(57)【要約】【課題】  予めスポット関数や閾値テーブルを作成することなく、網点の形状と、画像の濃淡に応じた網点の大きさとを定める閾値を求める。【解決手段】  分割手段１５が、複数の画素の格子状配列からなる２次元空間を所定のスクリーン線数およびスクリーン角度に従ってハーフトーンセルに分割する。距離算出手段１６が、網点の形状を表すベクトルデータを取得し、このベクトルデータで表される形状の網点をハーフトーンセルの各々に配置し、ハーフトーンセルの各々について、当該ハーフトーンセルに含まれる画素の各々と網点との距離を求める。発生力算出手段１７が、網点を構成する画素の各々について画素のオフ状態からオン状態への移行のしやすさを表す発生力を、距離算出手段１６によって求められた距離が小さいほど大きくなるように定める。閾値算出手段１８が、発生力を所定の階調数に応じて量子化することによって画素の各々の閾値を求める。【選択図】        図１
2005252838.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素の格子状配列からなる２次元空間を所定のスクリーン線数およびスクリーン角度に従ってハーフトーンセルに分割する分割手段と、
網点の形状を表すベクトルデータを取得し、該ベクトルデータで表される形状の網点を前記ハーフトーンセルの各々に配置し、前記ハーフトーンセルの各々について、当該ハーフトーンセルに含まれる画素の各々と網点との距離を求める距離算出手段と、
網点を構成する画素の各々について画素のオフ状態からオン状態への移行のしやすさを表す発生力を求める手段であって、前記距離算出手段によって求められた距離が小さいほど発生力が大きくなるように定める発生力算出手段と、
前記発生力算出手段で求められた発生力を所定の階調数に応じて量子化することによって前記画素の各々の閾値を求める閾値算出手段と
を有する画像処理装置。
【請求項２】
前記閾値算出手段で求められた閾値の主走査方向および副走査方向における周期性を検出する検出手段と、
前記検出手段によって閾値の周期性が検出された場合に、１周期分の閾値の配列からなる閾値マトリクスを生成する閾値マトリクス生成手段と
を有する請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記ハーフトーンセルの各々に複数種類の網点を含み、
前記発生力算出手段は、網点の種類ごとに発生力の重み付けを異ならせる
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
中間調画像を表す多値画像データを取得し、該中間調画像の階調値と前記閾値算出手段で求めた閾値とを画素毎に比較し、該階調値と該閾値との大小関係に応じて画素のオン状態／オフ状態を定めた２値画像データを生成する２値画像データ生成手段を有することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項５】
コンピュータ装置を、
網点の形状を表すベクトルデータを取得し、該ベクトルデータで表される形状の網点を複数の画素の格子状配列からなる２次元空間に所定のスクリーン線数およびスクリーン角度に従って配置し、該２次元空間を各々が１つの網点を含むハーフトーンセルに分割する分割手段と、
前記ハーフトーンセルの各々について、当該ハーフトーンセルに含まれる画素の各々と網点との距離を求める距離算出手段と、
網点を構成する画素の各々について画素のオフ状態からオン状態への移行のしやすさを表す発生力を求める手段であって、前記距離算出手段によって求められた距離が小さいほど発生力が大きくなるように定める発生力算出手段と、
前記発生力算出手段で求められた発生力を所定の階調数に応じて量子化することによって前記画素の各々の閾値を求める閾値算出手段
として機能させるためのプログラム。
【請求項６】
網点の形状を表すベクトルデータを取得し、該ベクトルデータで表される形状の網点を複数の画素の格子状配列からなる２次元空間に所定のスクリーン線数およびスクリーン角度に従って配置し、該２次元空間を各々が１つの網点を含むハーフトーンセルに分割する第１のステップと、
前記ハーフトーンセルの各々について、当該ハーフトーンセルに含まれる画素の各々と網点との距離を求める第２のステップと、
網点を構成する画素の各々について画素のオフ状態からオン状態への移行のしやすさを表す発生力を求めるステップであって、前記第２のステップで求められた距離が小さいほど発生力が大きくなるように定める第３のステップと、
