１４】
前記光学部品としては、前記微細凹凸構造を該光学部品の最表面に備えた単層構造のものでもよく、中間層に備えた複層構造のものでもよい。前記微細凹凸構造を中間層に備えた複層構造のものでは、例えば、その他の部材としての表面保護層、異なる特性を有する他の微細凹凸構造などが挙げられる。
【００１５】
前記光学部品としては、４５０〜６５０ｎｍの波長領域での鏡面平均反射率が２％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、０．５％以下が更に好ましい。
なお、前記４５０〜６５０ｎｍの波長領域での鏡面平均反射率は、例えば、分光光度計を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの鏡面平均反射率を算出して求めることができる。
【００１６】
前記微細凹凸構造としては、凹凸高さが５０〜１，０００ｎｍ、凹凸周期が１０〜４００ｎｍであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記微細凹凸構造の高さ（深さ）としては、２００〜１０００ｎｍが好ましく、３００〜１０００ｎｍがより好ましい。
また、前記微細凹凸構造の屈折率をｎとした時に、前記凹凸周期＜４００／ｎ（ｎｍ）の条件を満たすことが好ましい。このような条件を外れると可視光の散乱が起こることがある。
【００１７】
前記微細凹凸構造の断面形状としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、反射防止膜の用途に用いる場合には、円錐型、三角錘型、釣り鐘型、空気界面側がすぼまった一軸方向に波打った型などの形状が挙げられるが、これらの中でも、空気界面（屈折率約１）から支持体までの平均屈折率が連続的に変化する構造が好ましく、円錐型、三角錘型、釣り鐘型等の微細凹凸構造に方向性のないものがより好ましく、円錐型、三角錘型等の厚み方向の屈折率連続変化が直線的(一次関数)であるものが特に好ましい。
なお、前記微細凹凸構造の断面形状として、矩形等の断面形状を有するものは、厚み方向の屈折率の連続変化がなく、多層膜の低屈折率層として利用することができる。
【００１８】
（光学部品用硬化性樹脂組成物）
前記光学部品用硬化性樹脂組成物としては、下記構造式（１）で表されるポリシロキサン構造を有する高分子化合物を含み、更に、必要に応じて適宜選択されるその他の成分を有してなる。
【００１９】
【化２】
2005331607.tif 000003
但し、前記構造式（１）において、Ｒ１及びＲ２は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
前記Ｒ１及びＲ２におけるアルキル基としては、炭素数１〜４であることが好ましく、具体的には、メチル基、トリフロオロメチル基、エチル基等が好ましい。
前記Ｒ１及びＲ２におけるアリール基としては、炭素数６〜２０であることが好ましく、具体的には、フェニル基、ナフチル基等が好ましい。
これらの中でも、前記Ｒ１及びＲ２としては、メチル基及びフェニル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
また、前記構造式（１）において、ｐは、１０〜５００の整数で表されるポリシロキサン構造の平均重合度を表し、該平均重合度としては、前記範囲であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、５０〜３００であることが好ましく、１００〜２５０であることがより好ましい。
【００２０】
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物としては、少なくとも前記構造式（１）で表されるポリシロキサン構造を有するモノマーユニット（構成成分Ｓ）を含んでなり、更に、必要に応じて適宜選択されるその他のモノマーユニットを含んでなる。
【００２１】
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、該ポリシロキサン構造を側鎖中に有するもの、該ポリシロキサン構造を主鎖中に有するものなどが挙げられ、前記高分子化合物の主鎖構造としては、エチレン性不飽和基を重合して得られる構造を前記ポリシロキサン構造以外の部分に有することが好ましい。
また、前記ポリシロキサン構造を側鎖中に有する場合には、ポリマー主鎖とは直接結合していてもよく、適当な連結基を介して結合していてもよい。
【００２２】
前記ポリシロキサン構造を側鎖中に有する高分子化合物の合成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、Ｊ．ＡＰＰＬ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．２０００．７８．１９５５、特開昭５６−２８２１９号公報等に記載の、エポキシ基、水酸基、カルボキシル基、酸無水物基等の反応性基を有するポリマーに対して、相対する反応性基（例えば、エポキシ基、酸無水物基に対して、相対する反応性基であるアミノ基、メルカプト基、カルボキシル基、水酸基等）を片末端に有するポリシロキサンを高分子反応によって導入する方法、ポリシロキサン含有シリコンマクロモノマーを重合させる方法などが挙げられ、これらの中でも、ポリシロキサン含有シリコンマクロモノマーを重合させる方法によって導入する方法が特に好適に挙げられる。
ポリシロキサン含有シリコンマクロモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（２）で表されるものが好適に挙げられる。
【００２３】
【化３】
2005331607.tif 000004
但し、前記構造式（２）において、Ｒ１、Ｒ2及びｐは、前記構造式（１）と同様の意味を表す。また、ｎは、０又は１を表す。
前記構造式（２）において、Ｒ3〜Ｒ5は、それぞれ、置換又は無置換の1価の有機基又は水素原子を表す。前記置換又は無置換の１価の有機基又は水素原子としては、炭素数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、オクチル基等）、炭素数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基等）、炭素数６から２０のアリール基（フェニル基、ナフチル基等）が好適に挙げられ、これらの中でも、フェニル基又は炭素数１〜５のアルキル基がより好適に挙げられ、メチル基が特に好適に挙げられる。
前記構造式（２）において、Ｒ6は、水素原子又はメチル基を表す。
前記構造式（２）において、Ｌは、連結基を表す。前記連結基としては、重合可能なビニル基を連結し得るものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、炭素数１〜２５であることが好ましく、下記構造式（３）又は下記構造式（４）で表されるものがより好ましく、下記構造式（３）で表されるものが特に好ましい。
【００２４】
【化４】
2005331607.tif 000005
【００２５】
【化５】
2005331607.tif 000006
但し、前記構造式（３）及び（４）において、Ｌ’は、置換若しくは無置換の直鎖、分枝、若しくは脂環状のアルキレン基、又は、置換若しくは無置換のアリレーン基を表し、好ましくは炭素数１〜２５の無置換の直鎖アルキレン基であり、特に好ましくはエチレン基又はプロピレン基である。
また、前記構造式（２）で表される化合物としては、例えば、特開平６−３２２０５３号公報に記載の方法で合成することも可能である。
【００２６】
前記ポリシロキサン構造を側鎖中に有する高分子化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、以下、Ｓ−（１）〜Ｓ−（３５）に示すものが好適に挙げられる。
【００２７】
【化６】
2005331607.tif 000007
【００２８】
【化７】
2005331607.tif 000008
【００２９】
【化８】
2005331607.tif 000009
【００３０】
【化９】
2005331607.tif 000010
【００３１】
【化１０】
2005331607.tif 000011
【００３２】
【化１１】
2005331607.tif 000012
【００３３】
【化１２】
2005331607.tif 000013
【００３４】
前記ポリシロキサン構造を主鎖中に有する高分子化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、高分子学会予稿集、３４巻２９３頁（１９８４年）等に記載のポリシロキサン構造含有の高分子開始剤を用いたラジカル重合により製造されるもの、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，３巻１頁（１９７０年）等に記載のアニオン重合法により製造されるもの、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｒａｐｉｄ  Ｃｏｍｍｕｎ．５巻、５５９頁（１９８４年）等に記載の官能基を有するプレポリマー同士のカップリング反応により合成により製造されるものなどが挙げられるが、これらの中でも、ポリシロキサン構造含有の高分子開始剤を用いたラジカル重合により製造されるものが好適に挙げられる。
前記高分子開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アゾ基、パーオキシ基等のラジカル発生可能な基を有するポリシロキサン化合物が好適に挙げられる。
