【手続補正書】
【提出日】平成22年3月5日(2010.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（I）
【化１】
2008222606.tif 000001
［式中、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立して水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアリールアルキル基、置換基を有してもよいアリールアルケニル基、置換基を有してもよいアリールアルキニル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基であり；Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアリールアルキル基、置換基を有してもよいアリールアルケニル基、置換基を有してもよいアリールアルキニル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、保護されていてもよい水酸基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルデヒド基、保護されていてもよいカルボキシル基又はその塩、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキロキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、アルキルカルボニロキシ基、アリールカルボニロキシ基、保護されていてもよいアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アンモニウム基、アルキルアンモニウム基、アリールアンモニウム基、保護されていてもよいチオール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、保護されていてもよいスルフィン酸基又はその塩、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、保護されていてもよいスルホン酸基又はその塩、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルアゾ基、アリールアゾ基、保護されていてもよいリン酸基又はその塩、保護されていてもよい亜リン酸基又はその塩、シアノ基、ニトロ基又はアジド基であり；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、相互に結合して環を形成してもよい。］
で示される１，３−ジカルボニル化合物と、下記式（II）
【化２】
2008222606.tif 000002
［式中、−Ｘ−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ６−を示し；Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアリールアルキル基、置換基を有してもよいアリールアルケニル基、置換基を有してもよいアリールアルキニル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基であり；Ｒ５及びＲ６は、相互に結合して環を形成してもよく、Ｒ５又はＲ６が式（I）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３又はＲ４と結合していてもよい。］
で示される化合物を反応させることを特徴とする、下記式（III）
【化３】
2008222606.tif 000003
［式中、Ｘ、Ｒ１及びＲ５は、上記式（I）及び式（II）と同じ。］
で示される、エステル、カルボン酸及びアミドからなる群から選択される１種の化合物の製造方法。
【請求項２】
式（I）で示される１，３−ジカルボニル化合物において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４が相互に結合して環を形成していて、式（III）で示される化合物が、ケトエステル、ケトカルボン酸及びケトアミドからなる群から選択される１種の化合物である請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
式（I）で示される１，３−ジカルボニル化合物におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３又はＲ４と、式（II）で示される化合物におけるＲ５又はＲ６が相互に結合していて、式（III）で示される化合物が、ケトエステル、ケトカルボン酸及びケトアミドからなる群から選択される１種の化合物である請求項１記載の製造方法。
【請求項４】
金属化合物からなるルイス酸触媒の存在下に反応させる請求項１〜３のいずれか記載の製造方法。
【請求項５】
前記触媒が、周期表の第３〜１３族に属する金属の化合物である請求項４記載の製造方法。
【請求項６】
式（I）で示される１，３−ジカルボニル化合物と式（II）で示される化合物の濃度をいずれも１モル／Ｌ以上として反応させる請求項１〜５のいずれか記載の製造方法。
【請求項７】
６０〜２００℃の反応温度で反応させる請求項１〜６のいずれか記載の製造方法。
【請求項８】
下記式（I）
【化４】
2008222606.tif 000004
［式中、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立して水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアリールアルキル基、置換基を有してもよいアリールアルケニル基、置換基を有してもよいアリールアルキニル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基であり；Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアリールアルキル基、置換基を有してもよいアリールアルケニル基、置換基を有してもよいアリールアルキニル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基、保護されていてもよい水酸基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルデヒド基、保護されていてもよいカルボキシル基又はその塩、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキロキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、アルキルカルボニロキシ基、アリールカルボニロキシ基、保護されていてもよいアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アンモニウム基、アルキルアンモニウム基、アリールアンモニウム基、保護されていてもよいチオール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、保護されていてもよいスルフィン酸基又はその塩、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、保護されていてもよいスルホン酸基又はその塩、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルアゾ基、アリールアゾ基、保護されていてもよいリン酸基又はその塩、保護されていてもよい亜リン酸基又はその塩、シアノ基、ニトロ基又はアジド基であり；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、相互に結合して環を形成してもよい。］
で示される１，３−ジカルボニル化合物と、下記式（II）
【化５】
2008222606.tif 000005
［式中、−Ｘ−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ６−を示し；Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して水素原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアルケニル基、置換基を有してもよいアルキニル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアリールアルキル基、置換基を有してもよいアリールアルケニル基、置換基を有してもよいアリールアルキニル基、置換基を有してもよいシクロアルキル基、置換基を有してもよい複素環基であり；Ｒ５及びＲ６は、相互に結合して環を形成してもよく、Ｒ５又はＲ６が式（I）におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３又はＲ４と結合していてもよい。］
で示される化合物を反応させることを特徴とする、下記式（IV）
【化６】
2008222606.tif 000006
［式中、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、上記式（I）及び式（II）と同じ。］
で示されるケトンの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記製造方法において、金属化合物からなるルイス酸触媒の存在下に反応させることが好ましい。このとき、前記触媒が周期表の第３〜１３族に属する金属の化合物であることが好適である。上記製造方法において、式（I）で示される１，３−ジカルボニル化合物と式（II）で示される化合物の濃度をいずれも１モル／Ｌ以上として反応させることが好ましい。また、６０〜２００℃の反応温度で反応させることも好ましい。