(57)【要約】【課題】  本発明は、有機電界発光素子製造時発光層をレーザー転写法で形成する場合未転写不良を防止することができるレーザー転写用ドナーフィルムを提供する。【解決手段】  本発明はレーザー転写用ドナーフィルム及びこれを用いて製造される有機電界発光素子に係り、基材フィルム、基材フィルム上部に形成されている光−熱変換層、基材フィルム全面にかけて光−熱変換層上部に形成されている金属層、金属層上部全面に形成されているバッファー層、及びバッファー層上部に形成されていて有機物質で構成された転写層を含むことを特徴とするレーザー転写用ドナーフィルム及びこれを用いて製造される有機電界発光素子を提供することによってエッジオープン不良を減らして素子製造工程のうち有機電界発光素子の基板にレーザーによる損傷を防止することができる。【選択図】  図５
2005183381.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと；
前記基材フィルム上部に形成されている光−熱変換層と；
基材フィルム全面にかけて前記光−熱変換層上部に形成されている金属層と；
前記金属層上部全面に形成されているバッファー層；及び
前記バッファー層上部に形成されていて有機物質で構成された転写層を含むことを特徴とするレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項２】
前記金属層は厚さが１μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項３】
前記金属としてはレーザービーム透過率が２０％以下であることを特徴とする請求項１に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項４】
前記光−熱変換層はレーザー光吸収物質が含まれている有機膜、または金属、金属の酸化物、金属の硫化物及びこれらの複合層で構成された金属化合物のうち１種の物質であることを特徴とする請求項１に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項５】
前記有機膜としてはアクリル（メタ）アクリレイトオリゴマー、エステル（メタ）アクリレイトオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレイトオリゴマー、ウレタン（メタ）アクリレイトオリゴマーで構成される群から選択される１種以上の（メタ）アクリレイトオリゴマーを高分子結合樹脂で用いて前記高分子結合樹脂にカーボンブラックまたは黒鉛を顔料で添加して混合した混合物であることを特徴とする請求項４に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項６】
前記金属としては光学濃度が０．１ないし４．０であるものでアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、錫（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、亜鉛（Ｚｎ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）及び鉛（Ｐｂ）で構成された群から選択される一つであることを特徴とする請求項４に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項７】
前記有機膜の厚さは０．１ないし２μｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項８】
前記金属化合物の厚さが１００ないし５，０００Åであることを特徴とする請求項４に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項９】
前記光−熱変換層にガス生成層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項１０】
前記バッファー層は厚さが０．０１ないし２μｍ以下である金属の酸化物、金属の硫化物、非金属無機物、不活性高分子及び不活性低分子で構成された群から選択される１種の物質であることを特徴とする請求項１に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項１１】
基材フィルム、光−熱変換層、及び転写層を含んでおり、前記光−熱変換層間に照射されるレーザーを光−熱変換層に反射して光−熱変換層から生成されるガスが転写層に浸透することを防止して熱をよく分散（ｄｉｓｓｉｐａｔｉｏｎ）させる反射層を含むことを特徴とするレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項１２】
