(57)【要約】【課題】  防汚効果に優れた含フッ素シラン化合物で防汚層を形成し、外観性能を向上させることができる光学物品の製造方法を提供する。【解決手段】  光学物品表面に含フッ素シラン化合物の撥水処理液を塗布後、溶媒を強制的に除去する工程を設け、その後、アニール工程によって、防汚層を光学物品表面に固定する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
撥水性の含フッ素シラン化合物を光学物品表面に塗布して防汚層を形成する防汚層形成方法において、前記含フッ素シラン化合物を有機溶剤の溶媒に希釈した処理液を、光学物品表面に塗布する処理液塗布工程と、前記塗布工程の後に前記光学物品の表面に塗布された前記処理液の前記溶媒を強制的に除去する溶媒除去工程と、前記溶媒除去工程の後に前記含フッ素シラン化合物を前記光学物品表面に固定するアニール工程とを有することを特徴とする防汚性光学物品の製造方法。
【請求項２】
前記溶媒除去工程が、前記溶媒が塗布された光学物品を温度が５０℃〜７０℃で、湿度が２０％以下の加熱炉中に、５〜１５分間保持することによって溶媒を除去することを特徴とする請求項１記載の防汚性光学物品の製造方法。
【請求項３】
前記溶媒除去工程が、前記溶媒が塗布された光学物品を、圧力が１×１０-2〜４×１０4Ｐa、温度が室温〜７０℃の真空乾燥機中に、０．５〜１５分間保持することによって溶媒を除去することを特徴とする請求項１記載の防汚性光学物品の製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至３いずれかに記載の防汚性光学物品の製造方法において、
前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式（１）で表されることを特徴とする防汚性光学物品の製造方法。
【化１】
2005148219.tif 000007
（但し、式中、Ｒfは炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素または水素、Ｙは水素または低級アルキル基、Ｚはフッ素またはトリフルオロメチル基、Ｒ1は加水分解可能な基、Ｒ2は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよびｎは０〜２の整数、ｐは１〜１０の整数を表す。）
【請求項５】
請求項１乃至４いずれかに記載の防汚性光学物品の製造方法において、前記防汚層の下層にハードコート層が形成されていることを特徴とする防汚性光学物品の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至４いずれかに記載の防汚性光学物品の製造方法において、前記防汚層の下層に反射防止膜が形成されていることを特徴とする防汚性光学物品の製造方法。
【請求項７】
請求項５に記載の防汚性光学物品の製造方法において、基材の表面にハードコート層を形成し、前記ハードコート層表面に前記反射防止膜を形成することを特徴とする防汚性光学物品の製造方法。
【請求項８】
請求項５乃至７に記載の防汚性光学物品の製造方法において、基材がプラスチックであることを特徴とする防汚性光学物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防汚性光学物品の製造方法に関し、特に、防汚層形成後の外観を向上させた防汚性光学物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レンズなどの光学物品には、光の反射を抑制し、光の透過性を高めるために、通常、その表面に反射防止膜が形成されているが、使用に際し、手垢、指紋、汗、化粧料等の付着による汚れが目立ちやすく、またその汚れが取れ難いという問題がある。そのため、汚れ難く、あるいは汚れを拭き取りやすくするために、反射防止膜の表面に更に防汚層を設けることが行われている。
【０００３】
光学物品に防汚層を設ける表面処理剤に関しては、特許文献１に記載されている。
【０００４】
