(57)【要約】【課題】反射率が低くかつ輝点欠陥の数が少なく、しかも生産性よく低コストで製造できる反射防止フィルムを提供すること。【解決手段】透明支持体上に光拡散層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、光拡散層が透光性樹脂からなるマトリックス中に透光性粒子が分散してなり、マトリックスと透光性粒子との屈折率差が０．０２〜０．２であり、低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．５５であり、５０μｍ以上の輝点欠陥の数が２０個／ｍ2以下である反射防止フィルム。好ましくは、帯電防止層を設け、光拡散層と低屈折率層を米国連邦規定２０９Ｅにおける空気清浄の規定に基づいたクラス１０以上の清浄度の空気雰囲気下で形成する。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、少なくとも光拡散層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、該光拡散層が、少なくとも透光性樹脂からなるマトリックス中に、少なくとも１種の透光性粒子が分散してなり、該マトリックスと該透光性粒子との屈折率差が０．０２〜０．２であり、該低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．５０であり、５０μｍ以上の大きさの輝点欠陥の数が２０個／ｍ2以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
透明支持体上に少なくとも１層の帯電防止層を有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
波長３８０ｎｍから７８０ｎｍまでの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値が、それぞれ−７≦ａ*≦７、−１０≦ｂ*≦１０であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
帯電防止層が、導電性材料として、イオン性高分子化合物および導電性無機微粒子から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
イオン性高分子化合物が分子架橋を有する４級アンモニウムカチオンポリマーであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
イオン性高分子化合物が下記一般式（１）、（１ａ）および（１ｂ）で表される構造のユニットを有するポリマーであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【化１】
2005148681.tif 000039
一般式（１）中、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、ハロゲン原子または−ＣＨ2ＣＯＯ-Ｍ+を表す。Ｙは水素原子または−ＣＯＯ-Ｍ+を表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−または−Ｏ−を表す。Ｊは炭素数１〜１２のアルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
【化２】
2005148681.tif 000040
Ｍ+はプロトンまたはカチオンを表す。Ｒ2、Ｒ2'およびＲ2"はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘ-はアニオンを表す。ｐおよびｑはそれぞれ独立に０または１を表す。
【化３】
2005148681.tif 000041
一般式（１ａ）、（１ｂ）中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は炭素数１〜４の置換または未置換のアルキル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。Ａ、ＢおよびＤはそれぞれ独立に炭素数２〜１０の置換または無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ7ＣＯＲ8−、−Ｒ9ＣＯＯＲ10ＯＣＯＲ11−、−Ｒ12ＯＣＲ13ＣＯＯＲ14−、−Ｒ15−（ＯＲ16）m−、−Ｒ17ＣＯＮＨＲ18ＮＨＣＯＲ19−、−Ｒ20ＯＣＯＮＨＲ21ＮＨＣＯＲ22−または―Ｒ23ＮＨＣＯＮＨＲ24ＮＨＣＯＮＨＲ25−を表す。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ22、Ｒ23およびＲ25はアルキレン基を表す。Ｒ10、Ｒ13、Ｒ18、Ｒ21およびＲ24はそれぞれ置換または無置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基およびアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ‐はアニオンを表す。Ｅは単結合、−ＮＨＣＯＲ26ＣＯＮＨ−および前記Ｄから選ばれる基を表す。Ｒ26は置換あるいは無置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基またはアルキレンアリーレン基を表す。Ｚ1、Ｚ2は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員または６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ+[Ｘ-]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。ｎは５〜３００の整数を表す。
【請求項７】
低屈折率層が、下記一般式（２）で示されるオルガノシラン化合物（Ａ）の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する組成物から形成されたことを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
一般式（２）  （Ｒ）m1Ｓｉ（Ｘ）m2
一般式（２）中、Ｘは−ＯＨ、ハロゲン原子、−ＯＲ30または−ＯＣＯＲ30を表す。ＲおよびＲ30はそれぞれ炭素数１〜１０のアルキル基を表す。ｍ1およびｍ2はそれぞれ整数を表し、ｍ1＋ｍ2＝４を満たす。
【請求項８】
前記オルガノシラン化合物（Ａ）の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する組成物が、下記オルガノシラン(Ｂ)および(Ｃ)の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有し、該組成物中にオルガノシラン（Ｃ）の加水分解物および／またはその部分縮合物をオルガノシラン（Ｂ）のそれに対し２〜１５０質量％含み、オルガノシラン(Ｂ)および(Ｃ)の少なくとも一方が一般式中のＲ31にフッ素原子を有することを特徴とする請求項７に記載の反射防止フィルム。
（Ｂ）一般式（２ｂ）：Ｒ31Ｓｉ(Ｘ1)3（式中、Ｒ31は炭素数１〜１０の有機基、Ｘ1は前記一般式（２）中のＸと同一の内容を表す。）で表されるオルガノシラン。
（Ｃ）一般式（２ｃ）：（Ｒ31）2Ｓｉ(Ｘ1)2（式中、Ｒ31、Ｘ1は前記(Ｂ)で定義されたと同一の内容を表す。）で表されるオルガノシラン。
【請求項９】
前記オルガノシラン化合物（Ａ）の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する組成物が、末端あるいは側鎖に加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合体中に少なくとも１個有するシリル基含有ビニルポリマー（Ｄ）を含有することを特徴とする請求項８に記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
光拡散層および低屈折率層が、米国連邦規定２０９Ｅにおける空気清浄の規定に基づいたクラス１０以上の清浄度の空気雰囲気下で形成されたことを特徴とする請求項１〜９に記載の反射防止フィルム。
【請求項１１】
偏光子が２枚の保護フィルムに挟持された偏光板であって、少なくとも１枚の保護フィルムが請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれかに記載の反射防止フィルムまたは請求項１１に記載の偏光板をディスプレイの最表面に備えることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、該反射防止フィルムを用いた偏光板および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、一般に、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ（PDP）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ELD）や液晶表示装置（LCD）のようなディスプレイ装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映りこみを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。
従来、反射防止膜としては、金属酸化物の透明薄膜を、様々な波長の光の反射を防止するために複数層積層させた多層膜が普通に用いられている。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（CVD）法や物理蒸着（PVD）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法により形成されている。この金属酸化物の透明薄膜は、反射防止膜として優れた光学的性能を有しているが、蒸着による形成方法は生産性が低く大量生産に適していないので、蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により反射防止膜を形成する方法が提案されている（例えば、特許文献１〜７参照）。
【０００３】
しかしながら、例えば高屈折率層と低屈折率層を積層させたような多層膜からなる反射防止フィルムにおいては、基材や塗膜上にゴミ、ほこりなどの異物が存在したときに、その部分の膜厚の乱れが生じると、大きく色味、反射率が変わることになり、その部分が塗膜の輝点欠陥として目立ちやすくなることが問題であった。特に、蒸着方式に比べ塗布により膜形成を行う塗布方式では、塗布液に流動性があるため、異物が存在する部分で、異物部への液のより、はじき等が発生し、膜厚の乱れる部分が大きくなり、核となる異物に対して塗膜の輝点欠陥が大きく、目立ちやすくなる。この輝点欠陥の数が多いと、製造時の得率が低くなり、特に画面の大型化が進んでいる近年においては大きな問題であった。  更に画面を黒表示した時には、グレイに近く色味を感じないことが好まれるが、グレイ付近ではわずかな輝点欠陥でも目立ってしまうので問題であった。
このような輝点欠陥の原因となる異物の塗布層への混入を防ぐ方法として、製造設備の塵埃を取り除くことが考えられるが、そのためには大型かつ高価な設備が必要となってしまいコスト面で問題があった。
【特許文献１】特公昭６０−５９２５０号公報
【特許文献２】特開昭５９−５０４０１号公報
【特許文献３】特開平２−２４５７０２号公報
【特許文献４】特開平５−１３０２１号公報
【特許文献５】特開平７−４８５２７号公報
【特許文献６】特開平８−１１０４０１号公報
【特許文献７】特開平８−１７９１２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、反射率が低くかつ輝点欠陥の数が少なく、しかも生産性よく低コストで製造できる反射防止フィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、該反射防止フィルムを用いた偏光板を提供することにある。
また、本発明のさらなる目的は、輝点欠陥が少なく、映りこみが少ない画像表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは鋭意検討の結果、下記構成の反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置により上記目的が達成できることを見出した。
（１）透明支持体上に、少なくとも光拡散層と低屈折率層とを有する反射防止フィルムであって、該光拡散層が、少なくとも透光性樹脂からなるマトリックス中に、少なくとも１種の透光性粒子が分散してなり、該マトリックスと該透光性粒子との屈折率差が０．０２〜０．２であり、該低屈折率層の屈折率が１．２０〜１．５０であり、５０μｍ以上の大きさの輝点欠陥の数が２０個／ｍ2以下であることを特徴とする反射防止フィルム。
（２）透明支持体上に少なくとも１層の帯電防止層を有することを特徴とする上記（１）に記載の反射防止フィルム。
（３）波長３８０ｎｍから７８０ｎｍまでの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値が、それぞれ−７≦ａ*≦７、−１０≦ｂ*≦１０であることを特徴とする上記（１）または（２）に記載の反射防止フィルム。
（４）帯電防止層が、導電性材料として、イオン性高分子化合物および導電性無機微粒子から選ばれる少なくとも１種を含有することを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（５）イオン性高分子化合物が分子架橋を有する４級アンモニウムカチオンポリマーであることを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（６）イオン性高分子化合物が下記一般式（１）、（１ａ）および（１ｂ）で表される構造のユニットを有するポリマーであることを特徴とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【０００６】
【化１】
2005148681.tif 000002
【０００７】
一般式（１）中、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、ハロゲン原子または−ＣＨ2ＣＯＯ-Ｍ+を表す。Ｙは水素原子または−ＣＯＯ-Ｍ+を表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−または−Ｏ−を表す。Ｊは炭素数１〜１２のアルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
【０００８】
【化２】
2005148681.tif 000003
【０００９】
Ｍ+はプロトンまたはカチオンを表す。Ｒ2、Ｒ2'およびＲ2"はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘ-はアニオンを表す。ｐおよびｑはそれぞれ独立に０または１を表す。
【００１０】
【化３】
2005148681.tif 000004
【００１１】
一般式（１ａ）、（１ｂ）中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は炭素数１〜４の置換または未置換のアルキル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。Ａ、ＢおよびＤはそれぞれ独立に炭素数２〜１０の置換または無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ7ＣＯＲ8−、−Ｒ9ＣＯＯＲ10ＯＣＯＲ11−、−Ｒ12ＯＣＲ13ＣＯＯＲ14−、−Ｒ15−（ＯＲ16）m−、−Ｒ17ＣＯＮＨＲ18ＮＨＣＯＲ19−、−Ｒ20ＯＣＯＮＨＲ21ＮＨＣＯＲ22−または―Ｒ23ＮＨＣＯＮＨＲ24ＮＨＣＯＮＨＲ25−を表す。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ22、Ｒ23およびＲ25はアルキレン基を表す。Ｒ10、Ｒ13、Ｒ18、Ｒ21およびＲ24はそれぞれ置換または無置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基およびアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ‐はアニオンを表す。Ｅは単結合、−ＮＨＣＯＲ26ＣＯＮＨ−および前記Ｄから選ばれる基を表す。Ｒ26は置換あるいは無置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基またはアルキレンアリーレン基を表す。Ｚ1、Ｚ2は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員または６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ+[Ｘ-]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。ｎは５〜３００の整数を表す。
