(57)【要約】【課題】ＰＤＰにおいて、ガラス基板上に形成した電極群を覆い、コンデンサとして電荷をためる誘電体層を、誘電体層形成用転写フィルムからシート転写法によりシート状基材上に形成する場合、その誘電体層形成用転写フィルムの柔軟性・粘着性等について保存中に経時変化が生じないようにする。【解決手段】誘電体層形成用転写フィルム１４を、分子量（以下Ｍｗという）が３１万から１００万のバインダ樹脂およびＭｗが２５０から５５０の可塑剤を有する膜形成材料層よりなり、無機粒子１００重量部に対して、樹脂成分の含有量が１０から１７重量部、可塑剤成分の含有量が１０．１から２０．０重量部である誘電体層１６で構成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状基材上に形成した誘電体シートを、シート転写法によりガラス基板上に転写して、ガラス基板上に形成した電極群を覆う誘電体層として用いるプラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ、略してＰＤＰという）用誘電体層形成用転写フィルムにおいて、誘電体シートがガラスフリットを含む無機粒子および分子量（以下Ｍｗと示す）が３１万から１００万のバインダー樹脂を含む有機成分およびＭｗが２５０から５５０の可塑剤を有する膜形成材料層よりなり、膜形成材料層における有機成分中の樹脂成分の含有量が無機粒子１００重量部に対して１０から１７重量部、可塑剤成分の含有量が無機粒子１００重量部に対して１０．１から２０．０重量部であるＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルム。
【請求項２】
Ｍｗが３１万から１００万のバインダー樹脂が、Ｍｗが７０万のアクリル系高分子樹脂である請求項１に記載のＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルム。
【請求項３】
Ｍｗが２５０から５５０の可塑剤が、Ｍｗが２７８のフタル酸ジブチル（ＤＢＰ）である請求項１に記載のＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルム。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれかに記載のＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムから形成された誘電体層を有するＰＤＰ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ、略してＰＤＰという）の誘電体層として使用される転写フィルムと、その転写フィルムを使用したＰＤＰに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＰＤＰは、視認性に優れた薄型表示デバイスとして注目されており、高精細化および大画面化が進められている。
【０００３】
このＰＤＰには、大別して、駆動的にはＡＣ型とＤＣ型があり、放電形式では面放電型と対向放電型の２種類があり、図５は一般的なＡＣ型で面放電型のＰＤＰ装置の分解構成斜視図であり、ソーダガラス基板や高歪み点ガラス等のＰＤＰ用耐熱ガラス基板よりなる表面側のガラス基板１上に、銀またはＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒよりなる走査電極２と維持電極３とで対をなすストライプ状の表示電極４が複数対形成され、そして隣り合う表示電極４間には遮光層５が配置形成されている。この走査電極２および維持電極３は、それぞれ透明電極２ａ、３ａおよびこの透明電極２ａ、３ａに電気的に接続された銀等の母線２ｂ、３ｂとから構成されている。
【０００４】
また、前記表面側のガラス基板１上には、前記複数対の電極群を覆い、コンデンサとして電荷をためる平均粒径０．１μｍ〜２０μｍのガラス粉末を含む誘電体層６が形成され、さらに、その誘電体層６上には保護膜および２次電子放出膜として働くＭｇＯ膜７が形成されている。
【０００５】
また、前記表面側のガラス基板１に対向して、表面側のガラス基板１と同様の背面側のガラス基板８が配置され、その背面側のガラス基板８に、走査電極２および維持電極３の表示電極４と直交する方向に、誘電体層９で覆われた複数のストライプ状のアドレス電極１０がＩＴＯと銀またはＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒにより形成されている。このアドレス電極１０間の誘電体層９上には、アドレス電極１０と平行にストライプ状の複数の隔壁１１が配置され、隣接する隔壁１１間において、隔壁１１の側面および誘電体層９の表面に蛍光体層１２が設けられている。
【０００６】
これらの表面側のガラス基板１と背面側のガラス基板８とは、走査電極２および維持電極３とアドレス電極１０とが直交するように、微小な放電空間を挟んで対向配置されるとともに、周囲が封止され、そして前記放電空間には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、キセノンの内の１種または混合ガスが放電ガスとして封入されている。また、放電空間は、隔壁１１によって複数の区画に仕切ることにより、表示電極４とアドレス電極１０との交点が単位発光領域（ＥＵ)である放電セル１３となる。
【０００７】
前記構成のＰＤＰ装置において、電極群を被覆する誘電体層６、９に要求される条件としては、（１）電極を均一且つ緻密に被覆すること、（２）高い透過率・絶縁性を備えていること、（３）平滑な表面を有し均一な放電特性が得られること、（４）表面が保護材料で形成されること、（５）駆動電圧が低くなる表面材料であること等が挙げられる。
【０００８】
このような誘電体層６、９の代表的な形成方法としてはスクリーン印刷法あるいはダイコート法が挙げられる。
【０００９】
