【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年1月8日(2010.1.8)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトレジスト、イオン注入フォトレジスト、ＢＡＲＣ及び／又はエッチ残留物を除去するための配合物であって、水酸化アンモニウム及び２−アミノベンゾチアゾール、残余水を含み、該水酸化物は金属汚染が１００ｐｐｍ以下である配合物。
【請求項２】
酸化剤、砥材粒子を含まない、請求項１に記載された配合物。
【請求項３】
水酸化アンモニウムが水酸化テトラメチルアンモニウムである、請求項１又は２に記載された配合物。
【請求項４】
ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ホルムアミド、ジメチル−２−ピペリドン（ＤＭＰＤ）、テトラヒドロフルフリルアルコール、グリセロール、エチレングリコール、アミド、アルコール、スルホキシド、ヒドロキシアミド、アミノアルコールジオール及びポリオール、（Ｃ2−Ｃ20）アルカンジオール、（Ｃ3−Ｃ20）アルカントリオール、環式アルコール、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール、１,４−シクロヘキサンジメタノール、グリコールエーテルおよびそれらの混合物からなる群から選択された０〜６０質量％の水溶性有機溶媒をさらに含み、ここで（Ｃ2−Ｃ20）、（Ｃ3−Ｃ20）はアルカン主鎖を構成する炭素数の数がそれぞれ、２〜２０、３〜２０であることを表す、請求項１〜３のいずれかに記載された配合物。
【請求項５】
０．１質量％〜５質量％の置換したヒドロキシルアミン又はそれらの酸性塩をさらに含む、請求項１〜４のいずれかに記載された配合物。
【請求項６】
クエン酸、アントラニル酸、没食子酸、安息香酸、マロン酸、マレイン酸、フマル酸、Ｄ，Ｌ−リンゴ酸、イソフタル酸、フタル酸、乳酸及びそれらの混合物からなる群から選択された０質量％〜１０質量％の有機酸をさらに含む、請求項１〜５のいずれかに記載された配合物。
【請求項７】
有機酸塩、フェノール、酸、トリアゾール、ベンゾトリアゾール（ＢＺＴ）、レゾルシノール、無水マレイン酸、無水フタル酸、カテコール、ピロガロール、没食子酸のエステル、カルボキシベンゾトリアゾール、フルクトース、チオ硫酸アンモニウム、グリシン、テトラメチルグアニジン、イミノ二酢酸、ジメチルアセトアセトアミド、トリヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシベンゼン、サリチルヒドロキサム酸、及びそれらの混合物からなる群から選択された０質量％〜２０質量％の腐食防止剤をさらに含む、請求項１〜６のいずれかに記載された配合物。
【請求項８】
界面活性剤、キレート剤、染料、及びそれらの混合物からなる群から選択された添加剤をさらに含み、該添加剤が配合物の剥離及び洗浄能力、又は下に横たわる金属、珪素、二酸化珪素、レベル間誘電性材料、ｌｏｗ−ｋ及び／又はｈｉｇｈ−ｋ材料の完全な状態(integrity)に悪影響を及ぼさないものである、請求項１〜７のいずれかに記載された配合物。
【請求項９】
フォトレジスト、イオン注入フォトレジスト、ＢＡＲＣ及び／又はエッチ残留物を除去するための配合物であって、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリルトリアゾール、プロピレングリコール、２−アミノベンゾチアゾール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、残余水を含み、該水酸化物は金属汚染が１００ｐｐｍ以下である配合物。
【請求項１０】
１〜１５質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム、１〜５質量％のトリルトリアゾール、５〜１５質量％のプロピレングリコール、１〜１０質量％の２−アミノベンゾチアゾール、２０〜４５質量％のジプロピレングリコールモノメチルエーテル、残余水を含んでなる、請求項９に記載された配合物。
【請求項１１】
６．５質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム、３質量％のトリルトリアゾール、１０質量％のプロピレングリコール、６質量％の２−アミノベンゾチアゾール、３９質量％のジプロピレングリコールモノメチルエーテル、残余水を含んでなる、請求項９又は１０に記載された配合物。
【請求項１２】
５質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム、３質量％のトリルトリアゾール、１２．１３質量％のプロピレングリコール、１．５質量％の２−アミノベンゾチアゾール、４０質量％のジプロピレングリコールモノメチルエーテル、残余水を含んでなる、請求項９又は１０に記載された配合物。
【請求項１３】
フォトレジスト、イオン注入フォトレジスト、エッチ残留物、ＢＡＲＣ及びそれらの組合せからなる群から選択した材料を基材から除去する方法であって、材料を基材から除去するために請求項１に記載された配合物を基材に適用することを含んでなる方法。
【請求項１４】
配合物が酸化剤、砥材粒子を含まない、請求項１３に記載された方法。
【請求項１５】
