(57)【要約】    【課題】  長時間の使用でも近赤外線の遮蔽性が低下したり、可視領域に特定の吸収が現れ、着色もしくは変色して見える等の問題が解消された光学フィルタで、特に耐光性に優れた光学フィルタを提供する。    【解決手段】  少なくとも透明基材２、近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素を透明バインダ樹脂中に含有する近赤外線吸収層３、紫外線吸収層４を備える光学フィルタ１であって、３８０ｎｍより下の領域の全ての波長において光線透過率が３０％以下の光学フィルタとなるように、紫外線吸収層４を設ける。【選択図】  図１
2005148283.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも透明基材、近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素を透明バインダ樹脂中に含有する近赤外線吸収層、紫外線吸収層を備える光学フィルタであって、
３８０ｎｍより下の領域の波長の全てにおいて光学フィルタの光線透過率が３０％以下であることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
前記近赤外線吸収色素が次の一般式（１）で表されるジインモニウム系化合物であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルタ。
【化１】
2005148283.tif 000005
（式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基から選ばれたアルキル基、Ｘは１価又は２価の陰イオン、ｎは、Ｘが１価の陰イオンである場合は１であり、２価の陰イオンである場合は１／２である。）
【請求項３】
前記一般式（１）におけるＸが、ビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオンである請求項２に記載の光学フィルタ。
【請求項４】
前記透明バインダ樹脂の水酸基価が１０以下であることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項５】
前記透明バインダ樹脂の酸価が１０以下であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項６】
前記透明バインダ樹脂のガラス転移温度が８０℃〜１５０℃であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項７】
前記光学フィルタが電磁波遮蔽層を備えていることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項８】
前記光学フィルタが防汚層を備えていることを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項９】
前記光学フィルタが粘着剤層を備えていることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１０】
前記光学フィルタが反射防止層を備えていることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１１】
前記光学フィルタが防眩層を備えていることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１２】
請求項１乃至１１の何れか１項に記載の光学フィルタがディスプレイの観察側に配置されていることを特徴とするディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近赤外線遮蔽性を備えた光学フィルタに関するものである。また、本発明はそのような光学フィルタを備えたディスプレイ、特にプラズマディスプレイに関するものでもある。
【背景技術】
【０００２】
電気的、もしくは電子的な装置が発生した電磁波は、他の装置に悪影響を与えたり、また、人体や動物に対して影響を与えることがあると言われている。一例として、プラズマディスプレイ（以降、ＰＤＰと略記することがある。）からは、３０ＭＨｚ〜１３０ＭＨｚの周波数の電磁波が発生するため、周囲にあるコンピュータ、もしくはコンピュータ利用機器に影響を与えることがあり、発生する電磁波をできるだけ外部に洩らさないことが望まれている。
【０００３】
ＰＤＰはまた、放電ガスにネオンとキセノンの混合ガスを用いているため、波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの近赤外線を放出し、この近赤外線は、近赤外線を利用した各種機器、例えば、家庭電気製品のリモートコントローラや、パソコンやコードレス電話等の近赤外線を利用した通信機器の誤作動を引き起こす恐れがあるとされており、この点でも改善が望まれている。
【０００４】
従来、上記のような改善を行なうものとして、透明な基材フィルム上に、接着剤もしくは粘着剤、金属薄膜のメッシュ、およびメッシュの凹凸面を平坦化する平坦化層を順に積層し、これらの内の接着剤もしくは粘着剤、または平坦化層に、可視光及び／又は近赤外の特定の波長を吸収する吸収剤を含有させた電磁波遮蔽用部材が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
また、近赤外線吸収能を有する色素を用い、コーティング法やキャスト法で得たフィルムも知られている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００６】
特許文献１に記載された電磁波遮蔽用部材は、金属薄膜のメッシュを有するので、電磁波遮蔽性を有し、また、可視光及び／又は近赤外の特定の波長を吸収する吸収剤を含有するので、近赤外線遮蔽性も有しており、ディスプレイの色バランス、外光を吸収することによるコントラストの向上も可能とされている。また特許文献２に記載されたフィルムは、近赤外線吸収能を有する色素を用いて、コーティング法やキャスト法により、近赤外線遮蔽性を有するフィルムを得るものである。
【０００７】
しかしながら、上記のいずれの従来技術においても、長時間の使用で近赤外線の遮蔽性が低下したり、可視領域に特定の吸収が現れ、着色もしくは変色して見える等の問題がある。さらに、これらの問題を解決しようとする場合、本来的に備えなければならない点として、近赤外線吸収層や金属メッシュが見えてはならないこと（非視認性）、透明性（ヘイズ）が高いこと、可視領域での透過率（視感透過率）が高いこと、および近赤外領域での遮蔽性（近赤外線透過率）があること等が挙げられる。
