Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月2日(2010.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼鏡レンズ加工装置からの研削屑を含む使用済みの研削水が導入される脱水槽を持ち、該脱水槽の回転により研削水と研削屑を分離する遠心分離機を有する眼鏡レンズ加工の研削水処理装置において、
前記脱水槽の内部に溜まった加工屑を回収するために前記脱水槽に配置される加工屑回収器具と、該加工屑回収器具を加工屑と共に前記脱水槽から引き上げるために作業者が手で保持して操作する取出治具と、を備え、
前記加工屑回収器具は、前記脱水槽の内部の底に設置される底板部材であって、脱水槽の内部の底と略同一形状の底板部材と、該底板部材の外周に固定された支持部材であって，前記脱水槽の高さまで上方へと延びると共に、前記取出治具が係止されるための係止部が上方に形成された支持部材と、を備えることを特徴とする研削水処理装置。
【請求項２】
請求項１の研削水処理装置において、前記加工屑回収器具は、前記支持部材の内側に配置されると共に，前記支持部材を前記脱水槽内の側壁との間に収め，前記脱水槽内の側壁のほぼ全面に沿って配置されるシート形状の分離材を備えることを特徴とする研削水処理装置。
【請求項３】
請求項１の研削水処理装置において、前記取出治具は、梃子の原理で前記加工屑回収器具を加工屑と共に前記脱水槽から引き上げるために、作業者が保持する掴み部と、該掴み部と連結され，前記支持部材の係止部に係止する先端部と、該先端部の近傍に設けられ，前記脱水槽の縁に当接する支え部と、を備え、前記先端部が前記係係止に係止され，前記支持部材が前記脱水槽から引き上げられる際に前記支え部が支点，前記掴み部が力点，前記先端部が作用点となることを特徴とする研削水処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するために次のような構成を備えることを特徴とする。
（１）  眼鏡レンズ加工装置からの研削屑を含む使用済みの研削水が導入される脱水槽を持ち、該脱水槽の回転により研削水と研削屑を分離する遠心分離機を有する眼鏡レンズ加工の研削水処理装置において、
前記脱水槽の内部に溜まった加工屑を回収するために前記脱水槽に配置される加工屑回収器具と、該加工屑回収器具を加工屑と共に前記脱水槽から引き上げるために作業者が手で保持して操作する取出治具と、を備え、
前記加工屑回収器具は、前記脱水槽の内部の底に設置される底板部材であって、脱水槽の内部の底と略同一形状の底板部材と、該底板部材の外周に固定された支持部材であって，前記脱水槽の高さまで上方へと延びると共に、前記取出治具が係止されるための係止部が上方に形成された支持部材と、を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の研削水処理装置において、前記加工屑回収器具は、前記支持部材の内側に配置されると共に，前記支持部材を前記脱水槽内の側壁との間に収め，前記脱水槽内の側壁のほぼ全面に沿って配置されるシート形状の分離材を備えることを特徴とする。
（３）  （１）の研削水処理装置において、前記取出治具は、梃子の原理で前記加工屑回収器具を加工屑と共に前記脱水槽から引き上げるために、作業者が保持する掴み部と、該掴み部と連結され，前記支持部材の係止部に係止する先端部と、該先端部の近傍に設けられ，前記脱水槽の縁に当接する支え部と、を備え、前記先端部が前記係係止に係止され，前記支持部材が前記脱水槽から引き上げられる際に前記支え部が支点，前記掴み部が力点，前記先端部が作用点となることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月25日(2010.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記噴射ノズルの移動を前記回転軌跡の前記外周線と内周線の等面積領域範囲内で行うことを特徴とする請求項２〜４いずれか１項記載の研削加工方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は，砥粒や各種研磨材（本発明において，これらを総称して「研磨材」という。）の噴射によって，被処理対象ないし被加工対象面（本発明において，「ワーク」という。）を研磨，切削，クリーニング等（本発明において，これらを総称して「研削」という。）を行う研削加工方法及び研削加工装置に関し，例えばシリコンウエハー等のウエハーを処理対象とし，このウエハー上に形成された膜や汚れの研削に用いることができる研削加工方法及び前記研削方法に使用する研削加工装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
そして，このようにターンテーブル上を移動するシリコンウエハーの全面に対して研磨材を噴射しようとすれば，シリコンウエハーＷの回転（公転）・搬送軌跡をターンテーブルの外周線−内周線間を横断するように噴射ノズルを反復して往復移動させたり〔図１５（Ａ）参照〕，又は一の自転するシリコンウエハーないしターンテーブル上のワークを外周線−中心方向−前記外周線の中心を介して対峙する外周線間を横断するように噴射ノズルを反復して往復移動〔図１５（Ｂ）参照〕させたりする処理が行われる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
すなわち，図１６に示すように，半径ｒの微小な円と，これに対して半径が２，３，４，５倍と増加する半径２ｒ，３ｒ，４ｒ，５ｒの同心円とすると，面積比で，半径ｒの円に対し，半径２ｒの円は４倍，３ｒの円は９倍，半径４ｒの円は１６倍，半径５ｒの円は２５倍と，各円の面積は，半径の倍数の自乗（ｒ1ｎ2）ずつその面積を拡大し，半径ｒの中心円の面積に対し，その外周に形成された各無端環状の帯状部分の面積は，外周方向に向かうに従って，３，５，７，９・・・倍（ｒn＝（２ｎ−１）ｒ1）とその面積を増加する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
そのため，噴射ノズルより噴射される研磨材の材質，単位時間あたりの研磨材の噴射量，アークハイトないし噴射圧力や噴射速度，噴射距離（噴射ノズルとワーク間距離）等の他の加工条件が一定であれば，上記のように噴射ノズルを定速で移動させる場合，上述したように一のワークの回転軌跡ないし複数のワークをターンテーブルに同心円上に載置した場合のターンテーブルの回転軌跡の外周側において加工度が低く，内周側において加工度が高くなるという問題が生じシリコンウエハーの表面全体を均一に研削することができない。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
特にシリコンウエハーのサイズは，５，６，８インチと大型化し，さらに現在においては１２インチに移行しているように，年々大型化していることから，このような大型化に伴い，前述の加工ムラはより一層顕著に現れることとなる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明の研削加工方法及び研削加工装置によれば，以上説明した本発明の構成により，噴射ノズル２０を移動させる際，回転移動するワークＷの回転軌跡の外周側から内周側に向かうに従い相対的に移動速度を速くし，また，逆に内周側から外周側に向かうに従い移動速度を相対的に遅く変化させ，回転軌跡の内周側と外周側で生じる加工度の変化を減少することができた。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
