(57)【要約】【課題】封止層により封止された発光装置の劣化を、低コストな方法で長期間防止する。【解決手段】基板上に、前記第一電極を形成する工程と、前記第一電極の上に発光層を含む機能層を形成する工程と、前記機能層の上に第二電極を形成する工程と、前記第一電極と前記機能層と前記第二電極と、からなる発光部１１を覆う封止層８を形成する工程と、を含み、該封止層８をインクジェット法により形成する。【選択図】    図１
2005044613.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、少なくとも第一電極と、発光層を含む機能層と、第二電極と、を有する発光装置の製造方法であって、
前記基板上に第一電極を形成する工程と、
前記第一電極の上に機能層を形成する工程と、
前記機能層の上に第二電極を形成する工程と、
前記第一電極と前記機能層と前記第二電極とからなる発光部を覆う封止層を形成する工程と、を含み、
該封止層がインクジェット法により形成されていることを特徴とする発光装置の製造方法。
【請求項２】
前記封止層は、樹脂材料からなる有機層と、金属酸化物または金属窒化物からなる無機層とを含むことを特徴とする請求項１に記載の発光装置の製造方法。
【請求項３】
前記封止層は、前記有機層と前記無機層とが交互に複数層積層され、かつ、最下層が前記有機層であることを特徴とする請求項２に記載の発光装置の製造方法。
【請求項４】
前記封止層の、前記基板側とは反対側の表面に、非透水性の封止部材が固着されることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項５】
前記封止層の、前記基板側とは反対側の表面を平滑に形成することを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の有機電界発光装置の製造方法。
【請求項６】
前記封止層は、前記基板上の封止層形成領域内の凸凹形状によって、その層厚に高低差が生じていることを特徴とする請求項５に記載の発光装置の製造方法。
【請求項７】
前記基板の第一電極が形成された面の周縁部であって、前記封止層の形成領域の外側に、インクジェット法により閉環状の樹脂材料からなる封止部を形成し、該封止部の上面に非透水性の封止部材を載せた状態で、該封止部を硬化させることを特徴とする請求項１に記載の発光装置の製造方法。
【請求項８】
複数の前記発光装置を１つの基板母材上に同時に形成し、その後、前記基板母材を個々の発光装置ごとに切断することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載の発光装置の製造方法。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の製造方法により得られたことを特徴とする発光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光装置の製造方法に関し、特に、発光装置の基板封止技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶ディスプレイに替わる自発光型ディスプレイとして、有機電界発光装置（陽極と陰極との間に有機材料からなる発光層を設けた構造の発光装置）の開発が急速に進んでいる。従来の有機電界発光装置の構造としては、例えば、透明基板の上に、透明電極からなる陽極、正孔注入／輸送層、有機材料からなる発光層、光透過性でない陰極、がこの順に形成されている積層構造が挙げられる。この積層構造の有機電界発光装置では、発光層で電子とホールが結合して生じた光は基板側に放射される。また、有機電界発光装置の構造として、基板側の電極（陽極）が不透明であり、陰極が透明であるものもある。この場合は、有機電界発光装置による発光は陰極側に得られる。さらに、有機電界発光装置の構造の別の例としては、基板がガラス基板等の透明基板であり、両電極が透明なものが挙げられる。この場合は、有機電界発光装置による発光は基板側および陰極側に得られる。
【０００３】
有機電界発光装置の特徴は、低電圧を印加するだけで高輝度、高効率で発光が生じることにある。しかしながら、有機電界発光装置には、装置の構成部材が経時変化で劣化することに伴って、この優れた特性が得られなくなるという問題があり、特に発光特性の経時劣化が著しいことであった。その劣化要因としては、特に陰極と有機材料からなる発光層とが、大気中の酸素や水分により酸化され、発光強度の劣化をもたらすことが挙げられている。
