(57)【要約】【課題】  電極が熱膨張しても歪みや破損のないニュートラライザを低コストかつ高メンテナンス性な構成にて提供する。【解決手段】  フィラメント、フィラメントに電流を流す一対の電極、及び、一対の電極を絶縁状態で支持するベースを有するニュートラライザであって、一対の電極とベースとを相対位置が少なくとも一方向に変動可能な状態で保持する保持手段を有する構成とした。【選択図】  図２
2005350721.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィラメント、該フィラメントに電流を流す一対の電極、及び、該一対の電極を絶縁状態で支持するベースを有するニュートラライザであって、
該一対の電極と該ベースとを相対位置が少なくとも一方向に変動可能な状態で保持する保持手段を有することを特徴とするニュートラライザ。
【請求項２】
請求項１記載のニュートラライザであって、
前記一方向は該一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向であることを特徴とするニュートラライザ。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載のニュートラライザであって、
前記保持手段が固定手段及び位置決め手段からなり、
該固定手段は該一対の電極を該ベースに各該電極につき少なくとも１箇所固定し、
該位置決め手段は該一対の電極を各該電極につき少なくとも１箇所で該ベースに対して位置決めし、該一対の電極と該ベースとの相対位置が少なくとも一方向に変動可能となるように構成されたことを特徴とするニュートラライザ。
【請求項４】
請求項３記載のニュートラライザであって、
前記固定手段は第１の挿通固定具からなり、
前記位置決め手段は該一対の電極に設けられた一対の第１の孔、該ベースに設けられた一対の第２の孔及び少なくとも該第１の孔を貫通する第２の挿通固定具からなり、
該第１又は第２の孔の形状と該第２の挿通固定具の外周側面形状とが異なる形状を有し、該第１又は第２の孔の面積が該第２の挿通固定具の該ベース面で切られる断面積よりも大きいことを特徴とするニュートラライザ。
【請求項５】
請求項４記載のニュートラライザであって、
該第１又は第２の孔が、該一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向に長半径を有する略楕円形状又は該方向に伸長した長円形状であることを特徴とするニュートラライザ。
【請求項６】
請求項４又は請求項５記載のニュートラライザであって、
該第１の挿通固定具はボルト又はビスであることを特徴とするニュートラライザ。
【請求項７】
請求項１から請求項６いずれか一項に記載のニュートラライザであって、
該ベースは少なくとも該電極との固定個所が碍子からなることを特徴とするニュートラライザ。
【請求項８】
請求項１から請求項７いずれか一項に記載のニュートラライザであって、
さらに、該フィラメントを該電極に固定するためのフィラメント押えを有し、
各該電極の該一対の電極間距離方向の断面が上方に開口する形状の欠けを有し、
該フィラメント押えが該欠けに嵌合する形状を有し、
該フィラメント押えが該電極に第３の挿通固定具で固定され、
該嵌合部で該フィラメントの端部が支持されることを特徴とするニュートラライザ。
【請求項９】
請求項８記載のニュートラライザであって、該欠けの形状が略台形であることを特徴とするニュートラライザ。
【請求項１０】
請求項９記載のニュートラライザであって、
該第３の挿通固定具がボルトであることを特徴とするニュートラライザ。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０記載いずれか一項に記載のニュートラライザであって、
該電極に複数のフィラメントが固定されたことを特徴とするニュートラライザ。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１いずれか一項に記載のニュートラライザであって、
該フィラメントから放出する電子を引出すアノードプレート、並びに、該フィラメント及び該電極の側面を覆う側板を有し、
該アノードプレートが該側板の上面に第４の挿通固定具で固定されたことを特徴とするニュートラライザ。
【請求項１３】
請求項１２記載のニュートラライザであって、
該第４の挿通固定具がボルトであることを特徴とするニュートラライザ。
【請求項１４】
請求項４から請求項１３いずれか一項に記載のニュートラライザであって、
