(57)【要約】【課題】  レンズ部材のコバ面において露出する固定剤からの脱ガスによる悪影響を防止する。【解決手段】  レンズ部材１を固定剤３によって保持部材５に固定することにより構成されるレンズ保持装置あるいは、複数枚のレンズを固定剤で貼り合わせたレンズ部材を、環状の金属部材４によって保持部材に固定することにより構成されるレンズ保持装置において、レンズ部材の光線使用領域が面する空間Ａと、固定剤が露出している固定剤露出領域が面する空間Ｂとを分離した構造とする。空間Ｂは密閉され、排気され、負圧とされ、または樹脂で充填される。【選択図】  図１
2005148254.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ部材を固定剤により保持部材に固定して構成されるレンズ保持装置において、前記レンズ部材の光線使用領域が面する空間と、前記固定剤が露出している固定剤露出領域が面する空間とを分離した構造を有することを特徴とするレンズ保持装置。
【請求項２】
複数枚のレンズを固定剤で貼り合わせたレンズ部材を環状の金属部材により保持部材に固定して構成されるレンズ保持装置において、前記レンズ部材の光線使用領域が面する空間と、前記固定剤が露出している固定剤露出領域が面する空間とを分離した構造を有することを特徴とするレンズ保持装置。
【請求項３】
前記固定剤露出領域が面する空間は完全に密閉されていることを特徴とする請求項１または２に記載のレンズ保持装置。
【請求項４】
前記レンズ部材を前記保持部材に固定する１つまたは２つの押え環、および前記押え環とレンズ部材との間を密閉する環状のシール部材を有することを特徴とする請求項３に記載のレンズ保持装置。
【請求項５】
前記固定剤露出領域が面する空間を排気する手段、または該空間を前記光線使用領域が面する空間の圧力より低くする手段を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のレンズ保持装置。
【請求項６】
脱ガスの少ない若しくはまったく発生しない充填剤が、前記固定剤露出領域を密封するように、前記固定剤露出領域が面する空間に充填されていることを特徴とする請求項１または２に記載のレンズ保持装置。
【請求項７】
前記レンズ部材は複数枚のレンズを貼り合せた貼り合せレンズであり、前記固定剤露出領域は前記貼り合せレンズのコバ面上にあることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のレンズ保持装置。
【請求項８】
前記固定剤は前記レンズ部材およびレンズ保持部材間を固定する接着剤であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のレンズ保持装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のレンズ保持装置を用いて光学系を構成したことを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
装置内を真空環境とされることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載の露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズを保持するレンズ保持装置、これを用いた露光装置、およびこれを用いたデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レンズ保持装置、特に半導体露光装置に使用するレンズ保持装置においては、レンズ部材をレンズ保持部材に取り付ける方式として、レンズ部材の側面であるコバ面を接着剤等の固定剤でレンズ保持部材に固定する接着方式や、環状の金属部材である押え環によってレンズ部材を保持部材に固定する押え環方式が用いられている。この２つの方式のうちでも、高精度な光学性能が求められる半導体露光装置に使用されるレンズ保持装置には、接着方式が広く用いられている。押え環方式によればレンズ部材に大きな応力を与えるからである。
【０００３】
接着方式においては、レンズ部材を、コバ面に接着剤を塗布してレンズ保持部材に固定するので、レンズ保持装置が構成されている装置空間に接着剤が露出した構造となる。また、押え環方式においても、複数枚のレンズを接着剤で貼り合せた貼り合せレンズの保持に際しては、レンズ部材のコバ面に接着剤が露出した構造となる。
【０００４】
前記接着方式に関する従来技術としては、接着剤に関して改良を施したものが、たとえば特許文献１に記載されている。この技術においては、図７に示すように、保持部材１０２に対し、レンズ部材１０１を接着剤１０３によって固定している。接着剤１０３は、脱ガス成分から引き起こされる光学性能の劣化や、接着剤の硬化により引き起こされる光学性能の劣化を防止するようにしたものであるとされている。同文献では、接着方式によるレンズ部材および保持部材間の接着構造としては、簡易な説明しかなされていない。
