(57)【要約】【課題】露光装置上でのミラーの面内並進シフト方向の微小変位及び回転軸倒れの補正、及びミラー自身の自重変形の補正、及び投影系反射ミラーの波面補正をすることを可能にし、ミラー位置精度及び面精度（光学波面収差）の悪化、すなわち結像性能の悪化を防ぐ。【解決手段】反射ミラー投影系の波面収差を計測する手段を露光装置内に設けると共に、反射ミラー位置計測手段と、ミラー駆動手段を設け、ミラー波面収差計測値とミラー位置計測情報を用いて補正テーブル演算手段により補正駆動量を算出し、ミラー位置及びミラー面形状（波面収差）の補正駆動を行うことで、ミラーの面内並進シフト方向の微小変位及び回転軸倒れ及び面形状の補正を行う。【選択図】      図１
2005086031.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版と基板とを相対的に移動させることにより原版に描かれたパターンを基板に投影して露光する露光装置であって、
光源から発光される光を計測位置に導く光学部材と、
前記光学部材の位置及び／又は形状を変更する変更手段と、
前記光学部材により導光された光を受けて該光学部材の波面収差を計測する波面収差計測手段と、
前記光学部材の波面収差の計測結果から、前記光学部材の波面収差を補正するための補正量を算出し、該算出された補正量に基づいて前記変更手段を制御する制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記光学部材の位置を計測する光学部材位置計測手段を更に備え、
前記制御手段は前記計測された波面収差と該光学部材の位置情報とから該光学部材の位置及び／又は形状を変更することにより該光学部材の波面収差を補正することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記波面収差計測手段は、前記基板を移動可能に保持するステージ上に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記波面収差計測手段は、前記原版を移動可能に保持するステージ上に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記光源は、前記原版を移動可能に保持するステージに設けられ、
前記波面収差計測手段は、前記基板を移動可能に保持するステージに設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項６】
前記光源は、前記基板を移動可能に保持するステージに設けられ、
前記波面収差計測手段は、前記原版を移動可能に保持するステージに設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項７】
前記波面収差計測手段は、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージが移動する際の基準となる基台に移動可能に設けられていることを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記波面収差計測手段を、互いに直交する３軸方向及び該各軸まわりの回転方向のいずれかの方向に移動可能に保持する駆動手段を更に備えることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージ上に前記導光された光の光軸を変更する部材を設け、
前記波面収差計測手段は、前記ステージが移動する際の基準となる基台が設置される部位に設けられた支持部材により前記変更された光軸上に位置するように移動可能に支持されていることを特徴とする請求項３乃至８のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記波面収差計測手段は、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージを粗い精度で移動させる部材に移動可能に支持されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記光学部材は複数のミラー部材からなり、各々のミラー部材は互いに協働して光源から発光された光を前記計測位置まで導くことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、半導体製造工程において用いられる露光装置において、レチクルパターンをシリコンウエハ上に投影して転写する投影露光装置に関するものであり、その中でも、特にEUV光（Extreme