(57)【要約】【課題】装置を複雑化することなく、アライメントステーションと露光ステーションの間で基板の受け渡しを可能とする。【解決手段】基板２を負圧により吸着保持する基板保持装置であって、本体部３と、本体部に形成された外気を吸引するための吸引穴３７と、本体部３内に形成され、吸引穴３７と連通する第１の中空部３５とを備える。【選択図】      図３
2005064139.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を負圧により吸着保持する基板保持装置であって、
本体部と、
該本体部に形成された外気を吸引するための吸引穴と、
前記本体部内に形成され、前記吸引穴と連通する第１の中空部とを備えることを特徴とする基板保持装置。
【請求項２】
前記本体部の外面に前記吸引穴を囲うように形成された壁部と前記基板とで形成される第２の中空部を備えることを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記第２の中空部は複数設けられており、該複数の第２の中空部は互いに圧力的に独立していることを特徴とする請求項２に記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記第１の中空部を開閉する開閉弁をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記第１の中空部は前記本体部内に隔壁により区切られた状態で複数設けられており、前記隔壁には、前記複数の第１の中空部を選択的に連通させる穴が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記基板保持装置は、前記基板と原版を相対的に走査させながら前記原版のパターンを前記基板に露光する露光装置に用いられ、前記第１の中空部を形成する前記隔壁が、前記基板の走査方向に平行、及び直交する格子状に配置され、且つ、隣り合う前記隔壁の前記走査方向の間隔が、前記走査方向と直交する方向の間隔と等しいか、小さく設定されていることを特徴とする請求項５に記載の基板保持装置。
【請求項７】
前記第１の中空部は、前記本体部の前記基板を吸着保持する面までの距離が、前記本体部の反対側の面までの距離と等しいか、大きくなる位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
【請求項８】
前記基板保持装置は、前記基板に原版のパターンを露光する露光装置に用いられ、前記本体部は、前記原版との相対位置を位置決めするためのアライメントマークを有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の基板保持装置。
【請求項９】
前記基板上の複数の露光領域の前記アライメントマークに対する相対位置を計測するアライメントステーションと、該アライメントステーションで計測された前記複数の露光領域の前記アライメントマークに対する相対位置の情報に基づいて、前記基板を露光する露光ステーションとを備える露光装置であって、
前記アライメントステーションと前記露光ステーションとの間で、請求項８に記載の基板保持装置により前記基板を吸着保持した状態で前記基板の受け渡しを行なうことを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被加工物である基板を吸着して保持する基板保持装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造工程の一つである露光工程は、原板のパターンを、被露光基板に投影光学系を介して投影露光するものであり、一般に複数のパターンを重ね合わせることで製造される。
【０００３】
この際、原板と基板の相対位置を合わせるアライメントマークを、露光装置に設けられたアライメントスコープにより計測することにより、原板と基板の位置合わせ、所謂アライメントが行われる。
【０００４】
このアライメントには、基板上に複数露光される、各ショット毎に行うダイバイダイアライメント方式と、一つ若しくは複数の代表ショットでアライメントを行い、アライメントを行わないショットを露光する際の原板と基板の位置決めは、代表ショットでアライメントした時の計測値から補間して行う、グローバルアライメントとがある。
【０００５】
一般には装置のスループット向上の観点から、基板上での代表ショットの選択を最適化したグローバルアライメントが行われている。
