(57)【要約】【課題】水洗不足による残留塩分による析出等の欠陥、水滴等による乾燥ムラに起因する欠陥等の処理後乾燥工程で発生する欠陥を防止するハロゲン化銀写真感光材料の処理液、および処理方法を提案すること。【解決手段】一般式（Ｉ）            Ｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−Ｈ        （Ｉ）（式中、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基、ｎは７〜９の数を表す）であらわされる化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理液、およびそれを用いた処理方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）
Ｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−Ｈ        （Ｉ）
（式中、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基、ｎは７〜９の数を表す）であらわされる化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理液。
【請求項２】
ハロゲン化銀写真感光材料を現像処理後、乾燥を開始するまでの間に請求項１に記載の処理液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【請求項３】
現像・停止・定着等の画像形成工程に続いてハロゲン化銀写真感光材料を水洗後、請求項１に記載の処理液で処理後、乾燥することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【請求項４】
現像・停止・定着等の画像形成工程に続いてハロゲン化銀写真感光材料を水洗後、請求項１に記載の処理液で処理後、純水で水洗後、乾燥することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料の処理液、および処理方法に関する。詳しくはハロゲン化銀写真感光材料の処理後、乾燥工程で発生する欠陥を防止する処理液、および処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハロゲン化銀写真感光材料はＸ線用（医療・検査用等）、印刷製版用、マイクロフィルム用、一般写真用、電子回路形成用等の様々な用途で用いられている。これらハロゲン化銀写真感光材料の画像形成層は一般的にゼラチンを主たる成分とするバインダー中に感光成分でかつ画像形成成分であるハロゲン化銀が分散していることは、笹井明著「写真の化学」写真工業出版社（１９８２年）等に詳細に記載されており、広く知られるところである。ハロゲン化銀写真感光材料は現像・停止・定着等の画像形成工程に続いて、水洗されることによって層中の塩類を除去した後、乾燥されるのが一般的である。
【０００３】
印画紙のような不透明反射支持体、印刷製版用・電子回路形成用フォトマスクのようなフィルム・ガラス等の透明透過支持体等の支持体の違いや構成・用途の違いにより要求水準は異なるが、水洗不足による残留塩分による析出等の欠陥、水滴等による乾燥ムラに起因するゼラチン膜面の起伏等による欠陥などが発生する。さらにハロゲン化銀写真感光材料は手動で現像される（いわゆる皿現）だけでなく、自動現像機で自動処理される場合があり、処理方法も多岐にわたる。特許文献１に対策技術が開示されているが、いずれの条件においても乾燥工程で発生する欠陥を皆無にする技術はない。中でもガラスを支持体とする電子回路形成用フォトマスク（エマルジョンマスク）の場合、非常に細かい画像を形成するため微細な異常箇所でも欠陥が問題となるのに加えて、表面が汚染されやすく、既存の技術では乾燥工程で欠陥が大量に発生している状況にある。
【特許文献１】特開２００３−１７７４９７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、水洗不足による残留塩分による析出等の欠陥、水滴等による乾燥ムラに起因する欠陥等の処理後乾燥工程で発生する欠陥を防止するハロゲン化銀写真感光材料の処理液、および処理方法を提案することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは検討した結果、下記一般式（Ｉ）
Ｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−Ｈ        （Ｉ）
（式中、Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基、ｎは７〜９の数を表す）であらわされる化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料の処理液で上記課題を解決することを見出した。
【０００６】
ハロゲン化銀写真感光材料を現像処理後、乾燥を開始するまでの間に上記処理液をで処理することにより上記課題を解決することを見出した。
【０００７】
より好ましい態様としては、現像・停止・定着等の画像形成工程に続いてハロゲン化銀写真感光材料を水洗後、上記処理液で処理後、乾燥することにより上記課題を解決することを見出した。
【０００８】
さらに好ましい態様としては、現像・停止・定着等の画像形成工程に続いてハロゲン化銀写真感光材料を水洗後、上記処理液で処理後、純水で水洗後、乾燥することにより上記課題を解決することを見出した。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、水洗不足による残留塩分による析出等の欠陥、水滴等による乾燥ムラに起因する欠陥等の処理後乾燥工程で発生する欠陥を防止するハロゲン化銀写真感光材料の処理液、および処理方法を提案することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下に本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理液は下記一般式（Ｉ）であらわされる化合物を含有する。
Ｒ−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n−Ｈ        （Ｉ）
Ｒは炭素数８〜２０のアルキル基を表す。アルキル基は直鎖でも分岐鎖を有してもよい。ｎは７〜９の数を表す。エチレンオキサイドの付加モル数を表すｎ値は異なるｎ値を持つ化合物の集合体の平均値を表すので、一概に整数である必要はない。具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（Ｉ−１）    Ｃ12Ｈ25−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）9−Ｈ
（Ｉ−２）    Ｃ13Ｈ27−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）8.5−Ｈ
（Ｉ−３）    Ｃ16Ｈ33−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）7−Ｈ
【００１１】
一般式（Ｉ）であらわされる化合物は、使用液１Ｌあたり０．０１ｇ〜３ｇ、好ましく
