(57)【要約】  【課題】  高輝度、高コントラストを実現することのできる新規なガス放電型平面パネルを提供する。  【解決手段】  透明なガラス基板１０の片面に、透明低融点ガラスの隔壁１８を形成し、この隔壁１８により画成された放電空間３７内にアドレス電極１４と、蛍光体層１３を形成する。  そして、背面基板２０の前記前面基板１０と対向する面に、アドレス電極１４に対して直交方向を成す走査電極２４と、該走査電極２４を覆う誘電体層２７、及び、前記誘電体層２７上に形成されたMgO等の放電保護膜２８を形成し、封着された両基板１０，２０間に励起ガスを封入して成る。  【選択図】  図１  
2005183104.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明なガラス基板の片面に、その内壁面に蛍光体層が形成される放電空間を画成する隔壁を、透明低融点ガラスにより形成したことを特徴とするガス放電型平面表示パネル用の前面基板。
【請求項２】
前記隔壁を成す透明低融点ガラスの硬度が、前記ガラス基板の硬度より低く、
透明低融点ガラスの組成として質量百分率表示で、ＰｂＯ：５０〜８０％、Ｂ２Ｏ３：1０〜３０％、ＳｉＯ２：０．５〜１０％、Ａｌ２Ｏ３：０．５〜１０％、ＺｎＯ：１〜２０％から本質的になり、かつ、軟化点が４５５℃から４９５℃である請求項１記載のガス放電型平面表示パネル用の前面基板。
【請求項３】
前記隔壁により画成される放電空間が、前記ガラス基板側に向かって幅を狭める形状であることを特徴とする請求項１又は２記載のガス放電型平面表示パネル用の前面基板。
【請求項４】
前記隔壁により画成された放電空間内において、前記ガラス基板上に設けられたアドレス電極と、前記放電空間の内壁面に形成された蛍光体層を備えることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載のガス放電型平面表示パネル用の前面基板。
【請求項５】
前記アドレス電極の少なくとも前記ガラス基板側を黒色にしたことを特徴とする請求項４記載の前面基板。
【請求項６】
請求項４又は５記載の前面基板と、
前記前面基板の前記隔壁の形成面に対向配置され、前記前面基板と対向する面に、前記アドレス電極に対して直交方向を成す走査電極と、該走査電極を覆う誘電体層、及び、前記誘電体層上に形成された放電保護膜を有する背面基板を備え、
封着された前記前面基板と前記背面基板間に励起ガスを封入して成ることを特徴とするガス放電型平面表示パネル。
【請求項７】
透明なガラス基板の表面に、焼成後において透明で、かつ、前記ガラス基板より低硬度の低融点ガラスのペースト層を形成すると共に、これを焼成して透明低融点ガラス層を形成し、
前記透明低融点ガラス層の表面に耐サンドブラスト性のレジストによるマスキングをした後、
前記透明低融点ガラスよりも高硬度の噴射粒体によるサンドブラストにより、前記マスキングがされていない部分の前記透明低融点ガラス層を切削して、放電空間を画成する隔壁を形成する工程を含むことを特徴とするガス放電型平面表示パネル用の前面基板の製造方法。
【請求項８】
前記サンドブラストに使用する噴射粒体が、前記ガラス基板と同等以下の硬度であることを特徴とする請求項７記載のガス放電型平面表示パネルの前面基板の製造方法。
【請求項９】
前記サンドブラストによる前記透明低融点ガラスの切削により形成された前記隔壁の表面を、加熱により溶融して平滑にする工程を含むことを特徴とする請求項７又は８記載のガス放電型表面表示パネル用の前面基板の製造方法。
【請求項１０】
前記マスキングを、耐サンドブラスト性の感光性ドライフィルムを所定の形状に感光させることにより行う請求項７〜９いずれか１項記載のガス放電型平面表示パネルの前面基板の製造方法。
【請求項１１】
前記マスキングを、耐サンドブラスト性のレジストインクを所定の形状に印刷することにより行う請求項７〜９いずれか１項記載のガス放電型平面表示パネルの前面基板の製造方法。
【請求項１２】
透明なガラス基板の表面に、焼成後において透明な低融点ガラスのペーストをスクリーン印刷により形成する隔壁のパターンに印刷し、該印刷された透明低融点ガラスのペーストを焼成する、隔壁の形成工程を含むことを特徴とするガス放電型表面表示パネルの前面基板の製造方法。
【請求項１３】
透明なガラス基板の表面に、感光性樹脂を含有し、焼成後において透明な低融点ガラスのペースト層を形成し、
前記透明低融点ガラスのペースト層を、所定のパターンで露光して、隔壁の形成部分の透明低融点ガラスのペースト層を硬化させると共に、隔壁の非形成部分における透明低融点ガラスのペースト層を除去した後、
前記露光により硬化した低融点ガラスのペースト層を焼成して、放電空間を画成する隔壁を形成する工程を含むことを特徴とするガス放電型平面表示パネルの前面基板の製造方法。
【請求項１４】
前記隔壁を形成する工程の後、前記隔壁により画成された放電空間内における前記ガラス基板上にアドレス電極を形成すると共に、前記放電空間の内壁面に蛍光体層を形成することを特徴とする請求項７〜１３いずれか１項記載のガス放電型平面表示パネルの前面基板の製造方法。
【請求項１５】
前記隔壁を形成する工程を、アドレス電極が形成されたガラス基板に対して行うと共に、前記隔壁を形成する工程の後、前記隔壁により画成された放電空間の内壁面に蛍光体層を形成することを特徴とする請求項７〜１３いずれか１項記載のガス放電型平面表示パネルの前面ガラス基板の製造方法。
【請求項１６】
請求項１４又は１５記載の方法により前面基板を製造する工程と、
背面基板となるガラス基板の表面に、走査電極と、この走査電極を被覆する誘電体層を形成すると共に、該誘電体層上に放電保護膜を形成する背面基板の製造工程と、
