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【手続補正書】
【提出日】平成21年12月24日(2009.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、所定の設計断面を光源と反対側に突出する弧状に掃引することにより得られる形状の少なくとも一部から成るレンズと、を含んでいることを特徴とする、照明装置。
【請求項２】
上記レンズの設計断面が、片面または両面にて球面または非球面となる形状を有していることを特徴とする、請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
上記光源とレンズとの間に、レンズの掃引方向とほぼ平行に延びる長い開口を備えた遮蔽部材が配置されていることを特徴とする、請求項１または２に記載の照明装置。
【請求項４】
上記遮蔽部材が、レンズの掃引軌跡に対してほぼ相似の断面を有することを特徴とする、請求項１から３の何れかに記載の照明装置。
【請求項５】
上記開口が、長手方向の端縁に向かって幅が徐々に狭くなるように形成されていることを特徴とする、請求項３または４に記載の照明装置。
【請求項６】
上記開口が、上記レンズの掃引軌跡を含む面に対して、非対称に形成されていることを特徴とする、請求項３または４に記載の照明装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月18日(2009.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光手段を発光させて被写体像の赤目を緩和させる撮像装置であって、
複数の画素を有し、被写体像を前記複数の画素で光電変換して１画面分の画像信号として出力する撮像手段と、
前記１画面分の画像信号に対応する前記複数の画素を読出しライン毎に異なるタイミングで順次リセットするための第１のパルスを出力する第１の制御手段と、
前記１画面分の画像信号に対応する前記複数の画素から前記１画面分の画像信号を読出しライン毎に異なるタイミングで順次読み出すための第２のパルスを出力する第２の制御手段と、
１画面分の第１の画像信号の最後の読出しラインにおける前記第２のパルスが出力された後であり、かつ、前記第１の画像信号の次に出力される１画面分の第２の画像信号の最初の読出しラインにおける前記第１のパルスが出力される前に発光するように、前記発光手段による発光のタイミングを調整する調整手段と、
を備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記調整手段は、前記撮像手段の蓄積時間が所定時間以内の場合、前記第１の画像信号の最後の読出しラインにおける前記第２のパルスが出力された後であり、かつ、前記第２の画像信号の最初の読出しラインにおける前記第１のパルスが出力される前に発光するように、前記発光手段による発光のタイミングを調整することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記１画面分の画像信号のうち所定の領域の輝度を補正する輝度補正手段を更に備え、
前記調整手段は、前記蓄積時間が前記所定時間を超える場合、前記第１の画像信号の最後の読出しラインにおける前記第１のパルスが出力された後であり、かつ、前記第２の画像信号の最初の読出しラインにおける前記第２のパルスが出力される前に発光するように、前記発光手段による発光のタイミングを調整し、
前記輝度補正手段は、前記調整手段により調整された前記発光手段による発光のタイミングに基づいて、前記１画面分の画像信号のうち前記蓄積時間内に前記発光手段による光が照射される領域を演算し、演算された領域の前記発光手段の光による輝度の変化を補正することを特徴とする請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
複数の画素を有し、被写体像を前記複数の画素で光電変換して１画面分の画像信号として出力する撮像手段を備える撮像装置の制御方法であって、
発光手段を発光させて被写体像の赤目を緩和させる発光工程と、
前記１画面分の画像信号に対応する前記複数の画素を読出しライン毎に異なるタイミングで順次リセットするための第１のパルスを出力する工程と、
前記１画面分の画像信号に対応する前記複数の画素から前記１画面分の画像信号を読出しライン毎に異なるタイミングで順次読み出すための第２のパルスを出力する工程と、
１画面分の第１の画像信号の最後の読出しラインにおける前記第２のパルスが出力された後であり、かつ、前記第１の画像信号の次に出力される１画面分の第２の画像信号の最初の読出しラインにおける前記第１のパルスが出力される前に発光するように、前記発光工程による発光のタイミングを調整する工程と、
を含むことを特徴とする撮像装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明に係る撮像装置は、発光手段を発光させて被写体像の赤目を緩和させる撮像装置であって、複数の画素を有し、被写体像を前記複数の画素で光電変換して１画面分の画像信号として出力する撮像手段と、前記１画面分の画像信号に対応する前記複数の画素を読出しライン毎に異なるタイミングで順次リセットするための第１のパルスを出力する第１の制御手段と、前記１画面分の画像信号に対応する前記複数の画素から前記１画面分の画像信号を読出しライン毎に異なるタイミングで順次読み出すための第２のパルスを出力する第２の制御手段と、１画面分の第１の画像信号の最後の読出しラインにおける前記第２のパルスが出力された後であり、かつ、前記第１の画像信号の次に出力される１画面分の第２の画像信号の最初の読出しラインにおける前記第１のパルスが出力される前に発光するように、前記発光手段による発光のタイミングを調整する調整手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明に係る撮像装置の制御方法は、複数の画素を有し、被写体像を前記複数の画素で光電変換して１画面分の画像信号として出力する撮像手段を備える撮像装置の制御方法であって、発光手段を発光させて被写体像の赤目を緩和させる発光工程と、前記１画面分の画像信号に対応する前記複数の画素を読出しライン毎に異なるタイミングで順次リセットするための第１のパルスを出力する工程と、前記１画面分の画像信号に対応する前記複数の画素から前記１画面分の画像信号を読出しライン毎に異なるタイミングで順次読み出すための第２のパルスを出力する工程と、１画面分の第１の画像信号の最後の読出しラインにおける前記第２のパルスが出力された後であり、かつ、前記第１の画像信号の次に出力される１画面分の第２の画像信号の最初の読出しラインにおける前記第１のパルスが出力される前に発光するように、前記発光工程による発光のタイミングを調整する工程と、を含むことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月25日(2010.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶射された軸受層により実質的に形成された軸受シェルであって、前記溶射された軸受層が、空間的に互いに分離しており、かつ前記軸受シェルの表面に配置された、異なる硬度を有する少なくとも２つの滑り軸受材料の相によって形成されている軸受けシェル。
