(57)【要約】      （修正有）【課題】表示効果を向上させることができる液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示パネルは、上方に画素電極１５、データ線及び走査線が配置される第１基板１１と、第１基板に対向して配置された第２基板と、第１基板、データ線、走査線及び画素電極の上に配置された第１配向層１６と、第１基板と第２基板との間に設けられた液晶層とを含み、画素電極上の第１配向層が第１厚さＴ１を有し、データ線又は走査線の上の第１配向層が第２厚さＴ２を有し、且つ、第１厚さは第２厚さよりも大きい。【選択図】図４Ａ
0003193032.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
上方に画素電極、データ線及び走査線が配置される第１基板と、
前記第１基板に対向して配置された第２基板と、
前記第１基板、前記データ線、前記走査線及び前記画素電極の上に配置された第１配向層と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた液晶層と、を含み、
前記画素電極上の前記第１配向層が第１厚さを有し、前記データ線又は前記走査線の上の前記第１配向層が第２厚さを有し、且つ、前記第１厚さは前記第２厚さよりも大きいことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記第１基板は、表示領域及び非表示領域を含み、前記第１基板に対応する前記非表示領域上の前記第１配向層上には、少なくとも１つの突起構造、少なくとも１つの隆起部又はその組み合わせがさらに設けられることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記第１配向層の材料が前記突起構造又は前記隆起部の材料と同一であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記突起構造又は前記隆起部と前記第１配向層とが一体成形されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記突起構造の高さと前記突起構造に隣接する前記第１配向層の厚さとの比が２〜１０であることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、前記第１配向層を部分的に覆うシール剤をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
前記第１基板と前記第２基板との間に位置し、少なくとも１つの前記突起構造、少なくとも１つの前記隆起部又はその組み合わせを部分的に覆うシール剤をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項８】
前記第１厚さと前記第２厚さとの比が１〜１０であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項９】
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた少なくとも１つのスペーサをさらに含み、
前記第１配向層は、前記スペーサ上に設けられ、第３厚さを有し、且つ、前記第３厚さは前記第１厚さ及び前記第２厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項１０】
カラーフィルタユニットと、ブラックマトリックスと、第２配向層とをさらに含み、
前記カラーフィルタユニット及び前記ブラックマトリックスは、前記第２基板上に設けられ、
前記第２配向層は、前記カラーフィルタユニット及び前記ブラックマトリックスの上に設けられ、
前記カラーフィルタユニット上の前記第２配向層が第４厚さを有し、前記ブラックマトリックス上の前記第２配向層が第５厚さを有し、且つ、前記第４厚さは前記第５厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項１１】
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた少なくとも１つのスペーサをさらに含み、
前記第２配向層は、前記スペーサ上に設けられ、第３厚さを有し、且つ、前記第３厚さは前記第４厚さ及び前記第５厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示パネル。
【請求項１２】
カラーフィルタユニットと、ブラックマトリックスと、第２配向層と、少なくとも１つのスペーサとをさらに含み、
前記カラーフィルタユニット、前記ブラックマトリックス、前記第２配向層及び前記スペーサは、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、
