Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月20日(2010.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、第２の係合部１８ｂの角度とは、図８（ａ）に示されるように、第１の係合部１８ａの終端１９と回転軸５の中心とを結ぶ線と第２の係合部１８ｂの前段係合部２０とのなす角度のことで、上記角度が急角度であるとは、操作リンク４の回転軸５を中心として上記第１の係合部１８ａの終端１９とを結ぶ線を半径とする円弧の上記終端１９における接線と第２の係合部１８ｂとのなす角度（つまり９０°）よりも小さく、従来の第１の係合部１８ａ´の終端１９´と回転軸５とを結ぶ線と第２の係合部１８ｂ´とのなす角度α（図８（ｂ）参照）よりも大きい角度のことである。ちなみに、図8（ｂ）に示されるように、従来の第１の係合部１８ａ´の終端１９´と回転軸５とを結ぶ線と第２の係合部１８ｂ´とのなす角度αは約３０°であった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
ところで、上述のように操作リンク４をクリンチ荷重を軽減できる形状にした場合、図１0に示されるように、作動初期状態のメインハンドル１と操作リンクの操作部４ａとの間の距離Ｌを従来のものと同等にしたとき、第１の係合部１８ａのメインハンドル１の長手方向(一点鎖線で示す)に対する角度θ１は従来の第１の係合部１８ａ´のメインハンドルの長手方向に対する角度θ２よりも大きく、起きた状態になってしまう。つまり、クリンチャアームを開放状態から閉じ状態に作動開始するとき、操作リンク４の握り部４ａに力を入れて握った際に、クリンチャアーム２に作用する力ｆ３の角度が、従来のクリンチャアーム２に作用する力ｆ４の角度よりもクリンチャアーム２の回転軸３側に近づいてしまうため、操作荷重が重くなってしまう。なお、従来の角度θ２は約６０°であり、上記角度θ１は約６２°〜６５°が好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
【図１】本発明に係る園芸用結束機の一部を断面で示した側面図である。
【図２】上記結束機の閉じ状態の側面図である。
【図３】上記結束機の開き状態の側面図である。
【図４】上記結束機の結束物の囲い込み状態の側面図である。
【図５】上記結束機の閉じ状態の側面図である。
【図６】上記結束機のクリンチ終了状態の側面図である。
【図７】図５の要部の拡大図である。
【図８】（ａ）（ｂ）は本発明に係る係合部と従来の係合部とを示した要部の拡大図である。
【図９】（ａ）（ｂ）は他の荷重軽減機構に供される操作リンクの側面図である。
【図１０】第１の係合部の角度と荷重の関係を示す説明図である。
【図１１】図１の要部の拡大図である。
【図１２】（ａ）（ｂ）は他の荷重軽減機構に供される操作リンクの側面図である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2007054000.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2007054000.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2007054000.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月2日(2010.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均繊維長５〜１００ｍｍの天然繊維とポリ乳酸樹脂との混合物であって、表層に見かけ密度０．８〜１．１ｇ／ｃｍ３の天然繊維とポリ乳酸樹脂との混合物を積層してなり、積層した全体の平均見かけ密度が０．４〜０．７５ｇ／ｃｍ３であることを特徴とする繊維系ボード。
【請求項２】
前記天然繊維がセルロース系繊維である、請求項１記載の繊維系ボード。
【請求項３】
前記ポリ乳酸樹脂が結晶核剤を含むものである、請求項１または２記載の繊維系ボード。
【請求項４】
前記混合物の表面層の見かけ密度が０．８〜１．１ｇ／ｃｍ３の範囲内にある、請求項１〜３のいずれか記載の繊維系ボード。
【請求項５】
前記表層に積層した混合物の厚さが０．５〜５ｍｍである、請求項４に記載の繊維系ボード。
【請求項６】
さらに表面にポリ乳酸樹脂からなる樹脂層を有する、請求項１〜５のいずれか記載の繊維系ボード。
【請求項７】
ＪＩＳ Ｋ５４００−１９９０に準拠して測定される鉛筆引っかき値（試験機法）が２Ｈ以上である、請求項１〜６のいずれか記載の繊維系ボード。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか記載の繊維系ボードを用いて構成されていることを特徴とする家具。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか記載の繊維系ボードを用いて構成されていることを特徴とする遊技機。
【請求項１０】
ポリ乳酸繊維の短繊維と平均繊維長５〜１００ｍｍの天然繊維の短繊維とを混合して得られた布状物に、見かけ密度０．８〜１．１ｇ／ｃｍ３の繊維系ボードを積層し、加熱した後圧縮するかまたは加熱と圧縮を同時に行うことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の繊維系ボードの製造方法。
【請求項１１】
ポリ乳酸繊維の短繊維と平均繊維長５〜１００ｍｍの天然繊維の短繊維とを混合して得られた布状物に、見かけ密度０．８〜１．１ｇ／ｃｍ３の繊維系ボード並びにポリ乳酸からなるフィルム及び／又はポリ乳酸を４０〜１００質量％含む不織布を積層し、加熱した後圧縮するかまたは加熱と圧縮を同時に行うことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の繊維系ボードの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】繊維系ボード、家具および遊技機ならびに繊維系ボードの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち本発明は、平均繊維長５〜１００ｍｍの天然繊維とポリ乳酸樹脂との混合物であって、表層に見かけ密度０．８〜１．１ｇ／ｃｍ３の天然繊維とポリ乳酸樹脂との混合物を積層してなり、積層した全体の平均見かけ密度が０．４〜０．７５ｇ／ｃｍ３であることを特徴とする繊維系ボードである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また本発明は、ポリ乳酸繊維の短繊維と平均繊維長５〜１００ｍｍの天然繊維の短繊維とを混合して得られた布状物に、見かけ密度０．８〜１．１ｇ／ｃｍ３の繊維系ボード並びにポリ乳酸からなるフィルム及び／又はポリ乳酸を４０〜１００質量％含む不織布を積層し、加熱した後圧縮するかまたは加熱と圧縮を同時に行うことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の繊維系ボードの製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月4日(2009.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
