(57)【要約】【課題】記録層を多層化した光情報記録媒体では、想定される構成では記録層に有機色素材料を使用した場合には、記録感度が不足して、実用化できず、高反射で感度の優れた多層化光情報記録媒体が求められている。また、記録層に相変化を起こさせる無機材料を使用した場合には、元来の低反射を損なわず、少なくとも維持したまま感度の向上が求められる。【解決手段】光学定数の消衰係数ｋが０．１＜ｋ＜０．５である半透過反射膜を設けて記録のための熱量設計と再生のための光学調整を行った多層化光情報記録媒体。その際光学干渉を利用できる反射光量が得られるように光学調整できる機能膜を併用する。【選択図】  図１    
2005243165.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の記録層を積層方向に有しレーザー光により記録及び再生が可能な光情報記録媒体であって、該レーザー光が透過する記録層については該記録層に後続する消衰係数ｋが０．１＜ｋ＜０．５である半透過反射膜を設けた光情報記録媒体。
【請求項２】
基板上に複数の記録層を積層方向に有し該記録層が青色光領域の半導体レーザー光により記録及び再生が可能である光情報記録媒体であって、該記録層は有機材料を含有する記録層又は無機材料を含有する記録層からなり、該半導体レーザー光が透過する記録層については該記録層に後続する消衰係数ｋが０．１＜ｋ＜０．５である半透過反射膜を設けた光情報記録媒体。
【請求項３】
記録層は有機色素材料を含有する記録層であり、半透過反射膜は消衰係数ｋが０．１＜ｋ＜０．３である請求項２記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
青色光領域の半導体レーザー光による記録した信号の読み取りのための光学干渉を利用できる反射光量を向上する機能層を少なくとも一部の記録層について設けた請求項１ないし３のいずれかに記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー光により記録及び再生が可能な複数の記録層を積層方向に有する光ディスク等の光情報記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
文字、図形等の画像や映像あるいは音声等のデータを記録し、再生する手段としては、波長６００〜８３０ｎｍのレーザー光に対応した記録及び再生が可能な記録材料として例えばペンタメチン系シアニン色素やフタロシアニン色素を含有する記録層を有する光ディスクがＣＤ−ＲやＤＶＤ等として知られている。また、同様なレーザー光による記録層として結晶と非結晶の相転移を利用したタイプ、磁気光学効果を利用した光磁気タイプ等の無機材料を用いた記録層を有する光ディスクも知られている。さらに近年、青色光領域の半導体レーザーの実用化が実現可能となりつつあり、記録情報量を増加させることが可能となりつつある。青色光領域対応の半導体レーザーの発振波長はおよそ３５０〜５００（ｎｍ）、とりわけ４０５±１０（ｎｍ）程度となる見込みであり、光情報記録媒体においても記録材料をこれに合わせて短波長化する検討が行われている。
このような青色光領域対応の半導体レーザーに対応した光ディスクとしては、記録情報量をさらに増加させるために、ＤＶＤ−ＲＯＭでは、すでに２層ディスク（基板の一方の主面に記録層を２層積層して有するディスク）が市販されている。しかし、これに対応する読み取りだけでなく記録も行える記録ディスクは未だなく、昨今、これが行えるようなＤＶＤ−ＲやＤＶＤ＋Ｒの２層化が話題になっている。ＤＶＤの出現以降に検討されている青色光領域のレーザー光により記録及び再生ができる光ディスクなどでは、記録層の２層化はその材料として無機材料のみについての技術研究が発表されている（後述する文献参照）に過ぎない。
【０００３】
２層ディスクの設計は、記録及び再生はそれぞれにおいて同じレーザー光を使用するので、入射層側の記録層及びそれを補助する積層体（以下、「上層」という。）を半透過にし、その下側の記録層及びそれを補助する積層体（以下、「下層」という。）に５０％の光を透過させ、その記録及び再生が上下の記録層で差が生じないようにしなければならない。そして、この透過光は、上層で記録されている場合と、記録されていない場合も同様に下層に記録ができるように、透過光量が同じになるように設計しなければならない。また、それぞれの記録層からの読み取りも同じようにできるように反射光量は同じにする必要がある。
【０００４】
レーザー光の照射により相変化を起こさせることにより記録を行う相変化記録膜などの無機材料を使用した記録層を設計する場合には、記録層の光学定数ｎ（屈折率）、ｋ（消衰係数）のうち、ｋが大きいため、記録層でのレーザー光吸収量が大きくなり、上層を透過したレーザー光の透過量を５０％に設計するには、必然的にそのレーザー光の反射量は低くなる。通常、青色光領域レーザー向けの研究では、多層設計において、反射率が非常に小さくなってしまうケースが多い。例えば記録層２層構造で反射率が１０％程度とすると、４層構造ではさらに低下してしまう傾向にある。そのため、反射率１０％の場合、膜厚のばらつきによって、例えばその膜厚が３％ずれると反射率は５％程度になることも想定され、ましてその生産性を考慮しても、とても許容できるものではない。
他方、有機色素材料を使用して記録層を設計すると、前述の無機材料の場合に比べて、光学定数ｎ、ｋのうち、ｋが一桁低くなる。そのため、上記のように上層を透過したレーザー光の透過量を５０％に設計しても、無機材料の場合に比較して大幅にそのレーザー光の反射光量が大きくなる。設計上、各記録層ごとにその反射光量を２０％とすることも可能である。  
【０００５】
【非特許文献１】Jpn.J.Appl.Phys.Vol 38.(1999)pp.1679〜1686
【非特許文献２】Jpn.J.Appl.Phys.Vol 42.(2003)pp.848 〜851
【非特許文献３】Jpn.J.Appl.Phys.Vol 42.(2003)pp.852 〜857
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
無機材料を使用した記録層を多層化した場合には記録層が低反射になり、多層化を行うほど膜厚ばらつきによる反射率変化の影響が大きくなり易いが、少なくともその低反射を出来るかぎり損なわずにどのように維持し信号の読み取りができるようにするかという問題がある。
