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【手続補正書】
【提出日】平成21年12月17日(2009.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面を有する第１の電極と、
第２の面及び前記第２の面に対して平行な第３の面を有し、前記第２の面が、前記第１の電極の少なくとも前記第１の面全体に接している誘電体部と、
前記第３の面と離間配置され、且つ、前記誘電体部に対向配置された第２の電極と、
前記第１の電極及び前記誘電体部を貫通する貫通孔を有し、前記貫通孔は前記第３の面に開口部が位置する貫通部と、
前記第３の面における前記貫通孔の周囲に環状に設けられた、処理ガスを噴出する処理ガス噴出部と、
前記第１の電極と前記第２の電極とに電圧を印加する電圧印加手段と、
を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記誘電体部において、
前記第３の面に凹部を有し、前記凹部は、面前記第２の面に平行な第４の面と、前記第４の面に垂直な円筒面とで形成され、
前記凹部には前記開口部が位置し、前記円筒面に前記処理ガス噴出部が設けられたことを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記誘電体部において、
前記処理ガス噴出部は、前記処理ガスの噴出方向が、前記貫通部における前記第１の電極から前記誘電体部へ向かう貫通方向の延長線に向かって、傾斜していることを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記誘電体部において、
前記処理ガス噴出部と通じる円環状の処理ガス流路を構成する第１の孔部と、
前記円環状の処理ガス流路と通じ、前記処理ガス供給手段から前記処理ガスを導入する第２の孔部と、を備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記第１の電極を複数個備え、前記処理ガス供給流路が前記複数の電極で兼用されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月17日(2009.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】マイクロプロセッサおよびＲＩＳＣプロセッサの作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性基板上にＮチャネル型の薄膜トランジスタとＰチャネル型の薄膜トランジスタとからなるＣＭＯＳ回路を有するマイクロプロセッサの作製方法であって、
前記Ｎチャネル型の薄膜トランジスタ及び前記Ｐチャネル型の薄膜トランジスタのチャネル形成領域に用いられる結晶性半導体薄膜は、前記絶縁性基板上に非晶質半導体薄膜を形成し、第１熱処理を行い、前記非晶質半導体薄膜を前記結晶性半導体薄膜に変化させることで形成され、
前記結晶性半導体薄膜に対して還元雰囲気として水素雰囲気又はアンモニア雰囲気中で９００〜１２００℃の第２熱処理を行うことを特徴とするマイクロプロセッサの作製方法。
【請求項２】
絶縁性基板上にＮチャネル型の薄膜トランジスタとＰチャネル型の薄膜トランジスタとからなるＣＭＯＳ回路を有するＲＩＳＣプロセッサの作製方法であって、
前記Ｎチャネル型の薄膜トランジスタ及び前記Ｐチャネル型の薄膜トランジスタのチャネル形成領域に用いられる結晶性半導体薄膜は、前記絶縁性基板上に非晶質半導体薄膜を形成し、第１熱処理を行い、前記非晶質半導体薄膜を前記結晶性半導体薄膜に変化させることで形成され、
前記結晶性半導体薄膜に対して還元雰囲気として水素雰囲気又はアンモニア雰囲気中で９００〜１２００℃の第２熱処理を行うことを特徴とするＲＩＳＣプロセッサの作製方法。
【請求項３】
絶縁性基板上にＮチャネル型の薄膜トランジスタとＰチャネル型の薄膜トランジスタとからなるＣＭＯＳ回路を有するマイクロプロセッサの作製方法であって、
前記Ｎチャネル型の薄膜トランジスタ及び前記Ｐチャネル型の薄膜トランジスタのチャネル形成領域に用いられる結晶性半導体薄膜は、前記絶縁性基板上に非晶質半導体薄膜を形成し、第１熱処理を行い、前記非晶質半導体薄膜を前記結晶性半導体薄膜に変化させることで形成され、
前記結晶性半導体薄膜に対して紫外光又は赤外光を照射して結晶性を改善させ、
前記結晶性半導体薄膜に対して還元雰囲気として水素雰囲気又はアンモニア雰囲気中で９００〜１２００℃の第２熱処理を行うことを特徴とするマイクロプロセッサの作製方法。
【請求項４】
絶縁性基板上にＮチャネル型の薄膜トランジスタとＰチャネル型の薄膜トランジスタとからなるＣＭＯＳ回路を有するＲＩＳＣプロセッサの作製方法であって、
前記Ｎチャネル型の薄膜トランジスタ及び前記Ｐチャネル型の薄膜トランジスタのチャネル形成領域に用いられる結晶性半導体薄膜は、前記絶縁性基板上に非晶質半導体薄膜を形成し、第１熱処理を行い、前記非晶質半導体薄膜を前記結晶性半導体薄膜に変化させることで形成され、
前記結晶性半導体薄膜に対して紫外光又は赤外光を照射して結晶性を改善させ、
前記結晶性半導体薄膜に対して還元雰囲気として水素雰囲気又はアンモニア雰囲気中で９００〜１２００℃の第２熱処理を行うことを特徴とするＲＩＳＣプロセッサの作製方法。
【請求項５】
請求項２又は４において、
前記ＲＩＳＣプロセッサは、ＣＰＵコア、ＲＡＭ、クロックコントローラ、キャッシュメモリ、キャッシュコントローラ、シリアルインターフェース、Ｉ／Ｏポートを有するマイクロプロセッサであることを特徴とするＲＩＳＣプロセッサの作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月26日(2010.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源、該光源に電力を供給する電源回路部等の電子部品を配設した筐体を備える照明装置において、
前記筐体は、前記電子部品の荷重により惹起される変形を防止する補強部材を分割して備えてなることを特徴とする照明装置。
【請求項２】
前記補強部材は反射板であり、前記光源と前記電子部品の間に設けられてなることを特徴とする請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記補強部材は放熱部材であり、前記底面の背面に設けられてなることを特徴とする請求項１または２に記載の照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月30日(2009.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
管と、前記管の内面に形成された有機ＥＬ素子とを含む発光装置の製造方法であって、
前記管を準備する工程と、
前記管と前記管の内面へ前記有機ＥＬ素子の原料の放出を行なう放出部とが相対運動を行なうように前記放出部および前記管の少なくともいずれかを動かしながら前記放出を行なうことにより、前記管の内面に前記有機ＥＬ素子を形成する工程とを備え、
