【手続補正書】
【提出日】平成22年3月9日(2010.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族ヒドロキシ化合物とハロゲン化カルボニルとを反応器に供給して反応させることにより、ジアリールカーボネートを連続的に製造する方法であって、
該反応器が反応塔であり、
該反応塔に供給する該ハロゲン化カルボニルの流量をＧ［ｍ3／秒］、該反応塔の水平方向の塔内断面積をＡ［ｍ2］とした場合に、０．０１≦Ｇ／Ａ≦０．１０［ｍ／秒］である
ことを特徴とする、ジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項２】
該反応塔内部の反応系の少なくとも一部が液状であるとともに、
該反応塔内の底部から該反応系の液面までの高さをＨ、該反応塔の内径をＤとした場合に、Ｈ／Ｄ≧１０である
ことを特徴とする、請求項１記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項３】
該芳香族ヒドロキシ化合物を液体状態で、かつ、該ハロゲン化カルボニルを気体状態で、それぞれ該反応塔に供給する
ことを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項４】
該芳香族ヒドロキシ化合物と該ハロゲン化カルボニルとを該反応塔の下部に供給し、該下部から上方に並流させて反応させる
ことを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項５】
該反応塔が、その上部にオーバーフロー管を有し、該オーバーフロー管によって液相と気相とを分離するように構成されるとともに、
該オーバーフロー管の該反応塔における接触下端と、該反応塔内の頂上部との距離をＬ、該反応塔の内径をＤとした場合に、Ｌ／Ｄ≧１である
ことを特徴とする、請求項１〜４の何れか一項に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項６】
該反応塔内の気相体積をＶg、該反応塔内の空間体積をＶVとした場合に、０．０５≦Ｖg／ＶV≦０．５０である
ことを特徴とする、請求項１〜５の何れか一項に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項７】
該反応塔内部の少なくとも一部に充填物を充填した状態で上記反応を行なう
ことを特徴とする、請求項１〜６の何れか一項に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項８】
該充填物が不規則充填物である
ことを特徴とする、請求項７記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項９】
該反応塔内部の該充填物を充填した部分における空間率が、４０％以上、７０％以下である
ことを特徴とする、請求項７又は請求項８に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項１０】
該反応塔内部の少なくとも一部において、該芳香族ヒドロキシ化合物が連続相を形成する
ことを特徴とする、請求項１〜９の何れか一項に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項１１】
該芳香族ヒドロキシ化合物の該反応塔内における滞留時間が、０．５時間以上、４時間以内である
ことを特徴とする、請求項１〜１０の何れか一項に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項１２】
該反応塔に供給される該芳香族ヒドロキシ化合物の温度を１３０℃以上とする
ことを特徴とする、請求項１〜１１の何れか一項に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項１３】
該ハロゲン化カルボニルが、ホスゲンである
ことを特徴とする、請求項１〜１２の何れか一項に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項１４】
反応系に均一触媒を存在させる
ことを特徴とする、請求項１〜１３の何れか一項に記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【請求項１５】
該均一触媒が、芳香族複素環式含窒素塩基性化合物もしくはその塩である
ことを特徴とする、請求項１４記載のジアリールカーボネートの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、該反応塔内部の該充填物を充填した部分における空間率が、４０％以上、７０％以下であることが好ましい（請求項９）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
（充填物）
なお、反応塔１内部の少なくとも一部に、充填物（図１に図示しない）を充填することが好ましい。液体状態の芳香族ヒドロキシ化合物と、気体状態のハロゲン化カルボニルとを反応させるには、反応塔１内において反応系をよく混合し、液相と気相との接触面積を大きくすることが重要である。そのために、反応塔１に充填物を充填し、それにより混合性を高め、より小さな反応塔１で高反応率を達成することができる。以下、充填物について説明する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
充填物は、規則充填物であってもよく、不規則充填物であってもよいが、不規則充填物であることが好ましい。
充填物の材料としては、本発明の効果を著しく損なわない限り制限はないが、例えば、ガラス、セラミック、プラスチック、等を用いることができる。中でも、ガラス、セラミック、等が好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
反応塔１内部の容積に対する、反応塔１内部の充填物を充填した部分の体積の割合が、通常５０％以上、好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上である。この割合が低すぎると、気相が十分に反応系に分散しづらくなる傾向がある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
また、反応塔１内部の充填物を充填した部分の体積に対する、充填物の存在しない間隙部分の割合（空間率）が、通常４０％以上、好ましくは５０％以上、さらに好ましくは５５％以上、また、通常７０％以下、好ましくは６０％以下である。割合が高すぎると気相滞留時間が短くなる傾向がある。また、割合が低すぎると気相及び液相の滞留時間が短くなる傾向がある。なお、充填物が多孔性の場合、充填物内の空隙も「充填物の存在しない間隙部分」に含まれるものとする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
（ハロゲン化カルボニルの供給方法）
反応器に供給するハロゲン化カルボニルの流量（Ｇ［ｍ3／秒］）と、反応器の水平方
向の塔内断面積（Ａ［ｍ2］）との比（Ｇ／Ａ［ｍ／秒］）の値は、通常０．０１ｍ／秒
以上、好ましくは０．０１５ｍ／秒以上、さらに好ましくは０．０２２ｍ／秒以上、また、通常０．１０ｍ／秒以下、好ましくは０．０５ｍ／秒以下、さらに好ましくは０．０３ｍ／秒以下である。Ｇ／Ａ［ｍ／秒］の値が大きすぎると、フラッティングに似た現象が起こる可能性がある。また、上述の範囲を下回るには、反応塔が大きくなる傾向がある。なお、本発明において、反応器に供給するハロゲン化カルボニルの流量（Ｇ［ｍ3／秒］）とは、特に断り書きのない限り、気体の標準状態（２７３．１５Ｋ，１０5Ｐａ）に換算した値をいうものとする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
反応塔内の気相体積（Ｖg）に対する、反応塔内の空間体積（ＶV）の比率（Ｖg／ＶV）の値は、通常０．０１以上、好ましくは０．０５以上、さらに好ましくは０．１０以上、また、通常０．７０以下、好ましくは０．５０以下、さらに好ましくは０．３０以下である。この比率の値が大きすぎると気相滞留時間が短くなる傾向がある。また、小さすぎると反応効率が低下する傾向がある。
ここで、「反応塔内の空間体積」とは、反応塔の液体部分の容積を意味する。図１を例に説明すると、高さＨで表わされる部分の容積を意味する。なお、反応塔に充填物が充填されている場合には、反応塔の液体部分の容積から充填物の体積を除いた値とする。また、多孔性の充填物の場合、充填物の空隙は充填物の体積には含まない。
また、「反応塔の気相体積」とは、反応塔の液相部分に存在する気体の体積をいう。図１を例に説明すると、高さＨで表わされる部分の容積のうち、気泡として存在する気体の体積である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
実施例１〜５の結果について、表１に示す。
【表１】
2008230971.tif 000001
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
以下、比較例１〜３の結果について、表２に示す。
【表２】
2008230971.tif 000002
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
さらに、実施例２と実施例３の塩化カルボニル未反応率を比較すると、充填物が反応塔内部全体に充填されている方が、ジアリールカーボネートを効率よく生産できることが分かった。充填物により気相と液相との接触がよくなるためと推測される。