(57)【要約】    【課題】  一方面側から外光が入射する環境で使用される透光性の電気光学装置における表示の視認性を向上させること。    【解決手段】  一方から外光(2)が入射する環境に置かれる透光性基材(1)の他方側に配置され、前記外光の進行方向と略同方向に向けて発光するように構成される透光性の電気光学装置であって、前記透光性基材の他方側に配置され、前記透光性基材の一方から他方へ通過する前記外光の強度を減衰する機能を備える光減衰層(12)と、前記発光素子を含み、前記光減衰層の上側に配置される透光性の発光素子層(14)と、を備え、前記光減衰層が着色用の添加剤を含有させたガラス質の材料からなる薄膜で構成されている電気光学装置(100)である。【選択図】    図１
2005251462.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方から外光が入射する環境に置かれる透光性基材の他方側に配置され、前記外光の進行方向と略同方向に向けて発光するように構成される透光性の電気光学装置であって、
前記透光性基材の他方側に配置され、前記透光性基材の一方から他方へ通過する前記外光の強度を減衰する機能を備える光減衰層と、
前記発光素子を含み、前記光減衰層の上側に配置される透光性の発光素子層と、
を備え、
前記光減衰層が添加剤を含有させたガラス質の材料からなる薄膜で構成されている、電気光学装置。
【請求項２】
前記ガラス質の材料は、酸化珪素を主成分としており、
前記添加剤は、鉛、コバルト、銅又はクロムを含む金属である、請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記ガラス質の材料は、酸化珪素を主成分としており、
前記添加剤は、鉛、コバルト、銅又はクロムを含む金属の酸化物である、請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記発光素子の発光状態を制御する駆動回路を含み、前記発光素子層の上側に配置される透光性の駆動回路層を更に備える、請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記発光素子の発光状態を制御する駆動回路を含み、前記光減衰層と前記発光素子層との相互間に配置される透光性の駆動回路層を更に備える、請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記発光素子が無機エレクトロルミネセンス素子又は有機エレクトロルミネセンス素子である、請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項７】
一方から外光が入射する環境に置かれる透光性基材の他方側に配置され、前記外光の進行方向と略同方向に向けて発光する透光性の電気光学装置を製造する方法であって、
転写元基板の上側に、発光素子を含む透光性の発光素子層を形成する発光素子層形成工程と、
前記発光素子層の上側に、添加剤を含有させたガラス質の材料からなり前記透光性基材の一方から他方へ通過する前記外光の強度を減衰する機能を担う薄膜状の光減衰層を形成する光減衰層形成工程と、
前記発光素子層及び前記光減衰層を含んでなる電気光学装置を前記転写元基板から前記透光性基材上に転写する転写工程と、
を含む、電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記光減衰層形成工程は、前記ガラス質の材料を酸化珪素とし、前記添加剤を鉛、コバルト、銅又はクロムを含む金属又はこれらの金属の酸化物として成膜を行い前記光減衰層を形成する、請求項７に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記発光素子層形成工程に先立って、前記発光素子の発光状態を制御する駆動回路を含む透光性の駆動回路層を前記転写元基板の上側に形成する駆動回路層形成工程を更に含む、請求項７に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
一方から外光が入射する環境に置かれる透光性基材の他方側に配置され、前記外光の進行方向と略同方向に向けて発光する透光性の電気光学装置を製造する方法であって、
転写元基板の上側に、添加剤を含有させたガラス質の材料からなり前記透光性基材の一方面から他方面へ通過する前記外光の強度を減衰する機能を担う薄膜状の光減衰層を形成する光減衰層形成工程と、
前記光減衰層の上側に、発光素子を含む透光性の発光素子層を形成する発光素子層形成工程と、
前記光減衰層及び前記発光素子層を含んでなる電気光学装置を前記転写元基板から仮転写基板上に転写する第１の転写工程と、
前記光減衰層及び前記発光素子層を含んでなる電気光学装置を前記仮転写基板から前記透光性基材上に転写する第２の転写工程と、
