(57)【要約】      （修正有）【課題】エーロゾルを含むチャネル又は空間内の粒子を監視する装置を提供する。【解決手段】装置１は、入口チャンバ４と、エゼクタ２４と、本質的に粒子のないガス流Ｃを、入口チャンバ４を介してエゼクタ２４に送り込むように配置されるガス供給源６、１６、１８と、ガス供給源６、１６、１８及びエゼクタ２４によってもたらされる吸引によってチャネル１１又は空間から入口チャンバ４へとサンプル・エーロゾルの流れＡをもたらすように配置される少なくとも１つのサンプル入口２とを備える。装置１は、サンプル・エーロゾルを本質的に粒子のないガス流Ｃに混合するために、サンプル入口２と入口チャンバ４との間に配置されるサンプル供給チャネル５をさらに備える。サンプル供給チャネル５は、サンプル・エーロゾルの流れＡを本質的に粒子のないガス流Ｃとは反対方向に少なくとも部分的に方向付けるように配置される。【選択図】図１
0003189910.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
エーロゾルを含むチャネル（１１）又は空間内の粒子（５４）を監視する装置（１）であって、前記装置（１）は、
入口チャンバ（４）と、
エゼクタ（２４）と、
本質的に粒子のないガス流（Ｃ）を、前記入口チャンバ（４）を介して前記エゼクタ（２４）に送り込むように配置されるガス供給源（６、１６、１８）と、
前記ガス供給源（６、１６、１８）及び前記エゼクタ（２４）によってもたらされる吸引によって前記チャネル（１１）又は前記空間から前記入口チャンバ（４）へとサンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）をもたらすように配置される少なくとも１つのサンプル入口（２）とを備え、
前記装置（１）は、前記サンプル・エーロゾルを前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）に混合するために、前記サンプル入口（２）と前記入口チャンバ（４）との間に配置されるサンプル供給チャネル（５）をさらに備え、
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）を前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）とは反対方向に少なくとも部分的に方向付けるように配置されることを特徴とする、装置。
【請求項２】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）を前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）とは反対方向に本質的に方向付けるように配置されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）を前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）に対して所定の角度で方向付けるように配置されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）を前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）に対して４５度未満の角度で方向付けるように配置されることを特徴とする、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）を前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）に対して３０度未満の角度で方向付けるように配置されることを特徴とする、請求項３又は４に記載の装置。
【請求項６】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）の方へ、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）の対向流を少なくとも部分的にもたらすように配置されることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記ガス供給源（６、１６、１８）は、前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）を前記エゼクタ（２４）に送り込むように配置されるノズル・ヘッド（６）を備え、前記サンプル入口（２）は、前記ノズル・ヘッド（６）の下流に設けられることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
