(57)【要約】【課題】  仕様決定後に迅速に製品を完成させることが可能な基板処理装置およびこの基板処理装置の製造方法を提供すること。【解決手段】  反射膜処理用ブロック１は、複数の反射防止膜塗布ユニット２１と、複数個の熱処理ユニットと、反射防止膜用の塗布液と電力とを供給するためのベース部２３と、各反射防止膜塗布ユニット２１を装着可能に構成されるとともに、反射防止膜用の塗布液を供給するための管路と電力を供給するための配線とが、そこに装着可能な反射防止膜塗布ユニット２１の最大数に対応した数だけ配設された反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４と、各熱処理ユニットを装着可能に構成されるとともに、各熱処理ユニット２２に電力を供給するための配線が、そこに装着可能な熱処理ユニットの最大数に対応した数だけ配設された熱処理ユニット用フレーム部３４とを備える。【選択図】        図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理するための複数個の処理ユニットと、
前記各処理ユニットにおいて基板の処理に供される薬液と前記各処理ユニットを駆動する電力とを供給するためのベース部と、
前記ベース部の上方に設置され、前記各処理ユニットを装着可能に構成されるとともに、前記各処理ユニットに薬液を供給するための管路と前記各処理ユニットに電力を供給するための配線とが、そこに装着可能な処理ユニットの最大数に対応した数だけ配設されたフレーム部と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板を薬液により処理するための複数個の薬液処理ユニットと、
基板を熱処理するための複数個の熱処理ユニットと、
前記各薬液処理ユニットにおいて基板の処理に供される薬液と前記各薬液処理ユニットおよび前記各熱処理ユニットを駆動する電力とを供給するためのベース部と、
前記ベース部の上方に設置され、前記各薬液処理ユニットを装着可能に構成されるとともに、前記各薬液処理ユニットに薬液を供給するための管路と前記各薬液処理ユニットに電力を供給するための配線とが、そこに装着可能な薬液処理ユニットの最大数に対応した数だけ配設された薬液処理ユニット用フレーム部と、
前記ベース部の上方に設置され、前記各熱処理ユニットを装着可能に構成されるとともに、前記各熱処理ユニットに電力を供給するための配線が、そこに装着可能な熱処理ユニットの最大数に対応した数だけ配設された熱処理ユニット用フレーム部と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置において、
前記複数個の熱処理ユニットは、基板を加熱する複数のホットプレートと基板を冷却する複数のクールプレートから構成される基板処理装置。
【請求項４】
請求項２または請求項３に記載の基板処理装置を製造するための基板処理装置の製造方法であって、
前記各薬液処理ユニットを製造する工程と、
前記各熱処理ユニットを製造する工程と、
前記ベース部を製造する工程と、
前記薬液処理ユニット用フレーム部を製造する工程と、
前記熱処理ユニット用フレーム部を製造する工程と、
前記薬液処理ユニット用フレーム部に前記薬液処理ユニットを装着する工程と、
前記熱処理ユニット用フレーム部に前記熱処理ユニットを装着する工程と、
前記ベース部上に、前記薬液処理ユニットを装着後の薬液処理ユニット用フレーム部と前記熱処理ユニットを装着後の熱処理ユニット用フレーム部とを設置する工程と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板を処理するための複数個の処理ユニットを備えた基板処理装置およびこの基板処理装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
このような基板処理装置は、基板を薬液により処理するための複数個の薬液処理ユニットと、基板を熱処理するためのホットプレートやクールプレート等の複数個の熱処理ユニットと、基板をこれらの薬液処理ユニットおよび熱処理ユニット間で搬送する搬送機構と、各薬液処理ユニットにおいて基板の処理に供される薬液と各薬液処理ユニットおよび各熱処理ユニットを駆動する電源とを供給するためのベース部とを備えている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１１−１２９１８４号  また、上記薬液処理ユニットとしては、基板に反射防止膜を塗布する反射防止膜塗布ユニットや、基板にフォトレジストを塗布するレジスト膜塗布ユニット、あるいは、パターン露光後の基板を現像処理する現像処理ユニット等が使用される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このような基板処理装置を製造する際には、従来、基板処理装置の仕様が完全に決定されてからその製造に着手していた。すなわち、各薬液処理ユニットの種類や数および各熱処理ユニットの種類や数が決定された後、その製造に着手するようにしていた。このため、仕様決定後基板処理装置が完成するまでに長い時間を要するという問題があった。
