【手続補正書】
【提出日】平成22年1月21日(2010.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナノインプリント成形に用いる転写材料において、有機ケイ素化合物と周期律表の３族から１４族の金属化合物とを含有することを特徴とする、微細パターン転写材料。
【請求項２】
前記有機ケイ素化合物が、ポリシルセスキオキサン化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の微細パターン転写材料。
【請求項３】
前記金属化合物が、下記式（１）で表されることを特徴とする、請求項１または２に記載の微細パターン転写材料。
Ｍ（ＯＲ）n 式（１）
（式中、Ｍは周期律表第３族〜１４族に属する金属元素、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基もしくはフェニル基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。）
【請求項４】
前記式（１）におけるＭがＮｂ、Ｔｉ、ＴａまたはＨｆであって、Ｒがメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基またはｔｅｒｔ−ブチル基であることを特徴とする、請求項３に記載の微細パターン転写材料。
【請求項５】
前記有機ケイ素化合物がポリフェニルシルセスキオキサンまたはポリスチリルシルセスキオキサンであり、前記金属化合物がテトラエトキシチタン、ペンタエトキシタンタル、ペンタｎ−ブトキシタンタルまたはペンタエトキシタングステンであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の微細パターン転写材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ポリシルセスキオキサンの具体例としては、ポリ水素化シルセスキオキサン、ポリメチルシルセスキオキサン、ポリエチルシルセスキオキサン、ポリプロピルシルセスキオキサン、ポリイソプロピルシルセスキオキサン、ポリブチルシルセスキオキサン、ポリ−ｓｅｃ−ブチルシルセスキオキサン、ポリ−ｔｅｒｔ−ブチルシルセスキオキサン、ポリフェニルシルセスキオキサン、ポリナフチルシルセスキオキサン、ポリスチリルシルセスキオキサンおよびポリアダマンチルシルセスキオキサンなどが挙げられる。これらの中では、ポリ水素化シルセスキオキサン、ポリメチルシルセスキオキサン、ポリエチルシルセスキオキサン、ポリ−ｔｅｒｔ−ブチルシルセスキオキサン、ポリフェニルシルセスキオキサンおよびポリスチリルシルセスキオキサンが好ましく、ポリフェニルシルセスキオキサンおよびポリスチリルシルセスキオキサンが特に好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
＜金属化合物＞
金属化合物としては、一般式Ｍ（ＯＲ）n（式中、Ｍは周期律表第３族〜１４族に属する金属元素、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基もしくはフェニル基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。）で表される金属アルコキシド化合物を使用することができる。ここで、「金属元素」とは、３〜１３族のすべての元素および１４族のゲルマニウムおよび錫をいう。また、「周期律表」とは、ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版（１９８９）による周期律表をいう。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
金属化合物の具体例としては、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ−ｎ−プロポキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリ−ｎ−ブトキシアルミニウム、トリイソブトキシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウム、トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム、ジイソプロポキシコバルト、トリイソプロポキシジスプロシウム、トリイソプロポキシエルビウム、トリイソプロポキシユーロピウム、トリエトキシ鉄、トリイソプロポキシ鉄、トリメトキシガリウム、トリイソプロポキシガリウム、トリ−ｎ−プロポキシガリウム、トリ−ｎ−プロポキシガドリニウム、テトラメトキシゲルマニウム、テトラエトキシゲルマニウム、テトライソプロポキシゲルマニウム、テトラノルマルプロポキシゲルマニウム、テトライソブトキシゲルマニウム、テトラ−ｎ−ブトキシゲルマニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシゲルマニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシゲルマニウム、テトラメトキシハフニウム、テトラエトキシハフニウム、テトライソプロポキシハフニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシハフニウム、トリイソプロポキシインジウム、トリエトキシランタン、トリイソプロポキシランタン、ジ−ｎ−ブトキシマンガン、ペンタエトキシモリブデン、ペンタメトキシニオブ、ペンタエトキシニオブ、ペンタイソプロポキシニオブ、ペンタ−ｎ−プロポキシニオブ、ペンタイソブトキシニオブ、ペンタ−ｎ−ブトキシニオブ、ペンタ−ｓｅｃ−ブトキシニオブ、トリイソプロポキシネオジム、トリイソプロポキシプラセオジム、トリイソプロポキシスカンジウム、トリイソプロポキシサマリウム、テトラエトキシ錫、テトライソプロポキシ錫、テトラ−ｎ−ブトキシ錫、
