【手続補正書】
【提出日】平成22年2月15日(2010.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理基板に対してレジスト塗布および露光後の現像を含む一連の処理を行う処理装置であって、
被処理基板が第１の方向に略水平に搬送されつつ洗浄液による洗浄処理および乾燥処理が行われる洗浄処理ユニットと、
被処理基板が前記第１の方向に略水平に搬送されつつレジスト液の塗布を含むレジスト処理が行われるレジスト処理ユニットと、
現像液塗布、現像後の現像液除去、および乾燥処理を行う現像処理ユニットと、を有し、
前記洗浄処理ユニットおよび前記レジスト処理ユニットと、前記現像処理ユニットとは、露光装置を挟んで両側に設けられ、
前記レジスト処理ユニットが、前記洗浄処理ユニットと空間を隔てて相対向するように設けられ、
前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの一方の端部に隣接して設けられ、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットへの被処理基板の搬入を行う第１の搬送装置と、
前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの他方の端部に隣接して設けられ、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットからの被処理基板の搬出を行う第２の搬送装置と、
被処理基板を載置した状態で前記空間中を移動自在な載置移動手段と、を備え、
前記載置移動手段が、前記第２の搬送装置から前記洗浄および乾燥処理された被処理基板を受け取り、前記空間中を前記第１の方向とは逆の第２の方向に移動し、
前記第１の搬送装置が、前記空間中を移動してきた前記載置移動手段から前記洗浄および乾燥処理された被処理基板を受け取り、前記レジスト処理ユニットに搬入するように構成されていることを特徴とする処理装置。
【請求項２】
被処理基板が第１の方向に略水平に搬送されつつ洗浄液による洗浄処理および乾燥処理が行われる洗浄処理ユニットと、
前記洗浄処理ユニットと空間を隔てて相対向するように設けられ、被処理基板が前記第１の方向に略水平に搬送されつつレジスト液の塗布を含むレジスト処理が行われるレジスト処理ユニットと、
前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの一方の端部に隣接して設けられ、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットへの被処理基板の搬入を行う第１の搬送装置と、
前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの他方の端部に隣接して設けられ、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットからの被処理基板の搬出を行う第２の搬送装置と、
被処理基板を載置した状態で前記空間中を移動自在な載置移動手段と、を備え、
前記載置移動手段が、前記第２の搬送装置から前記洗浄および乾燥処理された被処理基板を受け取り、前記空間中を前記第１の方向とは逆の第２の方向に移動し、
前記第１の搬送装置が、前記空間中を移動してきた前記載置移動手段から前記洗浄および乾燥処理された被処理基板を受け取り、前記レジスト処理ユニットに搬入するように構成されていることを特徴とする処理装置。
【請求項３】
被処理基板が第１の方向に略水平に搬送されつつ洗浄液による洗浄処理および乾燥処理が行われる洗浄処理ユニットと、
前記洗浄処理ユニットと空間を隔てて相対向するように設けられ、被処理基板が前記第１の方向に略水平に搬送されつつレジスト液の塗布を含むレジスト処理が行われるレジスト処理ユニットと、
前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの一方の端部に設けられ、前記一方の端部に設けられた第１のパスユニット、及び前記レジスト処理ユニットの搬入口側に設けられた第２のパスユニットを含む第１の熱的処理ユニットセクションと、
前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの他方の端部に設けられ、前記洗浄処理ユニットの搬出口側に設けられた第３のパスユニット、前記レジスト処理ユニットの搬出口側に設けられた第４のパスユニット、前記他方の端部に設けられたパス・クーリングユニットを含む第２の熱的処理ユニットセクションと、
前記第１の熱的処理ユニットセクションに隣接して設けられた第１の搬送装置と、
前記第２の熱的処理ユニットセクションに隣接して設けられた第２の搬送装置と、
