(57)【要約】【課題】  表示される画像の変更に要するコストを低減する。【解決手段】  表示パネル１は、基材１０の板面上に配列された複数の単位素子Ｕを有する。各単位素子Ｕは、第１電極１１および第２電極１２の間に介在するＯＬＥＤ素子１５を有する。複数の単位素子Ｕのうち所望の表示画像に応じて選択された画像構成素子Ｕ1には、基材１０の板面に垂直な方向からみて当該画像構成素子Ｕ1と重なるように、ＯＬＥＤ素子１５からの出射光の特性を変化させる光制御部が設けられている。各光制御部の光学的特性は表示画像の階調に応じて画像構成素子Ｕ1ごとに選定されている。【選択図】        図２
2005148475.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面状に配列された複数の単位素子であって第１電極および第２電極の間に介在する電気
光学素子を各々が有する複数の単位素子と、
前記単位素子の配列面に垂直な方向からみて前記複数の単位素子のうち一部の単位素子
と重なるように設けられて前記電気光学素子からの出射光の特性を変化させる光制御部と
を具備する電気光学装置。
【請求項２】
前記光制御部は、前記電気光学素子からの出射光の一部を透過させる光フィルタ層を有
する
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記光制御部は、照射光の一部を透過させて他の一部を反射させる第１および第２の半
透過反射層の間に、照射光を透過させる透光層を介挿してなる光干渉層を有する
請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記光制御部は、前記電気光学素子からの出射光を屈折させるレンズを備えたレンズ層
を有する
請求項１から３のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項５】
各々が前記単位素子と重なるように設けられた複数の前記光制御部のうち一の光制御部
の光学的特性と他の光制御部の光学的特性とは異なる
請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項６】
面状に配列された複数の単位素子であって第１電極および第２電極の間に介在する電気
光学素子を各々が有する複数の単位素子と、
前記単位素子の配列面に垂直な方向からみて前記各単位素子と重なるように設けられて
前記電気光学素子からの出射光の特性を変化させる複数の光制御部であって、一の光制御
部の光学的特性と他の光制御部の光学的特性とが異なる複数の光制御部と
を具備する電気光学装置。
【請求項７】
前記複数の光制御部の各々は、前記電気光学素子からの出射光の一部を透過させる光フ
ィルタ層を有し、
前記複数の光制御部のうち一の光制御部の光フィルタ層と他の光制御部の光フィルタ層
とは透過率が異なる
請求項５または６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記一の光制御部の光フィルタ層と前記他の光制御部の光フィルタ層とは膜厚が異なる
請求項７に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記一の光制御部の光フィルタ層と前記他の光制御部の光フィルタ層とは吸光係数が異
なる材料からなる
請求項７に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記複数の光制御部の各々は、照射光の一部を透過させて他の一部を反射する第１およ
び第２の半透過反射層の間に、照射光を透過させる透光層を介挿してなる光干渉層を有し
、
前記複数の光制御部のうち一の光制御部の光干渉層を構成する透光層と他の光制御部の
光干渉層を構成する透光層とは膜厚が異なる
請求項５または６に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
前記複数の光制御部の各々は、前記電気光学素子からの出射光を屈折させるレンズを備
えたレンズ層を有し、
前記複数の光制御部のうち一の光制御部のレンズ層のレンズと他の光制御部のレンズ層
のレンズとは光学的特性が異なる
請求項５または６に記載の電気光学装置。
【請求項１２】
前記一の光制御部のレンズ層のレンズと前記他の光制御部のレンズ層のレンズとは焦点
距離が異なる
請求項１１に記載の電気光学装置。
【請求項１３】
前記一の光制御部のレンズ層と前記他の光制御部のレンズ層とは屈折率の異なる材料か
らなる
請求項１１に記載の電気光学装置。
【請求項１４】
導電性材料により形成されて前記複数の単位素子のうち１以上の単位素子における前記
第１電極と前記第２電極との間に介在する抵抗層
を具備する請求項１から１３のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項１５】
前記複数の単位素子のうち１以上の単位素子における前記第１電極と前記第２電極とを
電気的に絶縁させる絶縁層
を具備する請求項１から１４のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項１６】
前記複数の単位素子のうち１以上の単位素子における前記第１電極と前記第２電極との
間に介在するように設けられ、前記単位素子の配列面に垂直な方向からみて前記電気光学
素子の一部と重なる部分絶縁層
を具備する請求項１から１５のいずれかに記載の電気光学装置。
【請求項１７】
請求項１から１６のいずれかに記載の電気光学装置を表示装置として備えた電子機器。
【請求項１８】
第１電極および第２電極の間に介在する電気光学素子を各々が有する複数の単位素子を
平板状の基材の板面上に形成する工程と、
前記電気光学素子からの出射光の特性を変化させる光制御部を、前記基材の板面に垂直
な方向からみて前記複数の単位素子のうち一部の単位素子と重なるように形成する工程と
を有する電気光学装置の製造方法。
【請求項１９】
第１電極および第２電極の間に介在する電気光学素子を各々が有する複数の単位素子を
平板状の基材の板面上に形成する工程と、
前記電気光学素子からの出射光の特性を変化させる複数の光制御部の各々を前記単位素
子の配列面に垂直な方向からみて前記各単位素子と重なるように形成する工程であって、
これらの光制御部のうち一の光制御部の光学的特性と他の光制御部の光学的特性とが異な
るように前記複数の光制御部を形成する工程と
を有する電気光学装置の製造方法。
【請求項２０】
前記光制御部を形成する工程においては、光吸収性を有する物質を含む液滴を吐出口か
ら吐出して当該液滴を前記基材上に着弾させることにより、前記電気光学素子からの出射
光の一部を透過させる光フィルタ層を前記光制御部として形成する
請求項１８または１９に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項２１】
前記光制御部を形成する工程においては、光透過性を有する物質を含む液滴を吐出口か
ら吐出し、照射光の一部を透過させて他の一部を反射させる第１半透過反射層の表面上に
当該液滴を着弾させることによって透光層を形成する一方、当該透光層を挟んで前記第１
半透過反射層と対向する第２半透過反射層を形成することにより、前記第１半透過反射層
と前記透光層と前記第２半透過反射層とからなる光干渉層を前記光制御部として形成する
請求項１８または１９に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項２２】
前記光制御部を形成する工程においては、光透過性を有する物質を含む液滴を吐出口か
ら吐出して当該液滴を前記基材上に着弾させることにより、前記電気光学素子からの出射
光を屈折させるレンズを備えたレンズ層を前記光制御部として形成する
請求項１８または１９に記載の電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電流の供給や電圧の印加といった電気的な作用を輝度（階調）や透過率の変
化といった光学的な作用に変換する電気光学素子を用いて画像を表示する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光ダイオード（以下「ＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）」という）素
子などの電気光学素子を用いて画像を表示する装置は、マトリクス状に配列された画素に
より多様な画像を表示するドットマトリクス型と、特定の画像を固定的に表示するセグメ
ント型とに大別される。このうちセグメント型の電気光学装置においては、例えば特許文
献１に示されるように、表示されるべき画像の形状となるようにパターニングされた電極
によって電気光学素子が駆動される。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−２４４０８１（段落００２７および第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、このセグメント型の電気光学装置においては、電極をパターニングする
ためのフォトマスクを表示されるべき画像ごとに作成する必要があるため、画像が異なる
電気光学装置を新たに製造するために多大なコストを要するという問題がある。本発明は
、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、表示される画像の変更に要
するコストを低減することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この目的を達成するために、本発明に係る電気光学装置の第１の特徴は、面状に配列さ
れた複数の単位素子であって第１電極および第２電極の間に介在する電気光学素子を各々
が有する複数の単位素子と、単位素子の配列面に垂直な方向からみて複数の単位素子のう
ち一部の単位素子と重なるように設けられて電気光学素子からの出射光の特性を変化させ
る光制御部とを具備することにある。本発明における電気光学素子とは、電流の供給や電
圧の印加といった電気的な作用を輝度（発光量）や透過率といった光学的特性の変化に変
換するための素子である。電気光学素子の典型的な例は、有機ＥＬ（Electro Luminescen
t）や発光ポリマーなどの有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）素子である。なお、本発明に
おける電気光学素子は、有機発光ダイオードに代表される自発光型（すなわち自らが光を
発する性質を有する）の素子である必要は必ずしもなく、背面側からの入射光を透過させ
る非自発光型の素子（例えば液晶）であってもよい。
【０００６】
