(57)【要約】【課題】  被除去物を含有する被処理水から被除去物を除去する濾過装置に関し、保守、管理が容易な濾過装置を提供することである。【解決手段】  本発明の濾過装置は、濾過フィルタ１１の表面に形成される被除去物から成る堆積物を散気機構１２から供給される気泡を用いて除去し、濾過機能の長期維持を可能にした。また、散気機構１２は濾過フィルタ１１の下方から気体を供給する第１のパイプ１３と、第１のパイプと接続部１６を介して接続され、第１のパイプ１３に気体を供給する第２のパイプ１４から構成される。また、接続部１６は被処理水から露出する構造となっている。従って、目詰まりなどの問題が発生した第１のパイプ１３の交換作業を正確かつ容易に行うことを可能にした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被除去物を含む流体中に浸漬された濾過フィルタと、
前記流体の外部から前記流体中の前記濾過フィルタの下方まで延在して、その先端部から気体を発生させる第1のパイプと、
前記第1のパイプと接続されて前記第1のパイプに気体を供給する第２のパイプとを具備し、
前記第1のパイプと前記第２のパイプとを前記流体の外部で接続することを特徴とする濾過装置。
【請求項２】
前記第1のパイプと前記第２のパイプとは着脱可能に接続されることを特徴とする請求項１記載の濾過装置。
【請求項３】
前記流体の内部にて位置が固定されたガイド管を具備し、
前記ガイド管の内部に前記第1のパイプを延在させることを特徴とする請求項１記載の濾過装置。
【請求項４】
前記ガイド管を前記第1のパイプ毎に設けることを特徴とする請求項３記載の濾過装置。
【請求項５】
前記ガイド管は前記流体の外部から前記濾過フィルタの下方まで延在することを特徴とする請求項３記載の濾過装置。
【請求項６】
複数の前記第1のパイプを具備し、
前記複数の第1のパイプは同一の前記第２のパイプに接続することを特徴とする請求項１記載の濾過装置。
【請求項７】
前記第1のパイプは、前記流体の液面から前記濾過フィルタの下方まで延在することを特徴とする請求項１記載の濾過装置。
【請求項８】
前記濾過フィルタの表面には、流体中の被除去物から成る第２のフィルタ膜が形成されることを特徴とする請求項１記載の濾過装置。
【請求項９】
被除去物を含む流体中に浸漬された濾過フィルタと、
前記流体の外部から前記流体中の前記濾過フィルタの下方まで延在して、その先端部から気体を発生させるパイプと、
前記流体の内部にて位置が固定されたガイド管を具備し、
前記ガイド管の内部に前記パイプを延在させることを特徴とする濾過装置。
【請求項１０】
前記パイプは、前記流体の液面から前記濾過フィルタの下方まで延在することを特徴とする請求項９記載の濾過装置。
【請求項１１】
前記ガイド管を前記パイプ毎に設けることを特徴とする請求項９記載の濾過装置。
【請求項１２】
前記ガイド管は前記流体の外部から前記濾過フィルタの下方まで延在することを特徴とする請求項９記載の濾過装置。
【請求項１３】
前記濾過フィルタの表面には、流体中の被除去物から成る第２のフィルタ膜が形成されることを特徴とする請求項９記載の濾過装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、濾過装置に関するものであり、特に、流体中に気体を供給する機構を具備する濾過装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
被除去物を含む被処理水の浄化には、浄化精度が優れること、設置スペースが少なくてすむこと、運転が容易であることなどの理由から、各種濾過装置が用いられている。しかし、濾過の継続に伴い被処理水中の被除去物が膜面に付着してしまう。従って、被除去物が膜面の孔を閉塞してしまい、徐々に濾過性能が低下し、ついには濾過できなくなってしまう。
【０００３】
そこで、図８を参照して濾過性能の維持するための濾過装置の一例を説明する。まず、濾過装置１００の構成を説明する。板状の支持部材１０２に、袋状にした濾過膜１０１の開口部を取り付けて吊り下げられている。また、濾過膜の内側と外側とを分離し、内側が前記濾過膜１０１に連通するようにカバー１０３が設けられている。更に、濾過膜１０１が濾過圧で密着しないようにスペーサ１０８が設けられている。このような、濾過装置１００は、原液１０５が貯留された原液貯留槽１０４内に浸漬されており、濾液集水管１１０から濾液１０６を吸引することにより濾過を行う。
