(57)【要約】  光学テープなどの光学媒体は、基板と、基板の一方側のプリフォーマット層と、裏面コーティングとを含む。裏面コーティングは、光透過性および導電性を有する。基板およびプリフォーマット層のうちの一方は、裏面コーティングと基板およびプリフォーマット層のうちの他方との間にある。
2015509256.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学媒体であって、
基板と、
前記基板の一方側のプリフォーマット層と、
裏面コーティングとを備え、前記裏面コーティングは光透過性および導電性を有し、
前記基板および前記プリフォーマット層のうちの一方は、前記裏面コーティングと前記基板および前記プリフォーマット層のうちの他方との間にある、光学媒体。
【請求項２】
前記裏コートコーティングは、少なくとも紫外線範囲において光透過性を有する、請求項１に記載の光学媒体。
【請求項３】
前記裏コートコーティングは、光透過性および導電性を有する酸化物を含む、請求項１に記載の光学媒体。
【請求項４】
前記酸化物は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープスズ酸化物（ＦＴＯ）、およびドープ酸化亜鉛のうち少なくとも１つを含む、請求項３に記載の光学媒体。
【請求項５】
前記裏面コーティングは金属化膜を含む、請求項１に記載の光学媒体。 
【請求項６】
前記裏面コーティングは、前記基板の反対側にある、請求項１に記載の光学媒体。
【請求項７】
前記プリフォーマット層上に記録層をさらに備える、請求項６に記載の光学媒体。
【請求項８】
前記裏面コーティングは、前記基板の同じ側において前記プリフォーマット層から離して位置決めされる、請求項１に記載の光学媒体。
【請求項９】
記録層をさらに備え、前記記録層は前記裏面コーティング上において前記裏面コーティングと前記プリフォーマット層との間にある、請求項８に記載の光学媒体。
【請求項１０】
前記光学媒体は光学テープである、請求項１に記載の光学媒体。
【請求項１１】
光学媒体を生成するための方法であって、前記方法は、
基板の一方側に裏面コーティングを堆積させるステップを備え、前記裏面コーティングは光透過性および導電性を有し、前記方法はさらに、
ポリマー層を前記基板の反対側に堆積させるステップと、
突出部を有するドラムを用いて前記ポリマー層にエンボスでエンボス加工するステップと、
前記ポリマー層を前記ドラムから除去する前に前記ポリマー層のエンボス加工面を硬化させるステップとを備える、方法。
【請求項１２】
前記裏コートコーティングは、少なくとも紫外線範囲において光透過性を有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ポリマー層の前記エンボス加工面は、前記ドラムの外側に設置された源から前記ドラムに向けて紫外線照射を行うことによって硬化され、前記紫外線照射は、最初は前記裏面コーティングに当たり、次に前記基板にあたり、次に前記ポリマー層に当たる、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記ポリマー層が前記ドラムから除去された後に前記ポリマー層の前記エンボス面上に記録層を堆積させるステップをさらに備える、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記裏面コーティングは、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープスズ酸化物（ＦＴＯ）、およびドープ酸化亜鉛のうちの少なくとも１つを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
光学媒体を生成するためのシステムであって、前記システムは、
裏面コーティングを基板の一方側に堆積させるように構成された裏面コーティングステージを備え、前記裏面コーティングは光透過性および導電性を有し、前記システムはさらに、
前記基板の反対側にポリマー層を堆積させるように構成されたエンボス加工モノマーコーティングステージと、
前記ポリマー層をエンボスでエンボス加工するように構成された突出部を有するドラムを含むエンボス加工アセンブリと、
