(57)【要約】  【課題】  マトリクス状に配列された多数の画素を有する液晶表示装置に用いられ、モアレがなく、ザラツキ感の目立たない良好な表示品位を実現できる反射板を提供する。  【解決手段】  反射板の表面には、フォトマスク１を介した露光により、各画素それぞれに対応して凹凸パターンが形成される。各凹凸パターンは、フォトマスク１に形成された互いに異なる光透過パターン１１，１２，１３，１４に相応していて、各光透過パターン１１〜１４が相互に共通する共通領域を有する。【選択図】      図２
2005148619.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリクス状に配列された多数の画素を有する液晶表示装置に用いられ、この液晶表示装置の液晶層を通じて受けた外部からの光を反射して、前記液晶層を通じて外部へ送り出す反射板であって、
前記各画素それぞれに対応する反射領域を有し、これらの各反射領域には互いに異なる複数種類の凹凸パターンのうちから不規則に選択された凹凸パターンが形成されている反射板において、
前記各凹凸パターンが、相互に共通する共通領域を有することを特徴とする反射板。
【請求項２】
前記各凹凸パターンにおける前記共通領域の占める割合が少なくとも４０％であることを特徴とする請求項１に記載の反射板。
【請求項３】
液晶層を挟んで対向配置される一対の基板と、いずれか一方の基板の内面上にマトリクス状に配列された多数の画素電極と、を備え、他方の基板及び前記液晶層を順に通じて受けた外部からの光を前記画素電極の表面で反射して、前記液晶層を通じて外部へ送り出す液晶表示装置であって、
前記各画素電極の表面には、互いに異なる複数種類の凹凸パターンのうちから不規則に選択された凹凸パターンが形成されている液晶表示装置において、
前記各凹凸パターンが、相互に共通する共通領域を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
前記各凹凸パターンにおける前記共通領域の占める割合が少なくとも４０％であることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
マトリクス状に配列された多数の画素を有する液晶表示装置に用いられ、この液晶表示装置の液晶層を通じて受けた外部からの光を反射して、前記液晶層を通じて外部へ送り出す反射板を製造するための反射板の製造方法であって、
前記各画素が配列された基板上に感光性樹脂膜を積層する樹脂膜積層工程と、前記各画素それぞれに対応する領域を有し、これらの各領域に互いに異なる複数種類の光透過パターンのうちから不規則に選択された光透過パターンを有したフォトマスクを成形するマスク成形工程と、前記フォトマスクを介して前記感光性樹脂膜を露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂膜を現像して加熱し、前記各光透過パターンに相応する凹凸パターンを形成する現像加熱工程と、前記凹凸パターン上に高反射性金属膜を被覆する金属膜被覆工程と、を含む反射板の製造方法において、
前記マスク成形工程では、前記各光透過パターンが、１つの基準光透過パターンから平行移動に基づいて抽出され、相互に共通する共通領域を有することを特徴とする反射板の製造方法。
【請求項６】
前記各光透過パターンにおける前記共通領域の占める割合が少なくとも４０％であることを特徴とする請求項５に記載の反射板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、バックライトを使用しないマトリクス型の液晶表示装置に用いられ、表示のために活用される反射板、及びその製造方法に関する。また、バックライトを使用しないマトリクス型の液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来一般のマトリクス型の液晶表示装置は、専用に配設された光源であるバックライトの照射光によって表示が行われるものが大半であったが、近年、そのようなバックライトを使用しないで、外部からの光、例えば自然光や室内照明光（以下、「外部光」と記すことがある）を活用して表示が行われるものが注目されてきている。この液晶表示装置の表示は、液晶層を通じて受けた外部光を反射して、再び液晶層を通じて外部へ送り出すことを基本原理とするものであり、液晶表示装置にバックライトが不要であるので、消費電力が抑えられるし、装置全体の薄型化や小型化、ひいては軽量化も達成できる点で有利である。以下、本明細書では、このようなバックライトを使用しない液晶表示装置について述べていく。
