Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月19日(2010.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
本例の場合は、上記油温に応じてそれぞれ異なる（例えば８０℃、５０℃、１００℃に対応する）、上記目標値と上記ライン圧制御用電磁開閉弁１８の開閉量（制御Duty［％］）との関係を用いて、その時点の油温に応じた開閉量に調節（補正）する。この様な本例の場合は、上記押圧装置１４の油圧室に実際に導入される油圧を、その時点でのトラクション係数や各部品の温度特性（例えば弾性変形量や摩擦係数など）に応じた値（より最適な値）に規制できる。尚、前述した第一の機能（差圧）に基づいて目標値を設定する場合にも、上記図９の線図や表４を用いて、その時点での油温に対応した、上記ライン圧制御用電磁開閉弁１８の開閉量の調節（補正）を行なう事ができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月12日(2010.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する二つの側面にそれぞれ形成された流入口及び流出口からそれぞれ流路軸線方向に延びる第１流路及び第２流路、上部に形成され前記第１流路及び前記第２流路に通じる開口部、前記第１流路及び前記第２流路の底面から前記開口部に向かって延び頂部に弁座が形成されている仕切壁を設けられた本体と、該本体の上部に取り付けられたボンネットと、前記本体の前記開口部を覆うように配置され且つ前記本体と前記ボンネットとの間に周縁部を挟持されたダイヤフラムと、前記ダイヤフラムを駆動するための駆動部とを備え、前記ダイヤフラムが駆動部によって前記弁座に圧接離間されるようになっているダイヤフラムバルブにおいて、
前記仕切壁の上端に形成された前記弁座と前記第１流路及び前記第２流路の底面とを接続する前記仕切壁の両側面が前記第１流路及び前記第２流路の底面から変曲点まで延びる凹状湾曲面と前記変曲点から前記弁座の縁まで延びる凸状湾曲面とによって構成されていることを特徴とするダイヤフラムバルブ。
【請求項２】
前記開口部の内周面と前記第１流路及び前記第２流路の天井面との交差部に面取り部を設けた、請求項１に記載のダイヤフラムバルブ。
【請求項３】
前記面取り部の角度が流路軸線に対して１５〜３０°であり、前記面取り部の高さ方向の寸法が２ｍｍ以上である、請求項２に記載のダイヤフラムバルブ。
【請求項４】
前記変曲点における前記仕切壁の側面の傾斜角度が、流路軸線に対して４５°以下である、請求項１から請求項３の何れか一項に記載のダイヤフラムバルブ。
【請求項５】
前記ダイヤフラムバルブの面間寸法Ｌと前記開口の内径Ｄが、Ｌ≦３Ｄ＋９５（ｍｍ）の関係を満たすように定められている、請求項１から請求項４の何れか一項に記載のダイヤフラムバルブ。
【請求項６】
前記凸状湾曲面と前記凹状湾曲面が円弧状に形成されており、該凸状湾曲面の半径が、該凹状湾曲面の半径より小さくなるように定められている、請求項１から請求項５の何れか一項に記載のダイヤフラムバルブ。
【請求項７】
前記凸状湾曲面の半径Ｒ1と前記凹状湾曲面の半径Ｒ2が、１．０Ｒ1＜Ｒ2≦１．５Ｒ1の関係を満たすように定められている、請求項６に記載のダイヤフラムバルブ。
【請求項８】
前記第１流路及び前記第２流路の内周面の表面粗さＲａが６．３μｍ以下である、請求項１から請求項７の何れか一項に記載のダイヤフラムバルブ。
【請求項９】
前記駆動部が、手動式、空気駆動式又は電気駆動式である、請求項１から請求項８の何れか一項に記載のダイヤフラムバルブ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明は、上記の課題を解決するために、対向する二つの側面にそれぞれ形成された流入口及び流出口からそれぞれ流路軸線方向に延びる第１流路及び第２流路、上部に形成され前記第１流路及び前記第２流路に通じる開口部、前記第１流路及び前記第２流路の底面から前記開口部に向かって延び頂部に弁座が形成されている仕切壁を設けられた本体と、該本体の上部に取り付けられたボンネットと、前記本体の前記開口部を覆うように配置され且つ前記本体と前記ボンネットとの間に周縁部を挟持されたダイヤフラムと、前記ダイヤフラムを駆動するための駆動部とを備え、前記ダイヤフラムが駆動部によって前記弁座に圧接離間されるようになっているダイヤフラムバルブにおいて、前記仕切壁の上端に形成された前記弁座と前記第１流路及び前記第２流路の底面とを接続する前記仕切壁の両側面が前記第１流路及び前記第２流路の底面から変曲点まで延びる凹状湾曲面と前記変曲点から前記弁座の縁まで延びる凸状湾曲面とを含むようにしたダイヤフラムバルブを提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月24日(2010.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転方向前方が凹面に湾曲した複数の翼を放射状に有して筐体内に横設されるクロスフローファンと、
前記クロスフローファンを囲んで配置されるとともに少なくとも一部に冷媒管が３列以上並設される熱交換器と、
前記クロスフローファンの前方に配されて前後に延びる上部案内面と、前記クロスフローファンの後方から下方に延びて前記上部案内面に対向する下部案内面とに上下を囲まれて前記クロスフローファンから送出される空気を室内に吹き出す吹出し通風路と、
を備え、前記翼は翼弦長に対する最大キャンバーの比が０．１５５〜０．２２であり、
前記上部案内面の後端から前端までの沿面距離と、前記上部案内面の後端に接した鉛直線と前記下部案内面との交点から前記下部案内面の前端までの沿面距離と、の平均値から成る風路長が前記クロスフローファンの直径の１．６倍以上であることを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
前記クロスフローファンから送出される空気が流通して前記筐体内部と一体の送出ダクトと、前記送出ダクトの下壁の前端に配された向きを可変の風路延長板とを設け、前記下部案内面の後部が前記下壁から成るとともに、前記下部案内面の前部が前記風路延長板から成ることを特徴とする請求項１に記載の空気調和機。
【請求項３】
前記送出ダクトの前方上部に向きを可変の風向板を設け、前記風路延長板及び前記風向板を略鉛直下方に向けて配置するとともに前記風向板の一端を前記送出ダクトの上壁に近接し、前記上部案内面の後部が前記上壁から成るとともに、前記上部案内面の前部が前記風向板から成ることを特徴とする請求項２に記載の空気調和機。
