(57)【要約】【課題】  大きな記録容量を達成出来ると共に、放射状パターン発生による巻き姿不良や出力低下の発生がなく、又、高速走行時等でのヒゲ状削れ物(又は糸状削れ物)の発生がなく、磁気ヘッドの目詰まりやドロップアウトが良化し、良好な走行耐久性及び電磁変換特性を有する磁気テープを提供すること。【解決手段】  支持体上非磁性層、磁性層並びにバック層を有してなる磁気テープにおいて、以下の条件を満足すること。（１）非拘束側切断面において、支持体最大凸部の頂点が塗布層最大凸部の頂点とバック層最大凸部の頂点を結んだ線より外に出ていないこと。（２）磁性層表面の深さ方向のヤング率が１０００〜２５００Ｋｇ／ｍｍ2（９．８〜２４．５ＧＰａ）の範囲である。（３）バック層表面の深さ方向のヤング率が６００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2（５．９〜１９．６ＧＰａ）の範囲である。【選択図】            なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の一面上に少なくとも強磁性粉末と結合剤を含む塗布層を有し、他方の面上にバック層を有してなる磁気テープにおいて、以下の条件（１）〜（３）を満足することを特徴とする磁気テープ。
（１）非拘束側切断面において、支持体最大凸部の頂点が塗布層最大凸部の頂点とバック層最大凸部の頂点を結んだ線より外に出ていないこと。
（２）磁性層表面の深さ方向のヤング率が１０００〜２５００Ｋｇ／ｍｍ2（９．８〜２４．５ＧＰａ）の範囲である。
（３）バック層表面の深さ方向のヤング率が６００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2（５．９〜１９．６ＧＰａ）の範囲である。
【請求項２】
前記塗布層は、支持体の一面上に非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層、及び強磁性粉末と結合剤を含む磁性層をこの順に設けたものであることを特徴とする請求項１記載の磁気テープ。
【請求項３】
前記非拘束側切断面において、支持体最大凸部の頂点が塗布層最大凸部の頂点とバック層最大凸部の頂点を結んだ線とバック層表面の延長線とのなす角度が６０〜９０度であることを特徴とする請求項１または２記載の磁気テープ。
【請求項４】
前記拘束側切断面において、支持体最大凸部の頂点が塗布層最大凸部の頂点とバック層最大凸部の頂点を結んだ線より外に出ていないこと特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の磁気テープ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コンピューターデーターを記録するために外部記録媒体として使用される磁気テープに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピューターデーターを記録するための磁気テープ（所謂バックアップテープ）の開発研究が盛んに行われている。このような用途の磁気テープは、情報処理量の増大、記録再生システムの小型化に伴って、テープ自体の小型化と共に、より大きな記録容量を持っていることが望ましい。磁気テープの小型化のためには、使用する磁性体粒子の微粒子化や充填密度ＵＰ、更磁性層の薄層化等の方法がある。また磁気テープは、該システム内において大きな容量の情報をより速く処理出来るように、高速で繰り返し使用されるため、高い走行耐久性や幅広い環境条件下（特に、変動の激しい温湿度条件下など）の使用に際してもエラーの発生がなく、安定して記録再生が出来るように高い信頼性がましていることも従来にまして強く望まれている。
最近の磁気テープでは単層構造の磁性層で発生する、出力が低下する等の厚み損失の問題を解決するため、非磁性支持体上に非磁性層とこの上に更に薄い磁性層を設けてなる二層構成の磁気記録媒体が提案されている（特許文献１）。磁性層の薄層化により、高密度記録が可能になり、従ってより大きな記録容量を達成することが出来る。
【０００３】
大きな記録容量を得るためには上記のような二層構成の磁気テープを用いることが有利であり、又、磁気テープの厚み（全厚）を薄くすることも大きな記録容量を得るために良く利用される、手段である。一般に磁気テープの厚みを薄くするとテープ自体の強度が不足してくるため、高速での走行時のテープの変形が発生する等、走行耐久性が低下し易くなる。
このため、磁気テープには比較的剛性の高いアラミド等の支持体材料を用いることが提案されている。（特許文献２）
しかし、このような場合でも、磁気テープの製造工程において、長尺状で幅広の磁気テープ原反を裁断して、所定の幅(例えば、３．８ｍｍ、８ｍｍ、１／２インチ等)にスリットする際にスリット端面において支持体が磁性層やバック層より凸状になることがある。支持体は磁性層より剛性が低いため、スリット後のワインダー工程等において、ガイドローラに摺動し変形する等の問題が発生することがある。支持体の変形はガイドローラーに摺動する側で大きく、他方では小さい。このため、支持体の片側だけ外から内側に押し込まれた状態で変形し、磁気テープの厚みが増加するため、磁気テープ幅方向で均一にワインドされず、片伸び状態で巻き取られる。
この状態での巻き端面を観察すると巻きの中心から外側に向かって放射状のパターンとして観察される。この放射状パターンとは見た目での巻き姿不良、出力低下等の問題を発生する。又、支持体の変形のため、高速走行時等においてヒゲ状削れ物（又は糸状削れ物）が発生し易くなることが分かった。これらヒゲ状削れ物はドライブ内に汚れとなって付着したり、或いはカセット内部に飛散し、磁性層表面に付着し、磁気ヘッドの目詰まりを起こしたり、ドロップアウトを多発させる原因となる。
【０００４】
特許文献３においてはベース最大凸部からの垂線よりバック層が飛び出していないことが提案され、バック層の削れがないようにするため、ベース最大凸部からの垂線よりバック層が飛び出していないことが提案され、更に特許文献２では糸状削れを防止するため、ベース最大凸部からの垂線よりバック層が内側にあることが提案されている。
【０００５】
特許文献４は耐久性向上のため、磁性層最端部が下層非磁性層の最端部より突出していないことが提案されている。
しかしながら、上記従来技術では、高記録容量の磁気テープにおいて巻き姿不良や出力低下が防止でき、又、高速走行時等でのヒゲ状削れ物(又は糸状削れ物)の発生を有効に防止する手段を見出せないでいた。
【０００６】
【特許文献１】特開平５−１８２１７８号公報
【特許文献２】特開平１１−２９６８３９号公報
【特許文献３】特開平９−１５３２１２号公報
【特許文献４】特開２０００−２０７７３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、大きな記録容量を達成出来ると共に、上記のような放射状パターン発生による巻き姿不良や出力低下の発生がなく、又、高速走行時等でのヒゲ状削れ物(又は糸状削れ物)の発生がなく、磁気ヘッドの目詰まりやドロップアウトが良化し、良好な走行耐久性及び電磁変換特性を有する特にコンピューターデーター記録用として有利に用いられる、磁気テープを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題は、以下の本発明により解決できる。
１）  支持体の一面上に少なくとも強磁性粉末と結合剤を含む塗布層を有し、他方の面上にバック層を有してなる磁気テープにおいて、以下の条件（１）〜（３）を満足することを特徴とする磁気テープ。
（１）非拘束側切断面において、支持体最大凸部の頂点が塗布層最大凸部の頂点とバック層最大凸部の頂点を結んだ線より外に出ていないこと。
（２）磁性層表面の深さ方向のヤング率が１０００〜２５００Ｋｇ／ｍｍ2（９．８〜２４．５ＧＰａ）の範囲である。
（３）バック層表面の深さ方向のヤング率が６００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2（５．９〜１９．６ＧＰａ）の範囲である。
２）前記塗布層は、支持体の一面上に非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層、及び強磁性粉末と結合剤を含む磁性層をこの順に設けたものであることを特徴とする上記１）記載の磁気テープ。
３）前記非拘束側切断面において、支持体最大凸部の頂点が塗布層最大凸部の頂点とバック層最大凸部の頂点を結んだ線とバック層表面の延長線とのなす角度が６０〜９０度であることを特徴とする上記１）または２）記載の磁気テープ。
