Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月13日(2010.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
文書に対して設定されている機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行う情報処理装置であって、
対象とする文書に対して機密度が設定されていない場合には、ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行うことを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
文書に対して設定されている機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行うこと、及び、対象とする文書に対して機密度が設定されていない場合には、ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行うことが可能な情報処理装置であって、
文書に対して設定されている機密度を取得する取得手段と、
前記取得された機密度に応じた地紋設定が存在するか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段で地紋設定が存在すると判断された場合に、ユーザのユーザ名が例外ユーザ名に含まれているか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていないと判定された場合に、前記取得された機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行い、
前記判定手段でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていると判定された場合、又は、前記判断手段で地紋設定が存在しないと判断された場合には、前記ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行う処理手段とを有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項３】
文書に対して設定されている機密度を取得する取得手段と、
前記取得された機密度に応じた地紋設定が存在するか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段で地紋設定が存在すると判断された場合に、ユーザのユーザ名が例外ユーザ名に含まれているか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていないと判定された場合に、前記取得された機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行い、
前記判定手段でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていると判定された場合、又は、前記判断手段で地紋設定が存在しないと判断された場合には、前記ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行う処理手段とを有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項４】
文書に対して設定されている機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行う情報処理システムであって、
対象とする文書に対して機密度が設定されていない場合には、ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行うことを特徴とする情報処理システム。
【請求項５】
文書に対して設定されている機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行うこと、及び、対象とする文書に対して機密度が設定されていない場合には、ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行うことが可能な情報処理システムであって、
文書に対して設定されている機密度を取得する取得手段と、
前記取得された機密度に応じた地紋設定が存在するか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段で地紋設定が存在すると判断された場合に、ユーザのユーザ名が例外ユーザ名に含まれているか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていないと判定された場合に、前記取得された機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行い、
前記判定手段でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていると判定された場合、又は、前記判断手段で地紋設定が存在しないと判断された場合には、前記ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行う処理手段とを有することを特徴とする情報処理システム。
【請求項６】
文書に対して設定されている機密度を取得する取得手段と、
前記取得された機密度に応じた地紋設定が存在するか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段で地紋設定が存在すると判断された場合に、ユーザのユーザ名が例外ユーザ名に含まれているか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていないと判定された場合に、前記取得された機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行い、
前記判定手段でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていると判定された場合、又は、前記判断手段で地紋設定が存在しないと判断された場合には、前記ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行う処理手段とを有することを特徴とする情報処理システム。
【請求項７】
文書に対して設定されている機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行うための情報処理方法であって、
対象とする文書に対して機密度が設定されていない場合には、ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行うことを特徴とする情報処理方法。
【請求項８】
文書に対して設定されている機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行うこと、及び、対象とする文書に対して機密度が設定されていない場合には、ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行うことが可能な情報処理方法であって、
文書に対して設定されている機密度を取得する取得工程と、
前記取得された機密度に応じた地紋設定が存在するか否かを判断する判断工程と、
前記判断工程で地紋設定が存在すると判断された場合に、ユーザのユーザ名が例外ユーザ名に含まれているか否かを判定する判定工程と、
