Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月12日(2010.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の塗布面に対して、第１の液体を第１の塗布ヘッドに設けられたスリット状のノズル開口から吐出させ、前記第１の液体が前記基板に接触した状態で前記基板と前記第１の塗布ヘッドとを面方向に相対的に移動させることで前記第１の液体を塗布して前記基板上に第１の塗膜を形成する第１の塗布工程と、
前記第１の塗膜が乾燥する前に、前記基板の塗布面に対して、第２の液体を第２の塗布ヘッドに設けられたスリット状のノズル開口から吐出させ、前記第２の液体が前記第１の塗膜に接触した状態で前記基板と前記第２の塗布ヘッドとを面方向に相対的に移動させることで前記第２の液体を塗布して前記第１の塗膜上に第２の塗膜を形成する第２の塗布工程と、を具備することを特徴とするスリットコート式塗布方法。
【請求項２】
前記第１の塗布工程と前記第２の塗布工程とが連続して行われることを特徴とする請求項１に記載のスリットコート式塗布方法。
【請求項３】
前記第１の塗布工程と前記第２の塗布工程とが同時期に行われることを特徴とする請求項１に記載のスリットコート式塗布方法。
【請求項４】
前記第１の塗布工程は前記基板と前記第１の塗布ヘッドとを一方向に相対的に移動させて行われ、前記第２の塗布工程は前記基板と前記第２の塗布ヘッドとを他方向に相対的に移動させて行われることを特徴とする請求項１又は２に記載のスリットコート式塗布方法。
【請求項５】
前記第１の液体と前記第２の液体とが同一の液体であることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載のスリットコート式塗布方法。
【請求項６】
基板の塗布面に対して、第１の液体を第１の塗布ヘッドに設けられたスリット状のノズル開口から吐出させ、前記第１の液体が前記基板に接触した状態で前記基板と前記第１の塗布ヘッドとを面方向に相対的に移動させることで前記第１の液体を塗布して前記基板上に第１の塗膜を形成し、
前記第１の塗膜が乾燥する前に、前記基板の塗布面に対して、第２の液体を第２の塗布ヘッドに設けられたスリット状のノズル開口から吐出させ，前記第２の液体が前記第１の塗膜に接触した状態で前記基板と前記第２の塗布ヘッドとを面方向に相対的に移動させることで前記第２の液体を塗布して前記第１の塗膜上に第２の塗膜を形成することを特徴とするスリットコート式塗布装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】スリットコート式塗布方法及びスリットコート式塗布装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、上述した事情に鑑み、基板上に、第１の塗膜とその第１の塗膜と高い密着性を有する第２の塗膜とを均一に形成することができるスリットコート式塗布方法及びスリットコート式塗布装置を提供することを目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の態様は、基板の塗布面に対して、第１の液体を第１の塗布ヘッドに設けられたスリット状のノズル開口から吐出させ、前記第１の液体が前記基板に接触した状態で前記基板と前記第１の塗布ヘッドとを面方向に相対的に移動させることで前記第１の液体を塗布して前記基板上に第１の塗膜を形成する第１の塗布工程と、前記第１の塗膜が乾燥する前に、前記基板の塗布面に対して、第２の液体を第２の塗布ヘッドに設けられたスリット状のノズル開口から吐出させ、前記第２の液体が前記第１の塗膜に接触した状態で前記基板と前記第２の塗布ヘッドとを面方向に相対的に移動させることで前記第２の液体を塗布して前記第１の塗膜上に第２の塗膜を形成する第２の塗布工程と、を具備することを特徴とするスリットコート式塗布方法にある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、前記第１の液体と前記第２の液体とが同一の液体であることが好ましい。これによれば、基板上に、界面がなく、かつより厚みのある塗膜を均一に形成することができる。
さらに、本発明の他の態様は、基板の塗布面に対して、第１の液体を第１の塗布ヘッドに設けられたスリット状のノズル開口から吐出させ、前記第１の液体が前記基板に接触した状態で前記基板と前記第１の塗布ヘッドとを面方向に相対的に移動させることで前記第１の液体を塗布して前記基板上に第１の塗膜を形成し、前記第１の塗膜が乾燥する前に、前記基板の塗布面に対して、第２の液体を第２の塗布ヘッドに設けられたスリット状のノズル開口から吐出させ，前記第２の液体が前記第１の塗膜に接触した状態で前記基板と前記第２の塗布ヘッドとを面方向に相対的に移動させることで前記第２の液体を塗布して前記第１の塗膜上に第２の塗膜を形成することを特徴とするスリットコート式塗布装置にある。
かかる態様では、第１の塗膜が乾燥する前に第１の塗膜上に第２の塗膜を形成することができるので、基板上に、第１の塗膜とその第１の塗膜と高い密着性を有する第２の塗膜とをそれぞれ均一に形成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月22日(2010.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素系溶剤、水溶性有機溶剤汚染物、有機汚染物及びイオン汚染物を含む混合溶液の精製方法であって、
工程（１）：混合溶液を水洗して、水溶性有機溶剤汚染物の濃度を０．０１ｗｔ％以下に低減した第一処理液を得る工程、
工程（２）：前記第一処理液を活性炭で処理して、有機汚染物の濃度を２０ｐｐｂ以下とした第二処理液を得る工程、
工程（３）：前記第二処理液を活性アルミナで処理して、フッ素イオン汚染物を１０ｐｐｂ以下とした第三処理液を得る工程、及び、
工程（４）：前記第三処理液をパーティクル除去フィルターで処理して、０．１μｍ以上のパーティクル数を１０個／ｍＬ以下のフッ素系溶剤を得る工程、
を含み、上記工程(２)及び（３）は順不同で行う精製方法。
【請求項２】
前記フッ素系溶剤が分離型ヒドロフルオロカーボンエーテル（ＨＦＥ)、非分離型ＨＦＥ、ヒドロフルオロポリエーテル、ヒドロフルオロカーボンもしくはヒドロクロロフルオロカーボンである、請求項１に記載の精製方法。
【請求項３】
前記フッ素系溶剤が０．１から１０％ｗ／ｗのイソプロピルアルコールを含むC4F9OCH3である請求項１に記載の精製方法。
【請求項４】
前記工程（１）において、水洗槽及び水分除去装置を含む水溶性有機溶剤除去装置において、前記混合溶液を前記水洗槽で水洗して水溶性有機溶剤汚染物の除去を行い、次いで、前記水分除去装置によって水分除去する、請求項１に記載の精製方法。
【請求項５】
請求項１に記載の精製方法に使用される溶液の精製装置であって、
前記工程（１）を行うための水溶性有機溶剤除去装置、
前記工程（２）を行うための活性炭フィルター、
前記工程（３）を行うための活性アルミナフィルター、及び、
