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【手続補正書】
【提出日】平成22年7月7日(2010.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体チップの表面にフェイスダウン用の外部電極が複数設けられた半導体装置であり、
前記複数の外部電極は、前記半導体チップに設けられたコンタクトを介して前記半導体チップに形成された能動素子と電気的に接続され、
第１のコンタクトの位置と異なる領域に延在するため、前記外部電極の幅よりも狭い再配線が設けられた第１の外部電極と、
第２のコンタクトが設けられた位置から、前記半導体チップの縦の中心線および横の中心線の近傍またはそれらを超えて延在する第２の外部電極を有する事を特徴とした半導体装置。
【請求項２】
前記複数の外部電極を被覆する絶縁性被膜の開口部には、ロウ材が設けられる請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記半導体チップは、低温の第１の領域と、前記第１の領域よりも高温な第２の領域があり、前記第２の外部電極は、前記第２の領域を被覆する請求項１または請求項２記載の半導体装置。
【請求項４】
表面が長方形の半導体チップの表面にフェイスダウン用の外部電極が複数設けられた半導体装置であり、
前記複数の外部電極は、前記半導体チップに形成された能動素子とコンタクトを介して電気的に接続され、
第１のコンタクトと接続され、前記第１のコンタクトの位置と異なる領域に延在するため、前記外部電極の幅よりも狭い再配線が設けられた第１の外部電極と、
第２のコンタクトと接続され、前記短辺方向には、前記半導体チップの周囲から、前記半導体チップの長辺と平行な前記半導体チップの中心線近傍またはそれを超え、長辺方向には、表面に設けられる端子の先まで延在する第２の外部電極を有する事を特徴とした半
導体装置。
【請求項５】
前記第２の外部電極は、実質矩形で、短辺と平行に延在する側辺に沿って複数の前記第２のコンタクトが設けられる請求項４に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記第２の電極は複数設けられ、一は前記半導体チップの一方の長辺から前記長辺と平行な中心線の近傍またはそれを超えて延在され、一は前記半導体チップの他方の長辺から前記長辺と平行な中心線の近傍またはそれを超えて延在される請求項４に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記半導体チップは、低温の第１の領域と、前記第１の領域よりも高温な第２の領域があり、前記第２の外部電極は、前記第２の領域を被覆する請求項４から請求項６のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項８】
前記半導体チップの裏面には、チッピング防止としてフィルムが貼りあわされている請求項１〜請求項７のいずれかに記載の半導体装置。
【請求項９】
半導体チップ内の低温の第１の領域に形成され、前記半導体チップに形成された能動素子にコンタクトするコンタクトと端子の間に外部電極の幅よりも狭い再配線が形成された複数の第１の外部電極と、
前記複数の第１の外部電極のうち、隣接する第１の外部電極同士の近傍まで延在することで、当該外部電極より幅広な幅広部を有し、かつ前記第１の領域より高温な第２の領域を被覆するように形成された第２の外部電極とを有する事を特徴とした半導体装置。
【請求項１０】
半導体チップの表面にフェイスダウン用の外部電極が複数設けられた半導体装置であり、
前記複数の外部電極は、前記半導体チップに設けられたコンタクトを介して前記半導体チップに形成された能動素子と電気的に接続され、
前記コンタクトの位置と異なる領域に延在するため、前記コンタクトと端子との間に前記外部電極の幅よりも狭い再配線が設けられた第１の外部電極と、
前記第１の外部電極と隣接し、当該外部電極より幅広な幅広部を有した第２の外部電極とを有し、
前記第２の外部電極は前記第１の外部電極の端子と前記第２の外部電極の端子との中心線を超えて第１の外部電極の端子側に延在している事を特徴とした半導体装置。
【請求項１１】
前記第２の外部電極は、実質矩形である事を特徴とした請求項９または請求項１０に記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月29日(2010.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体面の像を像面に投影する光学系であって、
前記物体面の近傍に少なくとも１つの第１屈折光学部材を含み、かつ、前記像面の近傍に少なくとも１つの第２屈折光学部材を含み、
前記第１及び第２屈折光学部材の少なくともいずれかを光軸方向に対して垂直な方向の移動量を含むように移動することによって、前記光学系の非点隔差及びディストーションの調整を行う調整手段を有し、
前記調整手段は、像高毎に、
前記第１屈折光学部材の移動によるディストーションの発生量と前記第２屈折光学部材の移動によるディストーションの発生量とが異符号かつ絶対値が同じになるように、
前記第１屈折光学部材の移動による非点隔差の発生量と前記第２屈折光学部材の移動による非点隔差の発生量とが異符号かつ絶対値が同じになるように、前記第１屈折光学部材及び前記第２屈折光学部材を移動することを特徴とする光学系。
【請求項２】
前記調整手段は、前記光学系の非点隔差及びディストーションの少なくともいずれかを計測する計測手段と、前記計測手段の計測結果から前記第１、第２屈折光学部材の移動量を算出する算出手段と、前記移動量に基づいて前記第１及び第２屈折光学部材の少なくともいずれかを駆動する駆動手段と、を有することを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
前記光学系は、前記物体面から像面に至る光路に少なくとも第１凹反射面、凸反射面、第２凹反射面が配置され、
前記第１屈折光学部材は前記物体面と前記第１凹反射面との間に配置され、
前記第２屈折光学部材は前記第２凹反射面と前記像面との間に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学系。
【請求項４】
前記第１及び第２屈折光学部材は、光線有効部が光軸を含まない軸外に存在する球面レンズから構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項５】
前記第１及び第２屈折光学部材は、光線有効部が光軸を含まない軸外に存在する非球面レンズから構成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項６】
前記第１及び第２屈折光学部材を同時に移動させたときのディストーションは、当該第１及び第２屈折光学部材のいずれかを移動させたときに発生するディストーションの１／２以下となることを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項７】