特許文献１に記載されている含フッ素シラン化合物で表面処理して防汚層を形成した光学物品は、汚染防止性が良好であり、その効果が持続し、汚れの除去も容易である。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−２５８００３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載された含フッ素シラン化合物は、光学物品表面との反応性に劣るため、撥水処理液を基板表面に塗布後、アニールを行い反応を促進させる必要があった。ここで、前記アニールは、高温高湿度に設定した槽内への投入、もしくは、室内に放置することで行われる。
【０００７】
特許文献１に記載された含フッ素シラン化合物を用いて、基板表面に防汚層を形成する工程を湿式で行う場合、一般に含フッ素シラン化合物が所定の濃度となるように有機溶剤を溶媒として用いて調整した撥水処理液を、ディッピング法，スピンコート法，刷毛塗りなどで基板表面に塗布する。塗布後、有機溶剤は徐々に蒸発し、基板上には撥水成分である含フッ素シラン化合物が残留する。
【０００８】
上記の過程で、撥水処理液塗布直後の基板表面には撥水剤と溶媒が混在した状態で存在する。この状態で、アニールのために基板を高温高湿中に投入すると、レンズ表面に水滴が付着する。これは、基板が室温から高温高湿環境へ移動したことによって基板表面が露点以下となり、水分が凝縮するためである。さらに、溶媒が蒸発することで気化熱による基板の冷却が起こり、水分の凝縮が促進される。この際、基板表面上では含フッ素シラン化合物と溶媒が混在しているため、含フッ素シラン化合物分子は比較的流動しやすい状態にある。そのため、基板表面上に水分が凝縮することによって生成した水滴によって局部的に含フッ素シラン化合物分子の分布に偏りが生じる。この状態で、アニールを継続すると、含フッ素シラン化合物分子の偏りが化学結合によって固定化され、基板に外観上の欠陥となって残る。すなわち、含フッ素シラン化合物分子の分布の偏りによって、基板表面に細かな凹凸及び濃度の濃淡が生じ、これが目視で欠陥と認識される。この欠陥の多くは、細かいまだら状もしくは斑点状の模様を呈し、有機溶剤による洗浄によっても除去が困難である。
【０００９】
これの改善の方策としては、撥水処理液を基板に塗布後、一定時間放置して溶媒を完全に蒸発させてからアニールを行うことが考えられるが、沸点の高い溶媒の場合、完全に蒸発するまでの時間が長くかかり、サイクルタイムの低下を招くこと、さらに後述のように、放置する雰囲気が高温高湿であると、同様な外観上の欠陥を発生させる場合があるため、不適切である。
【００１０】
アニールを室内に放置することで行った場合は、放置する環境が例えば夏期の高温高湿下であると、溶媒が蒸発することで気化熱による基板の冷却が起こり、これによって基板温度が露点以下となった場合、雰囲気中の水分が凝縮する。この場合は、基板上に凝縮して発生した水滴のサイズが微小であるため、外観上の欠陥は白濁状の曇りになる場合が多い。すなわち、前記の基板表面の含フッ素シラン化合物分子の分布の偏りによる凹凸及び濃度の濃淡が非常に細かいため、光の乱反射によって白濁となって認識される。この欠陥も前記と同様にアニールで固定化されているため、有機溶剤による洗浄によっても除去が困難である。
【００１１】
このように、含フッ素シラン化合物を含む撥水処理液を用いて湿式にて基板を処理する際には、撥水処理液塗布後のアニールによって、レンズ表面に外観上の欠陥が発生する場合がある。これらの欠陥は、光学物品特にレンズなどにおいては、その機能を発現する上で、時として致命的なものとなり得るものである。  
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、防汚効果に優れた含フッ素シラン化合物で防汚層を形成する際、外観上の欠陥を防止し、優れた光学的性能を有する光学物品を生産可能とする手法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記目的を達成するため、鋭意検討した結果、含フッ素シラン化合物を主成分とする防汚層を成膜する際、撥水処理液を塗布後、基板表面の溶媒を強制的に除去する工程を設けることによって、外観上の欠陥発生を防止できることを見出した。
【００１３】
すなわち、溶媒を除去することによって、撥水剤分子の運動が制限されるようになるため、次工程にて水分が凝縮しても、外観上の欠陥となるような撥水剤分子の分布の偏りは防止できる。
