【手続補正書】
【提出日】平成22年3月11日(2010.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークの被処理面をプラズマによって処理するプラズマ処理装置であって、
１対の電極と、前記被処理面に向けて前記プラズマを噴出するプラズマ噴出口と、を備え、前記被処理面に対して相対的に移動可能なプラズマ生成手段と、
前記１対の電極に電圧を印加する電源回路と、
前記プラズマ生成手段に、前記プラズマを生成するガスを供給するガス供給手段と、
前記プラズマ噴出口から噴出した前記プラズマを、前記被処理面に対して遮蔽および開放する遮蔽手段と、
前記遮蔽手段の遮蔽および開放の作動を制御する作動制御手段と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
遮蔽手段は、前記ワークの被処理面への前記プラズマ噴出口から噴出した前記プラズマの接触を阻止する第１の状態と、該プラズマの接触を許容する第２の状態とに変位可能なプラズマ遮蔽部材を備え、
前記制御手段により、前記遮蔽手段の作動を制御して、前記プラズマ遮蔽部材を前記第１の状態とすることにより、前記ワークの被処理面へのプラズマ処理を停止する非処理モードと、
前記プラズマ遮蔽部材を前記第２の状態とすることにより、前記ワークの被処理面に前記プラズマを接触させてプラズマ処理する処理モードとに切り替え可能なように構成されている請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
プラズマ処理を施す処理領域と、前記処理領域を除く非処理領域とを有するワークの被処理面に対して、前記１対の電極を相対的に移動しつつプラズマ処理を施す際に、
前記制御手段は、前記プラズマ噴出口が前記被処理面の非処理領域に対応する位置にあるとき、前記遮蔽手段を前記非処理モードに設定し、
前記プラズマ噴出口が前記被処理面の処理領域に対応する位置にあるとき、前記遮蔽手段を前記処理モードに設定し、前記被処理面の処理領域に前記プラズマを接触させるよう構成されている請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記ワークの被処理面における前記処理領域および前記非処理領域の少なくとも一方の位置情報を入力する入力手段を備え、
前記制御手段は、前記位置情報に応じて、前記遮蔽手段を前記非処理モードまたは前記処理モードに切り替えるよう構成されている請求項３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記入力手段に入力された前記処理領域および前記非処理領域の少なくとも一方の位置情報を記憶する記憶手段を備える請求項４に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記プラズマ遮蔽部材は、冷却手段を備えており、
前記制御手段は、前記処理モードにおいて、前記冷却手段を作動することにより前記プラズマ遮蔽部材を冷却するよう構成されている請求項２ないし５のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記プラズマ遮蔽部材は、板状体で構成されており、前記冷却手段による前記プラズマ遮蔽部材の冷却を、前記板状体に形成された流路内に冷媒を循環することにより行う請求項６に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記流路は、前記板状体の縁部に形成される請求項７に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記プラズマ遮蔽部材は、前記プラズマ噴出口から噴出した前記プラズマが接触する側の面に、当該プラズマ遮蔽部材から着脱可能な犠牲層を備える請求項２ないし８のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記非処理モードにおいて、前記ガス供給手段の作動を制御することにより、前記プラズマ生成空間に供給するガスの流量を、前記プラズマの生成を維持するための必要最小量に設定する請求項２ないし９のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１１】
前記プラズマ噴出口の周囲に、該プラズマ噴出口から噴出されたガスを吸気する排気吸込口を備える請求項２ないし１０のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
【請求項１２】
前記プラズマ噴出口を、前記ワークの被処理面に対してほぼ直交する方向に移動させる移動手段を有し、
前記制御手段は、前記遮蔽手段を前記処理モードから前記非処理モードに切り替えるのに同期して、前記移動手段を作動させることにより、前記プラズマ噴出口と前記ワークの被処理面との離間距離がより小さくなるように、前記プラズマ噴出口を移動させる請求項１１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１３】
前記プラズマ遮蔽部材は、前記排気吸込口の形状に対応するように設けられた凹部を有するバンクを備え、
前記プラズマ噴出口と前記ワークの被処理面との離間距離を小さくすることにより、前記凹部内に前記排気吸込口が収納される請求項１２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１４】
ワークの被処理面をプラズマによって処理するプラズマ処理装置であって、
１対の電極と、前記被処理面に向けて前記プラズマを噴出するプラズマ噴出口と、を備え、前記被処理面に対して相対的に移動可能なプラズマ生成手段と、
前記１対の電極に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記プラズマ生成手段に、前記プラズマを生成するガスを供給するガス供給手段と、
