(57)【要約】【課題】ＰＤＰフィルタのガラス基板の黒枠塗装を省略とすることができる電磁波シールド部材及びこの電磁波シールド部材を用いたＰＤＰフィルタを提供する。【解決手段】基材上に、パターンエッチング及び防眩処理を施した銅箔を貼り合わせた電磁波シールド部材１０。この電磁波シールド部材１０は、少なくとも端部に幅広部を有し、中央部がパターンエッチングされている。非エッチング加工部の防眩処理面が有効画面サイズを決定するための枠として機能するため、画面サイズ決定用の枠を形成するための塗装工程が不要である。この電磁波シールド部材１０を備えるＰＤＰフィルタ２０。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材の一方の面に設けられた、少なくとも端部に幅広部を有し、中央部がパターンエッチングされた金属薄膜とを備えた電磁波シールド部材において、
該金属薄膜の基材側の面に防眩処理が施されており、前記端部の防眩処理面が画面サイズ決定用の枠を兼ねることを特徴とする電磁波シールド部材。
【請求項２】
請求項１において、該基材が非強化のソーダライム系フロートガラスであることを特徴とする電磁波シールド部材。
【請求項３】
請求項１において、該基材が樹脂フィルムであることを特徴とする電磁波シールド部材。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項において、該基材と金属薄膜とは、エチレン−酢酸ビニル系共重合体樹脂を主成分とする粘着剤により貼り合わされていることを特徴とする電磁波シールド部材。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、該金属薄膜は銅又は銅合金よりなることを特徴とする電磁波シールド部材。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項において、更に、近赤外線吸収フィルム、色調補正フィルム、反射防止フィルム、アンチグレアフィルム、衝撃吸収フィルム及び防汚フィルムよりなる群から選ばれる１種又は２種以上を備えることを特徴とする電磁波シールド部材。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の電磁波シールド部材を含み、プラズマディスプレイ本体に直接貼り合わされることを特徴とするＰＤＰフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）の前面フィルタの導電層形成用フィルムとして好適な電磁波シールド部材と、この電磁波シールド部材を備えるＰＤＰフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰの漏洩電磁波を遮断するために、ガラス基板に導電層を形成して電磁波シールド機能を付与したＰＤＰフィルタが用いられており、電磁波シールド性を付与するための導電層としては、一般に、銅箔をパターンエッチングした銅メッシュが使われている。
【０００３】
ＰＤＰフィルタは一般にその平面視形状が長方形状であり、従来のＰＤＰフィルタにあっては、ガラス基板の周縁部に、ディスプレイの有効画面サイズを決定するための黒枠塗装が施されている。即ち、ガラス基板に黒枠塗装を施した後、熱をかけて強化処理を施し、その後このガラス基板に銅メッシュやその他の機能性フィルムを貼り合わせることにより、ＰＤＰフィルタが製造されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ガラス基板に黒枠塗装を施した従来のＰＤＰフィルタでは、黒枠塗装のための印刷工程を経る必要があり、製造工程数が多く、生産効率が悪い。また、ガラスの強化処理も必要であるため、この強化処理のための工程も生産効率の向上及び製造コストの低減の面で不利であった。
【０００５】
従って、本発明はＰＤＰフィルタのガラス基板の黒枠塗装を省略とすることができる電磁波シールド部材と、この電磁波シールド部材を用いたＰＤＰフィルタを提供することを目的とする。
【０００６】
本発明はまた、ガラス基板の強化処理を省略することができるＰＤＰフィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の電磁波シールド部材は、基材と、該基材の一方の面に設けられた、少なくとも端部に幅広部を有し、中央部がパターンエッチングされた金属薄膜とを備えた電磁波シールド部材において、該金属薄膜の基材側の面に防眩処理が施されており、前記端部の防眩処理面が画面サイズ決定用の枠を兼ねることを特徴とする。
【０００８】
本発明の電磁波シールド部材の金属薄膜は、中央部にパターンエッチングによる開口が形成されており、端部例えば周縁部のパターンエッチングが施されていない幅広部の防眩処理面が画面サイズ決定用の枠として機能するため、画面サイズ決定用の枠形成のための塗装工程が不要となる。
【０００９】
本発明において、基材としては、非強化のソーダライム系フロートガラス又は樹脂フィルムを用いることができる。
【００１０】
本発明において、基材と金属薄膜とをエチレン−酢酸ビニル系共重合体樹脂を主成分とする粘着剤、特に、エチレン−酢酸ビニル系共重合体樹脂を主成分とし、架橋剤を含有する熱架橋型透明接着剤を用いることにより、この透明接着剤の補強効果で基材として強化ガラスを用いることが不要となり、非強化のソーダライム系フロートガラス基板や樹脂フィルムであっても、半強化ガラスと同等の強度を得ることができる。