を含む、電気光学装置の製造方法。
【請求項１１】
前記発光素子層形成工程に先立って、前記発光素子の発光状態を制御する駆動回路を含む透光性の駆動回路層を前記発光素子層の上側に形成する駆動回路層形成工程を更に含む、請求項１０に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、建物の窓ガラスや車両用フロントガラスなど一方側から外光が入射する環境に置かれる透光性基材の他方側に、当該外光の進行方向と略同方向に向けて発光するように配置される透光性の電気光学装置（例えば有機エレクトロルミネセンス表示装置等）とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
透光性を有するように構成した有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）装置が知られている。例えば、本出願人が既に出願済みの特開２００１−３５７９７６号公報には、透光性を有し、腕時計等のカバーガラスに直接用いることが可能な有機ＥＬ装置が開示されている。また最近では、透明性を有する無機ＥＬ装置も開発されている。このような透光性を有する有機ＥＬ装置等の電気光学装置を用いることにより、例えば、建物の窓ガラスや車両のフロントガラスなどに、当該ガラスから外界を見る際の視認性を損なわず、かつ当該ガラス上に所望の表示を行うことができる表示装置を構成することが可能となる。  
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−３５７９７６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、透光性を有する有機ＥＬ表示装置を建物の窓ガラスなどの一方側から外光が入射する環境に設置する場合には、時間帯や天候などによる外光の強度差が大きいことから、特に外光の強度が大きい場合に表示の視認性が低くなるという不都合がある。例えば、昼間（特に夏場等）に日差しが強い時間帯などにおいては、外光の強度が大きいため有機ＥＬ表示装置から発光強度が外光に負けてしまい相対的にコントラストが低下し、視認性が悪くなる。このような不都合は、有機ＥＬ表示装置に限らず、自発光型であり、かつ透光性を有するように構成される他の電気光学装置（例えば無機ＥＬ表示装置等）においても同様である。
【０００５】
そこで、本発明は、一方側から外光が入射する環境で使用される透光性の電気光学装置における表示の視認性を向上させることを可能とする技術の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１の態様の本発明は、一方から外光が入射する環境に置かれる透光性基材の他方側に配置され、上記外光の進行方向と略同方向に向けて発光するように構成される透光性の電気光学装置であって、上記透光性基材の他方側に配置され、上記透光性基材の一方から他方へ通過する上記外光の強度を減衰する機能を備える光減衰層と、上記発光素子を含み、上記光減衰層の上側に配置される透光性の発光素子層と、を備え、上記光減衰層が所定の添加剤を含有させたガラス質の材料からなる薄膜で構成されていることを特徴とするものである。ここで「一方から外光が入射する環境に置かれる透光性基材」とは、例えば建物の窓ガラスや車両用フロントガラスなどが該当する。また「薄膜」とは、単原子層、単分子層のものから概ね数μｍ程度までの膜をいう。
【０００７】
かかる構成によれば、透光性基材の一方から他方へ進む外光の強度が光減衰層によって低下するので、昼間など日差しの強い時間帯であっても、外光と略同方向に向けて放射される電気光学装置からの発光の相対的なコントラストが向上する。したがって、透光性の電気光学装置における表示の視認性を向上させることができる。特に、光減衰層をガラス質の材料（例えば、酸化珪素等）からなる薄膜によって実現するので、有機ＥＬ表示装置等の大きな特徴である超薄型化が可能という利点を損なうことなく、視認性を向上させることが可能となる。
【０００８】
上述したガラス質の材料は酸化珪素を主成分とすることが好ましく、その場合には上記添加剤として、鉛、コバルト、銅又はクロムを含む金属又はこれらの酸化物を採用することが好ましい。
【０００９】
これにより、着色された薄膜状の光減衰層が容易に得られる。
【００１０】
上記発光素子の発光状態を制御する駆動回路を含み、上記発光素子層の上側に配置される透光性の駆動回路層を更に備えることが好ましい。また、この駆動回路層は、上記光減衰層と上記発光素子層との相互間に配置されてもよい。
【００１１】
これにより、例えば薄膜トランジスタ等を主に含んでなる透光性の駆動回路層を設けた電気光学装置においても、表示の視認性を向上させることができる。
【００１２】