【０００３】
液晶表示装置には、表示を行うために、液晶層を通じ外部光を外部の使用者に向けて反射させる反射板が必要である。この反射板には、より明るい表示を得るために、受けた外部光を使用者に向けて有効に散乱させることが可能な反射特性が要求され、特に、見易く目に優しい背景色の表示、いわゆるペーパーホワイトも実現すべく、その反射面である表面が微細な凹凸状で起伏している。
【０００４】
このような反射板を製造するための従来からの一般的な製造方法としては、液晶表示装置を構成する液晶パネルの主要素である一対の基板（例えばガラス基板）のうち、マトリクス状に画素が配列された一方の基板上に、感光性樹脂膜を積層し、所定の光透過パターンを有したフォトマスクを介して感光性樹脂膜を露光した後、現像更には熱処理（加熱）することにより、光透過パターンに相応する緩やかな起伏の微細な凹凸パターンを形成し、その後この凹凸パターン上に高反射性金属膜を被覆するものがある。こうして形成された凹凸状の高反射性金属膜が反射板として機能し、併せて画素電極として機能する。
【０００５】
ここで、上記したように、フォトマスクは反射板の表面を凹凸状にするために用いられるものである。そのフォトマスクの従来の一例について、図７及び図８を参照しながら説明する。図７は従来のフォトマスクにおける一画素に対応する領域を示す模式平面図、図８はその領域の配置関係を示すフォトマスクの模式平面図である。
【０００６】
図７及び図８に示すように、フォトマスク１０１における一画素に対応する領域１０２（以下、「単位領域」と記すことがある）は、各辺の長さ１０２ａが例えば１０μｍ〜１０００μｍの方形であり、この単位領域１０２には、複数の円形領域１０３が不規則（ランダム）に並べられる。各円形領域１０３は光を遮る遮光部であり、それ以外の領域は光を透過する透光部である。これが、単位領域１０２に形成された光透過パターンとなる。図７及び図８では、説明の便宜上、その光透過パターンを五角形の記号に記号化して符号１１１で示す。
【０００７】
そして、図８に示すように、他の各画素に対応する単位領域１０２にも、同様の光透過パターン１１１が一律に形成される。このようなフォトマスク１０１により、反射板の製造工程における感光性樹脂膜に対しての露光及び現像の際、各画素に対応する反射領域には、各光透過パターン１１１の円形領域１０３に相応した感光性樹脂膜の円柱凸部が生成され、最終的に各画素全てに対して同一の凹凸パターンが形成された表面を有する反射板が成形される。
【０００８】
このような反射板を用いた液晶表示装置では、反射板の表面の凹凸パターンにより、反射光の干渉が抑制されるため、ペーパーホワイトで明るい表示が得られる。
【０００９】
ところが、上記した従来のフォトマスク１０１では、各単位領域１０２全てに対して同一の光透過パターン１１１が形成されていることから、反射板では、各画素に対応する反射領域全てに対して同一の凹凸パターンが形成されることになり、その結果として、一画素を最大単位とする周期構造の凹凸パターンとなるため、各反射領域で反射した回折光が相互に干渉し、モアレが発生するという問題がある。
【００１０】
そこで、このモアレを解消するための手法として、互いに異なる複数種類の光透過パターンを予め準備しておき、フォトマスク１０１の各単位領域１０２に、これらの光透過パターンのうちから不規則に選択された光透過パターンが形成されるものがある（例えば、特許文献１、２）。このフォトマスク１０１によれば、結果として、反射板における各画素に対応する反射領域に、互いに異なる複数種類の凹凸パターンのうちから不規則に選択された凹凸パターンが形成されることになる。つまり反射板では、複数種類の凹凸パターンが配列されることになるため、近隣付近の反射領域同士で凹凸パターンの反射特性が相互に異なるようになり、全体として周期構造を持たない凹凸パターンとなる。従って、各反射領域で反射した回折光が相互に干渉することはなくなり、モアレの発生を防止することができる。
【特許文献１】特開平１０−３１９４２２号公報
【特許文献２】特開平１０−１２３５０８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、上記した手法では、モアレが解消される一方で、新たに表示品位の低下が生じる場合がある。何故ならば、上記した手法による反射板では、各反射領域における凹凸パターンの反射特性が、使用者の位置する方向によって大きく変化してしまう場合があるからである。この状況について、図９を参照しながら説明する。図９は従来の反射板の反射特性を説明する模式斜視図であって、図９（ａ）は表示品位の良好な状況を示し、図９（ｂ）は表示品位の低下する状況を示す。
