(57)【要約】  【課題】  ＡＰＣバルブの動作不良による製品の品質及び歩留りの低下を防止するとともに、ＡＰＣバルブへの副生成物の付着を早期に発見し、そのメンテナンス時期を的確に把握できる機能を備えた真空処理装置を提供する。  【解決手段】  本発明の真空処理装置１の真空チャンバ２には、真空度を監視するバラトロンゲージやピラニーゲージ等からなる真空計１３が設けられ、真空計１３が検出した真空度はＡＰＣ１４に入力される。ＡＰＣ１４は検出された真空度に基づき、第１ＡＰＣバルブ１１の開閉弁１１ａの開度を制御して真空チャンバ２内が所定の真空度になるよう調整する。さらに、排気管９の第１ＡＰＣバルブ１１の下流側に、新たに第２ＡＰＣバルブ１５とメインバルブ１６が設けられている。また、第１ＡＰＣバルブ１１と第２ＡＰＣバルブ１５は、バタフライバルブ等からなり共にＡＰＣ１４により切替え可能になっている。【選択図】  図１
2005183865.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空計とＡＰＣとＡＰＣバルブを用いて真空チャンバ内の真空度を自動的に制御しながら、被処理体に所定の処理を施す真空処理装置において、前記真空チャンバと前記真空ポンプの間に直列に接続した複数のＡＰＣバルブを設け、前記複数のＡＰＣバルブをＡＰＣにより切替え可能にしたことを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
真空計とＡＰＣとＡＰＣバルブを用いて真空チャンバ内の真空度を自動的に制御しながら、被処理体に所定の処理を施す真空処理装置において、前記真空チャンバと前記真空ポンプの間に並列に接続した複数のＡＰＣバルブを設け、前記複数のＡＰＣバルブをＡＰＣにより切替え可能にしたことを特徴とする真空処理装置。
【請求項３】
前記真空チャンバ内の真空度に基づいて、前記ＡＰＣバブルのメンテナンス時期を判定するメンテナンス時期判定手段を設けたこと特徴とする請求項２記載の真空処理装置。
【請求項４】
前記メンテナンス時期判定手段が、真空チャンバ内の真空度を記憶する記憶部と、前記記憶部に記憶された処理前後の真空度変化を比較する比較部と、前記比較部で比較された真空度変化からＡＰＣバルブ内に付着した副生成物の有無を判定する判定部と、前記判定部の判定結果を表示する表示部から構成されたことを特徴とする請求項３記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空チャンバ内の真空度を自動的に制御しながら、半導体ウェーハ（以下、ウェーハと言う）に所定の処理を施す真空処理装置に関し、特に、ＡＰＣバルブの動作不良による製品歩留りの低下を防止するとともに、ＡＰＣバルブのメンテナンス時期を的確に把握できる機能を備えた真空処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造プロセスに使用される真空処理装置には、ウェーハの表面に薄膜を形成するＣＶＤ装置やスパッタ装置と、また逆にウェーハの表面をエッチングするドライエッチング装置があり、例えば、特開平１０−１５３７８号公報（特許文献１）に開示されている。
【０００３】
図４は、従来の真空処理装置の概略構成を示す図である。図４に示すように、従来の真空処理装置４１は、真空チャンバ４２の内部に上部電極４３と、ウェーハＷを載置する下部電極４４が上下に相対峙して設けられている。上部電極４３には、整合器４５を介して高周波電源４６が接続され、上部電極４３と下部電極４４間に高周波電力が印加されるようになっている。さらに、上部電極４３は、ガス供給バルブ４７を介してガス供給源４８が接続され、真空チャンバ４２内に反応ガスが供給される。また、真空チャンバ４２の下部の排気管４９には、メインバルブ５０ａ、５０ｂとバタフライバルブ等からなるＡＰＣバルブ５１を介して、ターボモレキュラーポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ等の真空ポンプ５２が接続されている。さらに、真空チャンバ４２には、真空度を監視するバラトロンゲージやピラニーゲージ等からなる真空計５３が設けられ、真空計５３が検出した真空度はＡＰＣ（Automatic Pressure Controller；自動圧力制御器）５４に入力されるようになっている。
