(57)【要約】  有機発光ダイオードディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。前記製造方法は、アクティブアレイが形成されている透明基板にフォトレジスト層を塗布することと、透明基板の前記フォトレジスト層の反対側からフォトレジスト層に対して露光を行い、マスクとして走査線及び少なくとも一方の線を利用して、対応するフォトレジストが露光されないようにして、フォトレジスト層によりフォトレジスト保留領域を形成することと、フォトレジスト層に対して現像処理を行って、フォトレジストの保留領域以外のフォトレジストを除去するとともに、フォトレジスト保留領域のフォトレジストを残すことで、画素画定層を形成することと、を含む。前記方法によれば、ディスプレイパネルの製造工程を簡略化でき、ディスプレイの製造コストを抑えながらディスプレイパネルの歩留まりを向上することができる。
2015516663.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光ダイオードディスプレイパネルの画素画定層を製造する方法であって、駆動電源線、データ線、走査線、前記複数の走査線とデータ線とが交差して画定された、透明の第一電極を有する画素ユニットを備えるアクティブアレイを覆うように、前記アクティブアレイが形成された透明基板にフォトレジスト層を塗布し、前記データ線および前記駆動電源線の少なくとも一方の線、および前記走査線は不透明であり、
前記透明基板の前記フォトレジスト層の反対側から、前記フォトレジスト層に対して露光を行い、マスクとして前記走査線並びに前記データ線および前記駆動電源線の少なくとも一方の線を利用し、対応するフォトレジストが露光されないようにして、フォトレジスト層によりフォトレジスト保留領域を形成し、
前記フォトレジスト層に対して現像処理を行って、前記フォトレジスト保留領域以外のフォトレジストを除去するとともに、前記フォトレジスト保留領域のフォトレジストを残すことで、画素画定層を形成することを特徴とする有機発光ダイオードディスプレイパネルの画素画定層の製造方法。
【請求項２】
前記画素画定層は、前記フォトレジスト保留領域のフォトレジストより形成された第一画素画定層を備え、さらに第二画素画定層を備えることを特徴とする請求項１に記載の有機発光ダイオードディスプレイパネルの画素画定層の製造方法。
【請求項３】
前記フォトレジスト層を塗布する前に、透明かつ親水性を有する材料で、前記透明基板のアクティブアレイの表面に一層の親水性材料層を形成し、
前記フォトレジスト層は疎水性材料を採用し、前記親水性材料層に塗布され、
前記現像処理を実施した後で、前記フォトレジスト保留領域以外の領域に露出されている親水性材料層をさらに除去し、残された親水性材料層より構成された前記第二画素画定層が得られることを特徴とする請求項１または２に記載の有機発光ダイオードディスプレイパネルの画素画定層の製造方法。
【請求項４】
前記第二画素画定層の材料はシリコンナイトライドであり、前記第一画素画定層の材料はポリイミドであることを特徴とする請求項２また３に記載の有機発光ダイオードディスプレイパネルの画素画定層の製造方法。
【請求項５】
有機発光ダイオードディスプレイパネルを製造する方法であって、透明基板に、駆動電源線、データ線、走査線、複数の走査線及びデータ線とが交差して画定された、透明の第一電極を有する画素ユニットを備えたアクティブアレイを形成し、前記データ線および前記駆動電源線の少なくとも一方の線、及び前記走査線は全て不透明であり、
前記透明基板に、前記アクティブアレイを覆うようにフォトレジスト層を塗布し、
前記透明基板の前記フォトレジスト層の反対側から、前記フォトレジスト層に対して露光を行い、マスクとして前記走査線並びに前記データ線および前記駆動電源線の少なくとも一方の線を利用して、対応するフォトレジストが露光されないようにして、フォトレジスト層によりフォトレジスト保留領域を形成し、
前記フォトレジスト層に対して現像処理を行って、前記フォトレジスト保留領域以外のフォトレジストを除去するとともに、フォトレジスト保留領域のフォトレジストを残すことで、画素画定層を形成し、
前記画素画定層に画定された画素領域に有機発光層を形成し、