風上側の前風集（６）と風上側の後風集（２）の間を広くし風下側の前風集（６）と風下側の後風集（２）の間を狭くした風下側に風進方向に対して斜めの角度にした風車（１１）の風車板を設ける事を特徴とした風力増強風車。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月8日(2010.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査粘弾性顕微鏡を用いて、明細書にて定義する測定方法により測定される、樹脂組成物の位相差増大開始温度Ｔｓが２５℃以上である易表面賦形性シート用樹脂組成物。
【請求項２】
前記易表面賦形性シート用樹脂組成物が、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、およびアクリル系樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂を主たる成分としてなるものである請求項１記載の易表面賦形性シート用樹脂組成物。
【請求項３】
ＧＰＣによる分子量分布曲線において、分子量分布全体の積分値に対するポリスチレン換算分子量Ｍｗが５，０００以下の成分の含有率Ｒが３重量％以下である請求項２記載の易表面賦形性シート用樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の易表面賦形性シート用樹脂組成物を、シート状に加工してなる易表面賦形性シート。
【請求項５】
請求項４に記載の易表面賦形性シートからなる層と、支持体となる基材層とを少なくとも含む複数の層からなる積層体であって、かつ、該積層体の少なくとも片側の表面層に該易表面賦形性シート層が配置されている易表面賦形性シート積層体。
【請求項６】
前記積層体の表面層を構成する前記易表面賦形性シートからなる層のガラス転移温度（以下、Ｔｇ２１）＋４０℃において、動的粘弾性測定（以下、ＤＭＡ）により得られる該基材の動的貯蔵粘弾性率（Ｅ２’）が、５×１０７Ｐａ以上である請求項５に記載の易表面賦形性シート積層体。
【請求項７】
前記基材層が、二軸延伸ポリエステルフィルムである請求項５または６に記載の易表面賦形性シート積層体。
【請求項８】
請求項４に記載の易表面賦形性シートを、金型を用いて加圧し、次いで金型を離型する（離型温度：Ｔ３）ことにより、易表面賦形性シート表面に金型形状が転写された成形品を形成する表面賦形方法であって、離型温度Ｔ３が２０℃≦Ｔ３≦Ｔｓを満たす表面賦形方法。
【請求項９】
請求項４に記載の易表面賦形性シートを、加熱した金型（加熱温度：Ｔ１）を用いて加熱プレス（プレス温度：Ｔ１）で加圧し、次いで、そのままの状態で冷却した後、プレス圧力を開放（プレス圧力開放温度：Ｔ２）した後に金型を離型する（離型温度：Ｔ３）ことにより、金型形状が転写された成形品を形成する表面賦形方法であって、前記Ｔ１，Ｔ２およびＴ３が、下記式（１）〜（５）を満たす表面賦形方法。
Ｔｇ２≦Ｔ１≦Ｔｇ２＋６０℃              （１）
Ｔ１＜Ｔｍ                                （２）
Ｔｇ２−１０℃≦Ｔ２≦Ｔｇ２＋３０℃      （３）
Ｔｓ＜Ｔ２＜Ｔ１                          （４）
２０℃≦Ｔ３≦Ｔｓ                        （５）
（ただし、Ｔｇ２、Ｔｍはそれぞれ易表面賦形性シートの表層のガラス転移温度、融点を示す）
【請求項１０】
請求項５〜７のいずれかに記載の易表面賦形性シート積層体の易表面賦形性シートにより構成された表面層側を、金型を用いて加圧し、次いで金型を離型する（離型温度：Ｔ３）ことにより、易表面賦形性シート表面に金型形状が転写された成形品を形成する表面賦形方法であって、離型温度Ｔ３が２０℃≦Ｔ３≦Ｔｓを満たす表面賦形方法。
【請求項１１】
請求項５〜７のいずれかに記載の易表面賦形性シート積層体の易表面賦形性シートにより構成された表面層側を、加熱した金型（加熱温度：Ｔ１）を用いて加熱プレス（プレス温度：Ｔ１）で加圧し、次いで、そのままの状態で冷却した後、プレス圧力を開放（プレス圧力開放温度：Ｔ２）した後に金型を離型する（離型温度：Ｔ３）ことにより、金型形状が転写された成形品を形成する表面賦形方法であって、前記Ｔ１，Ｔ２およびＴ３が、下記式（１）〜（５）を満たす表面賦形方法。
Ｔｇ２１≦Ｔ１≦Ｔｇ２１＋６０℃            （１）
Ｔ１＜Ｔｍ                                  （２）
Ｔｇ２１−１０℃≦Ｔ２≦Ｔｇ２１＋３０℃    （３）
Ｔｓ＜Ｔ２＜Ｔ１                            （４）
２０℃≦Ｔ３≦Ｔｓ                          （５）
（ただし、Ｔｇ２１、Ｔｍは表面賦形性シート積層体を構成する易表面賦形性シートの表層のガラス転移温度、融点を示す）
【請求項１２】
該金型が、表面に凹凸形状を有し、かつ、該金型の凸部断面の高さＨと幅Ｓの比（Ｈ／Ｓ；以下、アスペクト比）が０．１〜２５であり、かつ断面の幅Ｓが０．００１〜２０μｍで、かつ、高さＨが０．００１〜２０μｍ、ピッチ０．００２〜４０μｍで形成されているものである請求項８〜１１のいずれかに記載の表面賦形方法。
【請求項１３】
請求項８〜１２のいずれかに記載の表面賦形方法によって得られる表面に凹凸形状を有する成形品であって、凹凸形状の凸部のアスペクト比（Ｈ’／Ｓ’）が０．１〜１５で、凹凸形状の凸部の幅Ｓ’が０．００１〜２０μｍで、かつ、高さＨ’が０．００１〜２０μｍ、凸部のピッチが０．００２〜４０μｍで形成されている成形品。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月4日(2010.3.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に堆積物を形成するように構成された堆積システムであって、
材料堆積を容易にし、前記堆積システムとの間で前記基板の移送を容易にするように構成されたチャンバアセンブリと；
前記チャンバアセンブリに組み合わせられ、前記チャンバアセンブリの処理空間に隣接する前記基板を支持するように構成された基板ステージと；
前記チャンバアセンブリと流体的に連通し、前記基板の上部に配置された真空ポンプと；
前記真空ポンプの入口と流体的に連通し、前記基板の高さより下に配置された少なくとも１つの開口を含む排気マニホールドとを具備する堆積システム。