前記判定工程でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていないと判定された場合に、前記取得された機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行い、
前記判定工程でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていると判定された場合、又は、前記判断工程で地紋設定が存在しないと判断された場合には、前記ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行う処理工程とを有することを特徴とする情報処理方法。
【請求項９】
文書に対して設定されている機密度を取得する取得工程と、
前記取得された機密度に応じた地紋設定が存在するか否かを判断する判断工程と、
前記判断工程で地紋設定が存在すると判断された場合に、ユーザのユーザ名が例外ユーザ名に含まれているか否かを判定する判定工程と、
前記判定工程でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていないと判定された場合に、前記取得された機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行い、
前記判定工程でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていると判定された場合、又は、前記判断工程で地紋設定が存在しないと判断された場合には、前記ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行う処理工程とを有することを特徴とする情報処理方法。
【請求項１０】
請求項７ないし９のいずれかに記載の情報処理方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、情報処理装置において、文書に対して設定されている機密度を取得する取得手段と、前記取得された機密度に応じた地紋設定が存在するか否かを判断する判断手段と、前記判断手段で地紋設定が存在すると判断された場合に、ユーザのユーザ名が例外ユーザ名に含まれているか否かを判定する判定手段と、前記判定手段でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていないと判定された場合に、前記取得された機密度に応じた地紋設定で印刷処理を行い、前記判定手段でユーザ名が例外ユーザ名に含まれていると判定された場合、又は、前記判断手段で地紋設定が存在しないと判断された場合には、前記ユーザにより指示された地紋設定を用いて印刷処理を行う処理手段とを有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月21日(2010.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
交流駆動回路７２は、液晶パネル１に交流信号を印加する。検出回路８２は、液晶パネル１に駆動された交流信号の振幅の変化や位相のずれを検出する。振幅の変化や位相のずれを検出することで指などの指示物体が液晶パネル１に接触したか否かの判定を行う。ホスト基板６は判定部９を備えており、この判定部９が検出された振幅の変化や位相のずれに基づいて接触判定を行う。接触判定の詳細については後述する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
図２は、液晶パネル１の表示部２の構成を示す断面図である。同図に示すように、液晶パネル１は、アレイ基板１１と対向基板１２とにより液晶層１３を挟持した構成である。アレイ基板１１には、信号線と走査線がマトリクス状に配線される。表示部２は、信号線と走査線の交差部のそれぞれに画素を形成して構成される。対向基板１２に近接してバックライト１５が配置される。アレイ基板１１および対向基板１２の外側には偏光板（図示せず）が配置される。アレイ基板１１の指示物体が接触する面には、保護板１６が配置される。保護板１６は、アレイ基板１１側の全面にＩＴＯ電極を形成した導電層１７を有する。導電層１７には交流駆動回路７２および検出回路８２が接続される。交流駆動回路７２は導電層１７に交流信号を印加し、検出回路８２は導電層１７から交流信号を検出する。なお、保護板１６には低誘電率の透明絶縁材料を用いる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月26日(2009.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
［合成例１］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸ナトリウムの合成＞
攪拌器を備えた反応容器に、氷酢酸１２．５リットルとｏ−フェニレンジアミン２７５ｇとアセナフテンキノン４９０ｇとを入れて混合し、混合物を室温（２３℃）窒素雰囲気下で３時間攪拌して下記の反応経路に示すように反応させた。次に反応容器内の沈殿物を濾過してアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリンを含む粗生成物を得た。この粗生成物を熱氷酢酸で再結晶を行なって精製しアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン系化合物を単離した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
反応容器にアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン３００ｇと３０％発煙硫酸２．１リットルを入れて混合し、室温（２３℃）で４８時間攪拌して混合物を反応させた。次に反応容器内の沈殿物を濾過してアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸を含む粗生成物を得た。この粗生成物をイオン交換水に溶解し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和した。得られた水溶液を逆浸透膜フィルター（日東電工社製  商品名「ＮＴＲ−７４３０」）を備えた高圧逆浸透膜エレメント試験装置を用いて残存硫酸を除去して精製し、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸ナトリウムを得た。
【化３】
2009134033.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
［合成例２］
＜アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムの合成＞
攪拌器を備えた反応容器に、ジメチルホルムアミド５００ｍｌと３，４−ジアミノ安息香酸８．４ｇとアセナフテンキノン１０ｇとを入れて混合し、混合物を室温（２３℃）窒素雰囲気下で２１時間攪拌して下記の反応経路に示すように反応させた。次に反応容器内の沈殿物を濾過してアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸を含む粗生成物を得た。この粗生成物をジメチルホルムアミド、水およびアセトンで洗浄して精製し、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸を単離した。これをイオン交換水に溶解し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を加えて中和し、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムを得た。