【請求項４】
前記クロスフローファンから送出される空気が流通して前記筐体内部と一体の送出ダクトと、前記送出ダクトの前方上部に配されて向きを可変の風路延長板を設け、前記上部案内面の後部が前記送出ダクトの上壁から成るとともに、前記上部案内面の前部は前記上壁に連続して配置される前記風路延長板から成ることを特徴とする請求項１に記載の空気調和機。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月24日(2010.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前面を開口する内箱と、前記内箱の外側を覆う外箱と、前記内箱と前記外箱との間に充填される発泡断熱材と、芯材を外被材で覆って内部が減圧されるとともに前記内箱と前記外箱との間に配される真空断熱パネルとを有する断熱箱体を備えた冷蔵庫において、
前記内箱の両側面及び背面を覆うように断面コ字型に折曲した真空断熱パネルを上下に並設し、隣接する前記真空断熱パネルの一方を前記外箱に近接するとともに他方を前記内箱に近接したことを特徴とする冷蔵庫。
【請求項２】
前記外箱の背面側に前記発泡断熱材の原液を注入する注入口を設け、前記注入口を前記内箱に近接した前記真空断熱パネルに対向配置したことを特徴とする請求項１に記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記断熱箱体は複数の貯蔵室を仕切る断熱壁を一体に有し、隙間を介して複数の前記真空断熱パネルを上下に並設するとともに、前記断熱壁の後方及び側方に前記隙間を配置したことを特徴とする請求項１に記載の冷蔵庫。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月14日(2010.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円盤状のディスク基板と、
前記ディスク基板上の半径方向に分割された少なくとも１つのデータ格納領域である第１データ格納領域内に設けられ、磁性材料が配置された第１記録層と、
前記ディスク基板上の少なくとも１つの前記データ格納領域である第２データ格納領域内に設けられ、磁性材料と非磁性材料が前記ディスク基板上面の面内方向に交互に配置された第２記録層と、
を備える磁気記録媒体。
【請求項２】
前記第２記録層は、前記磁性材料と前記非磁性材料が同心円状に交互に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記第２記録層は、前記磁性材料がビットパターン状に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記第１記録層が配置される前記第１データ格納領域の前記ディスク基板上における半径方向長さは、前記データ格納領域のすべてを包含する半径方向長さの３０〜７０％の長さであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
円盤状のディスク基板と、前記ディスク基板上の半径方向に分割された少なくとも１つのデータ格納領域である第１データ格納領域内に設けられ、磁性材料が配置された第１記録層と、前記ディスク基板上の少なくとも１つの前記データ格納領域である第２データ格納領域に設けられ、磁性材料と非磁性材料が前記ディスク基板上面の面内方向に交互に配置された第２記録層と、を有する磁気記録媒体に対する情報の記録及び前記情報の再生を行う磁気ヘッドと、
前記磁気ヘッドを保持するヘッド支持部材と、
前記ヘッド支持部材を支軸を中心に回動し、前記磁気ヘッドを前記第１記録層又は前記第２記録層上に位置決めする駆動装置と、を備える磁気記憶装置。
【請求項６】
前記磁気記録媒体の前記第１記録層の表面と前記第２記録層の表面とが、平面をなして設けていることを特徴とする請求項５に記載の磁気記憶装置。
【請求項７】
前記磁気ヘッドのスキュー角は、前記磁気記録媒体の外周縁及び内周縁のいずれか一方に近づくほど大きくなり、
前記磁気記録媒体の前記データ格納領域のうち、最外周の領域及び最内周の領域に前記第２記録層が設けられていることを特徴とする請求項５又は６に記載の磁気記憶装置。
【請求項８】
前記磁気ヘッドのスキュー角は、前記磁気記録媒体の外周縁に近づくほど大きくなり、
前記磁気記録媒体の前記データ格納領域のうちの最外周の領域に、前記第２記録層が設けられていることを特徴とする請求項５又は６に記載の磁気記憶装置。
【請求項９】
前記磁気ヘッドのスキュー角は、前記磁気記録媒体の内周縁に近づくほど大きくなり、
前記磁気記録媒体の前記複数のデータ格納領域のうちの最内周のデータ格納領域に、前記第２記録層が設けられていることを特徴とする請求項５又は６に記載の磁気記憶装置。
【請求項１０】
前記磁気ヘッドは、前記磁気記録媒体対向面の形状が長方形の２角をα°だけ小さくさせた等脚台形状の記録素子を有し、
前記磁気ヘッドのスキュー角θが、−α°≦θ≦α°を満たさない前記磁気記録媒体上のデータ格納領域に、前記第２記録層が設けられていることを特徴とする請求項５又は６に記載の磁気記憶装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本明細書に記載の磁気記録媒体は、円盤状のディスク基板と、前記ディスク基板上の半径方向に分割された少なくとも１つのデータ格納領域である第１データ格納領域内に設けられ、磁性材料が配置された第１記録層と、前記ディスク基板上の少なくとも１つの前記データ格納領域である第２データ格納領域内に設けられ、磁性材料と非磁性材料が前記ディスク基板上面の面内方向に交互に配置された第２記録層と、を備える磁気記録媒体である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本明細書に記載の磁気記憶装置は、円盤状のディスク基板と、前記ディスク基板上の半径方向に分割された少なくとも１つのデータ格納領域である第１データ格納領域内に設けられ、磁性材料が配置された第１記録層と、前記ディスク基板上の少なくとも１つの前記データ格納領域である第２データ格納領域に設けられ、磁性材料と非磁性材料が前記ディスク基板上面の面内方向に交互に配置された第２記録層と、を有する磁気記録媒体に対する情報の記録及び前記情報の再生を行う磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを保持するヘッド支持部材と、前記ヘッド支持部材を支軸を中心に回動し、前記磁気ヘッドを前記第１記録層又は前記第２記録層上に位置決めする駆動装置と、を備える磁気記憶装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月21日(2010.4.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被写体からの光学的信号を集光する光学系と、
