(57)【要約】【課題】レチクル走査時のレチクルステージの移動経路を短くすることで、スループットを向上させることのできる露光方法を提供する。【解決手段】１つ目のチップを走査露光する際は、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１のスタート点Ｐ１から露光を開始し、１枚目のレチクル１０と２枚目のレチクル２０の全ストライプを折り返しながらなぞるように露光して２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４の終了点Ｐ１６に至る。２つ目のチップを露光する際は、２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４の終了点Ｐ１６から露光を開始して、１つ目のチップの露光のときとは逆の経路を辿って２枚目のレチクル２０と１枚目のレチクル１０の全ストライプを露光し、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１のスタート点Ｐ１に至る。【選択図】      図１
2005072047.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感応基板上に転写すべきデバイスパターンを、それぞれ複数の並行する露光列（ストライプ）に分割して２枚のレチクル上に形成し、
該２枚のレチクルを露光装置内に搭載して、該レチクルと前記感応基板を同期走査しながら前記露光列毎に前記デバイスパターンを前記感応基板上に転写する走査露光方法であって；
前記感応基板上に複数個のデバイスパターン転写領域（チップ）が存在し、
その内のあるチップについては、
１枚目のレチクルの１本目のストライプの端のスタート点から露光を開始して該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように走査露光し、
続いて、２枚目のレチクルに露光を移動して、該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように露光して該レチクルの最後のストライプの端の終了点に至り、
次のチップについては、
前記２枚目のレチクルの最後のストライプの端の終了点から露光を開始して、前のチップの露光のときとは逆の経路を辿って該２枚目のレチクルの全ストライプを露光し、
続いて、１枚目のレチクルに露光を移動して、該レチクルの全ストライプを、前のチップの露光のときとは逆の経路を辿って走査露光して前記１枚目のレチクルの１本目のストライプの端の前記スタート点に至る、
ことを特徴とする露光方法。
【請求項２】
感応基板上に転写すべきデバイスパターンを、それぞれ複数の並行する露光列（ストライプ）に分割して２枚のレチクル上に形成し、
該２枚のレチクルを前記ストライプの走査方向に沿うように並べて露光装置内に搭載して、該レチクルと前記感応基板を同期走査しながら前記露光列毎に前記デバイスパターンを前記感応基板上に転写する走査露光方法であって；
１枚目のレチクルの１本目のストライプの端のスタート点から露光を開始して該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように走査露光し、
続いて、２枚目のレチクルに露光を移動して、該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように露光して該レチクルのストライプの端の終了点に至り、
この際、１枚目のレチクルの最終ストライプと２枚目のレチクルの第１のストライプの走査方向は同じとし、
１枚目のレチクルから２枚目のレチクルに走査を移動する際に、感応基板ステージを戻す方向に動かして、これから露光する感応基板上のストライプを露光スタート位置に位置させてから２枚目のレチクルの第１ストライプを露光することを特徴とする走査露光方法。
【請求項３】
前記感応基板上に複数個のデバイスパターン転写領域（チップ）が存在し、
その内のあるチップについては、
１枚目のレチクルの１本目のストライプの端のスタート点から露光を開始して該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように走査露光し、
続いて、２枚目のレチクルに露光を移動して、該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように露光して該レチクルの最後のストライプの端の終了点に至り、
次のチップについては、
前記２枚目のレチクルの最後のストライプの端の終了点から露光を開始して、前のチップの露光のときとは逆の経路を辿って該２枚目のレチクルの全ストライプを露光し、
続いて、１枚目のレチクルに露光を移動して、該レチクルの全ストライプを、前のチップの露光のときとは逆の経路を辿って走査露光して前記１枚目のレチクルの１本目のストライプの端の前記スタート点に至る、
ことを特徴とする請求項２記載の露光方法。
【請求項４】
前記感応基板上に複数個のデバイスパターン転写領域（チップ）が存在し、
その内のあるチップについては、
１枚目のレチクルの１本目のストライプの端のスタート点から露光を開始して該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように走査露光し、
続いて、２枚目のレチクルに露光を移動して、該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように露光して該レチクルの最後のストライプの端の終了点に至り、
次のチップに露光を移す際に、２枚目のレチクルの最終ストライプと１枚目のレチクルの第１のストライプの走査方向は同じとし、レチクル上では前のチップと同様に走査露光することを特徴とする請求項２記載の露光方法。
【請求項５】
前記１枚目のレチクルを走査露光時の走査方向に平行移動した形態で前記２枚目のレチクルを前記露光装置内に搭載することを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載の露光方法。
【請求項６】
前記レチクルに４本以上の偶数本のストライプを形成し、１つおきのストライプにコンプリメンタリなパターンを配置することを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載の露光方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路等のリソグラフィーに用いられる露光方法に関する。特には、感応基板（ウェハ等）に転写すべきデバイスパターンを、それぞれ複数の並行する露光列（ストライプ）に分割して形成したレチクルを複数枚用いて走査露光を行う方式の露光方法において、各ストライプの露光の順序や走査方向に工夫を加えてスループットの向上を図った露光方法に関する。
【０００２】
【背景技術】
露光の高解像と高スループットの両方を兼ね備えた露光装置として、分割転写方式の電子線露光装置の開発が進められている。この電子線露光装置に用いられるレチクルとして、散乱ステンシルタイプのレチクルが提案されている。散乱ステンシルレチクルとは、厚さが数μｍのシリコンやダイヤモンド状カーボンの薄膜に、回路パターンを孔開き部として形成したものである。電子線がレチクルに照射されると、膜が存在する部分では電子線が散乱し、回路パターンである孔開き部は電子線が通過する。通過した電子線はウェハ上に結像する。
【０００３】
このようなステンシルタイプのレチクルでは、パターンの全方位あるいは３方位が薄膜によって拘束されないパターン（例えば、孔開き部の中央に島状の非孔開き部が形成される島状パターン）は、非孔開き部となる膜の部分を重力に対してサポートできないため、パターンが形成できないという問題がある。そこで、パターンを２つ以上に相補的な（コンプリメンタリ）パターンに分割して別々のパターン領域又は別々のレチクルに形成し、分割されたパターンを別々にウェハ上に投影露光してウェハ上で繋ぎ合わせる方法が用いられる。
【０００４】
次に、このような２枚のレチクルに形成されたコンプリメンタリなパターンをウェハ上の複数の転写領域（チップあるいはダイ）に転写するための、一般的と思われる方法を説明する。
【０００５】
まず、レチクル及びウェハの構成例について説明する。
図１１は、露光装置に搭載したレチクルの一例を示す図であり、図１１（Ａ）は、レチクルステージ上の２枚のレチクルを示す平面図であり、図１１（Ｂ）はこのレチクルを転写することにより形成したいデバイスパターンの各ストライプ配置を示す平面図である。
図１２は、ウェハ上のパターン転写領域（チップ）の配置の一例を示す平面図であり、図１２（Ａ）は、ウェハ全体の平面図、図１２（Ｂ）は１つのチップ内における各ストライプ配置を示す平面図である。
図１１（Ａ）に示すように、２枚のレチクル１０、２０はレチクルステージ３１上にＹ方向（走査露光時の走査方向）に並んで載置されている。レチクル１０には、４つの並行する長方形の帯状の露光列（ストライプ）１１、１２、１３、１４が、この順に＋Ｘ方向に並ぶように形成されている。レチクル２０にも、４つの並行する露光列（ストライプ）２１、２２、２３、２４が、この順に−Ｘ方向に並ぶように形成されている。
なお、Ｙ方向がストライプの長手方向であって露光の走査方向である。Ｘ方向はＹ方向と直交する方向である。
【０００６】
