【手続補正書】
【提出日】平成22年3月18日(2010.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏向器で偏向した電子ビームをショットごとに順次照射することにより、ステージに載置された試料面上にパターンを描画する電子ビーム描画装置において、
前記電子ビームを偏向させる偏向器と、
前記電子ビームの寸法を制御するビーム寸法可変用偏向器と、
前記電子ビームの形状を変更するためのビーム成形用アパーチャと、
前記偏向器及び前記ビーム寸法可変用偏向器を駆動して前記電子ビームの形状及び寸法を制御するドライバと、
描画データに従って前記ドライバを制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記ドライバを介して前記偏向器及び前記ビーム寸法可変用偏向器を制御し、これにより前記試料面上において面積が全て同一で且つ形状が異なる複数のショットを生成し、これら複数のショットの組み合わせにより電子ビームを長方形又は正方形の領域の１つを照射し補正パターンの描画を行なった後、その補正パターンに基づき前記電子ビームの形状の補正を行い、形状の補正された電子ビームによりパターンの描画を行なう
ことを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項２】
複数段の偏向器で偏向した電子ビームをショットごとに順次照射することにより、ステージに載置された試料面上にパターンを描画するように構成され、描画するパターンの領域を主偏向で偏向可能なフレームに分割し、主偏向により電子ビームを前記フレーム内の任意のサブフィールド位置に位置決めし、サブフィールド単位で副偏向によりパターンを描画する電子ビーム描画装置において、
前記電子ビームを前記サブフィールドの１つに向けて偏向させる主偏向器と、
前記電子ビームを前記サブフィールドの１つの内部において偏向させる副偏向器と、
前記電子ビームの寸法を制御するビーム寸法可変用偏向器と、
前記電子ビームの形状を変更するためのビーム成形用アパーチャと、
前記主偏向器、前記副偏向器、前記ビーム寸法可変用偏向器を駆動して前記電子ビームの形状及び寸法を制御するドライバと、
描画データに従って前記ドライバを制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記ドライバを介して前記主偏向器、前記副偏向器及び前記ビーム寸法可変用偏向器を制御し、これにより前記試料面上において面積が全て同一で且つ形状が異なる複数のショットを生成し、これら複数のショットの組み合わせにより電子ビームを長方形又は正方形の領域の１つを照射し補正パターンの描画を行なった後、その補正パターンに基づき前記電子ビームの形状の補正を行い、形状の補正された電子ビームによりパターンの描画を行なう
ことを特徴とする電子ビーム描画装置。
【請求項３】
偏向器で偏向した電子ビームをショットごとに順次照射することにより、ステージに載置された試料面上にパターンを描画する電子ビーム描画方法において、
前記試料面上において面積が全て同一で且つ形状が異なる長方形又は正方形の領域の1つを照射するショットの組み合わせからなる電子ビームを照射し補正パターンの描画を行なう工程と、
前記描画された補正パターンに基づき前記電子ビームの形状の補正を行なう工程と、
前記形状の補正された電子ビームによりパターンの描画を行なう工程と、
を備えたことを特徴とする電子ビーム描画方法。
【請求項４】
複数段の偏向器で偏向した電子ビームをショットごとに順次照射することにより、ステージに載置された試料面上にパターンを描画する電子ビーム描画方法であって、描画するパターンの領域を主偏向で偏向可能なフレームに分割し、主偏向により電子ビームを前記フレーム内の任意のサブフィールド位置に位置決めし、サブフィールド単位で副偏向によりパターンを描画する電子ビーム描画方法において、
前記試料面上において面積が全て同一で且つ形状の異なる長方形又は正方形の領域の１つを照射するショットの組み合わせからなる電子ビームを照射しパターンの描画を行なう工程と、
前記描画された補正パターンに基づき前記電子ビームの形状の補正を行なう工程と、
前記形状の補正された電子ビームによりパターンの描画を行なう工程と、
を備えたことを特徴とする電子ビーム描画方法。
【請求項５】