４）前記拘束側切断面において、支持体最大凸部の頂点が塗布層最大凸部の頂点とバック層最大凸部の頂点を結んだ線より外に出ていないこと特徴とする上記１）〜３）の何れかに記載の磁気テープ。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の磁気テープは磁性層表面の深さ方向のヤング率、バック層表面のヤング率を規定すると共に非拘束側切断面形状を特定することにより、高速走行時での支持体の変形やヒゲ状削れ物の発生が減少し、また、支持体の変形の改良は放射状パターン等の発生がなくなり、巻き姿も改良され、安定した走行となり、ひいては、電磁変換特性が改良された。一方、磁気ヘッドの汚れ、カセット内やテープ表裏面への汚れが減少し、この結果、ドロップアウトが低減する。以上のことより、良好な走行耐久性及び電磁変換特性を示し、特にコンピューターデーター記録用として有利に用いることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明において、拘束側切断面とは、磁気テープ原反が下刃に拘束されて上刃と共に切断された側の面であり、非拘束側切断面とは、拘束側切断面の対向面であり、磁気テープ原反が下刃に拘束されないで上刃と共に切断される側の面である。
また、非拘束側切断面における支持体最大凸部の頂点とは、該切断面が紙面に対して垂直方向になるように投影して得られる切断端部の端線に対して磁気テープ幅方向に垂直な線を走査して該切断端部の端線と接触する部位の最端部を意味する。
非拘束側切断面における塗布層最大凸部の頂点、バック層最大凸部の頂点も上記支持体最大凸部の頂点と同様に定義される。塗布層最大凸部の頂点の位置は、塗布層が２層以上で構成されている場合には、そのいずれの層であってもよい。
また、前記拘束側切断面における、支持体最大凸部の頂点、及び塗布層またはバック層の各々の最大凸部の頂点も上記非拘束側切断面における各々の最大凸部の頂点の定義と同様に定義される。
また、非拘束側切断面において、支持体最大凸部の頂点が塗布層最大凸部の頂点とバック層最大凸部の頂点を結んだ線より外に出ていないとは、支持体最大凸部の頂点を含む切断端部の端線が、塗布層最大凸部の頂点とバック層最大凸部の頂点を結んだ線と交わらないこと（接触することは許容される）を意味する。
【００１１】
以下、図を参照しながら本発明の磁気テープの具体的態様について説明する。
図１は、裁断装置の裁断部分を磁気テープ原反の長手方向が紙面に垂直方向となるように見た切断部分の断面である。裁断装置としては、図３に示されるような上刃及び下刃が回転刃から構成されるものが好ましい。
Ｘ方向は、磁気テープ原反の幅方向、Ｙは磁気テープ原反の厚さ方向である。
拘束側切断面４は、磁気テープ原反１が下刃２に拘束されて上刃３と共に切断された側の面であり、Ｙ方向に拘束される切断面である。
非拘束側切断面５は、拘束側切断面の対向面であり、磁気テープ原反１が下刃に拘束されないで上刃と共に切断される側の面で、Ｙ方向に拘束されない切断面である。
図２は、図１の切断部分（磁気テープ１ｂ）をそのまま拡大した模式図である。この例は、非磁性層と磁性層とから塗布層が構成されている例であるが、磁性層単層の場合も同様である。
磁気テープ１ｂは、支持体６の一面上に非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層７、強磁性粉末と結晶子を含む磁性層８を有し、他方の面上にバック層９を有してなる。
非拘束側切断面５における支持体最大凸部の頂点１１ａは、該切断面５が切断端部の端線に対して磁気テープ幅方向に垂直な線を走査して該切断端部の端線と接触する部位の最端部である。非拘束側切断面における塗布層最大凸部の頂点１０ａとバック層最大凸部の頂点１２ａも上記と同様に求められる。また、拘束側切断面４における、支持体最大凸部の頂点１１ｂ、及び塗布層最大凸部の頂点１０ｂ、バック層最大凸部の頂点１２ｂも上記と同様に定義される。
非拘束側切断面において、支持体最大凸部の頂点１１ａは塗布層最大凸部の頂点１０ａとバック層最大凸部の頂点１２ａを結んだ線１３より外に出ていないことは、該線１３と頂点１１ａに接する垂線１４の間に空間１５が存在することと同義である。
また、該垂線１４に直行し、かつ頂点１１ａをとおる垂線１６と線１３との交点１７ａと垂線１４との距離Ｌ１は、本発明においては、０〜−１μｍが好ましく、−０．２〜−０．５μｍが更に好ましい。なお、空間１５が、その通り空間である場合は符号を「−」に、空間１５が支持体となる場合には「＋」とする。このＬ１の値を非拘束側ベース凸量ともいう。
また、本発明の磁気テープは、非拘束側切断面５において、線１３とバック層表面の延長線１８とのなす角度αが６０〜９０度であることが好ましく、７５〜９０度が更に好ましく、８０〜８８度が特に好ましい。
また、本発明の磁気テープは、拘束側切断面４において、支持体最大凸部の頂点１１ｂが塗布層最大凸部の頂点１０ｂとバック層最大凸部の頂点１２ｂを結んだ線１９より外に出ていないことが好ましい。この態様は、上記非拘束側切断面における同態様と同様に定義される。ここで、頂点１１ｂが線１９より外に出ていないことは、該線１９と頂点１１ｂに接する垂線２０の間に空間２１が存在することと同義である。
また、該垂線２０に直行し、かつ頂点１１ｂをとおる垂線２２と線１９との交点１７ｂと垂線２０との距離Ｌ２は、本発明においては、０〜−１．１μｍが好ましく、−０．２〜−０．５μｍが更に好ましい。なお、空間２１が、その通り空間である場合は符号を「−」に、空間２１が支持体となる場合には「＋」とする。このＬ２の値を拘束側ベース凸量ともいう。
【００１２】
本発明において、非拘束側切断面の形状を制御する手段としては、以下の手段が挙げられる。
１）磁性層表面の深さ方向のヤング率およびバック層表面の深さ方向のヤング率を高くし、支持体のヤング率を小さめに制御すること。
２）スリット条件を選定すること。
上記１）について、説明する。
本発明において、磁性層表面の深さ方向のヤング率は、１０００〜２５００Ｋｇ／ｍｍ2（９．８〜２４．５ＧＰａ）、好ましくは１２５０〜２３００Ｋｇ／ｍｍ2（１２．２５〜２２．５４ＧＰａ）、更に好ましくは１３００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ2（１２．７４〜１４．７０ＧＰａ）に制御されると共にバック層表面の深さ方向のヤング率は６００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2（５．９〜１９．６ＧＰａ）、好ましくは７００〜１８００Ｋｇ／ｍｍ2（６．８６〜１７．６４ＧＰａ）、更に好ましくは８００〜１３００Ｋｇ／ｍｍ2（７．８４〜１２．７４ＧＰａ）に制御される。
磁性層表面の深さ方向のヤング率、またはバック層表面の深さ方向のヤング率は、深さ方向全体において一様に上記特定範囲であってもよいが、少なくとも深さ方向の一部が同範囲となっていればよい。
支持体のヤング率は、素材、延伸法等を選定することにより制御することができ、支持体の長手配向（ＭＤ方向）のヤング率は、好ましくは９３３〜１７４９Ｋｇ／ｍｍ2（９．１５〜１７．１５ＧＰａ）に制御される。
支持体の長手方向（ＭＤ方向）のヤング率は、以下により測定される値である。
装置：例えば、株式会社、東洋精機製作所製、ストログラフＶ１−Ｃ
一定条件下（荷重：５ｋｇｆ、引っ張り速度：５０ｍｍ／分、温湿度：２３℃×５０％ＲＨ、サンプルサイズ：１／２吋×１０ｃｍ）で支持体を引っ張り、荷重と伸びとの関係を測定し、支持体が０．５％伸びた時（直線部分）の傾きをＭＤ方向のヤング率（弾性率）として求める。
磁性層及びバック層のヤング率を制御する手段としては、それらの組成［粉体（素材、サイズ、硬度等の選定）、結合剤（素材、ガラス転移点（Ｔｇ）、硬化剤等の選定）、潤滑剤等］、カレンダ処理条件（ロール素材、温度、線圧、速度などの選定）、層形成後の熱処理条件（温度、時間などの選定）等を種々単独または組み合わせることにより制御することができる。
【００１３】
スリット条件としては、スリット速度、噛み合い深さ、上刃と下刃の周速比（上刃周速／下刃周速）、スリット刃の連続使用時間等が挙げられる。
【００１４】
スリット速度としては速いほうが好ましいが、具体的には１５０〜４００ｍ／分の範囲が適当であり、好ましくは２５０〜３５０ｍ／分、より好ましくは２８０〜３３０ｍ／分である。噛み合い深さは、０．２５〜０．７ｍｍが好ましい範囲であり、他のスリット条件との組み合わせでより好ましい範囲が決まる。
【００１５】
上刃と下刃の周速比としては、具体的には１．００〜１．０５の範囲が適当であり、前記噛み合い深さ同様、他のスリット条件との組み合わせでより好ましい範囲が決まる。
【００１６】
本発明の磁気テープの非拘束側切断面は、従来のベース凸（すなわち、前記図２で示したＬ１が少なくとも＋であるもの）がなくなるため、剛性の高い磁性層がガ−ドとなり、高速走行時での支持体の変形やヒゲ状削れ物の発生が減少する。支持体の変形の改良は放射状パターン等の発生がなくなり、巻き姿も改良されることにつながり、電磁変換特性が改良される。一方、非拘束側切断面のベース凸がなくなるため、磁気ヘッドの汚れ、カセット内やテープ表裏面への汚れが減少する。この結果、ドロップアウトが良化する。以上のことより、良好な走行耐久性及び電磁変換特性を示し、特にコンピューターデーター記録用として有利に用いることが出来る。
