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【手続補正書】
【提出日】平成22年3月4日(2010.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射性電極上に設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられた透明電極と、
前記透明電極上に設けられた透明基板と、
前記透明基板上に設けられた反射偏光板と、
前記反射偏光板上に設けられた１／４波長板と、
前記１／４波長板上に設けられた偏光板とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
第１の偏光板上に設けられた第１の１／４波長板と、
前記第１の１／４波長板上に設けられた第１の反射偏光板と、
前記第１の反射偏光板上に設けられた透明基板と、
前記透明基板上に設けられた第１の透明電極と、
前記第１の透明電極上に設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられた第２の透明電極と、
前記第２の透明電極上に設けられた第２の反射偏光板と、
前記第２の反射偏光板上に設けられた第２の１／４波長板と、
前記第２の１／４波長板上に設けられた第２の偏光板とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
偏光板上に設けられた１／４波長板と、
前記１／４波長板上に設けられた反射偏光板と、
前記反射偏光板上に設けられた透明基板と、
前記透明基板上に設けられた、ソース領域又はドレイン領域を有する半導体膜を有する薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタ上に設けられた、前記ソース領域又はドレイン領域に達するコンタクトホールを有する層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に設けられた前記ソース領域又はドレイン領域と電気的に接続された配線と、
前記層間絶縁膜及び前記配線上に設けられた透明電極と、
前記透明電極上に設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられた反射性電極とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項４】
第１の偏光板上に設けられた第１の１／４波長板と、
前記第１の１／４波長板上に設けられた第１の反射偏光板と、
前記第１の反射偏光板上に設けられた透明基板と、
前記透明基板上に設けられた、ソース領域又はドレイン領域を有する半導体膜を有する薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタ上に設けられた、前記ソース領域又はドレイン領域に達するコンタクトホールを有する層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜上に設けられた前記ソース領域又はドレイン領域と電気的に接続された配線と、
前記層間絶縁膜及び前記配線上に設けられた第１の透明電極と、
前記第１の透明電極上に設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられた第２の透明電極と、
前記第２の透明電極上に設けられた第２の反射偏光板と、
前記第２の反射偏光板上に設けられた第２の１／４波長板と、
前記第２の１／４波長板上に設けられた第２の偏光板とを有することを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１又は３において、
前記透明基板と前記反射偏光板との間にプリズム層又は散乱層が形成されてなることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１、３又は５において、
前記透明基板と前記反射偏光板との間に、第２の１／４波長板が形成されてなることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項２又は４において、
前記第２の透明電極と前記反射偏光板との間にプリズム層又は散乱層が形成されてなることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項２、４又は７において、
前記第２の透明電極と前記反射偏光板との間に第３の１／４波長板が形成されてなることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１又は３において、前記１／４波長板は、可視光の範囲において１／４波長板としての効果を有する広帯域化１／４波長板であることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項２又は４において、
前記第１の１／４波長板又は前記第２の１／４波長板は、可視光の範囲において１／４波長板としての効果を有する広帯域化１／４波長板であることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一項に記載の表示装置を具備することを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月25日(2010.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】カメラシステム
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カメラ装置と、前記カメラ装置が着脱自在に装着されるカメラプレートと、を備えたカメラシステムにおいて、
前記カメラ装置は、カメラ装置側接点と、前記カメラ装置側接点を介して入力される制御信号に基づいて制御されるレンズ装置と、を備えており、
前記カメラプレートは、
レンズコントローラが接続されるコネクタと、
前記コネクタに電気的に接続されており、前記カメラ装置が装着された場合に前記カメラ装置側接点に接触することにより、前記レンズコントローラから前記コネクタ及び前記カメラ装置側接点を介して入力される制御信号に基づいて前記レンズ装置を制御可能とするカメラプレート側接点と、
を備えることを特徴とするカメラシステム。
【請求項２】
カメラ装置と、前記カメラ装置が着脱自在に装着されるカメラプレートと、を備えたカメラシステムにおいて、
前記カメラ装置は、カメラ装置側無線通信部と、前記カメラ装置側無線通信部を介して入力される制御信号に基づいて制御されるレンズ装置と、を備えており、
前記カメラプレートは、
レンズコントローラが接続されるコネクタと、
前記コネクタに電気的に接続されており、前記カメラ装置が装着された場合に前記カメラ装置側無線通信部との間で無線データ通信することにより、前記レンズコントローラから前記コネクタ及び前記カメラ装置側無線通信部を介して入力される制御信号に基づいて前記レンズ装置を制御可能とするカメラプレート側無線通信部と、
を備えることを特徴とするカメラシステム。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のカメラプレートが装着された三脚。
【請求項４】
請求項１又は２に記載のカメラプレートが装着されたクレーン装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
