(57)【要約】【課題】本発明は、長期間駆動後にもホワイトバランスを維持するだけでなく製造時間が短縮されて、高解像度を有する有機電界発光素子を提供する。【解決手段】カラー調節層を有する有機電界発光素子を提供する。前記有機電界発光素子は基板１００を含む。前記基板１００上に第１電極５５０が位置する。前記第１電極５５０上に第２電極４００が位置する。前記第１電極５５０及び／または前記第２電極４００は透明電極である。前記第１電極５５０と前記第２電極４００間に少なくとも発光層を有する有機機能膜６００を介在する。前記透明電極の前記発光層に隣接した面と対向する面上に、レーザー熱転写法により形成されたカラー調節層が位置する。前記カラー調節層はカラーフィルター７１０Ｒ，７１０Ｇ，７１０Ｂ及び／または色変換層である。このように、発光層を基板全体にかけて単一色で形成してカラー調節層をレーザー熱転写法を用いて形成する。【選択図】図３
2005100939.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板、前記基板上に位置する第１電極、前記第１電極上に位置する第２電極、前記第１電極と前記第２電極間に介在して少なくとも発光層を有する有機機能膜を含む有機電界発光素子において、
前記第１電極及び／または前記第２電極は透明電極であって、
前記透明電極の前記発光層に隣接した面と対向する面上に位置して、レーザー熱転写法により形成されたカラー調節層を有することを特徴とする有機電界発光素子。
【請求項２】
前記カラー調節層はカラーフィルターであり、前記発光層は白色光を放出することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項３】
前記カラー調節層は色変換層であり、前記発光層は青色光を放出することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項４】
前記カラー調節層はカラーフィルターと色変換層の積層構造を持つことを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項５】
前記カラーフィルターと色変換層の積層構造を持つカラー調節層はレーザー熱転写法により同時に形成されることを特徴とする請求項４に記載の有機電界発光素子。
【請求項６】
前記発光層は、高分子物質及び／または低分子物質で構成されたことを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項７】
前記発光層は、両層以上の有機薄膜で構成されたことを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項８】
前記発光層は、蒸着またはスピンコーティング法を用いて形成された発光層であることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項９】
前記有機機能膜は、電荷注入層及び／または電荷輸送層をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項１０】
前記第１電極と電気的に連結した薄膜トランジスタをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項１１】
前記第２電極が透明電極である場合、前記第１電極は反射電極であって、
前記カラー調節層は、前記透明電極である第２電極上に位置することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項１２】
前記第１電極と電気的に連結した薄膜トランジスタをさらに有することを特徴とする請求項１１に記載の有機電界発光素子。
【請求項１３】
前記第２電極と前記カラー調節層間に介在した保護膜をさらに有することを特徴とする請求項１１に記載の有機電界発光素子。
【請求項１４】
前記保護膜は、無機膜、有機膜または有ー無機複合膜であることを特徴とする請求項１３に記載の有機電界発光素子。
【請求項１５】
前記カラー調節層上にオーバーコーティング層をさらに有することを特徴とする請求項１１に記載の有機電界発光素子。
【請求項１６】
前記第１電極が透明電極である場合、前記第２電極は反射電極であって、
前記カラー調節層は、前記基板と前記透明電極である第１電極間に位置することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項１７】
前記カラー調節層と前記第１電極間に介在したオーバーコーティング層をさらに有することを特徴とする請求項１６に記載の有機電界発光素子。
【請求項１８】
前記第１電極と電気的に連結した薄膜トランジスタをさらに有することを特徴とする請求項１６に記載の有機電界発光素子。
【請求項１９】
前記基板上に位置して、ソース領域、ドレイン領域及びチャネル領域を有する活性層と、前記活性層上に位置する第１絶縁膜と、前記第１絶縁膜上に前記チャネル領域と対応して位置するゲートと、前記ゲート上に位置する第２絶縁膜と、前記第２絶縁膜上に位置して前記ソース領域及びドレイン領域に各々接するソース電極及びドレイン電極と、及び前記ソース電極及びドレイン電極上に位置する前記ソース電極または前記ドレイン電極を露出させるビアホールを持つ第３絶縁膜をさらに有して、
前記第１電極は、前記第３絶縁膜上に位置して前記ビアホールを通じて前記ソース電極または前記ドレイン電極と連結して、前記カラー調節層は、前記基板と前記第１電極間に位置することを特徴とする請求項１６に記載の有機電界発光素子。
【請求項２０】
前記カラー調節層は、前記第３絶縁膜と前記第１電極間、前記第２絶縁膜と前記第３絶縁膜間、前記第１絶縁膜と前記第２絶縁膜間または前記基板と前記第１絶縁膜間に位置することを特徴とする請求項１９に記載の有機電界発光素子。
【請求項２１】
前記カラー調節層は前記第３絶縁膜と前記第１電極間に位置する場合、前記カラー調節層と前記第１電極間に介在したオーバーコーティング層をさらに有することを特徴とする請求項２０に記載の有機電界発光素子。
【請求項２２】
前記第１電極及び前記第２電極がすべて透明電極である場合、前記基板と前記第１電極間に位置する第１カラー調節層及び前記第２電極上に位置する第２カラー調節層を有することを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項２３】
前記第１カラー調節層と前記第１電極間に介在した第１オーバーコーティング層をさらに有することを特徴とする請求項２２に記載の有機電界発光素子。
【請求項２４】
前記第２電極と前記第２カラー調節層間に保護膜をさらに有することを特徴とする請求項２２に記載の有機電界発光素子。
【請求項２５】
前記保護膜は、無機膜、有機膜または有ー無機複合膜であることを特徴とする請求項２４に記載の有機電界発光素子。
【請求項２６】
前記第２カラー調節層上に第２オーバーコーティング層をさらに有することを特徴とする請求項２２に記載の有機電界発光素子。
【請求項２７】
前記第１電極と電気的に連結した薄膜トランジスタをさらに有することを特徴とする請求項２２に記載の有機電界発光素子。
【請求項２８】
