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【手続補正書】
【提出日】平成22年10月26日(2010.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主鎖を構成するオルガノポリシロキサンセグメントのケイ素原子の少なくとも２つに、ヘテロ原子を含むアルキレン基を介して、下記一般式（１）；
【化１】
2009024114.tif 000001
（式中、Ｒ1は水素原子、炭素数１〜２２のアルキル基、アラルキル基又はアリール基を示し、ｎは２又は３を示す。）
で表される繰り返し単位からなるポリ（Ｎ−アシルアルキレンイミン）セグメントが結合してなるオルガノポリシロキサンであって、
ポリ（Ｎ−アシルアルキレンイミン）セグメントの数平均分子量が８００〜１６００であり、
主鎖を構成するオルガノポリシロキサンセグメント（ａ）と、ポリ（Ｎ−アシルアルキレンイミン）セグメント（ｂ）との質量比（ａ／ｂ）が６５／３５〜８２／１８であり、
主鎖を構成するオルガノポリシロキサンセグメントの重量平均分子量が１０，０００〜１００，０００であり、
隣接するポリ（Ｎ−アシルアルキレンイミン）セグメント間におけるオルガノポリシロキサンセグメントの重量平均分子量が１５００〜３５００である、
オルガノポリシロキサン。
【請求項２】
請求項１に記載のオルガノポリシロキサンを含有する、毛髪化粧料。
【請求項３】
更に、水及び／又は炭素数１〜６の低級アルコールを含有する、請求項２に記載の毛髪化粧料。
【請求項４】
更に、セットポリマーを含有する、請求項２又は３に記載の毛髪化粧料。
【請求項５】
半固形状整髪剤組成物である、請求項２〜４のいずれか一項に記載の毛髪化粧料。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月18日(2010.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関が搭載される車両の走行速度を検知する車速検知手段と、人為操作可能なアクセル手段の操作量を検知するアクセル操作量検知手段と、前記内燃機関の温度を検知する機関温度検知手段と、前記内燃機関の回転数を検知する回転数検知手段と、前記内燃機関に供給する吸気量を制御するスロットル手段の動作量を検知するスロットル量検知手段と、人為操作可能な前記アクセル手段の操作量を反映可能として前記内燃機関に供給する吸気量を最適とするように前記スロットル手段を制御する制御手段とを備えた内燃機関の制御装置において、制御装置は、前記回転数検知手段から得た回転数を積算する回転数積算機能と、前記スロットル手段を閉じ側に制御する出力抑制機能とを有するとともに、予め設定する所定の積算判定値と、予め設定する前記内燃機関のアイドル状態とみなせる所定の回転数判定値と、予め設定する走行中とみなせる車速判定値と、予め設定する前記内燃機関の温度が過熱状態とみなせる機関温度判定値とを有し、前記車速検知手段により検知された車速が車速判定値を超えず前記機関温度検知手段により検知された機関温度が機関温度判定値を超えた状態が継続しており、積算された実際の回転数が所定の積算判定値を超えた場合に、出力抑制機能を動作させ実際の回転数が所定の回転数判定値以下となるように制御する一方、前記車速検知手段により検知された車速が車速判定値を超えた条件と、前記機関温度検知手段により検知された機関温度が機関温度判定値を超えない条件とのいずれかの条件が成立した場合に、出力抑制機能を停止するように制御することを特徴とする内燃機関の制御装置。
【請求項２】
前記制御装置が、さらに、予め設定するアクセル操作解放中とみなせるアクセル操作量判定値を有し、前記アクセル操作量検知手段により検知されたアクセル操作量がアクセル操作量判定値を超えない条件が成立した場合に、出力抑制機能を停止するように制御することを特徴とする請求項１に記載の内燃機関の制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
詳述すれば、前記制御装置２０は、前記車速検知手段である車速センサ２１により検知された車速と車速判定値とを比較する。
また、前記制御装置２０は、前記機関温度検知手段であるエンジン水温センサ１４により検知された機関温度と機関温度判定値とを比較する。
更に、前記制御装置２０は、予め設定するアクセル操作解放中とみなせるアクセル操作量判定値を有し、前記アクセル操作量検知手段２２により検知されたアクセル操作量とアクセル操作量判定値とを比較する。
このとき、前記制御装置２０は、前記アクセル操作量検知手段２２により検知されたアクセル操作量がアクセル操作量判定値を超えない条件が成立した場合に、出力抑制機能を停止するように制御する。
更にまた、前記制御装置２０は、積算された実際のエンジン回転数（「エンジン回転数積算」ともいう。）と所定の積算判定値とを比較する。
そして、前記制御装置２０は、
（１）車速＜車速判定値
（２）機関温度≧機関温度判定値
（３）アクセル操作量＞アクセル操作量判定値
（４）エンジン回転数積算＞積算判定値
の条件が成立した場合に、出力抑制機能を動作させ実際の回転数が所定の回転数判定値以下となるように制御するものである。
一方、前記制御装置２０は、
（１）車速＜車速判定値
（２）機関温度≧機関温度判定値
（３）アクセル操作量＞アクセル操作量判定値
のいずれかの条件が不成立となった場合に、出力抑制機能を停止するように制御する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
これにより、前記内燃機関２が搭載される車両の走行速度を検知する車速検知手段である車速センサ２１と、人為操作可能なアクセル手段であるアクセルペダル（図示せず）の操作量を検知するアクセル操作量検知手段２２と、前記内燃機関２の温度を検知する機関温度検知手段であるエンジン水温センサ１４と、前記内燃機関２の回転数を検知する回転数検知手段、例えばクランク信号検出センサ１５と、前記内燃機関２に供給する吸気量を制御するスロットル手段であるスロットルバルブ７の動作量を検知するスロットル量検知手段であるスロットル開度センサ１０と、人為操作可能な前記アクセル手段であるアクセルペダルの操作量を反映可能として前記内燃機関２に供給する吸気量を最適とするように前記スロットル手段であるスロットルバルブ７を制御する制御手段２０とを備えた内燃機関２の制御装置１において、制御装置２０は、前記回転数検知手段、例えばクランク信号検出センサ１５から得た回転数を積算する回転数積算機能と、前記スロットル手段であるスロットルバルブ７を閉じ側に制御する出力抑制機能とを有するとともに、予め設定する所定の積算判定値と、予め設定する前記内燃機関２のアイドル状態とみなせる所定の回転数判定値と、予め設定する走行中とみなせる車速判定値と、予め設定する前記内燃機関２の温度が過熱状態とみなせる機関温度判定値とを有し、前記車速検知手段である車速センサ２１により検知された車速が車速判定値を超えず前記機関温度検知手段であるエンジン水温センサ１４により検知された機関温度が機関温度判定値を超えた状態が継続しており、積算された実際の回転数が所定の積算判定値を超えた場合に、出力抑制機能を動作させ実際の回転数が所定の回転数判定値以下となるように制御する一方、前記車速検知手段である車速センサ２１により検知された車速が車速判定値を超えた条件と、前記機関温度検知手段であるエンジン水温センサ１４により検知された機関温度が機関温度判定値を超えない条件とのいずれかの条件が成立した場合に、出力抑制機能を停止するように制御する。
