(57)【要約】【課題】耐熱性、光学特性及び力学特性に優れた熱可塑性樹脂とその製造方法、並びにそれを用いた成形体を得る。【解決手段】下記一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基を１分子中に含み、かつ、数平均分子量が２０００以上である高分子を含有し、かつ、その高分子から得られる厚さ１００μｍのフィルムのヘーズ値が３０％以下、かつ、黄色度が３０以下であることを特徴とする樹脂。【化１】2005041918.tif 000019（一般式（１）中、Ｒ１は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜１６の整数。Ｘは各々独立に酸素、硫黄、セレンあるいは非共有電子対を表す。Ｙはそれぞれ独立に酸素、硫黄およびメチレン基から選ばれる。ｎ，ｍはｎ＋ｍ＝０〜４の整数である。）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基を１分子中に含み、かつ、数平均分子量が２０００以上である高分子を含有し、かつ、その高分子から得られる厚さ１００μｍのフィルムのヘーズ値が３０％以下、かつ、黄色度が３０以下であることを特徴とする樹脂。
【化１】
2005041918.tif 000013
（一般式（１）中、Ｒ１は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜１６の整数。Ｘは各々独立に酸素、硫黄、セレンあるいは非共有電子対を表す。Ｙはそれぞれ独立に酸素、硫黄およびメチレン基から選ばれる。ｎ，ｍはｎ＋ｍ＝０〜４の整数である。）
【請求項２】
一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基を前記高分子１分子中に０．５モル％以上含む請求項１記載の樹脂。
【請求項３】
該高分子が下記一般式（２）で示されるジオール残基を含む請求項１または２記載の樹脂。
【化２】
2005041918.tif 000014
（一般式（２）中、Ｒ２は炭素数２〜２０のアルキレン基、６〜４０のアリーレン基を表す。）
【請求項４】
前記高分子は一般式（１）、（２）で示される残基と下記一般式（３）および／または下記一般式（４）で示される構造単位からなり、モル分率が式（Ｉ）を満足する請求項１〜３のいずれかに記載の樹脂。
【化３】
2005041918.tif 000015
【化４】
2005041918.tif 000016
（一般式（３）中、Ｒ３は炭素数１〜２０の脂肪族基、脂環族基、芳香族基、ハロゲン置換芳香族基、水酸基、アルコキシ基およびフェノキシ基からなる群から選ばれる官能基、Ｚは酸素、硫黄、セレンあるいは非共有電子対を表す。）
０．０１≦［（ａ）／（（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ））］＜１    （Ｉ）
（（ａ）は一般式（１）、（ｂ）は一般式（３）、（ｃ）は一般式（４）で示される構造単位のモル数をそれぞれ示す。）
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の樹脂と、他の化合物とからなる樹脂組成物であって、一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基の、樹脂組成物中に占める割合が０．５モル％以上である樹脂組成物。
【請求項６】
一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基および一般式（２）で示される残基を１分子中に含み、かつ、数平均分子量が２０００以上である高分子を含んだ樹脂溶液を含アミド溶媒若しくは含硫黄溶媒の水溶液で洗浄する工程を含むことを特徴とする厚さ１００μｍのフィルムのヘーズ値として３０％以下、かつ、黄色度が３０以下である樹脂の製造方法。
【化５】
2005041918.tif 000017
（一般式（１）中、Ｒ１は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜１６の整数。Ｘは各々独立に酸素、硫黄、セレンあるいは非共有電子対を表す。Ｙはそれぞれ独立に酸素、硫黄およびメチレン基から選ばれる。ｎ，ｍはｎ＋ｍ＝０〜４の整数である。）
【化６】
2005041918.tif 000018
（一般式（２）中、Ｒ２は炭素数２〜２０のアルキレン基、炭素数６〜４０のアリーレン基を表す。）
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか記載の樹脂を含有する成形体。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれか記載の樹脂を含有する光学レンズ。
【請求項９】
請求項１〜４のいずれか記載の樹脂を含有するフィルム。
【請求項１０】
請求項９記載のフィルムを構成材とするフィルム基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、耐熱性、光学特性及び力学特性に優れた熱可塑性樹脂およびその製造方法、並びにそれを用いた成形体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、無機ガラスは、透明性に優れ、光学異方性が小さいなどの諸物性に優れていることから、透明材料として広い分野で使用されている。しかしながら、重くて破損しやすいこと、生産性が悪いことなどの問題点があり、近年、無機ガラスに変わる透明性ポリマーの開発が盛んに行われている。透明性ポリマーとして、例えば、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）などは、透明性、機械特性に優れ、かつ、加工性、成形性にも優れることから、成形材料として、機械、自動車、光学機器や電気・電子分野等に使用されている。しかしながら、これまでの透明ポリマーは、充分な耐熱性を有しているとはいえない。例えば、ポリカーボネートのガラス転移点は１５０℃であるが、自動車や電気・電子分野の光学材料には１５０℃以上の耐熱性が求められているものもある。そのため、耐熱性の高いポリアリレート（ＰＡＲ）やポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）などの研究が盛んに行われているが、芳香族基の含有量が多いため、共役系がのびることに起因して着色するものや、配向時に光学的に異方性を生じるため複屈折が大きくなるなどの問題点がある。光学特性のみに着目すれば、屈折率の小さく主分極率差も小さくなる脂肪族高分子が芳香族高分子より一般に優れている。しかしながら、脂肪族の構造単位を含むと高分子主鎖や側鎖の自由度が増し、ガラス転移点が低下するため耐熱性という観点からは不利であった。近年、脂肪族環構造を有するシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）の開発が盛んに行われている。ＣＯＰの例として日本ゼオンのＺＥＯＮＥＸや日本合成ゴムのＡＲＴＯＮがあげられる。これらは、脂肪族環構造を有しているので複屈折が低く、ガラス転移点も１４０℃〜１７０℃と比較的高い。しかしながら、ＣＯＰの重合方法はメタセシス開環重合法であるため、主鎖にエチレン基を有さざるを得ず、さらに高いガラス転移点を示す樹脂を得るという課題には不十分である。
【０００３】
そこで、本発明者らは、耐熱性が高く、光学的な特性にも優れたスピロ環構造を有するリン系重合体に着眼した。
【０００４】
このスピロ環を有するリン酸エステルは、合成樹脂の難燃剤として有用であることは良く知られており、数多くの研究がなされている（例えば、特許文献１〜３）。そこには、下記一般式（５）のごときモノマーやそれを含む組成物が記載されており、該モノマー等は難燃効果が高いことは開示されている。
【０００５】
【化７】
2005041918.tif 000002
【０００６】
（ここで、Ｒ４はアルキル基またはアリール基。）
しかし、該文献においては、該モノマー等は主に難燃剤として用いられるに留まり、耐熱性成形体や光学用途に実用的であることは開示されていない。これは、係る従来技術に係るリン含有スピロ環構造を有したモノマーや組成物は、高分子量体として得ることができず、また、ヘーズ値や黄色度が高いため光学用途に向くものではないためである。ヘーズや着色の原因は、残存モノマーやオリゴマー、塩等の不純物が考えられ、光学用途として提供するためには不純物の除去が極めて重要である。
【０００７】
【特許文献１】
米国特許第３０９０７９９号明細書
【０００８】
【特許文献２】
米国特許第４１７８２８１号明細書
【０００９】
【特許文献３】
