(57)【要約】【課題】  効率よく鏡筒内の吸光物質や汚染物質の量を調整することができる鏡筒、鏡筒の圧力調整方法及び高集積度のデバイスを効率よく製造可能な露光装置並びにデバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】  所定の耐圧性を有し、カバーガラス４３を覆う隔壁部材６０を、パッキン６１を介して投影系鏡筒本体２７の両端部に着脱可能に設けて、前記隔壁部材６０と前記カバーガラス４３との間に、外部に対して気密状態にある区画空間６２を形成する。そして、減圧ポンプ６５から延びる圧力調整管６４を投影系鏡筒本体２７及び隔壁部材６０に接続し、前記減圧ポンプ６５により投影系鏡筒本体２７内の空間６９及び区画空間６２を減圧できるように構成する。【選択図】      図２
2005183623.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光学素子と、該複数の光学素子を保持する鏡筒本体とを備える鏡筒において、
前記鏡筒本体の両端部のうち少なくとも１つの端部に設けられ、前記鏡筒本体に収容されている前記光学素子との間に区画空間を形成する空間区画機構を有し、前記鏡筒本体内の空間及び前記空間区画機構により形成された前記区画空間のうち少なくとも一方の圧力を調整する圧力調整機構を備えていることを特徴とする鏡筒。
【請求項２】
前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間とをほぼ同等の圧力に調整することを特徴とする請求項１に記載の鏡筒。
【請求項３】
前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間とを連通する連通路を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の鏡筒。
【請求項４】
前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間との気体を外部に排気する排気装置に接続されることを特徴とする請求項１〜請求項３のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【請求項５】
前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間との間の圧力差を、前記区画空間を形成する前記光学素子の耐圧限界より小さく抑えることを特徴とする請求項１〜請求項４のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【請求項６】
前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間及び前記区画空間の少なくとも一方と外部との気体の流通を許容または遮断する開閉弁を有することを特徴とする請求項１〜請求項５のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【請求項７】
前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間に所定の気体を供給する気体供給機構を備えたことを特徴とする請求項１〜請求項６のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【請求項８】
前記空間区画機構は、前記鏡筒本体の端部に対して着脱可能に設けられる隔壁部材を備えることを特徴とする請求項１〜請求項７のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【請求項９】
前記鏡筒本体の端部に対して前記隔壁部材を変位させる隔壁変位装置を有することを特徴とする請求項８に記載の鏡筒。
【請求項１０】
複数の光学素子と、該複数の光学素子を保持する鏡筒本体とを備える鏡筒の圧力調整方法において、
前記鏡筒本体の両端部のうち少なくとも１つの端部に空間区画機構を設け、
該空間区画機構と前記鏡筒本体に収容されている前記光学素子との間に区画空間を形成し、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間との少なくとも一方の圧力を調整することを特徴とする鏡筒の圧力調整方法。
【請求項１１】
マスク上に形成されたパターンの像を基板上に露光する露光装置において、
請求項１〜請求項９のうちいずれか一項に記載の鏡筒を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
前記鏡筒が、前記パターンの像を前記基板上に投影する投影光学系であることを特徴とする請求項１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
前記リソグラフィ工程で、請求項１１または請求項１２に記載の露光装置を用いて露光を行うことを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばレンズ、ミラー等の複数の光学素子と、該光学素子を保持する鏡筒本体とを備える鏡筒に関するものである。また、本発明は、前記鏡筒内の圧力を調整する圧力調整方法に関するものである。さらに、本発明は、例えば半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド等、各種デバイスの製造プロセスのフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置に関するものである。加えて、本発明は、前記各種デバイスを製造するためのデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の露光装置では、所定のパターンが形成されたレチクル、フォトマスク等のマスクを所定の露光光で照明する照明光学系が設けられている。また、この照明光学系の照明により、前記パターンの像をフォトレジスト等の感光性材料の塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート等）上に露光する投影光学系が設けられている。これらの照明光学系及び投影光学系は、複数のレンズエレメント、ミラー等の光学素子で構成され、鏡筒内に収容されている。
【０００３】