【０００４】
ここで、濾過膜１０１の表面に堆積した被除去物から成る堆積物を除去するために、原液貯留槽１０４の下部に気泡発生装置１０７が設けられている。従って、前記気泡発生装置１０７から発生する気泡を用いて前記堆積物を除去することで、濾過性能の維持を可能としている（特許文献１を参照）。
【特許文献１】特開平７−８８３３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記の気泡を発生させる方法に於いては、被除去物の濃度が濃くなるに従い、濾過槽の底に溜まりはじめ、次第に被除去物が気泡発生装置１０７の気泡噴出口１０９に溜まり、目詰まりが発生してしまう。従って、濾過機能を長期間維持できない問題がある。
【０００６】
また、目詰まりが発生した場合には、濾過膜表面の堆積物の除去効率が悪化するため、気泡発生装置１０７の補修作業が必要になる。しかし、原液１０５の透明度は著しく低い。よって、原液１０５内での補修作業は非常に困難である。従って、補修作業を行うためには、原液１０５を原水貯留槽１０４から抜き取るか、または気泡発生装置１０７を原水貯留槽外へ移動させる必要がある。しかし、このような補修作業に伴い、濾過装置または濾過装置を有する製造ラインなども停止させなければならず、補修作業に要する費用、期間、および生産性の低下などの問題点が指摘されている。
【０００７】
本発明は、上記の問題を鑑みて成されたものである。従って、本発明の主な目的は、保守、管理が容易であり、濾過機能を効率的に長期間維持することを可能とした濾過装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の濾過装置は、被除去物を含む流体中に浸漬された濾過フィルタと、前記流体の外部から前記液体中の前記濾過フィルタの下方まで延在して、その先端部から気体を発生させる第1のパイプと、前記第1のパイプと接続されて前記第1のパイプに気体を供給する第２のパイプとを具備し、前記第1のパイプと前記第２のパイプとを前記流体の外部で接続することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の濾過装置は、被除去物を含む流体中に浸漬された濾過フィルタと、前記流体の外部から前記流体中の前記濾過フィルタの下方まで延在して、その先端部から気体を発生させるパイプと、前記流体の内部にて位置が固定されたガイド管を具備し、前記ガイド管の内部に前記パイプを延在させることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の濾過装置によれば、気泡を濾過フィルタの下方から発生させる第１のパイプと第１のパイプに気体を供給する第２のパイプが流体の外部で接続されている。従って、濾過装置を用いた製造ラインなどに影響を与えることなく、濾過装置を稼働した状態で問題の発生した第１のパイプだけを交換することができ、メンテナンスに要する費用、期間を大幅に削減、短縮することが可能となる。
【００１１】
また、本発明の濾過装置によれば、流体の内部にて位置が固定されたガイド管の内部にパイプを延在させている。従って、パイプを所定の位置の配置することができ、より正確な気泡の供給が可能になる。このことにより、濾過フィルタ上の堆積物を均一に除去することができる。また、パイプを交換する際、新しいパイプを正確かつ容易に配置することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本実施の形態は、濾過装置に関し、特にその装置に使われる気泡発生手段に関するものである。ここで、被除去物のとなる物質の一例としては、結晶インゴットをウェハ状にスライスするとき、半導体ウェハをダイシングするとき、バックグラインドするとき、ＣＭＰ（Chemical-Mechanical Polishing）またはウェハポリッシングするとき等で発生する被除去物が挙げられ、この被除去物は、Ｓｉ、酸化Ｓｉ、Ａｌ、ＳｉＧｅ、封止樹脂等の有機物およびその他の絶縁材料や金属材料が該当する。また化合物半導体では、ＧａＡｓ等の化合物半導体が該当する。
【００１３】
