Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月26日(2010.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１検出軸および第２検出軸を有し、少なくとも第１検出軸と第２検出軸の角速度に基づく信号を出力する第１ジャイロ素子片と、
第１検出軸および第２検出軸を有し、少なくとも第１検出軸と第２検出軸の角速度に基づく信号を出力する第２ジャイロ素子片と、
第１検出軸を有する第３ジャイロ素子片と、
前記第１ジャイロ素子片の出力信号と前記第３ジャイロ素子片の出力信号とを演算する第１演算回路と、
前記第２ジャイロ素子片の出力信号と前記第３ジャイロ素子片の出力信号とを演算する第２演算回路と、を備え、
前記第１ジャイロ素子片の第１検出軸の伸びる方向と前記第２ジャイロ素子片の第１検出軸の伸びる方向及び第３ジャイロ素子片の第１検出軸の伸びる方向とが一致すると共に、前記第１ジャイロ素子片の第２検出軸の伸びる方向と前記第２ジャイロ素子片の第２検出軸の伸びる方向とが交差するよう前記第１ジャイロ素子片と前記第２ジャイロ素子片及び前記第３ジャイロ素子片とを配設した、
ことを特徴とするジャイロモジュール。
【請求項２】
前記第１ジャイロ素子片と前記第２ジャイロ素子片及び前記第３ジャイロ素子片は、基部と、該基部を中心に該基部から対称方向に延びる２つの連結腕と、該連結腕を中心に該連結腕から対称方向に延びる駆動腕と、前記連結腕と直交する方向であり且つ前記基部を中心に該基部から対称方向に延びる２つの検出腕とを備え、
前記第１ジャイロ素子片と前記第２ジャイロ素子片は前記検出腕に錘部を備えた構成であることを特徴とする請求項１に記載のジャイロモジュール。
【請求項３】
前記第１ジャイロ素子片と前記第２ジャイロ素子片及び前記第３ジャイロ素子片は、基部と、該基部を中心に該基部から対称方向に延びる２つの連結腕と、該連結腕を中心に該連結腕から対称方向に延びる駆動腕と、前記連結腕と直交する方向であり且つ前記基部を中心に該基部から対称方向に延びる２つの検出腕とを備え、
前記第１ジャイロ素子片と前記第２ジャイロ素子片は前記検出腕に該検出腕よりも幅広の構成を有する錘部を備えたものであることを特徴とする請求項１に記載のジャイロモジュール。
【請求項４】
前記第１ジャイロ素子片と前記第２ジャイロ素子片及び前記第３ジャイロ素子片のうち少なくとも一つは、双音叉振動ジャイロセンサであることを特徴とする請求項１に記載のジャイロモジュール。
【請求項５】
前記ジャイロ素子片は水晶基板から形成されたものであり、前記２つの検出軸が水晶結晶軸の光学軸と機械軸であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のジャイロモジュール。
【請求項６】
前記第１ジャイロ素子片の前記第１検出軸の検出感度極性と前記第２ジャイロ素子片の前記第１検出軸の検出感度極性及び前記第３ジャイロ素子片の前記第１検出軸の検出感度極性とが同じであり、
前記第１演算回路と前記第２演算回路とが減算回路であることを特徴とする請求項１に記載のジャイロモジュール。
【請求項７】
前記第１ジャイロ素子片の前記第１検出軸の検出感度極性と前記第２ジャイロ素子片の前記第１検出軸の検出感度極性とが同じであり、前記第１ジャイロ素子片の前記検出軸の検出感度極性と前記第３ジャイロ素子片の前記第１検出軸の検出感度極性とが反転しており、
前記第１演算回路と前記第２演算回路とが加算回路であることを特徴とする請求項１に記載のジャイロモジュール。
【請求項８】
前記第１ジャイロ素子片の前記第１検出軸の検出感度極性と前記第３ジャイロ素子片の前記第１検出軸の検出感度極性とが同じであり、
前記第２ジャイロ素子片の前記第１検出軸の検出感度極性と前記第３ジャイロ素子片の前記第１検出軸の検出感度極性とが反転しており、
前記第１演算回路は減算回路であり、
前記第２演算回路は加算回路である、
ことを特徴とする請求項１に記載のジャイロモジュール。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月22日(2010.1.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒ころの第１軌道面が主表面に形成された環状の第１レースと、
前記円筒ころの第２軌道面が主表面に形成された環状に形成され、前記第１軌道面と前記第２軌道面とがアキシャル方向に対向するように配置されると共に、前記第１レースとの間に前記円筒ころが介装され、該円筒ころを介して前記第１レースに向けて予圧が付勢された状態で、該第１レースに対して軸線周りに相対回転する第２レースとを備え、
前記第１及び第２の軌道面における各々の内周縁部及び外周縁部には、前記円筒ころの配置空間へ向けて凸状に湾曲する形態のクラウニング部が形成され、
前記第１及び第２の軌道面で、前記内周縁部から前記外周縁部にかけてのラジアル方向中間位置に、前記円筒ころが接触する平面部が形成されていて、
前記クラウニング部は、前記平面部のラジアル方向における端縁から、前記レースの外周面又は内周面に続く形態で形成されていることを特徴とするスラストころ軸受。
【請求項２】
前記第１及び第２のレースは、それらの主表面のうち前記軌道面が形成された一方の主表面にのみ前記クラウニング部が形成されていて、他方の主表面は平坦面とされていることを特徴とする請求項１に記載のスラストころ軸受。
【請求項３】
前記第１レースは、前記第１軌道面が形成されている主表面とは反対側の主表面において、その外周縁部のみを部分的に前記第２レースに向けて付勢され、
前記第２レースは、前記第２軌道面が形成されている主表面とは反対側の主表面において、その内周縁部のみを部分的に前記第１レースに向けて付勢されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のスラストころ軸受。
【請求項４】
前記円筒ころの外周面の端縁部には、その端面に向かうほど前記円筒ころの回転軸線からの距離が小さくなる形状のころ側クラウニング部が形成されていることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のスラストころ軸受。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を達成するための本発明に係るスラストころ軸受は、
円筒ころの第１軌道面が主表面に形成された環状の第１レースと、
前記円筒ころの第２軌道面が主表面に形成された環状に形成され、前記第１軌道面と前記第２軌道面とがアキシャル方向に対向するように配置されると共に、前記第１レースとの間に前記円筒ころが介装され、該円筒ころを介して前記第１レースに向けて予圧が付勢された状態で、該第１レースに対して軸線周りに相対回転する第２レースとを備え、
前記第１及び第２の軌道面における各々の内周縁部及び外周縁部には、前記円筒ころの配置空間へ向けて凸状に湾曲する形態のクラウニング部が形成され、
前記第１及び第２の軌道面で、前記内周縁部から前記外周縁部にかけてのラジアル方向中間位置に、前記円筒ころが接触する平面部が形成されていて、
