(57)【要約】  【課題】２種の液を液貯留槽に供給可能な構成において、その２種の液が液貯留槽に同時混入されることを確実に防止できる基板処理装置を提供すること。  【解決手段】処理液としての硫酸を処理液タンク３に供給するための処理液配管１１と、洗浄液としての純水を処理液タンク３に供給するための洗浄液配管１２とに、手動式切替バルブ１３が介装されている。手動式切替バルブ１３は、手動操作されるレバー１９を一方側に倒伏させた状態で、処理液配管１１から処理液タンク３への処理液の供給を許可し、洗浄液配管１２から処理液タンク３への洗浄液の供給を阻止する。一方、レバー１９を他方側に倒伏させた状態で、洗浄液配管１２から処理液タンク３への洗浄液の供給を許可し、処理液配管１１から処理液タンク３への処理液の供給を阻止する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液貯留槽と、
この液貯留槽に第１の液を供給するための第１液配管と、
前記液貯留槽に第１の液とは種類の異なる第２の液を供給するための第２液配管と、
手動によって切り替えられ、前記第１液配管における第１の液の流通および前記第２液配管における第２の液の流通を択一的に許可する手動式切替バルブと
を含むことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記第１液配管は、前記手動式切替バルブに接続され、前記手動式切替バルブに向けて第１の液が流れる第１液上流側配管と、前記手動式切替バルブと前記液貯留槽とに接続され、前記手動式切替バルブによって流通が許可された第１の液が流れる第１液下流側配管とを備え、
前記第２液配管は、前記第１液配管とは別系統の配管であり、前記手動式切替バルブに接続され、前記手動式切替バルブに向けて第２の液が流れる第２液上流側配管と、前記手動式切替バルブと前記液貯留槽とに接続され、前記手動式切替バルブによって流通が許可された第２の液が流れる第２液下流側配管とを備えていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１の液は、基板の処理のための硫酸であり、
前記第２の液は、前記液貯留槽の洗浄のための純水であることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板を処理するための基板処理装置に関する。処理の対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示装置の製造工程では、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板などの基板に処理液を供給して、この処理液による処理を基板の表面に施すための基板処理装置が用いられる。
基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置では、処理液タンクに貯留されている処理液がノズルに送られて、このノズルから処理対象の基板に処理液が供給される（たとえば、特許文献１参照）。また、複数枚の基板を一括して処理するバッチ式の基板処理装置では、処理液タンクに貯留されている処理液が処理槽に供給されて、この処理槽に溜められた処理液中に複数枚の基板を一括して浸漬させることにより、基板に対する処理液の供給が達成される。
【０００３】
処理液タンクは、定期的に洗浄する必要がある。そのため、図４に示すように、処理液タンク９１には、この処理液タンク９１に処理液を供給するための処理液配管９２以外に、処理液タンク９１に洗浄液を供給するための洗浄液配管９３が接続されている。そして、処理液配管９２および洗浄液配管９３の途中には、それぞれエア弁９４，９５が介装されており、処理液タンク９１を洗浄するときには、処理液タンク９１内の処理液が排液配管９６を通して排出された後、洗浄液配管９３に介装されているエア弁９５が開かれて、洗浄液配管９３から処理液タンク９１に洗浄液が供給される。処理液タンク９１の洗浄が行われている間、処理液配管９２に介装されているエア弁９４は常に閉じられている。一方、基板処理のための装置稼働中は、洗浄液配管９３に介装されているエア弁９５は常に閉じられており、処理液タンク９１内に貯留されている処理液の量に基づいて、処理液配管９２に介装されているエア弁９４の開閉が制御される。
【特許文献１】特開昭６１−１２９８２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
エア弁９４，９５の開閉は、マイクロコンピュータを含む制御部によって制御される。そのため、制御部に異常が発生し、処理液タンク９１に処理液が供給されている状態で、洗浄液配管９３に介装されているエア弁９４が開かれるといった事態が生じると、処理液タンク９１に処理液と洗浄液とが同時混入されてしまう。また、処理液タンク９１の洗浄中に、制御部に異常が発生し、処理液配管９２に介装されているエア弁９５が開かれるといった事態が生じた場合にも、処理液タンク９１に処理液と洗浄液とが同時混入されてしまう。このような処理液と洗浄液との同時混入は、エア弁９４，９５の故障によっても生じる。