【００１２】
一種類の凹凸パターンが配列された反射板１３５の場合、図９（ａ）に示すように、Ａ方向の使用者に対しては、各反射領域で凹凸パターンが同一のため、各反射強度（図９（ａ）中、各反射光に対応する太線矢印の長さ）、すなわち各反射特性が同じとなり均一な明るさが得られる。Ａ方向とは異なるＢ方向に対しても同様である。但しこの場合、モアレが発生する。
【００１３】
これに対し、複数種類の凹凸パターンが配列された反射板１３５の場合、図９（ｂ）に示すように、Ａ方向の使用者に対しては、近隣付近の各反射領域同士で凹凸パターンが異なるため、各反射強度（図９（ｂ）中、各反射光に対応する太線矢印の長さ）、すなわち反射特性に差が生じる。Ａ方向とは異なるＢ方向に対しても同様に、各反射特性に差が生じる。更に、Ａ方向とＢ方向とで各反射特性そのものが変化する。このような反射特性の差や変化は、使用者に対してザラツキ感を感じさせることになり、結果として表示品位を低下させるわけである。但しこの場合、モアレは発生しない。
【００１４】
そこで本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、モアレがなく、それでいてザラツキ感の目立たない良好な表示品位を実現できる反射板、及びその製造方法を提供することを目的とするものである。また本発明の目的は、バックライトを使用しないで良好な表示品位で表示が行える液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記目的を達成するため、本発明による反射板は、マトリクス状に配列された多数の画素を有する液晶表示装置に用いられ、この液晶表示装置の液晶層を通じて受けた外部からの光を反射して、前記液晶層を通じて外部へ送り出す反射板であって、前記各画素それぞれに対応する反射領域を有し、これらの各反射領域には互いに異なる複数種類の凹凸パターンのうちから不規則に選択された凹凸パターンが形成されている反射板において、前記各凹凸パターンが、相互に共通する共通領域を有する。
【００１６】
これにより、反射板の表面には、複数種類の凹凸パターンが配列されることになるため、近隣付近の各凹凸パターン同士の反射特性が相互に異なるようになり、全体として周期構造を持たない凹凸パターンとなる。しかも、各凹凸パターンには、同じサイズの相互に共通する共通領域が存在するため、近隣付近の各凹凸パターン同士で反射特性の大きな差や変化は生じない。
【００１７】
また、上記目的を達成するための本発明による液晶表示装置は、液晶層を挟んで対向配置される一対の基板と、いずれか一方の基板の内面上にマトリクス状に配列された多数の画素電極と、を備え、他方の基板及び前記液晶層を順に通じて受けた外部からの光を前記画素電極の表面で反射して、前記液晶層を通じて外部へ送り出す液晶表示装置であって、前記各画素電極の表面には、互いに異なる複数種類の凹凸パターンのうちから不規則に選択された凹凸パターンが形成されている液晶表示装置において、前記各凹凸パターンが、相互に共通する共通領域を有する。
【００１８】
これにより、画素電極の表面には、複数種類の凹凸パターンが配列されることになるため、近隣付近の各凹凸パターン同士の反射特性が相互に異なるようになり、全体として周期構造を持たない凹凸パターンとなる。しかも、各凹凸パターンには、同じサイズの相互に共通する共通領域が存在するため、近隣付近の各凹凸パターン同士で反射特性の大きな差や変化は生じない。
【００１９】
そしてまた、上記目的を達成するための本発明による反射板の製造方法は、マトリクス状に配列された多数の画素を有する液晶表示装置に用いられ、この液晶表示装置の液晶層を通じて受けた外部からの光を反射して、前記液晶層を通じて外部へ送り出す反射板を製造するための反射板の製造方法であって、前記各画素が配列された基板上に感光性樹脂膜を積層する樹脂膜積層工程と、前記各画素それぞれに対応する領域を有し、これらの各領域に互いに異なる複数種類の光透過パターンのうちから不規則に選択された光透過パターンを有したフォトマスクを成形するマスク成形工程と、前記フォトマスクを介して前記感光性樹脂膜を露光する露光工程と、露光された前記感光性樹脂膜を現像して加熱し、前記各光透過パターンに相応する凹凸パターンを形成する現像加熱工程と、前記凹凸パターン上に高反射性金属膜を被覆する金属膜被覆工程と、を含む反射板の製造方法において、前記マスク成形工程では、前記各光透過パターンが、１つの基準光透過パターンから平行移動に基づいて抽出され、相互に共通する共通領域を有する。
