(57)【要約】【課題】  従来からの光ディスク製造用の工程等に新たな処理工程を加えることなく、販売用の光ディスクの情報記録面側に可視画像を形成することが可能なスタンパ製造方法を提供する。【解決手段】  透明基板６上に積層されたフォトレジスト層５を露光し、フォトレジスト層５にピット又はグルーブの少なくともいずれか一方となる潜像を形成する露光工程を含んで光ディスク製造用のスタンパを製造するスタンパ製造方法において、スタンパを用いて製造される光ディスクの情報記録面に目視可能な画像を形成するための版３であって、光ディスクにおける当該画像が形成される部分に相当するフォトレジスト層５の部分の露光量をフォトレジスト層５における他の部分と異ならせるための版３を、透明基板６におけるフォトレジスト層５が積層されている面と反対の面に密着配置し、版３の配置後にフォトレジスト層５を露光する。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に積層されたフォトレジスト層を露光し、当該フォトレジスト層にピット又はグルーブの少なくともいずれか一方となる潜像を形成する露光工程を含んで光ディスク製造用のスタンパを製造するスタンパ製造方法において、
前記スタンパを用いて製造される光ディスクの情報記録面に目視可能な画像を形成するための版であって、当該光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する前記フォトレジスト層の部分の露光量を当該フォトレジスト層における他の部分と異ならせるための版を、前記透明基板における前記フォトレジスト層が積層されている面と反対の面に密着配置する配置工程と、
前記版の配置後に前記フォトレジスト層を露光する前記露光工程と、
を含むことを特徴とするスタンパ製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のスタンパ製造方法において、
前記版は、前記露光用光に対して反射防止面又は光吸収面となっており、
前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する当該版の部分が開口とされ、
前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記開口部分の前記透明基板の面で
反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載のスタンパ製造方法において、
前記版は、前記露光用光に対して反射防止面又は光吸収面となっており、
前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する当該版の部分が開口とされ、
前記透明基板及び前記フォトレジスト層を備える原盤と前記版とを載置する載置台における当該原盤及び当該版が載置される面に、前記露光用光を反射する反射膜が形成されており、
前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記開口部分を介して前記反射膜で反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載のスタンパ製造方法において、
前記版は、前記露光用光に対して反射防止面又は光吸収面となっており、
前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分以外の部分に相当する当該版の部分が開口とされ、
前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記開口部分の前記透明基板の面で
反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載のスタンパ製造方法において、
前記版は、前記露光用光に対して反射防止面又は光吸収面となっており、
前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分以外の部分に相当する当該版の部分が開口とされ、
前記透明基板及び前記フォトレジスト層を備える原盤と前記版とを載置する載置台における当該原盤及び当該版が載置される面に、前記露光用光を反射する反射膜が形成されており、