前記スペーサ上に設けられた前記第２配向層が第３厚さを有し、且つ、前記第３厚さは前記第１厚さ及び前記第２厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項１３】
前記第１基板上には、薄膜トランジスタ素子がさらに設けられ、
前記薄膜トランジスタ素子は、ゲートと、絶縁層と、半導体層と、ソースと、ドレンと、を含み、
前記絶縁層は、前記ゲートを覆い、
前記半導体層は、前記絶縁層上に設けられ、
前記ソース及び前記ドレンは、前記半導体層上に設けられ、
前記ソースと前記ドレンとは、チャンネル領域が形成されるように所定距離を置いて配置され、
前記第１配向層は、前記薄膜トランジスタ素子上に設けられ、
前記ソース及び前記ドレンの上の前記第１配向層が第６厚さを有し、前記チャンネル領域における前記第１配向層が第７厚さを有し、且つ、前記第６厚さは前記第７厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項１４】
前記データ線、前記走査線及び前記薄膜トランジスタ素子を覆う保護層をさらに含み、
前記保護層は、前記ドレンを露出させるための開口を有し、
前記画素電極は、前記保護層上に設けられ、前記ドレンに電気的に接続するように前記開口に向けて延在し、
前記開口における前記第１配向層が第８厚さを有し、且つ、前記ドレン上の前記第１配向層の前記第６厚さは前記第８厚さよりも小さいことを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示パネル。
【請求項１５】
バックライトモジュールと、
前記バックライトモジュール上に設けられた請求項１〜１４のいずれか１項に記載の液晶表示パネルと、
を含むことを特徴とする液晶表示装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置に関し、特に、新たな構成の配向層を有する液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ技術が進むに伴い、全ての装置は小型化・薄型化・軽量化が進展しているため、現在主流となっているディスプレイ装置は、従来の陰極線管から液晶表示装置が発展してきた。特に、液晶表示装置は、例えば日常生活で使用されている携帯電話、ノートパソコン、ビデオカメラ、カメラ、音楽プレーヤ、モバイルナビゲーション装置、及びテレビ等の表示装置が挙げられ、幅広い分野に適用することができる。上記装置の表示パネルとして、液晶表示パネルが多く使用されている。
【０００３】
液晶表示パネルの輝度、コントラスト、色、視野角は、液晶表示装置の表示効果を決める大きいな要素である。液晶表示装置の発展に伴い、現在主流又は開発中のパネルは、ねじれネマティック型（ＴＮ）、垂直配向型（ＶＡ）、平面配向型（ＩＰＳ）がある。
【０００４】
垂直配向型液晶表示パネルは、明るさを調整する効果を達成するために、注入された液晶分子を配列させるための配向層が必要である。しかし、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）及びカラーフィルタ（ＣＦ）基板上にパターンがあるとともに、一般の配向層が均一な厚さで塗布されたため、配向層の表面に段差が発生することで、ラビング異常又は単量体が集まる問題が生じ、液晶の配向に影響を与える。
【０００５】
このため、現在、ラビング異常又は単量体が集まる問題を改善できる液晶表示パネルが要求される。液晶の配向異常を改善でき、液晶表示パネルの表示効果を向上させることが期待される。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
本考案の主な目的は、液晶配向異常の問題を改善することができ、さらに液晶表示パネル及び装置の表示効果を向上させることのできる液晶表示パネル及び該液晶表示パネルを含む液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本考案の一実施態様に係る液晶表示パネルは、上方に画素電極、データ線及び走査線が配置される第１基板と、第１基板に対向して配置された第２基板と、第１基板、データ線、走査線及び画素電極の上に配置された第１配向層と、第１基板と第２基板との間に設けられた液晶層と、を含み、画素電極上の第１配向層が第１厚さを有し、データ線又は走査線の上の第１配向層が第２厚さを有し、且つ、第１厚さは第２厚さよりも大きい。
【０００８】
本考案の一実施態様において、第１基板は、表示領域及び非表示領域を含み、第１基板に対応する非表示領域上の第１配向層上には、少なくとも１つの突起構造、少なくとも１つの隆起部又はその組み合わせがさらに設けられる。
【０００９】
本考案の一実施態様において、第１配向層の材料が突起構造又は隆起部の材料と同一である。
【００１０】
本考案の一実施態様において、突起構造又は隆起部と第１配向層とが一体成形されている。
【００１１】
本考案の一実施態様において、突起構造の高さと突起構造に隣接する第１配向層の厚さとの比が２〜１０である。
【００１２】