【００１２】
（７）低屈折率層が、下記一般式（２）で示されるオルガノシラン化合物（Ａ）の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する組成物から形成されたことを特徴とする上記（１）〜（６）のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【００１３】
一般式（２）  （Ｒ）m1Ｓｉ（Ｘ）m2
【００１４】
一般式（２）中、Ｘは−ＯＨ、ハロゲン原子、−ＯＲ30または−ＯＣＯＲ30を表す。ＲおよびＲ30はそれぞれ炭素数１〜１０のアルキル基を表す。ｍ1およびｍ2はそれぞれ整数を表し、ｍ1＋ｍ2＝４を満たす。
【００１５】
（８）前記オルガノシラン化合物（Ａ）の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する組成物が、下記オルガノシラン(Ｂ)および(Ｃ)の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有し、該組成物中にオルガノシラン（Ｃ）の加水分解物および／またはその部分縮合物をオルガノシラン（Ｂ）のそれに対し２〜１５０質量％含み、オルガノシラン(Ｂ)および(Ｃ)の少なくとも一方が一般式中のＲ31にフッ素原子を有することを特徴とする上記（７）に記載の反射防止フィルム。
（Ｂ）一般式（２ｂ）：Ｒ31Ｓｉ(Ｘ1)3（式中、Ｒ31は炭素数１〜１０の有機基、Ｘ1は前記一般式（２）中のＸと同一の内容を表す。）で表されるオルガノシラン。
（Ｃ）一般式（２ｃ）：（Ｒ31）2Ｓｉ(Ｘ1)2（式中、Ｒ31、Ｘ1は前記(Ｂ)で定義されたと同一の内容を表す。）で表されるオルガノシラン。
（９）前記オルガノシラン化合物（Ａ）の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有する組成物が、末端あるいは側鎖に加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合体中に少なくとも１個有するシリル基含有ビニルポリマー（Ｄ）を含有することを特徴とする上記（８）に記載の反射防止フィルム。
【００１６】
（１０）光拡散層および低屈折率層が、米国連邦規定２０９Ｅにおける空気清浄の規定に基づいたクラス１０以上の清浄度の空気雰囲気下で形成されたことを特徴とする請求項１〜９に記載の反射防止フィルム。
（１１）偏光子が２枚の保護フィルムに挟持された偏光板であって、少なくとも１枚の保護フィルムが上記（１）〜（１０）のいずれかに記載の反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
（１２）上記（１）〜（１０）のいずれかに記載の反射防止フィルムまたは上記（１１）に記載の偏光板をディスプレイの最表面に備えることを特徴とする画像表示装置。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の反射防止フィルムは、反射率が低くかつ輝点欠陥の数が少なく、しかも生産性よく低コストで製造できる点に優れている。また、本発明の反射防止フィルムは、防汚性や耐擦傷性にも優れたフィルムとすることができる。
さらに、本発明の反射防止フィルムは、偏光板の保護フィルムとしても好適に用いることでき、それにより反射防止性を備えた偏光板を提供することができる。これらの、本発明の反射防止フィルム、偏光板を用いた画像表示装置では、視認性に優れ、表示品位の高い画像表示を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明について更に説明する。
まず、本発明の反射防止フィルムの好適な一実施形態を図面を参照しながら説明する。
図１（ａ）に、本発明に係る反射防止フィルムの一実施形態の断面図を模式的に示す。図１（ａ）に示すように、本実施形態の反射防止フィルムは、透明支持体１上に、光拡散層６そして低屈折率層４をこの順序で有する層構成を有する。光拡散層６は、少なくとも透光性樹脂からなるマトリックス中に少なくとも１種の透光性粒子７が分散してなり、光拡散層６の透光性粒子７とマトリックスとの屈折率差は０．０２〜０．２である。低屈折率層４の屈折率は１．２０〜１．５０の範囲である。
本発明の反射防止フィルムにおいては、ハードコート層や帯電防止層などの機能層を設けてもよい。図１（ｂ）に示すように、例えば、透明支持体１と光拡散層６の間に機能層２は設けることができる。機能層２は、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。低屈折率層４は最外層に塗設される。
以下、各層について説明する。なお、本願明細書において、「数値Ａ」〜「数値Ｂ」という記載は、「数値Ａ以上数値Ｂ以下」の意味を表す。
【００１９】
[光拡散層]
光拡散層は、少なくとも透光性樹脂からなるマトリックス中に透光性粒子が分散されて形成される。透光性樹脂は主にバインダーとして機能し、層にハードコート性を付与する。マトリックス中には、層の高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを有してもよい。透光性粒子は、主に防眩性を付与あるいは視野角依存性を低減するために添加される。
【００２０】
透光性樹脂としては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーとしては架橋構造を有することが好ましい。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。
層を高屈折率にするためには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むことが好ましい。
【００２１】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
【００２２】
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。
【００２３】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、この場合に光拡散層は、例えば、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、透光性粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体または下層上に塗布、乾燥後、電離放射線または熱による重合反応により硬化して形成することができる。
【００２４】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（P．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製のイルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ？ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
【００２５】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾービスーイソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビスーシクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。熱ラジカル開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【００２６】
ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、この場合に光拡散層は、例えば、多官能エポキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体または下層上に塗布、乾燥後、電離放射線または熱による重合反応により硬化して形成することができる。光の作用によってカチオンを発生させる光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩やジアリールヨードニウム塩などのイオン性の化合物やスルホン酸のニトロベンジルエステルなどの非イオン性の化合物が挙げられ、有機エレクトロニクス材料研究会編、イメージング用有機材料ぶんしん出版社刊（１９９７）などに記載されている化合物等種々の公知の光酸発生剤が使用できる。この中で特に好ましくはスルホニウム塩もしくはヨードニウム塩であり、対イオンとしてはＰＦ6-、ＳｂＦ6-、ＡｓＦ6-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-などが好ましい。光酸発生剤は多官能エポキシ化合物の総質量に対して、０．１乃至１５質量％の範囲で使用することが好ましく、１乃至１０質量％の範囲で使用することがさらに好ましい。
【００２７】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
【００２８】
光拡散層は、防眩性付与あるいは視野角依存性低減の目的で少なくとも１種の透光性粒子を含有する。透光性粒子の平均粒径は０．５〜５μｍが好ましく、さらに１．０〜４μｍが好ましい。例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が使用される。
透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。
透光性粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できるが真球が好ましい。
【００２９】
また、光拡散層には２種類以上の透光性粒子を含有させてもよく、粒子径の異なる２種以上の粒子を含有させることが好ましく、より大きな粒子径の粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、１３３ｐｐｉ以上の高精細ディスプレイに反射防止フィルムを貼り付けた場合に、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。このギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸（防眩性に寄与）により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与する粒子より小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なる粒子を併用することにより大きく改善することができる。
【００３０】
さらに、透光性粒子の粒子径分布としては単分散であることが好ましく、各粒子の粒子径はそれぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布の透光性粒子を得ることができる。
【００３１】
透光性粒子は、光拡散層の全固形分中に３〜３０質量％含有されるのが好ましい。特に好ましくは１０〜２０質量％である。
透光性粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
【００３２】
光拡散層には、層の屈折率を高めるために、上記の透光性粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、透光性粒子と層のマトリックスとの屈折率差を大きくするために、高屈折率の透光性粒子を用いた光拡散層では層のマトリックスの屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
光拡散層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯとＳｉＯ2等が挙げられる。ＴｉＯ2およびＺｒＯ2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、光拡散層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体であるマトリックスは光学的に均一な物質として振舞う。
【００３３】
本発明の光拡散層のマトリックス（透光性樹脂、必要に応じて添加される無機フィラーなどとの混合物）の屈折率と透光性粒子の屈折率の差は０．０２〜０．２であることが好ましく、光拡散層のマトリックスの屈折率は１．４８〜２．００であることが好ましい。より好ましい前記屈折率差は０．０４〜０．１５であり、光拡散層のマトリックスのより好ましい屈折率は１．５０〜１．８０である。光拡散層のマトリックスの屈折率を上記範囲とするには、透光性樹脂及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
【００３４】
光拡散層の膜厚は１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。
【００３５】
本発明の反射防止フィルムは光拡散層を有するので、例えば液晶表示装置などの視野角改良にも効果を有する。本発明者等は、ゴニオフォトメーターで測定される散乱光の強度分布が視野角改良効果に相関することを確認した。すなわち、バックライトから出射された光が視認側表面に設置された本発明の反射防止フィルムで拡散されればされるほど視野角特性がよくなる。しかし、あまり拡散されすぎると、後方散乱が大きくなり、正面輝度が減少する、あるいは、散乱が大きすぎて画像鮮明性が劣化する等の問題が生じる。従って、散乱光強度分布をある範囲に制御することが必要となる。そこで、鋭意検討の結果、所望の視認特性を達成するには、散乱光プロファイルの出射角０°の光強度に対して、特に視認角改良効果と相関ある３０°の散乱光強度が０．０１％〜０．２％であることが好ましく、０．０２％〜０．１５％が更に好ましく、０．０３％〜０．１％が特に好ましい。
散乱光プロファイルは、作成した反射防止フィルムについて、（株）村上色彩技術研究所製の自動変角光度計ＧＰ−５型を用いて測定できる。
【００３６】
[帯電防止層]
本発明においては、帯電防止層を設けることがフイルム表面での静電気を防止し、輝点欠陥の数を減少させる点で好ましい。帯電防止層を形成する方法は、例えば、導電性微粒子と反応性硬化樹脂を含む導電性塗工液を塗工する方法、或いは透明膜を形成する金属や金属酸化物等を蒸着やスパッタリングして導電性薄膜を形成する方法等の従来公知の方法を挙げることができる。
本発明の反射防止フィルムにおいて、帯電防止層は、透明支持体に直接又は透明支持体との接着を強固にするプライマー層を介して形成することができる。また、帯電防止層を反射防止膜の一部として使用することもできる。この場合、最表層から近い層で使用する場合には、膜の厚さが薄くても十分に帯電防止性を得ることができる。
塗工方法は、特に限定されず、塗工液の特性や塗工量に応じて、例えば、ロールコート、グラビアコート、バーコート、押出しコート等の公知の方法より最適な方法を選択して行えばよい。
【００３７】
帯電防止層の厚さは、０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０３〜７μｍであることがより好ましく、０．０５〜５μｍであることがさらに好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、１０5〜１０12Ω／ｓｑであることが好ましく、１０5〜１０9Ω／ｓｑであることがさらに好ましく、１０5〜１０8Ω／ｓｑであることが最も好ましい。帯電防止層の表面抵抗は、四探針法により測定することができる。
帯電防止層は、実質的に透明であることが好ましい。具体的には、帯電防止層のヘイズが、１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが最も好ましい。波長５５０ｎｍの光の透過率が、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、６５％以上であることがさらに好ましく、７０％以上であることが最も好ましい。
本発明の帯電防止層は、強度に優れていることが好ましく、具体的な帯電防止層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度（ＪＩＳ−Ｋ−５４００の規定）で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましく、３Ｈ以上であることがさらに好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。
【００３８】
本発明では、帯電防止層には導電性材料として導電性無機微粒子およびイオン性高分子化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。
【００３９】