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
ペンタメトキシタンタル、ペンタエトキシタンタル、ペンタイソプロポキシタンタル、ペンタｎ−プロポキシタンタル、ペンタイソブトキシタンタル、ペンタ−ｎ−ブトキシタンタル、ペンタ−ｓｅｃ−ブトキシタンタル、ペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシタンタル、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラｎ−プロポキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン、ペンタエトキシタングステン、ペンタイソプロポキシタングステン、トリエトキシイットリウム、トリイソプロポキシイットリウム、トリイソプロポキシイッテルビウム、ジエトキシ亜鉛、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、テトラｎ−プロポキシジルコニウム、テトライソブトキシジルコニウム、テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウムおよびテトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウムを挙げることができる。この中でも、テトラメトキシゲルマニウム、テトラエトキシゲルマニウム、テトライソプロポキシゲルマニウム、テトラ−ｎ−プロポキシゲルマニウム、テトライソブトキシゲルマニウム、テトラ−ｎ−ブトキシゲルマニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシゲルマニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシゲルマニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシハフニウム、ペンタエトキシモリブデン、ペンタエトキシニオブ、ペンタ−ｎ−プロポキシニオブ、ペンタ−ｎ−ブトキシニオブ、ペンタ−ｓｅｃ−ブトキシニオブ、ペンタメトキシタンタル、ペンタエトキシタンタル、ペンタイソプロポキシタンタル、ペンタｎ−プロポキシタンタル、ペンタイソブトキシタンタル、ペンタ−ｎ−ブトキシタンタル、ペンタ−ｓｅｃ−ブトキシタンタル、ペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシタンタル、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン、ペンタエトキシタングステンおよびペンタイソプロポキシタングステンが好ましく、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシハフニウム、ペンタエトキシニオブ、ペンタ−ｎ−プロポキシニオブ、ペンタ−ｎ−ブトキシニオブ、ペンタ−ｓｅｃ−ブトキシニオブ、ペンタメトキシタンタル、ペンタエトキシタンタル、ペンタイソプロポキシタンタル、ペンタ−ｎ−プロポキシタンタル、ペンタイソブトキシタンタル、ペンタ−ｎ−ブトキシタンタル、ペンタ−ｓｅｃ−ブトキシタンタル、ペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシタンタル、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトライソブトキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン、ペンタエトキシタングステンおよびペンタイソプロポキシタングステンが特に好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記範囲内では形成される微細パターンが安定するため好ましい。
〔基板〕
微細パターン転写材料を塗布する基板としては、シリコン基板、アルミ基板、ガラス基板、スパッタ法などによりメタル層または炭素層を表面に形成させた基板およびガラス基板製ハードディスクメディアの他、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム、ポリエチレンナフタレート樹脂フィルムおよびシリコーン樹脂フィルムを用いることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
Ｍ（ＯＲ）n 式（１）
（式中、Ｍは周期律表第３族〜１４族に属する金属元素、Ｒは炭素数１〜５のアルキル基もしくはフェニル基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。）
［４］前記式（１）におけるＭがＮｂ、Ｔｉ、ＴａまたはＨｆであって、Ｒがメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基またはｔｅｒｔ−ブチル基であることを特徴とする、［３］に記載の微細パターン転写材料。
［５］前記有機ケイ素化合物がポリフェニルシルセスキオキサンまたはポリスチリルシルセスキオキサンであり、前記金属化合物がテトラエトキシチタン、ペンタエトキシタンタル、ペンタｎ−ブトキシタンタルまたはペンタエトキシタングステンであることを特徴とする、［１］〜［４］のいずれかに記載の微細パターン転写材料。