(57)【要約】  本発明は、ゲッター組成物及びこれを含む有機ＥＬディスプレイ装置に関する。より詳細には、本発明は、カルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基からなる群より選択される少なくとも一つの官能基を有するシリコン共重合体と吸湿剤とを含むゲッター組成物ならびにこれを含むディスプレイ装置に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基からなる群より選択される少なくとも一つの官能基を有するシリコン共重合体と吸湿剤とを含むゲッター組成物。
【請求項２】
前記官能基は、前記シリコン共重合体の側鎖に導入されている、請求項１に記載のゲッター組成物。
【請求項３】
前記シリコン共重合体の重量平均分子量は約１，０００ｇ／ｍｏｌ以上である、請求項１又は２に記載のゲッター組成物。
【請求項４】
前記シリコン共重合体は、下記の化学式１で表される構造を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載のゲッター組成物：
【化１】
2015509041.tif 000010
前記化学式１において、Ｒ１〜Ｒ６は、同一であるか異なり、水素原子、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、またはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基より選択され；
Ｒ７〜Ｒ１０は、同一であるか異なり、水素原子；カルボン酸基；ポリアルキレンオキシド基；Ｃ１―Ｃ６のアルキル基；Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基；Ｃ６―Ｃ２０のアリール基；Ｃ７―Ｃ２０のアラルキル基；カルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基のうちの少なくとも一つを有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基；又は下記の化学式２で表される官能基であり；
【化２】
2015509041.tif 000011
前記化学式２において、Ｒ２０〜Ｒ２８は、同一であるか異なり、水素原子、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、またはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基より選択され；
Ｒ２９〜Ｒ３２は、同一であるか異なり、水素原子；カルボン酸基；ポリアルキレンオキシド基；Ｃ１―Ｃ６のアルキル基；Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基；Ｃ６―Ｃ２０のアリール基；Ｃ７―Ｃ２０のアラルキル基；又はカルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基のうち少なくとも一つを有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基であり；
ｔは１〜１０００であり、ｕは０〜５００であり、ｖは０〜５００であり、ｕおよびｖがいずれも０である場合は除き、
Ｒ７〜Ｒ１０のうちの少なくとも一つは、カルボン酸基；ポリアルキレンオキシド基；またはカルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基のうちの少なくとも一つを有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基であるか；あるいは；Ｒ２９〜Ｒ３２のうちの少なくとも一つが、カルボン酸基、ポリアルキレンオキシド基、またはカルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基のうちの少なくとも一つを有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基；であり、
ｎは０〜１０００であり、ｍは０〜１０００であり、ｎおよびｍがいずれも０である場合は除く。
【請求項５】
カルボン酸基を含むシリコン共重合体（Ａ１）とポリアルキレンオキシド基を含むシリコン共重合体（Ａ２）との混合物を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載のゲッター組成物。
【請求項６】
（Ａ１）に対する（Ａ２）の重量比（Ａ２／Ａ１）は、約０を超え、２以下である、請求項５に記載のゲッター組成物。
【請求項７】
前記吸湿剤の平均粒子直径は約０．１μｍ〜約５μｍである、請求項１〜６のいずれか１項に記載のゲッター組成物。
【請求項８】