前記基板上に位置して、ソース領域、ドレイン領域及びチャネル領域を有する活性層と、前記活性層上に位置する第１絶縁膜と、前記第１絶縁膜上に前記チャネル領域と対応して位置するゲートと、前記ゲート上に位置する第２絶縁膜と、前記第２絶縁膜上に位置して前記ソース領域及びドレイン領域に各々接するソース電極及びドレイン電極と、及び前記ソース電極及びドレイン電極上に位置する前記ソース電極または前記ドレイン電極を露出させるビアホールを持つ第３絶縁膜をさらに有して、
前記第１電極は、前記第３絶縁膜上に位置して前記ビアホールを通じて前記ソース電極または前記ドレイン電極と連結して、前記第１カラー調節層は、前記基板と前記第１電極間に位置することを特徴とする請求項２２に記載の有機電界発光素子。
【請求項２９】
前記第１カラー調節層は、前記第３絶縁膜と前記第１電極間、前記第２絶縁膜と前記第３絶縁膜間、前記第１絶縁膜と前記第２絶縁膜間または前記基板と前記第１絶縁膜間に位置することを特徴とする請求項２８に記載の有機電界発光素子。
【請求項３０】
前記第１カラー調節層は前記第３絶縁膜と前記第１電極間に位置する場合、前記第１カラー調節層と前記第１電極間に介在した第１オーバーコーティング層をさらに有することを特徴とする請求項２９に記載の有機電界発光素子。
【請求項３１】
前記第１電極はアノードであって、前記第２電極はカソードであることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【請求項３２】
前記第１電極はカソードであって、前記第２電極はアノードであることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機電界発光素子に係り、特にカラー調節層を有する有機電界発光素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に有機電界発光素子は、基板、前記基板上に位置したアノード（ａｎｏｄｅ）、前記アノード上に位置した発光層（ｅｍｉｓｓｉｏｎ  ｌａｙｅｒ；ＥＭＬ）、前記発光層上に位置したカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）で構成される。このような有機電界発光素子において、前記アノードとカソード間に電圧を印加すれば、正孔と電子が前記発光層内に注入されて、前記発光層内に注入された正孔と電子は前記発光層で結合して励起子（ｅｘｉｔｏｎ）を生成して、このような励起子が励起状態から基底状態に転移しながら光を放出するようになる。
【０００３】
このような有機電界発光素子のフールカラー化（フルカラー化）を具現するためにはＲ、Ｇ及びＢ各々に該当する発光層を形成する方法がある。しかし、この場合、前記Ｒ、Ｇ及びＢ各々に該当する発光層は相異なる寿命特性を有していて、長時間駆動する場合ホワイトバランスを維持するのが難しい短所がある。
【０００４】
これを解決するために前記単一色の光を放出する発光層を形成して、前記発光層から放出される光から所定色に該当する光を抽出するためのカラーフィルター層または前記発光層から放出される光を所定色の光に変換する色変換層を形成する方法がある。これに対する例示として、米国特許第６５１５４１８号では白色光を放出する発光層とフォトリソグラフィを用いて形成されたカラーフィルター層を適用したアクティブマトリックス有機電界発光素子を開示している。しかし、前記カラーフィルター層をフォトリソグラフィを用いて形成することは各色のカラーフィルター物質を基板全体にスピンコーテイングしてこれを露光及び現像してパターニングする工程を繰り返すことを必要とする。このような過程で既に形成されたカラーフィルター層はそのカラーフィルター層上にほかの色のカラーフィルター物質がスピンコーテイングなる時に汚染されることがある。また、前記フォトリソグラフィにより形成された層に含まれた揮発性溶媒などを除去するための加熱処理を進行しなければならない。このように、前記カラーフィルター層をフォトリソグラフィを用いて形成することは多くの工程段階を必要とすると同時に有機電界発光素子を製造するための時間が長くなる短所がある。
【０００５】
また、米国特許第６５２２０６６号では青色光を放出する発光層とフォトリソグラフィを用いて形成された色変換層を適用したアクティブマトリックス有機電界発光素子を開示している。しかし、前記色変換層をフォトリソグラフィを用いて形成するのは前記カラーフィルター層をフォトリソグラフィを用いて形成するのと類似の問題点を誘発することがある。
【０００６】
これを解決するために、大韓民国特許出願第２００１−００００９４３号では真空蒸着により形成したカラーフィルター層または色変換層を含む有機電界発光素子を開示している。
【特許文献１】米国特許第６５１５４１８号
【特許文献２】米国特許第６５２２０６６号
【特許文献３】大韓民国特許出願第２００１−００００９４３号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、このように真空蒸着により前記カラーフィルター層または前記色変換層を形成することはメタルマスクを用いてＲ、Ｇ及びＢに該当する層を各々独立に蒸着することによって遂行するようになるが、これは前記メタルマスクと基板の整列（ａｌｉｇｎ）が難しくて高解像度を具現するのが難しいだけでなく、Ｒ、Ｇ及びＢに該当する層をそれぞれの独立したチャンバー（ｃｈａｍｂｅｒ）で蒸着するので、設備投資規模が大きくなる短所がある。
【０００８】
本発明が解決しようとする技術的課題は、前記した従来技術の問題点を解決するためのものであって、長期間駆動後にもホワイトバランスを維持するだけでなく製造時間が短縮されて、高解像度を有する有機電界発光素子を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記技術的課題を達成するために本発明は、カラー調節層を有する有機電界発光素子を提供する。前記有機電界発光素子は基板を含む。前記基板上に第１電極が位置する。前記第１電極上に第２電極が位置する。前記第１電極及び／または前記第２電極は透明電極である。前記第１電極と前記第２電極間に少なくとも発光層を有する有機機能膜を介在する。前記透明電極の前記発光層に隣接した面と反対される面上に、レーザー熱転写法により形成されたカラー調節層が位置する。前記カラー調節層はカラーフィルター及び／または色変換層である。
【発明の効果】
【００１０】
上述したように本発明によれば、発光層を基板全体にかけて単一色で形成して前記発光層の上部または下部にカラー調節層をレーザー熱転写法を用いて形成することによって、長期間駆動後にもホワイトバランスを維持することができるだけでなく、製造工程時間が短縮されて高解像度を具現することができる。また、光学的特性の改善とカラー調節層のパターン品質の向上を期待することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明をさらに具体的に説明するために本発明による望ましい実施例を添付した図面を参照しながらさらに詳細に説明する。しかし、本発明はここで説明される実施例に限定されなくて他の形態で具体化される場合もある。
【００１２】
本発明の実施例における有機電界発光素子は、基板、前記基板上に位置する第１電極、前記第１電極上に位置する第２電極、前記第１電極と前記第２電極間に介在して少なくとも発光層を有する有機機能膜を含む。
【００１３】
