(57)【要約】【課題】  発光領域における輝度ムラや表示ムラの発生を抑制して表示特性の均一化を達成できる有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】  発光領域４に複数の画素を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置であって、前記発光領域４は、画素輝度が異なる複数の画素群からなり、当該複数の画素群の画素開口面積比は当該複数の画素群の画素輝度比の逆数に略等しいことを特徴とする。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光領域に複数の画素を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置であって、
前記発光領域は、画素輝度が異なる複数の画素群からなり、当該複数の画素群の画素開口面積比は当該複数の画素群の画素輝度比の逆数に略等しいことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項２】
前記画素開口面積比と前記画素輝度比のバラツキは±１０％以内であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項３】
前記複数の画素群は、画素輝度が異なる第１画素群と第２画素群とを備え、
前記第１画素群と前記第２画素群の画素開口面積比は、前記第１画素群と前記第２画素群の画素輝度比の逆数に略等しいことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項４】
前記発光領域は、中央部に前記第１画素群を備え、周辺部に前記第２画素群を備え、
前記第１画素群よりも前記第２画素群の各々の画素開口面積が大きいことを特徴とする請求項３に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項５】
前記発光領域は矩形であり、
前記発光領域の角部に第３画素群を備え、
前記第２画素群よりも前記第３画素群の各々の画素開口面積が大きいことを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項６】
前記複数の画素群の間に第４画素群を有し、
前記第４画素群の画素開口面積が連続的に異なっていることを特徴とする請求項１から請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項７】
前記画素群の階調を制御して発光させるための駆動方式は、電圧階調方式、パルス幅階調方式、及び面積階調方式のいずれかであることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項８】
前記発光領域は、前記複数の画素に対応して形成された画素電極を備え、
当該画素電極の各々の面積は同一に形成され、
当該画素電極上に形成された画素間部材の開口面積が調整されることによって、各画素開口面積が決定されていることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項９】
前記複数の画素の各々は、発光色が異なる複数の単位ドットによって構成され、同一の画素群内における前記複数の単位ドットの画素輝度と面積の積の比率は同一であることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
【請求項１０】
発光領域に複数の画素を備えた有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法であって、
前記発光領域を形成する複数の画素群の各画素開口面積比を、各画素輝度比の逆数に略等しくすることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１１】
前記複数の画素群は、画素輝度が異なる第１画素群と第２画素群を備え、
前記第１画素群と前記第２画素群の画素開口面積比を、前記第１画素群と前記第２画素群の画素輝度比の逆数に略等しくすることを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１２】
液滴吐出法を用いることにより、前記複数の画素を形成することを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１３】
前記液滴吐出法においては、前記複数の画素群に吐出される液体材料の吐出回数を変えることにより、前記複数の画素群を形成することを特徴とする請求項１０から請求項１２のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１４】
前記液滴吐出法においては、吐出ヘッドに設けられた複数のノズルが液体材料を吐出することによって前記複数の画素を形成し、
前記吐出ヘッドの端部近傍のノズルが液体材料を吐出して前記第１画素群を形成し、また、前記吐出ヘッドの中央部近傍のノズルが液体材料を吐出して前記第２画素群を形成することを特徴とする請求項１０から請求項１３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１５】
前記複数の画素は、幅方向の長さが全て同一であり、当該幅方向に直交する方向の長さを異ならせることによって前記複数の画素群の画素面積を調整することを特徴とする請求項１０から請求項１４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１６】
基板上に同一の画素開口面積を有する画素を複数形成し、
前記複数の画素を同一条件で発光させて前記発光領域内の画素輝度を測定し、
前記発光領域における各画素群の各々の画素輝度比を算出し、
当該画素輝度比の逆数を前記同一面積の画素面積に乗じて各々の画素開口面積を算出することを特徴とする請求項１０から請求項１５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第１画素群と前記第２画素群の画素開口面積の算出結果に基づいて、複数の画素群を形成することを特徴とする請求項１６に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１から請求項９のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに替わる自発発光型ディスプレイとして有機物を用いた発光装置の開発が加速している。このような有機物を発光材料として用いた有機エレクトロルミネッセンス装置（本明細書を通じて有機ＥＬ装置と称す）の製造方法においては、インクジェット法（液滴吐出法）を用いることにより、有機ＥＬ材料等の機能性材料を塗布法によって形成する方法が知られている。インクジェット法においては、直径がμｍオーダーの液滴を高解像度で吐出、塗布することができるため、機能性材料の高精細パターニングが可能である（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−２５２０８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、上記方法を用いて機能性材料をパターニングする場合においては、当該機能性材料と溶媒を溶解又は分散させて液体材料を作製し、当該液体材料を基板上に微小液体として塗布（吐出）している。ここで、溶媒は揮発性を有するために一般的に速く乾燥する特性を有している。従って、基板上に塗布された微小液体の乾燥は極めて速く、更に、基板上の塗布領域における周辺部（上端、下端、右端、左端）においては、画素領域に塗布された微小液体が蒸発し易く、かつ、溶媒分子分圧が低いために、基板中央部よりも速く乾燥する。このような基板上に塗布された液体材料は、塗布された部分によって乾燥の程度が異なるために、乾燥ムラが生じてしまう。これによって、基板上に形成された機能性材料の断面形状（プロファイル）や膜厚のムラが生じてしまい、輝度ムラや表示ムラを招いてしまうという問題があった。具体的には、基板中央部よりも基板周辺部の輝度が低下し、発光特性が不均一になるという問題があった。
【０００４】
更に、インクジェット法においては、基板の一方の端部から他方の端部まで吐出ヘッドを走査しながら液体材料を塗布した後に、当該走査方向と直交する方向に吐出ヘッドを改行し、再び吐出ヘッドを走査しながら液体材料を塗布している。このような動作を行うことにより、基板上を走査する吐出ヘッドの端部近傍に対応して、改行スジと呼ばれるムラが生じてしまい、上記と同様に輝度ムラや表示ムラを招くという問題が生じていた。具体的には、改行スジ近傍の輝度が他の部分よりも輝度が高くなり、発光特性が不均一になるという問題があった。
【０００５】