前記工程（４）を行うためのパーティクル除去フィルター、
を含む、精製装置。
【請求項６】
電気・電子部品又は半導体ウエハを洗浄するための洗浄装置とともに、請求項５に記載の精製装置を含む、電気・電子部品の精密洗浄用の洗浄装置又は半導体ウエハ洗浄用の洗浄装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月5日(2010.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
また、撥水性の評価は、ＡＳＴＭ  Ｃ１５１１−０４に準拠し、２５ｃｍ角のサンプルを水中に１５分間沈め、それを取り出してから１分間静置した後に、その重量増加が２０ｇ以下のものを合格とし、それ以外は不合格である。また、延焼性の評価は、サンプル表面にガスバーナーの炎を２秒間接炎し、炎を離した後の残炎時間が１秒以内のものを合格とし、それ以外は不合格である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月17日(2010.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂型分散剤（Ｃ）、顔料（Ｐ）、熱反応性化合物（Ｅ）、および有機溶剤（Ｆ）を含んでなるインクジェット記録用インク組成物において、
樹脂型分散剤（Ｃ）が、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ｓ）の存在下、エチレン性不飽和単量体（ｍ）をラジカル重合してなる、片末端に２つの水酸基を有するビニル重合体（ａ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ）中の酸無水物基とを反応させてなる樹脂型分散剤（Ｃ１）であるインクジェット記録用インク組成物。
【請求項２】
樹脂型分散剤（Ｃ）、顔料（Ｐ）、熱反応性化合物（Ｅ）、および有機溶剤（Ｆ）を含んでなるインクジェット記録用インク組成物において、
樹脂型分散剤（Ｃ）が、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ｓ）の存在下、エチレン性不飽和単量体（ｍ）をラジカル重合してなる、片末端に２つの水酸基を有するビニル重合体（ａ）並びに（ｓ）および（ａ）以外のポリオール化合物（ｏ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ）中の酸無水物基とを反応させてなる樹脂型分散剤（Ｃ２）であるインクジェット記録用インク組成物。
【請求項３】
樹脂型分散剤（Ｃ）、顔料（Ｐ）、熱反応性化合物（Ｅ）、および有機溶剤（Ｆ）を含んでなるインクジェット記録用インク組成物において、
樹脂型分散剤（Ｃ）が、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ｓ）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ）中の酸無水物基とを反応させて生成される化合物（ｃ３）の存在下、エチレン性不飽和単量体（ｍ）をラジカル重合してなる樹脂型分散剤（Ｃ３）であるインクジェット記録用インク組成物。
【請求項４】
樹脂型分散剤（Ｃ）、顔料（Ｐ）、熱反応性化合物（Ｅ）、および有機溶剤（Ｆ）を含んでなるインクジェット記録用インク組成物において、
樹脂型分散剤（Ｃ）が、分子内に２つの水酸基と１つのチオール基とを有する化合物（ａ）およびチオール基を有さないポリオール化合物（ｏ’）中の水酸基と、テトラカルボン酸二無水物（ｂ）中の酸無水物基とを反応させてなる化合物（ｃ４）の存在下に、エチレン性不飽和単量体（ｍ）をラジカル重合してなる樹脂型分散剤（Ｃ４）である、インクジェット記録用インク組成物。
【請求項５】
樹脂型分散剤（Ｃ）が、重量平均分子量２，０００〜２５，０００であり、かつ、酸価５〜２００ｍｇＫＯＨ/ｇである請求項１〜４いずれか記載のインク組成物。
【請求項６】
テトラカルボン酸二無水物（ｂ）が、下記一般式（１）または一般式（２）で表される化合物である請求項１〜５いずれか記載のインク組成物。
一般式（１）：
【化１】
2008208340.tif 000001
〔一般式（１）中、ｋは、１又は２である。〕
一般式（２）：
【化２】
2008208340.tif 000002
〔一般式（２）中、Ｑ1は、直接結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯ−、−ＳＯ2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、下記一般式（３）：
【化３】
2008208340.tif 000003
で表される基、または一般式（４）：
【化４】
2008208340.tif 000004
で表される基である。〕
【請求項７】
エチレン性不飽和単量体（ｍ）が、ベンジル（メタ）アクリレートを単量体全体の２０重量％〜７０重量％含む、請求項１〜６のいずれか記載のインク組成物。
【請求項８】
熱反応性化合物（Ｅ）が、メラミン化合物、ベンゾグアナミン化合物、カルボジイミド化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、フェノール化合物、ベンゾオキサジン化合物、ブロック化カルボン酸化合物、ブロック化イソシアネート化合物、アクリレート系モノマー、及びシランカップリング剤からなる群から選ばれる化合物１種若しくは２種以上である、請求項１〜７いずれか記載のインク組成物。
【請求項９】
更に、バインダー樹脂（Ｊ）を含む請求項１〜８のいずれか一項に記載のインク組成物。
【請求項１０】
バインダー樹脂（Ｊ）が、熱可塑性樹脂（Ｊ１）である請求項９記載のインク組成物。
【請求項１１】
更に、顔料誘導体（Ｄ）を含む請求項１〜１０のいずれか一項に記載のインク組成物。
【請求項１２】
顔料誘導体（Ｄ）が、下記一般式（５）で表される色素誘導体である請求項１１記載のインク組成物。
Ｇ−（Ｌ）ｎ （５）
（式中、Ｇは、色素原型化合物残基であり、Ｌは、塩基性置換基、酸性置換基、又は中性置換基であり、ｎは、１〜４の整数である。）
【請求項１３】
顔料誘導体（Ｄ）が、塩基性置換基を有する色素誘導体、塩基性置換基を有するアントラキノン誘導体、塩基性置換基を有するアクリドン誘導体、及び塩基性置換基を有するトリアジン誘導体からなる群から選ばれる誘導体を少なくとも一種を含む請求項１１または１２記載のインク組成物。
【請求項１４】
固形分含有量が、インク組成物全重量に対して、３〜６０重量％である請求項１〜１３のいずれか一項に記載のインク組成物。
【請求項１５】
顔料（Ｐ）の含有量が、インク組成物全重量に対して１〜３０重量％である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のインク組成物。
【請求項１６】
顔料（Ｐ）と樹脂型分散剤（Ｃ）との重量比が、１００：３〜１００：２００である請求項１〜１５のいずれか一項に記載のインク組成物。
【請求項１７】
２５℃における粘度が、２〜４０ｍＰａ・ｓである請求項１〜１６のいずれか一項に記載のインク組成物。
