(57)【要約】    【課  題】  工業的に有利なシアノ化合物の製造法を提供することを課題とする。特に、光学純度及び収率が優れたシアノ化合物の製造法を提供することを課題とする。    【解決手段】  カルボニル化合物と少なくとも１つのα水素原子を有するニトリル類を、配位子及び下記一般式（３）【化１】2005041865.tif 000017（式（３）中、Ｍは銅原子又は銀原子を表し、Ｘはアルコキシ基、アルキル基、アリール基又はアニオン性残基を表す。）で表される金属化合物の存在下に反応させることを特徴とするシアノ化合物の製造法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルボニル化合物と少なくとも１つのα水素原子を有するニトリル類を、配位子及び下記一般式（３）
【化１】
2005041865.tif 000013
（式（３）中、Ｍは銅原子又は銀原子を表し、Ｘはアルコキシ基、アルキル基、アリール基又はアニオン性残基を表す。）
で表される金属化合物の存在下に反応させることを特徴とするシアノ化合物の製造法。  
【請求項２】
カルボニル化合物が下記一般式（１）
【化２】
2005041865.tif 000014
（式（１）中、Ｒ及びＲ１は、水素原子、置換基を有してもよい炭化水素基又は置換基を有してもよい複素環基を表す。ただし、Ｒ及びＲ１が同時に水素原子になることはない。）
で表される化合物であることを特徴とする請求項１記載の製造法。
【請求項３】
少なくとも１つのα水素原子を有するニトリル類が下記一般式（２）
【化３】
2005041865.tif 000015
（式（２）中、Ｒ２及びＲ３は独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭化水素基又は置換基を有してもよい複素環基を表す。）
で表されるニトリル類であり、シアノ化合物が下記一般式（４）
【化４】
2005041865.tif 000016
（式（４）中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記と同じ意味を表す。）
で表される化合物であることを特徴とする請求項１又は２に記載の製造法。
【請求項４】
配位子がホスフィン化合物であることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の製造法。
【請求項５】
配位子が光学活性二座配位子であり、一般式（４）の化合物が光学活性体であることを特徴とする請求項３に記載の製造法。
【請求項６】
光学活性二座配位子がリン原子又は窒素原子を介して配位する化合物であることを特徴とする請求項５に記載の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はシアノ化合物の製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シアノ化合物は、医薬、農薬などの中間体等として有用であり、更にはシアノ基が容易に加水分解されることによりカルボン酸へ誘導できることから、カルボン酸の等価体としても有用である。
【０００３】
このようなシアノ化合物を合成する方法として、有機合成的手法又は酵素を用いた合成法等が数多く報告されている。シアノ基を導入する方法として多いのがシアン化物イオンを用いる方法であるが、シアノメチル化合物をシアノ基の導入剤として用い、アルデヒド又はケトンと反応させシアノ化合物を合成した例も知られている。例えば、（トリメチルシリル）アセトニトリルを求核剤として用いる反応（非特許文献１）やプロアザホスファトランを塩基触媒とするアセトニトリルのアルデヒドやケトンへの付加反応（非特許文献２）などが報告されている。
【非特許文献１】Palomo,C etal.,J.Chem.Soc.perkin Trans.I 1989,1692
【非特許文献２】Verkade,J. etal.,J.Org.Chem.1999,64,3090
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、工業的に有利なシアノ化合物の製造法を提供することを課題とする。特に、光学純度及び収率が優れたシアノ化合物の製造法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、特定の金属化合物と配位子が存在する条件下で、カルボニル化合物とニトリル類を反応させることにより、シアノ化合物が工業的有利に得られることを見出し、更に配位子として光学活性体を用いることにより光学活性シアノ化合物が高い光学純度且つ収率よく得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
即ち、本発明は、
（１）カルボニル化合物と少なくとも１つのα水素原子を有するニトリル類を、配位子及び下記一般式（３）
【化１】
2005041865.tif 000002
（式（３）中、Ｍは銅原子又は銀原子を表し、Ｘはアルコキシ基、アルキル基、アリール基又はアニオン性残基を表す。）
で表される金属化合物の存在下に反応させることを特徴とするシアノ化合物の製造法、
（２）カルボニル化合物が下記一般式（１）
【化２】
2005041865.tif 000003
（式（１）中、Ｒ及びＲ１は、水素原子、置換基を有してもよい炭化水素基又は置換基を有してもよい複素環基を表す。ただし、Ｒ及びＲ１が同時に水素原子になることはない。）
で表される化合物であることを特徴とする上記（１）記載の製造法、
【０００７】
（３）少なくとも１つのα水素原子を有するニトリル類が下記一般式（２）
【化３】
2005041865.tif 000004
（式（２）中、Ｒ２及びＲ３は独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭化水素基又は置換基を有してもよい複素環基を表す。）
で表されるニトリル類であり、シアノ化合物が下記一般式（４）
【化４】
2005041865.tif 000005
（式（４）中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は前記と同じ意味を表す。）
で表される化合物であることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の製造法、
（４）配位子がホスフィン化合物であることを特徴とする上記（１）〜（３）の何れかに記載の製造法、
【０００８】
（５）配位子が光学活性二座配位子であり、一般式（４）の化合物が光学活性体であることを特徴とする上記（３）に記載の製造法、及び、
（６）光学活性二座配位子がリン原子又は窒素原子を介して配位する化合物であることを特徴とする上記（５）に記載の製造法、
