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【手続補正書】
【提出日】平成22年3月18日(2010.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルシウムと、カリウムと、ナトリウムの塩化物を水道水や河川水あるいは地下水に添加し、比重が１．００２以上天然海水比重以下となるように、これらカルシウム、カリウム、ナトリウムの必須成分を天然海水中の存在比と同じ比率で含有した人工飼育水と、
この人工飼育水を満たした魚の養殖を行うための畜養水槽と、
畜養水槽の一側端にあって、この畜養水槽との間に通水可能なスリットが設けてあり、畜養水槽内の人工飼育水が循環可能な給水循環部と、
一端がこの給水循環部に開口し、他端が畜養水槽の底部に開口する人工飼育水の循環可能な循環路と、
一端が前記給水循環部に開口し、他端が濾過装置および泡沫分離装置を経由して畜養水槽の他部に開口する人工飼育水の循環可能な濾過循環路とを有し、
この濾過循環路は、畜養水槽から給水循環部内に流入した人工飼育水の上ずみ部分が濾過循環路内に入り込むように前記一端を上方へ上げて設けてあるフグ類の人工飼育に用いる養殖システム。
【請求項２】
カルシウムと、カリウムと、ナトリウムの塩化物を水道水や河川水あるいは地下水に添加し、比重が１．００２以上天然海水比重以下となるように、これらカルシウム、カリウム、ナトリウムの必須成分を天然海水中の存在比と同じ比率で含有した人工飼育水と、
この人工飼育水を満たした魚の養殖を行うための畜養水槽と、
畜養水槽の一側端にあって、この畜養水槽との間に通水可能なスリットが設けてあり、畜養水槽内の人工飼育水が循環可能な給水循環部と、
一端がこの給水循環部に開口し、他端が畜養水槽の底部に開口する人工飼育水の循環可能な循環路と、
一端が前記給水循環部に開口し、他端が濾過装置および泡沫分離装置を経由して畜養水槽の他部に開口する人工飼育水の循環可能な濾過循環路と、
前記濾過装置から水温調節装置を経由して畜養水槽の他部に連絡する温調循環路と、
畜養水槽へ人工飼育水を補給あるいは交換するための新しい人工飼育水を蓄水しておく補助タンクと、
一方が濾過装置に開口し、他方が前記補助タンクに開口する給水循環路とを有するフグ類の人工飼育に用いる養殖システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】を提供する。この人工飼育水による養殖システムは、飼育水が安価に且つ容易に人工飼育水を製造するために、海水中に存在する各種塩類から必要最小限な塩類が何なのかを特定する作業を行った結果得られたものである。即ち、海水中の種々有る塩類を組合わせ、且つ、飼育水の比重を小さくしていき、飼育魚が良好に成長できる人工飼育水の最小比重及び最小構成塩類を特定する実験の結果、塩類として添加する際に最小限必要な要素はナトリウム、カルシウム、カリウムであり、カルシウムに対するカリウムの存在比が０．９３程度で魚の飼育に最も良い値を示し、１．００４まで比重を小さくしても（塩分濃度を薄くしても）魚の飼育に影響を与えないことを知見するに至った。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】  上記のように構成する人工飼育水６を飼育槽である畜養水槽１に満たして養殖を行うに当たり、廃坑となった坑道の奥深くに４８００（ｔ）の畜養水槽１を構築する。このような地表から奥に入った地中では、周囲を覆う土や岩盤による断熱効果と地熱等により１年を通して略１８℃程度の気温となっている。このような環境に畜養水槽１を構築して前記人工飼育水６を満たすことで、人工飼育水の温度を通年で略一定と保つことが可能となる。
畜養水槽１は、この実施例では縦横略４０（ｍ）・高さ３（ｍ）からなり、一側端には給水循環部８を設ける。給水循環部８は、畜養水槽１との間に通水可能なスリット８１を設け、畜養水槽１内部の人工飼育水６との循環を可能としてある。尚、この実施例では畜養水槽１を４８００（ｔ）としたが、畜養水槽１の容積あるいは形状は特に特定されるものではなく、一般家庭で用いる程度の極小さな水槽から、例えば東京ドーム並みの極大きな畜養水槽でも実施可能であり、地中空間の大きさに合わせる等して適宜選択すれば足りる。
更に、給水循環部８には循環路７１を設ける。循環路７１の一端を開口し、他端は畜養水槽１の中央低部を稍下方へ下げた該中央に開口し、循環可能とさせる。更に、別途給水循環部８からは、一端を該給水循環部８に開口すると共に該開口から濾過装置２および泡沫分離装置４を経由して再び畜養水槽１の他部へ開口して人工飼育水６を循環可能とする濾過循環路７２を設ける。また、該濾過循環路７２は濾過装置２および泡沫分離装置４による人工飼育水６の浄化を効率よく行うために、給水循環部８において畜養水槽１に満たされた人工飼育水６の上ずみ部分が該循環路７２内に入り込むように給水口を上方へ上げて設けてある。これにより、人工飼育水６中で浮遊して上方へ移動した魚フンや不純物あるいはゴミ等が効率的に濾過循環路７２内に循環可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】  上記のように設ける各循環路が飼育水循環装置を構成し、必要に応じて適宜各循環路に強制循環をさせるための循環ポンプ（９１）をも受けても良く、人工飼育水６が循環するように構成されればよい。また、特に図示しないが、畜養水槽１内にも人工飼育水６を畜養水槽１内部で循環させる循環ポンプ等を設けて人工飼育水６の循環を行っている。
従って、人工飼育水６を製造するに当たり地下水や河川水を利用可能となるので、更に人工飼育水６の製造コストを押さえることが可能となる。
１１は、モニタリング室である。モニタリング室１１は、畜養水槽１、濾過装置２、泡沫分離装置４、飼育水冷却装置５、各循環路７１、７２、７３、７４、水温調整装置９、循環ポンプ９１、補助タンク１０のそれぞれに設けた水位センサや温度センサ、電圧計、電流計、電力計等の監視を行う。これら各装置の監視は、一般に行われている水位や水温の管理、供給電力の管理等なので特に詳説しない。
１２はソーラー発電装置である。ソーラー発電装置１２は、太陽光発電を行うソーラーパネルと電力を蓄える蓄電装置と供給する際の電力を制御する制御部とからなるが通常設置されるものと何ら変わりは無いので説明は省略する。ソーラー発電装置１２はソーラーパネルを地上の日当たりの良好な場所に設け、電力供給線によって電力を使用する水温調整装置９や循環ポンプ９１等に供給する。また、特に説明はしていないが、養殖システムを設置している場所が地中であるため、明かりを採る必要があるので、各所に設置した蛍光灯等へも電力の供給を行っている。勿論養殖魚へも光を当てる必要があるので、適宜量の光が供給できるように畜養水槽１の外部あるいは内部に畜養水槽１内の養殖魚に光が当たるよう光源を設置する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月8日(2010.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検眼の第１の眼特性を測定するための光学系を有する第１測定部と，被検眼の第２の眼特性を測定するための光学系を有する第２測定部とを有し，被検眼に対する前記第１測定部の測定光軸と第２測定部の測定光軸とが異なる高さとなるように前記第１及び第２測定部が配置された測定ユニットを有し、前記第１及び第２測定部の測定光軸を被検眼に対して各々位置合わせして被検眼を測定する眼科装置において、