前記吸湿剤は、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウム、酸化アルミニウム、酸化バリウム、塩化カルシウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト、硫酸ガリウム、硫酸チタン、硫酸ニッケル、五酸化リン、硫酸ニッケル、分子篩及びこれらの混合物からなる群より選択される、請求項１〜７のいずれか１項に記載のゲッター組成物。
【請求項９】
前記シリコン共重合体を約２０重量％〜約９０重量％、前記吸湿剤を約１０重量％〜約８０重量％含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載のゲッター組成物。
【請求項１０】
エポキシ基を有するシリコン共重合体をさらに含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載のゲッター組成物。
【請求項１１】
前記エポキシ基を有するシリコン共重合体は、下記の化学式４で表される、請求項１０に記載のゲッター組成物：
【化３】
2015509041.tif 000012
前記化学式４において、Ｒ１１〜Ｒ１６は、同一であるか異なり、水素原子、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、又はＣ７―Ｃ２０のアラルキル基より選択され；
Ｒ１７およびＲ１８は、同一であるか異なり、水素原子；エポキシ基；Ｃ１―Ｃ６のアルキル基；Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基；Ｃ６―Ｃ２０のアリール基；Ｃ７―Ｃ２０のアラルキル基；又は、エポキシ基を有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基であり；
Ｒ１７及びＲ１８のうち少なくとも一つは、エポキシ基；又はエポキシ基を有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基であり；
ｓは１〜１０００である。
【請求項１２】
非硬化型組成物である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のゲッター組成物。
【請求項１３】
下記の式１で表される吸湿率が約１０％以上である、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のゲッター組成物：
【数１】
2015509041.tif 000013
前記式１において、Ａはゲッター組成物の初期重量であり、Ｂは２５℃及び相対湿度６０％で５００日間保管した後のゲッター組成物の重量である。
【請求項１４】
前記組成物は、下記の式２で表される、吸湿率測定値（ｈ１）と吸湿率理論値（ｈ０）との差（ｈ１−ｈ０）が約１％以上である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載のゲッター組成物：
【数２】
2015509041.tif 000014
前記式２において、ｈ１は、（Ｂ−Ａ）／Ａ×１００（％）で表され、この際、Ａはゲッター組成物の初期重量であり、Ｂは２５℃及び相対湿度６０％で５００日間保管した後に測定したゲッター組成物の重量である；
ｈ０は、（Ｃ／Ｄ）×Ｅで表され、ゲッター組成物に含まれる吸湿剤１ｍｏｌと水との１００％反応を仮定しており、この際、Ｃはゲッター組成物に含まれる吸湿剤１ｍｏｌが吸収する水分の量であり、Ｄは吸湿剤の分子量であり、Ｅはゲッター組成物に含まれる吸湿剤の含有率（重量％）である。
【請求項１５】
２５℃における粘度が約５，０００ｃｐｓ〜約２０，０００ｃｐｓである、請求項１〜１４のいずれか１項に記載のゲッター組成物。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のゲッター組成物を含むディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ゲッター（ｇｅｔｔｅｒ）組成物及びこれを含む有機ＥＬディスプレイ装置に関する。より詳細には、本発明は、高い吸湿率（ｍｏｉｓｔｕｒｅ  ａｂｓｏｒｐｔｉｏｎ  ｒａｔｅ）、高い吸湿量及び高温多湿下での高い寸法安定性を有し、ディスペンシング（ｄｉｓｐｅｎｓｉｎｇ）工程及び真空ラミネート（ｖａｃｕｕｍ  ｌａｍｉｎａｔｉｏｎ）工程で流動性を制御することができ、有機素子に適用するときにダークスポット（ｄａｒｋ  ｓｐｏｔ）が発生せず、高温多湿下で信頼性の高い有機素子を提供することができるゲッター組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイ、無機発光ダイオード、電界放出ディスプレイ及び有機電界発光素子などのフラットパネルディスプレイや薄型ディスプレイは、湿気にさらされることによって特性が低下し得る。したがって、水分が有機素子まで到達する前にシーラントに染み込んだ水分を吸収することによって生じるダークスポットなどの腐食を防止するためには、ゲッターがディスプレイ内に装着される必要がある。したがって、ゲッターとして使用される材料は、吸湿量が高く、かつ、吸湿率が高くなければならない。
