Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月18日(2010.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面上に配置されたカソード電極と、
複数の開口部を有し、前記カソード電極上に配置された絶縁層と、
複数の開口部を有し、前記絶縁層上に配置されたゲート電極と、を備え、
前記絶縁層に設けられた開口部の各々と、前記ゲート電極に設けられた開口部の各々とが連通しており、
前記絶縁層に設けられた各々の前記開口部内に、前記カソード電極と電気的に接続するように、前記基板表面に対し平行な表面を有する電子放出層を有する電子放出素子であって、
前記ゲート電極の複数の開口部を囲むように、前記ゲート電極の厚みが厚くなっていることを特徴とする電子放出素子。
【請求項２】
基板の表面上に配置されたカソード電極と、
絶縁層を介して前記カソード電極上に積層されるゲート電極と、を備え、
前記絶縁層と前記ゲート電極とを貫通し前記カソード電極の一部領域を露出せしめる複数の開口部が設けられ、各々の前記開口部内に前記カソード電極と電気的に接続された電子放出層が設けられた電子放出素子において、
前記複数の開口部のうち中央領域に位置する開口部は、同一の高さの側壁を有するように形成されており、
前記中央領域の外側に位置する開口部は、前記中央領域側の側壁よりも前記中央領域とは反対側の側壁のほうが高くなるように形成されていることを特徴とする電子放出素子。
【請求項３】
前記開口部を前記基板の表面に垂直な方向からみたときの形状は、スリット状であることを特徴とする請求項１または２に記載の電子放出素子。
【請求項４】
前記開口部を前記基板の表面に垂直な方向からみたときの形状は、リング状であることを特徴とする請求項１または２に記載の電子放出素子。
【請求項５】
前記リング状の開口部の内側のゲート電極と外側のゲート電極とを接続する接続部分が設けられていることを特徴とする請求項４に記載の電子放出素子。
【請求項６】
前記電子放出層が、炭素又は炭素化合物を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電子放出素子。
【請求項７】
前記炭素又は炭素化合物とは、ダイヤモンド又は、ダイヤモンドライクカーボン又は、グラファイトを含むことを特徴とする請求項６に記載の電子放出素子。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の電子放出素子を複数個有することを特徴とする電子源。
【請求項９】
請求項８に記載の電子源であって、前記複数の電子放出素子が行列状に配置され、同じ列に配された複数の電子放出素子の前記ゲート電極が共通のＹ方向配線に接続され、同じ行に配された複数の電子放出素子の前記カソード電極が共通のＸ方向配線に接続されていることを特徴とする電子源。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の電子源と、該電子源から放出された電子によって画像を形成する画像形成部材とを備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１１】
前記画像形成部材は、電子の衝突によって発光する蛍光体であることを特徴とする請求項１０に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
【課題を解決するための手段】
基板の表面上に配置されたカソード電極と、複数の開口部を有し、前記カソード電極上に配置された絶縁層と、複数の開口部を有し、前記絶縁層上に配置されたゲート電極と、を備え、前記絶縁層に設けられた開口部の各々と、前記ゲート電極に設けられた開口部の各々とが連通しており、前記絶縁層に設けられた各々の前記開口部内に、前記カソード電極と電気的に接続するように、前記基板表面に対し平行な表面を有する電子放出層を有する電子放出素子であって、前記ゲート電極の複数の開口部を囲むように、前記ゲート電極の厚みが厚くなっていることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
基板の表面上に配置されたカソード電極と、絶縁層を介して前記カソード電極上に積層されるゲート電極と、を備え、前記絶縁層と前記ゲート電極とを貫通し前記カソード電極の一部領域を露出せしめる複数の開口部が設けられ、各々の前記開口部内に前記カソード電極と電気的に接続された電子放出層が設けられた電子放出素子において、前記複数の開口部のうち中央領域に位置する開口部は、同一の高さの側壁を有するように形成されており、前記中央領域の外側に位置する開口部は、前記中央領域側の側壁よりも前記中央領域とは反対側の側壁のほうが高くなるように形成されていることを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
前記開口部を前記基板の表面に垂直な方向からみたときの形状は、スリット状であることも好適である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
前記開口部を前記基板の表面に垂直な方向からみたときの形状は、リング状であることも好適である。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
前記リング状の開口部の内側のゲート電極と外側のゲート電極とを接続する接続部分が設けられていることも好適である。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
電子源にあっては、上記記載の電子放出素子を複数個有することを特徴とする。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
上記記載の電子源であって、前記複数の電子放出素子が行列状に配置され、同じ列に配された複数の電子放出素子の前記ゲート電極が共通のＹ方向配線に接続され、同じ行に配された複数の電子放出素子の前記カソード電極が共通のＸ方向配線に接続されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月28日(2010.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の表示ユニットと、該複数の表示ユニットが生成する画像をそれぞれ制御する制御ユニットと、光路中に挿脱可能な光学フィルタと、前記光学フィルタの挿脱に応じた各表示ユニット毎の複数種の補正データを記憶する記憶ユニットとを有し、前記制御ユニットは、各表示ユニット毎に、前記複数種の補正データから特定のデータを前記光学フィルタの挿脱に応じて選択し、選択されたデータを利用して各表示ユニットを制御することを特徴とする投射型表示装置。
