(57)【要約】【課題】  高速記録時の熱干渉が小さく、良好なジッタが得られる光記録媒体を提供する。【解決手段】  同心円状又は螺旋状のグルーブを有する基板のグルーブを有する面側に色素を含有する記録層が形成された光記録媒体であって、  情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、前記基板の記録ピット形成領域に対応する領域が凸状又は凹状に変形し、前記凸状部の最大高さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下又は前記凹状部の最大深さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じることを特徴とする光記録媒体である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
同心円状又は螺旋状のグルーブを有する基板のグルーブを有する面側に色素を含有する記録層が形成され、レーザー光を照射して情報の記録再生を行う光記録媒体であって、
情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、前記基板の記録ピット形成領域に対応する領域が凸状又は凹状に変形し、前記凸状部の最大高さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下又は前記凹状部の最大深さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記グルーブの半値幅をＷ、前記記録ピットの空隙の半径方向の大きさをＡとしたとき、Ｗ＞Ａであることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記グルーブのトラックピッチが０．４〜０．９μｍであり、かつ前記記録ピットの最小ピット長が０．５μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記記録層の色素として、二量体型オキソノール色素を用いることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記二量体型オキソノール色素が、下記一般式(１)で表される化合物であることを特徴とする請求項４に記載の光記録媒体。
【化１】
2005100600.tif 000027
［一般式(１)中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、および置換または無置換のヘテロ環基のいずれかを表し、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ3は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロ環基、ハロゲン原子、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、シアノ基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のカルバモイル基、アミノ基、置換アミノ基、スルホ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、置換または無置換のカルバモイルアミノ基、置換または無置換のアルキルスルホニル基、置換または無置換のアリールスホニル基、置換または無置換のアルキルスルフィニル基、置換または無置換のアリールスルフィニル基および置換または無置換のスルファモイル基のいずれかを表す。ｍは０以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＲ3は同じでも異なってもよい。Ｚx+は陽イオンを表し、ｘは１以上の整数を表す。］
【請求項６】
前記記録層の色素として、前記二量体オキソノール色素と、該二量体型オキソノール色素よりも最大吸収波長が長い色素とを混合して用いることを特徴とする請求項４または５に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体に関し、特に、色素を含有する記録層を有し、高密度かつ高速記録が可能な光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、レーザー光により一回限りの情報の記録が可能な光記録媒体（光ディスク）が知られている。この光ディスクは、追記型ＣＤ（所謂ＣＤ−Ｒ）とも称され、その代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素からなる記録層、金等の金属からなる光反射層、さらに樹脂製の保護層がこの順に積層状態で設けられている。そしてこのＣＤ−Ｒへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレーザー光）をＣＤ−Ｒに照射することにより行われ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録される。一方、情報の読み取り（再生）もまた記録用のレーザー光と同じ波長のレーザー光を照射することにより行われ、記録層の光学的特性が変化した部位（記録部分）と変化しない部位（未記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報が再生される。
【０００３】
近年、記録密度のより高い光記録媒体が求められている。このような要望に対して、追記型デジタル・ヴァサタイル・ディスク（所謂ＤＶＤ−Ｒ）と称される光ディスクが提案されている。このＤＶＤ−Ｒは、照射されるレーザー光のトラッキングのための案内溝（プレグルーブ）がＣＤ−Ｒに比べて半分以下（０．７４〜０．８μｍ）と狭く形成された透明な円盤状基板上に、色素からなる記録層、そして通常は該記録層の上に光反射層、そしてさらに必要により保護層を設けてなるディスクを二枚、あるいは該ディスクと同じ形状の円盤状保護基板とを該記録層を内側にして接着剤で貼り合わせた構造を有している。ＤＶＤ−Ｒへの情報の記録再生は、可視レーザー光（通常は、６３０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長のレーザー光）を照射することにより行われ、ＣＤ−Ｒより高密度の記録が可能であるとされている。