Ultraviolet 極紫外光）である13〜14nm程度の波長の露光光を光源として使用し、真空内をミラー光学系より投影露光するEUV露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１９乃至図２２に従来の露光装置の構成を示し、１０１は励起レーザーであり、光源の発光点となる光源材料をガス化、液化、噴霧ガス化させたポイントに向けて照射して、光源材料原子をプラズマ励起することにより発光させる為の励起レーザーで、YAG固体レーザー等を用いる。１０２は内部が真空に維持された構造を持つ光源発光部であり、図２０にその内部構造を示す。ここで、１０２Aは光源で、実際の露光光源の発光ポイントを示す。
【０００３】
１０２Aaは光源ミラーで、光源１０２Aからの全球面光を発光方向に揃え集光反射する為に、光源１０２A中心に半球面状のミラーとして配置される。１０２AbはXe（液化、噴霧、ガス）で、発光元素として液化Xeあるいは液化Xe噴霧あるいはXeガスを光源１０２Aのポイントにノズル１０２Aeにより突出させる。１０３は露光装置全体を格納する真空チャンバーで、真空ポンプ１０４により真空状態を維持することを可能にする。
【０００４】
１０５は光源発光部１０２からの露光光を導入・成形する露光光導入部で、ミラー１０５A〜１０５Dにより構成され、露光光を均質化し、かつ整形する。１０６はレチクルステージで、レチクルステージ１０６上の可動部には、露光パターンの反射原盤である原版１０６Aが搭載されている。１０７は原版１０６Aから反射した露光パターンを縮小投影する縮小投影ミラー光学系で、ミラー１０７A〜１０７Eに順次投影反射し最終的に規定の縮小倍率比で縮小投影される。
【０００５】
１０８はウエハステージで、原版１０６Aにより反射縮小投影されたパターンを露光するSi基板であるウエハ１０８Aを、所定の露光位置に位置決めする為に、XYZ、XY軸回りのチルト、Z軸回りの回転方向の６軸駆動可能に位置決め制御される。１０９はレチクルステージ支持体で、レチクルステージ１０６を装置設置床に対して支持する。１１０は投影系本体で、縮小投影ミラー光学系１０７を装置設置床に対して支持する。１１１はウエハステージ支持体で、ウエハステージ１０８を装置設置床に対して支持する。
【０００６】
上記レチクルステージ支持体１０９と投影系本体１１０とウエハステージ支持体１１１により分離独立して支持された、レチクルステージ１０６と縮小投影ミラー光学系１０７との間及び縮小投影ミラー光学系１０７とウエハステージ１０８との間は、相対位置を計測し所定の相対位置に連続して維持制御する手段（不図示）が設けられている。
【０００７】
また、レチクルステージ支持体１０９と投影系本体１１０とウエハステージ支持体１１１には、装置設置床からの振動を絶縁するマウント（不図示）が設けられている。１１２は装置外部から一旦装置内部に原版１０６Aとしてのレチクルを保管するレチクルストッカーで、保管容器に密閉状態で異なるパターン及び異なる露光条件に合わせたレチクルが保管されている。１１３は上記レチクルストッカー１１２から使用するレチクルを選択して搬送するレチクルチェンジャーである。１１４はXYZ及びZ軸周りに回転可能な回転ハンドからなるレチクルアライメントユニットで、上記レチクルチェンジャー１１３から原版１０６Aを受け取り、レチクルステージ１０６の端部に設けられたレチクルアライメントスコープ部分１１５に１８０度回転搬送し、縮小投影ミラー光学系１０７を基準に設けられたアライメントマーク１１５Aに対して原版１０６A上をXYZ軸回転方向に微動してアライメントする。
【０００８】