図１〜図３に示すブラスト加工装置１は，金属板等によって形成されたキャビネット２の内部に，ブラスト加工を行うための加工室３が形成されていると共に，このキャビネット２の下部を，下方に向かって幅を狭める逆角錐状に形成して加工室３内で噴射された研磨材を回収することができるように構成している。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
ここでは，この治具１２は，本実施形態にあっては，加工対象とするシリコンウエハーＷを載置可能なサイズの円盤状を成し，この治具１２上に載置されたシリコンウエハーＷが，加工中，噴射ノズル２０より噴射される研磨材や圧縮空気等によって吹き飛ばされ，または位置ずれを起こすことがないよう，これを固定する手段，例えば載置されたシリコンウエハーＷを真空吸着する真空チャック又は，静電的に固着する静電チャック等を設けることが好ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
前記ターンテーブル１１及びこのターンテーブル１１に設けられた治具１２から成る前記回転・搬送手段１０によって移動するシリコンウエハーＷに対して研磨材を噴射する前述の噴射ノズル２０は，この噴射ノズル２０をシリコンウエハーＷの回転軌跡を横断する方向に移動，本実施形態では反復移動させる，噴射ノズル移動制御手段３０に取り付けられており，この噴射ノズル移動制御手段３０によって噴射ノズル２０は，前記シリコンウエハーＷの回転軌跡を横断する方向に反復移動すると共に，ターンテーブル１１の中心側に向かうに従い速く，外周側に向かうに従い遅くなるようにその移動速度が制御される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
このような噴射ノズル２０の移動と，移動速度の制御を行うための，前記噴射ノズル移動制御手段３０は，図５に示すように，前記噴射ノズル２０を揺動させるスイングアーム３１（３１ａ〜３１ｃ）と，このスイングアーム３１を揺動させるカム３５を備えており，このカム３５の形状を本願発明による形状とすることによって，噴射ノズル２０の移動速度を前述したように，内外周方向における位置に対応して可変とする速度制御が可能となる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
本実施形態にあっては，前述のカム３５や，このカム３５を回転駆動するモータ３６，該モータ３６の回転を前記カムに伝達する動力伝達機構３７（図６及び図７に示す例では，プーリ３７ａ，３７ｂ及びプーリベルト３７ｃ）を，研磨材や粉塵等の影響が比較的少ない加工室３外に配置することができるようするために，前記キャビネット２の天板にキャビネット２内外を貫通する軸受３８を設け，この軸受３８に，キャビネット２内外を貫通して設けられた回転軸３２を回転自在に軸承し，キャビネット２外で前記回転軸３２に与えられた回転力を，キャビネット２内に伝達する構成としている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月16日(2010.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
ウエブ材をロールから供給し、前記ウエブ材によってプラスチック袋を製造する製袋機であって、前記ウエブ材の一定長さ毎に、それぞれ帯状シートとウエブ材が対面し、押し付けられ、各シートとウエブ材間に強力接着剤と他の接着剤が介在し、前記ウエブ材に前記各シートが貼り付けられ、前記ロールは前記各シートを貼り付けたウエブ材を巻き取ったものであり、前記強力接着剤は養生時間を要する種類のものであることを特徴とする製袋機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
さらに、この発明によれば、特別の構成の製袋機が新たに提供される。その製袋機では、ウエブ材がロールから供給され、ウエブ材によってプラスチック袋が製造される。さらに、ウエブ材の一定長さ毎に、それぞれ帯状シートとウエブ材が対面し、押し付けられ、各シートとウエブ材間に強力接着剤と他の接着剤が介在し、ウエブ材に各シートが貼り付けられる。ロールは各シートを貼り付けたウエブ材を巻き取ったものである。強力接着剤は養生時間を要する種類のものである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月14日(2010.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性樹脂と無機充填材とを含む樹脂組成物で構成される絶縁シートであって、
該絶縁シートの２５０℃での弾性率が１００[ＭＰａ]以上であり、かつ、
該絶縁シートの圧縮変形量が１０μｍ以下であり、
前記圧縮変形量は、厚さ６０μｍの該絶縁シートに設けられた６０μｍ径のパッドに、温度２５０℃にて１２０ｇの加重をかけたときの前記パッドの沈み込み量により測定されたものであることを特徴とする絶縁シート。
【請求項２】
硬化性樹脂と無機充填材とを含む樹脂組成物で構成される絶縁シートであって、
該絶縁シートの２５０℃での弾性率をＡ[ＭＰａ]とし、２００℃での弾性率をＢ[ＭＰａ]としたとき、（Ａ−Ｂ）／５０≧−６０[ＭＰａ／℃]なる関係を満足し、かつ、
該絶縁シートの圧縮変形量が１０μｍ以下であり、
前記圧縮変形量は、厚さ６０μｍの該絶縁シートに設けられた６０μｍ径のパッドに、温度２５０℃にて１２０ｇの加重をかけたときの前記パッドの沈み込み量により測定されたものであることを特徴とする絶縁シート。
【請求項３】
前記絶縁シートの２５０℃での弾性率が１００[ＭＰａ]以上である請求項２に記載の絶縁シート。
【請求項４】
前記硬化性樹脂は、２以上の同種または異種の硬化性樹脂を含むものである請求項１ないし３のいずれかに記載の絶縁シート。
【請求項５】
前記硬化性樹脂は、重量平均分子量が異なる２以上の硬化性樹脂を含むものである請求項１ないし４のいずれかに記載の絶縁シート。
【請求項６】
前記硬化性樹脂は、シアネート樹脂を含むものである請求項１ないし５のいずれかに記載の絶縁シート。
【請求項７】
前記無機充填材は、球状シリカである請求項１ないし６のいずれかに記載の絶縁シート。
【請求項８】
前記無機充填材の含有量は、前記樹脂組成物全体の２０〜７０重量％である請求項１ないし７のいずれかに記載の絶縁シート。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の絶縁シートと、金属箔とが積層されていることを特徴とする金属箔付き絶縁シート。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれかに記載の絶縁シートを用いることを特徴とする多層プリント配線板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
このような目的は、下記（１）〜（１０）に記載の本発明により達成される。
（１）硬化性樹脂と無機充填材とを含む樹脂組成物で構成される絶縁シートであって、該絶縁シートの２５０℃での弾性率が１００[ＭＰａ]以上であり、かつ、該絶縁シートの圧縮変形量が１０μｍ以下であり、前記圧縮変形量は、厚さ６０μｍの該絶縁シートに設けられた６０μｍ径のパッドに、温度２５０℃にて１２０ｇの加重をかけたときの前記パッドの沈み込み量により測定されたものであることを特徴とする絶縁シート。
