(57)【要約】【課題】  内部空間を清浄に保ち、各鏡筒ユニットの高精度に位置調整可能な鏡筒と、高集積度のデバイスを効率よく製造可能な露光装置とデバイスの製造方法とを提供する。【解決手段】  第１の鏡筒ユニット５９ｂ１の第１鍔部６０ａに、重力方向の上方側に開口し、環状をなす収容溝６５を凹設し、Ｏリング６６を収容する。第１の鏡筒ユニット５９ｂ１の第１鍔部６０ａに接合される第２の鏡筒ユニット５９ｂ２の第２鍔部６０ｂにおける前記Ｏリング６６の密着位置より内側に、排気装置に接続される環状溝６７を凹設する。そして、Ｏリング６６により、第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂ間の空間を介した鏡筒ユニット５９内への外気の侵入を抑制する。また、環状溝６７を介して、Ｏリング６６から極わずか発生する揮散物を第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂ間の空間内のガスとともに、鏡筒ユニット５９外へ排出する。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの光学素子を収容する複数の鏡筒ユニットが積層されて構成される鏡筒において、
前記鏡筒ユニットは、第１の接合部を有する第１の鏡筒ユニットと、前記第１の鏡筒ユニットの第１の接合部に係合する第２の接合部を有する第２の鏡筒ユニットとを備え、前記第１の鏡筒ユニットと前記第２の鏡筒ユニットとの少なくとも一方に、前記第１の接合部と前記第２の接合部との間の空間を介したガスの流通を抑制するシール部材を含む第１ガス流通抑制機構と、その第１ガス流通抑制機構とは異なる第２ガス流通抑制機構とを設けたことを特徴とする鏡筒。
【請求項２】
前記第２ガス流通抑制機構は、前記第１の接合部と前記第２の接合部との間の空間のガスを外部に排出するガス排出機構であることを特徴とする請求項１に記載の鏡筒。
【請求項３】
前記ガス排出機構を前記第１の接合部と前記第２の接合部との空間における前記シール部材の内側に設けたことを特徴とする請求項２に記載の鏡筒。
【請求項４】
前記シール部材と前記ガス排出機構との一方を前記第１の鏡筒ユニットに設けるとともに、前記シール部材と前記ガス排出機構との他方を前記第２の鏡筒ユニットに設けたことを特徴とする請求項２または請求項３に記載の鏡筒。
【請求項５】
前記第２ガス流通抑制機構は、前記第１ガス流通抑制機構が備える前記シール部材とは異なる材料からなる第２シール部材を含むことを特徴とする請求項１に記載の鏡筒。
【請求項６】
前記シール部材が弾性部材からなり、前記第２シール部材が鏡筒ユニットを積層したときに変形する金属材料からなることを特徴とする請求項５に記載の鏡筒。
【請求項７】
少なくとも１つの光学素子を収容する複数の鏡筒ユニットが積層されて構成される鏡筒において、
前記鏡筒ユニットは、第１の接合部を有する第１の鏡筒ユニットと、前記第１の鏡筒ユニットの第１の接合部に係合する第２の接合部を有する第２の鏡筒ユニットとを備え、前記第１の鏡筒ユニットと前記第２の鏡筒ユニットとの少なくとも一方に、前記第１の接合部と前記第２の接合部との間の空間を介したガスの流通を抑制するシール部材と、そのシール部材に当接するまたは食い込む凸部とを含む第３ガス流通抑制機構を設けたことを特徴とする鏡筒。
【請求項８】
前記シール部材は、リング状に形成されるとともに、少なくとも１カ所で分割したものであることを特徴とする請求項７に記載の鏡筒。
【請求項９】
前記シール部材は、前記光学素子の光軸を含む面での断面において、前記第１の接合部と第２の接合部との接合面と平行な複数のシール面を有することを特徴とする請求項７または請求項８に記載の鏡筒。
【請求項１０】
前記第１の接合部と前記第２の接合部との一方に前記シール部材を収容する収容溝を設け、前記第１の接合部と前記第２の接合部との他方に、前記シール部材を押圧する押さえ部と、その押さえ部をシール部材側に変位させる変位機構とを設けたことを特徴とする請求項７〜請求項９のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【請求項１１】
前記押さえ部と前記変位機構との少なくとも一方に、前記第１の接合部と前記第２の接合部との締め付けにより、前記押さえ部をシール部材側に変位させる斜面を形成したことを特徴とする請求項１０に記載の鏡筒。
【請求項１２】
少なくとも１つの光学素子を収容する複数の鏡筒ユニットが積層されて構成される鏡筒において、
前記鏡筒ユニットは、第１の接合部を有する第１の鏡筒ユニットと、前記第１の鏡筒ユニットの前記第１の接合部に係合する第２の接合部を有する第２の鏡筒ユニットとを備え、前記第１の接合部は、前記第１の鏡筒ユニットと連結した連結部と、前記光学素子の光軸に関して前記連結部の外側で、かつ前記連結部から分離した分離部とを有し、前記第２の接合部と前記連結部の側面と前記分離部の側面との間に配置されるシール部材とを有することを特徴とする鏡筒。
【請求項１３】
少なくとも１つの光学素子を収容する複数の鏡筒ユニットが積層されて構成される鏡筒において、
前記鏡筒ユニットは、第１の接合部を有する第１の鏡筒ユニットと、前記第１の鏡筒ユニットの第１の接合部に係合する第２の接合部を有する第２の鏡筒ユニットとを備え、前記第１の鏡筒ユニットと前記第２の鏡筒ユニットとの少なくとも一方に、前記第１の接合部と前記第２の接合部との間の空間を介したガスの流通を抑制するシール部材を含むガス流通抑制機構を有し、前記シール部材が金属ガリウムからなることを特徴とする鏡筒。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの光学素子は、マスク上に形成されたパターンの像を基板上に転写する投影光学系の一部であることを特徴とする請求項１〜請求項１３のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【請求項１５】
露光光のもとで、マスク上に形成されたパターンの像を基板上に露光する露光装置において、
前記露光光の光路中に配置される少なくとも１つの光学素子を請求項１〜請求項１４のうちいずれか一項に記載の鏡筒内に収容したことを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
前記リソグラフィ工程で請求項１５に記載の露光装置を用いて露光を行うこと特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばレンズ、ミラー等の少なくとも１つの光学素子を収容する鏡筒に関するものである。また、本発明は、例えば半導体素子、液晶表示素子、撮像素子、薄膜磁気ヘッド等、各種デバイスの製造プロセスのフォトリソグラフィー工程で使用される露光装置に関するものである。さらに、本発明は、前記各種デバイスを製造するためのデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の露光装置では、例えば特許文献１に記載されるように、所定のパターンが形成されたレチクル、フォトマスク等のマスクを所定の露光光で照明する照明光学系が設けられている。また、この照明光学系の照明により、前記パターンの像をフォトレジスト等の感光性材料の塗布された基板（ウエハ、ガラスプレート等）上に露光する投影光学系が設けられている。これらの照明光学系及び投影光学系は、複数のレンズエレメント、ミラー等の光学素子で構成され、鏡筒内に収容されている。
【０００３】
このような露光装置では、近年の回路パターンの著しい微細化要求に対応すべく、露光光の短波長化が進められてきている。最近では、遠紫外域のＫｒＦエキシマレーザ光（λ＝２４８ｎｍ）、さらに真空紫外域のＡｒＦエキシマレーザ光（λ＝１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ光（λ＝１５７ｎｍ）等を露光光とした露光装置が開発されている。
【０００４】
ところで、このような真空紫外光を露光光として用いる場合、次のような問題が明らかになってきた。すなわち、その露光光が通過する空間（鏡筒の内部空間等）内に存在する酸素、水蒸気、炭化水素ガス、あるいは前記露光光と反応してレンズエレメント等の光学素子の表面に曇り物質を生ずる有機物質のガスなどは、前記露光光を吸収する吸光物質となるという問題である。
【０００５】
この他にも、露光装置内に光学素子、ステージ等を駆動する駆動機構が存在する場合には、その駆動機構への給電、信号伝達のための電線の被覆物質等から極微量ながら揮散される有機物質等も、前記吸光物質となり得る。さらに、前記光学素子、それら光学素子を収容する鏡筒の内壁に付着していた付着物の揮散物等、いわゆる脱ガスも、前記吸光物質となり得る。
【０００６】
露光光として、特に、Ｆ２レーザ光以下の短波長の光を採用した場合には、光源から出射された露光光は、ＡｒＦエキシマレーザ光の露光光に対して前記吸光物質による吸収が大きく、前記基板に到達するまでにそのエネルギが著しく低下することがある。このように、露光光自体のエネルギが低下したり、光学素子の曇りによって露光光の透過率が低下したりすると、露光装置の露光効率が低下し、製品の歩留まりが低下することになる。
【０００７】
そこで、近年、不活性ガス、例えば窒素、ヘリウム、アルゴン等のパージガスを用いて前記露光光が通過する前記鏡筒の内部空間等をパージする露光装置が開発されてきている。すなわち、パージガスを前記内部空間に供給して、前記吸光物質を含むガスを同空間外に排出するものである。
【特許文献１】特開平１１−２３３４１２号公報（請求項１〜４、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところが、前記従来構成では、前記内部空間内を前記パージガスでパージするパージ機構は装備されている。しかしながら、露光光として、真空紫外光、特にＦ２レーザ以下の短波長の光を採用した場合には、内部空間内に侵入する外気の影響が微量であったとしても無視できないものとなり得る。
【０００９】
特に、各光学素子を１つあるいは複数まとめて、それぞれ独立した鏡筒ユニットに収容し、それらの鏡筒ユニットを積層することで１つの鏡筒を構成する、いわゆる分割鏡筒では、各鏡筒ユニット間にできる隙間から鏡筒の内部空間への外気が侵入しやすいものとなっている。
【００１０】
