(57)【要約】  【課題】  防汚性および機械的強度ともに優れた防汚性ハードコートを形成できるようにする。  【解決手段】  ハードコート層２１上を酸素プラズマ処理し、ハードコート層２１上をカップリング剤の蒸気にさらしてカップリング剤層２２を形成し、カップリング剤層２２上に防汚剤を塗布し硬化して防汚層２３を形成する。これにより、カップリング剤層がアクリル系ハードコート層とフッ素系防汚層との結合を仲介し、アクリル系ハードコートとフッ素系防汚層との間の親和性を高めることができる。【選択図】  図１
2005186577.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハードコート層を酸素プラズマ処理する工程と、
酸素プラズマ処理された上記ハードコート層上にカップリング剤層を形成する工程と、
上記カップリング剤層上に防汚層を形成する工程と
を備えることを特徴とする防汚性ハードコートの製造方法。
【請求項２】
上記ハードコート層が、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂またはポリオレフィン系樹脂からなることを特徴とする請求項１記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【請求項３】
ハードコート層が、光硬化または熱硬化により形成された透明な有機膜であることを特徴とする請求項１記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【請求項４】
上記ハードコート層が、シリカ微粒子またはシラン化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【請求項５】
上記カップリング剤層を構成するカップリング剤は、上記アクリル系ハードコート層を構成する材料と親和性を有する反応性基と、上記防汚層を構成する材料と結合性を有する反応性基とを有することを特徴とする請求項１記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【請求項６】
カップリング剤の蒸気に上記ハードコート層をさらして上記カップリング剤層を形成することを特徴とする請求項１記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【請求項７】
上記カップリング剤層は、下記一般式（１）で示される１つの分子中に反応性の異なる２種類の官能基を持つ化合物からなることを特徴とする請求項１記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【化１】
2005186577.tif 000019
（但し、式中、Ｘは反応性末端基（ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基、イソシアネ−ト基など）を、Ｒaはアルキレン基を、Ｒbはアルキル基を示す。）
【請求項８】
上記防汚層が、少なくとも１分子あたり１個以上のアルコキシシラン基を有することを特徴とする請求項１記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【請求項９】
上記防汚層が、両末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物からなることを特徴とする請求項８記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【請求項１０】
上記防汚層は、下記一般式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有することを特徴とする請求項９記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【化２】
2005186577.tif 000020
（但し、式中、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ1はＯ、ＮＨ、Ｓのいずれかを、Ｒ2はアルキレン鎖を、Ｒ3はアルキル鎖を示す。）
【請求項１１】
上記防汚層は、下記一般式（３）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有することを特徴とする請求項８記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【化３】
2005186577.tif 000021
（但し、式中、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ1はＯ、ＮＨ、Ｓのいずれかを、Ｒ2はアルキレン基を、Ｒ3はアルキル基を示す。）
【請求項１２】
上記防汚層は、下記一般式（４）で示されるフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン化合物を含有することを特徴とする請求項８記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【化４】
2005186577.tif 000022
（但し、式中、Ｒｆ`はフルオロアルキル基を、Ｒ1は二価の原子又は原子団を、Ｒ2はアルキレン基を、Ｒ3はアルキル基を示す。）
【請求項１３】
上記防汚層は、下記一般式（５）で示されるフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン化合物を含有することを特徴とする請求項８記載の防汚性ハードコートの製造方法。
【化５】
2005186577.tif 000023
（但し、式中、Ｒｆ`はフルオロアルキル基を、Ｒ1は炭素数７未満のアルキル基を、Ｒ2はアルキル基を示す。）
【請求項１４】
基板の一主面に、情報信号部、保護層を順次積層する工程と、
上記保護層および基板上の少なくとも一方に、ハードコート層を形成する工程と、
上記ハードコート層を酸素プラズマ処理する工程と、
酸素プラズマ処理された上記ハードコート層上にカップリング剤層を形成する工程と、
上記カップリング剤層上に防汚層を形成する工程と
を備えることを特徴とする光学ディスクの製造方法。
【請求項１５】
上記保護層が光透過性を有する光透過層であり、
上記光透過層の側から情報信号部に対して光を照射することにより情報信号の記録および／または再生をすることを特徴とする請求項１４記載の光学ディスクの製造方法。
【請求項１６】
上記基板が光透過性を有し、
上記基板の側から光を照射することにより情報信号の記録および／または再生をすることを特徴とする請求項１４記載の光学ディスクの製造方法。
【請求項１７】
上記ハードコート層が、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂またはポリオレフィン系樹脂からなることを特徴とする請求項１４記載の光学ディスクの製造方法。
【請求項１８】
ハードコート層が、光硬化または熱硬化により形成された透明な有機膜であることを特徴とする請求項１４記載の光学ディスクの製造方法。
