【手続補正書】
【提出日】平成22年5月25日(2010.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０ｎｍよりも大きい波長領域を有する放射線源からの化学線に感受性の光重合可能な組成物の層を含む画像形成素子であって、
前記光重合可能な組成物の層が０．０１０から０．２５０インチ（０．０２５４から０．６３５ｃｍ）の厚さを有し、かつ、
光沢剤を除く光輝性タグが、前記素子に配置され、および化学線と異なる波長で放射される放射線を生成する前記放射線源からの少なくとも１つの波長に応答性であり、前記組成物が前記波長の少なくとも１つに感受性であることを特徴とする画像形成素子。
【請求項２】
前記タグは、前記組成物に配置されることを特徴とする請求項１に記載の画像形成素子。
【請求項３】
前記組成物は、モノマーと、前記化学線に感受性の開始剤または開始剤システムを含む感光性組成物であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成素子。
【請求項４】
記録素子を製造するための方法であって、
ａ）１０ｎｍよりも大きい波長領域を有する放射線源からの化学線に感受性の光重合可能な組成物の層を含む画像形成素子であって、ここで、
前記光重合可能な組成物の層が０．０１０から０．２５０インチ（０．０２５４から０．６３５ｃｍ）の厚さを有し、かつ、
光沢剤を除く光輝性タグが、前記素子に配置されおよび前記放射線源からの少なくとも１つの波長に応答性であり、前記組成物が前記波長の少なくとも１つに感受性である画像形成素子を提供する工程と、
ｂ）前記画像形成素子を前記化学線に露光させる工程と
を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
記録素子を製造するのに使用されるデバイスにおける条件を設定するための方法であって、
（ａ）１０ｎｍよりも大きい波長領域を有する放射線源からの化学線に感受性の光重合可能な組成物の層を含む画像形成素子であって、
前記光重合可能な組成物の層が０．０１０から０．２５０インチ（０．０２５４から０．６３５ｃｍ）の厚さを有し、かつ、
光沢剤を除く光輝性タグが、前記素子に配置されおよび前記放射線源からの少なくとも１つの波長に応答性であり、前記組成物が前記波長の少なくとも１つに感受性である画像形成素子を提供する工程と、
（ｂ）前記素子を前記少なくとも１つの波長に対して露光させて、前記化学線と異なる波長の放射線を前記タグから生成する工程と、
（ｃ）前記放射線を検出する工程と、
（ｄ）工程ｃ）により検出された放射線に応じて前記デバイスの動作の１つまたは複数の条件を設定する工程と
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６４】
ＣＹＲＥＬ１００２型処理装置において、有機溶媒ＣＹＲＥＬ（登録商標）ＯＰＴＩＳＯＬ洗い流し溶液で４２０秒間にわたって素子を現像して、未露光部を除去し、レリーフ印刷版を形成する。次いで、版を熱対流炉で２時間乾燥させる。乾燥後、版を露光ユニットで（２５４ｎｍの）ＵＶ線に４分間にわたって露光させて、ライト仕上げして、残留粘着物を除く。版がこの仕上げ波長に対して露光されたときに、青色タグは、放射線を放射しない。
本発明は以下の実施の態様を含むものである。
１．１０ｎｍよりも大きい波長領域を有する放射線源からの化学線に感受性の光重合可能な組成物の層を含む画像形成素子であって、
前記光重合可能な組成物の層が０．０１０から０．２５０インチ（０．０２５４から０．６３５ｃｍ）の厚さを有し、かつ、
光沢剤を除く光輝性タグが、前記素子に配置され、および化学線と異なる波長で放射される放射線を生成する前記放射線源からの少なくとも１つの波長に応答性であり、前記組成物が前記波長の少なくとも１つに感受性であることを特徴とする画像形成素子。
２．前記タグは、前記組成物に配置されることを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
３．前記組成物は、モノマーと、前記化学線に感受性の開始剤または開始剤システムを含む感光性組成物であることを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
４．前記感光性組成物は、エラストマー結合剤をさらに含むことを特徴とする前記３に記載の画像形成素子。
