(57)【要約】【課題】高精細な描画性、反射防止性および防眩性に優れ、しかも高耐久性の反射防止フィルム、およびその製造方法を提供する。さらに光学性能、物理強度、および耐候性に優れた反射防止層を備えた安価な偏光板、並びに耐候性良好な反射防止処理がなれている画像表示装置を提供する。【解決手段】透明支持体上に反射防止層を含み、該反射防止層の厚さが実質的に均一であり、かつ反射防止層面側のフィルム最表面の算術平均粗さＲａが０．０２〜１μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍが５乃至６５μｍ、および十点平均粗さＲｚとＲａの比Ｒｚ／Ｒａが１０以下である凹凸プロファイルを有する反射防止フィルム、エンボス加工により凹凸プロファイルを形成する上記反射防止フィルムの製造方法、表面保護フィルムに上記反射防止フィルム用いた偏光板、および上記反射防止フィルムを備えた画像表示装置。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に反射防止層を含む反射防止フィルムにおいて、
該反射防止層の厚さが実質的に均一であり、かつ反射防止層面側のフィルム最表面の算術平均粗さＲａが０．０２〜１μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍが５乃至６５μｍ、および十点平均粗さＲｚとＲａの比Ｒｚ／Ｒａが１０以下である凹凸形状を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
反射防止フィルムの最表面が、凹凸の最大高さＲｙが２μｍ以下であり、かつ凹凸プロファイルの傾斜角（正反射面に対する傾斜角度分布）が１５度以下に分布していることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
反射防止層表面の微細な凹凸形状が、該反射防止層を塗布、乾燥後にエンボス加工方法で形成されたことを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
透明支持体と反射防止層の間にハードコート層を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
ハードコート層が、ラジカル重合反応で硬化する重合性化合物及びカチオン重合反応で硬化する重合性化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有するハードコート層用硬化組成物を塗布、硬化して形成された硬化皮膜であることを特徴とする請求項４に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
ハードコート層用硬化組成物が、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマー、および同一分子内に２個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物とを各少なくとも１種を含有して成ることを特徴とする請求項５に記載の反射防止フィルム。
【化１】
2005122147.tif 000028
一般式（１）中、ａ1、ａ2は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、脂肪族基、−ＣＯＯＲ1、または−ＣＨ2ＣＯＯＲ1を表す。ここで、Ｒ1は炭化水素基を表す。
Ｐは、開環重合性基を含む一価の基又はエチレン性不飽和基を表す。
Ｌは、単結合もしくは二価の連結基を表す。
【請求項７】
反射防止層が、透明支持体と該透明支持体より低い屈折率の低屈折率層との間に、該支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層を有する２層構造から形成される請求項１乃至６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
反射防止層が、透明支持体と該透明支持体より低い屈折率の低屈折率層との間に、低屈折率層側から順に該支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層、および該支持体と該高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層を有する３層構造から形成され、設計波長λ（４００〜６８０ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、高屈折率層が下式（II）を、低屈折率層が下式（III）をそれぞれ充足することを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
（ｌλ／４）×０．８０＜ｎ１ｄ１＜（ｌλ／４）×１．００      （Ｉ）
（ｍλ／４）×０．７５＜ｎ２ｄ２＜（ｍλ／４）×０．９５      （II）
（ｎλ／４）×０．９５＜ｎ３ｄ３＜（ｎλ／４）×１．０５      （III）
（但し、式中、ｌは１であり、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｍは２であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎは１であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である）
【請求項９】
上記の支持体よりも高屈折率を有する高屈折率層が、コバルト、アルミニウム、およびジルコニウムから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子を含有し、かつ屈折率が１．５５〜２．４０であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項１０】
透明支持体上に該透明支持体の屈折率より低い屈折率を有する低屈折率層を少なくとも一層含む反射防止層を塗布により順次または同時に形成する工程、および反射防止率層側の最表面をエンボス加工して反射防止層側の表面に算術平均粗さＲａが０．０２乃至１μｍであり、凹凸の平均間隔Ｓｍが５乃至６５μｍであり、かつ十点平均粗さＲｚとＲａの比Ｒｚ／Ｒａが１５以下の凹凸を形成する工程を含むことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１１】
エンボス加工に用いられる版が放電加工によって造形され、しかも版の表面は、算術平均粗さＲａが０．２乃至１．０μｍであり、かつ凹凸の平均間隔Ｓｍが５乃至３０μｍの表面形状であることを特徴とする請求項１０に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項１２】
偏光子の表面に少なくとも１枚の表面保護フィルムを有する偏光板であり、前記表面保護フィルムが請求項１乃至９のいずれかに記載の反射防止フィルム若しくは請求項１０または１１に記載の方法により製造された反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
【請求項１３】
２枚の表面保護フィルムの一方に請求項１乃至９のいずれかに記載の反射防止フィルム若しくは請求項１０または１１に記載の方法により製造された反射防止フィルムが用いられ、他方の表面保護フィルムに該表面保護フィルムの偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面に光学異方性層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムが用いられてなり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物から形成された層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いており、かつ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム面とのなす平均角度が、光学異方層の深さ方向において変化していることを特徴とする請求項１２に記載の偏光板。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載の偏光板を少なくとも１枚有する画像表示装置。
【請求項１５】
請求項１２または１３に記載の偏光板を少なくとも１枚有するＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、またはＯＣＢのモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムおよびその製造方法、並びに該反射防止フィルムを用いた偏光板および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような様々な画像表示装置に設けられている。眼鏡やカメラのレンズにも反射防止フィルムが設けられている。反射防止フィルムとしては、金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から用いられている。複数の透明薄膜を用いるのは、可視域でなるべく広い波長領域での光の反射を防止するためである。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により形成されている。
金属酸化物の透明薄膜は、反射防止フィルムとして優れた光学的性質を有しているが、蒸着法やスパッタ法による製膜方法は、生産性が低く大量生産に適していない。ＰＶＤ法による反射防止フィルムは、用途に応じて表面凹凸による防眩性を有する支持体上に形成される場合がある。平滑な支持体上に形成されたものより平行光線透過率は減少するが、背景の映り込みが表面凹凸によって散乱されて低下するため防眩性を発現し、反射防止効果とあいまって、画像形成装置に適用するとその表示品位は著しく改善される。
【０００３】
蒸着法に代えて、無機微粒子の塗布により多層構成から成る反射防止フィルムを形成する方法が提案されている。塗布による反射防止フィルムに防眩性を付与する手段としては、表面凹凸を有する支持体上に反射防止層を塗布する方法や、表面凹凸を形成するためのマット粒子を反射防止層を形成する塗布液に添加する方法の他に、エンボス方法等により反射防止膜（反射防止層）の表面に凹凸形状を賦形する方法が提案されている。反射防止層と塗布後に塗布層が完全に硬化する前にエンボス加工する方法（例えば、特許文献１、特許文献２等）が開示されている。これらは、凹凸の賦形は容易だが薄層の多層構成からなる反射防止膜（反射防止層）の各層の膜厚を一定に保持することが難しく、結果として防眩性、反射防止性にムラが生じてしまう問題がある。これに対して、平滑な反射防止フィルムの作成後にエンボス加工する方法が提案されている（例えば、特許文献３、特許文献４等）。
【０００４】
近年、液晶ディスプレイの高視野角化、高速応答化と並び、高精細化、即ち高画質に対する要求が非常に高い。この高精細化は、液晶セルサイズの微小化により実現されるがセルサイズが小さくなるにつれて、例えば１３３ｐｐｉ（１３３ｐｉｘｅｌｓ／ｉｎｃｈ）以上の超高精細の領域になると、防眩性を有する反射防止フィルムを透過し、ユーザーの目に届く光には輝度バラツキが生じ、即ち「ギラツキ」という問題が発生し、表示品位が劣化するという問題があった。
この「ギラツキ」は、反射防止フィルムの表面に画像表示セルよりも大きな凹凸が存在することにより、単一セルからの透過光がレンズ効果により集光したり、隣接する幾つかのセルからのＲＧＢ透過光が混色を起こしたりすることによって発生する描画故障である。
【０００５】
一方、画像表示装置用の防眩、あるいは反射防止フィルムは、その機能より、装置の最外面に装着されることが多い。特にテレビやコンピューター用モニター、携帯用デジタル機器に用いられる場合は、使用中に様々な外力を受けることがあるため、スクラッチや押し込みに対しての耐性並びに耐候性向上が望まれていた。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−２０６３１７号公報
【特許文献２】特開２０００−２１４３０２号公報
【特許文献３】特開２０００−２７５４０１号公報
【特許文献４】特開２０００−２７５４０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、高精細な描画性、反射防止性および防眩性に優れた反射防止フィルムを提供することである。
また、本発明の他の目的は、上記の優れた特性に加えて、優れた高耐久性を有する反射防止フィルムを提供することである。
また、本発明の他の目的は、反射防止層を有する透明樹脂フィルムにおいて、エンボス加工による版のパターン転写を容易にすることにより、制御された微細構造をフィルム表面に形成し、防眩効果を実現し、近年の高精細な画像描画装置においても、「ギラツキ」などの欠陥が生じない長尺ロール形態の生産性良好な反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、光学性能、物理強度、および耐候性に優れた反射防止層付き偏光板を安価で大量に提供することである。
また、本発明の他の目的は、適切な手段により耐候性良好な反射防止処理がされている画像表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、下記構成の反射防止フィルム、その製造方法、偏光板、および画像表示装置が提供されて、本発明の上記目的が達成される。
１．透明支持体上に反射防止層を含む反射防止フィルムにおいて、
該反射防止層の厚さが実質的に均一であり、かつ反射防止層面側のフィルム最表面の算術平均粗さＲａが０．０２〜１μｍ、凹凸の平均間隔Ｓｍが５乃至６５μｍ、および十点平均粗さＲｚとＲａの比Ｒｚ／Ｒａが１０以下である凹凸形状を有することを特徴とする反射防止フィルム。
２．反射防止フィルムの最表面が、凹凸の最大高さＲｙが２μｍ以下であり、かつ凹凸プロファイルの傾斜角（正反射面に対する傾斜角度分布）が１５度以下に分布していることを特徴とする上記１に記載の反射防止フィルム。
３．反射防止層表面の微細な凹凸形状が、該反射防止層を塗布、乾燥後にエンボス加工方法で形成されたことを特徴とする上記１または２に記載の反射防止フィルム。
４．透明支持体と反射防止層の間にハードコート層を有することを特徴とする上記１乃至３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
５．ハードコート層が、ラジカル重合反応で硬化する重合性化合物及びカチオン重合反応で硬化する重合性化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有するハードコート層用硬化組成物を塗布、硬化して形成された硬化皮膜であることを特徴とする上記４に記載の反射防止フィルム。
６．ハードコート層用硬化組成物が、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマー、および同一分子内に２個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物とを各少なくとも１種を含有して成ることを特徴とする上記５に記載の反射防止フィルム。
【０００９】
【化１】
2005122147.tif 000002
【００１０】
一般式（１）中、ａ1、ａ2は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、脂肪族基、−ＣＯＯＲ1、または−ＣＨ2ＣＯＯＲ1を表す。ここで、Ｒ1は炭化水素基を表す。
Ｐは、開環重合性基を含む一価の基又はエチレン性不飽和基を表す。
Ｌは、単結合もしくは二価の連結基を表す。
７．反射防止層が、透明支持体と該透明支持体より低い屈折率の低屈折率層との間に、該支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層を有する２層構造から形成される請求項１乃至６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
８．反射防止層が、透明支持体と該透明支持体より低い屈折率の低屈折率層との間に、低屈折率層側から順に該支持体よりも高い屈折率を有する高屈折率層、および該支持体と該高屈折率層の中間の屈折率を有する中屈折率層を有する３層構造から形成され、設計波長λ（４００〜６８０ｎｍ）に対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、高屈折率層が下式（II）を、低屈折率層が下式（III）をそれぞれ充足することを特徴とする上記１乃至７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
ｌλ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜ｌλ／４×１．００          （Ｉ）
ｍλ／４×０．７５＜ｎ２ｄ２＜ｍλ／４×０．９５          （II）
ｎλ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜ｎλ／４×１．０５          （III）
（但し、式中、ｌは１であり、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｍは２であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎは１であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である）
９．支持体よりも高屈折率を有する高屈折率層が、コバルト、アルミニウム、およびジルコニウムから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子を含有し、かつ屈折率が１．５５〜２．４０であることを特徴とする上記１乃至８のいずれかに記載の反射防止フィルム。
１０．透明支持体上に該透明支持体の屈折率より低い屈折率を有する低屈折率層を少なくとも一層含む反射防止層を塗布により順次または同時に形成する工程、および反射防止率層側の最表面をエンボス加工して反射防止層側の表面に算術平均粗さＲａが０．０２乃至１μｍであり、凹凸の平均間隔Ｓｍが５乃至６５μｍであり、かつ十点平均粗さＲｚとＲａの比Ｒｚ／Ｒａが１５以下の凹凸を形成する工程を含むことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
１１．エンボス加工に用いられる版が放電加工によって造形され、しかも版の表面は、算術平均粗さＲａが０．２乃至１．０μｍであり、かつ凹凸の平均間隔Ｓｍが５乃至３０μｍの表面形状であることを特徴とする上記１０に記載の反射防止フィルムの製造方法。
１２．偏光子の表面に少なくとも１枚の表面保護フィルムを有する偏光板であり、前記表面保護フィルムが前記１乃至９のいずれかに記載の反射防止フィルムもしくは上記１０または１１に記載の方法により製造された反射防止フィルムであることを特徴とする偏光板。
１３．２枚の表面保護フィルムの一方に上記１乃至９のいずれかに記載の反射防止フィルムもしくは上記１０もしくは１１に記載の方法により製造された反射防止フィルムが用いられ、他方の表面保護フィルムに該表面保護フィルムの偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面に光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムが用いられてなり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物から形成された層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該表面保護フィルム面に対して傾いており、かつ該ディスコティック構造単位の円盤面と該表面保護フィルム面とのなす平均角度が、光学異方層の深さ方向において変化していることを特徴とする上記１２に記載の偏光板。
１４．上記１２または１３に記載の偏光板を少なくとも１枚有する画像表示装置。
１５．上記１２または１３に記載の偏光板を少なくとも１枚有するＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＩＰＳ、またはＯＣＢのモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の反射防止フィルムは、柔軟性透明支持体上に反射防止膜を塗設して成り、特に多層構成から成る反射防止膜を設けてなる本発明の反射防止フィルムは、その最表面が特定の大きさと特定の分布に揃えた凹凸形状を形成し、かつ反射防止層の厚みが実質的に均一に制御されているので、長尺ロール透明支持体から作製される反射防止フィルムの場合でも、フィルム全面において均質な反射防止性と防眩性に優れている。
また、本発明の反射防止フィルムが高屈折率層を含んだ多層構成から成り、該高屈折率層用の高屈折率粒子として特定の超粒子状酸化チタンを分散することで、耐候性を著しく改善することができる。
また、本発明の反射防止フィルムを保護膜として用いた偏光板は、光学性能、物理強度、および耐候性に優れた反射防止フィルムを備えた偏光板であり、安価で大量に提供することができる。
さらに、本発明の画像表示装置は、上記特性に優れた反射防止フィルムまたは偏光板を備えており、反射防止性能に優れ、視認性と表示品位が優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明は、柔軟性透明支持体上に反射防止層（反射防止膜）を塗設して成る反射防止フィルム、特に多層構成から成る反射防止層を設けてなる反射防止フィルムの最表面が特定の大きさと特定の分布に揃えた凹凸形状を形成し、かつ反射防止層の厚みが実質的に均一に制御されている。これにより、長尺ロール透明支持体から作製される反射防止フィルムにおいても、フィルム全面において均質な反射防止性と防眩性に優れたものとなる。これは、透明支持体上に少なくとも高屈折率層、低屈折率層を順次塗設して硬化膜を形成した後に特定形状を賦与することで達成される。更には反射防止層と透明支持体との間に特定構造の硬化樹脂からなるハードコート層を塗設することで硬化後の反射防止フィルム表面に微細な凹凸形状をエンボス加工方法で、形状が変化することなく安定して微細な構造を賦与できることができる。
表面凹凸でかつ反射防止層の膜厚が実質上均一の反射防止フィルムとして形成されるのは下記の主として２つの要因によるものと思われる。エンボス加工による熱及び圧力で、支持体は塑性変形及び弾性変形し、ハードコート樹脂層及び反射防止層はほぼ弾性変形する。次に、エンボス加工によって与えられた熱及び圧力が開放された場合に、ハードコート樹脂層及び反射防止層の弾性変形は元の状態に戻ろうとするが、支持体が塑性変形していることで変形の状態が保持されると推定される。
更には、本発明の反射防止フィルムは、高屈折率層用の高屈折率粒子として特定の酸化チタンを超粒子に分散することで、光学特性並びに耐候性が著しく改善することができる。
【００１３】
以下に本発明の反射防止層に関して説明する。なお、本明細書において、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。
［反射防止層の層構成］
本発明に係る反射防止層は、透明支持体上に少なくとも該透明支持体よりも低屈折率の低屈折率層を設けてなるが、好ましくは、該透明支持体よりも高屈折率の高屈折率層（光透過層）と該透明支持体よりも低屈折率の低屈折率層（光透過層）とを透明支持体上に二層以上積層してなる多層型反射防止層のうちの一層を形成して成る。
２層積層から成る反射防止層は、透明支持体、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成を有する。透明支持体、高屈折率層および低屈折率層は以下の関係を満足する屈折率を有する。なお、本明細書において、２層積層、３層積層などと言うときは、積層の数のなかに透明支持体は含まれない。
高屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と高屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、ハードコート層は、高屈折率ハードコート層であってもよいし、或いは防眩性高屈折率ハードコート層であってもよい。
なお、ここで記載した高屈折率、中屈折率、低屈折率とは層相互の相対的な屈折率の高低をいう。
【００１４】
少なくとも３層積層から成る反射防止層は、例えば透明支持体、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の３層積層構造を有する。透明支持体、中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層は、以下の関係を満足する屈折率を有する。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率層はハードコート層、即ち中屈折率ハードコート層であってもよい。
