【手続補正書】
【提出日】平成22年5月24日(2010.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁界ひずみを評価する装置において、
可動プローブであって、
検査されるべき場所に置くための機械固定具、
１つ以上の磁界生成器であって、前記機械固定具に取り付けられ、それぞれの磁界を生成するように構成された、１つ以上の磁界生成器、ならびに、
１つ以上の磁界センサーであって、その１つ以上の磁界センサーに対して、前記機械固定具の既知の位置に取り付けられており、前記１つ以上の磁界生成器によって生成された前記磁界を検知するように、かつ、検知された前記磁界に応答して信号を出力するように構成されており、前記出力信号は、位置信号および磁界強度信号を含む、１つ以上の磁界センサー、
を含む、可動プローブと、
コンピュータのプロセッサであって、前記検査される場所で前記磁界センサーによって検知された前記磁界のひずみのレベルを予想することも含めて、前記ひずみを評価するために前記出力信号を処理するように構成されている、コンピュータのプロセッサと、
を含む、装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、
前記プロセッサは、前記出力信号を、前記ひずみのない状態で決定された基準値と比較することによって、前記ひずみを評価するように構成されている、装置。
【請求項３】
請求項２に記載の装置において、
前記プローブは、前記基準値を保持するように構成されたメモリを含む、装置。
【請求項４】
請求項２に記載の装置において、
前記プロセッサは、前記出力信号の前記基準値からの偏差が所定の閾値を超えると、使用者に警告するように構成されている、装置。
【請求項５】
請求項１に記載の装置において、
前記１つ以上の磁界生成器、および前記１つ以上の磁界センサーは、共通軸に沿って配列されている、装置。
【請求項６】
請求項１に記載の装置において、
前記磁界生成器、および前記磁界センサーは、少なくとも２つの生成器−センサー対の形で配列されており、
前記対の各々は、個別の距離だけ離されている、前記磁界生成器のうちの１つと前記磁界センサーのうちの１つとを含んでおり、
前記対のうちの少なくとも２つは、互いに異なる距離を有している、装置。
【請求項７】
請求項１に記載の装置において、
前記磁界生成器、および前記磁界センサーは、少なくとも２つの生成器−センサー対の形で配列されており、
前記対の各々は、個別の軸に沿って配列された、前記磁界生成器のうちの１つと前記磁界センサーのうちの１つとを含み、
前記対のうちの少なくとも２つは、互いに対して異なる方向に向けられた軸を有する、装置。
【請求項８】
請求項１に記載の装置において、
前記磁界生成器のうちの１つは、第１の周波数を有する第１の磁界を生成するように構成されており、
前記磁界生成器のうちの別の１つは、前記第１の周波数とは異なる第２の周波数を有する第２の磁界を生成するように構成されており、
前記磁界センサーのうちの少なくとも１つは、前記第１および第２の磁界を同時に検知するように構成されている、装置。
【請求項９】
請求項１に記載の装置において、
前記プロセッサは、前記検査される場所で磁気位置追跡システムによって行われた位置測定に対する前記ひずみの影響を評価するように構成されている、装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の装置において、
前記磁気位置追跡システムは、典型的には第１の距離だけ離されている、磁界生成器および磁界センサーを用いて前記位置測定を行い、
前記プローブの、前記磁界生成器のうちの少なくとも１つと前記磁界センサーのうちの１つとは、前記第１の距離に近似するように選択された第２の距離だけ離されている、装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の装置において、
前記プロセッサは、評価された前記ひずみに応答して、前記位置測定に適用される補正因子を決定するように構成されている、装置。
【請求項１２】
請求項１に記載の装置において、
前記磁界生成器のうちの少なくとも１つは、少なくとも第１の磁界生成コイル、および第２の磁界生成コイルを含み、
その少なくとも第１および第２の磁界生成コイルは、それぞれ異なる第１の角度配向および第２の角度配向に向けられており、かつ、異なる第１の周波数および第２の周波数を有する第１の磁界および第２の磁界をそれぞれ生成するように構成されており、
前記磁界センサーのうちの少なくとも１つは、前記第１および第２の磁界を同時に検知するように構成されている、装置。