アライメントを終了した原版１０６Aはレチクルステージ１０６上にチャッキングされる。１１６は装置外部から一旦装置内部にウエハ１０８Aを保管するウエハストッカーで、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。１１７はウエハ搬送ロボットで、上記ウエアストッカー１１６から露光処理するウエハ１０８Aを選定し、ウエハメカプリアライメント温調機１１８に運ぶ。ウエハメカプリアライメント温調機１１８では、ウエハの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部温調温度に合わせ込む。１１９はウエハ送り込みハンドで、ウエハメカプリアライメント温調機１１８にてアライメントと温調されたウエハ１０８Aをウエハステージ１０８に送り込む。
【０００９】
１２０，１２１はゲートバルブで、装置外部からレチクル及びウエハを挿入するゲート開閉機構である。１２２も同じくゲートバルブで、装置内部でウエハストッカー１１６及びウエハメカプリアライメント温調機１１８空間と露光空間を隔壁で分離し、ウエハ１０８Aを搬送搬出するときにのみ開閉する。
【００１０】
このように、隔壁で分離することによりウエハ１０８Aの装置外部との搬送・搬出の際に、一旦大気開放される容積を最小限にして、速やかに真空平行状態にすることを可能にしている。
【００１１】
また、従来の露光装置として、投影ビーム中にある平面反射ミラーの位置を最初に絶対位置センサを使って測定し、その後相対位置センサを使って位置の変化を測定すると共に、この測定値に従って、ミラーの位置を制御するものがある（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００１−３５１８５５公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ここで、上述した従来の露光装置においては、図２１（２）に示すように、ミラー支持ロッド１２３A〜１２３Cで、ミラー１０７A〜E及び１０５A〜Dを支持位置決めした場合、面内並進シフト方向の微小変位及び回転軸倒れが発生したり、ミラー自身の自重変形が発生したりすることにより、1nm以下程度と、極めて厳しいミラー面形状精度が要求される投影光学系ミラー及び照明系ミラー及び光源ミラーの精度を補償出来なくなる。またこのように、ミラー面精度（光学収差）が悪化すると、投影光学系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を招く。
【００１３】
さらに、このような従来の露光装置で、光源発光部１０２からの露光光を導入成形する露光光導入部のミラー１０５A〜１０５D及び原版１０６Aから反射した露光パターンを縮小投影する、縮小投影ミラー光学系で、ミラー１０７A〜１０７Eは、Ｍｏ−Ｓｉの多層膜が蒸着あるいはスパッタにより形成され、各々の反射面で図２２に示すように光源からの露光光を反射する。その際、一面あたりの反射率は凡そ７０％程度で残りはミラー母材に吸収され熱に変換される。
【００１４】
図２２に示すように、露光光反射エリアでは温度が＋１０〜２０℃程度上昇し、結果として熱膨張係数の極めて小さいミラー材料を使用してもミラー周辺部では反射面の変位が５０〜１００nm程度発生する。結果として、1nm以下程度と、極めて厳しいミラー面形状精度が要求される投影光学系ミラー及び照明系ミラー及び光源ミラーの精度を補償出来なくなる。このように、ミラー面精度が悪化すると、投影光学系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を招く。さらに照明系の場合マスクへの目標照度低下及び照度ムラ悪化を招き、光源ミラーの場合は光源の集光不良等照度悪化を招く結果となる。これらは、総じて露光装置の露光精度及びスループット等の基本性能の劣化につながる。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するために、本発明の露光装置は、原版と基板とを相対的に移動させることにより原版に描かれたパターンを基板に投影して露光する露光装置であって、光源から発光される光を計測位置に導く光学部材と、前記光学部材の位置及び／又は形状を変更する変更手段と、前記光学部材により導光された光を受けて該光学部材の波面収差を計測する波面収差計測手段と、前記光学部材の波面収差の計測結果から、前記光学部材の波面収差を補正するための補正量を算出し、該算出された補正量に基づいて前記変更手段を制御する制御手段とを具備する。
