(57)【要約】【課題】  高パワー密度を備え、安価で信頼性のあるレーザ・ダイオード・アレイを提供する。【解決手段】  レーザ・ダイオード・アレイは、多数の平行な溝（３１２）が形成された基板（３１０）上に形成される。金属層が溝（３１２）に形成される。レーザ・ダイオード・バー（３１４）が１つおきの溝に実装され、他の全ての溝は空のままであって冷却路（３１６）として機能する。アレイはハウジング（２１０）の中で液浸冷却される。冷却液は、ハウジング（２１０）及び熱交換器を経由して循環する。冷却液は、基板（３１０）の主要面の上と、冷却路（３１６）とを経由して流れる。従って、流体を循環させることにより、レーザ・ダイオード・バー（３１４）の３面から熱が奪われる。このような高性能冷却により、レーザ・ダイオード・アレイは、より大きなパワー密度を有することができる。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ・ダイオード装置であって、
第１及び第２の主要面を備える基板と、
前記基板の第１の主要面に形成された複数の溝であって、複数の溝のうちの少なくとも第１の溝が、前記基板を冷却するように冷却液が流れる冷却路として機能する、複数の溝と、
前記複数の溝のうちの少なくとも第２の溝に設置されたレーザ・ダイオード・バーとを備え、前記第１の溝は第２の溝と近接している、レーザ・ダイオード装置。
【請求項２】
金属層が前記第２の溝の側壁に形成されている、請求項１に記載のレーザ・ダイオード装置。
【請求項３】
金属層が前記第１の溝を形成する壁に形成されている、請求項１に記載のレーザ・ダイオード装置。
【請求項４】
前記第１の溝は、前記基板を冷却するように冷却液が流れる冷却路として機能する複数の溝のうちの１つであり、前記第２の溝はレーザ・ダイオード・バーがそれぞれ設置された複数の溝のうちの１つである、請求項１に記載のレーザ・ダイオード装置。
【請求項５】
冷却路を形成する溝は、レーザ・ダイオード・バーがそれぞれ設置された溝と平行に設けられ、かつレーザ・ダイオード・バーがそれぞれ設置された溝と交互に設けられている、請求項４に記載のレーザ・ダイオード装置。
【請求項６】
前記レーザ・ダイオード装置は、レーザ・ダイオード・バーの発光面と対向する窓を含むハウジングに包囲されている、請求項１に記載のレーザ・ダイオード装置。
【請求項７】
前記レーザ・ダイオード装置と前記ハウジングとの間に空間が存在し、冷却液は前記空間を経由して流れ、前記空間は冷却路と連通する、請求項６に記載のレーザ・ダイオード装置。
【請求項８】
冷却液を前記ハウジングの内部に案内する注入口と、冷却液をハウジング外に排出することを可能にする排出口とが前記ハウジングに形成されている、請求項７に記載のレーザ・ダイオード装置。
【請求項９】
前記注入口は前記ハウジングの第１の側面に設けられ、前記排出口は、前記ハウジングの前記第１の側面と対向する前記ハウジングの第２の側面に設けられ、前記溝が前記ハウジングの前記第１の側面から前記ハウジングの前記第２の側面にかけて延びるように、かつ、前記冷却路が冷却液の流れの方向に整列するように、前記基板が前記ハウジング内に配置される、請求項８に記載のレーザ・ダイオード装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ・ダイオード・ポンプ・アレイに関し、より詳細には、レーザ・ダイオード・ポンプ・アレイの液体冷却に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、レーザ・ダイオード・ポンプ・アレイの放射パワー密度は不十分である。そして、レーザ・ダイオード・ポンプ・アレイは高価であり、多くの場合信頼性がない。従来、比較的安価であり、信頼性があり、レンズ取付性を向上させるモノシリック・レンズ・アレイを利用することができるモノリシック・レーザ・ダイオード・アレイが提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、向上された冷却性能及び高パワー密度を備える液体冷却のレーザ・ダイオード・アレイ装置も開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】米国特許第５０４０１８７号明細書