【請求項１９】
上記ハードコート層が、シリカ微粒子またはシラン化合物を含有することを特徴とする請求項１４記載の光学ディスクの製造方法。
【請求項２０】
上記カップリング剤層を構成するカップリング剤は、上記アクリル系ハードコート層を構成する材料と親和性を有する反応性基と、上記防汚層を構成する材料と結合性を有する反応性基とを有することを特徴とする請求項１４記載の光学ディスクの製造方法。
【請求項２１】
カップリング剤の蒸気に上記ハードコート層をさらして上記カップリング剤層を形成することを特徴とする請求項１４記載の光学ディスクの製造方法。
【請求項２２】
上記カップリング剤層は、下記一般式（１）で示される１つの分子中に反応性の異なる２種類の官能基を持つ化合物からなることを特徴とする請求項１４記載の光学ディスクの製造方法。
【化６】
2005186577.tif 000024
（但し、式中、Ｘは反応性末端基（ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基、イソシアネ−ト基など）を、Ｒaはアルキレン基を、Ｒbはアルキル基を示す。）
【請求項２３】
上記防汚層が、少なくとも１分子あたり１個以上のアルコキシシラン基を有することを特徴とする請求項１４記載の光学ディスクの製造方法。
【請求項２４】
上記防汚層が、両末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物からなることを特徴とする請求項２３記載の光学ディスクの製造方法。
【請求項２５】
上記防汚層は、下記一般式（２）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有することを特徴とする請求項２４記載の光学ディスクの製造方法。
【化７】
2005186577.tif 000025
（但し、式中、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ1はＯ、ＮＨ、Ｓのいずれかを、Ｒ2はアルキレン鎖を、Ｒ3はアルキル鎖を示す。）
【請求項２６】
上記防汚層は、下記一般式（３）で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有することを特徴とする請求項２３記載の光学ディスクの製造方法。
【化８】
2005186577.tif 000026
（但し、式中、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ1はＯ、ＮＨ、Ｓのいずれかを、Ｒ2はアルキレン基を、Ｒ3はアルキル基を示す。）
【請求項２７】
上記防汚層は、下記一般式（４）で示されるフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン化合物を含有することを特徴とする請求項２３記載の光学ディスクの製造方法。
【化９】
2005186577.tif 000027
（但し、式中、Ｒｆ`はフルオロアルキル基を、Ｒ1は二価の原子又は原子団を、Ｒ2はアルキレン基を、Ｒ3はアルキル基を示す。）
【請求項２８】
上記防汚層は、下記一般式（５）で示されるフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン化合物を含有することを特徴とする請求項２３記載の光学ディスクの製造方法。
【化１０】
2005186577.tif 000028
（但し、式中、Ｒｆ`はフルオロアルキル基を、Ｒ1は炭素数７未満のアルキル基を、Ｒ2はアルキル基を示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、表面に防汚性が付与された防汚性ハードコートの製造方法および光学ディスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の光学ディスクの記録ピットの微細化に伴い、光学ディスク上のほこりや指紋などがデータの読み出しに及ぼす影響が大きくなり、ほこりや指紋がつかない、或いはついたとしても簡単にふき取れる防汚性に優れたハードコートの実現が切望されている。これに応えるべく、従来では、表面の防汚性（撥水・撥油性）を向上させるために、シリコンオイルやフッ素ポリマーをハードコート層表面に塗布する方法が提案されている。しかしながら、この方法には、防汚剤を表面に塗布するのみであるため、防汚剤がすぐにとれてしまう、すなわち、防汚性の効果が長続きしないという欠点がある。そこで、添加剤をハードコート層に混入して防汚性を向上させる方法が考えられている。しかしながら、この方法には、ハードコート層本来の機能である機械的強度が低下してしまうという欠点がある。
【０００３】
また、本発明者らも、プラスチック基材およびガラス基材などの各種表面における防汚性を改善すべく、両末端にアルコキシシラン基を有する高分子量パーフルオロポリエーテル化合物からなる防汚剤を提案している（例えば、特許文献１、特許文献２および特許文献３参照）。しかしながら、この防汚剤を光学ディスクのハードコート層上に塗布して防汚層を形成した場合、防汚剤とハードコート層との付着性が良好でないため、防汚層の機械的強度が落ちてしまうという問題がある。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−６４３４５号公報
【特許文献２】特開２００３−６４３４８号公報
【特許文献３】特開２００３−１３８２１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したように、従来の技術では、防汚性および機械的強度ともに優れたハードコートを実現することは困難であった。このため、防汚性および機械的強度ともに優れ、次世代の光学ディスクの要求基準を満たすことができる防汚性ハードコート層の実現が待望されている。
【０００６】
したがって、この発明の目的は、防汚性および機械的強度ともに優れた防汚性ハードコートを形成することができる防汚性ハードコートの製造方法および光学ディスクの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、第１の発明は、ハードコート層を酸素プラズマ処理する工程と、
酸素プラズマ処理されたハードコート層上にカップリング剤層を形成する工程と、
カップリング剤層上に防汚剤を塗布して防汚層を形成する工程と
を備えることを特徴とする防汚性ハードコートの製造方法である。
【０００８】
第１の発明では、防汚層は、典型的には、フッ素系樹脂からなるフッ素系防汚層である。このフッ素系樹脂は、典型的には、パーフルオロポリエーテル基またはフルオロアルキル基をもつアルコキシシラン化合物である。
【０００９】
第２の発明は、基板の一主面に、情報信号部、保護層を順次積層する工程と、
保護層および基板上の少なくとも一方に、ハードコート層を形成する工程と、
ハードコート層を酸素プラズマ処理する工程と、
酸素プラズマ処理されたハードコート層上にカップリング剤層を形成する工程と、
カップリング剤層上に防汚剤を塗布して防汚層を形成する工程と