上述した発光素子は、無機エレクトロルミネセンス素子又は有機エレクトロルミネセンス素子であることが好ましい。
【００１３】
これにより、視認性のよい有機ＥＬ表示装置又は無機ＥＬ表示装置が得られる。
【００１４】
第２の態様の本発明は、上述した電気光学装置の好適な製造方法に関する。すなわち、本発明は、一方から外光が入射する環境に置かれる透光性基材の他方側に配置され、上記外光の進行方向と略同方向に向けて発光する透光性の電気光学装置を形成する方法であって、転写元基板の上側に、発光素子を含む透光性の発光素子層を形成する発光素子層形成工程と、上記発光素子層の上側に、着色用の添加剤を含有させたガラス質の材料からなり上記透光性基材の一方から他方へ通過する上記外光の強度を減衰する機能を担う薄膜状の光減衰層を形成する光減衰層形成工程と、上記発光素子層及び上記光減衰層を含んでなる電気光学装置を上記転写元基板から上記透光性基材上に転写する転写工程と、を含む電気光学装置の製造方法である。
【００１５】
上記方法によれば、デバイス転写技術を採用することにより第１の態様の本発明にかかる電気光学装置を容易に製造することができる。なお、デバイス転写技術については、例えば本出願人の特許出願にかかる特許公報である「特開平１０−１２５９３１号公報」や「特開平１１−２６７３３号公報」などの公知文献に記載されている技術を適用することが可能である。
【００１６】
上記光減衰層形成工程は、上記ガラス質の材料を酸化珪素とし、上記添加剤を鉛、コバルト、銅又はクロムを含む金属又はこれらの金属の酸化物として成膜を行い上記光減衰層を形成することが好ましい。
【００１７】
また、上記発光素子層形成工程に先立って、上記発光素子の発光状態を制御する駆動回路を含む透光性の駆動回路層を上記転写元基板の上側に形成する駆動回路層形成工程を更に含むことも好ましい。
【００１８】
第３の態様は、上述した電気光学装置の好適な製造方法に関する発明である。具体的には、第３の態様の本発明は、一方から外光が入射する環境に置かれる透光性基材の他方側に配置され、上記外光の進行方向と略同方向に向けて発光する透光性の電気光学装置を形成する方法であって、転写元基板の上側に、着色用の添加剤を含有させたガラス質の材料からなり上記透光性基材の一方から他方へ通過する上記外光の強度を減衰する機能を担う薄膜状の光減衰層を形成する光減衰層形成工程と、上記光減衰層の上側に、発光素子を含む透光性の発光素子層を形成する発光素子層形成工程と、上記光減衰層及び上記発光素子層を含んでなる電気光学装置を上記転写元基板から仮転写基板上に転写する第１の転写工程と、上記光減衰層及び上記発光素子層を含んでなる電気光学装置を上記仮転写基板から上記透光性基材上に転写する第２の転写工程と、を含む電気光学装置の製造方法である。
【００１９】
デバイス転写技術を採用することにより、本発明にかかる電気光学装置を容易に製造することができる。
【００２０】
また、上記発光素子層形成工程に先立って、上記発光素子の発光状態を制御する駆動回路を含む透光性の駆動回路層を上記発光素子層の上側に形成する駆動回路層形成工程を更に含むことが好ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明を適用した有機ＥＬ表示装置について図面を参照しながら説明する。
【００２２】
＜第１の実施形態＞
図１は、第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に説明する図である。また図２は、有機ＥＬ表示装置の構成例をより具体的に説明するものであり、一の有機ＥＬ素子（発光素子）に対応する部分断面図が示されている。
【００２３】
図１及び図２に示す本実施形態の有機ＥＬ表示装置１００は、建物の窓ガラスや車両のフロントガラスなど一方から外光２が入射する環境に置かれる透光性基材１の他方側に接着層１０を介して接合されており、外光２の進行方向と略同方向に向けて発光するように構成されている。
【００２４】
有機ＥＬ表示装置１００は、透光性基材１の他方面上に配置される光減衰層１２と、この光減衰層の上側に配置される透光性の発光素子層１４と、発光素子層１４の上側に配置される透光性の駆動回路層１６とを含んで構成される。なお、図示しないが各層を全体的に覆って外界から保護する保護層も適宜設けられる。本例の有機ＥＬ表示装置１００は、当該装置を構成する各要素が略透明であり全体として透光性を有する。すなわち、透光性基材１の一方から入射する外光２の大部分は有機ＥＬ表示装置１００を透過して透光性基材１の他方側へ進行する。
【００２５】