従って、停車中に、高回転を維持することにより実際に熱量を多く発する状態では、早く出力を抑制することができる一方、低・中回転数域のように発熱量が小さい場合には、出力抑制までの時間を長くすることができる。
また、触媒などの排気系の劣化を抑制でき、その後の走行においても高い排気ガス浄化性を発揮できる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月25日(2010.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
又、上記中継部材２１ａを、上記保持孔３ｂと上記シリンダ９ｂとを仕切る隔壁１９ａに設けた通孔２０ａを挿通した状態で設けている。この通孔２０ａの内周面と上記中継部材２１ａの外周面との間にはＯリング２９を設けて、上記シリンダ９ｂ内に導入された圧油の漏洩を防止しつつ、上記中継部材２１ａの、上記ピストン１０ｂの軸方向の変位を可能にしている。そして、上記パーキングレバー２５の操作に基づいて回転する上記カムシャフト４ａの動きを、上記両カム機構２７ａ、２７ｂの働きにより上記中継部材２１ａ及びアジャスト機構８ｂを介して上記ピストン１０ｂに伝達し、このピストン１０ｂの軸方向の動きに基づき、１対のパッド３０ａ、３０ｂを車輪と共に回転するロータ３１の側面に向け押し付けて制動力を生じさせる様にしている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
又、本例の場合、上記アジャスト機構８ｂを構成するスピンドル１１ｂとスリーブ１２ｂとのねじ構造部分に存在する空気を、効果的に排出できる。
例えば、上記キャリパ２ｂ内にブレーキ液を充填する際に、上記スピンドル１１ｂとスリーブ１２ｂとのねじ構造部分に空気が滞留する可能性がある。この様にねじ構造部分に滞留した空気の一部は、上記スピンドル１２ｂの貫通孔４５を通じて、この貫通孔４５の開口部と前記中継部材２１ａの先端面４２との間の隙間４３に到達する。本例の場合、この隙間４３は、車両への組み付け状態で鉛直方向上側に開口している為、上記空気をこの隙間４３を通じて効果的に排出できる。そして、この様にねじ構造部分から排出された空気は、上記キャリパ２ｂの一部に設けた図示しない空気抜き弁から、外部に排出される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月22日(2010.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
左右の柱と土台及び梁とで構成される壁フレームに制振装置を取り付けた構造であって、制振装置は、木材板から切出した長方形の伝達板とダンパーおよび連結金物を備え、連結金物は取付け壁と側壁を一体に備えた長尺の金物であり、連結金物を左右の柱の対向面にその取付け壁で固定し、その側壁に伝達板の長辺を固定することにより伝達板を左右の柱にそれぞれ固定すると共に、左右の伝達板間をダンパーで結合してあることを特徴とした制振補強された壁フレーム構造。
【請求項２】
連結金物は、上下の横架材間寸法の大部分に渡る長さを有することを特徴とした請求項１に記載の壁フレーム構造。
【請求項３】
連結用金物は端部に引寄せボルトの係合部を備えていることを特徴とした請求項１又は２に記載の壁フレーム構造。
【請求項４】
ダンパーは、２枚の平板間に粘弾性材を充填して接着した構造であることを特徴とした請求項１〜３のいずれか一つに記載の壁フレーム構造。
【請求項５】
左右の伝達板の片面にわたりダンパーを取り付け、伝達板の他の面にわたりはらみ防止部材を取付けてあることを特徴とした請求項１〜４のいずれか一つに記載の壁フレーム構造。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月30日(2010.6.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
＜透湿性防水布帛＞
本発明の透湿性防水布帛は、繊維布帛の少なくとも片面に、熱可塑性ウレタン樹脂組成物を無溶剤で熱形成して得られたウレタン樹脂膜を有し、前記ウレタン樹脂膜の熱機械分析により測定した軟化点（以下においては軟化温度ということもある）が１６０℃以上である。
繊維布帛と前記ウレタン樹脂膜は、直接、積層されたものであっても、接着剤を介し積層されたものであってもよい。
接着剤を用いる場合の接着剤としては、ウレタン系、ナイロン系、エポキシ系、メラミン系などを挙げることができる。また、接着剤は１液型、２液型のいずれであってもよい。好ましくは、有機溶剤を用いないホットメルトタイプがよく、湿気硬化型ウレタン樹脂が好ましく用いられる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月7日(2010.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する処理室と、
前記処理室へ前記基板を搬送する搬送装置が設置された搬送室と、
前記搬送室に対して前記基板を搬入搬出する予備室と、
前記搬送装置や前記処理室および前記予備室における前記基板の搬送を制御する第一制御装置と、
前記基板に対して予め設定されたレシピを実行して前記基板を処理する第二制御装置と、を備えた基板処理装置であって、
前記第一制御装置は前回のロット処理に使用したガスと次回のロット処理に使用するガスとを比較して、前記前回のロット処理に使用したガスを前記処理室内から排除するステップを実行するか否かを判断することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前回のロット処理に使用したガスと次回のロット処理に使用するガスとを比較して、前記前回のロット処理に使用したガスを前記処理室内から排除する残留ガス排除レシピを実行する工程と、
複数のウェハを処理するためのロット処理用レシピを実行する工程と、
を少なくとも有する半導体集積回路の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月19日(2010.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源基板と防火エンクロージャとを備えた電子機器において、
前記電源基板は素材の基板から切り出された基板であり、
前記素材の基板から切り出された残余の基板であるプリント基板であって、金属と絶縁する絶縁面を有するプリント基板をさらに備え、
前記防火エンクロージャは、金属部材と、前記電源基板側に前記絶縁面が向けられた前記プリント基板の前記絶縁面とによって前記電源基板を囲むように構成されていることを特徴とする電子機器。
【請求項２】