前記高分子開始剤の合成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、特公平６−１０４７１１号公報、特開平６−９３１００号公報等に記載の方法が挙げられる。
【００３５】
前記高分子開始剤の具体例としては、例えば、以下、Ｓ−（３６）〜Ｓ−（７０）に示すものが好適に挙げられる。
【００３６】
【化１３】
2005331607.tif 000014
【００３７】
【化１４】
2005331607.tif 000015
【００３８】
【化１５】
2005331607.tif 000016
【００３９】
【化１６】
2005331607.tif 000017
【００４０】
【化１７】
2005331607.tif 000018
【００４１】
【化１８】
2005331607.tif 000019
【００４２】
【化１９】
2005331607.tif 000020
【００４３】
前記その他のモノマーユニットとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、架橋反応に関与し得る架橋反応性基を有するモノマーユニット（構成成分Ａ）、任意に選択され、屈折率、相溶性、基材への密着性等の調整を目的として導入されるその他のモノマーユニット（構成成分Ｂ）などが挙げられる。
前記その他のモノマーユニット（構成成分Ｂ）の具体例としては、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、イタコン酸ジアルキル類、フマール酸のジアルキルエステル類、モノアルキルエステル類などが挙げられる。
【００４４】
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物としては、前記構造式（１）で表されるポリシロキサン構造を有するモノマーユニット（構成成分Ｓ）、架橋反応に関与し得る架橋反応性基を有するモノマーユニット（構成成分Ａ）及び任意に選択されるその他のモノマーユニット（構成成分Ｂ）を含むものが好適に挙げられる。
更に、これらのモノマーユニットは、共重合体であることが好ましい。
【００４５】
架橋反応に関与し得る架橋反応性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水酸基、アミノ基、カルバモイル基、メルカプト基、β―ケトエステル基、ヒドロシリル基、シラノール基等の活性水素原子を有する基、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等のカチオン重合可能な基、酸無水物、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基等のラジカル種による付加又は重合が可能な不飽和二重結合を有する基、アルコキシシリル基、アシルオキシシリル基等の加水分解性シリル基、活性ハロゲン原子、スルホン酸エステル等の求核剤によって置換され得る基などが挙げられ、これらの中でも、水酸基、カチオン重合可能な基（カチオン重合性基）、ラジカル重合可能な基（ラジカル重合性基）、加水分解性シリル基が好ましく、カチオン重合性基、ラジカル重合性基がより好ましい。
前記カチオン重合性基、ラジカル重合性基の具体例としては、エポキシ基、（メタ）アクリロイル基などが好適に挙げられる。
【００４６】
前記ラジカル重合性基をポリシロキサン構造を有するモノマーユニットに導入する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記ラジカル重合性基を含有するモノマーユニットと、前記ポリシロキサン構造を有するモノマーユニットとを共重合する方法、前記ポリシロキサン構造含有開始剤の存在下で重合する方法、前記ラジカル重合性基を有しないビニルモノマーユニットと前記ポリシロキサン構造を有するモノマーユニットとを共重合又は前記ポリシロキサン構造含有開始剤の存在下で重合させた後、高分子反応により前記ラジカル重合性基をポリシロキサン構造を有するモノマーユニットに導入する方法などが挙げられ、これらの中でも、後者の方法が好適に挙げられる。
【００４７】
高分子反応により前記ラジカル重合性基をポリシロキサン構造を有するモノマーユニットに導入する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラジカル重合性基として（メタ）アクリロイル基を用いた下記(1)〜(6)の方法が好適に挙げられる。
【００４８】
（１）水酸基、アミノ基等の求核基を有するポリマーを合成した後に、（メタ）アクリル酸クロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸とメタンスルホン酸の混合酸無水物等を作用させる方法
（２）前記求核基を有するポリマーに、硫酸等の触媒存在下、（メタ）アクリル酸を作用させる方法
（３）前記求核基を有するポリマーにメタクリロイルオキシプロピルイソシアネート等のイソシアネート基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法
（４）エポキシ基を有するポリマーを合成した後に（メタ）アクリル酸を作用させる方法
（５）カルボキシル基を有するポリマーにグリシジルメタクリレート等のエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物を作用させる方法
（６）３―クロロプロピオン酸エステル部位を有するビニルモノマーを重合させた後で脱塩化水素を行う方法
これらの中でも、水酸基を含有するポリマーに対して、前記（１）、（３）又は（６）の手法によって(メタ)アクリロイル基（ラジカル反応基）を導入する方法が特に好適に挙げられる。
【００４９】
前記架橋反応に関与し得る架橋反応性基を有するモノマーユニットの具体例としては、例えば、以下、Ａ−（１）〜Ａ−（４６）に示すものが好適に挙げられる。
【００５０】
【化２０】
2005331607.tif 000021
【００５１】
【化２１】
2005331607.tif 000022
【００５２】
【化２２】
2005331607.tif 000023
【００５３】
【化２３】
2005331607.tif 000024
【００５４】
【化２４】
2005331607.tif 000025
【００５５】
【化２５】
2005331607.tif 000026
【００５６】
任意に選択され、屈折率、相溶性、基材への密着性等の調整を目的として導入されるその他のモノマーユニット（構成成分Ｂ）について、以下に説明する。
前記（メタ）アクリル酸エステル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、クロルエチル(メタ)アクリレート、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メトキシベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ポリ（オキシアルキレン）（メタ）アクリレート類などが挙げられる。
前記ポリ（オキシアルキレン）（メタ）アクリレート類の具体例としては、例えば、日本油脂（株）製ブレンマーＡＰ−４００、第一工業製薬（株）社製ＰＥ−３００、同ＰＥ−６００などが挙げられる。
【００５７】
前記（メタ）アクリルアミド類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−アルキル（メタ）アクリルアミド（メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基として炭素数１〜３のもの）、Ｎ，Ｎ−ジアルキル（メタ）アクリルアミド（アルキル基として炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチル（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。
【００５８】
前記アリル化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル等のアリルエステル類、アリルオキシエタノールなどが挙げられる。
【００５９】
前記ビニルエーテル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテルなどが挙げられる。
【００６０】
前記ビニルエステル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなどが挙げられる。
【００６１】
前記イタコン酸ジアルキル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなどが挙げられる。
【００６２】
前記フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジブチルフマレートなどが挙げられる。
【００６３】
前記その他のモノマーユニット（構成成分Ｂ）としては、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなどが挙げられ、特に（メタ）アクリル酸エステル類が好ましい。
【００６４】
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物における前記構成成分Ｓ、Ａ、Ｂの各成分の質量分率（質量％）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、各構成成分Ｓ、Ａ、Ｂのそれぞれの質量分率（質量％）をｓ、ａ、ｂとすると、０．１≦ｓ≦９５、５≦ａ≦９９．９、０≦ｂ≦９０の関係を満たすことが好ましい。
【００６５】
