【手続補正書】
【提出日】平成22年2月17日(2010.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(A)少なくとも一種の有機ポリマー、(B)溶剤、(C)下記一般式(C-1)〜(C-3)の何れかで表される少なくとも一種の有機シリコーン化合物を含有することを特徴とする絶縁膜形成用組成物。
【化１】
2009070722.tif 000001
一般式(C-1)中、R1はメチル基もしくはフェニル基を表す。
x1は0〜95mol%, x2は5〜100mol%であり、x1 + x2= 100mol%である。
一般式(C-2)中、R2, R3はアルキル基を表す。ただし、R2, R3のうち、少なくとも１つは炭素数２以上のアルキル基である。
R4はメチル基もしくは2-フェニルプロピル基を表す。
X3は5〜100mol%, x4は0〜95mol%であり、x3 + x4= 100mol%である。
一般式(C-3)中、Rfはフルオロアルキル基を表す。
x5は0〜95mol%, x6は5〜100mol%であり、x5+ x6= 100mol%である。
【請求項２】
(C)有機シリコーン化合物が上記一般式(C-2)で表される少なくとも一種であることを特徴とする請求項１に記載の絶縁膜形成用組成物。
【請求項３】
前記有機ポリマー(A)が少なくとも一種のカゴ型構造を含む繰り返し単位を有するモノマーの重合体であることを特徴とする請求項１に記載の絶縁膜形成用組成物。
【請求項４】
前記有機ポリマー(A)が重合可能な炭素−炭素二重結合または炭素−炭素三重結合を有するカゴ型構造含有モノマーの重合体であることを特徴とする請求項１に記載の絶縁膜形成用組成物。
【請求項５】
前記カゴ型構造がアダマンタン、ビアダマンタン、ジアマンタン、トリアマンタン、テトラマンタン、ドデカヘドランから選択されることを特徴とする請求項３または４に記載の絶縁膜形成用組成物。
【請求項６】
前記カゴ型構造を有するモノマーが下記式（Ｉ）〜（ＶＩ）の群から選択されることを特徴とする請求項５に記載の絶縁膜形成用組成物。
【化２】
2009070722.tif 000002
式（Ｉ）〜（ＶＩ）中、Ｘ１〜Ｘ８は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シリル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を表す。
Ｙ１〜Ｙ８はハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはシリル基を表す。
ｍ1、ｍ５はそれぞれ独立に１〜１６の整数を表し、ｎ1、ｎ５は０〜１５の整数を表す。
ｍ２、ｍ３、ｍ６、ｍ７はそれぞれ独立に１〜１５の整数を表し、ｎ２、ｎ３、ｎ６、ｎ７は０〜１４の整数を表す。
ｍ４、ｍ８はそれぞれ独立に１〜２０の整数を表し、ｎ４、ｎ８は０〜１９の整数を表す。
【請求項７】
(A)２つ以上の不飽和基を置換基として有するカゴ型シルセスキオキサン化合物を重合させた高分子化合物、(B)溶剤、(C)下記一般式(C-1)〜(C-3)の何れかで表される少なくとも一種の有機シリコーン化合物を含有することを特徴とする絶縁膜形成用組成物。
【化３】
2009070722.tif 000003
一般式(C-1)中、R1はメチル基もしくはフェニル基を表す。
x1は0〜95mol%, x2は5〜100mol%であり、x1 + x2= 100mol%である。
一般式(C-2)中、R2, R3はアルキル基を表す。ただし、R2, R3のうち、少なくとも１つは炭素数２以上のアルキル基である。
R4はメチル基もしくは2-フェニルプロピル基を表す。
X3は5〜100mol%, x4は0〜95mol%であり、x3 + x4= 100mol%である。
一般式(C-3)中、Rfはフルオロアルキル基を表す。
x5は0〜95mol%, x6は5〜100mol%であり、x5+ x6= 100mol%である。
【請求項８】
(C)有機シリコーン化合物が上記一般式(C-2)で表される少なくとも一種であることを特徴とする請求項７に記載の絶縁膜形成用組成物。
【請求項９】
前記ポリマー(A)の原料となるカゴ型シルセスキオキサン化合物が下記式(Q-1)〜(Q-6)の群から選択されることを特徴とする請求項７に記載の絶縁膜形成用組成物。
【化４】
2009070722.tif 000004
【化５】
2009070722.tif 000005
（上記一般式中、Ｒはそれぞれ独立して非加水分解性基を表す。ただし、少なくとも２つはビニル基またはエチニル基を含む基を示す）
【請求項１０】
請求項１〜９の何れかに記載の絶縁膜形成用組成物より形成される絶縁膜を有する電子デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
一般式(C-1)中、R1はメチル基もしくはフェニル基を表す。
x1は0〜95mol%, x2は5〜100mol%であり、x1 + x2= 100mol%である。
一般式(C-2)中、R2, R3はアルキル基を表す。ただし、R2, R3のうち、少なくとも１つは炭素数２以上のアルキル基である。
R4はメチル基もしくは2-フェニルプロピル基を表す。
X3は5〜100mol%, x4は0〜95mol%であり、x3 + x4= 100mol%である。
一般式(C-3)中、Rfはフルオロアルキル基を表す。