前記プリント基板は、金属と導通する導通面をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記防火エンクロージャは、前記プリント基板の前記導通面と前記金属部材とが導通するように構成されていることを特徴とする請求項２に記載の電子機器。
【請求項４】
前記プリント基板の前記導通面に銅箔パターンが形成されていることを特徴とする請求項２又は３に記載の電子機器。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の防火エンクロージャの構成を有することを特徴とする電子機器の防火エンクロージャ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このような目的を達成するために、本発明の電子機器は、電源基板（１０１）と防火エンクロージャ（１０５、１０２、１０３）とを備えた電子機器であって、電源基板は素材の基板（２０１）から切り出された基板であり、素材の基板から切り出された残余の基板であるプリント基板（１０５）であって、金属と絶縁する絶縁面を有するプリント基板をさらに備え、防火エンクロージャは、金属部材（１０２、１０３）と、電源基板側に絶縁面が向けられたプリント基板の絶縁面とによって電源基板を囲むように構成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月10日(2010.6.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】発光素子、発光装置及び照明機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の電極と第２の電極との間に、ｎ（ｎは２以上の自然数）個の発光層を有し、
ｍ（ｍは自然数、１≦ｍ≦ｎ−１）番目の発光層上に電子輸送性の物質と電子供与性の物質とを含む第２の層と、
前記第２の層上に正孔輸送性の物質とモリブデン酸化物とを含む第１の層と、
前記第１の層上にｍ＋１番目の発光層と、を有することを特徴とする発光素子。
【請求項２】
請求項１において、前記第１の電極に高電圧を印加し、前記第２の電極に低電圧を印加したとき、前記第１の層から前記ｍ＋１番目の発光層に正孔が注入され、前記第２の層から前記ｍ番目の発光層に電子が注入されることを特徴とする発光素子。
【請求項３】
第１の電極と第２の電極との間に、第１の発光層及び第２の発光層を有し、
前記第１の発光層上に電子輸送性の物質と電子供与性の物質とを含む第２の層と、
前記第２の層上に正孔輸送性の物質とモリブデン酸化物とを含む第１の層と、
前記第１の層上に前記第２の発光層と、を有することを特徴とする発光素子。
【請求項４】
請求項３において、前記第１の電極に高電圧を印加し、前記第２の電極に低電圧を印加したとき、前記第１の層から前記第２の発光層に正孔が注入され、前記第２の層から前記第１の発光層に電子が注入されることを特徴とする発光素子。
【請求項５】
第１の電極と第２の電極との間に、第１の発光層、第２の発光層及び第３の発光層を有し、
前記第１の発光層と前記第２の発光層との間において、
前記第１の発光層上に電子輸送性の物質と電子供与性の物質とを含む第２の層と、
前記第２の層上に正孔輸送性の物質とモリブデン酸化物とを含む第１の層とを有し、
前記第１の層上に前記第２の発光層が設けられ、
前記第２の発光層と前記第３の発光層との間において、
前記第２の発光層上に電子輸送性の物質と電子供与性の物質とを含む第２の層と、
前記第２の層上に正孔輸送性の物質とモリブデン酸化物とを含む第１の層とを有し、
前記第１の層上に前記第３の発光層が設けられることを特徴とする発光素子。
【請求項６】
請求項５において、前記第１の電極に高電圧を印加し、前記第２の電極に低電圧を印加したとき、
前記第１の発光層と前記第２の発光層との間の、前記第１の層から前記第２の発光層に正孔が注入され、前記第２の層から前記第１の発光層に電子が注入され、
前記第２の発光層と前記第３の発光層との間の、前記第１の層から前記第３の発光層に正孔が注入され、前記第２の層から前記第２の発光層に電子が注入されることを特徴とする発光素子。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、前記正孔輸送性の物質は芳香族アミン系の物質であることを特徴とする発光素子。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、前記正孔輸送性の物質はベンゼン環−窒素の結合を有する物質であることを特徴とする発光素子。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、前記電子輸送性の物質はキノリン骨格又はベンゾキノリン骨格を有する金属錯体であることを特徴とする発光素子。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、前記電子供与性の物質はアルカリ金属、アルカリ金属の酸化物、アルカリ金属の窒化物、アルカリ土類金属、アルカリ土類金属の酸化物又はアルカリ土類金属の窒化物であることを特徴とする発光素子。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一において、前記第１の電極に接して、正孔輸送性の物質とモリブデン酸化物とを含む層を有することを特徴とする発光素子。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一に記載の発光素子を含む発光装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の発光装置を有する照明機器。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図２において、第１の電極２０１と第２の電極２０２との間には、電子を輸送し易い物質と電子供与性の物質とを含んで成る第２の層２０３、２０５、２０７と、正孔を輸送し易い物質と電子受容性の物質とを含んで成る第１の層２０４、２０６、２０８を有する。ここで、第１の層２０４は、第１の電極２０１に接するように設けられている。また、第２の層２０７は、第２の電極２０２に接するように設けられている。また、第２の層２０５と第１の層２０８とは接するように積層されている。また第２の層２０３と第１の層２０６とは接するように積層されている。なお、電子を輸送し易い物質と電子供与性の物質とを含んで成る第２の層２０３、２０５、２０７では電子が生成され、正孔を輸送し易い物質と電子受容性の物質とを含んで成る第１の層２０４、２０６、２０８では正孔が生成される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本形態において、第１の電極２０１は陽極として機能する電極であり、第２の電極２０２は陰極として機能する電極である。そして、第２の層２０３と第１の層２０４との間には、第１の発光層２１１を有し、第２の層２０５と第１の層２０６との間には、第２の発光層２２１を有し、第２の層２０７と第１の層２０８との間には、第３の発光層２３１を有する。第１の層２０４と第１の発光層２１１との間には正孔輸送層２１２、第１の層２０６と第２の発光層２２１との間には正孔輸送層２２２、第１の層２０８と第３の発光層２３１との間には正孔輸送層２３２を有する。ここで、正孔輸送層とは、発光層へ正孔を輸送することができ、正孔を輸送し易い物質を含む層である。また、第２の層２０３と第１の発光層２１１との間には電子輸送層２１３、第２の層２０５と第２の発光層２２１との間には電子輸送層２２３、第２の層２０７と第３の発光層２３１との間には電子輸送層２３３を有する。ここで、電子輸送層とは、発光層へ電子を輸送することができ、電子を輸送し易い物質を含む層である。このように正孔輸送層や電子輸送層を設けることによって、発光層と金属を含む層とを離すことができ、金属に起因して生じる消光を阻止することができる。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成21年11月26日(2009.11.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルフアラインドコンタクトされる半導体装置の製造方法であって、
