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【手続補正書】
【提出日】平成22年6月1日(2010.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明にかかる複数波長光源装置は、前記波長変換素子が、前記複数の発光素子それぞれの射出光の光軸に沿って分極が互いに反転したドメインの繰り返し構造を有し、前記複数の光入射領域それぞれにおいて前記ドメインの前記光軸方向の幅が、互いに同一であることが好ましい。
この発明では、ドメインの幅が互いに同等となっているため、波長変換素子の製造が容易になる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
以下、本発明における複数波長光源装置の一実施形態を、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするために縮尺を適宜変更している。ここで、図１は複数波長光源装置を構成する光源装置を示す概略構成図である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
以上のように、本実施形態における複数波長光源装置１によれば、スペクトル線幅を０．２ｎｍ以上にすることでスペックルノイズが十分に低下する。また、光源装置１１の射出光の波長を６１２ｎｍより大きく６５８．５ｎｍ未満とし、光源装置１２の射出光の波長を５２５ｎｍより大きく５３８ｎｍ未満とし、光源装置１３の射出光の波長を４６５ｎｍより大きく４６８ｎｍ未満とすることで、ｓＲＧＢやＮＴＳＣの色域を包含した十分に広い色域が得られる。
ここで、光源装置１１の射出光の波長を６５８．５ｎｍ未満とすることで、複数波長光源装置１のホワイトバランスを保つための構成が煩雑化することを防止できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
［光源装置の変形例３］
続いて、本発明を適用可能な他の光源装置の構成について、図面に基づいて説明する。
なお、本変形例では、上述した一実施形態と分散手段の構成が異なるため、この点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。ここで、図９は、光源装置を示す概略構成図である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本変形例における光源装置５０は、図９に示すように、分散手段５１が波長選択素子２５における光入射領域２８Ａ〜２８Ｅそれぞれに間隔をあけて設けられた複数の圧電素子５２ａ〜５２ｅを備えている。ここで、波長選択素子２５は、光入射領域２８Ａ〜２８Ｅそれぞれの境界に防振材を配置することにより、光入射領域２８Ａ〜２８Ｅで発生している歪みを隣接する他の光入射領域２８Ａ〜２８Ｅに伝達させない構成としてもよい。
圧電素子５２ａ〜５２ｅそれぞれは、光入射領域２８Ａ〜２８Ｅそれぞれに対して異なる大きさの歪みを付与している。光入射領域２８Ａ〜２８Ｅに付与される歪み量は、例えば光入射領域２８Ｂ、２８Ｃ、２８Ｅ、２８Ｄ、２８Ａの順で小さくなっている。したがって、選択波長λ１〜λ５は、λ１、λ４、λ５、λ３、λ２の順で短くなる。すなわち、λ１＞λ４＞λ５＞λ３＞λ２となっている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
［光源装置の変形例４］
続いて、本発明を適用可能な他の光源装置の構成を、図面に基づいて説明する。なお、本変形例では、上述した一実施形態と分散手段の構成が異なるため、この点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。ここで、図１０は、光源装置を示す概略構成図である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
本変形例における光源装置６０は、図１０に示すように、分散手段６１が熱発生用レーザ光源６２、ミラー６３及び吸収膜６４ａ〜６４ｅを有する加熱手段（状態変化手段）６５を備えている。ここで、波長選択素子２５は、光入射領域２８Ａ〜２８Ｅそれぞれの境界に断熱材を配置することにより、光入射領域２８Ａ〜２８Ｅで発生している熱を隣接する他の光入射領域２８Ａ〜２８Ｅに伝達させない構成としてもよい。
熱発生用レーザ光源６２は、ミラー６３を介して吸収膜６４ａ〜６４ｅそれぞれにレーザ光を照射する構成となっている。
ミラー６３は、その反射面の傾きが変更可能となっており、熱発生用レーザ光源６２から射出するレーザ光を吸収膜６４ａ〜６４ｅに向けて走査する構成となっている。
吸収膜６４ａ〜６４ｅは、波長選択素子２５における光入射領域２８Ａ〜２８Ｅそれぞれに間隔をあけて貼付されており、照射されたレーザ光を吸収することによって光入射領域２８Ａ〜２８Ｅそれぞれを加熱する。
加熱手段６５は、吸収膜６４ａ〜６４ｅの材質や膜厚、レーザ光を照射する時間などを適宜設定することによって光入射領域２８Ａ〜２８Ｅそれぞれを異なる温度に加熱する。
光入射領域２８Ａ〜２８Ｅにおける加熱温度は、例えば光入射領域２８Ｂ、２８Ｃ、２８Ｅ、２８Ｄ、２８Ａの順で高くなっている。したがって、選択波長λ１〜λ５は、λ１、λ４、λ５、λ３、λ２の順で短くなる。すなわち、λ１＞λ４＞λ５＞λ３＞λ２となっている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
［光源装置の変形例５］
続いて、本発明を適用可能な他の光源装置の構成を、図面に基づいて説明する。なお、本変形例では、上述した一実施形態と分散手段の構成が異なるため、この点を中心に説明すると共に、上記実施形態で説明した構成要素には同一符号を付し、その説明を省略する。ここで、図１１は、光源装置を示す概略構成図である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
本変形例における光源装置９０では、図１３に示すように、分散手段９１が複数のペルチェ素子９２ａ〜９２ｅと、複数の圧電素子９３ａ〜９３ｅとを備えている。
複数のペルチェ素子９２ａ〜９２ｅは、波長変換素子８２における光入射領域８５Ａ〜８５Ｅそれぞれに間隔をあけて設けられている。ここで、波長変換素子８２は、光入射領域８５Ａ〜８５Ｅそれぞれの境界に断熱材を配置することにより、光入射領域８５Ａ〜８５Ｅで発生している熱を隣接する他の光入射領域８５Ａ〜８５Ｅに伝達させない構成としてもよい。
ペルチェ素子９２ａ〜９２ｅそれぞれは、光入射領域８５Ａ〜８５Ｅそれぞれに対して異なる温度で加熱または冷却している。光入射領域８５Ａ〜８５Ｅの温度は、例えば光入射領域８５Ｂ、８５Ｃ、８５Ｅ、８５Ｄ、８５Ａの順で高くなっている。したがって、変換波長λ’１〜λ’５は、λ’１、λ’４、λ’５、λ’３、λ’２の順で短くなる。すなわち、λ’１＞λ’４＞λ’５＞λ’３＞λ’２となっている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月6日(2010.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に設けられたデータ線と、