【０００３】
一般に、素子が基板に取り付けられた後、ゲッターはディスペンシング工程を通して塗布され、ゲッター上に液状シーラント又は固体封止シートが配置された後、真空ラミネート及びＵＶ硬化又は熱硬化される。ディスペンシング工程において、ゲッターは、ラインが途切れないように一定の厚さで基板上に塗布されなければならない。真空ラミネート工程は、減圧下で行われるが、ゲッターの塗布後にゲッターが素子の表面上に滴り落ちないようにしなければならない。また、負圧によってゲッターが素子の内側に吸い込まれないようにする必要がある。さらに、硬化過程では、ゲッター中の揮発性物質によるダークスポットの形成を防止する必要がある。
【０００４】
従来、ゲッターとして使用されるシリコン共重合体は、粘度および表面張力が低いため、共重合体が素子の内側に吸い込まれやすく、これにより熱硬化後にダークスポットが発生するという問題があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、高い吸湿量、高い吸湿率及び高温多湿下での高い寸法安定性を有するゲッター組成物を提供することである。
【０００６】
本発明の他の目的は、ディスペンシング工程及び真空ラミネート工程で流動性を制御することができるゲッター組成物を提供することである。
【０００７】
本発明の更に他の目的は、有機素子への適用の際にダークスポットが発生せず、高温多湿下において信頼性の高い有機素子を提供することができるゲッター組成物を提供することである。
【０００８】
本発明の更に他の目的は、当該ゲッター組成物を含む有機ＥＬディスプレイ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一形態によれば、カルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基からなる群より選択される少なくとも一つの官能基を有するシリコン共重合体と吸湿剤とを含むゲッター組成物が提供される。
【００１０】
本発明の他の形態によれば当該ゲッター組成物を含むディスプレイ装置が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、高い吸湿量、高い吸湿率及び高温多湿下での高い寸法安定性を有するゲッター組成物を提供する。また、本発明は、ディスペンシング工程及び真空ラミネート工程で流動性を制御することができるゲッター組成物を提供する。さらに本発明は、有機素子に適用するときにダークスポットが発生せず、高温多湿下において信頼性の高い有機素子を提供できるゲッター組成物を提供する。また、本発明は、前記ゲッター組成物を含む有機ＥＬディスプレイ装置を提供する。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の一実施形態によれば、ゲッター組成物は、下記の式１で表される吸湿率が約１０％以上であり得る。
【００１３】
【数１】
2015509041.tif 000002
【００１４】
前記式１において、Ａはゲッター組成物の初期重量であり、Ｂは２５℃及び相対湿度６０％で５００日間保管した後に測定したゲッター組成物の重量である。
【００１５】
当該範囲であれば、有機ＥＬディスプレイ装置においてゲッター組成物として使用することができ、これにより高い吸湿率および高い吸湿量が達成される。吸湿率は、好ましくは約１１％〜約２０％であり、より好ましくは約１６％〜約１８％である。
【００１６】
ゲッター組成物は非硬化型組成物であり得る。従来一般的なゲッター組成物は、有機ＥＬ素子に適用するときに熱硬化する必要とする。その結果、従来の一般的なゲッター組成物は、揮発性物質によってダークスポットが発生するという問題を有していた。その一方、本発明のゲッター組成物は、非硬化型であり、硬化過程を必要としないので、有機ＥＬ素子に適用するときにダークスポットが発生しない。
【００１７】
ゲッター組成物は、約２５℃における粘度が約５，０００ｃｐｓ〜約２０，０００ｃｐｓであり、好ましくは約７，０００ｃｐｓ〜約１８，０００ｃｐｓであり、より好ましくは約１０，０００ｃｐｓ〜約１５，０００ｃｐｓである。前記の範囲であれば、ディスペンシング工程後の真空ラミネート時にゲッター組成物に含まれるシリコン共重合体がＯＬＥＤへと吸い込まれることを防止でき、また、ゲッター組成物中に大量の吸湿剤を含むことができ、さらにディスペンシング工程での吐出の問題を防止でき、さらに、ラインの厚さ及び幅の調節が容易になる。粘度は、ブルックフィールド粘度計であるＤＶ―II＋によって２５℃、約５ｒｐｍで測定できるが、これに制限されることはない。
【００１８】
ゲッター組成物は、室温で適当な粘度を有する液体である。このため、別途の有機溶剤を含まなくてもよい。その結果、固体の吸湿剤は、ゲッター組成物中の吸湿剤以外の他の成分と混和性がよく、ゲッター組成物を有機ＥＬ素子への適用することが可能となる。
【００１９】
