(57)【要約】【課題】耐久性に優れた有機ＥＬ素子に用いられる有機ＥＬ用材料、およびその有機ＥＬ用材料の製造方法、ならびにその有機ＥＬ用材料を用いた有機ＥＬ素子を提供すること。【解決手段】有機ＥＬ用材料の重合物、あるいは分解物に起因する不純物の濃度が１０，０００ｐｐｍ未満であることを特徴とする有機ＥＬ用材料と、有機ＥＬ用材料の重合温度あるいは分解温度未満で精製する有機ＥＬ用材料の製造方法、および陽極と陰極の間に発光物質が存在し、電気エネルギーにより発光する素子であって、該素子が有機ＥＬ用材料の重合物、あるいは分解物に起因する不純物の濃度が１０，０００ｐｐｍ未満である有機ＥＬ用材料を含むことを特徴とする有機ＥＬ素子。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
不純物が有機エレクトロルミネッセンス用材料の重合物、あるいは有機エレクトロルミネッセンス用材料の分解物であり、不純物濃度が１０，０００ｐｐｍ未満であることを特徴とする有機ＥＬ用材料。
【請求項２】
重合物が有機エレクトロルミネッセンス用材料の２量体であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス用材料。
【請求項３】
非金属元素で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス用材料。
【請求項４】
分解物が分子量１００以上であり、かつ分子構造に少なくとも１つの環状化合物を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス用材料。
【請求項５】
環状化合物が芳香族環あるいは複素環であることを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス用材料。
【請求項６】
有機エレクトロルミネッセンス用材料の重合温度未満で昇華精製する、あるいは有機ＥＬ用材料の分解温度未満で昇華精製することの少なくとも１種で製造されることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス用材料の製造方法。
【請求項７】
陽極と陰極の間に発光物質が存在し、電気エネルギーにより発光する素子であって、該素子が請求項１〜４のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス用材料を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気エネルギーを光に変換できる素子に用いられる有機エレクトロルミネッセンス用材料、および有機エレクトロルミネッセンス用材料の製造方法、ならびに有機エレクトロルミネッセンス素子に関するものであって、表示素子、フラットパネルディスプレイ、バックライト、照明、インテリア、標識、看板、電子写真機、光信号発生器などの分野に利用可能な発光素子に用いられる有機エレクトロルミネッセンス用材料、および有機エレクトロルミネッセンス用材料（以下、有機ＥＬ用材料と略称する）の製造方法、ならびに有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と略称する）に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
陰極から注入された電子と陽極から注入された正孔が両極に挟まれた有機蛍光体内で再結合する際に発光するという有機積層薄膜発光素子の研究が近年活発に行われている。この素子は、薄型、低駆動電圧下での高輝度発光、蛍光材料を選ぶことによる多色発光が特徴であり注目を集めている。
【０００３】
この研究は、コダック社のＣ．Ｗ．Ｔａｎｇらが有機積層薄膜素子が高輝度に発光することを示して以来（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５１（１２）２１，ｐ．９１３，１９８７）、多くの研究機関が検討を行っている。コダック社の研究グループが提示した有機積層薄膜発光素子の代表的な構成は、ＩＴＯガラス基板上に正孔輸送性のジアミン化合物、発光層である８−ヒドロキシキノリンアルミニウム、そして陰極としてＭｇとＡｇを順次設けたものであり、１０Ｖ程度の駆動電圧で１０００ｃｄ／ｍ２の緑色発光が可能であった。
【０００４】
現在の有機積層薄膜発光素子は、上記の素子構成要素の他に電子輸送層を設けているものなど構成を変えているものもあるが、基本的にはコダック社の構成を踏襲している。