前記有機発光層上に第二電極を形成することを特徴とする有機発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
前記画素画定層は、前記フォトレジスト保留領域のフォトレジストより形成された第一画素画定層を備え、さらに第二画素画定層を備えることを特徴とする請求項５に記載の有機発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記フォトレジストを塗布する前、透明かつ親水性を有する材料で前記透明基板に一層の親水性材料層を形成し、
前記フォトレジスト層は疎水性材料を採用し、前記親水性材料層に塗布され、
前記現像処理を実施した後、前記フォトレジスト保留領域以外の領域に露出されている親水性材料層をさらに除去し、残された親水性材料層より構成された前記第二画素画定層が得られることを特徴とする請求項５または６に記載の有機発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記第二画素画定層の材料はシリコンナイトライドであり、前記第一画素画定層の材料はポリイミドであることを特徴とする請求項６また７に記載の有機発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
前記第一電極はアノードであり、前記第二電極はカソードであることを特徴とする請求項５から８のいずれか一項に記載の有機発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
請求項５〜９のいずれか一項に記載の方法で製造された有機発光ダイオードディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施例は、有機発光ダイオードディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ−Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）ディスプレイパネルは、通常、ガラス基板、インジウムスズ酸化物（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ，ＩＴＯ）アノード（Ａｎｏｄｅ）、有機発光層（Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｌａｙｅｒ）及びカソード（Ｃａｔｈｏｄｅ）等の積層構造により構成される。ＩＴＯアノードは薄くて透明で、金属カソードとともにサンドイッチのように有機発光層を介在する。アノードからの正孔（Ｈｏｌｅ）とカソードからの電子（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ）とが有機発光層で結合する時、有機発光層中の有機材料が励起され発光する。アクティブマトリクス有機発光ダイオード（ＡＭＯＬＥＤ、Ａｃｔｉｖｅ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）ディスプレイパネルは、ＯＬＥＤディスプレイパネルの一種である。従来の液晶ディスプレイパネルと比較すると、ＡＭＯＬＥＤは応答速度がより速く、コントラストがより高く、また視野角がより広いなどの特徴を有しているので、広く適用されることが期待されている。
【０００３】
従来のＯＬＥＤディスプレイパネルの製造工程は大体以下の二つステップを含んでいる。
【０００４】
一つは、ベース基板にアクティブマトリクスを形成するステップである。
【０００５】
他の一つは、有機発光素子のアレイを製造してパッケージングするステップである。該有機発光素子はＩＴＯアノード、アノード上の画素画定層、有機ＥＬ層及びカソードを備える。
【０００６】
この有機ＥＬ層はアノードとカソードの間に挟まれ、サンドイッチ状の構造となる。また、画素画定層は画素及びアノードのサイズを画定するために用いられ、アノードとカソードの間の絶縁を確保できる。
【０００７】
