(57)【要約】【課題】  薄膜トランジスタアレイ基板とカラーフィルター基板とが確実に且つ平行に接着させることができるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置及びその製造方法を提供すること。【解決手段】  薄膜トランジスタアレイ基板と、カラーフィルター基板と、薄膜トランジスタアレイ基板とカラーフィルター基板とを所定間隔で離間させるスペーサーと、薄膜トランジスタアレイ基板とカラーフィルター基板との間に形成される空間を外部から区画して該空間に液晶封入部を形成する連続した壁状の封止周壁と、液晶封入部に封入される液晶とからなり、薄膜トランジスタアレイ基板のうち封止周壁の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域及びその近傍の下方に、絶縁層が露出した矩形状溝が複数個形成されており、矩形状溝は長辺の長さが封止周壁の幅を超え且つ長辺の長さ方向が封止周壁の長さ方向を横切るように形成されているＴＦＴ液晶ディスプレイ装置。【選択図】      図４
2005234582.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層に対向して配置されるカラーフィルター基板と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層と前記カラーフィルター基板とを所定間隔で離間させるスペーサーと、
前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板とを接着すると共に、前記スペーサーにより前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板との間に形成される空間を外部から区画して該空間に液晶封入部を形成する連続した壁状の封止周壁と、
前記液晶封入部に封入される液晶と
からなるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置であって、
前記薄膜トランジスタアレイ基板のうち前記封止周壁の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域及びその近傍の下方に、前記絶縁層が露出した矩形状溝が複数個形成されており、該矩形状溝は長辺の長さが前記封止周壁の幅を超え且つ長辺の長さ方向が前記封止周壁の長さ方向を横切るように形成されていることを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置。
【請求項２】
薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層に対向して配置されるカラーフィルター基板と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層と前記カラーフィルター基板とを所定間隔で離間させるスペーサーと、
前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板とを接着すると共に、前記スペーサーにより前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板との間に形成される空間を外部から区画して該空間に液晶封入部を形成する連続した壁状の封止周壁と、
前記液晶封入部に封入される液晶と
からなるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置であって、
前記薄膜トランジスタアレイ基板のうち前記封止周壁の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域の下方に、前記絶縁層が露出した連続コの字状溝が形成されることを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置。
【請求項３】
薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層に対向して配置されるカラーフィルター基板と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層と前記カラーフィルター基板とを所定間隔で離間させるスペーサーと、
前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板とを接着すると共に、前記スペーサーにより前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板との間に形成される空間を外部から区画して該空間に液晶封入部を形成する連続した壁状の封止周壁と、
前記液晶封入部に封入される液晶と
からなるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置であって、
前記薄膜トランジスタアレイ基板のうち前記封止周壁の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域の下方に、前記絶縁層が露出した鋸歯状溝が形成されることを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置。
【請求項４】
薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層に対向して配置されるカラーフィルター基板と、
前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層と前記カラーフィルター基板とを所定間隔で離間させるスペーサーと、
前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板とを接着すると共に、前記スペーサーにより前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板との間に形成される空間を外部から区画して該空間に液晶封入部を形成する連続した壁状の封止周壁と、
前記液晶封入部に封入される液晶と
からなるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置であって、
前記薄膜トランジスタアレイ基板のうち前記封止周壁の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域の下方に、前記絶縁層が露出した連続波状溝が形成されることを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置。