５．前記タグは、光輝性金属錯体であることを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
６．前記タグは、ランタニド金属の金属錯体であることを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
７．前記タグは、ランタニド金属キレートの金属錯体であることを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
８．前記タグは、少なくとも１つの波長に対する露光に応答して励起または刺激され、前記化学線と異なる波長の放射線を生成することを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
９．前記タグは、前記組成物の全量に対して１から１０００百万分率の量で前記組成物に存在することを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
１０．前記組成物の第１の層に隣接する少なくとも１つの追加的な層をさらに含み、前記追加的な層は、支持体層、剥離層、前記化学線に感受性の第２の組成物層、前記化学線に感受性になることが可能なエラストマー層、ワックス層、接着性改質層、レーザ放射線感受性層、カバーシート、およびそれらの組合せからなる群から選択されることを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
１１．前記タグは、前記少なくとも１つの追加的な層に配置されていることを特徴とする前記１０に記載の画像形成素子。
１２．前記波長領域は、１０から１０６００ｎｍであることを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
１３．前記組成物は、２００から４００ｎｍの化学線に感受性であることを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
１４．前記少なくとも１つの波長は２００から４００ｎｍであることを特徴とする前記１に記載の画像形成素子。
１５．記録素子を製造するための方法であって、
ａ）１０ｎｍよりも大きい波長領域を有する放射線源からの化学線に感受性の光重合可能な組成物の層を含む画像形成素子であって、ここで、
前記光重合可能な組成物の層が０．０１０から０．２５０インチ（０．０２５４から０．６３５ｃｍ）の厚さを有し、かつ、
光沢剤を除く光輝性タグが、前記素子に配置されおよび前記放射線源からの少なくとも１つの波長に応答性であり、前記組成物が前記波長の少なくとも１つに感受性である画像形成素子を提供する工程と、
ｂ）前記画像形成素子を前記化学線に露光させる工程と
を含むことを特徴とする方法。
１６．前記露光工程ｂ）の後に、ｃ）工程ｂ）の素子を処理して、前記記録素子を形成する工程をさらに含むことを特徴とする前記１５に記載の方法。
１７．前記タグは、前記化学線と異なる波長の放射線を放射することによって、前記少なくとも１つの波長に応答することを特徴とする前記１５に記載の方法。
１８．前記タグは、４００から８００ｎｍの波長の放射線を生成することによって、前記少なくとも１つの波長に応答することを特徴とする前記１５に記載の方法。
１９．前記波長領域は、１０から１０６００ｎｍであることを特徴とする前記１５に記載の方法。
２０．前記組成物は、２００から４００ｎｍの前記化学線に感受性であることを特徴とする前記１５に記載の方法。
２１．前記少なくとも１つの波長は、２００から４００ｎｍであることを特徴とする前記１５に記載の方法。
２２．前記記録素子は、フレキソ印刷版、プリプレスプルーフ、熱形成カラーフィルタ、フォトレジストおよび活字印刷版からなる群から選択されることを特徴とする前記１５に記載の画像形成素子。
２３．前記露光工程ｂ）は、
（１）前記組成物の層を前記化学線で画像露光して、露光部および未露光部を形成する工程、および
（２）前記組成物の層を前記化学線で一様に露光する工程
からなる群から選択されることを特徴とする前記１５に記載の方法。
２４．前記画像露光工程は、
（１）フォトツールを介して前記組成物層を前記化学線で露光する工程、
