(57)【要約】【課題】流量制御装置を備えたガス供給設備から所定流量Ｑの処理ガスを正確且つ迅速に、所望の流量比Ｑ１／Ｑ２でもってチャンバー内へ分流供給できるようにする。【解決手段】流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備１から所定流量ＱのガスＧを複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２に夫々開閉弁ＯＶ１、ＯＶ２を介設し、ＯＶ１の下流側にあってＧＬ１から分岐したバイパスラインＢＬ１と、ＯＶ２の下流側にあってＧＬ２から分岐したＢＬ２と、ＢＬ１とＢＬ２に接続した圧力式分流量制御器ＦＶと、ＧＬ１内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ１と、ＧＬ２内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ２を用い、分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の端末に固定したシャワープレート３、４を通して、所望の分流流量Ｑ１、Ｑ２でもって、チャンバーＣ内へ総量Ｑ＝Ｑ１＋Ｑ２のガスを分流供給する【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備１から所定流量ＱのガスＧを複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２及びその端末に固定したシャワープレート３、４を通して、チャンバーＣ内へ所定の流量比Ｑ１／Ｑ２でもって分流供給する装置に於いて、前記複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２には、夫々開閉弁ＯＶ１、ＯＶ２を介設し、開閉弁ＯＶ１の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ１から分岐したバイパスラインＢＬ１と、開閉弁ＯＶ２の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ２から分岐したバイパスラインＢＬ２と、バイパスラインＢＬ１とバイパスラインＢＬ２に接続した圧力式分流量制御器ＦＶと、分岐供給ラインＧＬ１内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ１と、分岐供給ラインＧＬ２内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ２とを介設したことを特徴とする、流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項２】
所定の流量比Ｑ１／Ｑ２を達成するための分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の設定圧力ＰＩ１又はＰＩ２のうちの何れか一つの設定圧力と、これに対応する圧力センサーＰＳ１又は圧力センサーＰＳ２により測定した分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の実際の圧力ＰＴ１又はＰＴ２とを比較し、分岐供給ラインの実際の圧力と、所定の流量比Ｑ１／Ｑ２を達成するための設定圧力との差が減ずる方向に、圧力式分流量制御器ＦＶの開度を制御する制御装置ＣＴとを備えた請求項１に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項３】
開閉弁ＯＶ１と開閉弁ＯＶ２を空気作動式の開閉弁とし、開閉弁ＯＶ１と開閉弁ＯＶ２への作動用空気を供給する切替弁ＳＶを備えた請求項１又は請求項２に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項４】
開閉弁ＯＶ１と開閉弁ＯＶ２を一体とした請求項１、請求項２又は請求項３に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項５】
流量制御装置ＱＣＳに圧力式流量制御装置を用いた請求項１、請求項２、請求項３又は請求項４に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項６】
流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備１から所定流量ＱのガスＧを複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２及びその端末に固定したシャワープレート３、４を通して、チャンバーＣ内へ所定の流量比Ｑ１／Ｑ２でもって分流供給する方法であって、前記複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２には、夫々開閉弁ＯＶ１、ＯＶ２を介設し、開閉弁ＯＶ１の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ１から分岐したバイパスラインＢＬ１と、開閉弁ＯＶ２の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ２から分岐したバイパスラインＢＬ２と、バイパスラインＢＬ１とバイパスラインＢＬ２に接続した圧力式分流量制御器ＦＶとを介設し、更に分岐供給ラインＧＬ１内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ１と、分岐供給ラインＧＬ２内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ２とを介設すると共に、供給流量の大きい方の分岐供給ラインの開閉弁を開き、前記圧力式分流量制御器ＦＶの開度を調整することにより、供給流量の多い方の分岐供給ラインからの供給流量の小さい方の分岐供給ラインへの流量を調整することにより、分岐供給ラインＧＬ１及び分岐供給ラインＧＬ２の圧力を調整し、所望の分流流量Ｑ１、Ｑ２でもって前記チャンバーＣ内へ総量Ｑ＝Ｑ１＋Ｑ２のガスを分流供給することを特徴とする、流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流方法。
