(57)【要約】【課題】優れた電磁波シールド性を有する銅箔によるパターンを使用し、透明化処理が不要であると共にパターン開口部に接着剤、基材フィルムの無い、可視光透過性に優れた電磁波シールド体およびその製造方法を提供する。【解決手段】セパレータ２４の片面に、銅箔２５を貼り合せ、この銅箔２５上に、接着剤層または粘着剤層２６を印刷してパターン形成し、銅箔２５エッチング液Ｅにより、接着剤層または粘着剤層２６から露出した銅箔２５の非パターン部である露出領域２７をエッチング除去した後、パターン化された接着剤層または粘着剤層２６及び銅箔層２５ａを透明ガラス２０Ａに転写し、電磁波シールド体３０を得るようにしている。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、該透明基板の片面にパターン形成された接着剤層または粘着剤層と、該接着剤層または粘着剤層上に直接または間接的に形成された銅箔層とからなることを特徴とする電磁波シールド体。
【請求項２】
再剥離可能なセパレータの片側に銅箔を貼り合せる工程と、該銅箔上に接着剤層または粘着剤層を印刷してパターン形成する工程と、該接着剤層または粘着剤層をレジスト層として露出した銅箔をエッチング除去する工程と、パターン化された銅箔層及び接着剤層または粘着剤層を透明基板に転写する工程と、を含むことを特徴とする電磁波シールド体の製造方法。
【請求項３】
接着剤層または粘着剤層の形成がスクリーン印刷法によるものであることを特徴とする請求項２記載の電磁波シールド体の製造方法。
【請求項４】
再剥離可能なセパレータの片側に銅箔を貼り合せる工程と、該銅箔上に感光性レジスト層を形成する工程と、該感光性レジスト層を露光後現像することにより所定のパターンを形成する工程と、該レジスト層から露出した銅箔をエッチング除去する工程と、透明基板に接着剤層または粘着剤層を形成する工程と、パターン化された銅箔層及びレジスト層を接着剤層または粘着剤層を形成した透明基板に転写する工程と、パターン化された銅箔層及びレジスト層から露出した接着剤層または粘着剤層を適当な溶媒により除去する工程と、を含むことを特徴とする電磁波シールド体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）、フィールドエミッションディスプレイ（以下、ＦＥＤという）等の表示画面から放射される電磁波をシールドする電磁波シールド体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーテレビには様々なタイプがあるが、近年、図１５に示すカラーのＰＤＰ１が注目されている。このＰＤＰ１は、発光部であるパネル本体（図示せず）と、このパネル本体の前面に装着されてパネル本体を保護すると共に、電磁波の遮蔽等の機能を持つ前面パネル２とを備え、周囲にフレーム３が装着され、視野角、応答速度、鮮明性に優れるという特徴を有している。
【０００３】
前面パネル２は、図１６に示すように、透明基板２０の表面に電磁波シールドフィルム２１が形成され、透明基板２０の裏面には近赤外線吸収層２３と無反射処理層２２とが順次積層されている。透明基板２０には、電磁波をシールドして周囲の電子・電気機器や人体等に対する悪影響を抑制防止する電磁波シールドフィルム２１が形成されるが、この電磁波シールドフィルム２１を形成する場合には、例えば透明な支持フィルム２１ｂに銅箔を貼り合せ、銅箔をエッチングしてパターン化して電磁波シールド層２１ａを形成した電磁波シールドフィルム２１とした後、ガラス等の透明基板２０の片面に貼り合せる方法が採用される（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２０００−３２３８９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の電磁波シールド体は、以上のように透明支持フィルムに接着剤を介して貼り合せた銅箔をエッチングすることでパターン形成して電磁波シールドフィルムとして使用されるが、これでは銅箔のエッチング除去された領域において、銅箔の有する凹凸が接着剤に転写されて残るので、このままでは不透明となるため、この凹凸を埋めて透明化する処理が必要となり、また、パターンの無い領域には、接着剤及び基材のフィルムが残留するので可視光線透過率を劣化させる要因となっていた。
【０００５】
