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【手続補正書】
【提出日】平成22年9月27日(2010.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
観察者の視点の位置姿勢に基づいて仮想空間の画像を生成する生成手段を有する画像処理装置であって、
前記観察者の特定部位の位置姿勢情報を取得する取得手段と、
１以上の仮想物体を配した仮想空間中に前記特定部位を模した特定部位仮想物体を前記位置姿勢情報に基づいて配置した後の仮想空間の画像を生成した場合に、当該画像上で、前記特定部位仮想物体の領域と、前記特定部位仮想物体以外の他仮想物体の領域とに重なりが生じるか否かを判断する判断手段と、
前記重なりが生じると判断された場合には、前記他仮想物体と前記特定部位仮想物体とを配置した仮想空間の画像を生成するよう前記生成手段を制御し、
前記重なりが生じないと判断された場合には、前記他仮想物体のみを配置した仮想空間の画像を生成するよう前記生成手段を制御する制御手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記判断手段は、
前記特定部位仮想物体のみを配置した仮想空間の画像を生成すると共に、当該画像を構成する各画素の奥行き値を２次元データ配列として第１のメモリに記録する第１の手段と、
前記他仮想物体のみを配置した仮想空間の画像を生成すると共に、当該画像を構成する各画素の奥行き値を２次元データ配列として第２のメモリに記録する第２の手段と、
前記他仮想物体と前記特定部位仮想物体とを配置した仮想空間の画像上で、前記特定部位仮想物体の領域と、前記他仮想物体の領域とに重なりが生じるか否かを、前記第１のメモリに記録した２次元データ配列と前記第２のメモリに記録した２次元データ配列とを用いて判断する第３の手段と
を備えることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記第１の手段は、前記特定部位仮想物体のみを配置した仮想空間の画像において、前記特定部位仮想物体の領域以外の領域を構成する各画素の奥行き値として０を記録することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記第２の手段は、前記他仮想物体のみを配置した仮想空間の画像において、前記他仮想物体の領域以外の領域を構成する各画素の奥行き値として０を記録することを特徴とする請求項２又は３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第３の手段は、前記第１のメモリに記録されている２次元データ配列において非０の配列要素が記録されている位置に対応する、前記第２のメモリに記録されている２次元データ配列における位置に非０の配列要素が記録されている場合、
前記他仮想物体と前記特定部位仮想物体とを配置した仮想空間の画像上で、前記特定部位仮想物体の領域と、前記他仮想物体の領域とに重なりが生じると判断することを特徴とする請求項２乃至４の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記第３の手段は、前記第１のメモリに記録されている２次元データ配列における非０の配列要素の値が、前記第２のメモリに記録されている２次元データ配列において当該配列要素と同じ位置に記録されている配列要素の値以下である場合、
前記他仮想物体と前記特定部位仮想物体とを配置した仮想空間の画像上で、前記特定部位仮想物体の領域と、前記他仮想物体の領域とに重なりが生じると判断することを特徴とする請求項２乃至４の何れか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
観察者の視点の位置姿勢に基づいて仮想空間の画像を生成する生成手段を有する画像処理装置が行う画像処理方法であって、
前記画像処理装置の取得手段が、前記観察者の特定部位の位置姿勢情報を取得する取得工程と、
前記画像処理装置の判断手段が、１以上の仮想物体を配した仮想空間中に前記特定部位を模した特定部位仮想物体を前記位置姿勢情報に基づいて配置した後の仮想空間の画像を生成した場合に、当該画像上で、前記特定部位仮想物体の領域と、前記特定部位仮想物体以外の他仮想物体の領域とに重なりが生じるか否かを判断する判断工程と、
前記画像処理装置の制御手段が、前記重なりが生じると判断された場合には、前記他仮想物体と前記特定部位仮想物体とを配置した仮想空間の画像を生成するよう前記生成手段を制御し、
前記重なりが生じないと判断された場合には、前記他仮想物体のみを配置した仮想空間の画像を生成するよう前記生成手段を制御する制御工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
コンピュータを請求項１乃至６の何れか１項に記載の画像処理装置が有する各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
即ち、観察者の視点の位置姿勢に基づいて仮想空間の画像を生成する生成手段を有する画像処理装置であって、
前記観察者の特定部位の位置姿勢情報を取得する取得手段と、
１以上の仮想物体を配した仮想空間中に前記特定部位を模した特定部位仮想物体を前記位置姿勢情報に基づいて配置した後の仮想空間の画像を生成した場合に、当該画像上で、前記特定部位仮想物体の領域と、前記特定部位仮想物体以外の他仮想物体の領域とに重なりが生じるか否かを判断する判断手段と、
前記重なりが生じると判断された場合には、前記他仮想物体と前記特定部位仮想物体とを配置した仮想空間の画像を生成するよう前記生成手段を制御し、
前記重なりが生じないと判断された場合には、前記他仮想物体のみを配置した仮想空間の画像を生成するよう前記生成手段を制御する制御手段と
を備えることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
即ち、観察者の視点の位置姿勢に基づいて仮想空間の画像を生成する生成手段を有する画像処理装置が行う画像処理方法であって、
前記画像処理装置の取得手段が、前記観察者の特定部位の位置姿勢情報を取得する取得工程と、
前記画像処理装置の判断手段が、１以上の仮想物体を配した仮想空間中に前記特定部位を模した特定部位仮想物体を前記位置姿勢情報に基づいて配置した後の仮想空間の画像を生成した場合に、当該画像上で、前記特定部位仮想物体の領域と、前記特定部位仮想物体以外の他仮想物体の領域とに重なりが生じるか否かを判断する判断工程と、
前記画像処理装置の制御手段が、前記重なりが生じると判断された場合には、前記他仮想物体と前記特定部位仮想物体とを配置した仮想空間の画像を生成するよう前記生成手段を制御し、
前記重なりが生じないと判断された場合には、前記他仮想物体のみを配置した仮想空間の画像を生成するよう前記生成手段を制御する制御工程と
を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月5日(2010.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
第２基準電圧設定回路１２は、任意の入力基準電圧ＶＲＮに基づき、その入力基準電圧ＶＲＮと等しい基準電圧ＶｂをノードＮ２に発生する。第２基準電圧設定回路１２は、オペアンプＡＭＰ２と、ＮＭＯＳトランジスタＱ２と、直列接続される複数の抵抗Ｒ（−１）〜Ｒ（ｋ＋１）とから構成される。