【０００５】
一方、半導体構造の微細化に伴い、投影露光装置には光源の更なる短波長化が求められている。短波長の光源は通常の大気空間を透過しないので、また、使用するミラー等の光学部材の劣化を考慮して、たとえばＥＵＶ（極短紫外）光を使用した露光装置においては、装置全体を真空環境とする必要がある。また、投影露光装置において、レンズ保持装置は投影光学系だけでなくアライメント（位置決め）用顕微鏡をはじめとする種々の周辺機器においても多数用いられている。
【０００６】
したがって、かかる真空空間においては、従来のレンズ保持装置を用いることにより、レンズ保持装置で使用されている接着剤から脱ガスが発生し、真空空間の汚染や、真空度の劣化だけでなく、レンズ部材の表面に脱ガス成分が付着することによってレンズ部材の曇りなども発生する。
【０００７】
つまり、上記図７のような接着方式による接着構造では、レンズ部材を保持部材に固定する接着剤がレンズ保持装置の構成された装置空間に露出しているため、脱ガス量が微量な接着剤を使用したとしても、真空空間の脱ガスによる汚染や、時間の経過とともにレンズ表面に脱ガス成分が付着することによるレンズ部材の曇りなどの光学的な劣化が発生するという問題がある。また、脱ガス成分の少ない接着剤は一般的に通常の接着剤と比較して高価であり、汎用性がない。
【０００８】
このような問題に鑑み、特許文献２には、接着剤が露出した領域に紫外光が照射されることによる接着剤からの脱ガス成分を考慮し、接着剤の表面に保護部材を設けたレンズ保持装置が開示されている。しかしながらこの方式によれば、保護部材は光線による露光を遮る目的で構成されており、接着剤が露出した空間が完全に密閉されていないため、真空環境においてはレンズ部材と保護部材との間隙からレンズ表面の曇りの原因となる脱ガス成分が漏れてしまう。
【０００９】
特許文献２ではさらに、接着剤の表面を金属被膜で覆う方式と、接着剤露出領域をパージする方式が開示されている。しかし、金属被膜で覆う方式によれば、レンズ保持部分に金属膜を構成する際にレンズ部材の温度が上昇することに起因する歪成分のためにレンズ性能を劣化させる等の問題がある。また、接着剤が露出した領域をパージする方式によれば、特に真空環境下では、レンズ保持装置からのリークにより真空性能が劣化する等の問題がある。
【００１０】
他方、押え環方式によれば、接着剤を用いなくともレンズ部材の保持が可能である。しかし、押え環方式により複数枚のレンズを貼り合わせた貼り合せレンズを保持する場合、貼り合せレンズにおいて複数枚のレンズを接着保持しているため、接着方式の場合と同様にレンズのコバ面に接着剤が露出する構造となってしまう。さらに、貼り合せレンズに使用される接着剤は、レンズの光学性能への影響を考慮し、種類が限定されている。このため、脱ガスの少ない接着剤の選定が困難である。
【００１１】
このように、貼り合せレンズにおいては、接着方式を用いない場合でも、コバ面に貼り合せレンズの接着剤が露出しているため、接着剤からの脱ガスが、レンズ保持装置の配置された真空空間に漏れることによって、真空度の劣化、配置環境の汚染、レンズ表面の曇り等の原因となりうる。
【特許文献１】特開平１１−９５０７８号公報
【特許文献２】特開平１１−１４８７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
以上のように、従来のレンズ保持装置によれば、接着方式、押え環方式のいずれの場合においても、レンズ部材のコバ面において露出している固定剤からの脱ガスによる悪影響の問題がある。特に近年重要性が高まってきている、真空空間等の環境下でのレンズ保持装置の使用に際し、この問題は顕著に現れる。この問題に対しては、未だ有効な解決策は見出されていない。脱ガス成分の少ない接着剤を使用しても、真空空間では依然として脱ガスの悪影響がある。また、脱ガス成分の少ない接着剤は高価であり、汎用性がない。
【００１３】
本発明の目的は、かかる従来技術の問題点に鑑み、レンズ保持装置において、レンズ部材のコバ面において露出する固定剤からの脱ガスによる悪影響を防止することにある。
【００１４】
特に、接着方式によるレンズ保持装置、および貼りレンズを押え環方式で保持するレンズ保持装置において、従来から使用しているコストのかからない接着剤を使用することができるようにすることにある。
【００１５】
さらには、かかるレンズ保持装置を使用することによって、真空環境下においても接着剤からの脱ガスが少なく、真空環境を汚染せず、また、長期にわたってレンズ表面の曇り等の光学的な劣化の少ない投影露光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するため、本発明のレンズ保持装置は、レンズ部材を固定剤により保持部材に固定して構成されるレンズ保持装置において、レンズ部材の光線使用領域が面する空間と、固定剤が露出している固定剤露出領域が面する空間とを分離した構造を有することを特徴とする。