このような各鏡筒ユニット間の隙間を介した外気の侵入を抑制するためには、それら各鏡筒ユニットの端面の間に、例えばフッ素樹脂からなるパッキンを介装する構成が考えられる。しかしながら、フッ素樹脂といえども完全に揮散物をゼロにすることはできない。
【００１１】
また、鏡筒を組み立てる際、各鏡筒ユニットに収容される各光学素子間の光軸調整を行う必要がある。この光学素子の光軸調整は、主に各鏡筒ユニット自体の相対的な位置を調整することによって行われている。ここで、その調整時に、各鏡筒ユニット間にパッキンが介装され、所定の形状につぶされていると、そのパッキンを歪ませながら各鏡筒ユニットを移動させる必要がある。このような場合、パッキンの有する弾性力により、調整後の各鏡筒ユニット間の相対的な位置が変化するおそれがある。
【００１２】
さらに、パッキンが各鏡筒ユニットの接合面に固着する可能性も否定できず、このようなパッキンの固着が生じると、各鏡筒ユニット自体の位置調整が困難になるおそれがある。これに対して、パッキンの固着を抑制するために、パッキンの収容溝を深くするなどして、パッキンの変形量を小さくすることも考えられる。しかしながら、パッキンの変形量を小さくすると、各鏡筒ユニットに対するパッキンの密着力が低下することになり、鏡筒の気密性が低下することになる。
【００１３】
本発明は、このような従来の技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的としては、内部空間を清浄に保つことができ、各鏡筒ユニットの位置調整を精度よく行うことのできる鏡筒、及び、高集積度のデバイスを効率よく製造可能な露光装置並びにデバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、少なくとも１つの光学素子を収容する複数の鏡筒ユニットが積層されて構成される鏡筒において、前記鏡筒ユニットは、第１の接合部を有する第１の鏡筒ユニットと、前記第１の鏡筒ユニットの第１の接合部に係合する第２の接合部を有する第２の鏡筒ユニットとを備え、前記第１の鏡筒ユニットと前記第２の鏡筒ユニットとの少なくとも一方に、前記第１の接合部と前記第２の接合部との間の空間を介したガスの流通を抑制するシール部材を含む第１ガス流通抑制機構と、その第１ガス流通抑制機構とは異なる第２ガス流通抑制機構とを設けたことを特徴とするものである。
【００１５】
この請求項１に記載の発明では、第１ガス流通抑制機構によって、鏡筒内部側への光学素子の汚染物質や露光光の吸光物質を含む外気の侵入が抑制される。さらに、極微量の汚染物質や吸光物質が、第１ガス流通抑制機構を通過したり、第１ガス流通抑制機構で発生したりしたとしても、それらの汚染物質や吸光物質は、第２ガス流通抑制機構により、鏡筒のさらに内部側への侵入が抑制される。これにより、汚染物質の鏡筒内への侵入量を低減することができ、鏡筒内を清浄に保つことができる。このため、光学素子を汚染されにくくすることができるとともに露光光のエネルギを高く保つことができる。
【００１６】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明の作用において、前記第２ガス流通抑制機構は、前記第１の接合部と前記第２の接合部との間の空間のガスを外部に排出するガス排出機構であることを特徴とするものである。
【００１７】
この請求項２の発明では、請求項１に記載の発明の作用に加えて、シール部材によって鏡筒内部への外気の侵入が抑制される。その一方で、シール部材からごくわずかに揮散される揮散物はガス排出機構により外部に排出される。このため、光学素子を汚染する汚染物質の鏡筒内への侵入量を低減することができ、鏡筒内を清浄に保つことができる。
【００１８】
また、請求項３に記載の発明は、前記請求項２に記載の発明において、前記ガス排出機構を前記第１の接合部と前記第２の接合部との間の空間における前記シール部材の内側に設けたことを特徴とするものである。
【００１９】
この請求項３に記載の発明では、前記請求項２に記載の発明の作用に加えて、シール部材から鏡筒の内部側に向かう揮散物を、効率よく外部へ排出することができ、鏡筒内をより清浄に保つことができる。
【００２０】
また、請求項４に記載の発明は、前記請求項２または請求項３に記載の発明において、前記シール部材と前記ガス排出機構との一方を前記第１の鏡筒ユニットに設けるとともに、前記シール部材と前記ガス排出機構との他方を前記第２の鏡筒ユニットに設けたことを特徴とするものである。
【００２１】
この請求項４に記載の発明では、前記請求項２または請求項３に記載の発明の作用に加えて、シール部材とガス排気機構とを同一の接合部に設ける必要がなく、鏡筒ユニットの加工を容易に行うことができる。
【００２２】
また、請求項５に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記第２ガス流通抑制機構は、前記第１ガス流通抑制機構が備える前記シール部材とは異なる材料からなる第２シール部材を含むことを特徴とするものである。
【００２３】
また、請求項６に記載の発明は、前記請求項５に記載の発明において、前記シール部材が弾性部材からなり、前記第２シール部材が鏡筒ユニットを積層したときに変形する金属材料からなることを特徴とするものである。
【００２４】
これらの請求項５及び請求項６に記載の発明では、仮に、鏡筒外からの汚染物質や吸光物質の侵入を抑制するシール部材から極微量ながら揮散物の発生があったとしても、第２シール部材に金属材料を使用することで、鏡筒内部への前記揮散物の侵入を抑制することができる。
【００２５】
また、請求項７に記載の発明は、少なくとも１つの光学素子を収容する複数の鏡筒ユニットが積層されて構成される鏡筒において、前記鏡筒ユニットは、第１の接合部を有する第１の鏡筒ユニットと、前記第１の鏡筒ユニットの第１の接合部に係合する第２の接合部を有する第２の鏡筒ユニットとを備え、前記第１の鏡筒ユニットと前記第２の鏡筒ユニットとの少なくとも一方に、前記第１の接合部と前記第２の接合部との間の空間を介したガスの流通を抑制するシール部材と、そのシール部材に当接するまたは食い込む凸部とを含む第３ガス流通抑制機構を設けたことを特徴とするものである。
【００２６】
この請求項７に記載の発明では、各鏡筒ユニットを、その鏡筒ユニット内に収容される光学素子の光軸に交差する方向に位置調整を行った後に、シール部材に凸部を当接または食い込ませることができる。これにより、各鏡筒ユニットの位置決めを精度よく行った上で、鏡筒内の気密性を高く維持することができ、鏡筒の内部空間を清浄に保つことができる。
【００２７】
また、請求項８に記載の発明は、前記請求項７に記載の発明において、前記シール部材は、リング状に形成されているとともに、少なくとも１カ所で分割したものであることを特徴とするものである。
【００２８】
この請求項８に記載の発明では、前記請求項７に記載の発明の作用に加えて、各鏡筒ユニットの位置調整を行った後に、シール部材を鏡筒ユニットに対して容易に装着することができる。
【００２９】
また、請求項９に記載の発明は、前記請求項７または請求項８に記載の発明において、前記シール部材は、前記光学素子の光軸を含む面での断面において、前記第１の接合部と第２の接合部との接合面と平行な複数のシール面を有することを特徴とするものである。
【００３０】
この請求項９に記載の発明では、前記請求項７または請求項８に記載の発明の作用に加えて、鏡筒内の気密性をさらに高めることができる。
また、請求項１０に記載の発明は、前記請求項７〜請求項９のうちいずれか一項に記載の発明において、前記第１の接合部と前記第２の接合部との一方に前記シール部材を収容する収容溝を設け、前記第１の接合部と前記第２の接合部との他方に、前記シール部材を押圧する押さえ部と、その押さえ部をシール部材側に変位させる変位機構とを設けたことを特徴とするものである。
【００３１】
この請求項１０に記載の発明では、前記請求項７〜請求項９のうちいずれか一項に記載の発明の作用に加えて、各鏡筒ユニットの位置調整を行った後に、押さえ部を変位機構によりシール部材側に変位させて、押さえ部によりシール部材を押圧することによって、鏡筒内の気密性を付与することができる。従って、各鏡筒ユニットの位置調整を精度よく行うことができるとともに、鏡筒の内部空間を清浄に保つことができる。
【００３２】
また、請求項１１に記載の発明は、前記請求項１０に記載の発明において、前記押さえ部と前記変位機構との少なくとも一方に、前記第１の接合部と前記第２の接合部との締め付けにより、前記押さえ部をシール部材側に変位させる斜面を形成したことを特徴とするものである。
【００３３】
ここで、積層された各鏡筒ユニットを接合固定する際には、各鏡筒ユニットの配列方向に締め付ける必要がある。光学素子が重力方向に交差するように配列される光学系を収容する鏡筒では、積層された各鏡筒ユニットは、上下に締め付けることになる。この請求項１１に記載の発明では、前記請求項１０に記載の発明の作用に加えて、斜面の働きにより上下に締め付ける力を、各鏡筒ユニットの斜め内側への力に変換することができる。このため、各鏡筒ユニットを締め付けることで、各鏡筒ユニットの締め付け部分より内側に配置されたシール部材と凸部とを、容易に当接または食い込ませることができる。
【００３４】
また、請求項１２に記載の発明は、少なくとも１つの光学素子を収容する複数の鏡筒ユニットが積層されて構成される鏡筒において、前記鏡筒ユニットは、第１の接合部を有する第１の鏡筒ユニットと、前記第１の鏡筒ユニットの前記第１の接合部に係合する第２の接合部を有する第２の鏡筒ユニットとを備え、前記第１の接合部は、前記第１の鏡筒ユニットと連結した連結部と、前記光学素子の光軸に関して前記連結部の外側で、かつ前記連結部から分離した分離部とを有し、前記第２の接合部と前記連結部の側面と前記分離部の側面との間に配置されるシール部材とを有することを特徴とするものである。
【００３５】
この請求項１２に記載の発明では、分離部を連結部に対して締め付けて、シール部材を第２の接合部と連結部の側面に密着させることで、各鏡筒ユニットの位置調整を行った後において、容易に鏡筒の気密性を高めることができる。
【００３６】