このような露光装置では、近年の回路パターンの著しい微細化要求に対応すべく、露光光の短波長化が進められてきている。最近では、遠紫外域のＫｒＦエキシマレーザ光（λ＝２４８ｎｍ）、さらに真空紫外域のＡｒＦエキシマレーザ光（λ＝１９３ｎｍ）、Ｆ2レーザ光（λ＝１５７ｎｍ）等を露光光とした露光装置が開発されている。
【０００４】
ところで、このような波長の露光光を用いる場合、次のような問題が明らかになってきた。すなわち、その露光光が通過する空間（鏡筒の内部空間等）内に、酸素、水蒸気、炭化水素ガス、あるいは気体状の有機物質、気体状のアンモニウム塩、硫酸塩、硝酸塩等の無機物質などの吸光物質が存在すると、前記露光光が基板に到達する前に吸収されて露光光のエネルギが大幅に低下したり、前記露光光と反応して前記光学素子の表面に曇り物質を生じたりするという問題である。この問題は、露光光として真空紫外光を利用するときに特に顕著となり、無視できないものとなる。この他にも、露光装置内に光学素子、フォトマスクや基板を載置するステージ等を駆動する駆動機構が存在する場合には、その駆動機構への給電、信号伝達のための電線の被覆物質等から極微量ながら有機物質等が揮散される。このような揮散物も、前記露光光を吸収する吸光物質や前記光学素子を汚染する汚染物質となり得る。さらに、前記光学素子、それら光学素子を収容する鏡筒の内壁に付着していた付着物が露光中に徐々に揮散される揮散物等、いわゆる脱ガスも、前記吸光物質や前記汚染物質となり得る。
【０００５】
特に、Ｆ2レーザ光以下の短波長の光を採用した場合には、光源から出射された露光光は、前記吸光物質による吸収が極めて大きく、前記基板に到達するまでにそのエネルギが著しく低下することがある。このように、露光光自体のエネルギが低下したり、光学素子の曇りによって露光光の透過率が低下したりすると、基板上に到達する露光光のエネルギが不足するという事態を招くことがある。これにより、露光装置の露光効率が低下し、製品の歩留まりの低下が懸念される。
【０００６】
そこで、近年、不活性ガス、例えば、窒素や、ヘリウム、アルゴン等の希ガスを用いて前記露光光が通過する前記鏡筒の内部空間に存在する気体を置換する露光装置が開発されてきている。すなわち、不活性ガスを前記内部空間に供給して、前記吸光物質や前記汚染物質を含む気体を同空間外に排出するものである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、前記従来構成では、前記内部空間内を前記不活性ガスで置換する不活性ガス供給機構は装備されているものの、前記内部空間における前記吸光物質や前記汚染物質の濃度を低下させる程度のものであった。しかしながら、露光光として、特にＦ2レーザ以下の短波長の光を採用した場合には、極微量の前記吸光物質や前記汚染物質の存在が問題となることがある。このような吸光物質のうちで、特に水はＦ2レーザ光以下の短波長の露光光の吸収係数が大きいことと、単に乾燥した不活性ガスを前記内部空間内に供給するのみでは前記内部空間の壁面や前記光学素子の表面に数分子の厚さで堆積した水の除去に極めて長時間を要することとから、その除去に大きな関心が集まっている。このため、前記のような短波長の露光光が影響を受けない程度に前記内部空間内の微量の吸光物質や汚染物質等を効率よく鏡筒の外部へ排出する構成への要求が大きく高まっている。
【０００８】
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的としては、効率よく鏡筒内の吸光物質や汚染物質の量を調整することができる鏡筒、鏡筒の圧力調整方法及び高集積度のデバイスを効率よく製造可能な露光装置並びにデバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するために、本願請求項１に記載の発明は、複数の光学素子と、該複数の光学素子を保持する鏡筒本体とを備える鏡筒において、前記鏡筒本体の両端部のうち少なくとも１つの端部に設けられ、前記鏡筒本体に収容されている前記光学素子との間に区画空間を形成する空間区画機構を有し、前記鏡筒本体内の空間及び前記空間区画機構により形成された前記区画空間のうち少なくとも一方の圧力を調整する圧力調整機構を備えていることを特徴とするものである。
【００１０】
この本願請求項１に記載の発明では、前記鏡筒本体内の空間や前記区画空間を減圧することが可能となり、内部空間に存在する吸光物質や汚染物質を効率よく鏡筒本体の外部へ排出することができる。このため、鏡筒本体の内部空間を所定の気体により精度よく置換する必要がある場合であっても、短時間に少量の所定の気体で前記鏡筒本体内の吸光物質や汚染物質の量を調整することができる。
【００１１】
また、本願請求項２に記載の発明は、前記請求項１に記載の発明において、前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間とをほぼ同等の圧力に調整することを特徴とするものである。
【００１２】
この本願請求項２に記載の発明では、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間との間に大きな圧力差を生じないので、前記鏡筒本体内の空間と区画空間とを区画する光学素子に対して不均一な圧力負荷が作用することはない。このため、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間との圧力調整を行っても、前記光学素子が変形されたりすることが回避され、その光学性能を高く維持することができる。
【００１３】
また、本願請求項３に記載の発明は、前記請求項１または請求項２に記載の発明において、前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間とを連通する連通路を有することを特徴とするものである。
【００１４】
この本願請求項３に記載の発明では、簡単な構成で前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間とを同時にほぼ同等の圧力に調整することができる。
また、本願請求項４に記載の発明は、前記請求項１〜請求項３のうちいずれか一項に記載の発明において、前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間との気体を外部に排気する排気装置に接続されることを特徴とするものである。
【００１５】
