(57)【要約】【課題】  液晶表示素子などに用いられる基板の前処理面を洗浄するにあたって、その基板面に洗浄水が滞留しないようにして基板面に付着している残渣をきれいに洗い流す。【解決手段】  一方の面が前処理されている基板ＲＰ，ＦＰを搬送手段１２０にて支持させて給水ノズルＰＮ１，ＰＮ２を有する洗浄室１１１内を通過させながら洗浄水Ｗを供給して基板ＲＰ，ＦＰの前処理面を洗浄するにあたって、基板ＲＰ，ＦＰをその前処理面側を上面として水平基準面に対して所定角度θに傾けさせた状態で洗浄室１１１内を通過させ、上記前処理面に対してその上方から上記給水ノズルＰＮ１，ＰＮ２より洗浄水Ｗを供給して洗浄する。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の面が前処理されている基板を搬送手段にて支持させて給水ノズルを有する洗浄室内を通過させながら洗浄水を供給して上記基板の少なくとも前処理面を洗浄する基板洗浄方法において、
上記基板をその前処理面側を上面として水平基準面に対して所定角度に傾けさせた状態で上記洗浄室内を通過させ、上記前処理面に対してその上方から上記給水ノズルより洗浄水を供給して上記前処理面を洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項２】
上記基板を支持する上記搬送手段を２つ１組とし、その搬送手段の各々に上記基板を背中合わせとして上記所定角度傾けた状態で支持させて上記洗浄室内を通過させることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄方法。
【請求項３】
上記洗浄室内での上記基板の傾き角を上記水平基準面に対して３０〜４５゜とすることを特徴とする請求項１または２に記載の基板洗浄方法。
【請求項４】
給水ノズルを有する洗浄室と、一方の面が前処理されている基板を支持して上記洗浄室を通過させる搬送手段とを含み、上記洗浄室内で上記給水ノズルより供給される洗浄水により上記基板の少なくとも前処理面を洗浄する基板洗浄装置において、
上記搬送手段は所定の駆動手段により移動可能な台座部と、上記基板を着脱可能に支持する基板支持部とを備え、上記基板支持部が上記台座部上に起伏自在に設けられており、上記基板が上記基板支持部により所定角度に傾けられた状態で上記洗浄室内に搬送されることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項５】
上記基板支持部は上記基板の３辺に沿うコ字状のフレームを備え、上記フレームの所定箇所には上記基板を固着する負圧吸着手段が設けられていることを特徴とする請求項４に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
上記基板はその前処理面側を上にして上記基板支持部に載置され、上記洗浄室内では上記基板支持部により水平基準面に対して３０〜４５゜の範囲内に傾けられることを特徴とする請求項４または５に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
上記搬送手段が２つ１組とされ、その基板支持部の各々に上記基板が背中合わせとなるように所定の角度で支持された状態で上記洗浄室内に搬送されることを特徴とする請求項４ないし６のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
上記洗浄室には複数の洗浄部が含まれており、そのうちの特定洗浄部内には上記基板の前処理面に向けて洗浄水を供給する第１給水ノズルのほかに、上記基板の反前処理面に向けて洗浄水を供給する第２給水ノズルが設けられていることを特徴とする請求項４ないし７のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項９】