光減衰層１２は、透光性基材１の一方から他方へ通過する外光２の強度を減衰する機能を備える薄膜である。この光減衰層１２は、着色用の添加剤を含有させたガラス質の材料からなる薄膜であり、スパッタリング法やＣＶＤ法など各種の薄膜形成プロセスによって形成される。本実施形態では、この光減衰層１２として酸化珪素を主成分とした薄膜を用いる。着色用の添加剤としては、鉛、コバルト、銅又はクロムを含む金属や、これらの金属の酸化物が好適に用いられる。これらの添加剤を用いることにより、可視光に対する透過率を低下させた酸化珪素膜を得ることができる。透過率については添加剤の量やその他の形成条件によって加減することが可能であり、例えば、５０〜８０％程度の透過率となるように光減衰層１２を形成するとよい。これにより、外光２の光強度を低下させ、発光素子層１４から放射される発光の視認性を高める。光減衰層１２の膜厚は、光強度を所望量だけ減衰する機能を達成し得る限り、特に限定はないが、概ね数百ｎｍ〜数μｍ程度にするとよい。なお、光減衰層１２の形成条件の詳細については後述する。
【００２６】
発光素子層１４は、発光機能を担う有機層を二の電極（陽極及び陰極）の間に介在させてなる有機ＥＬ素子（発光素子）５４を含む。本例の発光素子層１４は、複数の有機ＥＬ素子５４をマトリクス状に配置して構成されるドットマトリクス型の表示領域を備える。
【００２７】
有機ＥＬ素子５４を構成する陽極としては、透明導電膜として一般的に用いられるＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）やＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）などを用いることができる。膜厚については、透光性を確保できれば特に制限されるものではなく、例えば５０ｎｍ〜５００ｎｍ程度に形成される。陰極についても同様に、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明導電膜が用いられる。電子注入性をより高めるために、例えばマグネシウムと銀の合金を極薄く成膜した後にＩＴＯ等を成膜してもよい。陰極の膜厚についても透光性を確保できれば特に制限されるものではなく、例えば５０ｎｍ〜５００ｎｍ程度にするとよい。
【００２８】
有機ＥＬ素子５４を構成する有機層は、一般的には正孔輸送層、発光層、電子輸送層などに機能分離されるのが望ましいとされる。例えば、黄色に発光する有機層であれば、正孔輸送層としてＮ，Ｎ‘−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジナフチル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミンを真空蒸着により膜厚５０ｎｍ程度に成膜し、その上に発光層として一般的に知られているトリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム錯体と黄色の蛍光色素として一般的に知られるルブレンを真空共蒸着によって膜厚５０ｎｍ程度に成膜することによって形成される。また、青色に発光する有機層であれば、上記の黄色発光の有機層の形成条件における蛍光色素を青色に対応するペリレンに変更することによって同様に形成される。なお、有機層に用いられる材料や形成法などは上記の限りではない。スピンコート法やインクジェット法などによって成膜を行うことも可能である。発光色についても上記の黄色及び青色は例示であり、周知の各種材料を採用することにより白色を含む多彩な発光色を実現することが可能である。有機層の膜厚については、１０ｎｍ〜５００ｎｍ程度の範囲内とするのが望ましく、この程度の範囲内であれば有機層が可視光に対してほぼ透明となる。
【００２９】
駆動回路層１６は、有機ＥＬ素子の発光状態を制御する駆動回路を含んでおり、透光性を有するように形成される。ここで「駆動回路」とは、図示のような薄膜トランジスタ５６などを含んで構成されるものであり、少なくとも各有機ＥＬ素子をスイッチングするための画素回路が該当する。更に本例では、当該画素回路を駆動するドライバも駆動回路層１６に含まれる。なお、図示しないが、駆動回路層１６の上面側に、外部からの水分や酸素等の侵入を防ぐための封止膜（バリア膜）を設けるようにすることも好ましい。かかる封止膜としては、例えば、プラズマＣＶＤ法などの成膜法によって形成される窒化珪素膜を用いると好適である。
【００３０】
図３は、有機ＥＬ表示装置１００の回路構成例を説明する図である。図３に示すように、有機ＥＬ表示装置１００は、マトリクス状に配置される複数の画素部１０１を含む表示パネル部１０２と、当該表示パネル部１０２を駆動するための走査線駆動回路１０３及びデータ線駆動回路１０４を含んで構成されている。本例では、画素部１０１を構成する画素回路や、走査線駆動回路１０３、データ線駆動回路１０４などが駆動回路層１６に含まれる。
【００３１】