この構成においては、面状に配列された複数の単位素子のなかから選択された一部の単
位素子と重なるように選択的に光制御部が設けられる。この構成のもとでは、光制御部が
設けられた単位素子の電気光学素子から出射して当該光制御部を透過したうえで観察者に
視認される光の特性と、光制御部が設けられていない単位素子の電気光学素子から出射し
て光制御部を透過することなく観察者に視認される光の特性とは異なる。したがって、例
えば、特定の画像を構成する画素（ドット）に相当する単位素子に対してのみ選択的に光
制御部を設ければ、その画像が観察者によって視認されることとなる。このように、所望
の画像に応じて選択された単位素子に光制御部を設けることによって当該画像の表示が実
現されるから、異なる画像を表示する電気光学装置を製造する場合であっても、各電極を
画像に応じた形状にパターニングするためのフォトマスクを画像ごとに作成する必要はな
い。したがって、本発明によれば、それぞれ異なる画像を表示する電気光学装置を製造す
るために要するコストを低減することができる。
【０００７】
本発明における光制御部としては、例えば、光フィルタ層や光干渉層、あるいはレンズ
層が採用され得る。このうち光フィルタ層は、電気光学素子からの出射光の一部を選択的
に透過させる層である。また、光干渉層は、照射光の一部を透過させて他の一部を反射さ
せる第１および第２の半透過反射層の間に、照射光を透過させる透光層を介挿してなる層
である。一方、レンズ層は、電気光学素子からの出射光を屈折させるレンズを備えた層で
ある。これらの光制御部によれば、電気光学素子から出射して観察者に到達する光量を、
光制御部が設けられていない単位素子の電気光学素子から出射して観察者に到達する光量
と異ならせることができるから、光制御部が設けられた単位素子の配列の態様に応じた所
望の画像が表示される。なお、本発明における光制御部の構成は、これらの態様のいずれ
かひとつが選択的に採用されたものに限られない。例えば、光フィルタ層、光干渉層、レ
ンズ層、およびその他の構成を有する層のなかから選択された２以上の層を積層すること
によって光制御部を構成してもよい
【０００８】
本発明の望ましい態様において、各々が単位素子と重なるように設けられた複数の光制
御部のうち一の光制御部の光学的特性と他の光制御部の光学的特性とは異なる。このよう
に光制御部ごとに光学的特性を適宜に選定すれば、各単位素子の光制御部を透過して観察
者に到達する光の特性（例えば光量）を当該単位素子ごとに異ならせることができるから
、光制御部が設けられた単位素子により構成される画像を複数の階調にて表示することが
できる。
【０００９】
本発明に係る電気光学装置においては、複数の単位素子のうち一部の単位素子に選択的
に光制御部を設ける構成のほか、総ての単位素子の各々に光制御部を設けたうえで各単位
素子の光制御部の特性を異ならせる構成も採用され得る。すなわち、本発明に係る電気光
学装置の第２の特徴は、面状に配列された複数の単位素子であって第１電極および第２電
極の間に介在する電気光学素子を各々が有する複数の単位素子と、単位素子の配列面に垂
直な方向からみて各単位素子と重なるように設けられて電気光学素子からの出射光の特性
を変化させる複数の光制御部であって、一の光制御部の光学的特性と他の光制御部の光学
的特性とが異なる複数の光制御部とを具備することにある。この構成によれば、各単位素
子の光制御部ごとに光学的特性を適宜に異ならせることによって画像を複数の階調にて表
示することができる。この構成においても、それぞれ異なる画像（複数の階調からなる画
像）を表示する電気光学装置ごとにフォトマスクを作成する必要はないから製造コストが
低減される。
【００１０】
上記第１の特徴に係る電気光学装置のうち光制御部ごとに光学的特性が異なる電気光学
装置や上記第２の特徴に係る電気光学装置の光制御部としては、例えば上述した光フィル
タ層や光干渉層、あるいはレンズ層が採用され得る。このうち光フィルタ層を採用した構
成のもとでは、複数の光制御部のうち一の光制御部の光フィルタ層と他の光制御部の光フ
ィルタ層とで光透過率が異なる。この構成によれば、各単位素子の光制御部を透過して観
察者に到達する光量を単位素子ごとに異ならせることができるから、画像を複数の階調に
て表示することができる。なお、光フィルタ層の透過率を光制御部ごとに異ならせるため
の構成としては、一の光制御部の光フィルタ層と他の光制御部の光フィルタ層とで膜厚を
異ならせた構成や、一の光制御部の光フィルタ層と他の光制御部の光フィルタ層とが吸光
係数の異なる材料によって形成された構成が考えられる。もっとも、これ以外の構成によ
って各光フィルタ層の光透過率を異ならせてもよいことはもちろんである。
【００１１】
また、光制御部として光干渉層が採用された構成のもとでは、一の光制御部の光干渉層
と他の光制御部の光干渉層とで透光層の膜厚が異なる。さらに、光制御部としてレンズ層
が採用された構成のもとでは、一の光制御部のレンズ層のレンズと他の光制御部のレンズ
層のレンズとで光学的特性が異なる。これらの構成によっても、各単位素子の光制御部を
透過して観察者に到達する光量を単位素子ごとに異ならせることができるから、画像を複
数の階調にて表示することができる。このうちレンズ層を用いた場合に各単位素子ごとに
光学的特性を異ならせる構成としては、一の光制御部のレンズ層のレンズと他の光制御部
のレンズ層のレンズとで焦点距離を異ならせた構成や、一の光制御部のレンズ層と他の光
制御部のレンズ層とが屈折率の異なる材料によって形成された構成が考えられる。なお、
本発明における光制御部の構成は、これらの態様のいずれかひとつが選択的に採用された
ものに限られない。例えば、光フィルタ層、光干渉層、レンズ層、およびその他の構成を
有する層のなかから選択された２以上の層を積層することによって光制御部を構成しても
よい。
【００１２】
本発明の他の態様において、導電性材料により形成されて複数の単位素子のうち１以上
の単位素子における第１電極と第２電極との間に介在する抵抗層が設けられる。この態様
によれば、各単位素子ごとに第１電極と第２電極との間の抵抗値を異ならせることによっ
て電気光学素子の出射光量を単位素子ごとに適宜に調整することができるから、より多様
な画像の表示が実現される。また、他の態様においては、複数の単位素子のうち１以上の
単位素子における第１電極と第２電極とを電気的に絶縁させる絶縁層が設けられる。この
態様によれば、絶縁層の有無に応じて電気光学素子からの出射光の有無を単位素子ごとに
選定することができるから、より多様な画像の表示が実現される。さらに他の態様におい
ては、単位素子の配列面に垂直な方向からみて電気光学素子の一部と重なるように、複数
の単位素子のうち１以上の単位素子における第１電極と第２電極との間に介在する部分絶
縁層が設けられる。この態様によれば、部分絶縁層の有無および電気光学素子の光出射面
に対する当該部分絶縁層の占有面積に応じて電気光学素子からの出射光量を単位素子ごと
に適宜に選定することができるから、より多様な画像の表示が実現される。
【００１３】
なお、本発明に係る電気光学装置において、第１電極および第２電極の各々は、複数の
単位素子にわたって連続する単一の電極であってもよいし、単位素子ごとに別個に設けら
れた複数の電極であってもよい。電気光学素子についても同様であり、複数の単位素子に
わたって連なるように設けられていてもよいし、単位素子ごとに独立して設けられていて
もよい。第１電極や第２電極が複数の単位素子にわたって連続する構成や、電気光学素子
が複数の単位素子にわたって連続する構成であっても、各単位素子における光制御部の有
無や各単位素子の光制御部の特性を適宜に選定することにより、多階調からなる高品位な
表示が実現される。また、第１電極および第２電極の少なくとも一方を単位素子ごとに設
けられた複数の電極とした場合には、各単位素子ごとに異なる電流または電圧が電気光学
素子に供給され得る。このように各単位素子ごとに電気光学素子への電気的作用を異なら
せれば電気光学素子からの出射光量を適宜に選定することができるから多様な画像の表示
が実現される。
【００１４】
本発明に係る電気光学装置は、携帯電話機など各種の電子機器の表示装置として用いら
れる。この表示装置の表示領域のうち一部の領域のみに本発明が適用された構成も好適で
ある。すなわち、表示領域のうち第１の領域においてはドットマトリクス型の表示方式に
よって種々の画像が表示される一方、第１領域とは異なる第２領域においては本発明の適
用によって固定的な画像が表示される。
【００１５】
また、本発明に係る製造方法の第１の特徴は、第１電極および第２電極の間に介在する
電気光学素子を各々が有する複数の単位素子を平板状の基材の板面上に形成する工程と、
電気光学素子からの出射光の特性を変化させる光制御部を、基材の板面に垂直な方向から
みて複数の単位素子のうち一部の単位素子と重なるように形成する工程とを有することに
ある。この方法によれば、複数の単位素子のうち一部の単位素子と重なるように選択的に
光制御部を形成することによって所望の画像を表示する電気光学装置が得られるから、表
示すべき画像ごとに異なるフォトマスクを用意する必要はない。したがって、本発明によ
れば、それぞれ異なる画像を表示する電気光学装置を製造するコストを低減することがで
きる。
【００１６】
さらに、本発明に係る製造方法の第２の特徴は、第１電極および第２電極の間に介在す
る電気光学素子を各々が有する複数の単位素子を平板状の基材の板面上に形成する工程と
、電気光学素子からの出射光の特性を変化させる複数の光制御部の各々を単位素子の配列
面に垂直な方向からみて各単位素子と重なるように形成する工程であって、これらの光制
御部のうち一の光制御部の光学的特性と他の光制御部の光学的特性とが異なるように複数
の光制御部を形成する工程とを有することにある。この方法によれば、各単位素子に重ね
られる光制御部の光学的特性を適宜に選定することによって所望の画像を表示する電気光
学装置が得られるから、表示すべき画像ごとに異なるフォトマスクを用意する必要はない
。したがって、本発明によれば、それぞれ異なる画像を表示する電気光学装置を製造する
コストを低減することができる。
【００１７】
なお、上記第１および第２の特徴に係る製造方法においては、各工程が実施される順番
は任意である。例えば、複数の単位素子を形成した後に光制御部を形成してもよいし、光
制御部を形成した後に複数の単位素子を形成してもよい。あるいは、各単位素子を形成す
る第１電極、第２電極および電気光学素子を形成する各工程の間に光制御部を形成する工
程を実施してもよい。
【００１８】
これらの製造方法のうち光制御部を形成する工程においては液滴吐出法が用いられる。
具体的には、光吸収性を有する物質を含む液滴を吐出口から吐出して当該液滴を基材上に