スクリーン印刷法では通常、数十Ｐａ・Ｓから数百Ｐａ・Ｓというペースト粘度に合わせて、複数回重ねて塗布形成を行うことで所望の膜厚を得る。しかしこの方法では、スクリーンメッシュ痕による塗布ムラが生じること、複数回塗布により塗布工程が長くなること、消耗品であるスクリーンでコストが増加すること等が課題として挙げられる。
【００１０】
また、ダイコート法では非接触で塗布するためスクリーンメッシュ痕は残らないが、ガラス基板の厚さのバラツキにより、ガラス基板とノズル先端部との隙間にバラツキが生じ、その結果、膜厚分布が悪化するという課題がある。
【００１１】
そこで、予めシート状基材上に誘電体層を形成した後、各電極を形成させたガラス基板上に前記誘電体層を転写するというシート転写法の導入が盛んに検討されてきている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−２４９６６７号公報（３頁〜１０頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかし、ＰＤＰにおいて、ガラス基板上に形成した電極群を覆い、コンデンサとして電荷をためる誘電体層を、従来のシート状基材上に形成した誘電体シートを用いてシート転写法により形成する場合、シート転写するまではその誘電体シートはロール状に巻き取って保存・取り扱いが行われるため、誘電体シートの柔軟性・粘着性等について保存中に経時変化が生じるという問題があった。
【００１３】
本発明は、上記従来の課題を解決し、ＰＤＰにおいて、保存中に経時変化が生じず、高い絶縁耐圧性能および高い光学特性を有する誘電体層形成用転写フィルムとその誘電体層形成用転写フィルムを用いて安定したＰＤＰを得ることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記の課題を解決するために、本発明は、シート状基材上に形成した誘電体シートを、シート転写法によりガラス基板上に転写して、ガラス基板上に形成した電極群を覆う誘電体層として用いるＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムにおいて、誘電体シートがガラスフリットを含む無機粒子および分子量（以下Ｍｗと示す）が３１万から１００万のバインダ樹脂を含む有機成分およびＭｗが２５０から５５０の可塑剤を有する膜形成材料層よりなり、膜形成材料層における有機成分中の樹脂成分の含有量が無機粒子１００重量部に対して１０から１７重量部、可塑剤成分の含有量が無機粒子１００重量部に対して１０．１から２０．０重量部であるＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムであり、保存中に経時変化が生じず、高い絶縁耐圧性能および高い光学特性を有する誘電体層形成用転写フィルムを安定して得ることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の誘電体層形成用転写フィルムによれば、ガラス基板上に形成した電極群を覆う誘電体層の膜欠陥の発生・ラミネート性の低下・泡噛みの発生を防ぐとともに、従来よりも樹脂含有量が比較的少なくてすむため、焼成後の残渣も少なく良好な光学特性が得られる。これにより、高光学特性および高絶縁耐圧特性を備えた高性能なＰＤＰを製造することが可能となり、ＰＤＰの性能向上および歩留まり向上に大きな効果を発揮する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の請求項１に記載の発明は、シート状基材上に形成した誘電体シートを、シート転写法によりガラス基板上に転写して、ガラス基板上に形成した電極群を覆う誘電体層として用いるＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムにおいて、誘電体シートがガラスフリットを含む無機粒子およびＭｗが３１万から１００万のバインダ樹脂を含む有機成分およびＭｗが２５０から５５０の可塑剤を有する膜形成材料層よりなり、膜形成材料層における有機成分中の樹脂成分の含有量が無機粒子１００重量部に対して１０から１７重量部、可塑剤成分の含有量が無機粒子１００重量部に対して１０．１から２０．０重量部であるＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムであり、Ｍｗが３１万から１００万のバインダ樹脂を含む有機成分およびＭｗが２５０から５５０の可塑剤を有する膜形成材料層において、無機粒子成分に対して樹脂成分が１０から１７重量部、可塑剤成分が１０．１から２０重量部の組成範囲であることにより、ＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムよりガラス基板上に形成される誘電体層として良好なラミネート特性および曇り度が少なくクリアで且つ高い光透過率の光学特性が得られるという作用を有する。
【００１７】
本発明の請求項２に記載の発明は、Ｍｗが３１万から１００万のバインダ樹脂が、Ｍｗが７０万のアクリル系高分子樹脂である請求項１に記載のＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムであり、Ｍｗが３１万から１００万のバインダ樹脂が、Ｍｗが７０万のアクリル系高分子樹脂であることにより、ＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムよりガラス基板上に形成される誘電体層として良好なラミネート特性および曇り度が少なくクリアで且つ高い光透過率の光学特性が得られるという作用を有する。
【００１８】
本発明の請求項３に記載の発明は、Ｍｗが２５０から５５０の可塑剤が、Ｍｗが２７８のフタル酸ジブチル（ＤＢＰ）である請求項１に記載のＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムであり、Ｍｗが２５０から５５０の可塑剤が、Ｍｗが２７８のフタル酸ジブチル（ＤＢＰ）であることにより、ＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムよりガラス基板上に形成される誘電体層として良好なラミネート特性および曇り度が少なくクリアで且つ高い光透過率の光学特性が得られるという作用を有する。