【特許文献１】特開平１−４９００７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、近年の半導体露光装置に要求されるアライメント精度は厳しくなる一方であり、更なる高精度化が要求されている。
【０００７】
特に、半導体素子製造のプロセスにおいて、基板に施される様々な処理により基板の伸縮、変形が発生し、グローバルアライメントによる基板の位置決めを行っても、全てのショットで要求される精度に位置合わせを行っての露光ができなくなる場合がある。
【０００８】
基板の伸縮、変形に影響されない露光を行うには、基板上のアライメントを行う箇所を増やしていったり、究極的には全てのショットでアライメントを行えばグローバルアライメントの補間による誤差は回避できるが、これではダイバイダイアライメントとなってしまい、スループットを高速化すると言うグローバルアライメントの利点を得られなくなる。つまりアライメント精度とスループットが二律相反せざるを得ない。
【０００９】
この問題を解決する手段として、特開平１−４９００７号公報（特許文献１）では、基板上のアライメントマークと基板保持装置上の基準マークとの相対位置を計測するアライメントステーションと、アライメントステーションで計測されたアライメントマークの位置情報を元に露光を行う露光ステーションとを設け、アライメント精度の向上とスループット向上の両立を図る方法が提案されている。
【００１０】
しかしこの方法では、アライメントステーションと露光ステーションの間で基板を吸着保持したまま、基板保持装置を受け渡す必要がある。基板吸着が負圧によって行われる、所謂真空吸着の場合、負圧を供給するための配管を引きずりながら基板保持装置を受け渡す格好となる。つまり、アライメントステーションと露光ステーションの何れに基板保持装置が搭載されても配管が引き回される様にするか、基板保持装置の受け渡しを完了した後、基板保持装置から配管を取り外して回収する機構が必要になり、装置を複雑化させる要因となる。
【００１１】
本発明は以上の問題に鑑みてなされたもので、その目的は、装置を複雑化することなく、アライメントステーションと露光ステーションの間で基板の受け渡しを可能とすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係わる基板保持装置は、基板を負圧により吸着保持する基板保持装置であって、本体部と、該本体部に形成された外気を吸引するための吸引穴と、前記本体部内に形成され、前記吸引穴と連通する第１の中空部とを備えることを特徴とする。
【００１３】
また、この発明に係わる基板保持装置において、前記本体部の外面に前記吸引穴を囲うように形成された壁部と前記基板とで形成される第２の中空部を備えることを特徴とする。
【００１４】
また、この発明に係わる基板保持装置において、前記第２の中空部は複数設けられており、該複数の第２の中空部は互いに圧力的に独立していることを特徴とする。
【００１５】
また、この発明に係わる基板保持装置において、前記第１の中空部を開閉する開閉弁をさらに備えることを特徴とする。
【００１６】
また、この発明に係わる基板保持装置において、前記第１の中空部は前記本体部内に隔壁により区切られた状態で複数設けられており、前記隔壁には、前記複数の第１の中空部を選択的に連通させる穴が形成されていることを特徴とする。
【００１７】
また、この発明に係わる基板保持装置において、前記基板保持装置は、前記基板と原版を相対的に走査させながら前記原版のパターンを前記基板に露光する露光装置に用いられ、前記第１の中空部を形成する前記隔壁が、前記基板の走査方向に平行、及び直交する格子状に配置され、且つ、隣り合う前記隔壁の前記走査方向の間隔が、前記走査方向と直交する方向の間隔と等しいか、小さく設定されていることを特徴とする。
【００１８】
また、この発明に係わる基板保持装置において、前記第１の中空部は、前記本体部の前記基板を吸着保持する面までの距離が、前記本体部の反対側の面までの距離と等しいか、大きくなる位置に配置されていることを特徴とする。
【００１９】
また、この発明に係わる基板保持装置において、前記基板保持装置は、前記基板に原版のパターンを露光する露光装置に用いられ、前記本体部は、前記原版との相対位置を位置決めするためのアライメントマークを有することを特徴とする。
【００２０】
また、本発明に係わる露光装置は、前記基板上の複数の露光領域の前記アライメントマークに対する相対位置を計測するアライメントステーションと、該アライメントステーションで計測された前記複数の露光領域の前記アライメントマークに対する相対位置の情報に基づいて、前記基板を露光する露光ステーションとを備える露光装置であって、前記アライメントステーションと前記露光ステーションとの間で、上記の基板保持装置により前記基板を吸着保持した状態で前記基板の受け渡しを行なうことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