【請求項７】
所定の流量比Ｑ１／Ｑ２を達成するための分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の設定圧力ＰＩ１又はＰＩ２のうちの何れか一つの設定圧力と、これに対応する圧力センサーＰＳ１又は圧力センサーＰＳ２により測定した分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の実際の圧力ＰＴ１又はＰＴ２とを比較し、分岐供給ラインの実際の圧力と、所定の流量比Ｑ１／Ｑ２を達成するための設定圧力との差が減ずる方向に、圧力式分流量制御器ＦＶの開度を制御するようにした請求項６に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法。
【請求項８】
開閉弁ＯＶ１と開閉弁ＯＶ２を空気作動式の開閉弁とし、開閉弁ＯＶ１と開閉弁ＯＶ２への作動用空気を供給する切替弁ＳＶを介設し、切替弁ＳＶにより供給流量の大きい方の分岐供給ラインの開閉弁を開くようにした請求項６又は請求項７に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項９】
流量制御装置ＱＣＳに圧力式流量制御装置を用いるようにした請求項６、請求項７又は請求項８に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体製造装置等に於いて使用されるものであり、流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備からチャンバーへガスを自動分流供給する方法の改良に関するものである。
【０００２】
【従来技術】
半導体製造装置のチャンバーへ供給するガスの流量制御には、所謂圧力式流量制御装置が広く利用されている。
図７はシリコン酸化膜を形成するためのチャンバーＣへ圧力式流量制御装置ＦＣＳを用いて処理用ガスＧを供給する場合の一例を示すものであり、真空ポンプＶｐにより減圧されたチャンバーＣ内へ圧力式流量制御装置ＦＣＳを通して所定流量Ｑの処理用ガスＧが供給され、ガス放出器Ｄを通して支持装置Ｉ上のウエハーＨへ流量Ｑの処理用ガスＧが放出されている。
【０００３】
一方、前記圧力式流量制御装置ＦＣＳは、「臨界膨張圧力条件Ｐ１＞約２×Ｐ２が保持されているとき、オリフィスＬを流通するガス流量Ｑは、オリフィス上流側のガス圧力Ｐ１のみによって決まり、Ｑ＝ＣＰ１（ＣはオリフィスＬの口径やガス温度により決まる定数）なる関係式で表わされる。」ことを利用するものであり、コントロールバルブＣＶにより前記圧力Ｐ１を調整することにより、オリフィス下流側の流量Ｑを所望の設定値に保持するようにしている。
尚、図７に於いてＰ０は処理用ガスＧの供給圧力、ＰＭは圧力計、Ｆはフィルタ、ＣＰＵは演算ユニット、ＱＳは流量設定の入力信号、Ｑｅは制御流量の出力信号である。
また、圧力式流量制御装置そのものは特開平８‐３３８５４６号や特開平１１‐６３２６５号等により公知であるため、ここではその詳細な説明は省略する。
【０００４】
上記圧力式流量制御装置ＦＣＳでは、前述の通りオリフィス上流側のガス圧力Ｐ１とオリフィス下流側のガス圧力Ｐ２とが前記臨界膨張圧力条件の枠内にあることが必須条件となっており、例えばオリフィス上流側のガス圧力Ｐ１に比較してオリフィス下流側のガス圧力Ｐ２の上昇が大きいと、臨界膨張圧力条件が崩れて流量制御が不能になると云う難点がある。
また、オリフィス下流側の圧力Ｐ２が上昇し、Ｐ１／Ｐ２が前記臨界膨張圧力条件の限界値に近づいてくると、現実には流量制御精度が低下する。そのため、オリフィス下流側の圧力Ｐ２が上昇すると、使用可能な流量制御範囲が制約されると云う難点がある。
【０００５】
このように、圧力式流量制御装置によるガス流量の制御には、オリフィスＬの下流側の圧力Ｐ２が上昇したときに様々な問題を生ずるという難点があるものの、当該圧力式流量制御装置ＦＣＳを用いたチャンバーへのガス供給方法は、高精度なガス流量制御を簡単に行えるうえ、ガス供給源に高精度な圧力調整装置を別に設ける必要が無いためガス供給設備費の大幅な引下げが可能となり、優れた実用的効用を有するものである。
【０００６】
一方、近年半導体製造に用いるシリコンウエハーの外径が大きくなりつつあり、例えばウエハーＨの外径が３００ｍｍφになれば、ウエハーの中心部（センター部分）と外周縁部（エッジ部分）への処理ガスの供給量を夫々個別に調整する必要が生じてくる。
これに対応する方策として、前記センター部分への処理ガスの供給とエッジ部分への処理ガスの供給を図８に示すように夫々別個の供給ラインＧＬ１、ＧＬ２を用いて行うようにすれば、圧力式流量制御装置ＦＣＳを用いたガス供給ラインＧＬ１、ＧＬ２であってもガス供給源Ｓから所定の流量Ｑ１，Ｑ２でもって処理ガスＧを問題なく供給することが出来る。
【０００７】
しかし、一基のチャンバーＣに対して、夫々独立した圧力式流量制御装置ＦＣＳ１、ＦＣＳ２を有するガス供給ラインＧＬ１，ＧＬ２を用いたガスの供給を行うことは、半導体製造設備の大形化や設備費の高騰を招くだけでなく、メンテナンス等にも手数が掛かることになり、好ましい方策ではない。
【０００８】
そのため、図７に示すように、一基の圧力式流量制御装置ＦＣＳから二系統のガス供給ラインＧＬ１、ＧＬ２を分岐させ、各ガス供給ラインＧＬ１、ＧＬ２に設けた流量制御弁Ｖ１、Ｖ２を調整することにより、各ガス供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の流量Ｑ１、Ｑ２を制御するようにした方式が望ましいことになる。
【０００９】
而して、現在汎用されているガス供給設備の圧力式流量制御装置ＦＣＳには、一般にオリフィス下流側圧力Ｐ２が０〜１００Ｔｏｒｒの範囲で最適状態の使用が可能な流量制御特性のものが多く使用されている。そのため、これ等の圧力式流量制御装置ＦＣＳに於いては、前述したようにオリフィス下流側圧力Ｐ２が約１００Ｔｏｒｒを超えると、流量制御精度の点から流量制御範囲が大幅に制限されることになる。
【００１０】
例えば、いま図７に於いて、流量Ｑ＝３００ＳＣＣＭの処理ガスＧを供給ラインＧＬ１及び供給ラインＧＬ２を通してＱ１＝１３０ＳＣＣＭ、Ｑ２＝１７０ＳＣＣＭの流量でチャンバーＣへ供給するとする。もしも、ガス供給設備が圧力式流量制御装置ＦＣＳを用いないガス供給設備であれば、先ず流量制御弁Ｖ１、Ｖ２を閉にし、次に流量制御装置ＱＣＳの処理ガス流量をＱ＝３００ＳＣＣＭに設定したあと、制御弁Ｖ１、Ｖ２の開度を調整して、自動又は流量計（図示省略）を参照しつつ各流量Ｑ１、Ｑ２を設定値に調整する方法を採用することができる。
【００１１】
しかし、ガス供給設備の流量制御装置ＱＣＳに、図７のように圧力式流量制御装置ＦＣＳが用いられている場合には、両制御弁Ｖ１、Ｖ２を全閉にした状態で先ず圧力式流量制御装置ＦＣＳの流量Ｑ（３００ＳＣＣＭ）を設定し、その後、両制御弁Ｖ１、Ｖ２の開度を調整して各分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の流量Ｑ１（１３０ＳＣＣＭ）及びＱ２（１７０ＳＣＣＭ）を高精度でもって迅速に調整することは困難である。
何故なら、両制御弁Ｖ１、Ｖ２の開度が低いときには両制御弁Ｖ１、Ｖ２の上流側圧力Ｐ２が上昇し、Ｐ１／Ｐ２の値が前記圧力式流量制御装置ＦＣＳの限界値から外れる可能性があり、その結果、圧力式流量制御装置ＦＣＳによる制御流量Ｑそのものが、設定流量（Ｑ＝３００ＳＣＣＭ）から大きく異なる流量値となるからである。
【００１２】
そこで本願発明者等は上記課題を解決するため、ガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法を開発し、先に特願平２００２−１６１０８６号として出願した。
【００１３】
これは、従前のこの種のガス供給設備からのガスの分流供給制御に於ける常とう手段、即ち分岐ラインに介設した各流量制御弁Ｖ１、Ｖ２を全閉又は深絞り状態から順次開放して行くと云う方策から発想を全く転換し、両方の流量制御弁Ｖ１、Ｖ２を全開又は全開に近い状態としたところから両流量制御弁Ｖ１、Ｖ２を閉鎖方向へ向けて段階的に開度調整することにより、圧力式流量制御装置ＦＣＳによって総流量Ｑを高精度で流量制御しつつ、各分岐ラインＧＬ１、ＧＬ２の流量Ｑ１、Ｑ２を迅速且つ高精度で所望の流量費Ｑ１／Ｑ２に調整することが可能となる方法であった。
【００１４】
この方法によれば、圧力式流量制御装置ＦＣＳを備えたガス供給設備からの処理用ガスであっても、分流時に圧力式流量制御装置ＦＣＳのオリフィス下流側の圧力Ｐ２が大幅に上昇することが皆無となり、結果として総流量Ｑを圧力式分流量制御器ＦＶ１、ＦＶ２による分流制御と無関係に正確に所望流量値に制御することが可能となり、その結果、圧力式流量制御装置ＦＣＳの優れた特性を活かすことができ、極めて迅速且つ正確に、しかも数多くの流量比Ｑ２／Ｑ１について、分流制御を行うことが可能となった。
【００１５】
前記の通り、この方法によれば各分岐ラインＧＬ１、ＧＬ２の流量Ｑ１、Ｑ２を迅速且つ高精度で所望の流量費Ｑ１／Ｑ２に調整することが可能となった。しかしながら、一方で、この方法では、圧力式流量制御装置ＦＣＳに加え、２台の圧力式分流量制御器ＦＶ１、ＦＶ２を用い、両方の圧力を調整するようにしているため、制御が複雑化するうえ、設備費が高価になるという新たな問題が生じていた。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本願発明者等は上記課題を解決するため、より安価且つ簡易であり、しかも正確且つ迅速に、ガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給を達成するための、ガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置を開発し、更に、ガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法をも開発した。
【００１７】
請求項１の発明は、流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備１から所定流量ＱのガスＧを複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２及びその端末に固定したシャワープレート３、４を通して、チャンバーＣ内へ所定の流量比Ｑ１／Ｑ２でもって分流供給する装置に於いて、前記複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２には、夫々開閉弁ＯＶ１、ＯＶ２を介設し、開閉弁ＯＶ１の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ１から分岐したバイパスラインＢＬ１と、開閉弁ＯＶ２の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ２から分岐したバイパスラインＢＬ２と、バイパスラインＢＬ１とバイパスラインＢＬ２に接続した圧力式分流量制御器ＦＶと、分岐供給ラインＧＬ１内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ１と、分岐供給ラインＧＬ２内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ２とを介設したことを発明の基本構成とするものである。
【００１８】