表示パネル部１０２は、行方向に沿って配置されるｎ本の走査線Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、…と、列方向に沿って配置されるｍ本のデータ線Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、…とを備えている。各走査線と各データ線とが交差する位置に対応して各画素部１０１が配置されている。
【００３２】
各画素部１０１は、それぞれ、スイッチングトランジスタ１１０、保持キャパシタ１１１、ドライビングトランジスタ１１２及び有機ＥＬ素子１１３を含んで構成される。スイッチングトランジスタ１１０は、ゲートが走査線と接続され、ソースがデータ線と接続され、ドレインがドライビングトランジスタ１１２のゲートと接続されている。保持キャパシタ１１１は、ドライビングトランジスタ１１２のゲート／ソース間に接続されている。ドライビングトランジスタ１１２は、ゲートがスイッチングトランジスタ１１０のドレインと接続され、ソースが電源線と接続され、ドレインが有機ＥＬ素子１１３の陽極と接続されている。有機ＥＬ素子１１３は、陰極が他の有機ＥＬ素子１１３の陰極と相互に接続されている。
【００３３】
走査線駆動回路１０３は、図示しない外部装置から与えられる水平同期信号に従って走査信号を生成し、これを各走査線に出力することによって順次走査線Ｙ１等を選択駆動する。データ線駆動回路１０４は、図示しない外部装置から与えられる画像信号（画像データ）に従ってアナログのデータ信号を生成し、これを各データ線に出力する。具体的には、走査線駆動回路１０３が水平同期信号に従って各走査線Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、…のうちの１本を選択してＨレベルの走査信号を出力すると、当該選択された走査線に接続された１行分の画素部１０１の各スイッチングトランジスタ１１０がオン状態となる。これに合わせてデータ線駆動回路１０４から各データ線Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、…のそれぞれを介してデータ信号が出力されると、選択された走査線に対応する各画素部１０１の保持キャパシタ１１１にデータ信号が供給される。この結果、各画素部１０１の保持キャパシタ１１１にはデータ信号に応じた量の電荷が蓄積され、これに応じてドライビングトランジスタ１１２の導電率が制御される。そして、当該導電率に応じたレベルの駆動電流がドライビングトランジスタ１１２から有機ＥＬ素子１１３に供給される。有機ＥＬ素子１１３は、この供給された駆動電流のレベルに応じた輝度で発光する。
【００３４】
本実施形態の有機ＥＬ表示装置１００はこのような構成を有しており、次に図４及び図５に沿って、有機ＥＬ表示装置１００を製造する方法の好適な一例について説明する。本実施形態では、薄膜デバイスの転写技術を利用して、窓ガラスや車両のフロントガラスなど所望の透光性基材１の一面に有機ＥＬ表示装置１００を形成する。
【００３５】
（剥離層形成工程）
まず、図４（Ａ）に示すように、転写元基板（第１基板）２０上に剥離層２２を形成する。ここで、転写元基板２０は、適度な厚さを有し、石英ガラスやソーダガラス等の耐熱性材料、例えば半導体装置のプロセス温度である３５０℃〜１０００℃程度に耐えうるものが望ましい。また、転写元基板２０は、後の工程で剥離層に対するエネルギーの付与を光照射によって行うことが可能となるように、当該光の波長に対して透明であることが望ましい。また、剥離層２２は、光照射などのエネルギー付与を受けることによって剥離を生じる特性を有するものが形成される。このような剥離層２２は、例えば半導体膜、金属膜、導電性の酸化物膜、導電性の高分子膜又は導電性のセラミックスなどによって形成することが可能である。本実施形態では、非晶質シリコン膜により剥離層２２を構成する。非晶質シリコン膜は、例えばモノシラン（ＳｉＨ4）やジシラン（Ｓｉ2Ｈ6）を材料ガスとして低圧ＣＶＤ法（ＬＰＣＶＤ法）やプラズマＣＶＤ法（ＰＥＣＶＤ法）によって形成することが可能である。これらのＣＶＤプロセスにおいて、非晶質シリコン膜中に適度の水素（ガス成分）を含有させる。
【００３６】
（駆動回路層形成工程）
次に、図４（Ｂ）に示すように、剥離層２２の上に駆動回路層１６を形成する。この駆動回路層１６は、薄膜トランジスタやその他の薄膜素子、これらの素子間を接続する配線、有機ＥＬ素子に電流を供給するための電極などを含んで構成される。薄膜トランジスタ等を含む薄膜回路は、例えば特開２００１−５１２９６号公報（段落００８３〜段落００９３）などに開示される公知技術を採用して形成可能である。詳細説明については省略するが、一般的なプロセスによって薄膜回路を形成することで、可視光に対してほぼ透明と見なせる程度の透光性を有する駆動回路層を形成可能である。水分等の侵入を防止する封止膜を設ける場合には、本工程において剥離層２２上にまず当該封止層を形成するとよい。
【００３７】
（発光素子層形成工程）
次に、図４（Ｃ）に示すように、駆動回路層１６の上に発光素子層１４を形成する。形成条件の詳細については上述した通りであり、陽極、陰極ともに透明導電膜を用いた透光性の発光素子層を形成する。
【００３８】
（光減衰層形成工程）
次に、図４（Ｄ）に示すように、発光素子層１４の上側に薄膜状の光減衰層１２を形成する。上述したように、本実施形態ではこの光減衰層１２として酸化珪素を主成分とし、着色用に鉛、コバルト、銅又はクロムを含む金属やこれらの金属の酸化物を添加した薄膜を形成する。例えば、スパッタ法による成膜を行う際に、スパッタターゲット中に鉛を適量混入しておくことによって、鉛が２〜３０％程度混入した酸化珪素膜を形成する。これにより、無彩色（灰色〜黒色）の光減衰層を得ることができる。同様に、スパッタ法による成膜を行う際に、スパッタターゲット中に酸化コバルトを適量混入しておくことによって、酸化コバルトが０．０１〜１％程度混入した酸化珪素膜を形成する。これにより、青色の光減衰層が得られる。また、スパッタ法又はＣＶＤ法で酸化銅を０．１〜５％程度混入した酸化珪素膜を形成することにより、青色の光減衰層を得ることができる。ＣＶＤ法の場合には、酸化珪素膜の成膜時に併せて(hfac)Cu(tmvs)又はCu(hfac)2ガスを供給するとよい。更に、スパッタ法で酸化クロムを０．１〜５％程度混入した酸化珪素膜を形成することにより、緑色の光減衰層が得られる。それぞれの場合において添加物の濃度を加減することにより、光減衰層１２の透過率を制御することができる。なお、上記の具体例以外にも、クロム、鉄、ウラニウム、銀、ニッケル、カドミウム、マンガンなどの各種の添加剤を用いることにより、光減衰層の色を変化させることができる。したがって、発光素子の発光色との兼ね合いで適宜、所望の色を選択するとよい。例えば、フルカラー表示を行う場合であれば、光減衰層としては無彩色のものがより好ましいと考えられる。
【００３９】
（転写工程）
次に、光減衰層１２、発光素子層１４及び駆動回路層１６を含んでなる電気光学装置を転写元基板２０から透光性基材１の他方面上に転写する。
【００４０】
具体的には、図５（Ａ）に示すように、転写元基板２０の光減衰層１２の形成面側に接着層１０を形成し、当該接着層１０を介して転写元基板２０を透光性基材１に接合する。接着層１０としては、例えば、熱硬化性接着剤や光硬化性接着剤が用いられる。
【００４１】
次に、図５（Ｂ）に示すように、転写元基板２０を介して剥離層２２にレーザ光を照射することによってエネルギーを付与し、当該剥離層２２にアブレーションを生じさせる。アブレーションとは、照射される光を吸収した固体材料（剥離層２２の構成材料）が光化学的または熱的に励起され、その表面や内部の原子または分子の結合が切断されて放出される状態であり、主に、剥離層２２の構成材料の全部または一部が溶融、蒸散（気化）等の相変化を生じる現象として現れる。また、相変化によって微小な発泡状態となり、結合力が低下することもある。レーザ光としては、例えば波長３０８ｎｍ、パルス幅が２０ｎ秒のＸｅ−Ｃｌエキシマレーザが好適に用いられる。
【００４２】
次に、図５（Ｃ）に示すように、転写元基板２０を透光性基材１から取り外す。以上の工程を経て、図５（Ｃ）に示すように本実施形態の有機ＥＬ表示装置が窓ガラスや車両用フロントガラスなど所望の透光性基材１に形成される。
【００４３】
このように、本実施形態の有機ＥＬ表示装置１００は、透光性基材１の一方面側から他方面側へ進む外光２の強度が光減衰層１２によって低減されるので、昼間など日差しの強い時間帯であっても、外光と略同方向に向けて放射される有機ＥＬ表示装置１００からの発光の相対的なコントラストが向上する。したがって、透光性の有機ＥＬ表示装置１００における表示の視認性を向上させることができる。
【００４４】
特に、本実施形態の構成では、光減衰層１２を酸化珪素等からなる薄膜によって実現するので、例えば透光性基材１上の有機ＥＬ表示装置１００を形成すべき領域に別途遮光フィルム等を設ける場合などと比較して、有機ＥＬ表示装置の大きな特徴である超薄型化が可能という利点を損なうことがなく都合がよい。
【００４５】
また、ＣＶＤ法などの成膜法によって形成可能な酸化珪素等の薄膜によって光減衰層１２を構成しているので、発光素子層などの形成プロセスとの親和性がよく、一連の製造プロセス中で光減衰層を形成可能となり、プロセスの簡略化及び製造コストの削減が可能となる。
【００４６】
＜第２の実施形態＞
図６は、第２の実施形態の有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に説明する図である。また図７は、有機ＥＬ表示装置の構成例をより具体的に説明するものであり、一の有機ＥＬ素子（発光素子）に対応する部分断面図が示されている。