また最近では、ＣＳＰ（チップスケールパッケージ）の製造に於いてダイシングを採用している。これはウェハの表面に樹脂を被覆し、最後に封止された樹脂とウェハを一緒にダイシングするものである。またセラミック基板の上に半導体チップをマトリックス状に配置し、セラミック基板も含めて樹脂を被覆し、最後に封止された樹脂とセラミック基板をダイシングするものもある。これらもダイシングする際に被除去物が発生する。
【００１４】
一方、半導体分野以外でも被除去物が発生する所は数多くある。例えばガラスを採用する産業に於いて、液晶パネル、ＥＬ表示装置のパネル等は、ガラス基板のダイシング、基板側面の研磨等で発生するガラス屑が被除去物に該当する。また電力会社や鉄鋼会社では燃料として石炭を採用しており、石炭から発生する粉体が該当し、更には煙突から出る煙の中に混入される粉体も被除去物に相当する。また鉱物の加工、宝石の加工、墓石の加工から発生する粉体もそうである。更には、旋盤等で加工した際に発生する金属屑、セラミック基板等のダイシング、研磨等で発生するセラミック屑等も被除去物に該当する。
【００１５】
これらの被除去物は、研磨、研削または粉砕等の加工により発生し、被除去物を取り去る事を目的として水や薬品等の流体を流す。そのため、この流体の中に被除去物が混入されてしまう。
【００１６】
そして、以下に、上記したように流体、被除去物は、色々なものがあるが、ここでは流体として水が採用され、水の中に切削された被除去物が含まれたものとして説明してゆく。
【００１７】
先ず、図１を参照して、本形態の濾過装置の構成を説明する。図１（Ａ）は本形態の濾過装置を上方から見た斜視図であり、図１（Ｂ）は本形態の濾過装置の模式図である。
【００１８】
図１（Ａ）を参照して、本形態の濾過装置は、上面と底面に開口部を有する支持体１０と、支持体１０の内部に収納された複数の濾過フィルタ１１と、濾過フィルタ１１の下方から気泡を供給するための散気機構１２が支持体１０の上部に設置されている構成となっている。前記散気機構１２は内部を気体が通過することが可能な中空状の第２のパイプ１４と、前記第２のパイプ１４より延在し、前記気体を所定の位置に導くための第１のパイプ１３から構成される。気体は流入口１５から流入し、第２のパイプ１４内を通り第１のパイプ１３に送られる。第１のパイプ１３はガイド管２０により濾過装置の下部に誘導されており、前記気体は濾過フィルタ１１の下方から気泡となって発生する構造となっている。ここで図中の実線矢印は濾過された被処理水の流れを示しており、破線矢印は気体の流れを示している。
【００１９】
図１（Ｂ）を参照して、本形態の濾過装置の詳細を説明する。
【００２０】
第２のパイプ１４には、気体が流入する流入口１５が複数設けられている。この機構により、第１のパイプ１３夫々へ流れる気体の流量を均一化している。また、第２のパイプ１４と第１のパイプ１３は接続部１６を介して機械的に接続され、前記接続部で着脱が可能な機構になっている。
【００２１】
更に、前記第１のパイプ毎にバルブ１７を設けている。これにより、前記第１のパイプ１３毎に供給する気体流量を制御でき、更なる気泡の発生量の制御が可能となる。しかも、被処理水中に浸漬されるのは第１のパイプ１３である。もしも第１のパイプ１３に目詰まりなどの問題が発生した場合は、該当するバルブ１７を閉めて、第１のパイプ１３を接続部１６から取り外し、交換することが可能である。
【００２２】
この機構は、本発明の特徴とする所であり、発明が解決する課題の欄でも述べたように、濾過装置および散気機構１２の移動や、散気機構１２全体の停止を行うことなく、濾過装置を稼働した状態で第１のパイプ１３の交換作業が可能となる。また別の言い方をすれば、前記交換作業は排水の外で行うことができ、作業効率および作業精度の向上を可能とした。
【００２３】
