(57)【要約】【課題】  優れた潤滑性を有し且つ高温高湿環境下でも潤滑性を保持できる塗膜表面が得られる紫外線硬化型樹脂組成物を提供する。【解決手段】  光重合性化合物と脂肪酸エステル化合物を含有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物であって、前記脂肪酸エステル化合物が下記一般式（１）2005243081.tif 000012で表される化合物であり、前記光重合性化合物が下記一般式（２）2005243081.tif 000013（式中、Ａは式（３）2005243081.tif 000014で表されるｎ個の構造単位及び式（４）2005243081.tif 000015で表されるｍ個の構造単位がランダム状又はブロック状に連なった構造の基を表す。但し、ｎは１〜１５の整数であり、ｎ／ｍは１／５〜１／２０である。）で表される化合物を含有することを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物を用いる。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光重合性化合物と脂肪酸エステル化合物を含有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物であって、前記脂肪酸エステル化合物が下記一般式（１）
【化１】
2005243081.tif 000008
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立的に、分岐構造を有していても良い炭素数１〜２４の炭化水素基を表し、該Ｒ１及びＲ２は非置換であるか１個又は２個以上のフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で置換されていても良く、Ｒ１及びＲ２の少なくともどちらか一方は炭素数８以上である。）で表される化合物であり、前記光重合性化合物が下記一般式（２）
【化２】
2005243081.tif 000009
（式中、Ａは式（３）
【化３】
2005243081.tif 000010
（式中、Ｒ３は、(i)炭素数１〜１８のアルキレン基及び(ii)炭素数２〜１８の複数のアルキレン基がエーテル結合により連結された構造を有する２価の基から選択される１種又は２種以上の基を連結させた２価の基を表し、Ｒ４は水素原子又はメチル基を表す。）で表されるｎ個の構造単位及び式（４）
【化４】
2005243081.tif 000011
で表されるｍ個の構造単位がランダム状又はブロック状に連なった構造の基を表す。但し、ｎは１〜１５の整数であり、ｎ／ｍは１／５〜１／２０である。）で表される化合物を含有することを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項２】
更に、分子内に少なくとも１個の３級又は４級炭素を有する脂肪族多価アルコールと脂肪族多塩基酸化合物とを反応させた脂肪酸エステル化合物を含有する請求項１記載の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物。
【請求項３】
基板と、光記録層と、該光記録層の保護層とがこの順に形成された光ディスクであって、該保護層が請求項１又は２のいずれかに記載の紫外線硬化型樹脂組成物の硬化皮膜により形成されていることを特徴とする光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物に関し、更に詳しくは、光ディスクの保護層として使用され、光ディスクの表面に潤滑性を付与するための紫外線硬化型樹脂組成物に関する。更に該組成物を使用した光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクには種々のタイプがあるが、中でも光ディスクの記録層上に保護層を有する光ディスクとして光磁気ディスクがある。近年、光磁気ディスクの記録方式としてオーバーライト可能な磁界変調方式がとられている。この場合磁気ヘッドがディスク面に接触する摺動記録方式をとるため、ディスク面に潤滑性が要求される。
【０００３】
一般的にこのディスク面にはその記録膜保護のため紫外線硬化型樹脂組成物の硬化塗膜により成る保護コート層が形成されているが、該保護コート層は十分な潤滑性を有さないので、例えばシリコーン系オイル等を溶剤に溶解しスピンコートすることにより、保護コート層の上に更に潤滑層を別途設け、摺動性を持たせている（特許文献１参照）。従って、潤滑剤を塗布する工程が別途余計に必要となり、生産性の低下、製造コストのアップを招くため、工程の簡略化が望まれている。
【０００４】
この様なプロセス上の問題点を解決し生産性のアップを図るため、紫外線硬化型樹脂組成物に潤滑剤を添加する方法が検討されている。この方法によれば、潤滑剤の塗布工程を省略でき、従来同様に保護コート層を形成するだけで潤滑性を有する塗膜が得られるため工程の簡略化が実現できる。
【０００５】
この用途における紫外線硬化型樹脂組成物の例として、保護コート層に特定の変性ポリシロキサン化合物を含有させることにより、潤滑性の改良することができるとの開示がある（特許文献２参照）。また、特定の有機ポリシロキサン、脂肪酸エステル、フルオロアルキル基または不飽和型アルキル基を有する化合物を含有させることにより、潤滑性を上げる技術が提案されている（特許文献３参照）。