【００１９】
本発明の請求項４に記載の発明は、請求項１〜請求項３のいずれかに記載のＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムから形成された誘電体層を有するＰＤＰであり、誘電体層が請求項１〜請求項３のいずれかに記載のＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムから形成されることにより、光学特性に優れた高性能なＰＤＰを作製することができるという作用を有する。
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００２１】
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルムの側断面図および一部拡大側断面図であり、誘電体層形成用転写フィルム１４は誘電体層形成用塗料をシート状基材である支持フィルム１５上に塗布し、乾燥させて誘電体層１６を形成して得られる。この誘電体層形成用塗料は、例えば無機粒子、バインダ樹脂、溶媒、分散剤、可塑剤、その他の添加剤等の各主成分を所望の組成となるように配合後、３本ローラー、ボールミル、サンドミル等の分散機によって均質に分散配合して作製することができる。
【００２２】
支持フィルム１５上ヘの誘電体層形成用塗料の塗布方法としては、例えばロールコーター法、ドクタープレード等のプレードコーター法、カーテンコーター法、ワイヤーコーター法等が挙げられるが、所望の膜厚が得られ、且つ膜厚の均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができる方法であればよく、これに限るものではない。
【００２３】
また、誘電体層形成用塗料の塗布後の乾燥方法としては、例えば、熱風乾燥法、ＩＲ法等が挙げられるが、効率よく均質に乾燥可能な方法であればよく、これに限るものではない。
【００２４】
また、上記手法により支持フィルム１５上に形成された誘電体層１６は粘着性を有していることから、誘電体層形成用転写フィルム１４をロール状に巻き取る際の支持フィルム１５裏面への貼り付きを防ぐために支持フィルム１５の裏面へ離型剤層１７−１を設けてもよい。
【００２５】
また、電極を形成させたガラス基板上への、誘電体層形成用転写フィルム１４からの誘電体層１６の転写性を向上させるために誘電体層１６を形成する面に離型剤層１７−２を設けてもよい。
【００２６】
また、誘電体層１６は柔軟性も有していることから、誘電体層１６を保護するという目的で、カバーフィルム１８を設けてもよい。
【００２７】
また、転写時にカバーフィルム１８を剥がす際の誘電体層１６の劣化を防ぐために、カバーフィルム１８表面に離型剤層１７−３を設けてもよい。
【００２８】
このようにして得られた誘電体層形成用転写フィルム１４からラミネート機により、誘電体層１６をガラス基板上に転写し、焼成することでＰＤＰ用誘電体層が形成される。
【００２９】
上記ラミネート機により、誘電体層１６をガラス基板上に転写する状態を示したのが図２に示す転写状態図であり、誘電体層形成用転写フィルム１４から支持フィルム１５（カバーフィルム１８がある場合は先にカバーフィルム１８を剥がす）を剥がし、電極を形成させたガラス基板１９上の所望の位置に誘電体層１６の位置合わせを行う。その後、加熱ロール２０により、電極を形成させたガラス基板１９と誘電体層１６の間に空気が噛み込まないように、誘電体層１６の端部からガラス基板１９に圧着させていく。本実施の形態１では、加熱ロール温度は８０℃、加熱ロール圧力は０．１５ＭＰａ、送り速度は１ｍ／ｍｉｎ．の条件でラミネートを行った。また、誘電体層１６のガラス基板１９への密着性を向上させるため、ラミネート前にガラス基板１９を約８０℃に予熱してラミネートを行った。
【００３０】
なお、電極を形成させたガラス基板１９は画素数の比較的少ない（水平８５２×垂直４８０）汎用ＰＤＰ用のものを用いた。
【００３１】
上記のように、誘電体層形成用転写フィルム１４からガラス基板１９上に転写する誘電体層１６に基本的な特性として求められる柔軟性および粘着性等のラミネート特性、光学特性等について、本発明の実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルムと従来の誘電体層形成用転写フィルムとを比較測定して以下に示す。
【００３２】
まず、以下に示す表１はＭｗが３０万のアクリル樹脂とＭｗが２７８のフタル酸ジブチル（ＤＢＰ）（可塑剤）を使用した従来の誘電体層形成用転写フィルムについてのラミネート特性表であり、無機粒子成分１００に対して樹脂成分および可塑剤成分を変化させた場合のラミネート特性について示している。
【００３３】
【表１】
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【００３４】
表１において、無機粒子成分１００に対して樹脂成分が５重量部未満且つ可塑剤成分が０．５重量部未満の範囲（×１で示す）では、誘電体層１６の柔軟性が低く、且つラミネート時の粘着性が低すぎたため、ラミネートが不可能であった。
【００３５】
無機粒子成分１００に対して樹脂成分が５重量部以上でも可塑剤が０．５重量部未満の範囲（×２で示す）では柔軟性が低く、巻き取り時、ラミネート時に膜劣化が生じた。
【００３６】
無機粒子成分１００に対して樹脂成分が５重量部未満の範囲（×３で示す）では、可塑剤成分が０．５重量部以上含有している場合でもやはり粘着性が低くラミネートが不可能であり、特に可塑剤成分が１０重量部を越える範囲（×４で示す）では、膜強度自体も低下してしまった。
【００３７】