前記工程により製造された前面基板の隔壁形成面と、前記背面基板の走査電極形成面とを、前記アドレス電極と前記表示電極とが直交方向を成すように対向させて封着後、前記両基板間に励起ガスを封入する工程から成るガス放電型平面表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル等のガス放電型平面表示パネル及びその前面基板、並びに、前記ガス放電型平面表示パネル及びその前面基板の製造方法に関し、より詳細には、輝度及びコントラストの高いガス放電型平面表示パネル、及びこのようなガス放電型平面表示パネルを実現する前面基板並びに該前面ガラス基板を備えたガス放電型平面表示パネルを製造するための製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のガス放電型平面表示パネルの構造の一例として、ＡＣ三極面放電型のプラズマディスプレイパネルの構造を例に説明すると、このガス放電型平面表示パネル１００は、図９及び図１０に示すように、前面基板１１０と、この前面基板１１０に対向配置された、背面基板１２０を備えている。
【０００３】
このうち、前面基板１１０は、表示パネル１００の前面側を成す基板で、透明なガラス基板１１１の片面に、所定の放電ギャップＧを介して平行に配置された、ＩＴＯ等の透明電極から成る一対の走査電極１１４と、この走査電極１１４の各電極の一辺に沿って形成された、これら透明電極の導電性を補うための金属材料から成るバス電極１１５とがそれぞれすだれ状に形成されていると共に、この走査電極１１４やバス電極１１５の形成面の全体を透明誘電体層１１７で覆い、この透明誘電体層１１７上に、放電電圧を低下させるＭｇＯ等の放電保護膜１１８を蒸着等して成る構成を備えている（図９参照）。
【０００４】
一方、背面ガラス基板１２０は、その基材を成すガラス基板１２１の片面に、前記走査電極１１４の長さ方向に対して直交方向を長さ方向と成すようにすだれ状に形成されたアドレス電極１２２を備えると共に、このアドレス電極１２２，１２２間に位置して、前記アドレス電極１２２と同一の長さ方向を有する隔壁１２８が形成され、この隔壁１２８，１２８の側面と、この隔壁間におけるガラス基板１２１によって、放電空間１３７が画成されていると共に、この放電空間１３７の内壁面に蛍光体を塗布して形成された蛍光体層１２３を備えている（図１０参照）。
【０００５】
そして、これら前面ガラス基板１１０と背面ガラス基板１２０は、気密状態に封着され、両基板１１０，１２０間の空気が抜き取られると共に、該空気の抜き取られた空間内にキセノン、ネオン等から成る希ガスが励起ガスとして封入されている。
【０００６】
なお、図中１１６は、例えば黒色誘電体層等から成るブラックストライプで、隔壁１２８，１２８により画成された放電空間１３７の開口部以外の部分を覆って、室内光が放電空間内に入り、蛍光体層１２３に反射してコントラストが低下することを防止する。
【０００７】
このように構成されたガス放電型平面表示パネル１００は、各電極１１４，１２２に入力するパルス信号の制御により、アドレス電極１２２と走査電極１１４との指定された交点における放電空間１３７において放電を生じさせることにより、該放電空間１３７における蛍光体層１２３を発光させて所望の画像を表示することができるように構成されている。
【０００８】
なお、このような構造を有するガス放電型平面表示パネルにおいて、背面ガラス基板１２０に隔壁１２８を形成する方法の一例として、ガラス基板上の全面にペースト状の低融点ガラスを塗布し、これを乾燥させた後、形成する隔壁の形状に従ってレジスト膜を形成し、サンドブラストによりレジスト層部分以外の乾燥した低融点ガラスのペーストを除去し、その後、これを焼成して、ガラス基板の表面に低融点ガラスによる隔壁を形成する方法がある（特許文献１参照）。
【０００９】
この発明の先行技術文献情報としては次のものがある。
【特許文献１】特開平３−２９４１８０号公報（第１−２頁、図１−図３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
前述のように構成された従来のガス放電型平面表示パネル１００にあっては、隔壁１２８間に形成された放電空間１３７中に設けられた蛍光体層の発光色は、背面基板１２０に形成された放電空間１３７の開口部分を介してパネル前面に放出され、特に、開口部の前面を覆う前面基板に、放電空間１３７の開口部以外を覆うブラックストライプ１１６が設けられている場合には、蛍光体層の発光部分のうち、視覚に入る部分は放電空間１３７の開口部と一致する狭い範囲に限定されている。そのため、従来のガス放電型平面表示パネルにあっては発光輝度が低いものとなっている。
【００１１】
このように、従来のガス放電型平面表示パネルにあっては、発光輝度が低いことから、発光体層１２３の前面を覆う前面基板１１０は、背面基板１２０に形成された放電空間１３７内での発光体層１２３の発光を遮ることなく透過させることができるように、放電空間１３７の開口部前面に設けられている走査電極１１４としてＩＴＯ等の透明電極を使用することが必要になっていた。
【００１２】
このような透明電極は高価であるだけでなく、その導電性が低いために、この導電性を補うために、導電性の金属からなるバス電極１１５を走査電極のそれぞれの一辺に沿って形成しているが、遮る蛍光体の発光色を可及的に減少させるため幅狭に形成されたバス電極１１５を、走査電極１１４と重ならないように形成するためには、これを高い加工精度で基板上に形成する必要があり、また、走査電極１１４、バス電極１１５という種類の異なる電極をそれぞれ形成しなければならない煩雑さから、このような構造を備える前面基板の製造には、多大な費用と労力が費やされるものとなっている。
【００１３】
また、前述の構成のガス放電型平面表示パネル１００にあっては、蛍光体層１２３の前面に走査電極１１４を配置する構造から、放電が蛍光体層１２３に対して前面側で生じ、その結果、放電の際に生じるオレンジ色の放電色が蛍光体の発光色と共に視界に入り、色純度が悪くなるという問題を生じるものとなっている。
【００１４】
そこで、本発明は上記従来技術における欠点を解消するためになされたものであり、本発明の第１の目的は、前面基板に設ける電極を、高価な透明電極とする必要がなく、従って、透明電極の導電性を補うためのバス電極が不要で、製造が容易であると共に、表示色の発色が鮮明で色純度が良く、高輝度、高コントラストを実現することのできる新規な構造のガス放電型平面パネル及びその前面基板を提供することを目的とする。
【００１５】