【０００４】
この従来の真空処理装置４１の動作は、先ず、真空チャンバ４２内の下部電極４４上にウェーハＷを載置した後、真空ポンプ５２により真空チャンバ４２内を高真空にする。次に、ガス供給バルブ４７を開き、ガス供給源４８から所定流量の反応ガスを真空チャンバ４２内に供給し、真空チャンバ４２内を高真空からプロセス真空度付近まで昇圧する。次に、真空チャンバ４２内の真空度を真空計５３により検出し、ＡＰＣ５４がその検出された真空度に基づき、ＡＰＣバルブ５１の開閉弁５１ａの開度を制御して真空チャンバ４２内が所定の真空度になるよう調整する。続いて、高周波電源４６から高周波電力を整合器４５により、インピーダンス制御しながら上部電極４３に供給し、反応ガスのプラズマを発生させ、ウェーハＷの処理を行なう。
【特許文献１】特開平１０−１５３７８号公報（第２頁、０００２段落〜０００７段落、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述した従来の真空処理装置４１には、以下のような問題があった。真空チャンバ４２内で発生した反応ガスによる副生成物は、真空ポンプ５２により外部へ排気されるが、真空チャンバ４２の外は真空チャンバ４２と比較して温度が低いため、処理を重ねるに従って排気管４９の内部やＡＰＣバルブ５１の開閉弁５１ａに多量の副生成物が凝縮し付着していた。特に、この副生成物がＡＰＣバルブ５１の開閉弁５１ａに付着すると、ＡＰＣバルブ５１の動作不良を引き起こす。その結果、開閉弁５１ａの開度制御が困難になって、ウェーハＷの処理中に真空チャンバ４２内の真空度を安定に保つことができなくなり、製品の品質及び歩留りを低下させるという問題があった。
【０００６】
これを防止するために、定期的にＡＰＣバルブ５１のクリーニング又は交換等のメンテナンスを実施して付着した副生成物を取り除いていたが、その間、長時間に亘って真空処理装置４１を停止させることになり、装置稼動率を低下させる原因になっていた。
【０００７】
また、このメンテナンス作業を実施するタイミングは、ウェーハＷの処理枚数や真空処理装置４１の稼動時間等により決定していたので、必ずしも副生成物の付着量と対応しておらず、適切なタイミングとは言えなかった。例えば、付着量が少ないにも係わらずに頻繁にメンテナンスを実施すると、作業にかかる時間やコストが増大し、装置稼動率を著しく低下させる。逆に、付着量が多いにも係わらずにメンテナンスを見過ごしてしまうと、ＡＰＣバルブ５１の動作不良の可能性が高くなり、真空度を安定に制御することができなくなって製品の品質及び歩留りを低下させることになる。
【０００８】
本発明は、上記問題点を解決するために考えられたもので、ＡＰＣバルブの動作不良による製品の品質及び歩留りの低下を防止するとともに、ＡＰＣバルブへの副生成物の付着を早期に発見し、そのメンテナンス時期を的確に把握できる機能を備えた真空処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の請求項１記載の真空処理装置は、真空計とＡＰＣとＡＰＣバルブを用いて真空チャンバ内の真空度を自動的に制御しながら、被処理体に所定の処理を施す真空処理装置であって、前記真空チャンバと前記真空ポンプの間に直列に接続した複数のＡＰＣバルブを設け、前記複数のＡＰＣバルブをＡＰＣにより切替え可能にしたことを特徴とする。この構成によれば、ウェーハの処理中に一つのＡＰＣバルブが動作不良を起こしても、直列に接続した他のＡＰＣバルブを直ちに動作させることができるので、ウェーハを最後まで安定して処理することができる。