【０００８】
更に特許文献３の光学フィルタでは、近赤外線吸収層の片面もしくは両面にほぼ３５０ｎｍより下の波長の紫外線をカットする紫外線遮蔽層を設けることにより色素の経時劣化を抑制することが可能とされているが、このことは全ての近赤外線吸収層を有する光学フィルタに当てはまることではなく、ほぼ３５０ｎｍより下の波長の紫外線をカットする紫外線遮蔽層を設けても本発明で使用する近赤外線吸収色素を用いた場合、満足のいく耐久性を有する光学フィルタを得ることができない。
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−３１１８４３号公報
【特許文献２】特開平１１−１１６８２６号公報
【特許文献３】特開平１１−２４９５７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、長時間の使用でも近赤外線の遮蔽性が低下したり、可視領域に特定の吸収が現れ、着色もしくは変色して見える等の問題が解消された光学フィルタで、特に耐光性に優れた光学フィルタを提供することを課題とする。さらに本発明は、上記の課題が解消された上で、種々の機能が付加された光学フィルタを提供することも課題とし、これらの光学フィルタが適用されたディスプレイ、特にプラズマディスプレイを提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、上記課題を解決するために検討を重ねた結果、少なくとも透明基材、近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素を透明バインダ樹脂中に含有する近赤外線吸収層、紫外線吸収層を備える光学フィルタであって、３８０ｎｍより下の領域の全ての波長において光線透過率が３０％以下の光学フィルタとなるように、紫外線吸収層を設けることによって、上記課題が解決できることが判明した。本発明は該基本発明を第１の発明として、さらに、以下のような事項を内容とする各発明を含む。
【００１２】
本発明の第２の発明は、第１の発明において、前記近赤外線吸収色素が次の一般式（１）で表されるジインモニウム系化合物であることを特徴とする光学フィルタである。
【００１３】
【化１】
2005148283.tif 000003
【００１４】
（式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基から選ばれたアルキル基、Ｘは１価又は２価の陰イオン、ｎは、Ｘが１価の陰イオンである場合は１であり、２価の陰イオンである場合は１／２である。）
本発明の第３の発明は、第２の発明において、上記一般式（１）におけるＸが、ビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオンである光学フィルタである。
【００１５】
本発明の第４の発明は、第１〜第３いずれかの発明において、前記透明バインダ樹脂の水酸基価が１０以下であることを特徴とする光学フィルタである。
【００１６】
本発明の第５の発明は、第１〜第４いずれかの発明において、前記透明バインダ樹脂の酸価が１０以下であることを特徴とする光学フィルタである。
【００１７】
本発明の第６の発明は、第１〜第５いずれかの発明において、透明バインダ樹脂のガラス転移温度が８０℃〜１５０℃であることを特徴とする光学フィルタである。
【００１８】
本発明の第７の発明は、第１〜第６いずれかの発明において、光学フィルタが電磁波遮蔽層を備えていることを特徴とする光学フィルタである。
【００１９】
本発明の第８の発明は、第１〜第７いずれかの発明において、光学フィルタが防汚層を備えていることを特徴とする光学フィルタである。
【００２０】
本発明の第９の発明は、第１〜第８いずれかの発明において、光学フィルタが粘着剤層を備えていることを特徴とする光学フィルタである。
【００２１】
本発明の第１０の発明は、第１〜第９いずれかの発明において、光学フィルタが反射防止層を備えていることを特徴とする光学フィルタである。
【００２２】
本発明の第１１の発明は、第１〜第１０いずれかの発明において、光学フィルタが防眩層を備えていることを特徴とする光学フィルタである。
【００２３】
本発明の第１２の発明は、第１〜第１１いずれかの発明の光学フィルタがディスプレイの観察側に配置されていることを特徴とするプラズマディスプレイである。
【発明の効果】
【００２４】
請求項１の発明によれば、光学フィルタの３８０ｎｍより下の領域の全ての波長において光学フィルタの光線透過率が３０％以下であるとすることにより、近赤外線吸収層にこの領域の紫外線が入射しない様にしたことから、耐光性に優れた光学フィルタを提供することができる。
【００２５】
請求項２および請求項３の発明によれば、請求項１の発明の効果に加え、近赤外線吸収色素が上記一般式（１）で表されるジインモニウム系化合物であり、さらにその対イオンがビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオンであるため、長時間の使用でも経時的に安定な近赤外線吸収機能を有する光学フィルタを提供することができる。
【００２６】
請求項４の発明によれば、請求項１〜請求項３のいずれかの発明の効果に加え、近赤外線吸収層を構成する透明バインダ樹脂として水酸基価が１０以下のものを用いたので、近赤外線吸収層中の近赤外線吸収色素が、透明バインダ樹脂が有する水酸基と反応することを防止でき、長時間の使用でも経時的に安定な近赤外線吸収機能を有する光学フィルタを提供することができる。
【００２７】
請求項５の発明によれば、請求項１〜請求項４のいずれかの発明の効果に加え、透明バインダ樹脂として酸価が１０以下のものを用いたので、近赤外線吸収色素が、透明バインダ樹脂が有する酸と反応することを防止でき、長時間の使用でも経時的に安定な近赤外線吸収機能を有する光学フィルタを提供することができる。
【００２８】
請求項６の発明によれば、請求項１〜請求項５のいずれかの発明の効果に加え、透明バインダ樹脂のガラス転移温度の範囲を、通常の使用条件以上に規定したので、近赤外線吸色素どうし、もしくは近赤外線吸収色素と周囲の透明バインダ樹脂との反応を抑制することができ、実用上、十分な耐熱性を有する光学フィルタを提供することができる。
【００２９】