上記洗浄室の搬送方向下流側には基板乾燥用治具を有する乾燥室が設けられており、上記基板乾燥用治具はエア噴出用スリット口を備えるエアナイフと、上記エアナイフの下部側に配置されスリット口から所定の液体をカーテン状に吐出するパドルノズルとを含み、上記基板支持部により所定角度に傾けられている上記基板に沿って上下方向に移動可能であることを特徴とする請求項４ないし８のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】
所定の角度に傾けられた状態で洗浄された基板をその角度を保持したまま乾燥させる基板乾燥用治具であって、エア噴出用スリット口を備えるエアナイフと、上記エアナイフの下部側に配置され流水スリット口から所定の液体をカーテン状に吐出するパドルノズルとを備えていることを特徴とする基板乾燥用治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子を構成する基板（透明電極基板）の例えばラビング処理面を洗浄するのに好適な基板洗浄方法およびその装置と基板乾燥用治具に関し、さらに詳しく言えば、基板表面に洗浄水を滞留させることなく基板を洗浄する技術と、その基板表面をむらなく乾燥させる技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子の製造工程中における配向膜形成プロセスにおいては、透明電極が形成された基板表面にポリイミドなどの高分子膜により配向膜を形成したのち、その膜面をラビング処理する。ラビング処理には例えばナイロンやポリエステルなどの植毛布が用いられるため、その膜面にラビング布からの抜け毛やカスなどが付着して残されことがある。この種の残渣を除去するため、ラビング処理後に基板洗浄工程が用意されている（下記特許文献１参照）。
【０００３】
図９に、その基板洗浄工程で用いられている一般的な基板洗浄装置を模式的に示す。この基板洗浄装置１には、大別して基板を洗浄する洗浄工程と洗浄した基板を乾燥する乾燥工程とが含まれるが、この例では１回のパドル洗浄と２回のシャワー洗浄および１回の乾燥工程とが含まれている。
【０００４】
すなわち、この基板洗浄装置１には、パドル洗浄室２、第１および第２のシャワー洗浄室３，４および乾燥室５の各室がこの順序で隣接するように区画されて設けられている。また、パドル洗浄室２、第１および第２のシャワー洗浄室３，４および乾燥室５の全室にわたって基板搬送手段としてのコロコンベア６が配設されている。
【０００５】
基板搬送手段に関連して、パドル洗浄室２には基板搬入口Ｓ１が、乾燥室５には基板搬出口Ｓ２がそれぞれ設けられている。また、パドル洗浄室２，第１および第２のシャワー洗浄室３，４および乾燥室５をそれぞれ仕切る隔壁には、ラビング処理済みの基板Ｐを次室へと通過させるための基板通過用開口部Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５がそれぞれ形成されている。
【０００６】
パドル洗浄室２には、スリット状の吐出口より基板Ｐの表面（ラビング処理面）に対して洗浄水Ｗ１をカーテン状に流下するパドルノズル７が設置されている。これに対して、第１および第２のシャワー洗浄室３，４には、独立した複数の散水口より基板Ｐの表面に対して所定の洗浄水Ｗ２，Ｗ３を供給するシャワーノズル８，９が設置されている。乾燥室５には、エアーナイフ１０が設けられている。
【０００７】
通常、洗浄水Ｗ１〜Ｗ３には純水もしくは超純水が用いられるが、洗浄水Ｗ２，Ｗ３のいずれかにＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を含む洗浄水が使用されることもある。パドル洗浄は、シャワー洗浄する際に純水のミストが付着してむらが生ずるのを防止する目的で行われる前洗浄で、純水をあらかじめラビング処理面になじませるための洗浄である。
【０００８】
【特許文献１】特開平７−６４０９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記基板洗浄装置１によれば、基板Ｐをコロコンベア６によりパドル洗浄室２側から送り込むことにより、パドル洗浄→シャワー洗浄→乾燥が自動的に行われるのであるが、これには次のような問題がある。
【００１０】
