(57)【要約】【課題】帯電ローラに代表される弾性ローラのゴムラテックス層を形成する際、ゴムラテックスをディップすることができ、しかも、外径振れを抑えることのできる弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置を提供する。【解決手段】弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置３０は、ゴムラテックス溶液６を収容するディップ槽３１と、表層だけを流動させて液面に発生したゴムラテックススキムをディップ槽３１の外に排出する液流形成手段とを具える。【選択図】図５
2005331596.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シャフトを含む円柱状基体の外周面に凝固剤の層を形成し、この基体をゴムラテックス溶液中にディップして、円柱状基体の外側にゴムラテックス層を配設した弾性ローラを製造するのに用いられるゴムラテックスディップ装置において、
ゴムラテックス溶液を収容するディップ槽と、表層だけを流動させて液面に発生したゴムラテックススキムをディップ槽の外に排出する液流形成手段とを具えてなる弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置。
【請求項２】
液流形成手段を、表層流上流側の壁面に設けられた流入堰と、表層流下流側の壁面に設けられ、流入堰に対して同等以下の高さを有する流出堰と、流入堰を介してディップ槽と連通し液面を流入堰より高い位置に保持する表層流生成タンクとを含んで構成してなる請求項１に記載の弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置。
【請求項３】
表層流生成タンクを、前記流出堰をも介してディップ槽と連通するよう構成し、表層流生成タンクに、排出された表層流からゴムラテックススキムを除去するフィルタと、流出堰に隣接する側の液面を低下させるとともに流入堰に隣接する側の液面を上昇させる水中ファンとを設けてなる請求項２に記載の弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置。
【請求項４】
排出された表層流からゴムラテックススキムを除去するフィルタと、ゴムラテックススキムが除去された残余の溶液を貯留する貯留タンクと、貯留タンクからこの溶液を前記表層流生成タンクに環流させる環流ポンプとを具えてなる請求項２に記載の弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複写機、プリンタ等における静電潜像プロセスに用いられる帯電ローラ等の弾性ローラのゴムラテックス層を、ディップ塗布により形成するのに用いられるゴムラテックスディップ装置に関し、特に、層厚さを均一に形成することのできるものに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、複写機、プリンタ等の電子写真装置では、まず、感光体の表面を一様に帯電させ、この感光体に光学系から映像を投射して、光が当った部分の帯電を消去することによって潜像を形成する静電潜像プロセスにより静電潜像を得、次いで、トナーの付着により静電潜像をトナー像として顕像化し、紙等の記録媒体へのトナー像の転写により、プリントする方法がとられている。
【０００３】
そして、感光体の表面を帯電するのに、感光体に弾性ローラを当接させ、これらを回転させながら弾性ローラに電圧を印加することにより、感光体表面を帯電させる接触帯電方式が広く実施されている。この接触帯電方式に使用される弾性ローラは帯電ローラと呼ばれ、例えば、ゴムやウレタンフォーム等の材料を、金型内に注入し、あるいは押出機から押し出してシャフトの周りに弾性層を形成し、この弾性層の半径方向外側に、ウレタン、アクリルウレタン、アクリルエステル、ナイロン等の樹脂やＮＢＲ等の合成ゴムに導電剤を添加して抵抗値を調整した溶液をディップ塗装して抵抗調整層を形成し、更にその外側にアクリル、ウレタン、ナイロン等の樹脂を有機溶剤や水に溶解した樹脂溶液を、同じくディップ塗装して表皮層を形成したものが知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