基板のコアエリアとターミネーションエリアの一部分まで拡張してトレンチをエッチングで形成し、
前記トレンチの底部に、前記基板よりも高ドープ濃度を有する不純物層を形成し、
前記トレンチの壁部に隣接し、そして、前記不純物層に隣接した前記基板上に第一の酸化物層を生成し、
前記コアエリアと前記ターミネーションエリアにポリシリコン層を蒸着し、
前記コアエリアの前記トレンチの一部分にゲート領域を形成するように前記ポリシリコン層を選択的にエッチングし、ゲートインターコネクト領域の第一部分を前記ターミネーションエリアの前記トレンチ部分に形成し、ゲートインターコネクト領域の第二部分を前記ターミネーションエリアにおける前記トレンチの外側に形成する製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の製造方法であって、
さらに、
前記トレンチをエッチングする前に前記基板上に第二の酸化物層を生成し、
前記トレンチをエッチングする前に前記第二の酸化物層上に第一の窒化層を蒸着する製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の製造方法であって、
前記ポリシリコン層の選択的なエッチングは、前記ターミネーションエリアにおける前記ポリシリコン層から周辺構造を形成することを含む製造方法。
【請求項４】
請求項３に記載の製造方法であって、
さらに、
前記ポリシリコン層を選択的にエッチングする前に、前記ターミネーションエリアにおける前記ポリシリコン層の前記周辺構造部に選択的にドープすることを含む製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の製造方法であって、
前記選択的にエッチングされたポリシリコン層と前記第一の窒化層上に誘電体層を蒸着し、
前記ゲート領域と前記ゲートインターコネクト領域について、前記第一の酸化物層と前記誘電体層からゲート絶縁層を形成するように前記誘電体層を選択的にエッチングすることを含む製造方法。
【請求項６】
請求項５に記載の製造方法であって、
さらに、
前記誘電体層を選択的にエッチングした後に前記コアエリアにおける前記第一の窒化層を除去し、
前記第一の窒化層を除去した後に前記トレンチに隣接した前記基板の上部をドープし、これによってボデイ領域を形成し、
前記第一の窒化層を除去した後に前記ゲート領域に隣接した前記ボデイ領域の一部をドープし、これによってソース領域を形成することを含む製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の製造方法であって、
さらに
前記ボデイ領域と前記ソース領域をドープした後、第二の窒化層を蒸着し、前記第二の窒化層、前記ソース領域、前記ボデイ領域の一部を通じてソース／ボデイコンタクト開口部をエッチングで形成し、
前記ターミネーションエリアにおける前記第二の窒化膜を通じてゲートコンタクト開口部をエッチングで形成し、前記ゲートインターコネクト領域の一部を露出させ、
前記コアエリアの前記ソース領域と前記ボデイ領域の前記ソース／ボデイコンタクト開口部を通じて下方延伸されたソース／ボデイのコンタクトを形成し、
前記ターミネーションエリアの前記ゲートインターコネクト領域の前記ゲートコンタクトを通じて下方延伸されたゲートコンタクトを形成することを含む製造方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
他の実施形態において、セルフアラインドコンタクトを有するトレンチ金属−酸化物半導体電界効果トランジスタを製造する方法は、基板上に犠牲酸化物層及び第一の窒化層を形成することを含む。第一の窒化層、犠牲酸化物層を通過し、基板に部分的に入り込むトレンチが形成される。このトレンチは、コアエリアに入り、そして、ターミネーションエリアに部分的に伸びている。ゲート絶縁領域の一部が、このトレンチに隣接した基板上で成長して、ゲート絶縁領域の第一の第一部分が形成される。ポリシリコン層をエッチバックして、トレンチのコアエリア部分にゲート領域が形成され、そして、ターミネーションエリアにゲートインターコネクト領域が形成される。ゲート領域、ゲートインターコネクト領域及び、第一の窒化層の露出された部分の上に、誘電体層が形成されている。誘電体層をエッチバックすることによって、ゲート領域及びゲートインターコネクト領域の周りにゲート絶縁領域の第二の領域が形成される。コアエリア内の第一の窒化層を除去して、ボデイ領域及びソース領域が形成される。ゲート領域に隣接して配置された上記基板の上部をドープして、ボデイ領域が形成され、その結果、基板の下部にドレイン領域が形成される。ゲート領域に隣接するボデイ領域をドープすることによって、ソース領域が形成され、その結果、ボデイ領域によって、ソース領域がドレイン領域から分離される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月8日(2010.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも有機溶媒、無機粒子および分散剤を含有する無機粒子の分散液の製造方法であって、ビーズミルのベッセルに、平均粒子径０．０１ｍｍ以上０．１ｍｍ以下のビーズを、ベッセル容積の２０容積％以上８５容積％以下充填し、ビーズミルのローターの回転周速が８ｍ／ｓ以上１５ｍ／ｓ以下、分散処理時の分散液の温度が１０℃以上４０℃以下である条件で、無機粒子の量に対して０．１重量％以上の分散剤と、有機溶媒とを含有する分散媒中で、平均１次粒子径が１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の無機粒子を分散する無機粒子の分散液の製造方法。
【請求項２】
無機粒子が硫酸バリウムである請求項１記載の無機粒子の分散液の製造方法。
【請求項３】
分散剤の量が無機粒子の量に対して１５重量％以下である請求項１または２記載の無機粒子の分散液の製造方法。
【請求項４】
ビーズミルのベッセルに、平均粒子径０．０３ｍｍ以上０．０５ｍｍ以下のビーズを、ベッセル容積の５０容積％以上７５容積％以下充填する請求項１〜３のいずれか記載の無機粒子の分散液の製造方法。