前記エゼクタ（２４）は、前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）と前記サンプル・エーロゾル（Ａ）が前記エゼクタ（２４）に供給される際に通るエゼクタ入口開口部（７）を備え、前記サンプル入口（２）は、前記エゼクタ入口開口部（７）の下流に設けられることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）の流れ方向に、前記サンプル入口（２）と前記エゼクタ入口開口部（７）との間に延在することを特徴とする、請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記エゼクタ（２４）は、前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）と前記サンプル・エーロゾル（Ａ）とが流れる際に通るエゼクタ・スロート（８）を備え、前記サンプル供給チャネル（５）は前記エゼクタ・スロート（８）と本質的に平行に延在するように配置されることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記エゼクタ（２４）は、前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）と前記サンプル・エーロゾル（Ａ）とが流れる際に通る前記エゼクタ・スロート（８）を備え、前記サンプル供給チャネル（５）は、４５度未満、好ましくは、前記エゼクタ・スロート（８）に対して３０度未満の角度に延在するように配置されることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記装置（１）は本体（１７）を備え、前記サンプル供給チャネル（５）は前記装置（１）の前記本体（１７）内に設けられることを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項１３】
前記サンプル供給チャネル（５）は前記入口チャンバ（４）内に少なくとも部分的に設けられることを特徴とする、請求項１から１２までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項１４】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記装置（１）の前記本体（１７）と前記エゼクタ（２４）とによって形成されることを特徴とする、請求項１から１３までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記装置（１）の前記本体（１７）内に配置される別個のコンジットによって形成されることを特徴とする、請求項１から１３までのいずれか一項に記載の装置。
【請求項１６】
前記装置（１）は、前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）の少なくとも一部をイオン化するイオン化デバイス（１４）を備えることを特徴とする、請求項１から１５までのいずれか一項に記載の装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、粒子を監視する装置に関し、とりわけ、独立請求項１のプリアンブルに記載された装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
多くの工業プロセス及び燃焼プロセスにおいて微粒子が形成される。さらに、ダクト及び換気システム内に、並びに室内空間内に流れる吸い込み空気の中に、微粒子が存在する。さまざまな理由で、これらの微粒子が測定される。微粒子の測定は、それらによる健康への潜在的影響を理由に、並びに、工業プロセス及び燃焼プロセスの動作を監視することも理由に実施される場合がある。また、空気質を監視するために換気システム内の微粒子が測定される。微粒子を監視する別の理由は、工業プロセスにおけるナノサイズ粒子の使用及び製造の増加である。上記の理由により、信頼できる微粒子測定器及び方法が必要とされる。
【０００３】
微粒子を測定するための従来技術の方法及び装置の１つは、国際公開第２００９／１０９６８８Ａ１号の文献に記載されている。この従来技術の方法では、清浄で本質的に粒子のないガスが装置内に供給され、主流として、入口チャンバを介して装置内部に設けられたエゼクタに方向付けられる。さらに、清浄なガスは、入口チャンバに供給される前及びその間にイオン化される。イオン化された清浄なガスは、好ましくは音速で又は音速に近い速度でエゼクタに送ることができる。清浄なガスのイオン化は、例えばコロナ帯電器を用いて行うことができる。入口チャンバはさらに、微粒子を有するエーロゾルを含むチャネル又は空間と流体連通するように配置されたサンプル入口を備える。清浄なガスの流れ及びエゼクタは共に、サンプル・エーロゾルの流れがダクト又は空間から入口チャンバまで形成されるような、サンプル入口への吸引を生じさせる。したがって、サンプル・エーロゾルの流れは、例えばエゼクタへの側方流としてもたらされる。イオン化された清浄なガスは、粒子を帯電させる。帯電した粒子をさらに、エーロゾルを含有するダクト又は空間に戻すように案内することができる。よって、エーロゾルのサンプルの微粒子は、帯電した粒子によって運ばれる電荷を監視することによって監視される。自由イオンを除去すること、さらにイオン・トラップを用いて除去することが可能である。
【０００４】
微粒子監視装置に対する重要な要求の１つは、信頼できる動作及び効率的な動作である。さらに、これらの微粒子監視装置は、低いエネルギ消費で、且つ、微粒子測定をリアルタイムで継続的に実施するように動作され得ることも望ましい。