【００１６】
また、好ましくは、前記光学部材の位置を計測する光学部材位置計測手段を更に備え、前記制御手段は前記計測された波面収差と該光学部材の位置情報とから該光学部材の位置及び／又は形状を変更することにより該光学部材の波面収差を補正する。
【００１７】
また、好ましくは、前記波面収差計測手段は、前記基板を移動可能に保持するステージ上に設けられている。
【００１８】
また、好ましくは、前記波面収差計測手段は、前記原版を移動可能に保持するステージ上に設けられている。
【００１９】
また、好ましくは、前記光源は、前記原版を移動可能に保持するステージに設けられ、前記波面収差計測手段は、前記基板を移動可能に保持するステージ上に設けられている。
【００２０】
また、好ましくは、前記光源は、前記基板を移動可能に保持するステージに設けられ、前記波面収差計測手段は、前記原版を移動可能に保持するステージ上に設けられている。
【００２１】
また、好ましくは、前記波面収差計測手段は、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージが移動する際の基準となる基台に移動可能に設けられている。
【００２２】
また、好ましくは、前記波面収差計測手段を、互いに直交する３軸方向及び該各軸まわりの回転方向のいずれかの方向に移動可能に保持する駆動手段を更に備える。
【００２３】
また、好ましくは、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージ上に前記導光された光の光軸を変更する部材を設け、前記波面収差計測手段は、前記ステージが移動する際の基準となる基台が設置される部位に設けられた支持部材により前記変更された光軸上に位置するように移動可能に支持されている。
【００２４】
また、好ましくは、前記波面収差計測手段は、前記基板あるいは原版を移動可能に保持するステージを粗い精度で移動させる部材に移動可能に支持されている。
【００２５】
また、好ましくは、前記光学部材は複数のミラー部材からなり、各々のミラー部材は互いに協働して光源から発光された光を前記計測位置まで導く。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、露光装置上でのミラーの面内並進シフト方向の微小変位及び回転軸倒れの補正、及びミラー自身の自重変形の補正、及び投影系反射ミラーの波面補正をすることが可能になり、ミラー面精度（光学収差）の悪化を防ぎ、投影光学系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を防ぐ効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下に、本発明を実施の形態について添付図面を参照して説明する。
【００２８】
図１乃至図１８は、本発明に係る実施形態の露光装置の構成を示し、１は励起レーザーであり、光源の発光点となる光源材料をガス化、液化、噴霧ガス化させたポイントに向けて照射して、光源材料原子をプラズマ励起することにより発光させる為の励起レーザーで、YAG固体レーザー等を用いる。
【００２９】
２は内部が真空に維持された構造を持つ光源発光部で、図２０と同様の内部構造を持つ。３は露光装置全体を格納する真空チャンバーで、真空ポンプ４により真空状態を維持することを可能にする。５は光源発光部２からの露光光を導入・成形する露光光導入部で、ミラー５A〜５Dにより構成され、露光光を均質化しかつ整形する。６はレチクルステージで、レチクルステージ上の可動部には、露光パターンの反射原盤である原版６Aが搭載されている。
【００３０】
７は原版６Aから反射した露光パターンを縮小投影する、縮小投影ミラー光学系で、ミラー７A〜７Eに順次投影反射し最終的に規定の縮小倍率比で縮小投影される。８はウエハステージで、原版５Aにより反射縮小投影されたパターンを露光するSi基板であるウエハ８Aを、所定の露光位置に位置決めする為に、XYZ、XY軸回りのチルト、Z軸回りの回転方向の６軸駆動可能に位置決め制御される。
【００３１】