前記第１電極及び／または前記第２電極は透明電極である。敷衍すれば、前記第１電極が透明電極である場合に前記第２電極は透明電極であったり反射電極であることができて、前記第１電極が反射電極である場合に前記第２電極は透明電極である。前記透明電極は前記発光層から放出された光を透過する電極であって前記透明電極の位置によって前記有機電界発光素子は前面発光型、背面発光型及び両面発光型に区分される。
【００１４】
前記透明電極はアノードまたはカソードであることができるが、前記透明電極がカソードである場合、例えばＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｂａまたはこれらの合金を用いて光を透過することができる程度の厚さに薄く形成して、前記透明電極がアノードである場合、例えばＩＴＯまたはＩＺＯで形成する。前記反射電極もアノードまたはカソードであることができるが、前記反射電極がアノードである場合に反射板（ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ  ｐｌａｔｅ）とＩＴＯまたはＩＺＯが順に積層された構造であったり、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、クロム（Ｃｒ）及びその酸化物で構成された群から選択された一つ以上で構成された単層構造でありうる。前記反射板はアルミニウム−ネオジム（Ｎｅｏｄｙｍｉｕｍ）（ＡｌＮｄ）で形成することが望ましい。前記反射電極がカソードである場合、例えばＭｇ、Ｃａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｂａまたはこれらの合金を用いて光を反射することができる程度の厚さに形成する。
【００１５】
前記透明電極は、前記発光層に隣接した面とそれに反対される面（対向する面）を持つ。前記反対される面（対向する面）上にレーザー熱転写法により形成されたカラー調節層が位置する。前記カラー調節層は前記発光層から放出された光のカラーを調節して所定のカラーにかえる。この場合、単一色光を放出する発光層を赤色、緑色及び青色画素領域に形成して前記発光層の上部または下部に後述するカラー調節層を赤色、緑色及び青色別に各々形成することによってフールカラー有機電界発光素子を具現する。したがって、相互に寿命特性を異にする赤色発光層、緑色発光層及び青色発光層を各々形成しなくて前記単一色光を放出する発光層を形成することができて、長期間駆動後にもホワイトバランスを維持することができる。前記カラー調節層はカラーフィルター及び／または色変換層である。別の言い方をすれば、前記カラー調節層はカラーフィルターまたは色変換層であることができる。または、前記カラー調節層はカラーフィルターと色変換層の積層構造を持つことができる。
【００１６】
前記カラーフィルターは、顔料と高分子バインダーを含むことができるが、前記顔料の種類によって赤色カラーフィルター、緑色カラーフィルター及び青色カラーフィルターに区分することができる。前記赤色カラーフィルター、前記緑色カラーフィルター及び前記青色カラーフィルターは各々前記発光層からの入射光を赤色領域の波長、緑色領域の波長及び青色領域の波長で透過させる特性を有する。
【００１７】
前記色変換層は、蛍光物質と高分子バインダーを含むことができる。前記蛍光物質は前記発光層から入射された光により励起されて基底状態に転移しながら前記入射光より長波長の光を放出するようになるが、前記蛍光物質の種類によって前記入射光を赤色に変換させる赤色色変換層、前記入射光を緑色に変換させる緑色色変換層及び前記入射光を青色に変換させる青色色変換層に区分される。
【００１８】
前記カラー調節層をレーザー熱転写法を用いて形成する。前記レーザー熱転写法を用いて前記カラー調節層を形成することを詳細に説明すると次の通りである。まず、前記カラー調節層を形成するためのドナーフィルムを準備するが、前記ドナーフィルムを準備することは基材フィルム上に光−熱変換層を形成して、前記光−熱変換層上にカラー調節層用転写層を形成することによって実施する。続いて、前記ドナーフィルムを基板上に前記カラー調節層用転写層が前記基板に向けるように位置させて、前記ドナーフィルムの基材フィルム上にレーザーを照射することによって、前記カラー調節層用転写層は前記基板上に転写されて前記基板上にカラー調節層を形成する。このような方法を繰り返して前記基板上に赤色、緑色及び青色カラー調節層を各々形成する。これで、露光と現像を繰り返して遂行するフォトリソグラフィ法を用いて前記カラー調節層を形成する場合に比べて製造工程時間が短縮され、真空蒸着を用いて前記カラー調節層を形成する場合に比べては高解像度を具現することができる。
【００１９】
前記単一色光を放出する発光層は、二層以上の有機薄膜でも形成することができるが、前記二層以上の有機薄膜は各々相異なる波長の光を発して前記単一色光を放出できる。また前記発光層は高分子物質及び／または低分子物質（高分子物質及び低分子物質、高分子物質または低分子物質）で形成することができ、スピンコーティングまたは真空蒸着を用いて基板全面にかけて形成することができる。
【００２０】
前記発光層は、白色光または青色光を放出するように形成することが望ましいが、前記カラーフィルター層を形成する場合には前記発光層は白色光を放出するように形成することが望ましくて、前記色変換層を形成する場合には前記発光層は青色光を放出するように形成することが望ましい。
【実施例１】
【００２１】
図１及び図２は、本発明の第１実施例によるカラー調節層を有する前面発光型パッシブマトリックス有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【００２２】
図１及び図２を参照すれば、赤色R、緑色G及び青色B画素領域を有する基板１００を提供する。前記基板１００全面にかけて反射膜（図示せず）を形成することができる。前記反射膜は前記基板１００に光が流出されることを防止するための膜である。前記反射膜上に前記画素領域R、G、B別に相互に離隔された第１電極５５０を形成する。本実施例において、前記第１電極５５０は光を反射させる反射電極で形成する。また、前記第１電極５５０はアノードまたはカソードで形成することができる。
【００２３】
前記第１電極５５０が形成された基板上に前記第１電極５５０の表面一部を露出させる開口部を有する画素定義膜５７０を形成する。前記画素定義膜５７０は例えば、アクリル系有機物で形成する。続いて、前記露出した第１電極５５０を含む基板全面に少なくとも発光層を有する有機機能膜６００を形成する。前記有機機能膜６００は電荷輸送層及び／または電荷注入層（電荷輸送層及び電荷注入層、電荷輸送層または電荷注入層）をさらに含んで形成することができる。
【００２４】
前記有機機能膜６００上に前記第１電極５５０を横切るように第２電極６５０を形成する。本実施例において、前記第２電極６５０は透明電極であって前記発光層から放出される光は前記第２電極６５０を経て放出される。前記第２電極６５０は前記第１電極５５０がアノードである場合カソードであって、前記第１電極５５０がカソードである場合アノードである。前記第２電極６５０上に保護膜６７０を形成することが望ましい。本実施例において、前記保護膜６７０は透明なことが望ましい。前記保護膜６７０は無機膜、有機膜または有ー無機複合膜で形成することができる。望ましくは前記無機膜はＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、Ｙ２Ｏ３及びＡｌ２Ｏ３で構成された群から選択される一つであって、前記有機膜はパリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）またはＨＤＰＥであり、前記有ー無機複合膜はＡｌ２Ｏ３と有機高分子の複合膜である。
