【手続補正書】
【提出日】平成22年5月17日(2010.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理容器内に禁水扱いの有機Ｍｎ化合物ガスを含むガスを供給して処理容器内に配置された基板上にＣＶＤによりＭｎを含む膜を形成する成膜装置の排気系構造であって、
前記処理容器内の排ガスを排出する排気管と、
前記排気管の前記処理容器の近傍に設けられた自動圧力制御器と、
前記排気管の前記自動圧力制御器の下流側に設けられ、前記処理容器内を排気する真空ポンプと、
前記排気管の前記自動圧力制御器の下流側位置に、排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物を酸化させるための水を酸化剤として供給する酸化剤供給部と、
前記排気管の前記酸化剤供給位置の下流側に設けられ、前記排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物が前記酸化剤としての水と反応して生成された生成物を回収するトラップ機構と、
前記排気管の前記トラップ機構の下流側に設けられ、排ガスを無害化するための除害装置と
を具備することを特徴とする、成膜装置の排気系構造。
【請求項２】
前記真空ポンプは、前記排気管の前記トラップ機構の下流側かつ前記除害装置の上流側に設けられることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置の排気系構造。
【請求項３】
前記真空ポンプは、前記排気管の前記酸化剤供給位置の下流側かつ前記トラップ機構の上流側に設けられることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置の排気系構造。
【請求項４】
前記真空ポンプは、前記排気管の前記酸化剤供給位置の上流側に設けられることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置の排気系構造。
【請求項５】
基板が配置される処理容器と、
基板が配置された処理容器内に禁水扱いの有機Ｍｎ化合物ガスを含むガスを供給する原料ガス供給機構と、
前記有機Ｍｎ化合物ガスにエネルギーを与えて基板上で成膜反応を生じさせる手段と、
前記処理容器から排ガスを排出させ、排ガスを処理する排気系構造と
を具備し、
基板上にＭｎを含む膜を形成する成膜装置であって、
前記排気系構造は、
前記処理容器内の排ガスを排出する排気管と、
前記排気管の前記処理容器の近傍に設けられた自動圧力制御器と、
前記排気管の前記自動圧力制御器の下流側に設けられ、前記処理容器内を排気する真空ポンプと、
前記排気管の前記自動圧力制御器の下流側位置に、排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物を酸化させるための水を酸化剤として供給する酸化剤供給部と、
前記排気管の前記酸化剤供給位置の下流側に設けられ、前記排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物が前記酸化剤としての水と反応して生成された生成物を回収するトラップ機構と、
前記排気管の前記トラップ機構の下流側に設けられ、排ガスを無害化するための除害装置と
を具備することを特徴とする、成膜装置。
【請求項６】
前記真空ポンプは、前記排気管の前記トラップ機構の下流側かつ前記除害装置の上流側に設けられることを特徴とする請求項５に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記真空ポンプは、前記排気管の前記酸化剤供給位置の下流側かつ前記トラップ機構の上流側に設けられることを特徴とする請求項５に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記真空ポンプは、前記排気管の前記酸化剤供給位置の上流側に設けられることを特徴とする請求項５に記載の成膜装置。
【請求項９】
処理容器内に禁水扱いの有機Ｍｎ化合物ガスを含むガスを供給して処理容器内に配置された基板上にＣＶＤによりＭｎを含む膜を形成する成膜装置における排ガスの処理方法であって、
前記処理容器に接続された排気管を介して真空ポンプにより処理容器内を排気し、
前記排気管の自動圧力制御器の下流側で成膜処理の際の排ガスに酸化剤としての水を供給して排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物を酸化させ、
前記排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物が前記酸化剤としての水と反応して生成された生成物をトラップ機構により回収し、
生成物が回収された後の排ガスを除害装置により処理することを特徴とする、排ガスの処理方法。
【請求項１０】
コンピュータ上で動作し、成膜装置を制御するプログラムが記憶された記憶媒体であって、前記プログラムは、実行時に、請求項９の排ガスの処理方法が行われるように、コンピュータに前記成膜装置の排気系を制御させることを特徴とする記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の第１の観点では、処理容器内に禁水扱いの有機Ｍｎ化合物ガスを含むガスを供給して処理容器内に配置された基板上にＣＶＤによりＭｎを含む膜を形成する成膜装置の排気系構造であって、前記処理容器内の排ガスを排出する排気管と、前記排気管の前記処理容器の近傍に設けられた自動圧力制御器と、前記排気管の前記自動圧力制御器の下流側に設けられ、前記処理容器内を排気する真空ポンプと、前記排気管の前記自動圧力制御器の下流側位置に、排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物を酸化させるための水を酸化剤として供給する酸化剤供給部と、前記排気管の前記酸化剤供給位置の下流側に設けられ、前記排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物が前記酸化剤としての水と反応して生成された生成物を回収するトラップ機構と、前記排気管の前記トラップ機構の下流側に設けられ、排ガスを無害化するための除害装置とを具備することを特徴とする、成膜装置の排気系構造を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第２の観点では、基板が配置される処理容器と、基板が配置された処理容器内に禁水扱いの有機Ｍｎ化合物ガスを含むガスを供給する原料ガス供給機構と、前記有機Ｍｎ化合物ガスにエネルギーを与えて基板上で成膜反応を生じさせる手段と、前記処理容器から排ガスを排出させ、排ガスを処理する排気系構造とを具備し、基板上にＭｎを含む膜を形成する成膜装置であって、前記排気系構造は、前記処理容器内の排ガスを排出する排気管と、前記排気管の前記処理容器の近傍に設けられた自動圧力制御器と、前記排気管の前記自動圧力制御器の下流側に設けられ、前記処理容器内を排気する真空ポンプと、前記排気管の前記自動圧力制御器の下流側位置に、排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物を酸化させるための水を酸化剤として供給する酸化剤供給部と、前記排気管の前記酸化剤供給位置の下流側に設けられ、前記排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物が前記酸化剤としての水と反応して生成された生成物を回収するトラップ機構と、前記排気管の前記トラップ機構の下流側に設けられ、排ガスを無害化するための除害装置とを具備することを特徴とする、成膜装置を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の第３の観点では、処理容器内に禁水扱いの有機Ｍｎ化合物ガスを含むガスを供給して処理容器内に配置された基板上にＣＶＤによりＭｎを含む膜を形成する成膜装置における排ガスの処理方法であって、前記処理容器に接続された排気管を介して真空ポンプにより処理容器内を排気し、前記排気管の自動圧力制御器の下流側で成膜処理の際の排ガスに酸化剤としての水を供給して排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物を酸化させ、前記排ガス中の有機Ｍｎ化合物ガス成分および副生成物が前記酸化剤としての水と反応して生成された生成物をトラップ機構により回収し、生成物が回収された後の排ガスを除害装置により処理することを特徴とする、排ガスの処理方法を提供する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】