着弾させることにより、電気光学素子からの出射光の一部を透過させる光フィルタ層が光
制御部として形成される。また、光透過性を有する物質を含む液滴を吐出口から吐出し、
照射光の一部を透過させて他の一部を反射させる第１半透過反射層の表面上に当該液滴を
着弾させることによって透光層を形成する一方、当該透光層を挟んで第１半透過反射層と
対向する第２半透過反射層を形成することにより、第１半透過反射層と透光層と第２半透
過反射層とからなる光干渉層が光制御部として形成される。さらに、光透過性を有する物
質を含む液滴を吐出口から吐出して当該液滴を基材上に着弾させることにより、電気光学
素子からの出射光を屈折させるレンズを備えたレンズ層が光制御部として形成される。こ
のように液滴吐出法を用いれば、各光制御部をフォトリソグラフィ技術などを用いて形成
する場合と比較して製造コストを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
図面を参照しながら本発明を実施するための具体的な形態を説明する。以下では、ＯＬ
ＥＤ素子の一例である有機エレクトロルミネッセンス素子を電気光学素子として用いた電
気光学装置に本発明が適用された形態を例示するが、本発明の適用され得る範囲をこの装
置に限定する趣旨ではない。また、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認
識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異
ならせてある。
【００２０】
＜Ａ：第１実施形態＞
＜Ａ−１：電気光学装置の構成＞
図１は、本実施形態に係る電気光学装置の構成を示す平面図である。同図に示されるよ
うに、この電気光学装置１００は表示パネル１と電源回路８とを有する。図２は、表示パ
ネル１の構成を示す断面図である。図１および図２に示されるように、表示パネル１はガ
ラスやプラスチックなどからなる平板状またはフィルム状の基材１０を有する。本実施形
態に係る表示パネル１は、後述するＯＬＥＤ素子から発せられた光が基材１０とは反対側
（図２における上側）に出射されるトップエミッション型のパネルである。
【００２１】
図１に示されるように、基材１０の板面上には複数の単位素子ＵがＸ方向およびＹ方向
にわたってマトリクス状に配列されている。基材１０の板面に垂直な方向からみると、こ
れらの単位素子Ｕの各々は略同一の矩形状である。図２に示されるように、各単位素子Ｕ
は、基材１０の板面上に設けられた第１電極１１と、第１電極１１の表面上に設けられた
ＯＬＥＤ素子１５と、ＯＬＥＤ素子１５を挟んで第１電極１１に対向する第２電極１２と
により構成される。第１電極１１および第２電極１２の各々は、複数の単位素子Ｕにわた
って連続する単一の電極である。このうち第１電極１１は、ＯＬＥＤ素子１５の陽極とし
て機能する電極であり、アルミニウムや銀などの単体金属やこれらの金属を主成分とする
合金など光反射性を有する導電性材料によって形成されている。この構成によれば、ＯＬ
ＥＤ素子１５から観察側とは反対側（図２における下側）に発せられた光を第１電極１１
によって観察側に反射させることによって表示画像の明るさを向上させることができる。
【００２２】
図２に示されるように、第１電極１１が設けられた基材１０の板面上には隔壁１３が設
けられている。この隔壁１３は、Ｘ方向またはＹ方向に相互に隣接する単位素子Ｕの各間
隙と重なるように格子状に設けられて基材１０の板面から突出する。換言すると、複数の
単位素子Ｕの各々は隔壁１３によって区分されていると捉えることができる。電気光学素
子たるＯＬＥＤ素子１５は、基材１０の板面上にあって隔壁１３により四方を囲まれた空
間（窪み）に入り込むように設けられている。したがって、ＯＬＥＤ素子１５は単位素子
Ｕごとに独立している。各ＯＬＥＤ素子１５は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子
輸送層および電子注入層が基材１０側からみてこの順番に積層された構造を有する。第２
電極１２は隔壁１３およびＯＬＥＤ素子１５が設けられた基材１０の板面を覆う電極であ
り、ＯＬＥＤ素子１５の陰極として機能する。本実施形態における第２電極１２は、イン
ジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）などの光透過性を有する導電性材料により
形成されている。第２電極１２が形成された基材１０の板面はその全域にわたり封止層１
８によって覆われている。この封止層１８は、基材１０上に形成された第２電極１２など
の各要素を保護するための層である。
【００２３】
第１電極１１および第２電極１２は電源回路８に接続されている。この電源回路８は第
１電極１１および第２電極１２に電力を供給するための回路である。さらに詳述すると、
電源回路８は、第１電極１１に対して電源電圧の高位側を印加する一方、第２電極１２に
対して電源電位の低位側（接地電位）を印加する。このように第１電極１１と第２電極１
２との間に電圧が印加されると各単位素子ＵのＯＬＥＤ素子１５に電流が流れて当該ＯＬ
ＥＤ素子１５が発光する。
【００２４】
本実施形態に係る電気光学装置１００は特定の画像（以下「対象画像」という）を固定
的に表示する装置である。この表示を実現するために、マトリクス状に配列された複数の
単位素子Ｕは、図３に示されるように、対象画像を構成する各ドットに相当するものとし
て選択された単位素子Ｕ（以下では特に「画像構成素子Ｕ1」という）と、これ以外の単
位素子Ｕ（すなわち対象画像を構成する各ドット以外の単位素子Ｕである。以下では特に
「非構成素子Ｕ0」という）とに区分される。例えば、文字「ＡＢＣ」が対象画像とされ
た場合を例示する図３においては、文字「Ａ」、「Ｂ」および「Ｃ」の各々を構成する単
位素子Ｕが画像構成素子Ｕ1に分別され、それ以外の単位素子Ｕ（すなわち文字「ＡＢＣ
」の背景となるドットに相当する単位素子Ｕ）が非構成素子Ｕ0に分別される。
【００２５】
総ての単位素子Ｕのうち各画像構成素子Ｕ1にはＯＬＥＤ素子１５からの出射光の特性
を変化させる光制御部としての光フィルタ層２１が設けられる一方、各非構成素子Ｕ0に
光フィルタ層２１は設けられていない。この光フィルタ層２１は、ＯＬＥＤ素子１５から
の出射光（ＯＬＥＤ素子１５の発光層から発せられて観察側に向かう光、および第１電極
１１にて反射したうえでＯＬＥＤ素子１５を透過して観察側に向かう光）の一部を選択的
に観察側に透過させる膜体であり、図２に示されるように、基材１０の板面に垂直な方向
からみて画像構成素子Ｕ1のＯＬＥＤ素子１５と重なるように第２電極１２の表面上に形
成される。この構成においては、画像構成素子Ｕ1のＯＬＥＤ素子１５から出射して光フ
ィルタ層２１を経由したうえで観察側に向かう光量は、光フィルタ層２１によって光量の
一部が吸収される分だけ、非構成素子Ｕ0のＯＬＥＤ素子１５から出射して観察側に向か
う光量よりも少なくなる。したがって、この出射光量の差は観察者によって階調（輝度）
の差と認識され、この結果として対象画像が表示されることとなるのである。
【００２６】
さらに、各画像構成素子Ｕ1における光フィルタ層２１の光学的特性は、対象画像を構
成する各ドットの階調に応じて異なる。より具体的には、各ＯＬＥＤ素子１５からの出射
光に対する光フィルタ層２１の光透過率（すなわち入射光量に対する出射光量の割合）は
、対象画像を構成する各ドットの階調に応じて適宜に選定されている。例えば、図３にお
いては対象画像たる各文字「Ａ」、「Ｂ」および「Ｃ」の階調がハッチングの疎密（ハッ
チングが密であるほど階調が低い（暗い））によって示されている。この場合を例に採る
と、文字「Ａ」を構成する画像構成素子Ｕ1における光フィルタ層２１（文字「Ａ」に対
応する光フィルタ層２１）の光透過率は文字「Ｂ」に対応する光フィルタ層２１の光透過
率よりも高く、文字「Ｂ」に対応する光フィルタ層２１の光透過率は文字「Ｃ」に対応す
る光フィルタ層２１の光透過率よりも高くなっている。このため、図３に示されるように
、文字「Ａ」は文字「Ｂ」よりも明るい階調（ただし、非構成素子Ｕ0と比べると暗い階
調）にて表示され、文字「Ｂ」は文字「Ｃ」よりも明るい階調にて表示されることとなる
。このように各光フィルタ層２１の光透過率を異ならせるための構成としては、各光フィ
ルタ層２１の膜厚を異ならせる構成と、吸光係数が異なる材料によって各光フィルタ層２
１を形成した構成とが考えられる。このうち前者に係る構成においては、光フィルタ層２
１の膜厚を大きくするほど画像構成素子Ｕ1の表示階調が暗くなり、後者に係る構成にお
いては、光フィルタ層２１を吸光係数が大きい材料によって形成するほど画像構成素子Ｕ
1の表示階調が暗くなる。
【００２７】
以上に説明したように、本実施形態においては、光フィルタ層２１の有無に応じて対象
画像の形状が任意に選定されるとともに、光フィルタ層２１の光透過率に応じて対象画像
の各部の階調が任意に選定される。したがって、画素ごとに薄膜トランジスタなどのスイ
ッチング素子が設けられたアクティブマトリクス型の電気光学装置１００と比較して極め
て簡易な構成であるにも拘わらず、高品位かつ高精細な表示が実現される。
【００２８】
＜Ａ−２：電気光学装置の製造方法＞
次に、上述した電気光学装置１００の製造方法を説明する。
まず、図４（ａ）に示されるように、基材１０の板面上に第１電極１１が形成される。
より具体的には、アルミニウム、マグネシウム、リチウムまたはカルシウムといった単体
金属やこれらを主成分とした合金など光反射性を有する導電性材料からなる薄膜をスパッ
タリングなどの成膜技術によって形成した後、この膜膜に対してフォトリソグラフィ技術
およびエッチング技術を用いたパターニング処理（すなわち薄膜の周縁部を除去する処理
）を施すことによって第１電極１１が得られる。なお、各々が異なる材料からなる複数の
層を積層することによって第１電極１１を形成してもよい。例えば、Ｌｉ２ＯとＡｌとの
積層や、ＬｉＦとＡｌとの積層、あるいはＭｇＦ２とＡｌとの積層などにより第１電極１
１が形成され得る。第１電極１１はＯＬＥＤ素子５１の陽極として機能するため、仕事関
数は４．５ｅＶ以上であることが望ましく、さらに好ましくは４．５ｅＶ以上かつ５．５
ｅＶ以下とされる。
【００２９】
続いて、図４（ｂ）に示されるように、第１電極１１が形成された基材１０の板面上に
隔壁１３が形成される。具体的には、ポリイミドやアクリル、ポリアミドといった感光性
の有機材料を基材１０上に塗布した後に加熱により硬化させ、この有機膜に対して所定の
フォトマスクを用いた露光と現像とを施すことによって格子状の隔壁１３が得られる。さ
らに、隔壁１３に対してＣＦ４、ＳｉＦ４またはＢＦ３などのガスを反応ガスとしたプラ