【００２５】
続いて、前記保護膜６７０上にカラー調節層をレーザー熱転写法を用いて前記第１電極５５０に各々対応するように形成する。前記カラー調節層はカラーフィルター及び／または色変換層（カラーフィルター及び色変換層、カラーフィルターまたは色変換層）である。
【００２６】
図１のように前記カラー調節層は赤色カラーフィルター７１０R、緑色カラーフィルター７１０G及び青色カラーフィルター７１０Bである。この場合、前記発光層は白色光を放出する発光層で形成することが望ましい。
【００２７】
これとは異なり、図２のように前記カラー調節層は赤色色変換層７００R、緑色色変換層７００G及び青色色変換層７００Bである。この場合、前記発光層は青色光を放出する発光層で形成することが望ましくて、前記発光層が青色光を放出する発光層である場合、前記青色色変換層７００Bは形成しない場合がある。図２は色変換層とカラーフィルターが積層なったことを表しているが、色変換層が単独で使用されることができる。
【００２８】
そして、前記色変換層７００R、７００G、７００B上に各々赤色カラーフィルター７１０R、緑色カラーフィルター７１０G及び青色カラーフィルター７１０Bをさらに形成することによって、色変換層とカラーフィルターが順に積層された構造を持つカラー調節層を形成することができる。望ましくは、色変換層とカラーフィルターを持つ前記カラー調節層はレーザー熱転写法を用いて一度に形成する。これとは異なり、前記カラーフィルター７１０R、７１０G、７１０B上に各々前記赤色色変換層７００R、緑色色変換層７００G及び青色色変換層７００Bを形成することもできる。
【００２９】
続いて、前記カラーフィルター層（図１及び図２の７１０R、７１０G、７１０B）または前記色変換層（図２の７００R、７００G、７００B）上にオーバーコーティング層８００を形成することが望ましい。前記オーバーコーティング層８００は透明膜であって前記カラーフィルター層７１０R、７１０G、７１０Bまたは前記色変換層７００R、７００G、７００Bを物理的損傷などから保護する役割を有する。これで、カラー調節層を備える前面発光型パッシブマトリックス有機電界発光素子を完成する。
【実施例２】
【００３０】
図３及び図４は、本発明の第２実施例によるカラー調節層を適用した前面発光型アクティブマトリックス有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【００３１】
図３及び図４を参照すれば、赤色R、緑色G及び青色B画素領域を有する基板１００を提供する。前記基板１００全面にかけて反射膜（図示せず）を形成することができて、前記反射膜上に緩衝膜１５０を形成することができる。前記緩衝膜１５０は前記基板１００から流出される不純物から後続する工程で形成される薄膜トランジスタを保護する役割を有する。前記緩衝膜１５０上に前記画素領域R、G、B別にソース領域２１０、ドレイン領域２３０及びチャネル領域２２０を有する活性層２５０を形成する。前記活性層２５０上に第１絶縁膜３００を形成する。前記第１絶縁膜３００上にゲート３５０を形成するが、前記チャネル領域２２０に対応するように形成する。続いて、前記ゲート３５０を覆う第２絶縁膜４００を形成して、前記第２絶縁膜４００上に前記ソース領域２１０及び前記ドレイン領域２３０に各々電気的に接するソース電極４１０及びドレイン電極４３０を形成する。前記活性層２５０、前記ソース電極４１０、前記ドレイン電極４３０及び前記ゲート３５０は薄膜トランジスタを形成する。続いて、前記薄膜トランジスタを覆う第３絶縁膜５００を形成して、前記第３絶縁膜５００内に前記ドレイン電極４３０を露出させるビアホール５１０を形成する。
【００３２】
前記ビアホール５１０が形成された基板上に前記画素領域R、G、B別に相互に離隔された第１電極５５０を形成する。これで、前記第１電極５５０は前記ビアホール５１０を通じて前記ドレイン電極４３０すなわち、前記薄膜トランジスタに電気的に連結する。本実施例において、前記第１電極５５０は光を反射させる反射電極で形成する。前記反射電極である第１電極５５０はアノードまたはカソードで形成することができる。
【００３３】
前記第１電極５５０が形成された基板上に前記第１電極５５０の表面一部を露出させる開口部を有する画素定義膜５７０を形成する。前記画素定義膜５７０は例えば、アクリル系有機膜で形成する。続いて、前記露出した第１電極５５０を含む基板全面に少なくとも発光層を有する有機機能膜６００を形成する。前記有機機能膜６００は電荷輸送層及び／または電荷注入層をさらに含んで形成することができる。
【００３４】
前記有機機能膜６００上に第２電極６５０を形成する。本実施例において、前記第２電極６５０は透明電極であって前記発光層から放出される光は前記第２電極６５０を経て放出される。前記第２電極６５０は前記第１電極５５０がアノードである場合カソードであって、前記第１電極５５０がカソードである場合アノードである。前記第２電極６５０上に保護膜６７０を形成することが望ましい。前記保護膜６７０は無機膜、有機膜または有ー無機複合膜で形成することができる。望ましくは前記無機膜はＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、Ｙ２Ｏ３及びＡｌ２Ｏ３で構成された群から選択される一つであって、前記有機膜はパリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）またはＨＤＰＥであり、前記有ー無機複合膜はＡｌ２Ｏ３と有機高分子の複合膜である。
【００３５】
続いて、前記保護膜６７０上にカラー調節層をレーザー熱転写法を用いて前記第１電極５５０に各々対応するように形成する。前記カラー調節層はカラーフィルター及び／または色変換層である。
【００３６】
図３のように前記カラー調節層は赤色カラーフィルター７１０R、緑色カラーフィルター７１０G及び青色カラーフィルター７１０Bである。この場合、前記発光層は白色光を放出する発光層で形成することが望ましい。
【００３７】
これとは異なり、図４のように前記カラー調節層は赤色色変換層７００R、緑色色変換層７００G及び青色色変換層７００Bである。この場合、前記発光層は青色光を放出する発光層で形成することが望ましくて、前記発光層が青色光を放出する発光層である場合、前記青色色変換層７００Bは形成しない場合がある。図４は色変換層とカラーフィルターが積層になったことを表しているが、色変換層が単独で使用されることができる。
【００３８】
そして、前記色変換層７００R、７００G、７００B上に各々赤色カラーフィルター７１０R、緑色カラーフィルター７１０G及び青色カラーフィルター７１０Bをさらに形成することによって、色変換層とカラーフィルターが順に積層された構造を持つカラー調節層を形成することができる。望ましくは、色変換層とカラーフィルターを持つ前記カラー調節層はレーザー熱転写法を用いて一度に形成する。これとは異なり、前記カラーフィルター７１０R、７１０G、７１０B上に各々前記赤色色変換層７００R、緑色色変換層７００G及び青色色変換層７００Bを形成することもできる。