本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、第１基板と第２基板との間に位置して第１配向層を部分的に覆うシール剤をさらに含む。
【００１３】
本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、少なくとも１つの突起構造、少なくとも１つの隆起部又はその組み合わせを部分的に覆う、第１基板と第２基板との間に位置するシール剤をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の液晶表示パネル。
【００１４】
本考案の一実施態様において、第１厚さと第２厚さとの比が１〜１０である。
【００１５】
本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、第１基板と第２基板との間に設けられた少なくとも１つのスペーサをさらに含み、第１配向層は、スペーサ上に設けられ、第３厚さを有し、且つ、第３厚さは第１厚さ及び第２厚さよりも小さい。
【００１６】
本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、カラーフィルタユニットと、ブラックマトリックスと、第２配向層とをさらに含み、カラーフィルタユニット及びブラックマトリックスは、第２基板上に設けられ、第２配向層は、カラーフィルタユニット及びブラックマトリックスの上に設けられ、カラーフィルタユニット上の第２配向層が第４厚さを有し、ブラックマトリックス上の第２配向層が第５厚さを有し、且つ、第４厚さは第５厚さよりも小さい。
【００１７】
本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、第１基板と第２基板との間に設けられた少なくとも１つのスペーサをさらに含み、第２配向層は、スペーサ上に設けられ、第３厚さを有し、且つ、第３厚さは第４厚さ及び第５厚さよりも小さい。
【００１８】
本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、カラーフィルタユニットと、ブラックマトリックスと、第２配向層と、少なくとも１つのスペーサとをさらに含み、カラーフィルタユニット、ブラックマトリックス、第２配向層及びスペーサは、第１基板と第２基板との間に設けられ、スペーサ上に設けられた第２配向層が第３厚さを有し、且つ、第３厚さは第１厚さ及び第２厚さよりも小さい。
【００１９】
本考案の一実施態様において、第１基板上には、薄膜トランジスタ素子がさらに設けられ、薄膜トランジスタ素子は、ゲートと、絶縁層と、半導体層と、ソースと、ドレンと、を含み、絶縁層はゲートを覆い、半導体層は絶縁層上に設けられ、ソース及びドレンは半導体層上に設けられ、ソースとドレンとは、チャンネル領域が形成されるように所定距離を置いて配置され、第１配向層は、薄膜トランジスタ素子上に設けられ、ソース及びドレンの上の第１配向層が第６厚さを有し、チャンネル領域における第１配向層が第７厚さを有し、且つ、第６厚さは第７厚さよりも小さい。
【００２０】
本考案の一実施態様において、液晶表示パネルは、データ線、走査線及び薄膜トランジスタ素子を覆う保護層をさらに含み、保護層は、ドレンを露出させるための開口を有し、画素電極は、保護層上に設けられ、ドレンに電気的に接続するように開口に向けて延在し、開口における第１配向層が第８厚さを有し、且つ、ドレン上の第１配向層の第６厚さは第８厚さよりも小さい。
【００２１】
上記液晶表示パネルのほか、本考案は、バックライトモジュールと、バックライトモジュール上に設けられた上記液晶表示パネルとを含む液晶表示装置をさらに提供する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルを示す概略図である。
【図２】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を示す部分概略図である。
【図３】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を示す断面概略図。
【図４Ａ】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を示す部分拡大概略図である。
【図４Ｂ】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を示す部分拡大概略図である。
【図５】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を示す断面概略図である。
【図６】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が薄膜トランジスタ基板に設けられる場合を示す概略図である。
【図７Ａ】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。