【請求項５】
薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた矩形状溝を、該薄膜トランジスタアレイ基板の周辺部近傍の下方に該矩形状溝の長辺の長さ方向が該薄膜トランジスタアレイ基板の中央部方向になるように複数個形成する溝形成工程と、
前記複数個の矩形状溝上を結ぶように切れ目なく封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する封止周壁形成工程と、
前記封止周壁で囲まれた液晶封入部内に液晶を充填した後、該封止周壁上にカラーフィルター基板を配置し圧着して前記液晶を封入してＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を形成するＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程と
を有することを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項６】
薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた連続コの字状溝を形成する溝形成工程と、
前記連続コの字状溝上に封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する封止周壁形成工程と、
前記封止周壁で囲まれた液晶封入部内に液晶を充填した後、該封止周壁上にカラーフィルター基板を配置し圧着して前記液晶を封入してＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を形成するＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程と
を有することを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項７】
薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた鋸歯状溝を形成する溝形成工程と、
前記鋸歯状溝上に封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する封止周壁形成工程と、
前記封止周壁で囲まれた液晶封入部内に液晶を充填した後、該封止周壁上にカラーフィルター基板を配置し圧着して前記液晶を封入してＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を形成するＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程と
を有することを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【請求項８】
薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた連続波状溝を形成する溝形成工程と、
前記連続波状溝上に封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する封止周壁形成工程と、
前記封止周壁で囲まれた液晶封入部内に液晶を充填した後、該封止周壁上にカラーフィルター基板を配置し圧着して前記液晶を封入してＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を形成するＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程と
を有することを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜トランジスタを用いたＴＦＴ液晶ディスプレイ装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタを用いたＴＦＴ液晶ディスプレイ装置（以下、「ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置」ともいう。）は、電圧駆動液晶を利用した発光装置である。ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置は、透過型、反射型、半透過反射型ディスプレイ装置がある。
【０００３】
ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置には、配向膜等の有機ポリマー層が用いられているが、該有機ポリマー層は、大気に触れると性能ロス、操作不安定、色彩的歪み等が生じ易く、使用寿命が短くなり易い。例えば、大気中の湿気は、有機ポリマー層の表面に結晶や有機固体を生成させたり、電極−有機ポリマー層の界面に電気化学反応を起こして、金属腐食、イオン遷移等の問題を生じさせたりする。このため、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置は、内部に湿気が侵入しないようにする必要がある。ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置は、一般的に、粘性を有する封止剤により、カラーフィルター基板と薄膜トランジスタアレイ基板をパッケージして形成される。
【０００４】
図１は、従来のＴＦＴ液晶ディスプレイ装置であるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置１００の平面図であり、図２は、図１の部分８の拡大平面図であり、図３は、図２をＡ−Ａ´線に沿って見た断面図である。図３に示すように、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置１００の下方部分には、薄膜トランジスタアレイ基板本体２の表面に絶縁層２０及び有機ポリマー層１６がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板１５０が配置されている。
【０００５】
