(57)【要約】【課題】高価な有機アルミニウムオキシ化合物あるいは有機ホウ素化合物と組み合せて用いなくても高いオレフィン重合活性を示し、かつ高い温度での重合においても、触媒性能を失うことなく、高い活性を持続可能な触媒、および、このような触媒を用いる重合方法を提供すること。【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と、（Ｂ）ＣｄＣｌ２型またはＣｄＩ２型の層状結晶構造を有するイオン結合性化合物から選ばれる少なくとも１種以上の化合物と、（Ｃ）（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物、および（Ｄ）（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物と反応して、（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物を（Ａ）に対して不活性化しうる化合物とから得られるオレフィン重合用触媒。【化１】2005008734.tif 000007【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と、
（Ｂ）ＣｄＣｌ２型またはＣｄＩ２型の層状結晶構造を有するイオン結合性化合物から選ばれる少なくとも１種以上の化合物と、
（Ｃ）（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物、および
（Ｄ）（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物と反応して、（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物を（Ａ）に対して不活性化しうる化合物とから得られるオレフィン重合用触媒。
【化１】
2005008734.tif 000006
（式（Ｉ）中、Ｍは、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆから選ばれる原子を示し、Ｒ１〜Ｒ１４は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。Ｌ１、Ｌ２は、Ｍの価数を満たす基であり、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。）
【請求項２】
（Ｃ）成分と（Ｄ）成分は、少なくとも（Ａ）成分と（Ｃ）成分が接触する以前に接触していることを特徴とする、請求項１に記載のオレフィン重合用触媒。
【請求項３】
（Ｄ）成分が、有機アルミニウム化合物、ハロゲン化チタン化合物およびハロゲン化シラン化合物からなる群より選ばれることを特徴とする上記請求項１または２に記載のオレフィン重合用触媒。
【請求項４】
（Ｂ）成分が、マグネシウム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケルのハロゲン化合物から少なくとも１種以上選ばれる化合物である請求項１〜３のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。
【請求項５】
（Ｂ）成分が、液状物から析出されたものであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のオレフィン重合用触媒、および必要に応じて、（Ｅ）有機アルミニウム化合物の存在下、オレフィンを単独重合または共重合させることを特徴とするオレフィン重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、オレフィン重合用触媒および該オレフィン重合用触媒を用いるオレフィンの重合方法に関し、さらに詳しくは、有機アルミニウムオキシ化合物もしくは有機ホウ素化合物を含まないオレフィン重合用触媒および該オレフィン重合用触媒を用いるオレフィンの重合方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、オレフィン系重合体の製造においては、重合用触媒として、メタロセン触媒や非メタロセン触媒などのシングルサイト触媒が使用され始めている。しかしながら、これらの触媒は高価な有機アルミニウムオキシ化合物あるいは有機ホウ素化合物と組み合せて用いなければ高いオレフィン重合活性を示すことができない。また、高価な有機アルミニウムオキシ化合物あるいは有機ホウ素化合物と組み合せて高いオレフィン重合活性を発現させた場合でも、例えば３０分間以上というような通常の工業生産で採用されているような長時間の重合において、高い活性を持続することが困難であったり、高い温度での重合においては、すぐに失活し触媒性能を失うことが多い。このため、高価な有機アルミニウムオキシ化合物もしくは有機ホウ素化合物と組み合せて用いなくても高いオレフィン重合活性を発現すること、さらには、長時間の重合や高い温度での重合においても、触媒性能を失うことなく、高い活性を持続することが可能な触媒が望まれている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記のような技術的背景に鑑みてなされたものであって、高価な有機アルミニウムオキシ化合物あるいは有機ホウ素化合物と組み合せて用いなくても高いオレフィン重合活性を示し、かつ、例えば３０分間以上というような通常の工業生産で採用されているような長時間の重合や高い温度での重合においても、触媒性能を失うことなく、高い活性を持続することが可能な触媒、および、このような触媒を用いる重合方法を提供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るオレフィン重合用触媒は、
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と、
（Ｂ）ＣｄＣｌ２型またはＣｄＩ２型の層状結晶構造を有するイオン結合性化合物から選ばれる少なくとも１種以上の化合物と、
（Ｃ）（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物、および
（Ｄ）（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物と反応して、（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物を（Ａ）に対して不活性化しうる化合物とから得られることを特徴としている。
【０００５】
【化２】
2005008734.tif 000002
（式（Ｉ）中、Ｍは、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆから選ばれる原子を示し、Ｒ１〜Ｒ１４は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。Ｌ１、Ｌ２は、Ｍの価数を満たす基であり、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、アルミニウム含有基、リン含有基、ハロゲン含有基、ヘテロ環式化合物残基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、互いに同一でも異なっていてもよい。）
【０００６】
本発明に係るオレフィンの重合方法は、上記のようなオレフィン重合触媒および必要に応じて、（Ｅ）有機アルミニウム化合物の存在下、オレフィンを単独重合または共重合させることを特徴としている。このようなオレフィン重合触媒およびオレフィンの重合方法は、高いオレフィン重合活性を示し、かつ、高温においても高い活性を持続することが可能である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明におけるオレフィン重合用触媒、このオレフィン重合触媒の調製工程、およびこの触媒を用いたオレフィンの重合方法について具体的に説明する。
なお、本明細書において「重合」という語は、単独重合だけでなく、共重合をも包含した意味で用いられることがあり、「重合体」という語は、単独重合体だけでなく、共重合体をも包含した意味で用いられることがある。
【０００８】
本発明に係るオレフィン重合用触媒は、
（Ａ）一般式（Ｉ）で表される化合物と、
（Ｂ）ＣｄＣｌ２型またはＣｄＩ２型の層状結晶構造を有するイオン結合性化合物から選ばれる少なくとも１種以上の化合物と、
（Ｃ）（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物、および
（Ｄ）（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物と反応して、（ｃ−１）酸素含有化合物または（ｃ−２）窒素含有化合物を（Ａ）に対して不活性化しうる化合物とから形成される。
【０００９】
まず、本発明のオレフィン重合用触媒を形成する各触媒成分について説明する。
【００１０】
（Ａ）成分
（Ａ）成分は下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
【００１１】
【化３】
2005008734.tif 000003
式（Ｉ）中、Ｍは、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆから選ばれる原子を示し、好ましくはＺｒ、Ｈｆ、特に好まし
くはＨｆである。
【００１２】
式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ１４は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ヘテロ環式化合物残基、酸素含有基、窒素含有基、ホウ素含有基、イオウ含有基、リン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基またはスズ含有基を示し、これらは、互いに同一でも異なっていても良い。また、これらのうちの２個以上が互いに連結して環を形成していてもよい。
式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ１４が示すハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
【００１３】
式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ１４が示す炭化水素基として具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；ビニル、アリル、イソプロペニルなどの炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルケニル基；エチニル、プロパルギルなど炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のアルキニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、アダマンチルなどの炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状飽和炭化水素基；シクロペンタジエニル、インデニル、フルオレニルなどの炭素原子数５〜３０の環状不飽和炭化水素基；フェニル、ベンジル、ナフチル、ビフェニリル、ターフェニリル、フェナントリル、アントリルなどの炭素原子数が６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；メチルフェニル、イソプロピルフェニル、ｔ−ブチルフェニル、ジメチルフェニル、ジイソプロピルフェニル、ジ−ｔ−ブチルフェニル、トリメチルフェニル、トリイソプロピルフェニル、トリ−ｔ−ブチルフェニルなどのアルキル置換アリール基などが挙げられる。