【請求項２】
各表示ユニット毎の複数種の補正データ各々は、複数の代表点の補正値であり、前記制御ユニットは、その複数の代表点の補正値を補間演算することにより、必要な補正値を求めることを特徴とする請求項１の投射型表示装置。
【請求項３】
前記複数の表示ユニットを照明する光を供給する光源を有し、前記光学フィルタは前記光源と前記複数の表示ユニットの間で挿脱されることを特徴とする請求項１又は２の投射型表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月7日(2010.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水溶性の光学膜形成用組成物を基板上に塗布して形成した膜を、１種以上の多価金属塩及び１種以上の水溶性有機溶媒を含む溶液、又は多価金属塩を２種以上含む溶液で処理する
ことを特徴とする、異方性光学膜の製造方法。
【請求項２】
前記溶液に含まれる水溶性有機溶媒の比誘電率（εｒ）が３０以下である
ことを特徴とする、請求項１記載の異方性光学膜の製造方法。
【請求項３】
前記溶液の比誘電率（εｒ）が７８以下である
ことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載の異方性光学膜の製造方法。
【請求項４】
前記多価金属塩として、銅塩及びカルシウム塩を含有する
ことを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の異方性光学膜の製造方法。
【請求項５】
銅塩に対するカルシウム塩の配合割合が、１０重量％以上、９０重量％以下である
ことを特徴とする、請求項４記載の異方性光学膜の製造方法。
【請求項６】
前記溶液が更にノニオン界面活性剤を含有する
ことを特徴とする、請求項１〜５の何れか一項に記載の異方性光学膜の製造方法。
【請求項７】
前記光学膜形成用組成物が、少なくとも水溶性アニオン有機化合物及び溶媒を含有する
ことを特徴とする、請求項１〜６の何れか一項に記載の異方性光学膜の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一項に記載の異方性光学膜の製造方法により製造された
ことを特徴とする、異方性光学膜。
【請求項９】
異方性光学膜中の銅元素に対するカルシウム元素の割合が、１０重量％以上、９０重量％以下である
ことを特徴とする、請求項８記載の異方性光学膜。
【請求項１０】
コントラスト比が１００以上である
ことを特徴とする、請求項８又は請求項９に記載の異方性光学膜。
【請求項１１】
少なくとも水溶性アニオン有機化合物を含有する
ことを特徴とする、請求項８〜１０に記載の異方性光学膜。
【請求項１２】
偏光性を有する
ことを特徴とする、請求項８〜１１の何れか一項に記載の異方性光学膜。
【請求項１３】
複屈折性を有する
ことを特徴とする、請求項８〜１２の何れか一項に記載の異方性光学膜。
【請求項１４】
請求項８〜１３の何れか一項に記載の異方性光学膜を少なくとも備えてなる
ことを特徴とする、光学素子。
【請求項１５】
１種以上の多価金属塩及び１種以上の水溶性有機溶媒、又は、２種以上の多価金属塩を含む
ことを特徴とする、不溶化処理液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、本発明の別の要旨は、上述の異方性光学膜を少なくとも備えてなることを特徴とする、光学素子に存する（請求項１４）。
また、本発明の別の要旨は、１種以上の多価金属塩及び１種以上の水溶性有機溶媒、又は、２種以上の多価金属塩を含むことを特徴とする、不溶化処理液に存する（請求項１５）。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月24日(2010.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、接着剤だけで前記第１の基板に付着された第２の基板とを備えた光学的可変効果を実現する構造であって、前記接着剤が、前記第１の基板を通して検出可能な前記光学的可変効果を実現する複数の粒子がその中または上に分散されているエネルギー活性化結合剤を含む構造。
【請求項２】
前記第１の基板が、浮彫構造を有し、さらに、前記複数の粒子によって実現される前記光学的可変効果が、回折構造を通して外部から目に見えて検出可能である、請求項１に記載の構造。
【請求項３】
前記浮彫構造が、ホログラム、デメタライズド・ホログラム、キネグラム、ゼロ次回折構造、および回折格子構造のうちの１つである回折構造である、請求項２に記載の構造。
【請求項４】
前記第１の基板が、前記回折構造と前記接着剤の間に配置された高屈折率層を有する、請求項２に記載の構造。
【請求項５】
前記第１および第２の基板のうちの１つが、薄膜干渉スタック、反射塗膜、高屈折率塗膜、およびその上のパターン形成された剥離層のうちの少なくとも１つを有する、請求項１に記載の構造。
【請求項６】
前記エネルギー活性化結合剤が、ホット・スタンプ、熱、および電子ビームのうちの１つで活性化される、請求項１に記載の光学構造。
【請求項７】
前記エネルギー活性化結合剤が、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリアミド、ニトロセルロース、アルキド樹脂、ポリビニル・アルコール、ポリビニル・アセテート、およびポリウレタンのグループから選択される、請求項１に記載の構造。
【請求項８】
前記複数の粒子で実現される前記光学的可変効果が、人の目で検出可能である、請求項１に記載の構造。
【請求項９】
前記複数の粒子が、蛍光材料粒子、磁気材料粒子、染料粒子、アップ・コンバージョン顔料、ナノ粒子、透明導電性粒子、および少なくとも２ミクロンの長さを有するフレークのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の構造。
【請求項１０】
前記複数の粒子は、少なくとも２ミクロンの長さを有するフレークを含み、さらに、前記フレークは、光学的可変フレーク、薄膜光干渉フレーク、回折フレーク、反射フレーク、光吸収フレーク、隠しフレーク、記号または表示の付いたフレーク、形が一様なフレーク、磁気フレーク、金属・誘電体フレーク、完全誘電体フレーク、マイカ・ベースのフレーク、および液晶ベースのフレークのうちの少なくとも１つである、請求項１に記載の構造。
【請求項１１】
前記第１および第２の基板のうちの１つが、光透過基板、本質的に透明な基板、ＰＥＴ基板、高屈折率塗膜、保護塗膜、剥離塗膜、および紙片のうちの１つである、請求項１に記載の構造。
【請求項１２】
前記第１の基板が、前記接着剤によって前記第２の基板に結合されない少なくとも１つの領域を有する、請求項１に記載の構造。
【請求項１３】