【請求項２】
前記少なくとも２つの滑り軸受材料の隣接する相が、異なる滑り軸受材料の成分を含む混合相により、互いに分離されている請求項１に記載の軸受けシェル。
【請求項３】
前記少なくとも２つの滑り軸受材料の相が、表面で、丸みを帯びた、細長い又は線状の形態の面構造を形成し、該細長い又は線状の構造が、同心円状に又は渦巻き状に又は軸方向に走る請求項１あるいは２に記載の軸受けシェル。
【請求項４】
個々の前記面構造の表面が、１ｍｍ２より大きい請求項３に記載の軸受けシェル。
【請求項５】
硬質な滑り軸受材料が、真鍮、アルミニウム青銅、アルミニウム／銅合金、亜鉛系青銅、錫系青銅、及び／又は鉛系青銅から選択された請求項１〜４のいずれか一項に記載の軸受けシェル。
【請求項６】
軟質な滑り軸受材料が、亜鉛系ホワイトメタル、鉛系ホワイトメタル、鉛系青銅、鉛／錫系青銅、アルミニウム／錫合金、鉛／錫合金、及び／又は砲金から選択された請求項１〜５のいずれか一項に記載の軸受けシェル。
【請求項７】
前記軸受層の、最も軟質な滑り軸受材料と最も硬質な滑り軸受材料との間の２０℃での硬度の差が、３０ＨＢを超える請求項１〜６のいずれか一項に記載の軸受けシェル。
【請求項８】
前記軟質な滑り軸受材料の硬度が、２０℃で２０〜８０ＨＢの範囲内にあり、前記硬質な滑り軸受材料の硬度が、２０℃で８０〜２００ＨＢの範囲内にある請求項１〜７のいずれか一項に記載の軸受けシェル。
【請求項９】
前記軸受シェルにおける、軟質な滑り軸受材料対硬質な滑り軸受材料の比率が、全体として、１：１０〜１０：１である請求項１〜８のいずれか一項に記載の軸受けシェル。
【請求項１０】
前記軸受シェルが、カップ又は溝形のマイクロチャンバを有する請求項１〜９のいずれか一項に記載の軸受けシェル。
【請求項１１】
内燃機関用の軸受シェルを製造する方法であって、
−軸受面を機械的に調整するステップと、
−溶射法により、前記軸受シェルの材料で前記軸受面を被覆するステップと、
−溶射層を平滑仕上げ加工するステップとを含み、
異なる硬度を有する少なくとも２つの滑り軸受材料が、前記軸受シェルとして、空間的に分離した領域内に溶着され、前記材料が、混合ミクロ組織を介して互いに接触する方法。
【請求項１２】
使用される前記溶射法が、ワイヤアーク溶射であり、前記異なる滑り軸受材料を含む少なくとも１つの充填剤入りワイヤ又は複合ワイヤが使用される請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記滑り軸受材料が、０．１〜２．５ｍｍの範囲の層の厚さに溶着される請求項１１あるいは１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記調整が、高圧ウォータブラスチング又はサンドブラスチングによって行われる請求項１２あるいは１３に記載の方法。
【請求項１５】
マイクロチャンバの形の窪みが、レーザ照射又は化学エッチングにより、前記軸受シェルに導入される請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月14日(2010.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
一般式［７］記載の高分子化合物を環化縮合してなる一般式［８］で表される高分子化合物。
【化８】
2007119504.tif 000001
（一般式［８］中、ａ、Ｒ1およびｎは一般式［７］と同じ）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【化１６】
2007119504.tif 000002
（一般式［８］中、ａ、Ｒ1およびｎは一般式［７］と同じ）。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月23日(2010.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブルーベリー葉の加工処理物を有効成分とするC型肝炎ウイルス産生抑制材。
【請求項２】
ブルーベリー葉の加工処理物が、葉の粉砕物、葉の搾汁、および葉の抽出物からなる群から選ばれた少なくともひとつである請求項１記載のC型肝炎ウイルス産生抑制材。
【請求項３】
請求項１または２に記載されたC型肝炎ウイルス産生抑制材を含む肝炎治療剤。
【請求項４】
請求項１または２に記載されたC型肝炎ウイルス産生抑制材を含む機能性飲食物。
【請求項５】
ブルーベリー葉を溶媒抽出して、C型肝炎ウイルス産生抑制材を製造する方法であって、溶媒抽出前にあらかじめブルーベリー葉を−３０〜５０℃の範囲内で乾燥することを特徴とするC型肝炎ウイルス産生抑制材の製法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月8日(2010.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート材を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の搬送方向下流側において第１の搬送路と第２の搬送路とに分岐したシート材の搬送路と、
前記搬送手段から搬送されたシート材の搬送経路を第１の搬送路または第２の搬送路のいずれかに切り替える切替手段と、
を備えるシート材搬送装置において、
前記切替手段は、
シート材を第１の搬送路に搬送可能な位置と、第２の搬送路に搬送可能な位置との間を回転移動することによって、シート材の搬送経路を切り替えるように構成されており、
前記切替手段に沿って第１の搬送路を搬送されているシート材の搬送方向後端が前記切替手段を通過する前に、第１の搬送路から第２の搬送路へシート材の搬送経路を切り替えるために、第１の搬送路にシート材を搬送可能な位置から第２の搬送路へシート材を搬送可能な位置に前記切替手段が回転移動することを特徴とするシート材搬送装置。
【請求項２】
第１の搬送路において前記切替手段よりもシート材の搬送方向下流側には、シート材の先端の通過を検知する検知手段が設けられており、
前記検知手段がシート材の先端の通過を検知してから予め決められた時間が経過した後に、第２の搬送路へシート材を搬送可能な位置に前記切替手段が回転移動することを特徴とする請求項１に記載のシート材搬送装置。
【請求項３】
前記搬送手段はシート材を搬送するローラ対であって、
前記切替手段に沿って第１の搬送路を搬送されているシート材の搬送方向後端が、前記切替手段を通過する前であって且つ前記ローラ対を通過した後に、第１の搬送路にシート材を搬送可能な位置から第２の搬送路へシート材を搬送可能な位置に前記切替手段が回転移動することを特徴とする請求項１または２に記載のシート材搬送装置。
