(57)【要約】  【課題】金属汚染やウオータマークの発生を防止しウエハの自然酸化膜を除去する。  【解決手段】酸化膜除去装置１０は、ウエハ１を保持具２２で保持して自然酸化膜を除去する除去室１２と、保持具２２に保持されたウエハ１にエッチング液およびリンス液を供給する薬液ノズル２６と、リンスされたウエハ１にスチームを吹き付けるスチームノズル３５と、水素ガスと酸素ガスとを燃焼室４４で燃焼させて生成したスチームをスチームノズル３５に供給するスチーム供給装置４２と、保持具２２を回転させる回転軸２０と、スチームノズル３５を旋回させる旋回駆動装置３６とを備えている。水素と酸素とを燃焼させて高純度のスチームを生成することで、純水を沸騰させる場合の金属の溶出を防止できるので、ウエハの金属汚染を防止できる。ウエハを低速回転で乾燥できるので、ウエハの破損や汚染、ウオータマークの発生を防止しつつウエハの自然酸化膜を除去できる。【選択図】図１
2005252146.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持具によって保持して処理する処理室と、水素ガスと酸素ガスとを供給して水蒸気を生成する生成室と、この生成室と連通し前記保持具に保持された前記基板に前記水蒸気を吹き付けるノズルと、を備えていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置に関し、特に、基板の洗浄乾燥技術に係り、例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという。）の製造方法において、ＩＣが作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に不純物を拡散したり絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形成したりするのに利用して有効なものに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣの製造方法においてウエハにＣＶＤ膜を形成する基板処理装置としては、複数枚のウエハを収納したカセット（ウエハキャリア）を収納しウエハを出し入れする気密構造のカセット室と、このカセット室内のカセットとボートとの間でウエハを移載するウエハ移載装置を有するロードロック室（ウエハ移載室）と、このロードロック室内のボートが搬入搬出される反応室（処理室）とを備えた縦型拡散・ＣＶＤ装置、がある（例えば、特許文献１参照）。
この縦型拡散・ＣＶＤ装置においては、ロードロック室に搬入される前にウエハが大気に触れることが避けられないために、ウエハに自然酸化膜が形成されてしまうという問題点がある。そこで、酸化膜除去装置としての洗浄乾燥装置を縦型拡散・ＣＶＤ装置に設置することにより、ロードロック室に搬入される直前にウエハに形成された自然酸化膜を除去することが考えられる。
従来のこの種の洗浄乾燥装置としては、弗酸（ＨＦ）等のエッチング液をウエハに滴下して洗浄した後に、ウエハを高速で回転させて乾燥させるものがある（例えば、非特許文献１参照）。
【特許文献１】特公平７−１０１６７５号公報
【非特許文献１】「電子材料２００２年１１月号別冊」，株式会社工業調査会，２００２年１１月２７日，ｐ．８１−８５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、前記した洗浄乾燥装置においては、次のような問題点がある。
（１）乾燥に際して、ウエハの中心部は回転による遠心力が零であるために、高速回転してもエッチング液が残り易く、その結果、ウオータマークが発生する。
（２）ウエハが高速で回転するために、ウエハの破損やチッピングが発生する。
（３）高速回転によってウエハが帯電するために、ウエハの表面にパーティクルが静電吸着する。
（４）遠心力で振り切ったエッチング液が処理室の壁面に当たって跳ね返り、乾燥したウエハに再付着することにより、ウオータマークが発生する。
（５）ウエハを回転させる回転軸にエッチング液の侵入を防止するために、シールリングが敷設されるが、摺動部からの発塵によるウエハの汚染が発生し、また、シール性能の確保のために、シールリングの定期的交換等のメンテナンスが必要になる。
（６）トレンチやコンタクトホールに侵入したエッチング液は除去し難いために、ウオータマークが発生する。
【０００４】
本発明の目的は、基板の破損や汚染およびウオータマークの発生を防止しつつ基板の自然酸化膜を除去することができる基板処理装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本願において開示される発明のうち代表的なものは、次の通りである。
（１）基板を保持具によって保持して処理する処理室と、水素ガスと酸素ガスとを供給して水蒸気を生成する生成室と、この生成室と連通し前記保持具に保持された前記基板に前記水蒸気を吹き付けるノズルと、を備えていることを特徴とする基板処理装置。
（２）基板を保持具によって保持して処理する処理室と、水素ガスと酸素ガスとを供給して水蒸気を生成する生成室と、この生成室と連通し前記保持具に保持された前記基板に前記水蒸気を吹き付ける第一ノズルと、前記第一ノズル内に前記水蒸気よりも温度が低いガスを供給する第二ノズルと、を備えていることを特徴とする基板処理装置。
（３）前記第二ノズルは、前記第一ノズルの吹出口よりも上流側に配置されていることを特徴とする（２）に記載の基板処理装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、高純度の水蒸気を基板に吹き付けて基板を乾燥することができるので、基板の破損や汚染およびウオータマークの発生を防止しつつ基板の自然酸化膜を除去することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。
【０００８】
本実施の形態において、本発明に係る基板処理装置は、ＩＣの製造方法にあってウエハに形成された自然酸化膜を除去する酸化膜除去装置として構成されている。この酸化膜除去装置はウエハの表面を洗浄し乾燥するという意味で洗浄乾燥装置である。図１および図２に示されているように、本実施の形態に係る酸化膜除去装置（洗浄乾燥装置ともいう。）１０は、酸化膜除去室（以下、除去室という。）１２を形成した筐体（以下、除去室筐体という。）１１を備えている。除去室筐体１１は上下面が閉塞した円筒形状の中空体に形成されており、除去室１２の表面は弗素樹脂のコーティング処理によって撥水性の良好な表面に構成されている。除去室筐体１１の側壁における正面部分にはウエハ搬入搬出口１３が開設されており、ウエハ搬入搬出口１３はウエハ１を除去室１２に対して搬入搬出し得るように構成されている。ウエハ搬入搬出口１３にはゲートバルブ１４が設置されており、ゲートバルブ１４はウエハ搬入搬出口１３を摺動を伴わずに開閉するように構成されている。除去室筐体１１には窒素ガス等の不活性ガスを除去室１２に供給する不活性ガス供給装置１５が接続されているとともに、除去室１２を排気する排気装置１６が接続されている。
