(57)【要約】【課題】プライミング放電を安定して発生させることにより、高精細化可能なプラズマディスプレイパネルを提供する。【解決手段】プライミング電極３６を、下地電極３６ａと下地電極３６ａを被覆する酸化物電極３６ｂとを有する構成とし、酸化物電極３６ｂの材料として、たとえば、（Ｌａ，Ｍ１）Ｍ２Ｏ３であらわされるペロブスカイト型構造、または（Ｌａ，Ｍ１）２Ｍ３Ｏ４であらわされるＫ２ＮｉＦ４型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ２の比率あるいは（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ３の比率を１よりも大きくするものとする。【選択図】図１
2005183244.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、
前記第１の基板上に互いに平行に配置し、かつ誘電体層で覆った走査電極および維持電極と、
放電空間を挟んで前記第１の基板に対向配置される第２の基板と、
前記第２の基板上に前記走査電極と交差する方向に配置したデータ電極と、
前記第２の基板上に前記走査電極と平行に配置し、かつ前記データ電極と電気的に絶縁されたプライミング電極と、
前記走査電極および前記維持電極と前記データ電極とが対向して構成される主放電セル、並びに前記走査電極と前記プライミング電極とが対向して構成されるプライミング放電セルを区画するように形成した隔壁とを備え、
前記プライミング電極は下地電極と前記下地電極を被覆する酸化物電極とを有するプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記酸化物電極は、（Ｌａ，Ｍ１）Ｍ２Ｏ３（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ２はすくなくともＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｍｎのいずれかを含む）であらわされるペロブスカイト型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ２の比率を１よりも大きくしたことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記酸化物電極は、（Ｌａ，Ｍ１）２Ｍ３Ｏ４（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ３はすくなくともＣｕ、Ｎｉのいずれかを含む）であらわされるＫ２ＮｉＦ４型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ３の比率を１よりも大きくしたことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、壁掛けテレビや大型モニター等に用いられるプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰあるいはパネルと略記する）は、大画面、薄型、軽量であることを特徴とする視認性に優れた表示デバイスである。
【０００３】
ＰＤＰとして代表的な交流面放電型パネルは、対向配置された前面板と背面板との間に多数の放電セルが形成されている。前面板は、走査電極と維持電極とからなる表示電極が前面ガラス基板上に互いに平行に複数対形成され、それら表示電極を覆うように誘電体層および保護層が形成されている。背面板は、背面ガラス基板上に複数の平行なデータ電極と、それらを覆うように誘電体層と、さらにその上にデータ電極と平行に複数の隔壁がそれぞれ形成され、誘電体層の表面と隔壁の側面とに蛍光体層が形成されている。そして、表示電極とデータ電極とが立体交差するように前面板と背面板とが対向配置されて密封され、内部の放電空間には放電ガスが封入されている。このような構成のパネルにおいて、各放電セル内でガス放電により紫外線を発生させ、この紫外線でＲＧＢ各色の蛍光体を励起発光させてカラー表示を行っている。
【０００４】
パネルを駆動する方法としてはサブフィールド法、すなわち、１フィールド期間を複数のサブフィールドに分割した上で、発光させるサブフィールドの組み合わせによって階調表示を行う方法が一般的である。ここで、各サブフィールドは初期化期間、書込み期間および維持期間を有する。
【０００５】
