(57)【要約】【課題】  電気的特性を損なうことなく、耐湿性、耐マイグレーション性等の耐久性が改善されたＰＤＰ用電磁波遮蔽シートおよびその製造方法の提供。【解決手段】  基体と、基体上に形成された導電膜と、導電膜に電気的に接している電極とを有するプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽シートであって、導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造の導電膜であり、金属層が、Ａｇを主成分としＢｉを含有することを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽シート。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、基体上に形成された導電膜と、導電膜に電気的に接している電極とを有するプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽シートであって、
導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造の導電膜であり、
金属層が、Ａｇを主成分としＢｉを含有することを特徴とするプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽シート。
【請求項２】
Ｂｉの含有割合が、ＢｉとＡｇとの総量に対して０．２〜０．６原子％である請求項１記載のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽シート。
【請求項３】
酸化物層がＺｎＯを主成分とする請求項１または２記載のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽シート。
【請求項４】
ＺｎＯを主成分とする酸化物層が、Ｚｎ以外の１種以上の金属を含有する請求項３記載のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽シート。
【請求項５】
基体上に、酸化物層と、Ａｇを主成分としＢｉを含有する金属層とを、交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層して多層構造の導電膜を形成し、該導電膜上に電極を形成することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽シートの製造方法。
【請求項６】
金属層を、Ａｇ：Ｂｉ合金をターゲットとして用いるスパッタリングにより形成する請求項５記載のプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと略す。）本体を保護するためにＰＤＰの観察者側に設置され、ＰＤＰから発生する電磁ノイズを遮蔽する電磁波遮蔽能を有するＰＤＰ用電磁波遮蔽シートおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＰＤＰの前面からは、人体に有害な電磁波が発生している。この電磁波を遮蔽するための光学フィルタとして、ＰＤＰの観察者側に、プラスチックフィルム等の基体上に導電膜を設けた電磁波遮蔽シートを配置することが行われている。
【０００３】
電磁波遮蔽シートの電磁波遮蔽能は、導電膜のシート抵抗を低減することにより向上させることができる。シート抵抗を低減する方法の１つとして、導電膜の材料として純Ａｇを使用することが考えられる。しかし、純Ａｇは耐湿性、耐マイグレーション性の点で実用上の問題がある。
これに対し、純Ａｇに特定の不純物をドープすることで、耐湿性、耐マイグレーション性を向上させることが行われており、現在、たとえば、Ａｇ：Ｐｄ、Ａｇ：Ａｕ、Ａｇ：Ｃｕ、Ａｇ：Ｐｄ：Ｃｕ、Ａｇ：ＮｄなどのＡｇ合金が提案されている（たとえば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】国際公開第９８／１３８５０号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、これらのＡｇ合金は、不純物のドープにより耐湿性、耐マイグレーション性等の耐久性は向上しているものの、比抵抗等の電気的特性の悪化を免れない。また、電気的特性の悪化は、視感透過率等の光学特性を悪化させてしまう。したがって、耐久性の向上は、電気的特性を悪化させることなく行う必要がある。
【０００５】
本発明は、電気的特性を損なうことなく、耐湿性、耐マイグレーション性等の耐久性が改善されたＰＤＰ用電磁波遮蔽シートおよびＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、前述の課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、従来のＡｇ：Ｐｄ、Ａｇ：Ａｕ、Ａｇ：Ｃｕ、Ａｇ：Ｐｄ：Ｃｕ、Ａｇ：Ｎｄ等のＡｇ合金に代えて、Ａｇ：Ｂｉ合金を使用することで、純Ａｇを使用する場合と同等の電気的特性を維持しつつ、耐湿性、耐マイグレーション性等の耐久性が向上した電磁波遮蔽シートが得られることを見い出し、その知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、基体と、基体上に形成された導電膜と、導電膜に電気的に接している電極とを有するプラズマディスプレイ用電磁波遮蔽シートであって、導電膜が、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層された多層構造の導電膜であり、金属層がＡｇを主成分としＢｉを含有する金属層であることを特徴とするＰＤＰ用電磁波遮蔽シートを提供する。
