(57)【要約】【課題】  ＳＴＰプロセスにより光ディスクを製造する場合に、反射膜に損傷を与えることなく剥離でき、高温高湿環境下に長時間保存した場合でも信号の読み取りエラーが増加しない紫外線硬化型組成物を提供する。【解決手段】  第１記録面を表面に備えた基板と、前記第１記録面上に形成されレーザー光を反射する銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜１と、前記反射膜１上に形成された紫外線硬化型組成物の硬化層と、前記硬化層上に形成された第２記録面と、前記第２記録面上に形成されレーザー光を反射する反射膜２と、前記反射膜２上に形成された樹脂層と、前記樹脂層上に形成され前記情報が記録された第３記録面と、前記第３記録面上に形成されレーザー光を反射する反射膜３とを備え、式Ｉ2005243109.tif 000012で表される化合物を含有し、紫外線照射後の３０℃における弾性率が５００〜１０００ＭＰａである光ディスク用紫外線硬化型組成物。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報が記録された第１記録面を表面に備えた基板と、前記第１記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜１と、前記反射膜１上に形成された紫外線硬化型組成物の硬化層と、前記硬化層上に形成され前記情報が記録された第２記録面と、前記第２記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜２と、前記反射膜２上に形成された接着剤の樹脂層と、前記樹脂層上に形成され前記情報が記録された第３記録面と、前記第３記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜３とを備えた光ディスクに使用する前記紫外線硬化型組成物であって、式Ｉ
【化１】
2005243109.tif 000009
（式中、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なっていても良く、エチレン基又はプロピレン基を示し、Ｚ１及びＺ２は、同一又は異なっていても良く、水素原子又はメチル基を示し、ｍ及びｎは、同一又は異なっていても良く、１〜９の整数を示し、かつｍ＋ｎは２〜１０の整数を示す。）で表される化合物を含有し、且つ紫外線照射後に形成される硬化層の３０℃における弾性率が５００〜１０００ＭＰａであることを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項２】
前記式Ｉで表される化合物を３５〜６０質量％含有する請求項１記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項３】
前記紫外線硬化型組成物が、更にウレタン（メタ）アクリレートを含有する請求項１又は２のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項４】
前記紫外線硬化型組成物が、更にエポキシ（メタ）アクリレートを含有する請求項１、２又は３のいずれかに記載の光ディスク用紫外線硬化型組成物。
【請求項５】
情報が記録された記録面を備えレーザー光により前記情報を読み取ることが可能な基板を具備する光ディスクであって、前記光ディスクが、前記基板に形成され前記情報が記録された第１記録面と、前記第１記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜１と、前記反射膜１上に形成された紫外線硬化型組成物の硬化層と、前記硬化層上に形成され前記情報が記録された第２記録面と、前記第２記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜２と、前記反射膜２上に形成された接着剤の樹脂層と、前記樹脂層上に形成され前記情報が記録された第３記録面と、前記第３記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜３とを備え、前記紫外線硬化型組成物が、式Ｉ
【化２】
2005243109.tif 000010
（式中、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なっていても良く、エチレン基又はプロピレン基を示し、Ｚ１及びＺ２は、同一又は異なっていても良く、水素原子又はメチル基を示し、ｍ及びｎは、同一又は異なっていても良く、１〜９の整数を示し、かつｍ＋ｎは２〜１０の整数を示す。）で表される化合物を含有し、且つ前記硬化層の３０℃における弾性率が５００〜１０００ＭＰａであることを特徴とする光ディスク。
【請求項６】
前記反射膜３上に、更に、紫外線硬化型組成物の硬化層と、前記硬化層上に形成され前記情報が記録された第４記録面と、前記第４記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜４とを備えた請求項５記載の光ディスク。
【請求項７】
情報が記録された第１記録面を表面に備え、且つ前記第１記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜１を備えた基板１と、情報が記録された第２記録面を表面に備え、且つ前記第２記録面上に形成され前記第２記録情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜２を備えた基板２を、前記反射膜１と前記反射膜２を接着面として紫外線硬化型組成物により貼合わせ、次いで、紫外線を照射することにより前記紫外線硬化型組成物の硬化層を形成させ、前記基板１、前記反射膜１、前記硬化層、前記反射膜２及び前記基板２がこの順に積層された積層体（α）を製造し、その後、前記反射膜２と前記基板２間を剥離することにより、前記基板１、前記反射膜１、前記硬化層及び前記反射膜２がこの順に積層された積層体（β）を製造し、更に、別工程により、前記情報が記録された第３記録面を表面に備え、且つ前記第３記録面上に形成され前記第３記録情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜３を備えた基板３を製造し、前記積層体（β）の前記反射膜２と前記反射膜３を接着面として貼り合わせる工程を経て光ディスクを製造する方法であって、前記紫外線硬化型組成物が式Ｉ
【化３】
2005243109.tif 000011