本発明に関連があると思われるものとして、例えば特許文献１がある。この特許文献１には、カメラ装置を三脚にネジ止めする構成、並びに、三脚に内蔵された光ファイバ及びカメラ装置に内蔵された光ファイバを介してカメラ装置をリモート制御する構成が開示されている。
その他、カメラ装置が着脱自在に装着されるカメラプレートに相当する構成を備えたものとして、例えば特許文献２、特許文献３がある。
特許文献２には、カメラプレートに相当する三脚アダプタが記載されている。特許文献３には、カメラプレートに相当する三脚取付板が記載されている。
なお、
【特許文献１】特開平３−１５９３７５号公報
【特許文献２】特開２００３−２９５２８８号公報
【特許文献３】特開２０００−２７８７１８号公報
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、請求項１に記載の発明は、カメラ装置と、前記カメラ装置が着脱自在に装着されるカメラプレートと、を備えたカメラシステムにおいて、前記カメラ装置は、カメラ装置側接点と、前記カメラ装置側接点を介して入力される制御信号に基づいて制御されるレンズ装置と、を備えており、前記カメラプレートは、レンズコントローラが接続されるコネクタと、前記コネクタに電気的に接続されており、前記カメラ装置が装着された場合に前記カメラ装置側接点に接触することにより、前記レンズコントローラから前記コネクタ及び前記カメラ装置側接点を介して入力される制御信号に基づいて前記レンズ鏡胴を制御可能とするカメラプレート側接点と、を備えることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
請求項２に記載の発明は、カメラ装置と、前記カメラ装置が着脱自在に装着されるカメラプレートと、を備えたカメラシステムにおいて、前記カメラ装置は、カメラ装置側無線通信部と、前記カメラ装置側無線通信部を介して入力される制御信号に基づいて制御されるレンズ装置と、を備えており、前記カメラプレートは、レンズコントローラが接続されるコネクタと、前記コネクタに電気的に接続されており、前記カメラ装置が装着された場合に前記カメラ装置側無線通信部との間で無線データ通信することにより、前記レンズコントローラから前記コネクタ及び前記カメラ装置側無線通信部を介して入力される制御信号に基づいて前記レンズ鏡胴を制御可能とするカメラプレート側無線通信部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月15日(2010.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、基材と、圧電膜と、前記基材と前記圧電膜との間に配置された電極とを備える圧電素子であって、
前記電極は、前記基材側に位置する導電性酸化物層と、前記圧電膜側に位置する導電性金属層と、前記導電性酸化物層と前記導電性金属層との間に設けられた、前記導電性酸化物と同じ導電性酸化物と前記導電性金属と同じ導電性金属とが混合された混合層と、を備え、
前記混合層内の前記導電性酸化物の割合が、前記混合層の前記導電性酸化物層との界面から前記混合層の前記導電性金属層との界面に向かって漸減する傾斜組成構造であることを特徴とする圧電素子。
【請求項２】
前記導電性金属がＰｔ族であることを特徴とする請求項１に記載の圧電素子。
【請求項３】
前記混合層の厚さが１０ｎｍ以上１μｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の圧電素子。
【請求項４】
前記圧電膜の厚さが１μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の圧電素子。
【請求項５】
前記導電性酸化物が、ＡＢＯ3ペロブスカイト型であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の圧電素子。
【請求項６】
前記ＡＢＯ3ペロブスカイト型の導電性酸化物が、ＬａＮｉＯ3、ＬａＣｒＯ3、ＳｒＲｕＯ3、ＣａＲｕＯ3、Ｌａ1-xＳｒxＣｏＯ3、ＢａＰｂＯ3、Ｌａ1-xＳｒxＣａxＲｕＯ3、Ｌａ1-xＳｒxＴｉＯ3、ＳｒＩｒＯ3、及びこれらの化合物から選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項５に記載の圧電素子。
【請求項７】
前記圧電膜が、チタン酸ジルコン酸鉛系酸化物或いはリラクサ系誘電体であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の圧電素子。
【請求項８】
前記チタン酸ジルコン酸鉛系酸化物の主成分が、Ｐｂ（Ｚｒy，Ｔｉ1-y）Ｏ3で表され、ｙが０．２から０．８であることを特徴とする請求項７に記載の圧電素子。
【請求項９】
前記リラクサ系誘電体が、Ｐｂ（Ｍｎ，Ｎｂ）Ｏ3−ＰｂＴｉＯ3，Ｐｂ（Ｚｎ，Ｎｂ）Ｏ3−ＰｂＴｉＯ3、Ｐｂ（Ｓｃ，Ｔａ）Ｏ3−ＰｂＴｉＯ3、Ｐｂ（Ｉｎ，Ｎｂ）Ｏ3−ＰｂＴｉＯ3，Ｐｂ（Ｙｂ，Ｎｂ）Ｏ3−ＰｂＴｉＯ3，Ｐｂ（Ｎｉ，Ｎｂ）Ｏ3−ＰｂＴｉＯ3及びこれらの化合物から選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項７に記載の圧電素子。
【請求項１０】
基材と、圧電膜と、該基材と圧電膜との間に設けられた電極と、を少なくとも備えた、圧電素子の製造方法であって、
基材上に、電極を設ける工程と、前記電極の上に圧電膜を成膜した後に、該圧電膜を焼成する工程と、を有し、
前記電極は、前記基材上に、導電性酸化物層と、該導電性酸化物層上に位置する、該導電性酸化物層を構成する導電性酸化物と同じ導電性酸化物と導電性金属とが混合した混合層と、該混合層上に位置する、該混合層に含まれる前記導電性金属と同じ導電性金属からなる導電性金属層と、を設けることにより、前記基材上に設けられることを特徴とする圧電素子の製造方法。
【請求項１１】
前記圧電膜を、ガスデポジション法、スパッタ法、ゾルゲル法、ＣＶＤ法のいずれかによって形成することを特徴とする請求項１０に記載の圧電素子の製造方法。
【請求項１２】
前記混合層を、スパッタ法により複数のターゲットを同時に放電させることにより形成することを特徴とする請求項１０または１１に記載の圧電素子の製造方法。
【請求項１３】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の圧電素子を用いたことを特徴とする電子デバイス。
【請求項１４】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の圧電素子を用いたことを特徴とするインクジェット装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第１は、少なくとも、基材と、圧電膜と、前記基材と前記圧電膜との間に配置された電極とを備える圧電素子であって、
前記電極は、前記基材側に位置する導電性酸化物層と、前記圧電膜側に位置する導電性金属層と、前記導電性酸化物層と前記導電性金属層との間に設けられた、前記導電性酸化物と同じ導電性酸化物と前記導電性金属と同じ導電性金属とが混合された混合層と、を備え、
前記混合層内の前記導電性酸化物の割合が、前記混合層の前記導電性酸化物層との界面から前記混合層の前記導電性金属層との界面に向かって漸減する傾斜組成構造であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の第２は、基材と、圧電膜と、該基材と圧電膜との間に設けられた電極と、を少なくとも備えた、圧電素子の製造方法であって、