前記接着剤が、第１および第２の接着剤部分層を含む、請求項１に記載の構造。
【請求項１４】
前記接着剤が、１つのサンプルから別のサンプルへのΔＥの色変化を有し、ΔＥが約５．０以下である、請求項１に記載の構造。
【請求項１５】
前記構造が、セキュリティ・スレッドを形成する、請求項１に記載の構造。
【請求項１６】
請求項１に記載の構造を形成する方法であって、
ａ．エネルギー活性化結合剤をその上に有する第１の基板を用意するステップと、ここで前記エネルギー活性化結合剤はその中または上に分散された、前記第１の基板を通して検出可能な前記光学的可変効果を実現する複数の粒子を有しており、
ｂ．前記第１の基板を第２の基板に接着剤をその間に加えることなしに隣接して配置し、そのため、前記エネルギー活性化結合剤が前記第１と第２の基板の間に配置されるステップと、
ｃ．電子ビーム放射、熱、およびホット・スタンプのうちの１つを応用して、前記エネルギー活性化結合剤を硬化させるステップと、を含む方法。
【請求項１７】
ステップ（ｂ）で、前記第２の基板の少なくとも１つの領域が、前記エネルギー活性化結合剤で覆われず、そのため、ステップ（ｃ）で前記領域が前記第１の基板に結合されない、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の基板は、ステップ（ａ）で、第１の粒子がその上または中に分散されている第１のエネルギー活性化結合剤で覆われ、次に、第２の粒子がその上または中に分散されている第２のエネルギー活性化結合剤で覆われ、前記第１の粒子が前記第２の粒子と異なる、請求項１６に記載の方法。
【請求項１９】
ステップ（ａ）で、前記エネルギー活性化結合剤が、最初に、前記第１の基板に塗られ、次に、前記粒子が前記エネルギー活性化結合剤の表面に加えられる、請求項１６に記載の方法。
【請求項２０】
ステップ（ａ）で、前記加えられた粒子が、より多くの量の前記エネルギー活性化結合剤で覆われる、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
光学的可変効果を実現する物品を形成する方法であって、
ａ．第１の基板を用意するステップと、
ｂ．前記第１の基板を通して検出可能な前記光学的可変効果を実現するために、粒子をその中または上に有するキャリア・ビヒクルを前記第１の基板に塗付するステップと、
ｃ．ホット・スタンプにおいて前記キャリア・ビヒクルがただ接着剤としてだけ使用されるように、前記塗布された第１の基板を第２の基板または物品にホット・スタンプするステップと、を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月29日(2010.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成される信号ラインと、
前記信号ラインと電気絶縁状態で交差して前記基板上に形成されるリペアラインと、
前記信号ラインと前記リペアラインとが交差する前記基板の第１領域と絶縁されるように重なる第１リダンダンシ導電パターンと、
を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１リダンダンシ導電パターンが電気的にフローティングしていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記信号ラインのリペア時に、前記信号ラインと前記リペアラインが前記第１領域で前記第１リダンダンシ導電パターンに電気的に接続されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
一側部と前記信号ラインとが前記基板の前記第１領域とは異なる第２領域で絶縁されるように重なり、他側部と前記リペアラインとが前記基板の前記第１領域とは異なる第３領域で絶縁されるように重なる第２リダンダンシ導電パターンをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２リダンダンシ導電パターンが前記第１リダンダンシ導電パターンと離間、または一体化することを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記信号ラインのリペア時に、前記信号ラインと前記リペアラインとが前記第１領域で第１リダンダンシ導電パターンと共に電気的に接続され、
前記信号ラインと前記第２リダンダンシパターンとが前記第２領域で電気的に接続され、
前記リペアラインと前記第２リダンダンシパターンとが第３領域で電気的に接続されることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【請求項７】
前記信号ラインがコンタクトホールを介して前記第２リダンダンシ導電パターンに電気的に接続されることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【請求項８】
前記信号ラインのリペア時に、前記信号ラインと前記リペアラインとが前記第１領域で第１リダンダンシ導電パターンと電気的に接続され、
前記信号ラインが前記第２領域で前記第２リダンダンシ導電パターンと電気的に接続されることを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記リペアラインがコンタクトホールを介して前記第２リダンダンシ導電パターンと電気的に接続されることを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記信号ラインのリペア時に、前記信号ラインと前記リペアラインが前記第１領域で前記第１リダンダンシ導電パターンと電気的に接続され、前記リペアラインが前記第３領域で前記第２リダンダンシ導電パターンと電気的に接続されることを特徴とする請求項９に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月9日(2009.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン中心原子及び４つの置換フェニル基を含む四面体シラン分子を含む、リソグラフィー工程において使用するためのフォトレジストであって、各置換フェニル基が前記シリコン中心原子に結合し、各置換フェニル基が、3位に第1の置換基を、又は、4位に第2の置換基を含み、前記第1の置換基が、ヒドロキシ、メトキシ、3-ヒドロキシフェニル、4-ヒドロキシフェニル、3-メトキシフェニル、4-メトキシフェニル、及びそれらの組合せからなる群から選択され、かつ、前記第2の置換基が、メトキシ、3-ヒドロキシフェニル、4-ヒドロキシフェニル、3-メトキシフェニル、4-メトキシフェニル、及びそれらの組合せからなる群から選択される、前記フォトレジスト。
【請求項２】