また、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置１００は、図１〜図３に示すように、薄膜トランジスタアレイ基板１５０の有機ポリマー層１６の一部には封止剤１４からなる封止周壁６が形成されている。また、図３に示すように、薄膜トランジスタアレイ基板１５０の有機ポリマー層１６とカラーフィルター基板１０との間には球状スペーサー２２が載置されることにより所定の間隔だけ離間して空間が形成されるようになっている。該空間のうち切れ目なく形成された封止周壁６で囲まれた部分は、封止周壁６により外部から区画された液晶封入部１８が形成されており、液晶封入部１８に液晶を封入することが可能になっている。図３に示すように、液晶封入部１８に液晶が封入された後、封止周壁６上にカラーフィルター基板１０が載置、圧着されると、薄膜トランジスタアレイ基板１５０とカラーフィルター基板１０とが接着されて、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置１００が形成される。
【０００６】
また、薄膜トランジスタアレイ基板本体２の表面の有機ポリマー層１６のうち封止周壁６が形成された部分の下方には、絶縁層２０の露出した溝４が封止周壁６の幅ｇより狭い幅で形成されている。また、溝４には、封止周壁６より外側に向かって連通する排気孔１２が形成されている。排気孔１２は、溝４内に圧縮される空気を排除するのに用いられ、上記圧着により封止剤１４が溝４内に充填される際に気泡が生じて、気泡が液晶内や封止剤１４内に侵入するのを防止する作用を有する。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−３３３６３９号公報（第１頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記従来のＴＦＴ液晶ディスプレイ装置１００では、薄膜トランジスタアレイ基板１５０とカラーフィルター基板１０との間の封止厚さを正確に制御するのが難しいという問題がある。例えば、塗布された封止剤１４の厚さが均一でない場合には、カラーフィルター基板１０が傾いて接着されてＴＦＴ液晶ディスプレイ装置１００に表示される影像が不均一になる等の欠陥を生じ易い。また、塗布される封止剤の体積や厚さが大きすぎると、封止付着力が不足してカラーフィルター基板１０が脱落するおそれがある。
【０００９】
従って、本発明の目的は、薄膜トランジスタアレイ基板とカラーフィルター基板とが確実に且つ平行に接着させることができるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
すなわち、本発明（１）は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層に対向して配置されるカラーフィルター基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層と前記カラーフィルター基板とを所定間隔で離間させるスペーサーと、前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板とを接着すると共に、前記スペーサーにより前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板との間に形成される空間を外部から区画して該空間に液晶封入部を形成する連続した壁状の封止周壁と、前記液晶封入部に封入される液晶とからなるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置であって、前記薄膜トランジスタアレイ基板のうち前記封止周壁の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域及びその近傍の下方に、前記絶縁層が露出した矩形状溝が複数個形成されており、該矩形状溝は長辺の長さが前記封止周壁の幅を超え且つ長辺の長さ方向が前記封止周壁の長さ方向を横切るように形成されていることを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を提供するものである。
【００１１】
また、本発明（２）は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層に対向して配置されるカラーフィルター基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層と前記カラーフィルター基板とを所定間隔で離間させるスペーサーと、前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板とを接着すると共に、前記スペーサーにより前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板との間に形成される空間を外部から区画して該空間に液晶封入部を形成する連続した壁状の封止周壁と、前記液晶封入部に封入される液晶とからなるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置であって、前記薄膜トランジスタアレイ基板のうち前記封止周壁の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域の下方に、前記絶縁層が露出した連続コの字状溝が形成されることを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を提供するものである。
【００１２】
また、本発明（３）は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層に対向して配置されるカラーフィルター基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層と前記カラーフィルター基板とを所定間隔で離間させるスペーサーと、前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板とを接着すると共に、前記スペーサーにより前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板との間に形成される空間を外部から区画して該空間に液晶封入部を形成する連続した壁状の封止周壁と、前記液晶封入部に封入される液晶とからなるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置であって、前記薄膜トランジスタアレイ基板のうち前記封止周壁の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域の下方に、前記絶縁層が露出した鋸歯状溝が形成されることを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を提供するものである。
【００１３】