【０００５】
この有機積層薄膜発光素子など、有機ＥＬ素子における実用上の課題として、耐久性の向上があげられ、有機ＥＬ用材料中の不純物の濃度が有機ＥＬ素子の耐久性に影響を与えることが推察されていたが、はっきりしたことは判っていなかった。その後検討が進み、ハロゲン化合物からなる不純物の濃度が１０００ｐｐｍ未満の有機化合物材料で有機化合物層を形成した有機ＥＬ素子（例えば、特許文献１参照）が提案されている。また、分解生成物からなる不純物濃度が１．０質量％以下である有機化合物層を有する有機ＥＬ素子や（例えば、特許文献２、３参照）、クロスカップリング反応により生じうる不純物濃度が０．５質量％以下である有機化合物層を有する有機ＥＬ素子（例えば、特許文献４参照）が提案されている。
【０００６】
【特許文献１】
特許第３２９０４３２号公報（第１−２頁）
【０００７】
【特許文献２】
特開２００２−３７３７８５号公報（第１−２頁）
【０００８】
【特許文献３】
特開２００３−０６８４６７号公報（第１−２頁）
【０００９】
【特許文献４】
特開２００２−３７３７８６号公報（第１−２頁）
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来技術では有機ＥＬ用材料に含まれる不純物の一部についてしか解明されていない。
【００１１】
本発明は、かかる従来技術の問題を解決し、耐久性に優れた有機ＥＬ素子に用いられる有機ＥＬ用材料、およびその有機ＥＬ用材料の製造方法、ならびにその有機ＥＬ用材料を用いた有機ＥＬ素子を提供することを目的とするものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、有機ＥＬ用材料の重合物、あるいは分解物に起因する不純物の濃度が有機ＥＬ素子の耐久性に影響を与えることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】
すなわち、本発明は、上記の目的を達成するため、以下の構成を採用する。
（１）不純物が有機ＥＬ用材料の重合物、あるいは有機ＥＬ用材料の分解物であり、不純物濃度が１０，０００ｐｐｍ未満であることを特徴とする有機ＥＬ用材料。
（２）重合物が有機ＥＬ用材料の２量体であることを特徴とする前記（１）に記載の有機ＥＬ用材料。
（３）非金属元素で構成されていることを特徴とする（１）に記載の有機ＥＬ用材料。
（４）分解物が分子量１００以上であり、かつ分子構造に少なくとも１つの環状化合物を含むことを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれかに記載の有機ＥＬ用材料。
（５）環状化合物が芳香族環あるいは複素環であることを特徴とする前記（４）に記載の有機ＥＬ用材料。
（６）有機ＥＬ用材料の重合温度未満で昇華精製する、あるいは有機ＥＬ用材料の分解温度未満で昇華精製することの少なくとも１種で製造されることを特徴とする前記（１）に記載の有機ＥＬ用材料の製造方法。
（７）陽極と陰極の間に発光物質が存在し、電気エネルギーにより発光する素子であって、該素子が前記（１）〜（４）のいずれかに記載の有機ＥＬ用材料を含むことを特徴とする有機ＥＬ素子。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の有機ＥＬ用材料は、有機ＥＬ用材料の重合物、あるいは分解物に起因する不純物の濃度が１０，０００ｐｐｍ未満であるものである。ここでいう不純物濃度は、有機ＥＬ用材料に残存する不純物の濃度であり、重合物あるいは分解物に起因する不純物濃度の合計を示す。
【００１５】
有機ＥＬ用材料の重合物、あるいは分解物に起因する不純物の濃度は５，０００ｐｐｍ未満であることが好ましく、１０００ｐｐｍ未満であることがより好ましいが、０ｐｐｍは含まれない。
【００１６】
有機ＥＬ用材料の重合物とは、有機ＥＬ用材料の多量体であり、反応性基どうしによる重縮合体、脱離重合体、有機ＥＬ用材料の付加重合体などである。重合物は有機ＥＬ用材料と基本骨格が同じであり、有機ＥＬ素子の耐久性に大きく影響する。特に、有機ＥＬ用材料の２量体は物性、例えば、昇華性や溶解性が酷似しているため、精製による除去が困難であり、有機ＥＬ素子中に取り込まれやすい。
【００１７】
有機ＥＬ用材料の分解物とは、有機ＥＬ用材料の熱分解物である。分解物は、分子量が１００以上、有機ＥＬ用材料の分子量以下であり、かつ分子構造中に少なくとも１つの環状化合物を含むものであり、環状化合物が芳香族環あるいは複素環であることが好ましい。
