Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月21日(2009.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸芯体と、ＭＤ−１硬度が５°以上３８°以下の弾性体層と、該弾性体層を被覆する被覆層とを有する現像ローラであって、該弾性体層は、エチレン、プロピレン、及び下記化学式（Ｉ）で示される化合物からなる共重合体を含む液状ゴムを架橋させてなるものであることを特徴とする現像ローラ。
【化１】
2008158031.tif 000001
〔化学式（Ｉ）中、ｎは１から５の整数であり、Ｒ1 は炭素原子数１から５のアルキル基であり、Ｒ2 およびＲ3 はそれぞれ独立して水素原子または炭素原子数１から５のアルキル基である〕。
【請求項２】
請求項１に記載の現像ローラの製造方法であって、エチレン、プロピレン、及び前記化学式（Ｉ）で示される化合物からなる共重合体と有機過酸化物架橋剤とを含む液状ゴムを架橋させて前記弾性体層を形成する工程を有することを特徴とする現像ローラの製造方法。
【請求項３】
前記有機過酸化物架橋剤は、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシンから少なくとも一つとトリアリルイソシアヌレートとを含む請求項２に記載の現像ローラの製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載の現像ローラを有することを特徴とする現像装置。
【請求項５】
請求項１に記載の現像ローラを有することを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月5日(2010.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部材を保持する保持部材と、該保持部材に取り付けられたラックと、該ラックに噛み合うリードスクリューを回転させるアクチュエータとを有し、
前記ラックは、該ラックを前記保持部材に取り付けるための取り付け部と、前記リードスクリューを間に挟んで該リードスクリューに噛み合う第１の歯部及び第２の歯部と、前記取り付け部と前記第２の歯部とを繋ぐ弾性を有する接続部とを有する一体部品として形成されており、
光軸方向視において、前記第２の歯部は、前記取り付け部から離れるほど前記第１の歯部との間隔が狭くなるように形成されており、
光軸方向視において、前記接続部に、前記第１の歯部側に突出する突起が設けられており、
光軸方向視において、前記突起は、前記取り付け部から離れるほど前記第１の歯部との間隔が狭まっていることを特徴とする光学機器。
【請求項２】
光軸方向視において、前記第１の歯部に対する前記突起部の傾斜角は、前記第１の歯部に対する前記第２の歯部の傾斜角より大きいことを特徴とする請求項１に記載の光学機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ及び交換レンズ等の光学機器に関し、特にリードスクリューとラックによりレンズ等の光学部材を移動させる光学機器に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
特許文献１には、リードスクリューを径方向両側から挟んでこれに噛み合う第１の歯部と第２の歯部を有するラックが開示されている。主たるラック歯として機能する第１の歯部をリードスクリューに対して押しつける押さえ部として機能する第２の歯部には、リードスクリューの外径部に当接しないように頂角が設定されている。これにより、リードスクリューの外径部の表面粗さに起因したリードスクリューと押さえ部との摺動による異音の発生が防止される。なお、各歯部に形成された歯は、リードスクリューの軸方向に直交する方向に延びる形状を有する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
しかし、このようなラックを樹脂で一体成形することを考えると、歯が延びる方向とその歯を成形する型の引き抜き方向とが異なってしまうため、型を引き抜くことができなくなる。すなわち、金型構造上、ラックの製造が困難である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一側面としての光学機器は、光学部材を保持する保持部材と、該保持部材に取り付けられたラックと、該ラックに噛み合うリードスクリューを回転させるアクチュエータとを有する。ラックは、該ラックを保持部材に取り付けるための取り付け部と、リードスクリューを間に挟んで該リードスクリューに噛み合う第１の歯部及び第２の歯部と、取り付け部と第２の歯部とを繋ぐ弾性を有する接続部とを有する一体部品として形成されている。光軸方向視において、第２の歯部は、取り付け部から離れるほど第１の歯部との間隔が狭くなるように形成されている。光軸方向視において、接続部には、第１の歯部側に突出する突起が設けられている。そして、光軸方向視において、突起は、取り付け部から離れるほど第１の歯部との間隔が狭まっている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
７は光量調節ユニットである。該光量調節ユニット７は、２枚の絞り羽根（遮光部材）７ａ，７ｂによって光が通過する開口（可変開口）を形成する。光量調節ユニット７は、ガルバノメータにより構成される絞りモータ７ｃによって絞り羽根７ａ，７ｂを図中の上下方向における互いに反対方向に移動させることで、開口径を変化させる。光量調節ユニット７は、いわゆるギロチン式の光量調節ユニットである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
次に、レンズ駆動機構について、図３Ａ及び図３Ｂを用いて説明する。図３Ａは、第２レンズユニットＬ２を保持したズーム移動枠２を駆動するためのズーム駆動機構の分解斜視図である。図３Ｂには、後述するラック１６を光軸方向（リードスクリュー１４ｂの軸方向）から見て示している。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
図３Ｂにおいて、メイン歯部１６ｂの内側、つまりは加圧歯部１６ｄ側には、メインラック歯（以下、単にメイン歯という）１６ｂ１が形成されている。また、加圧歯部１６ｄの内側、つまりはメイン歯部１６ｂ側には、加圧歯１６ｄ１が形成されている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
２２６は絞りエンコーダであり、絞りモータ７ｃの内部にホール素子（hall element）を配置し、ロータとステータの回転位置関係を検出する方式のもの等を用いることができる。なお、絞り羽根７ａ，７ｂには、いわゆる小絞り回折による画質劣化を防止するためにＮＤフィルタ（図示せず）が貼り付けられている。ただし、ＮＤフィルタを絞り羽根７ａ，７ｂとは独立して設け、専用のモータによってＮＤフィルタを光路に出し入れしてもよい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
