(57)【要約】【課題】  一般的に使用されている板厚の金属薄板材を用いてフォトエッチング加工によりデルタ配列の蒸着用マスクを製造する場合においても、高い加工精度が得られ、作業性も良好である方法を提供する。【解決手段】  金属薄板材の一方面側からエッチングして、複数の小孔凹部を千鳥格子状に配列して形成し、金属薄板材の他方面側からエッチングして、平面形状が小孔凹部の平面形状とほぼ相似形で小孔凹部より大きい複数の大孔凹部を小孔凹部の形成位置に対応させ千鳥格子状に配列して形成し、このときに、千鳥配置的に隣り合う大孔凹部の外周縁同士が部分的に重なり合うまで金属薄板材をエッチングし、金属薄板材の厚み方向において小孔凹部と大孔凹部とを連通させて複数の透孔を形成する。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属薄板材の一方面側からエッチングして、複数の小孔凹部を千鳥格子状に配列して形成し、前記金属薄板材の他方面側からエッチングして、平面形状が前記小孔凹部の平面形状とほぼ相似形で小孔凹部より大きい複数の大孔凹部を各小孔凹部の形成位置にそれぞれ対応させ千鳥格子状に配列して形成し、前記金属薄板材の厚み方向において前記各小孔凹部と前記各大孔凹部とをそれぞれ連通させて、蒸着材料を通過させるための複数の透孔を千鳥格子状に配列して形成する蒸着用マスクの製造方法において、
前記金属薄板材に前記大孔凹部を形成するときに、千鳥配置的に隣り合う大孔凹部の外周縁同士が部分的に重なり合うまで金属薄板材をエッチングすることを特徴とする蒸着用マスクの製造方法。
【請求項２】
前記小孔凹部および前記大孔凹部の平面形状が矩形状であり、千鳥配置的に隣り合う大孔凹部の外周縁の、互いに近接したコーナー部同士が重なり合うように金属薄板材がエッチングされる請求項１記載の蒸着用マスクの製造方法。
【請求項３】
金属薄板材に、蒸着材料を通過させるための複数の透孔を千鳥格子状に配列して形成する蒸着用マスクの製造方法において、
金属薄板材の一方面側からエッチングして、複数の凹部を千鳥格子状に配列して形成し、前記金属薄板材の他方面側からエッチングして、前記複数の凹部の形成領域に対応する一定深さの大形凹部を形成し、前記金属薄板材の厚み方向において前記各凹部と前記大形凹部とをそれぞれ連通させて、前記複数の透孔を形成することを特徴とする蒸着用マスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板の表面に低分子有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）材料、電極形成用材料、誘電体材料、絶縁体材料などを蒸着させる際に使用される蒸着用マスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電圧の印加によって発光する低分子有機ＥＬ材料からなる有機発光層を備えた有機ＥＬ表示パネルは、透明基板上に透明電極層を形成し、その透明電極層上に低分子有機ＥＬ材料からなる有機発光層を形成し、その有機発光層上にさらに金属電極層を形成して製造される。この有機ＥＬ表示パネルの製造工程において、透明電極層上への有機発光層の形成は、通常、所定パターンの多数の微細透孔を有する蒸着用のメタルマスクを用いて低分子有機ＥＬ材料を基板上へ蒸着させる方法で行われる。この有機発光層の形成工程で使用される蒸着用マスクは、例えば金属薄板材をフォトエッチングにより加工して、所定パターンの多数の微細透孔が形成された１つもしくは複数のマスク領域を有するマスク薄板を製作し、そのマスク薄板を支持フレームに固着する方法によって製造されている。
【０００３】