被処理基板を載置した状態で前記空間中を移動自在な載置移動手段と、を備え、
前記第１の搬送装置が、被処理基板を前記第１のパスユニットから前記洗浄処理ユニットへ搬送し、
前記第２の搬送装置が、洗浄および乾燥処理された被処理基板を前記第３のパスユニットから前記載置移動手段へ搬送し、
前記載置移動手段が、前記空間中を前記第１の方向とは逆の第２の方向に、洗浄および乾燥処理された被処理基板を前記第１の搬送装置に隣接する位置まで被処理基板を移動させ、
前記第１の搬送装置が、洗浄および乾燥処理された被処理基板を、前記空間中を移動してきた前記載置移動手段から前記第２のパスユニットへ搬送し、
前記第２の搬送装置が、レジスト処理された被処理基板を前記第４のパスユニットから前記パス・クーリングユニットへ搬送するように構成されていることを特徴とする処理装置。
【請求項４】
前記第１の熱的処理ユニットセクションは、前記第１のパスユニット上に垂直方向に積層された、被処理基板を冷却する第１のクーリングユニットおよび被処理基板に対して疎水化処理を施す第２のアドヒージョン処理ユニット、並びに第２のパスユニット上に垂直方向に積層された、被処理基板を冷却する第２のクーリングユニットおよび被処理基板に対して疎水化処理を施す第２のアドヒージョン処理ユニットをさらに備え、
第２の熱的処理ユニットセクションは、前記第３のパスユニット上に垂直方向に積層された、被処理基板に対して脱水ベーク処理を行う脱水ベークユニット、並びに前記第４のパスユニット上に垂直方向に積層された、基板に対してプリベーク処理を行うプリベークユニットをさらに備えることを特徴とする請求項３に記載の処理装置。
【請求項５】
現像液塗布、現像後の現像液除去、および乾燥処理を行う現像処理ユニット、および露光装置をさらに備え、
前記洗浄処理ユニットおよび前記レジスト処理ユニットと、前記現像処理ユニットとは、前記露光装置を挟んで両側に設けられていることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の処理装置。
【請求項６】
被処理基板に対して洗浄、レジスト塗布および露光後の現像を含む一連の処理を行う処理装置であって、
露光装置の上流側に設けられた前段処理部と、
露光装置の下流側に設けられた後段処理部と、
前記前段処理部から前記露光装置へ被処理基板を受け渡す第１のインターフェイス部と、
前記露光装置から前記後段処理部へ被処理基板を受け渡す第２のインターフェイス部と
を具備し、
前記前段処理部は、
被処理基板が搬入される搬入部と、
被処理基板が第１の方向に略水平に搬送されつつ洗浄液による洗浄処理および乾燥処理が行われる洗浄処理ユニットと、
被処理基板が前記第１の方向に略水平に搬送されつつレジスト液の塗布を含むレジスト処理が行われ、空間を介して前記洗浄処理ユニットと対向して設けられたレジスト処理ユニットと、
前記洗浄処理ユニットから搬出された被処理基板に対し所定の熱的処理を行う複数の熱的処理ユニットが集約された第１の熱的処理ユニットセクションと、
前記レジスト処理ユニットから搬出された被処理基板に対し所定の熱的処理を行う複数の熱的処理ユニットが集約された第２の熱的処理ユニットセクションと、
前記洗浄処理ユニットと前記レジスト処理ユニットとの間の空間を移動可能に設けられ、前記洗浄処理ユニットから搬出された被処理基板を載置した状態で前記空間中を前記第１の方向とは逆の第２の方向に移動し、前記レジスト処理ユニットへの搬入可能位置に被処理基板を移動させる載置移動手段と
を有し、
前記後段処理部は、
被処理基板が略水平に搬送されつつ、現像液塗布、現像後の現像液除去、および乾燥処理を行う現像処理ユニットと、
前記現像処理ユニットから搬出された被処理基板に対し所定の熱的処理を行う複数の熱的処理ユニットが集約された第３の熱的処理ユニットセクションと、
被処理基板が搬出される搬出部と
を有することを特徴とする処理装置。
【請求項７】
前記前段処理部は、
前記洗浄処理ユニットおよび前記レジスト処理ユニットのいずれも、前記搬入部側に搬入口を有し、前記第１のインターフェイス部側に搬出口を有し、
前記第１の熱的処理ユニットセクションは前記搬入部に隣接して設けられ、前記第２の熱的処理ユニットセクションは前記第１のインターフェイス部に隣接して設けられ、
前記搬入部の被処理基板を前記洗浄処理ユニットに受け渡し、かつ前記載置移動手段に載置された被処理基板を前記第１の熱的処理ユニットセクションへ受け渡すとともに前記第１の熱的処理ユニットセクションからの被処理基板を前記レジスト処理ユニットへ受け渡す第１の搬送装置と、