【００１７】
ここで、固定剤としては、たとえば接着剤が該当する。レンズ部材には複数のレンズを貼り合せた貼りレンズも含まれる。光線使用領域とは、光を通過させてレンズ本来の作用を行う領域を意味する。固定剤露出領域とは、固定剤の表面のうち、レンズ部材および保持部材のいずれにも覆われていない領域を意味する。
【００１８】
この構成において、レンズ保持装置は、投影露光装置の投影光学系その他の光学素子等において使用され、レンズ部材を保持するが、真空環境下において使用される場合も多い。かかる使用に際し、従来の構成によれば、固定剤露出領域から脱ガスが生じ、悪影響を及ぼすおそれがあった。特に真空環境下においては、脱ガス量が微量な固定剤を使用したとしても、脱ガスが容易に発生し、真空空間の汚染、真空度の劣化、レンズ部材表面の汚損等の悪影響を及ぼすおそれがあった。しかし、本発明では、レンズ部材の光線使用領域が面する空間と、固定剤が露出している固定剤露出領域が面する空間とを分離した構造を採用しているため、固定剤露出領域からの脱ガスは光線使用領域に達することはない。したがって、脱ガスによる上記のような悪影響が生じるおそれはない。
【００１９】
本発明の別の態様に係るレンズ保持装置は、複数枚のレンズを固定剤で貼り合わせたレンズ部材を環状の金属部材により保持部材に固定して構成されるレンズ保持装置において、レンズ部材の光線使用領域が面する空間と、固定剤が露出している露出領域が面する空間とを分離した構造を有することを特徴とする。
【００２０】
このような、押え環方式でレンズ部材を固定するレンズ保持装置においても、レンズ部材が貼りレンズであれば、貼り合せに使用した固定剤がコバ面上で露出しているので、従来構成によれば、上述の脱ガスによる悪影響を被るおそれがある。しかしここでも、レンズ部材の光線使用領域が面する空間と、固定剤が露出している露出領域が面する空間とを分離した構造を採用しているため、脱ガスによる悪影響を防止することができる。
【００２１】
上述の各発明における好ましい態様においては、固定剤露出領域は完全に密閉されている。これは、たとえば、レンズ部材を保持部材に固定する１つまたは２つの押え環、および押え環とレンズ部材との間を密閉するＯリングなどの環状のシール部材を設けることにより達成することができる。これによれば、固定剤露出領域が面する空間が完全に密閉され、該空間外に、固定剤から発生した光学性能劣化の原因となりうる脱ガス成分が漏出するのをより完全に防止することができる。
【００２２】
また、固定剤露出領域が面する空間を排気する手段、または該空間を光線使用領域が面する空間の圧力より低くする手段を設けるようにしてもよい。この場合、上述のシール部材等による密閉構造を形成しなくても、固定剤からの脱ガス成分がレンズ保持装置の外部に漏出するのを防止することができる。
【００２３】
また、脱ガスの少ない若しくはまったく発生しない充填剤を、固定剤露出領域を密封するように、固定剤露出領域が面する空間に充填するようにしてもよい。この場合、上述のシール部材等による密閉構造を形成しなくても、簡便な構造により、固定剤からの脱ガスがレンズ保持装置の外部に漏出するのを防止することができる。
【００２４】
また、レンズ部材は複数枚のレンズを貼り合わせた貼りレンズであってもよい。その場合、固定剤露出領域は貼りレンズのコバ面上にある。
【００２５】
本発明の露光装置は、本発明に係るレンズ保持装置を用いてその光学系を構成したことを特徴とする。この場合、好ましい態様においては、装置内が真空環境とされる。本発明のデバイス方法は、本発明の露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２６】
以上説明したように、本発明によれば、レンズ部材の光線使用領域が面する空間と、固定剤が露出している固定剤露出領域が面する空間とを分離した構造を採用するようにしたため、固定剤からの脱ガスによる悪影響を防止することができる。
【００２７】
また、固定剤露出領域が面する空間をＯリング等で密封したり、該空間内の気体を排気手段によって外部に排気したり、該空間内の圧力を圧力調整手段によって、装置が配置された環境よりも低くしたり、固定剤露出領域を覆うように充填剤を充填するようにしたため、固定剤からの脱ガスがレンズ保持装置の配置された環境に漏洩するのを防止することができる。
【００２８】
また、レンズ部材が貼りレンズであっても、同様の構成により、同様の効果を奏することができる。
【００２９】
