【手続補正書】
【提出日】平成22年6月28日(2010.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ１）酸解離性基を有する下記一般式（１）で表される構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、当該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、（Ａ３）カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位と下記一般式（１）で表される構成単位を含有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
2009098673.tif 000001
一般式（１）に於いて、
Ｒ１は、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖状あるいは分岐状アルキル基又はシクロアルキル基を表す。但し、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一つは直鎖状あるいは分岐状アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Ｒ４は、置換されてもよい、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、シクロアルキル基又はアラルキル基を表す。
Ｒ２又はＲ３と、Ｒ４とが連結して環状エーテルを形成しても良い。
【請求項２】
前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基が、エポキシ基又はオキセタン基である請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位が、下記一般式（４）で表されるラジカル重合性単量体を用いて形成される、官能基としてエポキシ基を含有する構成単位である請求項２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化２】
2009098673.tif 000002
Ｘは２価の有機基を表し、Ｒ７は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１１とＲ１２はそれぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を表す。ｎは、１〜１０の整数である。
【請求項４】
前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位が、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート又は３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレートを用いて形成される構成単位である請求項３に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｂ）成分が、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物である請求項１〜４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
（Ｂ）成分が、下記一般式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含む化合物である請求項１〜５のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化３】
2009098673.tif 000003
一般式（２）に於いて、
Ｒ５は、置換されてもよい、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。
【請求項７】
（Ｂ）成分が、下記一般式（３）で表される化合物である請求項１〜６のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化４】
2009098673.tif 000004
一般式（３）に於いて、
Ｒ５は、一般式（２）におけるＲ５と同じである。Ｘは、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜３の整数を表す。ｍが２又は３であるとき、複数のＸは同一でも異なっていてもよい。
【請求項８】
（Ｃ）密着助剤を更に含有する請求項１〜７のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥す
ることで塗膜を形成し、前記塗膜をマスクを介して活性光線又は放射線を用いて露光し、アルカリ現像液を用いて現像することで、パターンを形成し、前記パターンを加熱処理することを含む硬化膜形成方法。
【請求項１０】
更に、前記パターンを形成した後、前記パターンを加熱処理する前に、全面露光することを含む請求項９に記載の硬化膜形成方法。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載の硬化膜形成方法を用いて形成される硬化膜。
【請求項１２】
請求項１１に記載の硬化膜を有する液晶表示素子。
【請求項１３】
請求項１１に記載の硬化膜を有する集積回路素子。
【請求項１４】
請求項１１に記載の硬化膜を有する固体撮像素子。
【請求項１５】
請求項１１に記載の硬化膜を有する有機ＥＬ素子。
【請求項１６】
（Ａ１）酸解離性基を有する下記一般式（１）で表される構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、当該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、（Ａ２）カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化５】
2009098673.tif 000005
一般式（１）に於いて、
Ｒ１は、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖状あるいは分岐状アルキル基又はシクロアルキル基を表す。但し、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一つは直鎖状あるいは分岐状アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Ｒ４は、置換されてもよい、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、シクロアルキル基又はアラルキル基を表す。
Ｒ２又はＲ３と、Ｒ４とが連結して環状エーテルを形成しても良い。
【請求項１７】
前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基が、エポキシ基又はオキセタン基である請求項１６に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項１８】
前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位が、下記一般式（４）で表されるラジカル重合性単量体を用いて形成される、官能基としてエポキシ基を含有する構成単位である請求項１７に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化６】
2009098673.tif 000006
Ｘは２価の有機基を表し、Ｒ７は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１１とＲ１２はそれぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を表す。ｎは、１〜１０の整数である。