デバイスパターンＰは、図１１（Ｂ）に示すように、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの４つのストライプに分けられており、各ストライプのパターンはコンプリメンタリなパターン対Ａ１とＡ２、Ｂ１とＢ２、Ｃ１とＣ２、Ｄ１とＤ２に分割される。そして、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１と３本目のストライプ１３には、互いにコンプリメンタリなパターン対Ａ１とＡ２、２本目のストライプ１２と４本目のストライプ１４には、互いにコンプリメンタリなパターン対Ｂ１とＢ２がそれぞれ配置されている。２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１と３本目のストライプ２３には、互いにコンプリメンタリなパターン対Ｃ１とＣ２、２本目のストライプ１２と４本目のストライプ１４には、互いにコンプリメンタリなパターン対Ｄ１とＤ２がそれぞれ配置されている。
【０００７】
このように、１つおきのストライプにコンプリメンタリなパターンを配置するのは、詳しくは後述するようにジグザグ（＋Ｙ方向又は−Ｙ方向）にストライプを走査する際に、互いにコンプリメンタリなパターン（例えばＡ１とＡ２）は同じ方向に走査したほうが、重ね合わせの精度がよりよくなるためよいとされるからである。
【０００８】
次に、ウェハについて説明する。
図１２（Ａ）に示すように、ウェハ５０は、例えば、径が２００ｍｍ（８インチウェハ）又は３００ｍｍ（１２インチウェハ）の円板状である。このウェハ５０に、寸法が、例えば、２０ｍｍ×２５ｍｍのチップ６０が縦横に並んで配列される。この例ではチップ６０は１１５個配列される。各チップは、図１１（Ｂ）に示すように、−Ｘ方向に並んだ４本のストライプ６１、６２、６３、６４を有する。
【０００９】
そして、レチクルとチップを反対方向に同期走査（スキャン）しながら露光することにより、レチクル上のパターンがチップ上に転写される。つまり、チップ６０の１本目のストライプ６１には、コンプリメンタリなパターン対Ａ１、Ａ２を繋ぎ合わせたパターンａ、２本目のストライプ６２にはコンプリメンタリなパターン対Ｂ１、Ｂ２を繋ぎ合わせたパターンｂ、３本目のストライプ６３にはコンプリメンタリなパターン対Ｃ１、Ｃ２を繋ぎ合わせたパターンｃ、４本目のストライプ６４にはコンプリメンタリなパターン対Ｄ１、Ｄ２を繋ぎ合わせたパターンｄが転写される。
【００１０】
次に、２枚のレチクル１０、２０を露光するための走査経路の一例を説明する。
図１３（Ａ）は、レチクルの走査経路を説明する図であり、図１３（Ｂ）は、チップの走査経路を説明する図である。
なお、以下の図及び説明において、“走査”とは、レチクルに対しては照明する領域のストライプ上の進行、チップ（ウェハ）に対しては露光する領域のチップ上の進行を意味する。その走査の中でも露光を行いながら走査する部分を、図中の太い線と太い矢印で表す。一方、露光せずにステージを移動させる際のステージの進行方向を、図中の細い線と細い矢印で示す。なお、太い線と細い線が重なると見にくいので、細い線（非露光走査線）の一部はズラして描いている。
【００１１】
一般的には、各レチクルの各ストライプは、＋Ｙ方向と−Ｙ方向を交互にジグザグに走査され、チップの各ストライプは、レチクルの走査方向と反対の方向に、レチクルと同期して走査される。レチクル及びチップに配列された各ストライプを、このように＋Ｙ方向と−Ｙ方向を交互に走査することにより、各ステージの移動距離を短くして、ステージの無駄な動きを少なくできる。
また、この例では、ストライプの本数が偶数であり、コンプリメンタリなパターン対は１つおきのストライプに配置されているので、同じパターン対（例えばＡ１とＡ２）は同じ方向に走査される。
【００１２】
図１３（Ａ）の左上に示すように、まず、１枚目のレチクル１０の端の１本目のストライプ１１から走査する。この際、図の下側の走査開始点Ｐ１（スタート点）から上側の走査終了点Ｐ２まで＋Ｙ方向に走査して、１本目のストライプ１１を露光する。次に、点Ｐ２から、図の右側の２本目のストライプ１２の走査開始点Ｐ３まで、露光は行わずにレチクルステージを＋Ｘ方向に移動させる。その後、点Ｐ３から走査終了点Ｐ４まで−Ｙ方向に走査して、２本目のストライプ１２を露光する。同様に、１枚目のレチクル１０の３本目のストライプ１３と４本目のストライプ１４を露光し、１枚目のレチクル１０の露光を終了する。
なお、図に示すようにステージ走査開始点と移動停止点が各ストライプの端から外れた位置にあるのは、ステージ移動開始時の加速運転期間及び停止時の減速運転期間を設けるためである。そして、ステージ移動中においては、有効な露光（パターン転写を伴う露光）はストライプの部分のみで行われる。
【００１３】
次に２枚目のレチクル２０を露光する。この際、１枚目のレチクル１０の最後のストライプ１４の走査終了点である点Ｐ８から、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１の、図の下側の走査開始点であるＰ９まで、＋Ｙ方向にレチクルステージを移動させる。これは、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４を−Ｙ方向に走査しており、通常はレチクル及びウェハで隣り合うストライプをジグザグ（＋Ｙ、−Ｙ、＋Ｙ、−Ｙ）に走査するので、次に走査する２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１を＋Ｙ方向に走査するためである。このため、点Ｐ８から、２枚目のレチクル２０の走査開始点であるＰ９まで、＋Ｙ方向にレチクルステージを移動させる。
なお、図上では、Ｐ８からＰ９に至る走査の線が少し曲がっているが、これは図を分かりやすくするためであって、実際はまっすぐ図の下方に動く。
【００１４】
その後、１枚目のレチクルと同様に、点Ｐ９→点Ｐ１０→点Ｐ１１→点Ｐ１１→点Ｐ１２→点Ｐ１３→点Ｐ１４→点Ｐ１５→点Ｐ１６の順序で各ストライプを走査する。各ストライプは＋Ｙ方向と−Ｙ方向に交互に走査され、互いにコンプリメンタリなパターンＣ１、Ｃ２が形成されているストライプ２１、２３は＋Ｙ方向に走査され、互いにコンプリメンタリなパターンＤ１、Ｄ２が形成されているストライプ２２、２４は−Ｙ方向に走査されている。
【００１５】
次に、図１３（Ｂ）を参照して、チップ上における走査について説明する。なお、図において、１つのストライプ中に２本の太い線と矢印が重なっている。これらの矢印の内の基端側の矢印が始めに走査され、先端側の矢印が後で走査されることを示す。そして、矢印の横に記されている符号が、その矢印に伴う走査によって転写されるパターンを示す。
図１３（Ｂ）の右端に示すように、チップ６０の端の１本目のストライプ６１から走査する。この際、図の上側の走査開始点ｐ１（スタート点）から下側の走査終了点ｐ２まで−Ｙ方向に走査して、１本目のストライプ６１を露光する。これにより、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１のパターンＡ１が、ストライプ６１に転写される。
次に、点ｐ２から、図の左側の２本目のストライプ６２の走査開始点ｐ３まで、露光は行わずにウェハステージを−Ｘ方向に移動させる。その後、点ｐ３から走査終了点ｐ４まで＋Ｙ方向に走査して、２本目のストライプ６２を露光する。これにより、１枚目のレチクル１０の２本目のストライプ１２のパターンＢ１が、ストライプ６２に転写される。
【００１６】
そして、点ｐ４から、１本目のストライプ６１の走査開始点ｐ５（走査開始点ｐ１と同じ）まで、露光は行わずにウェハステージを＋Ｘ方向に移動させる。その後、点ｐ５から走査終了点ｐ６（走査終了点ｐ２と同じ）まで−Ｙ方向に走査して、１本目のストライプ６１を露光する。これにより、１枚目のレチクル１０の３本目のストライプ１３のパターンＡ２が、ストライプ６１に転写される。そして、ストライプ６１には、コンプリメンタリなパターン対Ａ１とＡ２を繋ぎ合わせたパターンａが転写される。
【００１７】
次に、点ｐ６から、図の左側の２本目のストライプ６２の走査開始点ｐ７（点ｐ３と同じ）まで、露光は行わずにウェハステージを−Ｘ方向に移動させる。その後、点ｐ７から走査終了点ｐ８（点ｐ４と同じ）まで＋Ｙ方向に走査して、２本目のストライプ６２を露光する。これにより、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４のパターンＢ２が、ストライプ６２に転写される。そして、ストライプ６２には、コンプリメンタリなパターン対Ｂ１とＢ２を繋ぎ合わせたパターンｂが転写される。
【００１８】
その後、点ｐ８から走査開始点ｐ９まで、露光は行わずにウェハステージを−Ｘ方向に移動した後、点ｐ９→点ｐ１０→点ｐ１１→点ｐ１２→点ｐ１３→点ｐ１４→点ｐ１５→点ｐ１６とウェハステージを移動させながら走査露光する。これにより、ストライプ６３には、コンプリメンタリなパターン対Ｃ１とＣ２を繋ぎ合わせたパターンｃが転写され、ストライプ６４には、コンプリメンタリなパターン対Ｄ１とＤ２を繋ぎ合わせたパターンｄが転写される。
なお、チップ上走査においても、図に示すようにステージ走査開始点と移動停止点が各ストライプの端から外れた位置にあるのは、ステージ移動開始時の加速運転期間及び停止時の減速運転期間を設けるためである。そして、ステージ移動中においては、有効な露光（パターン転写を伴う露光）はストライプの部分のみで行われる。
【００１９】
このように、チップの各ストライプも、＋Ｙ方向と−Ｙ方向を交互にジグザグに走査される。各ストライプの走査方向は、レチクルの走査方向と反対の方向である。