その対策として、例えば特許文献１には、ガラス基板上に有機物ＥＬ層を覆うように耐湿性を有する光硬化性樹脂層を形成し、該光硬化性樹脂層の上に非透水性を有するガラス基板を固着して、経時劣化を防止する方法が提案されている。また、特許文献２には、電気絶縁性高分子化合物からなる保護層を設けた後、この保護層の外側に、電気絶縁性ガラス、電気絶縁性高分子化合物および電気絶縁性気密流体からなる群より選択される１つからなるシールド層を設ける方法も提案されている。
さらに、特許文献３には、基板上に第一，第二電極、第一，第二絶縁層、発光層を覆うシール板を接着した薄膜ＥＬパネルにおいて、シール板の接着個所の内側の周辺部に、基板側に開口した溝を設け、上記溝に吸湿材を埋め込み耐湿性を向上させる方法が提案されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平５−１８２７５９号公報
【特許文献２】
特開平５−３６４７５号公報
【特許文献３】
特許第２６８６１６９号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
この方法によれば、有機電界発光装置の劣化の進行を大幅に抑制することが出来、長寿命化を図ることが出来るとされている。しかしながら、陽極と発光層を含む機能層と陰極とを光硬化性樹脂材料で覆う封止方法としては、スピンコート法、ディップ法、ディスペンサーによる滴下法等があり、これらの方法は樹脂材料の無駄が著しく、製造コストを低減する際の大きな問題となっていた。又、特許文献２では、電気絶縁性高分子化合物からなる保護層で覆う方法が提案されているが、その方法は真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法などであり、例えばスパッタ法では発光層にダメージが与えられて発光特性が劣化し、またＣＶＤ法では保護層形成時間が長く要し、さらに高分子化合物材料の無駄も著しく、品質向上、生産性向上、製造コスト低減、の大きな障害となっていた。さらに、シール板の内側の周縁部に吸湿材を埋め込む場合には、吸湿効果が周縁部に限られるという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、有機材料に悪影響をあたえず耐湿効果が優れ製造時の歩留まり向上、生産性コスト低減を大幅に改善することが出来る発光装置の製造方法および発光装置を提供する事を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明の発光装置は、基板上に、少なくとも第一電極と、発光層を含む機能層と、第二電極と、を有する発光装置の製造方法であって、前記基板上に前記第一電極を形成する工程と、前記第一電極の上に機能層を形成する工程と、前記機能層の上に第二電極を形成する工程と、前記第一電極と前記機能層と前記第二電極とからなる発光部を覆う封止層を形成する工程と、を含み、該封止層がインクジェット法により形成されていることを特徴とする。
【０００８】
このような発光装置の製造方法によると、前記第一電極と前記機能層と前記第二電極と、からなる発光部を覆う封止層をインクジェット法により封止層形成材料を塗布して形成するものとしているため、例えばスピンコート法により塗布する方法に比して、封止層形成領域のみに正確に塗布することができるため、封止層形成材料に無駄が出ない。
【０００９】
本発明は、前記封止層が、樹脂材料からなる有機層と、金属酸化物または金属窒化物からなる無機層とを含むことが好ましい。
このような構成によれば、有機層が水分を防止し、無機層が酸素分子または水分子などのガス状の分子を、金属酸化物または金属窒化物と反応結合させることで除去出来るため、発光部の酸化による劣化を防止できる。なお有機層形成材料としては、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等のＵＶ硬化樹脂または熱硬化樹脂が挙げられる。これらのうちエポキシ樹脂は、耐湿性が高く可視光の透過率も高いため特に好ましい。この有機層は、例えば液状の熱硬化性エポキシ樹脂または光硬化性エポキシ樹脂をインクジェット法にて塗布した後に硬化することで容易に形成できる。また、無機層形成材料としては、酸化ケイ素（ＳｉО２またはＳｉО）、酸化マグネシウム（ＭｇО）、酸化カルシウム（ＣａО）、アルミニウムケイ酸塩（ＡｌОＳｉО４）、ピロリン酸カリウム（Ｋ４Ｐ２О７）などの金属酸化物、または、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化ホウ素（ＢＮ）などの金属窒化物が挙げられ、これら金属酸化物または金属窒化物を溶剤に混合して液状体にしてインクジェット法にて塗布することで前記無機層が形成できる。
【００１０】