この本願請求項４に記載の発明では、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間との内の吸光物質や汚染物質を、それらの空間にもともと存在する気体とともに、外部に速やかに排出することができる。また、両空間内を減圧状態とすることで、両空間を形成する壁面や光学素子上に付着した吸光物質や汚染物質の揮散が加速されるため、それらの物質の除去をより効率的に行うことができる。
【００１６】
また、本願請求項５に記載の発明は、前記請求項１〜請求項４のうちいずれか一項に記載の発明において、前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間との間の圧力差を、前記区画空間を形成する前記光学素子の耐圧限界より小さく抑えることを特徴とするものである。
【００１７】
この本願請求項５に記載の発明では、前記区画空間を形成する前記光学素子が、前記圧力差による変形を回避することができて、その光学性能の低下を抑制することができる。
また、本願請求項６に記載の発明は、前記請求項１〜請求項５のうちいずれか一項に記載の発明において、前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間及び前記区画空間の少なくとも一方と外部との気体の流通を許容または遮断する開閉弁を有することを特徴とするものである。
【００１８】
この本願請求項６に記載の発明では、前記開閉弁を適宜に開閉することで、前記鏡筒本体内の空間及び前記区画空間からの気体の排出状態と、各空間への所定の気体の供給状態と、各空間内を所定の気体で置換した状態とに容易に切換えることができる。
【００１９】
また、本願請求項７に記載の発明は、前記請求項１〜請求項６のうちいずれか一項に記載の発明において、前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間に所定の気体を供給する気体供給機構を備えたことを特徴とするものである。
【００２０】
この本願請求項７に記載の発明では、鏡筒本体内の空間の圧力調整を行った後、直ちに同空間内に所定の気体を供給することができるので、同空間内の吸光物質や汚染物質の量を好適に調整することができる。
【００２１】
また、本願請求項８に記載の発明は、前記請求項１〜請求項７のうちいずれか一項に記載の発明において、前記空間区画機構は、前記鏡筒本体の端部に対して着脱可能に設けられる隔壁部材を備えることを特徴とするものである。
【００２２】
この本願請求項８に記載の発明では、前記鏡筒本体の不使用時には、前記隔壁部材を前記鏡筒本体の蓋として用いることで、前記光学素子を保護したり、クリーンルームから露光装置を収容する筐体内に極微量ながら漏れ込んだ汚染物質による前記光学素子の曇りを抑制したりすることができる。また、前記隔壁部材を鏡筒本体から脱離させたり、露光光の光路から退避させたりすることにより前記鏡筒本体を容易に使用状態に切換えることができる。
【００２３】
また、本願請求項９に記載の発明は、前記請求項８に記載の発明において、前記鏡筒本体の端部に対して前記隔壁部材を変位させる隔壁変位装置を有することを特徴とするものである。
【００２４】
この本願請求項９に記載の発明では、前記鏡筒本体の不使用時には、前記隔壁部材により前記光学素子を保護することができるとともに、前記鏡筒本体の使用時には、前記隔壁変位装置により前記隔壁部材を変位させて、前記隔壁部材を露光光の光路から容易に退避させることができる。
【００２５】
また、本願請求項１０に記載の発明は、複数の光学素子と、該複数の光学素子を保持する鏡筒本体とを備える鏡筒の圧力調整方法において、前記鏡筒本体の両端部のうち少なくとも１つの端部に空間区画機構を設け、該空間区画機構と前記鏡筒本体に収容されている前記光学素子との間に区画空間を形成し、前記鏡筒本体内の空間と前記区画空間との少なくとも一方の圧力を調整することを特徴とするものである。
【００２６】
この本願請求項１０に記載の発明では、請求項１に記載の発明と同様の作用及び効果を得ることができる。
また、本願請求項１１に記載の発明は、マスク上に形成されたパターンの像を基板上に露光する露光装置において、前記請求項１〜請求項９のうちいずれか一項に記載の鏡筒を備えたことを特徴とするものである。
【００２７】
この本願請求項１１に記載の発明では、露光精度が向上され、微細なパターンであっても精度よく露光することができる。また、この発明の露光装置は、真空紫外光を露光光とする露光装置に特に好適である。
【００２８】
また、本願請求項１２に記載の発明は、前記請求項１１に記載の発明において、前記鏡筒が、前記パターンの像を前記基板上に投影する投影光学系であることを特徴とするものである。
【００２９】
この本願請求項１２に記載の発明では、投影光学系を所定の状態に調整する時間を大幅に短縮することができる。
また、本願請求項１３に記載の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程で、前記請求項１１または請求項１２に記載の露光装置を用いて露光を行うことを特徴とするものである。
【００３０】
この本願請求項１３に記載の発明では、高集積度のデバイスを歩留まりよく製造することができる。
次に、前記各請求項に記載の発明とともに、下記実施形態から抽出される技術的思想について、それらの作用及び効果とともに以下に記載する。
【００３１】
（１）  前記圧力調整機構は、前記鏡筒本体内の空間の圧力に応じて、前記鏡筒本体内の気体を排気する排気装置または、前記気体供給機構に切換接続することを特徴とする請求項７に記載の鏡筒。
【００３２】
このように構成すれば、前記鏡筒本体内の空間の圧力に応じて、鏡筒本体内の気体の排出と、同空間内への所定の気体の供給とを容易に切換えることができる。
（２）  前記隔壁部材は、前記鏡筒本体の端部に対して接離可能に配置されることを特徴とする請求項８に記載の鏡筒。
【００３３】
このように構成すれば、前記鏡筒本体の端部に接合された隔壁部材を、その端部から離隔させる際にその端部に臨む光学素子と隔壁部材との接触を回避することができ、その光学素子の光学性能を良好に保つことができる。
【００３４】
（３）  前記隔壁部材は、前記区画空間を前記鏡筒本体の外部に対して気密に形成することを特徴とする請求項８または前記（２）に記載の鏡筒。
このように構成すれば、前記区画空間内を減圧する際に鏡筒本体の外部から新たに吸光物質や汚染物質が、区画空間そして鏡筒本体内に取り込まれることを抑制することができる。
【００３５】