また、本発明の別の目的は、前記新規な構造を有するガス放電型平面表示パネル、及びその前面基板を、比較的簡単な方法により効率的に製造することができる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するために、本発明のガス放電型平面表示パネル１用の前面基板１０は、透明なガラス基板１１の片面に、その内壁面に蛍光体層１３が形成される放電空間３７を画成する隔壁１８を、透明低融点ガラスにより形成したことを特徴とする（請求項１）。
【００１７】
上記構成の前面基板１０において、前記隔壁１８を成す透明低融点ガラスとしては、その硬度が、前記ガラス基板の硬度より低く、透明低融点ガラスの組成として質量百分率表示で、ＰｂＯ：５０〜８０％、Ｂ２Ｏ３：1０〜３０％、ＳｉＯ２：０．５〜１０％、Ａｌ２Ｏ３：０．５〜１０％、ＺｎＯ：１〜２０％から本質的になり、かつ、軟化点が４５５℃から４９５℃とすることもできる（請求項２）。
【００１８】
また、前記構成の前面ガラス基板１０にあっては、これに形成される隔壁１８が画成する放電空間３７が、前記ガラス基板１１側に向かって幅を狭める形状とすることが好ましい（請求項３）。
【００１９】
さらに、前記前面ガラス基板１０は、
前記隔壁１８により画成された放電空間３７内において、前記ガラス基板１１上に設けられたアドレス電極１４と、前記放電空間３７の内壁面に形成された蛍光体層１３を備えたことを特徴とする（請求項４）。
【００２０】
なお、前記アドレス電極１４の少なくとも前記ガラス基板１１側は、これを黒色にすれば好適である（請求項５）。
【００２１】
また、本発明のガス放電型平面表示パネル１は、アドレス電極１４及び蛍光体層１３を備えた前記構成の前面基板１０と、
前記前面基板１０の前記隔壁１８の形成面に対向配置され、前記前面基板１０と対向する面に、前記アドレス電極１４に対して直交方向を成す走査電極２４と、該走査電極２４を覆う誘電体層２７、及び、前記誘電体層２７上に形成された放電保護膜２８を有する背面基板２０を備え、
封着された前記前面基板１０と前記背面基板２０間に励起ガスを封入して成ることを特徴とする（請求項６）。
【００２２】
また、本発明のガス放電型平面表示パネル用の前面基板の製造方法は、透明なガラス基板１１の表面に、焼成後において透明で、かつ、前記ガラス基板より低硬度の低融点ガラスのペースト層を形成すると共に、これを焼成して透明低融点ガラス層を形成し、
前記透明低融点ガラス層の表面に耐サンドブラスト性のレジストによるマスキングをした後、
前記透明低融点ガラスよりも高硬度の噴射粒体によるサンドブラストにより、前記マスキングがされていない部分の前記透明低融点ガラス層を切削する、隔壁の形成工程を含むことを特徴とする（請求項７）。
【００２３】
前述の隔壁形成工程において、好ましくは、前記サンドブラストに使用する噴射粒体を前記ガラス基板と同等以下の硬度とする（請求項８）。
【００２４】
さらに、前記前面基板の製造方法にあっては、前記サンドブラストによる前記透明低融点ガラスの切削により隔壁を形成した後、その表面を加熱により溶融して平滑にする工程を含むものとすることもできる（請求項９）。
【００２５】
前述のマスキングとしては、耐サンドブラスト性の感光性ドライフィルムを所定の形状に感光させることにより行っても良く（請求項１０）、又は
耐サンドブラスト性のレジストインクを所定の形状に印刷することにより行っても良い（請求項１１）。
【００２６】
また、前述の前面基板１０を製造するための別の方法としては、透明なガラス基板１１の表面に、焼成後において透明な低融点ガラスのペーストをスクリーン印刷により形成する隔壁のパターンに印刷し、
該印刷された透明低融点ガラスのペーストを乾燥させ、
必要に応じてこの乾燥後の透明低融点ガラスのペースト上に更に透明低融点ガラスのペーストを印刷、乾燥して、必要な高さにガラスペーストが積み上がる迄、この作業を繰り返し、
その後、該印刷、乾燥された透明低融点ガラスのペーストを焼成する、隔壁の形成工程を含むものとしても良い（請求項１２）。
【００２７】
更に別の表面基板の製造方法にあっては、透明なガラス基板の表面に、感光性樹脂を含有し、焼成後において透明な低融点ガラスのペースト層を形成し、
前記透明低融点ガラスのペースト層を、所定のパターンで露光して、隔壁の形成部分の透明低融点ガラスのペースト層を硬化させると共に、隔壁の非形成部分における透明低融点ガラスのペースト層を除去した後、
前記露光により硬化した低融点ガラスのペースト層を焼成する、隔壁の形成工程を含むものとすることもできる（請求項１３）。
【００２８】
なお、アドレス電極１４や蛍光体層１３を備えた前面基板を得るために、上記製造工程を経て得られた前面基板に対し、前記隔壁１８により画成された放電空間３７内における前記ガラス基板１１上にアドレス電極１４を形成すると共に、前記放電空間３７の内壁面に蛍光体層１３を形成する工程を更に含めるものとしても良く（請求項１４）、前述のアドレス電極の形成に際しては、アドレス電極自体を黒色とし、又はアドレス電極のガラス基板側を黒色に着色し、又は、アドレス電極形成部分に予め黒色顔料等を塗布する等して、少なくともアドレス電極１４のガラス基板１１側を黒色とすることが好ましい。
【００２９】
また、アドレス電極１４や蛍光体層１３を備えた前面基板を得るためには、隔壁を形成する前に、予め前記ガラス基板上にアドレス電極１４を形成しておき、このアドレス電極が形成されているガラス基板に対して前述のいずれかの隔壁の形成工程を行うと共に、前記隔壁の形成工程後、前記隔壁の側面と前記隔壁間における前記ガラス基板上に蛍光体層１３を形成するものとしても良い（請求項１５）。
【００３０】
なお、この際のアドレス電極１４の形成に際しては、前記同様にアドレス電極１４の少なくともガラス基板１１側の面を黒色とすることが好ましく、また、ガラス基板のアドレス電極形成面を覆う透明誘電体層を形成しておいても良い。
【００３１】
さらに、本発明のガス放電型平面表示パネルの製造方法は、前記方法により、アドレス電極及び蛍光体層を備えた前面基板を製造する工程と、
背面基板となるガラス基板の表面に、表示電極と、この表示電極を被覆する誘電体層を形成すると共に、該誘電体層上に放電保護膜を形成する背面基板の製造工程と、
