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【手続補正書】
【提出日】平成22年6月4日(2010.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
便座又は便蓋を開閉駆動するための駆動モータと、
前記駆動モータの駆動力を伝達する歯車列からなる駆動手段と、
前記駆動手段を駆動制御するためのコンピュータ制御手段と、
前記便座又は前記便蓋が開閉動作中に前記駆動手段に外部から作用する力を検知するための荷重検知手段と、を有し、
前記荷重検知手段は、前記荷重検知手段の電気信号の論理状態が変化するために必要な力を定める荷重設定手段を備える一方、
前記コンピュータ制御手段は、前記荷重検知手段の電気信号の論理状態が変化すると、前記駆動モータへの通電を停止する通電停止制御を行うことで、前記便座又は前記便蓋がフリーに回転できる状態となることを特徴とする便座・便蓋の開閉装置。    
【請求項２】  請求項１に記載する便座・便蓋の開閉装置であって、
前記コンピュータ制御手段は、前記便座又は前記便蓋が閉状態から所定開度の間にある場合には、前記荷重検知手段の電気信号の論理状態が変化したときでも、前記通電停止制御を行わないこと、を特徴とする便座・便蓋の開閉装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の便座・便蓋の開閉装置であって、
前記荷重検知手段は、可動接点と固定接点とを備える過負荷検知スイッチを用いており、前記可動接点と前記固定接点とはバネによって離間され、前記駆動手段に負荷がかかることで前記バネの力に抗して前記可動接点が前記固定接点と接触し、前記コンピュータ制御手段が前記通電停止制御を行うことを特徴とする便座・便蓋の開閉装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために成された請求項１に係る発明は、便座・便蓋の開閉装置であって、便座又は便蓋を開閉駆動するための駆動モータと、前記駆動モータの駆動力を伝達する歯車列からなる駆動手段と、前記駆動手段を駆動制御するためのコンピュータ制御手段と、前記便座又は前記便蓋が開閉動作中に前記駆動手段に外部から作用する力を検知するための荷重検知手段と、を有し、前記荷重検知手段は、前記荷重検知手段の電気信号の論理状態が変化するために必要な力を定める荷重設定手段を備える一方、前記コンピュータ制御手段は、前記荷重検知手段の電気信号の論理状態が変化すると、前記駆動モータへの通電を停止する通電停止制御を行うこと、前記便座又は前記便蓋がフリーに回転できる状態となることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
従って、閉状態の便座又は便蓋をコンピュータ制御手段で開動作させると、便座又は便蓋を強制的に回動させなくても、閉状態の便座・便蓋の静止摩擦力や自重の大部分が外部からの力として駆動手段に作用し、荷重検知手段の電気信号の論理状態が変化して、コンピュータ制御手段が通電停止制御を行って、閉状態の便座又は便蓋を開動作させることができないおそれがある。一方、便座又は便蓋が閉状態から所定開度の間にあれば、閉状態の便座・便蓋の静止摩擦力や自重の大部分が外部からの力として駆動手段に作用しても、かかる外部からの力は比較的小さいことから、大きなトルクが駆動手段に作用することはない。
また、請求項３に係る発明は、請求項１又は請求項２に記載の便座・便蓋の開閉装置であって、前記荷重検知手段は、可動接点と固定接点とを備える過負荷検知スイッチを用いており、前記可動接点と前記固定接点とはバネによって離間され、前記駆動手段に負荷がかかることで前記バネの力に抗して前記可動接点が前記固定接点と接触し、前記コンピュータ制御手段が前記通電停止制御を行うことを特徴としている。
適切なばね定数を持つばねを設置することにより、駆動手段の強度の弱い部分が破壊する程の大きなトルクが駆動手段に作用するときに限って、駆動モータへの通電を停止することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月30日(2009.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部材とシャフトの間に間隙を有して前記シャフトに近接して配置された、第１の端部および第２の端部を有する少なくとも１つの導電性部材と、
前記導電性部材の各端部に近接し、前記シャフトに電気結合された１対の電極であって、前記電極の一方は導電性部材の前記第２の端部に電気結合されている電極と、
前記導電性部材の前記第１の端部に電気結合され、前記電極のもう一方に電気結合された符号化ソースとを特徴とするシャフトの磁気符号化システムであって、
前記符号化ソースからの単極電流パルスが前記電極および前記導電性部材に加えられ、それによって前記シャフト内に部分的に符号化された領域を作り出すシステム。
【請求項２】
前記シャフトの少なくとも一部の周りに配置された非導電性符号化アセンブリをさらに含み、前記導電性部材が前記符号化アセンブリ内に配置されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記導電性部材が、前記シャフトの一部に対し軸方向に沿って配向されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記導電性部材が、前記シャフトの一部に対し周面方向に沿って配向されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記導電性部材が、前記シャフトの一部に対し斜めに配向されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記電極が、前記シャフトに一時的に結合されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記導電性部材の少なくとも２つが、対向する極性の部分的に符号化された領域を作り出すために、前記シャフト周りで互いに隣接して位置決めされている、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記隣接する部分的に符号化された領域の間に形成された磁気ドメイン境界をさらに特徴とする、請求項７記載のシステム。
【請求項９】
隣接する前記導電性部材が、互いに密接して位置決めされている、請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記導電性部材の少なくとも１つが、前記シャフトの少なくとも一部の周りに配向された複数の導電性部材を備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記シャフトが、強磁性材料でできている、請求項１記載のシステム。
【請求項１２】
前記強磁性材料がスチールである、請求項１１記載のシステム。
【請求項１３】
前記シャフトの表面周りに加えられた強磁性材料の層を有する、請求項１記載のシステム。
【請求項１４】