前記構成成分Ｓの質量分率ｓとしては、１≦ｓ≦８０であることが好ましく、１≦ｓ≦５０であることがより好ましい。
前記構成成分Ｓの質量分率ｓが前記数値範囲外であると、十分な耐傷性、型からの剥離性、透明性、耐久性を損なうことがある。
【００６６】
前記構成成分Ａの質量分率ａとしては、２０≦ａ≦９９であることが好ましく、５０≦ａ≦９９であることがより好ましい。
前記構成成分Ａの質量分率ａが前記数値範囲外であると、光学部品の強度が低下することがある。
【００６７】
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物の平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、１，０００〜１，０００，０００程度であることが好ましく、１，０００〜１００，０００程度であることがより好ましく、１，０００〜５０，０００程度であることが特に好ましい。
【００６８】
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物の具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記表１に示すＰ−１〜Ｐ−４０に示す高分子化合物が好適に挙げられる。
但し、下記表１において、Ｓは、前記構造式（１）で表されるポリシロキサン構造を有するモノマーユニットを表す。また、Ｓは、マクロモノマーから導入された場合には、その構成成分としての形態を表し、高分子開始剤により導入された場合には、用いた高分子開始剤の形態でそれぞれ表す。
また、Ａは、架橋反応に関与し得る架橋反応性基を有するモノマーユニット、Ｂは、任意に選択されるその他のモノマーユニット、ｓ、ａ、ｂは、それぞれ前記各構成成分Ｓ、Ａ、Ｂの質量分率（質量％）、Ｍｎは、数平均分子量をそれぞれ表す。
更に、Ｂ−（１）は、ｎ−ブチルアクリレート、Ｂ−（２）は、２−ヒドロキシエチルメタクリレートをそれぞれ表す。
【００６９】
【表１】
2005331607.tif 000027
【００７０】
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物の合成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、溶液重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合などが挙げられる。
また、前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物の合成方法としては、前記合成方法により、水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、前記高分子反応によって、（メタ）アクリロイル基等を導入することにより合成することも可能である。
前記高分子反応としては、回分式、半連続式、連続式などの公知の操作で行うことができる。
【００７１】
重合の開始方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ラジカル開始剤を用いる方法、光又は放射線を照射する方法などが挙げられ、ラジカル開始剤を用いた溶液重合法が特に好適に挙げられる。
【００７２】
前記溶液重合法で用いられる溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどの有機溶剤が挙げられる。
前記有機溶剤としては、これらの中から単独又は２種以上の混合物でもよく、水との混合溶媒でもよい。
【００７３】
前記シリコンマクロモノマーの共重合反応性が悪い場合には、適宜モノマーを滴下又は分割して添加することも可能である。
【００７４】
重合温度としては、特に制限はなく、生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などにより０℃以下から１００℃以上まで、適宜選択することができ、５０〜１００℃の範囲で重合を行うことが好ましい。
【００７５】
反応時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５〜３０時間程度の範囲で反応することが可能である。
【００７６】
得られたポリマーは精製を行わずにそのまま使用することもでき、再沈澱による精製を行うことが好ましい。再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
【００７７】
また、前記重合方法、重合の開始方法としては、例えば、鶴田禎二「高分子合成方法」改定版（日刊工業新聞社刊、１９７１）や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和４７年刊、１２４〜１５４頁に記載の方法を用いることも可能である。
【００７８】
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、該硬化性樹脂組成物の全固形分の３０〜１００質量％であることが好ましく、５０〜１００質量％であることがより好ましく、７０〜１００質量％であることが特に好ましい。
【００７９】
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、硬化剤、微粒子、シランカップリング剤、界面活性剤、シリコーン系成分等の添加剤、硬化触媒、開始剤、増感色素、酸あるいは塩基触媒、活性エネルギー線の作用によって酸あるいは塩基等の硬化促進剤を発生する化合物、脱水剤などが挙げられる。
【００８０】
前記硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリル基等の分子中にエチレン性不飽和基を有するモノマー、オリゴマー又はプレポリマー、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等の分子中に開環重合性基を有するモノマー、オリゴマー又はプレポリマー、アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、ヒドロキシシリル基等の分子中に反応性シリル基を有するモノマー、オリゴマー又はプレポリマー、イソシアネート基と水酸基、ビニル基とヒドロシリル基等の分子中に重付加反応性基を有するモノマー、オリゴマー又はプレポリマー、多塩基酸及びその無水物、Ｎ−メチロール基、アルデヒド基／カルボニル基＋活性メチレン／ヒドラジン基等の分子中に重縮合反応性基を有するモノマー、オリゴマー又はプレポリマー、ブロックイソシアネート等の分解反応の結果として架橋性を示す官能基を有するものもなどが挙げられ、これらの中でも、活性エネルギー線の作用により迅速に硬化するもが好ましく、具体的には、エチレン性不飽和基、開環重合性基を有する化合物が特に好適に挙げられる。
前記エチレン性不飽和基を有する化合物を含む硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステル類、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ジビニルスルホン等のビニルスルホン、メチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド、メタクリルアミドなどが挙げられる。
開環重合性基を有する化合物を含む硬化剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記エチレン性不飽和基をエポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等の開環重合性基に置換した化合物、グリシジル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
また、前記開環重合性基を有する化合物を含む硬化剤の市販品としては、例えば、デナコールＥＸ３１４，同４１１，同４２１，同５２１，同６１１，同６１２等（以上ナガセ化成工業株式会社製、）、セロキサイド、ＧＴ３０１，同４０１等（以上ダイセル工業株式会社製）などが挙げられる。
【００８１】
前記硬化剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、光学部品用硬化性樹脂組成物の全固形分の１〜７０質量％であることが好ましく、５〜５０質量％であることがより好ましく、１０〜３０質量％であることが特に好ましい。
【００８２】
前記微粒子としては、特に制限はなく、皮膜の硬度を高める目的等に応じて適宜選択することができるが、例えば、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ等の無機微粒子が好適に挙げられ、ＳｉＯ２が特に好適に挙げられる。
前記微粒子の粒子径としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１〜１００ｎｍであることが好ましく、１〜５０ｎｍであることがより好ましく、５〜３０ｎｍであることが特に好ましい。
前記微粒子の市販品の例としては、日産化学工業(株)製スノーテックスＩＰＡ−ＳＴ、同ＭＩＢＫ−ＳＴ、日本エアロジル（株）製ＡＥＲＯＳＩＬ３００、同ＡＥＲＯＳＩＬ１３０、同ＡＥＲＯＳＩＬ５０等が挙げられる。
前記微粒子は、バインダーを形成する樹脂とより強固に結合させることを目的として、微粒子の表面を(メタ)アクリロイル基、エポキシ基等の反応性基によって修飾することが好ましい。
微粒子の表面修飾には、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基等の官能基を有するシランカップリング剤を用いることが可能である。