ところで、主として文字を表示させる有機ＥＬ表示パネルを製造するときには、多数のスリット状透孔が短いピッチで互いに平行に配列された蒸着用マスクが使用され、主として画像を表示させる有機ＥＬ表示パネルを製造するときには、矩形状、スロット状等の多数の微細透孔が千鳥格子状に配列（以下、このような配列を「デルタ配列」という）された蒸着用マスクが使用される（例えば、特許文献１参照。）。このうちのデルタ配列の蒸着用マスクは、図９に部分平面図を示すように、金属薄板材１に多数の微細透孔２が千鳥格子状に配列されて形成されている。なお、この蒸着用マスクは、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色を発する有機ＥＬ材料を塗り分けて有機発光層を形成するときに、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの１色を発する有機ＥＬ材料を透明電極層上に蒸着させるために使用されるものであり、有機ＥＬ材料の蒸着処理は３工程で行われて、有機発光層が形成される。このようなデルタ配列の蒸着用マスクに対しては、厳しいスペックが要求される。すなわち、千鳥配置的に隣り合った微細透孔２の、互いに近接したコーナー部間に形成されるリブ３の幅は、通常２０μｍ程度とされる。また、図１０に図９のＣ−Ｃ’線部分拡大断面図を示すように、リブ３における微細透孔２のテーパー面の角度θについては、４５°以下であることが求められる。
【特許文献１】特開２００２−２３１４４９号公報（第３頁、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
デルタ配列の蒸着用マスクに対しては、上記したように厳しいスペックが求められるため、フォトエッチング加工において一般的に使用されている板厚８０μｍ〜１００μｍの金属薄板材では、デルタ配列の蒸着用マスクを製造することが困難であった。このため、従来は、電鋳によってデルタ配列の蒸着用マスクが製造されていた。また、板厚１０μｍ程度の金属薄板材を用いるようにすれば、上記したスペックのデルタ配列の蒸着用マスクをフォトエッチング加工により製造することは可能であるが、その場合には、エッチング加工時や検査時等における金属薄板材のライン搬送性やハンドリングの面で問題があり、また、金属薄板材の折れ、変形等の不良発生といった問題もあり、現実にはフォトエッチングによるデルタ配列の蒸着用マスクの製造は殆ど行われていなかった。
【０００５】
この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、従来から一般的に使用されている板厚の金属薄板材を用いてフォトエッチング加工によりデルタ配列の蒸着用マスクを製造する場合においても、高い加工精度が得られて、厳しいスペックにも対応することができ、作業性が良好で、金属薄板材に折れ、変形等の不良が発生することもない蒸着用マスクの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に係る発明は、金属薄板材の一方面側からエッチングして、複数の小孔凹部を千鳥格子状に配列して形成し、前記金属薄板材の他方面側からエッチングして、平面形状が前記小孔凹部の平面形状とほぼ相似形で小孔凹部より大きい複数の大孔凹部を各小孔凹部の形成位置にそれぞれ対応させ千鳥格子状に配列して形成し、前記金属薄板材の厚み方向において前記各小孔凹部と前記各大孔凹部とをそれぞれ連通させて、蒸着材料を通過させるための複数の透孔を千鳥格子状に配列して形成する蒸着用マスクの製造方法において、前記金属薄板材に前記大孔凹部を形成するときに、千鳥配置的に隣り合う大孔凹部の外周縁同士が部分的に重なり合うまで金属薄板材をエッチングすることを特徴とする。
【０００７】
請求項２に係る発明は、請求項１記載の蒸着用マスクの製造方法において、前記小孔凹部および前記大孔凹部の平面形状が矩形状であり、千鳥配置的に隣り合う大孔凹部の外周縁の、互いに近接したコーナー部同士が重なり合うように金属薄板材をエッチングすることを特徴とする。
【０００８】