（式中、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なっていても良く、エチレン基又はプロピレン基を示し、Ｚ１及びＺ２は、同一又は異なっていても良く、水素原子又はメチル基を示し、ｍ及びｎは、同一又は異なっていても良く、１〜９の整数を示し、かつｍ＋ｎは２〜１０の整数を示す。）で表される化合物を含有し、且つ紫外線照射後に形成される硬化皮膜の３０℃における弾性率が５００〜１０００ＭＰａであることを特徴とする光ディスクの製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の光ディスクの製造方法において、前記基板３に換えて、情報が記録された第４記録面を表面に備え、且つ前記第４記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜４を備えた基板４と、前記反射膜４上に形成された紫外線硬化型組成物の硬化層と、前記硬化層上に形成され前記情報が記録された第５記録面と、前記第５記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜５とが積層された積層体（γ）を用い、前記積層体（β）の前記反射膜２と前記反射膜５を接着面として接着剤により貼り合わせる光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の情報記録層を有する光ディスクに好適に用いられる紫外線硬化型組成物に関する。特に、銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜を有するＤＶＤ−１８あるいはＤＶＤ−１４に好適に使用される紫外線硬化型組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
貼り合わせ型光ディスクの代表例としては、ＤＶＤ（ディジタルバーサタイルディスク又はディジタルビデオディスク）がある。このＤＶＤは、表面に情報記録層を有している２枚の光ディスク用基板同士を、あるいは情報記録層を有している１枚の光ディスク用基板と情報記録層を有さない光ディスク用基板とを、情報記録層が形成されている面を接着面として貼り合わせたものである。貼り合わせる際の接着剤としては、紫外線硬化型組成物を使用することが一般的である。
【０００３】
なお、情報記録層とは、光ディスク用基板に形成したピットと称する凹凸又は相変化材料や色素等からなる層、及びその上に形成する反射膜の積層体をいう。この反射膜は情報記録層の最外郭部に形成する層であり、記録情報を読み取るための光を反射する層である。一般的には、反射膜は金属または金属合金により形成する。また、用途に応じて膜厚を調製し、読み取り光の一部を反射する半透明反射膜あるいは読み取り光を完全に反射する完全反射膜とする。
【０００４】
ＤＶＤ−１８の構造は、記録情報に対応するピットの形成された厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板の上に、１）この記録情報を読み取るための半透明の反射膜（反射膜１）、２）厚さ４５〜７０μｍの情報読み取りのためレーザー光に対して透明な紫外線硬化型組成物の硬化層からなる樹脂層、３）更に記録情報を読み取るための反射膜（反射膜２）が順次積層されたディスクを２枚用意して、その２枚のディスクを反射膜２同士が対向するように接着剤で貼合わせた構造になっている。勿論、前記反射膜１の記録情報と反射膜２の記録情報は異なった情報であっても良く、貼り合わせる２枚の記録情報は異なっていても良い。反射膜１はレーザー光を１８〜３０％反射するものであり、現在製品化されているＤＶＤ−１８あるいはＤＶＤ−１４では金が使用されている。反射膜２にはアルミニウムやアルミニウムの合金等が使用されている。しかしながら、最近では、コストダウンを目的として、反射膜１の半透明膜は金からケイ素化合物あるいは銀又は銀を主成分とする合金へ置き換えが進んでおり、成膜が容易であることから銀又は銀を主成分とする合金への置き換えが主流になっている。
【０００５】
ところで、ＤＶＤ−１８及びＤＶＤ−１４を製造するプロセスとしてＳＴＰ（Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｐｒｏｃｅｓｓ）と呼ばれるプロセスが知られている（非特許文献１参照）。ＳＴＰプロセスとは、前記反射膜１が形成された基板１と、前記反射膜２が形成された基板２を、反射膜１と反射膜２を対向させて紫外線硬化型組成物の硬化層からなる樹脂層により貼合わせ、ついでこの貼合わせた２枚の基板を反射膜２と基板２の間の界面で剥離することにより基板１側に反射膜２を転写するプロセスである。ＤＶＤ−１８は、このようにして作製された反射膜１と反射膜２が上記の樹脂層を介して順次積層されたディスクを２枚用いて、前記の如く、反射膜２同士が対向するように接着剤で貼合わせることにより製造される。最近では、ＳＴＰプロセスはＤＶＤ−１８及びＤＶＤ−１４を製造するプロセスとして最も一般的な方法となっている。ＳＴＰプロセスにおいて用いられる紫外線硬化型組成物としては、反射膜１と反射膜２を接着するための単なる接着剤としての機能のみではなく、反射膜２と基板２の間の界面で剥離する際に、反射膜２に物理的損傷を与えず、基板２のピットの形状を精度良く保持し、反射膜２を基板２からスムーズに剥離するのに適した物理的及び化学的な特性を有することが必要である。
【０００６】
このＳＴＰプロセスで用いる紫外線硬化型組成物の好適な例として、例えば、硬化塗膜の３０℃での弾性率を５００ＭＰａ以下にすることで、基板２上のピット形状を精度良く基板１側に転写でき、前記反射膜２に損傷を与えることなく全面をスムーズに剥離することができる技術が提案されている（特許文献１参照）。該技術は、反射膜１に金又はシリコン等の無機化合物を使用し、反射膜２にアルミニウムの薄膜を使用している。確かに、該技術によれば反射膜２に物理的損傷を与えず、基板２のピットの形状を精度良く基板１側に転写することができる。しかしながら、該技術で開示されている組成物を用いて反射膜１である半透明膜に銀又は銀を主成分とする合金を使用したＤＶＤ−１８あるいはＤＶＤ−１４を製造した場合、例えば、８０℃８５％ＲＨ９６時間といった高温高湿環境下での試験を行うと半透明膜の変色やピンホールが発生し、信号読み取りが不可能になるという問題があった。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−３４５０７３号公報
