(57)【要約】【課題】ガラス原盤の裏面反射による戻り光によるフォトレジストの多重露光を減少する。【解決手段】ガラス原盤（１１２）の裏面にフォトニック結晶からなる反射防止構造（１１）を設け、ガラス裏面反射の戻り光によるガラス原盤の径方向における多重露出傾向の相違に対応して当該径方向位置におけるフォトニック結晶の周期構造を調整して多重露光の程度を設定する。ガラス原盤における露光傾向を均一化することが可能となる。反射防止構造は柱状、穴状等の周期配列構造を含む。【選択図】    図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一面に入射した露光光の他面における反射を抑制する反射防止構造を有する露光基板であって、
前記反射防止構造は前記基板の他面側に設けられた前記露光光の波長よりも短い遮断波長の大きさの微小構造体を当該遮断波長と同程度の間隔で複数配列してなる微小構造体群を含む露光基板。
【請求項２】
前記反射防止構造は前記遮断波長よりも長い波長の露光光を透過させる請求項１記載の露光基板。
【請求項３】
前記遮断波長が前記露光光の波長の約１／２に設定される請求項１又は２に記載の露光基板。
【請求項４】
前記微小構造体のアスペクト比及び前記微小構造体の配列の間隔のうち少なくともいずれかが前記基板における反射率の分布に対応して設定されている請求項１乃至３のいずれかに記載の露光基板。
【請求項５】
前記基板がガラス円盤であり、
前記微小構造体のアスペクト比及び前記微小構造体の配列の間隔のうち少なくともいずれかが当該微小構造体の前記ガラス円盤における径方向位置に対応して設定されている請求項１乃至４のいずれかに記載の露光基板。
【請求項６】
前記反射防止構造は前記基板の一面側に画定される記録領域の外縁を越えるようにより広範囲に形成される請求項１乃至６のいずれかに記載の露光基板。
【請求項７】
露光ビームを発生する光源と、
描画パターンを担うパターン信号に応じて前記露光ビームの強度を変調する変調器と、
前記露光ビームを複数本の露光ビームに分岐する分岐手段と、
分岐した前記複数本の露光ビーム相互間の間隔を設定するビーム間隔設定手段と、
間隔が調整された前記複数本の露光ビームを集光して露光基板上に複数の露光スポットを形成する対物レンズと、
前記複数の露光スポットを前記露光基板上で相対的に走査させる走査手段と、
前記露光基板の記録位置において生じる描画パターンの誤差情報を予め保持する誤差記憶手段と、
前記複数の露光スポットの現在の走査位置に対応する前記描画パターンの誤差情報を前記誤差記憶手段から読み出して前記複数の露光スポット相互間の間隔、前記複数の露光スポットによる走査の走査ピッチ及び前記パターン信号の時間軸の伸縮を調節する周期構造調節手段と、
を備える露光装置。
【請求項８】
前記分岐手段は前記露光ビームを複数本の露光ビームに分岐する第１の回折格子と分岐した複数本の露光ビームを平行ビームに変換する第２の回折格子とを含み、
前記ビーム間隔設定手段は前記第１及び第２の回折格子相互間の距離を調整することによって前記複数本の露光ビーム相互間の間隔を設定する、請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記露光基板はガラス原盤であり、
前記走査手段は前記複数の露光スポットを前記ガラス原盤上に回転走査させ、
前記誤差記憶手段は前記ガラス原盤の径方向における位置に対応する描画パターンの誤差情報を予め記憶し、
前記周期構造調節手段は前記ガラス原盤の径方向における走査位置に対応して複数の露光スポット相互間の間隔、前記複数の露光スポットによる走査の走査ピッチ及び前記パターン信号の時間軸の伸縮を調節する請求項７又は８に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光ディスク用スタンパの製作や微細構造体の製作などに使用される露光基板に関し、特に、露光ビームの内部反射防止構造を有する露光基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ディスクはピットパターンを形成したスタンパを用いて樹脂を射出成形することによって量産されている。スタンパの製作は、まず、露光基板であるガラス原盤の表面にフォトレジストを均一に塗布する。このフォトレジストをピットパターンの情報信号で変調されたレーザビームで螺旋状に走査して露光を行い、フォトレジストに潜像を形成する。このフォトレジストを現像してガラス原盤の表面にピットパターンを形成する。このガラス原盤の表面にスパッタリング、無電界メッキなどによって導体膜を形成し、これを一方の電極としてニッケル電解鋳造を行う。ニッケル層が所定の膜厚に成長したらこれをガラス原盤から剥がしてスタンパを得る。このスタンパを用いて樹脂などの成形を行い、光ディスクや微小構造体の基板が作成される。