前記導電性部材が、ほぼ直線または円形であり、前記シャフトの一部に沿って長手方向にまたは周面方向に延びている、請求項１記載のシステム。
【請求項１５】
第１の端部および第２の端部を有する少なくとも１つの導電性部材を前記シャフトの一部の周りに密接して配置するステップと、
電極を第１の端部および第２の端部に近接して前記シャフト上に配置するステップであって、前記第２の端部電極が前記導電性部材の前記第２の端部に結合されているステップと、
前記第１の端部電極を電流源に電気結合させ、前記電流源を前記導電性部材の前記第１の端部に結合させるステップと、
単極電流パルスを前記導電性部材に加え、それによって部分的に符号化された領域を作り出すステップとを特徴とする、シャフトを符号化する方法。
【請求項１６】
前記導電性部材の少なくとも２つが、前記シャフト周りで互いに隣接して位置決めされており、前記符号化は対向する極性で行われ、それによって得られる分極磁気経路はドメイン境界を有する、請求項１５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月19日(2009.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
単色平行Ｘ線を物体に照射し、物体からの透過Ｘ線、屈折Ｘ線、回折Ｘ線または小角散乱Ｘ線を透過型結晶分析体の結晶格子面にブラッグ角θＢで入射させ、前記透過型結晶分析体の動力学的回折によって透過方向で得られる前方方向回折Ｘ線および回折方向で得られる回折方向回折Ｘ線のうち、前方方向回折Ｘ線を検出して前記物体内の像を暗視野内の明像として得る非破壊分析方法であって、
前記透過型結晶分析体の厚さＨが、Ｎを自然数、Λを消衰距離としたとき、
Ｈ＝［（２Ｎ＋１）／２］・Λ
であることを特徴とする非破壊分析方法。
ただし消衰距離Λは、Ｘ線の波長をλとしたとき、
Λ＝（λｃｏｓθＢ）／｜χＧ｜
で表され、このとき上記χＧは「−［（ｒｅλ２）／πＶＣ］ＦＧ」であり、「ｒｅ」は電子古典半径を、「ＶＣ」は結晶単位格子(＝単位胞体積)を、「ＦＧ」はブラッグ角θＢ≠０の時の結晶構造因子を表す。
【請求項２】
単色平行Ｘ線を物体に照射し、物体からの透過Ｘ線、屈折Ｘ線、回折Ｘ線または小角散乱Ｘ線を透過型結晶分析体の結晶格子面にブラッグ角θＢで入射させ、前記透過型結晶分析体の動力学的回折によって透過方向で得られる前方方向回折Ｘ線および回折方向で得られる回折方向回折Ｘ線のうち、前方方向回折Ｘ線を検出して前記物体内の像を暗視野内の明像として得る非破壊分析装置であって、
前記透過型結晶分析体の厚さＨが、Ｎを自然数、Λを消衰距離としたとき、
Ｈ＝［（２Ｎ＋１）／２］・Λ
であることを特徴とする非破壊分析装置。
ただし消衰距離Λは、Ｘ線の波長をλとしたとき、
Λ＝（λｃｏｓθＢ）／｜χＧ｜
で表され、このとき上記χＧは「−［（ｒｅλ２）／πＶＣ］ＦＧ」であり、「ｒｅ」は電子古典半径を、「ＶＣ」は結晶単位格子(＝単位胞体積)を、「ＦＧ」はブラッグ角θＢ≠０の時の結晶構造因子を表す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は上記目的を達成するために、単色平行Ｘ線を物体に照射し、物体からの透過Ｘ線、屈折Ｘ線、回折Ｘ線または小角散乱Ｘ線を透過型結晶分析体の結晶格子面に視斜角θで入射させ、前記透過型結晶分析体の動力学的回折によって透過方向で得られる前方方向回折Ｘ線および回折方向で得られる回折方向回折Ｘ線のうち、前方方向回折Ｘ線を検出して前記物体内の像を暗視野内の明像として得る非破壊分析方法であって、前記透過型結晶分析体の厚さＨが、Ｎを自然数、Λを消衰距離としたとき、Ｈ＝［（２Ｎ＋１）／２］・Λであることを特徴としている。ただし消衰距離Λは、Ｘ線の波長をλとしたとき、「Λ＝（λｃｏｓθＢ）／｜χＧ｜」で表され、このとき上記χＧは「−［（ｒｅλ２）／πＶＣ］ＦＧ」であり、「ｒｅ」は電子古典半径を、「ＶＣ」は結晶単位格子(＝単位胞体積)を、「ＦＧ」はブラッグ角θＢ≠０の時の結晶構造因子を表す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに、本発明は、単色平行Ｘ線を物体に照射し、物体からの透過Ｘ線、屈折Ｘ線、回折Ｘ線または小角散乱Ｘ線を透過型結晶分析体の結晶格子面に視斜角θで入射させ、前記透過型結晶分析体の動力学的回折によって透過方向で得られる前方方向回折Ｘ線および回折方向で得られる回折方向回折Ｘ線のうち、前方方向回折Ｘ線を検出して前記物体内の像を暗視野内の明像として得る非破壊分析装置であって、前記透過型結晶分析体の厚さＨが、Ｎを自然数、Λを消衰距離としたとき、Ｈ＝［（２Ｎ＋１）／２］・Λであることを特徴とする。ただし消衰距離Λは、Ｘ線の波長をλとしたとき、「Λ＝（λｃｏｓθＢ）／｜χＧ｜で表され、このとき上記χＧは「−［（ｒｅλ２）／πＶＣ］ＦＧ」であり、「ｒｅ」は電子古典半径を、「ＶＣ」は結晶単位格子(＝単位胞体積)を、「ＦＧ」はブラッグ角θＢ≠０の時の結晶構造因子を表す。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
【数２】
2009294224.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
【数３】
2009294224.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月30日(2010.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
欠陥について基板を検査する自動化システムであって、該基板が、ウェハの少なくとも一部を含み、該システムが、
検査の間、該基板を移動させるように配置されたプラットフォームと、
該基板が視覚検査デバイスに対して移動している間、該基板に関する画像を捕捉するように構成されている視覚検査デバイスと、
該視覚検査デバイスによって該画像を捕捉することを補助するために、該基板が該視覚検査デバイスに対して移動している間に該基板の少なくとも一部を自動的に照射するように構成されたストロボ照射器と、
該捕捉された画像を複数の基板の画像に基づいて生成された参照モデルと比較して、該基板の欠陥を検出するように構成されたプロセッサと
を備えている、自動化システム。
【請求項２】
前記プロセッサが、前記複数の基板の画像を統計的に分析することによって前記参照モデルを生成するようにさらに構成されている、請求項１に記載の自動化システム。
【請求項３】
前記プロセッサが、前記複数の基板の画像を獲得するために、前記プラットフォーム、視覚検査デバイス、およびストロボ照射器を制御するようにさらに構成されている、請求項２に記載の自動化システム。
【請求項４】
前記基板が、全ウェハ、切込みウェハおよび破損ウェハのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の自動化システム。
【請求項５】
前記基板が、ウェハフィルムフレーム、ダイＧｅｌ−Ｐａｋ、ダイワッフルパック、マルチチップモジュール、ＪＥＤＥＣトレイおよびＡｕｅｒボードのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の自動化システム。