前記反射層はレーザービーム透過率が２０％以下であることを特徴とする請求項１１に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項１３】
前記反射層は金属で構成されることを特徴とする請求項１２に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項１４】
前記金属はアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、錫（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、亜鉛（Ｚｎ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）及び鉛（Ｐｂ）で構成された群から選択される一つであることを特徴とする請求項１３に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項１５】
前記反射層の厚さは１μｍ以下であることを特徴とする請求項１３に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項１６】
前記光−熱変換層はレーザー光吸収物質が含まれている有機膜、または金属、金属の酸化物、金属の硫化物及びこれらの複合層で構成された金属化合物のうち１種の物質であることを特徴とする請求項１２に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項１７】
前記有機膜としてはアクリル（メタ）アクリレイトオリゴマー、エステル（メタ）アクリレイトオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレイトオリゴマー、ウレタン（メタ）アクリレイトオリゴマーで構成される群から選択される１種以上の（メタ）アクリレイトオリゴマーを高分子結合樹脂で用いて前記高分子結合樹脂にカーボンブラックまたは黒鉛を顔料で添加して混合した混合物であることを特徴とする請求項１６に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項１８】
前記金属としては光学濃度が０．１ないし４．０であるものでアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、錫（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、亜鉛（Ｚｎ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）及び鉛（Ｐｂ）で構成された群から選択される一つであることを特徴とする請求項１６に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項１９】
前記有機膜の厚さは０．１ないし２μｍ以下であることを特徴とする請求項１６に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項２０】
前記金属化合物の厚さが１００ないし５，０００Åであることを特徴とする請求項１６に記載のレーザー転写用ドナーフィルム。
【請求項２１】
第１項または第１１項のドナーフィルムを用いることを特徴とする有機電界発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はレーザー転写用ドナーフィルム及びこのフィルムを用いて製造される有機電界発光素子に係り、さらに詳細には有機電界発光素子の有機層を形成するために使われるドナーフィルム及びこれを用いる有機電界発光素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に有機電界発光素子は陽極及び陰極、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などの多層で構成される。有機電界発光素子は用いる材料によって高分子と低分子に分けられるが低分子有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｅ）デバイスの場合には真空蒸着によって各層を導入して、高分子有機ＥＬデバイスの場合にはスピンコーティング工程を利用して発光素子を作ることができる。
【０００３】
単色素子である場合、高分子を利用した有機電界発光素子はスピンコーティング工程を利用して簡単に素子を作ることができるが低分子を利用したものより駆動電圧は低いが効率と寿命が落ちる短所がある。また、フールカラー素子を作る時にはそれぞれ赤色、緑色、青色の高分子をパターニングしなければならないがインクジェット技術やレーザー転写法を利用する時効率と寿命など発光特性が悪くなる問題点がある。
【０００４】