前記放出部によって前記原料の進行方向が前記管の内面に向けて曲げられる、発光装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
管と、前記管の内面に形成された有機ＥＬ素子とを含む発光装置の製造方法であって、
前記管の長さ方向が重力方向に沿うように前記管を支持する工程と、
前記管と前記管の内面へ前記有機ＥＬ素子の原料の放出を行なう放出部とが相対運動を行なうように前記放出部および前記管の少なくともいずれかを動かしながら前記放出を行なうことにより、前記管の内面に前記有機ＥＬ素子を形成する工程とを備えた、発光装置の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
管と、前記管の内面に形成された有機ＥＬ素子とを含む発光装置の製造装置であって、
前記管の内面へ前記有機ＥＬ素子の原料を放出するための放出部と、
前記放出部が前記原料を放出している際に前記放出部と前記管とに相対運動を行なわせるための駆動部とを備え、
前記放出部は、前記原料の進行方向を前記管の内面に向けて曲げるように構成されている、発光装置の製造装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一の局面にしたがう発光装置の製造方法は、管と、管の内面に形成された有機ＥＬ素子とを含む発光装置の製造方法であって、以下の工程を有している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
まず管が準備される。管と、管の内面へ有機ＥＬ素子の原料の放出を行なう放出部とが相対運動を行なうように、放出部および管の少なくともいずれかを動かしながら放出を行なうことにより、管の内面に有機ＥＬ素子が形成される。放出部によって原料の進行方向が管の内面に向けて曲げられる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一の局面にしたがう発光装置の製造方法によれば、管と放出部とが相対運動を行ないながら管の内面に有機ＥＬ素子が形成されるので、管と放出部との相対的な位置関係が固定されている場合に比して管の内面に均一な厚みで成膜を行なうことができる。よって管の内面における発光特性の均一性を高めることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の他の局面にしたがう発光装置の製造方法は、管と、管の内面に形成された有機ＥＬ素子とを含む発光装置の製造方法であって、以下の工程を有している。
まず管の長さ方向が重力方向に沿うように管が支持される。管と、管の内面へ有機ＥＬ素子の原料の放出を行なう放出部とが相対運動を行なうように、放出部および管の少なくともいずれかを動かしながら放出を行なうことにより、管の内面に有機ＥＬ素子が形成される。
本発明の他の局面にしたがう発光装置の製造方法によれば、管と放出部とが相対運動を行ないながら管の内面に有機ＥＬ素子が形成されるので、管と放出部との相対的な位置関係が固定されている場合に比して管の内面に均一な厚みで成膜を行なうことができる。よって管の内面における発光特性の均一性を高めることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の発光装置の製造装置は、管と、管の内面に形成された有機ＥＬ素子とを含む発光装置の製造装置であって、放出部と、駆動部とを有している。放出部は、管の内面へ有機ＥＬ素子の原料を放出することができるように構成されている。駆動部は、放出部が原料を放出している際に、放出部と管とに相対運動を行なわせることができるように構成されている。放出部は、原料の進行方向を管の内面に向けて曲げるように構成されている。本発明の発光装置の製造装置によれば、管と放出部とが相対運動を行なうので、管と放出部との相対的な位置関係が固定されている場合に比して管の内面に均一な厚みで成膜を行なうことができる。よって管の内面における発光特性の均一性を高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月30日(2009.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性を有し、かつ管形状を有する基材と、
前記基材上に設けられ、透光性を有する第１電極層と、
前記第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる有機物層と、
前記有機物層上に設けられた第２電極層と、
前記有機物層と前記第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、前記基材に着脱可能に固定された封止部とを備えた、発光装置。
【請求項２】
前記第１電極層は導電性の酸化物層を含む、請求項１に記載の発光装置。
【請求項３】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の複数種類の発光装置の貸し出し状態を管理するためのサーバ装置であって、
少なくとも１つの端末装置とネットワークを介して接続可能な送受信部と、
貸し出し単価を発光装置の種類に対応付けて格納する第１のデータベースと、
前記端末装置からの発光装置の種類と貸し出し期間とを含む貸し出し要求を受け付けて、前記第１のデータベースを参照して貸し出し料金を算出し、前記貸し出し料金を前記端末装置へ返信する制御部とを備える、サーバ装置。
【請求項４】
前記発光装置の種類毎に、貸し出し可能総数と、貸し出し数と、前記貸し出し可能総数から前記貸し出し数を減じた在庫数と、所定の適正在庫数と、前記適正在庫数から前記在庫数を減じた不足数とを格納する第２のデータベースをさらに備え、
前記制御部は、前記製造個数と前記貸し出し数と前記在庫数の少なくともいずれかの変更命令を受け付けて、当該変更命令に基づいて前記第２のデータベースを更新する、請求項３に記載のサーバ装置。
【請求項５】
前記第１のデータベースは、前記発光装置毎に貸し出し期間と発光装置の種類とを格納し、
前記制御部は、
前記第１のデータベースを参照して、前記発光装置毎の貸し出し合計期間を計算し、
前記発光装置毎の貸し出し合計期間に基づいて、前記発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を計算し、
前記発光装置の種類毎の貸し出し合計期間の度数分布を格納する第３のデータベースをさらに備える、請求項３または４に記載のサーバ装置。
【請求項６】
透光性を有する基材と、前記基材上に設けられ、透光性を有する第１電極層と、前記第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができる有機物層と、前記有機物層上に設けられた第２電極層と、前記有機物層と前記第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、前記基材に着脱可能に固定された封止部とを備えた発光装置の再生産方法であって、