前記基板と前記データ線との間の層に設けられ、前記データ線と交差する走査線と、
前記データ線及び前記走査線の交差に対応して設けられた画素電極と、
前記画素電極と前記データ線との間の層に、前記画素電極に容量絶縁膜を介して対向するように設けられた容量電極と、
前記走査線と前記データ線の間の層に設けられたトランジスタであって、前記データ線に電気的に接続されたデータ線側ソースドレイン領域、前記画素電極に電気的に接続された画素電極側ソースドレイン領域、及びチャネル領域を有する半導体層と、前記チャネル領域にゲート絶縁膜を介して対向すると共に前記データ線と同一層からなるゲート電極と、を有する前記トランジスタと、
を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記トランジスタは、前記走査線と重なるように設けられると共に、前記トランジスタのチャネル長の方向が前記走査線の延在する方向であるように配置されることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記半導体層と同一層からなり、前記データ線を第１のデータ線とし、前記第１のデータ線が延在する方向に沿って延在すると共に前記第１のデータ線と電気的に接続された第２のデータ線を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記第１及び第２のデータ線は、前記基板上の積層構造における前記第１及び第２のデータ線間に設けられた層間絶縁膜に開孔されたコンタクトホールを介して互いに電気的に接続されることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記第１及び第２のデータ線は、互いに重なり且つ互いに接するように形成されることで互いに電気的に接続されることを特徴とする請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記画素電極及び前記容量電極は、透明導電材料からなることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記データ線及び前記ゲート電極は、導電性のポリシリコン膜と金属膜とを含む２以上の膜が積層された積層膜からなることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、基板と、前記基板上に設けられたデータ線と、前記基板と前記データ線との間の層に設けられ、前記データ線と交差する走査線と、前記データ線及び前記走査線の交差に対応して設けられた画素電極と、前記画素電極と前記データ線との間の層に、前記画素電極に容量絶縁膜を介して対向するように設けられた容量電極と、前記走査線と前記データ線の間の層に設けられたトランジスタであって、前記データ線に電気的に接続されたデータ線側ソースドレイン領域、前記画素電極に電気的に接続された画素電極側ソースドレイン領域、及びチャネル領域を有する半導体層と、前記チャネル領域にゲート絶縁膜を介して対向すると共に前記データ線と同一層からなるゲート電極と、を有する前記トランジスタと、を備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の電気光学装置の一態様では、前記トランジスタは、前記走査線と重なるように設けられると共に、前記トランジスタのチャネル長の方向が前記走査線の延在する方向であるように配置される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記半導体層と同一層からなり、前記データ線を第１のデータ線とし、前記第１のデータ線が延在する方向に沿って延在すると共に前記第１のデータ線と電気的に接続された第２のデータ線を備える。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本発明の電気光学装置の他の態様では、前記画素電極及び前記容量電極は、透明導電材料からなる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月6日(2010.10.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素電極と、
該複数の画素電極に電気的に接続された一の配線、電極又は電子素子の少なくとも一部を構成すると共に、該複数の画素電極と同一膜からなる導電部と、
前記複数の画素電極が配列された画素領域の周辺に位置する周辺領域に、前記画素電極よりも絶縁膜を介して下層側に設けられると共に、該絶縁膜に開口された開口部から少なくとも一部が露出する端子と、
該端子にソースが電気的に接続されると共に前記導電部にドレインが電気的に接続された第１トランジスタと
を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記画素電極及び前記導電部の各々は、ＩＴＯ膜からなり、
前記端子は、アルミニウムを含んでなる
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
一定電位を供給するための定電位線を備え、
前記第１トランジスタのゲートは、前記定電位線に電気的に接続される
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記画素領域に設けられ、前記画素電極に画像信号を供給するデータ線と、
前記導電部を一対の第１容量電極のうち一方の第１容量電極として含むと共に、前記データ線に電気的に接続された付加容量と
を備えることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記画素電極の下層側に、前記画素電極に容量絶縁膜を介して対向するように設けられた第２容量電極を備え、
前記一対の第１容量電極のうち他方の第１容量電極と前記第２容量電極とは、互いに同一膜からなる
ことを特徴とする請求項４に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記画素電極に対応して設けられ、前記画素電極をスイッチング制御する第２トランジスタを備え、
前記第１トランジスタを構成する第１半導体層と前記第２トランジスタを構成する第２半導体層とは、互いに同一膜からなる
ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、複数の画素電極と、該複数の画素電極に電気的に接続された一の配線、電極又は電子素子の少なくとも一部を構成すると共に、該複数の画素電極と同一膜からなる導電部と、前記複数の画素電極が配列された画素領域の周辺に位置する周辺領域に、前記画素電極よりも絶縁膜を介して下層側に設けられると共に、該絶縁膜に開口された開口部から少なくとも一部が露出する端子と、該端子にソースが電気的に接続されると共に前記導電部にドレインが電気的に接続された第１トランジスタとを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月4日(2010.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ基板と、前記ＴＦＴ基板よりも小さいサイズのカラーフィルタ基板とを有し、該
ＴＦＴ基板と該カラーフィルタ基板間に液晶層を配置した液晶表示装置において、
前記ＴＦＴ基板上には、前記カラーフィルタ基板が重なっていない箇所に、グランドパ
ッドが形成されており、
前記カラーフィルタ基板の上面には透明導電膜が形成されており、
該カラーフィルタ基板の前記透明導電膜と、前記ＴＦＴ基板上に形成された前記グラン
ドパットとは熱圧着導電テープにより電気的に接続されており、
前記熱圧着導電テープと、前記カラーフィルタ基板の上面及び前記ＴＦＴ基板との間に
は、両面テープが配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１の液晶表示装置において、
前記両面テープは、前記カラーフィルタ基板の上面から前記ＴＦＴ基板に渡って連続し
て配置されている液晶表示装置。
【請求項３】
請求項２の液晶表示装置において、
前記両面テープは、前記熱圧着導電テープの一側辺に沿って、前記カラーフィルタ基板
の上面から前記ＴＦＴ基板に渡って連続して配置されている液晶表示装置。
【請求項４】
請求項２の液晶表示装置において、
前記両面テープは、前記熱圧着導電テープの対向する二つの側辺に沿って、前記カラー
フィルタ基板の上面から前記ＴＦＴ基板に渡って連続して配置されている液晶表示装置。
【請求項５】
ＴＦＴ基板と前記ＴＦＴ基板よりも小さいサイズのカラーフィルタ基板との間に液晶層を有し、前記ＴＦＴ基板上の前記カラーフィルタ基板が重なっていない箇所にグランドパッドが形成され、前記カラーフィルタ基板の上面に透明導電膜が形成された液晶表示装置の製造方法において、
熱圧着導電テープの上から粘着性のフィルムを被せて、前記グランドパッド及び前記透明導電膜上で前記熱圧着導電テープを仮止めする工程と、
前記仮止めした熱圧着導電テープに前記フィルムの上から熱及び圧力を加えて前記透明導電膜と前記熱圧着導電テープを接続する工程と、
前記フィルムを剥がす工程と、
前記熱圧着導電テープに熱及び圧力を加えて前記グランドパッドと前記熱圧着導電テープを接続する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
ＴＦＴ基板と前記ＴＦＴ基板よりも小さいサイズのカラーフィルタ基板との間に液晶層を有し、前記ＴＦＴ基板上の前記カラーフィルタ基板が重なっていない箇所にグランドパッドが形成され、前記カラーフィルタ基板の上面に透明導電膜が形成された液晶表示装置の製造方法において、
熱圧着導電テープの下面に配置した両面テープにより前記熱圧着導電テープを仮止めする工程と、
前記仮止めした熱圧着導電テープに熱及び圧力を加えて前記透明導電膜と前記熱圧着導電テープを接続する工程と、
前記熱圧着導電テープに熱及び圧力を加えて前記グランドパッドと前記熱圧着導電テープを接続する工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６の液晶表示装置の製造方法において、
前記熱圧着導電テープに熱及び圧力を加える際に、熱圧着ヘッドは前記両面テープを避けて前記熱圧着導電テープを加圧することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置及びその製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月27日(2010.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
ハウジング３４は、横断面が略半円弧状の樋状の部材（廃トナー案内部材）であり、スクリュー３３の長手に沿って、スクリュー３３の下面部から側面部にかけてスクリュー３３の略下半周部を覆うようにして配置されている。本実施例の容器３０においては、ハウジング３４は一端側の端部３４ａを容器３０の一端側の端面壁部３０ｂに対して固定してほぼ水平に片持ち支持の形態で配設されている。このハウジング３４は、長手方向の一端側から他端側に向って水平の略半円弧状の断面をもち、横断面の左右側が対称である。ハウジング３４は、開口部３１から容器３０内に送り込まれた廃トナーをスクリュー３３と協同して、容器３０内を一端側から他端側へ向けて搬送する役目をする。ハウジング３４は、スクリュー３３と同一の樹脂又は容器３０と同一の樹脂、若しくはそれらの樹脂と同等の樹脂、或いは金属、その他の適宜の材質材で製作される。また、ハウジング３４は容器３０と一体で成形したものにすることもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月3日(2010.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネル背面に取り付けられたシャーシと、
前記シャーシの背面に取り付けられ、前記シャーシとの間にケーブル通過用の開口が形成されているフレームと、
前記シャーシの背面に、前記フレームの開口を通過するように配置されているケーブルと、
前記フレームに取り付けられ、前記ケーブルを前記シャーシ方向に押圧する弾性部材と、
を備えることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
前記シャーシの背面に、前記フレームの開口を通過するように複数のケーブルが配置され、
前記弾性部材は、前記複数のケーブルを前記シャーシ方向に押圧する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記シャーシ及び前記弾性部材は、導電性を有する
ことを特徴とする請求項１または２に記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記フレームは、底壁と二つの側壁とからなる略コの字の断面形状を有するものであり、
前記弾性部材は、可撓性を有するシート材であり、
前記シート材は、その両側部が前記フレームの側壁にそれぞれ内接し、かつ、前記両側部の間の中間部が前記シャーシの側に凸になるように、前記フレーム内部に取り付けられる
ことを特徴とする請求項１〜３のうちいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記シート材は、前記底壁に設けられた孔から前記フレームの外側に突き出る凸部を有しており、
前記ケーブルの配線時には前記凸部が引き出されることで前記シート材の中間部が前記シャーシから離間可能であり、