前記クラウニング部は、前記平面部のラジアル方向における端縁から、前記レースの外周面又は内周面に続く形態で形成されていることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係るスラストころ軸受は、上記のように構成されている。予圧によって第１及び第２のレースが撓まされ、円筒ころの端縁部が前記レースの軌道面を押圧し、エッジロードを作用させようとする。しかし、各レースの軌道面の内周縁部及び外周縁部にその内周面又は外周面と連続させて、かつ凸状に形成されたクラウニング部により、前記エッジロードが各レースの軌道面に直接作用することが回避される。この結果、エッジロードによる各レースの損傷が防止され、スラストころ軸受の長寿命化が図られる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月15日(2010.1.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンジンのクランク軸に取り付けられて駆動力を補機部品に伝達するためのプーリユニットであって、
前記クランク軸と一体回転する内輪と、
前記内輪のラジアル方向外側に同心的に配置され、ベルトを介して前記補機部品に接続されるとともに、自身の回転に伴って前記補機部品を駆動する外輪と、
前記内輪と前記外輪との間に介挿され、前記エンジンにより駆動される内輪の回転が所定回転数以下では前記内輪と前記外輪とを非係合状態にして前記内輪の独立回転を許容するとともに、前記内輪の回転が所定回転数以上となった場合に、前記内輪と前記外輪とを係合状態にして、前記内輪と前記外輪とを一体回転させるクラッチ部材とを備え、
前記内輪の外周面には、その周方向において回転後方側に向かうほど前記内輪の回転軸線までのラジアル方向距離が連続的に大きくなる形態でガイド斜面が形成され、前記外輪の内周面と前記ガイド斜面との間に、前記回転後方側に向かうほどラジアル方向の間隔が狭くなる形で、前記クラッチ部材としての円筒ころが収容されるくさび状空間が形成され、前記内輪の回転に伴って、前記円筒ころを前記くさび状空間内にて前記回転後方側に誘導する分力が前記ガイド斜面により生じるとともに、
前記内輪の回転が所定回転数以下のとき前記円筒ころを回転先行側に付勢して、前記内輪と前記外輪とを前記非係合状態に復帰させる非係合位置復帰手段としての第一付勢ばねを有し、
前記内輪の回転が所定回転数以下の場合には、前記くさび状空間の前記ラジアル方向間隔が前記円筒ころの直径よりも大きい非係合位置に前記円筒ころが退避して、前記内輪と前記外輪とを前記非係合状態とする一方、前記内輪の回転が所定回転数以上となった場合には、前記円筒ころは前記第一付勢ばねの付勢力に抗して、前記ラジアル方向間隔が前記円筒ころの直径よりも小さい係合位置に移動し、前記内輪と前記外輪とを前記係合状態とすることを特徴とするプーリユニット。
【請求項２】
前記円筒ころに関して前記第一付勢ばねの反対側に、前記内輪の回転後方側に前記円筒ころを付勢する第二付勢ばねが設けられている請求項１記載のプーリユニット。
【請求項３】
前記内輪の外周面は、前記ガイド斜面が周方向にわたって複数個形成されたセレーション状に形成され、
前記内輪に、前記円筒ころを保持するための環状の保持器が外嵌され、
前記保持器には、前記複数個のガイド斜面に各々対応した位置に、前記円筒ころを収容するためのポケット部がラジアル方向に貫通する形で形成され、前記ポケット部の周方向両端部に、前記第一付勢ばね及び前記第二付勢ばねを各々保持するばね保持部が突出形成されている請求項２記載のプーリユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月14日(2009.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群より構成され、各レンズ群が移動してズーミングを行うズームレンズであって、広角端に比べて望遠端において前記第１レンズ群と前記第３レンズ群は物体側に位置し、広角端から望遠端へのズーミングにおける前記第１レンズ群、前記第２レンズ群、前記第３レンズ群の光軸方向の移動量をそれぞれｍ１、ｍ２、ｍ３とするとき、
０．３＜｜ｍ１／ｍ２｜＜１．５
０．３＜｜ｍ３／ｍ２｜＜０．８
なる条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
前記第３レンズ群は２枚の正レンズと１枚の負レンズより構成されることを特徴とする請求項１のズームレンズ。
【請求項３】
前記第２レンズ群の広角端における結像倍率に対する望遠端における結像倍率の比をβ２ｚ、前記ズームレンズの広角端と望遠端における焦点距離を各々ｆｗ、ｆｔとするとき、
０．５＜β２ｚ／（ｆｔ／ｆｗ）＜１．０
なる条件を満足することを特徴とする請求項１又は２のズームレンズ。
【請求項４】
前記第４レンズ群は広角端から望遠端へのズーミングに際して物体側へ凸状の軌跡を描いて移動することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項５】
前記第１レンズ群は、物体側から像側へ順に、負レンズと正レンズを有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項６】
前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３、前記ズームレンズの望遠端における焦点距離をｆｔとするとき、
０．２＜ｆ３／ｆｔ＜０．４
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項７】
前記第４レンズ群は１つの正レンズで構成されることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項８】
前記第３レンズ群は、物体側から像側へ順に、正レンズ、負レンズ、正レンズから構成されることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項９】
前記第３レンズ群は、物体側から像側へ順に、正レンズ、正レンズ、負レンズから構成されることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１０】
前記第３レンズ群を光軸に対し垂直方向の成分を持つように移動させて、像位置を光軸に対し垂直方向に移動させることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１１】
固体撮像素子に像を形成することを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか１項に記載のズームレンズと、該ズームレンズによって形成される像を受光する固体撮像素子とを有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明のズームレンズは、物体側より像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群より構成され、各レンズ群が移動してズーミングを行うズームレンズであって、広角端に比べて望遠端において前記第１レンズ群と前記第３レンズ群は物体側に位置し、広角端から望遠端へのズーミングにおける前記第１レンズ群、前記第２レンズ群、前記第３レンズ群の光軸方向の移動量をそれぞれｍ１、ｍ２、ｍ３とするとき、
０．３＜｜ｍ１／ｍ２｜＜１．５
０．３＜｜ｍ３／ｍ２｜＜０．８
なる条件を満足することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