【００３９】
続いて、前記カラーフィルター層（図３及び図４の７１０R、７１０G、７１０B）または前記色変換層（図４の７００R、７００G、７００B）上にオーバーコーティング層８００を形成することが望ましい。前記オーバーコーティング層８００は透明膜であって前記カラーフィルター層７１０R、７１０G、７１０Bまたは前記色変換層７００R、７００G、７００Bを物理的損傷などから保護する役割を有する。これで、カラー調節層を備える前面発光型アクティブマトリックス有機電界発光素子を完成する。
【実施例３】
【００４０】
図５及び図６は、本発明の第３実施例によるカラー調節層を有する背面発光型パッシブマトリックス有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【００４１】
図５及び図６を参照すれば、赤色R、緑色G及び青色B画素領域を有する基板１００を提供する。本実施例において、前記基板１００は光を透過させることができる透明基板で提供する。
【００４２】
続いて、前記基板１００上に前記画素領域R、G、B別に相互に離隔されたカラー調節層をレーザー熱転写法を用いて形成する。前記カラー調節層はカラーフィルター及び／または色変換層である。
【００４３】
図５のように前記カラー調節層は赤色カラーフィルター５３０R、緑色カラーフィルター５３０G及び青色カラーフィルター５３０Bである。この場合、後続する工程で形成する発光層は白色光を放出するように形成することが望ましい。これとは異なり、図６のように前記カラー調節層は赤色色変換層５４０R、緑色色変換層５４０G及び青色色変換層５４０Bである。この場合、後続する工程で形成される発光層は青色光を放出する発光層で形成することが望ましくて、前記発光層が青色光を放出する発光層である場合、前記青色色変換層５４０Bは形成しない場合がある。図６はカラーフィルターと色変換層が積層になったことを表しているが、色変換層が単独で使用されることができる。
【００４４】
そして、前記色変換層５４０R、５４０G、５４０Bを形成する前に前記基板１００上に赤色カラーフィルター５３０R、緑色カラーフィルター５３０G及び青色カラーフィルター５３０Bをさらに形成することによって、カラーフィルターと色変換層が順に積層された構造を持つカラー調節層を形成することができる。望ましくは、色変換層とカラーフィルターを持つ前記カラー調節層はレーザー熱転写法を用いて一度に形成する。これとは異なり、前記色変換層５４０R、５４０G、５４０B上に各々赤色カラーフィルター５３０R、緑色カラーフィルター５３０G及び青色カラーフィルター５３０Bを形成することもできる。
【００４５】
続いて、前記カラーフィルター（図５の５３０R、５３０G、５３０B）または前記色変換層（図６の５４０R、５４０G、５４０B）が形成された基板上にオーバーコーティング層５４５を形成することが望ましい。前記オーバーコーティング層５４５は透明膜であって前記カラーフィルター層５３０R、５３０G、５３０Bまたは前記色変換層５４０R、５４０G、５４０Bを物理的損傷などから保護するだけでなく、前記カラーフィルター層５３０R、５３０G、５３０Bまたは前記色変換層５４０R、５４０G、５４０Bを形成することによって発生する段差を被覆する役割を有する。
【００４６】
続いて、前記オーバーコーティング層５４５上に第１電極５６０を前記カラーフィルター層５３０R、５３０G、５３０Bに各々対応するように形成する。本実施例において、前記第１電極５６０は透明電極であって後続する工程で形成される発光層から放出される光は前記第１電極５６０を経て放出される。前記第１電極５６０はアノードまたはカソードで形成することができる。前記第１電極５６０が形成された基板１００上に前記第１電極５６０の表面一部を露出させる開口部を有する画素定義膜５７０を形成する。前記画素定義膜５７０は例えば、アクリル系有機膜で形成する。続いて、前記露出した第１電極５６０を含む基板全面に少なくとも発光層を有する有機機能膜６００を形成する。前記有機機能膜６００は電荷輸送層及び／または電荷注入層をさらに含んで形成することができる。
【００４７】
前記有機機能膜６００上に前記第１電極５６０を横切るように第２電極６６０を形成する。本実施例において、前記第２電極６６０は光を反射させる反射電極で形成する。前記第２電極６６０は前記第１電極５６０がアノードである場合カソードで形成して、前記第１電極５６０がカソードである場合アノードで形成する。これで、カラー調節層を含む背面発光型パッシブマトリックス有機電界発光素子を完成する。
【実施例４】
【００４８】
図７及び図８は、本発明の第４実施例によるカラー調節層を適用した背面発光型アクティブマトリックス有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【００４９】
図７及び図８を参照すれば、赤色R、緑色G及び青色B画素領域を有する基板１００を提供する。本実施例において、前記基板１００は光を透過させることができる透明基板で提供する。前記基板１００上に活性層２５０、ソース電極４１０、ドレイン電極４３０及びゲート３５０を有する薄膜トランジスタを前記画素領域R、G、B上に各々形成して、前記薄膜トランジスタを覆う第３絶縁膜５００を形成する。前記薄膜トランジスタを形成することは第２実施例で説明したのと同じ工程である。前記基板１００の各画素領域R、G、Bにおいて、前記薄膜トランジスタが形成された領域は後続する工程で形成される発光層から放出される光が遮断される光遮断領域であって、前記光遮断領域を除外した領域は後続する工程で形成される発光層から放出される光が透過する光透過領域である。
【００５０】
続いて、前記光透過領域の第３絶縁膜５００上に前記画素領域R、G、B別に相互に離隔されたカラー調節層をレーザー熱転写法を用いて形成する。これとは異なり、図面では図示しなかったが前記カラー調節層を前記光透過領域の第２絶縁膜４００と第３絶縁膜５００間に形成したり、または前記光透過領域の第１絶縁膜３００と前記第２絶縁膜４００間に形成したり、または前記光透過領域の緩衝膜１５０と前記第１絶縁膜３００間に形成したり、または前記光透過領域の基板１００と前記緩衝膜１５０間に形成することができる。前記カラー調節層はカラーフィルター及び／または色変換層である。
【００５１】
図７のように前記カラー調節層は赤色カラーフィルター５３０R、緑色カラーフィルター５３０G及び青色カラーフィルター５３０Bである。この場合、後続する工程で形成する発光層は白色光を放出するように形成することが望ましい。これとは異なり、図８のように前記カラー調節層は赤色色変換層５４０R、緑色色変換層５４０G及び青色色変換層５４０Bであることができる。この場合、後続する工程で形成される発光層は青色光を放出する発光層で形成することが望ましくて、前記発光層が青色光を放出する発光層である場合、前記青色色変換層５４０Bは形成しない場合がある。図８はカラーフィルターと色変換層が積層になったことを表しているが、色変換層が単独で使用されることができる。
【００５２】
