(57)【要約】  【課題】  ビームエキスパンダーレンズの位置により、対物レンズ出射光量が変化する。  【解決手段】  ビームエキスパンダーとこれを構成するビームエキスパンダーレンズの位置を動かすためのビームエキスパンダーレンズ駆動手段を有する光ヘッドし、光ディスクに対して信号を記録中に、前記ビームエキスパンダーレンズ駆動手段により前記ビームエキスパンダーレンズを動かす光ディスク装置であって、前記ビームエキスパンダーレンズの移動量に基づき前記レーザー光源の出射光強度を変える  【選択図】  図１
2005100481.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー光源と、前記レーザー光源から出射された光を光ディスク上に集光する対物レンズと、前記光ディスクからの反射光を検出する光検出器と、前記レーザー光源と前記対物レンズとの間にビームエキスパンダーを配置すると共に、前記ビームエキスパンダーを構成するビームエキスパンダーレンズの位置を動かすためのビームエキスパンダーレンズ駆動手段を配置した光ヘッドを有し、前記光ディスクに対して信号を記録中または記録待機中に、前記ビームエキスパンダーレンズ駆動手段により前記ビームエキスパンダーレンズを動かす光ディスク装置であって、
前記ビームエキスパンダーレンズの移動量に基づき前記レーザー光源の出射光強度を変えることを特徴とする光ディスク装置。
【請求項２】
前記ビームエキスパンダーレンズ駆動手段はステッピングモーターであり、前記ステッピングモーターに出力したパルス数に基づき、前記レーザー光源の出射光強度を変えることを特徴とする請求項1記載の光ディスク装置。
【請求項３】
前記ビームエキスパンダーレンズの位置を検出する位置検出手段を備えると共に、前記位置検出手段からの信号に基づき、前記レーザー光源の出射光強度を変えることを特徴とする請求項1記載の光ディスク装置
【請求項４】
光ディスク装置に前記光ディスクを挿入した際、あるいは光ディスク装置に電源を入れた際に、前記光ディスクの複数の位置でのビームエキスパンダーレンズ間隔の最適値を学習し、前記最適値に基づいて、前記ビームエキスパンダーレンズを動かすことを特徴とする請求項1記載の光ディスク装置
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高密度光ディスクの記録または再生に用いられる高密度光ディスク装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクは、非接触、大容量、低コスト等の特徴を有する情報メディアであり、音楽用、コンピュータ用等の様々な用途で広く用いられているコンパクトディスク（ＣＤ）に続いて、ＣＤの約７倍の容量を有するデジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）が登場している。
【０００３】
近年、波長：405ｎｍのレーザーダイオード、N.A.＝0．85の対物レンズを使用した高密度光ディスク装置の開発が進められている。
【０００４】
光ディスクの基板厚が所定量と異なる場合に発生する球面収差は、N.A.の4乗に比例する。このため、N.A.の大きい対物レンズを使用する高密度光ディスク装置においては、光ディスクの基板厚誤差に対応するために、球面収差の補正を行うことが必須となる。
【０００５】
そこで、従来技術においては、光ヘッドにビームエキスパンダーを搭載し、ビームエキスパンダーを構成する2枚のレンズの間隔を変えることにより、上記球面収差を補正している（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
また、光ディスクの記録または再生中にディスク基板厚誤差を検出する技術としては、例えば、特許文献２に詳しく示されている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−９１８４７号公報（第１図）
【０００８】
【特許文献２】特開２００１−３０７３４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記従来技術では、異なるディスク間の基板厚ばらつきによる球面収差のみを補正することを想定しており、1枚のディスク内における基板厚ばらつきの補正は想定していない。しかし、信号の記録／再生特性をより向上させるためには、1枚のディスクにおける基板厚ばらつきにより発生する球面収差を補正し、光ディスク上のスポット品質を向上させることが必須である。