【００１４】
従って、第１の発明は、撥水性の含フッ素シラン化合物を光学物品表面に塗布して防汚層を形成する防汚層形成方法において、前記含フッ素シラン化合物を有機溶剤の溶媒に希釈した処理液を、光学物品表面に塗布する処理液塗布工程と、前記塗布工程の後に前記光学物品の表面に塗布された前記処理液の前記溶媒を強制的に除去する溶媒除去工程と、前記溶媒除去工程の後に前記含フッ素シラン化合物を前記光学物品表面に固定するアニール工程とを有することを特徴とする防汚性光学物品の製造方法を提供する。
【００１５】
第１の発明によれば、処理液塗布工程の後で溶媒を強制的に除去しているため、続くアニール工程で光学物品表面に水滴が付着しても、含フッ素シラン化合物の運動が制限されているため、含フッ素シラン化合物の分布に偏りが発生せず、これによって、外観上の欠陥のない防汚層が形成でき、優れた光学的性能を有する光学物品を生産することが可能となる。
【００１６】
第２の発明は、第１の発明の溶媒除去工程にて、光学物品を温度が５０℃〜７０℃で、湿度が２０％以下の加熱炉中に、５〜１５分間保持することによって溶媒を除去することを特徴とする請求項１記載の防汚性光学物品の製造方法を提供する。
【００１７】
第２の発明によれば、処理液塗布工程の後の溶媒除去工程にて、短時間で効果的に溶媒を蒸発除去することができ、続くアニール工程で光学物品表面に水滴が付着しても、含フッ素シラン化合物の運動が制限されているため、含フッ素シラン化合物の分布に偏りが発生せず、これによって、外観上の欠陥のない防汚層が形成でき、優れた光学的性能を有する光学物品を生産することが可能となる。
【００１８】
第３の発明は、第１の発明の溶媒除去工程にて、光学物品を、圧力が１×１０-2〜４×１０4Ｐa、温度が室温〜７０℃の真空乾燥機中に、０．５〜１５分間保持することによって溶媒を除去することを特徴とする請求項１記載の防汚性光学物品の製造方法を提供する。
【００１９】
第３の発明によれば、処理液塗布工程の後の溶媒除去工程にて、短時間で効果的に溶媒を蒸発除去することができ、続くアニール工程で光学物品表面に水滴が付着しても、含フッ素シラン化合物の運動が制限されているため、含フッ素シラン化合物の分布に偏りが発生せず、これによって、外観上の欠陥のない防汚層が形成でき、優れた光学的性能を有する光学物品を生産することが可能となる。
【００２０】
第４の発明は、第１乃至第３の発明の防汚性光学物品の製造方法において、前記含フッ素シラン化合物が、下記一般式（１）で表されることを特徴とする防汚性光学物品の製造方法を提供する。
【００２１】
【化２】
2005148219.tif 000002
【００２２】
（但し、式中、Ｒfは炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、Ｘはヨウ素または水素、Ｙは水素または低級アルキル基、Ｚはフッ素またはトリフルオロメチル基、Ｒ1は加水分解可能な基、Ｒ2は水素または不活性な一価の有機基、ａ、ｂ、ｃ、ｄは０〜２００の整数、ｅは０または１、ｍおよびｎは０〜２の整数、ｐは１〜１０の整数を表す。）
【００２３】
第４の発明によれば、従来より防汚性を著しく向上させた防汚性光学物品の製造が可能となる。
【００２４】
第５の発明は、第１乃至第４の発明のいずれかに記載の防汚性光学物品の製造方法において、前記防汚層の下層にハードコート層が形成されていることを特徴とする防汚性光学物品の製造方法を提供する。
【００２５】
第５の発明によれば、主に基材がプラスチックである場合、耐擦傷性を付与するために、基材表面にハードコート層を形成した防汚性光学物品において、外観上の欠陥のない防汚層が形成でき、優れた光学的性能を有する光学物品を生産することが可能となる。
【００２６】
第６の発明は、第１乃至第４の発明のいずれかに記載の防汚性光学物品の製造方法において、前記防汚層の下層に反射防止膜が形成されていることを特徴とする防汚性光学物品の製造方法を提供する。
【００２７】
第６の発明によれば、主に基材がガラスである場合、基材表面に直接反射防止膜を形成した防汚性光学物品において、外観上の欠陥のない防汚層が形成でき、優れた光学的性能を有する光学物品を生産することが可能となる。
【００２８】