【００１７】
本発明の磁気テープは、磁気テープ原反を長手方向にスリットされて得られるものであり、全体の厚みが３〜２０μｍが一般的であり、高容量化には４〜１０μｍが好ましく、４〜８μｍが更に好ましい。本発明の磁気テープの構成要素について説明する。
【００１８】
本発明に用いることのできる支持体として、二軸延伸を行ったポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、ポリベンズオキサゾール等を挙げることができる。これらの支持体は、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ったものであってもよい。また本発明に用いることのできる支持体は、中心線平均表面粗さがカットオフ値０．２５ｍｍにおいて０．１〜２０ｎｍ、好ましくは１〜１０ｎｍの範囲にあって、表面が優れた平滑性を有しているのが好ましい。また、これらの支持体は中心線平均表面粗さが小さいだけでなく１μ以上の粗大突起がないことが好ましい。支持体の厚さは４〜１５μｍ、好ましくは４〜９μｍである。薄い場合は、バック層の凹凸がハンドリングテンションで写りやすくなるため、高Ｔｇのポリウレタン樹脂を磁性層に使用することによってこれを効果的に抑制することができる。厚が７μｍ以下の場合は、ＰＥＮもしくはアラミド等の芳香族ポリアミドを使用するのが好ましい。
【００１９】
非磁性層は、非磁性粉末及び結合剤を含む実質的に非磁性の層である。この非磁性層は、その上の磁性層の電磁変換特性に影響を与えないように実質的に非磁性であることが必要であるが、磁性層の電磁変換特性に影響を与えない程度に少量の磁性粉末が含有されていても特に問題にはならない。また通常、非磁性層には、これらの成分以外に潤滑剤が含まれている。
【００２０】
非磁性層で用いられる非磁性粉末としては、例えば、非磁性無機粉末、カーボンブラックを挙げることができる。非磁性無機粉末は、比較的硬いものが好ましく、モース硬度が５以上（更に好ましくは、６以上）のものが好ましい。非磁性無機粉末の例としては、α−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、二酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム及び硫酸バリウムを挙げることができる。これらは単独でまたは組合せて使用することができる。これらのうちでは、酸化チタン、α−アルミナ、α−酸化鉄、又は酸化クロムが好ましい。非磁性無機粉末の平均粒子径は、０．０１〜１．０μｍ（好ましくは、０．０１〜０．５μｍ、特に、０．０２〜０．１μｍ）の範囲にあることが好ましい。なお、非磁性粉末のうち、３〜２５質量％（好ましくは、３〜２０質量％）は、モース硬度が５以上（好ましくは、６以上）の所謂研磨剤として機能し得るものを使用することが好ましい。
【００２１】
非磁性層のカーボンブラックは、非磁性無機粉末に加えて、磁性層に導電性を付与して帯電を防止すると共に、非磁性層上に形成される磁性層の平滑な表面性を確保する目的で添加される。非磁性層で用いるカーボンブラックは、その平均粒子径が３５ｎｍ以下（更に好ましくは、１０〜３５ｎｍ）であることが好ましい。またその比表面積は、５〜５００ｍ2／ｇ（更に好ましくは、５０〜３００ｍ2／ｇ）であることが好ましい。ＤＢＰ吸油量は、１０〜１０００ｍＬ／１００ｇ（更に好ましくは、５０〜３００ｍＬ／１００ｇ）の範囲にあることが好ましい。またｐＨは、２〜１０、含水率は、０．１〜１０％、そしてタップ密度は、０．１〜１ｇ／ｃｃであることが好ましい。
【００２２】
カーボンブラックは様々な製法で得たものが使用できる。これらの例としては、ファーネスブラック、サーマルブラック、アセチレンブラック、チャンネルブラック及びランプブラックを挙げることができる。カーボンブラックの具体的な商品例としては、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２（以上、キャボット社製）、＃３５、＃５０、＃５５、＃６０及び＃８０（以上、旭カ−ボン（株）製）、＃３９５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃２４００Ｂ、＃２３００Ｂ、＃１０００、＃９００、＃４０、＃３０、及び＃１０Ｂ（以上、三菱化学（株）製）、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ、１５０、５０、４０、１５（以上、コロンビアカーボン社製）、ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェンブラックＥＣＤＪ−５００およびケッチェンブラックＥＣＤＪ−６００（以上、ライオンアグゾ（株）製）を挙げることができる。
【００２３】
非磁性層のカーボンブラックの通常の添加量は、全非磁性無機粉末１００質量部に対して、３〜２５質量部であり、好ましくは、４〜２０質量部、更に好ましくは、５〜１５質量部である。
【００２４】
非磁性層の結合剤としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を挙げることができる。熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、及びビニルエーテルを構成単位として含む重合体、あるいは共重合体を挙げることができる。共重合体としては、例えば、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタアクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、メタアクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタアクリル酸エステル−スチレン共重合体、塩ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、クロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合体を挙げることができる。
【００２５】
上記の他に、ポリアミド樹脂、繊維素系樹脂（セルロースアセテートブチレート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロースなど）、ポリ弗化ビニル、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂なども利用することができる。
【００２６】
また熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とポリイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物を挙げることができる。
【００２７】
上記ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネートなどのイソシアネート類、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、及びイソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネートを挙げることができる。
【００２８】
上記ポリウレタン樹脂は、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、及びポリカプロラクトンポリウレタンなどの構造を有する公知のものが使用できる。
【００２９】
本発明において、非磁性層の結合剤は、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、及びニトロセルロースの中から選ばれる少なくとも１種の樹脂と、ポリウレタン樹脂との組合せ、またはこれらに更に硬化剤としてのポリイソシアネートを組み合わせて構成することが好ましい。
【００３０】
結合剤としては、より優れた分散性と得られる層の耐久性を得るために必要に応じて、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2（Ｍは水素原子、またはアルカリ金属を表わす。）、−ＯＨ、−ＮＲ2、−Ｎ+Ｒ3（Ｒは炭化水素基を表わす。）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮなどから選ばれる少なくともひとつの極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基は、結合剤に１０-1〜１０-8モル／ｇ（さらに好ましくは、１０-2〜１０-6モル／ｇ）の量で導入されていることが好ましい。
【００３１】