前記第１及び第２屈折光学部材を同時に移動させたときの非点隔差は、当該第１及び第２屈折光学部材のいずれかを移動させたときに発生する非点隔差の１／２以下となることを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学系を有し、
原版のパターンを前記光学系を介して基板に露光することを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記課題を解決し、目的を達成するために、本発明の光学系は、物体面の像を像面に投影する光学系であって、前記物体面の近傍に少なくとも１つの第１屈折光学部材を含み、かつ、前記像面の近傍に少なくとも１つの第２屈折光学部材を含み、前記第１及び第２屈折光学部材の少なくともいずれかを光軸方向に対して垂直な方向の移動量を含むように移動することによって、前記光学系の非点隔差及びディストーションの調整を行う調整手段を有し、前記調整手段は、像高毎に、前記第１屈折光学部材の移動によるディストーションの発生量と前記第２屈折光学部材の移動によるディストーションの発生量とが異符号かつ絶対値が同じになるように、前記第１屈折光学部材の移動による非点隔差の発生量と前記第２屈折光学部材の移動による非点隔差の発生量とが異符号かつ絶対値が同じになるように、前記第１屈折光学部材及び前記第２屈折光学部材を移動する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月30日(2010.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部接続端子が電子機器の前面側に実装された入出力部を、電子機器の筐体外へ引き出し及び前記電子機器の筐体内へ収納可能にする入出力部可動機構であって、
前記入出力部を前記電子機器の前面に対して斜め方向に直線的に移動させる移動手段を有し、
前記移動手段によって前記入出力部は、前記入出力部の前記外部接続端子の実装面が前記電子機器の筐体外に露出するように、前記電子機器の前面に対して斜め手前方向に移動することで前記電子機器の筐体外へ引き出され、
前記入出力部の外部接続端子の実装面が前記電子機器の筐体内に収納されるように、前記電子機器の前面に対して斜め奥行方向に移動することで前記電子機器の筐体外へ収納され、
前記入出力部の外部接続端子の実装面は、前記電子機器の前面に対向して、前記電子機器の前面に対して平行な面から、前記移動手段による前記入出力部の移動方向に水平な面までの間の所定の角度で設けられていることを特徴とする入出力部可動機構。
【請求項２】
前記所定の角度は、前記電子機器の前面に対して平行であることを特徴とする請求項１に記載の入出力部可動機構。
【請求項３】
前記所定の角度は、前記移動手段による前記入出力部の移動方向に水平であることを特徴とする請求項１に記載の入出力部可動機構。
【請求項４】
前記入出力部が前記電子機器の筐体の底面部から、前記電子機器の筐体外への引き出し及び前記電子機器の筐体内への収納が可能になるように、前記移動手段が設けられていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の入出力部可動機構。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】入出力部可動機構
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、外部接続端子及び／又は操作部が実装された入出力部を有するテレビセット等の電子機器の入出力部可動機構に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明は上記従来の問題点に鑑み、外部接続端子及び操作部の操作時に、外部接続端子や操作ボタンの視認性及び操作性を向上させることができる入出力部可動機構を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
上記目的を達成するため、本発明の入出力部可動機構は、外部接続端子が電子機器の前面側に実装された入出力部を、電子機器の筐体外へ引き出し及び前記電子機器の筐体内へ収納可能にする入出力部可動機構であって、前記入出力部を前記電子機器の前面に対して斜め方向に直線的に移動させる移動手段を有し、前記移動手段によって前記入出力部は、前記入出力部の前記外部接続端子の実装面が前記電子機器の筐体外に露出するように、前記電子機器の前面に対して斜め手前方向に移動することで前記電子機器の筐体外へ引き出され、前記入出力部の外部接続端子の実装面が前記電子機器の筐体内に収納されるように、前記電子機器の前面に対して斜め奥行方向に移動することで前記電子機器の筐体外へ収納され、前記入出力部の外部接続端子の実装面は、前記電子機器の前面に対向して、前記電子機器の前面に対して平行な面から、前記移動手段による前記入出力部の移動方向に水平な面までの間の所定の角度で設けられていることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、入出力部３は、図２（ａ），（ｂ）に示すように、テレビセット１の前面側に所定角度の斜め方向Ａ１、Ａ２に可動式であり、入出力端子／操作部３ａの反対面にＡ１、Ａ２方向に平行なガイド形状３ｂを有している。ガイド形状３ｂは、入出力部３の移動方向をＡ１、Ａ２方向に規定している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
多くの電子機器を操作する場合、特にテレビセットでは人間が座った際に視線が表示範囲の中心付近にくるようにテレビセットを設置する場合が多い。したがって、本実施の形態のテレビセット１のように、表示パネル２の下側に設置されている入出力部３を操作する際は、操作者の目線を考慮すると操作方向は、水平から上方の範囲（図３（ａ）の範囲Ｊ参照）になる場合が多い。この場合、図３（ａ）において、可動方向Ａ１もしくはＡ２と荷重Ｂ１もしくはＦの成す角度α１は大きくなるので、この時の荷重Ｃ１は小さくなる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2009038460.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月22日(2010.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示部及び受話用スピーカを有する表示部ユニットと、
この表示部ユニットを前記表示部が縦長状態及び横長状態に切換操作可能となるように回転可能に支持する支持部ユニットと、
操作部及び送話用マイクを有する操作部ユニットと、
この操作部ユニットと前記支持部ユニットとを開閉自在に連結するヒンジ部とを備える折り畳み式通信端末において、
前記表示部ユニットの前記表示部を有する面には、前記表示部が縦長状態の時に、前記ヒンジ部側から最も離れた位置となる側縁部に前記受話用スピーカが設けられ、且つ、前記ヒンジ部側となる側面にテレビ用アンテナが設けられていることを特徴とする折り畳み式通信端末。