前記挿通固定具は全て同一方向に挿通されることを特徴とするニュートラライザ。
【請求項１５】
フィラメント、電圧を印加して該フィラメントに電流を流す一対の電極、及び、該一対の電極を絶縁状態で支持する該電極と熱膨張率の異なるベースを有するニュートラライザにおいて、該一対の電極を該ベースに固定する方法であって、
該一対の電極と該ベースとを相対位置を少なくとも一方向に変動可能な状態で固定することを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１５記載の方法であって、
前記一方向は該一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向であることを特徴とする方法。
【請求項１７】
前記挿通固定具の全てを一方向のみに挿通することを特徴とする請求項４から請求項１４いずれか一項に記載のニュートラライザの組立又は分解方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電圧を印加したフィラメントから熱電子を放出する機構であるニュートラライザに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
真空蒸着法等において、真空槽内部へ導入したガスを電離させ、発生した陽イオンによって蒸着分子を基板へ押し付けることにより密着力が強く緻密な薄膜を形成する手法を一般的にIon Assist Deposition （以下IADと称す。）と呼ぶ。
【０００３】
図６はIAD法を用いた光学薄膜用真空蒸着装置の概略図であり、以下同図に示す装置における薄膜形成の概要を説明する。
真空槽３０本体には真空排気のためにメインポンプ３２、メインバルブ３４、粗引ポンプ３３、粗引バルブ３５や補助バルブ３６などで構成される排気系が取付けられる。真空槽本体３０内部には基板４１、基板４１を搭載する基板ドーム４２、基板４１を加熱するための基板加熱用ヒーター４３、蒸着材料３９、蒸着材料３９を入れる坩堝３８、蒸着材料３９を蒸発温度まで加熱する電子銃４０、蒸着完了時に閉じ蒸着材料３９を遮蔽するシャッター３７、アシストのためのイオンを照射するイオン源３１、基板ドーム４２に対して電子を放出するニュートラライザ４６などが配置され、真空槽外部には、基板ドーム回転機構４４、図示しない各種電源等が配置される。
【０００４】
IADは通常、プラスの電荷を持つ陽イオンによって蒸着分子をアシストするため、基板もしくは基板を搭載する基板ドームに陽イオンが溜まり、基板ドーム全体がプラスの電荷を帯びてしまう。この現象をチャージアップと呼ぶ。
チャージアップが発生すると基板ドームとアース電位である他の構成部品との間で絶縁破壊を起こしアーク放電が発生してしまう。また、基板ドーム全体がプラスの電荷を持ってしまう事により陽イオンが基板ドームへ向かっていかずアシストの効果が弱まるといった不具合も発生する。 
【０００５】
図７にチャージアップ前、図８にチャージアップ時の基板ドーム４２の様子を説明する模式図を示す。
図７に示すように基板ドーム４２がチャージアップしていない状態であれば、蒸着分子５０が陽イオン５１によってアシストされ基板ドーム４２に向かって飛び込んでいき、緻密な薄膜を形成することが可能となる。しかし、図８に示すように基板ドーム４２がチャージアップしている状態であると、基板ドーム４２と陽イオン５１間の電位差が減少し、アシストの効果が弱まってしまう。また、基板ドーム４２と他の構成部品５３間でアーク放電５２が発生してしまう。
【０００６】
ニュートラライザ４６は、基板ドーム４２のチャージアップを防止するために、マイナスの電荷を持つ電子を基板ドーム４２に向かって放出し、基板ドーム４２上において電気的中和を行なう機構であり、例えば光学素子の成膜装置に関する特許文献１等に開示される。
【０００７】
ニュートラライザ機構は電子を放出させる機構であるため、加速された電子を真空槽内部に導入したガスに衝突させて電離を促しプラズマを発生させる引き金としての役割も担っている。
【０００８】
図９に、従来のニュートラライザ４６の概略断面図を示す。
同図に示すニュートラライザは、熱電子を放出するフィラメント６０、フィラメント６０に加速電圧を印加してフィラメント電流を流す電極６１、電極６１に対してフィラメント６０を固定するフィラメント押え６２、電極６１とフィラメント押え６２とを締結するビス６３、電極６１を取付けるベース６４、電極６１間を絶縁する電極間碍子６５、電極６１とベース６４間を絶縁するベース碍子６６、電極６１及びフィラメント６０をカバーするキャップ６７、キャップ６７をカバーしフィラメント６０から放出する熱電子を引出すアノードキャップ６８を有する。