また、本発明は、基体上に、酸化物層と、Ａｇを主成分としＢｉを含有する金属層とを、交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層して多層構造の導電膜を形成し、該導電膜上に電極を形成することを特徴とする前記ＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートは、高い電磁波遮蔽能を有し、耐湿性、耐マイグレーション性等の耐久性に優れた、ＰＤＰ用として好適なものである。
また、本発明の製造方法により、高い電磁波遮蔽能を有し、耐湿性、耐マイグレーション性等の耐久性に優れたＰＤＰ用電磁波遮蔽シートが得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明を詳細に説明する。
≪ＰＤＰ用電磁波遮蔽シート≫
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートは、基体と、基体上に形成された導電膜と、導電膜に電気的に接している電極とを有するものであり、ＰＤＰから放出される電磁波を遮蔽する性能（高い導電性、すなわち低いシート抵抗値）を有する。
【０００９】
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの抵抗値は、電磁波遮蔽性能のためには、０．４〜３．５Ω、特に０．５〜２．５Ω、さらには０．５〜１．５Ωであることが好ましい。
【００１０】
また、本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートは、ＰＤＰの前面に配置されるものであるため、ディスプレイが見にくくならないように、可視光線透過率は４０％以上であることが好ましい。
また、本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの可視光線反射率は６％未満、特に３％未満であることが好ましい。
【００１１】
＜基体＞
本発明において、基体の材料としては、ガラス板（風冷強化ガラス、化学強化ガラス等の強化ガラスを含む）、およびポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の透明プラスチック材料等が挙げられる。
【００１２】
＜導電膜＞
本発明において、導電膜は、基体側から、酸化物層と金属層とが交互に計（２ｎ＋１）層積層された多層構造の導電膜（以下、多層膜ということがある。）である。ｎは１以上の整数であり、２〜６が好ましく、３〜６が最も好ましい。
【００１３】
酸化物層としては、Ｂｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、ＮｂおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の金属の酸化物を主成分とする層が挙げられる。好ましくはＴｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、ＮｂおよびＺｎからなる群から選ばれる１種以上の金属の酸化物を主成分とする層である。特に、吸収が小さく、屈折率が２前後であることから、ＺｎＯを主成分とする層が好ましい。また、屈折率が大きく、好ましい色調が少ない層数で得られやすいことからＴｉＯ２またはＮｂ２Ｏ５を主成分とする層が好ましい。
酸化物層は、複数の薄い酸化物層から構成されていてもよい。たとえば、ＺｎＯを主成分とする酸化物層に代えて、ＳｎＯ２を主成分とする層とＺｎＯを主成分とする層とから形成することもできる。
【００１４】
ＺｎＯを主成分とする酸化物層（ＺｎＯ膜）は、Ｚｎ以外の１種以上の金属を含有することが好ましい。該１種以上の金属は、主として酸化物の状態でＺｎＯ膜中に存在している。
１種以上の金属としては、Ｓｎ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｂ、Ｍｇ、Ｇａ、Ｙが好ましく挙げられる。
ＺｎＯ膜中の、１種以上の金属の合計量の含有割合は、得られる導電膜の耐湿性が向上することから、該金属の合計量とＺｎとの総量に対して１〜１０原子％が好ましい。１原子％以上であることにより、充分にＺｎＯの内部応力を低減することができ、ＺｎＯ膜と、Ａｇを主成分とする金属層との密着性を維持することができる。その結果として耐湿性が良好となる。また、１０％以下とすることで、耐湿性を保つことができる。これは、Ｚｎ以外の含有金属の割合をある程度以下にすることで、ＺｎＯの結晶性を保ち、Ａｇとの相性を維持できるためと考えられる。安定して再現性よく低内部応力のＺｎＯ膜を得ること、およびＺｎＯの結晶性を考慮すると、金属の含有割合は、２〜６原子％がより好ましい。
【００１５】
酸化物層の幾何学的膜厚（以下、単に膜厚という）は、最も基体に近い酸化物層および最も基体から遠い酸化物層は２０〜６０ｎｍ（特に３０〜５０ｎｍ）、それ以外の酸化物層は４０〜１２０ｎｍ（特に４０〜１００ｎｍ）とすることが好ましい。
【００１６】
金属層は、Ａｇを主成分としＢｉを含有する金属層である。Ａｇを主成分とすることにより、比抵抗が小さく、可視光の吸収が小さい金属層とすることができる。また、Ｂｉを含有することにより、耐湿性、耐マイグレーション性等の耐久性に優れた金属層とすることができる。
