(57)【要約】     【課題】耐擦傷性を損なわずに低粘度かつ基材侵食性の低い光ディスク保護膜用組成物を提供する。    【解決手段】本発明の光ディスク保護膜用組成物は、アクリルラジカル系のバインダー樹脂中に無機系微粒子を分散させた保護膜用組成物であって、上記バインダー樹脂原料として、ベース成分と、耐擦傷性成分と、希釈成分とを含有するバインダーモノマーが用いられ、上記希釈成分が、主鎖構造に環構造又は分岐炭素鎖構造の官能基を有するモノマーであることを特徴とする。希釈成分としては、単官能又は２官能の官能基を有するモノマーを用いることができる。【選択図】  図１
2005122845.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリルラジカル系のバインダー樹脂中に無機系微粒子を分散させた保護膜用組成物であって、
上記バインダー樹脂の原料として、ベース成分と、耐擦傷性成分と、希釈成分とを含有するバインダーモノマーが用いられ、
上記希釈成分が、主鎖構造に環構造又は分岐炭素鎖構造の官能基を有するモノマーであることを特徴とする保護膜用組成物。
【請求項２】
アクリルラジカル系のバインダー樹脂中に無機系微粒子を分散させた光ディスク保護膜用組成物であって、
上記バインダー樹脂の原料として、ベース成分と、耐擦傷性成分と、希釈成分とを含有するバインダーモノマーが用いられ、
上記希釈成分が、主鎖構造に環構造又は分岐炭素鎖構造の官能基を有するモノマーであることを特徴とする光ディスク保護膜用組成物。
【請求項３】
上記希釈成分が、単官能又は２官能の官能基を有することを特徴とする請求項２記載の光ディスク保護膜用組成物。
【請求項４】
上記希釈成分の粘度が１０ｍＰａ・ｓ以上であることを特徴とする請求項２又は３のいずれか１項記載の光ディスク保護膜用組成物。
【請求項５】
上記希釈成分の粘度が５０ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項記載の光ディスク保護膜用組成物。
【請求項６】
上記希釈成分の粘度が２０ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする請求項５記載の光ディスク保護膜用組成物。
【請求項７】
上記希釈成分の粘度が当該光ディスク保護膜用組成物の粘度より小さいことを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項記載の光ディスク保護膜用組成物。
【請求項８】
上記光ディスク保護膜用組成物の粘度が２０ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする請求項２乃至７のいずれか１項記載の光ディスク保護膜用組成物。
【請求項９】
請求項２乃至請求項８のいずれか１項記載の光ディスク保護膜用組成物の硬化により得られたことを特徴とする光ディスク用保護膜。
【請求項１０】
請求項９記載の光ディスク用保護膜が基板の読取側の面上に設けられていることを特徴とする光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護膜用樹脂組成物に関し、特に、コンパクトディスク（ＣＤ）、ディジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ）等の光ディスクの保護膜に用いられる保護膜用樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、この種の光ディスクにおいては、外装部材表面の擦傷を防止するため、外装部材の表面にコーティング処理が施されている。
【０００３】
このようなコーティング用の材料としては、高い耐擦傷性を有する無機系の材料が有効であるが、無機系の材料は塗工液の粘度が高く、膜厚を薄くすることが困難であるという問題がある。
【０００４】
この問題を解決するため、従来、溶剤の希釈によって塗工液の粘度を抑えることが行われているが、希釈溶液が基材を侵食することによって、種々の問題が生ずる。
【０００５】
例えば、基材成分の溶出によりコーティング層の平坦性が低下し、透明性が損なわれる（マット調になる）。
【０００６】
また、溶出した基材成分とコーティング材料が溶け合うことにより、耐擦傷性が低下する。
【０００７】