ズマ処理が施されて、その表面が撥液性（例えば撥水性）を呈するように改質される。な
お、隔壁１３の表面を改質するのではなく、隔壁１３の形成に用いられる有機材料に弗化
物を添加することによって隔壁１３自体が撥液性を呈するようにしてもよい。
【００３０】
次いで、図４（ｃ）に示されるように、隔壁１３により区画された多数の領域（以下「
単位領域」という）Ａuの各々にＯＬＥＤ素子１５が形成される。この形成には液滴吐出
法が用いられる。すなわち、図４（ｃ）に示されるように、各単位領域Ａuの上方に吐出
口５１を移動させたうえで、この吐出口５１から電気光学物質を含む液滴を吐出して基材
１０の板面上に着弾させる。これを総ての単位領域Ａuについて繰り返したうえで乾燥さ
せることによってＯＬＥＤ素子１５が得られる。なお、ＯＬＥＤ素子１５の正孔輸送層は
、例えば、ポリチオフェン誘導体やポリピロール誘導体、あるいはこれらにドーピングを
施した材料により形成される。より具体的には、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェ
ンを溶媒としてのポリスチレンスルフォン酸に分散させたうえで水を加えた分散液（ＰＥ
ＤＯＴ／ＰＳＳの分散液）が吐出口５１から吐出されて正孔輸送層が形成される。また、
ＯＬＥＤ素子１５の発光層は、例えば、ポリフルオレン誘導体（ＰＶ）、ポリパラフェニ
レンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘
導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリジア
ルキルフルオレン（ＰＤＡＦ）、ポリフルオレンベンゾチアジアゾール（ＰＦＢＴ）、ポ
リアルキルチオフェン（ＰＡＴ）、あるいはポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）など
公知である各種の材料により形成される。また、これらの高分子材料に対し、ペリレン系
色素、クマリン系色素またはローダミン系色素といった高分子材料や、ルブレン、ペリレ
ン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、ク
マリン６またはキナクリドンといった低分子材料をドープした材料によっても発光層は形
成され得る。
【００３１】
上述したように隔壁１３の表面は撥液性を呈するから、図４（ｃ）の工程においてＯＬ
ＥＤ素子１５となる液滴は、隔壁１３により囲まれた空間（窪み）内に効率よく滞留する
。なお、隔壁１３により仕切られた空間の底部に液滴を効率よく滞留させるという観点か
らすると、親液性を呈する第１層と撥液性を呈する第２層とを基材１０側からみてこの順
番に積層することによって隔壁１３を形成する方法も好適である。あるいは、ＳｉＯ２な
どの無機材料からなる第１層とアクリルやポリイミドなどの有機材料からなる第２層とを
基材１０側からみてこの順番に積層することによって隔壁１３を形成し、この隔壁１３に
対してプラズマ処理を施す方法も採用され得る。この方法によれば、第１層と第２層とで
表面の改質の程度が異なる（第２層が第１層よりも高い撥液性を呈する）から、液滴を効
率的に滞留させることができる。
【００３２】
次に、図４（ｄ）に示されるように、基材１０の全面を覆うように（すなわち隔壁１３
とＯＬＥＤ素子１５とを覆うように）第２電極１２が形成される。より具体的には、イン
ジウム錫酸化物や酸化インジウム、酸化亜鉛系アモルファスなどの光透過性を有する導電
性材料からなる薄膜を真空蒸着やスパッタリングなどの成膜技術によって形成した後、フ
ォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いたパターニング処理により薄膜の周縁
部を除去することによって第２電極１２が得られる。第２電極１２はＯＬＥＤ素子５１の
陰極として機能するため、仕事関数は３．５ｅＶ以下であることが望ましい。
【００３３】
次に、図４（ｅ）に示されるように、隔壁１３により区画された多数の単位領域Ａuの
うち画像構成素子Ｕ1に対応する単位領域Ａuに対して選択的に光フィルタ層２１が形成さ
れる。この形成には液滴吐出法（インクジェット法）が用いられる。すなわち、図４（ｅ
）に示されるように、多数の単位領域Ａuのうち画像構成素子Ｕ1に対応する単位領域Ａu
の上方に吐出口５２を移動させたうえで、この吐出口５２から光吸収性を有する物質を含
有する液滴を吐出して単位領域Ａuに着弾させる。これを総ての画像構成素子Ｕ1について
繰り返したうえで乾燥させることによって光フィルタ層２１が得られる。上述したように
、各光フィルタ層２１の光透過率は、その膜厚や材料を適宜に選定することによって調整
される。膜厚に応じて各光フィルタ層２１の光透過率が調整される場合、各単位領域Ａu
に着弾する液滴の量（例えば吐出口５２から吐出される液滴量や液滴が吐出される回数）
は、光フィルタ層２１が対象画像の階調に応じた膜厚となるように適宜に選定される。例
えば、明るい階調に対応する光フィルタ層２１となる液滴は、これよりも暗い階調に対応
する光フィルタ層２１となる液滴よりも少ない量とされる。一方、材料の吸光係数に応じ
て各光フィルタ層２１の光透過率が調整される場合には、各単位領域Ａuに吐出される溶
液の種類（あるいは染料・顔料の含有量）は、光フィルタ層２１が対象画像の階調に応じ
た光透過率を呈するように適宜に選定される。
【００３４】
光フィルタ層２１は、例えば染料や顔料などの色材を含む樹脂材料によって形成される
。より具体的には、インジゴ系やアゾ系といった水溶性の染料が混合された樹脂材料や、
フタロシアニンやペリレンといった顔料が分散された樹脂材料によって光フィルタ層２１
が形成され得る。なお、水溶性を持たない色材や水に分散しにくい色材を用いる場合であ
っても、これらの色材の分子をバインディングポリマーによってコーティングしたうえで
溶媒と混合することによって、吐出口５２からの吐出に適した溶液を作成することができ
る。また、各種の色材に側鎖を形成することによって溶媒に対する溶解性を持たせてもよ
い。
【００３５】
また、吐出口５２から吐出される溶液にバインダ成分を添加してもよい。ここで、液滴
吐出法においては、吐出口５２からの吐出後に液滴の溶媒を除去する必要があるため、バ
インダ成分としては熱や光といったエネルギの作用によって硬化する物質（例えば感光性
樹脂や熱硬化型樹脂）を用いることが望ましい。これらの物質をバインダ成分として添加
すれば、吐出後の液滴に対して加熱または光照射を施すことによって溶媒を除去するとき
に、バインダ成分を硬化させて光フィルタ層２１が形成される。バインダ成分としては、
フェノール樹脂や尿素樹脂、エポキシ樹脂といった各種の熱硬化性樹脂材料や、ポリビニ
ルベンザルアセトフェノンなど各種の感光性（架橋）樹脂材料が採用され得る。また、ビ
ニル化合物などの材料を画素に塗布した後に重合開始剤を塗布することにより架橋させ、
これにより光フィルタ層２１を形成してもよい。
【００３６】
この後、図２に示されるように、基材１０の全面を覆うように封止層１８が形成される
。この封止層１８は、各種の無機化合物により形成されるものであり、好ましくは珪素化
合物、すなわち珪素窒化物や珪素酸窒化物、珪素酸化物などによって形成される。ただし
、これ以外の材料、例えばアルミナや酸化タンタル、酸化チタン、さらには他のセラミッ
クスなどによって封止層１８が形成されてもよい。このように封止層１８が無機化合物に
より形成されれば、特に第２電極１２が無機化合物により形成される場合に封止層１８と
第２電極１２との密着性が高まり、これにより封止層１８が欠陥のない緻密な層となって
酸素や水分に対するバリア性がより良好になる。
【００３７】
また、上述した各種の珪素化合物のなかから選択された異なる材料からなる複数の層を
積層することによって封止層１８を形成してもよい。より具体的には、珪素化合物からな
る層と珪素酸窒化物からなる層とを第２電極１２側からみてこの順番に積層し、あるいは
珪素酸窒化物からなる層と珪素酸化物からなる層とを第２電極１２側からみてこの順番に
積層することによって封止層１８を形成することが望ましい。トップエミッション型の表
示パネル１においては封止層１８が光透過性を有する必要がある。このため、封止層１８
の材質や膜厚を適宜に調整することにより、封止層１８に可視光領域に属する光を照射し
たときの光透過率を８０％以上とすることが望ましい。また、基材１０の全面を覆うよう
に封止部材（図示略）が不活性ガス雰囲気中にて貼り合わされた構成としてもよい。この
構成のもとで封止部材と基材１０とにより囲まれた密閉空間にＯＬＥＤ素子１５を配置す
れば、ＯＬＥＤ素子１５を大気中の酸素や水分から隔離することができる。こうして封止
層１８が形成された後、基材１０の縁辺近傍に電源回路８が実装されて電気光学装置１０
０が得られる。
【００３８】
このように本実施形態によれば、各単位素子Ｕに対する光フィルタ層２１の形成の有無
および各画像構成素子Ｕ1における光フィルタ層２１の光透過率を適宜に選定することに
より、多階調からなる所望の対象画像を表示する電気光学装置１００が得られる。この製
造工程のうち第１電極１１および第２電極１２やＯＬＥＤ素子１５といった各要素を形成
する工程は対象画像の内容に拘わらず共通である。特に、第１電極１１および第２電極１
２を形成するためのフォトマスクを対象画像の内容に応じて変更する必要はない。したが
って、本実施形態によれば、対象画像の内容に応じたフォトマスクを用いて表示パネル１
を製造する場合と比較して、各々が異なる対象画像を表示する表示パネル１の製造に要す
るコストが著しく低減される。換言すると、製造コストを増大させることなく、利用者の
要望に応じた種々の対象画像を表示し得る表示パネル１を作成することができる。しかも
、本実施形態においては、光フィルタ層２１が比較的安価な液滴吐出法により形成される
という利点もある。
【００３９】
＜Ａ−３：他の構成例＞
次に、ボトムエミッション型の表示パネル１の構成を説明する。図５は、この電気光学
装置１００の構成を示す断面図であり、前掲した図２に対応している。なお、図５に示さ
れる各要素のうち前掲した各図面の各要素と同様の作用を営むものについては共通の符号
が付されている。ボトムエミッション型の表示パネル１においては、ＯＬＥＤ素子１５か
ら発せられた光が基材１０を透過して観察側（図５における下側）に出射される。このた
め、本実施形態における第２電極１２は、アルミニウムや銀などの単体金属やこれらの金
属を主成分として含む合金など光反射性を有する導電性材料によって形成されている。一
方、ＯＬＥＤ素子１５から発せられて観察側に向かう光量を低減させるため、光制御部た