複数の画素列からなり、前記光学系からの光学的信号を電気信号に変換して画像データを生成する撮像素子と、
前記撮像素子から読み出された画像をスルー画像に変換して表示可能な表示手段と、
前記撮像素子の駆動モードを切り替える制御手段とを備え、
前記駆動モードは、前記表示手段用の駆動モードとして、前記撮像素子の所定数の画素列についてのみ画像信号を出力する第１のモードと、第１のモードよりもより多い画素列について画像信号を出力する第２のモードとを含み、
前記制御手段は、前記撮像素子の画素数と同じ画素数で撮像画像を記録する撮像モードに設定されたときは、前記撮像素子の駆動モードを前記第１のモードに設定し、前記撮像素子の画素数よりも少ない画素数で撮像画像を記録する撮像モードに設定されたときは、前記撮像素子の駆動モードを前記第２のモードに設定する、撮像装置。
【請求項２】
前記第１のモードにおいて、前記所定数は、前記表示手段の表示サイズに対応する数である、
請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記第２のモードは、撮像画像を記録する画素数よりも出力する画像信号の画素数が多くなるよう、出力する画素列の数を設定する、
請求項１または２に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月5日(2010.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータで駆動される被駆動体をサーボ制御するモータ駆動制御装置において、
前記被駆動体の速度を予め定めた目標到達速度まで立上げるための立上げ速度プロファイルは、目標到達速度まで非線形となる速度プロファイルである
ことを特徴とするモータ駆動制御装置。
【請求項２】
請求項１に記載のモータ駆動制御装置において、前記立上げ速度プロファイルは、目標到達速度まで三角関数を含む非線形となる速度プロファイルであることを特徴とするモータ駆動制御装置。
【請求項３】
請求項２に記載のモータ駆動制御装置において、前記立上げ速度プロファイルは、自装置内で別々に格納される線形となる速度プロファイルと三角関数のテーブル値とを乗じることで作成することを特徴とするモータ駆動制御装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載のモータ駆動制御装置において、前記立上げ速度プロファイルが所定の速度以下の場合は、前記立上げ速度プロファイルを前記所定の速度に設定することを特徴とするモータ駆動制御装置。
【請求項５】
被記録媒体を搬送しながら前記被記録媒体上に画像を形成する画像形成装置において、前記被記録媒体を搬送するための駆動モータと、この駆動モータを駆動制御する請求項１ないし４のいずれかに記載のモータ駆動制御装置とを備えていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
被記録媒体を搬送しながら前記被記録媒体上に画像を形成する画像形成装置において、 前記被記録媒体を搬送するための第１の駆動モータと、記録液の液滴を吐出する記録ヘッドと、この記録ヘッドを搭載したキャリッジと、このキャリッジを主走査方向に移動させる第２の駆動モータと、少なくとも前記第１の駆動モータと第２の駆動モータのいずれかを駆動制御する請求項１ないし４のいずれかに記載のモータ駆動制御装置とを備えている
ことを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
請求項５又は６に記載の画像形成装置において、印刷モード毎に立上げ速度プロファイルの立上げ加速度を決定する係数を備えていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項７に記載の画像形成装置において、相対的に画質よりも速度を優先する高速印刷モードでの前記係数が、相対的に速度よりも画質を優先する高画質印刷モード又は相対的に静かさを優先する静粛印刷モードでの前記係数よりも大きいことを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
被駆動体を駆動するモータをサーボ制御する処理をコンピュータに実行させるプログラムであって、
前記被駆動体の速度を予め定めた目標到達速度まで立上げるための立上げ速度プロファイルを、予め設定された目標到達速度まで線形となる速度プロファイルから目標到達速度まで非線形となる速度プロファイルを作成する処理をコンピュータに実行させる
ことを特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】モータ駆動制御装置及び画像形成装置、プログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明はモータ駆動制御装置及び画像形成装置、プログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、急激な加速度変化のない立ち上げ制御を行なうことで安定したサーボ制御を行なえるようにすることを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記の課題を解決するため、本発明に係るモータ駆動制御装置は、
モータで駆動される被駆動体をサーボ制御するモータ駆動制御装置において、
前記被駆動体の速度を予め定めた目標到達速度まで立上げるための立上げ速度プロファイルは、目標到達速度まで非線形となる速度プロファイルである
構成とした。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
ここで、前記立上げ速度プロファイルは、目標到達速度まで三角関数を含む非線形となる速度プロファイルである構成とできる。また、前記立上げ速度プロファイルは、自装置内で別々に格納される線形となる速度プロファイルと三角関数のテーブル値とを乗じることで作成する構成とできる。また、前記立上げ速度プロファイルが所定の速度以下の場合は、前記立上げ速度プロファイルを前記所定の速度に設定する構成とできる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係る画像形成装置は、