【特許文献２】米国特許第５４９５４９０号明細書
【特許文献３】米国特許第５１２８９５１号明細書
【特許文献４】米国特許第５２８４７９０号明細書
【特許文献５】米国特許第５３１１５３５号明細書
【特許文献６】米国特許第５５２６３７３号明細書
【特許文献７】米国特許第５６６８８２５号明細書
【特許文献８】米国特許第６４００７４０号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１のモノリシック・レーザ・ダイオード・アレイでは、熱インピーダンスに起因して、パワー密度が約１００〜２００Ｗ／ｃｍ２に制限される。また、特許文献２の装置は、低コスト、高信頼性、及びモノリシック・レーザ・ダイオード・アレイのレンズ取付性の利点を備えていない。従って、高パワー密度及び高信頼性を低コストで実現するレーザ・ダイオード・ポンプ・アレイが必要とされる。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の目的は、高パワー密度を備え、安価で信頼性のあるレーザ・ダイオード・アレイを提供することにある。
本発明の別の目的は、比較的低コストで高信頼性をともなって大量生産可能なレーザ・ダイオード・アレイを提供することにある。
【０００５】
上記及び他の目的を達成すべく、本発明は、基本的には、第１及び第２の主要面を備える基板を含むレーザ・ダイオード装置である。複数の溝が基板の第１の主要面に形成される。複数の溝のうち、少なくとも第１の溝は、基板を冷却するように冷却液が流れる冷却路として機能する。装置は、複数の溝のうちの少なくとも第２の溝に設置されたレーザ・ダイオード・バーを更に含み、第１の溝は第２の溝に近接している。
【０００６】
本発明の別の態様では、金属層が第２の溝の側壁に形成されている。
本発明の別の態様では、金属層が第１の溝を形成する壁に形成されている。
本発明の別の態様では、前記第１の溝は、基板を冷却するように冷却液が流れる冷却路として機能する複数の溝のうちの１つであり、第２の溝はレーザ・ダイオード・バーがそれぞれ設置された複数の溝のうちの１つである。
【０００７】
本発明の別の態様では、冷却路を形成する溝は、レーザ・ダイオード・バーがそれぞれ設置された溝と平行に設けられ、かつレーザ・ダイオード・バーがそれぞれ設置された溝と交互に設けられている。
【０００８】
本発明の別の態様では、レーザ・ダイオード装置はレーザ・ダイオード・バーの発光面と対向する窓を含むハウジングに包囲されている。
本発明の別の態様では、レーザ・ダイオード装置とハウジングとの間に空間が存在し、冷却液は空間を経由して流れ、空間は冷却路と連通する。
【０００９】
本発明の別の態様では、冷却液を前記ハウジングの内部に案内する注入口と、冷却液をハウジング外に排出することを可能にする排出口とが前記ハウジングに形成されている。
本発明の別の態様では、注入口はハウジングの第１の側面に設けられ、排出口は、ハウジングの第１の側面と対向するハウジングの第２の側面に設けられ、溝がハウジングの第１の側面からハウジングの第２の側面にかけて延びるように、かつ、冷却路が冷却液の流れの方向に整列するように、基板がハウジング内に配置される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、高パワー密度を備え、安価で信頼性のあるレーザ・ダイオード・アレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明の実施形態を示した添付の図面を参照して、以下に、本願発明を詳細に説明する。しかしながら、本発明は、別の形態で具体化されてもよく、本明細書に記載した実施形態に限定して解釈されるべきものではなく、むしろ、この実施形態は本願発明の開示を十分かつ完全なものとし、本願発明の範囲を当業者に十分に伝達すべく提供されるものである。全体に亘り、同じ符号は同じ構成要素を示す。
【００１２】
図１に、比較的高い出力パワー・レベルを有するレーザ出力を供給するのに適したレーザ・システム１０２のブロック図を示す。詳細には、レーザ・システム１０２は、レーザ・パルスを放射するポンプ・レーザ即ちレーザ・ポンプ源１０４を含む。レーザ出力は比較的高い平均パワー・レベルを有する。例えば、レーザ・ポンプ源１０４は１５００Ｗ／ｃｍ２の平均パワー・レベルを有する２次元レーザ・ダイオード・アレイとすることができる。