【請求項２】
前記チャンバアセンブリは、
料堆積を容易にするように構成された前記処理空間を含む第１のアセンブリと；
前記第１のアセンブリに組み合わせられ、前記堆積システムとの間で前記基板の移送を容易にする移送空間を含む第２のアセンブリとを備えている請求項１の堆積システム。
【請求項３】
前記排気マニホールドは、前記処理空間を前記移送空間から分離するように第１のアセンブリから延び、前記基板の下に位置づけられた少なくとも１つの開口と流体的に連通する延長を備えている請求項２の堆積システム。
【請求項４】
前記延長は、前記基板ステージの近くの前記延長の第１の部分から、前記第１の部分に対向する前記延長の端部で長手方向に位置づけられた第２の部分までのガスコンダクタンスを提供する内部チャネルを備えている請求項３の堆積システム。
【請求項５】
前記延長は、この延長の前記第１の部分に隣接するシールプレートを備えている請求項４の堆積システム。
【請求項６】
前記基板ステージは、前記第１のアセンブリの方への前記基板ステージの移動で、前記延長の前記シールプレートを接触させるように構成されたフランジを備えている請求項５の堆積システム。
【請求項７】
前記フランジは、前記シールプレートに対してシールするように構成された前記シールを備えている請求項６の堆積システム。
【請求項８】
前記シールは、Ｏリング、先細エラストマ、または螺旋形のスプリングシールの少なくとも１つを備えている請求項７の堆積システム。
【請求項９】
前記内部チャネルは、前記真空ポンプの前記入口に前記延長の前記１つ以上の開口を組み合わせる少なくとも１つの環状のボリュームを備えている請求項３の堆積システム。
【請求項１０】
前記排気マニホールドは、
前記真空ポンプの前記入口に、圧縮空気作用で組み合わせられた第１の環状のボリュームと；
前記真空ポンプより下に位置づけられた前記少なくとも１つの開口に圧縮空気作用で組み合わせられた第２の環状のボリュームと；
前記真空ポンプの高さより下に位置づけられた前記少なくとも１つの開口内に、第２の環状のボリューム内に、少なくとも１つの排気ポートを介して、前記第１のボリューム内に、そして前記真空ポンプの前記入口内に、ガスが流れるように、前記第２の環状のボリュームに、前記第１の環状のボリュームを圧縮空気作用で組み合わせた少なくとも１つの排気ポートとを備えている請求項３の堆積システム。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの排気ポートは、第１の排気ポートと、第２の排気ポートとを含み、
前記第１の排気ポートは、前記基板ステージの中心を中心とする円に対して、前記第２の排気ポートから１８０°のポイントに配置されている請求項１０の堆積システム。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの排気ポートは、第１および第２の排気ポートを備え、
前記第１の排気ポートは、前記第２の排気ポートの位置の鏡面対称の位置に位置づけられ、前記鏡面対称は、前記基板ステージの中心および真空ポンプの中心によって規定される鉛直面を中心になされる請求項１０の堆積システム。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの排気ポートは、前記真空ポンプと垂直方向の位置合わせがされていない請求項１０の堆積システム。
【請求項１４】
前記少なくとも１つの排気ポートは、前記基板の高さより下に位置づけられた前記少なくとも１つの開口のいずれとも垂直に位置合わせされない請求項１０の堆積システム。
【請求項１５】
前記真空ポンプより下に位置づけられた前記少なくとも１つの開口は、１つ以上のオリフィス、もしくは１つ以上のスロット、またはそれらの組合せを備えている請求項３の堆積システム。
【請求項１６】
前記基板ステージは、前記第２のアセンブリに接続され、前記移送空間の第２の位置と、前記処理空間の第１の位置との間で前記基板を支持し、移動するように構成されている請求項２の堆積システム。
【請求項１７】
前記処理空間内で前記基板の処理の間、前記処理空間と、前記移送空間との間のガス流れを妨げるように構成されたシールを有するシールアセンブリを更に具備する請求項１６の堆積システム。
【請求項１８】
前記シールアセンブリは、前記移送空間の前記第１の位置から前記第２の位置までの前記基板の移動の間、前記シールを解放するように構成されている請求項１７の堆積システム。
【請求項１９】
前記処理空間は、原子層堆積（ＡＬＤ）または化学気相成長（ＣＶＤ）の少なくとも１つのために構成されている請求項１の堆積システム。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成22年8月5日(2010.8.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項１】
射出成形装置用ノズルにおいて、
ねじ部分及びノズルチャンネルを有するノズル本体と、
前記ノズルチャンネルと連通したノズルチップチャンネルを有するノズルチップと、
前記ノズルチップを前記ノズル本体に固定するための、非金属材料製の一つの表面層又は非金属材料製のコーティングを備えたねじ部分を有する固定装置とを備え、この固定装置の前記ねじ部分は前記ノズル本体のねじ部分と螺合し、前記非金属材料は、前記ノズル本体のねじ部分の材料とは異なる、射出成形装置用ノズル。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月26日(2009.11.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式Ａ：
【化１】
2001206881.tif 000001
の５−カルボキシフタライドの製造法において、ホルムアルデヒドおよび式Ｉ：
【化２】
2001206881.tif 000002
のテレフタル酸を、少なくとも２０重量％のＳＯ3を含む発煙硫酸に添加し、１２０〜１４５℃で混合物を加熱し、こうして得られた５−カルボキシフタライドを単離することを含むところの方法。
【請求項２】  ホルムアルデヒドが、その前駆体である式II：
【化３】
2001206881.tif 000003
の１，３，５−トリオキサンの形状で使用される、請求項１記載の方法。
【請求項３】  ホルムアルデヒドが、その前駆体であるパラホルムアルデヒドの形状で使用される、請求項１記載の方法。
【請求項４】  式IIの１，３，５−トリオキサンが、出発物質であるテレフタル酸１モルにつき２．５〜３．２モルのホルムアルデヒドに対応する量で使用される、請求項２記載の方法。
【請求項５】  該１，３，５−トリオキサンが３０〜３５℃の温度で添加される、請求項４記載の方法。
【請求項６】  発煙硫酸が２２〜３３重量％のＳＯ3を含む、請求項１記載の方法。
【請求項７】  発煙硫酸が、テレフタル酸１ｋｇにつき３〜６リットルの量で使用される、請求項６記載の方法。
