(57)【要約】【課題】片面に遮光用金属膜の層が形成された従来のブランクを用いて表パターンが形成されたフォトマスクから両面マスク用のブランクを製造する方法で、高い寸法精度や解像度のパターンであり、両面マスクの簡易的な製造方法を提供すること、または、両面マスクの裏面パターンに問題があった場合、表面から再製造せずに、裏面のみ再製造する方法を提供することを課題とする。【解決手段】透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンをもつ構造の両面マスクのブランクを製造する両面マスク用ブランクの製造方法において、一方の面にパターンがすでに形成されたマスクの裏面のガラス上に遮光用金属膜の層を形成して、両面マスク用ブランクを製造することを特徴とする両面マスク用ブランク及び両面マスクの製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンをもつ構造のフォトマスク（以下、両面マスクと記す）のブランクを製造する両面マスク用ブランクの製造方法において、一方の面にパターンがすでに形成されたマスクの裏面のガラス上に遮光用金属膜の層を形成して、両面マスク用ブランクを製造することを特徴とする両面マスク用ブランクの製造方法。
【請求項２】
透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンをもつ構造の両面マスクのブランクを製造する両面マスク用ブランクの製造方法において、透明基板の両面に遮光用金属膜によりパターンが形成された両面マスクを用いて、該両面マスクの裏面のパターンをエッチングにより取り除き、その部分に遮光用金属膜の層を再形成することにより、両面マスク用ブランクを製造することを特徴とする両面マスク用ブランクの製造方法。
【請求項３】
透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンをもつ構造の両面マスクのブランクを製造する両面マスク用ブランクの製造方法において、透明基板の両面に遮光用金属膜によりアライメントパターン及びパターンが形成された両面マスクを用いて、該両面マスクの裏面のパターンをアライメントパターンのみを残してエッチングにより取り除き、その部分に遮光用金属膜の層を再形成することにより、両面マスク用ブランクを製造することを特徴とする両面マスク用ブランクの製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の両面マスク用ブランクを用い、以下の工程を実施することを特徴とする両面マスクの製造方法。
（ａ）両面マスク用ブランクの裏面にレジスト層を形成する。
（ｂ）裏面のレジスト層をパターニングする。
（ｃ）裏面のパターニングされたレジスト層をマスクとして遮光用金属膜の層をエッチングし、レジスト層を剥離して、裏面の遮光用金属膜の層にアライメントパターンを形成する。
（ｄ）既存の表面のパターンと、前記の裏面のアライメントパターンとの重ね合わせずれを測定する。
（ｅ）再度、裏面にレジスト層を形成する。
（ｆ）前記測定の表面のパターンと裏面のアライメントパターンの重ね合わせずれの分を補正して、裏面パターンをレジスト層にパターニングする。
（ｇ）裏面のパターニングされたレジスト層をマスクとして遮光用金属膜の層をエッチングし、レジスト層を剥離する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンを有するフォトマスク等を製造する方法に係るもので、両面にパターンを形成するのに必要なブランクを製造する技術で、両面マスク用ブランクの製造方法および両面マスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、予め両面に遮光用金属膜の層をもつブランクを用いて、両面マスクは製造される。一般に、ブランクロット毎に露光量や近接補正などの描画条件の設定が必要になるため、高い寸法精度や解像度が求められるパターンに関しては、両面マスク用ブランクで別途描画条件出しを行う必要がある。しかし、少ロットでは、条件出しにかかる負担が大きくなる。また、不良になり作り直しになる分を見越して、両面に遮光用金属膜の層をもつブランクを余分に製造しておく必要があり、使用しない場合はブランクが無駄になる場合があった。
【０００３】
両面マスクを製造した後、裏面パターンと表パターンの重ねズレに問題があった場合や裏面パターンを別パターンに変更したい場合があっても、裏面のみを作り直すことができないため、表面から再製造する必要があった（特許文献１、特許文献２参照）。更に精度の高い場合には問題がある。