（４）  前記隔壁部材は、前記区画空間を大気圧より低い減圧状態としたときに生じる区画空間の内外の圧力差に耐える耐圧材料で形成したことを特徴とする請求項８、前記（２）、前記（３）のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【００３６】
このように構成すれば、前記区画空間内を前記鏡筒本体内の空間の圧力と同等になるように減圧する際に、区画空間を形成する光学素子に、鏡筒本体の配置される外部環境の高い圧力が作用することをより確実に回避することができ、同光学素子の変形をより確実に抑制することができる。
【００３７】
（５）  前記隔壁部材には、前記区画空間から外部への気体の通過のみを許容する逆止弁が設けられていることを特徴とする請求項８、前記（２）〜前記（４）のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【００３８】
このように構成すれば、外部からの吸光物質や汚染物質の侵入を抑制しつつ、区画空間内を所定の気体によって満たした状態に維持することができる。
（６）  前記区画空間を形成する光学素子を、前記隔壁部材と前記鏡筒本体の端面より前記鏡筒本体の内側に配置したことを特徴とする請求項８、前記（２）〜前記（５）のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【００３９】
このように構成すれば、隔壁部材を露光光の光軸と交差する方向へ変位させる際に、前記隔壁部材が、鏡筒本体の端部に配置されて区画空間を形成する光学素子と接触することが回避される。これにより、隔壁部材と前記光学素子との干渉による前記光学素子の光学性能への影響を排除することができる。
【００４０】
（７）  内部を通過する光の波長が１９０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜請求項９、前記（１）〜前記（６）のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
請求項１〜請求項９、前記（１）〜前記（６）に記載の鏡筒は、吸光物質や汚染物質の影響が極めて大きい１９０ｎｍ以下の光を通過させる鏡筒として、特に好適である。また、前記各請求項及び前記（１）〜前記（６）の各項に記載の鏡筒を搭載することで露光装置の解像性能を向上させることができる。
【発明の効果】
【００４１】
以上のように、この発明においては、効率よく鏡筒内の吸光物質や汚染物質の量を調整することができる。また、高集積度のデバイスを効率よく製造することができるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下に、本発明を、半導体素子製造用の露光装置、及び同露光装置を用いた半導体素子の製造方法に具体化した実施形態について、図１〜図４に基づいて説明する。
図１に示すように、露光装置は、光源としての露光光源２１と露光装置本体２２とビーム・マッチング・ユニット（以下、「ＢＭＵ」という。）２３とから構成されている。露光光源２１は、露光光ＥＬとして、例えばＦ2レーザ光（λ＝１５７ｎｍ）を出射するレーザ光源となっている。また、ＢＭＵ２３は複数の光学素子で構成され、これら複数の光学素子はＢＭＵ室２９に収容される。このＢＭＵ２３は、露光光源２１と露光装置本体２２とを光学的に接続し、このＢＭＵ２３を介して露光光源２１から出射された露光光ＥＬが露光装置本体２２内に導かれるようになっている。
【００４３】
また露光装置本体２２は、露光光ＥＬの照射により、マスクとしてのレチクルＲ上に形成されたパターンの像を基板としてのウエハＷ上に転写するものである。以下に、その露光装置本体２２の概略構成について説明する。
【００４４】
露光装置本体２２のチャンバ２４内には、鏡筒としての照明系鏡筒本体２５及び鏡筒としての投影系鏡筒本体２７が、ＢＭＵ２３を介して導入された露光光ＥＬの光軸方向に順次配置されている。これら鏡筒本体２５，２７及びＢＭＵ室２９は、露光光源２１からウエハＷに至る露光光ＥＬの光路を含む空間を形成している。また、チャンバ２４は空調装置（図示略）を備えており、露光装置本体２２全体の動作を制御する主制御系３０の制御の下で、このチャンバ２４の内部が所定の温度及び湿度に保たれるようになっている。
【００４５】
照明系鏡筒本体２５内には、レチクルＲを照明するための照明光学系３３が収容されている。この照明光学系３３は、複数のミラー３４、オプティカルインテグレータをなすフライアイレンズ（ロッドインテグレータでもよい）３５、コンデンサレンズ３６等の光学素子からなっている。フライアイレンズ３５は、露光光源２１からの露光光ＥＬの入射により、その後方面にレチクルＲを均一な照度分布で照明する多数の二次光源を形成する。そのフライアイレンズ３５の後方には、露光光ＥＬの形状を整形するためのレチクルブラインド３７が配置されている。
【００４６】
照明系鏡筒本体２５の両端におけるＢＭＵ側開口部２５ａ及びマスク側開口部２５ｂには、照明光学系３３の光学素子の一部として円板状の平行平板ガラス３８が配置されている。また、ＢＭＵ室２９の両端における光源側開口部２９ａ及び照明光学系側開口部２９ｂにも、平行平板ガラス３８が配置されている。この平行平板ガラス３８は、露光光ＥＬを透過する物質（合成石英、蛍石など）により形成されている。
【００４７】
照明系鏡筒本体２５内には、平行平板ガラス３８を介して複数（この例では４つ）の内部空間３９が形成されている。そして、内部空間３９には、ミラー３４、フライアイレンズ３５、及びコンデンサレンズ３６の各光学素子や、レチクルブラインド３７が単独であるいはいくつか組み合わされて収容されている。
【００４８】
また、投影系鏡筒本体２７内には、照明光学系３３によって照明されるレチクルＲ上のパターンの像をウエハＷ上に投影するための投影光学系４２が収容されている。図２に示すように、この投影光学系４２は、２つのカバーガラス４３と複数（この例では４つ）のレンズエレメント４４等の光学素子とからなっている。そして、その投影系鏡筒本体２７は、投影系鏡筒本体２７の内壁及びカバーガラス４３によって、該投影系鏡筒本体２７内に空間６９が形成されている。
【００４９】
また、図１に示すように、投影光学系４２と照明光学系３３との間には、レチクルステージＲＳＴが配置されている。このレチクルステージＲＳＴにより、所定のパターンが形成されたレチクルＲが、露光光ＥＬの光軸と直交する面内で移動可能に保持されるようになっている。