【請求項２】
前記操作キーは、前記表示部ユニットが縦長状態の時に前記ヒンジ部の位置にあり、前記表示部ユニットが横長状態の時に、その側面の位置にくるように設けられていることを特徴とする請求項１に記載の折り畳み式通信端末。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
以上の課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、表示部及び受話用スピーカを有する表示部ユニットと、この表示部ユニットを前記表示部が縦長状態及び横長状態に切換操作可能となるように回転可能に支持する支持部ユニットと、操作部及び送話用マイクを有する操作部ユニットと、この操作部ユニットと前記支持部ユニットとを開閉自在に連結するヒンジ部とを備える折り畳み式通信端末において、前記表示部ユニットの前記表示部を有する面には、前記表示部が縦長状態の時に、前記ヒンジ部側から最も離れた位置となる側縁部に前記受話用スピーカが設けられ、且つ、前記ヒンジ部側となる側面にＴＶ用アンテナが設けられていることを特徴とする。
また、前記操作キーは、前記表示部ユニットが縦長状態の時に前記ヒンジ部の位置にあり、前記表示部ユニットが横長状態の時に、その側面の位置にくるように設けられていてもよい。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月25日(2010.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
異なる解像度の映像コンテンツを復調するデコーダ部と、
前記デコーダ部が復調した映像コンテンツに所定の画像処理を施して出力し、前記デコーダ部における異なる解像度の映像コンテンツの映像処理に要する期間は内部で映像を生成して出力する画像処理部と、
を備える、ことを特徴とする映像再生装置。
【請求項２】
異なる解像度の映像コンテンツを復調するステップと、
復調した映像コンテンツに所定の画像処理を施して出力し、異なる解像度の映像コンテンツの映像処理に要する期間に表示するための映像を生成して出力するステップと、
を備える、ことを特徴とする映像再生方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するため、本発明の第１の態様における映像再生装置は、異なる解像度の映像コンテンツを復調するデコーダ部と、前記デコーダ部が復調した映像コンテンツに所定の画像処理を施して出力し、前記デコーダ部における異なる解像度の映像コンテンツの映像処理に要する期間は内部で映像を生成して出力する画像処理部と、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明の第２の態様における映像再生方法は、異なる解像度の映像コンテンツを復調するステップと、復調した映像コンテンツに所定の画像処理を施して出力し、異なる解像度の映像コンテンツの映像処理に要する期間に表示するための映像を生成して出力するステップと、を備える。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月29日(2010.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
温度を検出する温度センサと、前記温度センサの温度検出結果に応じた補償電圧を発生
する補償電圧発生回路と、圧電振動子を備え前記補償電圧に基づいて所定の発振周波数で
発振する発振回路と、前記発振回路の発振出力をバッファするバッファ回路と、メモリ回路と、を備え、
前記バッファ回路は、前記発振回路の発振出力を増幅する増幅回路と、該増幅回路の出
力側に設けられた容量素子を選択可能な容量回路と、を有し、前記メモリ回路により前記
容量回路の容量が設定されることを特徴とする温度補償型圧電発振器。
【請求項２】
前記増幅回路は、前記メモリ回路によりゲインが設定されることを特徴とする請求項１
に記載の温度補償型圧電発振器。
【請求項３】
前記増幅回路のゲインと前記容量回路の容量は、前記メモリ回路により独立に設定され
ることを特徴とする請求項２に記載の温度補償型圧電発振器。
【請求項４】
前記増幅回路のゲインと前記容量回路の容量は、前記メモリ回路により連動して設定さ
れることを特徴とする請求項２に記載の温度補償型圧電発振器。
【請求項５】
前記圧電振動子以外の回路がＩＣ化されていることを特徴とする請求項１乃至４のいず
れかに記載の温度補償型圧電発振器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の温度補償型圧電発振器は、温度を検出する温度セン
サと、前記温度センサの温度検出結果に応じた補償電圧を発生する補償電圧発生回路と、
圧電振動子を備え前記補償電圧に基づいて所定の発振周波数で発振する発振回路と、前記
発振回路の発振出力をバッファするバッファ回路と、メモリ回路と、を備え、前記バッファ回路は、前記発振回路の発振出力を増幅する増幅回路と該増幅回路の出力側に設けられ、容量を選択可能な容量回路と、を有し、前記メモリ回路により前記容量回路の容量が設定されることを特徴とする。
このような本発明によれば、温度補償型圧電発振器の出力インピーダンスを実装する機
器側のインピーダンスに整合させるように設定することが可能となり、インピーダンスの
ミスマッチによって生じる高調波を低減でき、セットの受信感度の劣化を防止することが
できるという効果がある。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月30日(2010.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＸＹアドレス方式の撮像素子により得られた画像信号のフリッカ成分を補正するフリッカ補正装置であって、
前記画像信号を複数のフリッカ検出枠に分割する設定手段と、
前記複数のフリッカ検出枠の各々で、フリッカ成分を検出するフリッカ検出手段と、
前記フリッカ検出手段が検出したフリッカ成分と、予め定められたフリッカ成分を表すフリッカモデルとから、前記複数のフリッカ検出枠の各々に対するフリッカモデルを決定する決定手段と、
前記複数のフリッカ検出枠を、前記決定手段により決定された前記フリッカモデルに基づいて分類する分類手段と、
同じ分類に属するフリッカ検出枠からなる領域の１つを選択する選択手段と、
前記選択手段が選択した領域のフリッカ成分から生成した補正値を適用して、前記画像信号の全体のフリッカ成分の補正を行う補正手段とを有することを特徴とするフリッカ補正装置。
【請求項２】
前記決定手段が、
各々のフリッカ検出枠におけるフリッカ成分と複数のフリッカモデルの各々との差分を求め、前記差分が閾値以下となるフリッカ成分のフリッカ検出枠とフリッカモデルの組み合わせを求めることで、前記複数のフリッカ検出枠の各々に対するフリッカモデルを決定することを特徴とする請求項１記載のフリッカ補正装置。
【請求項３】