また、請求項１３に記載の発明は、少なくとも１つの光学素子を収容する複数の鏡筒ユニットが積層されて構成される鏡筒において、前記鏡筒ユニットは、第１の接合部を有する第１の鏡筒ユニットと、前記第１の鏡筒ユニットの第１の接合部に係合する第２の接合部を有する第２の鏡筒ユニットとを備え、前記第１の鏡筒ユニットと前記第２の鏡筒ユニットとの少なくとも一方に、前記第１の接合部と前記第２の接合部との間の空間を介したガスの流通を抑制するシール部材を含むガス流通抑制機構を有し、前記シール部材が金属ガリウムからなることを特徴とするものである。
【００３７】
金属ガリウムは、融点が３０℃である。このため、この請求項１３に記載の発明では、各鏡筒ユニットの位置調整を行った後、若干加熱して溶融した状態で金属ガリウムをシール部材の収容溝に流し込み、放冷することで鏡筒の気密性を高めることができる。しかも、金属ガリウムは、揮散物がほとんどないため、鏡筒内を極めて清浄に保つことができる。
【００３８】
また、請求項１４に記載の発明は、前記請求項１〜請求項１３のうちいずれか一項に記載の発明において、前記少なくとも１つの光学素子は、マスク上に形成されたパターンの像を基板上に転写する投影光学系の一部であることを特徴とするものである。
【００３９】
この請求項１４に記載の発明では、前記請求項１〜請求項１３のうちいずれか一項に記載の発明の作用に加えて、投影光学系の光学性能が改善され、パターンの像を基板上に高精度に転写することができる。
【００４０】
また、請求項１５に記載の発明は、露光光のもとで、マスク上に形成されたパターンの像を基板上に露光する露光装置において、前記露光光の光路中に配置される少なくとも１つの光学素子を請求項１〜請求項１４のうちいずれか一項に記載の鏡筒内に収容したことを特徴とするものである。
【００４１】
この請求項１５に記載の発明では、高集積度のデバイスを効率よく製造することができる。
また、請求項１６に記載の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程で請求項１５に記載の露光装置を用いて露光を行うことを特徴とするものである。
【００４２】
この請求項１６に記載の発明では、高集積度のデバイスを効率よく製造することができる。
次に、前記各請求項に記載の発明にさらに含まれる技術的思想について、それらの作用とともに、以下に記載する。
【００４３】
（１）  前記第１または第２の接合部に、前記シール部材を収容する収容溝を重力方向上方側に開口するように設けたことを特徴とする請求項２〜請求項４のうちいずれか一項に記載の鏡筒。
【００４４】
このように構成すれば、前記請求項２〜請求項４のうちいずれか一項に記載の発明の作用に加えて、シール部材を鏡筒ユニットに対して容易に保持することができ、鏡筒ユニットの組み付け作業を容易に行うことができる。
【００４５】
（２）  前記第２ガス流通抑制機構は、前記第１の鏡筒ユニットと前記第２の鏡筒ユニットとの間で凹凸関係をもって嵌合するシール機構を含むことを特徴とする請求項１に記載の鏡筒。
【００４６】
このように構成すれば、積層される第１及び第２の鏡筒ユニット間の凹凸関係の嵌合部分に狭く屈曲された通路が形成される。この狭く屈曲された通路では、ガス流のコンダクタンスが著しく低下する（ガス流の抵抗が著しく増大する）。このため、仮に鏡筒外からの汚染物質の侵入を抑制するシール部材から極微量ながら揮散物の発生があったとしても、前記揮散物は前記屈曲された通路で鏡筒内部への侵入を抑制することができる。
【００４７】
（３）  前記押さえ部は、前記第１の鏡筒ユニットまたは第２の鏡筒ユニットと一体の材料で形成された薄板部からなることを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の鏡筒。
【００４８】
このように構成すれば、前記請求項１０または請求項１１に記載の発明の作用に加えて、押さえ部が第１または第２の鏡筒ユニットと一体の材料で形成されているため、鏡筒の内外を直接連通する隙間が形成されることがない。このため、鏡筒の内部を、より気密性の高い状態とすることができる。
【発明の効果】
【００４９】
以上詳述したように、本発明によれば、外気に対して内部空間を精度よく隔離するとともに、各鏡筒ユニットの位置調整を精度よく行うことのできる鏡筒、及び、高集積度のデバイスを効率よく製造可能な露光装置並びにデバイスの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５０】
（第１実施形態）
以下に、本発明を半導体素子製造用の露光装置及び同露光装置に具体化した第１実施形態について、図１〜図５に基づいて説明する。
【００５１】
図１に示すように、露光装置は、露光光源２１と露光装置本体２２とビーム・マッチング・ユニット（以下、「ＢＭＵ」という。）２３とから構成されている。露光光源２１は、露光光ＥＬとして、例えばＦ２レーザ光（λ＝１５７ｎｍ）を出射するレーザ光源となっている。また、ＢＭＵ２３は複数の光学素子で構成され、これら複数の光学素子はＢＭＵ室２９に収容される。このＢＭＵ２３は、露光光源２１と露光装置本体２２とを光学的に接続し、このＢＭＵ２３を介して露光光源２１から出射された露光光ＥＬが露光装置本体２２内に導かれるようになっている。
【００５２】
また、露光装置本体２２は、露光光ＥＬの照射により、マスクとしてのレチクルＲ上に形成されたパターンの像を基板としてのウエハＷ上に転写するものである。以下に、その露光装置本体２２の概略構成について説明する。
【００５３】
露光装置本体２２のチャンバ２４内には、鏡筒としての照明系鏡筒２５、鏡筒としての投影系鏡筒２７が、ＢＭＵ２３を介して導入された露光光ＥＬの光軸方向に順次配置されている。また、チャンバ２４は空調装置（図示略）を備えており、露光装置本体全体の動作を制御する主制御系３０の制御の下で、このチャンバ２４の内部が所定の温度及び湿度に保たれるようになっている。
【００５４】
照明系鏡筒２５内には、レチクルＲを照明するための照明光学系３３が収容されている。この照明光学系３３は、複数のミラー３４、オプティカルインテグレータをなすフライアイレンズ（ロッドインテグレータでもよい）３５、コンデンサレンズ３６等の光学素子からなっている。フライアイレンズ３５は、露光光源２１からの露光光ＥＬの入射により、その後方面にレチクルＲを均一な照度分布で照明する多数の二次光源を形成する。そのフライアイレンズ３５の後方には、露光光ＥＬの形状を整形するためのレチクルブラインド３７が配置されている。
【００５５】
照明系鏡筒２５の両端におけるＢＭＵ側開口部２５ａ及びマスク側開口部２５ｂには、円板状の平行平板ガラス３８が配置されている。この平行平板ガラス３８は、露光光ＥＬを透過する物質（合成石英、蛍石など）により形成されている。また、ＢＭＵ室２９の開口端にも、平行平板ガラス３８が配置されている。そして、ＢＭＵ室２９と照明系鏡筒２５のＢＭＵ側端部との間には、蛇腹２９ａが装着されており、露光光ＥＬの通過する空間が、チャンバ２４の空間から区画されている。
【００５６】
また、照明系鏡筒２５は、平行平板ガラス３８を介して複数（この例では５つ）の内部空間をなす照明気密室３９に区画されている。そして、各照明気密室３９には、ミラー３４、フライアイレンズ３５、及びコンデンサレンズ３６の各光学素子や、レチクルブラインド３７が単独であるいはいくつか組み合わされて収容されている。
【００５７】
また、投影系鏡筒２７内には、照明光学系３３によって照明されるレチクルＲ上のパターンの像を前記ウエハＷ上に投影するための投影光学系４２が収容されている。この投影光学系４２は、光学素子として複数（この例では２つ）のカバーガラス４３と複数（この例では３つ）のレンズエレメント４４とからなっている。そして、その投影系鏡筒２７の内部には、投影系鏡筒２７の内壁及びカバーガラス４３によって、内部空間としての投影気密室４５が区画形成されている。
【００５８】
また、投影光学系４２と照明光学系３３との間には、レチクルステージＲＳＴが配置されている。このレチクルステージＲＳＴにより、所定のパターンが形成されたレチクルＲが、露光光ＥＬの光軸と直交する面内で移動可能に保持されるようになっている。また、投影光学系４２の像面側には、ウエハステージＷＳＴが配置されている。このウエハステージＷＳＴにより、露光光ＥＬに対して感光性を有するフォトレジストが塗布されたウエハＷが、その露光光ＥＬの光軸と直交する面内において移動可能、かつその光軸に沿って微動可能に保持されるようになっている。
【００５９】
レチクルステージＲＳＴの端部には、干渉計（図示略）からのレーザビームを反射する移動鏡が固定されている。そして、レチクルステージＲＳＴは、この干渉計によって走査方向の位置が常時検出され、主制御系３０の制御のもとで、所定の走査方向に駆動されるようになっている。
【００６０】
また、ウエハステージＷＳＴの端部には、干渉計（図示略）からのレーザビームを反射する移動鏡が固定されており、ウエハステージＷＳＴが可動する平面内での位置は干渉計によって常時検出される。そして、ウエハステージＷＳＴは、主制御系３０の制御のもとで、走査方向の移動のみならず、走査方向に垂直な方向にも移動可能に構成されている。これにより、ウエハＷ上の各ショット領域毎に走査露光を繰り返すステップ・アンド・スキャン動作が可能になっている。
【００６１】
ここで、ステップ・アンド・スキャン方式により、レチクルＲ上の回路パターンをウエハＷ上のショット領域に走査露光する場合、レチクルＲ上の照明領域が、前記レチクルブラインド３７で長方形（スリット）状に整形される。この照明領域は、レチクルＲ側の走査方向に対して垂直方向に長手方向を有するものとなっている。そして、レチクルＲを露光時に所定の速度Ｖｒで走査することにより、レチクルＲ上の回路パターンをスリット状の照明領域で一端側から他端側に向かって順次照明する。これにより、照明領域内におけるレチクルＲ上の回路パターンが、投影光学系４２を介してウエハＷ上に投影され、投影領域が形成される。
【００６２】
ここで、ウエハＷはレチクルＲとは倒立結像関係にあるため、レチクルＲの走査方向とは反対方向にレチクルＲの走査に同期して所定の速度Ｖｗで走査される。これにより、ウエハＷのショット領域の全面が露光可能となる。走査速度の比Ｖｗ／Ｖｒは投影光学系４２の縮小倍率に応じたものになっており、レチクルＲ上の回路パターンがウエハＷ上の各ショット領域上に正確に縮小転写される。
【００６３】
