【手続補正書】
【提出日】平成22年10月29日(2010.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
共役ジエンのホモポリマー又はコポリマーを製造する方法であって、（Ａ）Ｃｒ、Ｍｏ及びＷ化合物より選択される第一遷移金属化合物、及びＦｅ、Ｃｏ及びＮｉ化合物より選択される第二遷移金属化合物、並びに（Ｂ）触媒改質剤を含む触媒系と少なくとも１つの共役ジエンを含む単量体材料を接触することを含む方法。
【請求項２】
前記単量体材料が、１以上の共役ジエン及び１以上の１−オレフィンを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ジエンが、一般式Ｒ1Ｒ2Ｃ＝ＣＲ3ＣＲ4＝ＣＲ5Ｒ6(式中、Ｒ1〜Ｒ6は、独立して、水素、ハロゲン、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル及びアルカリル基より選択される)を有する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
Ｒ1〜Ｒ6が、独立して、クロロ、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、フェニル、２クロロ−フェニル、ｏ−ビフェニル、ナフチル、フェナントリル、アントリル、フェニルメチル、フェニルエチル、フェニル−ｎ−プロピル、ナフチルメチル、トリル、キシリル、メシチル及び２−メチルナフチルより選択される請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記１−オレフィンが、Ｃ2〜Ｃ20の１−オレフィンである請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記１−オレフィンが、エチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、４−メチルペンテン−１、１−オクテン、ノルボルネン及びスチレンより選択される請求項５に記載の方法。
【請求項７】
コポリマーが、２：９８〜９８：２の範囲のジエン：１−オレフィンのモル比を有する請求項２に記載の方法。
【請求項８】
コポリマーが、５：９５〜９５：５の範囲のジエン：１−オレフィンのモル比を有する請求項２に記載の方法。
【請求項９】
第一遷移金属化合物対第二遷移金属化合物のモル比が、０．１対９９．９〜９９．９対０．１の範囲内にある請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記第一遷移金属化合物が、クロム化合物であり及び前記第二遷移金属化合物が、コバルト化合物である請求項１又は２に記載の方法。
【請求項１１】
前記触媒改質剤が、ホスフィン、キサントゲン、チオシアン化物、二硫化炭素、及びそれらの混合物からなる群より選択される請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記触媒改質剤が、一般式ＰＲ8Ｒ9Ｒ10（式中、Ｐは、リンであり及びＲ8、Ｒ9及びＲ10は、アルキル、アリール、又は水素である）を有する第三級ホスフィンより選択される請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記触媒改質剤が、トリ（３−メチルフェニル）−ホスフィン、トリ（３−エチルフェニル）−ホスフィン、トリ（４−メチルフェニル）−ホスフィン、トリ（３，５−ジメチルフェニル）−ホスフィン、トリ（３，４−ジメチルフェニル）−ホスフィン、トリ（３−イソプロピルフェニル）−ホスフィン、トリ（３−第三級ブチルフェニル）−ホスフィン、トリ（３−メチル−５−エチルフェニル）ホスフィン、トリ（３−フェニルフェニル）ホスフィン、トリ（３，４，５−トリメチルフェニル）ホスフィン、トリ（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリ（４−エトキシ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリ（４−ブトキシ−３，５−ジブチルフェニル）−ホスフィン、トリ（４−メトキシフェニル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルベンジルホスフィン、トリベンジルフェニルホスフィン、トリ（４−メチルフェニル）ホスフィン、１，２−ジフェニルホスフィノエタン、１，３−ジフェニルホスフィノプロパン、１，４−ジフェニルホスフィノブタン、トリ（４−エチルフェニル）ホスフィン、トリエチルホスフィン及びトリブチルホスフィンより選択される請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記触媒改質剤が、トリフェニルホスフィンである請