請求項３に係る発明は、金属薄板材に、蒸着材料を通過させるための複数の透孔を千鳥格子状に配列して形成する蒸着用マスクの製造方法において、金属薄板材の一方面側からエッチングして、複数の凹部を千鳥格子状に配列して形成し、前記金属薄板材の他方面側からエッチングして、前記複数の凹部の形成領域に対応する一定深さの大形凹部を形成し、前記金属薄板材の厚み方向において前記各凹部と前記大形凹部とをそれぞれ連通させて、前記複数の透孔を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１に係る発明の蒸着用マスクの製造方法によると、金属薄板材に大孔凹部を形成するときに、千鳥配置的に隣り合う大孔凹部の外周縁同士が部分的に重なり合うまで金属薄板材がエッチングされるので、その部分的に重なり合うまでエッチングされた部分における厚みは、金属薄板材の元の板厚より薄くなる。したがって、板厚の薄い金属薄板材を使用した場合と同様に、当該部分における加工精度が高くなり、千鳥配置的に隣り合った透孔の、互いに近接したコーナー部間に形成されるリブの幅やリブにおける透孔のテーパー面の角度について求められるスペックにも十分に対応することができる。一方、前記部分以外の部分は或る程度の厚みを有しており、また、少なくとも複数の透孔が形成された有効領域の周辺部は、金属薄板材の元の板厚を残しているので、金属薄板材のライン搬送性やハンドリング性が良好であり、金属薄板材の折れ、変形等の不良発生も起こらない。このように、この発明によると、従来から一般的に使用されている板厚の金属薄板材を用いてフォトエッチング加工によりデルタ配列の蒸着用マスクを製造することが可能になる。
【００１０】
請求項２に係る発明の製造方法では、平面形状が矩形状である複数の透孔が形成されたデルタ配列の蒸着用マスクが高い加工精度で得られる。
【００１１】
請求項３に係る発明の蒸着用マスクの製造方法によると、金属薄板材の他方面側に、一方面側に形成された複数の凹部の形成領域に対応する一定深さの大形凹部が形成されるので、複数の透孔が形成された領域全体の厚みが金属薄板材の元の板厚より薄くなる。したがって、板厚の薄い金属薄板材を使用した場合と同様に加工精度が高くなり、千鳥配置的に隣り合った透孔の、互いに近接したコーナー部間に形成されるリブの幅やリブにおける透孔のテーパー面の角度について求められるスペックにも十分に対応することができる。一方、複数の透孔が形成された有効領域の周辺部は、金属薄板材の元の板厚を残しているので、金属薄板材のライン搬送性やハンドリング性が良好であり、金属薄板材の折れ、変形等の不良発生も起こらない。このように、この発明によると、従来から一般的に使用されている板厚の金属薄板材を用いてフォトエッチング加工によりデルタ配列の蒸着用マスクを製造することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、この発明の最良の実施形態について図１ないし図８を参照しながら説明する。
図１ないし図３は、第１の発明に係る蒸着用マスクの製造方法の１例について説明するための模式的拡大断面図である。これらの図により、蒸着用マスクの製造方法を詳しく説明する。
【００１３】
まず、図１の（ａ）に示すように、金属薄板材１０を用意する。この金属薄板材１０は、インバー合金等の鉄／ニッケル（Ｆｅ／Ｎｉ）合金や鉄などの熱膨張が少ない金属材料で形成され、板厚が、例えば８０μｍ〜１００μｍである。このような金属薄板材１０の両面に、図１の（ｂ）に示すように、感光液をそれぞれ塗布し乾燥させて、金属薄板材１０の両面にフォトレジスト膜１２、２２を被着形成する。
【００１４】
次に、図１の（ｃ）に示すように、金属薄板材１０のフォトレジスト膜１２面側に、所定パターンを有する露光用マスク１４を密着させるとともに、金属薄板材１０のフォトレジスト膜２２面側に、所定パターンを有する露光用マスク２４を密着させる。このときに使用される露光用マスク１４は、形成しようとする多数の小孔凹部に対応した矩形状画像が千鳥格子状に配列されたパターンを有している。また、露光用マスク２４は、露光用マスク１４に描出された矩形状画像とほぼ相似形でそれより大きい多数の矩形状画像が千鳥格子状に配列されたパターンを有しており、それらの矩形状画像が、形成しようとする多数の大孔凹部に対応する。このような露光用マスク２４を金属薄板材１０のフォトレジスト膜２２面に、露光用マスク１４の各矩形状画像と露光用マスク２４の各矩形状画像とがそれぞれ対応するように位置合わせして密着させる。そして、露光用マスク１４、２４を介してフォトレジスト膜１２、２２をそれぞれ露光し、フォトレジスト膜１２、２２をそれぞれ所定パターン通りに硬化（不溶化）させた後、図２の（ｄ）に示すように、現像して、金属薄板材１０の両面に所定パターンを有する耐食性レジスト膜１６、２６をそれぞれ形成する。