【請求項８】  発煙硫酸が、テレフタル酸１ｋｇにつき約３リットルの量で使用される、請求項７記載の方法。
【請求項９】  ５−カルボキシフタライドが、反応混合物を塩基によって中和することにより単離される、請求項１記載の方法。
【請求項１０】  ５−カルボキシフタライドが、反応混合物を氷酢酸によって希釈し、次いで水を添加し、塩基で中和することにより単離される、請求項１記載の方法。
【請求項１１】  該塩基がアルカリ金属塩基である、請求項９または１０記載の方法。
【請求項１２】  該アルカリ金属塩基が、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムまたは重炭酸ナトリウムである、請求項１１記載の方法。
【請求項１３】  反応終了時に、５−カルボキシフタライドが、酸によって中和されるところのその塩を含む溶液の形成によって単離される、請求項１記載の方法。
【請求項１４】  該塩がナトリウム塩である、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】  塩が、塩基を添加してｐＨを約８にすることにより生成される、請求項１３記載の方法。
【請求項１６】  該酸が塩酸である、請求項１３記載の方法。
【請求項１７】  ５−カルボキシフタライドが、反応混合物を水で処理することにより単離される、請求項１記載の方法。
【請求項１８】  水の添加が０〜５℃で行われ、温度を約２０〜２５℃で維持することにより発熱が制御される、請求項１７記載の方法。
【請求項１９】  混合物が１３０〜１３５℃で加熱される、請求項１記載の方法。
【請求項２０】  テレフタル酸の添加後、ホルムアルデヒドが発煙硫酸に添加される、請求項１記載の方法。
【請求項２１】  請求項１記載の５−カルボキシフタライドの合成法が含まれる、シタロプラムの合成法。
【請求項２２】  開いていて加圧されない反応器中で行われる、請求項１記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月24日(2010.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
特許文献６には、受信側で誤り率、アイ開口度、Ｑ値、クロック信号レベルを測定し、その結果に基づいて、波長分散の等化または識別点の調整を行う自動等化システムが記載されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
図１（ｂ）、図１（ｃ）でも、統合監視制御部１０１、監視制御用網１０２の役割は同様である。各網形態において、統合監視制御部１０１は、１台あるいは冗長化されたサーバによる集中制御方式で実現することができる。別の方式としては、例えば、後述する図２のノード監視制御部２１１のような各ノードの監視制御部が、互いに通信してネットワークの状態情報交換や経路計算を行う分散制御方式、もしくは集中制御方式と分散制御方式が連携した方式を採用しても良い。分散制御方式を採用の場合、統合監視制御部１０１を省略あるいは簡略化することも可能である。連携する場合、ネットワークの状態情報交換や、経路計算、パス設定のための各ノードへの制御などの機能を、統合監視制御部１０１と、ノード監視制御部２１１で分担しても良い。分散制御方式の装置間通信制御技術として、インターネットエンジニアリングタスクフォース（The Internet Engineering Task Force；ＩＥＴＦ）のＲＦＣ３４７１−３４７３等で規定されているＧＭＰＬＳ（Generalized Multi-Protocol Label Switching）のプロトコル群を利用することが可能である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
次に図２を用いて、光信号伝送システム２００の構成を説明する。光信号伝送システム２００は、光送受信器を含む光ノード２０３、２０５と、光信号の線形中継を行う光ノード２０４と、これら光ノード間を接続する伝送路２０６、２０７で構成される。光ノード２０３、２０５は、ノード監視制御部２１１、２１２と、使用する波長数に応じた光送受信器２２１、２２２と、各波長を付与された光信号（λ１、λ２、…、λｎ）を波長領域で合波して波長多重信号に変換し、逆に波長多重信号を各波長の信号分波して元の波長別の光信号に変換する波長合分波部２３１〜２３４と、波長多重信号を光領域で増幅する光増幅器２４１〜２４４で構成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
光ノード２０４では、光増幅器２４５、２４６だけでなく、光合波・分波フィルタや光スイッチを用いて、波長多重された複数の光信号のうち、所望の波長の光信号のみを分岐・挿入する構成としても良い。特に光信号を電気信号に変換せずに上述の分岐・挿入を行う装置は、光挿入分岐装置（optical add‐drop multiplexer；ＯＡＤＭ）と呼ばれる。ＯＡＤＭは、図１（ａ）のようなリニア構成あるいは、図１（ｂ）のようなリング構成で使われることが多い。ＯＡＤＭで光領域で分岐・挿入を行う部品としては、ＰＬＣ型光スイッチ、機械式光スイッチ、マイクロマシン（Micro-Electro-Mechanical Systems；ＭＥＭＳ）型光スイッチ、液晶型光スイッチや、波長合分波機能も集積化された波長選択スイッチ（Wavelength Selective Switch）などが市販されている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
図９を参照して、制御モード判定部６６３の判定条件を説明する。制御モード判定部６６３は、光パワー９１、外部制御９２、光雑音９３、符号誤り増加率９４を監視し、判定９５に記載された、制御モードを選択する。具体的には、制御モード判定部６６３は、光パワー異常検出（主信号波長パワーＰｓ≦Ｐｔｈ）、制御モードＣへの外部制御コマンド有り、光雑音がしきい値以下（主信号波長パワー（Ｐｓ）／雑音波長パワー（Ｐｎ）≦信号対雑音比率しきい値Ｘｎ、符号誤り増加率しきい値超過（今回符号誤り数−前回符号誤り数≧符号誤り増加率しきい値Ｘｅ）のいずれかのＯＲ条件で、制御モードＣが最適と判定する。制御モード判定部６６３は、また、光パワー正常、制御モードＣへの外部制御コマンド無し、光雑音がしきい値以下、符号誤り増加率がしきい値以下、のＡＮＤ条件で制御モードＢが最適と判定する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2009232082.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月24日(2010.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発信者からの電話が着信した場合に、通信可能範囲内に無線タグが存在するか否かを検知する無線タグ検知手段と、