【請求項１９】
前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位が、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート又は３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレートを用いて形成される構成単位である請求項１８に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項２０】
（Ｂ）成分が、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物である請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項２１】
（Ｂ）成分が、下記一般式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含む化合物である請求項１６〜２０のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化７】
2009098673.tif 000007
一般式（２）に於いて、
Ｒ５は、置換されてもよい、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。
【請求項２２】
（Ｂ）成分が、下記一般式（３）で表される化合物である請求項１６〜２１のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化８】
2009098673.tif 000008
一般式（３）に於いて、
Ｒ５は、一般式（２）におけるＲ５と同じである。Ｘは、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜３の整数を表す。ｍが２又は３であるとき、複数のＸは同一でも異なっていてもよい。
【請求項２３】
（Ｃ）密着助剤を更に含有する請求項１６〜２２のいずれか一項に記載の電子部品の層
間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項２４】
（Ａ２）成分が、カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位と前記一般式（１）で表される構成単位を含有する請求項１６〜２３のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項２５】
前記電子部品が、集積回路素子である請求項１６〜２４のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項２６】
請求項１６〜２５のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥することで塗膜を形成し、前記塗膜をマスクを介して活性光線又は放射線を用いて露光し、アルカリ現像液を用いて現像することで、パターンを形成し、前記パターンを加熱処理することを含む電子部品の層間絶縁膜形成方法。
【請求項２７】
更に、前記パターンを形成した後、前記パターンを加熱処理する前に、全面露光することを含む請求項２６に記載の電子部品の層間絶縁膜形成方法。
【請求項２８】
請求項２６又は２７に記載の電子部品の層間絶縁膜形成方法を用いて形成される電子部品の層間絶縁膜。
【請求項２９】
請求項２８に記載の層間絶縁膜を有する液晶表示素子。
【請求項３０】
請求項２８に記載の層間絶縁膜を有する集積回路素子。
【請求項３１】
請求項２８に記載の層間絶縁膜を有する固体撮像素子。
【請求項３２】
請求項２８に記載の層間絶縁膜を有する有機ＥＬ素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明者は、上記課題を解決する鋭意検討した結果、本発明に到達した。
本発明は、下記の通りである。
＜１＞  （Ａ１）酸解離性基を有する下記一般式（１）で表される構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、当該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、（Ａ３）カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位と下記一般式（１）で表される構成単位を含有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性樹脂組成物。
【化１】
2009098673.tif 000009
一般式（１）に於いて、
Ｒ１は、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖状あるいは分岐状アルキル基又はシクロアルキル基を表す。但し、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一つは直鎖状あるいは分岐状アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Ｒ４は、置換されてもよい、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、シクロアルキル基又はアラルキル基を表す。
Ｒ２又はＲ３と、Ｒ４とが連結して環状エーテルを形成しても良い。
＜２＞  前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基が、エポキシ基又はオキセタン基である上記＜１＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜３＞  前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位が、下記一般式（４）で表されるラジカル重合性単量体を用いて形成される、官能基としてエポキシ基を含有する構成単位である上記＜２＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化２】
2009098673.tif 000010
Ｘは２価の有機基を表し、Ｒ７は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１１とＲ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基を表す。ｎは、１〜１０の整数である。
＜４＞  前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位が、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート又は３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレートを用いて形成される構成単位である上記＜３＞に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜５＞  （Ｂ）成分が、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物である上記＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜６＞  （Ｂ）成分が、下記一般式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含む化合物である上記＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化３】
2009098673.tif 000011
一般式（２）に於いて、
Ｒ５は、置換されてもよい、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。