【０００４】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、仕様決定後に迅速に製品を完成させることが可能な基板処理装置およびこの基板処理装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１に記載の発明は、基板を処理するための複数個の処理ユニットと、前記各処理ユニットにおいて基板の処理に供される薬液と前記各処理ユニットを駆動する電力とを供給するためのベース部と、前記ベース部の上方に設置され、前記各処理ユニットを装着可能に構成されるとともに、前記各処理ユニットに薬液を供給するための管路と前記各処理ユニットに電力を供給するための配線とが、そこに装着可能な処理ユニットの最大数に対応した数だけ配設されたフレーム部とを備えたことを特徴とする。
【０００６】
請求項２に記載の発明は、基板を薬液により処理するための複数個の薬液処理ユニットと、基板を熱処理するための複数個の熱処理ユニットと、前記各薬液処理ユニットにおいて基板の処理に供される薬液と前記各薬液処理ユニットおよび前記各熱処理ユニットを駆動する電力とを供給するためのベース部と、前記ベース部の上方に設置され、前記各薬液処理ユニットを装着可能に構成されるとともに、前記各薬液処理ユニットに薬液を供給するための管路と前記各薬液処理ユニットに電力を供給するための配線とが、そこに装着可能な薬液処理ユニットの最大数に対応した数だけ配設された薬液処理ユニット用フレーム部と、前記ベース部の上方に設置され、前記各熱処理ユニットを装着可能に構成されるとともに、前記各熱処理ユニットに電力を供給するための配線が、そこに装着可能な熱処理ユニットの最大数に対応した数だけ配設された熱処理ユニット用フレーム部とを備えたことを特徴とする。
【０００７】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記複数個の熱処理ユニットは、基板を加熱する複数のホットプレートと基板を冷却する複数のクールプレートから構成される。
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項２または請求項３に記載の基板処理装置を製造するための基板処理装置の製造方法であって、前記各薬液処理ユニットを製造する工程と、前記各熱処理ユニットを製造する工程と、前記ベース部を製造する工程と、前記薬液処理ユニット用フレーム部を製造する工程と、前記熱処理ユニット用フレーム部を製造する工程と、前記薬液処理ユニット用フレーム部に前記薬液処理ユニットを装着する工程と、前記熱処理ユニット用フレーム部に前記熱処理ユニットを装着する工程と、前記ベース部上に、前記薬液処理ユニットを装着後の薬液処理ユニット用フレーム部と前記熱処理ユニットを装着後の熱処理ユニット用フレーム部とを設置する工程とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１に記載の発明によれば、複数の処理ユニットと、ベース部と、フレーム部とを予め製造しておくことができる。そして、基板処理装置の仕様が決定したときには、ベース部上に必要な処理ユニットを装着した後のフレーム部を設置することにより、基板処理装置を完成させることができる。このため、仕様決定後に迅速に製品を完成させることが可能となる。
【００１０】
請求項２乃至請求項４に記載の発明によれば、複数の薬液処理ユニットと、複数の熱処理ユニットと、ベース部と、薬液処理ユニット用フレーム部と、熱処理ユニット用フレーム部とを予め製造しておくことができる。そして、基板処理装置の仕様が決定したときには、ベース部上に、必要な薬液処理ユニットを装着した後の薬液処理ユニット用フレーム部と必要な熱処理ユニットを装着した後の熱処理ユニット用フレーム部とを設置することにより、基板処理装置を完成させることができる。このため、仕様決定後に迅速に製品を完成させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１はこの発明に係る基板処理装置の概要を示す斜視図である。また、図２はこの発明に係る基板処理装置の正面図であり、図３はその平面図である。
【００１２】
この基板処理装置は、反射防止膜用処理ブロック１と、レジスト膜用処理ブロック２と、現像処理ブロック３とを備える。反射膜用処理ブロック１の前段には、複数枚の基板を収納したカセットを複数個載置可能なカセット載置台１１と、このカセット載置台１１上に載置されたカセットから未処理の基板を順次取り出すと共に、各カセットに処理済みの基板を順次収納するための搬送機構１２とから成るインデクサブロック４が設置されている。また、現像処理ブロック３の後段には、露光装置６（図２および図３参照）との間で基板を受け渡しするための搬送機構を備えたインターフェースブロック５が設置されている。
