Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月9日(2010.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記成形工程とめっき工程との間に、溶湯鍛造品の平均粗さが６μｍを超えないように、溶湯鍛造品の表面を研磨する研磨工程を加えることを特徴とする請求項３記載のアルミニウム系部品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項４に係る発明は、成形工程とめっき工程との間に、溶湯鍛造品の平均粗さの上限が６μｍを超えないように、溶湯鍛造品の表面を研磨する研磨工程を加えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
次に、第２シリンダユニット１６の油圧は、そのままで、第１シリンダユニット１４の油圧を増圧する。すると、（ｃ）に示すように、上パンチ１３が、矢印（３）のように下降する。溶湯２４は強く圧縮されたため、逃げ場を求めて部分パンチ１５を押し上げる。
結果、部分パンチ１５は矢印（４）のように上昇する。上部パンチ１３の押圧力と部分パンチ１５の押圧力が均衡した時点で、矢印（３）、（４）の移動は停止する。この状態で凝固を待つ。以下、図２（ｃ）の工程を、第２次工程と呼ぶ。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
図６は層の厚さと外観性の相関を示すグラフであり、層の厚さの比は１．０に固定し、半光沢ニッケルめっき層の厚さと光沢ニッケルめっき層の厚さとを変化させながら、外観性を調べた。これらの層の厚さが大きいほど外観性は良くなる。
そして、半光沢ニッケルめっき層の厚さが５μｍで光沢ニッケルめっき層の厚さが５μｍであれば、合格ラインを超えることができる見通しを得た。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月2日(2010.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本願明細書に記載された組成物および方法であって、以下の方法（Ａ）および該方法（Ａ）に従ってコーティングされたセラミック基材を除く、組成物および方法：
（Ａ）セラミック基材をコーティングするための方法であって、該方法は：
該基材の少なくとも一部に、少なくとも１つの硬化可能な有機バインダーおよび少なくとも１つの着色剤を含む着色コーティング組成物を塗布する工程；
該基材の少なくとも一部に、硬化可能な有機バインダーを含む実質的に透明なコーティング組成物を塗布する工程；ならびに
該着色コーティング組成物中のバインダーと該実質的に透明なコーティング組成物中の該バインダーとを、実質的に同時に硬化させる工程
を包含し、ここで、該着色コーティング組成物または該実質的に透明なコーティング組成物のいずれかは、第１に塗布され得、ここで該第１に塗布されるコーティング組成物は、少なくとも１ミクロンの平均粒子直径を有する複数のスペーサー粒子をさらに含み、ここで、該複数のスペーサー粒子は、第１の温度以下で剛性であり、そして該バインダーが硬化する温度以下の第２の温度で軟化し、そして
ここで、該実質的に透明なコーティング組成物は、該着色コーティング組成物の少なくとも１部分の上に塗布される、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月26日(2010.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下のいずれかから選択される化合物であって、各ｎが独立して１０〜２５００である：
【化１】
2009149903.tif 000001
【化２】
2009149903.tif 000002
、化合物。
【請求項２】
以下のいずれかから選択される化合物であって、各ｎが独立して１０〜２５００である：
【化３】
2009149903.tif 000003
【化４】
2009149903.tif 000004
【化５】
2009149903.tif 000005
【化６】
2009149903.tif 000006
、化合物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月29日(2010.10.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）脂肪族コポリカーボネートジオール、（ｂ）有機ジイソシアネート、及び（ｃ）鎖伸長剤から得られるポリウレタン組成物であって、該脂肪族コポリカーボネートジオールが、下記式（１）及び下記式（２）で示される繰り返し単位と末端ヒドロキシル基からなり、該繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の割合が、モル比で６０：４０〜９９：１であり、該脂肪族コポリカーボネートジオールの数平均分子量が５００〜２００００である上記ポリウレタン組成物を湿式成膜することにより得られることを特徴とする多孔質シート状物。
【化１】
2009149810.tif 000001
【化２】
2009149810.tif 000002
（式中のＲは、１，４−ブタンジオールに由来するアルキレン基を除く、二価の炭素数２〜２０の脂肪族又は脂環族炭化水素基を表す。）
【請求項２】
前記式（２）で示される繰り返し単位が、下記式（３）で示される繰り返し単位である、請求項１に記載の多孔質シート状物。
【化３】
2009149810.tif 000003
【請求項３】
前記繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の割合が、モル比で８５：１５〜９５：５である、請求項１又は２に記載の多孔質シート状物。
【請求項４】
（ａ）脂肪族コポリカーボネートジオール、（ｂ）有機ジイソシアネート、及び（ｃ）鎖伸長剤から得られるポリウレタン組成物であって、該脂肪族コポリカーボネートジオールが、下記式（１）及び下記式（２）で示される繰り返し単位と末端ヒドロキシル基からなり、該繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の割合が、モル比で６０：４０〜９９：１であり、該脂肪族コポリカーボネートジオールの数平均分子量が５００〜２００００である上記ポリウレタン組成物を、繊維基材に塗布または含浸し湿式成膜することにより得られることを特徴とすれ多孔質シート状物。
【化４】
2009149810.tif 000004
【化５】
2009149810.tif 000005
【請求項５】
前記式（２）で示される繰り返し単位が、下記式（３）で示される繰り返し単位である、請求項４に記載の多孔質シート状物。
【化６】
2009149810.tif 000006
【請求項６】
前記繰り返し単位（１）と繰り返し単位（２）の割合が、モル比で８５：１５〜９５：５である、請求項４又は請求項５に記載の多孔質シート状物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月9日(2010.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記（ａ）が下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかの構造で示される化合物である