転送先電話番号を記憶する記憶手段と、
前記通信可能範囲内に前記無線タグが存在しなければ、該無線タグの識別情報を前記転送先電話番号に送信する検知依頼手段と、
前記無線タグの識別情報を受信した場合に、前記無線タグ検知手段により通信可能範囲内に該識別情報に基づく該無線タグの存在を検知すると、該無線タグの存在を示す情報を送信する送信手段と、
前記無線タグの存在を示す情報を受信したとき、前記発信者からの電話を前記転送先電話番号に転送する制御手段と、
前記転送された電話を受信する通信手段と
を備える携帯通信端末。
【請求項２】
前記記憶手段は、複数の転送先電話番号とそれぞれの転送先電話番号の優先順位を記憶し、
前記制御手段は、最も優先順位の高い転送先電話番号を選択して前記検知依頼手段に通知し、
前記検知依頼手段は、通知された転送先電話番号を用いて前記転送先の通信端末に前記無線タグの検知を依頼し、
該制御手段は、該転送先の通信端末から該無線タグの不在を示す情報を受信した場合に、次に優先順位の高い転送先電話番号を選択して該検知依頼手段に通知し、
該検知依頼手段は、通知された転送先電話番号を用いて別の通信端末に該無線タグの検知を依頼する請求項１記載の携帯通信端末。
【請求項３】
前記受信者の通信端末から転送可否の問い合わせを受信したとき、転送可否の問い合わせメッセージを画面表示する表示手段をさらに備え、前記通信手段は、受話操作が行われた場合に前記発信者の電話を受信する請求項２記載の携帯通信端末。
【請求項４】
受信者の携帯通信端末が、発信者からの電話を受信したとき、通信可能範囲内に無線タグが存在するか否かを検知し、該通信可能範囲内に該無線タグが存在しなければ、該無線タグの識別情報を転送先の携帯通信端末に送信して、該無線タグの検知を依頼し、
前記転送先の携帯通信端末が、前記識別情報を受信したとき、該識別情報に基づいて通信可能範囲内に前記無線タグが存在するか否かを検知し、該通信可能範囲内に該無線タグが存在すれば、該無線タグの存在を示す情報を前記受信者の携帯通信端末に送信し、
前記受信者の携帯通信端末が、前記無線タグの存在を示す情報を受信したとき、前記発信者からの電話を前記転送先の携帯通信端末に転送する
電話転送方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月21日(2010.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
四硼酸リチウム圧電基板の表面上に櫛歯型電極を備えた弾性表面波デバイスであって、
前記圧電基板の裏面に前記ＩＤＴ電極によって励起される弾性表面波の伝搬方向に対し、略４５°の角度で複数の溝が形成され、
前記圧電基板の厚さをｔ、前記弾性表面波の波長をλ、前記溝の深さをｄとしたとき、
前記溝の深さｄが、８λ≦ｄ≦（ｔ−１１λ）の範囲内であることを特徴とする弾性表
面波デバイス。
【請求項２】
前記溝を形成する前記圧電基板の裏面をポリシュ仕上げしたことを特徴とする請求項１に記載の弾性表面波デバイス。
【請求項３】
前記圧電基板の裏面を紫外線硬化型接着剤によりパッケージに接着したことを特徴とする請求項１又は２に記載の弾性表面波デバイス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の
形態又は適用例として実現することが可能である。
第１の形態は、四硼酸リチウム圧電基板の表面上に櫛歯型電極を備えた弾性表面波デバイスであって、前記圧電基板の裏面に前記ＩＤＴ電極によって励起される弾性表面波の伝搬方向に対し、略４５°の角度で複数の溝が形成され、前記圧電基板の厚さをｔ、前記弾性表面波の波長をλ、前記溝の深さをｄとしたとき、前記溝の深さｄが、８λ≦ｄ≦（ｔ−１１λ）の範囲内であることを特徴とする弾性表面波デバイス。
第２の形態は、第１の形態においては、前記溝を形成する前記圧電基板の裏面をポリシュ仕上げしたことを特徴とする弾性表面波デバイス。
第３の形態は、第１又は２の形態においては、前記圧電基板の裏面を紫外線硬化型接着剤によりパッケージに接着したことを特徴とする弾性表面波デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月10日(2009.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラクトバチルス ケフィリP-IF（Lactobacillus Kefiri P-IF）(受託番号FERM BP-10896)を培養して得られることを特徴とする培養物。
【請求項２】
請求項１記載の培養物を有効成分として含有する抗菌剤。
【請求項３】
請求項１記載の培養物を有効成分として含有する腸内環境改善剤。
【請求項４】
請求項１記載の培養物を含有する飲食品。
【請求項５】
ラクトバチルス ケフィリP-IF（Lactobacillus Kefiri P-IF）(受託番号FERM BP-10896)。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は下記のとおりである。
（１）ラクトバチルス ケフィリP-IF（Lactobacillus Kefiri P-IF）(受託番号FERM BP-10896)を培養して得られることを特徴とする培養物。
（２）請求項１記載の培養物を有効成分として含有する抗菌剤。
（３）請求項１記載の培養物を有効成分として含有する腸内環境改善剤。
（４）  請求項１記載の培養物を含有する飲食品。
（５）ラクトバチルス ケフィリP-IF（Lactobacillus Kefiri P-IF）(受託番号FERM BP-10896)。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月18日(2010.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長＜１００ｎｍ、特に波長＜３０ｎｍを持つマイクロリトグラフィーのために物体、特に、マスクの検査のための検査系において、物体平面（１）内の視野を照明する照明系を備え、物体平面内で照明される視野の内部に検査される物体が配置され、像平面（３）内での物体の少なくとも一部分の結像を拡大するための波長≦１００ｎｍのための結像系を備え、像平面（３）内に配置される撮像系とを備える前記検査系。
【請求項２】
検査系は、物体平面内の物体を位置決めする位置決め装置を含むことを特徴とする請求項１に記載の検査系。
【請求項３】
結像系は調整可能な開口絞り（Ｂ）を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の検査系。
【請求項４】
照明系は、結像系内の開口絞り（Ｂ）の平面に結合する平面内で調整可能な照明開口絞りを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の検査系。