そして、チップにおいても、コンプリメンタリなパターン対（例えばＡ１とＡ２）は同じ方向に走査される。
【００２０】
次に、ウェハ上の多数のチップを露光する順序の一例を説明する。
図１４は、ウェハ上のチップの露光順序の一例を説明する図である。
ウェハ５０には、多数のチップ６０がＸＹ方向に格子状に配列されている。この例では、Ｘ方向に配列されたチップ列７０に沿って露光が進む。
【００２１】
図１２（Ｂ）に示したチップ６０では、パターンａからパターンｄへ−Ｘ方向に露光が進む。このため、最も下のチップ列７０−１を露光する際は、同列の右端のチップ６０−１から同列の左端のチップ６０−５へ進むことが、ウェハステージの走査量を減らす上で好ましい。この際、この列内の全てのチップは、図１３（Ｂ）で説明した方法で走査される。この際、最初のチップ６０−１の露光が終了した後、次のチップ６０−２を露光するために、レチクルにおいては、図１３（Ａ）に示すように、レチクルステージを、２つ目のレチクル２０の走査終了点Ｐ１６（パターンＤ２の走査露光終了点）から１つ目のレチクル１０の走査開始点Ｐ１（パターンＡ１の走査露光スタート点）へ、−Ｙ方向に移動させる必要がある。
【００２２】
つまり、一つのチップにパターン転写するのと次のチップに露光を進めるのに、レチクルステージは、１枚目のレチクル１０から２枚目のレチクル２０への移動（図１３（Ａ）のＰ８→Ｐ９の移動）と、２枚目のレチクル２０から１枚目のレチクル１０への移動（Ｐ１６→Ｐ１の移動）の、２回のレチクル間移動を行っている。
【００２３】
図１４に示す最も下列のチップ列７０−１の図の左端のチップ６０−５の露光が終了すると、次に、その上のチップ列７０−２の図の左端のチップ６０−６に露光を移し、同列を＋Ｘ方向に露光を進める。このため、レチクルの走査方向は下段のチップ列７０−１の場合と反転した方向となる。すなわち、２枚目のレチクル２０の走査終了点Ｐ１６を走査開始点として、点Ｐ１６から点Ｐ１へ、図１３（Ａ）に示す走査経路と反対方向の経路を辿って走査される。そして、下から２段目のチップ列７０−２のチップ６０においても、図１２（Ｂ）に示された走査経路と反対方向の経路を辿って走査される。
【００２４】
このように、チップ列７０毎にレチクル及びチップの走査経路を反対方向に切り替えて、ウェハ５０の全てのチップ６０を露光する。
【００２５】
【発明が解決しようとする課題】
以上で説明したように、１つ目のチップの露光開始から次のチップの露光開始までの間（１サイクル）のレチクル間移動は、▲１▼１つのチップを露光する際における、１枚目のレチクルから２枚目のレチクルへの移動、▲２▼１つ目のチップから次のチップへ露光を進める際における、２枚目のレチクルから１枚目のレチクルへの移動、の２回行われる。このレチクル間移動は距離が長いためレチクルステージの移動時間がかかり、スループット低下の原因となる。
【００２６】
このスループットを向上させようとして、スキャン速度を上げてスループットを向上させようとすると、移動開始時と停止時の加減速時間が長くなる結果、次のストライプの露光に移る時間が長くなって、期待どおりにスループットの向上を図ることはできない。
【００２７】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであって、レチクル走査時のレチクルステージの移動経路を短くすることで、スループットを向上させることのできる露光方法を提供することを目的とする。
【００２８】
【課題を解決するための手段】
上記の問題点を解決するため、本発明の第１の露光方法は、  感応基板上に転写すべきデバイスパターンを、それぞれ複数の並列する露光列（ストライプ）に分割して２枚のレチクル上に形成し、  該２枚のレチクルを露光装置内に搭載して、該レチクルと前記感応基板を同期走査しながら前記露光列毎に前記デバイスパターンを前記感応基板上に転写する走査露光方法であって；  前記感応基板上に複数個のデバイスパターン転写領域（チップ）が存在し、  その内のあるチップについては、  １枚目のレチクルの１本目のストライプの端のスタート点から露光を開始して該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように走査露光し、  続いて、２枚目のレチクルに露光を移動して、該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように露光して該レチクルの最後のストライプの端の終了点に至り、  次のチップについては、  前記２枚目のレチクルの最後のストライプの端の終了点から露光を開始して、前のチップの露光のときとは逆の経路を辿って該２枚目のレチクルの全ストライプを露光し、  続いて、１枚目のレチクルに露光を移動して、該レチクルの全ストライプを、前のチップの露光のときとは逆の経路を辿って走査露光して前記１枚目のレチクルの１本目のストライプの端の前記スタート点に至る、ことを特徴とする。
【００２９】
詳しくは図１、図２、図３を参照して後述するように、１つ目のチップの露光開始から次のチップの露光開始までの間（１サイクルという）に、２枚のレチクル間における走査の移動が１回のみである。別言すれば、１つ目のチップから次のチップへ露光を進める際において、２枚目のレチクルから１枚目のレチクルへの移動を行わない。そして、次のチップを露光する際には、２枚目のレチクルの露光終了点から、１つ目のチップの走査経路を逆に辿って各レチクルを露光する。
なお、通常の方法では、上述のように、１枚目のレチクル露光終了→２枚目のレチクルに移動して（１回目のレチクル間移動）、同レチクル露光終了→次のチップを露光するために１枚目のレチクルに移動（２回目のレチクル間移動）、というように、１サイクル中に２回のレチクル間移動を行っていた。
したがって、本発明の方が１サイクルにおけるレチクル間移動の回数が少なくなって、レチクルステージの移動距離が短くなるため、スループットを向上できる可能性がある。
【００３０】
なお、本方法の一形態においては、図３（Ｂ）、（Ｃ）を参照しつつ後述するように、チップ内のストライプの露光順序が、１つのチップおきに逆になる。例えば、１つ目のチップの４本目のストライプを最後に露光すると、次のチップの４本目のストライプから露光が始まる。このため、あるチップから次のチップへ露光を進める際に、左右（Ｘ方向）に並ぶチップの内の右のチップの左端のストライプから、左のチップの左端のストライプへと、チップの幅の分だけウェハステージを移動することになり、ウェハステージの移動距離は長くなる。しかし、露光装置の縮小比（例えば、１／４あるいは１／５）を考慮すると、ウェハステージの移動距離はレチクルステージの移動距離よりも短いので、ウェハステージの移動が露光工程上のクリティカルパスとなることはほとんどない。そのため、レチクルステージの移動距離を短くする方を優先させる方が、スループットの向上を期待できる。
【００３１】
本発明の第２の露光方法は、  感応基板上に転写すべきデバイスパターンを、それぞれ複数の並列する露光列（ストライプ）に分割して２枚のレチクル上に形成し、  該２枚のレチクルを露光装置内に搭載して、該レチクルと前記感応基板を同期走査しながら前記露光列毎に前記デバイスパターンを前記感応基板上に転写する走査露光方法であって；  １枚目のレチクルの１本目のストライプの端のスタート点から露光を開始して該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように走査露光し、  続いて、２枚目のレチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように露光して該レチクルのストライプの端の終了点に至り、  １枚目のレチクルの最終ストライプと２枚目のレチクルの第１のストライプの露光走査の際に、レチクルの走査方向は同じとし、  １枚目のレチクルから２枚目のレチクルに走査を移動する際に、感応基板ステージを戻す方向に動かし、これから露光する感応基板のストライプを露光スタート位置に戻してから２枚目のレチクルの第１ストライプを露光することを特徴とする。
【００３２】
１枚目のレチクルの最終ストライプと２枚目のレチクルの最初のストライプの走査方向を同じとすることにより、レチクルステージを一方向に直進運動で移動できる。また、１つのチップを露光する際における、１枚目のレチクルから２枚目のレチクルへの移動時に、２枚目のレチクルの最初のストライプの長さの分だけレチクルステージの移動距離が短くなる。これらによって露光時間を短縮できる。
なお、この際、ウェハステージを戻す方向に動かす必要があり、ウェハステージの移動距離は長くなるが、レチクルステージの移動距離の短縮の方がスループット向上の効果が大きいと予想される。
【００３３】
本発明においては、次のチップを露光する際に、  前記２枚目のレチクルの最後のストライプの端の終了点から露光を開始して、前のチップの露光のときとは逆の経路を辿って該２枚目のレチクルの全ストライプを露光し、  続いて、１枚目のレチクルに露光を移動して、該レチクルの全ストライプを、前のチップの露光のときとは逆の経路を辿って走査露光して前記１枚目のレチクルの１本目のストライプの端の前記スタート点に至る、こととしてもよい。
１つのチップを露光する際における、１枚目のレチクルから２枚目のレチクルへの移動距離を短くできるとともに、１つ目のチップから次のチップへ露光を移す際における、２枚目のレチクルから１枚目のレチクルへの移動がない。このため、露光時間をさらに短縮でき、スループットをさらに向上できることが期待される。
【００３４】