オペアンプＡＭＰ２は、一方の入力端子に入力基準電圧ＶＲＮが印加され、他方の入力端子にノードＮ２の基準電圧Ｖｂが印加されている。オペアンプＡＭＰ２の出力は、ＭＯＳトランジスタＱ２のゲートに入力されている。ＭＯＳトランジスタＱ２のソースは、接地されている。ノードＮ２とＭＯＳトランジスタＱ２のドレインとの間には、抵抗Ｒ（−１）〜Ｒ（ｋ＋１）が直列接続されている
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月5日(2010.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の指標が配された現実空間を撮像する撮像装置が複数接続された画像処理装置であって、
撮像画像中の指標を認識し、当該撮像画像を撮像した撮像装置を基準とした座標系における当該認識した指標の配置位置を示す配置情報を求める処理を、それぞれの撮像装置毎に行う計算手段と、
前記複数の指標の各々を互いに区別する当該指標毎に固有の識別情報と、当該指標の配置情報とを含む指標情報を管理する管理手段と、
前記複数接続された撮像装置のうちの注目撮像装置による撮像画像中の注目指標の認識を失敗した、若しくは誤認識した場合には、当該注目撮像装置以外の他撮像装置が撮像した撮像画像に対する前記計算手段による結果に基づいて、前記注目撮像装置について前記管理手段が管理する前記注目指標の識別情報を変更する変更手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記計算手段は、
前記他撮像装置から取得した他撮像画像中における指標を認識し、当該他撮像装置を基準とする座標系における、前記認識した指標の配置情報を求め、
前記変更手段は、
前記注目撮像装置から取得した撮像画像における指標の認識を前記計算手段が失敗した場合には、前記注目撮像装置と前記他撮像装置との相対的な位置姿勢関係を示す位置姿勢関係情報と、前記他撮像装置について前記計算手段が求めた前記指標の配置情報と、を用いて、前記指標の前記撮像装置を基準とする座標系における配置情報を求める手段を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記計算手段は、
注目撮像装置から取得した撮像画像中における指標の、当該注目撮像装置を基準とする自座標系における配置情報と、前記注目撮像装置以外の他撮像装置から取得した撮像画像中における指標の、当該他撮像装置を基準とする他座標系における配置情報を前記自座標系における配置情報に変換した結果と、の差分を計算し、
前記管理手段は、
異なる識別情報を有する指標同士の前記差分が閾値よりも小さい場合には、当該異なる識別情報同士を統一する
ことを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
更に、
撮像装置の位置姿勢情報を当該撮像装置について求めた配置情報を用いて求める処理を、それぞれの撮像装置について行う手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記計算手段は、前記撮像画像中の指標の領域を前記撮像装置のそれぞれが撮像した撮像画像について合計し、正規化した結果を用いて、当該指標の認識を行うことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記計算手段は、前記撮像画像中の指標の領域に対して、ローパスフィルタを用いた広帯域補間を行うことで高密度化し、更に、高密度化データに加重和を加えて折り返し歪みを打ち消すことで、当該領域内の高周波成分を復元した結果を用いて、当該指標の認識を行うことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項７】
複数の指標が配された現実空間を撮像する撮像装置が複数接続された画像処理装置が行う画像処理方法であって、
前記画像処理装置の計算手段が、撮像画像中の指標を認識し、当該撮像画像を撮像した撮像装置を基準とした座標系における当該認識した指標の配置位置を示す配置情報を求める処理を、それぞれの撮像装置毎に行う計算工程と、
前記画像処理装置の管理手段が、前記複数の指標の各々を互いに区別する当該指標毎に固有の識別情報と、当該指標の配置情報とを含む指標情報を管理する管理工程と、
前記画像処理装置の変更手段が、前記複数接続された撮像装置のうち注目撮像装置による撮像画像中の注目指標の認識を失敗した、若しくは誤認識した場合には、当該注目撮像装置以外の他撮像装置が撮像した撮像画像に対する前記計算工程による結果に基づいて、前記管理工程が管理する前記注目指標の識別情報を変更する変更工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
コンピュータに請求項７に記載の画像処理方法の各工程を実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
［第１〜第４の実施形態の変形例］
上記各実施形態では、正方形の外形の内部にIDコード領域を持つマーカを用いていたが、外形をもつマーカを用いることに限定されるものではなく、例えば、特許文献１に開示されているような、外形を持たないマーカを用いても良い。即ち、長方形のバーと４点の特徴点と特徴点内部の２次元バーコード部から構成されるマーカ（第２のマーカ）を用いても良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０７】
［第５の実施形態］
第２の実施形態では、ステップＳ８４０の処理において、撮像装置とマーカの相対位置姿勢の要因から信頼性を算出した。しかし、この相対位置姿勢の要因ではなく、あらかじめ記憶部１４０に格納されている実空間上に配置されたマーカのＩＤリストを取得して誤認識ＩＤを排除する方法を用いてもよい。なお、本実施形態では、ＩＤリスト内にないＩＤを誤認識されたＩＤとして除外する方法をマーカのＩＤの統一方法として用いているが、第２の実施形態の相対位置姿勢の要因による統一方法と組み合わせてもよい。すなわち、ステップＳ８４０の信頼性の評価を決める処理において、ＩＤリストにないＩＤが合った場合は、信頼性の評価をせず、ＩＤ候補から削除する方法である。
本実施形態のマーカ認識処理装置における装置の構成は、第一の実施形態の構成と同一であるため説明は省略する。
本実施形態のマーカ認識処理装置における処理の手順は、第２の実施形態のステップＳ８４０の処理中で、ＩＤの信頼性を求める処理がＩＤリスト内のＩＤと比較する処理に変わる部分のみが異なる。ＩＤリストとの比較により、誤認識ＩＤを削除し、最終的にＩＤが１つに特定できた場合はそのＩＤを信頼性の高いＩＤとして登録する。また、誤認識ＩＤを削除しても複数のＩＤ候補が存在する場合は、ＩＤの統一をせず処理を終了する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月5日(2010.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
外部機器と通信可能に接続される情報処理装置における情報処理方法であって、
判定手段が、設定された検索条件に基づいてデータの検索を行う検索フォルダを、前記外部機器にコピーする旨の指示が入力された場合に、該指示された検索フォルダに設定された検索条件が、該外部機器において設定可能であるか否かを判定する判定工程と、
生成手段が、前記指示に基づいて外部機器に送信されるべきフォルダを生成する生成工程と、