各実施例においては、第３レンズ群Ｌ３を光軸に対して垂直方向の成分を持つように移動させることにより、光軸に対して垂直方向に像位置を移動させている。これにより光学系全体が振動したときの像ぶれを補正するようにしている。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月14日(2009.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側より像側へ順に、負の屈折力の第１レンズ群、正の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群より構成され、ズーミングに際して各レンズ群の間隔が変化するズームレンズにおいて、広角端と望遠端における全系の焦点距離をそれぞれｆＷ、ｆＴ、前記第２レンズ群の焦点距離をｆ２、広角端と望遠端における前記第２レンズ群の結像倍率をそれぞれβ２Ｗ、β２Ｔ、広角端と望遠端における前記第３レンズ群の結像倍率をそれぞれβ３Ｗ、β３Ｔとするとき、
【数１】
2008185783.tif 000001
２．９＜（β２Ｔ・β３Ｗ）／（β２Ｗ・β３Ｔ）＜３．７
なる条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
広角端から望遠端へのズーミングに際して、前記第１レンズ群は像側に凸状の軌跡を描いて移動し、前記第２レンズ群は物体側に単調に移動し、前記第３レンズ群は像側に移動することを特徴とする請求項１のズームレンズ。
【請求項３】
前記第２レンズ群の最も物体側に配置されたレンズの物体側頂点と、そのレンズの物体側のレンズ面と外周部との交点の間に、開放Ｆナンバーを決定するＦナンバー決定部材を有することを特徴とする請求項１又は２のズームレンズ。
【請求項４】
前記第１レンズ群は負レンズと正レンズからなり、該第１レンズ群の負レンズと正レンズの各レンズ面のうち少なくとも１面は非球面形状であることを特徴する請求項１、２又は３のズームレンズ。
【請求項５】
前記第１レンズ群は、物体側から像側へ順に、像側が凹面のメニスカス形状の負レンズ、物体側が凸面のメニスカス形状の正レンズより成り、該第１レンズ群の負レンズの像側のレンズ面は非球面形状であることを特徴とする請求項１、２又は３のズームレンズ。
【請求項６】
前記第２レンズ群は、物体側より像側へ順に、正レンズ、負レンズ、負レンズ、正レンズからなることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項７】
前記第２レンズ群は、物体側より像側へ順に、物体側のレンズ面が凸形状の正レンズ、像側のレンズ面が凹形状の負レンズ、物体側のレンズ面が凸形状の負レンズと両凸形状の正レンズとを接合した接合レンズからなることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項８】
前記第２レンズ群の最も物体側のレンズ面から最も像側のレンズ面までの長さをＤ２ｎｄとするとき、
０．１８  ＜Ｄ２ｎｄ／ｆＴ＜０．２５
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から７のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項９】
前記第１レンズ群と前記第２レンズ群の望遠端における間隔をＬ１Ｔとするとき、
０＜Ｌ１Ｔ／ｆＴ＜０．０２５
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から８のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１０】
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１とするとき、
１．２＜｜ｆ１｜／ｆ２＜１．４
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から９のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１１】
前記第３レンズ群の焦点距離をｆ３とするとき、
０．１５＜ｆ２／ｆ３＜０．４５
なる条件を満足することを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１２】
前記第３レンズ群は無限遠物体から近距離物体へのフォーカシングに際して物体側に移動することを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項記載のズームレンズと、該ズームレンズにより形成される像を受光する光電変換素子を有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明のズームレンズは、物体側より像側へ順に、負の屈折力の第１レンズ群、正の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群より構成され、ズーミングに際して各レンズ群の間隔が変化するズームレンズにおいて、広角端と望遠端における全系の焦点距離をそれぞれｆＷ、ｆＴ、前記第２レンズ群の焦点距離をｆ２、広角端と望遠端における前記第２レンズ群の結像倍率をそれぞれβ２Ｗ、β２Ｔ、広角端と望遠端における前記第３レンズ群の結像倍率をそれぞれβ３Ｗ、β３Ｔとするとき、
【数２】
2008185783.tif 000002
２．９＜（β２Ｔ・β３Ｗ）／（β２Ｗ・β３Ｔ）＜３．７
なる条件を満足することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
第２レンズ群Ｌ２の最も物体側の面から最も像側の面までの長さをＤ２ｎｄとする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
２．９ ＜ （β２Ｔ・β３Ｗ）／（β２Ｗ・β３Ｔ） ＜ ３．７  ・・・（２）
０．１８ ＜ Ｄ２ｎｄ／ｆＴ ＜ ０．２５                      ・・・（３）
０ ＜ Ｌ１Ｔ／ｆＴ ＜ ０．０２５                            ・・・（４）
１．２ ＜ ｜ｆ１｜／ｆ２ ＜ １．４                          ・・・（５）
０．１５ ＜ ｆ２／ｆ３ ＜ ０．４５                          ・・・（６）
なる条件の１以上を満足している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
条件式（３）の下限を超えて長さＤ２ｎｄが小さくなると、レンズ系全体のコンパクト化には有利となるが、各レンズのコバ厚が小さくなり、製作が困難となる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
また、条件式（３）の上限を超えて長さＤ２ｎｄが大きくなるとレンズ系全体のコンパクト化が難しくなってくる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１７】
３．０５＜（β２Ｔ・β３Ｗ）／（β２Ｗ・β３Ｔ）＜３．５０  ・・・（２ａ）
０．１９ ＜ Ｄ２ｎｄ／ｆＴ ＜ ０．２４                      ・・・（３ａ）