【００１０】
また、請求項２記載の真空処理装置は、真空計とＡＰＣとＡＰＣバルブを用いて真空チャンバ内の真空度を自動的に制御しながら、被処理体に所定の処理を施す真空処理装置であって、前記真空チャンバと前記真空ポンプの間に並列に接続した複数のＡＰＣバルブを設け、前記複数のＡＰＣバルブをＡＰＣにより切替え可能にしたことを特徴とする。この構成によっても、ウェーハの処理中に一つのＡＰＣバルブが動作不良を起こしても、並列に接続した他のＡＰＣバルブを直ちに動作させることができるので、ウェーハを最後まで安定して処理することができる。さらに、ウェーハの処理中に、動作不良になったＡＰＣバルブのメンテナンスを実施することもできる。
【００１１】
また、請求項３記載の真空処理装置は、請求項２記載の真空処理装置であって、前記真空チャンバ内の真空度に基づいて、前記ＡＰＣバブルのメンテナンス時期を判定するメンテナンス時期判定手段を設けたこと特徴とする。この構成によれば、ＡＰＣバルブのメンテナンスを定期的に実施するのではなく、メンテナンス時期判定手段により必要と判定された場合にのみ実施するので、メンテナンス効率を大幅に向上できる。
【００１２】
また、請求項４記載の真空処理装置は、請求項３記載の真空処理装置であって、前記メンテナンス時期判定手段が、真空チャンバ内の真空度を記憶する記憶部と、前記記憶部に記憶された処理前後の真空度変化を比較する比較部と、前記比較部で比較された真空度変化からＡＰＣバルブ内に付着した副生成物の有無を判定する判定部と、前記判定部の判定結果を表示する表示部から構成されたことを特徴とする。この構成によれば、処理前後の真空度変化を比較することにより、ＡＰＣバルブ内に付着した副生成物の有無を判定するので、ＡＰＣバルブのメンテナンス時期を的確に把握できる。
【発明の効果】
【００１３】
以上説明したように、本発明の真空処理装置によれば、真空チャンバと真空ポンプの間に直列に接続した複数のＡＰＣバルブを設け、この複数のＡＰＣバルブをＡＰＣにより切替え可能にしたので、ウェーハの処理中に一つのＡＰＣバルブが動作不良を起こし、真空チャンバ内の真空度制御が不安定になっても、直列に接続した他のＡＰＣバルブを直ちに動作させることができる。これにより、ウェーハを最後まで安定して処理することができ、製品の品質及び歩留りを向上できる。
【００１４】
また、この複数のＡＰＣバルブを並列に接続したので、ウェーハの処理中に一つのＡＰＣバルブが動作不良を起こし、真空チャンバ内の真空度制御が不安定になっても、並列に接続した他のＡＰＣバルブを直ちに動作させることができる。これにより、ウェーハを最後まで安定して処理することができ、製品の品質及び歩留りを向上できる。さらに、並列に接続したＡＰＣバルブを動作させながら、動作不良になったＡＰＣバルブのメンテナンスを実施できるので、メンテナンス作業中に真空処理装置を停止させる必要がなくなり、装置稼動率を大幅に向上できる。
【００１５】
また、新たにメンテナンス時期判定手段を設けたので、排気管やＡＰＣバルブのメンテナンス時期を的確に把握できる。これにより、メンテナンス効率を大幅に向上できるとともに、ＡＰＣバルブの故障も未然に防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、図面を参照して説明する。図１は本発明の第１実施例の真空処理装置の概略構成を示す図である。図１に示すように、本実施例の真空処理装置１は、真空チャンバ２の内部に上部電極３と、ウェーハＷを載置する下部電極４が上下に相対峙して設けられている。上部電極３には、整合器５を介して高周波電源６が接続され、上部電極３と下部電極４間に高周波電力が印加されるようになっている。さらに、上部電極３は、ガス供給バルブ７を介してガス供給源８が接続され、真空チャンバ２内に反応ガスが供給される。また、真空チャンバ２の下部の排気管９には、メインバルブ１０ａ、１０ｂと第１ＡＰＣバルブ１１を介して、ターボモレキュラーポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ等の真空ポンプ１２が接続されている。また、真空チャンバ２には、真空度を監視するバラトロンゲージやピラニーゲージ等からなる真空計１３が設けられ、真空計１３が検出した真空度はＡＰＣ１４に入力されるようになっている。