本発明の第３の露光方法は、  前記感応基板上に複数個のデバイスパターン転写領域（チップ）が存在し、  その内のあるチップについては、  １枚目のレチクルの１本目のストライプの端のスタート点から露光を開始して該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように走査露光し、  続いて、２枚目のレチクルに露光を移動して、該レチクルの全ストライプを折り返しながらなぞるように露光して該レチクルの最後のストライプの端の終了点に至り、  次のチップについては、  １枚目のレチクルの露光スタート位置に戻って、レチクル上では前のチップと同様に走査露光することを特徴とする。
【００３５】
１つ目のチップから次のチップに露光を移す際における、２枚目のレチクルから１枚目のレチクルへの移動時に、２枚目のレチクルの最終ストライプと１枚目のレチクルの最初のストライプの走査方向を同じとすることにより、レチクルステージを一方向に直進運動で移動できる。また、１枚目のレチクルの最初のストライプの長さの分だけレチクルステージの移動距離が短くなる。これらによって露光時間を短縮できる。
【００３６】
本発明においては、  前記１枚目のレチクルを走査露光時の走査方向に平行移動した形態で前記２枚目のレチクルを前記露光装置内に搭載することができる。
また、  前記レチクルに４本以上の偶数本のストライプを形成し、１つおきのストライプにコンプリメンタリなパターンを配置することができる。
【００３７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。
以下の例においては、図１１に示すレチクルと同じ構成のレチクル、図１２に示すウェハと同じ構成のウェハを使用する。
【００３８】
第１実施例
図１は、本発明の第１の実施の例に係る露光方法を説明する図であり、図１（Ａ）は、１つ目のチップを露光する際のレチクルの走査経路を説明する図であり、図１（Ｂ）は、２つ目のチップを露光する際のレチクルの走査経路を説明する図である。
なお、以下の図及び説明においても、“走査”とは、レチクルに対しては照明する領域のストライプ上の進行、チップ（ウェハ）に対しては露光する領域のチップ上の進行を意味する。その走査の中でも露光を行いながら走査する部分を、図中の太い線と太い矢印で表す。一方、露光せずにステージを移動させる際の進行方向を、図中の細い線と細い矢印で示す。なお、細い線と太い線が重なると見にくいので、細い線（非露光走査線）の一部はズラして描いている。
【００３９】
この第１の例は、上述の従来例における１サイクル（１つ目のチップの露光開始から次のチップの露光開始までの間）内でのレチクル間移動の内の、「▲２▼１つ目のチップからその次のチップへ露光を進める際における、２枚目のレチクルから１枚目のレチクルへの移動」、をなくしたものである。
【００４０】
図１（Ａ）を参照して、１つ目のチップを露光する際のレチクルの走査経路を説明する。
まず、１枚目（図の上）のレチクル１０の図の左端の１本目のストライプ１１を、図の下端の走査開始点Ｐ１から上端の走査終了点Ｐ２まで、＋Ｙ方向に走査露光する。次に、１本目のストライプ１１の走査終了点Ｐ２から２本目のストライプ１２の図の上端の走査開始点Ｐ３まで、露光は行わずにレチクルステージを＋Ｘ方向に移動させる。そして、２本目のストライプ１２を、走査開始点Ｐ３から走査終了点Ｐ４まで、−Ｙ方向に走査露光する。こうして、２本目のストライプ１２の走査終了点Ｐ４→点Ｐ５→点Ｐ６→点Ｐ７→４本目のストライプ１４の走査終了点Ｐ８へ、ステージの移動と走査露光を繰り返して、１枚目のレチクル１０の３本目のストライプ１３と４本目のストライプ１４を露光し、１枚目のレチクル１０の露光を終了する。
【００４１】
その後、２枚目のレチクル２０を露光する。この際、１枚目のレチクル１０の最後の（４本目の）ストライプ１４の走査終了点Ｐ８から、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１の図の下端の走査開始点Ｐ９へ、露光は行わず−Ｙ方向にレチクルステージを移動させる。
ここでも、図上では、Ｐ８からＰ９に至る走査の線が少し曲がっているが、実際はまっすぐ図の下方に動く。
【００４２】
そして、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１を、走査開始点Ｐ９から走査終了点Ｐ１０まで、＋Ｙ方向に走査露光する。次に、走査終了点Ｐ１０から２本目のストライプ２２の図の上端の走査開始点Ｐ１１まで、露光は行わずレチクルステージを−Ｘ方向に移動させる。そして、２本目のストライプ２２を、走査開始点Ｐ１１から走査終了点Ｐ１２まで、−Ｙ方向に走査露光する。こうして、２本目のストライプ２２の走査終了点Ｐ１２→点Ｐ１３→点Ｐ１４→点Ｐ１５→４本目のストライプ２４の走査終了点Ｐ１６へ、ステージの移動と走査露光を繰り返して、２枚目のレチクル２０の３本目のストライプ２３と４本目のストライプ２４を露光し、２枚目のレチクル２０の露光を終了する。
【００４３】
このように、１枚目のレチクル１０と２枚目のレチクル２０の露光が終了して、１つ目のチップへの露光が終了すると、次のチップに露光を移す。
従来では、全てのチップを露光する際、レチクルを同じ走査経路を辿って露光していたため、１つ目のチップを露光した際の走査終了点である２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４の走査終了点Ｐ１６から、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１の走査開始点Ｐ１まで、露光を行わずにレチクルステージを移動させていた（図１３のＰ１６→Ｐ１への移動）。そして、２つ目のチップにおいても、１枚目のレチクルの１本目のストライプ１１から、上述した走査経路と同じ経路を辿って露光していた。
しかし、本発明の第１実施例では、２つ目のチップを露光する際のレチクル走査経路が、１つ目のチップを露光する際のレチクル走査経路と異なる。つまり、２つ目のチップの走査経路を、１つ目のチップを露光した際のレチクル走査経路を反対の方向に辿った経路とし、１つ目のチップを露光した際の走査終了点である２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４の走査終了点Ｐ１６を、次のチップを露光する際のレチクルの走査開始点とする。以下に詳細に説明する。
【００４４】
図１（Ｂ）を参照して、２つ目のチップを露光する際のレチクルの走査経路を説明する。
２つ目のチップを露光する際は、１つ目のチップの走査終了点である２枚目のレチクル２０の４本目ストライプ２４の図の下端を走査開始点Ｐ１とする。そして、４本目のストライプ２４を、走査開始点Ｐ１から図の上端の走査終了点Ｐ２まで＋Ｙ方向に走査露光する。
つまり、２つ目のチップを露光する際に、レチクルステージの移動方向が図１（Ａ）に示すＰ１６で反対方向に折り返されるだけで、２枚目のレチクル２０から１枚目のレチクルへ１０のレチクル間移動は行われない。
【００４５】
その後のレチクル走査経路は、図１（Ｂ）に示すように、図１（Ａ）の走査経路を逆方向に辿った経路であり、２枚目のレチクル２０の４本目ストライプ２４の走査開始点Ｐ１→Ｐ２→Ｐ３→Ｐ４→Ｐ５→Ｐ６→Ｐ７→Ｐ８→Ｐ９→Ｐ１０→Ｐ１１→Ｐ１２→Ｐ１３→Ｐ１４→Ｐ１５→１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１の走査終了点Ｐ１６となる。この走査経路を辿って、２枚のレチクル１０、２０の各ストライプを露光する。こうして、２つ目のチップの露光が終了する。
【００４６】
次に、図１のレチクル走査時のチップ上における走査について説明する。
図２は、チップの走査経路を説明する図であり、図２（Ａ）は、１つ目のチップの走査経路、図２（Ｂ）は２つ目のチップの走査経路を示す。なお、これらの図において、１つのストライプ中に２本の太い線と矢印が重なっている。これらの矢印の内の基端側の矢印が始めに走査され、先端側の矢印が後で走査されることを示す。そして、矢印の横に記されている符号が、その矢印に伴う走査によって転写されるパターンを示す。
【００４７】
まず、図２（Ａ）を参照して、１つ目のチップの走査経路を説明する。この走査経路は、図１（Ａ）に示す走査経路に沿ったレチクル走査に対応している。
図２（Ａ）の右端に示すように、１つ目のチップ６０−１の右端の１本目のストライプ６１から走査する。そして、１本目のストライプ６１を、図の上端の走査開始点ｐ１（スタート点）から下側の走査終了点ｐ２まで−Ｙ方向に走査露光する。これにより、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１のパターンＡ１が、ストライプ６１に転写される。
次に、点ｐ２から、２本目のストライプ６２の走査開始点ｐ３まで、露光は行わずにウェハステージを−Ｘ方向に移動させる。その後、２本目のストライプ６２を、走査開始点ｐ３から走査終了点ｐ４まで＋Ｙ方向に走査露光する。これにより、１枚目のレチクル１０の２本目のストライプ１２のパターンＢ１が、ストライプ６２に転写される。
【００４８】
そして、点ｐ４から、１本目のストライプ６１の走査開始点ｐ５（走査開始点ｐ１と同じ）まで、露光は行わずにウェハステージを＋Ｘ方向に移動させる。その後、１本目のストライプ６１を、再度、走査開始点ｐ５から走査終了点ｐ６（走査終了点ｐ２と同じ）まで−Ｙ方向に走査露光する。これにより、１枚目のレチクル１０の３本目のストライプ１３のパターンＡ２が、１本目のストライプ６１に転写される。そして、ストライプ６１には、コンプリメンタリなパターン対Ａ１とＡ２を繋ぎ合わせたパターンａが転写される。