に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、シアノ化合物が工業的有利に、より詳しくは、高い光学純度と高収率で製造できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の製造法における一般式（１）で示されるカルボニル化合物において炭化水素基の一つとしてはアルキル基が挙げられ、直鎖状でも、分岐状でも或いは環状でもよい。これらアルキル基は例えば炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２−メチルペンタン−３−イル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００１１】
また、これらアルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、炭化水素基、脂肪族複素環基、芳香族複素環基、アルコキシ基、アルキレンジオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、ヘテロアリールチオ基、アミノ基、置換アミノ基、シアノ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、トリアルキルシリル基及びハロゲン原子等が挙げられる。
【００１２】
アルキル基に置換する炭化水素基としては、例えばアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
【００１３】
アルキル基としては、直鎖状でも、分岐状でも或いは環状でもよい、例えば炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２−メチルペンタン−３−イル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００１４】
アルケニル基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６のアルケニル基が挙げられ、具体的にはエテニル基、プロペニル基、１−ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基等が挙げられる。
【００１５】
アルキニル基としては、直鎖状でも分岐状でもよい、例えば炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６のアルキニル基が挙げられ、具体的にはエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基等が挙げられる。
【００１６】
アリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等が挙げられる。
【００１７】
アラルキル基としては、前記アルキル基の少なくとも１個の水素原子が前記アリール基で置換された基が挙げられ、例えば炭素数７〜１２のアラルキル基が好ましく、具体的にはベンジル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、３−ナフチルプロピル基等が挙げられる。
【００１８】
脂肪族複素環基としては、例えば炭素数２〜１４で、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる、５〜８員、好ましくは５又は６員の単環の脂肪族複素環基、多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、ピロリジル−２−オン基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチエニル基等が挙げられる。
【００１９】
芳香族複素環基としては、例えば炭素数２〜１５で、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる、５〜８員、好ましくは５又は６員の単環式ヘテロアリール基、多環式又は縮合環式のヘテロアリール基が挙げられ、具体的にはフリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、ピリダジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、フタラジル基、キナゾリル基、ナフチリジル基、シンノリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
【００２０】
アルコキシ基としては、直鎖状でも分岐状でも或いは環状でもよい、例えば炭素数１〜６のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、２−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、２−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、２−メチルブトキシ基、３−メチルブトキシ基、２，２−ジメチルプロピルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、２−メチルペンチルオキシ基、３−メチルペンチルオキシ基、４−メチルペンチルオキシ基、５−メチルペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【００２１】
アルキレンジオキシ基としては、例えば炭素数１〜３のアルキレンジオキシ基が挙げられ、具体的にはメチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、プロピレンジオキシ基等が挙げられる。
【００２２】
アリールオキシ基としては、例えば炭素数６〜１４のアリールオキシ基が挙げられ、具体的にはフェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基等が挙げられる。
【００２３】
アラルキルオキシ基としては、例えば炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基が挙げられ、具体的にはベンジルオキシ基、２−フェニルエトキシ基、１−フェニルプロポキシ基、２−フェニルプロポキシ基、３−フェニルプロポキシ基、１−フェニルブトキシ基、２−フェニルブトキシ基、３−フェニルブトキシ基、４−フェニルブトキシ基、１−フェニルペンチルオキシ基、２−フェニルペンチルオキシ基、３−フェニルペンチルオキシ基、４−フェニルペンチルオキシ基、５−フェニルペンチルオキシ基、１−フェニルヘキシルオキシ基、２−フェニルヘキシルオキシ基、３−フェニルヘキシルオキシ基、４−フェニルヘキシルオキシ基、５−フェニルヘキシルオキシ基、６−フェニルヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【００２４】