他方、有機色素材料を使用した記録層を設ける場合には、その多層化によっても高反射の設計が可能である。しかし、有機色素材料を使用した記録層の場合、こうした高反射になるように光学的な設計をしても、レーザー光の短波長領域では、上記のように上層を透過したレーザー光の透過量を５０％にする半透過設計をすると、上層における感度が著しく不足する上にレーザーパワーが低いので、高品位な記録が難しくなるという問題がある。特に青色光領域の半導体レーザー光では、いまのその記録パワーが１０数ｍＷ程度しかなく、より長波長側の数１０ｍＷに比べれば、著しく小さいのでこの問題が起こり易い。それのみならず、有機色素材料を使用した記録層の場合、レーザー光の短波長領域では、屈折率ｎが小さくなる傾向があり、そのために、記録前後での屈折率変化も信号として識別できるのには不十分になり易いという問題がある。
【０００７】
本発明の第１の目的は、記録層を多層化した場合に記録層等の既存の各層の光学調整や熱量制御を行なうことで、多層構造に適した光情報記録媒体を提供することにある。
本発明の第２の目的は、記録層を多層化しても信号品位の良い記録及び再生が行える光情報記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、消衰係数ｋが一定の値に選択できる半透過反射膜を設けることにより、特に有機色素材料を用いた記録層の多層化の場合に、青色光領域の半導体レーザー光に対しても記録に耐える感度及び識別性が得られることを見出し、さらに光学干渉を利用して反射光量を向上できる機能層を設けることにより、読み取り性が向上することを見い出し、これにより特に有機色素材料を用いた場合には従来の無機材料を用いた場合には困難な３層以上の高反射設計も容易にできることを見出し、本発明をするに至った。
したがって、本発明は、（１）、基板上に複数の記録層を積層方向に有しレーザー光により記録及び再生が可能な光情報記録媒体であって、該レーザー光が透過する記録層については該記録層に後続する消衰係数ｋが０．１＜ｋ＜０．５である半透過反射膜を設けた光情報記録媒体を提供するものである。
また、本発明は、（２）、基板上に複数の記録層を積層方向に有し該記録層が青色光領域の半導体レーザー光により記録及び再生が可能である光情報記録媒体であって、該記録層は有機材料を含有する記録層又は無機材料を含有する記録層からなり、該半導体レーザー光が透過する記録層については該記録層に後続する消衰係数ｋが０．１＜ｋ＜０．５である半透過反射膜を設けた光情報記録媒体、（３）、記録層は有機色素材料を含有する記録層であり、半透過反射膜は消衰係数ｋが０．１＜ｋ＜０．３である上記（２）の光情報記録媒体、（４）、青色光領域の半導体レーザー光による記録した信号の読み取りのための光学干渉を利用できる反射光量を向上する機能層を少なくとも一部の記録層について設けた上記（１）ないし（３）のいずれかの光情報記録媒体を提供するものである。
【０００９】
本発明において、記録層は３５０〜５００ｎｍ、特に４００〜４５０ｎｍの波長領域から選ばれた青色光領域のレーザー光により記録及び再生が可能になるように形成され、多層化されれば、特に記録容量を高めることができるが、６４０ｎｍ〜約６８０ｎｍの範囲のレーザー光に対してはＤＶＤ−Ｒ用、約７７０ｎｍ〜８３０ｎｍの範囲のレーザー光に対してはＣＤ−Ｒ用に応用可能にすることができ、これらも多層化により記録容量を高めることができる。
光情報記録媒体としては、例えば青色光領域のレーザー光により記録及び再生が可能な光ディスクでは、記録層に有機色素材料を用いる場合には、図１に示すように、基板１に反射層２、記録層３及び機能層４を順次積層して得られる下層Ａに、中間層５を積層し、この中間層を介して、半透過反射膜６、記録層７及び機能層８を順次積層して得られる上層Ｂを設け、さらに入射層９（膜厚０．１ｍｍのカバー層タイプ（Ｂｌｕ−ｒａｙ）、厚さ０．６ｍｍの基板タイプ（ＨＤ  ＤＶＤ））を設け、矢印の向きにレーザー光が入射する構造のものが例示される。これに限らず、最小限は基板１に記録層３、半透過反射膜６、記録層７を順次積層したものが必要であるが、その他の各層も図１に準じて任意に設けてもよい。また、相変化や磁気変化を起こさせる無機材料からなる記録層を用いる場合には、下層の反射層２と記録層３の間に誘電体層を設けても良く、上層の場合も同様であるが、機能層は記録層の両側に用いてもよい。いずれにしても上層Ｂの記録層７と、半透過反射膜６によりレーザー光の透過光量を調整するが、半透過反射膜６について光学定数ｋを一定の値に選択することにより記録層７について特に記録感度及び記録信号の識別性について優れた効果をもたらすことができる。
【００１０】
このような性能を得るにはレーザー光により記録層に記録を行う際の熱量設計を行なう必要がある。従来では、例えば基板１に反射層２、記録層３、中間層５及び記録層７を順次積層した構造の光ディスクでは、記録を行う場合の熱量の制御は、レーザー光により相変化や磁気変化を起こさせて信号を記録する無機材料を使用した記録層を有する光ディスクでは、記録層、反射層及びこれらの間に設けた誘電体層により調整される。他方、想定される同様の構成で記録層に有機色素材料を使用し、レーザー光によりその有機色素材料を昇華、分解等により揮散させてピットを形成させて信号を記録する光ディスクでは、記録を行う場合の熱量の制御は、記録層と反射層のみでの調整となる。有機色素材料を使用した記録層の場合、記録を行うときにその材料への依存度が高いため、材料による記録の感度設計が重要になる。特に青色光領域のレーザー（青紫レーザー）を使用する短波長領域では、この影響が顕著になるので、感度設計の意味もそれだけ重要になる。また、レーザー光の照射による記録に際して有機色素材料は分解するときに発熱するので、高熱になり、記録層やその周囲に熱変形が生じる等のことがないように対処する必要もある。
【００１１】
本発明は、このような従来の構成や想定される構成のものにおいて、半透過反射膜６を設け、その光学定数ｎ、ｋのうち、消衰係数ｋを０．１＜ｋ＜０．５に設定する。有機色素材料を用いた記録層の場合のように、レーザー光の反射率が高く、例えば２０％程度にもなる場合には０．１＜ｋ＜０．３に設定することが好ましく、相変化等を利用した無機材料からなる記録層の場合のように、レーザー光の反射率が低く、例えば１０％程度にしかならない場合には、０．１＜ｋ＜０．５に設定することにより、ｋを例えば０．４のように大きくして記録層についてその感度を改善することができる。このように半透過反射膜の光学係数ｋを調整することにより、この半透過反射膜６に適当な光学吸収性を持たせることができ、これにより上層での記録層７での光吸収量を調整することができ、かつ熱伝導性を向上させて記録層の高熱を回避することができる。ｋが０．１より小さいと感度不足となり易く、ｋが０．５より大きいと低反射となり易い。光学定数ｎについては、ｋが上記の範囲内の値を選択できることを妨げない値であればよい。なお、下層の記録層３についてはレーザー光の５０％透過光により一律に記録が行われる。