請求項７の発明によれば、請求項１〜請求項６のいずれかの発明の効果に加え、電磁波遮蔽層が積層されたことにより、適用される対象の電気的装置、電子的装置から発生する電磁波を遮蔽可能な光学フィルタを提供することができ、特に、プラズマディスプレイに適用するのに最適である。
【００３０】
請求項８の発明によれば、請求項１〜請求項７のいずれかの発明の効果に加え、防汚層が積層されたことにより、ごみや汚染物質が付着するのを防止でき、付着しても除去が容易な光学フィルタを提供することができる。
【００３１】
請求項９の発明によれば、請求項１〜請求項８のいずれかの発明の効果に加え、粘着剤を有することにより、適用面への貼り付けが容易な光学フィルタを提供することができる。
【００３２】
請求項１０の発明によれば、請求項１〜請求項９のいずれかの発明の効果に加え、反射防止層が積層されたことにより、積層された面における不要な光の反射を防止でき、画像、映像のコントラストを向上させることが可能な光学フィルタを提供することができる。
【００３３】
請求項１１の発明によれば、請求項１〜請求項１０のいずれかの発明の効果に加え、防眩層が積層されたことにより、ディスプレイ前面に配置した際に、ディスプレイの特定の位置、方向に生じるシンチレーションの緩和が可能な光学フィルタを提供することができる。
【００３４】
請求項１２の発明によれば、請求項１〜請求項１１のいずれかの光学フィルタの持つ効果が発揮されたディスプレイを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
図１（ａ）および（ｂ）は、いずれも本発明の光学フィルタの積層構造を例示する断面図である。本発明の光学フィルタは、最も基本的には、図１（ａ）に符号１Ａで示すように、透明基材２上に近赤外線吸収層３と紫外線吸収層４とがこの順に積層された積層構造を有する紫外線近赤外線吸収積層体５からなるものである。この透明基材２は、積層の際に行なわれ得る接着性向上のための処理が施されたものであってよい。この光学フィルタの３８０ｎｍより下の領域の全ての波長において光線透過率が３０％以下、好ましくは２５％以下であるとし、また、後に詳述するように、近赤外線吸収層３を構成する成分である透明バインダ樹脂としては、その水酸基価、酸価、もしくはガラス転移温度がある一定の範囲内のものであること、近赤外線吸収層３を構成する成分である近赤外線吸収色素としては陰イオンがビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオンであるジインモニウム化合物が好ましい。また、紫外線吸収層４は図１（ａ）に示すように近赤外線吸収層３側のみにではなく、透明基材２側のみに積層されていてもよく、近赤外線吸収層３側および透明基材２側の両方に積層されていてもよい。
【００３６】
図１（ａ）に示す紫外線近赤外線吸収積層体５は、光学フィルタの分野で知られた様々な層を１種もしくは２種以上、付加することにより、それらの層が加わることによりさらに機能が付与された光学フィルタを構成することができる。即ち、図１（ｂ）に示すように、光学フィルタ１Ｂは、紫外線近赤外線吸収積層体５の近赤外線吸収層３と透明基材２の間に電磁波遮蔽層６を備えるものであってもよい。電磁波遮蔽層６は、図１（ｂ）に示すように近赤外線吸収層３と透明基材２の間のみにではなく、どこに位置していても良い。
【００３７】
また、電磁波遮蔽層以外にも紫外線近赤外線吸収積層体５には防汚層や反射防止層、防眩層を備えることができる。
【００３８】
上記のような様々な層を伴なうか、もしくは伴わない光学フィルタ１Ａおよび１Ｂ（以降、特に断らない限り、符号１は、上記のような１Ａおよび１Ｂのような様々な積層構造を含めて指すものとする。）は、いずれかの片面もしくは両面に粘着剤層を積層して、光学フィルタが適用されるべき被適用面に貼り付けられるよう構成してもよい。粘着剤層はむき出しのままでは取扱いにくいから、貼り付けの直前まで、剥離性を有するシートが積層されたものであることが好ましい。これらの様々な構造を採り得る光学フィルタ１は、種々のタイプのディスプレイに適用することができ、例えば、図２に示すように、プラズマディスプレイ７の前面（観察側の面）に配置して使用することができ、粘着剤層が積層された光学フィルタ１は、プラズマディスプレイ７の前面に直接に貼り付けて使用することもできる。なお粘着剤層の積層は片面に対して行なわれることが多いが、両面に粘着剤を積層し、片面をディスプレイへの貼り付け用に、他面を他の機能を有するフィルムとの貼りあわせに使用するというような用途にも利用することができる。
【００３９】
本発明の光学フィルタを構成する透明基材２、近赤外線吸収層３および紫外線吸収層４並びに上記したように、基本的な積層構造に付加され得る各層の素材や積層方法等につき、以降に詳細に説明する。
【００４０】
紫外線吸収層：
紫外線吸収剤は、次に述べる近赤外線吸収層３中に共存させてもよいが、或いは、次に述べる透明基材中に含有させてもよいが、紫外線吸収剤を含有させた独立の層、即ち、紫外線吸収層として設けられているのが好ましい。紫外線吸収層は、バインダー樹脂として、例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エチレンービニルアルコール系共重合樹脂、エチレンー酢酸ビニル系共重合樹脂、ＡＳ樹脂、ポリエステル系樹脂、塩酢ビ樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、ＰＶＰＡ、ポリスチレン系樹脂、フェノール系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリスルフォン、ナイロン、セルロース系樹脂、酢酸セルロース系樹脂等に、紫外線吸収剤を含有させたものを、塗布法により、通常、０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍの膜厚の層として形成する。尚、紫外線吸収層は、フィルタとしての使用時に近赤外線吸収層よりも外界側に位置させるか、外界側に位置する層に含有させるのが、近赤外線吸収層中の近赤外線吸収剤の劣化を保護するために好ましい。
【００４１】