このような３層構成の反射防止フィルムは、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層のそれぞれの層の光学膜厚、すなわち屈折率と膜厚の積が設計波長λに対してｎλ／４前後、またはその倍数であることが好ましいことが特開昭５９-５０４０１号公報に記載されている。
更には、特に設計波長λに対して中屈折率層が下式（Ｉ）を、高屈折率層が下式（II）を、低屈折率層が下式（III）をそれぞれ満足することが好ましい。
ｌλ／４×０．８０＜ｎ１ｄ１＜ｌλ／４×１．００          （Ｉ）
ｍλ／４×０．７５＜ｎ２ｄ２＜ｍλ／４×０．９５          （II）
ｎλ／４×０．９５＜ｎ３ｄ３＜ｎλ／４×１．０５          （III）
（但し、式中、ｌは１であり、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｍは２であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎは１であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）である）。設計波長は４００〜６８０ｎｍの範囲であり、好ましくは４５０〜６００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５００〜５５０ｎｍである。
【００１５】
更に、例えばトリアセチルセルロース（屈折率：１．４９）からなるような屈折率が１．４５〜１．５５の透明支持体に対しては、ｎ１は１．６０〜１．６５、ｎ２は１．８５〜１．９５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率であることが特に好ましく、ポリエチレンテレフタレート（屈折率：１．６６）からなるような屈折率が１．５５〜１．６５の透明支持体に対しては、 ｎ１は１．６５〜１．７５、ｎ２は１．８５〜２．０５、ｎ３は１．３５〜１．４５の屈折率であることが特に好ましい。
上記のような屈折率を有する中屈折率層や高屈折率層の素材が選択できない場合には、設定屈折率よりも高い屈折率を有する層と低い屈折率を有する層を複数層組み合わせた良く知られた等価膜の原理を用いて、実質的に設定屈折率の中屈折率層あるいは高屈折率層と光学的に等価な層を形成できるので、本発明の反射率特性を実現するためにも用いることができる。上記の「少なくとも３層積層から成る反射防止層」とは、このような等価膜を用いた４層、５層の反射防止層も含むものである。
これにより、反射防止フィルムの反射光の色味がニュートラルとなり、表示装置の表示画像の視認性が優れたものとなる。
【００１６】
反射防止層の厚さが「実質的に均一」とは、均一度、即ち反射防止層の厚みのばらつきが平均厚みの±６％以内にあることを意味する。好ましくは±５％以内、特に好ましくは±３％以内である。
例えば、低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層が空気界面側より、この順序に各層ともｎλ／４（ｎは１乃至３の整数である）の厚みで積層された３層型設計の場合、各層の膜厚の均一度は±６％が上限であって、それ以上になると著しく反射防止性能が低下してしまう。
反射防止層の厚みは、望まれる場合には、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）およびＸ線光電子分光計（ＥＳＣＡ）の様な当分野周知の各種表面分析技術により分析できる。
【００１７】
以上の層構成を有する本発明の反射防止層において、少なくとも、本発明に従い改良されたハードコート層、および高屈折率層を用いる。
【００１８】
[反射防止フィルムの表面形状]
本発明の反射防止層の最上層表面は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に基づく該層の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０２〜１．０μｍ、表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が  ５〜６５μｍであり、かつ十点平均粗さ（Ｒｚ）と算術平均粗さ（Ｒａ）の比（Ｒｚ／Ｒａ）が１０以下である。更には、表面凹凸の最大高さ（Ｒｙ）が２μｍ以下であり、更には凹凸プロファイルの傾斜角（正反射面に対する傾斜角度分布）が１５度以下にあるが好ましい。
好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０２〜０．８μｍ、表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が５〜５０μｍであり、（Ｒｚ）と（Ｒａ）の比（Ｒｚ／Ｒａ）が９以下、並びに最大高さ（Ｒｙ）が０．０５〜１．５μｍ、傾斜角が０．２５〜１５度から成る。特に好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０４〜０．６μｍで、表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が１０〜４０μｍであり、（Ｒｚ）と（Ｒａ）の比（Ｒｚ／Ｒａ）が８以下、並びに最大高さ（Ｒｙ）が０．１〜１．０μｍ、傾斜角が０．２５〜１０度である。
ここで、ＲａとＲｚの関係は表面の凹凸の均一性を示すものである。
また、凹凸プロファイルの傾斜角は小さい方が好ましい。不規則な凹凸プロファイルの傾斜角は一義でなく分布をもって存在するが、小さい傾斜角の頻度が高くなると防眩性が得られず、大きい傾斜角の頻度が高くなると防眩フィルムが白味をおびてくることがある。
膜表面の凹と凸の形状は、（株）ミツトヨ社製２次元粗さ計ＳＪ−４００型もしくは、（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ社製の「マイクロマップ」機により評価することが出来る。
【００１９】
傾斜角を測定する方法を詳細に述べる。図１に示されるように、支持体上の３点Ａ，Ｂ，Ｃから鉛直上向きに垂線を伸ばし、その３点が表面と交わった点をＡ'、Ｂ'、Ｃ'とする。三角形Ａ'Ｂ'Ｃ'面の法線Ｄ'が、支持体から鉛直上向きに伸ばした垂線Ｏ'となす角度θを傾斜角とする。測定面積は支持体上で０．２５平方ミリメートル以上が好ましく、この面を支持体上で三角形に分割して測定し、求めた傾斜角を平均して表面の平均傾斜角を求める。
測定する装置はいくつかあるが、一例を述べる。装置はマイクロマップ社（米国）製ＳＸＭ５２０−ＡＳ１５０型を用いた場合を説明する。例えば対物レンズが１０倍の時、傾斜角度の測定単位は０．８５平方ミクロン単位であり、測定範囲は０．４８平方ミリである。対物レンズの倍率を大きくすれば、それに合わせて測定単位と測定範囲は小さくなる。測定データはＭＡＴ−ＬＡＢ等のソフトを用いて解析し、傾斜角度分布を算出することができる。これにより傾斜角度が１０゜以上の割合を容易に求めることができる。
本発明において、傾斜角度が１０゜以上の割合は２％以下であり、さらに好ましくは１％以下である。これにより、防眩性と黒色が黒色に見えることを両立できる。
【００２０】
［反射防止フィルムに用いる透明支持体］
透明支持体の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、８６％以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、１．４乃至１．７であることが好ましく、１．４５乃至１．７であることが更に好ましく、１．４５乃至１．６５であることが特に好ましい。
【００２１】
透明支持体としては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチックフイルムの材料の例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート類、ニトロセルロース類）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチックポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトンが含まれる。
【００２２】
これらの有機基材を構成する有機高分子に、公知の添加剤（例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑り剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等）を含有させたものも使用することができる。これらの詳細は、発明協会公開技法（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。これらの添加剤の添加量は、基材の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがさらに好ましい。
特に液晶表示装置や有機ＥＬ表示装置等に用いるために本発明の反射防止フィルムを偏光板の表面保護フィルムの片側として用いる場合にはセルロースエステルが好ましく用いられる。
本発明に用いられるセルロースエステル原料のセルロースとしては、綿花リンター、ケナフ、木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースエステルでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。
本発明においてはセルロースからエステル化してセルロースアシレートを作製するが、特に好ましい前述のセルロースがそのまま利用できる訳ではなく、リンター、ケナフ、パルプを精製して用いられる。
本発明において、セルロースアシレートとは、セルロースの脂肪酸エステルのことであるが、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。
ここで、低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルロースエステルとしてはセルロースアセテートが好ましく、その例としては、ジアセチルセルロースおよびトリアセチルセルロースなどが挙げられる。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることも好ましい。
これらのセルロースアシレートフィルムは、公開技報番号２００１−１７４５に記載の内容のものが好ましく用いられる。また、平面ＣＲＴやＰＤＰ等に用いるためにガラス基板等に張り合わせて用いる場合にはポリエチレンテレフタレート、あるいはポリエチレンナフタレートが好ましい。
【００２３】
上記の透明支持体の膜厚は特に限定されるものではないが、膜厚は１〜３００μｍがよく、好ましくは３０〜１５０μｍ、特に好ましくは４０〜１２０μｍ、最も好ましくは４０〜１００μｍである。
【００２４】
［高屈折率層］
本発明の高屈折率層は、典型的には高屈折率の無機化合物微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性組成物を塗設してなる屈折率１．５５〜２．４０の硬化性膜から成る。上記屈折率は１．６５〜２．３０が好ましく、更には１．８０〜２．００が特に好ましい。本発明の高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．４０であり、いわゆる高屈折率層あるいは中屈折率層といわれている層であるが、以下の本明細書では、この層を高屈折率層と総称して呼ぶことがある。なお、中屈折率層の屈折率としては、１．５５〜２．４０であり、１．５５〜２．１０が好ましく、１．５５〜１．８０が特に好ましい。
【００２５】
[高屈折率層用組成物]
［高屈折率粒子］
本発明の高屈折率層に含まれる高屈折率の無機微粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０、一次粒子の平均粒径が３〜１５０ｎｍであるものが好ましい。屈折率が１．８０未満の粒子では、皮膜の屈折率を高める効果が小さく、屈折率が２．８０を越える粒子は着色しているため好ましくない。また、一次粒子の平均粒径が１５０ｎｍを越える粒子では皮膜を形成したときのヘイズ値が高くなり、皮膜の透明性を損なうので好ましくなく、３ｎｍ未満では高い屈折率の保持が難しい。本発明で、より好ましい無機微粒子は屈折率が１．９０〜２．８０で、一次粒子の平均粒径が３〜１００ｎｍの粒子であり、更に好ましいのは屈折率が１．９０〜２．８０で、一次粒子の平均粒径が５〜８０ｎｍの粒子である。
好ましい高屈折率無機微粒子の具体例は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ，ＬａＷ、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｖ、Ｓｍ、Ｙ等の酸化物或は複合酸化物、硫化物を主成分とする粒子が挙げられる。ここで、主成分とは粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分をさす。本発明で好ましいのはＴｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｉｎ、Ｓｎから選ばれる少なくとも１種の金属元素を含む酸化物若しくは複合酸化物を主成分とする粒子である。本発明で使用される無機微粒子には、粒子の中に種々の元素が含有されていても構わない。例えば、Ｌｉ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｂ、Ｂａ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｈｇ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｂｉ、Ｐ、Ｓなどが挙げられる。酸化錫、酸化インジウムにおいては粒子の導電性を高めるために、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｐ、Ｂ、Ｉｎ、Ｖ、ハロゲンなどの元素を含有させることが好ましく、特に、酸化アンチモンを約５〜２０質量％含有させたものが最も好ましい。
【００２６】
特に好ましくは、Ｃｏ、Ｚｒ、ＡＬから選ばれる少なくとも１つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子（以降、「特定の酸化物」と称することもある）が挙げられる。特に、好ましい元素はＣｏである。Ｔｉに対する、Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒの総含有量は、Ｔｉに対し０．０５〜３０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％、さらに好ましくは０．２〜７質量％、特に好ましくは０．３〜５質量％、最も好ましくは０．５〜３質量％である。
Ｃｏ、Ａｌ、Ｚｒは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部、あるいはまた、表面に存在する。二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの特定の金属元素は、酸化物として存在しても良い。
【００２７】
また、他の好ましい無機粒子として、チタン元素と酸化物が屈折率１．９５以上となる金属元素から選ばれる少なくとも１種の金属元素（以下、「Ｍｅｔ」とも略称する）との複酸化物の粒子で、かつ該複酸化物はＣｏイオン、Ｚｒイオン、およびＡｌイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも１種がドープされてなる無機微粒子（「特定の複酸化物」と称することもある）が挙げられる。ここで、該酸化物の屈折率が１．９５以上となる金属酸化物の金属元素としては、Ｔａ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｎｄ、Ｓｂ，Ｓｎ、およびＢｉが好ましい。特には、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｂｉが好ましい。複酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複酸化物を構成する全金属［Ｔｉ＋Ｍｅｔ］量に対して、２５質量％を越えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましい。より好ましくは０．０５〜１０質量％、さらに好ましくは０．１〜５質量％、最も好ましくは０．３〜３質量％である。
ドープした金属イオンは、金属イオン、金属原子の何れのもので存在してもよく、複酸化物の表面から内部まで適宜に存在する。表面と内部との両方に存在することが好ましい。
【００２８】
本発明で用いられる無機微粒子は結晶構造またはアモルファス構造を有することが好ましい。結晶構造は、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、またはアナターゼが主成分であることが好ましく、特にルチル構造が主成分であることが好ましい。このことにより、本発明の特定の酸化物或は特定の複酸化物の無機微粒子は、１．９０〜２．８０、好ましくは２．１０〜２．８０、更に好ましくは２．２０〜２．８０の屈折率を有することが可能になる。また、二酸化チタンが有する光触媒活性を抑えることができ、本発明の高屈折率層の耐候性を著しく改良することができる。
【００２９】
上記した特定の金属元素或は、金属イオンをドープする方法は、従来公知の方法を用いることができる。例えば、特開平５−３３０８２５号公報、同１１−２６３６２０号公報、特表平１１−５１２３３６号公報、ヨーロッパ公開特許第０３３５７７３号公報等に記載の方法、イオン注入法（例えば、権田俊一、石川順三、上条栄治編「イオンビーム応用技術」（（株）シ−エムシー、１９８９年刊行、青木 康、表面科学、Vol.18，（５）、pp.262、１９９８、安保正一等、表面科学、Ｖｏｌ.２０（２）、pp６０、１９９９等記載）等に従って行うことができる。
【００３０】
本発明に用いられる無機微粒子は、表面処理してもよい。表面処理は、無機化合物および／または有機化合物を用いて該粒子表面の改質を実施し、無機粒子表面の濡れ性を調製し有機溶媒中での微粒子化、高屈折率層形成用組成物中での分散性や分散安定性を向上することができる。粒子表面に物理化学的な吸着をして粒子表面の改質をすることができる無機化合物としては、例えばケイ素を含有する無機化合物（ＳｉＯ2など）、アルミニウムを含有する無機化合物（Ａｌ2Ｏ3，Ａｌ（ＯＨ）3など）、コバルトを含有する無機化合物（ＣｏＯ2，Ｃｏ2Ｏ3，Ｃｏ3Ｏ4など）、ジルコニウムを含有する無機化合物（ＺｒＯ2，Ｚｒ（ＯＨ）4など）、鉄を含有する無機化合物（Ｆｅ2Ｏ3など）などが挙げらる。
【００３１】
また、表面処理に用いられる有機化合物の例には、従来公知の金属酸化物や無機顔料等の無機フィラー類の表面改質剤を用いることが出来る。例えば、「顔料分散安定化と表面処理技術・評価」第一章（技術情報協会、２００１年刊行）等に記載されている。
具体的には、該無機粒子表面と親和性を有する極性基を有する有機化合物が挙げられる。そのような有機化合物にはカップリング化合物と称される化合物が含まれる。無機粒子表面と親和性を有する極性基としては、カルボキシル基、ホスホノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、環状酸無水物基、アミノ基等があげられ、分子中に少なくとも１種を含有する化合物が好ましい。例えば、長鎖脂肪族カルボン酸（例えばステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸等）、ポリオール化合物（例えばペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ＥＣＨ（エピクロルヒドリン）変性グリセロールトリアクリレート等）、ホスホノ基含有化合物（例えばＥＯ（エチレンオキサイド）変性リン酸トリアクリレート等）、アルカノールアミン（エチレンジアミンＥＯ付加体（５モル）等）が挙げられる。
カップリング化合物としては、従来公知の有機金属化合物が挙げられ、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミネートカップリング剤等が含まれる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。具体的には、例えば特開２００２−９９０８号公報同２００１−３１０４２３号公報明細書中の段落番号「００１１」〜「００１５」記載の化合物等が挙げられる。
これらの表面処理は、２種類以上を併用することもできる。
【００３２】
本発明で使用される酸化物微粒子としては、これをコアとして無機化合物からなるシェルを形成するコア／シェル構造の微粒子も好ましい。シェルとしては、Ａｌ、Ｓｉ、Ｚｒから選ばれる少なくとも１種の元素から成る酸化物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−１６６１０４号公報記載の内容が挙げられる。
【００３３】
本発明で使用される無機微粒子の形状は、特に限定されないが米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、不定形状が好ましい。本発明の無機微粒子は単独で用いてもよいが、２種類以上を併用して用いることもできる。
【００３４】
（分散剤）
本発明で使用される無機粒子を安定した所定の超微粒子として用いるため分散剤を併用することが好ましい。分散剤としては、該無機微粒子表面と親和性を有する極性基を有する低分子化合物、または高分子化合物であることが好ましい。
上記極性基としては、ヒドロキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ1）（ＯＨ）基、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（Ｒ1）（ＯＨ）基、アミド基（−ＣＯＮＨＲ2、−ＳＯ2ＮＨＲ2）、環状酸無水物含有基、アミノ基、四級アンモニウム基等が挙げられる。
ここで、Ｒ1は炭素数１〜１８の炭化水素基を表す（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、シアノエチル基、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基等）。Ｒ2は、水素原子または前記Ｒ1と同一の内容を表す。
【００３５】
上記極性基において、解離性プロトンを有する基はその塩であってもよい。また、上記アミノ基、四級アンモニウム基は、一級アミノ基、二級アミノ基または三級アミノ基のいずれでもよく、三級アミノ基または四級アンモニウム基であることがさらに好ましい。二級アミノ基、三級アミノ基または四級アンモニウム基の窒素原子に結合する基は、炭素原子数が１〜１２の脂肪族基（上記Ｒの基と同一の内容のもの等）であることが好ましい。また、三級アミノ基は、窒素原子を含有する環形成のアミノ基（例えば、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、ピリジン環等）であってもよく、更に四級アンモニウム基はこれら環状アミノ基の四級アモニウム基であってもよい。特に炭素原子数が１〜６のアルキル基であることがさらに好ましい。
本発明に係る分散剤の極性基としては、ｐＫａが７以下のアニオン性基或はこれらの解離基の塩が好ましい。特に、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基、オキシホスホノ基、またはこれらの解離基の塩が好ましい。
【００３６】
分散剤は、さらに架橋性または重合性官能基を含有することが好ましい。架橋性または重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基（例えば（メタ）アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基カルボニル基、ビニルオキシ基等）、カチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基、スピロオルトエステル基等）、重縮合反応性基（加水分解性シリル基等、Ｎ−メチロール基）等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基、エポキシ基、または加水分解性シリル基である。
具体的には、例えば、特開平１１−１５３７０３号公報、特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１、特開２００２−２７７６０６９号公報、特開２００１−３１０４２３号公報明細書中の段落番号［００１３］〜［００１５］記載の化合物等が挙げられる。
【００３７】