ヘテロアリールオキシ基としては、例えば、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる、炭素数２〜１４のヘテロアリールオキシ基が挙げられ、具体的には、２−ピリジルオキシ基、２−ピラジルオキシ基、２−ピリミジルオキシ基、２−キノリルオキシ基等が挙げられる。
【００２５】
アルキルチオ基としては、直鎖状でも分岐状でも或いは環状でもよい、例えば炭素数１〜６のアルキルチオ基が挙げられ、具体的にはメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、２−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、２−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基等が挙げられる。
【００２６】
アリールチオ基としては、例えば炭素数６〜１４のアリールチオ基が挙げられ、具体的にはフェニルチオ基、ナフチルチオ基等が挙げられる。
【００２７】
アラルキルチオ基としては、例えば炭素数７〜１２のアラルキルチオ基が挙げられ、具体的にはベンジルチオ基、２−フェネチルチオ基等が挙げられる。
【００２８】
ヘテロアリールチオ基としては、例えば、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる、炭素数２〜１４のヘテロアリールチオ基が挙げられ、具体的には、例えば４−ピリジルチオ基、２−ベンズイミダゾリルチオ基、２−ベンズオキサゾリルチオ基、２−ベンズチアゾリルチオ基等が挙げられる。
【００２９】
置換アミノ基としては、アミノ基の１個又は２個の水素原子がアルキル基、アリール基またはアラルキル基等の置換基で置換されたアミノ基が挙げられる。
アルキル基で置換されたアミノ基、即ちアルキル基置換アミノ基の具体例としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基が挙げられる。
【００３０】
アリール基で置換されたアミノ基、即ちアリール基置換アミノ基の具体例としては、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基が挙げられる。
【００３１】
アラルキル基で置換されたアミノ基、即ちアラルキル基置換アミノ基の具体例としては、Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基が挙げられる。
【００３２】
トリアルキルシリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基又はｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。
【００３３】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００３４】
これらの置換基の中でも、炭化水素基、脂肪族複素環基、芳香族複素環基、アルコキシ基、アルキレンジオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、ヘテロアリールチオ基又は置換アミノ基は、上記置換基の群から選ばれる基によってさらに置換されていてもよい。
【００３５】
また、一般式（１）のカルボニル化合物における炭化水素基の一つとしては鎖状又は環状の直鎖あるいは分岐してもよいアルケニル基が挙げられ、具体的にはエテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−シクロペンテニル基、３−シクロペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、１−シクロヘキセニル基及び３−シクロヘキセニル基等が挙げられる。
【００３６】
また、これらアルケニル基は置換基を有していてもよく該置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子、アリール基、脂肪族複素環基及び芳香族複素環基等が挙げられ、具体例としては前記したようなものが挙げられる。
【００３７】
また、一般式（１）のカルボニル化合物における炭化水素基の一つとしては直鎖又は分岐していてもよいアルキニル基が挙げられ、具体的には、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１−ヘキシニル基、２−ヘキシニル基、３−ヘキシニル基、４−ヘキシニル基及び５−ヘキシニル基等が挙げられる。
【００３８】
また、これらアルキニル基は置換基を有していてもよく該置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環基、トリアルキルシリル基等が挙げられ、アルキル基、アリール基、複素環基の具体例としては前記したようなものが挙げられる。
【００３９】
また、一般式（１）のカルボニル化合物における炭化水素基の一つとしてはアリール基が挙げられ、具体的には前記したようなアリール基が挙げられる。また、これらアリール基は置換基を有してもよく該置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環基等が挙げられ、具体例としては前記したようなものが挙げられる。
【００４０】
一般式（１）のカルボニル化合物における複素環基としては、脂肪族又は芳香族複素環基が挙げられ、具体的には前記したような複素環基が挙げられる。また、これら複素環基は置換基を有してもよく該置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環基等が挙げられ、具体例としては前記したようなものが挙げられる。
【００４１】
本発明における一般式（２）で示されるニトリル類において炭化水素基の一つとしてはアルキル基が挙げられ、直鎖状でも、分岐状でも或いは環状でもよい。これらアルキル基は例えば炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２−メチルペンタン−３−イル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００４２】
また、これらアルキル基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、炭化水素基、脂肪族複素環基、芳香族複素環基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、ヘテロアリールチオ基、置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基及びハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては前記したようなものが挙げられる。