（２）硬化性樹脂と無機充填材とを含む樹脂組成物で構成される絶縁シートであって、該絶縁シートの２５０℃での弾性率をＡ[ＭＰａ]とし、２００℃での弾性率をＢ[ＭＰａ]としたとき、（Ａ−Ｂ）／５０≧−６０[ＭＰａ／℃]なる関係を満足し、かつ、該絶縁シートの圧縮変形量が１０μｍ以下であり、前記圧縮変形量は、厚さ６０μｍの該絶縁シートに設けられた６０μｍ径のパッドに、温度２５０℃にて１２０ｇの加重をかけたときの前記パッドの沈み込み量により測定されたものであることを特徴とする絶縁シート。
（３）前記絶縁シートの２５０℃での弾性率が１００[ＭＰａ]以上である上記（２）に記載の絶縁シート。
（４）前記硬化性樹脂は、２以上の同種または異種の硬化性樹脂を含むものである上記（１）ないし（３）のいずれかに記載の絶縁シート。
（５）前記硬化性樹脂は、重量平均分子量が異なる２以上の硬化性樹脂を含むものである上記（１）ないし（４）のいずれかに記載の絶縁シート。
（６）前記硬化性樹脂は、シアネート樹脂を含むものである上記（１）ないし（５）のいずれかに記載の絶縁シート。
（７）前記無機充填材は、球状シリカである上記（１）ないし（６）のいずれかに記載の絶縁シート。
（８）前記無機充填材の含有量は、前記樹脂組成物全体の２０〜７０重量％である上記（１）ないし（７）のいずれかに記載の絶縁シート。
（９）上記（１）ないし（８）のいずれかに記載の絶縁シートと、金属箔とが積層されていることを特徴とする金属箔付き絶縁シート。
（１０）上記（１）ないし（８）のいずれかに記載の絶縁シートを用いることを特徴とする多層プリント配線板。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月2日(2010.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
器具の本体部に接続可能な可撓性ホース部と、前記器具とともに使用するためのツールに取付可能であるか又は該ツールを有する剛性ワンド部と、該剛性ワンド部に取り付けられたハンドグリップ部と、を備え、使用時に、前記剛性ワンド部が前記ハンドグリップ部により操作可能であり、前記可撓性ホース部は該可撓性ホース部が前記剛性ワンド部の長手軸線を中心として回動可能であるといった様式で前記剛性ワンド部と結合する湾曲した端部にて終端し、前記端部が前記ワンドの内部と連通している流出口を有し、前記端部が、前記剛性ワンド部の前記長手軸線を中心として回動するように、前記ハンドグリップ部にさらに接続されていることを特徴とする屋内電気器具用ホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項２】
前記端部が、前記端部の外側壁部に設けられている支持部によって前記ハンドグリップ部に接続されており、
前記支持部が、前記剛性ワンド部の前記長手軸線と交差する箇所において、前記ハンドグリップ部に回動可能に接続されていることを特徴とする請求項１に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項３】
前記可撓性ホース部が、制限された角距離で前記剛性ワンド部に対して回動可能であることを特徴とする請求項１又は２に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項４】
前記可撓性ホース部が、少なくとも６０°の角度で前記剛性ワンド部に対して回動可能であることを特徴とする請求項３に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項５】
前記可撓性ホース部が、実質的に９０°の角度で前記剛性ワンド部に対して回動可能であることを特徴とする請求項４に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項６】
前記端部が、前記剛性ワンド部の部分を構成するソケットにより受容されかつ係留保持される環状口を有することを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項７】
前記端部の外側壁部上の支持部が、前記剛性ワンド部の長手軸線と整列されていることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項８】
前記支持部がペグを受容するためのボアを有する支持突出部であり、前記ペグが前記ワンド部内の内壁部の孔を通過しかつ前記ボア内に受容されることを特徴とする請求項７に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項９】
前記ハンドグリップ部が、前記可撓性ホース部と前記剛性ワンド部との間のカップリングの付近に位置決めされたグリップ部を備えることを特徴とする請求項１乃至８の何れか１項に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項１０】
前記グリップ部が、剛性パイプ部から遠くにある前記カップリングの側に位置決めされていることを特徴とする請求項９に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項１１】
前記グリップ部が、前記可撓性ホース部が延在する側から遠くにある剛性パイプ部の長手軸線の側に位置決めされていることを特徴とする請求項９又は１０に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項１２】
前記可撓性ホース部が、さらに、前記剛性ワンド部の長手軸線とは一致しない第２軸線を中心として、前記剛性ワンド部に対して回動可能であることを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項１３】
前記第２軸線が、前記可撓性ホース部の長手軸線であることを特徴とする請求項１２に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項１４】
前記剛性ワンド部の長手軸線が、前記可撓性ホース部の長手軸線に対して、わずか１２０°の角度で傾斜していることを特徴とする請求項１乃至１３の何れか１項に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項１５】
前記剛性ワンド部の長手軸線と前記可撓性ホース部の長手軸線との間の傾斜角度が、実質的に１１５°であることを特徴とする請求項１４に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項１６】
前記屋内電気器具が電気掃除機を含むことを特徴とする請求項１乃至１５の何れか１項に記載のホース・ワンド・アセンブリ。
【請求項１７】
前記１乃至１６の何れか１項に記載のホース・ワンド・アセンブリを組み込んだ電気掃除機。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月14日(2010.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
奥行方向に所定幅を有する板状の外枠と、
前記外枠の前方にて当該外枠に対して開閉可能に装着され、当該外枠の内側にて当該外枠に対して略直交する所定幅の周縁部および当該周縁部のさらなる内側に開口部を有する前枠と、
前記前枠の開口部の開口幅よりも横幅が大きく且つ前記前枠の横幅よりも小さい板状の遊技盤と、
前記前枠の前記周縁部から後方に向けて前記外枠に対して略平行に形成された壁部を有し、前記遊技盤が前記壁部の内側にて装着される基枠と、
