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【手続補正書】
【提出日】平成21年11月20日(2009.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
多角形状の光出射面上に形成された電極を有する半導体発光素子と、前記電極と接続された取り出し電極とを備えた半導体発光装置であって、
前記電極は、前記光出射面の少なくとも２辺に沿って形成されており、
前記取り出し電極は、前記電極上に形成されていると共に、前記光出射面の上方に開口する開口部を有し、
前記半導体発光素子は、青色光又は紫外光を前記光出射面から出射し、
前記光出射面のうち、前記電極が形成されていない領域上には、前記光出射面から出射される光を励起光として蛍光を発する蛍光体が設けられていることを特徴とする半導体発光装置。
【請求項２】
前記取り出し電極は、前記半導体発光装置の上方に開口する補助開口部を有しており、
前記補助開口部は、前記開口部の外側に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の半導体発光装置。
【請求項３】
前記取り出し電極は、内枠を前記開口部内に有しており、
前記電極は、前記内枠に沿って前記光出射面上に配置されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の半導体発光装置。
【請求項４】
前記取り出し電極の下方、前記半導体発光素子の側方及び前記電極の側方には、絶縁性物質が充填されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の半導体発光装置。
【請求項５】
前記半導体発光素子は、非透光性部材によって形成された基板上に設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の半導体発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月13日(2010.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に複数の島状半導体層を形成し、
前記複数の島状半導体層上に第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜を介して前記複数の島状半導体層上に、それぞれゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上にレジストを設け、
前記レジストに、偏向器及び複数の異なる分岐パターンを有する回折光学素子を通過して複数に分岐したレーザビームを照射し、
前記レーザビームが照射された前記レジストを現像し、
前記第１の絶縁膜及び前記第２の絶縁膜を、前記レジストをマスクとしてエッチングし、選択的にコンタクトホールを形成することを特徴とする記憶素子の作製方法。
【請求項２】
請求項１において、前記コンタクトホールを前記島状半導体層のドレイン領域と重なる領域に形成するか否かで、記憶状態を決定することを特徴とする記憶素子の作製方法。
【請求項３】
レーザビームを射出するレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から射出されたレーザビームの偏向を行う偏向器と、
前記偏向器を通過したレーザビームを複数のレーザビームに分岐する、複数の異なる分岐パターンを有する回折光学素子と、
前記回折光学素子を通過し、複数に分岐されたレーザビームが照射される被照射体を載置する搬送ステージと、を有することを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項４】
レーザビームを射出する複数のレーザ発振器と、
前記複数のレーザ発振器から射出されたそれぞれのレーザビームを偏向する複数の偏向器と、
前記複数の偏向器を通過したレーザビームそれぞれを、複数のレーザビームに分岐する、複数の異なる分岐パターンを有する回折光学素子と、
前記回折光学素子を通過し、複数に分岐されたレーザビームが照射される被照射体を載置する搬送ステージと、を有することを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項５】
請求項３又は請求項４において、
前記偏向器は、音響光学偏向器又はガルバノミラーであることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項６】
請求項３乃至請求項５のいずれか一項において、
前記回折光学素子は透過型回折光学素子又は反射型回折光学素子であることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項７】
請求項３乃至請求項６のいずれか一項において、
前記回折光学素子は、分岐パターンに応じた回折光学素子を積み重ねて構成されることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項８】
請求項３乃至請求項６のいずれか一項において、
前記回折光学素子は、分岐パターンに応じた回折光学素子を格子状に配置して構成されることを特徴とするレーザ照射装置。
【請求項９】
レーザ発振器から射出したレーザビームを偏向器に入射し、
前記偏向器を通過したレーザビームを複数の異なる分岐パターンを有する回折光学素子に入射して複数に分岐し、
前記複数に分岐されたレーザビームを搬送ステージに載置された被照射体に照射することを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項１０】
請求項９において、
前記複数に分岐されたレーザビームは投影レンズを通過した後、前記被照射体に照射されることを特徴とするレーザ照射方法。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０において、
前記回折光学素子は透過型回折光学素子又は反射型回折光学素子であることを特徴とするレーザ照射方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月6日(2010.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜に、第１のレーザ光を前記基板の底面に対して傾斜した状態で照射しつつ、前記第１のレーザ光とは異なる発振器から発振された第２のレーザ光を、前記第１のレーザ光とは反対の方向に傾斜した状態で前記基板の底面に対して照射することにより、前記半導体膜の一部を溶融させ、かつ前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光の照射位置を、該第１のレーザ光又は該第２のレーザ光が傾斜している方向に沿って走査して、前記半導体膜の溶融している部分を移動させることにより、前記半導体膜を結晶化し、
前記半導体膜を選択的に除去することにより島状半導体膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