る光フィルタ層２１はＯＬＥＤ素子１５と観察者との間に設けられる。図５においては、
光透過性を有する導電性材料からなる導電膜１１１が基材１０の全面を覆うように設けら
れる一方、ＯＬＥＤ素子１５の陽極たる第１電極１１は各単位素子Ｕごとに別個の電極と
して設けられている。そして、画像構成素子Ｕ1のうち第１電極１１と導電膜１１１との
間に介在するように光フィルタ層２１が設けられる。この構成において、各画像構成素子
Ｕ1の第１電極１１は、光フィルタ層２１に設けられたコンタクトホール（図示略）を介
して導電膜１１１に接続されている。この構成によっても、上述した電気光学装置１００
と同様に、光フィルタ層２１の有無や各々の光透過率に応じて対象画像が表示される。
【００４０】
＜Ｂ：第２実施形態＞
＜Ｂ−１：電気光学装置１００の構成＞
上記第１実施形態においては、ＯＬＥＤ素子１５からの出射光の特性を変化させる光制
御部として光フィルタ層２１が採用された構成を例示した。これに対し、本実施形態にお
いては、光制御部として光干渉層２２が採用されている。なお、本実施形態に係る電気光
学装置１００の各要素のうち上記第１実施形態に係る各要素と同様の作用を営むものにつ
いては共通の符号を付してその詳細な説明を省略する。
【００４１】
図６は、本実施形態に係る表示パネル１の構成を示す断面図である。この表示パネル１
は、ＯＬＥＤ素子１５から発せられた光が基材１０の反対側（図６における上側）に出射
して表示に供されるトップエミッション型のパネルである。同図に示されるように、多数
の単位素子Ｕのなかから対象画像の内容に応じて選択された画像構成素子Ｕ1には光干渉
層２２が設けられている。この光干渉層２２は、ＯＬＥＤ素子１５からみて基材１０とは
反対側（すなわち表示に供される光が向かう側）に設けられてＯＬＥＤ素子１５からの出
射光の特性を変化させる光制御部であり、照射光の一部を透過させて他を反射させる第１
半透過反射層と、同じく照射光の一部を透過させて他を反射させる第２半透過反射層２２
２と、第１半透過反射層と第２半透過反射層２２２との間に介在して照射光を透過させる
透光層２２３とを有する。ただし、図６においては、第１半透過反射層がＯＬＥＤ素子１
５の陰極たる第２電極１２として兼用されている場合が例示されている。すなわち、本実
施形態における第２電極１２は、照射光の一部を透過させて他を反射する電極である。第
１半透過反射層たる第２電極１２と第２半透過反射層２２２とは、画像構成素子Ｕ1およ
び非構成素子Ｕ0の双方を含む総ての単位素子Ｕにわたって連続するように設けられてい
る。また、第２半透過反射層２２２は、照射光の一部を透過させて他を反射させる役割の
ほか、基材１０上に形成された各要素を保護する役割（すなわち上記第１実施形態におけ
る封止層１８と同様の役割）を担っている。このため、本実施形態に係る表示パネル１は
封止層１８を持たない。
【００４２】
一方、透光層２２３は、多数の単位素子Ｕのうち画像構成素子Ｕ1のみに対して選択的
に設けられ、非構成素子Ｕ0には設けられていない。ここで、第２電極１２によって覆わ
れた隔壁１３の頂上面には、この隔壁１３と重なる格子状の透光層形成用隔壁２２５が設
けられている。画像構成素子Ｕ1の透光層２２３は、隔壁１３および透光層形成用隔壁２
２５の双方によって囲まれた空間（窪み）に入り込むように設けられている。なお、上述
した第２半透過反射層２２２は透光層形成用隔壁２２５を覆うように設けられている。
【００４３】
ここで、第１半透過反射層（第２電極１２）を透過して第２半透過反射層２２２に向か
う光や、この第２半透過反射層２２２のうち第１半透過反射層と対向する面において反射
した光、および第１半透過反射層のうち第２半透過反射層２２２と対向する面において反
射した光は、第１半透過反射層と第２半透過反射層２２２との間において相互に干渉して
観察側に出射する。この干渉の程度（条件）は第１半透過反射層と第２半透過反射層２２
２との間隔に応じたものとなる。そこで、本実施形態においては、各画像構成素子Ｕ1に
おける透光層２２３の膜厚が、対象画像を構成する各ドットの階調に応じて適宜に選定さ
れている。このように第１半透過反射層（第２電極１２）と第２半透過反射層２２２との
間隔を画像構成素子Ｕ1ごとに異ならせることにより、第１半透過反射層と第２半透過反
射層２２２との間を進行する光同士の干渉の程度が任意に調整される。この結果、ＯＬＥ
Ｄ素子１５から発せられて光干渉層２２を透過したうえで観察側に出射する光量は、各画
像構成素子Ｕ1における透光層２２３の膜厚に応じたものとなる。
【００４４】
以上に説明したように、本実施形態においては、光干渉層２２の有無に応じて対象画像
の形状が任意に選定されるとともに、各光干渉層２２における透光層２２３の膜厚に応じ
て対象画像の各部の階調が任意に選定される。したがって、本実施形態に係る電気光学装
置１００によれば、極めて簡易な構成にも拘わらず高品位かつ高精細な表示が実現される
。
【００４５】
＜Ｂ−２：電気光学装置１００の製造方法＞
本実施形態に係る電気光学装置１００は、上記第１実施形態に係る電気光学装置１００
の製造方法のうち図４（ｅ）の光フィルタ層２１を形成する工程に代えて、光干渉層２２
を形成する工程を実施することによって製造される。このため、以下では光干渉層２２を
形成する工程のみを説明し、その他の要素（第１電極１１、隔壁１３およびＯＬＥＤ素子
１５）を形成する工程については説明を省略する。
【００４６】
図４（ｃ）に示したＯＬＥＤ素子１５を形成する工程に続き、図７（ａ）に示されるよ
うに、第１半透過反射層を兼ねる第２電極１２が形成される。より具体的には、光透過性
および光反射性を兼ね備える導電性材料からなる薄膜を真空蒸着やスパッタリングなどの
成膜技術によって形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いたパ
ターニング処理により薄膜の周縁部を除去することによって第２電極１２が得られる。第
２電極１２の材料としては、インジウム錫酸化物や酸化亜鉛系アモルファス材料（例えば
ＩＺＯ（登録商標））などが採用され得る。また、アルミニウム、マグネシウムまたは銀
といった単体金属やこれらの金属を主成分とする合金など光反射性を有する材料を極薄い
膜状に形成することにより、照射光の一部を透過させる機能を持たせることができる。
【００４７】
次に、図７（ｂ）に示されるように、第２電極１２によって覆われた隔壁１３の頂上面
に透光層形成用隔壁２２５が形成される。具体的には、ポリイミドやアクリル、ポリアミ
ドといった感光性の有機材料を基材１０の全面を覆うように塗布した後に加熱により硬化
させ、この有機膜に対して所定のフォトマスクを用いた露光と現像とを施すことによって
格子状の透光層形成用隔壁２２５が得られる。この透光層形成用隔壁２２５は、上述した
隔壁１３と同様に撥液性を呈することが望ましい。透光層形成用隔壁２２５の表面に撥液
性を持たせるための方法としては、上記第１実施形態において隔壁１３について説明した
方法が採用され得る。
【００４８】
次に、図７（ｃ）に示されるように、隔壁１３および透光層形成用隔壁２２５により区
画された多数の単位領域Ａuのうち画像構成素子Ｕ1に対応する単位領域Ａuに対して選択
的に透光層２２３が形成される。この形成には液滴吐出法が用いられる。すなわち、図７
（ｃ）に示されるように、多数の単位領域Ａuのうち画像構成素子Ｕ1に対応する単位領域
Ａuの上方に吐出口５４を移動させたうえで、この吐出口５４から光透過性を有する物質
を含有する液滴を吐出して単位領域Ａuに着弾させる。これを総ての画像構成素子Ｕ1につ
いて繰り返したうえで乾燥させることによって光干渉層２２の透光層２２３が得られる。
この工程において吐出口５４から吐出される液滴の量は、透光層２２３が対象画像の階調
に応じた膜厚となるように適宜に調整される。
【００４９】
透光層２２３は、光透過性を有する各種の材料によって形成される。より具体的には、
ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
、ポリ塩化ビニル樹脂、メラニン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂などによって透
光層２２３が形成され得る。なお、本実施形態における透光層２２３は液滴吐出法によっ
て形成されるから、透光層２２３を形成するための材料は、水などの溶媒に対する溶解性
を有する材料や溶媒に分散する材料であることが望ましい。これらの材料としては、多価
アルコール（例えばポリビニルアルコール）、アクリル樹脂（例えばポリ酢酸ビニルやポ
リアクリル酸ビニル）、有機珪素化合物（例えばテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）やア
ニノプロピルトリメトキシシラン）などが挙げられる。もっとも、水溶性を持たない材料
や水に分散しにくい材料であっても、これらの材料の分子をバインディングポリマーによ
ってコーティングしたうえで水に混合させることによって、吐出口５４からの吐出に適し
た溶液を得ることができる。また、これらの材料に側鎖を形成することによって溶媒に対
する溶解性を持たせてもよい。
【００５０】
また、液滴吐出法においては、吐出口５４からの吐出後に液滴の溶媒を除去する必要が
あるため、熱や光といったエネルギの作用によって硬化する材料（例えば感光性樹脂や熱
硬化性樹脂）によって透光層２２３を形成することが望ましい。これらの材料を溶媒に含
有させたものを吐出口５４から吐出させて透光層２２３を形成すれば、吐出後の液滴に対
して加熱または光照射を施すことによって溶媒を除去するとときに透光層２２３を硬化さ
せることができる。したがって、透光層２２３は、フェノール樹脂や尿素樹脂、エポキシ
樹脂といった各種の熱硬化性樹脂材料や、ポリビニルベンザルアセトフェノンなど各種の
感光性（架橋）樹脂材料によって形成されることが望ましい。また、ビニル化合物などの
材料を画素に塗布した後に重合開始剤を塗布することにより架橋させ、これにより透光層
２２３を形成してもよい。
【００５１】
さて、以上の工程により透光層２２３が形成された後、図７（ｄ）に示されるように、
基材１０の全面を覆うように第２半透過反射層２２２が形成される。この第２半透過反射
層２２２は第１半透過反射層たる第２電極１２と同様の材料によって共通の工程を経て形
成され得る。なお、第２電極１２または第２半透過反射層２２２と透光層２２３との境界
において光を反射させるために、第２電極１２または第２半透過反射層２２２の屈折率と
透光層２２３の屈折率とは相違する必要がある。より具体的には、以上に例示した透光層
２２３の材料は屈折率が１．６程度であるため、第２電極１２および第２半透過反射層２