検索手段が、前記指示された検索フォルダに設定された検索条件のうち、前記外部機器において設定可能でないと判定された検索条件に基づいて、データの検索を行う検索工程と、
設定手段が、前記生成されたフォルダを介して、前記検索工程により検索されたデータが取得できるように、該データに関する情報を該フォルダに設定する設定工程と、
送信手段が、前記設定工程により前記データに関する情報が設定されたフォルダを、前記外部機器に送信する送信工程と
を備えることを特徴とする情報処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
外部機器と通信可能に接続される情報処理装置のコンピュータに、
設定された検索条件に基づいてデータの検索を行う検索フォルダを、前記外部機器にコピーする旨の指示が入力された場合に、該指示された検索フォルダに設定された検索条件が、該外部機器において設定可能であるか否かを判定する判定工程と、
前記指示に基づいて外部機器に送信されるべきフォルダを生成する生成工程と、
前記指示された検索フォルダに設定された検索条件のうち、前記外部機器において設定可能でないと判定された検索条件に基づいて、データの検索を行う検索工程と、
前記生成されたフォルダを介して、前記検索工程により検索されたデータが取得できるように、該データに関する情報を該フォルダに設定する設定工程と、
前記設定工程により前記データに関する情報が設定されたフォルダを、前記外部機器に送信する送信工程と
を実行させるためのプログラム。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
外部機器と通信可能に接続される情報処理装置のコンピュータに、
設定された検索条件に基づいてデータの検索を行う検索フォルダを、前記外部機器にコピーする旨の指示が入力された場合に、該指示された検索フォルダに設定された検索条件が、該外部機器において設定可能であるか否かを判定する判定工程と、
前記指示に基づいて外部機器に送信されるべきフォルダを生成する生成工程と、
前記指示された検索フォルダに設定された検索条件のうち、前記外部機器において設定可能でないと判定された検索条件に基づいて、データの検索を行う検索工程と、
前記生成されたフォルダを介して、前記検索工程により検索されたデータが取得できるように、該データに関する情報を該フォルダに設定する設定工程と、
前記設定工程により前記データに関する情報が設定されたフォルダを、前記外部機器に送信する送信工程と
を実行させるためのプログラムを格納したコンピュータ読取可能な記憶媒体。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
ステップＳ１３１２における判定の結果、すべての検索機能を備えていると判定された場合には、処理を終了する。一方、ステップＳ１３１１における判定の結果、コピー先機器が、検索フォルダの実行に必要な検索機能の一部のみを備えていると判定した場合には、ステップＳ１３１３に進む。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2009123117.tif 000001
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１３】
2009123117.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月25日(2010.10.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像処理装置であって、
対象画像における顔の器官の画像を含む領域を器官領域として検出する器官領域検出部と、
検出された前記器官領域に基づき、前記対象画像における顔の画像の向きを推定する顔向き推定部と、を備える、画像処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の画像処理装置であって、さらに、
前記対象画像における顔の画像を含む所定の領域を対象に、所定の画像処理を行う画像処理部と、
推定された前記対象画像における顔の画像の向きに基づき、前記画像処理の実行可否を判定する処理可否判定部と、を備える、画像処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の画像処理装置であって、
前記所定の画像処理は、画像の変形処理を含み、
前記処理可否判定部は、推定された前記対象画像における顔の画像の向きが正面向きでない場合には、前記画像処理の実行は不可であると判定する、画像処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の画像処理装置であって、さらに、
検出された前記器官領域に基づき、推定された前記対象画像における顔の画像の向きに応じた所定の方法で、前記対象画像における顔の画像を含む顔領域を設定する顔領域設定部を備える、画像処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の画像処理装置であって、
前記顔領域設定部は、推定された前記対象画像における顔の画像の向きに応じて予め定められた前記器官領域との間の関係に基づき、前記顔領域の大きさと位置と傾きとの少なくとも１つを特定し、前記特定された大きさと位置と傾きとの少なくとも１つを有する領域を、前記顔領域として設定する、画像処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の画像処理装置であって、さらに、
前記対象画像における顔の画像を含む領域を検出顔領域として検出する顔領域検出部を備え、
前記顔領域設定部は、前記検出顔領域の大きさと位置と傾きとの少なくとも１つを前記特定された大きさと位置と傾きとの少なくとも１つに一致させた領域を、前記顔領域として設定する、画像処理装置。
【請求項７】
画像処理方法であって、
（ａ）対象画像における顔の器官の画像を含む領域を器官領域として検出する工程と、
（ｂ）検出された前記器官領域に基づき、前記対象画像における顔の画像の向きを推定する工程と、を備える、画像処理方法。
【請求項８】
画像処理のためのコンピュータプログラムであって、
対象画像における顔の器官の画像を含む領域を器官領域として検出する器官領域検出機能と、
検出された前記器官領域に基づき、前記対象画像における顔の画像の向きを推定する顔向き推定機能と、を、コンピュータに実現させる、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月8日(2010.2.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電型の半導体基板を貫通する貫通電極により受光面電極を裏面電極に接続する光電変換素子において、
前記半導体基板の裏面に前記貫通電極の周囲に形成した接合分離部と、
前記接合分離部を覆うように形成され、前記貫通電極が貫通する絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成され、前記受光面電極と接続される前記貫通電極に接続される裏面電極と
を備えることを特徴とする光電変換素子。
【請求項２】
第１導電型の半導体基板と、
前記半導体基板に形成された基板貫通孔と、
前記半導体基板の受光面および裏面の一部に設けられた第２導電型の半導体層と、