特開昭６０−１３３０４９号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題とするところは、リン含有スピロ環構造を有するポリマーとして、各種成形品用途に適用可能に高分子量化をはかり、かつ、光学特性に優れた樹脂を提供せんとするものである。特に樹脂に含有する不純物を減少させ、得られた成形体のヘーズ値や黄色度を向上させることを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するため、以下の構成を有するものである。すなわち、１分子中に下記一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基を含み、かつ、数平均分子量が２０００以上である高分子を含有し、かつ、その高分子から得られる厚さ１００μｍのフィルムのヘーズ値が３０％以下、かつ、黄色度が３０以下であることを特徴とする樹脂を本旨とし、また、種々の改良された態様を提供するものである。
【００１２】
【化８】
2005041918.tif 000003
【００１３】
（一般式（１）中、Ｒ１は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜１６の整数。Ｘは各々独立に酸素、硫黄、セレンあるいは非共有電子対を表す。Ｙはそれぞれ独立に酸素、硫黄およびメチレン基から選ばれる。ｎ，ｍはｎ＋ｍ＝０〜４の整数である。）
また、本発明は、一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基及び一般式（２）で表される残基を１分子中に含み、かつ、数平均分子量が２０００以上である高分子を含んだ樹脂溶液を含アミド溶媒若しくは含硫黄溶媒の水溶液で洗浄する工程を含むことを特徴とする厚さ１００μｍのフィルムのヘーズ値として３０％以下、かつ、黄色度が３０以下である樹脂の製造方法を本旨とする。
一般式（１）
【００１４】
【化９】
2005041918.tif 000004
【００１５】
（Ｒ１は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜１６の整数。Ｘは各々独立に酸素、硫黄、セレンあるいは非共有電子対を表す。Ｙはそれぞれ独立に酸素、硫黄およびメチレン基から選ばれる。ｎ，ｍはｎ＋ｍ＝０〜４の整数である。）
【００１６】
【化１０】
2005041918.tif 000005
【００１７】
（一般式（２）中、Ｒ２は炭素数２〜２０のアルキレン基、炭素数６〜４０のアリーレン基を表す。）
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明の樹脂は、次の一般式（１）で示される構造単位（残基）を含んでなる。
【００１９】
【化１１】
2005041918.tif 000006
【００２０】
（一般式（１）中、Ｒ１は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数１〜２０の芳香族炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、ｐ、ｑはｐ＋ｑ＝０〜１６の整数。Ｘは各々独立に酸素、硫黄、セレンあるいは非共有電子対を表す。Ｙはそれぞれ独立に酸素、硫黄およびメチレン基から選ばれる。ｎ，ｍはｎ＋ｍ＝０〜４の整数である。）
前記一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基の環員数はそれぞれ４〜８員環が採用されるが、環安定性を考慮すると６員環（すなわち、ｎ＋ｍ＝２）が好ましく採用される。特に好ましくは、ｎ＝１、ｍ＝１である。
【００２１】
前記一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基中のＹは酸素、硫黄、メチレン基から選ばれるものであるが、ペンタエリスリトールとオキシ塩化リンを出発原料にして合成される３，９−ジクロロ−２，４，８，１０−テトラオキサ３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン３，９−ジオキサイド（以下、ＳＵＰＯＣと略すことがある）、すなわち、Ｒ１が水素原子、Ｘ、Ｙが共に酸素であるものが好ましく採用される。該化合物自体は、公知の物質であり、例えばジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリ（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）ｖｏｌ．２８、１６０８−１６１２頁にその製造方法が記載されている。すなわち、ペンタエリスリトール１モルに対し、約２倍モルのオキシ塩化リンを反応させて得られる化合物である。また、オキシ塩化リンの代わりに、三塩化リン、チオホスホリルクロリド、オキシ臭化リン、三臭化リン等が用いることができる。
【００２２】
また、これらスピロ環を有する２価リン酸エステル残基については、Ｘが非共有電子対を含むものである場合は、樹脂の耐酸化性を付与することができるため好ましいが、光学特性等の特性安定性を考慮すると、その含有比率は５０モル％以下が好ましく、より好ましくは２５モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下である。
【００２３】
前記一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基を有する化合物やオリゴマーは、従来より主たる用途が難燃剤として用いられていた。そのため、高分子量体である必要はなく、また、着色していても、難燃剤への用途には何ら影響はなかった。しかしながら、本発明のポリマーは成形体やフィルムとして十分な力学特性と良好な光学特性を併せ持つ。
【００２４】
本発明の樹脂は、１分子中に前記一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基を含み、該樹脂の数平均分子量は２０００以上である。かかる範囲とすることで成形体やフィルムとして十分な力学特性を持つことができる。好ましくは１００００以上である。上限は成形性や流動性を損なう等の問題が生じない限り特に制限はないが、通常は１００００００以下が好ましく採用される。
【００２５】
本発明のポリマーの分子量を調節する方法としては、重合時に一官能性の物質を添加して行うことができる。ここで言う分子量調節剤として用いられる一官能性の物質としては、フェノール、クレゾール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール等の一価フェノール類、安息香酸クロライド、メタンスルホニルクロライド、フェニルクロロホルメート等の一価酸クロライド類が挙げられる。
【００２６】
本発明の樹脂は、その樹脂から得られる厚さ１００μｍのフィルムのヘーズとして３０％以下、かつ黄色度３０以下であり、好ましくはヘーズとしては２０％以下、特に好ましくは１０％以下、黄色度としては２０以下、特に好ましくは１０以下である。
【００２７】
なお、黄色度は以下に定義される。すなわち、試料をデジタルカラーコンピューター（スガ試験機（株）社製：ＳＭ−７ＣＨ）を用いて透過法により３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を求めた。黄色度（ΔＹＩ）は、式（ＩＩ）によりＹＩ２を求めた後、試料を外した状態で同様にＸ、Ｙ、Ｚを求め、同様にリファレンス値ＹＩ１を求め、式（ＩＩＩ）より算出される。
【００２８】
ＹＩ＝１００×（（１．２８Ｘ）−１．０６Ｚ）／Ｙ      （ＩＩ）
Ｘ、Ｙ、Ｚ：標準光Ｃにおける試料の三刺激値
ΔＹＩ＝ＹＩ２−ＹＩ１        （ＩＩＩ）
ΔＹＩ：黄色度
ＹＩ１：リファレンス値
ＹＩ２：試料の測定値
また、ヘーズ値（曇価）とは、日本工業規格ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準じて求められる。なお、ヘーズ値は下記式（ＩＶ）で示される値である。
【００２９】
ヘーズ値（％）＝（拡散透過率／全光線透過率）×１００      （ＩＶ）
すなわち、ヘーズ値を低くすると言うことは、全光線透過率を高めることが１つの要因ではあるが、拡散透過率を低減する必要があり、本願においては、高い全光線透過率を達成すると共に、特に効果的な拡散透過率の低減をはかることができたのである。
【００３０】
かかる一般式（１）で示される残基の樹脂全体に対する含有量としては、０．５モル％以上であることが好ましく、さらに好ましくは、５モル％以上であり、特に好ましくは、１０モル％である。他のポリマー成分等が含まれた場合は、樹脂組成物の全体に対して、かかる一般式（１）で示される残基の含有量として０．５モル％以上であることが好ましく、さらに好ましくは、５モル％以上であり、特に好ましくは、１０モル％である。また、他の化合物と混合し、樹脂組成物とする場合においては、該樹脂組成物中に占める割合として上記の範囲になるように調製し、用いることが好ましい。