前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記開口部分を介して前記反射膜で反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
【請求項６】
請求項１に記載のスタンパ製造方法において、
前記版は、前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する当該版の部分があらかじめ設定された一定反射率を有する反射面とされ、
前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分以外の部分に相当する当該版の部分が前記反射率とは異なる反射率を有する反射面とされ、
前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記版の各々の反射率を有する反射面で反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
【請求項７】
請求項１に記載のスタンパ製造方法において、
前記版は、前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する当該版の部分が反射面とされ、
前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記版の前記反射面で反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
【請求項８】
請求項１に記載のスタンパ製造方法において、
前記版は、前記光ディスクにおける前記画像が形成される部分以外の部分に相当する当該版の部分が反射面とされ、
前記露光工程においては、前記透明基板に対する前記フォトレジスト層の側から露光用光を照射して当該フォトレジスト層を露光すると共に前記版の前記反射面で反射された露光光で当該フォトレジスト層を露光することを特徴とするスタンパ製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一の請求項に記載のスタンパ製造方法と、
当該スタンパ製造方法により製造されたスタンパを用いて前記光ディスクを製造する製造工程と、
を含むことを特徴とする光ディスク製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、スタンパ製造方法及び光ディスク製造方法の技術分野に属し、より詳細には、ＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）等の光ディスクであって、実際に再生すべき情報が記録される当該光ディスクの情報記録面側に目視可能な文字又は絵等の画像が形成されている光ディスクの製造に用いられるスタンパの製造方法及び当該製造方法により製造されたスタンパを用いた光ディスクの製造方法の技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
上記光ディスクは、透光性を有する樹脂製の基板内に形成された上記情報記録面としての記録層に再生されるべき情報を担持するピット又はグルーブが形成され、その記録層の表面を反射層で覆い、当該基板の他面から情報再生用の光ビームを照射し、その光ビームの反射光を用いて当該情報を再生する構造となっている。
【０００３】
このような光ディスクにレーベル情報等の可視画像を記録するものとして、従来は、当該光ディスクにおける情報記録面とは反対の表面に、例えば著作権に関する情報を、文字、図形等の刻印又は印刷等の手法を用いて記録していた。
【０００４】
一方、当該光ディスクの情報記録面そのものに上記可視画像を記録するものとして、上述したピットやグルーブの形状自体をその記録すべき可視画像に対応して変化させることにより、その情報記録面上に視認できる模様等の可視画像を形成することが開示されている（下記特許文献１及び２参照）。
【０００５】
より具体的に下記特許文献１においては、光ディスクを大量生産する際に用いられる原盤（スタンパ）を製造（露光）する際に、予め設定された特定のピットパターン（ピット形状）を有するピットが集中的に配置された領域がその原盤内に形成されるように露光用の信号を変調し、その領域自体の形状を記録すべき可視画像に対応して変化させて原盤を形成することで当該可視画像を情報記録面に記録している。
【特許文献１】特開平７−３２０２７４号公報