【０００４】
このようなＤＶＤ−Ｒにおいて、近年、高速記録の要求が高まっており、高速記録に対応した光記録媒体が提案されている。例えば、記録線速度が１０．５ｍ／ｓ（ＤＶＤ−Ｒで３倍相当）で、記録パワーが１４ｍＷ以下、アシンメトリーβ≦０％で熱干渉を抑制する光記録媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。しかし、該光記録媒体は、記録線速度が１０．５ｍ／ｓを超えると熱干渉が発生しジッタが悪化するという問題がある。また、高速記録特性の向上のため、波長３５０〜６３０ｎｍに吸収極大を有する色素と、波長６３０〜９００ｎｍに吸収極大を有する色素とを混合して記録層を形成した光記録媒体が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。しかし、該光記録媒体においても、高速記録時に熱干渉が発生し、ジッタが悪化するという問題がある。
【特許文献１】特開２００２−２６０２２７号公報
【特許文献２】特開２００３−３４０７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、高速記録時の熱干渉が小さく、良好なジッタが得られる光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞  同心円状又は螺旋状のグルーブを有する基板のグルーブを有する面側に色素を含有する記録層が形成された光記録媒体であって、情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、前記基板の記録ピット形成領域に対応する領域が凸状又は凹状に変形し、前記凸状部の最大高さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下又は前記凹状部の最大深さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じることを特徴とする光記録媒体である。
＜２＞  前記グルーブの半値幅をＷ、前記記録ピットの空隙の半径方向の大きさをＡとしたとき、Ｗ＞Ａであることを特徴とする前記＜１＞に記載の光記録媒体である。
＜３＞  前記グルーブのトラックピッチが０．４〜０．９μｍであり、かつ前記記録ピットの最小ピット長が０．５μｍ以下であることを特徴とする前記＜１＞または＜２＞に記載の光記録媒体である。
＜４＞  前記記録層の色素として、二量体型オキソノール色素を用いることを特徴とする前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体である。
＜５＞  前記二量体型オキソノール色素が、下記一般式(１)で表される化合物であることを特徴とする前記＜４＞に記載の光記録媒体である。
【０００７】
【化１】
2005100600.tif 000002
［一般式(１)中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、および置換または無置換のヘテロ環基のいずれかを表し、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ3は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロ環基、ハロゲン原子、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、シアノ基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のカルバモイル基、アミノ基、置換アミノ基、スルホ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、置換または無置換のカルバモイルアミノ基、置換または無置換のアルキルスルホニル基、置換または無置換のアリールスホニル基、置換または無置換のアルキルスルフィニル基、置換または無置換のアリールスルフィニル基および置換または無置換のスルファモイル基のいずれかを表す。ｍは０以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＲ3は同じでも異なってもよい。Ｚx+は陽イオンを表し、ｘは１以上の整数を表す。］
＜６＞  前記記録層の色素として、前記二量体オキソノール色素と、該二量体型オキソノール色素よりも最大吸収波長が長い色素とを混合して用いることを特徴とする前記＜４＞または＜５＞に記載の光記録媒体である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、高速記録時の熱干渉が小さく、良好なジッタが得られる光記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明の光記録媒体は、同心円状又は螺旋状のグルーブを有する基板のグルーブを有する面側に色素を含有する記録層が形成された光記録媒体であって、情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、前記基板の記録ピット形成領域に対応する領域が凸状又は凹状に変形し、前記凸状部の最大高さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下又は前記凹状部の最大深さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じることを特徴としている。
以下、本発明の光記録媒体について説明する。
【００１０】
＜光記録媒体＞
本発明の光記録媒体は、その一形態としては、ＤＶＤ−Ｒ等の情報の記録再生が可能な追記型の光記録媒体である。また、ＤＶＤ−Ｒと同様の層構成を有し、青紫色レーザーで記録再生を行うＨＤ  ＤＶＤ−Ｒにも適用することができる。
【００１１】