【００８３】
前記シランカップリング剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、次式、ＲａｍＲｂｎＳｉＸ（４−ｍ−ｎ）で表される構造が好ましい。
但し、式中、Ｒa及びＲｂは、それぞれ、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基等の炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｘは、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等ハロゲン、Ｒ２ＣＯＯ（Ｒ２は、水素原子又は、ＣＨ３ＣＯＯ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ等の炭素数１〜１０のアルキル基を表す）を表し、ｍ、ｎは、３≧ｍ≧１、２≧ｎ≧０を満たす整数を表す。前記ｍ及びｎとしては、ｍ＝１、ｎ＝０である場合が好適に挙げられる。
【００８４】
シランカップリング剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学部品用硬化性樹脂組成物の全固形分の０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が特に好ましい。
【００８５】
前記界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、フッ素系、シリコーン系などが挙げられる。
前記フッ素系界面活性剤の市販品の例としては、スリーエム社製のフロラードＦＣ−４３１等のパーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、大日本インキ社製のメガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７３、Ｆ−１７６ＰＦ等のパーフルオロアルキル基含有オリゴマー等が挙げられる。
前記シリコーン系界面活性剤の具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。
【００８６】
前記界面活性剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学部品用硬化性樹脂組成物の全固形分の０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましく、０．５〜５質量％が特に好ましい。
【００８７】
前記シリコーン系成分としては、特に制限はなく、例えば、前記光学部品表面の防汚性、滑り性等を調整する等の目的等に応じて適宜選択することができ、例えば、市販品の例としては、ＫＦ-１００Ｔ、Ｘ−２２−１６９ＡＳ、ＫＦ−１０２、Ｘ−２２−３７０１ＩＥ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−５００２、Ｘ−２２−１７３Ｂ、Ｘ−２２−１７４Ｄ、Ｘ−２２−１６７Ｂ、Ｘ−２２−１６１ＡＳ、(以上商品名、信越化学工業社製)、ＲＭＳ０３３(ゲレスト（Ｇｅｌｅｓｔ）社製)などが挙げられる。
【００８８】
前記シリコーン系成分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学部品用硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．１〜１５質量％がより好ましく、０．１〜１０質量％が特に好ましい。
【００８９】
前記開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光学部品用硬化性樹脂組成物にエチレン性不飽和基を含む場合に、該エチレン性不飽和基の重合を開始する、ラジカル重合開始剤が挙げられる。
前記ラジカル重合開始剤としては、熱の作用によりラジカルを発生するもの、活性エネルギー線の作用によりラジカルを発生するものが挙げられる。
【００９０】
前記熱の作用によりラジカルを発生するものとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機過酸化物、無機過酸化物、有機アゾ化合物、ジアゾ化合物等が挙げられる。
前記有機過酸化物としては、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド等が挙げられ、前記無機過酸化物としては、例えば、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等が挙げられ、前記アゾ化合物としては、例えば、２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等が挙げられ、前記ジアゾ化合物としては、例えば、ジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【００９１】
前記活性エネルギー線の作用によりラジカルを発生するものとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類などが挙げられる。
前記アセトフェノン類の具体例としては、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン等が挙げられ。ベンゾイン類の具体例としては、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられ、前記ベンゾフェノン類の具体例としては、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、ｐ−クロロベンゾフェノン等が挙げられ、前記ホスフィンオキシド類の具体例としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
これらの活性エネルギー線の作用によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤には、増感色素を併用することが好適である。
【００９２】
前記熱又は活性エネルギー線の作用によってラジカル重合を開始する化合物の含有量としては、炭素−炭素二重結合の重合が開始する量であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、光学部品用硬化性樹脂組成物の全固形分に対して０．１〜１５質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。
【００９３】
前記酸あるいは塩基触媒としては、イオン重合性化合物、あるいはゾルゲル素材の反応を開始するものであれば、特に制限はなく、目的に応じて公知の酸あるいは塩基触媒から選択することができ、例えば、塩酸、硫酸、硝酸などの無機ブレンステッド酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸などの有機ブレンステッド酸類、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等のルイス酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジン、テトラメチルエチレンジアミンなどの有機塩基類などが挙げられる。
【００９４】
前記酸あるいは塩基触媒の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記光学部品用硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、０．１〜１５質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。
【００９５】
前記活性エネルギー線の作用によって酸あるいは塩基等の硬化促進剤を発生する化合物としては、特に制限はなく、活性エネルギー線の照射によって皮膜の硬化を可能とするものであれば、目的に応じて適宜選択することができる。
前記活性エネルギー線の作用により酸を発生する化合物としては、例えば、有機エレクトロニクス材料研究会（ぶんしん出版）編「イメージング用有機材料」ｐ１８７〜１９８、特開平１０−２８２６４４号等に記載の公知の化合物を用いることが可能である。
前記活性エネルギー線の作用により酸を発生する化合物の具体例としては、ＲＳＯ３−（Ｒはアルキル基、アリール基を表す）、ＡＳＦ６−、ＳｂＦ６−、ＰＦ６−、ＢＦ４−等をカウンターイオンとするジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等の各種オニウム塩、トリハロメチル基が置換したオキサジアゾール誘導体、Ｓ−トリアジン誘導体等の有機ハロゲン化物、有機酸のｏ−ニトロベンジルエステル、ベンゾインエステル、イミノエステル、ジスルホン化合物等が挙げられ、これらの中でも、オニウム塩類が好適に挙げられ、スルホニウム塩、ヨードニウム塩類が特に好適に挙げられる。
前記活性エネルギー線の作用で塩基を発生する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、公知のものを使用することも可能である。
前記活性エネルギー線の作用で塩基を発生する化合物の具体例としては、ニトロベンジルカルバメート類、ジニトロベンジルカルバメート類等が挙げられる。
前記活性エネルギー線の作用によって酸あるいは塩基等の硬化促進剤を発生する化合物には、増感色素を併用することが好ましい。
【００９６】