図１には従来技術における、画素画定層を作製する前のアクティブ領域の画素の構造の概略図である。なお、図において、１０１ａ〜１０１ｂが走査線を、１０２ａ〜１０２ｂがデータ線を、１０５ａが駆動電源線を、１０９がスイッチング用トランジスタを、１１０が駆動用トランジスタを、１０３ａがアクティブ領域を示す。ここで、アクティブ領域は半導体材料であり、例えば、単結晶シリコン、多結晶シリコン、またはインジウムガリウム亜鉛の酸化物（ＩＧＺＯ）等である。また、１０４ａがスイッチング用トランジスタ１０９と駆動用トランジスタ１１０とを連結する線であり、１０６ａが透明電極である。図１に加え、図２はさらに画素画定層の構成を示す概略図である。図２において、領域１０７ａは一つの画素内の画素画定層であり、画素画定層中の領域ＤＡは対応する画素の中で表示用の領域である。
【０００８】
一般的に、画素画定層の材料はフォトレジストである。従来技術において、フォトリソグラフィ工程を採用して画素画定層のパターンを形成し、パターン化に用いられるマスクは、普通、画素画定層のために専らに設計したマスクである。また、画素画定層を正しくする形成するため、フォトリソグラフィ工程において、一回の位置合わせ工程を介してマスクに対して精度良く位置合わせする必要がある。
【０００９】
以上から、従来の技術において、画素画定層を製造する時、専用のマスクおよび一回の位置合わせ工程が必要となるので、作製コストが高く、かつ作製フローが煩雑になってしまうことが分かる。また、一回の位置合わせが必要となるので、ディスプレイパネルの歩留まりが位置合わせ精度の影響を受ける。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の実施例は、ディスプレイパネルの作製工程を簡略化し、ディスプレイパネルの作製コストを抑えながら、有機発光ダイオードディスプレイパネルの歩留まりの向上を図ることができる有機発光ダイオードディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一実施形態は、下記のステップを備える有機発光ダイオードディスプレイパネルの画素画定層の製造方法を提供する。
【００１２】
即ち、駆動電源線、データ線、走査線、複数の走査線とデータ線とが交差して画定された、透明の第一電極を有する画素ユニットを備えるアクティブアレイを覆うように、前記アクティブアレイが形成された透明基板にフォトレジスト層を塗布し、前記データ線および前記駆動電源線の少なくとも一方の線、および前記走査線は不透明であり、前記透明基板の前記フォトレジスト層の反対側から、前記フォトレジスト層に対して露光を行い、マスクとして前記走査線および前記少なくとも一方の線を利用し、対応するフォトレジストが露光されないようにして、フォトレジスト層によりフォトレジスト保留領域を形成し、前記フォトレジスト層に対して現像処理を行って、フォトレジスト保留領域以外のフォトレジストを除去するとともに、フォトレジスト保留領域のフォトレジストを残すことで、画素画定層を形成する。
【００１３】
例えば、上記方法において、前記画素画定層は、前記フォトレジスト保留領域のフォトレジストより形成された第一画素画定層を備え、さらに第二画素画定層を備える。
【００１４】
例えば、前記フォトレジスト層を塗布する前、透明かつ親水性を有する材料で、前記透明基板のアクティブアレイの表面に一層の親水性材料層を形成し、前記フォトレジスト層は疎水性材料を採用し、前記親水性材料層に塗布され、前記現像処理を実施した後、前記フォトレジスト保留領域以外の領域に露出されている親水性材料層をさらに除去し、残された親水性材料層より構成された前記第二画素画定層が得られる。
【００１５】
例えば、上記方法において、前記第二画素画定層の材料はシリコンナイトライドであり、前記第一画素画定層の材料はポリイミドである。
【００１６】
本発明の他の実施形態は、有機発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法を提供する。当該方法は、以下のステップを備える。即ち、
【００１７】
有機発光ダイオードディスプレイパネルを製造する方法であって、透明基板に、駆動電源線、データ線、走査線、複数の走査線及びデータ線とが交差して画定された、透明の第一電極を有する画素ユニットを備えたアクティブアレイを形成し、前記データ線および前記駆動電源線の少なくとも一方の線、及び前記走査線は全て不透明であり、前記透明基板に、前記アクティブアレイを覆うようにフォトレジスト層を塗布し、前記透明基板の前記フォトレジスト層の反対側から、前記フォトレジスト層に対して露光を行い、マスクとして前記走査線及び前記少なくとも一方の線を利用して、対応すフォトレジストが露光されないようにして、フォトレジスト層によりフォトレジスト保留領域を形成し、前記フォトレジスト層に対して現像処理を行って、フォトレジスト保留領域以外のフォトレジストを除去するとともに、フォトレジスト保留領域のフォトレジストを残すことで、画素画定層を形成し、前記画素画定層に画定された画素領域に有機発光層を形成し、前記有機発光層上に第二電極を形成する。