前記ポリマー層を前記ドラムから除去する前に紫外線照射によって前記ポリマー層の前記エンボス加工面を照明するように構成された照明源を有する硬化アセンブリとを備える、システム。
【請求項１７】
前記裏コートコーティングは、少なくとも紫外線範囲において光透過性を有する、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記照明源は、前記紫外線照射が最初は前記裏面コーティングに当たり、次に前記基板に当たり、次に前記ポリマー層に当たるように前記ドラムの外側に設置される、請求項１６に記載のシステム。 
【請求項１９】
前記ポリマー層が前記ドラムから除去された後に記録層を前記ポリマー層の前記エンボス加工面に堆積させるように構成された記録層コーティングステージをさらに備える、請求項１６に記載のシステム。
【請求項２０】
前記裏面コーティングは、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープスズ酸化物（ＦＴＯ）、およびドープ酸化亜鉛のうちの少なくとも１つを含む、請求項１６に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学テープのための裏面コーティング、および裏面コーティングを有する光学テープを製造するための方法およびシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
背景
光学テープは、データ記憶のための媒体である。光学テープは、巻き取り性を向上させて静電荷を防止するために薄い裏面コーティングを含み得る。典型的な裏面コーティングは、（ｉ）導電性を有し、（ｉｉ）紫外線（ＵＶ）放射の吸収性または反射性が強い材料から形成される。
【０００３】
ランド、溝、およびウォブルパターンなどのナノ構造特性を有するインプリントを用いて光学テープをパターニングまたはプリフォーマットするためにロール・ツー・ロールナノプリントリソグラフィシステムが使用される。プリフォーマット作業には、ＵＶ放射を用いて光学テープの光重合可能材料を硬化させることが含まれる。結果として、ＵＶ放射に対する吸収性または反射性を有する裏面コーティングは、ロール・ツー・ロールの処理スループットの比較的大きな減少を引き起こし得る。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
概要
本発明の実施形態は、光透過性および導電性を有する裏面コーティングを含む光学テープなどの光学媒体を対象とする。本発明の実施形態に従う裏面コーティングは、少なくとも紫外線（ＵＶ）放射範囲において光透過性を有することから、ＵＶ放射に対する吸収性および反射性を有する典型的な裏面コーティングとは異なる。本発明の実施形態に従う裏面コーティングはＵＶ透過性および導電性を有することから、ロール・ツー・ロールインプリント処理スループットを犠牲にすることなく望ましい巻線性および静電荷除去特性を実現することができる。
【０００５】
本発明の実施形態に従う光学テープなどの光学媒体のための裏面コーティングは、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープスズ酸化物（ＦＴＯ）、およびドープ酸化亜鉛を含む、光透過性および導電性を有する酸化物から形成され得る。代替的または付加的に、本発明の実施形態に従う光学テープなどの光学媒体のための裏面コーティングは、導電性ポリマー、カーボンナノチューブ、グラフェン、および金属格子構造を有する膜、ならびに他の有機膜および他の金属格子膜を含む光透過性および導電性材料から形成され得る。このような酸化物および材料は、本発明の実施形態に従う光学テープの裏面コーティングのために使用され得て、これによって裏面コーティングがＵＶ透過性および導電性を有するという特性が得られる。
【０００６】
本発明の目的は、少なくともＵＶ放射範囲において透過性を有し、導電性を有する裏面コーティングを含む光学テープなどの光学媒体を含む。
【０００７】
本発明の他の目的は、少なくともＵＶ放射範囲において透過性を有し、導電性を有する裏面コーティングを含む光学テープなどの光学媒体を製造するための方法およびシステムを含む。
【０００８】
