Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月2日(2010.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に下記式（Ｐ）で表されるペロブスカイト型酸化物を含む強誘電体膜を成膜する方法であって、
成膜温度Ｔｓ（℃）と、
成膜時のプラズマ中のプラズマ電位Ｖｓ（Ｖ）とが、下記式（１）及び（２）を充足する成膜条件で、スパッタ法により成膜することを特徴とする強誘電体膜の成膜方法。
（Ｐｂ１−ｘ＋δＭｘ）（ＺｒｙＴｉ１−ｙ）Ｏｚ・・・（Ｐ）、
（式中、ＭはＢｉ及びランタニド元素からなる群より選ばれた少なくとも１種の元素である。
０．０５≦ｘ≦０．４。
０＜ｙ≦０．７。
δ＝０及びｚ＝３が標準であるが、これらの値はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準値からずれてもよい。）
４００≦Ｔｓ（℃）≦４７５・・・・（１）、
２０≦Ｖｓ（Ｖ）≦５０・・・・・・（２）
【請求項２】
基板上に下記式（Ｐ）で表されるペロブスカイト型酸化物を含む強誘電体膜を成膜する方法であって、
成膜温度Ｔｓ（℃）と、
成膜時のプラズマ中のプラズマ電位Ｖｓ（Ｖ）とが、下記式（３）及び（４）を充足する成膜条件で、スパッタ法により成膜することを特徴とする強誘電体膜の成膜方法。
（Ｐｂ１−ｘ＋δＭｘ）（ＺｒｙＴｉ１−ｙ）Ｏｚ・・・（Ｐ）、
（式中、ＭはＢｉ及びランタニド元素からなる群より選ばれた少なくとも１種の元素である。
０．０５≦ｘ≦０．４。
０＜ｙ≦０．７。
δ＝０及びｚ＝３が標準であるが、これらの値はペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準値からずれてもよい。）
４７５≦Ｔｓ（℃）≦６００・・・（３）、
Ｖｓ（Ｖ）≦４０・・・・・・・・（４）
【請求項３】
前記一般式（Ｐ）において、ＭがＢｉであることを特徴とする請求項１又は２に記載の強誘電体膜の成膜方法。
【請求項４】
前記一般式（Ｐ）において、０．０５≦ｘ≦０．２５であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の強誘電体膜の成膜方法。
【請求項５】
前記一般式（Ｐ）において、０＜δ≦０．２であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の強誘電体膜の成膜方法。
【請求項６】
前記一般式（Ｐ）において、Ｓｉ，Ｇｅ，及びＶを実質的に含まないことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の強誘電体膜の成膜方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の強誘電体膜の成膜方法によって成膜されたことを特徴とする強誘電体膜。
【請求項８】
バイポーラ分極−電界曲線において、正電界側の抗電界をＥｃ１とし、負電界側の抗電界をＥｃ２としたとき、（Ｅｃ１＋Ｅｃ２）／（Ｅｃ１−Ｅｃ２）×１００（％）の値が２５％以下であることを特徴とする請求項７に記載の強誘電体膜。
【請求項９】
多数の柱状結晶からなる膜構造を有することを特徴とする請求項７又は８に記載の強誘電体膜。
【請求項１０】
３．０μｍ以上の膜厚を有することを特徴とする請求項７〜９のいずれかに記載の強誘電体膜。
【請求項１１】
請求項７〜１０のいずれかに記載の強誘電体膜と、該強誘電体膜に対して電界を印加する電極とを備えたことを特徴とする強誘電体素子。
【請求項１２】
請求項１１に記載の強誘電体素子からなる圧電素子と、
液体が貯留される液体貯留室及び該液体貯留室から外部に前記液体が吐出される液体吐出口を有する液体貯留吐出部材とを備えたことを特徴とする液体吐出装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
焼結助剤やアクセプタイオンによって強誘電性能が低下することが知られている。本発明では焼結助剤やアクセプタイオンを必須としないので、焼結助剤やアクセプタイオンによる強誘電性能の低下が抑制され、ドナイオンの添加による強誘電性能の向上が最大限引き出される。なお、本発明では、焼結助剤やアクセプタイオンを必須としないが、特性に支障のない限り、これらを添加することは差し支えない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
Ｖｓ−Ｖｆが基板Ｂに衝突するターゲットＴの構成元素Ｔｐの運動エネルギーに相関することを述べた。下記式に示すように、一般に運動エネルギーＥは温度Ｔの関数で表されるので、基板Ｂに対して、Ｖｓ−Ｖｆは温度と同様の効果を持つと考えられる。
Ｅ＝１／２ｍｖ２＝３／２ｋＴ
（式中、ｍは質量、ｖは速度、ｋはボルツマン定数、Ｔは絶対温度である。）
Ｖｓ−Ｖｆは、温度と同様の効果以外にも、表面マイグレーションの促進効果、弱結合部分のエッチング効果などの効果を持つと考えられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
本発明者は、上記一般式（Ｐ）で表されるペロブスカイト型酸化物からなる圧電膜を成膜する場合、成膜温度Ｔｓ（℃）＝約４２０の条件では、Ｖｓ（Ｖ）＝約４８とすることで、Ｐｂ抜けのないペロブスカイト結晶を成長させることができるが、得られる膜の圧電定数ｄ３１は１００ｐｍ／Ｖ程度と低いことを見出している。この条件では、Ｖｓ、すなわち基板に衝突するターゲットＴの構成元素Ｔｐのエネルギーが高すぎるために、膜に欠陥が生じやすく、圧電定数が低下すると考えられる。本発明者は、上記式（１）及び（１１）、又は（３）及び（１２）を充足する範囲で成膜条件を決定することで、圧電定数ｄ３１≧１３０ｐｍ／Ｖの圧電膜を成膜できることを見出している。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月3日(2010.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部電極、有機ＥＬ層、上部電極を有する画素がマトリクス状に形成されて、前記下部電極間を画素毎に絶縁膜で分離して構成された表示部と、前記表示部の外側に形成された端子とを備えた有機ＥＬ表示装置であって、
前記下部電極と前記有機ＥＬ層の間に透明導電膜を有し、
前記透明導電膜は、第１の前記下部電極と前記第１の下部電極に隣接する第２の前記下部電極との間であって、前記絶縁膜の上にも連続して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記透明導電膜は膜厚が５〜２０ｎｍであって、抵抗率が１〜１０５Ω・ｃｍであることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記透明導電膜は膜厚が１０〜２０ｎｍであって、抵抗率が１〜１０５Ω・ｃｍであることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記透明導電膜は第１の前記端子と第２の前記端子の間にも連続膜として形成されていることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