【０００４】
以下に公知文献を示す。
【特許文献１】特開平２―９３４５７号公報
【特許文献２】特開平３―２７１７３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたもので、片面に遮光用金属膜の層が形成された従来のブランクを用いて表パターンが形成されたフォトマスクから両面マスク用のブランクを製造する方法で、高い寸法精度や解像度のパターンであり、両面マスクの簡易的な製造方法を提供することを課題とする。また、両面マスクの裏面パターンに問題があった場合、表面から再製造せずに、裏面のみ再製造する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の請求項１に係る発明は、透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンをもつ構造のフォトマスク（以下、両面マスクと記す）のブランクを製造する両面マスク用ブランクの製造方法において、一方の面にパターンがすでに形成されたマスクの裏面のガラス上に遮光用金属膜の層を形成して、両面マスク用ブランクを製造することを特徴とする両面マスク用ブランクの製造方法である。
【０００７】
本発明は係る課題を解決するものであり、請求項１の本発明の両面マスク用ブランクの製造方法では、一方の面にパターンが形成された通常マスクの裏面のガラス上に遮光用金属膜の層を形成して、両面マスク用ブランクを製造し、そのブランクを用いて裏面パターンを描画するものである。したがって、表面のパターンは両面マスク用の両面に遮光用金属膜の層が形成された特殊なブランクではなく、通常のブランクを使用して製造することができる。
【０００８】
本発明の請求項１記載の両面マスク用ブランクの製造方法は以下の通りになる。
（ａ）片側に遮光用金属膜の層が形成された通常のブランクを用いて、片面のみパターンが形成されたマスクを製造する。
（ｂ）前記マスクのガラス面に遮光用金属膜の層を形成し、その上にレジストをコートする。
【０００９】
本発明の請求項２に係る発明は、透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンをもつ構造の両面マスクのブランクを製造する両面マスク用ブランクの製造方法において、透明基板の両面に遮光用金属膜によりパターンが形成された両面マスクを用いて、該両面マスクの裏面のパターンをエッチングにより取り除き、その部分に遮光用金属膜の層を再形成することにより、両面マスク用ブランクを製造することを特徴とする両面マスク用ブランクの製造方法である。
【００１０】
本発明の請求項２記載の両面マスク用ブランクの製造方法では、表裏の両面にパターンがすでに描画された両面マスクを用いて、再度両面マスク用ブランクを製造する方法である。
（ａ）裏面をエッチングし遮光用金属膜の層を除去する。
（ｂ）遮光用金属膜の層が除去されたガラス面に再度に遮光用金属膜の層をスパッタする。
（ｃ）新たな遮光用金属膜の層が形成された裏面にレジストをコートする。
【００１１】
本発明の請求項３に係る発明は、透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンをもつ構造の両面マスクのブランクを製造する両面マスク用ブランクの製造方法において、透明基板の両面に遮光用金属膜によりアライメントパターン及びパターンが形成された両面マスクを用いて、該両面マスクの裏面のパターンをアライメントパターンのみを残してエッチングにより取り除き、その部分に遮光用金属膜の層を再形成することにより、両面マスク用ブランクを製造することを特徴とする両面マスク用ブランクの製造方法である。
【００１２】
本発明の請求項３記載の両面マスク用ブランクの製造方法では、請求項２記載の両面マスク用ブランクの製造方法において、裏面パターンの一部であるアライメントマークパターンを残して、再度両面マスク用ブランクを製造する方法である。
（ａ）裏面にレジストをコートし、アライメントマーク部など残したいパターン以外の裏面パターン全体を露光する。
（ｂ）露光部分を現像、エッチングし遮光用金属膜の層を除去する。
（ｃ）一部の遮光用金属膜の層が除去されたガラス面に遮光用金属膜の層をスパッタする。
（ｄ）レジスト面を剥離し、レジスト上の遮光用金属膜の層を剥離する。
（ｅ）新たな遮光用金属膜の層が形成された裏面にレジストをコートする。
【００１３】