また、本発明に用いられる分散剤は、高分子分散剤であることも好ましい。特に、アニオン性基、および架橋性または重合性官能基を含有する高分子分散剤があげられ、これらの官能基が上記した内容と同様のものが挙げられる。
【００３８】
分散剤の無機微粒子に対する使用量は、１〜１００質量％の範囲であることが好ましく、３〜５０質量％の範囲であることがより好ましく、５〜４０質量％であることが最も好ましい。また、分散剤は２種類以上を併用してもよい。
【００３９】
（分散媒体）
本発明において、無機微粒子の湿式分散に供する分散媒体としては、水、有機溶媒から適宜選択して用いることができ、沸点が５０℃以上の液体であることが好ましく、沸点が６０℃〜１８０℃の範囲の有機溶媒であることがより好ましい。
分散媒体は、無機微粒子および分散剤を含む全分散組成物の５〜５０質量％となる割合で用いることが好ましい。更に好ましくは１０〜３０質量％の割合である。この範囲において、分散が容易に進行し、得られる分散物は作業性良好な粘度の範囲となる。
【００４０】
分散媒体としては、アルコール類、ケトン類、エステル類アミド類、エーテル類、エーテルエステル類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類等が挙げられる。具体的には、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノアセテート等）、ケトン（例、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、乳酸エチル、等）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチルクロロホルム等）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン等）、エーテル（例、ジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル等）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール、エチルセルソルブ、メチルカルビノール等）が挙げられる。単独での２種以上を混合して使用してもよい。好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノールが挙げられる。また、ケトン溶媒（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）を主にした塗布溶媒系も好ましく用いられる。
【００４１】
（無機微粒子の超微粒子化）
本発明の高屈折率層を形成するための硬化性塗布組成物は、平均粒子径１００ｎｍ以下の無機超微粒子が分散した組成物とすることにより、該組成物の液の安定性が向上し、この硬化性塗布組成物から形成された硬化膜は、無機微粒子が硬化膜のマトリックス中で超微粒子状態で均一に分散されて存在し、光学特性が均一で透明な高屈折率膜が達成される。硬化膜のマトリックス中で存在する超微粒子の大きさは、平均粒径３〜１００ｎｍの範囲が好ましく、５〜１００ｎｍがより好ましい。特に１０〜８０ｎｍが最も好ましい。
更には、５００ｎｍ以上の平均粒子径の大粒子が含まれないことが好ましく、３００ｎｍ以上の平均粒子径の大粒子が含まれないことが特に好ましい。これにより、硬化膜表面が上記した特定の凹凸形状を形成できる。
上記高屈折率無機物粒子を上記の範囲の粗大粒子を含まない超微粒子の大きさに分散するには、例えば、前記の分散剤と共に、平均粒径０．８ｍｍ未満のメディアを用いた湿式分散方法で分散する方法で達成される。
【００４２】
湿式分散機としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、ダイノミル、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター、コロイドミル等の従来公知のものが挙げられる。特に本発明の酸化物微粒子を超微粒子に分散するには、サンドグラインダーミル、ダイノミル、および高速インペラーミルが好ましい。
【００４３】
上記分散機と共に用いるメディアとしては、その平均粒径が０．８ｍｍ未満であり、平均粒径がこの範囲のメディアを用いることで上記の無機微粒子径が１００ｎｍ以下となり、かつ粒子径の揃った超微粒子を得ることができる。メディアの平均粒径は、好ましくは０．５ｍｍ以下であり、より好ましくは０．０５〜０．３ｍｍである。
また、湿式分散に用いられるメディアとしては、ビーズが好ましい。具体的には、ジルコニアビーズ、ガラスビーズ、セラミックビーズ、スチールビーズ等が挙げられ、分散中におけるビーズの破壊等を生じ難い等の耐久性と超微粒子化の上から０．０５〜０．２ｍｍのジルコニアビーズが特に好ましい分散工程での分散温度は２０〜６０℃が好ましく、より好ましくは２５〜４５℃である。この範囲の温度で超微粒子に分散すると分散粒子の再凝集、沈殿等が生じない。これは、無機化合物粒子への分散剤の吸着が適切に行われ、常温下での分散剤の粒子からの脱着等による分散安定不良とならないためと考えられる。
【００４４】
上記した内容の分散方法を用いることにより、透明性を損なわない屈折率均一性、膜の強度、隣接層との密着性等に優れた高屈折率膜が好ましく形成される。
また、上記湿式分散の工程の前に、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。
更には、分散物中の分散粒子がその平均粒径、および粒子径の単分散性が上記した範囲を満足する上で、分散物中の粗大凝集物を除去するためにビーズとの分離処理において精密濾過されるように濾材を配置することも好ましい。精密濾過するための濾材は濾過粒子サイズ２５μｍ以下が好ましい。精密濾過するための濾材のタイプは上記性能を有していれば特に限定されないが例えばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。分散物を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、かつ塗布液に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが例えばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。
【００４５】
（高屈折率層のマトリックス）
高屈折率層は、高屈折率無機超微粒子とマトリックスを少なくとも含有してなる。
本発明の好ましい態様によれば、高屈折率層のマトリックスは、（ｉ）有機バインダー、または（ii）加水分解性官能基含有する有機金属化合物およびこの有機金属化合物の部分縮合物の少なくともいずれかを含有する高屈折率層形成用組成物を塗布後に、硬化して形成される。
（ｉ）有機バインダー
有機バインダーとしては、
（イ）従来公知の熱可塑性樹脂、
（ロ）従来公知の反応性硬化性樹脂と硬化剤との組み合わせ、または
（ハ）バインダー前駆体（後述する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）と重合開始剤との組み合わせ、
から形成されるバインダーが挙げられる。
上記（イ）、（ロ）または（ハ）のバインダー形成用成分と、高屈折率複合酸化物微粒子と分散剤を含有する分散液から高屈折率層形成用の塗布組成物が調製される。塗布組成物は、透明支持体上に塗布し、塗膜を形成した後、バインダー形成用成分に応じた方法で硬化され、高屈折率層が形成される。硬化方法は、バインダー成分の種類に応じて適宜選択され、例えば加熱および光照射の少なくともいずれかの手段により、硬化性化合物（例えば、多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）の架橋反応または重合反応を生起させる方法が挙げられる。なかでも、上記（ハ）の組み合わせを用いて光照射することにより硬化性化合物を架橋反応または重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法が好ましい。
更に、高屈折率層形成用の塗布組成物を塗布と同時または塗布後に、高屈折率複合酸化物微粒子の分散液に含有される分散剤を架橋反応または重合反応させることが好ましい。
このようにして作製した硬化膜中のバインダーは、例えば、前記した分散剤とバインダーの前駆体である硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋または重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。さらに、硬化膜中のバインダーは、アニオン性基が無機微粒子の分散状態を維持する機能を有するので、架橋または重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、高屈折率無機化合物微粒子を含有する硬化膜中の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良することができる。
【００４６】
上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリメタアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、イミド樹脂等が挙げられる。
また、上記反応硬化型樹脂、即ち、熱硬化型樹脂および／または電離放射線硬化型樹脂を使用することが好ましい。熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂には、例えば、ラジカル重合性不飽和基（（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、スチリル基、ビニル基等）および/またはカチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、ビニルオキシ基、オキセタニル基等）の官能基を有する樹脂で、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等が挙げられる。
これらの反応硬化型樹脂に必要に応じて、架橋剤（エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ポリアミン化合物、メラミン化合物等）、重合開始剤（アゾビス化合物、有機過酸化化合物、有機ハロゲン化合物、オニウム塩化合物、ケトン化合物等のＵＶ光開始剤等）等の硬化剤、重合促進剤（有機金属化合物、酸化合物、塩基性化合物等）等の従来公知の化合物を加えて使用する。具体的には、例えば、山下普三、金子東助「架橋剤ハンドブック」（大成社、１９８１年刊）記載の化合物が挙げられる。
【００４７】
以下、硬化したバインダーの好ましい形成方法である、上記（ハ）の組み合わせを用いて光照射により硬化性化合物を架橋または重合反応させて硬化したバインダーを形成する方法について、主に説明する。
光硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、ラジカル重合性またはカチオン重合性のいずれでもよい。
【００４８】
ラジカル重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニルオキシ基、スチリル基、アリル基等のエチレン性不飽和基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
分子内に２個以上のラジカル重合性基を含有する多官能モノマーを含有することが好ましい。
ラジカル重合性多官能モノマーとしては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも２個有する化合物から選ばれることが好ましい。好ましくは、分子中に２〜６個の末端エチレン性不飽和結合を有する化合物である。このような化合物群はポリマー材料分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定なく用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつことができる。
ラジカル重合性モノマー例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が挙げられる。また、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類やアミド類と、単官能もしくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミド類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類およびチオール類との反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【００４９】
脂肪族多価アルコール化合物としては、アルカンジオール、アルカントリオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサントリオール、イノシットール、シクロヘキサンジメタノール、ペンタエリスリトール、ソルビトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセリン等が挙げられる。これら脂肪族多価アルコール化合物と、不飽和カルボン酸との重合性エステル化合物（モノエステルまたはポリエステル）、例として、例えば、特開２００１−１３９６６３号公報明細書段落番号[００２６]〜［００２７］記載の化合物が挙げられる。
その他の重合性エステルの例としては、例えば、ビニルメタクリレート、アリルメタクリレート、アリルアクリレート、特公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、特開昭５７−１９６２３１号記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開平２−２２６１４９号等記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号記載のアミノ基を有するもの等も好適に用いられる。
【００５０】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とから形成される重合性アミドの具体例としては、メチレンビス−（メタ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス(メタ)アクリルアミド、特公昭５４−２１７２６号記載のシクロヘキシレン構造を有するもの等を挙げることができる。
【００５１】
また、１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物（特公昭４８−４１７０８号公報等）、ウレタンアクリレート類（特公平２−１６７６５号等）、エチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物（特公昭６２−３９４１８号等）、ポリエステルアクリレート類（特公昭５２−３０４９０号等））、更に、日本接着協会誌vol.２０、No.７、３００〜３０８頁（１９８４年）に記載の光硬化性モノマーおよびオリゴマーも使用することができる。
これらラジカル重合性の多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。
【００５２】
次に、高屈折率層のバインダーの形成に用いることができるカチオン重合性基含有の化合物（以下、「カチオン重合性化合物」または「カチオン重合性有機化合物」とも称する）について説明する。
本発明に用いられるカチオン重合性化合物は、活性エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の存在下に活性エネルギー線を照射したときに重合反応および／または架橋反応を生ずる化合物のいずれもが使用でき、代表例としては、エポキシ化合物、環状チオエーテル化合物、環状エーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、ビニルエーテル化合物などを挙げることができる。本発明では前記したカチオン重合性有機化合物のうちの１種を用いても２種以上を用いてもよい。
【００５３】
カチオン重合性基含有化合物としては、１分子中のカチオン重合性基の数は２〜１０個が好ましく、特に好ましくは２〜５個である。該化合物の分子量は３０００以下であり、好ましくは２００〜２０００の範囲、特に好ましくは４００〜１５００の範囲である。分子量が小さすぎると、皮膜形成過程での揮発が問題となり、大きすぎると、高屈折率層形成用組成物との相溶性が悪くなり好ましくない。
上記エポキシ化合物としては脂肪族エポキシ化合物および芳香族エポキシ化合物が挙げられる。
脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどを挙げることができる。さらに、前記のエポキシ化合物以外にも、例えば、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチルエポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエンなどを挙げることができる。また、脂環式エポキシ化合物としては、少なくとも１個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、或いは不飽和脂環族環（例えば、シクロヘキセン、シクロペンテン、ジシクロオクテン、トリシクロデセン等）含有化合物を過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化して得られるシクロヘキセンオキサイドまたはシクロペンテンオキサイド含有化合物などを挙げることができる。
また、芳香族エポキシ化合物としては、例えば少なくとも１個の芳香核を有する１価または多価フェノール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のモノまたはポリグリシジルエーテルを挙げることができる。これらのエポキシ化合物として、例えば、特開平１１−２４２１０１号明細書中の段落番号〔００８４〕〜〔００８６〕記載の化合物、特開平１０−１５８３８５号明細書中の段落番号〔００４４〕〜〔００４６〕記載の化合物等が挙げられる。
これらのエポキシ化合物のうち、速硬化性を考慮すると、芳香族エポキシドおよび脂環式エポキシドが好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。本発明では、上記エポキシ化合物の１種を単独で使用してもよいが、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【００５４】
環状チオエーテル化合物としては、上記のエポキシ環がチオエポキシ環となる化合物が挙げられる。
環状エーテルとしてのオキセタニル基を含有する化合物としては、具体的には、例えば特開２０００−２３９３０９号公報中の段落番号〔００２４〕〜〔００２５〕に記載の化合物等が挙げられる。これらの化合物は、エポキシ基含有化合物と併用することが好ましい。
【００５５】
スピロオルソエステル化合物としては、例えば特表２０００−５０６９０８号公報等記載の化合物を挙げることができる。
ビニル炭化水素化合物としては、スチレン化合物、ビニル基置換脂環炭化水素化合物（ビニルシクロヘキサン、ビニルビシクロヘプテン等）、前記ラジカル重合成性モノマーで記載の化合物（Ｖ1が−Ｏ−に相当の化合物）、プロペニル化合物（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．３２，２８９５（１９９４）記載等）、アルコキシアレン化合物（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．３３，２４９３（１９９５）記載等）、ビニル化合物（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．３４，１０１５（１９９６）、特開２００２−２９１６２号等記載）、イソプロペニル化合物（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆＰｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｖｏｌ．３４，２０５１（１９９６）記載等）等を挙げることができる。
２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。
【００５６】
また、本発明の多官能性化合物は、上記のラジカル重合性基およびカチオン重合性基から選ばれる少なくとも各１種を少なくとも分子内に含有する化合物を用いることが好ましい。例えば、特開平８−２７７３２０号公報中の段落番号〔００３１〕〜〔００５２〕記載の化合物、特開２０００−１９１７３７号明細書中の段落番号〔００１５〕記載の化合物等が挙げられる。本発明に供される化合物は、これらの限定されるものではない。
【００５７】
上記したラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物とを、ラジカル重合性化合物：カチオン重合性化合物の質量比で、９０：１０〜２０：８０の割合で含有していることが好ましく、８０：２０〜３０：７０の割合で含有していることがより好ましい。
【００５８】
次に、前記（ハ）の組み合わせにおいて、バインダー前駆体と組み合わせて用いられる重合開始剤について詳述する。
重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが挙げられる。
本発明の重合開始剤（Ｌ）は、光および／または熱照射により、ラジカル若しくは酸を発生する化合物である。本発明において用いられる光重合開始剤（Ｌ）は、極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましい。このように吸収波長を紫外線領域にすることにより、取り扱いを白灯下で実施することができる。また、近赤外線領域に極大吸収波長を持つ化合物を用いることもできる。
【００５９】
まず、ラジカルを発生する化合物（Ｌ１）について詳述する。
本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物（Ｌ１）は、光および／または熱照射によりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を指す。
公知の重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物などを、適宜、選択して用いることとができる。また、ラジカルを発生する化合物は、単独または２種以上を併用して用いることができる。
ラジカルを発生する化合物としては、例えば、従来公知の有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤等の熱ラジカル重合開始剤、アミン化合物（特公昭４４−２０１８９号公報記載）、有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン化合物等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。
【００６０】
上記有機ハロゲン化化合物としては、具体的には、若林 等、「Ｂｕｌｌ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ  Ｊａｐａｎ」４２、２９２４（１９６９）、米国特許第３，９０５，８１５号明細書、特開昭６３−２９８３３９号、Ｍ．Ｐ．Ｈｕｔｔ"Ｊｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ"１（Ｎｏ３），（１９７０）」等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物：Ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。
より好適には、少なくとも一つのモノ、ジ、またはトリハロゲン置換メチル基がｓ−トリアジン環に結合したｓ−トリアジン誘導体が挙げられる。
【００６１】
他の有機ハロゲン化合物の例として、特開平５−２７８３０号公報中の段落番号〔００３９〕〜〔００４８〕記載のケトン類、スルフィド類、スルホン類、窒素原子含有の複素環類等が挙げられる。
【００６２】
上記カルボニル化合物としては、例えば、「最新  ＵＶ硬化技術」６０〜６２ページ（（株）技術情報協会刊、１９９１年）、特開平８−１３４４０４号明細書の段落番号〔００１５〕〜〔００１６〕、同１１−２１７５１８号明細書の段落番号〔００２９〕〜〔００３１〕に記載の化合物等が挙げられ、アセトフェノン系、ヒドロキシアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサン系、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体、ベンジルジメチルケタール、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
