(57)【要約】【課題】  遅相軸の軸ズレを減少させたＴＡＣフィルムを得る。【解決手段】  ＴＡＣを含むドープを流延バンド上に流延する。自己支持性を有するものとなった後に湿潤フィルム４６として剥ぎ取る。湿潤フィルム４６をテンタ６０に搬送する。入口部８０で予備加熱して延伸部８１で延伸速度Ｙ（％／ｍｉｎ）で拡幅する。緩和部８２で縮幅した後に出口部８３で略同一の幅を保持しつつテンタ６０からフィルム６１として送り出す。延伸開始位置８１ａと緩和終了位置８２ｂとのフィルム中の残留揮発分量差をＸ（重量％）とする。｜０．２７Ｘ＋１．０１ＸＹ−２１．２｜＜５．０を満たすことでボーイング現象の発生を抑制でき、遅相軸の軸ズレを減少させる。【選択図】        図２
2005313614.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマーと溶媒とを含むドープを支持体上に流延し、乾燥し、剥離した後にその両端を把持手段によって保持しつつ、延伸緩和を行いフィルムを得る溶液製膜方法において、
前記延伸緩和が、
前記フィルムを幅方向に拡幅する延伸工程と、
前記延伸工程の後に一定量縮幅する緩和工程とを含み、
前記延伸工程開始直前のフィルム残留揮発分と、前記緩和工程終了直後のフィルム残留揮発分との差をＸ（重量％）とし、
前記延伸工程における平均延伸速度（％／ｍｉｎ）をＹとしたとき、下記式（１）の範囲で延伸緩和を行うことを特徴とする溶液製膜方法。
−５．０＜０．２７Ｘ＋１．０１ＸＹ−２１．２＜５．０・・（１）
【請求項２】
前記ポリマーがセルロースアシレートであることを特徴とする請求項１記載の溶液製膜方法。
【請求項３】
前記把持手段の幅が変化している間は、
前記フィルムを加熱する温度を略一定とすることを特徴とする特徴とする請求項１または２記載の溶液製膜方法。
【請求項４】
前記フィルムの幅方向に対する遅相軸方向のズレを２°未満とすることを特徴とする請求項１ないし３いずれか１つ記載の溶液製膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
電子ディスプレイなどに好ましく用いられるフィルムを製膜する溶液製膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリマーは、様々な用途で使用される。例えば、セルロースアシレート（以下、ＴＡＣと称する）をフィルム状とし、写真感光材料のベースフィルムとしたり、液晶表示装置（ＬＣＤ）に用いられる偏光板保護フィルムとしたりして用いられる。フィルムの製造方法としては、ポリマーを加熱して溶融状にして製膜する溶融製膜法や、溶媒とポリマーなどを含むドープを調製して製膜する溶液製膜法が知られている。溶液製膜法により得られるフィルムは、光学等方性に優れており光学用フィルムとして好ましく用いられる（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００３】
液晶表示装置は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点からパーソナルコンピューターや携帯機器のモニター、テレビ用途に広く利用されている。このような液晶表示装置は液晶セル内の液晶の配列状態により様々なモードが提案されているが、従来は液晶セルの下側基板から上側基板に向かって約９０°捩れた配列状態になるＴＮモードが主流であった。
【０００４】
一般に液晶表示装置は、液晶セル、光学補償シート、偏光子から構成される。光学補償シートは画像着色を解消したり、視野角を拡大するために用いられており、延伸した複屈折フィルムや透明フィルムに液晶を塗布したフィルムが使用されている。例えば、特許第２５８７３９８号公報ではディスコティック液晶をトリアセチルセルロースフィルム上に塗布し配向させて固定化した光学補償シートをＴＮモードの液晶セルに適用し、視野角を広げる技術が開示されている。しかしながら、大画面で様々な角度から見ることが想定されるテレビ用途の液晶表示装置は視野角依存性に対する要求が厳しく、前述のような手法をもってしても要求を満足することはできていない。そのため、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend ）モード、ＶＡ（Vertically Aligned）モードなど、ＴＮモードとは異なる液晶表示装置が研究されている。特にＶＡモードはコントラストが高く、比較的製造の歩留まりが高いことからＴＶ用の液晶表示装置として着目されている。
【０００５】
一方、液晶表示装置の光学補償シート（位相差フィルム）には、逆に光学的異方性（高いレターデーション値）が要求される。特にＶＡ用の光学補償シートでは３０乃至２００ｎｍの面内レターデーション（Ｒｅ）、７０乃至４００ｎｍの厚さ方向レターデーション（Ｒｔｈ）が必要とされる。従って、光学補償シートとしては、ポリカーボネートフィルムやポリスルホンフィルムのようなレターデーション値が高い合成ポリマーフィルムを用いることが普通であった。
【０００６】
以上のように光学材料の技術分野では、ポリマーフィルムに光学的異方性（高いレターデーション値）が要求される場合には合成ポリマーフィルムを使用し、光学的等方性（低いレターデーション値）が要求される場合にはセルロースアセテートフィルムを使用することが一般的な原則であった。
【０００７】
従来の一般的な原則を覆して、光学的異方性が要求される用途にも使用できる高いレターデーション値を有するセルロースアセテートフィルムが知られている（例えば、特許文献１参照。）。前記特許文献１ではセルローストリアセテートで高いレターデーション値を実現するために、少なくとも２つの芳香環を有する芳香族化合物、中でも１，３，５−トリアジン環を有する化合物を添加し、延伸処理を行っている。
【０００８】
一般にセルローストリアセテートは延伸しにくい高分子素材であり、複屈折率を大きくすることは困難であることが知られているが、添加剤を延伸処理で同時に配向させることにより複屈折率を大きくすることを可能にし、高いレターデーション値を実現している。このフィルムは偏光板の保護膜を兼ねることができるため、安価で薄膜な液晶表示装置を提供することができる利点がある。
【０００９】
炭素数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＡとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＢとしたとき、式２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０及び式Ａ＜２．４を同時に満たすセルロースエステルを含有する光学フィルムであって、更に、波長５９０ｎｍにおける遅相軸方向の屈折率Ｎｘ及び進相軸方向の屈折率Ｎｙが式０．０００５≦Ｎｘ−Ｎｙ≦０．００５０を満たすことを特徴とする光学フィルムが知られている（例えば、特許文献２参照。）。ＶＡモード液晶表示装置に用いられる偏光板において、該偏光板が、偏光子と光学的に二軸性の混合脂肪酸セルロースエステルフィルムとを有し、液晶セルと偏光子の間に該光学的に二軸性の混合脂肪酸セルロースエステルフィルムが配置されていることを特徴とする偏光板が知られている（例えば、特許文献３参照。）。
【００１０】
溶液製膜方法は、ドープを支持体上に流延し、流延膜を形成する。流延膜が、自己支持性を有するものとなった後に支持体より剥ぎ取りフィルムを得る。そのフィルムをテンタまで搬送し、テンタで幅方向に延伸を行いつつ乾燥させる。その後、さらに乾燥を行い、耳切処理などを行なった後に巻き取る。このフィルムを偏光膜に貼付して偏光フィルムとして用いられる。
【００１１】
位相差フィルムを偏光フィルムに貼り合せる場合、遅相軸方向が偏光フィルムの横方向に一致することが望ましいため、テンタによる、フィルムの幅方向延伸が好適である。一方、延伸用原反としては溶液製膜方法で製造されたフィルムが均一性、平面性といった観点から好ましい。生産効率を上げるためには、フィルム製膜ラインの一部として延伸工程が含まれることが好ましい。テンタによる幅方向延伸を行う際、ボーイング現象により、幅方向で遅相軸が異なる現象は、従来より知られており、溶融製膜により得られるポリエステルフィルムの二軸延伸に関してよく研究されており、種々の改良方法が提案されている。
【００１２】
例えば、通常の溶融製膜し延伸する工程のボーイング（進行方向凹形状）に対し、溶液製膜方法が特異である（進行方向凸形状）ことから、従来の手法では不満足なものとし、残留溶媒を含むフィルムを延伸する際のボーイングを回避するために、１）特定の置換度を持つセルロースエステルを用いる。２）フィルムの中央より端部の温度を高くする。３）フィルムの中央より端部の残留溶媒量を大きくする。４）テンタに温度の異なるゾーンを設けるといった手法が提案されている（例えば、特許文献４参照。）。
【００１３】
【非特許文献１】発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号
【特許文献１】欧州特許公開０９９９６５６Ａ２
【特許文献２】特開２００２−７１９５号公報
【特許文献３】特開２００２−２７０４４２号公報
【特許文献４】特開２００２−２９６４２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
特許文献２及び３に記載の方法では、安価でかつ薄い液晶表示装置が得られる点で有効である。しかしながら、近年、更に高いレターデーション値が要求され、レターデーション発現剤の添加量を増やしたり、延伸倍率を高めたりすることが必要となってきたが、テンターでの延伸倍率をボーイング現象により、幅方向で遅層軸の分布が発生しやすいという問題を抱えており、この問題の解決が要望されていた。