を備えることを特徴とする光学ディスクの製造方法である。
【００１０】
第２の発明では、防汚層は、典型的には、フッ素系樹脂からなるフッ素系防汚層である。このフッ素系樹脂は、典型的には、パーフルオロポリエーテル基またはフルオロアルキル基をもつアルコキシシラン化合物である。
【００１１】
この発明によれば、カップリング剤層がハードコート層と防汚層との結合を仲介し、ハードコート層と防汚層との間の親和性を高めることができる。
【発明の効果】
【００１２】
以上説明したように、請求項１に係る発明によれば、カップリング剤層がハードコート層と防汚層との結合を仲介し、ハードコート層と防汚層との間の親和性を高めることができる。これにより、防汚性および機械的強度ともに優れた防汚性ハードコートを実現することができる。
【００１３】
請求項６に係る発明によれば、薄く均一にカップリング剤をハードコート層上に塗布することができる。これにより、表面均一性に優れた防汚性ハードコート層を形成することができる。
【００１４】
請求項１４に係る発明によれば、カップリング剤層がハードコート層と防汚層との結合を仲介し、ハードコートと防汚層との間の親和性を高めることができる。これにより、防汚性および機械的強度ともに優れた光学ディスクを実現することができる。
【００１５】
請求項２１に係る発明によれば、薄く均一にカップリング剤をハードコート層上に塗布することができる。これにより、表面均一性に優れた防汚性ハードコート層を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、この発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の一実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。
【００１７】
図１は、この発明の一実施形態による光学ディスクの一構成例を示す断面図である。図１に示すように、この光学ディスク１は、基板２の一主面上に、情報信号部３、光透過層４、防汚性ハードコート５を順次積層した構成を有する。なお、この一実施形態による光学ディスク１では、光透過層３の側からレーザ光を情報信号部３に照射することにより、情報信号の記録および／または再生が行われる。より具体的には、４００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下の範囲の波長にある光を、０．８４以上０．８６以下の範囲の開口数を有する光学系により集光し、光透過層３の側から情報信号部３に照射することにより、情報信号の記録および／または再生が行われる。このような光学ディスクとしては、例えばＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃが挙げられる。
【００１８】
基板２は、中央にセンターホール（図示せず）が形成された円環形状を有する。この基板２の情報信号部３が形成される側の一主面には、情報の記録および／または再生を行う際に光学スポットを導くための案内溝となる凹凸部が形成されている。この溝を案内としてレーザ光が光学ディスク１上の任意の位置へと移動できる。この溝の形状としては、スパイラル状、同心円状、ピット列等、各種の形状が挙げられる。基板２の直径は、例えば１２０ｍｍに選ばれる。基板２の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは０．３ｍｍ〜１．３ｍｍから選ばれ、より好ましくは０．６ｍｍ〜１．３ｍｍ、例えば１．１ｍｍに選ばれる。
【００１９】
基板２の材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、またはアクリル系樹脂などのプラスチック材料や、ガラスなどが用いられる。なお、コストを考慮した場合には、基板２の材料として、プラスチック材料を用いることが好ましい。
【００２０】
情報信号部３は、光学ディスク１の種類に応じた構成を有する。具体的には、光学ディスク１が再生専用型である場合、情報信号部３は反射膜である。この反射膜の材料としては、例えば、金属元素、半金属元素、これらの化合物または混合物が挙げられ、より具体的には例えば、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｇｅなどの単体、またはこれらの単体を主成分とする合金が挙げられる。そして、実用性の面を考慮すると、これらのうちのＡｌ系、Ａｇ系、Ａｕ系、Ｓｉ系またはＧｅ系の材料を用いることが好ましい。また、光学ディスク１が追記型または書換可能型である場合、情報信号部３は記録層である。追記型の記録層としては、例えば、反射膜、有機色素材料を基板２上に順次積層して構成される記録層が挙げられる。また、書換可能型の記録層としては、例えば、反射膜、下層誘電体層、層変化記録層、上層電体層を基板２上に順次積層して構成される記録層が挙げられる。
【００２１】
光透過層４は、平面円環形状を有する光透過性シート（フィルム）１２と、この光透過性シート１２を情報信号部３が形成された基板２に対して貼り合わせるための接着層１１とから構成される。接着層は、例えば紫外線硬化樹脂あるいは感圧性粘着剤（ＰＳＡ：Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）からなる。光透過層４の厚さは、現状の赤色レーザから将来普及が見込まれる青色レーザまで対応することを考慮すると、１０μｍ〜１７７μｍに設定するのが好ましい。
【００２２】
光透過性シート１２は、記録／再生に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率は９０パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シート１２の材料としては、例えばポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂（例えばゼオネックス（登録商標））が挙げられる。
【００２３】
また、この光透過性シート１２の厚さは、好ましくは０．３ｍｍ以下に選ばれ、より好ましくは３〜１７７μｍの範囲内から選ばれる。例えば、接着層１１との合計の厚さが、例えば１００μｍになるように選ばれる。このような薄い光透過層４と、０．８５程度の高ＮＡ化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。
【００２４】
図１に示すように、防汚性ハードコート５は、ハードコート層２１と、ハードコート層２１上に形成されたカップリング剤層２２と、カップリング剤層２２上に形成された防汚層２３とから構成される。
【００２５】
ハードコート層２１は、透明な有機膜である。このハードコート層２１の材料としては、例えばラジカル重合系の紫外線硬化型樹脂や、硬度を高めるために有機物により被覆されたコロイダルシリカを含有する紫外線硬化樹脂、また、帯電防止性を改善した紫外線硬化樹脂などが挙げられる。具体的には、ハードコート層２１の材料としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂およびポリオレフィン系樹脂が挙げられる。
