(57)【要約】【課題】パターン状の凹凸を表面に有する基板の凹凸の凸部上面に磁性層を良好に被膜する。【解決手段】凸部３７上面３７ａのトラック方向幅がＬである凹凸パターン３６を表面に有する基板３１の表面に、凸部３７の上面３７ａにおいて、Ｍｔ／Ｌ＜１．８を満たす厚みＭｔで磁性層３２を形成する。また、凹凸パターン３６は、凹部３８表面３８ａの凸部３７内への延長面３８ｂと凸部３７の側面３７ｂとのなす該凸部３７内側の角度θが、７５°≦θ＜９０°を満たすように形成する。【選択図】          図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
トラック方向に配列されたパターン状の凹凸を表面に有する基板と、該基板上の少なくとも凸部上面に設けられた磁性層とを備えてなる磁気転写用マスター担体であって、
前記凸部上面の前記トラック方向幅をＬとし、前記凸部上面に設けられた前記磁性層の厚みをＭｔとしたとき、Ｍｔ／Ｌ＜１．８であり、かつ、前記基板の凹部表面の前記凸部内側への延長面と前記凸部の側面とのなす該凸部内側の角度θが、７５°≦θ＜９０°であることを特徴とする磁気転写用マスター担体。
【請求項２】
トラック方向に配列されたパターン状の凹凸を表面に有する基板と、該基板上の少なくとも凸部上面に設けられた磁性層とを備えてなる磁気転写用マスター担体であって、
前記凸部上面の前記トラック方向幅をＬとし、前記凸部上面に設けられた前記磁性層の厚みをＭｔとしたとき、前記Ｌが８０ｎｍ以下、Ｍｔ／Ｌ＜２．０であり、かつ、前記基板の凹部表面の前記凸部内側への延長面と前記凸部の側面とのなす該凸部内側の角度θが、７５°≦θ＜９０°であることを特徴とする磁気転写用マスター担体。
【請求項３】
前記θが８５°≦θ＜９０°であり、Ｍｔ／Ｌ＜１．６であることを特徴とする請求項２記載の磁気転写用マスター担体。
【請求項４】
請求項１〜３いずれか１項記載の磁気転写用マスター担体の表面と、磁性層を有する記録媒体の該磁性層とを密着させた状態で、該記録媒体および前記マスター担体に磁界を印加して前記情報を前記記録媒体に転写することを特徴とする磁気転写方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スレーブ媒体に磁気転写すべき情報に応じた転写パターンを有する磁気転写用マスター担体、および該マスター担体を用いた磁気転写方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
磁気記録媒体においては一般に、情報量の増加に伴い、多くの情報を記録する大容量で、安価で、かつ、好ましくは短時間で必要な箇所が読み出せる、いわゆる高速アクセスが可能な媒体が望まれており、この一例として、ハードディスク、ＺＩＰ（アイオメガ社）等のフレキシブルディスクからなる高密度磁気記録媒体が知られている。これらの高密度磁気記録媒体は情報記録領域が狭トラックで構成されており、狭いトラック幅を正確に磁気ヘッドにより走査させて高いＳ／Ｎで信号を再生するためには、いわゆるトラッキングサーボ技術が大きな役割を担っている。
【０００３】
トラック位置決めのためのサーボ信号や、そのトラックのアドレス信号、再生クロック信号等のサーボ情報は、磁気記録媒体の製造時にプリフォーマットとして予め磁気記録媒体に記録する必要がある。このプリフォーマットを正確にかつ効率よく行う方法として、マスター担体に形成されたサーボ情報を担持するパターンを磁気記録媒体へ磁気転写により転写する方法が、例えば特許文献１および２等において提案されている。
【０００４】
磁気転写は、転写すべき情報を担持するマスター担体を磁気ディスク媒体等の磁気記録媒体（スレーブ媒体）と密着させた状態で、転写用磁界を印加することにより、マスター担体の有する転写パターンに対応する磁気パターンをスレーブ媒体に磁気的に転写するもので、マスター担体とスレーブ媒体との相対的な位置を変化させることなく静的に記録を行うことができ、正確なプリフォーマット記録が可能であり、しかも記録に要する時間も極めて短時間であるという利点を有している。
