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【手続補正書】
【提出日】平成22年4月14日(2010.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄片状基材（天然および合成の粘土鉱物を除く）と、有機、無機および／または有機金属着色剤を含んでいるアニオン結合層とを含む顔料。
【請求項２】
前記薄片状基材がガラス薄片、ＳｉＯ2薄片、Ａｌ2Ｏ3薄片、合成または天然の薄片状酸化鉄、合成または天然のグラファイトおよび／または薄片状金属から選ばれることを特徴とする請求項１に記載の顔料。
【請求項３】
前記アニオン結合層が層状複水酸化物を含んでいることを特徴とする請求項１または２に記載の顔料。
【請求項４】
金属酸化物、金属酸化物水和物、金属亜酸化物、金属、金属フッ化物、金属窒化物、金属オキシナイトライド、またはそれらの物質の混合物からなる１つ以上の透明な、半透明な、および／または不透明な層が、薄片状基材上でアニオン結合層の下、またはアニオン結合層の上に塗布されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の顔料。
【請求項５】
前記ガラス薄片を含む薄片状基材が、層の厚さ５〜３５０ｎｍのＳｉＯ2層で被覆されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の顔料。
【請求項６】
前記薄片状基材が、イオンまたは元素によりドープされていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の顔料。
【請求項７】
前記アニオン結合層が下記一般式で表される層状複水酸化物層を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の顔料：
Ｍ2+1-xＭ3+x（ＯＨ）2（Ｚn-）x/n・ｍＨ2Ｏ
ここで０．２＜ｘ＜０．３３、Ｍ3+はＡｌ3+、Ｃｒ3+、Ｆｅ3+、Ｇａ3+、Ｉｎ3+、Ｙ3+、Ｌａ3+および／またはＣｅ3+から選択され、また、Ｍ2+はＢａ2+、Ｃａ2+、Ｃｕ2+、Ｍｇ2+、Ｓｒ2+および／またはＺｎ2+から選択され、Ｚn-は金属塩の対イオンおよび／またはアニオンあるいはアニオンを形成する有機、無機および／または有機金属着色剤のアニオン混合物を指し、ここでｎはアニオンの価数を意味する。
【請求項８】
前記Ｍ3+がＡｌ3+またはＦｅ3+であり、前記Ｍ2+がＭｇ2+、Ｃａ2+またはＺｎ2+であることを特徴とする請求項７に記載の顔料。
【請求項９】
前記アニオン結合層の厚さが０．５〜５００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の顔料。
【請求項１０】
前記アニオンを形成する有機および／または無機着色剤の割合が顔料全体に対して０．０１〜３０重量％であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の顔料。
【請求項１１】
安定化無機および／または有機コーティングがさらに顔料に対して適用されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の顔料。
【請求項１２】
請求項１記載の顔料を製造する方法であって、薄片状基材、金属カチオン塩、着色剤塩ならびに苛性アルカリ溶液および／または苛性アルカリ溶液前駆体の懸濁液を溶媒または溶媒混合物中で１０〜１２０℃の温度で攪拌し、アニオン結合層を基材上に形成し、ここでアニオン結合層はアニオンを形成する有機、無機および／または有機金属着色剤を含むものであり、次いで得られた製品を分離し、洗浄し、乾燥し、さらに必要に応じふるいにかける、顔料の製造方法。
【請求項１３】
前記金属カチオン塩の溶液を薄片状基材、着色剤塩ならびに苛性アルカリ溶液および／または苛性アルカリ溶液前駆体の懸濁液に加えることを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
請求項１記載の顔料を製造する方法であって、薄片状基材、金属カチオン塩ならびに苛性アルカリ溶液および／または苛性アルカリ溶液前駆体の懸濁液を溶媒または溶媒混合物中で１０〜１２０℃の温度で攪拌して、アニオン結合層を基材上に形成させ、次いで得られた中間体を分離し、洗浄し，乾燥し、さらに必要に応じふるいにかけ、次いで該中間体を続いてアニオンを形成する有機、無機および／または有機金属着色剤の溶液に攪拌しながら加える、顔料の製造方法。
【請求項１５】
製品が、アニオンを形成する有機および／または無機着色剤の溶液に加える前に、基材上に形成されたアニオン結合層とともに３００〜６００℃の温度で焼成されることを特徴とする請求項１４に記載の製造方法。
【請求項１６】
請求項１記載の顔料の、化粧品、塗料、コーティング、プラスチック、フィルムにおける、証券印刷における、文書および身分証明書における安全対策における、種子の着色のための、食品または薬剤のコーティングの着色のための、または顔料組成物および乾式調合品の製造のための使用。
【請求項１７】
請求項１記載の顔料が、有機および／または無機染料および／または顔料との混合物の形態であることを特徴とする請求項１６に記載の使用。
【請求項１８】
請求項１記載の顔料を含む、化粧品、塗料、コーティング、プラスチック、フィルム、文書および身分証明書、種子、食品若しくは薬剤のコーティングまたは、顔料組成物および乾式調合品。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月21日(2010.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２０】
重合するモノマーの組成を表２のようにした以外は、実施例４と同様にして、表２の組成のポリマーを重合し、実施例１と同様にして押し出しフィルムを作成した。なお、表２中、ＰＭＩはフェニルマレイミドを示す。
（フィルムの外観評価）
目視によりフィルムの色相から外観を評価した。
○  合格    △  やや劣るが合格    ×  不合格
（ＵＶＡカット性能）
市販のＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）（トレコン１１００Ｓ／東レ社製）から５０×５０×１ｍｍ厚の試験片を作成し、上面に実施例１２、１３のＵＶカットフィルムをそれぞれ貼りあわせた。スガ試験機社製フェードメーターによりＵＶカットフィルムの上から紫外線を１５０時間照射した後の、ＰＢＴ試験片の色相変化を目視で判定した。
○  色相変化が少ない    ×明らかに黄変
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２１】
【表２】
2007297585.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月10日(2010.2.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、マゼンタインク組成物と、イエローインク組成物と、シアンインク組成物と、を備えたインクセットであって、
該マゼンタインク組成物が、１００００倍以下の希釈水溶液において、可視吸収スペクトルから算出されるＣＩＥ規格のａ*値が８０のときに、Ｌ*値が６０以上かつｂ*値が−１７以下である、