【請求項１３】
磁界ひずみを評価する方法において、
検査されるべき場所に可動プローブを位置付けるステップであって、前記プローブは、固定された相対的な空間的関係に配列された、１つ以上の磁界生成器、および１つ以上の磁界センサーを含む、ステップと、
前記プローブが前記場所に位置付けられると同時に、それぞれの磁界を生成するために前記１つ以上の磁界生成器を作動させ、前記１つ以上の磁界センサーを用いて前記磁界を検知して、検知された前記磁界に応答してそれぞれの出力信号を生み出すステップであって、前記出力信号は、位置信号および磁界強度信号を含む、ステップと、
前記検査される場所で前記磁界センサーによって検知された前記磁界のひずみのレベルを予想することも含めて、前記ひずみを評価するためにコンピュータを用いて前記出力信号を処理するステップと、
を含む、方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法において、
前記出力信号を処理する前記ステップは、前記出力信号を、前記ひずみのない状態で決定された基準値と比較するステップを含む、方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法において、
前記基準値は、前記プローブのメモリ内に記憶され、
前記出力信号を前記基準値と比較する前記ステップは、前記メモリから前記基準値を読み取るステップを含む、方法。
【請求項１６】
請求項１４に記載の方法において、
前記出力信号を処理する前記ステップは、前記出力信号の前記基準値からの偏差が所定の閾値を超えると、使用者に警告するステップを含む、方法。
【請求項１７】
請求項１３に記載の方法において、
前記１つ以上の磁界生成器、および前記１つ以上の磁界センサーは、共通軸に沿って配列されている、方法。
【請求項１８】
請求項１３に記載の方法において、
前記磁界生成器、および前記磁界センサーは、少なくとも２つの生成器−センサー対の形で配列されており、
前記対の各々は、個別の距離だけ離されている、前記磁界生成器のうちの１つと前記磁界センサーのうちの１つとを含み、
前記対のうちの少なくとも２つは、互いに異なる距離を有する、方法。
【請求項１９】
請求項１３に記載の方法において、
前記磁界生成器、および前記磁界センサーは、少なくとも２つの生成器−センサー対の形で配列されており、
前記対の各々は、個別の軸に沿って配列された、前記磁界生成器のうちの１つと前記磁界センサーのうちの１つとを含み、
前記対のうちの少なくとも２つは、互いに対して異なる方向に向けられた軸を有する、方法。
【請求項２０】
請求項１３に記載の方法において、
前記１つ以上の磁界生成器を作動させる前記ステップは、前記磁界生成器のうちの１つから第１の周波数を有する第１の磁界を生成するステップ、および、前記磁界生成器の別の１つによって、前記第１の周波数とは異なる第２の周波数を有する第２の磁界を生成するステップ、を含み、
前記磁界を検知する前記ステップは、前記磁界センサーのうちの少なくとも１つによって、前記第１および第２の磁界を同時に検知するステップを含む、方法。
【請求項２１】
請求項１３に記載の方法において、
前記出力信号を処理する前記ステップは、前記検査される場所で磁気位置追跡システムによって行われた位置測定に対する前記ひずみの影響を評価するステップを含む、方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の方法において、
前記磁気位置追跡システムは、典型的に第１の距離だけ離されている、磁界生成器および磁界センサーを使用して前記位置測定を行い、
前記プローブの、前記磁界生成器のうちの少なくとも１つと前記磁界センサーのうちの１つとは、前記第１の距離に近似するように選択された第２の距離だけ離されており、前記磁界生成器のうちの１つは、少なくとも第１および第２の磁界を生成する、方法。
【請求項２３】
請求項２１に記載の方法において、
前記出力信号を処理する前記ステップは、評価された前記ひずみに応答して、前記位置測定に適用される補正因子を決定するステップを含む、方法。
【請求項２４】
請求項１３に記載の方法において、
前記１つ以上の磁界生成器を作動させる前記ステップは、前記磁界生成器のうちの１つから、それぞれ異なる第１の角度配向および第２の角度配向、ならびにそれぞれ異なる第１の周波数および第２の周波数を有する、少なくとも第１の磁界および第２の磁界を生成するステップを含み、
前記磁界を検知する前記ステップは、前記磁界センサーのうちの少なくとも１つによって前記第１および第２の磁界を同時に検知するステップを含む、方法。