【０００５】
マスター担体としては、転写情報に応じた凹凸パターンが形成された基板と該基板の少なくとも凸部上に設けられた磁性層とからなるもの、あるいは、凹凸パターンが形成された基板と該基板の凹部に埋め込まれた磁性層とからなるもの等が提案されている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平１０−４０５４４号公報
【０００７】
【特許文献２】
特開平１０−２６９５６６号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
磁性層は、一般にスパッタリング法で成膜されるが、高密度化のために基板表面の凹凸の凸部上面のトラック幅が短くなるにつれて、該凸部上に設けられる磁性層の被膜不良の問題が顕著となるため、トラック幅が例えば１００ｎｍ以下となるような微小な凹凸パターンの凸部に磁性層が被膜できない場合が発生する。凸部上面に設けられる磁性層の被膜状態は転写品質を左右するものであり、凸部上面に良好な状態で磁性層が形成されなければ、転写不良を生じることとなる。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑み、良好な磁性層の成膜がなされ転写不良を抑制した磁気転写用マスター担体および該マスター担体を用いた磁気転写方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明者らによる磁性層形成条件および凹凸形状の比較検討の結果、磁性層膜剥離は磁性層の膜応力が基板・磁性層間の密着力より大きくなることにより発生するものであり、磁性層剥離（被膜不良）の発生は凸部のトラック幅と磁性層膜厚との関係に大きく依存することがわかった。本発明はこの知見に基づいてなされたものである。
【００１１】
本発明の第１の磁気転写用マスター担体は、トラック方向に配列されたパターン状の凹凸を表面に有する基板と、該基板上の少なくとも凸部上面に設けられた磁性層とを備えてなる磁気転写用マスター担体であって、
前記凸部上面の前記トラック方向幅をＬとし、前記凸部上面に設けられた前記磁性層の厚みをＭｔとしたとき、Ｍｔ／Ｌ＜１．８であり、かつ、前記基板の凹部表面の前記凸部内側への延長面と前記凸部の側面とのなす該凸部内側の角度θが、７５°≦θ＜９０°であることを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の第２の磁気転写用マスター担体は、トラック方向に配列されたパターン状の凹凸を表面に有する基板と、該基板上の少なくとも凸ｍ部上面に設けられた磁性層とを備えてなる磁気転写用マスター担体であって、
前記凸部上面の前記トラック方向幅をＬとし、前記凸部上面に設けられた前記磁性層の厚みをＭｔとしたとき、前記Ｌが８０ｎｍ以下、Ｍｔ／Ｌ＜２．０であり、かつ、前記基板の凹部表面の前記凸部内側への延長面と前記凸部の側面とのなす該凸部内側の角度θが、７５°≦θ＜９０°であることを特徴とするものである。
【００１３】
なお、Ｌが８０ｎｍ以下である場合には、θが８５°≦θ＜９０°であり、Ｍｔ／Ｌ＜１．６であることがより望ましい。
【００１４】
また、各磁気転写用マスター担体は、その磁性層が基板上の少なくとも凸部上面に設けられていればよいが、基板表面の凹凸に沿って連続的に磁性層が形成されていることがより望ましい。
【００１５】
本発明の磁気転写方法は、本発明の磁気転写用マスター担体の表面と、磁性層を有する記録媒体の該磁性層とを密着させた状態で、該記録媒体および前記マスター担体に磁界を印加して前記情報を前記記録媒体に転写することを特徴とするものである。
【００１６】
【発明の効果】