パドル洗浄室２と第１シャワー洗浄室３との間、第１シャワー洗浄室３と第２シャワー洗浄室４の間および第２シャワー洗浄室４と乾燥室５との間は、それぞれ隔壁により仕切られているが、各室の洗浄水が隣室にできるだけ入り込まないようにするため、基板Ｐを次室へと通過させるための基板通過用開口部Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５をスリット状の狭い開口部としている。
【００１１】
特にＩＰＡを含む洗浄水を使用する場合には、ＩＰＡが隣室の純水に混入しないようにするため、基板通過用開口部Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５がより狭くされる。また、上記基板洗浄装置１を含めて従来装置では、ノズルからの基板Ｐに対する洗浄水の供給方向を基板が送り出される方向（搬送方向の下流側）としている。
【００１２】
これによれば、ノズルから基板Ｐに供給された洗浄水はその表面を伝わって基板搬送方向下流側に向けて流れるが、その行き先には上記基板通過用開口部Ｓ３，Ｓ４，Ｓ５の狭いスリットが存在するため洗浄水の流れが妨げられ流動が変動する。
【００１３】
これにより、基板Ｐ上に洗浄水が滞留したり泡が発生することがあり、これが原因で基板Ｐの表面からラビング処理時の残渣を流し切れず、最終的に完成品として組み立てられた液晶表示素子に表示欠陥が発生することがある。
【００１４】
また、上記の洗浄装置は基板を単シートで連続的に搬送して洗浄する枚葉式（平流し式）であるためその処理量に限界があり、例えばフロント側基板とリア基板を同時に洗浄するにはその基板ごとに洗浄ラインを用意する必要がある。すなわち、最低２台のライン構成を採用しなければならなかった。
【００１５】
したがって、本発明の第１の課題は、一例として液晶表示素子を構成する基板（透明電極基板）の例えばラビング処理面を洗浄するにあたって、その基板面に洗浄水が滞留しないようにして基板面に付着している残渣をきれいに洗い流すことにある。また、本発明の第２の課題は、同一の洗浄工程で２枚の基板を同時に処理できるようにすることにある。また、本発明の第３の課題は、洗浄された基板面をむらなく乾燥させることができる基板乾燥用治具を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記第１の課題を解決するため、請求項１に係る発明は、一方の面が前処理されている基板を搬送手段にて支持させて給水ノズルを有する洗浄室内を通過させながら洗浄水を供給して上記基板の少なくとも前処理面を洗浄する基板洗浄方法において、上記基板をその前処理面側を上面として水平基準面に対して所定角度に傾けさせた状態で上記洗浄室内を通過させ、上記前処理面に対してその上方から上記給水ノズルより洗浄水を供給して上記前処理面を洗浄することを特徴としている。
【００１７】
請求項２に係る発明は、上記基板を支持する上記搬送手段を２つ１組とし、その搬送手段の各々に上記基板を背中合わせとして上記所定角度傾けた状態で支持させて上記洗浄室内を通過させることを特徴としており、これにより上記第２の課題が解決される。
【００１８】
請求項３に係る発明は、上記洗浄室内での上記基板の傾き角を上記水平基準面に対して３０〜４５゜とすることを特徴としており、これによれば基板面上での洗浄水の流れを均一にすることができる。
【００１９】
また、上記第１の課題を解決するため、請求項４に係る発明は、給水ノズルを有する洗浄室と、一方の面が前処理されている基板を支持して上記洗浄室を通過させる搬送手段とを含み、上記洗浄室内で上記給水ノズルより供給される洗浄水により上記基板の少なくとも前処理面を洗浄する基板洗浄装置において、上記搬送手段は所定の駆動手段により移動可能な台座部と、上記基板を着脱可能に支持する基板支持部とを備え、上記基板支持部が上記台座部上に起伏自在に設けられており、上記基板が上記基板支持部により所定角度に傾けられた状態で上記洗浄室内に搬送されることを特徴としている。
【００２０】