前記封止部を取り外す工程と、
前記封止部を取り外す工程の後に、前記第２電極層を除去する工程と、
前記第２電極層を除去する工程の後に、前記有機物層を除去する工程とを備えた、発光装置の再生産方法。
【請求項７】
前記第２電極層は金属層を含み、
前記第２電極層を除去する工程は、酸溶液で前記第２電極層をエッチングする工程と、有機ガス系プラズマおよびハロゲン系プラズマの少なくともいずれかで前記第２電極層をエッチングする工程との少なくともいずれかを含む、請求項６に記載の発光装置の再生産方法。
【請求項８】
前記第１電極層は酸化物層を含み、
前記有機物層を除去する工程は、炭化水素系溶剤および高温純水の少なくともいずれかで前記有機物層をエッチングする工程と、酸素プラズマで前記有機物層をアッシングする工程との少なくともいずれかを含む、請求項６または７に記載の発光装置の再生産方法。
【請求項９】
前記有機物層を除去する工程の後に、前記第１電極層の表面を研磨する工程をさらに備えた、請求項６〜８のいずれかに記載の発光装置の再生産方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の発光装置は、基材と、第１電極層と、有機物層と、第２電極層と、封止部とを有している。基材は、透光性を有し、かつ管形状を有している。第１電極層は、基材上に設けられ、透光性を有している。有機物層は、第１電極層上に設けられ、電界が印加されることにより発光することができるものである。第２電極層は、有機物層上に設けられている。封止部は、有機物層と第２電極層とを含む領域を気密に封止するように、基材に着脱可能に固定されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の発光装置によれば、封止部が基材に着脱可能に固定されているので、封止部は、取り外された後に再度取り付けられることができる。よって、有機物層が劣化した発光装置の封止部が取り外され、有機物層および第２電極層が新たにされ、そして封止部が再度取り付けられることで、発光装置を再生産することができる。これにより装置の一部が廃棄されずに部品として再利用されるので、廃棄物の量を抑制することができる。また発光装置の一部が形状を保ったまま再利用されるので、装置全体が材料段階から再度形成される場合に比して、装置を生産するためのコストを抑制することができる。
また基材は管形状を有している。これにより、封止部が管形状の端部に取り付けられるだけで、有機物層と第２電極層とを含む領域を気密に封止することができる。よって、封止部が基材の広範囲に取り付けられる必要がないので、封止部の着脱を容易に行なうことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３９】
図２５に示すように、たとえば、新たな発光装置が製造されたり、古い発光装置が廃棄されたりした場合などのように、管理者などがサーバ操作部５３−１やサーバ読取部６５−１を介して在庫データベース５７−２の製造個数の累積数を更新する（増減させる）と（ステップＳ３０２にてＹＥＳの場合）、ＣＰＵ５５は、予め設定されている適正在庫率に基づいて在庫データベース５７−２の適正在庫数を更新する（ステップＳ３０４）。より詳細には、ＣＰＵ５５は、下記の式に基づいて適正在庫数を計算する。
適正在庫数＝製造個数の累積数×適正在庫率・・・（数１）
また、ＣＰＵ５５は、製造個数の累積数と在庫数に基づいて在庫データベース５７−２の在庫率を更新する（ステップＳ３０６）。より詳細には、ＣＰＵ５５は、下記の式に基づいて在庫率を更新する。
在庫率＝在庫数／製造個数の累積数・・・（数２）
また、ＣＰＵ５５は、適正在庫数と在庫数に基づいて在庫データベース５７−２の不足数を更新する（ステップＳ３０８）。より詳細には、ＣＰＵ５５は、下記の式に基づいて不足数を更新する。
不足数＝適正在庫数−在庫数・・・（数３）
このように、本実施のサーバ装置５０は製造個数の累積数が変更された際に即座に不足数を計算するので、サーバ装置５０の管理者は製造個数の累積数が変更された際に即座に不足数を把握できる。なお、製造個数の累積数が変更された場合について説明を行ったが、サーバ装置５０のＣＰＵ５５は、貸し出し数や在庫数や適正在庫率などが変更された場合についても上記同様の処理を行なうため、ここでは説明を繰り返さない。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年3月18日(2010.3.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
図３を参照すると、錘部材１８は、クラブ・ヘッドの低い重心（ＣＧ）を助長するのに役立つ。錘部材は、ポリマー・ハウジング（ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ  ｈｏｕｓｉｎｇ）３０を有し、少なくとも１つの高密度要素３２をそれに封入することが好ましい。錘部材は、窪み２０内に確実に受容されるよう構成される。この実施形態では、錘部材は、固定用リップ３４および／または接着剤の組合せにより取外し可能に取り付けられる。あるいは、錘部材は、ハウジングに形成されたタブを前記窪みの壁に形成された溝に圧入して使用することにより取り付けてもよい。錘部材は、当業者に知られている他の方法を使用して取り付けることもできる。錘部材は、２０００年１２月１日に出願され「ＧＯＬＦ  ＣＬＵＢ  ＨＥＡＤ」と題された出願人の共願米国特許出願第０９／７２８，９５５号、または２００２年９月３日に出願され「ＧＯＬＦ  ＣＬＵＢ  ＨＥＡＤ」と題された米国特許出願第１０／２３４，６６３号のいずれかで開示したようなカートリッジを備えることができ、この両方の開示は本明細書に援用される。図４で示す実施形態では、別個の錘部材が含まれない。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年5月6日(2010.5.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体の骨と接触させるためにＴｉ６／４合金上に均一に粗面を製造する方法であって、
(a)前記Ｔｉ６／４合金から自然酸化膜を除去して金属を露出させ；
(b)露出させた前記金属と、約０．００５〜１．０重量％フッ化水素酸と約１０〜３０重量％塩酸との第１水溶液とを好適な時間、接触させて、所望の表面トポグラフィーを作り出すことを含み、当該所望の表面トポグラフィーが１０μｍ未満の山から谷までの高さの不規則性を持つ粗面である、前記方法。
【請求項２】
粗面が約１〜３μｍの山から山までの距離をもつ、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記自然酸化膜は、前記Ｔｉ６／４合金とフッ化水素酸の第２水溶液とを、好適な時間、接触させることにより除去する、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記第２水溶液が約7.9〜9.0重量%のフッ化水素酸を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第１水溶液が約0.0845重量%のフッ化水素酸と、約20重量%の塩酸とを含む、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