【非特許文献１】Ｔａｐｅ／Ｄｉｓｃ  Ｂｕｓｉｎｅｓｓ（Ｋｎｏｗｌｅｄｇｅ  Ｉｎｄｕｓｔｒｙ  Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ，  Ｉｎｃ発行）  １９９９年４月号（７３〜７５頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって、本発明の目的は、ＳＴＰプロセスにより銀又は銀を主成分とする合金を使用した半透明膜を反射膜１として使用した光ディスクを製造する場合に、反射膜２に損傷を与えることなく反射膜２と基板２の間の界面で円滑に剥離でき、且つ高温高湿環境下に長時間保存した場合でも銀又は銀を主成分とする合金を使用した半透明膜の変色やピンホールが発生することが無く、信号の読み取りエラーが増加しない光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供することにある。また、本発明の他の目的は、該光ディスク用紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクを提供することにある。更に、本発明の他の目的は、該光ディスク用紫外線硬化型組成物を使用した光ディスクの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した結果、銀又は銀を主成分とする合金を使用した半透明膜を反射膜１として使用する場合、反射膜１上に形成する紫外線硬化型組成物の硬化層の３０℃における弾性率が５００ＭＰａ以上であると、高温高湿環境下に長時間保存した場合でも反射膜１と紫外線硬化型組成物の硬化層の間に水分の浸透が無く、その結果、銀又は銀を主成分とする合金を使用した半透明膜の変色やピンホールが発生しないこと、更に、３０℃における弾性率が１０００ＭＰａ以下であり、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物又は同プロピレンオキサイド付加物を含有することにより反射膜２を基板２から円滑に剥離でき、且つ基板２上のピットの形状を損なうことなく剥離できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１０】
すなわち本発明は、情報が記録された第１記録面を表面に備えた基板と、前記第１記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜１と、前記反射膜１上に形成された紫外線硬化型組成物の硬化層と、前記硬化層上に形成され前記情報が記録された第２記録面と、前記第２記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜２と、前記反射膜２上に形成された接着剤の樹脂層と、前記樹脂層上に形成され前記情報が記録された第３記録面と、前記第３記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜３とを備えた光ディスクに使用する前記紫外線硬化型組成物であって、式Ｉ
【００１１】
【化１】
2005243109.tif 000002
（式中、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なっていても良く、エチレン基又はプロピレン基を示し、Ｚ１及びＺ２は、同一又は異なっていても良く、水素原子又はメチル基を示し、ｍ及びｎは、同一又は異なっていても良く、１〜９の整数を示し、かつｍ＋ｎは２〜１０の整数を示す。）で表される化合物を含有し、且つ紫外線照射後に形成される硬化層の３０℃における弾性率が５００〜１０００ＭＰａであることを特徴とする光ディスク用紫外線硬化型組成物を提供するものである。
【００１２】
また、本発明は、情報が記録された記録面を備えレーザー光により前記情報を読み取ることが可能な基板を具備する光ディスクであって、前記光ディスクが、前記基板に形成され前記情報が記録された第１記録面と、前記第１記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜１と、前記反射膜１上に形成された紫外線硬化型組成物の硬化層と、前記硬化層上に形成され前記情報が記録された第２記録面と、前記第２記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜２と、前記反射膜２上に形成された接着剤の樹脂層と、前記樹脂層上に形成され前記情報が記録された第３記録面と、前記第３記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜３とを備え、前記紫外線硬化型組成物が、式Ｉ
【００１３】
【化２】
2005243109.tif 000003
（式中、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なっていても良く、エチレン基又はプロピレン基を示し、Ｚ１及びＺ２は、同一又は異なっていても良く、水素原子又はメチル基を示し、ｍ及びｎは、同一又は異なっていても良く、１〜９の整数を示し、かつｍ＋ｎは２〜１０の整数を示す。）で表される化合物を含有し、且つ前記硬化層の３０℃における弾性率が５００〜１０００ＭＰａであることを特徴とする光ディスクを提供するものである。
【００１４】
更に、本発明は、情報が記録された第１記録面を表面に備え、且つ前記第１記録面上に形成され前記情報を読み取るためのレーザー光を反射する銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜１を備えた基板１と、情報が記録された第２記録面を表面に備え、且つ前記第２記録面上に形成され前記第２記録情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜２を備えた基板２を、前記反射膜１と前記反射膜２を接着面として紫外線硬化型組成物により貼合わせ、次いで、紫外線を照射することにより前記紫外線硬化型組成物の硬化層を形成させ、前記基板１、前記反射膜１、前記硬化層、前記反射膜２及び前記基板２がこの順に積層された積層体（α）を製造し、その後、前記反射膜２と前記基板２間を剥離することにより、前記基板１、前記反射膜１、前記硬化層及び前記反射膜２がこの順に積層された積層体（β）を製造し、更に、別工程により、前記情報が記録された第３記録面を表面に備え、且つ前記第３記録面上に形成され前記第３記録情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜３を備えた基板３を製造し、前記積層体（β）の前記反射膜２と前記反射膜３を接着面として貼り合わせる工程を経て光ディスクを製造する方法であって、前記紫外線硬化型組成物が式Ｉ