請求項２の発明は、請求項１の発明に於いて、所定の流量比Ｑ１／Ｑ２を達成するための分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の設定圧力ＰＩ１又はＰＩ２のうちの何れか一つの設定圧力と、これに対応する圧力センサーＰＳ１又は圧力センサーＰＳ２により測定した分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の実際の圧力ＰＴ１又はＰＴ２とを比較し、分岐供給ラインの実際の圧力と、所定の流量比Ｑ１／Ｑ２を達成するための設定圧力との差が減ずる方向に、圧力式分流量制御器ＦＶの開度を制御する制御装置ＣＴとを備えたことを発明の基本構成とするものである。
【００１９】
請求項３の発明は、請求項１又は請求項２の発明に於いて、開閉弁ＯＶ１と開閉弁ＯＶ２を空気作動式の開閉弁とし、開閉弁ＯＶ１と開閉弁ＯＶ２への作動用空気を供給する切替弁ＳＶを備えたことを発明の基本構成とするものである。
【００２０】
請求項４の発明は、請求項１、請求項２又は請求項３の発明に於いて、開閉弁ＯＶ１と開閉弁ＯＶ２を一体としたことを発明の基本構成とするものである。
【００２１】
請求項５の発明は、請求項１、請求項２、請求項３又は請求項４の発明に於いて、流量制御装置ＱＣＳに圧力式流量制御装置ＦＣＳを用いたことを発明の基本構成とするものである。
【００２２】
請求項６の発明は、流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備１から所定流量ＱのガスＧを複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２及びその端末に固定したシャワープレート３、４を通して、チャンバーＣ内へ所定の流量比Ｑ１／Ｑ２でもって分流供給する方法であって、前記複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２には、夫々開閉弁ＯＶ１、ＯＶ２を介設し、開閉弁ＯＶ１の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ１から分岐したバイパスラインＢＬ１と、開閉弁ＯＶ２の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ２から分岐したバイパスラインＢＬ２と、バイパスラインＢＬ１とバイパスラインＢＬ２に接続した圧力式分流量制御器ＦＶとを介設し、更に分岐供給ラインＧＬ１内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ１と、分岐供給ラインＧＬ２内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ２とを介設すると共に、供給流量の大きい方の分岐供給ラインの開閉弁を開き、前記圧力式分流量制御器ＦＶの開度を調整することにより、供給流量の多い方の分岐供給ラインからの供給流量の小さい方の分岐供給ラインへの流量を調整することにより、分岐供給ラインＧＬ１及び分岐供給ラインＧＬ２の圧力を調整し、所望の分流流量Ｑ１、Ｑ２でもって前記チャンバーＣ内へ総量Ｑ＝Ｑ１＋Ｑ２のガスを分流供給することを発明の基本構成とするものである。
【００２３】
請求項７の発明は、請求項６の発明に於いて、所定の流量比Ｑ１／Ｑ２を達成するための分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の設定圧力ＰＩ１又はＰＩ２のうちの何れか一つの設定圧力と、これに対応する圧力センサーＰＳ１又は圧力センサーＰＳ２により測定した分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の実際の圧力ＰＴ１又はＰＴ２とを比較し、分岐供給ラインの実際の圧力と、所定の流量比Ｑ１／Ｑ２を達成するための設定圧力との差が減ずる方向に、圧力式分流量制御器ＦＶの開度を制御するようにしたものである。
【００２４】
請求項８の発明は、請求項６又は請求項７の発明に於いて、開閉弁ＯＶ１と開閉弁ＯＶ２を空気作動式の開閉弁とし、開閉弁ＯＶ１と開閉弁ＯＶ２への作動用空気を供給する切替弁ＳＶを介設し、切替弁ＳＶにより供給流量の大きい方の分岐供給ラインの開閉弁を開くようにしたものである。
【００２５】
請求項９の発明は、請求項６、請求項７又は請求項８の発明に於いて、流量制御装置ＱＣＳに圧力式流量制御装置を用いるようにしたものである。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。
図１は、本発明による流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置及びガス分流供給方法を説明する全体系統図である。図１に於いて、１はガス供給設備であり、処理用ガスＧの供給源Ｓとガス元弁Ｖ０と流量制御装置ＱＣＳ等から形成されている。
また、２は分流制御装置であり、圧力式分流量制御器ＦＶ及び通信制御回路ＣＴ等から形成されている。
【００２７】
更に、図１に於いて、Ｃはチャンバー、Ｄはガス放出器、Ｄｃはセンター部用ガス放出器、Ｄｅはエッジ部用ガス放出器、ＧＬ１はセンター部用分岐供給ライン、ＧＬ２はエッジ部用分岐供給ライン、Ｑは総ガス量、Ｑ１・Ｑ２は分流流量、ＰＴ１・ＰＴ２は分岐供給ラインＧＬ１・ＧＬ２の圧力、Ｐ３はチャンバーＣ内の圧力、ＰＳ１・ＰＳ２は分岐供給ラインＧＬ１・ＧＬ２の圧力センサー、３はセンター部用ガス放出器Ｄｃのシャワープレート、３ａはシャワープレートに設けたオリフィス孔、４はエッジ部用ガス放出器Ｄｅのシャワープレート、４ａはシャワープレートに設けたオリフィス孔である。
【００２８】
加えて、図１に於いてＥＬ１・ＥＬ２は通信制御回路ＣＴと圧力センサーＰＳ１・ＰＳ２との信号接続ライン、ＥＬ３は通信制御回路ＣＴと圧力式分流量制御器ＦＶとの信号接続ライン、ＥＬ４は通信制御回路ＣＴと電気切替弁ＳＶとの信号接続ライン、Ｔ１は電源・信号入力端子である。
【００２９】