【０００５】
たとえば、処理液および洗浄液として、それぞれ硫酸および純水が用いられている場合、処理液タンク９１への処理液および洗浄液の同時混入が生じると、処理液としての硫酸の激しい発熱によって洗浄液としての純水が突沸し、その結果、処理液タンク９１内の気圧が急激に高まって、処理液タンク９１にダメージを与えるおそれがある。
そこで、この発明の目的は、２種の液を液貯留槽に供給可能な構成において、その２種の液が液貯留槽に同時混入されることを確実に防止できる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、液貯留槽（３）と、この液貯留槽に第１の液を供給するための第１液配管（１１）と、前記液貯留槽に第１の液とは種類の異なる第２の液を供給するための第２液配管（１２）と、手動によって切り替えられ、前記第１液配管における第１の液の流通および前記第２液配管における第２の液の流通を択一的に許可する手動式切替バルブ（１３）とを含むことを特徴とする基板処理装置である。
【０００７】
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この発明によれば、手動式切替バルブによって、第１液配管における第１の液の流通と第２液配管における第２の液の流通とが択一的に許可される。そのため、第１液配管から液貯留槽に第１の液が供給されているときに、第２液配管から液貯留槽に第２の液が供給されることはない。また、第２液配管から液貯留槽に第２の液が供給されているときに、第１液配管から液貯留槽に第１の液が供給されることもない。
【０００８】
しかも、手動切替バルブは手動で操作されるから、基板処理装置の各部を制御するための制御部に異常が発生した場合であっても、手動式切替バルブの不所望な切替えが行われることはない。
よって、第１および第２の液が液貯留槽に同時混入されることを確実に防止することができる。
【０００９】
請求項２記載の発明は、前記第１液配管は、前記手動式切替バルブに接続され、前記手動式切替バルブに向けて第１の液が流れる第１液上流側配管（１１１）と、前記手動式切替バルブと前記液貯留槽とに接続され、前記手動式切替バルブによって流通が許可された第１の液が流れる第１液下流側配管（１１２）とを備え、前記第２液配管は、前記第１液配管とは別系統の配管であり、前記手動式切替バルブに接続され、前記手動式切替バルブに向けて第２の液が流れる第２液上流側配管（１２１）と、前記手動式切替バルブと前記液貯留槽とに接続され、前記手動式切替バルブによって流通が許可された第２の液が流れる第２液下流側配管（１２２）とを備えていることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置である。
【００１０】
この発明によれば、第１液配管と第２液配管とは別系統に設けられており、第１液上流側配管、第１液下流側配管、第２液上流側配管および第２液下流側配管は互いに独立の配管であるので、液貯留槽だけでなく、これらの配管への第１および第２の液の混入も防止することができる。
請求項３記載の発明は、前記第１の液は、基板（Ｓ）の処理のための硫酸であり、前記第２の液は、前記液貯留槽の洗浄のための純水であることを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置である。
【００１１】
第１および第２の液が液貯留槽に同時混入されることがないので、第１の液が硫酸であり、第２の液が純水である場合には、硫酸と水との混合による発熱を防止でき、水の突沸によるダメージが液貯留槽に与えられることを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を図解的に示す図である。この基板処理装置は、半導体ウエハなどの基板Ｓにノズル１から処理液を供給して、その基板Ｓに処理液による処理を施すための枚葉式の装置である。
ノズル１には、処理液供給管２から処理液が供給されるようになっている。処理液供給管２は、処理液を貯留しておくための処理液タンク３から延びており、その途中部には、処理液タンク３側から順に、温度調節用ヒータ４、ポンプ５、ダンパ６、フィルタ７および吐出バルブ８が介装されている。温度調節用ヒータ４は、ポンプ５によって処理液タンク３から汲み出される処理液の温度を処理に適した一定温度に調節するためのものである。ダンパ６は、処理液供給管２を流れる処理液の脈動を緩和するためのものである。フィルタ７は、処理液供給管２を流れる処理液中の異物を除去するためのものである。
【００１３】
