(57)【要約】【課題】リフトオフ処理において、ＩＰＡ高圧ジェットスプレー処理にてウエハ及び設備汚染による歩留まりや設備トラブル発生の低減を図ることができるリフトオフ装置を得る。【解決手段】リフトオフ処理カップ４内のウエハ１の裏面付近にカバー５を設け、前記カバー５とウエハ１裏面の隙間へＩＰＡ１０５を満たすことにより、メタル片１０３ａおよびレジスト片１０２ａからの汚染を有効に低減し、歩留まり向上及び設備トラブル発生頻度の低減に有用である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
単体のウエハを保持する保持機構と、前記保持機構を任意の回転数で回転できる機構と、前記ウエハの表面に薬液を高圧ジェットタイプのスプレーで供給できる機構と、それら機構を包含する処理カップと、前記ウエハの裏面部分と一定の間隔をおいて設けられたカバーを保有することを特徴としたリフトオフ装置。
【請求項２】
単体のウエハ裏面とカバーの隙間にＩＰＡを満たす手段を特徴とした請求項１に記載のリフトオフ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造においてレジスト及びメタルをリフトオフするリフトオフ装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
以下、従来技術の問題点について図を用いて説明する。図４は従来使用されている最も一般的な設備の一例を示す概略図である。特許文献１は、従来技術の一例である。
【０００３】
従来のリフトオフ装置は図４に示す用にウエハカセットを載置したウエハロード４０１、剥離用ディップ槽４０２、置換用ＩＰＡディップ槽４０３，４０４、ＩＰＡバックリンス用スピンチャック４０５、ＩＰＡ高圧ジェットスプレー付スピンチャック４０６、ウエハアンロード４０７部から構成される。
【０００４】
ＩＰＡ置換槽は本例では２槽となっているが、１槽あるいは２槽以上の場合、また、ＩＰＡ高圧ジェットスプレー付スピンチャック１台あるいは２台以上でも基本的な効果に相違は無い。
【０００５】
前記のリフトオフ装置によるレジストあるいはメタル除去工程を次に述べる。
【０００６】
まず図３に示すレジスト５０２あるいはメタル５０３が形成されたウエハ５０１は、まず図４に示すウエハロード４０１にセットされ、続いて有機レジスト剥離液（ジメチルスルホキシド：６０％  Ｎ−メチル−２−ピロリジノン：４０％）の浸漬式槽（薬液槽）４０２に浸漬される。
【０００７】
有機レジスト剥離液浸漬式槽では浸漬中にレジスト内に剥離液が浸透し、その膨潤作用により、図３に示すレジスト５０２あるいはメタル５０３がウエハ５０１より部分的に剥離する。
【０００８】
このウエハは引き続き一次浸漬式ＩＰＡ置換槽４０３にて、レジスト剥離液を置換し、最終浸漬式ＩＰＡ置換槽４０４で剥離液の最終置換を行い、更に浸漬式ＩＰＡ置換槽の置換工程では除去できない、ウエハに付着したレジストあるいはメタルを回転機構のあるスピンチャック４０５の上部回転部分にウエハを真空で固定し、ウエハ裏面をＩＰＡリンス液で洗浄し、更に回転機構のあるスピンチャック４０６の上部回転部分にウエハを真空で固定する。
【０００９】
図３のウエハ表面のレジスト５０２あるいはメタル５０３をＩＰＡ高圧ジェットスプレー付スピンチャック４０６内のＩＰＡ高圧ジェットスプレー３によりａ−ａ′間を繰り返し移動することにより、レジスト５０２あるいはメタル５０３の除去処理を行っていた。
【特許文献１】特開平９−２７５０８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
その際、図４に示すＩＰＡ高圧ジェットスプレー付スピンチャック４０６の詳細図２に示すリフトオフ処理カップにおいてＩＰＡ高圧ジェットスプレー３ａ（ＩＰＡの吐出圧５０〜９０ｋｇ／ｃｍ2の範囲）がａ−ａ′間を繰り返し移動することにより、図２（ａ）に示すウエハ表面のレジスト２０２、メタル２０３の除去処理を行うが、ウエハ２０１表面より除去されたレジスト片２０２あるいはメタル片２０３が、図２に示すリフトオフ処理用飛散防止カップ４のカップ内側、スピンチャック２、ウエハ１の裏面部分に飛散し付着する。
【００１１】
再付着防止としては、ウエハ裏面部分に対し図２（ａ）に示すＩＰＡバックリンスノズル２０４よりＩＰＡ２０５をウエハ裏面にスプレーし洗浄しているが、ウエハ裏面の一部にしかＩＰＡリンス液が当たらず、ウエハ２０１の裏面へ、レジスト片２０２ａあるいはメタル片２０３ａが付着するため、後工程においてウエハ及び設備汚染による歩留まり低下や設備トラブルが発生する原因となる問題がある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の目的を達成するためにウエハ裏面に対し飛散したレジスト片あるいはメタル片が付着しないようにウエハ裏面近辺に再付着防止カバーを設ける。
【００１３】