ここで耐マイグレーション性とは、銀が拡散し凝集することを抑制する性能を意味する。銀が凝集すると、耐湿性が不良になると同時に、凝集した部分が白化し、外観が不良となる。かかるマイグレート（凝集）は、高温、高湿条件下で起こりやすいとともに、塩素の存在などがマイグレート（凝集）を加速すると考えられる。
Ｂｉの含有割合は、ＢｉとＡｇとの総量に対して０．１〜１．０原子％であることが好ましい。０．１原子％以上とすることで、銀の耐久性を向上することができる。１．０原子％までの範囲であれば、含有割合が多いほど耐湿性が向上する。一方、１．０原子％以下であれば、生産効率が高く（製膜速度が早い）、高い可視光透過率を維持することができる。前記観点から、Ｂｉの含有量は、ＢｉとＡｇとの総量に対して０．２〜０．６原子％であることが特に好ましい。
【００１７】
金属層の合計膜厚は、たとえば得られる電磁波遮蔽シートの抵抗値の目標を１．５Ωとした場合は２５〜６０ｎｍ（特に２５〜５０ｎｍ）、抵抗値の目標を０．９Ωとした場合は３５〜８０ｎｍ（特に３５〜７０ｎｍ）とすることが好ましい。各金属層の膜厚は、前記の合計膜厚を金属層数で適宜配分する。なお、金属層の数が多くなると各金属層の比抵抗が上がるので、抵抗を下げるため結果として合計膜厚は大きくなる傾向にある。
【００１８】
導電膜の膜厚、すなわち酸化物層と金属層との全合計膜厚は、特に制限はなく、上述した酸化物層の合計膜厚、および金属層の合計膜厚に応じて適宜決定される。たとえば、金属層数が２（ｎ＝２）の場合は１６０〜２００ｎｍ（特に１８０〜１９０ｎｍ）、金属層数が３（ｎ＝３）の場合は２３０〜３３０ｎｍ（特に２５０〜３００ｎｍ）、金属層数が４（ｎ＝４）の場合は３００〜４００ｎｍ（特に３４０〜３９０ｎｍ）、金属層数が５（ｎ＝５）の場合は３７０〜５００ｎｍ（特に４２０〜４７０ｎｍ）、金属層数が６（ｎ＝６）の場合は４４０〜６００ｎｍ（特に５２０〜５７０ｎｍ）であることが好ましい。
【００１９】
本発明においては、Ａｇを主成分としＢｉを含有する金属層に対し、酸化物層として、ＺｎＯを主成分としＡｌの酸化物またはＳｎの酸化物を含有する酸化物層を組み合わせることが好ましい。
ＺｎＯを主成分としＡｌの酸化物またはＳｎの酸化物を含有する酸化物層は、金属層との相性がよく、両者を組み合わせることにより、耐湿性が向上する。
かかる酸化物層は、後述するように、例えば、Ｚｎ以外の少なくとも１種の金属または該金属の酸化物をドープしたＺｎＯターゲットを用いて、スパッタリング法により形成することができる。スパッタリングによる製膜速度が速いことから、Ｚｎ以外の金属としては特にＡｌが好ましく選ばれる。
また、ＺｎＯとＡｌの酸化物とからなる酸化物層と、ＡｇとＢｉとからなる金属層とは、きわめて相性がよい。
この理由は、ＡｌがＡｇやＢｉと結晶構造が同じであることに起因すると考えられる。このため、ＡｌがＺｎＯの粒界や界面に析出した場合でも、ＡｇやＢｉと原子レベルの界面での整合性がよくなると考えられる。
【００２０】
本発明においては、導電膜として、基体上に、酸化物層、金属層、酸化物層、と交互に計（２ｎ＋１）層（ｎは１以上の整数）積層された多層膜を用いることにより、低いシート抵抗値、低い反射率、高い可視光線透過率が得られる。
【００２１】
基体上に、酸化物層、金属層、酸化物層、と交互に（２ｎ＋１）層（ｎは１以上の整数）で積層された多層膜としては、３層（ｎ＝１）、５層（ｎ＝２）、７層（ｎ＝３）、９層（ｎ＝４）、１１層（ｎ＝５）、１３層（ｎ＝６）などの多層膜が挙げられる。特に、ｎが３以上、すなわち７層以上の多層の導電膜であることが好ましい。中でも、ｎが３〜６の整数であると、すなわち多層膜が７層、９層、１１層または１３層であると、抵抗値を充分に低くでき、近赤外線遮蔽能も付与することができる。そのため、別途、近赤外線遮蔽樹脂フィルムを設ける必要がなくなる。
また、こうした構成とすることで、観察者側から見た色調が好ましいものとなる（赤みを帯びない）。
【００２２】
ｎが３以上の整数、すなわち導電膜が７層以上の多層膜であって、導電膜が少なくとも３層の金属層を有する場合、該金属層のうち、最も基体に近い金属層と、最も基体から遠い金属層との間の金属層の膜厚が、最も基体に近い金属層の膜厚よりも大きく、かつ最も基体から遠い金属層の膜厚よりも大きいことが好ましい。また、最も基体に近い金属層の膜厚と、最も基体から遠い金属層の膜厚が同じであることが好ましい。
酸化物層についても同様に、最も基体に近い酸化物層と、最も基体から遠い酸化物層との間の酸化物層の膜厚が、最も基体に近い酸化物層の膜厚よりも大きく、かつ最も基体から遠い酸化物層の膜厚よりも大きいことが好ましい。また、最も基体に近い酸化物層の膜厚と、最も基体から遠い酸化物層の膜厚が同じであることが好ましい。
【００２３】
より具体的には、最も基体に近い金属層の膜厚は８〜１５ｎｍ（好ましくは９〜１１ｎｍ）、最も基体に近い金属層と、最も基体から遠い金属層との間の金属層の膜厚は１０〜１６ｎｍ（好ましくは１３〜１６ｎｍ）、最も基体から遠い金属層の膜厚は８〜１５ｎｍ（好ましくは９〜１１ｎｍ）の範囲から、要求される光学性能を満たすように適当に調整される。
また、最も基体に近い酸化物層の膜厚は２０〜６０ｎｍ（好ましくは３０〜５０ｎｍ）、最も基体に近い酸化物層と、最も基体から遠い酸化物層との間の金属層の膜厚は４０〜１００ｎｍ（好ましくは７０〜９０ｎｍ）、最も基体から遠い酸化物層の膜厚は２０〜６０ｎｍ（好ましくは３０〜５０ｎｍ）の範囲から、要求される光学性能を満たすように適当に調整される。