【０００９】
その構成は、真空槽外部電源からの配線を電極６１に接続し、電極６１に固定されるフィラメント６０へ加速電圧を印加してフィラメントに電流を流し、フィラメント６０より熱電子を放出するものである。アノードキャップ６８及びベース６４は接地され、フィラメント６０より放出された電子は、アース電位であるアノードキャップ６８に引出され基板ドーム４２に向かって照射される。アノードキャップ６８にはもちろん正の電位を与えてもよい。
【００１０】
キャップ６７と電極６１、アノードキャップ６８とベース６４には、お互い細目のネジが切られており、ねじ込む構造となっている。その他構成部品についてはビス留めによって固定されている。
【００１１】
図６に示す装置により蒸着を行なう場合は、まず基板ドーム４２に蒸着を行なう基板４１を設置する。そして蒸着材料３９を坩堝３８に入れる。そして粗引ポンプ３３及び粗引きバルブ３５を用い真空槽内を数Pa程度の圧力まで真空引きした後メインポンプ３２やメインバルブ３４及び補助バルブ３６などを用い、高真空まで真空排気を行なう。真空槽内が真空状態となってから、基板ドーム回転機構４４により基板ドーム４２を回転させながら基板用ヒーター４３用いて基板４１を加熱する。真空度及び基板温度が目標値に到達したら電子銃４０から電子ビームを蒸着材料３９へ照射し、蒸着材料３９を蒸発温度まで昇温させる。また、イオン源（イオン銃）３１を用いてイオンを照射する。イオン化手段はイオン源に限られるものではなく、例えば、基板ドームに高周波電圧（以下、RFと称す。）を印加、もしくはアンテナを導入してこれにRFを印加することにより真空槽内部にプラズマを発生させてイオン化する等適宜選択すればよい。シャッター３７を開くと蒸着材料３９は真空槽内を飛散し、イオンにアシストされて基板４２上に堆積することで緻密な薄膜を形成する。このとき同時にニュートラライザ４６からは基板に向けて電子を放出する。膜厚が目標値に到達したらシャッター３７を閉じ、電子銃４０やニュートラライザ４６、基板加熱用ヒーター４３、及びイオン源３１などを停止させ、冷却後真空槽内に大気を導入した後薄膜が形成された基板を取り出す。
【特許文献１】特開２００４−１３１７８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ニュートラライザは、抵抗加熱により発熱したフィラメントから熱電子を放出する機構であるため、フィラメント及び電極は通電時に高温度まで上昇してしまう。
従来型ニュートラライザ機構は、絶縁を目的として電極が碍子上にビス留めにて固定されているが、電極と碍子との熱膨張率の違いから通電時に電極が碍子に比して大きく膨張し、碍子が歪んでしまうという問題や、破損してしまうという問題が発生していた。
例えば、電極材料にステンレス鋼SUS304を、碍子材料にアルミナ製絶縁碍子を用いた場合、ステンレス鋼SUS304の線膨張係数は約17.3E-6であり、アルミナ製絶縁碍子の線膨張係数は約7.0E-6であるため、フィラメントに電流を流し、ユニット内の温度が数百℃に上昇すると線膨張係数の差によりステンレス鋼が碍子よりも格段に熱膨張する。このとき、電極間碍子は電極に挟まれビスで確実に固定されているため、熱膨張時に歪みや破損が生じてしまう。また、ベース碍子もベース内部へビスによって固定されているため、熱膨張時同様に歪みや破損が生じてしまう。
【００１３】
また、従来型ニュートラライザ機構は、アノードキャップ及びキャップを外し、フィラメント取付けビスを緩めてフィラメントの交換を行なうが、アノードキャップ及びキャップは細目のネジによってネジ込む構造となっているため、ニュートラライザ使用後本体に余熱が残っている場合、この細目ネジにかじり等が発生してしまうという問題があった。加えて、フィラメント取付けビスを均等に締め付けないと、フィラメント通電時加熱の影響でフィラメント押えの破損、フィラメント取付けボルトのかじり、緩み等が発生する可能性もあり、フィラメント交換時の作業性に個人差が生じてしまうという問題もあった。
【００１４】
更に、従来型のニュートラライザ機構でフィラメントを２つ使用する必要の有る場合、図９に示すニュートラライザ機構全体を２式搭載する必要があり、その結果部品点数が２倍に増えてしまい、真空槽内部における占有面積の拡大及びコストアップという問題も発生していた。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、電極が熱膨張しても歪みや破損のないニュートラライザを、低コストかつ高メンテナンス性な構成にて提供することを目的とするものである。