【００１５】
特許文献４記載の方法は、非常に有効な方法であるが、最近のＬＣＤのコントラスト比の向上、画面輝度向上といった品質向上に関連して、光学フィルムの遅相軸方向のズレに対する要求はますます厳しくなってきており、前記方法のみで要求を満たすことが困難になってきた。また、テンタ内にいくつも異なる加熱条件のゾーンを設けたり、ウェブ幅方向に精密な温度コントロールを行うといったことは、加熱手段の個数，制御装置の増加，構造の複雑化といった要因で設備コストの増大をもたらし、好ましくない。
【００１６】
さらに、テンタで幅方向延伸を行ってポリマー分子を配向させると、ボーイング現象により幅方向位置により、遅相軸方向が横方向（長手方向に対し面内垂直方向）からずれやすい。最近のＬＣＤのコントラスト比の向上、画面輝度向上といった品質向上に関連して、光学用フィルムの遅相軸方向のズレに対する要求はますます厳しくなってきており、改良方法が望まれている。
【００１７】
本発明は、遅相軸方向が略均一なフィルムを製膜する溶液製膜方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
そこで、本発明者が鋭意検討した結果、
１）一旦フィルムを拡幅により幅方向延伸した後、縮幅する緩和工程を設けること。
２）拡幅開始時のフィルム中の残留揮発分と緩和終了時のフィルム中の残留揮発分との差（以下、揮発分量差と称する）Ｘ（重量％）および拡幅延伸速度Ｙ（％／ｍｉｎ）を規定することで、複雑な温度勾配などを用いることなく、非常に優れた遅相軸方向の均一性を得ることができることを見出した。また、特許文献１には、溶液製膜法で幅延伸を行うと必ずボーイング方向が進行方向に対して凸形状となるように記載されている。しかしながら、揮発分量差Ｘ（重量％）と延伸速度Ｙ（％／ｍｉｎ）とを規定することにより、ボーイング形状を凸状にも凹状にもできることを見出した。それによりボーイングを実質的に幅方向フラットにすることを可能にした。
【００１９】
本発明の溶液製膜方法は、ポリマーと溶媒とを含むドープを支持体上に流延し、乾燥し、剥離した後にその両端を把持手段によって保持しつつ、延伸緩和を行いフィルムを得る溶液製膜方法において、前記延伸緩和が、前記フィルムを幅方向に拡幅する延伸工程と、前記延伸工程の後に一定量縮幅する緩和工程とを含み、前記延伸工程開始直前のフィルム残留揮発分と、前記緩和工程終了直後のフィルム残留揮発分との差をＸ（重量％）とし、前記延伸工程における平均延伸速度（％／ｍｉｎ）をＹとしたとき、下記式（１）の範囲で延伸緩和を行う。
−５．０＜０．２７Ｘ＋１．０１ＸＹ−２１．２＜５．０・・（１）
式（１）の数値が正の値であると、ボーイングは進行方向に対して凸形状をなし、負の値であると凹形状になることを見出した。その絶対値を低くすることで、ボーイングの発生を実質的に防止できより好ましくは、
−１．５＜０．２７Ｘ＋１．０１ＸＹ−２１．２＜１．５
であり、最も好ましくは、
−１．０＜０．２７Ｘ＋１．０１ＸＹ−２１．２＜１．０
とすることである。
【００２０】
前記ポリマーがセルロースアシレートであることが好ましく、より好ましくはセルロースアセテートであり、最も好ましくはセルローストリアセテートである。前記把持手段の幅が変化している間は、前記フィルムを加熱する温度を略一定とすることが好ましい。前記フィルムの幅方向に対する遅相軸方向のズレを２°未満とすることが好ましく、より好ましくは１．０°未満であり最も好ましくは０．５°未満とすることである。
【００２１】
本発明には、前記溶液製膜方法で製膜されるフィルムも含まれる。また、前記フィルムを保護フィルムに用いた偏光板及びその偏光板を用いた液晶表示装置も含まれる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の溶液製膜方法は、ポリマーと溶媒とを含むドープを支持体上に流延し、乾燥し、剥離した後にその両端を把持手段によって保持しつつ、延伸緩和を行いフィルムを得る溶液製膜方法において、前記延伸緩和が、前記フィルムを幅方向に拡幅する延伸工程と、前記延伸工程の後に一定量縮幅する緩和工程とを含み、前記延伸工程開始直前のフィルム残留揮発分と、前記緩和工程終了直後のフィルム残留揮発分との差をＸ（重量％）とし、前記延伸工程における平均延伸速度（％／ｍｉｎ）をＹとしたとき、下記式（１）の範囲で延伸緩和を行うから、ボーイング現象の発生及び形態を制御できる。そのため、ボーイング現象の発生を抑制することが可能となり遅相軸の軸ズレを減少させることが可能となる。
−５．０＜０．２７Ｘ＋１．０１ＸＹ−２１．２＜５．０・・（１）
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明に用いられるセルロースアシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記式（Ｉ）〜（III)の全てを満足するセルロースアシレートを用いることが好ましい。
（Ｉ）２．５≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（II）０≦Ａ≦３．０
（III)０≦Ｂ≦２．９
但し、式中Ａ及びＢは、セルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換基を表わし、Ａはアセチル基の置換度、またはＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。なお、ＴＡＣの９０重量％以上が０．１ｍｍ〜４ｍｍの粒子を用いることが好ましい。
【００２４】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位および６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。
【００２５】
全アシル置換度、即ち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６は２．００〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８２である。また、Ｄ６Ｓ／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．３２以上が好ましく、より好ましくは０．３２２以上、特に好ましくは０．３２４〜０．３４０である。ここで、ＤＳ２はグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「２位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ３は３位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「３位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ６は６位の水酸基のアシル基による置換度である（以下、「６位のアシル置換度」とも言う）。
【００２６】
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていてもよい。２種類以上のアシル基を用いるときは、そのひとつがアセチル基であることが好ましい。２位、３位及び６位の水酸基のアセチル基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位、３位及び６位の水酸基のアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、より好ましくは２．２〜２．８６であり、特に好ましくは２．４０〜２．８０である。また、ＤＳＢは１．５０以上であることが好ましく、特に好ましくは１．７以上である。さらにＤＳＢはその２８％以上が６位水酸基の置換基であるが、より好ましくは３０％以上が６位水酸基の置換基であり、３１％がさらに好ましく、特には３２％以上が６位水酸基の置換基であることも好ましい。また更に、セルロースアシレートの６位のＤＳＡ＋ＤＳＢの値が０．７５以上であることが好ましく、さらに好ましくは０．８０以上であり特に好ましくは０．８５以上であるセルロースアシレートを用いることである。これらのセルロースアシレートにより溶解性の好ましい溶液（ドープ）が作製できる。特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。更に粘度が低くろ過性のよい溶液の作成が可能となる。
【００２７】
本発明のセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、プロピオニル基、ブタノイル基、ケプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、iso −ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などがより好ましく、特に好ましくはプロピオニル基、ブタノイル基である。
【００２８】
ドープを調製する溶媒としては、芳香族炭化水素（例えばベンゼン、トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン、メチルセロソルブなど）などが挙げられる。
【００２９】
炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ＴＡＣの溶解性、支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械強度等、光学特性等の物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを一種、ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶媒全体に対し２重量％〜２５重量％が好ましく、５重量％〜２０重量％がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール, エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノール等があげられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【００３０】
最近、環境に対する影響を最小限に抑えるため、ジクロロメタンを用いない溶媒組成も提案されている。この目的に対しては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン，炭素原子数が３〜１２のエステルが好ましく、これらを適宜混合して用いる。これらのエーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−及び−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【００３１】
セルロースアシレートの詳細については、特願２００４−２６４４６４号の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されている。これらの記載は本発明にも適用できる。又、セルロースアシレートの溶媒、その他の添加剤としては、可塑剤，劣化防止剤，光学異方性コントロール剤，染料，マット剤，剥離剤等が、同じく特願２００４−２６４４６４号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されている。
【００３２】
本発明のセルロースアシレートフィルムに好ましく使用される紫外線吸収剤について説明する。本発明のセルロースアシレートフィルムは、その高い寸法安定性から、偏光板または液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板または液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
【００３３】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としての具体例を下記に列記するが、本発明はこれらに限定されない。２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）、（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２' −ヒドロキシ−３' ，５' −ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２' −ヒドロキシ−３' ，５' −ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ' −ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２' −ヒドロキシ−３' ，５' −ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２' −ヒドロキシ−３' ，５' −ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−���−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースアシレートに対して質量割合で１ｐｐｍ〜２．０％が好ましく、１０ｐｐｍ〜５０００ｐｐｍが更に好ましい。
【００３４】
又、特開平６−１４８４３０号公報、特開平７−１１０５６号公報に記載の紫外線吸収剤も好ましく用いることができる。本発明で好ましく用いられる上記記載の紫外線吸収剤は、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れており、特に不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好ましい。紫外線吸収剤の使用量は化合物の種類、使用条件などにより一様ではないが、通常はセルロースアシレートフィルム１ｍ2 当り、０．２ｇ〜５．０ｇが好ましく、０．４ｇ〜１．５ｇがさらに好ましく、０．６ｇ〜１．０ｇが特に好ましい。
【００３５】
また、その他にも旭電化  プラスチック用添加剤概要  「アデカスタブ」のカタログにある光安定剤も使用できる。チバ・スペシャル・ケミカルズのチヌビン製品案内にある光安定剤、紫外線吸収剤も使用できる。SHIPRO KASEI KAISYA のカタログにあＳＥＥＳＯＲＢ、SEENOX、ＳＥＥＴＥＣなども使用できる。城北化学工業のＵＶ吸収剤、酸化防止剤も使用できる。共同薬品のＶＩＯＳＯＲＢ、吉富製薬の紫外線吸収剤も使用できる。
【００３６】
なお、紫外領域の分光透過率に関しては、特開２００３−０４３２５９号公報に、色再現性に優れ紫外線照射の耐久性にも優れた光学フィルム及び偏光板及び表示装置を得るために必要な、３９０ｎｍにおける分光透過率が５０％〜９５％であり、かつ３５０ｎｍにおける分光透過率が５％以下である光学フィルムについて記載されている。
【００３７】
また、更に、光学異方性コントロール剤として使用される化合物に関して、詳細に説明する。
【００３８】
【化１】
2005313614.tif 000003
【００３９】
化１に示されている一般式（２）中でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 及びＲ10はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表し、置換基は後述の置換基Ｔが適用できる。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。好ましくはＲ1 、Ｒ3 又はＲ5 のうちの１つが電子供与性基であり、Ｒ3 が電子供与性基であることがより好ましい。
【００４０】
電子供与性基とはHammetのσｐ値が０以下のものを表し、Chem. Rev.，９１，１６５（１９９１）に記載のHammetのσｐ値が０以下のものが好ましく適用でき、より好ましくは−０．８５〜０のものが用いられる。例えば、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基などが挙げられる。
【００４１】
電子供与性基として好ましくはアルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４である。）である。
【００４２】
Ｒ1 として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、最も好ましくはメトキシ基である。
【００４３】
Ｒ2 として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００４４】
Ｒ3 として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。最も好ましくはｎ−プロポキシ基、エトキシ基、メトキシ基である。
【００４５】
Ｒ4 として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、特に好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００４６】
Ｒ5 として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。
【００４７】
Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ9 及びＲ10として好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子である。
【００４８】
Ｒ8 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
【００４９】
Ｒ8 として好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２のアリールオキシ基であり、より好ましくは、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４である。）であり、特に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、iso −プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基である。
【００５０】
一般式（２）のうちより好ましくは下記一般式（２−Ａ）である。
【００５１】
【化２】
2005313614.tif 000004
【００５２】
一般式（２−Ａ）中のＲ11はアルキル基を表す。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ9 及びＲ10はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。Ｒ8 は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。一般式（２−Ａ）中でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ8 、Ｒ9 及びＲ10はそれぞれ一般式（２）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００５３】