インクセット。
【請求項２】
前記マゼンタインク組成物が、２×１０-3ｇ／l顔料固形分濃度の水溶液において、可視吸収スペクトルから算出されるＣＩＥ規格のＬ*値が９６以上かつａ*値が７．５以上である、請求項１に記載のインクセット。
【請求項３】
前記マゼンタインク組成物が、１００００倍以上の希釈水溶液において、可視吸収スペクトルから算出されるＣＩＥ規格のＬ*値が９４のときに、ａ*値が１１．５以上かつｂ*値が−５．５以下である、請求項１に記載のインクセット。
【請求項４】
前記マゼンタインク組成物が、γ型Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９と、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０２と、の固溶体を少なくとも含む、請求項１〜３の何れか１項に記載のインクセット。
【請求項５】
前記イエローインク組成物の着色剤が、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー７４、１２８、１２９、１５１、１５３、１５５、１７４、１８０、１８８、１９８からなる群から選ばれる１種または２種以上の顔料である請求項１〜４のいずれか１項に記載のインクセット。
【請求項６】
前記シアンインク組成物の着色剤が、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１６、Ｃ．Ｉ．バットブルー４、６０からなる群から選ばれる１種または２種以上の顔料である請求項１〜５のいずれか１項に記載のインクセット。
【請求項７】
さらにオレンジインク組成物を備えた請求項１〜６のいずれか１項に記載のインクセット。
【請求項８】
前記オレンジインク組成物の着色剤が、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３及び／又は３６の顔料である請求項７に記載のインクセット。
【請求項９】
前記オレンジインク組成物の着色剤が、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３及び／又は２４２の顔料である請求項７に記載のインクセット。
【請求項１０】
前記オレンジインク組成物の着色剤の混合比が、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３と、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４２＝４：１〜２：１である請求項７に記載のインクセット。
【請求項１１】
さらにグリーンインク組成物を備えた請求項１〜１０のいずれか１項に記載のインクセット。
【請求項１２】
前記グリーンインク組成物の着色剤が、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７及び／又は３６の顔料である請求項１１に記載のインクセット。
【請求項１３】
前記各インク組成物の顔料固形分濃度が、３重量％以上である請求項１〜１２のいずれか１項に記載のインクセット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】インクセット
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月15日(2009.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
ジフルオロリン酸塩が、非水溶媒中で合成されたもの、又は別途合成して非水溶媒中に添加されたものである請求項１ないし請求項６の何れかの請求項記載の二次電池用非水系電解液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
リチウム塩が、少なくとも、ヘキサフルオロリン酸リチウムを含有する請求項１ないし請求項７の何れかの請求項記載の二次電池用非水系電解液。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
少なくとも、非水系電解液、リチウムイオンを吸蔵及び放出可能な負極並びに正極を備えた非水系電解液二次電池であって、該非水系電解液が、請求項１ないし請求項８の何れかの請求項記載の二次電池用非水系電解液であることを特徴とする非水系電解液二次電池。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月7日(2009.12.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
フラットパネル検出器が医学的用途に使用される場合、照射線量が典型的には患者及び医療スタッフの両者の被爆限界に基づいて規定される。しかしながら、工業部品検査用のような他の実施形態では、よりずっと大きいＸ線照射線量が使用されることがある。このような大きい照射線量は、漏洩をかなり増大させることによって従来のディジタルＸ線検出器の寿命をかなり短くする傾向がある。期間がより長くなるが、同様な劣化が医学的用途でも生じる。漏洩が増大するにつれて、漏洩に対処するように暗い画像のオフセット値を変更することができるが、この結果、最終的には個々のピクセルのダイナミックレンジが減少する。すなわち、暗い画像の電荷と最大露出時の電荷との間の電荷量が少なくなり、その結果、最終的には短縮された有効寿命の終わりにおいて検出器が廃棄される。
【特許文献１】米国特許第６８３８６７４号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００２／００１４５９２号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月12日(2009.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板に配された光電変換素子と、
前記光電変換素子の電荷を転送する転送用トランジスタを含む複数のトランジスタと、
前記光電変換素子及び前記転送用トランジスタ上に配される層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に形成された開口に配された、前記転送用トランジスタの活性領域に電気的に接続される導電性部材と、
前記基板に配された絶縁体を含む素子分離領域と、を有する光電変換装置の製造方法において、
前記光電変換素子と前記転送用トランジスタと前記素子分離領域とを覆う反射防止膜を形成する工程と、
前記反射防止膜を覆って前記層間絶縁膜を形成する工程と、
前記反射防止膜をエッチングストップとして前記層間絶縁膜をエッチングし、前記開口を形成する工程と、を有する光電変換装置の製造方法。
【請求項２】
前記光電変換装置は、前記複数のトランジスタを駆動するためのトランジスタを含む周辺回路部を有し、
前記反射防止膜を形成する工程において、前記反射防止膜は前記周辺回路部のトランジスタを覆って形成され、
前記光電変換装置の製造方法は、前記周辺回路部のトランジスタを覆う前記反射防止膜をエッチングし、前記周辺回路部のトランジスタのサイドウォールを形成する工程を有することを特徴とする請求項１に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項３】