初期化期間では、すべての放電セルで一斉に初期化放電を行い、それ以前の個々の放電セルに対する壁電荷の履歴を消すとともに、続く書込み動作のために必要な壁電荷を形成する。加えて、放電遅れを小さくし書込み放電を安定して発生させるためのプライミング（放電のための起爆剤＝励起粒子）を発生させるという働きをもつ。書込み期間では、走査電極に順次走査パルスを印加するとともに、データ電極には表示すべき画像信号に対応した書込みパルスを印加し、走査電極とデータ電極との間で選択的に書込み放電を起こし、選択的な壁電荷形成を行う。続く維持期間では、走査電極と維持電極との間に所定の回数の維持パルスを印加し、書込み放電による壁電荷形成を行った放電セルを選択的に放電させ発光させる。
【０００６】
このように、画像を正しく表示するためには書込み期間における選択的な書込み放電を確実に行うことが重要であるが、回路構成上の制約から書込みパルスに高い電圧が使えないこと、データ電極上に形成された蛍光体層が放電を起こり難くしていること等、書込み放電に関しては放電遅れを大きくする要因が多い。したがって、書込み放電を安定して発生させるためのプライミングが非常に重要となる。
【０００７】
しかしながら、放電によって生じるプライミングは時間の経過とともに急速に減少する。そのため、上述したパネルの駆動方法において、初期化放電から長い時間が経過した書込み放電に対しては初期化放電で生じたプライミングが不足して放電遅れが大きくなり、書込み動作が不安定になって画像表示品質が低下するといった問題があった。あるいは、書込み動作を安定して行うために書込み時間を長く設定し、その結果、書込み期間に費やす時間が大きくなりすぎるといった問題があった。
【０００８】
これらの問題を解決するために、パネルの前面板に補助放電電極を設けて形成した補助放電セルを用いてプライミングを発生させ、放電遅れを小さくするパネルとその駆動方法が提案されている（たとえば特許文献１）。
【特許文献１】特開２００２−２９７０９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら上述のパネルにおいては、個々の補助放電セルが比較的大きいため、画像表示のための主放電セル間の距離を縮めることができず、その結果、高精細化が困難であるという課題があった。
【００１０】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、これらの課題に鑑みなされたものであり、小さな補助放電セルを用いて安定してプライミング放電を発生させることにより、書込み動作を安定かつ高速に行うことができ、高精細化も可能なプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、第１の基板と、第１の基板上に互いに平行に配置しかつ誘電体層で覆った走査電極および維持電極と、放電空間を挟んで第１の基板に対向配置される第２の基板と、第２の基板上に走査電極と交差する方向に配置したデータ電極と、第２の基板上に走査電極と平行に配置しかつデータ電極と電気的に絶縁されたプライミング電極と、走査電極および維持電極とデータ電極とが対向して構成される主放電セル並びに走査電極とプライミング電極とが対向して構成されるプライミング放電セルを区画するように形成した隔壁とを備え、プライミング電極は下地電極と下地電極を被覆する酸化物電極とを有する。この構成により、小さな補助放電セルを用いて安定してプライミング放電を発生させ、書込み動作を安定かつ高速に行うことができ、高精細化も可能なプラズマディスプレイパネルを提供することができる。
【００１２】
また、本発明のプラズマディスプレイパネルの酸化物電極は、（Ｌａ，Ｍ１）Ｍ２Ｏ３（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ２はすくなくともＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｍｎのいずれかを含む）であらわされるペロブスカイト型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ２の比率を１よりも大きくしたものが望ましい。この構成により、上記酸化物電極から放出された２次電子がプライミングとして働くため放電遅れの小さい安定した初期化放電が可能となる。さらに上記酸化物電極はスパッタされ難く、仮にスパッタされたとしてもスパッタ膜が電極間を短絡するといった問題は発生しない。
【００１３】
また、本発明のプラズマディスプレイパネルの酸化物電極は、（Ｌａ，Ｍ１）２Ｍ３Ｏ４（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ３はすくなくともＣｕ、Ｎｉのいずれかを含む）であらわされるＫ２ＮｉＦ４型構造をもち、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ３の比率を１よりも大きくしたものでもよい。この構成によっても、上記酸化物電極から放出された２次電子がプライミングとして働くため放電遅れの小さい安定した初期化放電が可能となる。さらに上記酸化物電極はスパッタされ難く、仮にスパッタされたとしてもスパッタ膜が電極間を短絡するといった問題は発生しない。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、小さな補助放電セルを用いて安定してプライミング放電を発生させることにより、書込み動作を安定かつ高速に行うことができ、高精細化も可能なプラズマディスプレイパネルを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