【００１５】
続いて、塩化第二鉄水溶液等のエッチング液を用いてスプレイエッチングを行うことにより、図２の（ｅ）に示すように、金属薄板材１０の片面側に多数の小孔凹部１８を形成する。このとき、金属薄板材１０のもう一方の片面側もエッチングされて、小孔凹部１８と連通しない程度の多数の大孔凹部２８ａが形成される。金属薄板材１０の片面側に小孔凹部１８が形成されると、図２の（ｆ）に示すように、金属薄板材１０の、小孔凹部１８が形成された面側を、耐エッチング性を有する保護膜２０によって被覆する。この保護膜２０は、例えば、アルカリ可溶性の蒸発乾燥型樹脂を金属薄板材１０の小孔凹部１８形成面側に塗布した後に乾燥させたり、アルカリ可溶性の紫外線硬化型樹脂を小孔凹部１８形成面側に塗布した後に紫外線で露光したり、保護粘着フィルムを小孔凹部１８形成面側に貼り付けたりすることにより形成される。
【００１６】
次に、塩化第二鉄水溶液等のエッチング液を用いて再びスプレイエッチングを行うことにより、図３の（ｇ）に示すように、金属薄板材１０の片面側に形成された多数の大孔凹部２８ｂを、金属薄板材１０の厚み方向において各小孔凹部１８とそれぞれ連通させる。さらに、小孔凹部１８と大孔凹部２８ｂとが連通した後もスプレイエッチングを継続し、図３の（ｈ）に示すように、千鳥配置的に隣り合う大孔凹部２８ｃの外周縁同士が部分的に重なり合うまで、かつ、大孔凹部２８ｃが小孔凹部１８形成面側まで到達しない限度で、金属薄板材１０をエッチングして、小孔凹部１８と大孔凹部２８ｃとが連通した微細透孔３０を形成する。
【００１７】
スプレイエッチングが終了すると、アルカリ液を使用して金属薄板材１０の小孔凹部１８形成面側の樹脂膜を溶解させたり小孔凹部１８形成面側から保護粘着フィルムを剥がしたりすることにより、図３の（ｉ）に示すように、金属薄板材１０の小孔凹部１８形成面側から保護膜２０を剥離して除去する。続いて、苛性ソーダ等の剥膜液を使用して、金属薄板材１０の両面からそれぞれ耐食性レジスト膜１６、２６を剥離する。なお、アルカリ可溶性樹脂を使用して保護膜２０を形成したときは、苛性ソーダ等のアルカリ液を使用することにより、金属薄板材１０の小孔凹部１８形成面側からの保護膜２０の除去および金属薄板材１０の両面からの耐食性レジスト膜１６、２６の剥離が１つの工程で行われることになる。以上の工程により、蒸着材料を通過させるための多数の微細透孔３０が千鳥格子状に配列された蒸着用マスク３２が得られる。
【００１８】
上記したようにして作製された蒸着用マスク３２は、図示していないが、矩形状の支持フレームの片面側に接合され、製品として完成される。支持フレームとしては、例えば、ステンレス鋼やインバー合金等で形成されたフレームが使用される。また、支持フレームへの蒸着用マスク３２の接合は、スポット溶接等の溶接、接着剤や接着テープを用いた接着などの方法により行われる。完成された蒸着用マスク３２は、基板の表面に低分子有機ＥＬ材料、電極形成用材料、誘電体材料、絶縁体材料などを蒸着させる際に使用される。例えば、有機ＥＬ表示パネルの製造工程においては、透明基板（ガラス基板）上にＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明電極層を形成した後、この蒸着用マスク３２の小孔凹部１８形成面側を透明基板の透明電極層側に位置合わせして密着させ、蒸着用マスク３２の微細透孔３０を通して低分子有機ＥＬ材料を透明電極層上に蒸着させ、透明電極層上にデルタ配列パターンの有機発光層が形成されるようにする。有機発光層が形成されると、その有機発光層上にさらに金属電極層を形成して有機ＥＬ表示パネルが製造される。
【００１９】