【図７Ｂ】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。
【図７Ｃ】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。
【図７Ｄ】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。
【図８Ａ】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。
【図８Ｂ】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。
【図８Ｃ】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が非表示領域に設けられる場合を示す概略図である。
【図９Ａ】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層とシール剤との間を示す概略図である。
【図９Ｂ】本考案の他の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層とシール剤との間を示す概略図である。
【図１０】本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層を示す概略図である。
【図１１】本考案の他の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が薄膜トランジスタ基板上に設けられる場合を示す部分概略図である。
【図１２】本考案に係る液晶表示装置を示す概略図である。
【考案を実施するための形態】
【００２３】
以下、本考案の利点及び効果を理解しやすくするために、具体的な実施例を例示し、本考案の実施形態について説明する。本考案は、その他の具体的な実施例によって実行や応用することができる。当業者は、本考案に基づいて行ったあらゆる変動および修正は全て、本考案の特許請求の範囲に含まれるものとする。
【００２４】
図１は、本考案の好ましい実施形態に係る液晶表示パネルを示す概略図である。本実施形態の液晶表示パネルは、薄膜トランジスタ基板１と、カラーフィルタ基板２と、複数のスペーサ３と、液晶層４と、シール剤５とを含む。薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２とは対向して配置され、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２との間にスペーサ３及び液晶層４が設けられ、且つ、シール剤５によって、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２とを対向して組み合わせる。薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２とを対向して組み合わせる際、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２との間に設けられたスペーサ３によって、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２との間に所定の空間が形成され、次の液晶分子が注入しやすくなる。以下、本考案の液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板１及びカラーフィルタ基板２の構成及びその製造方法について詳しく説明する。
【００２５】
図２及び図３に示すように、図２は、本実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を示す概略平面図である。図３は、本実施形態に係る液晶表示パネルの薄膜トランジスタ基板を、図２のＡ−Ａ’線に沿って切断した断面概略図である。本実施形態の薄膜トランジスタ基板は、第１基板（図示せず）と、その上方に配置された走査線１２、データ線１３と、薄膜トランジスタユニット１４と、画素電極１５と、蓄積電極１７とを含む。ここで、２つの隣接した走査線１２と２つの隣接したデータ線１３によって、画素ユニットが定義される。画素ユニットにおいて、薄膜トランジスタユニット１４と、画素電極１５と、蓄積電極１７とを含み、且つ、画素電極１５は、２つの隣接した走査線１２と２つの隣接したデータ線１３との間に設けられる。ここで、走査線１２、データ線１３及び蓄積電極１７の材料は、例えば、金属、合金、金属酸化物、金属酸窒化物などの本技術分野で一般的に用いられている導電材料、又はその他の本技術分野で一般的に用いられている電極材料であってもよい。金属材料が好ましい。
【００２６】