【００１８】
本発明において、不純物の分子量は、質量分析法（ＭＳ）による分子イオンピークから求めることができる。
【００１９】
分解物の分子量が１００未満であると、生成しても脱ガスとして除去されやすく素子への影響は少ないが、分子量が１００以上であるとＥＬ素子中に取り込まれやすくなり、有機ＥＬ素子の耐久性に大きく影響する。現在、報告されている有機ＥＬ用材料には、発光特性の点で、その分子構造中に芳香族環や複素環が含まれている材料が多い。分子構造中に芳香族環や複素環が含まれた分解物は、部分骨格が有機ＥＬ用材料と同じであり、有機ＥＬ素子の耐久性に大きく影響する。
【００２０】
精製工程は再結晶法や再沈殿法、カラム精製法、昇華精製法を単独あるいは併用して行う。複数回繰返すことは不純物濃度を下げることに対してさらに効果的である。
【００２１】
昇華精製法において、試料台の材質としては特に限定されるものではないが、石英、アルミナ、窒化ボロン、カーボン、チタン、ステンレス、タンタル、タングステン、モリブデンなどが挙げられる。昇華精製時の温度は、試料自体の温度ではなく、加熱炉の温度が実際には測定される。そのため、加熱ムラや局所加熱が起こりやすい。
【００２２】
本発明の有機ＥＬ用材料の製造方法は、有機ＥＬ用材料の重合温度未満で昇華精製するか、あるいは有機ＥＬ用材料の分解温度未満で昇華精製するか、のどちらか一方、あるいは双方で製造されることが好ましい。
【００２３】
上記の如く、昇華精製温度は有機ＥＬ用材料の重合温度または分解温度未満で行うことが好ましい。重合温度とは、有機ＥＬ用材料が熱により重合する温度をいい、分解温度とは、有機ＥＬ用材料が熱により分解する温度をいう。
【００２４】
より具体的には、有機ＥＬ用材料に熱負荷を与え、生成した化合物を液体クロマトにより分取し、分取された化合物を質量分析法（ＭＳ）、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）により分子量、化学構造をそれぞれ特定する。その結果、重合物が生成していた試料の加熱温度を重合温度とする。
【００２５】
また、加熱時発生気体分析法（ＴＰＤ−ＭＳ）により、脱ガス成分および脱ガス発生温度を測定し、脱ガス成分が発生しはじめる温度を分解温度とする。
【００２６】
本発明において有機ＥＬ素子は、陽極と陰極の間に発光物質が存在し、電気エネルギーにより発光する素子であって、該素子は有機ＥＬ用材料の重合物、あるいは分解物に起因する不純物の濃度が１０，０００ｐｐｍ未満である有機ＥＬ用材料を含むものである。
【００２７】
本発明において発光物質としては、１）正孔輸送層／発光層、２）正孔輸送層／発光層／電子輸送層、３）発光層／電子輸送層、そして、４）以上の組合わせ物質を一層に混合した形態のいずれであってもよい。すなわち、素子構成としては、上記１）〜３）の多層積層構造の他に、４）のように発光材料単独または発光材料と正孔輸送材料や電子輸送材料を含む層を一層設けるだけでもよい。さらに、本発明における発光物質は自ら発光するもの、その発光を助けるもののいずれにも該当し、発光に関与している化合物、層などを指すものである。
【００２８】
正孔輸送層、発光層、電子輸送層は、それぞれ正孔輸送性材料、発光材料、電子輸送材料を、単独または二種類以上用いて積層、あるいは混合するか、高分子結着剤に分散させて形成することができる。正孔輸送性材料、発光材料、電子輸送材料は同種材料同士でも、異種材料と組み合わせても構わない。
【００２９】
本発明において有機ＥＬ用材料の重合物、あるいは分解物に起因する不純物の濃度が１０，０００ｐｐｍ未満である有機ＥＬ用材料は、特に制限されるものではなく、正孔輸送層、発光層、電子輸送層のいずれにも用いられる。
【００３０】
正孔輸送性材料は電界を与えられた電極間において陽極からの正孔を効率良く輸送することが必要で、正孔注入効率が高く、注入された正孔を効率良く輸送することが望ましい。そのためにはイオン化ポテンシャルが小さく、しかも正孔移動度が大きく、さらに安定性に優れていることが要求される。このような条件を満たす材料として、特に限定されるものではないが、Ｎ，Ｎ’−ジナフチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−４，４’−ジフェニル−１，１’−ジアミンなどのトリフェニルアミン類、ビス（Ｎ−アリルカルバゾール）またはビス（Ｎ−アルキルカルバゾール）などのカルバゾール類、ピラゾリン誘導体、スチルベン系化合物、ヒドラゾン系化合物、オキサジアゾール誘導体、銅フタロシアニンなどのフタロシアニン誘導体、ポルフィリン誘導体、ポリマー系では前記単量体を側鎖に有するポリカーボネートやスチレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリシランなどが挙げられる。