【０００３】
上述したレーザビームによる露光過程においては、レーザビームはフォトレジストを感光させてガラス原盤を通りその裏面から外に出る。このとき、レーザビームの一部がガラス原盤の裏面で反射して表面側に戻るために、戻り光によってレジストが多重露光される。それにより、ガラス原盤の径方向において解像度が低下する傾向（ラジアルコントラスト）を生じる。
【０００４】
そこで、ガラス原盤の裏面に無反射コートを設けたり（特開平４−２６３１４０号公報）、光吸収層を設けることが提案されている（特開平７−１４７０２６号公報）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平４−２６３１４０号公報
【特許文献２】
特開平７−１４７０２６号公報
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、パターン露光に用いられるレーザはピットやグルーブサイズに応じて色々な波長のレーザが使用されている。例えば、ＣＤなどのサイズの大きいものは波長４４２ｎｍのヘリウムカドニウム（Ｈｅ−Ｃｄ）レーザや、波長４１３ｎｍのクリプトン（Ｋｒ）レーザ等の青色系レーザが使用される。ＤＶＤでは波長４１３ｎｍ又は３１５ｎｍのＫｒレーザ等の青色から紫外のレーザが使用される。更に、より高密度で微細なパターンを描画する場合には波長２６６ｎｍの遠紫外のレーザが使用される。
【０００６】
上述した無反射コートや光吸周層（反射防止膜）の光吸収率には周波数依存性があり、使用レーザの各波長に合わせた最適な反射防止膜の膜設計を行う必要がある。反射防止膜の光吸収作用を広帯域に渡って機能させようとすると、例えば、屈折率の異なる材料を多層に重ねることになり、反射防止膜の作製はより複雑になる。
【０００７】
また、ガラス原盤上の位置によって原盤裏面からの反射によるフォトレジストへの多重露光の影響が異なることが判ったが、上述した無反射膜はこのような部分的な多重露光傾向の相違にまで対処することはできない。
【０００８】
よって、本発明は透過光を広帯域に渡って吸収する反射防止構造を有する露光基板を提供することを目的とする。
【０００９】
また、本発明は露光原盤の領域によって異なる裏面反射の影響（多重露光）を考慮した反射防止構造を有する無反射膜を形成した露光基板を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明の露光基板は、基板の一面に入射した露光光の他面における反射を抑制する反射防止構造を有する露光基板において、上記反射防止構造は上記基板の他面側に設けられた上記露光光の波長よりも短い遮断波長の大きさの微小構造体を当該遮断波長と同程度の間隔（あるいは周期）で複数配列してなる微小構造体群を含む。微小構造体は、例えば、微小な柱、孔、球、等を含む。
【００１１】
かかる構成とすることによって、反射防止構造は一面から基板内に入った露光光を基板の他面で反射させずに該他面から反射防止構造を介して外部に出す。使用する露光光の最も短い波長に対応して遮断波長を設計することによってその他の露光光でも良好な反射防止効果が得られる。
【００１２】
好ましくは、上記反射防止構造は上記遮断波長よりも長い波長の露光光を透過させる。それにより、広範囲に渡って露光光の反射を防止することが可能となる。
【００１３】
好ましくは、上記遮断波長が上記露光光の波長の約１／２に設定される。この程度に設定すると遮断波長（設計波長）より長波長の光を全て透過させることが可能となって具合がよい。
【００１４】