前記プラズマ噴出口から噴出した前記プラズマを、前記被処理面に対して遮蔽および開放するプラズマ遮蔽開放手段と、
前記プラズマ遮蔽開放手段の遮蔽および開放の作動を制御する作動制御手段と、を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のプラズマ処理装置は、ワークの被処理面をプラズマによって処理するプラズマ処理装置であって、
１対の電極と、前記被処理面に向けて前記プラズマを噴出するプラズマ噴出口と、を備え、前記被処理面に対して相対的に移動可能なプラズマ生成手段と、
前記１対の電極に電圧を印加する電源回路と、
前記プラズマ生成手段に、前記プラズマを生成するガスを供給するガス供給手段と、
前記プラズマ噴出口から噴出した前記プラズマを、前記被処理面に対して遮蔽および開放する遮蔽手段と、
前記遮蔽手段の遮蔽および開放の作動を制御する作動制御手段と、を備えたことを特徴とする。
本発明のプラズマ処理装置では、遮蔽手段は、前記ワークの被処理面への前記プラズマ噴出口から噴出した前記プラズマの接触を阻止する第１の状態と、該プラズマの接触を許容する第２の状態とに変位可能なプラズマ遮蔽部材を備え、
前記制御手段により、前記遮蔽手段の作動を制御して、前記プラズマ遮蔽部材を前記第１の状態とすることにより、前記ワークの被処理面へのプラズマ処理を停止する非処理モードと、
前記プラズマ遮蔽部材を前記第２の状態とすることにより、前記ワークの被処理面に前記プラズマを接触させてプラズマ処理する処理モードとに切り替え可能なように構成されていることが好ましい。
これにより、非処理モードから処理モードに切り替えたとき、速やかに安定な活性種をワークの処理領域に供給することができる。そのため、ワークのダメージやプラズマ生成空間を構成する各部にかかる負荷を抑えつつ、処理領域が不連続に設定されたワークに対して、プラズマ処理を高速で行うことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明のプラズマ処理装置では、プラズマ処理を施す処理領域と、前記処理領域を除く非処理領域とを有するワークの被処理面に対して、前記１対の電極を相対的に移動しつつプラズマ処理を施す際に、
前記制御手段は、前記プラズマ噴出口が前記被処理面の非処理領域に対応する位置にあるとき、前記遮蔽手段を前記非処理モードに設定し、
前記プラズマ噴出口が前記被処理面の処理領域に対応する位置にあるとき、前記遮蔽手段を前記処理モードに設定し、前記被処理面の処理領域に前記プラズマを接触させるよう構成されていることが好ましい。
これにより、非処理領域が前記プラズマに晒されるのを防止することができる。さらに、処理領域をプラズマ処理する際に、速やかに安定なプラズマ処理を施すことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明のプラズマ処理装置では、前記流路は、前記板状体の縁部に形成されることが好ましい。
これにより、プラズマ遮蔽部材としての強度を確実に増強することができるとともに、プラズマ遮蔽部材の冷却を確実に行うことができる。
本発明のプラズマ処理装置では、前記プラズマ遮蔽部材は、前記プラズマ噴出口から噴出した前記プラズマが接触する側の面に、当該プラズマ遮蔽部材から着脱可能な犠牲層を備えることが好ましい。
かかる構成とすることにより、犠牲層の劣化の程度に応じて、犠牲層の取替えが可能となる。その結果、犠牲層の取替えを行うだけで、プラズマ遮蔽部材を再利用することができるため、コストの大幅な削減を図ることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明のプラズマ処理装置では、前記制御手段は、前記非処理モードにおいて、前記ガス供給手段の作動を制御することにより、前記プラズマ生成空間に供給するガスの流量を、前記プラズマの生成を維持するための必要最小量に設定することが好ましい。
これにより、ガスの使用量の削減、装置の長寿命化を図ることができる。
本発明のプラズマ処理装置では、前記プラズマ噴出口の周囲に、該プラズマ噴出口から噴出されたガスを吸気する排気吸込口を備えることが好ましい。
このような、排気吸込口を設けて、この排気吸込口から１対の電極間にプラズマ噴出口から噴出されたプラズマを吸入することができる。その結果、プラズマ噴出口から放出されたプラズマを、１対の電極とワークとの間の空間に長時間滞在させることなく、この空間から迅速に排出することができる。そのため、被処理面の処理領域に隣接する非処理領域がプラズマに晒されるのを防止して、プラズマ処理の処理精度の向上を図ることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明のプラズマ処理装置では、前記プラズマ遮蔽部材は、前記排気吸込口の形状に対応するように設けられた凹部を有するバンクを備え、
前記プラズマ噴出口と前記ワークの被処理面との離間距離を小さくすることにより、前記凹部内に前記排気吸込口が収納されることが好ましい。
これにより、排気吸込口から活性種を吸入することができる。その結果、活性種がプラズマ遮蔽部材に接触した後、このプラズマ遮蔽部材を周り込んで、ワークの被処理面に接触するのを確実に防止することができる。
本発明のプラズマ処理装置は、ワークの被処理面をプラズマによって処理するプラズマ処理装置であって、
１対の電極と、前記被処理面に向けて前記プラズマを噴出するプラズマ噴出口と、を備え、前記被処理面に対して相対的に移動可能なプラズマ生成手段と、
前記１対の電極に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記プラズマ生成手段に、前記プラズマを生成するガスを供給するガス供給手段と、
前記プラズマ噴出口から噴出した前記プラズマを、前記被処理面に対して遮蔽および開放するプラズマ遮蔽開放手段と、
前記プラズマ遮蔽開放手段の遮蔽および開放の作動を制御する作動制御手段と、を備えたことを特徴とする。