【手続補正書】
【提出日】平成22年6月8日(2010.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学指数および膜厚を有する下地構造上に位置する回折構造体の複数のパラメータを測定する方法であって、
前記下地構造の光学指数および膜厚を求める工程と、
前記下地構造の光学指数および膜厚を用いて前記回折構造体に対する前記複数のパラメータの参照データベースを構築する工程と、
前記回折構造体に複数の波長の電磁放射線の光線を方向付ける工程と、
前記光線の前記回折構造体から前記複数の波長における回折の強度データを検出する工程と、
前記複数のパラメータを判定するために、前記検出した強度データを前記データベースと比較する工程と、
を含む方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法において、
前記方向付ける工程が、前記光線を回折構造体に対して傾斜角をなして方向付ける方法。
【請求項３】
請求項２記載の方法において、
前記傾斜角が、構造体に対して直角な角度から約４０〜８０°の範囲にある方法。
【請求項４】
請求項２記載の方法において、
前記検出する工程が、前記回折構造体から前記光線のゼロ次回折を検出する方法。
【請求項５】
請求項２記載の方法において、
前記方向付ける工程が、偏光放射線を回折構造体に方向付ける方法。
【請求項６】
請求項１記載の方法において、
前記検出する工程が、前記回折構造体から前記光線のゼロ次回折を検出する方法。
【請求項７】
請求項６記載の方法において、
前記方向付ける工程が、偏光放射線を回折構造体に方向付ける方法。
【請求項８】
請求項１記載の方法において、
前記構築する工程が複数の関数からなる参照データベースを構築し、前記関数が、それぞれ、前記構造体の前記複数のパラメータに対応し、かつ前記複数の波長における強度値を提供する方法。
【請求項９】
請求項８記載の方法において、
前記関数が、それぞれ、前記回折構造体の推定線幅、高さ、または側壁角に対応する方法。
【請求項１０】
請求項１記載の方法において、
前記方向付ける工程が、偏光放射線を回折構造体に方向付ける方法。
【請求項１１】
請求項１記載の方法において、
前記構築する工程が、参照サンプルを用いずにモデルによって前記データベースを構築する方法。
【請求項１２】
請求項１記載の方法において、
前記複数の波長が、紫外線波長を含む方法。
【請求項１３】
請求項１記載の方法において、
前記構築する工程が波長のスペクトルに対して前記複数のパラメータの参照データベースを構築し、前記方向付ける工程が前記スペクトルを含む波長の広帯域放射線の光線を方向付け、前記検出する工程が前記波長のスペクトルに対して強度データを検出する方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の方法において、
前記比較する工程が、前記スペクトルの選択した部分の波長における強度データをデータベースの一部と比較する方法。
【請求項１５】
請求項１４記載の方法において、
前記スペクトルが紫外線波長を含み、前記部分が紫外線領域の波長からなる方法。
【請求項１６】
請求項１記載の方法において、
前記求める工程が、前記下地構造の光学指数および膜厚を測定する方法。
【請求項１７】
請求項１６記載の方法において、
前記測定を分光エリプソメータ、分光側光器、または分光反射率計から測定する方法。
【請求項１８】
光学指数および膜厚を有する、少なくとも一つの下地構造上に位置する回折構造体の複数のパラメータを測定する装置であって、
前記下地構造の光学指数および膜厚を用いて前記回折構造体に対する前記複数のパラメータの参照データベースを構築する手段と、
前記回折構造体に複数の波長の電磁放射線の光線を方向付ける手段と、
前記光線の前記回折構造体から前記複数の波長における回折の強度データを検出する手段と、
前記複数のパラメータを判定するために、前記検出した強度データを前記データベースと比較する手段と、
を備える装置。
【請求項１９】
請求項１８記載の装置において、