このような帯電ローラにおいて、弾性層についてもディップ塗装を施して形成することにより、全ての層の形成をディップ塗装によって行い、製造設備の投資コスト抑える試みが検討されており、その解決策として、出願人は、特願２００４−１３９８８にて、弾性層をゴムラテックス溶液中にディップして凝固させて形成する弾性ローラの製造方法を提案した。
【０００５】
一方、ディップ塗装により形成される抵抗調整層や、表皮層についても、これらの層厚さが厚い場合には、従来の方法では何度も重ね塗りする必要があり、そのための生産性の低下が問題となっており、その解決策として、出願人は、特願２００４−１４１７０にて、これらの層の少なくとも一つを、ゴムラテックスを凝固させて形成する弾性ローラの製造方法を提案した。
【０００６】
ゴムラテックスを凝固させて層を形成するこれらの提案について、その概要を以下に説明する。図１は、この提案の製造方法によって形成される弾性ローラを、感光体表面を帯電させるのに用いられる帯電ローラを例として示す断面図である。帯電ローラ１０は、シャフト１、シャフト１の周りに配設された弾性層２、ローラ周面を形成する表皮層４、および、弾性層２と表皮層４との間に設けられた抵抗調整層３よりなる。ここで、シャフト１は、プリンタ等の電子写真装置に軸支される部分であり、金属あるいはプラスチック製のものが用いられる。
【０００７】
弾性層２、抵抗調整層３、および表皮層４の一つ以上を、ゴムラテックスを凝固させて形成することができるが、弾性層２を、ゴムラテックス凝固法を用いて形成する場合を例として、その際の工程について説明する。図２は、帯電ローラ１０を製造する工程の流れを示す工程図であり、この製造工程は、シャフト１を準備して供給するシャフト供給工程２１、シャフト１の廻りにゴムラテックスをディップ凝固させて弾性層２を形成する弾性層形成工程２２、弾性層２の半径方向外側に塗料をディップして抵抗調整層３を形成する抵抗調整層形成工程２４、抵抗調整層３の半径方向外側に、同じく塗料をディップして表皮層４を形成する表皮層形成工程２６、および、表皮層４を強制乾燥させる表皮層乾燥工程２７を具え、最後の表皮層乾燥工程２７を終えた帯電ローラ１０は、次の工程、例えば、検査工程に移される。
【０００８】
図３は、弾性層２をゴムラテックス凝固法により形成する工程の詳細を示す工程図であり、まず、ラテックス下塗り工程２２ａで、水に乳濁したゴムラテックスの液を収容するラテックスディップ槽に、基体となるシャフト１を浸漬して、シャフト１の周面に、ラテックスを下塗りしたあと、凝固剤ディップ塗装工程２２ｂで、凝固剤の溶液を収容する凝固液ディップ槽に、下塗り済のシャフト１を浸漬してシャフト１の外側に凝固剤をディップ塗装する。ここで、下塗り用ラテックスは、凝固剤をシャフト１に接着させるための接着剤として機能する。
【０００９】
凝固剤を塗装したシャフト１を、風をあてて常温乾燥させたあと、ラテックスディップ塗装工程２２ｃで、ディップ槽に収容されたゴムラテックス溶液中に浸漬する。このとき、酸性の凝固剤とアルカリ製のゴムラテックスとは酸アルカリ反応を起こすが、この反応に伴って、ゴムラテックスはゲル化して凝固される。
【００１０】
ラテックスディップ塗装工程２２ｃのあと、酸アルカリ反応で発生した水を除去するため、低温乾燥工程２２ｄで、形成途中のローラの温度を、例えば４０℃程度に保って乾燥させ、続いて、酸アルカリ反応で発生した塩を除去するため、洗浄工程２２ｅで、薄い塩濃度の水でこれを洗浄して塩を除去する。塩を除去する工程が必要なのは、もしこれを除去しない場合には、塩が異物としてローラ内に残り、使用中にローラ表面に析出して感光体を汚染する原因となるからである。その後、帯電ローラを高温乾燥工程２４ｆに移送して、例えば７０〜８０度程度の高温下で乾燥を行い、水分を蒸発させるとともにラテックスを加硫して弾性層２の形成を完了する。
【００１１】
図４は、以上の工程のうち、ラテックスディップ塗装工程２２ｃにおいて、従来から知られているディップ装置を用いて、ゴムラテックス層を形成する方法を示す概念図である。ディップ装置８０は、ゴムラテックス溶液６を収容するオーバーフロー式ディップ槽８１と、ディップ槽８１の下部に設けられた流入口８１Ｂに溶液を補給する循環ポンプ８４と、ディップ槽８１の上面８１Ａからオーバーフローする溶液を一旦受けるオーバーフロー受液タンク８２と、オーバーフロー受液タンク８２からの溶液を貯留する溶液貯留タンク８３とを具えて構成され、循環ポンプ８４は、溶液貯留タンク８３から溶液を汲み上げて循環するよう構成される。