【００１４】
上記炭化水素基は、水素原子がハロゲンで置換されていてもよく、例えば、トリフルオロメチル、ペンタフルオロフェニル、クロロフェニルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のハロゲン化炭化水素基が挙げられる。
また、上記炭化水素基は、他の炭化水素基で置換されていてもよく、例えばベンジル、クミルなどのアリール基置換アルキル基などが挙げられる。
【００１５】
さらにまた上記炭化水素基は、ヘテロ環式化合物残基；アルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基などの酸素含有基；アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩となったものなどの窒素含有基；ボランジイル基、ボラントリイル基、ジボラニル基などのホウ素含有基；メルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチオシアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基などのイオウ含有基；ホスフィド基、ホスホリル基、チオホスホリル基、ホスファト基などのリン含有基、ケイ素含有基、ゲルマニウム含有基、またはスズ含有基などで置換されていてもよい。
【００１６】
これらのうち、特に、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシルなどの炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル、ナフチル、ビフェニリル、ターフェニリル、フェナントリル、アントリルなどの炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基；これらのアリール基にハロゲン原子、炭素原子数１〜３０、好ましくは１〜２０のアルキル基またはアルコキシ基、炭素原子数６〜３０、好ましくは６〜２０のアリール基またはアリーロキシ基などの置換基が１〜５個置換した置換アリール基などが好ましい。
【００１７】
Ｒ１〜Ｒ１４は、これらのうちの２個以上の基、好ましくは隣接する基が互いに連結して環を形成することもできる。このような環としては、例えばベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、アセナフテン環、インデン環などの縮環基、および上記縮環基上の水素原子がメチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアルキル基で置換された基などが挙げられる。
【００１８】
式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ１４が示す酸素含有基は、基中に酸素原子を１〜５個含有する基であり、下記ヘテロ環化合物残基は含まれない。また、窒素原子、イオウ原子、リン原子、ハロゲン原子またはケイ素原子を含み、かつこれらの原子と酸素原子とが直接結合している基も酸素含有基には含まれない。酸素含有基として具体的には、例えばアルコキシ基、アリーロキシ基、エステル基、エーテル基、アシル基、カルボキシル基、カルボナート基、ヒドロキシ基、ペルオキシ基、カルボン酸無水物基などが挙げられ、アルコキシ基、アリーロキシ基、アセトキシ基、カルボニル基、ヒドロキシ基などが好ましい。なお酸素含有基が炭素原子を含む場合は、炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の範囲にあることが望ましい。
【００１９】
式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ１４が示す窒素含有基は、基中に窒素原子を１〜５個含有する基であり、下記ヘテロ環化合物残基は含まれない。窒素含有基として具体的には、例えばアミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアン酸エステル基、アミジノ基、ジアゾ基、アミノ基がアンモニウム塩となったものなどが挙げられ、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、ニトロ基、シアノ基が好ましい。なお、窒素含有基が炭素原子を含む場合は、炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の範囲にあることが望ましい。
【００２０】
式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ１４が示すホウ素含有基は、基中に１〜５個のホウ素原子を含む基であり、下記ヘテロ環化合物残基は含まれない。ホウ素含有基として具体的には、例えばボランジイル基、ボラントリイル基、ジボラニル基などのホウ素含有基が挙げられ、炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の炭化水素基が１〜２個置換したボリル基または１〜３個置換したボレート基が好ましい。炭化水素基が２個以上置換している場合には、各炭化水素は同一でも異なっていてもよい。
【００２１】
式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ１４が示すイオウ含有基は、基中にイオウ原子を１〜５個含有する基であり、下記ヘテロ環化合物残基は含まれない。イオウ含有基として具体的には、例えばメルカプト基、チオエステル基、ジチオエステル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオアシル基、チオエーテル基、チオシアン酸エステル基、イソチオシアン酸エステル基、スルホンエステル基、スルホンアミド基、チオカルボキシル基、ジチオカルボキシル基、スルホ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルフェニル基、スルフォネート基、スルフィネート基などが挙げられ、スルフォネート基、スルフィネート基、アルキルチオ基、アリールチオ基が好ましい。なおイオウ含有基が炭素原子を含む場合は、炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の範囲にあることが望ましい。
【００２２】
式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ１４が示すリン含有基は、基中に１〜５のリン原子を含有する基であり、下記ヘテロ環化合物残基は含まれない。リン含有基として具体的には、例えばホスフィノ基、ホスホリル基、ホスホチオイル基、ホスホノ基などが挙げられる。
【００２３】
式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ１４が示すケイ素含有基は、基中に１〜５のケイ素原子を含有する基であり、例えば炭化水素置換シリル基などのシリル基、炭化水素置換シロキシ基などのシロキシ基が挙げられる。具体的には、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジフェニルメチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）シリルなどが挙げられる。これらの中では、メチルシリル、ジメチルシリル、トリメチルシリル、エチルシリル、ジエチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシリルなどが好ましく、特にトリメチルシリル、トリエチルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニルシリルが好ましい。炭化水素置換シロキシ基として具体的には、トリメチルシロキシなどが挙げられる。なおケイ素含有基が炭素原子を含む場合は、炭素原子数が１〜３０、好ましくは１〜２０の範囲にあることが望ましい。
【００２４】
式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ１４が示すゲルマニウム含有基およびスズ含有基としては、上記ケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムおよびスズに置換したものが挙げられる。
【００２５】
次に上記で説明した  式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ１４の例について、より具体的に説明する。
酸素含有基のうち、アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが、アリーロキシ基としては、フェノキシ、２，６−ジメチルフェノキシ、２，４，６−トリメチルフェノキシなどが、アシル基としては、ホルミル、アセチル、ベンゾイル、ｐ−クロロベンゾイル、ｐ−メトキシベンソイルなどが、エステル基としては、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、メトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ｐ−クロロフェノキシカルボニルなどが好ましく例示される。
【００２６】
窒素含有基のうち、アミノ基としては、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノなどのアルキルアミノ基；フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフェニルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルアリールアミノ基などが、イミノ基としては、メチルイミノ、エチルイミノ、プロピルイミノ、ブチルイミノ、フェニルイミノなどが、アミド基としては、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ−メチルベンズアミドなどが、イミド基としては、アセトイミド、ベンズイミドなどが好ましく例示される。
イオウ含有基のうち、アルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオなどが、アリールチオ基としては、フェニルチオ、メチルフェニルチオ、ナルチルチオなどが、チオエステル基としては、アセチルチオ、ベンゾイルチオ、メチルチオカルボニル、フェニルチオカルボニルなどが、スルホンエステル基としては、スルホン酸メチル、スルホン酸エチル、スルホン酸フェニルなどが、スルホンアミド基としては、フェニルスルホンアミド、Ｎ−メチルスルホンアミド、Ｎ−メチル−ｐ−トルエンスルホンアミドなどが好ましく挙げられる。
【００２７】