【請求項６】
前記ストロボ照射器が、前記基板を可変ストロボレートで選択的に照射するように構成されており、該可変ストロボレートおよび前記視覚検査デバイスに対する該基板の移動に関する速度のうちの少なくとも一方が、他方に相関するように自動的に調節される、請求項１に記載の自動化システム。
【請求項７】
前記プロセッサが、少なくとも２つの既知の品質の基板の画像から参照モデルを生成するように構成されている、請求項１に記載の自動化システム。
【請求項８】
前記視覚検査デバイスが、複数の倍率レベルで前記基板を検査するように構成されており、前記ストロボレートおよび前記視覚検査デバイスに対する該基板の移動に関する速度が、該倍率レベルに相関する、請求項６に記載の自動化システム。
【請求項９】
前記照射器が、前記基板の検査の間、不連続的に前記ストロボレートを変更するように構成されている、請求項６に記載の自動化システム。
【請求項１０】
前記視覚検査デバイスが、１つの基板の検査の間に前記倍率レベルを変更するように構成されている、請求項８に記載の自動化システム。
【請求項１１】
任意の形態の半導体ウェハを検査する自動化方法であって、ウェハは、１つ以上の全パターンウェハ、１つ以上の切込みウェハ、１つ以上の破損ウェハ、１つ以上の部分ウェハ、およびフィルムフレーム上の任意の種類の１つ以上のウェハ、個別のダイ、Ｇｅｌ−Ｐａｋ中の１つ以上のダイ、ワッフルパック中の１つ以上のダイ、マルチチップモジュール（ＭＣＭ）、ＪＥＤＥＣトレイ、Ａｕｅｒボート、ならびに他の欠陥のウェハまたはダイパッケージ構成として定義され得、該方法は、
複数の既知の良好なウェハの光学的視覚を介して、良好なウェハの複数のパラメータに関して、モデルを訓練することと、
複数の未知の品質のウェハを照射器で照射することであって、該照射器は、該ウェハの移動の間に、該未知の品質のウェハの各々に、ストロボ閃光を提供するように構成される、ことと、
該モデルを用いて、複数の未知のウェハを検査することと
を包含する、方法。
【請求項１２】
前記照射することは、一定のレートでストロボ閃光を提供することを包含し、前記方法は、前記レートと、カメラに対する前記未知の品質のウェハの移動速度とを相関させることをさらに包含する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記移動速度を変更することをさらに包含し、該移動速度を変更している間に、画像が前記カメラを用いて収集される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
検査の倍率レベルを変更することと、それに応じて前記ストロボを変更することとをさらに包含する、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記パラメータは、前記ウェハ上の特定の位置に対応する許容度の下限と上限とを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
許容度は、前記ウェハ上の特定の位置に対応する最大輝度および最小輝度の測定値である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
基板を検査する自動化システムであって、該システムは、
試験プレートと、
基板を既知の配向において該試験プレートに提供するロボットであって、該基板は、全パターンウェハ、切込みパターンウェハ、破損パターンウェハ、パターンウェハの少なくとも一部分、個別のダイ、複数の個別のダイのそれぞれの少なくとも一部分、フィルムフレーム上の１つ以上のダイ、ワッフルパック中の複数のダイ、マルチチップモジュール（ＭＣＭ）、ＪＥＤＥＣトレイ、およびＡｕｅｒボートを含む群から選択される、ロボットと、
移動する基板のスチール画像を捕捉することと、既知の品質のレベルを表す基板の統計的モデルを作成するための画像を捕捉することとを行うカメラと、
該移動する基板にストロボ照射を提供する照射器と、
既知の品質のレベルを表す基板の該統計的モデルを形成することと、未知の品質の基板に対する画素データを該統計的モデルと比較することとを行うコントローラと
を備えている、システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月9日(2010.9.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微小物体の操作を可能とするためのマイクロデバイスであって、このマイクロデバイスは樹脂、ガラス、金属、生体高分子、機能性微粒子、またはこれらの混合物から構成されており、さらに静電気力、磁気力、光圧力、流体力のいづれかの力によって捕捉される少なくとも１つの部位と、対象物の操作に適した形状あるいは機構を有する少なくとも１つの部位とを備え、かつ、対象物との接触部位に、酵素、タンパク、核酸、抗体、細胞外マトリクス、脂質、糖鎖、無機触媒の少なくとも１つが固定されており、また、該マイクロデバイス上の対象物との接触部位から十分離れた少なくとも１つの局所領域に蛍光標識を有し、前記蛍光標識された局所領域が、液体の光硬化性樹脂中に、該光硬化性樹脂の硬化波長と異なる励起波長及び蛍光波長を有する蛍光物質を混合した後に、該光硬化性樹脂を光硬化させることにより、硬化した該光硬化性樹脂中に蛍光物質を包含させる手法により形成されていることを特徴とするマイクロデバイス。
【請求項２】
前記少なくとも１つの部位のＸ、Ｙ、Ｚいずれかの方向の寸法が１００μｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載のマイクロデバイス。
【請求項３】
前記少なくとも１つの蛍光標識された検出用領域のＸ−Ｙ方向の寸法が、５０μｍ未満であることを特徴とする請求項１に記載のマイクロデバイス。
【請求項４】
前記蛍光標識された検出用領域以外の領域に、別の蛍光特性を有する蛍光標識を施したことを特徴とする請求項１に記載のマイクロデバイス。
【請求項５】
前記蛍光標識された複数の検出用領域が、それぞれ異なる蛍光特性を有することを特徴とする請求項１に記載のマイクロデバイス。
【請求項６】
前記少なくとも１つの蛍光標識された検出用領域が、蛍光色素、無機蛍光粒子、量子ドット、蛍光ビーズのいずれか、またはこれらの混合物を含むことを特徴とする請求項１に記載のマイクロデバイス。
【請求項７】
前記静電気力、磁気力、光圧力、流体力等によって流体中で捕捉される少なくとも１つの部位に作用する力と平衡点からの変位の関係が、理論または実験的に校正されていることを特徴とする請求項１に記載のマイクロデバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
このため、本発明が採用した技術解決手段は、