基板上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜に、第１のレーザ光を前記基板の底面に対して傾斜した状態で照射しつつ、前記第１のレーザ光とは異なる長さの光路を経由した第２のレーザ光を、前記第１のレーザ光とは反対の方向に傾斜した状態で前記基板の底面に対して照射することにより、前記半導体膜の一部を溶融させ、かつ前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光の照射位置を、該第１のレーザ光又は該第２のレーザ光が傾斜している方向に沿って走査して、前記半導体膜の溶融している部分を移動させることにより、前記半導体膜を結晶化し、
前記半導体膜を選択的に除去することにより島状半導体膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
基板上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜に、第１のレーザ光を前記基板の底面に対して傾斜した状態で照射しつつ、第２のレーザ光を、前記第１のレーザ光とは反対の方向に傾斜した状態で前記基板の底面に対して照射することにより、前記半導体膜の一部を溶融させ、かつ前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光の照射位置を、該第１のレーザ光又は該第２のレーザ光が傾斜している方向に沿って走査して、前記半導体膜の溶融している部分を移動させることにより、前記半導体膜を結晶化し、
前記半導体膜を選択的に除去することにより島状半導体膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光は、同一の発振器から発振されたレーザ光をビームスプリッタで分岐することにより得られる請求項２または３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光は、発振周波数が１０ＭＨｚ以上のパルスレーザ、又はＣＷレーザから発振されたレーザ光である請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光は、ビームスポットの強度が互いに略同一である請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光は、前記半導体膜で交差する請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項８】
前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光のビームスポットは細長い形状であり、走査方向に対して略直角方向に延伸している請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１のレーザ光の傾斜角及び前記第２のレーザ光の傾斜角は、絶対値が互いに同一である請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
前記島状半導体膜に、薄膜トランジスタのソース、チャネル領域及びドレインを形成する請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
第１のレーザ光を発振する第１の発振器と、
第２のレーザ光を発振する第２の発振器と、
基板上に設けられた半導体膜に、前記第１のレーザ光を前記基板の底面に対して傾斜した状態で照射しつつ、前記第２のレーザ光を、前記基板の底面に対して前記第１のレーザ光とは反対の方向に傾斜した状態で照射する光学系と、
前記基板と前記光学系の相対位置を、該第１のレーザ光または該第２のレーザ光が傾斜している方向に沿って移動させる移動手段と、を具備するレーザ照射装置。
【請求項１２】
レーザ光を発振する発振器と、
前記レーザ光を第１のレーザ光及び第２のレーザ光に分岐するビームスプリッタと、
基板上に設けられた半導体膜に、前記第１のレーザ光を前記基板の底面に対して傾斜した状態で照射しつつ、前記第２のレーザ光を、前記第１のレーザ光とは異なる長さの光路を経由した後に、前記基板の底面に対して前記第１のレーザ光とは反対の方向に傾斜した状態で照射する光学系と、
前記基板と前記光学系の相対位置を、該第１のレーザ光または該第２のレーザ光が傾斜している方向に沿って移動させる移動手段と、を具備するレーザ照射装置。
【請求項１３】
レーザ光を発振する発振器と、
前記レーザ光を第１のレーザ光及び第２のレーザ光に分岐するビームスプリッタと、
基板上に設けられた半導体膜に、前記第１のレーザ光を前記基板の底面に対して傾斜した状態で照射しつつ、前記第２のレーザ光を、前記基板の底面に対して前記第１のレーザ光とは反対の方向に傾斜した状態で照射する光学系と、
前記基板と前記光学系の相対位置を、該第１のレーザ光または該第２のレーザ光が傾斜している方向に沿って移動させる移動手段と、を具備するレーザ照射装置。
【請求項１４】
前記光学系は、シリンドリカルレンズを具備し、
前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光は、前記シリンドリカルレンズに距離を隔てて進入し、該シリンドリカルレンズを透過した後に前記半導体膜に照射される請求項１１乃至請求項１３のいずれか一項に記載のレーザ照射装置。
【請求項１５】
前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光は、発振周波数が１０ＭＨｚ以上のパルスレーザ、又はＣＷレーザから発振されたレーザ光である請求項１１乃至請求項１４のいずれか一項に記載のレーザ照射装置。
【請求項１６】
前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光は、ビームスポットの強度が互いに略同一である請求項１１乃至請求項１５のいずれか一項に記載のレーザ照射装置。
【請求項１７】
前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光は、前記半導体膜で交差する請求項１１乃至請求項１６のいずれか一項に記載のレーザ照射装置。
【請求項１８】
前記第１のレーザ光及び前記第２のレーザ光のビームスポットは細長い形状であり、走査方向に対して略直角方向に延伸している請求項１１乃至請求項１７のいずれか一項に記載のレーザ照射装置。
【請求項１９】
前記第１のレーザ光の傾斜角及び前記第２のレーザ光の傾斜角は、絶対値が互いに同一である請求項１１乃至請求項１８のいずれか一項に記載のレーザ照射装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月18日(2010.1.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のプリント配線板が、積層された状態で機械的且つ電気的に接続されたプリント配線板集合体であって、