また、ＣＰＵ２３２は、ＡＥゲート２２９を通過した輝度信号Ｙの平均値が適正露出を得るための値になるように、絞りモータ７ｃの駆動を制御して、開口径をコントロールする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月16日(2009.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱用回転体と、前記加熱用回転体の表面と接触して加熱ニップ部を形成する加熱手段と、前記加熱用回転体の表面と接触して定着ニップ部を形成する加圧部材と、を有し、トナー像を担持する記録材を定着ニップ部で挟持搬送しつつトナー像を記録材上に加熱定着する定着装置において、
記録材搬送方向の前記加熱ニップ部の幅を可変する可変部材を有することを特徴とする定着装置。
【請求項２】
前記可変部材は、前記加熱手段を前記加熱用回転体の表面に加圧することによって前記加熱ニップ部の幅を拡げることを特徴とする請求項１記載の加熱定着装置。
【請求項３】
加熱用回転体と、熱伝導を有する熱伝導部材であって、前記加熱用回転体の表面と接触する熱伝導部材と、前記熱伝導部材を挟んで前記加熱用回転体と加熱ニップ部を形成する加熱手段と、前記加熱用回転体の表面と接触して定着ニップ部を形成する加圧部材と、を有し、トナー像を担持する記録材を定着ニップ部で挟持搬送しつつトナー像を記録材上に加熱定着する定着装置において、
記録材搬送方向の前記加熱ニップ部の幅を可変する可変部材を有することを特徴とする定着装置。
【請求項４】
前記可変部材は、前記熱伝導部材を前記加熱用回転体の表面に加圧することによって前記加熱ニップ部の幅を拡げることを特徴とする請求項３記載の定着装置。
【請求項５】
前記可変部材は、前記熱伝導部材を前記加熱用回転体の表面に巻きつけることによって前記加熱ニップ部の幅を拡げることを特徴とする請求項３記載の定着装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するための本発明に係る定着装置の構成は、加熱用回転体と、前記加熱用回転体の表面と接触して加熱ニップ部を形成する加熱手段と、前記加熱用回転体の表面と接触して定着ニップ部を形成する加圧部材と、を有し、トナー像を担持する記録材を定着ニップ部で挟持搬送しつつトナー像を記録材上に加熱定着する定着装置において、
記録材搬送方向の前記加熱ニップ部の幅を可変する可変部材を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また上記目的を達成するための本発明に係る定着装置の構成は、加熱用回転体と、熱伝導を有する熱伝導部材であって、前記加熱用回転体の表面と接触する熱伝導部材と、前記熱伝導部材を挟んで前記加熱用回転体と加熱ニップ部を形成する加熱手段と、前記加熱用回転体の表面と接触して定着ニップ部を形成する加圧部材と、を有し、トナー像を担持する記録材を定着ニップ部で挟持搬送しつつトナー像を記録材上に加熱定着する定着装置において、
記録材搬送方向の前記加熱ニップ部の幅を可変する可変部材を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月11日(2009.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１フレーム期間を重み付けされた複数のサブフレーム期間に分割し、前記複数のサブフレーム期間の各々における画素の点灯／非点灯を制御することで階調表示を行う電気光学装置に使用される、アクティブマトリクス基板であって、
データ線と交差する第１の走査線及び第２の走査線と、
前記第１の走査線に電気的に接続された第１のトランジスタと、
前記第２の走査線に電気的に接続された第２のトランジスタと、
前記第１のトランジスタに対応して設けられた第１の保持容量と、
前記第２のトランジスタに対応して設けられた第２の保持容量と、を有し、
前記第１のトランジスタの一方の端子は前記データ線に電気的に接続され、
前記第１のトランジスタの他方の端子は前記第２トランジスタの一方の端子と、前記第１の保持容量の一方の端子と、画素電極とに電気的に接続され、
前記第２のトランジスタの他方の端子が前記第２の保持容量の一方の端子と電気的に接続され、
前記重み付けされた複数のサブフレーム期間のうち最小のサブフレーム期間において、前記第２の保持容量を前記画素電極から電気的に非接続状態とする
ことを特徴とするアクティブマトリクス基板。
【請求項２】
前記重み付けされた複数のサブフレーム期間のうち最大のサブフレーム期間において、前記第２の保持容量と前記画素電極とを電気的に接続することを特徴とする請求項１記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のアクティブマトリクス基板と、電気光学材料と、を含むことを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月19日(2009.11.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側から像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群より構成され、ズーミングに際して、該第２、第４レンズ群が移動するズームレンズであって、該第１レンズ群は物体側から像側へ順に、負の屈折力の第１１レンズ、正の屈折力の第１２レンズ、正の屈折力の第１３レンズより成り、該第２レンズ群は物体側から像側へ順に、屈折力の絶対値が物体側の面に比べ像側の面の方が大きい負の屈折力の第２１レンズ、物体側の面が凹形状の負の屈折力の第２２レンズ、屈折力の絶対値が像側の面に比べ物体側の面の方が大きい正の屈折力の第２３レンズより成り、該第２２レンズと第２３レンズとの間は空気であり、該第１２レンズと第１３レンズの焦点距離を各々ｆ１２、ｆ１３、該第１３レンズの物体側と像側の面の曲率半径を各々Ｒ１３ａ、Ｒ１３ｂ、とするとき
０．３６＜ｆ１２／ｆ１３＜０．５１
３．９＜（Ｒ１３ｂ＋Ｒ１３ａ）／（Ｒ１３ｂ−Ｒ１３ａ）＜６．０
なる条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
前記第２１レンズと第２２レンズの焦点距離を各々ｆ２１、ｆ２２、前記第２２レンズの像側の面の曲率半径をＲ２２ｂ、前記第２３レンズの物体側の面の曲率半径をＲ２３ａ、
とするとき
０．４３＜ｆ２１／ｆ２２＜０．７９
０．９５＜Ｒ２２ｂ／Ｒ２３ａ＜２．７５
なる条件を満足することを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