ＤＶＤ−Ｒ等の光記録媒体では、２枚の基板（第１の基板、第２の基板）を貼り合わせてなり、少なくとも第１の基板には、記録層が形成されている。その他に、反射層、保護層等が適宜形成されていることが好ましい。また、第２の基板にも、第１の基板と同様に、記録層、光反射層等が順次形成された構成としてもよく、いわゆる保護基板（ダミー基板）として層を形成しない構成としてもよい。
以下、ＤＶＤ−Ｒ等の光記録媒体を例に、本発明の光記録媒体の上記基板および各層について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１２】
［基板］
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．４ｍｍとすることが好ましい。
【００１３】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（グルーブ、ランド）が、螺旋状又は同心円状に形成されている。グルーブのトラックピッチは、０．４〜０．９μｍとすることが好ましく、０．４５〜０．８５μｍとすることがより好ましく、０．５０〜０．８０μｍとすることがさらに好ましい。また、グルーブの深さ（溝深さ）は、５０〜１５０ｎｍとすることが好ましく、８５〜１３５ｎｍとすることがより好ましく、１００〜１３０ｎｍとすることがさらに好ましい。さらに、グルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍとすることが好ましく、２８０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることがさらに好ましい。
【００１４】
また、グルーブとグルーブとの間のランドと呼ばれる領域には、通常、予め決められた規則に従って配置されたランドプリピット（ＬＰＰ）が形成される。このＬＰＰの位置を検出することによって、アドレス情報の取得及びデータ記録時の位置決めが行われる。
【００１５】
また、記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び記録層の変質防止などの目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；及びシランカップリング剤などの表面改質剤を挙げることができる。下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解又は分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコートなどの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜２０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲で設けられる。
【００１６】
［記録層］
ＤＶＤ−Ｒの場合、記録層に用いる色素は特に限定されないが、使用可能な色素の例としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、、オキソノール系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。これらの色素のうちでは、シアニン色素、フタロシアニン系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、オキソノール系色素及びイミダゾキノキサリン系色素が好ましい。
【００１７】
記録層を形成するための塗布液の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類などを挙げることができる。上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独又は二種以上を適宜併用することができる。好ましくは、２，２，３，３−テトラフロロプロパノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中には、所望により褪色防止剤や結合剤を添加してもよいし、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、そして潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００１８】
褪色防止剤の代表的な例としては、ニトロソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４−１４６１８９号等の各公報に記載されている。
【００１９】
結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子を挙げることができる。結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量は、一般に色素１００質量部に対して０．２〜２０質量部、好ましくは、０．５〜１０質量部、更に好ましくは１〜５質量部である。このようにして調製される塗布液中の色素の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００２０】
上記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００２１】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲にある。
また、塗布温度としては、２３〜５０℃であれば特に問題はないが、好ましくは２４〜４０℃、さらに好ましくは２５〜３７℃である。
【００２２】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００２３】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、記録するための化合物の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００２４】
［反射層］