そして、前記色変換層５４０R、５４０G、５４０Bを形成する前に前記基板１００上に赤色カラーフィルター５３０R、緑色カラーフィルター５３０G及び青色カラーフィルター５３０Bをさらに形成することによって、カラーフィルターと色変換層が順に積層された構造を持つカラー調節層を形成することができる。望ましくは、色変換層とカラーフィルターを持つ前記カラー調節層はレーザー熱転写法を用いて一度に形成する。これとは異なり、前記色変換層５４０R、５４０G、５４０B上に各々赤色カラーフィルター５３０R、緑色カラーフィルター５３０G及び青色カラーフィルター５３０Bを形成することもできる。
【００５３】
続いて、前記カラーフィルター層（図７の５３０R、５３０G、５３０B）または前記色変換層（図８の５４０R、５４０G、５４０B）が前記第３絶縁膜５００上に形成された場合、前記カラーフィルター層５３０R、５３０G、５３０Bまたは前記色変換層５４０R、５４０G、５４０B上にオーバーコーティング層５４５を形成することが望ましい。
【００５４】
続いて、前記第３絶縁膜５００内に前記ドレイン電極４３０を露出させるビアホール５１０を形成する。前記ビアホール５１０が形成された基板上に第１電極５６０を形成するが、前記カラーフィルター層５３０R、５３０G、５３０Bに各々対応するように形成する。これで、前記第１電極５６０は前記ビアホール５１０を通じて前記ドレイン電極４３０に電気的に連結する。本実施例において、前記第１電極５６０は透明電極であって後続する工程で形成される発光層から放出される光は前記第１電極５６０を経て放出される。前記透明電極である第１電極５６０はアノードまたはカソードでありうる。
【００５５】
前記第１電極５６０が形成された基板上に前記第１電極５６０の表面一部を露出させる開口部を有する画素定義膜５７０を形成する。続いて、前記露出した第１電極５６０を含む基板全面に少なくとも発光層を有する有機機能膜６００を形成する。前記有機機能膜６００は電荷輸送層及び／または電荷注入層をさらに含んで形成することができる。
【００５６】
前記有機機能膜６００上に第２電極６６０を形成する。本実施例において、前記第２電極６６０は光を反射させる反射電極で形成する。前記第２電極６６０は前記第１電極５６０がアノードである場合カソードで形成して、前記第１電極５６０がカソードである場合アノードで形成する。これで、カラー調節層を適用した背面発光型アクティブマトリックス有機電界発光素子を完成する。
【実施例５】
【００５７】
図９及び図１０は、本発明の第５実施例によるカラー調節層を有する両面発光型パッシブマトリックス有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【００５８】
図９及び図１０を参照すれば、赤色R、緑色G及び青色B画素領域を有する基板１００を提供する。本実施例において、前記基板１００は光を透過させることができる透明基板で提供する。
【００５９】
続いて、前記基板１００上に前記画素領域R、G、B別に相互に離隔された第１カラー調節層をレーザー熱転写法を用いて形成する。前記第１カラー調節層は第１カラーフィルター及び／または第１色変換層（第１カラーフィルター及び第１色変換層、第１カラーフィルターまたは第１色変換層）である。
【００６０】
図９のように前記第１カラー調節層は第１赤色カラーフィルター５３０R、第１緑色カラーフィルター５３０G及び第１青色カラーフィルター５３０Bである。この場合、後続する工程で形成する発光層は白色光を放出するように形成することが望ましい。
【００６１】
これとは異なり、図１０のように前記第１カラー調節層は第１赤色色変換層５４０R、第１緑色色変換層５４０G及び第１青色色変換層５４０Bである。この場合、後続する工程で形成される発光層は青色光を放出する発光層で形成することが望ましくて、前記発光層が青色光を放出する発光層である場合、前記第１青色色変換層５４０Bは形成しない場合がある。図１０は第１カラーフィルターと第１色変換層が積層になったことを表しているが、第１色変換層が単独で使用されることができる。
【００６２】
そして、前記第１色変換層５４０R、５４０G、５４０Bを形成する前に前記基板１００上に第１赤色カラーフィルター５３０R、緑色カラーフィルター５３０G及び青色カラーフィルター５３０Bをさらに形成することによって、第１カラーフィルターと第１色変換層が順に積層された構造を持つ第１カラー調節層を形成することができる。望ましくは、第１色変換層と第１カラーフィルターを持つ前記第１カラー調節層はレーザー熱転写法を用いて一度に形成する。これとは異なり、前記第１色変換層５４０R、５４０G、５４０B上に各々第１赤色カラーフィルター５３０R、第１緑色カラーフィルター５３０G及び第１青色カラーフィルター５３０Bを形成することもできる。
【００６３】
続いて、前記第１カラーフィルター層（図９の５３０R、５３０G、５３０B）または前記第１色変換層（図１０の５４０R、５４０G、５４０B）が形成された基板上に第１オーバーコーティング層５４５を形成することが望ましい。前記第１オーバーコーティング層５４５は透明膜であって前記第１カラーフィルター層５３０R、５３０G、５３０Bまたは前記第１色変換層５４０R、５４０G、５４０Bを物理的損傷などから保護するだけでなく、前記第１カラーフィルター層５３０R、５３０G、５３０Bまたは前記第１色変換層５４０R、５４０G、５４０Bを形成することによって発生する段差を被覆する役割を有する。
【００６４】
続いて、前記第１オーバーコーティング層５４５上に第１電極５６０を前記第１カラーフィルター層５３０R、５３０G、５３０Bに各々対応するように形成する。本実施例において、前記第１電極５６０は透明電極であって後続する工程で形成される発光層から放出される光は前記第１電極５６０を経て放出される。前記第１電極５６０はアノードまたはカソードで形成することができる。前記第１電極５６０が形成された基板１００上に前記第１電極５６０の表面一部を露出させる開口部を有する画素定義膜５７０を形成する。前記画素定義膜５７０は例えば、アクリル系有機膜で形成する。続いて、前記露出した第１電極５６０を含む基板全面に少なくとも発光層を有する有機機能膜６００を形成する。前記有機機能膜６００は電荷輸送層及び／または電荷注入層をさらに含んで形成することができる。
【００６５】
前記有機機能膜６００上に前記第１電極５６０を横切るように第２電極６５０を形成する。本実施例において、前記第２電極６５０も透明電極であって前記発光層から放出される光は前記第１電極５６０及び前記第２電極６５０を経て放出される。前記第２電極６５０は前記第１電極５６０がアノードである場合カソードであって、前記第１電極５６０がカソードである場合アノードである。前記第２電極６５０上に保護膜６７０を形成することが望ましい。前記保護膜６７０は無機膜、有機膜または有ー無機複合膜で形成することができる。望ましくは前記無機膜はＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、Ｙ２Ｏ３及びＡｌ２Ｏ３で構成された群から選択される一つであって、前記有機膜はパリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）またはＨＤＰＥであり、前記有ー無機複合膜はＡｌ２Ｏ３と有機高分子の複合膜である。
【００６６】
続いて、前記保護膜６７０上に第２カラー調節層をレーザー熱転写法を用いて前記第１電極５５０に対応するように形成する。前記第２カラー調節層は第２カラーフィルター及び／または第２色変換層（第２カラーフィルター及び第２色変換層、第２カラーフィルターまたは第２色変換層）である。
【００６７】