【０００９】
除去室筐体１１の中央部の下方には、回転数を低速領域から高速領域まで制御可能なモータ１７が垂直方向上向きに設置されており、モータ１７の出力軸１８には回転軸２０がカップリング１９によって連結されている。回転軸２０は除去室筐体１１の底壁を貫通して除去室１２に挿入されており、シール機構付き軸受装置２１によって回転自在に支承されている。回転軸２０の上端にはウエハ１を水平に保持する保持具２２が連結されている。保持具２２はウエハ１よりも若干大径の円盤形状に形成されており、上面に突設された複数本の把持ピン２３によってウエハ１を着脱自在に把持するように構成されている。保持具２２の下面における周辺部には切頭円錐筒形状のスカート２４が同心円に垂下されており、スカート２４はエッチング液等が回転軸２０の方向に侵入するのを防止するメカニカルシールを構成している。
【００１０】
除去室筐体１１の底壁における周辺部には、エッチング液としての弗酸やリンス液としての超純水を滴下する薬液ノズル２６が挿通されており、薬液ノズル２６は滴下口２６ａが保持具２２の中心線上に配置するように構成されて、エッチング液およびリンス液をウエハ１の中心に滴下するようになっている。薬液ノズル２６は水平面内で回転し得るように、シール機構付き軸受装置２５によって支承されており、シール機構付軸受装置２５の外側に垂直方向下向きに設置されたモータ２７およびベルト伝動装置２８によって、回動されるように構成されている。薬液ノズル２６には給液配管２９の一端がそれぞれ接続されており、給液配管２９の他端にはエッチング液を供給するエッチング液供給装置３０が接続されている。給液配管２９の途中には分岐管３１の一端が接続されており、分岐管３１の他端にはリンス液としての超純水を供給するリンス液供給装置３２が接続されている。給液配管２９および分岐管３１の途中には止め弁３３および止め弁３４がそれぞれ介設されている。
【００１１】
除去室筐体１１の底壁の周辺部における薬液ノズル２６から１８０度離れた位置には、乾燥用ガスとしての水蒸気（スチーム）を吹き出すノズル（以下、スチームノズルという。）３５が挿通されており、スチームノズル３５は先端の吹出口３５ａが保持具２２の中心線上に位置するように、エルボパイプ形状に形成されている。スチームノズル３５は水平面内で回転し得るように、シール機構付き軸受装置３７によって支承されており、シール機構付軸受装置３７の外側に垂直方向下向きに設置されたモータ３８およびベルト伝動装置３９によって、回動されるように構成されている。すなわち、スチームノズル３５のエルボパイプ形状自体、シール機構付き軸受装置３７、モータ３８およびベルト伝動装置３９により、スチームノズル３５を水平面内で旋回させる旋回駆動装置３６が構成されている。スチームノズル３５にはスチーム供給配管４１の一端が接続されており、スチームノズル３５およびスチーム供給配管４１は断熱材によって形成された断熱カバー４０により全体的に被覆されている。
【００１２】
スチーム供給配管４１の他端には、乾燥用ガスとしてのスチーム（Ｈ2 Ｏ）を供給するスチーム供給装置４２が接続されている。スチーム供給装置４２は石英（ＳｉＯ2 ）によって形成された燃焼管４３を備えており、燃焼管４３は燃焼室４４を構成している。燃焼管４３のスチーム供給配管４１と反対側の端部には、水素ガスノズル４５と酸素ガスノズル４６とが隣り合わせに配置されて燃焼室４４に挿入されている。水素ガスノズル４５には水素ガス供給配管４５Ａを介して水素ガス供給源４５Ｂが接続されており、水素ガス供給配管４５Ａにはマスフローコントローラ４５Ｃおよび止め弁４５Ｄが上流側から順に介設されている。酸素ガスノズル４６には酸素ガス供給配管４６Ａを介して酸素ガス供給源４６Ｂが接続されており、酸素ガス供給配管４６Ａにはマスフローコントローラ４６Ｃおよび止め弁４６Ｄが上流側から順に介設されている。スチームノズル３５には温度センサ（図示せず）が設けられており、マスフローコントローラ４５Ｃ、４６Ｃは温度センサの検出温度に基づいて流量を制御するように構成されている。
【００１３】
以下、前記構成に係る酸化膜除去装置１０を使用したＩＣの製造方法における酸化膜除去工程を説明する。
【００１４】
処理すべきウエハ１が酸化膜除去装置１０に搬送されて来ると、ウエハ搬入搬出口１３がゲートバルブ１４によって開放される。次いで、ウエハ１がウエハ移載装置（図示せず）によって除去室１２にウエハ搬入搬出口１３を通じて搬入され、保持具２２へ移載される。保持具２２に移載されたウエハ１は把持ピン２３によって把持される。ウエハ１が保持されると、ウエハ搬入搬出口１３がゲートバルブ１４によって閉じられる。
【００１５】
次いで、保持具２２によって保持されたウエハ１がモータ１７によって回転される。続いて、除去室１２にはエッチング液がエッチング液供給装置３０から給液配管２９を通じて薬液ノズル２６に供給され、薬液ノズル２６の滴下口２６ａからウエハ１の中心に滴下される。この際、スチームノズル３５は図２に実線で示された位置に退避されている。ウエハ１の中心に滴下されたエッチング液は、回転するウエハ１の遠心力によって周辺部に均一に拡散することにより、ウエハ１の表面に全体的に均一に接触するので、ウエハ１の表面に形成された自然酸化膜を全体にわたって均一にエッチングして除去する。ウエハ１によって振り切られた余分のエッチング液は除去室１２の底部によって回収される。予め、設定された時間が経過すると、エッチング液の供給が停止される。
【００１６】
次いで、リンス液としての超純水がリンス液供給装置３２から分岐管３１および給液配管２９を通じて薬液ノズル２６に供給され、薬液ノズル２６の滴下口２６ａからウエハ１の中心に滴下される。ウエハ１の中心に滴下された超純水は、回転するウエハ１の遠心力によって周辺部に拡散することにより、ウエハ１の表面に全体的に均一に接触するので、ウエハ１に残ったエッチング液を全体にわたって均一に洗い流す。ウエハ１によって振り切られた余分の超純水は除去室１２の底部によって回収される。予め、設定された時間が経過すると、超純水の供給が停止される。
【００１７】