【００６３】
上記有機過酸化化合物としては、例えば、特開２００１−１３９６６３号明細書の段落番号〔００１９〕に記載の化合物等が挙げられる。
上記メタロセン化合物としては、特開平２−４７０５号公報、特開平５−８３５８８号公報記載の種々のチタノセン化合物、特開平１−３０４４５３号公報、特開平１−１５２１０９号公報記載の鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
【００６４】
上記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特公平６−２９２８５号、米国特許第３，４７９，１８５号、同第４，３１１，７８３号、同第４，６２２，２８６号等の各公報記載の種々の化合物等が挙げられる。
【００６５】
上記有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特許第２７６４７６９号、特開２００２−１１６５３９号等の各公報、および、Ｋｕｎｚ，Ｍａｒｔｉｎ"Ｒａｄ  Ｔｅｃｈ'９８．Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  Ａｐｒｉｌ  １９−２２，１９９８，Ｃｈｉｃａｇｏ"等に記載される有機ホウ酸塩記載される化合物があげられる。例えば、前記特開２００２−１１６５３９号明細書の段落番号〔００２２〕〜〔００２７〕記載の化合物が挙げられる。
他の有機ホウ素化合物として、特開平６−３４８０１１号公報、特開平７−１２８７８５号公報、特開平７−１４０５８９号公報、特開平７−３０６５２７号公報、特開平７−２９２０１４号公報等の有機ホウ素遷移金属配位錯体等が具体例として挙げられる。
【００６６】
上記スルホン化合物としては、特開平５−２３９０１５号に記載の化合物等、上記ジスルホン化合物としては、特開昭６１−１６６５４４号明細書に記載の一般式（II）および一般式(III)で示される化合物等が挙げられる。
これらのラジカル発生化合物は、一種のみを添加しても、二種以上を併用してもよい。添加量としては、ラジカル重合性モノマーの全量に対し０．１〜３０質量％、好ましくは０．５〜２５質量％、特に好ましくは１〜２０質量％で添加することができる。この範囲において、高屈折率層用組成物の経時安定性が問題なく高い重合性となる。
【００６７】
次に、光重合開始剤（Ｌ）として用いることができる光酸発生剤（Ｌ２）について詳述する。
酸発生剤（Ｌ２）としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物およびそれらの混合物等が挙げられる。
また、酸発生剤（Ｌ２）として、例えば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン化合物が挙げられる。有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物のこれらの具体例は、前記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。
オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、例えば特開２００２−２９１６２号公報の段落番号〔００５８〕〜〔００５９〕に記載の化合物等が挙げられる。
【００６８】
本発明において、特に好適に用いられる酸発生剤（Ｌ２）としては、オニウム塩が挙げられ、中でも、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましい。
【００６９】
本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、例えば、特開平９−２６８２０５号公報の段落番号〔００３５〕に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開２０００−７１３６６号明細書の段落番号〔００１０〕〜〔００１１〕に記載のジアリールヨードニウム塩またはトリアリールスルホニウム塩、特開２００１−２８８２０５号公報の段落番号〔００１７〕に記載のチオ安息香酸Ｓ−フェニルエステルのスルホニウム塩、特開２００１−１３３６９６号公報の段落番号〔００３０〕〜〔００３３〕に記載のオニウム塩等が挙げられる。
【００７０】
酸発生剤の他の例としては、特開２００２−２９１６２号公報の段落番号〔００５９〕〜〔００６２〕に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物（イミノスルフォネート等）等の化合物が挙げられる。
これらの酸発生剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの酸発生剤は、全カチオン重合性モノマーの全質量１００質量部に対し０．１〜２０質量％、好ましくは０．５〜１５質量％、特に好ましくは１〜１０質量％の割合で添加することができる。添加量が上記範囲において、高屈折率用組成物の安定性、重合反応性等から好ましい。
【００７１】
本発明の高屈折率率用組成物は、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の合計質量に対して、ラジカル重合開始剤を０．５〜１０質量％およびカチオン重合開始剤を１〜１０質量％の割合で含有していることが好ましい。より好ましくは、ラジカル重合開始剤を１〜５質量％、およびカチオン重合開始剤を２〜６質量％の割合で含有する。
本発明の高屈折率率用組成物には、紫外線照射により重合反応を行なう場合には、従来公知の紫外線分光増感剤、化学増感剤を併用してもよい。例えばミヒラーズケトン、アミノ酸（グリシンなど）、有機アミン（ブチルアミン、ジブチルアミンなど）等が挙げられる。
【００７２】
また、近赤外線照射により重合反応を行なう場合には、近赤外線分光増感剤を併用することが好ましい。
併用する近赤外線分光増感剤は、７００ｎｍ以上の波長域の少なくとも一部に吸収帯を有する光吸収物質であればよく、分子吸光係数が１００００以上の値を有する化合物が好ましい。更には、７５０〜１４００ｎｍの領域に吸収を有し、かつ分子吸光係数が２００００以上の値が好ましい。また、４２０ｎｍ〜７００ｎｍの可視光波長域に吸収の谷があり、光学的に透明であることがより好ましい。近赤外線分光増感剤は、近赤外線吸収顔料および近赤外線吸収染料として知られる種々の顔料および染料を用いることができる。その中でも、従来公知の近赤外線吸収剤を用いることが好ましい。
市販の染料および文献（例えば、「化学工業」１９８６年５月号Ｐ．４５〜５１の「近赤外吸収色素」、「９０年代機能性色素の開発と市場動向」第２章２．３項（１９９０）シーエムシー）、「特殊機能色素」（池森・柱谷編集、１９８６年、（株）シーエムシー発行）、Ｊ．ＦＡＢＩＡＮ、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ.、９２、ｐｐ１１９７〜１２２６（１９９２）、日本感光色素研究所が１９９５年に発行したカタログ、Ｅｘｃｉｔｏｎ Ｉｎｃ．が１９８９年に発行したレーザー色素カタログあるいは特許に記載されている公知の染料が利用できる。
【００７３】
（ii）加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物
本発明に用いる高屈折率層のマトリックスとして、加水分解可能な官能基を含有する有機金属化合物を用いてゾルゲル反応により塗布膜形成後に硬化された膜を形成することも好ましい。有機金属化合物としては、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ等からなる化合物が挙げられる。加水分解可能な官能基な基としては、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、水酸基が挙げられ、特に、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基が好ましい。  
好ましい有機金属化合物は、下記一般式（１'）で表される有機ケイ素化合物およびその部分加水分解物（部分縮合物）である。なお、一般式（１'）で表される有機ケイ素化合物は、容易に加水分解し、引き続いて脱水縮合反応が生じることは良く知られた事実である。
【００７４】
一般式（１'）：（Ｒa）ｍ−Ｓｉ（Ｘ）ｎ
一般式（１'）中、Ｒaは、置換もしくは無置換の炭素数１〜３０脂肪族基若しくは炭素数６〜１４アリール基を表す。Ｘは、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、ＯＨ基、ＯＲ2基、ＯＣＯＲ2基を表す。ここで、Ｒ2は置換もしくは無置換のアルキル基を表す。ｍは０〜３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合計は４である。但し、ｍが０の場合は、ＸはＯＲ2基またはＯＣＯＲ2基を表す。
一般式（１'）において、Ｒaの脂肪族基としては、好ましくは炭素数１〜１８（例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ベンジル基、フェネチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル、ヘキセニル基、デセニル基、ドデセニル基等）が挙げられる。より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは１〜８のものである。
Ｒ1のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【００７５】
置換基としては特に制限はないが、ハロゲン（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、ｉ−プロポキシ、ヘキシルオキシ等）、アリールオキシ（フェノキシ等）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ等）、アリールチオ基（フェニルチオ等）、アルケニル基（ビニル、１−プロペニル等）、アルコキシシリル基（トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、（メタ）アクリロイル等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が好ましい。
【００７６】
これらの置換基うちで、更に好ましくは水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アルコキシシリル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基であり、特に好ましくはエポキシ基、重合性のアシルオキシ基（（メタ）アクリロイル）、重合性のアシルアミノ基（アクリルアミノ、メタクリルアミノ）である。またこれら置換基は更に置換されていても良い。
【００７７】
Ｒ2は置換もしくは無置換のアルキルを表す。アルキル基中の置換基の説明はＲ1と同じである。
ｍは０〜３の整数を表す。ｎは１〜４の整数を表す。ｍとｎの合計は４である。ｍとして好ましくは０、１、２であり、特に好ましくは１である。ｍが０の場合は、ＸはＯＲ2基またはＯＣＯＲ2基を表す。
一般式（１'）の化合物の含有量は、高屈折率層の全固形分の１０〜８０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％、特に好ましくは３０〜５０質量％である。
【００７８】
一般式（１'）の化合物の具体例として、例えば特開２００１−１６６１０４号公報段落番号［００５４］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
【００７９】
高屈折率層において、有機バインダーは、シラノール基を有することが好ましい。バインダーがシラノール基を有することで、高屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性がさらに改良される。
シラノール基は、例えば、高屈折率層形成用の塗布組成物を構成するバインダー形成成分として、バインダー前駆体（硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）や重合開始剤、高屈折率無機微粒子の分散液に含有される分散剤と共に、架橋または重合性官能基を有する一般式（１'）で表される有機ケイ素化合物を該塗布組成物に配合し、この塗布組成物を透明支持体上に塗布して上記の分散剤、多官能モノマーや多官能オリゴマー、一般式（１'）で表される有機ケイ素化合物を架橋反応または重合反応させることによりバインダーに導入することができる。
【００８０】
上記の有機金属化合物を硬化させるための加水分解・縮合反応は、触媒存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸などの無機酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸などの有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニアなどの無機塩基類、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基類、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム、テトラブトキシチタネートなどの金属アルコキシド類、β−ジケトン類或いはβ−ケトエステル類の金属キレート化合物類等が挙げられる。具体的には、例えば特開２０００−２７５４０３号公報中の段落番号［００７１］〜［００８３］記載の化合物等が挙げられる。
【００８１】
これらの触媒化合物の組成物中での割合は、有機金属化合物に対し、０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％である。反応条件は有機金属化合物の反応性により適宜調節されることが好ましい。
【００８２】
高屈折率層においてマトリックスは、特定の極性基を有することも好ましい。  
特定の極性基としては、アニオン性基、アミノ基、および四級アンモニウム基が挙げられる。アニオン性基、アミノ基および四級アンモニウム基の具体例としては、前記分散剤について述べたものと同様のものが挙げられる。
【００８３】
特定の極性基を有する高屈折率層のマトリックスは、例えば、高屈折率層形成用の塗布組成物に、高屈折率無機微粒子と分散剤を含む分散液を配合し、硬化膜形成成分として、特定の極性基を有するバインダー前駆体（特定の極性基を有する硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）と重合開始剤の組み合わせおよび特定の極性基を有し、かつ架橋または重合性官能基を有する一般式（１'）で表される有機ケイ素化合物の少なくともいずれかを配合し、さらに所望により特定の極性基と架橋または重合性官能基とを有する単官能性モノマーを配合し、該塗布組成物を透明支持体上に塗布して上記の分散剤、単官能性モノマー、多官能モノマーや多官能オリゴマーおよび／または一般式（１'）で表される有機ケイ素化合物を架橋または重合反応させることにより得られる。
【００８４】
特定の極性基を有する単官能性モノマーは、塗布組成物の中で無機微粒子の分散助剤として機能する。さらに、塗布後、分散剤、多官能モノマーや多官能オリオリゴマーと架橋反応、または、重合反応させてバインダーとすることで高屈折率層における無機微粒子の良好な均一な分散性を維持し、物理強度、耐薬品性、耐候性に優れた高屈折率層を作製することができる。
アミノ基または四級アンモニウム基を有する単官能性モノマーの分散剤に対する使用量は、０．５〜５０質量％であることが好ましく、さらに好ましくは１〜３０質量％である。高屈折率層の塗布と同時または塗布後に、架橋または重合反応によってバインダーを形成すれば、高屈折率層の塗布前に単官能性モノマーを有効に機能させることができる。
【００８５】
また、本発明の高屈折率層のマトリックスとして、前記した有機バインダーの（イ）に相当し、従来公知の架橋または重合性官能基を含有する有機ポリマーから硬化・形成されたものが挙げられる。高屈折率層形成後のポリマーが、さらに架橋または重合している構造を有することが好ましい。ポリマーの例には、ポリオレフィン（飽和炭化水素から成る）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミドおよびメラミン樹脂が含まれる。なかでも、ポリオレフィン、ポリエーテルおよびポリウレアが好ましく、ポリオレフィンおよびポリエーテルがさらに好ましい。硬化前の有機ポリマーとしての質量平均分子量は１×１０3〜１×１０6が好ましく、より好ましくは３×１０3〜１×１０5である。
【００８６】
硬化前の有機ポリマーは、前記の内容と同様の特定の極性基を有する繰り返し単位と、架橋または重合構造を有する繰り返し単位とを有する共重合体であることが好ましい。ポリマー中のアニオン性基を有する繰り返し単位の割合は、全繰り返し単位中の０．５〜９９質量％であることが好ましく３〜９５質量％であることがさらに好ましく、６〜９０質量％であることが最も好ましい。繰り返し単位は、二つ以上の同じでも異なってもよいアニオン性基を有していてもよい。
シラノール基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、２〜９８ｍｏｌ％であることが好ましく、４〜９６ｍｏｌ％であることがさらに好ましく、６〜９４ｍｏｌ％であることが最も好ましい。
アミノ基または四級アンモニウム基を有する繰り返し単位を含む場合、その割合は、０．１〜５０質量％であることが好ましく、更には０．５〜３０質量％が好ましい。
【００８７】
なお、シラノール基、アミノ基、および四級アンモニウム基は、アニオン性基を有する繰り返し単位あるいは架橋または重合構造を有する繰り返し単位に含まれていても、同様の効果が得られる。
ポリマー中の架橋または重合構造を有する繰り返し単位の割合は、1〜９０質量％であることが好ましく、５〜８０質量％であることがさらに好ましく、８〜６０質量％であることが最も好ましい。
【００８８】
バインダーが架橋または重合してなるマトリックスは、高屈折率層形成用の塗布組成物を透明支持体上に塗布して、塗布と同時または塗布後に、架橋または重合反応によって形成することが好ましい。
本発明の高屈折率層は、更に用途・目的によって適宜他の化合物を添加することが出来る。例えば、高屈折率層の上に低屈折率層を有する場合、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましく、高屈折率層に、芳香環、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含有すると有機化合物の屈折率が高くなることから、これらを含有する硬化性化合物などの架橋または重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
高屈折率層の全固形分中、バインダーの添加量は２０〜８０質量％、高屈折粒子の添加量は２０〜８０質量％であり、好ましくはバインダーの添加量は２５〜７５質量％、高屈折粒子の添加量は２５〜７５質量％である。
【００８９】
（高屈折率層の他の組成物）
本発明の高屈折率層は、更に用途・目的によって適宜他の化合物を添加することが出来る。例えば、高屈折率層の屈折率は透明支持体の屈折率より高いことが好ましく、高屈折率層に、芳香環、フッ素以外のハロゲン化元素（例えば、Ｂｒ，Ｉ，Ｃｌ等）、Ｓ，Ｎ，Ｐ等の原子を含む硬化性化合物などの架橋または重合反応で得られるバインダーも好ましく用いることができる。
【００９０】
高屈折率層には、前記の成分（無機微粒子、重合開始剤、増感剤など）以外に、樹脂、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子等を添加することもできる。
【００９１】
[高屈折率層の形成]
高屈折率層は、後述する透明支持体上に直接、または、他の層を介して上述の高屈折率層用組成物の塗布液を塗布して形成することが好ましい。
本発明の高屈折率層用塗布液は、特定の無機化合物の超微粒子分散物、マトリックスバイダー用液、必要に応じて用いる添加剤を塗布用分散媒に各々所定の濃度に混合・希釈して調製される。塗布用分散媒としては、前記した無機化合物の超微粒子分散物の分散溶媒と同様のものが用いられる。単独での２種以上を混合して使用してもよい。好ましい分散媒体は、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ブタノールが挙げられる。また、ケトン溶媒（例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）を主にした塗布溶媒系も好ましく用いられ、ケトン系溶媒の含有量が高屈折率層塗布組成物に含まれる全溶媒の１０質量％以上であることが好ましい。好ましくは３０質量％以上、さらに好ましくは６０質量％以上である。
塗布に用いる塗布液は、塗布前に濾過することが好ましい。濾過のフィルターは、塗布液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が０．１〜１０μｍのフィルタが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．１〜５μｍであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルタの厚さは、０．１〜１０ｍｍが好ましく、更には０．２〜２ｍｍが好ましい。その場合、ろ過圧力は１５ｋｇｆ／ｃｍ2 以下、より好ましくは１０ｋｇｆ／ｃｍ2 以下、更には２ｋｇｆ／ｃｍ2 以下で濾過することが好ましい。
ろ過フィルター部材は、塗布液に影響を及ぼさなければ特に限定されない。具体的には、前記した無機化合物の湿式分散物のろ過部材と同様のものが挙げられる。
また、濾過した塗布液を、塗布直前に超音波分散して、脱泡、分散物の分散保持を補助することも好ましい。
【００９２】
本発明において、高屈折率層は、後述する透明基材フイルム上に本発明の高屈折率層形成用組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法等の公知の薄膜形成方法で塗布し、乾燥、光および／または熱照射することにより作製することができる。好ましくは、光照射による硬化が、迅速硬化から有利である。更には、光硬化処理の後半で加熱処理することも好ましい。
光照射の光源は、紫外線光域或いは近赤外線光のものであればいずれでもよく、紫外線光の光源として、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、メタルハライド灯、キセノン灯、太陽光等が挙げられる。波長３５０〜４２０ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。また、近赤外光光源としてはハロゲンランプ、キセノンランプ、高圧ナトリウムランプが挙げられ、波長７５０〜１４００ｎｍの入手可能な各種レーザー光源をマルチビーム化して照射してもよい。
近赤外光光源を用いる場合、紫外線光源と組み合わせて用いても良いし、或は高屈折率層塗設側と反対の基材面側より光照射しても良い。塗膜層内の深さ方向での膜硬化が表面近傍と遅滞無く進行し均一な硬化状態の硬化膜が得られる
光照射による光ラジカル重合の場合は、空気または不活性気体中で行なうことができるが、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、または重合率を十分に高める等のために、できるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。照射する紫外線の照射強度は、０．１〜１００ｍＷ／ｃｍ2程度が好ましく、塗布膜表面上での光照射量は１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましい。また、光照射工程での塗布膜の温度分布は、均一なほど好ましく、±３℃以内が好ましく、更には±１．５℃以内に制御されることが好ましい。この範囲において、塗布膜の面内および層内深さ方向での重合反応が均一に進行するので好ましい。
【００９３】
高屈折率層のＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の高屈折率層塗設の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
高屈折率層のヘイズは低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、さらに好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。
【００９４】
［中屈折率層］