本発明は、前記有機層と前記無機層とが交互に複数層積層され、かつ、最下層が前記有機層であることが好ましい。このような製造方法によれば、最初に有機層形成材料をインクジェット法にて塗布し、次に無機層形成材料と有機層形成材料とをインクジェット法にて交互に塗布し、複数層積層していくことは極めて容易に実施できる。また、有機層形成領域、無機層形成領域のみに正確に塗布出来るため、材料に無駄が出ない。さらに、有機層、無機層を複数層重ねて積層することで、複数のバリア層を設置することになり、水分や酸素による酸化を一層防止できる。また、交互に複数層重ねることで、個々の有機層と、無機層との厚さを薄くすることができるため、前記封止層に可撓性を持たせることが可能になる。この場合、基板をプラスチックフィルムにすると、可撓性を有する有機電界発光装置が可能になる。また、最下層を金属酸化物または金属窒化物からなる無機層にすると、この金属酸化物または金属窒化物に接触する第二電極が酸化されるおそれがある為、最下層は樹脂材料からなる有機層が好ましい。特に、最下層を有機層とすることで、第二電極に、仕事関数の低いアルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）などの薄膜を使用することが可能になり、基板側だけでなく封止層側にも発光を取り出す有機電界発光装置の構成が可能になる。
【００１１】
本発明は、前記封止層の、前記基板側とは反対側の表面に、非透水性の封止部材が固着されることが好ましい。このような製造方法によると、前記封止層の前記基板側とは反対側に形成された有機層または無機層の表面に、非透水性の封止部材を載せた状態で、有機層形成材料または無機層形成材料を硬化させて固着することにより、封止層の大気と接する表面積が封止部材の面積分減少するため、酸素および水分がさらに浸透し難くなり、発光強度の劣化をいっそう防止できる。また非透水性の封止部材の例としては、ガラス板、アクリル板、プラスチックフィルム、アルミニウム金属板、ステンレス板などがあり、光透過率の高いガラス板が特に好ましい。この理由は、発光層で電子とホールが結合して生じた光を、封止層側からも取り出すことが可能になる為である。この場合、封止部材は平板状が好ましく、さらに、この封止部材は、封止層の表面保護部材としての機能も有している。この結果、基板側から発光を取り出すボトムエミッション型だけでなく、封止層側から発光を取り出すトップエミッション型の発光装置の構成も可能であり、また基板側と封止層側との両方から発光を取り出す発光装置の構成も可能になる。
【００１２】
本発明は、前記封止層の、前記基板側とは反対側の表面を平滑に形成することが好ましい。このような製造方法によれば、該封止層と非透水性の封止部材とが密着するため、封止層と非透水性の封止部材との境界面に、水分や酸素が浸透し難くなり、その結果、発光部が酸化され難くなり発光強度の劣化をいっそう防止できる。また、インクジェット法によれば封止層表面を平滑になるように封止層形成材料を塗布することは、後述するように部分的に塗布量を増減することが出来るため、容易に実現できる。さらに、前記封止層の、前記基板側とは反対側の表面に封止部材を載せる前に、該封止層の表面を機械的に削って平滑化し、そのうえに耐湿性の樹脂材料からなる接着剤を塗布してから、封止部材を載せて固着してもよい。
【００１３】
本発明は、前記封止層が、前記基板上の封止層形成領域内の凸凹形状によって、その層厚に高低差が生じていることが好ましい。このような製造方法によれば、基板上の封止層形成領域内に形成された、第一電極と機能層と第二電極とからなる発光部の凸凹形状の段差を、インクジェット装置の塗布方法を変えて、例えば、吐出量を吐出位置によって変える、または吐出ピッチを吐出位置ごとに変える、等により吐出位置ごとに封止層厚を変えて吐出し、凹形状部は厚く吐出し、凸形状部は薄く吐出することで、表面を平滑にできる。その結果、封止層の上に載せるガラスなどの平板な封止部材と封止層とを密着させることができる。インクジェット法によれば、このように部分的に層厚を変えて、表面が平滑な封止層を形成することが容易に実現できる。なお、この封止層厚を部分的に変える場合は、樹脂材料からなる有機層の塗布工程にて行うのが好ましい。その理由は、無機層の厚さを変えた場合、無機層の金属酸化物または金属窒化物の種類によっては、厚くすることで可視光の透過率が低下するおそれがあるためである。
【００１４】
本発明は、前記基板の第一電極が形成された面の周縁部であって、前記封止層の形成領域の外側に、インクジェット法により閉環状の樹脂材料からなる封止部を形成し、該封止部の上面に非透水性の封止部材を載せた状態で、該封止部を硬化させることを特徴とする。
【００１５】