【００１０】
しかし、1枚のディスク内における基板厚ばらつきにより発生する球面収差を、ビームエキスパンダーを用いて補正する場合、以下に説明する問題が生じる。
【００１１】
図14は、高密度光ディスク装置に搭載される光ヘッドにおいて、一般的に使用される光学系の一例である。
【００１２】
レーザー光源2からは、波長約405ｎｍの発散光が出射される。前記出射光は、コリメートレンズ3により略平行光束となった後、ビーム整形プリズム4に入射する。本ビーム整形プリズム4により、入射した光束の紙面平行方向の強度分布と、紙面垂直方向の強度分布とが、ほぼ等しくなる。ビーム整形プリズム4に入射した光束のうちの所定量は反射され、フロントモニター5に入射する。本フロントモニター5は、レーザー光源2から出射されるレーザー光強度の変化を検出するために設けられており、フロントモニター5の出力をレーザー制御回路にフィードバックすることにより、レーザー光源2からの出射光強度を一定にしている。
【００１３】
ビーム整形プリズム4を透過した光束は、回折格子6により3つの光束に分割され、ディファレンシャルプッシュプル（ＤＰＰ）方式を用いたトラックエラー信号検出に使用される。
【００１４】
回折格子6を出射した光は、偏光性ビームスプリッター（ＰＢＳ）7を透過し、球面収差補正用に設けられたビームエキスパンダー8に入射する。本ビームエキスパンダー8は、凹レンズ16と凸レンズ17とから構成されており、2枚のレンズの内、一方のレンズを可動としている。そして2枚のレンズの間隔を変えることにより、ビームエキスパンダー8に入射する略平行光を、弱発散光、あるいは弱収束光に変える。本弱発散光、あるいは弱収束光が対物レンズ12に入射した場合、対物レンズ12において球面収差が発生するため、これを用いて、光ディスクの基板厚誤差に起因して発生する球面収差を打ち消す。
【００１５】
ビームエキスパンダー8を出射した光束は、立ち上げミラー9により、紙面垂直方向に反射される（図中では、簡略のため2次元で表記）。
【００１６】
アクチュエータ11は、1／4波長板10、図示せぬフォーカスコイル、トラッキングコイル並びにN.A.：0.85の対物レンズ12を保持している。そして、前記フォーカスコイルおよびトラッキングコイルに電流を流すことにより、対物レンズ12をフォーカシング方向およびトラッキング方向に駆動可能となっている。
【００１７】
立ち上げミラー9を出射した光は、1／4波長板10により円偏光に変換された後、対物レンズ12により、光ディスク13の信号記録層に絞り込まれる。
【００１８】
光ディスク13からの反射光は、再び対物レンズ12を通過した後、1／4波長板10により、直線偏光に変換される。
【００１９】
1／4波長板10を出射した光は、立ち上げミラー9で反射され、ビームエキスパンダー8を通過した後、ＰＢＳ7により反射される。そして、検出レンズ14を通過した後、光検出器15に導かれる。
【００２０】
光検出器15に導かれた光は、電気信号に変換され、信号処理回路においてフォーカスエラー信号およびトラックエラー信号といったサーボ信号、および光ディスク13上に記録されている情報信号の検出等に使用される。
【００２１】
対物レンズ12に入射する光量は、アクチュエータ12に設けられた制限開口18を通過する光束の総量となる。前述したとおり、ビームエキスパンダー8を構成する2枚のレンズ16、17の間隔を変えることにより、ビームエキスパンダー8を出射した光束は、弱発散光あるいは弱収束光へと変化する。したがって、対物レンズに入射する光量は、ビームエキスパンダーレンズ16、17の間隔により変化することになる。
【００２２】
図15は、ビームエキスパンダー8、制限開口18および対物レンズ12と、光束との関係を示したものである。（1）において、本ビームエキスパンダー8を構成する2枚のレンズ16、17の間隔がＡである場合に、ビームエキスパンダー8に入射する平行光は、平行光としてビームエキスパンダー8から出射される。この場合、制限開口18を通過する光束径に対応するビームエキスパンダー入射前の光束径はＢとなる。
【００２３】
一方、（2）は、2枚のレンズ16、17の間隔がＡ+a（＞Ａ）である場合を示している。この場合、ビームエキスパンダー8を出射する光束は弱収束光となる。したがって、制限開口18を通過する光束径に対応するビームエキスパンダー入射前の光束径はＢより大きくなり、対物レンズ12への入射光量は、（1）の場合より大きくなる。