【００４３】
また、一般式（２）のニトリル類における炭化水素基の一つとしてはアリール基が挙げられ、具体的には前記したようなアリール基が挙げられる。また、これらアリール基は置換基を有してもよく該置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環基等が挙げられ、具体例としては前記したようなものが挙げられる。
【００４４】
一般式（２）のニトリル類における複素環基としては、脂肪族又は芳香族複素環基が挙げられ、具体的には前記したような複素環基が挙げられる。また、これら複素環基は置換基を有してもよく該置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環基等が挙げられ、具体例としては前記したようなものが挙げられる。
【００４５】
本発明の製造法において、原料として用いられる一般式（１）で示されるカルボニル化合物及び一般式（２）で示されるニトリル類は、市販品をそのまま用いても、必要に応じてこれを適宜精製して用いても、あるいは自体公知の一般的な製法で自製したものを用いてもよい。
【００４６】
次に、本発明で用いられる配位子について説明する。
本発明で用いられる配位子としては、単座又は二座配位子が好ましく、配位する原子としてリン原子又は窒素原子を有するものが好ましい。具体的にはリン原子で配位する単座配位子としては下記一般式（５）で表される三置換ホスフィン化合物が挙げられ、二座配位子としては下記一般式（６）で表されるホスフィン化合物が挙げられる。
【化５】
2005041865.tif 000006
【化６】
2005041865.tif 000007
（式（５）中、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基又は複素環基を表す。式（６）中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９及びＲ１０はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基又は複素環基を表し、Ｑはスペーサーを表す。）
一般式（５）及び（６）で表される三置換ホスフィン化合物及び二座配位性ホスフィン化合物におけるアルキル基としては直鎖状でも、分岐状でも或いは環状でもよい、例えば炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、２−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、２−ヘキシル基、３−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、２−メチルペンタン−３−イル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロペンチル基及びメチルシクロヘキシル基等が挙げられる。
【００４７】
また、一般式（５）及び（６）で表される三置換ホスフィン化合物及び二座配位性ホスフィン化合物におけるアリール基としては、例えば炭素数６〜１４のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらアリール基は置換基を有してもよく該置換基としては、アルキル基、アリール基、複素環基等が挙げられ、置換基の具体例としては前記したようなものが挙げられる。
【００４８】
また、一般式（５）で表される三置換ホスフィン化合物及び二座配位性ホスフィン化合物における複素環基としては、脂肪族又は芳香族複素環基が挙げられ、脂肪族複素環基としては、例えば炭素数２〜１４で、異種原子として少なくとも１個の例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる、５〜８員、好ましくは５又は６員の単環の脂肪族複素環基、多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、ピロリジル−２−オン基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチエニル基等が挙げられる。
【００４９】
芳香族複素環基としては、例えば炭素数２〜１５で、異種原子として少なくとも１個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等の異種原子を含んでいる、５〜８員、好ましくは５又は６員の単環式ヘテロアリール基、多環式又は縮合環式のヘテロアリール基が挙げられ、具体的にはフリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、ピリダジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、フタラジル基、キナゾリル基、ナフチリジル基、シンノリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
【００５０】
一般式（６）で表される二座配位性ホスフィン化合物におけるＱで表されるスペーサーとしては、アルキレン基、フェニレン基、ビフェニルジイル基及びビナフタレンジイル基等が挙げられる。アルキレン基としては例えば、炭素数１〜６の具体的にはメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基及びヘキサメチレン基が挙げられ、これらのメチレン鎖は前記したようなアルキル基、アリール基又は複素環基で置換されてもよい。フェニレン基としては、ｏ，ｍ又はｐ−フェニレン基であり、該フェニレン基は前記アルキル基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基又は置換アミノ基等で置換されていてもよい。ビフェニルジイル基及びビナフタレンジイル基としては、１，１’−ビアリール−２，２’−ジイル型の構造を有するものが好ましく、該ビフェニルジイル基及びビナフタレンジイル基は前記アルキル基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基又は置換アミノ基等で置換されてもよい。
【００５１】
次に、本発明で用いられる光学活性配位子について説明する。
本発明で用いられる光学活性配位子化合物としては、光学活性単座配位子、光学活性ニ座配位子などが挙げられ、配位する原子として窒素原子又はリン原子を有するものが好ましい。具体的には、光学活性ビスホスフィン類およびその他の光学活性ホスフィン類、光学活性ビス複素環類等が挙げられる。
【００５２】
光学活性ビスホスフィン類としては、例えば本出願前公知の光学活性ビスホスフィン類が挙げられ、その一つとして軸不斉構造を有する一般式（７）
【化７】
2005041865.tif 000008