絶縁性の部材を備えて構成され、重なり合う二つの前記プリント配線板のそれぞれと接着される絶縁部と、前記絶縁部を貫通して形成され、重なり合う二つの前記プリント配線板の電極端子を互いに接続する導電部とを有する接続層を備え、
重なり合う二つの前記プリント配線板は、前記接続層を介して接続される
プリント配線板集合体。
【請求項２】
前記接続層は、少なくとも一方の前記プリント配線板と接する面の一部を開口して、前記絶縁部及び前記導電部が非形成となる空間部を備える
請求項１記載のプリント配線板集合体。
【請求項３】
前記空間部は、前記接続層の二つの前記プリント配線板と接する両面の間を貫通して、前記絶縁部及び前記導電部が非形成となる
請求項２記載のプリント配線板集合体。
【請求項４】
前記絶縁部は、前記各プリント配線板と接着される絶縁性樹脂材を備えて構成され、
前記導電部は、低融点金属粒子及び高融点金属粒子を含み、所定の温度で所定の圧力を加えることにより金属間を接続するメタライジングにより、前記各プリント配線板の電極端子に接続される導電性ペーストを備えて構成される
請求項１記載のプリント配線板集合体。
【請求項５】
前記絶縁部は、前記絶縁性樹脂材として熱可塑性樹脂材を備えて構成され、
前記導電性ペーストは、低融点金属として錫を含み、高融点金属として少なくとも銅又は銀のどちらか一方を含む
請求項４記載のプリント配線板集合体。
【請求項６】
前記接続層に接着される前記各プリント配線板の表面にエポキシ樹脂が塗布され、
前記熱可塑性樹脂材は、前記エポキシ樹脂及び前記熱可塑性樹脂材に対して化学的親和力を有する接着剤により前記各プリント配線板と接着し、
前記熱可塑性樹脂材及び前記接着剤の厚みが５０μｍ以上であり、且つ前記接着剤の厚みが１０μｍ以下である
請求項５記載のプリント配線板集合体。
【請求項７】
前記空間部に、前記プリント配線板の配線と接続された電子部品を備える
請求項２記載のプリント配線板集合体。
【請求項８】
前記電子部品として接続ピンを有し、
前記空間部と当該プリント配線板集合体外部を連通し、当該プリント配線板集合体外部と前記空間部との間で、フレキシブル基板を出し入れ自在とする開口部と、
前記開口部から挿入されたフレキシブル基板を、当該フレキシブル基板の接続端子が前記接続ピンと接続した状態で固定する固定手段とを備える
請求項７記載のプリント配線板集合体。
【請求項９】
前記開口部は、最外部に位置するプリント配線板の表面と、当該空間部とを連通する
請求項８記載のプリント配線板集合体。
【請求項１０】
前記電子部品として発熱性部品を有し、
前記空間部と当該プリント配線板集合体外部を連通する通風口を備える
請求項７記載のプリント配線板集合体。
【請求項１１】
前記空間部を挟んで重なり合う二つの前記プリント配線板の一方のプリント配線板に高周波回路部品が配置され、他方のプリント配線板に低周波回路部品が配置される
請求項２記載のプリント配線板集合体。
【請求項１２】
前記絶縁部は、前記各プリント配線板よりも低い誘電率を有する前記熱可塑性樹脂材を備えて構成され、
前記熱可塑性樹脂材を挟んだ状態で、重なり合う二つの前記プリント配線板の一方のプリント配線板に高周波回路部品が配置され、他方のプリント配線板に低周波回路部品が配置される
請求項５記載のプリント配線板集合体。
【請求項１３】
当該プリント配線板集合体の表面に備えられた光素子と、
前記空間部に備えられた光導波路と、
前記光素子と前記光導波路とを光学的に結合する接続部とを有する
請求項２記載のプリント配線板集合体。
【請求項１４】
複数のプリント配線板が、接続層を介して積層された状態で機械的且つ電気的に接続されたプリント配線板集合体の製造方法であって、
前記接続層は、重なり合う二つの前記プリント配線板と接着する絶縁部と、重なり合う二つの前記プリント配線板の電極端子を互いに接続する導電部とを有し、
前記導電部は、低融点金属粒子及び高融点金属粒子を含み、所定の温度で所定の圧力を加えることにより金属間を接続するメタライジングにより、他金属に接続される導電性ペーストを備えて構成され、
接続対象の前記各プリント配線板を、前記接続層を介して所定の位置で重ね合わせ、
重ね合わせた前記各プリント配線板及び前記接続層を、二つの板状の弾性材で挟み、
所定の接続温度で、二つの前記弾性材により、重ね合わせた前記各プリント配線板及び前記接続層に対して所定の接続圧力を加える
プリント配線板集合体の製造方法。
【請求項１５】
所定の厚さを有する、板状の絶縁部材の両面に接着剤を配置し、
前記接着剤を配置した前記絶縁部材の両面に、所定の粘着力を有する保護フィルムを配置し、
前記絶縁部材の所定の位置に、所定の形状の貫通孔を形成し、
前記貫通孔内に前記導電性ペーストを充填し、
前記絶縁部材より、前記保護フィルムを除去することにより前記接続層を製造する
請求項１４記載のプリント配線板集合体の製造方法。
【請求項１６】
前記弾性材は、所定の厚さを備え、所定の値より低い弾性率を有する低弾性率材と、所定の厚さを備え、所定の値より高い弾性率を有する高弾性率材とが積層されて構成され、
前記低弾性率材が、重ね合わせた前記プリント配線板に接した状態で、二つの前記弾性材により、重ね合わせた前記各プリント配線板及び前記接続層に対して所定の圧力を加える
請求項１４記載のプリント配線板集合体の製造方法。
【請求項１７】
前記弾性材は、所定の厚さを備え、所定の値より低い熱膨張係数を有する熱収縮抑止材が、前記低弾性率材の反対側に前記高弾性率材に対して積層されて構成される
請求項１６記載のプリント配線板集合体の製造方法。
【請求項１８】
前記低弾性率材は、厚みが５μｍから２０μｍで、且つ、前記接続温度における弾性率が１００ＭＰａ未満であり、
前記高弾性率材は、厚みが５０μｍから３００μｍで、且つ、前記接続温度における弾性率が１ＧＰａ以上であり、
前記熱収縮抑止材は、熱膨張係数が２０ｐｐｍ以下である
請求項１７記載のプリント配線板集合体の製造方法。
【請求項１９】
前記接続温度が、前記低融点金属の融点以上で、且つ２５０度以下である
請求項１４記載のプリント配線板集合体の製造方法。
【請求項２０】
前記絶縁部材の前記貫通孔内に前記導電性ペーストを充填した後、前記絶縁部材を貫通して所定の形状の開口部を形成し、前記絶縁部材より前記保護フィルムを除去することにより前記接続層を製造し、
前記接続温度で、二つの前記弾性材により、重ね合わせた前記各プリント配線板及び前記接続層に対して所定の接続圧力を加えた後、前記開口部に対応した前記各プリント配線板の所定の箇所を切断する
請求項１５記載のプリント配線板集合体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月27日(2010.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の半導体集積回路が設けられる第１の支持手段と、
前記複数の半導体集積回路を持着する複数の持着部と、
前記複数の持着部が列置された治具と、
前記複数の持着部の間隔を制御する制御手段と、
複数の素子を有する基板が設けられる第２の支持手段と、を有し、