【００３１】
発光材料はホスト材料のみでも、ホスト材料とドーパント材料の組み合わせでも、いずれであってもよい。また、ドーパント材料はホスト材料の全体に含まれていても、部分的に含まれていても、いずれであってもよい。ドーパント材料は積層されていても、分散されていても、いずれであってもよい。
【００３２】
ホスト材料としては特に限定されるものではないが、以前から発光体として知られていたアントラセン、フェナンスレン、ピレン、ペリレン、クリセンなどの縮合環誘導体、トリス（８−キノリノラト）アルミニウムを始めとするキノリノール誘導体の金属錯体、ベンズオキサゾール誘導体、スチルベン誘導体、ベンズチアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、チオフェン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体やジスチリルベンゼン誘導体などのビススチリル誘導体、キノリノール誘導体と異なる配位子を組み合わせた金属錯体、オキサジアゾール誘導体金属錯体、ベンズアゾール誘導体金属錯体、クマリン誘導体、ピロロピリジン誘導体、ペリノン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、ポリマー系では、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、そして、ポリチオフェン誘導体などが挙げられる。
【００３３】
ドーパント材料は、特に限定されるものではないが、具体的には従来から知られている、フェナンスレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、ルブレンなどの縮合環誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズトリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、スチルベン誘導体、チオフェン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体やジスチリルベンゼン誘導体などのビススチリル誘導体、ジアザインダセン誘導体、フラン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ジフェニルイソベンゾフラン、ジメシチルイソベンゾフランなどのイソベンゾフラン誘導体、ジベンゾフラン誘導体、クマリン誘導体、ジシアノメチレンピラン誘導体、ジシアノメチレンチオピラン誘導体、ポリメチン誘導体、シアニン誘導体、オキソベンズアンスラセン誘導体、キサンテン誘導体、ローダミン誘導体、フルオレセイン誘導体、ピリリウム誘導体、カルボスチリル誘導体、アクリジン誘導体、オキサジン誘導体、フェニレンオキサイド誘導体、キナクリドン誘導体、キナゾリン誘導体、ピロロピリジン誘導体、フロピリジン誘導体、１，２，５−チアジアゾロピレン誘導体、ペリノン誘導体、ピロロピロール誘導体、スクアリリウム誘導体、ビオラントロン誘導体、フェナジン誘導体、アクリドン誘導体、ジアザフラビン誘導体などがそのまま使用できる。
【００３４】
また、ドーパント材料として上記蛍光性（一重項発光）材料だけでなく、燐光性（三重項発光）材料も好ましく用いられる。具体的には、ポルフィリン白金錯体やトリス（２−フェニルピリジル）イリジウム錯体、トリス｛２−（２−チオフェニル）ピリジル｝イリジウム錯体、トリス｛２−（２−ベンゾチオフェニル）ピリジル｝イリジウム錯体、トリス（２−フェニルベンゾチアゾール）イリジウム錯体、トリス（２−フェニルベンゾオキサゾール）イリジウム錯体、ベンゾキノリンイリジウム錯体などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。燐光性ドーパント材料を用いる場合、ホスト材料としては、４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）ビフェニル、４，４’−ビス（カルバゾール−９−イル）−（２，２’−ジメチル）ビフェニル、３，３’−ビス（Ｎ−アリールカルバゾール）、３，３’−ビス（Ｎ−アルキルカルバゾール）、ポリビニルカルバゾールなどの、カルバゾール誘導体が好適に用いられる。