支持体１０は、４本の支柱に４枚の板が貼り合わされ、上面と底面に開口部が設けられている。これは、底面の開口部より流入した気泡を確認できる構造となっている。また、支持体１０の側面位置する前記板には、ガイド管２０が固着されており、このガイド管２０の中に、第１のパイプ１３が通過するようになっている。図からも判るように、前記ガイド管２０は、支持体１０の上面から側面を延在し、前記板の下端で、内側に湾曲している。ここで、ガイド管２０の上部は被処理水の液面から上に出ている。従って、問題の第１のパイプ１３だけを交換する時、新しい第１のパイプ１３を、ガイド管２０に通すだけで、新しい第１のパイプ１３を外から正確に配置することができる。これは、第１のパイプの長さを決めておけば、正確に配置できるし、ガイド管の先端が第１のパイプより細くなっていけば、その先端で固定できる。排水は、一般に濁っているので、この様な機構を採用すれば、正確に気泡の発生部分を位置規制することができる。図では省略したが、支持体１０の内側、例えば前述した板には、板状の濾過フィルタ１１を等間隔に配置するため、溝が形成されている。
【００２４】
図２を参照して、第１のパイプ１３より発生する気泡１８について説明する。図２は、濾過装置を被処理水１９中に浸漬した図である。図２（Ａ）は、濾過面から見た図であり、図２（Ｂ）は、図２Ａの右手から図である。
【００２５】
前述したように、第１のパイプ１３はガイド管２０を通り、所定の位置に配置されている。気泡１８は、この第１のパイプ１３の先端の噴出口２４から放出され、上昇していく。しかし気泡は、被処理水から圧力を受け、扁平する。そのため、気泡１８は垂直に上昇せず、気泡１８の上昇経路は不規則に変動する。このことにより、気泡１８は濾過フィルタ１１の表面全体に行き渡る。
【００２６】
更に、第１のパイプ１３の噴出口２４と濾過フィルタ１１の底面とは、距離Ｌだけ離間されている。その分、気泡は、分散し、フィルタの面を広く擦るようになる。本形態では、Ｌ＝４００ｍｍ程度とすることで、気泡１８の適切な拡散を実現させた。更に、支持体１０が濾過フィルタ１１の周囲を覆うことにより、気泡１８は、被処理水１９の流れによる影響を受けにくくなり、気泡の均一分散を可能とする。
【００２７】
更に、噴出口２４をタンクの底面から距離を置いて配置し、底面と平行に横方向に設置している。このことにより、タンクの中に被除去物が堆積しても、ある程度までは目詰まりが発生しないような機構となっている。
【００２８】
図３を参照して、支持体１０の側面外部に設置されたガイド管２０の説明を行う。図３（Ａ）は、ガイド管２０が設置された支持体１０の上方からの斜視図である。また、図３（Ｂ）および図３（Ｃ）は前記支持体１０の上面図である。ここでは、前記第１のパイプ１３が千鳥配置となっている。
【００２９】
図３（Ａ）を参照して、ガイド管２０は支持体１０の側面外部に機械的に接続されている。ガイド管２０の材質としては、加工性、耐水性および、耐候性に優れた物質で、例えば、塩化ビニル製で外形６ｍｍ、内径４ｍｍのパイプ状のものを用いたが、これに限定されない。
【００３０】
図３（Ｂ）、（Ｃ）を参照して、気泡の分布を均一にするための機構を説明する。点線で示した楕円形が、夫々のガイド管から発生する気泡の分布であり、できる限りこの楕円が重ならないようにするのが好ましい。その一つの対策として、図３（Ｂ）は、対向するガイド管２０を互い違いに配置している。また図３（Ｃ）は、図３（Ｂ）と異なり、対向するガイド管２０の設置位置は、一致している。その代り、一方は長く、他方は短くして配置している。
【００３１】
図４は、気泡の分布が均一で且つ目詰まりを防止する機構である。ここでは、ガイド管２０は、一方の壁の第１のガイド管、他方の壁の第２のガイド管、および両者を下方でつなぐ第３のガイド管(ここが散気管となる)により、Ｕ字型をしている。しかも第３のガイド管２０には複数の気泡放出孔２１が下向きに設けられている。
【００３２】
図４（Ａ）を下から見た図４（Ｃ）の如く、気泡放出孔２１は、お互いに千鳥配置となるように設けられている。更に、このような形態のガイド管２０に収納された第１のパイプ１３は、両端が接続部１６に接続され、ガイド管と同様にＵ字形状である。第１のパイプ１３には気泡１８が噴出する孔が設けられている。ここで、ガイド管２０の両端から気体が流出することを防止するために、ガイド管２０と第１のパイプ１３との間は樹脂などで密閉される。交換方法を説明する。先ず、交換される古い第１のパイプ１３の一方の端と新しい第１のパイプ１３の一端を接続する。次いで、古い第１のパイプ１３の他方の端を引き抜く。このようにして、第１のパイプ１３の交換作業を効率的に行うことができる。
【００３３】