したがって、真空環境下にレンズ保持装置を配置し、光学系を構成する場合において、固定剤からの脱ガスの影響を受けることなく、従来と同様にレンズ部材を保持することができる。また、貼り合せに脱ガス性のある接着剤を使用した貼りレンズを保持する場合でも、真空環境下に配置し、支障なく光学系を構成することができる。
【００３０】
また、固定剤からの脱ガスがレンズ保持装置の配置された真空環境に漏洩しないため、真空環境の劣化や真空度の低下、さらにはレンズ表面の曇りといった現象の原因を除去することができる。
【００３１】
このため、高精度なレンズ保持装置を、たとえばＥＵＶ光を光源とした投影露光装置におけるような真空環境において使用することができ、高精度の光学性能を長期にわたって維持することができる投影露光装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下に述べる本発明の各実施形態においては、上述した構成を用いてレンズ部材をレンズ保持部材に固定する場合に、レンズ部材のコバ面において、レンズ部材とレンズ保持部材との接着固定を行うための接着剤や、複数枚のレンズ部材が接着された貼りレンズのコバ面からはみ出した接着剤が露出した構成となる。しかし、レンズ保持装置が真空環境下に置かれた場合に、レンズ保持装置の環境内に脱ガスが放出されるのを防止するため、レンズ部材のコバ面とレンズ使用領域を完全に分離するようにしているので、接着剤からの脱ガス成分によるレンズ表面の曇りや、レンズ保持装置が構成された環境における真空度の劣化を招くことがない。このため、従来からの接着剤を真空環境下においても使用することができる。
【００３３】
図１は本発明の第１の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。同図に示すように、この装置は、レンズ部材１を接着剤３により保持部材５に固定して構成される。レンズ部材１の光線使用領域が面する空間Ａと、接着剤３が露出している固定剤露出領域が面する空間Ｂとを分離した構造を有する。接着剤３はレンズ部材１のコバ面をレンズ保持部材５に対して接着している。
【００３４】
また、このレンズ保持部材５は、レンズ部材１を保持部材５に固定する２つの押え環４、および押え環４とレンズ部材１との間を密閉する環状のシール部材２を有する。これにより固定剤露出領域が面する空間Ｂは完全に密閉されている。シール部材２はＯリングのような弾性変形して気密性を保つものであり、押え環４の、レンズ部材１を支持している側の面に配置されている。各押え環４は環状の金属部材により構成されており、レンズ部材１の両面に配置されている。
【００３５】
この構成によれば、レンズ部材１のコバ面の固定剤露出領域が面する空間Ｂを完全に密封することができる。したがって、接着剤３からガスが発生したとしても、そのガスは、レンズ部材１のコバ面とレンズ保持部材５に囲まれた空間Ｂに滞留する。このため、ガスによるレンズ部材１の光線使用領域表面の曇りやレンズ保持装置が配置された真空環境の汚染を防止することができる。
【００３６】
図２は本発明の第２の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。同図に示すようにこの装置は、レンズ部材１を接着剤３により保持部材５に固定して構成され、レンズ部材１の光線使用領域が面する空間Ａと、接着剤３が露出している固定剤露出領域が面する空間Ｂとを分離した構造を有する。この構造を形成するため、レンズ部材１を保持部材５に固定する１つの押え環４を有している。つまり、レンズ保持部材５、レンズ部材１のコバ面、および押え環４によって、空間Ａから分離された空間Ｂを形成している。接着剤３はレンズ部材１のコバ面をレンズ保持部材５に対して接着している。
【００３７】
また、このレンズ保持手段は、固定剤露出領域が面する空間Ｂを排気する手段、または空間Ｂを光線使用領域が面する空間Ａの圧力より低くする手段を有する。この手段は、一端が空間Ｂに接続され、他端が外部に接続された管路１０、管路１０上に設けられた排気手段若しくは圧力調整手段６、および管路１０上の、排気手段若しくは圧力調整手段６と空間Ｂとの間に設けられた、圧力制御系により制御される電磁弁７を備えている。
【００３８】
排気手段６がレンズ保持部材５、レンズ部材１のコバ面、および押え環４によって囲まれた固定剤露出領域が面する空間Ｂ内の気体を常時若しくは随時排気することにより、レンズ部材１の保持のために使用されている接着剤３からの脱ガスは、レンズ保持装置が配置された環境に放出されることなく、排気手段６によって、該環境の外部に排気される。
【００３９】
若しくは圧力調整手段６が空間Ｂ内の圧力を、レンズ保持装置が配置された環境よりも負圧（低い圧力）とすることにより、接着剤３からの脱ガスは、レンズ保持装置が配置された環境に放出されることなく、圧力調整手段６によって、該環境の外部に排気される。