【０００６】
また、下記特許文献２においては、情報の担持に寄与しないいわゆるダミーピットを情報記録面に形成するためのダミーピット形成用信号を記録すべき可視画像に対応した可視画像形成用信号によりマスクした信号を用いて原盤を露光し、情報記録面における上記ダミーピットのない領域の形状をもって可視画像に対応する潜像を露光面に形成し、その露光面を現像処理することで当該可視画像の実像化している。
【特許文献２】特開平８−１９４９７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述した従来の構成においては、本来の再生すべき情報に対応するピットを形成するための信号と、可視画像用の信号と、を重畳して得られる信号を用いてスタンパを製造することで、情報記録面における情報の再生と可視画像の視認とが共に可能となる光ディスクを製造することが可能とされているが、この場合には、上述した如く可視画像形成の機能をも備えた特定のパターンのピットを形成するため信号を生成する専用の信号処理が別途必要となり、光ディスク製造装置としての複雑化やコスト増を招来してしまうという問題点があった。
【０００８】
また、上述の従来の構成では、通常の光ディスク原盤の製作行程に加えて、上記可視画像形成用の信号を生成するための構成を別途しなければならないという問題点もあった。
【０００９】
更に、上述した従来の構成では、特定のピットのパターンにより可視画像を形成するため、予めそのようなピットを形成することができない記録用の光ディスクに対しては適用できないという問題点もあった。
【００１０】
そこで、本願は、このような各問題点に鑑みなされたものであり、その課題の一例は、従来からの光ディスク製造用の工程等に新たな処理工程を加えることなく、販売用の光ディスクの情報記録面側に可視画像を形成することが可能なスタンパ製造方法及び当該スタンパ製造方法を用いた光ディスク製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、透明基板上に積層されたフォトレジスト層を露光し、当該フォトレジスト層にピット又はグルーブの少なくともいずれか一方となる潜像を形成する露光工程を含んで光ディスク製造用のスタンパを製造するスタンパ製造方法において、前記スタンパを用いて製造される光ディスクの情報記録面に目視可能な画像を形成するための版であって、当該光ディスクにおける前記画像が形成される部分に相当する前記フォトレジスト層の部分の露光量を当該フォトレジスト層における他の部分と異ならせるための版を、前記透明基板における前記フォトレジスト層が積層されている面と反対の面に密着配置する配置工程と、前記版の配置後に前記フォトレジスト層を露光する前記露光工程と、を含む。
【００１２】
上記の課題を解決するために、請求項９に記載の発明は、請求項１から８のいずれか一項に記載のスタンパ製造方法と、当該スタンパ製造方法により製造されたスタンパを用いて前記光ディスクを製造する製造工程と、を含む。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
次に、本願を実施するための最良の形態について、図面に基づいて説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、再生されるべき情報に対応したピットが形成されている再生専用（ＲＯＭ型）の光ディスクの製造方法に対して本願を適用した場合の実施の形態である。
【００１４】
（Ｉ）光ディスクの実施形態
先ず、実施形態に係る光ディスク製造方法について具体的に説明する前に、当該光ディスク製造方法により製造された光ディスクについて、具体的に図１及び図２を用いて説明する。
【００１５】
なお、図１は本願に係る光ディスク製造方法を用いて製造された光ディスクの一部を示す平面図であり、図２は当該光ディスク製造方法を用いて製造された光ディスクの一部の拡大平面図である。
【００１６】
図１に示すように、本願に係る光ディスク製造方法を用いて製造された光ディスクＤＫは、外観上、その内周側から、情報が何ら記録されない未記録領域ＮＲと、光ディスクＤＫに記録された情報の再生を開始する際又は当該光ディスクに対する情報の記録を開始する際に最初に読み出されるべき開始制御情報等が予め記録されているリードイン領域ＬＩと、実際に情報が記録されるデータ領域Ｒと、光ディスクＤＫに記録された情報の再生を終了する際又は当該光ディスクに対する情報の記録を終了する際に読み出されるべき終了制御情報等が予め記録されているリードアウト領域ＬＯと、を備えている。