（導電性無機微粒子）
導電性無機微粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることがさらに好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることがより好ましい。
【００４０】
導電性無機微粒子は、金属の酸化物または窒化物から形成することが好ましい。金属の酸化物または窒化物の例には、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛および窒化チタンが含まれる。酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。導電性無機微粒子は、これらの金属の酸化物または窒化物を主成分とし、さらに他の元素を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ、Ｓ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子が含まれる。酸化錫および酸化インジウムの導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｐ、Ｂ、Ｎｂ、Ｉｎ、Ｖおよびハロゲン原子を添加することが好ましい。Ｓｂを含有する酸化錫（ＡＴＯ）およびＳｎを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）が特に好ましい。ＡＴＯ中のＳｂの割合は、３〜２０質量％であることが好ましい。ＩＴＯ中のＳｎの割合は、５〜２０質量％であることが好ましい。
【００４１】
帯電防止層に用いる導電性無機微粒子の一次粒子の平均粒子径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、５〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、５〜７０ｎｍであることが最も好ましい。形成される帯電防止層中の導電性無機微粒子の平均粒子径は、１〜２００ｎｍであることが好ましく、５〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１０〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。導電性無機微粒子の平均粒子径は、粒子の質量を重みとした平均径であり、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。
【００４２】
導電性無機微粒子を表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施する。表面処理に用いる無機化合物の例には、アルミナおよびシリカが含まれる。シリカ処理が特に好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤およびチタネートカップリング剤が含まれる。シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて実施してもよい。
導電性無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状あるいは不定形状であることが好ましい。
二種類以上の導電性無機微粒子を帯電防止層内で併用してもよい。
【００４３】
帯電防止層中の導電性無機微粒子の割合は、２０〜９０質量％であることが好ましく、２５〜８５質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがさらに好ましい。
【００４４】
導電性無機微粒子は、分散物の状態で帯電防止層の形成に使用する。導電性無機微粒子の分散媒体は、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散媒体の例には、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が含まれる。なかでも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびブタノールが特に好ましい。
【００４５】
導電性無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散できる。分散機の例には、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。
【００４６】
（イオン性高分子化合物）
本発明の帯電防止層に使用することのできるイオン性高分子化合物としては、４級アンモニウムカチオンポリマーが挙げられる。なかでも、分子架橋する４級アンモニウムカチオンポリマーが、フィルムの防汚性や耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、好ましい。また、好ましいイオン性高分子化合物としては、下記一般式（１）、（１ａ）および（１ｂ）で表される構造のユニットを有するポリマーも挙げられる。
【００４７】
【化４】
2005148681.tif 000005
【００４８】
一般式（１）中、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、ハロゲン原子または−ＣＨ2ＣＯＯ-Ｍ+を表す。Ｙは水素原子または−ＣＯＯ-Ｍ+を表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−または−Ｏ−を表す。Ｊは炭素数１〜１２のアルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
【００４９】
【化５】
2005148681.tif 000006
【００５０】
Ｍ+はプロトンまたはカチオン（例えばアルカリ金属及びＣａが好ましく、特にＬｉ、Ｎａ、およびＫが好ましい。）を表す。Ｒ2、Ｒ2'およびＲ2"はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｘ-はアニオン（例えば、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられる。）を表す。ｐおよびｑはそれぞれ独立に０または１を表す。
【００５１】
【化６】
2005148681.tif 000007
【００５２】
一般式（１ａ）、（１ｂ）中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は炭素数１〜４の置換または未置換のアルキル基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
Ａ、ＢおよびＤはそれぞれ独立に炭素数２〜１０の置換または無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ7ＣＯＲ8−、−Ｒ9ＣＯＯＲ10ＯＣＯＲ11−、−Ｒ12ＯＣＲ13ＣＯＯＲ14−、−Ｒ15−（ＯＲ16）m−、−Ｒ17ＣＯＮＨＲ18ＮＨＣＯＲ19−、−Ｒ20ＯＣＯＮＨＲ21ＮＨＣＯＲ22−または―Ｒ23ＮＨＣＯＮＨＲ24ＮＨＣＯＮＨＲ25−を表す。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ19、Ｒ20、Ｒ22、Ｒ23およびＲ25はアルキレン基を表す。Ｒ10、Ｒ13、Ｒ18、Ｒ21およびＲ24はそれぞれ置換または無置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基およびアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ‐はアニオン（例えば、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられる。）を表す。
【００５３】
ただし、Ａがアルキレン基、ヒドロキシアルキレン基またはアリーレンアルキレン基であるときには、Ｂがアルキレン基、ヒドロキシアルキレン基またはアリーレンアルキレン基ではないことが好ましい。
【００５４】
Ｅは単結合、−ＮＨＣＯＲ26ＣＯＮＨ−および前記Ｄから選ばれる基を表す。Ｒ26は置換あるいは無置換のアルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基またはアルキレンアリーレン基を表す。
【００５５】
Ｚ1、Ｚ2は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員または６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ+[Ｘ-]−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。ｎは５〜３００の整数を表す。
【００５６】
以下に、一般式（１）、（１ａ）および（１ｂ）で表される構造のユニットを有するポリマーを含めイオン性高分子化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例ＩＰ−７〜２１における添え字（ｍ、ｐ、ｑ（ｑ１、ｑ２、ｑ３含む）、ｒ、ｘ、ｙ、ｚ）は、高分子中での各繰り返し単位のモル比を表す。
【００５７】
【化７】
2005148681.tif 000008
【００５８】
【化８】
2005148681.tif 000009
【００５９】
【化９】
2005148681.tif 000010
【００６０】
【化１０】
2005148681.tif 000011
【００６１】
【化１１】
2005148681.tif 000012
【００６２】
【化１２】
2005148681.tif 000013
【００６３】
【化１３】
2005148681.tif 000014
【００６４】
また、特開平６−２４８０９２号公報に記載のホスファゼン化合物も好ましく使用できる。
【００６５】
本発明においては、１種類のイオン性高分子化合物を単独で用いてもよいし、数種類のイオン性高分子化合物を組み合わせて使用してもよい。イオン性高分子化合物の帯電防止層中での含有量は、０．００５〜２．０ｇ/ｍ2が好ましく、０．０１〜１．０ｇ/ｍ2がより好ましい。
【００６６】
［ハードコート層］
本発明の反射防止フィルムには、フィルムに物理強度を付与するために、いわゆる平滑なハードコート層を設けることも好ましく、透明支持体の表面に設けることができる。特に、透明支持体と光拡散層の間に設けることが好ましい。
【００６７】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。
電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。
光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００６８】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、光拡散層の説明で例示したものが挙げられ、光重合開始剤、光増感剤を用いて重合することが好ましい。光重合反応は、ハードコート層の塗布および乾燥後、紫外線照射により行うことが好ましい。
【００６９】
ハードコート層は、一次粒子の平均粒径が２００ｎｍ以下の無機微粒子を含有することが好ましい。ここでいう平均粒径は質量平均径である。一次粒子の平均粒径を２００ｎｍ以下にすることで透明性を損なわないハードコート層を形成できる。
無機微粒子はハードコート層の硬度を高くすると共に、塗布層の硬化収縮を抑える機能がある。また、ハードコート層の屈折率を制御する目的にも添加される。
無機微粒子としては、高屈折率層で例示した無機微粒子に加え、二酸化珪素、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシウム、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化錫、ＩＴＯ、酸化亜鉛などの微粒子が挙げられる。好ましくは、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化錫、ＩＴＯ、酸化亜鉛である。
【００７０】
無機微粒子の一次粒子の好ましい平均粒径は５〜２００ｎｍ、より好ましくは１０〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは２０〜１００ｎｍ、特に好ましくは２０〜５０ｎｍである。
ハードコート層の中において、無機微粒子はなるべく微細に分散されていることが好ましい。
ハードコート層の中における無機微粒子の粒子サイズは、好ましくは平均粒径で５〜３００ｎｍ、より好ましくは１０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは２０〜１５０ｎｍ、特に好ましくは２０〜８０ｎｍである。
【００７１】
ハードコート層における無機微粒子の含有量は、ハードコート層の全質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％、特に好ましくは１５〜７５質量％である。
【００７２】
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍ、特に好ましくは０．７〜５μｍである。
【００７３】
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。これらの特性は、光拡散層および帯電防止層が有することも好ましい。
【００７４】
ハードコート層の形成において、電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度や耐薬品性に優れたハードコート層を形成することができる。好ましくは酸素濃度が６体積％以下の雰囲気で電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。架橋反応又は重合反応を上記のような酸素濃度下で行うことは、光拡散層および帯電防止層においても好ましい。
酸素濃度を１０体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
ハードコート層は、透明支持体の表面に、ハードコート層形成用の塗布組成物を塗布することで構築することが好ましい。
【００７５】
[低屈折率層]
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．５０であり、好ましくは１．３０〜１．４８である。低屈折率層の膜厚は、５０〜２００ｎｍが好ましく、７０〜１３０ｎｍがより好ましい。
さらに、低屈折率層は下記数式（VII）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
【００７６】
数式（VII）  （ｍ/４）×０．７＜ｎ1ｄ1＜（ｍ/４）×１．３
【００７７】
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。
なお、上記数式（VII）を満たすとは、上記波長の範囲において数式（VII）を満たすｍ（正の奇数、通常１である）が存在することを意味している。
【００７８】
本発明の反射防止フィルムの低屈折率層は、下記一般式（２）で示されるオルガノシラン化合物（Ａ）の加水分解物および／またはその部分縮合物から構成される組成物（以下、低屈折率層用組成物ともいう。）より形成されることが、フィルムの防汚性や耐擦傷性（膜強度）も向上させることができるので、好ましい。
【００７９】
一般式（２）  （Ｒ）m1Ｓｉ（Ｘ）m2
【００８０】
一般式（２）中、Ｘは−ＯＨ、ハロゲン原子、−ＯＲ30または−ＯＣＯＲ30を表す。ＲおよびＲ30はそれぞれ炭素数１〜１０のアルキル基を表す。ｍ1およびｍ2はそれぞれ整数を表し、ｍ1＋ｍ2＝４を満たす。
【００８１】
上記組成物より形成される低屈折率層はいわゆるゾル−ゲル法によって形成されるＳｉＯ2ゲル層である。該ＳｉＯ2ゲル層の形成に使用する低級珪素アルコキシドは、ＲaＳｉ（ＯＲ'）bで表される化合物であり、ここでＲおよびＲ'はそれぞれ炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ａ＋ｂは４である。さらに具体的にはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００８２】
上記低屈折率層用組成物が、下記オルガノシラン(Ｂ)および(Ｃ)の加水分解物および／またはその部分縮合物を含有することが好ましく、この場合、該組成物中にオルガノシラン（Ｃ）の加水分解物および／またはその部分縮合物をオルガノシラン（Ｂ）のそれに対し２〜１５０質量％含み、オルガノシラン(Ｂ)および(Ｃ)の少なくとも一方が一般式中のＲ31にフッ素原子を有することが好ましい。
【００８３】
（Ｂ）一般式（２ｂ）：Ｒ31Ｓｉ(Ｘ1)3（式中、Ｒ31は炭素数１〜１０の有機基、Ｘ1は前記一般式（２）中のＸと同一の内容を表す。）で表されるオルガノシラン。