前記紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系；２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系；フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート等のサリシレート系；ヘキサデシル−２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系等の有機系紫外線吸収剤や、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等の無機系紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収層の吸収性能としては波長３８０ｎｍ以下における紫外線の透過率を３０％以下とすることが必要であり、勿論、波長３８０ｎｍ以下の紫外線を１００％カットしていれば尚良い。これにより紫外線による色素の劣化を抑制することが可能となり、近赤外線遮蔽能や初期色味が長時間安定な光学フィルタを得ることができる。
【００４２】
尚、前記の如き独立した紫外線吸収層は、前記紫外線吸収剤を含有させた層を設ける代わりに、市販の紫外線カットフィルタ、例えば、富士写真フィルム社製の「シャープカットフィルターＳＣ−３８」（商品名）、「同ＳＣ−３９」、「同ＳＣ−４０」、三菱レーヨン社製の「アクリプレン」（商品名）等を用いて積層することによって形成することもできる。
【００４３】
近赤外線吸収層：
近赤外線吸収層３は、基本的には、透明バインダ樹脂中に、近赤外線を吸収する近赤外線吸収色素を含有するものである。
【００４４】
近赤外線吸収色素としては、光学フィルタ１が代表的な用途であるプラズマディスプレイの前面に適用される場合、プラズマディスプレイはキセノンガス放電を利用して発光する際に生じる近赤外線領域、即ち、８００ｎｍ〜１１００ｎｍの波長域を吸収するものであることが好ましく、この波長域内での光線透過率が２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがより好ましい。
【００４５】
同時に近赤外線吸収層３は、可視光領域、即ち、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長域では、十分な光線透過率を有する必要がある。
【００４６】
上記の両方の波長域における光線透過率は、分光光度計（（株）島津製作所製、品番；「ＵＶ−３１００ＰＣ」）を使用し求めたものである。
【００４７】
近赤外線吸収色素としては、具体的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化アンモン、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化ランタン等の無機系近赤外線吸収色素、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミニウム系化合物、ピリリウム系化合物、セリリウム系化合物、スクワリリウム系化合物、ジインモニウム系化合物、銅錯体類、ニッケル錯体類、ジチオール系金属錯体類等の有機系近赤外線吸収色素を１種、または２種以上を併用することができる。これらのうち、無機系近赤外線吸収色素は、平均粒径が０．００５μｍ〜１μｍの微粒子であることが好ましく、平均粒径はより好ましくは０．０１μｍ〜０．５μｍの範囲内である。
【００４８】
本発明における近赤外線吸収色素としては、上記のうちでも、ジインモニウム系化合物を用いることが好ましい。この理由は、ジインモニウム系化合物は、近赤外線領域にモル吸光係数εが約１０万程度の大きな吸収を有し、可視光領域内である波長４００ｎｍ〜５００ｎｍ付近に若干の光吸収があるものの、可視光透過率が他の近赤外線吸収色素よりも優れているからである。
【００４９】
ジインモニウム系化合物としては、上記一般式（１）で表される対イオンを有するものが好ましく、式中のＲは前記した通りであるが、そのうちのアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、もしくはブチル基等が好ましい。式中のＸは１価または２価の陰イオンである。１価の陰イオンの場合ｎは１であり、２価の陰イオンの場合ｎは１／２である。１価の陰イオンとしては、例えば有機酸１価アニオン、無機１価アニオン等が挙げられる。有機酸１価アニオンとしては、例えば酢酸イオン、乳酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、ステアリン酸イオン等の有機カルボン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ナフタレンモノスルホン酸イオン、クロロベンゼンスルホン酸イオン、ニトロベンゼンスルホン酸イオン、ドデシルベンゼンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、エタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等の有機スルホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、ブチルトリフェニルホウ酸イオン等の有機ホウ酸イオン、ビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオン等があげられ、好ましくは、ビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン等のハロゲノアルキルスルホン酸イオンもしくはアルキルアリールスルホン酸イオンが挙げられ、特に好ましくはビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオンである。ビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸は酸度が極めて高いため、水や酸素、熱などの影響を受けても、対イオンが色素本体からはずれることを抑制することができ、その結果、近赤外線吸収層の耐久性が向上するという利点がある。
【００５０】
無機１価アニオンとしては、例えばフッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン等のハロゲンイオン、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、バナジン酸イオン、リン酸イオン、ホウ酸イオン等があげられ、好ましいものとしては、過塩素酸イオン、ヨウ素イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン等があげられる。これらの無機陰イオンのうち、特に好ましいものとしては、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン等が挙げられる。