前記第２３レンズの材料の屈折率とアッベ数を各々Ｎ２３、ν２３とするとき
ν２３＜２０
Ｎ２３＞１．９
なる条件を満足することを特徴とする請求項１または２に記載のズームレンズ。
【請求項４】
前記第２レンズ群の広角端と望遠端での結像倍率を各々β２ｗ、β２ｔとするとき
３９．０＜β２ｔ／β２ｗ＜８４．７
なる条件を満足することを特徴とする請求項１、２又は３に記載のズームレンズ。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項のズームレンズと、該ズームレンズによって形成された像を受光する固体撮像素子を有していることを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明のズームレンズは、物体側から像側へ順に、正の屈折力の第１レンズ群、負の屈折力の第２レンズ群、正の屈折力の第３レンズ群、正の屈折力の第４レンズ群より構成され、ズーミングに際して、該第２、第４レンズ群が移動するズームレンズであって、該第１レンズ群は物体側から像側へ順に、負の屈折力の第１１レンズ、正の屈折力の第１２レンズ、正の屈折力の第１３レンズより成り、該第２レンズ群は物体側から像側へ順に、屈折力の絶対値が物体側の面に比べ像側の面の方が大きい負の屈折力の第２１レンズ、物体側の面が凹形状の負の屈折力の第２２レンズ、屈折力の絶対値が像側の面に比べ物体側の面の方が大きい正の屈折力の第２３レンズより成り、該第２２レンズと第２３レンズとの間は空気であり、該第１２レンズと第１３レンズの焦点距離を各々ｆ１２、ｆ１３、該第１３レンズの物体側と像側の面の曲率半径を各々Ｒ１３ａ、Ｒ１３ｂ、とするとき
０．３６＜ｆ１２／ｆ１３＜０．５１
３．９＜（Ｒ１３ｂ＋Ｒ１３ａ）／（Ｒ１３ｂ−Ｒ１３ａ）＜６．０
なる条件を満足することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
０．３８＜ｆ１２／ｆ１３＜０．４９ ‥‥‥（１ａ）
４．１＜（Ｒ１３ｂ＋Ｒ１３ａ）／（Ｒ１３ｂ−Ｒ１３ａ）＜５．７  ‥‥（２ａ）
０．４５＜ｆ２１／ｆ２２＜０．７５ ‥‥‥（３ａ）
１．００＜Ｒ２２ｂ／Ｒ２３ａ＜２．６０ ‥‥‥（４ａ）
ν２３＜１９ ‥‥‥（５ａ）
Ｎ２３＞１．９１ ‥‥‥（６ａ）
４２．０＜β２ｔ／β２ｗ＜８０．０ ‥‥‥（７ａ）
尚、各実施例において第１レンズ群Ｌ１の物体側又は第４レンズ群Ｌ４の像側の少なくとも一方にコンバーターレンズやクローズアップレンズ等のレンズ群を配置しても良い。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月16日(2009.12.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
拡大側から縮小側へ順に、負の屈折力を有する第１レンズ群、正の屈折力を有する第２レンズ群、正の屈折力を有する第３レンズ群、負の屈折力を有する第４レンズ群、正の屈折力を有する第５レンズ群、正の屈折力を有する第６レンズ群より構成され、ズーミングの為には、該第１、第６レンズ群は不動であり、ズーミングの際に該第２レンズ群から第５レンズ群が移動し、フォーカスに際し、該第１レンズ群が移動するズームレンズであって、該第１レンズ群は、最も拡大側に正レンズを有するとともに１以上の負レンズを有し、このうち１つの負レンズの材料のアッベ数と部分分散比を各々νｄｎ、θｇＦｎとするとき、
νｄｎ ＜ ３５
０．００８＜θｇＦｎ−（０．６４４−０．００１６８・νｄｎ）＜０．０４０
なる条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
広角端における全系の焦点距離をｆｗ、前記第１レンズ群の負レンズのうち、材料のアッベ数が最も小さい負レンズの焦点距離をｆ１ｎとするとき
−４．３ ＜ ｆ１ｎ／ｆｗ ＜ −１．４
なる条件を満足することを特徴とする請求項１のズームレンズ。
【請求項３】
広角端における全系の焦点距離をｆｗ、無限遠物体にフォーカスしているときの空気換算でのバックフォーカスをｂｆとするとき、
０．３５ ＜ ｆｗ ／ ｂｆ ＜ ０．６５
なる条件を満足することを特徴とする請求項１又は２のズームレンズ。
【請求項４】
前記第１レンズ群は、最も縮小側に、縮小側の面が凸でメニスカス形状の正レンズを有し、該正レンズの拡大側と、縮小側の面の曲率半径を各々ｒ１ａ、ｒ２ａとするとき、
０．０８ ＜ （ｒ１ａ−ｒ２ａ）／（ｒ１ａ＋ｒ２ａ） ＜ ０．７０
なる条件を満足することを特徴とする請求項１、２又は３のズームレンズ。
【請求項５】
前記第１レンズ群の焦点距離をｆ１、広角端と望遠端における全系の焦点距離をそれぞれｆｗ、ｆｔとするとき、
−１．０ ＜ ｆ１／（ｆｗ２＋ｆｔ２）１／２ ＜ −０．６５
なる条件を満足することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項６】
前記第１レンズ群は、両レンズ面が球面形状から成るレンズを６以上有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項７】
前記第４レンズ群は、非球面形状の面を有する負レンズを１枚以上有し、そのうち１つの負レンズの材料の屈折率をＮｄ４ｎとするとき、
１．６０ ＜ Ｎｄ４ｎ
なる条件を満足することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項のズームレンズと、原画を形成する表示ユニットとを有し、前記表示ユニットによって形成された原画を前記ズームレンズによって投射面上に投射することを特徴とする画像投射装置。
【請求項９】
前記ズームレンズと被投影画像との間にプリズムを有し、該プリズムの材料のアッベ数をνｄｐｒ、部分分散比をθｇＦｐｒとするとき
νｄｐｒ ＜ ４０
０．００２＜θｇＦｐｒ−（０．６４４−０．００１６８・νｄｐｒ）＜０．０４０
なる条件を満足することを特徴とする請求項８の画像投射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明のズームレンズは、
拡大側から縮小側へ順に、負の屈折力を有する第１レンズ群、正の屈折力を有する第２レンズ群、正の屈折力を有する第３レンズ群、負の屈折力を有する第４レンズ群、正の屈折力を有する第５レンズ群、正の屈折力を有する第６レンズ群より構成され、ズーミングの為には、該第１、第６レンズ群は不動であり、ズーミングの際に該第２レンズ群から第５レンズ群が移動し、フォーカスに際し、該第１レンズ群が移動するズームレンズであって、該第１レンズ群は、最も拡大側に正レンズを有するとともに１以上の負レンズを有し、このうち１つの負レンズの材料のアッベ数と部分分散比を各々νｄｎ、θｇＦｎとするとき、
νｄｎ ＜ ３５
０．００８＜θｇＦｎ−（０．６４４−０．００１６８・νｄｎ）＜０．０４０