前記回折構造体が表面を有する材料の層を含み、前記方向付ける手段が前記光線を前記回折構造体の表面に対して傾斜角をなして方向付ける装置。
【請求項２０】
請求項１９記載の装置において、
前記傾斜角が、約４０〜８０°の範囲にある方法。
【請求項２１】
請求項２０記載の装置において、
前記検出する手段が、前記回折構造体から前記光線のゼロ次回折を検出する装置。
【請求項２２】
請求項１９記載の装置において、
前記方向付ける手段が、偏光放射線を回折構造体に方向付ける装置。
【請求項２３】
請求項１８記載の装置において、
前記検出する手段が、前記回折構造体から前記光線のゼロ次回折を検出する装置。
【請求項２４】
請求項２３記載の装置において、
前記方向付ける手段が、偏光器を含む装置。
【請求項２５】
請求項１８記載の装置において、
前記構築する手段が複数の関数からなる参照データベースを構築し、前記関数が、それぞれ、前記構造体の前記複数のパラメータに対応し、かつ前記複数の波長における強度値を提供する装置。
【請求項２６】
請求項２５記載の装置において、
前記関数が、それぞれ、前記回折構造体の推定線幅、高さ、または側壁角に対応する装置。
【請求項２７】
請求項１８記載の装置において、
前記方向付ける手段が、偏光放射線を回折構造体に方向付ける装置。
【請求項２８】
請求項１８記載の装置において、
前記構築する手段が、参照サンプルを用いずにモデルによって前記データベースを構築する装置。
【請求項２９】
請求項１８記載の装置において、
前記複数の波長が、紫外線波長を含む装置。
【請求項３０】
請求項１８記載の装置において、
前記構築する手段が波長のスペクトルに対して前記複数のパラメータの参照データベースを構築し、前記方向付ける手段が前記スペクトルを含む波長の広帯域放射線の光線を方向付け、前記検出する手段が前記波長のスペクトルに対して強度データを検出する装置。
【請求項３１】
請求項３０記載の装置において、
前記比較する手段が、前記スペクトルの選択した部分の波長における強度データをデータベースの一部と比較する装置。
【請求項３２】
請求項３１記載の装置において、
前記スペクトルが紫外線波長を含み、前記部分が紫外線領域の波長からなる装置。
【請求項３３】
請求項１８記載の装置において、
前記下地構造の光学指数および膜厚を測定する手段をさらに備える装置。
【請求項３４】
請求項３３記載の装置において、
前記測定する手段が、分光エリプソメータ、分光側光器、または分光反射率計を含む装置。
【請求項３５】
請求項３３記載の装置において、
前記測定する手段および方向付ける手段が共通の光学要素を用い、前記要素が広帯域放射線源、偏光器、および分光計を含む装置。
【請求項３６】
請求項３３記載の装置において、
前記測定する手段および方向付ける手段が共通の光学要素を用い、前記要素が偏光器および検光器を含み、前記偏光器および検光器は、強度データが前記構造体から検出される場合には実質的に同じ偏光の放射線を供給して出し、エリプソメトリックなパラメータが前記構造体から検出される場合には前記偏光器および検光器の間で回転が起こるように設定される装置。
【請求項３７】
サンプルの下地構造上に位置する回折構造体の複数のパラメータを測定する計器であって、
広帯域放射線源と、
前記放射線を偏光してサンプリング光線をサンプルに向けて供給する偏光器と、
構造体によって回折または反射されたサンプリング光線から放射線を受け取って出力光線を出す検光器と、
複数の波長で同時に出力光線から強度データを検出する分光計と、
前記下地構造の特性を用いて前記回折構造に対する前記複数のパラメータの参照データベースを構築する手段と、
を備える計器。
【請求項３８】
請求項３７記載の計器において、
サンプリング光線を下地構造に対して方向付けるが、回折構造体に対して方向付けない場合には偏光器または検光器を回転させ、サンプリング光線を回折構造体に対して方向付ける場合には偏光器および検光器を回転させない手段をさらに備える計器。
【請求項３９】
請求項３８記載の計器において、
前記回転手段が、実質的に同じ偏光を有する放射線を偏光器に供給させ、検光器に出させる計器。