【００５０】
また、投影光学系４２の像面側には、ウエハステージＷＳＴが配置されている。このウエハステージＷＳＴにより、露光光ＥＬに対して感光性を有するフォトレジストが塗布されたウエハＷが、その露光光ＥＬの光軸と直交する面内において移動可能、かつその光軸に沿って微動可能に保持されるようになっている。
【００５１】
レチクルステージＲＳＴの端部には、干渉計（図示略）からのレーザビームを反射する移動鏡が固定されている。そして、レチクルステージＲＳＴは、この干渉計によって走査方向の位置が常時検出され、主制御系３０の制御のもとで、所定の走査方向に駆動されるようになっている。
【００５２】
また、ウエハステージＷＳＴの端部には、干渉計（図示略）からのレーザビームを反射する移動鏡が固定されており、ウエハステージＷＳＴが可動する平面内での位置は干渉計によって常時検出される。そして、ウエハステージＷＳＴは、主制御系３０の制御のもとで、走査方向の移動のみならず、可動する平面内において走査方向と直交する方向にも移動可能に構成されている。これにより、ウエハＷ上の各ショット領域毎に走査露光を繰り返すステップ・アンド・スキャン動作が可能になっている。
【００５３】
ここで、ステップ・アンド・スキャン方式により、レチクルＲ上の回路パターンをウエハＷ上のショット領域に走査露光する場合、レチクルＲ上の照明領域が、レチクルブラインド３７で長方形（スリット）状に整形される。この照明領域は、レチクルＲ側の走査方向に対して直交する方向を長手方向とするものとなっている。そして、露光時において、レチクルＲを走査方向に所定の速度Ｖｒで移動させることにより、レチクルＲ上の回路パターンをスリット状の照明領域で一端側から他端側に向かって順次照明する。これにより、照明領域内におけるレチクルＲ上の回路パターンが、投影光学系４２を介してウエハＷ上に投影され、投影領域が形成される。
【００５４】
ここで、ウエハＷは、レチクルＲと倒立結像関係にあるため、レチクルＲの走査方向とは反対方向にレチクルＲの走査に同期して所定の速度Ｖｗで移動される。これにより、ウエハＷのショット領域の全面が露光可能となる。走査速度の比Ｖｗ／Ｖｒは投影光学系４２の縮小倍率に応じたものになっており、レチクルＲ上の回路パターンがウエハＷ上の各ショット領域上に正確に縮小転写される。
【００５５】
また、ＢＭＵ室２９、内部空間３９及び空間６９を区画する壁部に形成された開口４９には、気体供給機構としてのパージガス供給系５０が接続されている。そして、ＢＭＵ室２９、内部空間３９及び空間６９には、パージガス供給系５０及び各開口４９を介して、マイクロデバイス工場のユーティリティプラント内のタンク５１より、パージガスとしての不活性ガスが供給されるようになっている。ここで、不活性ガスとは、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の中から選択された単体のガス、あるいはその混合ガスである。
【００５６】
ここで、このパージガス中には、ミラー３４，フライアイレンズ３５、コンデンサレンズ３６、平行平板ガラス３８、カバーガラス４３及びレンズエレメント４４等の光学素子の表面上に、露光光ＥＬの照射下で堆積して曇り現象を生じせしめる汚染物質、あるいはＦ2レーザ光を強く吸収する水等の吸光物質が不純物として含まれることがある。
【００５７】
このため、パージガス供給系５０の給気配管５２中には、パージガス中に含まれる上記汚染物質や吸光物質を含む不純物を除去するためのフィルタ５３及びパージガスを所定の温度に調整するとともにパージガス中の水分を除去する温調乾燥器５４が介装されている。そして、ＢＭＵ室２９、内部空間３９及び空間６９は、パージガス排出管５５を介して半導体素子製造工場の排気ダクト５６に接続されている。
【００５８】
なお、ＢＭＵ室２９、内部空間３９及び空間６９に存在する汚染物質としては、例えば有機ケイ素化合物、アンモニウム塩、硫酸塩、ウエハＷ上のレジストからの揮散物、駆動部を有する構成部品に使用される摺動性改善剤からの揮散物、チャンバ２４内の電気部品に給電あるいは信号供給するための配線の被覆層からの揮散物等がある。従って、工場の外部に排出されるパージガスには、これらの汚染物質が含まれている場合もある。
【００５９】
次に、投影光学系４２を収容する投影系鏡筒本体２７の構成について説明する。
図２に示すように、投影系鏡筒本体２７は、各レンズエレメント４４を保持する複数の鏡筒ユニット５９がボルト等により互いに固定されて構成されている。投影系鏡筒本体２７の両端部には、カバーガラス４３を覆うようにそれぞれ空間区画機構の一部を構成する隔壁部材６０がパッキン６１を介して着脱可能に設けられている。隔壁部材６０は、金属等の耐圧材料からなっている。
【００６０】
ここでいう「着脱可能」とは、隔壁部材６０を投影系鏡筒本体２７から完全に取り外すことのできる構成と、隔壁部材６０を投影系鏡筒本体２７に取着した状態で露光光ＥＬの光路外に退避させることのできる構成との両方を含むものとする。
【００６１】
このとき、隔壁部材６０とカバーガラス４３との間には、外部に対して気密状態にある区画空間６２が形成される。隔壁部材６０には、区画空間６２にパージガスを供給できるようにパージガス供給系５０の給気配管５２が接続されており、隔壁部材６０に接続される給気配管５２には、開閉弁６８が設けられている。
【００６２】
パージガス排出管５５と接続された排気装置としての減圧ポンプ６５からは圧力調整管６４が延びており、該圧力調整管６４は２本に分岐している。圧力調整管６４において、減圧ポンプ６５と分岐点との間には、開閉弁としての電磁弁６６が設けられている。そして、２本に分岐した圧力調整管６４の一方は、投影系鏡筒本体２７に接続され、他方は隔壁部材６０に接続されている。したがって、圧力調整管６４は、投影系鏡筒本体２７内の空間６９と区画空間６２とを連通する連通路としても機能するようになっている。そして、圧力調整管６４、減圧ポンプ６５及び電磁弁６６により、圧力調整機構が構成されている。
【００６３】
鏡筒ユニット５９のうちで、投影系鏡筒本体２７の上端部に位置する鏡筒ユニット５９ａには、パージガス供給系５０の給気配管５２が接続されており、鏡筒ユニット５９ａ近傍の給気配管５２には、開閉弁６３が設けられている。一方、鏡筒ユニット５９のうちで、投影系鏡筒本体２７のほぼ中央部に位置する鏡筒ユニット５９ｂには、その投影系鏡筒本体２７を露光装置本体２２の架台（図示略）に支持するためのフランジＦＬＧが設けられている。また、鏡筒ユニット５９のうちで、投影系鏡筒本体２７の下端部に位置する鏡筒ユニット５９ｃには、パージガス排出管５５が接続されており、このパージガス排出管５５には、開閉弁６７が設けられている。