その一方、上記問題への対処方法として溶剤の代わりに低粘度のアクリルモノマーを反応性希釈材として用い、低粘度コーティング用塗工液を調製することも考えられるが、その場合には、選択するモノマーによっては耐擦傷性が大きく低下する場合がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、このような従来の技術の課題を解決するためになされたもので、耐擦傷性を損なわずに低粘度かつ基材侵食性の低い光ディスク保護膜用組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記目的を達成するため鋭意努力を重ねた結果、バインダー樹脂の希釈成分として主鎖構造に環構造又は分岐炭素鎖を有するモノマーを用いることで耐擦傷性を損なわずに光ディスク保護膜用組成物の粘度を低く抑えることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
かかる知見に基づいてなされた請求項１記載の発明は、アクリルラジカル系のバインダー樹脂中に無機系微粒子を分散させた保護膜用組成物であって、上記バインダー樹脂の原料として、ベース成分と、耐擦傷性成分と、希釈成分とを含有するバインダーモノマーが用いられ、上記希釈成分が、主鎖構造に環構造又は分岐炭素鎖構造の官能基を有するモノマーであることを特徴とする。
請求項２記載の発明は、アクリルラジカル系のバインダー樹脂中に無機系微粒子を分散させた光ディスク保護膜用組成物であって、上記バインダー樹脂の原料として、ベース成分と、耐擦傷性成分と、希釈成分とを含有するバインダーモノマーが用いられ、上記希釈成分が、主鎖構造に環構造又は分岐炭素鎖構造の官能基を有するモノマーであることを特徴とする。
請求項３記載の発明は、請求項２記載の発明において、上記希釈成分が、単官能又は２官能の官能基を有することを特徴とする。
請求項４記載の発明は、請求項２又は３のいずれか１項記載の発明において、上記希釈成分の粘度が１０ｍＰａ・ｓ以上であることを特徴とする。
請求項５記載の発明は、請求項２乃至４のいずれか１項記載の発明において、上記希釈成分の粘度が５０ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする。
請求項６記載の発明は、請求項５記載の発明において、上記希釈成分の粘度が２０ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする。
請求項７記載の発明は、請求項２乃至６のいずれか１項記載の発明において、上記希釈成分の粘度が当該光ディスク保護膜用組成物の粘度より小さいことを特徴とする。
請求項８記載の発明は、請求項２乃至７のいずれか１項記載の発明において、上記光ディスク保護膜用組成物の粘度が２０ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ未満であることを特徴とする。
請求項９記載の発明は、請求項２乃至請求項８のいずれか１項記載の光ディスク保護膜用組成物の硬化により得られたことを特徴とする光ディスク用保護膜である。
請求項１０記載の発明は、請求項９記載の光ディスク用保護膜が基板の読取側の面上に設けられていることを特徴とする光ディスクである。
【００１１】
本発明の場合、バインダーモノマーの希釈成分として、主鎖構造に環構造又は分岐炭素鎖構造の官能基を有するモノマーを用いることによって、硬化樹脂の骨格構造が剛直になるため、耐擦傷性を損なわずに保護膜用組成物の粘度を低く抑えることが可能になる。
【発明の効果】
【００１２】
以上述べたように本発明によれば、耐擦傷性を損なわずに光ディスク保護膜用組成物の粘度を低く抑えることが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明に係る保護膜用組成物の最良の形態を詳細に説明する。
本発明の（光ディスク）保護膜用組成物は、アクリルラジカル系のバインダー樹脂中に無機系微粒子を分散させたものである。
【００１４】
本発明においては、バインダー樹脂の原料として、ベース成分と、耐擦傷性成分と、希釈成分を含有するバインダーモノマーが用いられる。
【００１５】
ここで、ベース成分としては、種々のモノマーが用いられるが、無機系微粒子の分散加工性（分散作業性）の観点からは、できるだけ低粘度（１００ｍＰａ・ｓ未満）のものを用いることが好ましい。
【００１６】
このようなモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（２）、ネオペンチルグリコールジアクリレート等があげられる。
【００１７】
また、耐擦傷性成分としては、種々のモノマーが用いられるが、耐擦傷性を向上させる観点からは、アクリル基数が３官能以上のものを用いることが好ましい。
【００１８】
このようなモノマーとしては、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリストールペンタおよびヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等があげられる。