微小物体の操作を可能とするためのマイクロデバイスであって、このマイクロデバイスは樹脂、ガラス、金属、生体高分子、機能性微粒子、またはこれらの混合物から構成されており、さらに静電気力、磁気力、光圧力、流体力のいづれかの力によって捕捉される少なくとも１つの部位と、対象物の操作に適した形状あるいは機構を有する少なくとも１つの部位とを備え、かつ、対象物との接触部位に、酵素、タンパク、核酸、抗体、細胞外マトリクス、脂質、糖鎖、無機触媒の少なくとも１つが固定されており、また、該マイクロデバイス上の対象物との接触部位から十分離れた少なくとも１つの局所領域に蛍光標識を有し、前記蛍光標識された局所領域が、液体の光硬化性樹脂中に、該光硬化性樹脂の硬化波長と異なる励起波長及び蛍光波長を有する蛍光物質を混合した後に、該光硬化性樹脂を光硬化させることにより、硬化した該光硬化性樹脂中に蛍光物質を包含させる手法により形成されていることを特徴とするマイクロデバイスである。
また、前記少なくとも１つの部位のＸ、Ｙ、Ｚいずれかの方向の寸法が１００μｍ未満であることを特徴とするマイクロデバイスである。
また、前記少なくとも１つの蛍光標識された検出用領域のＸ−Ｙ方向の寸法が、５０μｍ未満であることを特徴とするマイクロデバイスである。
また、前記蛍光標識された検出用領域以外の領域に、別の蛍光特性を有する蛍光標識を施したことを特徴とするマイクロデバイスである。
また、前記蛍光標識された複数の検出用領域が、それぞれ異なる蛍光特性を有することを特徴とするマイクロデバイスである。
また、前記少なくとも１つの蛍光標識された検出用領域が、蛍光色素、無機蛍光粒子、量子ドット、蛍光ビーズのいずれか、またはこれらの混合物を含むことを特徴とするマイクロデバイスである。
また、前記静電気力、磁気力、光圧力、流体力等によって流体中で捕捉される少なくとも１つの部位に作用する力と平衡点からの変位の関係が、理論または実験的に校正されていることを特徴とするマイクロデバイスである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月29日(2009.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
教材コンテンツの動画もしくは音声と同期して静止画上にカーソルを表示する遠隔教育システムであって、
教材コンテンツに付随して、一または二以上のページからなる静止画データの表示順序と、ページごとに当該ページで表示すべき静止画データ、当該ページで再生すべき動画データもしくは音声データ、およびページ表示開始時からの経過時間とカーソル位置およびカーソル移動情報と、を関連付けて保存する制御テーブルと、
ページを切り替えると共にページ切り替えタイミングを通知するページ制御手段と、
ページ表示開始時からの時間を計測するタイマ手段と、
前記タイミングの通知を受けて、前記制御テーブルを参照して、動画の所定位置への表示もしくは音声の出力を行うと共にぺージ表示開始時からの経過時間に合わせてカーソルを表示および移動させる再生手段と、を備え、
前記制御テーブルは、ページごとの切り替え条件を保存し、
前記ページ制御手段は、該切り替え条件が成立したか否かを判定し、切り替え条件が成立した場合は、次のページに切り替えることを特徴とする遠隔教育システム。
【請求項２】
前記遠隔教育システムは、複数のユーザ端末と通信ネットワークを介して接続する管理サーバであって、
前記ユーザ端末からアクセスがあると、前記各手段を実現する閲覧プログラムを前記ユーザ端末へ送信すると共にユーザの選択する教材コンテンツおよび該教材コンテンツに付随する制御テーブルを送信し、前記ユーザ端末上で該閲覧プログラムを実行することによって、該制御テーブルに基づいて教材コンテンツを再生することを特徴とする請求項１に記載の遠隔教育システム。
【請求項３】
前記ユーザ端末は、ページごとに静止画を表示し、該ページに関連付けて動画データもしくは音声データを保存すると共に、該ページの静止画上のカーソル位置情報と前記動画データもしくは音声データの録画または録音開始タイミングからの時間とを関連付けて保存することによって前記制御テーブルを生成する編集処理手段を備え、
生成された教材コンテンツおよび制御テーブルを前記管理サーバへアップロードすることを特徴とする請求項２記載の遠隔教育システム。
【請求項４】
前記管理サーバは、他のユーザの端末へ注釈等のデータを送信できる権利である発言権を有する一のユーザ端末を登録または変更する手段を備え、
発言権を有するユーザの端末で実行される前記ページ制御手段は、ページ切り替え時に、サーバ経由で他のユーザの端末に対して次に表示すべきページを指定して、ページ切り替えタイミングを通知することを特徴とする請求項２または３に記載の遠隔教育システム。
【請求項５】
発言権を有するユーザの端末は、表示されている静止画への書込みを受け付け、書込み時のポインタの軌跡を記録し、一定時間の変化のないことを検知して、前記ポインタの基準点からの軌跡情報を前記管理サーバ経由で、他のユーザの端末へ送信する手段と、
前記他のユーザの端末は、前記管理サーバから送られてくる軌跡情報を受信すると、静止画の基準点をもとに該軌跡情報を現在表示中の静止画へ合成して表示することを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一に記載の遠隔教育システム。
【請求項６】
コンピュータシステムを用いて静止画、および、動画もしくは音声の混在するマルチメディアコンテンツの表示制御を行う方法であって、
一または二以上のページからなる静止画の表示順序と、ページごとの切り替え条件と、ページごとに当該ページで表示すべき静止画データ、当該ページで再生すべき動画データもしくは音声データ、および当該ページの表示開始時からの経過時間とカーソル移動情報とを関連付けて保存する制御テーブルを生成する編集処理と、
前記ページごとの切替条件は、通信ネットワークを介して複数で用いる場合は、発言権を有するか発言権を有しないかでそれぞれ異なる条件を設定可能であり、発言権を有する場合は、少なくとも前ページの終了を条件に次のページへ切り変えると共に他のユーザへページ切替のタイミングを通知し、発言権を有しない場合は、当該タイミングの通知を受けてページの切替を行い、個人使用の場合は、前記発言権を有する場合と同様の設定でページの切替を実行するページ切替処理と、
前記タイミングの通知を受けて、前記制御テーブルを参照して、動画データの所定位置への表示もしくは音声データの出力を実行すると共にタイマ手段によって計測されたぺージ表示開始時からの経過時間に合わせてカーソルを表示および移動させる再生処理と、
を含むことを特徴とするマルチメディアコンテンツの表示制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月11日(2010.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極及び第２の電極をそれぞれ有する複数の光電変換素子と、前記複数の光電変換素子のうち対応する光電変換素子の第１の電極にソース及びドレインの一方がそれぞれ接続された複数の薄膜トランジスタと、前記複数の薄膜トランジスタのゲートに電気的に接続された複数のゲートラインと、前記複数の光電変換素子の第２の電極に接続されたバイアスラインと、が配されたマトリックスパネルを有する光電変換装置であって、
前記マトリックスパネルは、
前記バイアスラインに接続された一端と前記ゲートラインに接続された他端とを有する第１の抵抗と、
隣接する２つの前記ゲートラインのうちの一方のゲートラインに接続された一端と他方のゲートラインに接続された他端とをそれぞれ有する複数の第２の抵抗と、