図９のように前記第２カラー調節層は第２赤色カラーフィルター７１０R、第２緑色カラーフィルター７１０G及び第２青色カラーフィルター７１０Bである。この場合、前記発光層は白色光を放出する発光層で形成することが望ましい。
【００６８】
これとは異なり、図１０のように前記第２カラー調節層は第２赤色色変換層７００R、第２緑色色変換層７００G及び第２青色色変換層７００Bである。この場合、前記発光層は青色光を放出する発光層で形成することが望ましくて、前記発光層が青色光を放出する発光層である場合、前記第２青色色変換層７００Bは形成しない場合がある。図１０は第２色変換層と第２カラーフィルターが積層になったことを表しているが、第２色変換層が単独で使用されることができる。
【００６９】
そして、前記第２色変換層７００R、７００G、７００B上に各々第２赤色カラーフィルター７１０R、第２緑色カラーフィルター７１０G及び第２青色カラーフィルター７１０Bをさらに形成することによって、第２色変換層と第２カラーフィルターが順に積層にされた構造を持つ第２カラー調節層を形成することができる。望ましくは、第２色変換層と第２カラーフィルターを持つ前記第２カラー調節層はレーザー熱転写法を用いて一度に形成する。これとは異なり、前記第２カラーフィルター７１０R、７１０G、７１０B上に各々前記第２赤色色変換層７００R、第２緑色色変換層７００G及び第２青色色変換層７００Bを形成することもできる。
【００７０】
続いて、前記第２カラーフィルター７１０R、７１０G、７１０B上に第２オーバーコーティング層８００を形成することが望ましい。前記第２オーバーコーティング層８００は透明膜であって前記第２カラーフィルター（図９の７１０R、７１０G、７１０B）または前記第２色変換層（図１０の７００R、７００G、７００B）を物理的損傷などから保護する役割を有する。これで、発光層の上下部にカラー調節層を備える両面発光型パッシブマトリックス有機電界発光素子を完成する。
【実施例６】
【００７１】
図１１及び図１２は、本発明の第６実施例によるカラー調節層を有する両面発光型アクティブマトリックス有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【００７２】
図１１及び図１２を参照すれば、赤色R、緑色G及び青色B画素領域を有する基板１００を提供する。本実施例において、前記基板１００は光を透過させることができる透明基板で提供する。前記基板１００上に活性層２５０、ソース電極４１０、ドレイン電極４３０及びゲート３５０を有する薄膜トランジスタを前記画素領域R、G、B上に形成して、前記薄膜トランジスタを覆う第３絶縁膜５００を形成する。前記薄膜トランジスタを形成することは第２実施例において説明したのと同じ工程である。前記基板１００の各画素領域R、G、Bにおいて、前記薄膜トランジスタが形成された領域は後続する工程で形成される発光層から放出される光が遮断される光遮断領域であって、前記光遮断領域を除外した領域は後続する工程で形成される発光層から放出される光が透過する光透過領域である。
【００７３】
続いて、前記光透過領域の第３絶縁膜５００上に前記画素領域R、G、B別に相互に離隔された第１カラー調節層をレーザー熱転写法を用いて形成する。これとは異なり、図面では図示しなかったが前記第１カラー調節層を前記光透過領域の第２絶縁膜４００と第３絶縁膜５００間に形成したり、または前記光透過領域の第１絶縁膜３００と前記第２絶縁膜４００間に形成したり、または前記光透過領域の緩衝膜１５０と前記第１絶縁膜３００間に形成したり、または前記光透過領域の基板１００と前記緩衝膜１５０間に形成することができる。前記第１カラー調節層は第１カラーフィルター及び／または第１色変換層である。
【００７４】
図１１のように前記第１カラー調節層は第１赤色カラーフィルター５３０R、第１緑色カラーフィルター５３０G及び第１青色カラーフィルター５３０Bである。この場合、後続する工程で形成する発光層は白色光を放出するように形成することが望ましい。
【００７５】
これとは異なり、図１２のように前記第１カラー調節層は第１赤色色変換層５４０R、第１緑色色変換層５４０G及び第１青色色変換層５４０Bである。この場合、後続する工程で形成される発光層は青色光を放出する発光層で形成することが望ましくて、前記発光層が青色光を放出する発光層である場合、前記第１青色色変換層５４０Bは形成しない場合がある。図１２は第１カラーフィルターと第１色変換層が積層になったことを表しているが、第１色変換層が単独で使用されることができる。
【００７６】
そして、前記第１色変換層５４０R、５４０G、５４０Bを形成する前に前記基板１００上に第１赤色カラーフィルター５３０R、第１緑色カラーフィルター５３０G及び第１青色カラーフィルター５３０Bをさらに形成することによって、第１カラーフィルターと第１色変換層が順に積層された構造を持つ第１カラー調節層を形成することができる。 望ましくは、第１色変換層と第１カラーフィルターを持つ前記第１カラー調節層はレーザー熱転写法を用いて一度に形成する。これとは異なり、前記第１色変換層５４０R、５４０G、５４０B上に各々第１赤色カラーフィルター５３０R、第１緑色カラーフィルター５３０G及び第１青色カラーフィルター５３０Bを形成することもできる。
【００７７】
前記第１カラーフィルター（図１１の５３０R、５３０G、５３０B）または前記第１色変換層（図１２の５４０R、５４０G、５４０B）が前記第３絶縁膜５００上に形成された場合、前記第１カラーフィルター５３０R、５３０G、５３０Bまたは前記第１色変換層５４０R、５４０G、５４０B上に第１オーバーコーティング層５４５を形成することが望ましい。
【００７８】
続いて、前記第３絶縁膜５００内に前記ドレイン電極４３０を各々露出させるビアホール５１０を形成する。前記ビアホール５１０が形成された基板上に第１電極５６０を形成するが、前記第１カラーフィルター５３０R、５３０G、５３０Bに対応するように形成する。これで、前記第１電極５６０は前記ビアホール５１０を通じて前記ドレイン電極４３０に電気的に連結する。本実施例において、前記第１電極５６０は透明電極であって後続する工程で形成される発光層から放出される光は前記第１電極５６０を経て放出される。前記透明電極である第１電極５６０はアノードまたはカソードでありうる。
【００７９】
前記第１電極５６０が形成された基板上に前記第１電極５６０の表面一部を露出させる開口部を有する画素定義膜５７０を形成する。続いて、前記露出した第１電極５６０を含む基板全面に少なくとも発光層を有する有機機能膜６００を形成する。前記有機機能膜６００は電荷輸送層及び／または電荷注入層をさらに含んで形成することができる。
【００８０】
前記有機機能膜６００上に第２電極６５０を形成する。本実施例において、前記第２電極６５０も透明電極であって前記発光層から放出される光は前記第１電極５６０及び前記第２電極６５０を経て放出される。前記第２電極６５０は前記第１電極５６０がアノードである場合カソードであって、前記第１電極５６０がカソードである場合アノードである。前記第２電極６５０上に保護膜６７０を形成することが望ましい。前記保護膜６７０は無機膜、有機膜または有ー無機複合膜で形成することができる。望ましくは前記無機膜はＩＴＯ、ＩＺＯ、ＳｉＯ２、ＳｉＮｘ、Ｙ２Ｏ３及びＡｌ２Ｏ３で構成された群から選択される一つであって、前記有機膜はパリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）またはＨＤＰＥであり、前記有ー無機複合膜はＡｌ２Ｏ３と有機高分子の複合膜である。