（Ｃ）一般式（２ｃ）：（Ｒ31）2Ｓｉ(Ｘ1)2（式中、Ｒ31、Ｘ1は前記(Ｂ)で定義されたと同一の内容を表す。）で表されるオルガノシラン。
【００８４】
更に、上記低屈折率層用組成物が、末端あるいは側鎖に加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合体中に少なくとも１個有するシリル基含有ビニルポリマー（Ｄ）を含有することが好ましい。
以下、オルガノシラン(Ｂ)、(Ｃ)およびシリル基含有ビニルポリマー（Ｄ）について説明する。
【００８５】
（オルガノシラン（Ｂ））
オルガノシラン（Ｂ）は、一般式（２ｂ'）：Ｒ31Ｓｉ(ＯＲ32)3で表されるオルガノシランであることが好ましく、低屈折率層用組成物中では、加水分解、縮合して得られる加水分解物および／または部分縮合物となり該組成物中における結合剤としての働きをするものである。かかるオルガノシラン中のＲ31は、炭素数１〜１０の有機基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基などのアルキル基、そのほかγ−クロロプロピル基、ビニル基、CF3CH2CH2CH2-、C2F5CH2CH2CH2-、C3F7CH2CH2CH2-、C2F5CH2CH2-、CF3OCH2CH2CH2-、C2F5OCH2CH2CH2-、C3F7OCH2CH2CH2-、(CF3)2CHOCH2CH2CH2-、C4F9CH2OCH2CH2CH2-、３−（パーフルオロシクロヘキシルオキシ）プロピル、H(CF2)4CH2OCH2CH2CH2-、H(CF2)4CH2CH2CH2-、γ−グリシドキシプロピル基、γ−メタクリルオキシプロピル基、γ−メルカプトプロピル基、フェニル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエチル基などが挙げられる。また、オルガノシラン中のＲ32は、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、sec-ブチル基、tert−ブチル基、アセチル基などが挙げられる。
【００８６】
これらのオルガノシランの具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、CF3CH2CH2CH2Si(OCH3)3、C2H5CH2CH2CH2Si(OCH3)3、C2F5CH2CH2Si(OCH3)3、C3F7CH2CH2CH2Si(OCH3)3、C2F5OCH2CH2CH2Si(OCH3)3、C3F7OCH2CH2CH2Si(OC2H5)3、(CF3)2CHOCH2CH2CH2Si(OCH3)3、C4F9CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3、H(CF2)4CH2OCH2CH2CH2Si（OCH3）3、３−（パーフルオロシクロヘキシルオキシ）プロピルシラン等を挙げることができる。
【００８７】
このうち、フッ素原子を有するオルガノシランが好ましい。また、Ｒ31としてフッ素原子を有さないオルガノシランを用いる場合、メチルトリメトキシシランまたはメチルトリエトキシシランを用いる事が好ましい。上記のオルガノシランは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用することもできる。
【００８８】
（オルガノシラン（Ｃ））
オルガノシラン（Ｃ）は、一般式（２ｃ'）：（Ｒ31）2Ｓｉ(ＯＲ32)2（式中、Ｒ31およびＲ32は前記オルガノシラン（Ｂ）の説明で定義されたＲ31およびＲ32と同じ）で表されるジオルガノシランであることが好ましい。ただし、Ｒ31およびＲ32はオルガノシラン（Ｂ）と同じ置換基でなくてもよい。低屈折率層用組成物中では加水分解、縮合して得られる加水分解物および／または部分縮合物となり、該組成物中における結合剤としての働きをするとともに、塗膜を柔軟化し耐アルカリ性を向上させるものである。かかるジオルガノシラン中のＲ31およびＲ32は、前記オルガノシランのＲ31およびＲ32と同様である。
【００８９】
これらのジオルガノシランの具体例は、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、(CF3CH2CH2)2Si(OCH3)2、(CF3CH2CH2CH2)2Si(OCH3)2、(C3F7OCH2CH2CH2)2Si(OCH3)2、〔H(CF2)6CH2OCH2CH2CH2〕2Si(OCH3)2、(C2F5CH2CH2)2Si(OCH3)2などを挙げることができ、好ましくはフッ素原子を有するオルガノシランである。またＲ31としてフッ素原子有さないオルガノシランを用いる場合には、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランが好ましい。このような（Ｒ31）2Ｓｉ(ＯＲ32)2で表されるオルガノシランは、１種単独で用いてもよいし、あるいは２種以上を併用することもできる。オルガノシラン（Ｃ）の加水分解物および／または部分縮合物の低屈折率層用組成物中における割合は、オルガノシラン（Ｂ）の加水分解物および／または部分縮合物に対して２〜１５０質量％、好ましくは５〜１００質量％、さらに好ましくは１０〜６０質量％である。１５０質量％を超えると得られる塗膜の密着性、硬化性が低下しやすくなる。
【００９０】
（シリル基含有ビニルポリマー（Ｄ））
シリル基含有ビニルポリマー（Ｄ）は、主鎖がビニル系重合体からなり、末端あるいは側鎖に加水分解性基および／または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合体１分子中に少なくとも１個、好ましくは２個以上含有するものであり、該シリル基の多くは、下記一般式（２ｄ）で表される。
【００９１】
【化１４】
2005148681.tif 000015
【００９２】
一般式（２ｄ）中、Ｚはハロゲン原子、アルコキシ基、アシロキシ基、フェノキシ基、アミノ基などの加水分解性基および／または水酸基、Ｒ36は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、または炭素数１〜１０のアラルキル基、ａは１〜３の整数である。
【００９３】
シリル基含有ビニルポリマー（Ｄ）は、（イ）ヒドロシラン化合物を炭素−炭素二重結合を有するビニル系樹脂と反応させることにより製造してもよく、また（ロ）下記一般式（２ｄ'）で表されるシラン化合物と、各種ビニル系化合物とを重合することにより製造してもよく、その製造方法は限定されるものではない。
【００９４】
【化１５】
2005148681.tif 000016
【００９５】
一般式（２ｄ'）中、Ｚ、Ｒ36、ａは一般式（２ｄ）のものと同じ、Ｒ37は重合性二重結合を有する有機基である。
【００９６】
ここで、前記（イ）で示される製造方法で使用されるヒドロシラン化合物としては、例えばメチルジクロルシラン、トリクロルシラン、フェニルジクロルシランなどのハロゲン化シラン類；メチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシランなどのアルコキシシラン類；メチルジアセトキシシラン、フェニルジアセトキシシラン、トリアセトキシシランなどのアシロキシシラン類が挙げられる。
【００９７】
また、（イ）で示される製造方法で使用されるビニル系樹脂としては、水酸基を含むビニル系樹脂を除く以外に特に限定はなく、例えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸、イタコン酸、フマル酸などのカルボン酸および無水マレイン酸などの酸無水物；グリシジル（メタ）アクリレートなどのエポキシ化合物；ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、アミノエチルビニルエーテルなどのアミノ化合物；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、イタコン酸ジアミド、α−エチルアクリルアミド、クロトンアミド、フマル酸ジアミド、マレイン酸ジアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミドなどのアミド化合物；アクリロニトリル、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、下記ＦＭ−１〜ＦＭ−２３で表される化合物などから選ばれるビニル系化合物をアリルメタクリレートのような側鎖に二重結合を有するモノマーと共重合したビニル系樹脂が好ましく、共重合モノマーとして含フッ素モノマーを少なくとも１種用いたものが特に好ましい。
【００９８】
【化１６】
2005148681.tif 000017
【００９９】
【化１７】
2005148681.tif 000018
【０１００】
【化１８】
2005148681.tif 000019
【０１０１】
一方、（ロ）で示される製造方法で使用されるシラン化合物としては、次のものが挙げられる。
【０１０２】
【化１９】
2005148681.tif 000020
【０１０３】
【化２０】
2005148681.tif 000021
【０１０４】
また、（ロ）で示される製造方法で使用されるビニル系化合物としては、前記（イ）の製造方法でビニル系樹脂の重合時に用いられるビニル系化合物を使用することが可能であるが、かかる（イ）の製造方法に記載された以外に、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシビニルエーテル、Ｎ−メチロールアクリルアミドなどの水酸基を含むビニル系化合物を挙げることもできる。また、含フッ素モノマーを１種用いたものが特に好ましい。
【０１０５】
以上のようなシリル基含有ビニルポリマーの好ましい具体例としては、例えば下記一般式（２ｄ"）で表されるトリアルコキシシリル基含有アクリル重合体を挙げることができる。
【０１０６】
【化２１】
2005148681.tif 000022
【０１０７】
一般式（２ｄ"）中、Ｒ38、Ｒ40は水素原子、フッ素原子またはメチル基、Ｒ39は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、アリル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｎ−ペンテル、ｎ−ヘキシル、ベンジル、(CF3)2CH-、CF3CH2-、C7F15CH2-、C2F15CH2CH2-、等の前記オルガノシラン（Ｂ）の説明で挙げたフッ素原子を含むアルキル基）を表し、Ｒ41はメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などの炭素数１〜４のアルキレン基、Ｒ42はＲ39と同様であり、ｒ／（１＋ｒ）＝０．０１〜０．４（モル比）、好ましくは０．０２〜０．２（モル比）である。
【０１０８】
このシリル基含有ビニルポリマーの数平均分子量は、好ましくは２，０００から１００，０００、さらに好ましくは４，０００〜５０，０００である。
【０１０９】
以上のような本発明に使用されるシリル基含有ビニルポリマー（Ｄ）の具体例としては、鐘淵化学工業（株）製、カネカゼムラックや下記のポリマーを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。下記の具体例において、括弧内の数値は重合組成比（質量比）である。
【０１１０】
PP−１：メチルメタクリレート／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（９０／１０）
PP−２：メチルメタクリレート／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（８５／１５）
PP−３：メチルメタクリレート／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（８０／２０）
PP−４：メチルメタクリレート／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（７０／３０）
PP−５：メチルメタクリレート／エチルアクリレート／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（５０／３５／１５）
【０１１１】
PP−６：エチルメタクリレート／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（８５／１５）
PP−７：ｎ−ブチルメタクリレート／スチレン／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（５０／３５／１５）
PP−８：メチルメタクリレート／メチルアクリレート／γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（３５／４０／１５）
PP−９：メチルメタクリレート／メチルアクリレート／γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（４０／４０／２０）
Ｐ−10：メチルメタクリレート／ｎ−ブチルアクリレート／ビニルトリメトキシシラン（６０／３０／１０）
【０１１２】
PP−11：FM-1／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（８５／１５）
PP−12：FM-4／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（９０／１０）
PP−13：FM-4／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（８５／１５）
PP−14：FM-4／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（７０／３０）
PP−15：FM-4／FM-7／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（３０／５５／１５）
【０１１３】
PP−16：FM-2／FM-4／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（３０／５０／２０）
PP−17：FM-3／FM-4／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（２５／６０／１５）
PP−18：FM-4／メチルメタクリレート／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（６０／２５／１５）
PP−19：FM-7／メチルメタクリレート／γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（４０／４５／１５）
PP−20：FM-4／メチルメタクリレート／ビニルトリメトキシシラン（６５／２０／１５）
【０１１４】
低屈折率層形成用組成物中のシリル基含有ビニルポリマー（Ｄ）の割合は、オルガノシラン（Ｂ）に対し、好ましくは２〜３００質量％、より好ましくは５〜２００質量％、さらに好ましくは１０〜１００質量％である。２質量％未満では得られる塗膜の耐アルカリ性が低下しやすく、一方、３００質量％を超えると得られる塗膜の耐久性が悪化しやすい。
【０１１５】
本発明の低屈折率層は上述の方法で調製した有機珪素を主成分とする網目高分子構造により形成されている。この網目構造を構築する主成分（モノマー）は上述のオルガノシラン（Ｂ）ないしオルガノシラン（Ｃ）である。これら有機珪素モノマー化合物の本発明における好ましい組み合わせについて下記および実施例に例示する。混合比は使用した各化合物の質量（ｇ）を示す。
【０１１６】
ＳＰ−１：メチルトリメトキシシラン １０ｇ、ジメチルジメトキシシラン ５ｇ、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン ２ｇ、化合物（PP−２） ２．５ｇ
ＳＰ−２：メチルトリメトキシシラン １２ｇ、ジメチルジエトキシシラン ８ｇ、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン ２ｇ、化合物（PP−２） ３ｇ
ＳＰ−３：エチルトリエトキシシラン １５ｇ、ジメチルジエトキシシラン ５ｇ、３，３，３−トリフルオロブチルトリエトキシシラン ２ｇ、化合物（PP−２） ２ｇ
ＳＰ−４：メチルトリメトキシシラン １０ｇ、ジメチルジメトキシシラン ５ｇ、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン ２ｇ、化合物（PP−２） １．５ｇ
ＳＰ−５：メチルトリメトキシシラン １０ｇ、ジメチルジメトキシシラン ５ｇ、３−パーフルオロエトキシプロピルトリメトキシシラン ５ｇ、化合物（PP−５） ２．５ｇ
ＳＰ−６：エチルトリメトキシシラン ２０ｇ、３，３，３−トリフルオロブチルトリエトキシシラン ７ｇ、ビス（３，３，３−トリフルオロプロピル）ジエトキシシラン ５ｇ、化合物（PP−７） ３ｇ