前記活性エネルギー線の作用によって酸あるいは塩基等の硬化促進剤を発生する化合物又は増感色素の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記化合物及び増感色素それぞれの前記光学部品用樹脂組成物中の全固形分に対して０．１〜１５質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。
【００９７】
前記脱水剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、オルト蟻酸メチル、オルト蟻酸エチル、オルト酢酸メチル等のカルボン酸オルトエステル、無水酢酸等の酸無水物などが挙げられる。
【００９８】
前記脱水剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記光学部品用樹脂組成物中の全固形分に対して０．５〜５００質量％が好ましく、５〜２００質量％がより好ましく、１０〜１００質量％が特に好ましい。
【００９９】
更に、前記その他の成分としては、各種シランカップリング剤、界面活性剤、増粘剤、レベリング剤、帯電防止剤などの添加剤が挙げられる。
【０１００】
前記光学部品用硬化性樹脂組成物の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記構造式（１）で表されるモノマーユニットを有するポリマーを必須成分として、更に、必要に応じて前記その他の成分を適宜配合して製造することができる。
前記硬化性樹脂組成物における各成分に液状化合物が含まれる場合には、該液状化合物を溶剤として他の成分を溶解することができるが、溶剤を用いて前記硬化性樹脂組成物における各成分を溶解することもできる。
【０１０１】
前記溶剤としては、組成物が沈殿を生じることなく、均一に溶解又は分散されるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、水などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１０２】
前記本発明の光学部品としては、適宜選択されるその他の構成を備えることも可能である。
前記その他の構成しては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面に前記微細凹凸構造が形成されたフィルム状の光学部品を形成するための透明な支持体、ハードコート層、接着層、防湿層、帯電防止層、下塗り層、電磁波や赤外線を遮蔽するためのシールド層、帯電防止層などが挙げられる。
【０１０３】
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、ガラス板よりもプラスチックフイルムが、成形性、量産性などの点から好ましい。
前記支持体の光透過率としては、８０％以上が好ましく、８６％以上がより好ましい。前記支持体のヘイズとしては、２．０％以下が好ましく、１．０％以下がより好ましい。
前記支持体の屈折率としては、１．４〜１．７が好ましく、反射防止膜用途とする場合、前記樹脂層との屈折率差が小さいものが好ましい。
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば５０〜２００μｍが好ましい。
前記プラスチックフイルムとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、セルロースエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルケトンなどが挙げられる。
前記セルロースエステルの具体例としては、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース、セルローストリアセテート等が挙げられるが、これらの中でも、セルローストリアセテートが好適である。
尚、前記セルローストリアセテート等のセルロースアシレートフィルムとしては、例えば、公技番号２００１−１７４５（発明協会公開技報）に記載のものを用いることも可能である。
前記ポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられるが、これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好適である。
前記ポリスチレンの具体例としては、シンジオタクチックポリスチレン等が挙げられる。
前記ポリオレフィンの具体例としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等が挙げられる。
前記支持体には、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤などを添加することが好適である。
前記支持体を構成する組成物に対する前記赤外線吸収剤、前記紫外線吸収剤などの添加量としては、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましい。
なお、前記スタンパーを用いて前記微細凹凸構造を形成する際、支持体側から活性エネルギー線を照射して樹脂層を硬化させる場合には、前記紫外線吸収剤等の活性エネルギー線を吸収する物質を添加しないことが好ましく、また、支持体も該露光波長域に吸収を持たないものを選択することが好ましい。
前記支持体には、高強度化、低熱膨張性等の観点から、無機化合物の粒子を添加してもよい。無機化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＢａＳＯ4、ＣａＣＯ3、タルク、カオリンなどが挙げられる。
前記支持体は表面処理が施されていてもよい。前記表面処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理などが挙げられるが、これらの中でも、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理、火焔処理が好ましく、グロー放電処理、紫外線処理が特に好ましい。
【０１０４】
前記ハードコート層は、透明支持体に耐傷性を付与するために設けられ、支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。
前記ハードコート層の表面硬度としては、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましく、３Ｈ以上が更に好ましい。
前記ハードコート層を形成する組成物としては、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、シリカ系化合物などが挙げられる。また、顔料を前記ハードコート層に添加してよい。
前記アクリル系ポリマーとしては、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の多官能アクリレートモノマーを重合反応して合成されたものが好適に挙げられる。
前記ウレタン系ポリマーとしては、例えば、メラミンポリウレタンなどが挙げられる。
前記シリコーン系ポリマーとしては、例えば、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン等のシラン化合物と、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基等の反応性基を有するシランカップリング剤との共加水分解物などが好適に挙げられる。
前記シリカ系化合物としては、コロイダルシリカが好適に挙げられる。
前記ハードコート層を形成する組成物としては、一種単独で使用してもよく、二種類以上を併用してもよい。
【０１０５】
前記微細凹凸形状の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、安価であり、大面積加工の安定製造の観点から、前記光学部品が備える前記微細凹凸形状と相補的な微細凹凸構造を有するスタンパーを樹脂に圧接して形状を転写する形状転写法、２種類の樹脂等の相分離を利用し適切な溶剤を用いて１成分のみを溶出することにより微細凹凸構造を形成する方法などが好適に挙げられ、これらの中でも、特に前記形状転写法が好ましい。
前記形状転写方法によれば、例えば、シート状の光学部品をフィルム押出成形装置で成形する場合に、金属ロールの周囲に装着したエンボスロールに代えて前記スタンパーを用いることにより、ロール−トウ−ロールのプロセスで連続的に大面積の光学部品を加工することが可能となる。
【０１０６】
前記形状転写法に用いられる樹脂としては、本発明の前記光学部品用硬化性樹脂組成物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、紫外線硬化樹脂（ＵＶ硬化樹脂）、電子線硬化樹脂（ＥＢ硬化樹脂）、熱硬化樹脂等が好適に挙げられる。
前記形状転写法における形状転写を行う際の前記光学部品用硬化性樹脂組成物の性状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、未硬化、半硬化の樹脂などが挙げられる。
前記形状転写法における形状転写を行う際の温度条件、圧力条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、該温度条件としては、５０〜２５０℃が好ましく、５０〜２００℃がより好ましく、５０〜１５０℃が更に好ましい。該圧力条件としては、０．１〜１５ＭＰaが好ましく、０．５〜１０ＭＰaがより好ましく、１〜５ＭＰaが更に好ましい。
【０１０７】