前記選択手段が、前記同一の分類に属するフリッカ検出枠からなる領域が複数ある場合、面積が最も大きい領域を前記１つの領域として選択することを特徴とする請求項１または２記載のフリッカ補正装置。
【請求項４】
前記選択手段が、前記同一の分類に属するフリッカ検出枠からなる領域が複数ある場合、前記画像信号の中央に近い領域を前記１つの領域として選択することを特徴とする請求項１または２記載のフリッカ補正装置。
【請求項５】
前記画像信号から予め定められた条件を満たす領域を抽出する抽出手段をさらに有し、
前記選択手段が、前記抽出手段が抽出した領域に基づいて前記１つの領域を選択することを特徴とする請求項１または２記載のフリッカ補正装置。
【請求項６】
前記抽出手段が、前記画像信号から、予め定められた色を有する領域、静止している領域又は合焦している領域を抽出することを特徴とする請求項５記載のフリッカ補正装置。
【請求項７】
前記抽出手段が、ユーザによる画面内の領域の指定を受け付ける受け付け手段を有し、前記指定された領域を抽出することを特徴とする請求項５記載のフリッカ補正装置。
【請求項８】
前記選択手段が過去に選択した領域を特定する情報を記憶する記憶手段をさらに有し、前記選択手段は、現在の画像信号に対して求まる前記１つの領域の位置と、前記記憶手段に記憶された情報とに応じて、前記現在の画像信号に対する前記１つの領域を選択することを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載のフリッカ補正装置。
【請求項９】
ＸＹアドレス方式の撮像素子により得られた画像信号のフリッカ成分を補正するフリッカ補正方法であって、
設定手段が前記画像信号を複数のフリッカ検出枠に分割する工程と、
フリッカ検出手段が前記複数のフリッカ検出枠の各々で、フリッカ成分を検出する工程と、
前記フリッカ検出手段が検出したフリッカ成分と、予め定められたフリッカ成分を表すフリッカモデルとから、決定手段が、前記複数のフリッカ検出枠の各々に対するフリッカモデルを決定する工程と、
分類手段が前記フリッカ検出枠を前記決定手段により決定された前記フリッカモデルに基づいて分類する工程と、
選択手段が同一分類に属するフリッカ検出枠からなる領域の中から１つを選択する工程と、
補正手段が、前記選択手段が選択した領域のフリッカ成分から生成した補正値を適用して、前記画像信号の全体のフリッカ成分の補正を行う工程とを有することを特徴とするフリッカ補正方法。
【請求項１０】
コンピュータを、請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載のフリッカ補正装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上述の目的は、ＸＹアドレス方式の撮像素子により得られた画像信号のフリッカ成分を補正するフリッカ補正装置であって、前記画像信号を複数のフリッカ検出枠に分割する設定手段と、複数のフリッカ検出枠の各々で、フリッカ成分を検出するフリッカ検出手段と、フリッカ検出手段が検出したフリッカ成分と、予め定められたフリッカ成分を表すフリッカモデルとから、複数のフリッカ検出枠の各々に対するフリッカモデルを決定する決定手段と、複数のフリッカ検出枠を、決定手段により決定されたフリッカモデルに基づいて分類する分類手段と、同じ分類に属するフリッカ検出枠からなる領域の１つを選択する選択手段と、前記選択手段が選択した領域のフリッカ成分から生成した補正値を適用して、画像信号の全体のフリッカ成分の補正を行う補正手段とを有することを特徴とするフリッカ補正装置によって達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、上述の目的は、ＸＹアドレス方式の撮像素子により得られた画像信号のフリッカ成分を補正するフリッカ補正方法であって、設定手段が画像信号を複数のフリッカ検出枠に分割する工程と、フリッカ検出手段が複数のフリッカ検出枠の各々で、フリッカ成分を検出する工程と、フリッカ検出手段が検出したフリッカ成分と、予め定められたフリッカ成分を表すフリッカモデルとから、決定手段が、複数のフリッカ検出枠の各々に対するフリッカモデルを決定する工程と、分類手段がフリッカ検出枠を決定手段により決定されたフリッカモデルに基づいて分類する工程と、選択手段が同一分類に属するフリッカ検出枠からなる領域の中から１つを選択する工程と、補正手段が、選択手段が選択した領域のフリッカ成分から生成した補正値を適用して、画像信号の全体のフリッカ成分の補正を行う工程とを有することを特徴とするフリッカ補正方法によっても達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月29日(2010.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信装置であって、
ネットワークへの接続に必要な通信パラメータを自動設定する自動設定処理を行うべき相手通信装置を決定する決定手段と、
前記決定手段により決定された相手通信装置から前記通信パラメータを取得する取得手段とを有し、
前記決定手段は、周囲の通信装置から送信される信号に含まれる、通信装置の認証方式を示す情報と暗号化規則を示す情報の少なくとも一つの情報に基づいて前記相手通信装置を決定することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記自動設定処理において前記周囲の通信装置からメッセージを受信したか否かを示す情報を記憶する記憶手段を更に有し、
前記決定手段は、前記メッセージを受信した通信装置の中から前記自動設定処理を行う相手通信装置を決定することを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記周囲の通信装置の機器詳細情報を取得する手段を更に有し、
前記決定手段は、取得された機器詳細情報と通信装置の条件情報とに基づいて相手通信装置を決定することを特徴とする請求項２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記機器詳細情報は、機器名、機器ベンダ名、モデル名、モデル番号、シリアル番号、機器種別、ＭＡＣアドレス、ＵＵＩＤの少なくとも何れか一つの情報を含むことを特徴とする請求項３に記載の通信装置。
【請求項５】
通信装置にて実行される通信パラメータ設定方法であって、
決定手段が、ネットワークへの接続に必要な通信パラメータを自動設定する自動設定処理を行うべき相手通信装置を決定する決定工程と、
取得手段が、前記決定工程で決定された相手通信装置から前記通信パラメータを取得する取得工程とを有し、
前記決定工程において、周囲の通信装置から送信される信号に含まれる、通信装置の認証方式を示す情報と暗号化規則を示す情報の少なくとも一つの情報に基づいて相手通信装置を決定することを特徴とする通信パラメータ設定方法。
【請求項６】
請求項５に記載の通信パラメータ設定方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項７】