【請求項４０】
請求項３７記載の計器において、
サンプリング光線を回折構造体のない下地構造に対して方向付け、かつサンプリング光線を回折構造体に対して方向付ける場合には偏光器または検光器を回転させる手段をさらに備える計器。
【請求項４１】
請求項３７記載の計器において、
偏光放射線を供給して、前記偏光器および検出する手段に対する回折構造体の高さを調整する集束手段をさらに備える計器。
【請求項４２】
請求項４１記載の計器において、
前記集束手段によって供給された偏光放射線が、サンプリング光線と実質的に同じ偏光を有する計器。
【請求項４３】
サンプルの下地構造上に位置する回折構造体の複数のパラメータを測定する方法であって、
前記下地構造上で分光測定を行ってその特性を判定する工程と、
前記下地構造の前記特性を用いて前記回折構造体に対する複数のパラメータの参照データベースを構築する工程と、
回折構造体上で散乱計測定を行って強度データまたはエリプソメトリックなデータを得る工程と、
前記複数のパラメータを導き出すために、前記強度データまたはエリプソメトリックなデータを参照データベースと比較する工程と、
を含む方法。
【請求項４４】
請求項４３記載の方法において、
前記下地構造の特性が、光学指数および膜厚を含む方法。
【請求項４５】
請求項４４記載の方法において、
前記分光測定を行うことが、分光エリプソメトリ測定または分光反射光測定を行う方法。
【請求項４６】
請求項４４記載の方法において、
前記分光測定および散乱計測定を広帯域放射線を用いて行う方法。
【請求項４７】
請求項４４記載の方法において、
前記分光測定および散乱計測定を偏光放射線を用いて行う方法。
【請求項４８】
請求項４４記載の方法において、
前記構築する工程が波長のスペクトルに対して前記複数のパラメータの参照データベースを構築し、前記散乱計測定を前記波長のスペクトルに対して行って前記スペクトルに対して強度データを得る方法。
【請求項４９】
請求項４８記載の方法において、
前記比較する工程が、前記スペクトルの選択した部分の波長における強度データをデータベースの一部と比較する方法。
【請求項５０】
請求項４９記載の方法において、
前記スペクトルが紫外線波長を含み、前記部分が紫外線領域の波長からなる方法。
【請求項５１】
請求項４３記載の方法において、
前記散乱計測定を行うことが、複数の波長で実質的に同時に測定を行う方法。
【請求項５２】
請求項５１記載の方法において、
前記比較する工程が、前記スペクトルの選択した部分の波長におけるエリプソメトリックなデータをデータベースの一部と比較する方法。
【請求項５３】
光学指数および膜厚を有する下地構造上に位置する回折構造体の複数のパラメータを測定する方法であって、
前記下地構造の光学指数および膜厚を求める工程と、
前記下地構造の光学指数および膜厚を用いて前記回折構造体に対する前記複数のパラメータの参照データベースを構築する工程と、
前記回折構造体に複数の波長の電磁放射線の光線を方向付ける工程と、
前記光線の前記回折構造体から前記複数の波長における回折のエリプソメトリックなパラメータを検出する工程と、
前記検出したエリプソメトリックなパラメータを前記データベースと比較して前記複数のパラメータを判定する工程と、
を含む方法。
【請求項５４】
請求項５３記載の方法において、
前記方向付ける工程が、前記光線を回折構造体に対して直角な角度から約４０〜８０°の範囲にある傾斜角をなして方向付ける方法。
【請求項５５】
請求項５３記載の方法において、
前記検出する工程が、前記回折構造体から前記光線のゼロ次回折を検出する方法。
【請求項５６】
請求項５３記載の方法において、
前記構築する工程が複数の関数からなる参照データベースを構築し、前記関数が、それぞれ、前記構造体の前記複数のパラメータに対応し、かつ前記複数の波長におけるエリプソメトリックなパラメータ値を提供する方法。
【請求項５７】
請求項５６記載の方法において、
前記関数が、それぞれ、前記回折構造体の推定線幅、高さ、または側壁角に対応する方法。
【請求項５８】
請求項５３記載の方法において、