記録層の上には特に情報の再生時における反射率の向上の目的で反射層が設けられる。反射層の材料である光反射性物質はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｎｄなどの金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組み合わせて用いてもよい。又は合金として用いてもよい。特に好ましくはＡｕ、Ａｇもしくはその合金である。反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングすることにより記録層の上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲で設けられる。
【００２５】
［接着層］
接着層は、反射層と、保護層又は保護基板との間に形成される層である。
接着層を構成する接着剤としては、紫外線硬化性樹脂が好ましく、なかでもディスクの反りを防止するため、硬化収縮率の小さいものが好ましい。このような紫外線硬化性樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」、「ＳＤ−３４７」等のＵＶ硬化性樹脂（ＵＶ硬化性接着剤）を挙げることができる。また、接着層の厚さは、弾力性を持たせるため、１〜１０００μｍの範囲が好ましく、５〜５００μｍの範囲がより好ましく、１０〜１００μｍの範囲が特に好ましい。
【００２６】
接着層を構成する接着剤の他の例を挙げる。該接着剤は、放射線照射により硬化可能な樹脂であって、分子中に２個以上の放射線官能性の二重結合を有する樹脂であり、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類などが挙げられる。好ましくは２官能以上のアクリレート化合物、メタクリレート化合物である。
【００２７】
２官能の具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレートなどに代表される脂肪族ジオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものを用いることができる。
【００２８】
また、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメタクリレートや公知の二塩基酸、グリコールから得られたポリエステルポリオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレートも用いることができる。
さらに、公知のポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させたポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレートを用いてもよい。
【００２９】
また、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦやこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものやイソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジメタアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレートなどの環状構造を有するものも用いることができる。
【００３０】
前記放射線としては、電子線および紫外線を使用することができる。紫外線を使用する場合には以下の化合物に光重合開始剤を添加することが必要となる。光重合開始剤として芳香族ケトンが使用される。芳香族ケトンは、特に限定されないが、紫外線照射光源として通常使用される水銀灯の輝線スペクトルを生ずる。２５４，３１３，８６５ｎｍの波長において吸光係数の比較的大なるものが好ましい。その代表例としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−２ジエトキシアセトフェノン、Ｍｉｃｈｌｅｒ’ｓケトンなどがあり、種々の芳香族ケトンが使用できる。芳香族ケトンの混合比率は、紫外線硬化樹脂１００質量部に対し０．５〜２０質量部、好ましくは２〜１５質量部、さらに好ましくは３〜１０質量部である。紫外線硬化型接着剤としてあらかじめ光開始剤を添加したものが市販しており、それを使用してもかまわない。紫外線光源としては、水銀ランプ又はメタルハライドランプが用いられる。該ランプとしては２０〜３００Ｗ／ｃｍのものを用い、０．１〜２０秒間照射される。基板とランプとの距離は一般に１〜３０ｃｍであることが好ましい。
【００３１】
電子線加速器としてはスキャニング方式、ダブルスキャニング方式あるいはカーテンビーム方式が採用できるが、好ましいのは比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式である。電子線特性としては、加速電圧が１００〜１０００ｋＶ、好ましくは１５０〜３００ｋＶであり、吸収線量として０．５〜２０Ｍｒａｄ、好ましくは１〜１０Ｍｒａｄである。加速電圧が１０ｋＶ以下の場合は、エネルギーの透過量が不足し１０００ｋＶを超えると重合に使われるエネルギー効率が低下しコスト的に好ましくない。
【００３２】
［保護層、保護基板］
保護層又は保護基板は、水分の侵入やキズの発生を防止する。保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業（株）製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業（株）製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業（株）製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５〜１５０μｍの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光および再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００３３】
保護層は、スピンコート法により形成することができる。スピンコートする際の回転数は、均一な層形成の防止の観点から、５０〜８０００ｒｐｍとすることが好ましく、１００〜５０００ｒｐｍとすることがより好ましい。