前記半導体基板の裏面上に存在し、前記基板貫通孔の周囲を包囲する開口部を有する基板導電層と、
前記基板導電層と前記半導体層とを電気的に絶縁するために前記基板貫通孔の周囲に形成された接合分離部と、
前記半導体基板の裏面上に前記接合分離部を覆うように形成され、前記基板貫通孔と連続する絶縁膜貫通孔を有する絶縁膜と、
前記絶縁膜の上に位置し、前記基板貫通孔及び絶縁膜貫通孔を通る貫通電極と電気的に接続された裏面電極と、
前記半導体層の受光面上に前記半導体層と電気的に接続され、前記貫通電極を介して前記裏面電極と接続される受光面電極と
を有することを特徴とする光電変換素子。
【請求項３】
前記裏面電極は、前記接合分離部の径より大きい外径を有することを特徴とする請求項２に記載の光電変換素子。
【請求項４】
前記絶縁膜は、前記基板導電層の一部の上にも位置し、前記裏面電極の外径が前記基板導電層の開口部の直径より大きいことを特徴とする請求項２に記載の光電変換素子。
【請求項５】
第１導電型の半導体基板に基板貫通孔を形成する工程と、
前記半導体基板に第２導電型の半導体層を形成する工程と、
前記半導体基板の裏面上に、前記基板貫通孔の部分を除いて基板導電層を形成する工程と、
前記半導体基板の裏面の前記基板貫通孔の周囲に接合分離部を形成する工程と、
前記半導体基板の裏面上及び前記基板導電層上に前記接合分離部を覆い、前記基板貫通孔に連続する絶縁膜貫通孔を有する絶縁膜を形成する工程と、
前記基板貫通孔及び絶縁膜貫通孔の内部に貫通電極及び前記絶縁膜上に裏面電極を形成する工程と、
前記半導体基板の受光面上に前記半導体層と電気的に接続され、前記貫通電極を介して前記裏面電極と接続される受光面電極を形成する工程と
を備えることを特徴とする光電変換素子の製造方法。
【請求項６】
前記裏面電極は、前記接合分離部の少なくとも一部を覆うように形成された前記絶縁膜上にあって、前記接合分離部に少なくとも一部に重なるように形成されることを特徴とする請求項２に記載の光電変換素子。
【請求項７】
前記裏面電極は、前記接合分離部の少なくとも一部と前記基板導電層の一部を被覆するように形成された前記絶縁膜上にあって、前記基板導電層の一部に重なるように形成されることを特徴とする請求項２に記載の光電変換素子。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月12日(2010.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サファイア基板上に単結晶のＩＩＩ族窒化物半導体層を形成するＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法において、
基板の（０００１）Ｃ面上にマスクを形成してドライエッチングを行い、更に酸を用いたウエットエッチングを行うことにより、前記基板上に前記Ｃ面からなる平面と複数の凸部とからなる上面を形成する基板加工工程と、
基板加工工程の後、前記上面上にＡｌｘＧａ１−ｘＮ（０≦ｘ≦１）からなるバッファ層を積層するバッファ層形成工程と、
前記バッファ層の上に、ＩＩＩ族窒化物半導体層をＭＯＣＶＤ法でエピタキシャル成長させて、前記凸部を前記ＩＩＩ族窒化物半導体層で埋めるエピ工程とを備えることを特徴とするＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
【請求項２】
前記ウエットエッチングが、２５０℃以上の燐酸と硫酸の混酸を用いることを特徴とする請求項１に記載のＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
【請求項３】
前記バッファ層形成工程が、厚さ０．０１〜０．５μｍのバッファ層をスパッタ法により積層する工程であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
【請求項４】
前記凸部は、基部幅が０．０５〜５μｍ、高さが０．０５〜５μｍ、かつ高さが基部幅の１／４以上のものであって、隣接する前記凸部間の間隔が前記基部幅の０．５〜５倍のものであることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載のＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
【請求項５】
前記凸部が上部に向かって徐々に外形が小さくなる形状であることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載のＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
【請求項６】
前記凸部が前記Ｃ面に非平行の表面からなる略円錐状ないし略多角錐状であることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載のＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
（１）サファイア基板上に単結晶のＩＩＩ族窒化物半導体層を形成するＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法において、基板の（０００１）Ｃ面上にマスクを形成してドライエッチングを行い、更に酸を用いたウエットエッチングを行うことにより、前記基板上に前記Ｃ面からなる平面と複数の凸部とからなる上面を形成する基板加工工程と、基板加工工程の後、前記上面上にＡｌｘＧａ１−ｘＮ（０≦ｘ≦１）からなるバッファ層を積層するバッファ層形成工程と、前記バッファ層の上に、ＩＩＩ族窒化物半導体層をＭＯＣＶＤ法でエピタキシャル成長させて、前記凸部を前記ＩＩＩ族窒化物半導体層で埋めるエピ工程とを備えることを特徴とするＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
（２）前記ウエットエッチングが、２５０℃以上の燐酸と硫酸の混酸を用いることを特徴とする（１）に記載のＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
（３）前記バッファ層形成工程が、厚さ０．０１〜０．５μｍのバッファ層をスパッタ法により積層する工程であることを特徴とする（１）または（２）に記載のＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
（４）前記凸部は、基部幅が０．０５〜５μｍ、高さが０．０５〜５μｍ、かつ高さが基部幅の１／４以上のものであって、隣接する前記凸部間の間隔が前記基部幅の０．５〜５倍のものであることを特徴とする（１）〜（３）の何れか一項に記載のＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
（５）前記凸部が上部に向かって徐々に外形が小さくなる形状であることを特徴とする（１）〜（４）の何れか一項に記載のＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
（６）前記凸部が前記Ｃ面に非平行の表面からなる略円錐状ないし略多角錐状であることを特徴とする（１）〜（５）の何れか一項に記載のＩＩＩ族窒化物半導体層の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月26日(2010.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極と、
第２電極と、