（式中、Ｒ１１及びＲ１２は、同一又は異なっていてもよく、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基を示す）
で表される化合物が挙げられる。フェニル基の置換基として、アルキル基としては例えば、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の直鎖又は分岐してもよい炭素数１〜６のアルキル基、アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の直鎖又は分岐してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等のハロゲン原子が挙げられる。具体的なＲ１１及びＲ１２としては、フェニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基、３，５−キシリル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等が挙げられる。また、一般式（７）で表される化合物のビナフチル環はメチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基；メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等のアルコキシ基；トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等のトリアルキルシリル基及びトリフェニルシリル基等のトリアリールシリル基で置換されてもよい。
【００５３】
さらに、軸不斉構造を有する光学活性ビスホスフィン類の一つとしては下記一般式（８）
【化８】
2005041865.tif 000009
（式中、Ｒ１３及びＲ１４は、同一又は異なっていてもよく、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基を示す。Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、同一又は異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ハロアルキル基又はジアルキルアミノ基を示し、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７の内の二つで置換基を有していてもよいメチレン鎖又は置換基を有していてもよいポリメチレンジオキシ基を形成していてもよく、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０の内の二つで置換基を有していてもよいメチレン鎖又は置換基を有していてもよいポリメチレンジオキシ基を形成していてもよい。ただし、Ｒ１７とＲ２０は同時には水素原子ではない。）
で表されるホスフィン化合物が挙げられる。
【００５４】
フェニル基の置換基として、アルキル基としては例えば、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の直鎖又は分岐してもよい炭素数１〜６のアルキル基、アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の直鎖又は分岐してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、ハロゲン原子としては例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられ、これら置換基は該フェニル基上を複数置換してもよい。
【００５５】
具体的なＲ１３又はＲ１４としては、フェニル基、ｐ−トリル基、ｍ−トリル基、ｏ−トリル基、３，５−キシリル基、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｍ−フルオロフェニル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等が挙げられる。
【００５６】
また、Ｒ１５〜Ｒ２０における、アルキル基としては例えば、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の直鎖又は分岐してもよい炭素数１〜６のアルキル基、アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の直鎖又は分岐してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、アシルオキシ基としては例えば、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基及びベンゾイルオキシ基、ハロゲン原子としては例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられ、ハロアルキル基としては例えば、トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のハロアルキル基が挙げられ、ジアルキルアミノ基としては例えば、ジメチルアミノ基又はジエチルアミノ基等が挙げられる。
【００５７】
Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７の内の二つでメチレン鎖を形成する場合及び、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０の内の二つでメチレン鎖を形成する場合のメチレン鎖としては炭素数３〜５のメチレン鎖が好ましく、具体的にはトリメチレン基、テトラメチレン基及びペンタメチレン基が挙げられる。また、置換基を有していてもよいメチレン鎖の置換基としては、アルキル基及びハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては炭素数１〜６の前記したようなアルキル基及びフッ素原子等が挙げられる。
【００５８】
Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７の内の二つで置換基を有していてもよいポリメチレンジオキシ基を形成する場合及びＲ１８、Ｒ１９及びＲ２０の内の二つで置換基を有していてもよいポリメチレンジオキシ基を形成する場合のメチレン鎖としては炭素数１〜３のメチレン鎖が好ましく、具体的にはメチレン基、エチレン基及びトリメチレン基が挙げられる。また、該ポリメチレンジオキシ基に置換する置換基としては、アルキル基及びハロゲン原子等が挙げられ、具体例としては炭素数１〜６の前記したようなアルキル基及びフッ素原子等が挙げられる。
【００５９】