【００２６】
ここで、ハードコート層２１は、数１０ｎｍの膜厚を有する薄膜から、数１００μｍの厚さを有するシート状物も含めた広義のアクリル系ハードコート層を意味する。ハードコート層２１を広義に定義する理由は、アクリル系ハードコートの種類に関わらず、光硬化および熱硬化によって硬化された場合の未反応アクリル基と以下に示すカップリング剤とが選択的に結合または吸着することにより、表面に均一なカップリング剤層２２が形成され、その後の乾燥により、カップリング剤層２２の表面に均一にＯＨ基が形成されることが明らかであり、アクリル基に由来するためである。
【００２７】
カップリング剤層２２は、以下の一般式（１）で示される１つの分子中に反応性の異なる２種類の官能基を持つ化合物からなる。
【化１１】
2005186577.tif 000003
（但し、式中、Ｘは反応性末端基（ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基、イソシアネ−ト基など）を、Ｒaはアルキレン基を、Ｒbはアルキル基を示す。）
【００２８】
具体的には、カップリング剤層１２を構成する材料としては、例えば、シラン系、チタネート系、アルミニウム系、又はジルコアルミニウム系のカップリング剤が挙げられ、これらカップリング剤は単独で用いても、また数種を混合して用いても良く、経験的に設定することができるが、シラン系のカップリング剤を用いることが特に好ましい。中でも、末端のアルコキシ基が、エトキシであることが好ましい。これらは、分子中にアクリル系ハードコート層１１の表面成分と結合性を持つ反応性基（例えば、アクリル基、アミノ基、エポキシ基など）と、防汚層１３を構成する防汚剤成分と結合性を持つ反応性基（例えば、メトキシ基、エトキシ基など）とを合わせもっており、ハードコート層２１と防汚層２３との結合を仲介（カップリング）し、両者間の親和性を高めることができる。
【００２９】
カップリング剤を具体的に列挙すると、シラン系カップリング剤においては、アクリルシラン系では、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等を挙げることができる。
【００３０】
また、アミノシラン系では、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（フェニルメチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−メチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリブチル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ω（アミノヘキシル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ｛Ｎ’−β（アミノエチル）｝−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
【００３１】
エポキシシラン系では、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン等を挙げることができる。
【００３２】
チタネート系カップリング剤においては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス（ジオクチルパイロホスフェート）チタネート、テトラオクチルビス（ジトリデシルホスファイト）チタネート、テトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネート、テトラ（２，２-ジアリルオキシメチル-1- ブチル）ビス（ジ- トリデシル）ホスファイトチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）オキシアセテートチタネート、ビス（ジオクチルパイロホスフェート）エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ（ジオクチルホスフェート）チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ（N-アミノエチル- アミノエチル）チタネート、ジクミフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート等を挙げることができる。
【００３３】
また、カップリング剤層２２の膜厚は、好ましくは０．１ｎｍ〜１００μｍの範囲であり、さらに好ましくは０．１ｎｍ〜１μｍである。一方、膜厚が１００μｍより大きいとクラックが入る傾向がある。また、０．１ｎｍ未満の場合は、アクリル系ハードコート層とフッ素防汚層を仲介し、両者間の親和性を高めることができなくなる。
【００３４】
防汚層２３は、フッ素系樹脂からなる。このフッ素系樹脂は、パーフルオロポリエーテル基またはフルオロアルキル基をもつアルコキシシラン化合物である。
【００３５】
パーフルオロポリエーテル基またはフルオロアルキル基をもつアルコキシシラン化合物は、低い表面エネルギーを持つため、優れた防汚・撥水性効果を発揮し、パーフルオロポリエーテル基を含むことにより潤滑効果を発揮する。
【００３６】
防汚層２３は、下記一般式（２）若しくは（３）で示されるパーフロルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物、または下記一般式（４）若しくは（５）で示されるフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン化合物を含有する。
【００３７】
【化１２】
2005186577.tif 000004
但し、式中、Ｒfはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ1は２価の原子又は基（例えば、Ｏ、ＮＨ、Ｓのいずれか）を、Ｒ2はアルキレン鎖を、Ｒ3はアルキル鎖を示す。
【００３８】
【化１３】
2005186577.tif 000005
但し、式中、Ｒfはパーフルオロポリエーテル基を、Ｒ1はＯ、ＮＨ、Ｓのいずれかを、Ｒ2はアルキレン基を、Ｒ3はアルキル基を示す。
【００３９】
【化１４】
2005186577.tif 000006
但し、式中、Ｒｆ`はフルオロアルキル基を、Ｒ1は二価の原子又は原子団を、Ｒ2はアルキレン基を、Ｒ3はアルキル基を示す。
【００４０】
【化１５】
2005186577.tif 000007
但し、式中、Ｒｆ`はフルオロアルキル基を、Ｒ1は炭素数７未満のアルキル基を、Ｒ2はアルキル基を示す。
【００４１】
また、一般式（２）で示されるＲｆとしてのパーフルオロポリエーテル基の分子構造は、特に限定されるものではなく、各種鎖長のパーフルオロポリエーテル基が含まれるが、下記に示す分子構造のものが好ましい。
【００４２】
【化１６】