【化４】
2009134033.tif 000002
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
［実施例３］
リオトロピック液晶化合物からなる有機色素を含む水溶液Ａ（オプティバ社製  商品名「ＮＯ１５」）１００重量部とアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムを含む水溶液Ｃ１．６重量部を混合し、室温（２３℃）でネマチック液晶相を示すコーティング液Ｂを調整した。このコーティング液Ａをガラス板（松浪ガラス社製  商品名「ＭＡＴＳＵＮＡＭＩ  ＭＩＣＲＯ  ＳＬＩＤＥ  ＧＬＡＳＳ」）の表面にバーコータ（ＢＵＳＣＨＭＡＮ社製  製品名「Ｍａｙｅｒ  ｒｏｔ  ＨＳ１．５」）を用いて２３℃の恒温室内で剪断応力をかけながら一方向に塗布し、コーティング液Ｂ中のリオトロピック液晶化合物を配向させ、自然乾燥させて厚み０．５０μｍの偏光膜を作製した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
上記水溶液Ａの有機色素の濃度は１２．９重量％、上記水溶液Ｃのアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムの濃度は８重量％である。また上記偏光膜中、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムの含有量は有機色素１００重量部に対して１重量部である。この偏光膜の二色比は表２および図２に示すように２７．４であった。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
［実施例４］
アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムを含む水溶液Ｃの混合量を８．０重量部とした以外は実施例３と同様の方法で厚み０．４５μｍの偏光膜を作製した。上記偏光膜中、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムの含有量は有機色素１００重量部に対して５重量部である。この偏光膜の二色比は表２および図２に示すように２５．５であった。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
［比較例３］
アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムを含む水溶液Ｃを混合しなかった以外は実施例３と同様の方法で厚み０．４７μｍの偏光膜を作製した。上記偏光膜にアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムは含有されない。この偏光膜の二色比は表２および図２に示すように２２．７であった。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
［比較例４］
アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムを含む水溶液Ｃの混合量を１６重量部とした以外は実施例３と同様の方法で厚み０．４３μｍの偏光膜を作製した。上記偏光膜中、アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムの含有量は有機色素１００重量部に対して１０重量部である。この偏光膜の二色比は表２および図２に示すように２３．０であった。
【表２】
2009134033.tif 000003
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
［評価］
（１）コーティング液がアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸ナトリウムまたはアセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムを含まないと二色比が２５よりかなり低い。
（２）アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−２−スルホン酸ナトリウムの場合、二色比は含有量が５重量部のとき最も高く、１重量部のときは少し低くなるがまだ２５より高い。１０重量部のときは２５より低くなるが、含まないときよりは高い。
（３）アセナフト［１，２−ｂ］キノキサリン−９−カルボン酸ナトリウムの場合、二色比は含有量が１重量部のとき最も高く、５重量部のときは少し低くなるがまだ２５より高い。１０重量部のときは２５より低くなるが、含まないときよりは高い。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月28日(2010.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光部材に光学薄膜が形成された光学部材であって、
前記透光部材の光の入射側である一方の面にＥＢ蒸着によって形成されたＡＲ膜が設けられ、さらに前記ＡＲ膜の上にフッ素系樹脂膜が形成され、
前記透光部材の光の出射側である他方の面にＩＲカット膜がイオンアシストを用いたＥＢ蒸着により形成されていることを特徴とする光学部材。
【請求項２】
請求項１に記載の光学部材において、
前記ＡＲ膜は帯電しにくいようにシート抵抗が１０12ｏｈｍ／□以下の粗密な膜であることを特徴とする光学部材。
【請求項３】
請求項２に記載の光学部材において、
前記一方の面に形成された、前記透光部材と前記ＡＲ膜との間にＳｉＯ2膜を有することを特徴とする光学部材。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学部材において、
前記フッ素系樹脂膜の膜厚が２０ｎｍ以下であることを特徴とする光学部材。
【請求項５】
透光部材の光の入射側である一方の面にＥＢ蒸着によって形成されたＡＲ膜が設けられ、さらに前記ＡＲ膜の上にフッ素系樹脂膜が形成され、前記透光部材の光の出射側である他方の面にイオンアシストを用いたＥＢ蒸着によるＩＲカット膜が形成されている光学部材と、
前記光学部材の前記フッ素系樹脂膜に接する導電性の保持部材と、
を有することを特徴とする撮像系光学物品。
【請求項６】
請求項５に記載の撮像系光学物品において、
前記光学部材の前記透光部材と前記ＡＲ膜との間にＳｉＯ2膜を有することを特徴とする撮像系光学物品。
【請求項７】
請求項５または６に記載の撮像系光学物品において、
前記光学部材の前記フッ素系樹脂膜の膜厚が２０ｎｍ以下であることを特徴とする撮像系光学物品。
【請求項８】
透光部材の光の入射側である一方の面にＥＢ蒸着によって形成されたＡＲ膜が設けられ、さらに前記ＡＲ膜の上にフッ素系樹脂膜が形成され、前記透光部材の光の出射側である他方の面にイオンアシストを用いたＥＢ蒸着によるＩＲカット膜が形成されている光学部材と、
前記光学部材の前記フッ素系樹脂膜に接する導電性の保持部材と、
前記光学部材の一方の面が露出し他方の面が内部に向かって取り付けられる箱状の容器と、
前記容器に収容され前記光学部材を透過した光を受光する撮像素子と、
を有することを特徴とする撮像モジュール。