【００１６】
本発明の第１の側面は、フィラメント、フィラメントに電流を流す一対の電極、及び、一対の電極を絶縁状態で支持するベースを有するニュートラライザであって、一対の電極とベースとを相対位置が少なくとも一方向に変動可能な状態で保持する保持手段を有するニュートラライザである。ここで、一方向を一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向とした。さらに、保持手段が固定手段及び位置決め手段からなり、固定手段は一対の電極をベースに各電極につき少なくとも１箇所固定し、位置決め手段は一対の電極を各電極につき少なくとも１箇所でベースに対して位置決めし、一対の電極とベースとの相対位置が少なくとも一方向に変動可能となるように構成したものである。また、固定手段はボルト又はビス等からなる第１の挿通固定具からなり、位置決め手段は一対の電極に設けられた一対の第１の孔、ベースに設けられた一対の第２の孔及び少なくとも第１の孔を貫通する第２の挿通固定具からなり、第１又は第２の孔の形状と第２の挿通固定具の外周側面形状とが異なる形状を有し、第１又は第２の孔の面積が第２の挿通固定具のベース面で切られる断面積よりも大きくなるようにした。またさらに、第１又は第２の孔が、一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向に長半径を有する略楕円形状又は該方向に伸長した長円形状であるようにした。そして、ベースは少なくとも電極との固定個所が碍子からなるようにした。
【００１７】
本発明第２の側面は、上記第１の側面のニュートラライザにおいて、さらに、フィラメントを電極に固定するためのフィラメント押えを有し、各電極の一対の電極間距離方向の断面が上方に開口する形状の欠けを有し、フィラメント押えが該欠けに嵌合する形状を有し、フィラメント押えが電極に第３の挿通固定具で固定され、該嵌合部でフィラメントの端部が支持されるようにしたものである。さらに、欠けの形状が略台形となるようにした。また、第３の挿通固定具をボルトとした。
【００１８】
本発明第３の側面は、上記第１又は第２の側面のニュートラライザにおいて、電極に複数のフィラメントが固定されるようにしたものである。
【００１９】
本発明第４の側面は、上記第１から第３いずれかの側面のニュートラライザにおいて、フィラメントから放出する電子を引出すアノードプレート、並びに、フィラメント及び電極の側面を覆う側板を有し、アノードプレートが側板の上面に第４の挿通固定具で固定される構成としたものである。さらに、第４の挿通固定具をボルトとした。
【００２０】
本発明第５の側面は、上記第１から第４いずれかの側面のニュートラライザにおいて、使用される挿通固定具は全て同一方向に挿通される構成としたものである。
【００２１】
本発明第６の側面は、フィラメント、電圧を印加してフィラメントに電流を流す一対の電極、及び、一対の電極を絶縁状態で支持する電極と熱膨張率の異なるベースを有するニュートラライザにおいて一対の電極をベースに固定する方法であって、一対の電極とベースとを相対位置を少なくとも一方向に変動可能な状態で固定する方法である。さらに、該一方向を、該一対の電極の電極間距離方向と垂直をなす方向とした。
【００２２】
本発明第７の側面は、使用される挿通固定具の全てを一方向のみに挿通して上記第１から第５の側面いずれかのニュートラライザを組立又は分解する方法である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明ニュートラライザにより、部品点数を削減しながらも、熱膨張により生じる歪みあるいは破損を防止する設計を提案するため、長寿命化、コストの削減に貢献する。また、メンテナンス性の向上、作業者による組立・調整の個人差防止にも効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
図１に本発明実施例の外観図を、図２に内部概略図を示す。以下、本発明に係るニュートラライザは、図６に示される装置と同様の真空装置に搭載されるものとし、その動作は従来と同様であるため説明を省略するが、本発明を実施可能な装置はこれに限られるものではない。
【００２５】