【００２４】
図１に、９層の導電膜を有する電磁波遮蔽シート１の一例を示す。なお、説明の便宜上、各寸法比は実際のものと相違したものとなっている。
電磁波遮蔽シート１は、図１に示すように、基体２と、９層構造の導電膜３とから基本的に構成されている。
導電膜３は、基体２側から、第１のＺｎＯを主成分とする酸化物層４（１層目）、第１のＡｇを主成分とする金属層５（２層目）、第２のＺｎＯを主成分とする酸化物層６（３層目）、第２のＡｇを主成分とする金属層７（４層目）、第３のＺｎＯを主成分とする酸化物層８（５層目）、第３のＡｇを主成分とする金属層９（６層目）、第４のＺｎＯを主成分とする酸化物層１０（７層目）、第４のＡｇを主成分とする金属層１１（８層目）、第５のＺｎＯを主成分とする酸化物層１２（９層目）、が順に形成された９層構造の多層膜である。こうした構成とすることで、観察者側から見た色調が好ましいものとなる（赤みを帯びない）。
【００２５】
本発明において、導電膜３の上には、図１に示すように、酸化物膜や窒化物膜などの保護膜１３を設けることが好ましい。この保護膜１３を設けることにより、導電膜３を水分から保護できる。また、導電膜３上に任意の樹脂フィルム（防湿フィルム、飛散防止用、反射防止用、近赤外線遮蔽用等の保護フィルム、近赤外線吸収フィルム等の機能性フィルム等）を接着する際の接着剤（特にアルカリ性の接着剤）から導電膜３の酸化物層（特にＺｎＯを主成分とする層）を保護できる。
保護膜１３として、具体的には、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｓｉなどの金属の酸化物膜や窒化物膜等が挙げられる。
特に、導電膜３の最上層にＺｎＯを主成分とする酸化物層を用いた場合には、保護膜１３として、特に、インジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）膜を用いることが好ましい。
保護膜１３の膜厚は、２〜３０ｎｍが好ましく、特に３〜２０ｎｍが好ましい。
【００２６】
＜電極＞
電極は、導電膜の電磁波遮蔽効果が発揮されるように、導電膜と電気的に接するように設けられる。
電極の配置としては、導電膜の周辺全体に施すのが、導電膜の電磁波遮蔽効果を確保するために好ましい。
電極の材質としては、抵抗が低い方が電磁波遮蔽性能の点では優位となる。たとえば、Ａｇペースト（Ａｇとガラスフリットを含むペースト）やＣｕペースト（Ｃｕとガラスフリットを含むペースト）を塗布、焼成したものが好適に用いられる。
【００２７】
＜各種樹脂フィルム＞
「防湿フィルム」
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートにおいては、導電膜を水分から保護するために、導電膜上に、防湿用の樹脂フィルム（防湿フィルム）が設けられていることが好ましい。
防湿フィルムとしては、特に制限はなく、一般的にＰＤＰ用電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用でき、例えばＰＥＴ、ポリ塩化ビニリデン等のプラスチック製のフィルムが挙げられる。
【００２８】
「飛散防止用樹脂フィルム」
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートにおいては、特に基体としてガラス板を用いる場合に、電磁波遮蔽シートの前面側（観察者側）および／または裏面側（ＰＤＰ側）に、飛散防止用樹脂フィルムが設けられていることが好ましい。
飛散防止樹脂用フィルムとしては、特に制限はなく、一般的にＰＤＰ用電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。特に、傷がついたとき自己修復する自己修復性と飛散防止特性とを有するウレタン樹脂系のフィルムを用いると良好な結果が得られる。
【００２９】
「反射防止用樹脂フィルム」
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートにおいては、電磁波遮蔽シートの前面側（観察者側）および／または裏面側（ＰＤＰ側）に、反射防止用樹脂フィルムが設けられていることが好ましい。
反射防止用樹脂フィルムとしては、特に制限はなく、一般的にＰＤＰ用電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。特に、フッ素樹脂系のフィルムを用いると良好な結果が得られる。低屈折率の樹脂フィルムは、色調調整のため、有色のフィルムとすることもできる。
また、電磁波遮蔽シートの前面側（観察者側）および／または裏面側（ＰＤＰ側）に、反射防止用樹脂フィルムの代わりに、低屈折率の薄膜を形成してもよい。
反射防止用樹脂フィルムまたは低屈折率の薄膜（反射防止層）は、得られる電磁波遮蔽シートの反射率が低くなり好ましい反射色が得られることから、その反射防止層自身について、可視域での反射率が最低となる波長が５００〜６００ｎｍ、特に５３０〜５９０ｎｍであることが好ましい。
【００３０】
電磁波遮蔽シート自身の飛散防止および反射防止の観点からは、上述した飛散防止用樹脂フィルムと反射防止用樹脂フィルムの機能を兼ね備えた、飛散防止兼反射防止用樹脂フィルムとして、旭硝子社製のＡＲＣＴＯＰ（商品名）を用いることが好ましい。ＡＲＣＴＯＰ（商品名）は、自己修復性と飛散防止特性とを有するポリウレタン系軟質樹脂フィルムの片面に、非結晶性の含フッ素重合体からなる低屈折率の反射防上層を形成して反射防止処理を施したものである。
