Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月13日(2010.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を文字が含まれる文字領域と絵柄が含まれる絵柄領域に分離する領域分離手段と、
前記領域分離手段によって分離された絵柄領域を表示し、該絵柄領域の表示の上に前記領域分離手段によって分離された文字領域を重ねて表示する表示手段
を具備することを特徴とする画像処理システム。
【請求項２】
前記領域分離手段によって分離された文字領域に対して文字認識を行う文字認識手段
を具備し、
前記表示手段は、前記領域分離手段によって分離された絵柄領域を表示し、該絵柄領域の表示の上に前記文字認識手段によって認識を行った文字を重ねて表示する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項３】
前記領域分離手段によって分離された絵柄領域が複数ある場合は、該絵柄領域の中から表示する絵柄領域を選択する絵柄領域選択手段
を具備し、
前記表示手段は、前記絵柄領域選択手段によって選択された絵柄領域を表示する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項４】
前記表示手段は、絵柄領域の上に文字領域を重ねて表示する場合に、該絵柄領域に応じて該文字領域を変形して表示する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理システム。
【請求項５】
前記表示手段は、絵柄領域の上に文字を重ねて表示する場合に、該絵柄領域に応じて該文字を変形して表示する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理システム。
【請求項６】
前記絵柄領域選択手段は、前記文字領域の文字の画像特徴量と前記絵柄領域の画像特徴量を抽出し、両者の画像特徴量間の距離に基づいて、該文字領域の文字に対応した絵柄領域を選択する
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理システム。
【請求項７】
前記文字認識手段が文字認識を行わなかった場合は、前記文字領域内を行毎に、又は文字毎に分割する分割手段
を具備し、
前記表示手段は、前記領域分離手段によって分離された絵柄領域を表示し、該絵柄領域の表示の上に前記分割手段によって分割された行又は文字を重ねて表示する
ことを特徴とする請求項２又は５に記載の画像処理システム。
【請求項８】
前記表示手段は、文字の変形として、
（１）文字が黒以外の文字であれば、該文字が前記絵柄領域の中央付近に位置したときに、該文字を変形する処理、
（２）スクロール表示している文字列が前記絵柄領域の中央付近に位置したときに、その文字列を変形する処理、
（３）予め記憶されている文字と同じ文字を表示しようとした場合に、該文字を変形する処理、
（４）前記絵柄領域の色と表示しようとする文字の色が類似している場合は、異なる色に変更する処理、
（５）文字列の高さ又は幅をそろえる変形をする処理、
のいずれかの処理を行うことを特徴とする請求項５に記載の画像処理システム。
【請求項９】
コンピュータに、
画像を文字が含まれる文字領域と絵柄が含まれる絵柄領域に分離する領域分離機能と、
前記領域分離機能によって分離された絵柄領域を表示し、該絵柄領域の表示の上に前記領域分離機能によって分離された文字領域を重ねて表示する表示機能
を実現させることを特徴とする画像処理プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
［２］  前記領域分離手段によって分離された文字領域に対して文字認識を行う文字認識手段
を具備し、
前記表示手段は、前記領域分離手段によって分離された絵柄領域を表示し、該絵柄領域の表示の上に前記文字認識手段によって認識を行った文字を重ねて表示する
ことを特徴とする［１］に記載の画像処理システム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
［６］  前記絵柄領域選択手段は、前記文字領域の文字の画像特徴量と前記絵柄領域の画像特徴量を抽出し、両者の画像特徴量間の距離に基づいて、該文字領域の文字に対応した絵柄領域を選択する
ことを特徴とする［３］に記載の画像処理システム。
［７］  前記文字認識手段が文字認識を行わなかった場合は、前記文字領域内を行毎に、又は文字毎に分ける分割手段
を具備し、
前記表示手段は、前記領域分離手段によって分離された絵柄領域を表示し、該絵柄領域の表示の上に前記分割手段によって分割された行又は文字を重ねて表示する
ことを特徴とする［２］又は［５］に記載の画像処理システム。
［８］  前記表示手段は、文字の変形として、
（１）文字が黒以外の文字であれば、該文字が前記絵柄領域の中央付近に位置したときに、該文字を変形する処理、
（２）スクロール表示している文字列が前記絵柄領域の中央付近に位置したときに、その文字列を変形する処理、
（３）予め記憶されている文字と同じ文字を表示しようとした場合に、該文字を変形する処理、
（４）前記絵柄領域の色と表示しようとする文字の色が類似している場合は、異なる色に変更する処理、
（５）文字列の高さ又は幅をそろえる変形をする処理、
のいずれかを行うことを特徴とする［５］に記載の画像処理システム。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［９］  コンピュータに、
画像を文字が含まれる文字領域と絵柄が含まれる絵柄領域に分離する領域分離機能と、
前記領域分離機能によって分離された絵柄領域を表示し、該絵柄領域の表示の上に前記領域分離機能によって分離された文字領域を重ねて表示する表示機能
を実現させることを特徴とする画像処理プログラム。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項３の画像処理システムによれば、本構成を有していない場合に比較して、請求項１の画像処理システムによる効果に加えて、絵柄領域が複数あっても、その中の絵柄領域を選択して表示することができる。例えば、具体的には、大きな絵柄領域と小さな絵柄領域がある場合に、大きな絵柄領域を選択して表示することができるようになり、操作者にとってより重要な絵柄領域を見ることができるようになる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項６の画像処理システムによれば、文字領域の文字と絵柄領域の内容が対応した絵柄領域を選択することができるようになる。
請求項７の画像処理システムによれば、文字認識手段が文字認識を行わなかった場合は、分割された行又は文字を重ねて表示することができるようになる。