以上のように構成される本発明によれば、装置を複雑化することなく、アライメントステーションと露光ステーションの間での基板の受け渡しが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の一実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００２３】
図１は、アライメントステーションと露光ステーションを有した露光装置の概略構成を示すブロック図である。
【００２４】
図１において、１はアライメントステーションにおいて、後述するチャックマークとショットマークとの位置関係を計測するショットアライメント光学系、２は基板、３は基板２を負圧吸引により保持する基板保持装置、４は基板２を基板保持装置３ごと動かす基板ステージである。５は原板６の像を基板２へ投影する投影光学系、７は露光ステーションにおいて、基板２と原板６の位置合わせを行うチャックアライメント光学系、８は照明光学系である。
【００２５】
チャックアライメント光学系７は、投影光学系５を介して基板２と原板６のマークを検出するスルー・ザ・レンズ方式、投影光学系と独立したアライメントスコープを用いるオフアクシスアライメント方式等、原板６と基板２の相対位置を合わせられれば、どのような方式でも良い。９は中央処理装置（ＣＰＵ）である。
【００２６】
１０は斜入射光検知方式のフォーカス、チルト検出部である。１１，１２および１３はそれぞれＣＰＵ９を介し、基板供給装置２１および２２とオンライン接続されている露光ステーションである。これらの露光ステーションには順次基板が自動的に供給され、フルオートで露光処理が行なわれている。２１および２２は露光ステーション１１〜１３に基板を供給する基板供給装置（以下、アライメントステーションという）である。
【００２７】
図２は、基板保持装置３に基板を吸着した状態を示す上面図である。図１と共通または対応する部分については同一の符号で表わす。
【００２８】
３１は基板保持装置３に予め配置されるマーク（以下、チャックマークという）、３２は露光領域（以下ショットと言う）の位置検出用のアライメントマーク（以下ショットマークと言う）である。
【００２９】
図２において、基板２は負圧吸引により基板保持装置３に吸着される。これにより、基板保持装置３に基板２を載せた状態で、すなわち基板保持装置３に対して基板２を動かすことなく、基板保持装置を動かすことが可能となる。
【００３０】
特開平１−４９００７号公報では負圧吸引による保持の場合は負圧を印加する配管を基板保持装置につけたままで移動可能であるようにしておく様に述べられているが、本実施形態では、基板２と基板保持装置３によって形成される吸着領域及び、基板保持装置３がその中に有している中空領域によって負圧を維持するため、外部からの連続的な負圧の印加を受けることなく、基板を保持し続けることが可能となっている。
【００３１】
次に、図１および図２を参照して、本実施形態の動作を説明する。ここでは、アライメントステーション２１から露光装置１１に基板２を供給する場合について説明する。
【００３２】
アライメントステーション２１では、先ず、チヤツクマーク３１に対する基板２の各ショットの相対位置を、ショットアライメント光学系１でチヤツクマーク３１とショットマーク３２を観察して検出する。チヤツクマーク３１は、露光の際基板２を原板６と位置合せするための基準マークとなるものであるから、従来のグローバルアライメントにおける基板上の代表ショットのショットマークと同様な機能を果たす。すなわち、アライメントステーションにおいて各ショットのチャックマーク３１に対する相対位置を検出することにより、従来のグローバルアライメントによる露光の際、代表ショット位置の検出値より補間して求めていた各ショットの位置を実際に測定することとなる。この測定により、基板がその製造処理過程で伸縮、変形等をしたことによる各ショットの「位置決め目標値」からのずれ量がわかる。その測定された各ショット毎のずれ量はＣＰＵ９に備えてある不図示の記憶装置に記憶される。
【００３３】