【００４９】
次に、点ｐ６から、図の左側の２本目のストライプ６２の走査開始点ｐ７（点ｐ３と同じ）まで、露光は行わずにウェハステージを−Ｘ方向に移動させる。その後、２本目のストライプ６２を、再度、走査開始点ｐ７から走査終了点ｐ８（点ｐ４と同じ）まで＋Ｙ方向に走査露光する。これにより、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４のパターンＢ２が、２本目のストライプ６２に転写される。そして、ストライプ６２には、コンプリメンタリなパターン対Ｂ１とＢ２を繋ぎ合わせたパターンｂが転写される。
【００５０】
その後、点ｐ８から３本目のストライプ６３の走査開始点ｐ９まで、露光は行わずにウェハステージを−Ｘ方向に移動した後、走査開始点ｐ９→点ｐ１０→点ｐ１１→点ｐ１２→点ｐ１３→点ｐ１４→点ｐ１５→４本目のストライプ６４の走査終了点ｐ１６まで、ウェハステージの移動と露光走査を繰り返して、残りの３本目のストライプ６３と４本目のストライプ６４を露光する。これにより、チップの３本目のストライプ６３には、コンプリメンタリなパターン対Ｃ１とＣ２を繋ぎ合わせたパターンｃが転写され、４本目のストライプ６４には、コンプリメンタリなパターン対Ｄ１とＤ２を繋ぎ合わせたパターンｄが転写される。
【００５１】
次に、図２（Ｂ）を参照して、２つ目のチップ６０−２の走査経路を説明する。この走査経路は、図１（Ｂ）に示す走査経路に沿ったレチクル走査に対応している。そして、チップにおいても、１つ目のチップの走査経路を反対方向に辿った経路となる。
この場合は、図２（Ｂ）の左端に示す、４本目のストライプ６４の上端から走査を開始する。そして、この４本目のストライプ６４を、図の上端の走査開始点ｐ１から走査終了点ｐ２まで−Ｙ方向に走査露光する。これにより、２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４のパターンＤ２が、ストライプ６４に転写される。
次に、点ｐ２から、３本目のストライプ６３の走査開始点ｐ３まで、露光は行わずにウェハステージを＋Ｘ方向に移動させる。その後、３本目のストライプ６３を、点ｐ３から走査終了点ｐ４まで＋Ｙ方向に走査露光する。これにより、２枚目のレチクル２０の３本目のストライプ２３のパターンＣ２が、ストライプ６３に転写される。
【００５２】
そして、点ｐ４から、４本目のストライプ６４の走査開始点ｐ５（走査開始点ｐ１と同じ）まで、露光は行わずにウェハステージを−Ｘ方向に移動させる。その後、４本目のストライプ６４を、走査点ｐ５から走査終了点ｐ６（走査終了点ｐ２と同じ）まで−Ｙ方向に走査露光する。これにより、２枚目のレチクル２０の２本目のストライプ２２のパターンＤ１が、ストライプ６４に転写される。そして、ストライプ６４には、コンプリメンタリなパターン対Ｄ１とＤ２を繋ぎ合わせたパターンｄが転写される。
【００５３】
次に、点ｐ６から、図の右側の３本目のストライプ６３の走査開始点ｐ７（点ｐ３と同じ）まで、露光は行わずにウェハステージを＋Ｘ方向に移動させる。その後、３本目のストライプ６３を、走査開始点ｐ７から走査終了点ｐ８（点ｐ４と同じ）まで＋Ｙ方向に走査露光する。これにより、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１のパターンＣ１が、ストライプ６３に転写される。そして、ストライプ６３には、コンプリメンタリなパターン対Ｃ１とＣ２を繋ぎ合わせたパターンｃが転写される。
【００５４】
その後、点ｐ８から走査開始点ｐ９まで、露光は行わずにウェハステージを＋Ｘ方向に移動した後、２本目のストライプ６２の走査開始点ｐ９→点ｐ１０→点ｐ１１→点ｐ１２→点ｐ１３→点ｐ１４→点ｐ１５→１本目のストライプ６１の走査終了点ｐ１６と、ウェハステージの移動と露光走査を繰り返して、残りの２本目のストライプ６２と１本目のストライプ６１を露光する。これにより、２本目のストライプ６２には、コンプリメンタリなパターン対Ｂ１とＢ２を繋ぎ合わせたパターンｂが転写され、１本目のストライプ６１には、コンプリメンタリなパターン対Ａ１とＡ２を繋ぎ合わせたパターンａが転写される。
【００５５】
このように、１つ目のチップ６０−１においては、１本目のストライプ６１から４本目のストライプ６４へ、−Ｘ方向（図の左方向）へ露光が進むが、２つ目のチップ６０−２においては、４本目のストライプ６４から１本目のストライプ６１へ＋Ｘ方向（図の右方向）に露光が進む。
【００５６】
次に、ウェハ上の多数のチップを露光する順序を説明する。
図３は、ウェハ上の一つのチップから次のチップへ露光が移動する際の移動経路を示す図であり、図３（Ａ）はウェハの平面図、図３（Ｂ）、（Ｃ）は、チップ間移動時の移動経路を示す。
図３（Ａ）に示すように、この例でも従来の例と同様に、ウェハ上のチップは、Ｘ方向に並ぶ一番下のチップ列７０−１の右端のチップ６０−１から左方向（−Ｘ方向）に左端のチップ６０−５まで進む。
【００５７】
そして、上述したように、この例においては、チップごとにストライプを露光する順序が反転する。つまり、１つ目のチップ６０−１においては、図２（Ａ）に示すように、チップ内で１本目のストライプ６１から４本目のストライプ６４へ−Ｘ方向に露光が進む。一方、次のチップ６０−２においては、図２（Ｂ）に示すように、チップ内で４本目のストライプ６４から１本目のストライプ６１へ＋Ｘ方向に露光が進む。例えば、１つ目のチップ６０−１の４本目のストライプ６４を最後に露光すると、２つ目のチップ６０−２では、４本目のストライプ６４から露光が始まる。この様子を、図３（Ｂ）に簡易的に示す。
【００５８】
図３（Ｂ）に示すように、１つ目のチップ６０−１の走査終了点ｐ１６は、４本目のストライプ６４の図の上側の端部であり、２つ目のチップ６０−２の走査開始点ｐ１´は、４本目のストライプ６４の図の上側の端部である。そこで、１つ目のチップ６０−１から次のチップ６０−２へ露光を移す際は、チップ６０−１の走査終了点ｐ１６から、チップ６０−２の走査開始点ｐ１´へ、図の点線矢印で示すようにウェハステージを移動する。
【００５９】
一番下のチップ列７０−１内の全てのチップは、このようにチップ間移動時にウェハステージを移動させながら露光する。
一番下のチップ列７０−１の全チップの露光が終了すると、同列内の最後のチップ６０−５から、その上のチップ列７０−２の左端のチップ６０−６に進み、同チップ列７０−２を、今度は右方向（＋Ｘ方向）に進む。
このときにチップ６０−５からチップ６０−６へ露光を移す際は、図３（Ｃ）に示すように、チップ６０−５の走査終了点ｐ１６から、チップ６０−６の走査開始点ｐ１へ、図の点線矢印で示すようにウェハステージを移動する。
【００６０】
そして、図３（Ａ）に示すように、１つのウェハ５０において、Ｘ方向に並ぶチップ列内のチップの露光順序が−Ｘ方向と＋Ｘ方向と交互になるように、最も下のチップ列から上のチップ列へ露光を進める。この際、露光順序が奇数番目のチップを露光する場合は、レチクルは、図１（Ａ）に示すレチクル走査経路で走査され、チップは、図２（Ａ）に示すチップ走査経路で走査される。そして、露光順序が偶数番目のチップを露光する場合は、レチクルは、図１（Ｂ）に示すレチクル走査経路で走査され、チップは、図２（Ｂ）に示すチップ走査経路で走査される。
【００６１】
なお、図３（Ｂ）に示すように、１つ目のチップ６０−１の露光終了点ｐ１６から次のチップ６０−２の露光開始点ｐ１´へ露光が移る際に、チップの幅の分（４本のストライプの幅の合計）だけ、ウェハステージを移動する必要がある。従来の場合は、チップ列内においてチップからチップへ露光が移動する方向と、チップ内においてストライプからストライプへ露光が移動する方向が同じであるため、１つのチップから次のチップへ露光が移る際には、すぐ隣りのストライプ（図３（Ｂ）のストライプ６４からストライプ６１´）へ移動するだけであった。
しかし、本方法においては、チップからチップへ移動する際にウェハステージを移動させている。このため、１つ目のチップから次のチップへ露光を移す際におけるレチクル間移動をなくし、全体としてレチクル間移動の回数が減ったとしても、ウェハステージの移動距離が長くなってしまう。しかし、露光装置の縮小比（一例で、１／４、１／５）を考慮すると、ウェハステージの移動距離はレチクルステージの移動距離より短く、ウェハステージの移動が露光工程上のクリティカルパスとなることはないといえる。
【００６２】
第２実施例
図４は、本発明の第２の実施例に係る露光方法を説明する図であり、図４（Ａ）はレチクルの走査経路、図４（Ｂ）はチップの走査経路を示す。
この第２の例は、上述の従来例における１サイクル（１つ目のチップの露光開始から次のチップの露光開始までの間）内でのレチクル間移動の内の、「▲１▼１つのチップを露光する際における、１枚目のレチクルから２枚目のレチクルへの移動距離」を短くし、かつ、「▲２▼１つ目のチップからその次のチップへ露光を進める際における、２枚目のレチクルから１枚目のレチクルへの移動」をなくしたものである。なお、後半の▲２▼の部分は、第１の例と同じであるため、説明を省略する。
【００６３】
図４（Ａ）に示すように、１枚目のレチクル１０は、１本目のストライプ１１の図の下端の走査開始点Ｐ１→Ｐ２→Ｐ３→Ｐ４→Ｐ５→Ｐ６→Ｐ７→４本目のストライプ１４の図の下端の走査終了点Ｐ８まで、上述の第１の例と同様に走査する。
