(57)【要約】  【課題】  基板から酸素や水分が侵入することを、ガスバリア層を設けて防止するようにした有機ＥＬ素子等の表示装置において、基板を曲げるような外力を受けても、ガスバリア層が破壊しないようにする。  【解決手段】  基板50と、この基板50上に形成された表示部60と、この表示部60を覆う上部層53と、基板50の少なくとも一部と表示部60との間に形成されたガスバリア層51とを備えてなる表示装置において、該表示装置全体に対して基板50を反らせる向きの曲げモーメントが作用したときに中立面となる位置近傍に、ガスバリア層51を配設する。【選択図】          図１１
2005251671.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、この基板上に形成された表示部と、この表示部を覆う上部層と、前記基板の少なくとも一部と前記表示部との間に形成されたガスバリア層とを備えてなる表示装置において、
該表示装置全体に対して基板を反らせる向きの曲げモーメントが作用したときに中立面となる位置近傍に、前記ガスバリア層が配設されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記上部層が、前記基板と同じ材料からなることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記中立面からガスバリア層までの距離が、中立面から該ガスバリア層側の基板表面までの距離の３０％以下となっていることを特徴とする請求項１または２記載の表示装置。
【請求項４】
前記表示部が、前記中立面となる位置近傍に配設されていることを特徴とする請求項１から３いずれか１項記載の表示装置。
【請求項５】
前記中立面から表示部までの距離が、中立面から該表示部側の基板表面までの距離の３０％以下となっていることを特徴とする請求項４記載の表示装置。
【請求項６】
前記表示部に対して前記基板と反対側に第２のガスバリア層が形成され、
この第２のガスバリア層も前記中立面となる位置近傍に配設されていることを特徴とする請求項１から５いずれか１項記載の表示装置。
【請求項７】
前記基板が高分子材料からなる樹脂基板であることを特徴とする請求項１から６いずれか１項記載の表示装置。
【請求項８】
有機ＥＬ素子からなることを特徴とする請求項１から７いずれか１項記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置、特に詳細には、有機ＥＬ（エレクトロ・ルミネッセンス）素子等、基板上に表示部が形成されてなる表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば特許文献１および２に示されているように、絶縁性の透明基板と、この基板上に互いに間隔を置いて配設された複数の透明陽極と、この透明陽極を上から覆う状態に形成された、少なくとも発光層を含む有機化合物層と、この有機化合物層を間に挟んで、透明陽極と交差対向するように配置された金属陰極とを備えてなる有機ＥＬ素子が知られている。
【０００３】
この有機ＥＬ素子においては、透明陽極と金属陰極との間に電流が流されると、有機化合物層に含まれる発光層が発光し、発光光が透明陽極および透明基板を介して取り出される。つまり該有機ＥＬ素子では、透明陽極と金属陰極の交差部分を１つの発光部として、その発光部毎に発光、非発光を制御することができる。なおこのような有機ＥＬ素子は、波長安定性に優れる特性を有している。
【０００４】
ところで、この有機ＥＬ素子等のように基板上に表示部を形成してなる表示装置においては、特に基板として高分子材料からなる樹脂基板が用いられている場合、基板を透過した酸素や水分が表示部まで侵入し、この酸素や水分により表示部が劣化してしまうという問題が認められている。従来、この問題に対処するため、例えば前記特許文献２や特許文献３に示されるように、基板の少なくとも一部と表示部との間にガスバリア層を設けることが提案されている。なおこのガスバリア層は、基本的に気体を遮断する機能を有する層のことであり、当然液体を遮断する機能も備えている。
【０００５】