好ましくは、上記微小構造体のアスペクト比（縦／横比あるいは溝の深さ／幅比）及び上記微小構造体の配列の間隔のうち少なくともいずれかが上記基板における反射率の分布に対応して設定されている。
【００１５】
微小構造体のアスペクト比、又は微小構造体の周期構造を変えることによって反射率、散乱を変えることができる。基板の反射率分布に対応して反射防止構造による反射率分布を加え合わせて補正して、例えば、反射率分布を均一化することが可能となる。
【００１６】
好ましくは、上記基板がガラス円盤であり、上記微小構造体の大きさ及び上記微小構造体の配列の間隔のうち少なくともいずれかが当該微小構造体の上記ガラス円盤における径方向位置に対応して設定されている。
【００１７】
それにより、ガラス裏面反射の戻り光によるガラス原盤の径方向における多重露出傾向の相違に対応して当該径方向位置における微小構造体の大きさ又は微小構造体の配列間隔を調整して反射率を設定する。微小構造体の大きさ又は配列間隔を露光光の波長サイズ以下とすると反射率は低くなり、微小構造体の大きさ又は配列間隔を露光光の波長サイズに近づけあるいはこれよりも大きくすると反射率が増大する。従って、ガラス原盤の径方向における微小構造体の大きさ又は微小構造体の配列間隔を適切に調整することによってガラス原盤の記録面内の反射率分布を均一化することが可能となる。
【００１８】
好ましくは、上記反射防止構造は上記基板の一面側に画定される記録領域の外縁を越えるようにより広範囲に形成される。それにより、反射防止構造の外縁で急に反射状態が変わることにより、記録領域に影響することを回避する。
【００１９】
また、本発明の露光装置は、露光ビームを発生する光源と、描画パターンを担うパターン信号に応じて上記露光ビームの強度を変調する変調器と、上記露光ビームを複数本の露光ビームに分岐する分岐手段と、分岐した上記複数本の露光ビーム相互間の間隔を設定するビーム間隔設定手段と、間隔が調整された上記複数本の露光ビームを集光して露光基板上に複数の露光スポットを形成する対物レンズと、上記複数の露光スポットを上記露光基板上で相対的に走査させる走査手段と、上記露光基板の記録位置において生じる描画パターンの誤差情報を予め保持する誤差記憶手段と、上記複数の露光スポットの現在の走査位置に対応する上記描画パターンの誤差情報を上記誤差記憶手段から読み出して上記複数の露光スポット相互間の間隔、上記複数の露光スポットによる走査の走査ピッチ及び上記パターン信号の時間軸の伸縮を調節する周期構造調節手段と、を備える。
【００２０】
かかる構成とすることによって露光基板上に露光位置に応じて周期構造を変えたフォトニック結晶の反射防止構造をパターン露光する露光装置を得ることが可能となる。なお、走査は後述の回転走査のみならず、平行走査（ラスタスキャン）、ベクトル走査などであっても良い。露光基板は後述のガラス原盤（円盤）のみならず、角形の基板であっても良い。基板は適当なものが使用され、後述のガラスに限られない。また、露光ビームはレーザビームのみならず、電子線ビームであっても良く、露光スポットは電子線ビームのスポットであっても良い。
【００２１】
好ましくは、上記分岐手段は上記露光ビームを複数本の露光ビームに分岐する第１の回折格子と分岐した複数本の露光ビームを平行ビームに変換する第２の回折格子とを含み、上記ビーム間隔設定手段は上記第１及び第２の回折格子相互間の距離を調整することによって上記複数本の露光ビーム相互間の間隔を設定する。それによって、複数の露光スポット相互間の間隔が可変となる。
【００２２】
好ましくは、上記露光基板はガラス原盤であり、上記走査手段は上記複数の露光スポットを上記ガラス原盤上に回転走査させ、上記誤差記憶手段は上記ガラス原盤の径方向における位置に対応する描画パターンの誤差情報を予め記憶し、上記周期構造調節手段は上記ガラス原盤の径方向における走査位置に対応して複数の露光スポット相互間の間隔、上記複数の露光スポットによる走査の走査ピッチ及び上記パターン信号の時間軸の伸縮を調節する。それにより、ガラス原盤のパターン露光に好適な露光装置が得られる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００２４】