【請求項４】
前記切替手段はフラッパであって、
前記フラッパの回転軸方向の一端側において、前記フラッパを回転移動させるための駆動力が入力されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のシート材搬送装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載のシート材搬送装置と、
シート材に画像を形成する画像形成手段と、
前記画像形成手段により画像形成されたシート材を反転させるシート材反転手段と、を有する画像形成装置において、
第１の搬送路が、前記画像形成されたシート材を前記シート材反転手段へ搬送するための搬送路であり、
第２の搬送路が、前記画像形成されたシート材を画像形成装置外に排出するための搬送路であることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明にあっては、
シート材を搬送する搬送手段と、
前記搬送手段の搬送方向下流側において第１の搬送路と第２の搬送路とに分岐したシート材の搬送路と、
前記搬送手段から搬送されたシート材の搬送経路を第１の搬送路または第２の搬送路のいずれかに切り替える切替手段と、
を備えるシート材搬送装置において、
前記切替手段は、
シート材を第１の搬送路に搬送可能な位置と、第２の搬送路に搬送可能な位置との間を回転移動することによって、シート材の搬送経路を切り替えるように構成されており、
前記切替手段に沿って第１の搬送路を搬送されているシート材の搬送方向後端が前記切替手段を通過する前に、第１の搬送路にシート材を搬送可能な位置から第２の搬送路へシート材を搬送可能な位置に、第１の搬送路から第２の搬送路へシート材の搬送経路を切り替えるために、前記切替手段が回転移動することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月16日(2010.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
物体を受け取るように構成された前記基板テーブル中の凹部と、
前記凹部の少なくとも外側区域に清浄流体を供給するように構成された清浄流体供給デバイスと
を備えるリソグラフィ装置。
【請求項２】
清浄流体のリザーバをさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記清浄流体供給デバイスが前記凹部への清浄流体の注入口を備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記清浄流体注入口の位置は、前記注入口からの清浄流体の流れが前記物体の中心に対して少なくとも部分的に半径方向外向きであるような位置である、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記清浄流体注入口が前記基板テーブルに対して移動可能である、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記清浄流体注入口が、投影システムと前記基板テーブルとの間の空間に液浸液を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込めシステム中にある、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記清浄流体注入口が前記基板テーブルの一部である、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
前記清浄流体注入口が延長部材の端部に隣接して形成される、請求項３に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
前記延長部材がニードルである、請求項８に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
低圧力源を起動して排液管から清浄流体を除去するように構成されたコントローラをさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１１】
清浄流体が前記凹部の周囲全体の周りに供給され得るように、前記清浄流体供給デバイスの少なくとも一部と排液管の外側区域との相対位置を制御するように構成されたコントローラをさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
前記装置が液浸リソグラフィ装置であり、使用中に、前記物体の縁部を通り過ぎて前記凹部中に漏れる液浸液を受け取るために前記基板テーブル中に排液管を備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１３】
前記排液管が前記凹部の外側区域にある、請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１４】
前記排液管への清浄流体の連続的流れが確実に存在するように構成されたコントローラをさらに備える、請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１５】
前記液浸液および前記清浄流体が異なる流体である、請求項１２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１６】
前記清浄流体供給デバイスが、超純水と、以下の成分、すなわち界面活性剤、溶媒、清浄剤、液化ガス、溶解ガス、無極性有機溶媒、または極性有機溶媒から選択された少なくとも１つの成分とからなる清浄流体を供給するように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１７】
前記液化ガスが二酸化炭素を含む、請求項１６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１８】
前記溶解ガスが酸素、オゾン、過酸化水素、窒素、またはそれらの任意の組合せを含む、請求項１６に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１９】
排液管の排出口とは別個の排出口である抽出排出口をさらに備える、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２０】
前記抽出排出口が延長部材の端部に隣接して形成される、請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２１】
前記抽出排出口が前記基板テーブルに対して移動可能であり、かつ／または投影システムと前記基板テーブルとの間に液浸液を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込めシステムの一部である、請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２２】