上記の目的および他の目的のうちの１つ以上を実施する際において、本発明の実施形態は、基板と、基板の一方側のプリフォーマット層と、裏面コーティングとを有する光学媒体を提供する。裏面コーティングは光透過性および導電性を有する。基板およびプリフォーマット層うちの一方は、裏面コーティングと基板およびプリフォーマット層のうちの他方との間にある。
【０００９】
実施形態において、裏コートコーティングは、少なくとも紫外線範囲において光透過性を有する。裏コートコーティングは、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープスズ酸化物（ＦＴＯ）、およびドープ酸化亜鉛などの光透過性および導電性を有する酸化物を含み得る。裏面コーティングは、導電性ポリマー、カーボンナノチューブ、グラフェン、および金属格子構造を有する膜のうち少なくとも１つを含み得る。実施形態において、裏面コーティングは基板の反対側にあり、記録層はプリフォーマット層上にあり得る。他の実施形態において、裏面コーティングは基板の同じ側においてプリフォーマット層から離して位置決めされる。この実施形態において、記録層は、裏面コーティング上において裏面コーティングとプリフォーマット層との間にあり得る。
【００１０】
さらに、上記の目的および他の目的のうち１つ以上を実施する際において、本発明の実施形態は、光学テープなどの光学媒体を生成するための方法を提供する。方法は、光透過性および導電性を有する裏面コーティングを基板の一方側に堆積させるステップを含む。方法はさらに、ポリマー層を基板の反対側に堆積させるステップを含む。方法はさらに、突出部を有するドラムを用いてポリマー層にエンボスでエンボス加工するステップと、ポリマー層をドラムから除去する前にポリマー層のエンボス加工面を硬化させるステップとを含む。
【００１１】
また、上記の目的および他の目的のうち１つ以上を実施するに際において、本発明は、光学テープなどの光学媒体を生成するためのシステムを提供する。システムは、裏面コーティングステージと、エンボス加工モノマーコーティングステージと、エンボス加工アセンブリと、硬化アセンブリとを含む。裏面コーティングステージは、光透過性および導電性を有する裏面コーティングを基板の一方側に堆積させるように構成される。エンボス加工モノマーコーティングステージは、基板の反対側にポリマー層を堆積させるように構成される。エンボス加工アセンブリは、ポリマー層をエンボスでエンボス加工するように構成された突出部を有するドラムを含む。硬化アセンブリは、ポリマー層をドラムから除去する前に紫外線照射によってポリマー層のエンボス加工面を照明するように構成された照明源を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態に従う光学テープを示す断面図である。
【図２】光学テープを製造するための光学テープ生成システムを示すブロック図である。
【図３Ａ】エンボス加工／硬化ステージが光学テープにおける情報担持構造をエンボス加工またはプリフォーマットするロール・ツー・ロールシステムのエンボス加工／硬化ステージの側面図である。
【図３Ｂ】ロール・ツー・ロールシステムのエンボス加工／硬化ステージに入る直前の光学テープを示す断面図である。
【図３Ｃ】ロール・ツー・ロールシステムのエンボス加工／硬化ステージから出た直後の光学テープを示す断面図である。
【図４Ａ】本発明の実施形態に従う第１の表面入射（空気入射）ＷＯＲＭ媒体層の組成を有する光学テープを示す断面ブロック図である。
【図４Ｂ】本発明の実施形態に従う第１の表面入射（空気入射）書き換え可能媒体層の組成を有する光学テープを示す断面ブロック図である。
【図４Ｃ】本発明の実施形態に従う第２の入射（基板入射）ＷＯＲＭ媒体層の組成を有する光学テープを示す断面ブロック図である。
【図４Ｄ】本発明の実施形態に従う第２の入射（基板入射）書き換え可能媒体層の組成を有する光学テープを示す断面ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
詳細な説明