そして、２枚目のレチクル２０の走査開始点を、同レチクルの１本目のストライプ２１の図の上端の点Ｐ９とする。そして、１本目のストライプ２１を、走査開始点Ｐ９からＰ１０まで−Ｙ方向に走査露光する。そして、走査終了点Ｐ１０から２本目のストライプ２２の走査開始点Ｐ１１へ、露光は行わずに−Ｘ方向にレチクルステージを移動させる。その後、２本目のストライプ２２を、走査開始点Ｐ１１から走査終了点１２へ＋Ｙ方向に走査露光する。こうして、２本目のストライプ２２の走査終了点Ｐ１２→Ｐ１３→Ｐ１４→Ｐ１５→４本目のストライプ２４の図の上端の走査終了点Ｐ１６へ、ステージの移動と走査露光を繰り返して、２枚目のレチクル２０の全てのストライプを走査する。
【００６４】
すなわち、従来の例や第１の例では、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１の図の下端を走査開始点としていたが、本例では同ストライプ２１の図の上端を走査開始点とすることにより、１枚目のレチクル１０から２枚目のレチクル２０へのレチクル間移動距離がＰ８→Ｐ９間の距離のみとなり、第１の例や従来の例と比べて、レチクル間移動距離がストライプ２１の長さの分だけ短くなる。
さらに、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４と、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１が、同じＹ方向に並んでいるので、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４の走査開始点Ｐ７から、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１の走査終了点Ｐ１０まで、レチクルステージを−方向に直進運動で移動させることができる。なお、この間のＰ８からＰ９までのレチクル間移動時には露光走査は行わない。
【００６５】
しかし、この例では、レチクルの走査方向が＋Ｙ方向と−Ｙ方向が交互となっていない。つまり、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４の走査方向と、この走査に連続する、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１の走査の方向が同じ方向（−Ｙ方向）である。
ここで、２枚のレチクル１０、２０は、図４に示すように、もともとレチクルステージ上にＹ方向に並んで配置されている。このため、１枚目のレチクル１０から２枚目のレチクル２０へ露光を移動する際に、レチクルステージをＹ方向に直進させて、１枚目のレチクルの最後のストライプと２枚目のレチクルの最初のストライプを同じＹ方向に走査することが可能な場合もある。
【００６６】
しかし、図１２（Ｂ）に示すように、チップ６０の各ストライプはＸ方向に並んで配置されているため、チップ内の各ストライプを露光する際に、二度続けて同じＹ方向に移動することは不可能である。そこで、レチクルを同じＹ方向へ二度目に走査する際には、以下に示す方法によって、チップの走査方向をレチクルの走査方向に追随させる必要がある。
【００６７】
図５は、チップ走査をレチクル走査に追随させる方法の一例を説明する図である。図５（Ａ）、（Ｂ）の上側に示す部分は、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４と２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１が、Ｙ方向に並んだ様子を模式的に示し、図の下側に示す部分は、チップを模式的に示している。そして、図の一点鎖線で示す位置Ｃを投影光学系の光軸位置（露光位置）とする。なお、この図では、矢印で示す方向は、レチクルステージ及びウェハステージの進行方向を示す。なお、ステージの進行方向は、図４に示す走査方向と逆の方向となる。
【００６８】
図５（Ａ）の上側に示すように、レチクルステージを＋Ｙ方向に移動して、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４を、走査開始点Ｐ７から走査終了点Ｐ８まで走査露光する。そして、図５（Ａ）の下側に示すように、露光は行わずにウェハステージを−Ｙ方向に移動した後、チップ６０の、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４のパターンが転写されるべき２本目のストライプ６２を、走査開始点ｐ７から走査終了点ｐ８へ走査露光する。この走査が終了した後では、図５（Ｂ）の下側に破線で示すように、チップ６０全体が−Ｙ方向に移動してしまう。
【００６９】
本例では、次に、図５（Ｂ）の上側の図に示すように、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１を、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４と同じ方向に走査する。つまり、レチクルステージを＋Ｙ方向に移動してレチクル間移動（Ｐ８→Ｐ９）し、その後、さらにレチクルステージを＋Ｙ方向に移動して、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１を、走査開始点Ｐ９から走査終了点Ｐ１０へ走査露光する。
【００７０】
そして、このレチクル走査に対応するには、ウェハステージを−Ｙ方向に移動して、チップ６０の、次に露光すべき３本目のストライプ６３を、走査開始点ｐ９から走査終了点ｐ１０へ走査露光する必要がある。しかし、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１の露光開始時には、図５（Ｂ）の下側の図の破線で示すように、チップ６０は−Ｙ方向に移動してしまっているため、さらにウェハステージを−Ｙ方向に移動することはできない。そこで、チップ６０の３本目のストライプ６３の走査開始点ｐ９を露光開始可能な位置（図の実線で示す位置）に戻さなければならない。つまり、図の白抜き矢印で示すように、ウェハステージを＋Ｙ方向に空走りさせて、チップ６０を元の位置に戻す。そして、チップ６０が、図の実線で示す露光開始可能な位置まで戻った後、ウェハステージを−Ｙ方向に移動して、同チップ６０のストライプ６３を走査開始点ｐ９から走査終了点ｐ１０まで走査する。
【００７１】
このようなウェハステージの空走り操作を含んだチップの走査経路について、図４（Ｂ）を参照して説明する。
まず、１本目のストライプ６１の図の上端の走査開始点ｐ１→ｐ２→ｐ３→ｐ４→ｐ５→ｐ６→ｐ７→２本目のストライプ６２の図の上端の走査終了点ｐ８の経路に沿って、ステージの移動と走査露光を繰り返して、１本目のストライプ６１と２本目のストライプ６２を露光する。この例では、２本目のストライプ６２の２回目の走査（ｐ７→ｐ８）時の走査方向（＋Ｙ方向）と、次のストライプ６３の１回目の走査（ｐ９→ｐ１０）時の走査方向が同じとなる。そこで、上述したように、２本目のストライプ６２の走査終了点ｐ８から、３本目のストライプ６３の走査開始点ｐ９へ、露光を行わずにウェハステージを移動させる。つまり、図４（Ｂ）の点ｐ８から点ｐ９へ延びる斜めの矢印が、ウェハステージの空走り操作を示す。
【００７２】
その後、３本目のストライプ６３の図の下端の走査開始点ｐ９→ｐ１０→ｐ１１→ｐ１２→ｐ１３→ｐ１４→ｐ１５→４本目のストライプ６４の図の下端の走査終了点ｐ１６の経路に沿って、ステージの移動と露光走査を繰り返して、３本目のストライプ６３と４本目のストライプ６４を露光し、チップの露光を終了する。
【００７３】
この例では、１枚目のレチクルから２枚目のレチクルへの移動時のレチクルステージの移動距離がさらに短くなる。それとともに、レチクル間移動時にレチクルステージを直進運動で移動させることができる。すなわち、１枚目のレチクル１０の４本目のストライプ１４の走査開始点Ｐ７から、２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１の走査終了点Ｐ１０まで、レチクルステージが直進運動する。このため、２本のストライプ１４、２１を、１回の加速運転と１回の減速運転で走査することができる。従来の例では２回の加速運転と２回の減速運転が必要であったため、１回分の加減速運転に必要な時間を短縮できる。
なお、この例では、チップ内でのストライプ間移動時に上述のようなステージの空走り操作が必要な分だけ、第１の例に比べてウェハステージの移動距離が長くなるが、上述のようにチップ上の移動距離はレチクル上での移動距離よりも短いので、大きなクリティカルパスとはならない。
【００７４】
第３実施例
図６は、本発明の第３の実施例に係る露光方法を説明する図であり、図６（Ａ）は、＋Ｙ方向に露光が進む場合のレチクルの走査経路を示し、図６（Ｂ）は、−Ｙ方向に露光が進む場合のレチクルの走査経路を示す。
図７は、図６のレチクル走査経路に対応するチップの走査経路を説明する図であり、図７（Ａ）は、＋Ｙ方向に露光が進む場合のチップの走査経路を示し、図７（Ｂ）は、−Ｙ方向に露光が進む場合のチップの走査経路を示す。
【００７５】
この第３の例は、上述の従来例における１サイクル（１つ目のチップの露光開始から次のチップの露光開始までの間）内でのレチクル間移動の内の、「▲１▼１つのチップを露光する際における、１枚目のレチクルから２枚目のレチクルへの移動距離」を短くし、かつ、「▲２▼１つ目のチップからその次のチップへ露光を進める際における、２枚目のレチクルから１枚目のレチクルへの移動距離」を短くしたものである。なお、前半の▲１▼の部分は、第２の例と同じであるため、説明を省略する。