リンス後に、除去室１２にはスチーム４７（図３参照）がスチーム供給装置４２からスチーム供給配管４１を通じてスチームノズル３５に供給され、スチームノズル３５の吹出口３５ａからウエハ１に吹き付けられる。すなわち、スチーム供給装置４２において、水素ガスが水素ガス供給源４５Ｂから水素ガスノズル４５へ供給されて燃焼室４４に吹き出されるとともに、酸素ガスが酸素ガス供給源４６Ｂから酸素ガスノズル４６へ供給されて燃焼室４４に吹き出される。燃焼室４４に吹き出された水素ガスは自然着火して酸素ガスと燃焼反応を起こすことにより、燃焼反応ガスとしての高純度のスチームを生成する。例えば、１１００℃程度の温度のスチームとなる。生成されたスチーム４７はスチーム供給配管４１を通じてスチームノズル３５に供給される。この際、水素ガス供給配管４５Ａのマスフローコントローラ４５Ｃおよび酸素ガス供給配管４６Ａのマスフローコントローラ４６Ｃは、温度センサの検出温度に基づいて流量を制御することにより、スチーム４７の吹出量を制御する。
【００１８】
スチームノズル３５からウエハ１に吹き付けられたスチーム４７は、ウエハ１の表面に残ったリンス液としての超純水を加熱して気化させることにより、ウエハ１を乾燥させる。このスチーム４７の温度は２００℃程度に制御される。但し、好ましくは２００℃程度であるが、スチーム４７の温度は１００℃（水の沸点）以上であればよい。
【００１９】
スチームノズル３５からウエハ１に吹き付けられた高純度のスチーム４７および気化されたリンス液は、排気装置１６の排気力によって除去室１２から排気されて行く。乾燥後に必要に応じて、除去室１２内の雰囲気は不活性ガス供給装置１５からの不活性ガス（例えば、窒素ガス）によって置換（窒素ガスパージ）される。
【００２０】
ちなみに、水蒸気（ガス）状態のままで排気装置１６によって排気されたスチーム４７は、トラップ（図示せず）において冷却されて凝縮されることにより、液体の形で回収される。この廃液にはエッチング液の成分が極微量であるが含まれる可能性があるので、回収タンク（図示せず）によって回収して廃棄処分することが好ましい。トラップにおけるスチームの冷却は、自然空冷や冷却ファンを使用した強制空冷、工場給水を使用した水冷、ペルチェ素子を使用した固体冷却等によって実施することができる。また、スチーム４７を排気する排気装置１６としては、エッチング液に対して耐蝕性を有し、かつ、水分を含んだガスを排気することができる弗素樹脂製のダイアフラムを使用したダイアフラムポンプを使用することが望ましい。
【００２１】
以上のスチームの吹き付け作動（乾燥ステップ）に際して、スチームノズル３５は旋回駆動装置３６によって旋回される。スチームノズル３５の吹出口３５ａから吹き出されたスチーム４７は、ウエハ１が回転されていることとあいまってウエハ１の表面に全体的に均一に接触するので、ウエハ１の表面は均一に乾燥される。この際、ウエハ１はスチーム４７による気化力によって乾燥されるので、ウエハ１は高速で回転させる必要はなく、スチーム４７がウエハ１に均一に吹き付けられる程度の低速で回転させればよい。
【００２２】
ところで、回転するウエハ１の周速度は中心から周辺へ行くに従って速くなるので、旋回駆動装置３６によるスチームノズル３５の中心から周辺への旋回速度が等速であると、スチーム４７のウエハ１との単位接触時間は中心から周辺に行くに従って漸減して、ウエハ１の乾燥が中心部で過多となり周辺部で不足する傾向になる。そこで、スチームノズル３５の中心から周辺への旋回速度が中心から周辺に行くに従って遅くなるように、旋回駆動装置３６が制御される。この旋回速度の制御により、スチーム４７のウエハ１との単位接触時間は中心から周辺にわたって一定になるために、ウエハ１の乾燥は中心部と周辺部とで等しくなり、ウエハ１の乾燥はより一層均一になる。また、スチーム４７による乾燥時間が最適値化されるために、ウエハ１の乾燥時間が短縮されることにもなる。
【００２３】
その後、ウエハ搬入搬出口１３がゲートバルブ１４によって開放される。続いて、保持具２２に保持された自然酸化膜除去および乾燥済みのウエハ１がウエハ移載装置によってピックアップされて、ウエハ搬入搬出口１３を通じて搬出される。
【００２４】
以降、前述した作動が繰り返されることにより、ウエハ１について自然酸化膜除去工程が一枚ずつ実施されて行く。
【００２５】
前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。
【００２６】
1)  水素ガスと酸素ガスとを燃焼させて生成した高純度のスチームをウエハに吹き付けてウエハを乾燥させることにより、金属を含んだ容器にて純水を沸騰させてスチームを生成した場合のような金属の溶出を防止することができるので、洗浄後のウエハの金属汚染を防止することができる。
【００２７】
2)  水素ガスと酸素ガスとを燃焼室で燃焼させてスチームを生成することにより、廃棄ガスをスチームだけに抑止することができるので、ボイラ（電気加熱式を含む）のように燃料（発電のための燃料を含む）を使用して純水を沸騰させてスチームを生成する場合に比べてクリーンで地球環境に優しい。
【００２８】
3)  高温のスチームをウエハに吹き付けることにより、ウエハの乾燥と同時にウエハに付着した有機物をスチームの熱によって分解させて除去することができ、また、トレンチやコンタクトホール等の微細な凹部に付着した水分も、スチームの熱によって気化させて除去することができる。
【００２９】
4)  ウエハを低速回転で乾燥させることにより、ウエハ上に付着したエッチング液の遠心力が小さくなるために、ウエハから飛び出した水滴の除去室の壁面からの跳ね返りを低減することができる。その結果、除去室のミストの浮遊を抑制することができるので、ウエハへの再付着を防止することができ、ウオータマークの発生を防止することができる。また、高速で回転させるスピン乾燥に比べて、回転機構部からの発塵量を低減することができ、シール構造を簡単化することができ、メンテナンスサイクル（シールリングの交換サイクル）時間を延長することができる。さらに、静電気の発生を抑制することができるので、ウエハの表面にパーティクルが付着するのを防止することができる。
【００３０】
図３は本発明の他の実施の形態である自然酸化膜除去装置を示す正面断面図である。
【００３１】
本実施の形態が前記実施の形態と異なる点は、超純水を供給するインジェクションノズル４８の供給口４８ａがスチームノズル３５内における吹出口３５ａの上流側に配置されている点である。インジェクションノズル４８の供給配管４８Ａには超純水供給源４８Ｂが止め弁４８Ｃを介して接続されている。
【００３２】