無機粒子成分１００に対して樹脂成分が５重量部以上２５重量部以下で、且つ可塑剤成分が０．５重量部以上１０重量部以下の範囲（○で示す）では、支持フィルム剥がし時の膜浮き等の問題はなく、ガラス基板への粘着性も保持され、ラミネートが可能であった。
【００３８】
無機粒子成分１００に対して樹脂成分が２５重量部を越え、且つ可塑剤成分が０．５重量部以上の範囲（×５で示す）では、誘電体層１６の粘着性が高すぎるため、支持フィルム１５上への塗布時にコーターのガイドロール等に貼り付きが生じ、塗布が困難となった。また、ガイドロールの接触を回避して巻き取った場合でも支持フィルム１５の裏面への貼り付きが生じ、ラミネートの際の巻き出し時に膜浮きが生じたり、誘電体層１６の表面性の劣化が生じた。これらは支持フィルム１５の裏面へ離型剤層１７−１を設けた場合でも生じ、誘電体層形成用転写フィルム１４としては用いることができないものとなった。また、これらに離型剤層１７−３を設けたカバーフィルム１８を導入したところ、巻き取り時の支持フィルム１５の裏面への貼り付きの問題は解消された。しかし、カバーフィルム１８に設けた離型剤層１７−３の効果が充分に得られないほど誘電体層１６のカバーフィルム１８への粘着力が強く、カバーフィルム１８を剥がす際に、支持フィルム１５から誘電体層１６が浮いてしまうという問題が生じた。
【００３９】
また、誘電体層１６の経時的劣化（特に柔軟性・接着性の）を防ぐためには可塑剤を含有させることが有効であるが、粘着性の良好な樹脂成分範囲（５〜２５重量部）においても、可塑剤成分が１０重量部を越える範囲（×６で示す）では、変形しやすく膜強度が低下してしまった。
【００４０】
このような結果から、従来、良好なラミネート性が得られる誘電体層形成用転写フィルム１４の成分としては、無機粒子成分１００に対して樹脂成分が５〜２５重量部、可塑剤が０．５〜１０重量部が適当とされてきた。
【００４１】
しかしながら、誘電体層形成用転写フィルム１４はロール状に巻き取って保存・取り扱いが行われるため、上記ラミネート性を追及する他に支持フィルム１５上に形成された誘電体層１６の粘着性・柔軟性が保存中に経時的変化が生じないことがさらに要求される。
【００４２】
そこで、次に、誘電体層形成用転写フィルム１４の経時的変化の指標として、支持フィルム１５上に形成した誘電体層１６の粘着性の経時的変化に着目し、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時、および作製から６０日後におけるサンプル粘着強度を図３に示す粘着強度測定原理図の方法によって測定し、両時点の粘着強度の差により経時的変化の評価を行った。
【００４３】
図３の粘着強度測定原理図について詳しく説明すると、まず、円柱形（φ５）のステンレスプローブ２１を５００ｍｍ／ｍｉｎ．のプローブ速度で動かしながら、１Ｎの力で１０秒間誘電体層１６に押し付ける。その後、再び５００ｍｍ／ｍｉｎ．のプローブ速度で逆方向に動かすと、誘電体層１６がステンレスプローブ２１の先端に粘着することでステンレスプローブ２１に動作方向と逆向きに負荷がかかる。このときの誘電体層１６が剥がれるまでの最大負荷（力）を測定し、粘着強度とした。
【００４４】
評価は、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後のサンプルの粘着強度を１００％とし、これに対し、作製から６０日経過時での粘着強度の割合％を指標とした。
【００４５】
良好なラミネート性が得られる誘電体層形成用転写フィルム１４の樹脂成分・可塑剤成分の前記範囲（○で示す）、すなわち、無機粒子成分１００に対して樹脂成分が５〜２５重量部、可塑剤が０．５〜１０重量部により形成された従来の誘電体層形成用転写フィルム１４について、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後におけるサンプルの粘着強度の測定結果を以下に示す表２の粘着強度経時変化表に示す。なお、表２中には画素数が水平１０２４×垂直７６８のハイビジョンタイプのガラス基板１９に加熱ロール温度８０℃、加熱ロール圧力０．１５ＭＰａ、送り速度１ｍ／ｍｉｎ．ラミネート前の基板予熱約８０℃の条件でラミネートした場合の状態について併せて記した。
【００４６】
【表２】
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【００４７】
また、ＰＤＰは現在、急速に高精細化が望まれており、それに伴い、誘電体層１６が被覆する面の凹凸形状（基板ガラス上に形成される電極パターンが細かくなることにより生じる凹凸）が複雑となるため、泡噛みなくラミネートするには、より高い粘着性が要求される。そこで実用的なレベルを考慮し、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後において、誘電体層形成用転写フィルム作成直後の９０％程度の粘着性を保持していることが望ましい。表２の結果をみると、いずれも９０％を下回る結果であり、特に６０％程度の値となっているものに関しては、実際にラミネートを行うと、粘着性が低いことから膜浮きが発生した。また、８０％程度の値のものについても、ラミネートは可能であったが、電極凹凸部分での細かい泡噛みが生じた。
【００４８】
次に、上記のようにしてラミネートを行ったサンプル（誘電体層形成用転写フィルム作製時から６０日後にラミネート）について、図４に示す焼成プロファイルにより焼成を行い、ＰＤＰ用誘電体層を得るとともに、それらの光学特性について測定を行った。
【００４９】
焼成プロファイルには、誘電体層１６中に含まれるバインダ成分を燃焼させることを目的とする脱バインダ領域と、無機粒子成分を焼結させるトップキープ領域を設けた。
【００５０】
焼成後の誘電体層１６の光学特性の評価として、誘電体層１６の光の通りやすさを示す全光線透過率Ｔｔと、曇り度を表現するヘイズ値Ｈを測定した（測定機にはヘイズメータ：村上色彩研究所製ＨＭ−１５０を用いた）。ＰＤＰでは、発光した光が誘電体層１６を透過して外部に出てくるため、光を通しやすい（全光線透過率Ｔｔが高い）ほど画面が明るくなり、また、誘電体層１６のヘイズ値Ｈが小さい（曇り度が低い）ほど、画像自体も鮮明となる。このように、両者ともに非常に重要なパラメータとなっている。