【００４０】
したがって、レンズ部材１の保持に接着剤３を使用しても、レンズ保持装置の配置された環境の汚染を引き起こしたり、真空度の劣化を招いたり、レンズ部材１の表面に付着して曇りの原因となったりするのを防止することができる。また、ここにおいても、レンズ部材１、レンズ保持部材５、および押え環４の間の境界部において第１実施形態におけるようなＯリング等の密閉手段を用いることにより、さらに効率良く空間Ｂの圧力を、レンズ保持装置の配置された環境の圧力よりも低くすることができる。
【００４１】
図３は本発明の第３の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。同図に示すように、この装置は、レンズ部材１を接着剤３により保持部材５に固定して構成され、レンズ部材１の光線使用領域が面する空間Ａと、接着剤３が露出している固定剤露出領域が面する空間Ｂとを分離した構造を有する。接着剤３はレンズ部材１のコバ面をレンズ保持部材５に対して接着している。ただし、空間Ｂには充填剤８が充填されている。
【００４２】
つまり、レンズ保持部材５、およびレンズ部材１のコバ面によって囲まれた固定剤露出領域が面する空間Ｂには、該固定剤露出領域を密封するように、真空中でも脱ガスの少ない充填剤８が充填されている。したがって、接着剤３がレンズ保持装置の配置されている環境に直接露出することはない。このため、レンズ保持装置の配置されている環境の汚染を引き起こしたり、真空度の劣化を招いたり、レンズ部材１の表面に付着して曇りの原因となったりするのを防止することができる。
【００４３】
図４は本発明の第４の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。同図に示すように、この装置は、２枚のレンズを接着剤３で貼り合わせた貼りレンズ９を、その両面から環状の金属部材で構成された２つの押え環４により、保持部材５に対し固定して構成されており、レンズ部材１の光線使用領域が面する空間Ａと、接着剤３が露出している露出領域が面する空間Ｂとを分離した構造を有する。貼りレンズ９はレンズ保持部材５に対して押え環４によって固定されているので、貼りレンズ９およびレンズ保持部材５間の固定に接着剤は使用していない。
【００４４】
つまり、貼りレンズ９は、複数のレンズを接着剤３で貼り合わせたものであるため、コバ面で接着剤３が露出している。したがって、接着剤３が空間に露出している空間Ｂを密閉するために、Ｏリングで代表される弾性変形して気密性を保つシール部材２が、各押え環４の貼りレンズ９を固定している側の面に配置されている。これにより、空間Ｂを完全に密封することができる。したがって、接着剤３からガスが発生したとしても、そのガスは空間Ｂ内に滞留するので、貼りレンズ９の表面の曇りや、レンズ保持装置が配置された真空環境の汚染を防止することができる。また、接着剤３からの脱ガスに関して考慮する必要がないため、従来から用いられているものと同様の接着剤を貼りレンズ９に使用することができる。
【００４５】
図５は本発明の第５の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。この装置は、図２の構成において、レンズ部材１に代えて貼りレンズ９を配置した構成を有している。貼りレンズ９のコバ面に接着剤３が露出しているが、接着剤３が露出した空間Ｂには、圧力制御系で制御される電磁弁７を介して排気手段若しくは圧力調整手段６が接続されているので、空間Ｂ内の気体を常時または随時排気手段６によって排気し、または圧力調整手段６によってレンズ保持装置が配置された環境よりも負圧（低い圧力）とすることにより、接着剤３からの脱ガスをレンズ保持装置が配置された環境に放出することなく、該環境の外部に排気することができる。これにより、空間Ｂ内において貼りレンズ９のコバ面に露出した接着剤３からガスが発生したとしても、空間Ｂから外部へ排気されるので、貼りレンズ９の表面の曇りや、レンズ保持装置が配置された環境の汚染を、防止することができる。
【００４６】
図６は本発明の第６の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。同図に示すようにこの装置は、２枚のレンズを接着剤３で貼り合わせた貼りレンズ９を、その片面から環状の金属部材で構成された押え環４により、保持部材５に対し固定して構成されており、貼りレンズ９の光線使用領域が面する空間Ａと、接着剤３が露出している露出領域が面する空間Ｂとを分離した構造を有する。貼りレンズ９はレンズ保持部材５に対して押え環４によって固定されているので、貼りレンズ９およびレンズ保持部材５間の固定に接着剤は使用していない。空間Ｂ内には、接着剤３が露出している露出領域を密封するように、真空中でも脱ガスの少ない充填剤が充填されている。したがって、貼りレンズ９に使用されている接着剤３は、レンズ保持装置の配置されている環境に直接露出することがない。このため、接着剤３からの脱ガスにより、レンズ保持装置の配置されている環境の汚染や、真空度の劣化を招いたり、貼りレンズ９の表面に曇りを生じさせたりするのを防止することができる。