【００２０】
これにより、反射板として機能する高反射性金属膜の表面には、複数種類の凹凸パターンが配列されることになるため、近隣付近の各凹凸パターン同士の反射特性が相互に異なるようになり、全体として周期構造を持たない凹凸パターンとなる。しかも、各凹凸パターンには、同じサイズの相互に共通する共通領域が存在するため、近隣付近の各凹凸パターン同士で反射特性の大きな差や変化は生じない。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の反射板によれば、反射板の表面には、複数種類の凹凸パターンが配列されることになるため、近隣付近の各凹凸パターン同士の反射特性が相互に異なるようになり、全体として周期構造を持たない凹凸パターンとなる。従って、反射光の干渉を防止することができるため、モアレは発生しない。しかも、各凹凸パターンには、同じサイズの相互に共通する共通領域が存在するため、近隣付近の各凹凸パターン同士で反射特性の大きな差や変化は生じない。従って、使用者に与えるザラツキ感が目立たなくなり、良好な表示品位を実現できる反射板となる。
【００２２】
また、本発明の液晶表示装置によれば、画素電極の表面には、複数種類の凹凸パターンが配列されることになるため、近隣付近の各凹凸パターン同士の反射特性が相互に異なるようになり、全体として周期構造を持たない凹凸パターンとなる。従って、反射光の干渉を防止することができるため、モアレは発生しない。しかも、各凹凸パターンには、同じサイズの相互に共通する共通領域が存在するため、近隣付近の各凹凸パターン同士で反射特性の大きな差や変化は生じない。従って、使用者に与えるザラツキ感が目立たなくなり、バックライトを使用しないでも、良好な表示品位を実現できる液晶表示装置となる。
【００２３】
そしてまた、本発明の反射板の製造方法によれば、反射板として機能する高反射性金属膜の表面には、複数種類の凹凸パターンが配列されることになるため、近隣付近の各凹凸パターン同士の反射特性が相互に異なるようになり、全体として周期構造を持たない凹凸パターンとなる。従って、反射光の干渉を防止することができるため、モアレの発生しない反射板を得ることができる。しかも、各凹凸パターンには、同じサイズの相互に共通する共通領域が存在するため、近隣付近の各凹凸パターン同士で反射特性の大きな差や変化は生じない。従って、使用者に与えるザラツキ感が目立たなくなり、良好な表示品位を実現できる反射板を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下に、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳述する。先ず、本発明の第１実施形態である反射板及び液晶表示装置について説明する。図１は第１実施形態である反射板の作製に用いられるフォトマスクにおける一画素に対応する領域を示す模式平面図、図２はそれらの領域の配置関係を示すフォトマスクの模式平面図、図３はそのフォトマスクにおける各光透過パターンのベースとなる基準光透過パターンを示す平面図、図４は第１実施形態の反射板の製造工程を示す縦断面図である。
【００２５】
図１及び図２に示すフォトマスク１は、マトリクス状に画素が配列された基板上に反射板となる画素電極を形成する際に用いられ、この反射板を有する基板と別の基板との間に液晶層が封入されてなる液晶パネルにより、最終的に液晶表示装置が構成される。
【００２６】
ここで、フォトマスク１における一画素に対応する単位領域２は、各辺の長さが１００μｍ〜１０００μｍの方形であり、この単位領域２には、複数の円形領域３が不規則（ランダム）に並べられる。各円形領域３は光を遮る遮光部であり、それ以外の領域は光を透過する透光部である。これが、単位領域２に形成された光透過パターンとなる。
【００２７】
特に本実施形態では、光透過パターンとして、詳細は後述の互いに異なる４種類の光透過パターンが予め準備されている。図１及び図２では、説明の便宜上、それらの各光透過パターンのうち、１種類目を四角形の記号に記号化して符号１１で、２種類目を三角形の記号に記号化して符号１２で、３種類目を菱形の記号に記号化して符号１３で、４種類目を十字形の記号に記号化して符号１４で、それぞれ示す。
【００２８】