なお、この例では、ウェハ内のチップ列の並び方向によってレチクル及びウェハの走査経路が異なるが、その根拠等も以下に説明する。
【００７６】
この例においては、図６に示すように、１枚目のレチクル１０を−Ｙ方向側、２枚目のレチクル２０を＋Ｙ方向側に配置する。各レチクルの各ストライプの配置は、上述の例と同様である。
【００７７】
まず、＋Ｙ方向に露光が進む際のレチクルの走査経路を図６（Ａ）を参照して説明する。
この例では、図の下側の１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１の図の上端の走査開始点Ｐ１→点Ｐ２→点Ｐ３→点Ｐ４→点Ｐ５→点Ｐ６→点Ｐ７→４本目のストライプ１４の走査終了点Ｐ８へ、露光走査とステージ移動を繰り返して、１枚目のレチクル１０の露光を終了する。
その後、第２の例と同様のレチクル間移動（Ｐ８→Ｐ９）を経て、図の上側の２枚目のレチクル２０の１本目のストライプ２１の図の下端の走査開始点Ｐ９→点Ｐ１０→点Ｐ１１→点Ｐ１２→点Ｐ１３→点Ｐ１４→点Ｐ１５→４本目のストライプ２４の図の下端の走査終了点Ｐ１６へ、走査露光とステージ移動を繰り返して、２枚目のレチクル２０の露光を終了する。
【００７８】
このレチクル走査に対応したチップ走査を図７（Ａ）を参照して説明する。
まず、１本目のストライプ６１の図の下端の走査開始点ｐ１→ｐ２→ｐ３→ｐ４→ｐ５→ｐ６→ｐ７→２本目のストライプ６２の図の下端の走査終了点ｐ８の経路に沿って、ステージの移動と走査露光を繰り返して、１本目のストライプ６１と２本目のストライプ６２を露光する。そして、第２の例と同様に、２本目のストライプ６２の走査終了点ｐ８から、３本目のストライプ６３の走査開始点ｐ９へ、露光を行わずにウェハステージを空走りで移動させた後、３本目のストライプ６３の走査開始点ｐ９→ｐ１０→ｐ１１→ｐ１２→ｐ１３→ｐ１４→ｐ１５→４本目のストライプ６４の図の上端の走査終了点ｐ１６の経路に沿って、ステージの移動と走査露光を繰り返して、１つ目のチップ６０−１を露光する。
【００７９】
次に、図６（Ａ）を参照して、１つ目のチップから２つ目のチップへ露光を移す際のレチクルステージの移動経路を説明する。
図６（Ａ）に示すように、図の上側の２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４の走査終了点Ｐ１６で１つ目のチップの露光が終了する。次に、２つ目のチップを露光するために、同点Ｐ１６から、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１の図の下端の走査開始点Ｐ１に、露光を行わずにレチクルステージを−Ｙ方向に移動する。そして、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１を走査開始点Ｐ１から走査終了点Ｐ２へ−Ｙ方向に走査して、ストライプ１１を露光する。
【００８０】
次に、このような、１つ目のチップから次のチップに露光を移す際のレチクルの走査に対応するチップの走査順序について説明する。
上述のレチクル走査においては、１つ目のチップを露光する際の最後のストライプ２４の走査方向と、２つ目のチップを露光する際の最初のストライプ１１の走査方向が同じ方向（−Ｙ方向）である。このようにレチクルステージを二度続けて同じ方向に移動させる際、第２の例で述べたように、チップの走査をレチクルの走査に追随させる必要がある。
そこで、この例においては、一度目のレチクルステージの走査終了の際には、１つ目のチップは露光が終了しているため、二度目のレチクルステージ走査時は、Ｙ方向に並んだチップ列に沿って次のチップを露光する。この様子を詳細に説明する。
【００８１】
図８は、チップ走査をレチクル走査に追随させる方法の一例を説明する図である。図８（Ａ）、（Ｂ）の右側に示す部分は、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１４と２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４が、Ｙ方向に並んだ様子を模式的に示し、図の左側に示す部分は、Ｙ方向に並んだチップ列を模式的に示している。そして、図の一点鎖線で示す位置Ｃを光軸位置（露光位置）とする。なお、矢印で示す方向は、レチクルステージ及びウェハステージの進行方向を示す。
【００８２】
図８（Ａ）の右側に示すように、レチクルステージを＋Ｙ方向に移動して、２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４を、走査開始点Ｐ１５から走査終了点Ｐ１６まで走査露光する。そして、図８（Ａ）の左側に示すように、ウェハステージを−Ｙ方向に移動して、１つ目のチップ６０−１の４本目のストライプ６４を、走査開始点ｐ１５から走査終了点ｐ１６へ走査露光する。これにより、１つ目のチップ６０−１の露光が終了する。
【００８３】
この例では、次のチップに露光を移す際に、図８（Ｂ）の右側に示すように、レチクルステージを＋Ｙ方向に移動して、２枚目のレチクル２０の走査終了点Ｐ１６→１枚目のレチクル１０の走査開始点Ｐ１へのレチクル間移動を行う。その後、レチクルステージを＋Ｙ方向に移動して、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１を、走査開始点Ｐ１から走査終了点Ｐ２へ走査露光する。
そして、図８（Ｂ）の左側に示すように、ウェハステージを−Ｙ方向に移動して、露光終了したチップ６０−１から＋Ｙ方向に二つ先のチップ６０−２へチップ間移動する。その後、ウェハステージを−Ｙ方向に移動して、チップ６０−２の１本目のストライプ６１を、走査開始点ｐ１から走査終了点ｐ２まで走査露光する。
【００８４】
ここで、１つ目のチップ６０−１の次に露光されるチップを、（Ｙ方向に一つ先のチップでなく）Ｙ方向に二つ先のチップ６０−２としたのは、隣のチップを露光する時には、ウェハステージを減速・停止させ、この間にチップを一つ幅分移動させる。チップを一つ飛ばして露光する時には、ウェハステージを停止させる必要がなく、したがって、露光開始前の加速もほぼ必要なくなる。これにより、無駄な時間が少なくなり、スループットが上がる。
【００８５】
そして、２つ目のチップ６０−２に露光が移ると、レチクルは、図６（Ａ）に示すレチクル走査経路に従って走査され、チップは、図７（Ａ）に示すチップ走査経路に従って走査される。
【００８６】
次に、Ｙ方向に並んだチップ列を内のチップの走査順序を説明する。
図９は、ウェハ内のチップの走査順序を説明する図である。
この方法では、Ｙ方向に配列されたチップ列内で２つ先のチップを順に走査していく。この例では、図の右端のチップ列７０−１の下から２番目のチップ６０−１から露光を開始し、次は、同チップの＋Ｙ方向に２つ先のチップ６０−２に移動する。チップ６０−２を露光終了後、チップ列７０−１の＋Ｙ方向に２つ先のチップは存在しないため、チップ６０−２のすぐ先（図の上側）のチップ６０−３に移動する。
なお、チップ６０−１、６０−２を露光する際は、レチクルは図６（Ａ）に示す走査経路で走査され、チップは図７（Ａ）に示す走査経路で走査される。
【００８７】
そして、チップ列７０−１の最も上のチップ６０−３から、今度は、チップ列７０−１を−Ｙ方向に２つ先のチップを順に走査していく。すなわち、チップ６０−３の次には、同列内の−Ｙ方向に２つ先のチップ６０−４に移動する。こうして、チップ列７０−１内のチップ６０−３、６０−４、６０−５を−Ｙ方向に順に移動する。
【００８８】
このように、チップ列内で−Ｙ方向へ露光が移る際は、レチクルの走査方向を、図６（Ｂ）に示す方向とする。
図６（Ｂ）に示すレチクル走査経路は、図６（Ａ）に示すレチクル走査経路を逆方向に辿っている。すなわち、図６（Ａ）に示すレチクル走査経路の走査終了点である２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４の図の下側の点を走査開始点Ｐ１とする。そして、図６（Ｂ）に示すように、２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４の図の下側の走査開始点Ｐ１→Ｐ２→Ｐ３→Ｐ４→Ｐ５→Ｐ６→Ｐ７→Ｐ８→Ｐ９→Ｐ１０→Ｐ１１→Ｐ１２→Ｐ１３→Ｐ１４→Ｐ１５→１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１の図の上端の走査終了点Ｐ１６の走査経路を、露光走査とステージ移動を繰り返して、レチクルの露光を終了する。
【００８９】
次に、このレチクル走査に対応するチップの走査経路を、図７（Ｂ）を参照して説明する。
図７（Ｂ）に示すチップ走査経路は、図６（Ｂ）に示すチップ走査経路を逆方向に辿っている。すなわち、図６（Ｂ）に示すチップ走査経路の走査終了点である４本目のストライプ６４の図の上側の点を走査開始点とし、同走査開始点ｐ１→ｐ２→ｐ３→ｐ４→ｐ５→ｐ６→ｐ７→３本目のストライプ６３の図の上端の走査終了点ｐ８の経路に沿って、ステージの移動と露光走査を繰り返して、４本目のストライプ６４と３本目のストライプ６３を露光する。そして、第２の例と同様に、３本目のストライプ６３の走査終了点ｐ８から、２本目のストライプ６２の走査開始点ｐ９へ、露光を行わずにウェハステージを空走りで移動させた後、同走査開始点ｐ９→ｐ１０→ｐ１１→ｐ１２→ｐ１３→ｐ１４→ｐ１５→１本目のストライプ６１の図の下端の走査終了点ｐ１６の経路に沿って、ステージの移動と露光走査を繰り返して、３つ目のチップ６０−３を露光する。