図５は、フィルタ膜の概略図である。３０は第１のフィルタ膜で、３２はフィルタ孔である。またフィルタ孔３２の露出部および第１のフィルタ膜２０の表面に層状に形成されている膜が、被除去物３３、３４であり、この被除去物３３、３４はフィルタ孔３２を通過できない大きな被除去物３３とフィルタ孔３２を通過できる小さな被除去物３４に分けられる。図５では黒丸で示したものが通過できる小さな被除去物３４である。
【００３４】
また、ここで採用可能な第１のフィルタ膜３０は、原理的に考えて有機高分子系、セラミック系とどちらでも採用可能である。しかし、ここではポリオレフィン系の高分子膜を採用した。
【００３５】
図５（Ａ）の第１のフィルタ膜３０の上方には、被除去物が混入された排水があり、第１のフィルタ膜３０の下方は、第１のフィルタ膜３０により濾過された濾過流体が生成されている。矢印の方向に排水を流し、第１のフィルタ膜３０を使って前記排水を濾過するため、水は、自然落下されるか、加圧されて図の下方に移る。また、濾過流体が在る側から排水が吸引される。また第１のフィルタ膜３０は、水平に配置されているが、実際には縦置きである。
【００３６】
上記したようにフィルタ膜を介して排水を加圧したり、吸引したりする結果、排水は、第１のフィルタ膜３０を通過する。その際、フィルタ孔３２を通過できない大きな被除去物３３は、第１のフィルタ膜３０の表面に残存する。
【００３７】
本発明では、被除去物が第１のフィルタ膜３０表面に捕獲されて残存した層を第２のフィルタ膜３１として活用する。
【００３８】
研削、研磨または粉砕等の機械加工により発生する被除去物は、その大きさ（粒径）が有る程度の範囲で分布し、しかもそれぞれの被除去物の形状が異なっている。また第１のフィルタ膜３０が浸かっている排水の中で被除去物がランダムに位置している。そして大きな被除去物から小さな被除去物までが不規則にフィルタ孔３２に移動していく。この時フィルタ孔３２よりも小さな被除去物３４は通過するが、フィルタ孔３２よりも大きな被除去物３３は捕獲される。そして捕獲された大きな被除去物３３が第２のフィルタ膜３１の初段の層となり、この層がフィルタ孔３２よりも小さなフィルタ孔を形成し、この小さなフィルタ孔を介して大きな被除去物２３から小さな被除去物３４が捕獲されていく。この時、被除去物の形状がそれぞれ異なるために、被除去物と被除去物の間には、色々な形状の隙間ができ、水はこの隙間を通路として移動し、最終的には濾過される。これは、砂浜の水はけが良いのと非常に似ている。
【００３９】
この第２のフィルタ膜３１は、大きな被除去物３３から小さな被除去物３４をランダムに捕獲しながら徐々に成長し、水（流体）の通路を確保しながら小さな被除去物３４をトラップする様になる。しかも第２のフィルタ膜３１は、層状に残存しているだけで被除去物は容易に移動可能なので、層の付近に気泡を通過させたり、水流を与えたり、音波や超音波を与えたり、機械的振動を与えたり、更にはスキージ等でこすったりする事で、簡単に第２のフィルタ膜３１の表層を排水側に移動させることができる。つまり第２のフィルタ膜３１のフィルタ能力が低下しても、第２のフィルタ膜３１に外力を加えることで、簡単にその能力を復帰させることができるメリットを有する。また別の表現をすれば、フィルタ能力の低下の原因は、主に目詰まりであり、この目詰まりを発生させている第２のフィルタ膜３１の表層の被除去物を再度流体中に移動させる事ができ、目詰まりを解消させることができる。
【００４０】
しかし第１のフィルタ膜３０が新規で取り付けられた場合、第１のフィルタ膜３０の表面には被除去物３３、３４の層（第２のフィルタ膜２１）が形成されていないので、また第１のフィルタ膜３０に第２のフィルタ膜３１の層が薄くしか形成されていない場合は、フィルタ孔３２を介して小さな被除去物３４が通過する。この時は、その濾過流体を再度排水が貯められている側に戻し、小さな被除去物３４が第２のフィルタ膜３１で捕獲されることを確認するまで待つ。そして確認した後は、通過した小さな被除去物３４の如きサイズの小さな被除去物が次々と捕獲され、排水は所定の清浄度で濾過される。
【００４１】
更に、本発明では、第２のフィルタ膜３１が形成されていない場合、あるいは濾過流体に小さな被除去物３４が残存する場合は、この濾過流体を排水側に戻す。この戻している最中に第１のフィルタ膜３０の表面には、フィルタ孔３２でトラップされた被除去物３３、３４が層状に膜として成長し、第１のフィルタ膜３０表面の第２のフィルタ膜３１は、色々なフィルタ孔径を作り出し、次々に小さい粒径から大きい粒径のものをトラップしてゆく。そして徐々に厚くなり、第１のフィルタ膜３０で通過した小さな被除去物３４やこの小さな被除去物３４と同程度のサイズ、更にはこれよりも小さな被除去物をトラップし、濾過流体は殆ど被除去物が混入されていないきれいな状態となる。
