【手続補正書】
【提出日】平成22年10月10日(2010.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製し、この型を反射防止膜形成材料に転写させることによって得られ、その表面に平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在し、かつヘイズが１５％以下であることを特徴とする反射防止膜。
【請求項２】
機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工した後のアルミニウム材料の表面が、算術平均粗さＲａとして０．１μｍ以下のものである請求項１記載の反射防止膜。
【請求項３】
機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工した後のアルミニウム材料の表面が、最大高さＲｙとして０．５μｍ以下のものである請求項１又は請求項２記載の反射防止膜。
【請求項４】
機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩による加工が、機械研摩をした後に電解研摩をする加工である請求項１ないし請求項３の何れかの請求項記載の反射防止膜。
【請求項５】
電解研摩の後、酸化膜を除去し、アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製する請求項１ないし請求項４の何れかの請求項記載の反射防止膜。
【請求項６】
上記陽極酸化が、シュウ酸濃度０．０１Ｍ以上０．５Ｍ以下、印加電圧２０Ｖ以上１２０Ｖ以下、かつ液温０℃以上５０℃以下で行われるものである請求項１ないし請求項５の何れかの請求項記載の反射防止膜。
【請求項７】
上記エッチングが、リン酸濃度１重量％以上２０重量％以下、液温３０℃以上９０℃以下、かつ１回の処理時間１分以上６０分以下で行われるものである請求項１ないし請求項６の何れかの請求項記載の反射防止膜。
【請求項８】
上記反射防止膜形成材料が、光照射、電子線照射及び／又は加熱によって硬化する硬化性組成物である請求項１ないし請求項７の何れかの請求項記載の反射防止膜。
【請求項９】
上記硬化性組成物が、アクリル系重合性組成物又はメタクリル系重合性組成物である請求項８に記載の反射防止膜。
【請求項１０】
その表面に平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在し、かつヘイズが１５％以下である反射防止膜の製造方法であって、アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工した後、該アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製し、この型を反射防止膜形成材料に転写させることを特徴とする反射防止膜の製造方法。
【請求項１１】
機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩による加工が、機械研摩をした後に電解研摩をする加工である請求項１０記載の反射防止膜の製造方法。
【請求項１２】
電解研摩の後、酸化膜を除去し、アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製する請求項１０又は請求項１１記載の反射防止膜の製造方法。
【請求項１３】
アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を形成させた、反射防止膜形成用の型であって、該型を反射防止膜形成材料に転写させることによって得られる「表面に平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在する反射防止膜」のヘイズが１５％以下になるまで、あらかじめ、該アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工しておき、その後、該テーパー形状の細孔を形成させてなることを特徴とする反射防止膜形成用の型。
【請求項１４】
機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工した後のアルミニウム材料の表面が、算術平均粗さＲａとして０．１μｍ以下のものである請求項１３記載の反射防止膜形成用の型。
【請求項１５】
機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工した後のアルミニウム材料の表面が、最大高さＲｙとして０．５μｍ以下のものである請求項１３又は請求項１４記載の反射防止膜形成用の型。
【請求項１６】
機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩による加工が、機械研摩をした後に電解研摩をする加工である請求項１３ないし請求項１５の何れかの請求項記載の反射防止膜形成用の型。
【請求項１７】
電解研摩の後、酸化膜を除去し、アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製してなる請求項１３ないし請求項１６の何れかの請求項記載の反射防止膜形成用の型。
【請求項１８】
上記「陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせ」が、シュウ酸濃度０．０１Ｍ以上０．５Ｍ以下、印加電圧２０Ｖ以上１２０Ｖ以下、かつ液温０℃以上５０℃以下で行う陽極酸化と、リン酸濃度１重量％以上２０重量％以下、液温３０℃以上９０℃以下、かつ１回の処理時間１分以上６０分以下で行うエッチングとの組み合わせである請求項１３ないし請求項１７の何れかの請求項記載の反射防止膜形成用の型。
【請求項１９】
アルミニウム材料の表面を、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を形成させる反射防止膜形成用の型の製造方法であって、該型を反射防止膜形成材料に転写させることによって得られる「表面に平均高さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凸部又は平均深さ１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の凹部を有し、その凸部又は凹部が、少なくともある一の方向に対し平均周期５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下で存在する反射防止膜」のヘイズが１５％以下になるまで、あらかじめ、該アルミニウム材料の表面を、機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工しておき、その後、該テーパー形状の細孔を形成させることを特徴とする反射防止膜形成用の型の製造方法。
【請求項２０】
機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工した後のアルミニウム材料の表面が、算術平均粗さＲａとして０．１μｍ以下になるまで研摩を行う請求項１９記載の反射防止膜形成用の型の製造方法。
【請求項２１】
機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩により加工した後のアルミニウム材料の表面が、最大高さＲｙとして０．５μｍ以下になるまで研摩を行う請求項１９又は請求項２０記載の反射防止膜形成用の型の製造方法。
【請求項２２】
機械研摩、化学研摩及び／又は電解研摩による加工が、機械研摩をした後に電解研摩をする加工である請求項１９ないし請求項２１の何れかの請求項記載の反射防止膜形成用の型の製造方法。
【請求項２３】
電解研摩の後、酸化膜を除去し、アルミニウム材料の表面に、陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせによりテーパー形状の細孔を有する型を作製する請求項１９ないし請求項２２の何れかの請求項記載の反射防止膜形成用の型の製造方法。
【請求項２４】
上記「陽極酸化と陽極酸化被膜のエッチングとの組み合わせ」が、シュウ酸濃度０．０１Ｍ以上０．５Ｍ以下、印加電圧２０Ｖ以上１２０Ｖ以下、かつ液温０℃以上５０℃以下で行う陽極酸化と、リン酸濃度１重量％以上２０重量％以下、液温３０℃以上９０℃以下、かつ１回の処理時間１分以上６０分以下で行うエッチングとの組み合わせである請求項１９ないし請求項２３の何れかの請求項記載の反射防止膜形成用の型の製造方法。