前記第１電極および前記第２電極との間に形成された、不揮発性記録材料層および選択素子と、
前記不揮発性記録材料層と前記選択素子との間に形成された、前記不揮発性記録材料層に含まれる元素を含む半導体層と、を有し、
前記半導体層は、Ｇｅを４０原子％以上含むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項２】
請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置において、
前記半導体層は、前記選択素子上に形成され、
前記不揮発性記録材料層は、前記半導体層上に形成されていることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項３】
請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置において、
前記半導体層は、前記不揮発記録材料層上に形成され、
前記選択素子は、前記半導体層上に形成されていることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項４】
請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置において、
前記不揮発性記録材料層は、カルコゲン元素のうちの少なくとも１元素を含む材料を含むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項５】
請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置において、
前記半導体層は、Ｇｅを９０原子％以上含むことを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項６】
請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置において、
前記半導体層は、ＧｅとＳｉとの混合材料であることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項７】
請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置において、
前記半導体層は、ＩｎＳｂ又はＧａＳｂであるとこを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項８】
請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置において、
前記半導体層は、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下の膜厚を有することを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項９】
請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置において、
前記選択素子は、ダイオードであることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１０】
請求項９記載の不揮発性半導体記憶装置において、
前記ダイオードは、pinポリシリコンダイオードであることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【請求項１１】
請求項１記載の不揮発性半導体記憶装置において、
メモリセルは、前記不揮発性記録材料層と前記選択素子とを含み、
前記メモリセルは、相変化メモリのメモリセルであることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月1日(2010.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
実施例においては、有機膜を凹部に埋め込むにあたって第１のベーク、ＣＭＰ、および第２のベークが行なわれるので、第２の有機膜の膜厚バラツキは１０ｎｍ未満に低減されることが、上記表６に示されている。このように、平坦性の改善が可能である。実施例１７のように２段階で研磨を行なった場合には、平坦性はさらに高められて、膜厚バラツキは５ｎｍ未満に低減される。しかも、実用的な速度で、有機膜前駆体を研磨することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月24日(2010.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の請求項１では、本体の上面に設けられたプレートと、該プレートの下方の左右に設けられた誘導加熱コイルと、該誘導加熱コイルの下方で本体の一側に設けられたロースター部と、該ロースター部とは反対側の前面に設けられた操作部と、を備えた加熱調理器において、前記ロースター部は、ヒータを内蔵した、幅２７０mmから２９０mmの調理庫と、該調理庫の外側左右に設けられた１対のレール部と、該レール部に固定され、前記ロースター部の前面開口部を塞ぐドアと、前記レール部に着脱自在に載置される受け皿と、該受け皿に載置される焼き網と、を備え、前記レール部の可動範囲は前記レール部の可動範囲の端まで引き出した状態で前記受け皿が完全に露出して前記受け皿を上方に取り出すことができる範囲に設定した。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、請求項２では、本体の上面に設けられたプレートと、該プレートの下方の左右に設けられた誘導加熱コイルと、該誘導加熱コイルの下方で本体の一側に設けられたロースター部と、該ロースター部とは反対側の前面に設けられた操作部と、を備えた加熱調理器において、前記ロースター部は、ヒータを内蔵した調理庫と、該調理庫の外側左右に設けられた１対のレール部と、該レール部に固定され、前記ロースター部の前面開口部を塞ぐドアと、前記レール部に着脱自在に載置される受け皿と、該受け皿に載置され、長さ２３cm，幅４cmの秋刀魚を５匹並べて載せることができる焼き網と、を備え、前記レール部の可動範囲は前記レール部の可動範囲の端まで引き出した状態で前記受け皿が完全に露出して前記受け皿を上方に取り出すことができる範囲に設定した。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の請求項１や２によれば、従来よりも大量の調理対象を搭載した状態で容易に出し入れすることができるロースター部を備えた組込型の加熱調理器を実現できる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体の上面に設けられたプレートと、
該プレートの下方の左右に設けられた誘導加熱コイルと、
該誘導加熱コイルの下方で本体の一側に設けられたロースター部と、
該ロースター部とは反対側の前面に設けられた操作部と、
を備えた加熱調理器において、
前記ロースター部は、
ヒータを内蔵した、幅２７０mmから２９０mmの調理庫と、
該調理庫の外側左右に設けられた１対のレール部と、
該レール部に固定され、前記ロースター部の前面開口部を塞ぐドアと、
前記レール部に着脱自在に載置される受け皿と、
該受け皿に載置される焼き網と、を備え、
前記レール部の可動範囲は前記レール部の可動範囲の端まで引き出した状態で前記受け皿が完全に露出して前記受け皿を上方に取り出すことができる範囲に設定されていることを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