【請求項９】
請求項８に記載の撮像モジュールにおいて、
前記光学部材の前記透光部材と前記ＡＲ膜との間にＳｉＯ2膜を有することを特徴とする撮像モジュール。
【請求項１０】
請求項８または９に記載の撮像モジュールにおいて、
前記光学部材の前記フッ素系樹脂膜の膜厚が２０ｎｍ以下であることを特徴とする撮像モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
［適用例１］本適用例にかかる光学部材は、透光部材に光学薄膜が形成された光学部材であって、前記透光部材の光の入射側である一方の面にＥＢ蒸着によって形成されたＡＲ膜が設けられ、さらに前記ＡＲ膜の上にフッ素系樹脂膜が形成され、前記透光部材の光の出射側である他方の面にＩＲカット膜がイオンアシストを用いたＥＢ蒸着により形成されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この構成によれば、透光部材の一方の面に形成されるＡＲ膜は、ＥＢ蒸着にて成膜されることから粗密な膜構造となり、帯電しにくい膜が形成できる。粗密な膜構造であることから膜の吸湿による光学特性への影響が懸念されるが、ＡＲ膜の分光特性は広帯域なので、吸湿による波長シフトの影響を受けにくい。そして、ＡＲ膜の上に形成されたフッ素系樹脂は、表面を化学的に不活性にし、かつ表面摩擦抵抗を小さくすることができる。
このように、本適用例の光学部材は、ＡＲ膜が帯電しにくい膜構造であり、その上にフッ素系樹脂膜が形成されることから、フッ素系樹脂膜の電荷はＡＲ膜を介して逃げやすいので電荷がたまりづらい。さらに、フッ素系樹脂膜は、ほこりの付着を低減させ、また、付着したほこりをふき取りやすくすることができる。
また、透光部材の他方の面に形成されるＩＲカット膜はイオンアシストを用いたＥＢ蒸着にて成膜されることから緻密な膜構造となる。帯電しやすく、かつほこりが付着しやすい緻密な膜を、密閉面の側に形成するので、ほこりの付着はほとんどない。
なお、ＥＢ蒸着とは、電子ビームを被蒸発材料に照射することにより材料を加熱して蒸発させ、基板となる物質に固体の被膜を形成する真空蒸着である。そして、イオンアシスト蒸着とは、ＥＢ蒸着にプラズマを併用した方法である。本願でＥＢ蒸着と表記した場合はイオンアシストを併用しないＥＢ蒸着を意味する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
［適用例２］上記適用例にかかる光学部材において、前記ＡＲ膜は帯電しにくいようにシート抵抗が１０12ｏｈｍ／□以下の粗密な膜であることが望ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この構成によれば、透光部材の一方の面に形成されるＡＲ膜は帯電しにくいようにシート抵抗が１０12ｏｈｍ／□以下の粗密な膜である。このＡＲ膜は粗密な（凹凸が多い）構造となっており、その表面に水分子が吸着されることで、電気が流れやすくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月22日(2010.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投射面上に投射画像を表示するプロジェクタであって、
前記投射画像の前記投射面上における表示目標位置に対する表示位置ずれ量を、前記投射画像の画素ピッチの整数倍の値と画素ピッチ未満の値とに分離する表示位置調整制御部と、
前記画素ピッチの整数倍の値に基づいて画像処理による表示位置調整を行う表示位置調整処理部と、
前記画素ピッチ未満の値に基づいて光学的な表示位置調整を行う表示位置調整機構と、
を有することを特徴とするプロジェクタ。
【請求項２】
請求項１に記載のプロジェクタにおいて、
前記表示位置調整処理部は、前記投射画像に対応する画像データに対して画素を画素ピッチの整数倍だけシフトさせることによって行うことを特徴とするプロジェクタ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプロジェクタにおいて、
前記表示位置調製機構は、前記投射画像の光軸を画素ピッチ未満の値だけ変位させることによって行うことを特徴とするプロジェクタ。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
前記投射画像は、複数のプロジェクタによって投射された複数の投射画像により形成されており、前記複数の投射画像のうち基準となる投射画像を設定し、前記基準となる投射画像以外の投射画像に対して前記表示位置調整を行うことを特徴とするプロジェクタ。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のプロジェクタにおいて、
前記表示位置ずれ量は、前記投射画像の横方向及び縦方向の表示位置ずれ量として求められることを特徴とするプロジェクタ。
【請求項６】
投射面上に表示された投射画像の表示位置を調整する投射画像の表示位置調整装置であって、
前記投射画像の前記投射面上における表示目標位置に対する表示位置ずれ量を、前記投射画像の画素ピッチの整数倍の値と画素ピッチ未満の値とに分離する表示位置調整制御部と、
前記画素ピッチの整数倍の値に基づいて画像処理による表示位置調整を行う表示位置調整処理部と、
前記画素ピッチ未満の値に基づいて光学的な表示位置調整を行う表示位置調整機構と、
を有することを特徴とする投射画像の表示位置調整装置。
【請求項７】
投射面上に表示された投射画像の表示位置を調整する投射画像の表示位置調整方法であって、
前記投射画像の前記投射面上における表示目標位置に対する表示位置ずれ量を、前記投射画像の画素ピッチの整数倍の値と画素ピッチ未満の値とに分離するステップと、
前記画素ピッチの整数倍の値に基づいて画像処理による表示位置調整を行うステップと、
前記画素ピッチ未満の値に基づいて光学的な表示位置調整を行うステップと、
を有することを特徴とする投射画像の表示位置調整方法。
【請求項８】
投射面と、前記投射面に画像を投射する少なくとも１台のプロジェクタとを有するプロジェクションシステムであって、
前記投射画像の前記投射面上における表示目標位置に対する表示位置ずれ量を、前記投射画像の画素ピッチの整数倍の値と画素ピッチ未満の値とに分離する表示位置調整制御部と、前記画素ピッチの整数倍の値に基づいて画像処理による表示位置調整を行う表示位置調整処理部と、前記画素ピッチ未満の値に基づいて光学的な表示位置調整を行う表示位置調整機構とを有することを特徴とするプロジェクションシステム。
【請求項９】
請求項８に記載のプロジェクションシステムにおいて、
前記表示位置ずれ量を検出する表示位置ずれ量検出部をさらに有することを特徴とするプロジェクションシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
なお、表示位置ずれ量の検出は、プロジェクタＰＪ１から表示位置調整用パターンなどをスクリーンＳＣＲに投射して行うことが好ましい。すなわち、撮像装置２２を用いる場合には、スクリーンＳＣＲ上に投射された表示位置調整用パターンを撮像装置２２で撮像し、表示位置ずれ量算出部２２は、撮像画像データに基づいて表示位置ずれ量を算出し、算出した表示位置ずれ量を表示位置調整制御部１１に与える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