前記形状転写法に前記ＵＶ又はＥＢ硬化樹脂が用いられる場合における形状転写方法の具体例としては、（１）未硬化又は半硬化の樹脂を支持体に塗設した上に、前記スタンパーを圧接し、更に支持体の裏側から紫外線又は電子線を照射して形状を転写しながら樹脂層を硬化させた後、スタンパーを剥離する方法、（２）未硬化又は半硬化の樹脂層にスタンパーを圧接して形状転写を行い、スタンパーを剥離した後に、紫外線又は電子線の照射を行い樹脂層を硬化させる方法、などが挙げられる。
前記ＵＶ又はＥＢ硬化樹脂の硬化方法としては、例えば、電離放射線の作用によって硬化する方法などが挙げられる。前記電離放射線の照射は、電磁波型の電離放射線の場合には、例えば、高圧水銀ランプを用いて行う方法が挙げられる。
前記ＵＶ硬化樹脂の硬化方法として紫外線を照射する場合における酸素濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．５％以下が好ましく、０．３％以下がより好ましく、０．２％以下が更に好ましい。
前記ＵＶ硬化樹脂の硬化方法として紫外線を照射する場合における照射エネルギーとしては、硬化反応が十分に進むに必要な量であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３００ｍＪ／ｃｍ２〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、４００ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、５００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２が更に好ましい。
【０１０８】
前記形状転写法に前記熱硬化樹脂が用いられる場合における形状転写方法の具体例としては、（１）未硬化又は半硬化の樹脂を支持体に塗設した上に、前記スタンパーを圧接し、更に支持体の裏側から加熱して形状を転写しながら樹脂層を硬化させた後、スタンパーを剥離する方法、（２）未硬化又は半硬化の樹脂層にスタンパーを圧接して形状転写を行い、スタンパーを剥離した後に、加熱して樹脂層を硬化させる方法、などが挙げられる。
前記熱硬化樹脂の硬化条件は、加熱温度としては、３０〜２００℃が好ましく、８０〜１８０℃がより好ましく、１００〜１５０℃が更に好ましく、また、加熱時間としては、３０秒〜１００時間が好ましく、１分〜１時間がより好ましく、２分〜１５分が更に好ましい。
【０１０９】
更に、前記光学部品用硬化性樹脂組成物の硬化方法としては、前記スタンパーを圧接して形状を転写する前に前記電子線、紫外線照射、加熱等の手段によって樹脂を部分硬化させてもよい。また、形状転写時には電子線又は紫外線、及び、熱の２つのエネルギーを同時に与えて硬化反応を行ってもよく、一方のみのエネルギーで硬化させてもよい。形状転写後に前記光学部品を完全硬化させる際も、上記の光及び熱の少なくともいずれかを加える方法を利用できる。
【０１１０】
前記光学物品が多層構造である場合には、各層を順次十分硬化させた後に上層を塗設することが好ましい。
【０１１１】
前記形状転写法に利用されるスタンパーの作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、感光性樹脂に対するレーザー干渉露光法、電子線露光法などにより微細凹凸形状を有する原型を作製し、更に、該原型に対してＮｉ等で電鋳加工する等の公知の手法によって作製する方法が挙げられる。
【０１１２】
また、前記支持体上に形成される前記微細凹凸構造は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）による塗布により形成することができる。二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書及び原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店(1973)に記載がある。
【０１１３】
前記光学部品としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク、偏光分離素子などが挙げられ、これらの中でも、反射防止膜、反射防止フィルムが特に好適に挙げられる。
【０１１４】
＜反射防止膜＞
前記反射防止膜としては、前記光学部品用硬化性樹脂組成物を用いて可視光波長以下の周期的微細凹凸構造が膜表面に形成され、反射防止機能を有する膜などが挙げられる。
前記反射防止膜としては、更に、可視光波長以上のなだらかな凹凸構造が形成され、外光を散乱させるアンチグレア機能を有する膜などが挙げられる。
前記反射防止膜がアンチグレア機能を有する膜の構造としては、可視光波長以上の大きななだらかな凹凸形状の上に、可視光波長以下の微細凹凸形状を有するものが挙げられる。
前記反射防止膜の反射率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、４５０〜６５０ｎｍの波長領域での鏡面平均反射率が２％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、０．５％以下が特に好ましい。
前記反射防止膜のヘイズとしては、前記アンチグレア機能を有さない場合には、３％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、０．５％以下が更に好ましい。前記アンチグレア機能を有する場合には、ヘイズは３〜３０％が好ましく、５〜２０％がより好ましく、７〜２０％が更に好ましい。
前記反射防止膜の表面硬度としては、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、１Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましく、３Ｈ以上が更に好ましい。
前記アンチグレア機能を有する前記反射防止膜の作製方法としては、前記微細凹凸形状と前記なだらかな凹凸形状とが複合的に形成されたスタンパーを用いる方法、微粒子により大きな凹凸構造を有する表面を形成した後にスタンパーを圧接する方法、微粒子を利用して大きな凹凸構造を形成し更に相分離を利用して小さな凹凸構造の形成する方法、などが挙げられる。
前記反射防止膜は、前記微細凹凸構造が空気界面側となるように配置して使用される。
前記反射防止膜は、前記反射防止膜を画像表示装置装置等のディスプレイ面、レンズ面、偏光板面などに直接形成して使用することもでき、プラスチック、ガラスなどの透明な板状、フィルム状支持体の上に前記反射防止膜を接着等により積層して反射防止板又はフィルムを形成し、該反射防止板又はフィルムをディスプレイ等の画像表示装置、偏光板などに装着して使用することが好ましい。
【０１１５】
反射防止フィルムとしては、前記支持体表面に前記微細凹凸構造が形成されたものが挙げられ、具体的には、前記支持体表面に前記反射防止膜を積層したものが好適に挙げられる。
反射防止膜を前記フィルム状支持体に積層して、反射防止フィルムとして用いる場合には、前記支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して使用することが好ましい。
【０１１６】
前記光学部品は、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、ケースカバー、光学用レンズ、眼鏡用レンズ、ウインドウシールド、ライトカバーやヘルメットシールドに好適に利用できる。
【０１１７】
（画像表示装置）
本発明の画像表示装置は、前記光学部品を用いてなり、更に、必要に応じてその他の部材を備える。
前記画像表示装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、などが挙げられる。これらの中でも、液晶表示装置が好適に挙げられる。
【０１１８】
前記液晶表示装置は、互いに対向して配される一対の基板間に液晶が封入されて構成される表示装置である。
前記液晶表示装置における液晶としては、例えば、ＳＴＮ型、ＴＮ型、ＧＨ型、ＥＣＢ型、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、ＶＡ型、ＡＳＭ型、その他種々のものが好適に挙げられる。
本発明の液晶表示装置の基本的な構成態様としては、例えば、（１）薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と称することがある。）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、カラーフィルタ及び対向電極（導電層）を備えるカラーフィルタ側基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの、（２）カラーフィルタが前記駆動側基盤板に直接形成されたカラーフィルタ一体型駆動基板と、対向電極（導電層）を備える対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その隙部に液晶材料を封入して構成されるもの等が挙げられる。
【実施例】
【０１１９】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
なお、以下の実施例及び比較例において、「％」及び「部」は質量基準である。
【０１２０】
−ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−１）の合成−
攪拌機及び滴下装置を備えた反応器に、ジメチルアセトアミドを２００ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレートを６５．０ｇ加えて、攪拌しつつ、該反応器を氷浴中で冷却し、３−クロロプロピオニルクロリド６６．６ｇを２時間かけて滴下し、その後、室温で、更に、５時間攪拌した。得られた溶液に酢酸エチルと水を加え、有機層を３回抽出した後、この有機層を濃縮し、５ｍｍＨｇで減圧蒸留し、９８℃で得られた留分（５０ｇ）を以下モノマーＡと呼ぶ。