前記測定ユニットを上下動可能な平行クランク機構と、該平行クランク機構が持つ相対するリンク同士の間隔を水平方向に調整する，もしくは該リンクの回転角度を調整することにより前記平行クランク機構を動作させるための駆動部を持つ駆動機構と、を有する上下動ユニットと、
前記第１測定部による前記被検眼の測定後，測定モード切り換え信号に基づいて前記第２測定部の測定光軸が前記第１測定部による測定時の測定光軸と略同じ高さとなるように前記駆動機構を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする眼科装置。
【請求項２】
請求項１の眼科装置において、前記制御手段は前記測定ユニットの高さによって前記駆動部の単位時間辺りの駆動量が異なるように制御することを特徴とする眼科装置。
【請求項３】
請求項１の眼科装置は、
前記平行クランク機構による前記測定ユニットの高さ位置を直接的または間接的に検出する検出手段を有し、
前記制御手段は該検出手段による検出結果に基づいて前記測定ユニットの上下方向の移動速度を略等速とするように前記駆動部を制御することを特徴とする眼科装置。
【請求項４】
請求項３の眼科装置において、前記平行クランク機構による前記測定ユニットの高さ位置を間接的に検出する検出手段は、前記リンクの回転角度を検出することを特徴とする眼科装置。
【請求項５】
請求項２の眼科装置において、前記制御手段は、前記第１の眼特性を測定するモードにおいて前記第１測定部の測定光軸が所定の基準高さに位置されているときの該基準高さ近傍における前記測定ユニットの上下方向への移動速度と、前記第２の眼特性を測定するモードにおいて第２測定部の測定光軸が所定の基準高さに位置されているときの該基準高さ近傍における前記測定ユニットの上下方向への移動速度とを、略等しくするために前記駆動部の単位時間辺りの駆動量を前記測定モードに応じて異なるように制御することを特徴とする眼科装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）  被検眼の第１の眼特性を測定するための光学系を有する第１測定部と，被検眼の第２の眼特性を測定するための光学系を有する第２測定部とを有し，被検眼に対する前記第１測定部の測定光軸と第２測定部の測定光軸とが異なる高さとなるように前記第１及び第２測定部が配置された測定ユニットを有し、前記第１及び第２測定部の測定光軸を被検眼に対して各々位置合わせして被検眼を測定する眼科装置において、
前記測定ユニットを上下動可能な平行クランク機構と、該平行クランク機構が持つ相対するリンク同士の間隔を水平方向に調整する，もしくは該リンクの回転角度を調整することにより前記平行クランク機構を動作させるための駆動部を持つ駆動機構と、を有する上下動ユニットと、
前記第１測定部による前記被検眼の測定後，測定モード切り換え信号に基づいて前記第２測定部の測定光軸が前記第１測定部による測定時の測定光軸と略同じ高さとなるように前記駆動機構を制御する制御手段と、を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の眼科装置において、前記制御手段は前記測定ユニットの高さによって前記駆動部の単位時間辺りの駆動量が異なるように制御することを特徴とする眼科装置。
（３）  （１）の眼科装置は、
前記平行クランク機構による前記測定ユニットの高さ位置を直接的または間接的に検出する検出手段を有し、
前記制御手段は該検出手段による検出結果に基づいて前記測定ユニットの上下方向の移動速度を略等速とするように前記駆動部を制御することを特徴とする。
（４）  （３）の眼科装置において、前記平行クランク機構による前記測定ユニットの高さ位置を間接的に検出する検出手段は、前記リンクの回転角度を検出することを特徴とする。
（５）  （２）の眼科装置において、前記制御手段は、前記第１の眼特性を測定するモードにおいて前記第１測定部の測定光軸が所定の基準高さに位置されているときの該基準高さ近傍における前記測定ユニットの上下方向への移動速度と、前記第２の眼特性を測定するモードにおいて第２測定部の測定光軸が所定の基準高さに位置されているときの該基準高さ近傍における前記測定ユニットの上下方向への移動速度とを、略等しくするために前記駆動部の単位時間辺りの駆動量を前記測定モードに応じて異なるように制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月30日(2010.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被酸化性金属の酸化反応を利用した蒸気温熱発生部を有し、目及び目周囲に水蒸気を付与する目用水蒸気発生体であって、該目用水蒸気発生体は、目及び目周囲に当接される面から水蒸気が１分〜３０分間発生し、当接された皮膚表面温度を１分間〜１２０分間にわたり３４℃〜４３℃にさせるようになされ、該目用水蒸気発生体の剛性値が０．０１〜１０Ｎ／幅７ｃｍである目用水蒸気発生体。
【請求項２】
前記蒸気温熱発生部が、第１の面とそれに対向する第２の面とを有する扁平な収容体内に収容されており、少なくとも目及び目周囲に当接される面を通じて水蒸気が発生するようになされている請求項１記載の目用水蒸気発生体。
【請求項３】
第２の面の通気度を、第１の面の通気度と同等かそれよりも大きくして、第１の面を通じて水蒸気が発生するようにした請求項２記載の目用水蒸気発生体。
【請求項４】
第１の面の通気度が０．０１〜１５０００秒であり、第２の面の通気度が１００〜６００００秒である請求項３記載の目用水蒸気発生体。
【請求項５】
前記目及び目周囲に当接される面が立体捲縮繊維を含有する不織布である請求項１ないし４の何れかに記載の目用水蒸気発生体。
【請求項６】
前記蒸気温熱発生部が、通気面とそれに対向する非通気面とを有する扁平な収容体内に収容されており、該通気面を通じて水蒸気が発生するようになされている請求項１記載の目用水蒸気発生体。
【請求項７】
前記第１の面の透湿度が１００〜２００００ｇ／（ｍ2・２４ｈｒ）である請求項２ないし６の何れかに記載の目用水蒸気発生体。
【請求項８】
前記蒸気温熱発生部が、被酸化性金属、反応促進剤及び繊維状物を含有する成形シートに電解質水溶液を含有させてなり、且つ空気との接触により発熱可能な発熱シートからなる請求項１ないし７の何れかに記載の目用水蒸気発生体。
【請求項９】
左右両側部に耳掛け部をそれぞれ有している請求項１ないし８の何れかに記載の目用水蒸気発生体。
【請求項１０】
瞳孔反応改善及び／又は輻輳反応改善用である請求項１ないし９の何れかに記載の目用水蒸気発生体。
【請求項１１】