【請求項１８】
カラーフィルター基板用である請求項１〜１７のいずれか一項に記載のインク組成物。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載のインクジェット記録用インク組成物による印刷層を担持するカラーフィルター基板。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月23日(2010.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
エポキシ樹脂（Ａ）、一般式（１）で表されリン含有率が１重量％から６重量％であるリン含有フェノキシ樹脂（Ｂ）、硬化剤（Ｃ）および硬化促進剤（Ｄ）を必須成分として含有するノンハロゲン難燃性接着剤（ａ）。
【化１】
2008208315.tif 000001
式中、Ｘは、一般式（２）、（３）、（４）、（５）から選ばれるものであり、かつ、少なくとも一般式（２）または一般式（３）の何れかは必須成分であり、Ｚは、水素原子または式（６）のいずれかであり、ｎの平均値は２１以上の値である。
【化２】
2008208315.tif 000002
式中、Ｙは、一般式（７）、（８）から選ばれるものであり、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ１〜Ｒ３のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化３】
2008208315.tif 000003
式中、Ｙは、一般式（７）、（８）から選ばれるものであり、Ｒ１〜Ｒ４は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ１〜Ｒ４のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化４】
2008208315.tif 000004
式中、Ｒ１〜Ｒ４は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ１〜Ｒ４のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化５】
2008208315.tif 000005
式中、Ａは、単結合、または、―ＣＨ２―、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−、−ＣＯ−、一般式（９）のいずれかの２価の基から選ばれるものであり、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ１〜Ｒ８のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化６】
2008208315.tif 000006
【化７】
2008208315.tif 000007
式中、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ１〜Ｒ８のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化８】
2008208315.tif 000008
式中、Ｒ１〜Ｒ１０は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ１〜Ｒ１０のうちの２個以上が同一であっても良い。
【化９】
2008208315.tif 000009
式中、Ｒ１〜Ｒ８は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基のいずれかを表し、Ｒ１〜Ｒ８のうちの２個以上が同一であっても良い。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
エポキシ樹脂（Ａ）が一般式（１０）で表されるエポキシ樹脂で、かつゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定した重合度m＝０体の含有率がクロマトグラムの面積パーセントで５０％以上である請求項１記載のノンハロゲン難燃性接着剤（ａ）。
【化１０】
2008208315.tif 000010
式中、Ｗは、一般式（２）、（３）、（４）、（５）から選ばれる少なくとも１種であり、ｍは０以上の整数を表す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【化１】
2008208315.tif 000011
式中、Ｘは、一般式（２）、（３）、（４）、（５）から選ばれるものであり、かつ、少なくとも一般式（２）または一般式（３）の何れかは必須成分であり、Ｚは、水素原子または式（６）のいずれかであり、ｎの平均値は２１以上の値である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【化１０】
2008208315.tif 000012
式中、Ｗは、一般式（２）、（３）、（４）、（５）から選ばれる少なくとも１種であり、ｍは０以上の整数を表す。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月10日(2009.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
実施例１
窒素置換したフラスコに（ａ）４．００gと銅４．００g（６２．９ｍｍｏｌ）を１２０℃真空下で２時間乾燥させ、脱水ＤＭＳＯに溶解させた。１２０℃で２時間攪拌後、（ｂ）３．７４g（８．１０ｍｍｏｌ）、Ｉ−（ＣＦ2）5−ＣＦ3  （Ａｌｄｒｉｃｈ社製）３．０１ｇ（６．７６ｍｍｏｌ）を加えて１２０℃で３５時間反応を行った。反応後、重合液を５Ｎ塩酸水溶液に加えてポリマーを沈殿させた。ＤＭＡｃに溶解、５Ｎ塩酸水溶液に投入してポリマーを沈殿させる操作を繰り返してポリマーを精製し、水洗、乾燥して超強酸基とフルオロアルキル基が側鎖に導入された芳香族系高分子（ｃ）を得た。（ｃ）のＩＥＣは１．０４ｍｅｑ／ｇであり、元素分析の結果、フッ素含量は２８．４重量％であった。これらより、高分子（ｃ）には、フルオロアルキル基がビフェニルジイル単位１個当たり平均約０．３８個、超強酸基として−ＣＦ2ＣＦ2ＯＣＦ2ＣＦ2ＳＯ3Ｈがビフェニルジイル単位１個当たり平均約０．７９個導入されていることがわかった。得られた芳香族系高分子（ｃ）をＤＭＡｃに溶解し、不溶分をろ別後、溶液をシャーレ上に広げて８０℃でキャスト製膜を行い、膜厚３１μｍの高分子電解質膜（Ｃ）を得た。表１に高分子電解質膜（Ｃ）の燃料電池特性試験の結果を示す。燃料電池特性試験結果は電流密度が０．５０、１．００、１．５０（Ａ／ｃｍ2）の時のセル電圧を示した。結果を表１に示す。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月8日(2009.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アミノ酸44位でシステインを含むＶＨおよびアミノ酸100位でシステインを含むＶＬを有する組換え抗CD22抗体にペプチド結合した治療剤を含有する組換え免疫複合体であって、ここで、該抗CD22抗体は、配列番号２に対して少なくとも８０％の同一性を有する可変重（ＶＨ）鎖および配列番号４に対して少なくとも８０％の同一性を有する可変軽（ＶＬ）鎖を含むＲＦＢ４ジスルフィド安定化Ｆｖ（ｄｓＦｖ）である、組換え免疫複合体。