【００１２】
このように構成されたディップ装置８０は、ディップ槽８１の上面８１Ａからいつも溶液をオーバーフローさせるので液面を一定に保持することができ、あわせて、液面に発生するスキムを排出して浸漬済の基体を引き上げる際にこれが異物となって付着することを防止することができる。
【００１３】
そして、このディップ装置８０を用いて、ゴムラテックス層を形成するには、凝固剤の層７が既に形成されているシャフト１の一端部をローラ把持部材８で把持し、シャフト１を垂直な姿勢に保持して、ディップ槽８１に収容されたゴムラテックス溶液６の中に浸漬し、その後、溶液６中に所定時間放置することにより、溶液のゴムラテックスと凝固剤とを反応させゴムラテックス層を形成することができる。
【特許文献１】特開２００３−１３１４７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、このディップ装置８０を用いて、シャフト１上にゴムラテックス層の弾性層を形成したところ、溶液をオーバーフローさせるために生成されるディップ槽８１内の溶液流動によって、ゴムラテックス層の厚さが周方向に不均一になり、その外径の振れが所要の範囲を超えてしまうという問題があることがわかった。
【００１５】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、帯電ローラに代表される弾性ローラのゴムラテックス層を形成する際、ゴムラテックスをディップすることができ、しかも、外径振れを抑えることのできる弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
（１）本発明は、シャフトを含む円柱状基体の外周面に凝固剤の層を形成し、この基体をゴムラテックス溶液中にディップして、円柱状基体の外側にゴムラテックス層を配設した弾性ローラを製造するのに用いられるゴムラテックスディップ装置において、
ゴムラテックス溶液を収容するディップ槽と、表層だけを流動させて液面に発生したゴムラテックススキムをディップ槽の外に排出する液流形成手段とを具えてなる弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置である。
【００１７】
（２）本発明は、（１）において、液流形成手段を、表層流上流側の壁面に設けられた流入堰と、表層流下流側の壁面に設けられ、流入堰に対して同等以下の高さを有する流出堰と、流入堰を介してディップ槽と連通し液面を流入堰より高い位置に保持する表層流生成タンクとを含んで構成してなる弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置である。
【００１８】
（３）本発明は、（２）において、表層流生成タンクを、前記流出堰をも介してディップ槽と連通するよう構成し、表層流生成タンクに、排出された表層流からゴムラテックススキムを除去するフィルタと、流出堰に隣接する側の液面を低下させるとともに流入堰に隣接する側の液面を上昇させる水中ファンとを設けてなる弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置である。
【００１９】
（４）本発明は、（２）において、排出された表層流からゴムラテックススキムを除去するフィルタと、ゴムラテックススキムが除去された残余の溶液を貯留する貯留タンクと、貯留タンクからこの溶液を前記表層流生成タンクに環流させる環流ポンプとを具えてなる弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置である。
【発明の効果】
【００２０】
（１）の発明によれば、ゴムラテックス溶液を収容するディップ槽と、表層だけを流動させて液面に発生したゴムラテックススキムをディップ槽の外に排出する液流形成手段とを具えてなり、このことは、表層流以外の液流を生成する強制的流動生成手段を排除することも意味していて、第一に、溶液内部の流動を抑えることで、この流動に起因するゴムラテックス層の厚さのバラツキを抑えることができ、第二に、液流形成手段は、液面に発生したゴムラテックススキムをディップ槽の外に排出させる表層流を形成するので、浸漬した基体を溶液から引き上げる際にゴムラテックススキムが付着して異物となってしまうことを防止することができる。