前記洗浄処理ユニットから搬出された被処理基板を前記載置移動手段に受け渡し、かつ、前記レジスト処理ユニットから搬出された被処理基板を前記第２の熱的処理ユニットセクションへ受け渡すとともに前記第２の熱的処理ユニットセクションからの被処理基板を前記インターフェイス部へ受け渡す第２の搬送装置と
をさらに有することを特徴とする請求項６に記載の処理装置。
【請求項８】
前記後段処理部は、
前記搬出部に隣接して前記第３の熱的処理ユニットセクションを有し、
前記第２のインターフェイス部の被処理基板を前記現像処理ユニットに受け渡す第３の搬送装置と、
前記現像処理ユニットから搬出された基板を前記第３の熱的処理ユニットセクションへ受け渡すとともに前記第３の熱的処理ユニットセクションからの被処理基板を前記搬出部へ受け渡す第４の搬送装置と
をさらに有することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の処理装置。
【請求項９】
前記第１、第２および第３の熱的処理ユニットセクションは、それぞれ、複数の熱的処理ユニットが垂直方向に積層して構成された熱的処理ユニットブロックを有することを特徴とする請求項６から請求項８のいずれか１項に記載の処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の第１の観点では、被処理基板に対してレジスト塗布および露光後の現像を含む一連の処理を行う処理装置であって、被処理基板が第１の方向に略水平に搬送されつつ洗浄液による洗浄処理および乾燥処理が行われる洗浄処理ユニットと、被処理基板が前記第１の方向に略水平に搬送されつつレジスト液の塗布を含むレジスト処理が行われるレジスト処理ユニットと、現像液塗布、現像後の現像液除去、および乾燥処理を行う現像処理ユニットと、を有し、前記洗浄処理ユニットおよび前記レジスト処理ユニットと、前記現像処理ユニットとは、露光装置を挟んで両側に設けられ、前記レジスト処理ユニットが、前記洗浄処理ユニットと空間を隔てて相対向するように設けられ、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの一方の端部に隣接して設けられ、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットへの被処理基板の搬入を行う第１の搬送装置と、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの他方の端部に隣接して設けられ、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットからの被処理基板の搬出を行う第２の搬送装置と、被処理基板を載置した状態で前記空間中を移動自在な載置移動手段と、を備え、前記載置移動手段が、前記第２の搬送装置から前記洗浄および乾燥処理された被処理基板を受け取り、前記空間中を前記第１の方向とは逆の第２の方向に移動し、前記第１の搬送装置が、前記空間中を移動してきた前記載置移動手段から前記洗浄および乾燥処理された被処理基板を受け取り、前記レジスト処理ユニットに搬入するように構成されていることを特徴とする処理装置を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第２の観点では、被処理基板が第１の方向に略水平に搬送されつつ洗浄液による洗浄処理および乾燥処理が行われる洗浄処理ユニットと、前記洗浄処理ユニットと空間を隔てて相対向するように設けられ、被処理基板が前記第１の方向に略水平に搬送されつつレジスト液の塗布を含むレジスト処理が行われるレジスト処理ユニットと、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの一方の端部に隣接して設けられ、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットへの被処理基板の搬入を行う第１の搬送装置と、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの他方の端部に隣接して設けられ、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットからの被処理基板の搬出を行う第２の搬送装置と、被処理基板を載置した状態で前記空間中を移動自在な載置移動手段と、を備え、前記載置移動手段が、前記第２の搬送装置から前記洗浄および乾燥処理された被処理基板を受け取り、前記空間中を前記第１の方向とは逆の第２の方向に移動し、前記第１の搬送装置が、前記空間中を移動してきた前記載置移動手段から前記洗浄および乾燥処理された被処理基板を受け取り、前記レジスト処理ユニットに搬入するように構成されていることを特徴とする処理装置を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