【０００５】
意外にも、従来技術の微粒子測定装置における１つの問題は、サンプル・エーロゾルの流れの中の粒子に対する非効率的な帯電であることが分っている。本質的に粒子のないイオン化ガスのエゼクタまでの速度が高いとき、サンプル・エーロゾルの流れの中の粒子を帯電させるためには限られた時間しかない。サンプル・エーロゾルの流れの中の粒子の非効率的な帯電により、粒子の測定が信頼できないものになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００９／１０９６８８Ａ１号
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００７】
本考案の目的は、従来技術の欠点が克服された又は少なくとも軽減された装置を提供することである。本考案の目的は、請求項１の特徴部分による装置によって達成される。当該装置は、サンプル・エーロゾルを本質的に粒子のないガス流に混合するために、サンプル入口と入口チャンバとの間に配置されたサンプル供給チャネルを備える。
【０００８】
本考案の好ましい実施例は従属項に開示される。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本考案は、エーロゾルを含むチャネル又は空間内の粒子を監視する装置を提供する概念に基づく。当該装置内では、本質的に、サンプル・エーロゾルは、本質的に粒子のないガスに対する向流として装置に供給される。換言すると、サンプル・エーロゾルの流れは、サンプル・エーロゾルを本質的に粒子のないガス流に混合するために、本質的に粒子のないガス流とは反対方向に少なくとも部分的に導かれる。サンプル・エーロゾルは、本質的に粒子のないガス流とは反対方向に、又は、本質的に粒子のないガス流に対して所定の角度で、直接的に方向付けされ得る。よって、サンプル・エーロゾルの流れ方向は、本質的に粒子のないイオン化ガス流とは反対方向に流れ成分を有するように、サンプル・エーロゾルの流れは、装置に且つ本質的に粒子のないイオン化ガス流の方へ供給される。
【００１０】
本考案の目的は、サンプル入口と入口チャンバとの間に配置されたサンプル供給チャネルを備える装置によって達成される。サンプル供給チャネルは、サンプル・エーロゾルの流れを、本質的に粒子のないガス流とは反対方向に入口チャンバに少なくとも部分的に供給するように配置される。装置の本体内にサンプル供給チャネルを設けることができる。一実施例では、サンプル供給チャネルは入口チャンバ内に設けられる。サンプル供給チャネルは、装置の本体及びエゼクタによって形成されることが可能であり、又は、別個のコンジットとすることができる。
【考案の効果】
【００１１】
本考案の利点は、サンプル・エーロゾルの流れを、本質的に粒子のないイオン化ガス流に対して、反対方向に少なくとも部分的に方向付けることにより、サンプル・エーロゾルと本質的に粒子のないイオン化ガス流との効果的な混合がもたらされることである。サンプル・エーロゾルの流れと本質的に粒子のないイオン化ガス流との効果的な混合により、サンプル・エーロゾルの流れの中の粒子の帯電が向上且つ加速する。これにより、サンプル・エーロゾルの流れの中の粒子全てが確実に帯電される。粒子監視装置の動作はサンプル・エーロゾルの流れの中の粒子を帯電させることに基づく。したがって、サンプル・エーロゾルの流れの中の粒子の効率的且つ信頼できる帯電により、装置の動作が向上し、信頼できる正確な測定結果がもたらされることになる。
【００１２】
以下で、添付の図面を参照しながら、好ましい実施例に関連して本考案をより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】微粒子を監視する装置の一実施例の概略図である。
【図２】微粒子を監視する装置の別の実施例の概略図である。
【考案を実施するための形態】
【００１４】
図１は、微粒子、とりわけ、１μｍ未満の直径を有する粒子を監視する装置１の一実施例を示す。当該装置は本体１７を有し、本体１７内に、微粒子を監視又は測定するためにサンプル・エーロゾルの流れが導かれる。装置１は、エーロゾル・ダクト１１に接続され、エーロゾル・ダクト１１内には、エーロゾルの流れＦが存在する。よって、装置１は、エーロゾルの流れＦの中の微粒子を監視するように配置される。エーロゾル・ダクトは、工業プロセスの排気ダクト又は換気ダクトであってもよい。或いは、エーロゾル・ダクトは、エーロゾルを含む任意の空間、又は、エーロゾルの流れＦを有する任意のダクト若しくはチャネルであってもよい。
【００１５】
装置１は、サンプル・エーロゾルの流れＡを装置１へ導くためのサンプル入口２を備える。サンプル入口２は、エーロゾル・ダクト１１及び装置１の内部と流体連通する。装置１は、好ましくは、分析されたサンプル・エーロゾルの流れＢが装置１から排気される際に通るサンプル出口１０も備える。図１の実施例では、分析されたサンプル・エーロゾルＢは、エーロゾル・ダクト１１に戻される。分析されたサンプル・エーロゾルＢを周囲大気又は他の場所へ直接的に案内するように、サンプル出口１０を配置することもできる。したがって、装置１は、サンプル・エーロゾルＡを収集せず、又は蓄えない。代替実施例では、装置は、１つ又は複数のサンプル入口を備えるサンプル入口構成体２を備えることもできる。さらに、装置は、１つ又は複数のサンプル出口を備えるサンプル出口構成体１０を備えることもできる。図１では、サンプル入口２及びサンプル出口１０は、短いチャネルとして示されるが、代替実施例では、サンプル入口２及びサンプル出口１０は、装置１の本体１７に設けられた単なる開口であってもよい。