前記ガス供給設備１は、処理用ガス供給源Ｓ及び複数の流量制御装置ＱＣＳ等から形成されている。流量制御装置ＱＣＳは流量を正確且つ迅速に制御できるもので有れば良いが、ここでは流量制御装置ＱＣＳには、前記図７に示した複数の圧力式流量制御装置ＦＣＳを使用している。圧力式流量制御装置ＦＣＳの制御装置（ＣＰＵ）へ所定の流量設定信号Ｑｓを入力することにより、コントロールバルブＣＶによってオリフィスＬの上流側圧力Ｐ１  が調整され、オリフィス下流側の流量Ｑが自動的に設定流量Ｑｓに調整される。
また、制御装置（ＣＰＵ）からは、調整された流量に対応する制御流量出力信号Ｑｅが出力され、万一、流量設定入力信号Ｑｓと前記制御流量信号Ｑｅとの間の偏差が規定時間を越えてオーバーすれば、図７には図示されていないが、後述するようにＣＰＵから入・出力偏差異常信号が発信される。
【００３０】
前記分流制御装置２は、複数の開閉弁ＯＶ１、ＯＶ２と圧力式分流量制御器ＦＶと、これ等を制御する通信制御回路ＣＴと、ＯＶ１、ＯＶ２を開閉するための電気切替弁ＳＶ、分岐ラインの末端に接続されたオリフィスプレート３、４等から形成されている。
【００３１】
又、本実施態様に於いて、前記圧力式分流量制御器ＦＶはピエゾ駆動ストローク増幅型のメタルダイアフラムバルブが使用されており、流量Ｑ１・Ｑ２が大流量の場合でも容易に対応できるようにしている。
【００３２】
尚、シャワープレート３、シャワープレート４のオリフィス孔３ａ、オリフィス孔４ａを介してのチャンバーＣ内への流量供給の場合、分流流量Ｑ１およびＱ２の制御は、流量制御装置ＦＣＳの場合のオリフィスと同様に、図１に於いてチャンバーＣ内の圧力Ｐ３とセンター部用オリフィスプレート３のオリフィス孔３ａより上流側の圧力ＰＩ１との間にＰＩ１＞２Ｐ３の関係が保持されていれば、ＰＩ１を調整することにより、Ｑ１＝Ｃ１ＰＩ１によって分流流量Ｑ１が制御されることになり、同様にチャンバーＣ内の圧力Ｐ３とエッジ部用オリフィスプレート４のオリフィス孔４ａより上流側の圧力ＰＩ２との間にＰＩ２＞２Ｐ３の関係が保持されていれば、ＰＩ２を調整することにより、Ｑ２＝Ｃ２ＰＩ２によって分流流量Ｑ２が制御されることになりる。尚、Ｃ１・Ｃ２はオリフィス孔３ａ・４ａの断面積やその形態、ガス温度等から決まる定数である。
【００３３】
図１を参照して、前記通信制御回路ＣＴは、電源・信号入力端子Ｔ１が設けられており、信号接続ラインＥＬ３・ＥＬ４を介して、圧力式分流量制御器ＦＶ、電気切替弁ＳＶとに接続されている。
【００３４】
開閉弁ＯＶは空気作動式で駆動用空気が供給されない状態では、開状態となるノーマルオープンタイプとなっているが、通常分流量制御装置が停止状態の場合は、両開閉弁ＯＶは閉じられている。
【００３５】
通信制御回路ＣＴは、電源・信号入力端子を介して起動信号、総流量、所望の流量比Ｑ２／Ｑ１、シャワープレート３、４の組み合せパターン等が入力されると、表１に示される設定圧力比によるパターンの通り、設定圧力ＰＩ１、ＰＩ２のうち設定圧力が低く設定されている分岐供給ラインを、制御対象分岐供給ラインとし、残る一方の分岐供給ラインは非制御対象分岐供給ラインとする。
通信制御回路ＣＴは、非制御対象分岐供給ラインの開閉弁を開き、制御対象分岐供給ラインの開閉弁を閉じる。
更に、通信制御回路ＣＴは、与えられた総流量Ｑと流量比からＱ１及びＱ２の値を求める。
【表１】
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【００３６】
通信制御回路ＣＴへ所定の信号を入力することにより、圧力式分流量制御器ＦＶによって制御対象分岐供給ライン側の圧力ＰＴが調整される。
即ち、通信制御回路ＣＴは、制御対象分岐供給ラインの圧力センサーＰＳにより測定され送られてきた圧力信号により、設定圧力と実際の圧力との対比を開始し、この差を減ずる方向に分流量制御器ＦＶの開度を調整するよう信号を出す。具体的には、対比した結果、実際の圧力が設定圧力より低い場合には、分流量制御器の開度を上げ、制御対象分岐ラインの圧力を上昇させる。逆に対比した結果、実際の圧力が設定圧力より高い場合には、分流量制御器の開度を下げ、制御対象分岐ラインの圧力を上昇させる。
【００３７】
尚、設定圧力は予め、各シャワープレートの各供給流量と圧力の関係から計算により求められる。
又、設定圧力比は分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２への供給流量比Ｑ２／Ｑ１を基にして計算された結果から表２及び表３に示す通りに求められる。
【表２】
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【表３】
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【００３８】
本実施形態では、各ガス放出器Ｄｃ、Ｄｅのシャワープレート（オリフィスプレート）３、４は、前記センター部用シャワープレート３として４２０個のオリフィス孔３ａを有するものＤｃ１と、４８０個のオリフィス孔３ａを有するものＤｃ２の二種類が用意されている。同様にエッジ部用シャワープレート４としてオリフィス孔４ａが３６０個のものＤｅ１と４７６個のものＤｅ２が二種類用意されている。
【００３９】
さらに、本実施形態では、前記流量比Ｑ２／Ｑ１は１／１、１／２、１／３、１／４、２／１、３／１及び４／１の何れかに設定可能であり、これを基にして演算した設定圧力（若しくはガス供給チャンバー側から指定された設定圧力）、設定圧力比が入力端子Ｔ１へ入力される。
【００４０】
前記、表２及び表３に記載の設定圧力、設定圧力比は、後述するように、各分岐ガス供給ラインの末端に接続されるシャワープレート３、４のオリフィス孔３ａ・４ａの口径やその数から、前記所定の流量Ｑ１、Ｑ２のガスＧを放出させるのに必要とするオリフィス孔３ａ・４ａの上流側の設定圧力ＰＩ１とＰＩ２を演算により求めたもの、及び、更にその演算した必要とする上流側の設定圧力ＰＩ２とＰＩ１から演算して求めた比ＰＩ２／ＰＩ１を示すものである。
【００４１】
