【手続補正書】
【提出日】平成22年6月7日(2010.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上の少なくとも一部の領域に設けられた導電性成分を含むプラズマ重合膜を備える第１の被着体の前記プラズマ重合膜と第２の被着体とを密着させ、前記第１の被着体と前記第２の被着体とを重ね合わせて、仮接合体を得る積層工程と、
前記仮接合体中の前記プラズマ重合膜のうち、少なくとも一部の所定領域に対してエネルギーを付与することにより、前記所定領域において前記仮接合体を接合するとともに、前記所定領域に位置する前記プラズマ重合膜に導電性を発現させるエネルギー付与工程とを有することを特徴とする接合方法。
【請求項２】
前記第１の被着体は、前記基材と、該基材上の全部の領域に設けられた導電性成分を含むプラズマ重合膜とを備えており、
前記エネルギー付与工程において、前記プラズマ重合膜のうち、一部の所定領域に対してエネルギーを付与することにより、前記所定領域において前記仮接合体を接合するとともに、前記プラズマ重合膜のうちの前記所定領域に選択的に導電性を発現させる請求項１に記載の接合方法。
【請求項３】
前記導電性成分を含むプラズマ重合膜は、有機金属ポリマーを主材料として構成されている請求項１または２に記載の接合方法。
【請求項４】
前記有機金属ポリマーは、トリメチルガリウムまたはトリメチルアルミニウムの重合物を主成分とするものである請求項３に記載の接合方法。
【請求項５】
前記第２の被着体の少なくとも前記プラズマ重合膜と密着する面には、水酸基が存在しており、
前記積層工程において、前記プラズマ重合膜と、前記第２の被着体の前記水酸基が存在する面とが密着するように、前記第１の被着体と前記第２の被着体とを重ね合わせる請求項１ないし４のいずれかに記載の接合方法。
【請求項６】
前記第２の被着体の少なくとも前記プラズマ重合膜と密着する面は、酸化膜で覆われており、
前記積層工程において、前記プラズマ重合膜と、前記第２の被着体の前記酸化膜で覆われた面とが密着するように、前記第１の被着体と前記第２の被着体とを重ね合わせる請求項１ないし５のいずれかに記載の接合方法。
【請求項７】
前記第２の被着体は、基材上にプラズマ重合膜を備えるものであり、
前記積層工程において、前記第１の被着体の前記プラズマ重合膜と、前記第２の被着体の前記プラズマ重合膜とが密着するように、前記第１の被着体と前記第２の被着体とを重ね合わせるとともに、
前記エネルギー付与工程において、少なくとも前記第１の被着体の前記プラズマ重合膜と前記第２の被着体の前記プラズマ重合膜とが重なり合った部分に、エネルギーを付与する請求項１ないし６のいずれかに記載の接合方法。
【請求項８】
前記第２の被着体は、基材と、基材上の一部の所定領域に選択的に設けられたプラズマ重合膜とを備えるものである請求項７に記載の接合方法。
【請求項９】
前記第１の被着体の前記プラズマ重合膜および前記第２の被着体の前記プラズマ重合膜は、同種の材料で構成されている請求項７または８に記載の接合方法。
【請求項１０】
前記プラズマ重合膜の平均厚さは、１〜１０００ｎｍである請求項１ないし９のいずれかに記載の接合方法。
【請求項１１】
前記エネルギー付与工程における前記エネルギーの付与は、前記仮接合体を加熱する方法、および、前記仮接合体に圧縮力を付与する方法のうちの少なくとも１つの方法により行われる請求項１ないし１０のいずれかに記載の接合方法。
【請求項１２】
前記加熱の温度は、２５〜１００℃である請求項１１に記載の接合方法。
【請求項１３】
前記圧縮力は、０．２〜１０ＭＰａである請求項１１または１２に記載の接合方法。
【請求項１４】
前記第１の被着体が備える基材および前記第２の被着体が備える基材のうちの少なくとも一方は、エネルギー線の透過性を有しており、
前記エネルギー付与工程における前記エネルギーの付与は、前記仮接合体の前記透過性を有する基材側から、前記エネルギー線を照射する方法により行われる請求項１ないし１３のいずれかに記載の接合方法。
【請求項１５】
前記第１の被着体が備える基材および前記第２の被着体が備える基材のうちの少なくとも一方は、透光性を有しており、
前記エネルギー付与工程における前記エネルギーの付与は、前記仮接合体の前記透光性を有する基材側から、紫外線を照射する方法により行われる請求項１ないし１４のいずれかに記載の接合方法。
【請求項１６】
前記紫外線の波長は、１５０〜３００ｎｍである請求項１５に記載の接合方法。
【請求項１７】
前記エネルギー付与工程は、大気雰囲気中で行われる請求項１ないし１６のいずれかに記載の接合方法。
【請求項１８】
前記エネルギー付与工程の後、前記接合体に加熱する工程を有する請求項１ないし１７のいずれかに記載の接合方法。
【請求項１９】
前記加熱温度は、２５〜１００℃である請求項１８に記載の接合方法。
【請求項２０】
前記エネルギー付与工程の後、前記接合体を加圧する工程を有する請求項１ないし１９のいずれかに記載の接合方法。
【請求項２１】
前記接合体を加圧する際の圧力は、０．２〜１０ＭＰａである請求項２０に記載の接合方法。
【請求項２２】
前記第１の被着体は、あらかじめ、前記基材上に前記プラズマ重合膜との密着性を高める表面処理を施した後、該表面処理を施した領域に前記プラズマ重合膜を形成してなるものである請求項１ないし２１のいずれかに記載の接合方法。
【請求項２３】
前記表面処理は、プラズマ処理である請求項２２に記載の接合方法。
【請求項２４】
前記第１の被着体が備える基材および前記第２の被着体が備える基材は、それぞれ剛性が異なっている請求項１ないし２３のいずれかに記載の接合方法。
【請求項２５】
２つの基材が、請求項１ないし２４のいずれかに記載の接合方法により接合されたことを特徴とする接合体。
【請求項２６】
前記２つの基材間の接合強度は５ＭＰａ以上である請求項２５に記載の接合体。
【請求項２７】
当該接合体中の前記導電性が発現したプラズマ重合膜の抵抗率は、１×１０−３Ω・ｃｍ以下である請求項２５または２６に記載の接合体。
【請求項２８】
請求項２５ないし２７のいずれかに記載の接合体を有することを特徴とする配線基板
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の接合方法は、基材上の少なくとも一部の領域に設けられた導電性成分を含むプラズマ重合膜を備える第１の被着体の前記プラズマ重合膜と第２の被着体とを密着させ、前記第１の被着体と前記第２の被着体とを重ね合わせて、仮接合体を得る積層工程と、
前記仮接合体中の前記プラズマ重合膜のうち、少なくとも一部の所定領域に対してエネルギーを付与することにより、前記所定領域において前記仮接合体を接合するとともに、前記所定領域に位置する前記プラズマ重合膜に導電性を発現させるエネルギー付与工程とを有することを特徴とする。
これにより、２つの基材同士を、高い寸法精度で強固に、かつ低温で効率よく接合可能であるとともに、２つの基材間に導電性を有する層を形成することができる。また、仮接合体の状態では、各プラズマ重合膜同士の間は接合されていないので、第１の被着体と第２の被着体とをずらし、これらの相対的な位置を容易に微調整することができる。