ゲッター組成物は、下記の式２で表される、吸湿率測定値（ｈ１）と吸湿率理論値（ｈ０）との差（ｈ１−ｈ０）が約１％以上であり、より好ましくは約１％〜約４％である。
【００２０】
【数２】
2015509041.tif 000003
【００２１】
前記式２において、ｈ１は、（Ｂ−Ａ）／Ａ×１００（％）で表され、この際、Ａはゲッター組成物の初期重量であり、Ｂは２５℃及び相対湿度６０％で５００日間保管した後に測定したゲッター組成物の重量である。
【００２２】
ｈ０は、（Ｃ／Ｄ）×Ｅで表され、ゲッター組成物に含まれる吸湿剤１ｍｏｌと水との１００％反応を仮定、すなわち、ゲッター組成物に含まれる吸湿剤１ｍｏｌが完全に水と反応することを仮定しており、この際、Ｃはゲッター組成物に含まれる吸湿剤１ｍｏｌが吸収する水分の量であり、Ｄは吸湿剤の分子量であり、Ｅはゲッター組成物に含まれる吸湿剤の含有率（重量％）である。
【００２３】
例えば、ｈ０に関して、吸湿剤がＣａＯである場合、ＣａＯ＋Ｈ２Ｏ→Ｃａ（ＯＨ）２の１００％転換に基づく吸湿率は１８（Ｈ２Ｏ分子量）／５６（ＣａＯ分子量）＝０．３２と算出される。ゲッター組成物中の吸湿剤の含有率をＥ（重量％）とすると、吸湿率理論値ｈ０は０．３２×Ｅ％になる。ゲッター組成物中に吸湿剤が３０重量％の量含まれている場合、吸湿率理論値（ｈ０）は９．６％になる。
【００２４】
ゲッター組成物は、カルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基からなる群より選択される少なくとも一つの官能基を有するシリコン共重合体と吸湿剤とを含むことができる。
【００２５】
（Ａ）カルボン酸基及び／又はポリアルキレンオキシド基を有するシリコン共重合体
前記シリコン共重合体は、カルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基からなる群より選択される少なくとも一つの官能基を有することができる。シリコン共重合体は、カルボン酸基単独、ポリアルキレンオキシド基単独、又はカルボン酸基およびポリアルキレンオキシド基の両方を含むことができる。
【００２６】
本明細書において、「ポリアルキレンオキシド基」は、「ポリアルキレンオキシド基又はその誘導体」を意味する。
【００２７】
シリコン共重合体は、カルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基からなる群より選択される少なくとも一つの官能基を有するポリシロキサンを含むことができる。
【００２８】
カルボン酸基およびポリアルキレンオキシド基は、シリコン共重合体の側鎖又は末端に導入することができる。好ましくは、カルボン酸基およびポリアルキレンオキシド基はシリコン共重合体の側鎖に導入される。カルボン酸基およびポリアルキレンオキシド基がシリコン共重合体の側鎖に導入される場合、ゲッター組成物は、高い吸湿率、高い吸湿量、および高温多湿下での高い寸法安定性を有することができ、ディスペンシング工程及び真空圧着工程で流動性を制御することが可能となる。
【００２９】
シリコン共重合体は、下記の化学式１で表され得るが、これに制限されることはない。
【００３０】
【化１】
2015509041.tif 000004
【００３１】
前記化学式において、Ｒ１〜Ｒ６は、同一であるか異なり、水素原子、水酸基、カルボン酸基、ポリアルキレンオキシド基、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、又はＣ７―Ｃ２０のアラルキル基より選択される。
【００３２】
Ｒ７〜Ｒ１０は、同一であるか異なり、水素原子；水酸基；カルボン酸基；ポリアルキレンオキシド基；Ｃ１―Ｃ６のアルキル基；Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基；Ｃ６―Ｃ２０のアリール基；Ｃ７―Ｃ２０のアラルキル基；カルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基のうちの少なくとも一つを有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基；又は下記の化学式２で表される官能基である。
【００３３】
【化２】
2015509041.tif 000005
【００３４】
前記化学式２において、Ｒ２０〜Ｒ２８は、同一であるか異なり、水素原子、水酸基、カルボン酸基、ポリアルキレンオキシド基、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、またはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基より選択され；
Ｒ２９〜Ｒ３２は、同一であるか異なり、水素原子；水酸基；カルボン酸基；ポリアルキレンオキシド基；Ｃ１―Ｃ６のアルキル基；Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基；Ｃ６―Ｃ２０のアリール基；Ｃ７―Ｃ２０のアラルキル基；又はカルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基のうちの少なくとも一つを有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基である。