前記シャワープレート３、４の組み合せとしては４２０個のオリフィス孔３ａを有するシャワープレート３と３６０個のオリフィス孔４ａを有するシャワープレート４との組み合せ（以下パターン１と呼ぶ）及び４８０個のオリフィス孔３ａを有するシャワープレート３と４７６個のオリフィス孔４ａを有するシャワープレート４との組み合せ（以下パターン２と呼ぶ）の二種類が予め決められている。
【００４２】
尚、ここでは、上記Ｑ１、Ｑ１及びＰＩ１、ＰＩ２との関係を下記のコンダクタンスの計算式を用いて演算している。
即ち、管路に流れるガスの流量Ｑは、Ｑ＝Ｃ×（Ｐ１−Ｐ２）・・・▲１▼、Ｃ＝１８２×Ｄ４×（Ｐ１＋Ｐ２）／２×１／Ｌ・・・▲２▼として表される。但し、コンダクタンス（Ｌ／ｓｅｃ）、Ｄは配管径（ｃｍ）、Ｌは配管長さ（ｃｍ）、Ｐ１は配管上流圧（Ｔｏｒｒ）、Ｐ２は配管下流圧（Ｔｏｒｒ）、Ｑは流量（Ｔｏｒｒ・Ｌ／ｓｅｃ）である。
上記▲１▼及び▲２▼に於いてＤとしてシャワープレートのオリフィス孔の外径を、Ｌとしてシャワープレートのオリフィス孔の長さを、下流側圧力Ｐ２としてチャンバー内圧（Ｐ３＝００１５Ｔｏｒｒ）を、流量Ｑとしてオリフィス孔１個当りの流量を夫々用いることにより、シャワープレートの上流側の内圧（ＰＩ１及びＰＩ２）を演算したものである
【００４３】
また、図３は、センター部用ガス放出器Ｄｃのシャワープレート３として内径０．２ｍｍφのオリフィス孔４２０個を有するもの及びエッジ部用ガス放出器Ｄｅのシャワープレート４として内径０．２ｍｍφのオリフィス孔３６０個を有するものを組み合せ使用した場合（パターン１）に於けるトータル流量（全流量）Ｑとセンター部用のＰとエッジ部用のＰとの関係を、流量比（Ｅ／Ｃ＝Ｑ２／Ｑ１）をパラメータにして計算した数値をグラフ表示したものであり、例えばＱ２／Ｑ１＝１でＱ＝１６００、１２００、８００、４００及び１００ＳＣＣＭとした場合、エッジ部側の制御圧力ＰＩ２とセンター部側の制御圧力ＰＩ１との比ＰＩ２／Ｐ１の平均値は１．０４１となる。
【００４４】
同様に、図４は、センター部用ガス放出器Ｄｃのシャワープレート３として内径０．２ｍｍφのオリフィス孔４８０個を有するもの及びエッジ部用ガス放出器Ｄｅのシャワープレート４として内径０．２ｍｍφのオリフィス孔４７６個を有するものを組み合せ使用した場合（パターン２）に於ける計算値をグラフ表示したものであり、例えばＱ２／Ｑ１＝１でＱ＝１６００、１２００、８００、４００及び１００ＳＣＣＭとした場合、エッジ部側の制御圧力ＰＩ２とセンター部側の制御圧力ＰＩ１との比ＰＩ２／ＰＩ１の平均値は１．００１となる。
【００４５】
尚、表２、３は、図３及び図４に表示したパターン１及びパターン２に於ける各流量比Ｑ２／Ｑ１と、エッジ部側制御圧力ＰＩ２とセンター部側制御圧力ＰＩ１との比ＰＩ２／ＰＩ１関係を示す計算値をまとめたものである。例えば図５に於いて、使用するシャワープレート３、４の組み合せパターン１とし且つ流量比Ｑ２／Ｑ１を１とした場合にはエッジ部側の制御圧力ＰＩ２とセンター部側の制御圧力ＰＩ１との比ＰＩ２／ＰＩ１は計算上１．０４１となることを示している。
【００４６】
以下、本願発明によるチャンバーへのガス分流供給方法について説明する。
図１及び図２を参照、通信制御回路ＣＴに起動信号が入力されていない場合には、両開閉弁ＯＶ１、ＯＶ２は全閉とされている。
【００４７】
総流量ＱのガスＧを所定の比率Ｑ２／Ｑ１（例えばＱ２／Ｑ１＝１／２）で分流供給するためには、通信制御回路ＣＴに、総流量Ｑ及び各分岐ラインＧＬ１、ＧＬ２の末端に接続されているガス放出器Ｄｃ、Ｄｅのシャワープレート３、４の組み合せパターンと、所望の流量比Ｑ２／Ｑ１が入力される。また、各シャワープレート３、４と流量比Ｑ２／Ｑ１に対応する制御圧力比ＰＩ２／ＰＩ１が設定信号として入力される。
次に、通信制御回路ＣＴは、与えられた総流量Ｑと流量比率Ｑ２／Ｑ１及び設定圧力ＰＩ１、ＰＩ２に基づいて分流制御対象及び非分流制御対象を決定し、非制御対象分岐供給ラインの開閉弁を開き、制御対象分岐供給ラインの開閉弁を閉じる。
【００４８】
例えば、通信制御回路ＣＴは、総流量Ｑが１２００ＳＣＣＭ、シャワープレート３、４の組み合せパターンがパターン１、で且つ分流比Ｑ２／Ｑ１＝１／２、設定圧力ＰＩ１及び設定圧力ＰＩ２を示す信号を受信すると、設定圧力ＰＩ１、ＰＩ２のうち設定圧力が低く設定されているＰＩ１に対応する分岐供給ラインＧＬ１を、制御対象分岐供給ラインとし、残る一方の分岐供給ラインＧＬ２は非制御分岐供給ラインとする。
【００４９】
通信制御回路ＣＴは、非制御対象分岐供給ラインＧＬ２の開閉弁ＯＶ２を開き、制御対象分岐供給ラインＧＬ１の開閉弁ＯＶ１を閉じる。
又、通信制御回路ＣＴは、制御対象分岐供給ラインＧＬ１の圧力センサーＰＳ１により測定され送られてきた圧力信号により、設定圧力ＰＩ１と実際の圧力ＰＴ１とを比較する。
【００５０】
通信制御回路ＣＴは、制御対象分岐供給ラインＧＬ１の設定圧力ＰＩ１と実際の圧力ＰＴ１とを対比し、この差を減ずる方向に分流量制御器ＦＶの開度を調整するよう信号を出す。
即ち、対比した結果、実際の圧力ＰＴ１＜設定圧力ＰＩ１の場合には、分流量制御器の開度を上げ、制御対象分岐ラインの圧力を上昇させる。逆に対比した結果、実際の圧力ＰＴ１＞設定圧力ＰＩ１の場合には、分流量制御器の開度を下げ、制御対象分岐ラインの圧力を下降させる。
【００５１】
通信制御回路ＣＴは、制御対象分岐供給ラインＧＬ１の設定圧力ＰＩ１と実際の圧力ＰＴ１とを対比し、この差が無くなった場合又は予め設定された差の範囲に収束した場合には、ＦＶの開度を保持し、これにより自動分流制御が完了する。
即ち、ガス供給源Ｓからの所定流量Ｑの原料ガスＧは、所定の流量比Ｑ１／Ｑ２に分流され、ガス放出器Ｄｃ、Ｄｅを通じてチャンバーＣ内のウエハーＨへ供給されていく。
【００５２】
尚、通信制御回路ＣＴは、設定圧力ＰＩ１と実際の圧力ＰＴ１とを対比し、この差が無くなった場合又は予め設定された差の範囲に収束した場合には、ＦＶの開度を保持し、これにより自動分流制御が完了するが、温度変化やその他の理由により、実際の圧力ＰＴ１が変動し、設定圧力ＰＩ１との差が予め設定された差の範囲を越えた場合には、通信制御回路ＣＴはＦＶの開度の制御を再開する。