このような製造方法によれば、インクジェット法により基板の周縁部に閉環状の樹脂材料からなる封止部を正確に、かつ、容易に形成できる。さらに、非透水性の封止部材と耐湿性を備えた樹脂材料からなる封止部と基板とで発光部を密閉できるので、大気中の酸素や水分から発光部が遮蔽されて、酸化され難くなり、発光強度の劣化の生じ難い発光装置を提供出来る。また非透水性の封止部材の例としては、ガラス板、アクリル板、プラスチックフィルム、アルミニウム金属板、ステンレス板などがあり、光透過率の高いガラス板が特に好ましい。この理由は、発光層で電子とホールが結合して生じた光を、封止層側からも取り出すことが可能になる為である。さらに、封止部材の形状は、平板状だけでなく、基板側の面が開口されている箱形状でもよい。この場合、アルミニウム金属板を用いると、発光が基板側に取り出されるボトムエミッション型の発光装置となる。
また、封止部を形成する樹脂材料としては、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等のＵＶ硬化樹脂または熱硬化樹脂が挙げられ、エポキシ樹脂が耐湿性だけでなく接着機能も持つ為、特に好ましい。
【００１６】
本発明は、複数の前記発光装置を１つの基板母材上に同時に形成し、前記基板母材を、個々の発光装置ごとに切断することを特徴とする。
【００１７】
このような製造方法によれば、基板母材上に複数の発光装置を形成する際、個々の発光装置の封止層形成領域および／または封止部形成領域のみに、正確に封止層形成材料および樹脂材料を塗布できるため、たとえば基板母材全面に封止層形成材料および樹脂材料が塗布されてしまうスピンコート法に比較して、使用する封止層形成材料および樹脂材料に無駄がでない。さらに、スピンコート法の場合は、形成領域以外の領域に塗布された封止層形成材料および樹脂材料を取り除く工程が必要になるが、その工程も不要であり生産性が高い。次に、基板母材上に複数形成された発光装置を個々に切断することは、例えばガラス基板の場合、ガラス基板母材の表面に予めＶ溝状の断面を有するスクライブラインをつけておいて、このスクライブラインの溝に刃状の工具の先端を押し付けた状態で、工具に振動を加えて切断したり、またはスクライブラインの反対側の面にスキージと呼ばれる工具を、スクライブラインを狙って上方から落下させてその衝撃で切断したりする等の方法で実施される。また、基板母材はガラス基板に限らず、プラスチックフィルムでも良い。
【００１８】
次に、本発明の発光装置は上記製造方法により得られたことを特徴とする。このような発光装置によると、第二電極および機能層が大気中の酸素や水分により酸化され難くなるため、発光強度が経時変化で劣化し難い長寿命の、かつ、低コストの発光装置を提供出来る．
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しつつ説明する。
図１〜３を用いて本発明の発光装置の一例である有機電界発光装置の第一実施形態について説明する。図１は、この有機電界発光装置の構造を示す図であって、図３のＡ−Ａ線断面に対応させた断面図である。図２は、この有機電界発光装置の製造方法の各工程を示す断面図である。図３は、この有機電界発光装置の製造過程の一状態を示す平面図であって、図２（ａ）の状態を示す。
【００２０】
この実施形態の有機電界発光装置は、有機電界発光素子からなる発光部として、デジタル数字を構成する７個のエレメントを備えている。この有機電界発光装置は、必要に応じていずれかのエレメントを発光させることにより、デジタル数字等を表示する表示体である。また、図３の符号１２より内側の範囲がこの有機電界発光装置の表示領域に相当する。
【００２１】
図１および図３に示すように、この実施形態の有機電界発光装置は、透明なガラス基板１と、前記７個のエレメントに対応する透明な陽極（陽極層）２ａ〜２ｇと、各陽極２ａ〜２ｇ用の配線３ａ〜３ｇと、透明な陰極層４と、陰極用の端子４０と、正孔輸送層５と、有機発光層６と、有機層８ａと無機層８ｂとからなる封止層８と、ガラス板（保護用の封止部材）９とで構成されている。また、図３の符号８１より内側の範囲が封止層８の形成領域である。
【００２２】
即ち、この有機電界発光装置は透過型の有機電界発光装置であり、有機電界発光素子をなす発光部（陽極層２ａ〜２ｇと陰極層４との間に正孔輸送層５および有機電界発光層６からなる機能層を有する発光部）１１がガラス基板上に形成され、発光部１１の反基板側（基板とは反対側）の面に透明な封止層形成材料からなる封止層８がインクジェット法により形成され、封止層８の反基板側の面に封止部材（ガラス板）９が固着されている。図１に示すように封止層８は、有機層８ａと無機層８ｂとからなり、有機層８ａと無機層８ｂとが交互に複数層積層され、図１では最下層が有機層８ａである５層構造となっている。有機層８ａと無機層８ｂとからなる封止層８が陰極を含む発光部１１を覆うことによって、大気と接する部分から侵入する水分や酸素をブロックし、発光部１１に悪影響を与えないようにすることができる。なお、ここで用いた封止層８は、ガラス基板１と封止部材９とを接着する機能も有している。また、封止層８は、有機層８ａと無機層８ｂとを交互に複数層積層して構成されているが、少なくとも２層以上で構成されていればよい。