前記治具は、前記第１の支持手段に設けられる前記複数の半導体集積回路を前記複数の持着部によりピックアップした後、前記第２の支持手段に設けられる基板上の前記複数の素子に前記複数の半導体集積回路を実装することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記制御手段は、前記複数の素子の接続端子と、前記複数の半導体集積回路の接続端子とが対向するように、列置される前記複数の持着部を移動させることを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項３】
請求項１または２において、
前記第１の支持手段及び前記第２の支持手段のそれぞれは、ステージ、ベルトコンベヤー、またはロボットアームを有することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第１の支持手段はステージ、ベルトコンベヤー、またはロボットアームを有し、
前記第２の支持手段は、前記複数の素子を有する基板を供給するローラー及び前記複数の素子を有する前記基板を巻き取るローラーを有することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項５】
複数の半導体集積回路が設けられる支持手段と、
前記複数の半導体集積回路を持着する複数の持着部と、
前記複数の持着部が列置される第１のローラーと、
前記複数の持着部の間隔を制御する制御手段と、
複数の素子を有する可撓性基板を供給する第２のローラーと、
前記複数の素子を有する前記可撓性基板の移動を制御する第３のローラーと、
前記複数の素子を有する前記可撓性基板を巻き取る第４のローラーと、を有し、
前記第１のローラーを用いて、前記支持手段に設けられる前記複数の半導体集積回路を前記複数の持着部によりピックアップした後、前記第３のローラーを用いて前記複数の素子に前記複数の半導体集積回路を実装することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記第１のローラーには、２ｎ組の持着部を有することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項７】
請求項５において、
前記第１のローラーには、（２ｎ＋１）組の持着部を有することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項８】
複数の半導体集積回路が設けられる支持手段と、
前記複数の半導体集積回路を持着する複数の第１の持着部と、
前記複数の第１の持着部が列置される第１のローラーと、
前記複数の第１の持着部の間隔を制御する制御手段と、
前記複数の第１の持着部から前記複数の半導体集積回路を持着する複数の第２の持着部と、
前記複数の第２の持着部が列置される第２のローラーと、
複数の素子を有する可撓性基板を供給する第３のローラーと、
前記複数の素子を有する前記可撓性基板の移動を制御する第４のローラーと、
前記複数の素子を有する前記可撓性基板を巻き取る第５のローラーと、を有し、
前記第２のローラーを用いて、前記複数の第１の持着部で持着した前記複数の半導体集積回路を前記複数の第２の持着部により持着した後、前記第４のローラーを用いて前記複数の前記複数の素子に前記複数の半導体集積回路を実装することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記第１のローラー及び前記第２のローラーは、それぞれ２ｎ組の第１の持着部及び２ｎ組の第２の持着部を有することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項１０】
請求項８において、
前記第１のローラー及び前記第２のローラーは、それぞれ（２ｎ＋１）組の第１の持着部及び（２ｎ＋１）組の第２の持着部を有することを特徴とする半導体装置の製造装置。
【請求項１１】
第１の支持手段上に複数の半導体集積回路を設置し、
前記第１の支持手段から、治具に列置された複数の持着部を用いて、前記複数の半導体集積回路をピックアップし、
列置された前記複数の持着部の間隔を制御する制御手段により、第２の支持手段上に設けられた基板上の複数の素子の接続端子に前記複数の半導体集積回路の接続端子が対向するように前記複数の持着部の間隔を制御し、
前記複数の半導体集積回路の接続端子及び前記複数の素子の接続端子を接続させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項１２】
支持手段上に複数の半導体集積回路を設置し、
第１のローラーに列置された複数の持着部を用いて前記複数半導体集積回路をピックアップし、
複数の素子を有する可撓性基板を供給する第２のローラー、前記複数の素子を有する前記可撓性基板の移動を制御する第３のローラー、及び前記複数の素子を有する可撓性基板を回収する第４のローラーを回転させて、前記複数の素子を有する前記可撓性基板を移動させ、
前記複数の第１のローラーを回転させて、前記複数の半導体集積回路及び前記複数の素子を有する前記可撓性基板を対向させ、
前記複数の持着部の間隔を制御する制御手段により、前記可撓性基板の前記複数の素子の接続端子に、前記複数の半導体集積回路の接続端子が対向するように前記持着部の間隔を制御し、
前記第１のローラー及び前記第３のローラーを用いて、前記複数の半導体集積回路の接続端子及び前記複数の素子の接続端子を接続させることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月11日(2009.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号源から出力される可聴周波数帯の信号波によってキャリア波を変調し、前記変調された変調波により超音波トランスデューサを駆動して可聴周波数帯の信号音を再生する超音波スピーカの出力制御方法であって、
前記可聴周波数帯の信号波を複数の周波数帯域に分割し、前記周波数帯域毎に前記信号波の振幅及び変調波の振幅を個別に調整し、前記各周波数帯域毎に生成される変調波によって前記各周波数帯域に対応させて設けた複数の超音波トランスデューサを駆動し、
前記周波数帯域ごとに設けられた複数の帯域別音量設定部により前記周波数帯域毎の前記超音波トランスデューサの音量を設定する帯域別音量設定データと、全体音量設定部により前記複数の超音波トランスデューサに対して共通に音量を設定する全体音量設定データとを有し、
前記帯域別音量設定データと前記全体音量設定データとの組み合せに応じて前記周波数帯域毎の変調波の振幅を調整する変調波振幅調整手段の増幅率を前記周波数帯域毎に決定すること
を特徴とする超音波スピーカの出力制御方法。
【請求項２】
前記分割された周波数帯域毎の信号波の振幅データを検出し、前記検出した各周波数帯域毎の信号波の振幅データに基づいて、前記周波数帯域毎に信号波の最大振幅値を前記周波数帯域毎に設けられた信号波振幅調整手段で一定に制御すること
を特徴とする請求項１に記載の超音波スピーカの出力制御方法。
【請求項３】
前記周波数帯域毎に設けられた前記信号波振幅調整手段において、前記分割された周波数帯域毎の信号波の最大振幅値を、前記周波数帯域毎の変調波が過変調状態とならない範囲で大きく増幅すること