また、本発明（４）は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層に対向して配置されるカラーフィルター基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の前記有機ポリマー層と前記カラーフィルター基板とを所定間隔で離間させるスペーサーと、前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板とを接着すると共に、前記スペーサーにより前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルター基板との間に形成される空間を外部から区画して該空間に液晶封入部を形成する連続した壁状の封止周壁と、前記液晶封入部に封入される液晶とからなるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置であって、前記薄膜トランジスタアレイ基板のうち前記封止周壁の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域の下方に、前記絶縁層が露出した連続波状溝が形成されることを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を提供するものである。
【００１４】
また、本発明（５）は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた矩形状溝を、該薄膜トランジスタアレイ基板の周辺部近傍の下方に該矩形状溝の長辺の長さ方向が該薄膜トランジスタアレイ基板の中央部方向になるように複数個形成する溝形成工程と、前記複数個の矩形状溝上を結ぶように切れ目なく封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する封止周壁形成工程と、前記封止周壁で囲まれた液晶封入部内に液晶を充填した後、該封止周壁上にカラーフィルター基板を配置し圧着して前記液晶を封入してＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を形成するＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程とを有することを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造方法を提供するものである。
【００１５】
また、本発明（６）は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた連続コの字状溝を形成する溝形成工程と、前記連続コの字状溝上に封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する封止周壁形成工程と、前記封止周壁で囲まれた液晶封入部内に液晶を充填した後、該封止周壁上にカラーフィルター基板を配置し圧着して前記液晶を封入してＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を形成するＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程とを有することを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造方法を提供するものである。
【００１６】
また、本発明（７）は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた鋸歯状溝を形成する溝形成工程と、前記鋸歯状溝上に封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する封止周壁形成工程と、前記封止周壁で囲まれた液晶封入部内に液晶を充填した後、該封止周壁上にカラーフィルター基板を配置し圧着して前記液晶を封入してＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を形成するＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程とを有することを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造方法を提供するものである。
【００１７】
また、本発明（８）は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた連続波状溝を形成する溝形成工程と、前記連続波状溝上に封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する封止周壁形成工程と、前記封止周壁で囲まれた液晶封入部内に液晶を充填した後、該封止周壁上にカラーフィルター基板を配置し圧着して前記液晶を封入してＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を形成するＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程とを有することを特徴とするＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置によれば、封止周壁の形成の際に充填又は塗布される封止剤の分布が封止周壁全体にわたって均一になり封止剤の剥離が防止され、封止周壁に空洞が形成されないと共に、カラーフィルター基板が傾斜せずに薄膜トランジスタアレイ基板に平行に接着され、いわゆる環状画像ムラを回避する作用を奏する。本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造方法によれば、本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を、従来のＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造工程を大幅に変更することなく、低コストで容易に製造することができ、封止周壁形成の際に封止剤に加えられる圧力が従来より少なくて済み、製造されるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の信頼性及び操作寿命を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明についての目的、特徴、長所が一層明確に理解されるよう、以下に実施形態を例示し、図面を参照しながら、詳細に説明する。
【実施例】
【００２０】