本実施の形態においては、スチーム供給装置４２内にて１１００℃程度に生成されたスチーム４７が、図３に示されているように、スチーム供給装置４２からスチーム供給配管４１を通じてスチームノズル３５に供給され、スチームノズル３５の吹出口３５ａからウエハ１に吹き付けられる際に、インジェクションノズル４８から常温または加熱（１００℃未満）した超純水４９が添加される。このスチーム４７への超純水４９の添加により、スチーム４７の温度が下がり、１００℃〜１１００℃未満（好ましくは２００〜３００℃）に制御されるとともに、スチーム４７の流量や流速が増加される。
【００３３】
本実施の形態によれば、前記実施の形態の効果に加えて次のような効果を得ることができる。
水素ガスと酸素ガスとの燃焼によって得られた高エネルギーを持った水蒸気に超純水を添加することにより、水蒸気の温度を降下させることができるとともに、水蒸気の流量や流速を増加させることができるので、高い効率で大量の水蒸気を得ることができ、洗浄およびリンス後の乾燥時間を短縮することができる。
なお、インジェクションノズルの噴出口を超純水を放射状に噴射することができるスプレー式ノズルに構成することにより、スチームと超純水の混合をより一層促進することができる。また、インジェクションノズルを石英ガラスまたは弗素樹脂を使用して構成すると、清浄度を増加させることができる。
【００３４】
図４、図５および図６は本発明の第三の実施の形態を示している。
本実施の形態において、本発明に係る基板処理装置は、ＩＣの製造方法にあってウエハに不純物を拡散したり絶縁膜や金属膜等のＣＶＤ膜を形成したりする工程に使用されるバッチ式縦型拡散・ＣＶＤ装置（以下、バッチ式ＣＶＤ装置という。）として構成されている。本実施の形態に係るバッチ式ＣＶＤ装置５０においては、ウエハ搬送用のウエハキャリアとしてはＦＯＵＰ（front opening unified pod 。以下、ポッドという。）が使用されている。なお、以下の説明において、前後左右は図４を基準とする。すなわち、フロント筐体５１側が前側、その反対側である耐圧筐体８１側が後側、ボートエレベータ１００側が左側、その反対側であるシールキャップ１０３側が右側とする。
【００３５】
図４および図５に示されているように、バッチ式ＣＶＤ装置５０はフロント筐体５１を備えており、フロント筐体５１によってポッド保管室５２が形成されている。フロント筐体５１の正面壁にはポッド搬入搬出口５３が開設されており、フロント筐体５１のポッド搬入搬出口５３の手前にはポッドステージ５４が構築されている。ポッドステージ５４にはポッド２がＲＧＶ等の工程内搬送装置によって供給および排出されるようになっている。フロント筐体５１内の上部には前側ポッド棚５５と後側ポッド棚５６とがそれぞれ設置されており、前側ポッド棚５５および後側ポッド棚５６は複数台のポッド２を一時的に保管し得るように構成されている。フロント筐体５１の前側部分にはリニアアクチュエータやエレベータおよびスカラ形ロボット等によって構成されたポッド搬送装置５７が設置されており、ポッド搬送装置５７はポッドステージ５４、前後のポッド棚５５、５６およびポッドオープナの間でポッド２を搬送するように構成されている。
【００３６】
フロント筐体５１の背面壁にはポッドオープナ室６０を形成する筐体（以下、ポッドオープナ筐体という。）６１が隣接して設置されており、ポッドオープナ室６０の背面壁にはウエハ搬入搬出口７３を開閉するゲートバルブ６２が設置されている。ポッドオープナ筐体６１の側壁にはポッドオープナ室６０へ窒素（Ｎ2 ）ガスを給気するためのガス供給管６３と、ポッドオープナ室６０を負圧に排気するための排気管６４とがそれぞれ接続されている。なお、窒素ガスの供給はガス供給管６３による供給を設けず、ゲートバルブ６２の開放により、ウエハ移載室７２内に充満された窒素ガスが流れ込むようにすることとしてもよいし、排気管６４を設けず、ポッド２とポッドオープナ室筐体６１との隙間から排気するようにしてもよい。ポッドオープナ筐体６１の正面壁にはウエハ搬入搬出口６５が開設されており、ポッドオープナ筐体６１の正面のウエハ搬入搬出口６５の下端辺にはポッド２を載置する載置台６６が水平に突設されている。ポッドオープナ室６０の内部には載置台６６に載置されたポッド２のキャップを着脱するキャップ着脱機構６７が設置されており、載置台６６に載置されたポッド２のキャップをキャップ着脱機構６７によって着脱することにより、ポッド２のウエハ出し入れ口を開閉するようになっている。
【００３７】
ポッドオープナ筐体６１の背面壁には、大気圧未満の圧力（以下、負圧という。）を維持可能な気密性能を有する耐圧筐体７１が連設されており、ウエハ移載室７２が耐圧筐体（以下、移載室筐体という。）７１によって形成されている。ウエハ移載室７２にはウエハ搬入搬出口７３が開設されており、ウエハ搬入搬出口７３はゲートバルブ６２によって開閉されるように構成されている。ウエハ移載室７２には負圧下でウエハ１を移載するウエハ移載装置７４が、水平に設置されており、ウエハ移載装置７４はスカラ形ロボット（selective compliance assembly robot arm 。ＳＣＡＲＡ）によって構成されている。異物がウエハ移載室７２および待機室８２に侵入するのを防止するために、ウエハ移載装置７４の駆動部であるモータ７５はウエハ移載室７２の底壁の外部に設置されている。移載室筐体７１の側壁にはウエハ移載室７２を負圧に排気するための排気管７６が接続されている。ウエハ移載室７２には圧力調整装置および圧力センサ（図示せず）が接続されており、圧力調整装置は圧力センサの検出に基づいてウエハ移載室７２の圧力を調整するように構成されている。
【００３８】
ウエハ移載室７２のウエハ移載装置７４と反対側には、基板仮置き具としての一対のストッカ７７Ａ、７７Ｂが前後に並べられて設置されている。両ストッカ７７Ａ、７７Ｂは後記するボートと同様な構造に構成されており、ボートが保持可能な最大枚数以上の枚数のウエハ１を保持可能なように構成されている。ウエハ移載室７２の前側ストッカ７７Ａと後側ストッカ７７Ｂとの間には、遮蔽手段としての遮蔽板７８が垂直に設置されており、遮蔽板７８は前側ストッカ７７Ａと後側ストッカ７７Ｂとの間の熱を遮断するように構成されている。前側ストッカ７７Ａおよび後側ストッカ７７Ｂのウエハ移載装置７４と反対側の近傍のそれぞれには、窒素ガスを吹き出す前側ガス吹出管７９Ａと後側ガス吹出管７９Ｂとが設置されており、前側ガス吹出管７９Ａおよび後側ガス吹出管７９Ｂは前側ストッカ７７Ａおよび後側ストッカ７７Ｂに窒素ガスをそれぞれ吹き付けるように構成されている。
【００３９】