０ ＜ Ｌ１Ｔ／ｆＴ ＜ ０．０２０                            ・・・（４ａ）
１．２４ ＜ ｜ｆ１｜／ｆ２ ＜ １．３７                      ・・・（５ａ）
０．１７ ＜ ｆ２／ｆ３ ＜ ０．４２                          ・・・（６ａ）
尚、これら条件式（１ａ）〜（６ａ）までの上限値及び下限値の数値は、前述の条件式（１）〜（６）の数値範囲と任意に組み合わせて用いても構わない。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
【表１】
2008185783.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月8日(2010.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成装置の画像形成に使用される現像剤を前記画像形成装置の現像装置へ供給する現像剤補給装置において、
前記現像装置への補給用の現像剤を収容する第一現像剤容器と、
前記第一現像剤容器内に設けられ、前記第一現像剤容器の内部の現像剤を搬送して前記第一現像剤容器から現像剤を排出する第一搬送手段と、
前記第一現像剤容器から排出された現像剤を受け取る第二現像剤容器と、
前記第二現像剤容器内に設けられ、前記第二現像剤容器の内部の現像剤を攪拌する攪拌手段と、
前記第二現像剤容器内に設けられ、前記第二現像剤容器から前記現像装置に向けて現像剤を搬送する第二搬送手段と、
を有し、
前記第二搬送手段を駆動して、前記第二現像剤容器から前記現像装置に向けて現像剤を搬送する際には、
前記第一搬送手段は駆動せず、前記攪拌手段を正回転して前記第二現像剤容器内の現像剤を前記第二搬送手段に向けて搬送し、
前記攪拌手段のうち前記第二搬送手段と対向する側が、鉛直方向下方から上方に向かうように正回転駆動し、
前記第一搬送手段を駆動して、前記第一現像剤容器から前記第二現像剤容器に向けて現像剤を搬送する際には、
前記第二搬送手段は駆動せず、前記攪拌手段を逆回転して前記第二現像剤容器内の現像剤を前記第二搬送手段から遠ざかる方向に前記攪拌手段のうち前記第二搬送手段と対向する側が、鉛直方向上方から下方に向かうように逆回転駆動することを特徴とする現像剤補給装置。
【請求項２】
前記第一搬送手段を駆動するための駆動力を発生する第一駆動手段と、
前記攪拌手段及び前記第二搬送手段を駆動するための駆動力を発生する、正逆回転可能な第二駆動手段と、
前記第二駆動手段から前記第二搬送手段への駆動伝達経路中に設けられ、前記第二搬送手段への駆動伝達をON/OFFする駆動切換手段と、
を有し、
前記第二現像剤容器から前記現像装置に向けて現像剤を搬送する際には、
前記第一駆動手段は駆動力を発生せず、前記第二駆動手段は正回転して駆動力を発生して前記攪拌手段を正回転させ、前記駆動切換手段は前記第二搬送手段に駆動力を伝達し、前記第一現像剤容器から前記第二現像剤容器に向けて現像剤を搬送する際には、
前記第一駆動手段は駆動力を発生し、前記第二駆動手段は逆回転して駆動力を発生して前記攪拌手段を逆回転させ、前記駆動切換手段は前記第二搬送手段への駆動力の伝達を遮断する、
ことを特徴とする請求項１に記載の現像剤補給装置。
【請求項３】
前記第一搬送手段及び前記攪拌手段及び前記第二搬送手段を駆動するための駆動力を発生する、正逆回転可能な駆動手段と、
前記駆動手段から前記第一搬送手段への駆動伝達経路中に設けられ、前記第一搬送手段への駆動伝達をON/OFFする第一駆動切換手段と、
前記駆動手段から前記第二搬送手段への駆動伝達経路中に設けられ、前記第二搬送手段への駆動伝達をON/OFFする第二駆動切換手段と、
を有し、
前記第二現像剤容器から前記現像装置に向けて現像剤を搬送する際には、
前記第一駆動切換手段は前記第一搬送手段への駆動力の伝達を遮断し、前記駆動手段は正回転して駆動力を発生して前記攪拌手段を正回転させ、前記第二駆動切換手段は前記第二搬送手段に駆動力を伝達し、
前記第一現像剤容器から前記第二現像剤容器に向けて現像剤を搬送する際には、
前記第一駆動切換手段は前記第一搬送手段に駆動力を伝達し、前記駆動手段は逆回転して駆動力を発生して前記攪拌手段を逆回転させ、前記第二駆動切換手段は前記第二搬送手段への駆動力の伝達を遮断する、
ことを特徴とする請求項１に記載の現像剤補給装置。
【請求項４】
前記攪拌手段は複数のリング状攪拌部と複数の棒状攪拌部を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の現像剤補給装置。
【請求項５】
前記第一現像剤容器から前記第一搬送手段によって搬送された現像剤は、前記第二搬送手段の略上方に補給されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の現像剤補給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記課題を解決するために本発明に係る現像剤補給装置の構成は、画像形成装置の画像形成に使用される現像剤を前記画像形成装置の現像装置へ供給する現像剤補給装置において、前記現像装置への補給用の現像剤を収容する第一現像剤容器と、前記第一現像剤容器内に設けられ、前記第一現像剤容器の内部の現像剤を搬送して前記第一現像剤容器から現像剤を排出する第一搬送手段と、前記第一現像剤容器から排出された現像剤を受け取る第二現像剤容器と、前記第二現像剤容器内に設けられ、前記第二現像剤容器の内部の現像剤を攪拌する攪拌手段と、前記第二現像剤容器内に設けられ、前記第二現像剤容器から前記現像装置に向けて現像剤を搬送する第二搬送手段と、を有し、前記第二搬送手段を駆動して、前記第二現像剤容器から前記現像装置に向けて現像剤を搬送する際には、前記第一搬送手段は駆動せず、前記攪拌手段を正回転して前記第二現像剤容器内の現像剤を前記第二搬送手段に向けて搬送し、前記攪拌手段のうち前記第二搬送手段と対向する側が、鉛直方向下方から上方に向かうように正回転駆動し、前記第一搬送手段を駆動して、前記第一現像剤容器から前記第二現像剤容器に向けて現像剤を搬送する際には、前記第二搬送手段は駆動せず、前記攪拌手段を逆回転して前記第二現像剤容器内の現像剤を前記第二搬送手段から遠ざかる方向に前記攪拌手段のうち前記第二搬送手段と対向する側が、鉛直方向上方から下方に向かうように逆回転駆動することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
（第一現像剤容器）
図５に示すように、トナーカートリッジ１２０は、現像装置１５１への補給用のトナーを収容し、容器本体１２１が回転することによりトナーを容器本体１２１内部で攪拌・搬送し、ホッパ１３０へと排出する。ホッパ１３０は、トナーカートリッジ１２０から排出されたトナーを受け取る。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月4日(2009.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
層厚規制部材によって層厚が規制された現像剤を担持して搬送し、像担持体の上の静電像を現像する第一の基材と、前記第一の基材より受け取った現像剤を担持して搬送し、前記像担持体の上の静電像を現像する第二の基材と、を有する現像装置において、
前記第一の基材は、純アルミニウム又はアルミニウム合金からなり、