【請求項５】
前記透明導電膜はＩＴＯ又はＩＺＯであることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記下部電極はＡｌ−Ｚｎ合金、Ａｌ−Ｎｉ合金又はＡｌ−Ｓｉ合金で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
下部電極、有機ＥＬ層、上部電極を有する画素がマトリクス状に形成されて表示部を形成し、前記表示部の外側に端子が形成された有機ＥＬ表示装置であって、
前記下部電極と前記有機ＥＬ層の間には透明導電膜が形成され、前記透明導電膜と前記下部電極の間にはＺｎまたはＺｎＯからなる薄膜が形成され、
前記透明導電膜は、第１の前記下部電極とこれに隣接する第２の前記下部電極の間にも連続して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記透明導電膜はＩＺＯであることを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記下部電極はＡｌ−Ｓｉ合金、Ａｌ−Ｎｄ合金、Ａｌ−Ｃｕ合金のいずれかで形成されていることを特徴とする請求項７に記載の有機ＥＬ表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月2日(2010.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記導電部材が、終端部を除き、前記絶縁層と異なる絶縁層により被覆されていることを特徴とする請求項８に記載の加熱装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月12日(2010.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を射出する光源部と、前記光源部から射出した光を回折させることにより回折光を射出する回折光学素子と、を有し、前記回折光を用いて被照射物を照明する照明装置の製造方法であって、
前記光源部から射出した光を前記回折光学素子へ入射させ、前記被照射物の照射領域の方向以外の方向へ進行するゼロ次光を射出するゼロ次光射出工程と、
前記照射領域に対して位置決めされた目標位置を設定する目標位置設定工程と、
前記目標位置に前記ゼロ次光のスポットを一致させるように前記光源部の位置を調整する光源部位置調整工程と、を含むことを特徴とする照明装置の製造方法。
【請求項２】
前記光源部位置調整工程において、前記目標位置である第１目標位置に前記ゼロ次光のスポットを一致させ、
第２目標位置が設定された調整用構造体を前記光源部及び前記被照射物の間の光路中に設置する調整用構造体設置工程と、
前記第１目標位置に対する前記ゼロ次光のスポットの位置、及び前記第２目標位置に対する前記光源部からの光のスポットの位置を一致させるように前記光源部の傾きを調整する光源部傾き調整工程と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の照明装置の製造方法。
【請求項３】
前記調整用構造体を除去する調整用構造体除去工程を含むことを特徴とする請求項２に記載の照明装置の製造方法。
【請求項４】
前記ゼロ次光の光線に略平行な軸を中心とする前記回折光学素子の回転角を調整する回折光学素子回転角調整工程を含むことを特徴とする請求項２又は３に記載の照明装置の製造方法。
【請求項５】
前記回折光学素子は、前記調整用構造体として機能することを特徴とする請求項２に記載の照明装置の製造方法。
【請求項６】
前記光源部傾き調整工程において、前記回折光学素子のうち前記光源部からの光が入射する領域以外の領域に設けられたマークを用いて、前記光源部の傾きを調整することを特徴とする請求項５に記載の照明装置の製造方法。
【請求項７】
前記光源部は、複数の光を射出し、
前記ゼロ次光射出工程において、複数のゼロ次光を射出することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の照明装置の製造方法。
【請求項８】
前記ゼロ次光射出工程において、特定方向へ並列させた複数の前記ゼロ次光を射出し、
前記光源部位置調整工程において、前記目標位置に関して略対称に設定された補助マークの間に複数の前記ゼロ次光が入射するように前記光源部の位置を調整することを特徴とする請求項７に記載の照明装置の製造方法。
【請求項９】
前記ゼロ次光の光線に略平行な軸を中心とする前記光源部の回転角を調整する光源部回転角調整工程を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の照明装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の照明装置の製造方法を用いて製造されたことを特徴とする照明装置。
【請求項１１】
光を射出する光源部と、
前記光源部から射出した光を回折させることにより回折光を射出する回折光学素子と、を有し、前記回折光を用いて被照射物を照明し、
前記回折光学素子は、前記被照射物の照射領域の方向以外の方向へ進行するゼロ次光を射出し、
前記照射領域に対して位置決めされた目標位置へ前記ゼロ次光が入射することを特徴とする照明装置。
【請求項１２】
前記回折光学素子に、前記光源部からの光のスポットの目標位置が形成されていることを特徴とする請求項１１に記載の照明装置。
【請求項１３】
前記回折光学素子上の前記目標位置は、前記光源部からの光が入射する領域以外の領域に設けられているマークによって設定されていることを特徴とする請求項１２に記載の照明装置。
【請求項１４】
請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の照明装置と、
前記照明装置からの光を画像信号に応じて変調する空間光変調装置と、を有することを特徴とするプロジェクタ。
【請求項１５】
前記空間光変調装置の前記照明装置からの光が照射される照射領域以外の領域に前記ゼロ次光の目標位置が形成されていることを特徴とする請求項１４に記載のプロジェクタ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月10日(2010.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空蒸着室を有し、前記真空蒸着室内で蒸着源から発せられた蒸着材料を有機ＥＬディスプレイパネルに用いられる基板に蒸着させる有機ＥＬディスプレイパネル製造装置において、
前記基板を保持する基板トレイと、
