【手続補正書】
【提出日】平成22年6月30日(2010.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記数式１且つ、下記数式２を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂層。
１．００≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５ ：数式１
（Ｒｅ（λ）は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として４０°傾けた配置とし、一方で波長λｎｍの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し４０°傾いた平面内の面内レターデーション（ｎｍ）を表す。）
０．０１０≦△ｎ≦０．０６０ ：数式２
（ここで複屈折（△ｎ）は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し４０°傾いた平面内の屈折率をｎｘ、ｎｙとし、この面に対して垂直方向の屈折率をｎｚとした場合、△ｎ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ で表される値である。）
【請求項２】
下記一般式（０）で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、請求項１に記載のポリイミド樹脂層。
【化１】
2008050567.tif 000001
（Ｑは環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているＱの炭素が脂肪族炭素である。またＰは２価の芳香族基又は脂肪族基である。）
【請求項３】
下記一般式（７）で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする請求項１または２に記載のポリイミド樹脂層。
【化２】
2008050567.tif 000002
（Ｒは、シクロブタンの炭素に結合しており、それぞれ独立した炭素数１〜１２の脂肪族基又は芳香族基である。Ｃは、２価の芳香族基又は脂肪族基を表す。）
【請求項４】
さらに、下記一般式（８）で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする請求項３に記載のポリイミド樹脂層。
【化３】
2008050567.tif 000003
（Ｄは、環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているＤの炭素が脂肪族炭素である。ただし、置換または無置換のシクロブタン残基を除く。Ｃは前記に同じ。）
【請求項５】
一般式（７）で表されるユニットにおいて、Ｒがメチル基であることを特徴とする、請求項３または４に記載のポリイミド樹脂層。
【請求項６】
下記一般式（９）で表されるユニットと、下記一般式群（１０）で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、請求項４または５に記載のポリイミド樹脂層。
【化４】
2008050567.tif 000004
【化５】
2008050567.tif 000005
（Ｃは、２価の芳香族基又は脂肪族基を表す。）
【請求項７】
下記一般式（１）で表されるユニット、及び／又は、下記一般式（２）で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、請求項１または２に記載のポリイミド樹脂層。
【化６】
2008050567.tif 000006
【化７】
2008050567.tif 000007
（ここでＲ１は、炭素数が１〜２０である炭化水素からなり、イミド基が結合している炭素が、脂肪族炭素であり、Ｒ２はイミド基が結合している炭素が芳香族炭素である炭化水素である。）
【請求項８】
一般式（２）が、下記一般式（４）であることを特徴とする、請求項７に記載のポリイミド樹脂層。
【化８】
2008050567.tif 000008
【請求項９】
一般式（１）で表されるユニットのモル分率をＡ、一般式（２）で表されるユニットのモル分率をＢとして表した時に、
０．１０≦Ａ≦０．５０
且つ、
０．５０≦Ｂ≦０．９０
が成り立つ（但し、０．６≦Ａ＋Ｂ≦１．０）ことを特徴とする請求項７または８に記載のポリイミド樹脂層。
【請求項１０】
一般式（１）で表されるユニットにおいて、Ｒ１が一般式群（５）で表される群から選ばれる１以上の構造であることを特徴とする請求項７〜９のいずれか１項に記載のポリイミド樹脂層。
【化９】
2008050567.tif 000009
（但し、式中のＸは、Ｏ、ＳＯ２、ＣＨ２、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＦ３）２から選ばれる置換基であり、式中のＹはそれぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ，ＣＦ３、ＣＣｌ３、ＣＢｒ３から選ばれる置換基である。）
【請求項１１】
一般式（１）で表されるユニットにおいて、Ｒ１が一般式（６）で表される構造であることを特徴とする請求項７〜１０のいずれか１項に記載のポリイミド樹脂層。
【化１０】
2008050567.tif 000010
【請求項１２】
一般式（１）で表されるユニットのモル分率をＡ、一般式（２）で表されるユニットのモル分率をＢとして表した時に、
０．１５≦Ａ≦０．５０
且つ、
０．５０≦Ｂ≦０．８５
が成り立つ（但し、０．６５≦Ａ＋Ｂ≦１．０）ことを特徴とする請求項１１に記載のポリイミド樹脂層。
【請求項１３】
厚さが１μｍ以上、４０μｍ未満であることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載のポリイミド樹脂層。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載のポリイミド樹脂層と、プラスティックフィルム基盤からなることを特徴とする、積層体。
【請求項１５】
