(57)【要約】【課題】平滑度が良好で、かつベースフィルムの傷を効果的に防ぐとともに帯電を防止できる保護層を設け、良好な記録や再生を行う。【解決手段】スタンパの凹凸微細パターンが転写されたベースフィルム５の転写面６に記録膜７と保護層８を積層する。ベースフイルム５の転写面６と反対側のベースフィルム５の表面に、導電性粒子を含有し、硬化時に架橋構造をとらないモノマー材料に対して放射線を照射してガイド面側保護層９を形成し、強度と帯電防止効果を高め、ディスク面振れを安定化する際、フレキシブル光ディスク１に損傷を与えることやコンタミの発生を防止する。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スタンパの凹凸微細パターンが転写されたベースフィルムの転写面に記録膜と保護層が積層された表面記録型のフレキシブル光ディスクにおいて、
前記ベースフイルムの転写面と反対側のベースフィルムの表面に、導電性粒子が含有されたガイド面側保護層を設けたことを特徴とするフレキシブル光ディスク。
【請求項２】
前記ガイド面側保護層は鉛筆硬度でＨ以上の硬度に形成されている請求項１記載のフレキシブル光ディスク。
【請求項３】
前記ガイド面側保護層は、放射線を照射して得られた硬化層である請求項１又は２記載のフレキシブル光ディスク。
【請求項４】
前記ガイド面側保護層に含有されている導電性粒子がＳｎ，Ｓｂ、Ｉｎのうちの１種以上の酸化物又はカーボンブラックやグラファイトである請求項１乃至３のいずれかに記載のフレキシブル光ディスク。
【請求項５】
前記ガイド面側保護層内の導電性粒子の含有量が１０〜６０重量％である請求項１乃至４のいずれかに記載のフレキシブル光ディスク。
【請求項６】
前記ガイド面側保護層内の導電性粒子の平均粒径が３〜３０ｎｍである請求項１乃至５のいずれかに記載のフレキシブル光ディスク。
【請求項７】
前記ガイド面側保護層の厚さは、３〜３０μｍである請求項１乃至６のいずれかに記載のフレキシブル光ディスク。
【請求項８】
前記転写面側の保護層は、放射線を照射して得られた硬化層である請求項１乃至７のいずれかに記載のフレキシブル光ディスク。
【請求項９】
スタンパの凹凸微細パターンが転写されたベースフィルムの転写面に記録膜と保護層を積層し、該ベースフィルムの転写面と反対側の面に導電性粒子を含有する保護層用組成物の塗膜を形成し、形成した塗膜に放射線を照射して硬化しガイド面側保護層を形成したことを特徴とするフレキシブル光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、フレキシブル光記録媒体、特に記録再生時におけるフレキシブル光記録媒体の損傷防止に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
【特許文献１】特許第２９４２４３０号公報
【特許文献２】特開平６−６０４２３号公報
【特許文献３】特公平８−２７９９０号公報
光ディスクは交換可能であり、かつ記憶容量が大きいことから、ＣＤやＤＶＤなどとして広く普及している。この光ディスクは、通常１．２ｍｍあるいは０．６ｍｍのポリカーボネートのディスク基板に記録膜を成膜して情報を示す信号を記録し、記録した情報を再生する。この情報記録再生用の光を記録面上に集光するためには機械的な位置精度が必要である。このためディスク基板を平坦にして剛性を持たせ、かつ光ピックアップをサーボ制御して位置精度をだしている。
【０００３】
この光ディスクの記録容量を高めるために、対物レンズの開口数（ＮＡ）を上げたり、記録再生用のレーザ光を短波長化して、光スポットを更に小径化するようにしている。対物レンズの開口数を上げるためには光ディスクの面触れを小さくする必要がある。このためディスク基板の精度向上と、光ピックアップに面振れ防止のためのフォーカシングサーボを搭載し、記録膜上に０．１ｍｍ程度の薄い保護層を設け、この保護層側から記録再生して面振れに対するマージンを拡大することなどが行われている。この光ディスクの面触れを小さくすることは、ディスク基板の材料や製造方法を改良したり、光ピックアップのフォーカシングサーボを高精度にすることにより達成できるが、そのためにはコストが高くなってしまう。また、保護層を通さず直接記録膜側から再生する方法もあるが、記録膜の表面と対物レンズの距離が０．１ｍｍ程度しか確保できず、剛体である通常の光ディスクを回転させ、対物レンズとの衝突を防ぐためには、面振れを小さくするように光ディスクのチャッキングの精度を向上する必要があり、やはりコストアップになってしまう問題がある。
【０００４】
そこで光ディスクそのものを剛体で形成して機械精度を高精度化するのではなく、可撓性材料でフレキシブル光ディスクを製造し、フレキシブル光ディスクを高速回転して空気力学的に浮上させ、浮上したフレキシブル光ディスクの光ピックアップと相対する部分をガイドにより位置決めして安定化し、面触れを限りなく零に近づけるようにしている。