を更に備えることを特徴とする光電変換装置。
【請求項２】
前記第１の抵抗と前記第２の抵抗との少なくとも一方は、半導体層を有することを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置。
【請求項３】
前記マトリックスパネルは、前記複数の薄膜トランジスタのソース及びドレインの他方に電気的に接続された複数の転送ラインを更に有し、
前記光電変換装置は、
前記複数のゲートラインのそれぞれへ電圧を供給する第１のドライバと、
前記バイアスラインを通じて前記複数の光電変換素子にバイアスを供給する第２のドライバと、
前記複数の転送ラインに接続され、前記複数の転送ラインにより転送された信号を処理する信号処理ＩＣと
を更に有することを特徴とする請求項１又は２に記載の光電変換装置。
【請求項４】
前記マトリックスパネルは、前記複数の薄膜トランジスタのソース及びドレインの他方に電気的に接続された複数の転送ラインを更に有し、
前記複数の転送ラインのうちの１つの転送ラインと前記バイアスラインとの間と、前記複数の転送ラインの間とに設けられた半導体層により、前記バイアスラインと前記複数の転送ラインとが電気的に接続される
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の光電変換装置。
【請求項５】
前記複数のゲートラインと前記第１のドライバとの間に接続された複数の第３の抵抗と、
前記バイアスラインと前記第２のドライバとの間に接続された第４の抵抗と、
を更に有し、
前記第２の抵抗の値Ｒｓは、前記薄膜トランジスタのスレッショルド電圧をＶth、前記薄膜トランジスタをオンさせるために前記第１のドライバにより印加される電圧の値をＶgh、前記薄膜トランジスタをオフさせるために前記第１のドライバにより印加される電圧の値をＶgl、前記第３の抵抗の値をＲｏ、前記第４の抵抗の値をＲｏとするとき、
Ｒｓ＞（Ｖgl＋Ｖgh−２Ｖth）Ｒｏ／（Ｖth−Ｖgl）
を満たすことを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の光電変換装置。
【請求項６】
前記第１の抵抗の値Ｒvs-gは、
Ｒvs-g＞Ｒｓ、かつ、Ｒvs-g＞１００Ｒｏ
を満たすことを特徴とする請求項５に記載の光電変換装置。
【請求項７】
前記バイアスラインを複数有し、
複数の前記バイアスラインの間に接続された第５の抵抗がさらに配され、
前記第５の抵抗の値Ｒvs-vsは、
Ｒvs-vs＞１００Ｒｏ
を満たすことを特徴とする請求項５又は６に記載の光電変換装置。
【請求項８】
第１の電極及び第２の電極をそれぞれ有する複数の光電変換素子と、前記複数の光電変換素子のうち対応する光電変換素子の第１の電極にソース及びドレインの一方がそれぞれ接続された複数の薄膜トランジスタと、前記複数の薄膜トランジスタのゲートに電気的に接続された複数のゲートラインと、前記複数の光電変換素子の第２の電極に接続されたバイアスラインとが配されたマトリックスパネルと、前記複数のゲートラインのそれぞれへ電圧を供給する第１のドライバと、前記バイアスラインを通じて前記バイアスを供給する第２のドライバと、を有する光電変換装置の製造方法であって、
前記バイアスラインに接続された一端と前記ゲートラインに接続された他端とを有する第１の抵抗を配するとともに、隣接する２つの前記ゲートラインのうちの一方のゲートラインに接続された一端と他方のゲートラインに接続された他端とをそれぞれ有する複数の第２の抵抗を配する第１のステップと、
前記第１のドライバを前記複数のゲートラインに接続するとともに、前記第２のドライバを前記バイアスラインに接続する第２のステップと、
を有することを特徴とする製造方法。
【請求項９】
前記マトリックスパネルは、前記複数の薄膜トランジスタのソース及びドレインの他方に電気的に接続された複数の転送ラインを更に有し、
前記第１のステップは、前記複数の転送ラインのうちの１つの転送ラインと前記バイアスラインとの間と、前記複数の転送ラインの間とに半導体層を配することにより、前記バイアスラインと前記複数の転送ラインとを電気的に接続するステップを含む
ことを特徴とする請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記光電変換装置は、前記複数の転送ラインにより転送された信号を処理する信号処理ＩＣを更に有し、
前記第２のステップは、
前記第１のステップにおいて電気的に接続された前記バイアスラインと前記複数の転送ラインとを電気的に分離するステップと、
前記信号処理ＩＣを前記複数の転送ラインに接続するステップと、
を含むことを特徴とする請求項９に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光電変換装置及びその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の１つの側面に係る光電変換装置は、第１の電極及び第２の電極をそれぞれ有する複数の光電変換素子と、前記複数の光電変換素子のうち対応する光電変換素子の第１の電極にソース及びドレインの一方がそれぞれ接続された複数の薄膜トランジスタと、前記複数の薄膜トランジスタのゲートに電気的に接続された複数のゲートラインと、前記複数の光電変換素子の第２の電極に接続されたバイアスラインと、が配されたマトリックスパネルを有する光電変換装置であって、前記マトリックスパネルは、前記バイアスラインに接続された一端と前記ゲートラインに接続された他端とを有する第１の抵抗と、隣接する２つの前記ゲートラインのうちの一方のゲートラインに接続された一端と他方のゲートラインに接続された他端とをそれぞれ有する複数の第２の抵抗と、を更に備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月7日(2010.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記第２レンズないし前記第５レンズのそれぞれのレンズの両面が非球面形状を有し、
さらに以下の条件式を満足する
ことを特徴とする請求項１に記載の５枚構成の撮像レンズ。
ＤＬ２ｆ＜ＤＬ２ｆｐ    ……（１）
ただし、
ＤＬ２ｆ：第２レンズの物体側の面における有効径端部での面形状の深さ
ＤＬ２ｆｐ：第２レンズの物体側の面を、中心部から周辺部まで光軸近傍の近軸曲率半
径で構成した場合の、有効径端部での面形状の深さ
とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
【図１】本発明の一実施の形態に係る撮像レンズの第１の構成例を示すものであり、実施例１に対応するレンズ断面図である。
【図２】本発明の一実施の形態に係る撮像レンズの第２の構成例を示すものであり、実施例２に対応するレンズ断面図である。
【図３】本発明の一実施の形態に係る撮像レンズの第３の構成例を示すものであり、実施例３に対応するレンズ断面図である。
【図４】本発明の一実施の形態に係る撮像レンズの第４の構成例を示すものであり、実施例４に対応するレンズ断面図である。