請求項１４に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹脂層を塗布、乾燥して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
【請求項１６】
請求項１４に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹脂層を転写して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか１項に記載のポリイミド樹脂層又は積層体を含有して形成されることを特徴とする、光学補償部材。
【請求項１８】
ポリイミド樹脂の固形成分濃度が２５重量％であるジメチルホルムアミド溶液を、ガラス基板上に塗布した後、９０℃で２０分間乾燥後、さらに、２００℃で２０分間乾燥させて形成した膜厚１１．９μｍコーティング層が、下記数式３且つ、下記数式４を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂。
１．００≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５ ：数式３
（Ｒｅ（λ）は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として４０°傾けた配置とし、一方で波長λｎｍの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し４０°傾いた平面内の面内レターデーション（ｎｍ）を表す。）
０．０１０≦△ｎ≦０．０６０ ：数式４
（ここで複屈折（△ｎ）は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し４０°傾いた平面内の屈折率をｎｘ、ｎｙとし、この面に対して垂直方向の屈折率をｎｚとした場合、△ｎ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚで表される値である。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ポリイミド樹脂、及びこれを用いたポリイミド樹脂層、積層体、積層体の製造方法、光学補償部材
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、優れた光学特性を有するポリイミド樹脂、及びこれを用いたポリイミド樹脂層、積層体、積層体の製造方法、光学補償部材に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
そこで、本発明者らは鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
（ｉ）下記数式１且つ、下記数式２を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂層。
１．００≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５ ：数式１
（Ｒｅ（λ）は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として４０°傾けた配置とし、一方で波長λｎｍの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し４０°傾いた平面内の面内レターデーション（ｎｍ）を表す。）
０．０１０≦△ｎ≦０．０６０ ：数式２
（ここで複屈折（△ｎ）は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し４０°傾いた平面内の屈折率をｎｘ、ｎｙとし、この面に対して垂直方向の屈折率をｎｚとした場合、△ｎ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ で表される値である。）
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（ｉｉ）下記一般式（０）で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、（ｉ）記載のポリイミド樹脂層。
【化１】
2008050567.tif 000011
（Ｑは環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているＱの炭素が脂肪族炭素である。またＰは２価の芳香族基又は脂肪族基である。）
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（ｉｉｉ） 下記一般式（７）で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする（ｉ）または（ｉｉ）記載のポリイミド樹脂層。
【化２】
2008050567.tif 000012
（Ｒは、シクロブタンの炭素に結合しており、それぞれ独立した炭素数１〜１２の脂肪族基又は芳香族基である。Ｃは、２価の芳香族基又は脂肪族基を表す。）
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（ｉｖ） さらに、下記一般式（８）で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする（ｉｉｉ）記載のポリイミド樹脂層。
【化３】
2008050567.tif 000013
（Ｄは、環を形成する炭素の半分以上が脂肪族炭素である環式を含み、カルボニル炭素が結合しているＤの炭素が脂肪族炭素である。ただし、置換または無置換のシクロブタン残基を除く。Ｃは前記に同じ。）
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（ｖ）一般式（７）で表されるユニットにおいて、Ｒがメチル基であることを特徴とする、（ｉｉｉ）または（ｉｖ）記載のポリイミド樹脂層。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
（ｖｉ）下記一般式（９）で表されるユニットと、下記一般式群（１０）で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、（ｉｖ）または（ｖ）記載のポリイミド樹脂層。