なお、保護層に紫外線硬化樹脂を使用した場合は、スピンコート法により保護層を形成した後、該保護層上から紫外線照射ランプ（メタルハライドランプ）により紫外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させる。
また、形成する保護層の厚みムラを無くすため、樹脂を硬化させる前に一定時間放置する等の処理を適宜行ってもよい。
【００３４】
ＤＶＤ−Ｒの場合は、保護層に代わって、紫外線硬化樹脂等からなる接着層および保護基板としての基板（厚さ：０．６ｍｍ程度、材質については前記基板と同様）を積層することができる。
すなわち、反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ６４０、ＳＤ６６１、ＳＤ６９４等）をディスク上に吐出し、例えば、保護基板としてのポリカーボネート基板（厚さ：０．６ｍｍ）を載置し、スピンコートと同様に高回転で紫外線硬化樹脂を振り切った後、基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化して貼り合わせる。接着層の厚みは２０〜６０μｍである。
【００３５】
＜光情報記録方法＞
本発明の光記録媒体への情報記録は、次のようにして行われる。まず、未記録の本発明の光記録媒体を所定の線速度にて回転させながら、対物レンズを介してレーザー光などの記録用の光を照射する。この照射光により、記録層の色素がその光を吸収して局所的に温度上昇し、記録ピットが形成され、その光学特性が変わることにより情報が記録される。
【００３６】
レーザー光の記録波形は、１つのピットの形成する際には、パルス列でも１パルスでもかまわない。実際に記録しようとする長さ（ピットの長さ）に対する割合が重要である。
レーザー光のパルス幅としては、実際に記録しようとする長さに対して２０〜９５％の範囲が好ましく、３０〜９０％の範囲がより好ましく、３５〜８５％の範囲が更に好ましい。ここで、記録波形がパルス列の場合には、その和が上記の範囲にあることを指す。
【００３７】
レーザー光のパワーとしては、記録線速度によって異なるが、例えば、線速度が１４ｍ／ｓの場合、１５．０〜２０．０ｍＷの範囲が好ましく、１６．５〜１９．５ｍＷの範囲がより好ましく、１７．０〜１９．０ｍＷの範囲が更に好ましい。また、線速度が２倍になった場合には、レーザー光のパワーの好ましい範囲は、それぞれ２1/2倍となる。
【００３８】
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズのＮＡは０．６２以上が好ましく、０．６５以上がより好ましい。
【００３９】
本発明においては、記録光として３００〜７００ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザーを用いることができる。
【００４０】
本発明の光記録媒体においては、情報の記録に際し、前記記録層に向けてレーザー光を照射して記録ピットが形成されたとき、基板の記録ピットの形成領域に対応する領域が、最大高さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下の凸状又は最大深さが３ｎｍ以上１５ｎｍ以下の凹状に変形し、かつ前記記録層の記録ピット形成領域に空隙が生じる。本発明の光記録媒体は、記録層の記録ピット形成領域に生じる空隙（形状は、例えば、球状や空豆状）による屈折率減少が大きな位相差を発生し、溝部の記録層を、例えば、５０〜１５０ｎｍと薄くしても十分な変調度が得られる。また、特に、線速度が２８ｍ／ｓ以上（ＤＶＤ−Ｒで８倍速相当）の高速記録時における熱干渉が小さく、良好なジッタが得られる。
【００４１】
記録層にレーザー光が照射されると、記録層の色素が発熱し、この発熱が基板にまでおよび基板の記録層側の面が変形する。該基板は、凸状に変形することも、凹状に変形することもある。前記最大高さとは、基板が凸状に変形した場合の凸部の最大の高さであり、前記最大深さとは、基板が凹状に変形した場合の凹部の最大の深さである。前記最大高さ又は最大深さは、４〜１２ｎｍであることが好ましく、５〜１０ｎｍであることがより好ましい。
【００４２】
基板の記録ピット形成領域に対応する領域の変形（最大高さ又は最大深さ）が前記範囲内となり、かつ記録層の記録ピット形成領域に空隙を生じさせるには、例えば、記録層に用いる色素を適宜選択することにより実現することができる。当該色素としては、分解時の発熱量が小さく、分解時に気体を発生するという性質を有する色素が好ましく、具体的には、色素内にニトロ基などの発熱量の大きな置換基や、過塩素酸イオン等を含まない色素が好ましい。
【００４３】
より具体的には、前記記録層に用いる色素として、二量体型オキソノール色素を用いることが好ましい。二量体型オキソノール色素を用いることにより、低速記録（１倍速記録）においても変調度を大きくすることができる。
【００４４】
前記二量体型オキソノール色素としては、下記一般式(１)で表される化合物であることが好ましい。
【００４５】
【化２】
2005100600.tif 000003
［一般式(１)中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、および置換または無置換のヘテロ環基のいずれかを表し、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ3は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロ環基、ハロゲン原子、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、シアノ基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のカルバモイル基、アミノ基、置換アミノ基、スルホ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、置換または無置換のカルバモイルアミノ基、置換または無置換のアルキルスルホニル基、置換または無置換のアリールスホニル基、置換または無置換のアルキルスルフィニル基、置換または無置換のアリールスルフィニル基および置換または無置換のスルファモイル基のいずれかを表す。ｍは０以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＲ3は同じでも異なってもよい。Ｚx+は陽イオンを表し、ｘは１以上の整数を表す。］