請求項５に係る発明は、請求項４に係る発明において、上記基板支持部は上記基板の３辺に沿うコ字状のフレームを備え、上記フレームの所定箇所には上記基板を固着する負圧吸着手段が設けられていることを特徴としている。
【００２１】
請求項６に係る発明は、請求項４または５に係る発明において、基板面上での洗浄水の流れを均一にするため、上記基板はその前処理面側を上にして上記基板支持部に載置され、上記洗浄室内では上記基板支持部により水平基準面に対して３０〜４５゜の範囲内に傾けられることを特徴としている。
【００２２】
請求項７に係る発明は、請求項４ないし６のいずれか１項において、上記搬送手段が２つ１組とされ、その基板支持部の各々に上記基板が背中合わせとなるように所定の角度で支持された状態で上記洗浄室内に搬送されることを特徴としており、これにより上記第２の課題が解決される。
【００２３】
請求項８に係る発明は、請求項４ないし７のいずれか１項において、上記洗浄室には複数の洗浄部が含まれており、そのうちの特定洗浄部内には上記基板の前処理面に向けて洗浄水を供給する第１給水ノズルのほかに、上記基板の反前処理面に向けて洗浄水を供給する第２給水ノズルが設けられていることを特徴としている。
【００２４】
請求項９に係る発明は、請求項４ないし８のいずれか１項において、上記洗浄室の搬送方向下流側には基板乾燥用治具を有する乾燥室が設けられており、上記基板乾燥用治具はエア噴出用スリット口を備えるエアナイフと、上記エアナイフの下部側に配置されスリット口から所定の液体をカーテン状に吐出するパドルノズルとを含み、上記基板支持部により所定角度に傾けられている上記基板に沿って上下方向に移動可能であることを特徴としている。
【００２５】
上記第３の課題を解決するため、請求項１０に係る発明は、所定の角度に傾けられた状態で洗浄された基板をその角度を保持したまま乾燥させる基板乾燥用治具であって、エア噴出用スリット口を備えるエアナイフと、上記エアナイフの下部側に配置され流水スリット口から所定の液体をカーテン状に吐出するパドルノズルとを備えていることを特徴としている。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の基板洗浄方法およびその装置によれば、基板を所定角度に傾斜させた状態でその前処理面に洗浄水を供給するようにしたことにより、洗浄水が基板の傾斜面に沿って基板の下方側へと流れるため、洗浄水の滞留や泡発生に起因する残渣の洗い残しをなくすことができる。
【００２７】
また、上記搬送手段を２つ１組とし、その各々に基板を支持させて洗浄室内を通過させることにより、例えば液晶表示素子に含まれるフロント側基板とリア基板などの２枚の基板を同時に洗浄することができる。
【００２８】
また、本発明の基板乾燥用治具によれば、所定の角度に傾けられた状態で洗浄された基板をその角度を保持したまま乾燥させるにあたって、速く乾く部分と遅く乾く部分とに起因する乾燥むらを生じさせることなく、その基板の洗浄面を均一に乾燥させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
次に、図１ないし図８を参照して、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３０】
まず、図１（ａ）（ｂ）により、本発明の基板洗浄装置１００の全体的な構成について説明する。図１（ａ）は基板洗浄装置１００のライン構成の一例を示す模式的な平面図、図１（ｂ）は基板洗浄装置１００に含まれている各工程を示す模式的な側面図である。なお、この基板洗浄装置１００で処理する基板には、液晶表示素子に用いられる例えばラビング処理済みのフロント基板ＦＰとリア基板ＲＰとが含まれるが、特に区別する必要がない場合には単に基板Ｐとしている。
【００３１】
この基板洗浄装置１００は、搬送コンベアＴ１を有する往路ラインＭＬと、その両側に配置される搬送コンベアＴ４を有する復路ラインＳＬ１，ＳＬ２と、往路ラインＭＬの基板搬入側に配置される基板搬入用コンベアＴ２を有する基板搬入ステージＩＳと、往路ラインＭＬの基板搬出側に配置される基板搬出用コンベアＴ３を有する基板搬出ステージＯＳとを備えている。