【０００５】
このフレキシブル光ディスクの作製方法としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の可撓性を有するシートをロールトゥロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）方式で搬送しながら、シート表面に熱可塑性樹脂若しくは熱硬化性樹脂を塗布してスタンパの微細凹凸パターンを転写して熱硬化させてから記録膜を成膜する熱プレス法や、例えば特許文献１に示すように、可撓性シート表面に紫外線硬化型樹脂を塗布してスタンパの微細パターンを転写して紫外線硬化させてから記録膜を成膜する２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ  Ｐｏｌｙｍａｒｉｚａｔｉｏｎ法）、又は特許文献２に示すように、可撓性有機物シートを軟加点以上に加熱し、スタンパを圧着後、冷却してシートとスタンパを剥離する方法などがある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
前記のように転写面の反対側のベースフィルム面にガイドを近接させ、ディスクの遠心力と、ガイドとディスク間の空気流等によりディスクの面振れを低減することにより、ピックアップでの記録再生が可能になるが、ベースフィルム面は軟らかく、過渡的にガイドがベースフィルム面に接触したりすると、ベースフィルム面が傷つき易い。また、ベースフィルムとガイドの摩擦により発生する静電気により、コンタミを引きつけやすくなったり、ベースフィルムの擦れかすが生じたりして、この擦れかす等が記録再生面に付着したりするとベースフィルムの厚さが変わり、面振れの悪化による記録再生特性が劣化し、エラーレートやジッタの上昇が起きやすい。
【０００７】
これらを防止するために、ベースフイルムのガイド面側の保護層として、例えば特許文献３に示すオリゴエステルアクリレート含有組成物の紫外線硬化膜を使用すると、このような紫外線硬化膜の保護層は、表面抵抗率が１０１５Ω程度であるため帯電し易く、ガイド面側の保護層が帯電すると、保護層の表面にゴミが付着して、ガイドとディスクが完全に接触してしまい、ディスクに変形が生じ、場合によってはドライバのシステム系にも被害を与え、莫大な損害を被ることになる。
【０００８】
このディスクの帯電を防止する方法として、界面活性剤を練り込んだ組成物で保護層を形成して表面抵抗率を低下させる方法や、保護層の表面に帯電防止膜を形成する方法が用いられている。しかし、界面活性剤を練り込んだ組成物を用いた保護層では、表面抵抗率が１０１１〜１０１３Ω程度と比較的高いため、帯電防止効果が未だ不十分である。また、保護層の表面に帯電防止膜を形成する方法は、保護層の形成と帯電防止膜の形成の２工程が必要になり、量産上非常に不利であり、帯電防止効果の耐久性に問題がある。
【０００９】
また、フレキシブル光ディスクのフイルムベースとなるフィルムは工業的に量産されていることにより、厚さ分布は±１μｍ程度である。また、記録膜はナノメーターのオーダーなので厚さのばらつきに対しては、ほとんど無視できるオーダーである。最も膜厚分布の管理を厳格にする必要があるのは保護層である。ピックアップ側に光ディスクのプリフォーマットパターン面がきて、その面で記録再生する表面記録型の光ディスクの場合、記録膜側の保護層は光学透過膜として機能させる必要がある。従来の基板透過記録再生型光ディスクでは記録層と保護層の界面さえ保護層がしっかり密着していれば、保護層としての機能が十分であったが、表面記録型の保護層は、空気層との界面が平滑な表面であることが不可欠である。例えばラジカル重合型である紫外線硬化型樹脂を硬化させる場合、構成されている材料によっては複数の材料がブレンドされており、それぞれで硬化速度に有意差が存在する。硬化速度の速い材料はすぐに硬化するが、硬化速度の遅い材料は硬化に時間を要する。一般に使われるオリゴマーや多官能モノマーでは、硬化時に架橋構造を形成する。したがって、硬化速度の速い材料が架橋構造を形成してしまうと、硬化速度の遅い材料で架橋構造の中に取り込まれてしまった材料は硬化性が不十分でマイクロゲルの状態で残存する。これがベースフィルムのガイド面側の保護層表面に凹凸を引き起こし、ピックアップのフォーカスサーボや残留フォーカスエラーが大きくなり、サーボが不安定で外れやすく、記録再生特性も品質の悪いものとなってしまう。
【００１０】