【００４６】
一般式（１）のＲ11、Ｒ12、Ｒl3、Ｒ14はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、および置換または無置換のヘテロ環基のいずれかを表す。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14で表される置換または無置換のアルキル基としては、炭素数が１〜２０のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、プチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｉ−アミル、シクロプロピル、シクロへキシル、ベンジル、フェネチル）が挙げられる。また、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14が各々アルキル基を表す場合には、それらが互いに連結して炭素環（例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへキシル、２−メチルシクロへキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなど）または複素環（例えばピペリジル、クロマニル、モルホリルなど）を形成していてもよい。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14で表されるアルキル基として好ましくは、炭素数１〜８の、鎖状アルキル基または環状アルキル基であり、最も好ましくは炭素数１〜５の鎖状（直鎖状または分岐鎖状）アルキル基、Ｒ11とＲ12およびＲ13とＲ14がそれぞれ結合して環をなした炭素数１〜８の環状アルキル基（好ましくはシクロへキシル環）、炭素数１〜２０の置換アルキル基（例えば、ベンジル、フェネチル）である。
【００４７】
一般式（１）のＲ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14で表される置換または無置換のアリール基としては、炭素数６〜２０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル）が挙げられる。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14で表されるアリール基として好ましくは、炭素数６〜１０のアリール基である。
【００４８】
一般式(１)のＲ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14で表される置換または無置換のヘテロ環基は炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から構成される５〜６員環の飽和又は不飽和のヘテロ環基であり、例えばピリジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、ピペリジル基、トリアジル基、ピロリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、フラニル基、チオフェニル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基などが挙げられる。またこれらがベンゾ縮環したもの（例えばキノリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾキサゾリル基など）でもよい。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14で表される置換または無置換のヘテロ環基として好ましくは、炭素数６〜１０の置換または無置換のヘテロ環基である。
【００４９】
一般式(１)のＲ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14で表される置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、および置換または無置換のヘテロ環基の置換基としては後述の置換基群Ｓが挙げられる。
【００５０】
Ｓで示される置換基としては、炭素数１〜２０のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、カルボキシメチル、エトキシカルボニルメチル）、炭素数７〜２０のアラルキル基（例えば、ベンジル、フェネチル）、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ）、炭業数６〜２０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル）、炭素数６〜２０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、ナフトキシ）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル、スクシンイミド、フタルイミド、マレイミド）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、沃素）、カルボキシル基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、シアノ基、炭素教２〜１０のアシル基（例えば、アセチル、ピバロイル）、炭素数１〜１０のカルバモイル（例えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、モルホリノカルバモイル）、アミノ基、炭素数１〜２０の置換アミノ基（例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ビス（メチルスルホニルエチル）アミノ、Ｎ−エチル−Ｎ’−スルホエチルアミノ）、スルホ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、炭業数１〜１０のアルキルスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ）、炭素数１〜１０のカルバモイルアミノ基（例えば、カルバモイルアミノ、メチルカルバモイルアミノ）、炭素数１〜１０のスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル）、炭素数１〜１０のスルフィニル基（例えば、メタンスルフィニル）、および炭素数０〜１０のスルファモイル基（例えば、スルファモイル、メタンスルファモイル）が含まれる。カルボキシル基およびスルホ基の場合にはそれらは塩の状態であってもよい。