請求項８の画像処理システムによれば、絵柄領域の上に文字を重ねて表示する場合に、閲覧者の注意を引くように表示することができるようになる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項９の画像処理プログラムによれば、本構成を有していない場合に比較して、全体を表示するとその内容が判読しにくくなるような画面であっても、絵柄領域と文字領域を重ね合わせて表示することができる。例えば、具体的には、絵柄領域の上に文字領域を半透明にしてスクロールしながら表示することができるようになり、操作者にとって視認性が向上する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月7日(2010.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶パネルと、
前記液晶パネルの後ろに備えられ、前記液晶パネルに面する出射面と、前記出射面に対向する反射面と、互いに対向する一対の入射面と、互いに対向する一対の側面とを含む導光板と、
前記導光板の各前記出射面に沿って備えられた一対の光源と、
一対のカバー部材と、
を含み、
各前記カバー部材は、前記入射面の一つとともに前記光源の一つを収容する第１部分と、前記第１部分から延長され前記導光板の前記反射面に面する第２部分とを含むことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記各カバー部材は、前記第２部分から延長され前記導光板の前記側面に面する第３部分をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
一対のサイドカバーをさらに含み、各サイドカバーは、前記導光板の前記側面の一つに沿って備えられ、前記一対のカバー部材に連結されることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記液晶パネルは、前記カバー部材及び前記サイドカバー上に固定されることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記液晶パネルと前記各カバー部材との間と、前記液晶パネルと前記各サイドカバーとの間とに備えられた弾性部材をさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記各カバー部材の少なくとも一部は、前記導光板の前記出射面に面することを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記液晶パネルの側部に面するパネルガイドをさらに含み、前記パネルガイドは、前記カバー部材内及び前記サイドカバー内のそれぞれに形成されることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
液晶パネルと、
前記液晶パネルの後ろに備えられた導光板と、
前記導光板の対向する入射面に沿って備えられた光源と、
互いに分離され前記導光板を収容する少なくとも二つのサブカバー部材を含むカバー部材と、
を含み、
前記サブカバー部材の一つは、前記入射面とともに前記光源を収容することを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月27日(2010.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷システムにおいて、マーキング材料を被印刷物に定着させるように構成された定着装置のためのヒーターコントローラシステムであって、
少なくとも２つのセクションを有する加熱エレメントと、
前記加熱エレメントにＡＣ波形による電力を供給する電源と、
前記ヒーターコントローラシステムが少なくとも２つの動作モードのうちの１つのモードで動作している間に、前記少なくとも２つのセクションのうちの少なくとも１つに、前記電源から供給された電流を選択的に与えるように、少なくとも２つの双方向スイッチを選択的に制御するよう構成された、少なくとも１つの一方向スイッチと、
を備え、
前記少なくとも２つの動作モードのそれぞれが、前記被印刷物の特定のサイズに対応し、前記ＡＣ波形の第１の半周期の間に、前記少なくとも２つのセクションのうちの少なくとも１つに電力が供給され、前記ＡＣ波形の第２の半周期の間に前記少なくとも２つのセクションのうちの少なくとも他方に電力が供給される、ヒーターコントローラシステム。
【請求項２】
前記少なくとも１つの一方向スイッチが、少なくとも１つのダイオードであり、前記少なくとも２つの双方向スイッチが、少なくとも２つのトライアックである、請求項１に記載のヒーターコントローラシステム。
【請求項３】
前記被印刷物のサイズが、Ａ５縦方向給紙、１１インチ縦方向給紙、および１１インチ横方向給紙からなる群から選択される、請求項１又は２に記載のヒーターコントローラシステム。
【請求項４】
印刷システムにおいて、マーキング材料を被印刷物に定着させるように構成された定着装置のためのヒーターコントローラシステムであって、
少なくとも２つのセクションを有する第１の加熱エレメントと、
少なくとも２つのセクションを有する第２の加熱エレメントと、
前記第１および第２の加熱エレメントにＡＣ波形による電力を供給する電源と、
前記ヒーターコントローラシステムが少なくとも２つの動作モードのうちの１つのモードで動作している間に、前記第１および第２の加熱エレメントのうちの少なくとも一方の、前記少なくとも２つのセクションのうちの少なくとも１つのセクションに、前記電源から供給された電流を選択的に与えるように、少なくとも２つの双方向スイッチを選択的に制御するよう構成された、少なくとも２つの一方向スイッチと、
を備え、
前記少なくとも２つの動作モードのそれぞれが、前記被印刷物の特定のサイズに対応し、前記ＡＣ波形の第１の半周期の間に、前記第１および第２の加熱エレメントの一方の少なくとも２つのセクションのうちの少なくとも１つに電力が供給され、前記ＡＣ波形の第２の半周期の間に、前記第１および第２の加熱エレメントの一方の少なくとも２つのセクションのうちの少なくとも他方に電力が供給される、ヒーターコントローラシステム。
【請求項５】
マーキング材料を被印刷物に定着させるように構成された定着装置と、
請求項１〜４のいずれか一項に記載のヒーターコントローラシステムと、
を備える、
ゼログラフィ印刷システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月4日(2010.10.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像投射装置が接続され得る画像転送装置であって、