前記基枠の後方に配設される機構板と、
前記機構板に配設される球払出装置と、
を備え、
前記基枠は、
前記前枠の前記周縁部の後方にて前記外枠と前記基枠の前記壁部との間に形成されるスペースを利用して、前記球払出装置から送出される遊技球を所要位置まで誘導する球通路を、前記壁部とともに形成する通路壁を有し、
前記前枠後方に形成された空いたスペースを利用して前記球通路を形成することで、前記機構板の後面に付属装置の設置スペースを確保できるようにした
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記球通路は、遊技球を機外に排出する球抜き通路である
請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記基枠が前記前枠に固定されている
請求項１または２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
前記目的を達成するために、第１の発明に係る遊技機は、請求項１に記載のとおりの構成を要旨とする。したがって、基枠の後側に配設される機構板の後面に対し、球通路を突出して形成する必要がなくなる。この結果、機構板の後面に対し付属装置の設置スペースを容易に確保することがきる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
また、第２の発明に係る遊技機は、請求項２に記載のとおりの構成を要旨とする。したがって、球通路としての球抜き通路を、機構板の後面に突出して形成する必要がなく、極めて合理的に構成することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、第３の発明に係る遊技機は、請求項３に記載のとおりの構成を要旨とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月13日(2010.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域が形成された遊技盤と、
前記遊技領域を仕切るレールと、
前記遊技領域の前方に配置されたガラス板と、
前記遊技領域に設けられ、遊技球が入賞可能な入賞口と、
前記入賞口に入賞しなかった遊技球が集められ、前記レールに沿って形成されたアウト口と
を備え、前記遊技盤への取付性を向上させるべく前記レールが樹脂で形成された遊技機であって、
前記レールは、
樹脂で形成されているにもかかわらず、前記アウト口近傍において前記ガラス板越しに磁石が近づけられたときに、当該アウト口近傍の遊技球に対して当該レールに向けた吸引力を作用させるべく、少なくとも前記アウト口近傍において磁性を有しており、
前記ガラス板越しに磁石が近づけられたとしても、前記アウト口近傍の遊技球を前記入賞口に誘導するといった不正を未然に防止できるようにした
ことを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記レールは、
前記アウト口近傍において磁性金属製の帯板を有する
請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記磁性金属製の帯板は、クロム系ステンレスである
請求項２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
請求項１に記載の遊技機は、遊技領域が形成された遊技盤と、前記遊技領域を仕切るレールと、前記遊技領域の前方に配置されたガラス板と、前記遊技領域に設けられ、遊技球が入賞可能な入賞口と、前記入賞口に入賞しなかった遊技球が集められ、前記レールに沿って形成されたアウト口とを備え、前記遊技盤への取付性を向上させるべく前記レールが樹脂で形成された遊技機であって、前記レールは、樹脂で形成されているにもかかわらず、前記アウト口近傍において前記ガラス板越しに磁石が近づけられたときに、当該アウト口近傍の遊技球に対して当該レールに向けた吸引力を作用させるべく、少なくとも前記アウト口近傍において磁性を有しており、前記ガラス板越しに磁石が近づけられたとしても、前記アウト口近傍の遊技球を前記入賞口に誘導するといった不正を未然に防止できるようにしたことを要旨とする。
請求項２に記載の遊技機は、請求項１に記載の遊技機において、前記レールは、前記アウト口近傍において磁性金属製の帯板を有することを要旨とする。
請求項３に記載の遊技機は、請求項２に記載の遊技機において、前記磁性金属製の帯板は、クロム系ステンレスであることを要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
［第１発明］
前記課題を解決するための本発明（第１発明）による遊技機は、遊技盤と、この遊技盤の遊技領域に遊技球を案内する合成樹脂製の案内レールとを備えた遊技機において、
前記案内レールに沿って、または前記案内レールの一部もしくは全部を構成するように磁性体を設けることを特徴としている。
本発明（第１発明）の遊技機によれば、合成樹脂製の案内レールに沿って、または案内レールの一部もしくは全部を構成するように磁性体が設けられるため、案内レール上の遊技球に磁石を近づけると、その磁力が磁性体部分と遊技球とに作用する。このため、磁石で遊技球を誘導しようとしても、磁性体と遊技球とが磁力で引き合い、この磁力が遊技球の移動の邪魔をする。この結果、磁石による遊技球の誘導という不正操作を未然に防止することが可能になる。
また、本発明（第１発明）の遊技機は、案内レールが合成樹脂によって形成されるため、遊技盤への案内レールの取付性を良好にすることができ、また、装飾性も高めることができる。つまり、合成樹脂製の案内レールを採用するメリットをそのまま生かすことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月18日(2009.12.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に多結晶ナノワイヤーを形成する第１段階と、
前記多結晶ナノワイヤーを単結晶ナノワイヤーに変換する第２段階と、を含むことを特徴とするナノワイヤーの形成方法。
【請求項２】
前記第１段階は、
前記基板上に複数の多結晶ナノワイヤーを離隔して形成することを特徴とする請求項１に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項３】
前記第１段階は、
前記基板上にナノワイヤー形成層及び絶縁膜を順次に形成する段階と、
前記ナノワイヤー形成層及び絶縁膜を逆順にパターニングして前記ナノワイヤー形成層の側面を露出させる段階と、
前記ナノワイヤー形成層の露出された側面に選択的に多結晶ナノワイヤーを形成する段階と、
前記絶縁膜及びナノワイヤー形成層を除去する段階と、をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項４】
前記絶縁膜は、前記多結晶ナノワイヤー形成に使われるソースガスに対する反応率が前記ナノワイヤー形成層より低い物質からなることを特徴とする請求項３に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項５】
前記ナノワイヤー形成層は、シリコンナイトライド層からなることを特徴とする請求項３に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項６】