本発明の請求項４に係る発明は、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の両面マスク用ブランクを用い、以下の工程を実施することを特徴とする両面マスクの製造方法である。
（ａ）両面マスク用ブランクの裏面にレジスト層を形成する。
（ｂ）裏面のレジスト層をパターニングする。
（ｃ）裏面のパターニングされたレジスト層をマスクとして遮光用金属膜の層をエッチングし、レジスト層を剥離して、裏面の遮光用金属膜の層にアライメントパターンを形成する。
（ｄ）既存の表面のパターンと、前記の裏面のアライメントパターンとの重ね合わせずれを測定する。
（ｅ）再度、裏面にレジスト層を形成する。
（ｆ）前記測定の表面のパターンと裏面のアライメントパターンの重ね合わせずれの分を補正して、裏面パターンをレジスト層にパターニングする。
（ｇ）裏面のパターニングされたレジスト層をマスクとして遮光用金属膜の層をエッチングし、レジスト層を剥離する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の請求項４に係る両面マスクの製造方法によれば、両面マスクの裏面を従来の片面にパターンが形成されたフォトマスクを使用して、従来通りに製造することができる。すなわち、高い寸法精度や解像度のパターンを形成した両面マスクが提供できる。また、請求項２に係る両面マスク製造方法によれば、従来不良となっていた両面マスクが再生可能となる。さらに、本発明の両面マスクの製造方法に従えば、不良発生を未然に防止出来るために、材料や工数損なう問題を解消できる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
ブランク用ガラス基板は、ボロシリケート系又は石英ガラスを使用する。前記ガラス基板は熱膨張率に差があり、後者の石英ガラスの方が大幅に小さく、高精度のフォトマスク用に使用されるが、材料が高価のため、フォトマスクの寸法精度により選択することが好ましい。遮光用金属膜の層はクロムまたは酸化クロム、モリブデンシリサイド層を単層又は複数層積層させて形成する。
【００１６】
図１は、請求項１の発明の両面マスク用ブランクの製造方法とそれをもちいた両面マスクの製造方法を説明する工程図である。請求項１の発明の両面マスク用ブランクは、前記ガラス基板１の片面にすでに表面パターン５と図示しない検査用パターンが従来の方法により遮光用金属膜の層２に形成されているマスクを用いる。前記マスクの裏面に、遮光用金属膜の層３を形成して製造する。前記遮光用金属膜は真空蒸着法、スパッタリング法により成膜する。次に、スピンコーター機を用いて、前記両面ブランクの裏面に光感光性レジスト樹脂４を塗布する（図１（ａ）参照）。
【００１７】
次に、前記両面マスク用ブランクの裏面のレジスト層にアライメントパターンと測定用パターン１８を描画する。各々パターンデータファイルの管理名（データファイル名）と、位置座標を記載した描画手順ファイル（以下ＪＯＢファイルと記す）に従って、レジストを露光させてパターンの図形を形成させる（図１（ｂ）参照）。
【００１８】
現像工程、エッチング及びレジスト層を剥膜する工程を経て裏面にアライメントパターンと測定用パターン８を形成した両面マスク用ブランクができる（図１（ｃ）参照）。前記両面マスク用ブランクの表面パターン５と裏面のアライメントパターン８の重ね合わせずれを測定用パターンにより測定する。再度、前記両面ブランクの裏面に光感光性レジスト樹脂１４を塗布する（図１（ｄ）参照）。
【００１９】
前記測定した表面のパターンと裏面のアライメントパターンの重ね合わせずれ分を補正して、裏面パターンと検査用パターンをアライメントパターンでアライメントをとる方法により描画を行う。アライメントパターンでアライメントをとることにより、裏面パターンはアライメントパターンに対して、セントラリティとローテイションのずれがなく描画できる。ずれの補正は装置上でアライメントマークに対してオフセットを設定するか、裏面パターンのＪＯＢファイル中の描画位置座標を変更して実施する。ローテイションに関しては、同様にずれ分を装置上でアライメントマークに対してオフセットを設定するか、アライメントパターンのＪＯＢファイル中の描画位置座標を変更して実施する（図１（ｄ）参照）。
【００２０】
裏面のレジスト層のパターン１６の現像のみを行う（図１（ｅ）参照）。両面マスク用ブランクの表面パターンの測定用パターンと裏面パターンの測定用パターンの重ね合わせずれを測定し、表面と裏面のパターンの重ねのずれに問題がないことを確認する。表面と裏面のパターンの重ねのずれに問題がない場合、エッチング及びレジスト層を剥膜し、本発明の両面マスクが完成する（図１（ｆ）参照）。