【００３１】
「近赤外線遮蔽フィルム」
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートにおいては、電磁波遮蔽シートの前面側（観察者側）および／または裏面側（ＰＤＰ側）に、近赤外線遮蔽フィルムが設けられていてもよい。
近赤外線遮蔽フィルムとしては、特に制限はなく、一般的にＰＤＰ用電磁波遮蔽シートに用いられているものが使用できる。
また、近赤外線遮蔽フィルムの代わりに、近赤外線吸収基体を用いる、近赤外線吸収剤を添加した粘着剤をフィルム積層時に使用する、反射防止樹脂フィルム等に近赤外線吸収剤を添加して近赤外線吸収機能を併せ持たせる、近赤外線反射機能を有する導電膜を用いる、等の方法が可能である。
【００３２】
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートにおいては、防湿フィルム、飛散防止用樹脂フィルム、反射防止用樹脂フィルム等の樹脂フィルムを、適宜、色調調整のため、有色のフィルムとすることもできる。
たとえば、導電膜は、膜厚等の膜設計によっては着色して見えることがあるが、樹脂フィルムをその補色のフィルムとすることにより、全体の色調のニュートラル化が可能となる。
【００３３】
＜支持基体＞
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートは、電磁波遮蔽シートの裏面側（ＰＤＰ側）に、前記基体よりも剛性の高い、透明な支持基材（以下、単に支持基材という。）が設けられていてもよい。
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートにおいては、支持基材を設けることにより、基体の材料がＰＥＴ等のプラスチックであっても、ＰＤＰ側の表面と反対側で生じる温度差により反りが発生することがない。
支持基体の材料としては、上述した基体の材料と同様の材料等が挙げられる。
【００３４】
各種樹脂フィルムおよび／または支持基体を設ける場合、各種樹脂フィルムおよび／または支持基体は、基体上および／または導電膜上に、粘着剤層を介して積層されることが好ましい。
粘着剤層の粘着剤としては、市販されている粘着剤を使用することができ、好ましい具体例としては、アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、エポキシ樹脂、ポリウレタン、酢酸ビニル共重合体、スチレンーアクリル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、スチレンーブタジエン共重合体系ゴム、ブチルゴム、又はシリコーン樹脂等の粘着剤を挙げることができる。特に、良好な耐湿性が得られることからアクリル系の粘着剤が好ましく用いられる。
また、この粘着剤層には、紫外線吸収剤などの種々の機能を有する添加剤が配合されてもよい。
なお、樹脂フィルムの積層は、粘着剤や接着剤を用いずに、熱による貼り合わせが可能な場合もある。
【００３５】
＜着色セラミック層＞
また、本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートにおいては、電極の観察者側に、電極が観察者側から直接見えないように隠蔽するための着色セラミック層が形成されることが好ましい。着色セラミック層は、電極よりも観察者側に設けられていればよく、例えば支持基体上に印刷したり、着色テープを貼ることにより形成できる。
【００３６】
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートは、ＰＤＰの観察者側に設置すればよく、その配置位置は特に限定されない。たとえばＰＤＰ表面から離して設置してもよいし、ＰＤＰ表面に直接貼り付けてもよい。
【００３７】
＜第１実施形態＞
以下、本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの第１実施形態について説明する。
図２に、本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの一実施態様の層構造を示す模式的概略断面図を示す。図２において、２１は基体、２２は導電膜、２３ａ、２３ｂは電極である。
また、本実施態様においては、導電膜２２上に、粘着剤層２４を介して、保護フィルム２５が設けられている。
また、基体２１上には接着剤層２６を介して支持基体２７が設けられており、基体２１と支持基体２７との間の、電極２３ａ、２３ｂの観察者側（人側）には着色セラミック層２８ａ、２８ｂが設けられている。
さらに、支持基体２７上には、接着剤層２９を介して飛散防止兼反射防止用樹脂フィルム３０が設けられている。
【００３８】
本実施形態においては、飛散防止兼反射防止用樹脂フィルム３０は、電磁波遮蔽シートの最も人側に設けられている。飛散防止兼反射防止樹脂フィルム３０としては、上述したＡＲＣＴＯＰ（商品名、旭硝子（株）製）が好ましく用いられる。
飛散防止兼反射防止樹脂フィルム３０には、近赤外線吸収剤を混入して、近赤外線遮蔽効果を持たせてもよい。本発明の電磁波遮蔽シートにおいては、導電膜２２によって近赤外線を遮蔽できるが、このような樹脂フィルムを用いることにより、その遮蔽効果がさらに向上する。
【００３９】
図２において、支持基体２７上の基体２１や導電膜２２が、図示上、左右両端を除いて設けられているのは、この部分に電極２３を接地するための接地端子を形成するためである。接地端子は、接地抵抗を下げて高い電磁波遮蔽効果を確保するために、電磁波遮蔽シートの周辺全体に多数設けることが好ましい。