図４に示されているように、移載室筐体７１の後側には負圧を維持可能な気密性能を有する耐圧筐体８１が隣接して設置されており、この耐圧筐体８１によりボートを収納可能な容積を有するロードロック方式の予備室である待機室８２が形成されている。なお、ロードロック方式とは、ゲートバルブ等の仕切弁を用いて処理室と予備室とを隔離し、処理室への空気の流入を防止したり、温度や圧力等の外乱を小さくして処理を安定化させる方式、である。耐圧筐体（以下、待機室筐体という。）８１の前面壁および移載室筐体７１の背面壁にはウエハ搬入搬出口８３およびウエハ搬入搬出口８０がそれぞれ開設されており、これらのウエハ搬入搬出口８３、８０はゲートバルブ８４によって開閉されるように構成されている。待機室筐体８１の一対の側壁には待機室８２へ窒素（Ｎ2 ）ガスを給気するためのガス供給管８５と、待機室８２を負圧に排気するための排気管８６とがそれぞれ接続されている。
【００４０】
図５および図６に示されているように、待機室８２の天井壁にはボート搬入搬出口８７が大きく開設されており、ボート搬入搬出口８７は仕切弁としてのシャッタ８８によって開閉されるように構成されている。待機室筐体８１の上に構築された筐体８９の内部にはヒータユニット９０が垂直方向に設置されており、ヒータユニット９０の内部には処理室９１を形成するプロセスチューブ９２が設置されている。プロセスチューブ９２は石英（ＳｉＯ2 ）が使用されて上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されたアウタチューブ９３と、石英または炭化シリコン（ＳｉＣ）が使用されて上下両端が開口した円筒形状に形成されたインナチューブ９４とを備えており、アウタチューブ９３がインナチューブ９４に同心円に被せられている。アウタチューブ９３とインナチューブ９４との間には環状の排気路９５が両者の間隙によって形成されている。プロセスチューブ９２は待機室筐体８１の天井壁の上にマニホールド９６を介して支持されており、マニホールド９６はボート搬入搬出口８７に同心円に配置されている。マニホールド９６にはプロセスチューブ９２の内部を排気するための排気管９８が接続されており、排気管９８は排気路９５に連通するようになっている。なお、プロセスチューブ９２には熱電対９９が挿入されており、熱電対９９の側温によってヒータユニット９０のフィードバック制御が実施されるようになっている。処理室９１には原料ガスやパージガス等がガス導入管９７により導入されるようになっている。
【００４１】
待機室８２にはボートを昇降させるためのボートエレベータ１００が設置されており、ボートエレベータ１００は送りねじ装置やベローズ等によって構成されている。ボートエレベータ１００の昇降台１０１の側面にはアーム１０２が水平に突設されており、アーム１０２の先端にはシールキャップ１０３が水平に支持されている。シールキャップ１０３はプロセスチューブ９２の炉口になる待機室筐体８１のボート搬入搬出口８７を気密シールし得るように構成されているとともに、基板保持具であるボート１０４を垂直に支持するように構成されている。ボート１０４は複数枚（例えば、２５枚、５０枚、１００枚、１２５枚、１５０枚ずつ等）のウエハ１を、その中心を揃えて水平に支持した状態で、ボートエレベータ１００によるシールキャップ１０３の昇降に伴ってプロセスチューブ９２の処理室９１に対して搬入搬出するように構成されている。ボート１０４はシールキャップ１０３に設置されたロータリーアクチュエータ１０５によって回転されるように構成されている。
【００４２】
図４に示されているように、移載室筐体７１の右側には酸化膜除去装置１０Ａが設置されている。移載室筐体７１の右側壁にはウエハ搬入搬出口１３Ａが開設されており、ウエハ搬入搬出口１３Ａはウエハ１をウエハ移載室７２に対して搬入搬出し得るように構成されている。移載室筐体７１の右脇には酸化膜除去装置１０Ａの除去室筐体１１Ａが隣接して設置されており、除去室筐体１１Ａの左側壁にはウエハ搬入搬出口１３が開設されている。ウエハ搬入搬出口１３Ａ、１３はゲートバルブ１４によって開閉されるようになっている。本実施の形態に係る酸化膜除去装置１０Ａが前記実施の形態に係る酸化膜除去装置１０と異なる点は、除去室筐体１１Ａが略立方体形状に形成されている点である。
【００４３】
以下、前記構成に係るバッチ式ＣＶＤ装置を使用したＩＣの製造方法における成膜工程を説明する。なお、本実施の形態においては、一台のポッド２に収納された二十五枚以内のウエハ１をバッチ処理（一括処理）する場合について説明する。
【００４４】
成膜すべきウエハ１は二十五枚以内がポッド２に収納された状態で、バッチ式ＣＶＤ装置５０のポッドステージ５４へ工程内搬送装置によって搬送されて来る。搬送されて来たポッド２はポッドステージ５４から前側ポッド棚５５または後側ポッド棚５６の指定された場所にポッド搬送装置５７によって搬送されて保管される。
【００４５】
ウエハ１が収納されたポッド２は載置台６６の上へポッド搬送装置５７によって搬送されて載置される。ポッドオープナ室６０には窒素ガスがガス供給管６３によって供給されるとともに、排気管６４によって排気されることにより、窒素ガスが充満（窒素ガスパージ）される。この時のポッドオープナ室６０の酸素濃度は２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。載置されたポッド２のキャップがキャップ着脱機構６７によって取り外され、ポッド２のウエハ出し入れ口が開放される。窒素ガスがポッド２のウエハ出し入れ口にポッドオープナ室６０に敷設された窒素ガス供給ノズルから吹き込まれ、ポッド２のウエハ収納室の雰囲気が窒素ガスパージされる。この時のポッド２のウエハ収納室における酸素濃度は、２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。その後、ウエハ搬入搬出口７３がゲートバルブ６２によって開放される。この際、ウエハ移載室７２には窒素ガスが充満（窒素ガスパージ）されている。
【００４６】
ポッド２が開放されると、ウエハ１はポッド２からウエハ移載装置７４によってウエハ搬入搬出口７３を通してピックアップされ、ウエハ移載室７２に搬入される。ウエハ移載室７２に搬入されたウエハ１は、ウエハ移載室７２の一方のストッカである前側ストッカ７７Ａへウエハ移載装置７４によって移載される。ポッド２の全てのウエハ１が前側ストッカ７７Ａへ移載されて装填（ウエハチャージング）されると、ウエハ搬入搬出口７３がゲートバルブ６２によって閉じられる。ウエハ搬入搬出口７３が閉じられると、ポッドオープナ室６０への窒素ガスの供給は停止される。ちなみに、空になったポッド２は載置台６６からポッド棚５５または５６にポッド搬送装置５７によって一時的に戻される。