前記反射防止膜の形成工程の前に、前記光電変換素子の上部に絶縁膜を形成する工程を有する請求項１あるいは２に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項４】
前記絶縁膜は前記転送用トランジスタのゲート絶縁膜として機能する請求項３に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項５】
前記反射防止膜の形成工程の前に、前記光電変換素子の上部に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜の上にサイドウォール形成用の絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜を残して前記再ドゥオール形成用の絶縁膜をエッチングしてサイドウォールを形成する工程と、を有する請求項１に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項６】
前記反射防止膜の形成工程において、前記反射防止膜は前記サイドウォールを覆って形成される請求項５に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項７】
前記サイドウォール形成用の絶縁膜は窒化シリコンである請求項５あるいは６に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項８】
前記絶縁体及び前記層間絶縁膜は酸化シリコンで形成され、前記反射防止膜は窒化シリコンで形成されている、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項９】
前記開口を形成する工程において、前記層間絶縁膜をエッチングして形成した開口を用いて、前記反射防止膜をエッチングにて除去する工程を有する請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項１０】
前記絶縁膜を形成する工程において、前記絶縁膜は前記転送用トランジスタのゲート電極と前記サイドウォール用絶縁膜との間に配されている請求項３に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項１１】
前記反射防止膜は、膜中に水素を１×１０２２ｃｍ−３以上の濃度で含んでいるシリコン窒化膜で形成されている請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の光電変換装置。
【請求項１２】
前記素子分離領域の絶縁体は、前記基板に形成された溝に配される請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の光電変換装置の製造方法。
【請求項１３】
基板と、
前記基板に配された光電変換素子と、
前記光電変換素子の受光面の少なくとも一部上に配される反射防止膜と、
前記基板に配された絶縁体を有する素子分離領域と、
前記光電変換素子の電荷を転送する転送用トランジスタを含む複数のトランジスタと、
前記光電変換素子及び前記転送用トランジスタ上に配される層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜に形成された開口に配された、前記トランジスタの活性領域に電気的に接続される導電性部材と、を有する光電変換装置において、
前記反射防止膜は、前記受光部の上部から、前記素子分離領域の上部と、前記導電性部材と接続される活性領域の上部と、前記転送用トランジスタのゲート電極の上部に連続して配され、前記層間絶縁膜に開口を形成する際のエッチング工程におけるエッチングストップ膜として機能する光電変換装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の光電変換装置と、前記光電変換装置へ光を結像する光学系と、前記光電変換装置からの出力信号を処理する信号処理回路と、を有する撮像システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の光電変換装置の製造方法は、基板と、前記基板に配された光電変換素子と、前記光電変換素子の電荷を転送する転送用トランジスタを含む複数のトランジスタと、前記光電変換素子及び前記転送用トランジスタ上に配される層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜に形成された開口に配された、前記転送用トランジスタの活性領域に電気的に接続される導電性部材と、前記基板に配された絶縁体を含む素子分離領域と、を有する光電変換装置の製造方法において、前記光電変換素子と前記転送用トランジスタと前記素子分離領域とを覆う反射防止膜を形成する工程と、前記反射防止膜を覆って前記層間絶縁膜を形成する工程と、前記反射防止膜をエッチングストップとして前記層間絶縁膜をエッチングし、前記開口を形成する工程と、を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の光電変換装置は、基板と、前記基板に配された光電変換素子と、前記光電変換素子の受光面の少なくとも一部上に配される反射防止膜と、前記基板に配された絶縁体を有する素子分離領域と、前記光電変換素子の電荷を転送する転送用トランジスタを含む複数のトランジスタと、前記光電変換素子及び前記転送用トランジスタ上に配される層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜に形成された開口に配された、前記トランジスタの活性領域に電気的に接続される導電性部材と、を有する光電変換装置において、前記反射防止膜は、前記受光部の上部から、前記素子分離領域の上部と、前記導電性部材と接続される活性領域の上部と、前記転送用トランジスタのゲート電極の上部に連続して配され、前記層間絶縁膜に開口を形成する際のエッチング工程におけるエッチングストップ膜として機能する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の撮像システムは、光電変換装置と、前記光電変換装置へ光を結像する光学系と、前記光電変換装置からの出力信号を処理する信号処理回路と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月5日(2010.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】バックライトユニット
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
底板と、
前記底板の少なくとも上面に接して設けられ、貫通口を有する上面層と、
前記貫通口に配置された放熱接着剤と、
前記放熱接着剤により前記底板に結合されたエルイーディーパッケージとを備え、
前記エルイーディーパッケージは、前記放熱接着剤と結合する部分の少なくとも一部にヒートシンクを有し、
前記ヒートシンクと前記放熱接着剤との境界面が、前記底板と前記上面層との境界面よりも上側にあるバックライトユニット。
【請求項２】