複数のコンテンツを表示可能な表示器と、
前記表示器に少なくとも一部が表示されている各コンテンツの全体画像を表示するための表示用画像データを生成する表示用画像データ生成部と、
記憶装置と、
接続されている各前記画像投射装置と、前記生成された各表示用画像データとを対応付けて前記記憶装置に格納する格納制御部と、
前記各画像投射装置に対して、対応付けられている前記各表示用画像データを転送する転送部とを備える画像転送装置。
【請求項２】
請求項１に記載の画像転送装置はさらに、
前記表示器に表示されている複数のコンテンツの中から一のコンテンツを選択するための選択部と、
前記選択されたコンテンツを投射する画像投射装置を指定する指定部とを備え、
前記格納制御部は、前記選択された表示用画像データと前記指定された画像投射装置とを対応付けて前記記憶装置に格納する画像転送装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の画像転送装置において、
前記格納制御部は、前記表示器上に表示されているコンテンツの数に応じた、前記表示用画像データを格納するための記憶領域を前記記憶装置に確保する画像転送装置。
【請求項４】
請求項３に記載の画像転送装置はさらに、
前記コンテンツの数に応じた前記表示用画像データを格納するための記憶領域において前記表示用画像データに対する画像処理を実行する画像処理部を備える画像転送装置。
【請求項５】
請求項１から３のいずれかに記載の画像転送装置において、
前記格納制御部は、前記接続されている画像投射装置の数に応じた、前記表示用画像データを格納するための記憶領域を前記記憶装置に確保する画像転送装置。
【請求項６】
請求項５に記載の画像転送装置はさらに、
前記画像投射装置の数に応じた前記表示用画像データを格納するための記憶領域において前記表示用画像データに対する画像処理を実行する画像処理部を備える画像転送装置。
【請求項７】
請求項３から請求項６のいずれかに記載の画像転送装置において、
前記格納制御部は、前記表示器の解像度に対応して前記記憶領域を前記記憶装置に確保する画像転送装置。
【請求項８】
請求項３から請求項６のいずれかに記載の画像転送装置において、
前記格納制御部は、前記画像投射装置の解像度に対応して前記記憶領域を前記記憶装置に確保する画像転送装置。
【請求項９】
請求項３に記載の画像転送装置において、
前記記憶領域は前記接続されている画像投射装置の配置に対応して確保されており、
前記格納制御部は、前記表示用画像データの容量が前記記憶領域の容量を超える場合には、前記表示用画像データを、隣接する前記画像投射装置に対応する複数の記憶領域に格納する画像転送装置。
【請求項１０】
請求項５から請求項９のいずれかに記載の画像転送装置はさらに、
接続されている画像投射装置に関する情報を管理する管理部を備え、
前記格納制御部は前記管理部から、前記接続されている画像投射装置の数に関する情報を取得する画像転送装置。
【請求項１１】
画像転送方法であって、
表示器に少なくとも一部が表示されている各コンテンツの全体画像を表示するための表示用画像データを生成し、
接続されている各画像投射装置と、前記生成された各表示用画像データとを対応付けて記憶装置に格納し、
前記各画像投射装置に対して、対応付けられている前記各表示用画像データを転送する画像転送方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月14日(2010.5.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
人体を撮影する撮影部と、
前記撮影部で撮影された画像から予め定めた人体要素を検出する人体検出部と、
前記人体要素に関する個人の人体画像情報を記録しておく人体情報記録部と、
前記人体検出部が検出した人体要素と人体情報記録部に記録された人体画像情報を比較してそれらの一致度を判定する比較判定部と、
前記比較判定部が判定した一致度に、前記人体要素毎に予め定めた重みを乗ずる係数乗算部と、
前記係数乗算部が重みを乗じた人体要素毎の一致度を検出された全人体要素について加算する一致度集計部と、
前記一致度集計部が算出した値に応じて、前記撮影された画像の人体が前記人体情報記録部に記録されている人体画像情報の人体と一致しているか否かを判定する人体判定部と、
を備えたことを特徴とする画像認識システム。
【請求項２】
前記一致度集計部が算出した値の時間変化の累計を算出する累計算出部を備え、
前記人体判定部は、前記一致度集計部が算出した値に代えて、前記累計算出部が算出した値に応じて、前記撮影された画像の人体が前記人体情報記録部に記録されている人体画像情報の人体と一致しているか否かを判定することを特徴とする請求項１に記載の画像認識システム。
【請求項３】
前記比較判定部は、その判定結果である一致度に負の値を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の画像認識システム。
【請求項４】
前記人体判定部は、前記一致度集計部が算出した値または前記累計算出部が算出した値に応じた閾値を予め備え、前記閾値を基準に判定を行うことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の画像認識システム。
【請求項５】
前記人体検出部は、前記撮影部で撮影された画像の時間的変化から前記人体検出部が検出した人体の移動変化を識別する移動識別部を備え、
前記移動識別部は、移動した人体位置による変化量と変化方向に基づいて、人体要素の部位を判別し、
前記比較判定部は、その判別した部位の人体要素に基づいて判定を行うことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の画像認識システム。
【請求項６】
前記人体検出部は前記移動識別部が識別する人体の顔部分を優先して検出することを特徴とする請求項５に記載の画像認識システム。
【請求項７】
前記顔部分の検出は、前記移動識別部が識別した人体位置の肌色部分、前記人体位置の縦長形状の上部、または前記人体位置の横長形状の端部を検出して行うことを特徴とする請求項６に記載の画像認識システム。
【請求項８】
前記人体検出部が検出した顔を構成する要素の位置や配置比率に応じて、前記比較判定部は判定に使用する前記人体情報記録部の顔情報を切替えることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の画像認識システム。
【請求項９】
前記人体検出部が検出する人体要素が、顔以外の１つあるいは複数の人体の特徴量であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の画像認識システム。
【請求項１０】