（２）前記組成物層の上または隣のレーザ放射線感受性層を赤外レーザ放射線に画像露光させて、前記組成物層の上方に原位置マスクを形成し、前記原位置マスクを介して前記組成物層を前記化学線で露光する工程、
（３）前記組成物層の上または上方に化学線不透過材料を画像塗布して、前記マスクを介して前記組成物層を前記化学線で露光する工程、および
（４）前記組成物層の上または隣のレーザ放射線感受性層をレーザ放射線に画像露光させて、前記組成物を隣接基板に選択的に転写する工程
からなる群から選択されることを特徴とする前記２３に記載の方法。
２５．前記処理工程ｃ）は、
（１）工程ｂ）の前記素子を、溶媒溶液、水溶液、準水溶液および水からなる群から選択される少なくとも１つの洗い流し溶液で処理する工程、
（２）工程ｂ）の前記素子を、部分を溶融、流動または軟化させるのに十分な温度に加熱する工程、
（３）工程ｂ）の前記素子の前記組成物層を前記組成物層に隣接する層、または前記組成物層の上方のカバーシートから分離する工程、
（４）工程ｂ）の前記素子の前記組成物層を支持体または基板に貼り合わせる工程、および
（５）工程ｂ）の前記素子の前記組成物層を支持体、受容体または表示シートに転写する工程
からなる群から選択されることを特徴とする前記１６に記載の方法。
２６．前記処理工程ｃ）は、前記記録素子にレリーフ表面を形成することを特徴とする前記１６に記載の方法。
２７．前記１６に記載の方法に従って作製されることを特徴とするフレキソ印刷版。
２８．記録素子を製造するのに使用されるデバイスにおける条件を設定するための方法であって、
（ａ）１０ｎｍよりも大きい波長領域を有する放射線源からの化学線に感受性の光重合可能な組成物の層を含む画像形成素子であって、
前記光重合可能な組成物の層が０．０１０から０．２５０インチ（０．０２５４から０．６３５ｃｍ）の厚さを有し、かつ、
光沢剤を除く光輝性タグが、前記素子に配置されおよび前記放射線源からの少なくとも１つの波長に応答性であり、前記組成物が前記波長の少なくとも１つに感受性である画像形成素子を提供する工程と、
（ｂ）前記素子を前記少なくとも１つの波長に対して露光させて、前記化学線と異なる波長の放射線を前記タグから生成する工程と、
（ｃ）前記放射線を検出する工程と、
（ｄ）工程ｃ）により検出された放射線に応じて前記デバイスの動作の１つまたは複数の条件を設定する工程と
を含むことを特徴とする方法。
２９．前記化学線源を有する前記デバイスは、化学線露光ユニットおよびレーザ放射線露光ユニットからなる群から選択されることを特徴とする前記２８に記載の方法。
３０．前記設定工程は、
ｄ１）工程ｃ）の前記検出された放射線をコード化信号に翻訳する工程と、
ｄ２）前記コード化信号を読み取る工程と、
ｄ３）前記デバイスの１つまたは複数の動作条件を設定することによって読み取られた信号に応答する工程と
を含むことを特徴とする前記２８に記載の方法。
３１．前記応答工程は、１つまたは複数の前記条件を、対応する基準線設定点および／または範囲と比較する工程、および１つまたは複数の前記条件を変えるかどうかを判断する工程をさらに含むことを特徴とする前記３０に記載の方法。
３２．前記応答工程は、前記デバイスの１つまたは複数の前記動作条件を変える工程をさらに含むことを特徴とする前記３０に記載の方法。
３３．ｄ４）前記記録素子を製造するのに使用される第２のデバイスに対する１つまたは複数の動作条件を設定することによって、前記読み取られた信号に応答する工程
をさらに含むことを特徴とする前記２８に記載の方法。
３４．前記第２のデバイスは、前記画像形成素子の少なくとも一部を溶融、流動または軟化させるのに十分な温度に前記画像形成素子を加熱するための熱処理装置、前記画像形成素子の少なくとも一部を溶液で除去するための洗い流し処理装置、および前記画像形成素子で二次的な素子の集合体を形成するためのラミネータからなる群から選択されることを特徴とする前記３３に記載の方法。
３５．前記デバイスは、前記画像形成素子の少なくとも一部を溶融、流動または軟化させるのに十分な温度に前記画像形成素子を加熱するための熱処理装置、前記画像形成素子の少なくとも一部を溶液で除去するための洗い流し処理装置、前記画像形成素子に画像を形成するためのレーザ放射線露光ユニット、前記画像形成素子を前記化学線に露光させるための露光ユニット、および前記画像形成素子で二次的な素子の集合体を形成するためのラミネータからなる群から選択されることを特徴とする前記２８に記載の方法。