【００１１】
本発明において、金属薄膜としては、銅又は銅合金よりなる金属箔が好ましい。
【００１２】
このような本発明の電磁波シールド部材は、必要に応じて更に、近赤外線吸収フィルム、色調補正フィルム、反射防止フィルム、アンチグレアフィルム、衝撃吸収フィルム及び防汚フィルムよりなる群から選ばれる１種又は２種以上を設けることができる。
【００１３】
本発明のＰＤＰフィルタは、このような本発明の電磁波シールド部材を含み、ＰＤＰ本体に直接貼り合わされて使用される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の電磁波シールド部材及びＰＤＰフィルタであれば、ＰＤＰフィルタの有効画面サイズ決定用の枠形成のための塗装工程が不要となり、製造工程数が少なく、安価に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に図面を参照して本発明の電磁波シールド部材及びＰＤＰフィルタの実施の形態を詳細に説明する。
【００１６】
まず、図２を参照して本発明の電磁波シールド部材の実施の形態を説明する。
【００１７】
図２（ａ）は実施の形態に係る電磁波シールド部材の断面図であり、図２（ｂ）は同平面図である。この電磁波シールド部材１０は、パターンエッチング及び防眩処理が施された銅箔１１をＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム１２等の基材フィルムに透明接着剤（図示せず）により接着したものである。この電磁波シールド部材１０は、通常、一方の面に、防眩処理が施された銅箔１１をＰＥＴフィルム１２に透明接着剤により接着した後、パターンエッチングを施して開口１１Ａを形成することにより製造される。なお、このように、片面に防眩処理を施した銅箔１１をＰＥＴフィルム１２等に貼り合わせた後、パターンエッチングを施したものでは、銅箔１１のエッチング加工断面は銅光沢を呈し、見る角度によっては光が反射するようになる。従って、これを防止するために、本発明の電磁波シールド部材にあっては、ＰＥＴフィルム１２に銅箔１１を貼り合わせた後、パターンエッチングを行い、その後防眩処理を施しても良い。このようにエッチング加工後に防眩処理を施すことにより、開口のエッチング加工断面を含めた銅箔１１の全表出面が防眩処理面となり、光の反射は防止される。
【００１８】
図２の電磁波シールド部材１０は、図２（ｂ）に示す如く、概略矩形形状（ただし、本発明の電磁波シールド部材は何ら概略矩形形状に限定されるものではなく、円形、楕円形、その他の多角形状であっても良い。）であり、銅箔１１の周縁部、即ち、４側辺縁に沿った帯状の周枠部を除いた中央部にのみパターンエッチングによる開口１１Ａが形成されている。このような電磁波シールド部材１０では、周縁部の非エッチング加工部１４の防眩処理面をＰＤＰフィルタの画面サイズ決定用の枠として機能させることができる。このため、この電磁波シールド部材１０を用いてＰＤＰフィルタを作製する場合、ＰＤＰフィルタの透明基板への画面サイズ決定用の枠形成のための塗装加工が不要となり、製造工程数を低減することができる。
【００１９】
なお、この非エッチング加工部１４の幅Ｗは、電磁波シールド部材１０の大きさによっても異なるが、通常１．５〜２．０ｃｍ程度とされる。
【００２０】
図２の電磁波シールド部材１０の基材フィルムとしては、ＰＥＴフィルム１２の他、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等の樹脂フィルムを用いることができるが、好ましくはＰＥＴ、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＣ、ＰＭＭＡ、アクリルフィルムであり、その厚さは、得られる電磁波シールド部材の厚さを過度に厚くすることなく、十分な耐久性と取り扱い性を得る上で、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００２１】
ただし、本発明の電磁波シールド部材の基材としては、このような樹脂フィルムの他、非強化のソーダライム系フロートガラス基板を用いることもできる。
【００２２】
また、金属箔としては、銅箔１１の他、Ｃｕ−Ｎｉ等の銅合金箔を用いることができ、その厚さは、通常１〜２００μｍ程度である。
【００２３】
透明基材フィルム等の基材と金属箔とを接着する透明接着剤としては、本発明の電磁波シールド部材に用いられる接着樹脂として後述するＥＶＡやＰＶＢ樹脂等を用いることができ、そのシート化及び接着の方法や条件についても同様の方法及び条件を採用することができる。また、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ゴム系の透明接着剤を用いることもでき、特に、積層後のエッチング工程での耐エッチング性の点から、ウレタン系、エポキシ系が特に望ましい。この透明接着剤による接着層の厚さは、好ましくは１〜５０μｍである。この透明接着剤には、必要に応じて、導電性粒子が配合されていても良い。
【００２４】