【００４０】
本実施形態では、電磁波遮蔽シートの最も人側の面に、飛散防止兼反射防止樹脂フィルム３０、例えば上述のＡＲＣＴＯＰ（商品名、旭硝子（株）製）が接着されているが、このフィルム３０のかわりに、支持基体２７の外側の面に直接、低屈折率の膜を形成する方法により反射防止処理を施してもよい。
【００４１】
＜第２実施形態＞
次に、本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの第２実施形態について説明する。なお、以下に記載する実施形態において、上記実施形態に対応する構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００４２】
図３は、本発明の電磁波遮蔽シートの他の実施形態の層構造を示す模式的概略断面図である。本実施形態では、支持基体２７の人側に、粘着剤層３１を介して基体２１、導電膜２２、電極２３ａ、２３ｂが順に積層されており、導電膜２２上に、粘着剤層３２を介して飛散防止兼反射防止樹脂フィルム３０が積層されている。
このような構成にすると、この飛散防止兼反射防止樹脂フィルム３０により、導電膜２２の保護効果が得られるため、第１実施形態における保護フィルム２５を設けなくともよい。
【００４３】
≪ＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの製造方法≫
本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートは、基体上に、酸化物層と、Ａｇを主成分としＢｉを含有する金属層とを、交互に計（２ｎ＋１）層［ｎは１以上の整数］積層して多層構造の導電膜を形成し、該導電膜上に電極を形成することにより製造できる。
【００４４】
基体上への導電膜（酸化物層、金属層）の形成方法は限定されず、たとえば、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング化学的気相成長法などが利用できる。中でも、品質、特性の安定性が良好であることから、スパッタリングが好適に使用できる。
スパッタリングによる導電膜の形成は、たとえば、以下のようにして行うことができる。まず、基体表面に、酸化物層のターゲット（たとえば、Ｚｎ以外の少なくとも１種の金属または該金属の酸化物をドープしたＺｎＯ）を用いて、酸素ガスを混合したアルゴンガスを導入し、パルススパッタを行い、酸化物層を形成する。ついで、ＢｉをドープしたＡｇ合金のターゲット材を用いて、アルゴンガスを導入し、パルススパッタを行い、金属層を形成する。この操作を繰り返し、最後に前記と同様の方法で酸化物層を形成することにより、（２ｎ＋１）層構造の導電膜を形成する。
金属層中のＢｉの含有割合を、ＢｉとＡｇとの総量に対して０．２〜０．６原子％とするためには、Ａｇ：Ｂｉ合金中のＢｉの含有割合を、ＢｉとＡｇとの総量に対して０．２〜１原子％とすることが好ましく、０．３〜０．６原子％とすることがより好ましい。
【００４５】
電極は、たとえば、Ａｇペースト（Ａｇとガラスフリットを含むペースト）やＣｕペースト（Ｃｕとガラスフリットを含むペースト）を導電膜上に塗布、焼成することにより形成できる。
【実施例】
【００４６】
以下に発明をより詳細に説明するために実施例を示す。本発明は、これらの例によって何ら制限されるものではない。
【００４７】
実施例１
［支持基体の作製］
図２に示した構成のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートを以下の手順で作製した。
まず、厚さ２．５ｍｍのガラス板を９８ｃｍ×６８ｃｍに切断し、面取りした後洗浄し、着色セラミックス層形成用のインクを、ガラス板周辺部全体にスクリーン印刷した。次いで、ガラス強化処理を目的として、このガラス板を６６０℃まで加熱し、その後風冷強化を施して、着色セラミックス層２８ａ、２８ｂが表面に形成された支持基体２７を作製した。
【００４８】
［スパッタ法による導電膜の形成］
つぎに、基材２（図２の基材２１）として厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を使用して、該基材２上に、図１に示した構成の導電膜３（図２の導電膜２２）を、以下の手順で形成した。
まず、基材２表面の洗浄を目的としたイオンビームによる乾式洗浄を以下のようにして行った。まずＡｒガスに約３０％の酸素を混合して、１００Ｗの電力を投入した。イオンビームソースによりイオン化されたＡｒイオンおよび酸素イオンを基材表面に照射した。
【００４９】
次いで、乾式洗浄処理された基材２表面の一方の面に、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で、周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．８ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１μｓｅｃのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜４（厚さ４０ｎｍ）を形成した。
ついで、０．５原子％ＢｉをドープしたＡｇ合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で、周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．４ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃのパルススパッタを行い、Ａｇ合金膜５（厚さ１３ｎｍ）を形成した。