前記第３のステップで求められた発生力を所定の階調数に応じて量子化することによって前記画素の各々の閾値を求めるステップと
を有する画像処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中間調画像を２値画像に変換する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
中間調画像を任意のスクリーン角度の網点構造を有する２値画像に変換するための技術が種々提案されている。例えば、特許文献１に記載の技術では、傾きのない直交座標系で閾値マトリクスを生成し、座標変換によって任意のスクリーン角度に対応した閾値を求め、任意のスクリーン角度を有する網点スクリーンを生成する。また、特許文献２に記載の技術では、複数のハーフトーンセルからなる領域の閾値マトリクスを一括して生成することにより任意のスクリーン角度を有する網点スクリーンを生成する。これらの先行技術は、ともに、任意のスクリーン角度を有する網点スクリーンの生成を可能にすることを目的とした技術であり、これによって、画像のモアレの低減を図られる。
【特許文献１】特開昭６０−１１８８４０号公報
【特許文献２】特開平３−１８７６７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、上記の先行技術において各画素の閾値を求める際には、網点の形状および画像の濃淡に応じた網点の大きさを定めたスポット関数あるいは閾値テーブルを予め作成しておくことが必要となる。そのため、網点の形状、画像の濃淡に応じた網点の大きさを定める際の自由度が低く、画像の表現方法に対する多様な要望に応え切れないという問題があった。
本発明は、上述した背景の下になされたものであり、予めスポット関数や閾値テーブルを作成することなく、網点の形状と、画像の濃淡に応じた網点の大きさとを定める閾値を求めることのできる技術の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上述の課題を解決するために、本発明は、複数の画素の格子状配列からなる２次元空間を所定のスクリーン線数およびスクリーン角度に従ってハーフトーンセルに分割する分割手段と、網点の形状を表すベクトルデータを取得し、該ベクトルデータで表される形状の網点を前記ハーフトーンセルの各々に配置し、前記ハーフトーンセルの各々について、当該ハーフトーンセルに含まれる画素の各々と網点との距離を求める距離算出手段と、網点を構成する画素の各々について画素のオフ状態からオン状態への移行のしやすさを表す発生力を求める手段であって、前記距離算出手段によって求められた距離が小さいほど発生力が大きくなるように定める発生力算出手段と、前記発生力算出手段で求められた発生力を所定の階調数に応じて量子化することによって前記画素の各々の閾値を求める閾値算出手段とを有する画像処理装置を提供する。
【０００５】
この構成によれば、分割手段が、複数の画素の格子状配列からなる２次元空間を所定のスクリーン線数およびスクリーン角度に従ってハーフトーンセルに分割する。距離算出手段が、網点の形状を表すベクトルデータを取得し、該ベクトルデータで表される形状の網点を前記ハーフトーンセルの各々に配置し、前記ハーフトーンセルの各々について、当該ハーフトーンセルに含まれる画素の各々と網点との距離を求める。発生力算出手段が、網点を構成する画素の各々について画素のオフ状態からオン状態への移行のしやすさを表す発生力を求める手段であって、前記距離算出手段によって求められた距離が小さいほど発生力が大きくなるように定める。閾値算出手段が、前記発生力算出手段で求められた発生力を所定の階調数に応じて量子化することによって前記画素の各々の閾値を求める。
【０００６】
また、本発明は、コンピュータ装置を、網点の形状を表すベクトルデータを取得し、該ベクトルデータで表される形状の網点を複数の画素の格子状配列からなる２次元空間に所定のスクリーン線数およびスクリーン角度に従って配置し、該２次元空間を各々が１つの網点を含むハーフトーンセルに分割する分割手段と、前記ハーフトーンセルの各々について、当該ハーフトーンセルに含まれる画素の各々と網点との距離を求める距離算出手段と、網点を構成する画素の各々について画素のオフ状態からオン状態への移行のしやすさを表す発生力を求める手段であって、前記距離算出手段によって求められた距離が小さいほど発生力が大きくなるように定める発生力算出手段と、前記発生力算出手段で求められた発生力を所定の階調数に応じて量子化することによって前記画素の各々の閾値を求める閾値算出手段として機能させるためのプログラムを提供する。