（実施の形態）
以下、本発明の実施の形態におけるパネルについて、図面を用いて説明する。
【００１６】
図１は本発明の実施の形態におけるパネルの構造を示す分解斜視図であり、図２は同パネルの構造を示す断面図である。第１の基板であるガラス製の前面基板２１と第２の基板である背面基板３１とが放電空間を挟んで対向配置され、放電空間には放電によって紫外線を放射するネオンおよびキセノンの混合ガスが封入されている。
【００１７】
前面基板２１上には、走査電極２２と維持電極２３とが互いに平行に対をなして複数形成されている。このとき、維持電極２３−走査電極２２−走査電極２２−維持電極２３−・・・となるように２本ずつ交互に配列されている。走査電極２２と維持電極２３はそれぞれ透明電極２２ａ、２３ａと、透明電極２２ａ、２３ａ上に形成された金属母線２２ｂ、２３ｂとから構成されている。ここで、走査電極２２−走査電極２２間、および維持電極２３−維持電極２３間には黒色材料からなる光吸収層２８が設けられている。走査電極２２のうち、一方の走査電極２２の金属母線２２ｂの突出部分２２ｂ’は光吸収層２８上にまで突出して形成されている。そして、これらの走査電極２２、維持電極２３および光吸収層２８とを覆うように誘電体層２４および保護層２５が形成されている。保護層２５としては、耐スパッタ性に優れた材料が選ばれるが、加えて２次電子放出係数の大きい材料が望ましい。本発明の実施の形態では両方の特性を兼ね備えたＭｇＯ膜を用いて保護層２５が形成されている。
【００１８】
背面基板３１上には、走査電極２２および維持電極２３と交差する方向にデータ電極３２が互いに平行に複数形成され、そしてデータ電極３２を覆うように誘電体層３３が形成されている。誘電体層３３の上には、走査電極２２と平行にプライミング電極３６が複数形成されている。ここで誘電体層３３はデータ電極３２とプライミング電極３６との間を絶縁している。そして、誘電体層３３の上に主放電セル４０を区画するための隔壁３４が形成されている。
【００１９】
隔壁３４は、データ電極３２と平行な方向に延びる縦壁部３４ａと、主放電セル４０を形成しかつ主放電セル４０の間に隙間部４１を形成する横壁部３４ｂとで構成されている。隙間部４１は一つおきにプライミング電極３６を有しプライミング放電セル４１ａを形成する。なお、隙間部４１ｂはプライミング電極を有しない隙間部である。そして、隔壁３４により区画された主放電セル４０に対応する誘電体層３３の表面と隔壁３４の側面とに蛍光体層３５が設けられている。
【００２０】
前面基板２１と背面基板３１を対向配置して封着する際、前面基板２１上に形成された走査電極２２の金属母線２２ｂのうち光吸収層２８上に突出した突出部分２２ｂ’と、背面基板３１上に形成されたプライミング電極３６とが平行にかつプライミング放電セル４１ａを挟んで対向するように位置合わせする。そして、前面基板２１側に形成された突出部分２２ｂ’と、背面基板３１側に形成されたプライミング電極３６との間でプライミング放電を行う構成となっている。
【００２１】
つぎに、プライミング電極３６の構成について詳細に説明する。プライミング電極３６は、下地電極３６ａと下地電極３６ａを覆う酸化物電極３６ｂとで構成されている。下地電極３６ａとしては、たとえば銀や銅等を含む導電性の高い材料が望ましく、本実施の形態においては、材料としてＡｇペーストを用い、スクリーン印刷法により下地電極３６ａを形成した。一方、酸化物電極３６ｂとしては耐スパッタ性に優れ、かつ２次電子放出係数の大きい材料が望ましい。たとえば酸化物電極３６ｂの材料として、（Ｌａ，Ｍ１）Ｍ２Ｏ３（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ２はすくなくともＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｍｎのいずれかを含む）であらわされるペロブスカイト型構造をもつもの、あるいは、（Ｌａ，Ｍ１）２Ｍ３Ｏ４（ただし、Ｍ１はＢａまたはＳｒであり、Ｍ３はすくなくともＣｕ、Ｎｉのいずれかを含む）であらわされるＫ２ＮｉＦ４型構造をもつものが適しており、いずれの場合も（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ２の比率あるいは（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ３の比率を１よりも大きくしたものが望ましい。