前記フレームの底壁に他の部材が取り付けられ前記凸部が押し込まれることにより、前
記シート材の中間部が前記シャーシに当接する
ことを特徴とする請求項４に記載の画像表示装置。
【請求項６】
前記シート材には、前記ケーブルを前記シャーシ方向に押圧した前記中間部がたわむように、前記両側部に切欠きが設けられている
ことを特徴とする請求項４または５に記載の画像表示装置。
【請求項７】
前記シャーシの背面には、凹面と凸面とが形成されており、
前記フレームは、前記シャーシの凸面に固定され、
前記ケーブルは、前記シャーシの凹面に配置され、
前記シート材の前記中間部が前記シャーシの凸面に接触しないように、前記シート材の前記中間部に開口部が設けられている
ことを特徴とする請求項４〜６のうちいずれか１項に記載の画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係る画像表示装置は、表示パネル背面に取り付けられたシャーシと、前記シャーシの背面に取り付けられ、前記シャーシとの間にケーブル通過用の開口が形成されているフレームと、前記シャーシの背面に、前記フレームの開口を通過するように配置されているケーブルと、前記フレームに取り付けられ、前記ケーブルを前記シャーシ方向に押圧する弾性部材と、を備えることを特徴とする画像表示装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月8日(2010.10.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の第１の動作を行うための第１のアクチュエータと、所定の第２の動作を行うための第２のアクチュエータと、前記第１及び第２のアクチュエータを駆動するための電流を供給するためのブリッジ回路と、前記第１及び第２の動作を同時に行うために前記第１及び第２のアクチュエータに対して所定のタイミングで交互に通電を行う制御手段とを備える撮像装置において、
前記ブリッジ回路は、前記第１のアクチュエータに通電するための第１の経路と、前記第２のアクチュエータに通電するための第２の経路とを有し、前記第１の経路に前記電流を供給する際には、前記第２の経路に前記電流が供給されることなく、前記第２の経路に前記電流を供給する際には、前記第１の経路に前記電流が供給されることがないものであって、前記第１の経路における前記第１のアクチュエータに前記電流が供給されるまでの経路と、前記第２の経路における前記第２のアクチュエータに電流が供給されるまでの経路とを同一経路とすることを特徴とする電子機器。
【請求項２】
前記ブリッジ回路は、１チャンネルが４個のトランジスタで構成される１．５チャンネルのブリッジ回路であることを特徴とする請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記電子機器はカメラであって、前記第１のアクチュエータは前記カメラの倍率レンズを駆動するモータであり、前記第２のアクチュエータは前記カメラのシャッタを駆動するモータであることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子機器。
【請求項４】
前記第１の動作は前記倍率レンズの繰り出し動作であり、前記第２の動作は前記シャッタをオープンする動作であることを特徴とする請求項３に記載の電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子機器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、複数のモータを交互通電させて回転を同時に行うモータ駆動制御技術に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、交互通電による複数モータの同時駆動を行う際に、非通電にて回転維持させるモータに対して回転の妨げとなる回生ブレーキが作用しないようなモータ駆動制御を実現することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の電子機器は、所定の第１の動作を行うための第１のアクチュエータと、所定の第２の動作を行うための第２のアクチュエータと、前記第１及び第２のアクチュエータを駆動するための電流を供給するためのブリッジ回路と、前記第１及び第２の動作を同時に行うために前記第１及び第２のアクチュエータに対して所定のタイミングで交互に通電を行う制御手段とを備える撮像装置において、前記ブリッジ回路は、前記第１のアクチュエータに通電するための第１の経路と、前記第２のアクチュエータに通電するための第２の経路とを有し、前記第１の経路に前記電流を供給する際には、前記第２の経路に前記電流が供給されることなく、前記第２の経路に前記電流を供給する際には、前記第１の経路に前記電流が供給されることがないものであって、前記第１の経路における前記第１のアクチュエータに前記電流が供給されるまでの経路と、前記第２の経路における前記第２のアクチュエータに電流が供給されるまでの経路とを同一経路とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明によれば、例えば１．５チャンネルのブリッジ回路において交互通電により複数のモータを同時に回転させる際に、回転するモータの発電動作により回生ブレーキが作用して回転が減衰するのを抑制できる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月13日(2010.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
縫合アンカーであって：
固定装置と；
フォーク状端部及びシャフトを有するアンカー先端と、
を有し、
該アンカー先端の前記シャフトは、前記固定装置によって回転可能に係合されるため、前記アンカー先端は、前記固定装置に対してスウィベル可能である、
縫合アンカー。
【請求項２】
前記縫合アンカーは、前記フォーク状端部において捕捉される縫合の過剰な捩れ及び結節を引き起こすことなく、回転挿入を可能にするよう構成される、
請求項１記載の縫合アンカー。
【請求項３】
前記アンカー先端の前記フォーク状端部は、縫合を捕捉するよう構成される、
請求項１記載の縫合アンカー。
【請求項４】
前記固定装置は、キャニュレーテッド干渉スクリュである、
請求項１記載の縫合アンカー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
１０  縫合鎖
１０ａ  縫合鎖１０の自由端
１０ｂ  ループ
１１  縫合鎖
２０  キャニュレーテッドドライバ
２２  挿入ハンドル
３０  ロッド
４２  キャニュレーテッド本体
４４  先端
５０  親指パッド
１０５  組織捕捉器
１００  ドライバ組立体
１１０  縫合パッサー
１１５  パンチ
１２０  縫合アンカー