請求項６に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は、通信装置であって、ネットワークへの接続に必要な通信パラメータを自動設定する自動設定処理を行うべき相手通信装置を決定する決定手段と、前記決定手段により決定された相手通信装置から前記通信パラメータを取得する取得手段とを有し、前記決定手段は、周囲の通信装置から送信される信号に含まれる、通信装置の認証方式を示す情報と暗号化規則を示す情報の少なくとも一つの情報に基づいて前記相手通信装置を決定することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明は、通信装置にて実行される通信パラメータ設定方法であって、決定手段が、ネットワークへの接続に必要な通信パラメータを自動設定する自動設定処理を行うべき相手通信装置を決定する決定工程と、取得手段が、前記決定工程で決定された相手通信装置から前記通信パラメータを取得する取得工程とを有し、前記決定工程において、周囲の通信装置から送信される信号に含まれる、通信装置の認証方式を示す情報と暗号化規則を示す情報の少なくとも一つの情報に基づいて相手通信装置を決定することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月19日(2010.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンテナ素子と、該アンテナ素子に電力を供給するための給電部と、該給電部に電気的に接続されるアンテナ整合用の短絡素子と、該短絡素子に接続されるグランドとからなるアンテナにおいて、該アンテナが金属製の筐体内に内蔵され、該金属製の筐体と上記グランドとが電気的に接続されていることを特徴とするアンテナ。
【請求項２】
携帯端末や電気機器の筐体に内蔵するアンテナで、単数もしくは複数のアンテナ素子を具備し、グランドを具備し、該グランドが筐体の金属（導体）部と電気的に接続されていることを特徴とするアンテナ。
【請求項３】
携帯端末や電気機器の筐体に内蔵するアンテナで、複数のアンテナ素子を具備し、ループ構造のアンテナ素子部を具備し、グランドを具備し、該グランドが筐体の金属（導体）部と電気的に接続されていることを特徴とするアンテナ。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載のアンテナであって、携帯端末や電気機器の筐体に内蔵したとき、該アンテナのグランドが筐体内で近接する金属（導体）部品と対向するように具備されていることを特徴とするアンテナ。
【請求項５】
請求項２又は請求項４記載のアンテナであって、該アンテナの放射素子とグランドの間に少なくとも１つのスロット構造を具備することを特徴とするアンテナ。
【請求項６】
請求項１、請求項３、請求項４のいずれかに記載のアンテナであって、給電点を境に該アンテナのアンテナ素子とグランドの間に１つのスロット構造と１つのループ構造を具備し、スロット構造のサイズがループ構造のサイズよりも大きいことを特徴とするアンテナ。
【請求項７】
請求項６記載のアンテナであって、携帯端末や電気機器の筐体に内蔵したとき、該アンテナのループ構造が筐体内で近接する金属（導体）部品から離れた位置に設置されていることを特徴とするアンテナ。
【請求項８】
請求項５又は請求項７記載のアンテナであって、該アンテナのアンテナ素子が複数ある場合、１つのアンテナ素子とグランドの間に少なくとも１つのアンテナ素子を具備していることを特徴とするアンテナ。
【請求項９】
請求項４から請求項８のいずれかに記載のアンテナであって、該アンテナのグランドと少なくとも１つのアンテナ素子とが対向するように配置されていることを特徴とするアンテナ。
【請求項１０】
請求項７又は請求項８記載のアンテナであって、該アンテナが具備するループ構造が筐体内の近接する金属（導体）部品と対向するグランドの部分を含まないことを特徴とするアンテナ。
【請求項１１】
請求項４から請求項１０のいずれかに記載のアンテナであって、該アンテナの該グランドと筐体の金属（導体）部とを電気的に接続していないことを特徴とするアンテナ。
【請求項１２】
請求項１から請求項１１のいずれかに記載のアンテナであって、前記アンテナ素子と前記グランドとを全体的もしくは部分的に絶縁体で覆ったことを特徴とするアンテナ。
【請求項１３】
請求項１１又は１２記載のアンテナであって、前記筐体内の電気ノイズの影響を低減するために前記筐体の金属部と前記グランドとの間に絶縁体を挟んだことを特徴とするアンテナ。
【請求項１４】
請求項１１又は１２記載のアンテナであって、筐体内の電気ノイズの該アンテナへの空間を介した伝達を遮断する構造として、前記グランドを用いたことを特徴とするアンテナ。
【請求項１５】
請求項１から請求項１４のいずれかに記載のアンテナを内蔵した電気機器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月27日(2010.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
像担持体、当該像担持体を露光する露光部、及び、露光によって生成された静電潜像を記録材で顕像化する現像部とを用いて画像形成を行う画像形成部を有する画像形成装置であって、
前記像担持体を主走査方向に走査しながら露光する際の、露光位置の副走査方向におけるずれ量を表すプロファイルを記憶するプロファイル記憶手段と、
前記プロファイルに基づいて、前記副走査方向におけるずれ量の補正を行うべき主走査方向の画素位置を決定する決定手段と、
複数の色成分の濃度値と第１の属性データとを画素毎に含む画像データを記憶する画像データ記憶手段と、
決定された前記画素位置において、読み出し位置を副走査方向にずらして画像データを前記画像データ記憶手段より読み出す読み出し手段と、
読み出された画像データの前記第１の属性データを参照し、特定の属性を示す第１の属性データが存在する場合に、該特定の属性を示す第１の属性データが存在する領域を前記読み出し位置をずらした方向に対応する方向に拡張して、前記画像データの一部の第１の属性データを修正する属性修正手段と、
修正された前記第１の属性データに基づき決定される領域内の画像データについて画素値の補間処理を行う補間処理手段と、
を備え、
前記補間処理を行った画素値を利用して画像形成を行うことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記属性修正手段は、前記特定の属性を示す第１の属性データを有する画素の前記複数の色成分の濃度値に基づいて該色成分毎の第２の属性データを生成し、前記第２の属性データに基づいて、前記修正を行うことを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記属性修正手段は、各色成分の濃度値を閾値と比較し、前記閾値以上の濃度値の色成分について前記特定の属性を示す前記第２の属性データを生成し、前記閾値よりも小さい濃度値の色成分について前記特定の属性を示さない前記第２の属性データを生成することを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記閾値は、色成分毎に設定されることを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記特定の属性は、文字属性又は細線属性であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