ことを特徴とする請求項１に記載の漂白助剤。
【化１】
2009149746.tif 000001
（式中、Ｘは水素原子、アルカリ金属、またはアルカリ土類金属を表す。ｐは１または２の整数を表し、ｐが２の場合、Ｘは同一のものでも、異なるものでも良い。）
【化２】
2009149746.tif 000002
（式中、Ｘ１〜Ｘ４は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、カチオン性アンモニウム基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｑは水素原子またはアルキル基を表し、Ｒは水素原子または水酸基を表し、ｎ１は０または１である。）
【化３】
2009149746.tif 000003
（式中、Ｙはアルキル基、カルボキシル基、スルホ基、またはアミノ基、水酸基、または水素原子を表し、Ｘ５〜Ｘ７は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、カチオン性アンモニウム基からなる群より選ばれる１種を表し、ｎ２は０から５の整数を表す。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の第一の態様は、（ａ）配位座が５以下のキレート剤および／または該キレート剤から生じた陰イオンと、（ｂ）銅および／またはマンガン化合物を含有することを特徴とする漂白助剤である。
また、本発明の漂白助剤は、前記（ａ）が下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）のいずれかの構造で示される化合物であることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
化合物（Ｂ）において、Ｘは水素原子、アルカリ金属、またはアルカリ土類金属を表す。
アルカリ金属としてはＮａ、Ｋ等が挙げられる。アルカリ土類金属としてはＣａ（このとき「−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｘ」は「−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｃａ１／２」となる）等が挙げられる。
Ｘがアルカリ金属やアルカリ土類金属である場合を、「−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｍ」（Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属を示す。）と示すこととし、化合物（Ｂ）を水等の溶媒中に投入すると、「−Ｃ（Ｏ）Ｏ−Ｍ」のうちの一部または全部が「−Ｃ（Ｏ）Ｏ−」とアルカリ金属またはアルカリ土類金属イオンとなる。そして、「−Ｃ（Ｏ）Ｏ−」は「遷移金属イオン」と錯体を形成する。
そのため、Ｘがアルカリ金属またはアルカリ土類金属であっても、本発明を構成する（ａ）成分として用いることができる。中でもＸは水素原子であることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
また、化合物（Ｄ）において、Ｙはアルキル基、カルボキシル基、スルホ基、アミノ基、または水素原子を表し、Ｘ５〜Ｘ７は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、カチオン性アンモニウム基からなる群より選ばれる１種を表す。
Ｘ５〜Ｘ７が上記のものであると、本発明の漂白助剤（Ａ）を液状混合物などの形態として製造するにあたって、この化合物（Ｄ）を水などの溶媒に投入した場合に、−ＣＯＯＸ５、−ＣＯＯＸ６、−ＣＯＯＸ７が電離して、それぞれ−ＣＯＯ−となり、陰イオンを生成する。そして、この陰イオンの−ＣＯＯ−の部分が（ｂ）成分の銅および／またはマンガン元素と錯形成可能となる。
好ましくは、Ｘ５〜Ｘ７はいずれもナトリウムまたはカリウムである。なお、Ｘ５〜Ｘ７のうちの１種以上がアルカリ土類金属Ｍである場合には、その部分は−ＣＯＯＭ１／２と示されることとなる。
また、ｎ２は０から５の整数を表し、好ましくは、ｎ２は０から２である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
化合物（Ｄ）の具体例としては、下記化学式（１８）〜（３０）で表される化合物が挙げられる。なお、これら化学式（１８）〜（３０）においては、代表的な例として、Ｘ５〜Ｘ７がいずれも水素である場合を示しているが、化合物（Ｄ）はこれらの構造に限定されるものではなく、目的に応じて適宣選択することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
繊維パウダーとして、特に、天然繊維の粉末セルロース、シルクパウダー、ウールパウダーが好ましく、粉末セルロース、シルクパウダーがより好ましく、中でも粉末セルロースが好ましい。
好ましく使用できる市販品の例としては、ＫＣフロックＷ−４００Ｇ（日本製紙株式会社製）、ＡｒｂｏｃｅｌＢＥ−６００／１０、ＡｒｂｏｃｅｌＢＥ−００、ＡｒｂｏｃｅｌＢＥ−６００／３０、ＡｒｂｏｃｅｌＦＤ−６００／３０、ＡｒｂｏｃｅｌＴＦ３０ＨＧ、ＡｒｂｏｃｅｌＷＷ−４０、ＡｒｂｏｃｅｌＢＣ−２００、ＡｒｂｏｃｅｌＢＥ−６００／２０（いずれもレッテンマイヤー社製）、出光シルクパウダー（出光石油化学株式会社製）、シルクパウダー（大東化成工業株式会社製）、２００２ＥＸＤＮＡＴＣＯＳ  Ｔｙｐｅ−Ｓ（Ｅｌｆ  Ａｔｏｃｈｅｍ社製）等が挙げられる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
漂白助剤粒子（Ｅ）と表面被覆剤との質量比は、漂白助剤粒子（Ｅ）／表面被覆剤が７０／３０〜９９．５／０．５が好ましく、７０／３０〜９８／２がより好ましい。表面被覆剤が少ないと、その効果が発現されない場合があり、多すぎると、漂白助剤粒子（Ｅ）表面に過剰に付着し経時での脱落等の確率が高くなる場合がある。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
得られた漂白助剤粒子は、いずれも篩分けを行い、粒径３００〜７００μｍのものを用いて以下に示す評価を実施した。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月3日(2010.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
［実施の形態の第７例］
図１０は、請求項１〜４、６に対応する、本発明の実施の形態の第７例を示している。本例の場合には、保持部２３を構成する一方の側板部２７ａの前後方向両端縁に、下端縁に開口する１対のスリット４３、４３を形成している点が、前述の図１〜３に示した実施の形態の第１例の場合と異なる。即ち、本例の場合には、上記１対のスリット４３、４３を形成する事により、上記一方の側板部２７ａを、他方の側板部２７ｂ（図３参照）に対して遠近動する方向に弾性変形し易くしている。これにより、各ボルト３５、３５の先端部に螺合した各ナット３８、３８（図１０には図示省略、図２〜３参照）を締め付ける事により、上記一方の側板部２７ａを上記他方の側板部２７ｂに向け弾性変形させて、これら両側板部２７ａ、２７ｂの内側面を被保持部３１の両側面に、それぞれ（隙間を介さずに）当接させている。そして、この様な構成を採用する事により、上記保持部２３に対して上記被保持部３１が左右方向にがたつく事を防止している。その他の部分の構造及び作用は、前述の図１〜３に示した実施の形態の第１例の場合と同様である。