【００４７】
次いで、ウエハ搬入搬出口１３Ａ、１３がゲートバルブ１４によって開放される。続いて、前側ストッカ７７Ａに装填されたウエハ１がウエハ移載装置７４によってピックアップされて、酸化膜除去装置１０Ａの除去室１２Ａにウエハ搬入搬出口１３Ａ、１３を通じて搬入され、保持具２２へ移載される。保持具２２に移載されたウエハ１は保持具２２によって保持される。ウエハ１が保持されると、ウエハ搬入搬出口１３Ａ、１３がゲートバルブ１４によって閉じられる。
【００４８】
その後、酸化膜除去装置１０Ａにおいて、ウエハ１の自然酸化膜除去ステップ（洗浄ステップ、リンスステップおよび乾燥ステップ）が、前記実施の形態と同様に実施される。ウエハ１の自然酸化膜除去ステップが終了すると、ウエハ搬入搬出口１３Ａ、１３がゲートバルブ１４によって開放される。続いて、保持具２２に保持された自然酸化膜除去済みのウエハ１がウエハ移載装置７４によってピックアップされて、ウエハ移載室７２にウエハ搬入搬出口１３Ａ、１３を通じて搬入され、前側ストッカ７７Ａに移載される。ウエハ１の移載が完了すると、ウエハ搬入搬出口１３Ａ、１３がゲートバルブ１４によって閉じられる。
【００４９】
以降、前述した作動が繰り返されることにより、前側ストッカ７７Ａの全てのウエハ１について自然酸化膜除去ステップが一枚ずつ実施されて、自然酸化膜除去ステップが前側ストッカ７７Ａの全てのウエハ１について完了される。
【００５０】
自然酸化膜除去ステップが前側ストッカ７７Ａの全てのウエハ１について完了すると、ウエハ移載室７２は排気管８６によって真空引きされることにより、ウエハ移載室７２の圧力が待機室８２の圧力と等しく減圧される。この際、ウエハ移載室７２の容積は待機室８２のそれに比べて小さいので、減圧時間は短くて済む。ウエハ移載室７２が待機室８２と等しく減圧されると、ウエハ搬入搬出口８０、８３がゲートバルブ８４によって開放される。
【００５１】
続いて、前側ストッカ７７Ａに装填された自然酸化膜除去済みのウエハ１が、ウエハ移載装置７４によってピックアップされて、待機室８２にウエハ搬入搬出口８０、８３を通じて搬入され、待機室８２のボート１０４へ移載される。
【００５２】
以降、ウエハ１の前側ストッカ７７Ａからボート１０４へのウエハ移載装置７４による移載作業が繰り返される。この間、ウエハ移載室７２および待機室８２は負圧に減圧されているので、自然酸化膜除去済みのウエハ１が移載途中で自然酸化される現象を防止することができる。また、ボート搬入搬出口８７がシャッタ８８によって閉鎖されることにより、プロセスチューブ９２の高温雰囲気が待機室８２に流入することは防止されている。したがって、移載途中のウエハ１および移載されたウエハ１が高温雰囲気に晒されることはなく、ウエハ１が高温雰囲気に晒されることによる自然酸化等の弊害の派生は防止されることになる。
【００５３】
前側ストッカ７７Ａに装填された全てのウエハ１がボート１０４へ装填されると、ボート搬入搬出口８７がシャッタ８８によって開放される。続いて、シールキャップ１０３がボートエレベータ１００の昇降台１０１によって上昇されて、図６に想像線で示されているように、シールキャップ１０３に支持されたボート１０４がプロセスチューブ９２の処理室９１に搬入（ボートローディング）される。ボート１０４が上限に達すると、ボート１０４を支持したシールキャップ１０３の上面の周辺部がボート搬入搬出口８７をシール状態に閉塞するため、処理室９１は気密に閉じられた状態になる。このボート１０４の処理室９１への搬入に際して、待機室８２は負圧に維持されているため、ボート１０４の処理室９１への搬入に伴って外部の酸素や水分が処理室９１に侵入することは確実に防止される。また、前側ストッカ７７Ａのウエハ１をボート１０４に装填した後に、待機室８２を真空引きしたり窒素ガスパージしたりせずに、ボート１０４を処理室９１へ搬入することができるので、スループットを大幅に向上させることができる。
【００５４】
その後、プロセスチューブ９２の処理室９１は気密に閉じられた状態で、所定の圧力となるように排気管９８によって排気され、ヒータユニット９０によって所定の温度に加熱され、所定の原料ガスがガス導入管９７によって所定の流量だけ供給される。これにより、予め設定された処理条件に対応する所望の膜がウエハ１に形成される。
【００５５】
翻って、前側ストッカ７７Ａに装填された全てのウエハ１がボート１０４へ装填されると、ウエハ搬入搬出口８３、８０がゲートバルブ８４によって閉鎖されて、ウエハ移載室７２がガス吹出管７９Ａ、７９Ｂによって窒素ガスパージされる。一方、次の（二番目の）バッチのウエハ１が収納されたポッド２は、載置台６６の上へポッド搬送装置５７により搬送されて載置される。ポッドオープナ室６０は窒素ガスがガス供給管６３によって供給されるとともに排気管６４によって排気されることにより、窒素ガスパージされる。その後、載置されたポッド２のキャップがキャップ着脱機構６７によって取り外され、ポッド２のウエハ出し入れ口が開放される。続いて、窒素ガスがポッド２のウエハ出し入れ口にポッドオープナ室６０に敷設された窒素ガス供給ノズルから吹き込まれ、ポッド２のウエハ収納室の雰囲気が窒素ガスパージされる。その後、ウエハ搬入搬出口７３がゲートバルブ６２によって開放される。この際、ウエハ移載室７２には窒素ガスが充満（窒素ガスパージ）されている。
【００５６】
ポッド２が開放されると、ウエハ１はポッド２からウエハ移載装置７４によってウエハ搬入搬出口７３を通してピックアップされ、ウエハ移載室７２に搬入される。ウエハ移載室７２に搬入されたウエハ１はウエハ移載室７２の後側ストッカ７７Ｂへウエハ移載装置７４によって移載される。ポッド２の全てのウエハ１が後側ストッカ７７Ｂへ移載されて装填されると、ウエハ搬入搬出口７３がゲートバルブ６２によって閉じられる。ウエハ搬入搬出口７３が閉じられると、ポッドオープナ室６０への窒素ガスの供給は停止される。ちなみに、空になったポッド２は載置台６６からポッド棚５５または５６にポッド搬送装置５７によって一時的に戻される。
【００５７】
そして、ウエハ搬入搬出口７３がゲートバルブ６２によって閉じられると、ウエハ搬入搬出口１３Ａ、１３がゲートバルブ１４によって開放され、後側ストッカ７７Ｂに装填されたウエハ１がウエハ移載装置７４によってピックアップされて、除去室１２Ａにウエハ搬入搬出口１３Ａ、１３を通じて搬入され、保持具２２へ移載される。
【００５８】