本発明は、上述の課題に鑑み創案されたもので、発光領域における輝度ムラや表示ムラの発生を抑制して表示特性の均一化を達成できる有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法、及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明の有機ＥＬ装置は、発光領域に複数の画素を備えた有機ＥＬ装置であって、前記発光領域は、画素輝度が異なる複数の画素群からなり、当該複数の画素群の画素開口面積比は当該複数の画素群の画素輝度比の逆数に略等しいことを特徴としている。また、前記画素開口面積比と前記画素輝度比のバラツキは±１０％以内であることが好ましい。
【０００７】
ここで、画素輝度とは画素当たりの輝度を意味するものである。
このように、各画素面積比が輝度比の逆数に略等しいので、輝度が低い画素にはその面積が大きく設定され、また、輝度が高い画素にはその面積が小さく設定されるので、輝度の差異を効果的に補正することが可能となり、発光領域全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置を実現することができる。
【０００８】
また、このように輝度が低い画素に対して当該画素面積を増やすことで輝度の差異を補正するので、従来の有機ＥＬ装置に設けられていたダミー領域が不要になる。従って、額縁の小さい有機ＥＬ装置を実現することができる。
【０００９】
また、前記有機ＥＬ装置においては、前記複数の画素群は、画素輝度が異なる第１画素群と第２画素群とを備え、前記第１画素群と前記第２画素群の画素開口面積比は、前記第１画素群と前記第２画素群の画素輝度比の逆数に略等しいことを特徴としている。
【００１０】
このように、第１画素と前記第２画素面積比が輝度比の逆数に略等しいので、輝度が低い画素にはその面積が大きく設定され、また、輝度が高い画素にはその面積が小さく設定されるので、輝度の差異を効果的に補正することが可能となり、発光領域全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置を実現することができる。
従って、従来では基板上に塗布された溶媒の乾燥速度の差異に起因して輝度ムラや表示ムラが生じていたが、上記構成を採用することによってこれらの問題点を解決できる。また、インクジェット法における吐出ヘッドの改行スジに起因する発光ムラを防止できる。
【００１１】
また、前記有機ＥＬ装置においては、前記発光領域は中央部に前記第１画素群を備え、周辺部に前記第２画素群を備え、前記第１画素群よりも前記第２画素群の各々の画素開口面積が大きいことを特徴としている。
ここで、従来においては、基板上の塗布領域における周辺部（上端、下端、右端、及び左端）に塗布された微小液体は蒸発し易く、当該周辺部の溶媒分子分圧が低いために、基板中央部よりも速く乾燥してしまう。これにより、塗布領域における周辺部に位置する発光領域周辺部の輝度が発光領域中央部よりも低下して発光特性が不均一になるという問題があったが、このようにすれば、周辺部の第２画素が中央部の第１画素よりも大きな面積を有するので、中央部と周辺部における輝度の差異を効果的に補正し、発光領域全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置を実現することができる。
【００１２】
また、前記有機ＥＬ装置においては、前記発光領域は矩形であり、前記発光領域の角部に第３画素群を備え、前記第２画素群よりも前記第３画素群の各々の画素開口面積が大きいことを特徴としている。
ここで、矩形状の発光領域においては、上端、下端、右端、及び左端よりも、角部（右上隅、右下隅、左上隅、及び左下隅）における溶媒分子分圧が低い。従って、角部に塗布された微小液体は、周辺部よりも速く乾燥する。これにより、矩形状の塗布領域における角部の輝度が発光領域周辺部よりも低下して発光特性が不均一になってしまう。これに対し、本発明の特徴点として記載したように、第２画素よりも画素開口面積が大きな第３画素群を発光領域の角部に備えることで、周辺部と角部における輝度の差異を効果的に補正することができる。更に、中央部、周辺部、及び角部の発光領域全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置を実現することができる。
【００１３】
また、前記有機ＥＬ装置においては、前記複数の画素群の間に第４画素群を有し、前記第４画素群の画素開口面積が連続的に異なっていることを特徴としている。
このようにすれば、第４画素群の画素の画素開口面積が連続的に異なるので、当該第４画素は輝度が連続的に異なるように発光させることができる。ここで、第１画素群、第２画素群、及び第３画素群のいずれか２つの画素群の間に第４画素群を設けた場合には、当該２つの画素群の間において、第４画素の輝度分布に勾配を設けることができる。
【００１４】
更に、第４画素群を設けずに第１画素群、第２画素群、及び第３画素群を隣接させた場合では、当該各画素群の間における発光光がはっきりとした輝度差として表示されてしまうが、上記のように第４画素群を備えることにより、各画素群の相互間における発光輝度を連続的に異ならせることができる。即ち、第１画素群、第２画素群、及び第３画素群の間に設けられた第４画素群の輝度分布が勾配を有するものとなり、各画素群の輝度差をぼかして発光させることができる。
【００１５】
また、前記有機ＥＬ装置においては、前記画素群の階調を制御して発光させるための駆動方式は、電圧階調方式、パルス幅階調方式、及び面積階調方式のいずれかであることを特徴としている。
このようにすれば、電圧または印加電圧のパルス幅または発光に割り当てられる画素数を調整することによってパネルとしての輝度が表現されるので、各画素面積が異なる場合であっても、画素の各々は電圧量またはパルス幅または発光画素個数に応じて発光する。従って、電圧量またはパルス幅または発光画素個数に応じて好適な輝度階調を表現することができる。
【００１６】
また、前記有機ＥＬ装置においては、前記発光領域は、前記複数の画素に対応して形成された画素電極を備え、当該画素電極の各々の面積は同一に形成され、当該画素電極上に形成された画素間部材の開口面積が調整されることによって、各画素開口面積が決定されていることを特徴としている。
このようにすれば、発光領域を構成する全画素群の画素電極パターンの共通化を実現できる。また、画素間部材の開口面積を調整するだけで、各画素群における画素面積や、異なる画素群間における面積比を決定することができる。従って、画素を構成する有機ＥＬ素子、或いは有機ＥＬ素子を駆動する駆動素子等の構成要素の数を増加させることなく、各画素面積比を調整することができる。
【００１７】
また、前記有機ＥＬ装置においては、前記複数の画素の各々は、発光色が異なる複数の単位ドットによって構成され、同一の画素群内における前記複数の単位ドットの画素輝度と面積の積の比率は同一であることを特徴としている。
ここで、発光色が異なる複数の単位ドットとは、例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に発光する単位ドットを意味する。そして、当該複数の単位ドットを備える画素においては、発光色の輝度や寿命、フルカラー表示のバランスを考慮して、各単位ドットの面積を異ならせて所定の面積比率に設計し、仕様を決定しているのが一般的である。
従って、上記第１〜第４画素群のように画素面積を異ならせた場合でも、単位ドットの輝度と面積の積の比率が同一であるので、発光色の輝度や寿命、フルカラー表示のバランスを設計や仕様の通りに実現することができる。
【００１８】
また、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、発光領域に複数の画素を備えた有機ＥＬ装置の製造方法であって、前記発光領域を形成する複数の画素群の各画素開口面積比を、各画素輝度比の逆数に略等しくすることを特徴としている。
このように、各々の画素面積比が輝度比の逆数に略等しいので、輝度が低い画素にはその面積が大きく設定され、また、輝度が高い画素にはその面積を小さく設定されるので、輝度の差異を効果的に補正することが可能となり、発光領域全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置を実現することができる。
従って、従来では基板上に塗布された溶媒の乾燥速度の差異に起因して輝度ムラや表示ムラが生じていたが、上記構成を採用することによってこれらの問題点を解決できる。また、インクジェット法における吐出ヘッドの改行スジに起因する発光ムラを防止できる。
【００１９】
また、前記有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記複数の画素群は、画素輝度が異なる第１画素群と第２画素群を備え、前記第１画素群と前記第２画素群の画素開口面積比を、前記第１画素群と前記第２画素群の画素輝度比の逆数に略等しくすることを特徴としている。
このように、第１画素群と前記第２画素群の面積比が輝度比の逆数に略等しいので、輝度が低い画素群にはその面積が大きく設定され、また、輝度が高い画素群にはその面積が小さく設定されるので、輝度の差異を効果的に補正することが可能となり、発光領域全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置を実現することができる。