９はレチクルステージ支持体で、レチクルステージ６を装置設置床に対して支持する。１０は投影系本体で、縮小投影ミラー光学系７を装置設置床に対して支持する。１１はウエハステージ支持体で、ウエハステージ８を装置設置床に対して支持する。
【００３２】
以上のレチクルステージ支持体９と投影系本体１０とウエハステージ支持体１１により分離独立して支持された、レチクルステージ６と縮小投影ミラー光学系との間及び縮小投影ミラー光学系７とウエハステージ８との間は、相対位置を位置計測し所定の相対位置に連続して維持制御する手段（不図示）が設けられている。また、レチクルステージ支持体９と投影系本体１０とウエハステージ支持体１１には、装置設置床からの振動を絶縁するマウント（不図示）が設けられている。
【００３３】
１２は装置外部から一旦装置内部に原版６Aとしてのレチクルを保管するレチクルストッカーで、保管容器に密閉状態で異なるパターン及び異なる露光条件に合わせたレチクルが保管されている。１３は上記レチクルストッカー１２から使用するレチクルを選択して搬送するレチクルチェンジャーである。１４はXYZ及びZ軸周りに回転可能な回転ハンドから成るレチクルアライメントユニットで、上記レチクルチェンジャー１３から原版６Aを受け取り、レチクルステージ６端部に設けられたレチクルアライメントスコープ１５部分に１８０度回転搬送し、縮小投影ミラー光学系７を基準に設けられたアライメントマーク１５Aに対して原版６A上をXYZ軸回転方向に微動してアライメントする。アライメントを終了した原版６Aはレチクルステージ６上にチャッキングされる。
【００３４】
１６は装置外部から一旦装置内部にウエハ８Aを保管するウエハストッカーで、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。１７はウエハ搬送ロボットで、ウエアストッカー１６から露光処理するウエハ８Aを選定し、ウエハメカプリアライメント温調機１８に運ぶ。ウエハメカプリアライメント温調機１８では、ウエハの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部温調温度に合わせ込む。１９はウエハ送り込みハンドで、ウエハメカプリアライメント温調機１８にてアライメントと温調されたウエハ８Aをウエハステージ８に送り込む。
【００３５】
２０、２１はゲートバルブで、装置外部からレチクル及びウエハを挿入するゲート開閉機構である。２２も同じくゲートバルブで、装置内部でウエハストッカー１６及びウエハメカプリアライメント温調機１８の空間と露光空間を隔壁で分離し、ウエハ８Aを搬送・搬出するときにのみ開閉する。このように、隔壁で分離することによりウエハ８Aの装置外部との搬送搬出の際に、一旦大気開放される容積を最小限にして、速やかに真空平行状態にすることを可能にしている。
【００３６】
ここで、従来の露光装置に関して説明したように、ミラー支持部材で支持位置決めした場合、面内並進シフト方向の微小変位及び回転軸倒れが発生したり、ミラー自身の自重変形が発生したりすることにより、1nm以下程度と、極めて厳しいミラー面形状精度が要求される投影光学系ミラー及び照明系ミラー及び光源ミラーの精度を補償出来なくなり、またミラー面精度（光学収差）が悪化すると、投影光学系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を招いていた。
【００３７】
また、光源発光部２からの露光光を導入成形する露光光導入部のミラー５A〜５D及び原版６Aから反射した露光パターンを縮小投影する縮小投影ミラー光学系で、ミラー７A〜７Eは、Ｍｏ−Ｓｉの多層膜が蒸着あるいはスパッタにより形成され、個々の反射面で光源からの露光光を反射する、その際ミラー一面の反射率は凡そ７０％程度で残りはミラー母材に吸収され熱に変換される。
【００３８】
その際、露光光反射エリアでは温度が＋１０〜２０℃程度上昇し、結果として熱膨張係数の極めて小さいミラー材料を使用してもミラー周辺部では反射面の変位が５０〜１００nm程度発生し、1nm以下程度の極めて厳しいミラー面形状精度が要求される投影光学系ミラー及び照明系ミラー及び光源ミラーの精度を補償出来なくなる。このように、ミラー面精度が悪化すると、投影光学系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を招き、照明系の場合マスクへの目標照度低下及び照度ムラ悪化を招き、光源ミラーの場合は光源の集光不良等照度悪化を招く結果となる。