１５０  回旋筋腱板
１５５  骨ソケット
１６０  パイロットホール
２００  スウィベルアンカー
２２５  シャフト
２５０  フォーク状アンカー先端
３００  固定装置
４００  スウィベルアンカー構造
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月17日(2010.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のスタッド集合群が突出した底面を備え、
前記各スタッド集合群は、連結材を介して第２スタッドに連結された第１スタッドを備え、
前記第１スタッドが、前記第２スタッドよりも大きく構成され、前記第２スタッドの前記底面からの高さ以上の前記底面からの高さを有し、
前記連結材が、前記第１スタッド及び前記第２スタッドの前記底面からの高さより低い前記底面からの高さを有し、
前記各スタッド集合群が、剪断作用が加わる所定の方向から見て前記第２スタッドが前記第１スタッドの後方に位置するように配置される、履物のソール。
【請求項２】
前記スタッド集合群が、Ｖ字状に構成され、
前記第１スタッドが、Ｖ字形の頂点に配置され、２つの連結材を介して、Ｖ字形の両端にそれぞれ配置された２つの第２スタッドに連結される、請求項１に記載の履物のソール。
【請求項３】
前記第２スタッドが、前記スタッド集合群に加わる剪断作用の所定の方向に対して平行で前記第１スタッドを通過して延在する軸の両側に配置される、請求項２に記載の履物のソール。
【請求項４】
前記スタッド集合群が、異なる連結材を介して前記第１スタッドに連結された第３スタッドを備え、前記スタッド集合群に加わる剪断作用の所定の方向から見て前記第１スタッドよりも前方に位置する、請求項２又は３に記載の履物のソール。
【請求項５】
前記各スタッド集合群の第１スタッドが、前記底面上で、前記第２スタッドよりも実質的に前方に位置する、請求項２〜４のいずれかに記載の履物のソール。
【請求項６】
つま先側の端部にある前記各スタッド集合群の前記第１スタッドが、前記第２スタッドよりも実質的に前方に位置し、
踵側の端部にある前記各スタッド集合群の前記第１スタッドが、実質的に前記第２スタッドの横側に位置する、請求項２〜４のいずれかに記載の履物のソール。
【請求項７】
つま先側の端部にある前記各スタッド集合群の前記第１スタッドが、前記第２スタッドよりも実質的に後方に位置し、
踵側の端部にある前記各スタッド集合群の前記第１スタッドが、実質的に前記第２スタッドよりも前方に位置する、請求項２〜４のいずれかに記載の履物のソール。
【請求項８】
前記各スタッド集合群を構成するスタッドの横断面形状が、楕円状、円形状、正方形状、矩形状、三角形状、ダイヤモンド状のいずれかで構成される、請求項１〜７のいずれかに記載の履物のソール。
【請求項９】
前記複数のスタッド集合群の寸法が、接地時に加わる負荷の分布に基づいて構成される、請求項１〜８のいずれかに記載の履物のソール。
【請求項１０】
前記複数のスタッド集合群の寸法が、接地時に領域ごとに加わる最大負荷又は平均負荷に基づいて構成される、請求項９に記載の履物のソール。
【請求項１１】
複数のスタッド集合群が突出した底面を備える履物ソールの製造方法において、
履物のソールを提供する工程と、
複数のスタッド集合群を前記履物のソールの前記底面に配置するために、接地時の剪断作用の方向を決定し、
前記各スタッド集合群は、連結材を介して第２スタッドに連結された第１スタッドを少なくとも備え、
前記第１スタッドは、前記第２スタッドよりも大きく構成され、前記第２スタッドの前記底面からの高さ以上の前記底面からの高さを有し、
前記連結材が、前記第１スタッド及び前記第２スタッドの前記底面からの高さより低い前記底面からの高さを有する工程と、
それぞれの前記スタッド集合群において、前記各スタッド集合群に加わる剪断作用の方向から見て前記第２スタッドが前記第１スタッドの後方に位置するように、前記履物の底面に前記スタッド集合群をそれぞれ配置する工程と
からなる、履物のソールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月3日(2010.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加圧空間に収容され該加圧空間に導入される加圧流体により加圧されて内部に貯留している液体を排出する液体収容室と、前記液体収容室の液体の検出に用いる液体検出部と、
を備えた液体収容容器において、
前記液体検出部は、
前記液体収容室に連通する液体流入口と外部の液体消費装置に連通する液体流出口とを備えると共に、前記液体流入口と液体流出口との間の液圧に相応して容積が変化する液体検出室と、
前記液体検出室の容積変化に伴い離間距離が変化する一対の対向壁の一方の壁に装備されて液体の振動波形の検出に用いる検出手段と、
前記液体検出室の容積が最小になる時に、前記対向壁間に所定の空間を形成する空間形成部と、
を設けたことを特徴とする液体収容容器。
【請求項２】
前記空間形成部が、前記対向壁の一方の壁に突設した突起であることを特徴とする請求項１に記載の液体収容容器。
【請求項３】
前記液体検出室の一対の対向壁の内、一方の壁を圧力変化に伴い変位するダイヤフラムで形成すると共に、他方の壁を前記液体検出室の内壁に形成し、
前記内壁の一部を形成する剛性壁に前記検出手段を装備する一方、前記ダイヤフラムには前記検出手段に対向する受圧板を装備して、該受圧板に前記空間形成部としての凹部を設け、
更に、前記ダイヤフラムが液圧に応じて変位するように該ダイヤフラムを付勢する圧力調整ばねを設けたことを特徴とする請求項１に記載の液体収容容器。
【請求項４】
前記液体検出室の一対の対向壁の内、一方の壁を圧力変化に伴い変位するダイヤフラムで形成すると共に、他方の壁を前記液体検出室の内壁に形成し、
前記ダイヤフラムに前記検出手段を装備する一方、前記内壁には前記空間形成部としての凹部を設け、
更に、前記ダイヤフラムが液圧に応じて変位するように該ダイヤフラムを付勢する圧力調整ばねを設けたことを特徴とする請求項１に記載の液体収容容器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月19日(2010.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プレイヤの操作を受け付けて操作信号を発生する工程と、
上記操作信号に応じて、少なくとも２種以上の射撃音の音声データから一の音声データをランダムに決定する工程と、
決定した上記一の音声データに基づく射撃音の発生タイミングを変更する工程と
を備えたことを特徴とする射撃音制御方法。
【請求項２】
請求項１に記載の射撃音制御方法において、
上記射撃音の発生タイミングを変更する工程は、ランダムな周期で所定量だけ早めもしくは遅らすように射撃音を発生するタイミングの変更を行う
ことを特徴とする射撃音制御方法。
【請求項３】