前記電子ビームの形状の補正は、前記電子ビームの形状を変化させるための偏向器に印加する電圧を調整することにより行なうものであることを特徴とする請求項３、又は４に記載された電子ビーム描画方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明の一態様に係る電子ビーム描画装置は、偏向器で偏向した電子ビームをショットごとに順次照射することにより、ステージに載置された試料面上にパターンを描画する電子ビーム描画装置において、前記電子ビームを偏向させる偏向器と、前記電子ビームの寸法を制御するビーム寸法可変用偏向器と、前記電子ビームの形状を変更するためのビーム成形用アパーチャと、前記偏向器及び前記ビーム寸法可変用偏向器を駆動して前記電子ビームの形状及び寸法を制御するドライバと、描画データに従って前記ドライバを制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記ドライバを介して前記偏向器及び前記ビーム寸法可変用偏向器を制御し、これにより前記試料面上において面積が全て同一で且つ形状が異なる複数のショットを生成し、これら複数のショットの組み合わせにより電子ビームを長方形又は正方形の領域の１つを照射し補正パターンの描画を行なった後、その補正パターンに基づき前記電子ビームの形状の補正を行い、形状の補正された電子ビームによりパターンの描画を行なうことを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、本発明の一態様に係る電子ビーム描画装置は、複数段の偏向器で偏向した電子ビームをショットごとに順次照射することにより、ステージに載置された試料面上にパターンを描画するように構成され、描画するパターンの領域を主偏向で偏向可能なフレームに分割し、主偏向により電子ビームを前記フレーム内の任意のサブフィールド位置に位置決めし、サブフィールド単位で副偏向によりパターンを描画する電子ビーム描画装置において、前記電子ビームを前記サブフィールドの１つに向けて偏向させる主偏向器と、前記電子ビームを前記サブフィールドの１つの内部において偏向させる副偏向器と、前記電子ビームの寸法を制御するビーム寸法可変用偏向器と、前記電子ビームの形状を変更するためのビーム成形用アパーチャと、前記主偏向器、前記副偏向器、前記ビーム寸法可変用偏向器を駆動して前記電子ビームの形状及び寸法を制御するドライバと、描画データに従って前記ドライバを制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記ドライバを介して前記主偏向器、前記副偏向器及び前記ビーム寸法可変用偏向器を制御し、これにより前記試料面上において面積が全て同一で且つ形状が異なる複数のショットを生成し、これら複数のショットの組み合わせにより電子ビームを長方形又は正方形の領域の１つを照射し補正パターンの描画を行なった後、その補正パターンに基づき前記電子ビームの形状の補正を行い、形状の補正された電子ビームによりパターンの描画を行なうことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明の一態様に係る電子ビーム描画方法は、偏向器で偏向した電子ビームをショットごとに順次照射することにより、ステージに載置された試料面上にパターンを描画する電子ビーム描画方法において、前記試料面上において面積が全て同一で且つ形状が異なる長方形又は正方形の領域の1つを照射するショットの組み合わせからなる電子ビームを照射し補正パターンの描画を行なう工程と、前記描画された補正パターンに基づき前記電子ビームの形状の補正を行なう工程と、前記形状の補正された電子ビームによりパターンの描画を行なう工程と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明の一態様に係る電子ビーム描画方法は、複数段の偏向器で偏向した電子ビームをショットごとに順次照射することにより、ステージに載置された試料面上にパターンを描画する電子ビーム描画方法であって、描画するパターンの領域を主偏向で偏向可能なフレームに分割し、主偏向により電子ビームを前記フレーム内の任意のサブフィールド位置に位置決めし、サブフィールド単位で副偏向によりパターンを描画する電子ビーム描画方法において、前記試料面上において面積が全て同一で且つ形状の異なる長方形又は正方形の領域の１つを照射するショットの組み合わせからなる電子ビームを照射しパターンの描画を行なう工程と、前記描画された補正パターンに基づき前記電子ビームの形状の補正を行なう工程と、前記形状の補正された電子ビームによりパターンの描画を行なう工程とを備えたことを特徴とする。