スルフォネート基としては、メチルスルフォネート、トリフルオロメタンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジルスルフォネート、ｐ−トルエンスルフォネート、トリメチルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼンスルフォネート、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート、ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどが、スルフィネート基としてはメチルスルフィネート、フェニルスルフィネート、ベンジルスルフィネート、ｐ−トルエンスルフィネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフルオロベンゼンスルフィネートなどが挙げられる。
リン含有基のうち、ホスフィノ基としては、ジメチルフォスフィノ、ジフェニルフォスフィノなどが挙げられ、ホスホリル基としては、メチルホスホリル、イソプロピルホスホリル、フェニルホスホリルなどが挙げられ、ホスホチオイル基としては、メチルホスホチオイル、イソプロピルホスホチオイル、フェニルホスホチオイルなどが挙げられ、ホスホノ基としては、リン酸ジメチル、リン酸ジイソプロピル、リン酸ジフェニルなどのリン酸エステル基、リン酸基などが挙げられる。
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物の具体的な例を示す。
【００２８】
【化４】
2005008734.tif 000004
【００２９】
（Ｂ）成分
本発明で用いられる（Ｂ）成分は、ＣｄＩ２型またはＣｄＣｌ２型の結晶構造を有する化合物から成る群より選ばれる一種以上の物質である。
一般に、強い極性の陽イオンと分極されやすい陰イオンからなる塩の多くは、陽イオンの層が陰イオン層で挟まれ、そのサンドイッチの間には余分な陽イオンの無い層状構造を形成している。本発明で用いられるＣｄＩ２型またはＣｄＣｌ２型結晶構造を有する化合物は、層状構造を有する化合物に分類される。これらの化合物は、種々の文献に記載された公知の結晶構造であって、たとえば「化学大辞典１」（共立出版（株）、初版１９６２年２月２８日発行）、「現代無機化学講座▲２▼無機化学各論（前編）」（内海誓一郎著、（株）技報堂、初版昭和４０年７月２０日発行）などに記載されている。
【００３０】
本発明で用いられるＣｄＩ２型結晶構造を有する化合物について、その具体例を示すと、例えばＣｄＢｒ２、ＦｅＢｒ２、ＣｏＢｒ２、ＮｉＢｒ２、ＣｄＩ２、ＭｇＩ２、ＣａＩ２、ＺｎＩ２、ＰｂＩ２、ＭｎＩ２、ＦｅＩ２、ＣｏＩ２、Ｍｇ（ＯＨ）２、Ｃａ（ＯＨ）２、Ｃｄ（ＯＨ）２、Ｍｎ（ＯＨ）２、Ｆｅ（ＯＨ）２、Ｃｏ（ＯＨ）２、Ｎｉ（ＯＨ）２、ＺｒＳ４、ＳｎＳ４、ＴｉＳ４、ＰｔＳ４などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、ＣｄＣｌ２型結晶構造を有する化合物については、例えばＣｄＣｌ２、ＭｎＣｌ２、ＦｅＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＩ２、ＮｉＣｌ２、ＭｇＣｌ２、ＺｎＢｒ２、ＣｒＣｌ３などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これら具体例のうち好ましくは、ＣｄＢｒ２、ＦｅＢｒ２、ＣｏＢｒ２、ＮｉＢｒ２、ＣｄＩ２、ＭｇＩ２、ＣａＩ２、ＺｎＩ２、ＰｂＩ２、ＭｎＩ２、ＦｅＩ２、ＣｏＩ２、ＣｄＣｌ２、ＭｎＣｌ２、ＦｅＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＩ２、ＮｉＣｌ２、ＭｇＣｌ２、ＺｎＢｒ２であり、より好ましくは、ＭｎＣｌ２、ＦｅＣｌ２、ＣｏＣｌ２、ＮｉＣｌ２、ＭｇＣｌ２が挙げられる。
【００３１】
本発明で用いられる、上記のようなＣｄＩ２型またはＣｄＣｌ２型の結晶構造を有する化合物（Ｂ）は、最終的に触媒成分中に含まれていればよく、従って触媒成分の調製時に、成分（Ｂ）を形成しうる化合物を用いて最終的に触媒成分中にＣｄＩ２型またはＣｄＣｌ２型の結晶構造を有する化合物（Ｂ）を形成させて存在させてもよく、必ずしも成分（Ｂ）をそれ自体を用いなければならないわけではない。つまり、ＣｄＩ２型またはＣｄＣｌ２型の結晶構造のいずれにも属さない化合物を用いて、触媒成分の調製の途中で、ハロゲン含有化合物または水酸基含有化合物と接触反応させ、最終的に得られる触媒成分中において、ＣｄＩ２型またはＣｄＣｌ２型の結晶構造を有する化合物の形とすることができる。
【００３２】
例えば、最終的に触媒成分中にＭｇＣｌ２またはＭｇＩ２を形成させて存在させる場合には、これらを形成しうる化合物として、還元能を有するマグネシウム化合物および還元能を有しないマグネシウム化合物を出発物質として用いることができる。
還元能を有するマグネシウム化合物としては、例えば下式で表わされる有機マグネシウム化合物を挙げることができる。
Ｘｎ  ＭｇＲ２−ｎ
式中、ｎは０≦ｎ＜２であり、Ｒは水素または炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜２１のアリール基または炭素数５〜２０のシクロアルキル基であり、ｎが０である場合２個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｘはハロゲンである。
【００３３】
このような還元能を有する有機マグネシウム化合物としては、具体的には、ジメチルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジプロピルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ジアミルマグネシウム、ジヘキシルマグネシウム、ジデシルマグネシウム、オクチルブチルマグネシウム、エチルブチルマグネシウムなどのジアルキルマグネシウム化合物、エチル塩化マグネシウム、プロピル塩化マグネシウム、ブチル塩化マグネシウム、ヘキシル塩化マグネシウム、アミル塩化マグネシウムなどのアルキルマグネシウムハライド、ブチルエトキシマグネシウム、エチルブトキシマグネシウム、オクチルブトキシマグネシウムなどのアルキルマグネシウムアルコキシド、その他ブチルマグネシウムハイドライドなどを挙げることができる。
【００３４】
還元能を有しないマグネシウム化合物の具体的な例としては、
塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、沃化マグネシウム、弗化マグネシウムなどのハロゲン化マグネシウム、メトキシ塩化マグネシウム、エトキシ塩化マグネシウム、イソプロポキシ塩化マグネシウム、ブトキシ塩化マグネシウム、オクトキシ塩化マグネシウムなどのアルコキシマグネシウムハライド；フェノキシ塩化マグネシウム、メチルフェノキシ塩化マグネシウムなどのアリロキシマグネシウムハライド；エトキシマグネシウム、イソプロポキシマグネシウム、ブトキシマグネシウム、ｎ−オクトキシマグネシウム、２−エチルヘキソキシマグネシウムなどのアルコキシマグネシウム；ジフェノキシマグネシウム、メチルフェノキシマグネシウムなどのアリロキシマグネシウム；ラウリン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウムなどのマグネシウムのカルボン酸塩などを挙げることができる。その他マグネシウム金属、水素化マグネシウムなどを用いることもできるが、この限りではない。
【００３５】
これら還元能を有さないマグネシウム化合物は、上述した還元能を有するマグネシウム化合物から誘導した化合物、あるいは触媒成分の調製時に誘導した化合物であってもよい。還元能を有さないマグネシウム化合物を、還元能を有するマグネシウム化合物から誘導するには、たとえば、還元能を有するマグネシウム化合物を、ポリシロキサン化合物、ハロゲン含有シラン化合物、ハロゲン含有アルミニウム化合物、エステル、アルコール、ハロゲン含有化合物、あるいはＯＨ基や活性な炭素−酸素結合を有する化合物と接触させればよい。
【００３６】
なお上記の還元能を有するマグネシウム化合物および還元能を有さないマグネシウム化合物は、たとえばアルミニウム、亜鉛、ホウ素、ベリリウム、ナトリウム、カリウムなどの他の有機金属化合物との錯化合物、複化合物を形成していてもよく、あるいは混合物であってもよい。さらに、マグネシウム化合物は単独であってもよく、上記の化合物を２種以上組み合わせてもよく、また液状状態で用いても固体状態で用いてもよい。マグネシウム化合物が固体である場合、後述する酸素含有化合物（ｃ−１）または、窒素含有化合物（ｃ−２）などを用いて液状状態にすることができる。
【００３７】
また、マグネシウム以外のＣｄＩ２型またはＣｄＣｌ２の結晶構造を有する化合物についても、これらを形成しうる化合物（以下、「出発化合物」とする）として、上記と同様に、還元能を有する化合物および還元能を有しない化合物を出発化合物として用いることができる。
【００３８】
これら出発化合物について、その具体例を示すと、例えば、ジメチルカドミウム、ジエチルカドミウム、ジプロピルカドミウム、ジブチルカドミウム、ジアミルカドミウム、ジヘキシルカドミウム、ジデシルカドミウム、オクチルブチルカドミウム、エチルブチルカドミウム、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジブチル亜鉛、ジアミル亜鉛、ジヘキシル亜鉛、ジデシル亜鉛、オクチルブチル亜鉛、エチルブチル亜鉛、テトラメチル鉛、テトラエチル鉛、テトラプロピル鉛、テトラブチル鉛、テトラアミル鉛、テトラヘキシル鉛、テトラデシル鉛、トリオクチルブチル鉛、ジエチルジブチル鉛などのアルキル金属化合物；メチル塩化カドミウム、エチル塩化カドミウム、プロピル塩化カドミウム、ブチル塩化カドミウム、アミル塩化カドミウム、ヘキシル塩化カドミウム、デシル塩化カドミウム、メチル塩化亜鉛、エチル塩化亜鉛、プロピル塩化亜鉛、ブチル塩化亜鉛、アミル塩化亜鉛、ヘキシル塩化亜鉛、デシル塩化亜鉛、トリメチル塩化鉛、ジメチルジクロロ鉛、メチルトリクロロ鉛、トリエチル塩化鉛、ジエチルジクロロ鉛、エチルトリクロロ鉛、トリプロピル塩化鉛、トリブチル塩化鉛、トリアミル塩化鉛、トリヘキシル塩化鉛、トリデシル塩化鉛、ジオクチルブチル塩化鉛、ジエチルブチル塩化鉛などのアルキル金属ハライド化合物；ジフェニルカドミウム、ジフェニル亜鉛、テトラフェニル鉛、トリフェニルメチル鉛、ジフェニルジエチル鉛α−ナフチルカルシウムなどのフェニル金属化合物、フェニル塩化カドミウム、フェニル塩化亜鉛、トリフェニル塩化鉛、ジフェニルメチル塩化亜鉛、ジフェニルジクロロ鉛などのフェニルハライド化合物；フッ化カドミウム、フッ化鉄（ＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩＩ）、フッ化ニッケル、フッ化カルシウム、フッ化亜鉛、フッ化鉛、フッ化マンガン（ＩＩ）、フッ化マンガン（ＩＩＩ）などのフッ化金属化合物；メトキシ鉄（ＩＩ）、メトキシ鉄（ＩＩＩ）、エトキシ鉄（ＩＩ）、エトキシ鉄（ＩＩＩ）、ｎ−プロポキシ鉄（ＩＩ）、ｎ−プロポキシ鉄（ＩＩＩ）、イソプロポキシ鉄（ＩＩ）、イソプロポキシ鉄（ＩＩＩ）  、ｎ−ブトキシ鉄（ＩＩ）、ｎ−ブトキシ鉄（ＩＩＩ）、ｔ−ブトキシ鉄（ＩＩ）、ｔ−ブトキシ鉄（ＩＩＩ）、２−エチルヘキソキシ鉄（ＩＩ）  、２−エチルヘキソキシ鉄（ＩＩＩ）  