生体の骨と接触させるためにＴｉ６／４合金上に均一に粗面を製造する方法であって、
(a)前記Ti合金とフッ化水素酸の水溶液とを好適な時間、接触させることにより、前記Ti合金から自然酸化膜を除去して金属を露出させ；
(b)(a)で前記自然酸化膜を除去した後に、この合金を濯ぎ；
(c)露出させた前記金属を約０．００５〜１．０重量％フッ化水素酸と約１０〜３０重量％塩酸との水溶液に室温で好適な時間、接触させて、所望の表面トポグラフィーを作り出し、当該所望の表面トポグラフィーが１０μｍ未満の山から谷までの高さの不規則性を持つ粗面である；
(d)段階(c)で製造した表面を濯いで、残存する(c)の水溶液を除去することを含む、前記方法。
【請求項７】
段階(a)の前記水溶液が約7.9〜9.0重量%のフッ化水素酸を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
段階(a)の前記水溶液が約8.45重量%のフッ化水素酸を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
段階(c)の前記水溶液が約0.053〜0.105重量%のフッ化水素酸と約19〜21重量%の塩酸とを含む、請求項６〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
段階(c)の前記水溶液が約0.0845重量%のフッ化水素酸と約20重量%の塩酸とを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
生体の骨と接触させるためのＴｉ６／４合金の歯科インプラントであって、
a.義歯部分を埋め込むためのヘッド部分と；
b.前記生体の骨とかみ合わせるためのねじ部分と；
c.前記ヘッド部分と前記ねじ部分との間に配置されたネック部分とを含み、ここで前記ねじ部分の少なくとも一部は、約０．００５〜１．０重量％フッ化水素酸と約１０〜３０重量％塩酸との第１水溶液で前記ねじ部分をエッチングすることにより作り出した１０μｍ未満の山から谷までの高さの不規則性を持つ所望の粗面トポグラフィーをもち、フッ化水素酸を含有する第２水溶液を用いて前記エッチングをする前に前記ねじ部分から自然酸化膜を除去する、前記歯科インプラント。
【請求項１２】
第２水溶液がフッ化水素酸と塩酸とを含有する、請求項１１に記載の歯科インプラント。
【請求項１３】
前記第２水溶液が約7.9〜9.0重量%のフッ化水素酸を含む、請求項１１または１２に記載の歯科インプラント。
【請求項１４】
前記第１水溶液が約0.0845重量%のフッ化水素酸と、約20重量%の塩酸とを含む、請求項１１〜１３のいずれかに記載の歯科インプラント。
【請求項１５】
生体の骨に接触させるためにTi６／４合金の均一な粗面を製造する方法であって、
a.前記Ti６／４合金から自然酸化膜を除去して露出金属表面をつくり；次いで
b.露出した前記金属表面をケラー液でエッチングして、所望の表面トポグラフィーを作り出すことを含み、当該所望の表面トポグラフィーが１０μｍ未満の山から谷までの高さの不規則性を持つ粗面である前記方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
図３A〜３Eは、自然酸化膜をHF溶液で除去し、次いでケラー溶液を、先に使用した61℃でではなく周囲温度でエッチングに使用した際に得られた結果を示す。このプロセスは、Ti6/4合金のいくつかのサンプルに図１Cと似た表面を提供し得るが、その他のものでは提供できないことが知見された(図３Dと図３Eとを比較されたい)。このサンプルの差は、機械加工または合金熱処理(alloy heat)(すなわち、チタン合金の特定のバッチに関連する条件)に関連しているようであった。従って、追加の実験を実施した。しかし、Ti6/4合金の品質を制御できるならば、ケラー溶液を使用するエッチングも有用であろうことが結論づけられた。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月7日(2010.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動される駆動ローラと、当該駆動ローラに接して従動回転する従動ローラとによってニップ可能なプレート形状を成すトレイ本体と、
前記トレイ本体に形成された、薄板状体をセット可能な凹部と、
前記薄板状体に形成された嵌合穴に対応する、前記凹部に設けられた凸部と、
前記凸部の外縁に沿って複数設けられ、前記嵌合穴の内縁に弾性的に接触することにより、前記薄板状体を保持する弾性片と、を備え、
前記複数の弾性片のうち前記薄板状体を保持する少なくとも一組の弾性片が、前記駆動ローラの軸線方向に適宜の間隔を置いて複数配置された前記従動ローラの通過領域を避けた位置に配置されている、
ことを特徴とするトレイ。
【請求項２】
請求項１に記載のトレイにおいて、前記複数の弾性片の全てが、前記従動ローラの通過領域を避けた位置に配置されている、
ことを特徴とするトレイ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のトレイにおいて、前記凸部の上面には、前記駆動ローラ及び前記従動ローラによる前記トレイ本体の送り方向と直交する方向に向かって下がる逃げ面が形成されていることを特徴とするトレイ。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載のトレイにおいて、前記弾性片が、前記トレイ本体部を切り欠いて形成されることにより、前記トレイ本体部に一体的に形成され、
前記薄板状体の非セット状態において、前記弾性片のうら側が、前記トレイ本体部のうら面から退避している、
ことを特徴とするトレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月3日(2010.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水溶性高分子を含有する水中油型化粧料であって、次の成分（Ａ）〜（Ｃ）：
（Ａ）（Ａ１）２５℃でペースト状油及び（Ａ２）２５℃で液状の極性油を含む油性成分を化粧料中に２０〜５０質量％、
（Ｂ）グリセリンを化粧料中に１１〜５０質量％、及び
（Ｃ）水を化粧料中に２０〜６０質量％
を含有し、（Ａ１）ペースト状油の含有量が化粧料中に１〜２０質量％、（Ａ２）液状の極性油の含有量が化粧料中に１〜２０質量％である、濡れ肌用の水中油型ボディ化粧料を、水で濡れた肌に塗布した後、タオルドライすることを特徴とする濡れ肌用ボディ化粧料の使用方法。
【請求項２】
グリセリンの含有量が化粧料中に２５〜５０質量％である請求項１記載のボディ化粧料の使用方法。
【請求項３】