図３に示すように、本実施形態の薄膜トランジスタ基板は、第１基板１１と、データ線１３と、走査線（図示せず）と、薄膜トランジスタユニット１４とを含み、第１基板１１には、データ線１３と、走査線（図示せず）と、薄膜トランジスタユニット１４とが設けられる。薄膜トランジスタユニット１４は、第１基板１１上に設けられたゲート１４１と、ゲート１４１及び第１基板１１を覆う絶縁層１４２（ゲート絶縁層ともいう）と、絶縁層１４２上に設けられた半導体層１４３と、半導体層１４３上に設けられたソース１４４１とドレン１４４２とを含み、ソース１４４１とドレン１４４２とは、チャンネル領域１４４３が形成されるように所定距離を置いて配置される。ここで、絶縁層１４２も、データ線１３及び走査線（図示せず）を同時に覆う。本実施形態において、薄膜トランジスタユニット１４は、従来の薄膜トランジスタの製造方法を採用して製作もよいため、ここでの説明を省略する。また、第１基板１１は、例えば、ガラス基板、プラスチック基板、シリコン基板やセラミック基板などの本技術分野で一般的に用いられている基板を使用する。なお、ゲート１４１の材料は、例えば、金属、合金、金属酸化物、金属酸窒化物などの本技術分野で一般的に用いられている導電材料、又はその他の本技術分野で一般的に用いられている電極材料が使用されてもよい。金属材料が好ましいが、それに限定されない。絶縁層１４２の材料は、例えば、窒化シリコン等の本技術分野で一般的に用いられているゲート絶縁層材料が採用されてもよい。半導体層１４３は、本技術分野で一般的に用いられている半導体層の材料が採用されてもよく、例えば、アモルファスシリコン、ポリシリコン、Ｐ１３、ＤＨ４Ｔ、ペンタセンの有機材料などが挙げられる。ただし、本考案はそれに限定されない。
【００２７】
データ線１３、走査線（図示せず）及び薄膜トランジスタユニット１４を形成した後、図３のように、データ線１３、走査線（図示せず）及び薄膜トランジスタユニット１４を覆う保護層１４５をさらに形成する。保護層１４５は、ドレン１４４２を露出させるための開口１４５１を有する。そして、保護層１４５上に設けられ、ドレン１４４２に電気的に接続するように開口１４５１に向けて延在する画素電極１５を形成する。ここで、保護層１４５の材料は、本技術分野で一般的に用いられている、例えば、シリコン酸化物等のパッシベーション層の材料であってもよい。また、画素電極１５は、例えば、米字状の電極又は鋸歯状の電極等の本技術分野で一般的に用いられているパターン化電極層であってもよい。画素電極１５の材料は、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の金属酸化物の透明電極材料等、本考案の技術分野で一般的に用いられている透明導電材料であってもよい。
【００２８】
最後、図３に示すように、保護層１４５及び画素電極１５上に配向用単量体をさらに塗布して固化した後、第１配向層１６を形成した。本実施形態において、第１配向層１６の下方の素子構造の高低に応じて第１配向層１６の厚さを調整することによって、第１配向層１６が均一な厚さを有しないため、第１配向層１６の表面の高低差（段差）を極力小さく抑えることができる。ここで、特殊な微細構造を有する凸版（ＡＰＲ版）を使用して、転写方式でパターン化した配向層を直接に製作してもよい。或いは、まず、均一な厚さを有する配向層を形成し、次いで、フォトリソグラフィ技術によりエッチングして、パターン化した配向層を製作してもよい。或いは、まず、均一な厚さを有する配向層を塗布し、配向層が異なる厚さを有するように、固化する前にインプリント法により配向層をパターン化にし、次いで、配向層を固化してから得る。ただし、本考案の配向層をパターン化する方法は、これらに限定されない。上記工程を経て、本実施形態の薄膜トランジスタ基板を完成した。以下、本実施形態の第１配向層１６の厚さの設計について詳しく説明する。
【００２９】
図４Ａは、本実施形態の薄膜トランジスタ基板のデータ線領域を示す部分拡大概略図である。画素電極１５上の第１配向層１６が第１厚さＴ１を有し、データ線１３の第１配向層１６が第２厚さＴ２を有し、且つ、第１厚さＴ１は第２厚さＴ２よりも大きい。第１厚さＴ１と第２厚さＴ２との比（Ｔ１／Ｔ２）は、１〜１０（１≦Ｔ１／Ｔ２≦１０）であることが好ましく、１〜５（１≦Ｔ１／Ｔ２≦５）であることがより好ましく、２〜４（２≦Ｔ１／Ｔ２≦４）であることが特に好ましい。本実施形態において、第１厚さＴ１は０．１μｍ〜０．２μｍであってもよく、第２厚さＴ２は０．０１μｍ〜０．０８μｍであってもよい。しかし、本考案は、上記厚さの範囲に限定されない。第１配向層１６の下方素子の構造が高ければ高くほど、第１配向層１６の厚さが薄くなれば、第１配向層１６の表面の高低差を小さくするという本考案の目的を達成することができる。ここでデータ線領域の部分のみを説明したが、当業者であれば、走査線領域もデータ線領域と同一な第１配向層の厚さの設計を使用してもよいことが了解される。
【００３０】