ここで、半透過反射膜とは、金属をＮ2 あるいはＯ2 等で反応性スパッタリングを行う場合、その飽和状態にまで達すると金属が透明化して光透過性を有するようになるが、その金属を飽和に至らない状態で反応を止めることで、金属による熱伝導性ならびに飽和状態による光透過性の両特性を併せもたせるようにしたものをいう。
【００１２】
上記は記録層を２層化した場合であるが、３層化の場合は、上記の下層Ａと中間層５の間に別の中間層を介して上層Ｂを挿入すればよく、その挿入した中間記録層と下層Ａとの関係は下層Ａと上層Ｂとの関係に準じ、以下４層以上の多層化の場合もこれに準じる。
半透過反射膜としては、例えば反応性スパッタリングにより得られる膜が挙げられ、具体的にはＡｇＮx 、ＴｉＮx 、ＡｌＮx 等の窒化金属、ＴｉＯx 等からなる無機質膜が挙げられ、これらは複数併用してもよく、膜厚は１０〜２００ｎｍ、好ましくは１０〜１００ｎｍである。このような膜厚範囲に設定することにより、他の各層とにおける総体的な特性バランスをとり易くなる。このように半透過反射膜の光学定数ｎ、ｋは材料の種類、膜厚等により調整することができる。材料の種類としては、例えば反応性スパッタリングによりＡｇＮ膜を形成する場合には窒素を加え過ぎると完全な透過になるので、窒素量を微調整して半透過（ｋを調整）にする場合も含む。
【００１３】
図１において機能層４、８の一方を設けた場合はその該当する記録層、その両方を設けた場合は両方の記録層について、機能層の膜厚により反射光量が周期的に変化するが、その膜厚により、他の層の膜も組み合わせて、記録した信号をレーザー光で読み取るときの光学干渉を利用できる反射光量が得られるように調整することができる。機能層は記録層の厚みや透光性を一定に抑えた場合に、記録層だけではこの反射光量を調整し難い場合に、これを補完する意味と、記録層がレーザー光による記録時に発熱した場合にその記録層や周囲に熱変形を及ぼすのを抑制する機能があり、この後者の意味では半透過反射膜も同様の機能を有することができる。機能層同志、また、機能層及び半透過反射膜は直接又は他の層を介して記録層を両側から挟持し、記録層の熱変形を抑制するということができる。相変化による記録を行える無機材料を用いた記録層の場合には機能層を設けて記録層における熱伝導調整をすることは知られている。
機能層としては、例えはスバッタリング法により得られる膜が挙げられ、具体的にはＺｎＳ−ＳｉＯ2 、ＳｉＯ2 等の無機質膜が挙げられ、これらは複数併用してもよく、膜厚は、マトリックス法（マトリックス法で二つの媒質の界面の光学特性を計算し、δ＝２ｐＮｄｃｏｓθ／λ（δ：位相膜厚、θ：光の入射角、λ：波長、ｄ：物理的膜厚、Ｎ：屈折率）より算出する（他の層の膜厚についても同様）。詳しくは「薄膜・光デバイス」（東京大学出版会発行）を参照）を用いることにより、他の各層とにおける総体的な組合せから算出することができる。光学定数ｎ、ｋは材料の種類、膜厚等により調整することができる。
以上のように、半透過反射膜６を設けることにより、また、機能層４、８のいずれか一方又は両方を設けて併用すればなお一層のこと、光学調整と熱量調整を行なって双方のバランスをとることができ、記録層を多層化したいわゆる多層化光ディスクについて、高品位な製品を設計することができる。
【００１４】
本発明における記録層には、例えば青色光領域レーザーによる記録及び再生ができるブルーレイディスク（Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ）においては、例えばフタロシアニン系色素を用いることができる。フタロシアニン系色素としては、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンや、これらに置換基を導入したフタロシアニン誘導体も使用できる。フタロシアニン誘導体には、下記一般式〔化１〕の化合物が挙げられる。
【化１】
2005243165.tif 000003
〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、Ｒ7 及びＲ8 は少なくとも１つが水素原子以外の置換基を表わし、該置換基でないときは水素原子を表わし、２つ以上が置換基であるときは同種又は異なってもよく、Ｍは水素原子又は金属原子を表わす。）
【００１５】
上記一般式〔化１〕中、Ｒ1 〜Ｒ8 は少なくともその一つが水素原子以外の置換基であり、その置換基でない場合は水素原子であり、２つ以上が置換基であるときは同種又は異なってもよいが、（Ｒ1 、Ｒ2 ）、（Ｒ3 、Ｒ4 ）、（Ｒ5 、Ｒ6 ）及び（Ｒ7 、Ｒ8 ）の４組の各組において、少なくともいずれか一方、すなわち片方又は両方が低級アルキル基又は−ＮＲ’Ｒ’’のアルキルアミノ基であることも好ましい。ここで、Ｒ’及びＲ’’はアルキル基を表わし、アルキル基としては低級アルキル基は好ましいが、いずれか一方が水素原子、すなわち第１級のアルキルアミノ基、第２級のアルキルアミノ基のいずれでもよい。また、上記各組において、少なくともいずれか一方が−Ｎ+ Ｒ’Ｒ’’Ｒ’’’Ｘ- の第３級のアルキルアミノ基、すなわち第４級アンモニウム塩でもよい。ここで、Ｒ’、Ｒ’’及びＲ’’’はアルキル基を表わし、アルキル基としては低級アルキル基は好ましいが、その内の１つ又は２つは水素原子でもよい。Ｘ- は陰イオンを表わし、後述の一般式〔化３〕のＸ- と同じものが挙げられる。上記各組内において両方が置換基のときは同種又は異なってもよい。また、置換基を有する各組間においても置換基が同種又は異種である複数の組、すなわち２組、３組又は４組があってもよく、その際、その置換位置はいずれでもよい。