【００１７】
このとき、データ領域Ｒには、情報を担持しつつ光ディスクＤＫの周方向に並んだ複数のピット１５を含む情報トラックＴが螺旋状に形成されている。
【００１８】
一方、実施形態の光ディスクＤＫのデータ領域Ｒには、例えば図１に示す如き形状の可視画像Ｐが、上記ピット１５とは異なる形状を有すると共に当該ピット１５と同様に再生されるべき情報を担持する後述の可視画像ピットを複数含んで形成されている。なお、この可視画像Ｐ全体の形状としては、図１に示すような文字様の形状の他に直線状形状、曲線状形状或いは他の図形状形状であってもよい。また、光ディスクＤＫ上に上記可視画像Ｐを複数形成するようにすることもできる。更に、この可視画像Ｐとしては、上記した図形の他に、光ディスクＤＫ自体に記録された画像情報又はプログラム等についての版権又は著作権等を表す内容、当該画像情報等に対応する商標若しくは光ディスク自身の商標その他であってもよい。
【００１９】
次に、当該可視画像Ｐが形成されているデータ領域Ｒの細部構成について、図２を用いて説明する。なお、図２は、図１に示す可視画像Ｐの右下に示される一点鎖線方形の内部を拡大した図である。
【００２０】
図２に示すように、データ領域Ｒにおける可視画像Ｐに相当するデータ領域Ｒ以外のデータ領域Ｒにおいては、従来と同様の形状を有するピット１５により再生されるべき情報が担持されており、複数個のピット１５が並ぶことで上記情報トラックＴが螺旋上に形成されている。
【００２１】
これに対し、可視画像Ｐに相当するデータ領域Ｒにおいては、図２に示すように、従来のピット１５より幅の広い上記可視画像ピット１６により再生されるべき情報が担持されており、複数個の可視画像ピット１６が並ぶことで上記情報トラックＴが螺旋上に形成されている。
【００２２】
なお、図２に示す破線は可視画像Ｐに相当するデータ領域Ｒとその他のデータ領域Ｒとの境界を仮想的に示したものであり、実施形態に係る光ディスクＤＫ上に実際に図２に示す如き破線があるわけではない。
【００２３】
このとき、ピット１５と同様に情報を担持する可視画像ピット１６の幅及び長さが当該ピット１５の幅及び長さより大きくなっていることで、当該可視画像ピット１６による可視光線の反射態様とピット１５による可視光線の反射態様と（特に夫々の反射率）が相互に異なることになり、この結果、可視画像Ｐに相当するデータ領域Ｒ全体としてみた場合に、可視画像Ｐに相当するデータ領域Ｒ以外の他のデータ領域Ｒに対して可視画像Ｐが浮かび上がって視認可能となるのである。
【００２４】
なお、図２に示す境界ピット１７については、可視画像Ｐに相当するデータ領域Ｒとその他のデータ領域Ｒとの境界に形成されていることから、その一部（可視画像Ｐに相当するデータ領域Ｒ内にある部分）の幅及び長さが、他の一部（可視画像Ｐに相当するデータ領域Ｒ以外のデータ領域Ｒ内にある部分）の幅及び長さよりも大きくなっている。
【００２５】
（II）光ディスク製造方法の実施形態
次に、図１及び図２を用いて説明した光ディスクＤＫを製造するための実施形態に係る光ディスク製造方法について、具体的に図３及び図４を用いて説明する。
【００２６】
なお、図３は当該光ディスク製造方法の全体構成を示す概念図であり、図４は当該光ディスク製造方法における可視画像形成の原理を示す図である。
【００２７】
図３に示すように、実施形態に係る光ディスク製造方法においては、先ず、光ディスクＤＫに担持させるべき情報に対応する情報信号Ｓrが、情報信号出力部１において生成されカッティング部２に出力される。
【００２８】
次に、カッティング部２においては、後述するスタンパＳＴとなるための原盤に対して上記情報信号Ｓrにより強度変調されたカッティング用光ビームが照射されることにより、当該原盤の表面に予め形成されているフォトレジスト層が露光される。次いで、露光済み原盤を現像処理、電鋳処理して大量生産される光ディスクＤＫの製造用原盤となるスタンパＳＴが製造される。
【００２９】