さらに用いることのできる他の光学活性ホスフィン類としては、１−（２−（ジ置換ホスフィノ）フェニル）−２−置換−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ホスフィンドール、ビス（２−置換−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ホスフィンドール−１−イル）アルカン、ビス（２−置換−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ホスフィンドール−１−イル）アレーン、２，２’−ビス（ジ置換ホスフィノ）−７，７’−（ヒドロカルビレンジオキシ）−１，１’−ビナフチル、１，１’−ビアリール−２，２’−ビス（２，５−ジ置換ホスホール）、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−［１’，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルアミン、２，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１−シクロヘキシル−１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１−置換−３，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン、２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，２−ビス｛（ｏ−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ｝エタン、１，２−ビス（２，５−ジ置換ホスホラノ）ベンゼン、１，２−ビス（２，５−ジ置換ホスホラノ）エタン、１−（２，５−ジ置換ホスホラノ）−２−（ジフェニルホスフィノ）ベンゼン、１−（２，５−ジ置換ホスホラノ）−２−（ジ（置換フェニル）ホスフィノ）ベンゼン、５，６−ビス（ジフェニルホスフィノ）−２−ノルボルネン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−Ｎ，Ｎ’−ビス（１−フェニルエチル）エチレンジアミン、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、２，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、４，１２−ビス（ジフェニルホスフィノ）−[２，２]−パラシクロファン、１，１’−ビス（２，４−ジ置換−ホスホタノ）フェロセン、１−（２−（ジ置換ホスフィノ）フェロセニル）エチルジ置換ホスフィン、１−（２−ジ置換ホスフィノ−１−ナフチル）イソキノリン及び２−（２−（２−置換ホスフィノ）フェニル）−４−（１−メチルエチル）−４，５−ジヒドロオキサゾール等が挙げられる。もちろん本発明に用いることのできるホスフィン配位子はこれらに何ら限定されるものではない。なお、前記式中の置換とは、置換可能な基で置換されていることを示すものである。
そのような置換基は、具体的には、上記した種々の置換基より適宜に選択することができるが、上記した置換基を有する光学活性ホスフィン化合物が、すでに種々知られているのでそのような公知化合物の置換基が上記置換基として便宜に採用され得る。
【００６０】
光学活性ビス複素環類としては、下記一般式（９）
【化９】
2005041865.tif 000010
（式中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、これらが結合している炭素が不斉炭素になるように同じか又は異なる基であり、水素原子（但し、Ｒ２１及びＲ２２は同時に水素原子ではなく、Ｒ２３及びＲ２４は同時に水素原子ではない。）；炭素数１〜６のアルキル基；炭素数１〜６のアルキルチオ基；炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいフェニル基；又は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる１以上の置換基で置換されていてもよいベンジル基を表す。また、Ｒ２１とＲ２２及びＲ２３とＲ２４とで置換基を有していてもよいトリメチレン基又はテトラメチレン基を形成してもよい。Ｚ１及びＺ２は独立して、酸素原子、硫黄原子又はメチレン基を表す。Ａは置換基を有してもよいメチレン鎖、フェニレン基、ピリジン−２，６−ジイル基、ビフェニル基又はビナフチル基を表し、ビフェニル基及びビナフチル基である場合は軸不斉構造を有してもよい。）
で表される光学活性ビス複素環化合物が挙げられる。
【００６１】
前記一般式（９）のビス複素環化合物において、炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
炭素数１〜６のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、イソプロピルチオ基又はｔｅｒｔ−ブチルチオ基等の直鎖又は分岐のアルキルチオ基が挙げられる。
また、置換されてもよいフェニル基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、アニシル基及びクロロフェニル基等が挙げられる。
また、置換されてもよいベンジル基としてはベンジル基、１−フェニルエチル基、４−メチルベンジル基、４−メトキシベンジル基及び４−クロロベンジル基等が挙げられる。
Ｒ２１とＲ２２及びＲ２３とＲ２４とでトリメチレン、テトラメチレン基を形成する場合の置換基としては、前記したようなアルキル基又はフェニル基が挙げられる。
【００６２】
Ａが置換基を有してもよいメチレン鎖の場合の炭素数としては１〜４が好ましく、置換基としては、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基及びフェニル基等が挙げられ、これら置換基は単数又は複数置換してもよい。
前記した光学活性ホスフィン化合物及びビス複素環化合物のほかに用いられる光学活性配位子としては、（５，５’，６，６’，７，７’，８，８’）−オクタヒドロ−８，８’−ジ置換−２，２’−ビキノリル、２−（２−アルキルチオフェニル）−４−置換−オキサゾリン、Ｎ−フェニル−２−（２，３−ジ置換ピリジル）−４−置換−チアゾリジン、２，２’−０，０’−（１，１’−ビナフチル）−ジオキソ−Ｎ，Ｎ−ジ置換ホスホリジン類及び１，２−シクロヘキサンジアミノ−Ｎ，Ｎ’−ビスサリシリデン類等が挙げられる。なお、前記中の置換とは、置換可能な基で置換されていることを示すものであり、該置換基は光学活性であってもよい。また、軸不斉を取ることができる構造のものは軸不斉であってもよい。
【００６３】