【００５１】
一般式(１)のＲ21、Ｒ22、Ｒ3はそれぞれ独立に水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のアリールオキシ基、置換または無置換のヘテロ環基、ハロゲン原子、カルボキシル基、置換または無置換のアルコキシカルボニル基、シアノ基、置換または無置換のアシル基、置換または無置換のカルバモイル基、アミノ基、置換アミノ基、スルホ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ基、置換または無置換のカルバモイルアミノ基、置換または無置換のアルキルスルホニル基、置換または無置換のアリールスルホニル基、置換または無置換のスルフィニル基および置換または無置換のスルファモイル基のいずれかを表す。Ｒ21、Ｒ22、Ｒ3として好ましくは、水素原子、置換または無置換の炭素数１〜２０のアルキル基、置換または無置換の炭素数２〜２０のヘテロ環基、置換または無置換の炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数６〜２０のアリール基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは、水素原子、置換または無置換の炭素数１〜１０のアルキル基、置換または無置換の炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数２〜１０ヘテロ環基、ハロゲン原子が好ましく、最も好ましくは水素原子、無置換の炭素数１〜５のアルキル基、無置換の炭素数１〜５のアルコキシ基、置換または無置換の炭素数２〜６のヘテロ環基およびハロゲン原子のいずれかである。Ｒ21、Ｒ22、Ｒ3は更に置換基を有しても良く、置換基としては前述の置換基群Ｓが挙げられる。
ｍが０であり、Ｒ21、Ｒ22が両方とも水素原子であることが好ましい。また、ｍが１であり、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ3がいずれも水素原子であることが好ましい。
【００５２】
一般式(１)のｍは０以上の整数を表し、好ましくは０〜５（０以上５以下）の整数であり、更に好ましくは０〜３の整数であり、特に好ましくは０〜２の整数である。
【００５３】
一般式(１)において、上記ｍが２以上の場合、複数のＲ3は同じでも異なってもよく、それぞれ独立に水素原子又は前記の置換基を表す。
【００５４】
一般式(１)においてＺx+は陽イオンを表し、ｘは１以上の整数を表す。
Ｚx+で表される陽イオンとして好ましくは、第４級アンモニウムイオンであり、更に好ましくは、特開２０００−５２６５８号公報の一般式（Ｉ−４）で表される４，４’−ビピリジニウム陽イオンおよび特２００２−５９６５２号公報に開示されている４，４’−ビピリジニウム陽イオンである。一般式(１)においてｘは１または２が好ましい。
【００５５】
以下に、前記一般式（１）で表される化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５６】
【化３】
2005100600.tif 000004
【００５７】
【化４】
2005100600.tif 000005
【００５８】
【化５】
2005100600.tif 000006
【００５９】
【化６】
2005100600.tif 000007
【００６０】
【化７】
2005100600.tif 000008
【００６１】
【化８】
2005100600.tif 000009
【００６２】
【化９】
2005100600.tif 000010
【００６３】
【化１０】
2005100600.tif 000011
【００６４】
【化１１】
2005100600.tif 000012
【００６５】
【化１２】
2005100600.tif 000013
【００６６】
【化１３】
2005100600.tif 000014
【００６７】
【化１４】
2005100600.tif 000015
【００６８】
【化１５】
2005100600.tif 000016
【００６９】
【化１６】
2005100600.tif 000017
【００７０】
【化１７】
2005100600.tif 000018
【００７１】
【化１８】
2005100600.tif 000019
【００７２】
【化１９】
2005100600.tif 000020
【００７３】
前記記録層の色素として、前記二量体オキソノール色素と、該二量体型オキソノール色素よりも最大吸収波長が長い色素（以下、「長波色素」と呼ぶ。）を混合して用いることが好ましい。前記二量体オキソノール色素に、当該長波色素を混合することにより、記録感度を向上させることができる。
【００７４】
前記長波色素としては、シアニン色素、フタロシアニン色素、イミダゾキノキサリン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、、オキソノール系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウム系色素及びニトロソ化合物等が挙げられ、中でも特に、オキソノール系色素が好ましい。
【００７５】
二量体型オキソノール色素と長波色素とを混合して用いる場合、二量体型オキソノール色素（Ａ）と長波色素（Ｂ）との混合比（Ａ：Ｂ（質量比））は、６０：４０〜９９：１とすることが好ましく、７０：３０〜９８：２とすることがより好ましい。
【００７６】