また、ユーザの目視によって表示位置ずれ量を取得する場合は、スクリーンＳＣＲ上に投射された表示位置調整用パターンをユーザが目視することによって表示位置ずれ量を取得し、取得した表示位置ずれ量を情報入力部２３から入力する。情報入力部２３に入力された表示位置ずれ量は、情報入力部２３を介して表示位置調整制御部１１に与えられる。
なお、表示位置ずれ量検出部２０は、撮像装置２１及び表示位置ずれ量算出部２２と、情報入力部２３との両方を有するものであってもよいが、いずれか一方のみであってもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
一方、表示位置調整機構１３には、この場合、表示位置ずれ量の小数部分として、横方向「０．５画素」、縦方向「０．３画素」が与えられるので、表示位置調整機構１３では、投射画像の光軸が横方向に０．５画素分、縦方向に０．３画素分だけ変位するように表示位置調整機構１３の駆動部を制御する。表示位置調整機構１３が例えばくさび形透明基板（図４（ａ）参照）であるとすれば、投射画像の光軸の変位量ｓが横方向に０．５画素分となるように２枚のくさび形透明基板１ａ，１ｂの間隔ｄを制御する。同様に、投射画像の光軸の変位量ｓが縦方向に０．３画素分となるように２枚のくさび形透明基板１ａ，１ｂの間隔ｄを制御する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
図３は実施形態２に係るプロジェクションシステムの構成を示す図である。実施形態２に係るプロジェクションシステムは、図３に示すように、１台のプロジェクタ（プロジェクタＰＪ１とする）と、表示位置調整装置１０と、表示位置ずれ量検出部２０とを有している。なお、表示位置調整装置１０は、実施形態１に係るプロジェクションシステム（図１参照）と同様に、表示位置調整制御部１１と、表示位置調整処理部１２と、表示位置調整機構１３とを有している。また、表示位置ずれ量検出部２０も実施形態１に係るプロジェクションシステム（図１参照）と同様に、カメラなどの撮像装置２１と、表示位置ずれ量算出部２２と、例えばキーボードなどの情報入力部２３とを有している。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月9日(2010.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記特徴量抽出手段は、前記局所領域毎に基準色と各色との比率を要素とする特徴ベクトルを特徴量として抽出する
請求項１に記載の画像処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記特徴量抽出手段は、前記局所領域毎に基準色と各色との比率を要素とする特徴量を抽出するのに加えて、局所領域毎に空間的な特徴量を抽出し、
前記識別手段は、前記特徴量抽出手段で抽出された基準色と各色との比率を要素とする特徴量を利用して局所領域毎に被写体を識別するのに加えて、前記特徴量抽出手段で抽出された空間的な特徴量を利用して被写体を識別する
請求項１に記載の画像処理装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
このように、識別部８２−１乃至８２−Nは、それぞれN種類の被写体に対応して設けられており、それぞれの被写体との類似度を選択部６３に供給する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月8日(2010.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周面にカムフオロアを有し、光軸まわりに回転する枠部材と、
上記枠部材を回転させるため上記カムフオロアが嵌合摺接する光軸と平行に周面に設けられた直進溝と、該直進溝近傍の同―周面に径方向に突出した突部とが設けられた回転枠と、
上記回転枠と相対的に回転し、上記回転枠と共に光軸方向に移動するため、周面の所定の角度範囲内で、上記突部が係合する円周溝と、上記カムフオロオアと係合して上記枠部材を光軸方向に変位させるために上記所定の角度範囲内に設けられたカム溝とが設けられた移動枠と、
を有したことを特徴とするレンズ鏡筒。
【請求項２】
上記カムフオロアの上記移動枠のカム溝と嵌合摺接する部分は、テーパ形状となっていて、該嵌合摺接部分にて発生する反力が上記移動枠の上記円周溝、若しくは、径方向に張り出した上記係合壁を上記回転枠の上記突部との係合を深めるように径方向に変形させることを特徴とする請求項１記載のレンズ鏡筒。
【請求項３】
上記突部が係合する上記円周溝、もしくは、径方向に張り出した上記係合壁は、上記移動枠の周面上で上記カムフォロアを通り、光軸と平行な直線上に少なくとも存在することを特徴とする請求項１、または、２記載のレンズ鏡筒。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の請求項１記載のレンズ鏡筒は、周面にカムフオロアを有し、光軸まわりに回転する枠部材と、上記枠部材を回転させるため上記カムフオロアが嵌合摺接する光軸と平行に周面に設けられた直進溝と、該直進溝近傍の同―周面に径方向に突出した突部とが設けられた回転枠と、上記回転枠と相対的に回転し、上記回転枠と共に光軸方向に移動するため、周面の所定の角度範囲内で、上記突部が係合する円周溝と、上記カムフオロオアと係合して上記枠部材を光軸方向に変位させるために上記所定の角度範囲内に設けられたカム溝とが設けられた移動枠とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月14日(2010.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
給気孔と排気孔とが厚み方向に貫通して形成され、両面に突き当て面が設けられたほぼ四辺形板状の電磁弁組立体と、
前記電磁弁組立体の側面に開口して形成された出力ポートに着脱自在に嵌合されるポート接続管、および前記出力ポートに連通するチューブが装着される管継手が設けられた継手ブロックと、
前記継手ブロックに前記ポート接続管に平行となって突出して設けられ、前記電磁弁組立体の側面に前記出力ポートに隣接して形成された凹部に係合される係合突起と、
前記電磁弁組立体に移動自在に装着され、前記係合突起の両面にそれぞれ形成された係合溝に係合する脚部および脚部を相互にそれぞれの基端部で連結する操作部を備え、前記継手ブロックを前記係合突起の部分で固定するクリップとを有することを特徴とするマニホールド電磁弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のマニホールド電磁弁は、給気孔と排気孔とが厚み方向に貫通して形成され、両面に突き当て面が設けられたほぼ四辺形板状の電磁弁組立体と、前記電磁弁組立体の側面に開口して形成された出力ポートに着脱自在に嵌合されるポート接続管、および前記出力ポートに連通するチューブが装着される管継手が設けられた継手ブロックと、前記継手ブロックに前記ポート接続管に平行となって突出して設けられ、前記電磁弁組立体の側面に前記出力ポートに隣接して形成された凹部に係合される係合突起と、前記電磁弁組立体に移動自在に装着され、前記係合突起の両面にそれぞれ形成された係合溝に係合する脚部および脚部を相互にそれぞれの基端部で連結する操作部を備え、前記継手ブロックを前記係合突起の部分で固定するクリップとを有することを特徴とする。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年5月12日(2010.5.12)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