【請求項５】
照明系または結像系は、絞り平面（Ｂ）内または絞り平面（Ｂ）の近く、または、絞り平面（Ｂ）に対して結合する平面内で不明瞭化絞りを含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の検査系。
【請求項６】
照明系は、調整可能な視野絞りを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の検査系。
【請求項７】
撮像系は、像平面（３）内での物体像の分析のための分析ユニットを含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の検査系。
【請求項８】
検査系は、焦点調整装置を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の検査系。
【請求項９】
焦点調整装置は、物体平面（１）に対して垂直方向へ物体を移動する移動装置を含むことを特徴とする請求項８に記載の検査系。
【請求項１０】
撮像系は、物体が焦点調整装置によりもたらされる設定焦点位置での像を撮像することを特徴とする請求項８又は９に記載の検査系。
【請求項１１】
分析ユニットは、マイクロコンピュータ装置を含むことを特徴とする請求項７〜１０のいずれか１項に記載の検査系。
【請求項１２】
波長≦１００ｎｍのための結像系は、反射型Ｘ線顕微鏡を含むことを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の検査系。
【請求項１３】
請求項１２に記載の検査系であって、前記反射型Ｘ線顕微鏡は、第１鏡（Ｓ１）と第２鏡（Ｓ２）とを含み、物体平面（１）から像平面（３）までの光路内に配置される第１副系とを備え、反射型Ｘ線顕微鏡は、光路内で第１副系に後置される少なくとも一つの第３鏡（Ｓ３）を有する第２副系を含むことを特徴とする前記検査系。
【請求項１４】
第１鏡（Ｓ１）は凹面鏡であり、第２鏡（Ｓ２）は凸面鏡であることを特徴とする請求項１３に記載の検査系。
【請求項１５】
第１鏡（Ｓ１）は凹面鏡であり、第２鏡（Ｓ２）は凹面鏡であることを特徴とする請求項１３に記載の検査系。
【請求項１６】
第２副系は第３鏡（Ｓ３）と第４鏡（Ｓ４）とを含むことを特徴とする請求項１３に記載の検査系。
【請求項１７】
第３鏡（Ｓ３）と第４鏡（Ｓ４）は、それぞれ、凹面鏡であることを特徴とする請求項１６に記載の検査系。
【請求項１８】
第３鏡（Ｓ３）は凸面鏡であり、第４鏡（Ｓ４）は凹面鏡であることを特徴とする請求項１６に記載の検査系。
【請求項１９】
Ｘ線顕微鏡は、β≧５０ｘ、特に、１００ｘ≦β≦１０００ｘの範囲の倍率を有することを特徴とする請求項１３〜１８に記載の検査系。
【請求項２０】
物体平面から像平面までの光路内で、中間像平面内で実際の中間像が結像されることを特徴とする請求項１３〜１９に記載の検査系。
【請求項２１】
焦点調整装置は、中間像平面（２）に対して垂直方向への第２副系の移動ための移動装置を含むことを特徴とする請求項２０に記載の検査系。
【請求項２２】
焦点調整装置は、物体平面（１）に対して垂直方向へ物体を移動する移動装置を含むことを特徴とする請求項２１に記載の検査系。
【請求項２３】
Ｘ線顕微鏡は光軸を有し、顕微鏡の第１、第２および第３の鏡（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３）は光軸（ＨＡ）に対して調心されて配置されることを特徴とする請求項１３〜２２のいずれか１項に記載の検査系。
【請求項２４】
Ｘ線顕微鏡は光軸を有し、顕微鏡の第１、第２、第３および第４の鏡（Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４）は光軸（ＨＡ）に対して調心されて配置されることを特徴とする請求項１３〜２２いずれか１項に記載の検査系。
【請求項２５】
物体平面（１）内の物体は、光軸（ＨＡ）に対して偏心して光軸の近くに配置されることを特徴とする請求項１３〜２４のいずれか１項に記載の検査系。
【請求項２６】
開口絞り（Ｂ）は、光軸（ＨＡ）に対して偏心して設けられることを特徴とする請求項１３〜２５のいずれか１項に記載の検査系。
【請求項２７】
開口絞り（Ｂ）は、物体平面（１）から像平面（３）までの光路内で、物体平面（１）の後で第１鏡（Ｓ１）の前に配置されることを特徴とする請求項１３〜２６のいずれか１項に記載の検査系。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月27日(2010.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、回転体の回転を検出して検出信号を発生する回転検出手段からの検出信号に基づいて２値化信号を発生する２値化回路及び当該２値化回路を備えた回転検出装置に関する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
特許文献１に記載のデータ再生処理装置は、情報記録媒体から読み出された再生信号を２値化してデジタルデータに再生する手段と、当該デジタルデータを復調処理する手段とを有するデータ再生処置装置において、前記復調処理手段で検出された符号誤り率に基づいて前記デジタルデータ再生手段の所定の定数を可変し、前記符号誤り率が最小となるように調整する。ここで、所定の定数は、再生信号を微分した信号のゼロクロス位置を示す信号とアンドを取るべく再生信号を所定レベルで２値化し、ウインドウパルスを生成するためのレベルコンパレータのスライスレベルである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月8日(2010.9.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体像を撮像する撮像素子と、前記撮像素子に被写体像を結像させる撮影光学系と、でそれぞれ構成された複数の撮像手段と、
前記撮像手段に加えられた振動を検出するブレ検出手段と、
前記各撮像手段毎に設けられ、前記ブレ検出手段により検出された振動により発生する  前記被写体像の像ブレを除去する補正を前記各撮像手段毎に行う像ブレ補正手段と、
前記像ブレ補正手段による補正により除去しきれなかった前記被写体像の像ブレ（以下、ブレ残り量という）が前記各撮像手段毎に略同一となるように、前記像ブレ補正手段を該各像ブレ補正手段毎に制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする複眼撮像装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記各撮像手段毎の前記ブレ残り量を少なくするための調整値であって、前記撮像手段毎に予め設定された調整値を記憶する記憶手段を有し、前記ブレ検出手段の出力と前記記憶手段に記憶された前記撮像手段毎の調整値とに基づいて前記複数の像ブレ補正手段をそれぞれ制御することを特徴とする請求項１に記載の複眼撮像装置。