また、上記一般式〔化１〕中、Ｍは水素原子又は金属原子であるが、その金属原子としては、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂａ、Ｐｒ、Ｅｕ、Ｙｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｔｈなどが挙げられるが、特にＭｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂなどが好ましい。これらの各金属原子は酸素等の他の原子と結合していてもよく、イオンでもよい。なお、上記一般式〔化２〕の化合物はＭが水素原子である場合（Ｍが結合する各窒素原子（Ｎ）にはＭの代わりに水素原子（Ｈ）がそれぞれ結合する）はいわゆる無金属フタロシアニン誘導体ということができる。
上記一般式〔化１〕のフタロシアニン誘導体としては、例えば、特開平５−９８１８１号公報、同５−１４０４７２号公報、同５−１４０４７３号公報、同５−２６３００７号公報、同５−２７９５９１号公報、同４−１８９８７３号公報、同５−４３８１３号公報等に記載された方法に準じて合成することができる。  
【００１６】
上記一般式〔化１〕のフタロシアニン誘導体をその他のフタロシアニン系色素、例えばこの一般式〔化１〕において置換基が異なる物を併用し、好ましくは一般式〔化１〕のフタロシアニン誘導体を少なくとも５０重量％（５０重量％以上）を同一の色素層あるいは他の色素層を設けて併用してもよく、また、その色素層あるいはそれらの色素層とともにフタロシアニン系色素以外のその他の色素の１種又は複数種を同一の色素層あるいは他の色素層を設けて併用してもよく、このようにすると上述したように、３５０〜５００ｎｍ、特に４００〜４５０ｎｍの波長の青色領域のレーザーによる超高密度の記録及び再生とともに、例えばＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒ用あるいはこれらの両者にも使用できる光情報記録媒体を提供することができる。
上記のフタロシアニン系色素以外のその他の色素としては、シアニン色素、アゾ色素（含金属色素を含む）、ポリフィリン系色素など光記録媒体に用いられる公知の色素を用いることができる。これらのその他の色素は各単独でも使用でき、また、複数併用もできる。例えばシアニン色素についていえば、メチン鎖がトリメチンのものではＤＶＤ−Ｒ用、トリメチンより大きいペンタメチン等のものはＣＤ−Ｒ用の光情報記録媒体に用いることができる。
【００１７】
シアニン色素としては、例えば下記一般式〔化２〕で示されるシアニン色素を挙げることができる。
【化２】
2005243165.tif 000004
〔ただし、Ａは下記一般式〔化３〕ないし〔化５〕のいずれかを表わし、
【化３】
2005243165.tif 000005
、
【化４】
2005243165.tif 000006
、
【化５】
2005243165.tif 000007
、
Ａ’は下記一般式〔化６〕ないし〔化８〕のいずれかを表わし、
【化６】
2005243165.tif 000008
、
【化７】
2005243165.tif 000009
、
【化８】
2005243165.tif 000010
、
ＡとＡ’は同種であっても異種であってもよく（ただし、Ｄ1 、Ｄ2 はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルコキシル基、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキシル基、アルキルヒドロキシル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキルアミド基、アルキルアミノ基、アルキルスルホンアミド基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルファモイル基、アルキルスルホニル基、フェニル基、シアノ基、エステル基、ニトロ基、アシル基、アリル基、アリール基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、フェニルアゾ基、ピリジノアゾ基、アルキルカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、アミノ基、アルキルスルホン基、チオシアノ基、メルカプト基、クロロスルホン基、アルキルアゾメチン基、アルキルアミノスルホン基、ビニル基及びスルホン基の群のなかから選択される置換基を表わし、同種であっても異種であってもよく、ｐ、ｑは置換基の数であってそれぞれ１又は複数の整数を表わす。）、Ｒ3 、Ｒ4 は置換又は非置換のアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボキシル基、アルコキシル基、アルキルヒドロキシル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキルアミド基、アルキルアミノ基、アルキルスルホンアミド基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルファモイル基、水酸基、ハロゲン原子、アルキルアルコキシル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルスルホニル基、金属イオン若しくはアルキル基と結合したアルキルカルボキシル基若しくはアルキルスルホリニル基、フェニル基、ベンジル基、アルキルフェニル基及びフェノキシアルキル基（ベンゼン環部分及び／又はアルキル部分の水素原子をアルキル基、カルボキシル基、水酸基、ハロゲン原子等の金属イオン以外の置換基で置換してもよく、前記フェニル基、ベンジル基、アルキルフェニル基の該当部分についても同様である。）の群から選択される置換基を表わし、同種でも異種でもよく、Ｘ- はハロゲン原子、ＰＦ6 - 、過塩素酸、ホウフッ化水素酸、リン酸、ベンゼンスルホン酸、ＳｂＦ6 - 、トルエンスルホン酸、アルキルスルホン酸、ベンゼンカルボン酸、アルキルカルボン酸、トリフルオロメチルカルボン酸、過ヨウ素酸、ＳＣＮ- 、テトラフェニルホウ酸及びタングステン酸の陰イオンの群のなかから選択される陰イオンを表わし、ｎは０、１又は２を表わす。〕
この一般式〔化２〕においてＡが上記一般式〔化３〕〜〔化５〕の一般式から任意に選択され、Ａ’が上記一般式〔化６〕〜〔化８〕の一般式から任意に選択され、両者のその選択したそれぞれの個々の全ての組み合わせの化合物が挙げられる。例えば一般式〔化３〕と一般式〔化６〕〜〔化８〕のそれぞれとの組み合わせが挙げられるが、その他の一般式〔化４〕、〔化５〕のそれぞれについても同様である。Ａ、Ａ’の置換基（Ｄ1 ）ｐ、（Ｄ2 ）ｑのｐ、ｑは少なくとも１であるが、複数の整数、すなわち２以上の整数である。