前記第二の基材は、ステンレス鋼からなることを特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記第一の基材は、０＜ｍｘ＜１、の関係を満たし、
但し、ｍ２＝（ｈＰ）／（ｋＡ）、
ｈ：対流熱伝達率（自然対流）（Ｗ／ｍ２Ｋ）、
ｋ：基材を構成する材料の熱伝導率（Ｗ／ｍ２Ｋ）、
Ｐ：基材の長手方向肉厚断面の周囲長（ｍ）、
Ａ：基材の長手方向肉厚断面積（ｍ２）、
ｘ：基材の外周の周長／２（ｍ）、
前記第二の基材は、ビッカース硬さが３００Ｈｖ以上であることを特徴とする請求項１に記載の現像装置。
【請求項３】
前記第二の基材の外径が前記第一の基材の外径より小さいことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の現像装置。
【請求項４】
前記第二の基材と前記像担持体との距離は、前記第一の基材と前記像担持体との距離より長いことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の現像装置。
【請求項５】
内部に熱源を備えている前記像担持体を有する画像形成装置に用いられることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の現像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記課題を解決するために本発明に係る現像装置の代表的な構成は、層厚規制部材によって層厚が規制された現像剤を担持して搬送し、像担持体の上の静電像を現像する第一の基材と、前記第一の基材より受け取った現像剤を担持して搬送し、前記像担持体の上の静電像を現像する第二の基材と、を有する現像装置において、
前記第一の基材は、純アルミニウム又はアルミニウム合金からなり、
前記第二の基材は、ステンレス鋼からなることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月7日(2009.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板に作り込まれ、半導体基板の表面に平行な磁界を検出する縦型ホール素子と、前記縦型ホール素子を作り込んだ前記半導体基板上に形成され、半導体基板の表面に平行な磁界の強さにより抵抗値が変化する磁気抵抗素子と、を備え、前記縦型ホール素子の出力信号と前記磁気抵抗素子により得られる信号を用いて被検出体の回転を検出するようにしたことを特徴とする回転センサ。
【請求項２】
前記磁気抵抗素子はＮｉＦｅの薄膜よりなることを特徴とする請求項１に記載の回転センサ。
【請求項３】
前記磁気抵抗素子はＮｉＣｏの薄膜よりなることを特徴とする請求項１に記載の回転センサ。
【請求項４】
前記磁気抵抗素子は、被検出体の回転に伴う抵抗値変化に位相差をもつ第１および第２の磁気抵抗素子からなり、前記縦型ホール素子の出力信号と前記磁気抵抗素子により得られる信号を用いて前記被検出体の回転を検出する手段として、前記第１の磁気抵抗素子により得られる信号と前記第２の磁気抵抗素子により得られる信号をａｒｃｔａｎの演算をするａｒｃｔａｎ演算手段と、前記縦型ホール素子の出力信号をパルス化するパルス化手段と、前記ａｒｃｔａｎ演算手段によるａｒｃｔａｎの演算をして得た信号と、前記パルス化手段による前記縦型ホール素子の出力信号をパルス化した信号を合成して０〜３６０°の角度においてリニアな出力を得る合成手段と、を備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の回転センサ。
【請求項５】
前記半導体基板において前記磁気抵抗素子の下に前記縦型ホール素子を重ねて配置してなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の回転センサ。
【請求項６】
前記縦型ホール素子は、第１導電型の半導体基板に形成した第２導電型のウェル領域内において当該第２導電型のウェル領域よりも浅い第１導電型のウェル領域が前記第２導電型のウェル領域を分割するように形成され、前記第２導電型のウェル領域の表層部において前記第１導電型のウェル領域を挟んで電流供給対を構成するコンタクト用の第２導電型の不純物拡散領域が形成されるとともに電圧出力対を構成するコンタクト用の第２導電型の不純物拡散領域が形成されてなることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の回転センサ。
【請求項７】
前記縦型ホール素子及び前記磁気抵抗素子は前記半導体基板の表面に平行な磁界を検出することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の回転センサ。
【請求項８】
前記半導体基板には、前記磁気抵抗素子が２つ形成され、前記縦型ホール素子が１つ形成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の回転センサ。
【請求項９】
前記磁気抵抗素子は第１の磁気抵抗素子と第２の磁気抵抗素子から構成されており、前記第１の磁気抵抗素子に対し前記第２の磁気抵抗素子はその延設方向が４５°傾かせて配置されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の回転センサ。
【請求項１０】
前記縦型ホール素子は、感磁面が前記磁気抵抗素子の長手方向に合わせて配置されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の回転センサ。
【請求項１１】
前記半導体基板には周辺回路が形成されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の回転センサ。
【請求項１２】
被検出体としてのマグネットロータは有底円筒状をなすロータボディを有しており、前記ロータボディの内面にはＳ極永久磁石とＮ極永久磁石とが対向して配置されているとともに、前記ロータボディの内部における前記Ｓ極永久磁石と前記Ｎ極永久磁石とが対向する部位には前記回線センサが配置されていることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の回転センサを備えた回転センサ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】回転センサ及び回転センサ装置
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月24日(2009.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データ相関・統合部と、センサ情報設定・管理部と、運用レベル設定・管理部と、制御ルール設定・管理部と、センサ制御方法決定部と、制御コマンド発行部とを有し、
上記データ相関・統合部は、複数のセンサから目標物の観測データを入力し、入力した複数の観測データを相関・統合して目標情報を生成し、
上記センサ情報設定・管理部は、上記複数のセンサの能力及び実施可能な制御を表わす情報を記憶し、
上記運用レベル設定・管理部は、運用要求を基準に必要な観測精度を求めるための判断条件を表わす情報を記憶し、
上記制御ルール設定・管理部は、上記複数のセンサの制御方法を決定するためのルールを表わす情報を記憶し、
