【手続補正書】
【提出日】平成21年11月2日(2009.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、当該処理ブロックに対してキャリアブロックとは反対側に接続されたインターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、
前記処理ブロックは、互いに積層され、各々独立して露光後の基板の現像処理を行う第１の現像処理用の単位ブロック及び第２の現像処理用の単位ブロックを備え、
前記第１の現像処理用の単位ブロック及び第２の現像処理用の単位ブロックの各々は、前記キャリアブロック側からインターフェイスブロック側に向かって水平に直線状に伸びる基板の搬送領域と、
現像液を基板に供給するための液処理ユニットと、
基板を加熱する加熱ユニットと、
基板を冷却する冷却ユニットと、
これらユニット間で基板を搬送するために前記搬送領域に沿って移動するように前記単位ブロックごとに独立して設けられた単位ブロック用の搬送手段と、
前記インターフェイスブロックと前記搬送手段との間で基板を受け渡すための受け渡し部と、
を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。
【請求項２】
現像処理用の単位ブロックの一つに異常が発生したときに、当該異常が発生した現像処理用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なわず、他の現像処理用の単位ブロックに対して基板の搬送を行なうように制御する制御部を備えたことを特徴とする請求項１記載の塗布、現像装置。
【請求項３】
前記液処理ユニットは、搬送領域に臨むように当該搬送領域が伸びる方向に複数設けられ、前記加熱ユニットは、前記搬送領域に対して前記液処理ユニットとは反対側に当該搬送領域に臨むように複数設けられたことを特徴とする請求項１または２記載の塗布、現像装置。
【請求項４】
第１の現像処理用の単位ブロック及び第２の現像処理用の単位ブロックの各々は、前記搬送手段により現像処理済みの基板が搬入され、当該基板を単位ブロックから搬出して前記キャリアブロックに受け渡すための受け渡し部を備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の塗布、現像装置。
【請求項５】
キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、当該処理ブロックに対してキャリアブロックとは反対側に接続されたインターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置を用いて行われる塗布、現像方法において、
互いに積層されると共に各々独立して露光後の基板の現像処理を行う第１の現像処理用の単位ブロック及び第２の現像処理用の単位ブロックに各々設けられた液処理ユニットにより現像液を基板に供給する工程と、
前記各単位ブロックに設けられた加熱ユニットにより基板を加熱する工程と、
前記各単位ブロックに設けられた冷却ユニットにより基板を冷却する工程と、
前記単位ブロックごとに独立して設けられた単位ブロック用の搬送手段により、各単位ブロックに設けられたユニット間で基板を搬送する工程と、
前記各搬送手段により、キャリアブロック側からインターフェイスブロック側に向かって水平に直線状に伸びる搬送領域に沿って基板を搬送する工程と、
前記各単位ブロックに設けられた受け渡し部にて、前記インターフェイスブロックと前記搬送手段との間で基板の受け渡しを行う工程と、
を備えたことを特徴とする塗布、現像方法。
【請求項６】
前記現像処理用の単位ブロックの一つに異常が発生したときに、当該異常が発生した現像処理用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なわず、他の現像処理用の単位ブロックに対して基板の搬送を行なうことを特徴とする請求項５記載の塗布、現像方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、このような事情の下になされたものであり、その目的は、現像処理用の単位ブロックの１つに異常が発生した場合でも、スループットの低下を抑えることができる技術を提供することにある。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このため本発明の塗布、現像装置は、キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、当該処理ブロックに対してキャリアブロックとは反対側に接続されたインターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置において、
前記処理ブロックは、互いに積層され、各々独立して露光後の基板の現像処理を行う第１の現像処理用の単位ブロック及び第２の現像処理用の単位ブロックを備え、
前記第１の現像処理用の単位ブロック及び第２の現像処理用の単位ブロックの各々は、前記キャリアブロック側からインターフェイスブロック側に向かって水平に直線状に伸びる基板の搬送領域と、
現像液を基板に供給するための液処理ユニットと、
基板を加熱する加熱ユニットと、
基板を冷却する冷却ユニットと、
これらユニット間で基板を搬送するために前記搬送領域に沿って移動するように前記単位ブロックごとに独立して設けられた単位ブロック用の搬送手段と、
前記インターフェイスブロックと前記搬送手段との間で基板を受け渡すための受け渡し部と、
を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
例えば現像処理用の単位ブロックの一つに異常が発生したときに、当該異常が発生した現像処理用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なわず、他の現像処理用の単位ブロックに対して基板の搬送を行なうように制御する制御部を備える。また、前記液処理ユニットは、搬送領域に臨むように当該搬送領域が伸びる方向に複数設けられ、前記加熱ユニットは、前記搬送領域に対して前記液処理ユニットとは反対側に当該搬送領域に臨むように複数設けられていてもよく、第１の現像処理用の単位ブロック及び第２の現像処理用の単位ブロックの各々は前記搬送手段により現像処理済みの基板が搬入され、当該基板を単位ブロックから搬出して前記キャリアブロックに受け渡すための受け渡し部を備えていてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また本発明は、キャリアブロックにキャリアにより搬入された基板を処理ブロックに受け渡し、この処理ブロックにてレジスト膜を含む塗布膜を形成した後、当該処理ブロックに対してキャリアブロックとは反対側に接続されたインターフェイスブロックを介して露光装置に搬送し、前記インターフェイスブロックを介して戻ってきた露光後の基板を前記処理ブロックにて現像処理して前記キャリアブロックに受け渡す塗布、現像装置を用いて行われる塗布、現像方法において、
互いに積層されると共に各々独立して露光後の基板の現像処理を行う第１の現像処理用の単位ブロック及び第２の現像処理用の単位ブロックに各々設けられた液処理ユニットにより現像液を基板に供給する工程と、
前記各単位ブロックに設けられた加熱ユニットにより基板を加熱する工程と、
前記各単位ブロックに設けられた冷却ユニットにより基板を冷却する工程と、
前記単位ブロックごとに独立して設けられた単位ブロック用の搬送手段により、各単位ブロックに設けられたユニット間で基板を搬送する工程と、
前記各搬送手段により、キャリアブロック側からインターフェイスブロック側に向かって水平に直線状に伸びる搬送領域に沿って基板を搬送する工程と、
前記各単位ブロックに設けられた受け渡し部にて、前記インターフェイスブロックと前記搬送手段との間で基板の受け渡しを行う工程と、
を備えたことを特徴とする。前記現像処理用の単位ブロックの一つに異常が発生したときに、当該異常が発生した現像処理用の単位ブロックに対しては基板の搬送を行なわず、他の現像処理用の単位ブロックに対して基板の搬送を行なってもよい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
以上において本発明では、現像処理用の単位ブロックの１つに異常が発生した場合でも、他の単位ブロックを用いて現像処理を行なうことができるので、装置全体の稼動を停止することがなく、稼動を停止した場合に比べてスループットの低下を抑えることができる。さらに複数層の現像処理用の単位ブロックにて現像処理を振り分けて行なうことにより、異常が発生した単位ブロックから回収する基板が少なくなり、当該基板を再使用するために行なわれる処理の負担が軽減される。