前記基板トレイの前記蒸着源の側に設けられた防着部材と、を備え、
前記防着部材は、蒸着源から発せられた蒸着材料の拡散領域を受け入れる位置に設けられている、
ことを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル製造装置。
【請求項２】
前記基板と前記基板トレイとが前記真空蒸着室内を移動しながら、前記基板に前記蒸着材料を蒸着させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル製造装置。
【請求項３】
前記基板トレイを前記真空蒸着室に対して搬入搬出を行う搬送手段を備えた、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬディスプレイパネル製造装置。
【請求項４】
前記搬送手段がころを有する、
ことを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬディスプレイパネル製造装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
それに比べて、フルカラー塗り分け方式の有機ＥＬディスプレイは、カラーフィルタが不要となり、発光効率が非常に優れているという利点を持っている。具体的には発光層を塗り分けるために、一般的にはドライプロセスであればマスク蒸着、ウェットプロセスであればインクジェット法にて成膜が行われている。有機ＥＬ素子は、水分に弱いとされており、現状ではドライプロセスによる成膜の方が、発光効率が良いとされている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造装置は、真空蒸着室を有し、前記真空蒸着室内で蒸着源から発せられた蒸着材料を有機ＥＬディスプレイパネルに用いられる基板に蒸着させるようになっており、前記基板を保持する基板トレイと、前記基板トレイの前記蒸着源の側に設けられた防着部材と、を備え、前記防着部材は、蒸着源から発せられた蒸着材料の拡散領域を受け入れる位置に設けられている、ことを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造装置は、基板トレイに防着部材を設けることで、有機ＥＬディスプレイパネル製造時における真空蒸着室への着膜を著しく低減することができる。メンテナンスサイクルを長期化できると共に、メンテナンスをするときの作業が容易になるという絶大な効果を奏する。この結果として、本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造装置は、有機ＥＬディスプレイパネルの生産性が飛躍的に向上し、また歩留りも格段に向上するなどの優れた効果を奏する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイパネル製造装置は、基板トレイを真空蒸着室に対して搬入搬出を行う搬送手段を備えている場合、その搬送手段への蒸着材料の付着を著しく抑えることもできる。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月17日(2009.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｘ軸、ｙ軸及びｚ軸を有する試料室と、該試料室に装着されたイオンビーム光学系と、を有し、透過電子顕微鏡用の試料を作成するための集束イオンビーム装置において、
走査型電子顕微鏡に装着可能な走査型電子顕微鏡試料ホルダと、
上記試料室内にて上記走査型電子顕微鏡試料ホルダを着脱可能に支持するためのユーセントリック構造を有する試料移動ステージと、
上記試料室を大気開放することなく、上記走査型電子顕微鏡試料ホルダを上記試料室より出し入れするための試料ホルダ交換機構と、
透過型電子顕微鏡に装着可能な透過型電子顕微鏡試料ホルダと、
上記透過型電子顕微鏡試料ホルダを着脱可能に支持し、且つ、上記試料室を大気開放することなく上記透過型電子顕微鏡試料ホルダを上記試料室より出し入れするためのサイドエントリ型ステージと、
上記走査型電子顕微鏡試料ホルダに保持された試料に集束イオンビームを照射することにより、上記試料を切り出して生成された微小試料片を上記走査型電子顕微鏡試料ホルダから上記透過型電子顕微鏡試料ホルダに移送するためのプローブと、
上記プローブを駆動するマイクロサンプリングステージと、
上記プローブと上記微小試料片とを、又は、上記微小試料片と上記透過型電子顕微鏡試料ホルダとを接着するデポジション装置と、
を有し、
上記試料ホルダ交換機構と上記透過型電子顕微鏡試料ホルダは互いに直交する軸線に沿ってそれぞれ配置されていることを特徴とする集束イオンビーム装置。
【請求項２】
請求項１記載の集束イオンビーム装置において、
上記サイドエントリ型ステージと上記マイクロサンプリングステージは互いに直交する軸線に沿ってそれぞれ配置されていることを特徴とする集束イオンビーム装置。
【請求項３】
請求項１記載の集束イオンビーム装置において、
上記走査型電子顕微鏡試料ホルダに装着された試料を集束イオンビームによって加工する場合には、前記透過型電子顕微鏡試料ホルダは退避位置に配置し、集束イオンビーム加工が終了し、前記プローブを用いて、試料から切り出した微細な試料片を前記透過型電子顕微鏡試料ホルダに移送する場合には、前記透過型電子顕微鏡試料ホルダは退避位置から内方に移動し、上記走査型電子顕微鏡試料ホルダは下方に退避させるように構成されていることを特徴とする集束イオンビーム装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月22日(2010.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マグネシウムイオンとアルミニウムイオンとがエーテル系有機溶媒に溶解している電解液であって、
金属マグネシウムと、ハロゲン化炭化水素ＲＸと、ハロゲン化アルミニウムＡlＹ3と  、第四級アンモニウム塩Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4Ｎ+Ｚ-とが、前記エーテル系有機溶媒に添加され  、
これらが撹拌されながら加熱処理されることによって生成する、
マグネシウムイオン含有非水電解液。
（但し、前記ハロゲン化炭化水素を表す一般式ＲＸ中、Ｒはアルキル基又はアリール基であり、Ｘは塩素、臭素、又はヨウ素である。また、前記ハロゲン化アルミニウムを表す一般式ＡlＹ3中、Ｙは塩素、臭素、又はヨウ素である。また、前記第四級アンモニウム塩を表す一般式Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4Ｎ+Ｚ-中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4はアルキル基又はアリール基であり、Ｚ-は塩化物イオン(Ｃl-)、臭化物イオン(Ｂr-)、ヨウ化物イオン(Ｉ-)、酢酸イオン(ＣＨ3ＣＯＯ-)、過塩素酸イオン(ＣlＯ4-)、テトラフルオロホウ酸イオン(ＢＦ4-)、ヘキサフルオロリン酸イオン(ＰＦ6-)、ヘキサフルオロヒ酸イオン(ＡsＦ6-)、パーフルオロアルキルスルホン酸イオン(Ｒf1ＳＯ3-；Ｒf1はパーフルオロアルキル基)、又はパーフルオロアルキルスルホニルイミドイオン((Ｒf2ＳＯ2)2Ｎ-；Ｒf2はパーフルオロアルキル基)である。）