尚、本発明を実施する場合には、上述した第７例の構造で、他方の側板部２７ｂの弾性変形をし易くする為に、この他方の側板部２７ｂの前後両端部にも、下端縁に開口するスリット４３を設けても良い。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
［実施の形態の第１０例］
図１５〜１６は、請求項１〜２、７〜９に対応する、本発明の実施の形態の第１０例を示している。本例の場合には、保持部２３ａに対して被保持部３１ａを結合する為の結合部材として、金属製の結合バンド４４を追加使用している点が、上述した実施の形態の第９例の場合と異なる。即ち、本例の場合には、上記結合バンド４４の中間部をアウターコラム１０ａの上半部に密に（周面同士を隙間なく当接させて）掛け渡した状態で、この結合バンド４４の両端部により、上記保持部２３ａを構成する側板部２７ｂと上記被保持部３１ａとを、左右方向両側から挟持している。これと共に、上記結合バンド４４の両端部に形成した各挿通孔４５、４５に、各ボルト３５、３５（図１５には図示省略）の杆部３６、３６を挿通した状態で、これら各杆部３６、３６の先端部に螺合したナット３８、３８を締め付けている。これにより、上記結合バンド４４の一端部（図１６の左側の端部）の内側面と上記保持部２３ａを構成する側板部２７ｂの内側面とを、それぞれ上記被保持部３１ａの両側面に（隙間を介さずに）当接させている。この様に構成する本例の場合には、上記結合バンド４４を設けた分だけ、上記保持部２３ａに対する上記被保持部３１ａの上下方向の結合強度を向上させる事ができる。その他の部分の構造及び作用は、上述した実施の形態の第９例の場合と同様である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１５】
2009149228.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月1日(2010.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分（Ａ）及び（Ｂ）：
（Ａ）平均粒子径が１００〜７５０μｍの炭酸ジアルカリ金属塩    ２０〜７０質量％、及び
（Ｂ）リンゴ酸    ３０〜８０質量％
を含有し、発泡性炭酸塩全量中の炭酸ジアルカリ金属塩量が７５〜１００質量％である粒状発泡性浴用剤。
【請求項２】
炭酸ジアルカリ金属塩を、発泡性炭酸塩全量中の８０〜１００質量％含有する請求項１記載の粒状発泡性浴用剤。
【請求項３】
炭酸ジアルカリ金属塩の浴用剤中の含有量が３０〜６０質量％である請求項１又は２記載の粒状発泡性浴用剤。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月2日(2010.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示素子を含む絶縁基板；
前記表示素子の上に形成された層であり、前記絶縁基板の端に沿って形成された陥没部を含む樹脂層；及び、
前記樹脂層の上に形成され、前記陥没部を覆っている封止層を有する表示装置。
【請求項２】
前記表示素子が有機発光層を含み、
前記樹脂層がシーラントまたは半硬化性接着樹脂を含む請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記樹脂層が半硬化性接着樹脂を含む場合、前記半硬化性接着樹脂は部分的に硬化しており、
前記樹脂層がシーラントを含む場合、前記シーラントは完全に硬化している請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記陥没部が所定の間隔で複数形成されている請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記封止層が金属と無機物質との少なくともいずれかを含む請求項２に記載の表示装置。
【請求項６】
前記封止層が前記陥没部を通じて前記絶縁基板に接触している請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記封止層が複数の層から構成されている請求項５に記載の表示装置。
【請求項８】
前記金属が、アルミニウム、銅、ブロンズ、銀、黄銅、ステンレススチール及びチタンの少なくともいずれか一つを含む請求項５に記載の表示装置。
【請求項９】
前記無機物質が、SiOx、SiNx、SiONx、AlOx、AlONx及びAlNxの少なくともいずれか一つを含む請求項５に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記表示装置が、前記樹脂層と前記絶縁基板との間に無機絶縁膜をさらに有し、
前記封止層が前記陥没部を通じて前記無機絶縁膜に接触している請求項１に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月25日(2010.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の代表的な画像表示装置の構成を、図１を用いて説明する。図１は、画像表示装置の模式図である。図１中の１はリア側基板、２は蛍光体が配置された蛍光体層、９はｘ方向配線、１１はｙ方向配線、１４はフェース側基板、１９は金属膜、２０はリアプレート、２１はフェースプレート、２３は電子放出素子、２４は側壁、２５は駆動回路である。図１の画像表示装置は、ＦＥＤパネルと駆動回路２５とを備え、ＦＥＤパネルは、リアプレート２０と、リアプレート２０に対向するフェースプレート２１と、側壁２４と、を備える。図１の画像表示装置は、説明の便宜上、蛍光体層２や金属膜１９を備えるフェースプレート２１の一部を切り欠いた構造を示している。また、ｘ方向をｘ方向配線９が延在する方向、ｙ方向をｙ方向配線１１が延在する方向、ｚ方向をリアプレート２０とフェースプレート２１とが対向する方向とした。電子放出素子２３としては、表面伝導型電子放出素子（ＳＣＥ）、Ｓｐｉｎｄｔ型電界放出素子、ＭＩＭ型電子放出素子、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を放出部とする素子等を用いることができる。特に、１ピクセルあたり３×１０-8Ｃ／ｃｍ2以上の電荷密度を照射できる電子放出素子として容易に作製できる表面伝導型電子放出素子を、本発明の画像表示装置に好適に用いることができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図２に、リアプレート２０側からみた蛍光体層２の平面図の例を示す。図２中の、４３、４４および４５は蛍光体、４２は導電体である。蛍光体４３、４４および４５は、典型的には、それぞれ赤色、緑色、青色の発光色となる蛍光体材料からなる。導電体４２は、電子線によるチャージアップを防止するために、設けることが好ましい。また、導電体４２は、黒色の材料を用いることが好ましい。その理由は、電子ビームの照射位置に多少のずれがあっても、隣接の蛍光体への周り込みが生じないようにするためや、外光の反射を防止して表示コントラストの低下を防ぐためである。黒色の材料としては、典型的には黒鉛を主成分として用いることができるが、これ以外の材料を用いてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