前記工程により製造された前面基板の隔壁形成面と、前記背面基板の表示電極形成面とを、前記アドレス電極と前記表示電極とが直交方向を成すように対向させて封着後、前記両基板間に励起ガスを封入する工程から成る（請求項１６）。
【発明の効果】
【００３２】
以上説明した本発明の前面ガラス基板及びこれを使用したガス放電型平面表示パネルにあっては、前面基板に、透明低融点ガラスの隔壁が形成されたことにより、放電空間の開口部を介して視界に入る蛍光体層のみならず、隔壁の側面に接する部分の蛍光体の発光が視界に入り、発光部分が立体的となるために、発光部分の面積が広く、輝度が上昇し、発光効率が向上した。
【００３３】
そのため、前面ガラス基板に設けられるアドレス電極を高価な透明電極としない場合であっても、これを補う高輝度の発光を得ることのできるガス放電型平面表示パネル及びその前面基板を提供することができた。
【００３４】
また、アドレス電極として透明電極を使用する必要がないことから、この透明電極の導電性を補うための、従来技術におけるバス電極に相当する電極を設ける必要がなく、前面基板における電極の構造が簡易となり、その製造が容易となった。
【００３５】
さらに、高輝度の発光を得ることができた結果、コントラスト比を向上させることができ、表示される画像を鮮明なものとすることができた。
【００３６】
また、同構成により蛍光体が放電部分の前面に配置されることとなるため、蛍光体の発光色が、オレンジ色の放電発色に遮られることなく視界に入り、色純度の高いガス放電型平面表示パネル及びその前面基板を提供することができた。
【００３７】
放電空間を画成する透明低融点ガラスの硬度を、前面ガラス基板の硬度よりも低くすることで、該隔壁の形成に際してブラスト等の加工方法により前面ガラス基板を傷つけることなく切削することが可能である。
【００３８】
また、前記透明低融点ガラスが質量百分率表示で、ＰｂＯ：５０〜８０％、Ｂ２Ｏ３：1０〜３０％、ＳｉＯ２：０．５〜１０％、Ａｌ２Ｏ３：０．５〜１０％、ＺｎＯ：１〜２０％から本質的になり、軟化点を４５５℃から４９５℃とすることで、ペースト焼成により、透明性を阻害する燒結気泡を除去することが容易になる。なお、前記「から本質的にな」るとは、本発明の目的を損なわない範囲で他の成分を含有しても良い、の意である。
【００３９】
形成する隔壁の形状を、ガラス基板側に向かって幅を広げる形状とする場合には、隔壁の側面と接触する部分の蛍光体が、表示パネルの前面からの視界に入り、これにより有効に機能する蛍光体層の発光部分の面積を大きくすることができた。従って、更に輝度を上昇させることができると共に、発光効率を向上させることができた。
【００４０】
さらに、隔壁間におけるガラス基板上に形成されるアドレス電極の少なくともガラス基板側（前面側）を黒色とする場合には、室内光がアドレス電極に反射することを防止し、又は、前面基板を透過しようとする室内光を遮って、室内光が蛍光体に反射して視界に入ることを防止して、コントラスト比が低下することを防止できた。特に、アドレス電極は蛍光体の前面側に配置されているために、蛍光体による室内光の反射を好適に防止することができた。
【００４１】
また、本発明の前面ガラス基板の製造方法によれば、前述のガス放電型平面表示パネルに使用される前面ガラス基板を比較的容易に、かつ、短時間で正確に製造することができた。
【００４２】
ブラスト加工により隔壁の形成を行う場合には、使用する噴射粒体として、透明低融点ガラスよりも高硬度の噴射粒体を使用することにより、隔壁の形成を極めて短時間で行うことができると共に、ガラス基板と同等以下の硬度を有する噴射粒体を使用することで、前面ガラス基板、ガラス基板上に形成されたアドレス電極等を切削等することがなく、前面ガラス基板が噴射粒体の衝突による傷等によってその透光性を低下することも防止できた。
【００４３】
また、ブラストによる加工後に、透明低融点ガラスを加熱・溶融して隔壁の表面を平滑にすることにより、隔壁の透明性を向上させることができ、これにより高輝度の発光を得ることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
次に、本発明の実施形態を添付図面を参照しながら以下説明する。
【００４５】
１．ガス放電型平面表示パネル構造
図１〜図４を参照して、本発明のガス放電型平面表示パネル１の全体構成例を説明する。
【００４６】
図１〜図４に示す実施形態において、本発明のガス放電型平面表示パネル１は、一例としてＡＣ三電極面放電型のプラズマディスプレイパネルであり、このガス放電型平面表示パネル１が、前面基板１０と、背面基板２０とを備えている点、及び前面基板１０と、背面基板２０間に、隔壁１８，１８間に形成された放電空間３７が形成されている点については、図９及び図１０を参照して説明した従来技術におけるガス放電型平面表示パネル１００と同様の構造を備えている。
【００４７】
しかし、前記従来技術に示したガス放電型平面表示パネル１００にあっては、背面基板１２０にアドレス電極１２２と、放電空間１３７を画成する隔壁１２８とを形成すると共に、前面基板１１０に、透明電極である走査電極１１４、バス電極１１５、及びこれらを被覆する透明誘電体層１１７並びＭｇＯ等の放電保護膜１１８を形成していたのに対し（図９参照）、本発明のガス放電型平面表示パネル１にあっては、従来の表示パネルにおいて背面基板に設けられていた隔壁１８及びアドレス電極１４を前面基板１０に設けると共に、背面基板２０に走査電極２４、この走査電極２４を被覆する誘電体層２７、該誘電体層２７上に形成されたＭｇＯ等の放電保護膜２８を形成している。
【００４８】
１−１．前面基板
前述の前面基板１０の基材であるガラス基板１１としては、ソーダライムガラス等、ガス放電型平面表示パネル１の前面基板として使用されている既知の各種のガラス基板が使用可能であり、このガラス基板１１の片面に、透明低融点ガラス、好ましくは質量百分率表示で、ＰｂＯ：５０〜８０％、Ｂ２Ｏ３：1０〜３０％、ＳｉＯ２：０．５〜１０％、Ａｌ２Ｏ３：０．５〜１０％、ＺｎＯ：１〜２０％から本質的になり、軟化点を４５５℃から４９５℃とする透明低融点ガラスの隔壁１８と、該隔壁１８間に形成されたアドレス電極１４、及び前記隔壁１８により画成された放電空間３７の内壁面を覆う蛍光体層１３が少なくとも形成されて、前述の前面基板１０が形成されている。