前記エルイーディーパッケージの下面の少なくとも一部が、前記上面層の上面の少なくとも一部に接している請求項1に記載のバックライトユニット。
【請求項３】
前記放熱接着剤の厚さと、前記上面層の厚さとが同じである請求項１または2に記載のバックライトユニット。
【請求項４】
前記上面層の上面の少なくとも一部に、前記上面層を補強する補強板を有する請求項１または2に記載のバックライトユニット。
【請求項５】
前記上面層の厚さと前記補強板の厚さとの合計が０．４５ｍｍ以下である請求項４に記載のバックライトユニット。
【請求項６】
前記上面層は、導電性を有する導電性パターンを有し、
前記エルイーディーパッケージは、前記導電性パターンに接続された配線を有する請求項１から５のいずれか一項に記載のバックライトユニット。
【請求項７】
前記上面層が軟性印刷回路基板である請求項１から６のいずれか一項に記載のバックライトユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月10日(2010.8.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
案内画像が基準画像を通過するように表示して、当該案内画像が当該基準画像に重なる時にプレイヤが入力をすべき旨を促す表示部と、
当該プレイヤの入力を受け付ける受付部と、を備え、
前記表示部は、
（ａ）当該入力が受け付けられるまで、第１の色彩で当該基準画像を通常表示し、
（ｂ）当該入力が受け付けられると、当該基準画像に対する当該案内画像の相対的な位置に対応付けられる第２の色彩で、所定の時間（以下「強調時間」という。）の間、当該基準画像を強調表示し、
（ｃ）当該相対的な位置の大きさが、所定の閾値を超える場合、当該強調表示の後、第３の色彩で、所定の時間（以下「移行時間」という。）の間、当該基準画像を移行表示し、
（ｄ）当該相対的な位置の大きさが、当該所定の閾値を超えない場合、当該強調表示の後、当該第１の色彩で、当該移行時間の間、当該基準画像を移行表示する、
ことを特徴とするゲーム装置。
【請求項２】
請求項１に記載のゲーム装置であって、
当該強調時間の間、当該基準画像を表示する色彩を、当該第２の色彩から、当該第１若しくは当該第３の色彩へ、次第に変化させる、
ことを特徴とするゲーム装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のゲーム装置であって、
前記表示部は、当該移行表示の後、当該第１の色彩で、当該基準画像を通常表示する、
ことを特徴とするゲーム装置。
【請求項４】
請求項３に記載のゲーム装置であって、
当該移行時間の間、当該基準画像を表示する色彩を、当該第１若しくは第３の色彩から、当該第１の色彩へ、次第に変化させる、
ことを特徴とするゲーム装置。
【請求項５】
案内画像が基準画像を通過するように表示して、当該案内画像が当該基準画像に重なる時にプレイヤが入力をすべき旨を促す表示部と、
当該プレイヤの入力を受け付ける受付部と、を備え、
前記表示部は、
（ａ）当該入力が受け付けられるまで、第１の色彩で当該基準画像を通常表示し、
（ｂ）当該入力が受け付けられると、当該基準画像に対する当該案内画像の相対的な位置に対応付けられる第２の色彩で、所定の時間（以下「強調時間」という。）の間、当該基準画像を強調表示し、
当該強調表示の間、当該基準画像の周囲に所定の画像を表示する、
ことを特徴とするゲーム装置。
【請求項６】
表示部と、受付部と、を有するゲーム装置にて実行されるゲーム制御方法であって、
前記表示部が、案内画像が基準画像を通過するように表示して、当該案内画像が当該基準画像に重なる時にプレイヤが入力をすべき旨を促す表示工程と、
前記受付部が、当該プレイヤの入力を受け付ける受付工程と、を備え、
前記表示工程では、
（ａ）当該入力が受け付けられるまで、第１の色彩で当該基準画像を通常表示し、
（ｂ）当該入力が受け付けられると、当該基準画像に対する当該案内画像の相対的な位置に対応付けられる第２の色彩で、所定の時間（以下「強調時間」という。）の間、当該基準画像を強調表示し、
（ｃ）当該相対的な位置の大きさが、所定の閾値を超える場合、当該強調表示の後、第３の色彩で、所定の時間（以下「移行時間」という。）の間、当該基準画像を移行表示し、
（ｄ）当該相対的な位置の大きさが、当該所定の閾値を超えない場合、当該強調表示の後、当該第１の色彩で、当該移行時間の間、当該基準画像を移行表示する、
ことを特徴とするゲーム制御方法。
【請求項７】
コンピュータを、
案内画像が基準画像を通過するように表示して、当該案内画像が当該基準画像に重なる時にプレイヤが入力をすべき旨を促す表示部と、
当該プレイヤの入力を受け付ける受付部と、として機能させ、
前記表示部は、
（ａ）当該入力が受け付けられるまで、第１の色彩で当該基準画像を通常表示し、
（ｂ）当該入力が受け付けられると、当該基準画像に対する当該案内画像の相対的な位置に対応付けられる第２の色彩で、所定の時間（以下「強調時間」という。）の間、当該基準画像を強調表示し、
（ｃ）当該相対的な位置の大きさが、所定の閾値を超える場合、当該強調表示の後、第３の色彩で、所定の時間（以下「移行時間」という。）の間、当該基準画像を移行表示し、
（ｄ）当該相対的な位置の大きさが、当該所定の閾値を超えない場合、当該強調表示の後、当該第１の色彩で、当該移行時間の間、当該基準画像を移行表示する、
ように機能させることを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月24日(2010.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を出力するための信号を表示パネルに供給する信号発生手段と、
前記表示パネルにおいて表示された出力画像を撮影する撮像手段と、
前記信号発生手段及び前記撮像手段に接続される制御手段と、を備えた画像補正データ生成システムであって、
前記制御手段が、
前記信号発生手段に対して、表示パネルの全面に共通する信号値の供給指示を出力する指示手段と、
前記撮像手段から、出力画像データを取得する画像取得手段と、
前記出力画像データに対し中間的な周波数成分のみを分離するバンドパスフィルタリングを行なうことによって、同出力画像データから高周波成分及び低周波成分を除いたバンドパスデータを算出するバンドパスフィルタ手段と、
前記バンドパスデータに対応した画像補正テーブルを出力する補正データ生成手段と
を備えたことを特徴とする画像補正データ生成システム。
【請求項２】
前記指示手段は、階調毎に表示パネルの全面に共通する信号値の供給指示を出力し、
前記画像取得手段は、階調毎に出力画像データを取得し、
前記補正データ生成手段は、階調毎に画像補正テーブルを出力することを特徴とする請求項１に記載の画像補正データ生成システム。
【請求項３】
画像を出力するための信号を表示パネルに供給する信号発生手段と、
前記表示パネルにおいて表示された出力画像を撮影する撮像手段と、
前記信号発生手段及び前記撮像手段に接続される制御手段と、を備えた画像補正データ生成システムを用いて、画像補正データを生成する方法であって、
前記制御手段が、
前記信号発生手段に対して、表示パネルの全面に共通する信号値の供給指示を出力する指示段階と、
前記撮像手段から、出力画像データを取得する画像取得段階と、
