【手続補正書】
【提出日】平成22年3月19日(2010.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、
前記液体供給システムが、前記浸漬液を浄化する液体浄化装置を有し、
前記液体浄化装置が、前記空間の上流であって前記空間から離間した脱気装置を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記脱気装置が薄膜を有する、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項３】
前記液体浄化装置が蒸留ユニットを有する、請求項１または２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項４】
前記液体浄化装置が、浸漬液の炭化水素含有率を低下させるユニットを有する、請求項１乃至３のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項５】
前記液体浄化装置が、逆浸透ユニット、イオン交換ユニットまたは脱イオン化ユニットである脱塩装置を有する、請求項１乃至４のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項６】
前記液体浄化装置がフィルタを有する、請求項１乃至５のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項７】
前記フィルタが、前記液体供給システムの１つまたは複数のさらなる構成要素から動的に隔離される、請求項６に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項８】
前記液体供給システムが、前記浸漬液を２度目に完全に、または部分的に浄化した状態で、または浄化しない状態で前記空間で浸漬液を再使用するための再循環手段を含む、請求項１乃至７のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項９】
前記液体供給システムがさらに、前記浸漬液を前記液体浄化装置から前記空間に提供する循環手段を有する、請求項１乃至８のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１０】
前記浸漬液が水または水溶液であり、液体浄化装置は、前記水または水溶液が以下の特性（ａ）から（ｆ）、つまり、
（ａ）０．０５５マイクロシーメンス／ｃｍから０．５マイクロシーメンス／ｃｍの導電性、
（ｂ）５から８のｐＨ、
（ｃ）５ｐｐｂ以下の有機化合物含有率、
（ｄ）浸漬液１ｍｌ当たり５０ｎｍ以上の寸法を有する粒子２個以内の粒子含有率、
（ｅ）１５ｐｐｂ以下の溶解酸素濃度、および
（ｆ）５００ｐｐｔ以下のシリカ含有率、
のうち１つまたは複数、好ましくは全てを有すよう、これを浄化するためのものである、請求項１乃至９のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１１】
前記浸漬液の前記ｐＨが６から８であり、前記浸漬液の前記有機化合物含有率が１ｐｐｂ以下であり、前記浸漬液の前記粒子含有率が前記浸漬液１ｍｌ当たり５０ｎｍ以上の寸法を有する粒子０．５個以内であり、前記浸漬液の前記溶解酸素濃度が５ｐｐｂ以下であり、および前記浸漬液の前記シリカ含有率が１００ｐｐｔ以下であること、
のうち１つまたは複数、好ましくは全てを有する、請求項１０に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１２】
前記液体供給システムは、
前記空間に入る前に前記浸漬液に照射するために紫外線ソースを有する、請求項１乃至１１のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１３】
前記液体供給システムは、
可視光に対して非透明で、前記液体供給システムを囲む容器またはエンクロージャである、請求項１乃至１２のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１４】
前記液体供給システムは、
浸漬液ソースから前記空間へと前記浸漬液を供給する、可視光に対して非透明である導管を有する、請求項１乃至１３のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１５】
前記液体供給システムは、
前記浸漬液に生物成長阻害薬品を添加する手段を有する、請求項１乃至１４のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１６】
さらに粒子カウンタを有する、請求項１乃至１５のいずれかに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１７】
−投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、
前記液体供給システムが、前記空間に入る前に前記浸漬液に照射するために紫外線ソースを有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項１８】
前記紫外線の照射は、前記浸漬液中に存在する生物を殺すためのものである、請求項１７に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項１９】
前記液体供給システムは、
前記紫外線の照射により殺された生物を除去する粒子フィルタを有する、請求項１７または１８に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項２０】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、
前記浸漬液が可視光で照射されることを防止するための手段を設けることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項２１】
前記手段が、可視光に対して非透明で、前記液体供給システムを囲む容器またはエンクロージャである、請求項２０に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項２２】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、
前記液体供給システムが、さらに、前記浸漬液に生物成長阻害薬品を添加する手段を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項２３】