【００４９】
この前面基板１０に設けられた前記アドレス電極１４は、少なくともそのガラス基板１１側の面を黒色とすることが好ましく、例えばアドレス電極１４自体を黒色の材料で製造し、又はアドレス電極の少なくとも前面側（図中上側）を黒色に着色し、又は、アドレス電極１４の形成位置におけるガラス基板１１上に、黒色の顔料等を塗布する等した後、その上に前述のアドレス電極１４を形成する。
【００５０】
このように、アドレス電極１４の少なくともガラス基板１１側を黒色とすることにより、アドレス電極１４自体が室内光を反射することを防止し、又はアドレス電極１４により室内光がガラス基板１１を透過することを遮って蛍光体層１３に反射することを防止することにより、コントラスト比が低下することを防止している。
【００５１】
また、図３に示す実施形態にあっては、前述のアドレス電極を被覆する、透明誘電体層１５を設け、その上に前述の隔壁１８及び蛍光体層１３を形成している。
【００５２】
前述の隔壁１８は、好ましくは、断面形状において図１及び図３に示すように、ガラス基板１１側においてその幅を広げる形状、すなわち、この隔壁により画成された放電空間３７が、ガラス基板側においてその幅を狭める形状に形成されている。
【００５３】
従って、このように形成された透明な隔壁の側面に設けられた蛍光体層１３は、表示パネルの前面から、ガラス基板１１及び隔壁１８を透過して視界に入るため、蛍光体層１３の発光部分中、視認し得る面積が増加して輝度が向上する。
【００５４】
そのため、前述のアドレス電極１４として透明電極ではなく、例えばAg，Au，Al，Ni，Ag-Pd合金などの各種の金属電極を使用した場合であっても、このアドレス電極１４により遮られる蛍光体層１３の発光を補って余りある高輝度の発光を得ることができる。
【００５５】
１−２．背面基板
一方、背面基板２０の基材としては、既知のガス放電型平面表示パネルの背面基板として使用されている各種材質の基板を使用することができ、本実施形態にあっては、一例として前記前面基板１０と同様のガラス基板２１を使用している。
【００５６】
このガラス基板２１の、前記前面基板１０と対向する面には、所定の放電ギャップＧを介して対を成す走査電極２４が、前記アドレス電極１４の長さ方向に対して直交方向となるように複数対形成されている。
【００５７】
そして、この走査電極２４の形成されたガラス基板２１の全面を誘電体層２７で覆い、この誘電体層２７上を、蒸着等の方法で形成されたＭｇＯ等の放電保護膜２８で覆っている。
【００５８】
図９及び図１０を参照して説明した従来技術のガス放電型平面表示パネル１００にあっては、この走査電極２４（１１４）、誘電体層２７（１１７）及び放電保護膜２８（１１８）は、いずれも前面基板１１０に形成されていたため、これらをいずれも透明なものとして形成していたが、本発明のガス放電型平面表示パネル１にあっては、走査電極２４及び、これを被覆する誘電体層２７は、いずれも背面基板２０に形成されているために、これらを透明なものとする必要はない。
【００５９】
なお、前述の走査電極２４を被覆する誘電体層２７は、本発明のガス放電型平面表示パネル１の更なる輝度の向上を目的として、反射率の高い材質により形成しても良い。
【００６０】
１−３．前面基板と背面基板の組合せ状態
以上のように構成された前面基板１０と背面基板２０は、前面基板１０の前記隔壁１８の形成面と、前記背面基板２０の前記走査電極２４及び誘電体層２７の形成面とが対向された状態で封着され、この前面基板１０と背面基板２０間の空間内に、キセノンやネオン等の希ガスが、励起ガスとして封入されている。
【００６１】
そして、アドレス電極１４及び走査電極２４に対するパルス信号の入力により、指定されたアドレス電極１４と走査電極２４との交叉する位置における放電空間３７内において放電が生じる。この放電は、蛍光体層１３の背面側において生じ、この放電に伴ってその前面に配置された蛍光体層１３が発光する。
【００６２】
このようにして発光した蛍光体層１３の発光色は、透明低融点ガラスにより形成された透明な隔壁１８、透明なガラス基板１１を透過して表示パネルの前面側において看者の視界に入る。
【００６３】
このように、前面基板１０に隔壁１８を形成した本発明のガス放電型平面表示パネル１の構成により、放電は蛍光体層１３の背面側において生じているために、放電の際に生じるオレンジ色の光が蛍光体層１３により遮られるために、蛍光体の発光色のみが、表示パネル前面の看者の視界に入り、高純度の発光色を表現できるものとなっている。
【００６４】
また、表示パネルの前面側からの視界に入る蛍光体層１３の表面積が増えるため、輝度が上昇し、その結果、前面ガラス基板１１に形成される電極（アドレス電極）１４，１４を透明電極としない場合であっても、輝度の低下が生じないものとなっている。
【００６５】
特に、隔壁１８により画成された放電空間３７を、断面においてガラス基板１１側に向かって幅を狭める形状とした場合には、表示パネルの前面からの視界において、隔壁１８の側面と接している部分の蛍光体についても視界に入るために、この部分の発光が画面表示上において有効に機能し発光部分が立体的となるために、より一層の輝度の向上を図ることができるものとなっている。
【００６６】
また、背面基板２０に形成された走査電極２４、この走査電極２４を被覆する誘電体層２７についても、これらを透明とする必要がなく、そのため、高価な透明電極を使用する必要がないだけでなく、透明電極の導電性を補うための、従来技術において説明したバス電極に相当する電極を設けることも不要となった。
【００６７】
また、この走査電極２４を被覆する誘電体層２７を、反射率の高い材質で形成する場合には、蛍光体層１３の発光をより高輝度で行うことが可能となる。
【００６８】
２．前面ガラス基板の製造方法
以上説明した、本発明のガス放電型平面表示パネル１に使用する、前述の前面ガラス基板１０の製造方法を以下、説明する。
【００６９】
２−１．製造方法１