【００２１】
（２）の発明によれば、液流形成手段を、表層流上流側の壁面に設けられた流入堰と、表層流下流側の壁面に設けられ、流入堰に対して同等以下の高さを有する流出堰と、流入堰を介してディップ槽と連通し液面を流入堰より高い位置に保持する表層流生成タンクとを含んで構成したので、流入側と流出側のヘッドの差だけで表層流を形成することができ、流動を表層だけにとどめて、溶液内部での液流動に影響を及ぼさないようすることができる。
【００２２】
（３）の発明によれば、表層流生成タンクを、前記流出堰をも介してディップ槽と連通するよう構成し、表層流生成タンクに、排出された表層流からゴムラテックススキムを除去するフィルタと、流出堰に隣接する側の液面を低下させるとともに流入堰に隣接する側の液面を上昇させる水中ファンとを設けたので、ゴムラテックススキムを除去しながら溶液を再利用することができ、しかも、簡易な構成で表層流を生成することができる。
【００２３】
（４）の発明によれば、排出された表層流からゴムラテックススキムを除去するフィルタと、ゴムラテックススキムが除去された残余の溶液を貯留する貯留タンクと、貯留タンクからこの溶液を前記表層流生成タンクに環流させる環流ポンプとを具えるので、これも、ゴムラテックススキムを除去しながら溶液を再利用することができ、しかも、残余の溶液を貯留する貯留タンクを表層流生成タンクと別個に設けたので、表層流生成タンクの液面を独立して制御することができ、このことにより、表層流の流速の細かな制御を可能にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施形態について図に基づいて説明する。第一の実施形態のゴムラテックスディップ装置は、図１に示した帯電ローラ１０の弾性層２を、ゴムラテックスを凝固させて形成する場合を例にしたラテックスディップ塗装工程２２ｃに用いられるものであり、図５（ａ）は、このゴムラテックスディップ装置を示す断面図であり、図５（ｂ）は図５（ａ）のｂ−ｂ断面に対応する断面図である。
【００２５】
ゴムラテックスディップ装置３０は、凝固剤の層７が表面に形成されたシャフト１にゴムラテックスをディップするものであり、ゴムラテックス溶液６を収容するディップ槽３１と、ゴムラテックス溶液６の表層流Ｆを形成して液面に発生したゴムラテックススキムをディップ槽の外に排出する液流形成手段とを具え、液流形成手段は、表層流上流側の壁面に設けられた流入堰３２と、表層流下流側の壁面に設けられ、流入堰３２と同等もしくはそれより低い高さに設定された流出堰３３と、流入堰３２を介してディップ槽と連通し液面Ｓ１を流入堰３２より高い位置に保持する表層流生成タンク３５とを含んで構成される。
【００２６】
ここで、流入堰３２や流出堰３３は、それぞれ、左右上下を囲って形成された開口部を通して表層流を流入、もしくは、流出させるものであってもよく、この場合、流出堰３３をなす開口部の下縁が、流入堰３２の開口部の下縁と同等以下の高さに設定されていなければならない。
【００２７】
表層流生成タンク３５は、ディップ槽３１をその内部に収容する構造を有し、流出堰３３を介してもディップ槽３１と連通するよう構成されており、図５に示すものは、流入堰３２に隣接する部分と、流出堰３３に隣接する部分とが、ディップ槽３１の下方部分を通して繋がっているが、これらの部分をディップ槽３１の側方部分で繋げてもよく、さらには、パイプ等で連通させることもできる。
【００２８】
表層流生成タンク３５内には、排出された表層流からゴムラテックススキムを除去するフィルタ３６と、流出堰３３に隣接する側の液面Ｓ２を低下させるとともに流入堰３２に隣接する側の液面Ｓ１を上昇させる水中ファン３７が設けられ、水中ファン３７は、表層流生成タンク３５内に図中ｆで示した流れを形成する機能をも有する。
【００２９】
このように構成されたディップ装置３０においては、水中ポンプ３７を駆動させることにより、流入堰３２に連通する側の液面Ｓ１を上昇させて流入堰３２より高いレベルに保持するとともに、流入堰３３に連通する側の液面Ｓ２を下降させる流入堰３３より低いレベルに保持することにより、流入堰３２は、流出堰３３に対して同等以上の高さに設定されているので、溶液を流入堰３２から、流出堰３３に向けて流動させることができ、これが表層流Ｆとなってゴムラテックススキムを排出することができる。また、この表層流Ｆは、流入堰３２側と、流出堰３３側とのヘッド差で流動するので溶液内部Ｖの流動に影響を与えることがないので、溶液内部Ｖは静置されたままであり、このことによってゴムラテックス層を均一に形成することができる。