（Ａ１）と（Ａ２）の含有質量比が１：２０〜１０：１である請求項１又は２記載のボディ化粧料の使用方法。
【請求項４】
（Ａ１）ペースト状油の含有量が化粧料中に１〜１０質量％、（Ａ２）液状の極性油の含有量が化粧料中に３〜１８質量％である請求項１〜３のいずれか１項記載のボディ化粧料の使用方法。
【請求項５】
水溶性高分子を含有する水中油型化粧料であって、次の成分（Ａ）〜（Ｃ）：
（Ａ）（Ａ１）２５℃でペースト状油及び（Ａ２）２５℃で液状の極性油を含む油性成分を化粧料中に２０〜５０質量％、
（Ｂ）グリセリンを化粧料中に１１〜５０質量％、及び
（Ｃ）水を化粧料中に２０〜６０質量％
を含有し、（Ａ１）ペースト状油の含有量が化粧料中に１〜２０質量％、（Ａ２）液状の極性油の含有量が化粧料中に１〜２０質量％である、濡れ肌用の水中油型ボディ化粧料。
【請求項６】
グリセリンの含有量が化粧料中に２５〜５０質量％である請求項５記載のボディ化粧料。
【請求項７】
（Ａ１）と（Ａ２）の含有質量比が１：２０〜１０：１である請求項５又は６記載のボディ化粧料。
【請求項８】
（Ａ１）ペースト状油の含有量が化粧料中に１〜１０質量％、（Ａ２）液状の極性油の含有量が化粧料中に３〜１８質量％である請求項５〜７のいずれか１項記載のボディ化粧料。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月4日(2010.8.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式［Ｉ］で示されることを特徴とする、有機金属錯体。
【化１】
2009040728.tif 000001
（式［Ｉ］において、Ｍは、イリジウムを表す。Ａは、置換又は無置換のフェニル基を表す。Ｘは、メチル基、エチル基、ターシャリブチル基、メトキシ基、フェニル基、フェノキシ基のいずれかである。Ｒ1及びＲ2は、いずれも水素原子を表わす。Ｌは、下記いずれかを表す。
【化２】
2009040728.tif 000002
ａは、３を表し、ｂは、０または１を表す。）
【請求項２】
前記ｂが０であることを特徴とする、請求項１に記載の有機金属錯体。
【請求項３】
下記構造式で示されることを特徴とする、請求項２に記載の有機金属錯体。
【化３】
2009040728.tif 000003
【請求項４】
陽極と、陰極と、該陽極と該陰極との間に挟持された有機化合物の層と、を有する有機発光素子において、
該有機化合物の層は発光層を含み、該発光層には、請求項２または３に記載の有機金属錯体が少なくとも一種類含まれることを特徴とする、有機発光素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【化１】
2009040728.tif 000004
（式［Ｉ］において、Ｍは、イリジウムを表す。Ａは、置換又は無置換のフェニル基を表す。Ｘは、メチル基、エチル基、ターシャリブチル基、メトキシ基、フェニル基、フェノキシ基のいずれかである。Ｒ1及びＲ2は、いずれも水素原子を表わす。Ｌは、下記いずれかを表す。
【化１−１】
2009040728.tif 000005
ａは、３を表し、ｂは、０または１を表す。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
次に、本発明の有機金属錯体の具体例を以下に示す。ここで、本発明の有機金属錯体は、下記に示されるように３つの配位子Ｌ1，Ｌ2及びＬ3（式［Ｉ］中のＡを含む配位子または式［Ｉ］中のＬで示される配位子）並びに中心金属（例えば、下記に示されるＩｒ）からなるものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
【化３】
2009040728.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月2日(2010.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂、その前駆体またはそれらの混合物からなる顔料担体と、顔料とを含有する着色組成物であって、前記顔料が、チアジン系顔料とジケトピロロピロール系顔料との固溶体であることを特徴とする赤色着色組成物。
【請求項２】
固溶体におけるジケトピロロピロール系顔料とチアジン系顔料との重量比率が、９０：１０〜５０：５０であることを特徴とする請求項１記載の赤色着色組成物。
【請求項３】
請求項１または２記載の赤色着色組成物から形成される赤色着色塗膜。
【請求項４】
吸光度が最大となる波長が５５０ｎｍ±１０ｎｍであることを特徴とする請求項３記載の赤色着色塗膜。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月6日(2010.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジン音の音源が属する空間と車室とを隔てる境界壁に設けられた孔を塞ぐ薄膜と、前記薄膜に張力を与える張力付与機構とを有するフィルタ部を具備することを特徴とする車両内音響装置。
【請求項２】
車両の状態を前記フィルタ部の前記張力付与機構が前記薄膜に与える張力に反映させる制御手段を具備することを特徴とする請求項１に記載の車両内音響装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記車両のアクセルペダルの踏み込み量を、前記張力付与機構が前記薄膜に与える張力に反映させることを特徴とする請求項２に記載の車両内音響装置。
【請求項４】
前記制御手段は、前記車両のアクセルペダルの踏み込み量と前記車両の車速に応じて、前記張力付与機構が前記薄膜に与える張力を制御することを特徴とする請求項２に記載の車両内音響装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記車両のアクセルペダルの踏み込み量と前記車両の加速度に応じて、前記張力付与機構が前記薄膜に与える張力を制御することを特徴とする請求項２に記載の車両内音響装置。
【請求項６】
前記張力付与機構は、前記薄膜に与える張力の制御パターンをシフトレバーに連動させて変更することを特徴とする請求項２に記載の車両内音響装置。
【請求項７】
前記音源から放射されるエンジン音を集めて、前記フィルタ部に導入する集音装置を具備することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１の請求項に記載の車両内音響装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月30日(2010.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
再生ゴムが天然ゴム主体の再生ゴムである請求項１または２記載のコンベヤベルト用コートゴム組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