前記人体検出部が検出した人体要素と、前記人体情報記録部が記録している人体画像情報の人物とが一致していると識別したとき、検出した人体要素画像が前記人体情報記録部に記録している人体画像情報と相違する部分がある場合に、前記検出した人体要素画像を前記人体情報記録部に追加で記録することを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の画像認識システム。
【請求項１１】
所定の動作を行う電気機器に請求項１〜１０のいずれかに記載の画像認識システムを備え、
前記人体情報記録部には個人ごとに関連付けされた前記電気機器の設定情報を含み、前記人体検出部が検出した人体情報が前記人体情報記録部に記録された人体であると識別された場合には、識別された人体と関連付けされている機器の動作状態を前記設定情報に基づいて調整することを特徴とする機器システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月19日(2010.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
メインコネクタとサブコネクタとを並列してそれぞれ固定の相手側対位コネクタに嵌合する場合において、前記サブコネクタの対位サブコネクタの周囲に該対位サブコネクタに嵌合した前記サブコネクタをロックするスライド部材を設け、前記メインコネクタを対位メインコネクタに嵌合した状態で、前記メインコネクタを対位メインコネクタにロックすると共に前記スライド部材を固定する操作部材を設けたことを特徴とする電気コネクタハウジング。
【請求項２】
前記操作部材は前記対位メインコネクタに対し水平方向に操作可能とした請求項１に記載の電気コネクタハウジング。
【請求項３】
前記操作部材は前記対位メインコネクタ側から前記対位サブコネクタ側に突出して前記スライド部材を固定するようにしたことを特徴とする請求項１又は２に記載の電気コネクタハウジング。
【請求項４】
前記操作部材には係止凹部又は係止凸部を設け、前記スライド部材には係止凸部又は係止凹部を設けることにより、前記操作部材により前記スライド部材を固定するようにしたことを特徴とする請求項３に記載の電気コネクタハウジング。
【請求項５】
前記操作部材の操作により、前記メインコネクタは前記対位メインコネクタに引き込まれるように動作することを特徴とする請求項１〜４の何れか１つの請求項に記載の電気コネクタハウジング。
【請求項６】
前記操作部材の状態を目視することにより、前記メインコネクタとサブコネクタのそれぞれに対応する前記対位コネクタに対するロック状態を確認できるようにしたことを特徴とする請求項１〜５の何れか１つの請求項に記載の電気コネクタハウジング。
【請求項７】
前記メインコネクタは１個とし、前記サブコネクタを１個又は複数とした請求項１〜６の何れか１つの請求項に記載の電気コネクタハウジング。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月26日(2010.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程を含む半導体集積回路装置の製造方法：
（ａ）複数のチップをチップ処理装置のチップ・ピックアップ部に供給する工程；
（ｂ）前記チップ・ピックアップ部の前記複数のチップの内の第１のチップの表面を吸着コレットのラバーチップの下面に真空吸着した状態で、前記第１のチップを、前記チップ処理装置のダイ・ボンディング部へ向けて移送する工程；
（ｃ）前記工程（ｂ）の後、主に、前記第１のチップの前記表面を前記ラバーチップの前記下面との間の物理吸着により保持した状態で、前記第１のチップの裏面側を、前記チップ処理装置の前記ダイ・ボンディング部に置かれた配線基板の上面に着地させる工程；
（ｄ）前記工程（ｃ）の後、前記第１のチップの前記表面を前記ラバーチップの前記下面で下方に加圧することにより、前記第１のチップを、前記第１のチップの前記裏面と前記配線基板の前記上面間の接着部材層を介して前記配線基板の前記上面に固定する工程。
【請求項２】
前記１項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記工程（ｃ）から（ｄ）においては、真空吸着はオフとされている。
【請求項３】
前記２項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記ラバーチップは中央部に真空吸引孔を有する。
【請求項４】
前記３項の半導体集積回路装置の製造方法において、前記工程（ｂ）は、以下の下位工程を含む：
（ｂ１）前記第１のチップを、前記配線基板の前記上面へ向けて第１の速度で降下させる工程；
（ｂ２）前記工程（ｂ１）に引き続き、前記第１のチップを、前記第１の速度よりも遅い第２の速度で前記配線基板の前記上面へ向けて降下させる工程、
更に、前記工程（ｃ）は、以下の下位工程を含む：
（ｃ１）前記第１のチップを、着地するまで前記第２の速度で前記配線基板の前記上面へ向けて降下させる工程。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月23日(2010.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図６（ａ）の電流−電圧曲線（実線）によれば、電圧が２．５Ｖ付近で電流値が最大となり、電圧が−２．８Ｖ付近で電流値が最小となることが分かった。
図６（ａ）の抵抗−電圧曲線（破線）によれば、電流−電圧曲線（実線）における電流値が大きく変化したときに、抵抗値が大きく減少することが分かった。
また、ナノギャップ電極間に繰り返し電圧を印加して、複数の電流−電圧曲線及び抵抗−電圧曲線を得た結果、曲線の形に再現性があることが分かった。すなわち、スイッチング動作を安定的に繰り返すことができることが分かった。
図６（ｂ）の抵抗極小値の分布によれば、分布のピークに対応する電圧値が２．５６Ｖ（図８参照）であることが分かった。また、図６（ｂ）の抵抗極小値の分布によれば、図５（ｂ）及び図７（ｂ）の抵抗極小値の分布よりも、分布の形がブロードであることが分かった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
以上説明した本発明にかかるスイッチング素子１００によれば、絶縁性基板１０と、絶縁性基板１０の一面に設けられた第１電極２０及び第２電極３０と、第１電極２０と第２電極３０との間に設けられ、第１電極２０と第２電極３０との間への所定電圧の印加により抵抗のスイッチング現象が生じるナノメートルオーダーの間隙を有する電極間間隙部４０と、を備え、絶縁性基板１０は、当該一面に窒素が含有された窒素含有領域１０ａを有している。
具体的には、絶縁性基板１０としては、窒素含有領域１０ａが、プラズマ窒化処理が施された酸化シリコンで形成されているものや、窒化シリコンで形成されているものなどである。