また、ＢＭＵ室２９、各照明気密室３９及び投影気密室４５の壁部に形成された開口４９には、パージガス供給系５０が接続されている。そして、ＢＭＵ室２９及び各室３９，４５には、パージガス供給系５０及び各開口４９を介して、マイクロデバイス工場のユーティリティプラント内のタンク５１より、パージガスとしての不活性ガスが供給されるようになっている。ここで、不活性ガスとは、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、ラドン等の中から選択された単体のガス、あるいはその混合ガスである。
【００６４】
ここで、このパージガス中には、ミラー３４，フライアイレンズ３５、コンデンサレンズ３６、平行平板ガラス３８、カバーガラス４３及びレンズエレメント４４等の光学素子の表面上に、露光光ＥＬの照射下で堆積して曇り現象を生じせしめる汚染物質、あるいはＦ２レーザ光を強く吸収する酸素等の吸光物質が不純物として含まれることがある。
【００６５】
このため、パージガス供給系５０の給気配管５２中には、パージガス中に含まれる上記汚染物質や吸光物質を含む不純物を除去するためのフィルタ５３及びパージガスを所定の温度に調整するとともにパージガス中の水分を除去する温調乾燥器５４が介装されている。そして、ＢＭＵ室２９及び各室３９，４５は、パージガス排出管５５を介して半導体素子製造工場の排気ダクト５６に接続されている。
【００６６】
なお、ＢＭＵ室２９及び各室３９，４５内に存在する前記汚染物質としては、例えば有機ケイ素化合物、アンモニウム塩、硫酸塩、ウエハＷ上のレジストからの揮散物、駆動部を有する構成部品に使用される摺動性改善剤からの揮散物、チャンバ２４内の電気部品に給電あるいは信号供給するための配線の被覆層からの揮散物等がある。従って、工場の外部に排出されるパージガスには、これらの汚染物質が含まれている場合もある。
【００６７】
次に、投影光学系４２を収容する投影系鏡筒２７の構成について、説明する。
図２に示すように、投影系鏡筒２７は、各レンズエレメント４４を保持する複数の鏡筒ユニット５９を備える。
【００６８】
鏡筒ユニット５９のうちで、投影系鏡筒２７の両端に位置する鏡筒ユニット５９ａには、パージガス供給系５０の給気配管５２が接続されている。一方、鏡筒ユニット５９のうちで、投影系鏡筒２７のほぼ中央に位置する鏡筒ユニット５９ｂには、その投影系鏡筒２７を露光装置本体２２の架台２２ａに支持するための支持フランジＦＬＧが設けられている。また、この鏡筒ユニット５９ｂには、パージガス排出管５５が接続されている。
【００６９】
ここで、支持フランジＦＬＧが設けられている鏡筒ユニット５９ｂ及びそれより下側、すなわちウエハＷ側に配置される鏡筒ユニット５９には、レンズエレメント４４が不図示の保持部材によって保持されている。また、支持フランジＦＬＧより上側、すなわちレチクルＲ側に配置される鏡筒ユニット５９のそれぞれには、少なくとも一つのレンズエレメント４４が（図２においては１個のみ図示）不図示の保持部材によって移動可能に保持されている。このレンズエレメント４４は、鏡筒ユニット５９の周壁に取着されたピエゾ素子６２により、主制御系３０の制御のもとで駆動される。
【００７０】
なお、レンズエレメント４４は、その外周において、例えば３ヶ所で保持部材に保持されるために、鏡筒ユニット５９の内壁に対して、レンズエレメント４４及び保持部材の間には隙間が生じる。
【００７１】
このため、投影系鏡筒２７にその両端の鏡筒ユニット５９ａに供給されたパージガスは、各鏡筒ユニット５９の内壁とレンズエレメント４４との間の隙間を通って、ほぼ中央部の鏡筒ユニット５９ｂに達する。このパージガスの流れに伴って、投影系鏡筒２７の投影気密室４５内のガスが、パージガスにより置換される。これにより、投影気密室４５内に存在する吸光物質及び汚染物質を含むガスは、ほぼ中央部の鏡筒ユニット５９ｂに接続されたパージガス排出管５５及び排気ダクト５６を介して露光装置本体２２の外部に排出されるようになっている。
【００７２】
図３に示すように、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１における接合面としての第１端面５９ｃには、第１接合部としての第１鍔部６０ａが形成されている。また、その第１の鏡筒ユニット５９ｂ１に接合される第２の鏡筒ユニット５９ｂ２において、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１の第１端面５９ｃと対向する接合面としての第２端面５９ｄには、第２の接合部としての第２鍔部６０ｂが形成されている。ここで、第１及び第２の鏡筒ユニット５９ｂ１，５９ｂ２は、いずれも第１端面５９ｃには第１鍔部６０ａを有しており、その第１端面５９ｃと反対側の第２端面５９ｄには第２鍔部６０ｂを有している。
【００７３】
そして、レンズエレメント４４が重力方向と交差するように配置された鏡筒、いわゆる横置きタイプの鏡筒ユニット５９では、第１鍔部６０ａが重力方向の上方側に配置され、第２鍔部６０ｂが重力方向の下方側に配置される。
【００７４】
図３及び図４に示すように、前記第１鍔部６０ａには、重力方向の上方側に開口し、環状をなす収容溝６５が凹設されている。この収容溝６５には、第１ガス流通抑制機構及びシール部材及び弾性部材としてのＯリング６６が収容される。このＯリング６６は、揮散物の少ない弾性材料、例えばフッ素ゴムで形成されている。
【００７５】
図３及び図５に示すように、第２鍔部６０ｂには、第１及び第２の鏡筒ユニット５９ｂ１，５９ｂ２が接合された状態で、第１鍔部６０ａの収容溝６５と対向する位置より、鏡筒ユニット５９の内部側の位置に、重力方向の下方側に開口し、ガス排出機構の一部をなす環状溝６７が形成されている。この環状溝６７の底面には、複数（図５においては３つ）の排気孔６８が等間隔をおいて穿設されている。この排気孔６８には、排気管６９を介して、環状溝６７内を減圧するためのガス排出機構の一部をなす排気装置７０（図２参照）が接続されている。
【００７６】
図２に示すように、この排気装置７０は、真空ポンプ７１と切換弁７２とからなっている。真空ポンプ７１は、各鏡筒ユニット５９が、各レンズエレメント４４の光軸と直交する平面内での相対的な位置が調整された状態で積層されたとき、必要に応じて環状溝６７内のガスを排気して減圧する。
【００７７】
切換弁７２は、投影系鏡筒２７内に露光光ＥＬを通過させる場合等には、環状溝６７内と真空ポンプ７１とを連通させ、その環状溝６７内を減圧した状態とする。この場合、図３に示すように、Ｏリング６６の存在により、投影系鏡筒２７の投影気密室４５が外気に対して隔離された隔離状態となる。そして、各鏡筒ユニット５９の第１鍔部６０ａと第２鍔部６０ｂとの間に存在し、そのＯリング６６から極わずかながら揮散されるガス状の有機物を含むガスは、環状溝６７内に引き込まれ、真空ポンプ７１により排気される。
【００７８】
なお、投影系鏡筒２７内には、この隔離状態において、各鏡筒ユニット５９間の環状溝６７を介して排気装置７０により排気されるガスの量を考慮して、投影気密室４５内が大気圧と同等または陽圧となるようにパージガス供給系５０からパージガスが供給されている。
【００７９】
図２に示すように、切換弁７２は、投影系鏡筒２７の各鏡筒ユニット５９の相対的な位置を調整するようなときには、環状溝６７内と真空ポンプ７１との間を遮断し、その環状溝６７内の減圧を解除する。そして、切換弁７２は、環状溝６７内とパージガス供給系５０の給気配管５２とを連通させ、その環状溝６７内にパージガスが供給される状態とする。この場合、各鏡筒ユニット５９の第１鍔部６０ａと第２鍔部６０ｂとの間にパージガスが所定の圧力で供給され、ボルト６１を緩められると、Ｏリング６６のつぶれ量が若干緩和される。これにより、各鏡筒ユニット５９とＯリング６６との摩擦力が低減され、各鏡筒ユニット５９を前記レンズエレメント４４の光軸に交差する面内において移動が可能となる。
【００８０】
従って、この第１実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（ア）  この投影系鏡筒２７では、複数積層される第１の鏡筒ユニット５９ｂ１に、積層される第２の鏡筒ユニット５９ｂ２と接合するための第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂが設けられている。そして、第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂの間には、その第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂの間を介した鏡筒ユニット５９の内外のガスの流通を抑制するＯリング６６が介装されている。さらに、第２鍔部６０ｂに、第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂの間の空間のガスを鏡筒ユニット５９の外部に排出する排気装置７０に接続された環状溝６７が形成されている。
【００８１】
このため、Ｏリング６６によって投影系鏡筒２７内部への外気の侵入が抑制される。その一方で、Ｏリング６６からごくわずかに揮散され、レンズエレメント４４を汚染する汚染物質となる揮散物は環状溝６７を介して排気装置７０により投影系鏡筒２７の外部に排出される。これにより、汚染物質の投影系鏡筒２７内への侵入量を低減することができ、かつ投影系鏡筒２７内を清浄に保つことができる。従って、投影光学系４２の光学性能が改善され、レチクルＲ上のパターンの像をウエハＷ上に高精度に転写することができる。
【００８２】
（イ）  この投影系鏡筒２７では、第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂにおいて、Ｏリング６６の内部側に、互いに接合された第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂ間の空間のガスを排出するための環状溝６７が設けられている。このため、Ｏリング６６から極微量ながら発生し投影系鏡筒２７の内部側に向かう揮散物を、効率よく投影系鏡筒２７の外部へ排出することができる。従って、投影系鏡筒２７内を、より清浄に保つことができる。
【００８３】