【００３１】
また、本発明の樹脂においては、一般式（２）で表されるジオール残基を含有していることが好ましい。
【００３２】
【化１２】
2005041918.tif 000007
【００３３】
（一般式（２）中、Ｒ２は炭素数２〜２０のアルキレン基、６〜４０のアリーレン基を表し、樹脂中にＲ２の異なるアルキレン基またはアリーレン基を２種以上含んでもよい。）
かかる残基を与えるジオールとしては、一般式ＨＯ−Ｒ２−ＯＨで表すことができる化合物であり、Ｒ２は炭素数２〜２０、好ましくは炭素数２〜８の直鎖もしくは分岐のアルキレン基または炭素数６〜４０のアリレン基である。具体的には、例えば、炭素数２〜８のアルキレン基を有するジオールとしてはエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、３−メチル−１，３−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、２−エチル−２−メチル−１，３−プロパンジオール、２−メチルペンタン−２，４−ジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，７−ヘプタンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジメチル−２，４−ペンタンジオール、１，８−オクタンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２，３−ジメチル−２，３−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。
【００３４】
炭素数６〜４０のアリーレン基を有するジオールの例としては、カテコール、ハイドロキノン、およびレゾルシノールなどのジヒドロキシベンゼン類、該ジヒドロキシベンゼン類の炭素数１〜１０のアルキル置換体、例えばメチルハイドロキノン、２−メチルレゾルシノールなど、ジヒドロキシナフチレン類、ビスフェノール類、例えば１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−メチル−２−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロオクタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−エチルヘキサン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、４，４’−ビフェノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｓｅｃブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビスフェノールフローレン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−メチルプロパン、４，４’−〔１，４−フェニレン−ビス（２−プロピリデン）〕−ビス（２−メチルフェノール）、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシフェニルエーテル、１，１−ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、２，４’−メチレンビスフェノール、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチル−ブタン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、３，３−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、３，３−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，２−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノナン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）デカン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）デカン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、テルペンジフェノール、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−２−メチルプロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３，５−ジｓｅｃブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エタン、１，１−ビス（３−ノニル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メタン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸ブチルエステル、１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）メタン、２，２−ビス（４ーヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−１−（ｐ−フルオロフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−（ｐ−フルオロフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、３，３’−ジメチル−４，４’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ビフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラフルオロ−４，４’−ビフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）チオエーテル、１，１−ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ドデカン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ドデカン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ドデカン、１，１−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸メチルエステル、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン酸エチルエステル、イサチンビスフェノール、イサチンビスクレゾール、２，２’，３，３’，５，５’−ヘキサメチル−４，４’−ビフェノール、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、２，４’−メチレンビスフェノール、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（２−ヒドロキシ−３−アリルフェニル）メタン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−メチルプロパン、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エタン、ビス（２−ヒドロキシ−５−フェニルフェニル）メタン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタデカン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタデカン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ペンタデカン、１，２−ビス（３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メタン、２，２−ビス（３−スチリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−（ｐ−ニトロフェニル）エタン、ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、３，３’，５，５