請求項５記載のコンベヤベルト用コートゴム組成物が、上面カバーゴム層、シート状補強層および下面カバーゴム層からなるコンベヤベルトにおいて、該コートゴム組成物を帆布の両面に圧着させてシート状補強層を形成させる際の補強層コートゴム形成材料として用いられたコンベヤベルト。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月12日(2010.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
天井部に移動自在に配置した天井灯と、該天井灯に接続したフラットケーブルとを有し、該フラットケーブルの余長部を天井裏に収納し、前記天井灯の移動に伴って前記フラットケーブルを前記天井裏において繰り出し又は繰り込むことを特徴とする自動車用天井灯。
【請求項２】
前記天井部に天井灯ユニットを固定し、該天井灯ユニットに設けたレールに沿って前記天井灯を移動自在としたことを特徴とする請求項１に記載の自動車用天井灯。
【請求項３】
前記天井灯ユニットに前記天井灯と共に移動する磁気センサによる回路を形成し、前記天井灯ユニットの一部に永久磁石を固定し、前記天井灯の移動に伴って、前記磁気センサが前記永久磁石に接近すると、前記磁気センサによる回路は前記天井灯を消灯するようにしたことを特徴とする請求項２に記載の自動車用天井灯。
【請求項４】
前記天井灯ユニットにはカバーを設け、該カバーは前記天井灯の移動に伴って開閉し、前記フラットケーブルを覆うことを特徴とする請求項２又は３に記載の自動車用天井灯。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月18日(2010.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両のステアリング系に操舵補助トルクを与える電動モータと、
前記電動モータの駆動を制御する電子回路を有するコントロールユニットと、を備え、
前記コントロールユニットは、ケースと該ケースに嵌合するカバーとにより前記電子回路を収容し、
前記ケースと前記カバーの各嵌合面の一方または双方に溝が形成されている電動パワーステアリング装置。
【請求項２】
前記溝は、前記ケースの表面に１または複数列刻設されており、前記カバーは、前記１または複数列の溝を覆うようにして前記ケースと嵌合している請求項１に記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項３】
前記溝は、前記ケースの少なくとも２つの外周面に渡って連続して形成されている請求項２に記載の電動パワーステアリング装置。
【請求項４】
前記ステアリング系は、電動モータから操舵補助トルクが伝達されるステアリング軸を有し、前記ケースは、前記ステアリング軸に対して略垂直な第一の面と、略鉛直方向上方を向く第二の面とを有し、前記溝は、少なくとも前記第一の面および第二の面に形成されている請求項２または請求項３に記載の電動パワーステアリング装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月22日(2010.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
（iv）マススペクトルを測定し、前記式（Ｉ）で示されるＮ−アラルキルオキシカルボニル光学活性プロリンエステル誘導体の分子量を決定することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
前記式（ＩＩ）で示される光学活性プロリンエステル誘導体を具体的に例示すると、ｃｉｓ−α’−（２，４，６−トリエチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（２，４，６−トリメチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−メチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−エチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−イソプロピルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（２，４，６−トリメチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−メチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−エチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−イソプロピルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（２，４，６−トリエチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（２，４，６−トリメチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−メチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−エチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−イソプロピルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（２，４，６−トリメチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−メチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−エチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−イソプロピルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（２，４，６−トリエチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（２，４，６−トリメチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−メチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−エチルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−イソプロピルフェニル）−Ｌ−プロリンメチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（２，４，６−トリメチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−メチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−エチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−イソプロピルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル、ｃｉｓ−α’−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−Ｌ−プロリンエチルエステル等を挙げることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