第１の製造方法として、ブラスト加工装置を使用した前面基板１０の製造方法の一例を、図５を参照して説明すれば、以下の通りである。
【００７０】
（１）透明低融点ガラス層の形成（図示せず）
図５に示す各処理を開始する前に、ガラス基板の片面に、透明低融点ガラス層を、形成する隔壁の高さに対応した所定の厚みで形成する。
【００７１】
この低融点ガラス層の形成方法としては、先ず、ガラス基板の片面に、焼成後において透明である、透明低融点ガラスのペースト層を形成する。
【００７２】
このペースト層の形成方法としては、透明低融点ガラスのペーストを、直接ガラス基板上に塗布することにより行っても良く、又は、予め転写紙等に透明低融点ガラスのペーストを塗布して透明低融点ガラスのペースト層を形成しておき、この転写紙上に形成された透明低融点ガラスのペースト層をガラス基板上に転写して、ガラス基板上に透明低融点ガラスのペースト層を形成しても良く、所定の厚みで透明低融点ガラスのペースト層を形成できる方法であれば、如何なる方法により行っても良い。
【００７３】
ここで使用する透明低融点ガラスのペースト中に含まれる低融点ガラスは、好ましくは、ガラス基板よりも低硬度であり、かつ、質量百分率表示で、ＰｂＯ：５０〜８０％、Ｂ２Ｏ３：1０〜３０％、ＳｉＯ２：０．５〜１０％、Ａｌ２Ｏ３：０．５〜１０％、ＺｎＯ：１〜２０％から本質的になり、軟化点が４５５℃から４９５℃であるものを使用することが好ましい。
【００７４】
低融点ガラスの硬度を、ガラス基板よりも低硬度とするのは、後述するブラストによる切削を短時間で行うと共に、使用する噴射粒体の硬度を調整することにより、ガラス基板を切削することが防止できるためであり、また、透明低融点ガラスの組成として質量百分率表示で、ＰｂＯ：５０〜８０％、Ｂ２Ｏ３：1０〜３０％、ＳｉＯ２：０．５〜１０％、Ａｌ２Ｏ３：０．５〜１０％、ＺｎＯ：１〜２０％から本質的になるものを含むことにより、ガラス基板との熱膨張係数をマッチングさせ、軟化点を４５５℃から４９５℃とすることで、透明低融点ガラスペーストの焼成時に透明性を阻害する燒結気泡を除去することができる。
【００７５】
以上のようにしてガラス基板上に透明低融点ガラスのペースト層を形成した後、加熱により、この形成された透明低融点ガラスのペースト層を焼成し、ガラス基板上に透明低融点ガラス層を形成する。
【００７６】
（２）ドライフィルムのラミネート（図５中の工程１）
このようにして、ガラス基板上に形成された透明低融点ガラス層上に、サンドブラスト用の感光性ドライフィルムをラミネータ等を使用してラミネートする。
【００７７】
（３）露光（図５中の工程２）
前記工程によりラミネートされたドライフィルム上にパターンマスクを置き、パターンマスク上からドライフィルムに紫外線を照射して、露光する。
【００７８】
（４）現像（図５中の工程３）
その後、パターンマスクを取り除き、ドライフィルムに現像液を吹き付けて、未露光部分を洗い流し透明低融点ガラス上に、隔壁の形成パターンに対応したマスクパターンを形成する。
【００７９】
（５）サンドブラスト（図５中の工程４）
サンドブラスト装置を使用し、透明低融点ガラス層よりも硬度が高く、より好ましくはこの条件に加えてガラス基板と同等以下の硬度を有する、例えばセラミック等から成る噴射粒体を、一例として噴射圧力０．０３ＭＰａ以上の圧力の高圧ガスにて吹き付け、マスクパターンにより被覆されていない部分の透明低融点ガラス層を切削・除去する。
【００８０】
この低融点ガラス層の切削・除去は、非マスク部分における低融点ガラス層を完全に除去してガラス基板が露出する迄行っても良く、又は低融点ガラス層が所定の厚さで残るように行っても良い。
【００８１】
このようにして、ガラス基板の片面に透明低融点ガラスから成る透明な隔壁を形成し、この隔壁間に形成された溝の部分が、ガス放電型平面表示パネルにおける放電空間と成る。
【００８２】
（６）レジスト除去（図５中の工程５）
ブラスト加工の終了後、剥離液を吹き付けて隔壁の頂部に付着するドライフィルムを剥離すると、アドレス電極や蛍光体層が形成される前の前面ガラス基板が得られる。
【００８３】
（７）隔壁の平滑化（図示せず）
以上のようにして隔壁を形成した後、さらに加熱により低融点ガラスの隔壁表面を溶融し、ブラストによる切削の際に生じた隔壁表面の細かな凹凸を平坦にして、凹凸による乱反射による透明性の低下を改善する。
【００８４】
（８）アドレス電極、蛍光体層の形成（図示せず）
上記の各処理により得られた前面基板は、ガス放電型平面表示パネルとして使用する際に必要となるアドレス電極及び蛍光体層が形成され、また、必要に応じてアドレス電極の形成前にアドレス電極の形成部分に      例えば黒色の塗膜を形成する等してブラックストライプを形成し、また、アドレス電極の形成後に、アドレス電極を覆う透明誘電体層を形成する。
【００８５】
（９）変形例
前述のアドレス電極や、ブラックストライプ、このアドレス電極を覆う透明誘電体層は、予めこれらをガラス基板上に形成した後、このガラス基板のアドレス電極形成面側に前述の（１）の作業を行って透明低融点ガラス層を形成し、（２）〜（６）の作業を行ってアドレス電極の形成部分における透明低融点ガラス層をブラストにより切削・除去してアドレス電極を備えた前面ガラス基板を製造しても良く、このようにして形成された前面ガラス基板の放電空間内面に、表示パネルに組み込む際に必要となる蛍光体を塗布して蛍光体層を形成しても良い。
【００８６】
この場合、透明誘電体層を予め形成することなく、アドレス電極が低融点ガラスより露出する前に切削を終了することにより、アドレス電極を透明低融点ガラスにより被覆したものとしても良く、又はアドレス電極を覆うように蛍光体層を形成し、アドレス電極を蛍光体層で被覆するものとしても良い。
【００８７】
また、前述の例では、耐サンドブラスト用のマスクパターンの形成を、ドライフィルムを使用して行う例について説明したが、マスクパターンの形成はこれに限定されず、スクリーン印刷用の印刷手段により低融点ガラスペースト上に耐サンドブラスト性のインクを塗布してマスクパターンを形成してもよい。
【００８８】
（１０）サンドブラスト装置