【請求項２】
前記ハロゲン化炭化水素が、ヨードメタン、ヨードエタン、１−ヨードプロパン、２−ヨードプロパン、１−ヨードブタン、２−ヨードブタン、ブロモエタン、１−ブロモプロパン、２−ブロモプロパン、１−ブロモブタン、２−ブロモブタン、ブロモベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼン、ｍ−ジブロモベンゼン、ｐ−ジブロモベンゼン、１−クロロプロパン、２−クロロプロパン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、及びｐ−ジクロロベンゼンからなる群から選ばれた少なくとも１種である、請求項１に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液。
【請求項３】
前記ハロゲン化炭化水素が、前記金属マグネシウム１ｍｏｌに対し０．８〜１．２ｍｏｌの割合で加えられている、請求項１に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液。
【請求項４】
前記ハロゲン化アルミニウムが、前記金属マグネシウム１ｍｏｌに対し１．０〜２．０ｍｏｌの割合で加えられている、請求項１に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液。
【請求項５】
前記第四級アンモニウム塩が、前記金属マグネシウム１ｍｏｌに対し１．０〜２．０ｍｏｌの割合で加えられている、請求項１に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液。
【請求項６】
前記金属マグネシウムが、前記エーテル系有機溶媒に対し０．２５〜１．０ｍｏｌ／ｌの割合で加えられている、請求項１に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液。
【請求項７】
前記の加熱処理における加熱温度が５０〜８０℃である、請求項１に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液。
【請求項８】
金属マグネシウムと、ハロゲン化炭化水素ＲＸと、ハロゲン化アルミニウムＡlＹ3と  、第四級アンモニウム塩Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4Ｎ+Ｚ-とを、エーテル系有機溶媒に添加する工程  と、
これらを撹拌しながら加熱処理することによって、マグネシウムイオンとアルミニウ  ムイオンとを前記エーテル系有機溶媒に溶解させる工程とを行う、
マグネシウムイオン含有非水電解液の製造方法。
（但し、前記ハロゲン化炭化水素を表す一般式ＲＸ中、Ｒはアルキル基又はアリール基であり、Ｘは塩素、臭素、又はヨウ素である。また、前記ハロゲン化アルミニウムを表す一般式ＡlＹ3中、Ｙは塩素、臭素、又はヨウ素である。また、前記第四級アンモニウム塩を表す一般式Ｒ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4Ｎ+Ｚ-中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4はアルキル基又はアリール基であり、Ｚ-は塩化物イオン(Ｃl-)、臭化物イオン(Ｂr-)、ヨウ化物イオン(Ｉ-)、酢酸イオン(ＣＨ3ＣＯＯ-)、過塩素酸イオン(ＣlＯ4-)、テトラフルオロホウ酸イオン(ＢＦ4-)、ヘキサフルオロリン酸イオン(ＰＦ6-)、ヘキサフルオロヒ酸イオン(ＡsＦ6-)、パーフルオロアルキルスルホン酸イオン(Ｒf1ＳＯ3-；Ｒf1はパーフルオロアルキル基)、又はパーフルオロアルキルスルホニルイミドイオン((Ｒf2ＳＯ2)2Ｎ-；Ｒf2はパーフルオロアルキル基)である。）
【請求項９】
前記ハロゲン化炭化水素として、ヨードメタン、ヨードエタン、１−ヨードプロパン、２−ヨードプロパン、１−ヨードブタン、２−ヨードブタン、ブロモエタン、１−ブロモプロパン、２−ブロモプロパン、１−ブロモブタン、２−ブロモブタン、ブロモベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼン、ｍ−ジブロモベンゼン、ｐ−ジブロモベンゼン、１−クロロプロパン、２−クロロプロパン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、及びｐ−ジクロロベンゼンからなる群から選ばれた少なくとも１種を用いる、請求項８に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液の製造方法。
【請求項１０】
前記ハロゲン化炭化水素を、前記金属マグネシウム１ｍｏｌに対し０．８〜１．２ｍｏｌの割合で加える、請求項８に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液の製造方法。
【請求項１１】
前記ハロゲン化アルミニウムを、前記金属マグネシウム１ｍｏｌに対し１．０〜２．０ｍｏｌの割合で加える、請求項８に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液の製造方法。
【請求項１２】
前記第四級アンモニウム塩を、前記金属マグネシウム１ｍｏｌに対し１．０〜２．０ｍｏｌの割合で加える、請求項８に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液の製造方法。
【請求項１３】
前記金属マグネシウムを前記エーテル系有機溶媒に対し０．２５〜１．０ｍｏｌ／ｌの割合で加える、請求項８に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液の製造方法。
【請求項１４】
前記の加熱処理における加熱温度を５０〜８０℃とする、請求項８に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液の製造方法。
【請求項１５】
第１極と、第２極と、請求項１〜７のいずれか１項に記載したマグネシウムイオン含有非水電解液とを有し、前記第２極の活物質は、酸化されてマグネシウムイオンを生成するように構成されている、電気化学デバイス。
【請求項１６】
前記第２極の前記活物質が、マグネシウムの金属単体、或いはマグネシウムを含有する合金である、請求項１５に記載した電気化学デバイス。
【請求項１７】