本発明の詳細な実施形態がここに開示される。しかしながら、開示される実施形態は様々な代替的な形態で具現化され得る本発明を単に例示したものであることが理解される。図面は必ずしも縮尺どおりではない。一部の特徴は、特定の構成部品の詳細を示すために強調または最小化され得る。このため、ここに開示される具体的な構造的および機能的詳細は、限定として解釈されず、当業者が本発明を様々な方法で採用するための代表的な基礎部分として単に示すものとして解釈される。
【００１４】
図１を参照すると、本発明の実施形態に従う光学テープ１０の断面図が示される。光学テープ１０は、互いの上に積まれる複数の層または膜を含む。層は、オーバーコート１２と、記録層１４と、ポリマー層１６と、基板（すなわち、キャリア層または基膜）１８と、裏面コーティング２０とを含む。
【００１５】
オーバーコート１２は、光学テープ１０の残りの下層を物理的損傷から保護する。オーバーコート１２は、反射防止特性（たとえば、低い屈折率）を含み得て、これによって光学ヘッドからのレーザー光が光学テープ１０内の層から不必要に反射することを防止し、レーザー光がより効率的にオーバーコート１２を透過することができる。オーバーコート１２は、スパッタ法によって付与され得る。
【００１６】
記録層１４は、光学テープ１０に対するユーザデータの読み取りまたは書き込みを可能とする。記録層１４は、光学ヘッドから出されるレーザーまたは他の放射への露出に応答して１つ以上の物理特性を変化させる材料の分類に属する。材料は、相変化および色素ポリマー媒体を含む。たとえば、記録層１４は、誘電層と、これに続く相変化層と、これに続く他の誘電層と、これに続く反射層とを含む複数の層または膜を含む。相変化層は、レーザー照射に対して敏感であり、これによって、レーザー光の熱が十分に加えられると相変化層はアモフファス相から結晶相に変化する。ひとたび変化すると、材料の組成は、アモルファス状態に戻ることが防止される。反射層は、銀、アルミニウム、またはアンチモンなどの金属材料からなり、相変化層を通過するレーザー光を反射する。反射層はさらに、上方からの光を弱め、下方からの光を反射し、これによって上方および下方からの光を弱め、わずかな反射レーザー光に雑音をもたらし得るレーザー光の通過および混合を阻止する。
【００１７】
ポリマー層１６は、ピット、ランド、溝、ウォブルパターンなどの情報担持構造でエンボス加工またはプリフォーマットされる。このような構造は、ポリマー層１６の表面に組み込まれる物理特性である。位置ならびに追跡、エラー修正、集束、および他の情報は、表面特性が光学ヘッドによって読み取られることにより、表面特性によって提供または向上される。表面特性は製造時に光学テープ１０に組み込まれ、この処理は一般に物理的なプリフォーマットと言われる。以下により詳細に記載されるように、ポリマー層１６は、ポリマー層１６が情報担持構造（たとえば、ランドおよび溝特性）でエンボス加工されて同時に硬化されるドラムエンボス加工および紫外線（ＵＶ）硬化装置によってモノマー流体から形成され得る。硬化時において、ポリマー層１６は流体モノマーから個体ポリマーに変換され、基板１８に対して恒久的に取り付けられ得る。ポリマー層１６は、タイコート／接着促進剤１７によって基板１８に取り付けられる。
【００１８】
基板１８はポリマー層１６の下に位置決めされ、機械的支持を提供する。基板１８は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）やポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの高性能熱可塑性ポリエステル膜、またはデータ記憶光学媒体製品のための適切な機械的、熱的、および吸湿特性を有する同様の材料から作成され得る。
【００１９】
裏面コーティング２０は、ポリマー層１６の反対側の基板１８の裏面に取り付けられる。裏面コーティング２０は、第２のタイコート／接着促進剤１９によって基板１８に取り付けられる。裏面コーティング２０は導電性を有し、静電荷の構築を最小化する。裏面コーティング２０は、テープサブシステム動作時に生成される封入空気を放出する導路として作用する粗い表面を有し得る。裏面コーティング２０は、摩擦および／または表面制御、熱伝導性、および静電気の分散をもたらす単一または複数の層を含み得る。
【００２０】