上記センサ制御方法決定部は、上記データ相関・統合部が生成した目標情報と、上記センサ情報設定・管理部が記憶した上記複数のセンサの能力及び実施可能な制御を表わす情報と、上記運用レベル設定・管理部が記憶した上記判断条件を表わす情報と、上記制御ルール設定・管理部が記憶した上記複数のセンサの制御方法を決定するためのルールとに基づいて、上記複数のセンサの制御方法を決定し、
上記制御コマンド発行部は、上記センサ制御方法決定部が決定した制御方法に基づいて、上記複数のセンサに対して、センサ制御コマンドを出力することを特徴とするマルチセンサ制御システム。
【請求項２】
上記マルチセンサ制御システムは、更に、電波放射量記録部を有し、
上記電波放射量記録部は、放射した電波の量を記録し、
上記センサ制御方法決定部は、上記電波放射量記録部が記録した電波の量に基づいて、上記複数のセンサの制御方法を決定することを特徴とする請求項１に記載のマルチセンサ制御システム。
【請求項３】
上記マルチセンサ制御システムは、更に、センサ制御記録部を有し、
上記センサ制御記録部は、上記センサ制御方法決定部が決定した上記複数のセンサの制御方法を記録し、
上記センサ制御方法決定部は、上記センサ制御記録部が記録した過去の制御方法に基づいて、上記複数のセンサの制御方法を決定することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のマルチセンサ制御システム。
【請求項４】
上記制御ルール設定・管理部は、上記複数のセンサの時系列の制御方法を決定するためのルールを表わす情報を記憶し、
上記センサ制御方法決定部は、上記制御ルール設定・管理部が記憶した上記複数のセンサの時系列の制御方法を決定するためのルールに基づいて、上記複数のセンサの制御方法を決定することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のマルチセンサ制御システム。
【請求項５】
上記マルチセンサ制御システムは、更に、移動体位置姿勢管理部を有し、
上記移動体位置姿勢管理部は、上記複数のセンサが設置された移動体の位置及び速度及び姿勢を表わす情報を取得し、
上記センサ制御方法決定部は、上記移動体位置姿勢管理部が取得した上記移動体の位置及び速度及び姿勢を表わす情報に基づいて、上記複数のセンサの制御方法を決定することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のマルチセンサ制御システム。
【請求項６】
上記マルチセンサ制御システムは、更に、観測状況判定部を有し、
上記観測状況判定部は、上記複数のセンサによる観測状況を判定し、
上記センサ制御方法決定部は、上記観測状況判定部が判定した判定結果に基づいて、観測が有利になるように、上記複数のセンサの制御方法を決定することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載のマルチセンサ制御システム。
【請求項７】
上記センサ制御方法決定部は、上記複数のセンサがそれぞれ有する観測の閾値を制御する制御方法を決定し、決定した制御方法により制御される複数のセンサの観測の閾値に基づいて、上記データ相関・統合部が相関・統合するためのパラメータを決定し、
上記データ相関・統合部は、上記センサ制御方法決定部が決定したパラメータに基づいて、上記複数のセンサから入力した複数の観測データを相関・統合することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載のマルチセンサ制御システム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月28日(2009.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力された画像データに対して対象領域の検出を行う検出手段、及び、該画像データに対して選択的に第１または第２の画像処理を行う画像処理手段を備えた画像処理装置であって、
前記第１及び第２の画像処理から選択された画像処理を判別する手段を備え、
前記画像処理手段は、前記第１の画像処理を行うと判別された場合、該第１の画像処理を前記画像データに予め付加されている対象領域に対して行い、及び、前記第２の画像処理を行うと判別された場合、該第２の画像処理を前記検出手段により検出した対象領域に対して行うことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記第１の画像処理は前記予め付加されている対象領域における位置情報のみを使用する画像処理であり、前記第２の画像処理は前記検出した対象領域における色または輝度の分布を解析し補正量を解析する画像処理であることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記予め付加されている対象領域及び前記検出した対象領域は顔領域であることを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第１の画像処理は、赤目検出、赤目補正、器官検出、器官補正、特徴検出、特徴補正、笑顔検出、人物認識、自動トリミングのいずれかであること特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第２の画像処理は、露出補正、逆光補正、美肌補正、覆い焼き補正のいずれかであること特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記検出手段は、前記予め付加されている対象領域を利用して検出を行うことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
画像データに対して選択的に第１または第２の画像処理を行う画像処理方法において、
前記第１及び第２の画像処理から選択された画像処理を判別する判別ステップ、
入力された画像データに対して対象領域の検出を行う検出ステップ、並びに、
該画像データの対象領域に対して選択的に前記第１または第２の画像処理を行う画像処理ステップであって、前記判別ステップにおいて前記第１の画像処理を行うと判別された場合、該第１の画像処理を前記画像データに予め付加されている対象領域に対して行い、及び、前記判別ステップにおいて前記第２の画像処理を行うと判別された場合、該第２の画像処理を前記検出ステップにおいて検出した対象領域に対して行う画像処理ステップ
を含むことを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
前記第１の画像処理は前記予め付加されている対象領域における位置情報のみを使用する画像処理であり、前記第２の画像処理は前記検出した対象領域における色または輝度の分布を解析し補正量を解析する画像処理であることを特徴とする請求項７に記載の画像処理方法。
【請求項９】
前記予め付加されている対象領域及び前記検出した対象領域は顔領域であることを特徴とする請求項８に記載の画像処理方法。
【請求項１０】
前記第１の画像処理は、赤目検出、赤目補正、器官検出、器官補正、特徴検出、特徴補正、笑顔検出、人物認識、自動トリミングのいずれかであること特徴とする請求項９に記載の画像処理方法。
【請求項１１】
前記第１の画像処理は、露出補正、逆光補正、美肌補正、覆い焼き補正のいずれかであること特徴とする請求項９に記載の画像処理方法。
【請求項１２】