【００２３】
陰極用の端子４０は、図３に示すように、基板面内の周縁部の一箇所に、基板面の端部まで達するように、所定幅の帯状に形成されている。また、同図に示すように、各配線３ａ〜３ｇの一端は各陽極２ａ〜２ｇに接続され、全配線３ａ〜３ｇの他端は、基板面内の周縁部の陰極用端子４０と並ぶ位置にまとめて、一定間隔で平行に配置されている。この配線３ａ〜３ｇの基板面内の周縁部（他端部）を、各陽極２ａ〜２ｇ用の端子としている。
【００２４】
図３では、各陽極２ａ〜２ｇ用の端子をまとめて符号３０で表示している。また、図１および図２では配線３ａ〜３ｇの表示が省略されている。この有機電界発光装置は、各端子３０、４０が形成されている端部を残して、ガラス基板１の全面が封止層８およびガラス板９で覆われている。図２（ｅ）、（ｆ）では、有機層８ａと無機層８ｂとを省略して封止層８と図示している。この有機電界発光装置は、この露出させた陽極用の端子３０と陰極用の端子４０との間に駆動回路からの配線を接続して使用される。
【００２５】
ガラス基板１は厚さ０．７ｍｍのソーダガラスからなる。各陽極２ａ〜２ｇ、各配線３ａ〜３ｇ、および陰極用の端子４０は、厚さ１５０ｎｍのＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）薄膜からなる。透明な陰極層４は、マグネシウムと銀との合金薄膜からなる。この陰極層４は、図３の二点鎖線４１で囲われた範囲（表示領域１２を含む範囲）内に形成されている。
【００２６】
正孔輸送層５は、厚さ５０ｎｍのＮ、Ｎ’―ジフェニル―Ｎ、Ｎ’―ジナフチル―１、１’―ビフェニル―４、４’―ジアミン薄膜からなる。有機発光層６は、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム錯体からなる厚さ５０ｎｍの薄膜である。正孔輸送層５および有機発光層６は、全陽極２ａ〜２ｇを含む中央部分に形成されている。封止層８は、エポキシ樹脂（合成樹脂）からなる有機層８ａと酸化ケイ素などの金属酸化物からなる無機層８ｂとからなり、総厚３０μｍに形成されている。ガラス板（封止部材）９は厚さ０．１ｍｍのソーダガラスからなる。この有機電界発光装置は、例えば以下のようにして形成することができる。
【００２７】
先ず、透明なガラス基板１上に、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）薄膜をスパッタリング法により形成し、この薄膜に対してフォトリソグラフィとエッチングを行うことにより、基板面内に、陽極（陽極層）２ａ〜２ｇと、各陽極２ａ〜２ｇ用の配線３ａ〜３ｇと、陰極用の端子４０とを形成する。図２（ａ）および図３はこの状態を示す。
【００２８】
次に、このガラス基板１上の、全陽極２ａ〜２ｇを含む中央部分にのみ、真空蒸着法により正孔輸送層５を形成する。図２（ｂ）はこの状態を示す。次に、正孔輸送層５の上面全体にのみ、真空蒸着法により有機発光層６を形成する。図２（ｃ）はこの状態を示す。なお、有機発光層を高分子材料を用いて形成する場合には、インクジェット法を用いてもよい。
【００２９】
次に、このガラス基板１上に、有機発光層６の上面全体と陰極用の端子４０の一部を覆う範囲（図３の二点鎖線４１で囲われた範囲）で、陰極層４として、マグネシウムと銀との合金からなる薄膜を真空蒸着法により形成する。これにより、ガラス基板１上に透過型の有機発光層からなる発光部１１が形成される。図２（ｄ）はこの状態を示す。
【００３０】
次に、このガラス基板１上の、各端子３０、４０が形成されている端部を除いた範囲（図３の二点鎖線８１で囲われた範囲）に、有機層８ａとしてエポキシ樹脂系の樹脂材料と、無機層８ｂとして金属酸化物である酸化ケイ素と、をインクジェット装置により交互に塗布、積層して、表面が平滑な封止層８を形成する。図２（ｅ）はこの状態を示す。次に、その上にガラス板９を載せた状態でこの封止層８を硬化させ、ガラス板９を封止層８に固着する。図２（ｆ）はこの状態を示す。この図２（ｅ）、（ｆ）の工程は、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等の不活性ガス雰囲気下で行うのが好ましい。また、陰極４の形成後、有機層８ａを構成するエポキシ樹脂系の樹脂材料の塗布までの間に、この基板を空気に触れないようにする必要がある。
【００３１】