この発明はかかる短所を改善し、平滑度が良好で、かつベースフィルムの傷を効果的に防ぐとともに帯電を防止できる保護層を有し、さらに記録再生側にも平滑な保護層を形成して、良好な記録や再生を行うことができるフレキシブル光ディスク及びフレキシブル光ディスクの製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
この発明のフレキシブル光ディスクは、スタンパの凹凸微細パターンが転写されたベースフィルムの転写面に記録膜と保護層が積層された表面記録型のフレキシブル光ディスクにおいて、前記ベースフイルムの転写面と反対側のベースフィルムの表面に、導電性粒子が含有されたガイド面側保護層を設けたことを特徴とする。
【００１２】
前記ガイド面側保護層は鉛筆硬度でＨ以上の硬度に形成して、ベースフイルムの損傷を防止する。
【００１３】
また、ガイド面側保護層は、硬化時に架橋構造をとらないモノマー材料に対して放射線を照射して得られた硬化層で形成して強度と平滑性を高める。
【００１４】
さらに、ガイド面側保護層に含有されている導電性粒子としてＳｎ，Ｓｂ、Ｉｎのうちの１種以上の酸化物又はカーボンブラックやグラファイトを使用し、微粒子化して均一に分布させる。
【００１５】
また、ガイド面側保護層内の導電性粒子の含有量を１０〜６０重量％にして均一に分散させるとともに帯電防止効果を高める。
【００１６】
また、ガイド面側保護層内の導電性粒子の平均粒径を３〜３０ｎｍの範囲にして均一に分散させるとともにガイド面側保護層の平滑性を高める。
【００１７】
さらに、ガイド面側保護層の厚さを３〜３０μｍの範囲にして、耐久性がある一様な膜を形成する。
【００１８】
また、転写面側の保護層は、硬化時に架橋構造をとらないモノマー材料に対して放射線を照射して得られた硬化層として平滑性を高める。
【００１９】
この発明のフレキシブル光ディスクの製造方法は、スタンパの凹凸微細パターンが転写されたベースフィルムの転写面に記録膜と保護層を積層し、該ベースフィルムの転写面と反対側の面に導電性粒子を含有する保護層用組成物の塗膜を形成し、形成した塗膜に放射線を照射して硬化しガイド面側保護層を形成したことを特徴とする。
【００２０】
【発明の実施の形態】
図１はこの発明のフレキシブル光ディスクとドライバの構成図である。図に示すように、可撓性材料で形成されたフレキシブル光ディスク１のドライバには、フレキシブル光ディスク１に情報を記録したり再生する光ピックアップの対物レンズ２と相対したフレキシブル光ディスク１の反対側にガイド３を有し、フレキシブル光ディスク１をスピンドル４で高速回転して空気力学的に浮上させ、浮上したフレキシブル光ディスク１の対物レンズ２と相対する部分をガイド３により位置決めして安定化し、面触れを限りなく零に近づけるようにしている。
【００２１】
このフレキシブル光ディスク１は図２の断面模式図に示すように、ベースフィルム５のスタンパによりプリフォーマットパターンが転写された転写面６に記録膜７と保護層８が順次積層され、ベースフィルム５の転写面６と反対側にはガイド面側保護層９を有する。ベースフィルム５は、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂フイルムで作製されている。このベースフイルム５の厚さは、通常、０．０５〜１ｍｍ程度とされ、外形形状は、ディスク状あるいはその他目的に応じて選定される。
【００２２】
ガイド面側保護層９はベースフイルム５の損傷を防止するとともに帯電防止効果を高めるため、導電性粒子を含有した保護層用組成物で形成されている。このガイド面側保護層９を形成する保護層用組成物としては有機系の物質、特に、放射線硬化型化合物やその重合用組成物を放射線硬化させた物質で構成することが望ましい。このような物質としては、イオン化エネルギに感応し、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸やメタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結合等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分子中に含有または導入したモノマー、オリゴマー及びポリマー等を挙げることができる。
【００２３】