ここで、予め準備される各光透過パターン１１，１２，１３，１４の設計手法について、図３を参照しながら説明する。この設計手法では、ＣＡＤ（Computer Aided Design）を使用して行われる。先ず、図３に示すようなベースとなる基準光透過パターンを作成する。この基準光透過パターンは、多数の円形領域３が不規則に配置されてなり、全体の広さが領域２の広さよりもはるかに広いものである。円形領域３のサイズは種々あっても構わないが、単位領域２に相当する広さの区画で任意に仕切られた場合、いずれの場所においてもその区画内に占める円形領域３が約８０％となるように設計される。また、後述するように、各円形領域３が基板上で円柱凸部となって現れるため、各円柱凸部の周縁が相互に重ならないように、隣接する円形領域３同士は最小２μｍの間隔が確保されている。
【００２９】
続いて、この基準光透過パターンから、単位領域２に相当する広さの区画２１（図３中の太実線枠参照）を定めて抽出し、この区画２１内の光透過パターンを１種類目の光透過パターン１１とする。次いで、同様の広さの区画２２（図３中の太破線枠参照）を定めて抽出し、この区画２２内の光透過パターンを２種類目の光透過パターン１２とする。その際、区画２２は、区画２１に対し任意の方向（図３では右方向）に微量に平行移動されたものであって、その一部を共通する。
【００３０】
更に、同様の広さの区画２３（図３中の細点線枠参照）を定めて抽出し、この区画２３内の光透過パターンを３種類目の光透過パターン１３とする。その際、区画２３は、区画２１に対し区画２２とは異なる任意の方向（図３では左下方向）に微量に平行移動されたものであって、その一部を共通する。最後に、同様の広さの区画２４（図３中の太点線枠参照）を定めて抽出し、この区画２４内の光透過パターンを４種類目の光透過パターン１４とする。その際、区画２４は、区画２１に対し区画２２，２３とは異なる任意の方向（図３では上方向）に微量に平行移動されたものであって、その一部を共通する。このようにして準備された各光透過パターン１１，１２，１３，１４は、相互に共通する共通領域Ｘ（図３中の斜線部参照）を有することになる。
【００３１】
そして、図２に示すように、各単位領域２には、各光透過パターン１１，１２，１３，１４のうちから不規則に選択された光透過パターンが形成され、フォトマスク１が成形される。このようなフォトマスク１により、詳細は後述するが、反射板の製造工程における感光性樹脂膜に対しての露光及び現像の際、各画素に対応する反射領域には、各光透過パターン１１，１２，１３，１４の円形領域３に相応した感光性樹脂膜の円柱凸部が生成される。
【００３２】
次に、反射板の製造工程について、図４を参照しながら具体的に説明する。先ず図４（ａ）に示すように、基板３１上に、１．２μｍ程度の厚さで感光性樹脂膜３２を積層する。なお、ここでいう基板３１は、液晶パネルの主要素である一対の基板のうちで、マトリクス状に画素が配列された一方の基板である。
【００３３】
次いで図４（ｂ）に示すように、感光性樹脂膜３２上に、上記した各光透過パターン１１，１２，１３，１４が形成されたフォトマスク１を配置して、これを露光する。これにより、各光透過パターン１１，１２，１３，１４における各円形領域３において光が遮断される一方で、これら各円形領域３以外の領域において光が透過し、感光性樹脂膜３２における各円形領域３以外の部分が露光される。
【００３４】
この露光された基板３１に現像処理を施すと、図４（ｃ）に示すように、感光性樹脂膜３２においては、露光部分すなわち各円形領域３以外の部分が溶解して除去される一方で、各円形領域３の部分が円柱凸部３３となって残る（生成する）。各円柱凸部３３の横断面は、フォトマスク１の各円形領域３に対応して一致する。
【００３５】
この現像された基板３１を１２０℃〜２５０℃程度の温度に加熱処理すると、図４（ｄ）に示すように、各円柱凸部３３の角がとれて、表面が滑らかな凸部３４が形成される。こうして、各光透過パターン１１，１２，１３，１４に相応する緩やかな起伏の微細な凹凸パターンが形成される。そして、図４（ｅ）に示すように、凸部３４を含む凹凸パターンを覆って、基板３１上の全面に、高反射率の金属薄膜である高反射性金属膜３５を所定の厚さで被覆し、完了する。
【００３６】
こうして形成された表面が凹凸状の高反射性金属膜３５が反射板として機能し、併せて画素電極として機能する。また、この反射板（高反射性金属膜３５）における各画素に対応する表面には、不規則に選択された各光透過パターン１１，１２，１３，１４に相応する凹凸パターンが形成されて、複数種類の凹凸パターンが配列されることになるため、近隣付近の凹凸パターン同士の反射特性が相互に異なるようになる。しかも、各凹凸パターンのもとであるフォトマスク１の各光透過パターン１１，１２，１３，１４が、同じサイズの相互に共通する共通領域Ｘが存在するため、近隣付近の凹凸パターン同士で反射特性の大きな差や変化は生じない。