【０００７】
また、本発明は、網点の形状を表すベクトルデータを取得し、該ベクトルデータで表される形状の網点を複数の画素の格子状配列からなる２次元空間に所定のスクリーン線数およびスクリーン角度に従って配置し、該２次元空間を各々が１つの網点を含むハーフトーンセルに分割する第１のステップと、前記ハーフトーンセルの各々について、当該ハーフトーンセルに含まれる画素の各々と網点との距離を求める第２のステップと、網点を構成する画素の各々について画素のオフ状態からオン状態への移行のしやすさを表す発生力を求めるステップであって、前記第２のステップで求められた距離が小さいほど発生力が大きくなるように定める第３のステップと、前記第３のステップで求められた発生力を所定の階調数に応じて量子化することによって前記画素の各々の閾値を求めるステップとを有する画像処理方法を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、予めスポット関数や閾値テーブルを作成することなく、網点の形状と、画像の濃淡に応じた網点の大きさとを定める閾値を求めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。
＜構成＞
図１は、本実施形態にかかる画像処理装置１０の構成を示す図である。画像処理装置１０は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等からなる制御部１１を有し、ＣＰＵがＲＯＭに記憶されたプログラムをＲＡＭに展開して実行することによって画像処理装置１０各部の動作を制御する。ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）１２には、画像データや閾値データが記憶される。指示入力部１３は、操作者が画像処理装置１０を動作させるための指示を入力するためのユーザインターフェイス手段であり、キーボード、マウスなどからなる。
【００１０】
画像形成部１４は、プリンタの機能を有しており、例えば電子写真方式、インクジェット方式などにより印刷用紙等の表面に画像を形成する。なお、画像処理装置１０は、画像形成部１４を備えていない装置であってもよく、この場合、図示せぬ通信手段により外部の画像形成装置等に画像データを送信して画像形成を行わせるようにしてもよい。
以下で説明する各手段は、制御部１１の備えるＣＰＵがプログラムを実行することによって形成される仮想的モジュールであるが、これらの手段をハードウェアに実装することによって同様の処理を行わせるようにしてもよい。
【００１１】
分割手段１５は、複数の画素の格子状配列からなる２次元空間を所定のスクリーン線数およびスクリーン角度に従ってハーフトーンセルに分割する手段である。スクリーンの座標系は直行座標系でも斜交座標系でも良いが、ここでは理解を容易にするために直交座標系とする。図４は、画素の配列からなる２次元空間１００をハーフトーンセル１０１に分割した例を示す図である。ここで、２次元空間１００は、直交座標系（ｘｙ座標系）における整数座標値を有する格子点と、各々が４つの格子点を頂点とする正方形の画素からなる。ｘｙ座標系に対してある角度θをなすもうひとつの直交座標系（ｕｖ座標系）における２つの座標軸に平行な線分で囲まれた領域の各々がハーフトーンセル１０１である。ここで、ｘｙ座標系とｕｖ座標系とのなす角度θはスクリーン角度に相当する。また、ハーフトーンセル１０１の４辺を形成する線分の間隔は、スクリーン線数に応じた間隔である。スクリーン角度およびスクリーン線数は、操作者が所望のスクリーン角度およびスクリーン線数を指示入力部１３を用いて入力することによって決定される。
【００１２】
次に、距離算出手段１６は、網点の形状を表すベクトルデータを取得し、該ベクトルデータで表される形状の網点を前記ハーフトーンセルの各々に配置し、前記ハーフトーンセルの各々について、当該ハーフトーンセルに含まれる画素の各々と網点との距離を求める手段である。分割手段１５によって作成された各ハーフトーンセル１０１の内部における同一地点に網点が配置されることにより、隣接する網点間の距離は、ｕ軸方向、ｖ軸方向にそれぞれ一定となる。なお、ハーフトーンセル１０１内における網点の位置は、ハーフトーンセル１０１の中心でなくともよい。