以降、前側ストッカ７７Ａのウエハ１について前述した自然酸化膜除去ステップの作業が繰り返されることにより、後側ストッカ７７Ｂの全てのウエハ１について自然酸化膜除去ステップが実施されて行き、自然酸化膜除去ステップが後側ストッカ７７Ｂの全てのウエハ１について実施される。この次のバッチのポッド２に対するウエハ１群の後側ストッカ７７Ｂへの装填ステップおよび自然酸化膜除去ステップは、前回のバッチの成膜ステップと同時進行することができるので、スループットの低下を防止することができる。
【００５９】
他方、前回のバッチに対するウエハ１に対しての成膜ステップについて設定された処理時間が経過すると、図５および図６に示されているように、ボート１０４がボートエレベータ１００によって下降されることにより、処理済みウエハ１を保持したボート１０４が待機室８２に搬出（ボートアンローディング）される。
【００６０】
ボート１０４が待機室８２に排出されると、ボート搬入搬出口８７がシャッタ８８によって閉鎖され、ウエハ搬入搬出口８３、８０がゲートバルブ８４によって開放される。続いて、搬出されたボート１０４の処理済みウエハ１がウエハ移載装置７４によって脱装（ディスチャージング）されて、予め減圧されたウエハ移載室７２に搬入され、前側ストッカ７７Ａへ装填される。ボート１０４の全ての処理済みウエハ１が前側ストッカ７７Ａへウエハ移載装置７４によって装填されると、続いて、後側ストッカ７７Ｂに予め装填された次のバッチのウエハ１が、ボート１０４にウエハ移載装置７４によって移載されて装填される。このようにして、大きな容量を有する待機室８２を窒素ガスパージせずに、処理室９１から待機室８２に搬出された処理済みウエハ１を待機室８２と同圧に減圧されたウエハ移載室７２へ待機室８２に搬出された直後に移送して前側ストッカ７７Ａに装填し、続いて、次のバッチのウエハ１をウエハ移載室７２の後側ストッカ７７Ｂから待機室８２のボート１０４に装填すると、大きな容量を有する待機室８２を窒素ガスパージする時間を省略することができるので、スループットを大幅に高めることができる。
【００６１】
後側ストッカ７７Ｂに装填された次のバッチのウエハ１がボート１０４へ全て装填されると、ボート搬入搬出口８７がシャッタ８８によって開放される。続いて、シールキャップ１０３がボートエレベータ１００の昇降台１０１によって上昇されて、シールキャップ１０３に支持されたボート１０４がプロセスチューブ９２の処理室９１に搬入される。ボート１０４が上限に達すると、ボート１０４を支持したシールキャップ１０３の上面の周辺部がボート搬入搬出口８７をシール状態に閉塞するために、プロセスチューブ９２の処理室９１は気密に閉じられた状態になる。このボート１０４の処理室９１への搬入に際しても、待機室８２は負圧に維持されているために、ボート１０４の処理室９１への搬入に伴って外部の酸素や水分が処理室９１に侵入することは確実に防止される。さらに、後側ストッカ７７Ｂのウエハ１をボート１０４に装填した後に、待機室８２を真空引きしたり窒素ガスパージしたりせずに、ボート１０４を処理室９１へ搬入することができるので、スループットを大幅に向上させることができる。
【００６２】
その後、前回の（一番目の）バッチのウエハ１に対する場合と同様にして、プロセスチューブ９２の処理室９１は気密に閉じられた状態で、所定の圧力となるように排気管９８によって排気され、ヒータユニット９０によって所定の温度に加熱され、所定の原料ガスがガス導入管９７によって所定の流量だけ供給される。これにより、前回のバッチと同様にウエハ１に対する処理条件に対応する所望の膜がウエハ１に形成される。
【００６３】
他方、後側ストッカ７７Ｂに装填された全てのウエハ１がボート１０４へ装填されると、ウエハ搬入搬出口８０、８３がゲートバルブ８４によって閉鎖され、冷却媒体としての冷えた新鮮な窒素ガスが前側ストッカ７７Ａに装填された処理済みウエハ１に前側ガス吹出管７９Ａによって直接的に吹き付けられる。この窒素ガスの吹き付けにより、前側ストッカ７７Ａに装填された高温のウエハ１はきわめて効果的に強制冷却される。前側ストッカ７７Ａに装填された処理済みウエハ１に対する強制冷却時間は、次の（二番目の）バッチに対する成膜ステップの処理時間に対応して充分に確保することができるので、（一番目の）処理済みウエハ１を充分に冷却することができる。しかも、この処理済みウエハ１の強制冷却ステップは次の（二番目の）バッチのウエハ１についての成膜ステップと同時に進行されていることにより、冷却待ち時間は吸収されることになるため、バッチ式ＣＶＤ装置５０の全体としてのスループットを低下させることにはならない。
【００６４】
前側ストッカ７７Ａに装填された処理済みウエハ１が窒素ガスの吹き付けによって強制的に冷却されて、ポッド２に収納可能な温度（例えば、８０℃以下）に降温したところで、ウエハ搬入搬出口７３がゲートバルブ６２によって開放される。このとき、ウエハ移載室７２およびポッドオープナ室６０は窒素ガスパージされている。続いて、載置台６６に載置された空のポッド２のキャップがキャップ着脱機構６７によって取り外され、ポッド２のウエハ出し入れ口が開放される。空のポッド２が開放されると、窒素ガスがポッド２のウエハ出し入れ口にポッドオープナ室６０に敷設された窒素ガス供給ノズルから吹き込まれ、ポッド２のウエハ収納室の雰囲気が窒素ガスパージされる。続いて、前側ストッカ７７Ａの処理済みのウエハ１が載置台６６の空のポッド２にウエハ移載装置７４によって収納される。この際、処理済みウエハ１はポッド２に収納可能な温度に降温されているため、ポッド２が樹脂によって製作されている場合であっても、処理済みウエハ１をポッド２に安全に収納することができる。
【００６５】
前側ストッカ７７Ａに装填された処理済みウエハ１がポッド２に全て収納されると、ポッド２はキャップ着脱機構６７によってキャップを装着された後に、載置台６６から前側ポッド棚５５または後側ポッド棚５６にポッド搬送装置５７によって搬送される。この際、ウエハ搬入搬出口６５はキャップ着脱機構６７によって閉じられた状態になっている。処理済みウエハ１を収納したポッド２が載置台６６から搬送されると、次の（三番目の）バッチのポッド２が載置台６６へポッド搬送装置５７によって搬送される。以降、前述した作動が繰り返されることにより、次の（三番目の）バッチのウエハ１について前述した成膜が施されることになる。
【００６６】
他方、前々回の（一番目の）バッチの処理済みウエハ１を収納したポッド２は、前側ポッド棚５５または後側ポッド棚５６からポッドステージ５４に搬送され、ポッドステージ５４から次の処理工程へ工程内搬送装置によって搬送されて行く。この処理済みウエハ１の空のポッド２への収納作業は、後続のバッチのウエハ１に対する成膜ステップの間に同時に進行することができる。