【００６４】
投影系鏡筒本体２７内の吸光物質や汚染物質の量を調整する場合、まず、電磁弁６６を開放する。そして、減圧ポンプ６５を作動させて、投影系鏡筒本体２７内の空間６９と区画空間６２とを、大気圧よりも低い状態（好ましくは、真空に近い状態）まで減圧する。このとき、投影系鏡筒本体２７内の空間６９と区画空間６２とは圧力調整管６４により連通されているため、両空間６９，６２はほぼ同等の圧力となる。このため、両空間６９，６２の間の圧力差がカバーガラス４３の耐圧限界を超えることがない。さらに、このとき、隔壁部材６０を隔てた区画空間６２の内外には大きな圧力差が生じ、その圧力差による負荷が隔壁部材６０に作用することになる。しかし、隔壁部材６０は耐圧材料よりなるため、該圧力差による負荷がカバーガラス４３に作用することが確実に回避される。
【００６５】
投影系鏡筒本体２７内の空間６９と区画空間６２とを真空に近い状態まで減圧して、その状態を所定時間保持させた後、電磁弁６６を閉じる。次いで、開閉弁６３及び開閉弁６８を徐々に開放していき、給気配管５２から投影系鏡筒本体２７内の空間６９及び区画空間６２にパージガスを徐々に注入する。このとき、前記と同様に、開閉弁６３，６８の開度を、パージガスの流速が、投影系鏡筒本体２７内のレンズエレメント４４及びカバーガラス４３に衝撃を与えない程度になるように調整することが望ましい。
【００６６】
従って、本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（イ）  この投影系鏡筒本体２７では、減圧ポンプ６５に接続された圧力調整管６４が、投影系鏡筒本体２７に接続されている。このため、減圧ポンプ６５により投影系鏡筒本体２７内の空間６９を大気圧より低い減圧状態とすることができる。これにより、空間６９に存在する吸光物質や汚染物質を効率よく揮散させて、内部に存在していた気体とともに、投影系鏡筒本体２７の外部へ排出することができる。したがって、投影系鏡筒本体２７内の空間６９をパージガスにより極めて精度よく置換する必要がある場合にも、吸光物質や汚染物質を、短時間に少量のパージガスでもって投影系鏡筒本体２７内の空間６９内から外部に排出することができる。このような投影系鏡筒本体２７は、露光プロセスにおいて、吸光物質や汚染物質の影響が極めて大きいＦ2レーザ光等の１９０ｎｍ以下の露光光ＥＬを使用する露光装置の鏡筒として、特に好適であり、露光プロセスの効率を飛躍的に向上させることができる。
【００６７】
（ロ）  この投影系鏡筒本体２７では、減圧ポンプ６５に接続された圧力調整管６４によって、投影系鏡筒本体２７内の空間６９の圧力と区画空間６２の圧力とをほぼ同等の圧力になるように調整することができる。これにより、投影系鏡筒本体２７内の空間６９の圧力を調整したとしても、その空間６９と区画空間６２との間に大きな圧力差が生じることがなく、両空間６９，６２を区画するカバーガラス４３に対して不均一な圧力負荷が作用することが抑制される。したがって、投影系鏡筒本体２７内の空間６９の圧力調整に伴って、カバーガラス４３が変形されたりすることが回避され、その光学性能を高く維持することができる。
【００６８】
（ハ）  この投影系鏡筒本体２７では、圧力調整管６４により、投影系鏡筒本体２７内の空間６９と区画空間６２とが連通されているため、減圧ポンプ６５等を利用した簡単な構成で、両空間６９，６２を同時にほぼ同等の圧力に調整することができる。加えて、投影系鏡筒本体２７内の空間６９と区画空間６２との間の圧力差を、区画空間６２を形成するカバーガラス４３の耐圧限界より小さく抑えることで、カバーガラス４３が、圧力差によって変形するのを回避することができて、その光学性能の低下を抑制することができる。
【００６９】
（ニ）  この投影系鏡筒本体２７では、減圧ポンプ６５がパージガス排出管５５に接続されている。このため、減圧ポンプ６５により投影系鏡筒本体２７内の空間６９と区画空間６２との内の吸光物質や汚染物質を、それらの空間６９，６２にもともと存在する気体とともに、パージガス排出管５５及び排気ダクト５６を介して露光装置の外部に速やかに排出することができる。また、両空間６９，６２内を減圧状態とすることで、両空間６９，６２を形成する壁面やレンズエレメント４４及びカバーガラス４３等の上に付着した吸光物質や汚染物質の揮散が加速されるため、それらの物質の除去をより効率的に行うことができる。
【００７０】
（ホ）  この投影系鏡筒本体２７では、その端部に隔壁部材６０が着脱可能に設けられている。このため、投影系鏡筒本体２７の不使用時には、隔壁部材６０を投影系鏡筒本体２７の蓋として用いることで、カバーガラス４３を保護することができる。また、投影系鏡筒本体２７の不使用時において、クリーンルームからその露光装置を収容するチャンバ２４内に、極微量ながら漏れ込んだ汚染物質によるカバーガラス４３やレンズエレメント４４の曇りを抑制することができる。そして、投影系鏡筒本体２７の使用時には、隔壁部材６０を投影系鏡筒本体２７から脱離させたり、露光光ＥＬの光路から退避させたりすることで、レチクルＲ上のパターンの像をウエハＷ上に転写する際に隔壁部材６０がその露光動作に支障をきたすことがない。
【００７１】
（ヘ）  隔壁部材６０は、金属等の耐圧材料からなっている。このため、区画空間６２の圧力と投影系鏡筒本体２７内の空間６９の圧力とを、大気圧より低い減圧状態とする際に、区画空間６２を形成するカバーガラス４３に、投影系鏡筒本体２７の配置される外部環境の高い圧力が作用することがより確実に回避される。このため、該カバーガラス４３の変形をより確実に抑制することができる。
【００７２】
（ト）  隔壁部材６０は、パッキン６１を介して投影系鏡筒本体２７の端部に設けられている。このため、隔壁部材６０とカバーガラス４３との間には、投影系鏡筒本体２７内の空間６９の外部に対して気密状態にある区画空間６２が形成される。これにより、区画空間６２内を減圧する際に、投影系鏡筒本体２７内の空間６９の外部から新たに吸光物質や汚染物質が、区画空間６２そして投影系鏡筒本体２７内の空間６９に取り込まれることを抑制することができる。
【００７３】
（変更例）