【０００６】
しかしながら、上記公報による紫外線硬化型樹脂組成物では、高温環境下放置後十分な潤滑性を得られず、実用性に欠けるのが実態である。摺動記録方式をとる光磁気ディスクにおいては、低い静止擦係数が要求され、同時に高温環境下に長時間放置後も同等の静止擦係数を維持できることが必要とされている。しかしながら、前述したように潤滑剤添加型の紫外線硬化型樹脂組成物ではこの様な特性を満足するものは無く、その改善が望まれている。
【０００７】
【特許文献１】特開平５−１２８６１１号公報
【特許文献２】特開平５−１３２５５７号公報
【特許文献３】特開平９−１００４２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はかかる状況に鑑みてなされたものであり、優れた潤滑性を有し且つ高温環境下でも潤滑性を保持できる塗膜表面が得られる紫外線硬化型樹脂組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは鋭意検討した結果、紫外線硬化型樹脂組成物に、特定の構造を有する化合物を添加剤として含有させることにより、優れた潤滑性を有し且つ高温環境下でも潤滑性を保持できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、光重合性化合物と脂肪酸エステル化合物を含有する光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物であって、前記脂肪酸エステル化合物が下記一般式（１）
【００１０】
【化１】
2005243081.tif 000002
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立的に、分岐構造を有していても良い炭素数１〜２４の炭化水素基を表し、該Ｒ１及びＲ２は非置換であるか１個又は２個以上のフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で置換されていても良く、Ｒ１及びＲ２の少なくともどちらか一方は炭素数８以上である。）で表される化合物であり、前記光重合性化合物が下記一般式（２）
【００１１】
【化２】
2005243081.tif 000003
（式中、Ａは式（３）
【００１２】
【化３】
2005243081.tif 000004
（式中、Ｒ３は、(i)炭素数１〜１８のアルキレン基及び(ii)炭素数２〜１８の複数のアルキレン基がエーテル結合により連結された構造を有する２価の基から選択される１種又は２種以上の基を連結させた２価の基を表し、Ｒ４は水素原子又はメチル基を表す。）で表されるｎ個の構造単位及び式（４）
【００１３】
【化４】
2005243081.tif 000005
で表されるｍ個の構造単位がランダム状又はブロック状に連なった構造の基を表す。但し、ｎは１〜１５の整数であり、ｎ／ｍは１／５〜１／２０である。）で表される化合物を含有することを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物を提供するものである。
【００１４】
また、本発明は、基板と、光記録層と、該光記録層の保護層とがこの順に形成された光ディスクであって、該保護層が上記紫外線硬化型樹脂組成物の硬化皮膜により形成されていることを特徴とする光ディスクを提供するものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物は、他の紫外線硬化性化合物と反応しうる反応性基を有する特定構造のポリシロキサン系化合物を含有しているため、該組成物による紫外線硬化皮膜は、常温常湿の環境下において優れた潤滑性を示すばかりでなく、高温環境下に長期間放置された場合でも所期の潤滑性を保持することができる。したがって、本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物を用いた光ディスクは、高温下に放置後も潤滑性が優れており、高温環境下放置後も摺動傷の発生が無い光ディスクを提供することが可能となる。
光ディスク上の紫外線硬化型樹脂組成物から成る硬化膜においては、潤滑性が劣る場合、次のような現象が発生する。すなわち高温高湿下に所定時間暴露すると、硬化膜の潤滑性が無くなり摺動傷が発生する。この摺動傷の発生は、従来の紫外線硬化型樹脂組成物を使用した場合に顕著である。それに対して、本発明に係わる前記特定構造を有した化合物を添加剤として含有した組成物にあっては、そのような摺動傷が発生することがない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下に本発明について詳しく説明する。なお、本明細書では、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸またはメタクリル酸のことであり、アクリル酸またはメタクリル酸の誘導体についても同様である。