前記目及び目周囲に当接される面の反対面が、ポリエチレンテレフタレートを芯としポリエチレンを鞘とする芯鞘型複合繊維を原料としたエアスルー不織布を有する請求項１ないし１０の何れかに記載の目用水蒸気発生体。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月14日(2009.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加湿用膜において、重量平均分子量３００００のデキストランに対するふるい係数が０．１以下であり、重量平均分子量１２００のデキストランに対するふるい係数が０．３以上の孔径分布を持ち、透水性能が１．１×１０−１1m3/m2/s/Pa以上、４．３×１０−１０m3/m2/s/Pa以下であることを特徴とする加湿用膜。
【請求項２】
該加湿用膜に０．３μm以上の空隙長を有する支持層と０．１μm以下の空隙長を有し、かつ２．０μｍ以下の厚さで緻密層が存在する請求項１記載の加湿用膜。
【請求項３】
該加湿用膜の素材にポリスルホンを含む請求項１または２に記載の加湿用膜。
【請求項４】
該加湿用膜に親水性高分子が含まれている請求項１〜３のいずれかに記載の加湿用膜。
【請求項５】
該親水性高分子がポリビニルピロリドンである請求項４に記載の加湿用膜。
【請求項６】
該加湿用膜が中空糸膜である請求項１〜５のいずれかに記載の加湿用膜。
【請求項７】
該中空糸膜の内径が２００μm以上８００μm以下、膜厚が４０μm以上２００μm以下である請求項６記載の加湿用膜。
【請求項８】
口金から製膜原液を吐出させて、製膜を行う工程、４０℃以上９０℃以下の温水で洗浄する工程、洗浄後に巻き取る工程を有する加湿用膜の製造方法において、巻き取る工程の後に乾熱乾燥機を用いて、４０℃以上１５０℃以下で３０分以上乾燥させる工程を有することを特徴とする請求項４または５に記載の加湿用膜の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれかに記載の加湿用膜を内蔵した加湿用膜モジュール。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
膜素材としては、ポリフェニルスルホン樹脂および親水性ポリビニルピロリドンの水溶性有機溶媒溶液よりなる紡糸原液を用い、Ｎ−メチル−２−ピロリドン水溶液を芯液として乾湿式紡糸し、多孔質ポリフェニルスルホン樹脂中空糸膜を得る方法は、既に提案されている。しかし、ここで得られた中空糸膜は油水分離用限外ロ過膜等に好適に使用されると述べられており、水蒸気透過を目的とするものではなかった。（特許文献１）
また、ポリフェニルスルホン樹脂および親水性ポリビニルピロリドンの水溶性有機溶媒溶液よりなる紡糸溶液中にさらに水を加え、水を芯液として乾湿式紡糸し、多孔質ポリフェニルスルホン樹脂中空糸膜を得る方法も提案されているが（特許文献２〜３）、ここでもその目的は純水透過係数の改善を図ることにあるとされており、水蒸気透過を目的とするものではなかった。
また、多孔質ポリフェニルスルホン樹脂中空糸膜を燃料電池用加湿膜に使用し得ることが特許文献４に記載されている。
【特許文献１】特開２００１−２１９０４３号公報
【特許文献２】特開２００１−４６８４７号公報
【特許文献３】特開２００１−４６８４８号公報
【特許文献４】特開２００４−２９０７５１号公報
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月26日(2010.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
膜ろ過に続けて中空糸膜モジュールを洗浄する方法において、ろ過終了後に膜を薬液中に一定時間接触させた後、膜１次側の薬液を中空糸膜モジュール系外に排出することにより、膜１次側における中空糸膜の周囲が気体となるまで薬液水位を下げた後、空気洗浄と逆流洗浄を同時に行うことを特徴とする中空糸膜モジュールの洗浄方法。
【請求項２】
膜ろ過に続けて中空糸膜モジュールを洗浄する方法において、ろ過終了後、膜１次側の原水を中空糸膜モジュール系外に排出することにより、膜１次側における中空糸膜の周囲が気体となるまで水位を下げた後に、膜モジュール内に薬液を供給して中空糸膜を薬液と一定時間接触させ、次いで、膜１次側の薬液を中空糸膜モジュール系外に排出することにより、膜１次側における中空糸膜の周囲が気体となるまで薬液水位を下げた後、空気洗浄と逆流洗浄を同時に行うことを特徴とする中空糸膜モジュールの洗浄方法。
【請求項３】
膜１次側から中空糸膜モジュール系外に排出された薬液を、膜の洗浄薬液として再度使用することを特徴とする請求項１又は２に記載の中空糸膜モジュールの洗浄方法。
【請求項４】
膜１次側に供給する原水に無機系凝集剤を添加すること、及び、膜洗浄用の薬液として酸水溶液を使用することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の中空糸膜モジュールの洗浄方法。
【請求項５】
膜ろ過に続けて中空糸膜モジュールを洗浄する方法において、ろ過終了後、膜１次側の原水を中空糸膜モジュール系外に排出することにより、膜１次側における中空糸膜の周囲が気体となるまで水位を下げた後、空気洗浄と逆流洗浄を同時に行う中空糸膜モジュールの洗浄方法であって、膜１次側から中空糸膜モジュール系外に排出された原水を、洗浄終了後に供給する膜ろ過原水の一部として使用することを特徴とする中空糸膜モジュールの洗浄方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（１）膜ろ過に続けて中空糸膜モジュールを洗浄する方法において、ろ過終了後に膜を薬液中に一定時間接触させた後、膜１次側の薬液を中空糸膜モジュール系外に排出することにより、膜１次側における中空糸膜の周囲が気体となるまで薬液水位を下げた後、空気洗浄と逆流洗浄を同時に行うことを特徴とする中空糸膜モジュールの洗浄方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（２）膜ろ過に続けて中空糸膜モジュールを洗浄する方法において、ろ過終了後、膜１次側の原水を中空糸膜モジュール系外に排出することにより、膜１次側における中空糸膜の周囲が気体となるまで水位を下げた後に、膜モジュール内に薬液を供給して中空糸膜を薬液と一定時間接触させ、次いで、膜１次側の薬液を中空糸膜モジュール系外に排出することにより、膜１次側における中空糸膜の周囲が気体となるまで薬液水位を下げた後、空気洗浄と逆流洗浄を同時に行うことを特徴とする中空糸膜モジュールの洗浄方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（３）膜１次側から中空糸膜モジュール系外に排出された薬液を、膜の洗浄薬液として再度使用することを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の中空糸膜モジュールの洗浄方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