すなわち、スイッチング素子１００は、絶縁性基板１０における電極間間隙部４０が形成された面に窒素が含有されているため、例えば、図４に示すように、電極間間隙部４０が形成された面に窒素を含有していない絶縁性基板を用いたスイッチング素子よりも、動作電圧を低下させることができる。
これにより、省電力化が可能となるとともに、シリコンとの親和性を向上させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月16日(2010.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミナと、第１のフラックスと、を含有したセラミック基体と、
前記セラミック基体に内蔵された静電電極と、
前記セラミック基体と前記静電電極との間に、第２のフラックスを含み、前記セラミック基体及び前記静電電極と接触するセラミック材と、を備え、
前記セラミック材に含まれる前記第２のフラックスの含有率は、前記セラミック基体に含まれる前記第１のフラックスの含有率よりも高いことを特徴とする静電チャック。
【請求項２】
前記セラミック材は、アルミナを主成分とすることを特徴とする請求項１記載の静電チャック。
【請求項３】
前記第１のフラックスの含有率は、前記第２のフラックスを含有した前記セラミック材に比べて、前記セラミック基体がプラズマによる損傷を受けにくい値であることを特徴とする請求項１又は２記載の静電チャック。
【請求項４】
前記第１のフラックス及び前記第２のフラックスは、酸化珪素、炭酸カルシウム、及び酸化マグネシウムのうち、少なくともいずれか１種を含むことを特徴とする請求項１ないし３のうち、いずれか一項記載の静電チャック。
【請求項５】
前記セラミック基体に含まれる前記第１のフラックスの含有率は、１重量％以下であることを特徴とする請求項１ないし４のうち、いずれか一項記載の静電チャック。
【請求項６】
積層された複数のグリーンシートを焼成することにより形成されるセラミック基体と、前記セラミック基体に内蔵され、導電性ペーストを焼成することにより形成される静電電極と、を備え、
前記セラミック基体に含まれるフラックスの含有率を、プラズマにより前記セラミック基体が損傷を受けにくい値とした静電チャックの製造方法であって、
前記複数のグリーンシートは、少なくとも第１のグリーンシートと、第２のグリーンシートとを有し、
前記第１及び第２のグリーンシートは、アルミナと、第１のフラックスと、を含み、
前記第１のグリーンシートに、第２のフラックスを含んだ第１のアルミナペーストを形成する第１のアルミナペースト形成工程と、
前記第１のアルミナペーストに、前記導電性ペーストを形成する導電性ペースト形成工程と、
前記導電性ペーストと対向する部分の前記第２のグリーンシートに、前記第２のフラックスを含んだ第２のアルミナペーストを形成する第２のアルミナペースト形成工程と、
前記第２のアルミナペーストと前記導電性ペーストとが接触するように、前記第１のアルミナペースト及び前記導電性ペーストが形成された前記第１のグリーンシートと、前記第２のアルミナペーストが形成された前記第２のグリーンシートとを積層させる積層工程と、
前記積層工程後に、前記第１のアルミナペースト及び前記導電性ペーストが形成された前記第１のグリーンシートと、前記第２のアルミナペーストが形成された前記第２のグリーンシートとが積層された構造体を焼成する焼成工程と、を含み、
前記第１及び第２のアルミナペーストに含まれる前記第２のフラックスの含有率を前記第１及び第２のグリーンシートに含まれる前記第１のフラックスの含有率よりも高くしたことを特徴とする静電チャックの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月31日(2010.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貫通孔を有した半導体基板と、
前記半導体基板の上面及び下面と、前記貫通孔の側面に対応する部分の前記半導体基板の面とを覆うように設けられた絶縁膜と、
前記絶縁膜が形成された前記貫通孔に設けられた貫通電極と、
前記半導体基板の上面側に配置され、前記貫通電極及び電子部品と接続される第１の配線パターンと、
前記半導体基板の下面側に配置され、前記貫通電極及び実装基板と接続される第２の配線パターンと、を備えた配線基板であって、
前記半導体基板の上面に形成された前記絶縁膜と前記第１の配線パターンとの間に設けた第１の隙間と、前記半導体基板の下面に形成された前記絶縁膜と前記第２の配線パターンとの間に設けた第２の隙間とについて、いずれか一方のみの又は両方の隙間を設けたことを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記第１の隙間が形成された部分の前記絶縁膜に、前記第１の配線パターンを支持する第１の支持部材を設けたことを特徴とする請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記貫通電極は、前記半導体基板の上面に形成された前記絶縁膜から突出する第１の突出部を有しており、
前記第１の支持部材の厚さを、前記第１の突出部の厚さと略等しくしたことを特徴とする請求項２記載の配線基板。
【請求項４】
前記第１の支持部材を複数設けたことを特徴とする請求項２又は３記載の配線基板。
【請求項５】
前記第２の隙間が形成された部分の前記絶縁膜に、前記第２の配線パターンを支持する第２の支持部材を設けたことを特徴とする請求項１ないし４のうち、いずれか一項記載の配線基板。
【請求項６】
前記貫通電極は、前記半導体基板の下面に形成された前記絶縁膜から突出する第２の突出部を有しており、
前記第２の支持部材の厚さを、前記第２の突出部の厚さと略等しくしたことを特徴とする請求項５記載の配線基板。
【請求項７】
前記第２の支持部材を複数設けたことを特徴とする請求項５又は６記載の配線基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の一観点によれば、貫通孔を有した半導体基板と、前記半導体基板の上面及び下面と、前記貫通孔の側面に対応する部分の前記半導体基板の面とを覆うように設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜が形成された前記貫通孔に設けられた貫通電極と、前記半導体基板の上面側に配置され、前記貫通電極及び電子部品と接続される第１の配線パターンと、前記半導体基板の下面側に配置され、前記貫通電極及び実装基板と接続される第２の配線パターンと、を備えた配線基板であって、前記半導体基板の上面に形成された前記絶縁膜と前記第１の配線パターンとの間に設けた第１の隙間と、前記半導体基板の下面に形成された前記絶縁膜と前記第２の配線パターンとの間に設けた第２の隙間とについて、いずれか一方のみの又は両方の隙間を設けたことを特徴とする配線基板が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