加えて、上に示されるように、裏面コーティング２０は少なくとも紫外線（ＵＶ）放射範囲において光透過性を有する。裏面コーティング２０は、たとえば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープスズ酸化物（ＦＴＯ）、およびドープ酸化亜鉛、導電性ポリマー、カーボンナノチューブ、グラフェン、および金属格子構造を有する有機膜などの光透過性および導電性材料から形成される。要するに、裏面コーティング２０は、ＵＶ透過性および導電性を有する。
【００２１】
図２を参照すると、本発明の実施形態に従う光学テープ１０を製造するための光学テープ生成システム３０のブロック図が示される。システム３０は、光学テープ１０などのプリフォーマットされた光学テープを生成するためのロール・ツー・ロールナノプリントリソグラフィ処理（図２のステージ４０および４２）を含む。システム３０は、複数のステージと、異なるステージを通って光学テープ１０を移動させるためのテープ輸送機構３２とを含む。テープ輸送機構３２は、供給リール３４と巻き取りリール３６とを含む。システム３０のステージは、リール３４および３６の間にある。供給リール３４は、初期形態の光学テープを解いて送り出す。初期形態において、光学テープ１０は基板１８のみを含む。巻き取りリール３６は、光学テープ１０がシステム３０のステージによって処理された後に最終形態の光学テープ１０を巻いて束ねる。最終形態において、光学テープ１０は、オーバーコート１２と、記録層１４と、ポリマー層１６と、基板１８と、裏面コーティング２０とを含む。
【００２２】
供給リール３４から巻き取りリール３６へ順に始まるシステム３０のステージは、裏面コーティングステージ３８と、エンボス加工モノマーコーティングステージ４０と、エンボス加工アセンブリ４４および硬化アセンブリ４６を有するエンボス加工／硬化ステージ４２と、他の化学コーティング／スパッタリングステージ４８と、引張センサステージ５０と、テープスプリッタステージ５２とを含む。裏面コーティングステージ３８は、初期形態で供給リール３４から送り出される光学テープ１０の基板１８の裏面に対して裏面コーティング２０をコーティングする。エンボス加工モノマーコーティングステージ４０は、裏面コーティング２０の反対の基板１８の他方側にポリマー層１６をコーティングする。より特定的には、エンボス加工モノマーコーティングステージ４０は、裏面コーティング２０の反対の基板１８の他方側にモノマーを送り出し、このモノマーがポリマー層１６となる。この時点で、光学テープ１０は、処理が施されていない形態（モノマー）のポリマー層１６と、基板１８と、裏面コーティング２０とを含む（図３Ｂを参照）。光学テープ１０は、次にエンボス加工／硬化ステージ４２に導入される。エンボス加工／硬化ステージ４２は、情報担持構造でポリマー層１６にインプリント（すなわち、エンボス加工）し、エンボス加工されたポリマー層１６を硬化させる。この時点で、光学テープ１０は、エンボス加工またはプリフォーマットされた形態のポリマー層１６と、基板１８と、裏面コーティング２０とを含む（図３Ｃを参照）。次に、他のコーティング／スパッタリングステージ４８が記録層１４をプリフォーマットポリマー層１６に対してコーティングし、オーバーコート１２を記録層１４にコーティングする。これにより、この時点で光学テープ１０は、オーバーコート１２と、記録層１４と、プリフォーマットポリマー層１６と、基板１８と、裏面コーティング２０とを含む（図１を参照）。引張センサステージ５０は、光学テープ１０の引張を感知する。引張センサステージ５０は、テープ輸送システム３２と通信し、光学テープ１０の引張についての情報を提供する。テープスリッタステージ５２は、光学テープ１０を切る。
【００２３】
続いて図２を参照しながら図３Ａを参照すると、ロール・ツー・ロール システム３０のエンボス加工／硬化ステージ４２の側面図が示される。上に示されるように、エンボス加工／硬化ステージ４２は、光学テープ１０のポリマー層１６に情報担持構造をエンボス加工またはプリフォーマットする。光学テープ１０は、ロール・ツー・ロール システム ３０のエンボス加工モノマーコーティングステージ４０からエンボス加工／硬化ステージ４２に導入される。エンボス加工／硬化ステージ４２に導入される光学テープ１０は、純粋にエンボス加工されていない形態（すなわち、モノマーとして）のポリマー層１６と、基板１８と、裏面コーティング２０とを含む。図３Ｂは、エンボス加工／硬化ステージ４２に入る直前の光学テープ１０を示す断面図である。