処理液供給管２には、フィルタ７と吐出バルブ８との間の分岐点Ｊにおいて、処理液帰還管９の一端が分岐接続されている。処理液帰還管９の他端は、処理液タンク３に接続されており、処理液帰還管９の途中部には、帰還バルブ１０が介装されている。
装置運転中は、温度調節用ヒータ４およびポンプ５が常に駆動されていて、基板Ｓに処理液を供給しない間は、吐出バルブ８が閉じられ、帰還バルブ１０が開かれることにより、処理液タンク３から汲み出される処理液が、処理液供給管２の途中の分岐点Ｊから処理液帰還管９を通して処理液タンク３に戻されている。つまり、基板Ｓに処理液を供給しない間は、処理液タンク３、処理液供給管２および処理液帰還管９からなる処理液循環路を処理液が循環している。そして、基板Ｓに処理液を供給するタイミングになると、帰還バルブ１０が閉じられ、吐出バルブ８が開かれることにより、処理液タンク３から汲み出される処理液が、処理液供給管２を通してノズル１に供給される。このように、基板Ｓに処理液を供給しない間、処理液を循環させておくことによって、一定温度に温度調節された処理液を処理液タンク３に貯留しておくことができ、吐出バルブ８の開成後、速やかに、その一定温度に温度調節された処理液をノズル１に供給することができる。
【００１４】
処理液タンク３は、ノズル１が配設されている処理室と離れて設置された処理液キャビネットに備えられている。たとえば、この基板処理装置が設置される工場において、処理室は階上に設置され、処理液キャビネットは階下に設置される。
処理液タンク３には、処理液としての硫酸を処理液タンク３に供給するための処理液配管１１と、この処理液配管１１とは別系統に設けられ、洗浄液としての純水を処理液タンク３に供給するための洗浄液配管１２とが接続されている。
【００１５】
処理液配管１１および洗浄液配管１２の途中部には、処理液配管１１と洗浄液配管１２とに跨った状態に手動式切替バルブ１３が介装されている。
これにより、処理液配管１１は、手動式切替バルブ１３に接続され、手動式切替バルブ１３に向けて処理液が流れる上流側配管１１１と、手動式切替バルブ１３と処理液タンク３とに接続され、手動式切替バルブ１３から処理液タンク３に向けて処理液が流れる下流側配管１１２とに分断されている。処理液配管１１の上流側配管１１１の途中部には、エア弁で構成される処理液供給バルブ１４が介装されている。
【００１６】
また、洗浄液配管１２は、手動式切替バルブ１３に接続され、手動式切替バルブ１３に向けて洗浄液が流れる上流側配管１２１と、手動式切替バルブ１３と処理液タンク３とに接続され、手動式切替バルブ１３から処理液タンク３に向けて洗浄液が流れる下流側配管１２２とに分断されている。洗浄液配管１２の上流側配管１２１の途中部には、エア弁で構成される洗浄液供給バルブ１５が介装されている。
【００１７】
手動式切替バルブ１３は、図２および図３に示すように、本体１６の内部に、処理液を流通させるための処理液流通路１７と、洗浄液を流通させるための洗浄液流通路１８とを有している。そして、処理液流通路１７の一端に処理液配管１１の上流側配管１１１が接続され、その他端に処理液配管１１の下流側配管１１２が接続されることにより、処理液配管１１の上流側配管１１１と下流側配管１１２とが処理液流通路１７を介して連通している。また、洗浄液流通路１８の一端に洗浄液配管１２の上流側配管１２１が接続され、その他端に洗浄液配管１２の下流側配管１２２が接続されることにより、洗浄液配管１２の上流側配管１２１と下流側配管１２２とが洗浄液流通路１８を介して連通している。
【００１８】
手動式切替バルブ１３の本体１６には、レバー１９がほぼ１８０度の角度範囲内で回動可能に取り付けられている。このレバー１９を手動操作することにより、処理液流通路１７における処理液の流通を許可するか、洗浄液流通路１８における洗浄液の流通を許可するかを択一的に切り替えることができるようになっている。
すなわち、図２に示すように、レバー１９を一方側（処理液および洗浄液の流通方向上流側）に倒伏させると、処理液流通路１７が開かれ、洗浄液流通路１８が閉じられる。これにより、処理液流通路１７における処理液の流通のみが許可され、この状態で処理液供給バルブ１４が開かれると、処理液配管１１の上流側配管１１１を流れる処理液が、処理液流通路１７を通って処理液配管１１の下流側配管１１２に流入し、さらに下流側配管１１２を通って処理液タンク３に供給される。一方、図３に示すように、レバー１９を他方側（処理液および洗浄液の流通方向下流側）に倒伏させると、洗浄液流通路１８が開かれ、処理液流通路１７が閉じられる。これにより、洗浄液流通路１８における洗浄液の流通のみが許可され、この状態で洗浄液供給バルブ１５が開かれると、洗浄液配管１２の上流側配管１２１を流れる洗浄液が、洗浄液流通路１８を通って洗浄液配管１２の下流側配管１２２に流入し、さらに下流側配管１２２を通って処理液タンク３に供給される。
【００１９】