放射線硬化性モノマーとしては、分子量２０００未満の化合物が、オリゴマーとしては分子量２０００〜１００００のものが好適である。これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールメタクリレート、１，６−ヘキサングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサングリコールジメタクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとしては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトールアクリレート（メタクリレート）、トリメチロールプロパントリアクリレート（メタクリレート）、トリメチロールプロパンジアクリレート（メタクリレート）、ウレタンエラストマー（ニッポラン４０４０）のアクリル変性体、あるいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入されたもの、フェノールエチレンオキシド付加物のアクリレート（メタクリレート）、ペンタエリスリトール縮合環にアクリル基（メタクリル基）またはε−カプロラクトン−アクリル基のついた化合物、及び特許文献３に示されている特殊アクリレート類等が挙げられる。また、放射線硬化性オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレートやウレタンエラストマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものにＣＯＯＨ等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。
【００２４】
さらに、これらの化合物に加えて、あるいはこれらの化合物に代えて熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによって得られる放射線硬化型化合物を用いても良い。この放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジカル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸やメタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を熱可塑性樹脂の分子中に含有または導入した樹脂である。この放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエステル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができる。
【００２５】
その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂としては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体（ＰＶＰオレフィン共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有効である。
【００２６】
前記の重合用組成物は放射線照射、特に紫外線照射により硬化されるので、重合用組成物中には光重合開始剤が含有されることが望ましい。この光重合開始剤としては特に制限はなく、例えば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから適宜選択すれば良い。さらに、光重合増感剤として複数の化合物を併用しても良い。この重合用組成物中における光重合開始剤の含有量は、通常０．５〜５重量％程度とすれば良い。
【００２７】
この有機系の物質に含有する導電性粒子としては酸化スズや酸化アンチモン、酸化アンチモンドープ酸化スズ、酸化インジウムスズ等の透明なもの以外にカーボンブラックやグラファイト等の不透明なものでも良い。すなわち、ベースフィルム５やガイド面側保護層９には光学特性が必要ないので、導電性粒子は透明である必要はないからである。
【００２８】
この導電性粒子のバルク体での抵抗率は、１Ω・ｃｍ以下、特に１０−２Ω・ｃｍ以下であることが望ましい。導電性粒子のバルク体での抵抗率が１Ω・ｃｍを超えると、帯電防止効果が不十分になってしまうからである。この抵抗率の下限には特に制限がないが、通常１０−６Ω・ｃｍ程度である。また、導電性粒子の平均粒径は、３〜３０ｎｍである。この導電性粒子の平均粒径が３０ｎｍ未満では、形成するガイド面側保護層９に対する導電性粒子の分散が難しく、平均粒径が３ｎｍを超えると、形成したガイド面側保護層９の表面の平滑性が低下して、記録や再生に支障が生じるから、これらの現象を防ぐためである。この導電性粒子の粒径は、走査型電子顕微鏡により観察して粒子の投影面積から算出すれば良い。
【００２９】
また、ガイド面側保護層９は導電性粒子の含有量が１０〜６０体積％になるようにに形成する。このガイド面側保護層９中の導電性粒子の含有量は、ガイド面側保護層９を成膜後、１万〜１０万倍程度の走査型電子顕微鏡により断面を観察し、粒子が１００〜１０００個程度含まれる領域内の面積比として求めれば良い。この帯電性粒子の含有量が１０体積％未満では帯電防止効果が不十分であり、６０体積％と均一な分散が困難になるからである。
【００３０】