なる条件を満足することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
ズームレンズと被投影画像ＬＣＤとの間にプリズムを有するときは、プリズムの材料のアッベ数をνｄｐｒ、部分分散比をθｇＦｐｒとする。このとき、
νｄｐｒ ＜ ４０ ・・・（８）
０．００２＜θｇＦｐｒ−（０．６４４−０．００１６８・νｄｐｒ）
＜０．０４０ ・・・（９）
なる条件を満足することである。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月22日(2009.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の透明導電膜を有し、ヤング率（ＭＰａ）と厚み（ｍｍ）との積が１０００以上２５０００以下である、入力操作側の第１の基板と、
第２の透明導電膜を有し、前記第１及び第２の透明導電膜を内向きにして前記第１の基板と対向配置される第２の基板と
を具備するタッチパネル。
【請求項２】
請求項１に記載のタッチパネルであって、
前記第１の基板は、
透明基材と、
前記透明基材上に形成された単層又は複数層の樹脂層とを有する
タッチパネル。
【請求項３】
請求項２に記載のタッチパネルであって、
前記透明基材は、アクリル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート又はこれらの混合体からなる
タッチパネル。
【請求項４】
請求項２に記載のタッチパネルであって、
前記樹脂層は、偏光板および位相差板の少なくとも一方を含む
タッチパネル。
【請求項５】
表示面を有する表示素子と、
前記表示面に設置されたタッチパネルとを具備し、
前記タッチパネルは、
第１の透明導電膜を有し、ヤング率（ＭＰａ）と厚み（ｍｍ）との積が１０００以上２５０００以下である、入力操作側の第１の基板と、
第２の透明導電膜を有し、前記第１及び第２の透明導電膜を内向きにして前記第１の基板と対向配置される第２の基板とを有する
表示装置。
【請求項６】
請求項５に記載の表示装置であって、
前記第１の基板は、前記表示面を含む当該表示装置の操作領域上に設置されている
表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明において、上部基板は、透明基材と、これに積層された単層又は複数層の樹脂層で構成することができる。樹脂層には、偏光板や位相差板、反射防止膜、ハードコート層等の各種樹脂膜が含まれる。透明基材のヤング率は、透明基材の構成材料で異なり、例えば、アクリルで３０００ＭＰａ、ポリカーボネートで２５００ＭＰａ、ポリアミドで１１００ＭＰａ、ポリエーテルサルフォンで２１００ＭＰａである。透明基材は上記の例に限られず、ガラス（７３０００ＭＰａ）、ポリエチレンテレフタレート（５４０ＭＰａ）、ポリエチレンナフタレート（６２０ＭＰａ）などが使用可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
上部基板２１のヤング率は、透明基材１０のヤング率が支配的である。透明基材のヤング率は、透明基材の構成材料で異なり、例えば、アクリルで３０００ＭＰａ、ポリカーボネートで２５００ＭＰａ、ポリアミドで１１００ＭＰａ、ポリエーテルサルフォンで２１００ＭＰａである。透明基材は上記の例に限られず、ガラス（７３０００ＭＰａ）、ポリエチレンテレフタレート（５４０ＭＰａ）、ポリエチレンナフタレート（６２０ＭＰａ）、ポリカーボネートとアクリル系樹脂の混合体（２５００〜３０００ＭＰａ）などが使用可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月29日(2010.9.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
希ガスを用いて第１ターゲットをスパッタすることにより基板の表面に酸化マグネシウム層を形成する工程と、第２ターゲットをスパッタして前記酸化マグネシウム層に磁性層を積層する工程と、前記磁性層を加熱する工程とを備えた磁気デバイスの製造方法であって、
前記酸化マグネシウム層を形成する工程は、
前記第１ターゲットをスパッタする前に、希ガスを用いたプラズマを前記基板の表面に照射して前記基板の表面を洗浄し、
前記基板と前記第１ターゲットとの間の距離が第１ターゲットから放出されるスパッタ粒子の平均自由行程よりも短くなるように成膜圧力を設定して、室温に保持される前記基板に、膜厚が５ｎｍ〜２０ｎｍの酸化マグネシウム層を形成することを特徴とする磁気デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１に記載する磁気デバイスの製造方法は、希ガスを用いて第１ターゲットをスパッタすることにより基板の表面に酸化マグネシウム層を形成する工程と、第２ターゲットをスパッタして前記酸化マグネシウム層に磁性層を積層する工程と、前記磁性層を加熱する工程とを備えた磁気デバイスの製造方法であって、前記酸化マグネシウム層を形成する工程は、前記第１ターゲットをスパッタする前に、希ガスを用いたプラズマを前記基板の表面に照射して前記基板の表面を洗浄し、前記基板と前記第１ターゲットとの間の距離が第１ターゲットから放出されるスパッタ粒子の平均自由行程よりも短くなるように成膜圧力を設定して、室温に保持される前記基板に、膜厚が５ｎｍ〜２０ｎｍの酸化マグネシウム層を形成することを要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項１に記載する磁気デバイスの製造方法によれば、基板に吸着する酸素、窒素、水等の不純物は、希ガスのプラズマによって除去される。第１ターゲットの表面から放出されるスパッタ粒子は、他の粒子との相次ぐ衝突の間に進む道の平均の長さ、すなわち、平均自由行程が、基板と第１ターゲットとの間の距離よりも長くなる。そして、第１ターゲットの表面から放出されるスパッタ粒子は、スパッタガスによる散乱が抑えられる分だけ、高い運動エネルギーを保有する状態で基板に到達する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
排気系３３は、成膜室本体３１の圧力を１×１０−６Ｐａ以下へ減圧すると共に、ガス供給系３２からのＡｒの供給下において、成膜室本体３１の圧力を０．０１Ｐａ〜０．０２Ｐａの範囲に減圧する。成膜室本体３１の圧力は、ターゲットから放出されるスパッタ粒子の平均自由行程が所定値（以下単に、目標値と言う。）よりも長くなるように設定される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