単色である蛍光体４２、４３または４４が配置された部分の各々を、ピクセルとよぶ。また、その画像表示装置で表現し得る色をピクセルから発光する色の組合せにより表現できる、異なる色からなる複数のピクセルの最小の組合わせをピクセルの集合とよぶ。典型的には、ピクセルは緑、青、赤のいずれかの単色を発光する部分であり、このとき、ピクセルの集合は、緑、青、赤のピクセルを組合わせた部分である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
また、ホワイトバランスを調整するもう一つの方法として、図５及び図６に示すようにサブピクセルを構成する黒色の導電体４２に囲まれて形成された蛍光体４３、４４、４５の開口面積を輝度に応じて変化させることができる。開口面積を変化させる方法は蛍光体の特性を低下させる必要がなく、そのため、ホワイトバランスの調整による輝度低下を抑制するうえでも好ましい。開口面積は図５で示すように列方向（開口の短辺方向）に長さをかえることに限定されない。行方向（開口の長辺方向）にかえることも、またその両方を変えてもかまわない。また開口の形も図５のような矩形に限定されず、電子線のビームプロファイルにより、最適の開口形状を選択すればよい。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月5日(2010.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、該基板上に順次形成された、露光光を反射する多層反射膜及び露光光を吸収する吸収体層を備えた反射型マスクブランクスであって、
前記吸収体層は、少なくとも最上層と、それ以外の下層とからなる積層構造となっており、前記最上層は、前記吸収体層に形成された吸収体層のパターンの検査に使用する検査波長の光に対する反射率が２０％以下であり、かつ下層へのパターン形成の際のエッチング条件に対し耐性を有する無機材料で形成されており、
前記下層にパターンを形成する際における前記最上層と下層とのエッチング選択比が５以上であることを特徴とする反射型マスクブランクス。
【請求項２】
基板と、該基板上に順次形成された、露光光を反射する多層反射膜及び露光光を吸収する吸収体層を備えた反射型マスクブランクスであって、
前記吸収体層は、少なくとも最上層と、それ以外の下層とからなる積層構造となっており、
前記最上層は、前記吸収体層に形成された吸収体層のパターンの検査に使用する検査波長の光において、前記吸収体層下の前記多層反射膜に対する下記の式で示されるコントラスト値が４０％以上であり、かつ下層へのパターン形成の際のエッチング条件に対し耐性を有する無機材料で形成されており、
前記下層にパターンを形成する際における前記最上層と下層とのエッチング選択比が５以上であることを特徴とする反射型マスクブランクス。
（式）コントラスト値（％）＝（Ｒ２−Ｒ１）／（Ｒ２＋Ｒ１）×１００
（ただし、Ｒ１は検査波長の光に対する最上層表面の反射率、Ｒ２は吸収体層下の多層反射膜表面の反射率）
【請求項３】
前記最上層は、前記吸収体層に形成された吸収体層のパターンの検査に使用する検査波長の光において、前記吸収体層下の前記多層反射膜に対する下記の式で示されるコントラスト値が４０％以上であることを特徴とする請求項１記載の反射型マスクブランクス。
（式）コントラスト値（％）＝（Ｒ２−Ｒ１）／（Ｒ２＋Ｒ１）×１００
（ただし、Ｒ１は検査波長の光に対する最上層表面の反射率、Ｒ２は吸収体層下の多層反射膜表面の反射率）
【請求項４】
前記吸収体層のパターンの検査に使用する検査波長が１９０ｎｍ〜２６０ｎｍの範囲に含まれることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射型マスクブランクス。
【請求項５】
前記最上層のＥＵＶ吸収係数が０．０１以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射型マスクブランクス。
【請求項６】
前記下層のＥＵＶ吸収係数が０．０２５以上であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の反射型マスクブランクス。
【請求項７】
前記吸収体層の下層がタンタル（Ｔａ）を含む材料で、前記最上層がケイ素（Ｓｉ）を含む材料でそれぞれ構成されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の反射型マスクブランクス。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の反射型マスクブランクスの吸収体層にパターンを形成してなることを特徴とする反射型マスク。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月3日(2010.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成されているデータ線と、
前記データ線と交差して形成されゲート電極を有するゲート線と、
前記データ線と接続されているソース電極と、
前記ソース電極と対向するドレイン電極と、
前記ソース電極及び前記ドレイン電極と一部接触している有機半導体と、
前記ゲート電極及び前記有機半導体の間に位置しているゲート絶縁部材と、
十字状に形成されている開口部を有する隔壁と、
を含み、
前記開口部は、前記十字状を形成する横部と縦部とを備え、前記横部は前記ゲート線に沿って形成され、前記縦部は前記データ線に沿って形成され、
前記開口部には、前記有機半導体及び前記ゲート絶縁部材が形成されている薄膜トランジスタ表示板。
【請求項２】
前記ソース電極及び前記ドレイン電極は、各々前記開口部の縦部に沿って形成されている請求項１に記載の薄膜トランジスタ表示板。
【請求項３】
前記ゲート絶縁部材は、前記開口部の前記横部及び前記縦部に沿って形成され、
前記有機半導体は、前記縦部に沿って形成されている請求項２に記載の薄膜トランジスタ表示板。
【請求項４】
前記隔壁は、前記ゲート絶縁部材の厚さと前記有機半導体の厚さとの合計より厚い請求項１に記載の薄膜トランジスタ表示板。
【請求項５】
前記有機半導体及び前記ゲート絶縁部材は溶解性有機物質を含む請求項１に記載の薄膜トランジスタ表示板。
【請求項６】
基板上にデータ線を形成するステップと、
前記データ線上に層間絶縁膜を形成するステップと、
前記層間絶縁膜上にゲート電極を有するゲート線を形成するステップと、
前記層間絶縁膜及び前記ゲート線上に感光膜を形成するステップと、
前記感光膜を露光及び現像して前記ゲート電極を露出し、前記ゲート線に沿った横部と前記データ線に沿った縦部とを有する十字状の開口部を形成するステップと、