【００３５】
ｎは０〜１０００であり、ｍは０〜１０００である。ただし、ｎおよびｍがいずれも０である場合は除く。
【００３６】
ｔは１〜１０００であり、ｕは０〜５００であり、ｖは０〜５００である。ただし、ｕおよびｖがいずれも０である場合は除く。
【００３７】
Ｒ７〜Ｒ１０のうちの少なくとも一つは、カルボン酸基；ポリアルキレンオキシド基；カルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基のうちの少なくとも一つを有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、またはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基；あるいは；前記化学式２においてＲ２９〜Ｒ３２のうちの少なくとも一つが、カルボン酸基、ポリアルキレンオキシド基、またはカルボン酸基及びポリアルキレンオキシド基のうちの少なくとも一つを有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基である前記化学式２の官能基；である。
【００３８】
前記ポリアルキレンオキシド基は、下記の化学式３で表すことができる。
【００３９】
【化３】
2015509041.tif 000006
【００４０】
前記化学式３において、ｐは１〜５の整数であり、ｑは１〜１０の整数であり、Ｘは水素原子、水酸基、Ｃ１―Ｃ５のアルキル基又はＣ１―Ｃ５のアルコキシ基である。
【００４１】
好ましくは、ポリアルキレンオキシド基は、ポリエチレンオキシド基又はポリプロピレンオキシド基である。
【００４２】
前記化学式３において、「―（ＣＨ２）ｐ―」は、直鎖アルキレン基又は分枝のアルキレン基であり得る。
【００４３】
ゲッター組成物は、カルボン酸基を含むシリコン共重合体（Ａ１）とポリアルキレンオキシド基を含むシリコン共重合体（Ａ２）との混合物を含むことができる。（Ａ１）＋（Ａ２）のうち、（Ａ１）に対する（Ａ２）の重量比は、約０を超え、２以下であり、好ましくは約０．１〜約１である。前記の範囲であれば、ゲッター組成物の吸湿率および吸湿量を向上させることができる。
【００４４】
（Ａ１）と（Ａ２）との混合物は、ゲッター組成物のうち約２０重量％〜約９０重量％、好ましくは３０重量％〜８０重量％の量で存在する。前記の範囲であれば、ゲッター組成物が、高い吸湿率、高い吸湿量、高温多湿下での高い寸法安定性を達成することができる。
【００４５】
シリコン共重合体の重量平均分子量は、約１，０００ｇ／ｍｏｌ以上であり、好ましくは約４，０００ｇ／ｍｏｌ以上であり、より好ましくは約４，０００ｇ／ｍｏｌ〜約４０，０００ｇ／ｍｏｌであり、最も好ましくは約７，０００ｇ／ｍｏｌ〜約３６，０００ｇ／ｍｏｌである。前記の範囲であれば、ゲッター組成物が、高い吸湿率、高い吸湿量、高温多湿下での高い寸法安定性を達成することができる。
【００４６】
シリコン共重合体は、粘度が、２５℃で約４，０００ｃｐｓ〜６，０００ｃｐｓであり得る。前記の範囲である場合、ゲッター組成物は、ゲッターの製造時の吸湿量を最大に高めることができ、ゲッターの製造後、ディスペンシング工程時にラインが途切れずに一定の厚さでゲッターを基板上に塗布することができる。
【００４７】
シリコン共重合体は、ゲッター組成物中に約２０重量％〜約９０重量％の量で、好ましくは３０重量％〜８０重量％の量で存在する。前記の範囲であれば、ゲッター組成物は高い吸湿率、高い吸湿量、高温多湿下での高い寸法安定性を達成することができる。
【００４８】
シリコン共重合体は、通常の方法で製造してもよいし、市販のものを利用してもよい。
【００４９】
（Ｂ）吸湿剤
吸湿剤は、シリコン共重合体と共にゲッター組成物に含まれ、ゲッター組成物の吸湿率を高めることができる。
【００５０】
吸湿剤は、水分吸着性能に優れる吸湿剤であれば任意のものを使用できる。吸湿剤は、比表面積が約１０ｍ２／ｇ〜約１００ｍ２／ｇであってよく、好ましくは約４０ｍ２／ｇ〜約１００ｍ２／ｇである。前記の範囲であれば、ゲッター組成物は高い吸湿率を達成すると同時に、好適な機械的物性を達成することができる。
【００５１】
吸湿剤は、平均粒子直径が約５μｍ以下であり、好ましくは約０．１μｍ〜３μｍである。前記の範囲の場合、有機ＥＬディスプレイ装置において有機ＥＬ素子が配置される基板の間にゲッター組成物を存在させることができ、これにより、吸湿効果をもたらすことができる。
【００５２】
吸湿剤は、金属酸化物、金属ハロゲン化物、金属の無機酸塩、金属の有機酸塩、無機リン化合物、多孔性無機化合物及びこれらの混合物からなる群より選択することができる。
【００５３】
