【手続補正書】
【提出日】平成22年7月1日(2010.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、
第１絶縁膜と、
該第１絶縁膜上に設けられた画素電極と、
前記第１絶縁膜より下層側に形成された着色層と、
前記着色層より下層側に形成され、前記第１絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜と、
前記着色層と重なる領域には設けられず、前記コンタクトホールが形成される領域に、前記導電膜より下層側に形成された調整膜と
を備えたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記導電膜より下層側に形成された半導体層及びゲート電極を有し、前記画素電極に前記導電膜及び前記コンタクトホールを介して電気的に接続されたトランジスタを備え、
前記調整膜は、前記半導体層及び前記ゲート電極のうち少なくともいずれかと同一膜からなる
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記導電膜より下層側に形成されると共に、前記コンタクトホールが形成される領域に、上層側に向かって突出する第１突出部を有する第２絶縁膜を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記基板は、前記コンタクトホールが形成される領域に、上層側に向かって突出する第２突出部を有することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
基板上に、
第１絶縁膜と、
該第１絶縁膜上に設けられた画素電極と、
前記第１絶縁膜より下層側に形成された着色層と、
前記着色層より下層側に形成され、前記第１絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜と、
前記コンタクトホールが形成される領域において、前記導電膜より下層側に、上層側に向かって突出する第１突出部を有する第２絶縁膜と、を備え、
前記第１突出部は前記着色層と重なる領域には設けられない
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
基板上に、
第１絶縁膜と、
該第１絶縁膜上に設けられた画素電極と、
前記第１絶縁膜より下層側に形成された着色層と、
前記着色層より下層側に形成され、前記第１絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜と
を備え、
前記基板は、前記コンタクトホールが形成される領域に、上層側に向かって突出する第２突出部を有し、前記第２突出部は前記着色層と重なる領域には設けられない
ことを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の電気光学装置を具備してなることを特徴とする電子機器。
【請求項８】
基板上に、調整膜を形成する工程と、
前記調整膜より上層側に導電膜を形成する工程と、
前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、
前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第１絶縁膜を形成する工程と、
前記第１絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、
前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第１絶縁膜上に形成する工程と
を備え、
前記調整膜を形成する工程では、前記調整膜を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
基板上に、上層側に向かって突出する第１突出部を有する第２絶縁膜を形成する工程と、
前記第２絶縁膜より上層側に導電膜を形成する工程と、
前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、
前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第１絶縁膜を形成する工程と、
前記第１絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、
前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第１絶縁膜上に形成する工程と
を備え、
前記第２絶縁膜を形成する工程では、前記第１突出部を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
基板に、上層側に向かって突出する第２突出部を形成する工程と、
前記基板上に、導電膜を形成する工程と、
前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、
前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第１絶縁膜を形成する工程と、
前記第１絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、
前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第１絶縁膜上に形成する工程と
を備え、
前記第２突出部を形成する工程では、前記第２突出部を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第１の電気光学装置は上記課題を解決するために、基板上に、第１絶縁膜と、該第１絶縁膜上に設けられた画素電極と、前記第１絶縁膜より下層側に形成された着色層と、前記着色層より下層側に形成され、前記第１絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜と、前記着色層と重なる領域には設けられず、前記コンタクトホールが形成される領域に、前記導電膜より下層側に形成された調整膜とを備える。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の第２の電気光学装置は上記課題を解決するために、基板上に、第１絶縁膜と、該第１絶縁膜上に設けられた画素電極と、前記第１絶縁膜より下層側に形成された着色層と、前記着色層より下層側に形成され、前記第１絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜と、前記コンタクトホールが形成される領域において、前記導電膜より下層側に、上層側に向かって突出する第１突出部を有する第２絶縁膜と、を備え、前記第１突出部は前記着色層と重なる領域には設けられない。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明の第３の電気光学装置は上記課題を解決するために、基板上に、第１絶縁膜と、該第１絶縁膜上に設けられた画素電極と、前記第１絶縁膜より下層側に形成された着色層と、前記着色層より下層側に形成され、前記第１絶縁膜を貫通して開孔されたコンタクトホールを介して前記画素電極と電気的に接続された導電膜とを備え、前記基板は、前記コンタクトホールが形成される領域に、上層側に向かって突出する第２突出部を有し、前記第２突出部は前記着色層と重なる領域には設けられない。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
本発明の第１の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、基板上に、調整膜を形成する工程と、前記調整膜より上層側に導電膜を形成する工程と、前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第１絶縁膜を形成する工程と、前記第１絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第１絶縁膜上に形成する工程とを備え、前記調整膜を形成する工程では、前記調整膜を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明の第２の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、基板上に、上層側に向かって突出する第１突出部を有する第２絶縁膜を形成する工程と、前記第２絶縁膜より上層側に導電膜を形成する工程と、前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第１絶縁膜を形成する工程と、前記第１絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第１絶縁膜上に形成する工程とを備え、前記第２絶縁膜を形成する工程では、前記第１突出部を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明の第３の電気光学装置の製造方法は上記課題を解決するために、基板に、上層側に向かって突出する第２突出部を形成する工程と、前記基板上に、導電膜を形成する工程と、前記導電膜より上層側に着色層を形成する工程と、前記着色層より上層側に、前記導電膜及び前記着色層を覆うように、第１絶縁膜を形成する工程と、前記第１絶縁膜を貫通してコンタクトホールを開孔する工程と、前記コンタクトホールを介して前記導電膜に電気的に接続された画素電極を前記第１絶縁膜上に形成する工程とを備え、前記第２突出部を形成する工程では、前記第２突出部を、前記コンタクトホールが形成される領域に配置すると共に前記着色層と重なる領域には配置しない。