【００１８】
例えば、上記方法において、前記画素画定層は、前記フォトレジスト保留領域のフォトレジストより形成された第一画素画定層を備え、さらに第二画素画定層を備える。
【００１９】
例えば、前記フォトレジストを塗布する前、透明かつ親水性を有する材料で前記透明基板に一層の親水性材料層を形成し、
前記フォトレジスト層は疎水性材料を採用し、前記親水性材料層に塗布され、
前記現像処理を実施した後、前記フォトレジスト保留領域以外の領域に露出されている親水性材料層をさらに除去し、残された親水性材料層より構成された前記第二画素画定層が得られる。
【００２０】
例えば、上記方法において、前記第二画素画定層の材料はシリコンナイトライドであり、前記第一画素画定層の材料はポリイミドである。
【００２１】
例えば、上記方法において、前記第一電極はアノードであり、前記第二電極はカソードである。
【００２２】
本発明のさらに他の実施形態は、上記方法で製造された有機発光ダイオードディスプレイパネルを提供する。
【発明の効果】
【００２３】
以上より、本発明の実施例に提供された有機発光ダイオードディスプレイパネル及びその製造方法によれば、画素画定層を形成するフォトリソグラフィ工程において、マスクとして不透明の走査線及びデータ線（または駆動電源線）を利用するので、専用のマスクを採用する必要がなくなり、従来技術におけるマスクの位置合わせ工程を省略することができ、製造工程を大幅に簡略化でき、これによって、作製コストを抑えながら製品の歩留まりの向上も図ることができる。
【００２４】
本発明の実施形態における技術手段をより明確に説明するため、以下に実施例の図面について簡単に紹介する。なお、下記に説明する図面はただ本発明の実施例に係るが、本発明を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】従来技術における画素画定層を作製する前のアクティブ領域の画素の構造の概略図である。
【図２】従来技術における画素画定層の構造の概略図である
【図３】本発明の実施例により提供される画素画定層を作製するためのフローチャートである。
【図４】本発明の実施例により形成された画素画定層の構造の概略図である。
【図５】本発明の実施例により提供された有機発光ダイオードディスプレイパネルを作成するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明に係る実施例の目的、技術手段及び効果をより明確にするために、以下、本発明の実施例を表す図面を参照しながら、本発明の実施例を明確かつ完全に説明する。なお、ここに記載された実施例は、ただ本発明の実施例の一部だけであり、本発明の全ての実施例ではない。本発明の実施例に基づき、当業者が創造的な労働をしない前提で得られる他の実施例は全て本発明の技術範囲に含まれる。
【００２７】
本発明の実施例に係るＯＬＥＤディスプレイパネルにおいて、画素画定層はアクティブアレイ及び画素のアノードを作製した後、且つ有機発光層を形成する前に作製される。アクティブアレイは、画素のスイッチ素子であるスイッチング用トランジスタ、ＯＬＥＤを駆動するための駆動用トランジスタ、スイッチング用トランジスタと駆動用トランジスタとの間の連結線、走査線、データ線及び駆動線等を備える。
【００２８】
従来における画素画定層は、普通、専用のマスクで画素画定層のパターン化を行うが、本発明の実施例は専用の画素画定層のマスクが必要ではない。画素画定層が作製される前に、アクティブアレイの作製が既に完成され、且つ、ベース基板に走査線、データ線及び駆動電源線が形成されている。このような構造が例えば図１に示されている。
【００２９】
本発明の実施例に係るアレイ基板には、走査線とデータ線とが交差するように設置される。例えば、走査線とデータ線とが互いに垂直するように設置されてもよい。また、データ線と駆動電源線は通常のように互いに平行し、互いに垂直する走査線およびデータ線（または駆動電源線）により各画素を分離する。本発明の実施例は、これらの金属線を画素画定層のマスクとして利用して、画素画定層のパターン化を行い、これによって、専用のマスクおよび位置合わせ工程が不要になる。