【００３０】
表層流生成タンク３５において、流入堰３２側と、流出堰３３側のそれぞれの液面レベルを上述のように維持するためには、全体の液量を過不足のない状態に保つことも重要であり、そのため、溶液を補給する補給ライン３８と、溶液を排出する排出ライン３９とが、表層流生成タンク３５に接続される。
【００３１】
次に第二の実施形態について説明する。この実施形態のゴムラテックスディップ装置も、図１に示した帯電ローラ１０の弾性層２を、ゴムラテックスを凝固させて形成する場合を例にしたラテックスディップ塗装工程２２ｃに用いられるものであり、図６は、この実施形態のゴムラテックスディップ装置を示す断面図である。
【００３２】
ゴムラテックスディップ装置４０は、ゴムラテックス溶液６を収容するディップ槽４１と、ゴムラテックス溶液６の表層流Ｆを形成して液面に発生したゴムラテックススキムをディップ槽の外に排出する液流形成手段とを具え、液流形成手段は、表層流上流側の壁面に設けられた流入堰４２と、表層流下流側の壁面に設けられ流入堰４２と同等もしくはそれより低い高さに設定された流出堰４３と、流入堰４２を介してディップ槽と連通し液面Ｓ１を流入堰４２より高い位置に保持する表層流生成タンク４５とを含んで構成され、これらの構成については第一の実施形態と同様である。
【００３３】
このディップ装置４０は、さらに、排出された表層流からゴムラテックススキムを除去するフィルタ４６と、ゴムラテックススキムが除去された残余の溶液を貯留する貯留タンク４４と、貯留タンク４６からこの溶液を前記表層流生成タンク４５に環流させる環流ポンプ４７とを具える。
【００３４】
このように構成されたディップ装置４０においては、第一の実施形態のディップ装置３０と同様の原理で、表層流Ｆだけを生成することができるが、環流ポンプ４７の吐出量を制御することにより、流入堰４２に連通する側の液面Ｓ１をより高精度に制御することができ、このことにより、液面Ｓ１のレベルと相関のある表層流Ｆの流速を細かく設定することができ、その結果、ゴムラテックススキムを排出してなお、溶液内部Ｖの流動への影響を一層抑制することができる。
【００３５】
なお、補給タンク４６における溶液に過不足を調整するため、補給ライン４８と、排出ライン４９とが、貯留タンク４４に接続される。
【００３６】
このゴムラテックスディップ層に収容するゴムラテックス溶液の調合例を以下に例示する。
（調合例Ａ）
ゴムラテックス（ＪＳＲ０５６１：ＪＳＲ（株）製）：１００質量部、カーボンブラック（ＭＡ１００：三菱化学（株）製）：１０質量部、コロイド硫黄（コロイド硫黄：細井化学工業（株）製）：２質量部、および、増粘剤（ＳＮシックナーＡ−８１５：サンノプコ（株）製）：１質量部、を攪拌羽根により混合する。
【００３７】
（調合例Ｂ）
ゴムラテックス（ＪＳＲ０５６１：ＪＳＲ（株）製）：１００質量部、カーボンブラック（ＭＡ１００：三菱化学（株）製）：１０質量部、コロイド硫黄（コロイド硫黄：細井化学工業（株）製）：２質量部、および、起泡剤（ＦＲ２５：花王（株）製）：０．５質量部、を高速高速泡立て攪拌機により混合、フォーム密度０．４ｇ/ｃｍ３のフォーム塗料を調整する。
【００３８】
上記の（調合例Ａ）および（調合例Ｂ）のいずれについても、凝固剤ディップ塗装工程２４ｂにおける凝固液として、凝固剤（硝酸カルシウム４水和物：大塚化学（株）製）：５０質量部、およびメタノール：５０質量部、を攪拌羽根により混合して凝固液を調整したものを組み合わせて用いることができる。なお、以上の調合例において、導電剤としてカーボンブラックを用いたがこの代わりにイオン導電剤を用いても何ら支障はない。
【００３９】
以上、帯電ローラ１０の弾性層２を例にとってゴムラテックス層の形成に用いるゴムラテックスディップ装置について説明したが、帯電ローラ１０の弾性層２以外の層や、これ以外の弾性ローラのゴムラテックス層に形成にあたっても、同様のゴムラテックスディップ装置を用いることができ、同様の効果を得ることができる。
【実施例】
【００４０】