【００１３】
反射防止膜用処理ブロック１は、露光時に発生するハレーション等を減少させるために、フォトレジスト膜の下部に反射防止膜を塗布形成するための機構である。この反射防止膜用処理ブロック１は、ベース部２３と、上下３段に重畳された薬液処理ユニットとしての反射防止膜塗布ユニット２１と、上下９段に重畳された計１８個の熱処理ユニット２２と、搬送機構２９とを備える。各反射防止膜塗布ユニット２１は、ベース部２３上に設置された反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４に装着可能となっている。また、各熱処理ユニット２２は、ベース部２３上に設置された熱処理ユニット用フレーム部２５に装着可能となっている。
【００１４】
各反射防止膜塗布ユニット２１は、基板を保持して回転するスピンチャックを含むスピンベース部２６と、スピンチャックに保持されて回転する基板に反射防止膜用の塗布液を塗布するスピンノズル部２７とから構成される。また、各熱処理ユニット２２は、基板を加熱する複数のホットプレートまたは基板を冷却する複数のクールプレートのいずれか一方となっている。ベース部２３は、各反射防止膜塗布ユニット２１において使用される反射防止膜用の塗布液と、各反射防止膜塗布ユニット２１および各熱処理ユニット２２を駆動する電力とを供給するためのものである。
【００１５】
反射防止膜用処理ブロック１とインデクサブロック４との間には、基板の受け渡しを行うために使用される受け渡し部２８が配設されている。また、反射防止膜用処理ブロック１とレジスト膜用処理ブロック２との間には、基板の受け渡しを行うために使用される受け渡し部３８が配設されている。搬送機構２９は、各反射防止膜塗布ユニット２１、各熱処理ユニット２２、受け渡し部２８および受け渡し部３８の間で基板を搬送可能な構成となっている。
【００１６】
レジスト膜用処理ブロック２は、反射防止膜が塗布形成された基板上にフォトレジスト膜を塗布形成するための機構である。このレジスト膜用処理ブロック２は、ベース部３３と、上下３段に重畳された薬液処理ユニットとしてのレジスト膜塗布ユニット３１と、上下９段に重畳された計１８個の熱処理ユニット３２と、搬送機構３９とを備える。各レジスト膜塗布ユニット３１は、ベース部３３上に設置されたレジスト膜塗布ユニット用フレーム部３４に装着可能となっている。また、各熱処理ユニット３２は、ベース部３３上に設置された熱処理ユニット用フレーム部３５に装着可能となっている。
【００１７】
各レジスト膜塗布ユニット３１は、基板を保持して回転するスピンチャックを含むスピンベース部３６と、スピンチャックに保持されて回転する基板にフォトレジストを塗布するスピンノズル部３７とから構成される。また、各熱処理ユニット３２は、基板を加熱する複数のホットプレートまたは基板を冷却する複数のクールプレートのいずれか一方となっている。ベース部３３は、各レジスト塗布ユニット３１において使用されるフォトレジストと、各レジスト塗布ユニット３１および各熱処理ユニット３２を駆動する電力とを供給するためのものである。
【００１８】
レジスト膜用処理ブロック２と現像処理ブロック３との間には、基板の受け渡しを行うために使用される受け渡し部４８が配設されている。搬送機構３９は、各レジスト膜塗布ユニット３１、各熱処理ユニット３２、前述した受け渡し部３８および受け渡し部４８の間で基板を搬送可能な構成となっている。
【００１９】
現像処理ブロック３は、パターン露光後の基板を現像処理するための機構である。この現像処理ブロック３は、ベース部４３と、上下５段に重畳された薬液処理ユニットとしての現像液塗布ユニット４１と、上下９段に重畳された計１８個の熱処理ユニット４２と、搬送機構４９とを備える。各現像液塗布ユニット４１は、ベース部４３上に設置された現像液塗布ユニット用フレーム部４４に装着可能となっている。また、各熱処理ユニット４２は、ベース部４３上に設置された熱処理ユニット用フレーム部４５に装着可能となっている。
【００２０】
各現像液塗布ユニット４１は、基板を保持して回転するスピンチャックを含むスピンベース部４６と、スピンチャックに保持されて回転する基板に現像液を塗布するスピンノズル部４７とから構成される。また、各熱処理ユニット４２は、基板を加熱する複数のホットプレートまたは基板を冷却する複数のクールプレートのいずれか一方となっている。ベース部４３は、各現像液塗布ユニット４１において使用される現像液と、各現像液塗布ユニット４１および各熱処理ユニット４２を駆動する電力とを供給するためのものである。
【００２１】
搬送機構４９は、各現像液塗布ユニット４１、各熱処理ユニット４２、前述した受け渡し部４８およびインターフェースブロック５の搬送機構の間で基板を搬送可能な構成となっている。
【００２２】