前記第１極の活物質が、前記マグネシウムイオンと反応する化合物、又は前記マグネシウムイオンを吸蔵する化合物からなる、請求項１５に記載した電気化学デバイス。
【請求項１８】
電池として構成されている、請求項１５に記載した電気化学デバイス。
【請求項１９】
逆反応によって充電可能な二次電池として構成されている、請求項１８に記載した電気化学デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月7日(2010.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線透過特性を有する管状の気密容器内に封入した希ガス内に放電して３００〜３３０ｎｍの波長で発光するメタルハライドランプにおいて、
水銀およびヨウ化タリウムそれに少なくともヨウ化水銀、インジウム、マンガン、ビスマス、コバルト、亜鉛、のうちいずれかが前記気密容器内に封入され、
前記水銀と前記ヨウ化水銀を除く前記金属の前記封入量ＭがＭ≧０．０１ｍｇ／ｃｃである
ことを特徴とするメタルハライドランプ。
【請求項２】
前記気密容器は、
内径ＤがＤ≦３０ｍｍであって単位長さ当たりの入力が６０Ｗ／ｃｍ以上であり安定点灯時の電位傾度Ｄが９Ｖ／ｃｍ＜Ｄ＜３０Ｖ／ｃｍであること
を特徴とする請求項１記載のメタルハライドランプ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明に係るメタルハライドランプは、紫外線透過特性を有する管状の気密容器内に封入した希ガス内に放電して３００〜３３０ｎｍの波長で発光するメタルハライドランプにおいて、水銀およびヨウ化タリウムそれに少なくともヨウ化水銀、インジウム、マンガン、ビスマス、コバルト、亜鉛、のうちいずれかが前記気密容器内に封入され、前記水銀と前記ヨウ化水銀を除く前記金属の前記封入量ＭがＭ≧０．０１ｍｇ／ｃｃである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月9日(2010.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクセスサイクルの異なる複数のメモリデバイスにデータの読み書きを行うメモリコントローラにおいて、
前記複数のメモリデバイスに対するメモリアクセス要求を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持されたメモリアクセス要求をメモリデバイスに発行する際に、前記メモリコントローラと各メモリデバイスとの間の配線遅延を示す配線遅延情報に基づき、前記メモリアクセス要求を発行する順序を変更するように制御する制御手段とを有することを特徴とするメモリコントローラ。
【請求項２】
アクセスサイクルの異なる複数のメモリデバイスにデータの読み書きを行うメモリコントローラにおいて、
前記複数のメモリデバイスに対するメモリアクセス要求を保持する保持手段と、
前記保持手段に保持されたメモリアクセス要求をメモリデバイスに発行する際に、前記複数のメモリデバイスにおける各レイテンシを示すレイテンシ情報に基づき、前記メモリアクセス要求を発行する順序を変更するように制御する制御手段とを有することを特徴とするメモリコントローラ。
【請求項３】
前記レイテンシ情報を保持するレジスタを更に有し、
前記制御手段は、前記レジスタに保持されているレイテンシ情報に基づき、前記メモリアクセス要求を発行する順序を変更するように制御することを特徴とする請求項２記載のメモリコントローラ。
【請求項４】
前記配線遅延情報を保持するレジスタを更に有し、
前記制御手段は、前記レジスタに保持されている配線遅延情報に基づき、前記メモリアクセス要求を発行する順序を変更するように制御することを特徴とする請求項１記載のメモリコントローラ。
【請求項５】
前記配線遅延情報を外部から供給するための外部端子を有し、
前記制御手段は、前記外部端子から供給された配線遅延情報に基づき、前記メモリアクセス要求を発行する順序を変更するように制御することを特徴とする請求項１記載のメモリコントローラ。
【請求項６】
前記制御手段は、前記保持手段に保持した先頭のメモリアクセス要求に対する配線遅延情報と、前記保持手段に保持した２番目のメモリアクセス要求に対する配線遅延情報とにより、前記先頭のメモリアクセス要求が前記２番目のメモリアクセス要求よりもアクセス待ち時間が多い場合、前記２番目のメモリアクセス要求を発行するように順番を変更することを特徴とする請求項４又は５記載のメモリコントローラ。
【請求項７】
アクセスサイクルの異なる複数のメモリデバイスにデータの読み書きを行うメモリコントローラの制御方法であって、
前記複数のメモリデバイスに対するメモリアクセス要求を保持する保持工程と、
前記保持工程で保持されたメモリアクセス要求をメモリデバイスに発行する際に、前記メモリコントローラと各メモリデバイスとの間の配線遅延を示す配線遅延情報に基づき、前記メモリアクセス要求を発行する順序を変更するように制御する制御工程とを有することを特徴とするメモリコントローラの制御方法。
【請求項８】
アクセスサイクルの異なる複数のメモリデバイスにデータの読み書きを行うメモリコントローラの制御方法であって、
前記複数のメモリデバイスに対するメモリアクセス要求を保持する保持工程と、
前記保持工程で保持されたメモリアクセス要求をメモリデバイスに発行する際に、前記複数のメモリデバイスにおけるレイテンシを示すレイテンシ情報に基づき、前記メモリアクセス要求を発行する順序を変更するように制御する制御工程とを有することを特徴とするメモリコントローラの制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、アクセスサイクルの異なる複数のメモリデバイスにデータの読み書きを行うメモリコントローラにおいて、前記複数のメモリデバイスに対するメモリアクセス要求を保持する保持手段と、前記保持手段に保持されたメモリアクセス要求をメモリデバイスに発行する際に、前記メモリコントローラと各メモリデバイスとの間の配線遅延を示す配線遅延情報に基づき、前記メモリアクセス要求を発行する順序を変更するように制御する制御手段とを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明は、アクセスサイクルの異なる複数のメモリデバイスにデータの読み書きを行うメモリコントローラにおいて、前記複数のメモリデバイスに対するメモリアクセス要求を保持する保持手段と、前記保持手段に保持されたメモリアクセス要求をメモリデバイスに発行する際に、前記複数のメモリデバイスにおける各レイテンシを示すレイテンシ情報に基づき、前記メモリアクセス要求を発行する順序を変更するように制御する制御手段とを有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明によれば、複数のメモリデバイスとの間の配線遅延を示す情報に基づき、各メモリデバイスに対するメモリアクセス要求を発行する順序を変更するように制御することで、メモリデータバス上の効率を改善することが可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月2日(2010.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