前記ソースガスは、ＩＶ族半導体元素を含む前駆体ガスであることを特徴とする請求項４に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項７】
前記多結晶ナノワイヤー形成段階は、
シリコンナノワイヤー、Ｇｅナノワイヤー及びＳｉＧｅナノワイヤーのうち、いずれか１つからなることを特徴とする請求項１に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項８】
前記多結晶ナノワイヤーは、超高真空化学気相蒸着装置において形成することを特徴とする請求項１に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項９】
前記第２段階は、前記多結晶ナノワイヤーにレーザーを照射する段階をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項１０】
前記絶縁膜及び前記ナノワイヤー形成層の除去段階は、
前記第２段階の実施後に行うことを特徴とする請求項３に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項１１】
前記複数の多結晶ナノワイヤーの一部の太さは残りの部分と異なることを特徴とする請求項２に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項１２】
前記多結晶ナノワイヤー形成段階は、
その形成過程に供給されるドーピングガスでドーピングされることを特徴とする請求項３に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項１３】
前記多結晶ナノワイヤーは、超高真空化学気相蒸着設備で形成することを特徴とする請求項３に記載のナノワイヤーの形成方法。
【請求項１４】
前記第２段階は、前記多結晶ナノワイヤーにレーザーを照射する段階をさらに含むことを特徴とする請求項３に記載のナノワイヤーの形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月24日(2009.11.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）式（１）で表されるエポキシ樹脂と、
（Ｂ）エポキシ当量が２２０以下であり、かつ分子中のエポキシ基の数が（Ａ）の２倍以上であるエポキシ樹脂と、
（Ｃ）光カチオン重合開始剤と、
を含み、
（Ａ）と（Ｂ）とを主成分とし、
（Ａ）と（Ｂ）との重量の総和に対し、（Ａ）の重量が４０％以上であり、かつ（Ｂ）の重量が３０％以上であるエポキシ樹脂組成物。
【化１】
2007186685.tif 000001
（式中Ｒは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基を表し、ｎは０以上４以下の整数、ｍは１以上３以下の整数を表す。）
【請求項２】
前記（Ｂ）が下記に示す一般式（２）で表されるエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のエポキシ樹脂組成物。
【化２】
2007186685.tif 000002
（式中Ｒαはｋ価の有機化合物残基であり、式中ｂ１，ｂ２，ｂｋ・・・・独立に１以上１００以下の整数で、その和が１００以下である。ｋは１以上１００以下の整数を表す。Ａは下記一般式（３）または（４）で表される。（ただし、Ｘはエポキシ基を表す。））
【化３】
2007186685.tif 000003
【請求項３】
前記（Ｂ）が下記に示す一般式（５）で表されるエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のエポキシ樹脂組成物。
【化４】
2007186685.tif 000004
（式中、Ｒβはエポキシ基を含む炭化水素化合物を表し、ｌは自然数である。）
【請求項４】
請求項１ないし３に記載のエポキシ樹脂組成物を光カチオン重合にて硬化した樹脂硬化物。
【請求項５】
前記カチオン重合開始剤が芳香族スルホニウム塩または芳香族ヨウドニウム塩であることを特徴とする請求項１ないし３に記載のエポキシ樹脂組成物。
【請求項６】
前記芳香族スルホニウム塩は下記式（６）で表される化合物であることを特徴とする請求項５に記載のエポキシ樹脂組成物。
【化５】
2007186685.tif 000005
【請求項７】
液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、液体を吐出するための吐出口と、該吐出口へ液体を供給するための流路と、を備える液体吐出ヘッドであって、
前記流路の壁を備える流路壁構成部材が、
（Ａ）式（１）で表されるエポキシ樹脂と、
（Ｂ）エポキシ当量が２２０以下であり、かつ分子中のエポキシ基の数が（Ａ）の２倍以上であるエポキシ樹脂と、
（Ｃ）光カチオン重合開始剤と、
を含み、
（Ａ）と（Ｂ）とを主成分とし、
（Ａ）と（Ｂ）との重量の総和に対し、（Ａ）の重量が４０％以上でありかつ、（Ｂ）の重量が３０％以上であるエポキシ樹脂組成物の硬化物である特徴とする液体吐出ヘッド。
【化６】
2007186685.tif 000006
（式中Ｒは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基を表し、ｎは０以上４以下の整数、ｍは１以上３以下の整数を表す。）
【請求項８】
前記（Ｂ）が下記に示す一般式（２）で表されるエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項７に記載の液体吐出ヘッド。
【化７】
2007186685.tif 000007
（式中Ｒαはｋ価の有機化合物残基であり、式中ｂ１，ｂ２，ｂｋ・・・・独立に１以上１００以下の整数で、その和が１００以下である。ｋは１以上１００以下の整数を表す。Ａは下記一般式（３）または（４）で表される。（ただし、Ｘはエポキシ基を表す。））
【化８】
2007186685.tif 000008
【請求項９】
前記（Ｂ）が下記に示す一般式（５）で表されるエポキシ樹脂であることを特徴とする請求項７に記載の液体吐出ヘッド。
【化９】
2007186685.tif 000009
（式中、Ｒβはエポキシ基を含む炭化水素化合物を表し、ｌは自然数である。）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、（Ａ）式（１）で表されるエポキシ樹脂と、（Ｂ）エポキシ当量が２２０以下であり、かつ分子中のエポキシ基の数が（Ａ）の２倍以上であるエポキシ樹脂と、（Ｃ）光カチオン重合開始剤と、を含み、（Ａ）と（Ｂ）とを主成分とし、（Ａ）と（Ｂ）との重量の総和に対し、（Ａ）の重量が４０％以上であり、かつ（Ｂ）の重量が３０％以上であるエポキシ樹脂組成物である。
【化１０】
2007186685.tif 000010
（式中Ｒは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基を表し、ｎは０以上４以下の整数、ｍは１以上３以下の整数を表す。）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明は、液体を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子と、液体を吐出するための吐出口と、該吐出口へ液体を供給するための流路と、を備える液体吐出ヘッドであって、前記流路の壁を備える流路壁構成部材が、（Ａ）式（１）で表されるエポキシ樹脂と、（Ｂ）エポキシ当量が２２０以下であり、かつ分子中のエポキシ基の数が（Ａ）の２倍以上であるエポキシ樹脂と、（Ｃ）光カチオン重合開始剤と、を含み、（Ａ）と（Ｂ）とを主成分とし、（Ａ）と（Ｂ）との重量の総和に対し、（Ａ）の重量が４０％以上でありかつ、（Ｂ）の重量が３０％以上であるエポキシ樹脂組成物の硬化物である特徴とする液体吐出ヘッドである。