次いで、図８に示す工程では、図７に示す半導体基板１６の上面１６Ａ及び下面１６Ｂに設けられた部分の絶縁膜１９をエッチングして、第１及び第２の絶縁膜１７，１８を形成すると共に、絶縁膜１７と第１の配線パターン２３との間に隙間３２と、絶縁膜１８と第２の配線パターン２４との間に隙間３３とを形成する。これにより、第１の実施の形態の配線基板１０が製造される。図７に示す絶縁膜１９の厚さＭ３が２μｍの場合、第１の配線パターン側の絶縁膜１７の厚さＭ１は、例えば、１μｍとすることができる。この場合、第２の配線パターン側の絶縁膜１８の厚さＭ２は、例えば、１μｍとすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月7日(2010.4.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体膜の形成方法及び処理装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非晶質半導体膜を、前記非晶質半導体膜が溶融しない条件で輻射加熱して、前記非晶質半導体膜中に結晶核を発生させ、
加熱した前記非晶質半導体膜に、前記非晶質半導体膜中の前記結晶核が溶融せず且つ非晶質半導体が溶融する条件でレーザ光を照射することを特徴とする半導体膜の形成方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記輻射加熱によって、前記非晶質半導体膜を面方向に均一に加熱することを特徴とする半導体膜の形成方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記輻射加熱によって、前記非晶質半導体膜を結晶化することを特徴とする半導体膜の形成方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記レーザ光を照射することによって、前記非晶質半導体を溶融及び凝固させることを特徴とする半導体膜の形成方法。
【請求項５】
非晶質半導体膜を、前記非晶質半導体膜が溶融しない条件で面方向に均一に加熱して、前記非晶質半導体膜中に結晶核を発生させる第１の処理装置と、
加熱した前記非晶質半導体膜に、前記非晶質半導体膜中の前記結晶核が溶融せず且つ非晶質半導体が溶融する条件でレーザ光を照射する第２の処理装置と、を有することを特徴とする半導体膜の処理装置。
【請求項６】
請求項５において、
前記第１の処理装置は、高速熱処理（ＲＴＡ）装置または電気加熱炉であることを特徴とする半導体膜の処理装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
レーザ発振器３１から発振されたレーザ光１は、ビームホモジナイザ３２によって非晶質半導体膜３の表面で線状ビームになるように整形された後、ミラー３３により基板４の方向へ反射され、集光レンズ３４により集光されて、上記の結晶核を含む非晶質半導体膜３に照射される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
基板ステージ３６は、線状ビームの短軸方向に移動可能に構成されており、基板ステージ３６が移動することにより、レーザ光１を非晶質半導体膜３に対してその面方向に走査することができる。ただし、基板ステージ３６の位置を固定し、レーザ光１の照射位置を移動させることにより、上記の走査を行なってもよい。
上記のレーザ発振器３１および基板ステージ３６は、制御装置３８によって制御される。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月12日(2010.7.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の裏面側から光を照射し、前記光に応じて前記半導体基板内で発生した電荷を、前記半導体基板の表面側から読み出して撮像を行う裏面照射型撮像素子であって、
前記半導体基板内に形成された前記電荷を蓄積するための多数の電荷蓄積領域と、
前記多数の電荷蓄積領域の各々に対応させて前記半導体基板の裏面上方に形成されたフィルタとを備え、
多数の前記フィルタが、それぞれ異なる光の色成分を透過する複数種類のカラーフィルタと、光の輝度成分と相関のある分光特性を持つ輝度フィルタとを含み、
前記輝度フィルタに対応する電荷蓄積領域のうちの少なくとも一部の大きさが、前記カラーフィルタに対応する電荷蓄積領域の大きさよりも大きくなっている裏面照射型撮像素子。
【請求項２】
請求項１記載の裏面照射型撮像素子であって、
前記複数種類のカラーフィルタに対応する電荷蓄積領域の大きさは、全て同じである裏面照射型撮像素子。
【請求項３】
請求項１又は２記載の裏面照射型撮像素子であって、
前記少なくとも一部の電荷蓄積領域の前記半導体基板の裏面側の端部が、前記カラーフィルタに対応する電荷蓄積領域の前記裏面側の端部よりも前記裏面に平行な方向に広がっていることで、前記大きさに差がつけられている裏面照射型撮像素子。
【請求項４】
請求項１又は２記載の裏面照射型撮像素子であって、
前記少なくとも一部の電荷蓄積領域の前記半導体基板の裏面側の端部が、前記カラーフィルタに対応する電荷蓄積領域の前記裏面側の端部よりも前記半導体基板の裏面側に張り出していることで、前記大きさに差がつけられている裏面照射型撮像素子。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項記載の裏面照射型撮像素子であって、
前記一部の電荷蓄積領域が、前記裏面照射型撮像素子の周辺部にある電荷蓄積領域である裏面照射型撮像素子。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項記載の裏面照射型撮像素子であって、
前記少なくとも一部の電荷蓄積領域の大きさが、当該電荷蓄積領域に対応する前記輝度フィルタに入射する光の入射角に応じて異なる裏面照射型撮像素子。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の裏面照射型撮像素子は、半導体基板の裏面側から光を照射し、前記光に応じて前記半導体基板内で発生した電荷を、前記半導体基板の表面側から読み出して撮像を行う裏面照射型撮像素子であって、前記半導体基板内に形成された前記電荷を蓄積するための多数の電荷蓄積領域と、前記多数の電荷蓄積領域の各々に対応させて前記半導体基板の裏面上方に形成されたフィルタとを備え、多数の前記フィルタが、それぞれ異なる光の色成分を透過する複数種類のカラーフィルタと、光の輝度成分と相関のある分光特性を持つ輝度フィルタとを含み、前記輝度フィルタに対応する電荷蓄積領域のうちの少なくとも一部の大きさが、前記カラーフィルタに対応する電荷蓄積領域の大きさよりも大きくなっている。前記複数種類のカラーフィルタに対応する電荷蓄積領域の大きさは、全て同じであることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月14日(2010.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクに形成されたパターンを介して基板を露光する露光装置であって、