なお、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・図３に示すように、投影系鏡筒本体２７に、隔壁変位装置としてのアクチュエータ７０を設けて、隔壁部材６０を移動させるようにしてもよい。この場合、アクチュエータ７０のロッド７１を、投影光学系４２の光軸まわりに回転可能かつ、同光軸方向に伸縮可能にして、隔壁部材６０を、投影系鏡筒本体２７の端部に対して接離可能に配置してもよい。
【００７４】
このようにすれば、投影系鏡筒本体２７の不使用時には、アクチュエータ７０により隔壁部材６０を、投影系鏡筒本体２７の端部に接合させて、カバーガラス４３を保護することができる。また、投影系鏡筒本体２７の使用時には、図４に示すように、アクチュエータ７０により隔壁部材６０を移動させて、隔壁部材６０を露光光ＥＬの光路から容易に退避させることができる。
【００７５】
このように、隔壁部材６０を露光光ＥＬの光路から退避させる場合、アクチュエータ７０のロッド７１を投影光学系４２の光軸方向に伸長させて、隔壁部材６０を投影系鏡筒本体２７の端部から離間させる。そして、ロッド７１を回転させて、隔壁部材６０を光路から退避させる。このようにすれば、隔壁部材６０を回動させる際におけるその隔壁部材６０とカバーガラス４３との干渉をより確実に抑制することができる。
【００７６】
・実施形態の露光装置本体２２において、パージガス供給系５０の給気配管５２を電磁弁６６に接続して、鏡筒ユニット５９ａ及び隔壁部材６０に接続された給気配管５２を省いてもよい。すなわち、圧力調整管６４が投影系鏡筒本体２７へパージガスを供給する給気配管５２の役割を一部担うようにしてもよい。そして、電磁弁６６の作動により、投影系鏡筒本体２７の空間６９に給気配管５２を介したパージガスの供給と、減圧ポンプ６５による投影系鏡筒本体２７内の空間６９の真空引きとを切換えて行うことがきる。
【００７７】
このようにすれば、電磁弁６６を適宜に切換接続（開閉）することで、投影系鏡筒本体２７内の空間６９及び区画空間６２からの気体の排出と、各空間６９，６２へのパージガスの供給と、各空間６９，６２内をパージガスで置換した状態とに容易に切換えることができる。さらに、鏡筒ユニット５９ａ及び隔壁部材６０に接続された給気配管５２を省くことができるので、投影系鏡筒本体２７に対する給気配管５２の接続構造、ひいては投影系鏡筒本体２７の構成を簡単にすることができる。
【００７８】
・実施形態では、本発明の鏡筒を、投影光学系４２を収容する投影系鏡筒本体２７に具体化したが、照明光学系３３を収容する照明系鏡筒本体２５に具体化してもよい。
・隔壁部材６０に、区画空間６２から外部への気体の通過のみを許容する逆止弁を設けてもよい。このようにすれば、外部からの吸光物質や汚染物質の侵入を抑制しつつ、区画空間６２をパージガスによって満たした状態に維持することができる。
【００７９】
・カバーガラス４３を、隔壁部材６０と投影系鏡筒本体２７の端面より投影系鏡筒本体２７の内側に配置してもよい。このようにすれば、隔壁部材６０を露光光ＥＬの光軸と交差する方向へ変位させる際に、隔壁部材６０が投影系鏡筒本体２７の端部に配置され、カバーガラス４３と接触することが回避され、カバーガラス４３の光学性能に影響を与えることを排除することができる。
【００８０】
・投影系鏡筒本体２７の端部に隔壁部材６０を螺着する構成にしてもよい。
・実施形態において、投影系鏡筒本体２７に、その内部の空間６９における気体の状態、例えば酸素濃度、水分濃度等を測定するセンサを取着してもよい。そして、そのセンサの測定結果に応じて、空間６９及び区画空間６２からの気体の排出と、各空間６９，６２へのパージガスの供給とを切換えるようにしてもよい。このようにすれば、投影系鏡筒本体２７内の空間６９を所定の状態、例えば酸素濃度、水分量が所定量以下となった状態にして、パージガスを供給することができる。これにより、投影系鏡筒本体２７をより確実に所定の状態に維持することができる。また、気体の排出と、パージガスの供給との切換を容易に行うことができる。
【００８１】
・実施形態において、投影光学系４２としては、屈折タイプに限らず、反射屈折タイプ、反射タイプであってもよい。
・本発明の露光装置は、縮小露光型の露光装置に限定されるものではなく、例えば等倍露光型、拡大露光型の露光装置であってもよい。
【００８２】
・半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（深紫外）やＶＵＶ（真空紫外）光などを用いる露光装置では一般に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては、石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、または水晶などが用いられる。
【００８３】
・半導体素子の製造に用いられる露光装置だけでなく、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられてデバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などにも、本発明を適用することができる。
【００８４】
・マスクと基板とが静止した状態でマスクのパターンを基板へ転写し、基板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の一括露光型の露光装置にも、本発明を適用することができる。
【００８５】
・露光装置の光源としては、例えばｇ線（λ＝４３６ｎｍ）、ｉ線（λ＝３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（λ＝２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（λ＝１９３ｎｍ）、Ｋｒ2レーザ（λ＝１４６ｎｍ）、Ａｒ2レーザ（λ＝１２６ｎｍ）等を用いてもよい。また、ＤＦＢ半導体レーザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（またはエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされたファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いてもよい。
【００８６】
なお、各実施形態の露光装置は、大略、例えば次のように製造される。
