(57)【要約】【課題】  露光中のフォトマスク動作時に、ペリクルの振動を抑制し、露光における結像パターンの歪や収差が緩和して、像のボケやパターン歪の少ない高精度なパターン像を得ることができるフォトマスク用ペリクルを得る。【解決手段】  ペリクル膜１２と、ペリクル膜１２と接合されるペリクルフレーム１３とを有する。そして、ペリクル膜１２とペリクルフレーム１３の接合部は、ペリクル膜１２の膜面に対して垂直方向から見て、互いに対向する平行な辺のペアを有しない形状である。【選択図】      図１
2005148287.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペリクル膜と、
前記ペリクル膜と接合されるペリクルフレームとを有し、
前記ペリクル膜と前記ペリクルフレームの接合部は、前記ペリクル膜の膜面に対して垂直方向から見て、互いに対向する平行な辺のペアを有しない形状であることを特徴とするフォトマスク用ペリクル。
【請求項２】
前記ペリクル膜と前記ペリクルフレームの接合部は、前記ペリクル膜の膜面に対して垂直方向から見て、互いに対向する平行な辺のペアを有しない多角形であることを特徴とする請求項１記載のフォトマスク用ペリクル。
【請求項３】
前記ペリクル膜と前記ペリクルフレームの接合部は、前記ペリクル膜の膜面に対して垂直方向から見て、曲線形状であることを特徴とする請求項１記載のフォトマスク用ペリクル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフイで用いられるフォトマスクを保護するためのフォトマスク用ペリクルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩ、液晶パネルなどの製造において電気回路パターンを形成する場合、一加工パターンが形成されているフォトマスクを用い、それを露光光によって被加工物上に投影して加工パターンを転写するフォトリソグラフイが用いられる。そして、フォトマスクには、マスク基板上に形成された加工パターンに外部からの異物が付着するのを防ぐために、フォトマスク用ペリクル設けられる。
【０００３】
従来のフォトマスク用ペリクルを図４に示す。ただし、図４（ａ）は、ペリクル膜の膜面に対して垂直方向から見た上面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）のＡ−Ａ´における断面図である。この図４に示すように、マスク基板４０上に形成されたフォトマスク用ペリクル４１は、ペリクル膜４２と、このペリクル膜４２と接合されるペリクルフレーム４３とを有する。
【０００４】
そして、ペリクル膜４２とペリクルフレーム４３の接合部４４は、ペリクル膜４２の膜面に対して垂直方向から見て、互いに対向する平行な辺のペア４４ａと４４ｃ、４４ｂと４４ｄからなる長方形である（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平６−２９５０５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ペリクル膜４２は、露光中のフォトマスク動作時の振動や周囲の空気の流れによって振動する。特に、ペリクル膜４２は、接合部４４の互いに対向する平行な辺のペア４４ａと４４ｃ、４４ｂと４４ｄを固定端として大きく振動する。
【０００６】
そして、ペリクル膜は露光時にフォトマスクと被加工物の間に存在するため、ペリクル膜の機械的ゆがみは直接投影像に影響し、投影されるパターンをボケさせ、歪ませて上下の回路パターンとの合わせずれの原因となる。また、ペリクル膜の振動は一般に補正が困難である。このため、ペリクル膜の振動は、回路の微細化に伴って大きな障害となっている。
【０００７】
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は、露光中のフォトマスク動作時に、ペリクルの振動を抑制し、露光における結像パターンの歪や収差が緩和して、像のボケやパターン歪の少ない高精度なパターン像を得ることができるフォトマスク用ペリクルを得るものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係るフォトマスク用ペリクルは、ペリクル膜と、ペリクル膜と接合されるペリクルフレームとを有する。そして、ペリクル膜とペリクルフレームの接合部は、ペリクル膜の膜面に対して垂直方向から見て、互いに対向する平行な辺のペアを有しない形状である。本発明のその他の特徴は以下に明らかにする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、露光中のフォトマスク動作時に、ペリクルの振動を抑制し、露光における結像パターンの歪や収差を緩和して、像のボケやパターン歪の少ない高精度なパターン像を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