【００１３】
レーザ・ポンプ源１０４により放射されるレーザ出力は、スラブ・レーザ、ロッド・レーザ又はファイバ・レーザ等の主レーザ１０８に照射される。例えば、主レーザ１０８をＮｄ：ＹＡＧスラブ・レーザとすることができる。パルス状の出力が所望のものである場合は、主レーザ１０８の出力がＱスイッチ１１０により制御される。当業者には公知であるように、Ｑスイッチ１１０により、高ピーク・パワーを持つ短パルスを放射するように主レーザ１０８が誘導される。あるいは、レーザ・システム１０２がＱスイッチ１１０を含まない実施形態においては、主レーザは連続的に、あるいは長パルス・モードで動作する。Ｑスイッチ１１０が含まれる場合、Ｑスイッチ１１０は、その少なくとも一部が主レーザ・キャビティ１０６を形成し、所定の閾値レベル以上のパワー・レベルを有するレーザ出力のみが生成されるように、主レーザ１０８の出力を制御する。レーザ・ポンプ源１０４が別のレーザに連結される必要はない。即ち、レーザ・ポンプ源１０４からのレーザ出力は、所望の用途に応じて、直接的に利用可能である。
【００１４】
本発明では、図３及び４に示すように、レーザ・ポンプ源１０４は、レーザ・ダイオード装置としての半導体レーザ・デバイス３０８を含む半導体レーザ・アセンブリ３０６である。一実施形態では、半導体レーザ・デバイス３０８はレーザ・ダイオードのリニア・アレイ、即ちレーザ・ダイオード・バー３１４を含む。より好ましくは、半導体レーザ・デバイス３０８は、２次元のレーザ・ダイオード・アレイとして構成された複数のレーザ・ダイオード・バー３１４を含んでもよい。例えば、２次元のレーザ・ダイオード・アレイを含む本発明の半導体レーザ・デバイス３０８の一実施形態を図２及び３に示す。公知のように、半導体レーザ・デバイス３０８の個々のレーザ・ダイオード・バー３１４は、好ましくは、レーザ・ダイオード・アレイの出力が同期するように電気的に接続される。
【００１５】
半導体レーザ・デバイス３０８を形成するレーザ・ダイオード・バー３１４は、当業者に公知の様々な半導体材料から製造可能である。例えば、レーザ・ダイオード・バー３１４は、ＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ、又はＧａＩｎＡｓＰから製造することができる。レーザ・ダイオード・バー３１４は、当業者に公知の他の材料から製造することもでき、また、市販のレーザ・ダイオード・バーであってもよい。そのようなレーザ・ダイオード・バーの１つが、ノースイースト・セミコンダクタ・インコーポレーションにより製造されている。各レーザ・ダイオード・バー３１４は、複数の発光部、例えば、１センチメートル当たり３０個の発光部を含む。各レーザ・ダイオード・バー３１４は、当業者に公知であるように、図３においては右側の面であり、図４においては上側の面である発光面３１５を備える。
【００１６】
図３及び４を参照して、モノリシック基板３１０は、例えば、約２ｃｍ×１ｃｍ×０．３ｃｍのサイズを有する。当然、所望の用途に応じて他のサイズとしてもよい。例えば、５ｃｍ×５ｃｍ×０．３ｃｍのサイズの基板を利用してもよい。基板３１０の厚さを変更してもよい。製造に対して考慮すべき事柄に応じて、最初に形成される基板は比較的大きくてもよく、その後、製造工程の適当なステップにおいて、より小さなアレイ若しくはサブマウントにカットされてもよい。
【００１７】
基板３１０は、ＢｅＯ（小粒のＢｅＯでもよい）、ＡｌＮ、非ドープの珪素、同位体的に純粋な珪素２８、又は好ましくはセラミックである高い熱伝導性を有する材料から形成することができる。同位体的に純粋な珪素２８は、銅に匹敵するほどのその高伝導性に起因して、基板３１０に好適な材料の一つである。
【００１８】