図１及び図２に示すニュートラライザは、フィラメント１、加速電圧を印加してフィラメント１に電流を流す電極２、電極２に真空槽外部電源からの配線を接続する圧着端子１０、電極２に対してフィラメント１を固定するフィラメント押え３、電極２とフィラメント押え３とを締結するビス４、電極２を取付けるベース碍子７、電極２及びフィラメント１をカバーするニュートラライザケース１２、フィラメント１から放出する熱電子を引出すアノードプレート１１、を有する。
【００２６】
アノードプレート１１は取付けビス１３によってアノードサポート６に固定されている。ニュートラライザケース１２はニュートラライザベース５上に配され、アノードプレート１１との間に挟まれ、脱落しない構造となっている。実施例では加工性及びコストを考慮し、アノードプレート１１とニュートラライザケース１２とアノードサポート６とを全て別体でボルト留めする構造としたが、全てを一体にし箱形状とする事も可能である。
【００２７】
実施例は、細目ネジによってネジ込むキャップ形状のアノード６８を使用せず、プレート状のアノードをビス留めする構造を採用したため、加熱によるかじり等を極力抑えた構造となっている。また、キャップ６７とアノードキャップ６８により二重にカバーしていた従来の構造を一重のカバーに変更したため、構成の簡略化及びメンテナンス性の向上にも貢献する。
【００２８】
電極２は、ニュートラライザベース５上にビスで固定されたベース碍子７の上に、位置決めピン８及び皿ビス９によって、ニュートラライザベース５とは絶縁された状態で固定される。実施例ではベース碍子７を絶縁碍子により構成するが、少なくとも電極２との接触面のみが絶縁材により構成されるベースを用いればよい。
【００２９】
図３に位置決めピン８の詳細図を示す。電極２に設けられた位置決めピン８用の孔８０は、電極間距離方向と垂直をなす方向に長半径を持つ略楕円形状とし、略楕円の短半径はピン８の径よりもほんのわずか大きいものとする。なお、この略楕円形状とは、一方向に円を伸長させた長円形も含む概念である。これにより、図３に示す矢印C方向、図２に示す矢印B方向が保たれ、電極間距離を確実に保つ構造となっている。よって、図９に示す従来型の様な電極間碍子６５を必要としない構造となるため、電極間碍子破損の可能性を皆無とした。
【００３０】
位置決めピン８用の孔８０の形状により、電極２は図２に示すA方向にのみ熱膨張可能となる。従来の様に電極を両端ビスで固定するのでなく、片側を位置決めピン８によって固定しているため、通電によりフィラメント１が加熱されても電極２の熱膨張が可能となり、ベース碍子７に無理な力がかからずベース碍子７が破損する可能性を著しく低減することが可能となる。
【００３１】
同図では、孔８０を略楕円又は長円形としたが、孔８０の形状は電極２の電極間距離方向と垂直をなす方向（長手方向）に位置決めピン８の可動の自由度があり、電極間距離方向に可動範囲が制限される形状であれば他の形状であってもよい。さらに、本実施例では位置決めピン８の断面が円形のものを想定したが、位置を決めることができれば断片が円形でなくてもよく、例えば多角形等、他の断面形状のものであってもよい。また、これに従って孔８０の形状も位置決めピン８の断面形状に対応したものとしてもよい。
【００３２】
また、上記のような形状の孔を電極２ではなくベース碍子７に設けても、電極２とベース碍子７の双方に設けてもよい。孔をベース碍子７のみに設けた場合、位置決めピン８はベース碍子７を貫通してもよいし、ベース碍子７中に位置決めピン８の終端が位置するようにしてもよい。位置決めピン８がベース碍子７を貫通する場合は、位置決めピン８に絶縁処理を施し、ニュートラライザベース５と位置決めピン８とを絶縁する必要がある。また、電極２とベース碍子７双方に孔を設けた場合、位置決めピン８はニュートラライザベース５に固定されることになるので、上記と同様に位置決めピン８を絶縁する必要がある。また、電極２とベース碍子７とを全ての箇所で位置決めピン８により固定してもよいが、この場合電極２の位置がベース碍子７に対して自由に可動してしまうため、実施例では一端を皿ボルト９により正確に位置出しする方法を採用している。
【００３３】
実施例で、破損する可能性のある碍子の数を減らし1つのみとし、電極と碍子とをビスで固定するのではなく、片側をピンにより位置決めする構造を採用したことにより、電極が熱膨張しても碍子に無理な力がかからず歪みや破損を防ぐことが可能となった。
【００３４】
図４を参照にフィラメントの取付けを説明する。