被記録媒体を搬送しながら前記被記録媒体上に画像を形成する画像形成装置において、 前記被記録媒体を搬送するための駆動モータと、この駆動モータを駆動制御する本発明に係るモータ駆動制御装置とを備えている構成とした。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明に係る画像形成装置は、
被記録媒体を搬送しながら前記被記録媒体上に画像を形成する画像形成装置において、前記被記録媒体を搬送するための第１の駆動モータと、記録液の液滴を吐出する記録ヘッドと、この記録ヘッドを搭載したキャリッジと、このキャリッジを主走査方向に移動させる第２の駆動モータと、少なくとも前記第１の駆動モータと第２の駆動モータのいずれかを駆動制御する本発明に係るモータ駆動制御装置とを備えている
構成とした。
これらの本発明に係る画像形成装置において、印刷モード毎に立上げ速度プロファイルの立上げ加速度を決定する係数を備えている構成とできる。この場合、相対的に画質よりも速度を優先する高速印刷モードでの前記係数が、相対的に速度よりも画質を優先する高画質印刷モード又は相対的に静かさを優先する静粛印刷モードでの前記係数よりも大きい構成とできる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明に係るプログラムは、
被駆動体を駆動するモータをサーボ制御する処理をコンピュータに実行させるプログラムであって、
前記被駆動体の速度を予め定めた目標到達速度まで立上げるための立上げ速度プロファイルを、予め設定された目標到達速度まで線形となる速度プロファイルから目標到達速度まで非線形となる速度プロファイルを作成する処理をコンピュータに実行させる
構成とした。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明に係るモータ駆動制御装置及び画像形成装置、プログラムによれば、被駆動体の速度を予め定めた目標速度まで立ち上げるための立上げ速度プロファイルが、目標速度まで非線形となる速度プロファイルである構成としたので、急激な加速度変化のない立ち上げ制御を行なうことで安定したサーボ制御ができ、高画質な印刷結果や静粛性を得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月7日(2010.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被変調信号（４４）を生成する変調器（１０）であって、前記変調器（１０）は、
搬送周波数を設定する直接変調シンセサイザ回路（１２）であって、前記直接変調シンセサイザ回路（１２）は、前記搬送周波数を変調する変調信号（１６）を受信することと；
前記搬送周波数を或る安定した周波数にロックするために、入力基準信号（２２）を前記直接変調シンセサイザ回路（１２）に供給する基準周波数発振器（３６）と；
データビット（４０）を受信し、且つ所与データビットの前記変調信号（１６）を生成するプリエンファシスユニット（４２）であって、前記変調信号（１６）は、前記所与データビットのビット値と、前記所与データビットに先行する少なくとも１つの先行データビットのビット値との関数である電圧レベルを有することと
を備えることを特徴とする、変調器（１０）。
【請求項２】
前記プリエンファシスユニット（４２）は、デジタルアナログ変換器を備える、
請求項１記載の変調器（１０）。
【請求項３】
前記プリエンファシスユニット（４２）は、
前記所与データビットが前記先行データビットと同一である場合、前記所与データビットに対応する前記電圧レベルによって前記変調信号（１６）を生成し、
前記所与データビットが前記先行データビットとは異なる場合に、前記電圧レベルを変えるように構成される、
請求項１記載の変調器（１０）。
【請求項４】
前記電圧レベルは、前記先行データビットが「０」であり、且つ前記所与データビットが「０」である場合、Ｖ０であり、
前記電圧レベルは、前記先行データビットが「１」であり、且つ前記所与データビットが「０」である場合、Ｖ０−δＶであり、
前記電圧レベルは、前記先行データビットが「１」であり、且つ前記所与データビットが「１」である場合、Ｖ１であり、
前記電圧レベルは、前記先行データビットが「０」であり、且つ前記所与データビットが「１」である場合、Ｖ１＋δＶであり、
Ｖ１とＶ０は、それぞれ基準ビット電圧レベルであり、
Ｖ１は、Ｖ０よりも大きく、
δＶは、正の電圧強化値であり、前記基準ビット電圧レベルは、前記プリエンファシスユニット（４２）によって前記δＶだけ変化させられる、
請求項１記載の変調器（１０）。
【請求項５】
前記変調器（１０）は、連続位相周波数シフトキーイング変調器である、
請求項１記載の変調器（１０）。
【請求項６】
前記直接変調シンセサイザ回路（１２）は、
前記変調信号（１６）を受信する電圧制御発振器（１４）と；
前記入力基準信号（２２）を、前記電圧制御発振器（１４）に接続されたフィードバック分周器（２６）が出力するローカル周波数信号（２４）と比較することによって、位相検出器出力信号（２０）を生成する位相検出器（１８）と；
前記位相検出器出力信号（２０）を受信するチャージポンプ（２８）であって、前記チャージポンプ（２８）は、ループフィルタ（３２）に入力される信号（３０）を生成し、前記ループフィルタ（３２）は、前記変調信号（１６）と一緒に前記電圧制御発振器（１４）に入力されるフィルタリングされた信号（３４）を生成することと
を備える、
請求項１記載の変調器（１０）。
【請求項７】
被変調信号（４４）を生成するための被変調信号生成方法であって、前記被変調信号生成方法は、
直接変調シンセサイザ回路（１２）によって、搬送周波数を設定するステップと；
プリエンファシスユニット（４２）によって、データビット（４０）を受信するステップと；
前記変調信号（１６）の電圧レベルは、前記所与データビットの前記ビット値と、前記所与データビットに先行する少なくとも１つのデータビットの前記ビット値との関数であるように、前記プリエンファシスユニット（４２）によって、所与のデータビットを示す所与データビットを生成するステップと；
前記変調信号（１６）を前記直接変調シンセサイザ回路（１２）に入力することによって、前記搬送周波数を変調するステップと；
前記直接変調シンセサイザ回路（１２）から、変調された前記搬送周波数（４４）を出力するステップと
を有することを特徴とする、
被変調信号を生成するための被変調信号生成方法。
【請求項８】
前記被変調信号生成方法は、
前記所与データビットが前記先行データビットと同一である場合、前記所与データビットに対応する前記電圧レベルによって前記変調信号（１６）を生成し、