第３の観点では、被処理基板が第１の方向に略水平に搬送されつつ洗浄液による洗浄処理および乾燥処理が行われる洗浄処理ユニットと、前記洗浄処理ユニットと空間を隔てて相対向するように設けられ、被処理基板が前記第１の方向に略水平に搬送されつつレジスト液の塗布を含むレジスト処理が行われるレジスト処理ユニットと、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの一方の端部に設けられ、前記一方の端部に設けられた第１のパスユニット、及び前記レジスト処理ユニットの搬入口側に設けられた第２のパスユニットを含む第１の熱的処理ユニットセクションと、前記洗浄処理ユニット及び前記レジスト処理ユニットの他方の端部に設けられ、前記洗浄処理ユニットの搬出口側に設けられた第３のパスユニット、前記レジスト処理ユニットの搬出口側に設けられた第４のパスユニット、前記他方の端部に設けられたパス・クーリングユニットを含む第２の熱的処理ユニットセクションと、前記第１の熱的処理ユニットセクションに隣接して設けられた第１の搬送装置と、前記第２の熱的処理ユニットセクションに隣接して設けられた第２の搬送装置と、被処理基板を載置した状態で前記空間中を移動自在な載置移動手段と、を備え、前記第１の搬送装置が、被処理基板を前記第１のパスユニットから前記洗浄処理ユニットへ搬送し、前記第２の搬送装置が、洗浄および乾燥処理された被処理基板を前記第３のパスユニットから前記載置移動手段へ搬送し、前記載置移動手段が、前記空間中を前記第１の方向とは逆の第２の方向に、洗浄および乾燥処理された被処理基板を前記第１の搬送装置に隣接する位置まで被処理基板を移動させ、前記第１の搬送装置が、洗浄および乾燥処理された被処理基板を、前記空間中を移動してきた前記載置移動手段から前記第２のパスユニットへ搬送し、前記第２の搬送装置が、レジスト処理された被処理基板を前記第４のパスユニットから前記パス・クーリングユニットへ搬送するように構成されていることを特徴とする処理装置を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の第４の観点では、被処理基板に対して洗浄、レジスト塗布および露光後の現像を含む一連の処理を行う処理装置であって、露光装置の上流側に設けられた前段処理部と、露光装置の下流側に設けられた後段処理部と、前記前段処理部から前記露光装置へ被処理基板を受け渡す第１のインターフェイス部と、前記露光装置から前記後段処理部へ被処理基板を受け渡す第２のインターフェイス部とを具備し、前記前段処理部は、被処理基板が搬入される搬入部と、被処理基板が第１の方向に略水平に搬送されつつ洗浄液による洗浄処理および乾燥処理が行われる洗浄処理ユニットと、被処理基板が前記第１の方向に略水平に搬送されつつレジスト液の塗布を含むレジスト処理が行われ、空間を介して前記洗浄処理ユニットと対向して設けられたレジスト処理ユニットと、前記洗浄処理ユニットから搬出された被処理基板に対し所定の熱的処理を行う複数の熱的処理ユニットが集約された第１の熱的処理ユニットセクションと、前記レジスト処理ユニットから搬出された被処理基板に対し所定の熱的処理を行う複数の熱的処理ユニットが集約された第２の熱的処理ユニットセクションと、前記洗浄処理ユニットと前記レジスト処理ユニットとの間の空間を移動可能に設けられ、前記洗浄処理ユニットから搬出された被処理基板を載置した状態で前記空間中を前記第１の方向とは逆の第２の方向に移動し、前記レジスト処理ユニットへの搬入可能位置に被処理基板を移動させる載置移動手段とを有し、前記後段処理部は、被処理基板が略水平に搬送されつつ、現像液塗布、現像後の現像液除去、および乾燥処理を行う現像処理ユニットと、前記現像処理ユニットから搬出された被処理基板に対し所定の熱的処理を行う複数の熱的処理ユニットが集約された第３の熱的処理ユニットセクションと、被処理基板が搬出される搬出部とを有することを特徴とする処理装置を提供する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記本発明の第４の観点において、前記前段処理部は、前記洗浄処理ユニットおよび前記レジスト処理ユニットのいずれも、前記搬入部側に搬入口を有し、前記第１のインターフェイス部側に搬出口を有し、前記第１の熱的処理ユニットセクションは前記搬入部に隣接して設けられ、前記第２の熱的処理ユニットセクションは前記第１のインターフェイス部に隣接して設けられ、前記搬入部の被処理基板を前記洗浄処理ユニットに受け渡し、かつ前記載置移動手段に載置された被処理基板を前記第１の熱的処理ユニットセクションへ受け渡すとともに前記第１の熱的処理ユニットセクションからの被処理基板を前記レジスト処理ユニットへ受け渡す第１の搬送装置と、前記洗浄処理ユニットから搬出された被処理基板を前記載置移動手段に受け渡し、かつ、前記レジスト処理ユニットから搬出された被処理基板を前記第２の熱的処理ユニットセクションへ受け渡すとともに前記第２の熱的処理ユニットセクションからの被処理基板を前記インターフェイス部へ受け渡す第２の搬送装置とをさらに有するように構成することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