【００４７】
なお、複数枚のレンズを組み合わせて複合レンズを構成する場合には、上述各実施形態のうちの１つ以上を用いて必要なレンズ保持装置を構成し、各装置のレンズ保持部材同士を固定すればよい。その際、貼りレンズ以外のレンズを用いたレンズ保持装置については第１〜第３の実施形態を利用して構成し、貼りレンズを用いたレンズ保持装置については第４〜第６の実施形態を利用して構成し、これらを複数組み合わせて用いることが可能である。このように、各種の構成を組み合わせることによって、接着剤からの脱ガスの密封性能がさらに向上することが期待できる。
【００４８】
図８は本発明の一実施形態に係る投影露光装置の主要構成部分を示す。同図において、８１は露光光を照射する照明光学系、８２は照明光学系によって照明されるレチクル、８３はレチクル８２を位置決めするためのレチクルステージ、８４は照明光学系８１によって照明されるレチクル８２のパターンを投影する投影光学系、８５は投影光学系８４によって投影されるレチクル８２のパターンで各露光領域に対し露光が行われるウエハ、８６はウエハ８５を、各露光領域が投影光学系８４の露光範囲に順次位置するように移動させるウエハステージである。投影光学系８４は上述のレンズ保持装置を用いて構成されている。この構成において、露光処理に際しては、レチクル８２およびウエハ８５が位置決めされ、照明されるレチクル８２のパターンが、投影光学系８４を介してウエハ８５上の各露光領域に露光転写される。
【００４９】
次にこの露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図９は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マスク製作）では設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷（ステップ７）する。前工程と後工程はそれぞれ専用の別の工場で行い、これらの工場毎に遠隔保守システムによって保守がなされる。また前工程工場と後工程工場との間でも、インターネットまたは専用線ネットワークを介して生産管理や装置保守のための情報がデータ通信される。
【００５０】
図１０は上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を成膜する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明した露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。各工程で使用する製造機器は遠隔保守システムによって保守がなされているので、トラブルを未然に防ぐと共に、もしトラブルが発生しても迅速な復旧が可能で、従来に比べて半導体デバイスの生産性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。
【図２】本発明の第２の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。
【図３】本発明の第３の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。
【図４】本発明の第４の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。
【図５】本発明の第５の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。
【図６】本発明の第６の実施形態に係るレンズ保持装置の断面図である。
【図７】従来例に係るレンズ保持装置の断面図である。
【図８】図８は本発明の一実施形態に係る投影露光装置の主要構成部分を示す図である。
【図９】デバイスの製造プロセスのフローチャートである。
【図１０】図９におけるウエハプロセスのフローチャートである。
【符号の説明】
【００５２】
１，１０１：レンズ部材、２：シール部材、３，１０３：接着剤、４：押え環、５，１０２：保持部材、６：排気手段若しくは圧力調整手段、７：電磁弁、８：充填剤、９：貼りレンズ、８１：照明光学系、８２：レチクル、８３：レチクルステージ、８４：投影光学系、８５：ウエハ、８６：ウエハステージ、Ａ，Ｂ：空間。
【図１】
2005148254.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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