図１は、本発明の実施の形態に係る露光基板の例を示している。露光基板１１２は、平坦な基礎基板１０、この裏面に形成された反射防止構造１１を含む。基礎基板１０は、例えば、石英などのガラス基板である。反射防止構造は微小な孔、柱状突起、格子などの微小構造体群を周期的に配列してなる微細な周期構造（フォトニック結晶）からなる。この露光原盤の表面にフォトレジスト１２が塗布されパターン露光が行われる。
【００２５】
図２は、周期構造を有する多数の微小孔群による反射防止構造１１の例を拡大して示している。図３は、周期構造を有する多数の微小柱状突起群による反射防止構造の例を拡大して示している。
【００２６】
基礎基板１０の裏面に反射防止構造１１として形成されたフォトニック結晶は光の波長と同程度の周期性を持つ人工的な多次元周期構造である。上記反射防止構造は使用光ビームの波長以下の微小構造体、例えば、波長の半分程度の孔状や柱状突起群を配列して形成されている。遮断設計波長よりも長波長の光は全て透過する。従って、使用露光ビームのうちの最短波長に合わせて周期構造を設計すれば、各種波長の露光ビームでも裏面反射が防止される。それにより、広帯域の反射防止機能を有する露光基板１１２が得られる。
【００２７】
ところで、基礎基板１０としてガラス原盤のような透光性基板を用いた場合には、裏面からの戻り光による多重露光による影響が生じるが、この影響は露光基板の記録位置によって異なる場合がある。
【００２８】
図４及び図５は、エラーの面内分布が生じている場合の対応例を説明する説明図である。図５（ａ）は、ガラス原盤の半径方向における多重露光による描画トラックの幅の変化を示したものである。同じ径の露光スポットで露光し、現像後の幅を径方向において示している。これより、原盤の中心付近Ｒｓ（図４参照）では多重露光の影響は相対的に少なく、半径の中央部Ｒｃでは多重露光の影響が相対的に大きく、外周部Ｒｅでは多重露光の影響が相対的に小さいという傾向がある。
【００２９】
上述のように両面鏡面のガラス原盤を用いた露光では半径Ｒｃでガラス原盤裏面からの多重露光の影響を最も多く受けるため、溝幅、ピット形状が大きくなり、エラーの面内分布が生じる。これをなくすために上述のように反射自体をなくす他、図５（ｂ）に示すように、ガラス原盤裏面からの反射率を径方向においてエラーの傾向と相補的になるように設定することでも対応可能である。半径の中央位置Ｒｃでは反射率を最小（理想的には０）とし、中心部Ｒｓ又は外周部Ｒｅに近づくにつれて反射率や散乱率を増加させる。反射率、散乱は反射防止構造の微小構造体の周期間隔（あるいは配列間隔）を変えるか深さ又は高さ（アスペクト比）を変えることによって変更可能である。
【００３０】
このため、反射防止構造の周期構造を図５（ｃ）に示すように領域Ｒｃでは周期構造を露光波長λの１／２以下にし、領域ＲｓとＲｅでは波長と同程度にする。例えば、波長が４１３ｎｍであれば、領域Ｒｃ付近では間隔ｄを波長の半分の２００ｎｍ程度とし、領域Ｒｓ又はＲｅに近づくにつれて間隔ｄを４００ｎｍ程度に徐々に近づけていく（図４参照）。このとき、間隔の変化が直線的ではなくエラー分布に対応して曲線的に徐々に広がるようにする。
【００３１】
また、他の例として、図５（ｄ）に示すように、微小構造体のアスペクト比（深さ又は高さ）を変化させる。Ｒｃ領域では深さ又は高さを波長λ以上（アスペクト比１：１）、領域Ｒｓ、Ｒｅに近づくにつれて深さ又は高さを減らし、領域Ｒｓ、Ｒｅでは深さ又は高さを０とする。すなわち、周期構造をつくらない。
【００３２】
上述した２つの方法は領域Ｒｓ、Ｒｅで周期構造がとぎれると、周期構造があるところと、ないところとでは急激に反射が変わるためにガラス表面に形成するパターンにも影響を及ぼす。このため、裏面の周期構造（反射防止構造）の形成範囲は表面のパターン形成領域よりも広く形成するのが好ましい。
【００３３】
（実施例１）
第１の例では、図１１（ａ）乃至同図（ｃ）に示すように、露光基板にエッチング法によって反射防止構造を直接形成した。露光基板として石英ガラスを使用した。同図（ａ）に示すようにガラス原盤の裏面にフォトレジストを塗布する。このフォトレジストにフォトニック結晶の微細パターンを露光し、現像して反射防止構造のレジストパターンを形成した（図１１（ｂ））。このレジストをマスクとしてガラス基板を異方性エッチングして反射防止構造（フォトニック結晶の微細パターン）を転写した（図１１（ｃ））。