成膜室本体３１の圧力が０．０２Ｐａよりも高くなる場合には、成膜時におけるイオン、又は、反跳粒子が過剰になり、スパッタ粒子の平均自由行程が目標値よりも短くなるため、ＭｇＯ層の（００１）面方位への配向性が乱れてしまう。また、成膜室本体３１の圧力が０．０１Ｐａよりも低くなる場合には、成膜時における放電状態が安定し難く、ＭｇＯ層の（００１）面方位への配向性が乱れてしまう。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
この際、先行する洗浄処理によって、基板Ｓの表面からは、ＭｇＯの結晶粒の成長を阻害する酸素、窒素、水等が除去されている。また、成膜室本体３１の圧力が０．０１Ｐａ〜０．０２Ｐａであることから、第１ターゲットＴ１から放出されるスパッタ粒子の平均自由行程が目標値、すなわち、ＴＳ間距離（２００ｍｍ）よりも長くなる。その結果、ＭｇやＯからなるスパッタ粒子は、成膜室本体３１に存在するＡｒに散乱されることなく、高い運動エネルギーを保有した状態で基板Ｓの表面に到達する。これによって、基板Ｓの表面においては、ＭｇＯの結晶粒の成長が促進される。また、基板Ｓに形成されるＭｇＯ層においては、ＭｇＯが優先的に配向する結晶面方位、すなわち、（００１）面方位への強い配向性を得られる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
軟磁性層４２の表面にＭｇＯ層４３を形成すると、第２ターゲットＴ２を用いる成膜処理を実行して、ＭｇＯ層４３の表面にＦｅＰｔ層を形成した。そして、ＦｅＰｔ層を形成すると、基板Ｓの面直へ磁界を印加しながら、基板Ｓを４００℃に加熱することにより、ＦｅＰｔ層の（２００）面方位への配向性を強くした。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
上記実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。
（１）上記実施形態では、第１ターゲットＴ１をスパッタする前に、Ａｒを用いたプラズマを基板Ｓの表面に照射し、基板Ｓの表面を洗浄した。そして、基板Ｓと第１ターゲットＴ１との間の距離が第１ターゲットＴ１から放出されるスパッタ粒子の平均自由行程よりも短くなるように成膜圧力を設定して、室温に保持される基板Ｓに、膜厚が５ｎｍ〜２０ｎｍのＭｇＯ層を形成した。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
（２）上記実施形態によれば、ＴＳ間距離を２００ｍｍに設定すると共に、成膜圧力を０．０１Ｐａ〜０．０２Ｐａに設定する。したがって、第１ターゲットＴ１の表面から放出されるスパッタ粒子は、その平均自由行程を目標値よりも確実に長くでき、スパッタガスによる散乱を確実に抑えられる。この結果、上記実施形態においては、より確実に、磁性層の（００１）面方位への強い配向性を得られる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月10日(2010.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各メモリセルに複数の異なるしきい値を設定することにより多値を記録する不揮発性のメモリセルアレイと、上記メモリセルアレイへの書き込みを制御する制御回路とを備えた不揮発性半導体記憶装置において、
上記制御回路は、上記メモリセルに対してデータを書き込んだとき、隣接のワード線を選択し、上記データの書き込みよりも弱い書き込みを消去レベルで行い、１ページ分のソフトプログラムのベリファイを行うことにより、隣接メモリセルにおいて狭帯化された消去レベル分布を実現でき、
上記不揮発性半導体記憶装置は、第１と第２のラッチを含むページバッファを備え、
上記制御回路は、処理対象のメモリセルに書き込むべきページデータを上記第２のラッチに格納し、書き込み指示のプログラム発生コマンドに応答して、次に書き込むべき隣接のワード線を選択し、上記データの書き込みよりも弱い書き込みを消去レベルで行い、１ページ分のソフトプログラムのベリファイを行った後、上記ページデータを上記第２のラッチから上記第１のラッチに転送してコピーし、上記ページデータを当該メモリセルに書き込むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項２】
各メモリセルに複数の異なるしきい値を設定することにより多値を記録する不揮発性のメモリセルアレイと、上記メモリセルアレイへの書き込みを制御する制御回路とを備えた不揮発性半導体記憶装置の書き込み方法において、
上記制御回路は、上記メモリセルに対してデータを書き込んだとき、隣接のワード線を選択し、上記データの書き込みよりも弱い書き込みを消去レベルで行い、１ページ分のソフトプログラムのベリファイを行うことにより、隣接メモリセルにおいて狭帯化された消去レベル分布を実現でき、
上記不揮発性半導体記憶装置は、第１と第２のラッチを含むページバッファを備え、
上記制御回路は、処理対象のメモリセルに書き込むべきページデータを上記第２のラッチに格納し、書き込み指示のプログラム発生コマンドに応答して、次に書き込むべき隣接のワード線を選択し、上記データの書き込みよりも弱い書き込みを消去レベルで行い、１ページ分のソフトプログラムのベリファイを行った後、上記ページデータを上記第２のラッチから上記第１のラッチに転送してコピーし、上記ページデータを当該メモリセルに書き込むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置の書き込み方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像処理装置であって、
対象画像を解析して前記対象画像において、一の顔の輪郭毎に領域を検出する領域検出部と、
前記検出された領域が複数ある場合、前記複数の領域のうちの一の領域が、前記検出された他の領域のいずれにも重複していない場合には、前記検出された領域の前記顔の輪郭を第１の変形度合いで変形し、前記一の領域が前記他の領域に重複している場合には、前記一の領域に含まれる前記顔の輪郭を、前記第１の変形度合いよりは変形の程度が低い第２の変形度合いで変形する処理を実行する変形処理部と、
前記処理された画像を出力する画像出力部と
を備えた画像処理装置。
【請求項２】
画像処理装置であって、
対象画像を解析して前記対象画像において、一の顔の輪郭毎に領域を検出する領域検出部と、
前記検出された領域が複数ある場合、前記複数の領域のうちの一の領域が、前記検出された他の領域のいずれにも重複していない場合には、前記検出された領域の前記顔の輪郭を変形し、前記一の領域が前記他の領域に重複している場合には、前記一の領域に含まれる前記顔の輪郭を変形させない処理を実行する変形処理部と、
前記処理された画像を出力する画像出力部と
を備えた画像処理装置。
【請求項３】
画像処理方法であって、
対象画像を解析して前記対象画像において、一の顔の輪郭毎に領域を検出し、