【００１５】
【化３】
2005243109.tif 000004
（式中、Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なっていても良く、エチレン基又はプロピレン基を示し、Ｚ１及びＺ２は、同一又は異なっていても良く、水素原子又はメチル基を示し、ｍ及びｎは、同一又は異なっていても良く、１〜９の整数を示し、かつｍ＋ｎは２〜１０の整数を示す。）で表される化合物を含有し、且つ紫外線照射後に形成される硬化皮膜の３０℃における弾性率が５００〜１０００ＭＰａであることを特徴とする光ディスクの製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１６】
ＳＴＰプロセスを経て銀又は銀を主成分とする合金を使用した半透明膜を反射膜１として使用した光ディスクを製造する場合に、本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物を使用すると、反射膜２に損傷を与えることなく反射膜２と基板２の間の界面で円滑に剥離でき、基板２上のピットの形状を高精度で基板１側に転写することができる。また、高温高湿環境下に長時間保存した場合でも銀又は銀を主成分とする合金を使用した半透明膜の変色やピンホールが発生することが無く、信号の読み取りエラーが増加しない光ディスクを製造することができる。したがって、低コストで信頼性の高いＤＶＤ−１８及びＤＶＤ−１４を効率よく生産する事ができる
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は前記式１で表される化合物を含有するが、前記式１で表される化合物は光ディスク用紫外線硬化型組成物全体に対して３５〜６０質量部含有することが好ましい。３５質量部よりも少ないと硬化塗膜の弾性率が高くなり、前記ＳＴＰプロセスでのピット転写性が悪くなりやすく、６０質量部より多くなると８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下での試験で銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明膜の変色やピンホールの発生が起きやすくなる。なお、前記式１で表される化合物の含有量は、３５〜５５質量％であることがより好ましく、中でも、４０〜５５質量％であることが特に好ましい。また、前記式Ｉで表される化合物としては、式１中のＲ１及びＲ２がエチレン基であり、ｍ＋ｎが４であることが好ましい。
【００１８】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、紫外線照射後に形成される硬化層の３０℃における弾性率が５００〜１０００ＭＰａであるが、５５０〜９５０ＭＰａであることがより好ましく、５５０〜９００ＭＰａであることがより好ましい。
【００１９】
硬化層の３０℃での弾性率が１０００ＭＰａを越えると、反射層２と基板２の剥離性が悪くなりやすく、さらにＤＶＤ−１８あるいはＤＶＤ−１４とした時、ディスクの反りが大きくなりやすいため好ましくない。また、弾性率が５００ＭＰａより小さくなると銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜１が、高温高湿環境試験後に劣化し易くなるため好ましくない。このように銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜１の高温高湿環境試験後の劣化を防ぐには、硬化層の３０℃における弾性率を５００〜１０００ＭＰａに設定する必要があるが、本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、前記式１で表される化合物を含有するため、該組成物の硬化層の弾性率が上記範囲であっても反射層２と基板２の間で良好な剥離性を示す。
【００２０】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物に用いる前記式１で表される化合物以外のラジカル重合性化合物としては、公知のラジカル重合性モノマー及びラジカル重合性オリゴマーが使用できる。ラジカル重合性モノマーとしては、単官能（メタ）アクリレートや多官能（メタ）アクリレートを用いることができ、これらは、各々、単独又は２種類以上併用して用いることもできる。なお、本明細書中で（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸のことであり、アクリル酸又はメタクリル酸の誘導体についても同様である。
【００２１】
ラジカル重合性モノマーとしては、公知の化合物が使用できるが、単官能の（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシー３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２２】
また、多官能の（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチルー２−エチルー１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートのジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モルのエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２３】
更に、ラジカル重合性オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート等がある。
【００２４】
上記の中でも、ラジカル重合性モノマーとしては、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに４モル以上のエチレンオキサイドもしくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、を使用するのが好ましく、ラジカル重合性オリゴマーとしては、エポキシ（メタ）アクリレート又はウレタン（メタ）アクリレートを使用するのが好ましい。特に、ラジカル重合性オリゴマーとして、エポキシ（メタ）アクリレート及びウレタン（メタ）アクリレートを併用するのが好ましい。エポキシ（メタ）アクリレートは反射層２と基板２の剥離性を良好にする成分であり、ウレタン（メタ）アクリレートは反射層２を損なうことなく、基板２上のピットの形状を高精度で基板１側に転写するために好適な成分である。光ディスク用紫外線硬化型組成物中、エポキシ（メタ）アクリレートは５〜２０質量％、またウレタン（メタ）アクリレートは５〜４０質量％含有することが好ましい。