【００２０】
また、前記有機ＥＬ装置の製造方法においては、液滴吐出法を用いることにより、前記複数の画素を形成することを特徴としている。
ここで、インクジェット法は、設備コスト低減、材料削減、工程数削減を実現できる方法であるので、低コストの有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００２１】
また、前記有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記液滴吐出法は、前記複数の画素群に吐出される液体材料の吐出回数を変えることにより、前記複数の画素群を形成することを特徴としている。
このように、吐出回数を変えることにより、画素内の機能性材料の量を変えることができる。従って、吐出回数を多くすることにより機能性材料が多く吐出され、当該機能性材料が画素電極上に濡れ広がるので、面積が大きい画素を形成することができる。また、吐出回数を少なくすることにより機能性材料が少なく吐出されるので、面積が小さい画素を形成することができる。従って、１回の吐出動作における吐出量を変更する必要がなく、吐出回数を変えるだけで面積の異なる複数の画素を形成することができる。
【００２２】
また、前記有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記液滴吐出法は、吐出ヘッドに設けられた複数のノズルが液体材料を吐出することによって前記複数の画素を形成し、前記吐出ヘッドの端部近傍のノズルが液体材料を吐出して前記第１画素群を形成し、また、前記吐出ヘッドの中央部近傍のノズルが液体材料を吐出して前記第２画素群を形成することを特徴としている。
【００２３】
一般的に吐出ヘッドの各ノズルへのインク流路の長さの違いから、ヘッドの両端のノズルからのインクの吐出量は中央部のインクの吐出量に比べて少ないため、ヘッド両端に対応する画素では、発光層膜厚は薄くなる傾向があり、従って発光層に印加される電界は高くなり、輝度が高くなりやすい。従って、本発明の画素面積決定法によれば、第２画素群の方が第１画素群に比べて大きな面積を有することが多い。
【００２４】
このように、吐出ヘッドの端部近傍のノズルが液体材料を吐出して第１画素群を形成し、吐出ヘッドの中央部近傍のノズルが液体材料を吐出して第２画素群を形成するので、従来のように改行スジ近傍の輝度が他の部分よりも輝度が高くなり発光特性が不均一になるという問題を解決することができる。従って、液滴吐出法を用いた場合であっても、発光領域全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置を実現することができる。
【００２５】
また、具体的な液滴吐出法としては、液体材料の吐出回数を吐出ヘッドの中央部近傍では少なくし、吐出ヘッドの端部近傍では多くすることで、上記と同様の効果が得られる。更に、吐出１回あたりの吐出量を一定にすることで、上記と同様の効果が得られる。
【００２６】
また、ノズルから吐出される１回あたりの吐出量を吐出ヘッドの中央部近傍では少なくし、吐出ヘッドの端部近傍では多くすることで、上記と同様の効果が得られる。更に、画素一つ当りの吐出回数を一定にすることで、上記と同様の効果が得られる。
【００２７】
また、前記有機ＥＬ装置の製造方法においては、前記複数の画素は、幅方向の長さが全て同一であり、当該幅方向に直交する方向の長さを異ならせることによって前記複数の画素群の画素面積を調整することを特徴としている。
このようにすれば、幅方向の長さを変更せずに、幅方向と直交する方向の長さのみを異ならせることで、画素面積を決定することができ、画素面積を調整することができる。
また、幅方向に直交する方向と吐出ヘッドの走査方向を一致させることで、走査動作を止めることなく吐出動作を行うことができる。従って、走査動作を行いながら、画素面積を調整することができる。
【００２８】
また、前記有機ＥＬ装置の製造方法においては、基板上に同一の画素開口面積を有する画素を複数形成し、前記複数の画素を同一条件で発光させて前記発光領域内の画素輝度を測定し、前記発光領域における各画素群の各々の画素輝度比を算出し、当該画素輝度比の逆数を前記同一面積の画素面積に乗じて各々の画素開口面積を算出することを特徴としている。
このように、実際にダミーの有機ＥＬ装置を形成し、当該ダミーの有機ＥＬ装置の輝度を測定して、輝度比及び面積比を算出するので、測定結果に基づく面積を算出することができる。
【００２９】
また、前記第１画素群と前記第２画素群の画素開口面積の算出結果に基づいて、複数の画素群を形成することを特徴としている。
このようにすれば、測定結果に基づく面積で各画素を形成することができる。
【００３０】
また、本発明の電子機器は、先に記載の有機ＥＬ装置を備えることを特徴としている。
このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、移動体情報端末、時計、ワープロ、パソコン等の情報処理装置等を例示することができる。また、大型の表示画面を有するテレビや、大型モニタ等を例示することができる。このように電子機器の表示部に、本発明の有機ＥＬ装置を採用することによって、表示特性が良好な電子機器を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明を詳しく説明する。
なお、この実施の形態は、本発明の一部の態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
【００３２】
（有機ＥＬ装置の第１実施形態）
まず、本発明の有機ＥＬ装置（有機エレクトロルミネッセンス装置）の一実施形態を説明する。図１は本実施形態の有機ＥＬ装置の配線構造を示す模式図であり、図１において符号１は有機ＥＬ装置である。
【００３３】
この有機ＥＬ装置１は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリクス方式のもので、複数の走査線１０１…と、各走査線１０１に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線１０２…と、各信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３…とからなる配線構成を有し、走査線１０１…と信号線１０２…との各交点付近に単位ドットＤ…を形成したものである。
【００３４】
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１００が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路８０が接続されている。
【００３５】
更に、単位ドットＤの各々には、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ１１２と、このスイッチング用ＴＦＴ１１２を介して信号線１０２から共有される画素信号を保持する保持容量１１３と、該保持容量１１３によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１２３と、この駆動用ＴＦＴ１２３を介して電源線１０３に電気的に接続したときに該電源線１０３から駆動電流が流れ込む画素電極２３と、この画素電極２３と陰極５０との間に挟み込まれた発光機能層１１とが設けられている。このような画素電極２３と陰極５０と発光機能層１１とにより、発光素子、即ち有機ＥＬ素子が構成されている。
【００３６】
ここで、発光機能層１１は、後述するようにＲＧＢの各々の色を発光する発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂによって構成されている（図６参照）。そして、このような発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂに応じて、単位ドットＤが各々設けられている。また、上記ＲＧＢを発光するための３つの単位ドットＤによって、一つの画素が構成されている。
【００３７】
このような構成の有機ＥＬ装置１によれば、走査線１０１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ１１２がオン状態になると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量１１３に保持され、該保持容量１１３の状態に応じて、駆動用ＴＦＴ１２３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１２３のチャネルを介して電源線１０３から画素電極２３に電流が流れ、更に発光機能層１１を介して陰極５０に電流が流れる。すると、発光機能層１１は、これを流れる電流量に応じて発光する。更に、発光機能層１１、即ちＲＧＢの各色を発光する発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの発光量を階調させることにより、フルカラー表示を実現している。ここで、発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの発光量を階調する方法としては、電圧階調方式、パルス幅階調方式、及び面積階調方式のいずれかが採用されている。