このような導電性粒子を含有するガイド面側保護層９の硬度は、２５℃における鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ  ５４００）で２Ｈ以上、特に３Ｈ以上であることが望ましい。このガイド面側保護層９の硬度が２Ｈ未満ではベースフィルム５の損傷を防止することが困難であるからである。また、ガイド面側保護層９の硬度の上限には特に制限はないが、通常、鉛筆硬度で６Ｈ程度である。
【００３１】
次にベースフイルム５にガイド面側保護層９を形成する方法を、図３の工程図を参照して説明する。
【００３２】
まず、図３（ａ）に示すように、プリフォーマットパターンが転写された転写面６に記録膜７と保護層８を積層したベースフィルム５の転写面６と反対側の面に導電性粒子を含有する保護層用組成物の塗膜１０を形成する。この塗膜１０の形成方法には特に制限はなく、スピンナーコートやグラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等の種々の公知の方法を使用すれば良い。また、塗膜１０を形成するときの塗布条件は、重合用組成物の粘度と形成する塗膜１０の厚さ等を考慮して適宜決定すれば良い。ベースフイルム５の表面に塗膜１０を形成した後、図３（ｂ）の加熱工程に入る。この加熱工程において、加熱温度６０〜９０℃程度に加熱する。その後、図３（ｃ）に示すように、水銀灯などを使用して塗膜１０に紫外線を照射して保護層用組成物をラジカル重合して塗膜１０を硬化してガイド面側保護層９を形成する。この塗膜１０に照射する紫外線強度は、通常、５０ｍＷ／ｃｍ２程度以上であり、照射量は、５００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２程度とすれば良い。また、場合によっては、加熱せずに紫外線を照射しても良く、紫外線のかわりに電子線等を照射しても良い。さらに、ガイド面側保護層９をフレキシブル光ディスク１の主面に限らず、外周側面や内周側面にも形成しても良い。
【００３３】
このガイド面側保護層９を形成するとき、硬化後の厚さが３〜３０μｍの範囲になるようにする。すなわちガイド面側保護層９の厚さが３μｍ範囲未満では一様な膜を形成することが困難となり、耐久性が不十分となる。また、ガイド面側保護層９の厚さが３０μｍを超えると、硬化の際の収縮によりクラックが生じたり、作製されたフレキシブル光ディスク１に反りが発生し易くなるから、これらの現象が生じることを防ぐためである。
【００３４】
また、形成されたガイド面側保護層９の表面抵抗率は、１０１０Ω以下、特に１０９Ω以下であることが望ましい。ガイド面側保護層９の表面抵抗率が１０１０Ω未満になると帯電防止効果が不十分であるからである。この表面抵抗率の下限には特に制限がないが、通常１０２Ω程度である。
【００３５】
【実施例】
［実施例１］  スタンパ上のプリフォーマットパターンを、ポリカーボネート樹脂で形成されたベースフィルム５の片面に転写して転写面６を形成した後、ＳｂＴｅ系相変化材料により記録膜７を形成する。この記録膜７の表面に単官能アクリレートフォトポリマー材料であるノニルフェノキシエチルアクリレート（粘度８０ｍＰａ・ｓ）を塗布後、紫外線を照射して硬化させて、平滑度が良好な保護層８を形成する。この記録膜７と保護層８を積層したベースフイルム５の転写面６と反対側の面に、下記に示す重合用組成物中に下記導電性粒子を分散させた組成物をスピンナーコートにより塗布し、加熱した後、紫外線を照射して硬化してガイド面側保護層９を形成した。この形成したガイド面側保護層９の平均厚さは５μｍであった。
重合用組成物
オリゴエステルアクリレート；    ５０重量部（分子量５，０００）
ＰＭＴＰＡ；                    ５０重量部
アセトフェノン系光重合開始剤；  ３重量部
導電性粒子
酸化アンチモン；  平均粒径１０ｎｍ，バルク体での抵抗率１０−４Ω・ｃｍこの場合、重合用組成物１００重量部に対する導電性粒子の含有量は５００重量部に相当する。形成されたガイド面側保護層９の鉛筆硬度は３Ｈであり、ガイド面側保護層９中の導電性粒子の含有量は、約５０体積％であった。また、ＪＩＳＫ６９１１に示された表面抵抗率の測定方法により測定した表面抵抗率は０．５ＧΩであった。
【００３６】
このガイド面側保護層９を有するフレキシブル光ディスク１を、図１に示すように、スピンドル４に装着し、このフレキシブル光ディスク１のガイド面側保護層９側にガイド３を近接させ、フレキシブル光ディスク１をスピンドル４で高速回転して面振れが安定した後、記録再生テストを実施した結果、ＤＶＤ規格で８％以下のジッタが７％であり、ＤＶＤ規格で２８０個／８ＥＣＣ以下のＰＩエラーが１５０個／８ＥＣＣとなり、良好な記録再生特性を得ることができた。
【００３７】