基材上に、電極を設ける工程と、前記電極の上に圧電膜を成膜した後に、該圧電膜を焼成する工程と、を有し、
前記電極は、前記基材上に、導電性酸化物層と、該導電性酸化物層上に位置する、該導電性酸化物層を構成する導電性酸化物と同じ導電性酸化物と導電性金属とが混合した混合層と、該混合層上に位置する、該混合層に含まれる前記導電性金属と同じ導電性金属からなる導電性金属層を設けることにより、前記基材上に設けられることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月26日(2010.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
保存された２値画像データを増強する方法であって、
前記保存された２値画像データをリトリーブし、
制御部によって、
前記２値画像データをより高い解像度の連続階調画像データに変換し、
少なくとも１つの画像増強プロセスを決定し、
増強画像を生成するために、前記少なくとも１つの画像増強プロセスを、前記より  解像度の連続階調画像データへ適用し、
前記増強画像の出力フォーマットを決定し、
前記増強画像を出力する、
ことを実行する、
方法。
【請求項２】
前記保存された２値画像データをリトリーブすることは、画像属性を表す保存されたメタデータをリトリーブし、使用することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記メタデータは、オリジナル型、オリジナル部分型、背景抑制、コントラスト増強、ダイナミックレンジ調整、輝度調整、鮮明度調整、色相調整、クロム調整、カラーバランス、および彩度調整、を含む群から選択されるより低い解像度の画像のバイナリデータに関連する少なくとも１つのユーザ選択設定を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記メタデータは、オリジナル画像の各画素の画像セグメント化データもしくは該オリジナル画像の画素のブロックを含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記メタデータは、文字画像、写真画像、混合画像、およびマップ画像、を含む群から選択される全体画像特性を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記画像増強プロセスを決定することは、ユーザ選択増強プロセスおよび自動増強プロセスを含む群から選択される少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記少なくとも１つの画像増強プロセスは、オリジナル型、オリジナル部分型、背景抑制、コントラスト増強、ダイナミックレンジ調整、輝度調整、鮮明度調整、色相調整、クロム調整、カラーバランスおよび彩度調整、を含む群の少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記連続階調画像データに少なくとも１つの画像増強プロセスを適用することは、少なくとも１つの色変換を実行することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記少なくとも１つの色変換を実行することは、
オリジナル色空間データフォーマットを達成するために、２値画像に関連するメタデータにもとづいて、前記連続階調画像データに逆色変換を実行し、
前記オリジナル色空間データフォーマットに前記画像増強プロセスを適用し、
増強された前記オリジナル色空間データを前記連続階調画像データに戻すために変換する、
ことを含む、
請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記増強画像の出力フォーマットを決定することは、増強された前記連続階調画像データを２値画像データフォーマットに戻すために変換すること、
をさらに含む、
請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記増強画像を出力することは、
画像出力端末に前記増強画像を提供することを含む、
請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
画像データの変換および増強を実行するように構成された画像処理システムモジュールと、
少なくとも２値画像データを保存するように構成されたメモリーモジュールと、
画像を出力するように構成された画像出力端末モジュールと、
制御部モジュールと、
を備えた保存された２値画像データを増強することができる装置であって、
前記制御部モジュールは、
前記メモリーモジュールからの保存された２値画像データのリトリーブを開始し、
前記画像処理システムで使用するために、前記２値画像データをより高い解像度の連続階調画像データに変換し、
少なくとも１つの画像増強プロセスを決定し、
増強画像データを生成するために、前記少なくとも１つの画像増強プロセスを前記より高い解像度の連続階調画像データへ適用するように、前記画像処理システムに指示し、
前記増強画像の出力フォーマットを決定し、
前記増強画像を出力する、
ように構成されている、
装置。
【請求項１３】
前記制御部モジュールは、
前記２値画像データに関連する保存されたメタデータのリトリーブを開始する、
ように、さらに構成されている、
請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記制御部モジュールによって決定される少なくとも１つの画像増強プロセスは、ユーザ選択増強プロセスおよび自動増強プロセスを含む群の少なくとも１つを含む、請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記画像処理システムによって実行される少なくとも１つの画像増強処理は、オリジナル型、オリジナル部分型、背景抑制、コントラスト増強、ダイナミックレンジ調整、輝度調整、鮮明度調整、色相調整、クロム調整、カラーバランス、および彩度調整、を含む群の少なくとも１つを含む、請求項１２に記載の装置。
【請求項１６】
前記画像処理システムは、
少なくとも１つの色変換を実行することにより、前記連続階調画像データに少なくとも１つの画像増強プロセスを適用する、
ことを含む、請求項１２に記載の装置。
【請求項１７】
画像データの変換および増強を実行するように構成された画像処理システムモジュールと、
少なくとも２値画像データを保存するように構成されたメモリーモジュールと、
画像を出力するように構成された画像出力端末モジュールと、
制御部モジュールと、
を備えた保存された２値画像データを増強することができる装置であって、
前記制御部モジュールは、
前記メモリーモジュールからの保存された２値画像データのリトリーブを開始し、
前記画像処理システムで使用するために、前記２値画像データをより高い解像度の連続階調画像データに変換し、
少なくとも１つの画像増強プロセスを決定し、
増強画像データを生成するために、前記少なくとも１つの画像増強プロセスを前記より高い解像度の連続階調画像データへ適用するように、前記画像処理システムに指示し、
前記増強画像の出力フォーマットを決定し、
前記増強画像を出力する、
ように構成され、
前記画像処理システムは、
少なくとも１つの色変換を実行することにより、前記連続階調画像データに少なくとも１つの画像増強プロセスを適用する、