【００２４】
エンボス加工アセンブリ４４は、ドラム５４を含む。ドラム５４は、回転軸５６を中心に回転するように搭載される。ドラム５４は、光学テープ１０がドラム５４に巻きつけられるにつれてポリマー層１６の表面に光学的に読み取り可能なエンボスのプリフォーマットパターンをエンボス加工するための突出部の所定のパターンを有する外周面５８を含む。光学テープ１０は、ポリマー層１６がドラム５４に面するようにエンボス加工／硬化ステージ４２に入る。光学テープ１０がエンボス加工／硬化ステージ４２に入るにつれ、ポリマー層１６がドラム５４の外表面５８に対して直接的に加圧されて係合する状態で、バッキングロールが光学テープ１０をドラム５４に押し付ける。光学テープ１０は、ドラム５４が回転することによってドラム５４と共に回転し、ドラムの外表面５８の突出部がポリマー層１６に情報担持構造を作る。
【００２５】
ポリマー層１６がドラムの外表面５８と係合する一方で、硬化アセンブリ４６は光学テープ１０に対してＵＶ放射または照射を加える。硬化アセンブリ４６はドラム５４の外側にある。このように、ＵＶ放射は、裏面コーティング２０、基板１８、およびポリマー層１６に対してこの順序で向けられ、そしてドラム５４に向けられる。ＵＶ放射は、ドラム５４から光学テープ１０を除去する前にエンボスを伴ってポリマー層１６を固体化（硬化）させるように加えられる。上流のバッキングロールにより、パターニングが施されたポリマー層１６を有する光学テープ１０をドラムの外表面５８から分離することが容易となる。そして、光学テープ１０はエンボス加工／硬化ステージ４２から出て、コーティング／スパッタリングステージ４８に進み、記録層１４およびオーバーコート１２を受け取る。エンボス加工／硬化ステージ４２から出た光学テープ１０は、プリフォーマットポリマー層１６と、基板１８と、裏面コーティング２０とを含む。図３Ｃは、エンボス加工／硬化ステージ４２から出た直後の光学テープ１０を示す断面図である。
【００２６】
記載されるように、裏面コーティング２０は少なくともＵＶ放射範囲において光透過性を有する。このため、エンボス加工／硬化ステージ４２内における光学テープ１０のベースとなる膜の積層（ポリマー層１６、基板１８、および裏面コーティング２０）は、ＵＶ硬化波長において透過性を有する。これにより、硬化アセンブリ４６は、ドラムの外表面５８と直接的に係合した状態でポリマー層１６を伴うドラム５４に対して押し付けられた光学テープ１０にＵＶ放射が向けられるように、ドラム５４の外側に位置決めされる。ＵＶ放射が硬化アセンブリ４６からドラム５４に向けられることから、ドラム５４はニッケル（Ｎｉ）などの金属からなるのが好ましい。
【００２７】
記載されるように、本発明の実施形態に従う光学テープ１０などの光学媒体は、少なくともＵＶ範囲において光透過性を有して導電性を有する裏面コーティング２０を含む複数の層を含む。光学テープ１０は、「第１の表面」から読み取られる（レーザー光の放射がテープの特性を含む表面に入射する）。しかしながら、光学テープ１０は、裏面コーティング２０を有するプリフォーマット光学テープの一例に過ぎない。本発明の実施形態に従うプリフォーマット光学テープの他の相は、一度のみ書き込みモード（すなわち、ユーザデータが書き込まれた後は変更することができない）または消去可能モード（すなわち、ユーザが消去およびテープの再利用をすることができる）で動作させるために、数、組成、厚さなどを変えることができる。「第２の表面」記録の場合（すなわち、記録層に接する前に基板を介して読み取り／書き込みを行う）、層の組成はこれに伴って調整される。
【００２８】
図１を続けて参照しながら図４Ａ、図４Ｂ、図４Ｃ、および図４Ｄを参照すると、他の実施形態に従う異なる光学テープの断面ブロック図が示される。特に、図４Ａは、第１の表面入射（空気入射）ＷＯＲＭ媒体層の組成を有する光学テープ６０の断面ブロック図を示す。図４Ｂは、第１の表面入射（空気入射）書き換え可能媒体層の組成を有する光学テープ６２の断面ブロック図を示す。図４Ｃは、第２の入射（基板入射）ＷＯＲＭ媒体層の組成を有する光学テープ６４の断面ブロック図を示す。図４Ｄは、第２の入射（基板入射）書き換え可能媒体層の組成を有する光学テープ６６の断面ブロック図を示す。