一般式（２−Ａ）中でＲ11は炭素数１〜１２のアルキル基を表し、Ｒ11で表されるアルキル基は直鎖でも分岐があってもよく、また更に置換基を有してもよいが、好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜８のアルキル基、更に好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、特に好ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、iso −プロピル基、ｎ−ブチル基、iso −ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられる）を表す。
【００５４】
一般式（２）のうちより好ましくは下記一般式（２−Ｂ）である。
【００５５】
【化３】
2005313614.tif 000005
【００５６】
一般式（２−Ｂ）中でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ9 及びＲ10はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。Ｒ11は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。Ｘは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数1 〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
【００５７】
一般式（２−Ｂ）中でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 、Ｒ9 及びＲ10は、一般式（２）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。一般式（２−Ｂ）中でＲ11は、一般式（２−Ａ）におけるＲ11と同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００５８】
一般式（２−Ｂ）中で、Ｘは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
【００５９】
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ5 がすべて水素原子の場合には、Ｘとして好ましくはアルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、より好ましくは、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４である。）であり、特に好ましくは、メトキシ基、メトキシ基、ｎ−プロポキシ基、iso −プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基である。
【００６０】
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 又はＲ5 のうち少なくとも1 つが置換基の場合には、Ｘとして好ましくはアルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１２）、シアノ基、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜１２）であり、更に好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、より好ましくはフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−メトキシフェニルである。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素２〜１２、より好ましくは炭素数２〜６、更に好ましくは炭素数２〜４、特に好ましくはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n −プロポキシカルボニルである。）、シアノ基であり、特に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。
【００６１】
一般式（２）のうち更に好ましくは下記一般式（２−Ｃ）である。
【００６２】
【化４】
2005313614.tif 000006
【００６３】
一般式（２−Ｃ）中でＲ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ11及びＸは、一般式（２−Ｂ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００６４】
一般式（２）で表わされる化合物の中で好ましいのは下記一般式（２−Ｄ）で表わされる化合物である。
【００６５】
【化５】
2005313614.tif 000007
【００６６】
一般式（２−Ｄ）中で、Ｒ2 、Ｒ4 及びＲ6 は、一般式（２−Ｃ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。Ｒ21、Ｒ22はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基である。Ｘ1 は、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、又はシアノ基である。
【００６７】
Ｒ21は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1 〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基である。Ｒ22は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1 〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。
【００６８】
Ｘ1 は、炭素数６〜１２のアリール基、炭素２〜１２アルコキシカルボニル基又はシアノ基であり、好ましくは炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくはフェニル基、ｐ−シアノフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、シアノ基であり、更に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n −プロポキシカルボニル基、シアノ基である。
【００６９】
一般式（２）のうち最も好ましくは下記一般式（２−Ｅ）である。
【００７０】
【化６】
2005313614.tif 000008
【００７１】
一般式（２−Ｅ）中でＲ2 、Ｒ4 及びＲ5 は、一般式（２−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか1 つは−ＯＲ13で表される基である（Ｒ13は炭素数１〜４のアルキル基である。）。Ｒ21、Ｒ22及びＸ1 は一般式（２−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
【００７２】
一般式（２−Ｅ）中でＲ2 、Ｒ4 及びＲ5 は、一般式（２−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか1 つは−ＯＲ13で表される基であり（Ｒ13は炭素数１〜４のアルキル基である。）、好ましくはＲ4 、Ｒ5 が−ＯＲ13で表される基であり、より好ましくはＲ4 が−ＯＲ13で表される基である。Ｒ13は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。
【００７３】
以下に前述の置換基Ｔについて説明する。置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）などが挙げられる。
【００７４】
例えば、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００７５】
例えば、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００７６】
例えば、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００７７】
例えば、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００７８】
例えば、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）なども挙げられる。
【００７９】
例えば、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。また具体的なヘテロ環基には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００８０】
以下に一般式（２）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。
【００８１】
【化７】
2005313614.tif 000009
【００８２】
【化８】
2005313614.tif 000010
【００８３】
【化９】
2005313614.tif 000011
【００８４】
【化１０】
2005313614.tif 000012
【００８５】
【化１１】
2005313614.tif 000013
【００８６】
【化１２】
2005313614.tif 000014
【００８７】
【化１３】
2005313614.tif 000015
【００８８】
【化１４】
2005313614.tif 000016