x5は0〜95mol%, x6は5〜100mol%であり、x5+ x6= 100mol%である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（２）(C) 有機シリコーン化合物が上記一般式(C-2)で表される少なくとも一種であることを特徴とする前記（１）に記載の絶縁膜形成用組成物。
（３）前記有機ポリマー(A)が少なくとも一種のカゴ型構造を含む繰り返し単位を有するモノマーの重合体であることを特徴とする前記（１）に記載の絶縁膜形成用組成物。
（４）前記有機ポリマー(A)が重合可能な炭素−炭素二重結合または炭素−炭素三重結合を有するカゴ型構造含有モノマーの重合体であることを特徴とする前記（１）に記載の絶縁膜形成用組成物。
（５）前記カゴ型構造がアダマンタン、ビアダマンタン、ジアマンタン、トリアマンタン、テトラマンタン、ドデカヘドランから選択されることを特徴とする前記（３）または前記（４）に記載の絶縁膜形成用組成物。
（６）前記カゴ型構造を有するモノマーが下記式（Ｉ）〜（ＶＩ）の群から選択されることを特徴とする前記（５）に記載の絶縁膜形成用組成物。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
一般式(C-1)中、R1はメチル基もしくはフェニル基を表す。
x1は0〜95mol%, x2は5〜100mol%であり、x1 + x2= 100mol%である。
一般式(C-2)中、R2, R3はアルキル基を表す。ただし、R2, R3のうち、少なくとも１つは炭素数２以上のアルキル基である。
R4はメチル基もしくは2-フェニルプロピル基を表す。
X3は5〜100mol%, x4は0〜95mol%であり、x3 + x4= 100mol%である。
一般式(C-3)中、Rfはフルオロアルキル基を表す。
x5は0〜95mol%, x6は5〜100mol%であり、x5+ x6= 100mol%である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
（８）(C) 有機シリコーン化合物が上記一般式(C-2)で表される少なくとも一種であることを特徴とする前記（７）に記載の絶縁膜形成用組成物。
（９）前記ポリマー(A)の原料となるカゴ型シルセスキオキサン化合物が下記式(Q-1)〜(Q-6)の群から選択されることを特徴とする前記（７）に記載の絶縁膜形成用組成物。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
一般式(C-1)中、R1はメチル基もしくはフェニル基を表す。
R1は好ましくはフェニル基である。
x1は0〜95mol%, x2は5〜100mol%であり、x1+ x2= 100mol%である。
x1の好ましい範囲としては、0〜90mol%であり、より好ましくは0〜80mol%である。x2の好ましい範囲としては、10〜100mol%であり、より好ましくは20〜100mol%である。
一般式(C-2)中、R2, R3は炭素数1〜20のアルキル基を表す。ただし、R2, R3のうち、少なくとも１つは炭素数2〜20のアルキル基である。
R2, R3のアルキル基としては直鎖状、分岐状、環状の何れでも良いが、好ましくは直鎖状もしくは分岐状アルキル基であり、より好ましくは直鎖状である。具体的に適用可能なアルキル基としては、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デカニル基、ウンデカニル基、ドデカニル基、テトラデカニル基、オクタデカニル基、イソプロピル基、t-ブチル基、イソオクチル基、シクロヘキシル基などを挙げる事ができ、好ましくはエチル基、ヘキシル基、ドデカニル基、テトラデカニル基、オクタデカニル基であり、より好ましくはエチル基、ヘキシル基、最も好ましくはヘキシル基である。
R4はメチル基もしくは2-フェニルプロピル基を表す。
R4は好ましくは2-フェニルプロピル基である。
x3は5〜100mol%, x4は0〜95mol%であり、x3+ x4= 100mol%である。
x3の好ましい範囲としては、20〜90mol%であり、より好ましくは30〜80mol%である。x4の好ましい範囲としては、10〜80mol%であり、より好ましくは20〜70mol%である。
一般式(C-3)中、Rfは炭素数1〜12のフルオロアルキル基を表す。
Rfのフルオロアルキル基としては、3,3,3-トリフルオロプロピル基が好ましい。
x5は0〜95mol%, x6は5〜100mol%であり、x5+ x6 = 100mol%である。
x5の好ましい範囲としては、0〜80mol%であり、より好ましくは0〜60mol%である。x6の好ましい範囲としては、20〜100mol%であり、より好ましくは40〜100mol%である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
上記一般式(Q-1)〜(Q-6)中、Rは非加水分解性基を表す。ただし、少なくとも２つはビニル基またはエチニル基を含む基を示す。
Rの具体例としては上述したものと同様のものを挙げることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
【化１７】
2009070722.tif 000006
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８６】
【化１９】
2009070722.tif 000007