図４は、上記した製造方法によって得られた蒸着用マスク３２を、大孔凹部２８ｃの形成面（蒸着処理の際に蒸着源側となる面）側から見た部分拡大平面図である。この図４において、大孔凹部２８ｃの外周縁の仮想線３４を二点鎖線で示している。また、千鳥配置的に隣り合った微細透孔３０の、互いに近接したコーナー部間に形成されるリブ３６の断面形状を表す図４のＡ−Ａ’線部分拡大断面図を図５の（ａ）に示し、同列方向に並んだ微細透孔３０間における断面形状を表す図４のＢ−Ｂ’線部分拡大断面図を図５の（ｂ）に示す。大孔凹部２８ｃの外周縁は、上記したように千鳥配置的に隣り合う大孔凹部２８ｃの外周縁同士が部分的に重なり合うまで金属薄板材１０がエッチングされることにより、実際には金属薄板材１０の表面には現れず、大孔凹部２８ｃの外周縁同士が全く重なり合わない部分が、金属薄板材１０の表面に島状平面３８となって現れるだけである。なお、図５の（ｂ）に示した状態からさらに金属薄板材１０をスプレイエッチングして、図５の（ｃ）に示すように金属薄板材１０の表面に島状平面３８が残らないようにしてもよい。
【００２０】
図５の（ａ）からも分かるように、リブ３６が形成された部分は、金属薄板材１０の元の板厚に比べて薄くなっている。このため、板厚の薄い金属薄板材を使用した場合と同様に、リブ３６の形成部分における加工精度を高くすることができ、リブ３６の幅を２０μｍ程度とすることも可能になる。また、リブ３６における微細透孔３０のテーパー面の角度も４５°以下にすることができる。一方、リブ３６の形成部分以外の部分は或る程度の厚みを有しており、また、多数の微細透孔３０が形成された有効領域の周辺部は、金属薄板材１０の元の板厚のままで残されるので、金属薄板材１０のライン搬送性やハンドリング性は良好であり、金属薄板材１０の折れ、変形等の不良を発生する心配も無い。
【００２１】
次に、第２の発明に係る蒸着用マスクの製造方法の１例について、図６ないし図８に示す模式的拡大断面図により説明する。
【００２２】
まず、図６の（ａ）に示すように、金属薄板材１０を用意し、金属薄板材１０の両面に、図６の（ｂ）に示すように、感光液をそれぞれ塗布し乾燥させて、金属薄板材１０の両面にフォトレジスト膜１２、２２を被着形成する。
【００２３】
次に、図６の（ｃ）に示すように、金属薄板材１０のフォトレジスト膜１２面側に、所定パターンを有する露光用マスク１４を密着させるとともに、金属薄板材１０のフォトレジスト膜２２面側にも露光用マスク４０を密着させる。このときに使用される露光用マスク１４は、形成しようとする多数の小孔凹部に対応した矩形状画像が千鳥格子状に配列されたパターンを有している。また、露光用マスク４０は、露光用マスク１４の多数の矩形状画像が描出された領域全面に対応する部分が遮光されたものである。そして、露光用マスク１４、４０を介してフォトレジスト膜１２、２２をそれぞれ露光し、フォトレジスト膜１２、２２をそれぞれ所定パターン通りに硬化（不溶化）させた後、図７の（ｄ）に示すように、現像して、金属薄板材１０の両面に所定パターンを有する耐食性レジスト膜１６、４２をそれぞれ形成する。耐食性レジスト膜１６は、矩形状開口部が千鳥格子状に配列されたパターンを有しており、耐食性レジスト膜４２は、耐食性レジスト膜１６の多数の矩形状開口部の形成領域に対応する部分が全面的に大きく開口したものである。
【００２４】
続いて、塩化第二鉄水溶液等のエッチング液を用いてスプレイエッチングを行うことにより、図７の（ｅ）に示すように、金属薄板材１０の片面側に多数の小孔凹部１８を形成する。このとき、金属薄板材１０のもう一方の片面側もエッチングされて、小孔凹部１８と連通しない程度の大形凹部４４ａが形成される。金属薄板材１０の片面側に小孔凹部１８が形成されると、図７の（ｆ）に示すように、金属薄板材１０の、小孔凹部１８が形成された面側を、耐エッチング性を有する保護膜２０によって被覆する。
【００２５】
次に、塩化第二鉄水溶液等のエッチング液を用いて再びスプレイエッチングを行うことにより、図８の（ｇ）に示すように、金属薄板材１０の片面側に、金属薄板材１０の一方面側における多数の小孔凹部１８の形成領域に対応する部分を大きく溶解除去して、一定深さの大形凹部４４ｂを形成する。これにより、金属薄板材１０の厚み方向において各小孔凹部１８と大形凹部４４ｂとがそれぞれ連通して、多数の微細透孔４６が形成される。
【００２６】