【００５１】
それぞれの測定結果を以下に示す表３のヘイズ値Ｈを示す表および表４の全光線透過率Ｔｔを示す表で表した。ここで、今回の従来例では、焼成後の誘電体層１６の膜厚が３０μｍとなるよう、誘電体層形成用転写フィルム１４を塗布形成して用いた。
【００５２】
【表３】
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【００５３】
【表４】
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【００５４】
前記表２の粘着強度経時変化表に示すように、ラミネート時に膜浮きの発生したサンプルは、焼成後に誘電体層１６として利用できるものではなく、表３、表４中では×と表示した。これらに対し、膜浮きの生じなかったサンプルについては、ヘイズ値Ｈおよび全光線透過率Ｔｔの値をそれぞれに表中に示すとともに、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後にラミネートおよび焼成を行ったサンプルについての結果も表中に併せて示した。
【００５５】
ＰＤＰは現在、急速に高輝度・高精細化が望まれており、それらの性能を満たすためには、ヘイズ値Ｈが１０以下（可能な限り小さく）、全光線透過率Ｔｔが９０以上（可能な限り大きく）が望ましい。
【００５６】
表３、表４の測定結果をみると、今回の従来例では、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後において良好なラミネート性が得られるサンプル（無機粒子成分に対して樹脂成分が５〜２５重量部、可塑剤成分が０．５〜１０重量部の組成）においても、６０日経過後には、特に可塑剤成分が少ない領域（４重量部以下程度）もしくは樹脂成分が極端に少ない領域（５重量部程度）のサンプルでは、粘着性が大幅に低下し膜浮きが発生した。これらのサンプルは誘電体層１６として使用することのできないものとなるため、重大な問題であるといえる。
【００５７】
また、膜浮きが生じなかったサンプルにおいても、ヘイズ値Ｈ、全光線透過率Ｔｔともに誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後のヘイズ値Ｈ１２から１４〜１５に、全光線透過率Ｔｔ９１から９０にそれぞれ悪化しており、特にヘイズ値Ｈは−２〜−３ポイントと、目視でも差を認知できるほど大きく悪化した。これは、誘電体層形成用転写フィルム１４の経時的劣化に伴う粘着性の低下により、ラミネート時に細かな泡噛みが生じたことが主要因であると考えられる。これを解決するためには、誘電体層形成用転写フィルム１４の経時的劣化を抑制する必要がある。
【００５８】
これらの経時的劣化現象は、誘電体層形成用転写フィルム１４の誘電体層１６中に含まれる可塑剤成分が揮発してしまうことに大きく起因していると考えられる。可塑剤成分は、樹脂成分の分子間に電気的に結びつくことで樹脂分子間隔を広げ、その結果、粘着性・柔軟性を付与することができる。可塑剤成分が揮発するに従い、この効果が薄れていき、経時的劣化を引き起こす。特に可塑剤成分が少ないほどそれが顕著に表れ、上記のような結果となると考えられる。また、可塑剤成分が同等でも樹脂成分が極端に少ない場合は、誘電体層１６中で可塑剤成分が樹脂成分とは結びつくことができず溶融し、揮発しやすい状態となる。また、このような状態では、可塑剤成分の溶融に伴い、膜強度も大きく低下してしまうといった不具合が生じる。
【００５９】
このように、誘電体層形成用転写フィルム１４の経時的劣化を抑制するためには、可塑剤成分を可能な限り多量に含有させておくことが望まれるが、今回の従来例では、表１に示すように可塑剤成分が無機粒子成分に対し１０重量部を越えると膜強度が弱くなり、誘電体層１６として用いることができなくなるため、この方法では経時的劣化を充分に防ぐことはできなかった。
【００６０】
次に、Ｍｗ７０万のアクリル樹脂とＭｗ２７８のフタル酸ジブチル（ＤＢＰ）（可塑剤）を使用した本実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルム１４のラミネート性・粘着性の経時的変化・光学特性について前記従来例と同様の測定を行った結果を表５〜表８に示す。
【００６１】
以下に示す表５は、Ｍｗ７０万のアクリル樹脂とＭｗ２７８のフタル酸ジブチル（ＤＢＰ）（可塑剤）を使用した本実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルム１４において、樹脂成分を無機粒子１００重量部に対して１から２０重量部まで変化させ、また、可塑剤成分を無機粒子１００重量部に対して９から２１重量部まで変化させた場合のラミネート特性表である。
【００６２】
【表５】
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【００６３】
表５において、無機粒子成分に対して樹脂成分が１０〜１７重量部、可塑剤成分が１０．１〜２０重量部の組成範囲（○で示す）において良好なラミネートが可能となった。
【００６４】
このように、本実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルム１４では、可塑剤成分を従来例よりも多量に含有しながらも、誘電体層１６として使用するのに充分な膜強度を保持したラミネート性に優れた誘電体層形成用転写フィルム１４を作製することができた。これは、樹脂成分の高分子化により分子間の絡み合いがより複雑になった結果、膜強度の強化を図ることが可能となり、従来例よりも樹脂成分がより多くの可塑剤成分と結びつきながらも膜強度を保持することが可能となったためであると考えられる。
【００６５】