基板３１０は、仕上げにその両面が３〜４μｍ研磨されて、全体的な厚さが３ｍｍまで減らされる。約１．５ｍｍの深さ、１００ミクロンの幅で、上記のサイズにおける２番目の長さに沿って溝３１２が形成される。しかしながら、所望の性能特性に応じて溝３１２のサイズを変更してもよい。製造条件に応じて、溝３１２は底よりも上端が広くてもよい。図４に示すような丸底の溝３１２を設けてもよい。図３及び４に示す溝３１２は、好ましくは、製造を容易にするために、実質的に同じサイズを有し、かつ等間隔で離間されている。図３及び４では、隣接する溝３１２は２００ミクロン離間しており、その両側には１００ミクロンの余裕がある。従って、１ｃｍの幅の基板に対しては、５０個の溝３１２が刻まれる。しかし、当然のことながら、設計の際にはこれらのサイズに限定されることはない。半導体レーザ・デバイス３０８の末端消費者の要求に応じて、全体的に溝３１２をより離間させても、又はより近接させてもよい。溝３１２はソーイング又はエッチング等の従来の半導体製造技術を利用して形成される。
【００１９】
いくつかの溝３１２はレーザ・ダイオード・バー３１４を保持し、いくつかの溝３１２は冷却路３１６として機能する。しかしながら、製造効率のため好ましくは、冷却路３１６として機能する溝３１２は、レーザ・ダイオード・バー３１４を保持する機能を持つものと同一である。即ち、冷却路３１６は、単純に溝３１２のいくつかを空のままにしておくことにより形成され、冷却路３１６を形成するための付加的な製造ステップは必要とされない。
【００２０】
Ｃｒ，Ｔｉ，Ｎｉ，Ａｕ，Ａｇのうちの１つ以上、又はその合金、又は基板３１０に十分に付着する適切な伝導性材料を用いて、プリント回路基板の製造に利用されるような、標準的な金属蒸発器又は他の適切なめっき技術により、図３の部分拡大図である図４に示すように、金属層４１０が設けられる。概して、実施に際しては、上記の材料の様々な組合せが利用される。例えば、先ずは、Ｃｒ又はＴｉが利用される。この理由は、それらは基板材料（通常はセラミック）によく結合するからである。そして、金属層を流れる電流に対応するために、Ｎｉの厚い層が設けられる。その後、金（Ａｕ）の層が設けられる。この理由は、それは熱圧着結合を形成するために利用できるからである。
【００２１】
基板３１０の金属被覆により溝３１２のサイズが減少する。一実施形態では、金属被覆された溝３１２は、挿入されるべきレーザ・ダイオード・バー３１４の対応する厚さより数ミクロン小さくてもよい。別の実施形態では、金属被覆された溝３１２は、レーザ・ダイオード・バー３１４の対応する厚さより若干大きくてもよい。
【００２２】
本実施形態では、電気的な絶縁を得るために、公知技術である、シャドウイング、マスキング、又はソーイングにより、一つ置きの溝３１２の底から金属被膜が除去される。即ち、公知の方法で、電圧がレーザ・ダイオード・バー３１４に適切に印加されるように、レーザ・ダイオード・バー３１４が挿入される溝３１２の底から金属層４１０が除去される。レーザ・ダイオード・バー３１４に隣接する溝３１２は空のままであり、冷却路３１６として機能する。しかしながら、隣接する溝３１２内のレーザ・ダイオード・バー３１４に電気を伝導するために、金属層４１０は冷却路３１６内に残ったままでなくてはならない。故に、レーザ・ダイオード・バー３１４は電気的に直列接続である。あるいは、冷却路３１６が金属被覆されていない場合は、各冷却路３１６にまたがる金属箔（図示せず）等の別の導体により、レーザ・ダイオード・バー３１４が設置される溝３１２へ電力が伝達されなくてはならない。
【００２３】
金属被覆ステップが実行された直後、金属被覆された基板３１０は、適当なサイズのアレイを形成するために、大きさが設定されて分割される。例えば、５ｃｍ×５ｃｍのアレイを、個別の１ｃｍ２のアレイにカットしてもよい。このステップの完了直後、当業者に公知の方法を利用して、レーザ・ダイオード・バー３１４が各アレイの中に装着される。例えば、溝３１２がレーザ・ダイオード・バー３１４よりも狭い場合は、一つ置きの溝３１２へのレーザ・ダイオード・バー３１４の挿入を可能にするために、溝３１２を一時的に広げられるように、基板３１０が柔軟性を有していてもよい。本実施形態では、それ以外の溝３１２は、冷却路３１６として機能すべく、空のままである。
【００２４】
