【手続補正書】
【提出日】平成22年2月25日(2010.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を有する光検出器と、前記光検出器上に配置されたシンチレータ層とを有し、前記シンチレータ層の前記光検出器とは反対の面側から放射線が入射され、前記シンチレータ層の前記光検出器側から光が出射される放射線検出装置であって、前記シンチレータ層は、複数の柱状結晶体の集合体を有し、付活剤の濃度が放射線の入射側で高く、光の出射側で低いことを特徴とする放射線検出装置。
【請求項２】
前記シンチレータ層は、一定の厚さ毎の付活剤の平均濃度が前記放射線の入射側で高く、前記光の出射側で低いことを特徴とする請求項１に記載の放射線検出装置。
【請求項３】
前記シンチレータ層は、前記放射線の入射側の付活剤濃度が、０．７mol％以上であり、前記光の出射側の付活剤濃度が、０．３mol％以上で前記放射線の入射側の付活剤濃度より低いことを特徴とする請求項１又は２に記載の放射線検出装置。
【請求項４】
前記シンチレータ層は、付活剤の濃度が段階的に前記放射線の入射側で高く、前記光の出射側で低いことを特徴とする請求項１から３のいずれか1項に記載の放射線検出装置。
【請求項５】
前記シンチレータ層は、付活剤の濃度が漸進的に前記放射線の入射側で高く、前記光の出射側で低いことを特徴とする請求項１から３のいずれか1項に記載の放射線検出装置。
【請求項６】
前記シンチレータ層の各柱状結晶体は放射線の入射方向に沿うように配列され、前記受光面に平行方向の前記各柱状結晶体の断面積は、前記放射線の入射側で大きく、前記光の出射側で小さいことを特徴とする請求項１から５のいずれか1項に記載の放射線検出装置。
【請求項７】
前記シンチレータ層は、前記放射線の入射方向に沿って隣接する複数の領域を有し、前記複数の領域は前記放射線の入射方向の境界において前記断面積の減少率が変化し、前記複数の領域内の隣接する二つの領域において、前記放射線の入射側に近い方の領域における前記柱状結晶体の集合体の平均断面積が、前記放射線の入射側に遠い方の領域における前記柱状結晶体の集合体の平均断面積よりも大きいことを特徴とする請求項６に記載の放射線検出装置。
【請求項８】
前記シンチレータ層上に配置されたドープ剤よりなる防湿層をさらに有することを特徴とする請求項１から７のいずれか1項に記載の放射線検出装置。
【請求項９】
前記シンチレータ層表面を覆う、ドープ剤よりなる防湿層をさらに有することを特徴とする請求項１から７のいずれか1項に記載の放射線検出装置。
【請求項１０】
前記光電変換素子上に配置された保護膜をさらに有し、前記シンチレータ層は前記保護膜上に配置されることを特徴とする請求項１から９のいずれか1項に記載の放射線検出装置。
【請求項１１】
前記シンチレータ層は、アルカリハライド蛍光体を含むことを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の放射線検出装置。
【請求項１２】
前記アルカリハライド蛍光体は、CsI又はNaIであることを特徴とする請求項１１に記載の放射線検出装置。
【請求項１３】
前記付活剤は、タリウム又はナトリウムであることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の放射線検出装置。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項に記載の放射線検出装置を真空蒸着により製造する方法であって、前記シンチレータ層の原材料の主剤と付活剤を蒸着装置の別々のボートに入れ、各ボートの加熱パワーを個別に制御するか又は蒸着装置のチャンバ内の圧力を制御することにより前記シンチレータ層を形成する工程を有することを特徴とする放射線検出装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項６又は７に記載の放射線検出装置を真空蒸着により製造する方法であって、前記シンチレータ層の原材料の主剤とドープ剤を蒸着装置の別々のボートに用意され、前記蒸着装置のチャンバ内蒸着時の圧力を前記光の出射側よりも前記放射線の入射側を低く制御することにより前記シンチレータ層を形成する工程を有することを特徴とする放射線検出装置の製造方法。
【請求項１６】
前記工程で形成された前記シンチレータ層をアニールするアニール工程をさらに有することを特徴とする請求項１４又は１５に記載の放射線検出装置の製造方法。
【請求項１７】