【請求項５】
前記ビーズがジルコニアビーズであり、該ジルコニアビーズの結晶構造において正方晶系の量比が９０％以上１００％以下である請求項１〜４のいずれか記載の無機粒子の分散液の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか記載の無機粒子の分散液の製造方法から得られる分散液と樹脂を混ぜるペースト組成物の製造方法。
【請求項７】
請求項６記載のペースト組成物の製造方法から得られるペースト組成物を硬化する樹脂組成物の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月14日(2010.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
極低温コールドヘッド（１４４）と、
熱シールドとを含む装置であって、
該熱シールドが、
所望の熱伝導路に沿って位置決めされ、互いに電気絶縁されている複数の熱伝導性ケーブル（７０、８８、１５８、１６８、１８４）と、
前記複数の熱伝導性ケーブル（７０、８８、１５８、１６８、１８４）を前記極低温コールドヘッド（１４４）と接続させている少なくとも１つのサーマルリンク（１２６）と、
前記複数の熱伝導性ケーブル（７０、８８、１５８、１６８、１８４）の周りで硬化することにより、前記複数の熱伝導性ケーブル（７０、８８、１５８、１６８、１８４）を互いに結合させている浸透マトリックス（１１０、１７０）と、
を備え、
前記複数の熱伝導性ケーブル（７０、８８、１５８、１６８、１８４）は、Ｌｉｔｚワイヤ構成で互いに編組された複数の繊維（１５４）から製作されている装置。
【請求項２】
前記複数の繊維は銅を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記複数の繊維はアルミニウムを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記熱シールドの前記結合させた複数の熱伝導性ケーブル（７０、８８、１５８、１６８、１８４）はシェル（１１２、１５６、１６４）を形成している、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記マトリックス（１１０、１７０）はエポキシを含む、請求項１乃至４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
ＭＲ撮像装置（１０）である請求項１乃至５のいずれかに記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月15日(2010.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか１項に記載の放射線撮影装置と、
放射線を発生させる放射線発生装置と、を含み
前記エリアセンサには、前記放射線発生装置で発生した放射線が入射することを特徴とする放射線撮影システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月2日(2010.6.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の成分（Ａ）〜（Ｃ）：
（Ａ）粒子径が３５５μｍ未満のエリスリトール  ２０〜６０質量％
（Ｂ）水  １０〜４０質量％
（Ｃ）ＪＩＳ  Ｋ５１０１に準じて測定された吸油量が２００〜４００ｍｌ／１００ｇのシリカ  ０．５〜１０質量％
を含有する歯磨き組成物。
【請求項２】
次の成分（Ａ）〜（Ｃ）：
（Ａ）粒子径が３５５μｍ未満のエリスリトール  ２５〜６０質量％
（Ｂ）水  １０〜４０質量％
（Ｃ）ＪＩＳ  Ｋ５１０１に準じて測定された吸油量が２００〜４００ｍｌ／１００ｇのシリカ  ０．５〜１０質量％
を配合する歯磨き組成物。
【請求項３】
さらに、粘結剤を０．６〜２質量％含有する請求項１又は２に記載の歯磨き組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち、本発明は、次の成分（Ａ）〜（Ｃ）：
（Ａ）粒子径が３５５μｍ未満のエリスリトール  ２０〜６０質量％
（Ｂ）水  １０〜４０質量％
（Ｃ）ＪＩＳ  Ｋ５１０１に準じて測定された吸油量が２００〜４００ｍｌ／１００ｇのシリカ  ０．５〜１０質量％
を含有する歯磨き組成物である。
また、本発明は、次の成分（Ａ）〜（Ｃ）：
（Ａ）粒子径が３５５μｍ未満のエリスリトール  ２５〜６０質量％
（Ｂ）水  １０〜４０質量％
（Ｃ）ＪＩＳ  Ｋ５１０１に準じて測定された吸油量が２００〜４００ｍｌ／１００ｇのシリカ  ０．５〜１０質量％
を配合する歯磨き組成物である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明で用いられるシリカ（成分（Ｃ））は、安定性を向上する観点から、吸油量が２００〜４００ｍｌ／１００ｇ、より好ましくは２２０〜３８０ｍｌ／１００ｇ、さらに好ましくは、２５０〜３５０ｍｌ／１００ｇである。ここで、吸油量とは、シリカが担持できる油量を示したものであり、測定方法はＪＩＳ  Ｋ５１０１に準じる。このようなシリカは、サイリシア、サイロピュア（富士シリシア化学社製）、チキソシル（ローディア社製）、ソルボシル（イネオスシリカ社製）、ファインシール（トクヤマ社製）、ニップジェル（東ソーシリカ社製）から入手可能である。なお、ここで用いられる吸油量の多いシリカは、研磨剤として用いられるシリカとは相違する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
【表１】
2007070258.tif 000001
(*1)：粒子径が３μｍ以上４５μｍ未満１２質量％、４５μｍ以上２５０μｍ未満８２質量％、２５０μｍ以上３００μｍ未満５質量％の粒度分布を有するエリスリトール、平均粒子径７７μｍ
(*2)：粒子径が３５５μｍ未満６質量％、３５５μｍ以上１４００μｍ未満９４質量％のエリスリトール、平均粒子径４６８μｍ
(*3)：吸油量が３００ｍｌ／１００ｇのシリカ
(*4)：吸油量が１２０ｍｌ／１００ｇのシリカ
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
表１に示したように、実施例１〜４の歯磨き組成物では、粒子径が３５５μｍ未満のエ
リスリトールを多く含み、さらに、吸油量が３００ｍｌ／１００ｇのシリカを含んでいるため、清涼感、冷涼感、長期の保存安定性に優れるという結果だった。さらに、実施例２〜４の歯磨き組成物では、粒子径が３５５μｍ未満のエリスリトールをより多く含んでいるため、清涼感、冷涼感がさらに優れるという結果だった。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
