【手続補正書】
【提出日】平成22年1月18日(2010.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで基体表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子であって、
上記構造体は、上記基体表面において複数列の円弧状トラックをなすように設けられ、
上記構造体は、深さ分布を有すると共に、長軸と短軸をもつ底面を有する錐体構造であり、上記トラックの円周方向に長軸方向を有することを特徴とする光学素子。
【請求項２】
上記構造体は、頂部の傾きが緩やかで底部にかけて徐々に急峻な傾きの楕円錐形状または楕円錐台形状を有していることを特徴とする請求項１記載の光学素子。
【請求項３】
上記構造体は、隣接するトラック間において準六方格子パターンを構成することを特徴とする請求項１記載の光学素子。
【請求項４】
同一トラック内における上記構造体の配置ピッチＰ１は、隣接する２つのトラック間における上記構造体の配置ピッチＰ２よりも長いことを特徴とする請求項１記載の光学素子。
【請求項５】
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで基体表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子であって、
上記構造体は、深さ分布を有し、
上記深さ分布の形成が、ランダムであることを特徴とする光学素子。
【請求項６】
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで基体表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子であって、
上記構造体は、第１の構造体と、上記第１の構造体とは異なる高さを有する第２の構造体とからなり、
上記第２の構造体が、上記基体表面にランダムに設けられていることを特徴とする光学素子。
【請求項７】
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで原盤表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の作製用原盤であって、
上記構造体は、深さ分布を有し、
上記各構造体の深さ分布の形成が、上記原盤表面に、少なくとも２種以上の値で選択的に、もしくは連続的に、もしくは区分的に連続に変化してなされていることを特徴とする光学素子の作製用原盤。
【請求項８】
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで原盤表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の作製用原盤であって、
上記構造体は、上記原盤表面において複数列の円弧状トラックをなすように設けられ、
上記構造体は、深さ分布を有すると共に、長軸と短軸をもつ底面を有する錐体構造であり、上記トラックの円周方向に長軸方向を有することを特徴とする光学素子の作製用原盤。
【請求項９】
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで原盤表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の作製用原盤であって、
上記構造体は、深さ分布を有し、
上記深さ分布の形成が、ランダムであることを特徴とする光学素子の作製用原盤。
【請求項１０】
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで原盤表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の作製用原盤であって、
上記構造体は、第１の構造体と、上記第１の構造体とは異なる高さを有する第２の構造体とからなり、
上記第２の構造体が、上記原盤表面にランダムに設けられていることを特徴とする光学素子の作製用原盤。
【請求項１１】
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで原盤表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の作製用原盤の製造方法であって、
表面にレジスト層が形成された原盤を回転させるとともに、レーザ光を上記原盤の回転半径方向に相対移動させながら、上記レジスト層にレーザ光を間欠的に照射して、可視光の波長よりも短いピッチで潜像を形成する第１の工程と、
上記レジスト層を現像して、深さ分布を有するレジストパターンを上記原盤の表面に形成する第２の工程と、
上記レジストパターンをマスクとするエッチング処理を上記原盤に施すことで、上記原盤の表面に凹凸構造を形成する第３の工程と、
を有し、
上記潜像は、上記原盤表面において複数列の円弧状トラックをなすように設けられ、
上記潜像は、長軸と短軸を有し、上記トラックの円周方向に長軸方向を有することを特徴とする光学素子の作製用原盤の製造方法。
【請求項１２】
上記第１の工程では、隣接するトラック間において準六方格子パターンを構成するように上記潜像を形成することを特徴とする請求項１１記載の光学素子の作製用原盤の製造方法。
【請求項１３】
上記第３の工程では、上記レジストパターンをマスクとするエッチング処理と上記レジストパターンに対するアッシング処理とを繰り返し行うと共に、エッチング処理時間を徐々に長くすることを特徴とする請求項１１記載の光学素子の作製用原盤の製造方法。
【請求項１４】
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで基板表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の製造方法であって、
表面にレジスト層が形成された原盤を回転させるとともに、レーザ光を上記原盤の回転半径方向に相対移動させながら、上記レジスト層にレーザ光を間欠的に照射して、可視光波長よりも短いピッチで潜像を形成する第１の工程と、
上記レジスト層を現像して、深さ分布を有するレジストパターンを上記原盤の表面に形成する第２の工程と、
上記レジストパターンをマスクとするエッチング処理を上記原盤に施すことで、上記原盤の表面に凹凸構造を形成する第３の工程と、
上記原盤、または上記原盤から複製された成形金型を用いて、上記光学素子を成形する第４の工程と、
を有し、
上記潜像は、上記原盤表面において複数列の円弧状トラックをなすように設けられ、
上記潜像は、長軸と短軸を有し、上記トラックの円周方向に長軸方向を有することを特徴とする光学素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】光学素子およびその製造方法、ならびに光学素子の作製用原盤およびその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、光学素子およびその製造方法、ならびに光学素子の作製用原盤およびその製造方法に関する。具体的には、凸部または凹部からなる構造体が基体表面に多数設けられた光学素子に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
したがって、本発明の目的は、優れた反射防止特性を有する光学素子およびその製造方法、ならびに光学素子の作製用原盤およびその製造方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本願第１の発明は、
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで基体表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子であって、
構造体は、基体表面において複数列の円弧状トラックをなすように設けられ、
構造体は、深さ分布を有すると共に、長軸と短軸をもつ底面を有する錐体構造であり、トラックの円周方向に長軸方向を有することを特徴とする光学素子である。
本願第２の発明は、
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで基体表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子であって、
構造体は、深さ分布を有し、
深さ分布の形成が、ランダムであることを特徴とする光学素子である。
本願第３の発明は、
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで基体表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子であって、
構造体は、第１の構造体と、第１の構造体とは異なる高さを有する第２の構造体とからなり、