ように構成され、
オリジナル色空間データフォーマットを達成するために、２値画像に関連するメタデータにもとづいて、前記連続階調画像データに逆色変換を実行し、
前記オリジナル色空間データフォーマットに前記画像増強プロセスを適用し、
増強された前記オリジナル色空間データを前記連続階調画像データに戻すために変換する、
ことを含む、
装置。
【請求項１８】
前記制御部モジュールによって増強画像の出力フォーマットを決定することは、増強された前記連続階調画像データを２値画像データフォーマットに戻すために変換するように指示することを含む、請求項１７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月12日(2010.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワークを介して接続する操作側計算機から遠隔操作データを受信し、
該遠隔操作データが指示する処理を実行して、実行結果の画面データを前記操作側計算機に送信する被操作側計算機と、
前記被操作側計算機に前記遠隔操作データを送信し、前記被操作側計算機から前記画面データを受信して、当該画面データに基づき再生する再生表示画像を出力する前記操作側計算機と、
を備えるコンピュータシステムにおいて、
前記被操作側計算機は、
前記遠隔操作データが指示する前記処理が動画の再生処理である場合に、前記動画の再生処理に関する情報を前記操作側計算機に送信し、
前記操作側計算機は、
前記動画の再生処理に関する情報を参照して、前記被操作側計算機から受信した前記画面データに基づき出力する前記再生表示画像に、前記動画を重畳して再生する
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項２】
請求項１に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記動画の再生処理に関する情報は、前記画面データの前記再生表示画像に重畳する前記動画の表示位置と大きさに関する情報を含む
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項３】
請求項２に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記被操作側計算機は、前記前記再生表示画像には、重畳して再生する前記動画を含まない
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項４】
請求項３に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記操作側計算機は、
前記画面データを、第一の符号化処理が実行された状態で受信し、
前記動画を、第二の符号化処理が実行された状態で受信し、
前記画面データと前記動画とを各々復号化して再生する
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項５】
請求項３に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記操作側計算機は、前記動画の所在情報を前記被操作側計算機から受信し、
該所在情報に示される前記動画を備える他の計算機から前記動画を受信する
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項６】
請求項３乃至５いずれか一に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記動画は、前記画面データよりも高い優先度でネットワーク上を送受信される
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項７】
請求項３乃至６いずれか一に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記被操作側計算機が前記動画を有する場合、前記操作側計算機は、前記被操作側計算機と通信し、前記動画を送信する条件を定める
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項８】
請求項７に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記動画を送信する条件は、前記操作側計算機の計算機資源、又はネットワークの通信状況に基づいて定められることを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項９】
請求項８に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記操作側計算機は、前記被操作側計算機に前記操作側計算機の処理状態に関する情報を送信し、
前記動画を送信する条件は、さらに、前記操作側計算機の処理状態に基づいて定められる
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項１０】
請求項８又は９に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記動画を送信する条件は、前記動画の送信するデータ量、及び／又は送信タイミングを変更することである
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項１１】
請求項８乃至１０いずれか一に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記動画を送信する条件は、さらに、前記操作側計算機の処理状態に余裕がない場合、前記被操側計算機から送信されるデータ量を削減して送信する
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【請求項１２】
請求項８乃至１１いずれか一に記載のコンピュータシステムにおいて、
前記動画を送信する条件は、さらに、前記操作側計算機の処理状態に余裕がある場合、前記被操作側計算機から送信されるデータを先送りする
ことを特徴とするコンピュータシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】コンピュータシステム
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月7日(2010.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テレビジョン信号の垂直解像度をエンハンスするための方法であって、
飛び越し走査テレビジョン信号である入力テレビジョン信号を受信するステップと、
前記飛び越し走査テレビジョン信号を順次走査テレビジョン信号に変換するステップとを含み、前記変換は、前記飛び越し走査テレビジョン信号のライン速度を２倍にすることを含み、
前記順次走査テレビジョン信号のライン速度を約１．５倍から２倍に増加させて、前記入力テレビジョン信号のライン速度が約３倍から４倍に増加させるステップとを含み、
前記ライン速度が増加した順次走査テレビジョン信号を垂直領域においてスペクトル伸長するステップとを含む、方法。
【請求項２】
前記方法は、さらに、
前記スペクトル伸長され、前記ライン速度の増加した順次走査テレビジョン信号を、２−１の飛び越し走査テレビジョン信号に変換するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記方法は、さらに、