前記出力画像データに対し中間的な周波数成分のみを分離するバンドパスフィルタリングを行なうことによって同出力画像データから高周波成分及び低周波成分を除いたバンドパスデータを算出するバンドパスフィルタリング段階と、
前記バンドパスデータに対応した画像補正テーブルを出力する補正データ生成段階と
を実行することを特徴とする画像補正データ生成方法。
【請求項４】
表示パネルに供給される画像信号を調整するための画像補正テーブルを記憶した画像補正回路であって、
前記画像補正テーブルはバンドパスデータに対応して生成されており、このバンドパスデータは、前記表示パネルの全面に供給された共通する信号値に基づいて表示された出力画像データに対して中間的な周波数成分のみを分離するバンドパスフィルタリングを行なって、同出力画像データから高周波成分及び低周波成分を除くことによって得られ、
前記表示パネルに供給される画像信号に対して、前記画像補正テーブルに基づいて、出力画像を補正する信号を出力することにより、前記表示パネルの出力画像を調整するための画像補正回路。
【請求項５】
前記画像補正テーブルは階調毎に記録されており、画像信号の座標及び信号値に基づいて線形補間を行なうことによって、出力画像を調整する信号を生成することを特徴とする請求項４に記載の画像補正回路。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月21日(2010.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
哺乳類細胞中の所定の標的遺伝子の発現を阻害するための、１５から４９の塩基対を有する二本鎖構造を含むオリゴリボヌクレオチド(ｄｓＲＮＡ)であって、当該ｄｓＲＮＡの１の鎖は、少なくとも一部が当該標的遺伝子に相補的な、４９以下の連続的ヌクレオチド対を有する領域Ｉを有しており、二本鎖構造内部の相補的領域ＩＩが、二つの分離したＲＮＡ一本鎖により形成されるものであるオリゴリボヌクレオチド。
【請求項２】
前記のｄｓＲＮＡが、ミセル構造、好ましくはリポソームにより封入されているものである請求項１に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項３】
前記のｄｓＲＮＡが、天然のウイルスキャプシド、又は化学的若しくは酵素学的に産生された人工のキャプシド、又はこれらに由来する構造によって封入されているものである請求項１又は２に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項４】
前記の標的遺伝子が、以下の群：癌遺伝子、サイトカイン遺伝子、Id-蛋白質遺伝子、 発生遺伝子、プリオン遺伝子から選択されるものである請求項１乃至３の何れか一項に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項５】
前記の二本鎖構造内の前記のｄｓＲＮＡのヌクレオチドの２’-ヒドロキシル基の少なくとも１つが、化学基、好ましくは２’-アミノ基又は２’-メチル基により置換されているものである請求項１乃至４の何れか一項に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項６】
前記の二本鎖構造の少なくとも１の鎖中の少なくとも１のヌクレオチドが、好ましくは２’-Ｏ、４’-Ｃメチレン架橋により、化学的に修飾された糖環を有する、ロックされたヌクレオチドであるものである請求項１乃至５の何れか一項に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項７】
前記のｄｓＲＮＡが、少なくとも１のウイルス外殻蛋白質であって、ウイルス起源のもの、それに由来するもの、又は合成されたものに、結合しているか、会合しているか、又は囲まれているものである請求項１乃至６の何れか一項に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項８】
前記の外殻蛋白質が、ポリオーマウイルス由来であるものである請求項７に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項９】
前記の外殻蛋白質が、ポリオーマウイルスのウイルス蛋白質１（ＶＰ１）及び／又はウイルス蛋白質２（ＶＰ２）を含むものである請求項７又は８に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項１０】
キャプシド又はキャプシドタイプの構造が、外殻蛋白質より形成される場合に、１の側面が当該キャプシド又はキャプシドタイプの構造の内部に面しているものである請求項７乃至９の何れか一項に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項１１】
前記のｄｓＲＮＡの１の鎖が、前記の標的遺伝子の第一次ＲＮＡ転写産物又はプロセッシングされたＲＮＡ転写産物に相補的であるものである請求項１乃至１０の何れか一項に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項１２】
前記の哺乳類細胞が、ヒトの細胞であるものである請求項１乃至１１の何れか一項に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項１３】
互いに異なる少なくとも２つの請求項１から１２の何れか一項に定義のｄｓＲＮＡを使用し、それぞれのｄｓＲＮＡの１の鎖の少なくとも一部が、それぞれの場合に、少なくとも２つの異なる標的遺伝子の一つに相補的であるものである請求項１乃至１２の何れか一項に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【請求項１４】
前記のｄｓＲＮＡが、１５から２１の塩基対からなる請求項１乃至１３の何れか一項に記載のオリゴリボヌクレオチド。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月19日(2010.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電源プレートと、前記電源プレート上に載置された状態で電力の供給を受けて湯を生成するケトル本体とを備えて構成され、
前記ケトル本体に、本体内の水を加熱する加熱機構、当該加熱機構を始動する始動スイッチを備えるとともに、加熱完了を検知して前記加熱機構による加熱を停止する停止機構を備え、
前記電源プレートに給電機構を、前記ケトル本体に受電機構を備えた電気ケトルであって、
前記ケトル本体の底面に、本体ボディに対して、本体ボディの上下軸周りに回転可能な接地用回転体を備え、
前記ケトル本体を前記電源プレートに載置した給電姿勢において、前記接地用回転体を介する前記電源プレート上での前記本体ボディの回転が阻止される離間状態に維持され、
前記ケトル本体を、単独で載置面上に載置した載置姿勢において、前記接地用回転体が前記載置面に接触し、前記本体ボディが前記載置面上で回転可能な電気ケトル。
【請求項２】
前記ケトル本体を前記電源プレートに載置した給電姿勢において前記電源プレートのプレート側当接部に当接する本体側当接部を、前記本体ボディに設け、
前記給電姿勢における前記プレート側当接部と本体側当接部との当接位置が、前記給電姿勢における前記接地用回転体の下端位置より高い位置にある請求項１記載の電気ケトル。