を特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の超音波スピーカの出力制御方法。
【請求項４】
前記帯域別音量設定部の設定値の増加に比例して、前記変調波振幅調整手段の増幅率が増加するように制御すること
を特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の超音波スピーカの出力制御方法。
【請求項５】
前記全体音量設定部の設定値の増加に比例して、前記帯域別音量設定部の各設定値における前記変調波振幅調整手段の増幅率が増加するように制御すること
を特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の超音波スピーカの出力制御方法。
【請求項６】
前記全体音量設定部の各設定値において、前記帯域別音量設定部の設定値が相互に等しい場合に、前記分割された複数の周波数帯域のうち、より低い周波数帯域における前記変調波振幅調整手段ほど増幅率が大きくなるように制御すること
を特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の超音波スピーカの出力制御方法。
【請求項７】
可聴周波数帯の信号波を生成する信号源と、超音波周波数帯のキャリア波を生成するキャリア波供給手段と、前記信号源から出力される可聴周波数帯の信号波によって前記キャリア波を変調し、前記変調した変調波によって駆動される超音波トランスデューサとを有する超音波スピーカシステムであって、
可聴周波数帯の信号波を複数の周波数帯域に分割する複数のフィルタと、
前記周波数帯域毎に前記信号波の振幅を個別に調整する複数の信号波振幅調整手段と、
前記各周波数帯域の信号波によって前記キャリア波を変調する複数の変調手段と、
前記複数の変調手段より出力される前記変調波の振幅を個別に調整する複数の変調波振幅調整手段と、
前記複数の変調波振幅調整手段の出力信号により駆動される複数の超音波トランスデューサと、
前記周波数帯域毎の前記超音波トランスデューサの音量を個別に設定する、前記周波数帯域毎に設けられた帯域別音量設定部と、
全ての前記周波数帯域における超音波トランスデューサに対して、音量を共通に設定する全体音量設定部と、
前記周波数帯域毎において、前記帯域別音量設定部の状態を示す帯域別音量設定データ、及び前記全体音量設定部の状態を示す全体音量設定データを取り込み、前記周波数帯域毎に生成される変調波の振幅を調整する際に、前記帯域別音量設定データと前記全体音量設定データとの組み合わせに応じて、前記周波数帯域毎に設けられた変調波振幅調整手段の各々の増幅率を決定する前記周波数帯域毎に設けられた変調波振幅増幅率制御手段と、
を有することを特徴とする超音波スピーカシステム。
【請求項８】
前記周波数帯域毎の信号波の最大振幅データと、
前記周波数帯域毎の信号波振幅調整手段の振幅増幅率との関係を示す第１のテーブルを記憶する複数の記憶手段を有し、
前記周波数帯域毎の信号波の振幅を調整する際に、前記周波数帯域毎の最大振幅データに基づいて前記第１のテーブルを参照して、前記周波数帯域毎に設けられた信号波振幅調整手段の振幅増幅率を決定すること
を特徴とする、請求項７に記載の超音波スピーカシステム。
【請求項９】
前記周波数帯域毎の信号波の最大振幅データが変化した際に、前記周波数帯域毎の変調波の最大変調度がそれぞれ一定となるように前記周波数帯域毎に設けられた信号波振幅調整手段の振幅増幅率が決定されるように前記第１のテーブルが構成されること
を特徴とする、請求項８に記載の超音波スピーカシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】超音波スピーカの出力制御方法、超音波スピーカシステム
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月8日(2010.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバ・リンクを介して、遠隔の受信器に送信するための変調された光信号を生成するための光送信器であって、
レーザ、
前記レーザを、アナログＲＦ信号で直接振幅変調して、振幅変調された情報を含有する要素及び位相変調要素を含む出力光信号を生成するための、前記レーザに結合された入力、及び、
前記遠隔の受信器で受信された光信号に存在する歪を低減するように、前記レーザの出力を別個に変調するために前記レーザの出力に結合された位相変調器、
を備える光送信器。
【請求項２】
前記位相変調器が、前記レーザの出力光信号内の位相変調された要素を相殺する、請求項１に記載の送信器。
【請求項３】
前記位相変調器が、前記遠隔受信器において受信される光信号が受ける誘導ブリユアン散乱閾値を増加させる、請求項１に記載の送信器。
【請求項４】
有効な位相変調相殺が起こるように、変調している電気信号が前記変調された出力光信号と同期されるように、前記アナログＲＦ信号に接続された入力、及び、前記位相変調器に接続された出力、を有する遅延回路を更に備える、請求項１に記載の送信器。
【請求項５】
前記レーザが、外部キャビティ・半導体レーザである、請求項１に記載の送信器。
【請求項６】
前記レーザの出力光信号の波長が、1530から1570nmの範囲にある、請求項１に記載の送信器。
【請求項７】
アナログＲＦ信号が、１オクターブより広い帯域を持ち、複数の別個の情報運搬チャンネルを含む、請求項１に記載の送信器。
【請求項８】
前記遠隔受信器において受信される光信号に影響を与える前記レーザの非線形応答を補償するために、前記レーザに結合された前記入力に印加されるアナログＲＦ信号を変調するための予備歪回路を更に備える、請求項１に記載の送信器。
【請求項９】
前記遠隔受信器において受信される光信号に存在する受信される光信号前記レーザの出力の変調が選択的に調整可能である、請求項１に記載の送信器。
【請求項１０】
前記遅延回路が、前記遠隔受信器において受信される光信号が受ける誘導ブリユアン散乱閾値を増加させるための低周波数信号生成器を更に備える、請求項４に記載の送信器。
【請求項１１】
前記遅延回路が、トーン生成器回路を更に備え、前記受信される光信号中の歪を相殺するために、前記位相変調器によって前記レーザの出力に印加される補償を調整するために、前記トーン生成器回路及び調整回路が前記位相変調器に結合される、請求項９に記載の送信器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月30日(2010.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
これに対し、ハードディスクによる記憶装置の場合、単位記憶容量あたりの単価が半導体記憶装置よりも安価である上、容易に大容量化することができる。また、近時では、ハードディスク装置の小型化も進んでいるので、デジタルカメラに搭載する大容量記憶装置として好適である（例えば、特許文献１、特許文献２）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