前記物体が基板である、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項２３】
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
使用中に、前記基板テーブルの縁部と前記基板テーブル上の物体との間の間隙に漏れ入る液浸流体を受け取るように構成された前記基板テーブル中の排液管と、
（ｉ）前記間隙、（ｉｉ）前記排液管への注入口、（ｉｉｉ）前記排液管、または（ｉｖ）（ｉ）〜（ｉｉｉ）から選択された任意の組合せに清浄流体を供給するように構成された延長部材の端部に隣接する注入口と
を備える液浸リソグラフィ装置。
【請求項２４】
前記注入口は、前記注入口から前記排液管への清浄流体の流れが前記物体の中心に対して少なくとも部分的に半径方向外向きであるように位置決め可能である、請求項２３に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項２５】
前記注入口が前記基板テーブルに対して移動可能である、請求項２３に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項２６】
前記注入口が、投影システムと前記基板テーブルとの間の空間に液浸液を少なくとも部分的に閉じ込めるように構成された液体閉じ込めシステム上にある、請求項２５に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項２７】
前記注入口がニードルの形態である、請求項２３に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項２８】
前記排液管の排出口とは別個の排出口である抽出排出口をさらに備える、請求項２３に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項２９】
前記抽出排出口が延長部材の端部に隣接して形成される、請求項２８に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項３０】
前記物体が基板である、請求項２３に記載の液浸リソグラフィ装置。
【請求項３１】
物体を受け取るように構成された基板テーブル中の凹部の少なくとも一部を清浄する方法であって、
前記凹部の少なくとも外側区域に清浄流体を供給するステップと、
前記凹部から前記清浄流体を抽出するステップと
を含む方法。
【請求項３２】
基板が前記基板テーブルの前記凹部中にある場合実行される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
基板が前記基板テーブル上にない場合実行される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３４】
前記基板テーブルが液浸リソグラフィ装置用の基板テーブルであり、使用中に、前記物体の縁部を通り過ぎて前記凹部中に漏れる液浸液を受け取るために前記凹部中に排液管を備える、請求項３１に記載の方法。
【請求項３５】
前記清浄流体が前記液浸液と異なる、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記清浄流体が注入口を通って前記凹部に供給される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３７】
前記注入口が前記基板テーブルの一部である、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
前記注入口が前記基板テーブルに対して移動可能である、請求項３６に記載の方法。
【請求項３９】
液浸リソグラフィ装置内で実行される、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
基板テーブルの方にパターンを投影するように構成された投影システムと、
前記基板テーブルの縁部と基板との間に画定された間隙が存在する場合に、清浄流体を供給するように構成された液体供給システムと、
過剰流体を除去するように構成された注入口であって、使用中に、前記間隙から液体を除去するように前記間隙に配置され、低圧力源に接続される注入口と
を備えるリソグラフィ投影装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月1日(2010.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の半導体素子と、
第二の半導体素子と、
前記第一の半導体素子と前記第二の半導体素子との間に設けられ、前記第二の半導体素子の外周縁よりも外方向へ張り出した張出部分を有する板状体と、を備え、
前記第一の半導体素子は、前記板状体側の面に第一の電極パッドを有し、
前記第二の半導体素子は、前記板状体側の面に第二の電極パッドおよび第三の電極パッドを有し、
前記第一の半導体素子のチップサイズは、前記第二の半導体素子のチップサイズよりも大きく、
前記第一の半導体素子はメモリ素子であり、前記第二の半導体素子はロジック素子であり、
前記板状体は、
前記第一の電極パッドと前記第二の電極パッドとを接続する貫通電極と、
前記張出部分における前記第二の半導体素子側の面に設けられた第四の電極パッドと、
前記第三の電極パッドと前記第四の電極パッドとを、前記第一の半導体素子上のいかなる電極部材をも経由せずに接続する配線と、を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記貫通電極は、前記第一の電極パッドおよび前記第二の電極パッドと、それぞれバンプ接合していることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の半導体装置において、
前記板状体は、板状スペーサーであることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１乃至３いずれかに記載の半導体装置において、
前記板状体は、シリコンスペーサーであることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項４に記載の半導体装置において、
前記第一の半導体素子および前記第二の半導体素子は、シリコン系半導体素子であることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項１乃至５いずれかに記載の半導体装置において、
前記第四の電極パッドは、前記第一の半導体素子の外周縁よりも外側に設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項１乃至６いずれかに記載の半導体装置において、
前記第四の電極パッドは、ワイヤーボンディングにより接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項１乃至７いずれかに記載の半導体装置において、