また、再付着防止カバーとウエハとの隙間からレジスト片あるいはメタル片が入り込まないようにＩＰＡ液で隙間を満たし、レジスト片あるいはメタル片が入り込まないようにする。
【発明の効果】
【００１４】
以上、説明したように、この発明によりリフトオフ処理用飛散防止カップ図１（ａ）のように構成されることにより、従来よりレジスト片あるいはメタル片の再付着は無くなる等の優れた効果が得られた。その効果に対し、後工程でのウエハ及び設備汚染による歩留まり向上及び設備トラブル発生頻度が低下する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００１６】
図４に示すローダー４０１、薬液槽４０２、一次ＩＰＡ置換槽４０３、最終ＩＰＡ置換槽４０４、バックリンス４０５、リフトオフ処理４０６、アンローダー４０７から構成されるリフトオフ装置にて有機レジストあるいはメタル付ウエハがセットされたカセットをローダー部４０１に手動あるいは自動にてセットし、カセット移載用のロボットにより、ローダー４０１より、いずれか１カセットを剥離液投入の浸漬式剥離槽４０２、次工程の一次浸漬式ＩＰＡ置換槽４０３、次工程の最終浸漬式ＩＰＡ置換槽４０４の順で、レジストの膨潤作用によるレジスト剥離及び次工程での剥離液の一次置換、最終置換を行う。
【００１７】
続いて次工程の最終浸漬式ＩＰＡ置換槽４０４より次工程のバックリンス４０５へは枚葉式に搬送及び処理方法が変更され、バックリンス４０５にてバックリンス処理が行われる。
【００１８】
続いて本発明の図１（ａ）はＩＰＡ高圧ジェットスプレー３ｂにより、リフトオフ処理用飛散防止カップ４のカップ内側、スピンチャック２、ウエハ１の裏面部分に飛散するレジスト片及びメタル片の、特にウエハ１裏面及びスピンチャック２への再付着を防止するカバー５を備える機構を特徴としたリフトオフ処理カップである。図４に示すバックリンス４０５の処理完了後、多関節ロボットにより引き続いて本発明カップ４に移載される。
【００１９】
（実施の形態１）
本発明の詳細として図１（ａ）、図１（ｂ）にて説明する。バックリンス処理後移載されたレジストあるいはメタル付ウエハ１をスピンチャック２の上部中心に移載、真空により固定しスピンチャック２をｂ→ｂ′方向へ１〜２５００ｒｐｍ内で回転させ、ＩＰＡ高圧ジェットスプレー３ｂより、ＩＰＡを吐出圧５０〜９０ｋｇ／ｃｍ2の範囲で吐出しながらａ−ａ′間の移動を繰り返し、ウエハ表面のレジスト１０２あるいはメタル１０３を除去する。その処理により、リフトオフ処理用飛散防止カップ４のカップ内側、図１（ｂ）のスピンチャック２ａ、ウエハ１０１の裏面部分にレジスト片１０２ａあるいはメタル片１０３ａが飛散するが、ウエハ１０１裏面へのレジスト片１０２ａあるいはメタル片１０３ａへの再付着については、本発明のＳＵＳ製の再付着防止カバー５ａを取り付ける。
【００２０】
取り付け位置については、スピンチャック２ａに固定したウエハ１０１とＳＵＳ製の再付着防止カバー５ａとの間隔を１〜２ｍｍ、スピンチャック２ａとＳＵＳ製の再付着防止カバー５ａとの間隔を５ｍｍ程度に調整する。それにより、レジスト片１０２ａあるいはメタル片１０３ａの再付着を防止する。
【００２１】
（実施の形態２）
更にウエハ１０１及びスピンチャック２ａとＳＵＳ製の再付着防止カバー５ａとの間隔部分へＩＰＡ供給ノズル１０４より、ＩＰＡ１０５を満たすことにより、ウエハ１０１とＳＵＳ製の再付着防止カバー５ａの間隔から入り込むレジスト片１０２ａあるいはメタル片１０３ａの入りこみをなくし、再付着防止を図る。
【産業上の利用可能性】
【００２２】
本発明にかかるリフトオフ装置は、歩留まり向上及び設備トラブル発生頻度の低下に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施の形態に係るリフトオフ処理用飛散防止カップの概略断面図
【図２】従来のリフトオフ処理用飛散防止カップの概略断面図
【図３】本発明のリフトオフ機構を説明するための、処理ウエハの概略断面図
【図４】本発明の実施の形態に係るリフトオフ装置およびこれを用いたリフトオフ方法を説明するための装置構成図
【符号の説明】
【００２４】
１  ウエハ
２  スピンチャック
３  ＩＰＡ高圧ジェットスプレー
４  リフトオフ処理用飛散防止カップ
５  再付着防止カバー
１０１，２０１，５０１  ウエハ
１０２，２０２，５０２  レジスト膜
１０２ａ，２０２ａ  レジスト膜片
１０３，２０３，５０３  メタル膜
１０３ａ，２０３ａ  メタル膜片
１０４，２０４  ＩＰＡ供給ノズル
１０５，２０５  ＩＰＡ液
４０１  ウエハロード
４０２  剥離用ディップ槽
４０３，４０４  置換用ＩＰＡディップ槽
４０５  バックリンス用スピンチャック
４０６  ＩＰＡ高圧ジェットスプレー付スピンチャック
４０７  ウエハアンロード
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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