【００３８】
次に、図２を参照して、本実施形態の有機ＥＬ装置１の具体的な態様を説明する。なお、図２は有機ＥＬ装置１の構成を模式的に示す平面図である。
図２に示すように本実施形態の有機ＥＬ装置１は、光透過性と電気絶縁性とを備える基板２０上に画素部３（図２中一点鎖線枠内）を備え、当該画素部３は矩形の発光領域４（図中二点鎖線枠内）を備えている。また、発光領域４の図２中両側には、走査線駆動回路８０、８０が配置され、発光領域４の図２中上方側には検査回路９０が配置されている。この検査回路９０は、有機ＥＬ装置１の作動状況を検査するための回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段（不図示）を備え、製造途中や出荷時における表示装置の品質、欠陥の検査を行うことができるように構成されている。
【００３９】
発光領域４は、マトリクス状に配置された複数の画素を備えている。そして、当該複数の画素の各々はＲＧＢの各色を発光する３つの単位ドットから構成されている。各色の単位ドットには、発光機能層１１を発光するための駆動用ＴＦＴ１２３（図１参照）が設けられている。そして、当該駆動用ＴＦＴ１２３には発光機能層１１を発光させるための電力を供給する電源線１０３…が接続されている。
【００４０】
図３は、発光領域４を詳細に説明するための平面拡大図である。
図３に示すように、発光領域４は、中央部４ａ、周辺部４ｂ、及び中間部４ｃを有している。
このような発光領域４においては、中央部４ａに複数の画素からなる中央画素群（第１画素群）７ａが形成され、また、周辺部４ｂ及び中間部４ｃにおいても、各々複数の画素からなる周辺画素群（第２画素群）７ｂ、中間画素群（第４画素群）７ｃが形成されている。ここで、周辺画素群７ｂは、発光領域４の最外周の画素群、即ち、基板２０の外周に近い位置にある画素を少なくとも含む領域であり、図２に示すように走査線駆動回路８０、８０、或いは検査回路９０等に近い位置に配置している。また、中間画素群７ｃは、中央部４ａと周辺部４ｂの間に設けられた画素群であって、中央画素群７ａと周辺画素群７ｂの間に位置している。
更に、後述するように、周辺画素群７ｂにおける画素面積は、中央画素群７ａのそれよりも大きくなっている。
【００４１】
図４は、中間画素群７ｃの要部を説明するための平面拡大図であって、中央画素群７ａ、周辺画素群７ｂ、及び中間画素群７ｃを跨ぐ画素列を示している。
図４に示すように、中間画素群７ｃは、中央画素群７ａと周辺画素群７ｂの間に位置している。ここで、中間画素群７ｃの面積は、中央画素群７ａから周辺画素群７ｂに向けて連続的に異ならせている。即ち、中央画素群７ａよりも大きい画素面積を有する周辺画素群７ｂから、中央画素群７ａに向けて中間画素群７ｃの面積が次第に小さくなるように設定されている。
【００４２】
図５は、図３のＡ−Ａ’線に沿う中央画素群７ａ、周辺画素群７ｂ、及び中間画素群７ｃの位置と、各画素群における画素面積の関係を示す図である。ここで、図５におけるｘ０〜ｘ５は、図３のｘ方向（紙面横方向）の位置ｘ０〜ｘ５に対応している。
図５に示すように、図３のＡ−Ａ’線に沿う各画素群７ａ、７ｂ、７ｃの画素面積は、中央部４ａにおいては小さく、周辺部４ｂにおいては大きくなっており、更に、中間部４ｃにおいては連続的に異ならせている。更に、後述するように、中央画素群７ａにおける画素面積と、周辺画素群７ｂにおける画素面積は、所定の比率で異ならせている。
【００４３】
次に、図６を参照し、有機ＥＬ装置１における画素の断面構造を説明するとと共に、上記の各画素群７ａ、７ｂ、７ｃにおける画素構造について詳述する。
図６は、発光領域４における任意位置の画素の断面拡大図である。
【００４４】
図６に示すように、有機ＥＬ装置１は、基板２０と封止基板３０とが封止樹脂（不図示）を介して貼り合わされてなるものである。基板２０及び封止基板３０の間には、封止基板３０の内面に水分や酸素を吸収するゲッター剤４５が貼着されている。また、その空間部は窒素ガスが充填されて窒素ガス充填層４６となっている。このような構成のもとに、有機ＥＬ装置１内部に水分や酸素が浸透するのが抑制され、これにより有機ＥＬ装置１はその長寿命化が図られたものとなっている。このような有機ＥＬ装置１は、発光光を基板２０側から取り出す所謂ボトムエミッション型の有機ＥＬ装置となる。
【００４５】
このようなボトムエミッション型においては、基板２０側から発光光を取り出す構成であるので、基板２０の材料は透明或いは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等が挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。
封止基板３０としては、例えば電気絶縁性を有する板状部材を採用することができる。また、封止樹脂４０は、例えば熱硬化樹脂或いは紫外線硬化樹脂からなるものであり、特に熱硬化樹脂の一種であるエポキシ樹脂を採用することが好ましい。
【００４６】
そして、基板２０上には駆動用ＴＦＴ１２３と画素電極２３が設けられている。駆動用ＴＦＴ１２３と画素電極２３は導通しており、画素電極２３に電力を供給するようになっている。更に、画素電極２３の各々には、発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂが設けられ、当該発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの全面を覆うように陰極５０が設けられている。このような発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの各々は、単位ドットＤを構成するものであり、当該３つの発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂが一つの画素を構成している。このような発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂは、駆動用ＴＦＴ１２３の電位に応じて、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色を階調させて発光するようになっている。
【００４７】
また、有機ＥＬ装置１は、画素電極２３及び発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを区画するように第１隔壁（画素間部材）７５ａと第２隔壁（画素間部材）７５ｂを備えている。第１隔壁７５ａ及び第２隔壁７５ｂは積層形成されており、いずれも駆動用ＴＦＴ１２３の上方に配置されている。更に、第１隔壁７５ａは画素電極２３に隣接して設けられており、第２隔壁７５ｂは発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂに隣接して設けられている。
【００４８】
第１隔壁７５ａは、画素電極２３に隣接して配置していると共に、画素電極２３の上面の一部を被覆するように形成されている。当該第１隔壁７５ａは、液体材料に対して親液性を有している。このような親液性を有する材料としては、無機材料、有機材料の各種材料が採用されるが、本実施形態においては、無機材料としてＳｉＯ２を採用している。
【００４９】
第２隔壁７５ｂは、第１隔壁７５ａの上面に形成されている。当該第２隔壁７５ｂは、液体材料に対して撥液性を有しており、その材料としてはアクリルやポリイミド等の有機材料が採用されている。なお、本実施形態における第１隔壁７５ａの「親液性」とは、少なくとも第２隔壁７５ｂを構成するアクリル、ポリイミド等の材料と比べて親液性が高いことを意味するものとする。
【００５０】
このような第１隔壁７５ａ及び第２隔壁７５ｂが配置されることによって、発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを受容する隔壁開口部７７Ｒ、７７Ｇ、７７Ｂが形成されている。そして、このような隔壁開口部７７Ｒ、７７Ｇ、７７Ｂの各々に対し、発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの各々が後述するインクジェット法を用いることによって形成されている。
【００５１】
ここで、発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの面積（単位ドットの面積）は、隔壁開口部７７Ｒ、７７Ｇ、７７Ｂの開口面積が調整されることによって規定されている。また、各発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの面積の合計が１画素当りの面積に相当している。従って、換言すれば、隔壁開口部７７Ｒ、７７Ｇ、７７Ｂの開口面積が調整されることによって画素面積が規定されている。
このような構造によって中央画素群７ａ、周辺画素群７ｂ、及び中間画素群７ｃの画素が構成され、各画素群７ａにおける画素面積を異ならせている。