基板をさらに備え、
前記第一の半導体素子は、前記基板の上部に設けられており、
前記第二の半導体素子は、前記第一の半導体素子の上部に設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
請求項８に記載の半導体装置において、
前記基板上に、前記板状体を前記張出部分において支持する補強材をさらに備えることを特徴とする半導体装置。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の半導体装置において、
前記第一の半導体素子上に、前記板状体を前記張出部分において支持する補強材をさらに備えることを特徴とする半導体装置。
【請求項１１】
請求項８乃至１０いずれかに記載の半導体装置において、
前記基板の上面に第五の電極パッドが設けられており、
前記第四の電極パッドは、前記第五の電極パッドにワイヤーボンディングにより接続していることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月30日(2009.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
このようにすると、漬液中の気泡に対して、第１の対象物へ向かう方向にもそれから遠ざかる方向にも力を加えることが可能になる。これは、浸漬液中の気泡が、気泡の表面と液体の大部分で完全に解離したイオンの濃度の間の電位差である自然のゼータ電位を有するためである。したがって、第１の電位を気泡のゼータ電位に対して同一又は反対の極性となるように選択することにより、気泡が第１の対象物へ向かって移動するか、又はそれから遠ざかるように移動するかを決めることができる。したがって、このシステムを用いて、浸漬液中の気泡を装置の結像品質への影響が最小限に抑えられる場所に移動させることができる。本発明は、小さい粒子についても気泡の場合と同様に機能する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
浸漬液中には微小な気泡及び小粒子が存在している可能性があり、これらが結像中に基板Ｗの表面の近くにある場合、投影される像の品質、及びその結果得られる製品を悪化させる恐れがある。本発明は、液体中で小さい固体粒子を気泡表面に付着させるという鉱工業でなされた発見を利用してこの問題に対処するものである。ミクロン・サイズの気泡と固体粒子の間の電気的な力が付着に重要な役割を果たすことが見出された。また、液体中の気泡はその表面に、気泡表面と液体の大部分で完全に解離したイオンの濃度の間の電位差をもたらすゼータ電位を有することが見出された。これは小粒子にもあてはまる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明では、電源又は電圧供給Ｖ（或いは電荷、電圧、電場、又は電位差発生装置若しくは供給）を用いて、浸漬装置の１つ又は複数の対象物に電位を印加する。その動作原理は、反発が必要である場合には、液体の完全に解離したイオンの濃度と対象物の間に、液体の大部分で完全に解離したイオンの濃度と気泡表面の間の電位差と同じ極性の電位差を発生させることにある。対象物と気泡の間に引きつけが必要である場合には、電位差は異なる極性を有するべきである。このようにして、気泡に対して、浸漬液に接触している対象物（電極）に向かう方向にもそれから遠ざかる方向にも力を発生させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
図５では、第２の電源／電圧供給／電荷／電圧／電場又は電位差発生装置若しくは供給Ｖ２が設けられている。この第２の電源Ｖ２は、電源Ｖによって供給又は生成される電位と極性が反対である第２の電位を供給又は生成する。第２の電位は、浸漬液中の気泡及び／又は粒子の表面のゼータ電位と同じ極性を有するものとすることができる。電源Ｖを対象物１２、２０、４２、４４に電位を印加するものとして示し、第２の電源Ｖ２を対象物Ｗ、１４に第２の電位を印加するものとして示しているが、第１及び第２の電源Ｖ、Ｖ２は、任意の組合せの対象物に電位を印加することができることを理解すべきである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月27日(2010.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光を用いて被照明領域を照明する照明光学系であって、
前記光源と前記照明光学系の瞳との間に配置されて光の偏光状態を制御する第１偏光制御ユニットと、
前記第１偏光制御ユニットと前記瞳との間に配置されて光の偏光状態を制御する第２偏光制御ユニットとを備え、
前記瞳における領域は、複数の部分領域を含み、前記複数の部分領域は、最も面積が大きい部分領域を含む第１グループと、前記最も面積が大きい部分領域とは異なる部分領域を含む第２グループとに分類され、
前記第２偏光制御ユニットは、前記第１グループ及び前記第２グループのうち前記第２グループに属する部分領域における偏光状態を制御する、
ことを特徴とする照明光学系。
【請求項２】
前記第２偏光制御ユニットは、前記第１偏光制御ユニットと前記瞳との間であって前記瞳の近傍に配置されている、ことを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
【請求項３】
前記第２偏光制御ユニットは、前記第１グループに属する部分領域に入射させる光が通過する部分に開口を有する、ことを特徴とする請求項１または２に記載の照明光学系。
【請求項４】
前記第２偏光制御ユニットは、前記第１グループに属する部分領域に入射させる光が通過する部分に、光の偏光状態を変化させない光学素子を有する、ことを特徴とする請求項１または２に記載の照明光学系。
【請求項５】
複数の前記第１偏光制御ユニットが選択的に使用することができるように設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項６】
複数の前記第２偏光制御ユニットが選択的に使用することができるように設けられている、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項７】
原版のパターンを基板に投影して該基板を露光する露光装置であって、
該原版の被照明領域を照明するように構成された請求項１乃至６のいずれか１項に記載の照明光学系と、
該原版のパターンの像を該基板に投影する投影光学系と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
デバイス製造方法であって、
請求項７に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
該基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項９】