実施の形態１．
本発明の実施の形態１に係るフォトマスク用ペリクルを図１に示す。ただし、図１（ａ）はペリクル膜の膜面に対して垂直方向から見た上面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ´における断面図である。この図１に示すように、マスク基板１０上に形成されたフォトマスク用ペリクル１１は、ペリクル膜１２と、このペリクル膜１２と接合されるペリクルフレーム１３とを有する。
【００１１】
そして、ペリクル膜１２とペリクルフレーム１３の接合部１４は、ペリクル膜１２の膜面に対して垂直方向から見て、辺１４ａ〜１４ｈからなる多角形になっている。ただし、辺１４ａ〜１４ｈの何れにも、互いに対向する平行な辺のペアは存在しない。
【００１２】
このように、接合部１４が、互いに対向する平行な辺のペアを有しない形状であるため、接合部１４の互いに対向する平行な辺のペアを固定端とした振動が生じない。従って、露光中のフォトマスク動作時に、ペリクルの振動を抑制し、露光における結像パターンの歪や収差が緩和して、像のボケやパターン歪の少ない高精度なパターン像を得ることができる。
【００１３】
実施の形態２．
本発明の実施の形態２に係るフォトマスク用ペリクルを図２に示す。ただし、図２（ａ）はペリクル膜の膜面に対して垂直方向から見た上面図であり、図２（ｂ）は側面図である。この図２に示すように、マスク基板１０上に形成されたフォトマスク用ペリクル２１は、ペリクル膜２２と、このペリクル膜２２と接合されるペリクルフレーム２３とを有する。
【００１４】
そして、ペリクル膜２２とペリクルフレーム２３の接合部２４は、ペリクル膜２２の膜面に対して垂直方向から見て、辺２４ａ〜２４ｅからなる正五角形になっている。このため、辺２４ａ〜２４ｅの何れにも、互いに対向する平行な辺のペアは存在しない。
【００１５】
このように、接合部２４は互いに対向する平行な辺のペアを有しない正五角形であるため、本実施の形態２に係るフォトマスク用ペリクルは、実施の形態１に係るフォトマスク用ペリクルと同様の効果を奏する。
【００１６】
実施の形態３．
本発明の実施の形態３に係るフォトマスク用ペリクルを図３に示す。ただし、図３（ａ）はペリクル膜の膜面に対して垂直方向から見た上面図であり、図３（ｂ）は側面図である。この図３に示すように、マスク基板１０上に形成されたフォトマスク用ペリクル３１は、ペリクル膜３２と、このペリクル膜３２と接合されるペリクルフレーム３３とを有する。
【００１７】
そして、ペリクル膜３２とペリクルフレーム３３の接合部３４は、ペリクル膜３２の膜面に対して垂直方向から見て、楕円形状になっている。このように、接合部３４は、互いに対向する平行な辺のペアを有しない曲線形状であるため、本実施の形態３に係るフォトマスク用ペリクルは、実施の形態１に係るフォトマスク用ペリクルと同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の実施の形態１に係るフォトマスク用ペリクルを示す上面図及び断面図である。
【図２】本発明の実施の形態２に係るフォトマスク用ペリクルを示す上面図及び側面図である。
【図３】本発明の実施の形態３に係るフォトマスク用ペリクルを示す上面図及び側面図である。
【図４】従来のフォトマスク用ペリクルを示す上面図及び断面図である。
【符号の説明】
【００１９】
１１  フォトマスク用ペリクル
１２  ペリクル膜
１３  ペリクルフレーム
１４  接合部
２１  フォトマスク用ペリクル
２２  ペリクル膜
２３  ペリクルフレーム
２４  接合部
３１  フォトマスク用ペリクル
３２  ペリクル膜
３３  ペリクルフレーム
３４  接合部
【図１】
2005148287.tif 000003
【図２】
2005148287.tif 000004
【図３】
2005148287.tif 000005
【図４】
2005148287.tif 000006