【００３０】
図３に示すように、本発明の実施例に係る上記した有機発光ダイオードディスプレイパネルの画素画定層の作製方法は下記のステップを備える。
【００３１】
ステップ３１：アクティブアレイが形成されている透明基板にフォトレジストを塗布する。上記アクティブアレイは駆動電源線、データ線、走査線及び複数の走査線とデータ線とが交差して画定された画素ユニットを備える。また、上記画素ユニットは透明である第一電極を有する。そして、上記データ線および上記駆動電源線の少なくとも一方の線及び走査線は全て不透明である。
【００３２】
フォトレジストは、アクティブアレイを覆うように透明基板上のアクティブアレイ基板の表面に塗布される。
【００３３】
ここで、透明基板には、例えばガラス基板や、石英基板またはプラスチック基板を採用する。また、走査線は不透明であるが、駆動電源線およびデータ線は全て不透明であったり、或いはその中の一つは透明であってもよい。例えば、駆動電源線が不透明であり、データ線が透明であってもいいし、或いは、データ線が不透明であり、駆動電源線が透明であってもいい。図１に示された構成において、各画素に対して、駆動電源線１０５ａはデータ線１０２ｂよりも透明電極１０６ａに近いので、駆動電源線が不透明であることが好ましい。
【００３４】
上記した不透明である走査線や、駆動電源線や、データ線は不透明である導電材料、例えばＭｏ、ＡＬ、またはＴｉ等より形成されてもいい。
【００３５】
このように、不透明である走査線、および走査線と交差し且つ不透明である駆動電源線および／またはデータ線が存在しているので、交差することで複数の画素ユニットが画定され得る。例えば、互いに垂直でありかつ不透明である走査線とデータ線とが交差することにより、複数の画素ユニットが画定され得る。
【００３６】
図１に示すように、各画素ユニットは、具体的に、透明である第一電極（例えばＩＴＯアノード）１０６ａを備えることができ、さらにスイッチング用トランジスタ１０９と駆動用トランジスタ１１０等のトランジスタを備えてもよい。ただし、本発明の実施例は、スイッチング用トランジスタ、駆動用トランジスタ、走査線、データ線及び駆動電源線の具体的な連結関係を限定しないが、公知の構成（図１に示すような構成）、或いは将来に開発される構成であってもよいので、ここで詳しく説明しない。
【００３７】
ステップ３２：上記透明基板の上記フォトレジストの反対側から上記フォトレジストに対して露光を行い、上記走査線および上記少なくとも一方の線をマスクとして利用し、対応するフォトレジストが露光されることを遮蔽して、フォトレジスト層にフォトレジスト保留領域を形成する。
【００３８】
ここで、フォトリソグラフィ工程は、透明基板のフォトレジストが塗布されていない側から露光を行い、走査線及び駆動電源線（および／またはデータ線）の不透明特性によって、対応するフォトレジストが露光されないように遮蔽し、その結果、露光されなかったフォトレジストがフォトレジスト保留領域を形成し、現像後、該保留領域は残される。
【００３９】
ステップ３３：上記フォトレジスト層に対して現像処理を行って、フォトレジスト保留領域以外のフォトレジストを除去するとともに、フォトレジスト保留領域のフォトレジストを残すことで、画素境界層を形成する。
【００４０】
ここで、現像処理を介して、露光中遮蔽されなかったフォトレジストの一部は除去されるが、フォトレジスト保留領域のフォトレジスト層は残され、この残されたフォトレジストが具体的な画素画定層構成を構成する。
【００４１】
以上から、本実施例は画素画定層を形成するフォトリソグラフィ工程において、不透明である走査線およびデータ線（また駆動電源線）をマスクとして利用するので、専用のマスクが必要なくなり、従来技術におけるマスクの位置合わせ工程も省略されるので、製造工程も大幅に簡略化することができ、コストを抑えながら製品の歩留まりも向上することができる。
【００４２】
本発明の実施例において、画素画定像は一層構成または二重構成であってもよいが、複数層である複合層で構成されてもよい。例えば、二重構成を採用する場合、異なる親水性材料を採用すればよい。そして、透明である第一電極に近い材料は透明であればよい。この場合、本発明の実施例に係る上記有機発光ダイオードディスプレイパネルの画素画定層の製造方法は下記のステップを備える。