【００４２】
この状態を示すものが図５（Ｂ）である。そして濾過流体に所望のサイズの被除去物が混入されないこと（また所定の混入の度合よりも小さくなったこと）を確認した後、この濾過流体を再利用すれば良い。更には、濾過流体を自然界に戻しても良い。
【００４３】
また濾過流体に小さな被除去物３４が残存している場合、この濾過流体を戻すのではなく、別のタンクに移し、この小さな被除去物３４やこの被除去物３４と同程度のサイズの被除去物が捕獲されるのを確認し、その後の濾過流体を再利用したり、自然界に戻したりしても良い。
【００４４】
次に、図６を参照して本形態の濾過装置の機能ついて説明する。
【００４５】
上記したように、フィルタ能力の低下の原因は、主に目詰まりであり、この目詰まりを発生させている第２のフィルタ膜３１の表層の被除去物を再度流体中に移動させる事で目詰まりを解消させることができる。
【００４６】
図６では、第２のフィルタ膜３１を気泡を利用して取り除く方法の詳細を示す。ここでは、パイプ３５側をポンプなどで吸引すれば、ハッチングなしの矢印のように、水が流れることにより濾過される。また、第１の濾過膜３０の表面に被除去物から成る第２のフィルタ膜３１が形成される。この第２のフィルタ膜３１は、被除去物が付着し、堆積した物であるため、外力を加えることにより、第２のフィルタ膜３１の全体または部分的に除去することが可能である。除去方法としては気泡の上昇力を用いて表面をこすることにより実現できる。
【００４７】
図６を参照して、斜線で示す矢印の方向に気泡が上昇し、この気泡の上昇力や気泡の破裂が直接被除去物に外力を与え、また気泡の上昇力や気泡の破裂により発生する水流が被除去物に外力を与える。そしてこの外力により第２のフィルタ膜３１の濾過能力は、常時リフレッシュし、ほぼ一定の値を維持することになる。
【００４８】
本形態の特徴としては、図１から図４に示した散気機構１２を用いることで、常に、濾過能力を維持することにある。つまり第２のフィルタ膜３１に目詰まりが発生してその濾過能力が低下しても、前記気泡のように、第２のフィルタ膜３１を構成する被除去物を動かす外力を与えることで、第２のフィルタ膜２１を構成する被除去物を排水側に動かすことができ、濾過能力を長期にわたり維持させることができる。
【００４９】
尚、濾過能力を維持できれば、外力が常に加わっていても良いし、間欠的に加わっても良い。また、上記した本発明の実施の形態では、第１のパイプの具体的な数について言及しなかったが、特に限定する必要はなく、作業目的に応じて考慮されることが望ましい。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
【００５０】
図７を参照して、本形態の濾過装置の具体的な実施形態を説明する。
【００５１】
原水タンク２２の上方には、原水供給手段としてパイプ４０が設けられている。このパイプ４０は、被除去物が混入した流体の通過である。例えば、半導体分野で説明すると、ダイシング装置、バックグラインド装置、ミラーポリッシング装置またはＣＭＰ装置から流れ出る被除去物が混入された排水（原水）が通過する所である。これら被除去物は結晶インゴッドをウェハにスライスする際に発生する。尚、この排水は、ダイシング装置から流れるシリコン屑が混入された排水として説明していく。
【００５２】
原水タンク２２に貯留された被処理水１９の中には、本発明装置である濾過装置が浸漬されている。また、濾過フィルタ１１はパイプ４１に接続され、小型ポンプ４６により被処理水１９を吸引濾過する。ここで、破線で囲まれた部分が散気機構１２である。更に、ブロアー５０から散気機構１２に気体が供給されている。まず気体の流量は、第１のバルブ４８で第２のパイプ１４に供給される気体流量が設定される。次に、第２のバルブ４９で各第１のパイプに供給する気体流量が設定される。濾過フィルタ１１で濾過された濾過水は、切替バルブ４２を介して原水タンク２２側に向かうパイプ４３と、再利用（または排水される）側に向かうパイプ４４に選択輸送される。また原水タンク２２には流出パイプ５１と流出バルブ５２が取り付けられている。