前記開口部にゲート絶縁部材を形成するステップと、
前記感光膜及び前記ゲート絶縁部材上にソース電極とドレイン電極とを形成するステップと、
前記開口部に位置する前記ソース電極及び前記ドレイン電極上に有機半導体を形成するステップと、
を含む薄膜トランジスタ表示板の製造方法。
【請求項７】
前記ゲート絶縁部材を形成するステップ及び前記有機半導体を形成するステップは、インクジェット印刷方法で行う請求項６に記載の薄膜トランジスタ表示板の製造方法。
【請求項８】
前記ゲート絶縁部材を形成するステップは、
前記横部に沿ってゲート絶縁部材溶液を滴下するステップと、
前記縦部に沿ってゲート絶縁部材溶液を滴下するステップとを有する請求項７に記載の薄膜トランジスタ表示板の製造方法。
【請求項９】
前記開口部を形成するステップの後に、前記感光膜表面を改質するステップを更に含む請求項６に記載の薄膜トランジスタ表示板の製造方法。
【請求項１０】
前記感光膜表面を改質するステップでは、前記感光膜表面を疏水性処理する請求項９に記載の薄膜トランジスタ表示板の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月7日(2010.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマに結合された第１波形の電流及び電圧情報のメトリックを得て、
プラズマに結合された、第１波形とは異なる周波数を有する第２波形の電流及び電圧情報のメトリックを得て、
周波数の異なる波形からそれぞれ得たメトリックを用いて、少なくとも１つのプラズマ特性を求めることを含むプラズマ特性を求めるための方法。
【請求項２】
少なくとも１つのプラズマ特性を求める工程が、プラズマのイオン質量を求めることを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
イオン質量を求める工程が、プラズマ内のイオン質量種の分布を求めることを更に含む請求項２記載の方法。
【請求項４】
少なくとも１つのプラズマ特性を求める工程が、プラズマの非対称性を求めることを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項５】
少なくとも１つのプラズマ特性を求める工程が、プラズマの電子温度を求めることを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項６】
少なくとも１つのプラズマ特性を求める工程が、プラズマ内の電子−分子衝突頻度を求めることを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項７】
少なくとも１つのプラズマ特性を求める工程が、周波数依存性モデルを用いてプラズマを分析することを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項８】
周波数依存性モデルがプラズマのインピーダンスモデルを更に含む請求項７記載の方法。
【請求項９】
プラズマを維持するために利用する第１電源から第１波形を発生させ、
プラズマの特性を制御するために利用する電源から第２波形を発生させることを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項１０】
プラズマを維持するために利用する第１電源から第１波形を発生させ、
プラズマの動作特性を顕著に変えることのない低出力診断用電源から第２波形を発生させることを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項１１】
低出力診断用電源から第２波形を発生させることが、約１ミリワット〜約１０ワットでプラズマに結合させることを更に含む請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
第２波形のメトリックを得ることが、プラズマ高調波波形のメトリックを得ることを更に含む請求項１記載の方法。
【請求項１３】
第１波形のメトリックを得ることが、第２プラズマ高調波波形のメトリックを得ることを更に含む請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
第１波形のメトリックを得ることが、プラズマを維持するために利用する第１電源から第１波形を発生させることを更に含む請求項１２記載の方法。
【請求項１５】
第１波形のメトリックを得ることが、プラズマの動作特性を顕著に変えることのない低出力診断用電源から第１波形を発生させることを更に含む請求項１２記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月23日(2010.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）半導体基板と、
（ｂ）前記半導体基板の上の電気絶縁領域と、
（ｃ）前記半導体基板の上で前記半導体基板と直接物理的に接触している第１の半導体領域と、
（ｄ）前記絶縁領域の上の第２の半導体領域と、
（ｅ）前記第１の半導体領域および前記半導体基板の中のキャパシタと、
（ｆ）前記第２の半導体領域および前記電気絶縁領域の中のキャパシタ電極コンタクトと、を備える半導体構造。
【請求項２】
（ａ）半導体基板、
（ｂ）前記半導体基板の上の電気絶縁領域、
（ｃ）前記半導体基板の上で前記半導体基板と直接物理的に接触している第１の半導体領域、および
（ｄ）前記絶縁領域の上の第２の半導体領域を含み、前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域が互いに電気的に絶縁されている半導体構造を設けるステップと、
第１のトレンチを形成するステップであって、前記第１のトレンチが前記第１の半導体領域および前記半導体基板の中に形成されるステップと、
第２のトレンチを形成するステップであって、前記第２のトレンチが前記第２の半導体領域の中に形成されるステップと、を含む半導体製造方法。
【請求項３】
前記半導体構造が、前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域の間にサンドイッチ状に挟まれ、前記第１の半導体領域および前記第２の半導体領域と直接物理的に接触し、かつ前記第１の半導体領域と前記第２の半導体領域を電気的に絶縁するスペーサ領域をさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１のトレンチを形成する前記ステップおよび前記第２のトレンチを形成する前記ステップが、同じリソグラフィ・マスクを使用して同時に行われる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記第１のトレンチを形成する前記ステップおよび前記第２のトレンチを形成する前記ステップが行われた後に、前記第１のトレンチおよび前記第２のトレンチを使用してトレンチ形キャパシタおよび前記キャパシタの電極コンタクトをそれぞれ形成するステップをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記第１のトレンチおよび前記第２のトレンチを使用してトレンチ形キャパシタおよび前記キャパシタの電極コンタクトを形成する前記ステップが、