図２、３及び４に示すように、本発明の半導体レーザ・デバイス３０８は、半導体レーザ・デバイス３０８に電気エネルギーを供給するために、半導体レーザ・デバイス３０８と電気的に接続された第１及び第２の電極２２０，２２２を含む。十分に電気駆動されると、半導体レーザ・デバイス３０８の発光面、即ち前面を介して、より詳細には、個々のレーザ・ダイオード・バー３１４のそれぞれの発光面３１５、即ち前面を介して、半導体レーザ・デバイス３０８によりレーザ出力が放射される。図４に示すように、各電極２２０，２２２は金属層４１０のそれぞれの面と電気的に接続される。
【００２５】
レーザ出力の放射中、半導体レーザ・デバイス３０８では熱が発生する。このため、冷却を行わない半導体レーザ・デバイス３０８では温度が上昇する。半導体レーザ・デバイス３０８の温度を支障なく所定の最高動作温度以下に維持して、半導体レーザ・デバイス３０８への損傷を防止し、そして、高出力を可能にするために、半導体レーザ・デバイス３０８は、流体を循環させる液浸冷却となっている。
【００２６】
冷却液は、電気的に活性化された半導体レーザ・デバイス３０８を循環する。好ましくは、冷却液は循環して、レーザ・ダイオード・バー３１４の発光面３１５、即ち前面と直接的に接触し、冷却路３１６を通過する。冷却液の温度は、レーザ出力を放射中の半導体レーザ・デバイス３０８の温度よりも低い。従って、半導体レーザ・デバイス３０８を回る冷却液の循環により、半導体レーザ・デバイス３０８から熱が奪われて、冷却される。
【００２７】
冷却液は、好ましくは、電気的かつ光学的に受動的な誘電液体である。従って、冷却液は、半導体レーザ・デバイス３０８がレーザ出力を放射する所定範囲の波長に対して透過性がある。冷却液は所定範囲の波長のレーザ放射を吸収しないので、半導体レーザ・デバイス３０８により生成される出力パワー・レベルが、循環する冷却液によって減衰若しくは減少することはない。一実施形態では、誘電冷却液は、ＦＣ７５又はＦＣ７７等のフロリナート（商標）化合物である。別の実施形態では、誘電冷却液は、ヘキサン等の軽炭化水素化合物である。また別の実施形態では、誘電冷却液は、フロン、無水アンモニア又は珪素ベースの液体である。
【００２８】
半導体レーザ・デバイス３０８を冷却液と直接的に接触させることにより、より詳細には、レーザ・ダイオード・バー３１４の発光面３１５を冷却液と直接的に接触させることにより、半導体レーザ・デバイス３０８の熱インピーダンスが低減される。加えて、冷却液が半導体レーザ・デバイス３０８の個々のレーザ・ダイオード・バー３１４の発光面３１５と直接的に接触することにより、発光面の冷却性が向上されて、レーザ・ダイオード・バー３１４の発光面３１５が損傷することなく、半導体レーザ・デバイス３０８が比較的高温で動作可能である。従って、半導体レーザ・デバイス３０８の動作寿命が増大する。更に、半導体レーザ・デバイス３０８の液浸、具体的には、冷却液中の半導体レーザ・デバイス３０８の発光面の液浸により、半導体レーザ・デバイス３０８の発光面が外部の汚染物にさらされる危険性が十分に低減される。加えて、冷却液が冷却路を経由して流れ、これにより、レーザ・ダイオード・バー３１４の側面から熱を除去することが可能になる。従って、このような高性能冷却により、半導体レーザ・デバイス３０８が非常に高いパワー密度及び比較的高い出力を有することが可能になり、半導体レーザ・デバイス３０８は熱による損傷を被ることなく連続的に動作可能である。
【００２９】
本発明の半導体レーザ・アセンブリ３０６は、好ましくは、半導体レーザ・デバイス３０８と、第１及び第２の電極２２０，２２２とが設置されたハウジング２１０を含む。図３に示すように、ハウジング２１０は前窓３２０を含む。半導体レーザ・デバイス３０８のレーザ出力は窓３２０を介して放射される。このようにして、ハウジング２１０は半導体レーザ・デバイス３０８を全体的に封入している。窓３２０は、半導体レーザ・デバイス３０８により放射される波長範囲の光に対して透過性のある物質からなる。例えば、窓３２０は、ガラス、溶融シリコン、又はサファイアからなる。しかしながら、窓３２０は、本発明の意図するもの及びその範囲を逸脱しない他の材料からなってもよい。
【００３０】
図３に示すように、半円柱レンズ２１８が窓３２０に接合される。あるいは、レンズ２１８と窓３２０とが、例えば、型成形により形成された単一の一体的な部材であってもよい。
【００３１】
