【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年1月21日(2010.1.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
反応性クリーニング流体は、水および１または２以上の酸化材料の多成分の混合物として定義される。所与の組成物の反応性クリーニング流体の臨界温度および臨界圧力は、反応性クリーニング流体が、単一の相としてのみ存在可能であるよりも上の温度および圧力のあらゆる組み合わせによって定義される。反応性クリーニング流体の臨界圧力は、温度が変化してもなんら相変化が起きない圧力超の圧力であり、そして反応性クリーニング流体の臨界温度は、圧力が変化してもなんら相変化が起きない温度超の温度である。反応性クリーニング流体の臨界温度および臨界圧力は、流体の組成に依存する。酸化材料の濃度が減少するにつれて、反応性クリーニング流体の臨界温度および圧力は、水すなわち３７４℃および２２．１２ＭＰａＡ（２１８，３ａｔｍａ（３，２０８ｐｓｉａ)）の臨界温度および臨界圧力に近づく。本願中に記載されたクリーニング流体に適用される“水性”の語はあらゆる形で水を含むクリーニング流体を意味する。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
最初のクリーニングステップおよび第２のクリーニングステップは、下記の様に同一のクリーニングシステムで行われてもよく、それによってクリーニングされる物品の必要なハンドリングを最小化する。反応性クリーニング流体および／又は第２のクリーニング流体は、クリーニングチャンバーへの導入前または後で、それぞれのクリーニング流体の臨界温度および圧力超の温度および圧力に、加熱され且つ加圧されてもよい。超臨界圧力がポンプまたはコンプレッサーを使用する機械的なデバイスによって達成されて、貯蔵室からクリーニングチャンバーへ液体を移送しても良い。あるいは、超臨界圧力はクリーニングチャンバーの外の容器中で一定体積および密度で超臨界温度まで流体を加熱し、そして加熱され且つ加圧された流体を流体の臨界温度および圧力超である最終の状態でクリーニングチャンバーに移送することによって達成されてもよい。別の方法では、クリーニング流体は準臨界状態でクリーニングチャンバーに導入され、そして次にクリーニングチャンバーで一定の体積且つ密度で超臨界温度および圧力まで加熱されても良い。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
本発明の態様は、単一の図である図式の工程フロー図によって具体的に説明されるクリーニングシステムを含み且つ利用する。酸化反応器１は、汚染された物品３を容器中に入れ、そしてクリーニングが完了した後に、物品を取り除くための密閉可能な密閉蓋４を有する圧力容器２を含む。酸化容器は反応性クリーニング流体を容器中に導入するための少なくとも１つの入り口および使用済みのクリーニング流体、例えば除去された汚染材料並びに未反応の反応性クリーニング流体を含む生成混合物の回収のための少なくとも１つの出口を有する。容器は、必要に応じてここでは容器の壁上に配置されるとして示されるヒーター５によって加熱されてもよい。あるいは、内部ヒーター（示されていない）は容器内に配置されて、内部流体を直接加熱しても良い。酸化容器は７０．９ＭＰａＡ（７００ａｔｍａ）までの圧力および５００℃までの温度で運転できるように設計されている。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
クリーニングシステムは、反応性クリーニング流体に使用される高超純水のための貯蔵容器１９を含む。貯蔵容器は７０．９ＭＰａＡ（７００ａｔｍａ）までの運転が可能な圧力容器であってもよく、そして５００℃までの温度に容器を加熱することが可能なヒーター２１が装着されていてもよい。補給水がライン２３を介して加えられ、工程水がライン２５を介して存在し、そして追加ポンプ２７が予め加圧され且つ加熱された水を酸化容器へ移送するために使用される。あるいは、追加のポンプまたは計量ポンプ２７が、水貯蔵容器１９中の低圧で貯蔵されている水を加圧するために使用されてもよい。水が下記の様に一定の密度および体積で等積加熱によって水貯蔵容器１９中で加圧されると、ポンプ２７は必要ないかもしれない。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