【請求項２】
前記抗体が、配列番号２に対して少なくとも９０％の同一性を有する可変重（VH）鎖、および配列番号４に対して少なくとも９０％の同一性を有する可変軽（VL）鎖を含む、請求項１に記載の組換え免疫複合体。
【請求項３】
前記治療剤が毒素である、請求項１または２に記載の組換え免疫複合体。
【請求項４】
前記毒素が、Pseudomonas 外毒素（PE）、またはその細胞傷害性フラグメントである、請求項３に記載の組換え免疫複合体。
【請求項５】
前記細胞傷害性フラグメントがPE38である、請求項４に記載の組換え免疫複合体。
【請求項６】
前記可変重（VH）鎖が、前記毒素のアミノ末端に結合したペプチドである、請求項３〜５いずれか一項に記載の組換え免疫複合体。
【請求項７】
請求項１〜６いずれか一項に記載の組換え免疫複合体をコードする、発現カセット。
【請求項８】
請求項７に記載の発現カセットを含む、宿主細胞。
【請求項９】
悪性Ｂ細胞の増殖を阻害するための、請求項１〜６いずれか一項に記載の有効量の組換え免疫複合体を含む組成物であって、ここで、該組成物は、該悪性Ｂ細胞との接触に適切である、組成物。
【請求項１０】
前記悪性Ｂ細胞が、インビボで接触される、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
前記悪性Ｂ細胞が、ヒトＢ細胞である、請求項９または１０に記載の組成物。
【請求項１２】
請求項１１に記載の組成物であって、ここで、前記悪性Ｂ細胞が、慢性リンパ性白血病細胞である、組成物。
【請求項１３】
請求項１１に記載の組成物であって、ここで、前記悪性Ｂ細胞が、毛様細胞白血病細胞である、組成物。
【請求項１４】
請求項１１に記載の組成物であって、ここで、前記悪性Ｂ細胞が、前リンパ球性白血病細胞である、組成物。
【請求項１５】
請求項１１に記載の組成物であって、ここで、前記悪性Ｂ細胞が、Ｂ細胞リンパ腫細胞である、組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月21日(2010.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を出射する少なくとも１個の点状光源と、
前記点状光源が実装された光源基板と、
側壁部および底部を備え、前記光源基板を少なくとも一つの前記側壁部の内側面に配置するリアフレームと、を備え、
前記光源基板が配置される前記リアフレームの側壁部に、ネジ溝部およびネジ頭部で構成されたネジを挿入するための貫通孔が設けられており、かつ、前記光源基板の前記貫通孔に対応する位置に前記ネジ溝部と螺合するためのネジ穴が設けられ、前記ネジを前記貫通孔に挿入し、前記ネジ穴によりネジ止めすることにより、前記光源基板を固定することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記リアフレームに係合されるフロントフレームをさらに備え、
前記フロントフレームは、前記リアフレームの側壁部と対向する側壁部に、前記ネジを挿入するための貫通孔を備えていることを特徴とする請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記光源基板が配置される前記リアフレームの側壁部および前記リアフレームの側壁部と対向する前記フロントフレームの側壁部のそれぞれに略垂直に設けられた側壁部において、前記光源基板が配置された位置と対応して設けられた開口部より、前記ネジを着脱し、前記光源基板を前記リアフレームの内側面に沿ってスライドして挿抜させることを特徴とする請求項２記載の表示装置。
【請求項４】
前記リアフレームの側壁部および前記フロントフレームの側壁部に設けられた貫通孔に、前記ネジ溝部が挿入され、前記ネジ頭部は収納されないことを特徴とする請求項２または３記載の表示装置。
【請求項５】
前記フロントフレームの貫通孔は、前記ネジ頭部を収納することを特徴とする請求項２または３記載の表示装置。
【請求項６】
前記フロントフレームの貫通孔は、前記ネジ頭部を収納する段差を備え、かつ前記ネジ溝部を挿入することを特徴とする請求項２、３、４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記フロントフレームに設けられた貫通孔は、前記ネジ頭部との干渉を避けるための切り欠き形状であることを特徴とする請求項２または３に記載の表示装置。
【請求項８】
前記光源基板は、前記ネジ穴を有するベース基板上に形成された絶縁層と回路パターンにより構成されており、前記ベース基板は金属製であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記光源基板は、フレキシブル基板または樹脂製の基板と、前記ネジ穴を有する金属製またはセラミック製のベース基板と、を接合させて形成したことを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記リアフレームの内部に前記点状光源からの光を面状に伝播させる導光板を備えたことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記点状光源は発光ダイオードであることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の表示装置であって、前記リアフレームの底部と対向する位置に、表示パネルを具備することを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明による表示装置においては、点状光源が実装された光源基板と、側壁部および底部を備え、光源基板を少なくとも一つの側壁部の内側面に配置するリアフレームと、を備え、光源基板が配置されるリアフレームの側壁部に、ネジ溝部およびネジ頭部で構成されたネジを挿入するための貫通孔が設けられており、かつ、光源基板の貫通孔に対応する位置にネジ溝部と螺合するためのネジ穴が設けられ、ネジを貫通孔に挿入し、ネジ穴によりネジ止めすることにより、光源基板を固定することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
以上、本発明の構成によれば、光源基板とリアフレームとを強固に固定することにより、点状光源から発生した熱を効率よく放熱させることができる。また、表示装置本体の分解あるいは部品を取り外すことなく、容易に光源基板を脱着、交換することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月21日(2010.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子写真装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