前記マスクからの光を前記基板に投影する投影光学系と、
前記マスクを保持する第１ステージと、
前記基板を保持する第２ステージと、
前記パターン内の透過率の分布の情報に基づき、前記透過率の分布に起因して発生する前記投影光学系の結像特性の変動の像高依存性を低減するように、前記投影光学系を構成する光学素子、前記第１ステージ及び前記第２ステージの少なくとも一つの駆動を制御する制御部と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、
前記マスク上の露光領域及び前記透過率の分布の情報に応じて前記結像特性の変動の像高依存性を補正するために必要とされる補正係数を算出し、
前記算出された補正係数及び露光条件に基づいて前記結像特性の変動量の像高依存性を算出し、
前記算出された像高依存性に基づいて前記少なくとも一つの駆動を制御する、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記露光領域を分割して得られる複数の領域それぞれに関して、前記結像特性への影響度と、前記透過率の分布の情報と前記複数の領域それぞれの情報とから算出された重み付け係数とを乗算することにより、前記補正係数を算出する、ことを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記影響度は、計測結果又はシミュレーション結果に基づいて算出されたものである、ことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記透過率の分布の情報は、前記露光装置により計測された又は前記マスクの設計情報より算出されたものである、ことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御部は、有効光源、前記マスクの走査速度、および露光時間の少なくとも一つの情報に基づいて前記補正係数を算出する、ことを特徴とする請求項２乃至請求項５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記露光条件は、露光量、前記マスクの走査速度、露光時間、および非露光時間の少なくとも一つを含む、ことを特徴とする請求項２乃至請求項４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記投影光学系を構成する光学素子、前記第１ステージ及び前記第２ステージの少なくとも１つに関し、前記投影光学系の光軸に平行な方向の駆動及びチルト駆動の少なくとも一つを制御する、ことを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、マスクに形成されたパターンを介して基板を露光する露光装置であって、マスクからの光を前記基板に投影する投影光学系と、マスクを保持する第１ステージと、基板を保持する第２ステージと、パターン内の透過率の分布の情報に基づき、透過率の分布に起因して発生する投影光学系の結像特性の変動の像高依存性を低減するように、投影光学系を構成する光学素子、第１ステージ及び第２ステージの少なくとも一つの駆動を制御する制御部と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月5日(2010.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基板載置台上の基板に所定の処理を施す処理チャンバと、
前記基板載置台に基板を搬送する基板搬送装置と、
前記基板搬送装置を収容し、前記処理チャンバが連結される搬送室と
を具備し、
前記基板搬送装置は、基板を支持した状態で前記処理チャンバ内に進入して基板を前記基板載置台に搬送するピックと、ピックを駆動する主駆動機構とを有し、
前記ピックは、基部と、前記基部から延び基板を支持する複数の支持部材と、これら支持部材を伸縮動させる副駆動機構とを有し、前記支持部材を伸ばした状態で基板が搬送されることを特徴とする基板処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
基板を搬送する基板搬送装置であって、
基板を支持した状態で基板を搬送するピックと、
ピックを駆動する主駆動機構とを有し、
前記ピックは、基部と、前記基部から延び基板を支持する複数の支持部材と、これら支持部材を伸縮動させる副駆動機構とを有し、前記支持部材を伸ばした状態で基板が搬送されることを特徴とする基板搬送装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の第１の観点では、基板載置台上の基板に所定の処理を施す処理チャンバと、前記基板載置台に基板を搬送する基板搬送装置と、前記基板搬送装置を収容し、前記処理チャンバが連結される搬送室とを具備し、前記基板搬送装置は、基板を支持した状態で前記処理チャンバ内に進入して基板を前記基板載置台に搬送するピックと、ピックを駆動する主駆動機構とを有し、前記ピックは、基部と、前記基部から延び基板を支持する複数の支持部材と、これら支持部材を伸縮動させる副駆動機構とを有し、前記支持部材を伸ばした状態で基板が搬送されることを特徴とする基板処理装置を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の第２の観点では、基板を搬送する基板搬送装置であって、基板を支持した状態で基板を搬送するピックと、ピックを駆動する主駆動機構とを有し、前記ピックは、基部と、前記基部から延び基板を支持する複数の支持部材と、これら支持部材を伸縮動させる副駆動機構とを有し、前記支持部材を伸ばした状態で基板が搬送されることを特徴とする基板搬送装置を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月30日(2010.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に複数の燃料電池セルを積層した燃料電池セルスタックを複数個電気的に接続した燃料電池セルスタックユニットであって、上記基体は、長手方向に延びると共に長手方向に直交する断面が幅に対し厚さが小さい形状であり且つその内部に長手方向に沿って一端から他端まで貫通する孔を有し、上記燃料電池セルの各々は、燃料極、電解質及び空気極を有する燃料電池セルスタックユニットにおいて、