【００２４】
また、（3）は、2枚のレンズ16、17の間隔がＡ−a（＜Ａ）である場合を示している。この場合、ビームエキスパンダー8を出射する光束は弱発散光となる。したがって、制限開口18を通過する光束径に対応するビームエキスパンダー入射前の光束はＢより小さくなり、対物レンズ12への入射光量は、（1）の場合より小さくなる。
【００２５】
これに対して、フロントモニター5に入射する光量はビームエキスパンダーレンズ16、17の間隔に依存せず一定である。このため、例えば信号の記録中にビームエキスパンダーレンズ16、17の間隔を変えた場合、フロントモニター5からの出力は一定であるにも係らず、対物レンズ12から光ディスク13に出射される光量が変化することになり、信号の記録特性が劣化する原因となる。
【００２６】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ビームエキスパンダーレンズ16、17の間隔に対応して、レーザー２の出射光強度を変化させることにより、安定で高性能な信号記録を行うことのできる高密度光ディスク装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００２７】
前記課題を解決するために、本発明光ディスク装置では、レーザー光源と、前記レーザー光源から出射された光を光ディスク上に集光する対物レンズと、前記光ディスクからの反射光を検出する光検出器と、前記レーザー光源と前記対物レンズとの間にビームエキスパンダーを配置すると共に、前記ビームエキスパンダーを構成するビームエキスパンダーレンズの位置を動かすためのビームエキスパンダーレンズ駆動手段を配置した光ヘッドを有し、前記光ディスクに対して信号を記録中または記録待機中に、前記ビームエキスパンダーレンズ駆動手段により前記ビームエキスパンダーレンズを動かすように構成し、前記ビームエキスパンダーレンズの移動量に基づき前記レーザー光源の出射光強度を変える構成とする。
【００２８】
また、前記ビームエキスパンダーレンズ駆動手段をステッピングモーターとし、前記ステッピングモーターに出力したパルス数に基づき、前記レーザー光源の出射光強度を変える構成とする。
【００２９】
また、前記ビームエキスパンダーレンズの位置を検出する位置検出手段を備えると共に、前記位置検出手段からの信号に基づき、前記レーザー光源の出射光強度を変える構成とする。
【００３０】
また、光ディスク装置に前記光ディスクを挿入した際、あるいは光ディスク装置に電源を入れた際に、前記光ディスクの複数の位置でのビームエキスパンダーレンズ間隔の最適値を学習し、前記最適値に基づいて、前記ビームエキスパンダーレンズを動かす構成とする。
【発明の効果】
【００３１】
本発明では、高密度光ディスク装置において、1枚の光ディスク内の基板厚誤差を補正すると共に、それに伴い生じる対物レンズ出射光強度の変化を低減することで、安定で高性能な信号記録を行うことを可能としている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、本発明による実施形態について、図を用いて詳細に説明する。ここでは、実施形態の一例として、波長：405ｎｍのレーザーダイオード、N.A.＝0．85の対物レンズを使用し、高密度光ディスクに信号を記録または再生することが可能な光ディスク装置について説明を行う。
【００３３】
図2は、本発明の実施例に拘わる光ディスク装置の概略構成を示したものである。光学系の構成は、図14に示したものと同じであることから、光学系に関する説明は簡略に行う。
【００３４】
レーザー光源2からは、波長約405ｎｍの発散光が出射され、コリメートレンズ3により略平行光束となった後、ビーム整形プリズム4に入射する。ビーム整形プリズム4に入射した光束のうちの所定量は反射され、フロントモニター5に入射する。本フロントモニター5は、レーザー光源2から出射されるレーザー光強度の変化を検出するために設けられており、フロントモニター5の出力をレーザー制御回路22にフィードバックすることにより、レーザー光源2からの出射光強度を一定にしている。
【００３５】
ビーム整形プリズム4を透過した光束は、図示せぬ回折格子により3つの光束に分割され、ディファレンシャルプッシュプル（ＤＰＰ）方式を用いたトラックエラー信号検出に使用される。