【００５１】
２価の陰イオンとしては、例えばナフタレン−１、５−ジスルホン酸、Ｒ酸、Ｇ酸、Ｈ酸、ベンゾイルＨ酸、ｐ−クロルベンゾイルＨ酸、ｐ−トルエンスルホニルＨ酸、クロルＨ酸、クロルアセチルＨ酸、メタニルγ酸、６−スルホナフチル−γ酸、Ｃ酸、ε酸、ｐ−トルエンスルホニルＲ酸、ナフタリン−１，６−ジスルホン酸、１−ナフトール−４，８−ジスルホン酸、等のナフタレンジスルホン酸誘導体、カルボニルＪ酸、４，４’−ジアミノスチルベン−２，２’ージスルホン酸、ジＪ酸、ナフタル酸、ナフタリン−２，３−ジカルボン酸、ジフェン酸、スチルベン−４，４’−ジカルボン酸、６−スルホ−２−オキシ−３−ナフトエ酸、アントラキノン−１，８−ジスルホン酸、１，６−ジアミノアントラキノン−２，７−ジスルホン酸、２−（４−スルホフェニル）−６−アミノベンゾトリアゾール−５−スルホン酸、６−（３−メチル−５−ピラゾロニル）−ナフタレン−１，３−ジスルホン酸、１−ナフトール−６−（４−アミノ−３−スルホ）アニリノ−３−スルホン酸等の２価の有機酸のイオンが挙げられる。好ましいものとしては、例えばナフタレン−１、５−ジスルホン酸、Ｒ酸が挙げられる。
【００５２】
前記一般式（１）で表されるジインモニウム化合物は、例えば特公昭４３−２５３３５号公報に記載された次の様な方法で得ることができる。即ち、ｐ−フェニレンジアミンと１−クロロ−４−ニトロベンゼンをウルマン反応させて得られた生成物を還元することにより得られるアミノ体を有機溶媒中、好ましくはジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の水溶性極性溶媒中、３０〜１６０℃、好ましくは５０〜１４０℃で、一般式（１）における所望のＲに対応するハロゲン化化合物（例えば、Ｒがｎ−Ｃ4 Ｈ9 のときはＢｒＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ3 ）と反応させて、全ての置換基（Ｒ）が同一である化合物（以下、全置換体と記す）を得ることができる。
【００５３】
また、全置換体以外の化合物を合成する場合、例えば８つのＲのうち、７つがｉｓｏ−Ｃ4 Ｈ9 、残り１つがｎ−Ｃ4 Ｈ9 の化合物を合成する場合には、先に所定のモル数（上記アミン体１モル当たり７モル）の試薬（ＢｒＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）2 ）と反応させて８つのＲのうち７つにｉｓｏ−Ｃ4 Ｈ9 基を導入した後、残りの置換基（ｎ−Ｃ4 Ｈ9 ）を導入するのに必要なモル数（上記のアミン体１モル当たり１モル）の対応する試薬（ＢｒＣ4 Ｈ9 ）と反応させる。例示したこの化合物の製造方法と同様の方法により、全置換体以外の任意の化合物を得ることができる。
【００５４】
その後、上記で合成した化合物を、有機溶媒中、好ましくはＤＭＦ等の水溶性極性溶媒中、０〜１００℃、好ましくは５〜７０℃で上記一般式（１）のＸに対応する酸化剤（例えば銀塩）を添加して酸化反応を行う。酸化剤の当量を２当量にすれば上記一般式（１）で表されるジインモニウム塩化合物が得られ、当量を１当量にすれば、一価のアミニウム塩化合物（以下アミニウム体と記す）が得られる。また、上記で合成した化合物を硝酸銀、過塩素酸銀、塩化第二銅等の酸化剤で酸化した後、その反応液に、所望のアニオンの酸もしくは塩を添加して塩交換を行う方法によっても一般式（１）で表される化合物を合成することが出来る。
【００５５】
近赤外線吸収層３中には、近赤外線吸収色素を１種、または２種以上混合して用いることは既に述べた通りであるが、本発明における好ましい近赤外線吸収色素であるジインモニウム系化合物を用いる場合、近赤外線吸収層の近赤外線吸収波長域を広げたり、近赤外線吸収層の色見（＝外観的な色のこと。）を調製することを目的として、ジインモニウム系化合物以外の近赤外線吸収色素が配合されていてもよく、例えば、フタロシアニン系化合物、もしくはジチオール系金属錯体類等がジインモニウム系化合物と併用される。フタロシアニン系化合物、およびジチオール系金属錯体類は両方を用いてもよい。
【００５６】
近赤外線吸収層３に用いられる透明バインダ樹脂としては、可視光領域での光線透過率の高い樹脂であれば限定されるものではない。具体的な透明バインダ樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂を挙げることができ、中でもアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂が好ましい。透明バインダ樹脂の平均分子量は５００〜６０万であることが好ましく、より好ましくは１万〜４０万である。平均分子量をこれらの範囲とすることにより、上記のような性質を有するものとすることができるからである。
【００５７】
本発明において、近赤外線吸収層３に近赤外線吸収色素として対イオンを有するものを含有させたときは、大気中の水蒸気以外にも透明バインダ樹脂が水酸基、もしくは酸基を有するものであるか、または透明バインダ樹脂中に重合開始剤等が配合されている場合には、それらの水酸基、もしくは酸基、または重合開始剤等により近赤外線吸収色素の母骨格と対イオンの均衡状態が崩れ、近赤外線吸収の機能を果たすことが困難となる場合があるので、この解消の目的で、透明バインダ樹脂としては、水酸基価もしくは酸価の小さいものを用いることが好ましく、水酸基価および酸価のいずれもが小さいものを用いることがより好ましい。
【００５８】
上記の理由により、近赤外線吸収層３の透明バインダ樹脂は、水酸基価としては１０以下が好ましく、より好ましくは５以下であり、０であることが特に好ましい。水酸基価をこのように小さくすることにより、近赤外線吸収層３が含有する、例えば対イオンを有する近赤外線吸収色素が、透明バインダ樹脂が有する水酸基により反応すること等を防ぐことができるため、近赤外線吸収機能が高温高湿度下でも経時的に安定な光学フィルタとすることができ、また近赤外線吸収色素の選択の幅を広げることが可能になる。ここで、水酸基価とは試料１ｇをアセチル化するとき、水酸基と結合した酢酸を中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ数を指す。
【００５９】