吸湿剤は、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウム、酸化アルミニウム、酸化バリウム、塩化カルシウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト、硫酸ガリウム、硫酸チタン、硫酸ニッケル、五酸化リン、硫酸ニッケル、分子篩（ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  ｓｉｅｖｅ）及びこれらの混合物からなる群より選択することができる。中でも、酸化カルシウムが好ましい。
【００５４】
吸湿剤としては、それ自体を使用することもできるが、優れた吸着能力を得るために、真空及び高温下で焼成処理又は水酸化カルシウム処理されてもよい。焼成処理を通して吸湿剤の比表面積を広げることによって、吸湿剤の吸湿率と吸湿量を高めることができる。焼成処理は、吸湿剤を約２００℃〜約８００℃で約０．５時間〜約２４時間加熱することによって実現できるが、これに制限されることはない。
【００５５】
吸湿剤は、ゲッター組成物中に約１０重量％〜約８０重量％の量で、好ましくは約９重量％〜約７０重量％の量で、より好ましくは約２０重量％〜約７０重量％の量で存在することができる。前記の範囲の場合、ゲッター組成物は、高い吸湿率、高い吸湿量、高温多湿下での高い寸法安定性を実現することができる。
【００５６】
ゲッター組成物は、エポキシ基を有するシリコン共重合体をさらに含むことができる。エポキシ基は、シリコン共重合体の側鎖又は末端に存在しうる。
【００５７】
エポキシ基を有するシリコン共重合体は、下記の化学式４で表すことができる：
【００５８】
【化４】
2015509041.tif 000007
【００５９】
前記化学式４において、Ｒ１１〜Ｒ１６は、同一であるか異なり、水素原子、水酸基、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基又はＣ７―Ｃ２０のアラルキル基より選択される。
【００６０】
Ｒ１７およびＲ１８は、同一であるか異なり、水素原子；エポキシ基；Ｃ１―Ｃ６のアルキル基；Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基；Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基；Ｃ６―Ｃ２０のアリール基；Ｃ７―Ｃ２０のアラルキル基；又はエポキシ基を有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基、Ｃ６―Ｃ２０のアリール基、もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基である。
【００６１】
Ｒ１７及びＲ１８のうち少なくとも一つは、エポキシ基；又はエポキシ基を有する、Ｃ１―Ｃ６のアルキル基、Ｃ２―Ｃ６のアルケニル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルキル基、Ｃ５―Ｃ１０のシクロアルケニル基もしくはＣ７―Ｃ２０のアラルキル基であり；
ｓは１〜１０００である。
【００６２】
エポキシ基を有するシリコン共重合体の重量平均分子量は、約４，０００ｇ／ｍｏｌ〜約１０，０００ｇ／ｍｏｌであり得る。前記の範囲内では、ゲッター組成物は高い吸湿率、高い吸湿量、高温多湿下での高い寸法安定性を実現することができる。
【００６３】
エポキシ基を有するシリコン共重合体は、必要に応じて、ゲッター組成物中に約０重量％〜約３０重量％の量で存在することができる。前記の範囲では、ゲッター組成物は流動性調節及び寸法安定性確保の効果を得ることができる。当該シリコン共重合体は、好ましくは、約１重量％〜約２０重量％の量で存在する。
【００６４】
ゲッター組成物は、シリコン共重合体と吸湿剤とを混合してスラリーとして調製することができる。前記混合は、水分および酸素の侵入を防止するために、シリコン共重合体と吸湿剤とを窒素雰囲気下で撹拌する工程を含むことができる。
【００６５】
ゲッター組成物は、大型ディスプレイ（例えば、ＴＶを含む）用のゲッターを製造するために使用することができる。
【００６６】
ゲッター組成物は、シリコン重合体を準備する工程、吸湿剤を準備する工程、および構成成分を混合する工程によって製造することができる。前記シリコン重合体は、真空中又は薄膜蒸発器（ｔｈｉｎ  ｆｉｌｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｏｒ）中で加熱することにより残留水分および揮発成分を除去した後に使用することができる。
【００６７】
本発明の他の形態によれば、前記ゲッター組成物を含む有機ＥＬディスプレイ装置が提供される。ゲッター組成物は、通常の方法で有機ＥＬディスプレイ装置に組み込まれうる。
【００６８】
有機ＥＬディスプレイ装置において、ゲッターは、有機ＥＬ素子を構成する基板の間に介在するか、または、有機ＥＬ素子の側面に付着させることができる。
【００６９】