【００９０】
こうして、図９に示すチップ列７０−１の最も上のチップ６０−３の露光が終了すると、次に、同チップ６０−３から−Ｙ方向に２つ先のチップ６０−４に露光を移す。このチップ６０−４においても、レチクルは図６（Ｂ）に示す走査経路で走査し、チップは図７（Ｂ）に示す走査経路で走査する。
【００９１】
つまり、あるチップから２つ先のチップへ＋Ｙ方向に露光の目標を移す場合は、図６に示すレチクル走査とチップ走査を行い、−Ｙ方向に露光の目標を移す際は、図７に示すレチクル走査とチップ走査を行う。これは、以下で説明するように、あるチップから次のチップへ移動する際のウェハステージの移動距離を短くするためである。
【００９２】
チップ列内でのチップ間の露光の移動経路についてまとめて説明する。
図１０は、チップ間の露光の移動経路を模式的に示す図であり、図１０（Ａ）はあるチップから＋Ｙ方向に２つ先のチップへ露光が移動する際の移動経路、図１０（Ｂ）は、あるチップから−Ｙ方向に２つ先のチップへ露光が移動する際の移動経路、図１０（Ｃ）は、あるチップから＋Ｙ方向に１つ先のチップへ露光が移動する際の移動経路を示す。
【００９３】
図１０（Ａ）に示すように、チップ６０−１から＋Ｙ方向に２つ先のチップ６０−２へ露光を移す際は、チップは図７（Ａ）に示す経路に沿って走査される。つまり、走査開始点ｐ１が１本目のストライプ６１の図の下側の端部であり、走査終了点ｐ１６が４本目のストライプ６４の図の上側の端部である。そこで、図１０（Ａ）に示すように、あるチップ６０−１から次のチップ６０−２へ露光を移す際は、チップ６０−１の走査終了点ｐ１６から、チップ６０−２の走査開始点ｐ１へ、図の矢印で示すようにウェハステージを＋Ｙ方向に斜めに移動する。
【００９４】
図１０（Ｂ）に示すように、あるチップ６０−３から−Ｙ方向に２つ先のチップ６０−４へ露光を移す際は、チップは図７（Ｂ）に示す経路に沿って走査される。つまり、走査開始点ｐ１が４本目のストライプ６４の図の上側の端部であり、走査終了点ｐ１６が１本目のストライプ６１の図の下側の端部である。そこで、図１０（Ｂ）に示すように、あるチップ６０−３から次のチップ６０−４へ露光を移す際は、チップ６０−３の走査終了点ｐ１６から、チップ６０−４の走査開始点ｐ１へ、図の矢印で示すようにウェハステージを−Ｙ方向に斜めに移動する。
【００９５】
すなわち、この第３の例においては、図６に示したように、１つ目のチップから２つ目のチップへ露光が移る際に、レチクルステージを＋Ｙ方向又は−Ｙ方向に移動させる。この移動に対応して、チップも、Ｙ方向に並んだチップ列内で−Ｙ方向又は＋Ｙ方向に移動する。そして、この際のチップ間移動距離が、図１０（Ａ）、図１０（Ｂ）に示すように、可能な限り短くなっている。
【００９６】
なお、上述したように、図９において、チップ６０−２の次は、チップ６０−２のすぐ先（図の上側）のチップ６０−３に移動する。
この場合、チップ間で走査方向が逆になる。つまり、チップ６０−２は、図７（Ａ）に示す経路に沿って走査され、走査開始点ｐ１が、１本目のストライプ６１の図の下側の端部であり、走査終了点ｐ１６が、４本目のストライプ６４の図の上側の端部である。一方、チップ６０−３は、図７（Ｂ）に示す経路に沿って走査され、走査開始点ｐ１が、４本目のストライプ６４の図の上側の端部であり、走査終了点ｐ１６が、１本目のストライプ６１の図の下側の端部である。
そこで、図１０（Ｃ）に示すように、チップ６０−２から次のチップ６０−３へ露光を移す際は、チップ６０−２の走査終了点ｐ１６から、チップ６０−３の走査開始点ｐ１へ、図の矢印で示すようにウェハステージをＹ方向に移動する。この際も、チップ間移動距離は短くなっている。
【００９７】
こうして一番右のチップ列７０−１を露光が終了すると、図９に示すように、同列内の最後のチップ６０−５から、その左のチップ列７０−２の、下から２番目のチップ６０−６に露光を移す。そして、同チップ列７０−２も、チップ列７０−１と同じ方法で露光を進めていく。なお、図９において、チップ列７０−２以降の列の各チップに記されている数字は露光順序を示している。
【００９８】
この例では、１つ目のチップから２つ目のチップへ露光を移す際における、２枚目のレチクルから１枚目のレチクルへの移動時のレチクルステージの移動距離が短くなる。それととともに、レチクル間移動時にレチクルステージを直進運動で移動させることができる。すなわち、２枚目のレチクル２０の４本目のストライプ２４の走査開始点Ｐ１５から、１枚目のレチクル１０の１本目のストライプ１１の走査終了点Ｐ２まで、レチクルステージを直進運動させることができる。このため、２本のストライプ２４、１１を、１回の加速運転と１回の減速運転で走査することができる。従来の例では２回の加速運転と２回の減速運転が必要であったため、１回分の加減速運転に必要な時間を短縮できる。
【００９９】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、２枚のレチクルを露光する際のレチクル間移動距離を短くできる。また、あるチップから次のチップへ露光を移す際のレチクル間移動をなくす、または、移動距離を短くできる。このため、レチクルステージの移動時間を短くでき、スループットの向上が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の例に係る露光方法を説明する図であり、図１（Ａ）は、１つ目のチップを露光する際のレチクルの走査経路を説明する図であり、図１（Ｂ）は、２つ目のチップを露光する際のレチクルの走査経路を説明する図である。
【図２】チップの走査経路を説明する図であり、図２（Ａ）は、１つ目のチップの走査経路、図２（Ｂ）は２つ目のチップの走査経路を示す。
【図３】ウェハ上の一つのチップから次のチップへ露光が移動する際の移動経路を示す図であり、図３（Ａ）はウェハの平面図、図３（Ｂ）、（Ｃ）は、チップ間移動時の移動経路を示す。
【図４】本発明の第２の実施例に係る露光方法を説明する図であり、図４（Ａ）はレチクルの走査経路、図４（Ｂ）はチップの走査経路を示す。
【図５】チップ走査をレチクル走査に追随させる方法の一例を説明する図である。
【図６】本発明の第３の実施例に係る露光方法を説明する図であり、図６（Ａ）は、＋Ｙ方向に露光が進む場合のレチクルの走査経路を示し、図６（Ｂ）は、−Ｙ方向に露光が進む場合のレチクルの走査経路を示す。
【図７】図６のレチクル走査経路に対応するチップの走査経路を説明する図であり、図７（Ａ）は、＋Ｙ方向に露光が進む場合のチップの走査経路を示し、図７（Ｂ）は、−Ｙ方向に露光が進む場合のチップの走査経路を示す。
【図８】チップ走査をレチクル走査に追随させる方法の一例を説明する図である。
【図９】ウェハ内のチップの走査順序を説明する図である。
【図１０】チップ間の露光の移動経路を模式的に示す図であり、図１０（Ａ）はあるチップから＋Ｙ方向に２つ先のチップへ露光が移動する際の移動経路、図１０（Ｂ）は、あるチップから−Ｙ方向に２つ先のチップへ露光が移動する際の移動経路、図１０（Ｃ）は、あるチップから＋Ｙ方向に１つ先のチップへ露光が移動する際の移動経路を示す。
【図１１】露光装置に搭載したレチクルの一例を示す図であり、図１１（Ａ）は、レチクルステージ上の２枚のレチクルを示す平面図であり、図１１（Ｂ）はこのレチクルを転写することにより形成したいデバイスパターンの各ストライプ配置を示す平面図である。
【図１２】ウェハ上のパターン転写領域（チップ）の配置の一例を示す平面図であり、図１２（Ａ）は、ウェハ全体の平面図、図１２（Ｂ）は１つのチップ内における各ストライプ配置を示す平面図である。
【図１３】図１３（Ａ）は、レチクルの走査経路を説明する図であり、図１３（Ｂ）は、チップの走査経路を説明する図である。
【図１４】ウェハ上のチップの露光順序の一例を説明する図である。
【符号の説明】
１０  １枚目のレチクル                  １１  １本目のストライプ
１２  ２本目のストライプ                １３  ３本目のストライプ
１４  ４本目のストライプ
２０  ２枚目のレチクル                  ２１  １本目のストライプ
２２  ２本目のストライプ                ２３  ３本目のストライプ
２４  ４本目のストライプ
３１  レチクルステージ
５０  ウェハ
６０  チップ                            ６１  １本目のストライプ
６２  ２本目のストライプ                ６３  ３本目のストライプ
６４  ４本目のストライプ
７０  チップ列
【図１】
2005072047.tif 000003
【図２】
2005072047.tif 000004
【図３】
2005072047.tif 000005
【図４】
2005072047.tif 000006
【図５】
2005072047.tif 000007
【図６】
2005072047.tif 000008
【図７】
2005072047.tif 000009
【図８】
2005072047.tif 000010
【図９】
2005072047.tif 000011
【図１０】
2005072047.tif 000012
【図１１】
2005072047.tif 000013
【図１２】
2005072047.tif 000014
【図１３】
2005072047.tif 000015
【図１４】
2005072047.tif 000016