該条件下では、Ａｇ合金膜中のＢｉの含有割合は、ＢｉとＡｇとの総量に対して０．２５原子％となる。
【００５０】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で、周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．８ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１μｓｅｃのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜６（厚さ８０ｎｍ）を形成した。
ついで、０．５原子％ＢｉをドープしたＡｇ合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で、周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．４ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃのパルススパッタを行い、Ａｇ合金膜７（厚さ１６ｎｍ）を形成した。
【００５１】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で、周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．８ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１μｓｅｃのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜８（厚さ８０ｎｍ）を形成した。
ついで、０．５原子％ＢｉをドープしたＡｇ合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で、周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．４ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃのパルススパッタを行い、Ａｇ合金膜９（厚さ１６ｎｍ）を形成した。
【００５２】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で、周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．８ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１μｓｅｃのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜１０（厚さ８０ｎｍ）を形成した。
ついで、０．５原子％ＢｉをドープしたＡｇ合金ターゲットを用いて、アルゴンガスを導入し、０．５Ｐａの圧力で、周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．４ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅５μｓｅｃのパルススパッタを行い、Ａｇ合金膜１１（厚さ１３ｎｍ）を形成した。
【００５３】
ついで、アルミナを５質量％ドープした酸化亜鉛ターゲットを用いて、アルゴンに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で、周波数１００ｋＨｚ、電力密度４．３ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１μｓｅｃのパルススパッタを行い、酸化亜鉛膜１２（厚さ３５ｎｍ）を形成した。
【００５４】
ついで、酸化亜鉛膜１２上に、保護膜としてＩＴＯターゲット（インジューム：スズ＝９０：１０）を用いて、アルゴンに３体積％の酸素ガスを混合して導入し、０．３５Ｐａの圧力で周波数１００ｋＨｚ、電力密度０．５ｗ／ｃｍ２、反転パルス幅１μｓｅｃのパルススパッタを行い、ＩＴＯ膜１３（厚さ５ｎｍ）を形成して、電磁波遮蔽フィルムを得た。
【００５５】
得られた電磁波遮蔽フィルムに、粘着材（リンテック社製、Ｐ０２８０）を２５μｍの厚さとなるように塗布し、上記作製した支持基体２７の、着色セラミックス層２８ａ、２８ｂ形成側の面に貼り付けた。
【００５６】
ついで、電磁波遮蔽フィルムを保護する目的で、電磁波遮蔽フィルムの、支持基体２７が貼り合わされた側と反対側に、保護フィルム２５（商品名ＡＲＣＴＯＰ  ＣＰ２１、旭硝子（株）製）を貼り合わせた。導電膜の外周部の一部には、電極取り出しの目的から、保護フィルムを貼り合せない部分を残しておいた。
【００５７】
［電極の形成］
ついで、予め残しておいた電磁波遮蔽フィルム露出部分（導電膜の外周部）に、Ａｇペースト（商品名ＡＦ４８１０、太陽インキ社製）をナイロンメッシュ＃１８０、乳剤厚み２０μｍにてスクリーン印刷し、熱風循環炉で８５℃３５分間乾燥させて、電極を形成した。
【００５８】
ついで、支持基体２７の裏面（電磁波遮蔽フィルムを貼り合わせた反対面）に、反射防止とガラス飛散防止を目的としたポリウレタン系軟質樹脂フィルム（商品名ＡＲＣＴＯＰ  ＵＲＰ２１９９）に透明性粘着加工を施したものを貼り合わせて、ＰＤＰ用電磁波遮蔽シートを得た。なお、通常は、この樹脂フィルムに着色剤を添加し、色調補正、Ｎｅカットなどを実現し色再現性の向上を図るが、本検証においては同評価を行なわないため、無着色とした。