【００１７】
さらに、本実施例では、排気管９の第１ＡＰＣバルブ１１の下流側に、新たに第２ＡＰＣバルブ１５とメインバルブ１６が設けられている。また、第１ＡＰＣバルブ１１と第２ＡＰＣバルブ１５は、バタフライバルブ等からなり共にＡＰＣ１４により切替え可能になっている。
【００１８】
次に、本実施例の真空処理装置１の動作を説明する。ウェーハＷ処理中における真空チャンバ２内の真空度の調整は、真空計１３により検出された真空度に基づき、ＡＰＣ１４が第１ＡＰＣバルブ１１の開閉弁１１ａの開度を制御することにより行なう。このとき、第２ＡＰＣバルブ１５の開閉弁１５ａは全開の状態に保持されている。処理を重ねると、第１ＡＰＣバルブ１１の開閉弁１１ａに反応ガスの副生成物がトラップされて付着するが、第２ＡＰＣバルブ１５の開閉弁１５ａは全開の状態に保持されているため、副生成物はほとんど付着しない。第１ＡＰＣバルブ１１の開閉弁１１ａに副生成物が付着して開閉弁１１ａの開度制御が困難になり、真空チャンバ２内の真空度の制御が不安定になったとき、ＡＰＣ１４により第１ＡＰＣバルブ１１の開閉弁１１ａを徐々に開きながら、第２ＡＰＣバルブ１５の開閉弁１５ａを徐々に閉じていき、真空チャンバ２内が所定の真空度になるように調整し、ウェーハＷの処理を継続する。処理終了後に、メインバルブ１０ａ、１０ｂを閉じて第１ＡＰＣバルブ１１のメンテナンスを実施する。
【００１９】
このように、本実施例の真空処理装置１では、従来の第１ＡＰＣバルブ１１に加え、新たに第２ＡＰＣバルブ１５を直列に接続し、両者１１、１５をＡＰＣ１４により切替え可能にしたので、反応ガスの副生成物付着により第１ＡＰＣバルブ１１による真空度の制御が不安定になっても、直列に接続した第２ＡＰＣバルブ１５を直ちに動作させることができる。その結果、ウェーハＷ処理中における真空チャンバ２内の真空度が安定化するので、製品の品質及び歩留りを向上できる。
【００２０】
次に、他の好ましい実施の形態を、図面を参照して説明する。図２は本発明の第２実施例の真空処理装置の概略構成を示す図である。なお、図２において、上述した第１実施例と同一の構成には同一の符号を付して説明を省略する。
【００２１】
本実施例の真空処理装置２１において、上述した第１実施例と相違するところは、排気管９に、メインバルブ１０ａ、第１ＡＰＣバルブ１１及びメインバルブ１０ｂをバイパスする副排気管２２を接続し、この副排気管２２に第２ＡＰＣバルブ２３とメインバルブ２４ａ、２４ｂを新たに設けたことである。また、上述した第１実施例と同様に、第１ＡＰＣバルブ１１と第２ＡＰＣバルブ２３は、ＡＰＣ１４により切替え可能になっている。
【００２２】
次に、本実施例の真空処理装置２１の動作を説明する。ウェーハＷ処理中の真空チャンバ２内の真空度の調整は、真空計１３により検出された真空度に基づき、ＡＰＣ１４が第１ＡＰＣバルブ１１の開閉弁１１ａの開度を制御することにより行なう。このとき、メインバルブ１０ａ、１０ｂは開、メインバルブ２４ａ、２４ｂは閉、第２ＡＰＣバルブ２３は全閉の状態に保持されている。処理を重ねることにより、第１ＡＰＣバルブ１１の開閉弁１１ａに反応ガスの副生成物が付着して開閉弁１１ａの開度制御が困難になり、真空チャンバ２内の真空度の制御が不安定になったとき、直ちにメインバルブ２４ａ、２４ｂを開いた後、ＡＰＣ１４により第１ＡＰＣバルブ１１の開閉弁１１ａを徐々に閉じながら、第２ＡＰＣバルブ２３の開閉弁２３ａを徐々に開いていき、真空チャンバ２内が所定の真空度になるように調整する。その後、直ちにメインバルブ１０ａ、１０ｂを閉じてウェーハＷの処理を継続する。