【００５３】
また、本実施態様では、通信制御回路ＣＴに対し、電源・信号入力端子を介して起動信号、総流量、所望の流量比Ｑ２／Ｑ１、シャワープレート３、４の組み合せパターン、設定圧力等が入力される構成としているが、通信制御回路ＣＴが前記総流量Ｑや流量比Ｑ２／Ｑ１、等の信号と予め算出したデータとから制御対象分岐供給ライン及びその設定圧力を決定する構成としても良い。
【００５４】
【発明の効果】
本発明に於いては、流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備１から所定流量ＱのガスＧを複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２に夫々開閉弁ＯＶ１、ＯＶ２を介設し、開閉弁ＯＶ１の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ１から分岐したバイパスラインＢＬ１と、開閉弁ＯＶ２の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ２から分岐したバイパスラインＢＬ２と、バイパスラインＢＬ１とバイパスラインＢＬ２に接続した圧力式分流量制御器ＦＶと、分岐供給ラインＧＬ１内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ１と、分岐供給ラインＧＬ２内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ２を用い、分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２の端末に固定したシャワープレート３、４を通して、チャンバーＣ内へ所定の流量比Ｑ１／Ｑ２でもって分流供給する構成とした、流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置を提供する。
その結果、極めて迅速且つ正確に、しかも数多くの流量比Ｑ２／Ｑ１について、１台のみの圧力式分流量制御器を使用して圧力制御が行えるようになり、設備費が安価になるという優れた効果が得られる。
【００５５】
また、本発明では、流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備１から所定流量ＱのガスＧを複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２及びその端末に固定したシャワープレート３、４を通して、チャンバーＣ内へ所定の流量比Ｑ１／Ｑ２でもって分流供給する方法であって、前記複数の分岐供給ラインＧＬ１、ＧＬ２には、夫々開閉弁ＯＶ１、ＯＶ２を介設し、開閉弁ＯＶ１の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ１から分岐したバイパスラインＢＬ１と、開閉弁ＯＶ２の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ２から分岐したバイパスラインＢＬ２と、バイパスラインＢＬ１とバイパスラインＢＬ２に接続した圧力式分流量制御器ＦＶとを介設し、更に分岐供給ラインＧＬ１内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ１と、分岐供給ラインＧＬ２内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ２とを介設すると共に、供給流量の大きい方の分岐供給ラインの開閉弁を開き、前記圧力式分流量制御器ＦＶの開度を調整することにより、供給流量の多い方の分岐供給ラインからの供給流量の小さい方の分岐供給ラインへの流量を調整することにより、分岐供給ラインＧＬ１及び分岐供給ラインＧＬ２の圧力を調整し、所望の分流流量Ｑ１、Ｑ２でもって前記チャンバーＣ内へ総量Ｑ＝Ｑ１＋Ｑ２のガスを分流供給することを特徴とする、流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流方法を提供している。
その結果、極めて迅速且つ正確に、しかも数多くの流量比Ｑ２／Ｑ１について、１台のみの圧力式分流量制御器を使用して圧力制御が行えるようになり、設備費が安価になることに加え、制御が容易にできるという優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る流量制御装置を備えたガス供給装置によるチャンバーへのガス分流制御方法を説明する全体系統図である。
【図２】圧力式分流量制御器ＦＶの構成図である。
【図３】図１の分流供給に於いて、使用するシャワープレート３、４の組合せをパターン１とした場合の、設定圧力（ＰＩ１、ＰＩ２）と分流比Ｑ２／Ｑ１との関係を示す線図（計算値）である。
【図４】使用するシャワープレート３、４の組合せをパターン２とした場合の、図５と同一の関係を示す線図（計算値）である。
【図５】従前の圧力式流量制御装置ＦＣＳを用いたチャンバーＣへの処理ガスの供給方法を示す説明図である。
【図６】単独のガス供給源Ｓから複数の圧力式流量制御装置を用いてチャンバーＣへ処理ガスを分流供給する場合の、説明図である。
【図７】圧力式流量制御装置を備えたガス供給源から、制御弁を用いてチャンバーＣへ処理ガスを分流供給する場合の説明図である。
【符号の説明】
ＢＬ１・ＢＬ２はバイパスライン、Ｃはチャンバー、Ｄはガス放出器、Ｄｃはセンター部用ガス放出器、Ｄｅはエッジ部用ガス放出器、ＦＶは圧力式分流制御器、ＧＬ１はセンター部用分岐供給ライン、ＧＬ２はエッジ部用分岐供給ライン、ＯＶ１・ＯＶ２は開閉弁、ＰＴ１・ＰＴ２は分岐供給ラインの圧力、Ｐ３はチャンバー内の圧力、ＰＳ１・ＰＳ２は分岐供給ラインの圧力センサー、ＱＣＳは流量制御装置、ＳＶは切替弁、１はガス供給設備、２は分流制御装置、３はセンター部用ガス放出器のシャワープレート、３ａはシャワープレートに設けたオリフィス孔、４はエッジ部用ガス放出器のシャワープレート、４ａはシャワープレートに設けたオリフィス孔である。