前記所与データビットが前記先行データビットとは異なる場合、前記電圧レベルを変えるステップを有する、
請求項７記載の被変調信号生成方法。
【請求項９】
前記電圧レベルは、前記先行データビットが「０」であり、且つ前記所与データビットが「０」である場合、Ｖ０であり、
前記電圧レベルは、前記先行データビットが「１」であり、且つ前記所与データビットが「０」である場合、Ｖ０−δＶであり、
前記電圧レベルは、前記先行データビットが「１」であり、且つ前記所与データビットが「１」である場合、Ｖ１であり、
前記電圧レベルは、前記先行データビットが「０」であり、且つ前記所与データビットが「１」である場合、Ｖ１＋δＶであり、
Ｖ１とＶ０は、それぞれ基準ビット電圧レベルであり、
Ｖ１は、Ｖ０よりも大きく、
δＶは、正の電圧強化値であり、前記基準ビット電圧レベルは、前記プリエンファシスユニット（４２）によって前記δＶだけ変化させられる、
請求項７記載の被変調信号生成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月31日(2010.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｃ）極性アミノ酸、極性アミノ酸重合物およびそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１種を配合することを特徴とする、（ａ）石灰および（ｂ）水を含有するコーティング組成物の流動性向上方法。
【請求項２】
さらに（ｄ）キレート化合物を配合することを特徴とする、請求項１に記載する流動性向上方法。
【請求項３】
（ｃ）極性アミノ酸、極性アミノ酸重合物およびそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１種を配合することを特徴とする、（ａ）石灰および（ｂ）水を含有するコーティング組成物の基材に対する付着力向上または付着力の均一安定化方法。
【請求項４】
さらに（ｄ）キレート化合物を配合することを特徴とする、請求項３に記載する付着力向上または付着力の均一安定化方法。
【請求項５】
コーティング組成物が、さらに（ｆ）結合材を含むものである、請求項３または４に記載する付着力向上または付着力の均一安定化方法。
【請求項６】
請求項３乃至５のいずれかに記載する方法によって基材に対する付着力が向上され、または付着力が均一安定化された水配合コーティング組成物から形成された皮膜を有する被覆物。
【請求項７】
（ｃ）極性アミノ酸、極性アミノ酸重合物およびそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１種を配合することを特徴とする、（ａ）石灰および（ｂ）水を含有するコーティング組成物の耐ひび割れ性向上方法。
【請求項８】
さらに（ｄ）キレート化合物を配合することを特徴とする、請求項７に記載する耐ひび割れ性向上方法。
【請求項９】
コーティング組成物が、さらに（ｆ）結合材を含むものである、請求項７または８に記載する耐ひび割れ性向上方法。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれかに記載する方法によって耐ひび割れ性が向上されたコーティング組成物から形成される、耐ひび割れ性の皮膜を有する被覆物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月27日(2010.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数本の炭素繊維前駆体ストランドを耐炎化熱処理する熱処理室と、前記炭素繊維前駆体ストランドが熱処理室内を横方向に折り返しながら通過するように熱処理室の入り側および出側の熱処理室外に配置された折り返しローラーとを有する耐炎化炉において、前記入り側および出側の折り返しローラーの間に駆動速度制御型ローラーを通過するストランドと接触する位置に設けたことを特徴とする耐炎化炉。
【請求項２】
前記入り側および出側の熱処理室外に配置された折り返しローラーの間隔を１０ｍから５０ｍの範囲に設けた請求項１に記載の耐炎化炉。
【請求項３】
１から３０パスの折り返し数になるように前記入側および出側の熱処理室外に折り返しローラーを配置した、請求項１または２に記載の耐炎化炉。
【請求項４】
炭素繊維前駆体繊維ストランドがポリアクリロニトリル系繊維である、請求項１〜３のいずれかに記載の耐炎化炉。
【請求項５】
複数本の炭素繊維前駆体ストランドを、請求項１〜４のいずれかに記載の耐炎化炉を用いて耐炎化処理し、その後炭素化処理することを特徴とする炭素繊維の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記目的を解決するため、本発明は以下の構成を採用する。すなわち、
（１）複数本の炭素繊維前駆体ストランドを耐炎化熱処理する熱処理室と、前記炭素繊維前駆体ストランドが熱処理室内を横方向に折り返しながら通過するように熱処理室の入り側および出側の熱処理室外に配置された折り返しローラーとを有する耐炎化炉において、前記入り側および出側の折り返しローラーの間に駆動速度制御型ローラーを通過するストランドと接触する位置に設けたことを特徴とする耐炎化炉。
（２）前記入り側および出側の熱処理室外に配置された折り返しローラーの間隔を１０ｍから５０ｍの範囲に設けた、前記（１）に記載の耐炎化炉。
（３）１から３０パスの折り返し数になるように前記入り側および出側の熱処理室外に折り返しローラーを配置した、前記（１）または（２）に記載の耐炎化炉。
（４）炭素繊維前駆体繊維ストランドがポリアクリロニトリル系繊維である、前記（１）
〜（３）のいずれかに記載の耐炎化炉。
（５）複数本の炭素繊維前駆体ストランドを、前記（１）〜（４）のいずれかに記載の耐炎化炉を用いて耐炎化処理し、その後炭素化処理することを特徴とする炭素繊維の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
なお、懸垂防止用のローラーについては走行ストランドとの接触面積が少ないため、ローラー回転不良による摩擦防止の観点から駆動速度制御型（積極駆動型）にすることが必要である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月5日(2010.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