以上のような構成を有する基板処理装置においては、インデクサブロック４に搬入された基板は、反射防止膜用処理ブロック１およびレジスト膜用処理ブロック２において処理された後、インタフェースブロック５を介して後段の露光装置６に搬送される。露光装置６においてパターン露光された基板は、インターフェースブロック５を介して現像処理ブロック３に搬送され現像処理された後、インデクサ部４から後段の処理工程に搬送される。
【００２３】
この発明に係る基板処理装置においては、仕様決定後に迅速に製品を完成させることを可能とするため、装置の各部を予め個別に準備しておき、仕様決定後にその仕様に併せて各ユニットを組み合わせるようにしている。以下、このような基板処理装置の製造方法について説明する。なお、以下の説明においては、反射防止膜用処理ブロック１について説明するが、レジスト膜用処理ブロック２および現像処理ブロック３とについても同様である。
【００２４】
反射防止膜用処理ブロック１を製造する際には、図４に示すように、反射防止膜塗布ユニット２１を構成するスピンベース部２６とスピンノズル部２７とを個別に製造しておく。また、反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４を製造する。このとき、この反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４には、そこに装着可能な反射防止膜塗布ユニット２１の最大数に対応した数だけ、各反射防止膜塗布ユニット２１に反射防止膜用の塗布液や駆動用空気源等を供給するための管路１２１と、各反射防止膜塗布ユニット２１に電力を供給するための配線１２２とが配設されている。
【００２５】
この実施形態においては、反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４には、最大３個の反射防止膜塗布ユニット２１が装着可能となっている。このため、仕様上は１乃至２個の反射防止膜塗布ユニット２１しか使用されない場合においても、反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４には、３個の反射防止膜塗布ユニット２１に対応した数だけ、各反射防止膜塗布ユニット２１に反射防止膜用の塗布液を供給するための管路１２１と、各反射防止膜塗布ユニット２１に電力を供給するための配線１２２とが配設されることになる。
【００２６】
そして、図５に示すように、反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４に対して必要な数の反射防止膜塗布ユニット２１（この実施形態では３個）を装着する。なお、図５における符号１２５、１２６は、電装ボックス等である。
【００２７】
また、反射防止膜用処理ブロック１を製造する際には、図６に示すように、ホットプレートまたはクールプレートからなる熱処理ユニット２２を個別に製造しておく。また、熱処理ユニット用フレーム部２５を製造する。このとき、一つの熱処理ユニット用フレーム部２５には、そこに装着可能な熱処理ユニット２２の最大数に対応した数だけ、各熱処理ユニット２２に駆動用空気源等を供給するための管路１３１と、各熱処理ユニット２２に電力を供給するための配線１３２とが配設されている。
【００２８】
この実施形態においては、一つの熱処理ユニット用フレーム部２５には、最大９個の熱処理ユニット２２が装着可能となっている。このため、仕様上は１乃至８個の熱処理ユニット２２しか使用されない場合においても、熱処理ユニット用フレーム部２５には、９個の熱処理ユニット２２に対応した数だけ、熱処理ユニット２２に駆動用空気源等を供給するための管路１３１と、熱処理ユニット２２に電力を供給するための配線１３２とが配設されることになる。
【００２９】
なお、熱処理ユニット２２としてのクールプレートとホットプレートとで必要な管路１３１と配線１３２とが異なる場合には、熱処理ユニット用フレーム部２５に装着可能なクールプレートおよびホットプレートの最大数に対応した数だけ、クールプレートおよびホットプレートに必要とされる管路および配管を配設すればよい。このとき、熱処理ユニット２２の全てがホットプレートになる可能性があるのであれば、一つの熱処理ユニット用フレーム部２５に、最大９個のホットプレートに対応して管路および配管を配設すればよい。一方、例えばクールプレートは最大でも４個しか設置されないであろうことが予め判明していれば、一つの熱処理ユニット用フレーム部２５に、最大４個のクールプレートに対応して管路および配管を配設すればよい。
【００３０】
そして、図７に示すように、一対の熱処理ユニット用フレーム部２５に対して必要な数の熱処理ユニット２２（この実施形態では合計１８個）を装着する。なお、図７における符号１３５は、電装ボックス等である。
【００３１】