本発明の反射防止膜は、高屈折率層が異なる屈折率からなら成る２層の積層構成が好ましい。即ち、上記の方法で組成物を塗設して形成された低屈折率層がそれよりも高い屈折率を有する高屈折率層の上に形成され、高屈折率層に隣接し、低屈折率層の反対側に支持体の屈折率と高屈折率層の屈折率の中間の屈折率を有する中屈折率層が形成された３層積層構造が好ましい。上記したように、各屈折率層の屈折率は相対的なものである。
本発明の中屈折率層を構成する材料は、従来公知の材料の何れでもよいが、上記高屈折率層と同様のものが好ましい。屈折率は無機微粒子の種類、使用量で容易に調整され、上記高屈折率層に記載の内容と同様にして、膜厚３０〜５００ｎｍの薄層を形成する。更に好ましくは、５０〜３００ｎｍの膜厚である。
中屈折率層の全固形分中、バインダーの添加量は２０〜８０質量％、高屈折粒子の添加量は２０〜８０質量％であり、好ましくはバインダーの添加量は２５〜７５質量％、高屈折粒子の添加量は２５〜７５質量％である。
【００９５】
［低屈折率層］
本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の反射防止膜は、透明基体上に設けた高屈折率層の上に低屈折率層を順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０以上１．５５未満の範囲にある。好ましくは１．３０〜１．５０、特に好ましくは１．３５〜１．４８の範囲である。
本発明の低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知の含シリコーン化合物の導入、あるいは含フッ素化合物の導入等から成る手段を適用できる。本発明の低屈折率層には、熱硬化性または電離放射線硬化型の架橋性含フッ素化合物を主体とする硬化した含フッ素樹脂が好ましく用いられる。
【００９６】
本発明において、「含フッ素化合物を主体とする」とは、最外層中に含まれる含フッ素化合物が最外層の全質量に対し、５０質量％以上占めることを意味し、６０質量％以上占めることがより好ましい。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含むことが好ましい。
含フッ素化合物には、含フッ素ポリマー、含フッ素界面活性剤、含フッ素エーテル、含フッ素シラン化合物等が挙げられる。具体的には、例えば特開平９−２２２５０３号公報段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報段落番号［００１９］〜［００３０］、同２００１−４０２８４号号公報段落番号［００２７］〜［００２８］等の記載の化合物等が挙げられる。
【００９７】
含フッ素ポリマーとしてフッ素原子を含む繰り返し構造単位、架橋性若しくは重合性の官能基を含む繰り返し構造単位、それ以外の置換基からなる繰り返し構造単位からなる共重合体が好ましい。
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ-２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。
架橋性若しくは重合性の官能基は、前記の高屈折率層用素材のものと同様のものが挙げられる。
【００９８】
市販の含フッ素化合物としてＴＥＦＲＯＮ ＡＦ１６００（デュポン社製 屈折率ｎ＝１．３０）、ＣＹＴＯＰ（旭硝子（株）社製 ｎ＝１．３４）、１７ＦＭ（三菱レーヨン（株）社製 ｎ＝１．３５）、オプスターＪＮ-７２１２（JSR（株）社製 ｎ＝１．４０）、オプスターＪＮ-７２２８（ＪＳＲ（株）社製 ｎ＝１．４２）、ＬＲ２０１（日産化学工業（株）社製 ｎ＝１．３８）（いずれも商品名）等を利用することもできる。
【００９９】
その他の繰り返し構造単位としては、塗布溶剤可溶化のために炭化水素系共重合成分が好ましく、５０％程度導入したフッ素系ポリマーが好ましい。この際には、ポリシロキサン構造が導入されていることが防汚性を向上させることから好ましい。
ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが、例えば特開平１１-１８９６２１号公報、同１１-２２８６３１号公報、特開２０００-３１３７０９号公報に記載のごとくシリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２-２５１５５５号公報、同２-３０８８０６号公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法等が挙げられる。これらの場合ポリシロキサン成分はポリマー中の０.５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
【０１００】
防汚性付与に対しては上記以外にも反応性基含有ポリシロキサン（例えばKF-100T,X-22-169AS,KF-102,X-22-3701IE,X-22-164B,X-22-164C,X-22-5002,X-22-173B,X-22- 174D,X-22-167B,X-22-161AS(以上商品名、信越化学工業社製)、AK-5,AK-30,AK-32（以上商品名、東亜合成社製）、サイラプレーンFM0275,サイラプレーンFM0721(以上チッソ社製)等）、特開平１１−２５８４０３号公報に記載のポリシロキサン構造の両末端にシラノール基含有の化合物等を添加する手段も好ましい。この際これらのポリシロキサンは、低屈折率層全固形分の０.５〜１０質量％の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％の場合である。
低屈折率層は、硬化ポリマー自身で構成される、或は他の組成物を含有しても良い。他の組成物と組み合わせた硬化膜の場合にはポリマーの添加量は低屈折率層の全固形分の１０〜９５質量％が好ましい。より好ましくは、３０〜９０質量％である。
【０１０１】
架橋または重合性基を有する含フッ素ポリマーの架橋または重合反応は、最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。重合開始剤および増感剤等は、前記高屈折率層で使用のものと同様のものが挙げられる。
また、シランカップリング剤と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報等記載の化合物）、特開平９−１５７５８２号公報記載のパーフルオロアルキル基含有シランカップリング剤、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、無機微粒子や有機微粒子等、シランカップリング剤、滑り剤（ジメチルシリコンなどのシリコン化合物等）、界面活性剤等を含有することができる。特に、無機微粒子、シランカップリング剤、滑り剤を含有することが好ましい。
【０１０２】
無機微粒子としては、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の低屈折率化合物が好ましい。特に好ましいには二酸化珪素（シリカ）である。無機微粒子の一次粒子の質量平均径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、３〜１００ｎｍであることがさらに好ましく、１〜８０ｎｍであることが最も好ましい。無機微粒子は、より微細に分散されていることが好ましい。無機微粒子の形状は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、短繊維状、リング状、あるいは不定形状であることが好ましい。
【０１０３】
（中空構造の無機微粒子）
上記低屈折率層はその屈折率上昇をより一層少なくするために、中空の無機微粒子（以下、中空粒子ということがある）を用いることが好ましい。中空粒子は屈折率が、通常１．１７〜１．４０、好ましくは１．１７〜１．３７、さらに好ましくは１．１７〜１．３５であるのがよい。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。中空粒子の屈折率は、粒子の強度及び該中空粒子を含む低屈折率層の耐擦傷性の観点から、１．１７以上とすることが好ましい。
なお、これら中空粒子の屈折率はアッベ屈折率計［アタゴ（株）製］にて測定することができる。
【０１０４】
なお、中空粒子内の空腔の半径をｒi、粒子外殻の半径をｒoとするとき、中空粒子の空隙率ｗ（％）は下記数式（６）に従って計算される。
数式（６）：ｗ=（ｒi／ｒo）3×１００
中空粒子の空隙率は、好ましくは１０〜６０％、さらに好ましくは２０〜６０％である。
【０１０５】
中空粒子の平均粒径は、該低屈折率層の厚みの３０〜１００％、さらには３５〜８０％、特には４０〜６０％であることが好ましい。即ち、低屈折率層の厚みが１００ｎｍであれば、中空粒子の粒径は３０〜１００ｎｍ、さらには３５〜８０ｎｍ、特には４０〜６０ｎｍの範囲となることが好ましい。該平均粒径が前記の範囲であると、膜の強度が十分に発現されて好ましい。
（無機微粒子の分散液）
上記したいずれの無機微粒子も、分散液中又は硬化性の低屈折率層形成用組成物溶液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていてもよい。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例えば、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング剤による処理が特に好ましい。シランカップリング剤としては一般式（２）で表されるものが挙げられる。
【０１０６】
一般式（２）：（Ｒ21）q−Ｓｉ（Ｙ21）4-q
（式中、Ｒ21は置換もしくは無置換のアルキル基又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｙ21は水酸基又は加水分解可能な基を表す。ｑは１〜３の整数を表す。）
【０１０７】
上記のカップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として、硬化性の低屈折率層形成用組成物塗布液調製以前に予め表面処理を施すために用いられるが、該塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
【０１０８】
（オルガノシラン化合物）
次に、前記一般式（２）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物について説明する。
一般式（２）：（Ｒ21）q−Ｓｉ（Ｙ21）4-q
【０１０９】
上記一般式（２）において、Ｒ21は、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基として好ましくは、炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは１〜６のものであり、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
【０１１０】
Ｙ21は、水酸基又は加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基（炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる）、ハロゲン原子（例えばＣｌ、Ｂｒ、Ｉ等）、及びＲ22ＣＯＯ（Ｒ22は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基が好ましく、例えばＣＨ3ＣＯＯ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＯ等が挙げられる）で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基又はエトキシ基である。
ｑは１〜３の整数を表し、好ましくは１又は２であり、特に好ましくは１である。
【０１１１】
Ｒ21又はＹ21が複数存在するとき、複数のＲ21又はＹ21はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【０１１２】
Ｒ21に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素等）、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基（メチル、エチル、ｉ−プロピル、プロピル、ｔ−ブチル等）、アリール基（フェニル、ナフチル等）、芳香族ヘテロ環基（フリル、ピラゾリル、ピリジル等）、アシルオキシ基（アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等）、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル等）、カルバモイル基（カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルカルバモイル等）、アシルアミノ基（アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等）等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていてもよい。
【０１１３】
Ｒ21が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
【０１１４】
前記一般式（２）で表されるオルガノシラン化合物の中でも、特にメタクロイルオキシ基、アクリロイルオキシ基等のビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。具体的には、特開２００４−４２２７８号公報段落番号[００２６]〜[００２８]記載のものが挙げられる。
【０１１５】
オルガノシラン化合物の加水分解物及び／又は部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。触媒としては、酸類、塩基類、有機金属化合物等であり、具体的には前記高屈折率層ゾルゲル反応で記載と同様のものが挙げられる。
【０１１６】
本発明の低屈折率層は、表面の動摩擦係数が０．２５以下であることが好ましい。ここで記載した動摩擦係数は、直径５ｍｍのステンレス剛球に０．９８Ｎの荷重をかけ、速度６０ｃｍ／分で表面を移動させたときの、表面と直径５ｍｍのステンレス剛球の間の動摩擦係数をいう。好ましくは０．１７以下であり、特に好ましくは０．１５以下である。
また、最表面の水に対する接触角が９０゜以上であることが好ましい。更に好ましくは９５゜以上であり、特に好ましくは１００゜以上である。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
無機微粒子の添加量は、全固形分量に対し５〜９５質量％が好ましい。より好ましくは１０〜７０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。
低屈折率層のヘイズは、低いほど好ましい。５％以下であることが好ましく、３％以下であることがさらに好ましく、１％以下であることが特に好ましい。
低屈折率層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従うテーバー試験での摩耗量、表面の動摩擦係数、水との接触角は、最上層と同様の性能が好ましい。
【０１１７】
［ハードコート層］
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光および／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、多官能モノマーや多官能オリゴマー或いは加水分解性官能基含有の有機金属化合物を含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、硬化性化合物を架橋反応、または、重合反応させることにより形成することができる。
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。具体的には、高屈折率層のマトリックスバインダーと同様の内容のものが挙げられる。
【０１１８】
更に好ましい態様として、ラジカル重合反応及びカチオン重合反応により硬化する重合性化合物を用いることが挙げられる。重合性化合物は、ラジカル重合性基とカチオン重合性基が同一分子内に含有されていてもよいし、或は異なる分子に含有された化合物であって両者の混合物であっても良い。
これらの重合性化合物を主として含有する硬化性組成物から形成される硬化性膜からなる多層反射防止膜は、後述するエンボス加工による表面凹凸の賦形が均一に安定して可能となる。これらは、ハードコート層の熱弾性変形が適切に作用することによると推測される。
【０１１９】
好ましい具体的な硬化性組成物の態様として、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーと、同一分子内に２個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物の両方を含有し、架橋性ポリマー中の開環重合性基とエチレン性不飽和基の両方を重合させることにより硬化する硬化性組成物が挙げられる。
【０１２０】
【化２】
2005122147.tif 000003
【０１２１】
一般式（１）中、ａ1およびａ2は、各々同じでも異なってもよく、水素原子、脂肪族基、―ＣＯＯＲ1、または−ＣＨ2ＣＯＯＲ1を表す。Ｒ1は炭化水素基を表す。
Ｐは、開環重合性基を含む一価の基又はエチレン性不飽和基を表す。
Ｌは、単結合もしくは二価の連結基を表す。
【０１２２】
一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーについて詳細に説明する。一般式（１）中、ａ1およびａ2は、水素原子、脂肪族基、好ましくは炭素原子数１〜４のアルキル基、−ＣＯＯＲ1、または−ＣＨ2ＣＯＯＲ1を表す。Ｒ1は、炭化水素基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、より好ましくは水素原子もしくはメチル基を表す。
Ｌは単結合または二価の連結基であり、好ましくは単結合、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基、＊−ＣＯＯ−、＊−ＣＯＮＨ−、＊−ＯＣＯ−、または＊−ＮＨＣＯ−である（ここで、＊は＊側で主鎖に連結することを意味する）。
Ｐは、開環重合性基を含む一価の基又はエチレン性不飽和基を表す。開環重合性基を含む一価の基とは、カチオン、アニオン、ラジカルなどの作用により開環重合が進行する環構造を有する一価の基であり、この中でもヘテロ環状化合物のカチオン開環重合が好ましい。好ましい開環重合性基を含む一価の基としては、ビニルオキシ基、或はエポキシ環、オキセタン環、テトラヒドロフラン環、ラクトン環、カーボネート環、オキサゾリン環などのイミノエーテル環などを含む一価の基が挙げられ、この中でも特に好ましくはエポキシ環、オキセタン環、オキサゾリン環を含む一価の基あり、最も好ましくはエポキシ環を含む一価の基である。
Ｐがエチレン性不飽和基を表す場合、好ましいエチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクロイル基、スチリル基、およびビニルオキシカルボニル基を挙げることができる。
【０１２３】
本発明の一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、対応するモノマーを重合させて合成することが簡便で好ましい。この場合の重合反応としてはラジカル重合が最も簡便で好ましい。
以下に一般式（１）で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１２４】
【化３】
2005122147.tif 000004
【０１２５】
本発明の一般式（１）で表される繰り返し単位のうち、より好ましい例としては、エポキシ環を有するメタクリレートまたはアクリレートから誘導される繰り返し単位であり、その中でも特に好ましい例としてグリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートから誘導されるＥ−１、Ｅ−３をあげることができる。
また、本発明の一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは一般式（１）で表される複数種の繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、その中でも特にＥ−１、Ｅ−３いずれかのコポリマーとすることでより効果的に硬化収縮を低減できる。
【０１２６】
本発明の一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは一般式（１）以外の繰り返し単位を含んだコポリマーでもよい。特に架橋性ポリマーのＴｇや親疎水性をコントロールしたい場合や、架橋性ポリマーの開環重合性基の含有量をコントロールする目的で一般式（１）以外の繰り返し単位を含んだコポリマーとすることができる。一般式（１）以外の繰り返し単位の導入方法は、対応するモノマーを共重合させて導入する手法が好ましい。
【０１２７】
一般式（１）以外の繰り返し単位を、対応するビニルモノマーを共重合することによって導入する場合、好ましく用いられるモノマーとしては、アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸（例えばメタクリル酸など）類から誘導されるエステル類もしくはアミド類（例えば、Ｎ−ｉ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、アクリルアミド、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、アルキルエステル（メタ）アクリレート（アルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等）、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ニトロプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシメトキシエチル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、２−イソボルニル（メタ）クリレート、２−ノルボルニルメチル（メタ）クリレート、５−ノルボルネン−２−イルメチル（メタ）クリレート３−メチル−２−ノルボルニルメチル（メタ）クリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェネチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）クリレートなど）、アクリル酸またはα−アルキルアクリル酸（アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸など）、ビニルエステル類（例えば酢酸ビニル）、マレイン酸またはフマル酸から誘導されるエステル類（マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチルなど）、マレイミド類（Ｎ−フェニルマレイミドなど）、マレイン酸、フマル酸、ｐ−スチレンスルホン酸のナトリウム塩、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ジエン類（例えばブタジエン、シクロペンタジエン、イソプレン）、芳香族ビニル化合物（例えばスチレン、ｐ−クロルスチレン、ｔ−ブチルスチレン、α−メチルスチレン、スチレンスルホン酸ナトリウム）、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビニルサクシンイミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニル−Ｎ−メチルアセトアミド、１−ビニルイミダゾール、４−ビニルピリジン、ビニルスルホン酸、ビニルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、ビニリデンクロライド、ビニルアルキルエーテル類（例えばメチルビニルエーテル）、エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン等が挙げられる。これらのビニルモノマーは２種類以上組み合わせて使用してもよい。これら以外のビニルモノマーはリサーチディスクロージャーＮｏ．１９５５１（１９８０年、７月）に記載されているものを使用することができる。
本発明では、アクリル酸またはメタクリル酸から誘導されるエステル類、およびアミド類、および芳香族ビニル化合物が特に好ましく用いられるビニルモノマーである。
【０１２８】