【００２５】
本発明で使用する光重合開始剤は公知慣用のものがいずれも使用できる。光重合開始剤としては、分子開裂型又は水素引き抜き型のものが好適である。
【００２６】
本発明で使用できるラジカル性の光重合開始剤としては、ベンゾインイソブチルエーテル、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ベンジル、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が好適に用いられ、また、これら以外の分子開裂型のものとして、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オンおよび２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等を併用しても良いし、さらには、水素引き抜き型光重合開始剤であるベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イソフタルフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチル−ジフェニルスルフィド等も併用できる。ラジカル性の光重合開始剤の使用量は、本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物の全体に対して２質量％〜１０質量％の範囲で含有することが好ましい。
【００２７】
上記ラジカル性の光重合開始剤に対して増感剤を使用することができ、例えば、トリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミンおよび４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の、前述ラジカル重合性成分と付加反応を起こさないアミン類を併用することもできる。もちろん、上記光重合開始剤や増感剤は、紫外線硬化型化合物への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。
【００２８】
また、本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物には、必要に応じて、他の添加剤を使用することができ、例えば、熱重合禁止剤、可塑剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等の酸化防止剤、およびエポキシシラン、メルカプトシラン、（メタ）アクリルシラン等のシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、紫外線硬化型化合物への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いる。
【００２９】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物には、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系酸化防止剤を添加することが好ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤の添加量は、紫外線硬化型組成物の全体に対して、０．０１質量％〜５質量％であることが好ましい。ヒンダードフェノール系酸化防止剤の中でも、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾールが特に好ましい。そのような化合物の市販品としては、ＩＲＧＡＮＯＸ  １５２０Ｌ（チバスペチャルティケミカルズ（株）製）がある。本発明の紫外線硬化型組成物は、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾールを含有することにより、高温高湿環境下における耐久性が向上する。
【００３０】
光ディスク用紫外線硬化型組成物としては、常温〜４０℃において、液状であるものを用いるのが好ましい。溶媒は用いない方が好ましく、用いたとしても極力少量に留めるのがよい。また、前記組成物の塗布をスピンコーターで行う場合には、粘度を２０〜１０００ｍＰａ・ｓとなるように調整するのが好ましく、ＤＶＤ用途で用いる場合は１００〜１０００ｍＰａ・ｓに調整するのが良い。
【００３１】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、ＳＴＰプロセスにより製造する光ディスク以外の貼合わせ型光ディスクの接着剤として用いることもできる。例えば、２枚の光ディスク用基板の少なくとも一方の基板が、その表面に銀又は銀を主成分とする合金からなる薄膜層を有し、前記薄膜層を接着面として前記２枚の光ディスク用基板を貼合わせるための接着剤として使用することができる。また、本発明の紫外線硬化型組成物は、銀又は銀を主成分とする合金の薄膜を光反射層とするＣＤ−ＲＯＭ又はＣＤ−Ｒなどの保護コート剤として用いてもよい。何れの場合でも優れた耐久性の光ディスクを得ることができる。
【００３２】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物を使用できるＳＴＰプロセスにより製造する光ディスク以外の光ディスクのタイプは、再生専用型ＤＶＤであるＤＶＤ−５、ＤＶＤ−１０、ＤＶＤ−９、書き込み可能型のＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒ、書き換え可能型のＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ＋ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等のＤＶＤであり、特にＤＶＤ−９用の光ディスク用紫外線硬化型組成物として好適に使用できる。ＤＶＤ−９における銀又は銀を主成分とする合金からなる薄膜層の膜厚は１０〜３０ｎｍであり、他のタイプのＤＶＤにおける銀又は銀を主成分とする合金からなる薄膜層の膜厚よりも薄くなっている。本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物は、このように薄い膜厚の銀又は銀を主成分とする合金の薄膜上で使用しても十分な耐久性を示すため、銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明膜を有する再生専用型のＤＶＤ−９に使用する紫外線硬化型組成物として最適である。