空気及び燃料ガスの一方が、上記基体の孔の一端から他端に流れ、且つ、空気及び燃料ガスの他方が、上記燃料電池セルスタックの外側に流れ、
上記燃料電池セルスタックの各々は、上記燃料電池セルの燃料極及び空気極のそれぞれに電気的に接続された燃料極端子及び空気極端子を有し、
上記基体は、基体の厚み方向の互いに反対側に位置する第一周面部分及び第二周面部分、並びに、基体の幅方向の互いに反対側に位置し第一周面部分及び第二周面部分を接続する第一接続面部分及び第二接続面部分からなる周面を有し、
上記燃料電池セルスタックの各々は、それぞれの燃料極端子及び空気極端子を介して互いに電気的に直列に接続され、
上記燃料電池セルスタックの各々の第一周面部分側及び第二周面部分側のそれぞれの幅方向の中央部には、燃料電池セルが積層されていない非発電部が形成されていることを特徴とする燃料電池セルスタックユニット。
【請求項２】
上記燃料電池セルスタックの各々は、上記基体の第一周面部分側の燃料極端子から第二周面部分側の空気極端子に向けて第一接続面部分に沿って電流を流し、第二周面部分側の燃料極端子から第一周面部分側の空気極端子に向けて第二接続面部分に沿って電流を流すように構成されている請求項２に記載の燃料電池セルスタックユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記の目的を達成するために、本発明は、基体上に複数の燃料電池セルを積層した燃料電池セルスタックを複数個電気的に接続した燃料電池セルスタックユニットであって、基体は、長手方向に延びると共に長手方向に直交する断面が幅に対し厚さが小さい形状であり且つその内部に長手方向に沿って一端から他端まで貫通する孔を有し、燃料電池セルの各々は、燃料極、電解質及び空気極を有する燃料電池セルスタックユニットにおいて、空気及び燃料ガスの一方が、基体の孔の一端から他端に流れ、且つ、空気及び燃料ガスの他方が、燃料電池セルスタックの外側に流れ、燃料電池セルスタックの各々は、燃料電池セルの燃料極及び空気極のそれぞれに電気的に接続された燃料極端子及び空気極端子を有し、基体は、基体の厚み方向の互いに反対側に位置する第一周面部分及び第二周面部分、並びに、基体の幅方向の互いに反対側に位置し第一周面部分及び第二周面部分を接続する第一接続面部分及び第二接続面部分からなる周面を有し、燃料電池セルスタックの各々は、それぞれの燃料極端子及び空気極端子を介して互いに電気的に直列に接続され、燃料電池セルスタックの各々の第一周面部分側及び第二周面部分側のそれぞれの幅方向の中央部には、燃料電池セルが積層されていない非発電部が形成されていることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明において、好ましくは、燃料電池セルスタックの各々は、基体の第一周面部分側の燃料極端子から第二周面部分側の空気極端子に向けて第一接続面部分に沿って電流を流し、第二周面部分側の燃料極端子から第一周面部分側の空気極端子に向けて第二接続面部分に沿って電流を流すように構成されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明によれば、信頼性を向上させた燃料電池セルスタックユニットを提供することができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月25日(2010.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部電極と下部電極との間に有機化合物層が挟持されてなる有機発光素子の製造方法において、
下部電極及び前記下部電極の周辺を覆う画素分離膜が形成された基板に、酸素を含む気体を雰囲気中に導入及び排気しながらＵＶ光を照射する工程と、
前記画素分離膜の開口部から露出する下部電極の上に、有機化合物層を形成する工程と、
前記有機化合物層の上に、上部電極を形成する工程と、を有し、
前記基板にＵＶ光を照射する工程は、
圧力（Ａ）でＵＶオゾン処理する第１の工程と、
前記圧力（Ａ）よりも低い圧力（Ｂ）でＵＶオゾン処理する第２の工程と、を有し、
前記第１の工程から前記第２の工程を経由することを特徴とする有機発光素子の製造方法。
【請求項２】
前記第１の工程での圧力（Ａ）は前記第２の工程での圧力（Ｂ）の５倍以上であることを特徴とする請求項１に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項３】
前記第２の工程での圧力（Ｂ）は１０Ｐａ以上１×１０4Ｐａ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項４】
前記第１の工程での圧力（Ａ）は５×１０4Ｐａ以上１×１０5Ｐａ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項５】
前記第１の工程と第２の工程とは連続的に行うことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項６】
前記基板にＵＶ光を照射する工程は、第２の工程で終了することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の有機発光素子の製造方法。
【請求項７】
前記基板にＵＶ光を照射する工程の後に、画素分離膜の開口部から露出する下部電極の上に、有機化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層の上に、上部電極を形成する工程とを行うことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の有機発光素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記課題を解決するための手段として、本発明は、
上部電極と下部電極との間に有機化合物層が挟持されてなる有機発光素子の製造方法において、
下部電極及び前記下部電極の周辺を覆う画素分離膜が形成された基板に、酸素を含む気体を雰囲気中に導入及び排気しながらＵＶ光を照射する工程と、
前記画素分離膜の開口部から露出する下部電極の上に、有機化合物層を形成する工程と、
前記有機化合物層の上に、上部電極を形成する工程と、を有し、
前記基板にＵＶ光を照射する工程は、
圧力（Ａ）でＵＶオゾン処理する第１の工程と、
前記圧力（Ａ）よりも低い圧力（Ｂ）でＵＶオゾン処理する第２の工程と、を有し、
前記第１の工程から前記第２の工程を経由することを特徴とする。