一方、比較例１の歯磨き組成物では、粒子径が３５５未満μｍのエリスリトールの含有量が少なく、また、組成物中の水分量が多いため、清涼感、冷涼感が弱いという結果だった。また、比較例２の歯磨き組成物では、吸油量が３００ｍｌ／１００ｇのシリカを含んでいないため、長期の保存安定性が悪いという結果だった。また、比較例３の歯磨きでは、粒子径が３５５μｍ以上のエリスリトールを多量含んでいるため、冷涼感は弱く、さらに、吸油量が３００ｍｌ／１００ｇのシリカを含んでいないため、長期の保存安定性が悪いという結果だった。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月18日(2010.10.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固有粘度が０．１８ｄＬ／ｇ以上０．４０ｄＬ／ｇ以下のポリエチレンテレフタレートプレポリマーを固体状態における熱処理工程を経て固有粘度０．７０ｄＬ／ｇ以上のポリエチレンテレフタレートとするポリエチレンテレフタレートの製造方法であって、熱処理工程が下記の１）第１段固相重縮合工程及び２）第２段固相重縮合工程を、この順序で含むことを特徴とするポリエチレンテレフタレートの製造方法。
１）第１段固相重縮合工程；
該ポリエチレンテレフタレートプレポリマーを、温度（Ｔ１）２００℃以上２２５℃以下で、不活性ガス雰囲気下または減圧下、平均滞留時間が０．５時間以上１０時間以下で熱処理し、該プレポリマーの固有粘度上昇値を０．０３ｄＬ／ｇ以上となす工程
２）第２段固相重縮合工程；
第１段固相重縮合工程を経たプレポリマーを、温度（Ｔ２）２１５℃以上２４０℃以下で、不活性ガス雰囲気下または減圧下、平均滞留時間が２時間以上となる条件で熱処理する工程、
但し、上記温度Ｔ１（℃）及びＴ２（℃）は下記（式１）を満足する。
Ｔ１＋１５≦Ｔ２ （式１）
【請求項２】
第１段固相重縮合工程に先立ち、ポリエチレンテレフタレートプレポリマーを、温度（Ｔｃ）１４０℃以上２００℃以下で熱処理し、その一部を結晶化する結晶化工程を設けることを特徴とする請求項１に記載のポリエチレンテレフタレートの製造方法。
【請求項３】
固体状態における熱処理が連続的に行われることを特徴とする請求項１または２に記載のポリエチレンテレフタレートの製造方法。
【請求項４】
第１段固相重縮合工程及び／又は第２段固相重縮合工程が連続式移動床で実施される請求項１乃至３のいずれか１項に記載のポリエチレンテレフタレートの製造方法。
【請求項５】
結晶化工程が流動床で実施されることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載のポリエチレンテレフタレートの製造方法。
【請求項６】
ポリエチレンテレフタレートプレポリマーの平均粒径が０．５ｍｍ以上３．０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のポリエチレンテレフタレートの製造方法。
【請求項７】
ポリエチレンテレフタレートプレポリマーの末端カルボキシル基濃度が１００当量／トン以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のポリエチレンテレフタレートの製造方法。
【請求項８】
ポリエチレンテレフタレートがチタン化合物を含有する請求項１乃至７のいずれか１項に記載のポリエチレンテレフタレートの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月12日(2010.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電セラミックス振動体に一次電極及び二次電極を形成した圧電トランスと、
前記圧電トランスの振動接点の近傍を含む領域の少なくとも一部に固着して、前記圧電トランスを実装するための構造体と
を備え、
前記構造体は、前記圧電トランスの二次電極からの信号を受けて、高電圧のＤＣ電圧を生成する整流回路と、前記ＤＣ電圧及び外部からの制御信号に応じて前記圧電トランスの一次電極へ電力を供給する制御回路とを表面上に実装し、
前記圧電トランスの表面は複数の部分で前記構造体に固着され、前記圧電トランスの前記一次電極及び二次電極と前記構造体に設けられた電極とがリード線で接続されることを特徴とする高圧電源装置。
【請求項２】
前記構造体は、一方向に開口部を備えた箱形に形成され、内部に前記圧電トランスを収容することを特徴とする請求項１に記載の高圧電源装置。
【請求項３】
前記制御回路と前記整流回路との間に前記圧電トランスが配置されることを特徴とする請求項１または２に記載の高圧電源装置。
【請求項４】
前記構造体は、前記圧電トランスと対向する部分に切り欠き部を備えることを特徴とする請求項３に記載の高圧電源装置。
【請求項５】
前記構造体における前記圧電トランスを固着する部分は、前記切り欠き部に向けて突出した形状であることを特徴とする請求項４に記載の高圧電源装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記目的を達成するため、本発明に係る高圧電源装置は、圧電セラミックス振動体に一次電極及び二次電極を形成した圧電トランスと、前記圧電トランスの振動接点の近傍を含む領域の少なくとも一部に固着して、前記圧電トランスを実装するための構造体とを備え、前記構造体は、前記圧電トランスの二次電極からの信号を受けて、高電圧のＤＣ電圧を生成する整流回路と、前記ＤＣ電圧及び外部からの制御信号に応じて前記圧電トランスの一次電極へ電力を供給する制御回路とを表面上に実装し、前記圧電トランスの表面は複数の部分で前記構造体に固着され、前記圧電トランスの前記一次電極及び二次電極と前記構造体に設けられた電極とがリード線で接続されることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月2日(2010.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図１に、本発明の搬送装置の設計支援システムの一実施例の概略説明図を示す。
この搬送装置の設計支援システムは、例えば、図２に示すような、液晶や半導体の製造工程等の複雑な搬送経路や多くの種類及び台数の搬送機（図２に示す例では、床上搬送を行う複数台の往復移動用搬送機（ＲＧＶ）、天井搬送を行う複数台の周回移動用搬送機（ＯＨＶ）及び自動倉庫に配置されるスタッカクレーンを、搬送系コンピュータネットワークを介して搬送コントローラに接続され、搬送コントローラにおいて、搬送経路の選択、在庫管理、各機器への指示を行うようにしている。）を備えるようにした搬送装置について、設計段階から実稼働段階に円滑に移行することができるようにしたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月11日(2010.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂を含み、
体積平均粒径が１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
表面に１個以上４個以下の凹部あるいは孔を有する粒子が２０個数％以上存在し、
前記樹脂の酸価が、８ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることを特徴とする
樹脂粒子。
【請求項２】
ＧＳＤｖが１以上１．２５以下である請求項１に記載の樹脂粒子。
【請求項３】