本発明の製造法で用いられる一般式（３）で示される金属化合物ＭＸのＸとしては、アルコキシ基、アルキル基、アリール基及びアニオン性残基が挙げられる。アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基およびｔｅｒｔ−ブチルオキシ基等の直鎖または分岐のアルコキシ基が挙げられる。アルキル基としてはメチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル基が挙げられる。アリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基及びメシチル基等のアリール基が挙げられる。アニオン性残基としては有機系残基又は無機系残基が挙げられ、有機系残基としてはカルボン酸又はスルホン酸等からプロトンとして水素原子が解離した負１価の残基が挙げられ、具体的にはアセテート、ベンゾエート、トリフルオロアセテート、メタンスルホネート、ｐ−トルエンスルホネート及びトリフルオロメタンスルホネート等が挙げられる。無機系残基としては、ＣｌＯ４、ＢＰｈ４、ＢＦ４、ＰＦ６等が挙げられる。
【００６４】
本発明の一般式（３）で示される金属化合物ＭＸを調製する際の原料化合物としては、１価の銅又は銀化合物が好ましく、ハロゲン化物が更に好ましい。具体的には塩化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、塩化銀、臭化銀及びヨウ化銀等が挙げられる。
【００６５】
本発明の一般式（３）で示される金属化合物ＭＸの調製法は、Tsuda らの文献(J.Am.Chem.Soc., 1972,94, 658)に記載の方法に従って、Ｍが銅でＸがアルコキシ基の場合は、前記した塩化銅等の銅化合物にナトリウム、カリウム等のアルカリ金属化合物のアルコキシドを作用させ、銅アルコキシドとすることにより得られる。また、ここで得られた銅アルコキシドは所望により昇華等の精製操作を行い反応に供することも可能である。また、別法としてSaegusa,Tらの文献（Inorg.Chem.1981,20,2728）に記載の方法に従って、塩化銅等にアリール又はアルキルグリニア試薬を作用させ、銅アリール化合物又は銅アルキル化合物とした後、アルコールを作用させることによっても得られ、得られたアルコキシドは単離精製又はアルコキシド化時の反応溶液状態等の未精製のままで反応に供することも可能である。
【００６６】
本発明の製造法は、好ましくは一般式（３）で示される金属化合物、一般式（５）〜（９）で表される配位子を含む溶液に、一般式（２）で表されるニトリル類及び一般式（１）で表されるカルボニル化合物を順次加え、適当な反応温度及び反応時間で撹拌することにより目的物である一般式（４）で表されるシアノ化合物を製造することができる。
本発明で製造されるシアノ化合物は、光学活性であってよく、より具体的には、一般式（４’）
【化１０】
2005041865.tif 000011
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、前記と同意義である。２つの＊の少なくとも一方は不斉炭素を表す。）
で示される光学活性化合物であってよい。
また、金属化合物及び配位子を含む溶液は、この段階で予め適当な時間撹拌することにより、触媒活性が向上することがある。本反応は窒素又はアルゴン等の不活性ガス中で行うことが好ましい。
【００６７】
一般式（２）で表されるニトリル類の使用量は、一般式（１）で示されるカルボニル化合物に対して、１倍モル〜５０倍モル、好ましくは５倍モル〜２５倍モル用いれば充分である。
一般式（３）で示される金属化合物の使用量は、一般式（１）で示されるカルボニル化合物に対して０．１モル％〜１００モル％、好ましくは１モル％〜５０モル％、より好ましくは５モル％〜３０モル％用いれば充分である。
【００６８】
同様に、一般式（５）で表される単座配位子は一般式（３）で表される金属化合物に対して２倍モル〜４倍モル、好ましくは２．５倍モル〜３．５倍モル用いることができ、一般式（６）、（７）、（８）及び（９）で示される光学活性体を含む二座配位子は、一般式（３）で表される金属化合物に対して１倍モル〜３倍モル、好ましくは１．５倍モル〜２．５倍モル用いれば充分である。
【００６９】
反応溶媒としては、反応に関与しないものであれば特に制限は無いが、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロアミド等のアミド類、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ｏ−ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ｔｅｒｔ−ブタノール等の非求核性のアルコール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジメトキシエタン、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル類及びジメチルスルホキシド等のスルホキシド類等が挙げられる。より好ましい溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類及びジメチルスルホキシド等が挙げられる。これら溶媒は夫々単独で用いても二種以上適宜組み合わせて用いてもよい。
【００７０】
また、本発明においては酸化合物又は塩基化合物等の添加物を反応系内に添加することにより、反応速度及び生成物の光学純度等が向上することがある。
【００７１】
反応温度は、使用する基質により自ずから異なるが、通常−３０℃〜８０℃、好ましくは−２０℃〜６０℃の範囲で行うことができる。
反応時間は、使用する基質により自ずから異なるが、通常０．５時間〜１００時間、好ましくは１時間〜８０時間である。
反応終了後は、塩化アンモニウム水溶液等で処理するなど適当な処理を行い、酢酸エチル等の適当な溶媒により抽出し、抽出液から溶媒を除去し、結晶化、蒸留又は各種クロマトグラフィー等の操作を単独又は組み合わせることにより目的のシアノ化合物を得ることができる。
【実施例】
【００７２】
以下、実施例により更に詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、光学純度は及びジアステレオ比は、HPLC(カラム：キラルセルＯＪ−Ｈ、キラルセルＯＤ−Ｈ又はキラルパックＡＳ−Ｈ（ダイセル社製）、移動相：イソプロパノール／ヘキサン)にて決定した。
【００７３】
〔実施例１〕
シアノ化合物の合成
アルゴン雰囲気下、文献記載の方法で予め調製したCuO(tert-Bu)(0.03mmol,60μL THF溶液)及び1,2-ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（以下、dppeと略す）(18mg,0.045mmol)を加え撹拌した後、１時間真空下で揮発分を除去した。得られた残渣にジメチルスルホキシド0.3mL、プロピオニトリル0.3mL及びベンズアルデヒド(30μL,0.3mmol)を加え室温で反応を開始した。２時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで分液し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）を行うことによって目的とする３−ヒドロキシ−２−メチル−３−フェニルプロピオニトリルを９０％の収率で得た。このもののジアステレオ比を測定したところsyn:anti=1.5:1であった。