よって、振動や衝撃に対する十分な対策を講じなければ、デジタルカメラの記憶装置としてハードディスク装置を採用することはリスクが大きい。このため、デジタルカメラにおける効果的な耐衝撃手法の確立が望まれており、従来より種々の手法が提案されている。例えば、圧力センサを設けることにより、ユーザによって把持されているか否かを判別し、把持されていない場合は落下していると判断してレンズを収納する手法なども提案されている（例えば、特許文献３）。
また、検出された加速度に基づいてハードディスクのヘッドを停留させることで、衝撃によるハードディスクの損傷を防ぐ手法（例えば、特許文献４）が提案されている他、特許文献１のように、振動を検出した場合に、撮影された画像データの記録先をハードディスク装置から固体メモリに変更する手法なども提案されている。
【特許文献１】特開平５−１３０５４５号公報
【特許文献２】特開２００５−２７７９５８号公報
【特許文献３】特開２００４−１１７８４５号公報
【特許文献４】特許第２５３６９８５号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
しかしながら、特許文献３の手法では、デジタルカメラをユーザが把持している状況でなければ対応できない。よって、携行時に起こりうる種々の状況において、効果的に衝撃を防止することはできなかった。また、特許文献３の手法では、落下を検出するための圧力センサを設ける必要があり、コスト増加や構造が複雑となってしまう問題もある。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月3日(2010.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子番組ガイドを表示可能なテレビ装置とリモコン装置とを有するテレビ受信システムであって、
前記テレビ装置と前記リモコン装置との離間距離を測定する測定手段と、
前記測定手段の測定結果と前記テレビ装置からの距離に対応する第１の閾値Ｓ１及び第２の閾値Ｓ２（Ｓ１＜Ｓ２）とに応じて、前記テレビ装置及び前記リモコン装置における前記電子番組ガイドの表示を制御する制御手段とを備え、
ユーザによる電子番組ガイドの表示指示に従って、前記制御手段は、前記測定手段による測定結果が前記第１の閾値Ｓ１以下である場合は、前記テレビ装置に電子番組ガイドを表示するとともに前記リモコン装置には電子番組ガイドを表示しないように制御し、前記測定手段による測定結果が前記第２の閾値Ｓ２以上である場合は、前記リモコン装置に電子番組ガイドを表示するとともに前記テレビ装置に電子番組ガイドを表示しないように制御することを特徴とするテレビ受信システム。
【請求項２】
前記制御手段は、前記測定手段による測定結果が前記第１の閾値Ｓ１以上であり、前記第２の閾値Ｓ２未満である場合には、前記テレビ装置と前記リモコン装置の双方に電子番組ガイドを表示する制御を行うことを特徴とする請求項１に記載のテレビ受信システム。
【請求項３】
電子番組ガイドを表示可能なテレビ装置とリモコン装置とを有するテレビ受信システムの制御方法であって、
前記テレビ装置と前記リモコン装置との離間距離を測定する測定工程と、
前記測定工程での測定結果と前記テレビ装置からの距離に対応する第１の閾値Ｓ１及び第２の閾値Ｓ２（Ｓ１＜Ｓ２）とに応じて、前記テレビ装置及び前記リモコン装置における前記電子番組ガイドの表示を制御する制御工程とを備え、
ユーザによる電子番組ガイドの表示指示に従って、前記制御工程では、前記測定工程での測定結果が前記第１の閾値Ｓ１以下である場合は、前記テレビ装置に電子番組ガイドを表示するとともに前記リモコン装置には電子番組ガイドを表示しないように制御し、前記測定工程での測定結果が前記第２の閾値Ｓ２以上である場合は、前記リモコン装置に電子番組ガイドを表示するとともに前記テレビ装置に電子番組ガイドを表示しないように制御することを特徴とするテレビ受信システムの制御方法。
【請求項４】
前記制御工程では、前記測定工程での測定結果が前記第１の閾値Ｓ１以上であり、前記第２の閾値Ｓ２未満である場合には、前記テレビ装置と前記リモコン装置の双方に電子番組ガイドを表示する制御を行うことを特徴とする請求項３に記載のテレビ受信システムの制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明のテレビ受信システムは、電子番組ガイドを表示可能なテレビ装置とリモコン装置とを有するテレビ受信システムであって、前記テレビ装置と前記リモコン装置との離間距離を測定する測定手段と、前記測定手段の測定結果と前記テレビ装置からの距離に対応する第１の閾値Ｓ１及び第２の閾値Ｓ２（Ｓ１＜Ｓ２）とに応じて、前記テレビ装置及び前記リモコン装置における前記電子番組ガイドの表示を制御する制御手段とを備え、ユーザによる電子番組ガイドの表示指示に従って、前記制御手段は、前記測定手段による測定結果が前記第１の閾値Ｓ１以下である場合は、前記テレビ装置に電子番組ガイドを表示するとともに前記リモコン装置には電子番組ガイドを表示しないように制御し、前記測定手段による測定結果が前記第２の閾値Ｓ２以上である場合は、前記リモコン装置に電子番組ガイドを表示するとともに前記テレビ装置に電子番組ガイドを表示しないように制御することを特徴とする。
また、本発明のテレビ受信システムの制御方法は、電子番組ガイドを表示可能なテレビ装置とリモコン装置とを有するテレビ受信システムの制御方法であって、前記テレビ装置と前記リモコン装置との離間距離を測定する測定工程と、前記測定工程での測定結果と前記テレビ装置からの距離に対応する第１の閾値Ｓ１及び第２の閾値Ｓ２（Ｓ１＜Ｓ２）とに応じて、前記テレビ装置及び前記リモコン装置における前記電子番組ガイドの表示を制御する制御工程とを備え、ユーザによる電子番組ガイドの表示指示に従って、前記制御工程では、前記測定工程での測定結果が前記第１の閾値Ｓ１以下である場合は、前記テレビ装置に電子番組ガイドを表示するとともに前記リモコン装置には電子番組ガイドを表示しないように制御し、前記測定工程での測定結果が前記第２の閾値Ｓ２以上である場合は、前記リモコン装置に電子番組ガイドを表示するとともに前記テレビ装置に電子番組ガイドを表示しないように制御することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月12日(2010.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射光を光電変換する受光部を有する固体撮像装置において、
前記受光部の受光面に形成した界面準位を下げる膜と、
前記界面準位を下げる膜上に形成した負の固定電荷を有する膜とを有し、
前記受光部の受光面側にホール蓄積層が形成され、
前記受光部の側部に周辺回路が形成された周辺回路部を有し、
前記負の固定電荷を有する膜の前記周辺回路部表面からの距離が前記受光部表面からの距離よりも長くなるように、前記周辺回路部表面と前記負の固定電荷を有する膜との間に絶縁膜が形成されている
固体撮像装置。