前記フォトレジストが、常温より高いガラス転移温度(Tg)を有する非晶質分子性ガラスである、請求項１記載のフォトレジスト。
【請求項３】
テトラメトキシメチルグリコールウリル、メチルプロピルテトラメトキシメチルグリコールウリル、メチルフェニルテトラメトキシメチルグリコールウリル、及びそれらの組合せからなる群から選択される架橋剤をさらに含む、請求項１記載のフォトレジスト。
【請求項４】
フォトレジストパターンの形成方法であって、請求項１記載のフォトレジストを半導体基板にコーティングし、フォトレジストフィルムを形成すること；露光デバイスを用いて該フォトレジストフィルムを露光すること；及び該フォトレジストフィルムを現像することを含む、前記方法。
【請求項５】
前記露光デバイスがEUV光源である、請求項４記載の方法。
【請求項６】
前記EUV光源のエネルギーが約1〜約1.2 mJ/cm2の範囲である、請求項５記載の方法。
【請求項７】
請求項４記載の方法により製造される半導体素子。
【請求項８】
テトラキス(3-メトキシフェニル)シラン；
テトラキス(4-メトキシフェニル)シラン；
テトラキス(3-ヒドロキシフェニル)シラン；
テトラキス(3-ヒドロキシ-3-ビフェニル)シラン；
テトラキス(4-ヒドロキシ-3-ビフェニル)シラン；
テトラキス(3-ヒドロキシ-4-ビフェニル)シラン；
テトラキス(4-ヒドロキシ-4-ビフェニル)シラン；
テトラキス(3-メトキシ-3-ビフェニル)シラン；
テトラキス(4-メトキシ-3-ビフェニル)シラン；
テトラキス(3-メトキシ-4-ビフェニル)シラン； 
テトラキス(4-メトキシ-4-ビフェニル)シラン；及びそれらの組み合わせからなる群から選択される分子性ガラスを含む、フォトレジスト。
【請求項９】
テトラメトキシメチルグリコールウリル、メチルプロピルテトラメトキシメチルグリコールウリル、メチルフェニルテトラメトキシメチルグリコールウリル、及びそれらの組合せからなる群から選択される架橋剤をさらに含む、請求項８記載のフォトレジスト。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月24日(2009.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
センターサーバーと、
該センターサーバーの監視対象先である監視対象サイトと、
該監視対象サイトより該サイトに掲載されたホームページのソース文及び／又はファイルを取得する取得手段と、
該取得手段で取得したソース文及び／又はファイルに基づき前記監視対象サイトのホームページの情報及び／又はファイルが更新、追加若しくは削除されたことを検出する更新等検出手段とを備えたことを特徴とする情報更新システム。
【請求項２】
サイトトップのＵＲＬ、ジャンルのＵＲＬ、商品一覧ページのＵＲＬ又は商品詳細ページのＵＲＬを指定するＵＲＬ指定手段と、
該ＵＲＬ指定手段で指定されたＵＲＬを基に該ＵＲＬの下位に属するＵＲＬを抽出するＵＲＬ抽出手段と、
該ＵＲＬ抽出手段で抽出されたＵＲＬに属するＨＴＭＬ文書をダウンロードするダウンロード手段と、
該ダウンロード手段でダウンロードしたＨＴＭＬ文書中からソースコードを取得するソースコード取得手段と、
該ソースコード取得手段において取得されたソースコード中から予め定めた所定の定義を基に所望のデータを抽出するデータ抽出手段とを備えたことを特徴とする情報更新システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、前記更新若しくは追加された情報及び／又はファイルを前記センターサーバーに保存し、該情報及び／又はファイルを含むホームページを該センターサーバーのサイトに掲載することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
更に、本発明は、前記更新等検出手段での更新、追加若しくは削除検出に基づきユーザに対しメールを通知することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
更に、本発明は、他店の属する少なくとも一つのサイトより商品の価格データを取得する取得手段と、該価格データが保存されるデータベースと、該データベースの少なくとも一つの価格データを基に設定すべき商店の価格を自動計算する商店価格算出手段とを備えて構成した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
更に、本発明は、ホームページに掲載された商品と、該商品の価格データが保存されるデータベースと、該データベースの価格データを基に設定すべき商店の価格若しくは既に設定された商店の価格が上限若しくは下限の限界値若しくは限界度合いを超えているか否か、又は限界範囲を超えているか否か判断する判断手段と、該判断手段で限界値等を超えていると判断されたときに商店に対しその旨を通知若しくはデータの入力を阻止する通知等手段を備えて構成した。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
更に、本発明（請求項２）は、サイトトップのＵＲＬ、ジャンルのＵＲＬ、商品一覧ページのＵＲＬ又は商品詳細ページのＵＲＬを指定するＵＲＬ指定手段と、該ＵＲＬ指定手段で指定されたＵＲＬを基に該ＵＲＬの下位に属するＵＲＬを抽出するＵＲＬ抽出手段と、該ＵＲＬ抽出手段で抽出されたＵＲＬに属するＨＴＭＬ文書をダウンロードするダウンロード手段と、該ダウンロード手段でダウンロードしたＨＴＭＬ文書中からソースコードを取得するソースコード取得手段と、該ソースコード取得手段において取得されたソースコード中から予め定めた所定の定義を基に所望のデータを抽出するデータ抽出手段とを備えて構成した。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
更に、本発明は、サイトに掲載されたホームページと、該ホームページをダウンロードするダウンロード手段と、該ダウンロード手段でダウンロードされたホームページからソースコードを取得するソースコード取得手段と、該ソースコード取得手段において取得されたソースコードにおいて予め定めた第１の文字記号数字定義列と、第２の文字記号数字定義列で挟まれたコードの中から、若しくは予め定めた所定の文字記号数字列や範囲を対象外とした残りのコードの中から、所定の文字、記号、数字を抽出する抽出手段を備えて構成した。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月21日(2010.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体集積回路と、
前記半導体集積回路に接続するアンテナとして機能する導電層と、
前記半導体集積回路及び前記アンテナとして機能する導電層を覆う一または複数の基板と、