本発明は上記に鑑みてなされたもので、優れた電磁波シールド性を有する銅箔によるパターンを使用し、透明化処理が不要であると共に、パターン開口部に接着剤、基材フィルムの無い、可視光透過性に優れた電磁波シールド体およびその製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明においては、上記課題を解決するための電磁波シールド体であって、透明基板と、該透明基板の片面にパターン形成された接着剤層または粘着剤層と、該接着剤層または粘着剤層上に直接または間接的に形成された銅箔層とからなることを特徴としている。
【０００７】
また、この製造方法であって、再剥離可能なセパレータの片側に銅箔を貼り合せる工程と、該銅箔上に接着剤層または粘着剤層を印刷してパターン形成する工程と、該接着剤層または粘着剤層をレジスト層として露出した銅箔をエッチング除去する工程と、パターン化された銅箔層及び接着剤層または粘着剤層を透明基板に転写する工程と、を含むことを特徴とするものであり、さらに、接着剤層または粘着剤層の形成がスクリーン印刷法によるものであることを特徴とする。
【０００８】
また、再剥離可能なセパレータの片側に銅箔を貼り合せる工程と、該銅箔上に感光性レジスト層を形成する工程と、該感光性レジスト層を露光後現像することにより所定のパターンを形成する工程と、該レジスト層から露出した銅箔をエッチング除去する工程と、透明基板に接着剤層または粘着剤層を形成する工程と、パターン化された銅箔層及びレジスト層を接着剤層または粘着剤層を形成した透明基板に転写する工程と、パターン化された銅箔層及びレジスト層から露出した接着剤層または粘着剤層を適当な溶媒により除去する工程と、を含むことを特徴とするものである。
【０００９】
ここで特許請求の範囲における透明基板としては、強化ガラスや半強化ガラスの他、歪みの問題を生じなければ、例えばアクリル基板等が使用される。この透明基板には、電磁波シールド層の他、無反射処理層や近赤外線吸収層を適宜形成することができる。接着剤層または粘着剤層、銅箔は、最終的には格子形、ストライプ形、その他幾何学模様等にパターン形成される。接着剤層または粘着剤層の導電性の有無については特に問うものではない。また、接着剤層または粘着剤層のパターン形成には、主にスクリーン印刷法を用いるが、オフセット印刷法等を用いることもできる。接着剤層または粘着剤層を予め透明基板に設ける場合には、ロールコータ、カーテンコータ、ダイコータ、スクリーン印刷等の方法により設けることができ、この際、銅箔のパターニングは、感光性レジストを使用するフォトリソ法を用いることができる。さらに、本発明に係る電磁波シールド体は、ＰＤＰの前面パネルの一部として使用されるが、なんらこれに限定されるものではない。例えば、ＦＥＤ等の他の機器に使用することができる。ＰＤＰには、ＤＣ型、ＡＣ型、ハイブリッド型等があるが、特に限定されるものではない。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、優れた電磁波シールド性を有する銅箔によるパターンを使用し、透明化処理が不要であると共に、パターン開口部に接着剤、基材フィルムの無い、可視光透過性に優れた電磁波シールド体を得ることができるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、図面を参照して本発明の好ましい実施形態を説明すると、本実施形態における電磁波シールド体の製造方法は図１ないし図５に示すように、セパレータ２４の片面に、銅箔２５を貼り合せ、この銅箔２５上に、接着剤層または粘着剤層２６を印刷してパターン形成し、エッチング液Ｅにより、接着剤層または粘着剤層２６から露出した銅箔２５の非パターン部である露出領域２７をエッチング除去した後、透明ガラス２０Ａに接着剤層または粘着剤層２６及び銅箔層２５ａを転写し、電磁波シールド体３０を得るようにしている。
【００１２】
また、このほかの実施形態として、図６ないし図１４に示すように、セパレータ２４の片面に、銅箔２５を貼り合せ、この銅箔２５上に、感光性レジスト層２９を形成し、フォトマスクＭを介して紫外線露光することにより紫外線照射部を現像液に対して不溶化させた後感光性レジスト層２９を現像して所定のパターンを形成し、該レジスト層から露出した銅箔の露出領域２７をエッチング除去し、透明ガラス２０Ａには予め接着剤層または粘着剤層２６を形成しておき、パターン化された銅箔層２５ａ及びレジスト層２９を接着剤層または粘着剤層２６を形成した透明基板に転写し、パターン化された銅箔層２５ａ及びレジスト層から露出した、接着剤層または粘着剤層を、適当な溶媒により除去して、電磁波シールド体３０を得るようにしている。