【００３３】
また、本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物を使用する光ディスクはこれらには限定されず、例えば、厚さ約１．１ｍｍの光ディスク用基板の銀又は銀を主成分とする合金の薄膜上に、本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物の硬化膜による、厚さ約０．１ｍｍ程度の保護層又はカバー層又は光透過層を形成したもの、すなわち、情報読み書き用のレーザー光として青紫色レーザー光に適したタイプのものであっても良いし、ＤＶＤと同様の厚さ０．６ｍｍの基板を２枚貼合わせた構造を有するＳＡＣＤ（スーパーオーディオＣＤ）であっても良い。
【００３４】
本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物を用いた光ディスクの製造方法では、基板１に形成された反射膜１と基板２に形成された反射膜２とを該組成物を用いて接着し、その後、基板２と反射膜２との界面で剥離させる。この時、剥離が円滑に行われるように基板と反射膜の材質を選択する。
【００３５】
基板の材質としては、公知慣用のものが使用できる。具体的には熱可塑性合成樹脂が挙げられるが、例えばポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アモルファスポリオレフィン等が挙げられる。一般的にポリカーボネートへは、金属類の接着力は極めて高いので、一方の基板としてポリカーボネートを選択して、もう一方の基板として、例えば、アルミニウムとの接着性が相対的に小さい熱可塑性合成樹脂からなる基板を選択する様にするのが好ましい。本発明においては、銀又は銀を主成分とする合金からなる半透明の反射膜１が積層された基板１としてポリカーボネート基板を使用し、アルミニウム等の反射膜２が形成された基板２はポリメチルメタクリレート製の（ＰＭＭＡ）基板を使用することが好ましい。なお、「銀を主成分とする合金」としては、例えば、ＵＳＰ６００７８８９に記載されている銀と金の比率（ＡｇＸＡｕＹ）が以下の比率である銀合金があげられる。
０．９＜ｘ＜０．９９９
０．００１≦Ｙ≦０．１０
【００３６】
以下に、ＳＴＰプロセスによりＤＶＤ−１８及びＤＶＤ−１４を製造する場合の例を記載する。
（ＤＶＤ−１４の製造）
まずピットと称する凹凸として情報が記録された第１記録面の上にレーザー光の反射率が１８〜３０％となるよう半透明の銀又は銀を主成分とする合金からなる反射膜１が形成された厚さ０．６ｍｍの円盤状ポリカーボネート基板１と、同様に情報がピットとして記録された第２記録面の上にレーザー光の反射率が４５〜８５％となるよう反射膜２が形成された厚さ０．６ｍｍの円盤状ＰＭＭＡ基板２を準備する。
【００３７】
次いで、本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物を調製する。そして、該組成物を前記基板２の反射膜２上に塗布し、反射膜２の膜面と半透明の反射膜１の膜面が対向するよう基板１と基板２を貼合わせる。この貼合わせたディスクの片面又は両面から紫外線を照射して、該組成物の硬化層を形成させることにより両者を接着させる。以上の工程により、基板１、反射膜１、硬化層、反射膜２及び基板２がこの順に積層された積層体（α）を製造し、その後、反射膜２と基板２の間の界面を剥離することにより、反射膜２が基板１側に転写され、基板１、反射膜１、硬化層及び反射膜２がこの順に積層された積層体（β）を製造する。
【００３８】
更に、別工程により、情報が記録された第３記録面を表面に備え、且つ該第３記録面上に、該第３記録情報を読み取るためのレーザー光を反射する反射膜３を備えた厚さ０．６ｍｍの円盤状ポリカーボネート基板３を製造し、積層体（β）の反射膜２と基板３の反射膜３を接着面として接着剤により貼り合わせることによりＤＶＤ−１４が得られる。
【００３９】
（ＤＶＤ−１８の製造）
ＤＶＤ−１４の製造工程における基板３に換えて、下記の工程により製造される積層体（γ）を用いることによりＤＶＤ−１８を製造する。積層体（γ）の製造工程は上記の積層体（β）の製造工程と同一である。
まず、情報が記録された第４記録面の上に半透明の銀又は銀を主成分とする合金からなる反射膜４が形成された厚さ０．６ｍｍの円盤状ポリカーボネート基板４と、同様に情報がピットとして記録された第５記録面の上に反射膜５が形成された厚さ０．６ｍｍの円盤状基板５を準備する。
【００４０】
次いで、本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物を基板５の反射膜５上に塗布し、反射膜５の膜面と半透明の反射膜４の膜面が対向するよう基板４と基板５を貼合わせる。この貼合わせたディスクの片面又は両面から紫外線を照射して、該組成物の硬化層を形成させることにより両者を接着させる。以上の工程により、基板４、反射膜４、硬化層、反射膜５及び基板５がこの順に積層された積層体（δ）を製造し、その後、反射膜５と基板５の間の界面を剥離することにより、反射膜５が基板４側に転写され、基板４、反射膜４、硬化層及び反射膜５がこの順に積層された積層体（γ）を製造する。そして、積層体（β）の反射膜２と積層体（γ）の反射膜５を接着面として接着剤により貼り合わせることによりＤＶＤ−１８が得られる。
【００４１】
上記の製造工程において、積層体（β）の反射膜２と基板３の反射膜３、及び積層体（β）の反射膜２と積層体（γ）の反射膜５を貼り合わせる接着剤としては、本発明の光ディスク用紫外線硬化型組成物をそのまま用いるか、別途調製した紫外線硬化性組成物を用いる。又は、ホットメルト接着剤や粘着シートあるいはカチオン重合型エポキシ樹脂組成物等を用いることもできる。
【００４２】
紫外線照射にあたっては、例えばメタルハライドランプ、高圧水銀灯などを用いた連続光照射方式で行うこともできるし、ＵＳＰ５９０４７９５記載の閃光照射方式で行うこともできる。効率よく硬化出来る点で閃光照射方式がより好ましい。
【００４３】
なお、光ディスクを製造するにあたって、上記の第１記録面〜第５記録面に記録される情報としては、同一の情報であっても良く、異なる情報であっても良い。