2005186577.tif 000008
【００４３】
一般式（６）で示されるパーフルオロポリエーテル基中、ｐ、ｑは１〜５０の範囲にあることが好ましい。
【００４４】
一般式（６）で示されるパーフルオロポリエーテル基をもつアルコキシシラン化合物の分子量は、特に限定されるものではないが、安定性、取扱いやすさ等の点から、数平均分子量で４００〜１００００のものが好ましく、５００〜４０００のものがより好ましく用いられる。
【００４５】
一般式（６）で示されるパーフルオロポリエーテル基をもつアルコキシシラン化合物中、Ｒ1は、２価の原子又は基を示し、Ｒ2とパーフルオロポリエーテル基との結合基であり、特に制限はないが、合成上、炭素以外のＯ、ＮＨ、Ｓ等の原子あるいは原子団が好ましい。Ｒ2は炭化水素基であり、炭素数は２〜１０の範囲が好ましい。Ｒ2としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等のアルキレン基、フェニレン基などを例示することができる。
【００４６】
一般式（６）で示されるパーフルオロポリエーテル基をもつアルコキシシラン化合物中、Ｒ3はアルコキシ基を構成するアルキル基であり、通常は炭素数が３以下、つまりイソプロピル基、プロピル基、エチル基、メチル基を例示することができるが、炭素数はこれ以上でもよい。
【００４７】
防汚層２３は、次の一般式（３）で示されるＲｆとしてのパーフルオロポリエーテル基の分子構造としては、特に限定されるものではなく、各種鎖長のパーフルオロポリエーテル基が含まれるが、下記に示す分子構造のものが好ましい。
【００４８】
Ｒｆは、アルキル基の水素原子がフッ素原子に置換されたものであり、下記の化学式（７）〜（９）にて示されるものが挙げられる。但し、全てのアルキル基の水素原子がフッ素原子に置換されている必要はなく、部分的に水素が含まれていてもよい。
【００４９】
【化１７】
2005186577.tif 000009
但し、ｎは、１以上の整数である。
【化１８】
2005186577.tif 000010
但し、ｌ、ｍは、１以上の整数である。
【化１９】
2005186577.tif 000011
但し、ｋは、１以上の整数である。
【００５０】
なお、化合物（８）中、ｍ／ｌは、０．５〜２．０の範囲にあることが好ましい。
【００５１】
パーフルオロポリエーテル基をもつアルコキシシラン化合物の分子量は、特に限定されるものではないが、安定性、取扱いやすさ等の点から、数平均分子量で４００〜１００００のものが好ましく、５００〜４０００のものがより好ましく用いられる。
【００５２】
Ｒf`としてのフルオロアルキル基の分子構造としても、特に限定されるものではなく、アルキル基の水素原子をフッ素原子で置換したものが挙げられ、各種鎖長および各種フッ素置換度のフルオロアルキル基が含まれるが、下記に示す分子構造のものが好ましい。
【００５３】
【化２０】
2005186577.tif 000012
【化２１】
2005186577.tif 000013
この式中、ｓは６〜１２の整数、ｔは２０以下の整数を示す。
【００５４】
化合物からなる防汚層１３の膜厚は、特に限定されるものではないが、撥水性、耐汚染性、塗布性とのバランス及び表面硬度の関係から、０．５〜１００ｎｍが好ましい。
【００５５】
また、パーフルオロポリエーテル基を含む防汚剤としては、当業者に公知の材料も採用することができる。その材料としては、例えば、末端に極性基を持つパーフルオロポリエーテル（特開平９−１２７３０７号公報参照）、特定構造を有するパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を含有する防汚膜形成用組成物（特開平９−２５５９１９号公報参照）、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を各種材料と組み合わせて得られる表面改質剤（特開平９−３２６２４０号公報、特開平１０−２６７０１号公報、特開平１０−１２０４４２号公報、特開平１０−１４８７０１号公報参照）などが挙げられる。
【００５６】
一般には有機フッ素化合物を基材の表面に塗布することにより、基材の表面エネルギーを低下させることができる。しかしながら有機フッ素化合物を塗布するだけでは、十分な効果は得られない。つまり分子が配向するような極性基と疎水基のバランスを持った有機化合物が必要となる。その基材との親和性については容易に類推することはできない。
【００５７】
次に、この発明の一実施形態による光学ディスク１の製造方法の一例について説明する。以下、図２および３を参照しながら、この一実施形態による光学ディスク１の製造方法について説明する。
【００５８】
まず、図２Ａに示すように、例えば射出成形方法により、一主面に凹凸を有する基板２を形成する。そして、図２Ｂに示すように、例えばスパッタリング法により、基板２の凹凸上に情報信号部３を形成する。
【００５９】
次に、平面円環形状の光透過性シート１２を、このシート１２の一主面に予め均一に塗布された接着剤１１を用いて、基板２上の情報信号部３が形成された側に貼り合わせる。これにより、図２Ｃに示すように、基板２上に形成された情報信号部２を覆うように、光透過層４が形成される。
【００６０】
次に、図２Ｄに示すように、光透過層４上にハードコート層２１を形成する。このハードコート層２１の形成方法としては、例えば、スピンコート法、グラビアコート法、スプレーコート法などが挙げられるが、均一性の高いハードコート層２１を形成することを考慮すると、スピンコート法が好ましい。
【００６１】
次に、図３Ａに示すように、基板２１を酸素プラズマアッシャー内に搬入し、この酸素プラズマアッシャー内を減圧し、所定の時間、例えば１５〜６０秒間、ハードコート層２１に対して酸素プラズマ処理する。この処理により、図３Ａに示すように、ハードコート層２１中の有機成分がエッチングされ、シリカ微粒子２１ａが浮き出る。ここでは、減圧プラズマ装置により減圧下において酸素プラズマ処理する場合を例として示すが、大気圧プラズマ装置により大気圧下において酸素プラズマ処理してもよい。
【００６２】
次に、図３Ｂに示すように、カップリング剤層２２をハードコート層２１上に形成する。カップリング剤層２２の形成方法としては、例えば、カップリング剤の蒸気にハードコート層２１をさらす方法、カップリング剤を溶媒で希釈してハードコート層２１に塗布する方法、カップリング剤の原液をハードコート層２１に塗布する方法などが挙げられるが、カップリング剤の蒸気にハードコート層２１をさらす方法が好ましい。カップリング剤を溶媒で希釈してハードコート層２１に塗布する方法および、カップリング剤の原液をハードコート層２１に塗布する方法では、溶媒からの不純物の混入、溶媒中の水との反応によるカップリング剤の劣化、劣化（オリゴマー化等）したカップリング剤がハードコート層２１に塗布されることによる表面均一性の喪失などの問題が生じてしまう。
【００６３】