【請求項３】
前記ケトル本体を前記電源プレートに載置した給電姿勢において前記電源プレートのプレート側当接部に当接する本体側当接部を、前記本体ボディに設け、
前記給電姿勢における前記プレート側当接部と本体側当接部とが、前記給電姿勢における前記接地用回転体より本体ボディ中心側にある請求項１又は２に記載の電気ケトル。
【請求項４】
前記プレート側当接部が電源プレートの上面に設けられる凸部である請求項２又は３記載の電気ケトル。
【請求項５】
前記ケトル本体を前記電源プレートに載置した給電姿勢において前記電源プレートのプレート側当接部に当接する本体側当接部を、前記本体ボディに設け、
前記給電姿勢における前記プレート側当接部と本体側当接部とが、前記給電姿勢における前記接地用回転体より本体ボディ外周側にある請求項１又は２に記載の電気ケトル。
【請求項６】
前記プレート側当接部が電源プレートの上面に設けられる凸部として構成されるとともに、電源プレートの上下方向軸周りで、周方向に分散して設けられている請求項５記載の電気ケトル。
【請求項７】
前記給電機構が前記電源プレートの上面から突出して形成されるとともに、前記受電機構が前記ケトル本体の底面から引退して形成され、
前記凸部の上端位置が、前記給電機構の上端位置に対して下側に位置される請求項４又は６記載の電気ケトル。
【請求項８】
電源プレートと、前記電源プレート上に載置された状態で電力の供給を受けて湯を生成するケトル本体とを備えて構成され、
前記ケトル本体に、本体内の水を加熱する加熱機構を備え、
前記電源プレートに給電機構を、前記ケトル本体に受電機構を備えた電気ケトルであって、
前記ケトル本体の底面に、本体ボディに対して、本体ボディの上下軸周りに回転可能な接地用回転体を備え、
前記ケトル本体を前記電源プレートに載置した給電姿勢において、前記接地用回転体を介する前記電源プレート上での前記本体ボディの回転が阻止される離間状態に維持され、
前記ケトル本体を、単独で載置面上に載置した載置姿勢において、前記接地用回転体が前記載置面に接触し、前記本体ボディが前記載置面上で回転可能な電気ケトル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するための本発明に係る
電源プレートと、前記電源プレート上に載置された状態で電力の供給を受けて湯を生成するケトル本体とを備えて構成され、
前記ケトル本体に、本体内の水を加熱する加熱機構、当該加熱機構を始動する始動スイッチを備えるとともに、加熱完了を検知して、前記加熱機構による加熱を停止する停止機構を備え、
前記電源プレートに給電機構を、前記ケトル本体に受電機構を備えた電気ケトルの特徴構成は、
前記ケトル本体の底面に、本体ボディに対して、本体ボディの上下軸周りに回転可能な接地用回転体を備え、
前記ケトル本体を前記電源プレートに載置した給電姿勢において、前記接地用回転体を介する前記電源プレート上での前記本体ボディの回転が阻止される離間状態に維持され、
前記ケトル本体を、単独で載置面上に載置した載置姿勢において、前記接地用回転体が前記載置面に接触し、前記本体ボディが前記載置面上で回転可能とされていることにある。
また、上記目的を達成するための本発明に係る
電源プレートと、前記電源プレート上に載置された状態で電力の供給を受けて湯を生成するケトル本体とを備えて構成され、
前記ケトル本体に、本体内の水を加熱する加熱機構を備え、
前記電源プレートに給電機構を、前記ケトル本体に受電機構を備えた電気ケトルの特徴構成は、
前記ケトル本体の底面に、本体ボディに対して、本体ボディの上下軸周りに回転可能な接地用回転体を備え、
前記ケトル本体を前記電源プレートに載置した給電姿勢において、前記接地用回転体を介する前記電源プレート上での前記本体ボディの回転が阻止される離間状態に維持され、
前記ケトル本体を、単独で載置面上に載置した載置姿勢において、前記接地用回転体が前記載置面に接触し、前記本体ボディが前記載置面上で回転可能とされていることにある。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月1日(2010.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の周縁部を研磨する研磨ユニットと、
前記研磨ユニットにより研磨された基板の周縁部を撮像する撮像モジュールと、
前記撮像モジュールにより撮像された画像から基板の研磨状態を検査する画像処理部とを備え、
前記撮像モジュールは、前記研磨ユニットが基板の周縁部を研磨していないときに前記基板の周縁部を撮像することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記基板処理装置は、前記研磨ユニットの研磨条件を決定する研磨条件決定部をさらに備え、
前記画像処理部の検査結果は前記研磨条件決定部に送られ、
前記研磨条件決定部は前記検査結果に基づいて前記研磨ユニットでの研磨条件を決定することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記撮像モジュールは、基板の周縁部を多方向から撮像することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記撮像モジュールは、基板の周縁部に近接して配置されたプリズムと、前記プリズムを通じて基板の周縁部を撮像する撮像カメラとを備えていることを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記撮像モジュールは、複数の撮像カメラを有していることを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記画像処理部は、前記撮像モジュールによって取得された画像の色に基づいて基板の周縁部の研磨状態を検査することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記画像処理部は、
前記撮像モジュールにより取得された画像の色を数値に表し、
前記数値が予め設定された閾値を上回ったとき、または下回ったときに、除去すべき対象物が前記周縁部から除去されたと判断することを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記基板処理装置は、基板をその中心軸回りに回転させる基板保持回転機構をさらに備え、
前記撮像モジュールは、前記基板回転機構によって保持された基板の周縁部に近接して配置されており、
前記基板保持回転機構によって基板を断続的または連続的に回転させながら、前記撮像モジュールは基板の周縁部を撮像することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記撮像モジュールは、基板の周縁部の静止画像を取得することを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記撮像モジュールは、基板の周縁部の積算画像を取得することを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記撮像モジュールは、ラインスキャンカメラを有していることを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記基板処理装置は、前記画像処理部の検査結果を保存する記憶装置をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