本発明の第１の磁気転写用マスター担体は、パターン状の凹凸を表面に有する基板の凸部上面のトラック方向幅をＬとし、凸部上面に設けられた磁性層の厚みをＭｔとしたとき、Ｍｔ／Ｌ＜１．８とし、かつ、基板の凹部表面の凸部内側への延長面と凸部の側面とのなす該凸部内側の角度θを、７５°≦θ＜９０°としたことにより、磁性層成膜時の磁性層剥離を効果的に抑制し、良好な磁性層被膜を有するものとすることができる。磁性層の厚みＭｔが厚くなるにつれ膜応力が大きくなり剥れやすくなるが、トラック方向幅Ｌが大きくなるほど基板と磁性層との接触面積が大きくなるために両者の密着力も大きくなる。そこで、上記Ｍｔ／Ｌ＜１．８とすることにより、膜応力を基板・磁性層の密着力より小さくすることができ、磁性層剥離を抑制して良好に磁性層を成膜することができる。
【００１７】
また、θが９０°以上であると、磁性層が凸部上面から凹部に掛けて連続的に形成することができないために磁性層が剥離しやすくなり、θが９０°より小さい方が凸部壁面に磁性層が堆積しやすくなって磁性層と基板の接触面積が大きくなるために磁性層剥離が抑制されると考えられる。一方、θが７５°未満であると、転写信号の品位が低下するという問題が生じ好ましくない。
【００１８】
本発明の第２の磁気転写用マスター担体は、パターン状の凹凸を表面に有する基板の凸部上面のトラック方向幅をＬとし、凸部上面に設けられた磁性層の厚みをＭｔとしたとき、Ｌを８０ｎｍ以下、Ｍｔ／Ｌ＜２．０とし、かつ、基板の凹部表面の凸部内側への延長面と凸部の側面とのなす凸部内側の角度θを、７５°≦θ＜９０°としたことにより、磁性層成膜時の磁性層剥離を効果的に抑制し、良好な磁性層被膜を有するものとすることができる。
【００１９】
すなわち、トラック方向幅Ｌが８０ｎｍ以下である微細な凹凸を有する場合、上記Ｍｔ／Ｌ＜２．０とすることで磁性層の膜応力を基板・磁性層の密着力より小さくすることができ、磁性層剥離を抑制することができる。
【００２０】
Ｌが８０ｎｍ以下である場合、さらにθを８５°≦θ＜９０°とし、Ｍｔ／Ｌ＜１．６とすれば、微細凹凸パターンの場合に剥離を抑制すると同時に高品位な転写品質を得ることができる。非常に微細であるために、θを８５°以上とした方が転写パターンを鮮鋭なものとすることができ、転写品質を向上させることができる。また、特にθを上記範囲とする場合には、Ｍｔ／Ｌ＜１．６とすることにより磁性層の被膜を良好に行うことができる。
【００２１】
本発明の磁気転写方法によれば、良好に被膜された磁性層を有する上述の本発明の磁気転写用マスター担体を用いているため、転写不良を抑制し、転写品質のよい記録媒体を製造することができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。
【００２３】
図１は、本実施形態の磁気転写用マスター担体の表面の一部斜視図を示し、図２は、図１のマスター担体の一部断面図を示すものである。
【００２４】
本実施形態のマスター担体３は、後述の図３に示すように円盤状に形成されており、その表面にスレーブ媒体である磁気記録媒体に転写すべき情報に応じてトラック方向に配列されたパターン状の凹凸３６（以下、凹凸パターン３６という）を転写パターンとして有するものである。転写すべき情報としては、例えばサーボ信号が挙げられるが、その他種々のデータを含むものであってもよい。凹凸パターン３６の一部パターンは例えば図１に示すようなものである。図１において、矢印Ｘは円周方向（トラック方向）、矢印Ｙは半径方向を示す。
【００２５】
図２は、図１に示したマスター担体３のＩＩ−ＩＩ断面図、すなわち、面に垂直かつトラック方向Ｘに平行な面に沿った断面図を示す。
【００２６】
マスター担体３は、凸部３７の上面３７ａのトラック方向幅がＬである凹凸パターン３６を表面に有する基板３１の表面に、凸部上面３７ａにおいて、Ｍｔ／Ｌ＜１．８を満たす厚みＭｔで磁性層３２が形成されてなるものである。なお、現実のパターンにおいては、凸部３７のトラック方向長さには種々の長さのものが存在するが、そのうち最短のものをＬとする。