また、図４Ｂは、本実施形態の薄膜トランジスタ基板の薄膜トランジスタ素子を示す部分拡大概略図である。ソース１４４１及びドレン１４４２の上の第１配向層１６が第６厚さＴ６を有し、チャンネル領域１４４３における第１配向層１６が第７厚さＴ７を有し、且つ、第６厚さＴ６は第７厚さＴ７よりも小さい。そして、開口１４５１における第１配向層１６が第８厚さＴ８を有し、且つ、ドレン１４４２上の第１配向層１６の第６厚さＴ６は、第８厚さＴ８よりも小さい。なお、薄膜トランジスタユニット１４外（具体的に、第１基板１１上に薄膜トランジスタユニット１４が設けられておらず、画素電極１５が設けられている領域）に設けられた第１配向層１６が第１厚さＴ１を有し、且つ、第１厚さＴ１はドレン１４４２上の第１配向層１６の第６厚さＴ６よりも大きい。
【００３１】
図４Ａ及び図４Ｂに示すように、本実施形態は、異なる領域の第１配向層１６の厚さを調整することによって、第１配向層１６の下方の素子構造の増加につれ、第１配向層１６の厚さを減少させるため、第１配向層１６の表面の高低差（段差）を小さくするという本考案の目的を達成することができる。これによって、第１配向層１６の段差に起因するラビング異常又は単量体が集まることで液晶配向に影響を与える問題を抑えることができ、液晶表示パネルの表示効果を向上させる。
【００３２】
図５は、本実施形態に係る液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を示す断面概略図である。カラーフィルタ基板は、第２基板２１と、カラーフィルタユニット２２と、ブラックマトリックス２３とを含む。カラーフィルタユニット２２及びブラックマトリックス２３は、第２基板２１上に設けられ、ブラックマトリックス２３は、２つの隣接したカラーフィルタユニット２２との間に設けられる。カラーフィルタユニット２２及びブラックマトリックス２３上に、保護層２４、共通電極層２５及び第２配向層２６を順に形成し、本実施形態のカラーフィルタ基板を完成した。保護層２４の材料は、薄膜トランジスタ上の保護層１４５（図３参照）の材料と同一であるため、ここで説明を省略する。なお、本実施形態の共通電極層２５は、本技術分野で一般的に用いられているフラット電極層であってもよく、その材料は、本技術分野で一般的に用いられている透明導電材料であり、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の金属酸化物の透明導電材料であってもよい。また、本実施形態の第２配向層２６は、第１配向層の製造方法と同じ方法を採用するため、ここで説明を省略する。本実施形態において、第２配向層２６の下方の素子構造の高低に応じて第２配向層２６の厚さを調整することによって、第２配向層２６が均一な厚さを有しないため、第２配向層２６の表面の高低差（段差）を極力小さく抑えることができる。この点には特に注意されたい。以下、本実施形態の第２配向層２６の厚さの設計について詳しく説明する。
【００３３】
図５に示すように、カラーフィルタユニット２２上の第２配向層２６が第４厚さＴ４を有し、ブラックマトリックス２３上の第２配向層２６が第５厚さＴ５を有し、且つ、第４厚さＴ４は第５厚さＴ５よりも小さい。ここで、第４厚さＴ４は０．０１μｍ〜０．０８μｍであってもよく、第５厚さＴ５は０．１μｍ〜０．２μｍであってもよい。しかし、本考案は、上記厚さの範囲に限定されない。第２配向層２６が覆う素子の構造が高ければ高くほど、第２配向層２６の厚さが薄くなれば、第２配向層２６の表面の高低差を小さくするという本考案の目的を達成することができる。なお、カラーフィルタユニット２２がブラックマトリックス２３を部分的に覆う場合、カラーフィルタユニット２２とブラックマトリックス２３と重なった部分の第２配向層２６の厚さＴ９は、カラーフィルタユニット２２とブラックマトリックス２３と重なっていない部分の第２配向層２６の厚さ（即ち、第４厚さＴ４で表した部分）よりも小さい。
【００３４】
また、本実施形態の液晶表示パネルは、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２との間に設けられた少なくとも１つのスペーサ３をさらに含む（図１参照）。具体的に、スペーサ３は、第２基板２１上に設けられ、第２配向層２６に覆われる。スペーサ３上の第２配向層２６が第３厚さＴ３を有し、且つ、第３厚さＴ３は第４厚さＴ４及び第５厚さＴ５よりも小さい。スペーサ３と薄膜トランジスタ基板１上の第１配向層１６の厚さとを比較すると（図３参照）、第３厚さＴ３は画素電極１５上の第１配向層１６の第１厚さＴ１及びデータ線１３の第１配向層１６の第２厚さＴ２よりも小さい。一部の実施形態において、スペーサ３上の第２配向層２６の第３厚さＴ３は極めて薄く、０ｎｍに近い場合がある（即ち、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）でも測定不能である）。
【００３５】