【００３５】
電子輸送性材料は、電界を与えられた電極間において陰極からの電子を効率良く輸送することが必要で、電子注入効率が高く、注入された電子を効率良く輸送することが望ましい。そのためには電子親和力が大きく、しかも電子移動度が大きく、さらに安定性に優れていることが要求される。しかしながら、正孔と電子のバランスを考えた場合に、陽極からの正孔が再結合せずに陰極側へ流れるのを効率よく阻止できる役割を主に果たす場合には、電子輸送能力がそれ程高くなくても、発光効率を向上させる効果は電子輸送能力が高い材料と同等に有する。したがって、本発明における電子輸送層は、正孔の移動を効率よく阻止できる正孔阻止層も同義のものとして含まれる。このような条件を満たす材料として、特に限定されるものではないが、８−ヒドロキシキノリンアルミニウムに代表されるキノリノール系金属錯体、トロポロン系金属錯体、フラボノール系金属錯体、アントラセンやペリレンなどの縮合環誘導体、ペリノン誘導体、クマリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、キノキサリン誘導体、トリアジン誘導体、アルダジン誘導体、ビススチリル誘導体、ピラジン誘導体、フェナントロリン誘導体、リンオキサイド誘導体、チオフェン誘導体、シロール誘導体などが挙げられる。
【００３６】
高分子結着剤としては、特に限定されるものではないが、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルフォン、ポリフェニレンオキサイド、ポリブタジエン、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリサルフォン、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン樹脂などの溶剤可溶性樹脂や、フェノール樹脂、キシレン樹脂、石油樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂などの硬化性樹脂が挙げられる。
【００３７】
発光物質の形成方法は、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、スパッタリング、分子積層法、コーティング法など特に限定されるものではないが、通常は、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着が特性面で好ましい。層の厚みは、発光物質の抵抗値にもよるので限定することはできないが、１〜１０００ｎｍの間から選ばれることが好ましい。
【００３８】
陽極は、光を取り出すために透明であれば酸化錫、酸化インジウム、酸化錫インジウム（ＩＴＯ）などの導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロムなどの金属、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリンなどの導電性ポリマなど特に限定されるものではないが、ＩＴＯガラスやネサガラスを用いることが特に望ましい。透明電極の抵抗は素子の発光に十分な電流が供給できればよいので限定されないが、素子の消費電力の観点からは低抵抗であることが望ましい。例えば３００Ω／□以下のＩＴＯ基板であれば素子電極として機能するが、現在では１０Ω／□程度の基板の供給も可能になっていることから、低抵抗品を使用することが特に望ましい。
【００３９】
ＩＴＯの厚みは抵抗値に合わせて任意に選ぶことができるが、通常１００〜３００ｎｍの間で用いられることが多い。また、ガラス基板はソーダライムガラス、無アルカリガラスなどが用いられ、また厚みも機械的強度を保つのに十分な厚みがあればよいので、０．５ｍｍ以上あれば十分である。ガラスの材質については、ガラスからの溶出イオンが少ない方がよいので無アルカリガラスの方が好ましいが、ＳｉＯ２  などのバリアコートを施したソーダライムガラスも市販されているのでこれを使用できる。ＩＴＯ膜形成方法は、電子線ビーム法、スパッタリング法、化学反応法など特に制限を受けるものではない。
【００４０】