非磁性層の結合剤は、非磁性粉末１００質量部に対して、通常５〜５０質量部（好ましくは１０〜３０質量部）の範囲で用いられる。なお、非磁性層に結合剤として塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、及びポリイソシアネートを組み合わせて用いる場合は、全結合剤中に、塩化ビニル系樹脂が５〜７０質量％、ポリウレタン樹脂が２〜５０質量％、そしてポリイソシアネートが２〜５０質量％の範囲で量で含まれるように用いることが好ましい。
【００３２】
非磁性層の潤滑剤は、磁性層表面ににじみ出すことによって、磁性表面と磁気ヘッド、ドライブのガイドポールとシリンダとの間の摩擦を緩和し、円滑に摺接状態を維持させるために添加される。潤滑剤としては、例えば、脂肪酸、あるいは脂肪酸エステルを挙げることができる。脂肪酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、２−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、アラキン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、及びパルミトレイン酸等の脂肪族カルボン酸またはこれらの混合物を挙げることができる。
【００３３】
また脂肪酸エステルとしては、例えば、ブチルステアレート、sec−ブチルステアレート、イソプロピルステアレート、ブチルオレエート、アミルステアレート、３−メチルブチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−ヘキシルデシルステアレート、ブチルパルミテート、２−エチルヘキシルミリステート、ブチルステアレートとブチルパルミテートの混合物、オレイルオレエート、ブトキシエチルステアレート、２−ブトキシ−１−プロピルステアレート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルをステアリン酸でアシル化したもの、ジエチレングリコールジパルミテート、ヘキサメチレンジオールをミリスチン酸でアシル化してジオールとしたもの、そしてグリセリンのオレエート等の種々のエステル化合物を挙げることができる。これらのものは、単独で、あるいは組み合わせて使用することができる。非磁性層の潤滑剤の添加量は、全非磁性粉末１００質量部に対して、通常０．２〜２０質量部の範囲である。
【００３４】
磁性層は、基本的には強磁性粉末及び結合剤から形成されている。また、磁性層には、通常、潤滑剤、導電性粉末（例、カーボンブラック）、及び研磨剤が含有されている。強磁性粉末としては、例えば、γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4、ＦｅＯx（ｘ＝１．３３〜１．５）、ＣｒＯ2、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ含有ＦｅＯx（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｆｅ、Ｎｉ、又はＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合金粉末（強磁性金属粉末）、及び板状六方晶フェライト粉末を挙げることができる。本発明においては、強磁性粉末として、強磁性金属粉末、あるいは板状六方晶フェライト粉末の使用が好ましい。特に好ましくは、強磁性金属粉末である。
【００３５】
上記強磁性金属粉末は、その粒子の比表面積が好ましくは３０〜７０ｍ2／ｇであって、Ｘ線回折法から求められる結晶子サイズは、５０〜３００オングストロームである。比表面積が余り小さいと高密度記録に充分に対応できなくなり、余り大き過ぎても分散が充分に行えず、従って平滑な面の磁性層が形成できなくなるため同様に高密度記録に対応できなくなる。
【００３６】
強磁性金属粉末は、少なくともＦｅを含むことが必要であり、具体的には、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｚｎ−Ｎｉ又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏを主体とした金属単体あるいは合金である。なお、Ｆｅ単独でも良い。またこれらの強磁性金属粉末の磁気特性については、高い記録密度を達成するために、その飽和磁化量（σs）は１１０ｅｍｕ／ｇ（Ａ・ｍ2／ｋｇ）以上、好ましくは１２０Ａ・ｍ2／ｋｇ以上、１７０Ａ・ｍ2／ｋｇ以下である。又、保磁力（Ｈｃ）は、１９５０〜２６５０エルステッド（Ｏｅ）（１５６〜２１２ｋＡ／ｍ）、好ましくは、２０００〜２５００Ｏｅ（１６０〜２００ｋＡ／ｍ）の範囲である。そして、透過型電子顕微鏡により求められる粉末の平均長軸長は、０．５μｍ以下、好ましくは、０．０１〜０．３μｍで軸比（長軸長／短軸長、針状比）は、５以上、２０以下、好ましくは、５〜１５である。更に特性を改良するために、組成中にＢ、Ｃ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ等の非金属、もしくはその塩、酸化物が添加されることもある。通常、前記金属粉末の粒子表面は、化学的に安定化させるために酸化物の層が形成されている。
【００３７】
本発明で用いる板状六方晶フェライト粉末は、その比表面積は２５〜６５ｍ2／ｇであって、板状比（板径／板厚）が２〜１５、平均板径は０．０２〜１．０μｍである。板状六方晶フェライト粉末は、強磁性金属粉末と同じ理由からその粒子サイズが大きすぎても小さすぎても高密度記録が難しくなる。板状六方晶フェライトとしては、平板状でその平板面に垂直な方向に磁化容易軸がある強磁性体であって、具体的には、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライト、及びそれらのコバルト等の置換体等を挙げることができる。これらの中では、特にバリウムフェライトのコバルト置換体、ストロンチウムフェライトのコバルト置換体が好ましい。板状六方晶フェライトには、更に必要に応じてその特性を改良するためにＩｎ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｖ等の元素を添加してもよい。またこれらの板状六方晶フェライト粉末の磁気特性については、高い記録密度を達成するために、前記のような粒子サイズが必要であると同時に飽和磁化（σs）は少なくとも５０Ａ・ｍ2／ｋｇ以上、好ましくは５３Ａ・ｍ2／ｋｇ以上である。又、保磁力は、７００〜２０００Ｏｅ（５６〜１６０ｋＡ／ｍ）の範囲であり、９００〜１６００Ｏｅ（７２〜１２８ｋＡ／ｍ）の範囲であることが好ましい。
【００３８】
強磁性粉末の含水率は０．０１〜２質量％とすることが好ましい。また結合剤の種類によって含水率を最適化することが好ましい。強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組み合わせにより最適化することが好ましく、そのｐＨは通常４〜１２の範囲であり、好ましくは５〜１０の範囲である。強磁性粉末は、必要に応じて、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ又はこれらの酸化物などでその表面の少なくとも一部が被覆されているものが好ましい。表面処理を施す際のその使用量は、通常強磁性粉末に対して、０．１〜１０質量％である。このように被覆された強磁性粉末は、脂肪酸などの潤滑剤の吸着を１００ｍｇ／ｍ2以下に抑えられるので、潤滑剤の磁性層への添加量を少なくしても所望の効果が達成できる。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、及びＳｒなどの無機イオンが含まれる場合があるが、その含有量はできるだけ少ないことが好ましい。通常は５０００ｐｐｍ以下であれば特性に影響を与えることはない。なお、上記のような強磁性粉末及びその製造方法は、例えば、特開平７−２２２２４号公報に記載されている。
【００３９】
なお、本発明で用いる強磁性粉末は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｔｉ、及び希土類元素（Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ）などの燒結防止剤として公知の物質により処理されていることが好ましい。本発明では、少なくともＹ（イットリウム）で処理されていることが好ましい。上記燒結防止剤については、例えば、特開昭５２−１３４８５８号、同５６−１１４８３３号、同５７−７３１０５号、特開平６−２５７０２号、及び同６−３６２６５号の各公報に開示されている。
【００４０】
潤滑剤は、非磁性層に使用できるものとして記載した潤滑剤を使用することができる。潤滑剤の通常の添加量は、磁性層に強磁性粉末１００質量部に対して、０．２〜２０質量部（好ましくは、０．２５〜１０質量部）の範囲である。
【００４１】