【００５２】
そして、中央画素群７ａにおける画素面積と、周辺画素群７ｂにおける画素面積は、所定の面積比（画素開口面積比）で決定されている。当該所定の面積比とは、中央画素群７ａにおける輝度と、周辺画素群７ｂにおける輝度比（画素輝度比）の逆数に略等しい値となっている。
従って、従来技術に示したように中央画素群７ａの輝度よりも周辺画素群７ｂの輝度が低いことから、中央画素群７ａにおける画素面積は周辺画素群７ｂにおける画素面積よりも輝度比の逆数に応じて決定され、周辺画素群７ｂにおける画素面積よりも小さくなっている。
【００５３】
次に、具体的な輝度比を例に挙げて説明する。
例えば、中央画素群７ａと比較して周辺画素群７ｂの輝度が８０％程度である場合においては、面積比は輝度比の逆数であることから、面積比は１／０．８＝１．２５倍と算出される。そして、当該面積比に応じて、周辺画素群７ｂにおける画素面積は、中央画素群７ａのそれよりも１．２５倍広げて形成されることになる。
【００５４】
また、このような面積比と輝度比のバラツキは、±１０％以内であることが好ましい。
従って、上記面積比率が１．２５倍である場合において、そのバラツキは±０．１２５（１．２５×０．１）となり、実際の面積比率は１．３７５（１．２５＋０．１２５）倍〜１．１２５（１．２５−０．１２５）程度となる。
【００５５】
また、中央画素群７ａ及び周辺画素群７ｂを含む発光領域４の全画素においては、発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの各色のドットの（輝度×面積）の比率が同一になっている。このように設定されることで、画素面積の大小に関わらずＲＧＢ各色のバランスが取れた発光光が出射される。
【００５６】
なお、本実施形態では、第１隔壁７５ａ及び第２隔壁７５ｂを形成し、隔壁開口部７８Ｒ、７８Ｇ、７８Ｂの開口面積が調整されることによって中央画素群７ａ及び周辺画素群７ｂにおける画素面積を異ならせているが、これを限定するものではない。
例えば、中央画素群７ａ及び周辺画素群７ｂにおいて、第２隔壁７５ｂのパターンを同一に形成し、第１隔壁７５ａのパターンのみを調整し、隔壁開口部７８Ｒ、７８Ｇ、７８Ｂの面積を異ならせてもよい。このようにすれば、中央画素群７ａと周辺画素群７ｂにおいて同量の発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの材料を配置させても、発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂと画素電極２３との接触面積が調整されるので、上記のように隔壁開口部７８Ｒ、７８Ｇ、７８Ｂの開口面積を調整する場合と同様となる。
【００５７】
次に、図６に示した画素電極２３、発光機能層１１、及び陰極５０の詳細について説明する。
発光機能層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの各々は、画素電極２３側から、正孔注入層７０と、発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂと、電子注入層６５とが積層形成された構成となっている。正孔注入層７０は、画素電極２３からの正孔を発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂに注入／輸送する層膜である。電子注入層６５は、後述する陰極５０からの電子を発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂに注入／輸送する層膜である。発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂは、注入された正孔及び電子の結合によって発光する層膜である。
【００５８】
画素電極２３は、本例ではボトムエミッション型であることから透明導電材料によって形成されている。透明導電材料としてはＩＴＯが好適とされるが、これ以外にも、例えば酸化インジウム・酸化亜鉛系アモルファス透明導電膜（Indium Zinc Oxide ：ＩＺＯ／アイ・ゼット・オー）（登録商標））（出光興産社製）等を用いることができる。なお、本実施形態ではＩＴＯを用いるものとする。また、トップエミッション型である場合には、特に光透過性を備えた材料を採用する必要はなく、例えばＩＴＯの下層側にＡｌ等を設けて反射層として用いることもできる。ここで、画素電極２３の平面パターンは発光領域４の中央部４ａ、周辺部４ｂ、及び中間部４ｃのいずれの領域において、同一面積で形成されている。
【００５９】
正孔注入層７０の形成材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、即ち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、更にこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
なお、正孔注入層７０の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々の材料が使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体等を、例えばポリスチレンスルフォン酸等の適宜な分散媒に分散させたものが使用可能である。
【００６０】
発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂを形成するための材料としては、蛍光或いは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。また、本実施形態では、フルカラー表示を行うべく、その発光波長帯域が光の三原色にそれぞれ対応して形成されている。即ち、発光波長帯域が赤色に対応した発光層６０Ｒ、緑色に対応した発光層６０Ｇ、青色に対応した発光層６０Ｂの三つの発光層により、１画素が構成され、これらが階調して発光することにより、有機ＥＬ装置１が全体としてフルカラー表示をなすようになっている。
【００６１】
発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂの形成材料として具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系等が好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【００６２】
なお、本実施形態では、赤色の発光層６０Ｒの形成材料としてＭＥＨＰＰＶ（ポリ（３−メトキシ６−（３−エチルヘキシル）パラフェニレンビニレン）を、緑色の発光層６０Ｇの形成材料としてポリジオクチルフルオレンとＦ８ＢＴ（ジオクチルフルオレンとベンゾチアジアゾールの交互共重合体）の混合溶液を、青色の発光層６０Ｂの形成材料としてポリジオクチルフルオレンを用いている。また、これらの発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂについては、特にその厚さについては制限がなく、各色毎に好ましい膜厚が調整されている。
【００６３】
電子注入層６５は、発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂの上に形成されたものである。当該電子注入層６５の材料は、発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂの各種材料に応じて適宜選択される。具体的な材料としては、アルカリ金属のフッ化物として、ＬｉＦ（フッ化リチウム）、ＮａＦ（フッ化ナトリウム）、ＫＦ（フッ化カリウム）、ＲｂＦ（フッ化ルビジウム）、ＣｓＦ（フッ化セシウム）等や、或いはアルカリ金属の酸化物、即ちＬｉ２Ｏ（酸化リチウム）、Ｎａ２Ｏ（酸化ナトリウム）等が好適に用いられる。また、この電子注入層６５の厚さとしては、０．５ｎｍ〜１０ｎｍ程度とするのが好ましい。
【００６４】
陰極５０は、発光領域４の総面積より広い面積を備え、それぞれを覆うように形成されたもので、電子注入層６５上に設けられた低仕事関数の金属からなる第１陰極と、該第１陰極上に設けられて該第１陰極を保護する第２陰極とからなるものである。第１陰極を形成する低仕事関数の金属としては、特に仕事関数が３．０ｅＶ以下の金属であるのが好ましく、具体的にはＣａ（仕事関数；２．６ｅＶ）、Ｓｒ（仕事関数；２．１ｅＶ）、Ｂａ（仕事関数；２．５ｅＶ）が好適に用いられる。第２陰極は、第１陰極を覆って酸素や水分等からこれを保護するとともに、陰極５０全体の導電性を高めるために設けられたものである。この第２陰極の形成材料としては、化学的に安定で比較的仕事関数が低いものであれば特に限定されることなく、任意のもの、例えば金属や合金等が使用可能であり、具体的にはＡｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）等が好適に用いられる。
【００６５】