第７の発明は、第６の発明に記載の防汚性光学物品の製造方法において、基材の表面にハードコート層を形成し、前記ハードコート層表面に反射防止膜を形成することを特徴とする防汚性光学物品の製造方法を提供する。
【００２９】
第７の発明によれば、主に基材がプラスチックである場合、耐擦傷性を付与すると共に、反射防止膜の密着性を向上させるために基材表面にハードコート層を形成し、前記ハードコート層表面に反射防止膜を形成した防汚性光学物品において、外観上の欠陥のない防汚層が形成でき、優れた光学的性能を有する光学物品を生産することが可能となる。
【００３０】
第８の発明は、第５乃至第７に記載の防汚性光学物品の製造方法において、基材がプラスチックであることを特徴とする防汚性光学物品の製造方法を提供する。
【００３１】
第８の発明によれば、基材がプラスチックである防汚性光学物品において、外観上の欠陥のない防汚層が形成でき、優れた光学的性能を有する光学物品を生産することが可能となる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の防汚性光学物品の製造方法によれば、防汚効果に優れた含フッ素シラン化合物で防汚層を形成し、外観上の欠陥のない、優れた光学的性能を有する光学物品を生産することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明による防汚性光学物品の製造方法の実施形態について説明するが、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
【００３４】
本発明の工程の例を図１に示した。
【００３５】
本発明の防汚性光学物品の製造方法は、上述したように、含フッ素シラン化合物を有機溶剤を溶媒として用いて所定の濃度に希釈したものを処理液として使用して光学物品表面に塗布して防汚層を形成する防汚処理工程を有する。
【００３６】
基材としては、無機ガラス、プラスチックのいずれでも差し支えない。プラスチックとしては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）樹脂、ポリウレタン樹脂、チオウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等を挙げることができる。
【００３７】
防汚層はガラス基板の場合はガラス基板に直接設けることも可能であるが、通常は、ガラス基板の場合は反射防止膜が設けられた後、プラスチックの場合は、ハードコート層が設けられた後、もしくは、ハードコート層と反射防止膜が設けられた後、防汚層を設けることが好ましい。
【００３８】
ハードコート層は、プラスチック基板に耐擦傷性を付与すると共に、一般的にプラスチック基板に対する反射防止膜の密着性が良くないため、プラスチック基板と反射防止膜の間に介在させて反射防止膜の密着性を良好にして剥離を防止する働きを有する。
【００３９】
ハードコート層の形成方法としては、ハードコート層を形成できる硬化性組成物をプラスチック基板の表面に塗布し、塗膜を硬化させる方法が一般的である。プラスチック基板が熱可塑性樹脂である場合、熱硬化型よりも紫外線等の電磁波や電子ビーム等の電離放射線で硬化するものが好ましく用いられる。例えば、紫外線の照射によりシラノール基を生成するシリコーン化合物とシラノール基と縮合反応するハロゲン原子やアミノ基等の反応基を有するオルガノポリシロキサンとを主成分とする光硬化性シリコーン組成物、アクリル系紫外線硬化型モノマー組成物（例えば、三菱レイヨン（株）製のＵＫ−６０７４）、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2などの粒径１〜１００ｎｍの無機微粒子を、ビニル基、アリル基、アクリル基又はメタクリル基等の重合性基とメトキシ基等の加水分解性基とを有するシラン化合物やシランカップリング剤中に分散させた無機微粒子含有熱硬化性組成物などが例示される。
【００４０】
塗膜の形成方法としては、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法、フロー法、ドクターブレード法などを採用できる。
【００４１】