（４）膜１次側に供給する原水に無機系凝集剤を添加すること、及び、膜洗浄用の薬液として酸水溶液を使用することを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の中空糸膜モジュールの洗浄方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（５）膜ろ過に続けて中空糸膜モジュールを洗浄する方法において、ろ過終了後、膜１次側の原水を中空糸膜モジュール系外に排出することにより、膜１次側における中空糸膜の周囲が気体となるまで水位を下げた後、空気洗浄と逆流洗浄を同時に行う中空糸膜モジュールの洗浄方法であって、膜１次側から中空糸膜モジュール系外に排出された原水を、洗浄終了後に供給する膜ろ過原水の一部として使用することを特徴とする中空糸膜モジュールの洗浄方法。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月26日(2010.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゴルフボール層を形成する注型システムにおいて、少なくとも２つの先駆材料を混合するように設けられた混合チャンバを具備する混合ヘッドを有し、上記先駆材料から生成された混合材料が上記混合ヘッドに結合された少なくとも１つのノズルを介して少なくとも１つの金型へ導出され上記ゴルフボール層を生成し、上記ノズルが後退自在であることを特徴とする注型システム。
【請求項２】
上記ノズルは後退可能な部材を有する請求項１記載の注型システム。
【請求項３】
上記後退可能な部材は外側部材の内部に配置され、上記後退可能な部材が上記外側部材に対して移動可能である請求項１または２記載の注型システム。
【請求項４】
上記後退可能な部材が後退するときに、上記後退可能な部材が上記混合材料の一部を一時的に保持する空間を上記ノズルの内部に形成する請求項２〜３記載の注型システム。
【請求項５】
上記ノズルが後退するときに上記ノズルが上記混合材料の滴下を最小化する請求項１〜４記載の注型システム。
【請求項６】
上記後退可能な部材はローターを有する請求項２〜５記載の注型システム。
【請求項７】
さらにワイパーを有する請求項６記載の注型システム。
【請求項８】
上記ワイパーが上記ローターと一体に形成される請求項７記載の注型システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月14日(2010.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
三次元編組方法を用いて形成された、多孔性の、繊維ベース三次元編組骨格を含む靭帯のための置換構造物であって、前記編組骨格が、患者への移植のために前記骨格を付着させるための第１および第２の端面および中間領域を含み、前記中間領域は、サイズ、編組角、気孔率および機械強度の１または２以上において前記端面と異なる、前記置換構造物。
【請求項２】
損傷位置への移植を含むヒトにおいて損傷した靭帯の修復に使用されることを特徴とする、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項３】
（ａ）組織培養において、採取した前十字宿主細胞を増殖させることおよび継代すること、および
（ｂ）三次元編組方法を用いて形成された、多孔性の三次元編組骨格に培養前十字宿主細胞を播種すること（前記編組骨格が、患者への移植のために前記骨格を付着させるための第１および第２の端面および中間領域を含み、前記中間領域は、サイズ、編組角、気孔率および機械強度の１または２以上において前記端面と異なる）、
を含む、マトリックス中の生存細胞から構成される靭帯のための置換構造物を製造する方法。
【請求項４】
少なくとも１つの領域の断面が実質環状である、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項５】
少なくとも１つの領域の断面が実質矩形である、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項６】
繊維がポリ（ヒドロキシ）エステルを含む、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項７】
繊維がポリ乳酸、ポリグリコール酸、またはポリ乳酸およびポリグリコール酸のコポリマーを含む、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項８】
繊維が少なくとも１種の乳酸ポリマーを含む、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項９】
繊維がポリ−Ｌ−乳酸を含む、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項１０】
編組骨格が、束あたり１０〜６０繊維を含む複数の束から形成される、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項１１】
少なくとも１つの領域が５４％〜６３％の平均気孔率を有する、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項１２】
少なくとも１つの領域が平均１７７μｍ〜２５０μｍの孔の直径を有する、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項１３】
三次元編組方法が、ロウとカラム配列の織機を使用する、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項１４】
三次元編組方法が、環状編組機を使用する、請求項１に記載の置換構造物。
【請求項１５】
前十字靭帯の修復、復元または置換に適合する、請求項１に記載の置換構造物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月20日(2010.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域内に、画素が複数設けられている有機ＥＬ表示装置であって、
基板上に設けられた透明電極と、
前記透明電極の反視認側に設けられ、前記透明電極と対向する対向電極と、
前記透明電極と前記対向電極との間に配置され、前記画素となる開口部を有する絶縁層と、
前記画素内において、前記透明電極と前記対向電極との間に配置された有機ＥＬ層を有する発光画素と、
前記画素内において、前記有機ＥＬ層の視認側、又は前記有機ＥＬ層が形成されている領域の外側に配置され、前記画素に占める割合が４０〜７０％とされる反射膜と、を有する有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記反射膜は、前記絶縁層よりも視認側、又は前記絶縁層の前記開口部内に配置され、前記表示領域内において外光を反射する請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記発光画素において前記透明電極の視認側に配置されたカラーフィルタをさらに備え、