【００３７】
なお、本実施形態では、最終的な凸部３４を形成するにあたって、これを生成するためのフォトマスク１における各光透過パターン１１，１２，１３，１４の遮光部（円形領域３）を円形としたが、これに限定されるものではなく、任意の多角形、例えば三角形や四角形や五角形等であっても構わない。また、フォトマスク１の単位領域２に形成される光透過パターンとしては、相互に共通領域Ｘを有する限り４種類に限るものではない。
【００３８】
また、凹凸パターンとなる感光性樹脂膜３２に適用される材料は、ポジタイプのものについて説明したが、ネガタイプやポジタイプのものにかかわらず、少なくともフォトリソグラフィ工程を経てパターニングできるものであればどのような材料であってもよい。感光性樹脂膜３２がポジタイプあるいはネガタイプのどちらのタイプであるかに応じて、フォトマスク１の光透過パターンの透光部及び遮光部を形成すれば足りるからである。
【００３９】
次に、本発明の第２実施形態である液晶表示装置について、図５を参照しながら説明する。図５は、第２実施形態である液晶表示装置を示す縦断面図である。図５に示すように、液晶表示装置５は、大きくは、相互に対向する一対の基板部材３０，５０と、これらの基板部材３０，５０に挟まれる液晶層６０と、より構成される。
【００４０】
一方の基板部材３０では、絶縁性を有するガラス製の基板３１上に、互いに絶縁状態で直交する複数の配線が配置されており、これらの各配線で区切られる領域で、矩形の画素領域が画成される。各画素領域には、各配線に接続されるスイッチング素子として薄膜トランジスタ素子３６（以下、「ＴＦＴ素子」と記すことがある）が形成されている。ＴＦＴ素子３６は、ゲート電極３７、ゲート絶縁膜３８、半導体層３９、ソース電極４０、ドレイン電極４１及び接続部材４２を含んで構成される。つまり、各ＴＦＴ素子３６が上記の第１実施形態でいう画素になり、これらが基板３１上でマトリクス状に配列された態様となっている。
【００４１】
また、基板３１上には、各配線及びＴＦＴ素子３６の少なくとも一部を覆って、上記の第１実施形態で説明したフォトマスク１を介した露光により、凹凸パターンを表面に有する絶縁性の感光性樹脂膜３２が積層されている。感光性樹脂膜３２上には、高反射性金属膜３５で被覆されている。こうして、反射板及び画素電極として機能する凹凸状の表面を有する高反射性金属膜３５が、マトリクス状に配列された態様となっている。各高反射性金属膜３５は、各感光性樹脂膜３２に形成されたスルーホール４３を介して接続部材４２と接続され、接続部材４２を通して更にドレイン電極４１に接続されている。
【００４２】
他方の基板部材５０では、透光性を有する絶縁性の基板５１上に、カラーフィルタ５２が形成されている。カラーフィルタ５２は、画素毎に配置される赤色フィルタ５２ａ、緑色フィルタ５２ｂ、及び青色フィルタ５２ｃよりなる。カラーフィルタ５２上には、平坦膜５３が形成され、その上に各高反射性金属膜３５（画素電極）に対向する透光性を有する対向電極５４が形成されている。
【００４３】
これらの一方の基板部材３０と他方の基板部材５０とを所定の間隔を有するようにして貼り合わせ、その隙間に液晶材料を注入して封止し、液晶層６０が形成される。更に、他方の基板部材５０の外側には、不図示の位相差板及び偏光板が順次貼り付けられている。こうして液晶表示装置５（厳密には液晶パネル）が構成されている。
【００４４】
このような液晶表示装置５によれば、反射板及び画素電極として機能する各高反射性金属膜３５により、他方の基板部材５０及び液晶層６０を順に通じて受けた外部光を反射させて、再び液晶層６０を通じて外部へ送り出すようにでき、これにより表示が行える。その際、各画素に対応する高反射性金属膜３５の表面には、複数種類の凹凸パターンが配列されることになるため、近隣付近の凹凸パターン同士の反射特性が相互に異なるようになる。従って、反射光の干渉を防止することができるため、モアレは発生しない。しかも、各凹凸パターンには、同じサイズの相互に共通する共通領域Ｘが存在するため、近隣付近の凹凸パターン同士で反射特性の大きな差や変化は生じない。従って、使用者に与えるザラツキ感が目立たなくなり、良好な表示品位を実現できる。
【実施例１】
【００４５】