距離算出手段１６は、図５に示すように、網点の形状を表す図形の図心と画素との距離を求める。本実施形態においては、任意の形状の網点を用いることができ、円形、多角形、線分などの図形はもちろんのこと、数字や文字等を含むあらゆる形状とすることが可能である。図２は、本実施形態で用いる網点の形状の例を示す図である。また、図３に示されるように、同一形状の網点または互いに異なる形状の網点を複数組み合わせて用いることも可能である。網点の形状は、例えばPost Scriptなどのページ記述言語で記述されたベクトルデータで表される。本実施形態においては、画像処理装置１０の操作者が図形描画プログラム等を用いて網点の形状を定め、その形状を表すベクトルデータをＨＤＤ１２に記憶させる。あるいは、予め作成された種々の網点形状を表すベクトルデータをＨＤＤ１２に記憶させておき、操作者が所望の形状を選択して用いるようにしてもよい。
【００１３】
次に、発生力算出手段１７は、網点を構成する画素の各々について画素のオフ状態からオン状態への移行のしやすさを表す発生力を求める手段であって、距離算出手段１６によって求められた距離が小さいほど発生力が大きくなるように定める手段である。発生力Ｐ（ｘ，ｙ）は次式で表され、これによって求められた発生力が大きいほど、画素がオン状態に移行しやすいことを表す。
【数１】
2005252838.tif 000003
ここで、Ｐ（ｘ，ｙ）：画素の左下の頂点が点（ｘ，ｙ）に位置する画素の発生力、Ｎ：１つのハーフトーンセル１０１内に含まれる網点図形の数、ｗｉ：ｉ番目の網点図形の重み、ｄ：画素と網点との距離、α：任意の正数、ｎ：任意の正数である。
【００１４】
重みｗｉが大きいほど、発生力Ｐ（ｘ，ｙ）が大きくなる。重みｗｉは、複数の網点図形を用いる場合には、網点の種類ごとに定めることができる。任意の正数αは、０による除算を防ぐために用いる。任意の正数ｎは、画素の成長の度合いを制御するための値である。すなわち、ｎが大きいほど、発生力Ｐ（ｘ，ｙ）が小さくなる。このようにして、画素の各々の発生力が求められる。
仮に、重みｗｉを負の値とした場合、これによって求められる発生力Ｐ（ｘ，ｙ）も負の値を持つことになる。本実施形態において、発生力が負の値であるときには、画素がオフ状態、すなわち白画素として成長する。
【００１５】
次に、閾値算出手段１８は、発生力算出手段１７で求められた発生力を所定の階調数に応じて量子化することによって画素の各々の閾値を求める手段である。例えば、画像処理装置１０によって２値画像に変換されるべき中間調画像の階調数が１０であるとする。上述の発生力算出手段１７によって求められる発生力は例えば、−２０．０から＋２０．０といった範囲で連続な値をとるから、これを階調数に応じて量子化する。本実施形態では、発生力が大きいほど閾値が小さくなるように定める。量子化の方法は線形でも非線形でもよいが、ここでは理解を容易にするために線形で量子化するものとする。例えば、発生力が−２０．０以上−１６．０未満の画素の閾値は１となり、発生力が０．０以上＋４．０未満の画素の閾値は６となる。
【００１６】
検出手段１９は、閾値算出手段１８で求められた閾値の主走査方向および副走査方向における周期性を検出する手段である。図６は、網点構造の周期性を示す図である。同図に示されるように、ｘ方向（主走査方向）に画素の閾値の分布を調べていくとあるところで同じ値の閾値が現れ、この点を開始点として同一の閾値分布が反復される。このことは、ｙ方向（副走査方向）についても同様である。
【００１７】
そして、閾値マトリクス生成手段２０は、検出手段１９によって閾値の周期性が検出された場合に、１周期分の閾値の配列からなる閾値マトリクスを生成する手段である。閾値マトリクス生成手段２０は、検出手段１９で検出された閾値分布の反復パターンを利用して、主走査方向および副走査方向に１周期分の閾値の配列からなる閾値マトリクスを生成する。この閾値マトリクスをＨＤＤ１２に記憶させておき、主走査方向および副走査方向に反復して用いることができる。これによって、閾値の記憶容量が少なくて済むという利点がある。なお、閾値の周期性は、１画像の領域中に必ず現れるわけではなく、スクリーン角度とスクリーン線数によっては、１周期の波長が１画像の領域を越える場合もあり得る。この場合には、閾値マトリクスは生成できないから、１画像の全体にわたって各画素の閾値を求め、求められた閾値をＨＤＤ１２に記憶させておく。
【００１８】
２値画像データ生成手段２１は、中間調画像を表す多値画像データを取得し、中間調画像の階調値と閾値算出手段１８で求めた閾値とを画素毎に比較し、階調値と閾値との大小関係に応じて画素のオン状態／オフ状態を定めた２値画像データを生成する手段である。具体的には、２値画像データ生成手段２１は、画素の各々について、中間調画像の濃度と閾値とを比較し、濃度が閾値を超えている画素をオン状態とした２値画像データを生成し、この２値画像データを画像形成部１４へ供給する。このようにして、中間調画像を網点構造を有する２値画像に変換して形成することができる。