［本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第１の実施形態］
まず、本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第１の実施形態について説明する。図４は、本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第１の実施形態であるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置２００の平面図であり、図５は、図４の部分２８の拡大平面図であり、図６は、図５をＢ−Ｂ´線に沿って見た断面図である。図６に示すように、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置２００の下方部分には、薄膜トランジスタアレイ基板本体２２２の表面に絶縁層２２０及び有機ポリマー層２１４がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板２５０が配置されている。ここで、絶縁層２２０は、例えば、窒化珪素等の誘電体により形成される層である。また、有機ポリマー層２１４としては、例えば、ポリイミドからなる配向膜等が用いられる。
【００２１】
また、図４〜図６に示すように、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置２００は、薄膜トランジスタアレイ基板２５０の表面に存在する有機ポリマー層２１４の一部には封止剤２２４からなる封止周壁２４が形成されている。封止剤２２４は粘着性を有し且つ液晶を封入可能な材料、例えば、エポキシ樹脂を主成分としさらに感光材料を含んでなる、ＴＦＴ又はＬＣＤメーカーで通常取り扱われる材料等から形成される。
【００２２】
また、図６に示すように、薄膜トランジスタアレイ基板２５０の有機ポリマー層２１４とカラーフィルター基板２１０との間には球状スペーサー２２が載置されることにより所定の間隔だけ離間して空間が形成されるようになっている。該空間のうち切れ目なく形成された封止周壁２４で囲まれた部分は、封止周壁２４により外部から区画された液晶封入部２１６が形成されており、液晶封入部２１６に液晶を封入することが可能になっている。図６に示すように、液晶封入部２１６に液晶が封入された後、封止周壁２４上にカラーフィルター基板２１０が載置、圧着されると、薄膜トランジスタアレイ基板２５０とカラーフィルター基板２１０とが接着されて、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置２００が形成される。
【００２３】
また、薄膜トランジスタアレイ基板２５０の表面に存在する有機ポリマー層２１４のうち封止周壁２４の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域２４ａ及びその近傍の下方には、絶縁層２２０の露出した矩形状溝２６、２６ａが形成されており、矩形状溝２６、２６ａの長辺が封止周壁２４の幅ｋより長くなるように形成されている。なお、矩形状溝２６は矩形を形成する封止周壁２４の各辺の中頃に形成されており、矩形状溝２６の長辺の長さ方向と封止周壁２４の長さ方向とが略直角をなすように形成されている。また、矩形状溝２６ａは、矩形を形成する封止周壁２４の各角の近傍の下方に形成されており、矩形状溝２６ａの長辺の長さ方向と封止周壁２４の長さ方向とが略４５度をなすように形成されている。封止周壁２４の各角の近傍の下方に矩形状溝２６ａが形成されると、封止周壁２４の形成の際に充填又は塗布される封止剤２２４の分布が封止周壁２４全体にわたって均一になり封止剤２２４の剥離が防止され、封止周壁２４に空洞が形成されないと共に、カラーフィルター基板２１０が傾斜せずに薄膜トランジスタアレイ基板２５０に平行に接着され、いわゆる環状画像ムラを回避する作用を奏する。なお、矩形状溝２６ａの数及び形成される位置は、図４に示すとおりでなくてもよく、適宜変更してもよい。
【００２４】
矩形状溝２６、２６ａの幅、すなわち、矩形状溝の短辺方向の長さ（図５中、矩形状溝２６のｙ方向の長さ）が略同一であると、封止剤に均一な断面を与えることができ、色彩が不均一になることを回避することができるという点で好ましい。例えば、図４中、矩形状溝２６の幅をＷ１、Ｗ２で示すが、Ｗ１とＷ２とは同一値であることが好ましい。上記矩形状溝２６、２６ａは、有機ポリマー層２１４を除去して絶縁層２２０を露出させたものであり、充填又は塗布された封止剤２２４が絶縁層２２０と強固に接着して、薄膜トランジスタアレイ基板２５０との密着性に優れた封止周壁２４を形成する。なお、図６には、矩形状溝２６、２６ａが示されていないが、矩形状溝２６、２６ａは有機ポリマー層２１４が除去されて形成された深さ方向が絶縁層２２０に達する溝であり、矩形状溝２６、２６ａの長辺方向の長さ（図５中、矩形状溝２６のｘ方向の長さ）は図５に示すように封止周壁２４の幅ｋより長くなっている。このように、矩形状溝２６、２６ａの長辺方向の長さが封止周壁２４の幅ｋより長いため、矩形状溝２６、２６ａに封止剤２２４が充填又は塗布されたときに、矩形状溝２６、２６ａ内に圧縮される空気が封止周壁２４の幅ｋよりはみ出た部分から排除される。ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置２００は、例えば、以下の本発明に係る第１の製造方法により製造することができる。
【００２５】
［本発明に係る第１の製造方法］
本発明に係る第１の製造方法は、溝形成工程と、封止周壁形成工程と、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程とを有するものである。
【００２６】
（溝形成工程）
溝形成工程は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた矩形状溝を、該薄膜トランジスタアレイ基板の周辺部近傍の下方に該矩形状溝の長辺の長さ方向が該薄膜トランジスタアレイ基板の中央部方向になるように複数個形成する工程である。
【００２７】
図４〜図６を用いて具体的に説明すると、溝形成工程では、薄膜トランジスタアレイ基板本体２２２の表面に絶縁層２２０及び有機ポリマー層２１４がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板２５０を用い、有機ポリマー層２１４を除去して絶縁層２２０を露出させた矩形状溝２６、２６ａを、薄膜トランジスタアレイ基板２５０の周辺部近傍の下方に矩形状溝２６、２６ａの長辺の長さ方向が薄膜トランジスタアレイ基板２５０の中央部方向になるように複数個形成する。