【００１６】
装置１は、入口チャンバ４を備え、サンプル入口２は、エーロゾル・ダクト１１と入口チャンバ４との間で流体連通するように配置される。装置は、清浄で粒子のないガスＣを入口チャンバ４へと供給するためのガス供給源をさらに備える。ガス供給源は、ガス供給接続１８を備え、ガス供給接続１８を介して、清浄なガスが、ガス源からもたらされ得る。ガスから粒子を本質的に除去するために、フィルタなどでガスを清浄にすることができる。清浄なガスは、空気又は他の適切なガスであってもよい。清浄なガスを、ガス源から温度調整器に送り込むことができ、温度調整器は、空気の加熱又は冷却いずれかを行うことができる。電磁バルブを切り替えることにより、フロー・コントローラへガスを送り込むことができ、清浄なガス流Ｃを所望の値に設定することができる。フロー・コントローラを、例えば、加減弁、臨界開口、フロー・メータ、マス・フロー・コントローラなどとすることができる。フロー・コントローラを、加圧ガスから粒子を本質的に除去するフィルタに接続することができ、それによって、加圧ガス内の粒子濃度は、サンプル・エーロゾルの流れＡ内の粒子濃度よりも際立って低くなる。次に、清浄なガスは、ガス供給接続１８を通して測定装置１に送り込まれる。
【００１７】
装置１は、清浄なガスの供給チャネル１６をさらに備え、清浄なガスの供給チャネル１６を通して、清浄なガスが装置１の入口チャンバ４に送り込まれる。清浄なガスの供給チャネルは、入口チャンバ４の中へ開口するノズル・ヘッド６を備える。清浄なガスの供給源は、清浄なガスをノズル・ヘッド６から入口チャンバ４に送り込む前又はその間に清浄なガスの少なくとも一部をイオン化するイオン化デバイス１４も備える。図１の実施例では、イオン化デバイスは、清浄なガスの供給チャネル１６内に延在するコロナ・ニードル１４である。ノズル・ヘッド６及びコロナ・ニードル１４は、有利には、コロナ・ニードル１４がノズル・ヘッド６付近に本質的に延在するように配置される。これにより、コロナ・ニードル１４は清潔なままであり、イオン生成が向上する。コロナ・ニードル１４は、１つ又は複数の電気絶縁体２０によって、清浄なガスのチャネル、及び、装置１の本体１７から分離される。上記にしたがって、ガスの供給チャネル１６は、本質的に粒子のないイオン化ガス流Ｃを入口チャンバ４にもたらすように配置される。
【００１８】
装置は、エゼクタ２４をさらに備える。したがって、エゼクタ２４は中細チャネルを形成する中細ノズル２４と、エゼクタ２４のスロート８とを備える。エゼクタ２４は、中細ノズルのベンチュリ効果を利用して、主流体流の圧力エネルギを運動エネルギに変換する、ポンプのようなデバイスである。運動エネルギは、側方流体流を吸引する及び側方流体流の吸引を同伴する低圧ゾーンを作り出す。主流体流及び側方流体流は、少なくとも部分的にエゼクタ２４で混合される。主流体流及び側方流体流は、エゼクタ入口開口部７を通してエゼクタ・スロート８に送り込まれる。エゼクタ２４のスロート８を通過後、混合流体が膨張し且つ速度が低下し、結果として、速度エネルギを圧力エネルギに変換し戻すことによって混合流体の再圧縮が生じる。代替実施例では、装置は、１つ又は複数の清浄なガスの供給チャネル１６、コロナ・ニードル１４及びエゼクタ２４を備えることもできる。
【００１９】
図１の実施例では、本質的に粒子のないイオン化ガス流Ｃは、主流としてエゼクタのスロート８に送り込まれる。したがって、清浄なガスの供給チャネル１６及びノズル・ヘッド６は、本質的に粒子のないガス流Ｃを高速でスロート８に送り込むように配置される。本質的に粒子のないガス流Ｃの速度は、音速、又は、音速に近い速度が好ましい。エゼクタ２４では、本質的に粒子のないガス流Ｃは、サンプル入口２に対して吸引力を形成し、サンプル・エーロゾルの流れＡが入口チャンバ４に吸引され得るようにする。サンプル・エーロゾルの流れＡは、エゼクタ２４の側方流を形成する。サンプル・エーロゾルの流れＡの流量は、本質的に、エゼクタ２４の形状、及び、本質的に粒子のないイオン化ガス流Ｃの流量によってのみ左右される。好ましい実施例では、主流Ｃの側方流Ａに対する比率は小さく、好ましくは１：１未満であり、より好ましくは１：３未満である。上記によると、サンプル・エーロゾルの流れＡを装置１に積極的に送り込む必要はないが、それは、清浄なガスの供給源及びエゼクタ２４によって吸引されることが可能である。
【００２０】