フィラメント１は、フィラメント押え３及びフィラメント取付け用ビス４によって電極２に固定され、フィラメント１には真空槽外部の電源から圧着端子１０及び電極２を介して電圧が印加され電流が流れる。フィラメント押え３は断面が略台形状のブロックにより構成され、ビス４により図４に示す矢印D方向に締め付ける事によって電極２に固定される。略台形状のブロックにより、フィラメント１には図４に示す矢印E方向に力が働き、確実にフィラメント１を固定する事が可能となる。また、フィラメント押え３の断面を略台形状ブロックとする事により複数のフィラメントを同時にかつ確実に固定することが可能となる。
なお、実施例においてはフィラメント押え３の断面形状を上方に開口した台形としたが、下方への押圧によってフィラメント押え３の側面に圧力がかかる構成であれば、例えば上方に開口した多角形等、他の断面形状で構成することも可能である。
【００３５】
実施例で、一つのユニット内に複数のフィラメントを取付ける構造を採用したことにより、従来のようにユニットを追加することなくフィラメントを追加することが可能となり、部品点数の大幅な削減が可能となった。一つのユニット内へのフィラメントの装着数は適宜選択すればよく、もちろん一つのユニットに一つのフィラメントを装着してもよい。この場合は、実施例と同機構で寸法を小さくすればよい。また、フィラメントは形状を問わず使用可能であるため所望の形状を適宜選択すればよい。
【００３６】
実施例でフィラメント押え３の形状を略台形状のブロックとし、上面からのビス留めによりフィラメント１を確実に固定できる構造を採用したことにより、フィラメント取付け位置及び高さの個人差軽減を図った。
【００３７】
また、フィラメント押え３を上面からビス留めする構造としたこと、プレート状のアノード１１を上面からビス留めする構造としたことにより、取付け部品のビス留め方向を統一することが可能となった。実施例では、フィラメント交換時及びメンテナンス時に着脱する部品を全て上面からビス留めする構造を採用したため、作業性及びメンテナンス性を著しく向上させることが可能となった。
【００３８】
本発明の他の実施例を図５に示す。
図２に示す実施例では、電極の熱膨張時可動範囲を得るため、電極２に長穴を設け、碍子７に位置決めピン８を取付ける構造としているが、図５に示すニュートラライザは、ベース碍子２０を分割し、分割した一方の碍子をニュートラライザベース５上にビス留めし、他方の碍子に長穴加工を施して位置決めピン２１によって固定したことを特徴とする。電極は分割された碍子２０上にボルト２２で固定すれば、図２に示す実施例と同様に熱膨張時の可動範囲を設けることが可能となる。
【００３９】
なお、上記ではIAD法に用いられるニュートラライザについて説明したが、本発明は、フィラメントから熱電子を放出する機構であれば上記実施例に限らず実施可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明のニュートラライザ機構の外観図
【図２】本発明のニュートラライザ機構内部の概略図
【図３】位置決めピン詳細図
【図４】フィラメント取付け概略図
【図５】本発明他の実施例の概略図
【図６】光学薄膜用真空蒸着装置の概略図
【図７】基板ドームチャージアップの説明図１
【図８】基板ドームチャージアップの説明図２
【図９】従来型ニュートラライザの概略断面図
【符号の説明】
【００４１】
1   フィラメント
2   電極
3   フィラメント押え
4   ビス
5   ニュートラライザベース
6   アノードサポート
7   ベース碍子
8   位置決めピン
9   皿ビス
10  圧着端子
11  アノードプレート
12  ニュートラライザケース
13  ビス
20  ベース碍子
21  位置決めピン
22  ビス
30  真空槽本体
31  イオン源
32  メインポンプ
33  粗引きポンプ
34  メインバルブ
35  粗引きバルブ
36  補助バルブ
37  シャッター
38  坩堝
39  蒸着材料
40  電子銃
41  基板
42  基板ドーム
43  基板加熱用ヒーター
44  基板ドーム回転機構
50  蒸着分子
51  陽イオン
52  アーク放電
53  他の構成部品
80  孔
【図１】
2005350721.tif 000003
【図２】
2005350721.tif 000004
【図３】
2005350721.tif 000005
【図４】
2005350721.tif 000006
【図５】
2005350721.tif 000007
【図６】
2005350721.tif 000008
【図７】
2005350721.tif 000009
【図８】
2005350721.tif 000010
【図９】
2005350721.tif 000011