を有する半導体装置であって、
前記基板の少なくとも一つは導電性ポリマーで形成されることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、前記半導体集積回路及び前記導電層を覆う一または複数の基板は、セルロース繊維及び導電性ポリマー繊維で形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
半導体集積回路と、
前記半導体集積回路に接続するアンテナとして機能する導電層と、
前記半導体集積回路及び前記アンテナとして機能する導電層を覆う一または複数の基板と、
前記半導体集積回路及び前記一または複数の基板を接着する接着剤と、
を有する半導体装置であって、
前記接着剤は導電性ポリマーを有する組成物で形成されることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
半導体集積回路と、
前記半導体集積回路に接続するアンテナとして機能する導電層と、
前記半導体集積回路を覆う層と、
を有する半導体装置であって、
前記半導体集積回路を覆う層は、導電性ポリマーで形成されることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
半導体集積回路と、
前記半導体集積回路に接続するアンテナとして機能する導電層と、
前記半導体集積回路及び前記アンテナとして機能する導電層を覆う層と、
を有する半導体装置であって、
前記半導体集積回路及びアンテナとして機能する導電層を覆う層は、導電性ポリマーで形成されることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
半導体集積回路と、前記半導体集積回路に接続する接続端子と、
前記半導体集積回路を覆う層と、
アンテナとして機能する導電層が形成される基板と、
前記基板及び前記半導体集積回路を接着し、前記接続端子及び前記アンテナとして機能する導電層を電気的に接続する導電性粒子を含む異方性導電接着剤と、
を有する半導体装置であって、
前記半導体集積回路を覆う層は導電性ポリマーで形成されることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
半導体集積回路と、前記半導体集積回路に接続する複数の接続端子と、
前記半導体集積回路上に形成された前記複数の接続端子の側面と接する層と、
アンテナとして機能する導電層が形成される基板と、
前記基板及び前記半導体集積回路を接着し、前記複数の接続端子及び前記アンテナとして機能する導電層を電気的に接続する導電性粒子を含む異方性導電接着剤と、
を有する半導体装置であって、
前記複数の接続端子の側面と接する層は導電性ポリマーで形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
半導体集積回路と、前記半導体集積回路に接続する接続端子と、
アンテナとして機能する導電層が形成される基板と、
前記アンテナとして機能する導電層の側面と接する層と、
前記基板及び前記半導体集積回路を接着し、前記接続端子及び前記アンテナとして機能する導電層を電気的に接続する導電性粒子を含む異方性導電接着剤と、
を有する半導体装置であって、
前記アンテナとして機能する導電層の側面と接する層は、導電性ポリマーで形成されることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
半導体集積回路と、前記半導体集積回路に接続する接続端子と、
アンテナとして機能する導電層が形成される基板と、
前記基板及び前記半導体集積回路を接着し、前記接続端子及び前記アンテナとして機能する導電層を電気的に接続する導電性粒子を含む異方性導電接着剤と、
を有する半導体装置であって、
前記異方性導電接着剤は、導電性ポリマーを有する組成物で形成されることを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか一項において、前記導電性ポリマーの体積抵抗率は１０−３Ω・ｃｍ以上１０１２Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月27日(2010.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
孔を有する構造体の製造方法であって、基板上に凸構造が規則的に配列した凸構造体を形成する工程、前記凸構造体を有する基板上に被陽極酸化層を成膜し、該被陽極酸化層上における前記凸構造体の凸構造間に形成されるセルの中心部に凹構造を形成する工程、前記凸構造体を除去して凸構造の位置に孔を形成する工程、前記被陽極酸化層を陽極酸化して凹構造の位置に孔を形成する工程とを有することを特徴とする構造体の製造方法。
【請求項２】
孔を有する構造体の製造方法であって、基板上に凸構造が規則的に配列した凸構造体を形成する工程、前記凸構造体を有する基板上に被陽極酸化層を成膜し、該被陽極酸化層上における前記凸構造体の凸構造間に形成されるセルの中心部に凹構造を形成する工程、前記被陽極酸化層を陽極酸化して凹構造の位置に孔を形成する工程、前記凸構造体を除去して凸構造の位置に孔を形成する工程を有することを特徴とする構造体の製造方法。
【請求項３】
前記凸構造体を形成する工程は、基板上に下地金属層を形成する工程、該下地金属層の上に被陽極酸化層を形成する工程、前記被陽極酸化層を陽極酸化して規則的に配列した孔を形成すると共に前記陽極酸化により下地金属層を酸化することにより金属酸化物を前記孔から突出させる工程、前記被陽極酸化層の残った部分を除去する工程を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の構造体の製造方法。
【請求項４】
前記下地金属層がＷ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆのうち一つ以上の元素を含むことを特徴とする請求項３記載の構造体の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかの項に記載の方法により製造された構造体の孔に充填材料を充填する工程と、前記構造体から充填材料を分離して前記構造体と凹凸が反転した反転構造を得る工程とを有することを特徴とする構造体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題を解決する構造体の製造方法は、基板上に凸構造が規則的に配列した凸構造体を形成する工程、前記凸構造体を有する基板上に被陽極酸化層を成膜し、該被陽極酸化層上における前記凸構造体の凸構造間に形成されるセルの中心部に凹構造を形成する工程、前記凸構造体を除去して凸構造の位置に孔を形成する工程、前記被陽極酸化層を陽極酸化して凹構造の位置に孔を形成する工程とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の課題を解決する他の構造体の製造方法は、基板上に凸構造が規則的に配列した凸構造体を形成する工程、前記凸構造体を有する基板上に被陽極酸化層を成膜し、該被陽極酸化層上における前記凸構造体の凸構造間に形成されるセルの中心部に凹構造を形成する工程、前記被陽極酸化層を陽極酸化して凹構造の位置に孔を形成する工程、前記凸構造体を除去して凸構造の位置に孔を形成する工程を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