２２はこれよりも屈折率が大きい材料によって形成されることが望ましい。
【００５２】
このように本実施形態によれば、各単位素子Ｕにおける光干渉層２２（より詳細には透
光層２２３）の有無および各画像構成素子Ｕ1における透光層２２３の膜厚を適宜に選定
することにより、多階調からなる所望の対象画像を表示する電気光学装置１００が得られ
る。したがって、上記第１実施形態と同様の理由により、各々が異なる対象画像を表示す
るための表示パネル１の製造に要するコストが著しく低減される。しかも、本実施形態に
おいては、比較的安価で制御が容易な液滴吐出法により光干渉層２２の透光層２２３が形
成されるという利点もある。
【００５３】
＜Ｂ−３：他の構成例＞
図６においては第２電極１２が光干渉層２２の第１半透過反射層を兼ねるとともに第２
半透過反射層２２２が封止層１８を兼ねる構成を例示したが、図８に示されるように、こ
れらの各部が別個に形成された構成も採用され得る。同図に示された表示パネル１におい
ては、第２電極１２を覆うように第１半透過反射層２２１が形成されるとともに、第２半
透過反射層２２２を覆うように封止層１８が形成されている。また、以上においてはトッ
プエミッション型の表示パネル１を例示したが、ボトムエミッション型の表示パネルにお
いても光干渉層２２により対象画像を表示する構成が採用され得る。ボトムエミッション
型の表示パネル１においては、図５に示した光フィルタ層２１の代わりに、光干渉層２２
が設けられる。
【００５４】
＜Ｃ：第３実施形態＞
＜Ｃ−1：電気光学装置１００の構成＞
上記第１実施形態においては、光制御部として光フィルタ層２１が採用された構成を例
示した。これに対し、本実施形態においては、光制御部としてレンズ層２３が採用されて
いる。なお、本実施形態に係る電気光学装置１００の各要素のうち上記第１実施形態に係
る各要素と同様の作用を営むものについては共通の符号を付してその詳細な説明を省略す
る。
【００５５】
図９は、本実施形態に係る表示パネル１の構成を示す断面図である。この表示パネル１
は、ＯＬＥＤ素子１５から発せられた光が基材１０の反対側（図９における上側）に出射
して表示に供されるトップエミッション型のパネルである。同図に示されるように、多数
の単位素子Ｕのなかから対象画像の内容に応じて選択された画像構成素子Ｕ1にはレンズ
層２３が設けられる一方、非構成素子Ｕ0にはレンズ層２３が設けられていない。このレ
ンズ層２３は、ＯＬＥＤ素子１５からみて基材１０とは反対側（すなわち表示に供される
光が向かう側）に設けられてＯＬＥＤ素子１５からの出射光の特性を変化させる光制御部
であり、ＯＬＥＤ素子１５とは反対側に向かって凸であるレンズ２３１（凸レンズ）を有
する。また、図９に示されるように、第２電極１２の表面上にはレンズ層形成用隔壁２３
５が設けられている。このレンズ層形成用隔壁２３５は、隔壁１３の内壁と頂上面とを覆
うように設けられた膜体である。各画像構成素子Ｕ1のレンズ層２３は、隔壁１３および
レンズ層形成用隔壁２３５によって囲まれた空間（窪み）に入り込むように形成されてい
る。詳細は後述するが、レンズ層形成用隔壁２３５は、レンズ層２３を液滴吐出法によっ
て形成する工程においてレンズ層２３となる液滴を基材１０上に効率よく滞留させる役割
を担っている。
【００５６】
ここで、図１０（ａ）は、非構成素子Ｕ0のＯＬＥＤ素子１５から発せられた光の経路
を示す図であり、同図（ｂ）は、画像構成素子Ｕ1のＯＬＥＤ素子１５から発せられた光
の経路を示す図である。同図（ａ）および（ｂ）においては、電極や隔壁１３など表示パ
ネル１を構成する各要素の図示が適宜に省略されている。図１０（ａ）および（ｂ）に示
される基板６は、本実施形態に係る表示パネル１の観察側に配置された光透過性を有する
板状部材である。この基板６は、例えば電気光学装置１００を搭載した電子機器の筐体に
配置されて表示パネル１を保護する役割を担っている。なお、以下では説明の便宜のため
に、基板６のうち観察側とは反対側の板面と発光素子またはレンズ層２３との間隙が当該
基板６と略同一の屈折率を有する物質によって満たされているものと仮定する。
【００５７】
図１０（ａ）に示されるように、非構成素子Ｕ0のＯＬＥＤ素子１５から出射角θ1にて
出射した光は基板６の観察側の板面と観察側の空間との境界面６１に対して入射角θ1に
て到達する。ここで、入射角θ1が臨界角よりも大きい角度であるとすれば、この光は境
界面６１において観察側とは反対側に全反射するから、観察側に出射して表示に供される
ことはない。つまり、非構成素子Ｕ0にあっては、境界面６１における臨界角よりも小さ
い出射角にてＯＬＥＤ素子１５から出射した光のみが観察側に出射して表示に供されるこ
ととなる。これに対し、画像構成素子Ｕ1のＯＬＥＤ素子１５から出射角θ1にて出射した
光はレンズ層２３のレンズ２３１表面において屈折するため、角度θ1よりも小さい角度
θ2にて境界面６１に到達することとなる。この角度θ2が臨界角よりも小さい角度である
とすれば、この光は境界面６１において反射することなく観察側に出射して表示に供され
る。換言すると、画像構成素子Ｕ1にあってはＯＬＥＤ素子１５からの出射光がレンズ２
３１によって集光されるため、境界面６１における臨界角よりも大きい出射角にてＯＬＥ
Ｄ素子１５から出射した光も観察側に出射させて表示に供することができるのである。し
たがって、ＯＬＥＤ素子１５からの出射光量が画像構成素子Ｕ1と非構成素子Ｕ0とで略同
一であったとしても、実際に観察側に出射する光量は画像構成素子Ｕ1と非構成素子Ｕ0と
で異なる。より具体的には、ＯＬＥＤ素子１５からの出射光を屈折させるレンズ２３１が
設けられた画像構成素子Ｕ1から観察側に出射する光量は、非構成素子Ｕ0から観察側に出
射する光量よりも多くなるのである。この出射光量の差は観察者によって階調の差として
認識され、この結果として対象画像が表示される。したがって、上述した第１実施形態に
おいては、画像構成素子Ｕ1の表示階調が非構成素子Ｕ0の表示階調よりも低く（暗く）な
るのに対し、本実施形態においては画像構成素子Ｕ1の表示階調が非構成素子Ｕ0の表示階
調よりも高く（明るく）なる。すなわち、図３に示した階調の明暗は本実施形態において
は逆転することとなる。
【００５８】
さらに、各画像構成素子Ｕ1におけるレンズ層２３の光学的特性は、対象画像を構成す
る各ドットの階調に応じて異なる。より具体的には、各画像構成素子Ｕ1のレンズ層２３
におけるレンズ２３１の焦点距離は、対象画像を構成する各ドットの階調に応じて適宜に
選定されているのである。さらに詳述すると、明るい階調を表示すべき画像構成素子Ｕ1
のレンズ２３１ほど観察側への出射光量が大きくなり、暗い階調を表示すべき画像構成素
子Ｕ1のレンズ２３１ほど観察側への出射光量が小さく（ただし非構成素子Ｕ0の出射光量
よりは大きく）なるように、各画像構成素子Ｕ1のレンズ２３１の焦点距離が調整されて
いる。このように各レンズ層２３におけるレンズ２３１の焦点距離を異ならせるための構
成としては、各レンズ２３１の表面形状（特に曲率）を対象画像の階調ごとに異ならせる
構成と、屈折率が異なる材料によって各レンズ２３１を形成した構成とが考えられる。
【００５９】
以上に説明したように、本実施形態においては、レンズ層２３の有無に応じて対象画像
の形状が任意に選定されるとともに、各レンズ層２３の焦点距離に応じて対象画像の各部
の階調が任意に選定される。したがって、本実施形態に係る電気光学装置１００によって
も、極めて簡易な構成にも拘わらず高品位かつ高精細な表示が実現される。
【００６０】
＜Ｃ−２：電気光学装置１００の製造方法＞
本実施形態に係る電気光学装置１００は、上記第１実施形態に係る電気光学装置１００
の製造方法のうち図４（ｅ）の光フィルタ層２１を形成する工程に代えて、レンズ層２３
を形成する工程を実施することによって製造される。このため、以下ではレンズ層２３を
形成する工程のみを説明し、その他の要素（第１電極１１、隔壁１３、ＯＬＥＤ素子１５
および第２電極１２）を形成する工程については説明を省略する。
【００６１】
図４（ｄ）に示した第２電極１２を形成する工程に続き、図１１（ａ）に示されるよう
に、第２電極１２のうち隔壁１３を覆う部分にレンズ層形成用隔壁２３５が形成される。
このレンズ層形成用隔壁２３５の表面は撥液性を呈する。このようなレンズ層形成用隔壁
２３５は、隔壁１３について上記第１実施形態にて説明したのと同様に、ポリイミドやア
クリルなどの有機材料からなる薄膜をフォトリソグラフィ技術によりパターニングした後
、この薄膜の表面に撥液性を持たせるためにプラズマ処理を施すことによって得られる。
ただし、この工程においては、有機材料からなる薄膜のパターニングに用いられる溶剤が
既に形成されているＯＬＥＤ素子１５に付着して損傷を与える可能性がある。このような
不具合を回避するために、レンズ層形成用隔壁２３５は図１２に示される工程によって形
成されることが望ましい。すなわち、同図（ａ）に示されるように、まず、レンズ層形成
用隔壁２３５となる複数の膜体５７２を平板状の基板５７１の板面上に形成する。この膜
体５７２は、例えば弗化物が添加された有機材料により形成された薄膜を隔壁１３と重な
るような形状（格子状）にパターニングすることにより得られたものである。したがって
、膜体５７２は撥液性を有する。次いで、図１２（ｂ）に示されるように、第２電極１２
によって覆われた隔壁１３の頂上面に膜体５７２が接触するように基板５７１と基材１０
とを対向させ、この状態で膜体５７２に対して熱や光などのエネルギが付与される。例え
ば、基板５７１を介して膜体５７２に紫外線やレーザ光が照射される。この工程により膜
体５７２が基板５７１の板面から剥離されて隔壁１３上に転写され、撥液性を有するレン
ズ層形成用隔壁２３５が得られる。このように、基板５７１上に別途に形成された膜体５
７２を基材１０上に転写してレンズ層形成用隔壁２３５を形成する方法によれば、溶剤に
よるＯＬＥＤ素子１５の損傷は原理的に生じ得ない。
【００６２】
さて、以上の工程にてレンズ層形成用隔壁２３５が形成されると、図１１（ｂ）に示さ
れるように、隔壁１３およびレンズ層形成用隔壁２３５により区画された多数の単位領域
Ａuのうち画像構成素子Ｕ1に対応する単位領域Ａuに対して選択的にレンズ層２３が形成
される。この形成には液滴吐出法が用いられる。すなわち、図１１（ｂ）に示されるよう
に、多数の単位領域Ａuのうち画像構成素子Ｕ1に対応する単位領域Ａuの上方に吐出口５
６を移動させたうえで、この吐出口５６から光透過性を有する物質を含有する液滴を吐出
して単位領域Ａuに着弾させる。これを総ての画像構成素子Ｕ1について繰り返したうえで
乾燥させることによってレンズ層２３が得られる。ここで、レンズ層２３が形成される単