【００８１】
続いて、前記保護膜６７０上に第２カラー調節層をレーザー熱転写法を用いて前記第１電極５５０に各々対応するように形成する。前記第２カラー調節層は第２カラーフィルター及び／または第２色変換層である。
【００８２】
図１１のように前記第２カラー調節層は第２赤色カラーフィルター７１０R、第２緑色カラーフィルター７１０G及び第２青色カラーフィルター７１０Bであることができる。この場合、前記発光層は白色光を放出する発光層で形成することが望ましい。
【００８３】
これとは異なり、図１２のように前記第２カラー調節層は第２赤色色変換層７００R、第２緑色色変換層７００G及び第２青色色変換層７００Bである。この場合、前記発光層は青色光を放出する発光層で形成することが望ましくて、前記発光層が青色光を放出する発光層である場合、前記第２青色色変換層７００Bは形成しない場合がある。図１２は第２色変換層と第２カラーフィルターが積層になったことを表しているが、第２色変換層が単独で使用されることができる。
【００８４】
そして、前記第２色変換層７００R、７００G、７００B上に各々第２赤色カラーフィルター７１０R、第２緑色カラーフィルター７１０G及び第２青色カラーフィルター７１０Bをさらに形成することによって、第２色変換層と第２カラーフィルターが順に積層された構造を持つ第２カラー調節層を形成することができる。望ましくは、色変換層とカラーフィルターを持つ前記第２カラー調節層はレーザー熱転写法を用いて一度に形成する。これとは異なり、前記第２カラーフィルター７１０R、７１０G、７１０B上に各々前記第２赤色色変換層７００R、第２緑色色変換層７００G及び第２青色色変換層７００Bを形成することもできる。
【００８５】
続いて、前記第２カラーフィルター７１０R、７１０G、７１０B上にオーバーコーティング層８００を形成することが望ましい。前記第２オーバーコーティング層８００は透明膜であって前記第２カラーフィルター層７１０R、７１０G、７１０Bまたは前記第２色変換層７００R、７００G、７００Bを物理的損傷などから保護する役割を有する。これで、発光層の上下部にカラー調節層を含む両面発光型アクティブマトリックス有機電界発光素子を完成する。
【００８６】
以下、本発明の理解を助けるために望ましい実験例（ｅｘａｍｐｌｅ）を提示する。ただし、下記の実験例は、本発明の理解を助けるためのものであるだけで、本発明が下記の実験例により限定されるのではない。
【００８７】
下記実験例と比較例は、本発明による有機電界発光素子のカラーフィルター層パターンの品質及び光学的特性を説明するための例である。
【００８８】
＜実験例＞  
基板を準備する一方、ドナーフィルム（３Ｍ社）上にカラーフィルター用物質（３Ｍ社）を塗布してカラーフィルター用転写層を形成した。前記ドナーフィルムを前記転写層が前記基板に向けるように前記基板上に位置させてネオジム−ヤグレーザー（Ｎｄ−ＹＡＧ  ｌａｓｅｒ）を前記ドナーフィルムに照射することによって、前記転写層を前記基板上に転写させた。前記転写過程でレーザーパワーは１０Ｗであって、スキャン速度は７ｍ／ｓｅｃだった。これを赤色、緑色及び青色別に繰り返して前記基板上に赤色、緑色及び青色カラーフィルターパターンを形成した。続いて、前記カラーフィルターパターン上にアノードパターンを各々形成して、前記アノードを含んだ基板全面に白色光を放出する発光層を形成した。前記発光層上にカソードを形成することによってフールカラー有機電界発光素子を完成した。
【００８９】
＜比較例＞  
基板を提供して、前記基板上にカラーフィルター用物質であるフォトレジスト（赤色の場合Ｒｅｄ６０１１Ｌ、緑色の場合Ｇｒｅｅｎ６０１１Ｌ、青色の場合Ｂｌｕｅ６０１１Ｌ；富士ハント社）を塗布して露光及び現像してカラーフィルターパターンを形成した。これを赤色、緑色及び青色別に繰り返して前記基板上に赤色、緑色及び青色カラーフィルターパターンを形成した。これを除いては前記実験例と同一な方法によってフールカラー有機電界発光素子を完成した。
【表１】
2005100939.tif 000003
【００９０】
前記比較例によるカラーフィルターパターンは、前記実験例と同一なパターン幅を有する時、パターン縁の粗さ（ｐａｔｔｅｒｎ  ｅｄｇｅ  ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）は２±０．１μｍ程度である。これに対して実験例によるカラーフィルター層パターンの品質は前記表１に示したように、パターン縁の粗さが非常に向上した結果を見せる。
【表２】
2005100939.tif 000004
【００９１】
表２を参照すれば、前記実験例による有機電界発光素子の光学特性は、前記比較例による有機電界発光素子の光学特性に対して、白色Ｙが１０．５％程度向上して、色再現性は４．９％程度改善されたことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明の第１実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図２】本発明の第１実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図３】本発明の第２実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図４】本発明の第２実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図５】本発明の第３実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図６】本発明の第３実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図７】本発明の第４実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図８】本発明の第４実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図９】本発明の第５実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図１０】本発明の第５実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図１１】本発明の第６実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【図１２】本発明の第６実施例による有機電界発光素子及びその製造方法を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【００９３】
１００  基板
５３０R、５３０G、５３０B、７１０R、７１０G、７１０B  カラーフィルター
５４０R、５４０G、５４０B、７００R、７００G、７００B  色変換層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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