【手続補正書】
【提出日】平成22年5月6日(2010.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
前記処理室内の載置台に対向して設けられ，前記載置台に保持される被処理基板に向けて処理ガスを供給する処理ガス供給機構であって，
前記処理ガスを導入する処理ガス導入口と，
前記処理ガス導入口から導入された処理ガスを拡散させる拡散室が形成された処理ガス供給機構本体と，
前記処理ガス供給機構本体の前記載置台側に積層され，前記処理ガス供給機構本体とは熱膨張率の異なる部材からなる板状部材と，
前記処理ガスを前記拡散室から前記処理室内に供給する複数の処理ガス供給孔と，を備え，
前記各処理ガス供給孔は，前記板状部材に設けられたガス吐出孔と，前記処理ガス供給機構本体に設けられたガス噴出孔とにより構成し，
前記ガス噴出孔は，上流側に連通した前記拡散室から流入した処理ガスを，下流側に設けられたノズル部の噴出口から前記ガス吐出孔に向けて噴出するように構成するとともに，前記ノズル部の周りには，上流側が前記ガス供給機構本体と前記板状部材の境界に連通し，下流側が前記ガス吐出孔に合流する吸引流路を形成したことを特徴とする処理ガス供給機構。
【請求項２】
前記ノズル部は，前記処理ガス供給機構本体の積層面から前記ガス吐出孔内に突出するように形成するとともに，前記ガス吐出孔には前記ノズル部を遊嵌する拡径部を前記板状部材の積層面に開口するように設けることにより，前記ノズル部と前記拡径部の隙間を前記吸引流路とすることを特徴とする請求項１に記載の処理ガス供給機構。
【請求項３】
前記ノズル部と前記拡径部はともに，下流側に向うに連れて径が小さくなる形状にしたことを特徴とする請求項２に記載の処理ガス供給機構。
【請求項４】
前記処理ガス供給機構本体と前記板状部材の境界には，前記板状部材の積層面側に開口する前記拡径部の開口端の周囲を囲むとともに，前記吸引流路の上流側に連通する空隙部を形成したことを特徴とする請求項２に記載の処理ガス供給機構。
【請求項５】
前記空隙部は，前記拡径部の開口端に前記板状部材の積層面から形成した凹部により構成されることを特徴とする請求項４に記載の処理ガス供給機構。
【請求項６】
前記ガス噴出孔は，下流側の孔径が上流側の孔径よりも小さくなるように形成したことを特徴とする請求項１に記載の処理ガス供給機構。
【請求項７】
前記ガス噴出孔は，前記下流側の孔と前記上流側の孔との間にガス圧縮空間を形成したことを特徴とする請求項６に記載の処理ガス供給機構。
【請求項８】
前記処理ガス供給機構本体は金属で形成し，前記板状部材はシリコン含有材料で形成したことを特徴とする請求項１に記載の処理ガス供給機構。
【請求項９】
前記処理室内の載置台に対向して設けられ，前記載置台に保持される被処理基板に向けて処理ガスを供給する処理ガス供給機構であって，
前記処理ガスを導入する処理ガス導入口と，
前記処理ガス導入口から導入された処理ガスを拡散させる拡散室が形成された処理ガス供給機構本体と，
前記処理ガス供給機構本体の前記載置台側に積層され，前記処理ガス供給機構本体とは熱膨張率の異なる部材からなる板状部材と，
前記処理ガス供給機構本体と前記板状部材との間に積層され，前記処理ガス供給機構本体とは材質の異なる部材からなる中間部材と，
前記処理ガスを前記拡散室から前記処理室内に供給する複数の処理ガス供給孔と，を備え，
前記各処理ガス供給孔は，前記板状部材に設けられたガス吐出孔と，前記処理ガス供給機構本体と前記中間部材に設けられたガス噴出孔とにより構成し，
前記ガス噴出孔は，上流側に連通した前記拡散室から流入した処理ガスを，下流側に設けられたノズル部の噴出口から前記ガス吐出孔に向けて噴出するように構成するとともに，前記ノズル部の周りには，上流側が前記中間部材と前記板状部材の境界に連通し，下流側が前記ガス吐出孔に合流する吸引流路を形成したことを特徴とする処理ガス供給機構。
【請求項１０】
前記ノズル部は前記中間部材を加工して前記中間部材の積層面から前記ガス吐出孔内に突出するように形成するとともに，前記ガス吐出孔には前記ノズル部を遊嵌する拡径部を前記板状部材の積層面に開口するように設けることにより，前記ノズル部と前記拡径部の隙間を前記吸引流路とすることを特徴とする請求項９に記載の処理ガス供給機構。
【請求項１１】
前記ノズル部と前記拡径部はともに，下流側に向うに連れて径が小さくなる形状にしたことを特徴とする請求項１０に記載の処理ガス供給機構。
【請求項１２】
前記中間部材と前記板状部材の境界には，前記板状部材の積層面側に開口する前記拡径部の開口端の周囲を囲むとともに，前記吸引流路の上流側に連通する空隙部を形成したことを特徴とする請求項１０に記載の処理ガス供給機構。