一般式（１）以外の繰り返し単位として開環重合性基或はエチレン性不飽和基以外の反応性基を有する繰り返し単位も導入することができる。特に、ハードコート層の硬度を高めたい場合や、基材もしくはハードコート上に別の機能層を用いる場合の層間の接着性を改良したい場合、開環重合性基以外の反応性基を含むコポリマーとする手法は好適である。開環重合性基以外の反応性基を有する繰り返し単位の導入方法は対応するビニルモノマー（以下、「反応性モノマー」と称する。）を共重合する手法が簡便で好ましい。
【０１２９】
以下に反応性モノマーの好ましい具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１３０】
＜反応性モノマーの好ましい具体例＞
ヒドロキシル基含有ビニルモノマー（例えば、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、アリルアルコール、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレートなど）、イソシアネート基含有ビニルモノマー（例えば、イソシアナトエチルアクリレート、イソシアナトエチルメタクリレートなど）、Ｎ−メチロール基含有ビニルモノマー（例えば、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミドなど）、カルボキシル基含有ビニルモノマー（例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、カルボキシエチルアクリレート、安息香酸ビニル）、アルキルハライド含有ビニルモノマー（例えばクロロメチルスチレン、２−ヒドロキシ−３−クロロプロピルメタクリレート）、酸無水物含有ビニルモノマー（例えばマレイン酸無水物）、ホルミル基含有ビニルモノマー（例えばアクロレイン、メタクロレイン）、スルフィン酸基含有ビニルモノマー（例えばスチレンスルフィン酸カリウム）、活性メチレン含有ビニルモノマー（例えばアセトアセトキシエチルメタクリレート）、アミノ基含有モノマー（例えばアリルアミン）、アルコキシシリル基含有モノマー（例えばメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン）などが挙げられる。
【０１３１】
本発明の一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマー中、一般式（１）で表される繰り返し単位が含まれる割合は、３０質量％以上１００質量％以下、好ましくは５０質量％以上１００質量％以下、特に好ましくは７０質量％以上１００質量％以下である。一般式（１）以外の繰り返し単位が、架橋反応性基を有さない場合、その含量が多すぎると硬度が低下し、架橋反応性基を有する場合、硬度は維持できることもあるが、硬化収縮が大きくなったり、脆性が悪化する場合がある。特にアルコキシシリル基含有モノマー（例えばメタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン）と一般式（１）で表される繰り返し単位の共重合体を用いる場合などのように架橋反応時に脱水、脱アルコールなどの分子量低下を伴う場合、硬化収縮が大きくなりやすい。このような分子量低下を伴って架橋反応が進行する架橋反応性基を有する繰り返し単位を本発明の一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーに導入する場合の一般式（１）で表される繰り返し単位が含まれる好ましい割合は、７０質量％以上９９質量％以下、より好ましくは８０質量％以上９９質量％以下、特に好ましくは９０質量％以上９９質量％以下である。
【０１３２】
一般式（１）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい分子量範囲は質量平均分子量で１０００以上１００万以下、さらに好ましくは３０００以上２０万以下である。最も好ましくは５０００以上１０万以下である。なお、上記質量平均分子量は、ＧＰＣ法で測定されポリスチレン換算値である。
【０１３３】
本発明に用いることのできる同一分子内に２個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物について説明する。好ましいエチレン性不飽和基の種類は、アリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、ビニルエーテル基であり、特に好ましくはメタクリロイル基またはアクリロイル基であり、特に好ましくはアクリロイル基である。エチレン性不飽和基を含む化合物はエチレン性不飽和基を分子内に２個以上有していればよいが、より好ましくは３個以上である。そのなかでもアクリロイル基を有する化合物が好ましく、分子内に２〜６個のアクリル酸エステル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートと称される分子内に数個のアクリル酸エステル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。具体的には、前記した高屈折率層の多官能性モノマーと同様のものが挙げられる。
これらの重合性化合物は、重合開始剤を併用することが好ましく、具体的には前記の高屈折率層に記載したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層は、硬化ポリマー自身で構成される、或は他の組成物を含有しても良い。他の組成物と組み合わせた硬化膜の場合には、硬化ポリマーの添加量はハードコート層の全固形分質量に対して１０〜９５質量％が好ましい。より好ましくは、３０〜９０質量％である。
【０１３４】
ハードコート層は、一次粒子の平均粒径が３００ｎｍ以下の無機微粒子を含有することが好ましい。より好ましくは１０〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは２０〜１００ｎｍである。ここでいう平均粒径は質量平均径である。一次粒子の平均粒径を２００ｎｍ以下にすることで透明性を損なわないハードコート層を形成できる。
無機微粒子はハードコート層の硬度を高くすると共に、塗布層の硬化収縮を抑える機能がある。また、ハードコート層の屈折率を制御する目的にも添加される。
ハードコート層の具体的な組成としては、例えば特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ００／４６６１７号公報等に記載の内容のもが挙げられる。
【０１３５】
ハードコート層における無機微粒子の含有量は、ハードコート層の全質量に対し１０〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは１５〜８０質量％である。
前記したように、高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。高屈折率層がハードコート層を兼ねる場合、高屈折率層で記載した手法を用いて無機微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１５μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜１２μｍ、特に好ましくは０．７〜１０μｍである。
【０１３６】
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１３７】
［その他の層］
積層型反射防止膜には、さらに、防湿層、帯電防止層、プライマー層、下塗り層や保護層、シールド層、滑り層を設けてもよい。シールド層は、電磁波や赤外線を遮蔽するために設けられる。
【０１３８】
［反射防止フィルムの形成］
［反射防止膜の形成］
多層構成の反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）により、塗布により形成することができる。二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
本発明の反射防止フィルムにおいては、少なくとも高屈折率層と低屈折率層を積層するので、ゴミ、ほこり等の異物が存在したとき、輝点欠陥が目立ちやすい。本発明における輝点欠陥とは、前記したように目視により、塗膜上の反射で見える欠陥のことで、塗布後の反射防止フィルムの裏面を黒塗りする等の操作により目視で検出できる。目視により見える輝点欠陥は、一般的に５０μｍ以上である。輝点欠陥が多いと製造時の得率が低下し、大面積の反射防止フィルムを製造することができない。
本発明の反射防止フィルムは、輝点欠陥の数が１平方メートル当たり２０個以下、好ましくは１０個以下、さらに好ましくは５個以下、特に好ましくは１個以下とする。
【０１３９】
本発明の反射防止フィルムを連続的に製造するために、ロール状の支持体フィルムを連続的に送り出す工程、塗布液を塗布・乾燥する工程、塗膜を硬化する工程、硬化した層を有する支持体フィルムを巻き取る工程が行われる。
ロール状のフィルム支持体からフィルム支持体がクリーン室に連続的に送り出され、クリーン室内で、フィルム支持体に帯電している静電気を静電除電装置により除電し、引き続きフィルム支持体上に付着している異物を、除塵装置により除去する。引き続きクリーン室内に設置されている塗布部で塗布液がフィルム支持体上に塗布され、塗布されたフィルム支持体は乾燥室に送られて乾燥される。
乾燥した塗布層を有するフィルム支持体は乾燥室から放射線硬化室へ送り出され、放射線が照射されて塗布層に含有されるモノマーが重合して硬化する。さらに、放射線により硬化した層を有するフィルム支持体は熱硬化部へ送られ、加熱されて硬化を完結させ、硬化が完結した層を有するフィルム支持体は巻き取られてロール状となる。
【０１４０】
上記工程は、各層の形成毎に行ってもよいし、塗布部−乾燥室−放射線硬化部−熱硬化室を複数設けて、各層の形成を連続的に行うことも可能である。
本発明における、輝点欠陥の少ない反射防止フィルムを作成するためには、前記したように高屈折率層用塗布物中の高屈折率超微粒子分散度を精密に制御すること、および塗布液の精密濾過操作が挙げられる。と同時に、反射防止層を形成する各層は上記の塗布部における塗布工程および乾燥室で行われる乾燥工程が高い清浄度の空気雰囲気下で行われ、かつ塗布が行われる前に、フィルム上のゴミ、ほこりが充分に除かれていることが好ましい。塗布工程および乾燥工程の空気清浄度は、米国連邦規格２０９Ｅにおける空気清浄度の規格に基づき、クラス１０（０．５μｍ以上の粒子が３５３個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましく、更に好ましくはクラス１（０．５μｍ以上の粒子が３５．５個／（立方メートル）以下）以上であることが望ましい。また、空気清浄度は、塗布−乾燥工程以外の送り出し、巻き取り部等においても高いことがより好ましい。
【０１４１】
塗布が行われる前工程としての除塵工程に用いられる除塵方法として、特開昭５９−１５０５７１号公報に記載のフィルム表面に不織布や、ブレード等を押しつける方法、特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法、特開平７−３３３６１３号公報に記載される超音波振動する圧縮空気を吹き付けて付着物を剥離させ、吸引する方法（伸興社製、ニューウルトラクリーナー等）等の乾式除塵法が挙げられる。
また、洗浄槽中にフィルムを導入し、超音波振動子により付着物を剥離させる方法、特公昭４９−１３０２０号公報に記載されているフィルムに洗浄液を供給したあと、高速空気の吹き付け、吸い込みを行なう方法、特開２００１−３８３０６号に記載のように、ウェブを液体でぬらしたロールで連続的に擦った後、擦った面に液体を噴射して洗浄する方法等の湿式除塵法を用いることができる。このような除塵方法の内、超音波除塵による方法もしくは湿式除塵による方法が、除塵効果の点で特に好ましい。
【０１４２】
また、このような除塵工程を行う前に、フィルム支持体上の静電気を除電しておくことは、除塵効率を上げ、ゴミの付着を抑える点で特に好ましい。このような除電方法としては、コロナ放電式のイオナイザ、ＵＶ、軟Ｘ線等の光照射式のイオナイザ等を用いることができる。除塵、塗布前後のフィルム支持体の帯電圧は、１０００Ｖ以下が望ましく、好ましくは３００Ｖ以下、特に好ましくは、１００Ｖ以下である。
【０１４３】
［反射防止フィルムの表面形状の形成］
本発明の反射防止フィルムは、上記に記載の態様のようにして作製した多層構成の反射防止膜をエンボス加工により本発明の特定の表面凹凸形状を形成することが好ましい。
【０１４４】
［エンボス版の表面形状］
本発明におけるエンボス版の形状は、凹凸配列の規則性が高いと光干渉が発生するために好ましくない。以下の凹凸のパラメータであることが好ましい。平均凹凸周期（ＲＳｍ）は５μｍ〜１００μｍが好ましく、５μｍ〜５０μｍがさらに好ましく、５μｍ〜３０μｍが最も好ましい。算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０５μｍ〜２０μｍが好ましく、０．３〜５μｍがさらに好ましく、０．３μｍ〜１μｍが最も好ましい。凹凸プロファイルの傾斜角は０．５度〜１０度に分布していることが好ましく、０．５度〜５度に分布していることがさらに好ましい。
【０１４５】
平均凹凸周期（ＲＳｍ）、算術平均粗さ（Ｒａ）、平均傾斜角は、（株）ミツトヨ社製２次元粗さ計ＳＪ−４００型もしくは、（株）ＲＹＯＫＡ  ＳＹＳＴＥＭ社製の「マイクロマップ」機を用いて測定することができる。
【０１４６】
［エンボス版］
本発明に用いるエンボス版は金属表面に上記に記載の凹凸を形成されたものであり、ショット加工、放電加工、エッチング加工、レーザー加工等が金属表面に不規則な凹凸パターンを形成する方法として利用できる。この内、ショット加工および放電加工が自動的に不規則な凹凸パターンを形成できる点で好ましい。エッチングやレーザー加工においても、レジストパターンの作成方法やレーザービームの操作方法によってランダムなパターニングが可能である。
【０１４７】
エンボス版として好ましく用いられる金属は、ビッカーズ硬度が５００以上の炭素とクロムを含む鉄合金であればいずれでも良く、これらには高炭素鋼、クロム−モリブデン鋼、ステンレス鋼などが挙げられる。
表面硬度を上げる方法として、ステンレスに代表される鉄合金を真空下でアンモニアなどの窒素化合物を導入して、高温反応させる窒化処理が広く知られている。また、ハードクロムメッキに代表されるメッキ処理も有効であり、リンあるいはリンとホウ素を導入したニッケルメッキ（日本カニゼン株式会社のカニゼンメッキ、カニボロンメッキ）やＴｉＣ、ＷＣ、ＳｉＣ、Ｂ4Ｃ、ＴｉＢ2などのセラミック粒子を共析したクロムならびにニッケルメッキも有効に利用できる。
これら硬質層の被覆厚は５μｍ乃至３００μｍが好ましく、２０μｍ乃至１００μｍがさらに好ましい。
【０１４８】
ショット加工は、ガラス、ジルコニア、タングステンなど、直径が５０μｍ以下で嵩比重が１．５Ｋｇ/Ｌ以上の粒子を１Ｋｇ/ｃｍ2以上の圧力で吹き付けることによって実施できる。平均凹凸周期は粒子経によって、平均粗さは粒子の嵩密度、吹き付け圧力、ショット時間によって制御することができる。
【０１４９】
本発明に供されるエンボス板の表面加工方法としては、表面凹凸を精密に制御できることから放電加工方法が最も好ましい。
放電加工で版表面の凹凸を造形する場合、版材質の重要なパラメータは硬度、融点、熱伝導係数である。これらは放電によって発生する熱で表面が彫られていく形状や速度に影響する。すなわち、硬度や融点が異なると、放電で同じ熱量が発生しても、融解して彫られる量や形が異なる。また、熱伝導係数も放電スパークで局所的に加熱された熱が拡散する速度に影響するため、凹凸周期や深さに反映される。
上述の様々な表面硬化処理を行った場合、同じ放電加工によって得られる版は、算術平均粗さや平均凹凸周期のみならず、大小の凹凸が重なりあった結果の複合波形や凹凸配置のランダムネスが変化する。以上のようなことから、放電加工条件と版の表面材質を組み合わせることによって、エンボス転写した後のフイルムは、描画画像に白みやザラツキ感のない防眩性と反射防止性に優れた光学的特性を発現する。
【０１５０】
放電加工は、汎用の形彫放電加工機（例えば、三菱電機社製、Ｓｏｄｉｃｋ社製）が利用できる。微細な凹凸形状を得るためには、ミクロン単位の位置制御が可能なＣＡＤ／ＣＡＭ機能を搭載している機種が好ましい。
【０１５１】
放電加工には電極に正の電位を掛けるプラス放電と負の電位を掛けるマイナス放電とがある。プラス放電の場合、ワーク表面で発生する熱量が高いため加工速度は速いが、不均一な凹凸形状となることがしばしば起こる。マイナス放電では、電極の消耗は激しいが、ワーク表面の凹凸形状はより均一となり、本発明に用いるエンボス版として好ましい。
電極は電気抵抗が低く熱伝導係数が高い銅を用いることが好ましい。一つ一つの局所放電を微小にし、放電エネルギーを小さくして微細な凹凸形状を得るためには平板電極の厚みを好ましくは５ｍｍ以下、更に好ましくは３ｍｍ以下、最も好ましくは２ｍｍ以下にする必要があるが、銅で十分な剛性が得られない場合には、真鍮を用いることも好ましい。
放電電圧の制御には電源側でパルスを発生させる方法と電源回路と放電加工機が形成するＲＣ回路を利用するコンデンサー放電とがある。本発明におけるエンボス版の造形においては、コンデンサー放電の方が広い面積で、均質な凹凸形状が得られることから好ましい。印加電圧は高い方が電極とワーク間の距離が大きい状態で放電できるため、熱や溶融片の放出効率が高く好ましい。半導体電源の上限に当たる１００乃至５００Ｖを用いる。
【０１５２】
［エンボス加工］
エンボス加工の方式は、平板版プレス、連続ベルト版プレス、ロール版プレスのいずれも採用できる。この内、帯状物の連続加工として連続ベルト版プレスとロール版プレスが、さらにプレス圧やプレス温度の自由度の観点でロール版プレスが最も好ましい。
【０１５３】
ロール版プレスに用いるロールの材質は、プレス圧に耐えられる剛性を有するものであれば金属、セラミック、合成樹脂、合成樹脂と金属やガラスのコンポジットなど、限定されず使用できるが、版の耐久性の観点より、版表面はビッカース硬度が５００以上であることが好ましく、実用的に５００乃至１０００であることが好ましい。
表面硬度を上げる方法として、ステンレスに代表される鉄合金を真空下でアンモニアなどの窒素化合物を導入して、高温反応させる窒化処理が広く知られている。また、ハードクロムメッキに代表されるメッキ処理も有効であり、リンあるいはリンとホウ素を導入したニッケルメッキ（カニゼン社のカニゼンメッキ、カニボロンメッキ）やＴｉＣ、ＷＣ、ＳｉＣ、Ｂ4Ｃ、ＴｉＢ2などのセラミック粒子を共析したクロムならびにニッケルメッキも有効に利用できる。
これら硬質層の被覆厚は５μｍ乃至３００μｍが好ましく、２０μｍ乃至１００μｍがさらに好ましい。
本発明によるエンボス操作は通常「ホットエンボス」と呼ばれる加熱した版を樹脂フィルムに押し当てながらパターン転写する方法であり、加熱溶融製膜、加熱溶融ラミネート、あるいは予め加熱した樹脂フィルムの温度以下の版を押し当ててパターン転写する「コールドエンボス」とは異なる。版を加熱する手段としては、８０℃以上に加熱でき版表面の温度分布が小さければ限定されないが、電熱線ヒーター、電磁誘導加熱、赤外線ヒーター、版内部を中空構造にして温水、オイル、スチームなどの熱媒を循環するジャケット式ヒーターなどが好ましく利用できる。この内、ロール版プレスに利用できる方法として、電熱線ヒーター、電磁誘導加熱（例えば、トクデン社製ヒートロール）、ジャケット式ヒーターが好ましく、版表面の温度分布が小さい点で、電磁誘導加熱ならびにジャケット式ヒーターがさらに好ましい。
【０１５４】
ロール版プレスに用いるエンボスロールの直径に特に限定はない。ロールとして製作できるφ５０ｍｍ乃至φ３０００ｍｍが適用できるが、真直度数μｍ／ｍ幅に精度良く加工できる点ならびに質量が肥大化することより、実質的にはφ５０ｍｍ乃至φ２０００ｍｍである。
エンボスロールに対向して設置するバックアップロールの材質もプレス圧に耐えられる剛性を有するものであれば金属、セラミック、合成樹脂、合成樹脂と金属、ガラスのコンポジットなど、限定されず使用できる。耐久性の観点より、ビッカーズ硬度が５００以上の炭素とクロムを含む鉄合金で被覆されていることが好ましい。被覆厚は１０μｍ乃至５０ｍｍ、このましくは５０μｍ乃至５０ｍｍである。ビッカーズ硬度が高く、耐食性に優れ、表面研摩しやすいハードクロムメッキも好ましく利用できる。バックアップロールの表面粗さは、樹脂フィルムの裏面を平滑に維持するために可能な限り小さいことが好ましい。具体的には金属表面の鏡面仕上げとして得られる算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０１μｍ以下が好ましい。
【０１５５】
ロール版プレスに用いるバックアップロールの直径に特に限定はない。ロールとして製作できるφ５０ｍｍ乃至φ３０００ｍｍが適用できるが、真直度数μｍ／ｍ幅に精度良く加工できる点ならびに質量が肥大化することより、実質的にはφ５０ｍｍ乃至φ２０００ｍｍである。
【０１５６】
バックアップロールは冷却してもよい。ロール内部を中空構造にして冷水などの冷媒を循環するジャケット構造や冷風吹き付けが好ましく利用できる。バックアップロールを冷却する利点は、樹脂フィルムに可塑剤などの添加剤が含まれる場合、フィルム内部からの泣き出しや蒸発が軽減できる点、プレス部を通過した直後に樹脂フィルムをバックアップロールと接触させることにより、即時に冷却して転写パターンを固定できる点がある。
【０１５７】
プレス条件はフィルム表面に掛ける圧力、版の表面温度、ならびにプレス時間である。プレス圧力は１×１０5Ｐａ以上が好ましく、１×１０5乃至１００×１０5Ｐａがさらに好ましく、５×１０5乃至５０×１０5Ｐａが最も好ましい。本発明に用いられるロール版ならびにバックアップロールの直径の範囲では、これら圧力範囲に対応する線圧として、１０００Ｎ／ｃｍ以上が好ましく、１０００乃至５００００Ｎ／ｃｍがさらに好ましく、５０００乃至３００００Ｎ／ｃｍが最も好ましい。
ホットエンボス加工における版の表面温度は、８０℃以上であることが好ましい。８０℃乃至２２０℃であることがさらに好ましく、１００℃乃至２００℃であることが最も好ましい。
プレス時間が厳密に定義できるのは平板版プレスと連続ベルト版プレスである。プレス時間は１秒乃至６００秒が好ましく、１０秒乃至６００秒がさらに好ましく、１０秒乃至３００秒が最も好ましい。ロール版プレスの場合は、プレス圧によるエンボスロースとバックアップロールのニップ部の接触長と樹脂フィルムの搬送速度により、実効プレス時間が決まる。ニップ部の接触長はエンボスロールとバックアップロールの物理性（径、弾性率など）やプレス条件（圧力、温度）によって変化するので一概には規定できない。搬送速度は１乃至５０ｍ／ｍｉｎが好ましく、１乃至３０ｍ／ｍｉｎがさらに好ましく、５乃至３０ｍ／ｍｉｎが最も好ましい。
【０１５８】
ロール版プレスの場合、回転軸を介してプレス圧を掛けるとロールがたわんで幅方向に均一な圧力が作用しなくなる。これを軽減するためには、プレス圧に対応したたわみ量を予め予測してロール径を補正するクラウンロール方式やプレス方向に対向して回転軸に圧力を掛けるベンド補正方式が適用できる。ロールの幅方向中心径をロール幅１ｍ当り５μｍ乃至５０μｍテーパー状に太くすることが好ましく、５μｍ乃至３０μｍテーパー状に太くすることがさらに好ましく、１０μｍ乃至３０μｍテーパー状に太くすることが最も好ましい。ベンド補正圧は、エンボスロールとバックアップロールの物理性（径、弾性率など）やプレス条件（圧力、温度）によって変化するが、プレス圧の３％乃至２０％で反作用することが好ましく、プレス圧の３％乃至１５％で反作用することがさらに好ましく、プレス圧の５％乃至１０％で反作用することが最も好ましい。
【０１５９】
本発明における画像表示装置に組み込む光学フィルムのエンボス加工においては、塵埃の制御を厳密に行う必要がある。反射防止層を塗設したフィルムを送り出してエンボス加工し、再び巻き取るまでの工程はクラス１００以上、好ましくはクラス１０以上のクリーンルーム環境で実施する。
また、反射防止層を塗設したフィルムを送り出し、エンボス加工工程前に除塵機を使用することも好ましい。周知の乾式或は湿式の除塵方法を用いることが出来る。具体的には、前記の反射防止膜作製に記載と同様のものが挙げられる。
【０１６０】
こうしてクリーンルーム内で除塵処理した後のフイルム表面には１０μｍ以上の異物が１０コ／ｍ2未満であることが好ましく、１コ／ｍ2未満であることがさらに好ましく、０．１コ／ｍ2未満であることが最も好ましい。
【０１６１】
エンボス加工する工程の前に透明樹脂フィルムを予熱する工程を設けることも好ましい。常温のフィルムを本発明における８０℃以上のエンボス版に導入すると急激な軟化と体積変化、さらにはフィルムと版の摩擦抵抗などが絡み合って、シワなどを発生させることがある。これを回避するために、徐々にエンボス温度まで加熱する方法が採用できる。