同様に、近赤外線吸収層３の透明バインダ樹脂は、酸価としては１０以下が好ましく、より好ましくは５以下であり、０であることが特に好ましい。酸価をこのように小さくすることにより、透明バインダ樹脂が含有する酸により、近赤外線吸収色素が反応すること等を防ぐことができるため、近赤外線吸収機能が高温高湿度下でも経時的に安定な光学フィルタとすることができる。ここで酸価とは、試料１ｇを中和するのに要する水酸化カリウムのｍｇ数を指す。
【００６０】
また、透明バインダ樹脂としては、そのガラス転移温度（以降において、Ｔｇと言うことがある。）が、光学フィルタ１が実際に使用されるときの温度以上であることが好ましい。ガラス転移温度が光学フィルタ１が実際に使用されるときの温度以下であると、言い換えれば、光学フィルタ１がガラス転移温度以上で使用されると、透明バインダ樹脂中に含有される近赤外線吸収色素どうしが反応を起こしたり、透明バインダ樹脂が空気中の水分を吸収するため、近赤外線吸収色素の劣化や透明バインダ樹脂の劣化が起きやすくなるためである。
【００６１】
上記の観点から、透明バインダ樹脂のガラス転移温度は、光学フィルタ１が実際に使用されるときの温度の値にもよるが、例えば、８０℃〜１５０℃であることが好ましい。ガラス転移温度が８０℃未満の透明バインダ樹脂を用いると、近赤外線吸収色素と透明バインダ樹脂との相互作用、もしくは近赤外線吸収色素どうしの相互作用等が起こり、近赤外線吸収色素の変性が起こる。また、ガラス転移温度が１５０℃を超える透明バインダ樹脂を用いると、このような透明バインダ樹脂を溶剤に溶解して近赤外線吸収層形成用組成物を調製し、コーティングにより近赤外線吸収層３を形成する際に、十分な乾燥を行なわせるには乾燥温度を高温にする必要が生じるから、近赤外線吸収色素として耐熱性の低いものを用いた場合に、近赤外線吸収色素の劣化を招きやすく、と言って、乾燥温度を低温にすると、長い乾燥時間が必要になるため、乾燥工程の効率が低下し、生産コストの上昇を起こし、あるいは、十分な乾燥が行なえないために残留した溶剤が近赤外線吸収色素の劣化を招く原因ともなる。
【００６２】
近赤外線吸収層３中の近赤外線吸収色素と透明バインダ樹脂との好ましい配合割合は、透明バインダ樹脂１００に対して近赤外線吸収色素０．００１〜１００であり、より好ましくは、近赤外線吸収色素０．０１〜５０であり、特に好ましくは、０．１〜１０である。なお、配合比は質量基準である。
【００６３】
フタロシアニン系化合物としては、市販品である（株）日本触媒製、品番：「Ｅｘｃｏｌｏｒ  ＩＲ−１」、「同ＩＲ−２」、「同ＩＲ−３」、もしくは「同ＩＲ−４」、または「ＴＸＥＸ−８０５Ｋ」、「同−８０９Ｋ」、「同−８１０Ｋ」、「同−８１１Ｋ」、もしくは「同−８１２Ｋ」を用いることもできる。
【００６４】
また、ジチオール系金属錯体類等としては、市販品である三井化学（株）製、品番：「ＳＩＲ−１２８」、「ＳＩＲ−１３０」、「ＳＩＲ−１３２」、もしくは「ＳＩＲ−１５９」を用いることもできる。
【００６５】
近赤外線吸収層３の形成は、近赤外線吸収色素および透明バインダ樹脂をその他の必要に応じて添加する添加剤と共に、溶剤および／または希釈剤を加えて混合し、各成分を溶解もしくは分散させて近赤外線吸収層形成用組成物を調製し、得られた近赤外線吸収層形成用組成物を塗布対象に塗布することにより行なう。あるいは、近赤外線吸収色素および透明バインダ樹脂をその他の必要に応じて添加する添加剤と共に溶融混練した組成物を溶融押出ししながら塗布対象に塗布することにより行なうこともできる。
【００６６】
上記の添加剤としては、近赤外線吸収層の耐久性を向上させるために酸化防止剤等を用いることができ、酸化防止剤としては、フェノール系、アミン系、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、硫黄系、燐酸系、亜燐酸系、もしくは金属錯体系等のもの挙げることができる。
【００６７】
上記の近赤外線吸収層形成用組成物を調製する際に用いる溶剤としては、色素の溶解性の観点からアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸プロピル、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、クロロホルム、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、トリフルオロプロパノール、ｎ−ヘキサン、もしくはｎ−ヘプタン、または水等が挙げられるが、これら以外のものであってもよい。
【００６８】
また、上記の近赤外線吸収層形成用組成物を塗布する方法としては、マイヤーバーコーティング、ドクターブレードコーティング、グラビアコーティング、グラビアリバースコーティング、キスリバースコーティング、３本ロールリバースコーティング、スリットリバースダイコーティング、ダイコーティング、もしくはコンマコーティング等の各種コーティングの方式を用いることができる。
【００６９】
透明基材：
透明基材２は、近赤外線吸収層３や、付加的に積層される種々の層の積層対象となるか、もしくは光学フィルタ１の支持体となるものである。従って、透明基材２は、可視光に対して透明性を有し、近赤外線吸収層３や、その他の種々の層が積層可能であれば、その種類は特に限定されるものではないが、水蒸気バリア性を有するものであれば尚好ましい。
【００７０】
例えば、透明基材２としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルホン、もしくはポリエーテルケトン等の樹脂からなるフィルムを用いることができる。
【００７１】
上記のうちでも、透明性、耐熱性、および取扱い性の面等から、また、量産されていて比較的安価な点で、ＰＥＴフィルムが最も好ましい。
【００７２】
透明基材２の透明性としては、透明基材２が単層の場合、可視領域の光線透過率が８０％以上であることが好ましい。また、透明性を有するとは、無色透明であることが好ましいけれども、必ずしも無色透明であることに限ることはなく、本発明の目的を妨げない程度であれば着色された着色透明であってもよい。可視領域の光線透過率は出来る限り高いことが好ましいが、最終製品としては５０％以上の光線透過率が必要なことから最低２枚を積層する場合でも、それぞれの透明基材としては光線透過率が８０％であれば、目的に適う。もちろん、光線透過率が高ければ高いほど、透明基材を複数枚を積層出来るため、透明基材２の単層の光線透過率はより好ましくは８５％以上であり、最も好ましくは９０％以上である。光線透過率を向上させるには厚みを薄くするもの有効な手段である。
【００７３】
