(57)【要約】      （修正有）【課題】プロセス処理装置間において基板を真空または清浄な大気圧環境内に保持したまま手で持ち運ぶことが出来る、軽量かつコンパクトで安価な基板搬送容器を提供する。【解決手段】トランスファーケースの密閉容器内に配置したスプリング式基板昇降機構７のスプリング８が上蓋３の開閉に連動して伸び縮みすることで容器内に収納された基板１０の昇降が可能となり、基板は上蓋を開ける受渡し可能な高さまで上昇し、上蓋を閉めると収納高さまで下降する。また、プロセス処理装置のロードロック室内にプロセス処理装置外から持ち込んだ容器本体２を固定し、ロードロック室に付属する上蓋開閉機構１１に容器上蓋を接続することで、ロードロック室側の上蓋開閉機構を用いて容器上蓋を開閉し、基板の受け渡し、収納が可能となる。基板の受渡し、終了後は上蓋を閉じて、容器本体と上蓋をロードロック室から取り外して他の場所への移動が可能となる。【選択図】図３
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
プロセス処理装置間の基板搬送を行うための密閉容器であって、上蓋を開けると容器内に収納されている基板が受渡し可能な高さまで上昇し、上蓋を閉めると基板が収納高さまで下降するスプリング式基板昇降機構を有することを特徴とする基板搬送容器。
【請求項２】
プロセス処理装置のロードロック室内に容器本体を着脱可能で、ロードロック室に付属する上蓋開閉機構で上蓋を開閉させることにより基板の受け渡し、収納が可能な請求項１記載の基板搬送容器。
【請求項３】
容器本体と上蓋がOリングでシールされ、容器内の環境を真空または清浄な大気圧のまま収納された基板を搬送することが可能な請求項１または請求項２記載の基板搬送容器。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、プロセス処理装置ロードロック室やグローブボックス間において基板を真空または清浄な大気圧環境のまま移動可能な基板搬送容器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の真空を保持したままで加熱、冷却、成膜、エッチング、分析等の独立したプロセス処理装置間における基板移動手段は、真空容器に基板受渡し機構、仕切弁、真空排気系を接続する必要があり、全体の構造が複雑かつ大掛かりになるため高価で取扱いも容易ではなく、手で持ち運ぶことも困難だった。
【０００３】
一方、基板をグローブボックス内で容器に収納して手で搬送する方式は、容器をコンパクトにすることは可能だが、プロセス処理装置ロードロック室に直接接続して清浄な雰囲気を保持したまま基板を装置内に取り込む事例は無かった。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
本考案はプロセス処理装置ロードロック室やグローブボックス間の処理基板移動において真空または清浄な大気圧環境を保持したまま手で持ち運び出来る構造が単純で軽量コンパクトな基板搬送容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
トランスファーケースの密閉容器内に上蓋の開閉に連動したスプリングの伸び縮みで基板の昇降が可能なスプリング式基板昇降機構を設置することにより、基板は上蓋を開けると収納された基板が受渡し可能な高さまで上昇し、上蓋を閉めると基板が収納高さまで下降することが可能となる。
【０００６】
プロセス処理装置のロードロック室内にプロセス処理装置外から持ち込んだ容器本体を固定し、ロードロック室に付属する上蓋開閉機構に容器上蓋を接続することにより、ロードロック室側の上蓋開閉機構を用いて容器上蓋を開閉し、基板の受け渡し、収納が可能となる。基板の受渡し、終了後は上蓋を閉じて、容器本体と上蓋をロードロック室から取り外して他の場所への移動が可能となる。
【０００７】
容器本体と上蓋をOリングでシールして容器を気密構造にすることにより、容器内の環境を真空または清浄な大気圧のまま収納された基板が搬送可能となる。
【考案の効果】
【０００８】
本考案のトランスファーケースはスプリング式基板昇降機構の採用により構造が単純化され、軽量かつコンパクトになり手での持ち運びが可能となった。また、ロードロック室内への容器本体および上蓋着脱機構を採用することにより、容易にプロセス処理装置や分析装置のような真空装置間や大気圧環境のグローブボックス間での基板のやりとりができるだけでなく、真空装置、グローブボックス間の基板のやりとりにも用いることができるようになった。容器を気密構造としたため容器内の環境を真空または清浄な大気圧のまま収納された基板を搬送できるようになった。更に、基板搬送機構、仕切弁、専用真空排気系が不要になるため製作コストの大幅な削減が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】トランスファーケース上蓋閉状態図
【図２】トランスファーケース上蓋開状態図
【図３】トランスファーケース上蓋開時断面図
【図４】トランスファーケース上蓋閉時断面図
【図５】トランスファーケースロードロック室内収納状態図
【実施例】
【００１０】
図面に従って本考案の実施の形態を説明する。図１はトランスファーケース上蓋閉状態図で上蓋３が閉まっている状態である。トランスファーケース１は容器本体２と上蓋３で外部を形成している。上蓋３の上部には爪４が取り付けられており、上蓋開閉機構（図示されていない）を爪４に引っ掛けて着脱することが出来る。容器本体２と上蓋３の固定にはパッチン錠５を使用している。
【００１１】
図２はトランスファーケース上蓋開状態図で上蓋３が開いている状態である。トランスファーケース１の内部にはスプリング式基板昇降機構８が取り付けられている。容器本体２上部の溝にはゴム製Oリング６が埋め込まれの上蓋３を容器本体２に押し付けることにより真空シールが可能となる。
【００１２】
図３はトランスファーケース上蓋開時断面図で上蓋３が開いている状態である。上蓋開閉機構１１を上蓋３に取付けられた爪４に引っ掛けて上蓋３を開けると、スプリング式基板昇降機構７のスプリング８が伸びて、スプリング式基板昇降機構７に載せられている基板ホルダー９に固定された基板１０が受渡し高さまで上がり、基板搬送ロボット１４により基板受渡しを行うことができる。本実施例では基板ホルダー９に基板１０を固定して基板ホルダー９ごと受渡しを行っているが、基板単体で受渡しを行っても構わない。また、本実施例では１００ｍｍ□基板を使用しているが基板サイズを制限するものではなく、プロセス処理装置に合わせて基板サイズ及び容器サイズの変更は可能である。
【００１３】
図４はトランスファーケース上蓋閉時断面図で上蓋３が閉じている状態である。上蓋３を下げるとスプリング式基板昇降機構７のスプリング８が縮んで基板ホルダー９に固定された基板１０が容器内収納高さまで下がる。
【００１４】
図５はトランスファーケースロードロック室内収納状態図である。基板搬送ロボット１４で基板ホルダー９に固定した基板１０を受け取った後、ロードロック室本体１２に取付けられた上蓋開閉機構１１を用いて上蓋３を閉め、容器本体２と上蓋３を密着させたまま、ロードロック室本体１２をベントして大気圧に戻した後、ロードロック室側面扉１５を開けて上蓋３をパッチン錠５で容器本体２に固定してから取出し他の装置へ手で持ち運ぶことができる。本実施例ではロードロック室本体１２への容器本体２および上蓋３の着脱機構をスライド式にして構造の単純化を図ったがが、ねじ止め等他の方式でも着脱が可能であれば構わない。
【符号の説明】
【００１５】
１  トランスファーケース
２  容器本体
３  上蓋
４  爪
５  パッチン錠
６  Oリング
７  基板昇降機構
８  スプリング
９  基板ホルダー
１０基板
１１上蓋開閉機構
１２ロードロック室
１３仕切バルブ
１４基板搬送ロボット
１５側面扉
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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