この中で、特に特許文献２に示される表示装置においては、互いに略等しい引張応力を有するガスバリア層を基板の両主面に形成して、ガスバリア層起因の圧縮力により基板の密度を上げ、基板のガス透過率を下げることも提案されている。
【０００６】
一方、特許文献３に示される表示装置においては、樹脂基板上の補助電極を構成する金属薄膜の全応力が所定値以下となるように成膜を行って、金属電極の応力による樹脂基板の変形を防止することも提案されている。
【特許文献１】特許第２９１１５５２号公報
【特許文献２】特開２００２−１８９９４号公報
【特許文献３】特開２００２−３４３５８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述の特許文献２に示されるガスバリア層を備えた表示装置においては、ガスバリア層に常に引張り応力が加わるので、表示装置全体を曲げたときに曲げ応力も付与され、ガスバリア層が破壊しやすいという問題が認められている。
【０００８】
また、特許文献３に示されるガスバリア層を備えた表示装置においては、金属電極の応力による樹脂基板の変形については考慮されているものの、表示装置全体が曲げられたときの応力については考慮されていないので、ここでも、表示装置全体が曲げられた際にガスバリア層が破壊しやすいという問題が認められる。
【０００９】
本発明は上記の事情に鑑みて、基板を曲げるような外力を受けても、ガスバリア層が破壊し難い表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明による表示装置は、ガスバリア層を配置する位置を適切に設定することにより、基板を曲げるような外力を受けてもガスバリア層に応力が全く発生しないか、あるいは極く僅かしか発生しないようにしたものであり、より具体的には、
基板と、この基板上に形成された表示部と、この表示部を覆う上部層と、前記基板の少なくとも一部と前記表示部との間に形成されたガスバリア層とを備えてなる表示装置において、
該表示装置全体に対して基板を反らせる向きの曲げモーメントが作用したときに中立面（引張応力も圧縮応力も発生しない面）となる位置近傍に、ガスバリア層が配設されていることを特徴とするものである。
【００１１】
なお上記の上部層は、基板と同じ材料から形成されることが望ましい。
【００１２】
また、中立面からガスバリア層までの距離は、中立面から該ガスバリア層側の基板表面までの距離の３０％以下となっていることが望ましい。
【００１３】
また本発明の表示装置においては、表示部もまた、上記の中立面となる位置近傍に配設されていることが望ましい。そしてその場合は、中立面から表示部までの距離が、中立面から該表示部側の基板表面までの距離の３０％以下となっていることが望ましい。
【００１４】
また、本発明の表示装置が、表示部に対して基板と反対側に第２のガスバリア層が形成された構造のものである場合、この第２のガスバリア層も上記中立面となる位置近傍に配設されていることが望ましい。
【００１５】
さらに本発明は、基板として、高分子材料からなる樹脂基板が用いられている表示装置に適用されることが望ましい。
【００１６】
また本発明は、特に有機ＥＬ素子からなる表示装置に適用されることが望ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の表示装置においては、基板の少なくとも一部と表示部との間に形成するガスバリア層が、上記中立面となる位置近傍に配設されているので、基板を反らせるような外力を受けた際に、ガスバリア層には引張応力および圧縮応力が全く発生しないか、あるいは極僅かしか発生しなくなり、ガスバリア層の破壊が防止される。
【００１８】
以下、この点についてさらに詳しく説明する。図１に概略断面形状を示すように、一般に平板１を曲げた場合、外側には引張応力、内側には圧縮応力が加わる。ここで、このように曲げられる基板を用いて、例えば有機ＥＬ素子を形成する場合を考える。有機ＥＬ素子は、表示部に侵入した酸素や水分により急速に劣化することが分かっており、外部から表示部への酸素、水分の侵入を防ぐ封止構造が必要となる。特にフレキシブル基板には、柔軟性が必要なことからガス透過性の高いプラスチック基板が使用されるので、ガスの透過を防止するガスバリア層を設けることが不可欠となる。