金属箔をパターンエッチングする方法は、一般に用いられているどのような方法でも構わないが、レジストを用いるフォトエッチングが好ましい。この場合、金属箔上にフォトレジスト膜を圧着するか、フォトレジストをコーティングした後、所望のマスクを用いるなどしてパターン露光後、現像処理してレジストパターンを形成する。その後、レジストのない部分の金属箔を塩化第二鉄液等のエッチング液で除去すればよい。
【００２５】
また、銅箔等の金属膜の防眩処理は、コントラストが良好である点から、次亜塩素酸による酸化処理であることが好ましい。
【００２６】
本発明の電磁波シールド部材のエッチングパターンの形状には特に制限はないが、図２（ｂ）に示すような略格子形の開口率６０〜９５％程度のメッシュ形状であることが好ましい。なお、開口率とは、エッチング加工部の投影面積（格子部と非格子部との合計の面積）における開口部分（非格子部）の面積割合の百分率である。この開口率が６０％未満であると、電磁波シールド性は十分に得られるものの、透明性が不足する。逆に、開口率が９５％を超えると、透明性は十分であるが、電磁波シールド性が不足する。
【００２７】
本発明の電磁波シールド部材１０において、銅箔１１の表面は、その少なくとも一部が透明接着剤で被覆されていることが好ましい。特に、エッチング加工により開口を形成した領域は、その少なくとも９０％以上が透明接着剤により被覆されていることが好ましく、これにより、透明性の向上という効果が奏される。また、基材フィルムの銅箔等の金属膜を設けた側とは反対側の面には、この電磁波シールド部材をＰＤＰ本体に貼着するための粘着剤層が形成されていることが好ましい。
【００２８】
なお、上記透明接着剤としては、本発明の電磁波シールド部材に用いられる接着樹脂として後述するＥＶＡやＰＶＢ樹脂等を用いることができる。また、粘着剤としては、アクリル系、ＳＢＳ、ＳＥＢＳ等の熱可塑性エラストマー系など透明粘着剤（感圧接着剤）が好適に使用される。
【００２９】
次に図１を参照して本発明のＰＤＰフィルタについて説明する。図１は本発明のＰＤＰフィルタの実施の形態を示す断面図である。
【００３０】
このＰＤＰフィルタ２０は、ガラス基板１等の透明基板の一方の面に本発明の電磁波シールド部材１０が透明接着剤により接着され、他方の面に、それぞれ接着層２Ａ，２Ｂを介して近赤外線吸収フィルム３及び反射防止フィルム４が積層して接着されている。この電磁波シールド部材１０は、図２に示す如く、パターンエッチング及び防眩処理を施した銅箔１１をＰＥＴフィルム１２に貼り合わせたものであり、その銅箔１１側の面に透明接着剤よりなる接着層１５が形成され、反対側面に粘着剤層１６が形成されている。ガラス基板１の一方の面にこのような電磁波シールド部材１０をその接着層１５で接着したＰＤＰフィルタ２０は、ＰＤＰ本体３０に、電磁波シールド部材１０の粘着剤層１６で取り付けられている。
【００３１】
このＰＤＰフィルタ２０であれば、ガラス基板１に接着された電磁波シールド部材１０の銅箔１１の周縁部の非エッチング加工部１４の防眩処理面がＰＤＰフィルタの画面サイズ決定用の黒枠として機能するため、ガラス基板１の黒枠塗装加工は不要である。
【００３２】
図１に示すＰＤＰフィルタ２０は、ＰＤＰ本体３０に取り付けた際にガラス基板１の後面側となる面に電磁波シールド部材１０が設けられ、前面側に近赤外線吸収フィルム３及び反射防止フィルム４が設けられているが、本発明のＰＤＰフィルタの構成は何ら図１に示すものに限定されず、例えば、電磁波シールド部材１０はガラス基板１の前面側に、その銅箔側が前面側となるように設けられていても良い。また、近赤外線吸収フィルム２はガラス基板１の後面側に設けられていても良い。更に、本発明のＰＤＰフィルタは、アンチグレアフィルム、色調補正フィルム、衝撃吸収フィルム、防汚フィルム、その他の機能性フィルムを有していても良い。
【００３３】
なお、これらのフィルムを接着する接着層２Ａ，２Ｂ，１５の接着樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性能面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝撃性、耐貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用いられているＰＶＢ樹脂も好適である。
【００３４】
ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセタール単位が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重量％で、平均重合度が２００〜３０００、好ましくは３００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可塑剤を含む樹脂組成物として使用される。
【００３５】
ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐酸系可塑剤が挙げられる。
【００３６】
一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オクチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコールとの反応によって得られるエステルが好ましく、より好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等である。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又はトリプロピレングリコールとのエステルも使用可能である。