、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシ鉄（ＩＩ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシ鉄（ＩＩＩ）、メトキシコバルト  、エトキシコバルト、ｎ−プロポキシコバルト、イソプロポキシコバルト、ｎ−ブトキシコバルト、ｔ−ブトキシコバルト、２−エチルヘキソキシコバルト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシコバルト、メトキシニッケル、エトキシニッケル、ｎ−プロポキシニッケル、イソプロポキシニッケル、ｎ−ブトキシニッケル、ｔ−ブトキシニッケル、２−エチルヘキソキシニッケル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシニッケル、メトキシカルシウム、エトキシカルシウム、ｎ−プロポキシカルシウム、イソプロポキシカルシウム、ｎ−ブトキシカルシウム、ｔ−ブトキシカルシウム、２−エチルヘキソキシカルシウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシカルシウム、メトキシ亜鉛、エトキ��亜鉛、ｎ−プロポキシ亜鉛、イソプロポキシ亜鉛、ｎ−ブトキシ亜鉛、ｔ−ブトキシ亜鉛、２−エチルヘキソキシ亜鉛、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシ亜鉛、メトキシマンガン、エトキシマンガン、ｎ−プロポキシマンガン、イソプロポキシマンガン、ｎ−ブトキシマンガン、ｔ−ブトキシマンガン、２−エチルヘキソキシマンガン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシマンガンなどのアルコキシ金属化合物；メトキシ鉄（ＩＩ）クロライド、ジメトキシ鉄（ＩＩＩ）クロライド、メトキシ鉄（ＩＩＩ）ジクロライド、エトキシ鉄（ＩＩ）クロライド、ジエトキシ鉄（ＩＩＩ）クロライド、エトキシ鉄（ＩＩＩ）ジクロライド、ｎ−プロポキシ鉄（ＩＩ）クロライド、ジ−ｎ−プロポキシ鉄（ＩＩＩ）クロライド、イソプロポキシ鉄（ＩＩ）クロライド、ジイソプロポキシ鉄（ＩＩＩ）クロライド  、ｎ−ブトキシ鉄（ＩＩ）クロライド、ジ−ｎ−ブトキシ鉄（ＩＩＩ）クロライド、ｔ−ブトキシ鉄（ＩＩ）クロライド、ジ−ｔ−ブトキシ鉄（ＩＩＩ）クロライド、２−エチルヘキソキシ鉄（ＩＩ）クロライド  、ジ−２−エチルヘキソキシ鉄（ＩＩＩ）クロライド  、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシ鉄（ＩＩ）クロライド、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシ）鉄（ＩＩＩ）クロライド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシ鉄（ＩＩＩ）ジクロライド、メトキシ塩化コバルト  、エトキシ塩化コバルト、ｎ−プロポキシ塩化コバルト、イソプロポキシ塩化コバルト、ｎ−ブトキシ塩化コバルト、ｔ−ブトキシ塩化コバルト、２−エチルヘキソキシ塩化コバルト、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシコバルトクロライド、メトキシ塩化ニッケル、エトキシ塩化ニッケル、ｎ−プロポキシ塩化ニッケル、イソプロポキシ塩化ニッケル、ｎ−ブトキシ塩化ニッケル、ｔ−ブトキシ塩化ニッケル、２−エチルヘキソキシ塩化ニッケル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシニッケルクロライド、メトキシ塩化カルシウム、エトキシ塩化カルシウム、ｎ−プロポキシ塩化カルシウム、イソプロポキシ塩化カルシウム、ｎ−ブトキシ塩化カルシウム、ｔ−ブトキシ塩化カルシウム、２−エチルヘキソキシ塩化カルシウム、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシカルシウムクロライド、メトキシ塩化亜鉛、エトキシ塩化亜鉛、ｎ−プロポキシ塩化亜鉛、イソプロポキシ塩化亜鉛、ｎ−ブトキシ塩化亜鉛、ｔ−ブトキシ塩化亜鉛、２−エチルヘキソキシ塩化亜鉛、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシ亜鉛クロライド、メトキシ塩化マンガン、エトキシ塩化マンガン、ｎ−プロポキシ塩化マンガン、イソプロポキシ塩化マンガン、ｎ−ブトキシ塩化マンガン、ｔ−ブトキシ塩化マンガン、２−エチルヘキソキシ塩化マンガン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメトキシマンガンクロライドなどのアルコキシ金属ハライド化合物；フェノキシ鉄（ＩＩ）、フェノキシ鉄（ＩＩＩ）、メチルフェノキシ鉄（ＩＩ）、メチル−ビス（フェノキシ）鉄（ＩＩＩ）、ジメチル（フェノキシ）鉄（ＩＩＩ）、ビス（フェノキシ）コバルト、メチルフェノキシコバルト、ビス（フェノキシ）ニッケル、メチルフェノキシニッケル、ビス（フェノキシ）カルシウム、メチルフェノキシカルシウム、ビス（フェノキシ）亜鉛、メチルフェノキシ亜鉛、ビス（フェノキシ）マンガン、メチルフェノキシマンガンなどのアリロキシ金属化合物；フェノキシ鉄（ＩＩ）クロライド、ビス（フェノキシ）鉄（ＩＩＩ）クロライド、フェノキシ鉄（ＩＩＩ）ジクロライド、メチルフェノキシ鉄（ＩＩＩ）クロライド、フェノキシコバルトクロライド、フェノキシニッケルクロライド、フェノキシカルシウムクロライド、フェノキシ亜鉛クロライド、フェノキシマンガンクロライドなどのアリロキシ金属ハライド化合物；ぎ酸カドミウム、酢酸カドミウム、プロピオン酸カドミウム、アクリル酸カドミウム、２−エチルヘキサン酸カドミウム、デカン酸カドミウム、ラウリン酸カドミウム、ステアリン酸カドミウム、シクロヘキシル酪酸カドミウム、シュウ酸カドミウム、安息香酸カドミウム、フタル酸カドミウム、ぎ酸鉄（ＩＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩＩ）、プロピオン酸鉄（ＩＩ）、プロピオン酸鉄（ＩＩＩ）、アクリル酸鉄（ＩＩ）、アクリル酸鉄（ＩＩＩ）、２−エチルヘキサン酸鉄（ＩＩ）、２−エチルヘキサン酸鉄（ＩＩＩ）、デカン酸鉄（ＩＩ）  、デカン酸鉄（ＩＩＩ）、ラウリン酸鉄（ＩＩ）、ラウリン酸鉄（ＩＩＩ）、ステアリン酸鉄（ＩＩ）、ステアリン酸鉄（ＩＩＩ）、シクロヘキシル酪酸鉄（ＩＩ）、シクロヘキシル酪酸鉄（ＩＩＩ）、シュウ酸鉄（ＩＩ）、シュウ酸鉄（ＩＩＩ）、安息香酸鉄（ＩＩ）、安息香酸鉄（ＩＩＩ）、フタル酸鉄（ＩＩ）、ぎ酸コバルト、酢酸コバルト、プロピオン酸コバルト、アクリル酸コバルト、２−エチルヘキサン酸コバルト、デカン酸コバルト、ラウリン酸コバルト、ステアリン酸コバルト、シクロヘキシル酪酸コバルト、シュウ酸コバルト、安息香酸コバルト、フタル酸コバルト、アジピン酸コバルト、ぎ酸ニッケル、酢酸ニッケル、プロピオン酸ニッケル、アクリル酸ニッケル、２−エチルヘキサン酸ニッケル、デカン酸ニッケル、ラウリン酸ニッケル、ステアリン酸ニッケル、シクロヘキシル酪酸ニッケル、シュウ酸ニッケル、安息香酸ニッケル、フタル酸ニッケル、アジピン酸ニッケル、ぎ酸カルシウム、酢酸カルシウム、プロピオン酸カルシウム、アクリル酸カルシウム、２−エチルヘキサン酸カルシウム、デカン酸カルシウム、ラウリン酸カルシウム、ステアリン酸カルシウム、シクロヘキシル酪酸カルシウム、シュウ酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フタル酸カルシウム、ぎ酸亜鉛、酢酸亜鉛、プロピオン酸亜鉛、アクリル酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、デカン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、シクロヘキシル酪酸亜鉛、シュウ酸亜鉛、安息香酸亜鉛、フタル酸亜鉛、ぎ酸鉛、酢酸鉛、プロピオン酸鉛、アクリル酸鉛、２−エチルヘキサン酸鉛、デカン酸鉛、ラウリン酸鉛、ステアリン酸鉛、シクロヘキシル酪酸鉛、シュウ酸鉛、安息香酸鉛、フタル酸鉛、ぎ酸マンガン、酢酸マンガン、プロピオン酸マンガン、アクリル酸マンガン、２−エチルヘキサン酸マンガン、デカン酸マンガン、ラウリン酸マンガン、ステアリン酸マンガン、シクロヘキシル酪酸マンガン、シュウ酸マンガン、安息香酸マンガン、フタル酸マンガンなどの金属カルボン酸塩；水素化カルシウム、次亜塩素酸カルシウム、水素化鉛、トリフェニル鉛ハイドライド、トリス（１―ピロリル）鉛ハイドライド、トリシクロヘキシル鉛ハイドライド、ト���ス（１−ナフチル）鉛ハイドライドなどの金属ハイドライド化合物；その他、カドミウムアセチルアセトナート、鉄（ＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート、カルシウムアセチルアセトナート、亜鉛アセチルアセトナート、鉛（ＩＩ）アセチルアセトナート、マンガン（ＩＩ）アセチルアセトナート、フェロセン、コバルトセン、ニケロセン、マンガノセン、デカメチルフェロセン、デカメチルコバルトセン、デカメチルニケロセン、デカメチルマンガノセンなども用いることができるが、この限りではない。
【００３９】
これらのうち、還元能を有さない出発化合物は、マグネシウム化合物の場合と同様に、還元能を有する出発化合物から誘導した化合物、あるいは触媒成分の調製時に誘導した化合物であってもよい。還元能を有さない出発化合物を、還元能を有する出発化合物から誘導するには、たとえば、還元能を有する出発化合物を、ポリシロキサン化合物、ハロゲン含有シラン化合物、ハロゲン含有アルミニウム化合物、エステル、アルコール、ハロゲン含有化合物、あるいはＯＨ基や活性な炭素−酸素結合を有する化合物と接触させればよい。また、上記の還元能を有する出発化合物および還元能を有さない出発化合物は、たとえばアルミニウム、亜鉛、ホウ素、ベリリウム、ナトリウム、カリウムなどの他の有機金属化合物との錯化合物、複化合物を形成していてもよく、あるいは混合物であってもよい。さらに、出発化合物は単独であってもよく、上記の化合物を２種以上組み合わせてもよく、また液状状態で用いても固体状態で用いてもよい。マグネシウム化合物の場合と同様に、出発化合物が固体である場合、後述する酸素含有化合物（ｃ−１）または、窒素含有化合物（ｃ−２）などを用いて液状状態にすることができる。
ＣｄＣｌ２型またはＣｄＩ２型の層状結晶構造を有するイオン結合性化合物としては、上記の化合物の中の１種に限らず、２種以上用いることができる。
【００４０】
（Ｃ）成分
本発明で用いられる（Ｃ）成分は、（ｃ−１）酸素含有化合物と（ｃ−２）窒素含有化合物とに分類される。
（ｃ−１）酸素含有化合物としては、アルコール類、フェノール類、アルデヒド類、カルボン酸類、ケトン類、有機酸ハライド、有機酸または無機酸のエステル類、エーテル類、ジエーテル類、エポキシド類、酸無水物類、酸素含有硫黄化合物類、酸素含有リン化合物類などが、（ｃ−２）窒素含有化合物としては、アンモニア類、アミン類、アミノ基含有化合物類、酸アミド類、酸イミド類、ニトリル類、ピリジン類、ニトロ化合物類などが挙げられる。また、その他のアルコキシ基含有化合物類、カルボニル基含有化合物類、アミノ基含有化合物類を用いてもよい。
【００４１】