なお、前記式（ＩＩ）で示される光学活性プロリンエステル誘導体の構造は、前記式（Ｉ）で示されるＮ−アラルキルオキシカルボニル光学活性プロリンエステル誘導体と同じく、１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトル、元素分析、およびマススペクトルのいずれか二つ以上の測定を行うことにより確認することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
以上により得られた上記式（Ｉ）で示されるＮ−アラルキルオキシカルボニル光学活性プロリンエステル誘導体を単離する方法は、特に制限されるものではなく、公知の方法を採用することができる。一例を挙げると、反応終了後、反応液に炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機溶媒可溶成分を、塩化メチレンを用いて抽出し、塩化メチレン溶液を乾燥、留去することによって、単離することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
なお、上記式（ＩＩＩ）で示されるＮ−ホルミル光学活性プロリン誘導体の構造は、特許文献３に記載されている通り、１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトル、元素分析、およびマススペクトル等の測定を行うことにより確認することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月27日(2010.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記成分（Ａ）及び（Ｂ）：
（Ａ）ゴム弾性を有するシリコーン系ポリマー、
（Ｂ）２５℃における粘度が３５０〜３０，０００mm2／ｓであるシリコーン油
を含有する化粧下地。
【請求項２】
成分（Ａ）が、ポリ（Ｎ−アシルアルキレンイミン）変性シリコーン又は架橋型オルガノポリシロキサンである請求項１記載の化粧下地。
【請求項３】
成分（Ｂ）が、直鎖状のジメチルポリシロキサンである請求項１又は２記載の化粧下地。
【請求項４】
成分（Ａ）を０．１〜３０質量％、成分（Ｂ）を０．１〜３０質量％含有する請求項１〜３のいずれか１項記載の化粧下地。
【請求項５】
成分（Ａ）と成分（Ｂ）の質量割合が、（Ａ）：（Ｂ）＝１：５〜５：１である請求項１〜４のいずれか１項記載の化粧下地。
【請求項６】
さらに、（Ｃ）粉体を０．５〜３０質量％含有する請求項１〜５のいずれか１項記載の化粧下地。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項記載の化粧下地を肌に塗布した後、油性成分を２０〜５０質量％含有するファンデーションを重ねて塗布する化粧方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月17日(2010.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の箱材を糊を使って箱形状に成形しながら該箱材によって物品を包装する包装装置であって、
前記箱材の外側フラップを前記箱材の内側フラップに押しつけて、前記外側フラップと前記内側フラップとが重なる部分に付された糊によって前記外側フラップを前記内側フラップに接着させる第１押圧部材を備え、
前記第１押圧部材は、前記外側フラップに当接可能で櫛歯を有する当接部を鉛直方向に複数有し、上方に位置する当接部の櫛歯が下方に位置する当接部の櫛歯の間隙に入り込む長さが調節可能であるように前記複数の当接部が配置される、ことを特徴とする包装装置。
【請求項２】
前記箱材は前記包装装置において箱形状になったときに上面となる部分を有し、
前記包装装置は、前記上面となる部分を下方向に押しつける第２押圧部材をさらに備え、
前記第１押圧部材は前記第２押圧部材と干渉しないように構成されている、ことを特徴とする請求項１に記載の包装装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月21日(2010.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
図１及び図２における固定盤２０の上面の溝ガイド６５は、その平面形状が雲形であり、棒状ガイド２５に固定した腕６６の端に設置した滑車６７はこの雲形の溝ガイド６５に係合する。一方、第１、第２両吸引バー２１、２２の間に外部から包袋３５を供給する給袋セクション８０にあっては、溝ガイド６５から切り離されて独立する可動溝ガイド７１を、アクチュエータ７２でもって矢印７３の方向に操作するようになっており、第１、第２両吸引バー２１、２２と一体に移動する滑車６７がこの可動ガイド７１に到達すると、前記アクチュエータ７２による可動ガイド７１の操作によって第１、第２両吸引バー２１、２２は接近して下方向から供給される包袋３５を挟持する。なおこの場合、対向する真空カップ２９にはまだ真空吸引力が作用しておらず、その後、可動盤１０が矢印７４方向に回転する過程で真空カップ２９に真空吸引力が作用することになる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
１０‥‥可動盤
２０‥‥固定盤
２１‥‥第１吸引バー
２２‥‥第２吸引バー
２３‥‥固定スリーブ
２５‥‥棒状ガイド
３０‥‥ロータリバルブ
３５‥‥包袋
４０‥‥圧力制御弁
４２‥‥弁座
４３‥‥裁頭円錐弁
４５‥‥一次室
４６‥‥二次室
４８‥‥連結管
４９‥‥通路
５０‥‥切換えポート
５２‥‥円弧溝
５８‥‥圧縮コイルバネ
５９‥‥第１ねじ
６０‥‥第２ねじ
６８‥‥信号通路
７５‥‥サブポート
７６‥‥サブ溝
７７‥‥連通路
７８‥‥警報スイッチ
７９‥‥圧力信号管
８０‥‥給袋セクション
８２‥‥充填セクション
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月10日(2010.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【図１】  本発明の主要構成部位の正面図である。
【図２】  本発明の実施例の正面図である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】追加
【補正の内容】
【図２】
2008163916.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月12日(2009.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