珪素原子を主成分とする非晶質材料で形成した光導電層を有する感光体と、該感光体に接触または近接させてなる帯電ローラと、画像を露光して潜像を形成する潜像形成手段と、トナー像を感光体に形成する現像手段と、トナー像を被転写体に転写する転写手段とを有し、該感光体と該帯電ローラとの間に直流電流と交流電流とを印加することにより該感光体の表面を帯電させる電子写真装置において、
該帯電ローラが、
導電性支持体と該導電性支持体上に形成された導電層とを有し、
該導電層が、ベースポリマーとしてのアクリロニトリル−ブタジエンゴムと導電性粒子としてのカーボンブラックとを含み、
該アクリロニトリル−ブタジエンゴムは、アクリロニトリル含有率が２５％超４９％未満であることを特徴とする電子写真装置。
【請求項２】
前記導電性粒子の算術平均粒子径が７５ｎｍ超３００ｎｍ未満である請求項１に記載の電子写真装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月17日(2010.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から射出されてリフレクタによって反射された光束を複数に分割する第１のレンズアレイと、
前記第１のレンズアレイを構成する複数のレンズセルにそれぞれ対応する複数のレンズセルを有し、前記第１のレンズアレイからの複数の光束が入射する第２のレンズアレイと、
前記第１のレンズアレイと前記第２のレンズアレイとの間の光束通過領域を変化させる光束制御手段と、
前記光束通過領域を通過した光束により照明される画像形成素子と、
該画像形成素子からの光束を投射する光学系とを有し、
前記光束制御手段が配置される位置は、以下の条件を満足することを特徴とする画像投射光学ユニット。
Ｚ≦Ｌ／２
ただし、Ｚは前記第１のレンズアレイにおける第１のレンズセルのレンズ面頂点から前記光束制御手段までの光軸方向距離、Ｌは前記第１のレンズセルのレンズ面頂点と前記第２のレンズアレイにおける前記第１のレンズセルに対応する第２のレンズセルのレンズ面頂点との光軸方向距離である。
【請求項２】
光源から射出されてリフレクタによって反射された光束を複数に分割する第１のレンズアレイと、
前記第１のレンズアレイを構成する複数のレンズセルにそれぞれ対応する複数のレンズセルを有し、前記第１のレンズアレイからの複数の光束が入射する第２のレンズアレイと、
前記リフレクタと前記第１のレンズアレイとの間で光束通過領域を変化させる光束制御手段と、
前記光束通過領域を通過した光束により照明される画像形成素子と、
該画像形成素子からの光束を投射する光学系とを有し、
前記光束制御手段が配置される位置は、以下の条件を満足することを特徴とする画像投射光学ユニット。
Ｚ≦Ｌ１／２
ただし、Ｚは前記第１のレンズアレイにおける第１のレンズセルのレンズ面頂点から前記光束制御手段までの光軸方向距離、Ｌ１は前記リフレクタの焦点位置から前記第１のレンズセルのレンズ面頂点との光軸方向距離である。
【請求項３】
前記光束制御手段を動作させて前記光束通過領域を変化させる駆動機構を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の画像投射光学ユニット。
【請求項４】
前記第１のレンズアレイ、前記第２のレンズアレイ及び前記光束制御手段を含む照明光学系と、
該照明光学系からの光束を複数の色光に分離して複数の前記画像形成素子に導き、該複数の画像形成素子からの複数の色光を投射する光学系とを有することを特徴とする請求項１から３のいずれか１つに記載の画像投射光学ユニット。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１つに記載の画像投射光学ユニットと、
入力された信号に応じて前記光束制御手段を動作させる電気回路とを有することを特徴とする画像投射装置。
【請求項６】
請求項５に記載の画像投射装置と、
前記画像投射装置に画像信号を供給する画像供給装置とを有することを特徴とする画像表示システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
遮光マスク１５は、第１のフライアイレンズ（第１のレンズアレイ）１１の各レンズセルから射出した複数の光束が通過する領域（光束通過領域）を変化させるための部材である。この光束通過領域は、実際に光束が通過するか否かがでは無く、光束が通過することが可能な領域を意味している。言い換えると、本実施例では、遮光マスク１５によって光束非通過領域（光束通過不可能領域）の大きさを変化させることにより、この光束通過領域（光束通過可能領域）を変化させている（光束制御を行っている）。該遮光マスク１５は、マスク駆動機構１６によって、第１のフライアイレンズ１１と第２のフライアイレンズ１２との間の光路に対して出し入れされる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
なお、本実施例では、遮光マスク１５を第１及び第２のフライアイレンズ１１，１２の間の光路に対して出し入れされる場合について説明する。ただし、遮光マスク１５の配置位置は、リフレクタ１ｂの焦点と第２のフライアイレンズ１２との間のうち後述する条件を満足する位置であれば、任意でよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
一方、退避位置（図３参照）では、各レンズセル１１ａの４：３のレンズ面全体からの光束が第２のフライアイレンズ１２に向かう。このため、画像形成素子７〜９の４：３の表示可能領域の全体が照明光学系２からの光によって照明され、被投射面にも４：３の画像が投射される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
Ｚ≦Ｌ／２  …（１）
この範囲は、上述した画像形成素子７〜９と共役な位置の近くの範囲であると言うことができる。これにより、「１６：９投射モード」において画像形成素子７〜９の非表示部に向かう余分光を効果的に遮断することができる。この結果、非表示部から被投射面に向かう余分な漏れ光をほとんど無くすることができる。したがって、投射画像の品質を向上させることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
本実施例では、第１及び第２のフライアイレンズ１１，１２間の比較的大きなスペースを活用して遮光マスク２１５の光路に対する出し入れを行う。したがって、実施例１，２に比べて画像投射ユニット及びプロジェクタのより小型化を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月1日(2010.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と第２基板との間に挟持されたＯＣＢモード液晶層を備え、マトリクス状に配置された複数の表示画素からなる表示部と、前記表示部を囲む周辺部とを有する液晶表示装置であって、