【請求項３】
前記記憶手段には、前記複数の像ブレ補正手段によってそれぞれ除去可能なブレ残り量のうちのブレ残り量が最も大きくなる第１の撮像手段については、そのブレ残り量を最小にする第１の調整値が記憶され、他の第２の撮像手段については、前記第１の撮像手段の防振特性に、当該第２の像ブレ補正手段の防振特性を略一致させるための第２の調整値が記憶されていることを特徴とする請求項２に記載の複眼撮像装置。
【請求項４】
単眼モードと複眼モードとを切り替える撮影モード切替手段と、
前記撮影モード切替手段によって単眼モードに切り替えられると、前記第２の撮像手段のみによって撮影を行わせ、前記複眼モードに切り替えられると、複数の撮像手段によって同時に撮影を行わせる手段と、を備え、
前記記憶手段には、前記第２の撮像手段については、そのブレ残り量を最小にする第３の調整値が更に記憶され、
前記制御手段は、前記撮影モード切替手段によって単眼モードに切り換えられると、前記記憶手段から前記第３の調整値を読み出し、前記ブレ検出手段の出力と前記読み出した第３の調整値とに基づいて前記第２の撮像手段に設けられた像ブレ補正手段を制御し、前記複眼モードに切り替えられると、前記記憶手段から前記第１、２の調整値を読み出し、前記ブレ検出手段の出力と前記読み出した第１、２の調整値とに基づいて前記各撮像手段毎に設けられた像ブレ補正手段をそれぞれ制御することを特徴とする請求項３に記載の複眼撮像装置。
【請求項５】
前記記憶手段は、ピッチ方向及びヨー方向の各方向毎の調整値を記憶することを特徴とする請求項２から４のいずれかに記載の複眼撮像装置。
【請求項６】
被写体像を撮像する撮像素子と、前記撮像素子に被写体像を結像させる撮影光学系と、でそれぞれ構成された複数の撮像手段に加えられた振動を検出するステップと、
前記各撮像手段毎に設けられた像ブレ補正手段を用いて、前記検出された振動により発生する前記被写体像の像ブレを除去する補正を前記各撮像手段毎に行うステップと、
前記被写体像の像ブレを除去する補正を前記各撮像手段毎に行うステップにおいて除去しきれなかった前記被写体像の像ブレ（以下、ブレ残り量という）を求めるステップと、
前記ブレ残り量が前記各撮像手段毎に略同一となるように、前記像ブレ補正手段を該各像ブレ補正手段毎に制御するステップと、
を有することを特徴とする像ブレ補正方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】複眼撮像装置及び像ブレ補正方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項５に記載の複眼撮像装置は、請求項２から４のいずれかに記載の複眼撮像装置において、前記記憶手段は、ピッチ方向及びヨー方向の各方向毎の調整値を記憶することを特徴とする。これにより、各撮像手段毎のブレ残り量をより正確に一致させることができる。
請求項６に記載の像ブレ補正方法は、被写体像を撮像する撮像素子と、前記撮像素子に被写体像を結像させる撮影光学系と、でそれぞれ構成された複数の撮像手段に加えられた振動を検出するステップと、前記各撮像手段毎に設けられた像ブレ補正手段を用いて、前記検出された振動により発生する前記被写体像の像ブレを除去する補正を前記各撮像手段毎に行うステップと、前記被写体像の像ブレを除去する補正を前記各撮像手段毎に行うステップにおいて除去しきれなかった前記被写体像の像ブレ（以下、ブレ残り量という）を求めるステップと、前記ブレ残り量が前記各撮像手段毎に略同一となるように、前記像ブレ補正手段を該各像ブレ補正手段毎に制御するステップと、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
図１１は、本実施の形態６に係るリモコン７の正面模式図である。図１１は、吸込みグリル６を下降させる場合において、下降させるためにＦ１ボタンを押下してから吸込みグリル６が実際に下降動作を開始するまでの状態を示している。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月9日(2010.8.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
オートマチックトランスミッション３０は、図３に示すように、クラッチＣ１〜Ｃ３のオンオフとブレーキＢ１〜Ｂ４のオンオフにより前進１速〜５速と後進とニュートラルとを切り替えることができるようになっている。前進１速の状態、即ち入力軸３６の回転を最も大きな減速比で減速して出力軸３８に伝達する状態は、クラッチＣ１をオンとすると共にクラッチＣ２，Ｃ３とブレーキＢ１〜Ｂ４とをオフとすることにより形成することができる。この状態では、シングルピニオン式の遊星歯車機構３０ｃのリングギヤ３２ｃはワンウェイクラッチＦ３によりその一方向の回転が固定されるため、入力軸３６からクラッチＣ１を介してサンギヤ３１ｃに入力される動力は大きな減速比で減速してキャリア３５ｃ即ち出力軸３８に出力される。１速の状態では、エンジンブレーキ時には、ブレーキＢ４をオンとすることにより、ワンウェイクラッチＦ３に代えてリングギヤ３２ｃの回転が固定される。前進２速の状態は、クラッチＣ１とブレーキＢ３とをオンとすると共にクラッチＣ２，Ｃ３とブレーキＢ１，Ｂ２，Ｂ４とをオフとすることにより形成することができる。この状態では、ワンウェイクラッチＦ２によりダブルピニオン式の遊星歯車機構３０ａのサンギヤ３１ａはその一方向の回転が固定されると共にワンウェイクラッチＦ１によりキャリア３５ａはその一方向の回転が固定されるため、リングギヤ３２ａおよびシングルピニオン式の遊星歯車機構３０ｂのリングギヤ３２ｂもその一方向の回転が固定され、入力軸３６からクラッチＣ１を介してサンギヤ３１ｂに入力される動力はリングギヤ３２ｂの固定により減速してキャリア３５ｂおよびシングルピニオン式の遊星歯車機構３０ｃのリングギヤ３２ｃに出力され、入力軸３６からクラッチＣ１を介してサンギヤ３１ｃに入力される動力はリングギヤ３２ｃの回転状態に応じて前進１速よりも若干小さな減速比で減速してキャリア３５ｃ即ち出力軸３８に出力される。２速の状態では、エンジンブレーキ時には、ブレーキＢ２をオンとすることにより、ワンウェイクラッチＦ１およびワンウェイクラッチＦ２に代えてリングギヤ３２ａおよびリングギヤ３２ｂの回転が固定される。前進３速の状態は、クラッチＣ１，Ｃ３とブレーキＢ３とをオンとすると共にクラッチＣ２とブレーキＢ１，Ｂ２，Ｂ４とをオフとすることにより形成することができる。