【００２８】
（封止周壁形成工程）
封止周壁形成工程は、前記複数個の矩形状溝上を結ぶように切れ目なく封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する工程である。
【００２９】
図４〜図６を用いて具体的に説明すると、封止周壁形成工程では、複数個の矩形状溝２６、２６ａ上を結ぶように切れ目なく封止剤２２４を塗布又は充填して、封止剤２２４からなる連続した壁状の封止周壁２４を形成する。
【００３０】
（ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程）
ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程は、前記封止周壁で囲まれた液晶封入部内に液晶を充填した後、該封止周壁上にカラーフィルター基板を配置し圧着して前記液晶を封入してＴＦＴ液晶ディスプレイ装置を形成する工程である。
【００３１】
図４〜図６を用いて具体的に説明すると、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程では、封止周壁２４で囲まれた液晶封入部２１６内に液晶を充填した後、封止周壁２４上にカラーフィルター基板２１０を配置し圧着して前記液晶を封入すると、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置２００が形成される。
【００３２】
本発明に係る第１の製造方法によると、従来のＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造工程を大幅に変更することなく、低コストで本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第１の実施形態を容易に製造することができる。また、上記方法によると、封止周壁形成の際に封止剤に加えられる圧力が従来より少なくて済み、製造されるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の信頼性及び操作寿命を向上させることができる。
【００３３】
［本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第２の実施形態］
次に、本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第２の実施形態について説明する。図７は、本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第２の実施形態であるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置３００の平面図であり、図８は、図７の部分３３８の拡大平面図である。ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置３００は、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置２００の矩形状溝２６、２６ａに代えて後述の連続コの字状溝３３４を用いた以外は、同一であるため、同一部分については、説明を適宜省略する。
【００３４】
図７〜図８に示すように、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置３００は、薄膜トランジスタアレイ基板本体３３２の表面に存在する有機ポリマー層３１４のうち封止剤３２４からなる封止周壁３３６の底面が接触する幅ｍの封止領域３３６ａの下方に、絶縁層３２０の露出した連続コの字状溝３３４が形成されている。
【００３５】
連続コの字状溝３３４は、多くの互いに垂直又は平行な溝セグメントが連続して連続コの字状に形成されている。連続コの字状溝３３４の溝セグメントのうち、封止周壁３３６の長さ方向に垂直な垂直溝セグメントの幅（図８中、Ｗ３で示す。）と封止周壁３３６の長さ方向に平行な平行溝セグメントの幅（図８中、Ｗ４で示す。）とは、同一の幅であることが好ましい。連続コの字状溝３３４は、封止領域３３６ａの中心線（図８中、Ｓで示す。）の両側に存在するようにする。本発明では、連続コの字状溝３３４を用いることにより、連続コの字状溝３３４内に封止剤３２４の分布が封止周壁３３６全体にわたって均一になり封止剤３２４の剥離が防止され、封止周壁３３６に空洞が形成されないと共に、カラーフィルター基板３４０が傾斜せずに薄膜トランジスタアレイ基板３５０に平行に接着され、いわゆる環状画像ムラを回避する作用を奏する。なお、本発明では、連続コの字状溝３３４に代えて、垂直溝セグメントと平行溝セグメントとが不連続に点在した不連続コの字状溝とすることもできる。ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置３００は、例えば、以下の本発明に係る第２の製造方法により製造することができる。
【００３６】
［本発明に係る第２の製造方法］
本発明に係る第２の製造方法は、溝形成工程と、封止周壁形成工程と、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程とを有するものである。本発明に係る第２の製造方法は、本発明に係る第１の製造方法において、溝形成工程及び封止周壁形成工程を変えたものであり、その他の工程は同一であるため、同一工程は説明を省略し、溝形成工程及び封止周壁形成工程のみ説明する。
【００３７】
（溝形成工程）
溝形成工程は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた連続コの字状溝を形成する工程である。
【００３８】
図７及び図８を用いて具体的に説明すると、溝形成工程では、薄膜トランジスタアレイ基板本体３３２の表面に絶縁層３２０及び有機ポリマー層３１４がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板３５０を用い、有機ポリマー層３１４を除去して絶縁層３２０を露出させた連続コの字状溝３３４を形成する。
【００３９】
（封止周壁形成工程）
封止周壁形成工程は、前記連続コの字状溝上に封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する工程である。
【００４０】
図７及び図８を用いて具体的に説明すると、封止周壁形成工程では、連続コの字状溝３３４上に封止剤３２４を塗布又は充填して、封止剤３２４からなる連続した壁状の封止周壁３３６を形成する。