透明基材２の厚みは、透明性さえ満足すれば特に制限されないが、加工性の面からは、１２μｍ程度〜３００μｍ程度の範囲であることが好ましい。厚みが１２μｍ未満の場合は透明基材２が柔軟過ぎて、加工する際の張力により伸張やシワが発生しやすい。また、厚みが３００μｍを超えるとフィルムの可撓性が減少し、各工程での連続巻き取りが困難になる上、透明基材２どうしを複数枚、積層する際の加工性が大幅に劣るといった問題もある。
【００７４】
電磁波遮蔽層：
紫外線近赤外線吸収積層体５に付加し得る電磁波遮蔽層６は、光学フィルタ１が適用される電気的もしくは電子的な装置、とりわけ、プラズマディスプレイから発生した電磁波を遮蔽するものである。電磁波遮蔽層６には金属メッシュ層と透明導電性薄膜層が利用されるが、電磁波遮蔽性の高い金属メッシュが好ましい。金属メッシュ層は、透明基材上に金属箔を積層し、エッチングによってメッシュ状とするので、透明基材と金属メッシュとの間には、接着剤層が介在することが普通である。接着剤層は、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンエステル樹脂等の接着剤で構成する。金属メッシュ層は、電磁波遮蔽能を有するものであれば、その金属の種類は特に限定されるものではなく、例えば、銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタン等を用いることができ、中でも銅が好ましく、銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に電解銅箔であることが好ましい。電解銅箔を選択することにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよいものとすることができ、また黒化処理された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
【００７５】
ここで、本発明においては、上記金属メッシュは、その一方の面または両面が黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュの表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この酸化処理面は、観察者側の面となるように配置される。この黒化処理により金属メッシュ層表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な透過性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。
【００７６】
金属メッシュ層の開口率は、電磁波遮蔽能の観点からは、低いほどよいが、開口率が低くなると光線透過率が低下するので、開口率としては５０％以上であることが好ましい。
【００７７】
金属メッシュ層が積層されている場合、金属メッシュ層は開口部と非開口部とが凹凸をなしているので、金属メッシュ層上に、透明樹脂が金属メッシュ層の厚み以上の厚みに形成された平坦化層が積層されていてもよい。
【００７８】
防汚層：
紫外線近赤外線吸収積層体５に付加し得る防汚層は、光学フィルタ１を使用する際に、その表面に、不用意な接触や環境からの汚染が原因で、ごみや汚染物質が付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される層である。例えば、フッ素系コート剤、シリコン系コート剤、シリコン・フッ素系コート剤等が使用され、なかでもシリコン・フッ素系コート剤が好ましく適用される。これらの防汚層の厚さは好ましくは１００ｎｍ以下で、より好ましくは１０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは５ｎｍ以下である。これらの防汚層の厚さが１００ｎｍを超えると防汚染性の初期値は優れているが、耐久性において劣るものとなる。防汚染性とその耐久性のバランスから５ｎｍ以下が最も好ましい。
【００７９】
反射防止層：
紫外線近赤外線吸収積層体５に付加し得る反射防止層は、高屈折率層と低屈折率層が順に積層されたものが代表的であるが、これ以外の積層構造を持つものもある。高屈折率層は、例えば、ＺｎＯやＴｉＯ2 の素材の薄膜、もしくはこれらの素材の微粒子が分散した透明樹脂膜である。また、低屈折率層は、ＳｉＯ2 からなる薄膜、もしくはＳｉＯ2 ゲル膜、または、フッ素含有の、もしくはフッ素およびケイ素含有の透明樹脂膜である。反射防止層６が積層されたことにより、積層された側の外光等の不要な光の反射を低下させ、適用されるディスプレイの画像もしくは映像のコントラストを高めることができる。
【００８０】
防眩層：
紫外線近赤外線吸収積層体５に付加し得る防眩層６は、例えば、透明樹脂中に直径数μｍ程度のポリスチレン樹脂やアクリル樹脂等のビーズを分散させたものであり、層が持つ光拡散性により、ディスプレイ前面に配置した際に、ディスプレイの特定の位置、方向に生じるシンチレーションの防止を行なうためのものである。
【００８１】
粘着剤層：
本発明において用いられる粘着剤層は、任意の透明な粘着剤からなる層である。可視域の光線透過率が高ければその種類等は特に限定されるものではないが、具体的には、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤等が挙げられる。
【００８２】
以下、実施例および比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
【実施例１】
【００８３】
前記一般式（１）で表され、対イオン（Ｘ- ）が１価陰イオンとして「ビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオン」であるジインモニウム系近赤外線吸収色素を次のようにして合成した。実施例中、部は特に特定しない限り重量部を表す。
【００８４】
ＤＭＦ３０部中にＮ，Ｎ，Ｎ' ，Ｎ' −テトラキス（アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン３．８部、ｎ−ブチルブロミド２１部、及び炭酸カリウム１５部を加え、８０℃で１時間、９０℃で７時間、及び１３０℃で１時間反応させた。冷却後、濾過し、この反応液（濾液）にイソプロパノール３０部を加え、５℃以下で１時間撹拌した。生成した結晶をメタノールで洗浄した後、乾燥し薄茶色の結晶２．５部を得た。
【００８５】