前記反射膜が前記カラーフィルタの視認側、又は前記カラーフィルタが設けられている領域の外側に配置されている請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記透明電極又は前記対向電極と接続された補助配線をさらに備え、
前記補助配線と同じ層によって前記反射膜が形成されている請求項１乃至３のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記反射膜は、前記対向電極と同じ層によって形成されている請求項１乃至４のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
表示領域内に、画素が複数設けられている有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、
基板上に複数の透明電極を形成する工程と、
前記表示領域内において、前記複数の透明電極の間に配置され、前記画素に占める割合を４０〜７０％とする反射膜を形成する工程と、
前記画素となる箇所が開口した絶縁層を前記透明電極及び前記反射膜の上に形成する工程と、
前記透明電極上の前記絶縁層が開口した箇所であって発光画素となる箇所に有機ＥＬ層を形成する工程と、
前記発光画素となる箇所に形成された前記有機ＥＬ層の上に対向電極を形成する工程と、を備える有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記反射膜を形成する工程では、前記透明電極又は前記対向電極と接続する補助配線を形成する請求項６に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項８】
表示領域内に、画素が複数設けられている有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、
基板上に複数の透明電極を形成する工程と、
前記画素となる箇所が開口した絶縁層を前記透明電極の上に形成する工程と、
前記透明電極上の前記絶縁層が開口した箇所であって発光画素となる箇所に有機ＥＬ層を形成する工程と、
前記有機ＥＬ層が形成されている領域の外側であって、前記透明電極間の前記絶縁層が開口した箇所に、前記画素に占める割合が４０〜７０％となるように配置される反射膜と、前記発光画素となる領域に形成された前記有機ＥＬ層の上に配置される対向電極と、を形成する工程と、を備える有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、表示領域内に、発光画素が複数設けられている有機ＥＬ表示装置であって、表示領域内に、画素が複数設けられている有機ＥＬ表示装置であって、基板上に設けられた透明電極と、前記透明電極の反視認側に設けられ、前記透明電極と対向する対向電極と、前記透明電極と前記対向電極との間に配置され、前記画素となる開口部を有する絶縁層と、前記画素内において、前記透明電極と前記対向電極との間に配置された有機ＥＬ層を有する発光画素と、前記画素内において、前記有機ＥＬ層の視認側、又は前記有機ＥＬ層が形成されている領域の外側に配置され、前記画素に占める割合が４０〜７０％とされる反射膜と、を有するものである。このような構成により、有機ＥＬ表示装置は駆動電圧がオン状態のとき、発光画素が発光し画像表示を行う画像表示モードとして機能するとともに、駆動電圧がオフ状態のとき、外光を十分に反射し鏡面効果を生じさせる鏡面モードとして機能することができる。特に、反射膜の設けられた領域の反射光は、有機ＥＬ層及び陽極による吸収や干渉の影響を受けることがないため、鏡面モードにおける反射光の色変化は小さくなり、反射率が向上する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このとき、前記反射膜が前記絶縁層よりも視認側、又は前記絶縁層の前記開口部内に配置されていると効果的である。これにより、反射膜の設けられた領域の反射光は、絶縁層による吸収や干渉の影響を受けることがない。したがって、鏡面モードにおける反射光の色変化はさらに小さくなり、反射率がより向上する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、表示領域内に、画素が複数設けられている有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、基板上に複数の透明電極を形成する工程と、前記表示領域内において、前記複数の透明電極の間に配置され、前記画素に占める割合を４０〜７０％とする反射膜を形成する工程と、前記画素となる箇所が開口した絶縁層を前記透明電極及び前記反射膜の上に形成する工程と、前記透明電極上の前記絶縁層が開口した箇所であって発光画素となる箇所に有機ＥＬ層を形成する工程と、前記発光画素となる箇所に形成された前記有機ＥＬ層の上に対向電極を形成する工程と、を備えるものである。このような方法により、駆動電圧がオン状態のとき、発光画素が発光し画像表示を行う画像表示モードとして機能するとともに、駆動電圧がオフ状態のとき、外光を十分に反射し鏡面効果を生じさせる鏡面モードとして機能する有機ＥＬ表示装置を作製することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、本発明に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、表示領域内に、画素が複数設けられている有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、基板上に複数の透明電極を形成する工程と、前記画素となる箇所が開口した絶縁層を前記透明電極の上に形成する工程と、前記透明電極上の前記絶縁層が開口した箇所であって発光画素となる箇所に有機ＥＬ層を形成する工程と、前記有機ＥＬ層が形成されている領域の外側であって、前記透明電極間の前記絶縁層が開口した箇所に、前記画素に占める割合が４０〜７０％となるように配置される反射膜と、前記発光画素となる領域に形成された前記有機ＥＬ層の上に配置される対向電極と、を形成する工程と、を備えるものである。このような方法により、駆動電圧がオン状態のとき、発光画素が発光し画像表示を行う画像表示モードとして機能するとともに、駆動電圧がオフ状態のとき、外光を十分に反射し鏡面効果を生じさせる鏡面モードとして機能する有機ＥＬ表示装置を、工程数を増加させずに作製することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月6日(2010.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の電極パッドを有した半導体チップと、前記電極パッドと対向する接続パッドを有した配線基板と、を備え、
前記複数の電極パッドに設けられたＡｕバンプと、前記接続パッドに設けられたはんだとを接合させることにより、前記半導体チップと前記配線基板とをフリップチップ接続する半導体装置の製造方法であって、
めっき法により、前記Ａｕバンプと対向する前記接続パッドの接続面と、前記接続パッドの側面とに前記はんだを形成するはんだ形成工程と、