ポリマーフイルムを予め室温以上に加熱する工程では、熱風の衝突、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、あるいは赤外線ヒーターによる輻射熱加熱等が好ましく利用できる。特に加熱ロールによる接触伝熱は、熱伝達効率が高く小さな設置面積で行える点、搬送開始時のフィルム温度の立上りが速い点で好ましい。一般の２重ジャケットロールや電磁誘導ロール（トクデン社製）が利用できる。加熱後のフィルム温度は、２５乃至２２０℃であることが好ましく、２５乃至１５０℃がさらに好ましく、４０乃至１００℃が最も好ましい。また、上記温度範囲に制御するために、加熱手段に対してフィードバック制御を行ってもよい。
【０１６２】
エンボス加工する工程の後にフィルムを冷却する工程を設けることも好ましい。ホットエンボス後のフィルムは加熱状態にあり、温度低下して十分に圧縮弾性率が下がらないまま、搬送にともなうテンションやローラーとの接触を受けると、エンボス転写した表面形状が変形したり緩和したりすることがしばしば発生する。これを回避するために、ホットエンボス直後からフィルムを強制冷却する方法が採用できる。
ポリマーフイルムの温度を低下させる手段は、ポリマーフイルムへの冷風の衝突、あるいは、冷却ロールによる接触伝熱等が好ましく採用できる。冷却後のフイルム温度は、８０℃以下であることが好ましく、１０℃乃至８０℃であることがさらに好ましく、１５℃乃至７０℃であることが最も好ましい。フィルム温度は、非接触式の赤外線温度計で測定することが好ましい。冷却手段に対してフィーッドバック制御を行い、冷却温度を調節することもできる。
【０１６３】
連続搬送のロールエンボス加工においては、巻取り工程の前に乾燥工程を実施することもできる。透明樹脂フィルムをロール状に巻き取る前に、好ましい含水率に調整するために加熱乾燥してもよい。逆に、設定された湿度を有する風で調湿することもできる。
【０１６４】
［反射防止フィルムの特性］
反射防止フィルムの反射率は低いほど好ましい。具体的には４５０〜６５０ｎｍの波長領域での平均反射率が２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましく、０．７％以下であることが最も好ましい。反射防止フィルムのヘイズは、４０％以下が好ましい。更には、０．５〜３０％が好ましく、特に好ましくは1〜２０％である。
【０１６５】
また、本発明の反射防止フィルムは、輝点欠陥の数が１平方メートル当たり２０個以下、好ましくは１０個以下、さらに好ましくは５個以下、特に好ましくは１個以下である。
反射防止フィルムの強度は、ＪＩＳＫ−６９０２に基づくテーバー磨耗試験における磨耗性は小さいほど好ましい。
また、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
【０１６６】
［反射防止膜の耐候性］
前記した「特定の酸化物」、「特定の複酸化物」から選ばれる無機化合物を高屈折率粒子として含有する高屈折率層を含む本発明の反射防止フィルムの、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−７−７：１９９９に基づく促進耐候性試験による耐候性について説明する。具体的には、１５０時間処理後の性能は、以下に示すような優れたものとなる。
即ち、上記の促進耐候性試験後のヘイズは耐候試験前のヘイズに対し、増加幅が１０％以内でありかつ最大のヘイズが３％を越えないものである。また、ＪＩＳ  Ｋ  ６９０２に基づくテーバー磨耗試験における磨耗量の増加幅は１０％以内であった。
更に、５０μｍ以上の大きさの輝度欠陥の数は、１平方メートル当たり２０個以下、好ましくは１０個以下である。
【０１６７】
［偏光板用保護フィルム］
本発明の反射防止フィルムを偏光膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、高屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下として、偏光膜との接着性を充分とすることが好ましい。
透明支持体としては、セルロースアシレートフィルムを用いることが特に好ましい。
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、下記２つの手法が挙げられる。
（１）鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の各層（例、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層等）を塗設する手法。
（２）透明支持体の一方の面に上記の各層（例、ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層など）を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理する手法。
【０１６８】
さらにまた、反射防止フィルムの偏光膜と貼り合わせる側の透明支持体の表面に鹸化処理液を塗布して、偏光膜と貼り合わせる側を鹸化処理することもできる。
【０１６９】
偏光板用保護フィルムは、光学性能（反射防止性能、防眩性能など）、物理性能（耐擦傷性など）、耐薬品性、防汚性能（耐汚染性など）、耐候性（耐湿熱性、耐光性）において、本発明の反射防止フィルムで記載した性能を満足することが好ましい。
【０１７０】
［表面処理］
透明支持体の表面の親水化処理は、公知の方法で行うことが出来る。例えば、コロナ放電処理、グロー放電処理、紫外線照射処理、火炎処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ処理等で該フィルム表面を改質する方法が挙げられる。これらについては、詳細が前記の公技番号２００１−１７４５の３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。
アルカリ液の中に透明支持体、または、反射防止フィルムを適切な時間浸漬或いはアルカリ液を塗布して鹸化処理するのが好ましい。アルカリ液および処理は、特開２００２−８２２２６号公報、ＷＯ０２／４６８０９号公報等に記載の内容が挙げられる。鹸化処理のフィルム表面の水に対する接触角が４５゜以下になるように実施することが好ましい。
偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
【０１７１】
［偏光板］
本発明の好ましい偏光板は、偏向膜の保護フィルム（偏光板用保護フィルム）の少なくとも一方に、本発明の反射防止フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、上記のように、高屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が４０°以下であることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室でのコントラストを改良し、上下左右の視野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。
［光学補償フィルム］
光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されているディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学補償層を有し、該ディスコティック化合物と支持体とのなす平均的な角度が層の深さ方向において変化していることを特徴とする光学補償フィルムが好ましい。
該角度は、各部分においてはゆらぎを持っているが、その平均角度はとしては光学異方性層の支持体面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
【０１７２】
［画像表示装置］
反射防止フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用することができる。反射防止フィルムは、反射防止フィルムの透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着する。
【０１７３】
本発明に用いる反射防止フィルム、および、偏光板は、 ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。
また、透過型または半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、市販の輝度向上フィルム（偏光選択層を有する偏光分離フィルム、例えば住友３Ｍ（株）製のＤ−ＢＥＦなど）と併せて用いることにより、さらに視認性の高い表示装置を得ることができる。
また、λ／４板と組み合わせることで、反射型液晶用の偏光板や、有機ＥＬディスプレイ用表面保護板として表面および内部からの反射光を低減するのに用いることができる。
【実施例】
【０１７４】
［実施例１-１］
（ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）の調製）
テトラメチロールメタンテトラアクリレート１２９６ｇおよびポリグリシジルメタクリレート（質量平均分子量：１．５×１０4）のメチルエチルケトン５３．２質量％溶液８０９ｇを、メチルエチルケトン９４３ｇおよびシクロヘキサノン８８０ｇの混合溶液に溶解した後、攪拌しながらイルガキュア１８４、４８．１ｇ、およびジ（ｔ−ブチルフェニル）ヨウドニウム・ヘキサフルオロフォスフェイト（Di（ｔ−butyl  phenyl）iodonium  hexafluoro  Phosphate）２４ｇを加えて１０分間攪拌した。この混合物を孔径０．５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層用組成物（ＨＣＬ−１）を調製した。
【０１７５】
（酸化物微粒子分散液（ＰＬ−１）の調製）
酸化アルミニウムとステアリン酸で表面処理した二酸化チタン微粒子（ＴＴＯ−５５Ｂ：酸化チタン含量７９〜８５％：石原産業（株）製）１００ｇ、下記構造の分散剤（Ｄ−１）２２ｇ、およびシクロヘキサノン２８５ｇを、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズ（ＹＴＺボール、（株）ニッカトー製）と共に、ダイノミルにより分散した。分散温度は３５〜４０℃で８時間実施した。２００メッシュのナイロン布でビーズを分離して、酸化物微粒子分散液（ＰＬ−１）を調製した。
得られた分散物の分散粒子径は、透過電子顕微鏡で測定した所、単分散性良好な平均粒径７５ｎｍの粒子であった。
また、分散物の粒度分布を測定した（レーザー解析・散乱粒子径分布測定装置ＬＡ−９２０．堀場製作所製）結果、粒径３００ｎｍ以上の粒子は０％であった。
【０１７６】
【化４】
2005122147.tif 000005
【０１７７】
（中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）の調製）
上記の酸化物微粒子分散液（ＰＬ−１）８８．９ｇに、メチルエチルケトン４５２．４ｇ、およびシクロヘキサノン１７５３．７ｇの混合溶媒を攪拌しながら加えた。次にＤＰＨＡ（多官能アクリレートモノマー、日本化薬（株）製）、５８．４ｇ、イルガキュア９０７、３．１ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１ｇ、メチルエチルケトン３０．０ｇ、およびシクロヘキサノン１１６．１ｇの混合溶媒を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用の塗布液（ＭＬ−１）を調製した。
【０１７８】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−１）の調製）
上記の酸化物微粒子分散液（ＰＬ−１）４００ｇに、メチルエチルケトン１９８．１ｇ、およびシクロヘキサノン７９２．４ｇの混合溶媒を攪拌しながら加えた。次にＤＰＨＡ、３７．５ｇ、イルガキュア９０７、２．０ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．５ｇ、メチルエチルケトン１８．７ｇ、およびシクロヘキサノン７４．６ｇの混合溶液を添加して攪拌した後、超音波分散を１０分間行った。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液（ＨＬ−１）を調製した。
【０１７９】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（オプスターＪＮ７２２８、固形分濃度６質量％、ＪＳＲ（株）製）を溶媒置換して、熱架橋性フッ素ポリマーの固形分濃度１０質量％のメチルイソブチルケトン溶液を得た。上記、熱架橋性フッ素ポリマー溶液５６．０ｇにシリカ微粒子のメチルエチルケトン分散液（ＭＥＫ−ＳＴ、固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製）８．０ｇ、下記シラン化合物を１．７５ｇ、およびメチルイソブチルケトン７３．０ｇ、シクロヘキサノン３３．０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して低屈折率層用の塗布液（ＬＬ−１）を調製した。
【０１８０】
（シラン化合物の調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１６１ｇ、シュウ酸  １２３ｇ、エタノール４１５ｇを加え混合したのち、７０℃で４時間反応させた後、室温まで冷却し、硬化性組成物として透明なシラン化合物を得た。
【０１８１】
（反射防止フィルムの作製）
超音波除塵器で、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）の塗布側表面を除電処理した上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−１）をグラビアコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。上記のハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液（ＭＬ−１）をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．６３、膜厚７０ｎｍ）を形成した。
中屈折率層の上に、高屈折率層用塗布液（ＨＬ−１）をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ/ｃｍ2、照射量５５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、高屈折率層（屈折率１．９０、膜厚１０７ｎｍ）を形成した。
高屈折率層の上に、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）をグラビアコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ/ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、１４０℃で２０分間加熱して、低屈折率層（屈折率１．４３、膜厚８６ｎｍ）を形成した。このようにして、反射防止フィルムを作製した。
上記において、塗布、乾燥工程は０．５μｍ以上の粒子として３０個／（立方メートル）以下の空気清浄度の空気雰囲気下で行われ、塗布直前に特開平１０−３０９５５３号公報に記載の清浄度の高い空気を高速で吹き付けて付着物をフィルム表面から剥離させ、近接した吸い込み口で吸引する方法で除塵を行いながら塗布を行った。除塵前のベースの帯電圧は、２００Ｖ以下であった。上記の塗布は１層毎に、送り出し−除塵−塗布−乾燥−（ＵＶまたは熱）硬化−巻き取りの各工程で行った。
【０１８２】
（表面凹凸形状の形成）
エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）に、下記内容のエンボス版（Ｈ−１）を装着し、線圧５００Ｋｇｆ／ｃｍ、プレ加熱温度９０℃、およびエンボスロール温度１６０℃の条件にて、上記の反射防止フィルムの片面にプレス操作を行い、防眩性フィルムを作製した。
なお、バックアップロール常温、搬送速度１ｍ／分の条件で行った。
〔エンボス版（Ｈ−１）〕
熱硬化処理した直径２０ｃｍ、幅１２ｃｍのＳ４５Ｃ材芯金ロールをケロシン加工液中に平均粒径１．５μｍのグラファイト粒子を３ｇ／Ｌ添加し、三菱電機社製型彫放電加工機ＥＡ８型を用いて、厚み０．５ｍｍの銅電極にてマイナスのコンデンサー放電加工し、算術平均粗さ（Ｒａ）０．３μｍ、平均凹凸周期（ＲＳｍ）２５μｍの表１に示されるエンボス版（Ｈ−１）を得た。
【０１８３】
（表面形状の評価）
得られた各フィルム表面の形状は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９４に基づいて、表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）、十点平均粗さ（Ｒｚ）、最大高さ（Ｒｙ）、および表面凹凸の平均間隔（Ｓｍ）を（株）ミツトヨ社製２次元粗さ計ＳＪ−４００型により評価した。但し、Ｒａ、ＲｚおよびＲｙは測定長４μｍ、Ｓｍの測定長は２０μｍとした。表面凹凸の均一性は、（Ｒａ／Ｒｚ）の比により算出した。凹凸プロファイルの傾斜角度分布は、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｅｘｐｌｏｒｅ ＳＸ−５２０ システム（菱化システム（株）製、干渉顕微鏡（ニコン製 ＭＭ-４０／６０シリーズ 対物レンズ：二光束干渉対物レンズ、ハロゲンランプ使用、ＣＣＤカメラ：６４０×４８０））のマイクロマップソフトを用いて測定した値である。表面形状に関する物性を表２に示した。
【０１８４】
［実施例１−２］
エンボス版を下記表１に記載されるＨ−２に変更した以外は、実施例１と同様にエンボス加工して、防眩性フィルムを作製した。表面形状に関する物性を表２に示した。
［実施例１−３］
エンボス版を下記表１に記載されるＨ−３に変更した以外は、実施例１と同様にエンボス加工して、防眩性フィルムを作製した。表面形状に関する物性を表２に示した。
【０１８５】
［比較例１−１］
エンボス版を下記表１に記載されるＨ−４に変更した以外は、実施例１と同様にエンボス加工して、防眩性フィルムを作製した。表面形状に関する物性を表２に示した。
［比較例１−２］
エンボス版を下記表１に記載されるＨ−５に変更した以外は、実施例１と同様にエンボス加工して、防眩性フィルムを作製した。表面形状に関する物性を表２に示した。
［比較例１−３］
エンボス版を下記表１に記載されるＨ−６に変更した以外は、実施例１と同様にエンボス加工して、防眩性フィルムを作製した。表面形状に関する物性を表２に示した。
【０１８６】
〔防眩フィルムの性能の評価〕
防眩性止フィルムの評価を下記方法で行い、結果を表３に示した。
（ヘイズの評価）
ヘイズメーター（ＮＨＤ−１００１ＤＰ、日本電色工業（株）製）を用いて、高屈折率層フィルムのヘイズを評価した。
（反射率の評価）
分光光度計（Ｖ−５５０、ＡＲＶ−４７４、日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定した。４５０〜６５０ｎｍの波長範囲における平均反射率を求めた。
（防眩性評価）
作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯（８０００ｃｄ／ｍ2）を映し、その反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
◎：蛍光灯の輪郭が全くわからない
○：蛍光灯の輪郭がわずかにわかる
△：蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる
×：蛍光灯がほとんどぼけない
（ギラツキ評価）
作製した防眩性フィルムを、１３３ｐｐｉ（１３３ｐｉｘｅｌｓ／ｉｎｃｈ）に模したセル上、距離１ｍｍの位置にフィルムを乗せ、ギラツキ（防眩性フィルムの表面凹凸が起因の輝度バラツキ）の程度を、以下の基準で目視評価した。
◎：全く〜ほとんどギラツキが見られない
○：わずかにギラツキがある
△：少しギラツキがある
×：ギラツキがはっきり認識できる
【０１８７】
（輝点異物の評価）
全層塗布した後のフィルムの裏面をマジックインキ等で黒塗りした後、塗膜上にある輝点欠陥の数を目視で判定した。目視で見える輝点欠陥のサイズは、５０μｍ以上である。輝点欠陥は、１平方メートルあたりの個数でカウントした。
（密着性の評価）
各反射防止フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。各反射防止フィルムの反射防止層を有する側の表面において、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて合計１００個の正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（ＮＯ．３１Ｂ）における密着試験を同じ場所で繰り返し３回行った。剥がれの有無を目視で観察し、下記の４段階評価を行った。
◎：１００升において剥がれが全く認められなかったもの
○：１００升において剥がれが認められたものが２升以内のもの
△：１００升において剥がれが認められたものが１０〜３升のもの
×：１００升において剥がれが認められたものが１０升をこえたもの
【０１８８】
（耐擦傷性の評価）
反射防止フィルムにおいて、＃００００のスチルウールに２００ｇ／ｃｍ2の荷重をかけ、１０往復したときの傷の状態を観察して、以下の基準で評価した。
◎：傷が全くつかない
○：傷がわずかにつくが、目立たない
△：明確に見える傷がつく
×：明確に見える傷が顕著につく
（鉛筆硬度の評価）
高屈折率層フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ６００６が規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にて以下の内容で目視評価した。
○：ｎ＝５の評価において傷が全く認められない
△：ｎ＝５の評価において傷が１または２つ
×：ｎ＝５の評価において傷が３つ以上
（質感）
１０ｃｍ四方のガラス板の両面に偏光フィルムをクロスニコル配置で貼り合せ、さらに片面にエンボス面を上にして防眩性フィルムを貼り付けた。１００Ｗの白色電球から２ｍ離した位置でエンボス面を観察し、質感について以下のランク付けを行った。
ランク５：反射光の強度が視覚的に均一で、しっとりした質感である
ランク１：反射光の強度が視覚的にばらついており、ざらざらした質感である
予めランク５と１の両極端を定め、この間のランクは相対評価した。
【０１８９】
【表１】
2005122147.tif 000006
【０１９０】
【表２】
2005122147.tif 000007
【０１９１】
【表３】
2005122147.tif 000008
【０１９２】
実施例１−１〜１−３及び比較例１−１〜１−３の反射防止層の膜厚の変動幅は、何れの試料も±２．５％以内であった。
実施例１−１〜１−３は、光学特性、膜の密着性、強度の何れも良好であった。更に防眩性、ギラツキ感、質感とも良好であった。一方、比較例１−１〜１−３は、防眩性とギラツキ感の両特性をともに良好とすることが出来なかった。
以上のように、本発明の反射防止フィルムは良好な性能を示した。
【０１９３】
実施例２−１および実施例２−２
（ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−２）の調製）
トリメチロールプロパントリアクリレート１２９６ｇ、および下記構造の重合性化合物のメチルエチルケトン５３．２質量％溶液８０９ｇを、メチルエチルケトン９４３ｇおよびシクロヘキサノン８８０ｇの混合溶液に溶解した後、攪拌しながらイルガキュア１８４、４８．１ｇ、および下記構造の開始剤（Ｉ−２）２４ｇを加えて１０分間攪拌した。この混合物を孔径０．５μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、ハードコート層用組成物（ＨＣＬ−２）を調製した。
【０１９４】
【化５】
2005122147.tif 000009
【０１９５】
【化６】
2005122147.tif 000010
【０１９６】
（ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−３）の調製）
ウレタンアクリレートオリゴマーＵＶ−６３００Ｂ（日本合成化学工業（株）製）２５０ｇ、下記構造の重合性化合物、７５ｇ、イルガキュア９０７、７．５ｇ、カヤキュアーＤＥＴＸ、５．０ｇ、および下記構造の開始剤（Ｉ−３）３ｇを、メチルエチルケトン１９２．５ｇおよびシクロヘキサノン１２８．３ｇの混合溶液に溶解した。混合物を攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層の塗布液（ＨＣＬ−３）を調製した。
【０１９７】
【化７】
2005122147.tif 000011
【０１９８】
【化８】
2005122147.tif 000012