【００１９】
一方、本発明に用いる希釈成分は、主鎖構造に環構造の官能基を有するモノマーと、主鎖構造に分岐炭素鎖構造の官能基を有するモノマーである。
【００２０】
ここで、主鎖構造の環構造は、例えばベンゼン環のような芳香環のほか、シクロアルカン等の脂環状の環構造も含まれる。
【００２１】
一方、主鎖構造の分岐炭素鎖構造としては、例えば炭素−炭素単結合を有する鎖状炭化水素構造などがあげられる。
【００２２】
また、本発明の場合、希釈成分の官能基の数は、単官能又は２官能のいずれも適用可能である。
【００２３】
本発明の希釈成分として使用可能なもののうち、環構造の官能基を有するモノマーとしては、例えば、ジシクロペンテニルアクリレート（単官能）、アクリロイルモルフォリン（単官能）等があげられる。
【００２４】
また、分岐炭素構造の官能基を有するモノマーとしては、例えば、ジプロピレングリコールジアクリレート（ＤＰＧＤＡ：２官能）等があげられる。
【００２５】
本発明の場合、希釈成分の粘度（本明細書では平均粘度をいう。）は特に限定されることはないが、組成物の粘度を抑制することにより光ディスク基板表面への塗工性の向上を図る観点からは、当該組成物の粘度より小さいことが好ましく、具体的には、１０ｍ・Ｐａ以上５０ｍ・Ｐａ未満とすることが好ましく、より好ましくは、１０ｍ・Ｐａ以上２０ｍ・Ｐａ未満である。
【００２６】
他方、希釈成分が、単官能の官能基を有するモノマーであり、かつ、当該希釈成分の粘度が１０ｍ・Ｐａ以上のものである場合には、被侵食性の高い基材に対して有効な保護膜用組成物を得ることができる。
【００２７】
本発明の場合、バインダーモノマーの、ベース成分、耐擦傷性成分及び希釈成分の配合比は特に限定されることはないが、光ディスク用の耐擦傷性コーティングとして必要十分な耐擦傷性を付与する観点からは、７０：５：２５〜６０：２０：２０とすることが好ましい。
【００２８】
そして、このような本発明の光ディスク保護膜用組成物の粘度は、光ディスク基板表面への塗工性の向上を図る観点から、２０ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ未満とすることが好ましい。
【００２９】
本発明の場合、無機系微粒子としては、例えば、コロイダルシリカ（ＳiＯ2）やコロイダルアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）等の種々の無機系微粒子を用いることができる。
【００３０】
この無機系微粒子の粒径は、特に限定されることはないが、分散性及び光透過性の観点からは、１０〜３０ｎｍのものを用いることが好ましい。
【００３１】
また、無機系微粒子の配合量は、特に限定されることはないが、耐擦傷性付与の観点からは、１５〜３０重量％とすることが好ましい。
【００３２】
なお、本発明の光ディスク保護膜用組成物には、光重合開始剤のほか、他の成分として、紫外線吸収剤、表面張力調整剤等を含ませることも可能である。
【００３３】
図１は、本発明の光ディスク保護膜用組成物の適用した光ディスクの例を示す概略構成図である。
【００３４】
図１に示すように、本発明の光ディスク１は、通常の構成を有するもので、ポリカーボネートからなる円盤状の基板２上に、記録パターン２ａ、反射膜３及び保護膜４が形成されている。
【００３５】
さらに、本発明の場合は、基板２の読取側の面２０上に、上述した光ディスク保護膜用組成物を硬化させた光ディスク用保護膜５が設けられている。
【００３６】
本発明の場合、この光ディスク用保護膜５の厚さは特に限定されることはないが、耐擦傷性及び光透過性確保の観点からは、１〜５μｍとすることが好ましい。
【００３７】
なお、本発明は光ディスク用のみならず、種々の保護膜用組成物に適用することができる。ただし、光ディスク保護膜用組成物に適用した場合に最も有効となるものである。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明の実施例を比較例とともに詳細に説明する。  
＜実施例１＞
ベース成分として、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ−Ｎ  ダイセルＵＣＢ社製）２５重量部、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＯＤＡ  ダイセルＵＣＢ社製）１５重量部、ネオペンチルグリコールジアクリレート（カヤラッド  ＮＰＧＤＡ  日本化薬社製）１５重量部、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（２）（カヤラッド  ＤＰＣＡ−３０  日本化薬社製）５重量部の混合液に、コロイダルシリカ（ナノテック  シーアイ化成社製）１５重量部を分散させた。