このとき、実施形態のカッティング部２においては、上記原盤が露光される際に載置される載置台における載置面に、上記カッティング用光ビームを吸収する反射防止膜（光吸収膜）が形成されている。そして、実際の露光の際には、この載置面上に図３に示す版３が載置された上で更に原盤がその版３に対して密着するように載置され、その原盤に対して載置台の反対側から当該原盤にカッティング用光ビームが照射される。ここで、版３はカッティング用光ビームを吸収する反射防止材（光吸収材）で形成されており、版３には、光ディスクＤＫにおいて可視画像Ｐとなるべきデータ領域Ｒに相当する当該版３の領域が開口部３Ｐ（すなわち、カッティング用光ビームを通過させる開口部）とされている。
【００３０】
より具体的には、図４に部分断面図を示すように、原盤ＳＢは透明基板６上に上記フォトレジスト層５が塗布されて形成されており、このフォトレジスト層５に対してカッティング用光ビームＢが照射されることで当該フォトレジスト層５が露光され、これにより原盤ＳＢ上に光ディスクＤＫにおけるピット１５に相当するピット潜像１５Ｂが形成される。
【００３１】
一方、当該原盤ＳＢは、カッティング用光ビームＢの反射防止膜がその表面に形成された載置台１０上に、上記版３に透明基板６が密着するように載置されている。そして、この版３においては、図３に既に示した如く光ディスクＤＫ上において可視画像Ｐとなるデータ領域Ｒに相当する領域（以下単に、「可視画像Ｐに相当する部分」とする場合がある）が開口部３Ｐとされているため、フォトレジスト層５を露光しつつ当該フォトレジスト層５及び透明基板６を透過したカッティング用光ビームＢは、開口部３Ｐの透明基板６の面（裏面）で反射され、透明基板６及びフォトレジスト層５を透過することになる。これにより、光ディスクＤＫ上において可視画像Ｐに相当するフォトレジスト層５の領域内にカッティング用光ビームＢにより形成される潜像は、上記ピット潜像１５Ｂに対して多重露光されることとなり、光ディスクＤＫにおける可視画像ピット１６に相当する潜像であって、上記ピット潜像１５Ｂよりも幅の広い可視画像ピット潜像１６Ａとなる。
【００３２】
そして、このようなピット潜像１５Ｂ及び可視画像ピット潜像１６Ａが形成された状態の原盤ＳＢに対してその後の現像処理、電鋳処理等を施すことにより、図３に示すスタンパＳＴが完成することになり、この完成したスタンパＳＴにおいては、光ディスクＤＫにおける可視画像Ｐに相当する領域が、スタンパ可視画像ＰＳＴとなっているのである。ここで、スタンパ可視画像ＰＳＴであるスタンパＳＴの領域内には、上記可視画像ピット１６に相当する幅及び長さを有するピット（可視画像ピット１６を形成するための型としてのピット）が形成されており、一方、スタンパ可視画像ＰＳＴ以外のスタンパＳＴの領域内には、上記ピット１５に相当する幅及び長さを有するピット（ピット１５を形成するための型としてのピットであり、上記可視画像ピット１６を形成するためのピットよりも幅及び長さ共に短いことになる）が形成されていることになる。
【００３３】
その後、上述した工程により製造されたスタンパＳＴを用いて、たとえば射出成形法等によりレプリカ製造装置２０において販売用の光ディスクＤＫが大量生産されるのである。そして、この光ディスクＤＫにおいては、図２に示した如く、ピット１５よりも幅及び長さ共に長い可視画像ピット１６が形成されることで、情報記録面内に可視画像Ｐが形成されている。
【００３４】
以上説明したように、実施形態に係る光ディスク製造方法によれば、スタンパＳＴを用いて製造される光ディスクＤＫの情報記録面に可視画像Ｐを形成するための版３であって、当該光ディスクＤＫにおける可視画像Ｐが形成される部分に相当するフォトレジスト層５の部分（図４符合１６Ａ参照）の露光量を当該フォトレジスト層５における他の部分と異ならせるための版３を、透明基板６におけるフォトレジスト層５が積層されている面と反対の面に密着載置し、その版３の載置後にフォトレジスト層５を露光するので、結果としてそのスタンパＳＴを用いて製造された光ディスクＤＫにおいては可視画像Ｐに相当するデータ領域Ｒ内に形成される可視画像ピット１６の幅及び大きさが、当該光ディスクＤＫの他のデータ領域Ｒ内に形成されるピット１５の幅及び大きさと異なることなり、これにより光ディスクＤＫの情報記録面に可視画像Ｐが形成されることになる。
【００３５】
よって、従来の光ディスクＤＫとしてのピット１５を形成するための工程に対して版３を載置する簡単な工程を付加するのみで、そのデータ領域Ｒ内に可視画像Ｐが形成された光ディスクを製造することができる。
【００３６】