は０．０５ｇ〜１ｇ添加されるのが好ましい。本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理液には一般式（Ｉ）であらわされる化合物の他に、当業者で知られる溶剤、添加剤等を含
有せしめることができる。処理液の主たる溶媒は水であるがそれに加えてメタノール、エタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等の溶剤や、界面活性剤、キレート剤等を含有せしめることができる。
【００１２】
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料としては、当業者で知られるあらゆるハロゲン化銀写真感光材料を対象としている。アマチュア向け印画紙のように皿現後に水道水で水洗し吊り乾燥により自然乾燥させる場合にも本発明の効果が得られるし、ガラスを支持体とする電子回路形成用フォトマスク（エマルジョンマスク）を皿現後に純水で水洗し、エアナイフで乾燥させる場合にも本発明の効果が得られる。また上記エマルジョンマスクを温風乾燥する場合にも本発明の効果が得られる。さらに上記エマルジョンマスクを自動現像機を用いて自動処理する場合にも本発明の効果が得られる。
【００１３】
本発明で言う電子回路形成用フォトマスクであるエマルジョンマスクとは、ガラスを支持体とするごく一般的なハロゲン化銀写真感光材料、いわゆる乾板を意味し、田辺功、竹花洋一、法元盛久著「フォトマスク技術の話」工業調査会（１９９６）に記載されている。
【００１４】
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理液を用いた処理はハロゲン化銀写真感光材料を現像処理後、乾燥を開始するまでの間で行われる。好ましくは、現像・停止・定着等の画像形成工程に続いてハロゲン化銀写真感光材料を水洗後、乾燥前に処理するのが好ましい。より好ましくは、乾燥前に再度純水で水洗するのがよい。本発明で言う純水とは、電気伝導度が２μＳ／ｃｍ以下の水をさす。イオン交換、蒸留等の当業者で知られるあらゆる方法で得ることができる。
【実施例１】
【００１５】
下記の構成の処理液Ａ〜Ｅを調製した。
処理液Ａ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
処理液Ｂ
Ｉ−１の化合物                ０．３ｇ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
処理液Ｃ
Ｉ−２の化合物                ０．３ｇ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
処理液Ｄ
Ｉ−３の化合物                ０．３ｇ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
処理液Ｅ
ＩＩ−４の化合物              ０．３ｇ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
処理液Ｆ
ＩＩ−５の化合物              ０．３ｇ
メタノール                    ０．３ｇ
エチレングリコール            ２．０ｇ
純水を加えて                  １．０リットル
【００１６】
処理液ＥのＩＩ−４の化合物と処理液ＦのＩＩ−５の化合物を以下に示す。
（ＩＩ−４）    Ｃ16Ｈ33−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）10−Ｈ
（ＩＩ−５）    Ｃ16Ｈ33−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20−Ｈ
【００１７】
三菱製紙株式会社製白黒印画紙ＧＥＫＫＯ  ＭＵＬＴＩ  ＭＤ−Ｆにネガフィルムを通して露光後、三菱製紙株式会社製現像液ゲッコール、停止液として３％酢酸水溶液、三菱製紙株式会社製定着液ダイヤスーパーフィックスで処理後、水道水で水洗した後、上記処理液Ａ〜Ｆに浸漬してから室温で吊り下げて乾燥させ、試料１から６を得た。また比較のために水道水で水洗したあと、上記処理液で処理していない試料７を得た。乾燥後試料１〜７について乾燥ムラによる欠陥（表面の光沢に異常の見られる部分）を観察し、次の基準でグレード評価した。１：ムラによる欠陥は観察されない  ２：ごく小さい部分でムラによる欠陥が観察されたが、実用的に許容できる  ３：部分的にムラによる欠陥が発生しており、許容できない  ４：ムラによる欠陥が全面に発生
【００１８】
結果を以下に示す。
処理液          ムラによる欠陥          備考
試料１           Ａ                  ３                比較例
試料２           Ｂ                  １                本発明
試料３           Ｃ                  １                本発明
試料４           Ｄ                  １                本発明
試料５           Ｅ                  ３                比較例
試料６           Ｆ                  ３                比較例
試料７           なし                ４                比較例
【実施例２】
【００１９】
市販のエマルジョンマスクにレーザー描画機で画像露光後、三菱製紙株式会社製ガラスマスク自動現像装置ＥＬ−ＧＰＩで処理した。自動現像装置の第１から第４槽を順に現像・停止・定着・水洗槽とし、第５槽に実施例１のＡ〜Ｆの処理液を入れて試料８〜１３、および第４槽の水洗後第５槽で処理液で処理しない試料１４を得た。乾燥はエアナイフノズルを用いた。試料８〜１４について八千代コーポレーション社製画像検査装置で画像を検査し、故障として検出される欠陥の発生状況を調べ、次の基準でグレード評価した。１：欠陥なし  ２：部分的に欠陥があるが、実用的に許容できる  ３：部分的に欠陥が発生しており、許容できない  ４：欠陥が全面に発生
【００２０】
結果を以下に示す。
処理液          欠陥発生状況            備考
試料８           Ａ                ３                  比較例
試料９           Ｂ                ２                  本発明
試料１０         Ｃ                ２                  本発明
試料１１         Ｄ                ２                  本発明
試料１２         Ｅ                ３                  比較例
試料１３         Ｆ                ３                  比較例
試料１４         なし              ４                  比較例
【００２１】
試料１０において自動現像機の第６槽を純水槽とし、処理液Ｃで処理後に純水で水洗してから乾燥して得られた試料を試料１５とした。同様に欠陥の発生状況を評価したところ、グレード１と判定された。