【００３２】
往路ラインＭＬにはフロント基板ＦＰとリア基板ＲＰとを同時に洗浄し乾燥する洗浄乾燥処理室１１０が配置されている。復路ラインＳＬ１，ＳＬ２のうち、一方の復路ラインＳＬ１はリア基板ＲＰの基板搬送用治具１２０を基板搬出ステージＯＳ側から基板搬入ステージＩＳ側に戻すラインで、他方の復路ラインＳＬ２はフロント基板ＦＰの基板搬送用治具１２０を基板搬出ステージＯＳ側から基板搬入ステージＩＳ側に戻すラインである。
【００３３】
この例において、洗浄乾燥処理室１１０内には往路ラインＭＬの搬送方向を示す矢印Ｌ１の上流側から下流側にかけてパドル洗浄部１１１，第１シャワー洗浄部１１２，第２シャワー洗浄部１１３，第３シャワー洗浄部１１４，第１乾燥部１１５および第２乾燥部１１６が設けられている。なお、本発明においては、洗浄乾燥処理室１１０内に特に各部を仕切るための仕切壁を設ける必要はなく、洗浄乾燥処理室１１０の両端に基板搬入口Ｓ１と基板搬出口Ｓ２とが設けられていればよい。
【００３４】
本発明において、基板搬送用治具１２０はフロント基板ＦＰとリア基板ＲＰともに基板１枚ごとに割り当てられる。図２に示すように、基板搬送用治具１２０は基板Ｐの３辺に沿うようにほぼコ字形状に形成されたフレーム１２１と、支軸１２２を介してフレーム１２１の基端側を軸支する台座部１２３とを備えている。
【００３５】
フレーム１２１には基板Ｐの側縁を吸着するための吸着穴１２４が設けられており、吸着穴１２４はホース１２５を介して図示しない減圧手段に接続されている。なお、図示しないがホース１２５には吸着穴１２４を大気と上記減圧手段とに選択的に切り替える切替バルブが設けられている。
【００３６】
また、フレーム１２１を支持する支軸１２２は台座部１２３に設けられている図示しないモータに連結されており、フレーム１２１はそのモータよって初期位置である水平状態から基板洗浄乾燥時の所定の角度に傾けられる位置の範囲内で往復的に回転駆動される。台座部１２３は往路ラインＭＬの搬送コンベアＴ１および復路ラインＳＬ１，ＳＬ２の各搬送コンベアＴ４上に載せられて搬送される。
【００３７】
復路ラインＳＬ１，ＳＬ２によって基板搬入ステージＩＳ側に戻された基板搬送用治具１２０は基板搬入用コンベアＴ２から基板Ｐを受け取り、往路ラインＭＬの搬送コンベアＴ１上に移し替えられ、洗浄乾燥処理室１１０内を通って基板搬出ステージＯＳに至り、その基板搬出用コンベアＴ３に基板Ｐを受け渡して復路ラインＳＬ１，ＳＬ２を介して再び基板搬入ステージＩＳ側に戻される。
【００３８】
基板搬送用治具１２０の基板搬入ステージＩＳ側での基板受け取りおよび基板搬出ステージＯＳ側での基板受け渡しは、その動作が逆なだけで構成は同一であってよいため、ここでは図３および図４により基板搬入ステージＩＳ側で基板を受け取る構成について説明する。
【００３９】
基板搬入ステージＩＳには、前処理面（ラビング処理面）を上として基板搬入テーブルＴ２により送られてくる基板Ｐを基板搬送用治具１２０に移し替える基板トランスファ部１３０が設けられている。図３，図４はリア基板ＲＰ側の基板トランスファ部１３０を示しているが、フロント基板ＦＰ側にも同様な構成の基板トランスファ部１３０が設けられている。
【００４０】
基板搬送部１３０は基板搬入テーブルＴ２の両側に沿って並置される１対の基台１３１と、この基台１３１間に配置される昇降テーブル１３２とを備えている。復路ラインＳＬ１より戻された基板搬送用治具１２０は図４（ｂ）に示すように下降位置にある昇降テーブル１３２上に載置される。
【００４１】
基台１３１の各々には、その先端側の支持輪１３４を対向させた複数本のコロコンベア１３３が配設されている。この場合、左右の支持輪１３４上にリア基板ＲＰの側縁が支持されるようになっており、対向する支持輪１３４間の距離は少なくとも基板搬送用治具１２０のフレーム１２１より大きくされている。
【００４２】