この封止層８の形成工程は、図１に示すように、例えば、５層からなる封止層８の場合、発光部１１の表面の凸凹状態に対応して、最下層の有機層８ａの厚さを場所によりインクジェットヘッドからの樹脂材料の吐出量を変えて、表面が平滑になるように形成する。次に無機層８ｂ、その次に有機層８ａ、と交互に所定の厚みになるように液滴を吐出して、複数層からなる封止層８を形成する。次に該封止層８の平滑に形成された表面に封止部材（ガラス板）９を載せた状態で、封止層８を硬化させて封止部材９を封止層８に固着する。これは、平板状の封止部材９と封止層８の表面とを密着させるためである。また、図には示していないが、封止層８の表面が凸凹状態の時は、封止部材９を載せる前に封止層８を硬化させ、硬化した封止層８の表面を平滑に削りその上に耐湿性を備えたエポキシ系の接着材を塗布し、封止部材９を載せた後、固着させても良い。
【００３２】
インクジェット装置による封止層８の製造方法は以下の通りである。
図４に示すように、インクジェットヘッドＨ１に形成された複数のノズルから、有機層８ａとなる耐湿性を備えたエポキシ系の樹脂材料組成物１１０Ｃを吐出する。ここではインクジェットヘッドを走査することにより、ガラス基板１および陰極層４の上の封止層形成領域に組成物１１０Ｃを吐出、充填しているが、ガラス基板１を走査することによっても可能である。更に、インクジェットヘッドＨ１とガラス基板１とを相対的に移動させることによっても組成物１１０Ｃを吐出、充填させることができる。なお、これ以降のインクジェットヘッドＨ１を用いて行う工程では上記の点は同様である。
【００３３】
インクジェットヘッドＨ１による吐出は以下の通りである。すなわち、インクジェットヘッドＨ１に形成された吐出ノズルＨ２を、ガラス基板１および陰極層４の上の封止層形成領域に対向して配置し、吐出ノズルＨ２から有機層８ａとなるエポキシ系の樹脂材料液滴１１０Ｃを吐出する。この封止層形成領域にインクジェットヘッドＨ１を対向させ、このインクジェットヘッドＨ１とガラス基板１とを相対移動させながら、吐出ノズルＨ２から１液当たりの液量が制御された、エポキシ系の樹脂材料液滴１１０Ｃを、ガラス基板及び陰極層上の封止層形成領域に吐出する。
ここで用いる樹脂材料液滴１１０Ｃとしては、例えば、熱硬化性エポキシ樹脂が好ましい。その理由は、透明性と接着材の機能と耐湿性とを兼ね備えているためである。
【００３４】
次に、インクジェットヘッドＨ１に形成された吐出ノズルＨ２を、ガラス基板１および陰極層４の上の封止層形成領域に対向して配置し、ノズルＨ２から無機層８ｂとなる金属酸化物、例えば酸化ケイ素を溶媒に混合した液状体からなる液滴を、前記有機層上に吐出して無機層８ｂを形成する。以後、有機層と無機層とを形成する液滴を交互に吐出、積層しながら複数層からなる封止層８を形成する。この結果、耐湿性のエポキシ樹脂等から形成された有機層８ａと、酸素分子または水分子などのガス状の分子を、金属酸化物または金属窒化物と反応結合させることで除去出来る、例えば酸化ケイ素からなる無機層８ｂと、が交互に複数層積層された封止層８が形成される。ここで、封止層８の最下層は有機層８ａが好ましい。その理由は、最下層を金属酸化物または金属窒化物からなる無機層にすると、この金属酸化物または金属窒化物に接触する第二電極が酸化されるおそれがある為、最下層は樹脂材料からなる有機層８ａが好ましい。特に、最下層を有機層８ａとすることで、第二電極に、仕事関数の低いアルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）などの薄膜を使用することが可能になり、基板側だけでなく封止層側にも発光を取り出す有機電界発光装置の構成が可能になる。
【００３５】
次に、図５、図６、図７を用いて本発明の有機電界発光装置の第二実施形態について説明する。図５は本発明の有機電界発光装置の第二実施形態を示す図である。図５は、この有機電界発光装置の構造を示す図であって、図７のＡ―Ａ線断面に対応させた断面図である。図６は、この有機電界発光装置の製造方法の各工程を示す断面図である。図７は、この有機電界発光装置の製造過程の一状態を示す平面図であって、図６（ａ）の状態を示す。図６（ｅ）、（ｆ）では、有機層８ａと無機層８ｂとを省略して封止層８と図示している。この第二実施形態では、樹脂材料からなる封止部１３を、ガラス基板１上の、各端子３０、４０が形成されている端部を除いた範囲に閉環状（図７の二点鎖線７１と７２とに囲われた範囲）に、エポキシ系の樹脂材料をインクジェット法により塗布して形成し、その上に封止部材（ガラス板）９を載せた状態でこのエポキシ樹脂を硬化させる。この工程は、不活性ガス雰囲気下で行う。
【００３６】