前記検出された領域が複数ある場合、前記複数の領域のうちの一の領域が、前記検出された他の領域のいずれにも重複していない場合には、前記検出された領域の前記顔の輪郭を第１の変形度合いで変形し、前記一の領域が前記他の領域に重複している場合には、前記一の領域に含まれる前記顔の輪郭を、前記第１の変形度合いよりは変形の程度が低い第２の変形度合いで変形する処理を実行し、
前記処理された画像を出力する
画像処理方法。
【請求項４】
画像処理方法であって、
対象画像を解析して前記対象画像において、一の顔の輪郭毎に領域を検出し、
前記検出された領域が複数ある場合、前記複数の領域のうちの一の領域が、前記検出された他の領域のいずれにも重複していない場合には、前記検出された領域の前記顔の輪郭を変形し、前記一の領域が前記他の領域に重複している場合には、前記一の領域に含まれる前記顔の輪郭を変形させない処理を実行し、
前記処理された画像を出力する
画像処理方法。
【請求項５】
コンピュータに画像処理方法を実行させるプログラムであって、
対象画像を解析して前記対象画像において、一の顔の輪郭毎に領域を検出する機能と、
前記検出された領域が複数ある場合、前記複数の領域のうちの一の領域が、前記検出された他の領域のいずれにも重複していない場合には、前記検出された領域の前記顔の輪郭を第１の変形度合いで変形し、前記一の領域が前記他の領域に重複している場合には、前記一の領域に含まれる前記顔の輪郭を、前記第１の変形度合いよりは変形の程度が低い第２の変形度合いで変形する処理を含む画像処理を実行する機能と、
前記処理された画像を出力する機能と
を前記コンピュータに実現させるプログラム。
【請求項６】
コンピュータに画像処理方法を実行させるプログラムであって、
対象画像を解析して前記対象画像において、一の顔の輪郭毎に領域を検出する機能と、
前記検出された領域が複数ある場合、前記複数の領域のうちの一の領域が、前記検出された他の領域のいずれにも重複していない場合には、前記検出された領域の前記顔の輪郭を変形し、前記一の領域が前記他の領域に重複している場合には、前記一の領域に含まれる前記顔の輪郭を変形させない処理を含む画像処理を実行する機能と、
前記処理された画像を出力する機能と
を前記コンピュータに実現させるプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記課題の少なくとも一部を解決するために、本発明の画像処理装置は、
画像処理装置であって、対象画像を解析して前記対象画像において、一の顔の輪郭毎に領域を検出し、前記検出された領域が複数ある場合、前記複数の領域のうちの一の領域が、前記検出された他の領域のいずれにも重複していない場合には、前記検出された領域の前記顔の輪郭を第１の変形度合いで変形し、前記一の領域が前記他の領域に重複している場合には、前記一の領域に含まれる前記顔の輪郭を、前記第１の変形度合いよりは変形の程度が低い第２の変形度合いで変形する処理を実行し、前記処理された画像を出力することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月14日(2010.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
銅フタロシアニンとニッケルフタロシアニンを無機塩類と有機溶剤の存在下で湿式粉砕してなるシアン顔料。
【請求項２】
銅フタロシアニンとニッケルフタロシアニンの比率が９９〜６０重量％：１〜４０重量％である請求項１記載のシアン顔料。
【請求項３】
ジャパンカラーのシアン値（a*＝−３７．０、b*＝−５０．１）からの色差が３以内で且つ彩度c*＝６０．０以上を満たす請求項１または２記載のシアン顔料。
【請求項４】
電子写真用トナーとして用いる請求項１〜３いずれか記載のシアン顔料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また本発明は、銅フタロシアニンとニッケルフタロシアニンの比率が９９〜６０重量％：１〜４０重量％である上記シアン顔料に関する。
また本発明は、ジャパンカラーのシアン値（a*＝−３７．０、b*＝−５０．１）からの色差が３以内で且つ彩度c*＝６０．０以上を満たす上記シアン顔料に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月24日(2010.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形マルチモード導波路と、
前記矩形マルチモード導波路の入力縁部の幅方向に各接続部が並ぶように並列して接続された複数のシングルモード導波路と、
前記矩形マルチモード導波路の光路の少なくとも片側の側面に、前記矩形マルチモード導波路のコアから所定の間隔をおいて配置された、光源波長の電磁波吸収体と、を備えた光デバイス。
【請求項２】
前記所定の間隔は、前記電磁波吸収体で吸収させたい固有モードの前記コアからの染み出し距離よりも小さく、前記電磁波吸収体で吸収させたくない固有モードの前記コアからの染み出し距離よりも大きい、請求項１に記載の光デバイス。
【請求項３】
前記電磁波吸収体は、前記矩形マルチモード導波路の前記側面に接して配置されており、
前記所定の間隔は、前記矩形マルチモード導波路の前記側面側のクラッドの厚さである、請求項１または２に記載の光デバイス。
【請求項４】
矩形マルチモード導波路と、
前記矩形マルチモード導波路の入力縁部の幅方向に各接続部が並ぶように並列して接続された複数のシングルモード導波路と、
前記矩形マルチモード導波路の前記入力縁部から出力縁部に向かう方向に周期構造を有し、前記矩形マルチモード導波路の光路の少なくとも片側の側面に、前記矩形マルチモード導波路から除去したい固有モードが移動できる程度に近接させて配置されたフィルター導波路と、を備えた光デバイス。
【請求項５】
前記周期構造の周期から算出される波数と前記フィルター導波路の伝搬定数との差の絶対値は、前記矩形マルチモード導波路から除去したい固有モードの伝搬定数に等しい、請求項４に記載の光デバイス。
【請求項６】
前記フィルター導波路の前記矩形マルチモード導波路に近接する部分以外の部分と、前記矩形マルチモード導波路の前記側面を含む平面との間隔は、前記近接する部分と前記矩形マルチモード導波路の前記側面との間隔よりも大きい、請求項４または５に記載の光デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、本発明に関連する第１の発明は、
矩形マルチモード導波路と、
前記矩形マルチモード導波路の入力縁部の幅方向に各接続部が並ぶように並列して接続された複数のシングルモード導波路とを備えた光デバイスであって、