本実施形態において、配向層（第１配向層１６及び第２配向層２６を含む）の材料は、特に限定されず、例えば、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ，ＰＩ）、ポリビニルシンナメート（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ，ＰＶＣＮ）、及びポリメタクリル酸メチル（ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ，ＰＭＭＡ）などの本技術分野で一般的に用いられている配向層の材料であってもよいが、それに限定されない。本考案の配向層の材料は、高粘度を有するポリイミドであることが好ましい。
【００３６】
上記薄膜トランジスタ基板１、カラーフィルタ基板２を完成した後、図１に示すように、薄膜トランジスタ基板１とカラーフィルタ基板２とを対向して組み合わせるとともに、シール剤５により接合し、液晶分子を注入して液晶層４を形成すると、本実施形態の液晶表示パネルが完成した。第１配向層１６及び第２配向層２６とシール剤５（図１、図３及び図５を同時に参照）との付着力を向上させるために、本実施形態の第１配向層１６及び第２配向層２６のエッジ領域に微細構造をさらに設計した。以下、本実施形態の第１配向層１６及び第２配向層２６のエッジ領域における微細構造について詳しく説明する。なお、第１配向層１６及び第２配向層２６のエッジ領域は、各々同一又は異なる設計されてもよい。ここで、第１配向層１６のみについて説明するが、第２配向層２６についての説明を省略する。
【００３７】
図６は、本実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層が薄膜トランジスタ基板上に設けられる場合を示す概略図である。図６に示すように、本実施形態の液晶表示パネルにおいて、第１配向層１６は薄膜トランジスタ基板１上に設けられ、且つ、第１配向層１６のエッジ領域Ｐには、突起構造１６１及び複数の隆起部１６２が設けられている。薄膜トランジスタ基板１を表示領域Ｄ及び非表示領域Ｎに定義した場合、第１配向層１６上の突起構造１６１及び隆起部１６２は薄膜トランジスタ基板１の非表示領域Ｎ上に設けられている。本実施形態において、第１配向層１６の材料は、突起構造１６１及び隆起部１６２の材料と同一であり、突起構造１６１及び隆起部１６２と当該第１配向層１６とが一体成形されている。ここで、第１配向層１６及びその上方の突起構造１６１のパターンに対応する凸版又はマスクを使用してもよく、第１配向層１６を形成すると同時に突起構造１６１を形成する。または、第１配向層１６及びその上方の突起構造１６１及び隆起部１６２のパターンに対応する凸版又はマスクを使用してもよく、第１配向層１６を形成すると同時に突起構造１６１及び隆起部１６２を形成する。ただし、その他の実施形態において、隆起部１６２は、隆起部１６２のパターンに対応する凸版又はマスクを使用せず、配向層の材料が重合する際に生成された粒子（結晶核、結晶体、結晶粒又は凝集体）によって形成されてもよい。
【００３８】
図７Ａ乃至図７Ｄは、本実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層を、図６の非表示領域ＮにおけるＢ−Ｂ’線に沿って切断した断面概略図である。図７Ａに示すように、第１配向層１６上の突起構造１６１と第１配向層１６の表面１６３との距離である高さＨ１と、突起構造１６１に隣接する第１配向層１６の厚さＴとの比は、２〜１０である。ここで、高さＨ１は１５０ｎｍ〜３００ｎｍであり、厚さは１０ｎｍ〜１００ｎｍであってもよい。しかし、本考案は上記厚さの範囲内に限定されない。第１配向層１６の突起構造１６１が顕著な高さを有すれば、基板に対する配向層のエッジ領域の圧力及び付着力を強化し、配向層材料のブリードアウト及び固化する際での塗膜収縮の発生を減少することができ、配向層の変位を防ぐことができる。また、第１配向層１６上の突起構造１６１の隣に複数の隆起部１６２がさらに設けられている。ここで、隆起部１６２の高さＨ２は５ｎｍ〜３０ｎｍであってもよいが、本考案はそれに限定されない。なお、図７Ａに示す突起構造１６１は、第１配向層１６の表面１６３と垂直した側辺を有する。ただし、その他の実施形態において、突起構造１６１の両側辺は傾斜面であってもよい（図７Ｂ参照）。または、突起構造１６１は円弧状であってもよい（図７Ｃ参照）。または、突起構造１６１の１つの側辺は第１配向層１６の表面に垂直している（図７Ｃ参照）。ただし、本考案はこれらに限定されない。なお、図７Ａ乃至図７Ｄに示す突起構造１６１は全て滑らかな表面で表されたが、その他の実施形態において、突起構造１６１は、例えば畝状構造等の不均一な表面を有してもよい。
【００３９】
図８Ａ乃至図８Ｃは、本実施形態に係る液晶表示パネルの第１配向層を、図６の非表示領域ＮにおけるＣ−Ｃ’線に沿って切断した断面概略図である。一般的に、液晶表示パネルの非表示領域Ｎに配線が設けられているが、本実施形態の突起構造１６１は、非表示領域Ｎの配線６上にさらに設けられている。
【００４０】