【００２９】
各光学テープ６０，６２，６４，６６は、裏面コーティング２０を含む。さらに、各光学テープ６０，６２，６４，６６は、光学テープ１０として同じ層を概して含む。たとえば、各光学テープ６０，６２，６４，６６は、オーバーコート１２と、プリフォーマットもしくはエンボス加工ポリマー層１６と、基板１８とを含む。各光学テープ６０，６２，６４，６６は、それぞれが記録層１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄをさらに含む。
【００３０】
各光学テープ６０，６２，６４，６６は、トップコート６８も含む。トップコート６８は、スパッタ処理によって加えられる無機もしくは有機の傷付きにくい膜であり、光学テープの他の層のための保護層を提供する。トップコート６８は、反射防止特性（たとえば、低い屈折率）を含み得て、これによって光学ヘッド内の線からのレーザー光が不必要に反射することを防止する。
【００３１】
図４Ａ、図４Ｂ、図４Ｃ、および図４Ｄに示されるように、光学テープ層の配置は、光学テープ６０，６２，６４，６６ごとに異なる。さらに、各光学テープ６０，６２，６４，６６は、光学テープ１０の記録層１４とは異なるとともに概して互いに異なる組成および配置を有する記録層１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄをそれぞれ含む。上述のように各光学テープ６０，６２，６４，６６が裏面コーティング２０を有する点は変わらない。
【００３２】
例示的な実施形態が上に記載されたが、これらの実施形態は本発明の全ての可能な形態を記載することを意図したものではない。むしろ、明細書で使用される語句は限定ではなく説明のための語句であり、本発明の主旨および範囲を逸脱することなく様々に変更され得ることが理解される。加えて、様々な実施に係る実施形態の特徴は、組み合わせて本発明の更なる実施形態を形成し得る。
【図１】
2015509256.tif 000003
【図３Ａ】
2015509256.tif 000004
【図３Ｂ】
2015509256.tif 000005
【図３Ｃ】
2015509256.tif 000006
【図２】
2015509256.tif 000007
【図４Ａ】
2015509256.tif 000008
【図４Ｂ】
2015509256.tif 000009
【図４Ｃ】
2015509256.tif 000010
【図４Ｄ】
2015509256.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成25年10月17日(2013.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学媒体であって、
基板と、
前記基板の一方側の基板上にあるプリフォーマット層と、
裏面コーティングとを備え、前記裏面コーティングは少なくとも紫外線範囲において光透過性を有し、導電性を有し、
前記プリフォーマット層は、前記裏面コーティングと前記基板との間にあり、前記裏面コーティングは前記基板の同じ側において前記プリフォーマット層から離して位置決めされる、光学媒体。
【請求項２】
前記裏コートコーティングは、光透過性および導電性を有する酸化物を含む、請求項１に記載の光学媒体。
【請求項３】
前記酸化物は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドープスズ酸化物（ＦＴＯ）、およびドープ酸化亜鉛のうち少なくとも１つを含む、請求項２に記載の光学媒体。
【請求項４】
前記裏面コーティングは金属化膜を含む、請求項１に記載の光学媒体。 
【請求項５】
記録層をさらに備え、前記記録層は前記裏面コーティング上において前記裏面コーティングと前記プリフォーマット層との間にある、請求項１に記載の光学媒体。
【請求項６】
前記光学媒体は光学テープである、請求項１に記載の光学媒体。
【国際調査報告】
2015509256.tif 000012
2015509256.tif 000013
2015509256.tif 000014