前記第１のトレンチの側壁および底壁に第１のキャパシタ誘電体層を形成し、さらに前記第２のトレンチの側壁および底壁に第２のキャパシタ誘電体層を形成するステップと、  前記第１のトレンチに第１の導電領域を形成し、前記第２のトレンチを第２の導電領域で埋めて前記第２のトレンチに前記電極コンタクトを形成するステップと、
（ｉ）前記第１の導電領域の上部および（ｉｉ）前記第２の導電領域を除去するステップと、
前記第１のキャパシタ誘電体層の露出部分および前記第２のキャパシタ誘電体層全体を除去するステップと、
前記第１のトレンチに、第１のトレンチの内壁を被う筒状の、第１のカラーを形成し、前記第２のトレンチに、第２のトレンチの内壁を被う筒状の、第２のカラーを形成するステップと、
前記半導体基板の上面が前記第２のトレンチを介して周囲環境に露出されるまで、前記電気絶縁領域を貫通してエッチングするステップと、
前記第１のトレンチおよび前記第２のトレンチを導電材料で埋めるステップと、を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第１および第２のカラーが、前記電気絶縁領域と同じ材料を備える、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記導電材料が、ドープされたポリシリコンを備え、さらに、
前記第１および前記第２のキャパシタ誘電体層が、窒化シリコンを備える、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記第１のカラーを形成する前記ステップ、前記第２のカラーを形成する前記ステップ、および前記電気絶縁領域を貫通してエッチングする前記ステップが、単一の異方性エッチング・プロセスによって行われる、請求項６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月19日(2010.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コネクタハウジング内にその後方の端子収容孔から挿入する接続端子において、該接続端子の一部にその挿入姿勢の基準となるマークを付記したことを特徴とするマーク付接続端子。
【請求項２】
前記マークは塗料による着色としたことを特徴とする請求項１に記載のマーク付接続端子。
【請求項３】
前記塗料は蛍光塗料としたことを特徴とする請求項１又は２に記載のマーク付接続端子。
【請求項４】
前記コネクタハウジングの表面に前記マークと同色の塗料を塗布した請求項１〜３の何れか１つの請求項に記載のマーク付接続端子。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月19日(2010.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１、第２のハウジング同士の完全嵌合を目視により確認し得るコネクタであって、前記第１のハウジングに前記第２のハウジングとの嵌合状態をロックする錠止レバーを設け、前記第１、第２のハウジング同士の完全嵌合時に前記錠止レバーの押下操作部と前記第１のハウジングのハウジング本体との間にスライド部材を挿入可能とすることにより前記錠止レバーの動きを固定し、前記スライド部材の挿入状態を目視により確認できるようにしたことを特徴とするコネクタ。
【請求項２】
前記スライド部材は前記第１のハウジング本体に摺動自在の状態で係止し、前記錠止レバーの動きを固定するための挿入状態では、前記第１のハウジング本体に固定することを特徴とする請求項１に記載のコネクタ。
【請求項３】
前記スライド部材は前記第１のハウジング本体とは異なる色としてその挿入状態の確認を容易にしたことを特徴とする請求項１又は２に記載のコネクタ。
【請求項４】
前記第１、第２のハウジング同士の不完全嵌合状態においては、前記スライド部材は挿入不能としたことを特徴とする請求項１〜３の何れか１つの請求項に記載のコネクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月19日(2010.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケーブル同士の接続部を覆う上蓋と下蓋とから成り、前記上蓋と下蓋との合わせ目を外側に突出した平面部とし、前記下蓋の外部に外側リブを設け、該外側リブにより設置面に接するようにしたことを特徴とするコネクタカバー。
【請求項２】
ケーブル同士の接続部を覆う上蓋と下蓋とから成るカバーであって、前記上蓋と下蓋との合わせ目を外側に突設した幅広の平面部としたことを特徴とするコネクタカバー。
【請求項３】
前記下蓋の内部底部に内側リブを設け、前記接続部を前記内側リブ上に載置するようにしたことを特徴とする請求項１又は２に記載のコネクタカバー。
【請求項４】
前記上蓋と下蓋とを合わせた前記カバーの外形を略紡錘状としたことを特徴とする請求項１〜３の何れか１つの請求項に記載のコネクタカバー。
【請求項５】
前記上蓋と下蓋とをナットを螺合して結合したことを特徴とする請求項１〜４の何れか１つの請求項に記載のコネクタカバー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、本発明に係るコネクタカバーの技術的特徴は、ケーブル同士の接続部を覆う上蓋と下蓋とから成り、前記上蓋と下蓋との合わせ目を外側に突出した平面部とし、前記下蓋の外部に外側リブを設け、該外側リブにより設置面に接するようにしたことにある。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月2日(2010.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カメラから取得したデジタル画像の画素濃度の周波数成分を取得する画像解析手段と、
取得した前記周波数成分の視程レベルを判定する視環境判定手段と、
前記視環境判定手段により判定した前記視程レベルを、視環境情報として出力する出力手段とを有し、
前記視環境判定手段は、前記周波数成分の分布がより複雑な場合にはより視界が良好であり、前記周波数成分の分布がより単純な場合にはより視界が悪いとして、前記視程レベルの判定を行うことを特徴とする視環境情報生成装置。
【請求項２】
前記視環境判定手段は、前記画像解析手段において取得した周波数成分から周辺照度の影響を除去した周波数成分を用いて、視程レベルを判定する請求項１記載の視環境情報生成装置。
【請求項３】
出力された前記視環境情報を前記カメラの設置位置情報と対応づけて配信する配信手段を、更に有する請求項１又は請求項２記載の視環境情報生成装置。
【請求項４】
野外に設置された複数のカメラと、
前記複数のカメラから取得したデジタル画像の画素濃度の周波数成分を、それぞれ取得する画像解析手段と、
取得した複数の前記周波数成分の視程レベルを、それぞれ判定する視環境判定手段と、
前記視環境判定手段により判定した複数の前記視程レベルを、視環境情報として出力する出力手段と、
出力された前記複数の視環境情報を、前記カメラの設置位置情報と対応づけて配信する配信手段とを有し、
前記視環境判定手段は、前記周波数成分の分布がより複雑な場合にはより視界が良好であり、前記周波数成分の分布がより単純な場合にはより視界が悪いとして、前記視程レベルの判定を行うことを特徴とする視環境情報配信システム。