前記はんだを溶融させて、前記接続パッドの接続面に凸形状とされ、かつ前記接続パッドの側面にも配置されるようにはんだ溜りを形成するはんだ溜り形成工程と、
前記はんだ溜りが形成された前記接続面に前記Ａｕバンプを載置することにより、前記はんだ溜りと前記Ａｕバンプとを接合させる接合工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
前記はんだ形成工程では、前記はんだを電解めっき法により形成することを特徴とする請求項１記載の半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記はんだ溜り形成工程では、前記はんだを該はんだの融点以上で、かつ前記半導体チップの耐熱温度よりも低い温度で加熱することにより、前記はんだを溶融させることを特徴とする請求項１又は２記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記接合工程後に、前記半導体チップと前記配線基板との隙間を充填するようにアンダーフィル樹脂を形成するアンダーフィル樹脂形成工程を設けたことを特徴とする請求項１ないし３のうち、いずれか一項記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の一観点によれば、複数の電極パッドを有した半導体チップと、前記電極パッドと対向する接続パッドを有した配線基板と、を備え、
前記複数の電極パッドに設けられたＡｕバンプと、前記接続パッドに設けられたはんだとを接合させることにより、前記半導体チップと前記配線基板とをフリップチップ接続する半導体装置の製造方法であって、
めっき法により、前記Ａｕバンプと対向する前記接続パッドの接続面と、前記接続パッドの側面とに前記はんだを形成するはんだ形成工程と、
前記はんだを溶融させて、前記接続パッドの接続面に凸形状とされ、かつ前記接続パッドの側面にも配置されるようにはんだ溜りを形成するはんだ溜り形成工程と、
前記はんだ溜りが形成された前記接続面に前記Ａｕバンプを載置することにより、前記はんだ溜りと前記Ａｕバンプとを接合させる接合工程と、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月5日(2010.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クロム領域とクロム酸化物領域とを有し、
前記クロム領域と前記クロム酸化物領域とを交互に複数配置して形成した歪抵抗薄膜。
【請求項２】
前記クロム領域の厚み及び前記クロム酸化物領域の厚みは、それぞれ前記歪抵抗薄膜の３分の２以下とした請求項１に記載の歪抵抗薄膜。
【請求項３】
前記クロム領域と前記クロム酸化物領域とを交互に３層以上配置した請求項１に記載の歪抵抗薄膜。
【請求項４】
請求項１記載の歪抵抗薄膜を膜厚方向に分割して形成した歪抵抗素子。
【請求項５】
請求項１記載の歪抵抗薄膜を膜厚方向に分割して形成した複数の歪抵抗素子と、複数の前記歪抵抗素子を組み合わせて形成したブリッジ回路を有する歪検出装置。
【請求項６】
酸素と不活性ガスの雰囲気中において、クロムをターゲットとしてスパッタリング工法または真空蒸着工法を用いて、体心立方のクロムと非晶質のクロム酸化物とからなるクロム系薄膜を形成するクロム系薄膜形成工程と、前記クロム系薄膜を熱処理して、体心立方のクロムと菱面体晶のクロム酸化物とからなる歪抵抗薄膜を形成する熱処理工程とを備え、クロム領域とクロム酸化物領域とを交互に複数配置して前記歪抵抗薄膜を形成する歪抵抗薄膜の製造方法。
【請求項７】
酸素と不活性ガスの雰囲気中において、前記酸素の分圧を１．０×１０-5Ｐａ以上とする請求項６に記載の歪抵抗薄膜の製造方法。
【請求項８】
前記クロム系薄膜形成工程では、酸素と不活性ガスの雰囲気中において、酸素と不活性ガスの分圧を変化させながら、体心立方のクロムと非晶質のクロム酸化物とからなるクロム系薄膜を形成する請求項６に記載の歪抵抗薄膜の製造方法。
【請求項９】
前記クロム系薄膜形成工程では、酸素と不活性ガスの雰囲気中において、酸素分圧を低くして、体心立方のクロムと非晶質のクロム酸化物とからなる第１クロム系薄膜を形成する第１クロム系薄膜形成工程と、酸素分圧を高くして、体心立方のクロムと非晶質のクロム酸化物とからなる第２クロム系薄膜を形成する第２クロム系薄膜形成工程とを有し、前記第２クロム系薄膜形成工程後に前記熱処理工程を施す請求項６に記載の歪抵抗薄膜の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月7日(2010.1.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
各ヘッド・スライダ１２はアクチュエータ１６の先端部に固定されている。アクチュエータ１６はＶＣＭ１５に連結され、回動軸を中心に回動することによって、ヘッド・スライダ１２を回転する磁気ディスク１１上においてその半径方向に移動する。モータ・ドライバ・ユニット２２は、ＨＤＣ／ＭＰＵ２３からの制御データに従ってＶＣＭ１５を駆動する。ＡＥ１３は、ＨＤＣ／ＭＰＵ２３からの制御データに従って複数のヘッド素子部の中からアクセス（リード）を行うヘッド素子部を選択し、選択したヘッド素子部により再生される再生信号を増幅してＲＷチャネル２１に送る。また、ＲＷチャネル２１からの記録信号を選択されたヘッド素子部に送る。ＡＥ１３は、ＨＤＣ／ＭＰＵ２３からの制御データに従って選択したヘッド・スライダ１２のヒータへ電力（電流）を供給し、その電力量を調節する調節回路として機能する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
コントローラの一例であるＨＤＣ／ＭＰＵ２３において、ＭＰＵはＲＡＭ２４にロードされたファームウェアに従って動作する。ＨＤＣ／ＭＰＵ２３は、リード／ライト処理制御、コマンド実行順序の管理、サーボ信号を使用したヘッド・スライダ１２のポジショニング制御（サーボ制御）、ホスト５１との間のインターフェース制御、ディフェクト管理、エラー対応処理など、データ処理に関する必要な処理及びＨＤＤ１の全体制御を実行する。また、本形態のＨＤＣ／ＭＰＵ２３はＴＦＣを行うと共に、ヘッド素子部の読み出し信号強度に基づいてヘッド素子部の特性変化を特定し、あるいは、読み出し信号強度に基づいて高度（気圧）変化を特定する。これらの点については後に詳述する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
従って、少なくとも所定の温度領域におけるリードにおいて、他の条件が大きく変化しない場合に、ＨＤＣ／ＭＰＵ２３は、使用下限高度において所定のパワーをヒータ１２４に供給する。そして、ＨＤＣ／ＭＰＵ２３は、高度が上昇する（気圧が低下することと同義である）に応じてヒータ・パワーを小さくする。あるいは、ＨＤＣ／ＭＰＵ２３は、温度が低下した場合であっても、同時に高度が上昇している場合には、同一高度にある場合に比較して、ヒータ・パワーの増加量を抑えるように制御する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