本体の上面に設けられたプレートと、
該プレートの下方の左右に設けられた誘導加熱コイルと、
該誘導加熱コイルの下方で本体の一側に設けられたロースター部と、
該ロースター部とは反対側の前面に設けられた操作部と、
を備えた加熱調理器において、
前記ロースター部は、
ヒータを内蔵した調理庫と、
該調理庫の外側左右に設けられた１対のレール部と、
該レール部に固定され、前記ロースター部の前面開口部を塞ぐドアと、
前記レール部に着脱自在に載置される受け皿と、
該受け皿に載置され、長さ２３cm，幅４cmの秋刀魚を５匹並べて載せることができる焼き網と、を備え、
前記レール部の可動範囲は前記レール部の可動範囲の端まで引き出した状態で前記受け皿が完全に露出して前記受け皿を上方に取り出すことができる範囲に設定されていることを特徴とする加熱調理器。
【請求項３】
請求項１または２に記載の加熱調理器において、
前記プレートの下方の左右に備えた誘導加熱コイルは、少なくとも一方が非磁性体の被加熱物を加熱できることを特徴とする加熱調理器。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月22日(2010.9.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サスペンションと、
前記サスペンション上に固定され、可動部と固定部とを有するシリコン基板と、
前記シリコン基板上に固定されている圧電素子と、
前記可動部上に固定されているヘッド・スライダと、
前記シリコン基板上に形成されており、前記シリコン基板よりも導電率が大きく、前記ヘッド・スライダの電荷を伝送する、電導路と、
前記サスペンション上に形成され、前記ヘッド・スライダが載置されているヘッド・スライダ載置面の反対面において前記シリコン基板上の前記電導路に接触している、導電スタッドと、
を有するヘッド・ジンバル・アセンブリ。
【請求項２】
前記電導路は、不純物含有シリコン層を有する、
請求項１に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
【請求項３】
前記電導路は、前記シリコン基板を貫通して前記ヘッド・スライダ載置面から前記反対面に延びる貫通路を有する、
請求項１に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
【請求項４】
前記シリコン基板は、スルーホールを有し、
前記貫通路は、前記スルーホールを貫通している、
請求項３に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
【請求項５】
前記貫通路は、前記スルーホール内に付着された金属層を有する、
請求項４に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
【請求項６】
前記貫通路は、前記スルーホールの内面上に形成された不純物含有シリコン層を有する、
請求項４に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
【請求項７】
前記スルーホールは前記固定部に形成されている、
請求項４に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
【請求項８】
前記電導路は、前記ヘッド・スライダ載置面上で前記可動部から前記固定部まで延在している不純物含有シリコン層を有する、
請求項２に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
【請求項９】
前記電導路は、前記ヘッド・スライダ載置面上で延在して前記貫通路とつながっている不純物含有シリコン層を有する、
請求項３に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
【請求項１０】
前記シリコン基板は複数のスルーホールを有し、
前記電導路は、前記複数のスルーホールのそれぞれを通る貫通路を有する、
請求項３に記載のヘッド・ジンバル・アセンブリ。
【請求項１１】
サスペンションに固定される固定部と、ヘッド・スライダが固定される可動部と、を有するシリコン基板と、
前記シリコン基板上に固定され、前記可動部を動かす圧電素子と、
前記シリコン基板上に形成されており、前記シリコン基板よりも導電率が大きく、前記ヘッド・スライダが載置されるヘッド・スライダ載置面からその反対面に延びる電導路と、
を有するマイクロアクチュエータ。
【請求項１２】
筐体と、
前記筐体内に実装され、ディスクを回転するモータと、
前記ディスクにアクセスするヘッド・スライダと、
前記ヘッド・スライダを保持し、前記ディスク上で前記ヘッド・スライダを半径方向に移動するアクチュエータと、を有し、
前記アクチュエータは、
導電スタッドを有するサスペンションと、
前記ヘッド・スライダが載置されているヘッド・スライダ載置面を有し、前記ヘッド・スライダ載置面の反対面において前記導電スタッドと接触して前記サスペンションに固定されている、マイクロアクチュエータと、を有し、
前記マイクロアクチュエータは、
前記ヘッド・スライダが固定されている可動部と、前記導電スタッドと接触して前記サスペンションに固定されている固定部と、を有するシリコン基板と、
前記シリコン基板上に固定され、前記可動部を動かす圧電素子と、
前記シリコン基板上に形成されており、前記シリコン基板よりも導電率が大きく、前記ヘッド・スライダの電荷を前記導電スタッドに伝送する、電導路と、を有する、
ディスク・ドライブ装置。
【請求項１３】
前記電導路は、不純物含有シリコン層を有する、
請求項１２に記載のディスク・ドライブ装置。
【請求項１４】
前記電導路は、前記シリコン基板を貫通して前記ヘッド・スライダ載置面から前記反対面に延びる貫通路を有する、
請求項１２に記載のディスク・ドライブ装置。
【請求項１５】
前記シリコン基板は、スルーホールを有し、
前記貫通路は、前記スルーホールを貫通している、
請求項１４に記載のディスク・ドライブ装置。
【請求項１６】
前記貫通路は、前記スルーホール内に付着された金属層を有する、
請求項１５に記載のディスク・ドライブ装置。
【請求項１７】
前記貫通路は、前記スルーホールの内面上に形成された不純物含有シリコン層を有する、
請求項１５に記載のディスク・ドライブ装置。
【請求項１８】
前記スルーホールは前記固定部に形成されている、
請求項１５に記載のディスク・ドライブ装置。
【請求項１９】
前記電導路は、前記ヘッド・スライダ載置面上で前記可動部から前記固定部まで延在している不純物含有シリコン層を有する、
請求項１３に記載のディスク・ドライブ装置。
【請求項２０】
前記電導路は、前記ヘッド・スライダ載置面上で延在して前記貫通路とつながっている不純物含有シリコン層を有する、
請求項１４に記載のディスク・ドライブ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１１】
2009123282.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月19日(2010.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
請求項４〜６のうちのいずれか１項に記載の半導体記憶装置において、