この第二実施形態では、ガラス基板１上の周縁部に閉環状の封止部１３を形成し、その内側に、本発明の封止層８が陰極層４を覆うように形成されている。図７の二点鎖線８１で囲われた範囲が封止層８の形成領域である。この封止部形成工程は、発光部１１が形成されたガラス基板１の周縁部に樹脂材料からなりインクジェット法により形成された封止部１３を配置して、ガラス基板１上に封止部１３を形成し、ガラス基板１と閉環状の封止部１３と封止部材（ガラス板）９とにより、発光部１１を密閉する工程である。また、封止部１３はインクジェット法により容易に、形成領域のみに閉環状に形成できる。第二実施形態の有機電界発光装置の製造方法の各工程は、図６（ｅ）および（ｆ）の工程が図２（ｅ）および（ｆ）の工程と異なるが、これ以外の工程は第一実施形態と同じである。すなわち、この第二実施形態では、封止層８の形成後に図６（ｅ）に示す封止部１３の形成工程をインクジェット法により行い、その後に図６（ｆ）に示す封止部材９を封止部１３の上に載せて封止部１３を硬化して、封止部材９を封止部１３に固着する。封止層８の形成方法は第一実施形態と同じ方法で行うことができる。また、封止層８と封止部１３との形成はインクジェット法で行うため、封止部１３を先に形成してもよい。この場合、この封止部形成工程は、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性ガス雰囲気で行うことが好ましい。大気中で行うと、陰極４にピンホール等の欠陥が生じていた場合にこの欠陥部分から水分や酸素等が陰極４に侵入して陰極４が酸化されるおそれがあるので好ましくない。さらに、図には示していないが、封止部１３を形成した後に封止層８を形成し、その後、封止層８の上にインクジェット法により樹脂材料を塗布、充填して、ガラス基板１と封止部１３と封止部材９とで囲われる空間を樹脂材料で埋め尽くしてもよい。
【００３７】
インクジェットヘッドの構造については、図８のようなヘッドＨを用いる事が出来る。更に、基板とインクジェットヘッドの配置に関しては図９のように配置することが好ましい。図８中、符号Ｈ７は前記のインクジェットヘッドＨ１を支持する支持基盤であり、この支持基板Ｈ７上に複数のインクジェットヘッドＨ１が備えられている。
【００３８】
インクジェットヘッドＨ１のインク吐出面（基板１０１との対向面）には、ヘッドの長さ方向に沿って列状に、かつヘッドの幅方向に間隔をあけて２列で吐出ノズルが複数（例えば、１列１８０ノズル、合計３６０ノズル）設けられている。また、このインクジェットヘッドＨ１は、吐出ノズルを基板１０１側に向けるとともに、Ｘ軸（又はＹ軸）に対して所定角度傾いた状態で平面視略矩形状の支持板に複数（図８では１列６個、合計１２個）位置決めされて支持されている。
【００３９】
また図９に示すインクジェット装置において、符号１１５は基板１０１を載置するステージであり、符号１１６はステージ１１５を図中Ｘ軸方向（主走査方向）に案内するガイドレールである。またヘッドＨは、支持部材１１１を介してガイドレール１１３により図中Ｙ軸方向（副走査方向）に移動できるようになっている。さらに、ヘッドＨは図中θ軸方向に回転できるようになっており、インクジェットヘッドＨ１を主走査方向に対して所定の角度に傾けることが出来るようになっている。
【００４０】
図９に示す基板１０１は、マザー基板に複数のチップを配置した構造となっている。即ち、１チップの領域が１つの表示装置に相当する。ここでは、複数の表示領域１０１ａが形成されているが、これに限られるものではない。例えば、基板１０１上の左側列の表示領域１０１ａに対して組成物を塗布する場合は、ガイドレール１１３を介してヘッドＨを図中左側に移動させるとともに、ガイドレール１１６を介して基板１０１を図中上側に移動させて、基板１０１を走査させながら塗布を行う。次に、ヘッドＨを図中右側に移動させて基板の中央列の表示領域１０１ａに対して組成物を塗布する。右側列にある表示領域１０１ａに対しても前記と同様である。
尚、図８に示すヘッドＨ及び図９に示すインクジェット装置は、封止層形成工程および封止部形成工程のみならず、発光層形成工程に用いても良い。
【００４１】
図９のインクジェット装置は、基板母材１０１上に複数のチップ１０１ａが形成されている。複数のチップ１０１ａは、第一実施形態および第二実施形態のガラス基板１に相当している。第一実施形態または第二実施形態のいずれか１つの実施形態にて製造されたチップ１０１ａに対応する個々の有機電界発光装置は、基板母材１０１をインクジェット装置から取り外し、前述したスクライブ溝を分割ラインとして切断する。切断されたチップ１０１ａは個々の本発明による有機電界発光装置となる。
【００４２】