また、これらと同様に、反射防止膜用処理ブロック１用のベース部２３を製造する。この反射防止膜用処理ブロック１には、図８に示すように、反射防止膜用処理ブロック１における反射防止膜塗布ユニット２１に反射防止膜用の塗布液や駆動用空気源等を供給し、各熱処理ユニット２２に駆動用空気源等を供給するための管路１２３と、各反射防止膜塗布ユニット２１に電力を供給し、各熱処理ユニット２２に電力を供給するための配線１２４とが配設されている
さらに、搬送機構２９や受け渡し部２８等を製造する。このとき、搬送装置２９は、反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４に装着可能な最大数の反射防止膜塗布ユニット２１および熱処理ユニット用フレーム部２５に装着可能な最大数の熱処理ユニット２２にアクセスして基板を受け渡し可能な構成となっている。
【００３２】
以上の製造工程を、レジスト膜用処理ブロック２および現像処理ブロック３についても同様に実行する。そして、図９に示すように、反射防止膜用処理ブロック１と、レジスト膜用処理ブロック２と、現像処理ブロック３とを合体し、制御用の配線等を接続することにより、基板処理装置を完成させる。しかる後、必要に応じ、反射膜用処理ブロック１の前段にインデクサブロック４を、また、現像処理ブロック３の後段にインターフェースブロック５を設置する。
【００３３】
このように、この実施形態に係る基板処理装置においては、反射防止膜塗布ユニット２１、レジスト膜塗布ユニット３１、現像液塗布ユニット４１等の薬液処理ユニットと、熱処理ユニット２２、３２、４２と、ベース部２３、３３、４３と、反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４、レジスト膜塗布ユニット用フレーム部３４、現像液塗布ユニット用フレーム部４４等の薬液処理ユニット用フレーム部と、熱処理ユニット用フレーム部２５、３５、４５とを予め製造しておくことができる。そして、基板処理装置の仕様が決定したときには、各ベース部２３、３３、３４上に、必要な処理ユニット２１、３１、４１を装着した後の各フレーム部２５、３５、４５と、必要な熱処理ユニット２２、３２、４２を装着した後の熱処理ユニット用フレーム部２５、３５、４５とを設置することにより、基板処理装置を完成させることができる。このため、仕様決定後に迅速に製品を完成させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】この発明に係る基板処理装置の概要を示す斜視図である。
【図２】この発明に係る基板処理装置の正面図である。
【図３】この発明に係る基板処理装置の平面図である。
【図４】反射防止膜塗布ユニット２１を反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４に装着する前の状態を模式的に示す斜視図である。
【図５】反射防止膜塗布ユニット２１を反射防止膜塗布ユニット用フレーム部２４に装着した後の状態を模式的に示す斜視図である。
【図６】熱処理ユニット２２を熱処理ユニット用フレーム部２５に装着する前の状態を模式的に示す斜視図である。
【図７】熱処理ユニット２２を熱処理ユニット用フレーム部２５に装着する前の状態を模式的に示す斜視図である。
【図８】ベース部２３を模式的に示す斜視図である。
【図９】完成後の基板処理装置を模式的に示す斜視図である。
【符号の説明】
【００３５】
１      反射膜用処理ブロック
２      レジスト膜用処理ブロック
３      現像処理ブロック
４      インデクサブロック
５      インタフェースブロック
６      露光装置
１１    カセット載置台
１２    搬送機構
２１    反射防止膜塗布ユニット
２２    熱処理ユニット
２３    ベース部
２４    反射防止膜塗布ユニット用フレーム部
２５    熱処理ユニット用フレーム部
２８    受け渡し部
２９    搬送機構
３１    レジスト膜塗布ユニット
３２    熱処理ユニット
３３    ベース部
３４    レジスト膜塗布ユニット用フレーム部
３５    熱処理ユニット用フレーム部
３８    受け渡し部
３９    搬送機構
４１    反射防止膜塗布ユニット
４２    熱処理ユニット
４３    ベース部
４４    現像液塗布ユニット用フレーム部
４５    熱処理ユニット用フレーム部
４８    受け渡し部
４９    搬送機構
１２１  管路
１２２  配線
１３１  管路
１３２  配線
【図１】
2005064349.tif 000003
【図２】
2005064349.tif 000004
【図３】
2005064349.tif 000005
【図４】
2005064349.tif 000006
【図５】
2005064349.tif 000007
【図６】
2005064349.tif 000008
【図７】
2005064349.tif 000009
【図８】
2005064349.tif 000010
【図９】
2005064349.tif 000011