’−テトラｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ビフェノール、２，２’−ジアリル−４，４’−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５，５−テトラメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，４−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−５−エチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロペンタン、１，１−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジフェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、α、α−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１−イソプロピルメタン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）−１−イソプロピルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−ブチルシクロヘキサン、６，６’−ジヒドロキシ−４，４，４’，４’，７，７’−ヘキサメチル−２，２’，スピロビクロマン等が挙げられ、これらは１種類でも、複数種併用することもできる。これらジオールは得られるポリマーの性能に応じて用いることができる。
【００３５】
また、本発明の樹脂は、一般式（２）で示される残基の樹脂全体に対する含有量が、０．５モル％以上であることが好ましく、さらに好ましくは、５モル％以上であり、特に好ましくは、１０モル％以上である。
【００３６】
また、本発明のポリマーは必ずしも直鎖状である必要はなく、得られるポリマーの性能に応じて多価フェノールを共重合することができる。このような多価フェノールを具体的に例示すると、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、４，４’−〔１−〔４−〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル〕フェニル〕エチリデン〕ビスフェノール、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，６−ビス〔（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチル〕−４−メチルフェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−フェノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４−メチルフェニル−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、４−〔（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、４−〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチル−エチル〕−１，３−ジヒドロキシベンゼン、４−〔（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、１，４−ビス〔１−ビス（３，４−ジヒドロキシフェニル）−１−メチル−エチル〕ベンゼン、１，４−ビス〔１−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−１−メチル−エチル〕ベンゼン、２，４−ビス〔（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，３−ジヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェイル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−エトキシフェノール、２−〔ビス（２，３−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、３−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２−ヒドロキシ−３，６−ジメチルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２−ヒドロキシ−３，６−ジメチルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、３，６−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、４，６−〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２，３−トリヒドロキシベンゼン、２−〔ビス（２，３，６−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、２−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、３−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２，３，５−トリメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕−１，２−ジヒドロキシベンゼン、３−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕フェノール、４−〔ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−シクロヘキシルフェニル）メチル〕−２−メトキシフェノール、２，４，６−〔トリス（４−ヒドロキシフェニルメチル）−１，３−ジヒドロキシベンゼン、１，１，２，２−テトラ（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラ（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，４−〔〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕〕ベンゼン、１，４−ジ〔ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕ベンゼン、１，４−ジ〔ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メチル〕ベンゼン、４−〔１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル〕アニリン、（２，４−ジヒドロキシフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、２−〔ビス（４−ヒドロキシフェニル）メチル〕フェノール、１，３，３−トリ（４−ヒドロキシフェニル）ブタン等が挙げられ、これらは１種類でも、複数種併用することもできる。
【００３７】
上記ジオール成分と一般式（１）の残基を与える成分との共重合成分として用いられるモノマーは、例えば、二価カルボン酸、二価スルホン酸、二価リン酸ジアルキル、二価亜リン酸ジアルキル、ホスホン酸、亜ホスホン酸、または上記酸成分の誘導体、あるいは、カーボネート誘導体（酸誘導体あるいはカーボネート誘導体としてはそれらのハロゲン化物、酸無水物、エステル等が用いられるが特に限定されない。）であるが、ホスホン酸誘導体、亜ホスホン酸誘導体、カーボネート誘導体が好ましく採用される。上記共重合成分は１種類でも、複数種併用することもできる。
【００３８】
また、共重合に好適な化合物としては一般式（３）で示される残基を与える化合物である。
【００３９】
【化１３】
2005041918.tif 000008
【００４０】
（一般式（３）中、Ｒ３は炭素数１〜２０の脂肪族基、脂環族基、芳香族基、ハロゲン置換芳香族基、水酸基、アルコキシ基およびフェノキシ基からなる群から選ばれる官能基、Ｚは酸素、硫黄、セレンあるいは非共有電子対を表す。樹脂中にはＲ３および／またはＺの異なる置換基を含んでもよい。）