【請求項５】
前記視環境判定手段は、前記画像解析手段において取得した周波数成分から周辺照度の影響を除去した周波数成分を用いて、視程レベルを判定する請求項４記載の視環境情報配信システム。
【請求項６】
前記配信手段は、道路交通情報通信システム、専用狭域通信、携帯電話網、又はインターネットである請求項４又は請求項５記載の視環境情報配信システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】視環境情報生成装置及び視環境情報配信システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、主に道路において視認性を低下させる濃霧、吹雪等による視環境の変化の情報を通行者等に配信するための視環境情報生成装置及び視環境情報配信システムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の視環境情報生成装置は、
カメラから取得したデジタル画像の画素濃度の周波数成分を取得する画像解析手段と、
取得した前記周波数成分の視程レベルを判定する視環境判定手段と、
前記視環境判定手段により判定した前記視程レベルを、視環境情報として出力する出力手段とを有し、
前記視環境判定手段は、前記周波数成分の分布がより複雑な場合にはより視界が良好であり、前記周波数成分の分布がより単純な場合にはより視界が悪いとして、前記視程レベルの判定を行うものである。
また、視環境情報配信システムは、
野外に設置された複数のカメラと、
前記複数のカメラから取得したデジタル画像の画素濃度の周波数成分を、それぞれ取得する画像解析手段と、
取得した複数の前記周波数成分の視程レベルを、それぞれ判定する視環境判定手段と、
前記視環境判定手段により判定した複数の前記視程レベルを、視環境情報として出力する出力手段と、
出力された前記複数の視環境情報を、前記カメラの設置位置情報と対応づけて配信する配信手段とを有し、
前記視環境判定手段は、前記周波数成分の分布がより複雑な場合にはより視界が良好であり、前記周波数成分の分布がより単純な場合にはより視界が悪いとして、前記視程レベルの判定を行うものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記構成の視環境情報生成装置及び視環境情報配信システムによれば、画像解析手段により、所定の場所に設置された観測カメラで得られた画像に基づいて、当該画像の平均濃度値付近の成分が除去された周波数成分が解析され、視環境データが作成される。そして、視環境判定手段により、画像解析手段で作成された視環境データに基づいて視環境の状態が判定され、視環境情報が作成される。作成された視環境データまたは視環境情報は、サーバに記憶される。視環境判定手段で作成された視環境情報は、配信手段により、所定の対象（ 例えば、通行者等） に対して配信される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月8日(2010.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分散されたＡｇＣｌｘＢｒ１−ｘ（０≦ｘ≦１）結晶を含んだガラスを延伸するステップと，次いでこれを還元雰囲気下で還元するステップとを含む，分散され配向された形状異方性金属銀粒子を少なくとも表面層に含んだ偏光ガラスの製造方法であって，
該偏光ガラスが，ＴｉＯ２を１．７重量％を超えて含有せず，
Ａｇを０．４２重量％以上含有し，且つ，
該偏光ガラスに含まれるＡｇ及びハロゲンの間に，
モル比で，Ａｇ／（Ｃｌ＋Ｂｒ）が０．４〜０．７
モル比で，Ｃｌ／（Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｆ）が０．５〜０．９５，
モル比で，Ｂｒ／（Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｆ）が０．０５〜０．２５，及び
重量％で，Ａｇ×（Ｂｒ−Ｆ）≦０．１
なる関係があり，且つ
該偏光ガラスの組成が，
ＳｉＯ２： ４０〜６３重量％
Ｂ２Ｏ３：  １５〜２６重量％
Ａｌ２Ｏ３： ５〜１５重量％
ＺｒＯ２： 
７〜１２重量％
Ｒ１２Ｏ：    ４〜１６重量％
（ここに，Ｒ１は，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ及びＣｓを包括的に表し，但し，Ｌｉ２Ｏ：０〜３重量％，Ｎａ２Ｏ：０〜６重量％，Ｋ２Ｏ：０〜９重量％，Ｃｓ２Ｏ：０〜６重量％である。）
ＺｎＯ：   
０〜６重量％
Ｂｒ：      ０．０５〜０．２５重量％
を含むものであることを特徴とする，偏光ガラスの製造方法。
【請求項２】
該偏光ガラスの組成が，
Ｒ２Ｏ：     
０〜７重量％
（ここに，Ｒ２は，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ及びＢａを包括的に表し，但し，ＭｇＯ：０〜３重量％，ＣａＯ：０〜３重量％，ＳｒＯ：０〜５重量％，ＢａＯ：０〜５重量％である。）
を含むものであることを更に特徴とする，請求項１の製造方法。
【請求項３】
該偏光ガラスの組成において，Ａｇの含有量が１．５重量％以下であることを更に特徴とする，請求項１又は２の製造方法。
【請求項４】
該偏光ガラスの組成が，
Ｃｌ：     
０．１〜１．０重量％
Ｆ：       
０〜０．２重量％
を含むものであることを更に特徴とする，請求項１ないし３の何れかの製造方法。
【請求項５】
該ＡｇＣｌｘＢｒ１−ｘ結晶において，ｘが０．５以上であることを特徴とする，請求項１ないし４の何れかの製造方法。
【請求項６】
モル比でＦ／（Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｆ）が０．４以下である，請求項１ないし５の何れかの製造方法。
【請求項７】
該偏光ガラスの消光比が１０ｄＢ以上である，請求項１ないし５の何れかの製造方法。
【請求項８】
請求項１ないし７の何れかの製造方法により製造された偏光ガラス。
【請求項９】
分散され配向された形状異方性金属銀粒子を少なくとも表面層に含んだ偏光ガラスであって，
ＴｉＯ２を１．７重量％を超えて含有せず，
Ａｇを０．４２重量％以上含有し，且つ，
６３３ｎｍにおける損失が０．６ｄＢ以下、消光比が３５ｄＢ以上であり，
該偏光ガラスに含まれるＡｇ及びハロゲンの間に，
モル比で，Ａｇ／（Ｃｌ＋Ｂｒ）が０．４〜０．７
モル比で，Ｃｌ／（Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｆ）が０．５〜０．９５
モル比で，Ｂｒ／（Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｆ）が０．０５〜０．２５，及び
重量％で，Ａｇ×（Ｂｒ−Ｆ）≦０．１
なる関係があり，且つ
該偏光ガラスの組成が，
ＳｉＯ２： ４０〜６３重量％
Ｂ２Ｏ３：  １５〜２６重量％
Ａｌ２Ｏ３： ５〜１５重量％
ＺｒＯ２： 
７〜１２重量％
Ｒ１２Ｏ：    ４〜１６重量％