像担持体、当該像担持体を露光する露光部、及び、露光によって生成された静電潜像を記録材で顕像化する現像部とを用いて画像形成を行う画像形成部と、複数の色成分の濃度値と第１の属性データとを画素毎に含む画像データを記憶する画像データ記憶部とを有する画像形成装置の制御方法であって、
前記像担持体を主走査方向に走査しながら露光する際の、露光位置の副走査方向におけるずれ量を表すプロファイルに基づいて、前記副走査方向におけるずれ量の補正を行うべき主走査方向の画素位置を決定する決定工程と、
決定された前記画素位置において、読み出し位置を副走査方向にずらして画像データを前記画像データ記憶部より読み出す読み出し工程と、
読み出された画像データの前記第１の属性データを参照し、特定の属性を示す第１の属性データが存在する場合に、該特定の属性を示す第１の属性データが存在する領域を前記読み出し位置をずらした方向に対応する方向に拡張して、前記画像データの一部の第１の属性データを修正する属性修正工程と、
修正された前記第１の属性データに基づき決定される領域内の画像データについて画素値の補間処理を行う補間処理工程と、
前記補間処理を行った画素値を利用して画像形成を行う画像形成工程と
を備えることを特徴とする画像形成装置の制御方法。
【請求項７】
前記属性修正工程では、前記特定の属性を示す第１の属性データを有する画素の前記複数の色成分の濃度値に基づいて該色成分毎の第２の属性データを生成し、前記第２の属性データに基づいて、前記修正を行うことを特徴とする請求項６に記載の画像形成装置の制御方法。
【請求項８】
前記属性修正工程では、各色成分の濃度値を閾値と比較し、前記閾値以上の濃度値の色成分について前記特定の属性を示す前記第２の属性データを生成し、前記閾値よりも小さい濃度値の色成分について前記特定の属性を示さない前記第２の属性データを生成することを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置の制御方法。
【請求項９】
前記閾値は、色成分毎に設定されることを特徴とする請求項８に記載の画像形成装置の制御方法。
【請求項１０】
前記特定の属性は、文字属性又は細線属性であることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか１項に記載の画像形成装置の制御方法。
【請求項１１】
コンピュータに、請求項６乃至１０のいずれか１項に記載の方法を実行させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成装置とその制御方法、及び、コンピュータプログラム
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月5日(2010.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力画像に対して複数の補正処理を行う画像処理装置であって、
前記入力画像の多次元グリッドヒストグラムの各グリッドの値に対して特定の補正処理が行われた後の多次元グリッドヒストグラムの各グリッドの値と前記各グリッドの度数とに基づき、前記入力画像の特徴量を解析する手段と、
前記解析した結果に基づき、前記特定の補正処理の後に行われる補正処理で用いる補正パラメータを算出する手段とを有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記入力画像の多次元グリッドヒストグラムを算出する手段と、
前記多次元グリッドヒストグラムの各グリッドの値に対して特定の補正処理を行い、前記各グリッドの値を更新する更新手段とを更に有し、
前記解析する手段は、前記更新手段によって更新された多次元グリッドヒストグラムの各グリッドの値と前記各グリッドの度数とに基づき、前記入力画像の特徴量を解析することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記特定の補正処理に用いる補正パラメータと前記特定の補正処理の後に行われる補正処理で用いる補正パラメータに基づき、多次元のルックアップテーブルを生成する手段と、
前記多次元のルックアップテーブルを用いて前記入力画像に補正を行い出力画像を生成する手段とを更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記多次元グリッドヒストグラムを算出する手段は、前記多次元グリッドヒストグラムをＲＧＢの３次元空間で算出することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記特定の補正処理は、画像のホワイトバランスを補正する補正処理であることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記特定の補正処理の後に行われる補正処理で用いる補正パラメータを算出した後に、前記多次元グリッドヒストグラムに基づいて特定色の分布を解析する解析手段と、
前記特定色を処理するためのパラメータを算出する手段と、
当該パラメータに基づいて前記多次元のルックアップテーブルを修正する手段とを更に有することを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記特定色は、肌色であることを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
入力画像に対して複数の補正処理を行う画像処理装置によって実行される画像処理方法であって、
解析する手段が、前記入力画像の多次元グリッドヒストグラムの各グリッドの値に対して特定の補正処理が行われた後の多次元グリッドヒストグラムの各グリッドの値と前記各グリッドの度数とに基づき、前記入力画像の特徴量を解析する工程と、
前記解析した結果に基づき、前記特定の補正処理の後に行われる補正処理で用いる補正パラメータを算出する工程とを有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項９】
請求項８に記載の画像処理方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１０】