前記第１基板は、前記複数の表示画素のそれぞれに対応して配置された画素電極を有し、
前記第２基板は、前記複数の画素電極に対向する対向電極を有し、
前記複数の画素電極および前記対向電極の上にそれぞれ配置され、ラビング処理によって前記液晶層に含まれる液晶分子の配向状態を制御する一対の配向膜を備え、
前記周辺部の少なくとも前記配向膜のラビング方向の終端側には逆転移防止信号が印加されるダミー表示画素が配置され、
前記周辺部の前記ダミー表示画素における液晶層の厚さを、前記表示部の前記表示画素における液晶層の厚さよりも小さく形成したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１および第２基板の少なくとも一方の基板には、前記ダミー表示画素に対応させた凸部を有していることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記凸部は、絶縁層もしくはカラーフィルタ層によって構成されていることを特徴とする請求項２記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記逆転移防止信号は、黒表示に対応した信号であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つに記載の液晶表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の態様による液晶表示装置は、第１基板と第２基板との間に挟持されたＯＣＢモード液晶層を備え、マトリクス状に配置された複数の表示画素からなる表示部と、前記表示部を囲む周辺部とを有する液晶表示装置であって、前記第１基板は、前記複数の表示画素のそれぞれに対応して配置された画素電極を有し、前記第２基板は、前記複数の画素電極に対向する対向電極を有し、前記複数の画素電極および前記対向電極の上にそれぞれ配置され、ラビング処理によって前記液晶層に含まれる液晶分子の配向状態を制御する一対の配向膜を備え、前記周辺部の少なくとも前記配向膜のラビング方向の終端側には逆転移防止信号が印加されるダミー表示画素が配置され、前記周辺部の前記ダミー表示画素における液晶層の厚さを、前記表示部の前記表示画素における液晶層の厚さよりも小さく形成されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
アレイ基板１２は、それぞれの表示画素ＰＸに対応して略マトリクス状に配置された複数の画素電極ＰＥを有している。対向基板１４は、複数の画素電極ＰＥに対向する対向電極ＣＥを備えている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
さらに、図８に示すように、ダミー表示画素ＤＰＸにおける液晶層ＬＱの厚さは、表示画素ＰＸにおける液晶層ＬＱの厚さよりも小さくなっている。本実施形態に係る液晶表示装置では、対向基板１４がダミー表示画素ＤＰＸに対応する位置において凸部を有している。例えば、図８に示すように、対向基板１４のダミー表示画素ＤＰＸに対応する位置にカラーフィルタ層ＣＦを配置することによって凸部を設ける。このカラーフィルタ層ＣＦによってダミー表示画素ＤＰＸにおける液晶層ＬＱの厚さを小さくしている。なお、図中のＢＭは、周辺部を遮光するためのブラックマスクを示している。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2009003285.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2009003285.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月17日(2010.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
第１の電極又は第２の電極の少なくとも一部を、弾性を有する導体で構成してもよい。この場合、光電気パッケージの作製精度、第２の電極を保持する第１の部材の作製精度や搭載精度にばらつきが生じたとしても、第１の電極と第２の電極の電気的導通が保たれるという利点がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
光電気混載基板１０４上に放熱部材８０５を、ネジ８０７を使って取り付けることで光電気パッケージ１０９は、Ｚ軸方向に固定される。さらに、放熱部材８０５を光電気パッケージ１０９に接触させることで、光電気パッケージ１０９から放熱をするだけでなく、光電気パッケージ１０９には放熱部材８０５より圧力が均等に加わることとなる。なおバネ８０６を入れることで、放熱部材８０５は光電気パッケージに弾性的に押圧されることとなり、押圧力を管理しやすくなり、光電気パッケージ１０９や光電気混載基板１０４の部材の大きさにばらつきがあったとしても、常に放熱部材８０５は光電気パッケージに弾性力を加えることが可能となるという利点がある。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月21日(2010.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸芯体と、前記軸芯体の外周上に少なくとも１層の弾性層と、前記弾性層の外周上に樹脂層と、を有する弾性ローラの樹脂層の除去方法であって、
前記弾性ローラの表面に電子線を、加速電圧５０ｋＶ以上、１５０ｋＶ以下、かつ照射線量３００ｋＧｙ以上、１０００ｋＧｙ以下で照射する工程と、
前記弾性ローラから樹脂層を除去する工程と、
を有することを特徴とする弾性ローラの樹脂層の除去方法。
【請求項２】
前記弾性ローラの表面に電子線を照射する際の電子線の入射角度が、前記弾性ローラ表面の接線方向に対して０度以上、３０度以下であることを特徴とする請求項１に記載の弾性ローラの樹脂層の除去方法。
【請求項３】
前記弾性ローラの表面への電子線の照射時に、前記弾性ローラを回転させることを特徴とする請求項１又は２に記載の弾性ローラの樹脂層の除去方法。
【請求項４】
前記弾性ローラの表面への電子線の照射時に、前記弾性ローラの温度を１１０℃以上、１５０℃以下とすることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の弾性ローラの樹脂層の除去方法。
【請求項５】
軸芯体と、前記軸芯体の外周上に少なくとも１層の弾性層と、前記弾性層の外周上に樹脂層と、を有する弾性ローラを準備する工程と、
請求項１乃至４の何れか１項に記載の弾性ローラの樹脂層の除去方法により、前記樹脂層を除去する工程と、
樹脂層を除去した前記弾性ローラの外周上に新たに樹脂層を形成する工程と、
を有することを特徴とする弾性ローラの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】弾性ローラの樹脂層の除去方法、および弾性ローラの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