【００４７】
図６及び図７に示す本実施形態の有機ＥＬ表示装置１００ａは、建物の窓ガラスや車両のフロントガラスなど一方から外光２が入射する環境に置かれる透光性基材１の他方側に接着剤１０を介して接合されており、外光２の進行方向と略同方向に向けて発光するように構成されている。上述した第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置１００とはデバイス構造が幾分異なっており、以下その相違点を中心にして説明する。
【００４８】
有機ＥＬ表示装置１００ａは、透光性基材１の他方面上に配置される光減衰層１２ａと、この光減衰層の上側に配置される透光性の駆動回路層１６ａと、駆動回路層１６ａの上側に配置される透光性の発光素子層１４ａとを含んで構成される。上述した第１の実施形態の有機ＥＬ装置１００とは各層の積層順番が異なっている。本例の有機ＥＬ表示装置１００ａについても、当該装置を構成する各要素が略透明であり、全体として透光性を有する。すなわち、透光性基材１の一方から入射する外光２の大部分は有機ＥＬ表示装置１００ａを透過して透光性基材１の他方側へ進行する。
【００４９】
光減衰層１２ａは、透光性基材１の一方面から他方面へ通過する外光２の強度を減衰する機能を備える薄膜である。駆動回路層１６ａは、有機ＥＬ素子の発光状態を制御するための駆動回路を含んでおり、透光性を有するように形成される。発光素子層１４ａは、発光機能を担う有機層を二の電極（陽極及び陰極）の間に介在させてなる有機ＥＬ素子（発光素子）を含む。本例の発光素子層１４ａについても、複数の有機ＥＬ素子をマトリクス状に配置して構成されるドットマトリクス型の表示領域を備える。これら各層の詳細内容については第１の実施形態における場合と同様であり、ここでは説明を省略する。なお、発光素子層１４ａの上面側に、外部からの水分や酸素等の侵入を防ぐための封止膜（バリア膜）を設けることも好ましい。かかる封止膜としては上述したように窒化珪素膜が好適である。
【００５０】
本実施形態の有機ＥＬ表示装置１００ａはこのような構成を有しており、次に図８及び図９に沿って、当該有機ＥＬ表示装置１００ａを製造する方法の好適な一例について説明する。本実施形態においても、薄膜デバイスの転写技術を利用して、窓ガラスや車両のフロントガラスなど所望の透光性基材１に有機ＥＬ表示装置１００ａを形成する。
【００５１】
（剥離層形成工程）
まず、図８（Ａ）に示すように、転写元基板（第１基板）２０上に剥離層２２を形成する。剥離層２２の好適条件については上述した第１の実施形態の場合と同様である。
【００５２】
（光減衰層形成工程）
次に、図８（Ｂ）に示すように、剥離層２２の上側に薄膜状の光減衰層１２ａを形成する。光減衰層１２ａの好適条件については上述した第１の実施形態の場合と同様である。
【００５３】
（駆動回路層形成工程）
次に、図８（Ｃ）に示すように、光減衰層１２ａの上に駆動回路層１６ａを形成する。
【００５４】
（発光素子層形成工程）
次に、図８（Ｄ）に示すように、駆動回路層１６ａの上に発光素子層１４を形成する。水分等の侵入を防止する封止膜を設ける場合には、本工程において形成するとよい。特に本実施形態では、後述する第１の転写工程において水溶性の接着剤を用いる場合には、本工程において発光素子層１４の上面に封止膜を形成するのが好ましい。
【００５５】
（第１の転写工程）
次に、光減衰層１２ａ、発光素子層１４ａ及び駆動回路層１６ａを含んでなる有機ＥＬ表示装置を転写元基板２０から仮転写基板３０に転写する。
【００５６】
具体的には、まず図８（Ｅ）に示すように、仮接着層３２を介在させて、転写元基板２０の発光素子層１４ａの形成面側と仮転写基板３０とを接合する。この仮接着層３２は、後の除去が容易なものが好ましく、例えば水溶性の接着剤などを用いて形成される。
【００５７】
次に、図９（Ａ）に示すように、転写元基板２０を介して剥離層２２にレーザ光を照射することによってエネルギーを付与し、当該剥離層２２にアブレーションを生じさせる。その後、図９（Ｂ）に示すように、転写元基板２０を仮転写基板３０から取り外す。
【００５８】
（第２の転写工程）
次に、光減衰層１２ａ、発光素子層１４ａ及び駆動回路層１６ａを含んでなる有機ＥＬ表示装置を仮転写基板３０から透光性基材１に転写する。
【００５９】
具体的には、まず図９（Ｃ）に示すように、接着層１０を介在させて仮転写基板３０の光減衰層１２ａの形成面側を最終的な転写先たる透光性基材１に接合する。
【００６０】
次に、図９（Ｄ）に示すように、仮接着層３２を除去して仮転写基板３０を取り外す。以上の工程を経て、本実施形態の有機ＥＬ表示装置１００ａが窓ガラスや車両用フロントガラスなど所望の透光性基材１に形成される。
【００６１】