【請求項１３】
前記空隙部は，前記拡径部の開口端に前記板状部材の積層面から形成した凹部により構成されることを特徴とする請求項１２に記載の処理ガス供給機構。
【請求項１４】
前記ガス噴出孔は，下流側の孔径が上流側の孔径よりも小さくなるように形成したことを特徴とする請求項９に記載の処理ガス供給機構。
【請求項１５】
前記ガス噴出孔は，前記下流側の孔と前記上流側の孔との間にガス圧縮空間を形成したことを特徴とする請求項１４に記載の処理ガス供給機構。
【請求項１６】
前記処理ガス供給機構本体は金属で形成し，前記中間部材と前記板状部材はともにシリコン含有材料で形成したことを特徴とする請求項９に記載の処理ガス供給機構。
【請求項１７】
前記中間部材に，前記処理ガス供給機構本体と前記中間部材の境界を前記空隙部に連通する連通路を形成したことを特徴とする請求項１２に記載の処理ガス供給機構。
【請求項１８】
前記処理室内の載置台に対向して設けられ，前記載置台に保持される被処理基板に向けて処理ガスを供給する処理ガス供給機構であって，
前記処理ガスを導入する処理ガス導入口と，
前記処理ガス導入口から導入された処理ガスを拡散させる拡散室が形成された処理ガス供給機構本体と，
前記処理ガス供給機構本体の前記載置台側に積層され，前記処理ガス供給機構本体とは熱膨張率の異なる部材からなる板状部材と，
前記処理ガスを前記拡散室から前記処理室内に供給する複数の処理ガス供給孔と，を備え，
前記複数の処理ガス供給孔のうち，少なくとも前記載置台に載置された被処理基板に対向する領域よりも外側の領域に形成されている処理ガス供給孔については，前記板状部材に設けられたガス吐出孔と，前記処理ガス供給機構本体に設けられたガス噴出孔とにより構成し，
前記ガス噴出孔は，上流側に連通した前記拡散室から流入した処理ガスを，下流側に設けられたノズル部の噴出口から前記ガス吐出孔に向けて噴出するように構成するとともに，前記ノズル部の周りには，上流側が前記ガス供給機構本体と前記板状部材の境界に連通し，下流側が前記ガス吐出孔に合流する吸引流路を形成したことを特徴とする処理ガス供給機構。
【請求項１９】
処理室内の載置台に対向して設けられた処理ガス供給機構から前記処理室内に処理ガスを供給することにより，前記載置台に載置された被処理基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって，
前記処理ガス供給機構は，
前記処理ガスを導入する処理ガス導入口と，
前記処理ガス導入口から導入された処理ガスを拡散させる拡散室が形成された処理ガス供給機構本体と，
前記処理ガス供給機構本体の前記載置台側に積層され，前記処理ガス供給機構本体とは熱膨張率の異なる部材からなる板状部材と，
前記処理ガスを前記拡散室から前記処理室内に供給する複数の処理ガス供給孔と，を備え，
前記各処理ガス供給孔は，前記板状部材に設けられたガス吐出孔と，前記処理ガス供給機構本体に設けられたガス噴出孔とにより構成し，
前記ガス噴出孔は，上流側に連通した前記拡散室から流入した処理ガスを，下流側に設けられたノズル部の噴出口から前記ガス吐出孔に向けて噴出するように構成するとともに，前記ノズル部の周りには，上流側が前記ガス供給機構本体と前記板状部材の境界に連通し，下流側が前記ガス吐出孔に合流する吸引流路を形成したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２０】
処理室内の載置台に対向して設けられた電極に高周波電力を印加して生成された処理ガスのプラズマによって，前記載置台に載置された被処理基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって，
前記電極は，
前記処理ガスを導入する処理ガス導入口と，
前記処理ガス導入口から導入された処理ガスを拡散させる拡散室が形成された処理ガス供給機構本体と，
前記処理ガス供給機構本体の前記載置台側に積層され，前記処理ガス供給機構本体とは熱膨張率の異なる部材からなる電極板と，
前記処理ガスを前記拡散室から前記処理室内に供給する複数の処理ガス供給孔と，を備え，
前記各処理ガス供給孔は，前記板状部材に設けられたガス吐出孔と，前記処理ガス供給機構本体に設けられたガス噴出孔とにより構成し，
前記ガス噴出孔は，上流側に連通した前記拡散室から流入した処理ガスを，下流側に設けられたノズル部の噴出口から前記ガス吐出孔に向けて噴出するように構成するとともに，前記ノズル部の周りには，上流側が前記ガス供給機構本体と前記板状部材の境界に連通し，下流側が前記ガス吐出孔に合流する吸引流路を形成したことを特徴とする基板処理装置。