すなわち、まず、投影光学系４２を構成する複数のレンズエレメント４４及びカバーガラス４３等を、実施形態の投影系鏡筒本体２７に収容する。また、ミラー３４及び各レンズ３５，３６等の光学素子からなる照明光学系３３を照明系鏡筒本体２５内に収容する。そして、これらの照明光学系３３及び投影光学系４２を露光装置本体２２に組み込み、光学調整を行う。次いで、多数の機械部品からなるウエハステージＷＳＴ（スキャンタイプの露光装置の場合は、レチクルステージＲＳＴも含む）を露光装置本体２２に取り付けて配線を接続する。そして、露光光ＥＬの光路内にパージガスを供給するパージガス供給系５０の配管を接続した上で、さらに総合調整（電気調整、動作確認など）を行う。
【００８７】
ここで、各鏡筒を構成する各部品は、超音波洗浄などにより、加工油や、金属物質などの不純物を落としたうえで、組み上げられる。なお、露光装置の製造は、温度、湿度や気圧が制御され、かつクリーン度が調整されたクリーンルーム内で行うことが望ましい。
【００８８】
次に、上述した露光装置をリソグラフィ工程で使用したデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
図５は、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体素子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。
【００８９】
図５に示すように、まず、ステップＳ１０１（設計ステップ）において、デバイス（マイクロデバイス）の機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レクチルＲ等）を製作する。一方、ステップＳ１０３（基板製造ステップ）において、シリコン、ガラスプレート等の材料を用いて基板（シリコン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造する。
【００９０】
次に、ステップＳ１０４（基板処理ステップ）において、ステップＳ１０１〜Ｓ１０３で用意したマスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１０５（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ１０４で処理された基板を用いてデバイス組立を行う。このステップＳ１０５には、ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程（チップ封入等）等の工程が必要に応じて含まれる。
【００９１】
最後に、ステップＳ１０６（検査ステップ）において、ステップＳ１０５で作製されたデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。
【００９２】
図６は、半導体デバイスの場合における、図５のステップＳ１０４の詳細なフローの一例を示す図である。図６において、ステップＳ１１１（酸化ステップ）では、ウエハＷの表面を酸化させる。ステップＳ１１２（ＣＶＤステップ）では、ウエハＷ表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１１３（電極形成ステップ）では、ウエハＷ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１１４（イオン打込みステップ）では、ウエハＷにイオンを打ち込む。以上のステップＳ１１１〜Ｓ１１４のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【００９３】
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ１１５（レジスト形成ステップ）において、ウエハＷに感光剤を塗布する。引き続き、ステップＳ１１６（露光ステップ）において、先に説明したリソグラフィシステム（露光装置）によってマスク（レチクルＲ）の回路パターンをウエハＷ上に転写する。次に、ステップＳ１１７（現像ステップ）では露光されたウエハＷを現像し、ステップＳ１１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ１１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
【００９４】
これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハＷ上に多重に回路パターンが形成される。
以上説明した本実施形態のデバイス製造方法を用いれば、露光工程（ステップＳ１１６）において、真空紫外域の露光光ＥＬにより解像力の向上が可能となり、露光量制御を高精度に行うことができる。従って、露光精度を向上することができて、最小線幅が０．１μｍ程度の高集積度のデバイスを歩留まりよく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】実施形態の露光装置を示す概略構成図。
【図２】実施形態の投影系鏡筒本体の概略断面図。
【図３】変更例の投影系鏡筒本体における隔壁部材の閉成状態を示す要部斜視図。
【図４】変更例の投影系鏡筒本体における隔壁部材の開放状態を示す要部斜視図。
【図５】デバイスの製造方法を示すフローチャート。
【図６】半導体素子の製造方法を示すフローチャート。
【符号の説明】
【００９６】
２５…鏡筒としての照明系鏡筒本体、２７…鏡筒としての投影系鏡筒本体、３３…照明光学系、３４…光学素子としてのミラー、３５…光学素子としてのフライアイレンズ、３６…光学素子としてのコンデンサレンズ、３８…光学素子としての平行平板ガラス、３９…内部空間、４２…投影光学系、４４…光学素子としてのレンズエレメント、５０…気体供給機構としてのパージガス供給系、５９，５９ａ，５９ｂ，５９ｃ…鏡筒ユニット、６０…隔壁部材、６２…区画空間、６４…圧力調整機構を構成する圧力調整管、６５…圧力調整機構を構成し、排気装置としての減圧ポンプ、６６…圧力調整機構を構成し、開閉弁としての電磁弁、６３，６７，６８…開閉弁、６９…空間、７０…隔壁変位装置としてのアクチュエータ、７１…隔壁変位装置としてのロッド、ＥＬ…露光光、Ｒ…マスクとしてのレチクル、Ｗ…基板としてのウエハ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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