【００３９】
そして、この分散液に、耐擦傷性成分として、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート（ＳＲ−３６８  化薬サートマー社製）、ジペンタエリストールペンタおよびヘキサアクリレート（アロニックスＭ−４００  東亞合成社製）、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（ＳＲ−３５５  化薬サートマー社製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＳＲ−２９５  化薬サートマー社製）のいずれかを５重量部と、希釈成分として、ジシクロペンテニルアクリレート（Ｌａｒｏｍｅｒ  ＤＰＧＤＡ  ＢＡＳＦ社製  粘度：１０ｍＰａ・ｓ）２０重量部を添加した。
【００４０】
また、光開始剤として、イルガキュア１８４とダロキュア１１７３（いずれもチバ・スペシャリティケミカルズ社製）をそれぞれ５重量部添加した。
【００４１】
このようにして調製された塗工液の平均粘度を、コーンプレート式粘度計によって測定した。その結果を表１に示す。
【００４２】
また、この塗工液を、射出成形によって形成された低分子量ポリカーボネート基板と、キャスト法によって形成された高分子量のポリカーボネート基板上に、乾燥後の厚さが１５μｍとなるように塗布した。
【００４３】
そして、この塗布膜に対し、メタルハライドランプ（１２０Ｗ／ｃｍ）を用い、積算光量が３００ｍＪ／ｃｍとなるように紫外線を照射した。
【００４４】
このようにして硬化させた塗布膜の耐擦傷性の評価を行った。その結果を表２に示す。
【００４５】
ここでは、テーバー摩耗試験機（ＣＳ−１０Ｆ摩耗輪、荷重２５０ｇ、１００回転）を用い、試験後のサンプルのΔｈａｚｅ値が１０％未満のものを○、試験後のサンプルのΔｈａｚｅ値が１０％以上のものを×とする。
【００４６】
＜実施例２＞
希釈成分として、アクリロイルモルフォリン（ＡＣＭＯ  興人社製  粘度：１２ｍＰａ・ｓ）２０重量部を添加した以外は実施例１と同様の方法によって塗布膜を形成し、耐擦傷性の評価を行った。その結果を表１及び表２に示す。
【００４７】
＜比較例１＞
希釈成分として、トリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＲＰＧＤＡ  ダイセルＵＣＢ社製  粘度：８ｍＰａ・ｓ）２０重量部を添加した以外は実施例１と同様の方法によって塗布膜を形成し、耐擦傷性の評価を行った。その結果を表１及び表２に示す。
【００４８】
＜比較例２＞
希釈成分として、１，４ブタンジオールジアクリレート（Ｌａｒｏｍｅｒ  ＢＤＤＡ  ＢＡＳＦ社製  粘度：５ｍＰａ・ｓ）２０重量部を添加した以外は実施例１と同様の方法によって塗布膜を形成し、耐擦傷性の評価を行った。その結果を表１及び表２に示す。
【００４９】
＜比較例３＞
希釈成分として、イソボニルアクリレート（ＩＢＯＡ  ダイセルＵＣＢ社製  粘度：４ｍＰａ・ｓ）２０重量部を添加した以外は実施例１と同様の方法によって塗布膜を形成し、耐擦傷性の評価を行った。その結果を表１及び表２に示す。
【００５０】
【表１】
2005122845.tif 000003
【００５１】
【表２】
2005122845.tif 000004
【００５２】
〔評価結果〕
表１に示すように、実施例１、実施例２は、塗工液の粘度が５０ｍＰａ・ｓ未満であった。また、硬化後の塗布膜については、低分子ポリカーボネート、高分子ポリカーボネートともに耐擦傷性が良好で、またモノマーによる侵食も生じなかった。
【００５３】
一方、バインダーモノマーの希釈成分が、主鎖構造に環構造及び分岐炭素鎖構造の官能基をいずれも有しない比較例１及び比較例２の塗布膜は、低分子ポリカーボネート基材においてモノマーによる侵食が生じた。
【００５４】
一方、バインダーモノマーの希釈成分が、主鎖構造に環構造及び分岐炭素鎖構造の官能基をいずれも有する比較例３の塗布膜は、低分子ポリカーボネート基材における耐擦傷性が劣っていた。 
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の光ディスク保護膜用組成物の適用した光ディスクの例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【００５６】
１…光ディスク  ２…基板  ５…光ディスク用保護膜  ２０…読取側の面
【図１】
2005122845.tif 000005