【００３６】
図示せぬ回折格子を出射した光は、ＰＢＳ7を透過し、球面収差補正用に設けられたビームエキスパンダー8に入射する。
【００３７】
図3は、ビームエキスパンダー8を構成する部品の詳細を示したものである。ビームエキスパンダー8を構成する2枚レンズ16、17の内、一方のレンズ16は固定されているのに対して、もう一方のレンズ17はモーター31と接続されている。そして、モーター31を駆動することにより光軸方向と平行に設けられたガイド33、34に沿って、ビームエキスパンダーレンズ17を光軸方向に移動させることが可能になっている。そして、ビームエキスパンダーレンズ17の位置を変えることにより、ビームエキスパンダー8に入射する略平行光を、弱発散光、あるいは弱収束光に変える。また、本ビームエキスパンダー8には、一般にフォトインタラプター（フォトリフレクター）と呼ばれる素子32を取り付けており、フォトインタラプター（フォトリフレクター）32から出力される信号により、ビームエキスパンダーレンズ17の位置を検出することが可能となっている。
【００３８】
図4は、本発明光ディスク装置に使用したビームエキスパンダー8の特性を示したものであり、光ディスク13の基板厚誤差量と光ディスク13上での光スポットの収差との関係、および基板厚誤差量とその基板厚誤差により発生する球面収差を補正した場合におけるビームエキスパンダーレンズ17の移動量との関係を示している。光ディスク13に基板厚誤差がある場合、ビームエキスパンダー8による補正を行わなければ、51に示すように大きな収差が発生する。これに対し、ビームエキスパンダーレンズ17を、53に示すように移動させることにより、球面収差が補正され、52に示すように収差が大幅に低減される。このように、ビームエキスパンダーレンズ17の位置を変えることにより、光ディスク13の基板厚誤差により発生する収差を補正することができる。
【００３９】
図2において、ビームエキスパンダー8を出射した光束は、図示せぬ立ち上げミラー9により、紙面垂直方向に反射された後（図中では、簡略のため2次元で表記）、アクチュエータ11に搭載された図示せぬ1／4波長板により円偏光に変換され、対物レンズ12により、光ディスク13の信号記録層に絞り込まれる。
【００４０】
光ディスク13からの反射光は、再び対物レンズ12を通過し、図示せぬ1／4波長板により、直線偏光に変換された後、図示せぬ立ち上げミラーで反射され、ビームエキスパンダー8を通過し、ＰＢＳ7により反射される。そして、検出レンズ14を通過した後、光検出器15に導かれる。
【００４１】
光検出器15に導かれた光は、電気信号に変換され、信号処理回路25においてフォーカスエラー信号およびトラックエラー信号といったサーボ信号、および光ディスク13上に記録されている情報信号（ＲＦ信号）の検出等に使用される。
【００４２】
ここでは、フォーカスエラー信号を検出するのに、非点収差方式を、トラックエラー信号を検出するのにＤＰＰ方式を使用している。
【００４３】
前記信号処理回路25において生成されたフォーカスエラー信号はフォーカス制御回路23に供給される。このフォーカス制御回路23において、アクチュエータ11の駆動信号を生成し、出力することにより、対物レンズ12はフォーカシング方向に制御され、フィードバックループのフォーカス制御を実現して、常にディスク13の記録層に対して合焦点にいる状態を保つ。
【００４４】
一方、前記信号処理回路25において生成されたトラックエラー信号は、トラッキング制御回路24に供給される。このトラッキング制御回路24において、アクチュエータ11の駆動信号を生成し、出力することにより、対物レンズ12はトラッキング方向に制御され、フィードバックループのトラッキング制御を実現して、常にディスク13の記録層におけるトラック上にいる状態を保つ。
【００４５】
また、トラッキング制御回路24から出力された駆動信号は図示せぬスレッド制御回路にも供給される。そして、スレッド制御回路において、対物レンズ12のトラッキング方向へのずれ量に応じて図示せぬスレッドモータを制御する駆動信号が生成され、スレッドモータに出力される。これによって、スレッドモータを動かし、光ヘッド1全体を光ディスク13の半径方向に移動させる。
【００４６】