電子の中には、陽極６８を通過してウィンドウ６６に入るものもある。ウィンドウ６６は好ましくは電気的に導電性であるから、ウィンドウ６６に入る電子は、冷却ブロック５６を電気的に伝導し、そしてショルダ７２を通じてビーム８２に再度入ることがある。これは、迷走電子経路８４として示されている。経路８４は、陽極８６へ戻る電気ループで完了する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月10日(2010.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄膜トランジスタにより構成される機能回路を有する表示装置であって、
前記薄膜トランジスタのゲート配線、および複数の第１の配線を有する第１の配線層と、
前記機能回路に電源電圧を供給する電源配線、および第２の配線を有する第２の配線層とを有し、
前記電源配線は、櫛状に配置され、
前記電源配線の櫛の先端部は、各々前記複数の第１の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続され、
前記複数の第１の配線は、前記第２の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
薄膜トランジスタにより構成される機能回路を有する表示装置であって、
前記薄膜トランジスタのゲート配線、および複数の第１の配線を有する第１の配線層と、
前記機能回路に接地電圧を供給する接地配線、および第２の配線を有する第２の配線層とを有し、
前記接地配線は、櫛状に配置され、
前記接地配線の櫛の先端部は、各々前記複数の第１の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続され、
前記複数の第１の配線は、前記第２の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第２の配線は、前記複数の第１の配線を横断して設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
薄膜トランジスタにより構成される機能回路を有する表示装置であって、
前記薄膜トランジスタのゲート配線、および複数の第１の配線を有する第１の配線層と、
前記機能回路に電源電圧を供給する電源配線、前記機能回路に接地電圧を供給する接地配線、第２の配線、および第３の配線を有する第２の配線層とを有し、
前記電源配線および前記接地配線は、それぞれ櫛状に配置され、
前記電源配線および前記接地配線の櫛の先端部は、各々前記複数の第１の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続され、
前記電源配線と電気的に接続される前記複数の第１の配線は、前記第２の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続され、
前記接地配線と電気的に接続される前記複数の第１の配線は、前記第３の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記第２の配線は、前記電源配線と電気的に接続される前記複数の第１の配線を横断して設けられ、
前記第３の配線は、前記接地配線と電気的に接続される前記複数の第１の配線を横断して設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
薄膜トランジスタにより構成される機能回路を有する表示装置であって、
前記薄膜トランジスタのゲート配線、および第１の配線を有する第１の配線層と、
前記機能回路に電源電圧を供給する電源配線を有する第２の配線層とを有し、
前記電源配線は、櫛状に配置され、
前記電源配線の櫛の先端部は、前記第１の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
薄膜トランジスタにより構成される機能回路を有する表示装置であって、
前記薄膜トランジスタのゲート配線、および第１の配線を有する第１の配線層と、
前記機能回路に接地電圧を供給する接地配線を有する第２の配線層とを有し、
前記接地配線は、櫛状に配置され、
前記接地配線の櫛の先端部は、前記第１の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項６または請求項７において、
前記第１の配線は、前記櫛の先端部を横断して設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
薄膜トランジスタにより構成される機能回路を有する表示装置であって、
前記薄膜トランジスタのゲート配線、第１の配線、および第２の配線を有する第１の配線層と、
前記機能回路に電源電圧を供給する電源配線、および前記機能回路に接地電圧を供給する接地配線を有する第２の配線層とを有し、
前記電源配線および前記接地配線は、それぞれ櫛状に配置され、
前記電源配線の櫛の先端部は、前記第１の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続され、
前記接地配線の櫛の先端部は、前記第２の配線とコンタクトホールを介して電気的に接続されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項９において、
前記第１の配線は、前記電源配線の櫛の先端部を横断して設けられ、
前記第２の配線は、前記接地配線の櫛の先端部を横断して設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項４、５、９または１０において、
前記電源配線と前記接地配線は、互いに点対称に配置されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか一において、
前記機能回路は、中央演算処理装置を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか一において、
前記機能回路は、記憶装置を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか一において、
前記機能回路は、スタティック型メモリを有することを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか一において、
前記機能回路は、ダイナミック型メモリを有することを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
請求項１乃至１５のいずれか一において、
前記機能回路は、不揮発性メモリを有することを特徴とする表示装置。
【請求項１７】
請求項１乃至１６のいずれか一において、
前記機能回路は、画像処理回路を有することを特徴とする表示装置。
【請求項１８】
請求項１乃至１７のいずれか一において、
前記機能回路は、ディジタル信号処理プロセッサを有することを特徴とする表示装置。
【請求項１９】
請求項１乃至１８のいずれか一において、
前記薄膜トランジスタは、絶縁表面を有する基板上に形成された半導体薄膜を活性層として用いていることを特徴とする表示装置。
【請求項２０】
請求項１９において、
前記絶縁表面を有する基板とは、ガラス基板であることを特徴とする表示装置。
【請求項２１】
請求項１９において、
前記絶縁表面を有する基板とは、石英基板であることを特徴とする表示装置。
【請求項２２】