【００２２】
本実施の形態においては、ペロブスカイト型構造の酸化物の代表的な組成である（Ｌａ０．５Ｓｒ０．５）ＣｏＯ３（コバルタイトと呼ぶ）を用いた。材料は共沈法を用いて作成した。出発原料として、Ｌａ、Ｓｒ、Ｃｏの各硝酸溶液を所定の元素比率になるように混合し、それぞれの溶液を蓚酸とエタノールの混合液に滴下し、それぞれの蓚酸塩の沈澱物をつくる。この沈澱物を７０℃で、乾燥し、乾燥した固形物を混合し、空気中雰囲気で、５００℃で、３時間加熱し、不要な蓚酸塩を熱分解し、Ｌａ、Ｓｒ、Ｃｏの酸化物をつくる。そして、この酸化物を５００℃以上の温度で、３００ｃｃ／分導入した酸素気流中において、１３００℃で、５時間焼成することによりペロブスカイト型構造を得る。焼成後の粉末は粒子が結合して固まっているので、乳鉢やボールミル等により、数μｍ以下に粉砕する。こうして作成した粉末と、低融点ガラス粉末、および有機溶媒を適当な粘度になるように調整し混合して印刷用のペーストを作成した。そして、下地電極３６ａを覆うように、スクリーン印刷法にて酸化物電極３６ｂを形成した。
【００２３】
ここで、上述の酸化物電極３６ｂの組成として、ペロブスカイト型構造の場合には（Ｌａ，Ｍ１）の元素を、Ｋ２ＮｉＦ４型構造の場合には（Ｌａ，Ｍ１）２の元素を本来の化学量論的な組成に比べ過剰としている。この理由は、これら酸化物が仮に放電によってスパッタされたとしてもスパッタ膜が電極間を短絡するといった問題を発生させないためである。すなわち、これら過剰な元素は焼成工程中に酸化されそれぞれの元素の酸化物（Ｌａ２Ｏ３、ＢａＯ、ＳｒＯ等）となって結晶中に混入する。これらはもともと電気抵抗が高いので、放電中にスパッタされても低抵抗の膜をつくることはない。これに対して、Ｍ２あるいはＭ３の元素が過剰になるとＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｃｕ等の酸化物が形成されるが、これらの電気抵抗は低くまた還元されやすい性質ももつので、これらがスパッタされた場合電極間を短絡するおそれがある。したがって、酸化物電極としては、化学量論的な組成とするのではなく、あらかじめ安全側にシフトした組成としておくことにより、信頼性の高いパネルを得ることができる。
【００２４】
図３は本発明の実施の形態におけるパネルの電極配列図である。列方向にｍ列のデータ電極Ｄ１〜Ｄｍ（図１のデータ電極３２）が配列され、行方向にｎ行の走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎ（図１の走査電極２２）とｎ行の維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ（図１の維持電極２３）とが維持電極ＳＵ１−走査電極ＳＣ１−走査電極ＳＣ２−維持電極ＳＵ２−・・・となるように２本ずつ交互に配列されている。そして、本発明の実施の形態においては奇数行目の走査電極ＳＣ１、ＳＣ３、・・・の突出部分（図１の突出部分２２ｂ’）と対向するようにｎ／２本のプライミング電極ＰＲ１、ＰＲ３、・・・（図１のプライミング電極３６）が配列されている。
【００２５】
そして、一対の走査電極ＳＣｉ、維持電極ＳＵｉ（ｉ＝１〜ｎ）と一つのデータ電極Ｄｊ（ｊ＝１〜ｍ）とを含む放電セルＣｉ，ｊ（図１の主放電セル４０）が放電空間内にｍ×ｎ個形成される。また１〜ｎ行のうちの奇数行に走査電極ＳＣｉの突出部分とプライミング電極ＰＲｉとを含むプライミング放電セルＰＳｉ（図１のプライミング放電セル４１ａ）が形成される。
【００２６】
つぎに、パネルを駆動するための駆動波形とそのタイミングについて説明する。図４は、本発明の実施の形態におけるパネルの駆動波形図である。なお、本発明の実施の形態においては、１フィールド期間が初期化期間、書込み期間、維持期間を有する複数のサブフィールドから構成されており、それぞれのサブフィールドは維持期間における維持パルスの数が異なる以外はほぼ同様であるので、一つのサブフィールドについてのみ動作を説明する。
【００２７】