【００１３】
セパレータ２４は、例えばＰＥＴ、ＰＰ、ＰＥ、ＰＩ等の厚さ２５〜２５０μm程度のプラスチックフィルム基材に、再剥離可能なレベルの粘着剤を塗布した公知のものを使用可能である。
【００１４】
銅箔２５は、電解銅箔、圧延銅箔を問わず使用でき、厚さは３〜２０μmの範囲から選択することが好ましい。厚さが３μmを下回ると、取り扱いが困難となり、２０μmを超えると、細線のパターニングが困難となり透過性に優れる電磁波シールド体を得ることができない恐れがある。
【００１５】
銅箔の、感光性レジスト層、接着剤層または粘着剤層を形成する面は、これらの層との密着性を向上させるために粗面化処理を施すことが好ましく、通常「こぶ付け」と称される、メッキ法による粗面化処理を施すことができる。さらに、少なくとも最終的に電磁波シールド体として表示対前面にセットされた際に視聴者側となる面を、黒色化しておくことにより、乱反射による曇りを防止し、視認性の優れた表示体とすることができるが、接着剤層または粘着剤層を黒色とすることにより、銅箔自体の黒色化は省略することができる。
【００１６】
本発明に使用される接着剤層または粘着剤層は、常温または加熱状態で透明基板に加圧密着させたときに、転写可能なレベルの粘着性を有するものとし、一般的なアクリレート系粘着剤や、熱可塑性ポリマーを主成分とするホットメルト接着剤、加熱により流動性を発現し、その後硬化して接着性を示す熱硬化型の接着剤等を使用することができる。
【００１７】
前記接着剤層または粘着剤層は、電磁波シールド体として表示体前面にセットされた際に乱反射による曇りを防止し、視認性の優れた表示体とするため、染料、顔料等の着色剤を添加して黒色とすることが好ましい。またこのように接着剤層または粘着剤層を黒色とするとで、銅箔に擦り傷等の外観上の不具合が存在する場合に、該不具合を目立たなくすることができ、最終製品の歩留まりを向上させることができる。
【００１８】
接着剤層または粘着剤層を銅箔上に形成する方法としては、凹版オフセット印刷、スクリーン印刷等の方法が例示されるが、生産性、材料の選択範囲の広さの点からスクリーン印刷法を適用することが好ましい。
【００１９】
接着剤層または粘着剤層を透明基板側に形成する場合、パターン化された銅箔層及びレジスト層を転写した後に、露出した接着剤層または粘着剤層を除去する必要がある。作業性、無害性を考慮すると、接着剤層または粘着剤層の露出領域を除去するための溶媒としては酸性、中性、アルカリ性、温水を含む水系のものを使用することが好ましく、このような水溶性の樹脂バインダーとしては、ポリビニルアルコール、酸価８０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇ程度の酸ポリマー等が例示される。
【００２０】
本発明に使用される感光性レジスト層としては、市販の感光性樹脂、ドライフィルムレジストを使用することができ、ポジタイプ、ネガタイプを問わず使用することが可能である。ドライフィルムレジストを用いる場合は、ロールラミネータにより銅箔上に貼り合せることができ、溶液タイプのレジスト剤を使用する場合には、グラビアコータ、ブレードコータ等により銅箔上にコーティングしてレジスト層を形成することができる。
【００２１】
感光性レジスト層のパターニングは、マスクＭを介して紫外線を照射した後に、適宜の現像液Ｄにより現像することで達成される。図８においては便宜的にマスクＭと感光性レジスト層は間隔をあけて示したが、実作業としては減圧等により密着させて露光を行なうことが好ましい。
【００２２】
銅箔上に感光性レジスト層、接着剤層または粘着剤層のパターンを形成したら、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液等の、適宜のエッチング液Ｅにより銅箔の露出領域をエッチング除去し、銅箔をパターニングする。
【００２３】
透明ガラス２０Ａは、例えば強化されて耐熱性や透光性に優れる平面略矩形のガラス板からなる。この透明ガラス２０Ａは、例えば平坦なソーダライムガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等が使用される。透明ガラス２０Ａの厚さは、特に限定されるものではないが、重量、視認性や透光性の観点から薄い方が好ましいが、機械的強度を考慮し、０．０５〜５ｍｍ、好ましくは１．５〜３ｍｍ程度の厚さに形成される。