請求項１９において、
前記絶縁表面を有する基板とは、プラスチック基板であることを特徴とする表示装置。
【請求項２３】
請求項１９において、
前記絶縁表面を有する基板とは、ＳＯＩ基板であることを特徴とする表示装置。
【請求項２４】
請求項１乃至２３のいずれか一において、
前記表示装置とは、液晶表示装置であることを特徴とする表示装置。
【請求項２５】
請求項１乃至２３のいずれか一において、
前記表示装置とは、自発光素子を用いた表示装置であることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月13日(2010.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力される２つのアナログの交流信号を所定のディジタル信号処理を行って２つの交流信号の位相差を算出する信号処理装置であって、
前記２つの交流信号をそれぞれ予め設定された所定の周期でサンプリングし、各サンプリングのレベル値を示すディジタル交流データに変換する信号変換手段と、
前記信号変換手段から出力される２つのディジタル交流データからそれぞれ予め設定された所定の周波数のディジタル交流データｘ[ｋ]，ｙ[ｋ]を濾波する適応型ディジタルフィルタからなる濾波手段と、
前記濾波手段から出力される所定の周波数の２つのディジタル交流データｘ[ｋ]，ｙ[ｋ]を用いて下記(１)〜(４)式により前記ディジタル交流データを微分した２つのディジタル交流データｘ' [ｋ]，ｙ' [ｋ]を演算する微分演算手段と、
前記濾波手段から出力される２つのディジタル交流データｘ[ｋ]，ｙ[ｋ]と、前記微分演算手段から出力される２つのディジタル交流データｘ' [ｋ]，ｙ' [ｋ]を用いて、下記(５)，(６)式により前記２つのディジタル交流データｘ[ｋ]，ｙ[ｋ]の位相差φを演算する位相差演算手段と、
を備えることを特徴とする、信号処理装置。
【数１】
2006300746.tif 000001
ここで、「Ａ1」，「Ａ2」は各交流信号の振幅値を示す。また、「ω」は角周波数を示し、「ｋ＋１」は、信号変換手段によるサンプリングデータの時間軸上の位置ｋに対して１つ後の時間軸上の位置を示し、「ｋ−１」は、上記ｋに対して１つ前の時間軸上の位置を示す。
【数２】
2006300746.tif 000002
【請求項２】
前記信号変換手段によって２つの交流信号を変換する前に、当該２つの交流信号を所定の増幅度で増幅する増幅手段をさらに備える、請求項１に記載の信号処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【数３】
2006300746.tif 000003
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
【数５】
2006300746.tif 000004
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
【数８】
2006300746.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月24日(2010.3.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来、この種の組込み型加熱調理器は、本体の自重を外郭で支えるようキッチンカウンターの天面に載置する構成として、提供されている（例えば、特許文献１参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
図４は、従来の組込み型加熱調理器（誘導加熱調理器）を示すものである。図４に示すように誘導加熱調理器の本体４０は内蔵部品を支える外郭４１で覆われ、外郭４１の上方開口部にトッププレートユニット４２を載置、固定して、外郭４１の上方開口部に沿って鉛直に張り出した外郭フランジ部４３をキッチンカウンター４４に載置して構成されている。ここでトッププレートユニット４２は、トッププレート４５をアンダーフレーム４６とトップフレーム４７で挟み込み、所定の部位を接着固定してアンダーフレーム４６とトップフレーム４７の下面嵌合部位に弾性を有したシール剤４８がアンダーフレーム４６の外周に沿って全周に接着固定され、アンダーフレーム４６の下面よりも突出して構成されている。設置時に外郭フランジ部４３がキッチンカウンター４４に載置されると、トッププレートユニット４２のシール剤４８は所定の寸法だけ圧縮され、キッチンカウンター４４の天面に対してトッププレートユニット４２の下面がシール剤４８の圧縮後の寸法だけ隙間を有して天面に載置される構成となっている。
【特許文献１】特開２０００−１０４９３１号公報
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月17日(2010.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガイドを有し、像担持体に形成される静電潜像を現像する現像装置にトナーを補給する補給機構と、
トナー収納部の先端に、前記トナー収納部よりも外径が小さい装着部分を有し、前記ガイドに着脱可能なトナー補給容器を、装置本体内でスライド移動可能に支持する支持部材と、
前記支持部材の挿入口側底面に揺動可能に突設される緩衝部材と、
前記ガイドの底面に、揺動可能に突設される第２の緩衝部材とを具備することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記トナー補給容器は円筒型であり、前記支持部材は、前記円筒型のトナー補給容器を支持することを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記第２の緩衝部材が前記緩衝部材と同じ構成であることを特徴とする請求項1又は請求項２記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記緩衝部材および前記第２の緩衝部材は、前記トナー補給容器を摺動可能に支持することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するためこの発明の画像形成装置は、ガイドを有し、像担持体に形成される静電潜像を現像する現像装置にトナーを補給する補給機構と、トナー収納部の先端に、前記トナー収納部よりも外径が小さい装着部分を有し、前記ガイドに着脱可能なトナー補給容器を、装置本体内でスライド移動可能に支持する支持部材と、前記支持部材の挿入口側底面に揺動可能に突設される緩衝部材と、前記ガイドの底面に、揺動可能に突設される第２の緩衝部材とを備えるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月14日(2010.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリクス形態に配置された複数の画素電極及び前記画素電極と電気的に接続された複数の薄膜トランジスタを具備し、前記複数の画素電極は、それぞれ下部電極と、前記下部電極から第１方向に所定距離をおいて位置し、上部メイン本体部及び前記上部メイン本体部の前記第１方向と垂直である第２方向の両端に形成されて電場の方向を制御する上部電場制御部を含む上部電極と、前記下部電極と前記上部電極を電気的に接続する接続部とを含む第１基板と、
前記第１基板に対向して位置し、前記画素電極との間に電場を形成する共通電極と、前記共通電極の前記下部電極に対応する位置に前記第１方向に沿って形成された下部ドメイン分割部と、前記共通電極の前記上部電極と対応する位置に前記第２方向に沿って形成された上部ドメイン分割部とを含む第２基板と、