【図５】本発明の一実施の形態に係る撮像レンズの第５の構成例を示すものであり、実施例５に対応するレンズ断面図である。
【図６】本発明の一実施の形態に係る撮像レンズの第６の構成例を示すものであり、実施例６に対応するレンズ断面図である。
【図７】本発明の一実施の形態に係る撮像レンズの第７の構成例を示すものであり、実施例７に対応するレンズ断面図である。
【図８】本発明の一実施の形態に係る撮像レンズの第８の構成例を示すものであり、実施例８に対応するレンズ断面図である。
【図９】本発明の一実施の形態に係る撮像レンズの第９の構成例を示すものであり、実施例９に対応するレンズ断面図である。
【図１０】本発明の一実施の形態に係る撮像レンズの第１０の構成例を示すものであり、実施例１０に対応するレンズ断面図である。
【図１１】本発明の実施例１に係る撮像レンズの基本的なレンズデータを示す図である。
【図１２】本発明の実施例２に係る撮像レンズの基本的なレンズデータを示す図である。
【図１３】本発明の実施例３に係る撮像レンズの基本的なレンズデータを示す図である。
【図１４】本発明の実施例４に係る撮像レンズの基本的なレンズデータを示す図である。
【図１５】本発明の実施例５に係る撮像レンズの基本的なレンズデータを示す図である。
【図１６】本発明の実施例６に係る撮像レンズの基本的なレンズデータを示す図である。
【図１７】本発明の実施例７に係る撮像レンズの基本的なレンズデータを示す図である。
【図１８】本発明の実施例８に係る撮像レンズの基本的なレンズデータを示す図である。
【図１９】本発明の実施例９に係る撮像レンズの基本的なレンズデータを示す図である。
【図２０】本発明の実施例１０に係る撮像レンズの基本的なレンズデータを示す図である。
【図２１】本発明の実施例１に係る撮像レンズの非球面に関するデータを示す図である。
【図２２】本発明の実施例２に係る撮像レンズの非球面に関するデータを示す図である。
【図２３】本発明の実施例３に係る撮像レンズの非球面に関するデータを示す図である。
【図２４】本発明の実施例４に係る撮像レンズの非球面に関するデータを示す図である。
【図２５】本発明の実施例５に係る撮像レンズの非球面に関するデータを示す図である。
【図２６】本発明の実施例６に係る撮像レンズの非球面に関するデータを示す図である。
【図２７】本発明の実施例７に係る撮像レンズの非球面に関するデータを示す図である。
【図２８】本発明の実施例８に係る撮像レンズの非球面に関するデータを示す図である。
【図２９】本発明の実施例９に係る撮像レンズの非球面に関するデータを示す図である。
【図３０】本発明の実施例１０に係る撮像レンズの非球面に関するデータを示す図である。
【図３１】条件式に関する値を各実施例についてまとめて示した図である。
【図３２】本発明の実施例１に係る撮像レンズの諸収差を示す収差図であり、（Ａ）は球面収差、（Ｂ）は非点収差（像面湾曲）、（Ｃ）は歪曲収差を示す。
【図３３】本発明の実施例２に係る撮像レンズの諸収差を示す収差図であり、（Ａ）は球面収差、（Ｂ）は非点収差（像面湾曲）、（Ｃ）は歪曲収差を示す。
【図３４】本発明の実施例３に係る撮像レンズの諸収差を示す収差図であり、（Ａ）は球面収差、（Ｂ）は非点収差（像面湾曲）、（Ｃ）は歪曲収差を示す。
【図３５】本発明の実施例４に係る撮像レンズの諸収差を示す収差図であり、（Ａ）は球面収差、（Ｂ）は非点収差（像面湾曲）、（Ｃ）は歪曲収差を示す。
【図３６】本発明の実施例５に係る撮像レンズの諸収差を示す収差図であり、（Ａ）は球面収差、（Ｂ）は非点収差（像面湾曲）、（Ｃ）は歪曲収差を示す。
【図３７】本発明の実施例６に係る撮像レンズの諸収差を示す収差図であり、（Ａ）は球面収差、（Ｂ）は非点収差（像面湾曲）、（Ｃ）は歪曲収差を示す。
【図３８】本発明の実施例７に係る撮像レンズの諸収差を示す収差図であり、（Ａ）は球面収差、（Ｂ）は非点収差（像面湾曲）、（Ｃ）は歪曲収差を示す。
【図３９】本発明の実施例８に係る撮像レンズの諸収差を示す収差図であり、（Ａ）は球面収差、（Ｂ）は非点収差（像面湾曲）、（Ｃ）は歪曲収差を示す。
【図４０】本発明の実施例９に係る撮像レンズの諸収差を示す収差図であり、（Ａ）は球面収差、（Ｂ）は非点収差（像面湾曲）、（Ｃ）は歪曲収差を示す。
【図４１】本発明の実施例１０に係る撮像レンズの諸収差を示す収差図であり、（Ａ）は球面収差、（Ｂ）は非点収差（像面湾曲）、（Ｃ）は歪曲収差を示す。
【図４２】第２レンズの物体側の面形状についての説明図である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月7日(2010.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
さらに、以下の条件を適宜選択的に満足することが好ましい。
４０≦ν４    ……（３）
０．２≦ｆ３／ｆ≦０．４    ……（４）
１．０≦ＤＬ／ｆ≦１．３    ……（５）
４０≦ν５    ……（６）
−１．０≦ｆ４／ｆ≦０    ……（７）
０．８≦ｆ５／ｆ≦４．０    ……（８）
０．７≦｜Ｒ１／Ｒ２｜≦８．０    ……（９）
０．７５≦ｆ１／ｆ≦５．０    ……（１０）
１．４≦ＴＬ／ｆ≦１．８０    ……（１１）
０．４≦｜Ｒ９／ｆ｜≦６．０    ……（１２）
０．５≦｜ｆ２／ｆ１｜≦１０．０    ……（１３）
０．８≦｜ｆ３＊（１／ｆ４＋１／ｆ５）｜≦１．５    ……（１４）
７０≦ν１    ……（１５）
ただし、
ν１：第１レンズＬ１のアッベ数
ν４：第４レンズＬ４のアッベ数
ν５：第５レンズＬ５のアッベ数
ＤＬ：第１レンズＬ１の物体側面頂点から第５レンズＬ５の像側面頂点までの光軸上の
距離（図１参照）
ｆ１：第１レンズＬ１の近軸焦点距離
ｆ２：第２レンズＬ２の近軸焦点距離
ｆ３：第３レンズＬ３の近軸焦点距離
ｆ４：第４レンズＬ４の近軸焦点距離
ｆ５：第５レンズＬ５の近軸焦点距離
Ｒ１：第１レンズＬ１の物体側の面の近軸曲率半径
Ｒ２：第１レンズＬ１の像側の面の近軸曲率半径
Ｒ９：第５レンズＬ５の物体側の面の近軸曲率半径
ＴＬ：全長（最も物体側の面から像面までの光軸上距離。第５レンズＬ５から像面まで
は空気換算長）
とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月1日(2010.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体を層毎に構築するために構築媒質に施されるエネルギーに反応して構築媒質から三次元物体を製造するための装置であって、
a)  構築媒質から三次元物体を製造するためのハウジング内にチャンバを画成する少なくとも１つの内部フレームを有するハウジング、
b)  前記チャンバ内に受け入れられるように適合され、前記フレームに関して適所に解放可能に固定された、前記構築媒質のための容器、
c)  前記容器内の前記構築媒質の表面層の選択された部分にエネルギーを供給して、前記層部分を固化するための、前記チャンバ内にあるエネルギー源、
d)  前記構築媒質の固化した層部分を支持するための構築台であって、前記構築媒質の表面の下で前記容器内に嵌るように適合された構築台、