【請求項２】
前記負の固定電荷を有する膜は、
酸化ハフニウム膜、酸化アルミニウム膜、酸化ジルコニウム膜、酸化タンタル膜、または酸化チタン膜である請求項１記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記界面準位を下げる膜は酸化シリコン膜からなる
請求項１記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記固体撮像装置は、
入射光量を電気信号に変換する受光部を有する複数の画素部と、前記画素部が形成された半導体基板の一面側に配線層を備え、前記配線層が形成されている面とは反対側より入射される光を前記受光部で受光する裏面照射型固体撮像装置である
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記絶縁膜は、前記周辺回路部上の前記界面準位を下げる膜を、前記受光部上よりも厚く形成したものである、請求項３に記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記絶縁膜は、前記周辺回路部上に形成された、正の固定電荷を有する膜である、請求項１記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記正の固定電荷を有する膜は窒化シリコン膜である請求項６記載の固体撮像装置。
【請求項８】
入射光を集光する集光光学部と、
前記集光光学部で集光した前記入射光を受光して光電変換する固体撮像装置と、
光電変換された信号電荷を処理する信号処理部とを備え、
前記固体撮像装置は、
前記入射光を光電変換する前記固体撮像装置の受光部の受光面に形成した界面準位を下げる膜と、
前記界面準位を下げる膜上に形成した負の固定電荷を有する膜とを有し、
前記受光部の受光面にホール蓄積層が形成され、
前記受光部の側部に周辺回路が形成された周辺回路部を有し、
前記負の固定電荷を有する膜の前記周辺回路部表面からの距離が前記受光部表面からの距離よりも長くなるように、前記周辺回路部表面と前記負の固定電荷を有する膜との間に絶縁膜が形成されている
撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月5日(2010.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来、この種のスライド駆動機構として、上下動可能に支持されたスライドの上方に１対のクランクシャフトを平行に配置し、それら１対のクランクシャフトとスライドとの間を１対のコネクティングロッドで連結した構造のものが知られている。そして、このスライド駆動機構では、サーボモータにて１対のクランクシャフトを対称回転させることで、モータの回転をスライドの直動運動に変換すると共に、１対のコネクティングロッドからスライドに付与される水平方向の分力を相殺させていた（例えば、特許文献１参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［請求項４の発明］
請求項４のスライド駆動機構によれば、サーボモータが正転と逆転とを繰り返して、クランクシャフトに振り子運動させることで、１サイクルにおけるクランクシャフトの回動範囲が小さくなり、高速運転が可能になる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
基端支軸部４０Ｄは、先端支軸部４０Ａより太くなっていて、回転スリーブ３２におけるシャフト嵌合孔３２Ａ内に嵌合されている。また、連結フランジ４０Ｃは、回転スリーブ３２の端面に宛がわれて、回転スリーブ３２の端面に螺子４１にて固定されている。これにより、基端支軸部４０Ｄは、回転スリーブ３２及びコロベアリング３４を介してクランク基端支持壁２１に回転可能に軸支されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図２】
2010075942.tif 000001
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2010075942.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月28日(2010.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の吐出ノズルからなるノズル列が形成された液滴吐出ヘッドを複数有したヘッドユニットであって、
前記複数の液滴吐出ヘッドをノズル列方向に位置ずれさせて配置し、
前記ノズル列方向に隣接した２つの前記液滴吐出ヘッド同士の相互の最内端に位置する前記吐出ノズルの吐出量の差が所定の許容差範囲であり、
且つ、前記ノズル列方向において両最外端に位置する前記吐出ノズルの吐出量が、所定の基準範囲である
ことを特徴とするヘッドユニット。
【請求項２】
前記所定の基準範囲は、１の吐出ノズルにおける標準化された吐出量を中間値とする範囲であることを特徴とする請求項１に記載のヘッドユニット。
【請求項３】
端部の複数の吐出ノズルにおける吐出量の平均値が、前記所定の許容差範囲に納まることを特徴とする請求項１または２に記載のヘッドユニット。
【請求項４】
端部の複数の吐出ノズルにおける液滴吐出量の平均値が、前記所定の基準範囲に納まることを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載のヘッドユニット。
【請求項５】
請求項１ないし４に記載のヘッドユニットと、
ワークを前記ヘッドユニットに対して第１の方向に移動させる第１移動手段と、を備え、
前記第１移動手段によって前記ワークを移動させながら、前記ヘッドユニットの前記複数の液滴吐出ヘッドから前記ワークに対し機能液を吐出することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項６】
請求項５に記載の液滴吐出装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ヘッドユニット、液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月12日(2010.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【表２】
2010075158.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
＜試験６＞
（目的）
この試験は、殺菌条件を検索する目的で実施された。
（試料の調製）
表１４の配合割合に従い、試験１と同じ方法で調製し、これらをキャピラリーチューブに密封し、オイルバス中で加熱した後冷却した。
（評価方法）
調製した試料を培養して、Ｄ値とＺ値を算出した。この結果を表１５に示す。
（結果）
表１５より、Ｎｏ．５１は、Ｎｏ．５２よりＤ値が約５０倍程度になっていると推定できる。
（考察）