特に、レーザー転写法を利用してパターニングをする時には単一高分子材料では転写できない材料が大部分である。レーザー熱転写法による高分子有機電界発光素子のパターン形成方法は韓国特許番号１９９８−５１８４４号に開示されており、また米国特許第５，９９８，０８５号、６，２１４，５２０号及び６，１１４，０８８号に既に開示されている。
【０００５】
前記熱転写法を適用するためには少なくとも光源、転写フィルム、そして基板を必要とし、光源から出た光が転写フィルムの光吸収層によって吸収されて熱エネルギーに変換されてこの熱エネルギーによって転写フィルムの転写層形成物質が基板に転写されて所望するイメージを形成しなければならない（米国特許第５，２２０，３４８号、第５，２５６，５０６号、第５，２７８，０２３号及び第５，３０８，７３７号）。
【０００６】
このような熱転写法は液晶表示素子用カラーフィルター製造に利用されたりしており、また発光物質のパターンを形成するために利用される場合があった（米国特許第５，９９８，０８５号）。
【０００７】
米国特許第５、９３７、２７２号はフールカラー有機電界発光素子で高度のパターン化された有機層を形成する方法に係り、前記方法は有機電界発光物質が転写可能なコーティング物質でコーティングされたドナー支持体を用いる。前記ドナー支持体は加熱して有機電界発光物質が目的する下部ピクセルにある色化された有機電界発光媒介体を形成する基板のリセス表面部に転写されるようにする。この時、前記転写はドナーフィルムに熱または光が加えられて発光物質がピクセルに転写される。
【０００８】
米国特許第５、６８８、５５１号はそれぞれの画素領域に形成される副画素（ｓｕｂｐｉｘｅｌ）を形成することにおいて、ドナーシートから収容体（ｒｅｃｅｉｖｅｒ）シートに転写されることによって形成される。この時、転写工程は低温（約４００℃以下）で昇華性がある有機電界発光物質をドナーシートから収容体シートに転写して副画素を形成することを開示している。
【０００９】
図１は通常のフールカラー有機電界発光素子の構造を示す断面図である。
【００１０】
図１を参照すると、絶縁基板１００上に第１電極２００がパターニングされて形成されている。前記第１電極２００としては背面発光構造の場合透明電極で形成されて前面発光構造の場合には反射膜を含む導電性金属で形成される。
【００１１】
前記第１電極２００上部には画素領域を定義して発光層間に絶縁のために絶縁性物質で画素定義膜（ＰＤＬ；３００）を形成する。
【００１２】
前記画素定義膜（ＰＤＬ；３００）で定義された画素領域に有機発光層（３３、Ｒ、Ｇ、Ｂ）を含む有機膜層を形成して、前記有機膜層３３は前記有機発光層以外にも正孔注入層、正孔輸送層、正孔抑制層、電子輸送層及び電子注入層のうち１以上の層をさらに含むことができる。前記有機発光層としては高分子物質及び低分子物質すべて可能である。
【００１３】
そうしてから、前記有機膜層３３上部には第２電極４００を形成する。前記第２電極４００は第１電極２００が透明電極である場合には反射膜を含む導電性金属層で形成して、前記第１電極が反射膜を含む導電性金属層である場合には透明電極で形成する。そうしてから、有機電界発光素子を封止することによって有機電界発光素子を完成する。
【００１４】
しかし、従来のレーザー転写を用いて発光層を形成する場合には図２に示したように、従来のレーザー転写用ドナーフィルム３４は基材フィルム３１、光−熱変換層３２、及び転写層３３で構成されていて、バッファー層（図示せず）をさらに含むことができる。
【００１５】
図３は従来のドナーフィルムを用いる場合の転写モデルに関したことであって図３に示したようにレーザー照射時光−熱変化層３２が膨脹することによって転写層３３が膨脹しながらドナーフィルムから分離されて有機電界発光素子の基板に転写される。
【００１６】
しかし、有機電界発光素子は画素領域のエッジ部分が前記画素定義膜３００によって段差が存在するためレーザー転写を利用して発光層を形成する場合にはその段差部分で発光層が切れて転写されない部分が発生するようになる。これをエッジオープン不良（ｅｄｇｅ  ｏｐｅｎまたは未転写不良）といっており、このようなオープン不良は特にレーザーエネルギーを受けて膨脹される部分、すなわちドナーフィルムの光−熱変換層３２またはバッファー層（図示せず）のような層が曲がる曲率半径が大きいためである。すなわち、膨脹される部分の厚さが厚いためである。
【００１７】
図４は画素定義膜によって発生する段差とエッジオープン不良との関係を段差大きさとドナーフィルムの膨脹部分の曲率半径との関係を示すグラフである。
【００１８】
図４を参照すると、段差大きさが大きいほどエッジオープン不良が多いことがわかって、また、段差大きさが同一であると仮定する場合曲率半径が大きい場合にエッジオープン不良が多く発生することが分かる。
【００１９】