【００２１】
表面と裏面のパターンの重ねのずれに問題が発生した場合は、エッチング処理をせずに前記レジスト層を剥膜し、問題を対処後、再度工程（ｄ）から実施する。以上、本発明の両面マスクの作成方法により、表面パターンが描画された通常マスクを用いて、目的とする両面マスクを表裏の両面パターンの垂直方向の重ね合わせ精度が高く製造することができる。
【００２２】
図２は、請求項２の発明の両面マスク用ブランクの製造方法とそれを用いた両面マスクの製造方法を説明する工程図である。請求項２の発明の両面マスク用ブランクは、前記ガラス基板の両面にすでに表面パターンと裏面パターンが形成されている両面マスクを用いる。前記両面マスクの裏面の遮光用金属膜３にエッチングを行い、遮光用金属膜３の層の部分がなくなりガラス面になったフォトマスクができる（図２（ａ）参照）。前記マスクを用い、本発明の請求項１と同様の手順、図１（ａ）〜図１（ｆ）の工程を経て、両面マスクを製造する。
【００２３】
図３は、請求項３の発明の両面マスク用ブランクの製造方法とそれを用いた両面マスクの製造方法を説明する工程図である。請求項３の発明の両面マスク用ブランクは、前記ガラス基板の両面にすでに表面パターンと裏面パターンが形成されている両面マスクを用いる。前記両面マスクの裏面に、スピンコーター機を用いて、光感光性レジスト樹脂を塗布し、アライメントマーク部分など残したい部分以外を全面露光する（図３（ａ）参照）。
【００２４】
次に、露光部分を、現像工程、エッチング工程を経て、裏面の残したいパターン１８以外の遮光用金属膜３の層の部分がなくなりガラス面になったフォトマスクができる（図３（ｂ）参照）。前記両面マスク用ブランクの裏面に、レジストを剥離せずに、遮光用金属膜を真空蒸着法、スパッタリング法により成膜し、裏面の遮光用金属膜１３を形成する（図３（ｃ）参照）。次に、レジストの剥離工程により、レジスト部分とその上の遮光用金属膜を除去し、光感光性レジスト樹脂１４を塗布する（図３（ｄ）参照）。
【００２５】
表面のパターンともともとあった裏面のアライメントパターンの重ね合わせずれ分を補正して、新たな裏面パターンと測定用パターンをアライメントパターンでアライメントをとる方法により描画を行う。アライメントパターンでアライメントをとることにより、裏面パターンはアライメントパターンに対して、セントラリティとローテイションのずれがなく描画できる。表面に対するずれの補正は装置上でアライメントマークに対してオフセットを設定するか、裏面パターンのＪＯＢファイル中の描画位置座標を変更して実施する。ローテイションに関しては、同様にずれ分を装置上でアライメントマークに対してオフセットを設定するか、アライメントパターンのＪＯＢファイル中の描画位置座標を変更して実施する（図３（ｅ）参照）。
【００２６】
裏面のレジスト層のパターンの現像のみを行う（図３（ｆ）参照）。両面マスク用ブランク表面パターンの測定用パターンと裏面パターンの測定用パターンの重ね合わせずれを測定する。表面と裏面のパターンの重ねのずれに問題がないことを確認後、エッチング及びレジスト層を剥膜し、本発明の両面マスクが完成する（図３（ｇ）参照）。
【００２７】
表面と裏面のパターンの重ねのずれに問題が発生した場合は、問題を対処後、前記レジスト層を剥膜し、再度、工程（ｅ）から実施する。以上本発明の両面マスクの製造方法に
より両面マスクの裏面パターンのみを再作成することを目的とする両面マスクを表裏の両面パターンの垂直方向の重ね合わせ精度を高く製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】請求項１の本発明の両面マスク用ブランクを用いた両面マスクの製造方法で、（ａ）〜（ｆ）は側断面図ある。
【図２】請求項２の本発明の両面マスク用ブランクを用いた両面マスクの製造方法で、（ａ）は側断面図ある。
【図３】請求項３の本発明の両面マスク用ブランクを用いた両面マスクの製造方法で、（ａ）〜（ｇ）は側断面図ある。
【符号の説明】
【００２９】
１…透明基板
２…表面の遮光用金属膜
３、１３…裏面の遮光用金属膜
４、１４…レジスト
５…表面のパターン
６…裏面のパターン
８、１８…裏面のアライメントパターンと測定用パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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