なお、色素の合成法としては、Ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｄｙｅｓ  Ｖｏｌ１４に記載されている方法を利用できる。
【００１８】
上記一般式〔化１〕に属するフタロシアニン誘導体あるいはこれと他の色素は、これらの色素のみで用いてもよいが、目的に応じて塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤などの各種の添加剤を添加してもよい。耐光性を向上させるために、フタロシアニン系色素以外の色素を併用する場合は特に、光安定化剤を色素層に含有させ、あるいは他の層に含有させてもよい。
このような光安定化剤としては金属錯体が挙げられ、この金属錯体としては、下記一般式〔化１０〕で表わされる化合物を挙げることができる。
【００１９】
【化１０】
2005243165.tif 000011
〔ただし、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれハロゲン原子、フェニル基、アルキル基、シアノ基、チオアルキル基、アルキルスルホニル基、ｒ、ｓは１〜４の整数を表わし、Ｒ4 はアルキル基、ＹはＮ又はＰ、ＭはＣｕ、Ｃｏ又はＮｉ等の金属を表わす。〕
【００２０】
上記一般式〔化１０〕に属する具体的化合物としては、下記〔化１１〕、〔化１２〕の化合物を挙げることができる。
【００２１】
【化１１】
2005243165.tif 000012
【００２２】
【化１２】
2005243165.tif 000013
【００２３】
また、光安定化剤としてはアミニウム系及びジイモニウム系安定化剤を挙げることができる。具体的化合物としては、下記〔化１３〕、〔化１４〕で表される化合物を挙げることができる。
これらの光安定化剤は少なくとも１種、すなわち単独又は複数併用することができる。    
【００２４】
【化１３】
2005243165.tif 000014
【００２５】
【化１４】
2005243165.tif 000015
【００２６】
本発明の有機色素材料を用いた記録層を有する光情報記録媒体を製造するには、上記一般式〔化２〕で示されるフタロシアニン誘導体、あるいはこれとその他のフタロシアニン系色素、上記一般式〔化３〕で示されるシアニン色素その他の色素を溶解した混合色素（前者を５０重量％以上混合することが好ましい）、あるいは上記フタロシアニン誘導体以外のその他の色素、あるいはこれらのそれぞれに上記一般式〔化１０〕で示される金属錯体その他の光安定化剤を溶解した溶液を調製し、透光性の基板に塗布する。なお、上記の金属錯体以外の一重項酸素クエンチャー、光吸収剤、ラジカルスカベンジャー（捕捉剤）等の他の化合物を含んでもよい。得られた色素溶液を基板に塗布するにはスピンコート法を用いることが好ましい。記録層の膜厚は２０〜７０ｎｍ、特に３０〜６０ｎｍにすることが、スピンコート法による製法上容易な点で好ましい。
これらの色素溶液を調製するには、溶剤に、疎水基と親水基を有し、該疎水基側にフッ素成分を有するフッ素系化合物、例えば一般式ＲF −（Ｒ）n −ＲF ’（ＲF 、ＲF ’は疎水基を表わし、Ｒは親水基を表わし、ｎは１以上を表わす。）で表わされるフッ素系化合物であって、例えば下記一般式〔化１５〕のフッ素系化合物を含有する界面活性剤（そのフッ素系化合物のみからなる場合も含む）を添加し、その添加液に上記の色素材料を微分散（光散乱法で平均粒子径で０．１μｍ未満）ないし溶解（単分子分散）する。上記一般式〔化１５〕のＲF 、ＲF ’はアルキル基及びーテル結合を含有する置換基の水素部分をフッ素置換した基を表わすが、例えば直鎖又は分岐のあるポリアルキレングリコール誘導体のフッ素置換した基が挙げられる。ＲF 、ＲF ’は同一でも異なってもよく、例えば以下のオリゴマーの官能基が挙げられるが、これらに限られない。
ＲF 、ＲF ’＝−CF（CF3)OCF2CF（CF3)OCF2CF（CF3)OC3F7   (1) 
＝−CF（CF3)OCF2CF（CF3)OC3F7               (2) 
＝−CF（CF3)OC3F7                           (3) 
【００２７】
【化１５】
2005243165.tif 000016
【００２８】
上記一般式〔化１５〕で表される化合物で、上記（１）の置換基（ＲF 、ＲF ’は同一）を有する化合物は、特願２００３−７１５０９号明細書にに記載した方法により製造することができるが、その他の置換基を有する化合物もこれに準じて製造することができる。
上記一般式〔化１５〕で表される化合物を添加する溶剤としては、フッ素系溶剤も使用でき、これにはフッ素化アルコール、フッ素置換ケトン、フッ素置換エステル、フッ素置換アミド、フッ素置換ベンゼン、フッ素化アルカン、フッ素化エーテル等を挙げることができ、これらの１種又は複数種を使用でき、色素材料の溶解性の点では好ましい。これらは高価であるので、メチルアルコール、エチルアルコール等の低級アルコール類、ジメチルシクロヘキサン等の脂環状化合物の溶剤、クロロホルム、ジクロロエタン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、トルエン、シクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、メチルセロソルブ等のセロソルブ類、ジオキサン等のフッ素成分を有しない非フッ素系溶剤が１種又は複数種用いられ、これらは汎用溶剤といえるものが多く、コストの点も含めて好ましい。この非フッ素系溶剤は上記フッ素系溶剤と混合して使用し、溶剤そのものとしても色素材料に対する溶解性を向上させるようにしてもよい。
溶剤１００ｍｌに対して上記一般式〔化１５〕で表される化合物は、０．０５〜１．０ｇ、好ましくは０．１〜０．６ｇ添加する。０．１ｇより少ないと、特に非フッ素系溶剤を使用する場合には、色素材料の溶解又は分散効果が低下し易く、０．６ｇより多いとコスト高になる。この混合溶液に対する上記の色素材料の混合割合は１重量％〜１０重量％が好ましい。
【００２９】