ＳＰ−７：テトラエトキシシラン ２ｇ、メチルトリメトキシシラン １０ｇ、ジメチルジメトキシシラン ５ｇ、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン ２ｇ、化合物（PP−２） ２．５ｇ
ＳＰ−８：シクロヘキシルトリメトキシシラン １８ｇ、ビス（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリエトキシシラン １２ｇ、テトラエトキシシラン ３ｇ、化合物（PP−12） ５ｇ
ＳＰ−９：メチルトリメトキシシラン １２ｇ、ジメチルジプロポキシシラン １０ｇ、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン ５ｇ、化合物（PP−８） ２．５ｇ
ＳＰ−10：メチルトリエトキシシラン １２ｇ、ジメチルジメトキシシラン ５ｇ、ビス（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン ５ｇ、化合物（PP−８） ４．５ｇ
【０１１７】
本発明の低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含むことが好ましい。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．１５、水に対する接触角９０〜１２０°の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。膜強度向上のための無機フィラーを用いることもできる。
【０１１８】
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
【０１１９】
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
【０１２０】
架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。
【０１２１】
また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
【０１２２】
上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用してもよい。
【０１２３】
本発明の低屈折率層のバインダーとして特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％を占めていることである。
【０１２４】
上記共重合体の好ましい形態として下記一般式（３）のものが挙げられる。
一般式（３）
【０１２５】
【化２２】
2005148681.tif 000023
【０１２６】
一般式（３）中、Ｌは炭素数１〜１０の連結基を表し、より好ましくは炭素数１〜６の連結基であり、特に好ましくは２〜４の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、Ｏ、Ｎ、Ｓから選ばれるヘテロ原子を有していてもよい。
好ましい例としては、*‐(CH2)2-O-**, *-(CH2)2-NH-**, *-(CH2)4-O-**, *-(CH2)6-O-**, *-(CH2)2-O-(CH2)2-O-**, *-CONH-(CH2)3-O-**, *-CH2CH(OH)CH2-O-**, *-CH2CH2OCONH(CH2)3-O-**（*はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は（メタ）アクリロイル基側の連結部位を表す。）等が挙げられる。ｍ3は０または１を表わす。
【０１２７】
Ｘ1は水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。
【０１２８】
Ａは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていてもよい。
好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリレート類、スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。
【０１２９】
ｘ、ｙ、ｚはそれぞれの構成成分のモル％を表わし、３０≦ｘ≦６０、５≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦６５を満たす値を表す。好ましくは、３５≦ｘ≦５５、３０≦ｙ≦６０、０≦ｚ≦２０の場合であり、特に好ましくは４０≦ｘ≦５５、４０≦ｙ≦５５、０≦ｚ≦１０の場合である。
【０１３０】
一般式（３）で表される共重合体のなかでも、特に好ましい形態として下記一般式（４）が挙げられる。
一般式（４）
【０１３１】
【化２３】
2005148681.tif 000024
【０１３２】
一般式（４）においてＸ、ｘ、ｙは一般式（３）と同じ意味を表わし、好ましい範囲も同じである。
ｎ1は２≦ｎ1≦１０の整数を表わし、２≦ｎ1≦６であることが好ましく、２≦ｎ1≦４であることが特に好ましい。
Ｂは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表し、単一組成であっても複数の組成によって構成されていてもよい。例としては、前記一般式（３）におけるＡの例として説明したものが当てはまる。
Ｚ1およびＺ2はそれぞれの繰返し単位ｍｏｌ％を表し、０≦ｚ1≦６５、０≦ｚ2≦６５を満たす値を表わす。それぞれ０≦ｚ1≦３０、０≦ｚ2≦１０であることが好ましく、０≦ｚ1≦１０、０≦ｚ2≦５であることが特に好ましい。
【０１３３】
一般式（３）または（４）で表わされる共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に高分子反応により（メタ）アクリロイル基を導入することにより合成できる。
【０１３４】
以下に本発明の低屈折率層のバインダーとして有用な共重合体の好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３５】
【化２４】
2005148681.tif 000025
【０１３６】
【化２５】
2005148681.tif 000026
【０１３７】
【化２６】
2005148681.tif 000027
【０１３８】
【化２７】
2005148681.tif 000028
【０１３９】
【化２８】
2005148681.tif 000029
【０１４０】
上記共重合体の合成は、種々の重合方法、例えば溶液重合、沈澱重合、懸濁重合、沈殿重合、塊状重合、乳化重合によって水酸基含有重合体等の前駆体を合成した後、高分子反応によって（メタ）アクリロイル基を導入することにより行なうことができる。重合反応は回分式、半連続式、連続式等の公知の操作で行なうことができる。
【０１４１】
重合の開始方法はラジカル開始剤を用いる方法、光または放射線を照射する方法等がある。これらの重合方法、重合の開始方法は、例えば鶴田禎二「高分子合成方法」改定版（日刊工業新聞社刊、１９７１）や大津隆行、木下雅悦共著「高分子合成の実験法」化学同人、昭和４７年刊、１２４〜１５４頁に記載されている。
【０１４２】
上記重合方法のうち、特にラジカル開始剤を用いた溶液重合法が好ましい。溶液重合法で用いられる溶剤は、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールのような種々の有機溶剤の単独あるいは２種以上の混合物でもよいし、水との混合溶媒としてもよい。
【０１４３】
重合温度は生成するポリマーの分子量、開始剤の種類などと関連して設定する必要があり０℃以下から１００℃以上まで可能であるが、５０〜１００℃の範囲で重合を行なうことが好ましい。
【０１４４】
反応圧力は、適宜選定可能であるが、通常は、１〜１００kg/cm2、特に、１〜３０kg/cm2程度が望ましい。反応時間は、５〜３０時間程度である。
【０１４５】
得られたポリマーの再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
【０１４６】
次に本発明の低屈折率層中に、含有することのできる無機微粒子（無機フィラー）について、以下に記載する。
無機微粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ2〜１００ｍｇ／ｍ2が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ2〜８０ｍｇ／ｍ2、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ2〜６０ｍｇ／ｍ2である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。例えば、フッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。シリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの３０％以上１５０％以下が好ましく、より好ましくは３５％以上８０％以下、更に好ましくは４０％以上６０％以下である。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、シリカ微粒子の粒径は３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３５ｎｍ以上８０ｎｍ以下、更に好ましくは、４０ｎｍ以上６０ｎｍ以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
【０１４７】
低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、中空のシリカ微粒子を用いることが好ましく、該中空シリカ微粒子は屈折率が１．１７〜１．４０、より好ましくは１．１７〜１．３５、さらに好ましくは１．１７〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をａ、粒子外殻の半径をｂとすると、数式（VIII）［ｘ＝(４πa3／３)/（４πb3／３）×１００］で表される空隙率ｘは、好ましくは１０〜６０%、さらに好ましくは２０〜６０%、最も好ましくは３０〜６０%である。
中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から１．１７未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、これら中空シリカ粒子の屈折率はアッベ屈折率計（アタゴ（株）製）にて測定をおこなった。
【０１４８】
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの２５％未満であるシリカ微粒子（「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）の少なくとも１種を上記の粒径のシリカ微粒子（「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す）と併用することが好ましい。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、低屈折率層が１００ｎｍの場合、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下が更に好ましく、１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
【０１４９】
シリカ微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
上記カップリング剤は、低屈折率層の無機フィラーの表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
シリカ微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
以上シリカ微粒子について述べたことは、他の無機微粒子についても適用される。
【０１５０】
本発明の低屈折率層形成組成物は、通常、液の形態をとり前記共重合体を必須の構成成分とし、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤を適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には０．０１〜６０質量％程度であり、好ましくは０．５〜５０質量％、特に好ましくは１％〜２０質量％程度である。
【０１５１】
低屈折率層の皮膜硬度の観点からは硬化剤等の添加剤を添加することは必ずしも有利ではないが、他の層との界面密着性等の観点から、多官能（メタ）アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物等の硬化剤、あるいはシリカ等の無機微粒子を少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して０〜３０質量%の範囲であることが好ましく、０〜２０質量%の範囲であることがより好ましく、０〜１０質量％の範囲であることが特に好ましい。
【０１５２】
防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系あるいはフッ素系の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。
【０１５３】
シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることが特に好ましく、３０００〜３００００であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが１８．０質量％以上であることが好ましく、２５．０〜３７.８質量％であることが特に好ましく、３０．０〜３７．０質量％であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学（株）製、X-22-174DX、X-22-2426、X-22-164B、X22-164C、X-22-170DX、X-22-176D、X-22-1821(以上商品名)やチッソ（株）製、FM-0725、FM-7725、DMS-U22、RMS-033、RMS-083、UMS-182(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１５４】
フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数１〜２０であることが好ましく、より好ましくは１〜１０であり、直鎖（例えば-CF2CF3,-CH2(CF2)4H,-CH2(CF2)8CF3,-CH2CH2(CF2)4H等）であっても、分岐構造（例えばCH(CF3)2,CH2CF(CF3)2,CH(CH3)CF2CF3,CH(CH3)(CF2)5CF2H等）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環または６員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等）であってもよく、エーテル結合を有していてもよい（例えばCH2OCH2CF2CF3, CH2CH2OCH2C4F8H, CH2CH2OCH2CH2C8F17, CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H等）。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが２０質量％以上であることが好ましく、３０〜７０質量％であることが特に好ましく、４０〜７０質量％であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業（株）製、R-2020、M-2020、R-3833、M-3833(以上商品名)、大日本インキ（株）製、メガファックF-171、F-172、F-179A、ディフェンサMCF-300(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０１５５】
防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低屈折率層全固形分の０．０１〜２０質量％の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１０質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは０．１〜５質量％の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ（株）製、メガファックF-150(商品名)、東レダウコーニング（株）製、SH-3748(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。