【００２７】
また、本実施形態においてはマスター担体３の基板３１の凹凸パターン３６が、その凹部３８表面３８ａの凸部３７内への延長面３８ｂと凸部３７の側面３７ｂとのなす該凸部３７内側の角度θが、７５°≦θ＜９０°を満たすように形成されている。
【００２８】
マスター担体３は、基板３１の凹凸パターンが角度θが上記関係を満たす形状で形成されており、磁性層３２がその厚みと凸部３７上面３７ａのトラック方向幅Ｌとが上記関係となるように形成されているため、磁性層成膜時に膜剥離を発生することなく良好な状態で磁性層３２が被膜されている。したがって、このマスター担体３を用いれば良好な再生信号品位を有する磁気パターンの転写が可能である。
【００２９】
基板３１の材料としては、Ｎｉ、Ｓｉ、石英板、ガラス、Ａｌ、セラミックス、合成樹脂等が用いられる。基板材料として特に好ましいのは、Ｎｉ、もしくはＮｉを主成分とする強磁性を有する合金である。表面に凹凸パターンを有する基板３１の作製は、スタンパー法、フォトリソグラフィー法等を用いて行うことができる。
【００３０】
基板３１の作製方法の概略を説明する。まず、表面が平滑なガラス板（または石英板）の上にスピンコート等でフォトレジストを形成し、このガラス板を回転させながらサーボ信号に対応して変調したレーザー光（または電子ビーム）を照射し、フォトレジスト全面に所定のパターン、例えば各トラックに回転中心から半径方向に線状に延びるサーボ信号に相当するパターンを円周上の各フレームに対応する部分に露光し、その後、フォトレジストを現像処理し、露光部分を除去しフォトレジストによる凹凸形状を有する原盤を得る。次に、原盤の表面の凹凸パターンをもとに、この表面にメッキ（電鋳）を施し、ポジ状凹凸パターンを有するＮｉ基板を作製し、原盤から剥離する。
【００３１】
また、前記原盤にメッキを施して第２の原盤を作製し、この第２の原盤を使用してメッキを行い、ネガ状凹凸パターンを有する基板を作製してもよい。さらに、第２の原盤にメッキを行うか樹脂液を押し付けて硬化を行って第３の原盤を作製し、第３の原盤にメッキを行い、ポジ状凹凸パターンを有する基板を作製してもよい。
【００３２】
前記メッキとしては、無電解メッキ、電鋳、スパッタリング、イオンプレーティングを含む各種の金属成膜法が適用できる。基板の凸部高さ（凹凸パターンの深さ）は、５０〜８００ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは８０〜６００ｎｍである。この凹凸パターンがサンプルサーボ信号である場合は、円周方向よりも半径方向に長い矩形状の凸部が形成される。具体的には、半径方向の長さは０．０５〜２０μｍ、円周方向は０．０５〜５μｍが好ましく、この範囲で半径方向の方が長い形状となる値を選ぶことがサーボ信号の情報を担持するパターンとして好ましい。
【００３３】
磁性層３２の磁性材料としては、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）を用いることができ、特に好ましいのはＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。なお、磁性層３２としては、軟磁性もしくは半硬質磁性等の保磁力の小さい磁性層を用いることにより、より良好な転写を行うことができる。さらに、磁性層３２は、基板３１の飽和磁化よりも高い飽和磁化値を有するものであることが好ましい。磁性層の厚み（凸部上面の磁性層の厚み）Ｍｔは、５０〜５００ｎｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは８０〜３００ｎｍである。なお、厚みＭｔは、該範囲の中から凹凸パターンの凸部上面のトラック方向幅Ｌとの関係において、上述のＭｔ／Ｌ＜１．８を満たすように定める。
【００３４】