陰極は、電子を本有機物層に効率良く注入できる物質であれ特に限定されないが、一般に白金、金、銀、銅、鉄、錫、亜鉛、アルミニウム、インジウム、クロム、リチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムなどが挙げられるが、電子注入効率を上げて素子特性を向上させるためにはリチウム、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムまたはこれら低仕事関数金属を含む合金が有効である。しかし、これらの低仕事関数金属は、一般に大気中で不安定であることが多く、例えば、有機層に微量のリチウムやセシウム、マグネシウム（真空蒸着の膜厚計表示で１ｎｍ以下）をドーピングして安定性の高い電極を使用する方法が好ましい例として挙げることができるが、フッ化リチウムのような無機塩の使用も可能であることから特にこれらに限定されるものではない。さらに電極保護のために白金、金、銀、銅、鉄、錫、アルミニウム、インジウムなどの金属、またはこれら金属を用いた合金、そしてシリカ、チタニア、窒化ケイ素などの無機物、ポリビニルアルコール、塩化ビニル、炭化水素系高分子などを積層することが好ましい例として挙げられる。これらの電極の作製法も抵抗加熱、電子線ビーム、スパッタリング、イオンプレーティング、コーティングなど導通を取ることができれば特に制限されない。
【００４１】
電気エネルギーとは主に直流電流を指すが、パルス電流や交流電流を用いることも可能である。電流値および電圧値は特に制限はないが、素子の消費電力、寿命を考慮するとできるだけ低いエネルギーで最大の輝度が得られるようにするべきである。
【００４２】
【実施例】
以下、実施例および比較例をあげて本発明を説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【００４３】
＜参考例１＞
４，４’−ジアセチルテトラフェニルメタンの合成：
窒素気流下、１，２−ジクロロエタン２０００ｍｌ中にテトラフェニルメタン１００ｇ（０．３１２ｍｏｌ）を分散した。この溶液に、塩化アセチル５３．９ｇ（０．６８７ｍｏｌ）／１，２−ジクロロエタン１００ｍｌ溶液を室温下で滴下し、３時間撹拌後、５０℃で２時間反応させた。次に、この反応溶液に、氷浴中、１Ｎ塩酸水溶液を滴下し、有機層を分液した。無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し、黒褐色固体１６４．３７ｇを得た。
この黒褐色固体をシリカゲルカラムにより精製し、４，４’−ジアセチルテトラフェニルメタン４８．９３ｇ（０．１２０ｍｏｌ、３８．５％収率）を淡黄色結晶として得た。
【００４４】
ＴＰＭＰの合成：
窒素気流下、１，４−ジオキサン１６００ｍｌに、４，４’−ジアセチルテトラフェニルメタン２５．０ｇ（０．０６１８ｍｏｌ）、８−アミノ−７−キノリンカルボアルデヒド２３．５ｇ（０．１３６ｍｏｌ）を溶解させた。この溶液に、水酸化カリウム（８５％）１７．９ｇ（０．２７１ｍｏｌ）／エタノール１００ｍｌ溶液を添加し、還流下、２０時間反応させた。次に、この反応溶液を減圧蒸留し、溶媒を留去した。析出物をエタノール２５０ｍｌで洗浄し、黄土色粉末４０．５ｇを得た。
この黄土色粉末をカラム精製および再結晶することにより、４，４’−ジ（１，１０−フェナントロリン−２−イル）テトラフェニルメタン（ＴＰＭＰ）２０．３ｇ（０．０２９９ｍｏｌ、４８．３％収率）を黄白色結晶として得た。
【００４５】
＜参考例２＞
ＴＰＭＰの熱特性：
昇華開始温度
参考例１で得たＴＰＭＰ１．００ｇをタンタルボート（１０ｍｍ×３０ｍｍ×５ｍｍ）に仕込み、真空下（１．０×１０−５Ｔｏｒｒ）で昇華したところ、昇華開始温度は３５０℃であった。
【００４６】
分解温度
参考例１で得たＴＰＭＰ０．１０ｇを石英セルに仕込み、ヘリウム気流下、１０℃／ｍｉｎで、ＴＰＤ−ＭＳ装置（加熱装置：ＴＲＣ製特殊加熱装置Ｓｍａｌｌ−４、ＭＳ装置：島津製作所製ＧＣ／ＭＳ  ＱＰ５０５０Ａ）により脱ガス成分および脱ガス発生温度を測定したところ、３６０℃からメチルキノリン、３８０℃からベンゼンが分解生成することがわかった。この結果から、ＴＰＭＰの分解温度を３６０℃とした。
【００４７】
重合温度
参考例１で得たＴＰＭＰ１．００ｇをタンタルボート（１０ｍｍ×３０ｍｍ×５ｍｍ）に仕込み、窒素気流下、３６０℃で１時間、３７０℃で１時間、３８０℃で１時間の３条件で加熱した。加熱後、液体クロマト分取により各試料の含有成分を分析したところ、３７０℃で１時間、３８０℃で１時間加熱した試料中に、ＴＰＭＰ２量体が生成していた。この結果から、ＴＰＭＰの重合温度を３７０℃とした。