【０１５６】
［塗布溶媒］
本発明の反射防止フィルムにおいて、光拡散層、帯電防止層、および低屈折率層を形成するために用いる塗布液の溶媒組成としては、ケトン系溶剤または芳香族炭化水素系溶剤を用いることが好ましく、ケトン系溶剤が特に好ましい。溶剤は単独および混合のいずれでもよく、混合のときはケトン系溶媒の含有量が塗布組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
【０１５７】
塗布溶媒は、ケトン系溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。例えば、沸点が１００℃以下の溶媒としては、ヘキサン（沸点６８．７℃、以下「℃」を省略する）、ヘプタン（９８．４）、シクロヘキサン（８０．７）、ベンゼン（８０．１）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８）、クロロホルム（６１．２）、四塩化炭素（７６．８）、１，２−ジクロロエタン（８３．５）、トリクロロエチレン（８７．２）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６）、ジイソプロピルエーテル（６８．５）、ジプロピルエーテル（９０．５）、テトラヒドロフラン（６６）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２）、酢酸メチル（５７．８）、酢酸エチル（７７．１）、酢酸イソプロピル（８９）などのエステル類、アセトン（５６．１）、２？ブタノン（＝メチルエチルケトン、７９．６）などのケトン類、メタノール（６４．５）、エタノール（７８．３）、２−プロパノール（８２．４）、１−プロパノール（９７．２）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６）、プロピオニトリル（９７．４）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２）、などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
【０１５８】
沸点が１００℃以上の溶媒としては、例えば、オクタン（１２５．７）、トルエン（１１０．６）、キシレン（１３８）、テトラクロロエチレン（１２１．２）、クロロベンゼン（１３１．７）、ジオキサン（１０１．３）、ジブチルエーテル（１４２．４）、酢酸イソブチル（１１８）、シクロヘキサノン（１５５．７）、２−メチル−４−ペンタノン（＝ＭＩＢＫ、１１５．９）、１−ブタノール（１１７．７）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６）、ジメチルスルホキシド（１８９）、などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、２−メチル−４−ペンタノン、である。
【０１５９】
本発明の光拡散層、帯電防止層および低屈折率層成分を前述の組成の溶媒で希釈することにより、それらの層用塗布液が調製される。塗布液濃度は、塗布液の粘度、層素材の比重などを考慮して適宜調節されることが好ましいが、０．１〜２０質量％が好ましく、より好ましくは１〜１０質量％である。
また各々の機能層と低屈折率層の溶媒は同一組成であってもよいし、異なっていてもよい。
【０１６０】
［無機フィラー］
本発明の反射防止フィルムは、透明支持体上の各層に無機フィラーを添加することが好ましい。各層に添加する無機フィラーはそれぞれ同じでも異なっていてもよく、各層の屈折率、膜強度、膜厚、塗布性などの必要性能に応じて、種類、添加量、は適宜調節されることが好ましい。
【０１６１】
本発明に使用する上記無機フィラーの形状は、特に制限されるものではなく、例えば、球状、板状、繊維状、棒状、不定形、中空等のいずれも好ましく用いられるが、球状であると分散性がよく、より好ましい。また、上記無機フィラーの種類についても特に制限されるものではないが、非晶質のものが好ましく用いられ、金属の酸化物、窒化物、硫化物またはハロゲン化物からなるものが好ましく、金属酸化物が特に好ましい。金属原子としては、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｂ、Ｂｉ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｂｅ、Ｐｂ、ＺｒおよびＮｉ等が挙げられる。無機フィラーの平均粒子径は、添加する層によっても異なるが、透明な硬化膜を得るためには、０.００１〜０．２μｍの範囲内の値とするのが好ましく、より好ましくは０．００１〜０．１μｍ、さらに好ましくは０．００１〜０．０６μｍである。ここで、粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
本発明における無機フィラーの使用方法は特に制限されるものではないが、例えば、乾燥状態で使用することができるし、あるいは水もしくは有機溶媒に分散した状態で使用することもできる。
【０１６２】
本発明において、無機フィラーの凝集、沈降を抑制する目的で、各層を形成するための塗布液に分散安定化剤を併用することも好ましい。分散安定化剤としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、セルロース誘導体、ポリアミド、リン酸エステル、ポリエーテル、界面活性剤および、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等を使用することができる。特にシランカップリング剤が硬化後の皮膜が強いため好ましい。分散安定化剤としてのシランカップリング剤の添加量は特に制限されるものではないが、例えば、無機フィラー１００質量部に対して、１質量部以上の値とするのが好ましい。また、分散安定化剤の添加方法も特に制限されるものではないが、予め加水分解したものを添加することもできるし、あるいは、分散安定化剤であるシランカップリング剤と無機フィラーとを混合後、さらに加水分解および縮合する方法を採ることができるが、後者の方がより好ましい。
【０１６３】
［透明支持体］
本発明の反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＦなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
【０１６４】
トリアセチルセルロースは、単層または複数の層からなる。単層のトリアセチルセルロースは、特開平７−１１０５５号等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロースは、公開特許公報の特開昭６１−９４７２５号、特公昭６２−４３８４６号等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
【０１６５】
上記のような、トリアセチルセルロースを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が５質量％未満（好ましくは２質量％未満）であることを意味する。ジクロロメタン等を実質的に含まない溶剤を用いてトリアセチルセルロースのドープを調製する場合には、後述するような特殊な溶解法が必須となる。
【０１６６】
第一の溶解法は、冷却溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加する。次に、混合物は−１００〜？１０℃（好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、トリアセチルセルロースと溶剤の混合物は固化する。さらに、これを０〜２００℃（好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃）に加温すると、溶剤中にトリアセチルセルロースが流動する溶液となる。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
【０１６７】
第二の方法は、高温溶解法と称され、以下に説明する。まず室温近辺の温度（−１０〜４０℃）で溶剤中にトリアセチルセルロースを撹拌しながら徐々に添加される。本発明のトリアセチルセルロース溶液は、各種溶剤を含有する混合溶剤中にトリアセチルセルロースを添加し予め膨潤させることが好ましい。本法において、トリアセチルセルロースの溶解濃度は３０質量％以下が好ましいが、フィルム製膜時の乾燥効率の点から、なるべく高濃度であることが好ましい。次に有機溶剤混合液は、０．２ＭＰａ〜３０ＭＰａの加圧下で７０〜２４０℃に加熱される（好ましくは８０〜２２０℃、更に好ましく１００〜２００℃、最も好ましくは１００〜１９０℃）。次にこれらの加熱溶液はそのままでは塗布できないため、使用された溶剤の最も低い沸点以下に冷却する必要がある。その場合、？１０〜５０℃に冷却して常圧に戻すことが一般的である。冷却はトリアセチルセルロース溶液が内蔵されている高圧高温容器やラインを、室温に放置するだけでもよく、更に好ましくは冷却水などの冷媒を用いて該装置を冷却してもよい。ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアセテートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、以下公開技報２００１−１７４５号と略す）に記載されている。
【０１６８】
本発明の反射防止フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の反射防止フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。
【０１６９】
本発明の反射防止フィルムは、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置したり、そのまま偏光板用保護フィルムとして使用される場合には、十分に接着させるためには透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする最外層を形成した後、鹸化処理を実施することが好ましい。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面が親水化される。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏向膜との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏向膜と接着させる際に偏向膜と反射防止フィルムの間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が４０゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは３０゜以下、特に好ましくは２０゜以下である。
【０１７０】
アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の（１）及び（２）の２つの手段から選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で（１）が優れているが、反射防止膜面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、（２）が優れる。
（１）透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも１回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。
（２）透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該反射防止フィルムの反射防止フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および／または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。
【０１７１】
［反射防止フィルムの製造方法］
本発明の反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。次に、ハードコート層を形成する場合には、該ハードコート層を形成するための塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、マイクログラビアコート法が特に好ましい。その後、光照射あるいは加熱して、ハードコート層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これによりハードコート層が形成される。
ここで、必要であればハードコート層を複数層とし、光拡散層塗布の前に同様な方法で平滑なハードコート層塗布および硬化を行うことができる。
次に、同様にして光拡散層を形成するための塗布液をハードコート層上に塗布し、光照射あるいは加熱し光拡散層を形成する。続いて、低屈折率層を形成するための塗布液を光拡散層上に塗布し、光照射あるいは加熱し低屈折率層が形成する。このようにして、本発明の反射防止フィルムが得られる。
【０１７２】
本発明で用いられるマイクログラビアコート法とは、直径が約１０〜１００ｍｍ、好ましくは約２０〜５０ｍｍで全周にグラビアパターンが刻印されたグラビアロールを支持体の下方に、かつ支持体の搬送方向に対してグラビアロールを逆回転させると共に、該グラビアロールの表面からドクターブレードによって余剰の塗布液を掻き落として、定量の塗布液を前記支持体の上面が自由状態にある位置におけるその支持体の下面に塗布液を転写させて塗工することを特徴とするコート法である。ロール形態の透明支持体を連続的に巻き出し、該巻き出された支持体の一方の側に、少なくともハードコート層乃至含フッ素ポリマーを含む低屈折率層の内の少なくとも一層をマイクログラビアコート法によって塗工することができる。
【０１７３】
マイクログラビアコート法による塗工条件としては、グラビアロールに刻印されたグラビアパターンの線数は５０〜８００本／インチが好ましく、１００〜３００本／インチがより好ましく、グラビアパターンの深度は１〜６００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、グラビアロールの回転数は３〜８００ｒｐｍであることが好ましく、５〜２００ｒｐｍであることがより好ましく、支持体の搬送速度は０．５〜１００ｍ/分であることが好ましく、１〜５０ｍ/分がより好ましい。
【０１７４】
本発明の反射防止フィルムにおいては、光拡散層と低屈折率層を塗布により積層するので、ゴミ、ほこり等の異物が存在したとき、輝点欠陥が目立ち易い。本発明における輝点欠陥とは目視により、塗膜上の反射で見える欠陥のことで、塗布後の反射防止フィルムの裏面を黒塗りする等の操作により目視で検出できる。目視により見える輝点欠陥は、一般的に５０μｍ以上の大きさである。（以下このような輝点欠陥を「輝点欠陥」という）。
本発明の反射防止フィルムは輝点欠陥の数が１平方メートル当たり２０個以下、好ましくは１０個以下、さらに好ましくは５個以下、特に好ましくは１個以下とする。輝点欠陥の数を１平方メートル当たり２０個以下とすることで、フィルム全体として輝点欠陥を目立たなくすることができる。特に反射光の色味がニュートラルな場合（後述するａ*、ｂ*値を有する場合）にこの効果は顕著である。
【０１７５】
本発明の反射防止フィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。このような工程の一例を図２に示した。
【０１７６】
図２において、ロール状のフィルム支持体１１からフィルム支持体がクリーン室１５に連続的に送り出され、クリーン室１５内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置１２により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置１３により除去する。引き続きクリーン室１５内に設置されている塗布部１４で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室１６に送られて乾燥される。乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は乾燥室１６から放射線硬化室１７へ送り出され、放射線が照射されて塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、放射線により硬化した層を有するフィルム支持体は熱硬化部１８へ送られ、加熱されて硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体１９は巻き取られてロール状となる。
【０１７７】