また、無機粒子成分に対して樹脂成分が５〜９重量部、可塑剤成分が９〜２０重量部の組成範囲（△１、△２で示す）、および樹脂成分が１０〜１７重量部、可塑剤成分が９〜１０重量部の組成範囲（△３で示す）では、やや泡噛みは生じるもののラミネートは可能であった。
【００６６】
また、無機粒子成分に対して樹脂成分が４重量部以下、可塑剤成分が２０重量部以下の組成範囲（×１で示す）においては、誘電体層１６の粘着性が低いためガラス基板へのラミネートが不可能となった。
【００６７】
また、樹脂成分が無機粒子成分に対して１８重量部以上の組成範囲（×２で示す）では逆に、粘着性が高すぎるため、巻き取り時における支持フィルム１５の裏面への貼り付き、巻き出し時における膜浮き、ラミネート時における支持フィルム１５の剥がし時の膜浮きが生じ、正常な状態での塗布およびラミネートが困難となった。また、カバーフィルム１８を用いた場合でも、カバーフィルム１８の剥がし時における支持フィルム１５からの膜浮きが生じ、正常な状態でのラミネートが困難となった。
【００６８】
また、樹脂成分が無機粒子成分に対して１８重量部未満で、可塑剤成分が２０重量部を越える組成範囲（×３で示す）では、可塑剤成分が過剰なため、誘電体層１６の柔軟性が必要以上に付与され、少しの衝撃や圧力でも変形しやすく、誘電体層１６の形状を一定に保つことが困難となった。
【００６９】
次に、本実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルム１４のラミネート性の経時的変化について、前記従来例と同様に図３の粘着強度測定原理図の方法に従って膜の粘着強度を指標として評価した。
【００７０】
本実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後の粘着強度を１００％とし、これに対し、作製から６０日経過時の粘着強度の割合を以下に示す表６の粘着強度経時変化表に示す。なお、表６中には画素数が水平１０２４×垂直７６８のハイビジョンタイプのガラス基板１９に加熱ロール温度８０℃、加熱ロール圧力０．１５ＭＰａ、送り速度１ｍ／ｍｉｎ．ラミネート前の基板予熱約８０℃の条件でラミネートした場合の状態について併せて記した。
【００７１】
【表６】
2005183170.tif 000008
【００７２】
表６の粘着強度経時変化表から、前記表５に示したラミネート性が良好な樹脂成分が無機粒子成分に対して１０重量部以上１７重量部以下で、且つ可塑剤成分が１０．１重量部以上２０重量部以下の組成領域では６０日後においても誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後の９０％以上の粘着性を保持しており、前記表２に示す従来例に比べ非常に経時的変化の少ない誘電体層形成用転写フィルム１４を作製できることがわかる。
【００７３】
また、樹脂成分が無機粒子成分に対して１０重量部未満、且つ可塑剤成分が１０．１重量部以上の組成領域では、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後の９０％の粘着性には満たないものの、前記表２に示した従来例よりも経時的変化の少ない８５％以上という誘電体層形成用転写フィルム１４を作製できることがわかる。なお、この点について表６中では樹脂成分および可塑剤成分について代表値（樹脂成分が９重量部、可塑剤成分が１０．１、１３、１５、１８、２０重量部）のみの結果を示したが、表５における△１で示された全ての組成領域において同等の結果が得られた。
【００７４】
また、樹脂成分が無機粒子成分に対して１０重量部以上１７重量部以下、且つ可塑剤成分が１０．１重量部未満の組成領域においても、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後の９０％には満たないものの、前記表２に示した従来例よりも経時的変化の少ない８５％以上という誘電体層形成用転写フィルム１４を作製できることがわかる。この点について、表６中では樹脂成分および可塑剤成分について代表値（樹脂成分が１０、１２、１４、１６、１７重量部、可塑剤成分が９．８、１０重量部）のみの結果を示したが、表５における△３で示された全ての組成領域においては同等の結果が得られた。
【００７５】
また、樹脂成分が無機粒子成分に対して１０重量部未満、且つ可塑剤成分が１０．１重量部未満の組成領域では、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後の９０％には満たないものの、前記表２に示した従来例の最高レベル（８２％程度）と同等な経時的変化レベルであった。この点について、表６中では樹脂成分および可塑剤成分について代表値（樹脂成分が９重量部、可塑剤成分が９．８、１０重量部）のみの結果を示したが、表６における△２で示された全ての組成領域においては同等の結果が得られた。
【００７６】
次に、前記従来例と同様に、上記のようにしてラミネートを行った本実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルム１４のサンプル（誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後にラミネート）について、前記図４に示す焼成プロファイルにより焼成を行い、ＰＤＰ用誘電体層を得るとともに、それらの光学特性について測定を行った。
【００７７】
それぞれの測定結果を以下に示す表７のヘイズ値Ｈを示す表および表８の全光線透過率Ｔｔを示す表で表した。ここで、膜厚に関しては、上記従来例の場合と同様に焼成後の誘電体層１６の膜厚が３０μｍとなるよう、誘電体層形成用転写フィルム１４を塗布形成し用いた。
【００７８】
【表７】
2005183170.tif 000009
【００７９】
【表８】
2005183170.tif 000010
【００８０】