前記生物成長阻害薬品は、ハロゲン含有化合物、アルコール、アルデヒド、オゾンおよび重金属からなる群から選択される、請求項２２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項２４】
前記手段は、さらに前記浸漬液に、界面活性剤および湿潤剤の一方または双方を添加するよう構成されている、請求項２２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項２５】
浸漬リソグラフィ投影装置の投影システムの最終要素と、描像される基板との間の空間に使用する浸漬液で、前記浸漬液が少なくとも１つの生物成長阻害薬品で構成されるものである浸漬液。
【請求項２６】
前記生物成長阻害薬品は、ハロゲン含有化合物、アルコール、アルデヒド、オゾンおよび重金属からなる群から選択される、請求項２５に記載の浸漬液。
【請求項２７】
前記生物成長阻害薬品は、さらに前記浸漬液に、界面活性剤および湿潤剤の一方または双方を含む、請求項２５に記載の浸漬液。
【請求項２８】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、
前記浸漬液が請求項２５による浸漬液であることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項２９】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、
前記浸漬液が以下の特性（ａ）から（ｆ）、つまり、
（ａ）０．０５５マイクロシーメンス／ｃｍから０．５マイクロシーメンス／ｃｍの導電性、
（ｂ）５から８のｐＨ、
（ｃ）５ｐｐｂ以下の有機化合物含有率、
（ｄ）浸漬液１ｍｌ当たり５０ｎｍ以上の寸法を有する粒子２個以内の粒子含有率、
（ｅ）１５ｐｐｂ以下の溶解酸素濃度、および
（ｆ）５００ｐｐｔ以下のシリカ含有率、
のうち１つまたは複数、好ましくは全てを有する水または水溶液であることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項３０】
前記浸漬液の前記ｐＨが６から８であり、前記浸漬液の前記有機化合物含有率が１ｐｐｂ以下であり、前記浸漬液の前記粒子含有率が前記浸漬液１ｍｌ当たり５０ｎｍ以上の寸法を有する粒子０．５個以内であり、前記浸漬液の前記溶解酸素濃度が５ｐｐｂ以下であり、および前記浸漬液の前記シリカ含有率が１００ｐｐｔ以下である
ことのうち１つまたは複数、好ましくは全てを有する、請求項２９に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項３１】
液体供給システムが、浸漬液を含む液体封じ込めシステムを有する、請求項２９に記載の装置。
【請求項３２】
浸漬リソグラフィ投影装置の投影システムの最終要素と描像される基板との間の空間に使用する浸漬液で、前記浸漬液が以下の特性（ａ）から（ｆ）、つまり、
（ａ）０．０５５マイクロシーメンス／ｃｍから０．５マイクロシーメンス／ｃｍの導電性、
（ｂ）５から８のｐＨ、
（ｃ）５ｐｐｂ以下の有機化合物含有率、
（ｄ）浸漬液１ｍｌ当たり５０ｎｍ以上の寸法を有する粒子２個以内の粒子含有率、
（ｅ）１５ｐｐｂ以下の溶解酸素濃度、および
（ｆ）５００ｐｐｔ以下のシリカ含有率、
のうち１つまたは複数、好ましくは全てを有する水または水溶液であることを特徴とする浸漬液。
【請求項３３】
前記浸漬液の前記ｐＨが６から８であり、前記浸漬液の前記有機化合物含有率が１ｐｐｂ以下であり、前記浸漬液の前記粒子含有率が前記浸漬液１ｍｌ当たり５０ｎｍ以上の寸法を有する粒子０．５個以内であり、前記浸漬液の前記溶解酸素濃度が５ｐｐｂ以下であり、および前記浸漬液の前記シリカ含有率が１００ｐｐｔ以下である
ことのうち１つまたは複数、好ましくは全てを有する、請求項３２に記載の浸漬液。
【請求項３４】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、
汚染を暗示する前記浸漬液の特性を測定する測定手段と、
を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項３５】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、
前記浸漬液への気体の含有率を低下させる気体含有率低下手段と、
前記浸漬液の特性を測定する測定手段と、
を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項３６】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、
前記浸漬液中の粒子を計数する粒子カウンタと、
を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項３７】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、
ハロゲン含有化合物、アルコール、アルデヒド、オゾンまたは重金属を前記浸漬液に添加する添加手段と、
を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項３８】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより前記投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、
気体と液体とを分離するものであって、前記液体供給システムの上流であって前記空間へ入る前の前記浸漬液の流路中に設けられ、前記浸漬液に接して気体と前記浸漬液とを分離する薄膜を備える脱気装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項３９】
− 投影ビームを供給する放射線システムと、
− パターン形成手段を支持する支持構造と、を有し、前記パターン形成手段は、パターンにより投影ビームにパターンを形成し、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− 前記基板の目標部分にパターン形成した前記投影ビームを投影する投影システムと、
− 前記投影システムの最終要素と前記基板の間の空間を浸漬液で少なくとも部分的に充填する液体供給システムと、を有し、
前記浸漬液が、浸漬液１ｍｌ当たり５０ｎｍ以上の寸法を有する粒子０．５個以内の粒子含有率を有する水または水溶液であることを特徴とするリソグラフィ投影装置。