係る一般式（３）で表されるリン原子上の置換基Ｒ３の具体例としては、フェニル、ハロ置換フェニル、メトキシフェニル、エトキシフェニル、エチル、イソプロピル、シクロヘキシル等のアルキル、ビニル、アリル、ベンジル、アミノアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロ置換アルキル、アルキルサルファイド基等が挙げられる。またこれら一般式（３）ホスホン酸残基を与えるホスホン酸を具体的に例示すると、メチルホスホン酸、エチルホスホン酸、ｎ−プロピルホスホン酸、イソプロピルホスホン酸、ｎ−ブチルホスホン酸、イソブチルホスホン酸、ｔ―ブチルホスホン酸、ｎ−ペンチルホスホン酸、ネオペンチルホスホン酸、シクロヘキシルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、クロロメチルホスホン酸、ジクロロメチルホスホン酸、ブロモメチルホスホン酸、ジブロモメチルホスホン酸、２−クロロエチルホスホン酸、１，２−ジクロロエチルホスホン酸、２―ブロモエチルホスホン酸、１，２−ジブロモエチルホスホン酸、３−クロロプロピルホスホン酸、２，３−ジクロロプロピルホスホン酸３−ブロモプロピルホスホン酸、２，３−ジブロモプロピルホスホン酸、２−クロロ−１−メチルエチルホスホン酸、１，２−ジクロロ−１−メチルエチルホスホン酸、２−ブロモ−１−メチルエチルホスホン酸、１，２−ジブロモ−１−メチルエチルホスホン酸、４−クロロブチルホスホン酸、３，４−ジクロロブチルホスホン酸、４−ブロモブチルホスホン酸、３，４−ジブロモブチルホスホン酸、３−クロロ−１―メチルプロピルホスホン酸、２，３−ジクロロ−１−メチルプロピルホスホン酸、３−ブロモ−１メチルプロピルホスホン酸、２，３−ジブロモ−１−メチルホスホン酸、１−クロロメチルプロピルホスホン酸、１−クロロ−１−クロロメチルプロピルホスホン酸、１−ブロモメチルプロピルホスホン酸、１−ブロモ−１−ブロモメチルプロピルホスホン酸、５−クロロペンチルホスホン酸、４，５−ジクロロペンチルホスホン酸、５−ブロモペンチルホスホン酸、４，５−ジブロモペンチルホスホン酸、１−ヒドロキシメチルホスホン酸、２−ヒドロキシエチルホスホン酸、３−ヒドロキシプロピルホスホン酸、４−ヒドロキシブチルホスホン酸、５−ヒドロキシペンチルホスホン酸、１−アミノメチルホスホン酸、２−アミノエチルホスホン酸、３−アミノプロピルホスホン酸、４−アミノブチルホスホン酸、５−アミノペンチルホスホン酸、メチルチオメチルホスホン酸、メチルチオエチルホスホン酸、メチルチオプロピルホスホン酸、メチルチオブチルホスホン酸、エチルチオメチルホスホン酸、エチルチオエチルホスホン酸、エチルチオプロピルホスホン酸、プロピルチオメチルホスホン酸、プロピルチオエチルホスホン酸、ブチルチオメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸、４−クロロフェニルホスホン酸、３，４−ジクロロフェニルホスホン酸、３，５−ジクロロフェニルホスホン酸、４−ブロモフェニルホスホン酸、３，４−ブロモフェニルホスホン酸、３，５−ブロモフェニルホスホン酸、４−メトキシフェニルホスホン酸、３，４−ジメトキシフェニルホスホン酸、１―ナフチルホスホン酸、２―ナフチルホスホン酸、ベンジルホスホン酸、４−ブロモフェニルメチルホスホン酸、３，４−ジブロモフェニルメチルホスホン酸、３，５−ジブロモフェニルメチルホスホン酸、２−フェニルエチルホスホン酸、２−（４−ブロモフェニル）エチルホスホン酸、２−（３，４−ジブロモフェニル）エチルホスホン酸、２−（３，５−ジブロモフェニル）エチルホスホン酸、３−フェニルプロピルホスホン酸、３−（４−ブロモフェニル）プロピルホスホン酸、３−（３，４−ジブロモフェニル）プロピルホスホン酸、３−（３，５−ジブロモフェニル）プロピルホスホン酸、４−フェニルブチルホスホン酸、４−（４−ブロモフェニル）ブチルホスホン酸、４−（３，４−ジブロモフェニル）ブチルホスホン酸、４−（３，５−ジブロモフェニル）ブチルホスホン酸、２―ピリジルホスホン酸、３−ピリジルホスホン酸、４−ピリジルホスホン酸、１−ピロリジノメチルホスホン酸、１―ピロリジノエチルホスホン酸、１−ピロリジノプロピルホスホン酸、１−ピロリジノブチルホスホン酸、ピロール−１−ホスホン酸、ピロール−２―ホスホン酸、ピロール−３−ホスホン酸、チオフェン−２―ホスホン酸、チオフェン−３―ホスホン酸、ジチアン−２―ホスホン酸、トリチアン−２―ホスホン酸、フラン−２―ホスホン酸、フラン−３―ホスホン酸、ビニルホスホン酸、アリルホスホン酸、２−ノルボルニルホスホン酸などが挙げられ、またこれらのリン原子に２重結合で結合している酸素原子が硫黄原子に置換されたチオホスホン酸も同様に挙げられる。これらは１種類でも、複数種併用することもできる。
【００４１】
また、これらホスホン酸はその酸塩化物、エステル、アミドなどのホスホン酸誘導体であってもよい。
【００４２】
また、これらホスホン酸残基において、Ｚが非共有電子対である場合は、樹脂に耐酸化性を付与することができ、好ましいが、多すぎると光学特性等の特性安定性に悪影響が生じうるので、樹脂中の全分子におけるＺに対し、非共有電子対とする比率は５０モル％以下が好ましく、より好ましくは２５モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下である。
【００４３】
また、別な共重合成分として好適な化合物は、一般式（４）で示される残基を与える化合物である。
【００４４】
【化１４】
2005041918.tif 000009
【００４５】
このような、化合物としては、例えば、ホスゲン、トリホスゲン、ジアルキルカーボネート（ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジフェニルカーボネートなど）、ポリカーボネート類（オリゴマー、環状物も含む）などが挙げられる。
【００４６】
また、一般式（３）ないし一般式（４）の構造単位を与える化合物を用いた場合のその量的な範囲は、下記式（Ｉ）を満足するものであることが好ましい。
【００４７】
０．０１≦（（ａ）／（（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）））＜１    （Ｉ）
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はそれぞれ一般式（１）、一般式（３）、一般式（４）に相当する残基のモル数を示す。
【００４８】
（Ｉ）式において、０．０１未満である場合には、ポリマーの耐熱性への寄与が小さく、本発明の効果が得られ難い。好ましくは、
０．１≦（ａ）／［（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）］＜１  の範囲である。
【００４９】
また、本発明の樹脂においては、本発明の目的を損なわない限り、上記樹脂以外の樹脂や添加剤がブレンドされていても構わない。このような樹脂の例として、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアセタール、ポリフェニレンオキシド、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、パラオキシベンゾイル系ポリエステル、ポリアリーレート、ポリスルフィド等が挙げられる。また、添加剤として、樹脂にヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、チオエーテル系、燐系の各種抗酸化剤を添加することができる。
【００５０】
次に本発明の樹脂を得る方法について、その例を挙げて説明する。もちろん、本発明がかかる記載に限定されるものではない。
【００５１】
ポリリン酸エステルの製造方法は、米国特許第３，１５９，６０２号に開示されているが、該方法は無溶媒中での固体溶融重合、あるいはジメチルホルムアミドまたはジメチルアセトアミドを用いての溶液重合である。溶融重合では反応が不均一であり、高分子量体を得ることが難しい。また、両重合方法とも１７０℃以上の高温での重合であるため、副反応に起因する高分子量化の妨げや着色の問題も有する。従って、該方法によって得られたスピロ環を有するポリリン酸エステルは分子量が低く、成形体として用いることは困難である。
【００５２】
また、特開２０００−２９０２８８号公報には、該スピロ環を有するポリリン酸エステルの製造方法が開示されているが該方法においても平均重合度が４未満であり高分子量体とは言い難い。さらに、該公報に記載されている用途は難燃剤としての用途であり、耐熱性、光学特性については全く開示されていない。
【００５３】