【実施例】
【００４４】
次に、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下実施例中の「部」は「質量部」を表す。
【００４５】
＜実施例１＞
ウレタンアクリレートとしてＦＡＵ−７４ＳＮ（大日本インキ化学工業（株）製）１３部、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレートとしてユニディックＶ−５５３０（大日本インキ化学工業（株）製）７部、下記式IIで表されるビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物（４モル）のジアクリレート４７部、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１０部、ラウリルアクリレート５部、フェノキシエチルアクリレート３部、テトラヒドルフルフリルアクリレート３部、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート３部、下記式IIIで表されるエチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート２．２部、下記式IVで表されるエチレンオキサイド変性リン酸メタクリレート０．１部、ジメチルアミノ安息香酸エチル０．１部、光重合開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド２部および１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン４部、没食子酸０．５部、酸化防止剤としてＩＲＧＡＮＯＸ  １５２０Ｌ（チバスペチャルティケミカルズ（株）製）０．１部、を配合し、６０℃で１時間加熱混合して溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物を調製した。
【００４６】
【化４】
2005243109.tif 000005
（式II）
（式中、ｍ及びｎは１〜３の整数であり、ｍ＋ｎ＝４である。）
【００４７】
【化５】
2005243109.tif 000006
（式III）
【００４８】
【化６】
2005243109.tif 000007
（式IV）
【００４９】
この組成物を用いて下記試験方法１、２により硬化塗膜の弾性率、貼合わせディスクの剥離性、剥離後の反射膜側のピット形状を評価した。結果は第１表に示した。
【００５０】
＜実施例２＞
ウレタンアクリレートとしてＦＡＵ−７４ＳＮ（大日本インキ化学工業（株）製）１４部、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレートとしてユニディックＶ−５５３０（大日本インキ化学工業（株）製）７部、前記式IIで表されるビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物（４モル）のジアクリレート３８部、ジプロピレングリコールジアクリレート５部、ラウリルアクリレート１０部、フェノキシエチルアクリレート１２部、テトラヒドルフルフリルアクリレート３部、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート２部、前記式IIIで表されるエチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート２．２部、前記式IVで表されるエチレンオキサイド変性リン酸メタクリレート０．１部、ジメチルアミノ安息香酸エチル０．１部、光重合開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド２部および１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン４部、没食子酸０．５部、酸化防止剤としてＩＲＧＡＮＯＸ  １５２０Ｌ（チバスペチャルティケミカルズ（株）製）０．１部、を配合し、６０℃で１時間加熱混合して溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物を調製した。
【００５１】
＜実施例３＞
ウレタンアクリレートとしてＦＡＵ−７４ＳＮ（大日本インキ化学工業（株）製）１４部、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレートとしてユニディックＶ−５５３０（大日本インキ化学工業（株）製）３部、前記式IIで表されるビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物（４モル）のジアクリレート５５部、ラウリルアクリレート１２部、フェノキシエチルアクリレート７部、前記式IIIで表されるエチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート２．２部、前記式IVで表されるエチレンオキサイド変性リン酸メタクリレート０．１部、ジメチルアミノ安息香酸エチル０．１部、光重合開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド２部および１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン４部、没食子酸０．５部、酸化防止剤としてＩＲＧＡＮＯＸ  １５２０Ｌ（チバスペチャルティケミカルズ（株）製）０．１部、を配合し、６０℃で１時間加熱混合して溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物を調製した。
【００５２】
＜比較例１＞