また、信号処理回路25では、ディスク13から読み取った回転周期情報をスピンドル制御回路27に供給する。そして、スピンドル制御回路27において、上記回転周期情報に基づいてスピンドルモータ19を駆動する信号を生成し、これをスピンドルモータに出力する。
【００４７】
また、マイクロコンピュータ（マイコン）26は、回路の初期化等を行うと共に、レーザー制御回路22に対してレーザー点灯/消灯およびレーザーパワーの指示、フォーカス制御回路23に対して、フォーカスサーボループのオープン/クローズの指示、トラッキング制御回路24に対して、トラッキングサーボループのオープン/クローズの指示、スピンドル制御回路27に対してスピンドルの回転/停止および回転速度の指示等を行う。
【００４８】
図5における54は、本発明光ディスク装置におけるビームエキスパンダーレンズ17の移動量と対物レンズ12への入射光量との関係を示している。ここでは、ビームエキスパンダーレンズ17の移動量＝0ｍｍにおける入射光量の値を用いて正規化している。前述したとおり、ビームエキスパンダーレンズ17を移動させた場合、ビームエキスパンダー8を出射する光束は、弱発散光あるいは弱収束光となるため、対物レンズ12に入射する光量が変化する。このため、ビームエキスパンダーレンズ17を移動させた場合、光ディスク13への出射光強度が変化し、信号の記録特性が劣化することになる。そこで本発明光ディスク装置では、図5における55に示すように、光ディスク13への出射光強度の変化を低減することを目的として、ビームエキスパンダーレンズ17の移動量に応じて、レーザー2の出射光強度を変化させるように構成している。例えば、ビームエキスパンダーレンズ17の移動量が、（a）以上になった場合、移動量：0mmであった場合に対して、レーザー2の出射光強度を2．2％大きくし（1０２．２％とする）、（ｂ）以上になった場合には、移動量：0mmであった場合に対して、レーザー2の出射光強度を4．4％大きくする（1０４．４％とする）のである。
【００４９】
これにより、図6に示すように、ビームエキスパンダーレンズ17を動かした場合における対物レンズ12への入射光量の変化を54から56に低減することが可能となる。
【００５０】
なお、ビームエキスパンダー17の移動量と対物レンズ入射光量との関係は、光学系に依存するため、光学系を決定すれば、ビームエキスパンダー17の移動量とレーザー出射光強度との関係を決定することができる。
【００５１】
図1は、本発明光ディスク装置において、本発明光ディスクドライブの構成を一部抜き出したものである。マイコン26は、ビームエキスパンダーレンズ17を動かすモーター31の駆動回路21に対して、駆動信号の生成／非生成の指示を行うと共に、フォトインタラプター（フォトリフレクター）32から出力される信号によりビームエキスパンダーレンズ17の位置を検出する。そして、ビームエキスパンダーレンズ17の位置に応じてレーザー2の出射光強度を変更するように、レーザー制御回路22に対して指示を行う。
【００５２】
以上が本発明光ディスク装置の概略構成である。
【００５３】
次に、本発明光ディスク装置において信号記録を行う場合の手順について説明する。
【００５４】
図7は、信号記録を行う場合のフローチャートを示したものである。
【００５５】
ステップ101では、光ディスクが装着され、ステップ102では、光ディスクの所定位置においてビームエキスパンダーレンズ17の最適な位置を学習する。
【００５６】
図8は、光ディスク13と対物レンズ12との位置関係を示したものである。本発明光ディスク装置では、光ヘッド1を光ディスク13の半径方向に移動させ、内周Ａ、中周Ｂ、外周Ｃの3点において、ＲＦ信号あるいはトラッキングエラー信号（プッシュプル信号）等を用いて、最適なビームエキスパンダーレンズ1７の位置を検出している。
【００５７】
次に、図7のステップ103で、光ディスク13における半径方向の位置とビームエキスパンダーレンズ位置との関係を設定する。
【００５８】
図9は光ディスク13の半径方向の位置と光ディスク13の基板厚との関係を測定した1例である。57が測定値であり、58は、内周Ａ、中周Ｂ、外周Ｃの3点におけるディスク基板厚を直線で結んだものである。58に示す基板厚誤差により発生する球面収差を補正するためには、図4に示したビームエキスパンダー8の特性から、図10に示すように、光ディスク13の半径方向の位置とビームエキスパンダーレンズ17の移動量との関係を設定すればよい。そこで、本発明光ディスク装置では、光ディスク13の内周Ａ、中周Ｂ、外周Ｃの3点において、最適なビームエキスパンダーレンズ位置を検出し、そのデータを直線補完する。そして、対物レンズ12が、光ディスク13の半径方向のどの位置に存在するかを検出し、前記補完結果（図10）に従い、ビームエキスパンダーレンズ位置を動かすように構成している。