またライトが点灯するだけでなく、人体検知センサよりの検出信号で、警報音が鳴動する機能を有するものも知られている。そのようなものでは、その警報音の音量を調整できるようになっている。
【特許文献１】特開平１０−１４４１３４号公報（段落０００８〜００１３及び図１    ，図２）
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月3日(2010.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力画像を投影面に投影する投影手段と、
前記投影面の、前記投影手段によって投影された前記入力画像を含む範囲を撮像した撮像画像を取得する取得手段と、
前記撮像画像と前記入力画像の差分画像を生成する生成手段と、
前記生成手段が異なる時刻に生成した複数の前記差分画像から、前記投影面における前記画像投影装置に関する操作をするための操作物体に対応する領域を検出する検出手段と、を有することを特徴とする画像投影装置。
【請求項２】
前記取得手段は、第１の時刻および当該第１の時刻から所定時間経過した第２の時刻に、前記撮像画像を取得し、
前記生成手段は、前記第１の時刻に取得された前記撮像画像と前記第１の時刻の前記入力画像の差分画像と、前記第２の時刻に取得された前記撮像画像と前記第２の時刻の前記入力画像の差分画像とを生成し、
前記検出手段は、前記第１の時刻に取得された前記撮像画像と前記第１の時刻の前記入力画像の差分画像と、前記第２の時刻に取得された前記撮像画像と前記第２の時刻の前記入力画像の差分画像とに基づいて、前記投影面における前記操作物体に対応する領域を検出することを特徴とする請求項１記載の画像投影装置。
【請求項３】
前記検出手段は、前記操作物体に対応する領域が検出された後は、前記生成手段が生成した前記差分画像中の、前記検出された前記操作物体に対応する領域の形状と類似度が高いと見なされる領域を、前記操作物体に対応する領域として検出することを特徴とする請求項１または２記載の画像投影装置。
【請求項４】
前記検出手段は、前記生成手段が過去に生成した過去の差分画像を記憶する記憶手段を有し、前記生成手段からの前記差分画像と、前記記憶手段からの前記過去の差分画像との差分画像から前記操作物体に対応する領域を検出することを特徴とする請求項１または２記載の画像投影装置。
【請求項５】
前記検出手段は、前記記憶手段に、前記操作物体に対応する領域が検出されなかった際の前記生成手段からの差分画像を記憶させることを特徴とする請求項４記載の画像投影装置。
【請求項６】
前記検出手段が検出した前記操作物体に対応する領域の、特定部位の位置に関する情報を検出する座標検出手段と、
前記座標検出手段が検出した前記特定部位の位置に関する情報に基づいて、前記操作物体による操作を判定する判定手段と、
をさらに有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像投影装置。
【請求項７】
前記判定手段が判定した操作に対応した前記画像投影装置の動作を制御する制御手段をさらに有することを特徴とする請求項６記載の画像投影装置。
【請求項８】
前記画像投影装置に関する操作をするためのユーザインタフェース画像が重畳した前記入力画像を前記投影手段に供給するオーバーレイ手段をさらに有し、
前記判定手段は、前記座標検出手段が検出した前記特定部位の位置に関する情報と、前記ユーザインタフェース画像の位置に関する情報とに基づいて、前記操作物体による前記画像投影装置の操作を判定することを特徴とする請求項６又は７記載の画像投影装置。
【請求項９】
投影手段によって入力画像を投影面に投影させる投影工程と、
取得手段が、前記投影面の、前記投影工程によって投影された前記入力画像を含む範囲を撮像した撮像画像を取得する取得工程と、
生成手段が、前記撮像画像と前記入力画像の差分画像を生成する生成工程と、
検出手段が、前記生成工程において異なる時刻に生成された複数の前記差分画像から、前記画像投影装置に関する操作をするための操作物体に対応する領域を検出する検出工程と、
を有することを特徴とする画像投影装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上述の目的は、画像投影装置であって、入力画像を投影面に投影する投影手段と、投影面の、投影手段によって投影された入力画像を含む範囲を撮像した撮像画像を取得する取得手段と、撮像画像と入力画像の差分画像を生成する生成手段と、生成手段が異なる時刻に生成した複数の差分画像から、投影面における画像投影装置に関する操作をするための操作物体に対応する領域を検出する検出手段と、を有することを特徴とする画像投影装置によって達成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、上述の目的は、画像投影装置の制御方法であって、投影手段によって入力画像を投影面に投影させる投影工程と、取得手段が、投影面の、投影工程によって投影された入力画像を含む範囲を撮像した撮像画像を取得する取得工程と、生成手段が、撮像画像と入力画像の差分画像を生成する生成工程と、検出手段が、生成工程において異なる時刻に生成された複数の差分画像から、画像投影装置に関する操作をするための操作物体に対応する領域を検出する検出工程と、を有することを特徴とする画像投影装置の制御方法によっても達成される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月30日(2010.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の業務活動から構成される業務プロセスに関する情報であって、前記業務プロセスの各々は、複数の業務活動を連続させたものであり、前記業務プロセスに関する情報の各々は、該業務プロセスを構成する複数の前記業務活動について個々の前記業務活動の接続関係と個々の前記業務活動の時間的な前後関係を示すリンク情報を含む、業務プロセスに関する情報と、前記業務プロセスに含まれる特定の業務活動に関し、該業務活動、該業務活動で想定される業務上のリスク、および該リスクに対処する業務活動を関連付けする情報と、から導き出される個々の業務活動と当該業務活動のリスクに対処する業務活動との接続関係および時間的な前後関係から、予め定められた内部統制上の規約に基づいて、前記各業務プロセスについて、リスクに対処する業務活動を実行することができない内部統制上の問題点を検出する問題点検出手段と、
前記検出した問題点を利用者に通知するよう制御する通知制御手段と、