スプレイエッチングが終了すると、図８の（ｈ）に示すように、金属薄板材１０の小孔凹部１８形成面側から保護膜２０を剥離して除去し、苛性ソーダ等の剥膜液を使用して、金属薄板材１０の両面からそれぞれ耐食性レジスト膜１６、４２を剥離する。以上の工程により、蒸着材料を通過させるための多数の微細透孔４６が千鳥格子状に配列された蒸着用マスク４８が得られる。得られた蒸着用マスク４８は、図示していないが、矩形状の支持フレームの片面側に接合され、製品として完成される。
【００２７】
以上のような工程により作製された蒸着用マスク４８は、金属薄板材１０の片面側に一定深さの大形凹部４４ｂが形成されて、多数の微細透孔４６が形成された有効領域全体の厚みが金属薄板材１０の元の板厚より相当に薄くなるため、板厚の薄い金属薄板材を使用した場合と同様に加工精度を高くすることができ、リブの幅寸法や微細透孔４６のテーパー面の角度に対して求められる厳しいスペックにも十分に対応することができる。一方、多数の微細透孔４６が形成された有効領域の周辺部は、金属薄板材１０の元の板厚のままで残されるので、金属薄板材１０のライン搬送性やハンドリング性は良好であり、金属薄板材１０の折れ、変形等の不良発生の心配も無い。
【００２８】
なお、金属薄板材１０に形成される小孔凹部１８および大孔凹部２８ｃ、したがって微細透孔３０、４６の平面形状は、上記実施形態では矩形状として説明したが、スロット状や円形状等等であってもよい。また、上記した実施形態では、エッチングを２ステップに分けて行うようにしているが、エッチングを１ステップで行うようにしてもよい。さらに、フォトエッチングにより蒸着用マスク３２、４８を作製した後に、それを支持フレームに接合して製品を完成するようにしているが、金属薄板材をエッチング加工する前に支持フレームに接合しておき、支持フレームに接合された状態の金属薄板材にエッチング加工を施すようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】第１の発明に係る蒸着マスクの製造方法の１例について説明するための図であって、各工程をそれぞれ模式的拡大断面図で示したものである。
【図２】同じく、各工程をそれぞれ模式的拡大断面図で示したものである。
【図３】同じく、各工程をそれぞれ模式的拡大断面図で示したものである。
【図４】図１ないし図３にに示した製造方法によって得られた蒸着用マスクを、大孔凹部の形成面側から見た部分拡大平面図である。
【図５】（ａ）は、図４のＡ−Ａ’線部分拡大断面図であり、（ｂ）は、図４のＢ−Ｂ’線部分拡大断面図であり、（ｃ）は、同じく図４のＢ−Ｂ’線部分拡大断面図であるが、（ｂ）に示した状態からさらに金属薄板材をエッチングした状態を示す図である。
【図６】第２の発明に係る蒸着マスクの製造方法の１例について説明するための図であって、各工程をそれぞれ模式的拡大断面図で示したものである。
【図７】同じく、各工程をそれぞれ模式的拡大断面図で示したものである。
【図８】同じく、各工程をそれぞれ模式的拡大断面図で示したものである。
【図９】デルタ配列の蒸着用マスクの１例を示す部分平面図である。
【図１０】図９のＣ−Ｃ’線部分拡大断面図である。
【符号の説明】
【００３０】
１０  金属薄板材
１２、２２  フォトレジスト膜
１４、２４、４０  露光用マスク
１６、２６、４２  耐食性レジスト膜
１８  小孔凹部
２０  保護膜
２８ａ、２８ｂ、２８ｃ  大孔凹部
３０、４６  微細透孔
３２、４８  蒸着用マスク
３４  大孔凹部の外周縁の仮想線
３６  蒸着用マスクにおけるリブ
４４ａ、４４ｂ  大形凹部
【図１】
2005183153.tif 000002
【図２】
2005183153.tif 000003
【図３】
2005183153.tif 000004
【図４】
2005183153.tif 000005
【図５】
2005183153.tif 000006
【図６】
2005183153.tif 000007
【図７】
2005183153.tif 000008
【図８】
2005183153.tif 000009
【図９】
2005183153.tif 000010
【図１０】
2005183153.tif 000011