【００３４】
図６は、上記パターン露光を行った露光光学系の例を示している。同図において、レーザ発生装置１０１から出射した波長２６６ｎｍの光ビーム１０２はミラー１０３及び１０５で反射されて移動光学台１０７に導かれる。ミラー１０３及び１０５間には音響光学変調器１０４（ＡＯＭ）が設けられており、ＡＯＭ１０４はパターンジェネレータ１０６から供給されるパターン信号によって光ビーム１０２の強度を変調する。移動光学台１０７上には回折格子（ＣＧＨ）１１３及び１１４が配置されおり、光ビーム１０２を３本に分割して平行な光ビームを得る。後述する（図１２）ように回折格子１１３及び１１４の相互間は広狭に設定可能である。
【００３５】
図７に示すように、回折格子１１３の格子パターンは蜂の巣状に正六角形に仕切られたセルで構成され、３水準の位相差（位相の深さ）−φ，０，＋φが割り当てられている。ここで、深さの最大値２φは、水準Ｑ＝３であるため、２φ＝４π／３である。２φに相当する具体的な深さの差ｈは、回折格子の基板の屈折率ｎ、使用光源波長λとすると、ｈ＝λ／２π（ｎ−１）×２φ  で表される。光源波長が２６６ｎｍ、回折格子基板の屈折率は１．５であるため、このとき深さの差ｈは３５０ｎｍである。
【００３６】
この条件を満たす回折格子に１本の光ビーム１０２を入射させると３本の光ビームに分離する。分離した各光ビームは回折格子１１４上に正三角形の頂点位置となる３つのビームスポットを形成する。
【００３７】
図８に示すように、回折格子１１４の格子パターンは中心角１２０度の３つの扇形の領域で構成されている。それぞれの回折格子の断面は鋸形状をしており、最大深さは位相差２πである。石英基板の場合、深さは５５０ｎｍである。回折格子１１４によって３つの光ビームは並行光となる。
【００３８】
回折格子１１３と１１４の格子周期Ｐｇは、回折格子１１３及び１１４相互の間隔をＬとし、対物レンズの入射瞳の中心から対物レンズに入射するビームの距離をｒとした場合、Ｐｇ＝λ／ｓｉｎ（ｔａｎ−１（ｒ／Ｌ））≒λＬ／ｒ  となる。本実施例では、Ｐｇ＝１８μｍの回折格子を用い、Ｌ＝１０．５ｃｍとした。このとき、距離ｒは約１．５５ｍｍであった。
【００３９】
フォトレジスト層に到達するそれぞれ光ビームの位相差を１２０度（２／３π）にし、スポットセットのビームプロファイルを図８に示すように正三角形の頂点にスポットが位置するようにした。ビームプロファイルは３ビームの位相差によって変化するため、同図に示すプロファイルを実現するために、位相差を厳密に調整する機構が必要となる。
【００４０】
この手段として、回折格子１１４をｚ方向とｙ方向にシフトすることによって位相を調整した。これは回折格子と入射するビームの位置関係を調整することによって回折する位相が変化する作用を利用している。
【００４１】
３本に平行分離された光ビームは、ミラー１０８、１０９で反射され、開口数（ＮＡ）が０．９の対物レンズ１０９でガラス原盤１１２上に集光される。対物レンズ１０９は図示しない公知のフォーカスサーボ系によってガラス原盤１１２上の光ビームのスポット１１０の径が一定になるように制御されている。それにより、フォトレジストが塗布されたガラス原盤１１２上に３つの微小スポット１１０が形成される。このときのスポット間隔は０．２４μｍであった。ガラス原盤１１２はターンテーブル１１１に吸着させており、移動光学台１０７には対物レンズとミラー１０８が搭載されている。ターンテーブル１１２が回転して露光スポット１１０を相対的に回転方向に走査させて主走査を開始すると、移動光学台１０７はリニアモータ１２１によってレール１２２上をスライドし、ターンテーブル１１２の半径方向に光ビームの露光スポット１１０を走査させて副走査を開始する。移動光学台１０７にはレーザスケールなどの位置検出装置１２３が設けられており、位置情報がパターン発生装置１０６に送られ、露光スポット１１０の走査位置が判別可能である。パターン発生装置１０６は露光スポット１１０のガラス原盤上１１２上の走査位置と光変調器１０４に与えるパターン信号とを同期させてガラス原盤１１２に塗布されたフォトレジストに潜像を形成する。
【００４２】