布帛を用いたパターンデータを記憶するメモリーと、
パターンデータで指定された縫合ラインに沿って、縫合ラインの両側での長さがパーツ間で異なるように、複数の布帛を用いたパーツを縫合した繊維製品を、３次元的にシミュレーションしたシミュレーション画像を生成するためのシミュレーション部と、
パターンデータとシミュレーション画像とを並行して表示するモニターと、
前記モニターに表示されたパターンデータ及びシミュレーションデータへの変更を受け付けるためのユーザ入力とを設けて、
前記変更に従ってパターンデータを変更することにより、モニターのパターンデータとシミュレーション画像を変更するようにした、布帛パターンの作成装置。
【請求項２】
前記シミュレーション部では、ラインの両側での長さがパーツ間で異なる縫合ラインとその周囲のみに対して、前記繊維製品を局所的に３次元的にシミュレーションすることを特徴とする、請求項１の布帛パターンの作成装置。
【請求項３】
布帛を用いたパターンデータをメモリーに記憶し、
パターンデータで指定された縫合ラインに沿って、縫合ラインの両側での長さがパーツ間で異なるように、複数の布帛を用いたパーツを縫合した繊維製品を、３次元的にシミュレーションしたシミュレーション画像を生成し、
パターンデータとシミュレーション画像とをモニターに並行して表示し、
前記モニターに表示されたパターンデータ及びシミュレーションデータへの、ユーザによる変更を受け付け、
前記変更に従ってパターンデータを変更することにより、モニターのパターンデータとシミュレーション画像を変更する、布帛パターンの作成方法。
【請求項４】
モニターを備えたコンピュータに記憶されて、該コンピュータにより布帛パターンを作成するためのプログラムであって、
前記コンピュータに、
布帛を用いたパターンデータをメモリーに記憶するための記憶ステップと、
パターンデータで指定された縫合ラインに沿って、縫合ラインの両側での長さがパーツ間で異なるように、複数の布帛を用いたパーツを縫合した繊維製品を、３次元的にシミュレーションしたシミュレーション画像を生成するためのシミュレーションステップと、
パターンデータとシミュレーション画像とをモニターに並行して表示するための表示ステップと、
前記モニターに表示されたパターンデータ及びシミュレーションデータへの、ユーザによる変更を受け付けるためのデータ変更ステップとを実行させると共に、
前記変更に従ってパターンデータを変更することにより、モニターのパターンデータとシミュレーション画像を変更するためのステップを実行させるようにした、布帛パターンの作成プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明はさらに、モニターを備えたコンピュータに記憶されて、該コンピュータにより布帛パターンを作成するためのプログラムであって、
前記コンピュータに、
布帛を用いたパターンデータをメモリーに記憶するための記憶ステップと、
パターンデータで指定された縫合ラインに沿って、縫合ラインの両側での長さがパーツ間で異なるように、複数の布帛を用いたパーツを縫合した繊維製品を、３次元的にシミュレーションしたシミュレーション画像を生成するためのシミュレーションステップと、
パターンデータとシミュレーション画像とをモニターに並行して表示するための表示ステップと、
前記モニターに表示されたパターンデータ及びシミュレーションデータへの、ユーザによる変更を受け付けるためのデータ変更ステップとを実行させると共に、
前記変更に従ってパターンデータを変更することにより、モニターのパターンデータとシミュレーション画像を変更するためのステップを実行させるようにした、布帛パターンの作成プログラムにある。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月13日(2009.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
鏡板に内径側から外径側に向け渦巻状に巻回されたラップ部が軸方向に立設された一方のスクロールと、該一方のスクロールに対向して設けられ鏡板に該一方のスクロールのラップ部と重なり合って複数の圧縮室を画成するために内径側から外径側に向け渦巻状に巻回されたラップ部が軸方向に立設された他方のスクロールとを備えてなるスクロール式流体機械において、
少なくとも前記一方のスクロールのラップ部の外周面には、他方のスクロールのラップ部の内周面と接触または最接近する最接近部を巻回方向に間隔をもって複数設け、
該隣合う最接近部を接続する面は、平坦面または前記ラップ部の曲率よりも小さい曲率の凸状曲面とし、
前記隣合う最接近部を接続する面は前記最接近部よりも他方のスクロールに対して離間していることを特徴とするスクロール式流体機械。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
そして、上述した課題を解決するために、請求項１による発明が採用する構成の特徴は、少なくとも前記一方のスクロールのラップ部の外周面には、他方のスクロールのラップ部の内周面と接触または最接近する最接近部を巻回方向に間隔をもって複数設け、該隣合う最接近部を接続する面は、平坦面または前記ラップ部の曲率よりも小さい曲率の凸状曲面とし、前記隣合う最接近部を接続する面は前記最接近部よりも他方のスクロールに対して離間していることにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項１の発明によれば、隣合う最接近部を接続する面は平坦面またはラップ部の曲率よりも小さい曲率の凸状曲面としたから、従来技術のように隣合う突起の間に凹部が形成されることがない。このため、互いに対面するラップ部の間隔を狭めることができ、ラップ部の間に滞留する流体を減らして圧縮効率を高めることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月5日(2010.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】成膜装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の成膜室と、第２の成膜室を有する成膜装置において、
前記第１の成膜室においてフェイスアップ方式で第１の基板に、液滴吐出法によって、材料層を成膜し、
前記第１の基板を前記第１の成膜室から前記第２の成膜室に搬送し、
前記第２の成膜室においてフェイスダウン方式で第２の基板に、前記第１の基板を加熱することによって、前記材料層を転写することを特徴とする成膜装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記材料層は発光材料であることを特徴とする成膜装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第２の成膜室において、前記第１の基板と、前記第２の基板の距離は５ｍｍ以下であることを特徴とする成膜装置。