５．軸芯体と、前記軸芯体の外周上に少なくとも１層の弾性層と、前記弾性層の外周上に樹脂層と、を有する弾性ローラを準備する工程と、
上記１乃至４の何れか１項に記載の弾性ローラの樹脂層の除去方法により、前記樹脂層を除去する工程と、
樹脂層を除去した前記弾性ローラの外周上に新たに樹脂層を形成する工程と、
を有することを特徴とする弾性ローラの製造方法。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月7日(2010.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コイルと、前記コイルに高周波電流を流すための高周波回路と、前記コイルに通電される高周波電流により生ずる磁束により発熱する導電層を有し、記録材上の像を所定の像加熱温度で加熱する像加熱部材と、前記コイルへの通電を制御する通電制御手段と、を有する像加熱装置において、
前記像加熱部材のキュリー温度は前記像加熱温度以上で像加熱装置の耐熱温度未満であり、像加熱部材をキュリー温度に近い設定温度になるまで上昇させる工程中に前記コイルに通電される電流の周波数は、記録材上の像を加熱する工程中の前記コイルに通電される電流の周波数よりも大きくすることを特徴とする像加熱装置。
【請求項２】
前記設定温度は像加熱温度であることを特徴とする請求項１に記載の像加熱装置。
【請求項３】
像加熱部材をキュリー温度に近い設定温度になるまで上昇させる工程中に前記コイルに通電される電流の周波数と像加熱工程中に前記コイルに通電される電流の周波数とは一定であることを特徴とする請求項１または請求項２のいずれかに記載の像加熱装置。
【請求項４】
前記加熱部材の導電層の厚さをｄ（ｍｍ）と、前記加熱部材の透磁率をμ（Ｈ／ｍ）と、前記加熱部材の導電層の固有抵抗をρ（Ω・ｍ）と、設定温度まで上昇させる工程中に前記コイルに通電される電流の周波数ｆ１（Ｈｚ）と、像加熱中に像加熱部材の温度を像加熱温度に維持するために前記コイルに通電される電流の周波数ｆ２（Ｈｚ）と、は
【数１】
2009003264.tif 000001
の関係を満たすことを特徴とする請求項３に記載の像加熱装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明は、コイルと、前記コイルに高周波電流を流すための高周波回路と、前記コイルに通電される高周波電流により生ずる磁束により発熱する導電層を有し、記録材上の像を所定の像加熱温度で加熱する像加熱部材と、前記コイルへの通電を制御する通電制御手段と、を有する像加熱装置において、前記像加熱部材のキュリー温度は前記像加熱温度以上で像加熱装置の耐熱温度未満であり、像加熱部材をキュリー温度に近い設定温度になるまで上昇させる工程中に前記コイルに通電される電流の周波数は、記録材上の像を加熱する工程中の前記コイルに通電される電流の周波数よりも大きくすることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月9日(2010.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置と接続される表示制御装置における表示制御方法であって、
表示装置と接続され該表示装置上の描画領域において描画内容が変化した場合に該変化の内容を記録する記録装置から、該変化の内容に関する情報を取得する第１の取得工程と、
前記第１の取得工程において取得された前記変化の内容に関する情報を用いて表示装置上に描画内容を再生する際の再生方法を、前記変化の内容に対応して再生方法が設定されている再生方法設定テーブルより取得する第２の取得工程と、
前記第１の取得工程において取得された変化の内容に関する情報を用いて、前記第２の取得工程において取得された再生方法に基づいて、表示装置上に描画内容を再生する再生工程と
を備えることを特徴とする表示制御方法。
【請求項２】
前記変化の内容に関する情報は、前記描画領域に描画された描画内容に変化を与えるユーザの操作に関する操作情報を順次記録した操作情報テーブルと、該ユーザの操作により変化した描画領域上のオブジェクトに関する情報を順次記録した描画オブジェクト情報テーブルとを含むことを特徴とする請求項１に記載の表示制御方法。
【請求項３】
前記再生方法設定テーブルに設定された前記再生方法には、表示装置上に描画内容を再生する際の再生速度を速くする再生方法または遅くする再生方法が含まれることを特徴とする請求項２に記載の表示制御方法。
【請求項４】
前記再生方法設定テーブルでは、前記描画領域に描画された描画内容に変化を与えるユーザの操作のうち、予め定められた操作時間以上となる操作に対して、前記再生速度を速くする再生方法が設定されていることを特徴とする請求項３に記載の表示制御方法。
【請求項５】
前記再生方法設定テーブルでは、前記描画領域に描画された描画内容に変化を与えるユーザの操作のうち、予め定められた操作時間以下となる操作に対して、前記再生速度を遅くする再生方法が設定されていることを特徴とする請求項３に記載の表示制御方法。
【請求項６】
前記再生方法設定テーブルに設定された前記再生方法には、予め定められたアニメーションデータを表示装置上に再生する再生方法が含まれることを特徴とする請求項２に記載の表示制御方法。
【請求項７】
前記再生方法設定テーブルでは、前記描画領域に描画された描画内容に変化を与えるユーザの操作のうち、該描画領域を構成するページについてのページ操作に対して、前記予め定められたアニメーションデータを表示装置上に再生する再生方法が設定されていることを特徴とする請求項６に記載の表示制御方法。
【請求項８】
前記再生方法設定テーブルに設定された前記再生方法には、前記ユーザの操作に伴って変化した描画領域上のオブジェクトが、文字または文字列を構成するオブジェクトである場合に、該変化した後の文字又は文字列のみを予め定められた時間で表示装置上に再生する再生方法が含まれることを特徴とする請求項２に記載の表示制御方法。
【請求項９】
表示装置と接続される表示制御装置であって、
表示装置と接続され該表示装置上の描画領域において描画内容が変化した場合に該変化の内容を記録する記録装置から、該変化の内容に関する情報を取得する第１の取得手段と、
前記第１の取得手段により取得された前記変化の内容に関する情報を用いて表示装置上に描画内容を再生する際の再生方法を、前記変化の内容に対応して再生方法が設定されている再生方法設定テーブルより取得する第２の取得手段と、
前記第１の取得手段により取得された変化の内容に関する情報を用いて、前記第２の取得手段により取得された再生方法に基づいて、表示装置上に描画内容を再生する再生手段と
を備えることを特徴とする表示制御装置。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の表示制御方法の各工程をコンピュータに実行させるための制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記の目的を達成するために本発明に係る表示制御装置は以下のような構成を備える。即ち、
表示装置と接続される表示制御装置であって、