なお、移動光学台１０７をステップモータと送りネジ機構によって移動させても良い。また、移動光学台１０７側を固定し、ターンテーブル１１１側を移動するようにしても良い。
【００４３】
実施例では、ターンテーブルの回転速度を２２５ｒｐｍとした。トラックピッチが０．２２μｍになるように移動光学台１０７をスライドさせ、ＡＯＭ１０４で光ビームの変調を行った。ガラス原盤１１２に塗布されたフォトレジスト層を光ビームで螺旋状に走査して露光して潜像を形成した。ここでは、ターンテーブル１１１の回転と同期させながら強度を間欠的に変調する露光方式としている。
【００４４】
図９に示すように、１つのトラック内では周期Ｐｓで照射し、トラックの間隔は０．２２μｍである。周期Ｐｓは半径位置によって決まり、外周に行く程早くなる。例えば、半径２０ｍｍでは約２ＭＨｚである。また、奇数番目（ｎ−１とｎ＋１）と偶数番目（ｎ）のトラックで照射する位置を半周シフトさせている。
【００４５】
図１０は、光変調器の制御信号のタイミングチャートを示している。この方法で露光すると、１つのビットが３つのスポットで多重露光される。各スポットの強度分布の違いによる露光量のばらつきがなくなり、均一な円孔が形成できる。露光は半径１０ｍｍ〜６０ｍｍまで行い、パターンを形成した。
【００４６】
上述したように、レジストパターンが形成された石英ガラス原盤をリアクティブイオンエッチング装置（ＲＩＥ）により、石英のエッチングを行い、石英ガラス原盤上に反射防止構造を形成した（図１１（ｃ））。エッチングガスにはＣＦ４を使用した。反射防止構造の形状は、間隔０．２４μｍ、高さ０．２μｍの突起状であった。
【００４７】
（実施例２）
この実施例では、図１１（ａ）、同（ｂ）、同（ｄ）乃至同（ｆ）に示すようなスタンパ法によって露光基板に反射防止構造を形成した。
【００４８】
まず、実施例１と同じ露光光学系、パターン作製方法でガラス原盤上にレジストを塗布しレジストパターンを形成した（図１１（ａ）及び同（ｂ））。ガラス原盤は石英に限定されない。レジストパターン表面の導体化を行い、電解鋳造（電鋳）によって３００μｍ厚のニッケルスタンパを作製した（図１１（ｄ）及び同（ｅ））。このスタンパを用いてガラス原盤の裏面に２Ｐ法（ｐｈｏｔｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）により、周期構造をした反射防止形状を転写した（図１１（ｆ））。このときに使用した紫外線硬化樹脂の屈折率とガラス原盤の屈折率を略同じにすることでガラス表面から入射した露光がガラス原盤と紫外線硬化樹脂との界面で反射が起こることを回避した。
【００４９】
（実施例３）
この実施例では上述したエッチング法（図１１（ａ）乃至同（ｃ））を使用する。また、露光原盤の当該位置における反射率に応じて反射防止構造をなす微細構造体の周期構造を変化させている（図４及び図５参照）。
【００５０】
実施例１と同じ露光光学系を用いてガラス原盤上にレジストパターンを形成した。ガラス原盤の材質は石英である。
【００５１】
この例で使用する露光装置は、露光ビーム間隔を半径位置によって変えるために、図１２に示すように回折格子１１３には光路と平行に移動する回折格子移動機構（ビーム間隔設定手段）が備えられている。この移動機構はレール１３１上の移動台１３２に回折格子１１３をのせ、図示しないモータによって回折格子１１３を回折格子１１４に対して広狭に移動することができる。回折格子１１３と１１４との距離は図示しないレーザスケールによって検出される。この情報はパターン発生装置のコンピュータシステムに送られ、後述の回折格子の位置調整や周期構造の形成の際に使用される。
【００５２】
この露光装置を使用して図５（ｃ）に示すように周期構造の間隔を半径により変化させてレジストパターン形成を行った。露光の開始位置は周期の間隔を広くし、開始と終了の中間位置になるにつれて間隔を徐々に狭くし、中間位置から終了位置につれてまた間隔を広くしていった。周期構造の間隔は開始と終了位置が微細構造体を作製するときの露光波長と同じ程度、中間位置では波長の半分程度の間隔にする。開始位置と終了位置は光ディスクスタンパや微細構造体の開始位置と終了位置と略等しい位置である。
【００５３】