また、ポリメリック・マテリアルズ・サイエンス  アンド  エンジニアリング（Ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ    Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  Ｓｃｉｅｎｃｅ    ａｎｄ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ）１９９６年、７４巻、１４７−１４８頁には、該スピロ環を有するリン酸エステルとビスフェノールＡを縮合重合させたポリリン酸エステルの重合についての記述がある。該文献には高分子量体を得たとの記述はあるが、具体的に数平均分子量の記述がない。そこで本発明者らは、該文献の実験を再現したところ、数平均分子量は７００であった。溶液中における２価フェノール単位の濃度が０．０２ｍｏｌ／Ｌと低いため、高分子量体を得ることが困難であると考えられる。また、該文献のポリリン酸エステルも難燃用途であり、難燃用途としては分子量が比較的高めではあるが、本発明の樹脂と比較すると分子量が低く、成形体やフィルムとして用いることは困難である。
【００５４】
すなわち、上記の開示されているスピロ環を有するポリリン酸エステルはいずれも低分子量で、他の樹脂とのブレンドとして、難燃効果を高める用途のみであり、本発明とは根本的に異なる。
【００５５】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、本発明のポリリン酸エステルの製造方法として、スルホランやハロゲン系溶媒中、低温で縮合重合することによって高分子量体を得ることに成功した。従来の方法では、高温での重合を行っていたが、極性溶媒中、高温重合を行うと副反応を伴い、高分子量化の妨げとなっていた。また、有機溶媒を用いない溶融重合や非反応性の有機溶媒を用いての高温重合の場合（特開２０００−２９０２８８号公報）においても、重合度が向上してはいるものの、成形体としては不十分な分子量である。本発明においては、低温で非反応性の極性溶媒、すなわち、スルホランやハロゲン系溶媒を用いることにより、該樹脂の高分子量化に至った。
【００５６】
本発明の樹脂の製造方法についてその一例を説明すると、スルホランやハロゲン系溶媒中、１００℃以下で、ＳＵＰＯＣなどの前記一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基を与えるモノマーと、２価フェノール成分をトリエチルアミンなどの塩基存在下混合して反応させ、縮合重合することによって本発明の樹脂を得ることができる。用いる有機溶媒はスルホランやハロゲン系化合物（具体例を示すと塩化メチレン、二塩化エタンなど脂肪族ハロゲン化炭化水素が挙げられる）であるが、スルホラン、ジクロロメタンが好ましい。また、重合温度は着色や副反応を考慮すると１００℃以下で重合することが好ましい。さらに好ましくは６０℃以下、特に好ましくは３０℃以下である。
【００５７】
共重合の場合は、前記一般式（１）で示されるスピロ環を有する２価リン酸エステル残基を与えるモノマーと、２価フェノール成分をトリエチルアミンなどの塩基存在下混合して反応させた後に、例えば、ホスホン酸残基の前駆体分子であるホスホン酸誘導体やカーボネート残基の前駆体分子、たとえばトリホスゲンなどを添加して縮合重合することによって得ることができる。なお、本発明の製造方法でいう２価フェノール成分とは２価フェノールモノマー及び２価フェノール残基を言う。
【００５８】
本発明の製造方法においては、スピロ環を有する２価リン酸エステル残基を与えるモノマーを添加し、引き続いて行う重合反応中、系中の２価フェノール成分の濃度は収率ならびに重合度に関して極めて重要であり、該成分の濃度は０．１ｍｏｌ／Ｌ以上に維持して反応せしめることが好ましく、０．２ｍｏｌ／Ｌ以上とすることが更に好ましい。なお、ここで言う２価フェノール成分の濃度とは、
（２価フェノール成分のモル数（ｍｏｌ））／（溶媒の体積（Ｌ））
として定義される。
【００５９】
さらに、より高分子量体を得るためには次の方法を用いることが好ましい。すなわち、有機溶媒中、一般式（１）以外の残基を与える共重合成分（例えば、ホスホン酸残基を与える成分、（具体的にはホスホン酸ジクロライド）やカーボネート残基を与える成分、（具体的にはホスゲンやトリホスゲン、またはポリカーボネート）やジオール成分）をトリエチルアミンなどの塩基存在下混合して、予め重縮合させ溶媒への溶解性を高めた後、一般式（１）の構造単位を与える成分（例えば、ＳＵＰＯＣ）を加え、重縮合工程を継続して重合を行うことで好適に高分子量の重合体を得ることができる。また、別の方法では、一部の一般式（１）以外の残基を与える共重合成分（例えば、ホスホン酸残基やカーボネート残基、ジオール残基を与える成分など）をトリエチルアミンなどの塩基存在下混合して、予め重縮合させ、次いで一般式（１）の構造単位を与える成分（例えば、ＳＵＰＯＣ）を加え、重縮合工程を継続し、さらに、残りの一般式（１）以外の残基を与える共重合成分を添加する工程を採用することで、更により一層の高分子量体を得ることができる。スピロ環を有する２価リン酸エステル誘導体やホスホン酸誘導体としては、それらのハロゲン化物、酸無水物、エステル等が挙げられ、中では、それらハロゲン化物が好適である。カーボネート誘導体としてはそれらのハロゲン化物、酸無水物、エステル等が用いられるが特に限定されない。
【００６０】
また、反応活性化剤あるいは塩化水素捕捉剤である塩基共存下で反応を行うことが好ましく、用いる塩基としては、トリエチルアミン、ピリジンなどの有機塩基が特に好ましく用いられる。また、ピリジンなど樹脂が可溶な含アミン化合物は反応活性剤、塩化水素補足剤として機能するのみならず、重合溶媒としても用いることができる。
【００６１】
次に本発明の樹脂の重合溶液を中和、洗浄工程を経ることによって、該樹脂を精製する。通常、重合溶液に水を加え、重合溶液に含有している有機塩（例えばトリエチルアミン塩酸塩）を除去するが、本発明の樹脂は溶媒への溶解性が低く、水を加えると、乳化したり、樹脂が析出し、充分な洗浄が行えないという問題点を抱えていた。その結果、有機塩が通常より多く含有し、成形体のヘーズ値を高めたり、熱をかけることにより、高分子の主鎖を切断し分子量を低下させ、さらに、着色の原因にもなっていた。
【００６２】
そこで本発明者らは、鋭意検討の結果、重合溶液を洗浄する前に、含アミド溶媒または含硫黄溶媒を加えて、溶解性を向上させた後、水を加え洗浄する事によって、乳化や樹脂の析出が起こらず、有機層と水層が分離し、効率的に有機塩が除去可能であることを見出した。そうしたところ驚くべきことに光線透過率の改善も図れるようになった。
【００６３】
洗浄に用いる含アミド溶媒、または含硫黄溶媒は適宜用いることができる。具体的には、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられるが、好ましくはジメチルスルホキシド、スルホラン、Ｎ−メチルピロリドンであり、特に好ましくはＮ−メチルピロリドンである。
【００６４】
このような方法により、着色が抑制され、また、光線透過率も高く、何よりも拡散透過率が劇的に低減された本発明に係る樹脂を得ることができることができるようになった。
【００６５】
また、得られた洗浄後の溶液をそのまま溶液製膜することも可能である。
【００６６】
該樹脂の製造法は、ビスフェノールＡのような一般的ビスフェノールをはじめとする他のビスフェノール、ジオール類にも適用でき、さらに、カーボネート残基の代わりにテレフタル酸やイソフタル酸などのジカルボン酸残基においても同様に適用できる。
【００６７】
また、本発明者らは、本発明樹脂を含有するガット、プレートあるいはフィルム状成形体は、優れた難燃性をも具備していることを見出した。
【００６８】
本発明の樹脂は、概ね有機溶媒に対して高い溶解性を有しており、このような溶媒としては、スルホラン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、塩化メチレン、クロロホルム、１  ，１  ，２  ，２  −テトラクロロエタン、１  ，２  −ジクロロエタン、γ−ブチロラクトン、イソホロン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモベンゼン、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
【００６９】
さらに、本発明のポリマーは非晶性であり、非晶性であるかどうかは、公知の方法例えば示差走査熱量分析（ＤＳＣ）や動的粘弾性測定等により融点が存在しているかどうかを確認すればよい。
【００７０】
樹脂組成物とする場合は、所望に応じて、他の高分子や難燃剤、難燃助剤、エラストマー成分、安定剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、離型剤などの各種添加剤、顔料、充填剤、他の樹脂などが適宜配合され得る。配合法は既知の方法を適用できるが、樹脂と添加物を溶融混練し、押出す方法が好適である。