本質的に粒子のないイオン化ガス流Ｃ、及び、サンプル・エーロゾルの流れは、入口チャンバ４及びエゼクタ２４で混合され、それにより、サンプル・エーロゾルの流れＡの粒子は、イオン化された清浄なガス流Ｃによる混合が行われる間に帯電されるようになっている。装置１は、イオン捕捉室２２をさらに備える。イオン捕捉室２２は、サンプル・エーロゾルの流れＡの粒子に付着していないイオンを除去するためのイオン・トラップ１２を備える。イオン・トラップ１２は、上記の自由イオンを除去するための収集電圧を備える。自由イオンを捕捉するために使用される電圧は、装置１の設計パラメータに左右されるが、通常、イオン・トラップ１２の電圧は、１０Ｖ〜３０ｋＶである。また、イオン・トラップ１２の電圧は、除去された核モードの粒子又は凝集モードの最小粒子に対してさえも調節され得る。
【００２１】
混合されたサンプル・エーロゾル及び本質的に清浄なガスは、サンプル・エーロゾルのイオン化粒子と共に出口１０を通して装置１から放出される。出口１０は、吐出流Ｂを装置１から外へ排出するために、イオン捕捉室２２と流体連通する。出口１０は、吐出流Ｂをエーロゾル・ダクト１１に戻すか、周囲大気又は他の場所に供給するように配置され得る。
【００２２】
エーロゾル・ダクト１１内のエーロゾルＦの粒子は、サンプル・エーロゾルの流れＡの帯電した粒子によって運ばれる電荷を測定することによって監視される。好ましい実施例では、エーロゾルＦの粒子は、帯電した粒子と共に装置１から漏出する電荷を測定することによって監視される。帯電した粒子によって運ばれる電荷の測定を多くの他の方法によって行うことができる。一実施例では、帯電した粒子によって運ばれる電荷を、サンプル出口１０から漏出する正味電流を測定することによって測定することができる。小電流を通常はｐＡレベルで測定することができるように、装置１全体を周囲のシステムから分離する。分離された装置（すなわち、本体１７の壁内のパイント）と周囲のシステムの接地点との間で電位計を組み立てることができる。この種の構成によって、電位計は、イオン化粒子と共に、分離された装置１から漏出する電荷を測定することができる。換言すると、この種の構成により漏出する電流が測定される。
【００２３】
本考案では、入口チャンバ４内での本質的に粒子のないイオン化ガス流とサンプル・エーロゾルとの混合は、サンプル・エーロゾルの流れＣを、本質的に粒子のないガス流Ｃとは反対方向に入口チャンバ４に少なくとも部分的に送り込むことによって向上する。したがって、装置１は、サンプル供給チャネル５を備える。図５では、サンプル供給チャネル５は、サンプル・エーロゾルを、本質的に粒子のないガス流Ｃとは本質的に反対方向に入口チャンバ４へと送り込むように配置される。図１に示されるように、サンプル供給チャネル５は、エゼクタ・スロート８及び清浄なガスの供給チャネル１６と本質的に平行に延在する。よって、サンプル・エーロゾルは、本質的に粒子のないイオン化ガス流Ｃに対する向流として、矢印Ｄの方向に、入口チャンバ４に送り込まれる。
【００２４】
図１に示されるように、サンプル供給チャネル５は、サンプル入口２と入口チャンバ４との間に配置される。この配置により、サンプル・エーロゾルと本質的に粒子のないイオン化ガスとが、入口チャンバ４内でそれぞれ反対方向に流れると、それらは、効率的に混合される。図１の実施例では、サンプル入口２は、ノズル・ヘッド６の下流に設けられ、サンプル供給チャネル５は、サンプル入口２から清浄なガスの供給チャネル１６とは反対方向に延在する。さらに、サンプル入口２は、エゼクタ入口開口部７の下流に設けられ、サンプル供給チャネル５は、本質的に粒子のないガス流Ｃの流れ方向に、実質的にサンプル入口２とエゼクタ入口開口部７との間に延在する。図１の実施例では、サンプル供給チャネル５は、装置の本体１７内に設けられる。サンプル供給チャネルを、入口チャンバ４内に少なくとも部分的に設けることもできる。図１のサンプル供給チャネルは、装置の本体１７の側壁とエゼクタ２４の構造体とによって形成される。しかしながら、サンプル供給チャネルを、装置１の本体１７内に、又は、入口チャンバ４内に配置される別個のコンジット又はパイプなどによって設けることもできる。
【００２５】
図２は、本質的に粒子のないガス流Ｃとは反対方向に、又は換言すると、本質的に粒子のないガス流Ｃの流れ方向に対して所定の角度で、サンプル・エーロゾルが少なくとも部分的に送り込まれる本考案の別の実施例を示す。一実施例では、サンプル・エーロゾルの流れは、本質的に粒子のないガス流Ｃの流れ方向に対して４５度未満の角度で、入口チャンバ４に送り込まれる。別の実施例では、サンプル・エーロゾルの流れは、本質的に粒子のないガス流Ｃの流れ方向に対する３０度未満の角度で、入口チャンバ４に送り込まれるのが好ましい。上記角度は十分に小さいものでなければならず、サンプル供給チャネルは、本質的に粒子のないイオン化ガス流Ｃが本質的に粒子のないイオン化ガスの流れによってサンプル供給チャネル５へもたらされる圧力が高すぎないように配置されなければならない。これは、本質的に粒子のないイオン化ガス流がサンプル供給チャネルへ入り込むことができないことを意味する。これにより、エーロゾルのチャネルから装置までの吸引が確実に維持される。図２に示されるように、サンプル供給チャネル５は、矢印Ｄの方向に、本質的に粒子のないイオン化ガス流Ｃへ向かう角度で、サンプル・エーロゾルの流れを方向付けすることで、その流れが効率的に混合され、サンプル・エーロゾルの粒子が帯電されるようにする。これにより、サンプル・エーロゾルの粒子が急速にイオン化される。