【００１９】
しかし、図２に示すように基板２の表面にガスバリア層３，４を形成すると、基板２を曲げるたびに外側では引張応力、内側では圧縮応力が発生する。そこで、この応力により緻密なガスバリア３，４層が劣化し、部分的に亀裂等の欠陥が発生してガスバリア性を低下させ、外部からの酸素、水分の浸入を許し、有機ＥＬ素子の劣化を促進してしまう。
【００２０】
ここで、基板内の中立面（応力が０になる面）では、曲げによる応力は発生しない。したがって、図３に示すように、この中立面Ｎの近傍にガスバリア20層を形成すれば、基板10を曲げてもガスバリア層20には応力が発生しないので、その劣化を防止可能となる。なお、基板10の縦弾性定数が全体に亘って一定であれば、ガスバリア層20の上下の基板厚さはほぼ同じになる。このような構成において表示部30は、図示のように例えば中立面Ｎに近い位置に形成すればよい。また、この図３の例は、図中下側の基板10の上に表示部30が形成され、さらにその上に表示部を覆う上部層としての基板10（下側の基板10と同材料からなる）が形成されたものであるが、上部層は下側の基板10と異なる材料から形成されてもよい。
【００２１】
一方、図４に示すように、ガスバリア層20の上下に互いに異なる縦弾性定数Ｅ１、Ｅ２を有する基板Ａ、Ｂをそれぞれ配置する場合は、モーメントの釣り合いからＥ１・ｙ１２＝Ｅ２・ｙ２２となるように、各基板Ａ、Ｂの厚さｙ１、ｙ２を設定すればよい。また、基板10の縦弾性定数が厚さ方向位置ｙに対して任意の関数Ｅ（ｙ）となっている場合は、図５に示すモーメントの釣り合いから、
【数１】
2005251671.tif 000003
【００２２】
となるようにｙ１とｙ２を決定すればよい。
【００２３】
以上は、ガスバリア層を２つの基板で挟む構造について説明したが、２つの基板のうち一方を、塗布等で形成したポリマー等の保護膜とした場合にも同様のことが言える。すなわちその場合は、保護層が前述の上部層となる。さらに、ガスバリア層は複数の材料からなる多層積層構造であっても構わない。なお図４、５および後述の図６では、表示部は省略してある。
【００２４】
ここで、ガスバリア層が中立面Ｎに無い場合について検討する。図６に示すように、厚さｔのフレキシブル基板10の表面から距離ｔ’だけ内部に入った位置に、厚さΔｙのガスバリア層20が形成されている場合を考える。ガスバリア層20、フレキシブル基板10の縦弾性定数をそれぞれＥＢ、ＥＳとし、中立面Ｎを基準としてガスバリア層20と反対側の基板表面、ガスバリア層20側の基板表面、ガスバリア層面それぞれの位置をｙ１、ｙ２、ｙ３とすると、上記（１）式より、図６のモーメントの釣り合いは以下の式で表される。
【数２】
2005251671.tif 000004
【００２５】
上式を計算し、Δｙ２が微小であることから省略すると、以下の式を得る。
【００２６】
２Ｅ１ｙ３Δｙ＝Ｅ２（ｙ２２−ｙ１２）・・・（２）
ここで、ｔ’＝ｙ２−ｙ３、ｔ＝ｙ２−ｙ１であることから、ｙ３を求めると以下の式が導かれる。
【００２７】
ｙ３＝ＥＢｔ（ｔ−２ｔ’）／｛２（ＥＢΔｙ＋ＥＳｔ）｝・・・（３）
また、ガスバリア層20の中立面Ｎからの位置ｙ３とガスバリア層20にかかる応力σとは比例関係にあり、以下のようになる。
【００２８】
σ＝ＥＢｙ３／ｒ  ・・・（４）
ここで、ｒは基板たわみの曲率半径である。
【００２９】
以上の点に基づき、一般的なフレキシブル基板10にガスバリア層20を形成した場合について具体的な値を計算してみる。通常、ガスバリア層20としては緻密な構造を有する無機膜を形成するが、無機膜の縦弾性定数は数百ＧＰａ程度であるので、ＥＢ＝３００ＧＰａとする。また、フレキシブル基板10は曲げられるように柔軟性の高いポリマーを材料とし、その縦弾性定数は数百ＭＰａ程度であるので、ＥＳ＝３００ＭＰａとする。ガスバリア層20は薄膜であり、厚さは一般に１μｍ以下であるので、Δｙ＝３００ｎｍとする。フレキシブル基板10全体の厚さｔは、柔軟性と強度を両立する値としてｔ＝０．２ｍｍとする。ガスバリア層20の表面からの位置ｔ’＝０．０５ｍｍとした場合、（３）式より、ｙ３＝２０μｍとなる。
【００３０】