【００８９】
【化１５】
2005313614.tif 000017
【００９０】
【化１６】
2005313614.tif 000018
【００９１】
【化１７】
2005313614.tif 000019
【００９２】
【化１８】
2005313614.tif 000020
【００９３】
【化１９】
2005313614.tif 000021
【００９４】
【化２０】
2005313614.tif 000022
【００９５】
【化２１】
2005313614.tif 000023
【００９６】
【化２２】
2005313614.tif 000024
【００９７】
【化２３】
2005313614.tif 000025
【００９８】
【化２４】
2005313614.tif 000026
【００９９】
【化２５】
2005313614.tif 000027
【０１００】
【化２６】
2005313614.tif 000028
【０１０１】
【化２７】
2005313614.tif 000029
【０１０２】
【化２８】
2005313614.tif 000030
【０１０３】
【化２９】
2005313614.tif 000031
【０１０４】
【化３０】
2005313614.tif 000032
【０１０５】
【化３１】
2005313614.tif 000033
【０１０６】
【化３２】
2005313614.tif 000034
【０１０７】
【化３３】
2005313614.tif 000035
【０１０８】
【化３４】
2005313614.tif 000036
【０１０９】
【化３５】
2005313614.tif 000037
【０１１０】
【化３６】
2005313614.tif 000038
【０１１１】
【化３７】
2005313614.tif 000039
【０１１２】
【化３８】
2005313614.tif 000040
【０１１３】
【化３９】
2005313614.tif 000041
【０１１４】
【化４０】
2005313614.tif 000042
【０１１５】
【化４１】
2005313614.tif 000043
【０１１６】
【化４２】
2005313614.tif 000044
【０１１７】
【化４３】
2005313614.tif 000045
【０１１８】
【化４４】
2005313614.tif 000046
【０１１９】
【化４５】
2005313614.tif 000047
【０１２０】
【化４６】
2005313614.tif 000048
【０１２１】
【化４７】
2005313614.tif 000049
【０１２２】
一般式（２）で表される化合物は置換安息香酸とフェノール誘導体の一般的なエステル反応によって合成でき、エステル結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体を脱水縮合する方法などがあげられる。製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法が好ましい。
【０１２３】
反応溶媒として炭化水素系溶媒（好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる。）、エーテル系溶媒（好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、反応溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。
【０１２４】
反応温度としては、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃、更に好ましくは０〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。本反応には塩基を用いないのが好ましく、塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、3 級アルキルアミン（好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる）である。
【０１２５】
本発明のセルロースアシレートフィルムの光学特性は、
式（III)：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ、
式（IV）：Ｒｔｈ（λ）＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
で表されるＲｅレターデション値、Ｒｔｈレターデーション値がそれぞれ、以下の式（V)及び（VI）を満たすことが好ましい。
式（V)：４６ｎｍ≦Ｒｅ（６３０）≦２００ｎｍ
式（VI）：７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）≦３５０ｎｍ
［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。またｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さであ
る。］
さらに好ましくは、下記式（VII)及び（VIII）を満たすことである。
式（VII)：４６ｎｍ≦Ｒｅ（６３０）≦１００ｎｍ
式（VIII）：１８０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）≦３５０ｎｍ
【０１２６】
湿度変化や高温経時による質量変化や寸法変化に伴いＲｅ及びＲｔｈの光学特性値が変化する。Ｒｅ及びＲｔｈの値が変化は少ないほど好ましい。湿度による光学特性変化を少なくするために６位アシル置換度の大きなセルロースアシレートを使用するほかに、疎水性の各種添加剤（可塑剤、レターデーション発現剤、紫外線吸収剤など）を用いることによって、フィルムの透湿度や平衡含水率を小さくする。好ましい透湿度は６０℃、９５％ＲＨ２４時間で１平方メートル当たり４００ｇから２３００ｇである。好ましい平衡含水率は２５℃、８０％ＲＨにおける測定値が３．４％以下である。２５℃における湿度を１０％ＲＨから８０％ＲＨに変化させた時の光学特性の変化量がＲｅ値で１２ｎｍ以下、Ｒｔｈ値で３２ｎｍ以下であることが好ましい。好ましい疎水性添加剤の量はセルロースアシレートに対して１０％から３０％であり、１２％から２５％がより好ましく、１４．５％から２０％が特に好ましい。添加剤に揮発性や分解性があってフィルムの質量変化や寸法変化が発生すると光学特性変化が起こる。従って８０℃、９０％ＲＨで４８時間経時した後のフィルムの質量変化量は５％以下であることが好ましい。同様に６０℃、９５％ＲＨで２４時間経時後の寸法変化量は５％以下であることが好ましい。また寸法変化や質量変化が少々あっても、フィルムの光弾性係数が小さいと光学特性の変化量は少なくなる。従ってフィルムの光弾性係数が５０×１０-13 ｃｍ2/ｄｙｎｅ以下であることが好ましい。
【０１２７】
本発明に用いられるドープの製造方法は、特に限定されるものではない。具体的な一例を説明する。ジクロロメタンを主溶媒とし、アルコール類を添加した混合溶媒を用いる。その混合溶媒にＴＡＣ及び可塑剤（例えば、トリフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェートなど）を添加して攪拌溶解してドープ（以下、原料ドープと称する）を得る。なお溶解する際には加温したり冷却したりすることで溶解性を向上できる。さらに、原料ドープと混合溶媒と紫外線吸収剤（例えば、ベンゾトリアゾール系化合物が好ましい）とを混合して溶解させて添加液（以下、添加剤液とも称する）を調製する。また、原料ドープと混合溶媒とマット剤（例えば、シリカ粒子など）とを混合して分散させて添加液（以下、マット剤液とも称する）を調製する。さらに、目的に応じて劣化防止剤、光学異方性コントロール剤、染料及び剥離剤をそれぞれ含む添加液を調製しても良い。
【０１２８】
前記原料ドープ及び添加液を調製した後に、不純物を取り除くために濾過装置で濾過を行うことが好ましい。濾過装置には、濾過フィルタの平均孔径が１００μｍ以下のものを用いて、濾過流量を５０Ｌ／ｈｒ以上で行うことが好ましい。その後に原料ドープ及び添加液の泡抜きを行うことが好ましい。泡抜きは公知のいずれの方法を適用することもできる。
【０１２９】
ＴＡＣフィルムを得る溶液製膜法での、素材、原料、添加剤の溶解方法、濾過方法、脱泡、添加方法については、特願２００４−２６４４６４号の［０５１７］段落から［０６１６］段落に詳細に説明されており、これらの記載も本発明に適用できる。
【０１３０】
図１にフィルム製膜ライン１０を示す。ストックタンク１１には添加剤液１２が入れられている。ストックタンク１３には、マット剤液１４が入れられている。ストックタンク１５には原料ドープ１６が入れられている。それぞれのストックタンク１１，１３，１５にはその中の液１２，１４，１６を送液するためのポンプ１７，１８，１９が取り付けられている。
【０１３１】
添加剤液１２をマット剤液１４に混合させた後にスタティックミキサ２０で均一な添加液とする。さらに、この添加液を原料ドープ１６に混合させた後にスタティックミキサ２１で均一な液とする。以下この液を流延用ドープと称する。流延用ドープを濾過装置２２で濾過した後に、流延ダイ３０に送液する。
【０１３２】
流延ダイ３０の下方には、回転ローラ３１，３２に掛け渡された流延バンド３３が設けられている。流延バンド３３は、図示しない駆動装置により回転ローラ３１，３２が回転することに伴い無端で走行する。流延バンド３３の移動速度、すなわち流延速度は、１０ｍ／ｍｉｎ〜２００ｍ／ｍｉｎであることが好ましい。また、流延バンド３３の表面温度を所定の値とするために回転ローラ３１，３２に伝熱媒体循環装置３４が取り付けられていることが好ましい。回転ローラ３１，３２内には伝熱媒体流路が形成されており、その中を所定の温度に保持されている伝熱媒体が通過することにより回転ローラ３１，３２の温度を所定の温度に保持する。これにより流延バンド３３の表面温度を所定の温度に調整する。なお、流延バンド３３の表面温度は、−２０℃〜４０℃であることが好ましい。