また、カップリング剤層２２を形成する方法は、上述の例に限られるのもではない。例えば、ハードコート層２１の表面をカップリング剤溶液でラビングする方法、ハードコート層２１の表面にカップリング剤溶液を吹き付ける方法、ハードコート層２１をカップリング剤溶液に浸漬させる方法などが挙げられる。なお、カップリング剤溶液でラビングする方法としては、例えば、カップリング剤溶液存在下でハードコート層２１の表面に物理的機械力を加える方法が挙げられ、具体的には例えば、カップリング剤溶液を含浸させた布等でハードコート表面を擦る（又は拭く）方法、カップリング剤溶液中でハードコート層２１の表面を擦る方法、またカップリング剤溶液を付着させたアクリル系ハードコート層２１の表面を擦る方法などが挙げられる。
【００６４】
なお、カップリング剤を溶媒に溶解させて溶液として用いる場合、この溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、２ーメトキシプロパノール、ブチルセルソルブ、又はこれらの混合溶媒であるソルミクッス等のアルコール系溶媒、アセトン、ＭＥＫ、２−ペンタノン、３−ペンタノン等のケトン系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒等が挙げられる。また、これらは単独で用いても、数種を混合させて用いてもよく、また水と混合して用いてもよい。特にはブチルセルソルブが好ましい。
【００６５】
次に、図３Ｃに示すように、防汚層２３をカップリング剤層２２上に形成する。防汚層２３の形成方法としては、例えば、式（１）若しくは（２）で示されるパーフルオロポリエーテル基を持つアルコキシシラン化合物、または式（３）若しくは（４）で示されるフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン化合物を含有する防汚剤を溶媒に希釈して、この溶液をカップリング剤層２２上に塗布し、乾燥させて硬化させる方法が挙げられる。防汚剤の塗布方法としては、例えば、グラビアコーターにより塗布する方法、ディッピング法、噴霧により塗布する方法、スピンコート法、擦り付けて塗布する方法、真空法などが挙げられる。
【００６６】
アルコキシシラン化合物を希釈する溶媒は、特に限定されないが、使用にあたっては組成物の安定性、被塗布面の最表面層に対する濡れ性、揮発性などを考慮して決められ、例えばフッ化炭化水素系溶媒が用いられる。フッ素化炭化水素系溶媒は、脂肪族炭化水素、環式炭化水素、エーテル等の炭化水素系溶媒の水素原子の一部又は全部をフッ素原子で置換した化合物である。例えば日本ゼオン社製の商品名ＺＥＯＲＯＲＡ−ＨＸＥ（沸点７８℃）、パーフルオロヘプタン（沸点８０℃）、パーフルオロオクタン（沸点１０２℃）、アウトジモント社製の商品名Ｈ−ＧＡＬＤＥＮ−ＺＶ７５（沸点７５℃）、Ｈ−ＧＡＬＤＥＮ−ＺＶ８５（沸点８５℃）、Ｈ−ＧＡＬＤＥＮ−ＺＶ１００（沸点９５℃）、Ｈ−ＧＡＬＤＥＮ−Ｃ（沸点１３０℃）、Ｈ−ＧＡＬＤＥＮ−Ｄ（沸点１７８℃）等のハイドロフルオロポリエーテル或いはＳＶ−１１０（沸点１１０℃）、ＳＶ−１３５（沸点１３５℃）等のパーフルオロポリエーテル、住友３Ｍ社製のＦＣシリーズ等のパーフルオロアルカン等が挙げられる。これらのフッ素化炭化水素系溶媒の中でも、一般式（１）、（２）又は（３）のフッ素系化合物を溶解する溶媒として、ムラのない、膜厚が均一な有機膜を得るために、沸点が７０〜２４０℃の範囲のものを選択し、さらにはハイドロフルオロポリエーテル（ＨＦＰＥ）若しくはハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）を選択し、これらの１種を単独で又は２種以上を混合して用いることが好ましい。沸点が低すぎると、例えば塗布ムラになりやすい傾向があり、一方沸点が高すぎると乾燥がうまく行かず塗布形態が良くならない傾向がある。また、ＨＦＰＥ又はＨＦＣは、一般式（１）、（２）又は（３）で表される化合物に対する溶解性が優れており、優れた塗布面を得ることができる。
【００６７】
この発明の一実施形態によれば以下の効果を得ることができる。
ハードコート層２１上を酸素プラズマ処理し、カップリング剤の蒸気にさらしてカップリング剤層２２をハードコート層２１上に形成し、カップリング剤層２２上に防汚剤を塗布し硬化して防汚層２３を形成するため、プラズマ処理によりハードコート層２１へのカップリング剤のヌレ性を改善でき、且つ、プラズマ処理によりエッチングされたハードコート層２１表面を補強することができる。これにより、防汚性および機械的強度ともに優れた防汚性ハードコート５および光学ディスク１を実現することができる。
【実施例】
【００６８】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【００６９】
カップリング剤層２２の評価
（実施例１）
（１）ハードコート層２１の形成
まず、スピンコート法により、ポリカーボネートフィルム（光透過性シート）１２上に光硬化性ハードコート剤（ＭＨ−７４０４、三菱化学、シリカ微粒子含有）を塗布し、光を照射し硬化させてハードコート層２１を得た。
【００７０】
（２）酸素プラズマ処理
次に、この光学ディスク１を、酸素プラズマアッシャー内に搬入し、アッシャー内を減圧し、圧力５０Ｐａ、投入電力１００Ｗ、ガス種Ｏ2、ガス流量３０ｍＬ／ｍｉｎの条件で、１５秒間、酸素プラズマ処理をした。
【００７１】
（３）カップリング剤層２２の形成
次に、カップリング剤の蒸気にハードコート層２１を６時間さらしてカップリング剤層２２を得た。
【００７２】
（４）防汚層２３の形成
次に、防汚剤である両末端にアルコキシシラン基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を合成した。そして、この化合物を、十分に脱水処理したハイドロフルオロエーテル（アウジモント社製、Ｈ−ＧＡＬＤＥＮ−ＺＶ１８０）に０．４重量パーセントとなるように溶解した。この溶液をカップリング剤層２２上にスピンコート（５００ｒｐｍ×５秒＋３０００ｒｐｍ×３０秒）し一晩乾燥させて防汚層２３を得た。以上により、光学ディスク１を得た。
【００７３】
（実施例２）
酸素プラズマ処理の時間を３０秒にする以外はすべて実施例１と同様にして、光学ディスク１を得た。
【００７４】
（実施例３）
酸素プラズマ処理の時間を６０秒にする以外はすべて実施例１と同様にして、光学ディスク１を得た。
【００７５】
（実施例４）
カップリング剤の蒸気にハードコート層２１をさらす時間を１２時間にする以外はすべて実施例１と同様にして、光学ディスク１を得た。
【００７６】
（実施例５）
カップリング剤の蒸気にハードコート層２１をさらす時間を１２時間にする以外はすべて実施例２と同様にして、光学ディスク１を得た。
【００７７】
（実施例６）
カップリング剤の蒸気にハードコート層２１をさらす時間を１２時間にする以外はすべて実施例３と同様にして、光学ディスク１を得た。
【００７８】
（実施例７）
カップリング剤の蒸気にハードコート層２１をさらす時間を２４時間にする以外はすべて実施例１と同様にして、光学ディスク１を得た。
【００７９】
（実施例８）
カップリング剤の蒸気にハードコート層２１をさらす時間を２４時間にする以外はすべて実施例２と同様にして、光学ディスク１を得た。