【００７１】
本発明の樹脂は、成形材料として、機械、自動車、食品分野に利用することができるだけでなく、皮膜形成用材料として（溶融法やソルベントキャスト法によりフィルムとして、あるいは、塗工液等のバインダーとして）、電気・電子分野や光学機器分野に好ましく利用することができる。
【００７２】
また、本発明の樹脂は、耐熱性及び透明性に優れているため、時計、テレビ、ＩＣカード、ワードプロセッサ、パソコン、計器盤及び各種表示盤中の液晶表示部及びエレクトロルミネッセンス表示部の基板、透明導電性フィルム、光ディスクや光カードの表面保護フィルム等へ応用することができる。また、成形性、耐熱性、高透明性を利用して、現行のガラス基板や金属基板の代替材料として用いることができる。
【００７３】
本発明の樹脂を用い、例えばレンズなどの成形体を得る方法については、公知の方法が採用でき、特に限定されないが、例えば、射出成型法、プレス成型法、圧縮成型法、トランスファ成形法、積層成形法、押し出し成形法などがあげられる。またフィルム状に成形する場合には、溶液製膜法、溶融押し出し製膜法などが挙げられ、特に溶液製膜が好適に採用される。溶液製膜法においては前記有機溶媒を適宜用いることができるが、好ましくはスルホキシド含有溶媒やアミド含有溶媒であり、特に好ましくはＮ−メチルピロリドンである。
【００７４】
【実施例】
実施例
本発明の具体的実施態様を以下に実施例をもって述べるが、本発明はこれに限定されるものではない。樹脂の評価は以下の方法により行った。
【００７５】
〔分子量〕
ゲルパーミュレーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）法を用いた絶対検量線法によって、数平均分子量を決定した。ＧＰＣの測定条件は以下の通り。
装置：Ｗａｔｅｒｓ２６９０（Ｗａｔｅｒｓ社）
カラム：ＴＯＳＯＨ社製、ＴＳＫ−ｇｅｌ−α４０００，ＴＳＫ−ｇｅｌ−α２５００の２本を直列に連結。
溶媒：１０ｍＭのリチウムブロマイド含有のＮＭＰフロ−（ｆｌｏｗ）＝０．２ｍｌ／ｍｉｎ
検出器：ＵＶ
試料：０．１重量％のＮＭＰ溶液
注入量：１０μｌ。
【００７６】
〔耐熱性〕
ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｃａｌｏｒｉｍｅｔｅｒ）によって、ガラス転移点を測定し、その値を耐熱性の指標に用いた。
装置：ＳＳＣ５２００（セイコー電子工業株式会社製）
試料：１０ｍｇ
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ。
【００７７】
〔光学特性〕
全光線透過率、黄色度、ヘーズ値（曇価）は以下の測定に依った。
【００７８】
樹脂を溶液キャスティング法（ＮＭＰ溶液）によって厚さ１００μｍのフィルムを作成した。
【００７９】
ついで、この試料をデジタルカラーコンピューター（スガ試験機（株）社製：ＳＭ−７ＣＨ）を用いて透過法により３刺激値（Ｘ、Ｙ、Ｚ）を求めた。全光線透過率はＹの値をそのまま採用した。ΔＹＩは、試料を装着した状態でＸ、Ｙ、Ｚを求め、式（ＩＩ）によりＹＩ値（ＹＩ２  ）を求めた後、試料を外した状態で同様にＸ、Ｙ、Ｚを求め、同様にリファレンス値ＹＩ１を求め、式（ＩＩＩ）より算出した。
【００８０】
ＹＩ＝１００×（（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）／Ｙ      （ＩＩ）
Ｘ、Ｙ、Ｚ：標準光Ｃにおける試料の三刺激値
ΔＹＩ＝ＹＩ２−ＹＩ１（ＩＩＩ）
ΔＹＩ：黄色度
ＹＩ１：リファレンス値
ＹＩ２：試料の測定値。
【００８１】
また、ヘーズ値（曇価）とは、日本工業規格ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準じたものである。なお、ヘーズ値は下記式（ＩＶ）で示される値である。
ヘーズ値（％）＝（拡散透過率／全光線透過率）×１００      （ＩＶ）
装置：デジタルヘーズコンピューター（スガ試験機（株）製：ＨＧＭ−２ＤＰ）
なお、種々の厚みのフィルムやシートの全光線透過率は、ランベルト・ベールの法則を適用することで、厚さ１００μｍのフィルムの全光線透過率に換算可能である。
【００８２】
〔位相差特性〕
樹脂を塩化メチレンに溶解させ、ガラス板上に製膜、乾燥させることによってキャストフィルムを得た。得られたフィルムのリタデーション（位相差）測定はセルギャップ検査装置を用いて、５８９ｎｍの波長の位相差を測定した。
装置：ＲＥＴＳ−１１００（大塚電子（株）製）。
【００８３】
〔残留トリエチルアミン塩酸塩含有量〕
１Ｈ−ＮＭＲ測定を行い、トリエチルアミン塩酸塩を示すスペクトルとポリマーユニットを示すスペクトルの強度比からモル比を算出し、重量％を求めた。
装置：核磁気共鳴装置（日本電子株式会社：ＥＸ２７０型）。
溶媒：重水素化ジメチルスルホキシド。
【００８４】
〔ポリマーの繰り返し単位の同定〕
１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、得られたスペクトルのシフト値と強度比から繰り返し単位の同定を行った。特に、スピロ環構造を形成するモノマーにＳＵＰＯＣを用いた場合、スピロ環構造のメチレン基は４．２〜４．９ｐｐｍ（ｂｒ、８Ｈ）に観測される。
装置：核磁気共鳴装置（日本電子株式会社：ＥＸ２７０型）。
溶媒：重水素化ジメチルスルホキシド。
【００８５】
実施例１
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（１８ｍｌ）中に４，４’−（α−メチルベンジリデン）ビスフェノール（３１．７ｍｍｏｌ）、ポリカーボネート（Ｃ６ＢＰ−ＰＣ、４ｇ）およびトリエチルアミン（７０．４ｍｍｏｌ）を混合し、容器を水浴に浸して３時間攪拌した。氷冷下、この溶液にＳＵＰＯＣ（２７．４ｍｍｏｌ）の粉体を投入し、１時間２０分攪拌した。その後、氷浴を外し、室温で３時間攪拌した。続いて、フェニルホスホン酸ジクロライド（４．６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２ｍＬ）に溶解させた混合溶液を１時間かけて滴下した。１時間攪拌中、塩化メチレンを粘度に合わせて適時、計６０ｍｌ加える（重合溶液Ａ）。得られた反応溶液に酢酸（５ｍＬ）、塩化メチレン（６０ｍＬ）、ＮＭＰ（１２０ｍＬ）を投入して、１０分間攪拌した。得られた溶液に水（１５０ｍＬ）を加え、洗浄した。有機層と水層を分離し、有機層にＮＭＰ（３０ｍＬ）と水（１００ｍＬ）を加え、再び洗浄し、得られたポリマー溶液を７０℃の大量の温水に再沈殿した。得られたポリマーを濾取した後、生成したポリマーを乾燥して目的の白色樹脂粉末を得た。数平均分子量は４６２００，ガラス転移点は２２３℃であった。得られた樹脂を溶液キャスティング法（ＮＭＰ溶液）によって厚さ１００μｍのフィルムを作成し、上記の方法で全光線透過率、黄色度を測定したところ、全光線透過率：８８．７％、黄色度：１．９３、ヘーズ値：３．２であった。また、膜厚６３μｍのフィルムのリタデーション（位相差）は１．３７ｎｍ（膜厚１００μｍのフィルムのリタデーション（位相差）に換算すると２．１８ｎｍ）であった。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルより、含有しているトリエチルアミン塩酸塩は０．３５ｗｔ％であった。また、得られたスペクトルより構造式（６）に示す繰り返し単位を有する樹脂であることがわかった。
【００８６】
【化１５】
2005041918.tif 000010
【００８７】
（構造式（６）中の整数は、樹脂の組成比を表す。）
実施例２
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（２０ｍｌ）中に１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（Ｃ６ＢＰ、３１．７ｍｍｏｌ）、ポリカーボネート（Ｃ６ＢＰ−ＰＣ、４ｇ）およびトリエチルアミン（７０．４ｍｍｏｌ）を混合し、容器を水浴に浸して３時間攪拌した。氷冷下、この溶液にＳＵＰＯＣ（２７．４ｍｍｏｌ）の粉体を投入し、１時間２０分攪拌した。その後、氷浴を外し、室温で３時間攪拌した。続いて、フェニルホスホン酸ジクロライド（４．６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（２ｍＬ）に溶解させた混合溶液を１時間かけて滴下した。１時間攪拌中、塩化メチレンを粘度に合わせて適時、計６０ｍｌ加える。得られた反応溶液に酢酸（５ｍＬ）、塩化メチレン（７０ｍＬ）、ＮＭＰ（１２０ｍＬ）を投入して、１０分間攪拌した。得られた溶液に水（１５０ｍＬ）を加え、洗浄した。有機層と水層を分離し、有機層にＮＭＰ（３０ｍＬ）と水（１００ｍＬ）を加え、再び洗浄した。この洗浄を数回繰り返し、得られたポリマー溶液を７０℃の大量の温水に再沈殿した。得られたポリマーを濾取した後、生成したポリマーを乾燥して目的の白色樹脂粉末を収率９５％で得た。数平均分子量は５７４００，ガラス転移点は２２３℃であった。得られた樹脂を溶液キャスティング法（ＮＭＰ溶液）によって厚さ１００μｍのフィルムを作成し、上記の方法で全光線透過率、黄色度を測定したところ、全光線透過率：８９．５％、黄色度：２．３０、ヘーズ値：１．２７であった。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルより、トリエチルアミン塩酸塩を示すスペクトルは観測されなかった。また、得られたスペクトルより構造式（７）に示す繰り返し単位を有する樹脂であることがわかった。