【０１３３】
流延ダイ３０，流延バンド３３などは流延室３５に収められている。流延室３５内の温度を所定の値に保つために温調設備３６が取り付けられている。流延室３５の温度は、−１０℃〜５７℃であることが好ましい。また、揮発している有機溶媒を凝縮回収するための凝縮器（コンデンサ）３７が設けられている。凝縮液化した有機溶媒は、回収装置３８により回収され再生させた後に、ドープ調製用溶媒として再利用される。
【０１３４】
流延ダイ３０から流延用ドープを流延ビードを形成させながら流延バンド３３上に流延して流延膜３９を形成する。なお、このときの流延用ドープの温度は、−１０℃〜５７℃であることが好ましい。また、流延ビードの形成を安定化させるために減圧チャンバ４０が流延ビード背面に取り付けられ、所望の圧力に調整されていることが好ましい。流延膜３９は、流延バンド３３の走行と共に移動する。このときに流延膜３９中の有機溶媒を揮発させるために送風機４１，４２，４３を設けて乾燥風を送風することが好ましい。送風機の取り付け位置は、流延バンド３３の上部上流側４１，下流側４２、流延バンド３３下部４３に設けられている形態を図示しているがこれに限定されるものではない。また、形成直後の流延膜３９に乾燥風が吹き付けられることによる膜面の面状変動を抑制するために遮風装置４４が設けられていることが好ましい。なお、図１では支持体として流延バンドを用いている例を示しているが、流延ドラムを用いることも可能である。この場合には、流延ドラムの表面温度は、−２０℃〜４０℃であることが好ましい。
【０１３５】
流延膜３９が自己支持性を有するものとなった後に剥取ローラ４５で支持しながらフィルム（以下、湿潤フィルムと称する）４６として流延バンド３３から剥ぎ取る。その後に複数のローラが設けられている渡り部５０を搬送させた後にテンタ６０に送り込む。渡り部５０では、送風機５１から所望の温度の乾燥風を送風させることで湿潤フィルム４６の乾燥を進行させる。乾燥風温度は、２０℃〜２５０℃であることが好ましい。なお、渡り部５０では下流側のローラの回転速度を上流側のローラの回転速度より速くすることにより湿潤フィルム４６にドローを付与させることも可能である。テンタ６０内の湿潤フィルム４６は、その両縁がクリップで把持され搬送されつつ乾燥される。なお、テンタ６０による搬送及び乾燥方法は後に詳細に説明する。
【０１３６】
湿潤フィルム４６は、テンタ６０で所定の揮発分量まで乾燥されてフィルム６１として送り出される。フィルム６１は、耳切装置６２によりその両縁が切断される。切断された両縁部は、図示しないカッターブロワーによりクラッシャー６３に送られる。フィルム両縁部は、クラッシャー６３により粉砕されてチップになる。このチップをドープ調製用に再利用することがコストの点から有利である。なお、このフィルムの両縁を切断する工程は、省略することもできるが、前記流延工程からフィルムを巻き取る工程までのいずれかで行うことが好ましい。
【０１３７】
フィルム６１は、多数のローラ６４が備えられている乾燥室６５に送られる。乾燥室６５内の温度は、特に限定されるものではないが、５０℃〜２００℃の範囲であることが好ましい。乾燥室６５でフィルム６１は、ローラ６４に巻き掛けられながら搬送され有機溶媒が揮発して乾燥される。乾燥室６５には、吸着回収装置６６が取り付けられている。揮発溶媒は、吸着回収装置６６により吸着回収される。溶媒成分が除去された大気は、乾燥室６５内に乾燥風として再度送風される。なお、乾燥室６５は、乾燥温度を変えるために複数の区画に分割されていることがより好ましい。また、耳切装置６２と乾燥室６５との間に予備乾燥室（図示しない）を設けてフィルム６１の予備乾燥を行うことが、フィルム温度が急激に上昇することによるフィルムの形状変化を抑制できるためにより好ましい。
【０１３８】
フィルム６１は、冷却室６７に搬送され、略室温まで冷却される。なお、乾燥室６５と冷却室６７との間に調湿室（図示しない）を設けても良い。調湿室でフィルム６１に所望の湿度及び温度に調整された空気を吹き付ける。これにより、フィルム６１を巻き取る際の巻き取り不良の発生を抑制できる。
【０１３９】
フィルム６１が搬送されている間の帯電圧が、所定の範囲（例えば、−３ｋＶ〜＋３ｋＶ）となるように強制除電装置（除電バー）６８を設けることが好ましい。図１では、冷却室６７の下流側に設けられている例を図示しているが、その位置に限定されるものではない。さらい、ナーリング付与ローラ６９を設けて、フィルム６１の両縁にエンボス加工でナーリングを付与することが好ましい。なお、ナーリングされた箇所の凹凸が、１μｍ〜２００μｍであることが好ましい。
【０１４０】
最後に、フィルム６１を巻取室７０内の巻取ローラ７１で巻き取る。この際に、プレスローラ７２で所望のテンションを付与しつつ巻き取ることが好ましい。なお、テンションは巻取開始時から終了時まで徐々に変化させることがより好ましい。巻き取られるフィルム６１は、長手方向（流延方向）に少なくとも１００ｍ以上とすることが好ましい。また、幅方向は６００ｍｍ以上であることが好ましく、１４００ｍｍ以上１８００ｍｍ以下であることがより好ましい。また、１８００ｍｍより大きい場合にも効果がある。フィルムの厚みは、１５μｍ以上１００μｍ以下の薄いフィルムを製造する際に適用できる。
【０１４１】
テンタ６０での延伸及び緩和について図２を用いて説明する。支持体である流延バンド３３から剥離された湿潤フィルム４６は、残留揮発分（主に有機溶媒である）を一定量含んでいる。これを直ちに、あるいは一定の揮発分量になるまで乾燥した後に、テンタ６０を用いて湿潤フィルム４６の両端を保持手段（例えば、クリップなど）により把持しつつ搬送し、保持手段の幅を変化させることにより幅方向に延伸及び緩和を行う。湿潤フィルム４６をクリップ（図示しない）で入口６０ａで把持する。テンタ６０は、クリップの幅に応じて４区画からなる。湿潤フィルム４６の予熱および乾燥のための実質的に幅が一定の入口部８０、フィルムの保持幅を拡張する延伸部８１、フィルムの保持幅を縮小する緩和部８２、緩和した後実質的にフィルム幅が一定の出口部８３である。出口部８３のテンタ出口６０ｂでクリップが開放されてフィルム６１がテンタ６０から送り出される。
【０１４２】
入口部８０及び出口部８３における「実施的に幅が一定」とは、当該区画の開始地点のフィルム保持幅と、終了地点のフィルム保持幅の差が、±２％以内であることを意味している。湿潤フィルム４６は、残留揮発分を含んでいるので、入口部８０から出口部８３を通じて、連続的に有機溶媒の乾燥が行われている。有機溶媒を乾燥させるための手段は、公知の種々の方法を用いることができるが、熱風を湿潤フィルム４６に吹きつけて乾燥する方法が、設備コストの面から最も好ましい方法である。
【０１４３】
本発明では、延伸部８１の開始位置（以下、延伸開始位置と称する）８１ａおよび緩和部８２の終了位置（以下、緩和終了位置）８２ｂにおけるフィルムの揮発分量差Ｘ（重量％）を調整することによって、ボーイングを調整する。残留揮発分の調整手段としては、テンタ６０に導入する前の湿潤フィルム４６の残留揮発分を調整しても良いし、テンタ６０に導入した後に乾燥温度を変更しても良い。好ましい方法は、延伸部８１を機械的に前後させることである。乾燥温度がテンタ６０内で一定であれば、上流側に延伸部８１を移動することにより揮発分量差Ｘ（重量％）は増大し、下流側に移動すれば揮発分量差Ｘ（重量％）は縮小する。最も好ましい態様としては、テンタ６０内に一定温度の乾燥風を供給し、延伸部８１を前後させることで揮発分量差Ｘ（重量％）をコントロールする方法である。これにより、設備コストを最小に抑えつつ、多くの延伸条件に対応できる。
【０１４４】
揮発分量差Ｘ（重量％）の算出方法について説明する。フィルムの残留揮発分（揮発分とも称する）は、以下の式に従って算出される。
揮発分（重量％）＝（Ｗ１−Ｗ２）／Ｗ２×１００
Ｗ１：所定のサイズに切断されたフィルムサンプルの重量（ｇ）
Ｗ２：１１５℃空気恒温槽にて１時間乾燥後のフィルムサンプルの重量（ｇ）
そして、揮発分量差Ｘ（重量％）は、
Ｘ（重量％）＝延伸開始位置８１ａの揮発分（％）−緩和終了位置８２ｂの揮発分（％）から算出される。
【０１４５】
また、最大延伸率（％）は、（最大テンタクリップ幅Ｌ２）／（テンタ入口６０ａのクリップ幅Ｌ１）×１００で算出される。緩和後延伸率（％）は、（出口部８３のクリップ幅Ｌ３）／（テンタ入口６０ａのクリップ幅Ｌ１）×１００で算出される。延伸速度Ｙ（％／ｍｉｎ）は、（最大延伸率）／（延伸部８１を通過する時間）で算出される。緩和速度（％／ｍｉｎ）は、（最大延伸率−緩和後延伸率）／（緩和部８２を通過する時間）で算出される。
【０１４６】
本発明においては、揮発分量差Ｘ（重量％）と延伸速度Ｙ（％／ｍｉｎ）との関係を
−５．０＜０．２７Ｘ＋１．０１ＸＹ−２１．２＜５．０の範囲とすることが好ましく、より好ましくは、
−１．５０＜０．２７Ｘ＋１．０１ＸＹ−２１．２＜１．５０の範囲とすることである。
【０１４７】
また、延伸開始位置８１ａの揮発分（重量％）、揮発分量差Ｘ（重量％）、延伸速度Ｙ（％／ｍｉｎ）、緩和速度（％／ｍｉｎ）、最大延伸率（％）、緩和後延伸率（％）及び添加剤の種類、添加量を適宜選択することでボーイングの発生を抑制でき、フィルム幅方向における軸ズレを２．０°未満とすることが可能となり、１．０°未満さらには０．５°未満とすることも可能となる。
【０１４８】