【００１７】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物は、前記の一般式（１）及び（２）で表される化合物を必須成分とする。一般式（１）で表される化合物であれば、Ｒ１及びＲ２が飽和脂肪族炭化水素であっても不飽和脂肪族炭化水素であっても良く、種々の構造の化合物を使用することができる。例えば、ラウリン酸オレイル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オクチル、パルミチン酸イソトリデシル、ステアリン酸メチル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸ステアリル、オレイン酸メチル、オレイン酸ブチル等がある。中でも一般式（１）におけるＲ１が、分岐状であってもよい炭素数１０〜２０のアルキル基であり、且つＲ２が、分岐状であってもよい炭素数１〜１５であるアルキル基を有する化合物を用いることが好ましい。また、Ｒ１及びＲ２は非置換の脂肪族炭化水素基であっても、１個又は２個以上のフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で置換された脂肪族炭化水素基であっても良いが、非置換の脂肪族炭化水素基或いは１個又は２個以上のフッ素原子で置換された脂肪族炭化水素基であることが好ましく、中でも非置換の脂肪族炭化水素基であることがより好ましい。
【００１８】
一般式（１）で表される化合物は市販品として容易に入手可能であり、例えば鐵野油化（株）製のユカノールＳ８（ステアリン酸オクチル）として容易に入手可能である。
【００１９】
また、一般式（２）で表される化合物としては、式の範囲であれば種々の構造の化合物を使用することができる。中でも一般式（２）で表される化合物の数平均分子量が２０００〜１２０００である化合物を用いることが好ましい。
【００２０】
前記一般式（２）中のＡは、前記式（３）で表されるｎ個の構造単位と前記式（４）で表されるｍ個の構造単位とがランダム状又はブロック状に連なった構造の基である。ランダム状とは、式（３）で表される構造単位と式（３）で表される構造単位とが順不同に、不規則な順で結合した構造を意味し、ブロック状とは、式（３）で表される構造単位が連続して結合した部分と式（４）で表される構造単位が連続して結合した部分とが交互に現れる構造を意味している。なお、前記ｎは１〜１５の整数であり、１〜１０の整数であることが好ましい。また、ｎに対するｍの比（ｎ／ｍ）は１／５〜１／２０であり、１／５〜１／１５であることが好ましい。
【００２１】
前記式（３）中のＲ３は、下記(i)又は(ii)に記載した基、或いは下記(i)及び(ii)に記載した基の中から選択される２種以上の基が連結した構造の基である。
(i)炭素数１〜１８のアルキレン基
例えば、-CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2CH(CH3)-、-CH2(CH2)4CH2-、-CH2CH(CH2CH3)CH2CH2CH2CH2-、-CH2(CH2)10CH2-、-CH2(CH2)16CH2-等がある。
(ii)炭素数２〜１８の複数のアルキレン基がエーテル結合により連結されたポリオキシアルキレン構造を有する２価の基
【００２２】
(ii)の基を式で表すと、-(OR)Ｐ-（式中、Ｒは分岐鎖を有していても良い炭素数２〜１８のアルキレン基を表し、ｐは２以上の整数である。）となる。例えば、-(OCH2CH2)Ｐ-、-(OC3H6)Ｐ-、-(OCH2CH2CH2CH2)Ｐ-、-(OCH2(CH2)10CH2)Ｐ-等がある。また、分子鎖が異なる長さの-OR-がランダムに連なった構造を有する基、例えば、-OCH2CH2-と-OCH2CH(CH3)-がランダムに結合した基であっても良い。なお、Ｒ３として(ii)で表される基を用いる場合は、複数のエーテル結合を有するポリエーテル構造（ポリオキシアルキレン構造）の基を用いるのが好ましい。(ii)に記載した基は、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド等のアルキレンオキシド、テトラヒドロフラン、アルキル置換テトラヒドロフラン等の環状エーテルの重合体またはこれらの２種以上の共重合体から得ることができる。
【００２３】
上記の中でも、Ｒ３としては、炭素数１〜６のアルキレン基、-(OR)t-（式中、Ｒはエチレン基又はプロピレン基を表し、ｔは２〜２０の整数を表す。）で表される２価の基及びエチレンオキシドとプロピレンオキシドをランダムに開環付加重合した２価の基から選択される１種の基、又はこれらから選択される２種以上の基が連結した基であることが好ましい。特に、それらの中でも、-CH2CH2CH2-、-CH2CH2CH2(OCH2CH2)Ｐ-（式中、ｐは２以上の整数）、-CH2CH2CH2Y-（式中、Ｙは-OC2H4-と-OC3H6-がランダムに結合した基）であることが好ましい。(ii)に記載した基とＳｉ間の結合は、酸素原子を介していても構わないが、アルキレン基を介して結合した構造であることが好ましい。また、前記一般式（３）中のＲ４は水素原子又はメチル基を表すが、水素原子であることが好ましい。
一般式（２）で表される化合物は市販品として容易に入手可能であり、例えばゴールドシュミット社製のＴｅｇｏＲａｄ２２００Ｎとして容易に入手可能である。