前記複数のシングルモード導波路には、隣接するシングルモード導波路間の距離がモード結合する距離以下となる区間を有するように配置されたものが含まれており、前記区間の光路方向の長さは、その隣接する２つのシングルモード導波路において励振する０次固有モードと１次固有モードとの位相差が２πとなる長さの整数倍である光デバイスである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明に関連する第２の発明は、
矩形マルチモード導波路と、
前記矩形マルチモード導波路の入力縁部の幅方向に各接続部が並ぶように並列して接続された複数のシングルモード導波路とを備えた光デバイスであって、
前記複数のシングルモード導波路の少なくともいずれかには、その一部に所定の高次固有モードを減衰させる区間が設けられている光デバイスである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
また、本発明に関連する第３の発明は、
前記所定の高次固有モードは、１次固有モードである、本発明に関連する第２の発明の光デバイスである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、本発明に関連する第４の発明は、
前記所定の高次固有モードを減衰させる区間は、前記区間の前後の部分よりもコアの断面が小さく、前記区間のコアの断面は、前記所定の高次固有モードの通過を阻止する程度の大きさである、本発明に関連する第２の発明の光デバイスである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
また、本発明に関連する第５の発明は、
前記所定の高次固有モードを減衰させる区間は、前記区間の前後の部分よりもコアとクラッドとの屈折率差が小さく、前記区間の前記屈折率差は、前記所定の高次固有モードを発生させない程度に小さい、本発明に関連する第２の発明の光デバイスである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
以下、本発明および本発明に関連する発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
（実施の形態３）
図３に、本発明に関連する発明の実施の形態３の光デバイスの概要図を示す。なお、図１と同じ構成部分には、同じ符号を用いている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
なお、方向性結合区間７とは、図５で説明した方向性結合３５が生じる区間であり、本発明に関連する発明の、隣接するシングルモード導波路間の距離がモード結合する距離以下となる区間の一例にあたる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
（実施の形態４）
図４に、本発明に関連する発明の実施の形態４の光デバイスの概要図を示す。なお、図１と同じ構成部分には、同じ符号を用いている。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
【図１】（ａ）本発明の実施の形態１の光デバイスの概要図、（ｂ）本発明の実施の形態１の光デバイスのＡ−Ａ´断面図
【図２（ａ）】本発明の実施の形態２の光デバイスの概要図
【図２（ｂ）】本発明の実施の形態２の光デバイスの、矩形マルチモード導波路と高調波フィルター導波路の分散特性を示す図
【図３】本発明に関連する発明の実施の形態３の光デバイスの概要図
【図４】本発明に関連する発明の実施の形態４の光デバイスの概要図
【図５】従来の光デバイスにおいて、矩形マルチモード導波路を多チャンネル化した場合に入力光に１次モードが発生するメカニズムを説明するための概要図
【図６】矩形マルチモード導波路における、１次モード入力と出力波形の変化の関係を示す図
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月25日(2010.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネルと、
前記表示パネルの各画素を駆動する駆動回路と、
前記駆動回路に表示データを出力する制御回路とを備え、
前記制御回路には、乱数発生回路が設けられ、
前記乱数発生回路が発生したパルス信号の周波数をｎ倍化して出力する、出力回路を設
け、
前記出力回路はｎ個の前記乱数発生回路が出力するパルス信号をパラレルに入力し、ｎ倍の周波数でシリアルに出力することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記乱数発生回路はｎ個のシフトレジスタを有することを特徴とする請求項１に記載の表
示装置。
【請求項３】
前記乱数発生回路はｎ個の初期値を格納するレジスタを有することを特徴とする請求項１
に記載の表示装置。
【請求項４】
前記乱数発生回路はｎ個のシフトレジスタを有し、該シフトレジスタは前記表示データの
転送クロックに同期することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
表示パネルと、
前記表示パネルの各画素を駆動する駆動回路と、
前記駆動回路に表示データを出力する制御回路と、
前記制御回路に設けられた乱数発生回路と、
前記乱数発生回路の初期値を格納するメモリ素子と、
前記乱数発生回路が発生した信号が入力するノイズ発生回路とを備え、
前記ノイズ発生回路は、ｎ個の前記乱数発生回路が出力するパルス信号をパラレルに入力し、ｎ倍の周波数でシリアルに出力することを特徴とする表示装置。
【請求項６】
前記乱数発生回路はｎ個のシフトレジスタを有することを特徴とする請求項５に記載の
表示装置。
【請求項７】
前記乱数発生回路はｎ個の初期値を格納するレジスタを有することを特徴とする請求項
５に記載の表示装置。
【請求項８】
前記乱数発生回路はｎ個の初期値を格納するレジスタを有し、前記メモリ素子から初期
値が前記レジスタに転送されることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項９】
前記乱数発生回路はｎ個のシフトレジスタを有し、該シフトレジスタは前記表示データ
の転送クロックに同期することを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項１０】
表示パネルと、
該表示パネルに平面的に重ねられたタッチパネルと、
前記表示パネルの各画素を駆動する駆動回路と、
前記駆動回路に表示データを出力する制御回路と、
前記制御回路に設けられた乱数発生回路と、
前記乱数発生回路の初期値を格納するメモリ素子と、
前記乱数発生回路が発生した信号が入力するノイズ発生回路とを備え、
前記ノイズ発生回路は、前記乱数発生回路の発生した信号の周波数を変化させ、
ｎ個の前記乱数発生回路が出力するパルス信号をパラレルに入力し、ｎ倍の周波数でシリアルに出力することを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