［実施例２］  実施例１と同様にフレキシブル光ディスク１を製造した。このとき、ガイド面側保護層９の重合用組成物は実施例１と同じで、導電性粒子として酸化スズを用いた。これの導電性粒子の平均粒径は１５ｎｍであり、バルク体での抵抗率は３×１０−５Ω・ｃｍであった。この場合も、重合用組成物１００重量部に対する導電性粒子の含有量は５００重量部となった。形成されたガイド面側保護層９の鉛筆硬度は２Ｈであり、ガイド面側保護層９中の導電性粒子の含有量は、約４５体積％であった。また、表面抵抗率は２ＧΩであった。このガイド面側保護層９を有するフレキシブル光ディスク１の記録再生テストを実施した結果、ジッタが７．４％であり、ＰＩエラーが２２０個／８ＥＣＣとなり、良好な記録再生特性を得ることができた。
【００３８】
［実施例３］  ガイド面側保護層９の重合用組成物を実施例１と同じにし、導電性粒子に酸化インジウムを用いてガイド面側保護層９を形成した。このとき使用した導電性粒子の平均粒径は１２ｎｍで、バルク体での抵抗率は１０−５Ω・ｃｍであった。この場合も、重合用組成物１００重量部に対する導電性粒子の含有量は５００重量部となった。形成されたガイド面側保護層９の鉛筆硬度は２Ｈであり、ガイド面側保護層９中の導電性粒子の含有量は約４０体積％であり、表面抵抗率は５ＧΩであった。このガイド面側保護層９を有するフレキシブル光ディスク１の記録再生テストを実施した結果、ジッタが７．８％であり、ＰＩエラーが２５０個／８ＥＣＣとなり、良好な記録再生特性を得ることができた。
【００３９】
［比較例］  ガイド面側保護層の重合用組成物は実施例１と同じにし、導電性粒子を含有させないでガイド面側保護層を形成した。形成したガイド面側保護層の鉛筆硬度はＨであり、表面抵抗率は２×１０６ＧΩとなった。このガイド面側保護層は帯電しやすく、このガイド面側保護層を有するフレキシブル光ディスクは静置しているだけで、コンタミの吸着が見られた。また、記録再生テストを実施した結果、ジッタが９．２％、ＰＩエラーが４００個／８ＥＣＣとなり、良好な記録再生特性を得ることはできなかった。
【００４０】
【発明の効果】
この発明は以上説明したように、スタンパの凹凸微細パターンが転写された転写面に記録膜と保護層が積層されたベースフイルムの転写面と反対側のベースフィルムの表面に、導電性粒子が含有されたガイド面側保護層を設け、強度と帯電防止効果を高めることにより、ディスク面振れを安定化する際、フレキシブル光ディスクに損傷を与えることやコンタミの発生を防止して、良好な記録再生特性を得ることができる。
【００４１】
このガイド面側保護層は鉛筆硬度でＨ以上の硬度に形成することにより、ベースフイルムの強度を高めて損傷を防止することができる。
【００４２】
また、ガイド面側保護層は、放射線を照射して得られた硬化層で形成して強度を高め、長期間安定して良好な記録再生特性を得ることができる。
【００４３】
さらに、ガイド面側保護層に含有されている導電性粒子としてＳｎ，Ｓｂ、Ｉｎのうちの１種以上の酸化物又はカーボンブラックやグラファイトを使用することにより、微粒子化して均一に分布させて帯電防止効果を高めることができる。
【００４４】
また、ガイド面側保護層内の導電性粒子の含有量を１０〜６０重量％にすることにより、導電性粒子を均一に分散させるとともに帯電防止効果を高めることができる。
【００４５】
また、ガイド面側保護層内の導電性粒子の平均粒径を３〜３０ｎｍの範囲にすることにより、帯電性粒子の分散度を高め、且つガイド面側保護層の平滑性を高めることができ、安定した記録再生特性を得ることができる。
【００４６】
さらに、ガイド面側保護層の厚さを３〜３０μｍの範囲にすることにより、耐久性がある一様な膜を形成することができ、長期間安定した記録再生特性を得ることができる。
【００４７】
また、転写面側の保護層は、硬化時に架橋構造をとらないモノマー材料に対して放射線を照射して得られた硬化層として平滑性を高めることにより、残留フォーカスエラーを小さくして、高品質な記録再生特性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明のフレキシブル光ディスクとドライバの構成図である。
【図２】フレキシブル光ディスクの構成を示す断面図である。
【図３】ガイド面側保護層の形成方法を示す工程図である。
【符号の説明】
１；フレキシブル光ディスク、２；対物レンズ、３；ガイド、
４；スピンドル、５；ベースフィルム、６；転写面、７；記録膜、
８；保護層、９；ガイド面側保護層。
【図１】
2005011412.tif 000003
【図２】
2005011412.tif 000004
【図３】
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