位領域Ａuは撥液性を有するレンズ層形成用隔壁２３５によって囲まれているため、単位
領域Ａuに着弾した液滴は基材１０と反対側に向けて突起した状態で硬化してレンズ２３
１となる。上述したように、各レンズ層２３におけるレンズ２３１の焦点距離は、その表
面形状や材料を適宜に選定することによって調整される。例えば、各単位領域Ａuに着弾
する液適量（例えば吐出口５６から吐出される各液滴の量や液滴が吐出される回数）を適
宜に選定することによって、所望の表面形状を有するレンズ２３１が得られる。より具体
的には、各単位領域Ａuに着弾する液適量が多ければ曲率の大きいレンズ２３１が得られ
る一方、液適量が少なければ曲率の小さいレンズ２３１が得られるといった具合である。
また、各単位領域Ａuに吐出される液滴の材料を屈折率が異なる複数の材料のなかから適
宜に選定することによって、所望の焦点距離を有するレンズ２３１が得られる。
【００６３】
レンズ層２３は、光透過性を有する各種の材料によって形成される。より具体的には、
ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース
、ポリ塩化ビニル樹脂、メラニン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂などによってレ
ンズ層２３が形成され得る。なお、本実施形態におけるレンズ層２３は液滴吐出法によっ
て形成されるから、レンズ層２３を形成するための材料は、水などの溶媒に対する溶解性
を有する材料や溶媒に分散する材料であることが望ましい。これらの材料としては、多価
アルコール（例えばポリビニルアルコール）、アクリル樹脂（例えばポリ酢酸ビニルやポ
リアクリル酸ビニル）、有機珪素化合物（例えばテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）やア
ニノプロピルトリメトキシシラン）などが挙げられる。もっとも、水溶性を持たない材料
や水に分散しにくい材料であっても、これらの材料の分子をバインディングポリマーによ
ってコーティングしたうえで水に混合させることによって、吐出口５６からの吐出に適し
た溶液を得ることができる。また、これらの材料に側鎖を形成することによって溶媒に対
する溶解性を持たせてもよい。
【００６４】
また、液滴吐出法においては、吐出口からの吐出後に液滴の溶媒を除去する必要がある
ため、熱や光といったエネルギの作用によって硬化する材料（例えば感光性樹脂や熱硬化
性樹脂）によってレンズ層２３を形成することが望ましい。これらの材料を溶媒に含有さ
せたものを吐出口５６から吐出させてレンズ層２３を形成すれば、吐出後の液滴に対して
加熱または光照射を施すことによって溶媒を除去するとときにレンズ層２３を硬化させる
ことができる。したがって、レンズ層２３は、フェノール樹脂や尿素樹脂、エポキシ樹脂
といった各種の熱硬化性樹脂材料や、ポリビニルベンザルアセトフェノンなど各種の感光
性（架橋）樹脂材料によって形成されることが望ましい。また、ビニル化合物などの材料
を画素に塗布した後に重合開始剤を塗布することにより架橋させ、これによりレンズ層２
３を形成してもよい。
【００６５】
このように本実施形態によれば、各単位素子Ｕにおけるレンズ層２３の有無および各画
像構成素子Ｕ1におけるレンズ２３１の焦点距離を適宜に選定することにより、所望の対
象画像を表示する電気光学装置１００が得られる。したがって、上記第１実施形態と同様
の理由により、各々が異なる対象画像を表示するための表示パネル１の製造に要するコス
トが著しく低減される。しかも、本実施形態においては、比較的安価で制御が容易な液滴
吐出法によりレンズ層２３が形成されるという利点もある。
【００６６】
＜Ｄ：変形例＞
以上に説明した実施形態はあくまでも例示である。この形態に対しては本発明の趣旨か
ら逸脱しない範囲で種々の変形が加えられ得る。具体的には、以下のような変形例が考え
られる。
【００６７】
＜Ｄ−１：変形例１＞
上記各実施形態に係る電気光学装置１００においては、総ての単位素子Ｕにわたって連
なる共通の電極を第１電極１１および第２電極１２として採用した構成を例示した。この
構成のもとで各ＯＬＥＤ素子１５には共通の電圧が印加されるため、各ＯＬＥＤ素子１５
自体の発光量は総ての単位素子Ｕにわたって略同一である。この構成に代えて、ＯＬＥＤ
素子１５に印加される電圧（換言すればＯＬＥＤ素子１５に流れる電流）を単位素子Ｕご
とに異ならせることによって各ＯＬＥＤ素子１５の発光量を適宜に異ならせる構成も採用
され得る。例えば、上記各実施形態に係る構成に加えて、以下の第１ないし第３の態様が
採用される。なお、以下では第１実施形態に係る電気光学装置１００に本変形例が適用さ
れた構成を例示するが、第２および第３実施形態に係る電気光学装置１００にも同様の構
成が採用され得ることはもちろんである。
【００６８】
（１）第１の態様  
複数の単位素子Ｕのなかから選択された１以上の単位素子Ｕにおける第１電極１１と第
２電極１２との間に介在するように抵抗層を設けた構成が採用され得る。この抵抗層は、
所定の抵抗率を有する導電性材料からなる膜体である。より具体的には、図１３に示され
るように、基材１０の板面に垂直な方向からみてＯＬＥＤ素子１５と重なるように、特定
の単位素子Ｕにおける第２電極１２とＯＬＥＤ素子１５との間に抵抗層３１が設けられる
。この構成によれば、第１電極１１と第２電極１２とに印加される電圧が総ての単位素子
Ｕにわたって共通であるとしても、各単位素子ＵのＯＬＥＤ素子１５に対する印加電圧は
抵抗層３１の有無に応じて異なるから、各ＯＬＥＤ素子１５の発光量を抵抗層３１の有無
に応じて異ならせることができる。抵抗層３１を形成すべき単位素子Ｕ（図１３において
は３つの単位素子Ｕのうち右側と左側の単位素子Ｕ）は、画像構成素子Ｕ1および非構成
素子Ｕ0の双方を含む総ての単位素子Ｕのなかから所望の対象画像の階調に応じて適宜に
選定される。なお、図１３においては第２電極１２とＯＬＥＤ素子１５との間に抵抗層３
１が設けられた構成を例示したが、この構成に代えてまたはこの構成とともに、第１電極
１１とＯＬＥＤ素子１５との間に抵抗層３１を設けてもよい。また、抵抗層３１の膜厚や
材料を適宜に選定することにより、抵抗層３１の抵抗値を単位素子Ｕごとに異ならせる構
成も採用され得る。
【００６９】
（２）第２の態様  
複数の単位素子Ｕのなかから選択された１以上の単位素子Ｕにおける第１電極１１と第
２電極１２との間に介在するように絶縁層を設けた構成が採用され得る。この絶縁層は、
電気的な絶縁性を有する材料からなる膜体である。より具体的には、図１４に示されるよ
うに、基材１０の板面に垂直な方向からみてＯＬＥＤ素子１５の発光面と重なるように、
特定の単位素子Ｕにおける第２電極１２とＯＬＥＤ素子１５との間に絶縁層３３が設けら
れる。この構成においては絶縁層３３が設けられた単位素子ＵのＯＬＥＤ素子１５に電流
が流れず発光しないから、この単位素子Ｕにより対象画像の最低階調が実現される。絶縁
層３３を形成すべき単位素子Ｕ（図１４においては３つの単位素子Ｕのうち右側と左側の
単位素子Ｕ）は、画像構成素子Ｕ1および非構成素子Ｕ0の双方を含む総ての単位素子Ｕの
なかから所望の対象画像の内容に応じて適宜に選定される。なお、図１４においては第２
電極１２とＯＬＥＤ素子１５との間に絶縁層３３が設けられた構成を例示したが、この構
成に代えてまたはこの構成とともに、第１電極１１とＯＬＥＤ素子１５との間に絶縁層３
３を設けてもよい。
【００７０】
なお、ここでは特定の単位素子ＵにおいてＯＬＥＤ素子１５の発光面と完全に重なるよ
うに絶縁層３３が設けられた構成を例示したが、図１５に示されるように、基材１０の板
面に垂直な方向からみてＯＬＥＤ素子１５の発光面の一部と重なるように部分的に絶縁層
（以下「部分絶縁層」という）３４が設けられた構成も採用され得る。この構成によれば
、各ＯＬＥＤ素子１５から発せられて観察側に出射する光量が、その発光面に占める部分
絶縁層３４の面積の割合に応じて調整され得る。したがって、さらに多階調からなる対象
画像を表示することができる。
【００７１】
なお、上記第１および第２の態様における抵抗層３１、絶縁層３３および部分絶縁層３
４の形成には液滴吐出法が用いられる。例えば、所定の抵抗率を有する導電性物質を含む
液滴を吐出口から吐出して基材１０上に着弾させることによって抵抗層３１が形成され、
絶縁性物質を含む液滴を吐出口から吐出して基材１０上に着弾させることによって絶縁層
３３または部分絶縁層３４が形成される。
【００７２】
（３）第３の態様  
第１電極１１および第２電極１２の少なくとも一方を各単位素子Ｕごとに独立した電極
としてもよい。図１６においては、第１電極１１が単位素子Ｕごとに独立して設けられた
構成が例示されている。各第１電極１１は、基材１０の板面上に形成されて隔壁１３によ
り覆われる配線１１２を介して電源回路８に接続される。そして、複数の第１電極１１の
各々には、対象画像の内容に応じて選定された電圧が電源回路８から印加される。この構
成によればＯＬＥＤ素子１５への印加電圧を異ならせることによって各ＯＬＥＤ素子１５
の発光量を適宜に調整することができる。なお、図１６においては第１電極１１を単位素
子Ｕごとの電極とした構成を例示したが、この構成に代えてまたはこの構成とともに、第
２電極１２を単位素子Ｕごとに独立した電極としてもよい。
【００７３】
以上に説明したように本変形例によれば、ＯＬＥＤ素子１５から観察側への出射光量を
光制御部（光フィルタ層２１、光干渉層２２またはレンズ層２３）によって調整するだけ
ではなく、ＯＬＥＤ素子１５から発せられて光制御部に至る発光量を単位素子Ｕごとに異
ならせることができるから、上記各実施形態に係る構成と比較して、より多くの階調によ
り高精細な表示を行なうことが可能となる。
【００７４】
＜Ｄ−２：変形例２＞
上記各実施形態および変形例においては各単位素子Ｕによる表示階調のみを異ならせる
ことによってモノクロの対象画像が表示される構成を例示したが、カラー表示が可能な構
成にも本発明は適用され得る。すなわち、この構成にあっては、各単位素子Ｕの各ＯＬＥ
Ｄ素子１５として、例えば赤色、緑色および青色のいずれかの色に対応する波長の光を発
するものが採用される。この構成のもとでは、各画像構成素子Ｕ1に設けられた光制御部
の光学的特性がその単位素子ＵにおけるＯＬＥＤ素子１５の発光色に応じて選定されるこ
とが望ましい。詳述すると以下の通りである。
【００７５】
（１）第１の態様  
上記第１実施形態において各画像構成素子Ｕ1に設けられた光フィルタ層２１は、その
画像構成素子Ｕ1のＯＬＥＤ素子１５から発せられた光を吸収し得る材料によって形成さ
れることが望ましい。より具体的には、青色に対応するＯＬＥＤ素子１５から発せられる