より具体的に説明する。周期構造の間隔は、３ビームの間隔が広いときは狭く、３ビームの間隔が狭いときは周期構造が広くなる。ビーム間隔は回折格子１１３と１１４の間隔によって定まる。露光開始時は２枚の回折格子の間隔を狭く設定する。露光位置が中間位置になるにつれて回折格子１１３を１１４から徐々に離間させる。回折格子１１３及び１１４相互の同士の間隔を徐々に広くすることで周期構造の間隔を狭くする。中間位置を過ぎたら回折格子１１３を徐々に回折格子１１４に近づけ、回折格子１１３及び１１４相互の同士の間隔を徐々に狭くすることで周期構造の間隔を広くする。
【００５４】
また、露光位置の開始位置、中間位置、終了位置への移動（回折格子１１３の間隔変化）に伴ってＡＯＭ１０４の変調周期も変化させる（パターン信号の時間軸調整）。また、露光位置の開始位置、中間位置、終了位置への移動（回折格子１１３の間隔変化）に伴ってモータ１２１を制御してトラックピッチも変化させる。
【００５５】
これらの制御にはパターン発生装置１０６のコンピュータシステムを使用することができた。該コンピュータシステムには図５（ａ）に示すような描画パターンの誤差情報やこれに対応して設定すべき調整値などを含んだマップを記憶する誤差記憶手段（不揮発メモリ）１０６ａが設けられている。また、制御プログラムによって上述の各部制御を行う周期構造調節手段１０６ｂが設けられている。
【００５６】
レジストパターン作製後、エッチングを行い、ガラス原盤裏面に反射防止構造を作製した。
【００５７】
（実施例４）
この実施例では、スタンパ法（、図１１（ａ）、同（ｂ）、同（ｄ）乃至同（ｆ））によって実施例３に示す微細構造体を形成している。
【００５８】
まず、実施例３と同じ露光光学系、パターン作成方法で、ガラス原盤上にレジストパターンを作製した（図１１（ａ）及び同（ｂ））。ガラス原盤は石英に限定されない。レジストパターン表面の導体化を行い、電鋳によって３００μｍ厚に堆積し（図１１（ｄ））、原盤を剥離してニッケルスタンパを作製した（図１１（ｅ））。このスタンパを用いてガラス原盤の裏面に２Ｐ法により、周期構造をした反射防止形状を転写した（図１１（ｆ））。このときに用いた紫外線硬化樹脂の屈折率とガラス原盤の屈折率を略同じにした。屈折率に差があるとガラス原盤の表面から入射した露光光がガラス原盤と紫外線硬化樹脂との界面で反射が起き易いからである。
【００５９】
以上説明したように、本発明によればガラス原盤の裏面に反射防止構造を設けることによって戻り光による多重露光を防止し、レジストパターンの形状を安定化させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、露光基板を説明する説明図である。
【図２】図２は周期構造を有する微細構造体の例（孔構造）を説明する説明図である。
【図３】図３は周期構造を有する微細構造体の他の例（柱状突起構造）を説明する説明図である。
【図４】図４は、ガラス原盤に設けられた微細構造体の半径方向における配列状態（周期性）の変化を説明する説明図である。
【図５】図５は、ガラス原盤の径方向における各種パラメータの変化を説明するグラフである。
【図６】図６は露光光学系の例を説明する説明図である。
【図７】図７は回折格子１１３の例を説明する説明図である。
【図８】図８は回折格子１１４の例を説明する説明図である。
【図９】図９は３つの露光ビームスポットによる描画例を説明する説明図である。
【図１０】図１０は奇数トラックと偶数トラックの位相シフトを説明する信号タイミング図である。
【図１１】図１１は基板のエッチングによって基板の裏面に反射防止構造を設ける例と、スタンパによって基板の裏面に反射防止構造を設ける例とを説明する説明図である。
【図１２】図１２は３つの露光ビームのビーム間隔を変化させる機構を説明する説明図である。
【符号の説明】
１０  ガラス原盤、１１  反射防止構造、１２  フォトレジスト、１０１  レーザ発生装置、１０４  光変調器、１０６  パターン発生装置、１１３  回折格子、１１４  回折格子、１０９  対物レンズ、１１１  ターンテーブル、１１２  原盤
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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