【図１】
2005011258.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【手続補正書】
【提出日】平成16年8月17日(2004.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備１から所定流量ＱのガスＧを複数の分岐供給ラインＧＬ1、ＧＬ2及びその端末に固定したシャワープレート３、４を通して、チャンバーＣ内へ所定の流量比Ｑ1／Ｑ2でもって分流供給する装置に於いて、前記複数の分岐供給ラインＧＬ1、ＧＬ2には、夫々開閉弁ＯＶ1、ＯＶ2を介設し、開閉弁ＯＶ1の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ1から分岐したバイパスラインＢＬ1と、開閉弁ＯＶ2の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ2から分岐したバイパスラインＢＬ2と、バイパスラインＢＬ1とバイパスラインＢＬ2に接続した圧力式分流量制御器ＦＶと、分岐供給ラインＧＬ1内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ1と、分岐供給ラインＧＬ2内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ2とを介設したことを特徴とする、流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項２】
所定の流量比Ｑ1／Ｑ2を達成するための分岐供給ラインＧＬ1、ＧＬ2の設定圧力ＰＩ1又はＰＩ2のうちの何れか一つの設定圧力と、これに対応する圧力センサーＰＳ1又は圧力センサーＰＳ2により測定した分岐供給ラインＧＬ1、ＧＬ2の実際の圧力ＰＴ1又はＰＴ2とを比較し、分岐供給ラインの実際の圧力と、所定の流量比Ｑ1／Ｑ2を達成するための設定圧力との差が減ずる方向に、圧力式分流量制御器ＦＶの開度を制御する制御装置ＣＴとを備えた請求項１に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項３】
開閉弁ＯＶ1と開閉弁ＯＶ2を空気作動式の開閉弁とし、開閉弁ＯＶ1と開閉弁ＯＶ2への作動用空気を供給する切替弁ＳＶを備えた請求項１又は請求項２に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項４】
開閉弁ＯＶ1と開閉弁ＯＶ2を一体とした請求項１、請求項２又は請求項３に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項５】
流量制御装置ＱＣＳに圧力式流量制御装置を用いた請求項１、請求項２、請求項３又は請求項４に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給装置。
【請求項６】
流量制御装置ＱＣＳを備えたガス供給設備１から所定流量ＱのガスＧを複数の分岐供給ラインＧＬ1、ＧＬ2及びその端末に固定したシャワープレート３、４を通して、チャンバーＣ内へ所定の流量比Ｑ1／Ｑ2でもって分流供給する方法であって、前記複数の分岐供給ラインＧＬ1、ＧＬ2には、夫々開閉弁ＯＶ1、ＯＶ2を介設し、開閉弁ＯＶ1の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ1から分岐したバイパスラインＢＬ1と、開閉弁ＯＶ2の下流側にあって分岐供給ラインＧＬ2から分岐したバイパスラインＢＬ2と、バイパスラインＢＬ1とバイパスラインＢＬ2に接続した圧力式分流量制御器ＦＶとを介設し、更に分岐供給ラインＧＬ1内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ1と、分岐供給ラインＧＬ2内の圧力を測定する圧力センサーＰＳ2とを介設すると共に、供給流量の大きい方の分岐供給ラインの開閉弁を開き、前記圧力式分流量制御器ＦＶの開度を調整することにより、供給流量の多い方の分岐供給ラインからの供給流量の小さい方の分岐供給ラインへの流量を調整することにより、分岐供給ラインＧＬ1及び分岐供給ラインＧＬ2の圧力を調整し、所望の分流流量Ｑ1、Ｑ2でもって前記チャンバーＣ内へ総量Ｑ＝Ｑ1+Ｑ2のガスを分流供給することを特徴とする、流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法。
【請求項７】
所定の流量比Ｑ1／Ｑ2を達成するための分岐供給ラインＧＬ1、ＧＬ2の設定圧力ＰＩ1又はＰＩ2のうちの何れか一つの設定圧力と、これに対応する圧力センサーＰＳ1又は圧力センサーＰＳ2により測定した分岐供給ラインＧＬ1、ＧＬ2の実際の圧力ＰＴ1又はＰＴ2とを比較し、分岐供給ラインの実際の圧力と、所定の流量比Ｑ1／Ｑ2を達成するための設定圧力との差が減ずる方向に、圧力式分流量制御器ＦＶの開度を制御するようにした請求項６に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法。
【請求項８】
開閉弁ＯＶ1と開閉弁ＯＶ2を空気作動式の開閉弁とし、開閉弁ＯＶ1と開閉弁ＯＶ2への作動用空気を供給する切替弁ＳＶを介設し、切替弁ＳＶにより供給流量の大きい方の分岐供給ラインの開閉弁を開くようにした請求項６又は請求項７に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法。
【請求項９】
流量制御装置ＱＣＳに圧力式流量制御装置を用いるようにした請求項６、請求項７又は請求項８に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバーへのガス分流供給方法。