また、当該版３が、光ディスクＤＫにおける可視画像Ｐが形成されるデータ領域Ｒに相当する版３の部分が開口部３Ｐとされているので、簡易な構成の版３を用意することのみで所望される可視画像Ｐを形成することができる。
【００３７】
（III）光ディスク製造方法の変形形態
上述した実施形態においては可視画像形成の一例として、載置台１０の載置面を反射防止面とし、一方反射防止材で形成された版３における可視画像Ｐに相当する部分を開口部３Ｐとし開口部３Ｐで裏面反射する場合について説明したが、次に、可視画像形成の他の例を、図５〜図１０を用いて説明する。
【００３８】
第１の変形形態として、図５に示すように反射防止材で形成された版３における可視画像Ｐに相当する部分以外の部分となるデータ領域Ｒに相当する領域（以下単に、「可視画像Ｐに相当する部分以外の部分」とする場合がある）を開口部３Ｐとしても良い。
【００３９】
具体的に説明すると、図５に部分断面図を示すように、フォトレジスト層５に対してカッティング用光ビームＢが照射されることで当該フォトレジスト層５が露光され、これにより原盤ＳＢ上に光ディスクＤＫにおける可視画像ピット１６に相当する可視画像ピット潜像１６Ｂが形成される。
【００４０】
そして、版３においては、図４に既に示したものとは逆に、光ディスクＤＫ上において可視画像Ｐに相当する部分以外の部分となるデータ領域Ｒに相当する領域が開口部３Ｐとされているため、フォトレジスト層５を露光しつつ当該フォトレジスト層５及び透明基板６を透過したカッティング用光ビームＢは、開口部３Ｐの透明基板６の面（裏面）で反射され、透明基板６及びフォトレジスト層５を透過することになる。
【００４１】
これにより、光ディスクＤＫ上において可視画像Ｐに相当する部分以外の部分に相当するフォトレジスト層５の領域内にカッティング用光ビームＢにより形成される潜像は、上記可視画像ピット潜像１６Ｂに対して多重露光されることとなり、光ディスクＤＫにおけるピット１５に相当する潜像であって、上記可視画像ピット潜像１６Ｂよりも幅の広いピット潜像１５Ａとなる。
【００４２】
以上より、図４に示した可視画像Ｐに相当する部分は、多重露光されているが、可視画像Ｐに相当する部分以外の部分は、上部からの露光のみであり、それとは逆に、図５に示した可視画像Ｐに相当する部分は、上部からの露光のみであるが、可視画像Ｐに相当する部分以外の部分は、多重露光されることになる。よって、両者とも可視画像Ｐは視認可能であるが、多重露光された部分が、可視画像Ｐに相当する部分であるか、又は可視画像Ｐに相当する部分以外の部分であるかが異なることによって、可視画像Ｐの部分が浮き出て見えるか、又は可視画像Ｐの部分以外の部分が浮き出て見えるかの違いが生じる。
【００４３】
そして、このようなピット潜像１５Ａ及び可視画像ピット潜像１６Ｂが形成された状態の原盤ＳＢに対してその後の現像処理、電鋳処理等を施すことにより、図３に示すスタンパＳＴが完成することになる。
【００４４】
その後の工程は、図４において説明した工程と同様である。
【００４５】
また、第２の変形形態として、図６に示すように載置台１０の載置面上に反射膜１１を形成し、一方反射防止材で形成された版３における可視画像Ｐに相当する部分を開口部３Ｐとし開口部３Ｐでの裏面反射に加えて反射膜１１で反射させ多重露光させるようにしても良い。
【００４６】
具体的に説明すると、フォトレジスト層５に対してカッティング用光ビームＢが照射されることで当該フォトレジスト層５が露光され、これにより原盤ＳＢ上に光ディスクＤＫにおけるピット１５に相当するピット潜像１５Ｂが形成される。
【００４７】
そして、図６に示すように版３においては、可視画像Ｐに相当する部分が開口部３Ｐとされているため、フォトレジスト層５を露光しつつ当該フォトレジスト層５及び透明基板６を透過したカッティング用光ビームＢは、開口部３Ｐの透明基板６の面（裏面）で反射され、さらに、載置台１０の載置面上に反射膜１１を形成されたことにより、反射膜１１で反射され、透明基板６及びフォトレジスト層５を透過することになる。これにより、光ディスクＤＫ上において可視画像Ｐに相当するフォトレジスト層５の領域内にカッティング用光ビームＢにより形成される潜像は、上記ピット潜像１５Ｂに対して多重露光されることとなり、光ディスクＤＫにおける可視画像ピット１６に相当する潜像であって、上記ピット潜像１５Ｂよりも幅の広い可視画像ピット潜像１６Ａとなる。