第１の基板は、少なくとも一つの有機ＥＬ素子が形成される基板である。第１の基板は、透明ガラス、プラスチックシート、シリコン又は金属基板などの材料から構成されてよく、柔軟である特性もしくは柔軟でない特性を有していてもよいし、または、透明である特性もしくは透明でない特性を有していてもよい。
【００７０】
有機ＥＬ素子は、透明電極、正孔輸送層、有機ＥＬ層及び背面電極を含む。
【００７１】
第２の基板は、有機ＥＬ素子の上部に配置され、前記第１の基板から離隔されている。前記第２の電極は接着層を介して第１の基板に接着させることができる。前記第２の基板としては、ガラス基板、金属が積層されているプラスチックシートなどのバリア特性に優れた基板であれば任意のものを使用することができる。
【００７２】
前記ディスプレイ装置は、大型ディスプレイ装置（例えば、ＴＶを含む）を含むことができるが、これに制限されることはない。
【実施例】
【００７３】
以下では、下記の実施例を通して本発明をより詳細に説明する。ただし、これらの実施例は、本発明の例示のみを目的として提示されたものであって、如何なる意味でも、これによって本発明が制限されると解釈されるべきではない。当業者には明らかな詳細事項についての説明はここでは省略する。
【００７４】
［製造例：カルボン酸基を有するシリコン共重合体の製造］
ＶＳ２００（ジビニルポリジメチルシロキサン）７７ｇとＭＡＡ（メタクリル酸）２３ｇとジクミルペルオキシド０．１５ｐｈｒとを反応させた。窒素でパージした後、得られた物質を８０℃で４時間反応させた。最終粘度を６０００ｃｐｓに調節することにより、分子量が１２０００ｇ／ｍｏｌであり、カルボン酸基を有するシリコン共重合体を製造した。得られた物質から残留不純物を、トルエンでの洗浄及び薄膜蒸着器を通じて除去した。
【００７５】
下記の実施例と比較例で使用された成分の具体的な仕様は、次の通りである。
【００７６】
（Ａ）シリコン共重合体：
（Ａ１）カルボン酸基を有するシリコン共重合体として前記製造例で製造した共重合体（Ｍｗ：１２，０００ｇ／ｍｏｌ、粘度：６，０００ｃｐｓ）を使用した。
（Ａ２）ポリアルキレンオキシド基を有するシリコン共重合体としてＥＢＰ―２３４（Ｇｅｌｅｓｔ社製、Ｍｗ：２５，０００ｇ／ｍｏｌ、粘度：４，０００ｃｐｓ）を使用した。
（Ａ３）エポキシ基を有するシリコン共重合体としてＥＭＳ―６２２（Ｇｅｌｅｓｔ社製、Ｍｗ：７，０００ｇ／ｍｏｌ）を使用した。
（ａ１）ビニルシリコンポリマー（カルボン酸基およびポリアルキレンオキシド基を含まない）としてＶＳ２０００（Ｈａｎｓｅ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）を使用した。
（ａ２）Ｓｉ―Ｈシリコンポリマー（カルボン酸基およびポリアルキレンオキシド基を含まない）としてＣＲ１２０／Ｍｏｄ７０５（Ｈａｎｓｅ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）の２：１重量比の混合物を使用した。
（ａ３）ＶＱＭシリコンポリマー（カルボン酸基およびポリアルキレンオキシド基を含まない）としてＶＱＭ８０３（Ｈａｎｓｅ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）を使用した。
【００７７】
（Ｂ）吸湿剤としては、焼成酸化カルシウム（平均粒子直径０．５μｍ）を粉砕して使用した。
【００７８】
［実施例１］
無水条件の高純度窒素雰囲気下、シリコン共重合体（Ａ１）５０重量部、焼成酸化カルシウム５０重量部を公転／自転ミキサーを使用して混合した後、３本ロールミルを用いて３回連続して分散して、ゲッター組成物を製造した。製造された組成物の粘度は、２５℃、５ｒｐｍで１５，０００ｃｐｓであった。粘度は、５２番のスピンドルとコーン＆プレートタイプのジグとを使用してブルックフィールド粘度計であるＤＶ―II＋によって測定した。
【００７９】
［実施例２］
シリコン共重合体（Ａ１）の代わりに、シリコン共重合体（Ａ２）５０重量部を使用したことを除いては、前記実施例１と同一の方法でゲッター組成物を製造した。
【００８０】
［実施例３］
シリコン共重合体（Ａ１）の代わりに、シリコン共重合体（Ａ１）２５重量部およびシリコン共重合体（Ａ２）２５重量部を使用したことを除いては、前記実施例１と同一の方法でゲッター組成物を製造した。
【００８１】
［実施例４］
シリコン共重合体（Ａ１）の代わりに、シリコン共重合体（Ａ１）２５重量部およびシリコン共重合体（Ａ３）２５重量部を使用したことを除いては、前記実施例１と同一の方法でゲッター組成物を製造した。
【００８２】
［比較例１〜３］
シリコン共重合体（Ａ１）の代わりに、シリコン共重合体（ａ１）や（ａ２）や（ａ３）５０重量部、及び白金触媒（Ｃａｔａｌｙｓｔ  ５２０、Ｈａｎｓｅ）２００ｐｐｍを使用したことを除いては、前記実施例１と同一の方法でゲッター組成物を製造した。
【００８３】
実施例１〜４および比較例１〜３で製造したゲッター組成物の構成は、下記の表１の通りである。
【００８４】
【表１】