e)  前記構築台を水平方向に解放可能に固定し、それによって、前記構築台を昇降させるために、垂直に上下動し、前記チャンバ内で水平に延在するように前記フレームに平行移動可能に固定された昇降機、
f)  前記構築台および三次元物体を受け取り、これらを前記昇降機から取り出すための、前記構築媒質の容器に関して適所に解放可能に固定される、アームを有するカート、および
g)  前記構築媒質へのエネルギーの供給を制御するための前記エネルギー源に、前記構築台を垂直平行移動させるために前記昇降機に、前記構築台および前記三次元物体を前記昇降機から取り出すために前記カートに、動作可能に接続されたコントローラ、
を備えた装置。
【請求項２】
前記構築台が第１の構築台であり、前記装置が、前記第１の構築台が前記昇降機から取り出された後に前記コントローラに応答して前記昇降機に載置するために前記カート上に前記アームにより支持された第２の構築台をさらに備えることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記コントローラが、１つの以上の物体表示を受け取り、該１つ以上の物体表示に応答して、前記エネルギー源および昇降機を制御し、該昇降機および前記カートを制御して、前記第１の構築台の前記昇降機からの取出しと前記第２の構築台の該昇降機上への配置を行うためのプログラム可能なプロセッサを備えることを特徴とする請求項２記載の装置。
【請求項４】
前記アームが、第１と第２の部分を有する一組のアームを有し、前記第１の部分が前記第１の構築台を支持し、前記第２の部分が第２の構築台を支持するものであることを特徴とする請求項２記載の装置。
【請求項５】
前記装置がステレオリソグラフィー装置であり、前記容器が液体樹脂のための槽であり、前記エネルギー源がレーザであることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項６】
構築台を受け取るための、前記アームにより支持された垂れ受けトレイをさらに備えることを特徴とする請求項５記載の装置。
【請求項７】
前記コントローラに動作可能に接続され、該コントローラに応答して垂直および水平に動かすための前記フレームに平行移動可能に固定されたリコータをさらに備えることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記コントローラに動作可能に接続され、前記容器内の前記構築媒質の表面のレベルを測定するための、前記フレームに固定されたセンサをさらに備えることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項９】
それぞれ、三次元物体を別々に製造するためのチャンバを画成する２つの内部フレームを備えることを特徴とする請求項１記載の装置。
【請求項１０】
液体樹脂にレーザを層毎に適用することによって、液体樹脂から三次元物体を製造するためのステレオリソグラフィー装置であって、構築台を無人で交換するために伸縮式アームを有するカートを備えた装置。
【請求項１１】
コントローラに動作可能に接続された、ステレオリソグラフィー装置から構築台を無人で取り出すためのカートであって、基部、垂直に延在する支持部、および構築台をその上に受け取るためにステレオリソグラフィーチャンバ中に延在する、コントローラに応答して前記支持部から延在する伸縮式アームを備えたカート。
【請求項１２】
前記伸縮式アームが、構築台を無人で交換するために第２の構築台を支持することを特徴とする請求項１１記載のカート。
【請求項１３】
前記伸縮式アームが、構築台を受け取るための垂れ受けトレイを備えることを特徴とする請求項１１記載のカート。
【請求項１４】
ステレオリソグラフィーチャンバ内で構築台を無人で一回交換するための、コントローラに動作可能に接続されたカートであって、基部、垂直に延在する支持部、および垂れ受けトレイを支持し、構築台を該垂れ受けトレイ上に受け取るためにステレオリソグラフィーチャンバ中に延在する、コントローラに応答して前記支持部から延在する第１の伸縮式アーム、並びに前記交換を行うために前記ステレオリソグラフィーチャンバ内に別の構築台を導入するために該ステレオリソグラフィーチャンバ中に延在するその上に別の構築台を支持する第２の伸縮式アームを備えたカート。
【請求項１５】
予めプログラムされたコントローラにしたがって物体を層毎に構築するために構築媒質に施されたエネルギーに反応して構築媒質から三次元物体を製造する方法であって、予めプログラムされたコントローラにしたがって、少なくとも１つの第１の構築物を完成し、少なくとも１つの第２の構築物の製造を開始できるように前記少なくとも１つの第１の構築物を自動的に取り出す各工程を実施する方法。
【請求項１６】
予めプログラムされたコントローラに応答して、少なくとも１つの第２の構築物の製造を開始する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの構築物を取り出す工程が、前記リコータを待機させる工程を含むことを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項１８】
１つ以上の第２の構築物の製造を開始できるように少なくとも２つの第１の構築物の製造を完了し、該第１の構築物を自動的に取り出す各工程を含むことを特徴とする請求項１５記載の方法。
【請求項１９】
前記少なくとも２つの第１の構築物の製造を完了する工程が、該２つの第１の構築物の一方の構築物について、次いで、他方の構築物について交互に、１つのエネルギー源からのエネルギーを新たな媒質の層に施して該媒質を固化し、エネルギーの施用の間に、一方と次いで他方の第１の構築物の固化した層の上にリコータを掃引して新たな媒質の層をその上に堆積させ、層へのエネルギーの施用と固化した区域に亘るリコータの掃引を繰り返す各工程を含み、前記２つの第１の構築物の製造が、層毎のエネルギーの施用とリコーティングの交互の一連の工程を行うことによって完了することを特徴とする請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
液体樹脂の槽内の物体支持台上で三次元物体を層毎に構築するステレオリソグラフィー方法であって、液体樹脂の槽内で第１の構築物のための支持台上で第１の構築物の製造を完了し、前記第１の構築物と支持台を第２の構築物のための第２の支持台と無人で交換する各工程を含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月19日(2010.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒体から成るゴム製のインナパーツの表面に電気発熱体を取り付け、これらの上にゴム製の筒状のアウタパーツを挿着したことを特徴とする電熱ヒータ付きハンドル用グリップ部材。
【請求項２】
前記電気発熱体はテープ状の金属導体であり、前記インナパーツ上に螺旋状に巻回したことを特徴とする請求項１に記載の電熱ヒータ付きハンドル用グリップ部材。
【請求項３】
前記インナパーツの表面に、複数の凹溝を螺旋状に形成し、前記電気発熱体は前記凹溝に沿って巻回したことを特徴とする請求項２に記載の電熱ヒータ付きハンドル用グリップ部材。
【請求項４】