光源からの光を用いて被照明領域を照明する照明光学系の瞳と前記光源との間に配置され、光の偏光状態を制御する偏光制御ユニットであって、
前記瞳における領域は複数の部分領域を含み、前記複数の部分領域は最も面積が大きい部分領域を含む第１グループと、前記最も面積が大きい部分領域とは異なる部分領域を含む第２グループとに分類され、
前記偏光制御ユニットは、
前記第２グループのみに属する部分領域における偏光状態を制御することを特徴とする偏光制御ユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】照明光学系、露光装置、デバイス製造方法および偏光制御ユニット
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、照明光学系、露光装置、デバイス製造方法および偏光制御ユニットに関する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月1日(2010.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板加熱手段としてランプ加熱ユニットを具備する半導体製造装置に於いて、前記ランプ加熱ユニットのランプが基板に対向する加熱部と該加熱部に連続する端部を具備し、該端部は該端部からの輻射熱を反射する端部カバーで覆われたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
ランプ加熱ユニットのランプが基板に対向する加熱部と該加熱部に連続する端部を具備し、該端部は該端部からの輻射熱を反射する端部カバーで覆われた基板処理装置を用いた半導体製造方法であって、処理室内に基板を搬入する工程と、前記処理室に搬入された基板を前記加熱部が加熱する工程とを有する半導体製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板処理装置及び半導体製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月31日(2010.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
前記バックゲート電源ラインは、前記第１電源ラインおよび前記第２電源ラインの配列方向に延在するように配置された請求項１０記載の半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
図７を参照して、点線で囲まれたＭ１１〜Ｍ１４の領域がトランジスタのウエルを示し、Ｓはトランジスタのソースを示し、Ｄはトランジスタのドレインを示す。また、ソースＳおよびドレインＤの境界を含む領域にトランジスタのゲートが形成されている。また、点線で囲まれた各々の領域は、他の領域とウエルの導電型が異なるか、あるいは他の領域のウエルと分離されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９４】
また、半導体装置１０３は、ドライブ部ＤＲＶ２１および可変ドライブ部ＶＤＲＶ２１の組を複数組備える。すなわち、図７では、ＰチャネルＭＯＳトランジスタＭ１１，Ｍ１３およびＮチャネルＭＯＳトランジスタＭ１２，Ｍ１４を含む組が１つだけ代表的に示されているが、たとえば、この組が複数組存在し、電源ラインＶＤＤ、バックゲート電源ラインＶＤＤＢ１、バックゲート電源ラインＶＳＳＢ１および接地ラインＶＳＳの延在方向に並んで配置されている。なお、図７において示されているトランジスタの組を電源ラインＶＤＤまたはバックゲート電源ラインＶＤＤＢ１において折り返すか、あるいは接地ラインＶＳＳまたはバックゲート電源ラインＶＳＳＢ１において折り返すように配置された別のトランジスタの組が存在する構成であってもよい。この場合、上記トランジスタの複数組が電源ラインＶＤＤ、バックゲート電源ラインＶＤＤＢ１、バックゲート電源ラインＶＳＳＢ１および接地ラインＶＳＳの配列方向に配置される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
バックゲート電圧制御回路３は、論理ローレベルの動作速度検出信号ＶＤＥＴを受けると、ＰチャネルＭＯＳトランジスタＭ１３のバックゲートに供給するバックゲート電圧ＶＤＤＢを電源電圧ＶＤＤとし、かつＮチャネルＭＯＳトランジスタＭ１４のバックゲートに供給するバックゲート電圧ＶＳＳＢを接地電圧ＶＳＳとする。この場合、ＰチャネルＭＯＳトランジスタＭ１３およびＮチャネルＭＯＳトランジスタＭ１４は、ゲートにおいて受ける信号の論理レベルに応じてオン・オフする。したがって、ドライブ部ＤＲＶ２１および可変ドライブ部ＶＤＲＶ２１の合計ドライブ能力すなわちドライブ部ＤＲＶ２１および可変ドライブ部ＶＤＲＶ２１における各トランジスタの合計サイズが半導体装置１０３のドライブ能力となる。すなわち、半導体装置１０３のドライブ能力を半導体装置１０３の高速動作にあわせて大きく設定することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
これにより、ドライブ部ＤＲＶ１のドライブ能力すなわちドライブ部ＤＲＶ２１におけるトランジスタのサイズが半導体装置１０３のドライブ能力となる。すなわち、半導体装置１０３のドライブ能力を半導体装置１０３の低速動作にあわせて小さく設定することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３２】
ＰチャネルＭＯＳトランジスタＭ３Ａ，Ｍ３Ｂ，Ｍ３Ｃ，Ｍ３Ｄのサイズは、ＰチャネルＭＯＳトランジスタＭ１のサイズと略同じである。また、ＮチャネルＭＯＳトランジスタＭ４Ａ，Ｍ４Ｂ，Ｍ４Ｃ，Ｍ４Ｄのサイズは、ＮチャネルＭＯＳトランジスタＭ２のサイズと略同じである。すなわち、半導体装置１０５では、可変ドライブ部ＶＤＲＶ１のドライブ能力は、ドライブ部ＤＲＶ１の略４倍である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４５】
電源ラインＶＤＤ、接地ラインＶＳＳおよび電源ラインＣＶＤＤと、ＰチャネルＭＯＳトランジスタＭ１，Ｍ３Ａ，Ｍ３Ｂ，Ｍ３Ｃ，Ｍ３ＤおよびＮチャネルＭＯＳトランジスタＭ２，Ｍ４Ａ，Ｍ４Ｂ，Ｍ４Ｃ，Ｍ４Ｄとを含むドライブトランジスタ領域が、電源ラインＶＤＤ、接地ラインＶＳＳおよび電源ラインＣＶＤＤの配列方向に繰り返し配置される。このドライブトランジスタ領域内において、接地ラインＶＳＳは共有されている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月9日(2010.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】記録再生装置及び表示方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録再生装置であって、
映像データを取得する映像データ取得部と、