【００３９】
本発明に係る実施形態では、上記ミラーの位置形状精度及び発熱の問題を解決する為に、以下に説明するミラー位置及び面精度及び投影光学系波面収差を補正する手段を設けている。なお、ミラーの形状は各部位で異なる為、本実施形態では円筒凹面ミラーを代表例として説明する。
【００４０】
ここで、図２に示すように、投影系ミラー７A〜Eと照明系ミラー５A〜Dの外周等分３箇所に切り欠き７F〜Hが設けられ、切り欠き面はXY軸に垂直な平面を構成している。さらに、この平面はレーザー干渉計計測の為の反射ミラー面加工がなされ、ミラーの位置計測基準となる。
【００４１】
さらに、投影系ミラー７A〜Eと照明系ミラー５A〜Dの各反射面の裏面にはミラー支持アクチュエーター７J〜Lが設けられている。これらミラー支持アクチュエーター０７J〜Lは、ミラー支持ベース７Mに対してミラー支持面をXYZ方向に移動可能に支持している。
【００４２】
ミラー位置計測手段は、図２に示すミラー計測レーザー干渉計光軸(XA)７N、ミラー計測レーザー干渉計光軸(XB+ωY)７P、ミラー計測レーザー干渉計光軸(XC)７Q及びミラー計測レーザー干渉計光軸(YA)７R、ミラー計測レーザー干渉計光軸(YB+ωX)７S、ミラー計測レーザー干渉計光軸(YC)７T、ミラー計測レーザー干渉計光軸(ZA)７U、ミラー計測レーザー干渉計光軸(ZB)７V、ミラー計測レーザー干渉計光軸(ZC)７Wが、ミラー母材自身に照射されミラーの各軸の位置計測を行う。
【００４３】
さらに、図２（４）に、ミラー支持アクチュエーター７Jの内部詳細構造を示す。
ここで、０７K．X軸駆動ピエゾ７KとY軸駆動ピエゾ７Lは、XY駆動コマ７MMに対してXY方向に配置し、XY与圧手段７KKによりXY方向に与圧力を与えられながらXY駆動し、Z軸駆動ピエゾ７Mが駆動テーブル７MMMをZ方向に駆動する。このように、ミラー支持アクチュエーター７JをXYZ方向に微動させることにより、ミラー面の面内並進シフト方向の補正及び微小変位及び回転軸倒れの補正を可能にする。
【００４４】
ここで、ミラー位置計測及びミラー位置駆動及びミラーへの力の印加によるミラー面形状の補正をする際に、補正原点及び目標値を決める場合には、図３に示すように、ミラー７A〜Eに示す投影系ミラー全面での収差を計測する手段として設けられる。
【００４５】
ここで、図５に示すように、レチクルステージ６のレチクルステージスライダー６Bが退避した状態で、図示のように波面計測計計測光源供給ファイバー２３Aから供給された計測光を、波面評価光源光を出射する波面計測計計測光源出射口２３から出射して、計測光が投影系ミラー反射面の全面で通しで反射し、図４に示すようにウエハステージ８の可動部に搭載された波面計測受光センサー２４にて、反射ミラー全面での投影系の光学波面収差が計測される。
【００４６】
次に、図６にミラー補正駆動制御の一例を示す。
【００４７】
波面計測受光センサー２４にて計測された、波面計測値は波面計測値演算回路３０にて波面収差量を算出する。この波面計測演算値を元にミラー補正駆動テーブル演算回路３１にて、ミラー７A〜Eの補正駆動方向及び駆動量及び力印加量が算出され、ミラー補正駆動手段３２へ目標値として伝達される。同時にミラー７A〜Eの各位置情報は、上記ミラー計測レーザー干渉計７N〜７Wからの信号をミラー計測手段３３にまとめることによりミラー間の相対位置が計測される。
【００４８】
ミラー補正駆動手段３２及びミラー計測手段３３により、各ミラーを目標位置に駆動した後、再度波面計測確認を行い、波面収差が規格値を満たしていれば補正終了となり、波面収差が規格値を満たしていなければ、再度残留波面収差量を波面計測演算回路で算出して、上記補正を繰り返すことにより目標規格値に追い込む。
【００４９】
ちなみに、目標とする波面収差量は、ミラー位置を初期に調整して、収差を適正な量以下に追い込んだ値となる為、この収差量が装置の目標収差及びミラー位置形状の原点となる。ミラー位置原点に対して、上記ミラー駆動手段によりミラーを駆動することにより、収差を目標位置に追い込むことが可能になる。