【００２４】
上記において、電磁波シールド体３０を製造する場合には、まず、セパレータ２４を用意し（図１参照）、このセパレータ２４の片面に銅箔２５を貼り合せ、この銅箔２５上に、スクリーン印刷法により接着剤層または粘着剤層２６をパターン形成する（図２参照）。
【００２５】
次いで、接着剤層または粘着剤層２６から露出した銅箔２５の露出領域２７をスプレーやディッピング等の方法による所定のエッチング液Ｅで除去（図３参照）し、銅箔２５が接着剤層または粘着剤層２４同様にパターン形成された中間体を形成する。こうして中間体を形成したら、透明ガラス２０Ａに位置合わせをして銅箔層２５ａを伴った接着剤層または粘着剤層２６を転写（図４参照）してセパレータ２４を取り除き、透光性の電磁波シールド体３０を得ることができる（図５参照）。
【００２６】
また、このほかの実施形態として、まず、セパレータ２４を用意し（図６参照）、このセパレータ２４の片面に銅箔２５を貼り合せ、この銅箔２５上に、感光性レジスト層２９を形成（図７参照）し、フォトマスクＭを介して紫外線露光する（図８参照）ことにより紫外線照射部を現像液Ｄに対して不溶化させた後、感光性レジスト層を現像して（図９参照）所定のパターンを形成する（図１０参照）。
【００２７】
次いで、レジスト層２９から露出した銅箔の露出領域２７をスプレーやディッピング等の方法による所定のエッチング液Ｅで除去（図１１参照）し、銅箔２５がレジスト層同様にパターン形成された中間体を形成する。
【００２８】
透明ガラス２０Ａには予め、ロールコータ、カーテンコータ等を用いて接着剤層または粘着剤層２６を形成しておき、上記中間体を接着剤層または粘着剤層２６を形成した透明ガラス２０Ａに転写（図１２参照）し、パターン化された銅箔層２５ａ及びレジスト層２９から露出した接着剤層または粘着剤層２６を、適当な溶媒Ｓによりスプレーやディッピング等の方法による所定の現像液で除去（図１３参照）し、電磁波シールド体３０Ａを得るようにしている（図１４参照）。
【００２９】
銅箔層２５ａにおけるパターンの線幅は、２〜４０μmの範囲から選択することが好ましい。これは、線幅が２μm未満の場合には電磁波シールド特性が劣化し、また、パターンの断線を招く恐れがあるという理由に基づき、逆に、線幅が４０μmを超える場合には、透光性を維持するために線間隔を広げる必要があり、透光性とシールド特性の両立が困難となるとともに、パターン自体が肉眼で認識可能となり、表示体の視認性を劣化させる恐れがあるからである。
【００３０】
電磁波シールド体３０、３０Ａを製造したら、透明ガラス２０Ａの裏面に近赤外線吸収層２３を透明の接着剤により接着し、さらにその上に無反射処理層２２を透明の接着剤により接着し、前面パネル２を得ることができる。無反射処理層２２は、必要なければ、適宜省略することができる。また、近赤外線吸収層２３と無反射処理層２２が形成されたフィルム材を貼り付けることも可能である。
【００３１】
上記によれば、電磁波シールド層として銅箔によるパターンを使用することで、優れた電磁波シールド特性を得ることができ、パターン開口部には接着剤、支持フィルムが無いため透明化処理が不要である上、可視光透過性に優れた電磁波シールド体３０、３０Ａを得ることができる。
【００３２】
また、接着剤層または粘着剤層２６を黒色とすることにより、電磁波シールド体３０が乱反射により曇ることがない。したがって、電磁波シールド体３０、３０Ａに求められる視認性を著しく向上させることができるとともに、銅箔に傷等が存在する場合においても、黒色の接着剤層または粘着剤層２６により傷等を目立たなくすることができ、製品歩留まりを向上させることが可能となる。
【実施例１】
【００３３】
セパレータとして、東洋インキ製造社製の耐熱再剥離フィルム「リオエルム  ＬＥ９５２」を使用し、この粘着面に、ジャパンエナジー社製の厚さ１２μmの電解銅箔「ＪＴＣ」のシャイニー面側を貼り合せた。
【００３４】
綜研化学社製アクリル系粘着剤「ＳＫダインＳＣ−１２０２」の固形分１００質量部に対し、黒色着色剤として黒鉛化カーボンを１０質量部添加してスクリーン印刷法により、上記銅箔２５の粗面化処理面側に黒色粘着剤層２６をパターン形成、１２０℃のＩＲ乾燥炉にて３分間乾燥を行なった。印刷に使用したスクリーンは、ＳＵＳ＃３８０のメッシュを使用し、乳剤厚さ１０μmで、５３０ｍｍ×９３０ｍｍの矩形領域に、線幅２０μm、ピッチ３００μm、バイアス１５°の格子状の開口パターンを有し、この外側全周に幅２５ｍｍのアース用電極部を形成するための開口部(内部の格子パターンと連通)を有するものとした。