壁紙等の建材壁装の表面材に用いられる壁装用オーバーフィルムであって、異なる線膨張係数を有し、非相溶系である二種類以上のプラスチック材料を含有する樹脂組成物からなり、光沢度が３０％未満である表層を有し、かつ、フィルム全体の１００℃での貯蔵弾性率が５．０×１０８Ｐａ以上である壁装用オーバーフィルム。
【請求項２】
壁紙等の建材壁装の表面材に用いられる壁装用オーバーフィルムであって、異なる線膨張係数を有し、非相溶系である二種類以上のプラスチック材料を含有する樹脂組成物からなり、光沢度が３０％未満である表層を有し、
前記樹脂組成物が、ポリカーボネート樹脂を主成分とするものである、壁装用オーバーフィルム。
【請求項３】
前記樹脂組成物が、樹脂組成物全体を１００質量％として、６０〜９９質量％のポリカーボネート樹脂、１〜４０質量％のポリオレフィン系樹脂を含有している、請求項１または２に記載の壁装用オーバーフィルム。
【請求項４】
前記樹脂組成物が、樹脂組成物全体を１００質量％として、７０〜９５質量％のポリカーボネート樹脂、２．５〜１５質量％のポリオレフィン系樹脂、２．５〜１５質量％の相溶化剤を含有している、請求項１または２に記載の壁装用オーバーフィルム。
【請求項５】
前記ポリオレフィン系樹脂が、ポリエチレン系樹脂である、請求項３または４に記載の壁装用オーバーフィルム。
【請求項６】
前記表層の片面に熱接着層が積層されている、請求項１〜５のいずれかに記載の壁装用オーバーフィルム。
【請求項７】
前記熱接着層がアクリル系樹脂からなる層である、請求項６に記載の壁装用オーバーフィルム。
【請求項８】
壁紙用原紙上に形成したポリ塩化ビニル層の上に、請求項６または７に記載の壁装用オーバーフィルムの熱接着層が熱接着されてなる、オーバーフィルム被覆壁紙。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
第１の本発明は、壁紙等の建材壁装の表面材に用いられる壁装用オーバーフィルムであって、異なる線膨張係数を有し、非相溶系である二種類以上のプラスチック材料を含有する樹脂組成物からなり、光沢度が３０％未満である表層（１０）を有し、かつ、フィルム全体の１００℃での貯蔵弾性率が５．０×１０８Ｐａ以上である壁装用オーバーフィルム（１００）である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
【表１】
2008075209.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月2日(2010.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン含有量が１５〜６５モル％でケン化度が９５モル％以上のエチレン−ビニルアルコール共重合体（Ａ）、水和物を形成可能なリン酸塩（Ｂ）及び分散剤（Ｃ）からなる樹脂組成物であって；
リン酸塩（Ｂ）が、粒径１６μｍ以下の粒子を９７体積％以上含有する粉体からなり、
分散剤（Ｃ）が、脂肪酸塩、グリセリン脂肪酸エステル及び脂肪酸アミドからなる群から選択される少なくとも１種であり、
（Ａ）と（Ｂ）の合計１００重量部に対して、（Ａ）を５０〜９９重量部、（Ｂ）を１〜５０重量部含有し、かつ
（Ｂ）１００重量部に対して、（Ｃ）を１〜２０重量部含有することを特徴とする樹脂組成物。
【請求項２】
リン酸塩（Ｂ）が、平均粒径１０μｍ以下の粉体からなる請求項１記載の樹脂組成物。
【請求項３】
分散剤（Ｃ）が、炭素数が８〜４０の化合物からなる請求項１又は２記載の樹脂組成物。
【請求項４】
分散剤（Ｃ）が、脂肪酸塩からなる請求項１〜３のいずれか記載の樹脂組成物。
【請求項５】
分散剤（Ｃ）が、グリセリンモノ脂肪酸エステルからなる請求項１〜３のいずれか記載の樹脂組成物。
【請求項６】
分散剤（Ｃ）が、グリセリンモノステアリン酸エステルからなる請求項５記載の樹脂組成物。
【請求項７】
リン酸塩（Ｂ）１００重量部に対して分散剤（Ｃ）を３〜１０重量部含有する請求項１〜６のいずれか記載の樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか記載の樹脂組成物からなる層の両側に、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル及びポリアクリロニトリルからなる群から選択される少なくとも１種の熱可塑性樹脂からなる層を有する多層構造体。
【請求項９】
前記樹脂組成物からなる層の両側に接着性樹脂層を介してポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル及びポリアクリロニトリルからなる群から選択される少なくとも１種の熱可塑性樹脂からなる層を有する請求項８記載の多層構造体。
【請求項１０】
請求項８又は９記載の多層構造体からなる包装容器。
【請求項１１】
請求項１０記載の包装容器に内容物を充填してなるレトルト包装体。
【請求項１２】
エチレン−ビニルアルコール共重合体（Ａ）、リン酸塩（Ｂ）及び分散剤（Ｃ）を溶融混練することを特徴とする請求項１〜７のいずれか記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項１３】
リン酸塩（Ｂ）及び分散剤（Ｃ）を予め混合してから、エチレン−ビニルアルコール共重合体（Ａ）と溶融混練する請求項１２記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項１４】
溶融混練する前に、予めリン酸塩（Ｂ）を粉砕する請求項１２又は１３記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項１５】
分散剤（Ｃ）の存在下にリン酸塩（Ｂ）を粉砕する請求項１４記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項１６】
リン酸塩（Ｂ）を粉砕してから、分散剤（Ｃ）を混合する請求項１４記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項１７】