【化１１】
2007186685.tif 000011
（式中Ｒは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基を表し、ｎは０以上４以下の整数、ｍは１以上３以下の整数を表す。）
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月4日(2009.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化１で示す一般式（Ｉ）の化合物またはその金属塩、アンモニウム塩若しくはアミン塩からなる顔料誘導体。
【化１】
2007186681.tif 000001
（式中、Ｑは芳香環を有する有機色素残基、Ａは、エチレン基、フェニレン基またはナフチレン基であって置換基を含むものであってもよく、Ｒは水酸基または−ＮＨ−Ａ−Ｚで示される基を表し、Ｚは−ＳＯ3Ｈまたは−ＣＯＯＨで示される基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。）
【請求項２】
有機色素残基Ｑが、フタロシアニン系色素残基、キナクリドン系色素残基、ジケトピロロピロール系色素残基、アントラキノン系色素残基およびアゾ系色素残基からなる群から選択されるものである請求項１記載の顔料誘導体。
【請求項３】
有機色素残基Ｑが、キナクリドン系色素残基である請求項２記載の顔料誘導体。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れかに記載の顔料誘導体を含有する水系または非水系顔料分散剤。
【請求項５】
請求項３記載の顔料誘導体を用いてキナクリドン系色素を分散してなる色材を含有する水性顔料分散体。
【請求項６】
請求項３記載の顔料誘導体を用いてキナクリドン系色素を分散してなる色材を含有することを特徴とする水性インク。
【請求項７】
界面活性剤をさらに含んでなることを特徴とする請求項６に記載の水性インク。
【請求項８】
グリコールエーテルをさらに含んでなることを特徴とする請求項６または７に記載の水性インク。
【請求項９】
１，２−アルキレングリコールをさらに含んでなることを特徴とする請求項６乃至８の何れかに記載の水性インク。
【請求項１０】
前記界面活性剤がアセチレングリコール系界面活性剤、アセチレンアルコール系界面活性剤およびシリコン系界面活性剤から選ばれた１種以上であることを特徴とする請求項７に記載の水性インク。
【請求項１１】
前記グリコールエーテルがアルキレングリコールモノアルキルエーテルである請求項８に記載の水性インク。
【請求項１２】
前記アルキレングリコールモノアルキルエーテルが繰り返し単位１０以下のアルキレングリコールであって、且つ炭素数５〜１１のアルキルエーテルであることを特徴とする請求項１１に記載の水性インク。
【請求項１３】
前記アルキレングリコールモノアルキルエーテルがジ（トリ）エチレングリコールモノブチルエ−テルおよび／または（ジ）プロピレングリコールモノブチルエーテルであることを特徴とする請求項１２に記載の水性インク。
【請求項１４】
前記１，２−アルキレングリコールが炭素数４以上１０以下の直鎖または分岐１，２−アルキレングリコールである請求項９に記載の水性インク。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月8日(2010.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリア箔、剥離層、極薄銅箔からなるキャリア付き極薄銅箔において、前記剥離層は剥離性を保持する金属Ａと、極薄銅箔のめっきを容易にする金属Ｂとからなり、前記剥離層を構成する金属Ａの含有量ａと金属Ｂの含有量ｂとが
（ａ／ａ＋ｂ）＊１００=１０〜７０
の比率であることを特徴とするキャリア付き極薄銅箔。
【請求項２】
キャリア箔、剥離層、低融点金属からなる酸化防止層、極薄銅箔からなるキャリア付き極薄銅箔において、前記剥離層は剥離性を保持する金属Ａと、極薄銅箔のめっきを容易にする金属Ｂとからなり、前記剥離層を構成する金属Ａの含有量ａと金属Ｂの含有量ｂとが
（ａ／ａ＋ｂ）＊１００=１０〜７０
の比率であることを特徴とするキャリア付き極薄銅箔。
【請求項３】
キャリア箔、剥離層、極薄銅箔からなるキャリア付き極薄銅箔において、前記剥離層は剥離性を保持する金属Ａと、極薄銅箔のめっきを容易にする金属Ｂとの組成比が異なる２層からなり、キャリア箔側の剥離層を構成する金属Ａの含有量ｃ、金属Ｂの含有量ｄ、
極薄銅箔側の剥離層を構成する金属Ａの含有量ｅ、金属Ｂの含有量ｆとしたとき
｜（ｃ／ｃ＋ｄ）−（ｅ／ｅ＋ｆ）｜＊１００≧３
の比率であることを特徴とするキャリア付き極薄銅箔。
【請求項４】
キャリア箔、剥離層、低融点金属からなる酸化防止層、極薄銅箔からなるキャリア付き極薄銅箔において、前記剥離層は剥離性を保持する金属Ａと、極薄銅箔のめっきを容易にする金属Ｂとの組成比が異なる２層からなり、キャリア箔側の剥離層を構成する金属Ａの含有量ｃ、金属Ｂの含有量ｄ、
極薄銅箔側の剥離層を構成する金属Ａの含有量ｅ、金属Ｂの含有量ｆとしたとき
｜（ｃ／ｃ＋ｄ）−（ｅ／ｅ＋ｆ）｜＊１００≧３
の比率であることを特徴とするキャリア付き極薄銅箔。
【請求項５】
前記剥離層を構成する金属ＡはＭｏ，Ｔａ，Ｖ，Ｍｎ，Ｗ，Ｃｒの群からなり、金属ＢはＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｒの群からなる請求項１〜４のいずれかに記載のキャリア付き極薄銅箔。
【請求項６】
前記剥離層の付着量は、合計（Total）金属付着量が０．０５ｍｇ／ｄｍ２〜５０ｍｇ／ｄｍ２であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のキャリア付き極薄銅箔。
【請求項７】
前記酸化防止層を形成する低融点金属は、単体で融点が４５０℃以下である金属かまたはその合金である請求項２又は４に記載のキャリア付き極薄銅箔。
【請求項８】
前記酸化防止層を形成する低融点金属は、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｉｎ、またはＺｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｉｎの内の１種を主成分とする合金である請求項２又は４に記載のキャリア付き極薄銅箔。
【請求項９】
請求項１〜７の何れかに記載のキャリア付き極薄銅箔の、極薄銅箔を樹脂基板に積層してなる高密度極微細配線用途のプリント配線基板。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月24日(2010.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（ａ）で表される眼用レンズ用モノマー、Ｎ，Ｎジメチルアクリルアミドおよび１分子中に２個以上の共重合可能な炭素炭素不飽和結合を有するモノマーを共重合して得られ、該一般式（ａ）表される眼用レンズ用モノマーの共重合比率が６０重量％〜９５重量％であり、該１分子中に２個以上の共重合可能な炭素炭素不飽和結合を有するモノマーの共重合比率が０．１重量％以上である眼用レンズ用ポリマーを用いてなる眼用レンズ。