この状態では、ワンウェイクラッチＦ１によりダブルピニオン式の遊星歯車機構３０ａのキャリア３５ａはその一方向の回転が固定されるため、入力軸３６からクラッチＣ３を介してサンギヤ３１ａに入力される動力は減速してリングギヤ３２ａおよびシングルピニオン式の遊星歯車機構３０ｂのリングギヤ３２ｂに出力され、入力軸３６からクラッチＣ１を介してサンギヤ３１ｂに入力される動力はリングギヤ３２ｂの回転状態により減速してキャリア３５ｂおよびシングルピニオン式の遊星歯車機構３０ｃのリングギヤ３２ｃに出力され、入力軸３６からクラッチＣ１を介してサンギヤ３１ｃに入力される動力はリングギヤ３２ｃの回転状態に応じて前進２速よりも若干小さな減速比で減速してキャリア３５ｃ即ち出力軸３８に出力される。３速の状態では、エンジンブレーキ時には、ブレーキＢ１をオンとすることにより、ワンウェイクラッチＦ１に代えてキャリア３５ａの回転が固定される。前進４速の状態は、クラッチＣ１〜Ｃ３とブレーキＢ３とをオンとすると共にブレーキＢ１，Ｂ２，Ｂ４をオフとすることにより形成することができる。この状態では、入力軸３６はクラッチＣ１を介してシングルピニオン式の遊星歯車機構３０ｂのサンギヤ３１ｂおよびシングルピニオン式の遊星歯車機構３０ｃのサンギヤ３１ｃに接続されると共にクラッチＣ２を介してキャリア３５ｂおよびリングギヤ３２ｃに接続されるため、シングルピニオン式の遊星歯車機構３０ｂ，３０ｃのすべての回転要素は一体回転し、入力軸３６と出力軸３８とが直結された状態となり、入力軸３６から入力される動力は値１．０の減速比で動力が伝達される。前進５速の状態、即ち入力軸３６の回転を最も小さな減速比で減速（増速）して出力軸３８に伝達する状態は、クラッチＣ２，Ｃ３とブレーキＢ１，Ｂ３とをオンとすると共にクラッチＣ１とブレーキＢ２，Ｂ４とをオフとすることにより形成することができる。この状態では、ブレーキＢ１によりダブルピニオン式の遊星歯車機構３０ａのキャリア３５ａはその回転が固定されるため、入力軸３６からクラッチＣ３を介してサンギヤ３１ａに入力される動力は減速してリングギヤ３２ａおよびシングルピニオン式の遊星歯車機構３０ｂのリングギヤ３２ｂに出力され、入力軸３６からクラッチＣ２を介してキャリア３５ｂに入力される動力はリングギヤ３２ｂの回転状態により増速してサンギヤ３１ｂおよびシングルピニオン式の遊星歯車機構３０ｃのサンギヤ３１ｃに出力され、入力軸３６からクラッチＣ２を介してリングギヤ３２ｃに入力される動力はサンギヤ３１ｃの回転状態に応じて最も小さな減速比で増速してキャリア３５ｃ即ち出力軸３８に出力される。
【手続補正書】
【提出日】平成21年10月30日(2009.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステンレス鋼からなると共に円筒状の内面を有した裏金と、軸方向に並んで裏金の内面に当該内面側で開口して設けられている複数個の環状溝と、この複数個の環状溝を相互に連通させるべく、裏金の一方の環状の端面から他方の環状の端面に向けて軸方向に延びて裏金の内部に設けられた相互連通用の行き止り孔と、裏金の内面側における各環状溝の開口を覆蓋すると共に裏金の円筒状の内面に接合層を介して一体にされた円筒状の多孔質焼結金属層とを具備している多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項２】
相互連通用の行き止り孔の一端は裏金の環状の端面で開口しており、相互連通用の行き止り孔の他端は、裏金の他方の環状の端面の手前で裏金自体で閉塞されている請求項１に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項３】
相互連通用の行き止り孔の一端を閉塞する栓を嵌合するための嵌合手段を更に具備している請求項２に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項４】
嵌合手段はねじ溝を具備している請求項３に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項５】
裏金の外面で開口していると共に裏金の外面から相互連通用の行き止り孔に向けて径方向に延びて裏金の内部に設けられた圧縮気体供給用の行き止り孔を更に具備している請求項１から４のいずれか一項に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項６】
多孔質焼結金属層は、４重量％以上１０重量％以下の錫と、１０重量％以上４０重量％以下のニッケルと、０．１重量％以上０．５重量％未満の燐と、２重量％以上１０重量％以下の無機物質粒子と、残部が銅からなる請求項１から５のいずれか一項に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項７】
無機物質粒子は、黒鉛、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、フッ化カルシウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素及び炭化ケイ素のうちの少なくとも一つからなる請求項６に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項８】
接合層は、少なくともニッケルメッキ層を含んでおり、ニッケルメッキ層は、裏金の円筒状の内面に接合されている請求項１から７のいずれか一項に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項９】
接合層は、ニッケルメッキ層とニッケルメッキ層の表面に形成された銅メッキ層との二層のメッキ層を含んでおり、ニッケルメッキ層は、裏金の円筒状の内面に接合されており、多孔質焼結金属層は、銅メッキ層に接合されている請求項１から８のいずれか一項に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項１０】
銅メッキ層は、１０μｍ以上２５μｍ以下の厚みを有している請求項９に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項１１】
銅メッキ層は、１０μｍ以上２０μｍ以下の厚みを有している請求項９に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項１２】
ニッケルメッキ層は、２μｍ以上２０μｍ以下の厚みを有している請求項８から１１のいずれか一項に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項１３】
ニッケルメッキ層は、３μｍ以上１５μｍ以下の厚みを有している請求項８から１１のいずれか一項に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受用の軸受素材。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか一項に記載の軸受素材を用いた多孔質静圧気体ラジアル軸受。
【請求項１５】
相互連通用の行き止り孔の一端には当該一端を閉塞する栓が嵌合されている請求項１４
に記載の多孔質静圧気体ラジアル軸受。