【００８０】
（実施例９）
カップリング剤の蒸気にハードコート層２１をさらす時間を２４時間にする以外はすべて実施例３と同様にして、光学ディスク１を得た。
（比較例１）
酸素プラズマ処理する工程と、カップリング剤層２２を形成する工程とを省略する以外はすべて実施例１と同様にして、光学ディスクを得た。
【００８１】
（比較例２）
カップリング剤層２２を形成する工程を省略する以外はすべて実施例１と同様にして、光学ディスクを得た。
【００８２】
（比較例３）
カップリング剤層２２を形成する工程を省略する以外はすべて実施例２と同様にして、光学ディスクを得た。
【００８３】
（比較例４）
カップリング剤層２２を形成する工程を省略する以外はすべて実施例３と同様にして、光学ディスク１を得た。
【００８４】
（撥水・撥油性評価）
次に、得られた実施例１〜９および比較例１〜４の光学ディスクに対して、以下に示す測定を行った。
（ａ）防汚処理後の水接触角
各光学ディスクの防汚製ハードコート５の水接触角を測定した。
【００８５】
（ｂ）ラビング後の水接触角
エタノールを染み込ませたガーゼに２００グラム／ｃｍ2の荷重をかけて、２０回ラビング処理を行った後に、水接触角を測定した。
【００８６】
（ｃ）ラビング処理後のオレイン酸接触角
エタノールを染み込ませたガーゼに２００グラム／ｃｍ2の荷重をかけて、２０回ラビング処理を行った後に、撥油性の指標であるオレイン酸接触角を測定した。
【００８７】
表１，２，３，４にそれぞれ、実施例１〜３、実施例４〜６、実施例７〜９、比較例１〜４の光学ディスクにおける防汚処理後の水接触角、ラビング処理後の接触角、ラビング処理後のオレイン酸接触角の測定結果を示す。
【００８８】
【表１】
2005186577.tif 000014
【００８９】
【表２】
2005186577.tif 000015
【００９０】
【表３】
2005186577.tif 000016
【００９１】
【表４】
2005186577.tif 000017
【００９２】
図４，５，６，７はそれぞれ、実施例１〜３、実施例４〜６、実施例７〜９、比較例１〜４の光学ディスクにおける防汚処理後の水接触角、ラビング後の水接触角、ラビング後のオレイン酸接触角の測定結果を示すグラフである。なお、図４〜７のグラフには、参考のために、各実施例および比較例のプラズマ処理後の水接触角、カップリング剤塗布後の水接触角を示す。また、図４〜７において、“◆印”、“■印”、“▲印”、“×印”、“＊印”はそれぞれ、プラズマ処理後の水接触角、カップリング剤塗布後の水接触角、防処理後の水接触角、ラビング後の水接触角、ラビング後のオレイン酸接触角を示す。
【００９３】
図４〜６から、実施例１〜９では、防汚層２３形成後の水接触角は、ほとんど１０８近辺の大きな値を示していることが分かる。詳しく見ると、カップリング剤の処理時間が長いほど、また酸素プラズマ処理時間が長いほど接触角が大きくなることが分かる。さらに、エタノールラビング後の水接触角もほとんど変化しないことが分かる。
【００９４】
図７から、比較例１，３，４の光学ディスクでは、カップリング剤層２２が無くとも、防汚層２３の水接触角は１２０度前後と高い値を示すのに対して、エタノールラビング処理後における防汚層２３の水接触角は、大幅に低下することが分かる。また、比較例２の光学ディスクでは、エタノールラビング処理の前後において、防汚層２３の水接触角が、１１８．５から１１１．７度に低下するのみであり、水接触角の変化は小さいことが分かる。これは、３０秒および６０秒の酸素プラズマ処理では、構造的にはダメージを与え、表面がもろくなるエッチング条件であるの対して、１５秒の酸素プラズマ処理では、反応性の向上はもたらすが構造的にはダメージを与えない、すなわち、ちょうどバランスのとれたエッチング条件であったためと考えられる。
【００９５】
よって、上述の結果より、カップリング剤層２３には、酸素プラズマ処理によりもろくなった表面を補強する作用があると考えられる。なお、後述する原子間力顕微鏡の観察により、酸素プラズマ処理の時間が長くなるにつれて、シリカ微粒子と見られる粒子の間が深くエッチングされていくことが観察されている。
【００９６】
酸素プラズマ処理の評価
（比較例５）
酸素プラズマ処理を省略する以外はすべて実施例１と同様にして、光学ディスクを得た。
【００９７】
（実施例１０）
すべて実施例１と同様にして、光学ディスク１を得た。
【００９８】
（実施例１１）
すべて実施例２と同様にして、光学ディスク１を得た。
【００９９】
（実施例１２）
すべて実施例３と同様にして、光学ディスク１を得た。
【０１００】
（撥水・撥油性評価）
上述の実施例１〜９と同様にして、防汚処理後の接触角、ラビング処理後の接触角、ラビング処理後のオレイン酸接触角を測定した。
【０１０１】
表５に、実施例１０〜１２および比較例５の光学ディスクにおける防汚処理後の水接触角、ラビング処理後の接触角、ラビング処理後のオレイン酸接触角の測定結果を示す。
【０１０２】
【表５】
2005186577.tif 000018
【０１０３】
図８は、実施例１０〜１２および比較例５の光学ディスクにおける防汚処理後の水接触角、ラビング処理後の接触角、ラビング処理後のオレイン酸接触角の測定結果を示すグラフである。なお、図８のグラフには、参考のために、各実施例および比較例のプラズマ処理後の水接触角、カップリング剤塗布後の水接触角を示す。また、図８において、“◆印”、“■印”“▲印”、“×印”、“＊印”はそれぞれ、図４〜６におけるのと同様のものを示す。
【０１０４】
図８から、酸素プラズマ処理により、防汚処理後の水接触角、ラビング処理後の水接触角、オレイン酸接触角が向上していることが分かる。具体的には、酸素プラズマ処理を３０秒または６０秒することにより、防汚処理後の水接触角を１０度以上向上できることが分かる。
【０１０５】
以下、参考のために、酸素プラズマ処理後におけるハードコート層２１の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ;Atomic Force Microscope）および減衰全反射法（ＡＴＲ;Attenuated Total Reflection）による観測した結果を示す。
【０１０６】
（ＡＦＭの観測結果）
図９は、酸素プラズマ処理をしていないハードコート層２１のＡＦＭ像である。図１０は、１５秒間の酸素プラズマ処理をしたハードコート層２１のＡＦＭ像である。図１１は、６０秒間の酸素プラズマ処理をしたハードコート層２１のＡＦＭ像である。図１２は、１２０秒間の酸素プラズマ処理をしたハードコート層２１のＡＦＭ像である。図１３に、酸素プラズマ処理時間と表面祖度（Ｒａ）との関係を示す。
【０１０７】
図９〜１２より、酸素プラズマ処理により表面の凹凸が大きくなり、エッチングが進んでいることが分かる。また、図１３により、表面祖度（Ｒａ）も酸素プラズマ処理時間とともに増加することが分かる。
【０１０８】
（ＡＴＲの観測結果）