このような不良は有機電界発光素子の効率と寿命を落として色特性を低下させるという問題点が発生する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
本発明は上で説明したような問題点を解決するために案出したものであって、本発明の目的は有機電界発光素子製造時発光層をレーザー転写法で形成する場合未転写不良を防止することができるレーザー転写用ドナーフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明は前記目的を達成するために、本発明は
【００２２】
基材フィルム、
【００２３】
前記基材フィルム上部に形成されている光−熱変換層、
【００２４】
基材フィルム全面にかけて前記光−熱変換層上部に形成されている金属層、
【００２５】
前記金属層上部全面に形成されているバッファー層、及び
【００２６】
前記バッファー層上部に形成されていて有機物質で構成された転写層を含むことを特徴とするレーザー転写用ドナーフィルムを提供する。
【００２７】
また、本発明は
【００２８】
基材フィルム、光−熱変換層、及び転写層を含んでおり、前記光−熱変換層間に照射されるレーザーを光−熱変換層に反射して光−熱変換層から生成されるガスが転写層に浸透することを防止する反射層を含むことを特徴とするレーザー転写用ドナーフィルムを提供する。
【発明の効果】
【００２９】
以上のように本発明ではレーザー転写用ドナーフィルムで光−熱変換層と転写層間に反射層または金属層を形成することによって光−熱変換層に吸収されるエネルギー量を大きくしてレーザービームが基板に伝達されないようにすることによって基板損傷を防止して熱により光−熱変換層で発生するガスが転写層に浸透することを防止して転写層に伝えられる熱がよく分散（ｄｉｓｓｉｐａｔｉｏｎ）されるようにして転写層の劣化を防いでくれる。
【００３０】
また、光−熱変換層を薄く形成することによって有機電界発光素子の画素領域の画素定義膜による段差部分で転写層と基板の密着性を高めることによってエッジオープン不良を減らすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
【００３２】
本発明では同一な構成要素に対しては同一な参照番号を付与して説明する。
【００３３】
図５は本発明によってレーザーを利用して有機電界発光素子に使われる発光有機膜を転写パターニングする時の転写メカニズムを示した図面である。
【００３４】
通常レーザーを利用して有機膜を転写パターニングする時のメカニズムは図５で分かるように、基板Ｓ１についていた有機膜Ｓ２  ３３がレーザーの作用でＳ１から離れてきて基板Ｓ３に転写されながらレーザーを受けない部分と分離が起こらなければならない。
【００３５】
転写特性を左右する因子は基板Ｓ１とフィルムＳ２との第１接着力Ｗ１２とフィルムどうしの粘着力Ｗ２２、そしてフィルムＳ２と基板Ｓ３との第２接着力Ｗ２３の３種である。
【００３６】
このような第１、第２接着力と粘着力を各層の表面張力γ１、γ２、γ３と界面張力γ１２、γ２３で表現すれば下記式のように表現される。
Ｗ１２=γ１+γ２−γ１２
Ｗ２２=２γ２
Ｗ２３=γ２+γ３−γ２３
【００３７】
レーザー転写特性を向上させるためにはフィルムどうしの粘着力が各基板とフィルム間の接着力より小さくなければならない。
【００３８】
一般に有機電界発光素子では各層を形成する物質で有機物質を用いており低分子物質を用いる場合には前記第１及び第２接着力が粘着力より大きいためドナーフィルム３４から発光物質を有機電界発光素子に転写させることによって物質転移（ｍａｓｓ  ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ）が起こって発光層の微細パターンを形成することができることである。このように転写することによって、微細な発光層のパターンまでも形成することができてミスアライン（ｍｉｓ−ａｌｉｇｎ）が発生する可能性が少なくなる。
【００３９】
図６は本発明の第１実施形態による低分子レーザー転写用ドナーフィルムの構造を示した図面である。
【００４０】
図６を参照すると、前記ドナーフィルム３４は基材フィルム３１、前記基材フィルム３１上部に形成されている光−熱変換層３２、基材フィルム３１全面にかけて前記光−熱変換層３２上部に形成されている金属層３５、前記金属層３５上部全面に形成されていて有機物質で構成された転写層３３が積層されている構造を有している。
【００４１】
図６のドナーフィルムは用途にしたがってフィルム構造を変更して用いることができる。例えば、フィルムの感度（ｓｅｎｓｉｔｉｖｉｔｙ）を向上させるために光−熱変換層上部または下部にガス生成層（図示せず）をさらに形成することもできて、前記金属層３５と転写層３３間にバッファー層（図示せず）をさらに含むことができる。
【００４２】