前記乱数発生回路はｎ個のシフトレジスタを有することを特徴とする請求項１０に記載
の表示装置。
【請求項１２】
前記乱数発生回路はｎ個の初期値を格納するレジスタを有することを特徴とする請求項
１０に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記乱数発生回路はｎ個の初期値を格納するレジスタを有し、前記メモリ素子から初期
値が前記レジスタに転送されることを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記乱数発生回路はｎ個のシフトレジスタを有し、該シフトレジスタは前記表示データ
の転送クロックに同期することを特徴とする請求項１０に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月26日(2010.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
例えばＰＮＤ１の制御部１６は、指先で左側から右側へ向かってなぞるような動きのパターンでなるジェスチャー操作が行われたことを認識したときは、上述したページ捲り動作を行い、指先で右側から左側へ向かってなぞるような動きのパターンでなるジェスチャー操作が行われたことを認識したときは詳細ページ画面Ｇ７（図９）から紹介ページ画面Ｇ６（図８）へ戻すかのようなページ戻し処理を行うようになされている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月19日(2010.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実際の計算機に同時に複数のOSを動作させ、複数の仮想化された計算機とする計算機仮想化装置であって、
前記仮想化された計算機上のメモリ空間の識別子(以下、ゲストRID)と、前記実際の計算機で用いられる識別子（以下、物理RID）の対応付けを管理するマッピングテーブルと、
前記ゲストRIDを代入するエミュレーション処理を契機に、前記マッピングテーブルを参照して前記ゲストRIDを前記物理RIDに変換するRID変換部と、
前記マッピングテーブルに前記ゲストRIDと前記物理RIDの対応付けが存在しない場合、新規な対応付けを作成し、前記マッピングテーブルに追加するRIDテーブル更新部と、を備える
計算機仮想化装置。
【請求項２】
請求項１記載の計算機仮想化装置であって、
前記仮想化された計算機は、前記マッピングテーブルの参照結果を使用したTLBを備え、
前記マッピングテーブルは、前記TLB中に使用されている前記物理RIDの個数をカウントする登録エントリ数を示す項目を更に備え、
前記RIDテーブル更新部は、
前記TLBの更新時に、対応する前記登録エントリ数を更新し、
更新された前記登録エントリ数を参照して、不要になったエントリを前記マッピングテーブルから削除する
計算機仮想化装置。
【請求項３】
請求項２記載の計算機仮想化装置であって、
前記仮想化された計算機が前記TLBの全項目削除の実行をした時に、
前記TLB更新部は、
前記マッピングテーブル中の、前記仮想化された計算機に該当する登録内容の破棄を行い、
前記仮想化された計算機は、破棄された前記物理RIDを再利用する場合に、前記TLB中の、破棄された前記物理RIDを使用しているエントリを削除する
計算機仮想化装置。
【請求項４】
請求項３記載の計算機仮想化装置であって、
前記マッピングテーブルは、前記対応付けの世代番号を示す項目を更に備え、
前記テーブル更新部は、
破棄された前記物理RIDを再利用する場合、対応する前記世代番号に１加える
計算機仮想化装置。
【請求項５】
CPUとメモリを有する実計算機で、同時に複数のOSを動作させるための計算機仮想化プログラムであって、
前記実計算機を、
仮想化された計算機上のメモリ空間の識別子(以下、ゲストRID)と、実際の計算機で用いられる識別子（以下、物理RID）の対応付けを管理するマッピングテーブルを用い、
前記ゲストRIDを代入する前記CPUのエミュレーション処理を契機に、前記マッピングテーブルを参照して前記ゲストRIDから前記物理RIDへ変換し、
前記ゲストRIDと前記物理RIDの対応付けが存在しない場合に、新規に対応付けを作成して前記マッピングテーブルに追加する
よう動作させる
計算機仮想化プログラム。
【請求項６】
請求項５記載の計算機仮想化プログラムであって、
前記実計算機を、
前記仮想化された計算機が、前記マッピングテーブルの参照結果を使用したシャドウTLBを備え、
前記マッピングテーブルに、前記シャドウTLB中に使用されている前記物理RIDの個数をカウントする登録エントリ数を示す項目を設定し、
前記シャドウTLBの更新時に、対応する前記登録エントリ数を更新し、
更新された前記登録エントリ数を参照して、不要になったエントリを前記マッピングテーブルから削除する
よう動作させる
計算機仮想化プログラム。
【請求項７】
一つ以上の中央処理部とメモリを有する実際の計算機上で、同時に複数のOSを動作させるためのハイパーバイザによる計算機仮想化方法であって、
前記ハイパーバイザは、仮想化された計算機上のメモリ空間の識別子(以下、ゲストRID)と、前記実際の計算機で用いられる識別子（以下、物理RID）の対応付けを管理するマッピングテーブルを形成し、
前記ゲストRIDを代入するエミュレーション処理を契機に、前記マッピングテーブルを参照して前記ゲストRIDを、対応する前記物理RIDに変換し、
該当する前記対応付けが存在しない場合に、新規の対応付けを作成して前記マッピングテーブルに追加する
計算機仮想化方法。
【請求項８】
請求項７記載の計算機仮想化方法であって、
前記仮想化された計算機は、前記マッピングテーブルの参照結果を使用したシャドウTLBを備え、
前記ハイパーバイザは、
前記マッピングテーブルに、前記シャドウTLB中に使用されている前記物理RIDの個数をカウントする登録エントリ数を設定し、
前記シャドウTLBの更新時に、対応する前記登録エントリ数を更新し、
更新された前記登録エントリ数を参照して、不要になったエントリを前記マッピングテーブルから削除する
計算機仮想化方法。
【請求項９】
請求項８記載の計算機仮想化方法であって、
前記仮想化された計算機が前記TLBキャッシュの全項目削除の実行をした時に、
前記ハイパーバイザは、
前記マッピングテーブル中の、前記仮想化された計算機に該当する登録内容の破棄を行い、
破棄された前記物理RIDを再利用する場合に、前記TLB中に残っている、破棄された前記物理RIDを使用しているエントリを削除する
計算機仮想化方法。
【請求項１０】
請求項９記載の計算機仮想化方法であって、
前記ハイパーバイザは、
前記マッピングテーブルに、前記対応付けの世代番号を示す項目を設定し、
破棄された前記物理RIDを再利用する場合、対応する前記世代番号に１加える
計算機仮想化方法。