第１の熱的処理ユニットセクション２４は、基板Ｇに熱的処理を施す熱的処理ユニットが積層して構成された２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）２９，３０を有しており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）２９は前段処理部１の露光装置３と反対側の端部に設けられ、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３０はレジスト処理ユニット２３の搬入口側に設けられている。図３の側面図に示すように、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）２９は、下から順に前工程からの基板Ｇの搬入を行うパスユニット（ＰＡＳＳ）６１、基板Ｇを冷却するクーリングユニット（ＣＯＬ）６２、基板Ｇに対して疎水化処理を施すアドヒージョン処理ユニット（ＡＤ）６３が３段積層されて構成されており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３０は、下から順に基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）６４、クーリングユニット（ＣＯＬ）６５、アドヒージョン処理ユニット（ＡＤ）６６が３段積層されて構成されている。第１の搬送装置２６は、前工程の処理が終了した後の基板Ｇをパスユニット（ＰＡＳＳ）６１を介して搬入し、上記複数の熱的処理ユニットに対する基板Ｇの搬入出、パスユニット（ＰＡＳＳ）６４を介してのレジスト処理ユニット２３への基板Ｇの受け渡し、およびシャトル２８上の基板Ｇの受け取りを行う。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
このようにして塗布処理が終了し、サブアーム５６によりレジスト処理ユニット２３から搬出された基板Ｇは、第２の熱的処理ユニットセクション２５に属する熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のパスユニット（ＰＡＳＳ）７０に受け渡される。パスユニット（ＰＡＳＳ）７０に配置された基板Ｇは、第２の搬送装置２７により、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のプリベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７１，７２，７３および熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３３のプリベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７６，７７のいずれかに搬送されてプリベーク処理され、その後熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３３のクーリングユニット（ＣＯＬ）７５、またはパス・クーリングユニット（ＰＡＳＳ・ＣＯＬ）７４に搬送されて所定温度に冷却される。そして、クーリングユニット（ＣＯＬ）７５で冷却された場合には第２の搬送装置２７によりパス・クーリングユニット（ＰＡＳＳ・ＣＯＬ）７４へ搬送され、パス・クーリングユニット（ＰＡＳＳ・ＣＯＬ）７４で冷却された場合にはそのままそこに置かれる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
露光終了後、基板Ｇは第２のインターフェイス部５の搬送機構３７によりクーリングステージ（ＣＯＬ）３９へ搬送されて所定温度に保持された後、後段処理部２のエクステンションステージ４０に搬送される。場合によってはバッファーステージ（ＢＵＦ）３８上のバッファーカセットに基板Ｇを収容してから後段処理部２へ搬送される。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2008124482.tif 000001
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2008124482.tif 000002