【００６７】
以降、前述した作用が繰り返されて、ウエハ１が例えば２５枚ずつ、バッチ式ＣＶＤ装置５０によってバッチ処理されて行く。
【００６８】
前記実施の形態によれば、前記実施の形態に加えて、次の効果が得られる。
【００６９】
ウエハの自然酸化膜を酸化膜除去装置によって除去した後に、ウエハを待機室に搬送して処理室に搬入することにより、ウエハへの自然酸化膜を低減することができたり、不純物が再付着することを低減することができる。そのため、良好な処理を確保することができる。例えば、高品質な容量膜の形成や容量絶縁膜の耐圧劣化の抑制等が可能となる。
【００７０】
なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。
【００７１】
例えば、断熱カバー４０は断熱材のみによって形成するに限らず、断熱材とヒータとによって形成し、この断熱カバーにより、スチームノズル３５およびスチーム供給配管４１を全体的に被覆するように構成してもよい。また、流量を一定に維持するように制御したい場合には、スチームノズル３５に設けられた温度センサの検出温度に基づいて断熱カバーに設けたヒータにより温度の方を制御するように構成してもよい。
また、スチームノズル３５やスチーム供給配管４１は石英製とすると、より一層清浄度を増加させることができる。
スチームノズル３５およびスチーム供給配管４１は燃焼管４３と一体的に構成するに限らず、図７に示されているように、ボールジョイント式管継手１１０にて接続するようにしてもよい。図７において、スチームノズル３５の基端部には雄側ボールジョイント部１１１が形成され、スチーム供給配管４１の先端部には雌側ボールジョイント部１１２が形成されている。雌雄のジョイント部１１１と１１２の摺接面はすりガラス面になっている。このボールジョイント式管継手１１０により、スチームノズル３５の水平面内での回動およびシール状態を確保することができるとともに、組立誤差や加工誤差を吸収することができる。
【００７２】
スチームノズルは旋回するように構成するに限らず、直線運動するように構成してもよい。直線運動するように構成する場合も、ウエハ１の周速度の速さに応じてウエハ１中心から周辺に行くに従って遅くするよう制御することが好ましい。
【００７３】
一対のストッカは交互に使用するように設定するに限らず、一方を処理前専用のストッカに使用し、他方を処理後専用のストッカに使用するように設定してもよい。また、ストッカには製品となる所謂プロダクトウエハだけを装填するに限らず、製品とならない所謂ダミーウエハをも装填してもよい。
【００７４】
前記実施の形態ではバッチ式ＣＶＤ装置の場合について説明したが、本発明はこれに限らず、基板処理装置全般に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明の一実施の形態である酸化膜除去装置を示す正面断面図である。
【図２】その平面断面図である。
【図３】本発明の第二の実施の形態である酸化膜除去装置の主要部を示す正面断面図である。
【図４】本発明の第三の実施の形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す平面断面図である。
【図５】その一部省略側面断面図である。
【図６】図４のVI−VI線に沿う断面図である。
【図７】スチームノズルと燃焼管のボールジョイント式管継手を示しており、（ａ）は一部切断分解正面図、（ｂ）は組立正面図である。
【符号の説明】
【００７６】
１…ウエハ（基板）、２…ポッド（ウエハキャリア）、１０、１０Ａ…酸化膜除去装置（基板処理装置）、１１、１１Ａ…除去室筐体、１２、１２Ａ…酸化膜除去室（処理室）、１３、１３Ａ…ウエハ搬入搬出口、１４…ゲートバルブ、１５…不活性ガス供給装置、１６…排気装置、１７…モータ、１８…出力軸、１９…カップリング、２０…回転軸、２１…シール機構付き軸受装置、２２…保持具、２３…把持ピン、２４…スカート、２５…シール機構付き軸受装置、２６…薬液ノズル、２６ａ…滴下口、２７…モータ、２８…ベルト伝動装置、２９…給液配管、３０…エッチング液供給装置、３１…分岐管、３２…リンス液供給装置、３３、３４…止め弁、３５…スチームノズル、３５ａ…吹出口、３６…旋回駆動装置、３７…シール機構付き軸受装置、３８…モータ、３９…ベルト伝動装置、４０…断熱カバー、４１…スチーム供給配管、４２…スチーム供給装置、４３…燃焼管、４４…燃焼室、４５…水素ガスノズル、４５Ａ…水素ガス供給配管、４５Ｂ…水素ガス供給源、４５Ｃ…マスフローコントローラ、４５Ｄ…止め弁、４６…酸素ガスノズル、４６Ａ…酸素ガス供給配管、４６Ｂ…酸素ガス供給源、４６Ｃ…マスフローコントローラ、４６Ｄ…止め弁、４７…スチーム（水蒸気）、４８…インジェクションノズル、４８ａ…供給口、４８Ａ…供給配管、４８Ｂ…超純水供給源、４８Ｃ…止め弁、４９…超純水、５０…バッチ式ＣＶＤ装置（基板処理装置）、５１…フロント筐体、５２…ポッド保管室、５３…ポッド搬入搬出口、５４…ポッドステージ、５５、５６…ポッド棚、５７…ポッド搬送装置、６０…ポッドオープナ室、６１…ポッドオープナ筐体（耐圧筐体）、６２…ゲートバルブ、６３…ガス供給管、６４…排気管、６５…ウエハ搬入搬出口、６６…載置台、６７…キャップ着脱機構、７１…移載室筐体（耐圧筐体）、７２…ウエハ移載室、７３…ウエハ搬入搬出口、７４…ウエハ移載装置、７５…モータ、７６…排気管、７７Ａ、７７Ｂ…ストッカ（基板保持具）、７８…遮蔽板（遮蔽手段）、７９Ａ、７９Ｂ…ガス吹出管（ガス吹出手段）、８０…ウエハ搬入搬出口、８１…待機室筐体（耐圧筐体）、８２…待機室（予備室）、８３…ウエハ搬入搬出口、８４…ゲートバルブ、８５…ガス供給管、８６…排気管、８７…ボート搬入搬出口、８８…シャッタ、８９…筐体、９０…ヒータユニット、９１…処理室、９２…プロセスチューブ、９３…アウタチューブ、９４…インナチューブ、９５…排気路、９６…マニホールド、９７…ガス導入管、９８…排気管、９９…熱電対、１００…ボートエレベータ、１０１…昇降台、１０２…アーム、１０３…シールキャップ、１０４…ボート（基板保持具）、１０５…ロータリーアクチュエータ、１１０…ボールジョイント式管継手、１１１…雄側ボールジョイント部、１１２…雌側ボールジョイント部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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