カーボンブラックは、磁性層の表面電気抵抗（ＲS）の低減、動摩擦係数（μK値）の低減、走行耐久性の向上、及び磁性層の平滑な表面性を確保する等の種々の目的で添加される。カーボンブラックは、非磁性層に使用できるものとして記載したカーボンブラックを使用することができる。但し、磁性層で使用するカーボンブラックは、その平均粒子径が、５ｎｍ〜３５０ｎｍ（更に好ましくは、１０ｎｍ〜３００ｎｍ）の範囲にあることが好ましい。カーボンブラックは、平均粒子径の異なるものを二種以上使用することができる。カーボンブラックの添加量は、通常強磁性粉末１００質量部に対して、０．１〜３０質量部（好ましくは、０．２〜１５質量部）の範囲である。
【００４２】
上記研磨剤としては、例えば、溶融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム（Ｃｒ2０3）、コランダム、人造コランダム、ダイアモンド、人造ダイアモンド、ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）を挙げることができる。これらの研磨剤は、モース硬度５以上（好ましくは、６以上）であり、平均粒子径が、０．０５〜１μｍの大きさのもの（更に好ましくは、０．２〜０．８μｍ）が好ましい。研磨剤の添加量は通常、前記強磁性粉末１００質量部に対して、３〜２５質量部（好ましくは、３〜２０質量部）の範囲である。
【００４３】
磁性層の結合剤は、前記非磁性層用の結合剤として記載したものを用いることができる。磁性層中の結合剤は、強磁性粉末１００質量部に対して、通常５〜５０質量部（好ましくは１０〜３０質量部）の範囲で用いられる。磁性層に結合剤として塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、及びポリイソシアネートを組み合わせて用いることが好ましいが、その場合には、全結合剤中に、塩化ビニル系樹脂が５〜７０質量％、ポリウレタン樹脂が２〜５０質量％、そしてポリイソシアネートが２〜５０質量％の範囲の量で含まれるように用いることが好ましい。
【００４４】
バック層は、カーボンブラック、及びモース硬度５〜９の無機質粉末が結合剤中に分散されてなる層であることが好ましい。なお、このような構成のバック層は、例えば特開平９−１１５１３４号公報に記載されており、本発明のバック層もこれらの構成と同様に構成することができる。カーボンブラックは、平均粒子サイズの異なる二種類のものを併用することが好ましい。具体的には、平均粒子サイズが１０〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子サイズが２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを併用することが好ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録の装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるため、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与する。一方、粒子サイズが２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、またバック層の表面に微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。
【００４５】
微粒子状カーボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙げることができる。ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ）（三菱化学（株）製）。また粗粒子カーボンブラックの具体的な商品の例としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ（２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。
【００４６】
バック層に平均粒子サイズの異なる二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲である。また、バック層におけるカーボンブラックの含有量（全含有量）は、結合剤１００質量部に対して、通常３０〜８０質量部の範囲にあり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲にある。
【００４７】
モース硬度が５〜９の無機質粉末は、テープに高い走行耐久性を付与し、バック層を強化する目的で使用される。またモース硬度が５〜９の無機質粉末を使用することによって、バック層に適度の研磨力が生じ、テープガイドポール等への脱落したカーボンブラックの付着が低減する。モース硬度５〜９の無機質粉末の平均粒子サイズは、８０〜２５０ｎｍの範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、１００〜２１０ｎｍの範囲にある。
【００４８】
モース硬度が５〜９の無機質粉末としては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）を挙げることができる。これらの粉末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用しても良い。これらのうちでは、α−酸化鉄、又はα−アルミナが好ましい。モース硬度が５〜９の無機質粉末のバック層中の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して通常３〜３０質量部であり、好ましくは、３〜２０質量部である。
【００４９】
バック層には、潤滑剤を含有させることができる。潤滑剤は、前述した非磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選択して使用できる。バック層において、潤滑剤は、結合剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範囲で添加される。
【００５０】
バック層の結合剤は、前記非磁性層の結合剤として記載したものを使用することができる。好ましくは、ニトロセルロース樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂及びポリイソシアネートを組み合わせた構成である。バック層に結合剤として、ニトロセルロース樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂及びポリイソシアネートを組み合わせて用いる場合は、全結合剤中に、ニトロセルロース樹脂が４０〜９０質量％（更に好ましくは５５〜８０質量％）、ポリウレタン樹脂が２〜３０質量％（更に好ましくは３〜１０質量％）、ポリエステル樹脂が１〜２０質量％（更に好ましくは２〜５質量％）、そしてポリイソシアネートが２〜５０質量％（更に好ましくは５〜３０質量％）の範囲の量で含まれるように用いることが好ましい。バック層の結合剤は、バック層のカーボンブラック１００質量部に対して、通常５〜２５０質量部（好ましくは１０〜２００質量部）の範囲で用いられる。
【００５１】
磁気テープの各層を形成するための塗布液には、磁性粉末、あるいは非磁性粉末等を結合剤中に良好に分散させるために、分散剤を添加することができる。また必要に応じて、各層には、可塑剤、カーボンブラック以外の導電性粒子（帯電防止剤）、防黴剤などを添加することもできる。分散剤としては、例えば、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数１２〜１８個の脂肪酸（ＲＣＯＯＨ、Ｒは炭素数１１〜１７個のアルキル基、又はアルケニル基）、前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属からなる金属石けん、前記の脂肪酸エステルのフッ素を含有した化合物、前記脂肪酸のアミド、ポリアルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル、レシチン、トリアルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンは、エチレン、プロピレンなど）、硫酸塩、及び銅フタロシアニン等を使用することができる。これらは、単独でも組み合わせて使用しても良い。特にバック層には、オレイン酸銅、銅フタロシアニン、及び硫酸バリウムを組み合わせて使用することが好ましい。分散剤は、いずれの層においても結合剤１００質量部に対して０．５〜２０質量部の範囲で添加される。
【００５２】
次に、本発明の磁気テープの製造方法について説明する。本発明の磁気テープの製造には、通常の方法に従って幅広の長尺状の支持体の一方の面に非磁性層及び磁性層を、そして他方の面にバック層を順にそれぞれ形成する工程、次いで得られた磁気テープ原反を所定の幅に裁断する工程が含まれる。なお、上記各工程中、あるいは各工程の前後に、乾燥処理、配向処理、カレンダー処理、あるいは巻き取り処理などの通常行なわれる各処理が適宜行なわれる。