ここで使用するサンドブラスト装置は例えば図８のように加工室内に噴射ノズル４５を有し、噴射ノズル４５は前後に高速で動き加工材は図中左から右に一方方向に移動し、噴射粒体が噴射ノズル４５から噴射されることにより加工材の切削加工を行う。
【００８９】
噴射ノズル４５から噴射された噴射粒体は加工材に吹き付けられた後、加工室ホッパー４２から集塵機４０の負圧によりサイクロン４１に入り、サイクロン４１にて破砕された噴射粒体及び削られた加工材は集塵機４０に入り、使用できる噴射粒体は噴射粒体タンクから噴射粒体供給装置に入り、再び噴射ノズル４５から噴射される。
【００９０】
２−２．製造方法２
スクリーン印刷によりガラス基板上に透明低融点ガラスのペーストを印刷することにより、透明な隔壁を備えた前面ガラス基板の製造方法の一例を図６を参照して説明する。
【００９１】
なお、以下に説明する製造方法においても、前記製造方法１の場合と同様に、透明低融点ガラスによる隔壁を形成した後にブラックストライプやアドレス電極、透明誘電体層を形成することも可能であるが、以下の実施形態にあっては、予めガラス基板上にこれらを形成した後、透明低融点ガラスによる隔壁を形成する場合を例として説明する。
【００９２】
（１）アドレス電極の形成等（図示せず）
ガラス基板の片面のアドレス電極を形成する部分に、黒色塗料等を例えばスクリーン印刷等の方法により印刷してブラックストライプを形成し、その後、この形成されたブラックストライプ上に、アドレス電極を形成する。
【００９３】
このアドレス電極の形成されたガラス基板の全面に透明誘電体層を形成し、この誘電体層により前述のブラックストライプ及びアドレス電極を被覆する。
【００９４】
なお、この透明誘電体層は、後述する透明低融点ガラスのペーストを、アドレス電極の形成されたガラス基板の全面に塗布し、後述する隔壁となる低融点ガラスペーストを焼成する際に同時に焼成して、これを透明誘電体層としても良い。
【００９５】
（２）スクリーン印刷（図６中の工程１）
このようにして、ブラックストライプ、アドレス電極及び透明誘電体層（又は透明低融点ガラスのペースト層）が形成されたガラス電極上に、スクリーン印刷により、焼成後において透明な隔壁となる低融点ガラスのペーストを印刷する。
【００９６】
印刷は、透明低融点ガラスのペーストが、形成される隔壁のパターンに従ってガラス基板上に塗布されるよう、スクリーン印刷等の方法により行い、塗布された透明低融点ガラスペーストを乾燥後、さらにその上に同様にして透明低融点ガラスのペーストを印刷し、必要な高さまでガラスペーストが積み上がる迄、この作業を繰り返す。
【００９７】
（３）焼成（図６中の工程２）
透明低融点ガラスのペーストが、所定の高さまで積み上がると、これを焼成して、透明な隔壁が形成された前面ガラス基板を得る。
【００９８】
（４）蛍光体層の形成（図６中の工程３）
このようにして得られた、透明な隔壁が形成されたガラス基板は、本発明のガス放電型平面表示パネルに使用する際に必要となる蛍光体を、隔壁側面及び隔壁間におけるガラス基板上に塗布して、蛍光体層を形成する。
【００９９】
２−３．製造方法３
紫外線硬化性を持たせた透明低融点ガラスのペーストを使用して、透明な隔壁を備えた前面ガラス基板の製造方法の一例を図７を参照して説明する。
【０１００】
なお、以下に説明する製造方法においても、前記製造方法２の場合と同様に、透明低融点ガラスによる隔壁を形成した後にブラックストライプやアドレス電極、透明誘電体層を形成することも可能であるが、以下に示す実施形態では、予めガラス基板上にこれらを形成した後、透明低融点ガラスによる隔壁を形成する場合を例として説明する。
【０１０１】
（１）透明低融点ガラスのペースト層の形成
前述の製造方法２において（１）として説明したと同様に、ガラス基板の片面に、予めブラックストライプ、アドレス電極及び透明誘電体層を形成する。
【０１０２】
このように、アドレス電極等が形成されたガラス基板の全面に、透明低融点ガラスのペーストを所定の厚みで塗布し、又は予め転写紙等に所定の厚みで透明低融点ガラスのペーストを塗布することにより得られた透明低融点ガラスのペースト層を、ガラス基板に転写して、ガラス基板のアドレス電極形成面の全面に、透明低融点ガラスのペースト層を形成し、これを乾燥する。
【０１０３】
なお、ここで使用する透明低融点ガラスのペーストは、紫外線の照射により硬化し現像液に溶けなくなる感光性樹脂を混合して成る透明低融点ガラスのペーストを使用する。
【０１０４】
（２）露光（図７の工程１）
このようにして、ガラス基板上に形成された透明低融点ガラスのペースト層上に、形成する隔壁のパターンに従って開口が形成されたパターンマスクを載置し、このパターンマスク上から、透明低融点ガラスのペースト層上に紫外線を照射して、隔壁として残す部分の透明低融点ガラスのペースト層を硬化させる。
【０１０５】
（３）現像（図７の工程２）
このようにして、紫外線の照射により形成する隔壁のパターンで透明低融点ガラスのペースト層を硬化させた後、これに現像液を吹き付けて未露光部分を除去すると、形成すべき隔壁の形状に従って、透明低融点ガラスのペースト層が残る。
【０１０６】
（４）焼成（図７の工程３）
その後、この露光により硬化した部分の透明低融点ガラスのペースト層を焼成すると、透明な隔壁が形成された前面ガラス基板が得られる。
【０１０７】
（５）蛍光体層の形成（図７の工程４）
このようにして得られた、透明な隔壁が形成されたガラス基板は、本発明のガス放電型平面表示パネルに使用する際に必要となる蛍光体を、隔壁側面及び区壁間におけるガラス基板上に塗布して、蛍光体層を形成する。
【実施例】
【０１０８】
〔実施例１〕
ガラス基板上に焼成後において透明である透明低融点ガラス（質量百分率表示組成は、ＰｂＯ：６５％、Ｂ２Ｏ３：２０％、ＳｉＯ２：２％、Ａｌ２Ｏ３：４％、ＺｎＯ：９％。軟化点は４７５℃。）のペーストを厚み２００μｍで塗布して５９０℃で焼成して、透明低融点ガラス層を形成した。
【０１０９】
このガラス基板の透明低融点ガラス層上に、日本合成化学工業製サンドブラスト用ドライフィルムをラミネート後、ピッチ２００μｍ、ライン幅５０μｍのパターンマスクで露光量２００ｍＪにて露光を行い、炭酸ナトリウム０．３％水溶液にて現像を行い、透明低融点ガラス上にライン幅５０μｍでピッチ２００μｍのサンドブラスト用ドライフィルムによるマーキングパターンを形成した。