（ここに，Ｒ１は，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ及びＣｓを包括的に表し，但し，Ｌｉ２Ｏ：０〜３重量％，Ｎａ２Ｏ：０〜６重量％，Ｋ２Ｏ：０〜９重量％，Ｃｓ２Ｏ：０〜６重量％である。）
ＺｎＯ：   
０〜６重量％
Ｂｒ：      ０．０５〜０．２５重量％
を含むものであることを特徴とする，偏光ガラス。
【請求項１０】
分散され配向された形状異方性金属銀粒子を少なくとも表面層に含んだ偏光ガラスであって，
ＴｉＯ２を１．７重量％を超えて含有せず，
Ａｇを０．４２重量％以上含有し，且つ，
５３２ｎｍにおける損失が２．５ｄＢ以下、消光比が３０ｄＢ以上であり，
該偏光ガラスに含まれるＡｇ及びハロゲンの間に，
モル比で，Ａｇ／（Ｃｌ＋Ｂｒ）が０．４〜０．７
モル比で，Ｃｌ／（Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｆ）が０．５〜０．９５
モル比で，Ｂｒ／（Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｆ）が０．０５〜０．２５，及び
重量％で，Ａｇ×（Ｂｒ−Ｆ）≦０．１
なる関係があり，且つ
該偏光ガラスの組成が， 
ＳｉＯ２： ４０〜６３重量％
Ｂ２Ｏ３：  １５〜２６重量％
Ａｌ２Ｏ３： ５〜１５重量％
ＺｒＯ２： 
７〜１２重量％
Ｒ１２Ｏ：    ４〜１６重量％
（ここに，Ｒ１は，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ及びＣｓを包括的に表し，但し，Ｌｉ２Ｏ：０〜３重量％，Ｎａ２Ｏ：０〜６重量％，Ｋ２Ｏ：０〜９重量％，Ｃｓ２Ｏ：０〜６重量％である。）
ＺｎＯ：   
０〜６重量％
Ｂｒ：      ０．０５〜０．２５重量％
を含むものであることを特徴とする，偏光ガラス。
【請求項１１】
該偏光ガラスの組成が，
Ｒ２Ｏ：     
０〜７重量％
（ここに，Ｒ２は，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ及びＢａを包括的に表し，但し，ＭｇＯ：０〜３重量％，ＣａＯ：０〜３重量％，ＳｒＯ：０〜５重量％，ＢａＯ：０〜５重量％である。）
を更に含むものであることを特徴とする，請求項９又は１０の偏光ガラス。
【請求項１２】
該偏光ガラスの組成において，Ａｇの含有量が１．５重量％以下であることを更に特徴とする，請求項９ないし１１の何れかの偏光ガラス。
【請求項１３】
該偏光ガラスの組成が，
Ｃｌ：     
０．１〜１．０重量％
Ｆ：       
０〜０．２重量％
を含むものであることを更に特徴とする，請求項９ないし１２の何れかの偏光ガラス。
【請求項１４】
モル比でＦ／（Ｃｌ＋Ｂｒ＋Ｆ）が０．４以下である，請求項１ないし５の何れかの偏光ガラス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７４】
【数８】
2010150132.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月31日(2010.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
次に本発明を実施例に基づいて詳細に述べる。
以下に示す実施例１〜５および比較例６〜12は、平均粒径 50 μmの水アトマイズ銅粉と、Sn成分含有量が 5〜60質量％で平均粒径40〜50μmの水アトマイズ青銅合金粉とを混合し、所定の温度で水素75体積%、窒素25体積%の混合ガス中で20分間熱処理を行った後に、焼結してケーキ状になった粉末塊を小型粉砕機にて解砕し、100 mesh の篩（目開き 150μm）を通して作製した粉末である。実施例６は銅粉に平均粒径45μmの電解銅粉を用いて同様に作製した。
比較例１は、平均粒径 50 μmの水アトマイズ銅粉90質量％と平均粒径 25 μmの水アトマイズ錫粉10質量％とを混合機で混合した単純混合粉末である。
比較例２は、平均粒径 50 μmの水アトマイズ銅粉90質量％にポリビニルピロリドン5質量％水溶液を金属粉全体の1質量％添加混合し、さらに平均粒径 25 μmの水アトマイズ錫粉10質量％を加えて混合した後、これを金型に入れて6 MPaの加圧力で加圧、オーブンで100℃‐1時間乾燥してから小型粉砕機にて解砕し、100 mesh の篩を通して得られた偏析防止処理青銅粉である。
比較例３は平均粒径 50 μmの水アトマイズ銅粉90質量％と平均粒径 25 μmの水アトマイズ錫粉10質量％とを混合し、水素75体積%、窒素25体積%の混合ガス中で400℃‐20分間熱処理を行った後に、焼結してケーキ状になった粉末塊を小型粉砕機にて解砕し、100 mesh の篩を通して作製した部分合金化青銅粉である。
比較例４は平均粒径 50 μmの水アトマイズ銅粉と、Sn成分含有量が 30質量％で平均粒径45μmの水アトマイズ青銅合金粉とを混合した混合粉末である。
比較例５は水アトマイズで作製した平均粒径48μのCu-10質量％Sn合金粉である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
以下に示す実施例および比較例では、これらの項目を総合的に評価して、Cu部のビッカース硬さHvが50〜100、圧粉体抗折力が8.0 MPa以上、焼結寸法変化率の標準偏差が0.1以下、焼結体圧環強さが200 MPa以上、焼結体外観に筋状の偏析が観察されない粉末を○、いずれかの項目がこの範囲外のものを×と記した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
表1に種々の製造方法で製造した青銅粉末の結果を示す。比較例１および４の混合粉はCu成分とSn成分が結合していないために偏析を生じ、焼結体側面に筋状のSnリッチ部が観察された。比較例２は偏析は起こしていないが、比較例１と同様液相焼結となるので寸法変化率のばらつきが大きい。比較例１、２、４に用いた水アトマイズ銅粉は急冷凝固で結晶粒が微細なため、粒子が硬く成形性が悪い。比較例３は熱処理による焼鈍効果もあるものの、Snの拡散による固溶硬化の影響もあり、粒子が硬く成形性が悪い。比較例５のアトマイズによる合金粉は粒子の硬さが非常に高く、成形性が著しく悪い。これらに対し実施例1に示す本発明による青銅粉は、成形性、寸法変化のばらつき、焼結体強度、偏析のいずれも良好であった。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月15日(2010.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＬＥＤ式信号機点滅の影響を受けない第１周波数を用いて、受信した映像信号を画像信号に変換する第１画像変換部と、
前記第１画像変換部で変換された画像情報を記憶する記憶部と、
前記受信した映像信号を、前記第１画像変換部に出力するか、汎用周波数に対応した第２映像信号として表示部に出力するかを切替える信号切替部と、
を有することを特徴とするドライブレコーダ。
【請求項２】
ＬＥＤ式信号機点滅の影響を受けない第１周波数及び汎用周波数に対応した第２周波数の切替を行う周波数切替部を更に有し、
前記映像信号切替部は、前記第１周波数を用いて前記第１映像信号を画像信号に変換し、前記第２周波数を用いて第２映像信号を出力する、請求項１に記載のドライブレコーダ。