次に、この基板２が載った基板保持装置３をアライメントステーション２１から露光ステーション１１の基板ステージ４′へ移動する。ＣＰＵ９は前記のアライメントステーション２１における測定により取得し記憶しておいた各ショットの「位置決め目標値」からのずれ量を取り出し、露光ステーション１１にそのデータを送る。露光ステーション１１では、チャックアライメント光学系７により、原板６とチヤツクマーク３１とを合わせ、この合わせた位置から、基板ステージ４´により基板２を「位置決め目標値」＋「ずれ量」だけ各ショット毎に移動させ露光を行なう。
【００３４】
以上のようにアライメントステーションを使用し予め多数枚の基板保持装置３を用意しておき、各基板保持装置３上の基板２に対し各ショット位置を検出し記録しておけば、露光ステージ上でアライメントする時間は、実質上、チャックアライメント系７でチヤツクマーク３１を検出する時間だけとなる。従つて、露光ステージ上においては高速でかつ高精度なアライメントが可能となる。
【００３５】
アライメントステーションにおいて基板上の複数のマークの位置を検出し記憶する処理の時間が露光ステーションで１つの露光領域を露光する処理と比べて小さい場合、アライメントステーションからの基板の搬入が遅れることにより生ずるスループツトの低下を引き起こすことがなく、１台のアライメントステーションで多数の露光ステーションに対しフルオートで基板を供給することもできる。
【００３６】
図１では、１台のアライメントステーション２１から、複数の露光ステーション１１〜１３に基板を基板保持装置ごと渡す様子を矢印で示している。
【００３７】
アライメントステーションにおいては、各ショットマークの位置を検出する時に使用するアライメントスコープに多数の波長の光源を使うことにより、位置合せのためのマーク（チヤツクマーク３１とショットマーク３２）の検出率を向上させ、より高精度のアライメントをすることができる。
【００３８】
また、アライメントする時に、位置検出の再現性を高くするためには、より多く信号の取り込みをして平均化する必要がある。しかし、信号取り込みの回数が多くなればなるほど時間がかかる。本実施形態においては、チヤツクマーク３１を基準とした基板２の各ショットの位置をオフアキシスで計測する処理と、原板のパターンを転写するために露光を行なう処理とは同時に行なうことができる。従つて、露光を開始する前に予め多数の基板について各ショット位置を測定しておける様、１つの露光系に対して多数のアライメントステーションを設けておき、露光ステーションではチヤツクマークと原板とをチャックアライメント光学系でアライメントした後、ただちに露光を行なうことができる。すなわち、アライメントステーションにおける測定に時間がかかることにより、基板の露光ステーションへの搬入が遅れて、そのために露光処理のスループツトを下げてしまうということがない。従つて、精度を上げるために多数回データ取りをしてもスループツトの低下を招くことがない。これは、スループツトだけでなく検出率についても同様であり、多数回データ取りをすることにより、より高精度のアライメントをすることができる。
【００３９】
特に本実施形態においては、アライメントステーションと露光ステーションの間での基板保持装置の受け渡し時に、基板２と基板保持装置３によって形成される吸着領域及び、基板保持装置３がその中に有している中空領域によって負圧を維持するため、外部からの連続的な負圧の印加を受けることなく、基板２を保持し続けることが可能となっている。このため、基板保持装置３がアライメントステーションと露光ステーションのどちらにあっても引きまわしが可能な配管を構成したり、基板保持装置３の受け渡しが完了した後、基板保持装置３から配管を取り外して、基板保持装置受け渡しの前にあった位置へ配管を回収するような機構を設ける必要がなくなり、簡単な構成でアライメントステーションと露光ステーションを協働させる露光装置を提供することが出来る。
【００４０】
次に、本実施形態における基板保持装置の具体的な構造について説明する。
【００４１】
図３は、基板保持装置３の断面図であり、３３は基板２と基板保持装置３によって形成される吸着領域、３４は該吸着領域を形成し、更に圧力的に独立した複数の領域に分けている縁堤である。
【００４２】
又、３５は基板保持装置の中に設けられた中空領域、３６は中空領域３５を複数の領域に隔てている隔壁である。又、穴３７により中空領域３５と吸着領域３３は圧力的に導通されている。
【００４３】
又、隔壁３６には穴３８が設けられており、隣り合う中空領域３５はこの穴を介して、圧力的に導通している。尚、この穴３８は複数の吸着領域３３における、互いの圧力的な独立を保つ様、選択的にあけられている。
【００４４】