また、処理液タンク３には、処理液タンク３内の処理液または洗浄液を排液するための排液配管２０の一端が接続されている。排液配管２０の他端は、この基板処理装置が設置される工場の排液ラインに接続されている。また、排液配管２０の途中部には、排液配管２０を開閉するための排液バルブ２１が介装されている。
以上のような構成により、手動式切替バルブ１３を一方側に倒伏させた状態で、処理液供給バルブ１４を開くことにより、処理液配管１１から処理液タンク３に処理液を供給することができ、このとき排液バルブ２１が閉じられていれば、その処理液配管１１からの処理液を処理液タンク３に貯留することができる。このとき、手動式切替バルブ１３の洗浄液流通路１８が閉じられているから、処理液供給バルブ１４や洗浄液供給バルブ１５の開閉を制御するための制御部に異常が生じたり、洗浄液供給バルブ１５が故障したりしても、洗浄液配管１２から処理液タンク３に洗浄液が供給されることがなく、処理液タンク３に処理液と洗浄液とが同時混入されることがない。
【００２０】
また、手動式切替バルブ１３を他方側に倒伏させた状態で、洗浄液供給バルブ１５を開くことにより、洗浄液配管１２から処理液タンク３に洗浄液を供給することができ、この洗浄液によって処理液タンク３を洗浄することができる。このとき、手動式切替バルブ１３の処理液流通路１７が閉じられているから、処理液供給バルブ１４や洗浄液供給バルブ１５の開閉を制御するための制御部に異常が生じたり、処理液供給バルブ１４が故障したりしても、処理液配管１１から処理液タンク３に処理液が供給されることがなく、処理液タンク３に処理液と洗浄液とが同時混入されることがない。
【００２１】
しかも、手動式切替バルブ１３は、レバー１９を手動操作する構成であり、制御部に異常が生じた場合であっても、手動式切替バルブ１３の不所望な切替えが行われることもない。
よって、処理液と洗浄液とが処理液タンク３に同時混入されることを確実に防止することができる。
【００２２】
また、処理液配管１１と洗浄液配管１２とは別系統に設けられており、上流側配管１１１、下流側配管１１２、上流側配管１２１および下流側配管１２２は、互いに独立の配管で構成されている。よって、処理液タンク３だけでなく、これらの配管１１１，１１２，１２１，１２２に処理液と洗浄液とが混入されることも防止できる。
さらに、処理液と洗浄液との混入がないので、この実施形態のように、処理液が硫酸であり、洗浄液が純水である場合には、硫酸と水との混合による発熱を防止でき、水の突沸によるダメージが液貯留槽に与えられることを防止できる。
【００２３】
なお、処理液タンク３にレベルセンサが配設されて、処理液タンク３内に貯留されている処理液の液位が、そのレベルセンサによって検出される下限レベル以下でなければ、洗浄液供給バルブ１５が開かれないようにしてもよい。こうすることにより、処理液タンク３内に処理液が大量に貯留されている状態で、その処理液タンク３に洗浄液が供給されることを防止できる。処理液としての硫酸に洗浄液としての純水が混入されることによる発熱を防止できる。
【００２４】
以上、この発明の一実施形態について説明したが、この発明は他の形態で実施することもできる。たとえば、上記の実施形態では、枚葉式の基板処理装置を例にとったが、この発明は、複数枚の基板を一括して処理するバッチ式の基板処理装置に適用することもできる。
バッチ式の基板処理装置には、処理槽に酸系の薬液を供給して、その薬液に複数枚の基板を一括して浸漬させることによって処理を行った後、処理槽から酸系の薬液を排出し、つづいて、処理槽にアルカリ系の薬液を供給して、アルカリ系の薬液による処理を行うものがある。このような装置において、処理槽に酸系の薬液を供給するための配管と処理槽にアルカリ系の薬液を供給するための配管とに手動式切替バルブ１３を介装させることにより、酸系の薬液とアルカリ系の薬液とが処理槽に同時混入されることを確実に防止でき、酸系の薬液とアルカリ系の薬液との反応による悪影響が処理槽に及ぼされるおそれをなくすことができる。
【００２５】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を図解的に示す図である。
【図２】手動式切替バルブによって処理液の流通が許可された状態を示す図である。
【図３】手動式切替バルブによって洗浄液の流通が許可された状態を示す図である。
【図４】従来の基板処理装置における処理液タンクへの処理液および洗浄液の供給配管構成を示す図解図である。
【符号の説明】
【００２７】
３      処理液タンク
１１    処理液配管
１２    洗浄液配管
１３    手動式切替バルブ
１１１  上流側配管
１１２  下流側配管
１２１  上流側配管
１２２  下流側配管
Ｓ      基板
【図１】
2005243814.tif 000003
【図２】
2005243814.tif 000004
【図３】
2005243814.tif 000005
【図４】
2005243814.tif 000006