より具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、２−エチルヘキサノール、オクタノール、ドデカノール、オクタデシルアルコール、オレイルアルコール、ベンジルアルコール、フェニルエチルアルコール、クミルアルコール、イソプロピルアルコール、イソプロピルベンジルアルコールなどの炭素数１〜１８のアルコール類やトリクロロメタノールやトリクロロエタノール、トリクロロヘキサノールなどの炭素数１〜１８のハロゲン含有アルコール類、フェノール、クレゾール、キシレノール、エチルフェノール、プロピルフェノール、ノニルフェノール、クミルフェノール、ナフトールなどの低級アルキル基を有してもよい炭素数６〜２０のフェノール類、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オクチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒド、ナフトアルデヒドなどの炭素数２〜１５のアルデヒド類、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、フェニル酢酸、安息香酸、トルイル酸、フタル酸、テレフタル酸などの炭素数１〜２０のカルボン酸類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンゾキノンなどの炭素数３〜１５のケトン類、アセチルクロリド、ベンゾイルクロリド、トルイル酸クロリド、アニス酸クロリドなどの炭素数２〜１５の酸ハライド類、ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニル、酢酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、吉草酸エチル、クロル酢酸メチル、ジクロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロトン酸エチル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシル、安息香酸フェニル、安息香酸ベンジル、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、トルイル酸アミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチル、アニス酸エチル、エトキシ安息香酸エチル、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、クマリン、フタリド、炭酸エチレンなどの有機酸エステル類、メチルエーテル、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、アミルエーテル、テトラヒドロフラン、アニソール、ジフェニルエーテルなどの炭素数２〜２０のエーテル類、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、エピクロロヒドリンなどのエポキシド類、無水酢酸、無水フタル酸、無水安息香酸などの酸無水物類、ジフェニルスルホン、フェニルメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド、ジメチルスルファイト、グリコールスルファイト、１，３−ブチレングリコールスルファイト、１，２−プロピレングリコールスルファイト、ジメチルスルフェート、ジエチルスルフェート、ジプロピルスルフェート、エチレンスルフェート、１，３−プロパンジオールサイクリックスルフェート、エチルクロロスルホネート、１，３−プロパンスルトン、１，４−ブタンスルトン、メチルメタンスルホネート、メチルｐ−トルエンスルホネート、メチルベンゼンスルホネート��スルフリルアセテート、アセチルメタンスルホネート、スルファミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルスルファミド、ジメチルスルファモイルクロリド、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド、メチルアニリンスルホンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタンスルホンアミドなどの酸素含有硫黄化合物類、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリ２−エチルヘキシルホスファイト、ペンタメトキシホスホラン、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ２−エチルヘキシルホスフェート、ジエチルクロロホスファイト、ジメチルクロロホスフェート、ジメチルジエトキシホスフィン、ジメチルメチルホスホネート、ジエチルメチルホスホネート、メチルジクロロホスファイト、エチルホスホロジクロリド、メチルジクロロホスフェート、エチルジエチルホスフィネート、ジメチルアセチルホスフィンなどの酸素含有リン化合物類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリベンジルアミン、テトラメチルエチレンジアミンなどのアミン類、酢酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド、安息香酸Ｎ，Ｎ−ジエチルアミド、トルイル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミドなどの酸アミド類、フタルイミド、スクシンイミドなどの酸イミド類、アセトニトリル、ベンゾニトリル、トリニトリルなどのニトリル類、ピリジン、メチルピリジン、エチルピリジン、ジメチルピリジンなどのピリジン類、ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパン、ニトロベンゼン、ニトロトルエンなどのニトロ化合物などを例示することができるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
また、その他のアルコキシ基含有化合物類、カルボニル基含有化合物類、アミノ基含有化合物類としては、たとえば下記一般式で表される骨格を有する化合物が挙げられる。
Ｍ１Ａｍ１Ｘｎ１Ｒ１５３―（ｍ１＋ｎ１）
Ｍ２Ａｍ２Ｘｎ２Ｒ１６４―（ｍ２＋ｎ２）
（式中、Ａは−ＯＲ１７基、−ＣＯＲ１８基、−ＯＣＯＲ１９基、−ＮＲ２０Ｒ２１基であり、Ｒ１５、Ｒ１６は炭素数１〜１２の炭化水素基、Ｒ１７〜Ｒ２１は炭素数１〜１２の置換または無置換の炭化水素基、Ｘはハロゲンであり、ｍ１は１以上３以下の整数、ｍ２は１以上４以下の整数、ｎ１は０以上２以下の整数、ｎ２は０以上３以下の整数であり、Ｍ１はＡｌ、Ｂのうちのいずれかの元素、Ｍ２はＧｅ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｓｎのうちのいずれかの元素である。また、Ｒ２０とＲ２１はそれぞれ互いに連結されて環状構造を形成していてもよい。炭化水素基Ｒ１７〜Ｒ２１が置換されている場合の置換基は、Ｎ、Ｏ、Ｓなどの異原子を含み、たとえばＣ−Ｏ−Ｃ、ＣＯＯＲ、−Ｃ−Ｎ−Ｃ−などの置換基を有する。）
【００４３】
炭素数１〜１２の炭化水素基は、たとえばアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルエキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基などである。
【００４４】
このようなアルコキシ基含有化合物、カルボニル基含有化合物、アミノ基含有化合物としては、具体的には以下のような化合物が用いられる。
トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリ２−エチルヘキソキシアルミニウム、トリフェノキシアルミニウム、メチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシド）、ジエチルアルミニウムエトキシド、トリスアセチルアセトナトアルミニウム、アルミニウムトリアクリレート、アルミニウムトリアセテート、アルミニウムトリメタクリレートなどの酸素含有アルミニウム化合物、トリス（ジメチルアミノ）アルミニウム、トリス（ジエチルアミノ）アルミニウム、トリス（ジプロピルアミノ）アルミニウム、トリス（ジブチルアミノ）アルミニウム、ビス（ジメチルアミノ）アルミニウムクロリド、ビス（ジメチルアミノ）アルミニウムブロミド、ビス（ジエチルアミノ）アルミニウムクロリド、ビス（ジプロピルアミノ）アルミニウムクロリド、ビス（ジメチルアミノ）メチルアルミニウム、ビス（ジメチルアミノ）エチルアルミニウム、ビス（ジメチルアミノ）プロピルアルミニウム、ビス（ジメチルアミノ）イソブチルアルミニウム、ビス（ジメチルアミノ）フェニルアルミニウム、ジメチルアミノアルミニウムジクロリド、ジエチルアミノアルミニウムジクロリド、ジメチルアミノジメチルアルミニウム、ジメチルアミノジエチルアルミニウム、ジメチルアミノジプロピルアルミニウム、ジメチルアミノジイソブチルアルミニウム、ジメチルアミノジオクチルアルミニウム、ジメチルアミノジフェニルアルミニウムなどの窒素含有アルミニウム化合物、トリメチルボレート、トリエチルボレート、トリイソプロピルボレート、トリ２−エチルヘキシルボレート、トリフェニルボレート、ジイソプロポキシメチルボラン、ブチルジイソプロポキシボラン、ジイソプロポキシフェニルボラン、ジエチルメトキシボランなどの酸素含有ホウ素化合物、トリス（ジメチルアミノ）ボラン、トリス（ジエチルアミノ）ボラン、トリス（ジプロピルアミノ）ボラン、ビス（ジメチルアミノ）クロロボラン、ビス（ジメチルアミノ）ブロモボラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルボラン、ビス（ジメチルアミノ）エチルボラン、ビス（ジメチルアミノ）プロピルボラン、ビス（ジメチルアミノ）ブチルボラン、ビス（ジメチルアミノ）フェニルボラン、ジメチルアミノジクロロボラン、ジメチルアミノジブロモボラン、ジメチルアミノジメチルボラン、ジメチルアミノジエチルボラン、ジメチルアミノジプロピルボラン、ジメチルアミノジイソブチルボラン、ジメチルアミノジフェニルボランなどの窒素含有ホウ素化合物、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラ２−エチルヘキソキシチタン、テトラフェノキシチタン、テトラベンジロキシチタン、トリイソプロポキシクロロチタン、トリイソプロポキシヨードチタン、ジエトキシジクロロチタン、ジイソプロポキシジクロロチタン、チタンテトラメタクリレートなどの酸素含有チタン化合物、テトラキス（ジメチルアミノ）チタン、テトラキス（ジエチルアミノ）チタン、トリス（ジメチルアミノ）クロロチタン、トリス（ジメチルアミノ）ブロモチタン、トリス（ジエチルアミノ）クロロチタン、ビス（ジメチルアミノ）ジクロロチタン、ビス（ジエチルアミノ）ジクロロチタン、ジメチルアミノトリクロロチタン、ジエチルアミノトリクロロチタンなどの窒素含有チタン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラ２−エチルヘキソキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラベンジロキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ｔ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｉｓｏ−ブチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリアリロキシ（ａｌｌｙｌｏｘｙ）シラン、シクロペンチルトリメトキシシラン、ヘキセニルトリメトキシシラン、２−メチルシクロペンチルトリメトキシシラン、２，３−ジメチルシクロペンチルトリメトキシシラン、シクロペンチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、２−ノルボルナントリメトキシシラン、２−ノルボルナントリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシシラン、ジイソプロピルジメトキシシラン、ｔ−ブチルメチルジメトキシシラン、ｔ−ブチルメチルジエトキシシラン、ｔ−アミルメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ビスｏ−トリルジメトキシシラン、ビスｍ−トリルジメトキシシラン、ビスｐ−トリルジメトキシシラン、ビスｐ−トリルジエトキシシラン、ビスエチルフェニルジメトキシシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジエトキシシラン、２−ノルボルナンメチルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ビス（２−メチルシクロペンチル）ジメトキシシラン、ビス（２，３−ジメチルシクロペンチル）ジメトキシシラン、ジシクロペンチルジエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルフェノキシシラン、トリシクロペンチルメトキシシラン、トリシクロペンチルエトキシシラン、ジシクロペンチルメチルメトキシシラン、ジシクロペンチルエチルメトキシシラン、ジシクロペンチルメチルエトキシシラン、シクロペンチルジメチルメトキシシラン、シクロペンチルジエチルメトキシシラン、シクロペンチルジメチルエトキシシラン、ケイ酸エチル、ケイ酸ブチル、ビニルトリス（β−メトキシエトキシシラン、）、ジメチルテトラエトキシジシロキサン、トリメトキシクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、トリプロポキシクロロシラン、トリブトキシクロロシラン、トリ２−エチルヘキソキシクロロシラン、トリフェノキシクロロシラン、トリメトキシブロモシラン、トリエトキシブロモシラン、トリプロポキシブロモシラン、トリブトキシブロモシラン、トリ２−エチルヘキソキシブロモシラン、トリフェノキシブロモシラン、ジベンジロキシジクロロシラン、フェノキシトリクロロシラン、シリコンアセテート、シリコンベンゾエート、シリコン２−エチルヘキサノエート、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルメチルジアセトキシシラン、フェニルメチルジアセトキシシラン、ジフェニルジアセトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、トリメチルアセトキシシラン、アセチルトリフェニルシラン、ベンゾイルトリフェニルシラン、アセチルトリメチルシランなどの酸素含有シラン化合物、テトラキス（ジメチルアミノ）シラン、テトラキス（ジエチルアミノ）シラン、トリス（ジメチルアミノ）クロロシラン、トリス（ジエチルアミノ）クロロシラン、トリス（ジメチルアミノ）メチルシラン、トリス（ジメチルアミノ）エチルシラン、トリス（ジメチルアミノ）フェニルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジクロロシラン、ビス（ジメチルアミノ）メチルクロロシラン、ビス（ジメチルアミノ）フェニルクロロシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルシラン、ビス（ジメチルアミノ）ジフェニルシラン、ビス（ジエチルアミノ）ジメチルシラン、ジメチルアミノトリクロロシラン、ジエチルアミノトリクロロシラン、ジメチルアミノトリメチルシラン、ジメチルアミノメチルジクロロシラン、トリメチルシリルピロールなどの窒素含有シラン化合物、テトラメトキシゲルマン、テトラエトキシゲルマン、テトラプロポキシゲルマン、テトラブトキシゲルマン、テトラ２−エチルヘキソキシゲルマン、テトラフェノキシゲルマン、メチルトリエトキシゲルマン、エチルトリエトキシゲルマン、ジエチルジエトキシゲルマン、トリエチルメトキシゲルマン、ブチルジアセトキシゲルマン、トリブチルアセトキシゲルマン、トリエチルメタクリロキシゲルマントリフェニルアセチルゲルマンなどの酸素含有ゲルマニウム化合物、テトラキス（ジメチルアミノ）ゲルマン、テトラキス（ジエチルアミノ）ゲルマン、トリス（ジメチルアミノ）クロロゲルマン、トリス（ジメチルアミノ）メチルゲルマン、トリス（ジメチルアミノ）エチルゲルマン、ビス（ジメチルアミノ）ジクロロゲルマン、ビス（ジメチルアミノ）ジメチルゲルマン、ビス（ジメチルアミノ）ジエチルゲルマン、ジメチルアミノトリクロロゲルマン、ジエチルアミノトリクロロゲルマン、ジメチルアミノトリメチルゲルマン、ジメチルアミノトリエチルゲルマン、ジメチルアミノトリフェニルゲルマンなどの窒素含有ゲルマニウム化合物、ビスアセチルアセトナトジクロロ錫、ジブチルジメトキシ錫、ジブチルジブトキシ錫、トリブチルメトキシ錫、トリブチルエトキシ錫、錫アセテート、錫メタクリレート、ブチルトリス２−エチルヘキサノエート錫、ジメチルジアセトキシ錫、ジブチルジアセトキシ錫、トリプロピルアセトキシ錫、トリブチルアセトキシ錫などの酸素含有錫化合物、テトラキス（ジメチルアミノ）錫、テトラキス（ジエチルアミノ）錫、トリス（ジメチルアミノ）クロロ錫、トリス（ジメチルアミノ）ブロモ錫、トリス（ジメチルアミノ）メチル錫、ビス（ジメチルアミノ）ジクロロ錫、ビス（ジメチルアミノ）ジメチル錫、ビス（ジメチルアミノ）ジエチル錫、ジメチルアミノトリクロロ錫、ジメチルアミノトリメチル錫、ジメチルアミノトリエチル錫、ジエチルアミノトリメチル錫、ジメチルアミノトリブチル錫、トリフェニルピペリジノ錫などの窒素含有錫化合物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
本発明で用いられる、上記のような酸素含有化合物（ｃ−１）または窒素含有化合物（ｃ−２）は、最終的に触媒成分中に含まれていればよく、従って触媒成分の調製時に、成分（ｃ−１）または（ｃ−２）を形成しうる化合物を用いて最終的に触媒成分中に酸素含有化合物（ｃ−１）または窒素含有化合物（ｃ−２）を形成させて存在させてもよく、必ずしも成分（ｃ−１）または（ｃ−２）をそれ自体を用いなければならないわけではない。つまり、酸素含有化合物（ｃ−１）または窒素含有化合物（ｃ−２）に属さない化合物を用いて、触媒成分の調製の途中で、酸素含有化合物または窒素含有化合物と接触反応させ、最終的に得られる触媒成分中において、酸素含有化合物（ｃ−１）または窒素含有化合物（ｃ−２）の形とすることができる。
酸素含有化合物（ｃ−１）または窒素含有化合物（ｃ−２）としては、上記の化合物の中の１種に限らず、２種以上用いることができる。
【００４６】
（Ｄ）成分
本発明で用いられる（Ｄ）成分としては、（ｃ−１）または（ｃ−２）と反応して、（ｃ−１）または（ｃ−２）を（Ａ）に対して不活性化しうる化合物であり、有機アルミニウム化合物類、ハロゲン化ホウ素化合物類、ハロゲン化リン化合物類、ハロゲン化硫黄化合物類、ハロゲン化チタン化合物類、ハロゲン化シラン化合物類、ハロゲン化ゲルマニウム化合物類、ハロゲン化錫化合物類などが挙げられる。
【００４７】
このような有機アルミニウム化合物類としては、たとえば下記式で表される。Ｒａ ｎ  ＡｌＸ３−ｎ  （式中、Ｒａ  は炭素数１〜１２の炭化水素基であり、Ｘはハロゲン原子または水素原子であり、ｎは１〜３である。）
炭素数１〜１２の炭化水素基は、たとえばアルキル基、シクロアルキル基またはアリール基であり、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、トリル基などである。
【００４８】
このような有機アルミニウム化合物として、具体的には、
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリ２−エチルヘキシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニム、イソプレニルアルミニウムなどのアルケニルアルミニウム。ジメチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムクロリド、ジイソプロピルアルミニウムクロリド、ジイソブチルアルミニウムクロリド、ジメチルアルミニウムブロミドなどのジアルキルアルミニウムハライド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、イソプロピルアルミニウムセスキクロリド、ブチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセスキブロミドなどのアルキルアルミニウムセスキハライド、メチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、イソプロピルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジブロミドなどのアルキルアルミニウムジハライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどのアルキルアルミニウムハイドライドなどが挙げられるが、この限りではない。
【００４９】
また下記式で表される有機アルミニウム化合物を用いることもできる。
Ｒａ ｎ  ＡｌＹ３−ｎ
上記式において、Ｒａ  は上記と同様であり、Ｙは−ＯＲｂ  基、−ＯＳｉＲｃ３基、−ＯＡｌＲｄ２基、−ＮＲｅ２基、−ＳｉＲｆ３基または−Ｎ（Ｒｇ  ）ＡｌＲｈ２基であり、ｎは１〜２であり、Ｒｂ  、Ｒｃ  、Ｒｄ  およびＲｈ  はメチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基などであり、Ｒｅは水素、メチル基、エチル基、イソプロピル基、フェニル基、トリメチルシリル基などであり、Ｒｆ  およびＲｇ  はメチル基、エチル基などである。  このような有機アルミニウム化合物としては、具体的には、以下のような化合物が用いられる。
【００５０】
ＲａｎＡｌ（ＯＲｂ）３−ｎとしては、
ジメチルアルミニウムメトキシド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジイソブチルアルミニウムメトキシドなど、
ＲａｎＡｌ（ＯＳｉＲｃ３）３−ｎとしては、
Ｅｔ２Ａｌ（ＯＳｉＭｅ３）、（ｉｓｏ−Ｂｕ）２Ａｌ（ＯＳｉＭｅ３）、（ｉｓｏ−Ｂｕ）２Ａｌ（ＯＳｉＥｔ３）など、
（ｉｉｉ）  ＲａｎＡｌ（ＯＡｌＲｄ２）３−ｎとしては、
Ｅｔ２ＡｌＯＡｌＥｔ２、（ｉｓｏ−Ｂｕ  ）２ＡｌＯＡｌ（ｉｓｏ−Ｂｕ）２  など、
（ｉｖ）  ＲａｎＡｌ（ＮＲｅ２）３−ｎとしては、
Ｍｅ２ＡｌＮＥｔ２、Ｅｔ２ＡｌＮＨＭｅ、Ｍｅ２ＡｌＮＨＥｔ、Ｅｔ２ＡｌＮ（Ｍｅ３Ｓｉ）２、（ｉｓｏ−Ｂｕ）２  ＡｌＮ（Ｍｅ３Ｓｉ  ）２  など、