有機色素材料を用いた記録層を採用する場合には、反射層としては、蒸着、スパッタリング等により形成したＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、これらの各々その他の合金、さらにはこれら以外の微量成分が添加された合金等の金属膜等の高反射率材料膜が挙げられ、中間層、入射層（保護層）としては光情報記録媒体の耐候性と保護の向上等の目的で紫外線硬化型樹脂等の放射線硬化型樹脂の溶液をスピンコート法等により塗布し、放射線硬化させた塗布層あるいは接着させるプラスチックシートさらには基板が挙げられる。
【００３０】
信号の記録のために相変化を起こさせる無機材料としては、ＧｅＳｂＴｅ、ＡｇＩｎＳｂＴｅのカルコゲン化合物等の合金膜が挙げられ、また、磁気変化を起こさせる無機材料としては、ＴｂＦｅＣｏ等が挙げられ、スパッタリング等により形成される。その膜厚は前述したマトリックス法を用いて算出できる。また、無機材料を用いた記録層を採用する場合には、機能層（図１の機能層４、８）、中間層（図１の中間層５）はスバッタリングによる無機質膜が挙げられるが、反射層（図１の反射層２）、入射層（保護層）（図１の入射層９）は、有機色素材料を用いた記録層を採用する場合の上述したことに準じる。
【００３１】
本発明に用いられる基板には、ガラスや、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂等のプラスチックスが例示される。この基板にはトラック溝あるいはピットが形成されていてもよく、また、アドレス信号に必要な信号を有するものでもよい。
このようにして基板の上に図１に示す各層の構成、あるいはこれから２つの記録層、半透過反射膜及び中間層を選択した構成、これらとさらに機能層の１つを加えた構成、そのほかの各層は任意に１つ又は複数を省いた構成、あるいはこれらに誘電体層のように追加した層を有する構成の多層化光ディスクが得られる。これらの多層化光ディスクは、他の同様な構成あるいは別の構成の多層化光ディスクを貼り合わせたり、あるいは基板そのものを対向させて貼り合わせたりしてもよい。なお、基板側からの層構成の順序は上記の場合と逆になり、図1 では例えば基板を入射層９側に設け、反射層が最上層となり、基板側の入射層はなくてもよい構成のものを、各々の反射層側を貼り合わせれば両面記録・再生が可能となる。
この貼り合わせのための材料、方法としては、紫外線硬化樹脂、カチオン性硬化樹脂、両面粘着シート、ホットメルト法、スピンコート法、ディスペンス法（押し出し法）、スクリーン印刷法、ロールコート方式等が用いられる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、消衰係数ｋを一定の範囲内の値に選択できる半透過反射膜を設けたので、記録層を多層化した場合に記録層等の既存の各層の光学調整や熱量設計を行なう面倒を省き、単に半透過反射膜を設けるという簡単な方法でこれを行なうことができ、このことは記録層の反射光量を向上できる機能層を設けることにより一層容易となり、これにより記録層を多層化しても読み取りに必要な反射を維持ないし高反射にしながら、記録に耐える感度及び識別性が得られ、記録層を多層化しても信頼性の高い記録及び再生が行える光情報記録媒体を提供することができる。特に有機色素材料を用いた記録層については、読み取りに必要な反射を高反射に維持することができるので、３層以上の多層化もし易い。また、従来の低反射のため３層化以上の多層化が困難とされている無機材料による相変化型の光情報記録媒体においても容易に多層化光ディスクを提供することができる。
そして、ＤＶＤ等に使用のレーザー光は勿論のこと青色光領域の半導体レーザー光により記録及び再生ができるような記録層の多層化により記録容量を高めることができる光情報記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
有機色素材料を用いた記録層を多層化した光情報記録媒体では殊に、消衰係数ｋを一定の範囲内の値に選択できる半透過反射膜を設けることにより、特に青色光領域のレーザー光による記録感度を向上させ、有機色素材料を用いた記録層を多層化した多層化光情報記録媒体の実現を可能にするとともに、このレーザー光に対する高反射性を有する有機色素材料の本来の性質を活かし、さらに機能層を設けてこのレーザー光に対するその記録層の反射光量を向上させ、これらにより記録感度に係わる熱量設計と光学調整のバランスをとって、信号記録とその読み取りを高性能に行えることを実現した。無機材料を用いた記録層を多層化した光情報記録媒体についても、半透過反射膜を設けることにより記録感度を向上することができ、さらに機能層を設ければ、青色光領域のレーザー光に対してその光量調整を行えることから、反射光量を容易にコントロールすることができ、これらにより記録感度に係わる熱量設計と光学調整のバランスをとって、信号記録とその読み取りを高性能に行えることを実現できる。
【００３４】
〔実施例〕
次に本発明の実施例を説明するが、これに限定されるものではない。実施例１、２は有機色素材料を用いた記録層を有する多層化光ディスク、実施例３は相変化を起こさせる無機材料を用いた記録層を有する多層化光ディスクの例である。
【実施例１】
【００３５】
（光ディスクの製造と評価）
ポリカーボネート樹脂製で外径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの円盤状の基板（図１の基板１）上にスパッタリング法によりＡｇ合金の反射膜（厚さ１００ｎｍ）（図１の反射膜２）を形成した。
次に、下記〔化１６〕のフッ素系化合物からなるフッ素系界面活性剤０．０２ｇをメチルアルコール１０ｍｌに溶解させて得られる溶液に、下記〔化１７〕のフタロシアニン誘導体（色素）（アルドリッチ社製）を５０ｍｇ加え、室温で２４時間攪拌した。その後、フィルターで不溶物を取り除き、分光光度計で吸光度を測定し、色素の飽和溶解度を求めたところ、メチルアルコール１ｍｌ当たり、２．０４ｍｇであった。
【００３６】
【化１６】
2005243165.tif 000017
（式中、Ｍｅはメチル基、ｎは１以上を表わす。）
【００３７】
【化１７】
2005243165.tif 000018
（式中、ｔ−Ｂｕはターシャリーブチル基を表わす。）
【００３８】
上記の色素液を、上記反射膜上に、回転数１５００ｒｐｍ（毎分当たりの回転数）でスピンコートし、乾燥させて色素膜からなる記録層（図１の記録層３）を形成した。この記録層の上にスパッタリング法によりＳｉＯ2 膜からなる機能膜（厚さ９０ｎｍ）（図１の機能膜４）を形成した。このようにして、基板の上に反射層、記録層及び機能層を順次積層した下層（図１の下層Ａ）が得られた。