本発明の溶液製膜方法において、ドープを流延する際に、２種類以上のドープを同時積層共流延させるか、逐次積層共流延させることも可能である。同時積層共流延を行う際には、フィードブロックを取り付けた流延ダイを用いても良いし、マルチマニホールド型流延ダイを用いても良い。共流延により多層からなるフィルムは、空気面側の層の厚さ及び／又は支持体側の層の厚さがそれぞれ全体のフィルム厚さ中で０．５％〜３０％であることが好ましい。さらに、同時積層共流延を行う場合に、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に高粘度ドープが低粘度ドープで包み込まれることが好ましい。また、同時積層共流延を行う場合に、ダイスリットから支持体にドープを流延する際に内部のドープは、そのドープよりもアルコールの組成比が大きなドープで包み込まれることが好ましい。
【０１４９】
流延での流延ダイ，減圧チャンバ，支持体などの構造、共流延、剥離法、延伸、各工程の乾燥条件、ハンドリング方法、カール、平面性矯正後の巻取方法から、溶媒回収方法、フィルム回収方法まで、特願２００４−２６４４６４号の［０６１７］段落から［０８８９］段落までに詳しく記述されており、これらの記載も本発明に適用できる。
【０１５０】
［性能・測定法］
巻き取られたセルロースアシレートフィルムの性能及びそれらの測定方法は、特願２００４−２６４４６４号の［０１１２］段落から［０１３９］段落までに詳しく記述されており、これらの記載も本発明に適用できる。
【０１５１】
［表面処理］
前記セルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面が表面処理されていることが好ましい。前記表面処理が真空グロー放電処理，大気圧プラズマ放電処理，紫外線照射処理，コロナ放電処理，火炎処理，酸処理またはアルカリ処理の少なくとも一種であることが好ましい。
【０１５２】
［機能性層］
前記セルロースアシレートフィルムの少なくとも一方の面が下塗りされていても良い。さらに、前記セルロースアシレートフィルムをベースフィルムとして他の機能性層を付与した機能性材料として用いることが好ましい。前記機能性層が帯電防止層，硬化樹脂層，反射防止層，易接着層，防眩層及び光学補償層から選択される少なくとも１層を設けることが好ましい。
【０１５３】
前記機能性層が、少なくとも一種の界面活性剤を０．１ｍｇ／ｍ3 〜１０００ｍｇ／ｍ2 含有することが好ましい。また、前記機能性層が、少なくとも一種の滑り剤を０．１ｍｇ／ｍ2 〜１０００ｍｇ／ｍ2 含有することが好ましい。さらに、前記機能性層が、少なくとも一種のマット剤を０．１ｍｇ／ｍ2 〜１０００ｍｇ／ｍ2 含有することが好ましい。さらには、前記機能性層が、少なくとも一種の帯電防止剤を１ｍｇ／ｍ2 〜１０００ｍｇ／ｍ2 含有することが好ましい。セルロースアシレートフィルムに、種々様々な機能、特性を実現するための表面処理機能性層の付与方法は、上記以外にも特願２００４−２６４４６４号の［０８９０］段落から［１０８７］段落に詳細な条件、方法も含めて記載されている。これらも本発明に適用できる。
【０１５４】
前記セルロースアシレートフィルムは、特に偏光板保護フィルムとして有用である。セルロースアシレートフィルムを貼り合わせた偏光板は、通常は２枚を液晶層に貼り合わせ液晶表示装置を作製する。但し、この配置はどの位置でも良い。特願２００４−２６４４６４号には、液晶表示装置として、ＴＮ型，ＳＴＮ型，ＶＡ型，ＯＣＢ型，反射型、その他の例が詳しく記載されている。この方法は、本発明にも適用できる。また、同出願には光学的異方性層を付与した、セルロースアシレートフィルムや、反射防止，防眩機能を付与したセルロースアシレートフィルムについての記載もある。更には適度な光学性能を付与し二軸性セルロースアシレートフィルムとして光学補償フィルムとしての用途も記載されている。これは、偏光板保護フィルムと兼用して使用することもできる。これらの規制は、本発明にも適用できる。特願２００４−２６４４６４号の［１０８８］段落から［１２６５］段落に詳細が記載されている。
【０１５５】
また、本発明の製造方法により光学特性に優れるセルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣフィルム）を得ることができる。前記ＴＡＣフィルムは、偏光板保護フィルムや写真感光材料のベースフィルムとして用いることができる。さらにテレビ用途などの液晶表示装置の視野角依存性を改良するための光学補償フィルムとしても使用可能である。特に偏光板の保護膜を兼ねる用途に効果的である。そのため、従来のＴＮモードだけでなくＩＰＳモード、ＯＣＢモード、ＶＡモードなどにも用いられる。また、前記偏光板保護膜用フィルムを用いて偏光板を構成しても良い。
【実施例】
【０１５６】
本発明を実施例を挙げて詳細に説明するが、本発明はこれら態様に限定されるものではない。説明は本発明に係る実験１で詳細に行い、本発明に係る実験２ないし実験１０並びに比較例である実験１１ないし１３については、実験１と同じ条件の箇所の説明は省略する。また、後に各実験の実験条件を表１に、実験結果を表２にまとめて示す。
【０１５７】
（原料ドープの調製）
セルローストリアセテート（置換度２．８）          ８９．３重量％
トリフェニルフォスフェート                          ７．１重量％
ビフェニルジフェニルフォスフェート                  ３．６重量％
なる固形分１００重量部に対し
ジクロロメタン    ８７重量％
メタノール        １３重量％
なる混合溶媒を適宜添加し、攪拌溶解し原料ドープ１６を調製した。完成した原料ドープの固形分濃度は１９．０重量％であった。こうして調製した原料ドープを濾過した。
【０１５８】
（添加剤液の調製）
化４８                                                  ２０．０重量％
原料ドープ                                              １３．９重量％
以上の比率で混合し、濾過を行って添加剤液１２を調製した。
化４８は、下記に示す化合物（N,N'-di-m-tolyl-N''-p-methoxyphenyl-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine ）である。
【０１５９】
【化４８】
2005313614.tif 000050
【０１６０】
（マット剤液の調製）
シリカ粒子（日本アエロジル製Ｒ９７２）        ２．０重量％
原料ドープ                                  １５．６重量％
ジクロロメタン                              ７６．１重量％
メタノール                                  １１．３重量％
以上の比率で混合し、アトライターで分散後濾過してマット剤液を調製した。
【０１６１】
スタティックミキサ２０を用いて添加剤液１２にマット剤液１４を混合し、さらにスタティックミキサ２１で添加剤液１２とマット剤液１４との混合液を原料ドープ１６に添加して混合した。
【０１６２】
流延ダイ３０は、幅が１．８ｍであるものを用いた。また、フィルム製品厚みが８０μｍとなるようにし、流延幅を１７００ｍｍとして流延ダイ３０からドープの流量を調整して流延を行った。ドープの温度を３６℃に調整するため、流延ダイにジャケット（図示しない）を設けてジャケット内に入口温度が３６℃の伝熱媒体（水）を供給した。
【０１６３】
流延ダイ３０、配管は、製膜時には３６℃に保温した。流延ダイ３０は、コートハンガー型のものを用いた。厚み調整ボルトが２０ｍｍピッチに設けられているものを使用した。流延エッジ部２０ｍｍを除いたフィルムで５０ｍｍ離れた任意の２点の厚み差は１μｍ以内であり、幅方向の厚みの最小値で最も大きな差が３μｍ／ｍ以下となるように調整した。また、フィルムの厚みは±１．５％以下となるように調整した。
【０１６４】
流延ダイ３０の１次側には減圧するための減圧チャンバ４０を設置した。減圧チャンバ４０の減圧度は、流延ビードの前後で１Ｐａ〜５０００Ｐａの圧力差が生じるようになっていて、流延スピードに応じて調整が可能なものである。また、減圧チャンバ４０の温度も調整した。流延ビード前後、後部にラビリンスパッキン（図示しない）を設けた。また、両端には開口部を設けた。さらに、そこから、流延ビードの両縁の乱れを調整するためにエッジ吸引装置（図示しない）が取り付けられているものを用いた。
【０１６５】
流延ダイ３０の材質は、析出硬化型のステンレスや２層ステンレスであり、熱膨張率が２×１０-5（℃-1）以下の素材であり、電解質水溶液での強制腐食試験でＳＵＳ３１６と略同等の耐腐食性を有する素材を使用した。また、ジクロロメタン，メタノール，水の混合液に３ヵ月浸漬しても気液界面にピッティング（孔開き）が生じない耐腐食性を有する素材を使用した。流延ダイ３０の接液面の仕上げ精度は表面粗さで１μｍ以下、真直度はいずれの方向にも１μｍ／ｍ以下であり、スリットのクリアランスは自動調整により０．５ｍｍ〜３．５ｍｍまで調整可能なものを用いた。本実施例では、１．５ｍｍで実施した。ダイリップ先端の接液部の角部分については、Ｒはスリット全巾に亘り５０μｍ以下になるように加工した。ダイ内部での剪断速度は１（１／ｓｅｃ）〜５０００（１／ｓｅｃ）の範囲であった。
【０１６６】
また、流延ダイ３０のリップ先端には、硬化膜が設けられているものを用いた。硬化膜を設ける手段としては、セラミックスコーティング，ハードクロムメッキ，窒化処理などがある。硬化膜としてセラミックスを用いる場合には、研削でき気孔率が低く脆くなく耐腐食性が良く、かつ流延ダイと密着性がないものが好ましい。具体的には、タングステン・カーバイド，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＴｉＮ，Ｃｒ2 Ｏ3 などがあり、特に好ましくはタングステン・カーバイドである。なお、本実施例では、溶射法によりタングステン・カーバイドコーティングを形成したものを用いた。