前記基材フィルム３１は透明性高分子で構成されているが、このような高分子にはポリエチレンテレフタルレートのようなポリエステル、ポリアクリル、ポリエポキシ、ポリエチレン、ポリスチレンなどを用いる。そのうちからポリテレフタル酸エチレンフィルムを主に用いる。基材フィルムの厚さは１０ないし５００μmであることが望ましく、この基材フィルムの役割は支持フィルムとしての役割を遂行して複合的な多重系も使用可能である。
【００４３】
前記光−熱変換層３２は赤外線−可視光線領域の光を吸収する性質を持っている光吸収性物質で形成する。レーザー光吸収物質が含まれている有機膜、金属及びこれらの複合層のうち一つである。
【００４４】
このような特性を持っている膜として金属、その金属の酸化物及び硫化物、そしてカーボンブラック、黒鉛や赤外線染料が添加された高分子で構成された有機膜がある。
【００４５】
この時、前記金属、その金属の酸化物及び硫化物は光学濃度（ｏｐｔｉｃａｌ  ｄｅｎｓｉｔｙ）が０．１ないし４．０であることでアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、錫（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、亜鉛（Ｚｎ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）及び鉛（Ｐｂ）等の金属、その酸化物及びこれらの混合物があるが、そのうちからもアルミニウム（Ａｌ）または銀（Ａｇ）とその酸化物が望ましい。
【００４６】
そして、前記カーボンブラック、黒鉛や赤外線染料が添加された高分子で構成された有機膜としては高分子結合樹脂に顔料、染料等のような着色剤、分散剤などが分散された有機物で前記高分子結合樹脂を形成する物質としてはアクリル（メタ）アクリレイトオリゴマー、エステル（メタ）アクリレイトオリゴマー、エポキシ（メタ）アクリレイトオリゴマー、ウレタン（メタ）アクリレイトオリゴマー等のような（メタ）アクリレイトオリゴマーを単独で用いる。また、前記オリゴマーに（メタ）アクリレイトモノマーを混合して用いたり、（メタ）アクリレイトモノマーだけを単独で用いる。そして前記カーボンブラックまたは黒鉛は粒径が０．５μm以下であるものを用いることが望ましく、この時の光学濃度は０．１ないし４であることが望ましい。
【００４７】
一方、積層される光−熱変換層３２があまり薄く形成される場合にはエネルギー吸収率が低くて光−熱変換されるエネルギー量が小さくて膨脹圧力が低くなるようになって、また、透過されるエネルギーが大きくなるようになってこれにより有機電界発光素子の基板回路に損傷を与えることになる。
【００４８】
また、転写時レーザーエネルギーによって膨脹される時一定厚さ以下を維持すればこそ膨脹時曲率半径が小さくなって転写層が有機電界発光素子の画素領域を定義する画素定義膜によって発生する段差によるエッジオープン不良を減らすことができる。
【００４９】
一方、あまり厚い場合には有機電界発光素子の画素領域を定義する画素定義膜によって発生する段差部分でフィルムと基板の密着が良くならなくてエッジオープン（ｅｄｇｅ  ｏｐｅｎ）不良が発生する可能性が大きい。
【００５０】
したがって、光−熱変換層３２が金属、または金属の酸化物または硫化物である場合には真空蒸着法、電子ビーム蒸着法またはスパターリングを利用して１００ないし５，０００Å厚さに形成して、有機膜の場合には一般的なフィルムコーティング方法である押出（ｅｘｔｒｕｓｉｏｎ）、グラビア（Ｇｒａｖｕｒｅ）、スピン（ｓｐｉｎ）、及びナイフ（ｋｎｉｆｅ）コーティング方法を利用して０．１ないし２μｍの厚さで積層する。
【００５１】
図７は従来のドナーフィルムを用いる場合光−熱変換層が相対的に厚く４μｍの厚さに積層されている場合レーザー照射によって光−熱変換層３２の各位置でエネルギー伝達とエネルギー吸収程度を示すグラフであって、図７を参照すると、エネルギー吸収が光−熱変換層のレーザービーム入射部で大部分起こって光−熱変換層を通過する間ほとんど大部分のエネルギーを吸収してエネルギー効率は良いが、大部分の光−熱変換層とバッファー層、転写層３３を含んだ厚い層を膨脹させて画素エッジで基板と密着させることはむずかしい。
【００５２】
これに反して、図８は本発明の実施形態によってドナーフィルムの光−熱変換層３２の厚さを０．５μmにして、金属層３５を用いた場合レーザー照射によって光−熱変換層３２の各位置でエネルギー伝達とエネルギー吸収程度を示すグラフであって、図８を参照すると光−熱変換層厚さが薄いのでレーザー照射によって光−熱変換層３２を通過しながら吸収されるエネルギーは小さくなる。しかし金属反射層を用いることによって反射されて出るレーザー光が再吸収されるようにしてエネルギー効率を大きくして光−熱変換層全体的にエネルギーをさらに均等にして全体的に均等に膨脹するようにしてバッファー層と転写層だけの薄い厚さだけを押し出せば良いので小さいエネルギーでも基板に密着が容易になることができる。