冷却路３１６と連通する空間３２２が、半導体レーザ・デバイス３０８とハウジング２１０との間に存在する。半導体レーザ・アセンブリ３０６の動作中、空間３２２は、上記し、例示した種類のうちの１つの移動冷却液で満たされる。半導体レーザ・デバイス３０８の発光面が所定の間隔をあけて窓３２０と隣接するように、半導体レーザ・デバイス３０８がハウジング２１０の内部に設置される。図３に示すように、冷却液は、窓３２０と半導体レーザ・デバイス３０８との間を、冷却路３１６を通り、加えて、半導体レーザ・デバイス３０８の側面とハウジング２１０の壁との間を循環し、半導体レーザ・デバイス３０８から熱を奪い、冷却する。図２に示すように、熱交換器２１６が注入口２１２及び排出口２１４と接続されて、冷却回路が形成される。熱交換器２１６により、当業者に公知の方法で冷却液が冷却される。
【００３２】
図２には、丸型の注入口２１２及び排出口２１４が示されているが、冷却液の流れを冷却路３１６の各々において略同一、かつ半導体レーザ・デバイス３０８の前面に亘って略均一とすべく、半導体レーザ・デバイス３０８の全長に沿って注入口が延出されていることが好ましい。公知のように、このことは、マニホールド、又は注入口２１２及び排出口２１４を所望の方法で成形することにより達成することができる。冷却路３１６を通る冷却液の流れを円滑にすべく、冷却路３１６は注入口２１２から排出口２１４へと長く延びることが好ましい。  
【００３３】
図５に、半導体レーザ・アセンブリ３０６のレーザ出力を従来構成の二重被覆のファイバ５１０に指向させてファイバ・レーザを形成した、液浸冷却の半導体レーザ・アセンブリ３０６の適用例を示す。説明を簡単にするために、図５には、熱交換器２１６及び冷却液は図示しない。しかし、当然のことながら、図５の半導体レーザ・アセンブリ３０６は、図２に示した方法で液体冷却される。半導体レーザ・アセンブリ３０６の光出力の焦点がファイバ５１０の一端に合うように、カップリング・レンズ５１２が半導体レーザ・アセンブリ３０６の前に設置される。高反射率のミラー５１４がファイバ５１０の入力端に設置され、出力ミラー５１６がファイバ５１０の出力端に設置される。出力ビームはファイバ５１０の出力端から放射される。半導体レーザ・アセンブリ３０６は液浸冷却であり、かつ冷却路３１６を含むため、半導体レーザ・アセンブリ３０６のパワー密度は比較的高い。これにより、半導体レーザ・アセンブリ３０６の面の面積をより小さくすることができ、任意のパワーのデバイスに対して、カップリング・レンズ５１２をより小さくすることができる。更に、冷却路３１６により提供される高性能冷却に起因して、半導体レーザ・アセンブリ３０６は、断続的にではなく、連続的に動作可能である。
【００３４】
本発明の実施形態の上記説明は、当業者が本発明を実施するのに十分詳細であると考えられる。しかし、当然のことながら、上記の目的に対して提示された構成要素の詳細は本発明の範囲を限定するものではない。本発明の範囲に含まれるこれらの要素と等価のもの及び改良は、本明細書を参照して、当業者に明らかとなろう。従って、本発明は添付した特許請求の範囲に亘って広く解釈されるべきものである。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】主レーザ及びＱスイッチと連結された本発明のレーザ・ダイオード・アレイを示すブロック図。
【図２】熱交換器と接続された、本発明のレーザ・ダイオード・アレイを示す概略斜視図。
【図３】図２の３−３線により示された平面に沿う断面図。
【図４】基板の主要面が上を向くように回転させた図３の部分拡大図。
【図５】カップリング・レンズを介してファイバと連結された、本発明のレーザ・ダイオード・アレイの概略側面図。
【符号の説明】
【００３６】
２１０…ハウジング、２１２…注入口、２１４…排出口、３０８…レーザ・ダイオード装置としての半導体レーザ・デバイス、３１０…基板、３１２…溝、３１４…レーザ・ダイオード・バー、３１６…冷却路、３１５…発光面、３２０…窓、３２２…空間、４１０…金属層。
【図１】
2005072549.tif 000003
【図２】
2005072549.tif 000004
【図３】
2005072549.tif 000005
【図４】
2005072549.tif 000006
【図５】
2005072549.tif 000007