樹脂粒子の主成分が、架橋成分を含まない線形の樹脂である請求項１又は２に記載の樹脂粒子。
【請求項４】
樹脂粒子の主成分が、ポリエステル樹脂である請求項１乃至３のいずれか１つに記載の樹脂粒子。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１つに記載の樹脂粒子が水系媒体中に分散した樹脂粒子分散液。
【請求項６】
酸価が８ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の樹脂、前記樹脂の酸価に対して１．５モル当量以上３．５モル当量以下のアルカリ、及び、有機溶媒を含む樹脂含有液を準備する工程、及び、
前記樹脂含有液に水系媒体を添加して転相乳化を行うことにより前記中和樹脂含有液を水系媒体中に分散させる工程を含む請求項１乃至４のいずれか１つに記載の樹脂粒子の製造方法。
【請求項７】
前記有機溶媒が、エステル系溶媒及びアルコール系溶媒を含む請求項６に記載の樹脂粒子の製造方法。
【請求項８】
前記有機溶媒が、酢酸エチル及び２−ブタノールである請求項６又は７に記載の樹脂粒子の製造方法。
【請求項９】
前記アルカリが、アンモニアである請求項６乃至８のいずれか１つに記載の樹脂粒子の製造方法。
【請求項１０】
前記アルカリが、アンモニア水溶液である請求項６乃至９のいずれか１つに記載の樹脂粒子の製造方法。
【請求項１１】
前記分散させる工程により得られた乳化液を撹拌しながら不活性ガスを送り込み前記有機溶媒の少なくとも一部を除去する工程を更に含む請求項６乃至１０のいずれか１つに記載の樹脂粒子の製造方法。
【請求項１２】
前記分散させる工程における前記樹脂含有液への前記水系媒体の滴下速度が、前記樹脂１００重量部に対し、前記水系媒体１重量部／分以上３重量部／分以下である請求項６乃至１１のいずれか１つに記載の樹脂粒子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月15日(2010.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性エラストマー（Ａ）１００重量部に対して、エチレン単位含量が５５〜９５モル％、プロピレン単位含量が５〜４５モル％、非共役ポリエン単位含量が０〜１０モル％であり、ＭＦＲ（２３０℃、２．１６ｋｇ荷重）が１．０ｇ／１０分未満であるエチレン・プロピレン・非共役ポリエンランダム共重合体ゴム（Ｂ）を５〜４０重量部配合してなることを特徴とする熱可塑性エラストマー組成物（Ｉ）。
【請求項２】
前記熱可塑性エラストマー（Ａ）が、オレフィン系樹脂（Ｃ）と架橋されたオレフィン系ゴム（Ｄ）とを含有する組成物であることを特徴とする請求項１に記載の熱可塑性エラストマー組成物（Ｉ）。
【請求項３】
前記オレフィン系樹脂（Ｃ）のプロピレン単位含量が５０重量％以上であることを特徴とする請求項２に記載の熱可塑性エラストマー組成物（Ｉ）。
【請求項４】
前記オレフィン系ゴム（Ｄ）が、エチレン・α- オレフィン・非共役ポリエン共重合体ゴムであることを特徴とする請求項２または３に記載の熱可塑性エラストマー組成物（Ｉ）。
【請求項５】
前記架橋されたオレフィン系ゴム（Ｄ）の架橋率が、９５重量％以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の熱可塑性エラストマー組成物（Ｉ）。
【請求項６】
１３０℃における加硫ゴムまたは熱可塑性エラストマーとのヒートシール試験でのヒートシール強度が、０．１ｋＮ／ｍ以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の熱可塑性エラストマー組成物（Ｉ）。
【請求項７】
更に発泡剤（Ｅ）を０．０１〜５重量部配合してなることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の熱可塑性エラストマー組成物（Ｉ）。
【請求項８】
射出成形用であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の熱可塑性エラストマー組成物（Ｉ）。
【請求項９】
請求項1〜８のいずれかに記載の熱可塑性エラストマー組成物（Ｉ）からなることを特徴とする成形体。
【請求項１０】
発泡されていてもよい加硫ゴム成形体および／または発泡されていてもよい熱可塑性エラストマー成形体と接合された請求項９に記載の成形体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の熱可塑性エラストマー組成物（Ｉ）は、熱可塑性エラストマー（Ａ）１００重量部に対して、エチレン単位含量が５５〜９５モル％、プロピレン単位含量が５〜４５モル％、非共役ポリエン単位含量が０〜１０モル％であり、ＭＦＲ（２３０℃、２．１６ｋｇ荷重）が１．０ｇ／１０分未満であるエチレン・プロピレン・非共役ポリエンランダム共重合体ゴム（Ｂ）を５〜４０重量部配合してなることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、非共役ポリエンとしては、具体的には、１，４−ヘキサジエン、３−メチル−１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、４，５−ジメチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、８−メチル−４−エチリデン−１，７−ノナジエンおよび４−エチリデン−１，７−ウンデカジエンなどの鎖状非共役ジエン；メチルテトラヒドロインデン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−メチレン−２−ノルボルネン、５−イソプロピリデン−２−ノルボルネン、５−ビニリデン−２−ノルボルネン、６−クロロメチル−５−イソプロペニル−２−ノルボルネン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−イソプロペニル−２−ノルボルネン、５−イソブテニル−２−ノルボルネン、シクロペンタジエンおよびノルボルナジエンなどの環状非共役ジエン；２，３−ジイソプロピリデン−５−ノルボルネン、２−エチリデン−３−イソプロピリデン−５−ノルボルネン、２−プロペニル−２，２−ノルボルナジエン、４−エチリデン−８−メチル−１，７−ノナジエンなどのトリエンなどが挙げられる。なかでも、５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−ビニル−２−ノルボルネン、シクロペンタジエンおよび４−エチリデン−８−メチル−１，７−ノナジエンが好ましく、５−エチリデン−２−ノルボルネンが特に好ましい。前記エチレン・α−オレフィン・非共役ポリエン共重合体ゴムは、ヨウ素価が好ましくは１〜３０ｇ／１００ｇ、より好ましくは３〜２５ｇ／１００ｇである。また、ムーニー粘度（ＭＬ1+4、１００℃）が１０〜２５０であることが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明で用いられる熱可塑性エラストマー（Ａ）において、上述したオレフィン系樹脂（Ｃ）とオレフィン系ゴム（Ｄ）の使用割合は、オレフィン系樹脂（Ｃ）およびオレフィン系ゴム（Ｄ）の合計１００重量％に対してオレフィン系樹脂（Ｃ）が５〜９５重量％、好ましくは１０〜９０重量％、オレフィン系ゴム（Ｄ）が９５〜５重量％、好ましくは９０〜１０重量％であるのが望ましい。オレフィン系樹脂（Ｃ）およびオレフィン系ゴム（Ｄ）の使用割合が上記範囲にある場合、柔軟性およびゴム弾性に優れるとともに、成形加工に優れた本発明の熱可塑性エラストマー組成物が得られる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