屋根の勾配の下方側で太陽電池パネルを保持する下部フレームと、上方側で前記太陽電池パネルを保持する上部フレームとを有し、これらの太陽電池パネル、下部フレーム、上部フレームを前記屋根上に順次にずらしながら積層して配列し、前記下部フレームは下層側の上部フレーム上に取り付け、前記上部フレームを前記屋根上に固定する固定フレーム上に取り付けるパネル保持部材において、前記上部フレームの固定用端面を前記固定フレームの固定用端面に接面して固定すると共に、前記下部フレームの下部に着脱自在に設けた爪状部の先端を、下層側の前記上部フレームに設けた間隙部に挿入することを特徴とするパネル保持部材。
【請求項２】
前記上部フレームは２つのフレームから構成し、これらのフレーム間に前記間隙部を形成したことを特徴とする請求項１に記載のパネル保持部材。
【請求項３】
前記上部フレームに前記間隙部を設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載のパネル保持部材。
【請求項４】
前記太陽電池パネルに対する前記上部フレームの固定用端面の傾斜角は２０〜７０度としたことを特徴とする請求項１〜３の何れか１つの請求項に記載のパネル保持部材。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月1日(2010.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２−［（｛４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５−イル）メトキシ］−３，５−ジメチルピリジン−２−イル｝メチル）スルフィニル］−１Ｈ−ベンズイミダゾールのナトリウム塩の結晶であって、
１）１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト（±０．５ｐｐｍ）１６．７ｐｐｍにピークを有するか、
２）赤外吸収スペクトル（ＡＴＲ法）において、波数（±２ｃｍ−１）８２７、１０２１および１２９５ｃｍ−１に吸収ピークを有するか、または、
３）粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）４．９°、８．０°、９．９°、１０．８°、１１．７°および１２．９°に回折ピークを有することにより特徴づけられる結晶。
【請求項２】
１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト（±０．５ｐｐｍ）１６．７ｐｐｍにピークを有することにより特徴づけられる請求項１の結晶。
【請求項３】
赤外吸収スペクトル（ＡＴＲ法）において、波数（±２ｃｍ−１）８２７、１０２１および１２９５ｃｍ−１に吸収ピークを有することにより特徴づけられる請求項１の結晶。
【請求項４】
粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）４．９°、８．０°、９．９°、１０．８°、１１．７°および１２．９°に回折ピークを有することにより特徴づけられる請求項１の結晶。
【請求項５】
２−［（｛４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５−イル）メトキシ］−３，５−ジメチルピリジン−２−イル｝メチル）スルフィニル］−１Ｈ−ベンズイミダゾールのナトリウム塩の結晶であって、
１）１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト（±０．５ｐｐｍ）２５．３ｐｐｍにピークを有するか、
２）赤外吸収スペクトル（ＡＴＲ法）において、波数（±２ｃｍ−１）８２９、１０２２および１２８９ｃｍ−１に吸収ピークを有するか、または、
３）粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）５．０°、９．５°、９．９°、１１．５°、１３．６°、１５．６°および１６．５°に回折ピークを有することにより特徴づけられる結晶。
【請求項６】
２−［（｛４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５−イル）メトキシ］−３，５−ジメチルピリジン−２−イル｝メチル）スルフィニル］−１Ｈ−ベンズイミダゾールのナトリウム塩の結晶であって、
１）１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト（±０．５ｐｐｍ）１３７．７ｐｐｍにピークを有するか、
２）赤外吸収スペクトル（ＡＴＲ法）において、波数（±２ｃｍ−１）８２２および１０２２ｃｍ−１に吸収ピークを有するか、または、
３）粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）４．９°、９．８°、１１．４°、１１．７°、１４．６°、１５．７°、１６．２°、１７．３°および１８．９°に回折ピークを有することにより特徴づけられる結晶。
【請求項７】
２−［（｛４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５−イル）メトキシ］−３，５−ジメチルピリジン−２−イル｝メチル）スルフィニル］−１Ｈ−ベンズイミダゾールのナトリウム塩の結晶であって、
１）１３Ｃ固体ＮＭＲスペクトルにおいて、化学シフト（±０．５ｐｐｍ）１５９．８ｐｐｍにピークを有するか、
２）赤外吸収スペクトル（ＡＴＲ法）において、波数（±２ｃｍ−１）１０７７ｃｍ−１に吸収ピークを有するか、または、
３）粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）４．１°、１０．４°、１２．２°、１２．７°、１７．１°、１８．４°および１９．５°に回折ピークを有することにより特徴づけられる結晶。
【請求項８】
粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）
１）４．４°、９．６°、１０．３°、１６．２°、１７．５°、１８．５°および１９．７°、
２）４．２°、８．６°、９．７°、１０．３°、１２．７°、１３．２°、１６．５°、１７．５°、１８．５°、１９．２°および１９．７°、
３）４．１°、１０．６°、１７．０°、１７．３°、１７．９°、１８．４°、１９．４°および１９．７°、または
４）４．４°、１０．１°、１０．３°、１６．６°、１７．８°、１８．６°、１９．８°、２０．３°および２１．３°
のいずれかから選択される回折ピークを有する２−［（｛４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５−イル）メトキシ］−３，５−ジメチルピリジン−２−イル｝メチル）スルフィニル］−１Ｈ−ベンズイミダゾールのナトリウム塩の結晶。