前記検出ステップでは、前記予め付加されている対象領域を利用して検出を行うことを特徴とする請求項７乃至１１のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項１３】
コンピュータに、画像データに対して選択的に第１または第２の画像処理を行う画像処理方法を実行させるためのプログラムであって、該画像処理方法が、
前記第１及び第２の画像処理から選択された画像処理を判別する判別ステップ、
入力された画像データに対して対象領域の検出を行う検出ステップ、並びに、
該画像データの対象領域に対して選択的に前記第１または第２の画像処理を行う画像処理ステップであって、前記判別ステップにおいて前記第１の画像処理を行うと判別された場合、該第１の画像処理を前記画像データに予め付加されている対象領域に対して行い、及び、前記判別ステップにおいて前記第２の画像処理を行うと判別された場合、該第２の画像処理を前記検出ステップにおいて検出した対象領域に対して行う画像処理ステップ
を含むことを特徴とするプログラム。
【請求項１４】
コンピュータに、画像データに対して選択的に第１または第２の画像処理を行う画像処理方法を実行させるためのプログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体であって、該画像処理方法が、
前記第１及び第２の画像処理から選択された画像処理を判別する判別ステップ、
入力された画像データに対して対象領域の検出を行う検出ステップ、並びに、
該画像データの対象領域に対して選択的に前記第１または第２の画像処理を行う画像処理ステップであって、前記判別ステップにおいて前記第１の画像処理を行うと判別された場合、該第１の画像処理を前記画像データに予め付加されている対象領域に対して行い、及び、前記判別ステップにおいて前記第２の画像処理を行うと判別された場合、該第２の画像処理を前記検出ステップにおいて検出した対象領域に対して行う画像処理ステップ
を含むことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の第１の態様は、入力された画像データに対して対象領域の検出を行う検出手段、及び、該画像データに対して選択的に第１または第２の画像処理を行う画像処理手段を備えた画像処理装置であって、前記第１及び第２の画像処理から選択された画像処理を判別する手段を備え、前記画像処理手段は、前記第１の画像処理を行うと判別された場合、該第１の画像処理を前記画像データに予め付加されている対象領域に対して行い、及び、前記第２の画像処理を行うと判別された場合、該第２の画像処理を前記検出手段により検出した対象領域に対して行うことを特徴とすることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の第２の態様は、画像データに対して選択的に第１または第２の画像処理を行う画像処理方法において、前記第１及び第２の画像処理から選択された画像処理を判別する判別ステップ、入力された画像データに対して対象領域の検出を行う検出ステップ、並びに、該画像データの対象領域に対して選択的に前記第１または第２の画像処理を行う画像処理ステップであって、前記判別ステップにおいて前記第１の画像処理を行うと判別された場合、該第１の画像処理を前記画像データに予め付加されている対象領域に対して行い、及び、前記判別ステップにおいて前記第２の画像処理を行うと判別された場合、該第２の画像処理を前記検出ステップにおいて検出した対象領域に対して行う画像処理ステップを含むことを特徴とすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月14日(2010.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
なお、レジスト開口部の下にある貫通電極用凹部内にめっき膜を埋込む際には、レジスト開口部内にめっき膜を埋込む時以上にレジストパターン内に存在するめっき液の濃度分布の影響を受けるので、上記場合（１）におけるめっき液の添加剤ならびに電流条件の最適化に加え、めっき液の流動条件の最適化が重要となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
前述のように、レジストパターンで囲まれたレジスト開口部内をめっきする場合には、レジストパターン内部でのめっき液の流速分布により、めっき膜のパターン形状の偏りが生じ平坦な表面が得られない可能性が有る。そこで、例えば、縦型めっき装置において、めっき液を上向流で供給するとともに、攪拌用パドルを基板に対して略平行に高速に往復動させてめっき液をめっき中に移動させることで、レジスト開口部内へのめっき液供給を促進し、前記パターン形状の偏りを抑制することが出来る。なお、この往復動としては、単純に行き来する場合のほかに、往復動の中心を一方に少しずつ移動しつつ往復動する方法を採用しても良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
このため、この例では、めっき槽１８６内にめっき液を上向流で供給するとともに、攪拌用パドル２３２を基板Ｗに対して略平行に高速に往復動させてめっき液をめっき中に移動させることで、レジスト開口部３２内へのめっき液供給を促進し、パターン形状の偏りを抑制することができる。なお、この攪拌パドル２３２の往復動としては、単純に行き来する場合のほかに、往復動の中心を一方に少しずつ移動しつつ往復動する方法を採用しても良い。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
この例では、攪拌用パドル２３２を基板Ｗに対して略平行に高速に往復動させてめっき液をめっき中に移動させるようにしているが、例えば噴流形式めっき装置において、めっき液を上向流で供給するとともに、基板表面に対して回転する攪拌パドルによりめっき液をめっき中に流動させることで、レジスト開口部内へのめっき液供給を促進し、前記パターン形状の偏りを抑制するようにしてもよい。この場合には、回転中心でのめっき液の流動が相対的に低いので、回転中心を基板中心から離し、且つ基板表面に対して回転中心を少しずつ移動させることを併用することにより、基板全面での均一な液の流動状態を達成することが出来る。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５】
2010010557.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月3日(2010.3.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
請求項１記載の真空スイッチギヤにおいて、
前記両係合部のうち少なくともいずれか一方は凹部若しくは凸部で形成されていることを特徴とする真空スイッチギヤ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月29日(2010.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