図６（ａ）〜（ｃ）は、信号強度変化とクリアランス変化との関係を模式的に示している。図６（ａ）に示す基準状態において、ヘッド素子部１２２のクリアランスはＣ０であり、信号強度はＡ０である。ヘッド素子部１２２が読み出す信号の周波数は、特に限定されない。ここで、図６（ｂ）に示すように、クリアランスが基準値のＣ０からＣ１に変化すると、信号強度は基準値のＡ０からＡ１に変化する。図６（ｂ）の例においてＣ１＜Ｃ０であり、Ａ１＞Ａ０となる。図６（ｂ）の例において、インスタビリティは起きていない。一方、図６（ｃ）は、インスタビリティが発生している例を示している。クリアランスは基準値Ｃ０で一定であり、変化していない。しかし、信号強度は基準値のＡ０からＡ１に変化している。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月2日(2010.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉛直方向軸線を有するガラスびんのヒール部に設けられるモールドコードを調べるための機械において、
びんに向かって鉛直方向に、同軸方向に上方に光ビームを差し向ける、びんの下方に設けられる光源と、
びんと前記光源との間に配置される、外側円錐状反射面を有する内側円錐状反射器であって、びんの軸線と同軸であり、前記光源からの第１の円錐形の光ビームを該光ビームがびんに到達する前に受けてびんの軸線から離れる方向へ第２の円錐形の光ビームを反射する、内側円錐状反射器と、
前記内側円錐状反射器と前記光源との間に配置されているビームスプリッタであって、前記光ビームの一部が該ビームスプリッタを介して前記内側円錐状反射器へ通過できるようにするビームスプリッタと、
内側円錐状反射面を有する外側リング状反射器であって、前記内側円錐状反射器からの前記第２の円錐形の光ビームを受け、前記第２の円錐形の光ビームを、びんのヒール部に設けられるモールドコードに差し向けられる第３の円錐形の光ビームとして反射する、外側リング状反射器と、
を備え、前記第３の円錐形の光ビームは、上記モールドコードから反射し、前記第３の円錐形の光の経路、前記第２の円錐形の光の経路、および前記第１の円錐形の光の経路を実質的に戻り、
前記機械はさらに、画像を取得するＣＣＤカメラを備え、
前記ビームスプリッタは、前記内側円錐状反射面から前記第１の円錐形の光の経路内に反射された光の一部を該ビームスプリッタから前記ＣＣＤカメラのほうへ向けさせるように配置され且つ構成されており、
前記機械はさらに、前記ＣＣＤカメラにより取得された画像を分析するプロセッサを備える、機械。
【請求項２】
請求項１に記載のガラスびんのヒール部に設けられるモールドコードを調べるための機械において、更に、前記ビームスプリッタに近接するように構成され、前記ビームスプリッタによりびんから離れるほうへ差し向けられた前記光ビームの前記一部を捉える光ブロッカーを備える、機械。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記目的を達成するため、本発明は、上下方向に軸線を有するガラスびんのヒール部に設けられるモールドコードを検査するための機械において、びんに向かって鉛直方向に、同軸で上方に光を差し向けるように構成されている、びんの下方に設けられる光源と、びんと前記光源との間に配置される、外側円錐状反射面を有する内側円錐状反射器であって、びんの軸線と同軸であり、前記光源からの第１の円錐形の光ビームを該光ビームがびんに到達する前に受けてびんの軸線から離れる方向へ第２の円錐形の光ビームを反射する、内側円錐状反射器と、前記内側円錐状反射器と前記光源との間に配置されているビームスプリッタであって、前記光ビームの一部が該ビームスプリッタを介して前記内側円錐状反射器へ通過できるようにするビームスプリッタと、内側円錐状反射面を有する外側リング状反射器であって、前記内側円錐状反射器からの前記第２の円錐形の光ビームを受け、前記第１の円錐形の光ビームを、びんのヒール部に設けられるモールドコードに差し向けられる第２の円錐形の光ビームとして反射する、外側リング状反射器と、を備え、前記第３の円錐形の光ビームは、上記モールドコードから反射し、前記第３の円錐形の光の経路、前記第２の円錐形の光の経路、および前記第１の円錐形の光の経路を戻り、前記機械はさらに、画像を取得するＣＣＤカメラを備え、前記ビームスプリッタは、前記内側円錐状反射面から前記第１の円錐形の光の経路内に反射された光の一部を該ビームスプリッタから前記ＣＣＤカメラのほうへ向けさせるように配置され且つ構成されており、前記機械はさらに、前記ＣＣＤカメラにより取得された画像を分析するプロセッサを備える機械を提供するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2008192140.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月28日(2010.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁層と、
前記絶縁層の一方の面に形成された、互いに幅の異なる信号配線部と部品接続用ランド部とが接続された配線接続部と、
前記絶縁層の前記一方の面の反対側の面に前記配線接続部に対向して形成された、互いに幅の異なる信号配線対向部と部品接続用ランド対向部とが接続されたグランド部とを備え、
前記信号配線部と前記信号配線対向部を対応させ、前記部品接続用ランド部と前記部品接続用ランド対向部を対応させることにより、前記信号配線部と前記部品接続用ランド部間のインピーダンスを一定にした基板。
【請求項２】
前記部品接続用ランド部の幅は前記信号配線部の幅よりも大きく、
前記部品接続用ランド対向部の幅は前記信号配線対向部の幅よりも小さい、請求項１に記載の基板。
【請求項３】
前記配線接続部は、前記一方の面上に平行に複数形成されており、
前記グランド部は、前記信号配線対向部および前記部品接続用ランド対向部が、前記複数の配線接続部のそれぞれの前記信号配線部および前記部品接続用ランド部に対応するように、前記反対側の面上に平行に複数形成されており、
前記各信号配線対向部は、幅方向で互いにつながっている、請求項２に記載の基板。
【請求項４】
前記配線接続部の幅は、前記信号配線部から前記部品接続用ランド部に向かって連続的にまたは段階的に大きくなっており、
前記グランド部の幅は、前記信号配線対向部から前記部品接続用ランド対向部に向かって連続的にまたは段階的に小さくなっている、請求項２に記載の基板。
【請求項５】
前記基板は、フレキシブル基板である、請求項１に記載の基板。
【請求項６】
前記一定にしたインピーダンスは、信号配線の特性インピーダンスである、請求項１に記載の基板。
【請求項７】
前記一定にしたインピーダンスは、複数の信号配線間の差動インピーダンスである、請求項１に記載の基板。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の基板を備えた電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