初期化期間前半部では、データ電極Ｄ１〜Ｄｍ、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎおよびプライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１をそれぞれ０（Ｖ）に保持し、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎには、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎに対して放電開始電圧以下の電圧Ｖｉ１から、放電開始電圧を超える電圧Ｖｉ２に向かって緩やかに上昇する傾斜波形電圧を印加する。この傾斜波形電圧が上昇する間に、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ、データ電極Ｄ１〜Ｄｍ、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１との間でそれぞれ１回目の微弱な初期化放電が起こる。そして、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎ上部に負の壁電圧が蓄積されるとともに、データ電極Ｄ１〜Ｄｍ上部、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ上部には正の壁電圧が蓄積される。ここで、電極上部の壁電圧とは電極を覆う誘電体層、保護層、あるいは蛍光体層上に蓄積された壁電荷により生じる電圧をあらわす。
【００２８】
このとき走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎとプライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１との間で発生する初期化放電は、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１側が陰極となる放電である。そして、プライミング電極３６の下地電極３６ａを覆っている酸化物電極３６ｂは２次電子放出係数が大きく、ここから放出された２次電子がプライミングとして働くため、小さなプライミングセルを用いても放電遅れの小さい安定した初期化放電が可能となる。
【００２９】
初期化期間後半部では、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎを正電圧Ｖｅに保ち、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎには、維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎに対して放電開始電圧以下となる電圧Ｖｉ３から放電開始電圧を超える電圧Ｖｉ４に向かって緩やかに下降する傾斜波形電圧を印加する。この間に、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ、データ電極Ｄ１〜Ｄｍ、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１との間でそれぞれ２回目の微弱な初期化放電が起こる。そして、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎ上部の負の壁電圧および維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎ上部の正の壁電圧が弱められ、データ電極Ｄ１〜Ｄｍ上部の正の壁電圧は書込み動作、あるいはプライミング動作に適した値に調整される。以上により初期化動作が終了する。
【００３０】
書込み期間では、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎを一旦電圧Ｖｃに保持する。そして、プライミング電極ＰＲ１〜ＰＲｎ−１に電圧Ｖｑを印加する。
【００３１】
まず、奇数行目の放電セルＣｐ，１〜Ｃｐ，ｍ（ｐ＝奇数）の書込み動作では、走査電極ＳＣｐに走査パルス電圧Ｖａを印加するとともに、表示すべき画像信号に対応するデータ電極Ｄｋ（ｋは１〜ｍの整数）に正の書込みパルスＶｄを印加する。奇数行目の走査電極ＳＣｐは自己の走査に伴ってプライミング放電を発生させるとともに書込みを行う走査電極である。したがって、走査パルス電圧Ｖａの印加によりプライミング電極ＰＲｐと走査電極ＳＣｐとの間でプライミング放電が発生し、放電セルＣｐ，１〜Ｃｐ，ｍと放電セルＣｐ＋１，１〜Ｃｐ＋１，ｍとの内部にプライミングが供給される。このときの放電は、プライミング放電セルが放電しやすく電圧Ｖｑも高く設定できるため、放電遅れが小さく速く安定したプライミング放電となる。
【００３２】
その後引き続いて、書込みパルス電圧を印加したデータ電極Ｄｋに対応する放電セルＣｐ，ｋで書込み放電が発生する。このとき放電セルＣｐ，ｋの放電は、走査電極ＳＣｐとプライミング電極ＰＲｐとの間で発生したプライミング放電からプライミングが供給されつつ発生するので、放電遅れが小さく安定した放電となる。この書込み放電により放電セルＣｐ，ｋの走査電極ＳＣｐ上部に正電圧が蓄積され、維持電極ＳＵｐ上部に負電圧が蓄積されて、奇数行目の書込み動作が終了する。
【００３３】