【００５９】
なお、球面収差の補正精度は低下するが、学習に要する時間を短縮するために、内周Ａ、外周Ｃの2点において最適なビームエキスパンダーレンズ位置を検出する構成としてもよい。
【００６０】
次に、図7のステップ104でスレッドを記録開始位置に移動し、ステップ105で、ビームエキスパンダーレンズを、上記記録開始位置に適した位置に移動させ、光ディスクへの信号の記録を開始する。
【００６１】
次に、ステップ106で信号の記録を続行するか否かの判断を行い、続行しない場合にはステップ110で、記録を終了する。続行する場合には、ステップ107で、図10に示したディスク半径方向の位置とビームエキスパンダーレンズ移動量との関係に基づき、ビームエキスパンダーレンズの位置を移動させる。なお、ビームエキスパンダーレンズの駆動は、図10のように連続的に行ってもよいし、ステップ状（階段状）に行ってもよい。
【００６２】
次に、ステップ108で、ビームエキスパンダーの位置が図5に示す（a）〜（ｆ）、あるいは（a’）〜（ｆ’）のいずれかに達しているか否かを判断し、達している場合には、ステップ109で、図5における58に示すようにレーザーの出射光強度を変更する。
【００６３】
以上が、本発明光ディスク装置における信号記録の手順である。
【００６４】
なお、上記ステップは、マイコン26の命令により行われる。
【００６５】
上述した例では、モーター31を用いてビームエキスパンダーレンズ17を動かしているが、レンズ17を動かす装置はモーターに限定するものではなく、アクチュエータ等であってもよい。
【００６６】
また、フォトインタラプター（フォトリフレクター）32から出力される信号により、ビームエキスパンダーレンズ17の位置を検出しているが、モーター31にステッピングモーターを使用し、ステッピングモーターに出力したパルス数からビームエキスパンダーレンズの位置を求めてもよい。図11は、ステッピングモーターに出力したパルス数と対物レンズ入射光量との関係およびステッピングモーターに出力したパルス数と設定すべきレーザー出射光強度との関係を示している。この場合、前記パルス数をカウントし、その数に応じて60に示すようにレーザー２の出射光強度を設定すればよい。
【００６７】
なお、モーター31にステッピングモーターを使用し、フォトインタラプター（フォトリフレクター）から出力される信号により、ビームエキスパンダーレンズ17の位置を検出する構成にしてもよいことはいうまでもない。
【００６８】
以上に説明した例では、光ディスク13の装着時にビームエキスパンダーレンズ17の位置を学習する構成としているが、光ディスク13の基板厚誤差を信号の記録中に検出し、その信号に基づいてビームエキスパンダーレンズ17の位置を移動させる構成であってもよい。
【００６９】
なお、光ディスクの記録または再生中にディスク基板厚誤差を検出する技術としては、例えば、前記特許文献２に詳しく示されているため、ここでは説明を省略する。
【００７０】
図12は、光ディスク13に信号を記録中にディスク基板厚誤差を検出する構成をとった場合における信号記録時のフローチャートである。
【００７１】
ステップ111では光ディスクが装着され、ステップ112では、スレッドを記録開始位置に移動する。次に、ステップ113で、ディスク基板厚誤差信号を検出し、本誤差信号が略0となるようにビームエキスパンダーレンズ17を移動し、ステップ114で、光ディスクへの信号の記録を開始する。
【００７２】
次に、ステップ115で信号の記録を続行するか否かの判断を行い、続行する場合には、ステップ116で、ディスク基板厚誤差を検出し、本誤差が略0となるようにビームエキスパンダーレンズを移動する。また、続行しない場合にはステップ119で、記録を終了する。
【００７３】
次に、ステップ117で、ビームエキスパンダーの位置が図5に示す（a）〜（ｆ）、あるいは（a’）〜（ｆ’）のいずれかに達しているか否かを判断し、達している場合には、ステップ118で、図1における58に示すようにレーザーの出力を変更する。