この例において、コロコンベア１３３は図示しないモータなどにより回転し、基板搬入コンベアＴ２からのリア基板ＲＰを図１（ａ）矢印Ｌ３方向に送る。なお、コロコンベア１３３にはリア基板ＲＰをガイドするテーパ形状の鍔１３５が設けられている。
【００４３】
基板搬入テーブルＴ２から図４（ａ）に示すようにラビング処理済みのリア基板ＲＰが基板搬送部１３０のコロコンベア１３３に送り込まれると、図４（ｂ）に示すように基板搬送用治具１２０が昇降テーブル１３２によって上昇して図４（ｃ）に示すようにコロコンベア１３３からリア基板ＲＰを受け取る。
【００４４】
このとき、フレーム１２１の吸着穴１２４が図示しないバルブの切替により減圧手段に接続され、その負圧吸着作用によりリア基板ＲＰがフレーム１２１に固定される。その後、支軸１２２の回動によって図４（ｄ）に示すようにフレーム１２１とともにリア基板ＲＰがそのラビング処理面を上にして所定の角度に傾けられて往路ラインＭＬの搬送コンベアＴ１上に移し替えられる。なお、搬送コンベアＴ１上に移し替えた後、リア基板ＲＰを傾けてもよい。
【００４５】
フロント基板ＦＰも同様にして基板搬入テーブルＴ２から基板搬送用治具１２０に載せ替えられるが、その載せ替えはリア基板ＲＰと同期して行われる。すなわち、リア基板ＲＰが搭載された基板搬送用治具１２０とフロント基板ＦＰが搭載された基板搬送用治具１２０は同時に往路ラインＭＬの搬送コンベアＴ１上に移し替えられ、リア基板ＲＰとフロント基板ＦＰは対としてまずパドル洗浄部１１１に送られる。
【００４６】
図５にパドル洗浄部１１１での基板洗浄状態を示す。パドル洗浄部１１１内にはリア基板ＲＰ用のパドルノズルＰＮ１とフロント基板ＦＰ用のパドルノズルＰＮ２の２つのノズルが用意されており、これらのパドルノズルＰＮ１，ＰＮ２より各基板ＲＰ，ＦＰのラビング処理面に洗浄水Ｗが供給される。ここでの洗浄水Ｗには純水が用いられる。
【００４７】
パドルノズルＰＮ１，ＰＮ２はスリット状の吐出口より洗浄水Ｗをカーテン状に流下するノズルであり、パドル洗浄とはシャワー洗浄する際に純水のミストが付着してむらが生ずるのを防止する目的で行われる前洗浄で、純水をあらかじめラビング処理面になじませるための洗浄である。
【００４８】
本発明において、各基板ＲＰ，ＦＰの傾斜角θは３０〜４５゜の範囲内であることが洗浄水Ｗが均一に流れるようにするうえで好ましい。これ以外の範囲であると洗浄水Ｗの流れが不均一になったり局部的に滞留したりすることがある。例えば２５゜以下では洗浄水Ｗが滞留しやすく、また５０゜以上では洗浄水Ｗの流れが速すぎて流れが不均一になりやすい。この基板傾斜角θ（３０〜４５゜）は次段のシャワー洗浄時および乾燥時にも維持される。
【００４９】
パドル洗浄後、リア基板ＲＰとフロント基板ＦＰは対として第１シャワー洗浄部１１２→第２シャワー洗浄部１１３→第３シャワー洗浄部１１４へと順次送られる。各シャワー洗浄部１１２，１１３，１１４の構成は同じであってよく、その一例を図６に示す。
【００５０】
これによると、各シャワー洗浄部１１２，１１３，１１４内には４つのシャワーノズルＳＮ１，ＳＮ２，ＳＮ３，ＳＮ４が設けられている。このうち、シャワーノズルＳＮ１，ＳＮ２は各基板ＲＰ，ＦＰのラビング処理面に洗浄水Ｗを供給し、残りのシャワーノズルＳＮ３，ＳＮ４は各基板ＲＰ，ＦＰの裏面（反ラビング処理面）に洗浄水Ｗを供給する。すなわち、各シャワー洗浄部１１２，１１３，１１４では両面洗浄が行われる。
【００５１】
第１シャワー洗浄部１１２と第２シャワー洗浄部１１３での洗浄水Ｗには、主にイオン成分を除去する目的で純水が用いられる。これに対して、第３シャワー洗浄部１１４では洗浄水Ｗとして、油分を除去する目的でＩＰＡ（イソプロピルアルコール）と純水とを例えば１：１で混合した混合水が用いられる。
【００５２】
第３シャワー洗浄部１１４を経たリア基板ＲＰとフロント基板ＦＰは上記の基板傾斜角θを維持した状態で第１乾燥部１１５および第２乾燥部１１６に送られる。図７に第１乾燥部１１５での乾燥状態を示し、図８に第１乾燥部１１５で用いられる乾燥用治具１４０を示す。
【００５３】