【００５３】
また、前記ガス生成層は光または熱を吸収すれば分解反応を起こして窒素ガスや水素ガス等を放出することによって転写エネルギーを提供する役割をしており、四硝酸ペンタエリトライト（ＰＥＴＮ）、トリニトロトルエン（ＴＮＴ）などから選択された物質からなる。ガス生成層は光−熱変換層から熱を伝達受けなければならないので光−熱変換層の上部や下部に隣接したり光−熱変換層物質と混合して一つの層を形成することができる。
【００５４】
一方、前記基材フィルム全面にかけて前記光−熱変換層３２上部に形成される金属層３５としてはレーザービーム透過率が２０％以下である金属を用いる。また、前記金属層３５の厚さは１μｍ以下で真空蒸着法、電子ビーム蒸着法またはスパターリング法で積層する。前記金属層３５の厚さはレーザー光が有機電界発光素子の基板上にほとんど伝えられない程度ならば良くてあまり厚ければ光−熱変換層が膨脹時金属層が膨脹されなくて転写特性に影響を与えることができるためである。
【００５５】
この時、前記金属層によってレーザー転写時レーザーエネルギーが被転写される有機電界発光素子の基板に伝えられないため基板回路に損傷を防止することができ、また、光−熱変換３２層で発生するガスが転写層３３に浸透されることを防止する。また熱伝導性が良い金属を用いることによって光−熱変換層から転写層に伝えられる熱を分散（ｄｉｓｓｉｐａｔｉｏｎ）させて転写層の熱的損傷を防ぐことができる。
【００５６】
前記金属層３５上部にはバッファー層（図示せず）をさらに形成することができる。バッファー層は金属層と転写層が隣接して金属が転写層に拡散（ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ）されてデバイス特性が低下することを防いで、転写パターン特性が向上することができるように転写層との接着力を制御する役割をする。バッファー層は金属酸化物、金属硫化物または非金属無機化合物や有機物を用いることができて、金属酸化物などは前記金属層を形成した後表面を酸化させて形成したり別途の工程で形成することができる。有機物は不活性高分子（ｉｎｅｒｔ  ｐｏｌｙｍｅｒ）をコーティングしたり低分子を蒸着して形成することができる。厚さは０．０１ないし２μｍ以内であることが望ましい。
【００５７】
一方、前記転写層３３としては製造しようとする有機電界発光素子の特性に合致されるように、高分子または低分子有機電界発光物質、ホール伝達性有機物質、及び電子伝達性有機物質のうちから選択された少なくとも一つの物質で形成する。この時転写層の形成は一般的なコーティング方法である押出、グラビア、スピン、ナイフコーティング方法、真空蒸着法、ＣＶＤなどの方法を利用して１００ないし５０，０００Å厚さにコーティングする。
【００５８】
以上のように、光−熱変換層３２と転写層３３間に金属層３５を導入してレーザーを反射させることによって光−熱変換層３２にさらに多くのエネルギーが伝えられるようにする。
【００５９】
図９は本発明の第２実施形態によるレーザー転写用ドナーフィルムの断面図である。図９を参照すると、本発明の第２実施形態としては基材フィルム３１、光−熱変換層３２、及び転写層３３を含んでおり、前記光−熱変換層３２間に照射されるレーザーを光−熱変換層３２に反射して光−熱変換層３２から生成されるガスが転写層３３に浸透することを防止する反射層３５’を含むことを特徴とするレーザー転写用ドナーフィルムを開示する。
【００６０】
本実施形態では前記第１実施形態とは違って前記光−熱変換層と転写層間に光−熱変換層から生成されるガスが転写層に浸透することを防止する反射層を含む。
【００６１】
前記反射層はガスが転写層に浸透することを防止することができるならば有機物、無機物または金属でもどれでも構わない。
【００６２】
前記反射層としてはレーザー光透過率が２０％以下である物質を用いて、望ましくは金属を用いる。
【００６３】
前記反射層としてはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、錫（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、亜鉛（Ｚｎ）、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）及び鉛（Ｐｂ）等が使われることができる。
【００６４】
前記反射層は用いる物質によって積層する厚さは変わるがガス浸透遮断力とレーザー光透過率を考慮して１μm以下に積層することが望ましい。
【００６５】
以外の構成要素は第１実施形態と同一な物質及び方法を採用する。
【００６６】