【００１９】
＜動作＞
次に、上述の構成からなる画像処理装置１０の動作について説明する。図７は、画像処理装置１０が行う処理のフローを示す図である。まず、ステップＡ０１では、分割手段１５が、複数の画素の格子状配列からなる２次元空間１００を所定のスクリーン線数およびスクリーン角度に従って分割する。すると、図４に示すように、複数のハーフトーンセル１０１が生成される。
【００２０】
次に、ステップＡ０２では、距離算出手段１６が、網点の形状を表すベクトルデータを取得し、ベクトルデータで表される形状の網点をハーフトーンセル１０１の各々に配置し、ハーフトーンセル１０１の各々について、当該ハーフトーンセルに含まれる画素の各々と網点との距離を求める。
次に、ステップＡ０３では、発生力算出手段１７が、網点を構成する画素の各々について、式（１）を用いて発生力を求める。
【００２１】
次に、ステップＡ０４では、閾値算出手段１８が、発生力算出手段１７で求められた発生力を所定の階調数に応じて量子化することによって画素の各々の閾値を求める。図８は、このようにして求められた閾値の例を示す図である。図８（ａ）は、ハーフトーンセル１０１の左下に網点が１つ配置されている場合である。この場合、閾値は、この網点の中心において最も小さな値となり、網点の中心から離れるに従って大きな値となる。
【００２２】
次に、ステップＡ０５では、検出手段１９が、閾値算出手段１８で求められた閾値の主走査方向および副走査方向における周期性を検出する。
そして、ステップＡ０６では、閾値マトリクス生成手段２０が、検出手段１９によって閾値の周期性が検出された場合に、１周期分の閾値の配列からなる閾値マトリクスを生成する。
最後に、ステップＡ０７では、２値画像データ生成手段２１が、中間調画像を表す多値画像データを取得し、中間調画像の階調値と閾値算出手段１８で求めた閾値とを画素毎に比較し、階調値と閾値との大小関係に応じて画素のオン状態／オフ状態を定めた２値画像データを生成する。そして、この２値画像データを画像形成部１４へ供給する。このようにして、中間調画像を網点構造を有する２値画像に変換して形成することができる。
【００２３】
図９は、上述の処理によって生成された画像の例を示す図である。図９（ａ）は、２値画像の元となる中間調画像である。図９（ｂ）および（ｃ）は、各ハーフトーンセル１０１内に２種類の網点を斜めに隣り合わせて配置した画像の例を示す図である。ここでは、中間調画像の濃度に対する網点の成長の度合いを「成長の速さ」と呼ぶ。例えば、ある２つのハーフトーンセル１０１に対応する領域の濃度がそれぞれ濃度１、濃度２である場合（ただし、濃度１＜濃度２）、この濃度変化を網点画像で表すためには、当該ハーフトーンセル内の網点の大きさを変化させることが必要となる。本実施形態では、濃度１から濃度２への変化に対応した網点の成長の度合い、すなわち成長の速さを調整することによって、後述するように画像の多様な表現が可能となる。成長の速さの調整は、式（１）における重みｗｉを変化させることによって行う。
図９（ａ）は、隣り合う網点が同じ速さで成長する場合の画像を示す図である。図９（ｂ）は、斜め上の網点が斜め下の網点よりも成長が遅い場合の画像を示す図である。図９（ｂ）の例では、斜め上の網点の発生力の重みが斜め下の網点の重みよりも小さくされている。これによって、図示されているように網点の成長の速さを異ならせることができる。このように、本実施形態によれば、網点の発生力の重み付けを網点の種類によって変えることにより、多様な表現の２値画像を得ることができるようになる。
【００２４】
次に、負の発生力を持つ網点を用いた例を示す。図８（ｂ）は、通常の正の発生力を持つ網点をハーフトーンセル１０１の左下と右下に配置した例である。これに対して、図８（ｃ）は、図８（ｂ）の２つの網点に加えて、ハーフトーンセル１０１上部に負の発生力を持つ網点を配置した例である。両者を比較すると、負の発生力を持つ網点を配置した場合に黒の領域と白の領域が比較的鮮明に区別することができるようになる。
【００２５】
続いて、図１０は、正の発生力を持つ網点と負の発生力を持つ網点を組み合わせて用いた場合に、これら２種類の網点の発生力の重み付けを異ならせることによって得られる効果を示す図である。Ｂ／Ｗは、正の発生力を持つ黒い網点と負の発生力を持つ白い網点との重み付けの比である。同図に示されるように、網点の発生力の重みを異ならせることによって、隣接する網点が接続することによって生じるトーンジャンプの出現の仕方を調整することができる。