請求項９に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、入力画像に対して複数の補正処理を行う画像処理装置であって、前記入力画像の多次元グリッドヒストグラムの各グリッドの値に対して特定の補正処理が行われた後の多次元グリッドヒストグラムの各グリッドの値と前記各グリッドの度数とに基づき、前記入力画像の特徴量を解析する手段と、前記解析した結果に基づき、前記特定の補正処理の後に行われる補正処理で用いる補正パラメータを算出する手段とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明は、入力画像に対して複数の補正処理を行う画像処理装置によって実行される画像処理方法であって、解析する手段が、前記入力画像の多次元グリッドヒストグラムの各グリッドの値に対して特定の補正処理が行われた後の多次元グリッドヒストグラムの各グリッドの値と前記各グリッドの度数とに基づき、前記入力画像の特徴量を解析する工程と、前記解析した結果に基づき、前記特定の補正処理の後に行われる補正処理で用いる補正パラメータを算出する工程とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月30日(2010.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を形成する画像形成部を色成分毎に備え、各色成分の画像を重ね合わせてカラー画像を形成する画像形成装置であって、
前記画像形成部における像担持体上の走査線の副走査方向についてのずれ量に応じてディザマトリクス要素の位置をずらし、処理対象のドット画像データに対してスクリーン処理を施すスクリーン処理手段と
前記画像形成部における像担持体上の走査線の副走査方向についての前記ずれ量を相殺するように、前記スクリーン処理手段により処理されたドット画像データの各画素の位置を副走査方向にずらし、該ずらしにより生じる画像の段差を平滑化するレジストレーションずれ補正手段と
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記スクリーン処理手段は、スクリーン処理を行う前に、前記画像形成部における像担持体上の走査線の副走査方向についての前記ずれ量に応じて元のディザマトリクスの要素の位置をずらした新たなディザマトリクスを生成する生成手段と、
前記新たなディザマトリクスを用いてスクリーン処理を実行する手段と
を有することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
画像を形成する画像形成部を色成分毎に備え、各色成分の画像を重ね合わせてカラー画像を形成する画像形成装置における画像補正方法であって、
前記画像形成装置のスクリーン処理手段が、前記画像形成部における像担持体上の走査線の副走査方向についてのずれ量に応じてディザマトリクス要素の位置をずらし、処理対象のドット画像データに対してスクリーン処理を施すスクリーン処理工程と
前記画像形成装置のレジストレーションずれ補正手段が、前記画像形成部における像担持体上の走査線の副走査方向についての前記ずれ量を相殺するように、前記スクリーン処理工程により処理されたドット画像データの各画素の位置を副走査方向にずらし、該ずらしにより生じる画像の段差を平滑化するレジストレーションずれ補正工程と
を有することを特徴とする画像補正方法。
【請求項４】
画像を形成する画像形成部を色成分毎に備え、各色成分の画像を重ね合わせてカラー画像を形成する画像形成装置を、
前記画像形成部における像担持体上の走査線の副走査方向についてのずれ量に応じてディザマトリクス要素の位置をずらし、処理対象のドット画像データに対してスクリーン処理を施すスクリーン処理手段と
前記画像形成部における像担持体上の走査線の副走査方向についての前記ずれ量を相殺するように、前記スクリーン処理手段により処理されたドット画像データの各画素の位置を副走査方向にずらし、該ずらしにより生じる画像の段差を平滑化するレジストレーションずれ補正手段と
して機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記目的を達成するために本発明は以下の構成を備える。すなわち、画像を形成する画像形成部を色成分毎に備え、各色成分の画像を重ね合わせてカラー画像を形成する画像形成装置であって、
前記画像形成部における像担持体上の走査線の副走査方向についてのずれ量に応じてディザマトリクス要素の位置をずらし、処理対象のドット画像データに対してスクリーン処理を施すスクリーン処理手段と
前記画像形成部における像担持体上の走査線の副走査方向についての前記ずれ量を相殺するように、前記スクリーン処理手段により処理されたドット画像データの各画素の位置を副走査方向にずらし、該ずらしにより生じる画像の段差を平滑化するレジストレーションずれ補正手段とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月3日(2010.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メモリセル領域及び周辺領域を有する半導体装置であって、
前記メモリセル領域は、
磁気メモリ素子と、
磁気メモリ素子の上部電極と電気的に接続されて形成されるビット線と、
前記ビット線の側面に形成される第１の高透磁率膜と、
前記ビット線及び前記第１の高透磁率膜上に形成される第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上に、平面視して前記ビット線と重なる領域に形成される第２の高透磁率膜と、
前記第２の高透磁率膜と前記第１の絶縁膜上に形成される第２の絶縁膜とを備え、
前記周辺領域は
前記ビット線と同じ層に形成される配線と、
前記配線上に形成される前記第１の絶縁膜と、
前記第１の絶縁膜上に前記第１の絶縁膜と接するように形成される前記第２の絶縁膜とを備える、
半導体装置。
【請求項２】
請求項１記載の半導体装置であって、
前記第２の高透磁率膜の膜厚は前記第１の高透磁率膜の膜厚より厚く設定されることを特徴とする、
半導体装置。
【請求項３】
請求項２記載の半導体装置であって、
前記第２の高透磁率膜の上面形成位置は、前記第１の高透磁率膜の上端部を基準とした前記ビット線の上面からの形成角度が４５度以上の高さに位置することを特徴とする、
半導体装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のうち、いずれか１項に記載の半導体装置であって、
前記第２の高透磁率膜の形成幅は、前記ビット線の両側面に形成される前記第１の高透磁率膜間の距離で規定される配線幅以下に設定されることを特徴とする、
半導体装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のうち、いずれか１項に記載の半導体装置であって、
前記第１の高透磁率膜は前記ビット線の側面から底面の一部に伸びて形成される、
半導体装置。
【請求項６】
メモリセル領域及び周辺領域を有する半導体装置の製造方法であって、
(a) 前記メモリセル領域において磁気メモリ素子を形成するステップと、
(b) 前記メモリセル領域において前記磁気メモリ素子の上部電極と電気的に接続されるビット線部及び前記ビット線部の側面上に第１の高透磁率膜を形成するとともに、前記周辺領域において配線を形成するステップと、
(c) 前記ビット線部及び前記第１の高透磁率膜を含む前記メモリセル領域及び前記配線を含む前記周辺領域上に所定の膜厚の絶縁膜を形成するステップと、
(d) 前記絶縁膜上に第２の高透磁率膜を形成するステップと、