【００２３】
このように、本実施例の真空処理装置２１では、従来の第１ＡＰＣバルブ１１に加え、新たに第２ＡＰＣバルブ２３を並列に接続し、両者１１、２３をＡＰＣ１４にて切替え可能にしたので、反応ガスの副生成物付着により第１ＡＰＣバルブ１１による真空度の制御が不安定になっても、並列に接続した第２ＡＰＣバルブ２３を直ちに動作させることができる。その結果、ウェーハＷ処理中における真空チャンバ２内の真空度が安定化するので、製品の品質及び歩留りを向上できる。さらに、本実施例によれば、第１ＡＰＣバルブ１１と第２ＡＰＣバルブ２３が別々の排気管９、２２に設けられ、メインバルブ１０ａ、１０ｂ、２４ａ、２４ｂにより区切られているので、第２ＡＰＣバルブ２３を動作させている間に、第１ＡＰＣバルブ１１のメンテナンスを実施することができる。これにより、第１ＡＰＣバルブ１１のメンテナンス作業中に真空処理装置２１を停止させる必要がなくなり、装置稼動率を大幅に向上できる。
【００２４】
次に、他の好ましい実施の形態を、図面を参照して説明する。図３は本発明の第３実施例の真空処理装置の概略構成を示す図である。なお、図３において、上述した第２実施例と同一の構成には同一の符号を付して説明を省略する。
【００２５】
本実施例の真空処理装置３１において、上述した第２実施例と相違するところは、真空チャンバ２内の真空度に基づいて第１ＡＰＣバブル１１のメンテナンス時期を判定するメンテナンス時期判定手段３２を新たに設けたことである。このメンテナンス時期判定手段３２は、真空チャンバ２内の真空度を記憶する記憶部３３と、記憶部３３に記憶された処理前後の真空度変化を比較する比較部３４と、比較部３４で比較された真空度変化からＡＰＣバルブ１１内に付着した副生成物の有無を判定する判定部３５と、判定部３５の判定結果を表示する表示部３６から構成されている。このメンテナンス時期判定手段３２は周知のＣＰＵやメモリ等からなり、真空計１３に接続され、真空計１３の出力信号が処理されるようになっている。
【００２６】
次に、本実施例の真空処理装置３１の動作を説明する。先ず、新しい（又はメンテナンス実施直後の）第１ＡＰＣバルブ１１を真空処理装置３１に取付けた際の第１ＡＰＣバルブ１１の初期開度Ｘ１と真空チャンバ２の初期真空度Ｙ１を、各々ＡＰＣ１４とメンテナンス時期判定手段３２の記憶部３３に記憶する。このとき、メインバルブ１０ａ、１０ｂは開、メインバルブ２４ａ、２４ｂは閉、第２ＡＰＣバルブ１５は全閉の状態に保持されている。次に、ウェーハＷを一定枚数処理した後の、第１ＡＰＣバルブ１１の開度Ｘ２と真空チャンバ２の真空度Ｙ２を、同様にＡＰＣ１４とメンテナンス判定手段３２の記憶部３３に記憶する。
【００２７】
次に、メインバルブ１０ａ、１０ｂを閉、メインバルブ２４ａ、２４ｂを開にした後、第２ＡＰＣバルブ２３を初期開度Ｘ１に設定し、このときの真空チャンバ２内の真空度Ｙ３を真空計１３により測定する。このときの真空度Ｙ３は、メンテナンス時期判定手段３２の記憶部３３に記憶された後、予め記憶されている初期真空度Ｙ１と共に、比較部３４へ出力される。比較部３４では、真空度Ｙ３と初期真空度Ｙ１が比較され、その結果が判定部３５へ出力される。真空度Ｙ３が初期真空度Ｙ１と同じであれば排気管９内への副生成物付着無しと判断され、真空度Ｙ３が初期真空度Ｙ１より悪ければ、排気管９内への副生成物付着有りと判断される。そして、真空度（Ｙ３−Ｙ１）が予め設定した所定値以上になると、表示部３６にて排気管９内のメンテナンスを実施する時期であることが表示される。反応ガスの副生成物は、第１ＡＰＣバルブ１１のみならず、排気管９内にも付着して、排気管９の内径を次第に狭め、真空チャンバ２内の真空度を低下させる原因になるので、以上の動作により、先ず、排気管９内における副生成物付着の有無を判定する。
【００２８】
次に、第２ＡＰＣバルブ２３を開度Ｘ２に設定し、このときの真空チャンバ２内の真空度を真空計１３により測定する。このときの真空度Ｙ４は、メンテナンス時期判定手段３２の記憶部３３に記憶された後、予め記憶されている真空度Ｙ２と共に、比較部３４へ出力される。比較部３４では、真空度Ｙ４と真空度Ｙ２が比較され、その結果が判定部３５へ出力される。真空度Ｙ４が真空度Ｙ２と同じであれば第１ＡＰＣバルブ１１内への副生成物付着無しと判断され、真空度Ｙ４が真空度Ｙ２より良ければ第１ＡＰＣバルブ１１内への副生成物付着有りと判断される。そして、真空度（Ｙ２−Ｙ４）が予め設定した所定値以上になると、表示部３６にて第１ＡＰＣバルブ１１内のメンテナンスを実施する時期であることが表示される。このとき、必要に応じて警報を発するようにしてもよい。以上の動作により、第１ＡＰＣバルブ１１内における副生成物付着の有無を判定する。
【００２９】
このように、本実施例の真空処理装置３１では、ウェーハＷを一定枚数処理した後、第１ＡＰＣバルブ１１と第２ＡＰＣバルブ２３を動作させたときに得られる真空チャンバ２内の真空度を比較することにより、排気管９や第１ＡＰＣバルブ１１への副生成物付着の有無を容易に判定することができる。そして、この判定動作を定期的に実施することにより、排気管９、第１ＡＰＣバルブ１１の的確なメンテナンス時期を把握することができるので、両者９、１１のメンテナンス効率を大幅に向上できる。
【００３０】
なお、上述した各実施例では、ＡＰＣバルブが２つの場合について説明したが、ＡＰＣバルブが３つ以上の場合にも適用できる。また、本発明は、ＡＰＣバルブを使用した装置であればいずれの真空処理装置にも適用でき、例えば、ＣＶＤ装置、スパッタ装置、ドライエッチング装置等に適用できる。
【産業上の利用可能性】
【００３１】
真空チャンバと真空ポンプの間に直列又は並列に接続した複数のＡＰＣバルブを設け、この複数のＡＰＣバルブをＡＰＣにより切替え可能にすることによって、ウェーハの処理中に一つのＡＰＣバルブが動作不良を起こし、真空チャンバ内の真空度制御が不安定になっても、直列又は並列に接続した他のＡＰＣバルブを直ちに動作させることができる。これにより、ウェーハを最後まで安定して処理することができ、製品の品質及び歩留りを向上できる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の第１実施例の真空処理装置の概略構成を示す図
【図２】本発明の第２実施例の真空処理装置の概略構成を示す図
【図３】本発明の第３実施例の真空処理装置の概略構成を示す図
【図４】従来の真空処理装置の概略構成を示す図
【符号の説明】
【００３３】
１  本発明の第１実施例の真空処理装置
２  真空チャンバ
３  上部電極
４  下部電極
５  整合器
６  高周波電源
７  ガス供給バルブ
８  ガス供給源
９  排気管
１０ａ、１０ｂ  メインバルブ
１１  第１ＡＰＣバルブ
１１ａ  開閉弁
１２  真空ポンプ
１３  真空計
１４  ＡＰＣ
１５  第２ＡＰＣバルブ
１５ａ  開閉弁
１６  メインバルブ
２１  本発明の第２実施例の真空処理装置
２２  副排気管
２３  第２ＡＰＣバルブ
２３ａ  開閉弁
２４ａ、２４ｂ  メインバルブ
３１  本発明の第３実施例の真空処理装置
３２  メンテナンス時期判定手段
３３  記憶部
３４  比較部
３５  判定部
３６  表示部
４１  従来の真空処理装置
４２  真空チャンバ
４３  上部電極
４４  下部電極
４５  整合器
４６  高周波電源
４７  ガス供給バルブ
４８  ガス供給源
４９  排気管
５０ａ、５０ｂ  メインバルブ
５１  ＡＰＣバルブ
５１ａ  開閉弁
５２  真空ポンプ
５３  真空計
５４  ＡＰＣ
【図１】
2005183865.tif 000003
【図２】
2005183865.tif 000004
【図３】
2005183865.tif 000005
【図４】
2005183865.tif 000006