溶融混練する前に、予めリン酸塩（Ｂ）を乾燥する請求項１２〜１６のいずれか記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項１８】
リン酸塩（Ｂ）を粉砕するのと同時に乾燥する請求項１７記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項１９】
リン酸塩（Ｂ）の含水率が２重量％以下になるように乾燥する請求項１７又は１８記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項２０】
溶融混練する際の温度が、１９０〜２６０℃である請求項１２〜１９のいずれか記載の樹脂組成物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題は、エチレン含有量が１５〜６５モル％でケン化度が９５モル％以上のエチレン−ビニルアルコール共重合体（Ａ）、水和物を形成可能なリン酸塩（Ｂ）及び分散剤（Ｃ）からなる樹脂組成物であって；
リン酸塩（Ｂ）が、粒径１６μｍ以下の粒子を９７体積％以上含有する粉体からなり、
分散剤（Ｃ）が、脂肪酸塩、グリセリン脂肪酸エステル及び脂肪酸アミドからなる群から選択される少なくとも１種であり、
（Ａ）と（Ｂ）の合計１００重量部に対して、（Ａ）を５０〜９９重量部、（Ｂ）を１〜５０重量部含有し、かつ
（Ｂ）１００重量部に対して、（Ｃ）を１〜２０重量部含有することを特徴とする樹脂組成物を提供することによって解決される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
このとき、リン酸塩（Ｂ）が、平均粒径１０μｍ以下の粉体からなることも好ましい。分散剤（Ｃ）が、炭素数が８〜４０の化合物からなることも好ましい。分散剤（Ｃ）が、脂肪酸塩からなることも好ましい。また、分散剤（Ｃ）が、グリセリンモノ脂肪酸エステル、特にグリセリンモノステアリン酸エステルからなることも好ましい。そして、リン酸塩（Ｂ）１００重量部に対して分散剤（Ｃ）を３〜１０重量部含有することが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このとき、リン酸塩（Ｂ）及び分散剤（Ｃ）を予め混合してから、エチレン−ビニルアルコール共重合体（Ａ）と溶融混練することも好ましい。溶融混練する前に予めリン酸塩（Ｂ）を粉砕することが好ましく、分散剤（Ｃ）の存在下にリン酸塩（Ｂ）を粉砕する方法や、リン酸塩（Ｂ）を粉砕してから分散剤（Ｃ）を混合する方法が好適に採用される。溶融混練する前に予めリン酸塩（Ｂ）を乾燥することが好ましく、リン酸塩（Ｂ）を粉砕するのと同時に乾燥する方法や、リン酸塩（Ｂ）の含水率が２重量％以下になるように乾燥する方法が好適に採用される。また、溶融混練する際の温度が、１９０〜２６０℃であることが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
したがって、本発明で用いられるリン酸塩（Ｂ）の粉体は、粒径１６μｍ以下の粒子を９７体積％以上含有することが必要である。粒径１３μｍ以下の粒子を９７体積％以上含有することが好ましい。粒径１０μｍ以下の粒子を９７体積％以上含有することがより好ましい。また、本発明で用いられるリン酸塩（Ｂ）の粉体は、その平均粒径が１０μｍ以下であることが好ましい。平均粒径は、より好適には８μｍ以下であり、さらに好適には６μｍ以下である。このような粒度分布や平均粒径はコールターカウンターなどの粒度分析計で測定することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月16日(2010.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
C9〜C15アルキルフェノール、少なくとも一つの硫化剤、少なくとも一つの金属及び少なくとも一つの過塩基性剤から製造される少なくとも一つの硫化過塩基性金属フェナート清浄剤を含む潤滑油組成物であって；その清浄剤の非硫化C9〜C15アルキルフェノールとその非硫化金属塩を合わせた質量が6.0％未満である、前記組成物。
【請求項２】
硫化過塩基性金属フェナート清浄剤が、C10〜C13アルキルフェノールから製造される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
硫化過塩基性金属フェナート清浄剤が、スルホン酸又はカルボン酸から選ばれる少なくとも一つのさらなる界面活性剤を含む、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
硫化過塩基性金属フェナート清浄剤が、さらなる界面活性剤としてステアリン酸を含む、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
硫化剤が一塩化硫黄である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
金属がカルシウムである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
過塩基性金属フェナート清浄剤が、100℃未満、好ましくは80℃未満の炭化温度を使用して製造される、請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
過塩基性剤が二酸化炭素である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
C9〜C15アルキルフェノール、少なくとも一つの硫化剤、少なくとも一つの金属及び少なくとも一つの過塩基性剤から製造される少なくとも一つの硫化過塩基性金属フェナート清浄剤の、潤滑油組成物の酸中和速度を上昇させるための使用であって；その硫化過塩基性金属フェナート清浄剤の非硫化C9〜C15アルキルフェノール及びその非硫化金属塩含量が合わせて6.0質量％未満である、前記使用。
【請求項１０】
C9〜C15アルキルフェノール、少なくとも一つの硫化剤、少なくとも一つの金属及び少なくとも一つの過塩基性剤から製造される少なくとも一つの硫化過塩基性金属フェナート清浄剤を、潤滑油組成物に加える工程を含む、潤滑油組成物の酸中和速度の上昇方法であって；その硫化過塩基性金属フェナート清浄剤の非硫化C9〜C15アルキルフェノール及びその非硫化金属塩含量が合わせて6.0質量％未満である、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月27日(2010.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大型車両のディスクブレーキ用のブレーキキャリアであって、
作動側ブレーキパッド用の支持体を有し、且つ第１の特性を有する第１の材料から構成される、作動側キャリア部分と、