【００２４】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物に含有させる一般式（１）及び（２）で表される添加剤の含有量は、光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物に対して、０．０５〜５質量部であり、好ましくは０．１〜２．０質量部である。上記範囲であると、本発明の添加剤を使用した塗膜は、高温環境下放置後、潤滑性を維持することができる。
【００２５】
また、本発明では、一般式（１）及び（２）に対し、分子内に少なくとも１個の３級又は４級炭素を有する脂肪族多価アルコールと脂肪族多塩基酸化合物とを反応させた脂肪酸エステル化合物を併用すると、それらの相乗効果により、得られる塗膜は高温環境下放置後における潤滑性の点で格別顕著な効果が得られる。
【００２６】
上記化合物を製造するための原料としては、例えば脂肪酸成分として炭素数８〜３０のもの、具体的にはカプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、ベヘニン酸等と、アルコール成分としてネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ブチルエチルプロパンジオール、２−エチルヘキサンジオール等を用いたジエステル、あるいはトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、ジグリセリン等が挙げられる。
【００２７】
本発明で使用する脂肪酸エステル化合物としては、２−エチルヘキサンジオール１分子に対し、２分子のステアリン酸を反応させた２−エチルヘキサンジオールジステアレートを用いた塗膜が、高温高湿下放置後も良好な潤滑性を示す点で特に好ましい。脂肪酸エステル化合物の使用量は、特に制限されないが、光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物１００質量部当たり、通常０．１〜５質量部、溶解性や経済性等の観点から、好ましくは０．５〜３質量部の範囲で添加することが好ましい。
【００２８】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物に使用する光重合性化合物としては、紫外線を照射することにより硬化する成分であれば特に制限はないが、例えば、下記の重合性モノマーおよび重合性オリゴマーが使用できる。
【００２９】
重合性モノマーとしては、公知の化合物が使用できるが、単官能の（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシー３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３０】
また、多官能の（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチルー２−エチルー１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３１】
さらに、ラジカル重合性オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等がある。
【００３２】
本発明では光重合開始剤を必要に応じ使用することができる。光重合開始剤としては、公知慣用のものがいずれも使用できるが、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明で使用する光重合開始剤として好適である。
【００３３】
本発明に使用する光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン及び２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等の分子開裂型や、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等の水素引き抜き型の光重合開始剤を使用することができる。
【００３４】
また、本発明の組成物を構成する際の任意成分としては、次のようなものが有り、本発明の効果を損わない範囲内で使用可能である。例えば、光重合開始剤に対する増感剤として、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン及び４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等があり、更に前述光重合性化合物と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、これらは、紫外線硬化性化合物への溶解性に優れ、かつ紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００３５】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物は、摺動記録方式を採用した装置で使用する光ディスクの保護層用組成物として好適である。摺動記録方式とは、情報を記録するための記録装置等が光ディスク表面に接触しながら光ディスクの記録層に情報を記録する方式である。そのような方式に用いられる光ディスクには、光磁気ディスクがある。また、レーザーが透過する樹脂層を保護する目的にも使用できる。この様な用途例として、Blu-ray  Discのポリカーボネート製カバー層を保護する目的にも使用できる。