【０１９９】
（ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−４）の調製）
多官能アクリレートモノマー（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）４３６．９ｇ、イルガキュア９０７（日本化薬（株）製）１３．１ｇを、メチルエチルケトン３３０ｇおよびシクロヘキサノン２２０ｇの混合溶液に溶解した。混合物を攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層の塗布液（ＨＣＬ−４）を調製した。
【０２００】
（酸化物微粒子分散液（ＰＬ−２）の調製）
二酸化チタン粒子の作製：特開平５−３３０８２５号公報の実施例（段落番号［００１４］の３〜１７行）に基づいて、鉄（Ｆｅ）を塩化コバルト(III)に変更した以外は同公報と同様にして、二酸化チタン粒子の中にコバルトをドープしたコバルト含有の二酸化チタン微粒子（Ｐ−２）を作製した。コバルトのドープ量は、Ｔｉ／Ｃｏ（質量比）で、９８．５／１．５となるようにした。
作製した二酸化チタン粒子は、ルチル型の結晶構造が認められ、１次粒子の平均粒子サイズが４０ｎｍ、比表面積が３８ｎｍ、比表面積が４４ｍ2／ｇであった。
酸化物微粒子分散液の作製：上記酸化物微粒子（Ｐ−２）１００ｇ、下記構造の高分子分散剤（Ｄ−２）２０ｇ、およびシクロヘキサノン３６０ｇを添加して、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズと共にダイノミルにより分散した。分散温度は３５〜４０℃で５時間実施した。３００ｎｍ以上の粒子径が０％の平均径５５ｎｍの酸化物微粒子分散液（ＰＬ−２）を調製した。
【０２０１】
【化９】
2005122147.tif 000013
【０２０２】
（酸化物微粒子分散液（ＰＬ−３）の調製）
二酸化チタン粒子の作製：特開平５−３３０８２５号公報の実施例（段落番号［００１４］の３〜１７行）に基づいて、鉄（Ｆｅ）を硝酸ジルコニル（ZrO(NO3)2）に変更した以外は同様にして、二酸化チタン粒子の中にジルコニウムをドープしたジルコニウム含有の二酸化チタン微粒子（Ｐ−３）を作製した。ジルコニウムのドープ量は、Ｔｉ／Ｚｒ（質量比）で、９７．５／２．５となるようにした。
作製した二酸化チタン粒子は、ルチル型の結晶構造が認められ、１次粒子の平均粒子サイズが４０ｎｍ、比表面積が３９ｍ2／ｇであった。
酸化物微粒子分散液の作製：上記酸化物微粒子（Ｐ−３）１００ｇに、下記分散剤（Ｄ−３）１８ｇ、およびシクロヘキサノン３０３ｇを添加して、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用いてダイノミルにより分散した。分散温度は４０〜４５℃で分散時間６時間実施し酸化物微粒子分散液（ＰＬ−３）を調製した。得られた分散物の分散粒子の平均径は５５ｎｍで、３００ｎｍ以上の粒子は０％であった。
【０２０３】
【化１０】
2005122147.tif 000014
【０２０４】
（酸化物微粒子分散液（ＰＬ−４）の調製）
二酸化チタン粒子の作製：特開平５−３３０８２５号公報の実施例（段落番号［００１４］の３〜１７行）に基づいて、塩化コバルト(III)と塩化アルミニウムをドープしたコバルト，アルミニウム含有の二酸化チタン微粒子（Ｐ−４）を作製した。コバルトとアルミニウムのドープ量は、Ｔｉ／Ｃｏ／Ａｌ（質量比）で、９７．５／１．２５／１．２５となるようにした。
作製した二酸化チタン粒子は、ルチル型の結晶構造が認められ、１次粒子の平均粒子サイズが４０ｎｍ、比表面積が３９ｍ2／ｇであった。
酸化物微粒子分散液の作製：上記酸化物微粒子（Ｐ−４）１００ｇに、下記分散剤（Ｄ−４）２２ｇ、およびシクロヘキサノン３６６ｇを添加して、粒径０．1ｍｍのジルコニアビーズを用いてダイノミルにより分散した。分散温度は４０〜４５℃で分散時間６時間実施し酸化物微粒子分散液（ＰＬ−４）を調製した。得られた分散物の分散粒子の平均径は５５ｎｍで、３００ｎｍ以上の粒子は０％であった。
【０２０５】
【化１１】
2005122147.tif 000015
【０２０６】
（酸化物微粒子分散液（ＰＬ−５）の調製）
二酸化チタン粒子の作製：特開平５−３３０８２５号公報の実施例（段落番号［００１４］の３〜１７行）に基づいて、二酸化チタン粒子の中にコバルトをドープし、水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（Ｐ−５）を作製した。
コバルトのドープ量は、Ｔｉ／Ｃｏ（質量比）で、９８．５／１．５となるようにした。
作製した二酸化チタン粒子は、ルチル型の結晶構造が認められ、１次粒子の平均粒子サイズが４０ｎｍ、比表面積が３８ｎｍ、比表面積が４４ｍ2／ｇであった。
酸化物微粒子分散液の作製：酸化物微粒子Ｐ−２をＰ−５に変更した以外はＰＬ−２と同様にして３００ｎｍ以上の粒子径が０％の平均径５５ｎｍの酸化物微粒子分散液（ＰＬ−５）を調製した。
【０２０７】
（酸化物微粒子分散液（ＰＬ−６）の調製）
コバルトイオンドープ（ドープ量４質量％）のＴｉおよびＴａから成る複合酸化物［Ｔｉ／Ｔｉ＋Ｔａ＝０．８モル比］微粒子（Ｐ−６）９２ｇ、下記構造のシリル化合物３１ｇおよびシクロヘキサノ３３７ｇの混合物をサンドミル（１／４Ｇのサンドミル）にて６時間微細分散した。メディアは０．２ｍｍΦのジルコニアビーズを１４００ｇ用いた。ここに１Ｎ塩酸０．１ｇを添加し、窒素雰囲気下で８０℃に昇温した、更に４時間攪拌した。得られた表面処理したドープ複合酸化物微粒子（ＰＬ−６）の粒径は６０ｎｍ、３００ｎｍ以上の粒子は０％だった。
【０２０８】
【化１２】
2005122147.tif 000016
【０２０９】
（酸化物微粒子分散液（ＰＬ−７）の調製）
チタン、ビスマスおよびジルコニウムからなる複合酸化物［Ｂｉ／Ｂｉ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＝０．０８モル比、Ｚｒ／Ｂｉ＋Ｔｉ＋Ｚｒ＝０．０５モル比］（Ｐ−７）１００ｇに、下記分散剤（Ｄ−７）２５ｇ、およびシクロヘキサノン３７５ｇを添加して、粒径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用いてダイノミルにより分散した。分散温度は４０〜４５℃で分散時間６時間実施し複合酸化物微粒子分散液（ＰＬ−７）を調製した。得られた分散物の分散粒子の平均径は７５ｎｍで、３００ｎｍ以上の粒子は０％であった。
【０２１０】
【化１３】
2005122147.tif 000017
【０２１１】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２）の調製）
シクロヘキサノン１９３ｇおよびメチルエチルケトン６２３ｇに、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．７ｇおよび反応性シリコーン（Ｘ-２２-１６４Ｃ、信越化学工業（株）製）１．７ｇを溶解した。さらに、下記の含フッ素共重合体の１８．４質量パーセントのメチルイソブチルケトン溶液１８２ｇを添加、撹拌の後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ-０３）で濾過して、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２）を調製した。
【０２１２】
【化１４】
2005122147.tif 000018
【０２１３】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ−３）の調製）
シクロヘキサノン１９３ｇおよびメチルエチルケトン６２３ｇに、多官能性アクリレートモノマー（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）１．７ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバガイギー社製）１．７ｇおよび反応性シリコーン（Ｘ-２２-１６４Ｃ、信越化学工業（株）製）１．７ｇを溶解した。さらに、含フッ素共重合体（化１４）の１８．４質量パーセントのメチルイソブチルケトン溶液１８２ｇを添加、撹拌の後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ-０３）で濾過して、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２）を調製した。
【０２１４】
（低屈折率層用塗布液（ＬＬ-４）の調製）
〔ゾル液ａの調製〕
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン119部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ５１０３、信越化学工業（株）製）１０１部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３部を加え混合したのち、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
【０２１５】
〔中空シリカ分散液ａの調製〕
中空シリカ微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製  、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１、特開２００２−７９６１６の調製例４に準じサイズを変更して作成）５００部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）３０部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５部加え混合した後に、イオン交換水を９部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８部を添加した。この分散液５００ｇにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調製し２０質量％にしたときの粘度は２５℃で５ｍＰａ・ｓであった。得られた分散液Ａ−１のイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、１．５％であった。
【０２１６】
〔ＬＬ−４の調製〕
シクロヘキサノン８．５ｇおよびメチルエチルケトン５９３．９ｇに、熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液であるＪＴＡ−１１３（固形分６％、ＪＳＲ(株)製）を９３３．３gを溶解させた。さらに、上記中空シリカ分散液ａ１９５ｇ、ゾル液ａ１２．７gの順に添加、撹拌の後、孔径３μｍのポリプロピレン製フィルター（ＰＰＥ−０３）で濾過して、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−４）を調製した。
【０２１７】
[実施例２−１]
（中屈折率層用塗布液（ＭＬ−２）の調製）
上記の酸化物微粒子分散液（ＰＬ−２）８８．９ｇに、多官能性アクリレートＤＰＨＡ、５８．４ｇ、イルガキュア９０７、３．１ｇ、カヤキュアーＤＥＴＸ、１．１ｇ、メチルエチルケトン４８２．４ｇ、およびシクロヘキサノン１８６９．８ｇを添加して攪拌した。超音波分散を１０分間行った後、孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用の塗布液を（ＭＬ−２）調製した。
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−２）の調製）
上記の酸化物微粒子分散液（ＰＬ−２）５００ｇに、メチルエチルケトン２０４．４ｇ、およびシクロヘキサノン８１７．６ｇの混合溶媒を攪拌しながら加えた。次にＤＰＨＡ、３７．５ｇ、イルガキュア９０７、２．５ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．８ｇ、メチルエチルケトン１９ｇ、およびシクロヘキサノン７６．２ｇの混合溶液を添加して攪拌した後、超音波分散を１０分間行った。孔径０．４μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液（ＨＬ−２）を調製した。
【０２１８】
（反射防止フィルムの作製）
前記のトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ−８０ＵＦ）上に、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−２）をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、１２０℃で乾燥した。次に酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液（ＭＬ−２）をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、中屈折率層（屈折率１．６７、膜厚７０ｎｍ）を形成した。
中屈折率層の上に、高屈折率層用塗布液（ＨＬ−２）をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．９５、膜厚１０５ｎｍ）を形成した。この上に、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−２）をグラビアコーターを用いて塗布した。８０℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、照度５５０ｍＷ/ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層（屈折率１．４３、膜厚８６ｎｍ）を形成した。
（フィルム表面形状の形成）
エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）に表１に記載のエンボス版Ｈ−２を装着し、線圧５００Ｋｇｆ／ｃｍ、プレ加熱温度７０℃、エンボスロール温度１４０℃、バックアップロール常温、搬送速度５ｍ／分の条件で、上記の反射防止フィルムの片面にプレス操作を行い、防眩性フィルムを作製した
【０２１９】
実施例２−２
実施例２−１の高屈折率層用の酸化物微粒子分散物（ＰＬ−２）の代わりに、実施例１−１で用いた酸化物微粒子分散物（ＰＬ−１）を同量用いた他は、実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製した。次に、このフィルムを実施例２−１と同じ条件でエンボス加工を行い防眩フィルムを作製した。
【０２２０】
（反射防止フィルムの評価）
各試料について、実施例１と同様にして各評価項目を評価した。その結果、高屈折率層フィルム、および反射防止フィルムのいずれもが実施例１と同等以上の良好な性能を示した。
更に下記の耐候試験を行った。
（耐候性試験の条件）
サンシャインウエザーメーター（ＳＸ−７５、スガ試験機（株）製）を用いて、サンシャインカーボンアーク灯、放射照度１５０Ｗ/ｍ2、相対湿度５０％、１００、１５０時間の条件で耐候試験を行った。
試験後の各試料について、実施例１の評価方法と同様にして評価した。その結果を表４、５に記載した。
【０２２１】
【表４】
2005122147.tif 000019
【０２２２】
【表５】
2005122147.tif 000020
【０２２３】
実施例２−１及び２−２の各フィルムの光学特性及び機械的特性は、実施例１と同等の良好な性能をしめした。更に両フィルムの耐候試験後の性能を調べた所、実施例２−２はより長時間の経時でも良好な結果を示した。
【０２２４】
［実施例２−３〜実施例２−１０］及び比較例２
［実施例２−３〜実施例２−１０］
（中屈折率層用塗布液（ＭＬ−３〜７）／高屈折率層用塗布液（ＨＬ−３〜７）の調製）
実施例２−１において、酸化物微粒子分散液（ＰＬ−２）の代わりに、各酸化物微粒子分散液（ＰＬ−３〜７）を用いた他は、実施例２−１と同様にして、中屈折率層用塗布液（ＭＬ−３〜７）／高屈折率層用塗布液（ＨＬ−３〜７）を調液した。
表６に示すように、ハードコート層用塗布液／中屈折率層用塗布液／高屈折率層用塗布液／低屈折率層用塗布液を使用し、実施例２−１と同様にして防眩フィルムを作製した。
【０２２５】
[比較例２]
実施例２−３において、ハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−２）の代わりにハードコート層用塗布液（ＨＣＬ−４）を用いた他は実施例２−３と同様にして防眩性フィルムを作製した。
各試料について、実施例２−１と同様にして得られた防眩フィルムの表面形状および各評価項目を測定、評価した。その結果を表６および７に示した。
【０２２６】
【表６】
2005122147.tif 000021
【０２２７】
【表７】
2005122147.tif 000022
【０２２８】
表７に示される結果より、防眩性反射防止フィルムのいずれもが実施例２−１と同等に良好な性能を示した。実施例２−５、２−９、２−１０は特に表面処理を行ったコバルト含有の二酸化チタン粒子により耐候性に優れることがわかる。一方、比較例２は防眩性が不足し、実用に供しえるものではなかった。
【０２２９】
［実施例３］
（ハードコート層分散液（ＨＣＬ−５）の調製）
多官能性アクリレートモノマーＤＰＨＡ、１２５ｇ、下記構造の重合性化合物、７５ｇ、ウレタンアクリレートオリゴマーＵＶ−６３００Ｂ（日本合成化学工業（株）製）１２５ｇ、イルガキュア９０７、７．５ｇ、カヤキュアーＤＥＴＸ、５．０ｇ、および下記構造の開始剤（Ｉ−４）３ｇを、メチルエチルケトン１９２．５ｇおよびシクロヘキサノン１２８．３ｇの混合溶液に溶解した。混合物を攪拌した後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層の塗布液（ＨＣＬ−５）を調製した。
【０２３０】
【化１５】
2005122147.tif 000023
【０２３１】
【化１６】
2005122147.tif 000024
【０２３２】
（酸化物微粒子分散液（ＰＬ−８）の調製）
ドープによりＣｏイオンを３質量％含有するＴｉとＺｒの複酸化物［Ｔｉ／Ｔｉ＋Ｚｒ＝０．８０質量比（酸化物換算）］微粒子（Ｐ−８）２１８ｇに、下記構造の分散剤（Ｄ−８）３８．６ｇ、重合禁止剤ｔ−ブチルヒドロキノン０．５ｇ、およびメチルイソブチルケトン７０２ｇを添加してダイノミルにより分散し、質量平均径６５ｎｍの高屈折率複酸化物微粒子分散液（ＰＬ−８）を調製した。得られた表面処理した酸化物微粒子の粒径は３５ｎｍだった。また、1００ｎｍ以上の粒子は０％であった。
【０２３３】
【化１７】
2005122147.tif 000025
【０２３４】
（高屈折率層用塗布液（ＨＬ−８）の調製）
メチルセロソルブ６５ｇ、テトラエトキシシラン２０ｇ、メチルトリメトキシシラン２６ｇおよび３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン５４ｇを加え、液温を５〜１０℃に保ち、攪拌しながら０．０１規定の塩酸３６．８ｇを３時間で滴下した。滴下終了後、０．５時間攪拌を行い、シリル化合物の部分加水分解物を得た。つぎに上記酸化物微粒子分散液（ＰＬ−８）（濃度は２６．７質量％）３７４．５ｇ、ペンタエリスリトールテトラアクリレート１１．８ｇ、硬化剤としてジルコニウムアセチルアセトネート２．２ｇ、シュウ酸０．５ｇ、イルガキュア９０７、０．６ｇ、カヤキュア−ＤＥＴＸ０．４ｇを、前述のシリル化合物の部分加水分解物５７．１ｇに加え、十分に攪拌した後でろ過を行って高屈折率層用塗布液（ＨＬ−８）を調製した。
【０２３５】
（反射防止フィルムの作製）
セルロースアシレートフィルムを、特開２００１−１５１９３６号公報の実施例１記載の方法で膜厚８０μｍのフィルムを作製した。この透明支持体の上に上記のハードコート層塗布液を塗布・乾燥し、次に実施例２−１に記載の中屈折率層を形成した。中屈折率層の上に、高屈折率層用塗布液（ＨＬ−８）をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度５５０ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射、その後温度１００℃で２０分間加熱して塗布層を硬化させ、高屈折率層（屈折率１．９４、膜厚１００ｎｍ）を形成した。この上に低屈折率層用塗布液を＃３のワイヤーバーを用いて塗布し、１２０℃で１時間乾燥して、反射防止フィルム低屈折率層の上に、上記オーバーコート層用塗布液を＃３のワイヤーバーを用いて塗布し、１２０℃で１時間乾燥して、反射防止膜を作成した。
（表面形状の形成）
エンボシングカレンダー機（由利ロール（株）製）に下記内容のエンボス版Ｈ−３を装着し、線圧５００Ｋｇｆ／ｃｍ、プレ加熱温度７０℃、エンボスロール温度１４０℃、バックアップロール常温、搬送速度３ｍ／分の条件で、上記の反射防止フィルムの片面にプレス操作を行い、防眩性フィルムを作製した。得られた防眩フィルムの表面形状は、表８記載の通りであった。また、実施例２と同様にしてフィルムの性能を評価した結果を表９に示した。表９に示される結果から実施例２と同等の良好な性能を示すことが分かる。
【０２３６】
【表８】
2005122147.tif 000026
【０２３７】
【表９】
2005122147.tif 000027
【０２３８】
［実施例４］
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した各本発明の防眩性反射防止フィルムを装着した画像表示装置は、防眩性と反射防止性能に優れ、ギラツキや白ボケ等のない極めて視認性が優れた性能を示した。
【０２３９】
［実施例５］
（偏光板用保護フィルムの作製）
実施例１，実施例２−１〜２−７、９、１０および実施例３で作製した防眩性反射防止フィルムにおいて、本発明の反射防止層を有する側とは反対側の透明支持体の表面を、水酸化カリウム５７質量部、プロピレングリコール１２０質量部、イソプロピルアルコール５３５質量部、および２８８水質量部からなるアルカリ溶液を４０℃に保温した鹸化液を塗布して鹸化処理した。
鹸化処理した透明支持体表面のアルカリ溶液を、水で十分に洗浄した後、１００℃で十分に乾燥させた。このようにして、偏光板用保護フィルムを作製した。
（偏光板の作製）
膜厚７５μｍのポリビニルアルコールフィルム（（株）クラレ製）を水１０００ｇ、ヨウ素７ｇ、ヨウ化カリウム１０．５ｇからなる水溶液に５分間浸漬し、ヨウ素を吸着させた。次いで、このフィルムを４質量％ホウ酸水溶液中で、４．４倍に縦方向に１軸延伸をした後、緊張状態のまま乾燥して偏光膜を作製した。
接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に本  発明の反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には上記と同様にして鹸化処理したセルロースアシレートフィルム：ＴＤ−８０ＵＦを同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ，ＳＴＮ，ＩＰＳ，ＶＡ，ＯＣＢのモードの透過型、反射型、または、半透過型の液晶表示装置は、反射防止性能に優れ、極めて視認性が優れていた。
【０２４０】
［実施例６］
（偏光板の作製）
光学補償フィルム（ワイドビューフィルム  Ａ  １２Ｂ、富士写真フイルム（株）製）において、光学補償層を有する側とは反対側の表面を実施例４と同様の条件で鹸化処理した。
実施例４で作製した偏光膜に、接着剤としてポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の一方の面に、実施例４で作製した反射防止フィルム（偏光板用保護フィルム）の鹸化処理したトリアセチルセルロース面を貼り合わせた。さらに、偏光膜のもう片方の面には鹸化処理した光学補償フィルムのトリアセチルセルロース面を同じポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合わせた。
（画像表示装置の評価）
このようにして作製した本発明の偏光板を装着したＴＮ，ＳＴＮ，ＩＰＳ，ＶＡ，ＯＣＢのモードの透過型、反射型、または、半透過型の液晶表示装置は、光学補償フィルムを用いていない偏光板を装着した液晶表示装置よりも明室でのコントラストに優れ、上下左右の視野角が非常に広く、更に、反射防止性能に優れ、極めて視認性と表示品位が優れていた。
本明細書中に詳記した、特定元素から成る複合酸化物微粒子を含有する高屈折率層を作製することにより、耐候性（特に、耐光性）に優れた反射防止フィルムを安価で大量に提供することができる。
更に、これらにより上記特徴を保持した偏光板、画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２４１】
【図１】反射防止フィルム最表面の凹凸プロファイルの傾斜角を測定する方法を説明するための説明図である。
【図１】
2005122147.tif 000029