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記触媒系が、（Ｃ）１以上の触媒活性剤を更に含み、前記触媒活性剤が、有機アルミニウム化合物及び有機ホウ素化合物又はそれらの混合物より選択される請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記活性剤が、トリエチルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリ−ｎ−オクチルアルミニウム、二塩化エチルアルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム、トリス（ペンタフルオロフェニル）アルミニウム、アルモキサン、ジメチルフェニルアンモニウムテトラ（フェニル）ボレート、トリチルテトラ（フェニル）ボレート、トリフェニルボロン、ジメチルフェニルアンモニウムテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ナトリウムテトラキス[（ビス−３，５−トリフルオロメチル）フェニル]ボレート、Ｈ+（ＯＥｔ2）[（ビス−３，５−トリフルオロメチル）フェニル]ボレート、トリチルテトラ（ペンタフルオロフェニル）ボレート及びトリス（ペンタフルオロフェニル）ボロンより選択される請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記第二遷移金属化合物が、１以上の下記化合物：
【化１】
2008115396.tif 000001
より選択されるコバルト化合物を含む請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記第一遷移金属化合物が、１以上の下記化合物：
【化２】
2008115396.tif 000002
【化３】
2008115396.tif 000003
より選択されるクロム化合物を含む請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
（Ａ）Ｃｒ、Ｍｏ及びＷ化合物より選択される第一遷移金属化合物、及びＦｅ、Ｃｏ及びＮｉ化合物より選択される第二遷移金属化合物、並びに（Ｂ）触媒改質剤を含む触媒系。
【請求項２０】
前記第一遷移金属化合物が、クロム化合物であり及び前記第二遷移金属化合物が、コバルト化合物である請求項１９に記載の触媒系。
【請求項２１】
前記触媒改質剤が、ホスフィン、キサントゲン、チオシアニド、二硫化炭素、及びそれらの混合物からなる群より選択される請求項１９又は２０に記載の触媒系。
【請求項２２】
前記触媒改質剤が、一般式ＰＲ8Ｒ9Ｒ10（式中、Ｐは、リンであり及びＲ8、Ｒ9及びＲ10は、アルキル、アリール、又は水素である）を有する第三級ホスフィンより選択される請求項１９〜２１のいずれか１項に記載の触媒系。
【請求項２３】
触媒改質剤が、トリ（３−メチルフェニル）−ホスフィン、トリ（３−エチルフェニル）−ホスフィン、トリ（４−メチルフェニル）−ホスフィン、トリ（３，５−ジメチルフェニル）−ホスフィン、トリ（３，４−ジメチルフェニル）−ホスフィン、トリ（３−イソプロピルフェニル）−ホスフィン、トリ（３−第三級ブチルフェニル）−ホスフィン、トリ（３−メチル−５−エチルフェニル）ホスフィン、トリ（３−フェニルフェニル）ホスフィン、トリ（３，４，５−トリメチルフェニル）ホスフィン、トリ（４−メトキシ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリ（４−エトキシ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン、トリ（４−ブトキシ−３，５−ジブチルフェニル）−ホスフィン、トリ（４−メトキシフェニル）ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルベンジルホスフィン、トリベンジルフェニルホスフィン、トリ（４−メチルフェニル）ホスフィン、１，２−ジフェニルホスフィノエタン、１，３−ジフェニルホスフィノプロパン、１，４−ジフェニルホスフィノブタン、トリ（４−エチルフェニル）ホスフィン、トリエチルホスフィン及びトリブチルホスフィンより選択される請求項１９〜２２のいずれか１項に記載の触媒系。
【請求項２４】
前記触媒改質剤が、トリフェニルホスフィンである請求項１９〜２２のいずれか１項に記載の触媒系。
【請求項２５】
前記第二遷移金属化合物が、１以上の下記化合物：
【化４】
2008115396.tif 000004
より選択されるコバルト化合物を含む請求項１９〜２４のいずれか１項に記載の触媒系。
【請求項２６】
前記第一遷移金属化合物が、１以上の下記化合物：
【化５】
2008115396.tif 000005
【化６】
2008115396.tif 000006
より選択されるクロム化合物を含む請求項１９〜２５のいずれか１項に記載の触媒系。