ＤＭＦ１０部中に上記で合成した化合物１部を加え、６０℃に加熱溶解した後、ＤＭＦ１０部中に溶解したビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸銀０．７８部を加え、３０分反応させた。冷却後析出した銀を濾別した。この反応液（濾液）に水１０部をゆっくりと滴下し、滴下後１５分撹拌した。生成した黒色結晶を濾過し、５０部の水で洗浄し、得られたケーキを乾燥し、前記一般式（１）の化合物０．５部を得た。得られた化合物のλｍａｘ、分子吸光係数、融点を測定した結果、次の通りとなった。
λｍａｘ  １０７６ｎｍ（ジクロロメタン）
分子吸光係数  １０１，０００
融点      １８６．５℃（ＤＳＣ）
【００８６】
透明バインダ樹脂としての透明アクリル樹脂（ダイヤナールＢＲ−８０：商品名、三菱レイヨン（株）製、Ｔｇ：１００℃、水酸基価：０、酸価：０）をメチルエチルケトン中に固形分比が２０％（質量基準）となるよう溶解した樹脂溶液中に、前記工程で合成した対イオン（Ｘ- ）が１価陰イオンとして「ビストリフルオロメタンスルホニルイミド酸イオン」であるジインモニウム系近赤外線吸収色素０．２ｍｍｏｌ／ｍ2 、およびフタロシアニン系近赤外線吸収色素（ＩＲ−１：商品名、（株）日本触媒製）０．２ｍｍｏｌ／ｍ2 の２種類の近赤外線吸収色素を添加して十分分散させて得た塗布用溶液を用い、厚みが１００μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム（Ａ４３００：商品名、東洋紡績（株）製）上に、マイヤーバーにて乾燥膜厚が５μｍになるように塗布し、風速５ｍ／ｓｅｃのドライエアーが当たるオーブンにて１００℃で１分間乾燥して近赤外線吸収層を形成し、近赤外線吸収フィルタを得た。続いて、この近赤外線吸収フィルタの近赤外線吸収層側に図３のＡに示す分光特性を有する紫外線吸収フィルタ（ＬＵ０４００：商品名、朝日分光（株）製）を貼り合わせて実施例１の光学フィルタを得た。
【００８７】
この光学フィルタの紫外線吸収フィルタ側からサンシャインウェザオメータ（スガ試験機（株）製）にて紫外線を６３℃、２００時間照射させ、４５０ｎｍおよび１０００ｎｍにおける光線透過率の変化を分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ：商品名、島津製作所（株）製）測定した。測定結果は他の実施例および比較例と共に図４、図５、表１に示す。
【実施例２】
【００８８】
紫外線吸収フィルタとして図３のＢに示す分光特性を有する紫外線吸収フィルタ（ＬＵ０３８０：商品名、朝日分光（株）製）を用いた以外は、実施例１と同様に行なって実施例２光学フィルタを得、光線透過率の変化を同様に評価した。測定結果は他の実施例および比較例と共に図４、図５、表１に示す。
【００８９】
［比較例１］
紫外線吸収フィルタとして図３のＣに示す分光特性を有する紫外線吸収フィルタ（ＬＵ０３５０：商品名、朝日分光（株）製）を用いた以外は、実施例１と同様に行なって比較例１の光学フィルタを得、光線透過率の変化を同様に評価した。測定結果は実施例および他の比較例と共に図４、図５、表１に示す。
【００９０】
［比較例２］
紫外線吸収フィルタとして図３のＤに示す分光特性を有するポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム（Ａ４３００：商品名、東洋紡績（株）製）を用いた以外は、実施例１と同様に行なって比較例２光学フィルタを得、光線透過率の変化を同様に評価した。測定結果は実施例および他の比較例と共に図４、図５、表１に示す。
【００９１】
［比較例３］
前記実施例１で得た近赤外線吸収フィルタの近赤外線吸収層側からサンシャインウェザオメータ（スガ試験機（株）製）にて紫外線を６３℃、２００時間照射させ、４５０ｎｍおよび１０００ｎｍにおける光線透過率の変化を実施例１と同様に測定した。測定結果は実施例および他の比較例と共に図４、図５、表１に示す。
【００９２】
［評価および考察］
実施例１および実施例２の光学フィルタは、紫外線吸収層を設けて３８０ｎｍより下の領域の波長の全てにおいて光線透過率が３０％以下であるようにし、近赤外線吸収層にこの領域の紫外線が入射しない様にしたことから、図４、図５及び表１に示されるように、サンシャインウェザオメータによる紫外線の２００時間照射前後の分光特性変化が少なく、従って、実用上十分な特性を有していることが分かる。
【００９３】
これらに対して、比較例１〜比較例３の光学フィルタは、３８０ｎｍより下の波長における紫外線のカットが不充分である為、サンシャインウェザオメータによる紫外線の２００時間照射前後の分光特性変化が著しく大きく、従って実用上問題を有するものであると言える。
【００９４】
【表１】
2005148283.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明の光学フィルタは、耐光性が優れ、安定した近赤外線遮蔽性を有するため、ディスプレイ、特にプラズマディスプレイに適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】本発明の光学フィルタの一例を示す概略断面図である。
【図２】プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）の前面に本発明の光学フィルタを配置した図である。
【図３】縦軸に光線透過率、横軸に波長をとったグラフであって、紫外線吸収フィルタＡ〜Ｄについて分光特性のグラフを表す図である。
【図４】実施例１〜２、比較例１〜３の光学フィルタについて、サンシャインウェザオ照射したときの４５０ｎｍでの光線透過率の経時変化を分光光度計で測定したグラフを示す図である。
【図５】実施例１〜２、比較例１〜３の光学フィルタについて、サンシャインウェザオ照射したときの光線透過率の１０００ｎｍでの経時変化を分光光度計で測定したグラフを示す図である。
【符号の説明】
【００９７】
１、１Ａ、１Ｂ    光学フィルタ
２    透明基材
３    近赤外線吸収層
４    紫外線吸収層
５    紫外線近赤外線吸収積層体
６    電磁波遮蔽層
７    ＰＤＰ
【図１】
2005148283.tif 000006
【図２】
2005148283.tif 000007
【図３】
2005148283.tif 000008
【図４】
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【図５】
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