前記増加させるステップにおける順次走査テレビジョン信号の増加したライン速度の量と、前記スペクトル伸張するステップにおける垂直領域におけるスペクトル伸長の度合いとを相互に関連づけるステップを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
テレビジョン信号の垂直解像度をエンハンスするための方法であって、
１フレーム当りｎ本、１フィールド当りｎ／２本のライン速度、ｆＨｚのフレーム速度、２ｆＨｚのフィールド速度を有する２−１の飛び越し走査テレビジョン信号である入力テレビジョン信号を受信するステップと、
前記２−１の飛び越し走査テレビジョン信号を、２ｆＨｚのフレーム速度で、１フレーム当りｎ本のライン速度を有する順次走査テレビジョン信号に変換するステップと、
前記順次走査テレビジョン信号のライン速度をｋ倍に増加して、２ｆＨｚのフレーム速度で、１フレーム当りｋｎ本となるようにするステップとを含み、ｋは約１．５から２であり、
前記方法は、さらに、
ライン速度が増加した順次走査テレビジョン信号を垂直領域においてスペクトル伸長して、垂直遷移の立ち上がり時間と立ち下がり時間の少なくとも１つを短くするステップとを含む、方法。
【請求項５】
前記方法は、さらに、
前記スペクトル伸長され、前記ライン速度の増加した順次走査テレビジョン信号を、２−１の飛び越し走査テレビジョン信号に変換するステップを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記方法は、さらに、
前記増加させるステップにおける順次走査テレビジョン信号の増加したライン速度の量と、前記スペクトル伸張するステップにおける垂直領域におけるスペクトル伸長の度合いとを相互に関連づけるステップを含む、請求項４または５に記載の方法。
【請求項７】
順次走査テレビジョン信号の垂直解像度をエンハンスするための方法であって、
順次走査テレビジョン信号のライン速度を増加させて、周波数領域においては、ライン速度の倍数を中心とする繰返し周期的スペクトル間の間隔を増大させるステップと、
ライン速度が増加したテレビジョン信号を垂直領域においてスペクトル伸長するステップとを含み、周期的ライン速度間隔のスペクトルの帯域幅が増大しても周期的ライン速度間隔のスペクトルの実質的なオーバーラッピングがないように前記スペクトル伸長の度合いはライン速度の増加の量と相関される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月16日(2010.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査領域を有する基板を支持するためのステージと、
前記検査領域を検査するために前記検査領域のイメージを獲得するためのイメージ獲得ユニットと、
前記検査領域を照明するために前記ステージと前記イメージ獲得ユニットとの間に配置され、前記検査領域に向かって配置された内側面を有する開口が形成された印刷回路基板と前記印刷回路基板の内側面上に円周方向に実装された複数の発光素子を含むリング照明ユニットと、
を含むことを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
それぞれの発光素子は、表面実装型発光ダイオードまたはフリップチップ発光ダイオードであることを特徴とする請求項１記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記内側面は、前記ステージの上部面に対して４０°〜５０°の傾斜角を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記検査領域内には前記基板上に形成された半導体装置の電気的テストのための複数の金属バンプが形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項５】
前記半導体装置は、表示駆動回路を含むことを特徴とする請求項４記載の基板検査装置。
【請求項６】
前記印刷回路基板は、前記リング形態の内側面を有するリング基板と、前記リング基板から水平方向外側に延長する支持基板と、を含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項７】
前記リング照明ユニットを支持するためのパネルをさらに含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項８】
前記パネルは前記リング基板と対応するホールを有し、前記リング照明ユニットは前記支持基板の上部面が前記パネルの下部面に接するように前記パネルに装着されることを特徴とする請求項７記載の基板検査装置。
【請求項９】
前記パネルは前記リング基板と対応するホールを有し、前記リング照明ユニットは前記リング基板の外側面と前記支持基板の上部面が前記パネルに形成されたホールの内側面と前記パネルの下部面にそれぞれ接するように前記パネルに装着されることを特徴とする請求項７記載の基板検査装置。
【請求項１０】
前記ステージは、前記基板上に形成された半導体装置の電気的テストのための第１検査位置と前記照明ユニット下の第２検査位置との間で移動可能であるように配置されることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項１１】
前記イメージ獲得ユニットと連結され前記イメージ獲得ユニットによって獲得されたイメージを処理するためのイメージ処理ユニットと、
前記イメージ処理ユニットと連結されイメージ情報を貯蔵するためのイメージ貯蔵ユニットと、
前記イメージ処理ユニットと連結され前記イメージを表示するための表示ユニットと、
をさらに含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項１２】
前記印刷回路基板の内側面は、リング形態を有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の基板検査装置。
【請求項１３】
内側面を有する開口が形成されたベースを有する印刷回路基板と、
前記内側面上に円周方向に装着された複数の発光素子と、
を含むことを特徴とする基板を検査するための照明ユニット。
【請求項１４】
内側面を有する開口が形成されたベースと、
前記開口の内側面上に装着された複数の表面実装型発光ダイオードまたはフリップチップ発光ダイオードと、
を含むことを特徴とする照明ユニット。
【請求項１５】
検査領域を有する基板を支持するためのステージと、
前記検査領域を検査するために前記検査領域のイメージを獲得するためのイメージ獲得ユニットと、
前記ステージと前記イメージ獲得ユニットとの間に配置され、内側面を有する開口が形成されたベース及び前記検査領域を照明するために前記内側面上に装着された複数の表面実装型発光ダイオードまたはフリップチップ発光ダイオードと、
を含み、
前記内側面は前記検査領域に対して垂直でないことを特徴とする基板検査装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月23日(2010.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁基板と、
前記絶縁基板の上に形成されておりチャンネル領域を介して離隔配置されているソース電極およびドレイン電極と、
前記ソース電極および前記ドレイン電極を少なくとも一部分を露出させながら、前記チャンネル領域を囲んでいる開口領域を定義する隔壁と、