（ウ）  この投影系鏡筒２７では、Ｏリング６６が第１鍔部６０ａの収容溝６５に保持され、排気装置７０に接続される環状溝６７が第２鍔部６０ｂに設けられている。このため、Ｏリング６６を収容する収容溝６５と、環状溝６７とその環状溝６７に開口する排気孔６８とを同一の第１または第２鍔部６０ａ，６０ｂに設ける必要がなく、鏡筒ユニット５９の加工を容易に行うことができる。
【００８４】
（エ）  この投影系鏡筒２７では、第１鍔部６０ａに、Ｏリング６６を収容する収容溝６５が重力方向上方側に開口するように設けられている。このため、Ｏリング６６を鏡筒ユニット５９に対して容易に保持することができ、鏡筒ユニット５９の組み付け作業を容易に行うことができる。
【００８５】
（第２実施形態）
この第２実施形態においては、図６に示すように、環状溝６７が第１鍔部６０ａに形成されている。すなわち、Ｏリング６６を収容する収容溝６５と、環状溝６７とが同一の第１鍔部６０ａに形成されている。
【００８６】
従って、この第２実施形態によれば、第１実施形態における（ア）、（イ）及び（エ）に記載の効果と同等の効果に加えて、以下のような効果を得ることができる。
（オ）  この鏡筒ユニット５９では、第１鍔部６０ａに収容溝６５と環状溝６７とが形成されている。このため、鏡筒ユニット５９における第２鍔部６０ｂの構成を簡素化することができる。
【００８７】
（第３実施形態）
この第３実施形態においては、図７に示すように、環状溝６７が第１鍔部６０ａに形成され、Ｏリング６６を収容する収容溝６５が第２鍔部６０ｂに形成されている。すなわち、この第３実施形態の鏡筒ユニット５９は、第１実施形態の鏡筒ユニット５９に比べて、収容溝６５と環状溝６７とが逆の配置となっている。
【００８８】
この第３実施形態によっても、第１実施形態における（ア）〜（ウ）に記載した効果と同等の効果を得ることができる。
（第４実施形態）
この第４実施形態においては、図８に示すように、Ｏリング６６を収容する収容溝６５が第２鍔部６０ｂに形成されている。すなわち、Ｏリング６６を収容する収容溝６５と、環状溝６７とが同一の第２鍔部６０ｂに形成されている。
【００８９】
従って、この第４実施形態によれば、前記第１実施形態における（ア）、（イ）及び第２実施形態における（オ）に記載の効果と同等の効果を得ることができる。
（第５実施形態）
この第５実施形態の鏡筒ユニット５９では、図９に示すように、第１鍔部６０ａにおいて、第１シール部材をなすＯリング６６を収容する収容溝６５の内側及び外側に第２シール部材としての金または銀からなるメッキ層８１が形成されている。このメッキ層８１は、その第１鍔部６０ａに第２の鏡筒ユニット５９ｂ２の第２鍔部６０ｂが積層されると、その第２の鏡筒ユニット５９ｂ２の重量により微小に変形され、第１鍔部６０ａと第２鍔部６０ｂとの密着性を高める役割を担っている。
【００９０】
従って、本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（カ）  この鏡筒ユニット５９では、その鏡筒ユニット５９内外のガスの流通を抑制するための機構として、Ｏリング６６とメッキ層８１とが設けられている。このため、Ｏリング６６により、鏡筒ユニット５９の内部への外気の侵入を抑制することができる。そして、メッキ層８１により、Ｏリング６６から極微量発生される揮散物が、第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂ間の空間を介して、鏡筒の内部に侵入することを抑制することができる。
【００９１】
（キ）  この鏡筒ユニット５９では、第１鍔部６０ａに、Ｏリング６６から極微量発生される揮散物が第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂ間の空間を介して、鏡筒の内部に侵入することを抑制するために金または銀のメッキ層８１が形成されている。このため、メッキ層８１は、揮散物がほとんど発生しないだけでなく、Ｏリング６６から極微量ながら発生する揮散物の投影系鏡筒２７内部への侵入を抑制することができる。従って、投影系鏡筒２７の内部を清浄に保つことができる。
【００９２】
（第６実施形態）
この第６実施形態の鏡筒ユニット５９では、図１０に示すように、第１鍔部６０ａ及び第２鍔部６０ｂにおいて、第１シール部材をなすＯリング６６を収容する収容溝６５の内側に第２ガス流通抑制機構としてのラビリンスシール８４が形成されている。このラビリンスシール８４は、第１鍔部６０ａに形成された２つの細溝８５と、第２鍔部６０ｂに形成された２つの突条８６とからなっている。これらの細溝８５と、突条８６とは、第１鍔部６０ａ及び第２鍔部６０ｂに環状に形成されている。そして、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１と第２の鏡筒ユニット５９ｂ２とが積層されると、突条８６が細溝８５内に侵入して、入れ子構造が構成される。
【００９３】
このラビリンスシール８４では、そのラビリンスシール８４の両側が完全に密閉された状態で遮断されるわけではない。しかしながら、このラビリンスシール８４に形成される狭く屈曲した通路では、ガス流のコンダクタンスが著しく減少する。つまり、この通路では、ガス流の抵抗が著しく増大する。このため、Ｏリング６６からの揮散物を含んで鏡筒ユニット５９の内部に到達するガスの量を、ほとんど無視できる程度に低減することができる。
【００９４】
ここで、このラビリンスシール８４における突条８６と細溝８５との内壁面との隙間は、各鏡筒ユニット５９の前記レンズエレメント４４の光軸に交差する方向への位置調整時における最大調整幅より大きくしておくことが望ましい。このようにすることで、Ｏリング６６により鏡筒ユニット５９の外部からの吸光物質や汚染物質の侵入を抑止しつつ、各鏡筒ユニット５９に位置調整を行うことができる。
【００９５】
従って、本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（ク）  この投影系鏡筒２７では、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１の第１鍔部６０ａと第２の鏡筒ユニット５９ｂ２の第２鍔部６０ｂとの間で凹凸関係をもって嵌合するラビリンスシール８４が形成されている。このため、このラビリンスシール８４の外側にＯリング６６を設けることで、鏡筒ユニット５９外からの吸光物質や汚染物質の侵入を抑制することができ、またそのＯリング６６からの極微量の揮散物が鏡筒ユニット５９の内部に侵入することを抑制することができる。
【００９６】
（第７実施形態）
この第７実施形態の鏡筒ユニット５９では、図１１に示すように、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１の第１鍔部６０ａに、第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともにシール部材としてのドーナツ状をなすガスケット９１が埋設されている。一方、その第１鍔部６０ａに接合される第２の鏡筒ユニット５９ｂ２の第２鍔部６０ｂには、ガスケット９１に当接する第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともに凸部としての円弧状凸部９２が形成されている。
【００９７】
前記ガスケット９１は、例えば銅（無酸素銅）、金、アルミニウム、インジウム、ガリウム等の軟質の金属、はんだ等の軟質の合金、フッ素樹脂等の揮散物の発生の少ない樹脂材料等で形成されている。また、円弧状凸部９２は、第２鍔部６０ｂ上の環状をなすとともに、その断面が円弧状をなすように形成されている。
【００９８】
従って、本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（ケ）  この鏡筒ユニット５９では、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１の第１鍔部６０ａに軟質金属からなるガスケット９１が埋設されており、そのガスケット９１に、第２の鏡筒ユニット５９ｂ２の第２鍔部６０ｂの円弧状凸部９２が当接するようになっている。そして、この円弧状凸部９２が、ガスケット９１と当接するとともにガスケット９１を若干押圧することにより、鏡筒ユニット５９内部を気密性に保つことができる。
【００９９】
（コ）  この鏡筒ユニット５９では、第１鍔部６０ａのガスケット９１に当接する円弧状凸部９２が、断面円弧状に形成されている。このため、円弧状凸部９２がガスケット９１の表面を傷つけにくく、各鏡筒ユニット５９を位置調整する上で円弧状凸部９２がガスケット９１の表面上で引っかかったりすることが抑制される。これにより、各鏡筒ユニット５９を、その鏡筒ユニット５９の内部を気密に保った状態で、前記レンズエレメント４４の光軸と交差する方向に位置調整することができる。
【０１００】
（第８実施形態）
この第８実施形態の鏡筒ユニット５９では、図１２に示すように、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１の第１鍔部６０ａに収容溝９５が凹設されている。一方、第２の鏡筒ユニット５９ｂ２の第２鍔部６０ｂには、凸部９６が形成されている。そして、前記収容溝９５に収容されるとともに、前記凸部９６を囲むようにして、シール部材としての密閉材９８が介装されている。
【０１０１】
この密閉材９８としては、例えば金属ガリウム、漆等が好適である。これらの密閉材９８は、各鏡筒ユニット５９を、前記レンズエレメント４４の光軸と交差する方向に位置調整した後、収容溝９５と凸部９６との間に注入することができる。
【０１０２】
従って、本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（サ）  金属ガリウムは、その融点が３０℃と常温に近く、若干暖めて溶融状態とし、収容溝９５と凸部９６との間に注入し、放置することにより、クリーンルーム内の室温で冷却され固化される。このため、鏡筒ユニット５９の気密性を容易に高めることができる。しかも、金属ガリウムは、揮散物がほとんどないため、投影系鏡筒２７内を極めて清浄に保つことができる。
【０１０３】
（シ）  また、漆は、ウルシオールを主成分としており、固化する段階で過不足なく（余分な分子鎖を生成することなく）分子状態が変化する。このため、固化した状態では、その放出ガス量は、鏡筒ユニット５９内に侵入しても、レンズエレメント４４に曇りを生じさせるといった影響を与えない程度の極微量に抑えることができる。