【００５３】
パイプ４０から供給された被処理水１９は、原水タンク２２に貯められ、濾過フィルタ１１により濾過される。この濾過フィルタ１１に取り付けられたフィルタ膜の表面は、気泡１８が通過し、気泡の上昇力や破裂により、フィルタ膜にトラップしたシリコン屑を動かし、常にその濾過能力が低下しないように維持されている。
【００５４】
またフィルタ膜が新規に取り付けられたり、休日により長期間停止されたり、またはパイプ４１にシリコン屑が混入されている場合は、切替バルブ４２を使って、濾過水がパイプ４３を介して原水タンク２２に循環する様に設計されている。それ以外は、切替バルブ４２は、パイプ４４に切り替えられており、濾過水は再利用される。
【００５５】
被除去物が所定の混入率よりも高かった場合、濾過水は異常水と判断し、自動的に循環が開始したり、またはポンプが止められ濾過が停止される。また循環する時は、排水が原水タンク２２から溢れる事を考慮して、パイプ４０から原水タンク２２への流体供給が停止されても良い。
【００５６】
またセンサ４５は、シリコン屑を常時センシングしている。センサ４５として、受光・発光素子の付いた光センサを用いて、濾過水の透明度を検出することにより、濾過水中のシリコン屑の量を検出できる。発光素子は、発光ダイオードやレーザが考えられる。またセンサ４５は、パイプ４１の途中あるいはパイプ４４の途中に取り付けても良いが、本発明ではセンサ４５をパイプ４１の途中に取り付けた状態を１つの例として説明する。
【００５７】
一方、原水タンクは、時間とともに濃縮されてくる。そして所望の濃度になった場合、濾過作業を停止し、凝集沈殿を行う方法、またはフィルタプレスによってシリコンを回収する方法によって沈殿物が処理される。
【００５８】
以上述べたように、図７のシステムでは、原水タンク２２、濾過フィルタ１１、小型ポンプ４６で構成される。
【００５９】
以上説明したように、本形態で採用した、濾過装置は、リフレッシュ機構があり、フィルタの目詰まりが防止できる機構である。そのため、タンクにある排水は、従来のものと比べ、高濃度になる。従って、高濃度の被除去物は、自然とタンクの中に沈殿し、タンクの下方に配置された気泡発生手段を目詰まりさせることになる。
【００６０】
ところが、本発明の機構を採用すれば、濾過装置を停止させずに、簡単な機構で解決できる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の濾過装置を示す（Ａ）斜視図、（Ｂ）模式図である。
【図２】本発明の濾過装置の気泡拡散を説明する（Ａ）、（Ｂ）模式図である。
【図３】本発明の濾過装置を示す（Ａ）−（Ｃ）模式図である。
【図４】本発明の濾過装置を示す（Ａ）−（Ｃ）模式図である。
【図５】本発明の濾過装置の濾過機構を説明する（Ａ）、（Ｂ）模式図である。
【図６】本発明の濾過装置の濾過機構を説明する模式図である。
【図７】本発明の濾過装置の実施形態を説明する模式図である。
【図８】従来の濾過装置を説明するための模式図である。
【符号の説明】
【００６２】
１０              支持体
１１              濾過フィルタ
１２              散気機構
１３              第１のパイプ
１４              第２のパイプ
１５              流入口
１６              接続部
１７              バルブ
１８              気泡
１９              被処理水
２０              ガイド管
２１              気泡放出孔
２２              原水タンク
３０              第１のフィルタ膜
３１              第２のフィルタ膜
３２Ａ            大きな被除去物
３２Ｂ            小さな被除去物
３３              フィルタ孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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