【００２６】
図１１は、閾値の周期性の利用の有無による比較を示す図である。図１１（ａ）は、閾値の周期性を利用していない例である。同図によれば、ハーフトーンセル１０１の境界において、網点図形の連続性が途切れていることがわかる。これに対して図１１（ｂ）は、上述した閾値マトリクス生成手段２０により、閾値の周期性を利用して、閾値マトリクスを反復して用いている。同図によれば、ハーフトーンセル１０１の境界において、網点図形の連続性が保たれていることがわかる。図１１（ｃ）は、図９（ａ）に示される中間調画像を閾値マトリクスの反復により再現した画像である。このように、本実施形態によれば、閾値の周期性を利用することにより、隣接する網点同士のつなぎ目を目立たなくすることができる。また、異なる閾値マトリクスを接続することによって、図３に示したように複数の網点を組み合わせて用いることもできる。
【００２７】
以上説明したように、本実施形態によれば、画素のオフ状態からオン状態への移行のしやすさを表す発生力を画素と網点の距離を用いて求め、この発生力を閾値に変換するから、スポット関数や閾値テーブルを予め作成することなく、網点の形状と、画像の濃淡に応じた網点の大きさとを定める閾値を求めることができる。
また、網点の発生力の重み付けを網点の種類によって変えることにより、多様な表現の２値画像を得ることができるようになる。また、網点の発生力の重みを異ならせることによって、隣接する網点が接続することによって生じるトーンジャンプの出現の仕方を調整することができる。また、閾値の周期性を利用することにより、隣接する網点同士のつなぎ目を目立たなくすることができる。また、閾値の周期性を利用して閾値マトリクスを生成し、これを反復して用いるから、閾値の記憶領域が少なくて済み、効率よく網点を生成することができる。
【００２８】
＜変形例＞
以上説明した形態に限らず、本発明は種々の形態で実施可能である。例えば、上述の実施形態を以下のように変形した形態でも実施可能である。
上述の実施形態においては、画像処理装置１０は、検出手段１９によって閾値の周期性が検出された場合に、１周期分の閾値の配列からなる閾値マトリクスを生成することとしているが、閾値マトリクスを生成しない画像処理装置としてもよい。
上述の実施形態においては、画素の発生力が大きいほど閾値が小さくなるように閾値を定める令を示しているが、画素の発生力が大きいほど閾値が大きくなるように閾値を定めることとしてもよい。この場合、中間調画像の階調値が当該画素の閾値以下である場合に画素をオン状態とすればよい。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】画像処理装置１０の構成を示す図である。
【図２】網点の形状の例を示す図である。
【図３】網点を複数組み合わせて用いた例を示す図である。
【図４】２次元空間１００をハーフトーンセル１０１に分割した例を示す図である。
【図５】網点の形状を表す図形の図心と画素との距離を示す図である。
【図６】網点構造の周期性を示す図である。
【図７】画像処理装置１０が行う処理のフローを示す図である。
【図８】求められた閾値の例を示す図である。
【図９】生成された画像の例を示す図である。
【図１０】２種類の網点の発生力の重み付けを異ならせることによる効果を示す図である。
【図１１】閾値の周期性の利用の有無による画像の比較を示す図である。
【符号の説明】
【００３０】
１０…画像処理装置、１１…制御部、１２…ＨＤＤ、１３…指示入力部、１４…画像形成部、１５…分割手段、１６…距離算出手段、１７…発生力算出手段、１８…閾値算出手段、１９…検出手段、２０…閾値マトリクス生成手段、２１…２値画像データ生成手段、１００…２次元空間、１０１…ハーフトーンセル。
【図１】
2005252838.tif 000004
【図２】
2005252838.tif 000005
【図３】
2005252838.tif 000006
【図４】
2005252838.tif 000007
【図５】
2005252838.tif 000008
【図６】
2005252838.tif 000009
【図７】
2005252838.tif 000010
【図８】
2005252838.tif 000011
【図９】
2005252838.tif 000012
【図１０】
2005252838.tif 000013
【図１１】
2005252838.tif 000014