【手続補正書】
【提出日】平成22年2月9日(2010.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光方法、半導体装置の作製方法、及び露光装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のレーザー発振器から発振された第１のレーザー光を、第１のパターンが形成されたマスクを介してホログラム記録媒体に照射することにより、前記ホログラム記録媒体にホログラムを記録し、
第２のレーザー発振器から発振された第２のレーザー光を、前記ホログラムが記録されたホログラム記録媒体を通過させてレジストに照射することにより、前記レジストに第２のパターンを形成する露光方法であり、
前記第２のレーザー光の波長を、前記第１のレーザー光の波長より短くし、且つ前記第１のレーザー光の波長の０．５のｎ倍（ｎは３以上の整数）の逆数倍とすることを特徴とする露光方法。
【請求項２】
第１のレーザー発振器から発振された第１のレーザー光を、第１のパターンが形成されたマスクを介してホログラム記録媒体に照射することにより、前記ホログラム記録媒体にホログラムを記録し、
第２のレーザー発振器から発振された第２のレーザー光を、前記ホログラムが記録されたホログラム記録媒体を通過させてレジストに照射することにより、前記レジストに第２のパターンを形成する露光方法であり、
前記第１のレーザー発振器及び前記第２のレーザー発振器として同一種類のレーザー発振器を用い、
前記第２のレーザー光の波長を、前記第１のレーザー光の波長より短くし、且つ前記第２のレーザー光として高調波を用いることを特徴とする露光方法。
【請求項３】
第１のレーザー発振器から発振されたレーザー光を分割して第１のレーザー光と第２のレーザー光を形成し、
前記第１のレーザー光を第１のパターンが形成されたマスクを介してホログラム記録媒体に照射すると同時に、前記第２のレーザー光を前記ホログラム記録媒体に照射することによって、前記ホログラム記録媒体にホログラムを記録し、
第２のレーザー発振器から発振された第３のレーザー光を、前記ホログラムが記録されたホログラム記録媒体を通過させてレジストに照射することにより、前記レジストに第２のパターンを形成する露光方法であり、
前記第３のレーザー光の波長を、前記第１のレーザー光及び前記第２のレーザー光の波長より短くし、且つ前記第１のレーザー光及び前記第２のレーザー光の波長の０．５のｎ倍（ｎは３以上の整数）の逆数倍とすることを特徴とする露光方法。
【請求項４】
請求項３において、
前記第３のレーザー光として高調波を用いることを特徴とする露光方法。
【請求項５】
第１のレーザー発振器から発振されたレーザー光を分割して第１のレーザー光と第２のレーザー光を形成し、
前記第１のレーザー光を第１のパターンが形成されたマスクを介してホログラム記録媒体に照射すると同時に、前記第２のレーザー光を前記ホログラム記録媒体に照射することによって、前記ホログラム記録媒体にホログラムを記録し、
第２のレーザー発振器から発振された第３のレーザー光を、前記ホログラムが記録されたホログラム記録媒体を通過させてレジストに照射することにより、前記レジストに第２のパターンを形成する露光方法であり、
前記第１のレーザー発振器及び前記第２のレーザー発振器として同一種類のレーザー発振器を用い、
前記第３のレーザー光の波長を、前記第１のレーザー光及び前記第２のレーザー光の波長より短くし、且つ前記第３のレーザー光として高調波を用いることを特徴とする露光方法。
【請求項６】
請求項３又は請求項４において、
前記第１のレーザー光及び前記第２のレーザー光として基本波を用いることを特徴とする露光方法。
【請求項７】
請求項３乃至請求項６において、
前記第３のレーザー光として第３高調波を用いることを特徴とする露光方法。
【請求項８】
請求項３又は請求項４において、
前記第１のレーザー光及び前記第２のレーザー光として高調波を用いることを特徴とする露光方法。
【請求項９】
請求項３、請求項４、及び請求項７のいずれか一において、
前記第１のレーザー光及び前記第２のレーザー光として第２高調波を用い、
前記第３のレーザー光として第３高調波を用いることを特徴とする露光方法。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一項において、
前記第１のレーザー発振器及び前記第２のレーザー発振器として、固体レーザー発振器を用いることを特徴とする露光方法。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一項において、
前記第１のレーザー発振器及び前記第２のレーザー発振器として、ＹＡＧレーザー発振器、ＹＶＯ４レーザー発振器、ＹＬＦレーザー発振器、ＹＡｌＯ３レーザー発振器又はＧｄＶＯ４レーザー発振器を用いることを特徴とする露光方法。
【請求項１２】
基板上に半導体膜を形成する工程と、
前記半導体膜の上方に導電膜を形成する工程と、
前記導電膜上にレジストを形成する工程と、
第１のレーザー発振器から発振された第１のレーザー光が第１のパターンが形成されたマスクを介して照射されることによりホログラムが記録された前記ホログラム記録媒体を通過させて、第２のレーザー発振器から発振された第２のレーザー光を、前記レジストに照射することにより、前記レジストに第２のパターンを形成する工程を有し、
前記第２のレーザー光の波長を、前記第１のレーザー光の波長より短くし、且つ前記第１のレーザー光の波長の０．５のｎ倍（ｎは３以上の整数）の逆数倍とすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１３】
基板上に半導体膜を形成する工程と、
前記半導体膜の上方に導電膜を形成する工程と、
前記導電膜上にレジストを形成する工程と、
第１のレーザー発振器から発振された第１のレーザー光が第１のパターンが形成されたマスクを介して照射されることによりホログラムが記録された前記ホログラム記録媒体を通過させて、第２のレーザー発振器から発振された第２のレーザー光を、前記レジストに照射することにより、前記レジストに第２のパターンを形成する工程を有し、
前記第２のレーザー光の波長を、前記第１のレーザー光の波長より短くし、且つ前記第２のレーザー光として高調波を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１２又は請求項１３において、
前記第１のレーザー発振器及び前記第２のレーザー発振器として、固体レーザー発振器を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１２乃至請求項１４のいずれか一項において、
前記第１のレーザー発振器及び前記第２のレーザー発振器として、ＹＡＧレーザー発振器、ＹＶＯ４レーザー発振器、ＹＬＦレーザー発振器、ＹＡｌＯ３レーザー発振器又はＧｄＶＯ４レーザー発振器を用いることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１６】
第１のレーザー光を発振する第１のレーザー発振器と、
前記第１のレーザー光の波長より短く、且つ前記第１のレーザー光の波長の０．５のｎ倍（ｎは３以上の整数）の逆数倍である第２のレーザー光を発振する第２のレーザー発振器とを有する露光装置であって、
第１のレーザー光を第１のパターンが形成されたマスクを介して、ホログラム記録媒体に照射することにより、前記ホログラム記録媒体にホログラムを記録し、
第２のレーザー光を前記ホログラムが記録されたホログラム記録媒体を通過させて、レジストに照射することにより、前記レジストに第２のパターンを形成することを特徴とする露光装置。