を備える業務リスク管理装置。
【請求項２】
前記予め定められた内部統制上の規約は、業務活動の実行時間よりもリスクに対処する業務活動の実行時間が遅れるときを、リスクに対処する業務活動を実行することができない問題点であるとした、請求項１に記載の業務リスク管理装置。
【請求項３】
前記予め定められた内部統制上の規約は、業務活動と当該業務活動のリスクに対処する業務活動の一方の業務フローしか存在しないときを、リスクに対処する業務活動を実行することができない問題点であるとした、請求項１に記載の業務リスク管理装置。
【請求項４】
前記業務プロセスにおける内部統制上の問題点が検出された場合に、前記内部統制上の問題点に対する解決方法を記憶した解決方法を記憶する手段から該問題点に対する解決方法を抽出する手段と、
前記抽出した解決方法を利用者に通知するように制御する通知制御手段と、
を更に備える請求項１ないし３いずれか１つに記載の業務リスク管理装置。
【請求項５】
前記内部統制上の規約は、前記業務上のリスクを含む業務活動と、該リスクに対処する業務活動の、前記業務プロセス上における順位に関する問題点を含む請求項１ないし３いずれか１つに記載の業務リスク管理装置。
【請求項６】
前記内部統制上の規約は、前記業務上のリスクを含む業務活動と、該リスクに対処する業務活動の、前記業務プロセス上における実行経路に関する問題点を含む請求項１ないし３いずれか１つに記載の業務リスク管理装置。
【請求項７】
前記内部統制上の規約は、前記業務上のリスクを含む業務活動の内容と、該リスクに対処する業務活動の内容における、整合性に関する問題点を含む請求項１ないし３いずれか１つに記載の業務リスク管理装置。
【請求項８】
前記各業務活動の内容として、少なくとも業務主体、業務動作および業務対象に係る内容の情報を取得する手段を、更に備える請求項７に記載の業務リスク管理装置。
【請求項９】
業務リスク管理装置における業務リスク管理方法であって、
複数の業務活動から構成される業務プロセスに関する情報をであって、前記業務プロセスの各々は、複数の業務活動を連続させたものであり、前記業務プロセスに関する情報の各々は、該業務プロセスを構成する複数の前記業務活動についての個々の前記業務活動の接続関係と個々の前記業務活動の時間的な前後関係を示すリンク情報を含む、業務プロセスに関する情報と、前記業務プロセスに含まれる特定の業務活動に関し、該業務活動、該業務活動で想定される業務上のリスク、および該リスクに対処する業務活動を関連付けする情報と、から導き出される個々の業務活動と当該業務活動のリスクに対処する業務活動との接続関係および時間的な前後関係から、予め定められた内部統制上の規約に基づいて、前記各業務プロセスについて、リスクに対処する業務活動を実行することができない内部統制上の問題点を検出し、
前記検出した問題点を利用者に通知するように制御する、
各ステップを備える業務リスク管理方法。
【請求項１０】
前記業務プロセスにおける内部統制上の問題点が検出された場合に、前記内部統制上の問題点に対する解決方法を記憶した解決方法を記憶する手段から該問題点に対する解決方法を抽出し、
前記抽出した解決方法を利用者に通知するように制御する、
各ステップを更に備える請求項９に記載の業務リスク管理方法。
【請求項１１】
前記内部統制上の規約は、前記業務上のリスクを含む業務活動と、該リスクに対処する業務活動の、前記業務プロセス上における順位に関する問題点を規定するステップを含む請求項９に記載の業務リスク管理方法。
【請求項１２】
前記内部統制上の規約は、前記業務上のリスクを含む業務活動と、該リスクに対処する業務活動の、前記業務プロセス上における実行経路に関する問題点を規定するステップを含む請求項９に記載の業務リスク管理方法。
【請求項１３】
前記内部統制上の規約は、前記業務上のリスクを含む業務活動の内容と、該リスクに対処する業務活動の内容における、整合性に関する問題点を規定するステップを含む請求項９に記載の業務リスク管理方法。
【請求項１４】
前記各業務活動の内容として、少なくとも業務主体、業務動作および業務対象に係る内容の情報を取得するステップを、更に備える請求項１３に記載の業務リスク管理方法。
【請求項１５】
複数の業務活動から構成される業務プロセスに関する情報であって、前記業務プロセスの各々は、複数の業務活動を連続させたものであり、前記業務プロセスに関する情報の各々は、該業務プロセスを構成する複数の前記業務活動についての個々の前記業務活動の接続関係と個々の前記業務活動の時間的な前後関係を示すリンク情報を含む、業務プロセスに関する情報と、前記業務プロセスに含まれる特定の業務活動に関し、該業務活動、該業務活動で想定される業務上のリスク、および該リスクに対処する業務活動を関連付けする情報と、から導き出される個々の業務活動と当該業務活動のリスクに対処する業務活動との接続関係および時間的な前後関係から、予め定められた内部統制上の規約に基づいて、前記各業務プロセスについて、リスクに対処する業務活動を実行することができない内部統制上の問題点を検出するステップと、
前記検出した問題点を利用者に通知するように制御するステップと、
をコンピュータに実行させるための業務リスク管理プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
業務リスク管理装置３００は、実施例２の構成に加えて、更に、問題点に対する解決案を記憶する解決案記憶部２１２、検出された問題点に対する解決案を、解決案記憶部２１２から探索する解決案探索部２１４、および利用者に対して問題点に対する解決案を提示する推薦／ヒント生成部２２６を備える。なお、本実施の形態においては、問題点記憶部２１０に記憶されるデータ構造は、実施例２におけるそれに加えて、「推薦済み」の項目が追加されており、その値はブール値である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月17日(2010.6.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記ケースは、底部に相対する位置に開口部を有するケース本体と、該ケース本体の開口部を閉じる蓋板とを備えていて、少なくとも前記ケース本体は金属からなり、
前記ユニットの構成要素は、発熱を伴うパワー素子と前記パワー素子を通して流れる主電流が通電されるバスバーと制御信号を流す接続ピンとを有して、前記バスバー及び接続ピンが外部に導出されたパワーモジュールと、前記パワーモジュールを制御する制御部の構成部品を回路基板に実装してなるコントローラとを含み、
前記パワーモジュールは前記ケース本体の底部内面に接した状態で配置され、
前記コントローラは前記回路基板を前記ケース本体の底部内面と平行させた状態で、前記パワーモジュールよりも前記ケース本体の開口部寄りに位置させて前記パワーモジュールに隣接配置され、
前記パワーモジュールから導出された接続ピンが前記コントローラの回路基板に半田付けされて前記パワーモジュールとコントローラとの間が接続され、