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、前記モノマーＡを４０ｇ、前記サイラプレーン０７２５（チッソ（株）社製）を１０ｇ、アゾイソブチロニトリルを０．８ｇ、２−ブタノンを５０ｇ加えて、窒素雰囲気下で、６時間、７８℃の条件下で反応を完結させた。得られたポリマー溶液の数平均分子量は１４，０００であった。
攪拌機、還流冷却器、滴下装置を備えた反応器に、前記ポリマー溶液を移し、アセトンを３２０ｇ加えて、反応容器を氷浴中で冷却しつつ、トリエチルアミン３９．３ｇを２時間かけて滴下した。更に、室温で２０時間攪拌した後、反応容器を氷浴中で冷却しつつ塩酸を加え液性を中性にした。この溶液を濃縮し、大過剰のメタノールに投入して、デカンテーションにより溶剤を除去し、沈殿したポリマーを取り出した。更に、該ポリマーを少量の酢酸エチルに溶解して、メタノールで２回再沈殿を行い、前記表１例示のポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−１）４０ｇを合成した。得られたポリマーの数平均分子量は１１，０００であった。
【０１２１】
−ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−２１）の合成−
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、前記モノマーＡを４０ｇ、前記Ｓ−（３６）に相当するＶＰＳ−１００１（和光純薬工業（株）社製）を１０ｇ、アゾイソブチロニトリルを０．６ｇ、２−ブタノンを５０ｇ加えて、窒素雰囲気下で、６時間、７８℃の条件下で反応を完結させた。得られたポリマー溶液の数平均分子量は８，０００であった。
以下、前記高分子化合物（Ｐ−１）と同様にして、前記表１例示のポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−２１）４０ｇを合成した。得られたポリマーの数平均分子量は８５００であった。
【０１２２】
−その他の高分子化合物の合成−
前記表１に例示した、その他のポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−５、Ｐ−６、Ｐ−８、Ｐ−１３、Ｐ−２２、Ｐ−２９、Ｐ−３０、Ｐ−３５）についても、同様にして合成した。
【０１２３】
（実施例１）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−１）９５質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、実施例１の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に前記実施例１の光学部品用硬化性樹脂組成物をバーコーターを用いて膜厚３μｍとなるように塗布した後、９０℃、５分間の条件で乾燥させた。
次に、前記ＰＥＴフィルムの前記光学部品用硬化性樹脂組成物が塗布された面上に、凹凸周期約２５０ｎｍ、凹凸高さ約２５０ｎｍの円錐形状の周期的微細凹凸構造を有するＮｉ材質よりなるスタンパーを押し当て、１ＭＰaの圧力、１分間の条件で前記スタンパーと前記フィルムを圧接した後、前記ＰＥＴフィルムの裏面から７５０ｍｊ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して樹脂層を硬化させた。その後、前記ＰＥＴフィルムとスタンパーを剥離し、更に、窒素雰囲気下（酸素濃度０．１％）で、樹脂層の表面から７５０ｍｊ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射し、引き続き１２０℃、１０分間の条件で加熱することにより、実施例１の表面に微細凹凸構造の形成された反射防止フィルムを得た。
【０１２４】
（実施例２）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−１）７５質量部、多官能硬化剤として商品名：ＤＰＨＡ（日本化薬社製）２０質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となる様に溶解し、実施例２の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例２の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例２の反射防止フィルムを得た。
【０１２５】
（実施例３）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−１）５０質量部、多官能硬化剤として商品名：ＤＰＨＡ（日本化薬社製）２０質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、実施例３の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例３の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例３の反射防止フィルムを得た。
【０１２６】
（実施例４）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−５）９８質量部、下記構造式（５）に示す光酸発生剤２質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、実施例４の光学部品用硬化性樹脂組成物を調整した。
2005331607.tif 000028
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例４の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例４の反射防止フィルムを得た。
【０１２７】
（実施例５）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−６）９５質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、実施例５の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例５の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例５の反射防止フィルムを得た。
【０１２８】
（実施例６）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−８）９５質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となる様に溶解し、実施例６の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例６の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例６の反射防止フィルムを得た。
【０１２９】
（実施例７）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−１３）９８質量部、前記実施例３と同様の光酸発生剤２質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、実施例６の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例７の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例７の反射防止フィルムを得た。
【０１３０】
（実施例８）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−２１）９５質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、実施例８の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例８の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例８の反射防止フィルムを得た。
【０１３１】
（実施例９）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−２２）８０質量部、多官能硬化剤として商品名：ＤＰＨＡ（日本化薬社製）１５質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となる様に溶解し、実施例９の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例９の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様ににして、実施例９の反射防止フィルムを得た。
【０１３２】
（実施例１０）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−２２）９５質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、実施例１０の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例１０の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例１０の反射防止フィルムを得た。