【化１】
2007186709.tif 000001
［Ｒ２〜Ｒ４はそれぞれ独立にＨ、置換されていてもよいアルキル基および置換されていてもよいアリール基から選ばれた置換基を表す。ｋは０〜２０の整数を表す。］
【請求項２】
一般式（ａ）において、Ｒ２〜Ｒ４がそれぞれメチル基を表し、ｋが０または１を表すことを特徴とする請求項１に記載の眼用レンズ。
【請求項３】
コンタクトレンズであることを特徴とする請求項１または２に記載の眼用レンズ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月16日(2010.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートであって、
光硬化性組成物が、ガラス転移温度が８０℃以上のポリマー、光重合性官能基を有する反応性希釈剤、さらにジイソシアネートを含み、該ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーが、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂であり、且つ該組成物の周波数１００Ｈｚにおける貯蔵弾性率が、２５℃において１×１０6Ｐａ以下であることを特徴とする光硬化性転写シート。
【請求項２】
周波数１００Ｈｚにおける貯蔵弾性率が、２５℃において１×１０4〜１×１０6Ｐａの範囲である請求項１に記載の光硬化性転写シート。
【請求項３】
光硬化性転写層の３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線照射後のガラス転移温度が６５℃以上である請求項１又は２に記載の光硬化性転写シート。
【請求項４】
光硬化性組成物のガラス転移温度が２０℃未満である請求項１又は２に記載の光硬化性転写シート。
【請求項５】
アクリル樹脂が、メチルメタクリレートの繰り返し単位を少なくとも５０質量％含むアクリル樹脂である請求項１〜４のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項６】
アクリル樹脂が、メチルメタクリレートと、アルコール残基が炭素原子数２〜１０個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種と、アルコール残基がヒドロキシルキを有する炭素原子数２〜４個のアルキルの（メタ）アクリル酸エステルの少なくとも１種との共重合体である請求項１〜５のいずれかにに記載の光硬化性転写シート。
【請求項７】
アクリル樹脂の数平均分子量が１０００００以上である請求項１〜６のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項８】
アクリル樹脂の重量平均分子量が１０００００以上である請求項１〜７のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項９】
光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１０質量％含む請求項１〜８のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項１０】
３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である請求項１〜９のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項１１】
３８０〜８００ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である請求項１〜１０のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項１２】
光硬化性転写層の厚さが５〜３００μｍである請求項１〜１１のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項１３】
光硬化性転写層の一方又は両方の表面に、剥離シートが設けられている請求項１〜１２のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項１４】
光硬化性転写シートが長尺状であり、かつ光硬化性転写層と剥離シートの幅が略同一である請求項１３に記載の光硬化性転写シート。
【請求項１５】
下記の工程（２）〜（４）：
（２）請求項１３又は１４に記載の光硬化性転写シートが両面に剥離シートを有する場合、その一方の剥離シートを除去する工程；
（３）表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらに該凹凸表面の凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に、該光硬化性転写シートの光硬化性転写層の表面が該反射層の凹凸表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該反射層の凹凸表面に沿って密着された積層体を形成する工程；及び
（４）該積層体からもう一方の剥離シートを除去する工程、
を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１６】
前記工程（２）の前に、
（１）光硬化性転写シートを円盤状に打ち抜く工程；又は
（１）光硬化性転写シートの光硬化性転写層と一方の剥離シートを円盤状に打ち抜き、もう一方の剥離シートをそのまま残す工程；
を行う請求項１５に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１７】
前記工程（４）を行った後、さらに
（５）該積層体の剥離シートが除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパの該凹凸表面を裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着した積層体を形成する工程；
（６）該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に凹凸を設ける工程；
を含む請求項１５又は１６に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１８】
前記（６）の紫外線照射を少なくとも３００ｍＪ／ｃｍ2の照射エネルギーで行う請求項１７に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１９】
前記（６）で得られる光硬化性転写層のガラス転移温度が６５℃以上である請求項１７又は１８に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２０】
前記（５）〜（６）の工程を行った後、さらに
（７）光硬化性転写層の凹凸表面に反射層を設ける工程；
を含む請求項１７〜１９のいずれかに記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２１】
請求項１５〜２０のいずれかに記載の製造方法により得られる光情報記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記目的は、
加圧により変形可能な光硬化性組成物からなる光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートであって、