表７のヘイズ値Ｈを示す表から、前記表５に示したラミネート性が良好な範囲、すなわち、樹脂成分が無機粒子成分に対して１０重量部以上１７重量部以下で、且つ可塑剤成分が１０．１重量部以上２０重量部以下の組成領域では誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後にラミネートしたサンプルにおいても、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後にラミネートしたサンプルに対してヘイズ値Ｈの変化が０〜１ポイントと非常に小さく、ヘイズ値Ｈそのものも、前記表３に示した従来例の値よりも小さくなった。また、この組成領域の全光線透過率Ｔｔは、表８に示したように、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後にラミネートしたサンプルにおいても、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後にラミネートしたサンプルに対して経時的変化がなく、高い全光線透過率Ｔｔが得られた。
【００８１】
この光学特性の向上については、樹脂成分の高分子化により分子間の絡み合いがより複雑になり、従来例よりも樹脂成分がより多くの可塑剤成分と結びつきながらも膜強度を保持することが可能となったために、より大きな柔軟性・粘着性を付与することが可能になり、ガラス基板と誘電体層との密着性が大きく向上したことが要因として挙げられる。また、同様の要因から、可塑剤成分の揮発の抑制も可能になり、その効果が長期間に亘り保持できるようになった。また、さらに本実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルム１４では樹脂成分を比較的少なく（従来例では最大２５重量部であるのに対して、本実施の形態１では最大１７重量部）できるため、焼成時の炉にかかる負担も少なくでき、且つ燃焼しきれなかった樹脂成分が誘電体層１６の内部に残留することで光学特性を低下させるといった不具合も抑制することができた。
【００８２】
このように、本実施の形態１では、曇り度が少なくクリアで且つ高い光透過率を有し、経時的変化の少ない誘電体層１６を作製することができた。
【００８３】
また、樹脂成分が無機粒子成分に対して１０重量部未満、且つ可塑剤成分が１０．１重量部以上の組成領域では、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後にラミネートしたサンプルにおいて、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後にラミネートを行ったサンプルの値からヘイズ値Ｈが−２ポイント、全光線透過率Ｔｔは−１ポイントと、ともに悪化した。これは、経時的に粘着性が低下することによるラミネート時の泡噛みが要因であると考えられる。しかしながら６０日後のサンプルにおいても、ヘイズ値Ｈ（１３ポイント）、全光線透過率Ｔｔ（９１ポイント）の値は、前記表３、表４に示した従来例の誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後にラミネートを行ったサンプルの値（ヘイズ値Ｈ（１４〜１５ポイント）、全光線透過率Ｔｔ（９０ポイント））と同等以上のレベルであった。そこで、高精細なハイスペックモデルに関しては性能が満たないものの、安価で画素数の少ない低スペックモデルには適用可能なレベルであると考えられる。
【００８４】
なお、上記の点について、表７、表８中では樹脂成分および可塑剤成分について代表値（樹脂成分が９重量部、可塑剤成分が１０．１、１３、１５、１８、２０重量部）のみの結果を示したが、表５における△１で示された全ての組成領域においては同等の結果が得られた。
【００８５】
また、樹脂成分が無機粒子成分に対して１０重量部以上１７重量部以下、且つ可塑剤成分が１０．１重量部未満の組成領域においても、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後にラミネートしたサンプルでは、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後にラミネートを行ったサンプルの値からヘイズ値Ｈが−２ポイント、全光線透過率Ｔｔは−１ポイントとともに悪化した。これについても、経時的に粘着性が低下することによるラミネート時の泡噛みが要因であると考えられる。しかしながら、こちらも同様に、６０日後のサンプルのヘイズ値Ｈ（１２〜１３ポイント）、全光線透過率Ｔｔ（９１ポイント）の値は、前記表３、表４に示した従来例の誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後にラミネートを行ったサンプルの値（ヘイズ値Ｈ（１４〜１５ポイント）、全光線透過率Ｔｔ（９０ポイント））と同等以上のレベルであり、高精細なハイスペックモデルに関しては性能が満たないものの、安価で画素数の少ない低スペックモデルには適用可能なレベルであると考えられる。
【００８６】
なお、上記の点について、表７、表８中では樹脂成分および可塑剤成分について代表値（樹脂成分が１０、１２、１４、１６、１７重量部、可塑剤成分が９．８、１０重量部）のみの結果を示したが、表５における△３で示された全ての組成領域においては同等の結果が得られた。
【００８７】
また、樹脂成分が無機粒子成分に対して１０重量部未満、且つ可塑剤成分が１０．１重量部未満の組成領域についても、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後にラミネートしたサンプルでは、誘電体層形成用転写フィルム１４の作製直後にラミネートを行ったサンプルの値からヘイズ値Ｈが−２ポイント、全光線透過率Ｔｔは−１ポイントと、ともに悪化した。これについても、経時的に粘着性が低下することによるラミネート時の泡噛みが要因であると考えられる。しかしながら、こちらも同様に、６０日後のサンプルのヘイズ値Ｈ（１４ポイント）、全光線透過率Ｔｔ（９０ポイント）の値は、前記表３、表４に示した従来例の誘電体層形成用転写フィルム１４の作製時から６０日後にラミネートを行ったサンプルの値（ヘイズ値Ｈ（１４〜１５ポイント）、全光線透過率Ｔｔ（９０ポイント））と同等のレベルであり、高精細なハイスペックモデルに関しては性能が満たないものの、安価で画素数の少ない低スペックモデルには適用可能なレベルであると考えられる。