基板と、前記基板上に配置されたシンチレータ層を有し、前記シンチレータ層の一方の面側から放射線が入射され、反対面から光が出射されるシンチレータパネルであって、前記シンチレータ層は、複数の柱状結晶体の集合体を有し、付活剤の濃度が放射線の入射側で高く、光の出射側で低いことを特徴とするシンチレータパネル。
【請求項１８】
前記シンチレータ層は、一定の厚さ毎の付活剤の平均濃度が前記放射線の入射側で高く、前記光の出射側で低いことを特徴とする請求項１７に記載のシンチレータパネル。
【請求項１９】
前記シンチレータ層は、前記放射線の入射側の付活剤濃度が、０．７mol％以上であり、前記光の出射側の付活剤濃度が、０．３mol％以上で前記放射線の入射側の付活剤濃度より低いことを特徴とする請求項１７又は１８に記載のシンチレータパネル。
【請求項２０】
前記シンチレータ層は、付活剤の濃度が段階的に前記放射線の入射側で高く前記光の出射側で低いことを特徴とする請求項１７から１９のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。
【請求項２１】
前記シンチレータ層は、付活剤の濃度が漸進的に前記放射線の入射側で高く、前記光の出射側で低いことを特徴とする請求項１７から１９のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。
【請求項２２】
前記シンチレータ層の各柱状結晶体は放射線の入射方向に沿うように配列され、前記受光面に平行方向の前記各柱状結晶体の断面積は、前記放射線の入射側で大きく、前記光の出射側で小さいことを特徴とする請求項１７から２１のいずれか1項に記載のシンチレータパネル。
【請求項２３】
前記シンチレータ層は、前記放射線の入射方向に沿って隣接する複数の領域を有し、前記複数の領域は前記放射線の入射方向の境界において前記断面積の減少率が変化し、前記複数の領域内の隣接する二つの領域において、前記放射線の入射側に近い方の領域における前記柱状結晶体の集合体の平均断面積が、前記放射線の入射側に遠い方の領域における前記柱状結晶体の集合体の平均断面積よりも大きいことを特徴とする請求項２２に記載のシンチレータパネル。
【請求項２４】
前記シンチレータ層上に配置されたドープ剤よりなる防湿層をさらに有することを特徴とする請求項１７又は２３に記載のシンチレータパネル。
【請求項２５】
前記シンチレータ層表面を覆う、ドープ剤よりなる防湿層をさらに有することを特徴とする請求項１７又は２３に記載のシンチレータパネル。
【請求項２６】
請求項１７から２５のいずれか１項に記載のシンチレータパネルが、基板上に前記シンチレータ層で変換された光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を有するセンサパネルに貼り合わされていることを特徴とする放射線検出装置。
【請求項２７】
請求項１〜１３、又は２６のいずれか１項に記載の放射線検出装置と、
前記放射線検出装置からの信号を処理する信号処理手段と、
前記信号処理手段からの信号を記録するための記録手段と、
前記信号処理手段からの信号を表示するための表示手段と、
前記信号処理手段からの信号を伝送するための伝送処理手段と、
前記放射線を発生させるための放射線源と、
を具備することを特徴とする放射線検出システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】放射線検出装置、シンチレータパネル、放射線検出システム及び放射線検出装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
上述の課題を解決するため、本発明の放射線検出装置は、基板上に光を電気信号に変換する複数の光電変換素子を有する光検出器と、前記光検出器上に配置されたシンチレータ層とを有し、前記シンチレータ層の前記光検出器とは反対の面側から放射線が入射され、前記シンチレータ層の前記光検出器側から光が出射される放射線検出装置であって、前記シンチレータ層は、複数の柱状結晶体の集合体を有し、付活剤の濃度が放射線の入射側で高く、光の出射側で低いことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明のシンチレータパネルは、基板と、前記基板上に配置されたシンチレータ層とを有し、前記シンチレータ層の一方の面側から放射線が入射され、反対面から光が出射されるシンチレータパネルであって、前記シンチレータ層は、複数の柱状結晶体の集合体を有し、付活剤の濃度が放射線の入射側で高く、光の出射側で低いことを特徴とする。