【００５３】
本発明の磁気テープの磁性層は、非磁性層が湿潤状態にあるうちにこの上に設けられたものであることが好ましい。すなわち、磁性層は、非磁性層用塗布液を塗布後、形成された塗布層（非磁性層）が湿潤状態にあるうちにこの上に磁性層用塗布液を塗布する、所謂ウエット・オン・ウエット方式による塗布方法を利用して形成されたものであることが好ましい。
【００５４】
上記ウエット・オン・ウエット方式による塗布方法としては、例えば以下の方法を挙げることができる。
（１）グラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、あるいはエクストルージョン塗布装置などを用いて、支持体上にまず非磁性層を形成し、該非磁性層が湿潤状態にあるうちに、支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により、磁性層を形成する方法（特開昭６０−２３８１７９号、特公平１−４６１８６号、特開平２−２６５６７２号公報参照）。
（２）二つの塗布液用スリットを備えた単一の塗布ヘッドからなる塗布装置を用いて支持体上に磁性層、及び非磁性層をほぼ同時に形成する方法（特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９２１号、同２−２６５６７２号各公報参照）。
（３）バックアップローラ付きエクストルージョン塗布装置を用いて、支持体上に磁性層及び非磁性層をほぼ同時に形成する方法（特開平２−１７４９６５号公報参照）。本発明において、非磁性層及び磁性層は、同時重層塗布方法を利用して形成することが好ましい。
【００５５】
以上のようにして製造された磁気テープ原反を所定幅に裁断するには、特開平９−１５３２１２号記載のスリット法及び裁断装置（図３に記載）を利用して行うことが好ましい。
この方法を利用して行うことで、図２に示すように望ましい非拘束側切断面及び拘束側切断面に裁断することが出来る。
【実施例】
【００５６】
次ぎに本発明を具体的に説明する。記載中の「部」との表示は「質量部」を表す。
実施例１〜６、比較例１〜６
【００５７】
非磁性層形成用塗布液の調製
非磁性粉体  α−Ｆｅ2Ｏ3  ヘマタイト                          ８０部
平均長軸長：０．１５μｍ
ＢＥＴによる比表面積：５２ｍ2／ｇ
ｐＨ：８
タップ密度：０．８ｇ／ｍｌ
ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｍｌ／１００ｇ
表面処理層：ＡL2Ｏ3、ＳｉＯ2
カ−ボンブラック                                              ２０部
平均一次粒径：１６ｎｍ
ＤＢＰ吸油量：８０ｍｌ／１００ｇ
ＰＨ：８．０
ＢＥＴ法による比表面積：２５０ｍ2／ｇ
揮発分：１．５％
塩化ビニ−ル系共重合体                                        １２部
日本ゼオン製ＭＲ−１０４
ポリエステルポリウレタン樹脂                                    ５部
ネオペンチルグリコ−ル／カプロラクトンポリオ−ル／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基含有量：１×１０-4ｅｑ／ｇ
α−Ａｌ2Ｏ3（平均粒径：０．１μｍ）                            １部
ブチルステアレ−ト                                              １部
ステアリン酸                                                    １部
メチルエチルケトン                                          １００部
シクロヘサノン                                                ５０部
トルエン                                                      ５０部
【００５８】
磁性層形成用塗布液の調製
下記の中で塩化ビニ−ル系共重合体：ａ部とポリエステルポリウレタン樹脂ｂ部については表１の実施例及び比較例の作成条件表に記載した。
強磁性金属粉末                                                １００部
組成：Ｆｅ／Ｃｏ＝１００／３０（原子比）
Ｈｃ：１９１ｋＡ（２４００Ｏｅ）
ＢＥＴ法による比表面積：４８ｍ2／ｇ
結晶子サイズ：１３０Å
表面処理層：ＡL2Ｏ3、Ｙ2Ｏ3
粒子サイズ（長軸長）：０．０６μｍ
針状比：６
σs：１２０Ａ・ｍ2／ｋｇ（１２０ｅｍｕ／ｇ）
塩化ビニ−ル系共重合体                                          ａ部
日本ゼオン製ＭＲ−１０４
ポリエステルポリウレタン樹脂                                    ｂ部
ネオペンチルグリ−ル／カプロラクトンポリオ−ル／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１、−ＳＯ3Ｎａ基含有量：１×１０-4ｅｑ／ｇ
α−Ａｌ2Ｏ3（平均粒径：０．１μｍ）                            ３部
α−Ａｌ2Ｏ3（平均粒径：０．２３μｍ）                          ２部
カ−ボンブラック（平均粒径０．０８μｍ）                    ０．５部
ブチルステアレ−ト                                              １部
ステアリン酸                                                    ５部
メチルエチルケトン                                            ９０部
シクロヘサノン                                                ３０部
トルエン                                                      ６０部
【００５９】
バック層形成用塗布液の調製
下記のニトロセルロース樹脂：ｃ部、及びポリウレタン樹脂：ｄ部、についてはについては、表１の実施例及び比較例の作成条件表に記載した。
微粒子状カ−ボンブラック粉末                                １００部
（キャボット社製、ＢＰ−８００、平均粒子サイズ：１７ｎｍ）
粗粒子状カ−ボンブラック粉末                                  １０部
（カ−ンカルブ社製、サ−マルブラック、平均粒子サイズ：２７０ｎｍ）
α−酸化鉄                                                    １５部
（戸田工業（株）製ＴＦ１００、平均粒子サイズ１１０ｎｍ、モ−ス硬度：５．５）
ニトロセルロ−ス樹脂                                            ｃ部
ポリウレタン樹脂                                                ｄ部
ポリエステル樹脂                                                ５部
分散剤：オレイン酸銅                                            ５部
銅フタロシアニン                                        ５部
硫酸バリウム                                            ５部
メチルエチルケトン                                        ２２００部
酢酸ブチル                                                  ３００部
トルエン                                                    ６００部
【００６０】
上記の非磁性層用分散液及び磁性層用分散液については、それぞれについて、各成分をオ−プンニ−ダ−で混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた非磁性層用分散液にはポリイソシアネ−ト（日本ポリウレタン（株）製コロネ−トＬ）を５部加え、上層磁性層用分散液には、８部加え更にメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、１μｍの孔径を有するフィルタ−を用いて濾過し、下層非磁性塗布液及び上層磁性層用塗布液をそれぞれ調製した。又、バック塗布液にはポリイソシアネ−ト（日本ポリウレタン（株）製コロネ−トＬ）を５部加え、更にメチルエチルケトン２２００部、酢酸ブチル３００部、トルエン６００部を加え、更に連続ニ−ダ−で混練した後、サンドミルを用いて分散させた。