基板３１上への磁性層３２の形成は、前述したスパッタリング法の他、磁性材料を真空蒸着法、イオンプレーティング法等の真空成膜手段、メッキ法などを用いて行うことができる。
【００３５】
なお、磁性層３２の上に５〜３０ｎｍのダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護膜を設けることが好ましく、さらに潤滑剤層を設けても良い。また、磁性層と保護膜の間に、Ｓｉ等の密着強化層を設けてもよい。潤滑剤を設けることにより、スレーブ媒体との接触過程で生じるずれを補正する際の、摩擦による傷の発生などを抑制し、耐久性を向上させることができる。
【００３６】
次に、本発明の磁気転写用マスター担体を用いてスレーブ媒体へ情報を転写する磁気転写方法の実施形態について説明する。
【００３７】
図３は、スレーブ媒体２とマスター担体３、４とを示す斜視図である。スレーブ媒体は、例えば、両面または片面に磁気記録層が形成されたハードディスク、フレキシブルディスク等の円盤状磁気記録媒体である。また、本実施形態においては、円盤状の基板２１の両面にそれぞれ面内磁気記録層２２を備えた、記録面２ｂ，２ｃが形成されたものを示している。
【００３８】
また、マスター担体３は上記実施形態に示したものであり、スレーブ媒体２の下側記録面２ｂ用の凹凸パターンとして、サーボ領域３５にサーボ信号に応じた凹凸パターンが形成されている。また、マスター担体４は、マスター担体３と同様の層構成からなる、スレーブ媒体２の上側記録面２ｃ用の凹凸パターンが形成されたものである。
【００３９】
図３では、磁気記録媒体２とマスター担体３，４が互いに離間した状態を示しているが、実際の磁気転写は、磁気記録媒体２の記録面２ｂ、２ｃとマスター担体３，４の転写パターン面とを密着させた状態で行う。
【００４０】
図４は、本発明の磁気転写用マスター担体を用いて磁気転写を行うための磁気転写装置の概略構成を示す斜視図である。磁気転写装置１は、マスター担体３，４とスレーブ媒体２とを密着させて保持する転写ホルダー１０および該転写ホルダー１０の内部空間のエアを真空吸引し内部を減圧状態として密着力を得る図示しない真空吸引手段からなる密着圧力印加手段と、転写ホルダー１０を回転させつつ転写用磁界を印加する磁界印加手段５５とを備えてなる。
【００４１】
磁界印加手段５５は、転写ホルダー１０の両側に配設された電磁石装置５０，５０を備えてなり、この電磁石装置５０の転写ホルダー１０の半径方向に延びるギャップ５１を有するコア５２にコイル５３が巻き付けられてなる。両電磁石装置５０，５０はトラック方向と平行な同一の向きの磁界を発生させるものである。また、磁界印加手段５５としては、電磁石装置に代えて永久磁石装置で構成してもよい。垂直記録の場合の磁界印加手段は、転写ホルダー１０の両側に配設された、極性の異なる電磁石または永久磁石から構成することができる。すなわち、垂直記録の場合は、トラック面に垂直な方向に転写用磁界を発生させるものである。
【００４２】
また、磁界印加手段５５は、転写ホルダー１０の開閉動作を許容するように、両側の電磁石装置５０，５０が接離移動するか、電磁石装置５０，５０間に転写ホルダー１０が挿入されるように電磁石装置５０，５０またはホルダー１０が移動するようになっている。
【００４３】
転写ホルダー１０は、相対的に接離移動可能な左側の片側ホルダー１１と右側の他側ホルダー１２とを備え、その内部に形成される内部空間に、スレーブ媒体２およびマスター担体３を収容して、この内部空間の減圧によりスレーブ媒体２とマスター担体３とを中心位置を合わせた状態で重ね合わせて対峙密着させるものである。
【００４４】
片側ホルダー１１の押圧面には、スレーブ媒体２の片面にサーボ信号等の情報を転写する一方のマスター担体３およびスレーブ媒体２を吸着等により保持し、他側ホルダー１２の押圧面には、スレーブ媒体２の他面にサーボ信号等の情報を転写する他方のマスター担体４を吸着等により保持する。
【００４５】