【０１６７】
さらに流延ダイ３０のスリット端には流出するドープが、局所的に乾燥固化することを防止するために、ドープを可溶化する溶媒である混合溶媒（ジクロロメタン８７重量部，アセトン１３重量部）をビード端部とスリット気液界面に片側で０．５ｍｌ／ｍｉｎで供給した。この液を供給するポンプの脈動率は５％以下のものを用いた。また、減圧チャンバ４０によりビード背面の圧力を１５０Ｐａ低くした。また、減圧チャンバ４０の温度を一定にするため、ジャケット（図示しない）を取り付けた。そのジャケット内に４０℃に調整された伝熱媒体を供給した。エッジ吸引風量は、１Ｌ／ｍｉｎ〜１００Ｌ／ｍｉｎの範囲で調整可能なものを用い、本実施例では３０Ｌ／ｍｉｎ〜４０Ｌ／ｍｉｎの範囲で適宜調整した。
【０１６８】
支持体として幅２．０ｍ，長さが７０ｍのステンレス製のエンドレスバンドを流延バンド３３として利用した。流延バンド３３の厚みは１．５ｍｍであり、表面粗さは０．０５μｍ以下になるように研磨した。材質はＳＵＳ３１６製であり、十分な耐腐食性と強度を有するものとした。流延バンド３３の全体の厚みムラは０．５％以下であった。流延バンド３３は２個の回転ローラ３１，３２により駆動させた。その際の流延バンド３３のテンションは１．０×１０4 ｋｇ／ｍに調整し、流延バンド３３と回転ローラ３１，３２との相対速度差が０．０１ｍ／ｍｉｎ以下になるように調整した。また、流延バンド３３の速度変動は０．５％以下であった。また１回転の幅方向の蛇行は１．５ｍｍ以下に制限するように流延バンド３３の両端位置を検出して制御した。また、流延ダイ３０直下におけるダイリップ先端と流延バンド３３との上下方向の位置変動は２００μｍ以下とした。
【０１６９】
回転ローラ３１，３２は、流延バンド３３の温度調整を行えるように、内部に伝熱媒体を送液できるものを用いた。流延ダイ側の回転ローラ３１には２０℃の伝熱媒体（水）を流し、他方の回転ローラ３２には４０℃の伝熱媒体（水）を流した。流延直前の流延バンド中央部の表面温度は１５℃であり、その両端の温度差は６℃以下であった。なお、流延バンド３３は、表面欠陥がないものが好ましく、３０μｍ以上のピンホールは皆無であり、１０μｍ〜３０μｍのピンホールは１個／ｍ2 以下、１０μｍ未満のピンホールは２個／ｍ2 以下であるものを用いた。
【０１７０】
流延室３５の温度は、３５℃に保った。流延バンド３３上に流延されたドープから形成された流延膜３９は、最初に平行流の乾燥風を送り乾燥した。乾燥風の温度は、流延バンド上部の上流側を１３５℃、下流側を１４０℃、流延バンド下部が６５℃となるように送風機４１，４２，４３から送風した。それぞれの乾燥風の飽和温度は、いずれも−３℃付近であった。流延バンド３３からフィルム（湿潤フィルム）４６として剥ぎ取った。剥取不良を抑制するために流延バンド速度に対して剥取速度（剥取ローラドロー）は、１００．５％とした。乾燥して発生した溶媒ガスは凝縮器３７で凝縮液化して回収装置３８で回収した。溶媒が除去された乾燥風は再度加熱して乾燥風として再利用した。その際に、溶媒に含まれる水分量を０．５％以下に調整して再使用した。湿潤フィルム４６を渡り部５０の５本のローラを介して搬送し、テンタ６０に送った。このときに送風機５１から７０℃の乾燥風を送風した。
【０１７１】
テンタ６０に送られた湿潤フィルム４６は、幅を変えずに入口部８０で搬送した（図２参照）。延伸開始位置８１ａでの揮発分は３６．２重量％であった。０．７９％／ｍｉｎの延伸速度Ｙで最大延伸率が２４．３％になるまで延伸部８１で延伸した。その後に緩和部８２で緩和後延伸率が１９．２％、緩和速度０．６８％／ｍｉｎで縮幅した。揮発分量差Ｘは１９．８重量％であった。一定幅で搬送される出口部８３を経た後にテンタ６０より開放してフィルム６１とした。テンタ６０では、すべて１４０℃の熱風を、幅方向風速が一定になるようあらかじめ調整し、断続的に配置された給気ノズル（図示しない）にてフィルムの法線方向（フィルム平面に対して垂直な方向）から吹き付けた。
【０１７２】
そして、テンタ出口から３０秒以内に両端の耳切を耳切装置６２で行った。後述する乾燥室６５で高温乾燥させる前に、１００℃の乾燥風が供給されている予備乾燥室（図示しない）でフィルム６１を予備加熱した。
【０１７３】
フィルム６１を乾燥室６５で高温乾燥した。前半は１２０℃、後半は１３０℃の熱風で乾燥し、再度余分な端部を切り落とした。なお、乾燥室でのフィルム６１のローラ６４での搬送テンションは１００Ｎ／巾として、最終的に残留溶媒量が０．２重量％未満となるまで約３０分間乾燥した。ローラ６４の材質はアルミ製もしくは炭素鋼製であり、表面にはハードクロム鍍金を施した。ローラ６４の表面形状はフラットなものとブラストによりマット加工したものとを用いた。ローラ６４の回転による振れは全て５０μｍ以下であった。また、テンション１００Ｎ／巾でのローラ撓みは０．５ｍｍ以下となるように選定した。
【０１７４】
乾燥風に含まれる溶媒ガスは吸着回収装置６６を用いて吸着回収除去した。吸着剤は活性炭であり、脱着は乾燥空気を用いて行った。回収した溶媒は水分量０．３重量％以下に調整してドープ調製用溶媒として再利用した。乾燥風には溶媒ガスの他、可塑剤、紫外線吸収剤、その他の高沸点化合物が含まれているので冷却除去する冷却機及びプレアドソーバーでこれらを除去して再生循環使用した。そして、最終的に屋外排出ガス中のＶＯＣ（揮発性有機溶媒）は１０ｐｐｍ以下となるように、吸脱着条件を設定した。両端耳切を行い、さらにフィルム６１の両端にナーリング付与ローラ６９でナーリングを行った。ナーリングは片側からエンボス加工を行うことで付与し、ナーリングする幅は１０ｍｍであり、最大高さは平均厚みよりも平均１２μｍ高くなるように押し圧を設定した。
【０１７５】
そして、フィルム６１を巻取室７０に搬送した。巻取室７０は、室内温度２８℃、湿度７０％に保持した。さらに、フィルム帯電圧が−１．５ｋＶ〜＋１．５ｋＶになるようにイオン風除電装置（図示しない）も設置した。このようにして得られたフィルム（厚さ８０μｍ）６１の製品幅は、１３４０ｍｍとなった。巻取ローラ７１の径は１６９ｍｍのものを用いた。巻き始めテンションは２５０Ｎ／巾であり、巻き終わりが２２０Ｎ／巾になるようなテンションパターンとした、巻き取り全長は２６４０ｍであった。巻き取りの際の周期を４００ｍとし、オシレート幅を±５ｍｍとした。巻き取り時のフィルムの温度は２５℃、含水量は１．４重量％、残留溶媒量は、０．２重量％未満であった。フィルム中の化４８の含有量は４．７重量％、シリカ粒子の含有量は０．１３重量％であった。
【０１７６】
得られたフィルムの一端より５０ｍｍの位置と、反対側端より５０ｍｍの位置、およびフィルム中央からサンプルをカッティングプロッタで正確に採取し、王子計測機器製ＫＯＢＲＡ−２１ＤＨで、長手方向に面内垂直な方向（幅方向）に対する、遅相軸のなす角、および６３２．８ｎｍにおけるＲｅ値を測定した。遅相軸とフィルム幅手方向との軸ズレは、上記３点のうち最大値を示し、Ｒｅ値は幅方向平均値としたところ、Ｒｅ値は３８．８ｎｍ、軸ズレは０．２°であった。。また、揮発分量差Ｘ（重量％）は、１９．８重量％であり延伸速度Ｙは０．７９％／ｍｉｎから式（１）の値は０．１となった。さらに化４８の含有量を分光吸収で測定したところ、４．３重量％であった。ボーイングの方向を軸ずれ測定角度で判断したところ、ほぼフラット（○）であった。
【０１７７】
【表１】
2005313614.tif 000051
【０１７８】
【表２】
2005313614.tif 000052
【０１７９】
実験２ないし４では、ボーイング形状はほぼフラット（○）であった。実験５，７，８では、ボーイング形状は光学フィルムとして用いた際に問題が生じない程度凸形状（凸１）であった。また、実験６，９，１０ではボーイング形状は光学フィルムとして用いた際に問題が生じない程度凹形状（凹１）であった。本発明に係る溶液製膜方法で製膜されたフィルムは、幅方向に対する軸ズレが２°以下と低く、また実験条件を選択することにより０．５°未満まで低下させることが可能である。
【０１８０】
比較例である実験１１ないし１３の各実験条件及び実験結果をそれぞれ表１，２に示す。実験１１，１３では、ボーイング形状は光学フィルムとして不適当な程度まで凹形状（凹２）が生じていた。また、実験１２では、ボーイング形状は光学フィルムとして不適当な程度まで凸形状（凸２）が生じていた。
【０１８１】
実施例である実験３で製膜されたフィルムをケン化処理後、偏光膜の片面に貼り付け、反対面には富士写真フイルム製フジタック（登録商標；８０μｍ）を貼り合わせ、偏光板を作製した。作製した偏光板を、ＶＡ方式（垂直配向型）の液晶表示装置の偏光板と位相差膜の代わりに適用したところ、いずれも良好な表示が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０１８２】
【図１】本発明の溶液製膜方法に用いられるフィルム製膜ラインの概略図である。
【図２】テンタ内におけるフィルムの延伸緩和を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１８３】
１０  フィルム製膜ライン
４６  湿潤フィルム
６０  テンタ
６１  フィルム
８１  延伸部
８１ａ  延伸開始位置
８２  緩和部
８２ｂ  緩和終了位置
Ｘ  揮発分量差（重量％）
Ｙ  延伸速度（％／ｍｉｎ）
【図１】
2005313614.tif 000053
【図２】
2005313614.tif 000054