以上が、信号を記録中にディスクの基板厚誤差を検出する場合における、本発明光ディスク装置の信号記録の手順である。
【００７４】
図13は、本発明の光ディスク装置の概略斜視図である。
【００７５】
光ディスク装置においては、キャリッジ40上に光ヘッド1が配置されており、キャリッジ40は、ユニットメカシャ−シ45に搭載されたキャリッジ送り機構によって光ディスク13の半径方向に移動可能となっている。
【００７６】
本発明ディスク装置は、ディスクトレイ42上に置かれた光ディスク13を、図示せぬディスクロ−ディング機構により、装置内に送る、あるいは装置外に出す、という動作を行う。また、装置内に送られたディスク13は、スピンドルモ−タ−の回転軸に一体に構成されたタ−ンテ−ブル41に搭置され、クランパ−ホルダ−44に取付けられているクランパ−43によって吸引固定される。
【００７７】
スピンドルモ−タ−により、ディスク13は回転し、ディスク13上への信号の書き込み、あるいは、ディスク13上に記録された信号の読み出しを、光ヘッド1によって行う。
【００７８】
ユニットメカシャ−シ45は、弾性部材で構成した防振脚47を介して、メカベ−ス46に取付けられている。また、装置全体にはボトムカバ−48とトップカバ−49が取付けられている。
【００７９】
ただし、光ディスク13としてカートリッジを用いた場合でもかまわない。また、光ディスク13をトレイに載せて挿入する方式以外に、光ディスク13あるいはカートリッジそれ自体を自動あるいは手動によって挿入する方式等、従来公知の各種方式を用いることができる。
【００８０】
なお、以上は高密度光ディスク装置を例にとり説明を行ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、また、ＤＶＤ、ＣＤ等との互換光ディスク装置であっても同じく有効である。フォーカスエラー信号およびトラックエラー信号の検出方法として、上記以外の方式を使用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明光ディスク装置の一部を抜粋して示した概略図である。
【図２】本発明光ディスク装置の概略構成を示した図である。
【図３】本発明光ディスク装置におけるビームエキスパンダーの概略斜視図である。
【図４】ビームエキスパンダーの特性を示した図である。
【図５】レンズの移動量とレーザー強度との関係を示した図である。
【図６】レーザー強度の補正を行う前後における対物レンズ入射光量を示した図である。
【図７】本発明光ディスク装置における信号記録時の手順を示した図である。
【図８】ディスクの半径方向の位置について説明した図である。
【図９】ディスクの半径方向の位置とディスク基板厚との関係を示した図である。
【図１０】ディスクの半径方向の位置とレンズ移動量との関係を示した図である。
【図１１】モーターに出力したパルス数とレーザー強度との関係を示した図である。
【図１２】本発明光ディスク装置における信号記録時の手順を示した図である。
【図１３】本発明光ディスク装置の概略斜視図である。
【図１４】光学系の構成を示した平面図である。
【図１５】レンズ間隔と対物レンズへの入射光量との関係を説明した図である。
【符号の説明】
【００８２】
1…光ヘッド、2…レーザー光源、3…コリメートレンズ、4…ビーム整形プリズム、5…フロントモニター、6…回折格子、7…偏光性ビームスプリッター（ＰＢＳ）、8…ビームエキスパンダー、9…立ち上げミラー、10…1／4波長板、11…アクチュエータ、12…対物レンズ、13…光ディスク、14…検出レンズ、15…光検出器  、16、17…ビームエキスパンダーレンズ、18…制限開口、19…スピンドルモータ、21…モーター駆動回路、22…レーザー制御回路、23…フォーカス制御回路、24…トラッキング制御回路、25…信号処理回路、26…マイコン、27…スピンドル制御回路、31…モーター、32…フォトインタラプター（フォトリフレクター）、33、34…ガイド、40…キャリッジ、41…ターンテーブル、42…ディスクトレイ、43…クランパー、44…クランパーホルダー、45…ユニットメカシャーシ、46…メカベース、  47…防振脚、48…ボトムカバー、49…トップカバー。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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