【００４３】
ステップ４１：透明かつ親水性を有する材料を採用し、アクティブアレイが形成されている透明基板上に一層の親水性材料層を形成する。
【００４４】
ここで、上記アクティブアレイは駆動電源線、データ線、走査線、複数の走査線とデータ線とが交差して画定された画素ユニットを備える。そして、上記画素ユニットは透明である第一電極を備える。また、上記データ線と上記駆動電源線の少なくとも一方の線および上記走査線は全て不透明である。また、上記親水性材料層には、具体的に、シリコンナイトライドを採用してもよい。そして、化学的堆積法で、透明基板のアクティブアレイの表面に一層のシリコンナイトライド層を覆い、これによって親水性材料層が得られる。
【００４５】
ステップ４２：親水性材料層にフォトレジストを塗布する。
【００４６】
ステップ４３：透明基板の上記フォトレジスト層の反対側から、上記フォトレジスト層に対して露光を行う。そして、マスクとして上記走査線及び上記少なくとも一方の線を利用して、対応するフォトレジストが露光されることを遮蔽することによって、フォトレジスト層がフォトレジスト保留領域を形成する。
【００４７】
ステップ４４：上記フォトレジストに対して現像処理を行って、フォトレジスト保留領域以外のフォトレジストを除去するとともに、フォトレジスト保留領域のフォトレジストを残すことで、第一画素境界層を形成する。
【００４８】
ステップ４５：上記フォトレジスト保留領域以外に露出された親水性材料層を除去し、残された親水性材料層より構成された第二画素画定層が得られる。このステップは、例えば、形成された第一画素画定層をエッチング用マスクとし、ウェットエッチング法またはドライエッチング法を採用して行われる。
【００４９】
以上の処理による画素画定層は二重構成であり、上記フォトレジスト保留領域のフォトレジストより形成された第一画素画定層を備え、さらに残された親水性材料層で構成された第二画素画定層も備える。そして、第一画素画定層は第二画素画定層の上方に位置する。下層の第二画素画定層の材料としてシリコンナイトライドを採用し、上層の第一画素画定層の材料としてポリイミドを採用してもよい。シリコンナイトライドは親水性を有し、ポリイミドは疎水性を有する。このような構成は、後の工程における有機発光素子の正孔輸送層や、正孔注入層または発光層の形成に必要な厚さの分布に役に立つ。
【００５０】
画素画定層の二重材料の塗布が完成してから、上記のステップ４４〜４５のように露光・現像処理を行う。そして、各材料に対してエッチング工程や、剥離工程等を行い、二重画素画定層のパターン化が完成される。
【００５１】
本実施例の上記方法によれば、図１の不透光である金属線（例えば走査線、データ線、駆動電源線）を露光用マスクとして画素画定層に対してパターン化を行う。また、図１における不透光である金属線及び素子は、走査線１０１ａ〜１０１ｂ、データ線１０２ａ〜１０２ｂ、駆動電源線１０５ａ、連結線１０４ａ、およびスイッチング用トランジスタ１０９及び駆動用トランジスタ１１０（即ち、すべてが不透明である導電材料で作成される）を備えるとする。これらの不透明である金属線及び素子の構成を図４の１０８で示す。本実施例は図４に示されているパターン１０８をマスクとし、画素画定層材料を塗布した後、ベース基板の背面から露光を行う。図４の１０８で示す部分の上のフォトレジストが露光されていなく、現像後にベース基板に残されている。これに対して、１０８で示す部分以外の部分は露光され、現像後にフォトレジストが除去される。このように、ベース基板に１０８で示すような形状を有する画素画定層が形成される。１０８で示す部分の形状には１つの大きい封閉空間１１１があり、透明である第一電極がこの封閉空間に位置され、有機発光層はこの封閉空間の第一電極上に形成されてもよい。従って、透明である第一電極の全ての面積が表示用に用いられることができ、画素ユニットが十分に利用される。
【００５２】
以下、本発明の有機発光ダイオードディスプレイパネルの製造への適用について説明する。図５に示すように、本発明の実施例は有機発光ダイオードディスプレイパネルの製造方法を提供する。その方法は下記のステップを備える。
【００５３】