３９は弁であり、基板ステージ４より負圧の印加を受ける時は弁３９が開き、基板２を保持するのに十分な負圧が印加された後、弁３９が閉じる、所謂、逆止弁となっている。これにより、アライメントステーションと露光ステーションとの間で基板保持装置３を受け渡す際、負圧を印加する配管を取り外した状態で行うことが出来る。弁３９は、複数の吸着領域３３及び複数の中空領域３５によって形成される複数の圧力的に独立した負圧領域のそれぞれに対し、最低１個づつ配置される。
【００４５】
この、圧力的に独立した負圧領域を複数設けることにより、例えば基板保持装置の受け渡し動作中に、基板２と基板保持装置３の接触部の気密が保てない箇所が発生した場合も、残りの箇所で基板２の吸着保持を維持できるので、反り返った基板を吸着保持した時等の基板保持装置３の受け渡し動作の信頼性を向上することが出来る。
【００４６】
本実施形態の基板保持装置３は、チャックマーク３１が基板２を吸着保持する領域の外側に設けられている。中空領域３５を、吸着領域３３と重なる範囲のみでなく、チャックマーク３１と重なる範囲まで拡大することで、中空領域３５の体積を確保し、基板の吸着保持の信頼性を向上させることが可能である。
【００４７】
又、中空領域３５は、基板保持装置３の基板２を吸着保持する面までの距離が、基板保持装置３の反対側の面までの距離と等しいか、大きくなる位置に配置されることが望ましい。中空領域に負圧が印加されると、大気圧の影響で基板保持装置が変形するが、中空領域３５の配置をこの様にすることで、基板２を吸着保持する面の変形が最小限に抑えられ、基板２の平面矯正へ与える影響を小さくすることが可能となる。
【００４８】
又、特に走査型露光装置に、本実施形態の基板保持装置を適用する場合、隔壁３６の配置は、図４に示す通り基板保持装置が走査される方向と平行及び直交した格子状に設けるのが好ましい。この場合、隣り合う隔壁の走査方向の間隔が、走査方向と直交する方向の間隔と等しいか、小さくなる様に配するのが好ましい。
【００４９】
走査露光においては、基板の走査方向に短く、走査方向と直交する方向に長い、長方形形状の露光照射領域を形成し、この露光照射領域を基板が走査するように駆動される。この時、露光照射領域の直前で、斜入射光検知方式のフォーカス、チルト検出部による計測を行い、この計測値を基に基板のフォーカス方向及びボケ方向の駆動を逐次行いながら露光がなされる。
【００５０】
この駆動方式では、基板の厚みむら等に起因する基板の被露光面のうねりを逐次補正しながら露光が行われるため、基板の被露光面の平面度は、任意の露光照射領域相当の面積において所望値に収まっていれば良い。
【００５１】
上記の条件は、基板保持装置においては、走査方向と直交する方向に辿った、基板吸着面の平面度がより要求され得ることを意味する。これを達成するために、中空領域３５を隔てる隔壁３６の配置は基板保持装置が走査される方向と平行及び直交した格子状に設けるのが好ましく、又、隣り合う隔壁３６の走査方向の間隔が、走査方向と直交する方向の間隔と等しいか、小さくなる様に配するのが好ましい。
【００５２】
又、隔壁３６の配置は、基板保持装置３が、基板の平面矯正を必要な精度で行えるだけの剛性を有しさえすれば、四角形の中空領域を形成するような格子状に限られる物では無く、図５(ａ)〜(ｃ)に示すような、三角形、六角形等の中空領域を形成する配置、又は同心円状と放射状の隔壁の組み合わせに配置しても良い。
【００５３】
以上、説明したように、本実施形態によれば、チヤツクマークを用いて基板上のショットの配列情報を事前に求め、原板と基板保持装置をアライメントした後は、事前に求めた配列情報に基づいて基板保持装置のステツプ移動を制御する、アライメントステーションと露光ステーションの協働による露光装置において、アライメントステーションと露光ステーションとの間での基板保持装置の受け渡しを、基板の吸着保持のための負圧を印加する配管を接続せずに行うことが可能になるため、アライメント、フォーカス精度の向上とスループット向上の両立を図った露光装置を簡単な機構で構成することが可能になる。
【００５４】
以上のように、本実施形態のの基板保持装置は、その中に一つ若しくは複数の中空領域を有し、該中空領域は、該基板保持装置の吸着領域に対し圧力的に導通していることを特徴としている。尚、ここで言う吸着領域は基板を負圧吸引により吸着保持する、所謂真空吸着方式の基板において、前記基板保持装置と前記基板保持装置に吸着保持される基板によって形成される、外気に対し略気密が保たれ、且つ該基板の吸着保持のための負圧が印加される空間である。
【００５５】
本実施形態の基板保持装置において、前記中空領域が、隔壁により複数設けられている構造であり、前記隔壁を挟み隣り合う前記中空領域が互いに、隔壁に設けられた孔によって圧力的に導通する構造を持っていることが好ましい。