なお、上記構成の有機ＥＬ装置１は、ボトムエミッション型の構造を有しているが、これを限定するものではない。当該有機ＥＬ装置１は、封止基板３０側から発光光を取り出す所謂トップエミッション型においても適用可能である。
トップエミッション型の有機ＥＬ装置の場合には、基板２０の対向側である封止基板３０側から発光光を取り出す構成であるので、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミック、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化等の絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等が挙げられる。
【００６６】
上述したように、本実施形態の有機ＥＬ装置においては、中央画素群７ａと周辺画素群７ｂの各々における画素面積比（画素開口面積比）が中央画素群７ａと周辺画素群７ｂの輝度比の逆数に略等しいので、輝度が低い周辺画素群７ｂにはその面積が大きく設定され、また、輝度が高い中央画素群７ａにはその面積が小さく設定される。従って、輝度の差異を効果的に補正することが可能となり、発光領域４の全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置１を実現することができる。
また、従来においては中央部４ａよりも周辺部４ｂの輝度が低下して発光特性が不均一になるという問題があったが、上記構成を採用することによって当該問題を解決することができる。
【００６７】
また、このように輝度が低い周辺画素群７ｂに対して、当該周辺画素群７ｂにおける画素面積を大きくすることで輝度の差異を補正するので、従来の有機ＥＬ装置に設けられていたダミー領域が不要になる。従って、額縁の小さい有機ＥＬ装置を実現することができる。
【００６８】
また、従来においては、基板上の塗布領域における周辺部４ｂ（上端、下端、右端、及び左端）に塗布された微小液体は蒸発しやすく、当該周辺部４ｂの溶媒分子分圧が低いために、中央部４ａよりも速く乾燥し、発光特性が不均一になるという問題があったが、本実施形態においては、周辺画素群７ｂにおける画素が中央画素群７ａのそれよりも大きな面積を有するので、中央画素群７ａと周辺画素群７ｂにおける輝度の差異を効果的に補正し、発光領域全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置１を実現することができる。
【００６９】
また、中央画素群７ａと周辺画素群７ｂの間に中間画素群７ｃを有し、当該中間画素群７ｃの画素面積を連続的に異ならせているので、輝度が連続的に異なるように中間画素群７ｃを発光させることができる。また、中間画素群７ｃは、中央画素群７ａと周辺画素群７ｂの間に設けられているので、当該画素群７ａ、７ｂの間において中間画素群７ｃの輝度分布に勾配を設けることができる。
【００７０】
更に、中間画素群７ｃを設けずに各画素群７ａ、７ｂを隣接させた場合では、当該画素群７ａ、７ｂの発光光がはっきりとした輝度差として表示されてしまうが、上記のように中間画素群７ｃを備えることにより、各画素群７ａ、７ｂの相互間における発光輝度を連続的に異ならせることができる。即ち、各画素群７ａ、７ｂの間に設けられた第４画素群の輝度分布が勾配を有するものとなり、各画素群７ａ、７ｂの輝度差をぼかして発光させることができる。
【００７１】
また、全画素群７ａ、７ｂ、７ｃの階調を制御して発光させるための駆動方式は、電圧階調方式、パルス幅階調方式、及び面積階調方式のいずれかであるので、好適な表示特性を示す有機ＥＬ装置を実現できる。具体的には、電圧または印加電圧のパルス幅または発光に割り当てられる画素数を調整することによってパネルとしての輝度が表現されるので、各画素面積が異なる場合であっても、画素の各々は電圧量またはパルス幅または発光画素個数に応じて発光する。従って、電圧量またはパルス幅または発光画素個数に応じて好適な輝度階調を表現することができる。
【００７２】
また、画素電極２３のパターンは、発光領域４における全ての画素群７ａ、７ｂ、７ｃのように画素面積が異なる場合であっても同一に形成されるので、発光領域４を構成する全画素群７ａ、７ｂ、７ｃの画素電極パターンの共通化を実現できる。
ここで、第２隔壁７５ｂの開口パターンを発光領域４全体に渡り大きめに同じ大きさに形成しておき、第１隔壁７５ａだけで画素開口面積を決定するようにすれば、第１隔壁７５ａの開口パターンを形成するための一枚のフォトマスクのみを変更すればよいので、製造コストを低減できる。また、インクジェット法によるインク吐出の方法も各ドットで異ならせる必要が無くなり、スループットが向上する。
【００７３】
また、複数の画素電極２３の相互間に第１隔壁７５ａと第２隔壁７５ｂが形成されているので、当該第１隔壁７５ａと第２隔壁７５ｂの開口面積（隔壁開口部７７Ｒ、７７Ｇ、７７Ｂの開口面積）を調整することにより、上記の各画素群７ａ、７ｂ、７ｃにおける画素面積や、異なる画素群間における面積比を決定することができる。また、有機ＥＬ装置１の構成要素の数を増加させずに、このような効果が得られる。
【００７４】
また、発光領域４における複数の画素の各々はＲＧＢの発光色を発する単位ドットＤを有しており、同一画素内の単位ドットＤの（各ドットの輝度と各ドットの面積の積）の比率が同一であるので、発光色の輝度や寿命、フルカラー表示のバランスを設計や仕様の通りに実現することができる。
【００７５】
（有機ＥＬ装置の第２実施形態）
次に、有機ＥＬ装置の第２実施形態について説明する。
本実施形態においては、上記第１実施形態と異なる部分についてのみ説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。
図７は、本実施形態の発光領域４’を詳細に説明するための平面拡大図である。
図７に示すように、発光領域４’は、中央部４ａ、周辺部４ｂ、中間部４ｃ、及び角部４ｄを有している。そして、角部４ｄには、角画素群（第３画素群）７ｄが形成されている。
また、中間部４ｃは、中央部４ａと周辺部４ｂの間に形成されるだけでなく、中央部４ａと角部４ｄの間、及び周辺部４ｂと角部４ｄの間にも形成されている。更に、中間画素群７ｃは、中央画素群７ａから角画素群７ｄに向けて、及び周辺画素群７ｂから角画素群７ｄに向けて、その面積が連続的に異なるように設定されている。
【００７６】
図８は、図７のＢ−Ｂ’線に沿う中央画素群７ａ、周辺画素群７ｂ、中間画素群７ｃ、及び角画素群７ｄの位置と、各画素群における画素面積の関係を示す図である。ここで、図８におけるＰ０〜Ｐ５は、図７の基板端点Ｐ０から中央部４ａの中心点Ｏまでの位置と、中心点Ｏから基板端点Ｐ５まで位置に対応している。
図８に示すように、図７のＢ−Ｂ’線に沿う各画素群７ａ、７ｂ、７ｃ、７ｄにおいては、中央画素群７ａよりも周辺画素群７ｂの画素面積が大きく、また、周辺画素群７ｂよりも角画素群７ｄの画素面積が大きく（ｓｄ＞ｓｂ）なっている。更に、中間画素群７ｃにおいては画素面積が連続的に異ならせている。
【００７７】
このような発光領域４’においては、中央画素群７ａ、周辺画素群７ｂ、及び角画素群７ｄの各々における画素面積は、各画素群の輝度比の逆数に略等しくなっている。即ち、中央画素群７ａ、周辺画素群７ｂ、及び角画素群７ｄの輝度比がＬ：Ｍ：Ｎである場合には、その面積比が１／Ｌ：１／Ｍ：１／Ｎとなるように設定されている。
【００７８】
上述したように、本実施形態においては、発光領域４の角部４ｄに角画素群７ｄを有し、当該角画素群７ｄにおける画素は、周辺画素群７ｂのそれよりも面積が大きいので、中央画素群７ａ、周辺画素群７ｂ、及び角画素群７ｄを含む発光領域４全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置１を実現することができる。具体的には、矩形状の発光領域４においては、上端、下端、右端、及び左端よりも、角部４ｄ（右上隅、右下隅、左上隅、及び左下隅）における溶媒分子分圧が低く、当該角部４ｄに塗布された微小液体は周辺部４ｂよりも速く乾燥する。これにより、矩形状の塗布領域（発光領域４）における角部４ｄの輝度が周辺部４ｂよりも低下して発光特性が不均一になってしまう。これに対し、本実施形態においては、上記の角画素群７ｄを備えるので、周辺部４ｂと角部４ｄにおける輝度の差異を効果的に補正することができる。
【００７９】
また、中央画素群７ａ、周辺画素群７ｂ、及び角画素群７ｄの各々における画素面積は、各画素群７ａ、７ｂ、７ｄの輝度比の逆数に略等しくなっているので、輝度の差異を効果的に補正することができ、中央画素群７ａ、周辺画素群７ｂ、及び角画素群７ｄを含む発光領域４全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置１を実現することができる。
【００８０】
また、中央画素群７ａ、周辺画素群７ｂ、及び角画素群７ｄの各画素群の間に中間画素群７ｃを有し、当該中間画素群７ｃの画素面積を連続的に異ならせているので、輝度が連続的に異なるように中間画素群７ｃを発光させることができる。また、中間画素群７ｃは、中央画素群７ａと周辺画素群７ｂの間、中央画素群７ａと角画素群７ｄの間、周辺画素群７ｂと角画素群７ｄの間のいずれかに設けられているので、当該画素群７ａ、７ｂ、７ｄの間において中間画素群７ｃの輝度分布に勾配を設けることができる。