つぎに、偶数行目の放電セルＣｐ＋１，１〜Ｃｐ＋１，ｍの書込み動作では、ｐ＋１行目の走査電極ＳＣｐ＋１に走査パルス電圧Ｖａを印加すると同時に、データ電極Ｄ１〜Ｄｍのうちｐ＋１行目に表示すべき画像信号に対応するデータ電極Ｄｋに正の書込みパルス電圧Ｖｄを印加する。これにより、データ電極Ｄｋと走査電極ＳＣｐ＋１との交差部で放電が発生する。このとき、放電セルＣｐ＋１，ｋでは走査電極ＳＣｐとプライミング電極ＰＲｐとの間で発生したプライミング放電から十分なプライミングがすでに供給された状態で放電が発生するので、書込み放電の放電遅れは非常に小さく安定した放電となる。この書込み放電により放電セルＣｐ＋１，ｋの走査電極ＳＣｐ＋１上部に正電圧が蓄積され、維持電極ＳＵｐ＋１上部に負電圧が蓄積されて、偶数行目の書込み動作が終了する。
【００３４】
以下、同様の書込み動作をｎ行目の放電セルＣｎ，ｋに至るまで行い、書込み動作が終了する。
【００３５】
維持期間では、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎおよび維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎを０（Ｖ）に一旦戻した後、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎに正の維持パルス電圧Ｖｓを印加する。このとき、書込み放電を起こした放電セルＣｉ，ｋにおける走査電極ＳＣｉ上部と維持電極ＳＵｉ上部との間の電圧は、正の維持パルス電圧Ｖｓに加えて、書込み期間において走査電極ＳＣｉ上部および維持電極ＳＵｉ上部に蓄積された壁電圧が加算されて、放電開始電圧より大きくなる。これにより、放電セルＣｉ，ｋにおいて維持放電が発生する。以降同様に、走査電極ＳＣ１〜ＳＣｎと維持電極ＳＵ１〜ＳＵｎとに維持パルスを交互に印加することにより、書込み放電を起こした放電セルＣｉ，ｋに対して維持パルスの回数だけ維持放電が継続して行われる。
【００３６】
このように、奇数行目の放電セルＣｐ，１〜Ｃｐ，ｍ（ｐ＝奇数）の書込み動作において、背面基板３１側に設けたプライミング電極ＰＲｐと前面基板２１側に設けた走査電極ＳＣｐとの間でプライミング放電を発生させ、放電セルＣｐ，１〜Ｃｐ，ｍと放電セルＣｐ＋１，１〜Ｃｐ＋１，ｍとの内部にプライミングを供給することで、放電遅れが小さく、高速かつ安定した書込み放電を実現することができる。
【００３７】
また、プライミング電極３６が下地電極３６ａと下地電極３６ａを覆う酸化物電極３６ｂとを有し、酸化物電極３６ｂは２次電子放出係数が大きく、ここから放出された２次電子がプライミングとして働くため放電遅れの小さい安定した初期化放電が可能となっている。
【００３８】
加えて、酸化物電極３６ｂは（Ｌａ，Ｍ１）Ｍ２Ｏ３であらわされるペロブスカイト型構造、あるいは（Ｌａ，Ｍ１）２Ｍ３Ｏ４であらわされるＫ２ＮｉＦ４型構造をもつためにスパッタされ難く、さらに、（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ２、あるいは（Ｌａ，Ｍ１）／Ｍ３の比率を１よりも大きくしたために、仮にスパッタされたとしてもスパッタ膜が電極間を短絡するといった問題は発生しない。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、小さな補助放電セルを用いて安定したプライミング放電を発生させることにより、書込み動作を安定かつ高速に行うことができ、高精細化も可能なプラズマディスプレイパネル等として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の実施の形態におけるパネルの構造を示す分解斜視図
【図２】同パネルの構造を示す断面図
【図３】同パネルの電極配列図
【図４】同パネルの駆動波形図
【符号の説明】
【００４１】
２１    前面基板
２２    走査電極
２２ａ，２３ａ    透明電極
２２ｂ，２３ｂ    金属母線
２２ｂ’    突出部分
２３    維持電極
２４    誘電体層
２５    保護層
２８    光吸収層
３１    背面基板
３２    データ電極
３３    誘電体層
３４    隔壁
３４ａ    縦壁部
３４ｂ    横壁部
３５    蛍光体層
３６    プライミング電極
３６ａ    下地電極
３６ｂ    酸化物電極
４０    主放電セル
４１    隙間部
４１ａ    プライミング放電セル
４１ｂ    （プライミング電極を有しない）隙間部
【図１】
2005183244.tif 000003
【図２】
2005183244.tif 000004
【図３】
2005183244.tif 000005
【図４】
2005183244.tif 000006