【００３５】
次いで、エッチング液Ｅとして、４０％の塩化第二銅水溶液を用いて、スプレー法により銅箔の露出領域２７をエッチング除去して中間体を作製した後、厚さ２．５ｍｍ、縦５８２ｍｍ×横９８２ｍｍの半強化ソーダライムガラス（透明ガラス２０Ａ）にロールラミネータを用いて中間体を密着しながらセパレータ２４を剥離して銅箔層２５ａを伴った黒色粘着剤層２６を転写して、本発明の電磁波シールド体３０を得た。
【００３６】
得られた電磁波シールド体３０を、縦２０ｃｍ×横２０ｃｍに切り出し、アドバンテスト法によって、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの範囲の電磁波の減衰率（ｄＢ）を測定して、上記周波数範囲での電磁波シールド効果を評価したところ、全領域にわたって５０ｄＢを超える非常に優れる電磁波シールド性を示した。
【００３７】
可視光線（波長４００〜７００ｎｍ）の分光透過率を測定したところ、全領域にわたって８０%を超える非常に優れる透光性を示した。
【００３８】
電磁波シールドパターンを内側にして、ＰＤＰの前面パネルとして、パネル本体前面に５ｍｍの空隙を設けて設置したのち、表示画像の視認性を目視にて評価したところ、濃淡むらやメッシュが全く見られない上、コントラストが著しく高く、きわめて良好な画像が得られた。
【実施例２】
【００３９】
実施例１と同様に、セパレータ２４に銅箔２５を貼り合せた。
【００４０】
次いで、銅箔２５の粗面化処理面側に、ニチゴーモートン社製ネガタイプドライフィルムレジスト「ＮＩＴ−１５」を、ロールラミネータを用いて貼り合せ、５３０ｍｍ×９３０ｍｍの矩形領域に、線幅１５μm、ピッチ３００μm、バイアス１５°の格子状の透明パターンを有し、この外側全周に幅２５ｍｍのアース用電極部を形成するための透明部(内部の格子パターンと連通)を有するフィルムフォトマスクＭを介して、フレネルレンズタイプの平行光紫外線露光機を用いて、積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２で露光し、現像液Ｄとして、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液によりスプレー法で現像を行い、レジスト層２９をパターニングした。
【００４１】
次いで、エッチング液Ｅとして、４０％の塩化第二銅水溶液Ｅを用いて、スプレー法により銅箔の露出領域２７をエッチング除去して中間体を作製した。
【００４２】
実施例１と同様の透明ガラス２０Ａの片側全面に、アクリル基含有スチレン−無水マレイン酸共重合体系のアルカリ可溶性樹脂（酸価１０５ｍｇＫＯＨ／ｇ）と黒鉛化カーボンと溶剤とからなる黒色接着剤を用いて、ロールコータにより黒色接着剤層２６を形成し、ロールラミネータを用いて上記中間体を加熱密着しながらセパレータ２４を剥離して銅箔層２５ａを伴ったレジスト層を転写した。
【００４３】
溶媒Ｓとして、２．３８％のＴＭＡＨ水溶液によりスプレー法で、黒色接着剤層の露出領域を除去して、本発明の電磁波シールド体３０Ａを得た。
【００４４】
実施例１と同様に、得られた電磁波シールド体４０を、縦２０ｃｍ×横２０ｃｍに切り出し、アドバンテスト法によって、周波数０．１ＭＨｚ〜１ＧＨｚの範囲の電磁波の減衰率（ｄＢ）を測定して、上記周波数範囲での電磁波シールド効果を評価したところ、全領域にわたって５０ｄＢを超える非常に優れる電磁波シールド性を示した。
【００４５】
また、可視光線（波長４００〜７００ｎｍ）の分光透過率を測定したところ、全領域にわたって８０%を超える非常に優れる透光性を示した。
【００４６】
尚、電磁波シールドパターンを内側にして、ＰＤＰの前面パネルとして、パネル本体前面に５ｍｍの空隙を設けて設置したのち、表示画像の視認性を目視にて評価したところ、濃淡むらやメッシュが全く見られない上、コントラストが著しく高く、きわめて良好な画像が得られた。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態におけるセパレータを示す模式断面説明図である。
【図２】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態におけるセパレータに銅箔を貼り合せ、この銅箔上に接着剤層または粘着剤層をパターン形成した状態を示す模式断面説明図である。