本実施形態の液晶表示パネルはシール剤５によってパッケージされる際、第１配向層１６の突起構造１６１とシール剤５との間の関係は、図９Ａのように示される。当該突起構造１６１が配置されることによって、シール剤５が当該突起構造１６１を覆うことによって、第１配向層１６との接触面積を増大させることができ、さらにシール剤５と第１配向層１６との剥離の発生を抑制することができる。同時に、図９Ａに示すように、第１基板１１の外縁がシール剤５の外に突出している。
【００４１】
ただし、本考案の他の好ましく実施形態において、図９Ｂに示すように、第１基板１１の外縁はシール剤５に揃えてもよい。また、当該他の好ましく実施形態において、配向層の材料として、低粘度を有するポリイミドを使用する。そのため、図９Ａにような突起構造１６１を形成することはできなくても、図１１に示すように、第１配向層１６のエッジは、例えば、波状構造等の特殊な湾曲構造が形成されている。
【００４２】
図６に示す突起構造１６１及び隆起部１６２を有する第１配向層１６であろうと、図１１に示す隆起部１６２及び波状構造のエッジを有する第１配向層１６であろうと、第１配向層１６中に複数の粒子１６４が生成される可能性がある。図１０に示すように、これらの粒子は、第１配向層１６を固化する際に生成された結晶核、結晶体、結晶粒又は凝集体であってもよい。特に、非表示領域Ｎに設けられた粒子１６４の大きさは、表示領域Ｄに設けられた粒子１６４の大きさよりも大きい。また、その他の実施形態において、第１配向層１６は、上記粒子１６４を含まなくてもよく、または、非表示領域Ｎにのみ上記粒子１６４が形成されてもよい。
【００４３】
ここで、特に説明したいのは、図６乃至図１０は第１基板１１上に第１配向層１６のみが配置されている場合を示すことである。ただし、当業者であれば、ここで第１基板１１と第１配向層１６との間のその他の素子（例えば、薄膜トランジスタ素子等）を省略することが了解される。
【００４４】
また、図１２に示すように、本考案の上記実施形態による製造される液晶表示パネルは、液晶表示装置７に適用してもよい。液晶表示装置は、バックライトモジュール（図示せず）と、バックライトモジュール上に設けられた上記液晶表示パネル（図示せず）とを含む。ここで、液晶表示装置の一例としてディスプレイが挙げられるが、例えば、携帯電話、ノートパソコン、ビデオカメラ、カメラ、音楽プレーヤ、モバイルナビゲーション装置又はテレビ等の表示装置も、本考案の上記実施形態による製造される液晶表示パネルを用いてもよい。
【００４５】
本考案の好適な実施形態を前述の通り開示したが、これらは決して本考案を限定するものではない。本考案の実用新案登録請求の範囲による各種の変動及び修正は、本考案の保護を求める範囲内に属するものである。
【符号の説明】
【００４６】
１            薄膜トランジスタ基板
１１          第１基板
１２          走査線
１３          データ線
１４          薄膜トランジスタユニット
１４１        ゲート
１４２        絶縁層
１４３        半導体層
１４４１      ソース
１４４２      ドレン
１４４３      チャンネル領域
１４５        保護層
１４５１      開口
１５          画素電極
１６          第１配向層
１６１        突起構造
１６２        隆起部
１６３        表面
１６４        粒子
１７          蓄積電極
２            カラーフィルタ基板
２１          第２基板
２２          カラーフィルタユニット
２３          ブラックマトリックス
２４          保護層
２５          共通電極層
２６          第２配向層
３            スペーサ
４            液晶層
５            シール剤
６            配線
７            液晶表示装置
Ｄ            表示領域
Ｈ１          高さ
Ｈ２          高さ
Ｎ            非表示領域
Ｐ            エッジ領域
Ｔ            厚さ
Ｔ１          第１厚さ
Ｔ２          第２厚さ
Ｔ３          第３厚さ
Ｔ４          第４厚さ
Ｔ５          第５厚さ
Ｔ６          第６厚さ
Ｔ７          第７厚さ
Ｔ９          厚さ
【図１】
0003193032.tif 000003
【図２】
0003193032.tif 000004
【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
0003193032.tif 000009
【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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