プレイヤの操作を受け付けて操作信号を発生する操作入力部と、
複数の音声データが記憶された音声データ記憶部と、
音声出力タイミング情報が記憶された情報記憶部と、
乱数を発生する乱数発生部と、
上記操作信号に基づいて、少なくとも２種以上の射撃音の音声データから一の音声データをランダムに決定し、決定した上記一の音声データに基づく射撃音の発生タイミングを変更して射撃音の制御を行う音声制御部と
を備えたことを特徴とする射撃音制御装置。
【請求項４】
請求項１に記載の射撃音制御方法をコンピュータに実行させる射撃音制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題を解決するため、本発明にあっては、請求項１に記載されるように、プレイヤの操作を受け付けて操作信号を発生する工程と、上記操作信号に応じて、少なくとも２種以上の射撃音の音声データから一の音声データをランダムに決定する工程と、決定した上記一の音声データに基づく射撃音の発生タイミングを変更する工程とを備える射撃音制御方法を要旨としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、請求項２に記載されるように、請求項１に記載の射撃音制御方法において、上記射撃音の発生タイミングを変更する工程は、ランダムな周期で所定量だけ早めもしくは遅らすように射撃音を発生するタイミングの変更を行うようにすることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、請求項３に記載されるように、プレイヤの操作を受け付けて操作信号を発生する操作入力部と、複数の音声データが記憶された音声データ記憶部と、音声出力タイミング情報が記憶された情報記憶部と、乱数を発生する乱数発生部と、上記操作信号に基づいて、少なくとも２種以上の射撃音の音声データから一の音声データをランダムに決定し、決定した上記一の音声データに基づく射撃音の発生タイミングを変更して射撃音の制御を行う音声制御部とを備える射撃音制御装置として構成することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、請求項４に記載されるように、請求項１に記載の射撃音制御方法をコンピュータに実行させる射撃音制御プログラムとして構成することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月23日(2010.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス流路に沿って上流から下流に吹き抜けるガスを洗浄するための静電集塵器であって、
順次前記ガス内の粒子を帯電させるイオンを作り出すコロナ放電イオン化ゾーンからなる第１ゾーンと、該第１ゾーンの下流にあって前記帯電した粒子を集めるコレクタゾーンからなる第２ゾーンと、前記第１ゾーン内に設けられ、前記帯電した粒子の収集を妨げ、その代わりに、前記帯電した粒子を下流の前記第２ゾーンに流れるように方向づけて、前記第２ゾーンにおいて前記粒子を収集するアンチコレクターガイドと、前記第１ゾーンにコロナ放電によるイオン化を与える電界を作り出すコロナ放電電極とを含み、
前記アンチコレクターガイドは、前記第１ゾーン内に電界シールドを含み、前記帯電した粒子を前記電界から遮蔽して、前記第１ゾーン内に前記帯電した粒子の収集を妨げるようにし、
前記電界シールドは、前記第１ゾーンを第１,第２のサブゾーンに分け、前記第１のサブゾーンは、前記電界シールドの一面側にあり、前記帯電した粒子を前記第２ゾーンに導き、前記第２のサブゾーンは、前記電界シールドの他面側にあり、前記コロナ放電電極と前記電界シールド間にあって、前記イオン化を与えており、さらに、
前記電界シールドは、軸線に沿って軸方向に伸びる穿孔した軸方向チューブからなり、前記軸方向チューブの入口端から入射するガスを、前記軸方向チューブの軸方向反対側の出口端に導き、前記コロナ放電電極は、前記軸方向チューブを取り囲む軸方向に伸びる中空ドラムからなり、前記第１のサブゾーンは、前記軸方向チューブ内にあり、前記第２のサブゾーンは、前記軸方向チューブの外側で前記軸方向チューブと前記ドラムとの間にあり、前記第２のサブゾーン内にイオン化により作り出されるイオンが、前記軸方向チューブ内の穿孔を通って、前記軸方向チューブ内の前記第１のサブゾーン内で前記帯電した粒子を作り出し、該帯電した粒子が、前記コロナ放電電極によって作り出された前記軸方向チューブの外側の前記第２のサブゾーン内の電界から前記軸方向チューブによって遮蔽されることを特徴とする静電集塵器。
【請求項２】
前記軸方向チューブは、接地電位であることを特徴とする請求項１記載の静電集塵器。
【請求項３】
前記ドラムを取り囲む外側接地面を含み、前記第２ゾーンは、前記ドラムの外側にあってドラムを取り囲み、前記ドラムと前記外側接地面との間にあることを特徴とする請求項１記載の静電集塵器。
【請求項４】
前記外側接地面は、前記第１軸方向端と第２軸方向端との間に前記軸線に沿って軸方向に伸びるキャニスターを含み、前記第１軸方向端は、ガス入口と洗浄されたガスの出口の両方を有し、前記ガス入口は、前記軸方向チューブの入口端にあり、前記洗浄されたガスの出口は、第２ゾーンから洗浄されたガスを受け入れ、該ガスは、前記ガス入口から第１軸方向に前記チューブ内の前記第１ゾーンを通って前記軸方向チューブの出口端に流れ、さらに、半径方向外側の前記第２ゾーンに向かい、前記第１軸方向と反対の第２軸方向に前記第２ゾーンから前記洗浄されたガスの出口に流れることを特徴とする請求項３記載の静電集塵器。
【請求項５】
ガス流路に沿って上流から下流に吹き抜けるガスを洗浄するための静電集塵器であって、
順次前記ガス内の粒子を帯電させるイオンを作り出すコロナ放電イオン化ゾーンからなる第１ゾーンと、該第１ゾーンの下流にあって前記帯電した粒子を集めるコレクタゾーンからなる第２ゾーンと、前記第１ゾーン内に設けられ、前記帯電した粒子の収集を妨げ、その代わりに、前記帯電した粒子を下流の前記第２ゾーンに流れるように方向づけて、前記第２ゾーンにおいて前記粒子を収集するアンチコレクターガイドと、前記第１ゾーンにコロナ放電によるイオン化を与える電界を作り出すコロナ放電電極とを含み、
前記アンチコレクターガイドは、前記第１ゾーン内に１つ以上のベンチュリー管を含み、前記帯電した粒子を加速して前記第１ゾーン内に前記帯電した粒子が集まらないようにし、
前記コロナ放電電極は、各ベンチュリー管内のイオン化ゾーンにおいて、イオン化を行うために、各々１つのベンチュリー管内に配置される１つ以上のコロナ放電チップと、軸線に沿って軸方向に伸びる中空ドラムとを含んで、該中空ドラム内に、前記第１ゾーンを形成しかつ取り囲んでおり、
前記１つ以上のベンチュリー管は、前記帯電した粒子を軸方向に沿って加速しており、さらに、前記ドラムを取り囲む外側接地面を有し、前記第２ゾーンは、前記ドラムの外側にあってドラムを取り囲み、かつ前記ドラムと前記外側接地面との間に位置することを特徴とする静電集塵器。