ウレタンアクリレートとしてＦＡＵ−７４ＳＮ（大日本インキ化学工業（株）製）１３部、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレートとしてユニディックＶ−５５３０（大日本インキ化学工業（株）製）７部、前記式IIで表されるビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物（４モル）のジアクリレート３０部、ジプロピレングリコールジアクリレート６部、ラウリルアクリレート１０部、フェノキシエチルアクリレート１２部、テトラヒドルフルフリルアクリレート３部、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート１０部、前記式IIIで表されるエチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート２．２部、前記式IVで表されるエチレンオキサイド変性リン酸メタクリレート０．１部、ジメチルアミノ安息香酸エチル０．１部、光重合開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド２部および１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン４部、没食子酸０．５部、酸化防止剤としてＩＲＧＡＮＯＸ  １５２０Ｌ（チバスペチャルティケミカルズ（株）製）０．１部、を配合し、６０℃で１時間加熱混合して溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物を調製した。（計１００）
【００５３】
＜比較例２＞
ウレタンアクリレートとしてＦＡＵ−７４ＳＮ（大日本インキ化学工業（株）製）１２部、前記式IIで表されるビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物（４モル）のジアクリレート６５部、ラウリルアクリレート４部、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート１０部、前記式IIIで表されるエチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート２．２部、前記式IVで表されるエチレンオキサイド変性リン酸メタクリレート０．１部、ジメチルアミノ安息香酸エチル０．１部、光重合開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド２部および１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン４部、没食子酸０．５部、酸化防止剤としてＩＲＧＡＮＯＸ  １５２０Ｌ（チバスペチャルティケミカルズ（株）製）０．１部、を配合し、６０℃で１時間加熱混合して溶解し、淡黄色透明の紫外線硬化型組成物を調製した。
【００５４】
前記実施例及び比較例の組成物を用いて下記試験方法１、２、３、４により硬化塗膜の弾性率、貼合わせディスクの剥離性、ＤＶＤ−１８とした時の反りと耐久性を評価した。結果は表１に示した。
【００５５】
〈試験法１：弾性率の測定〉
紫外線硬化型組成物を、ガラス板上に乾燥塗膜厚が５０〜６０μｍになるよう塗布した後、メタルハライドランプ（コールドミラー付き、ランプ出力１２０Ｗ／ｃｍ）を用いて窒素雰囲気中で５００ｍＪ／ｃｍ２で硬化させた。この硬化塗膜の弾性率を、自動動的粘弾性測定機（Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製ＳＯＬＩＤ  Ａｎａｌｙｚｅｒ  ＲＳＡ−III）で測定し、３０℃での動的弾性率Ｅ’を求めた。このＥ’を弾性率とした。尚、測定条件は振動数３．５Ｈｚ、振幅１６μｍ、昇温速度３℃／ｍｉｎである。
【００５６】
〈試験方法２：剥離性〉
第２の記録情報（第２記録面）に対応する凹凸とこの上に反射膜としてアルミニウムを５０ｎｍの膜厚に形成した厚さ０．６ｍｍ直径１２ｃｍのポリメチルメタクリレート基板に上記組成物をディスペンサで約２ｇ円形に塗布し、ついで第１の記録情報（第１記録面）に対応する凹凸とこの上に膜厚１５ｎｍの銀合金の半透明反射膜が形成された厚さ０．６ｍｍ直径１２ｃｍのポリカーボネート基板を重ね合わせ、スピンコーターで硬化塗膜の膜厚が約５０〜６０μｍになるよう回転塗布した。次いでランプ高さ１０ｃｍに調整した１２０Ｗ／ｃｍメタルハライドランプ（アイグラフィックス株式会社Ｍ０３−Ｌ３１、コールドミラー付き）を設置したベルトコンベア式紫外線照射装置を用い、銀合金半透明膜付き基板側から空気中で５００ｍＪ／ｃｍ２照射し、ＤＶＤ−９型貼合わせディスクを作製した。尚、紫外線光量計はアイグラフィックス株式会社製ＵＶメーター（ＵＶＰＦ−３６）を用いた。
【００５７】
次にディスク端面にカッターで切り込みを入れ２枚の基板を剥がし、さらに、剥離後ポリカーボネート基板側に転写されたアルミニウム反射膜の表面を、電子線３次元粗さ解析装置（（株）エリオニクス社製ＥＲＡ−８０００ＦＥ）で観察し、転写されたピットの形状を比較した。
【００５８】
〈試験方法３：ＤＶＤ−１８の反り〉
上記の試験方法２に記載した方法と同様にしてＤＶＤ−９型貼合わせディスクを作製し、その後、そのＤＶＤ−９型貼合わせディスク端面にカッターで切り込みを入れ、アルミニウム反射膜をポリメチルメタクリレート基板より剥がし、記録情報と共に第一の記録情報ポリカーボネート基板側に転写した。同じ操作を繰り返し、ポリカーボネート側に２層の情報記録を有する基板を２枚作製した。
この後、アルミニウム反射膜の表面にラジカル重合系の保護コート剤を塗布、紫外線照射にて保護層を形成し、ついでカチオン重合系接着剤で、片面に２層の記録層形成を有する該基板を保護層が形成されたアルミニウム面同士を再接着して、ＤＶＤ−１８のディスク基板を得た。
Ｂａｓｌｅｒ社製ＤＶＤ検査装置「Ｂａｓｌｅｒ  Ｓ３００」により測定したｒａｄｉａｌ  ｔｉｌｔ最大値で評価した。ＤＶＤ規格で定められた基準により、最大値が０．８未満を○、０．８以上を×とした。評価結果は表１に示した。
【００５９】
〈試験方法４：銀合金半透明膜を有するＤＶＤ−１８の耐久性試験試験〉
上記の試験方法３と同様な方法でＤＶＤ−１８のディスク基板を作製した。このディスクを用いて以下の耐久試験を行った。
耐久試験はエスペック株式会社製「ＰＲ−２ＰＫ」を使用して、８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下での曝露試験を行った。試験前後のサンプルについて、片面２層の信号のうち、銀合金半透明膜のついた情報記録層（Ｌ０と称す）のＰＩエラーを測定し評価した。  ＰＩエラーは、Ａｕｄｉｏ  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ  社製  「ＳＡ−３００」により測定した。ＤＶＤ規格で定められた基準によりＰＩエラーが２８０を越えた物は×とした。価結果は表１に示した。
【００６０】
表１．
2005243109.tif 000008
【００６１】
実施例１から３の組成物は剥離性に優れ、転写されたアルミ反射膜の表面及びピットの形状も良好である。さらにＤＶＤ−１８の反り及び８０℃８５％ＲＨ９６時間の高温高湿環境下での試験でも銀合金半透明膜側のＰＩエラーの上昇が見られない。