得られた分散液については前記同様１μｍの孔径を有するフィルタ−を用いて濾過した。
【００６１】
得られた非磁性層用塗布液を、乾燥後のテープ総厚が８〜１２μｍになるように、更にその直後に、その上に磁性層の厚さが所定の厚さになるように、厚さ６〜８μｍの剛性の異なる支持体（二軸延伸を行ったポリエチレンナフタレ−ト、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリアミド）上に０．５〜３μｍの厚さで同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに、３Ｔ（３０００Ｇ）の磁力を持つコバルト磁石と０．１５Ｔ（１５００Ｇ）の磁力を持つソレノイドにより配向させ乾燥後、金属ロ−ルとエポキシ樹脂ロ−ルから構成される７段のカレンダで温度６０〜１００℃、ロ−ル間の線圧が２５０〜３５０Ｋｇ／ｃｍ、搬送速度１８０〜２５０ｍ／分で処理を行い、その後、厚み０．１〜１．０μｍ厚のバック層を塗布した。塗布後、磁性層、非磁性層、バック層の膜を強化しかつ可撓性支持体の熱変形を防止処理のため、５０〜８０℃の環境下で２４〜７２時間放置保存した。前記、一定温度下での保存処理後、裁断装置を用いて１／２インチ幅に裁断した。
【００６２】
本発明の磁気記録媒体のスリット断面を実現するためには、前記、裁断装置を用いた裁断において、スリット速度、噛み合い深さ、上刃（雄刃）、下刃（雌刃）の周速比（上刃周速／下刃周速）、スリット刃の連続使用時間等裁断条件及び磁性層表面やバック面の表面の剛性、支持体（ベースともいう）の剛性等を調整することにより達成される。
【００６３】
以下、比較例及び実施例を具体的に下記に示す。
実施例、比較例の作成に関しての詳細条件は表１、実施例及び比較例の作成条件表に示した。
（実施例１）
上記の非磁性層用分散液及び磁性層用分散液については、それぞれについて、各成分をオ−プンニ−ダ−で混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた非磁性層用分散液にはポリイソシアネ−ト（日本ポリウレタン（株）製コロネ−トＬ）を５部加え、磁性層用分散液には、８部加え更にメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、１μｍの孔径を有するフィルタ−を用いて濾過し、非磁性層用塗布液及び磁性層用塗布液をそれぞれ調製した。又、バック塗布液にはポリイソシアネ−ト（日本ポリウレタン（株）製コロネ−トＬ）を５部加え、更にメチルエチルケトン、２２００部、酢酸ブチル、３００部、トルエン６００部を加え、更に連続ニ−ダ−で混練した後、サンドミルを用いて分散させた。
得られた分散液については前記同様１μｍの孔径を有するフィルタ−を用いて濾過した。
得られた非磁性層用塗布液及び磁性層用塗布液を、非磁性層は乾燥後の膜厚で１．５μｍ、磁性層は乾燥後の膜厚で０．２μｍになるように、更に乾燥後のテープ総厚が８．７μｍになるように、厚さ６．５μｍのポリアミド（厚さ方向のヤング率：１７４９Ｋｇ／ｍｍ2（１７．１４ＧＰａ））に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに、３Ｔ（３０００Ｇ）の磁力を持つコバルト磁石と０．１５Ｔ（１５００Ｇ）の磁力を持つソレノイドにより配向させ乾燥後、金属ロ−ルとエポキシ樹脂ロ−ルから構成される７段のカレンダで温度８０℃、ロ−ル間の線圧が２８０Ｋｇ／ｃｍ（２７４．４ｋＮ／ｍ）、搬送速度１８０ｍ／分で処理を行い、その後、厚み０．５μｍ厚のバック層を塗布した。塗布後、磁性層、非磁性層、バック層の膜を強化しかつ可撓性支持体の熱変形を防止処理のため、７０℃の環境下で２４時間放置保存した。前記、一定温度下での保存処理後、裁断装置を用いて、刃の履歴（刃使用ｍを表１に記載）として１０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．２５ｍｍ、上刃と下刃の周速比（上刃周速／下刃周速）を１．００、スリット速度３００ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。
【００６４】
（実施例２）
可撓性支持体にポリエチレンテレフタレ−ト（厚さ方向のヤング率：９５５Ｋｇ／ｍｍ2（９．３６ＧＰａ））を用い、スリット条件のうち、噛み合い深さを０．３０ｍｍ、周速比を１．０５とした以外は実施例１と同一条件で作成した。
（実施例３）
可撓性支持体や塗布層の組成は実施例２と同一、カレンダ−処理を弾性ロ−ルの処理機を用い、
温度９０℃、線圧２８０Ｋｇ／ｃｍ（２７４．４ｋＮ／ｍ）、速度１８０ｍ／分で行い、スリットの際、刃の履歴として２０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．５０ｍｍ、上刃と下刃の周速比を１．００、スリット速度３００ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。カレンダ−処理条件とスリット条件以外は実施例２と同一条件である。
【００６５】
（実施例４）
可撓性支持体として剛性の小さいポリエチレンナフタレ−ト（厚さ方向のヤング率：９３３Ｋｇ／ｍｍ2（９．１４ＧＰａ））を用い、カレンダ−処理を弾性ロ−ルの処理機を用い、温度９０℃、線圧２５０Ｋｇ／ｃｍ（２４５ｋＮ／ｍ）、速度１５０ｍ／分で行い、スリットの際、刃の履歴として２０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．５０ｍｍ、上刃と下刃の周速比を１．０５、スリット速度３００ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。前記以外の条件は実施例３と同一条件である。
（実施例５）
磁性層の塩化ビニル（塩ビと略す）／ポリウレタンの添加量を１２部／５部とし、バック層のＮＣ／ポリウレタン添加量を１４０部／２０部とした。カレンダ−処理を弾性ロ−ルの処理機を用い、温度８０℃、線圧２５０Ｋｇ／ｃｍ（２４５ｋＮ／ｍ）、速度１５０ｍ／分で行い、スリットの際、刃の履歴として３０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．７０ｍｍ、上刃と下刃の周速比を１．００、スリット速度３００ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。前記以外の条件は実施例４と同一条件である。
【００６６】
（実施例６）
カレンダ−処理を弾性ロ−ルの処理機を用い、温度７０℃、線圧２５０Ｋｇ／ｃｍ（２４５ｋＮ／ｍ）、速度１５０ｍ／分で行い、スリットの際、刃の履歴として３０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．７０ｍｍ、上刃と下刃の周速比を１．０５、スリット速度３００ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。前記以外の条件は実施例５と同一条件である。
（比較例１）
可撓性支持体として剛性の大きいポリアミドを用い、磁性層の塩ヒ゛／ポリウレタンの添加量を１２部／２．５部とし、バック層のＮＣ／ポリウレタン添加量を１４０部／１０部とした。カレンダ−処理を金属ロ−ルの処理機を用い、温度９０℃、線圧３３０Ｋｇ／ｃｍ（３２３．４ｋＮ／ｍ）、速度２００ｍ／分で行い、スリットの際、刃の履歴として１０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．５０ｍｍ、上刃と下刃の周速比を１．００、スリット速度３５０ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。前記以外の条件は実施例１と同一条件である。
（比較例２）
カレンダ−処理を金属ロ−ルの処理機を用い、温度８０℃、線圧３３０Ｋｇ／ｃｍ（３２３．４ｋＮ／ｍ）、速度２００ｍ／分で行い、スリットの際、刃の履歴として１０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．５０ｍｍ、上刃と下刃の周速比を１．０５、スリット速度３５０ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。前記以外の条件は比較例１と同一条件である。
【００６７】
（比較例３）