この試験により、カカオバターに練り込まれた芽胞は著しく耐熱性が高くなることが分った（Ｎｏ．５１）。また、本発明の方法に従って第１の乳化剤および第２の乳化剤を使用すると、Ｄ値、Ｚ値共に、一般的なＢ．ｓｕｂｔｉｌｉｓの水和した状態の芽胞の耐熱性となることが分った（Ｎｏ．５２）。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月12日(2010.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
【表１】
2010075159.tif 000001
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
【表３】
2010075159.tif 000002
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
【表６】
2010075159.tif 000003
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
＜試験４＞
（目的）
この試験は、殺菌条件を検索する目的で実施された。
（試料の調製）
表３のＮｏ．１１とＮｏ．１４の配合割合に従い、試験１と同じ方法で調製し、これらをキャピラリーチューブに密封し、オイルバス中で加熱した後冷却した。これらをそれぞれＮｏ．３１、Ｎｏ．３４とする。
（評価方法）
調製した試料を培養して、Ｄ値とＺ値を算出した。この結果を表８に示す。
（結果）
表８より、Ｎｏ．３１（Ｎｏ．１１）は、Ｎｏ．３４（Ｎｏ．１４）よりＤ値が約３５倍程度になっていると推定できる。
（考察）
この試験により、チョコレート中に存在する芽胞は著しく耐熱性が高くなることが分った（Ｎｏ．３１）。また、本発明の方法に従ってチョコレートに第１の乳化剤を作用させると、Ｄ値、Ｚ値共に、一般的なＢ．ｓｕｂｔｉｌｉｓの水和した状態の芽胞の耐熱性となることが分った（Ｎｏ．３４）。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月25日(2010.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのウエイト部を備えたダンベルであって、
前記ウエイト部は、
ハウジングと、
軸方向への動きを規制して、周方向・上下左右及び斜め方向へ回動自在に支持させて設けた重錘取付軸と、
前記軸に固定して前記ハウジング内に設けた重錘と、
前記重錘の前記軸の突出部側と反対側に露呈させて前記重錘に固定して設けた第１のマグネットと、
前記マグネットと対面させ、かつ前記マグネットと同極に向けて配置して前記ハウジングに固定して設けた第２のマグネットと、
前記軸を挿通させる所望の径及び長さの貫通孔と、前記孔の内壁面の先端部に形成した所望数の凸部とを有し、前記ハウジングに固定して設けた衝撃発生伝達部とを備え、
前記軸は前記孔に貫挿させて設けてある
ことを特徴とする、ダンベル。
【請求項２】
請求項１に記載のダンベルにおいて、前記ウエイト部は握り部を備えていることを特徴とする、ダンベル。
【請求項３】
前記ウエイト部は前記握り部の一端に取付けてあることを特徴とする、請求項２に記載のダンベル。
【請求項４】
前記ウエイト部は前記握り部の両端に取付けてあることを特徴とする、請求項２に記載のダンベル。
【請求項５】
前記ウエイト部は、前記握り部との間に間隙部を確保した状態で前記握り部に取付けて、所望数設けてあることを特徴とする、請求項２に記載のダンベル。
【請求項６】
前記握り部は相対向して一対備え、前記ウエイト部は、前記両握り部との間にそれぞれ間隙部を確保した状態で前記両握り部に取付けて、所望数設けてあることを特徴とする、請求項２又は５に記載のダンベル。
【請求項７】
前記握り部は、前記ウエイト部の両端に相対して直線状に取付けた所望長さの一対の杆体で構成されていることを特徴とする、請求項２に記載のダンベル。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月27日(2010.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
始動入賞に基づいて抽選を行う抽選手段を有し、該抽選手段による抽選にて所定の結果が得られた場合は遊技者に利益を付与可能な遊技機において、
前記抽選手段による抽選の結果には、条件装置の作動を伴う当りと、条件装置の作動を伴わない当りとが含まれており、
前記条件装置の作動を伴う当りの当選確率を相対的に低く設定した第１遊技様態と、この第１遊技様態よりも前記条件装置の作動を伴う当りの当選確率を倍以上に高く設定した第２遊技様態とを、前記条件装置の作動を伴う当りに当選されたことを条件に変更可能とする当選確率変更手段と、
遊技者に利益を付与するための１つの動作として、所定の可動体の作動によって遊技球の受け入れが容易化される球入賞手段と、
前記抽選手段による抽選が行われたとき、該抽選の結果に基づいて、前記第１遊技様態と前記第２遊技様態とのいずれかである特定の遊技様態に制御されるにもかかわらず、この特定の遊技様態とは異なるもう一方の遊技様態に制御される可能性についての示唆も含めて、前記第１遊技様態と前記第２遊技様態とのうちのいずれかに制御されることが示唆される秘匿演出を実行しうる演出制御手段と、
前記抽選手段による抽選の結果が前記条件装置の作動を伴う当りのうちの第１当りである場合、前記当選確率変更手段による前記第２遊技様態への変更と、前記可動体の作動による前記球入賞手段での遊技球の受け入れの容易化により賞球を得る機会とを提供する第１利益付与手段と、
前記抽選手段による抽選の結果が前記条件装置の作動を伴う当りのうちの第２当りである場合、前記当選確率変更手段による前記第２遊技様態への変更を行うとともに、前記球入賞手段における前記可動体の作動については、前記演出制御手段による秘匿演出が行われている間のうちの所定時間だけこれを行うに留まるようにすることで、前記第１利益付与手段の場合よりも少ない数の賞球を得る機会を提供する第２利益付与手段と、
前記抽選手段による抽選の結果が前記条件装置の作動を伴わない第３当りである場合、前記当選確率変更手段による遊技様態の変更が行われることがないにもかかわらず、前記球入賞手段における前記可動体の作動については前記第２利益付与手段と同様、前記演出制御手段による秘匿演出が行われている間のうちの所定時間だけこれを行うに留まるようにすることで、前記第１利益付与手段の場合よりも少ない数の賞球を得る機会を提供する第３利益付与手段と
を備えることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記抽選手段は、前記始動入賞に基づいて取得される当落判定用乱数に基づいて前記当たりについての抽選処理を行うものである
請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記抽選手段は、前記始動入賞に基づいて取得される当落判定用乱数を一旦保留の状態にするとともに、所定の始動条件が成立されることによって前記保留の状態が解除された当落判定用乱数に基づいて前記当たりについての抽選処理を行うものである
請求項２に記載の遊技機。