前記少なくとも１つのダミーセルは、駆動するように構成されている、半導体記憶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月28日(2010.1.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
時系列に並んだ複数の画像のうち、時間的に前となる画像と比べて変化のある変化画像を検出するための変化画像検出装置であって、
順次入力される画像を処理対象画像として上書きして格納する処理対象画像格納部と、
前記処理対象画像格納部に格納されている前記処理対象画像のコピー画像である基準画像を格納する基準画像格納部と、
前記処理対象画像格納部から前記処理対象画像を読み出して部分領域を切り出し、前記基準画像格納部に格納されている前記基準画像における前記部分領域に対応する領域である対応領域と比較して変化の有無を判定する判定部と、
を備え、
前記判定部により変化があると判定されると、前記処理対象画像格納部に格納されている前記処理対象画像を前記変化画像として検出し、前記処理対象画像格納部に格納されている前記処理対象画像をコピーして前記基準画像格納部に上書きして格納し、
前記判定部により変化が無いと判定されると、前記部分領域を前回切り出した前記処理対象画像とは異なる画像であって、前記処理対象画像格納部から前記処理対象画像を読み出した後に前記処理対象画像格納部に格納された前記処理対象画像を読み出して、前回切り出した部分領域とは異なる位置で新たな部分領域を切り出して、前記基準画像格納部に格納されている前記基準画像における前記新たな部分領域に対応する対応領域と比較して変化の有無を判定するように構成されている、変化画像検出装置。
【請求項２】
請求項１に記載の変化画像検出装置において、
前記処理対象画像格納部は、表示用画像を記憶するためのフレームメモリであり、
前記基準画像格納部は、汎用メモリである、変化画像検出装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の変化画像検出装置において、
各部分領域は、それぞれ互いに隣接しない複数の副部分領域の集合である、
変化画像検出装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の変化画像検出装置において、
各部分領域からなる集合領域は、前記処理対象画像の全領域と一致する、
変化画像検出装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の変化画像検出装置であって、さらに、
前記変化画像検出装置とネットワークを介して接続する画像表示装置に対して、前記変化画像を転送するための画像転送部を備える、
変化画像検出部。
【請求項６】
処理対象画像を格納する処理対象画像格納部と、前記処理対象画像格納部に格納されている前記処理対象画像のコピー画像である基準画像を格納する基準画像格納部と、を有する変化画像検出装置を用いて、時系列に並んだ複数の画像のうち、時間的に前となる画像と比べて変化のある変化画像を検出するための変化画像検出方法であって、
（ａ）順次入力される画像を前記処理対象画像として前記処理対象画像格納部に上書きして格納する工程と、
（ｂ）前記処理対象画像格納部から前記処理対象画像を読み出して部分領域を切り出し、前記基準画像格納部に格納されている前記基準画像における前記部分領域に対応する領域である対応領域と比較して変化の有無を判定する工程と、
（ｃ）前記工程（ｂ）において、変化があると判定されると、前記処理対象画像格納部に格納されている前記処理対象画像を前記変化画像として検出し、前記処理対象画像格納部に格納されている前記処理対象画像をコピーして前記基準画像格納部に上書きして格納し、変化が無いと判定されると、前記部分領域を前回切り出した前記処理対象画像とは異なる画像であって、前記処理対象画像格納部から前記処理対象画像を読み出した後に前記処理対象画像格納部に格納された前記処理対象画像を読み出して、前回切り出した部分領域とは異なる位置で新たな部分領域を切り出して、前記基準画像格納部に格納されている前記基準画像における前記新たな部分領域に対応する対応領域と比較して変化の有無を判定する工程と、
を備える、変化画像検出方法。
【請求項７】
処理対象画像を格納する処理対象画像格納部と、前記処理対象画像格納部に格納されている前記処理対象画像のコピー画像である基準画像を格納する基準画像格納部と、を有するコンピュータにおいて、時系列に並んだ複数の画像のうち、時間的に前となる画像と比べて変化のある変化画像を検出するためのコンピュータプログラムであって、
順次入力される画像を前記処理対象画像として前記処理対象画像格納部に上書きして格納する機能と、
前記処理対象画像格納部から前記処理対象画像を読み出して部分領域を切り出し、前記基準画像格納部に格納されている前記基準画像における前記部分領域に対応する領域である対応領域と比較して変化の有無を判定する機能と、
変化があると判定されると、前記処理対象画像格納部に格納されている前記処理対象画像を前記変化画像として検出し、前記処理対象画像格納部に格納されている前記処理対象画像をコピーして前記基準画像格納部に上書きして格納し、変化が無いと判定されると、前記部分領域を前回切り出した前記処理対象画像とは異なる画像であって、前記処理対象画像格納部から前記処理対象画像を読み出した後に前記処理対象画像格納部に格納された前記処理対象画像を読み出して、前回切り出した部分領域とは異なる位置で新たな部分領域を切り出して、前記基準画像格納部に格納されている前記基準画像における前記新たな部分領域に対応する対応領域と比較して変化の有無を判定する機能と、
を前記コンピュータに実現させるためのコンピュータプログラム。
【請求項８】
請求項７に記載のコンピュータプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月4日(2010.6.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、冷凍サイクルの一部を構成する圧縮機、熱交換器、及び内部冷媒配管が配設された本体と、
前記本体の一側面部の外側に設けられ、前記内部冷媒配管と外部からの冷媒配管とを接続するバルブと、
前記本体の前記一側面部の外側に設けられ、前記バルブを覆うバルブカバーと、
を有する室外機において、
前記本体の前記一側面部には、前記バルブの下方に貫通穴を形成し、
前記本体の前記一側面部と前記バルブカバーの間には、前記バルブの下方に隙間が形成され、
該隙間に、上部に溝が形成された弾性部材を、前記貫通穴の一部と前記溝が対向するように圧縮して設け、
前記溝及び前記貫通穴を介して、前記バルブ及び前記バルブ周辺に発生した結露水を前記本体内部に回収する経路を形成したことを特徴とする室外機。
【請求項２】
前記溝の断面形状は、Ｖ字形状、Ｕ字形状、又は凹形状であることを特徴とする請求項１に記載の室外機。
【請求項３】
圧縮された状態の前記弾性部材の前記貫通穴と対向している範囲が、前記貫通穴から前記本体内部に突出していることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の室外機。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれかに記載の室外機を用いたことを特徴とする空気調和機。
【請求項５】