上記機能膜の上に、スピンコート法により紫外線硬化型樹脂を塗布して厚さ４０μｍ（３０μｍ〜５０μｍ）の硬化膜からなる中間層（図１の中間層５）（記録層間の距離を十分にとりその層間のクロストークを抑える）を形成し、さらにこの中間層の上に反応性スパッタリング法によりＡｇＮ膜からなる半透過反射膜（厚さ４０ｎｍ、光学係数ｎ＝３．６９、ｋ＝０．２８）（図１の半透過反射膜６）を形成した。ＡｇＮ膜の形成に当たっては、窒素を加え過ぎると完全な透明になりため、窒素量を微調整して、ｋ＝０．２８にとどめた。  上記半透過反射膜の上に上記記録層の場合と同様にして色素膜から記録層（図１の記録層７）を形成し、さらにその上にスパッタリング法によりＺｎＳ−ＳｉＯ2 膜からなる機能層（厚さ１６６ｎｍ）を形成した。このようにして、下側記録層Ａの機能層上に半透過反射膜、記録層及び機能層を順次積層した上層（図１の上側記録層Ｂ）が得られた。  なお、各層の光学係数は、分光光度計を用いて反射率、透過率を測定し、その測定結果からマトリックス法による最適な各光学係数を算出した（以下同様）。
また、上記〔化１６〕のフッ素系化合物は以下のようにして製造した。
過酸化ペルフルオロ−２，５，８−トリメチル−３，６，９−トリオキサドデカノイル（５ｍｍｏｌ）を含んだＡＫ２２５（１，１−ジクロロ−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロパンおよび１，３−ジクロロ−１，２，２，３，３−ペンタフルオロプロパンの１：１（質量比）混合溶媒：３０ｇ）溶液中に、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）アクリルアミド（１５ｍｍｏｌ）及びＡＫ−２２５（１５０ｇ）を加え、窒素気流下、４５℃で５時間反応を行った。反応後得られた組成物をＡＫ−２２５−ヘキサン系で再沈殿を行ったところ、上記〔化１５〕のフッ素系化合物が６５％の収率で得られた。得られたオリゴマーの分子量をＧＰＣ（展開溶媒：ＴＨＦ）により算出したところ、Ｍｎ（数平均分子量）＝１７２００であった。
【００３９】
このようにして、基板上に下層及び上層を有する２層化光ディスクが得られる。青色光領域の半導体レーザー（波長４０５ｎｍの青紫レーザー）を使用して、上層に信号を記録した場合と記録しない場合について、上層のＺｎＳ−ＳｉＯ2 膜からなる機能層の厚さ〔Ａ（オングストローム）〕を変化させたときに上層と下層について、反射率、透過率、吸収率を測定したところ、図２のグラフに示すとおりであった。このグラフから上層からの透過光を５０％に調整するためには、上層のＺｎＳ−ＳｉＯ2 膜からなる機能層の厚さが上記の１６６ｎｍになり、そのときの反射率は上層、下層ともに２０％程度となり、これは上層について記録がある場合とない場合で実用上大差ないようにできることがわかる。  なお、図２中、各点の種類はＲは反射率、Ｔは透過率、Ａは吸収率を示し、これら各符号に続く数字は、０は上層（Ｌａｙｅｒ  ０）、１は下層（Ｌａｙｅｒ  １）を示し、この数字に続く括弧書の（Ｂｌａｎｋ）は上層に記録がない場合、（Ｍａｒｋ）は上層に記録がある場合を示し、例えばＴ０（Ｂｌａｎｋ）は上層に記録がない場合の上層の透過率、Ｒ１（Ｍａｒｋ）は上層に記録がある場合の下層の反射率を示し、その他はこれに準じる（図３以降のグラフについて以下同様）。なお、上記反射率等は、分光光度計を用いて測定した。
上記の下層、上層への信号の記録は、上記波長の青紫レーザーとして半導体レーザー（ＮＡ（開口率）＝０．６５）を搭載したパルステック工業社製光ディスク評価装置（ＤＤＵ−１０００）を用いて、（１，７）信号を、線速６．６１ｍ／ｓ（秒）で記録を行った。その記録パワー（記録できる最低パワー）は１２ｍＷであった。記録後、再生し、反射率、変調度、エラーレート及びジッターを測定したところ、いずれも良好な値を示した。  この実施例のように、半透過反射膜の厚さ、光学係数を一定にして、機能層の厚さを変えて光学干渉を利用できる反射光量を変えることにより、光学調整を行うことができ、半透過反射膜やその他の層の厚さ、光学係数を変えて光学調整や熱量設計をする場合より、簡単に行えるというメリットがある。
【００４０】
〔比較例１〕
実施例１において、基板、下層Ａについては同様の構成とし、上層Ｂについては、消衰係数ｋが０．２８であるＡｇＮからなる半透過反射膜の代わりに、反応性スパッタリング法によりＡｌＮからなる半透過反射膜（光学係数ｎ＝２．３１、ｋ＝０、膜厚１００ｎｍ）を設け、記録層の厚さを４０ｎｍ、機能層の厚さを１９５ｎｍにしたこと以外は同様にして２層化光ディスクを作成した。これについても、実施例１と同様にして図２と同様のグラフを求めたところ、上層からの透過光を５０％に調整するためには、上層のＺｎＳ−ＳｉＯ2 膜からなる機能層の厚さが１９５ｎｍになり、そのときの反射率Ｒは上層、下層ともに２７％、透過率Ｔは６０％となり、反射率２０％以上を確保できたものの、透過率が大き過ぎるため、記録パワーが１２ｍＷを超え、上層における記録が不可能であった。
【実施例２】
【００４１】
実施例１において、ＡｇＮからなる半透過反射膜の厚さを５０ｎｍ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2 膜からなる機能層の厚さが１５６ｎｍにしたこと以外は同様にして多層化光ディスクを作成した。これについても、実施例１と同様にして図２と同様のグラフを求めたところ、図３のグラフが得られた。このグラフから、上層からの透過光を５０％に調整するためには、上層のＺｎＳ−ＳｉＯ2 膜からなる機能層の厚さが１５６ｎｍになり、そのときの反射率は上層からのものは１７．２％、下層からのものは１５．８％程度となり、これは上層について記録がある場合とない場合で実用上大差ないようにできることがわかる。
下層、上層への信号の記録を実施例１と同様に行ったところ、その記録パワーは１１．５ｍＷであった。記録後、再生し、反射率、変調度、エラーレート及びジッターを測定したところ、いずれも良好な値を示した。
この実施例は、記録層について反射率を若干犠牲にし（無機材料の記録層を有する多層化光ディスクより高反射）、より高感度に設計したものである。このように、半透過反射膜の厚さを変えることにより、その消衰係数ｋを調整し、記録層の感度や反射率を変えることもできる。
【００４２】
〔比較例２〕