【化４】
2008050567.tif 000014
【化５】
2008050567.tif 000015
（Ｃは、２価の芳香族基又は脂肪族基を表す。）
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（ｖｉｉ）下記一般式（１）で表されるユニット、及び／又は、下記一般式（２）で表されるユニットを含有して形成されることを特徴とする、（ｉ）または（ｉｉ）記載のポリイミド樹脂層。
【化６】
2008050567.tif 000016
【化７】
2008050567.tif 000017
（ここでＲ１は、炭素数が１〜２０である炭化水素からなり、イミド基が結合している炭素が、脂肪族炭素であり、Ｒ２はイミド基が結合している炭素が芳香族炭素である炭化水素である。）
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（ｖｉｉｉ） 一般式（２）が、下記一般式（４）であることを特徴とする、（ｖｉｉ）記載のポリイミド樹脂層。
【化８】
2008050567.tif 000018
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（ｉｘ） 一般式（１）で表されるユニットのモル分率をＡ、一般式（２）で表されるユニットのモル分率をＢとして表した時に、
０．１０≦Ａ≦０．５０
且つ、
０．５０≦Ｂ≦０．９０
が成り立つ（但し、０．６≦Ａ＋Ｂ≦１．０）ことを特徴とする（ｖｉｉ）または（ｖｉｉｉ）に記載のポリイミド樹脂層。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
（ｘ）一般式（１）で表されるユニットにおいて、Ｒが一般式群（５）で表される群から選ばれる１以上の構造であることを特徴とする（ｖｉｉ）〜（ｉｘ）のいずれかに記載のポリイミド樹脂層。
【化９】
2008050567.tif 000019
（但し、式中のＸは、Ｏ、ＳＯ２、ＣＨ２、Ｃ（ＣＨ３）２、Ｃ（ＣＦ３）２から選ばれる置換基であり、式中のＹはそれぞれ独立して、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ，ＣＦ３、ＣＣｌ３、ＣＢｒ３から選ばれる置換基である。  ）
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（ｘｉ） 一般式（１）で表されるユニットにおいて、Ｒ１が一般式（６）で表される構造であることを特徴とする（ｖｉｉ）〜（ｘ）のいずれかに記載のポリイミド樹脂層。
【化１０】
2008050567.tif 000020
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（ｘｉｉ）一般式（１）で表されるユニットのモル分率をＡ、一般式（２）で表されるユニットのモル分率をＢとして表した時に、
０．１５≦Ａ≦０．５０
且つ、
０．５０≦Ｂ≦０．８５
が成り立つ（但し、０．６５≦Ａ＋Ｂ≦１．０）ことを特徴とする（ｘｉ）に記載のポリイミド樹脂層。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（ｘｉｉｉ）厚さが１μｍ以上、４０μｍ未満であることを特徴とする（ｉ）〜（ｘｉｉ）のいずれかに記載のポリイミド樹脂層。
（ｘｉｖ） （ｉ）〜（ｘｉｉｉ）の何れかに記載のポリイミド樹脂層と、プラスティックフィルム基盤からなることを特徴とする、積層体。
（ｘｖ） （ｘｉｖ）に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹脂層を塗布、乾燥して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
（ｘｖｉ） （ｘｉｖ）に記載の積層体を、プラスティックフィルム基盤上にポリイミド樹脂層を転写して形成することを特徴とする、積層体の製造方法。
（ｘｖｉｉ） （ｉ）〜（ｘｖｉ）のいずれかに記載のポリイミド樹脂層又は積層体を含有して形成されることを特徴とする、光学補償部材。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（ｘｖｉｉｉ） ポリイミド樹脂の固形成分濃度が２５重量％であるジメチルホルムアミド溶液を、ガラス基板上に塗布した後、９０℃で２０分間乾燥後、さらに、２００℃で２０分間乾燥させて形成した膜厚１１．９μｍコーティング層が、下記数式３且つ、下記数式４を満たすことを特徴とするポリイミド樹脂。
１．００≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．０５ ：数式３
（Ｒｅ（λ）は、水平面を基準面とした時に、ポリイミド樹脂を用いて形成した層を、基準面に対し、層の進相軸を軸として４０°傾けた配置とし、一方で波長λｎｍの測定光を基準面に対する垂線方向から照射して測定した、層を形成する平面に対し４０°傾いた平面内の面内レターデーション（ｎｍ）を表す。）
０．０１０≦△ｎ≦０．０６０ ：数式４
（ここで複屈折（△ｎ）は、上記と同様にポリイミド層を形成する平面に対し４０°傾いた平面内の屈折率をｎｘ、ｎｙとし、この面に対して垂直方向の屈折率をｎｚとした場合、△ｎ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚで表される値である。）
に関する。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
（複屈折）
本発明における複屈折（△ｎ）とは、ポリイミド層の面内の屈折率をｎｘ、ｎｙとし、厚み方向の屈折率をｎｚとした場合、式１で示される値である。
△ｎ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２］−ｎｚ ・・・数式１
複屈折は、ポリイミド層の鉛直方向を０°とした場合の４０°の角度で入射させた光の位相差をＫｏｂｒａ−ＷＲで測定し、その位相差値を用い、Ｋｏｂｒａ−ＲＥ（王子計測）で得られた屈折率から複屈折（△ｎ）を算出した。