【図３】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における銅箔の露出領域をエッチング液で除去する状態を示す模式断面説明図である。
【図４】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態におけるパターン化された銅箔層及び接着剤層または粘着剤層を透明ガラスに転写する状態を示す模式断面説明図である。
【図５】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における完成された電磁波シールド体を示す模式断面説明図である。
【図６】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態におけるセパレータを示す模式断面説明図である。
【図７】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態におけるセパレータに銅箔を貼り合せ、この銅箔上に感光性レジスト層を張り合わせた状態を示す模式断面説明図である。
【図８】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における感光性レジスト層を露光する状態を示す模式断面説明図である。
【図９】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における感光性レジスト層を現像する状態を示す模式断面説明図である。
【図１０】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における感光性レジスト層がパターン化された状態を示す模式断面説明図である。
【図１１】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における銅箔の露出領域をエッチング液で除去する状態を示す模式断面説明図である。
【図１２】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態におけるパターン化された銅箔層及びレジスト層を透明ガラスに転写する状態を示す模式断面説明図である。
【図１３】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における透明ガラス上に形成された接着剤層または粘着剤層の露出領域を溶媒により除去する状態を示す模式断面説明図である。
【図１４】本発明に係る電磁波シールド体の製造方法の実施形態における完成された電磁波シールド体を示す模式断面説明図である。
【図１５】プラズマディスプレイを示す全体斜視説明図である。
【図１６】前面パネルを示す模式断面説明図である。
【符号の説明】
【００４８】
１        ＰＤＰ
２        前面パネル
３        フレーム
２０      透明基板
２０Ａ    透明ガラス（透明基板）
２１      電磁波シールドフィルム
２１ａ    電磁波シールド層
２１ｂ    支持フィルム
２２      無反射処理層
２３      近赤外線吸収層
２４      セパレータ
２５      銅箔
２５ａ    銅箔層
２６      接着剤層または粘着剤層
２７      露出領域
２８      スプレー
２９      レジスト層
３０      電磁波シールド体
３０Ａ    電磁波シールド体
Ｄ        現像液
Ｅ        エッチング液
Ｓ        溶媒
ＵＶ      紫外線
【図１】
2005064280.tif 000003
【図２】
2005064280.tif 000004
【図３】
2005064280.tif 000005
【図４】
2005064280.tif 000006
【図５】
2005064280.tif 000007
【図６】
2005064280.tif 000008
【図７】
2005064280.tif 000009
【図８】
2005064280.tif 000010
【図９】
2005064280.tif 000011
【図１０】
2005064280.tif 000012
【図１１】
2005064280.tif 000013
【図１２】
2005064280.tif 000014
【図１３】
2005064280.tif 000015
【図１４】
2005064280.tif 000016
【図１５】
2005064280.tif 000017
【図１６】
2005064280.tif 000018