また、本発明においては、グルーブの半値幅をＷ、前記記録ピットの空隙の半径方向の大きさをＡとしたとき、Ｗ＞Ａであることが好ましい。Ｗ＞Ａとすることにより、隣接するグルーブに対しての記録ピットの干渉を防ぐことができノイズなどの発生を抑えることができる。
Ｗ＞Ａの条件を満足させることは、例えば、既述の「分解時の発熱量が小さく、分解時に気体を発生するという性質を有する色素（具体的には、色素内にニトロ基などの発熱量の大きな置換基や、過塩素酸イオン等を含まない色素）」を用い、かつ、溝部の記録層の厚みを５０〜１５０ｎｍとすることで実現することができる。
【００７７】
本発明の光記録媒体においては、グルーブのトラックピッチが０．４〜０．９μｍ以下で、かつ記録ピットのピット長（周方向のピットの長さ）が０．５μｍ以下となるように記録することが好ましい。当該条件を満足することにより、より高密度で記録することが可能となる。当該トラックピッチ及び記録ピットは、それぞれ、より好ましくは、０．４５〜０．８５μｍ、０．２５〜０．４８μｍであり、さらに好ましくは、０．５〜０．８μｍ、０．３０〜０．４５μｍである。
【実施例】
【００７８】
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００７９】
［実施例１］
射出成形にて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状（螺旋状）のグルーブ（深さ：１３０ｎｍ、幅３００ｎｍ、トラックピッチ：０．７４μｍ）を有する厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板を成形した。下記色素Ａ１．０ｇと下記色素Ｂ０．５ｇとを、２，２，３，３−テトラフルオロペンタノール１００ｍｌに溶解して塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により上記基板のグルーブが形成された面上に塗布し、記録層を形成した。次に、記録層上に銀をスパッタして膜厚約１５０ｎｍの反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂を接着剤として用いてダミー基板と貼り合わせて光ディスク（光記録媒体）を作製した。
【００８０】
【化２０】
2005100600.tif 000021
【００８１】
[実施例２]
射出成形にて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状（螺旋状）のグルーブ（深さ：１２０ｎｍ、幅３００ｎｍ、トラックピッチ：０．７４μｍ）を有する厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板を成形した。前記色素Ｂ０．１８７５ｇと下記色素Ｃ１．０６２５ｇとを、２，２，３，３−テトラフルオロペンタノール１００ｍｌに溶解して塗布液を調製し、この塗布液をスピンコート法により上記基板のグルーブが形成された面上に塗布し、記録層を形成した。次に、記録層上に銀をスパッタして膜厚約１２０ｎｍの反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂を接着剤として用いてダミー基板と貼り合わせて光ディスク（光記録媒体）を作製した。
【００８２】
【化２１】
2005100600.tif 000022
【００８３】
[実施例３]
実施例２において、色素Ｃの代わりに、下記色素Ｄを用いたこと以外は、実施例２と全く同様にして、光ディスクを作製した。
【００８４】
【化２２】
2005100600.tif 000023
【００８５】
［比較例１］
色素Ａ及び色素Ｂの代わりに下記色素Ｅを用いて塗布液を調製し、該塗布液を用いて記録層を形成したこと以外は実施例１と同様にして比較例１の光ディスクを作製した。
【００８６】
【化２３】
2005100600.tif 000024
【００８７】
［評価］
（光記録媒体の評価）
ディスクドライブ装置（ＤＤＵ−１０００、パルステック工業（株）製、レーザー波長：６６０ｎｍ、開口率：０．６０）を用いて。転送レート４４〜８９Ｍｂｐｓまで変えて、８−１６変調信号を表１に示す線速度で記録した。記録パワーはそれぞれの光記録媒体で、ジッタが最も小さくなる記録パワーに設定した。その後、記録レーザー波長と同波長のレーザーを用いて再生し、ジッタを測定した。結果を表１に示す。
また、転送レート（１１．０８Ｍｂｐｓ）、線速度３．４９ｍ／ｓで８−１６変調信号を記録し、そのときの記録感度と１４Ｔ変調度とを測定した。結果を表２に示す。
【００８８】
（記録ピット部断面解析）
ディスクドライブ装置（ＤＤＵ−１０００）で記録後、記録部をＦＩＢ（Focused Ion Bean System）加工を施し、ＳＥＭで断面形状を観察し、空隙の有無を確認した。結果を表１に示す。
【００８９】
（記録ピット部の基板変形解析）
記録済みの光記録媒体の基板を剥がし、基板に付着している色素を溶剤で洗浄した上で、基板変形の最大高さ及び最大深さを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定した。洗浄の溶剤は、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールを使用した。また、ＡＦＭとしては、セイコーインスツルメンツ（株）製ＳＰＡ−５００、探針ＮＣＨ−１０Ｖ（日本ビーコ（株）製）を用いた。測定結果を表１に示す。
【００９０】
【表１】
2005100600.tif 000025
【００９１】
【表２】
2005100600.tif 000026
【００９２】
表１より、線速度１４ｍ／ｓ（４４Ｍｂｐｓ）及び２８ｍ／ｓ（８９Ｍｂｐｓ）のいずれの記録速度においても、基板が凸状部（凹状部）の最大高さ（深さ）が３ｎｍ以上１５ｎｍ以下に変形し、かつ空隙が生じた実施例１〜３の光記録媒体は、比較例と比較してジッタが小さかったことが分かる。すなわち、本発明の光記録媒体は、高速記録においても、良好なジッタが得られることが分かる。
また、表２より線速度３．４９ｍ／ｓの低速記録においても、実施例１〜３の光記録媒体は、比較例１と比較して、感度、ジッタ、及び変調度のいずれについても良好な結果が得られた。