配合物が、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、Ｎ−メチルピロリジノン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ホルムアミド、ジメチル−２−ピペリドン（ＤＭＰＤ）、テトラヒドロフルフリルアルコール、グリセロール、エチレングリコール、アミド、アルコール、スルホキシド、ヒドロキシアミド、アミノアルコールジオール及びポリオール、（Ｃ2−Ｃ20）アルカンジオール、（Ｃ3−Ｃ20）アルカントリオール、環式アルコール、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール、１,４−シクロヘキサンジメタノール、グリコールエーテルおよびそれらの混合物からなる群から選択された０〜６０質量％の水溶性有機溶媒をさらに含み、ここで（Ｃ2−Ｃ20）、（Ｃ3−Ｃ20）はアルカン主鎖を構成する炭素数の数がそれぞれ、２〜２０、３〜２０であることを表す、請求項１３又は１４に記載された方法。
【請求項１６】
配合物が０．１質量％〜５質量％の置換したヒドロキシルアミン又はそれらの酸性塩をさらに含む、請求項１３〜１５のいずれかに記載された方法。
【請求項１７】
配合物が、クエン酸、アントラニル酸、没食子酸、安息香酸、マロン酸、マレイン酸、フマル酸、Ｄ，Ｌ−リンゴ酸、イソフタル酸、フタル酸、乳酸及びそれらの混合物からなる群から選択された０質量％〜１０質量％の有機酸をさらに含む、請求項１３〜１６のいずれかに記載された方法。
【請求項１８】
配合物が、有機酸塩、フェノール、酸、トリアゾール、ベンゾトリアゾール（ＢＺＴ）、レゾルシノール、無水マレイン酸、無水フタル酸、カテコール、ピロガロール、没食子酸のエステル、カルボキシベンゾトリアゾール、フルクトース、チオ硫酸アンモニウム、グリシン、テトラメチルグアニジン、イミノ二酢酸、ジメチルアセトアセトアミド、トリヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシベンゼン、サリチルヒドロキサム酸、及びそれらの混合物からなる群から選択された０質量％〜２０質量％の腐食防止剤をさらに含む、請求項１３〜１７のいずれかに記載された方法。
【請求項１９】
配合物が、界面活性剤、キレート剤、染料、及びそれらの混合物からなる群から選択された添加剤をさらに含み、該添加剤が配合物の剥離及び洗浄能力、又は下に横たわる金属、珪素、二酸化珪素、レベル間誘電性材料、ｌｏｗ−ｋ及び／又はｈｉｇｈ−ｋ材料の完全な状態(integrity)に悪影響を及ぼさないものである、請求項１３〜１８のいずれかに記載された方法。
【請求項２０】
フォトレジスト、イオン注入フォトレジスト、エッチ残留物、ＢＡＲＣ及びそれらの組合せからなる群から選択した材料を基材から除去する方法であって、材料を基材から除去するために請求項９に記載された配合物を基材に適用することを含んでなる方法。
【請求項２１】
配合物が１〜１５質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム、１〜５質量％のトリルトリアゾール、５〜１５質量％のプロピレングリコール、１〜１０質量％の２−アミノベンゾチアゾール、２０〜４５質量％のジプロピレングリコールモノメチルエーテル、残余水を含んでなる、請求項２０に記載された方法。
【請求項２２】
配合物が６．５質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム、３質量％のトリルトリアゾール、１０質量％のプロピレングリコール、６質量％の２−アミノベンゾチアゾール、３９質量％のジプロピレングリコールモノメチルエーテル、残余水を含んでなる、請求項２０又は２１に記載された方法。
【請求項２３】
配合物が５質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム、３質量％のトリルトリアゾール、１２．１３質量％のプロピレングリコール、１．５質量％の２−アミノベンゾチアゾール、４０質量％のジプロピレングリコールモノメチルエーテル、残余水を含んでなる、請求項２０又は２１に記載された方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
ある実施態様において、配合物は随意的に約０．１質量％〜約５質量％の置換したヒドロキシルアミン又はそれらの酸性塩を含んでもよい。典型的なヒドロキシルアミン類はジエチルヒドロキシルアミン並びにそれらの乳酸及びクエン酸塩を含む。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
配合物はまた一以上の以下の添加剤、すなわち界面活性剤、キレート剤、化学修飾剤、染料、殺生剤、及び他の添加剤を含んでもよい。配合物の剥離及び洗浄能力、又は下に横たわる金属、珪素、二酸化珪素、レベル間誘電性材料、ｌｏｗ−ｋ及び／又はｈｉｇｈ−ｋ材料の完全な状態(integrity)に悪影響を及ぼさなければ、添加剤がここで記載される配合物に加えられてもよい。例えば、銅を含む基材を処理するために配合物が使用される場合、配合物は配合物の銅をエッチする速度を増加することになる追加的な添加剤を含まない。代表的な添加剤のいくつかの例は、アセチレンアルコール及びそれらの誘導体、アセチレンジオール（非イオン性のアルコキシ化した及び／又は自己−乳化性のアセチレンジオールの界面活性剤）及びそれらの誘導体、アルコール、四級アミン及びジアミン、アミド（ジメチルホルムアミド及びジメチルアセトアミドのような非プロトン性の溶媒を含んでいる）、アルキルアルカノールアミン（例えばジエタノールエチルアミン）、並びにベータ−ジケトン、ベータ−ケトイミン、カルボン酸、リンゴ酸及びエステルとジエステルを基にした酒石酸及びそれらの誘導体のようなキレート剤、並びに第三アミン、ジアミン及びトリアミンを含む。