【手続補正書】
【提出日】平成22年11月4日(2010.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置の処理室に配されて該処理室内の処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部が有するシャワープレートであって、
前記処理ガス供給部内に形成され且つ前記処理ガスが導入される処理ガス導入空間及び前記処理空間の間に介在し、
前記処理ガス導入空間及び前記処理空間を連通させる処理ガス供給経路を有し、
前記処理ガス供給経路は、前記処理ガス導入空間側に形成された複数のガス穴と、前記処理空間側に形成された複数のガス溝とを有し、前記複数のガス穴及び前記複数のガス溝は、前記複数のガス穴が、前記複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するようにして互いに連通し、
前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は、前記全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいことを特徴とするシャワープレート。
【請求項２】
前記断面における前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は、前記全てのガス穴の流路断面積の合計値の１．７５倍以上であることを特徴とする請求項１記載のシャワープレート。
【請求項３】
前記ガス溝の深さは５ｍｍより大きいことを特徴とする請求項１又は２記載のシャワープレート。
【請求項４】
前記複数のガス溝は、前記処理空間側の表面において直線状且つ互いに平行に形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のシャワープレート。
【請求項５】
厚さ方向に関して２分割された第１の部材及び第２の部材からなり、
前記第１の部材は前記ガス導入空間側に配され、且つ前記第２の部材は前記処理空間側に配され、
前記複数のガス穴は前記第１の部材に形成されるとともに、前記複数のガス溝は前記第２の部材に形成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のシャワープレート。
【請求項６】
基板を収容して処理を施す処理室と、該処理室に配されて該処理室内の処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部とを備える基板処理装置であって、
前記処理ガス供給部は、該処理ガス供給部内に形成され且つ前記処理ガスが導入される処理ガス導入空間及び前記処理空間の間に介在するシャワープレートを有し、
該シャワープレートは前記処理ガス導入空間及び前記処理空間を連通させる処理ガス供給経路を有し、
前記処理ガス供給経路は、前記シャワープレートの前記処理ガス導入空間側に形成された複数のガス穴と、前記シャワープレートの前記処理空間側に形成された複数のガス溝とを有し、前記複数のガス穴及び前記複数のガス溝は、前記複数のガス穴が、前記複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するようにして互いに連通し、
前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は、前記全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいことを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
前記処理ガス供給部は、前記処理ガス導入空間及び前記シャワープレートの間に介在し、且つ該シャワープレートを冷却するクーリングプレートを有し、
該クーリングプレートは、前記処理ガス導入空間及び前記処理ガス供給経路を連通させる複数の貫通穴を有することを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
【請求項８】
基板を収容して処理を施す処理室と、該処理室に配されて該処理室内の処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部とを備える基板処理装置であって、
前記処理ガス供給部は、該処理ガス供給部内に形成され且つ前記処理ガスが導入される処理ガス導入空間及び前記処理空間の間に介在するシャワープレートと、前記処理ガス導入空間及び前記シャワープレートの間に介在し、且つ該シャワープレートを冷却するクーリングプレートとを有し、
前記シャワープレートは、厚さ方向に貫通し且つ前記処理空間に連通する複数のガス溝を有し、
前記クーリングプレートは、前記処理ガス導入空間及び前記複数のガス溝を連通させる複数のガス穴であって、前記複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するガス穴を有し、
前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は前記全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいことを特徴とする基板処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するために、請求項１記載のシャワープレートは、基板処理装置の処理室に配されて該処理室内の処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部が有するシャワープレートであって、前記処理ガス供給部内に形成され且つ前記処理ガスが導入される処理ガス導入空間及び前記処理空間の間に介在し、前記処理ガス導入空間及び前記処理空間を連通させる処理ガス供給経路を有し、前記処理ガス供給経路は、前記処理ガス導入空間側に形成された複数のガス穴と、前記処理空間側に形成された複数のガス溝とを有し、前記複数のガス穴及び前記複数のガス溝は、前記複数のガス穴が、前記複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するようにして互いに連通し、前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は、前記全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項５記載のシャワープレートは、請求項１乃至４のいずれか１項に記載のシャワープレートにおいて、厚さ方向に関して２分割された第１の部材及び第２の部材からなり、前記第１の部材は前記ガス導入空間側に配され、且つ前記第２の部材は前記処理空間側に配され、前記複数のガス穴は前記第１の部材に形成されるとともに、前記複数のガス溝は前記第２の部材に形成されることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記目的を達成するために、請求項６記載の基板処理装置は、基板を収容して処理を施す処理室と、該処理室に配されて該処理室内の処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部とを備える基板処理装置であって、前記処理ガス供給部は、該処理ガス供給部内に形成され且つ前記処理ガスが導入される処理ガス導入空間及び前記処理空間の間に介在するシャワープレートを有し、該シャワープレートは前記処理ガス導入空間及び前記処理空間を連通させる処理ガス供給経路を有し、前記処理ガス供給経路は、前記シャワープレートの前記処理ガス導入空間側に形成された複数のガス穴と、前記シャワープレートの前記処理空間側に形成された複数のガス溝とを有し、前記複数のガス穴及び前記複数のガス溝は、前記複数のガス穴が、前記複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するようにして互いに連通し、前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は、前記全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項７記載の基板処理装置は、請求項６記載の基板処理装置において、前記処理ガス供給部は、前記処理ガス導入空間及び前記シャワープレートの間に介在し、且つ該シャワープレートを冷却するクーリングプレートを有し、該クーリングプレートは、前記処理ガス導入空間及び前記処理ガス供給経路を連通させる複数の貫通穴を有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記目的を達成するために、請求項８記載の基板処理装置は、基板を収容して処理を施す処理室と、該処理室に配されて該処理室内の処理空間に処理ガスを供給する処理ガス供給部とを備える基板処理装置であって、前記処理ガス供給部は、該処理ガス供給部内に形成され且つ前記処理ガスが導入される処理ガス導入空間及び前記処理空間の間に介在するシャワープレートと、前記処理ガス導入空間及び前記シャワープレートの間に介在し、且つ該シャワープレートを冷却するクーリングプレートとを有し、前記シャワープレートは、厚さ方向に貫通し且つ前記処理空間に連通する複数のガス溝を有し、前記クーリングプレートは、前記処理ガス導入空間及び前記複数のガス溝を連通させる複数のガス穴であって、前記複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するガス穴を有し、前記全てのガス溝の流路断面積の合計値は前記全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項１記載のシャワープレート及び請求項６記載の基板処理装置によれば、処理ガス導入空間及び処理空間を連通させ、処理ガス導入空間側に形成された複数のガス穴と処理空間側に形成された複数のガス溝とを有する処理ガス供給経路において、全てのガス溝の流路断面積の合計値は、全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きい。処理ガス導入空間から処理空間への処理ガスの供給の際に、該供給に応じて処理ガス供給経路内の処理ガスの圧力が高まると、処理ガス供給経路内において処理ガスから局所放電が発生するが、全てのガス溝の流路断面積の合計値は全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいので、処理ガスの供給の際にガス溝内の処理ガスの圧力が高まることがなく、ガス溝内で局所放電が発生することがない。その結果、ガス溝が徐々に削れられるのを防止することができ、もって、使用時間が経過してもシャワープレートの寿命を延ばすために異常放電の発生を防止することができる。また、複数のガス穴は、複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するように配置されるので、各ガス溝内へ処理ガスをほぼ均等に分散させることができ、もって、シャワープレートから処理空間へ処理ガスを均等に供給することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
請求項５記載のシャワープレートによれば、厚さ方向に関して２分割された第１の部材及び第２の部材からなり、第１の部材はガス導入空間側に配され、且つ第２の部材は処理空間側に配され、複数のガス穴は第１の部材に形成されるとともに、複数のガス溝は第２の部材に形成されるので、各ガス穴及び各ガス溝をより容易に加工成形することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
請求項７記載の基板処理装置によれば、処理ガス導入空間及びシャワープレートの間に介在するクーリングプレートは処理ガス導入空間及び処理ガス供給経路を連通させる複数の貫通穴を有するので、該クーリングプレートは処理ガスの供給を阻害することなく、該シャワープレートを冷却することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
請求項８記載の基板処理装置によれば、シャワープレートにおいて厚さ方向に貫通する全てのガス溝の流路断面積の合計値は、クーリングプレートにおいて処理ガス導入空間及び複数のガス溝を連通させる全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きい。処理ガス導入空間から処理空間への処理ガスの供給の際に、該供給に応じて処理空間に連通するガス溝の処理ガスの圧力が高まると、ガス溝において処理ガスから局所放電が発生するが、全てのガス溝の流路断面積の合計値は全てのガス穴の流路断面積の合計値よりも大きいので、処理ガスの供給の際にガス溝内の処理ガスの圧力が高まることがなく、ガス溝内で局所放電が発生することがない。その結果、ガス溝が徐々に削れられるのを防止することができ、もって、使用時間が経過してもシャワープレートの寿命を延ばすために異常放電の発生を防止することができる。また、複数のガス穴であって、複数のガス溝の底部において該ガス溝の長さ方向に沿って均等に開口するガス穴を有するので、各ガス溝内へ処理ガスをほぼ均等に分散させることができ、もって、シャワープレートから処理空間へ処理ガスを均等に供給することができる。