【０１０４】
（第９実施形態）
この第９実施形態の鏡筒ユニット５９では、図１３に示すように、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１の第１鍔部６０ａが、略円環状の外側鍔部１０１と内側鍔部１０２とに分割されている。また、外側鍔部１０１は、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１の周方向において、２分割されている。
【０１０５】
外側鍔部１０１の内周側には、第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともにシール部材としてのガスケット１０３を受けるための受け部１０４が段状に形成されている。また、内側鍔部１０２の第１端面５９ｃ側には、外周方向に向かって突出する庇部１０５が形成されている。そして、第１鍔部６０ａと第２鍔部６０ｂとの間に、受け部１０４と、庇部１０５と、第２鍔部６０ｂとに囲まれたガスケット１０３の収容空間１０６が形成される。
【０１０６】
ガスケット１０３は、平面円環状をなしており、その円周方向に２分割されている。一方のガスケット１０３の分割面は、もう一方のガスケット１０３の分割面と互いに摺接可能なように斜面状に形成されている。また、ガスケット１０３の第２鍔部６０ｂ側の面には、段違い状態で互いに平行な２つのシール面１０７ａ，１０７ｂが形成され、これらのシール面１０７ａ，１０７ｂは、第１鍔部６０ａの第１端面５９ｃ及び第２端面５９ｄに平行に配置されている。そして、ガスケット１０３は、そのシール面１０７ａが第２鍔部６０ｂと対向し、シール面１０７ｂが内側鍔部１０２の庇部１０５と対向するように配置される。なお、このガスケット１０３は、例えば銅（無酸素銅）、金、アルミニウム、インジウム、ガリウム等の軟質の金属、はんだ等の軟質の合金、フッ素樹脂等の揮散物の発生の少ない樹脂材料等で形成されている。
【０１０７】
第２鍔部６０ｂのシール面１０７ａと対向する部分と、庇部１０５のシール面１０７ｂと対向する部分とには、第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともに凸部としての断面三角形状の爪部１０８が環状に形成されている。
【０１０８】
そして、第２鍔部６０ｂと内側鍔部１０２と外側鍔部１０１との間の収容空間１０６にガスケット１０３を収容した状態で、外側鍔部１０１を前記第２鍔部６０ｂに対してボルト６１により締め付け固定すると、ガスケット１０３が受け部１０４を介して第２鍔部６０ｂ及び庇部１０５側に変位される。この変位により、第２鍔部６０ｂの爪部１０８がガスケット１０３のシール面１０７ａに、庇部１０５の爪部１０８がガスケット１０３のシール面１０７ｂに、それぞれ食い込んで投影系鏡筒２７の内部の気密性が確保されるようになっている。
【０１０９】
なお、このガスケット１０３を用いた第９実施形態では、まず各鏡筒ユニット５９をその鏡筒ユニット５９内に収容されるレンズエレメント４４の光軸に交差する方向への位置調整を行った後に、外側鍔部１０１の第２鍔部６０ｂへの締め付け固定を行う必要がある。
【０１１０】
従って、本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（ス）  この鏡筒ユニット５９では、外側鍔部１０１を第２鍔部６０ｂに締め付け固定した状態では、第２鍔部６０ｂ及び内側鍔部１０２の爪部１０８が、ガスケット１０３のシール面１０７ａ，１０７ｂに食い込むようになっている。このため、各鏡筒ユニット５９の位置決めを精度よく行った上で、投影系鏡筒２７内の気密性を高く維持することができ、投影系鏡筒２７の内部空間を清浄に保つことができる。
【０１１１】
（セ）  この鏡筒ユニット５９では、外側鍔部１０１及びガスケット１０３が、鏡筒ユニット５９の周方向において、２分割されている。このため、各鏡筒ユニット５９の位置調整を行った後に、ガスケット１０３を鏡筒ユニット５９に対して容易に装着することができる。
【０１１２】
（ソ）  この鏡筒ユニット５９では、ガスケット１０３が、第２鍔部６０ｂの第２端面５９ｄと平行な複数のシール面１０７ａ，１０７ｂを有している。このため、投影系鏡筒２７内の気密性をさらに高めることができる。
【０１１３】
（第１０実施形態）
この第１０実施形態の鏡筒ユニット５９では、図１４に示すように、第９実施形態において、投影系鏡筒２７における上方側の第１鍔部６０ａ及び第２鍔部６０ｂほど、鏡筒ユニット５９の外周面からの突出量が大きくなるように形成されている。また、ガスケット１０３が、鏡筒ユニット５９の周方向において分割されることなく、円環状をなしている。そして、各第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂの突出量は、すぐ上方の第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂの間に配置されるガスケット１０３が干渉しないように設定されている。
【０１１４】
従って、本実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（タ）  この投影系鏡筒２７では、下方側の第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂほど鏡筒ユニット５９の外周面からの突出量が小さくなるように形成されている。このため、ガスケット１０３の径を下方側の第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂの間に配置されるものほど小さく、上方側の第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂの間に配置されるものほど大きく形成することによって、周方向に分割されていないガスケット１０３を使用することができる。従って、ガスケット１０３におけるシール性が向上され、投影系鏡筒２７内の気密性を高めることができる。
【０１１５】
（第１１実施形態）
この第１１実施形態の鏡筒ユニット５９では、図１５に示すように、前記第９実施形態において、第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともにシール部材としての２枚の断面矩形状のガスケット１１１が使用されている。また、外側鍔部１０１は、そのガスケット１１１に対向する受け部１０４に段部１１２が形成されている。そして、この段部１１２の各段にも、ガスケット１１１に食い込む爪部１０８が形成されている。
【０１１６】
このように構成しても、第９実施形態と同様の効果が発揮されるだけでなく、次のような効果が発揮される。
（チ）  この鏡筒ユニット５９では、２枚の断面矩形状をなすガスケット１１１が使用されている。このため。ガスケット１１１の構成を簡素化することができ、鏡筒ユニット５９の製造コストの低減を図ることができる。
【０１１７】
（第１２実施形態）
この第１２実施形態の鏡筒ユニット５９では、図１６に示すように、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１の第１鍔部６０ａには、収容溝１２１が凹設されている。その収容溝１２１には、第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともにシール部材としての断面矩形状をなすガスケット１２２が収容されている。また、その収容溝１２１の底面には、断面三角形状の爪部１０８が形成されている。
【０１１８】
また、第２の鏡筒ユニット５９ｂ２の第２鍔部６０ｂには、その外周側に変位機構としての押さえ環１２３と、押さえ部としてのワッシャ１２４とが設けられている。そのワッシャ１２４は、ガスケット１２２側に配置されており、そのガスケット１２２に対向する部分には爪部１０８が形成されている。
【０１１９】
押さえ環１２３の内周面と、その内周面に対向する第２鍔部６０ｂの外周面とには、ねじ部１２５が形成されている。押さえ環１２３は、第２鍔部６０ｂに対して、鏡筒ユニット５９内に収容されるレンズエレメント４４の光軸方向に相対移動可能に螺合されている。そして、押さえ環１２３を第１鍔部６０ａ側に螺進させると、ワッシャ１２４も第１鍔部６０ａ側に変位される。これにより、ワッシャ１２４が前記ガスケット１２２を押し下げるとともに、そのワッシャ１２４及び収容溝１２１の爪部１０８がガスケット１２２に食い込むようになっている。
【０１２０】
この鏡筒ユニット５９では、まずガスケット１２２を第１鍔部６０ａとワッシャ１２４との間に収容し、押さえ環１２３を第１鍔部６０ａから離間する方向に螺退させておく。この状態で、内部に収容されるレンズエレメント４４の光軸と交差する方向への各鏡筒ユニット５９の位置調整を行う。そして、押さえ環１２３を第１鍔部６０ａ側に螺進させ、ワッシャ１２４でガスケット１２２を押圧し、ワッシャ１２４及び収容溝１２１の爪部１０８をガスケット１２２に食い込ませて、投影系鏡筒２７内の気密性を確保する。
【０１２１】
この実施形態によれば、次のような効果が奏される。
（ツ）  この鏡筒ユニット５９では、第１鍔部６０ａに収容溝１２１が設けられており、第２鍔部６０ｂに、ガスケット１２２を押圧するワッシャ１２４と、そのワッシャ１２４をガスケット１２２側に変位させる押さえ環１２３とが設けられている。このため、各鏡筒ユニット５９の位置調整を行った後に、ワッシャ１２４を押さえ環１２３によりガスケット１２２側に変位させて、ワッシャ１２４によりガスケット１２２を押圧することによって、投影系鏡筒２７内の気密性を付与することができる。従って、前記押さえ環１２３をゆるめた状態で、各鏡筒ユニット５９の位置調整を精度よく行うことができるとともに、投影系鏡筒２７の内部空間を清浄に保つことができる。
【０１２２】
（第１３実施形態）
この第１３実施形態の鏡筒ユニット５９では、図１７に示すように、第１２実施形態において、ガスケット１２２を押圧する薄板部１３３が第２の鏡筒ユニット５９ｂ２と一体に形成されているとともに、その薄板部１３３をガスケット１２２側に変位させる機構が異なっている。
【０１２３】