【００８８】
なお、上記の点について、表７、表８中では樹脂成分および可塑剤成分について代表値（樹脂成分が９重量部、可塑剤成分が９．８、１０重量部）のみの結果を示したが、表５における△２で示された全ての組成領域においては同等の結果が得られた。
【００８９】
本実施の形態１ではバインダ樹脂にはＭｗ７０万のアクリル系高分子樹脂を用いたが、Ｍｗが３１万〜１００万の高分子樹脂であれば他の樹脂でも同様の効果が得られることがわかった。
【００９０】
その根拠を示す実験として、誘電体層形成用転写フィルム作製時から６０日後にラミネートを行ったサンプルにおいて、樹脂のＭｗを３０〜１００．２の範囲で変化させて、光学特性（ヘイズ値Ｈ、全光線透過率Ｔｔ）、および良品歩留まり（５００枚生産時の良品〔Ｈ：１０以下、且つＴｔ：９０以上〕の割合）を調べてみた。その結果を示すのが以下の良品歩留り表である表９であり、安定した生産を可能とするため、良品歩留りは９０％以上を良品としている。
【００９１】
【表９】
2005183170.tif 000011
【００９２】
すなわち、表９から明らかなように、樹脂のＭｗが３０．８万未満の領域ではヘイズ値Ｈが１０よりも大きく、良品の性能を満たすことはできなかった。また、樹脂のＭｗが３０．８万以上３１万未満の領域では、良品の性能を満たすものがいくつか作製できるものの、製品にバラツキが生じ、歩留まりが９０％に満たなかった。これは、樹脂および可塑剤のＭｗと含有量のバランスがそれぞれ最適な状態となっていないために樹脂と可塑剤との結びつきのバランスが最適でなくなり、可塑剤の溶融等を要因とする経時的劣化や膜強度の低下等を引き起こし、これらが膜の経時的な粘着性低下や膜の品質劣化を生じさせたことが影響していると考えられる。
【００９３】
また、樹脂のＭｗが３１万以上１００万以下の領域では、良好な光学特性が得られつつ、高い良品歩留まりを実現することができた。
【００９４】
さらに樹脂のＭｗが１００万を越える領域では、樹脂の高分子化に伴い膜の粘着性が高くなりすぎるため、塗布時やラミネート時における膜の品質劣化が生じ、歩留まりが低下した。
【００９５】
また、誘電体層形成用転写フィルム１４はその経時的劣化を抑制するために可塑剤成分ができるだけ揮発しないことが望まれる。しかしながら、良好な光学特性が得られる誘電体層を実現するには、焼成時に可塑剤は残留することなく揮発してしまうことが必要となる。
【００９６】
可塑剤のＭｗが５５０を越えるものでは焼成時に揮発しにくいため、良好な光学特性が得られにくく、また、揮発を充分させるためには焼成炉への負担が大きくなり、また、Ｍｗが２５０未満のものでは誘電体層形成用転写フィルム１４の状態での揮発が生じやすく、誘電体層形成用転写フィルム１４の経時的劣化が大きくなるため、可塑剤としての使用が困難であった。
【００９７】
上記本実施の形態１では可塑剤にはＭｗ２７８のフタル酸ジブチル（ＤＢＰ）を用いたが、他にＭｗ４１８のフタル酸ジイソノニル（ＤＩＮＰ）のようにＭｗが２５０〜５５０の範囲に入る可塑剤であれば同様の効果が得られた。
【００９８】
以上のように、本実施の形態１の誘電体層形成用転写フィルムによれば、経時的劣化の少ない誘電体層形成用転写フィルム１４を作製でき、その結果、曇り度が少なくクリアで且つ高い光透過率を有した誘電体層１６をガラス基板１９の上に作製できることになり、高性能なＰＤＰを作製することが可能となった。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
本発明のＰＤＰ用誘電体層形成用転写フィルムとＰＤＰは、ＰＤＰの電極を形成させたガラス基板を覆う誘電体層に要求される柔軟性、粘着性等のラミネート性および光線透過率、曇り度等の光学特性が経時変化しないことによって、曇り度が少なくクリアで且つ高い光透過率を有した誘電体層をガラス基板の上に作製できることになり、高性能なＰＤＰを作製することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】（ａ）本発明の実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルムの側断面図（ｂ）本発明の実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルムの一部拡大側断面図
【図２】本発明の実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルムの誘電体層転写状態図
【図３】本発明の実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルムの誘電体層の粘着強度測定原理図
【図４】本発明の実施の形態１における誘電体層形成用転写フィルムの誘電体層の焼成プロファイル
【図５】一般的なＡＣ型で面放電型のＰＤＰ装置の分解構成斜視図
【符号の説明】
【０１０１】
１，８，１９    ガラス基板
２    走査電極
３    維持電極
２ａ，３ａ    透明電極
２ｂ，３ｂ    母線
４    表示電極
５    遮光層
６，９，１６    誘電体層
７    ＭｇＯ膜
１０    アドレス電極
１１    隔壁
１２    蛍光体層
１３    放電セル
１４    誘電体層形成用転写フィルム
１５    支持フィルム
１７−１，１７−２，１７−３    離型剤層
１８    カバーフィルム
２０    加熱ロール
２１    ステンレスプローブ
【図１】
2005183170.tif 000012
【図２】
2005183170.tif 000013
【図３】
2005183170.tif 000014
【図４】
2005183170.tif 000015
【図５】
2005183170.tif 000016