【００４１】
本発明に係る第２の製造方法によると、従来のＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造工程を大幅に変更することなく、低コストで本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第２の実施形態を容易に製造することができる。また、上記方法によると、封止周壁形成の際に封止剤に加えられる圧力が従来より少なくて済み、製造されるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の信頼性及び操作寿命を向上させることができる。
【００４２】
［本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第３の実施形態］
次に、本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第３の実施形態について説明する。図９は、本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第３の実施形態であるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置４００の平面図である。ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置４００は、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置２００の矩形状溝２６、２６ａに代えて後述の鋸歯状溝４３４を用いた以外は、同一であるため、同一部分については、説明を適宜省略する。
【００４３】
図９に示すように、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置４００は、薄膜トランジスタアレイ基板本体４３２の表面に存在する図示しない有機ポリマー層のうち図示しない封止剤からなる封止周壁４３６の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域の下方に、図示しない絶縁層の露出した鋸歯状溝４３４が形成されている。
【００４４】
鋸歯状溝４３４は、長さ方向が交わる２種類の矩形状溝セグメントが連続して接合されることにより全体とて鋸歯状に形成されている。２種類の矩形状溝セグメントは、同一の幅であることが好ましい。鋸歯状溝４３４は、上記封止領域の図示しない中心線の両側に存在するようにする。鋸歯状溝４３４は、上記封止領域の下方に形成されるため矩形状溝セグメントが封止周壁よりも狭い幅で形成される。このため、鋸歯状溝４３４は、球状スペーサーの大きさが多少不均一であっても、鋸歯状溝４３４内に充填された封止周壁により液晶の封入が確実になる。本発明では、鋸歯状溝４３４を用いることにより、鋸歯状溝４３４内に封止剤の分布が封止周壁４３６全体にわたって均一になり封止剤の剥離が防止され、封止周壁４３６に空洞が形成されないと共に、カラーフィルター基板４４０が傾斜せずに薄膜トランジスタアレイ基板４５０に平行に接着され、いわゆる環状画像ムラを回避する作用を奏する。ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置４００は、例えば、以下の本発明に係る第３の製造方法により製造することができる。
【００４５】
［本発明に係る第３の製造方法］
本発明に係る第３の製造方法は、溝形成工程と、封止周壁形成工程と、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程とを有するものである。本発明に係る第３の製造方法は、本発明に係る第１の製造方法において、溝形成工程及び封止周壁形成工程を変えたものであり、その他の工程は同一であるため、同一工程は説明を省略し、溝形成工程及び封止周壁形成工程のみ説明する。
【００４６】
（溝形成工程）
溝形成工程は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた鋸歯状溝を形成する工程である。
【００４７】
図９を用いて具体的に説明すると、溝形成工程では、薄膜トランジスタアレイ基板本体４３２の表面に図示しない絶縁層及び図示しない有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板４５０を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた鋸歯状溝４３４を形成する。
【００４８】
（封止周壁形成工程）
封止周壁形成工程は、前記鋸歯状溝上に封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する工程である。
【００４９】
図９を用いて具体的に説明すると、封止周壁形成工程では、鋸歯状溝４３４上に図示しない封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁４３６を形成する。
【００５０】
本発明に係る第３の製造方法によると、従来のＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造工程を大幅に変更することなく、低コストで本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第３の実施形態を容易に製造することができる。また、上記方法によると、封止周壁形成の際に封止剤に加えられる圧力が従来より少なくて済み、製造されるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の信頼性及び操作寿命を向上させることができる。
【００５１】
［本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第４の実施形態］
次に、本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第４の実施形態について説明する。図１０は、本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第４の実施形態であるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置５００の平面図である。ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置５００は、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置２００の矩形状溝２６、２６ａに代えて後述の波状溝５３４を用いた以外は、同一であるため、同一部分については、説明を適宜省略する。