【請求項９】
非晶質である、２−［（｛４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５−イル）メトキシ］−３，５−ジメチルピリジン−２−イル｝メチル）スルフィニル］−１Ｈ−ベンズイミダゾール、またはそのナトリウム塩。
【請求項１０】
２−［（｛４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５−イル）メトキシ］−３，５−ジメチルピリジン−２−イル｝メチル）スルフィニル］−１Ｈ−ベンズイミダゾールの塩であって、
前記塩は、カリウム塩、マグネシウム塩、リチウム塩、カルシウム塩および亜鉛塩からなる群より選ばれる、塩。
【請求項１１】
前記塩はカリウム塩であって、粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）５．２°、１０．４°、１４．５°、１６．２°および１９．５°に回折ピークを有する、請求項１０記載の塩の結晶。
【請求項１２】
前記塩はマグネシウム塩であって、粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）５．４°、１６．２°および１９．９°に回折ピークを有する、請求項１０記載の塩の結晶。
【請求項１３】
前記塩はリチウム塩であって、粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）４．９°、９．９°、１５．９°、および２２．９°に回折ピークを有する、請求項１０記載の塩の結晶。
【請求項１４】
粉末Ｘ線回折において、回折角度（２θ±０．２°）
１）８．１°、１２．５°および２０．５°、または、
２）６．０°、９．０°および１７．３°
から選択される回折ピークを有する、２−［（｛４−［（２，２−ジメチル−１，３−ジオキサン−５−イル）メトキシ］−３，５−ジメチルピリジン−２−イル｝メチル）スルフィニル］−１Ｈ−ベンズイミダゾールの結晶。
【請求項１５】
請求項１ないし４のいずれか一項に記載された結晶を含む、逆流性食道炎、症候性逆流性食道炎、胃潰瘍または十二指腸潰瘍の治療のための医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月1日(2010.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式（１）で示されるユビキノン誘導体およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする皮膚外用剤。
【化１】
2008115170.tif 000001
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して水素原子またはリン酸基を表し、Ｒ1およびＲ2の少なくとも一方はリン酸基であり、ｎは１〜９の整数を表す。）
【請求項２】
前記ユビキノン誘導体およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも一種が、０．０００５〜５０質量％の濃度で含有されていることを特徴とする請求項１に記載の皮膚外用剤。
【請求項３】
前記式（１）におけるＲ1およびＲ2の両方がリン酸基であり、かつｎが９である請求項１に記載の皮膚外用剤。
【請求項４】
下記化学式（１）で示されるユビキノン誘導体およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも一種を含有することを特徴とする化粧料。
【化２】
2008115170.tif 000002
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して水素原子またはリン酸基を表し、Ｒ1およびＲ2の少なくとも一方はリン酸基であり、ｎは１〜９の整数を表す。）
【請求項５】
前記ユビキノン誘導体およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも一種が、０．０００５〜５０質量％の濃度で含有されていることを特徴とする請求項４に記載の化粧料。
【請求項６】
下記化学式（１）で示されるユビキノン誘導体およびその塩からなる群から選ばれる少なくとも一種を皮膚に塗布することを特徴とする該ユビキノン誘導体、該ユビキノン誘導体の塩、ユビキノンおよびユビキノールの中から選ばれる少なくとも一種の皮膚細胞内供与方法。
【化３】
2008115170.tif 000003
（式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して水素原子またはリン酸基を表し、Ｒ1およびＲ2の少なくとも一方はリン酸基であり、ｎは１〜９の整数を表す。）
【請求項７】
ユビキノンおよびユビキノールのうち少なくとも一方が、皮膚に塗布された前記ユビキノン誘導体またはその塩の脱リン酸により生成されたものである請求項６に記載の皮膚細胞内供与方法。
【請求項８】
ユビキノンが、ユビキノールの酸化により生成されたものである請求項６に記載の皮膚細胞内供与方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月22日(2010.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析処理対象の検体を収容する検体容器を搬送し、搬送過程で前記分析処理前の所定の前処理を行う検体前処理システムであって、
当該前処理システムは、検体容器の搬送方向に沿って配列された共通の奥行き寸法を有する複数のユニットを有し、
前記各ユニットは、検体を搬送する１個の主搬送モジュールを装着するための領域である複数の搬送エリアを有し、当該搬送エリアは、当該ユニットの全幅にわたって延び、同一面上に、奥行き方向に既定値のピッチで、かつ各ユニットにおいて奥行き方向において共通の位置に配置され、当該搬送エリアには、前記主搬送モジュールの位置決めを行う位置決め手段が設けられ、
前記各ユニットには、奥に配置された搬送エリアの更に奥側に、前記複数の搬送エリアの内、最も奥行き寸法の小さい搬送エリア以上の奥行き寸法を有する余裕エリアが設けられ、
前記各ユニットの少なくとも一つの搬送エリアに前記主搬送モジュールが装着され、前記主搬送モジュールは、前記既定値のピッチに対応した奥行き寸法を有し、検体容器を移動させるための駆動源と、駆動源の駆動力により駆動され検体容器を搬送する搬送要素を含む、
検体前処理システム。
【請求項２】