【００８８】
【化１６】
2005041918.tif 000011
【００８９】
（構造式（７）中の整数は、樹脂の組成比を表す。）
実施例３
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（１８ｍｌ）中に２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルペンタン（３１．７ｍｍｏｌ）、ポリカーボネート（Ｃ６ＢＰ−ＰＣ、４ｇ）およびトリエチルアミン（７０．４ｍｍｏｌ）を混合し、容器を水浴に浸して３時間攪拌した。氷冷下、この溶液にＳＵＰＯＣ（１８．３ｍｍｏｌ）の粉体を投入し、１時間２０分攪拌した。その後、氷浴を外し、室温で２時間攪拌した。続いて、フェニルホスホン酸ジクロライド（１３．７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解させた混合溶液を１時間かけて滴下した。１時間攪拌中、塩化メチレンを粘度に合わせて適時、計４０ｍｌ加える。得られた反応溶液に酢酸（５ｍＬ）、塩化メチレン（６０ｍＬ）、ＮＭＰ（１２０ｍＬ）を投入して、１０分間攪拌した。得られた溶液に水（１５０ｍＬ）を加え、洗浄した。有機層と水層を分離し、有機層にＮＭＰ（３０ｍＬ）と水（１００ｍＬ）を加え、再び洗浄した。この洗浄を数回繰り返し、得られたポリマー溶液を７０℃の大量の温水に再沈殿した。得られたポリマーを濾取した後、生成したポリマーを乾燥して目的の白色樹脂粉末を収率９２％で得た。数平均分子量は３９２００，ガラス転移点は１６５℃であった。得られた樹脂を溶液キャスティング法（ＮＭＰ溶液）によって厚さ１００μｍのフィルムを作成し、上記の方法で全光線透過率、黄色度を測定したところ、全光線透過率：８９．７％、黄色度：１．６３、ヘーズ値：１．０３であった。また、膜厚５５μｍのフィルムのリタデーション（位相差）は１．９５ｎｍ（膜厚１００μｍのフィルムのリタデーション（位相差）に換算すると３．５６ｎｍ）であった。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルより、トリエチルアミン塩酸塩を示すスペクトルは観測されなかった。また、得られたスペクトルより構造式（８）に示す繰り返し単位を有する樹脂であることがわかった。
【００９０】
【化１７】
2005041918.tif 000012
【００９１】
（構造式（８）中の整数は、樹脂の組成比を表す。）
上記実施例記載の樹脂を溶液製膜法によって製膜したところ、自己支持性を有し、また実用的な強度、伸度を有したフィルムであり、全光線透過率が高く、黄色度、ヘーズ値が小さいフィルムであることを確認した。
【００９２】
比較例１
窒素雰囲気下、ＮＭＰ（１０ｍｌ）中に４，４’−ジヒドロキシフェニルエーテル（５ｍｍｏｌ）、およびトリエチルアミン（１０．５ｍｍｏｌ）を混合し、氷冷下攪拌した。この溶液にＳＵＰＯＣ（５ｍｍｏｌ）の粉体を投入し、１間３０分攪拌した。その後、室温にし、５間攪拌した。得られた反応溶液を、０．１Ｎ塩酸水溶液（５００ｍｌ）に投入して再沈殿し、ポリマーを濾取した後、水（５００ｍｌ）で生成したポリマーを洗浄、乾燥して目的の樹脂粉末を収率９９％で得た。数平均分子量は６１０であった。
【００９３】
比較例２
加熱装置、攪拌機、還流管、導入口および温度計を備えた反応容器にＳＵＰＯＣ（２０ｍｍｏｌ）、ビスフェノールＡ（６０ｍｍｏｌ）、無水塩化アルミニウム（６０ｍｇ）およびトルエン（２５ｍｌ）を投入し、９５〜１０５℃まで攪拌しながら昇温し、１時間３０分で塩酸ガスが理論量発生したところで冷却した。得られた反応液にＳＵＰＯＣ（３０ｍｍｏｌ）および無水塩化アルミニウム（６０ｍｇ）を投入し、再び９５〜１０５℃まで攪拌しながら昇温し、３時間で塩酸ガスが理論量発生したところで反応を終了した。得られた反応液を、冷却した酢酸エチル（１００ｍｌ）に攪拌しながら、滴下して、析出した白色固体をろ過により回収し、さらにアセトン（１００ｍｌ）で２回洗浄後、真空乾燥を室温で１６時間行い、白色固体の目的物質を収率７８％で得た。数平均分子量は１５００であった。
【００９４】
比較例３
加熱装置、攪拌機、還流管、導入口および温度計を備えた反応容器にＳＵＰＯＣ（５０ｍｍｏｌ）、ビスフェノールＡ（６０ｍｍｏｌ）を投入し、１７０℃まで攪拌しながら昇温し３０分間攪拌後、１８５℃まで昇温して３時間攪拌した。さらに２００℃まで昇温して３０分間攪拌して反応を終了した。得られた粘性の反応液を高温のまま取り出し、冷却して２１．６ｇの生成物を得た。数平均分子量は５００であった。
【００９５】
比較例４
窒素雰囲気下、ＤＭＦ（１０ｍｌ）中に４，４’−ジヒドロキシフェニルエーテル（５ｍｍｏｌ）、およびＳＵＰＯＣ（５ｍｍｏｌ）を混合した。この溶液を１７０℃まで昇温し、５時間攪拌した。その後、ＤＭＦと発生した塩酸を減圧留去し、琥珀色の半透明固体を収率９５％で得た。数平均分子量は８００であった。
【００９６】
比較例５
窒素雰囲気下、ジクロロメタン（５０ｍｌ）中にビスフェノールＡ（１ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（１．４４ｍｍｏｌ）を混合した。この溶液にＳＵＰＯＣ（１ｍｍｏｌ）の粉体を投入し、容器を５０℃のオイルバスに浸し還流させ、５時間攪拌した。その後、水を容器に加え洗浄し、有機層のジクロロメタンを減圧留去し、ポリマーを乾燥して目的の白色樹脂粉末を収率９０％で得た。数平均分子量は７００であった。
【００９７】
比較例６
市販されているポリアリレート：”Ｕポリマー”（ユニチカ（株）製）を用いて、上記方法でフィルム化して評価した。膜厚９５μｍのフィルムのリタデーション（位相差）は１０．８９ｎｍ（膜厚１００μｍのフィルムのリタデーション（位相差）に換算すると１６．５９ｎｍ）であった。
【００９８】
比較例７
実施例１の重合溶液Ａをそのまま、７０℃の大量の温水に再沈殿した。得られたポリマーを濾取した後、生成したポリマーを乾燥して目的の白色樹脂粉末を得た。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルより、含有しているトリエチルアミン塩酸塩は１０．７ｗｔ％であった。
【００９９】
比較例８
実施例１の重合溶液Ａに酢酸（５ｍＬ）、塩化メチレン（１００ｍＬ）を投入して、１０分間攪拌した。得られた溶液に水（１２０ｍＬ）を加え、洗浄した。有機層と水層を分離し、有機層に水（１２０ｍＬ）を加え、再び洗浄し、得られたポリマー溶液を７０℃の大量の温水に再沈殿した。７０℃の大量の温水に再沈殿した。得られたポリマーを濾取した後、生成したポリマーを乾燥して目的の白色樹脂粉末を得た。１Ｈ−ＮＭＲスペクトルより、含有しているトリエチルアミン塩酸塩は１．５０ｗｔ％であった。
【０１００】
比較例より従来の手法を用いての重合では数平均分子量が２０００未満であるため、フィルムやレンズに成形できない。成形可能であっても分子量が低いため、脆く実用に供し得ない。これに対して、本発明の樹脂は数平均分子量が高く（２０００以上）、成形材料やフィルムとして機械、自動車、電気・電子分野、光学機器分野や食品分野に利用することができる。また、ガラス転移点も高く、耐熱性材料として有用である。さらに、代表的な透明耐熱性樹脂は、主鎖方向に芳香環を多数有するため、未延伸フィルムであっても、リタデーションは大きいが、本発明の樹脂は、主鎖にスピロ環を有するため、リタデーションが小さいことがわかる。さらに、洗浄工程に極性溶媒を加えることによって、洗浄効率が向上し、トリエチルアミン塩酸塩の含有がほぼなくなった。そのため、得られたフィルムの黄色度、ヘーズ値は小さいことがわかった。
【０１０１】
【発明の効果】
本発明によるスピロ環を有するリン酸エステル基含有のポリマーを高分子量化させることによって、高耐熱性で光学特性、力学特性に優れた熱可塑性樹脂を提供することができ、この樹脂よりなる成形材料やフィルムは各種分野に用いることができる。