前記基板処理装置は、
前記撮像モジュールによって取得された画像を保存する記憶装置と、
前記記憶装置に保存された画像を表示する画像表示部とをさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項１４】
前記記憶装置は、前記画像が取得された位置を示す情報を該画像と共に保存し、
前記画像表示部は、要求された位置の画像を表示するように構成されることを特徴とする請求項１３に記載の基板処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年11月5日(2010.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、半導体基板１の第１主表面では、第１領域Ｒ１を取り囲むように、外周接合領域として第２領域Ｒ２が設けられている。その第２領域Ｒ２では、ガードリングとなるｐ層５が表面から所定の深さにわたり形成されている。第２領域Ｒ２には、ｐ層５に接触するようにＡｌＳｉ層１４ｂが形成されている。そのＡｌＳｉ層１４ｂを覆うように、半絶縁性シリコン窒化膜１７が形成されている。第２領域Ｒ２の外側の半導体基板１の第３領域の表面にはｎ層６が形成されている。そのｎ層６上には、最外周に位置するＡｌＳｉ層１４ｂから距離を隔てて、段差部２０となるＡｌＳｉ層１４ｃが形成されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
次に、図１６に示すように、半導体基板の第１主表面における第２領域Ｒ２に、ディップ方式によってポリイミドなどのオーバーコート材が塗布されて、半絶縁性シリコン窒化膜１７ａを覆うようにオーバーコート膜１８が形成される。このとき、所定の厚みのＡｌＳｉ層１４ｃが形成されていることで、塗布されたポリイミドが第３領域Ｒ３からさらに外側に位置するダイシングライン領域に向かって流れ出すのを阻止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月10日(2010.5.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原画となる画像を拡大した拡大画像が入力される画像処理装置であって、
前記入力画像の低周波数成分及び高周波数成分を除去した特定の周波数帯域近傍の成分を取り出した第１の中間画像を生成する中間画像生成手段と、
前記第１の中間画像をもとに第２の中間画像を生成する中間画像処理手段と、
前記入力画像と前記第２の中間画像を加算する第１の加算手段とを有し、
前記中間画像処理手段は、
前記第１の中間画像の画素値を、画素に応じて処理の内容を変化させる非線形処理で処理した非線形処理画像を生成する非線形処理手段を含む
ことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記中間画像生成手段は、
前記入力画像の高周波数成分のみを取り出した第１の高周波数成分画像を生成する第１の高周波数成分画像生成手段と、
前記第１の高周波数成分画像の低周波数成分のみを取り出す低周波数成分画像生成手段を有する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記中間画像処理手段は、
前記非線形処理画像の高周波数成分のみを取り出した第２の高周波数成分画像を生成する第２の高周波数成分画像生成手段をさらに含む
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記中間画像処理手段は、
前記第１の中間画像と前記第２の高周波数成分画像を加算する第２の加算手段をさらに有する
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記第１の高周波数成分画像生成手段は、
前記入力画像の各画素の水平方向近傍に存在する画素を用いて高周波数成分を取り出した第１の水平方向高周波数成分画像を生成する第１の水平方向高周波数成分画像生成手段を有し、
前記低周波数成分画像生成手段は、
前記第１の水平方向高周波数成分画像の低周波数成分のみを取り出した第１の水平方向中間画像を生成する水平方向低周波数成分画像生成手段を有し、
前記第１の中間画像が、
前記第１の水平方向中間画像を含み、
前記非線形処理手段は、
前記第１の水平方向中間画像の各画素値を画素に応じて変化させた増幅率で増幅した水平方向非線形処理画像を生成する水平方向非線形処理手段を有し、
前記第２の高周波数成分画像生成手段は、
前記水平方向非線形処理画像の高周波数成分のみを取り出した第２の水平方向高周波数成分画像を生成する第２の水平方向高周波数成分画像生成手段を有する
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記水平方向非線形処理手段は、
前記第１の水平方向中間画像の画素値が水平方向に沿って正から負もしくは負から正へと変化する箇所をゼロクロス点として判定する水平方向ゼロクロス点判定手段と、
前記水平方向ゼロクロス点判定手段の判定結果に応じて前記第１の水平方向中間画像の各画素に対する増幅率を決定する水平方向信号増幅手段を有する
ことを特徴とする請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記水平方向増幅手段は,
前記第１の水平方向中間画像の各画素に対する増幅率を、
前記水平方向ゼロクロス点判定手段においてゼロクロス点と判定された位置の前後に位置する画素に対しては１より大きな値とし、それ以外の画素の画素値に対しては１とする
ことを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記第１の高周波数成分画像生成手段は、
前記入力画像の各画素の垂直方向近傍に存在する画素を用いて高周波数成分を取り出した第１の垂直方向高周波数成分画像を生成する第１の垂直方向高周波数成分画像生成手段を有し、
前記低周波数成分画像生成手段は、
前記第１の垂直方向高周波数成分画像の低周波数成分のみを取り出した第１の垂直方向中間画像を生成する垂直方向低周波数成分画像生成手段を有し、
前記第１の中間画像が、
前記第１の垂直方向中間画像を含み、
前記非線形処理手段は、
前記第１の垂直方向中間画像の各画素値を画素に応じて変化させた増幅率で増幅した垂直方向非線形処理画像を生成する垂直方向非線形処理手段を有し、
前記第２の高周波数成分画像生成手段は、
前記垂直方向非線形処理画像の高周波数成分のみを取り出した第２の垂直方向高周波数成分画像を生成する第２の垂直方向高周波数成分画像生成手段を有する
ことを特徴とする請求項３又は４に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記垂直方向非線形処理手段は、
前記第１の垂直方向中間画像の画素値が垂直方向に沿って正から負もしくは負から正へと変化する箇所をゼロクロス点として判定する垂直方向ゼロクロス点判定手段と、
前記垂直方向ゼロクロス点判定手段の判定結果に応じて前記第１の垂直方向中間画像の各画素に対する増幅率を決定する垂直方向信号増幅手段とを有する