片側ホルダー１１および他側ホルダー１２の背面の中心位置には、それぞれ支持軸が突設され、装置本体に支持され、回転機構に連係されて磁気転写時に回転駆動される。
【００４６】
また、転写ホルダー１０の内部空間は、密着時には所定の真空度に減圧されて、スレーブ媒体２とマスター担体３，４との密着力を得るととともに、密着面のエア抜きを行って密着性を高めるとともに、大気開放時および剥離時には圧縮空気の導入が行われる。また、密着力の印加のために、真空吸引に加えて、転写ホルダーを外部から機械的に加圧してもよい。
【００４７】
次に、上記磁気転写装置１による磁気転写方法について説明する。上記磁気転写装置の転写ホルダー１０は、一組のマスター担体３，４により複数のスレーブ媒体２に対する磁気転写を行うものであり、まず片側ホルダー１１および他側ホルダー１２にマスター担体３，４をそれぞれ位置を合わせて保持させておく。そして、片側ホルダー１１と他側ホルダー１２とを離間した開状態で、予め面内方向または垂直方向の一方に初期磁化したスレーブ媒体２を中心位置を合わせてセットした後、他側ホルダー１２を片側ホルダー１１に接近移動させ閉状態とする。スレーブ媒体２およびマスター担体３，４を収容した転写ホルダー１０の内部空間を真空吸引することにより減圧し、スレーブ媒体２とマスター担体３，４とに均一に密着力を加え密着させる。密着力の印加のために、真空吸引に加えて、転写ホルダーを外部から機械的に加圧してもよい。
【００４８】
その後、転写ホルダー１０の両側に電磁石装置５０を接近させ、転写ホルダー１０を回転させつつ電磁石装置５０によって初期磁化とほぼ反対方向に転写用磁界を印加し、マスター担体３の転写パターンに応じた磁化パターンをスレーブ媒体２の磁気記録層に転写記録する。
【００４９】
図５は、面内磁気記録媒体への磁気転写の基本工程を説明するための図であり、図５（ａ）は磁界を一方向に印加してスレーブ媒体を初期直流磁化する工程、（ｂ）はマスター担体とスレーブ媒体とを密着させて初期直流磁界とは略反対方向に磁界を印加する工程、（ｃ）は磁気転写後のスレーブ媒体の記録再生面の状態をそれぞれ示す図である。なお、図５においてスレーブ媒体２についてはその下面記録面２ｂ側のみを示している。
【００５０】
図５（ａ）に示すように、予めスレーブ媒体２にトラック方向の一方向の初期直流磁界Ｈｉｎを印加して磁気記録層２２の磁化を初期直流磁化させておく。その後、図５（ｂ）に示すように、このスレーブ媒体２の記録面２ｂとマスター担体３の転写パターン面とを密着させ、スレーブ媒体２のトラック方向に前記初期直流磁界Ｈｉｎとは逆方向の転写用磁界Ｈｄｕを印加する。スレーブ媒体２とマスター担体３の転写パターンの密着した箇所において、転写用磁界Ｈｄｕは、マスター担体３の凸部に吸い込まれ、この部分に対応するスレーブ媒体２の磁化は反転せずその他の部分の初期磁化が反転する。その結果、図５（ｃ）に示すように、スレーブ媒体２の下側記録面２ｂの磁気記録層２２にはマスター担体３の凹凸パターンに応じた情報（例えばサーボ信号）が磁気的に転写記録される。ここでは、スレーブ媒体２の下側記録面２ｂへの下側マスター担体３による磁気転写について説明したが、磁気記録媒体２の上側記録面２ｃについても上側マスター担体４と密着させて同様に磁気転写を行う。なお、磁気記録媒体２の上下記録面２ｂ、２ｃへの磁気転写は同時になされてもよいし、片面ずつ順次なされてもよい。
【００５１】
なお、初期直流磁界および転写用磁界は、スレーブ媒体の保磁力、マスター担体およびスレーブ媒体の比透磁率等を勘案して定められた値を採用する必要がある。
【００５２】
図５に示して説明した磁気転写の基本工程は、スレーブ媒体が面内記録媒体である場合のものであるが、スレーブ媒体が垂直記録媒体である場合には、初期磁化方向および転写磁界の印加方向を面に垂直な方向とすればよい。なお、垂直記録の場合は、マスター担体の凸部と密着した部分の初期磁化が反転し、その他の部分の初期磁化は反転しない結果として凹凸パターンに応じた磁化パターンが転写される。