【０１３３】
（実施例１１）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−２９）９５質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、実施例１１の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例１１の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例１１の反射防止フィルムを得た。
【０１３４】
（実施例１２）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−３０）９８質量部、前記実施例３と同様の光酸発生剤２質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となる様に溶解し、実施例１２の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例１２の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例１２の反射防止フィルムを得た。
【０１３５】
（実施例１３）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記ポリシロキサン構造を有する高分子化合物（Ｐ−３５）９５質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、実施例１３の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、実施例１３の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、実施例１３の反射防止フィルムを得た。
【０１３６】
（比較例１）
−比較化合物１の合成−
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、前記モノマーＡを４０ｇ、エチルアクリレート１０ｇ、アゾイソブチロニトリルを０．８ｇ、２−ブタノンを５０ｇ加えて、窒素雰囲気下で、６時間、７８℃の条件下で反応を完結させた。得られたポリマー溶液の数平均分子量は９０００であった。
以下、前記実施例１と同様にして、比較化合物１を４０ｇ合成した。得られたポリマーの数平均分子量は９５００であった。
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記比較化合物１を８０質量部、離型剤としてＲＭＳ０３３（商品名；ゲレスト(Ｇｅｌｅｓｔ)社製  メタクリロイル変性シリコーンオイル）１５質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、比較例１の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、比較例１の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、比較例１の反射防止フィルムを得た。
【０１３７】
（比較例２）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記比較化合物１を８０質量部、離型剤としてＸ−２２−１６４Ｃ（商品名；信越シリコーン株式会社製、  エポキシ変性シリコーンオイル）１５質量部、及び光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となるように溶解し、比較例２の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、比較例２の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、比較例２の反射防止フィルムを得た。
【０１３８】
（比較例３）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
特開２００３−８２０４３号公報の実施例１記載の方法に従って合成した下記構造式（６）で示される比較化合物２を６７質量部、多官能硬化剤としてＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（商品名、日本化薬株式会社製）２８質量部、離型剤としてＫＦ−８６０（商品名、信越シリコーン社製  アミノ変性シリコーンオイル）５質量部、光ラジカル開始剤としてイルガキュア（ＩＲＧ）１８４（商品名；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質料％（固形分）となる様に溶解し、比較例３の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
【０１３９】
【化２６】
2005331607.tif 000029
−反射防止フィルムの作製−
実施例１において、比較例３の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いた以外は、実施例１と同様にして、比較例３の反射防止フィルムを得た。
【０１４０】
前記実施例１〜１３及び比較例１〜３の光学部品用硬化性樹脂組成物の配合を以下の表２に示す。
【０１４１】
【表２】
2005331607.tif 000030
【０１４２】
＜反射防止フィルムの性能評価＞
以上により得られた、実施例１〜１３及び比較例１〜３の反射防止フィルムについて、以下のようにして鏡面平均反射率及び耐傷性の評価を行い、実施例１〜１３の評価を実施例１４〜２６、比較例１〜３の評価を比較例４〜６とした。
＜＜透明性＞＞
得られた反射防止フィルムの透明性を以下の評価基準に従って目視で評価した。結果を表３に示す。
［評価基準］
透明である：○
白濁している：×
＜＜表面形状＞＞
得られた反射防止フィルムの表面形状を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて評価した（傾斜４０°、倍率３万倍）。結果を表３に示す。
［評価基準］
表面に規則的な周期構造が見られる：○
表面構造に乱れが認められる：×
＜＜平均反射率＞＞
分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ−５５０）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの鏡面平均反射率を評価した。結果を表３に示す。
＜＜耐傷性試験＞＞
膜表面をスチールウール＃００００を用いて、１００ｇの荷重下で５回擦った後に、傷のつくレベルを下記の規準に従って評価した。結果を表３に示す。
［評価基準］
全く傷がつかない        ：◎
わずかに傷がつく        ：○
細かい傷が目立つ        ：△
傷が著しい              ：×
＜＜防汚性＞＞
反射防止フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、サンプル表面にマジック（マッキー極細（商品名；ＺＥＢＲＡ（株）社製）を付着させてから、それをベンコットン（旭化成（株）製）で拭き取ったときの状態を観察して、防汚性について評価した。結果を表３に示す。
［評価基準］
簡単にマジックが拭き取れる          ：◎
普通に拭いてマジックが拭き取れる    ：○
しっかり擦ればマジックが拭き取れる  ：△
マジックが拭き取れずに残る          ：×
【０１４３】
【表３】
2005331607.tif 000031
【０１４４】
表３の結果から、実施例１〜１３の反射防止フィルムは、比較例１〜３の反射防止フィルムに比べて、透明性、耐傷性、防汚性に優れるとともに、広い波長域で低い表面反射率を有していることが認められる。
【０１４５】
（実施例２７）
―画像表示装置の作製―
前記実施例１の反射防止フィルムをパーソナルコンピューターＰＣ９８２１ＮＳ／３４０Ｗ（日本電気株式会社）の液晶ディスプレイ表面に貼り付け、実施例２７の画像表示装置を作製した。
【０１４６】
（実施例２８〜３９及び比較例７〜９）
前記実施例２〜１３の各反射防止フィルムを用いたこと以外は、前記実施例２７と同様にして実施例２８〜３９の画像表示装置を作製した。
また、前記比較例１〜３の反射防止フィルムを用いたこと以外は、前記実施例２７と同様にして比較例７〜９の画像表示装置を作製した。
【０１４７】
前記実施例２８〜３９並びに比較例４及び６の各画像表示装置の風景映り込み程度を目視にて評価した。その結果、実施例２８〜３９の画像表示装置は、周囲の風景映り込みが殆どなく、快適な視認性を示しかつ充分な耐傷性を有するものであったのに対し、比較例７の画像表示装置は、周囲の映り込みが目立つとともに、耐傷性に劣るものであった。比較例８〜９の画像表示装置は、周囲の映り込みは同様に低減できるものの耐傷性に劣るものであった。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
本発明の光学部品は、光学特性に優れ、耐傷性が高く形状保持性に優れた光学部品を得ることができ、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク、偏光分離素子などに好適に使用可能である。また、本発明の画像表示装置は、前記光学部品を備えた、例えば、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、などに好適に使用可能である。