（ｖ）  ＲａｎＡｌ（ＳｉＲｆ３）３−ｎとしては、
（ｉｓｏ−Ｂｕ）２  ＡｌＳｉＭｅ３など、
（ｖｉ）  ＲａｎＡｌ〔Ｎ（Ｒｇ）−ＡｌＲｈ２〕３−ｎとしては、
Ｅｔ２ＡｌＮ（Ｍｅ）−ＡｌＥｔ２、（ｉｓｏ−Ｂｕ）２ＡｌＮ（Ｅｔ）Ａｌ（ｉｓｏ−Ｂｕ）２  など、が挙げられる。
【００５１】
また、有機アルミニウム化合物として、第Ｉ族金属とアルミニウムとの錯アルキル化物である下記一般式で表される化合物を例示できる。
Ｍ３ＡｌＲｊ４（但し、Ｍ３  はＬｉ  、Ｎａ、Ｋであり、Ｒｊ  は炭素数１〜１５の炭化水素基である）
具体的には、ＬｉＡｌ（Ｃ２Ｈ５）４  、ＬｉＡｌ（Ｃ７Ｈ１５）４  などが挙げられる。
【００５２】
また、ハロゲン化ホウ素化合物類、ハロゲン化リン化合物類、ハロゲン化硫黄化合物類、ハロゲン化ゲルマニウム化合物類、ハロゲン化シラン化合物類、ハロゲン化チタン化合物類、ハロゲン化錫化合物類としては、具体的には以下の化合物などが用いられる。
【００５３】
三弗化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三ヨウ化ホウ素フェニルボロンジクロリド、ジフェニルクロロボランなどのハロゲン化ホウ素化合物、三塩化リン、三臭化リン、三ヨウ化リン、五塩化リン、五臭化リン、オキシ塩化リン、オキシ臭化リン、メチルジクロロホスフィン、エチルジクロロホスフィン、プロピルジクロロホスフィン、ブチルジクロロホスフィン、シクロヘキシルジクロロホスフィン、フェニルジクロロホスフィン、メチルジクロロホスフィンオキシド、エチルジクロロホスフィンオキシド、ブチルジクロロホスフィンオキシド、シクロヘキシルジクロロホスフィンオキシド、フェニルジクロロホスフィンオキシド、メチルフェニルクロロホスフィンオキシド、ジブロモトリフェニルホスホラン、テトラエチルホスホニウムクロリド、ジメチルジフェニルホスホニウムヨージド、エチルトリフェニルホスホニウムクロリド、アリルトリフェニルホスホニウムクロリド、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、アリルトリフェニルホスホニウムブロミド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、ベンジルトリフェニルホスホニウムブロミドなどのハロゲン化リン化合物、二塩化硫黄、塩化チオニル、塩化スルフリル、臭化チオニルなどのハロゲン化硫黄化合物、四弗化チタン、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタン、メトキシトリクロロチタン、エトキシトリクロロチタン、ブトキシトリクロロチタン、エトキシトリブロモチタン、ブトキシトリブロモチタン、ジメトキシジクロロチタン、ジエトキシジクロロチタン、ジブトキシジクロロチタン、ジエトキシジブロモチタン、トリメトキシクロロチタン、トリエトキシクロロチタン、トリブトキシクロロチタン、トリエトキシブロモチタンなどのハロゲン化チタン化合物、四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、四ヨウ化ケイ素、メトキシトリクロロシラン、エトキシトリクロロシラン、ブトキシトリクロロシラン、エトキシトリブロモシラン、ブトキシトリブロモシラン、ジメトキシジクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、ジブトキシジクロロシラン、ジエトキシジブロモシラン、トリメトキシクロロシラン、トリエトキシクロロシラン、トリブトキシクロロシラン、トリエトキシブロモシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、ブチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、ジブチルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、トリブチルクロロシラン、トリフェニルクロロシランなどのハロゲン化シラン化合物、四弗化ゲルマニウム、四塩化ゲルマニウム、四ヨウ化ゲルマニウム、メトキシトリクロロゲルマニウム、エトキシトリクロロゲルマニウム、ブトキシトリクロロゲルマニウム、エトキシトリブロモゲルマニウム、ブトキシトリブロモゲルマニウム、ジメトキシジクロロゲルマニウム、ジエトキシジクロロゲルマニウム、ジブトキシジクロロゲルマニウム、ジエトキシジブロモゲルマニウム、トリメトキシクロロゲルマニウム、トリエトキシクロロゲルマニウム、トリブトキシクロロゲルマニウム、トリエトキシブロモゲルマニウムなどのハロゲン化ゲルマニウム化合物、四弗化錫、四塩化錫、四臭化錫、四ヨウ化錫、メトキシトリクロロ錫、エトキシトリクロロ錫、ブトキシトリクロロ錫、エトキシトリブロモ錫、ブトキシトリブロモ錫、ジメトキシジクロロ錫、ジエトキシジクロロ錫、ジブトキシジクロロ錫、ジエトキシジブロモ錫、トリメトキシクロロ錫、トリエトキシクロロ錫、トリブトキシクロロ錫、トリエトキシブロモ錫、メチルトリクロロ錫、エチルトリクロロ錫、ブチルトリクロロ錫、フェニルトリクロロ錫、ジメチルジクロロ錫、ジエチルジクロロ錫、ジブチルジクロロ錫、ジフェニルジクロロ錫、トリメチルクロロ錫、トリエチルクロロ錫、トリブチルクロロ錫、トリフェニルクロロ錫などのハロゲン化錫化合物。
【００５４】
これらの化合物は単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせてもよい。また、炭化水素、ハロゲン化炭化水素に希釈してもよい。
【００５５】
オレフィン重合触媒の調製の際、各成分の使用法、添加順序は任意に選ぶことができる。具体的には以下のような方法が例示されるが、これらに限定されるものではない。
（１）（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、および（Ｄ）（ｃ−１）または（ｃ−２）と反応して、（ｃ−１）または（ｃ−２）を（Ａ）に対して不活性化しうる化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物（以下単に「（Ｄ）成分」とする）とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（２）（Ａ）成分と（Ｂ）成分を予め接触させた接触物と、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（３）（Ｂ）成分と（Ｃ）成分を予め接触させた接触物と、（Ａ）成分および（Ｄ）成分とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（４）（Ｃ）成分と（Ｄ）成分を予め接触させた接触物と、（Ａ）成分および（Ｂ）成分とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（５）（Ａ）成分と（Ｃ）成分を予め接触させた接触物と、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（６）（Ａ）成分と（Ｄ）成分を予め接触させた接触物と、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（７）（Ｂ）成分と（Ｄ）成分を予め接触させた接触物と、（Ａ）成分および（Ｃ）成分とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（８）（Ａ）成分と（Ｂ）成分を予め接触させた接触物と、（Ｃ）成分と（Ｄ）成分を予め接触させた接触物とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（９）（Ａ）成分と（Ｃ）成分を予め接触させた接触物と、（Ｂ）成分と（Ｄ）成分を予め接触させた接触物とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（１０）（Ａ）成分と（Ｄ）成分を予め接触させた接触物と、（Ｂ）成分と（Ｃ）成分を予め接触させた接触物とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（１１）（Ａ）成分、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分を予め接触させた接触物と、（Ｄ）成分とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（１２）（Ａ）成分、（Ｂ）成分および（Ｄ）成分を予め接触させた接触物と、（Ｃ）成分とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（１３）（Ｂ）成分、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分を予め接触させた接触物と、（Ａ）成分とを任意の順序で重合器に添加することにより調製する方法。
（１４）（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分および（Ｄ）成分を予め接触させた接触物を、重合器に添加することにより調製する方法。
【００５６】
これらのうち、好ましくは（Ｃ）成分と（Ｄ）成分の接触が、少なくとも（Ａ）成分と（Ｃ）成分が接触する以前に接触している調製方法を挙げることができる。また、（Ｂ）成分が、少なくとも一回は液状化される調製方法も好ましい。
本発明では、上記のような方法で調製されたオレフィン重合用触媒はオレフィンが予備重合されていてもよい。
【００５７】
本発明に係るオレフィンの重合方法では、上記のようなオレフィン重合触媒、および必要に応じて、（Ｅ）有機アルミニウム化合物の存在下に、オレフィンを重合または共重合することによりオレフィン重合体を得る。
【００５８】
（Ｅ）有機アルミニウム化合物
本発明で用いられる（Ｅ）有機アルミニウム化合物は、下記の一般式で表わされる化合物である。
Ｒ３−ｍ  ＡｌＸ
（ここで、Ｒは炭素原子数１〜２０、好ましくは１〜１２の炭化水素残基を、Ｘは水素またはハロゲンを、ｍは０≦ｍ≦２の数を、それぞれ示す。）
【００５９】
このような化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウムなどのトリアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムモノクロライド、ジイソブチルアルミニウムモノクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、などのアルキルアルミニウムハライド；ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどが挙げられる。
【００６０】
これら（Ｅ）成分の具体例のうち、好ましくは、トリアルキルアルミニウム、およびアルキルアルミニウムハライドであり、より好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、ジエチルアルミニウムモノクロライド、ジイソブチルアルミニウムモノクロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジクロライドである。
【００６１】
重合方法
本発明では、重合は溶解重合、懸濁重合などの液相重合法または気相重合法のいずれにおいても実施できる。