【００８１】
更に、中間画素群７ｃを設けずに各画素群７ａ、７ｂ、７ｄを隣接させた場合では、当該画素群７ａ、７ｂ、７ｄの発光光がはっきりとした輝度差として表示されてしまうが、上記のように中間画素群７ｃを備えることにより、各画素群７ａ、７ｂ、７ｄの相互間における発光輝度を連続的に異ならせることができる。即ち、各画素群７ａ、７ｂ、７ｄの間に設けられた第４画素群の輝度分布が勾配を有するものとなり、各画素群７ａ、７ｂ、７ｄの輝度差をぼかして発光させることができる。
【００８２】
（有機ＥＬ装置の製造方法の第１実施形態）
次に、図２〜図１０を参照し、上記の有機ＥＬ装置１の製造方法について説明する。
まず、上記の有機ＥＬ装置１を形成する前に、中央画素群７ａと周辺画素群７ｂの面積比を決定するためのテスト装置を作製する。即ち、図９に示すように、テスト装置１’を形成する。当該テスト装置１’と上記の有機ＥＬ装置１の相違点について説明すると、有機ＥＬ装置１には画素面積が異なって中央部４ａと周辺部４ｂが形成されていたが、これに対してテスト装置１’には同一の画素開口面積の画素が形成されている。また、図９に示すテスト装置１’における他の構成要素は有機ＥＬ装置１と同じである。
【００８３】
次に、テスト装置１’における発光領域４の輝度分布を測定する。
具体的には、まず、発光領域４の画素を形成する赤のドット群を全て同一条件で発光させた状態で、画素検査装置を用いて、発光領域全体の画像を取り込み、各画素に対応する画像輝度情報を各画素の輝度として割り当てる。この時、全画素ドットに対応する輝度情報を取り込むのではなく、ある程度のドットのまとまり（例えば１０ドット毎）として輝度情報を取り込み、割り当ててもよい。このような輝度分布測定の結果に基づき、発光領域４における輝度分布が確認される。これを緑と青のドット群についても測定し、発光領域４の画素を形成する全てのドットについて輝度を測定することができる。尚、本テストにおいて、赤、青、緑のテストを行う場合の各々の狙い輝度は、装置として用いる場合の標準使用輝度に設定すると良い。例えばディスプレイとして用いる場合、ホワイトバランスをとる輝度比とすると良い。もちろん単色ディスプレイまたは単色発光装置（例えば感光体を用いたプリンター用ヘッド）として用いる場合、この限りでない。
このようにＲＧＢ各々のドットの輝度が全て求まった時点で、Ａ＝（パネルとしての目標輝度）×（テスト装置の画素ドット開口面積）／（テストで求まったドット輝度）をそのドットの面積とする。ここでパネルとしての目標輝度とは、ＲＧＢで各々異なる。例えば、パネルとして輝度３００Ｃｄ／ｍ２を出す場合で、ホワイトバランスをとる時、Ｒ輝度２００Ｃｄ／ｍ２、Ｇ輝度１０００Ｃｄ／ｍ２、Ｂ輝度４００Ｃｄ／ｍ２とする。もちろんこの狙い値は、パネルの平均画素（ドット）開口率、画素面積、ＲＧＢ各発光スペクトルにより変わる。もちろんＡの値は発光領域４の全てのドットで異なる場合もある。
なお、以下の説明では、中央部４ａよりも周辺部４ｂの輝度が低下するという結果が得られた場合について説明する。
【００８４】
次に、テスト装置１’の輝度分布に基づき、図３〜図８に示す画素面積を異ならせた有機ＥＬ装置１を作製する。
従って、基板２０上に駆動用ＴＦＴ１２３を形成し、層間絶縁膜（不図示）を介して、画素電極２３を形成する。次に、ＳｉＯ２を用いて第１隔壁７５ａを形成し、樹脂バンクからなる第２隔壁７５ｂを形成する。このような第１隔壁７５ａ及び第２隔壁７５ｂの形成工程においては、テスト装置１’の輝度分布に基づいて低輝度領域（周辺部４ｂ）と高輝度領域（中央部４ａ）の輝度比を算出した後、当該輝度比の逆数の比率で開口面積が形成されるように、第１隔壁７５ａ及び第２隔壁７５ｂを形成する。例えば、テスト装置１’における周辺部が中央部に比べて輝度が８０％であるとすると、開口面積比率は１／０．８＝１．２５倍となり、有機ＥＬ装置１の周辺部４ｂの開口面積を中央部４ａよりも１．２５倍広げて形成することになる。
【００８５】
なお、本実施形態においては、第１隔壁７５ａ及び第２隔壁７５ｂを形成して開口面積を調整しているが、これを限定するものではない。前述したように、第１隔壁７５ａだけを調整し、第２隔壁７５ｂをその開口面積を予め大きくなるように設計しておけば、同じ量の機能性材料を隔壁開口部７７Ｒ、７７Ｇ、７７Ｂに打ち込んでも画素発光面積を効果的に変更できる。
【００８６】
次に、Ｏ２プラズマ処理やＣＦ４プラズマ処理等を施し、画素電極２３上を親液化、第２隔壁７５ｂを撥液化する。次に、インクジェット法でＰＥＤＯＴ：ＰＳＳインクを吐出して正孔注入層７０を形成し、更にこの上にＲＧＢ各色の発光層６０をインクジェット法によって形成した。
【００８７】
次に、図１０を参照し、インクジェット法を用いて、異なる面積の画素を形成する方法について説明する。これは第２隔壁７５ｂを画素毎に変更した場合に有効である。図１０は、図２に示した有機ＥＬ装置１の画素を示す平面拡大図であって、吐出ヘッドが発光層６０の材料を各単位ドットに吐出した後の状態を示している。また、図１０（ａ）は、中央部４ａにおける中央画素群７ａを示す図、図１０（ｂ）は周辺部４ｂにおける周辺画素群７ｂを示す図である。
【００８８】
図１０（ａ）、（ｂ）に示すように、インクジェット法においては、吐出ヘッドを走査させながら液体材料Ｌを各単位ドットＤに吐出することで、発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂが形成される。また、中央画素群７ａ及び周辺画素群７ｂにおける単位ドットの幅ＤＷと画素の幅Ｗの寸法は全て同一である。そして、単位ドットＤの長辺方向（吐出ヘッド走査方向）の長さを異ならせることによって中央画素群７ａ及び周辺画素群７ｂの面積が調整されている。また、吐出ヘッドの走査方向と液滴Ｌの配列方向が同一であるので、吐出ヘッドの走査方向を変更せずに、液滴の吐出回数のみを変えることで、各単位ドット内の発光層の面積が調整される。更に、同一材料の液体材料Ｌを吐出する場合には、１滴当りの吐出量を全て同一にする。従って、異なる面積、かつ、同一色の単位ドットを形成する場合には、１滴当りの吐出量を一定として、吐出回数のみを異ならせて吐出する。
なお、ＲＧＢ各色の発光層を形成する場合においては、１滴当りの吐出量は必ずしも同じであるとは限らない。ＲＧＢの発光特性や発光寿命、又は液体材料に含まれる材料と溶媒の成分比等を加味した上で、ＲＧＢ各色に吐出する１滴当りの吐出量が好適に設定される。
【００８９】
そして、上記のように所定の液滴数の液体材料Ｌが吐出されることで単位ドットＤが形成され、当該単位ドットＤがＲＧＢ毎に設けられることによって、中央画素群７ａ及び周辺画素群７ｂが各々形成される。更に、上記実施形態に示したように、中央画素群７ａよりも周辺画素群７ｂの面積が大きいことから、周辺画素群７ｂに吐出する液滴数を中央画素群７ａよりも多くする。図１０においては、中央画素群７ａに吐出する液滴数を３つ、周辺画素群７ｂに吐出する液滴数を４つとしている。
【００９０】
次に、上記のように発光層６０Ｒ、６０Ｇ、６０Ｂを形成した後に、全面に電子注入層６５となるフッ化リチウム２ｎｍを形成し、陰極５０のとなるカルシウム及びアルミニウムを各々２０ｎｍ、２００ｎｍの膜厚で蒸着した。
【００９１】
なお、上記実施形態においては、中央画素群７ａ及び周辺画素群７ｂを形成する方法について説明したが、角画素群７ｃを形成する場合においても同様である。
【００９２】
上述したように、本実施形態においては、先に記載の有機ＥＬ装置１を製造することができるので、当該有機ＥＬ装置１と同様の効果を奏する。
また、上記の有機ＥＬ装置の製造方法においては、インクジェット法を用いるので、設備コスト低減、材料削減、工程数削減を実現し、低コストの有機ＥＬ装置を製造することができる。
【００９３】
また、インクジェット法においては、液体材料の吐出回数を変えることにより、単位ドットにおける液体材料の総量を調整するので、画素面積を容易に調整することができる。従って、第２隔壁７５ｂを各ドットで変更した場合、画素面積が異なる中央画素群７ａと周辺画素群７ｂを形成することができる。また、吐出回数を多くすることにより液体材料Ｌが多く吐出され、当該液体材料Ｌが画素電極２３上に濡れ広がり、大面積の画素を形成することができる。また、吐出回数を少なくすることにより液体材料Ｌが少なく吐出されるので、小面積の画素を形成することができる。従って、１滴当りの吐出量を変更する必要がなく、吐出回数を変えるだけで中央画素群７ａと周辺画素群７ｂを形成することができる。
【００９４】
また、第２隔壁７５ｂを各ドットで変更した場合、有機ＥＬ装置１の画素の幅Ｗを全て同一寸法とし、当該画素の長さ方向の寸法を異ならせることによって面積が調整されているので、当該長さ方向と吐出ヘッドの走査方向を一致させることで、走査動作を止めることなく吐出動作を行うことができる。従って、走査動作を行いながら、画素面積を調整することができる。
【００９５】