ネットワークを介して接続されたクライアントに前記映像データを出力するネットワーク制御部と、
前記映像データ取得部において取得された前記映像データを記録する記録部と、
前記記録部に記録された前記映像データを表示部に出力させる表示制御部と、
前記表示制御部を制御するシステム制御部と、
を備え、
前記システム制御部は、前記クライアントに出力する前記映像データの伝送の進抄状況を前記表示制御部により前記表示部に表示させる
ことを特徴とすることを記録再生装置。
【請求項２】
請求項２に記載の記録再生装置であって、
前記システム制御部は、前記表示制御部に前記クライアントに出力する前記映像データの伝送の進抄状況を伝送開始から伝送終了まで表示させることを特徴とする記録再生装置。
【請求項３】
請求項１に記載の記録再生装置であって、
前記記録部に記録された複数の映像データを複数のクライアントに出力する場合に、前記システム制御部は、前記表示制御部に前記複数のクライアントに出力する各映像データの伝送の進抄状況を前記表示部に表示させる
ことを特徴とする記録再生装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の記録再生装置であって、
スピーカと、
前記スピーカを制御する音声制御回路と、
を備え、
前記システム制御部は、前記クライアントに出力する前記映像データ伝送が終了した場合に、前記音声制御回路に前記映像データの伝送が終了した旨を知らせる音声を前記スピーカから出力させることを特徴とする記録再生装置。
【請求項５】
請求項４に記載の記録再生装置であって、
前記システム制御部は、
前記複数のクライアントに出力する前記映像データの前記映像データ毎の伝送が終了する毎に前記音声回路制御部に前記スピーカよりその旨を知らせる音声を出力させ、前記複数のクライアントに出力する全てのデータの伝送が終了した場合に、前記映像データ毎の伝送が終了したことを知らせる音声と異なる音声を前記音声回路制御部に前記スピーカより出力させることを特徴とする記録再生装置。
【請求項６】
記録再生装置における表示方法であって、
映像データを取得する取得ステップと、
ネットワークを介して接続されたクライアントに前記映像データを出力する出力ステップと、
前記取得ステップにおいて取得された前記映像データを記録する記録ステップと、
前記クライアントに出力する前記映像データの伝送の進抄状況を表示する進抄状況表示ステップと、
を備えることを特徴とする表示方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記課題は、その一例として特許請求の範囲に記載の構成により解決できる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月7日(2010.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
各放射素子の端部（端部１１Ａ〜１４Ａ）は接地パターン１５に接続される。接地パターン１５は、複数の金属ネジ８の各々のネジ頭と接触する。上述したように金属ネジ８のネジ部分は金属スペーサ６および接地導体２を貫通する。複数の金属ネジ８によって、接地パターン１５と金属スペーサ６と接地導体２とが短絡される。これにより各放射素子の端部（端部１１Ａ〜１４Ａ）は接地導体２と短絡される。すなわち、接地パターン１５、複数の金属ネジ８、および金属スペーサ６は、各放射素子１１〜１４の端部を接地導体２に短絡するための短絡部を構成する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月27日(2010.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像から特定の画素を選出する選出手段と、
前記選出された画素の位置情報と色情報を生成する生成手段と、
前記位置情報と色情報を前記画像に付加する付加手段とを有することを特徴とする色処理装置。
【請求項２】
前記選出手段は、一次色および二次色の色相における明るい領域の色、最大彩度点、暗い領域の色に対応する画素を前記特定の画素として選出することを特徴とする請求項1に記載された色処理装置。
【請求項３】
前記選出手段は、さらに、白色点と黒色点の近傍の色に対応する画素を前記特定の画素として選出することを特徴とする請求項2に記載された色処理装置。
【請求項４】
前記選出手段は、さらに、記憶色に対応する画素を前記特定の画素として選出することを特徴とする請求項2または請求項3に記載された色処理装置。
【請求項５】
原稿画像を読み取る読取手段と、
前記原稿画像に付加された位置情報と色情報を抽出する抽出手段と、
前記読取手段が読み取った画像の、前記位置情報に対応する画素の色情報を取得する取得手段と、
前記抽出手段が抽出した色情報と、前記取得手段が取得した色情報に基づき、前記読取手段が読み取った画像の色を補正する補正手段とを有することを特徴とする色処理装置。
【請求項６】
さらに、色の経時変化情報を参照して、前記抽出手段が抽出した位置情報と色情報、および、前記取得手段が取得した前記位置情報に対応する画素の色情報に基づき前記原稿画像の経過時間を予測する予測手段と、
経過補正量情報を参照して、前記予測された経過時間から前記読取手段が読み取った画像の色の補正量を決定する決定手段とを有することを特徴とする請求項5に記載された色処理装置。
【請求項７】
選出手段、生成手段、付加手段を有する色処理装置の色処理方法であって、
前記選出手段が、画像から特定の画素を選出し、
前記生成手段が、前記選出した画素の位置情報と色情報を生成し、
前記付加手段が、前記位置情報と色情報を前記画像に付加することを特徴とする色処理方法。
【請求項８】
読取手段、抽出手段、取得手段、補正手段を有する色処理装置の色処理方法であって、
前記読取手段が原稿画像を読み取り、
前記抽出手段が前記原稿画像に付加された位置情報と色情報を抽出し、
前記取得手段が前記読み取った画像の、前記位置情報に対応する画素の色情報を取得し、
前記抽出手段が抽出した色情報と、前記取得手段が取得した色情報に基づき、前記補正手段が前記読み取った画像の色を補正することを特徴とする色処理方法。
【請求項９】
コンピュータを請求項1から請求項6の何れか一項に記載された色処理装置の各手段として機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
本発明にかかる色処理は、画像から特定の画素を選出し、前記選出した画素の位置情報と色情報を生成し、前記位置情報と色情報を前記画像に付加することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
また、原稿画像を読み取り、前記原稿画像に付加された位置情報と色情報を抽出し、前記読み取った画像の、前記位置情報に対応する画素の色情報を取得し、前記抽出した色情報と、前記取得した色情報に基づき、前記読み取った画像の色を補正することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月21日(2010.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