＜７＞  （Ｂ）成分が、下記一般式（３）で表される化合物である上記＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【化４】
2009098673.tif 000012
一般式（３）に於いて、
Ｒ５は、一般式（２）におけるＲ５と同じである。Ｘは、直鎖状あるいは分岐状アルキ
ル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜３の整数を表す。ｍが２又は３であるとき、複数のＸは同一でも異なっていてもよい。
＜８＞  （Ｃ）密着助剤を更に含有する上記＜１＞〜＜７＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
＜９＞  上記＜１＞〜＜８＞のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥することで塗膜を形成し、前記塗膜をマスクを介して活性光線又は放射線を用いて露光し、アルカリ現像液を用いて現像することで、パターンを形成し、前記パターンを加熱処理することを含む硬化膜形成方法。
＜１０＞  更に、前記パターンを形成した後、前記パターンを加熱処理する前に、全面露光することを含む上記＜９＞に記載の硬化膜形成方法。
＜１１＞  上記＜９＞又は＜１０＞に記載の硬化膜形成方法を用いて形成される硬化膜。
＜１２＞  上記＜１１＞に記載の硬化膜を有する液晶表示素子。
＜１３＞  上記＜１１＞に記載の硬化膜を有する集積回路素子。
＜１４＞  上記＜１１＞に記載の硬化膜を有する固体撮像素子。
＜１５＞  上記＜１１＞に記載の硬化膜を有する有機ＥＬ素子。
＜１６＞  （Ａ１）酸解離性基を有する下記一般式（１）で表される構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、当該酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、（Ａ２）カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位を含有する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化５】
2009098673.tif 000013
一般式（１）に於いて、
Ｒ１は、水素原子、メチル基、ハロゲン原子又はシアノ基を表す。
Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、直鎖状あるいは分岐状アルキル基又はシクロアルキル基を表す。但し、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一つは直鎖状あるいは分岐状アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Ｒ４は、置換されてもよい、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、シクロアルキル基又はアラルキル基を表す。
Ｒ２又はＲ３と、Ｒ４とが連結して環状エーテルを形成しても良い。
＜１７＞  前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基が、エポキシ基又はオキセタン基である上記＜１６＞に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
＜１８＞  前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位が、下記一般式（４）で表されるラジカル重合性単量体を用いて形成される、官能基としてエポキシ基を含有する構成単位である上記＜１７＞に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化６】
2009098673.tif 000014
Ｘは２価の有機基を表し、Ｒ７は、水素原子、メチル基又はハロゲン原子を表し、Ｒ１１とＲ１２はそれぞれ独立して、水素原子又はアルキル基を表す。ｎは、１〜１０の整数である。
＜１９＞  前記カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位が、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート又は３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレートを用いて形成される構成単位である上記＜１８＞に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
＜２０＞  （Ｂ）成分が、波長３００ｎｍ以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物である上記＜１６＞〜＜１９＞のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
＜２１＞  （Ｂ）成分が、下記一般式（２）で表されるオキシムスルホネート基を含む化合物である上記＜１６＞〜＜２０＞のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化７】
2009098673.tif 000015
一般式（２）に於いて、
Ｒ５は、置換されてもよい、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。
＜２２＞  （Ｂ）成分が、下記一般式（３）で表される化合物である上記＜１６＞〜＜２１＞のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
【化８】
2009098673.tif 000016
一般式（３）に於いて、
Ｒ５は、一般式（２）におけるＲ５と同じである。Ｘは、直鎖状あるいは分岐状アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜３の整数を表す。ｍが２又は３であるとき、複数のＸは同一でも異なっていてもよい。
＜２３＞  （Ｃ）密着助剤を更に含有する上記＜１６＞〜＜２２＞のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
＜２４＞  （Ａ２）成分が、カルボキシル基と反応して共有結合を形成し得る官能基を有する構成単位と前記一般式（１）で表される構成単位を含有する上記＜１６＞〜＜２３＞のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。
＜２５＞  前記電子部品が、集積回路素子である請求項１６〜２４のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物。＜２６＞  上記＜１６＞〜＜
２５＞のいずれか一項に記載の電子部品の層間絶縁膜形成用ポジ型感光性樹脂組成物を基板上に塗布、乾燥することで塗膜を形成し、前記塗膜をマスクを介して活性光線又は放射線を用いて露光し、アルカリ現像液を用いて現像することで、パターンを形成し、前記パターンを加熱処理することを含む電子部品の層間絶縁膜形成方法。
＜２７＞  更に、前記パターンを形成した後、前記パターンを加熱処理する前に、全面露光することを含む上記＜２６＞に記載の電子部品の層間絶縁膜形成方法。
＜２８＞  上記＜２６＞又は＜２７＞に記載の電子部品の層間絶縁膜形成方法を用いて形成される電子部品の層間絶縁膜。
＜２９＞  上記＜２８＞に記載の層間絶縁膜を有する液晶表示素子。
＜３０＞  上記＜２８＞に記載の層間絶縁膜を有する集積回路素子。
＜３１＞  上記＜２８＞に記載の層間絶縁膜を有する固体撮像素子。
＜３２＞  上記＜２８＞に記載の層間絶縁膜を有する有機ＥＬ素子。
本発明は、上記＜１＞〜＜３２＞に係る発明であるが、以下、他の事項も含めて記載している。