【００２６】
図２に示されるように、サンプル供給チャネルは、本質的に粒子のないガス流Ｃの方へ、サンプル・エーロゾルの対向流を少なくとも部分的にもたらす。これは、サンプル供給チャネル５を４５度未満の角度で、好ましくは、図２に示されるように、エゼクタ・スロート８、又は、本質的に粒子のないイオン化ガス流Ｃ、若しくは、清浄なガスの供給チャネル１６の流れ方向に対して３０度未満に延在するように配置することによって達成される。図２の実施例では、サンプル入口２は、ノズル・ヘッド６の下流に設けられ、サンプル供給チャネル５は、清浄なガス供給チャネル１６とは反対方向の角度でサンプル入口２から延在する。さらにサンプル入口２は、エゼクタ入口開口部７の下流に設けられ、サンプル供給チャネル５は、実質的にサンプル入口２とエゼクタ入口開口部７との間に延在する。図２の実施例では、サンプル供給チャネル５は、装置の本体１７内に設けられる。サンプル供給チャネルを、少なくとも部分的に入口チャンバ４内に設けることもできる。図１のサンプル供給チャネルは、エゼクタ２４の構造体によって形成される。しかしながら、サンプル供給チャネルを、装置１の本体１７内に又は入口チャンバ４内に配置された別個のコンジット又はパイプなどによって設けることもできる。また、サンプル供給チャネル５を設けるために、他の構造上の特徴を装置に追加することもできる。
【００２７】
技術の進歩に伴って、本考案の基本的概念をさまざまな方法で実行可能であることは、当業者には明らかである。したがって、本考案及びその実施例は上記実例に制限されるのではなく、実用新案登録請求の範囲内で変更可能である。
【図１】
0003189910.tif 000003
【図２】
0003189910.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成25年11月21日(2013.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】実用新案登録請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
エーロゾルを含むチャネル（１１）又は空間内の粒子（５４）を監視する装置（１）であって、前記装置（１）は、
入口チャンバ（４）と、
エゼクタ（２４）と、
本質的に粒子のないガス流（Ｃ）を、前記入口チャンバ（４）を介して前記エゼクタ（２４）に送り込むように配置されるガス供給源（６、１６、１８）と、
前記ガス供給源（６、１６、１８）及び前記エゼクタ（２４）によってもたらされる吸引によって前記チャネル（１１）又は前記空間から前記入口チャンバ（４）へとサンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）をもたらすように配置される少なくとも１つのサンプル入口（２）とを備え、
前記装置（１）は、前記サンプル・エーロゾルを前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）に混合するために、前記サンプル入口（２）と前記入口チャンバ（４）との間に配置されるサンプル供給チャネル（５）をさらに備え、
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）を前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）とは反対方向に少なくとも部分的に方向付けるように配置されることを特徴とする、装置。
【請求項２】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）を前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）とは反対方向に本質的に方向付けるように配置されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）を前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）に対して所定の角度で方向付けるように配置されることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）を前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）に対して４５度未満の角度で方向付けるように配置されることを特徴とする、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）を前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）に対して３０度未満の角度で方向付けるように配置されることを特徴とする、請求項３又は４に記載の装置。
【請求項６】
前記サンプル供給チャネル（５）は、前記本質的に粒子のないガス流（Ｃ）の方へ、前記サンプル・エーロゾルの流れ（Ａ）の対向流を少なくとも部分的にもたらすように配置されることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一項に記載の装置。