図５に示した、第一の実施形態のゴムラテックスディップ装置３０を実施例として、ゴムラテックスディップ装置３０に収容されたゴムラテックス溶液に凝固層が形成済にシャフトをディップして形成されたゴムラテックス層を形成し、ゴムラテックス層の外径を測定して、シャフトの長さ方向位置ごとにその外径振れを記録した。
【００４１】
また、図４に示した、従来から用いられているオーバーフロー式ディップ装置８０を比較例１として、このディップ装置８０を用いて同じ条件でゴムラテックス層を形成し、さらに、水中ファン３７を停止させ表層流を形成しない静置タンクの状態に保持された第一の実施形態のゴムラテックスディップ装置３０を比較例２として、この状態のディップ装置３０についても、同じ条件でゴムラテックス層を形成した。そして、比較例１および比較例２のそれぞれについても、ゴムラテックス層の外径を測定して、シャフトの長さ方向位置ごとにその外径振れを記録した。
【００４２】
表１は、ディップ条件ならびに装置の概要を示すものである。また、外径振れの測定結果を図７に示す。図７において、縦軸は、外径振れの大きさ、横軸は、シャフト長さ方向位置を表わし、シャフトの上端の位置を０ｍｍとした。
【００４３】
図７から明らかなように、比較例１のオーバーフロー式ディップ装置においては、大きな外径振れがあったものが、実施例のものでは、どの長さ方向位置においても、比較例２の静置タンク並に、外径振れを抑えることができることがわかる。
【００４４】
【表１】
2005331596.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【００４５】
この弾性ローラ用ゴムラテックスディップ装置は、帯電ローラの他、電子写真装置に用いられる、複数の層よりなる高精度のゴム製のローラの一層を、ゴムラテックスを凝固させて形成するのに用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明に係る実施形態のディップ装置を用いて形成される弾性ローラの代表例となる帯電ローラの断面図である。
【図２】帯電ローラを製造する工程の流れを示す工程図である。
【図３】ラテックス凝固法により弾性層を形成する際の部分工程図である。
【図４】従来から知られているオーバーフロー式ディップ装置を用いて、ゴムラテックス層を形成する方法を示す概念図である。
【図５】本発明に係る第一の実施形態のゴムラテックスディップ装置を示す断面図である。
【図６】第二の実施形態のゴムラテックスディップ装置を示す断面図である。
【図７】ゴムラテックス層の外径振れの測定結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【００４７】
１    シャフト
２    弾性層
３    抵抗調整層
４    表皮層
５    ゴムラテックス層
６    ゴムラテックス溶液
７    凝固剤の層
８    ローラ把持部材
９    ディップ層
１０    帯電ローラ
２１    シャフト供給工程
２２    弾性層形成工程
２２ａ    ラテックス下塗り工程
２２ｂ    凝固剤ディップ塗装工程
２２ｃ    ラテックスディップ塗装工程
２２ｄ    低温乾燥工程
２２ｅ    洗浄工程
２２ｆ    低温乾燥工程
２４    抵抗調整層形成工程
２６    表皮層形成工程
２７    表皮層乾燥工程
３０    ゴムラテックスディップ装置
３１    ディップ槽
３２    流入堰
３３    流出堰
３５    表層流生成タンク
３６    フィルタ
３７    水中ファン
３８    補給ライン
３９    排出ライン
４０    ゴムラテックスディップ装置
４１    ディップ槽
４２    流入堰
４３    流出堰
４４    貯留タンク
４５    表層流生成タンク
４６    フィルタ
４７    環流ポンプ
４８    補給ライン
４９    排出ライン
Ｆ    表層流
【図１】
2005331596.tif 000004
【図２】
2005331596.tif 000005
【図３】
2005331596.tif 000006
【図４】
2005331596.tif 000007
【図５】
2005331596.tif 000008
【図６】
2005331596.tif 000009
【図７】
2005331596.tif 000010