前記作動側キャリア部分への固定のために、反作用側ブレーキパッド用の支持体を有する、分離した反作用側キャリア部分とを備えており、
前記反作用側キャリア部分が第２の特性を有する第２の材料から構成され、前記第２の特性が前記第１の特性と異なり、前記第１の材料が鍛造材料であり、前記第２の材料が鋳造材料である、ブレーキキャリア。
【請求項２】
前記第１の材料が前記第２の材料より高い強度を有する、請求項１に記載のブレーキキャリア。
【請求項３】
前記第１の材料が前記第２の材料より高い靭性を有する、請求項１または２に記載のブレーキキャリア。
【請求項４】
前記第１の材料が前記第２の材料より滑らかな表面を有する、請求項１乃至３の何れか一項に記載のブレーキキャリア。
【請求項５】
前記第１の材料が鍛鋼である、請求項１乃至４の何れか一項に記載のブレーキキャリア。
【請求項６】
前記第２の材料が鋳鉄である、請求項１乃至５の何れか一項に記載のブレーキキャリア。
【請求項７】
前記作動側部分が、前記作動側ブレーキパッドの円周方向の支持のために当接面を有する凹部を有する、請求項１乃至６の何れか一項に記載のブレーキキャリア。
【請求項８】
前記当接面が非機械加工である、請求項７に記載のブレーキキャリア。
【請求項９】
前記当接面が非高周波焼入れである、請求項７または８に記載のブレーキキャリア。
【請求項１０】
前記反作用側キャリア部分が、使用時に前記ブレーキのブレーキローターの上に延びるようになされた腕部をさらに備える、請求項１乃至９の何れか一項に記載のブレーキキャリア。
【請求項１１】
前記作動側キャリア部分および前記反作用側キャリア部分が補完的な係合面を有する、請求項１乃至１０の何れか一項に記載のブレーキキャリア。
【請求項１２】
前記作動側キャリア部分の前記係合面が非機械加工である、請求項１１に記載のブレーキキャリア。
【請求項１３】
前記係合面が補完的な円周方向の係合面を有する、請求項１１または１２に記載のブレーキキャリア。
【請求項１４】
前記作動側キャリア部分が、車軸、ステアリングナックルまたは緩衝装置部品に前記部分を取り付けるために一体取付け構造をさらに備える、請求項１乃至１３の何れか一項に記載のブレーキキャリア。
【請求項１５】
前記取付け構造が、ドラムブレーキブラケットのための取付け具である、請求項１４に記載のブレーキキャリア。
【請求項１６】
大型車両のディスクブレーキ用のブレーキキャリアであって、
作動側キャリア部分であって、当該作動側キャリア部分をドラムブレーキブラケットに取り付けるための取付け構造を有し、且つ作動側ブレーキパッド用の支持体を有する、作動側キャリア部分と、
前記作動側キャリア部分と固定可能である分離した反作用側キャリア部分であって、反作用側ブレーキパッド用の支持体を有する、反作用側キャリア部分とを備える、ブレーキキャリア。
【請求項１７】
前記取付け構造が複数の穴を有する、請求項１６に記載のブレーキキャリア。
【請求項１８】
前記取付け構造が車軸を完全に取り囲むように配置される、請求項１６または１７に記載のブレーキキャリア。
【請求項１９】
前記作動側部分および前記反作用側部分が、鍛造材料、好ましくは鍛鋼である、請求項１６乃至１８のいずれか一項に記載のブレーキキャリア。
【請求項２０】
作動側部分および分離した反作用側部分を有するキャリアを作製する方法であって、
１）第１の特性を有する第１の材料を有するために前記作動側部分を鍛造する工程と、
２）前記第１の特性と異なる第２の特性を有する第２の材料を有するために前記反作用側部分を鋳造する工程と、
３）完全なキャリアを形成するために、前記作動側部分および前記反作用側部分をともに組み立てる工程とを含む、方法。
【請求項２１】
請求項１乃至１９のいずれか一項に記載のブレーキキャリアを有する、ディスクブレーキ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月15日(2010.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
ケーブルの共振周波数の活動度は、ケーブルおよびケーブル／クランプ支持システムの質量および剛性により決まる。エンジン不均衡力と同じ位相および振幅であるケーブルの共振周波数応答の活動度は、強制関数の相および振幅に依存し、強制関数がケーブルのモード応答と合致する場合、早期の障害をもたらすことがある。エンジンに導入されるものとしての導電体およびケーブルには、これらの用途において、高水準の振動性の環境に耐えるための効果的な制動および支持の制約が必要となる。
【特許文献１】米国特許第７１９７４３０号公報
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月26日(2010.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水、修飾された非置換デンプン生成物を含有する血漿増量剤であって、該デンプン生成物が１１〜２０モル％の範囲内の分枝度、１００００〜４５００００の範囲内の平均分子量（Ｍｗ）を有し、該非置換デンプン生成物が血漿増量剤に基づいて２〜１２重量％の濃度で血漿増量剤中に存在する、上記血漿増量剤。
【請求項２】
１１〜２０モル％の範囲内の分枝度、１００００〜４５００００の範囲内の平均分子量（Ｍｗ）を有する修飾された非置換デンプン生成物の、血漿増量剤の製造における使用であって、該非置換デンプン生成物が血漿増量剤に基づいて２〜１２重量％の濃度で血漿増量剤中に存在する、上記使用。
【請求項３】
水、修飾された非置換デンプン生成物、及び慣用的な添加剤を含有する透析溶液であって、該デンプン生成物が１１〜２０モル％の範囲内の分枝度、１００００〜４５００００の範囲内の平均分子量（Ｍｗ）を有し、該非置換デンプン生成物が透析溶液に基づいて２〜１０重量％の濃度で透析溶液中に存在する、上記透析溶液。
【請求項４】
１１〜２０モル％の範囲内の分枝度、１００００〜４５００００の範囲内の平均分子量（Ｍｗ）を有する修飾された非置換デンプン生成物の、透析におけるコロイド−浸透圧剤を透析溶液の形で製造することにおける使用であって、該非置換デンプン生成物が透析溶液に基づいて２〜１０重量％の濃度で透析溶液中に存在する、上記使用。
【請求項５】
透析が腹膜透析である、請求項４の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月12日(2010.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化粧用および／または皮膚科用組成物調製での、フェルラ属植物エキスまたは下記式（Ｉａ）で示されるフェルチニンの利用。
【化１】
2010209099.tif 000001
【請求項２】
前記フェルラ属植物が、フェルラ・コムニスまたはフェルラ・ヘルモニスである請求項１に記載の利用。