【００４８】
＜実施例１＞
参考例１で得たＴＰＭＰ１．００ｇをタンタルボート（１０ｍｍ×３０ｍｍ×５ｍｍ）に仕込み、真空下（１．０×１０−５Ｔｏｒｒ）、３５０℃で昇華精製し、黄白色結晶０．６８ｇ（６８．０％収率）を得た。純度分析は、試料（本実施例ではＴＰＭＰ）のクロロホルム溶液を、アセトニトリルを溶離液とし、高速液体クロマトグラフ（島津製作所製  ＬＣ−ＶＰ）、カラム（関東化学製  Ｍｉｇｔｈｙｓｉｌ  ＲＰ−８ＧＰ）、ＵＶ検出器を用いて行い、ＵＶ検出器から出力された成分ピークの面積％から定量した。その結果、ＴＰＭＰ  ９９．８９％であり、不純物としては、メチルキノリン０．０１％（１００ｐｐｍ）が含まれていた。
【００４９】
＜実施例２＞
実施例１と同様に、３６０で昇華精製し、黄白色結晶０．７０ｇ（７０．０％収率）を得た。純度は９９．５４％であり、不純物としては、メチルキノリン０．３２％（３２００ｐｐｍ）、ＴＰＭＰ２量体０．０１％（１００ｐｐｍ）が含まれていた。
【００５０】
＜実施例３＞
実施例１と同様に、３７０℃で昇華精製し、淡黄色結晶０．７３ｇ（７３．０％収率）を得た。純度は９８．４７％であり、不純物としては、メチルキノリン０．８３％（８３００ｐｐｍ）、ＴＰＭＰ２量体０．１１％（１１００ｐｐｍ）が含まれていた。
【００５１】
＜比較例１＞
実施例１と同様に、３８０℃で昇華精製し、淡黄色結晶０．８０ｇ（８０．０％収率）を得た。純度は９７．１２％であり、不純物としては、メチルキノリン１．１２％（１１２００ｐｐｍ）、ＴＰＭＰ２量体０．５３％（５３００ｐｐｍ）が含まれていた。
【００５２】
＜比較例２＞
実施例１と同様に、３９０℃で昇華精製し、黄色結晶０．８３ｇ（８３．０％収率）を得た。純度は９５．２０％であり、不純物としては、メチルキノリン２．７９％（２７９００ｐｐｍ）、ＴＰＭＰ２量体１．０２％（１０２００ｐｐｍ）が含まれていた。
【００５３】
＜実施例４＞
有機ＥＬ素子の作成：
ＩＴＯ透明導電膜を１５０ｎｍ堆積させたガラス基板（旭硝子（株）製、１５Ω／□、電子ビーム蒸着品）を３０×４０ｍｍに切断、エッチングを行った。得られた基板をアセトン、”セミコクリン５６”（フルウチ化学（株）製）で各々１５分間超音波洗浄してから、超純水で洗浄した。続いてイソプロピルアルコールで１５分間超音波洗浄してから熱メタノールに１５分間浸漬させて乾燥させた。この基板を素子を作製する直前に１時間ＵＶ−オゾン処理し、真空蒸着装置内に設置して、装置内の真空度が５×１０−５Ｐａ以下になるまで排気した。抵抗加熱法によって、まず正孔輸送材料として銅フタロシアニンを２０ｎｍ蒸着し、次にαＮａＰｈＣｚを１００ｎｍ蒸着した。次に発光材料として、トリス（８−キノリノール）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）を５０ｎｍの厚さに積層した。次に電子輸送材料として、実施例１〜６３、比較例１、２で得られたＴＰＭＰを１００ｎｍの厚さに積層した。次にリチウムを０．５ｎｍ有機層にドーピングした後、アルミニウムを２００ｎｍ蒸着して陰極とし、５×５ｍｍ角の素子を作製した。ここで言う膜厚は水晶発振式膜厚モニター表示値である。
【００５４】
有機ＥＬ素子の耐久性測定：
作製した有機ＥＬ素子は、アルゴン置換されたグローブボックス（美和製作所（株）製、ＭＤＢ−１Ｂ）内に移して、ガラス板とエポキシ樹脂を用いて封止した。耐久性は、電源に定電流電源（アトシステム（有）製）を用いて、初期輝度を２００ｃｄ／ｍ２になるようにして連続駆動をおこない、色彩色差計（ミノルタ（株）製、ＣＳ−１００）を用いて、駆動開始からの経過時間に伴う輝度変化を測定した。輝度半減時間とは、作製した有機ＥＬ素子の輝度が１００ｃｄ／ｍ２まで低下したときの連続駆動時間のことをいう。
これらの素子の耐久性（輝度半減時間）、含有不純物量、昇華精製温度を表１に示す。また、表中に有機ＥＬ素子の耐久性として良好なものを「○」、不適なものを「×」として示す。
【００５５】
【表１】
2005011733.tif 000002
【００５６】
【発明の効果】
本発明によれば、耐久性に優れた有機ＥＬ素子に用いられる有機ＥＬ用材料、およびその有機ＥＬ用材料の製造方法、ならびにその有機ＥＬ用材料を用いた有機ＥＬ素子を提供できるものである。