この実施形態では、第２鍔部６０ｂの変位部材としての押さえ環１３１が、第１鍔部６０ａとの間を締め付けるボルト６１により移動されるようになっている。また、押さえ環１３１の薄板部１３３側の面には斜面１３２が形成されている。
【０１２４】
この鏡筒ユニット５９では、まずガスケット１２２を第１鍔部６０ａと薄板部１３３との間に収容し、押さえ環１３１を、ボルト６１を緩めた状態で第１鍔部６０ａに対して仮止めしておく。この状態で、内部に収容されるレンズエレメント４４の光軸と交差する方向への各鏡筒ユニット５９の位置調整を行う。そして、押さえ環１３１をボルト６１により第１鍔部６０ａに対して締め付け固定する。これにより、薄板部１３３でガスケット１２２を押圧し、薄板部１３３及び収容溝１２１の爪部１０８をガスケット１２２に食い込ませて、投影系鏡筒２７内の気密性を確保する。
【０１２５】
この実施形態によれば、第１３実施形態に記載の効果に加えて、次のような効果が奏される。
（テ）  この鏡筒ユニット５９では、押さえ環１３１に薄板部１３３をガスケット１２２側に変位させる斜面１３２が形成されている。ここで、積層された各鏡筒ユニット５９を接合固定する際には、各鏡筒ユニット５９の配列方向に締め付ける必要がある。レンズエレメント４４が重力方向に交差するように配列される投影光学系４２を収容する投影系鏡筒２７、いわゆる横置きタイプの投影系鏡筒２７では、積層された各鏡筒ユニット５９は、上下に締め付けることになる。この鏡筒ユニット５９では、斜面１３２の働きにより上下に締め付ける力を、鏡筒ユニット５９の斜め内側への力に変換することができる。このため、各鏡筒ユニット５９を締め付けることで、各鏡筒ユニット５９の締め付け部分（ボルト６１）より内側に配置されたガスケット１２２と爪部１０８とを、容易に食い込ませることができる。
【０１２６】
（ト）  この鏡筒ユニット５９では、鏡筒ユニット５９と一体の材料で形成された薄板部１３３により、ガスケット１２２が押圧されるようになっている。このため、第２鍔部６０ｂに、鏡筒ユニット５９の内外を直接連通する隙間が形成されることがない。従って、投影系鏡筒２７の内部を、より気密性の高い状態とすることができる。
【０１２７】
（第１４実施形態）
この第１４実施形態の鏡筒ユニット５９では、図１８に示すように、第１鍔部６０ａが、第１の鏡筒ユニット５９ｂ１に連結した連結部としての内側鍔部１４２と、レンズエレメント４４の光軸に関して外側に配置される分離部としての外側鍔部１４１とに分割されている。前記外側鍔部１４１の内周面には、斜面１４３が形成されている。そして、外側鍔部１４１と内側鍔部１４２と第２鍔部６０ｂとの間に断面三角形状をなす収容空間１４４が形成されており、その収容空間１４４にＯリング６６が配置される。
【０１２８】
この鏡筒ユニット５９では、まずＯリング６６を前記収容空間１４４に収容し、外側鍔部１４１を、ボルト６１を緩めた状態で第２鍔部６０ｂに対して仮止めしておく。この状態で、内部に収容されるレンズエレメント４４の光軸と交差する方向への各鏡筒ユニット５９の位置調整を行う。そして、前記外側鍔部１４１をボルト６１により第２鍔部６０ｂに対して締め付け固定する。
【０１２９】
ここで、前述のように、いわゆる横置きタイプの投影系鏡筒２７では、積層された各鏡筒ユニット５９は、互いに上下方向に締め付けることになる。この鏡筒ユニット５９では、外側鍔部１４１を第２鍔部６０ｂに締め付け固定する際に、その上下に締め付ける力を、斜面１４３の働きにより鏡筒ユニット５９の斜め内側への力に変換することができる。このため、各鏡筒ユニット５９を締め付けることで、前記収容空間１４４に収容されたＯリング６６が前記斜面１４３により斜め内側（図において斜め上方）に押し上げられる。これにより、Ｏリング６６が内側鍔部１４２の外周面及び第２鍔部６０ｂに押しつけられ、第１鍔部６０ａと第２鍔部６０ｂとの空間が塞がれて、投影系鏡筒２７内の気密性を確保することができる。
【０１３０】
この実施形態によれば、次のような効果が奏される。
（ナ）  この鏡筒ユニット５９では、第１鍔部６０ａの外側鍔部１４１と内側鍔部１４２との間に断面三角形状をなすＯリング６６の収容空間１４４が設けられている。そして、前記外側鍔部１４１を第２鍔部６０ｂに対して締め付けることにより、Ｏリング６６が第２鍔部６０ｂと内側鍔部１４２に密着させるようになっている。
【０１３１】
このため、外側鍔部１４１を第２鍔部６０ｂに対して締め付けことで、１つのＯリング６６が、内側鍔部１４２と第２鍔部６０ｂとに密着される。従って、各鏡筒ユニット５９の位置調整を行った後において、１つのＯリング６６で、投影系鏡筒２７の気密性を容易に高めることができる。
【０１３２】
（第１５実施形態）
この第１５実施形態の鏡筒ユニット５９では、図１９に示すように、前記第１４実施形態において、収容空間１４４内に、Ｏリング６６に代えて、第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともにシール部材としての断面三角形状をなすガスケット１５１が収容されている。また、内側鍔部１４２の外周面及び第２鍔部６０ｂにおけるガスケット１５１と対応する部分には、第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともに凸部としての断面三角形状をなす爪部１５２が形成されている。
【０１３３】
この鏡筒ユニット５９では、まずガスケット１５１を収容空間１４４に収容し、外側鍔部１４１を、ボルト６１を緩めた状態で第２鍔部６０ｂに対して仮止めしておく。この状態で、各鏡筒ユニット５９の位置調整を行い、外側鍔部１４１をボルト６１により第２鍔部６０ｂに対して締め付け固定する。この締め付けにより、収容空間１４４に収容されたガスケット１５１が斜面１４３により斜め内側（図において斜め上方）に押し上げられる。これにより、内側鍔部１４２及び第２鍔部６０ｂの爪部１５２がガスケット１５１に食い込んで、第１鍔部６０ａと第２鍔部６０ｂとの空間が塞がれ、投影系鏡筒２７内の気密性を確保することができる。
【０１３４】
この実施形態によっても、第１４実施形態と同様の効果が奏される。
（変形例）
なお、本発明の実施形態は、以下のように変形してもよい。
【０１３５】
・  例えば投影系鏡筒２７を形成する材料と同性質の材料で、かつ円環状を形成された調整ワッシャを、第１及び第２の鏡筒ユニット５９ｂ１，５９ｂ２の第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂ間に介装する。そして、この調整ワッシャを選択嵌合することにより、第１及び第２の鏡筒ユニット５９ｂ１，５９ｂ２の前記各レンズエレメント４４の光軸方向（つまり、前記露光光ＥＬの光軸方向）における相対的な位置を調整してもよい。この場合、第１及び第２鍔部６０ａ，６０ｂと、調整ワッシャとの間に、本発明のガス流通抑制機構を介装する必要がある。
【０１３６】
・  第１〜第６実施形態では、シール部材としてＯリング６６を用いたが、Ｏリング６６に代えて、グリスや磁性流体を用いることもできる。ここで、グリスや磁性流体では、揮散物の発生量が多いため、排気装置７０に接続された環状溝６７、メッキ層８１、ラビリンスシール８４等、その揮散物が鏡筒ユニット５９内に侵入しないようにする第２ガス流通抑制機構の併用が必須となる。また、グリスとしては、低ガス放出性のフッ素系グリス、例えばＮＯＫクルーバー社製の「バリエルタ」をはじめとした真空装置中で用いられるフッ素系グリスが、特に好適である。
【０１３７】
・  第１〜第６及び第１３実施形態において、Ｏリング６６として、表面を金属材料で覆ったＯリングを使用してもよい。このようにした場合、Ｏリングの表面からの揮散物の揮散が抑制されるため、投影系鏡筒２７内を清浄に保つ上で好ましい。
【０１３８】
・  第７実施形態において、円弧状凸部９２を複数設けてもよい。
・  第８実施形態において、凸部９６を複数設けてもよい。
・  第９〜第１３、及び第１５実施形態において、爪部１０８を、ガスケット１０３，１１１，１２２，１５１の各シール面あたり複数設けてもよい。
【０１３９】
・  第１２実施形態において、収容溝９５内の爪部１０８を省略してもよい。
・  第１２実施形態において、ワッシャ１２４を省略してもよい。ただし、この場合には、押さえ環１２３のガスケット１２２と対応する部分に爪部１０８を設ける必要がある。
【０１４０】
・  各実施形態において、投影光学系４２としては、屈折タイプに限らず、反射屈折タイプ、反射タイプであってもよい。また、露光装置としては、少なくとも１つの光学素子を含む露光装置であればよく、例えば投影光学系４２を用いることなく、マスクと基板とを密接させてマスクのパターンを露光するコンタクト露光装置、マスクと基板とを近接させてマスクのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも本発明を同様に適用することができる。
【０１４１】
・  本発明の露光装置は、縮小露光型の露光装置に限定されるものではなく、例えば等倍露光型、拡大露光型の露光装置であってもよい。
・  また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、ＤＵＶ（深紫外）やＶＵＶ（真空紫外）光などを用いる露光装置では一般に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては、石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、または水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のＸ線露光装置や電子線露光装置などでは、透過型マスク（ステンシルマスク、メンバレンマスク）が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
【０１４２】
・  また、半導体素子の製造に用いられる露光装置だけでなく、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などにも、本発明を適用することができる。
【０１４３】
・  また、マスクと基板とが静止した状態でマスクのパターンを基板へ転写し、基板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の一括露光型の露光装置にも、本発明を適用することができる。