なお、塗膜を形成する前に、密着性を向上させるため、プラスチック基板表面を、コロナ放電やマイクロ波などの高電圧放電などで表面処理をすることが好ましい。
【００４２】
形成した塗膜を熱、紫外線、電子ビームなどで硬化させてハードコート層を得ることができる。
【００４３】
ハードコート層の膜厚としては０．０５〜３０μｍ程度の範囲がよい。薄くなりすぎると基本的な性能が発現しない場合があり、一方厚すぎると、光学的歪みが発生する場合がある。
【００４４】
反射防止膜は、無機被膜、有機被膜の単層または多層で構成される。無機被膜の材質としては、ＳｉＯ2、ＳｉＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、ＴｉＯ、Ｔｉ2Ｏ3、Ｔｉ2Ｏ5、Ａｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＣｅＯ2、ＭｇＯ、Ｙ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＭｇＦ2、ＷＯ3等の無機物が挙げられ、これらを単独でまたは２種以上を併用して用いることができる。プラスチック基板の場合は、低温で真空蒸着が可能なＳｉＯ2、ＺｒＯ2、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5が好ましい。また、多層膜構成とした場合は、最外層はＳｉＯ2とすることが好ましい。
【００４５】
無機被膜の多層膜としては、基板側からＺｒＯ2層とＳｉＯ2層の合計光学膜厚がλ／４，ＺｒＯ2層の光学的膜厚がλ／４、最上層のＳｉＯ2層の光学的膜厚がλ／４の４層構造を例示することができる。ここで、λは設計波長であり、通常５２０ｎｍが用いられる。
【００４６】
無機被膜の成膜方法は、例えば真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、飽和溶液中での化学反応により析出させる方法等を採用することができる。
【００４７】
有機被膜の材質は、プラスチック基板やハードコート層の屈折率を考慮して選定され、真空蒸着法の他、スピンコート法、ディップコート法などの量産性に優れた塗布方法で成膜することができる。
【００４８】
防汚層の形成は、次の一般式（１）で表される含フッ素シラン化合物を用いることが好ましい。
【００４９】
【化３】
2005148219.tif 000003
【００５０】
一般式（１）中のＲfは炭素数１〜１６の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基
であるが、好ましくはＣＦ3−，Ｃ2Ｆ5−，Ｃ3Ｆ7−である。Ｒ1は加水分解可能な基であり、例えばハロゲン、−ＯＲ3、−ＯＣＯＲ3、−ＯＣ（Ｒ3）＝Ｃ（Ｒ4）2、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ3）2、−ＯＮ＝ＣＲ5が好ましい。さらに好ましくは、塩素、−ＯＣＨ3、−ＯＣ2Ｈ5である。ここで、Ｒ3は脂肪族炭化水素基または芳香族炭化水素基、Ｒ4は水素または低級脂肪族炭化水素基、Ｒ5は炭素数３〜６の二価の脂肪族炭化水素基である。Ｒ2は水素または不活性な一価の有機基であるが、好ましくは、炭素数１〜４の一価の炭化水素基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄは０〜２００の整数であるが、好ましくは１〜５０であり、ｅは０または１である。ｍおよびｎは０〜２の整数であるが、好ましくは０である。ｐは１以上の整数であり、好ましくは１〜１０の整数である。また、分子量は５×１０2〜１×１０5であるが、好ましくは５×１０2〜１×１０4である。
【００５１】
また、上記一般式（１）で示される含フッ素シラン化合物の好ましい構造のものとして、下記一般式（２）で示されるものが挙げられる。
【００５２】
【化４】
2005148219.tif 000004
【００５３】
上記式中、Ｙは水素または低級アルキル基、Ｒ1は加水分解可能な基、ｑは１〜５０の整数を、ｍは０〜２の整数、ｒは１〜１０の整数を表す。
【００５４】