表示装置と接続され該表示装置上の描画領域において描画内容が変化した場合に該変化の内容を記録する記録装置から、該変化の内容に関する情報を取得する第１の取得手段と、
前記第１の取得手段により取得された前記変化の内容に関する情報を用いて表示装置上に描画内容を再生する際の再生方法を、前記変化の内容に対応して再生方法が設定されている再生方法設定テーブルより取得する第２の取得手段と、
前記第１の取得手段により取得された変化の内容に関する情報を用いて、前記第２の取得手段により取得された再生方法に基づいて、表示装置上に描画内容を再生する再生手段とを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月25日(2010.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
受信した印刷ジョブを格納するスプーラと、前記印刷ジョブの処理状態を表示する表示制御手段とを利用する印刷制御装置であって、
前記スプーラから出力された印刷ジョブを保持し、印刷装置に対する印刷ジョブの送信と、当該印刷装置において印刷ジョブが完了したか否かと、を管理する印刷ジョブ管理手段を備え、
前記印刷ジョブ管理手段から前記印刷装置に対して印刷ジョブの送信が完了した場合、前記印刷ジョブ管理手段は、送信完了の通知を前記スプーラに出力し、
前記印刷ジョブ管理手段が前記印刷装置から前記印刷ジョブの処理が完了したことを示す通知を受け付けた場合、前記印刷ジョブ管理手段は、印刷完了の通知を前記スプーラに出力し、
前記表示制御手段は、前記スプーラが受け付けた前記送信完了の通知と、前記印刷完了の通知と、により前記印刷ジョブの処理状態の表示を制御することを特徴とする印刷制御装置。
【請求項２】
前記印刷ジョブ管理手段は、前記スプーラに格納されている印刷ジョブに対して、当該印刷ジョブの処理を制御するための操作が行われたか否かを判定し、当該操作が行われたと判定された場合、前記印刷ジョブ管理手段が保持している印刷ジョブのうち、前記スプーラに格納され前記操作が加えられた印刷ジョブに対応する印刷ジョブに対して、当該操作を反映させることを特徴とする請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項３】
前記操作には、前記印刷ジョブの処理の中断、中断した処理の再開、前記印刷ジョブの削除のうち少なくとも１つが含まれることを特徴とする請求項２に記載の印刷制御装置。
【請求項４】
前記スプーラは、前記印刷ジョブ管理手段から出力される前記印刷完了の通知に基づいて、前記スプーラから該当する印刷ジョブを削除し、
前記表示制御手段は、削除された前記印刷ジョブの表示を削除することを特徴とする請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項５】
前記印刷ジョブ管理手段が保持している前記印刷ジョブに設定されている情報を設定変更するための変更手段を更に備え、
前記印刷ジョブ管理手段は、前記変更手段から設定変更の要求を受け付けた場合に、設定変更の対象となる印刷ジョブが前記印刷装置に送信済みであるか判定し、当該印刷装置に対して未だ送信されていない場合に、当該印刷ジョブに前記設定変更を反映することを特徴とする請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項６】
受信した印刷ジョブを格納するスプーラと、前記印刷ジョブの処理状態を表示する表示制御手段とを利用する印刷制御装置における印刷制御方法であって、
印刷ジョブ管理手段が、前記スプーラから出力された印刷ジョブを保持し、印刷装置に対する印刷ジョブの送信と、当該印刷装置において印刷ジョブが完了したか否かと、を管理する印刷ジョブ管理工程を有し、
前記印刷ジョブ管理工程の処理により前記印刷装置に対して印刷ジョブの送信が完了した場合、前記印刷ジョブ管理工程では、送信完了の通知を前記スプーラに出力し、
前記印刷ジョブ管理工程が前記印刷装置から前記印刷ジョブの処理が完了したことを示す通知を受け付けた場合、前記印刷ジョブ管理工程では、印刷完了の通知を前記スプーラに出力し、
前記表示制御手段は、前記スプーラが受け付けた前記送信完了の通知と、前記印刷完了の通知と、により前記印刷ジョブの処理状態の表示を制御することを特徴とする印刷制御方法。
【請求項７】
前記印刷ジョブ管理工程では、前記スプーラに格納されている印刷ジョブに対して、当該印刷ジョブの処理を制御するための操作が行われたか否かを判定し、当該操作が行われたと判定された場合、前記印刷ジョブ管理手段が保持している印刷ジョブのうち、前記スプーラに格納され前記操作が加えられた印刷ジョブに対応する印刷ジョブに対して、当該操作を反映させることを特徴とする請求項６に記載の印刷制御方法。
【請求項８】
前記操作には、前記印刷ジョブの処理の中断、中断した処理の再開、前記印刷ジョブの削除のうち少なくとも１つが含まれることを特徴とする請求項７に記載の印刷制御方法。
【請求項９】
前記スプーラは、前記印刷ジョブ管理工程の処理により出力される前記印刷完了の通知に基づいて、前記スプーラから該当する印刷ジョブを削除し、
前記表示制御手段は、削除された前記印刷ジョブの表示を削除することを特徴とする請求項６に記載の印刷制御方法。
【請求項１０】
変更手段が、前記印刷ジョブ管理手段により保持されている前記印刷ジョブに設定されている情報を設定変更するための変更工程を更に有し、
前記印刷ジョブ管理工程では、前記変更工程により設定変更の要求が受け付けられた場合に、設定変更の対象となる印刷ジョブが前記印刷装置に送信済みであるか判定し、当該印刷装置に対して未だ送信されていない場合に、当該印刷ジョブに前記設定変更を反映することを特徴とする請求項６に記載の印刷制御方法。
【請求項１１】
コンピュータを、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の印刷制御装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のプログラムを格納したコンピュータ可読の記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の目的を達成する印刷制御装置は、受信した印刷ジョブを格納するスプーラと、前記印刷ジョブの処理状態を表示する表示制御手段とを利用する印刷制御装置であって、
前記スプーラから出力された印刷ジョブを保持し、印刷装置に対する印刷ジョブの送信と、当該印刷装置において印刷ジョブが完了したか否かと、を管理する印刷ジョブ管理手段を備え、
前記印刷ジョブ管理手段から前記印刷装置に対して印刷ジョブの送信が完了した場合、前記印刷ジョブ管理手段は、送信完了の通知を前記スプーラに出力し、
前記印刷ジョブ管理手段が前記印刷装置から前記印刷ジョブの処理が完了したことを示す通知を受け付けた場合、前記印刷ジョブ管理手段は、印刷完了の通知を前記スプーラに出力し、
前記表示制御手段は、前記スプーラが受け付けた前記送信完了の通知と、前記印刷完了の通知と、により前記印刷ジョブの処理状態の表示を制御することを特徴とする。