【００５０】
上記実施形態によれば、ミラーの波面収差を計測する手段を露光装置内に設け、ミラー自身あるいはミラー外周部にミラー位置計測手段の計測反射面あるいは計測ターゲット材料を設け、また、ミラー位置の駆動手段が設けられ、投影系ミラーの波面収差とミラーの位置情報とによって波面収差を補正すべくミラー位置及び形状を変更する。また、ミラーに力を印加して形状を変更する手段が設けられ、ミラー位置計測手段の位置情報により、ミラーの面内並進シフト方向の微小変位及び回転軸倒れ及びミラー自身の自重変形の補正し、ミラー面精度（光学収差）の悪化を防ぎ、投影光学系の場合ウエハへの結像性能の悪化及び照度低下を防ぐことができる。
【００５１】
また、ミラーの位置と形状を補正する手段を併設することにより、ミラー位置の補正制御とミラー面精度補正（光学収差補正）とを同時に行うことができる。
【００５２】
また、ミラーの位置及び形状を補正する手段として複数のピエゾ素子を用いることができる。
【００５３】
以上により、ミラー位置補正及びミラー反射面歪み及び投影系光学波面収差を的確に補正することが可能になる。
【００５４】
［他の実施形態１］
上記実施形態では、波面計測受光センサー２４をウエハステージ８の基板搭載部の可動部に設けていたが、図７及び図８に示すようにウエハステージ８の定盤に切り欠きあるいは孔を空けて空隙部を形成し、波面収差受光センサー３４をその空隙部に設けることも可能である。
【００５５】
この構成では、計測時は、図９に示すようにステージ可動部を図９（１）の位置から（２）の位置に移動させ、図１０に示すように波面計測受光センサー３４をXYZ方向に駆動する波面収差受光センサー駆動手段３５により、ウエハステージ８の定盤面から計測位置まで移動し計測ポイントを移動しながら計測を行う。
【００５６】
［他の実施形態２］
上記実施形態では、波面計測受光センサー２４をウエハステージ８の基板搭載部の可動部に設けていたが、図１１及び図１２に示すようにウエハステージ８の可動部上に計測光の折り曲げミラー３６を搭載して、ウエハステージ８の固定部及び床同等位置に波面計測受光センサー＆XYZ駆動手段３７が設けられ、床から波面計測受光センサー支持台３８により固定されている。
【００５７】
この構成では、計測時は、図１３に示すようにステージ可動部を移動させ、折り曲げミラー３６へ計測光が入射する位置にステージをロックし、折り曲げられた計測光は、波面計測受光センサー＆XYZ駆動手段３７のセンサー面に入射する。その際、センサー位置を波面計測受光センサー＆XYZ駆動手段３７により計測ポイントを移動しながら計測を行う。
【００５８】
［他の実施形態３］
上記実施形態では、波面計測受光センサー２４をウエハステージ８の基板搭載部の可動部に設けていたが、図１４及び図１５に示すようにウエハステージ８の粗動部（XY駆動部）に波面計測受光センサー３９を搭載することも可能である。ここで、波面計測受光センサー３９は波面計測受光センサー駆動手段４０によりXYZ軸方向に移動可能に支持されている。
【００５９】
この構成では、計測時は、図１６に示すようにステージ可動部を退避移動させ、波面計測受光センサー駆動手段４０により、波面計測受光センサー３９を波面計測光の入射部位置に移動位置決めし、計測ポイントを移動しながら計測を行う。
【００６０】
［他の実施形態４］
上記実施形態では、波面計測受光センサー２４をウエハステージ８の基板搭載部の可動部に設けていたが、図１７に示すようにレチクルステージ６のレチクルチャックスライダー６Bに波面計測受光センサー４２を搭載し、８．ウエハステージ８の定盤固定部側に波面計測光源光供給光ファイバー４１Aにより供給され４１．波面計測光源出射口４１から計測光が出射され投影系ミラー７A〜７Eを通り波面計測受光センサー４２に入射し計測する。このように、上述した実施形態と逆方向で波面収差を計測することも可能である。  ［他の実施形態５］