【００３６】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物を使用した光磁気ディスクは、ポリカーボネート等からなる円形の透明樹脂基板上に、無機化合物からなる光磁気記録層を形成し、該記録層上に本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物の硬化皮膜を形成することにより製造する。より具体的には、前記磁気記録層上に、スピンコート法等により、硬化後の膜厚が３〜２０μｍになるように前記紫外線硬化型樹脂組成物を塗布した後、紫外線を照射して硬化膜を形成することにより光ディスクを製造する。この場合、本発明の紫外線硬化型樹脂組成物による硬化膜は光ディスクの光磁気記録層の保護層となる。
【００３７】
ここで、紫外線を照射する手段としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の連続照射方式の紫外線照射装置または、キセノンフラッシュ等の閃光照射方式の紫外線照射装置を使用することができる。
【００３８】
なお、本発明の光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物を使用した光ディスクは、レーザー光による情報の記録・再生を、従来のように樹脂基板を通して行うものであっても良いし、または、本発明に係る紫外線硬化型組成物の硬化膜を通して行うものであっても良い。
【実施例】
【００３９】
次に実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
（実施例１〜５および比較例１〜３）
＜組成物および光ディスクサンプルの調製＞
下記表１に示した配合組成により、各組成材料を６０℃で３時間加熱、溶解して、光ディスク用紫外線硬化型樹脂組成物を調製した。
【００４０】
次に、厚さ１．２ｍｍ、直径１２０ｍｍの光ディスク用ポリカーボネート基板上に、実施例及び比較例の各組成物を硬化後の保護層硬化膜の厚みが７〜９μｍになるよう塗布し、１２０Ｗ／ｃｍの集光型高圧水銀灯（アイグラフィックス（株）製、Ｈ０３−Ｌ３１）を使用して光量０．５Ｊ／ｃｍ２（同社積算光量計ＵＶＰＦ−３６）の紫外線を照射して硬化膜とし、評価用の各光ディスクサンプルを調製した。
次いで、そのディスクの硬化塗膜面の、室温における初期値及び９０℃４５０ｈ後の静止摩擦係数を測定した。静止摩擦係数は新東科学（株）社製ＨＥＩＤＯＮ  トライボギア  ミューズ  ＴＹＰＥ：９４ｉを用いて測定した。測定は、２３℃５０％RH環境下で行った。評価結果を表１に示した。
【００４１】
【表１】
2005243081.tif 000006
【００４２】
表１中の略号は、以下の化合物を示す。
ＢＰＡ（ＥＯ）ＤＡ：ビスフェノールＡ１モルに４モルのエチレンオキサイドを付加して得たジオールのジアクリレート
ＮＰＧＤＡ：ネオペンチルグリコールジアクリレート
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
(ＥＯ)ＰＤＭＡ：エチレンオキシド変性リン酸ジメタアクリレート
ＨＣＰＫ：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
ユカノールＳ−８：ステアリン酸オクチル、鐵野油化（株）製
２−ＥＨＤＳ：２−エチルヘキサンジオールジステアレート
表１中、Ｓ−１〜Ｓ−５の化合物の詳細は以下の通りである。
【００４３】
【表２】
2005243081.tif 000007
【００４４】
表２中のＲ３の構造は以下の通り。
（なお、下の式中におけるＤはＲ３と結合するアクリロイル基を表す。）
（Ａ）
-CH2CH2CH2Ｘ１-Ｄ（式中、Ｘ１は平均２０個の-OC2H4-と平均６個の-OC3H6-がランダムに結合した基を表す。）
（Ｂ）
-CH2CH2CH2Ｘ２-Ｄ（式中、Ｘ２は平均１１個の-OC2H4-と平均１個の-OC3H6-がランダムに結合した基を表す。）
（Ｃ）
-CH2CH2CH2Ｘ３-Ｄ（式中、Ｘ３は平均１３個の-OC2H4-と平均１５個の-OC3H6-がランダムに結合した基を表す。）
（Ｄ）
-CH2CH2CH2Ｘ４-Ｄ（式中、Ｘ４は平均１２個の-OC2H4-と平均１０個の-OC3H6-がランダムに結合した基を表す。）
（Ｅ）
-CH2CH2CH2Ｘ５-Ｄ（式中、Ｘ５は-OCH2CH(OH)CH2-を表す。）
なお、表中のＳ−１は市販されている化合物である。
Ｓ−１；ゴールドシュミット社製  ＴＥＧＯ  Ｒａｄ  ２２００Ｎ
【００４５】
上記表１から明らかなように、本発明に係わる実施例１〜５で得られた紫外線硬化型樹脂組成物からなる硬化膜を保護層として用いた光ディスクは、９０℃の環境下４５０ｈ経過しても、初期とほぼ同等の潤滑性を有する。
一方、比較例１、２及び３の光ディスクでは、９０℃の環境下４５０ｈ経過すると、潤滑性が大幅に低下することがわかる。