上記含フッ素シラン化合物を用いて基板上に防汚層を形成するには、含フッ素シラン化合物を有機溶剤中に溶解させ、所定の濃度となるように調整し、光学物品表面に塗布する方法を採用することができる。有機溶剤としては、上記含フッ素シラン化合物の溶解性に優れるパーフルオロ基を有し、炭素数が４以上の有機化合物が好ましく、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロシクロブタン、パーフルオロオクタン、パーフルオロデカン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−４−メトキシブタン、パーフルオロ−４−エトキシブタン、メタキシレンヘキサフロライドを挙げることができる。また、パーフルオロエーテル油、クロロトリフルオロエチレンオリゴマー油を使用することができる。その他に、フロン２２５（ＣＦ3ＣＦ2ＣＨＣｌ2とＣＣｌＦ2ＣＦ2ＣＨＣｌＦの混合物）を例示することができる。これらの有機溶剤の１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００５５】
有機溶剤で希釈するときの濃度は、０．０３〜１ｗｔ％の範囲が好ましい。濃度が低すぎると十分な厚さの防汚層の形成が困難であり、十分な防汚効果が得られない場合があり、一方、濃すぎると防汚層が厚くなり過ぎるおそれがあり、塗布後塗りむらをなくすためのリンス作業の負担が増すおそれがある。
【００５６】
塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法、フロー法、ドクターブレード法、ロールコート塗装、グラビアコート塗装、カーテンフロー塗装、刷毛塗り等が用いられる。
【００５７】
防汚層の膜厚は、特に限定されないが、０．００１〜０．５μｍが好ましい。なお好ましくは０．００１〜０．０３μｍである。防汚層の膜厚が薄すぎると防汚効果が乏しくなり、厚すぎると表面がべたつくので好ましくない。また防汚層を反射防止膜表面に設けた場合には、防汚層の厚さが０．０３μｍより厚くなると反射防止効果が低下するため好ましくない。
【００５８】
ディッピング法の場合、上記の有機溶剤を用いて所定濃度に調整した撥水処理液中に基板を浸漬し、一定時間経過後、一定速度で基板を引き上げる。この際、浸漬時間としては０．５分から３分程度が望ましい。０．５分以下であると、基板表面への撥水剤の吸着が充分でないため、所定の撥水性能を得ることができない。３分以上の場合は、サイクルタイムの増加を招き好ましくない。
引き上げ速度は、１００mm／min〜３００mm／minが望ましい。これは、撥水処理液濃度との兼ね合いで決めるものであるが、１００mm／min以下では、防汚層が薄くなりすぎて所定の防汚性能が得られず、３００mm／min以上では、防汚層が厚くなりすぎ、塗布後塗りむらをなくすためのリンス作業の負担が増すおそれがある。
【００５９】
本発明では、撥水処理液を塗布する工程にて、光学物品の基板上に防汚膜を塗布後、溶媒を強制的に除去する工程を有するものである。
溶媒を強制的に除去するためには、加熱及び真空乾燥の方法がある。これらの方法について順次説明する。
【００６０】
加熱によって溶媒を除去する場合には、一定温度に保たれた加熱炉に基板を投入することが効果的である。温度の設定は、溶媒の沸点によって決められ、高温にするほど、処理に要する時間は短縮できるが、基板の耐熱温度との兼ね合いで、適切な温度に設定する必要がある。
【００６１】
発明者らは、加熱炉にて温度が５０℃〜７０℃で、湿度が２０％以下、保持時間が５〜１５分の加熱を行えば、溶媒を完全に除去できることを見出した。ここで、５０℃未満では、溶媒の除去に時間を要しサイクルタイムの増加をまねくことがあり、７０℃を超えると、基板への悪影響が生じる場合があり、また、ハンドリング時の熱傷対策を行う必要があるため、好ましくない。
【００６２】
真空乾燥によって溶媒を除去する場合には、真空乾燥機に基板を投入することが有効である。圧力及び温度設定は、溶媒の蒸気圧及び沸点によって決められ、圧力を下げ、温度を上げるほど処理に要する時間は短縮できる。
【００６３】
発明者らは、圧力が１×１０-2〜４×１０4Ｐa、温度が室温〜７０℃、保持時間が  ０．５〜１５分の条件であれば、溶媒を完全に除去できることを見出した。ここで、圧力が４×１０4Ｐaを超えると、溶媒の除去に時間を要しサイクルタイムの増加をまねくことがあり、好ましくない。圧力は１×１０-2Ｐa未満に設定することも可能であるが、減圧に時間を要することと、本発明に使用する有機溶剤の物性では、これ以下に下げなくとも短時間で充分蒸発可能であることから、前記の圧力値を下限とした。