【請求項６】
前記外側接地面は、前記第１軸方向端と第２軸方向端との間に前記軸線に沿って軸方向に伸びるキャニスターを含み、前記第１軸方向端は、ガスの入口と、洗浄されたガスの出口の両方を有し、ガスは、前記ガスの入口から第１軸方向に前記第１ゾーンを通り、前記ドラム内の１つ以上の前記ベンチュリー管を通って、さらに、半径方向外側の前記第２ゾーンに向かい、前記第１軸方向とは反対の第２軸方向に前記第２ゾーンから前記洗浄したガスの出口へ流れることを特徴とする請求項５記載の静電集塵器。
【請求項７】
前記ドラムと前記外側接地面との間の前記第２ゾーン内に電気伝導性の収集媒体を含んでいることを特徴とする請求項５記載の静電集塵器。
【請求項８】
前記電気伝導性の収集媒体は、ワイヤメッシュおよび金属製はちの巣構造からなる群から選択されることを特徴とする請求項７記載の静電集塵器。
【請求項９】
前記ドラムは、電気絶縁体であることを特徴とする請求項７記載の静電集塵器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月29日(2010.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
無線ネットワークを開設するために、又は１つの装置を構成して既存の無線ネットワークに参加させるために必要とされる、現在の複雑に入り組んだ情報を与えられると、多くの消費者は、無線装置を適当に構成して、目的とするネットワーク環境において動作させるのに苦労する。無線装置の導入を実行するために必要とされる技術情報のレベルが高いので、消費者は、無線装置を構成する際に助けを求めてテクニカルサポートセンターにほとんど頼らざるを得なくなっている。
なお、本出願に対応する外国の特許出願においては下記の文献が発見または提出されている。
【特許文献１】米国特許出願公開第２００６／００６７２９５号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００３／０１８１２０３号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００２／０１６９００２号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２００３／００５４７６６号明細書
【特許文献５】米国特許出願公開第２００４／００８２３０９号明細書
【特許文献６】米国特許出願公開第２００２／０１５９０９０号明細書
【特許文献７】米国特許出願公開第２００３／０１５６５６７号明細書
【特許文献８】米国特許出願公開第２００４／０１４１４８７号明細書
【特許文献９】米国特許第６９１２３７４号明細書
【特許文献１０】米国特許出願公開第２００２／０１６９００２号明細書
【特許文献１１】米国特許出願公開第２００５／０１５７３２９号明細書
【特許文献１２】米国特許出願公開第２００３／０００２０７３号明細書
【非特許文献１】UK Intellectual Property Office, Examination Report Under Section 18(3) for Patent Application No. GB0521654.4, September 29, 2008, Great Britain
【非特許文献２】The Patent Office of the People's Republic of China, Examination Report for Patent Application No. 200510114985.1, October 17, 2008, China
【非特許文献３】Microsoft Corporation, "Windows XP Wireless Deployment Technology and Component Overview", pps. 1-43; (2004). <www.microsoft.com/technet>
【非特許文献４】Microsoft Corporation, "Windows Connect Now", pps. 1-34; (2004). <www.microsoft.com/whdc/
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月8日(2010.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微多孔性支持膜上に多官能アミン水溶液を接触させた後、多官能酸ハロゲン化物を含む、水と非混和性の有機溶媒溶液を接触させ、界面重縮合を生じさせることによって微多孔性支持膜上に架橋ポリアミドを含む分離機能層を形成する方法によって製造された複合半透膜を、ナトリウム塩から選ばれる中性無機塩を含有し、かつ３０℃以上の水溶液に２０時間以上浸漬することを特徴とする複合半透膜の処理方法。
【請求項２】
中性無機塩水溶液における中性無機塩の濃度が０．５重量％以上であることを特徴とする請求項１に記載の複合半透膜の処理方法。
【請求項３】
中性無機塩水溶液の温度が３０℃以上５０℃以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の複合半透膜の処理方法。
【請求項４】
中性無機塩水溶液に浸漬処理した後の複合半透膜が、２５℃、ｐＨ６．５、ＴＤＳ濃度３．５重量％の海水を５．５ＭＰａの操作圧力で透過させたときの性能として、透過流束が０．５ｍ３／ｍ２・日以上１．２ｍ３／ｍ２・日以下、脱塩率９９．７％以上、溶質透過係数が２．０×１０−８ｍ／ｓ以下、ホウ素透過係数が０．５×１０−６ｍ／ｓ以下を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の複合半透膜の処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するための本発明は、微多孔性支持膜上に多官能アミン水溶液を接触させた後、多官能酸ハロゲン化物を含む、水と非混和性の有機溶媒溶液を接触させ、界面重縮合を生じさせることによって微多孔性支持膜上に架橋ポリアミドを含む分離機能層を形成する方法によって製造された複合半透膜を、ナトリウム塩から選ばれる中性無機塩を含有し、かつ３０℃以上の水溶液に２０時間以上浸漬することを特徴とする複合半透膜の処理方法である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明法の処理を行う複合半透膜は、微多孔性支持膜上に多官能アミン水溶液を接触させた後、多官能酸ハロゲン化物を含む、水と非混和性の有機溶媒溶液を接触させ、界面重縮合を生じさせることによって微多孔性支持膜上に架橋ポリアミドを含む分離機能層を形成する方法によって製造された複合半透膜である。この複合半透膜を、ナトリウム塩から選ばれる中性無機塩を含有し、かつ３０℃以上の水溶液に２０時間以上浸漬させて、性能向上を図る。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明法における処理に用いる中性無機塩とは、水に０．５重量％以上溶解し、ｐＨが５〜９の範囲となる無機塩であり、ナトリウム塩から選ばれる少なくとも１種である。このような中性無機塩としては、入手の容易性や試薬のコスト、取扱い性の面から、塩化ナトリウムを用いることが好ましい。これらの中性無機塩は、単独で用いてもよいし、混合して用いてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