請求項１に記載の検体前処理システムであって、
二つの搬送エリアにまたがって装着され、これらの二つの搬送エリア間で検体容器の受け渡しを行う横断搬送モジュールを有する、
検体前処理システム。
【請求項３】
請求項２に記載の検体前処理システムであって、
前記ユニットの横幅は少なくとも２種類あり、この横幅の差が横断搬送モジュールの幅方向の寸法となっている、
検体前処理システム。
【請求項４】
請求項２または３に記載の検体前処理システムであって、
前記複数のユニットの内、連続するユニットのそれぞれ二つの搬送エリアに主搬送モジュールが装着され、前記連続するユニットの両端のユニットには前記横断搬送モジュールが装着され、これらの主搬送モジュールおよび横断搬送モジュールによりループ状の搬送経路が形成される、
検体前処理システム。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の検体前処理システムであって、
前記各ユニットは、当該ユニットの搬送エリアに共通であって、前記主搬送モジュールが置かれるベースプレートを有する、
検体前処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の検体前処理システムは、分析処理対象の検体を収容する検体容器を搬送し、搬送過程で前記分析処理前の所定の前処理を行う検体前処理システムであって、当該前処理システムは、検体容器の搬送方向に沿って配列された共通の奥行き寸法を有する複数のユニットを有する。前記各ユニットは、検体を搬送する主搬送モジュールを装着するための領域である複数の搬送エリアを有し、当該搬送エリアは、当該ユニットの全幅にわたって延び、同一面上に、奥行き方向に既定値のピッチで、かつ各ユニットにおいて奥行き方向において共通の位置に配置される。また、前記搬送エリアには、前記主搬送モジュールの位置決めを行う位置決め手段が設けられる。前記各ユニットには、奥に配置された搬送エリアの更に奥側に、前記複数の搬送エリアの内、最も奥行き寸法の小さい搬送エリア以上の奥行き寸法を有する余裕エリアが設けられる。前記各ユニットの少なくとも一つの搬送エリアに前記主搬送モジュールが装着され、前記主搬送モジュールは、前記既定値のピッチに対応した奥行き寸法を有し、検体容器を移動させるための駆動源と、駆動源の駆動力により駆動され検体容器を搬送する搬送要素を含む。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月12日(2010.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  本体に設けられる洗浄手段を機能させる操作部を備えた衛生洗浄装置において、
前記操作部は、複数並設されて発光を行う発光素子と、該発光素子の光路上に夫々配置された受光素子とを備え光検知センサを構成し、
光路内に使用者の指が入ることにより、非接触で前記洗浄手段の操作が行えることを特徴とする衛生洗浄装置。
【請求項２】  前記発光素子と前記受光素子は、前記操作部の一側面と対向する他側面に設けられる請求項１に記載の衛生洗浄装置。
【請求項３】  １つの前記発光素子に対向する１つの前記受光素子とが、前記操作部の縦横方向に並設して設けられる請求項１または請求項２に記載の衛生洗浄装置。
【請求項４】  前記光検知センサからの信号を入力し、前記洗浄手段を制御する制御装置を備え、
該制御装置は、前記発光素子から前記受光素子に対して一定時間連続して入射が無くなった場合に前記洗浄手段を制御して洗浄動作を行わせる請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の衛生洗浄装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、本体に設けられる洗浄手段を機能させる操作部を備えた衛生洗浄装置において、前記操作部は、複数並設されて発光を行う発光素子と、該発光素子の光路上に夫々配置された受光素子とを備え光検知センサを構成し、光路内に使用者の指が入ることにより、非接触で前記洗浄手段の操作が行える構成とした。
この場合、前記発光素子と前記受光素子は、前記操作部の一側面と対向する他側面に設けられる構成とすると良い。
また、１つの前記発光素子に対向する１つの前記受光素子とが、前記操作部の縦横方向に並設して設けられる構成とすると良い。
更には、前記光検知センサからの信号を入力し、前記洗浄手段を制御する制御装置を備え、該制御装置は、前記発光素子から前記受光素子に対して一定時間連続して入射が無くなった場合に前記洗浄手段を制御して洗浄動作を行わせる構成とすると良い。
本発明によれば、複数並設されて発光を行う発光素子と、発光素子の光路上に夫々配置された受光素子とを備えた光検知センサにより、発光素子からの光路内に使用者の指が入ることにより、使用者は操作部に触れることなく非接触で衛生洗浄装置の操作が行える。
この場合、光検知センサには主に光量方式と測距方式の２方式があるが、どちらの方式であってもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
図１は第１実施例である衛生洗浄装置の本体に組み込まれる本体操作部１で、停止スイッチ２、洗浄スイッチ３、ビデスイッチ４、乾燥スイッチ５、フラッシュスイッチ６、ノズル洗浄スイッチ７、強スイッチ８、弱スイッチ９から構成され、パネル１０の夫々のスイッチに対応する位置には透過部材２ａ、３ａ、４ａ、５ａ、６ａ、７ａ、８ａ、９ａを有する。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
（本発明）
図３は第２実施例である衛生洗浄装置の本体操作部２６である。図３の本体操作部２６は、光検知センサである発光素子１４、１５、１６、１７を上側面に配設してあり、対向する下側面には受光素子２０、２１、２２、２３を配設している。また、横側面にも発光素子１８、１９が配設してあり、対向する横側面には受光素子２４、２５が配設してある。また第２実施例では第１実施例のパネル１０に配設した透過部材２ａ、３ａ、４ａ、５ａ、６ａ、７ａ、８ａ、９ａを有していない。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図４は第３実施例の操作部であるリモコン２７で、停止スイッチ２８、洗浄スイッチ２９、ビデスイッチ３０、弱スイッチ３１、強スイッチ３２、乾燥スイッチ３３、フラッシュスイッチ３４、ノズル洗浄スイッチ３５、の順に配列されている。リモコン２７の夫々のスイッチに対応する位置には透過部材２８ａ、２９ａ、３０ａ、３１ａ、３２ａ、３３ａ、３４ａ、３５ａを有する。