ステップ５１：透明基板上にアクティブアレイを形成する。上記アクティブアレイは駆動電源線、データ線、走査線、複数の走査線とデータ線とが交差して画定された画素ユニットを備える。また、上記画素ユニットは透明である第一電極を備える。上記データ線および上記駆動電源線の少なくとも一方の線および走査線はすべて不透明である。
【００５４】
ここで、上記画素ユニットは駆動用トランジスタ、スイッチング用トランジスタ及び駆動用トランジスタとスイッチング用トランジスタとの連結線を備える。本発明はスイッチング用トランジスタ、駆動用トランジスタ、走査線、データ線および駆動電源線の具体的連結関係を限定しないが、公知の構成或いは将来開発される構成を採用してもよいので、ここで説明を省略する。そして、透明基板、駆動電源線、データ線、走査線およびトランジスタ等の材料及び形成工程は、上記の説明と同様にしてもよいので、ここで省略する。
【００５５】
ステップ５２：上記透明基板にフォトレジストを塗布する。フォトレジストはアクティブアレイを覆うように、アクティブアレイの表面に塗布される。
【００５６】
ステップ５３：上記透明基板の上記フォトレジスト層の反対側から、上記フォトレジスト層に対して露光を行い、マスクとして上記走査線及び上記少なくとも一方の線を利用して、対応するフォトレジストが露光されることを遮蔽する。これによって、フォトレジスト層がフォトレジスト保留領域を形成する。
【００５７】
ステップ５４：上記フォトレジスト層に対して現像処理を行って、フォトレジスト保留領域以外のフォトレジストを除去するとともに、フォトレジスト保留領域のフォトレジストを残すことで、画素境界層を形成する。
【００５８】
ステップ５５：上記画素画定層に画定された画素領域に有機発光層を形成する。
【００５９】
ステップ５６：上記有機発光層上に第二電極を形成する。
【００６０】
ここで、上記第一電極がアノードであり、上記第二電極がカソードであってもよい。第一電極が透明の導電材料より構成され、第二電極が透明または不透明の導電材料より構成されてもよい。
【００６１】
上記ステップ５５において、有機発光層はマスクを利用してベース基板に蒸着することで形成されてもよいが、インクジェットプリントで形成されてもよい。
【００６２】
なお、ここで上記ステップ４１〜４５の処理形態により、二重構成の画素画定層を形成してもよい。ここで説明を省略する。
【００６３】
本発明の実施例において、有機発光層を形成する時、画素領域の第一電極以外の領域に有機発光層を堆積しているが、画素領域の第一電極（例えばアノード）のみが有機発光材料と接触するので、他の領域に有機発光材料があっても、これらの有機発光材料が第一電極と接触しないので、通電された後に発光することはない。従って、工程を簡略化するために、本実施例は、上記ステップ５１において、マスクを採用せず、直接ベース基板に蒸着することで有機発光層を形成することができる。
【００６４】
最後に、本実施例は、さらに図５に示された方法で製造された有機発光ディスプレイパネルおよび図３に示された方法で製造された画素画定層を提供している。ここで説明を省略する。
【００６５】
以上は本発明の具体的な実施形態に過ぎず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、当業者が容易に想到し得る変更や改善は、いずれも本発明の保護範囲内に入る。
【符号の説明】
【００６６】
１０１ａ、１０１ｂ    走査線
１０２ａ、１０２ｂ    データライン、データ線
１０３ａ    アクティブ領域
１０４ａ    連結線
１０５ａ    駆動電源線
１０６ａ    透明電極
１０７ａ    画素画定層
１０８    パターン
１０９    スイッチング用トランジスタ
１１０    駆動用トランジスタ
１１１    封閉空間
ＤＡ    領域
【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図３】
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【図５】
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【国際調査報告】
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