前記チャンネル領域を覆っており、結晶粒の大きさが互いに異なる第１サブ層と第２サブ層とを有する有機半導体層とを含む表示装置。
【請求項２】
前記第２サブ層は、前記第１サブ層の上に形成されており、前記第２サブ層は前記第１サブ層より結晶粒の大きさが大きい請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第１サブ層は、前記開口領域に部分的に形成されており、前記第２サブ層は、前記開口領域の全体に渡って形成されている請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記開口領域には、陥没部が設けられている請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１サブ層の少なくとも一部は、前記陥没部に形成されている請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記開口領域は外部に拡張された突出領域を有し、
前記突出領域は、前記陥没部のうちの少なくとも一部に形成されている請求項４に記載の表示装置。
【請求項７】
前記ソース電極は前記ドレイン電極を囲んでおり、前記チャンネル領域はＣ字形状である請求項４に記載の表示装置。
【請求項８】
前記陥没部のうちの少なくとも一部は、前記ソース電極を囲んでいる請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記ドレイン電極は閉ループ部分を有し、
前記陥没部のうちの少なくとも一部は、前記閉ループ部分の内部に形成されている請求項７に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記ソース電極およびドレイン電極の下部に位置している金属層をさらに含み、
前記金属層は、前記陥没部と重ならないように形成されている請求項４に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記金属層を覆っており、前記ソース電極およびドレイン電極の下部に位置した絶縁膜をさらに含み、
前記陥没部は、前記絶縁膜に形成されている請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記ソース電極およびドレイン電極はＩＴＯまたはＩＺＯからなる請求項４に記載の表示装置。
【請求項１３】
絶縁基板と、
前記絶縁基板の上に形成されており陥没部が形成されている絶縁膜と、
前記絶縁膜の上で前記陥没部に隣接配置されており、チャンネル領域を介して離隔配置されているソース電極およびドレイン電極と、
少なくとも一部が前記陥没部に形成されている有機層と、
前記有機層の上に形成されており前記チャンネル領域を覆っている有機半導体層とを含む表示装置。
【請求項１４】
前記有機層は有機半導体物質を有する、請求項１３に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記有機半導体層の結晶粒の大きさは前記有機層の結晶粒の大きさより大きい請求項１４に記載の表示装置。
【請求項１６】
前記絶縁膜の下部に位置した金属層をさらに含み、
前記金属層は前記ソース電極、前記ドレイン電極および前記チャンネル領域と互いに重なるように形成されている請求項１５に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月9日(2010.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のガラス基板を底部に垂直にかつ互いに平行に配置し収容するエッチング容器と、
前記エッチング容器に収容されたガラス基板に、それぞれの前記ガラス基板の間に介在して気泡を噴射する気泡噴射器と、
前記エッチング容器の外部に配置され前記気泡噴射器にガスを供給するガス供給器とを含む基板エッチング装置。
【請求項２】
前記気泡噴射器は、
内部にガス通路部が形成されている噴射板と、
前記噴射板の前記ガラス基板と向き合う面に形成され、前記ガス通路部と連結されている複数の噴射ノズルとを有する請求項１に記載の基板エッチング装置。
【請求項３】
前記気泡噴射器は、
中央に開口部が形成されているフレームと、
前記フレームの内部に配置され、前記ガス供給器と連結されている第１チューブと、
一定の間隔で前記第１チューブと連結され前記開口部を縦断していて、前記それぞれのガラス基板と向き合う面に対応して形成されている複数の噴射口を備える第２チューブとを有する請求項１に記載の基板エッチング装置。
【請求項４】
互いに平行に配置された複数のガラス基板をエッチング容器の底板に垂直に配置する段階と、
それぞれの前記ガラス基板の間に介在されるように気泡噴射器を配置する段階と、
前記エッチング容器外部に配置されたガス供給器から前記気泡噴射器にガスを供給する段階と、
前記気泡噴射器が前記ガラス基板に気泡を噴射して不純物を除去する段階とを含む基板エッチング方法。
【請求項５】
前記気泡噴射器は、内部に前記ガス供給器と連結されたガス通路部を有する噴射板の前記ガラス基板と向き合う面に形成された複数の噴射ノズルを通じて気泡を噴射する請求項４に記載の基板エッチング方法。
【請求項６】
複数のガラス基板を底板に垂直にかつ互いに平行に配置し収容するエッチング容器と、
前記エッチング容器に収容されたガラス基板の配置方向とその長手方向が一致するように配置され前記ガラス基板に気泡を噴射する気泡噴射管と、
前記エッチング容器の外部に配置され前記気泡噴射管にガスを供給するガス供給器とを含む基板エッチング装置。
【請求項７】
前記気泡噴射管は、前記ガラス基板を挟んで一対をなして配置され前記ガラス基板に気泡を噴射する請求項６に記載の基板エッチング装置。
【請求項８】
前記気泡噴射管は、前記ガラス基板に気泡を噴射する位置に一定の間隔で形成された複数の噴射口を有する請求項６に記載の基板エッチング装置。
【請求項９】
互いに平行に配置された複数のガラス基板をエッチング容器の底に垂直に配置する段階と、
前記ガラス基板を挟んで２つの気泡噴射管を配置する段階と、
前記気泡噴射管を前記ガラス基板の配置方向と交差する方向に移動させながら前記ガラス基板に気泡を噴射して不純物を除去する段階とを含む基板エッチング方法。
【請求項１０】
前記気泡噴射管は、同一の速度で移動する請求項９に記載の基板エッチング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月27日(2010.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセスチャンバ内で基板を受容する為の静電チャックにおいて：
（ａ）セラミックパックであって、
（ｉ）メサの複数の隆起プラトーを備える、基板受容面であって、前記隆起プラトーは、溝パターンにより隔置されている、前記基板受容面、
（ｉｉ）前記セラミックパックを横断し、前記基板受容面の溝パターン内に置かれた周辺ポートおよび中央ポート内で終結する複数の熱伝達ガスコンジットであって、前記熱伝達ガスを前記基板受容面の異なるゾーンに提供し得る、前記熱伝達コンジット、
（ｉｉｉ）第１ステップ（段部）および第２ステップ（段部）を備えた周辺棚であって、前記第２ステップは、前記第１ステップより放射状外向きであり、前記第１ステップより低い、前記周辺棚、
を備える、前記セラミックパックと；