また、有機ＥＬ装置１の製造方法においては、テスト装置１’を作製し、当該テスト装置１’の輝度分布測定と、輝度比の算出を行い、当該輝度比の逆数に基づいて画素面積が算出されているので、測定結果に基づく画素面積を算出することができ、当該画素面積で発光領域４を形成する画素ドットを形成することができる。
【００９６】
（有機ＥＬ装置の製造方法の第２実施形態）
次に、図１１及び図１２を参照し、有機ＥＬ装置の製造方法の第２実施形態について説明する。
ここで、図１１（ａ）は有機ＥＬ装置１の発光領域４を示す平面図である。また、図１１（ｂ）、（ｃ）は発光領域のＸ方向における輝度分布を示す図であって、図１１（ｂ）は輝度ムラを示す輝度分布図、図１１（ｃ）は均一な輝度を示す輝度分布図である。図１２は吐出ヘッドのノズル面を示す平面図である。
本実施形態と第１実施形態の相違点について説明する。第１実施形態は中央部４ａと周辺部４ｂにおける輝度比の逆数に基づいて面積比を規定する方法であったのに対し、本実施形態は、吐出ヘッドの改行スジに起因する輝度比の逆数に基づいて面積比を規定する方法である。
なお、本実施形態においては、先に記載の実施形態と異なる部分のみを説明し、同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。
【００９７】
図１１（ａ）は、有機ＥＬ装置１の発光領域４の平面上における吐出ヘッドＨの走査方向を示している。なお、紙面横方向をＸ方向、縦方向をＹ方向とする。
図１１（ａ）に示すように、インクジェット法においては、発光領域４上を吐出ヘッドＨがＹ方向に走査しつつ、吐出ヘッドのノズルから液体材料Ｌを吐出する。そして、発光領域４の端部に吐出ヘッドＨが達したところで、吐出ヘッドＨはＸ方向に移動（改行）し、再度Ｙ方向に走査する。或いは吐出ヘッドＨは固定で基板を載せたステージがＸＹ方向に移動してもよい。
【００９８】
図１２に示すように、吐出ヘッドＨは、複数のノズルＮａ、Ｎｂを備えている。ここで、ノズルＮａは吐出ヘッドＨの中央部近傍に位置するノズルであり、ノズルＮｂは吐出ヘッドＨの端部近傍に位置するノズルである。従って、ノズルＮａは図１１（ａ）における改行部分よりも遠い位置に液体材料Ｌを吐出し、ノズルＮｂは改行部分に近い位置に液体材料Ｌを吐出する。一般的に吐出ヘッドＨの各ノズルへのインク流路の長さの違いから、吐出ヘッドＨの両端のノズルからのインクの吐出量は中央部のインクの吐出量に比べて少ないため、吐出ヘッドＨの両端に対応する画素では、発光層膜厚が薄くなる傾向があり、従って、発光層に印加される電界は高くなり、輝度が高くなりやすい。
【００９９】
図１１（ａ）に示すような吐出動作を施すと、図１１（ｂ）に示すように吐出ヘッドＨの端部近傍が走査する発光領域４上の輝度が高くなり、吐出ヘッドＨの中央近傍が走査する発光領域４上の輝度が低くなってしまい、輝度ムラの発生を招いてしまう。
そこで、第１実施形態のテスト装置１’に従って画素ドット開口面積を算出して基板を作成した。ノズルＮｂから多い吐出回数で液体材料Ｌを吐出し、ノズルＮａから少ない吐出回数で液体材料Ｌを吐出する。すると、ノズルＮｂから吐出された液体材料Ｌによって大面積画素（第２画素群）が形成され、ノズルＮａから吐出された液体材料Ｌによって小面積画素（第１画素群）が形成される。なお、このように吐出回数を異ならせて液体材料Ｌを吐出する場合には、１回当りの吐出量を一定としている。
そして、このような大面積画素と小面積画素を有する発光領域４を発光させると、図１１（ｃ）に示すように、均一な輝度分布が得られる。
【０１００】
なお、ノズルから吐出される１回あたりの吐出量を異ならせて大面積画素と小面積画素を形成してもよい。この場合、ノズルＮｂが多い吐出量で液体材料Ｌを吐出し、また、ノズルＮａが少ない吐出量で液体材料Ｌを吐出する。このような場合でも大面積画素と小面積画素が形成される。
【０１０１】
上述したように、吐出ヘッドＨの走査及び改行動作を有するインクジェット法においても、ノズルＮａ、Ｎｂが吐出量を異ならせて、又は吐出量を異ならせて液体材料Ｌを吐出することにより、大面積画素と小面積画素を形成することができる。従って、吐出ヘッドＨの改行スジ近傍の輝度が他の部分よりも輝度が高くなり発光特性が不均一になるという問題を解決することができる。従って、インクジェット法を用いた場合であっても、発光領域４全体として均一な輝度及び表示特性を有する有機ＥＬ装置１を実現することができる。
【０１０２】
（電子機器）
次に、上記実施形態の有機ＥＬ装置を備えた電子機器の例について説明する。
図１３（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１３（ａ）において、符号５００は携帯電話本体を示し、符号５０１は有機ＥＬ装置を備えた表示部を示している。
図１３（ｂ）は、ワープロ、パソコン等の携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１３（ｂ）において、符号６００は情報処理装置、符号６０１はキーボード等の入力部、符号６０３は情報処理本体、符号６０２は有機ＥＬ装置を備えた表示部を示している。
図１３（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１３（ｃ）において、符号７００は時計本体を示し、符号７０１は有機ＥＬ装置を備えたＥＬ表示部を示している。
図１３（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、先の実施形態に示した有機ＥＬ装置が備えられたものであるので、表示特性が良好な電子機器となる。
【０１０３】
また、本発明はディスプレイ用途だけでなく、感光体を用いたＬＥＤプリンターのヘッドとして用いることができる。この場合においては、通常、発光点は１列又は多くても１０列程度であり、インクジェット方で形成する場合に必要なダミー領域よりも列数が少ない。従って、従来では大変幅が広くなってしまい、ＴＦＴ駆動する場合、１ウエハからの取れ数が少なくなり、単価が高くなってしまっていた。そこで、本発明を用いれば、ダミー領域を設けずともよく、従って大変ヘッドの幅を狭くすることができるために（幅１ｍｍ程度にできる）、１枚のウエハから取得できる数を増加させることができ、従って単価を下げることができる。
【０１０４】
なお、電子機器としては、上記電子機器に限られることなく、種々の電子機器に適用することができる。例えば、ディスクトップ型コンピュータ、液晶プロジェクタ、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）及びエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ページャ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた装置等、又は光書き込み式の画層記録装置、画像形成装置または画像記憶装置等の電子機器に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１０５】
【図１】本発明の第１実施形態の有機ＥＬ装置を示す配線構造を示す模式図。
【図２】本発明の第１実施形態の有機ＥＬ装置を示す模式構造を示す平面図。
【図３】図２の有機ＥＬ装置の模式構造における発光領域を示す平面拡大図。
【図４】図３の発光領域における要部の平面拡大図。
【図５】図３の発光領域における各画素群の位置と画素面積の関係を示す図。
【図６】図３の発光領域における要部の断面拡大図。
【図７】本発明の有機ＥＬ装置における第２実施形態の発光領域を示す平面拡大図。
【図８】図７の発光領域における各画素群の位置と画素面積の関係を示す図。
【図９】本発明の有機ＥＬ装置の製造方法における第１実施形態を説明するための図。
【図１０】本発明の第１実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための図。
【図１１】本発明の第２実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための図。
【図１２】本発明の第２実施形態の有機ＥＬ装置の製造方法を説明するための図。
【図１３】本発明の有機ＥＬ装置を備える電子機器を示す図。
【符号の説明】
【０１０６】
１…有機ＥＬ装置（有機エレクトロルミネッセンス装置）
４…発光領域
４ａ…中央部
４ｂ…周辺部
４ｄ…角部
７ａ…中央画素群（第１画素群）
７ｂ…周辺画素群（第２画素群）
７ｃ…中間画素群（第４画素群）
７ｄ…角画素群（第３画素群）
２３…画素電極
７５ａ…第１隔壁（画素間部材）
７５ｂ…第２隔壁（画素間部材）
Ｄ…単位ドット
Ｈ…吐出ヘッド
Ｎａ、Ｎｂ…ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2005243281.tif 000011
【図１０】
2005243281.tif 000012
【図１１】
2005243281.tif 000013
【図１２】
2005243281.tif 000014
【図１３】
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