(e) 前記メモリセル領域に前記第２の高透磁率膜が残存するように前記周辺領域の前記第２の高透磁率膜を選択的に除去するステップと、
を備える半導体装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６記載の半導体装置の製造方法であって、
前記ステップ(b) は、前記磁気メモリ素子の上部電極上に前記ビット線部を直接形成するステップを含む、
半導体装置の製造方法。
【請求項８】
請求項６あるいは請求項７記載の半導体装置の製造方法であって、
前記ステップ(d) は、前記第２の高透磁率膜の膜厚が、前記第１の高透磁率膜間の膜厚より厚くなるように形成することを特徴とする、
半導体装置の製造方法。
【請求項９】
請求項８記載の半導体装置の製造方法であって、
前記ステップ(d) は、前記第２の高透磁率膜の上面形成位置が、前記第１の高透磁率膜の上端部を基準とした前記ビット線の上面からの形成角度が４５度以上の高さに位置するように前記第２の高透磁率膜を形成することを特徴とする、
半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項６ないし請求項９のうち、いずれか１項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記ステップ(d) は、前記第２の高透磁率膜の形成幅が、前記ビット線の両側面に形成される前記第１の高透磁率膜間の距離で規定される配線幅以下になるように形成することを特徴とする、
半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項６ないし請求項１０のうち、いずれか１項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記ステップ(b) は、
(b-1) 前記磁気メモリ素子上に層間絶縁膜を形成するステップと、
(b-2) 前記層間絶縁膜の表面から所定の深さの溝を形成するステップと、
(b-3) 前記溝の底面及び側面上に沿って所定の膜厚で前記第１の高透磁率膜を形成するステップと、
(b-4) 前記第１の高透磁率膜に対し前記溝の中心方向に傾きを持たせた異方性エッチングを行い、前記溝の底面の中心領域上の前記第１の高透磁率膜を選択的に除去するステップと、
(b-5) 前記ステップ(b-4)の実行後に、前記溝内に前記ビット線を埋め込んで形成するステップとを含む、
半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項６ないし請求項１０のうち、いずれか１項に記載の半導体装置の製造方法であって、
前記ステップ(b) は、
(b-1) 前記磁気メモリ素子上に層間絶縁膜を形成するステップと、
(b-2) 前記層間絶縁膜の表面から所定の深さの溝を形成するステップと、
(b-3) 前記溝の底面及び側面上に沿って所定の膜厚で前記第１の高透磁率膜を形成するステップと、
(b-4) 前記ステップ(b-3)の実行後に、前記第１の高透磁率膜上及び前記溝内に埋め込んで埋め込み絶縁膜を形成するステップと、
(b-5) 前記埋め込み絶縁膜に対する等方性エッチング処理により、前記溝の底面の中心領域上の前記第１の高透磁率膜及び前記埋め込み絶縁膜を選択的に除去するステップと、
(b-6) 前記ステップ(b-5)の実行後に残存した前記埋め込み絶縁膜を除去するステップと、
(b-7) 前記ステップ(b-6)の実行後に、前記溝内に前記ビット線を埋め込んで形成するステップとを含む、
半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月30日(2010.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板の上に形成されており等間隔に複数の開口を有する絶縁膜と、前記基板の上の前記開口に形成されておりそれぞれが発光部を構成する複数の有機ＥＬ素子と、を有し、
前記有機ＥＬ素子は前記発光部毎にパターニングされた第１電極と、前記第１電極の上に形成されている有機ＥＬ層と、各発光部の間を跨いで連続して前記有機ＥＬ層の上に形成されている第２電極と、を有し、
前記絶縁膜は、第１電極の端部を覆っており、
前記有機ＥＬ層は最外周の開口よりも内側に形成されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記有機ＥＬ層の外周の開口には、前記第１電極と同一の層があり、前記第１電極と同一の層と前記第２電極とが接していることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
全ての開口の形状は同一であることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記絶縁膜は無機材料からなることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記絶縁膜は窒化珪素からなることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記第１電極と同一の層と前記第２電極は、透明導電性酸化物を有することを特徴とする請求項２乃至請求項５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記透明導電性酸化物は、ＩＴＯ又はＩＺＯであることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記第１電極と同一の層と前記第２電極は、同じ材料であることを特徴とする請求項２乃至請求項７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記有機ＥＬ層の外周の開口側の形成端と、前記開口の外側の端部との間の距離は１００μｍ以上であることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
前記有機ＥＬ層は、前記発光部の間に跨って連続して形成されていることを特徴とする
請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
前記最外周の開口から内側に向かって複数の開口で、前記第１電極と同一の層と前記第２電極とが接しており、前記有機ＥＬ層は前記開口よりも内側に形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記課題を解決するための手段として、本発明は、
基板と、前記基板の上に形成されており等間隔に複数の開口を有する絶縁膜と、前記基板の上の前記開口に形成されておりそれぞれが発光部を構成する複数の有機ＥＬ素子と、を有し、
前記有機ＥＬ素子は前記発光部毎にパターニングされた第１電極と、前記第１電極の上に形成されている有機ＥＬ層と、各発光部の間を跨いで連続して前記有機ＥＬ層の上に形成されている第２電極と、を有し、
前記絶縁膜は、第１電極の端部を覆っており、
前記有機ＥＬ層は最外周の開口よりも内側に形成されていることを特徴とする。