1H-NMR (CDCl3) δ: 
syn体  1.23(d, J=7.1Hz, 3H), 2.64(brs, 1H), 2.97(dq, J=5.8, 7.1Hz, 1H), 4.77(brd, J=5.8Hz, 1H), 7.35(m, 5H)
anti体  1.20(d, J=7.0Hz, 3H), 2.72(brs, 1H), 2.88(dq, J=6.4, 7.0Hz, 1H), 4.67(brd, J=6.4Hz, 1H), 7.35(m, 5H)
tert-Buは、第３級ブチルを、ＴＨＦはテトラヒドロフランを意味する。以下同じ。
【００７４】
〔実施例２〜１３〕
基質及び配位子を種種変えて種々のカルボニル化合物、ニトリル類及び単座又は二座配位子を用い、実施例１と同様の操作を行った結果を表１に示す。ｍｏｌ％は一般式（１）のカルボニル化合物に対するものである。略号は以下の意味を表す。
Ph=フェニル基、Cy=シクロヘキシル基、i-Bu=イソブチル基、Et=エチル基、THF=テトラヒドロフラン、DMF=Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、DMSO=ジメチルスルホキシド。
また、実施例１３のジアステレオ比はsyn:anti=1.6:1であった。
【００７５】
【表１】
2005041865.tif 000012
【００７６】
〔実施例１４〕
光学活性シアノ化合物の合成
アルゴン雰囲気下、文献記載の方法で予め調製したCuO(tert-Bu) (0.03mmol,60μL THF溶液)及び（R）−DTBM−SEGPHOS(53mg,0.045mmol)を加え撹拌した後、１時間真空下で揮発分を除去した。得られた残渣にＤＭＦ0.3mL、アセトニトリル(0.32mL,6mmol)及び2,2−ジメチル−3−フェニルプロピオンアルデヒド(0.49g,0.3mmol)を加え４℃で４８時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで分液し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）を行うことによって目的とする３−ヒドロキシ−４，４−ジメチル−５−フェニルペンタンニトリルを４５％の収率で得た。このもののエナンチオマー過剰率を測定したところ５３％eeで絶対配置は（Ｒ）体であった。
1H-NMR (CDCl3) δ: 0.93(s, 3H), 1.01(s, 3H), 2.58(m, 4H), 2.82(d, J=13.2Hz, 1H), 3.77(dd, J=3.1, 9.5Hz, 1H), 7.23(brd, J=7.3Hz, 2H), 7.3-7.38(m, 3H)
13C-NMR : 21.63, 21.65, 23.21, 38.68, 44.51, 73.55, 119.03, 126.35, 128.03, 130.56, 137.59
ＤＴＢＭ−ＳＥＧＰＨＯＳは（４，４−ビ−１，３−ベンゾジオキソール）−５，５’−ジイル−ビス[ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）ホスフィン]を意味する。
【００７７】
〔実施例１５〕
光学活性シアノ化合物の合成
実施例１４において2,2−ジメチル−3−フェニルプロピオンアルデヒドを４−メチルベンズアルデヒドに変えた以外は実施例１４と同様に操作して（Ｒ）−３−ヒドロキシ−３−（４−メチルフェニル）プロパンニトリルを得た。収率７４％、４８％eeであった。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.36(s, 3H), 2.48(brs, 1H), 2.74(m, 2H), 5.02(brt, J=6.0Hz, 1H), 7.19(d, J=11.6Hz, 2H), 7.30(d, J=11.6Hz, 2H)
【００７８】
〔実施例１６〕
光学活性３−ヒドロキシノナンニトリルの合成
アルゴン雰囲気下、反応フラスコに、予め調製したCuO(tert-Bu) (0.05mmol,200μL THF溶液)及び（R）−DTBM−SEGPHOS (53mg,0.045mmol)を加え撹拌した後、３０分間真空下で揮発分を除去した。得られた残渣にヘキサメチルホスホロアミド（ＨＭＰＡ）1.0mL、アセトニトリル(500μL)を加え、更に１−ヘプタナール（70μL,0.50mmol）を５時間で滴下した。滴下後、５分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチル（4x10mL）で分液し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１０）を行うことによって目的とする光学活性３−ヒドロキシノナンニトリルを７２．１％の収率で得た。このもののエナンチオマー過剰率を測定したところ７４％eeであった。
なお、ＤＴＢＭ−ＳＥＧＰＨＯＳは前記実施例１５と同意義である。
【００７９】
〔実施例１７〕
光学活性３−ヒドロキシウンデカンニトリルの合成
実施例１６において１−ヘプタナールを１−ノナナールに変えた以外は実施例１６と同様に操作して光学活性３−ヒドロキシウンデカンニトリルを得た。収率６２％、７３％eeであった。
【００８０】
〔実施例１８〕
光学活性３−シクロヘキシル−３−ヒドロキシプロパンニトリルの合成
実施例１６において１−ヘプタナールをシクロヘキサンカルボキサアルデヒドに変えた以外は実施例１６と同様に操作して光学活性３−シクロヘキシル−３−ヒドロキシプロパンニトリルを得た。収率９１％、７５％eeであった。
【００８１】
〔実施例１９〕
光学活性３−ヒドロキシ−３−メチルヘキサンニトリルの合成
実施例１６において１−ヘプタナールをイソバレルアルデヒドに変えた以外は実施例１６と同様に操作して光学活性３−ヒドロキシ−３−メチルヘキサンニトリルを得た。収率８６％、７５％eeであった。
【００８２】
〔実施例２０〕
光学活性３−ヒドロキシ−３−フェニルペンタンニトリルの合成
実施例１６において１−ヘプタナールをヒドロシンナムアルデヒドに変えた以外は実施例１６と同様に操作して光学活性３−ヒドロキシ−３−フェニルペンタンニトリルを得た。収率６７％、６８％eeであった。
【産業上の利用可能性】
【００８３】
本発明の目的化合物は、例えば医薬、農薬等の中間体として有用である。また、本発明の目的化合物は、対応するカルボン酸の製造中間体として有用である。