この値を（４）式に入れてσ−ｒ特性を計算した結果を、図７に示す。この図７より、曲率半径ｒを小さくするほどガスバリア層20の応力σが増大していくのがわかる。一般的ガスバリア層20に使用されるＡｌ２Ｏ３の引張強度は４００ＭＰａ程度であることから、曲率半径ｒが１５ｍｍ以下になるとガスバリア層20が破壊してしまうことが分かる。
【００３１】
また、ガスバリア層20の中立面Ｎからの位置が離れるほどガスバリア層20へかかる応力σが大きくなり、破壊限界に近付いて行く。中立面Ｎからのガスバリア層20の位置を、中立面Ｎからガスバリア層20側の基板表面までの距離で規格化した係数として、η＝ｙ３／ｙ２を定義する。（３）式とｔ’＝ｙ２−ｙ３より以下の式が導かれる。
【００３２】
η＝ＥＳｔ（ｔ−２ｔ’）／（ＥＳｔ２＋２ＥＢｔ’Δｙ）・・・（５）
また、曲率半径ｒをηで表すと、
ｒ＝（ＥＢ／σ）・ｔ’η／（１−η）・・・（６）
となるので、ηに対する曲率半径ｒの関係が導かれる。この結果から限界曲率半径ｒとηとの関係を計算した結果を図８に示す（上述の通り、許容応力σ＝４００ＭＰａ、ＥＢ＝３００ＧＰａ、ＥＳ＝３００ＭＰａ、Δｙ＝３００ｎｍ、ｔ＝０．２ｍｍである）。
【００３３】
この図８に示される通り、ηが０に近付くに従って限界曲率半径ｒが小さくなり、より細く巻き取ることが可能になる。限界曲率半径ｒは、η＝１（ガスバリア層が表面にある場合）の場合は３０ｍｍ、η＝０．３の場合は１５ｍｍ、η＝０（ガスバリア層が中立面Ｎにある場合）の場合は０となる。
【００３４】
ηの値が０．３以下であれば、限界曲率半径は表面にガスバリア層を形成した場合の略半分以下になり、巻き取り寸法を半分に抑えることができる。このことから、ηが０．３以下となるように、つまり中立面からガスバリア層までの距離が、中立面から該ガスバリア層側の基板表面までの距離の３０％以下となるように、ガスバリア層の位置を中立面に近付けた構成とすることが望ましい。
【００３５】
以上は、厚さが均一な基板内に１層のガスバリア層がある場合について検討したが、任意の層構成の場合は前述した（１）式にＥ（ｙ）の分布を入れて中立面Ｎの位置を計算し、その中立面Ｎの位置に基づいて上記と同様の計算を行うことによって、ηの値と限界曲率半径ｒとの関係を求めることができる。
【００３６】
なお、有機ＥＬ素子等の表示装置においては、一般に表示部においても基板の曲げ応力により劣化が促進され、寿命が低下する。特に、表示部を構成する透明電極に使用されるＩＴＯやＳｎＯ２は酸化物であるため、比較的曲げによる歪みによって破壊しやすい。
【００３７】
そこで、本発明の表示装置において、特に表示部を、上記中立面となる位置近傍に配設しておく場合には、基板を反らせるような外力を受けた際に、この表示部にも引張応力および圧縮応力が全く発生しないか、あるいは極く僅かしか発生しなくなり、該表示部の破壊も防止される。それにより、表示装置の寿命が向上する。図９は、この構成を概略的に示すものである。なお同図では、煩雑化を避けるために中立面は省略してあるが、上下の基板10に挟まれたガスバリア層20および表示部30の近くに存在するものである。
【００３８】
なおこの場合も、先にηの値を用いてガスバリア層の位置について検討した場合と同じ理由により、中立面から表示部までの距離が、中立面から該表示部側の基板表面までの距離の３０％以下となるように、表示部の位置を中立面に近付けた構成とすることが望ましい。
【００３９】
さらに図１０に示すように、表示部30に対して下側の基板10と反対側に（つまり上部層としての上側の基板10内に）第２のガスバリア層22が形成された構成においては、この第２のガスバリア層22も上記中立面となる位置近傍に配設されていれば、基板10を反らせるような外力を受けた際に、この第２のガスバリア層22にも引張応力および圧縮応力が全く発生しないか、あるいは極く僅かしか発生しなくなり、該第２のガスバリア層22の破壊も防止されるようになる。
【００４０】
また、高分子材料からなる樹脂基板は特に酸素を透過させやすいので、この樹脂基板が用いられている表示装置に本発明を適用すれば、特に効果的である。
【００４１】