【００３７】
多塩基酸エステル系可塑剤としては、例えば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエステルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジペート等が挙げられる。
【００３８】
燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェート、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。
【００３９】
ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４０重量部とする。
【００４０】
ＰＶＢ樹脂組成物には、更に劣化防止のために、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が添加されていても良い。
【００４１】
図１のＰＤＰフィルタ２０は、ガラス基板１の一方の面に接着層１５が形成された電磁波シールド部材１０を配置し、他方の面に接着用フィルムを各フィルム間に介在させ、減圧、加温下に脱気して予備圧着した後、加熱又は光照射により接着層を硬化させて一体化することにより容易に製造することができる。
【００４２】
なお、接着層２Ａ，２Ｂ，１５の厚さは、通常の場合０．０５〜１．０ｍｍ程度とされる。従って、接着用フィルムは、このような厚さの接着層が得られるように、０．０５〜１．０ｍｍ厚さに成形される。
【００４３】
以下に、エチレン系共重合体としてＥＶＡを用いた場合を例示して本発明に係る接着層についてより詳細に説明する。
【００４４】
ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生ずる。
【００４５】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５重量部以下、好ましくは０．５〜５．０重量部の割合で使用される。
【００４６】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【００４７】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【００４８】
より具体的には、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５〜５重量部用いられる。
【００４９】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対して５重量部以下、好ましくは０．１〜３．０重量部使用される。
【００５０】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【００５１】
また、この場合、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００５２】
これらのシランカップリング剤は通常ＥＶＡ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ましくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【００５３】
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【００５４】
また、接着性改良の手段として、シート化されたＥＶＡ接着フィルム面へのコロナ放電処理、低温プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効である。
【００５５】
本発明に係るＥＶＡ接着用フィルムは、ＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。成膜に際してはブロッキング防止、ガラス基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。
【００５６】
ＥＶＡ接着用フィルムを用いたＰＤＰフィルタであれば、その補強効果で、ガラス基板１として、非強化のソーダライム系フロートガラス基板であっても、半強化ガラスと同等の強度を得ることができ、ガラス基板１の強化処理を不要とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明のＰＤＰフィルタの実施の形態を示す断面図である。
【図２】図２（ａ）は本発明の電磁波シールド部材の実施の形態を示す断面図であり、図２（ｂ）は同平面図である。
【符号の説明】
【００５８】
１  ガラス基板
２Ａ，２Ｂ，１５  接着層
１６  粘着剤層
１０  電磁波シールド部材
１１  銅箔
１２  ＰＥＴフィルム
１４  非エッチング加工部
２０  ＰＤＰフィルタ
３０  ＰＤＰ本体
【図１】
2005072472.tif 000003
【図２】
2005072472.tif 000004