【００４８】
その後の工程は、図４において説明した工程と同様である。
【００４９】
また、第３の変形形態として、図７に示すように載置台１０の載置面上に反射膜１１を形成し、一方反射防止材で形成された版３における可視画像Ｐに相当する部分以外の部分を開口部３Ｐとし開口部３Ｐでの裏面反射に加えて反射膜１１で反射させ多重露光させるようにしても良い。
【００５０】
具体的に説明すると、フォトレジスト層５に対してカッティング用光ビームＢが照射されることで当該フォトレジスト層５が露光され、これにより原盤ＳＢ上に光ディスクＤＫにおける可視画像ピット１６に相当する可視画像ピット潜像１６Ｂが形成される。
【００５１】
そして、図７に示すように版３においては、図６に既に示したものとは逆に、光ディスクＤＫ上において可視画像Ｐに相当する部分以外の部分が開口部３Ｐとされているため、フォトレジスト層５を露光しつつ当該フォトレジスト層５及び透明基板６を透過したカッティング用光ビームＢは、開口部３Ｐの透明基板６の面（裏面）で反射され、さらに、載置台１０の載置面上に反射膜１１を形成されたことにより、反射膜１１で反射され、透明基板６及びフォトレジスト層５を透過することになる。
【００５２】
これにより、光ディスクＤＫ上において可視画像Ｐに相当する部分以外の部分に相当するフォトレジスト層５の領域内にカッティング用光ビームＢにより形成される潜像は、上記可視画像ピット潜像１６Ｂに対して多重露光されることとなり、光ディスクＤＫにおけるピット１５に相当する潜像であって、上記可視画像ピット潜像１６Ｂよりも幅の広いピット潜像１５Ａとなる。
【００５３】
その後の工程は、図４において説明した工程と同様である。
【００５４】
上記に示した図４〜図７は、版３が可視画像を視認可能とするために、開口部を有する場合について説明したが、次に、版３が可視画像を視認可能とするために反射面を有する場合について、可視画像形成の他の例を、図８〜図１０を用いて説明する。
【００５５】
また、第４の変形形態として、図８に示すように、版３における可視画像Ｐに相当する部分３Ｔと可視画像Ｐに相当する部分以外の部分３Ｕとの可視光線の反射態様（特に夫々の反射率）を異ならせるようにそれぞれ反射面α、反射面βとしてもよい。
【００５６】
そうすることにより、露光量が異なって形成された可視画像ピット潜像１６Ａとピット潜像１５Ｂとが形成されることになるので、上記に示したものと同様に可視画像が視認可能となる。
【００５７】
ここで、可視画像ピット潜像１６Ａを形成する際の露光量を、ピット潜像１５Ｂを形成する際の露光量よりも多い場合について図示したが、逆にピット潜像１５Ａを形成する際の露光量を、可視画像ピット潜像１６Ｂを形成する際の露光量よりも多くしてもよい。
【００５８】
その後の工程は、図４において説明した工程と同様である。
【００５９】
また、第５の変形形態として、図９に示すように、版３における可視画像Ｐに相当する部分を反射面３Ｒとし、版３における可視画像Ｐに相当する部分以外の部分を反射防止面３Ｓとしてもよい。
【００６０】
具体的に説明すると、フォトレジスト層５に対してカッティング用光ビームＢが照射されることで当該フォトレジスト層５が露光され、これにより原盤ＳＢ上に光ディスクＤＫにおけるピット１５に相当するピット潜像１５Ｂが形成される。
【００６１】
そして、図９に示すように版３においては、可視画像Ｐに相当する部分が反射面とされているため、フォトレジスト層５を露光しつつ当該フォトレジスト層５及び透明基板６を透過したカッティング用光ビームＢは、反射面で反射され、透明基板６及びフォトレジスト層５を透過することになる。これにより、光ディスクＤＫ上において可視画像Ｐに相当するフォトレジスト層５の領域内にカッティング用光ビームＢにより形成される潜像は、上記ピット潜像１５Ｂに対して多重露光されることとなり、光ディスクＤＫにおける可視画像ピット１６に相当する潜像であって、上記ピット潜像１５Ｂよりも幅の広い可視画像ピット潜像１６Ａとなる。
【００６２】
その後の工程は、図４において説明した工程と同様である。
【００６３】
また、第６の変形形態として、図１０に示すように、版３における可視画像Ｐに相当する部分を反射防止面３Ｓとし、可視画像Ｐに相当する部分以外の部分を反射面３Ｒとしてもよい。
【００６４】