また、有機ＥＬ素子は、その表示部に到達した酸素や水分によって急速に劣化するので、本発明がこの有機ＥＬ素子に適用された場合は、その劣化を防止する効果が特に顕著なものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００４３】
図１１の（１）および（２）はそれぞれ、本発明の一実施形態による有機ＥＬ素子の要部の概略平面形状および側面形状を示すものである。図示の通りこの有機ＥＬ素子は、下部基板50と、その上に形成された表示部60と、この表示部60を上から覆う上部層としての上部基板53と、上記下部基板50と表示部60との間に配置された第１のガスバリア層（封止膜）51と、表示部60と上部基板53との間に配置された第２のガスバリア層（パシベーション膜）52とを備えている。
【００４４】
本実施形態の有機ＥＬ素子は屈曲可能に形成されたもので、そのために下部基板50および上部基板53は、一例として高分子材料からなり可撓性の有る透明樹脂から構成されている。
【００４５】
一方表示部60は、通常の有機ＥＬ素子におけるものと同様に、互いに間隔を置いて配設された複数の帯状の透明陽極61と、これらの透明陽極61の所定部分を露出させる開口62ａを備えて該透明陽極61を上から覆う状態に配置されたＳｉＯ２等からなる絶縁膜62と、透明陽極61の上に配された有機ＥＬ層63と、この有機ＥＬ層63を間に挟んで上記露出した透明陽極61と対面するように配置された複数の帯状の陰極64とを備えてなる。有機ＥＬ層63は、通常の有機ＥＬ素子におけるものと同様に、有機化合物層である正孔輸送層や発光層等から構成されている。なお有機ＥＬ層63には、その他に正孔注入層や電子注入層、電子輸送層等の層が適宜設けられてもよい。
【００４６】
上記の構成において複数の陰極64は、互いに間隔を置いて、透明陽極61と直交する方向に配設されている。それにより、透明陽極61と陰極64との交差部分（ここでは上述のように、透明陽極61が絶縁膜62から露出している）が２次元マトリクス状に並んだ状態となり、この交差部分毎に、透明陽極61と陰極64との間に有機ＥＬ層63が配されてなる発光部が構成されている。このような構成において、透明陽極61と陰極64との間に所定の電流が流されると、上記発光部単位で有機ＥＬ層63の発光層が発光し、その発光光が透明陽極61および透明な下部基板50を介して取り出される。
【００４７】
透明陽極61は、４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の波長領域において、少なくとも５０パーセント以上、好ましくは７０パーセント以上の光透過率を有するものが好ましい。透明陽極61の材料としては、酸化錫、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛インジウム等、透明電極材料として従来公知の化合物を適宜用いることができるが、その他、金や白金など仕事関数が大きい金属からなる薄膜を用いてもよい。また、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールまたはこれらの誘導体などの有機化合物を用いることもできる。なお、沢田豊監修「透明導電膜の新展開」シーエムシー社刊（１９９９年）には、透明導電膜について詳細な記載があり、そこに示されているものを本発明に適用することも可能である。
【００４８】
陰極64は、仕事関数の低いＬｉ、Ｋなどのアルカリ金属、Ｍｇ、Ｃａなどのアルカリ土類金属、およびこれらの金属とＡｇやＡｌなどとの合金や混合物等の金属材料から形成されるのが好ましい。陰極における保存安定性と電子注入性とを両立させるために、上記材料で形成した電極を、仕事関数が大きく導電性の高いＡｇ、Ａｌ、Ａｕなどで更に被覆してもよい。なお、陰極64も透明陽極61と同様に、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などの公知の方法で形成することができる。
【００４９】