面発光型半導体レーザと、
前記面発光型半導体レーザの出射面の上方に位置する光検出素子と、
を含み、
前記光検出素子は、
前記面発光型半導体レーザから出射される光を吸収する光吸収層と、
当該光吸収層と前記面発光型半導体レーザとの間に形成されたコンタクト層と、を有し、
前記コンタクト層は、吸収端波長が前記面発光型半導体レーザの発振波長より小さい半導体からなり、かつ前記光吸収層の屈折率より低い屈折率を有し、
前記面発光型半導体レーザの設計波長をλ、前記コンタクト層の屈折率をｎ、整数をｍ、とした場合に、前記コンタクト層の膜厚ｄは、下記式（１）を満たす、光素子。
ｍλ／２ｎ−λ／１６ｎ＜ｄ＜（２ｍ＋１）λ／４ｎ    ・・・（１）
【請求項２】
請求項１において、
前記光検出素子の積層方向の厚さは、λ／４ｎの偶数倍である、光素子。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記光検出素子は、前記コンタクト層と接触する電極をさらに有し、
前記コンタクト層は、前記電極とオーミック接触可能な材質からなる、光素子。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかにおいて、
前記面発光型半導体レーザの発振波長が８５０ｎｍであり、
前記コンタクト層は、ＡｌＧａＡｓからなる、光素子。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記コンタクト層は、ＡｌｘＧａ１−ｘＡｓからなり、
Ｘは、０．０３５以上０．２５以下である、光素子。
【請求項６】
面発光型半導体レーザと、
前記面発光型半導体レーザの出射面の上方に位置する光検出素子と、
を含み、
前記光検出素子は、
前記面発光型半導体レーザから出射される光を吸収する光吸収層と、
当該光吸収層と前記面発光型半導体レーザとの間に形成されたコンタクト層と、
前記面発光型半導体レーザと前記コンタクト層との間に形成され、前記面発光型半導体レーザと当該光検出素子とを電気的に分離する分離層と、を有し、
前記コンタクト層は、吸収端波長が前記面発光型半導体レーザの発振波長より小さい半導体からなり、かつ前記光吸収層の屈折率より低い屈折率を有し、
前記分離層は、吸収端波長が前記面発光型半導体レーザの発振波長より小さい半導体からなり、
前記面発光型半導体レーザの設計波長をλ、前記分離層と前記コンタクト層との平均屈折率をｎ、整数をｍ、とした場合に、前記コンタクト層の膜厚と前記分離層の膜厚とを加えた総膜厚ｄは、下記式（１）を満たす、光素子。
ｍλ／２ｎ−λ／１６ｎ＜ｄ＜（２ｍ＋１）λ／４ｎ    ・・・（１）
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月22日(2010.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の基板の主面上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の基板の主面上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、前記第一の回路電極および前記第二の回路電極を対向配置させた状態で加圧・加熱し、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とを電気的に接続するための異方導電性接着剤であって、
含有成分のラジカル反応により色相が変化するラジカル硬化型の異方導電性接着剤。
【請求項２】
ラジカル重合性物質と、ラジカル重合開始剤と、ラジカル反応により色相が変化する添加剤と、を含有する請求項１に記載の異方導電性接着剤。
【請求項３】
前記ラジカル反応により色相が変化する添加剤が、芳香族ケトン系化合物、１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジル、アゾベンゼン、フルギド類、ジアリールエテンおよびスピロオキサジン系化合物から選ばれる少なくとも１種である請求項２に記載の異方導電性接着剤。 
【請求項４】
前記芳香族ケトン系化合物が、アントラキノンまたはアセトフェノンである請求項３に記載の異方導電性接着剤。
【請求項５】
前記ラジカル反応により色相が変化する添加剤が、アントラキノン系化合物または１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジルである請求項２〜４のいずれか１項に記載の異方導電性接着剤。
【請求項６】
前記ラジカル反応により色相が変化する添加剤の含有量が、異方導電性接着剤の全重量を基準として、０．０１〜１０重量％である請求項２〜５のいずれか１項に記載の異方導電性接着剤。
【請求項７】
前記ラジカル反応により色相が変化する添加剤の含有量が、異方導電性接着剤の全重量を基準として、０．０５〜５重量％である請求項２〜６のいずれか１項に記載の異方導電性接着剤。
【請求項８】
前記ラジカル反応により色相が変化する添加剤の含有量が、異方導電性接着剤の全重量を基準として、０．１〜１重量％である請求項２〜７のいずれか１項に記載の異方導電性接着剤。
【請求項９】
導電性粒子をさらに含有する請求項１〜８のいずれか１項に記載の異方導電性接着剤。 
【請求項１０】
請求項１〜９に記載の異方導電性接着剤をフィルム状に形成してなる異方導電性フィルム。
【請求項１１】
第一の基板の主面上に第一の回路電極が形成された第一の回路部材と、第二の基板の主面上に第二の回路電極が形成された第二の回路部材とを、請求項１〜９に記載の異方導電性接着剤または請求項１０に記載の異方導電性フィルムを介して、前記第一の回路電極および前記第二の回路電極を対向配置させた状態で加圧・加熱し、前記第一の回路電極と前記第二の回路電極とを電気的に接続する工程を備える回路接続構造体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月16日(2010.7.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
本実施形態では、固体撮像装置の１辺に形成した２本の凸部２６ａ，２６ｂの高さは同じにしている。一方、変形例１では、有効画素部１７側の凸部２６ｃの高さを電極パッド部１５側の凸部２６ａよりも低くしている。また、変形例２では、有効画素部１７側の凸部２６ｄの高さを電極パッド部１５側の凸部２６ａよりも低くしているとともに、有効画素部１７側の凸部２６ｄの上部を半円形の断面形状として角を落としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
本実施形態では、２本の凸部２６ａ，２６ｂの高さを同じにしており、１本目の凸部２６ｂからはみ出した接着剤１４を、２本目の凸部２６ａによって止めることが出来る。