温度設定は、７０℃を超えると、前記の通り基板への悪影響が生じる場合があり、また、ハンドリング時の熱傷対策を行う必要があるため、好ましくない。
【００６４】
上記の溶媒除去工程の後に撥水剤である含フッ素シラン化合物を光学物品表面に固定するアニール工程を有する。これは、含フッ素シラン化合物と光学物品表面との化学結合を促進することにより、耐久性を増加させることを目的とする。
【００６５】
アニール工程は、溶媒除去後の光学物品を、室内に８時間以上放置することで行われる。より好ましくは、温度が４０℃〜６０℃、相対湿度が６０％〜９０％に設定された恒温恒湿槽内に１時間〜２時間投入することで行われる。例として、化学式（２）の含フッ素シラン化合物のＲ１がメトキシ基であり、基板が無機ガラスである場合、空気中の水分の存在下で、メトキシ基が加水分解によって水酸基となり、これとガラス基板表面のシラノール基、及び、他の含フッ素シラン化合物の加水分解によって生じた水酸基が、脱水縮合によって結合する。これらの反応は高温高湿下でより促進される。
【００６６】
上記の様な手法によって作製した防汚性光学物品は、外観上の欠陥のない優れた光学的性能を有することが確認できている。
【実施例１】
【００６７】
含フッ素シラン化合物（商品名「ＫＹ-１３０」信越化学工業株式会社製）をパーフルオロヘキサンに希釈して０．２％溶液を調製し、防汚層形成のディッピング用処理液とした。処理用基板として、ハードコート層、反射防止膜（最外層がＳｉＯ2膜）の層を有する眼鏡用プラスチックレンズ（「セイコースーパーソブリン」セイコーエプソン株式会社製）を用意し、基板表面を洗浄するためにプラズマ処理を行った。プラズマ処理の条件としては、処理圧力：０．１Ｔｏｒｒ、導入ガス：乾燥ａｉｒ、電極間距離：２４ｃｍ、電源出力：ＤＣ１ＫＶ、処理時間：１５ｓｅｃとした。
【００６８】
プラズマ処理したレンズをディッピング用処理液に浸漬して１ｍｉｎ保持した後１５０ｍｍ／ｍｉｎにて引き上げ、撥水処理液を塗布した。
【００６９】
その後、溶媒除去工程として、レンズを温度が６０℃、相対湿度が２０％の加熱炉に投入し、１０分間保持した。引き続き、アニール工程として、６０℃，６０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽に投入し、２時間保持することで防汚層を形成した。
【実施例２】
【００７０】
実施例１と同様な手法でレンズに撥水処理液を塗布した。
その後、溶媒除去工程として、レンズを温度が６０℃、相対湿度が２０％の加熱炉に投入し１０分間保持した。引き続き、アニール工程として、２５℃，８０％ＲＨの室内雰囲気中に１２時間放置することで防汚層を形成した。
【実施例３】
【００７１】
実施例１と同様な手法でレンズに撥水処理液を塗布した。
その後、溶媒除去工程として、レンズを真空乾燥機に投入し、真空度１×１０3Ｐa，５０℃の設定で、５分間保持し溶媒を除去した。引き続き、アニール工程として、６０℃，６０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽に投入し、２時間保持することで防汚層を形成した。
【実施例４】
【００７２】
実施例１と同様な手法でレンズに撥水処理液を塗布した。
その後、溶媒除去工程として、レンズを真空乾燥機に投入し、真空度１×１０3Ｐa，５０℃の設定で、５分間保持し溶媒を除去した。引き続き、アニール工程として、２５℃，８０％ＲＨの雰囲気中に１２時間放置することで防汚層を形成した。
【００７３】
〔比較例１〕
実施例１と同様な手法でレンズに撥水処理液を塗布し、溶媒除去工程を設けず、塗布直後に、アニール工程として、６０℃，６０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽に投入し、２時間保持することで防汚層を形成した。
【００７４】
〔比較例２〕
実施例１と同様な手法でレンズに撥水処理液を塗布し、その後、溶媒除去工程を設けず、アニール工程として、２５℃，８０％ＲＨの雰囲気中に１２時間放置した。
【００７５】