第１のガスバリア層（封止膜）51は例えば酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化ケイ素（ＳｉＯx）、酸窒化ケイ素（ＳｉＯxＮy）等からなり、気体および液体を遮断する機能を備えている。このような第１のガスバリア層51が下部基板50と表示部60との間に配置されていることにより、下部基板50を通って酸素や水分が表示部60に侵入して、それらによって表示部60が劣化することが防止される。また、第２のガスバリア層（パシベーション膜）52は、例えば窒化ケイ素（ＳｉＮx）等からなり、これも気体および液体を遮断する機能を備えている。このような第２のガスバリア層52が上部基板53と表示部60との間に配置されていることにより、上部基板53を通って酸素や水分が表示部60に侵入して、それらによって表示部60が劣化することが防止される。
【００５０】
そして上記ガスバリア層51および52並びに表示部60は、下部基板50から上部基板53に至るまでの素子全体に対して、基板50および53を反らせる向きの曲げモーメントが作用したときに中立面となる位置近傍に配設されている。このような構成の有機ＥＬ素子においては、基板50および53を反らせるような外力を受けても、ガスバリア層51および52並びに表示部60に引張応力および圧縮応力が全く発生しないか、あるいは極く僅かしか発生しなくなり、これらガスバリア層51および52並びに表示部60の破壊が効果的に防止される。それにより、有機ＥＬ素子の寿命が向上する。
【００５１】
なお、ガスバリア層51および52のうちの一方および／または表示部60は、上記中立面から離れた位置に配設されても構わない。ガスバリア層51を上記中立面から離れた位置に配設し、ガスバリア層52を上記中立面となる位置近傍に配設した構成の場合は、上部基板53、下部基板50をそれぞれ本発明における基板、上部層と考えれば、その構成も勿論本発明に含まれるものとなる。
【００５２】
次に、上記構成の有機ＥＬ素子を作製する方法について説明する。下部基板50の上に、上部基板53以外の要素を作製するまでの工程には、例えば（ａ）蒸着法、（ｂ）塗布法、（ｃ）インクジェット法、（ｄ）転写法が適用可能である。以下、これらの方法による工程を説明する。
【００５３】
（ａ）蒸着法
この方法においては図１２に示すように、真空蒸着釜70内において、下部基板50が基板保持治具71に保持される。そして、蒸着源72から蒸発した層材料73が、所望の開口パターンを有する蒸着マスク74を介して下部基板50に蒸着される。この工程を、蒸着源72および蒸着マスク74を変えて何回か行うことにより、下部基板50の上に第１のガスバリア層51を形成し、またその上に透明陽極61、絶縁膜62、有機ＥＬ層63、陰極64等からなる表示部60を形成し、さらにその上に第２のガスバリア層52を形成することができる。
【００５４】
（ｂ）塗布法
この方法においては図１３に示すように、下部基板50が一方向に搬送され、それと並行して、例えば複数のノズル75および76から該下部基板50上に向けて塗布液が噴出され、上記第１のガスバリア層51、表示部60あるいは第２のガスバリア層52等を構成する塗布層Ｃ１、Ｃ２が形成される。このとき、ノズル75および76からの塗布液の噴出を制御することにより、塗布層Ｃ１、Ｃ２を所望形状のパターンとすることができる。また複数のノズル75および76を用いることにより、例えば塗布層Ｃ１の上に塗布層Ｃ２が形成されるように、複数の塗布層を同時に形成することができる。
【００５５】
（ｃ）インクジェット法
図１４の（１）および（２）はそれぞれ、第１のガスバリア層51、表示部60あるいは第２のガスバリア層52等を構成する塗布層Ｃを形成する様子を示す概略側面図および概略平面図である。ここでは、下部基板50が一方向に搬送され、それと並行して、インクジェットヘッド77から液滴78が下部基板50上に向けて噴出される。このとき、インクジェットヘッド77を下部基板50の搬送方向と交わる方向に走査させ、それとともにインクジェットヘッド77からの液滴78の噴出を制御することにより、塗布層Ｃを所望形状のパターンとすることができる。この工程を何回か繰り返すことにより、第１のガスバリア層51、表示部60および第２のガスバリア層52を構成する複数の塗布層を順次形成することができる。
【００５６】
（ｄ）転写法