第２の実施形態の有機ＥＬ表示装置１００ａにおいても、上記第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置１００の場合と同様な効果が得られる。
【００６２】
特に本例では、光減衰層などの各層を転写元基板上に形成した後にこれを一旦仮転写基板で支持し、その後、転写先たる透光性基材へ移動する２回転写プロセスを採用しているので、転写元基板上に形成したデバイス構造がそのまま最終的な転写先たる透光性基材上に再現される。したがって、デバイス構造の設計等がより容易になる利点がある。
【００６３】
＜第３の実施形態＞
図１０は、上記第１又は第２の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の応用例について説明する図である。同図は、本発明にかかる有機ＥＬ表示装置１００（又は１００ａ）を車両用フロントガラス上に形成した場合の様子を模式的に示している。同図に示すように、例えば運転席前方に対応する位置に有機ＥＬ表示装置１００が形成され、車両の速度や回転数、或いはカーナビゲーション装置からの情報（例えば進路を示す矢印等）などの表示が行われる。この場合には、車両のフロントガラスの透過率に関する法規制に従って、当該規制を満たす範囲（例えば７０％以上）となるように光減衰層の透過率を設定する。また、このような態様で用いる場合には、有機ＥＬ表示装置１００側の外部接続端子をフロントガラスの所定位置に設けるとともに、これと対向する車体側の所定位置（例えばダッシュボード上）にも外部接続端子を設けておき、フロントガラスの組み付け時に外部接続端子どうしの接続も完了するように構成すると好適である。
【００６４】
＜変形実施例＞
本発明の適用範囲は上述した各実施形態の内容に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々の変形実施が可能である。
【００６５】
例えば、上述した実施形態では電気光学装置の一例として有機ＥＬ表示装置を採り上げて説明していたが、本発明にかかる電気光学装置はこれに限定されるものではない。例えば、無機ＥＬ表示装置やその他各種の自発光型の表示装置についても本発明を適用し得る。
【００６６】
また、上述した実施形態では、各有機ＥＬ素子ごとに薄膜トランジスタで駆動するアクティブマトリクス型の構造を説明していたが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものではなく、パッシブマトリクス型やスタティック型などの構造を採用した電気光学装置に対して本発明を適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に説明する図である。
【図２】第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の構成例をより具体的に説明する部分断面図である。
【図３】有機ＥＬ表示装置の回路構成例を説明する図である。
【図４】第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明する図である。
【図５】第１の実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明する図である。
【図６】第２の実施形態の有機ＥＬ表示装置の構成を概略的に説明する図である。
【図７】第２の実施形態の有機ＥＬ表示装置の構成例をより具体的に説明する部分断面図である。
【図８】第２の実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明する図である。
【図９】第２の実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１０】第１又は第２の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の応用例について説明する図である。
【符号の説明】
【００６８】
１…透光性基材、  ２…外光、  １０…接着層、  １２…光減衰層、  １４…発光素子層、  １６…駆動回路層、  １００…有機ＥＬ表示装置
【図１】
2005251462.tif 000003
【図２】
2005251462.tif 000004
【図３】
2005251462.tif 000005
【図４】
2005251462.tif 000006
【図５】
2005251462.tif 000007
【図６】
2005251462.tif 000008
【図７】
2005251462.tif 000009
【図８】
2005251462.tif 000010
【図９】
2005251462.tif 000011
【図１０】
2005251462.tif 000012