図１４において、Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3がそれぞれ、１５秒、３０秒、６０秒の酸素プラズマ処理を行ったハードコート層２１のＡＴＲの測定結果を示す。ＡＴＲスペクトルをみると、アクリルのカルボキシル基由来の１７００ｃｍ-1付近のピークが減少し、ＳｉＯ結合由来の１１５０ｃｍ-1付近のピークが増加していることが分かる。これにより、酸素プラズマ処理によりアクリル樹脂成分がエッチングされ、シリカ微粒子が表面に現れてきていることが分かる。この結果は、上述のＡＦＭの観測結果とよく一致する。
【０１０９】
以上、この発明の一実施形態について具体的に説明したが、この発明は、上述の一実施形態に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【０１１０】
例えば、上述の一実施形態において挙げた数値および構成などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値および構成などを用いてもよい。
【０１１１】
また、上述の一実施形態では、光透過層４が、粘着層１１と光透過性シート１２とから構成される場合を例として示したが、光透過層４を紫外線硬化樹脂のみにより構成するようにしてもよい。この場合の光透過層４の形成方法としては、例えばスピンコート法が挙げられる。
【０１１２】
また、上述の一実施形態では、防汚性ハードコート５を光学ディスク１上に形成する例について示したが、防汚性ハードコート５を形成する対象はこれに限られるものではない。防汚性ハードコート５を形成する対象としては、例えば、光学レンズ、光学フィルタ、反射防止膜、液晶ディスプレー、プラズマディスプレー、タッチパネルなどが挙げられる。
【０１１３】
図１５に、防汚性ハードコート５を備えたタッチパネルの一構成例を示す。図１５に示すように、このタッチパネル１１０は、第１の透明導電性基材１０１と第２の透明導電性基材１０２とがスペーサ１０３を介して対向された構成を有する。第１の透明導電性基材１０１は、透明性を有する第１の基材１１１と、この第１の基材１１１の一主面に形成された第２の透明導電性基材１０２と、第２の基材１１１の他主面に形成された防汚性ハードコート５とを備える。一方、第２の透明導電性基材１０２は、透明性を有する第２の基材１２１と、この第２の基材１２１の第１の透明導電性基材１０１と対向する側の面に形成された透明導電膜１２２とを備える。
【０１１４】
第１の基材１１１としては、軽量性、耐久性、透明性を考慮して、例えば高分子フィルムが用いられている。また、透明導電膜１１２の材料としては、例えばｎ型の導電性を有するＩＴＯ（Indium−Tin−Oxide）が用いられている。この透明導電膜１１２の形成方法としては、例えばスパッタリング法および蒸着法が挙げられる。防汚性ハードコート５は、上述の一実施形態と同様の方法により形成することができる。このような構成を有するタッチパネル１１０は、図１５に示すように、液晶表示素子などの表示装置１０４上に配置されている。
【０１１５】
また、上述した一実施形態では、ハードコート層２１へカップリング剤を塗布する前に、ハードコート層２１を酸素プラズマ処理する場合を例として示したが、酸素プラズマ以外の表面処理をするようにしてもよい。この表面処理としては、例えば、コロナ放電処理、ＵＶ処理等が挙げられる。例えば、コロナ放電処理の電力密度は、アクリル系ハードコートの種類や厚さ等を考慮して選ぶことが好ましく、例えば１００〜７００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2の範囲に設定することが好ましい。
【０１１６】
また、上述した一実施形態では、光透過層２３側から光を照射して情報信号の記録および／または再生が行われる光学ディスク１に対してこの発明を適用して例について示したが、この発明はこのような構成を有する光学ディスクに限定されるものではない。例えば、基板側から光を照射して情報信号の記録および／または再生が行われる光学ディスク（例えば、ＣＤ（Compact Disc））、基板を貼り合わせて構成される光学ディスク（例えば、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc））などにも、本発明は適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】この発明の一実施形態による光学ディスクの一構成例を示す断面図である。
【図２】この発明の一実施形態による光学ディスクの製造方法の一例を説明するための断面図である。
【図３】この発明の一実施形態による光学ディスクの製造方法の一例を説明するための断面図である。
【図４】実施例１〜３の光学ディスクにおける接触角の測定結果を示すグラフである。
【図５】実施例４〜６の光学ディスクにおける接触角の測定結果を示すグラフである。
【図６】実施例７〜９の光学ディスクにおける接触角の測定結果を示すグラフである。
【図７】比較例１〜４の光学ディスクにおける接触角の測定結果を示すグラフである。
【図８】実施例１０〜１２および比較例５の光学ディスクにおける接触角の測定結果を示すグラフである。
【図９】酸素プラズマ処理をしていないハードコート層のＡＦＭ画像である。
【図１０】１５秒間の酸素プラズマ処理をしたハードコート層のＡＦＭ画像である。
【図１１】３０秒間の酸素プラズマ処理をしたハードコート層のＡＦＭ画像である。
【図１２】６０秒間の酸素プラズマ処理をしたハードコート層のＡＦＭ画像である。
【図１３】酸素プラズマ処理時間と表面祖度（Ｒａ）との関係を示すグラフである。
【図１４】１５秒、３０秒および６０秒間の酸素プラズマを行ったハードコート層２１のＡＴＲの観測結果を示すグラフである。
【図１５】この発明を適用したタッチパネルの一構成例を示す断面図である。
【符号の説明】
【０１１８】
１・・・光学ディスク、２・・・基板、３・・・情報信号部、４・・・光透過層、５・・・防汚性ハードコート、１１・・・接着層、１２・・・光透過性シート、２１・・・ハードコート層、２２・・・カップリング剤層、２３・・・防汚層
【図１】
2005186577.tif 000029
【図２】
2005186577.tif 000030
【図３】
2005186577.tif 000031
【図４】
2005186577.tif 000032
【図５】
2005186577.tif 000033
【図６】
2005186577.tif 000034
【図７】
2005186577.tif 000035
【図８】
2005186577.tif 000036
【図９】
2005186577.tif 000037
【図１０】
2005186577.tif 000038
【図１１】
2005186577.tif 000039
【図１２】
2005186577.tif 000040
【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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