図９の基板母材１０１上に複数の有機電界発光装置を形成する場合、封止層８および封止部１３の形成工程にインクジェット法を使うと、その形成領域のみに正確に塗布することが出来るため、使用材料に無駄が出ない。スピンコート法では基板母材１０１全面に塗布されてしまうため、非形成領域に塗布された樹脂材料または液滴を取り除く工程が必要になるが、インクジェット法では、その工程も不要となり生産性の高い製造方法となる。
【００４３】
また、本発明は、図１０に示すようなトップエミッション型の有機電界発光装置にも適用できる。この有機電界発光装置は、駆動方式がアクティブマトリックス方式である有機電界発光素子を画素として備えた表示装置であるため、各画素用のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）１５が基板１上に形成されている。各画素毎に、不透明な陽極層２をＴＦＴ１５と接続させて形成し、その上に正孔輸送層５、発光層６、透明な陰極層４を順次形成する。なお、この例では補助陰極４５も形成されている。そして、陰極層４の上部に、透明なエポキシ樹脂からなる有機層と酸化ケイ素などからなる無機層とを交互に複数層積層した封止層８が形成されている。なお、図１０では、有機層８ａと無機層８ｂとを省略して封止層８と図示している。
【００４４】
この有機電界発光装置は、基板１とは反対側（つまり、陰極層４側）に発光を得る。そのため、この有機電界発光装置では、基板１として、シリコンウエハ等の半導体基板や反射性を有する基板等を用いることができる。また、基板１上のＴＦＴ１５の上を発光画素領域とすることができる。その結果、この有機電界発光装置では、開口率を７０％程度まで高くすることができる。これに対して、基板側に発光が得られる従来構造のボトムエミッション型（基板が透明であり、基板側の電極層が透明であり、基板とは反対側の電極層が不透明である構造）の有機電界発光装置では、基板上のＴＦＴの上を発光画素領域とすることが出来ないため、開口率は３０％程度であった。したがって、トップエミッション型の有機電界発光装置とすることによって、従来構造の有機電界発光装置より輝度を高くする、あるいは消費電力を減らすことができる。
【００４５】
さらに、本発明の有機電界発光装置は、例えば、携帯電話、モバイル型のパーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ等の各種電子機器に適用することができる。図１１は、携帯電話の斜視図である。図１１において、携帯電話２００は、複数の操作ボタン２０２の他、受話口２０４、送話口２０６と共に、本発明の有機電界発光装置からなる表示パネル２０８を備えている。
【００４６】
なお、本発明の有機電界発光装置を表示部として適用できる電子機器としては、図１１の携帯電話の他にも、パーソナルコンピュータ、ディジタルスチルカメラ、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰОＳ端末、およびタッチパネルを備えた機器等を挙げることができる。
【００４７】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発明は係る実施例に限定されるものではなく、本発明の要旨を変えない範囲にて実施例を適宜変更して実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一実施形態の有機電界発光装置の構造を示す図であって、図３のＡ―Ａ線断面に対応させた断面図である。
【図２】図１の有機電界発光装置の製造方法の各工程を示す断面図である。
【図３】図１の有機電界発光装置の製造過程の一状態を示す平面図であって、図２（ａ）の状態を示す。
【図４】本発明の第一実施形態の有機電界発光装置の製造方法を説明する工程図である。
【図５】本発明の第二実施形態の有機電界発光装置の構造を示す図であって、図７のＡ―Ａ線断面に対応させた断面図である。
【図６】図５の有機電界発光装置の製造方法の各工程を示す断面図である。
【図７】図５の有機電界発光装置の製造過程の一状態を示す平面図であって、図６（ａ）の状態を示す。
【図８】本発明の有機電界発光装置の製造に用いるヘッドを示す平面図である。
【図９】本発明の有機電界発光装置の製造に用いるインクジェット装置を示す平面図である。
【図１０】トップエミッション型有機電界発光装置の構造を示す断面図である。
【図１１】本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
１…基板、８…封止層、８ａ…有機層、８ｂ…無機層、９…封止部材、１３…封止部、１０１…基板母材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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