（ｂ）前記基板受容面上に置かれた基板を保持する為に静電力を生成するように前記セラミックパック内に組み込まれた電極と；
を備える、前記静電チャック。
【請求項２】
前記メサの隆起プラトーは、各々が、約１０個から約１０００個のメサを備える、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項３】
前記メサは、隆起円筒バンプである、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項４】
前記メサは、約５ミクロンから約５０ミクロンの大きさの平均直径を有する、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項５】
前記メサは、約０．５ｍｍから約５ｍｍの高さを有する、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項６】
前記溝パターンは、相互に接続された放射状アーム及び円形アームを備える、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項７】
前記周辺ポートは、弧状カットアウト内で終結する、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項８】
前記周辺ポートを囲む放射状内側及び外側のガス密閉リムを備える、請求項７に記載の静電チャック。
【請求項９】
前記中央ポートは、前記中央溝及び放射状溝の交差点で終結する、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項１０】
前記セラミックパックは、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化ケイ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及びそれらの混合物を備える、請求項１に記載の静電チャック。
【請求項１１】
プロセスチャンバ内で基板を受容する為の静電チャックにおいて：
（ａ）セラミックパックであって、
（ｉ）メサの複数の隆起プラトーを備える、基板受容面であって、前記隆起プラトーは、相互に接続された放射状アーム及び円形アームを備える溝パターンにより隔置されている、前記基板受容面、
（ｉｉ）前記セラミックパックを横断し、前記基板受容面の溝パターン内に置かれた周辺ポートおよび中央ポート内で終結する複数の熱伝達ガスコンジットであって、前記周辺ポートは、放射状内側及び外側のガス密閉リムにより囲まれ弧状カットアウト内で終結し、前記中央ポートは、前記中央溝及び放射状溝の交差点で終結し、前記熱伝達ガスコンジットは、前記熱伝達ガスを前記基板受容面の異なるゾーンに提供し得る、前記熱伝達ガスコンジット、
前記熱伝達ガスを前記基板受容面の異なるゾーンに提供し得る、前0記熱伝達コンジット；
（ｉｉｉ）第１ステップおよび第２ステップを備えた周辺棚であって、前記第２ステップは、前記第１ステップより放射状外向きであり、前記第１ステップより低い、前記周辺棚、を備える、前記セラミックパックと；
（ｂ）前記基板受容面上に置かれた基板を保持する為に静電力を生成するように前記セラミックパック内に組み込まれた電極と；
を備える、前記静電チャック。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月3日(2009.12.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
原子炉容器、使用済燃料プールもしくは機器ピット等の原子炉環境における水中の溶接部および機械的構造は、定期的に非破壊試験によってそれら自体の構造保全性を評価しかつ必要な場合には補修することによって、引き続き信頼性が保証されかつそれらの機能が果たされることが保証されなければならない。その試験は通常、同時進行の補修／調整作業が隣接エリアできわめて集中的に実施され、アクセスが至って限定されることが多い運転停止期間中に行われる。非破壊試験および補修作業用の支持機器には、例えば様々な特注の工具付属品、カメラ、ケーブルリール、プッシュプル装置、伸縮アーム／アセンブリ、油圧システム、真空ホース、過電流プローブ、その他の機器が含まれよう。
【特許文献１】日本公開特許公報Ｈ０９−２２２４９２
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原子炉サイトの、原子炉容器（１０）、使用済燃料プール（１０４）もしくは機器ピット（１０６）の少なくとも１つの水中環境内において検査を行い、または工具を使用する方法であって、
（ａ）前記原子炉容器（１０）または前記使用済燃料プール（１０４）または前記機器ピット（１０６）の一部分の上に位置する水プール（２２）の水面に、プラットホーム（３０、５０、８０または９１）を浮動させるステップと、
（ｂ）ブーム（３２、５６）を前記浮動プラットホーム（３０、５０）と前記水プール（２２）周辺のブーム支持構造の間に結合するステップと、
（ｃ）検査装置（１１８）もしくは工具を前記浮動プラットホーム（３０）から前記水面下の作業位置に配備して、前記作業位置において、前記検査装置（１１８）を用いた検査もしくは前記工具を用いた作業を行うステップ、
とを含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記原子炉容器（１０）、前記使用済燃料プール（１０４）および前記機器ピット（１０６）の前記１つ内の前記水中作業位置上に位置する前記水面沿いの位置まで前記プラットホームを駆動するための少なくとも１つのスラスタ（９０）を前記プラットホーム（８０）上に設けるステップを含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ブーム（３２、５６）を伸縮させることによって前記プラットホーム（３０、５０）を前記支持構造側もしくは該構造から離隔する側に変位させるステップを含むことを特徴とする請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
前記ブーム（３２）を概ね垂直方向に延在する軸中心に回転させて前記プラットホーム（３０）を前記水面沿いに横方向変位させるステップを含むことを特徴とする請求項３記載の方法。
【請求項５】
前記検査装置もしくは工具（１１８）の重量を専ら前記浮動プラットホーム（３０）からのみ支持するステップを含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記の配備するステップは、ケーブル（４０）を前記プラットホームから伸長させることによって前記検査装置もしくは工具（１１８）を前記原子炉容器（１０）、前記使用済燃料プール（１０４）および前記機器ピット（１０６）の前記１つ内の前記作業位置近辺で支持するステップを含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
ケーブルドライブ（５８）を前記プラットホーム（５０）に設け、かつ前記検査装置もしくは工具（１１８）を支持するケーブル（４０）を前記ケーブルドライブ（５８）から伸長もしくは後退させるステップを含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