前記第１基板及び前記第２基板の間に介在された液晶で構成された液晶層と、を含み、
前記上部電場制御部は、前記上部ドメイン分割部を中心として対称形状を有することを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記上部ドメイン分割部は、前記上部電極の中心を通って前記第２方向に沿って形成されたことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記上部電場制御部は、実質的に二等辺三角形の平面形状を有することを特徴とする請求項１または２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記下部電極は、下部メイン本体部及び前記下部メイン本体部の前記第１方向の両端に形成され、電場の方向を制御する下部電場制御部を含み、
前記下部電場制御部は、前記下部メイン本体部の両端から前記第１方向に沿って拡張されることによってなり、前記下部ドメイン分割部を中心として対称形状を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記下部ドメイン分割部は、前記下部電極の中心を通って前記第１方向に沿って形成されることを特徴とする請求項４に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記下部電場制御部は、実質的に二等辺三角形の平面形状を有することを特徴とする請求項４または５に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記下部電場制御部は、実質的に台形の平面形状を有することを特徴とする請求項４または５に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記下部電場制御部は、実質的に半楕円の平面形状を有することを特徴とする請求項４または５に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記上部メイン本体部及び前記下部メイン本体部は、それぞれ実質的に長方形の平面形状を有することを特徴とする請求項４〜８のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項１０】
前記上部メイン本体部及び前記下部メイン本体部は、それぞれ前記長方形の角が除去され、前記第１方向に対して所定の角度を有して形成された角切開部が形成されることを特徴とする請求項９に記載の表示パネル。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月8日(2010.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
企業資源管理アプリケーションのための役割ベースのユーザインタフェースを操作するための方法であって、
プロセッサによって実行される前記ユーザインタフェースの管理モードで、前記インタフェースのナビゲーションエリアにおける、ユーザの役割に基づく、前記ユーザにとって利用可能なナビゲーション機能の全範囲を提示するステップと、
前記企業資源管理アプリケーションから選択された活動に関連している処理をユーザが実行するとき、
前記ユーザインタフェースの作業エリアが大きくなるように、前記ユーザインタフェースの作業中モードに切り替え、前記ユーザインタフェースの前記ナビゲーションエリアを隠すステップと、
前記企業資源管理アプリケーションを制御するアプリケーションエンジンから、前記プロセッサによって実行されるミドルウェアアプリケーションによってビジネスオブジェクトを収集するステップと、
前記選択された活動に関連する前記収集されたビジネスオブジェクトを含む前記ユーザインタフェースの前記作業エリアにおいて、前記実行された処理の作業中セッションを提示するステップと、
管理アイコンを表示させて、前記ユーザが前記管理アイコンに対する入力をするとき、前記作業中セッションにおいて前記ユーザに対して前記ナビゲーションエリアを表示装置に表示させるステップと
を含み、
前記ビジネスオブジェクトは、前記ユーザの役割と前記選択された活動のカテゴリとの両方に適合する方法。
【請求項２】
前記管理モードで、前記ユーザインタフェースは選択可能なタスクの集約されたリストをさらに提示する請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記作業中モードで、1つまたは複数の以前に開始された処理の指標を含むセッションエリアが表示される請求項1に記載の方法。
【請求項４】
現時点で選択されている処理のための指標がハイライトされる請求項3に記載の方法。
【請求項５】
選択されていない処理のための指標が灰色表示される請求項3に記載の方法。
【請求項６】
ユーザの入力に応答して、前記管理モードから前記作業中モードに直接ナビゲートするステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項７】
請求項1に記載の方法を実行するためのコンピュータ実行可能命令を有形に実施するマシン可読媒体。
【請求項８】
企業資源管理アプリケーションのための役割ベースのユーザインタフェースを操作するための方法であって、
プロセッサによって実行される前記インタフェースの管理モードに入るステップであって、前記管理モードが、ユーザの役割に基づく、役割ベースのオブジェクトと前記ユーザにとって利用可能な活動との間をナビゲートするための全範囲のナビゲーション機能を有するナビゲーションエリアを含むステップと、
前記管理モードから、選択された活動にナビゲートするステップと、
アプリケーションを制御するアプリケーションエンジンから、前記プロセッサによって実行されるミドルウェアアプリケーションによってビジネスオブジェクトを収集するステップと、
前記選択された活動の処理ウィンドウでの入力に応答して、前記ユーザインタフェースの作業中モードに入るステップであって、前記ユーザインタフェースの作業エリアが大きくなるように、前記ナビゲーションエリアを隠し、前記作業中モードが、前記選択された活動に対応する処理を開始することと、前記開始された活動に関連する前記収集されたオブジェクトを有する前記作業エリアにおいて前記開始された活動を提示することとを含むステップと、
セッションエリアの中の前記開始された処理のための指標を表示装置に表示するステップと、
管理アイコンを表示させて、前記管理アイコンに対する入力をユーザがすることに対応して、前記作業中セッションにおいて前記ナビゲーションエリアが前記ユーザに対して表示されるステップと
を含み、
前記ビジネスオブジェクトは、前記ユーザの役割と前記選択された活動のカテゴリとの両方に適合する方法。
【請求項９】
複数の開始された処理の指標を表示するステップをさらに含む請求項8に記載の方法。
【請求項１０】
選択された指標での入力に応答して、前記管理モードから、対応する処理のための前記作業中モードに切り替えるステップをさらに含む請求項9に記載の方法。
【請求項１１】
現時点で選択されている処理のための指標がハイライトされる請求項9に記載の方法。
【請求項１２】
選択されていない処理のための指標が灰色表示される請求項9に記載の方法。
【請求項１３】
請求項8による方法を実行するためのコンピュータ実行可能命令を有形に実施するマシン可読記録媒体。