2015509041.tif 000008
【００８５】
前記実施例と比較例で製造したゲッター組成物の物性を評価し、その結果を表２に示した。
【００８６】
（１）吸湿率：ゲッター組成物の初期重量（Ａ）を測定した。ゲッター組成物を２５℃及び相対湿度６０％で５００日間保管した後で測定したゲッター組成物の重量（Ｂ）を測定した。前記式１から吸湿率を計算した。
【００８７】
（２）吸湿率測定値と吸湿率理論値との差：前記（１）の方法によって吸湿率測定値を算出した。前記式２から吸湿率理論値を計算した。すなわち、ＣａＯ＋Ｈ２Ｏ→Ｃａ（ＯＨ）２の反応が完全に進行したと仮定し、１８（Ｈ２Ｏ分子量）／５６（ＣａＯ分子量）＝０．３２との計算により、吸湿率理論値は０．３２であった。液体状態のゲッター内に含まれているＣａＯの含有率が５０重量％であるので、吸湿率理論値は１６％になった。これらの値から吸湿率測定値と吸湿率理論値との差を算出した。
【００８８】
（３）吸湿率：ゲッター組成物の重量（Ａ）を測定した。ゲッター組成物を２５℃及び相対湿度６０％で２４時間保管した後でゲッター組成物の重量（Ｃ）を測定した。吸湿率を（（Ｃ−Ａ）／Ａ×１００％）／時間から計算した。
【００８９】
（４）ディスペンシング工程の適用性：基板にＯＬＥＤを装着した。内径がΦ０．４ｍｍのニードルを装着したシリンジにゲッター組成物を充填した。０．５ＭＰａで当該組成物をディスペンシング（ｄｉｓｐｅｎｓｅ（分注））した場合に、ゲッターのラインが途切れずに一定の厚さで当該組成物が塗布されるか否かを観察した。円滑に吐出され、ラインが途切れずに一定の幅を維持しながら当該組成物がディスペンシングされる場合は◎と評価し；一定の幅を維持しながら吐出され、ライティング（ｗｒｉｔｉｎｇ）後に液体が途切れない場合は○と評価し；吐出されるが、幅が一定ではなく、崩れたり、途切れたりすることもある場合は△と評価し；吐出さえもできない場合は×と評価した。
【００９０】
（５）真空ラミネート工程の適用性：基板にＯＬＥＤを装着した。内径がΦ０．４ｍｍのニードルが装着されたシリンジにゲッター組成物を充填した。この組成物を０．５ＭＰａの圧力でディスペンシングした。液状シーラント（Ｎａｇａｓｅ  Ｌｔｄ．製）をフラットガラス上にディスペンシングし、１０−２ｔｏｒｒの圧力下でラミネートした。ゲッターが有機ＥＬ素子上に滴り落ちず、素子の内側に吸い込まれず、相分離が発生しない場合は◎と評価し；ゲッターが有機ＥＬ素子上に滴り落ちず、素子の内側に吸い込まれず、わずかな相分離のみが発生する場合は○と評価し；ゲッターが有機ＥＬ素子上に滴り落ちず、ＥＬ素子の内側に少しだけ吸い込まれる場合は△と評価し；ゲッターが有機ＥＬ素子上に滴り落ちたり、または、ラインが途切れる場合は×と評価した。
【００９１】
（６）硬化後のＯＬＥＤ特性：基板にＯＬＥＤを装着した。内径がΦ０．４ｍｍのニードルが装着されたシリンジにゲッター組成物を充填した。この組成物を０．５ＭＰａの圧力でディスペンシングした。液状シーラント（Ｎａｇａｓｅ  Ｌｔｄ．製）フラットガラスシート上にディスペンシングし、１０−２ｔｏｒｒの圧力下でラミネートした。ＵＶ硬化後、１００℃で３０分間エージングしたセルに対して、ＯＬＥＤの特性を評価した。ダークスポットがなく、ＯＬＥＤが発光した場合は○と評価し；わずかなダークスポットが面積比で５０％未満で発生した場合は△と評価し；面積比５０％以上でダークスポットが発生する場合は×と評価した。
【００９２】
（７）ＯＬＥＤ信頼性：前記（６）にしたがって製造したＯＬＥＤを８５℃及び８５％ＲＨ（相対湿度）で５００時間保管した後、ダークスポットの発生の有無及びＯＬＥＤ素子の不良の有無を評価した。ダークスポットがなく、ＯＬＥＤが発光した場合は○と評価し；わずかなダークスポットが面積比で５０％未満で発生する場合は△と評価し；ダークスポットの面積比が５０％以上である場合は×と評価した。
【００９３】
【表２】
2015509041.tif 000009
【００９４】
前記表２に示したように、本発明のゲッター組成物は、高い吸湿率、高い吸湿量、および高温多湿下での高い寸法安定性を有している。さらに、本発明のゲッター組成物はディスペンシング工程及び真空ラミネート工程で流動性を制御することができ、有機素子に適用したときにダークスポットが発生せず、高温多湿下で信頼性の高いＯＬＥＤを提供することができる。
【００９５】
以上では、本発明の実施形態をいくつか説明したが、本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者であれば、これらの実施形態は例示のためだけに示されたものであり、本発明の範囲から逸脱することなく、多様な改良、変更、代替、および均等な実施形態を実施可能であることを理解できるだろう。そのため、本発明の範囲および精神は、添付された特許請求の範囲およびこれと均等なものによってのみ定義されるべきである。
【国際調査報告】
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