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−放射線硬化部−熱硬化室を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。
【０１７８】
本発明における、輝点欠陥の少ない反射防止フィルムを作成するためには、上記の塗布部１４における塗布工程および乾燥室１６で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、フィルム支持体上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
【０１７９】
塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法、特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法、特開平７−３３３６１３号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法（伸興社製、ニューウルトラクリーナー等）等の乾式除塵法が挙げられる。また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法、特公昭４９−１３０２０号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行なう方法、特開２００１−３８３０６号公報に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。
【０１８０】
また、このような除塵工程を行う前に、フィルム支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、１０００Ｖ以下が望ましく、好ましくは３００Ｖ以下、特に好ましくは、１００Ｖ以下である。
【０１８１】
また、塗布に用いる塗布液は、塗布直前にろ過することが好ましい。ろ過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。
【０１８２】
［反射防止フィルムの諸性能］
本発明の反射防止フィルムは、ヘイズ値が３〜７０％であることが好ましく、４〜６０％であることがより好ましい。また、４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が３．０％以下であることが好ましく、より好ましくは２．５％以下である。
本発明の反射防止フィルムが上記範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過画像の劣化を伴なわずに良好な防眩性および反射防止性が得られる。
【０１８３】
本発明の反射防止フィルムは、波長３８０ｎｍから７８０ｎｍまでの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光のＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値を、それぞれ−７≦ａ*≦７、−１０≦ｂ*≦１０とすることが好ましく、０≦ａ*≦５、−７≦ｂ*≦０とすることがより好ましい。反射防止フィルムからの上記正反射光の色味を上記範囲とすることにより、該フィルムを液晶表示装置に適用した場合、室内の蛍光灯のような輝度の高い外光が映りこんだ場合にも、色味がニュートラルで気にならないので好ましい。ａ*＞７では赤味が強く、ａ*＜−７ではシアン味が強くなり好ましくない。またｂ*＜−７では青味が強く、ｂ*＞０では黄味が強くなり好ましくない。
反射防止フィルムの色味の測定（ａ*、ｂ*値の測定）は、分光光度計Ｖ−５５０（商品名、日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４（商品名）を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５度における出射角−５度の鏡面反射率を測定し、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ65の５度入射光に対する正反射光の色味を表すＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値を算出することで行うことができる。
【０１８４】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光子と該偏光子を両面から挟む２枚の保護フィルムとで主に構成される。本発明の反射防止フィルムは、偏光子を両面から挟む２枚の保護フィルムのうち少なくとも１枚に用いることが好ましい。本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、防眩性等も優れた偏光板とすることができる。
【０１８５】
偏光子としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、２０〜７０゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に４５°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
【０１８６】
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落００２０〜００３０に詳しい記載がある。
【０１８７】
本発明の反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。本発明の反射防止フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
【０１８８】
本発明の反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
【０１８９】
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）28(1997)84５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０１９０】
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。
【０１９１】
ＥＣＢモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「ＥＬ、ＰＤＰ、ＬＣＤディスプレイ」東レリサーチセンター発行（２００１）などに記載されている。
【０１９２】
特にＴＮモードやＩＰＳモードの液晶表示装置に対しては、特開２００１−１０００４３等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表２枚の保護フィルムの内の本発明の反射防止フィルムとは反対側の面に用いることにより、１枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。
【実施例】
【０１９３】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【０１９４】
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇおよび過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は５．４ｋｇ／ｃｍ2であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が３．２ｋｇ／ｃｍ2に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２１であった。
【０１９５】
【化２９】
2005148681.tif 000030
【０１９６】
（フッ素系表面改質剤ＦＰ−１の合成）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルアクリレート  ３９．９３ｇ、ジメチル２，２’−アゾビスイソブチレート  １．１ｇ、２−ブタノン  ３０ｇを加え窒素雰囲気下で６時間７８℃に加熱して反応を完結させた。質量平均分子量は２．９×１０4であった。
【０１９７】
【化３０】
2005148681.tif 000031
【０１９８】
（ゾル液ａの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０１９９】
（光拡散層用塗布液Ａの調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（PETA、日本化薬（株）製）５０ｇをトルエン３８．５ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を２ｇ添加し、混合攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１．７ｇおよび平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤ＦＰ−１、０．７５ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を１０ｇを加え、完成液とした。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層の塗布液Ａを調製した。
【０２００】
（光拡散層用塗布液Ｂの調製）
市販ジルコニア含有ＵＶ硬化型ハードコート液（デソライトＺ７４０４、ＪＳＲ（株）製、固形分濃度約６１％、固形分中ＺｒＯ2含率約７０％、重合性モノマー、重合開始剤含有）２８５ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）８５ｇを混合し、更に、メチルイソブチルケトン６０ｇ、メチルエチルケトン１７ｇで希釈した。更に、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学（株）製）２８ｇを混合攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６１であった。
さらにこの溶液に平均粒径３．０μｍの分級強化架橋ＰＭＭＡ粒子（屈折率１．４９、ＭＸＳ−３００、綜研化学（株）製）の３０％メチルイソブチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した分散液を３５ｇ加え、次いで、平均粒径１．５μｍのシリカ粒子（屈折率１．４６、シーホスタＫＥ-Ｐ１５０、日本触媒（株）製）の３０％メチルエチルケトン分散液をポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで３０分分散した分散液を９０ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．１２ｇを混合攪拌し、完成液とした。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光拡散層の塗布液Ｂを調製した。
【０２０１】
（光拡散層用塗布液Ｃの調製）
上記光拡散層用塗布液Ｂにおいて平均粒径３．０μｍの架橋ＰＭＭＡ、平均粒径１．５μｍのシリカ粒子の代わりに、平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を等質量で置き換えただけの光拡散層用塗布液Ｃを作成した。
（光拡散層用塗布液Ｄ〜Ｆの調製）
上記光拡散層用塗布液Ｃにおいてジルコニア含有率を適宜変更し、架橋ポリスチレン粒子を除いた硬化皮膜の屈折率が、１．５５、１．７０、１．８２となる光拡散層用塗布液Ｄ〜Ｆを作成した。
【０２０２】
（低屈折率層用塗布液Ａの調整）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ７２２８Ａ、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、ゾル液ａ０．６ｇおよびメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノ０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ａを調製した。硬化膜の屈折率は１．４２であった。
【０２０３】
（低屈折率層用塗布液Ｂの調整）
上記低屈折率層用塗布液Ａにおいて、シリカゾルの代わりに中空シリカゾル（屈折率１．３１、平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度２０％）を１．９５ｇ用いた以外は添加量も含め上記塗布液Ａと同様にして、低屈折率層用塗布液Ｂを作成した。硬化膜の屈折率は１．３９であった。
【０２０４】
（低屈折率層用塗布液Ｃの調製）
上記低屈折率層用塗布液において、熱架橋性含フッ素ポリマーの一部をジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）に置き換えることにより、硬化膜の屈折率が１．５１になるように調製し、低屈折率層用塗布液Ｃを作成した。
【０２０５】
（低屈折率層用塗布液Ｄの調製）
メチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）が理想的にＳｉＯ2またはＭｅＳｉＯ1.5に加水分解および縮合したと仮定した時の固形分濃度が３重量％になるように、ＭＴＥＯＳを溶媒であるメチルエチルケトンに溶解し、液温が２５℃に安定するまで３０分間攪拌した（Ａ液）。Ａ液中に触媒である濃度０．００５ｍｏｌ／ｌの塩酸をＭＴＥＯＳのアルコキシド基と等モル量加え、２５℃で３時間加水分解を行った（Ｂ液）。このＢ液に硬化剤として酢酸ナトリウムと酢酸とを混合したものを加え、２５℃で１時間攪拌し、ＳｉＯ2ゾル液を得た。硬化膜の屈折率は１．４０であった。
【０２０６】
（低屈折率層用塗布液Ｅ調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の１５．２ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子径違い品、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学社製）１．４ｇ、反応性シリコーンＸ−22−164B（商品名；信越化学工業社製）０．３ｇ、ゾル液ａ７．３ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７（商品名）、チバガイギー社製）０．７６ｇ、メチルエチルケトン３０１ｇ、シクロヘキサノン９．０ｇを添加、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ｄを調製した。硬化膜の屈折率は１．４２であった。
【０２０７】
［実施例１］
（１）光拡散層の塗設
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、上記の光拡散層用塗布液Ａを線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。
【０２０８】
（２）低屈折率層の塗設
該光拡散層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、上記低屈折率層用塗布液Ａを線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取った（試料１）。
【０２０９】
光拡散層と低屈折率層の塗布液を下記表１に示すように変更した以外は、上記試料１と同様にして、試料２〜１４の反射防止フィルムを作製した。
試料１〜１４の各試料とも、光拡散層および低屈折率層の厚さは微調節し、色味をａ*＝２、ｂ*＝−３とした。
【０２１０】
試料１〜１０のについては、上記において塗布、乾燥工程は０．５μｍ以上の粒子として３０個／立方メートル以下の空気清浄度（米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度クラス１以下）の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１０−３０９５５３号に記載の清浄度の高い空気を高速で吹きつけて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵しながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は２００Ｖ以下であった。上記の塗布は一層ごとに、送り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶまたは熱）硬化−巻取りの各工程で行った（条件１）。
試料１１〜１４の作成は塗布・乾燥ゾーンの空気清浄度が０．５μｍ以上の粒子として１００００個／立方メートル以上（米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度クラス１００〜１０００）である以外は試料１、７、９、１０と同様にして反射防止フィルムを作成した（条件２）。