液相重合法において用いられる不活性炭化水素媒体として具体的には、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、灯油などの脂肪族炭化水素；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタンなどの脂環族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エチレンクロリド、クロルベンゼン、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素またはこれらの混合物などを挙げることができ、オレフィン自身を溶媒として用いることもできる。
【００６２】
上記のようなオレフィン重合触媒を用いて、オレフィンの重合を行うに際して、（Ａ）成分は、反応容積１リットル当り、（Ａ）成分中の遷移金属原子またはランタノイド原子として、通常１０−１１〜１０ミリモル、好ましくは１０−９〜１ミリモルとなるような量で用いられる。
（Ｂ）成分１ｇ当たり、（Ａ）成分は通常１０−４〜１００ミリモル、好ましくは１０−３〜５０ミリモルとなるような量で用いられる。
（Ｅ）成分は必要に応じて使用することができるが、使用する際には、（Ａ）成分中の遷移金属原子（Ｍ）とのモル比〔（Ｅ）／Ｍ〕が、通常０．００１〜１０００００、好ましくは０．００５〜５００００となるような量で用いられる。
【００６３】
また、このようなオレフィン重合触媒を用いたオレフィンの重合温度は、通常−５０〜＋２５０℃、好ましくは０〜２００℃の範囲である。重合圧力は、通常常圧〜１００ｋｇ／ｃｍ２、好ましくは常圧〜５０ｋｇ／ｃｍ２の条件下であり、重合反応は、回分式、半連続式、連続式のいずれの方法においても行うことができる。さらに重合を反応条件の異なる２段以上に分けて行うことも可能である。
【００６４】
得られるオレフィン重合体の分子量は、重合系に水素を存在させるか、または重合温度を変化させることによって調節することができる。さらに、使用する（Ｅ）成分の違いにより調節することもできる。
本発明において重合されるオレフィンとしては、炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のα−オレフィン、例えばエチレン、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ペンテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン；炭素原子数が３〜３０、好ましくは３〜２０の環状オレフィン、例えばシクロペンテン、シクロヘプテン、ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、２−メチル１，４，５，８−ジメタノ−１，２，３，４，４ａ，５，８，８ａ−オクタヒドロナフタレン；極性モノマー、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、ビシクロ（２，２，１）−５−ヘプテン−２，３−ジカルボン酸無水物などのα，β−不飽和カルボン酸、およびこれらのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩、亜鉛塩、マグネシウム塩、カルシウム塩などのα，β−不飽和カルボン酸金属塩；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチルなどのα，β−不飽和カルボン酸エステル；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、トリフルオロ酢酸ビニルなどのビニルエステル類；アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、イタコン酸モノグリシジルエステルなどの不飽和グリシジルなどが挙げられる。また、ビニルシクロヘキサン、ジエンまたはポリエンなどを用いることもできる。ジエンまたはポリエンとしては、炭素原子数４〜３０、好ましくは４〜２０であり２個以上の二重結合を有する環状又は鎖状の化合物が用いられる。具体的には、ブタジエン、イソプレン、４−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ペンタジエン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、１，４−オクタジエン、１，５−オクタジエン、１，６−オクタジエン、１，７−オクタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジエン；７−メチル−１，６−オクタジエン、４−エチリデン−８−メチル−１，７−ノナジエン、５，９−ジメチル−１，４，８−デカトリエン；さらに芳香族ビニル化合物、例えばスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレンなどのモノまたはポリアルキルスチレン；メトキシスチレン、エトキシスチレン、ビニル安息香酸、ビニル安息香酸メチル、ビニルベンジルアセテート、ヒドロキシスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、ジビニルベンゼンなどの官能基含有スチレン誘導体；３−フェ���ルプロピレン、４−フェニルプロピレン、α−メチルスチレンなどが挙げられる。
【００６５】
本発明に係るオレフィン重合触媒は、高い重合活性を示し、また分子量分布の狭い重合体を得ることができる。さらに、２種以上のオレフィンを共重合したときに、組成分布が狭いオレフィン共重合体を得ることができる。
また、本発明に係るオレフィン重合触媒は、α−オレフィンと共役ジエンとの共重合に用いることもできる。
【００６６】
ここで用いられるα−オレフィンとしては、上記と同様の炭素原子数が２〜３０、好ましくは２〜２０の直鎖状または分岐状のα−オレフィンが挙げられる。なかでもエチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−オクテンが好ましく、エチレン、プロピレンが特に好ましい。これらのα−オレフィンは、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【００６７】
また共役ジエンとしては、例えば１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、１，３−シクロヘキサジエン、１，３−ペンタジエン、４−メチル−１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエンなどの炭素原子数が４〜３０、好ましくは４〜２０の脂肪族共役ジエンが挙げられる。これらの共役ジエンは、１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
本発明では、α−オレフィンと共役ジエンとを共重合させるに際して、さらに非共役ジエンまたはポリエンを用いることができ、非共役ジエンまたはポリエンとしては、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−オクタジエン、１，５−オクタジエン、１，６−オクタジエン、１，７−オクタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニルノルボルネン、ジシクロペンタジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、４−エチリデン−８−メチル−１，７−ノナジエン、５，９−ジメチル−１，４，８−デカトリエンなどが挙げられる。
【００６８】
また、本発明に係るオレフィン重合触媒は、α−オレフィンと末端不飽和結合を有するポリマーとの共重合に用いることもできる。
ここで用いられる末端不飽和結合を有するポリマーとしては、数平均分子量（Ｍｎ）の値が１００〜５，０００，０００の直鎖状または分岐状の末端不飽和結合を有するポリマーが挙げられる。なかでも好ましくは、Ｍｎの値が５００〜１，０００，０００、さらに好ましくは１，０００〜５００，０００の直鎖状または分岐状の末端不飽和結合を有するポリマーが挙げられる。
【００６９】
本発明で得られるオレフィン重合体には、必要に応じて耐熱安定剤、耐候安定剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤、核剤、顔料、染料、無機または有機充填剤などを配合することもできる。
【００７０】
【発明の効果】
本発明に係るオレフィン重合用触媒は、高価な有機アルミニウムオキシ化合物あるいは有機ホウ素化合物と組み合せて用いなくても高い活性でオレフィン重合させることができる。また、高価な有機アルミニウムオキシ化合物あるいは有機ホウ素化合物を用いていないので安価である。さらに、高温での重合や長時間の重合においても高い活性を持続してオレフィン重合させることができる。
本発明に係るオレフィンの重合方法は、このようなオレフィン重合用触媒の存在下に、オレフィンを重合し、オレフィン重合体を高収率で製造することができる。
【００７１】
【実施例】
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
〔実施例１〕
［成分（Ｂ１）の調製］
無水塩化マグネシウム  ９５．２ｇ（１．０モル）、デカン  ４４２ｍｌおよび２−エチルヘキシルアルコール  ３９０．６ｇ（３．０モル）を１３０℃で２時間反応を行い均一溶液（成分（Ｂ１））を得た。
［成分（Ｂ１−１）の調製］
充分に窒素置換した内容積２００ｍｌのフラスコに、成分（Ｂ１）２５ｍｌ（マグネシウム原子換算で２５ミリモル）、および精製トルエン  １００ｍｌを装入し、攪拌下、液温を１５℃に保持しながら、精製トルエンで希釈したトリエチルアルミニウム  ２６ミリモルを、３０分間にわたって滴下装入した。その後、液温を２時間かけて８０℃に昇温し、１時間反応させた。次いで、８０℃を保持しながら、再び、精製トルエン希釈のトリエチルアルミニウム  ４９ミリモルを、３０分間にわたって滴下装入し、その後さらに１時間加熱反応した。反応終了後、濾過にて固体部を採取し、トルエンにて充分洗浄し、１００ｍｌのトルエンを加えて成分（Ｂ１−１）のトルエンスラリーとした（成分（Ｂ１−１））。
［成分（Ｂ１−１−Ａ１）の調製］
充分に窒素置換したシュレンク管に成分（Ｂ１−１）、下記成分（Ａ１）  をこの順で添加し５分間接触させることで成分（Ｂ１−１−Ａ１）を調製した。
［重合］
充分に窒素置換した内容積５００ｍｌのパドル翼攪拌機付きガラス製オートクレーブに精製トルエン  ２５０ｍｌを入れ、５０℃に加温し、エチレン  １００リットル／ｈｒで液相および気相をエチレンで飽和させた。その後，トリエチルアルミニウムを０．１２５ミリモル、上記で調製した成分（Ｂ１−１−Ａ１）を全量装入し、重合を開始した。常圧のエチレンガス雰囲気下、１５分間重合させた後、少量のイソブチルアルコールを添加して重合を止めた。反応生成物を大量のメタノールに投入してポリマーを全量析出後、塩酸を加えてグラスフィルターで濾取した。得られたポリマーを１０時間、真空乾燥させてポリエチレン  ０．６６ｇを得た。
【００７２】
【化５】
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