前記樹脂モールド層は、前記接続ピンをも覆うように形成されて、該接続ピンを覆う樹脂モールド層の周囲にも前記空所が形成されている請求項１に記載の電子ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月24日(2009.12.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
つまり、従来のカメラ制御装置では、追尾対象となる特定または不特定の被写体を見逃さずにカメラが追尾することや、追尾対象となる不意に現れる人物や物体を見逃さないようにカメラを動かすことや、カメラがとらえた得体の知れない追尾対象（未確認物体）を拡大撮影し、自動物体認識に役立てることをそれぞれ主な撮影目的にしているものである。
【特許文献１】特開平７−４６５６６号公報
【特許文献２】特開平８−２０２４３７号公報
【特許文献３】特開２００３−１８９２９０号公報
【非特許文献１】青木勝司、吉田篤、荒木昭一、“アクティブカメラ群による対象追跡ならびに全観測領域の協調監視”、情報科学技術レターズ、ｖｏｌ．４、ＬＩ−０１１、ｐｐ１６９−１７２、２００５
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月19日(2010.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電線に挿着して該電線と共にハウジングの端子収容孔に圧入する電線シール部材であり、円筒状の合成樹脂から成る芯材の内外両面にシール機能を有する弾性部材を被着し、前記芯材は該弾性部材を被着しない後端部を後方に延在し、該後端部の長手方向に複数の切込部を設けたことを特徴とする電線シール部材。
【請求項２】
前記芯材の前記後端部の外周に、前記後端部を把持し易くするためのリブを形成した請求項１に記載の電線シール部材。
【請求項３】
前記芯材の前記後端部の内壁に、電線を押さえ付けるための突起状の電線押さえ部を形成した請求項１又は２に記載の電線シール部材。
【請求項４】
前記芯材にテーパ部を形成し、該テーパ部により前記芯材の前記ハウジングへの挿入状態を確認するようにした請求項１〜３の何れか１つの請求項に記載の電線シール部材。
【請求項５】
前記弾性部材は合成ゴムとしたことを特徴とする請求項１〜４の何れか１つの請求項に記載の電線シール部材。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月21日(2010.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】開口部を挟んで対向する一対の脚部を有する概してＵ字形のクランプ本体と、一方の脚部に進退可能に取り付けられる受け金と、他方の脚部に螺着されて軸方向に進退可能な締付ボルトと、受け金を開口部に突出させる方向に移動付勢する皿バネからなる付勢手段とを備えたことを特徴とするネジ式クランプ。【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】この目的を達成するため、請求項１にかかる本発明は、開口部を挟んで対向する一対の脚部を有する概してＵ字形のクランプ本体と、一方の脚部に進退可能に取り付けられる受け金と、他方の脚部に螺着されて軸方向に進退可能な締付ボルトと、受け金を開口部に突出させる方向に移動付勢する皿バネからなる付勢手段とを備えたことを特徴とするネジ式クランプである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月16日(2010.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像形成部で記録したシートを定着手段へ搬送し、記録像を加熱定着して排出する画像形成装置において、
装置本体内に設けられた冷却用ファンと、
複数の記録速度の切り換えを可能とする速度切換手段と、
を有し、
記録速度を通常速度よりも遅く設定したときに、前記冷却用ファンを非稼働から稼働へ切り換え、もしくはファン回転数を通常記録時よりも大きく設定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
画像形成部で記録したシートを定着手段へ搬送し、記録像を加熱定着して排出する画像形成装置において、
装置本体内に設けられた冷却用ファンと、
定着後のシートを排出するための排出部であって、シート記録面を上にして排出するフェイスアップ排出部と、シート記録面を下にして排出するフェイスダウン排出部と、
を有し、
前記フェイスアップ排出部へ排出する場合に前記冷却用ファンを非稼働から稼働へ切り換え、もしくはファン回転数をフェイスダウン排出部へ排出するときよりも大きく設定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
画像形成部で記録したシートを定着手段へ搬送し、記録像を加熱定着して排出する画像形成装置において、
装置本体内に設けられた冷却用ファンと、
複数の記録速度の切り換えを可能とする速度切換手段と、
定着後のシートを排出するための排出部であって、シート記録面を上にして排出するフェイスアップ排出部と、シート記録面を下にして排出するフェイスダウン排出部と、
を有し、
記録速度を通常速度よりも遅く設定したときに、前記冷却用ファンを非稼働から稼働へ切り換え、もしくはファン回転数を通常記録時よりも大きく設定し、前記フェイスアップ排出部へ排出する場合に前記冷却用ファンを非稼働から稼働へ切り換え、もしくはファン回転数をフェイスダウン排出部へ排出するときよりも大きく設定することを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
画像形成部で記録したシートを定着手段へ搬送し、記録像を加熱定着して排出する画像形成装置において、
装置本体内に設けられた冷却用ファンと、
定着後のシートを排出するための排出部と、
を有し、
前記冷却用ファンが装置本体内に設けられた定着後のシート搬送経路の一部と前記排出部に排出されたシートを同時に冷却可能に構成したことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記画像形成部は、像担持体上にトナー像を形成し、該トナー像をシートに転写して記録することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明に係る代表的な構成は、画像形成部で記録したシートを定着手段へ搬送し、記録像を加熱定着して排出する画像形成装置において、装置本体内に設けられた冷却用ファンと、複数の記録速度の切り換えを可能とする速度切換手段と、を有し、記録速度を通常速度よりも遅く設定したときに、前記冷却用ファンを非稼働から稼働へ切り換え、もしくはファン回転数を通常記録時よりも大きく設定することを特徴とする。