（１）レンズの外観評価
外観評価は、ａ）暗箱での透過検査，ｂ）暗箱での反射検査，ｃ）天井灯での透過検査，ｄ）天井灯での反射検査  の４種類で実施した。
【００７６】
暗箱の検査条件は、背景及び机上を反射の少ない黒色の板とし、検査室内の照度を２００〜２５０ルクス、試験位置による照度を３５０〜５００ルクスとし、明視状態で検査する。
暗箱内の蛍光灯は、３波長域発光型昼白＜ＦＬ（Ｒ）−２０Ｓ（Ｓ）／ＥＸ−Ｎ＞を使用した。天井灯は、市販の蛍光灯を用いた。
【００７７】
次に各検査方法を記す。ここで、ｃ），ｄ）に対して、ａ），ｂ）は検査方法として厳しく、欠陥が見えやすい。
【００７８】
ａ）暗箱での透過検査
暗箱にて検査対象物を蛍光灯と目を結ぶ直線上で目から３０ｃｍ前後の位置に保持し、検査対象物を上下させて評価する。４５〜９０°回転させ、上下させて再度評価する。
【００７９】
ｂ）暗箱での反射検査
暗箱にて検査対象物を目から３０ｃｍ前後の机上付近に保持し、検査対象物表面に蛍光灯を反射させた状態で傾斜角を変えて評価する。４５〜９０°回転させ、傾斜角を変えて再度評価する。
【００８０】
ｃ）天井灯での透過検査
天井蛍光灯を斜め上方に見る位置で、検査対象物を蛍光灯と目を結ぶ直線上で目から３０ｃｍ前後の位置に保持し、検査対象物を上下させて評価する。４５〜９０°回転させ、上下させて再度評価する。
【００８１】
ｄ）天井灯での反射検査
天井蛍光灯を斜め上方に見る位置で、検査対象物を目から３０ｃｍ前後の位置に保持し、検査対象物表面に蛍光灯を反射させた状態で傾斜角を変えて評価する。４５〜９０°回転させ、傾斜角を変えて再度評価する。
【００８２】
上記４種の評価方法で、外観上の欠陥発生状態を下記の３段階で判定した。
○：欠陥なし。
△：薄い欠陥あり。
天井灯での透過／反射検査では見えないが、暗箱での透過／反射検査のいずれか        では見える。
×：強い欠陥あり。
天井灯での透過／反射検査のいずれかで見える。
【００８３】
（２）木綿布による拭き耐久試験
試験方法：木綿布を用い、レンズの凸面を１００ｇの荷重をかけながら５０００回往復させた。拭き耐久試験前後の防汚性能は、接触角と油性インクの弾き性によって評価した。
【００８４】
評価１：接触角測定
接触角の測定には接触角計（「ＣＡ−Ｄ型」協和科学株式会社製）を使用し、液適法による水接触角を測定した。
【００８５】
評価２：油性インクの拭き取り性
レンズの凸面に、黒色油性マーカー（「ハイマッキーケア」ゼブラ株式会社製）に    より約４ｃｍの直線を描いた後５ｍｉｎ放置した。放置後、該マーク部をワイプ紙
（「ケイドライ」株式会社クレシア製）によって拭き取りを行い、その拭き取り易さ
を下記の基準にて判定した。
○：１０回以下の拭き取りで完全に除去。
△：１１回〜２０回の拭き取りで完全に除去。
×：２０回の拭き取り後も除去されない部分が残る。
【００８６】
（３）耐アルカリ性試験
試験方法：０．０５Ｎに調整した水酸化ナトリウム水溶液中に試験片を３時間浸漬し、浸漬後の試験片を水でよく洗う。アルカリ浸漬試験前後の防汚性能は、接触角と油性インクの弾き性によって評価した。
評価方法は（１）木綿布による拭き耐久試験と同様に行った。
【００８７】
【表１】
2005148219.tif 000005
【００８８】
【表２】
2005148219.tif 000006
【００８９】
表１の結果より、撥水処理液塗布後に溶媒を除去する工程を設けて作製した防汚性レンズは、外観品質が大幅に向上していることが明らかである。
また、表２の結果から、このような工程を組み入れることで防汚性の耐久性能は従来の手法と比べて変化していないことが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
各種の防汚性光学物品の外観品質向上に有効であり、実施例に示した以外に、携帯電話の表示板を始めとする、各種ディスプレイのカバー、光学機器用のガラスレンズ、プラスチックレンズ、それらのハイブリットレンズ、ＣＤ、ＤＶＤ、ＭＯ等の光ディスク、光ファイバなどに利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本発明による工程の例を示した工程フロー図。
【図１】
2005148219.tif 000008