【００５９】
比較例１
実施例１におけるＢｉドープのＡｇ合金ターゲットの部分を、１質量％のＰｄをドープしたＡｇ合金ターゲットとした以外は、すべて実施例１どおりにしてＰＤＰ用電磁波遮蔽シートを得た。
【００６０】
比較例２
実施例１におけるＢｉドープのＡｇ合金の部分を、純度９９．９％のＡｇとした以外は、すべて実施例１どおりにしてＰＤＰ用電磁波遮蔽シートを得た。
【００６１】
試験例１
実施例１および比較例１，２で作成したＰＤＰ用電磁波遮蔽シートについて、下記の手順で、視感透過率、シート抵抗を測定し、高温高湿耐性試験、ＮａＣｌ滴下試験を行った。
【００６２】
「視感透過率」
視感透過率（ＪＩＳ  Ｚ  ８７０１において規定されている刺激値Ｙ）を、島津製作所社製分光光度計ＵＶ３１５０ＰＣにより測定した。
実施例１および比較例２のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの視感透過率は各々６１．１％、６２．２％であった。これに対し、比較例１のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの視感透過率は５５．０％と低かった。
【００６３】
「シート抵抗」
シート抵抗を、Ｎａｇｙ社製渦電流型抵抗測定器ＳＲＭ１２により測定した。
実施例１のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートのシート抵抗は０．８５Ωであった。これに対し、比較例１のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートのシート抵抗は１．１５Ωと高かった。また、比較例２のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートのシート抵抗は０．８１Ωであった。
【００６４】
「耐高温耐湿性試験」
高温高湿環境下放置による加速試験により、視感透過率（光学特性）およびシート抵抗（電気的特性）の劣化、および外観の変化（白点、白濁の発生の有無）について調査した。６０℃−９０％の環境下に１００時間放置した後、目視観察を行い、上記と同様にして視感透過率、シート抵抗の評価を行った。
本発明および比較例１のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートは、外観的欠点の発生が無く、視感透過率およびシート抵抗の変化も無かった。これに対し、比較例２のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートは白点、白濁が発生し、試験前後での視感透過率およびシート抵抗の変化が大きく、光学特性、電気的特性の変化が大きいことを確認した。
【００６５】
「ＮａＣｌ滴下試験」
Ａｇ膜の劣化について、ＮａＣｌ水溶液による腐食度合いの比較を行い、耐マイグレーション性を評価した。
実施例１および比較例１、２のＰＤＰ用電磁遮蔽シートの保護フィルム２５を貼り合せる前の導電膜上に、２質量％のＮａＣｌ水溶液５μＬを滴下し、室温にて乾燥した。乾燥後、保護フィルム２５を貼り合せ、湿度６０％、温度９０℃の恒温恒湿槽にて１００時間放置した。該シートを恒温恒湿槽から取り出し、保護フィルム側から観察し、ＮａＣｌ水溶液滴下部分を中心として変色した部分（劣化した部分）の面積を比較した。その結果、実験例１の変色した部分の面積は、比較例１と同等であり、比較例２よりも少ないことを確認した。
【００６６】
これらの結果から明らかなように、実施例１のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートは、ＰｄをドープしたＡｇを用いた比較例１のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートよりも高い視感透過率（光学特性）、および低いシート抵抗（電気的特性）を有するとともに、純Ａｇを用いた比較例２のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートよりも優れた耐湿性、耐マイグレーション性を有していた。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明における基体上に形成された導電膜の一例の模式的概略断面図である。
【図２】本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの第１実施態様の層構造を示す模式的概略断面図である。
【図３】本発明のＰＤＰ用電磁波遮蔽シートの第２実施態様の層構造を示す模式的概略断面図である。
【符号の説明】
【００６８】
１…電磁波遮蔽シート、２…基体、３…導電膜、４…酸化物層、５…金属層、６…酸化物層、７…金属層、８…酸化物層、９…金属層、１０…酸化物層、１１…金属層、１２…酸化物層、１３…保護膜、２１…基体、２２…導電膜、２３ａおよび２３ｂ…電極、２４…粘着剤層、２５…保護フィルム、２６…粘着剤層、２７…支持基体、２８ａおよび２８ｂ…着色セラミック層、２９…粘着剤層、３０…飛散防止兼反射防止樹脂フィルム、３１…粘着剤層、３２…粘着剤層
【図１】
2005072255.tif 000003
【図２】
2005072255.tif 000004
【図３】
2005072255.tif 000005