【００５３】
スレーブ媒体２としては、ハードディスク、高密度フレキシブルディスクなどの、塗布型磁気記録層あるいは金属薄膜型磁気記録層を備えた円盤状磁気記録媒体を使用することができる。
【００５４】
なお、金属薄膜型磁気記録層を備えた磁気記録媒体の場合、磁性材料として、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ、Ｃｏ／Ｐｄ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。磁性層としては、磁束密度が大きいこと、面内記録なら面内方向、垂直記録なら垂直方向の磁気異方性を有することが、明瞭な転写を行えるため好ましい。好ましい磁性層厚は１０〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００５５】
また、磁性層の下（基板側）には、該磁性層に必要な磁気異方性を持たせるために非磁性の下地層を設けることが好ましい。下地層としては、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ、Ｐｄ等を用いることができるが、結晶構造および格子定数が、その上に設けられる磁性層の結晶構造および格子定数と一致するものを選択する必要がある。好ましい非磁性層の厚みは、１０〜１５０ｎｍであり、さらに好ましくは２０〜８０ｎｍである。
【００５６】
さらに、垂直磁気記録媒体の場合には、磁性層の垂直磁化状態を安定化させ、記録再生時の感度を向上させるために非磁性の下地層の下に軟磁性の裏打ち層を設けてもよい。この裏打ち層としては、ＮｉＦｅ、ＣｏＣｒ、ＦｅＴａＣ、ＦｅＡｌＳｉ等を用いることができる。好ましい裏打ち層の厚みは、５０〜２０００ｎｍであり、さらに好ましくは６０〜４００ｎｍである。
【００５７】
次に、本発明の第２の実施形態の磁気転写用マスター担体についてその一部断面図を図６に示して説明する。第２の実施形態のマスター担体を用いた磁気転写方法は上記第１の実施形態と同様であるので詳細な説明を省略する。
【００５８】
図６に示すように、第２の実施形態の磁気転写用マスター担体３’は、凸部４７上面４７ａのトラック方向幅がＬである凹凸パターン４６を表面に有する基板４１の表面に、凸部４７の上面４７ａにおいて、Ｍｔ／Ｌ＜１．８を満たす厚みＭｔで磁性層４２が形成されてなるものであり、基板４１、磁性層４２を構成する材料、作製方法等はいずれも上記第１の実施形態のマスター担体のものと同様である。
【００５９】
但し、本実施形態の磁気転写用マスター担体３’は、の基板４１の凹凸パターン４６の凸部上面４７ａのトラック方向幅Ｌは８０ｎｍ以下であり、凸部上面４７ａに設けられて磁性層４２の厚みＭｔとトラック方向幅Ｌとの関係が、Ｍｔ／Ｌ＜２．０であり、かつ、基板４１の凹部表面４８ａの凸部４７内側への延長面４８ｂと凸部４７の側面４７ｂとのなす該凸部４７内側の角度θが、７５°≦θ＜９０°である。なお、さらには、８５°≦θ＜９０°かつ、Ｍｔ／Ｌ＜１．６であることが望ましい。
【００６０】
マスター担体３’は、基板４１の凹凸パターン４６が角度θが上記関係を満たす形状で形成されており、磁性層４２がその厚みと凸部上面のトラック方向幅Ｌとが上記関係となるように形成されているため、磁性層成膜時に膜剥離を発生することなく良好な状態で磁性層４２が被膜されている。したがって、このマスター担体３’を用いれば良好な再生信号品位を有する磁気パターンの転写が可能である。
【００６１】
【実験結果】
次に、それぞれ異なる条件で作製したマスター担体について、磁性層成膜後の磁性層の被膜状態を観察して評価を行った実験結果について説明する。
【００６２】
磁気転写用マスター担体は以下の手順で作製した。
【００６３】