クリーニングシステムは、第２のクリーニング流体成分の貯蔵のための第２のクリーニング流体貯蔵容器６１を含んでも良い。この貯蔵容器は７０．９ＭＰａＡ（７００ａｔｍａ）までの運転が可能な圧力容器であってもよく、そして５００℃まで容器を加熱可能なヒーター６３が装着されていてもよい。第２のクリーニング流体の補給は、ライン６５を介して加えられ、そして第２流体はライン６７を介して存在する。追加のポンプまたは計量ポンプ６９が、予め加圧され且つ加熱された第２のクリーニング流体をライン３１を介して酸化容器に移送するために使用されてもよい。あるいは、追加のポンプ６９が、低圧で貯蔵容器６１中に貯蔵された第２のクリーニング流体を加圧し、そしてポンプで注入するために使用されてもよい。第２のクリーニング流体が、下記の様に一定密度且つ体積での等積加熱によって貯蔵容器６１中で加圧されるときに、ポンプ６９が使用されてもよい。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
ライン７１が熱交換器３５の出口と冷却器７３とを接続し、そしてライン７５が冷却器７３の出口と固体セパレーター７６とを接続する。この固体セパレーターは沈殿、ろ過、慣性分離、またはあらゆる他の公知の固形液体分離工程を利用してもよい。固形汚染物質が、ライン７７を介してセパレーター７６から回収されてもよい。ライン７８はセパレーター７６の出口と圧力還元バルブ７９とを接続し、そしてライン８１は気体液体セパレーター容器８３の入り口へのバルブを接続する。このセパレーター容器は、気体出口８５および液体出口８９に取り付けられている。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
代表的なクリーニング工程の典型的な例では、残留フォトレジスト材料を含む汚染されたシリコンウェハー３が圧力容器２中の支持基材７上に配置され、そして圧力容器が閉じられ密閉される。超純水がクリーニング工程期間に、物品を清掃するのに充分な量でライン２３を介して水貯蔵容器１９の中へ導入される。水は任意選択的に水貯蔵容器内で前加熱され、ポンプ２７によって選択された２２．１２ＭＰａＡ（２１８，３ａｔｍａ）超の圧力へ加圧され、ライン３３および３９を介して移送され、ヒーター４１で３７４℃超の温度へ加熱される、そしてライン４３および５９を介して圧力容器２の中へ移送され、それによって水の臨界温度および圧力超の、温度および圧力へ容器を最初に加熱および加圧する。シリンダー４９からの高純度酸素はコンプレッサー４７によって圧縮され、そしてライン４５および５９を介して必要な圧力の圧力容器２の中へ導入され、それによって反応性クリーニング流体のための酸化剤を提供する。所望の流速での流れがポンプ２７によって継続され、そして必要な速度の酸素の流れがコンプレッサー４７によって継続される。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
露光し且つ架橋したポリマーのフォトレジストを含む１ｃｍ正方形シリコンウェハーサンプルを、５００ｃｍ３耐圧反応容器中に配置した。ステンレススチール容器を次に３８０℃の温度且つ０．１０ＭＰａＡ（１４．７ｐｓｉａ）の初期圧力で１体積％Ｈ２Ｏ２と混合した高純度ろ過水で満たした。この状態では水は気相であった。水およびＨ２Ｏ２を含む反応性クリーニング流体の加熱を、反応容器および供給ラインの外側に位置する抵抗ヒーターによって行った。ヒーター上の熱電対温度センサーが、電気温度コントローラーへフィードバックを与えた。背圧レギュレーターを反応容器の下側に配置し、そして２２．７５ＭＰａＡ（３，３００ｐｓｉａ）にセットした。高圧ピストンタイプのポンプを、反応容器の中に水およびＨ２Ｏ２を含む反応性クリーニング流体を送るために使用した。水／Ｈ２Ｏ２混合物が連続的に反応容器に入るにつれて、反応容器の圧力が２２．７５ＭＰａＡ（３，３００ｐｓｉａ）まで増加した。加熱された反応性クリーニング流体の圧力が２２．１２ＭＰａＡ（３，２０８ｐｓｉａ）超に増加するにつれて、反応容器の中で超臨界流体になった。超臨界状態を達成した後で、加熱された水／Ｈ２Ｏ２混合物の流れを実際１０ｃｍ３／分の流速で容器および圧力レギュレーターを通してポンプによって与えた。水およびＨ２Ｏ２が容器を通って連続的に流れる５分の間システムを３８０℃および２２．７５ＭＰａＡ（３，３００ｐｓｉａ）で維持した。残留する使用済みのクリーニング流体を次に容器から排出した。容器を開けて、そしてシリコンウェハーサンプルを取り除き、そしてろ過高純水中で洗浄した。洗浄したウェハーサンプルは、ろ過されたＮ２でパージされたオーブン中２００℃で１時間ウェハーを加熱することによって乾燥した。ウェハーを次にＳＥＭで調べ、そしてフォトレジストおよび他の汚染材料がウェハー表面から完全に除去されているのがわかった。