光硬化性組成物が、ガラス転移温度が８０℃以上のポリマー、光重合性官能基を有する反応性希釈剤、さらにジイソシアネートを含み、該ガラス転移温度が８０℃以上のポリマーが、ヒドロキシル基を有するアクリル樹脂であり、且つ該組成物の周波数１００Ｈｚにおける貯蔵弾性率が、２５℃において１×１０6Ｐａ以下であることを特徴とする光硬化性転写シートによって達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月17日(2010.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
内側ケーシング（１５）と、外側ケーシング（１７）とを備え、これらが当該流体機械の軸中心線回りに回転する回転軸（１２）を同心状に包囲して成る流体機械であって、前記外側ケーシング（１７）が前記内側ケーシング（１５）をその径方向に一定の間隔（ｄ）を保って包囲するとともに、少なくとも前記内側ケーシング（１５）が所定の分割面（２２）で上下２つに均等に分割され、これら分割された二部分が互いにその左右両側においてフランジ（１８）を介して着脱自在に結合され、又、これら二部分が前記フランジ（１８）間に肉厚部（２０）を備えた前記流体機械において、
前記外側ケーシング（１７）を、これと前記内側ケーシング（１５）の間隔（ｄ）が前記フランジ（１８，１９）部の範囲外で一定に維持されるよう、前記内側ケーシング（１５）に形成された前記肉厚部（２０）に合わせて形成したことを特徴とする流体機械。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記変形部（２１）における前記外側ケーシング（１７）の厚さを一定に形成したことを特徴とする請求項２記載の流体機械。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月15日(2010.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
図３Ｂは、対向するバニシング要素１４及び１４’によって翼形部２２の正圧側面３８及び負圧側面４０の両方に施されている先行技術によるバニシング処理を示している。このケースでは、ｆ及びｆ’で示す垂直方向の付加圧力は、それぞれ正圧側面３８及び負圧側面４０の表面から測定した深さｄ及びｄ’を有する残留圧縮応力領域５０及び５２を生じるように選択され、これらの深さｄ及びｄ’は、測定点における翼形部２２の全体厚さの一部分として表される。深さｄ及びｄ’は一般的に、後縁３２近くで貫通厚さの残留圧縮応力を生じるように選択される。しかしながら、図示するように、深さｄ及びｄ’は、バニシング要素１４及び１４’が後縁３２から遠い翼形部２２のより厚い部分を横切る時に実質的に減少することになる。その結果、領域５０及び５２の内部境界面５４及び５６は、翼形部２２の中央平面Ｍと平行ではないことになる。圧力ｆ及びｆ’が、後縁３２近くで貫通厚さの残留圧縮応力を生成するのに丁度十分な大きさである場合、このことは、翼形部２２のより厚い部分において、残留引張応力の内部領域５８を生じさせる。処理区域の最も厚い部分においてさえも、領域５０及び５２が合わさって貫通厚さの残留圧縮応力を生成するように、圧力ｆ及びｆ’を選択することが可能である。しかしながら、このことは、領域５０及び５２の重なり故に、後縁３２近くに過度な圧縮応力レベルを生じることになる。このことはまた、翼形部２２を損傷させ、望ましくない変形を生じさせるおそれがある。
【特許文献１】米国特許第６６７２８３８号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月17日(2010.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
負極活物質として炭素材料と共に化１で表されるリチウム含有化合物を含む負極活物質層を有し、
前記リチウム含有化合物の平均粒子径が１μｍ以下である負極。
（化１）
Ｌｉ3-a Ｍa Ｎ
（Ｍは、１種以上の遷移金属元素である。ａは、０＜ａ≦０．８を満たす数値である。）
【請求項２】
前記負極活物質層は、ポリフッ化ビニリデンを含む請求項１記載の負極。
【請求項３】
前記炭素材料は、Ｘ線回折におけるＣ軸方向の格子面間隔ｄ002 が０．３３５０ｎｍ以上０．３３６３ｎｍ以下である黒鉛を含む請求項１記載の負極。
【請求項４】
前記負極活物質における前記リチウム含有化合物の含有率は、２５質量％以下である請求項１記載の負極。
【請求項５】
正極および負極と共に電解液を備えた二次電池であって、
前記負極は、負極活物質として炭素材料と共に化１で表されるリチウム含有化合物を含む負極活物質層を有し、
前記リチウム含有化合物の平均粒子径が１μｍ以下である二次電池。
（化１）
Ｌｉ3-a Ｍa Ｎ
（Ｍは、１種以上の遷移金属元素である。ａは、０＜ａ≦０．８を満たす数値である。）
【請求項６】
前記負極活物質層は、ポリフッ化ビニリデンを含む請求項５記載の二次電池。
【請求項７】
前記炭素材料は、Ｘ線回折におけるＣ軸方向の格子面間隔ｄ002 が０．３３５０ｎｍ以上０．３３６３ｎｍ以下である黒鉛を含む請求項５記載の二次電池。
【請求項８】
前記負極活物質における前記リチウム含有化合物の含有率は、２５質量％以下である請求項５記載の二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
（第１の二次電池）
図１は、本発明の一実施の形態に係る第１の二次電池の断面構造を表すものである。この二次電池は、負極の容量が電極反応物質であるリチウムの吸蔵および放出に基づいて表されるリチウムイオン二次電池である。また、この二次電池は、いわゆる円筒型といわれるものであり、ほぼ中空円柱状の電池缶１１の内部に、帯状の正極２１と負極２２とがセパレータ２３を介して巻回された巻回電極体２０を有している。電池缶１１は、例えばニッケル（Ｎｉ）のめっきがされた鉄（Ｆｅ）により構成されており、一端部が閉鎖され他端部が開放されている。電池缶１１の内部には、巻回電極体２０を挟むように巻回周面に対して垂直に一対の絶縁板１２，１３がそれぞれ配置されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
正極５１は、正極集電体５１Ａの一面に正極活物質層５１Ｂが設けられたものである。負極５２は、負極集電体５２Ａの一面に負極活物質層５２Ｂが設けられたものである。正極集電体５１Ａ、正極活物質層５１Ｂ、負極集電体５２Ａ、負極活物質層５２Ｂおよびセパレータ５３の構成は、それぞれ上記した第１の電池における正極集電体２１Ａ、正極活物質層２１Ｂ、負極集電体２２Ａ、負極活物質層２２Ｂおよびセパレータ２３の構成と同様である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
この二次電池では、上記した第１の二次電池の同様に、正極５１と負極５２との間でリチウムイオンが吸蔵および放出される。すなわち、充電を行うと、例えば、正極５１からリチウムイオンが放出され、電解液を介して負極５２に吸蔵される。一方、放電を行うと、負極５２からリチウムイオンが放出され、電解液を介して正極５１に吸蔵される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
このコイン型の二次電池およびその製造方法による作用および効果は、上記した第１の二次電池と同様である。