上記のように所定の角度に傾斜された状態で洗浄された基板Ｐをその傾斜角を維持したまま乾燥する場合、基板面に付着している残留洗浄水が流れ落ちることにより、上方が速く乾き下方の乾きが遅くなるためエアナイフだけでは乾燥むらが生ずる。
【００５４】
これを防止するため、乾燥用治具１４０はエア噴出用スリット口１４４を備えるエアナイフ１４３と、エアナイフ１４３の下部側に配置され流水スリット口１４２から所定の液体をカーテン状に吐出するパドルノズル１４１とを備えおり、図７に示すようにリア基板ＲＰとフロント基板ＦＰの各洗浄面（ラビング処理面）に対してその上方から下方に向けて平行移動する。
【００５５】
この移動時に、パドルノズル１４１から例えばＩＰＡと純水の混合液が吐出され、同時にエアナイフ１４３から空気が吹き出される。すなわち、混合液で基板面をぬらしながらその直後に空気による液切りを行うことにより、基板面全面をむらなく乾燥させることができる。
【００５６】
なお、図示しないがリア基板ＲＰとフロント基板ＦＰの裏面はエアナイフのみにて乾燥してよい。また、第２乾燥部１１６は補助的な乾燥工程であり、エアナイフでの仕上げ乾燥が行われる。第２乾燥部１１６は本発明の要部に含まれないため詳しい説明および図示は省略する。
【００５７】
乾燥を終えたリア基板ＲＰとフロント基板ＦＰは基板搬出ステージＯＳに至り、それぞれ基板搬送用治具１２０から基板搬出用コンベアＴ３に載せ替えられて図１（ａ）に示す矢印Ｌ４方向に搬出される。また、基板搬送用治具１２０は復路ラインＳＬ１，ＳＬ２を介して再び基板搬入ステージＩＳ側に戻される。
【００５８】
そのため、基板の上方側から純水を流下させて基板の純水を馴染ませた直後に、エア乾燥させることができる。これによれば、基板洗浄室１１０内で基板を傾斜させながら搬送させることで乾燥が早く進む上方と乾燥しにくい下方との乾燥ムラを防ぐことができ、基板表面を均一に乾燥させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明による基板洗浄方法およびその装置と基板乾燥用治具は、上記実施形態で説明した液晶表示素子に用いられる基板（透明電極基板）のほかに、例えばプリント配線基板などの洗浄にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】（ａ）本発明に係る基板洗浄装置のライン構成の一例を示す模式的な平面図、（ｂ）はその基板洗浄装置に含まれている各工程を示す模式的な側面図。
【図２】上記基板洗浄装置に用いられる基板搬送用治具の一例を模式的に示す断面図。
【図３】上記基板洗浄装置における基板搬入ステージを模式的に示す平面図。
【図４】（ａ）〜（ｄ）上記基板搬入ステージでの基板受け渡し動作を説明するための模式図。
【図５】上記基板洗浄装置内のパドル洗浄部での洗浄状態を示す模式図。
【図６】上記基板洗浄装置内のシャワー洗浄部での洗浄状態を示す模式図。
【図７】上記基板洗浄装置内の第１乾燥部での乾燥状態を示す模式図。
【図８】上記第１乾燥部に用いられる基板乾燥用治具を概略的に示す斜視図。
【図９】従来の基板洗浄装置の一例を模式的に示す説明図。
【符号の説明】
【００６１】
１００  基板洗浄装置
１１０  洗浄乾燥処理室
１１１  パドル洗浄部
１１２，１１３，１１４  シャワー洗浄部
１１５，１１６  乾燥部
１２０  基板搬送用治具
１２１  フレーム
１２２  支軸
１２３  台座部
１２４  吸着穴
１３０  基板トランスファ部
１３１  基台
１３２  昇降テーブル
１３３  コロコンベア
１４０  基板乾燥用治具
１４１  パドルノズル
１４２  流水口スリット
１４３  エアナイフ
１４４  エア噴出スリット
ＭＬ  往路ライン
ＳＬ  復路ライン
【図１】
2005186031.tif 000003
【図２】
2005186031.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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