上記した第１、第２実施形態の一具体例について述べておく。表示可能な表示部のサイズが１．８インチで、画素数が５６０×２４０の液晶表示装置５を作製した。この液晶表示装置５では、各画素領域のサイズが６５μｍ×１１２．５μｍであって、そのうち６０．５μｍ×２６．５μｍが反射領域である。これらの各反射領域に、上記の第１、第２実施形態に準じて複数種類の凹凸パターンを形成した。但し、本実施例では、全体として１２種類の凹凸パターンがある。つまり、これらの各凹凸パターンを生成するためのフォトマスク１には、１２種類の光透過パターンが必要となる。
【００４６】
この１２種類の光透過パターンの設計手法について、図６を参照しながら説明する。図６は本実施例でのフォトマスクにおける各光透過パターンのベースとなる基準光透過パターンを示す平面図である。本実施例での基準光透過パターンでは、図６に示すように、直径６μｍの円形領域３が最小２μｍの間隔をあけて不規則に配置されている。また、単位領域２（図１及び図２参照）に相当する６０．５μｍ×２６．５μｍのサイズの区画で任意に仕切られた場合、いずれの場所においてもその区画内に占める円形領域３が約８０％となっている。
【００４７】
この基準光透過パターンから、上記の区画を１２箇所定めてそれぞれ抽出し、各区画内の光透過パターンそれぞれを１２種類のうちの各光透過パターンとする。その際、各区画は、ある１つの区画を基準に４μｍずつ上下左右の方向（図６中の実線矢印参照）に平行移動されたものであって、互いに一部を共通する。このような各光透過パターンにおいては、共通領域（図６中の斜線部参照）の占める割合が約４０％である。
【００４８】
このような液晶表示装置５によれば、モアレがなく、なおかつ従来と比較して、ザラツキ感の目立たない良好な表示品位が確認できた。
【００４９】
その他本発明は上記の各実施形態及び実施例に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。例えば、各光透過パターンにおける共通領域の占める割合は、４０％では上記した通りの効果が実証できたが、これ以上であっても構わない。但し、その割合を大きくし過ぎると、各光透過パターンに相応する凹凸パターンの反射特性が相互に同じに近づき、モアレが誘発され易くなるため、留意が必要である。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明は、バックライトを使用しないマトリクス型の液晶表示装置に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の第１実施形態である反射板の作製に用いられるフォトマスクにおける一画素に対応する領域を示す模式平面図である。
【図２】第１実施形態でのフォトマスクの模式平面図である。
【図３】第１実施形態でのフォトマスクにおける各光透過パターンのベースとなる基準光透過パターンを示す平面図である。
【図４】第１実施形態の反射板の製造工程を示す縦断面図である。
【図５】本発明の第２実施形態である液晶表示装置を示す縦断面図である。
【図６】実施例１でのフォトマスクにおける各光透過パターンのベースとなる基準光透過パターンを示す平面図である。
【図７】従来の反射板の作製に用いられるフォトマスクにおける一画素に対応する領域を示す模式平面図である。
【図８】従来でのフォトマスクの模式平面図である。
【図９】従来の反射板の反射特性を説明する模式斜視図である。
【符号の説明】
【００５２】
１    フォトマスク
２    単位領域
３    円形領域
５    液晶表示装置
１１，１２，１３，１４    光透過パターン
３１    基板
３２    感光性樹脂膜
３３    円柱凸部
３４    凸部
３５    高反射性金属膜（反射板）
【図１】
2005148619.tif 000003
【図２】
2005148619.tif 000004
【図３】
2005148619.tif 000005
【図４】
2005148619.tif 000006
【図５】
2005148619.tif 000007
【図６】
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【図７】
2005148619.tif 000009
【図８】
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【図９】
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