【００５２】
図１０に示すように、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置５００は、薄膜トランジスタアレイ基板本体５３２の表面に存在する図示しない有機ポリマー層のうち図示しない封止剤からなる封止周壁５３６の底面が接触する部分の最大範囲である封止領域の下方に、図示しない絶縁層の露出した波状溝５３４が形成されている。
【００５３】
波状溝５３４は、弧状溝セグメントが連続して接合されることにより全体として波状に形成されている。波状溝５３４は、弧状溝セグメントの幅が全体にわたり同一であることが好ましい。波状溝５３４は、上記封止領域の図示しない中心線の両側に存在するようにする。本発明では、波状溝５３４を用いることにより、波状溝５３４内に封止剤の分布が封止周壁５３６全体にわたって均一になり封止剤の剥離が防止され、封止周壁５３６に空洞が形成されないと共に、カラーフィルター基板５４０が傾斜せずに薄膜トランジスタアレイ基板５５０に平行に接着され、いわゆる環状画像ムラを回避する作用を奏する。ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置５００は、例えば、以下の本発明に係る第４の製造方法により製造することができる。
【００５４】
［本発明に係る第４の製造方法］
本発明に係る第４の製造方法は、溝形成工程と、封止周壁形成工程と、ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置組立工程とを有するものである。本発明に係る第４の製造方法は、本発明に係る第１の製造方法において、溝形成工程及び封止周壁形成工程を変えたものであり、その他の工程は同一であるため、同一工程は説明を省略し、溝形成工程及び封止周壁形成工程のみ説明する。
【００５５】
（溝形成工程）
溝形成工程は、薄膜トランジスタアレイ基板本体の表面に絶縁層及び有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた連続波状溝を形成する工程である。
【００５６】
図１０を用いて具体的に説明すると、溝形成工程では、薄膜トランジスタアレイ基板本体５３２の表面に図示しない絶縁層及び図示しない有機ポリマー層がこの順番に形成されてなる薄膜トランジスタアレイ基板５５０を用い、前記有機ポリマー層を除去して前記絶縁層を露出させた連続波状溝５３４を形成する。
【００５７】
（封止周壁形成工程）
封止周壁形成工程は、前記鋸歯状溝上に封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁を形成する工程である。
【００５８】
図１０を用いて具体的に説明すると、封止周壁形成工程では、鋸歯状溝５３４上に図示しない封止剤を塗布又は充填して、該封止剤からなる連続した壁状の封止周壁５３６を形成する。
【００５９】
本発明に係る第４の製造方法によると、従来のＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の製造工程を大幅に変更することなく、低コストで本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第４の実施形態を容易に製造することができる。また、上記方法によると、封止周壁形成の際に封止剤に加えられる圧力が従来より少なくて済み、製造されるＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の信頼性及び操作寿命を向上させることができる。
【００６０】
本発明では好ましい実施例を前述の通り開示したが、これらは決して本発明に限定するものではなく、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精神と領域を脱しない範囲内で各種の変動や潤色を加えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】従来のＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の平面図である。
【図２】図１の部分８の拡大平面図である。
【図３】図２をＡ−Ａ´線に沿って見た断面図である。
【図４】本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第１の実施形態の平面図である。
【図５】図４の部分２８の拡大平面図である。
【図６】図５をＢ−Ｂ´線に沿って見た断面図である。
【図７】本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第２の実施形態の平面図である。
【図８】図７の部分３３８の拡大平面図である。
【図９】本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第３の実施形態の平面図である。
【図１０】本発明に係るＴＦＴ液晶ディスプレイ装置の第４の実施形態の平面図である。
【符号の説明】
【００６２】
２、２２２、３３２、４３２、５３２  薄膜トランジスタアレイ基板本体
１６、２１４  有機ポリマー層
２０、２２０  絶縁層
１８、２１６  液晶
１０、２１０、３４０、４４０、５４０  カラーフィルター基板
１４、２２４  封止剤
２２、２２６  スペーサー
１２  排気孔
４、２６、３３４、４３４、５３４  溝
６、２４、３３６  封止周壁
ｇ、ｋ、ｍ  封止周壁の幅
Ａ−Ａ’、Ｂ−Ｂ’  水平間断線
１５０、２５０、３５０、４５０、５５０  薄膜トランジスタアレイ基板
１００、２００、３００、４００、５００  ＴＦＴ液晶ディスプレイ装置
【図１】
2005234582.tif 000003
【図２】
2005234582.tif 000004
【図３】
2005234582.tif 000005
【図４】
2005234582.tif 000006
【図５】
2005234582.tif 000007
【図６】
2005234582.tif 000008
【図７】
2005234582.tif 000009
【図８】
2005234582.tif 000010
【図９】
2005234582.tif 000011
【図１０】
2005234582.tif 000012