前記インナパーツの内面に滑り止め用のリブを設けたことを特徴とする請求項１〜３の何れか１つの請求項に記載の電熱ヒータ付きハンドル用グリップ部材。
【請求項５】
前記アウタパーツは前記インナパーツに接着剤を用いて固定したことを特徴とする請求項１〜４の何れか１つの請求項に記載の電熱ヒータ付きハンドル用グリップ部材。
【請求項６】
前記アウタパーツの表面に孔部を穿けた筒状のメタルパーツを被着し、前記孔部に前記アウタパーツの表面の一部を嵌め込んだことを特徴とする請求項１〜５の何れか１つの請求項に記載の電熱ヒータ付きハンドル用グリップ部材。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月13日(2010.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線発生手段と、当該Ｘ線発生手段から照射されたＸ線を検出する多列Ｘ線検出器とを、当該Ｘ線発生手段と当該多列Ｘ線検出器の間の回転中心の周りに回転させて収集した投影データを基に断層像を画像再構成する画像再構成方法であって、
前記多列Ｘ線検出器のチャネル方向にフィルタ係数が異なる列方向フィルタを重畳した投影データを基に３次元逆投影処理を行い、断層像を画像再構成する
画像再構成方法。
【請求項２】
前記列方向フィルタを施した後に再構成関数を重畳した投影データに基づき３次元逆投影処理を行う、
請求項１に記載の画像再構成方法。
【請求項３】
再構成関数を重畳した後に前記列方向フィルタを施した投影データに基づき３次元逆投影処理を行う、
請求項１に記載の画像再構成方法。
【請求項４】
前記フィルタ係数は、中心部チャネルの方が周辺部チャネルよりも大きい
請求項１から請求項３のいずれかに記載の画像再構成方法。
【請求項５】
前記投影データは、コンベンショナルスキャン、ヘリカルスキャン、またはシネスキャンにより収集されたものである
請求項１から請求項４のいずれかに記載の画像再構成方法。
【請求項６】
前記列方向フィルタのフィルタ係数が、逆重畳フィルタである
請求項１から請求項５のいずれかに記載の画像再構成方法。
【請求項７】
前記３次逆投影処理は、線型加重加算、多点加重加算、または非線型な加重加算係数による加重加算により前記列方向の加重加算処理を施す
請求項１から請求項６のいずれかに記載の画像再構成方法。
【請求項８】
前記３次元逆投影処理は、前記Ｘ線検出器による投影データに仮想したＸ線検出器列の投影データを加重加算または列方向フィルタで作成し、当該加重加算された仮想したＸ線検出器列の投影データも含めて３次元逆投影処理を行う
請求項１から請求項７のいずれかに記載の画像再構成方法。
【請求項９】
前記３次元逆投影処理において、前記Ｘ線検出器の投影データと仮想したＸ線検出器の列方向フィルタで作成された仮想投影データを合わせて再構成平面に対応させた場合、ある方向の投影データと仮想投影データを合わせた投影データを対応づけた再構成平面上の間隔を、１８０度対向した方向の投影データと仮想投影データを合わせた投影データを対応づけた再構成平面上の間隔とほぼ等しくなるように処理を行う
請求項８に記載の画像再構成方法。
【請求項１０】
前記Ｘ線検出器の列の投影データ数と仮想したＸ線検出器の列の投影データ数を合わせた全体の投影データ列数は、各投影方向および当該投影方向の１８０度、またはほぼ１８０度対向した方向に最適化されている
請求項８に記載の画像再構成方法。
【請求項１１】
前記Ｘ線検出器の列の投影データ数と仮想したＸ線検出器の列の投影データ数を合わせた全体の投影データ列数は、各投影方向で最大数で全投影方向ビュー方向が統一されている
請求項８に記載の画像再構成方法。
【請求項１２】
Ｘ線発生手段と、
前記Ｘ線発生手段から照射されたＸ線を検出する多列Ｘ線検出器と、
前記Ｘ線発生手段および前記多列Ｘ線検出器とを、当該Ｘ線発生手段と当該多列Ｘ線検出器の間の回転中心の周りに回転させて投影データを収集するデータ収集手段と、
前記データ収集手段により収集された投影データに、前記多列Ｘ線検出器のチャネル方向にフィルタ係数が異なる列方向フィルタを重畳する列方向フィルタ手段と、
前記再構成重畳手段により再構成関数が重畳処理された投影データを、３次元逆投影して断層像を画像再構成する逆投影手段と
を有するＸ線ＣＴ装置。
【請求項１３】
前記列方向フィルタを施した後の投影データに再構成関数を重畳する再構成重畳手段を含む
請求項１２に記載の画像再構成方法。
【請求項１４】
投影データに再構成関数を重畳する再構成重畳手段を含み、
前記列方向フィルタ手段は、前記再構成関数を重畳した後の投影データに前記列方向フィルタを施すものである
請求項１２に記載の画像再構成方法。
【請求項１５】
前記フィルタ係数は、中心部チャネルの方が周辺部チャネルよりも大きい
請求項１２から請求項１４のいずれかに記載の画像再構成方法。
【請求項１６】
前記投影データは、コンベンショナルスキャン、ヘリカルスキャン、またはシネスキャンにより得られたものである
請求項１２から請求項１５のいずれかに記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項１７】
前記列方向フィルタのフィルタ係数が、逆重畳フィルタである
請求項１２から請求項１６のいずれかに記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項１８】
前記逆投影手段は、線型加重加算、多点加重加算、または非線型な加重係数による加重加算により前記列方向の加重加算処理を行う
請求項１２から請求項１７のいずれかに記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項１９】
前記３次元逆投影処理手段は、前記Ｘ線検出器による投影データに仮想したＸ線検出器の列の投影データを加重加算または列方向フィルタで作成し、当該作成された仮想したＸ線検出器の列の投影データも含めて３次元逆投影処理を行う
請求項１２から請求項１８のいずれかに記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項２０】
前記３次元逆投影処理手段は、前記Ｘ線検出器の投影データと仮想したＸ線検出器の加重加算または列方向フィルタで作成された仮想投影データを合わせて再構成平面に対応させた場合、ある方向の投影データと仮想投影データを合わせた投影データを対応づけた再構成平面上の間隔は、１８０度対向した方向の投影データと仮想投影データを合わせた投影データを対応づけた再構成平面上の間隔とほぼ等しい
請求項１２から請求項１９のいずれかに記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項２１】
前記Ｘ線検出器の列の投影データ数と前記仮想したＸ線検出器の列の投影データ数を合わせた全体の投影データ列数は、各投影方向およびその１８０度、またはほぼ１８０度対向した方向に最適化されている
請求項２０に記載のＸ線ＣＴ装置。
【請求項２２】
前記Ｘ線検出器の列の投影データ数と前記仮想したＸ線検出器の列の投影データ数を合わせた全体の投影データ列数は、各投影方向で最大数で全投影方向が統一されている
請求項２０に記載のＸ線ＣＴ装置。