【００５６】
本実施形態のの基板保持装置において前記吸着領域を複数有し、且つ該複数の吸着領域は互いに圧力的に独立していることが好ましい。
【００５７】
又、前記複数の吸着領域は、前記複数の中空領域と圧力的に導通し且つ、前記隔壁の孔は、前記複数の吸着領域の圧力的な独立を保つ様、選択的に設けられていることを特徴とする。
【００５８】
本実施形態の基板保持装置において、前記中空領域は前記基板を吸着保持する面までの距離が、該基板保持装置の反対側の面までの距離と等しいか、大きくなる位置に配置されることが望ましい。
【００５９】
本実施形態の基板保持装置は、基板を原板に対して移動させることにより、該原板のパターンを該基板の複数の領域に順に露光する露光装置において、前記原板との相対位置をアライメントするための一つ若しくは複数の第一のアライメントマークを有することを特徴とする。
【００６０】
又、本実施形態の基板保持装置は、前記基板上の複数の露光領域毎に配置される第二のアライメントマークの、前記第一のアライメントマークに対する位置を計測するアライメントステーションと、前記第一のアライメントマークを用いて、前記基板保持装置と前記原板の相対位置をアライメントし且つ、前記アライメントステーションでの計測で得られた、前記第一のアライメントマークに対する前記第二のアライメントマークの位置情報を元に、前記基板を移動し、順次露光を行う露光ステーションとを有する露光装置において、前記アライメントステーションと前記露光ステーションとの間で、基板を吸着保持したまま基板保持装置の受け渡しを行うことを特徴とする。
【００６１】
又、本実施形態の基板保持装置は、前記アライメントステーションと前記露光ステーションとの間で基板保持装置を受け渡す際、前記吸着領域と前記中空領域で形成される負圧の領域によって圧力を維持することにより、外部からの負圧の印加を受けることなく、基板を吸着保持することを特徴とする。
【００６２】
又、本実施形態の基板保持装置は、原板と基板を投影光学系に対し、共役に走査しながら露光する走査型露光装置において、前記中空領域を形成する前記隔壁が、前記基板の走査方向に平行、及び直交する格子状に配され且つ、隣り合う格子の前記走査方向の間隔が、前記走査方向と直交する方向の間隔と等しいか、小さくなる様に配されたことを特徴とする。
【００６３】
このような構成によれば、アライメントステーションと露光ステーションとの間で、基板保持装置の受け渡しを行う露光装置において、負圧吸引による所謂真空吸着方式の基板保持装置を用いた場合、基板保持装置の受け渡し時に負圧を印加する配管を引きずったまま行うことなく、基板保持装置自身に設けられた中空領域と、基板及び基板保持装置によって形成される吸着領域によって形成される負圧領域によって圧力を維持することにより、外部からの負圧の印加を受けることなく、基板を保持し続けることが可能となる。これにより、簡単な構成で基板保持装置の受け渡しを行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の一実施形態に係わるアライメントステーションと露光ステーションを有した露光装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】基板保持装置が、ショットマークを有した基板を保持した状態を示す平面図である。
【図３】基板保持装置が、基板を保持した状態を示す断面図である。
【図４】隔壁が四角形の格子状に配置された基板保持装置を示す図である。
【図５】隔壁が三角形、六角形の格子状、及び同心円状と放射状に配置された基板保持装置を示す図である。
【符号の説明】
【００６５】
１  アライメント光学系
２  基板
３  基板保持装置
４  基板ステージ
５  投影光学系
６  原板
７  チャックアライメント光学系
８  照明光学系
９  ＣＰＵ
１０  斜入射光検出方式フォーカス、チルト検出部
１１、１２、１３  露光ステーション
２１、２２  アライメントステーション
３１  チャックマーク
３２  ショットマーク
３３  吸着領域
３４  縁堤
３５  中空領域
３６  隔壁
３７  中空領域と吸着領域を導通する穴
３８  隣接する中空領域を導通する穴
３９  弁
【図１】
2005064139.tif 000003
【図２】
2005064139.tif 000004
【図３】
2005064139.tif 000005
【図４】
2005064139.tif 000006
【図５】
2005064139.tif 000007