疑似インクとして、アニソール、テトラリンを１対１に混合し、そこにポリビニルカルゾール（関東化学社製、分子量９０，０００）を０．２〜１．５重量％溶解させたものを用いた。この疑似インクは、０．０１〜０．１ＭＰａの乾燥空気によって輸送され、４０秒に０．５〜５ミリリットルだけアニロックスロール上に供給されるように調整された。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月15日(2010.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
島状の半導体層を形成し、
前記半導体層に不純物元素を添加して、前記半導体層に表面側から順に第１濃度領域及び前記第１濃度領域よりも不純物濃度が低い第２濃度領域を形成し、
前記半導体層上に第１の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層を選択的にエッチングして前記半導体層を局所的に露出させ、
前記第１の絶縁層をマスクとして前記半導体層を露出させた領域の第１濃度領域を選択的にエッチングすることにより、局所的に露出させた前記第２濃度領域を含むチャネル形成領域と、残存する前記第１濃度領域及び前記第２濃度領域を含む不純物領域を形成し、
前記チャネル形成領域及び前記第１の絶縁層上に第２の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層及び前記第２の絶縁層を介して、前記チャネル形成領域及び前記不純物領域の一部と重なる導電層を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
島状の半導体層を形成し、
前記半導体層に不純物元素を添加して、前記半導体層に表面側から順に第１濃度領域及び前記第１濃度領域よりも不純物濃度が低い第２濃度領域を形成し、
前記半導体層上に第１の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層を選択的にエッチングして前記半導体層を局所的に露出させ、
前記第１の絶縁層をマスクとして前記半導体層を露出させた領域の第１濃度領域を選択的にエッチングすることにより、局所的に露出させた前記第２濃度領域を含むチャネル形成領域と、残存する前記第１濃度領域及び前記第２濃度領域を含む不純物領域を形成し、
前記チャネル形成領域及び前記第１の絶縁層上に第２の絶縁層を形成し、
前記第１の絶縁層及び前記第２の絶縁層を介して、前記チャネル形成領域及び前記不純物領域の一部と重なる導電層を形成し、
前記導電層をマスクとして前記第１の絶縁層及び前記第２の絶縁層をエッチングすることにより、前記不純物領域の一部を露出させ、
少なくとも前記露出させた不純物領域上に金属層を形成し、
熱処理を行うことにより、前記不純物領域と前記金属層が接する領域の一部をシリサイド化して、前記不純物領域の一部にシリサイド領域を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項２において、
前記金属層を、ニッケル、チタン、コバルト、又は白金から選ばれる金属元素、又は当該金属元素を含む合金材料を用いて形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第２の絶縁層の膜厚を１ｎｍ乃至２０ｎｍの範囲で形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記半導体層に形成する前記第１濃度領域を、１×１０１６乃至１×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３の濃度で不純物元素を含むように形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月1日(2010.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１窒化物半導体層、活性層、第２窒化物半導体層を含む窒化物半導体層と、該窒化物半導体層に形成された共振器面に接触する第１保護膜と、該第１保護膜上に形成された第２保護膜と、を有する窒化物半導体レーザ素子であって、
第２保護膜は、共振器面側の面及びその面と対向する面に突出した厚膜部を有してなる窒化物半導体レーザ素子。
【請求項２】
第２保護膜の厚膜部は、共振器面の光導波路領域近傍に形成されてなる請求項１に記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項３】
窒化物半導体層の表面にリッジが形成されており、第２保護膜が、該リッジの下方及びその近傍領域において、前記厚膜部を有してなる請求項２に記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項４】
第２保護膜の厚膜部は、共振器面において、前記窒化物半導体層の積層方向である縦方向に対して横長の楕円形状である請求項１〜３のいずれか１つに記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項５】
第２保護膜の厚膜部は、同一面における厚膜部以外の領域に対して膜厚が５％以上厚い請求項１〜４のいずれか１つに記載の窒化物半導体レーザ。
【請求項６】
第２保護膜の厚膜部は、１０００Å〜３０００Åの膜厚を有する請求項１〜５のいずれか１つに記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項７】
第２保護膜は、酸化物膜である請求項１〜６のいずれか１つに記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項８】
共振器面側の面に形成された厚膜部の面積は、対向する面に形成された厚膜部の面積よりも小さい請求項１〜７のいずれか１つに記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項９】
第１保護膜は、少なくとも共振器面の活性層に接触する領域が、第１保護膜の最大膜厚よりも膜厚が薄い請求項１〜８のいずれか１つに記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項１０】
第１保護膜は、六方晶系の結晶構造を有する材料で形成されてなる請求項１〜９のいずれか１つに記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項１１】
第１保護膜は、共振器面と接触する側において、共振器面と同軸配向の結晶構造を有する請求項１〜１０のいずれか1つに記載の窒化物半導体レーザ素子。
【請求項１２】
共振器面が、Ｍ面（１−１００）、Ａ面（１１−２０）、Ｃ面（０００１）又はＲ面（１−１０２）からなる群から選ばれる面である請求項１〜１１のいずれか１つに記載の窒化物半導体レーザ素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
第２保護膜の厚膜部は、１０００Å〜３０００Åの膜厚を有することが好ましい。
第２保護膜は、酸化物膜であることが好ましい。
共振器面側の面に形成された厚膜部の面積は、対向する面に形成された厚膜部の面積よりも小さいことが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
このように、厚膜部２６ａの共振器面側における形状は、第１保護膜の薄膜の領域と略同一であり、その反対側の面では、薄膜の領域を完全に覆う程度であることが好ましい。言い換えると、共振器面側の面に形成された厚膜部の面積は、対向する面に形成された厚膜部の面積よりも小さいことが好ましい。