ケーブルリール（３６）を前記支持構造にかつケーブルドライブ（３８）を前記浮動プラットホーム（３０）に設けるステップと、ケーブル（４０）を前記ブーム構造沿いに前記ケーブルリール（３６）とケーブルドライブ（３８）の間に位置付けするステップと、前記ケーブル（４０）を前記プラットホーム（３０）から伸長させることによって前記検査装置もしくは工具（１１８）を前記原子炉容器（１０）、前記使用済燃料プール（１０４）および前記機器ピット（１０６）の前記１つ内の作業位置近辺で支持するステップとを含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月1日(2009.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
給紙カセットのシート積載手段に積載されたシート束にエアーを吹き付けるためのエアー吹き付け装置であって、
前記給紙カセットに着脱可能に設けられる吹き付け装置本体を有し、
該吹き付け装置本体には吸気口及び送風口が設けられると共に、前記吹き付け装置本体内部には、前記吸気口から取り入れたエアーを前記送風口から吹き付けるエアー吹き付け手段が設けられ、
前記吹き付け装置本体が前記給紙カセットに取り付けられた場合に、前記吹き付け装置本体に設けられた送風口から、前記シート積載手段に積載されたシート束の端部にエアーを吹き付ける構成となっていることを特徴とするエアー吹き付け装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記課題を解決するために、本発明は、給紙カセットのシート積載手段に積載されたシート束にエアーを吹き付けるためのエアー吹き付け装置であって、
前記給紙カセットに着脱可能に設けられる吹き付け装置本体を有し、
該吹き付け装置本体には吸気口及び送風口が設けられると共に、前記吹き付け装置本体内部には、前記吸気口から取り入れたエアーを前記送風口から吹き付けるエアー吹き付け手段が設けられ、
前記吹き付け装置本体が前記給紙カセットに取り付けられた場合に、前記吹き付け装置本体に設けられた送風口から、前記シート積載手段に積載されたシート束の端部にエアーを吹き付ける構成となっていることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月5日(2010.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
災害によりかごを停止させた後、かごを走行させながらエレベータ装置の異常の有無を判定するエレベータ装置の自動点検方法であって、
第１速度運転で上記かごを走行させながら上記エレベータ装置の異常の有無を判定するステップ、及び
第１速度運転による点検を実施した区間に、第１速度運転よりも高速の第２速度運転で上記かごを走行させながら、上記エレベータ装置の異常の有無を判定するステップ
を含むことを特徴とするエレベータ装置の自動点検方法。
【請求項２】
第１速度運転での点検では、上記かごを吊り下げている主索の引っ掛かりの有無を判定し、第２速度運転での点検では、上記かごの走行により生じる騒音及び振動の少なくともいずれか一方の異常の有無を判定することを特徴とする請求項１記載のエレベータ装置の自動点検方法。
【請求項３】
点検運転開始位置から第１の折り返し位置まで上記かごと釣合おもりとが離れる方向へ第１速度運転での点検を行った後、上記第１の折り返し位置から上記点検運転開始位置まで第２速度運転での点検を行い、次に、第２の折り返し位置まで第１速度運転での点検を行った後、上記第２の折り返し位置から上記点検運転開始位置まで第２速度運転での点検を行うことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のエレベータ装置の自動点検方法。
【請求項４】
上記エレベータ装置の異常が検出されると点検運転を中止し、上記エレベータ装置が正常であると判定されると、上記エレベータ装置を自動復帰させることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載のエレベータ装置の自動点検方法。
【請求項５】
災害によりかごを停止させた後、第１速度運転でかごを走行させながらエレベータ装置の異常の有無を判定するとともに、第１速度運転による点検を実施した区間に、第１速度運転よりも高速の第２速度運転で上記かごを走行させながら、上記エレベータ装置の異常の有無を判定する点検運転部
を備えていることを特徴とするエレベータ制御装置。
【請求項６】
上記点検運転部は、上記かごを昇降させる駆動装置のモータ部の駆動トルクを監視することにより上記エレベータ装置の異常の有無を判定することを特徴とする請求項５記載のエレベータ制御装置。
【請求項７】
上記点検運転部は、駆動シーブの回転量に対する上記かごの移動量を監視することにより上記エレベータ装置の異常の有無を判定することを特徴とする請求項５記載のエレベータ制御装置。
【請求項８】
上記点検運転部は、マイクロフォンにより検出された点検運転中の昇降路内や上記かご内の騒音に基づいて、上記エレベータ装置の異常の有無を判定することを特徴とする請求項５記載のエレベータ制御装置。
【請求項９】
上記点検運転部は、振動センサにより検出された点検運転中のかごや機器の振動に基づいて、上記エレベータ装置の異常の有無を判定することを特徴とする請求項５記載のエレベータ制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明に係るエレベータ装置の自動点検方法は、災害によりかごを停止させた後、かごを走行させながらエレベータ装置の異常の有無を判定する方法であって、第１速度運転でかごを走行させながらエレベータ装置の異常の有無を判定するステップ、及び第１速度運転による点検を実施した区間に、第１速度運転よりも高速の第２速度運転でかごを走行させながら、エレベータ装置の異常の有無を判定するステップを含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明のエレベータ装置の自動点検方法は、第１速度運転でかごを走行させながら点検を行った後、第１速度運転よりも高速の第２速度運転でかごを走行させながら点検を行うので、第２速度運転でかごを走行させながら、第１速度運転で検出できない異常を検出することができる。従って、災害によりかごが停止された後の自動点検運転を効率良く行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月28日(2010.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
又、本例の構造の場合には、上記両パッド１１ａ、１２ａを、前記ロータ２の回転方向に関して両側から挟む状態で、上記両トルク受けピン１３ａ、１３ａ及び上記両トルク受けスリーブ２２、２２を設けているので、車両が前進、後退、何れの方向に走行する場合の制動時にも、上記ブレーキノイズに結び付く振動の発生を防止できる。
しかも本例の場合には、上記両トルク受けピン１３ａ、１３ａ及び上記両トルク受けスリーブ２２、２２を利用して（これら両トルク受けスリーブ２２、２２と前記各係止突片３６、３６との係合により）、上記両パッド１１ａ、１２ａが、前記キャリパ５ｂから上記ロータ１の径方向内方に抜け出るのを防止している。この為、本例の構造によれば、前述の図７〜１０に示した従来構造に於ける係止ピン１８、１８の如き、上記両パッド１１ａ、１２ａが前記キャリパ５ｂから前記ロータ２の径方向内方に抜け出るのを防止する為の専用の機構を設ける必要がなくなり、対向ピストン型ディスクブレーキの構造の簡略化による製造コストの低減を図れる。