実施例２において、基板、下層Ａについては同様の構成とし、上層Ｂについては、消衰係数ｋが０．２８であるＡｇＮからなる半透過反射膜の代わりに、スパッタリング法によりＣｕ合金からなる半透過反射膜（光学係数ｎ＝１．８９、ｋ＝２．６８、膜厚４０ｎｍ）を設け、記録層の厚さを５０ｎｍ、機能層の厚さを１６０ｎｍにしたこと以外は同様にして２層化光ディスクを作成した。これについても、実施例２と同様にして図３と同様のグラフを求めたところ、上層からの透過光を５０％に調整するためには、上層のＺｎＳ−ＳｉＯ2 膜からなる機能層の厚さが１６０ｎｍになり、そのときの反射率Ｒは上層、下層ともに２０％、透過率Ｔは５０％となり、上層における記録は行えるものの、その記録前後での変化を読み取ることができなかった。
なお、実施例１、２においては、比較例１、２に比べて、それぞれ機能層を設けないものについては、記録感度の向上がみられ、少なくともこの点で改善がされていることがわかる。
【実施例３】
【００４３】
相変化型の記録層を多層化した光ディスクの場合には、図４に示すうように、基板１１に反射層１２、機能層１３、記録層１４及び機能層１５を順次積層して得られる下層Ａ’に中間層（紫外線硬化型樹脂あるいはシート）１６を介して半透過反射膜１７、機能層１８、記録層１９及び機能層２０を順次積層して得られる上層Ｂ’を設け、さらに入射層（膜厚０．１ｍｍのカバー層タイプ（Ｂｌｕ−ｒａｙ）、厚さ０．６ｍｍの基板タイプ（ＨＤ  ＤＶＤ））２１を設けた構造のものが挙げられ、一部省略できる層もあり、その代わりあるいはこれらに加えて他の層、例えば誘電体層を追加してもよい。
具体的には、ポリカーボネート樹脂製で外径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの円盤状の基板（図４の基板１１）上にスパッタリング法により、Ａｇ合金の反射膜（厚さ１２０ｎｍ）（図４の反射膜１２）、ＺｎＳ−ＳｉＯ2 からなる機能層（厚さ２０ｎｍ）（図４の機能層１３）、ＧｅＳｂＴｅ合金膜の相変化記録膜からなる記録層（厚さ１２ｎｍ）（図４の記録層１４）及びＺｎＳ−ＳｉＯ2 からなる機能層（図４の機能層１５）を順次積層して下層（図４の下層Ａ’）を形成し、ついで後者の機能層上にスピンコート法により紫外線硬化型樹脂を塗布して厚さ４０μｍ（３０μｍ〜５０μｍ）の硬化膜からなる中間層（図４の中間層１６）を形成し、さらにその中間層の上に反応性スパッタリング法によりＡｇＮからなる半透過反射膜（厚さ１０ｎｍ）（図４の半透過反射膜１７）を形成し、その上にスパッタリング法により、ＺｎＳ−ＳｉＯ2 からなる機能層（厚さ２０ｎｍ）（図４の機能層１８）、ＧｅＳｂＴｅ合金膜の相変化記録膜からなる記録層（７ｎｍ）（図４の記録層１９）及びＺｎＳ−ＳｉＯ2 からなる機能層（厚さ１２７ｎｍ）（図４の機能層２０）を順次積層して上層（図４の上層Ｂ’）を形成し、２層化光ディスクを作成した。
この２層化光ディスクについて、実施例１と同様に上層の最上層のＺｎＳ−ＳｉＯ2 からなる機能層について、その厚さを変えることにより下層及び上層について反射率等を測定したところ、図５のグラフが得られた。このグラフから、上層からの透過光を５０％に調整するためには、上層のＺｎＳ−ＳｉＯ2 膜からなる機能層の厚さが１２７ｎｍになり、そのときの反射率は上層、下層からのものは共に１０％程度となり、これは上層について記録がある場合とない場合で実用上大差ないようにできることがわかる。
下層、上層への信号の記録を実施例１と同様に行ったところ、その記録パワーは８ｍＷであった。記録後、再生し、反射率、変調度、エラーレート及びジッターを測定したところ、いずれも良好な値を示した。
この実施例は低反射ではあるが、２層記録で良好な記録感度を示した２層化光ディスクの例である。
【００４４】
なお、実施例１〜３において、実際には最上層には、入射層として膜厚０．１ｍｍのカバー層、あるいは厚さ０．６ｍｍの基板が積層されたものである。また、実施例１〜３において、入射層上に紫外線硬化樹脂ＳＤ２１１（大日本インキ化学工業社製）をスピンコートした後、その塗布膜に紫外線を照射して硬化させ、保護層（厚さ５μｍ）を形成してもよい。
上記実施例１、２においては、高反射にできるので、実施例３に比べても、記録層を３層以上の多層化する場合にも有利であり、従来にない多層化光情報記録媒体を提供することができる。
上記実施例では、青紫レーザーを用いて記録及び再生を行う場合であったが、これより波長が長い領域のレーザーを用いた記録及び再生を行う多層化光ディスクを得たい場合には、記録層についてこれに対応する構成、例えば上記一般式（１）に属する色素や上記一般式（２）に属する色素を使用し、その他は上記実施例の構成に準じて構成すれば、多層化ＤＶＤ、ＣＤ−Ｒの光ディスクが得られる。
また、上記実施例では記録材料としては有機色素材料を用いた記録層や無機材料を用いた記録層をそれぞれ多層化したが、それぞれにおいて異なる機能の記録層を多層化してもよく、さらに両者を併用してもよい。例えば上記の各波長のレーザーに対応する記録層を多層化すれば、一つの光ディスクで各波長のレーザー光で記録、再生ができ、多機能光ディスクとして商品価値を一段と高めることができるし、無機材料を用いた記録層では記録した信号を消去して、再度記録することができ、記録信号の読み取りしかできない有機色素材料を用いた記録層を併用した光情報記録媒体の効用を一段と高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の光情報記録媒体の一実施例の２層化光ディスクの断面説明図である。
【図２】図１の抜粋した構成の２層化光ディスクについて、機能層の厚さを変化させた場合の反射率等の変化を測定した測定結果を示すグラフである。
【図３】その一部構成を変えた別の構成の２層化光ディスクについて、機能層の厚さを変化させた場合の反射率等の変化を測定した測定結果を示すグラフである。
【図４】他の実施例の２層化光ディスクの断面説明図である。
【図５】その実施例の２層化光ディスクについて、機能層の厚さを変化させた場合の反射率等の変化を測定した測定結果を示すグラフである。
【符号の説明】
【００４６】
１、１１  基板
３、７、１４、１９  記録層
４、８、１３、１５、１８、２０  機能層
Ａ、Ａ’  下層  
Ｂ、Ｂ’  上層  
【図１】
2005243165.tif 000019
【図２】
2005243165.tif 000020
【図３】
2005243165.tif 000021
【図４】
2005243165.tif 000022
【図５】
2005243165.tif 000023