具体的に説明すると、フォトレジスト層５に対してカッティング用光ビームＢが照射されることで当該フォトレジスト層５が露光され、これにより原盤ＳＢ上に光ディスクＤＫにおける可視画像ピット１６に相当する可視画像ピット潜像１６Ｂが形成される。
【００６５】
そして、図１０に示すように版３においては、可視画像Ｐに相当する部分以外の部分が反射面３Ｒとされているため、フォトレジスト層５を露光しつつ当該フォトレジスト層５及び透明基板６を透過したカッティング用光ビームＢは、反射面で反射され、透明基板６及びフォトレジスト層５を透過することになる。
【００６６】
これにより、光ディスクＤＫ上において可視画像Ｐに相当する部分以外の部分に相当するフォトレジスト層５の領域内にカッティング用光ビームＢにより形成される潜像は、上記可視画像ピット潜像１６Ｂに対して多重露光されることとなり、光ディスクＤＫにおけるピット１５に相当する潜像であって、上記可視画像ピット潜像１６Ｂよりも幅の広いピット潜像１５Ａとなる。
【００６７】
その後の工程は、図４において説明した工程と同様である。
【００６８】
更に、上述してきた実施形態においては、再生専用の光ディスクＤＫの製造方法に対して本願を適用した場合について説明したが、これ以外に、記録用の光ディスクの製造方法に対して本願を適用することも可能である。
【００６９】
この場合、記録用の光ディスクにおいては上記ピット１５が予め形成されていることはないが、これに代えて情報が記録される情報トラックとなる例えばグルーブトラックが予め形成されることになる。そこで、このグルーブトラックの幅を、上記した可視画像Ｐに相当する部分では他の部分より広くする、又は上記した可視画像Ｐに相当する部分以外の部分では可視画像Ｐに相当する部分より広くするように形成することで、記録用の光ディスクにおいても上記可視画像Ｐと同様の可視画像を形成することができる。光ディスクの製造に用いられる版としては、可視画像となる部分に開口部又は反射膜を形成しておけばよいのである。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】実施形態に係る光ディスク製造方法を用いて製造された光ディスクの一部を示す平面図である。
【図２】実施形態に係る光ディスク製造方法を用いて製造された光ディスクの一部の拡大平面図である。
【図３】実施形態に係る光ディスク製造方法の全体構成を示す概念図である。
【図４】実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の一例を示す図である。
【図５】実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。
【図６】実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。
【図７】実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。
【図８】実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。
【図９】実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。
【図１０】実施形態に係る光ディスク製造方法における可視画像形成の他の例を示す図である。
【符号の説明】
【００７１】
２    カッティング部
３    版
３Ｐ    開口部
３Ｔ    反射面α
３Ｕ    反射面β
３Ｒ    反射面
３Ｓ    反射防止面
５    フォトレジスト層
６    透明基板
１０    載置台
１１    反射膜
１５Ａ    ピット潜像（多重露光部分）
１６Ａ    可視画像ピット潜像（多重露光部分）
１５Ｂ    ピット潜像
１６Ｂ    可視画像ピット潜像
１５    ピット
１６    可視画像ピット
１７    境界ピット
２０    レプリカ装置
Ｂ    カッティング用光ビーム
ＤＫ    光ディスク
Ｐ    可視画像
Ｒ    データ領域
Ｔ    情報トラック
ＳＴ    スタンパ
ＰＳＴ    スタンパ可視画像
ＳＢ    原盤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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