上記実施形態では、波面計測受光センサー２４をウエハステージ８の基板搭載部の可動部に設けていたが、図１８に示すようにレチクルステージ６の定盤固定部に切り欠きあるいは孔を形成し、そこに波面計測受光センサー４３を設け、波面計測受光センサー４３を波面計測受光センサー駆動手段４４に搭載することによりXYZ軸方向に駆動可能に支持する。計測時は、計測位置まで波面計測受光センサー４３を移動させ、計測ポイントごとに移動計測する。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明に係る実施形態の露光装置の全体図。
【図２】本実施形態の投影系ミラーの詳細図。
【図３】本実施形態のミラー波面計測手段の構成例を示す図。
【図４】本実施形態のウエハステージの斜視図。
【図５】本実施形態のミラー波面計測手段の構成例を示す図。
【図６】本実施形態のミラー波面計測手段による波面計測方法を示す図。
【図７】他の実施形態１のミラー波面計測手段の構成例を示す図。
【図８】他の実施形態１のウエハステージの斜視図。
【図９】他の実施形態１のウエハステージの平面図。
【図１０】他の実施形態１のミラー波面計測手段の構成例を示す図。
【図１１】他の実施形態２のミラー波面計測手段の構成例を示す図。
【図１２】他の実施形態２のウエハステージの斜視図。
【図１３】他の実施形態２のミラー波面計測手段の構成例を示す図。
【図１４】他の実施形態３のミラー波面計測手段の構成例を示す図。
【図１５】他の実施形態３のウエハステージの斜視図。
【図１６】他の実施形態３のミラー波面計測手段の構成例を示す図。
【図１７】他の実施形態４のミラー波面計測手段の構成例を示す図。
【図１８】他の実施形態５のミラー波面計測手段の構成例を示す図。
【図１９】従来の露光装置の全体図。
【図２０】従来の露光装置における光源の詳細図。
【図２１】従来の投影系ミラーの構成例を示す図。
【図２２】従来の投影系ミラーの構成例を示す図。
【符号の説明】
【００６２】
１  励起レーザー
２  光源発光部
２A  光源
２Aa  光源ミラー
２Ab  Xe（液化、噴霧、ガス）
２Ae  ノズル
３  真空チャンバー
４  真空ポンプ
５  露光光導入部
５A〜５D、照明系ミラー
５E  ミラー鏡筒
５F  ミラー支持体
６  レチクルステージ
６A  原版
７  縮小投影ミラー光学系
７A〜７D  投影系ミラー
７F〜７H  切り欠き
７J  ミラー支持アクチュエーター
７K  X軸駆動ピエゾ
７L  Y軸駆動ピエゾ
７M  Z軸駆動ピエゾ
７KK  XY与圧手段
７LL  XY駆動コマ支持
７MM  XY駆動コマ
７MMM  駆動テーブル
７N  ミラー計測レーザー干渉計光軸XA
７P  ミラー計測レーザー干渉計光軸XB+ωY
７Q  ミラー計測レーザー干渉計光軸XC
７R  ミラー計測レーザー干渉計光軸YA
７S  ミラー計測レーザー干渉計光軸YB＋ωY
７T  ミラー計測レーザー干渉計光軸YC
７U  ミラー計測レーザー干渉計光軸ZA
７V  ミラー計測レーザー干渉計光軸ZB
７W  ミラー計測レーザー干渉計光軸ZC
８  ウエハステージ
８A  ウエハ
９  レチクルステージ支持体
１０  露光装置本体
１１  ウエハステージ支持体
１２  レチクルストッカー
１３  レチクルチェンジャー
１４  レチクルアライメントユニット
１５  レチクルアライメントスコープ
１６  ウエハストッカー
１７  ウエハ搬送ロボット
１８  ウエハメカプリアライメント温調機
１９  ウエハ送り込みハンド
２０〜２２  ゲートバルブ
２３  波面計測光源出射口
２４  波面計測受光センサー
３０  波面計測値演算回路
３１  ミラー補正駆動テーブル演算回路
３２  ミラー補正駆動手段
３３  ミラー計測手段
３４  波面計測受光センサー
３５  波面計測受光センサー駆動手段
３６  折り曲げミラー
３７  波面計測受光センサー＆XYZ駆動手段
３８  波面計測受光センサー支持台
３９  波面計測受光センサー
４０  波面計測受光センサー駆動手段
４１  波面計測光源出射口
４１A  波面計測光源光供給光ファイバー
４２  波面計測受光センサー
４３  波面計測受光センサー
４４  波面計測受光センサー駆動手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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