基板として、表面に微小凹凸パターンを有するＮｉ基板を用いた。微小凹凸パターンの凸部上面のトラック方向幅Ｌとして、１５０ｎｍ、８０ｎｍおよび５０ｎｍのＮｉ基板をそれぞれ複数枚作製した。さらに、このとき、基板の凹部表面の凸部内側への延長面と凸部の側面とのなす該凸部内側の角度θが、７５°≦θ≦８５°の基板と、８５°≦θ≦９０°の基板をそれぞれ作成した。いずれの基板も凹凸パターンの凸部高さ（溝深さ）は１００ｎｍ、凸部の半径方向長さは１００μｍとした。
【００６４】
磁性層成膜前に基板クリーニングを実施した。クリーニング方法としては、イオンビームガンによる酸素プラズマ処理を用い、Ａｒ流量＝Ｏ２流量＝４０ｓｃｃｍ、加速電圧＝８５Ｖ、放電時間＝３０ｓｅｃ、の条件で実施した。本実験例は前記条件下でクリーニングを実施したが、実施形態としては、酸素プラズマ処理条件は、Ａｒ流量＝２０〜８０ｓｃｃｍ、Ｏ２流量＝２０〜８０ｓｃｃｍ、放電時間＝３０〜３００ｓｅｃの範囲であればよく、クリーニング後のＮｉ基板表面エネルギーが７５ｍＮ／ｍ程度になっていることが好ましい。
【００６５】
基板のクリーニング後、基板表面への磁性層の成膜を行った。磁性層成膜は、ＤＣスパッタリング法を用い、ターゲットにはＦｅ−Ｃｏ（７０−３０ａｔ％）を使用して行った。なお、基板のクリーニングと磁性層成膜は、同チャンバー内で連続して行った。代表的な磁性層成膜条件として、圧力＝０．２９Ｐａ（Ａｒ流量＝５０ｓｃｃｍ）、ＤＣパワー＝１．５ｋＷ、基板−ターゲット間距離を２００ｍｍ、成膜圧力を０．２９Ｐａに設定した。
【００６６】
凹凸パターンの凸部のトラック方向Ｌの複数の基板に対して、それぞれ異なる厚みの磁性層を成膜し、成膜後のマスター担体表面を電子顕微鏡で観察し、基板凸部上面の磁性層被膜状態（磁性層剥離状態）を観察した結果を表１および表２に示す。表１は７５°≦θ＜８５°の内角θの基板を備えたマスター担体についての結果であり、表２は８５°≦θ＜９０°の内角θの基板を備えたマスター担体についての結果を示すものである。凸部上面において膜剥離が全く見られない場合を良好（○）、凸部上面端部（パターンエッジ）における剥離面積が、全凸部上面における端部の１％以内であれば可（△）、凸部上面端部における剥離面積が１％より大きければ不良（×）として評価した。なお、表１および表２中（）内は、各実験例におけるＭｔ／Ｌの値である。
【００６７】
【表１】
2005011384.tif 000003
【表２】
2005011384.tif 000004
表１に示すとおり、７５°≦θ＜８５°であるマスター担体の場合は、Ｌにかかわらず、Ｍｔ／Ｌ＜１．８であれば良好な結果が得られた。一方、Ｌが８０ｎｍ、５０ｎｍの場合には、Ｍｔ／Ｌ＜２．０であれば良好な結果が得られた。
【００６８】
また、表２に示すとおり、８５°≦θ＜９０°であるマスター担体の場合、Ｌが８０ｎｍ、５０ｎｍについては、Ｍｔ／Ｌ＜１．６のとき良好な結果が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図１】磁気転写用マスター担体の表面の一部斜視図
【図２】図１の磁気転写用マスター担体の断面図
【図３】マスター担体とスレーブ媒体とを示す斜視図
【図４】磁気転写装置の概略構成を示す斜視図
【図５】面内磁気記録媒体への磁気転写方法の基本工程を示す図
【図６】本発明の第２の実施形態に係る磁気転写用マスター担体の一部断面図
【符号の説明】
１    磁気転写装置
２    スレーブ媒体
２ａ    スレーブ媒体の基板
２ｂ，２ｃ    磁性層（磁気記録層）
３，４    マスター担体
１０    転写ホルダー
３１    基板
３２    磁性層
３６    凹凸パターン
３７    凸部
３８    凹部
５０    電磁石装置
５５    磁界印加手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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