光は波長が４４０ｎｍ（ナノメートル）程度である成分の強度がピークとなるから、この
画像構成素子Ｕ1の光フィルタ層２１は４４０ｎｍを含む帯域の光成分を吸収し得る材料
、例えばアゾ系材料によって形成されることが望ましい。同様に、緑色光（波長５５０ｎ
ｍ程度において強度がピークとなる光）を発するＯＬＥＤ素子１５を備えた画像構成素子
Ｕ1の光フィルタ層２１は、５５０ｎｍを含む範囲内の波長を有する光成分を吸収し得る
材料、例えばフタロシアニン系材料によって形成されることが望ましい。また、赤色光（
波長６８０ｎｍ程度において強度がピークとなる光）を発するＯＬＥＤ素子１５を備えた
画像構成素子Ｕ1の光フィルタ層２１は、６８０ｎｍを含む範囲内の波長を有する光成分
を吸収し得る材料、例えばフタロシアニン系材料によって形成されることが望ましい。
【００７６】
（２）第２の態様  
上記第２実施形態においては、太陽光や室内照明光などの外光が第１電極１１や第１半
透過反射層（第２電極１２）の表面にて反射して観察側に至り、表示画像のコントラスト
を低下させる原因ともなり得る。そこで、上記第２実施形態において各画像構成素子Ｕ1
に設けられた光干渉層２２の透光層２２３は、その画像構成素子Ｕ1のＯＬＥＤ素子１５
から発せられた光の波長と補色の関係にある波長の光を吸収し得る材料によって形成され
ることが望ましい。この構成によれば、太陽光や室内照明光などの外光が光干渉層２２の
内側に到達したとしても、ＯＬＥＤ素子１５から発せられる光の波長と補色の関係にある
光は透光層２２３によって吸収されるから、ＯＬＥＤ素子１５の色に対応する光のみが選
択的に観察側に出射される。したがって、表示画像のコントラストを向上させることがで
きる。さらに、ＯＬＥＤ素子１５から発せられる光の一部を吸収し得る材料によって透光
層２２３を形成すれば、上記第１実施形態と同様に、ＯＬＥＤ素子１５から発せられて観
察側に出射する光量を透光層２２３によって調整することができるから、より多くの階調
により高精細な表示が実現される。
【００７７】
＜Ｄ−３：変形例３＞
上記各実施形態および各変形例においては、第２電極１２からみて観察側に光制御部が
設けられた構成を例示したが、光制御部（光フィルタ層２１、光干渉層２２およびレンズ
層２３）が設けられる位置はこれに限られない。例えば、光制御部が導電性を有する材料
によって形成される場合には、第１電極１１とＯＬＥＤ素子１５との間またはＯＬＥＤ素
子１５と第２電極１２との間に介在するように光制御部が設けられてもよい。また、ＯＬ
ＥＤ素子１５が正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層および電子注入層といった
複数の層からなる場合には、これらの各層の間に（すなわちＯＬＥＤ素子１５内に）光制
御部が設けられた構成も採用され得る。要するに、本発明においては、単位素子Ｕの配列
面（上記各実施形態における基材１０の板面）に垂直な方向からみて各単位素子Ｕと重な
るように光制御部が設けられていれば足り、単位素子Ｕの積層構造に対する光制御部の位
置は不問である。
【００７８】
＜Ｄ−４：変形例４＞
上記各実施形態および各変形例においては、複数の単位素子Ｕのうち画像構成素子Ｕ1
のみに選択的に光制御部を設けた構成と、光制御部の光学的特性を単位素子Ｕ（画像構成
素子Ｕ1）ごとに異ならせる構成とを兼ね備えた電気光学装置１００を例示したが、いず
れか一方のみの構成も採用され得る。例えば、前者に係る構成に着目すると、複数の単位
素子Ｕのなかから対象画像の内容に応じて選択された総ての画像構成素子Ｕ1に対して共
通の光学的特性を有する光制御部が設けられた構成も採用され得る。また、後者に係る構
成に着目すると、総ての単位素子Ｕに対して光制御部を設けたうえで、各光制御部の光学
的特性を対象画像の内容に応じて適宜に異ならせる構成も採用され得る。
【００７９】
＜Ｄ−５：変形例５＞
上記各実施形態においては、光フィルタ層２１、光干渉層２２およびレンズ層２３を光
制御部として例示したが、光制御部の構成はこれに限られない。すなわち、本発明におけ
る「光制御部」は、ＯＬＥＤ素子１５からの出射光の特性（特に光量）を変化させる部材
であれば足り、その具体的な構成の如何は不問である。また、上記各実施形態においては
、光フィルタ層２１、光干渉層２２およびレンズ層２３のいずれか一層のみが設けられた
構成を例示したが、これらのうち２以上の層を積層することによって光制御部としてもよ
い。
【００８０】
＜Ｄ−６：変形例６＞
上記各実施形態においては光制御部（より具体的には光フィルタ層２１と光干渉層２２
の透光層２２３とレンズ層２３）とＯＬＥＤ素子１５とを液滴吐出法により形成する場合
を例示したが、これらの形成方法は任意である。例えば、光制御部やＯＬＥＤ素子１５は
、これを構成する材料をレーザにより基材１０上に転写する方法によっても形成され得る
。また、蒸着法やスピンコート法などの成膜技術によって基材１０の全面にわたって連続
するＯＬＥＤ素子１５を形成してもよい。このようにＯＬＥＤ素子１５が総ての単位素子
Ｕにわたって連続するように形成された場合であっても、各単位素子Ｕごとに光制御部の
有無や各光制御部の光学的特性（あるいは上記変形例１に例示した抵抗層３１、絶縁層３
３または部分絶縁層３４の特性や、第１電極１１および第２電極１２への印加電圧）を適
宜に選定することにより、当該単位素子Ｕから観察側への出射光量（すなわち単位素子Ｕ
の表示階調）を区別することができる。
【００８１】
＜Ｄ−７：変形例７＞
本発明はＯＬＥＤ素子１５以外の電気光学素子を用いた電気光学装置１００にも適用さ
れ得る。本発明が適用され得る電気光学装置としては、ヘリウムやネオンなどの高圧ガス
を電気光学素子として用いたプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）や、蛍光体を電気光
学素子として用いたフィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）などが挙げられる。
また、ここでは自らが発光する電気光学素子（いわゆる自発光型の電気光学素子）を例示
したが、自らは発光する性質を持たない非自発光型の電気光学素子（例えば照明装置によ
る照射光の透過率を配向方向に応じて変化させる液晶など）を用いた電気光学装置にも本
発明は適用され得る。
【００８２】
＜Ｅ：電子機器＞
次に、本発明に係る電気光学装置を表示部として備える電子機器について説明する。図
１７は、本発明を適用した電気光学装置１００を有する携帯電話機の構成を示す斜視図で
ある。この図に示されるように、携帯電話機１２００は、利用者により操作される複数の
操作ボタン１２０２、他の端末装置から受信した音声を出力する受話口１２０４、および
他の端末装置に送信される音声を入力する送話口１２０６のほかに、各種の画像を表示す
る電気光学装置１００を有する。この電気光学装置１００の表示領域は第１領域１０１と
第２領域１０２とに区分される。このうち第１領域１０１は、ドットマトリクス型の表示
方式により各種の画像が適宜に変化しつつ表示される領域である。一方、第２領域１０２
は、本発明の適用により対象画像を固定的に表示する領域である。すなわち、第２領域１
０２においては、面状に配列された複数の単位素子Ｕのうち対象画像を構成する画像構成
素子Ｕ1のみに光制御部が選択的に設けられ、各光制御部の光学的特性は対象画像の階調
に応じて画像構成素子Ｕ1ごとに選定されている。
【００８３】
なお、本発明に係る電気光学装置が利用され得る電子機器としては、図１７に示される
携帯電話機のほかにも、ノートパソコンや、液晶テレビ、ビューファインダ型（またはモ
ニタ直視型）のビデオレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、
ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備え
た機器等などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】本発明の第１実施形態に係る電気光学装置の構成を示す平面図である。
【図２】同電気光学装置のうち表示パネルの構成を示す断面図である。
【図３】同表示パネルにおける画像構成素子と非構成素子との関係を示す平面図である。
【図４】第１実施形態に係る表示パネルの製造方法を説明するための断面図である。
【図５】第１実施形態の変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態に係る表示パネルの構成を示す断面図である。
【図７】同表示パネルの製造方法を説明するための断面図である。
【図８】第２実施形態の変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。
【図９】本発明の第３実施形態に係る表示パネルの構成を示す断面図である。
【図１０】同表示パネルのうち画像構成素子と非構成素子とにおける光路を示す図である。
【図１１】同表示パネルの製造方法を説明するための断面図である。
【図１２】レンズ層形成用隔壁の形成工程を示す断面図である。
【図１３】変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。
【図１４】変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。
【図１５】変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。
【図１６】変形例に係る表示パネルの構成を示す断面図である。
【図１７】本発明に係る電子機器の一例たる携帯電話機の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００８５】
１００……電気光学装置、１……表示パネル、１０……基材、１１……第１電極、１２…
…第２電極、１３……隔壁、１５……ＯＬＥＤ素子、１８……封止層、１１１……導電膜
、１１２……配線、２１……光フィルタ層（光制御部）、２２……光干渉層（光制御部）
、２２１……第１半透過反射層、２２２……第２半透過反射層、２２３……透光層、２２
５……透光層形成用隔壁、２３……レンズ層（光制御部）、２３１……レンズ、２３５…
…レンズ層形成用隔壁、３１……抵抗層、３３……絶縁層、３４……部分絶縁層、８……
電源回路、５１，５２，５４，５６……吐出口、Ｕ……単位素子、Ｕ1……画像構成素子
、Ｕ2……非構成素子、Ａu……単位領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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