この方法においては図１５の（１）に示すように、第１のガスバリア層51、表示部60および第２のガスバリア層52（図１１参照）からなる転写層80が一表面に形成された転写シート81が用意され、この転写シート81が転写層80側から下部基板50に押圧される。そしてこれら転写シート81および下部基板50は、同図（２）に示すように、１対のニップローラである加圧・転写ローラ82、82の間に通されて加圧される。それにより同図（３）に示すように、転写層80が下部基板50に転写され、該下部基板50に第１のガスバリア層51、表示部60および第２のガスバリア層52が形成される。
【００５７】
なお、第１のガスバリア層（封止膜）51および第２のガスバリア層（パシベーション膜）52として緻密な無機膜を形成する場合は、特に蒸着法が適している。一方、それらのガスバリア層51、52としてプラスチック等からなる有機膜を形成する場合は、特に蒸着法のみならず、上述の全ての方法を好適に用いることができる。
【００５８】
次に、図１１に示した上部基板53を形成する方法について説明する。
【００５９】
（Ａ）塗布法
図１６に示すように、前述のいずれかの方法により、下部基板50上に第１のガスバリア層51、表示部60および第２のガスバリア層52（図１１参照。なお以下においては、これらをまとめて積層膜90と表示する）が形成されたものが用意される。そしてこの下部基板50が一方向に搬送され、それと並行してノズル91から該下部基板50上に向けて塗布液が噴出され、積層膜90の上に塗布膜92が形成される。この塗布膜92を乾燥、固化させることにより、図１１に示した上部基板53が形成される。
【００６０】
（Ｂ）貼り合わせ法
図１７の（１）に示すように、前述のいずれかの方法により、下部基板50の上に積層膜90が形成されたものが用意される。そしてこの下部基板50に、一表面に接着層94が形成されている上部基板53が該接着層94側から押圧される。そしてこれらの下部基板50および上部基板53は、同図（２）に示すように、１対のニップローラである加圧・転写ローラ82、82の間に通されて加圧される。それにより、下部基板50上の積層膜90の上に上部基板53が一体化される。
【００６１】
以上、有機ＥＬ素子として形成された本発明の表示装置の実施形態について説明したが、本発明はその他の種類の表示装置、例えば液晶表示素子、電気泳動素子、無機ＥＬ素子等からなる表示装置においても、ガスバリア層が設けられる場合は同様に適用可能であり、その場合にも前述したのと同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の効果を説明する図
【図２】本発明の効果を説明する図
【図３】本発明の表示装置の基本構成を示す概略図
【図４】本発明の効果を説明する図
【図５】本発明の効果を説明する図
【図６】本発明の効果を説明する図
【図７】表示装置における基板曲率半径とガスバリア層の応力との関係を示すグラフ
【図８】表示装置におけるガスバリア層位置と基板の限界曲率半径との関係を示すグラフ
【図９】本発明の表示装置の別の構成を示す概略図
【図１０】本発明の表示装置の別の構成を示す概略図
【図１１】本発明の一実施形態による有機ＥＬ素子を示す概略部分平面図（１）と側面図（２）
【図１２】本発明の表示装置の作製方法を説明する図
【図１３】本発明の表示装置の作製方法を説明する図
【図１４】本発明の表示装置の作製方法を説明する図
【図１５】本発明の表示装置の作製方法を説明する図
【図１６】本発明の表示装置の作製方法を説明する図
【図１７】本発明の表示装置の作製方法を説明する図
【符号の説明】
【００６３】
２，10    基板
３，４，20，22    ガスバリア層
30    表示部
50    下部基板
51    第１のガスバリア層（封止膜）
52    第２のガスバリア層（パシベーション膜）
53    上部基板
60    表示部
61    透明陽極
62    絶縁膜
63    有機ＥＬ層
64    陰極
Ｎ    中立面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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