本発明で開示しているレーザー転写用ドナーフィルムは特に、発光素子が有機物で構成される有機電界発光素子の場合微細パターンを形成するのが容易である。
【００６７】
以下、図１０を参照して本発明によるドナーフィルムを用いて有機電界発光素子の有機薄膜の微細パターンを形成する方法を詳細に説明する。以下の説明では説明の便宜のために本発明のドナーフィルムが適用される一例で有機電界発光素子を言及したが本発明のドナーフィルムが適用されることは有機電界発光素子に限られるのではない。
【００６８】
図１０は本発明によるドナーフィルムを用いて転写する方法を説明するための図面で先に、透明基板１００上に透明電極層２００を形成する。これと別途に基材フィルム３１上に光−熱変換層２２、金属層３５及び転写層３３を次々と塗布してドナーフィルム３４を準備する。
【００６９】
ここで転写層３３は有機薄膜形成用物質をコーティングすることによって製造される。この時、色々な特性を改善するために、所定含有量の添加物質を添加しても構わない。例えば、発光層の効率を高めるためにドーパント（ｄｏｐａｎｔ）を添加しても良い。そして、転写層３３を形成する方法としては前述したように、一般的なフィルムコーティング方法である押出、グラビア、スピン及びナイフコーティング方法を用いる。
【００７０】
前記転写層３３としては先に説明したように有機膜を用いて一つの層だけでなく２以上の層を必要によって積層することができる。
【００７１】
そうしてから、透明電極層２００が形成された基板１００に前記ドナーフィルム３４を配置した次に、前記ドナーフィルム３４にエナージ源３７を照射する。
【００７２】
前記エナージ源３７は転写装置を経って基材フィルム３３を通過して光−熱変換層３２を活性化させて、熱分解反応によって熱を放出する。この時、照射されたレーザービームは金属層または反射層３５によって再び反射されて光−熱変換層に照射されて光−熱変換層３２に印加されるエネルギーが増加するようになる。
【００７３】
このように放出された熱によって前記ドナーフィルムの光−熱変換層３２が膨脹されながら前記転写層３３がドナーフィルム３４から分離されて有機電界発光素子の基板１００上部に画素定義膜によって定義された画素領域上に転写物質である発光層が所望するパターンと厚さで転写されるようになる。
【００７４】
本発明でのように光−熱変換層３２の厚さを一定厚さ以上に厚くして転写時光−熱変換層が膨脹される時の曲率半径を小さくして画素定義膜形成によって発生する段差によるエッジオープン不良を防止することができる。
【００７５】
本発明で用いるエナージ源はレーザー、キセノン（Ｘｅ）ランプそしてフラッシュ（ｆｌａｓｈ）ランプなどが可能である。そのうちからもレーザーが最も優秀な転写効果を得ることができて望ましい。この時レーザーとしては固体、ガス、半導体、染料などのすべての汎用的なレーザーをすべて用いることができ、レーザービームの形態も円形のビームまたは他の可能な形態のビームが使用可能である。
【００７６】
ここで転写物質の転写は一回または多段階を経って成り立つことができる。すなわち、転写しようとする有機薄膜層の厚さにおいては一度に必要な厚さを転写できて、複数回反復によって転写することができる。しかし、工程の便宜性及び安定性を考慮するならば一度に転写物質を転写させることが望ましい。
【図面の簡単な説明】
【００７７】
【図１】通常のフールカラー有機電界発光素子の構造を示す断面図である。
【図２】従来のレーザー転写用ドナーフィルムの構造を示す断面図である。
【図３】従来のドナーフィルムを用いる場合の転写モデルを示す図面である。
【図４】画素定義膜によって発生する段差とエッジオープン不良との関係を段差大きさとドナーフィルムの膨脹部分の曲率半径との関係を示すグラフである。
【図５】レーザーを利用して有機電界発光素子に使われる発光有機膜を転写パターニングする時の転写メカニズムを示した図面である。
【図６】本発明の第１実施形態によるレーザー転写用ドナーフィルムの構造を示した図面である。
【図７】従来のドナーフィルムを用いる場合光−熱変換層が相対的に厚く４μｍの厚さに積層されている場合レーザー照射によって光−熱変換層３２の各位置でエネルギー伝達とエネルギー吸収程度を示すグラフである。
【図８】本発明の実施形態によってドナーフィルムの光−熱変換層３２の厚さを０．５μmにして、金属層３５を用いた場合レーザー照射によって光−熱変換層３２の各位置でエネルギー伝達とエネルギー吸収程度を示すグラフである。
【図９】本発明の第２実施形態によるレーザー転写用ドナーフィルムの断面図である。
【図１０】本発明によるドナーフィルムを用いて転写する方法を説明するための図面である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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