【０１１０】
サンドブラストにて研磨材として平均粒径２０μｍの炭化ケイ素粉末を０．３ＭＰａの高圧エアーを使用して約１０分間吹き付けて、深さ１５０μｍ幅１５０μｍの放電空間を形成した。
【０１１１】
サンドブラスト用ドライフィルムを水酸化ナトリウム３％水溶液にて除去した後、再度４９０℃にて加熱してサンドブラスト加工により粗面化されたガラス面を平滑にした。
【０１１２】
平均粒径３μｍのジルコニアボライト粉末と平均粒径２μｍの錫粉末を水に分散させた溶液を放電空間中に流し込み放置して沈殿させてから乾燥後、３００℃に加熱して放電空間底部にブラックストライプとアドレス電極を兼ねた電極を形成した。
【０１１３】
スクリーン印刷にて赤・緑・青の蛍光体を放電空間中に塗り分け、４５０℃にて焼成を行った。
【０１１４】
背面基板となるガラス基板の、前面となる面に、銀ペーストを使用してスクリーン印刷により走査電極を形成後、この走査電極の形成されたガラス基板の全面に誘電体層を形成し、その表面に蒸着にてＭｇＯを膜付けし、背面基板を形成した。
【０１１５】
このようにして得られた前面ガラス基板と、背面ガラス基板とを封着し、両基板間に希ガスを封入して、本発明のガス放電型平面表示パネルを得た。
【０１１６】
〔実施例２〕
ガラス基板上にスクリーン印刷にてチタンブラックと低融点ガラス（実施例１で使用したものと同じもの）をベースとした黒色インクを印刷してブラックストライプを形成し、その上に銀ペーストを印刷し、アドレス電極を形成した。その後、ガラス基板のアドレス電極形成面前面に、透明誘電体層を印刷で形成し、５９０℃でガラス基板を焼成した。
【０１１７】
このガラス基板の透明誘電体層上に、焼成後において透明な透明低融点ガラスのペーストを厚み１５０μｍ塗布・乾燥後、サンドブラスト用ドライフィルムとして東京応化工業製ＢＦ−７０４を透明低融点ガラスのペースト上にラミネートし、ライン幅５０μｍでピッチ２００μｍのパターンマスクを使用し２００ｍＪにて露光し、０．３％炭酸ナトリウム水溶液にて現像を行い、透明低融点ガラスペースト乾燥膜上にドライフィルムによるサンドブラストのマスキングパターンを形成した。
【０１１８】
ステンレスパウダーＳＵＳ４１０、平均粒径１５μｍのパウダーを０．１ＭＰａの高圧エアーでサンドブラスト装置を使用して吹き付け、マスクパターンに従って低融点ガラスパウダーの乾燥膜を切削加工した。
【０１１９】
その後、水酸化ナトリウム１％水溶液にてドライフィルムを除去し、５５０℃にて切削後の透明低融点ガラスペースト乾燥膜の焼成を行い、透明低融点ガラスによる隔壁を形成した。
【０１２０】
スクリーン印刷にて赤・緑・青の蛍光体を放電空間中に塗り分け、４５０℃にて焼成を行った。
【０１２１】
背面基板となるガラス基板の、前面となる面に、銀ペーストを使用してスクリーン印刷により走査電極を形成後、この走査電極の形成されたガラス基板の全面に誘電体層を形成し、その表面に蒸着にてＭｇＯを膜付けし、背面基板を形成した。
【０１２２】
このようにして得られた前面ガラス基板と、背面ガラス基板とを封着し、両基板間に希ガスを封入して、本発明のガス放電型平面表示パネルを得た。
【０１２３】
〔評価〕
以上のようにして得られた実施例１及び実施例２のガス放電型平面表示パネルは、いずれも高輝度、高発光率であり、また、高いコントラスト比により鮮明な画像を表示することができるものであることが確認できた。
【０１２４】
また、これらのガス放電型平面表示パネルに使用する前面ガラス基板は、直接ガラス基板をブラストにより切削加工して加工する場合の加工時間（約２５分）に対し、半分以下の加工時間で加工することができ、これを効率的に製造することができることが確認された。
【０１２５】
また、透明電極や、この透明電極の導電性を補うためのバス電極等を高精度に形成する必要がある既知のガス放電型平面表示パネル用の前面ガラス基板に比べ、製造が容易であると共に、安価に製造することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１２６】
【図１】本発明のガス放電型平面表示パネルの断面概略図。
【図２】図１のII−II線断面図。
【図３】本発明の別のガス放電型平面表示パネルの断面概略図。
【図４】図３のIV−IV線断面図。
【図５】ブラストによる前面基板の製造方法を示す工程図。
【図６】スクリーン印刷による前面基板の製造方法を示す工程図。
【図７】紫外線硬化型透明低融点ガラスのペーストを使用した前面基板の製造方法を示す工程図。
【図８】ブラスト加工装置の一例を示す概略図。
【図９】従来のガス放電型平面表示パネルの断面概略図。
【図１０】図９のX−X線断面図。
【符号の説明】
【０１２７】
１  ガス放電型平面表示パネル
１０  前面基板
１１  ガラス基板
１４  アドレス電極
１３  蛍光体層
１５  透明誘電体層
１８  隔壁
２０  背面基板
２１  ガラス基板
２４  走査電極
２７  誘電体層
２８  放電保護膜
３７  放電空間
４０  集塵機
４１  サイクロン
４２  加工室ホッパー
４５  研磨材噴射ノズル
１００  ガス放電型平面表示パネル
１１０  前面ガラス基板
１１１  ガラス基板
１１４  走査電極
１１５  バス電極
１１６  ブラックストライプ
１１７  透明誘電体層
１１８  放電保護膜
１２０  背面基板
１２１  ガラス基板
１２２  アドレス電極
１２３  蛍光体層
１２８  隔壁
１３７  放電空間
【図１】
2005183104.tif 000003
【図２】
2005183104.tif 000004
【図３】
2005183104.tif 000005
【図４】
2005183104.tif 000006
【図５】
2005183104.tif 000007
【図６】
2005183104.tif 000008
【図７】
2005183104.tif 000009
【図８】
2005183104.tif 000010
【図９】
2005183104.tif 000011
【図１０】
2005183104.tif 000012