このようにして製造された複合半透膜は、中性無機塩水溶液で処理される。この処理は、複合半透膜を、ナトリウム塩から選ばれる中性無機塩を含有し、かつ３０℃以上の水溶液に２０時間以上浸漬することにより行う。中性無機塩の濃度は０．０１重量％〜１０重量％の範囲が好ましく、さらに好ましくは０．５重量％〜５重量％の範囲である。この範囲であると分離機能膜の性能を損なうことなく、本発明の効果であるホウ素除去性能向上を発揮することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
また、複合半透膜を浸漬処理する際、ナトリウム塩から選ばれる中性無機塩を含有する水溶液の温度は３０℃以上、好ましくは３０℃〜５０℃の範囲とする。３０℃未満の低温ではホウ素透過係数を０．５×１０−６ｍ／ｓ以下にすることが難しい。５０℃を超える高温では透過流束の低下が懸念される。複合半透膜を、ナトリウム塩から選ばれる中性無機塩を含有する水溶液に浸漬させる処理は、例えば、複合半透膜を、ナトリウム塩から選ばれる中性無機塩を含有する水溶液が貯留された槽内に浸漬する方法で行ってもよいし、また、複合半透膜を、プラスチックネットなどの原水流路材とトリコットなどの透過水流路材と、必要に応じて耐圧性を高めるためのフィルムと共に、多数の孔を穿設した筒状の集水管の周りに巻回した、スパイラル型の複合半透膜エレメントとした状態で、ナトリウム塩から選ばれる中性無機塩を含有する水溶液が貯留された槽内に浸漬する方法で行ってもよい。浸漬時間は、ナトリウム塩から選ばれる中性無機塩の濃度や温度により異なるが、２０〜１０００時間、好ましくは１００〜５００時間の範囲である。２０時間未満ではホウ素透過係数を０．５×１０−６ｍ／ｓ以下にすることが難しく、１０００時間以上ではホウ素透過係数が平衡値に達してしまい、必要以上に時間を費やすことになる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月26日(2010.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１結晶成長面と前記第１結晶成長面と同じ方向に面している第２結晶成長面を有する下地基板であって、前記第１結晶成長面の周縁の５０％以上に下向きの段差を介して前記第２結晶成長面が連接していることを特徴とするIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項２】
前記第１結晶成長面の全周縁に下向きの段差を介して前記第２結晶成長面が連接していることを特徴とする請求項１に記載のIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項３】
前記第１結晶成長面が円形であることを特徴とする請求項１または２に記載のIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項４】
前記第２結晶成長面が環状であり、円形の前記第１結晶成長面と同心であることを特徴とする請求項３に記載のIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項５】
前記第２結晶成長面の幅が０．５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項６】
前記段差の高さが０．１〜５ｍｍであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項７】
前記第１結晶成長面と前記第２結晶成長面が連続している単一部材内に存在することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項８】
前記第１結晶成長面を構成する部材と前記第２結晶成長面を構成する部材が異なっていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項９】
前記第１結晶成長面を構成する材料と前記第２結晶成長面を構成する材料がいずれもIII族窒化物半導体の単結晶からなることを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項１０】
前記第１結晶成長面と前記第２結晶成長面を構成する部材が基礎基板上に形成されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載のIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項１１】
前記基礎基板がサファイア単結晶基板またはＳｉＣ単結晶基板であることを特徴とする請求項１０に記載のIII族窒化物半導体成長用の下地基板。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の下地基板上にIII族窒化物半導体形成用ガスを供給することにより前記下地基板上にIII族窒化物半導体を結晶成長させる工程を含むことを特徴とするIII族窒化物半導体の成長方法。
【請求項１３】
前記下地基板が、結晶成長させるIII族窒化物半導体と同種の単結晶からなることを特徴とする請求項１２に記載のIII族窒化物半導体の成長方法。
【請求項１４】
前記III族窒化物半導体を厚み５ｍｍ以上で結晶成長させることを特徴とする請求項１２または１３に記載のIII族窒化物半導体の成長方法。
【請求項１５】
前記結晶成長をハイドライド気相成長法により行うことを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか一項に記載のIII族窒化物半導体の成長方法。
【請求項１６】
前記下地基板から前記第２結晶成長面を分離する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１２〜１５のいずれか一項に記載のIII族窒化物半導体の成長方法。
【請求項１７】
下地基板上に成長させたIII族窒化物半導体結晶であって、前記III族窒化物半導体結晶の成長厚みが２ｍｍ以上であり、結晶成長後の表面が鏡面であることを特徴とするIII族窒化物半導体結晶。
【請求項１８】
前記表面の表面粗さが１ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１７に記載のIII族窒化物半導体結晶。