カレンダ−処理を金属ロ−ルの処理機を用い、温度７０℃、線圧３００Ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、速度２００ｍ／分で行い、スリットの際、刃の履歴として１０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．５０ｍｍ、上刃と下刃の周速比を１．００、スリット速度３５０ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。前記以外の条件は比較例２と同一条件である。
（比較例４）
カレンダ−処理を金属ロ−ルの処理機を用い、温度６０℃、線圧３００Ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、速度２００ｍ／分で行い、スリットの際、刃の履歴として１０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．５０ｍｍ、上刃と下刃の周速比を１．０５、スリット速度３００ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。前記以外の条件は比較例３と同一条件である。
（比較例５）
可撓性支持体として剛性の小さいポリエチレンナフタレ−トを用い、磁性層の塩ヒ゛／ポリウレタンの添加量を１２部／５部とし、バック層のＮＣ／ポリウレタン添加量を１４０部／２０部とした。カレンダ−処理を弾性ロ−ルの処理機を用い、温度６０℃、線圧２５０Ｋｇ／ｃｍ（２４５ｋＮ／ｍ）、速度１５０ｍ／分で行い、スリットの際、刃の履歴として３０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．５０ｍｍ、上刃と下刃の周速比を１．００、スリット速度２５０ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。前記以外の条件は比較例４と同一条件である。
【００６８】
（比較例６）
カレンダ−処理後の熱処理を行わず、スリットの際、刃の履歴として３０万ｍ使用の上刃と下刃を用い、噛み合い深さ、０．５０ｍｍ、上刃と下刃の周速比を１．０５、スリット速度２５０ｍ／分で１／２インチ幅に裁断し評価に用いた。前記以外の条件は比較例５と同一条件である。
得られた磁気テープについて、以下の評価を行い、その結果を表２に示した。
【００６９】
１）非拘束側ベース凸量及び拘束側ベース凸量の測定法
磁気テープの非拘束側端面及び拘束側端面を直交方向から観察出来るように磁気テープを小片に切り出し、超薄切片観察試料作成用カプセルを用い、エポキシ樹脂で包埋し、硬化させた後、ダイヤモンドナイフ（ウルトラミクロト−ムＬＫＢ−Ｖ型）を用いて、包埋状態の磁気テープの断面を図２に示すように切り出し、Ｐｔを１００Åコ−ティングして導電処理を施した後、日立製作所製Ｓ−７００型ＦＥ−ＳＥＭを用い撮影倍率６０００倍（試料傾斜０度）で観察し、撮影した。ＦＥ−ＳＥＭで撮影した写真を用い、非拘束側ベース凸量及び拘束側ベース凸量を測定した。測定には各テープの非拘束側端面、拘束側端面それぞれをｎ＝３を用いた。
【００７０】
２）非拘束側切断面における角度αの測定法
前記写真を用い、非拘束側切断面の基準線とバック表面の延長線とのなす角を測定し、αとした。
【００７１】
３）磁性層表面及びバック層表面のヤング率の測定法
ヤング率（Ｗ）は、三角錐状で、尖端部の曲率半径が１００ｎｍ、刃角度が６５°、稜間角が１１５°の形状を有するダイヤモンド圧子を、荷重６ｍｇｆ（５８．８μＮ）で磁性層表面またはバック層表面に押し込んだときの負荷除荷曲線における下記（１）式で定義される値である。
Ｗ＝１．８１２９×１０-1Ｈ1-1（ｄＰ／ｄＨ）（Ｋｇ／ｍｍ2）
＝１．８Ｈ1-1（ｄＰ／ｄＨ）（ＭＰａ）・・・（１）
（但し、Ｈ1は除荷曲線の最大変位における接線の荷重０での変位、ｄＰ／ｄＨは除荷曲線の最大変位における接線の傾きである。）
（測定装置）
測定装置は（株）エリオニクス製超微小押し込み硬さ試験機（型式ＥＮＴ−１１００）を用いた。主な装置仕様は下記の通りである。
荷重発生方式：電磁力式
圧子：三角錐圧子、稜間角１１５゜、ダイヤモンド製
・荷重範囲：２ｍｇｆ〜１００ｇｆ（１９．６μＮ〜０．９８Ｎ）
・荷重分解能：０．２μＮ
変位測定方式：圧子の動きを静電容量式に検知
変位範囲：〜２０μｍ
・変位読み取り分解能：０．３ｎｍ
（測定条件）
上記各磁気テープを５ｍｍ×５ｍｍにカットし、アルミニウム製の、専用の測定試料台に接着剤で固定し、乾燥固定後、測定環境に約３０分放置して馴染ませた後測定した。測定条件は下記の通りである。
・上記角磁気テープを５ｍｍ×５ｍｍにカットし、ＣＦ５（ノビナイト、鋳物）製の専用の試料台に瞬間接着剤（アロンアルファ）で固定し、乾燥固定後、測定環境に約３０分放置した後測定した。
・試験荷重：６ｍｇｆ（５８．８μＮ）
・分割数：１００
・ステップインタ−バル：１００ｍｓｅｃ
・負荷のかけ方：１０秒かけて６ｍｇｆまで連続的に増加させた後、６ｍｇｆにて１秒間保持し、その後１０秒かけて除荷した。
・測定環境：温度２８±０．１℃
・測定ｎ数：磁性層表面またはバック層表面の９箇所を測定し、ノイズの入ったデ−タ−、最大変位の大きいデ−タ−、最大変位の小さいデ−タ−を除き、中間の５個のデ−タ−を用いた。
【００７２】
４）巻き姿について
磁気テープの非拘束側端面を斜光下でデジタルカメラで撮影した。写真より放射状パタ−ンの発生状態を４段階で目視評価した。
◎  放射状パタ−ンが見られない。
○  放射状パタ−ンがかすかに見られる。
△  弱い放射状パタ−ンが見られる。
×  強い放射状パタ−ンが発生している。
【００７３】
５）ヘッド汚れ評価について
走行後のヘッドをデジタルマイクロスコ−プ（キ−エンス社製）で観察し、汚れ状態を４段階評価した。
◎  ヘッド汚れ極少ない
○  ヘッド汚れ少ない
△  ヘッド汚れやや多い
×  ヘッド汚れ多い。
【００７４】
６）ＤＯ（ドロップアウト）評価について
磁気テープに記録トラック幅１５μｍ、記録波長０．３６μｍ、テープ送り速度２．５ｍ／秒で信号を記録し、ＭＲヘッドを用いてリ−ドトラック幅７．５μｍ、テープ送り速度２．５ｍ／秒で信号を再生した。このとき、０．０８μｓｅｃ以上の時間、出力が５０％以上低下した時の、記録１ＭＢ当たりのドロップアウト個数を測定した。なお、以下の結果が得られた。
実施例：０．５〜１．０個／ＭＢ    良
比較例：３〜７２個／ＭＢ    不良
【００７５】
７）Ｃ／Ｎ評価について
記録ヘッド（ＭＩＧ、ギャップ：０．１５μｍ、トラック幅：１８μｍ、磁場強度（Ｂs）：１．８Ｔ）と再生用ＭＲヘッド（シ−ルド型：シ−ルド間ギャップ：０．２μｍ、トラック幅４μｍ）をドラムテスタ−に取り付けて測定した。ヘッド−メディア相対速度１０ｍ／ｓｅｃで記録波長０．２μｍ（５０ＭＨｚ）の単周波信号を記録、再生信号をシバソク製スペクトラムアナライザ−にて周波数分析し前記単周波信号と、１ＭＨｚ離れたノイズ電圧の比をＣ／Ｎ（ｄＢ）とした。再生時にはＭＲヘッドに、再生出力が最大になるように、バイアス電流を印加した。なお、以下の結果が得られた。
実施例：０〜２．５ｄＢ
比較例：０．３〜−２ｄＢ
【００７６】
【表１】
2005251331.tif 000002
【００７７】
【表２】
2005251331.tif 000003
【００７８】
（評価のまとめ）
比較例１〜４では巻き姿は良いが、ヘッド汚れやＤＯが悪い、又Ｃ／Ｎも低い結果であった。
比較例５〜６では、磁性層やバック層の剛性が小さいため、走行により削れが発生し、巻き姿が悪く、ヘッド汚れが発生し、Ｃ／Ｎが悪く、ＤＯも多い値であった。一方、実施例１〜６は巻き姿が良好で、ヘッド汚れも少なく、Ｃ／Ｎが良く、ＤＯも少ない結果であった。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】裁断装置の裁断部分を磁気テープ原反の長手方向が紙面に垂直方向となるように見た切断部分の断面である。
【図２】図１の切断部分（磁気テープ１ｂ）をそのまま拡大した模式図である。
【図３】裁断装置の例を説明する図である。
【符号の説明】
【００８０】
Ｘ：磁気テープ原反の幅方向、Ｙ：磁気テープ原反の厚さ方向、１：磁気テープ原反、１ａまたは１ｂ：磁気テープ、２：下刃、３：上刃、４：拘束側切断面、５：非拘束側切断面、６：支持体、７：非磁性層、８：磁性層、９：バック層、１０ａまたは１０ｂ：塗布層最大凸部の頂点、１１ａまたは１１ｂ：支持体最大凸部の頂点、１２ａまたは１２ｂ：バック層最大凸部の頂点、１３：塗布層最大凸部の頂点１０ａとバック層最大凸部の頂点１２ａを結んだ線、１４：頂点１１ａに接する垂線、１５：空間、１６：垂線１４に直行し、かつ頂点１１ａをとおる垂線、１７ａまたは１７ｂ：交点、１９：塗布層最大凸部の頂点１０ｂとバック層最大凸部の頂点１２ｂを結んだ線、２０：頂点１１ｂに接する垂線、２１：空間、２２：垂線２０に直行し、かつ頂点１１ｂをとおる垂線、Ｌ１またはＬ２：距離、２３：裁断装置、２４：パンケーキ、２５：ガイドローラ、
【図１】
2005251331.tif 000004
【図２】
2005251331.tif 000005
【図３】
2005251331.tif 000006