前記複数の波長が、紫外線波長を含む方法。
【請求項５９】
請求項５３記載の方法において、
前記構築する工程が波長のスペクトルに対して前記複数のパラメータの参照データベースを構築し、前記方向付ける工程が前記スペクトルを含む波長の広帯域放射線の光線を方向付け、前記検出する工程が前記波長のスペクトルに対してエリプソメトリックなパラメータを検出する方法。
【請求項６０】
請求項５３記載の方法において、
前記求める工程が、前記下地構造の光学指数および膜厚を測定する方法。
【請求項６１】
請求項６０記載の方法において、
前記測定を分光エリプソメータ、分光側光器、または分光反射率計から測定する方法。
【請求項６２】
光学指数および膜厚を有する、少なくとも一つの下地構造上に位置する回折構造体の複数のパラメータを測定する装置であって、
前記下地構造の光学指数および膜厚を用いて前記回折構造体に対する前記複数のパラメータの参照データベースを構築する手段と、
前記回折構造体に複数の波長の電磁放射線の光線を方向付ける手段と、
前記光線の前記回折構造体から前記複数の波長における回折のエリプソメトリックなパラメータを検出する手段と、
前記検出したエリプソメトリックなパラメータを前記データベースと比較して前記複数のパラメータを判定する手段と、
を備える装置。
【請求項６３】
請求項６２記載の装置において、
前記方向付ける手段が、前記光線を約４０〜８０°の範囲にある傾斜角をなして方向付ける装置。
【請求項６４】
請求項６２記載の装置において、
前記複数の波長が、紫外線波長を含む装置。
【請求項６５】
請求項６２記載の装置において、
前記検出する手段が、前記回折構造体から前記光線のゼロ次回折を検出する装置。
【請求項６６】
請求項６２記載の装置において、
前記構築する手段が複数の関数からなる参照データベースを構築し、前記関数が、それぞれ、前記構造体の前記複数のパラメータに対応し、かつ前記複数の波長におけるエリプソメトリックなパラメータ値を提供する装置。
【請求項６７】
請求項６６記載の装置において、
前記関数が、それぞれ、前記回折構造体の推定線幅、高さ、または側壁角に対応する装置。
【請求項６８】
請求項６２記載の装置において、
前記構築する手段が波長のスペクトルに対して前記複数のパラメータの参照データベースを構築し、前記方向付ける手段が前記スペクトルを含む波長の広帯域放射線の光線を方向付け、前記検出する手段が前記波長のスペクトルに対してエリプソメトリックなパラメータを検出する装置。
【請求項６９】
請求項６２記載の装置において、
前記下地構造の光学指数および膜厚を測定する手段をさらに備える装置。
【請求項７０】
請求項６９記載の装置において、
前記測定する手段が、分光エリプソメータ、分光側光器、または分光反射率計を含む装置。
【請求項７１】
サンプルの下地構造上に位置する回折構造体の複数のパラメータを測定する方法であって、
前記下地構造上で分光測定を行ってその特性を判定する工程と、
前記下地構造の前記特性を用いて前記回折構造体に対する前記複数のパラメータの参照データベースを構築する工程と、
回折構造体上で散乱計測定を行って複数の波長で実質的に同時にエリプソメトリックなデータを得る工程と、
前記エリプソメトリックなデータを参照データベースと比較して前記複数のパラメータを導き出す工程と、
を含む方法。
【請求項７２】
請求項７１記載の方法において、
前記下地構造の特性が、光学指数および膜厚を含む方法。
【請求項７３】
請求項７２記載の方法において、
前記分光測定を行うことが、分光エリプソメトリ測定または分光反射光測定を行う方法。
【請求項７４】
請求項７２記載の方法において、
前記分光測定および散乱計測定を広帯域放射線を用いて行う方法。
【請求項７５】
請求項７２記載の方法において、
前記分光測定および散乱計測定を偏光放射線を用いて行う方法。
【請求項７６】
請求項７２記載の方法において、
前記構築する工程が波長のスペクトルに対して前記複数のパラメータの参照データベースを構築し、前記散乱計測定を前記波長のスペクトルに対して行って前記スペクトルに対してエリプソメトリックなデータを得る方法。