請求項１〜請求項３のいずれかに記載の室外機を用いたことを特徴とするヒートポンプ給湯装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係る室外機は、少なくとも、冷凍サイクルの一部を構成する圧縮機、熱交換器、及び内部冷媒配管が配設された本体と、前記本体の一側面部の外側に設けられ、前記内部冷媒配管と外部からの冷媒配管とを接続するバルブと、前記本体の前記一側面部の外側に設けられ、前記バルブを覆うバルブカバーと、を有する室外機において、前記本体の前記一側面部には、前記バルブの下方に貫通穴を形成し、前記本体の前記一側面部と前記バルブカバーの間には、前記バルブの下方に隙間が形成され、該隙間に、上部に溝が形成された弾性部材を、前記貫通穴の一部と前記溝が対向するように圧縮して設け、前記溝及び前記貫通穴を介して、前記バルブ及び前記バルブ周辺に発生した結露水を前記本体内部に回収する経路を形成したものである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月26日(2010.5.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
雰囲気温度を強制的に変化させる熱源を備えその運転によって対象空間の温度を調節する空気調和機の運転開始を検知して、当該対象空間の温度ムラを減少させるために作動するファンを備えたサーキュレータにおいて、
前記対象空間の空気の相対湿度を検知する湿度センサーを設け、当該湿度センサーの検知出力に基づいて前記ファンの作動を開始する、サーキュレータ。
【請求項２】
前記対象空間の空気の絶対湿度を検知する絶対湿度センサーを更に設け、検知された絶対湿度と前記検知相対湿度との相関関係によって前記ファンの作動を開始する、請求項１に記載のサーキュレータ。
【請求項３】
ファンと、前記ファンの作動を制御する制御部と、を備え、対象空間の温度ムラを減少させるためのサーキュレータにおいて、
前記対象空間の空気の湿度を検知する湿度センサーをさらに備え、あらかじめ設定した時間の間にあらかじめ設定した幅の湿度の変化が生じた場合に、前記制御部は前記ファンの運転を開始する、サーキュレータ。
【請求項４】
ファンと、前記ファンの作動を制御する制御部と、を備え、対象空間の温度ムラを減少させるためのサーキュレータにおいて、
前記対象空間の空気の湿度を検知する湿度センサーと、現在の時期を判断する手段と、をさらに備え、あらかじめ設定した時期にあらかじめ設定した湿度になった場合に、前記制御部は前記ファンの運転を開始する、サーキュレータ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月1日(2010.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに異なる位置において被写体を撮影することにより取得した複数の画像を取得する画像取得手段と、
前記被写体までの距離を測定する距離測定手段と、
前記複数の画像から３次元表示のための立体画像を生成する立体画像生成手段と、
所定の表示領域を前記立体画像に重畳して表示するに際し、前記距離に応じた視差およびサイズの表示領域を生成する表示領域生成手段と、
前記表示領域が重畳された前記立体画像を表示する表示手段と、
前記立体画像を拡大縮小するズーム手段とを備え、
前記表示領域生成手段は、前記立体画像を拡大縮小する際のズーム倍率に応じて前記表示領域のサイズを変更する手段であることを特徴とする立体画像表示装置。
【請求項２】
各種距離区分と該各種距離区分に応じた表示パラメータとを対応づけたテーブルを記憶する記憶手段をさらに備え、
前記表示領域生成手段は、前記テーブルを参照して前記距離に応じた距離区分の表示パラメータを取得し、該表示パラメータに基づいて前記距離に応じた視差およびサイズの表示領域を生成する手段であることを特徴とする請求項１記載の立体画像表示装置。
【請求項３】
前記表示パラメータは、前記距離に応じた視差を含むことを特徴とする請求項２記載の立体画像表示装置。
【請求項４】
前記視差の変更指示を行う指示手段をさらに備え、
前記表示領域生成手段は、前記変更指示に応じて前記表示領域の視差を変更する手段であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の立体画像表示装置。
【請求項５】
前記表示手段は、前記立体画像の表示と前記複数の画像のうちの少なくとも１つの画像の２次元表示とを切り替え可能な手段であり、
前記表示領域生成手段は、前記立体画像が表示される場合、前記画像が２次元表示される場合よりも明るさを低下させて前記表示領域を生成する手段であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の立体画像表示装置。
【請求項６】
前記表示領域生成手段は、立体化した前記表示領域を生成する手段であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項記載の立体画像表示装置。
【請求項７】
前記表示手段は、前記距離が所定のしきい値以上の場合、前記複数の画像のうちの少なくとも１つの画像を２次元表示する手段であり、
前記表示領域生成手段は、前記画像が２次元表示される場合、２次元表示の表示領域を生成する手段であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項記載の立体画像表示装置。
【請求項８】
互いに異なる位置において被写体を撮影することにより取得した複数の画像を取得し、
前記被写体までの距離を測定し、
前記複数の画像から３次元表示のための立体画像を生成し、
所定の表示領域を前記立体画像に重畳して表示するに際し、前記距離に応じた視差およびサイズの表示領域を生成し、
前記表示領域が重畳された前記立体画像を表示し、
前記立体画像を拡大縮小する際のズーム倍率に応じて前記表示領域のサイズを変更することを特徴とする立体画像表示方法。
【請求項９】
互いに異なる位置において被写体を撮影することにより取得した複数の画像を取得する手順と、
前記被写体までの距離を測定する手順と、
前記複数の画像から３次元表示のための立体画像を生成する手順と、
所定の表示領域を前記立体画像に重畳して表示するに際し、前記距離に応じた視差およびサイズの表示領域を生成する手順と、
前記表示領域が重畳された前記立体画像を表示する手順と、
前記立体画像を拡大縮小する際のズーム倍率に応じて前記表示領域のサイズを変更する手順とを有することを特徴とする立体画像表示方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月28日(2009.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
図９を用いて、双方の枠材２ａ，２ｂの面内の隙間を塞ぐメカニズムを説明する。締付け金具２８は、その両端部が隅角部３３に向かう方向に傾斜する第３傾斜部３１ａ，３１ｂを有して第１リブフランジ１８の端部、及び第２リブ下向きフランジ２０の端部に接触する。締付けネジ２９によりコーナー部材２７と締付け金具２８とが締め付けられると、締付け金具２８は図９のｄ5の方向に寄せられる。このとき、第１リブフランジ１８の端部、及び第２リブ下向きフランジ２０の端部は、締付け金具２８の第３傾斜部３１ａ，３１ｂにより図９のｄ6の方向に押し出される。その結果、双方の縦枠４ａ，４ｂは面内に発生した隙間を塞ぐ方向に移動し、図７に示すＧ面とＨ面が０．１ｍｍ以下の誤差で突き合わされる。