作成した試料の光拡散層と低屈折率層の塗布液、および塗布、乾燥時の空気清浄度の条件を表１に示す。
【０２１１】
【表１】
2005148681.tif 000032
【０２１２】
（反射防止フィルムの鹸化処理）
製膜後、各試料について、以下の処理を行った。
１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。 作製した反射防止フィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを作成し、以下の評価を行った。
【０２１３】
（反射防止フィルムの評価）
得られた反射防止フィルムについて、以下の項目の評価を行った。結果を表２に示した。
【０２１４】
（１）平均反射率
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を用いた。
（２）スチールウール耐傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件で擦りテストを行った。
・評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
・こすり材：試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール（日本スチールウール（株）製、グレードＮｏ．００００）を巻いて、動かないようバンド固定した。
・移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／ｃｍ2、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
◎  ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○  ：非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
○△：弱い傷が見える。
△  ：中程度の傷が見える。
△×〜×：一目見ただけで分かる傷がある。
【０２１５】
（３）水綿棒こすり耐性評価
ラビングテスターのこすり先端部に綿棒を固定し、平滑皿中で試料の上下をクリップで固定し、室温２５℃で、試料と綿棒を２５℃の水に浸し、綿棒に５００ｇの荷重をかけて、こすり回数を変えてこすりテストを行った。こすり距離（片道）：１ｃｍ、こすり速度：約２往復／秒の条件で行った。
こすり終えた試料を観察して、膜剥がれが起こった回数で、こすり耐性を以下のように評価した。
×  ：０〜１０往復で膜剥がれ
×△：１０〜３０往復で膜剥がれ
△  ：３０〜５０往復で膜剥がれ
○△：５０〜１００往復で膜剥がれ
○  ：１００〜１５０往復で膜剥がれ
◎  ：１５０往復でも膜剥がれなし
【０２１６】
（４）輝点欠陥
全層塗布した後のフィルムの裏面をマジックインキで黒塗りした後塗膜上の輝点欠点を目視で判定、「１平方メートルあたりの個数をカウントした。
【０２１７】
【表２】
2005148681.tif 000033
【０２１８】
表２より、本発明の反射防止フィルムは、輝点欠陥が少なく低反射率であり、液晶表示装置に適用することで画質（コントラスト、視野角依存性）を向上させることができることは明らかである。
【０２１９】
[実施例２]
[帯電防止層用分散物の調製]
（ATO分散物の調製）
ATO（アンチモン含有酸化錫、比表面積：９５m2/ｇ、粉体比抵抗：２Ω・cm）２０質量部、下記のアニオン性モノマー（１）３質量部、下記のアニオンモノマー（２）３質量部およびシクロヘキサノン７４質量部をサンドグラインダーミルにより分散し、ATO分散物を調製した。
【０２２０】
【化３１】
2005148681.tif 000034
【０２２１】
（帯電防止層用塗布液Ａの調製）
ATO分散物に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（DPHA、日本化薬（株）製）、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）、光増感剤（カヤキュアーDETX、日本化薬（株）製）、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンを添加して帯電防止層用塗布液を調製した。添加量は、モノマーの合計量（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アニオン性モノマー（１）およびアニオン性モノマー（２）の合計量）とＡＴＯとの質量比が６５／３５、光重合開始剤と光増感剤との質量比が３／１、光重合開始剤と光増感剤の合計量とモノマーの合計量との質量比が６／１００、そしてメチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１／１になるように調節した。
【０２２２】
（帯電防止層の形成）
実施例１で作成した試料１、９、１０、１１、１３、１４において光拡散層を塗設する前に帯電防止層用塗布液をバーコーターで均一に塗布し、紫外線を照射して層を硬化させ、厚さ（乾燥膜厚）が６μｍの帯電防止層を形成し、試料１５〜２０を作成した。これらについて実施例１と同様にして輝点欠陥を調べた。結果を表３に示す。試料１５〜２０は輝点少なく防塵性に優れる以外の性能は帯電防止層のない試料１、９、１０、１１、１３、１４と同等であった。
【０２２３】
【表３】
2005148681.tif 000035
【０２２４】
[実施例３]
（帯電防止用塗布液Ｂの調製）
・導電性ポリマー分散物（ＩＰ−２４の５％メタノール分散液、平均粒径０．２μｍ）
１０質量部
・セルロースジアセテート樹脂
（商品名：アセテートフレークスＬ−ＡＣ、ダイセル化学工業（株）製）
０．２質量部
・メタノール                                                        ２０質量部
・アセトン                                                          ４０質量部
・酢酸エチル                                                        ２５質量部
・イソプロピルアルコール                                              ５質量部
【０２２５】
（帯電防止用塗布液Ｃの調製）
・セルロースジアセテート樹脂
（商品名：アセテートフレークスＬ−ＡＣ、ダイセル化学工業（株）製）
０．１質量部
・１％アセトン分散微粒子シリカ
（商品名：アエロジル２００Ｖ、日本アエロジル（株）製）          ０．０５質量部
・メチルエチルケトン                                                ４０質量部
・酢酸エチル                                                        ３０質量部
・イソプロピレングリコール                                          ３０質量部
【０２２６】
実施例２で作成した試料１５〜２０の帯電防止層の作成において、Ｂ液を塗布量２２ｍｌ／ｍ2となるように塗布して形成した帯電防止層の上に、更にＣ液を塗布量１６ｍｌ／ｍ2塗布し、帯電防止層を形成した試料２１〜２６を作成した。実施例２と同様に輝点少なくが少なく防塵性に優れる以外の性能は帯電防止層のない試料１、９、１０、１１、１３、１４と同等であった。さらにＢ液の導電性ポリマーをＩＰ−１１にかえても同様の効果が得られた。
【０２２７】
[実施例４]
（低屈折率層用塗布液Ｆの調製）
・メチルトリメトキシシラン                                      １００質量部
・ジメチルジメトキシシラン                                        ５０質量部
・シリル基含有ビニルポリマー（５０％固形分）：化合物PP−２        ５０質量部
・ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート              ２０質量部
・イソプロピルアルコール                                          ４０質量部
・イオン交換水                                                    ３０質量部
【０２２８】
（低屈折率層用塗布液Ｇ、Ｈの調製）
上記Ｆ液の調製においてシリル基含有ビニルポリマー（５０％固形分）を化合物PP−２から化合物PP−12、PP−15に変えることで低屈折率層用塗布液Ｇ、Ｈをそれぞれ調製した。
Ｆ〜Ｈ液を硬化して得られる硬化膜の屈折率は、いずれも１．４０であった。
実施例２の試料１５の作成において低屈折率層用塗布液をＡ液からＦ〜Ｈ液に変えることにより試料２７、２８、２９をそれぞれ作成した。なお低屈折率層用塗布液を塗設後１００℃で１時間乾燥、硬化を行った。
これら試料に実施例１と同様の評価を行った。結果を表４に示す。
【０２２９】
【表４】
2005148681.tif 000036
【０２３０】
表４により、本発明の反射防止フィルムは、輝点欠陥が少なく低反射率であり、液晶表示装置に適用することで画質（コントラスト、視野角依存性）を向上させることができることは明らかである。
【０２３１】
[実施例５]
実施例２で作成した試料１５を作製する際の塗布時の空気清浄度を変えることにより試料２１を作製し、さらに各層の屈折率および膜厚の微調整することにより、色味の異なる試料２２〜２５を作成し、輝点欠陥の目立ち易さを評価した。
【０２３２】
【表５】
2005148681.tif 000037
【０２３３】
これら試料を液晶表示装置の最表層に装着し、色味の好ましさ、輝点欠陥の目立ち易さを評価した。
色味は、液晶表示装置の電源ＯＦＦ時の画面に蛍光灯を反射させて、その反射光のニュートラリティーを官能評価した（５：好ましい〜１：好ましくない）。
輝点欠陥の目立ち易さは、液晶表示装置の電源ＯＦＦ時の画面を観察し、５点評価とした（５：全く気づかない〜１：容易に気づく）。
【０２３４】
【表６】
2005148681.tif 000038
【０２３５】
表６より、ＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*色空間のａ*、ｂ*値がそれぞれ−７≦ａ*≦７、−１０≦ｂ*≦１０とであっても、輝点欠陥数が２０個／ｍ2を超える試料（試料１１、１８）では、輝点欠陥は目立ってしまうが、輝点欠陥数を２０個／ｍ2以下にすることで気にならなくなり、これにより、色味と輝点欠陥の目立ち易さを両立することができることがわかる。
【０２３６】
［実施例６］
ＰＶＡフィルムをヨウ素２．０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウム４．０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて２４０秒浸漬し、さらにホウ酸１０ｇ／ｌの水溶液に２５℃にて６０秒浸漬後、特開２００２−８６５５４号公報の図２に記載の形態のテンター延伸機に導入し、５．３倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し上記公報の図２の如く屈曲させ、以降幅を一定に保った。８０℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱した。左右のテンタークリップの搬送速度差は、０．０５％未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は、４６゜であった。テンター出口における実質延伸方向は、次工程へ送られるフィルムの中心線２２に対し４５゜傾斜していた。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。
さらに、ＰＶＡ（（株）クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤としてケン化処理した富士写真フィルム（株）製ＴＤ８０Ｕ（セルローストリアセテート、レターデーション値３．０ｎｍ）と貼り合わせ、さらに８０℃で乾燥して有効幅６５０ｍｍの偏光板を得た。得られた偏光板の吸収軸方向は、長手方向に対し４５゜傾斜していた。この偏光板の５５０ｎｍにおける透過率は４３．７％、偏光度は９９．９７％であった。さらに図２の如く３１０×２３３ｍｍサイズに裁断したところ、９１．５％の面積効率で辺に対し４５゜吸収軸が傾斜した偏光板を得た。
次に、実施例１〜４で作製した本発明の反射防止フィルム（鹸化処理済み）を上記偏光板と貼り合わせて防眩性反射防止付き偏光板を作製した。この偏光板を用いて反射防止フィルムが最表層になるように配置した液晶表示装置を作製したところ、外光の映り込みがないために優れたコントラストが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認性を有していた。
【０２３７】
［実施例７］
１．５ｍｏｌ／ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）と、実施例１で作製した試料１の反射防止フィルム（裏面のトリアセチルセルロースフィルム面（偏光子との接着面）を鹸化処理済み）とを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。このようにして作製した偏光板を、反射防止フィルム側が最表面となるように透過型ＴＮ液晶表示装置搭載のノートパソコンの液晶表示装置（偏光選択層を有する偏光分離フィルムである住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦをバックライトと液晶セルとの間に有する）の視認側の偏光板と貼り代えたところ、背景の映りこみが極めて少なく、表示品位の非常に高い表示装置が得られた。
【０２３８】
［実施例８］
透過型ＴＮ液晶セルの視認側偏光板の視認側保護フィルム（液晶セル側とは反対側の保護フィルム）として実施例１〜４で作製した本発明の反射防止フィルムを貼りつけた。該視認側偏光板の液晶セル側の保護フィルム、およびバックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムとして、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム（ワイドビューフィルムＳＡ  １２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）を用いたところ、明室でのコントラストに優れ、且つ上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
また、実施例１で作製した試料２（光拡散層用塗布液Ｂ）の反射防止フィルムを用いた場合、出射角０°に対する３０°の散乱光強度が０．０６％であり、この光拡散性により、特に下方向の視野角アップ、左右方向の黄色味が改善され、非常に良好な液晶表示装置であった。比較として、該光拡散層用塗布液Ｂから、架橋ＰＭＭＡ粒子、シリカ粒子を除去した以外は、試料２と全く同様にして作製した反射防止フィルムを用いた場合では、出射角０°に対する３０°の散乱光強度が実質０％であり、下方向視野角アップ、黄色味改善効果は全く得られなかった。
【０２３９】
［実施例９］
実施例１〜４で作製した本発明の反射防止フィルムを、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に粘着剤を介して貼り合わせたところ、ガラス表面での反射が抑えられ、視認性の高い表示装置が得られた。
【０２４０】
［実施例１０］
実施例１〜４で作製した本発明の反射防止フィルムを用いて、片面反射防止フィルム付き偏光板を作製し、偏光板の反射防止フィルムを有している側の反対面にλ／４板を張り合わせ、有機ＥＬ表示装置の表面のガラス板に貼り付けたところ、表面反射および、表面ガラスの内部からの反射がカットされ、極めて視認性の高い表示が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０２４１】
【図１】本発明に係る反射防止フィルムの実施形態の断面図を示した模式図である。
【図２】反射防止フィルムの塗布工程の一例を示した模式図である。
【符号の説明】
【０２４２】
１    透明支持体
２    機能層
４    低屈折率層
６    光拡散層
７    透光性粒子
１１  フィルム支持体
１２  静電気除電装置
１３  除塵装置
１４  塗布部
１５  クリーン室
１６  乾燥室
１７  放射線硬化部
１８  熱硬化室
１９  フィルム支持体
【図１】
2005148681.tif 000042
【図２】
2005148681.tif 000043