アミン系老化防止剤としては、ジフェニルアミン類およびフェニレンジアミン類などが挙げられる。硫黄系老化防止剤としては、通常ゴムに使用される硫黄系老化防止剤が用いられる。加工助剤としては、通常のゴムの加工に使用される加工助剤を使用することができる。具体的には、リノール酸、リシノール酸、ステアリン酸、パルミチン酸およびラウリン酸などの高級脂肪酸；ステアリン酸バリウム、ステアリン酸亜鉛およびステアリン酸カルシウムなどの高級脂肪酸の塩；前記高級脂肪酸のエステル類などが挙げられる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月11日(2010.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂組成物を強化繊維に含浸せしめてなるプリプレグにおいて、前記樹脂組成物が、環式ポリアリーレンスルフィドを少なくとも５０重量％以上含み、かつ重量平均分子量が１０，０００未満であるポリアリーレンスルフィドプレポリマーを含有してなるものであり、前記強化繊維の含有率が６０〜８０重量％であるプリプレグ。
【請求項２】
強化繊維が一方向に引き揃えられた炭素繊維である、請求項１に記載のプリプレグ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のプリプレグ中の、ポリアリーレンスルフィドプレポリマーを含有してなる樹脂組成物を重合せしめて得られる繊維強化複合材料。
【請求項４】
請求項１または２に記載のプリプレグを積層した後、ポリアリーレンスルフィドプレポリマーを含有してなる樹脂組成物を重合せしめて得られる繊維強化複合材料積層体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本発明における強化繊維のプリプレグ中での重量含有率は、環式ポリアリーレンスルフィドを所定の重量％以上含む樹脂組成物を含浸させることで強化繊維のプリプレグ中での重量含有率を高めることができる特徴があり、機械的特性と成形性のバランスから、本発明では６０〜８０重量％としている。重量含有率が下限値未満では曲げ強度などの機械特性が十分でなく、上限値を超えると強化繊維への樹脂組成物の含浸が困難となる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月10日(2010.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
エポキシ樹脂（Ａ）及び硬化剤（Ｂ）を必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂（Ａ）が、下記構造式（１）
【化１】
2008231238.tif 000001
（式中、Ｅはグリシジルオキシ基含有芳香族炭化水素基を、Ｘはアルコキシ基含有縮合多環式芳香族炭化水素基、Ｘ’はアルコキシ基含有縮合多環式芳香族炭化水素基又はグリシジルオキシ基含有芳香族炭化水素基を表し、ｎは繰り返し単位の平均で０〜１００である。）で表される化合物（ａ１）及び下記構造式（２）
【化２】
2008231238.tif 000002
（式中、Ｅはグリシジルオキシ基含有芳香族炭化水素基を表す。）
で表される化合物（ａ２）を含有するものであって、エポキシ樹脂（Ａ）中の前記化合物（ａ２）の含有率が５質量％以下となる割合であることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記エポキシ樹脂（Ａ）及び前記硬化剤（Ｂ）に加え、更に、無機質充填材（Ｃ）を組成物中７０〜９５質量％となる割合で含有することを特徴とする半導体封止材料。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
即ち、本発明は、エポキシ樹脂（Ａ）及び硬化剤（Ｂ）を必須成分とするエポキシ樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂（Ａ）が、下記構造式（１）
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月2日(2010.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）によって表されるスルホン酸ホスホニウム塩を０．１〜６．０モル％共重合した極限粘度０．６以上の改質ポリエステルからなるカチオン可染ポリエステル糸であって、その単糸横断面形状が中空形状で単糸中空率が５％以上であることを特徴とするカチオン可染ポリエステル中空断面糸。
【化１】
2008231599.tif 000001
【請求項２】
請求項１記載のカチオン可染ポリエステル中空断面糸と該中空断面糸との沸水収縮率差が４〜４５％のポリエステルフィラメントとを引き揃え混繊してなることを特徴とするカチオン可染ポリエステル混繊糸。
【請求項３】
請求項１記載のカチオン可染ポリエステル中空断面糸及び／又は請求項２記載のポリエステル混繊糸を構成糸として含むことを特徴とする織編物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［１］下記一般式（Ｉ）によって表されるスルホン酸ホスホニウム塩を０．１〜６．０モル％共重合した極限粘度０．６以上の改質ポリエステルからなるカチオン可染ポリエステル糸であって、該繊維単糸横断面形状が中空形状でその単糸中空率が５％以上であることを特徴とするカチオン可染ポリエステル中空断面糸。
【化１】
2008231599.tif 000002
［２］上記［１］のカチオン可染ポリエステル中空断面糸と該中空断面糸との沸水収縮率差が４〜４５％のポリエステルフィラメントとを引き揃え、混繊してなることを特徴とするカチオン可染ポリエステル混繊糸。
［３］上記［１］のカチオン可染ポリエステル中空断面糸及び／又は上記［２］のポリエステル混繊糸を構成糸として含むことを特徴とする織編物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
次いで、昇温しながら内温が２６０℃に達するまで常圧反応させた後、１時間かけて７６０ｍｍＨｇから１ｍｍＨｇまで減圧し、同時に１時間４５分かけて内温を２８０℃まで昇温した。１ｍｍＨｇ以下の減圧下、重合温度２８０℃でさらに２時間重合した時点で窒素ガスで真空を破って重合反応を終了し、窒素ガス加圧下に２８０℃のポリマー吐出を行った。
得られたポリマーの軟化点（ＳＰ）は２５３．５℃、ジエチレングリコール含有量（ＤＥＧ含量）は１．６８、吐出１０分後の極限粘度（［η］１０）は０．６７２、吐出６０
分後（［η］６０）は０．６４８であった。