【０１４４】
・  また、露光装置の光源としては、例えばｇ線（λ＝４３６ｎｍ）、ｉ線（λ＝３６５ｎｍ）、Ｋｒ２レーザ（λ＝１４６ｎｍ）、Ａｒ２レーザ（λ＝１２６ｎｍ）等を用いてもよい。また、ＤＦＢ半導体レーザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（またはエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされたファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いてもよい。
【０１４５】
なお、前記各実施形態の露光装置は、大略、例えば次のように製造される。
すなわち、まず、投影光学系４２を構成する複数のレンズエレメント４４及びカバーガラス４３等を、前記各実施形態の投影系鏡筒２７に収容する。また、ミラー３４及び各レンズ３５，３６等の光学素子からなる照明光学系３３を照明系鏡筒２５内に収容する。そして、これらの照明光学系３３及び投影光学系４２を露光装置本体２２に組み込み、光学調整を行う。次いで、多数の機械部品からなるウエハステージＷＳＴ（スキャンタイプの露光装置の場合は、レチクルステージＲＳＴも含む）を露光装置本体２２に取り付けて配線を接続する。そして、露光光ＥＬの光路内にパージガスを供給するパージガス供給系５０の配管を接続した上で、さらに総合調整（電気調整、動作確認など）を行う。
【０１４６】
ここで、照明系鏡筒２５及び投影系鏡筒２７を構成する各部品は、超音波洗浄などにより、加工油や、金属物質などの不純物を落としたうえで、組み上げられる。なお、露光装置の製造は、温度、湿度や気圧が制御され、かつクリーン度が調整されたクリーンルーム内で行うことが望ましい。
【０１４７】
次に、上述した露光装置をリソグラフィ工程で使用したデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
図２０は、デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体素子、液晶表示素子、撮像素子（ＣＣＤ等）、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。
【０１４８】
図２０に示すように、まず、ステップＳ２０１（設計ステップ）において、デバイス（マイクロデバイス）の機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ２０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レクチルＲ等）を製作する。一方、ステップＳ２０３（基板製造ステップ）において、シリコン、ガラスプレート等の材料を用いて基板（シリコン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造する。
【０１４９】
次に、ステップＳ２０４（基板処理ステップ）において、ステップＳ２０１〜Ｓ２０３で用意したマスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ２０５（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ２０４で処理された基板を用いてデバイス組立を行う。このステップＳ２０５には、ダイシング工程、ボンディング工程、及びパッケージング工程（チップ封入等）等の工程が必要に応じて含まれる。
【０１５０】
最後に、ステップＳ２０６（検査ステップ）において、ステップＳ２０５で作製されたデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にデバイスが完成し、これが出荷される。
【０１５１】
図２１は、半導体デバイスの場合における、図２０のステップＳ２０４の詳細なフローの一例を示す図である。図２１において、ステップＳ２１１（酸化ステップ）では、ウエハＷの表面を酸化させる。ステップＳ２１２（ＣＶＤステップ）では、ウエハＷ表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ２１３（電極形成ステップ）では、ウエハＷ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ２１４（イオン打込みステップ）では、ウエハＷにイオンを打ち込む。以上のステップＳ２１１〜Ｓ２１４のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【０１５２】
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ２１５（レジスト形成ステップ）において、ウエハＷに感光剤を塗布する。引き続き、ステップＳ２１６（露光ステップ）において、先に説明したリソグラフィシステム（露光装置）によってマスク（レチクルＲ）の回路パターンをウエハＷ上に転写する。次に、ステップＳ２１７（現像ステップ）では露光されたウエハＷを現像し、ステップＳ２１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ２１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
【０１５３】
これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハＷ上に多重に回路パターンが形成される。
以上説明した本実施形態のデバイス製造方法を用いれば、露光工程（ステップＳ２１６）において、真空紫外域の露光光ＥＬにより解像力の向上が可能となり、露光量制御を高精度に行うことができる。従って、露光精度を向上することができて、最小線幅が０．１μｍ程度の高集積度のデバイスを歩留まりよく製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１５４】
【図１】第１実施形態の露光装置を示す概略構成図。
【図２】図１の投影系鏡筒の側面図。
【図３】図１の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図４】図３の第１の鏡筒ユニットを示す平面図。
【図５】図３の第２の鏡筒ユニットを示す底面図。
【図６】第２実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図７】第３実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図８】第４実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図９】第５実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図１０】第６実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図１１】第７実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図１２】第８実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図１３】第９実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図１４】第１０実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図１５】第１１実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図１６】第１２実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図１７】第１３実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図１８】第１４実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図１９】第１５実施形態の露光装置の投影系鏡筒の要部を示す部分断面図。
【図２０】デバイスの製造方法を示すフローチャート。
【図２１】半導体素子の製造方法を示すフローチャート。
【符号の説明】
【０１５５】
２２…露光装置本体、２５…鏡筒としての照明系鏡筒、２７…鏡筒としての投影系鏡筒、４２…投影光学系、４４…光学素子としてのレンズエレメント、５９，５９ａ，５９ｂ…鏡筒ユニット、５９ｂ１…第１の鏡筒ユニット、５９ｂ２…第２の鏡筒ユニット、５９ｃ…接合面としての第１端面、５９ｄ…接合面としての第２端面、６０ａ…第１の接合部としての第１鍔部、６０ｂ…第２の接合部としての第２鍔部、６５，９５，１２１…収容溝、６６…第１ガス流通抑制機構及びシール部材及び弾性部材としてのＯリング、６７…ガス排出機構の一部を構成する環状溝、７０…ガス排出機構の一部を構成する排気装置、８１…第２シール部材としてのメッキ層、８４…第２ガス流通抑制機構としてのラビリンスシール、９１，１０３，１１１，１２２，１５１…第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともにシール部材としてのガスケット、９２…第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともに凸部としての円弧状凸部、９６…凸部、９８…シール部材としての密閉材、１０７ａ，１０７ｂ…シール面、１０８，１５２…第３ガス流通抑制機構の一部を構成するとともに凸部としての爪部、１２３，１３１…変位機構としての押さえ環、１２４…押さえ部としてのワッシャ、１３２，１４３…斜面、１３３…押さえ部としての薄板部、１４１…分離部としての外側鍔部、１４２…連結部としての内側鍔部、ＥＬ…露光光、Ｒ…マスクとしてのレチクル、Ｗ…基板としてのウエハ。
【図１】
2005183819.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
2005183819.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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