第２の構造体が、基体表面にランダムに設けられていることを特徴とする光学素子である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本願第４の発明は、
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで原盤表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の作製用原盤であって、
構造体は、深さ分布を有し、
各構造体の深さ分布の形成が、原盤表面に、少なくとも２種以上の値で選択的に、もしくは連続的に、もしくは区分的に連続に変化してなされていることを特徴とする光学素子の作製用原盤である。
本願第５の発明は、
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで原盤表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の作製用原盤であって、
構造体は、原盤表面において複数列の円弧状トラックをなすように設けられ、
構造体は、深さ分布を有すると共に、長軸と短軸をもつ底面を有する錐体構造であり、トラックの円周方向に長軸方向を有することを特徴とする光学素子の作製用原盤である。
本願第６の発明は、
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで原盤表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の作製用原盤であって、
構造体は、深さ分布を有し、
深さ分布の形成が、ランダムであることを特徴とする光学素子の作製用原盤である。
本願第７の発明は、
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで原盤表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の作製用原盤であって、
構造体は、第１の構造体と、第１の構造体とは異なる高さを有する第２の構造体とからなり、
第２の構造体が、原盤表面にランダムに設けられていることを特徴とする光学素子の作製用原盤である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本願第８の発明は、
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで原盤表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の作製用原盤の製造方法であって、
表面にレジスト層が形成された原盤を回転させるとともに、レーザ光を原盤の回転半径方向に相対移動させながら、レジスト層にレーザ光を間欠的に照射して、可視光の波長よりも短いピッチで潜像を形成する第１の工程と、
レジスト層を現像して、深さ分布を有するレジストパターンを原盤の表面に形成する第２の工程と、
レジストパターンをマスクとするエッチング処理を原盤に施すことで、原盤の表面に凹凸構造を形成する第３の工程と、
を有し、
潜像は、原盤表面において複数列の円弧状トラックをなすように設けられ、
潜像は、長軸と短軸を有し、トラックの円周方向に長軸方向を有することを特徴とする光学素子の作製用原盤の製造方法である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本願第９の発明は、
凸部または凹部からなる構造体が可視光の波長以下の微細ピッチで基板表面に多数設けられている、反射防止機能を有する光学素子の製造方法であって、
表面にレジスト層が形成された原盤を回転させるとともに、レーザ光を原盤の回転半径方向に相対移動させながら、レジスト層にレーザ光を間欠的に照射して、可視光波長よりも短いピッチで潜像を形成する第１の工程と、
レジスト層を現像して、深さ分布を有するレジストパターンを原盤の表面に形成する第２の工程と、
レジストパターンをマスクとするエッチング処理を原盤に施すことで、原盤の表面に凹凸構造を形成する第３の工程と、
原盤、または原盤から複製された成形金型を用いて、光学素子を成形する第４の工程と、
を有し、
潜像は、原盤表面において複数列の円弧状トラックをなすように設けられ、
潜像は、長軸と短軸を有し、トラックの円周方向に長軸方向を有することを特徴とする光学素子の製造方法である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本願発明では、構造体は、頂部の傾きが緩やかで底部にかけて徐々に急峻な傾きの楕円錐形状または楕円錐台形状を有していることが好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本願発明では、構造体は、基体表面において複数列の円弧状トラックをなすように設けられていることが好ましい。この場合、楕円錐形状または楕円錐台形状は、トラックの円周方向に長軸方向を有することが好ましい。また、構造体は、隣接するトラック間において準六方格子パターンを構成することが好ましい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本願発明では、同一トラック内における構造体の配置ピッチＰ１は、隣接する２つのトラック間における構造体の配置ピッチＰ２よりも長いことが好ましい。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本願発明では、円弧状トラックの円周方向における構造体の深さは、円弧状トラックの径方向における構造体の深さよりも小さいことが好ましい。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本願発明では、各構造体の深さ分布の形成が、基体表面に、少なくとも２種以上の値で選択的に、もしくは連続的に、もしくは区分的に連続に変化してなされていることが好ましい。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本願発明では、各構造体の深さ分布の形成が、基体表面にステップ関数状に変化してなされていることが好ましい。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本願発明では、各構造体の深さ分布の形成が、基体表面にステップ関数状に変化してなされ、少なくとも一つ以上の深さの種類の存在する割合が、他の深さの種類の存在する割合と異なるように、選択的に構造体を形成していることが好ましい。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本願発明では、第２の工程では、隣接するトラック間において準六方格子パターンを構成するように潜像を形成することが好ましい。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
本願発明では、第４の工程では、レジストパターンをマスクとするエッチング処理とレジストパターンに対するアッシング処理とを繰り返し行うと共に、エッチング処理時間を徐々に長くすることが好ましい。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本願発明では、第５の工程では、基板の表面に光硬化樹脂層を形成した後、該光硬化樹脂層を剥離し、凹凸構造が転写された複製基板を作製することが好ましい。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本願発明では、レーザ光は、振幅が周期的または非周期的に変動する鋸波状または三角波状に変調されることが好ましい。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本願発明では、レーザ光は、振幅が周期的または非周期的に変動する矩形波状に変調されることが好ましい。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本願発明では、レーザ光は、振幅が周期的または非周期的に変動すると共に、時間幅が周期的または非周期的に変動する矩形波状に変調されることが好ましい。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
本願発明では、レーザ光は、多値ステップ波形に変調されることが好ましい。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
本願発明では、レーザ光は、選択的多値ステップ波形に変調されることが好ましい。
【手続補正２４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本願発明では、レーザ光は、区分的に連続な波形に変調されることが好ましい。