また、第２の本発明は、
前記部品接続用ランド部の幅は前記信号配線部の幅よりも大きく、
前記部品接続用ランド対向部の幅は前記信号配線対向部の幅よりも小さい、第１の本発明の基板である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
また、第３の本発明は、
前記配線接続部は、前記一方の面上に平行に複数形成されており、
前記グランド部は、前記信号配線対向部および前記部品接続用ランド対向部が、前記複数の配線接続部のそれぞれの前記信号配線部および前記部品接続用ランド部に対応するように、前記反対側の面上に平行に複数形成されており、
前記各信号配線対向部は、幅方向で互いにつながっている、第２の本発明の基板である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
また、第４の本発明は、
前記配線接続部の幅は、前記信号配線部から前記部品接続用ランド部に向かって連続的にまたは段階的に大きくなっており、
前記グランド部の幅は、前記信号配線対向部から前記部品接続用ランド対向部に向かって連続的にまたは段階的に小さくなっている、第２の本発明の基板である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月16日(2009.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板の少なくとも上面に形成され、垂直方向に立設する層間接続部が一体的に設けられた第１配線パターンとにより構成される第１ユニット配線板と、
前記第１ユニット配線板の上に形成され、上下側を導通可能にする第２配線パターンを備えた第２ユニット配線板の前記第２配線パターンが前記第１ユニット配線板の前記層間接続部に接続された前記第２ユニット配線板と、
前記第１ユニット配線板と前記第２ユニット配線板の間に充填された樹脂部とを有し、
前記第１配線パターンは電源プレーン及びグランドプレーンを含むことを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記第１配線パターンは、リードフレームから形成され、前記第１配線パターンの厚みは前記第２配線パターンの厚みより厚いことを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項３】
前記第１ユニット配線板の前記基板は貫通電極を備えており、
前記第１ユニット配線板は、前記基板の両面側に、前記貫通電極に接続されて外側に前記層間接続部が立設した前記第１配線パターンがそれぞれ形成されて構成され、
前記第２ユニット配線板が前記第１ユニット配線板の両面側の第１配線パターンの前記層間接続部にそれぞれ接続されて配置されており、
前記樹脂部は、前記第１ユニット配線板とその両面側に配置された前記第２ユニット配線板との間にそれぞれ充填されていることを特徴とする請求項１に記載の配線基板。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項の配線基板と、
前記配線基板における前記第２ユニット配線板の外面側の前記第２配線パターンにフリップチップ接続された半導体チップとを有することを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
前記第１ユニット配線板の上に前記樹脂部に埋設された状態で実装され、前記第１配線パターンに接続された電子部品をさらに有することを特徴とする請求項４に記載の半導体装置。
【請求項６】
基板と、垂直方向に立設する層間接続部が設けられて、連結部によって相互に繋がって形成された第１配線パターンを備えたリードフレームとを用意する工程と、
前記基板の少なくとも上面に、前記第１配線パターンの前記層間接続部が外側に配置されるように前記リードフレームを接着する工程と、
前記リードフレームの前記連結部を除去して前記第１配線パターンを相互に分離することにより、前記基板と前記第１配線パターンにより構成される第１ユニット配線板を得る工程と、
上下側を導通可能にする第２配線パターンを備えた第２ユニット配線板を用意し、前記第１ユニット配線板の前記第１配線パターンの前記層間接続部に、前記第２ユニット配線板の前記第２配線パターンを接続する工程と、
真空トランスファモールド法によって、前記第１ユニット配線板と前記第２ユニット配線板の間に樹脂を充填することにより、前記第１ユニット配線板及び前記第２ユニット配線板を一体化する樹脂部を形成する工程とを有することを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項７】
前記リードフレームを用意する工程は、
金属薄板の上に形成されたマスク材をマスクにして、前記金属薄板を厚みの途中までウェットエッチングすることにより前記層間接続部を形成する工程と、
前記層間接続部を形成する工程の前又は後に、前記金属薄板を貫通加工することにより前記第１配線パターンを形成する工程とを含むことを特徴とする請求項６に記載の配線基板の製造方法。
【請求項８】
前記基板を用意する工程において、前記基板は半硬化状態のプリプレグからなり、
前記リードフレームを前記基板に接着する工程において、前記プリプレグを熱処理して硬化させることによって前記基板を得ると共に、前記基板の上に前記リードフレームを接着させることを特徴とする請求項６に記載の配線基板の製造方法。
【請求項９】
前記基板は貫通電極を備えており、
前記リードフレームを前記基板に接着する工程において、前記基板の両面側に、前記貫通電極に接続される前記リードフレームをそれぞれ接着し、
第１ユニット配線板を得る工程、及び前記第２ユニット配線板を前記第１ユニット配線板に接続する工程は、前記基板の両面側で行われ、
前記樹脂部は、前記第１ユニット配線板とその両面側に配置された前記第２ユニット配線板の間に充填されることを特徴とする請求項６に記載の配線基板の製造方法。
【請求項１０】
前記第１ユニット配線板を得る工程の後に、第１ユニット配線板の上に、電子部品を前記第１配線パターンに接続して実装する工程をさらに有し、
樹脂部を形成する工程において、前記電子部品が樹脂部に埋設されることを特徴とする請求項６に記載の配線基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記課題を解決するため、本発明は配線基板に係り、基板と、前記基板の少なくとも上面に形成され、垂直方向に立設する層間接続部が一体的に設けられた第１配線パターンとにより構成される第１ユニット配線板と、前記第１ユニット配線板の上に形成され、上下側を導通可能にする第２配線パターンを備えた第２ユニット配線板の前記第２配線パターンが前記第１ユニット配線板の前記層間接続部に接続された前記第２ユニット配線板と、前記第１ユニット配線板と前記第２ユニット配線板の間に充填された樹脂部とを有し、前記第１配線パターンは電源プレーン及びグランドプレーンを含むことを特徴とする。