ことを特徴とする請求項８に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
前記垂直方向増幅手段は、
前記第１の垂直方向中間画像の各画素に対する増幅率を、
前記垂直方向ゼロクロス点判定手段においてゼロクロス点と判定された位置の上下に位置する画素に対しては１より大きな値とし、それ以外の画素の画素値に対しては１とする
ことを特徴とする請求項９に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれかに記載の画像処理装置を備えたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項１２】
原画となる画像を拡大した拡大画像を処理する画像処理方法であって、
前記入力画像の低周波数成分及び高周波数成分を除去した特定の周波数帯域近傍の成分を取り出した第１の中間画像を生成する中間画像生成ステップと、
前記第１の中間画像をもとに第２の中間画像を生成する中間画像処理ステップと、
前記入力画像と前記第２の中間画像を加算する第１の加算ステップ手段とを有し、
前記中間画像処理ステップは、
前記第１の中間画像の画素値を、画素に応じて処理の内容を変化させる非線形処理で処理した非線形処理画像を生成する非線形処理ステップを含む
ことを特徴とする画像処理方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の画像処理方法で処理された画像を表示する画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の画像処理装置は、
原画となる画像を拡大した拡大画像が入力される画像処理装置であって、
前記入力画像の低周波数成分及び高周波数成分を除去した特定の周波数帯域近傍の成分を取り出した第１の中間画像を生成する中間画像生成手段と、
前記第１の中間画像をもとに第２の中間画像を生成する中間画像処理手段と、
前記入力画像と前記第２の中間画像を加算する第１の加算手段とを有し、
前記中間画像処理手段は、
前記第１の中間画像の画素値を、画素に応じて処理の内容を変化させる非線形処理で処理した非線形処理画像を生成する非線形処理手段を含む
ことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月6日(2010.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、回転駆動する平坦な研磨上面を有する下定盤と、前記下定盤に対向して配置され回転駆動する平坦な研磨下面を有する上定盤と、ウェーハを保持するウェーハ保持孔を有するキャリアとを備える両面研磨装置において、
前記上定盤の回転中心と周縁との間の周辺に等間隔に設けられた複数の孔と、
該複数の孔から前記ウェーハの厚さを研磨中にリアルタイムで測定するウェーハ厚さ測定機構とを具備し、
該ウェーハ厚さ測定機構は、該研磨装置の前記上定盤または前記下定盤ではない固定端に固定されたものであることを特徴とする両面研磨装置。
【請求項２】
前記ウェーハ厚さ測定機構は、ウェーハに対して光学的に透過する波長の波長可変赤外線レーザー装置を具備することを特徴とする請求項１に記載の両面研磨装置。
【請求項３】
前記レーザー光は、波長が１５７５〜１７７５ｎｍであることを特徴とする請求項２に記載の両面研磨装置。
【請求項４】
前記ウェーハ厚さ測定機構は、前記ウェーハのバルク厚さを測定するものであることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の両面研磨装置。
【請求項５】
前記ウェーハ厚さ測定機構が固定される固定端は、該両面研磨装置のハウジングであることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の両面研磨装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明では、少なくとも、回転駆動する平坦な研磨上面を有する下定盤と、前記下定盤に対向して配置され回転駆動する平坦な研磨下面を有する上定盤と、ウェーハを保持するウェーハ保持孔を有するキャリアとを備える両面研磨装置において、前記上定盤または前記下定盤の回転中心と周縁との間に設けられた複数の孔と、該複数の孔から前記ウェーハの厚さを研磨中にリアルタイムで測定するウェーハ厚さ測定機構とを具備し、該ウェーハ厚さ測定機構は、該研磨装置の前記上定盤または前記下定盤ではない固定端に固定されたものであることを特徴とする両面研磨装置を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、前記ウェーハ厚さ測定機構は、ウェーハに対して光学的に透過する波長の波長可変赤外線レーザー装置を具備することが好ましい。
このように、ウェーハ厚さ測定機構として、ウェーハに対して光学的に透過する波長の波長可変赤外線レーザー装置を用いることによって、ウェーハ表面での反射スペクトル（ウェーハ表面と裏面で反射する光の干渉の様子）を解析することができ、これによって、研磨中のウェーハの厚さを高精度に測定することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、前記レーザー光は、波長が１５７５〜１７７５ｎｍとすることが好ましい。
このように、測定のためのレーザー光として、波長が１５７５〜１７７５ｎｍの通信用などの高速な赤外線レーザーを用いれば、時間分解能をあげることができ、より研磨中のウェーハの厚さを高精度に評価することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、前記ウェーハ厚さ測定機構は、前記ウェーハのバルク厚さを測定することが好ましい。
このように、ウェーハのバルク厚さを測定することによって、研磨中のウェーハの実際の厚さを判定することができ、これによって研磨後のウェーハの厚さをより目標に近いものとすることができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、前記複数の孔は、前記上定盤の周辺に等間隔に設けられたものとすることが好ましい。
このように、等間隔に複数の孔を設けることによって、ウェーハの厚さの測定が容易に行うことができるため、高精度な研磨が可能である。周辺に設けることで、研磨に悪影響を及ぼすことなく、例えば４ウェイ方式の両面研磨装置において、保持された全てのウェーハの厚さを研磨中に測定することができる。また、上定盤に設けることによって、孔からの研磨スラリーの漏れが発生することを抑制することができるため、定盤のメンテナンスを容易なものとすることができる。またウェーハの厚さの測定に支障が生じる可能性を抑制することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、前記ウェーハ厚さ測定機構が固定される固定端は、該両面研磨装置のハウジングとすることが好ましい。
このように、ウェーハ厚さ測定機構を、両面研磨装置のハウジングに固定することによって、ウェーハ厚さ測定機構を振動、汚れから保護するとともに、前記複数の孔からウェーハ厚さを高精度で検出することができる。これによって、ノイズの影響を低減することができるため、研磨中のウェーハの厚さを更に高精度に測定することができる。