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【手続補正書】
【提出日】平成22年7月5日(2010.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に、第一の電極と、有機ＥＬ層と、第二の電極と、をこの順に積層してなる有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子を保護するために離間して設けられた封止ガラスと、を有し、前記有機ＥＬ素子から発せられる光が前記封止ガラス側から出射する有機ＥＬパネルにおいて、
前記封止ガラスの少なくとも前記有機ＥＬ素子側の表面の全域に凹凸が形成されていることを特徴とする有機ＥＬパネル。
【請求項２】
前記凹凸はガラスのケミカルエッチング法によって形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
【請求項３】
前記凹凸の最大高低差は１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬパネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成すべく本発明者は鋭意研究開発を重ねた結果、次のような手段が最良であることを見出した。すなわち上記課題を解決するための請求項１に記載の有機ＥＬパネルは、
基板の上に、第一の電極と、有機ＥＬ層と、第二の電極と、をこの順に積層してなる有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子を保護するために離間して設けられた封止ガラスと、を有し、前記有機ＥＬ素子から発せられる光が前記封止ガラス側から出射する有機ＥＬパネルにおいて、
前記封止ガラスの少なくとも前記有機ＥＬ素子側の表面の全域に凹凸が形成されていることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月22日(2010.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正極と、負極と、前記正極および負極の間に位置するセパレータとの積層構造を含む巻回体を備え、
前記セパレータの表面の少なくとも一部に潤滑剤が設けられている
二次電池。
【請求項２】
前記セパレータの表面の静摩擦係数が０．３０以下である請求項１記載の二次電池。
【請求項３】
前記潤滑剤は、高級脂肪酸塩、滑石（タルク）、窒化ホウ素（ＢＮ）、および二硫化モリブデン（ＭｏＳ2 ）のうちの少なくとも１種を含むものである請求項１記載の二次電池。
【請求項４】
前記セパレータは、多孔質の基材と、その基材の表面に設けられたゲル状または液状の高分子化合物を含んでなる高分子化合物層とを有し、
前記潤滑剤は、前記高分子化合物に保持されている請求項１記載の二次電池。
【請求項５】
前記高分子化合物および潤滑剤の単位面積あたりの重量が合計で０．０７ｍｇ／ｃｍ2以上１．２ｍｇ／ｃｍ2 以下である請求項４記載の二次電池。
【請求項６】
前記基材は、ポリエチレンからなる単層構造、またはポリプロピレンからなる一対の層の間にポリエチレンからなる層を挿入した３層構造を有する請求項４記載の二次電池。
【請求項７】
前記高分子化合物は、２００℃以上の融点を有するものである請求項４記載の二次電池。
【請求項８】
前記高分子化合物は、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリアラミド、またはカルボキシメチルセルロースである請求項４記載の二次電池。
【請求項９】
前記潤滑剤の含有量は、前記高分子化合物に対して重量比で０．２５倍以上９倍以下である請求項４記載の二次電池。
【請求項１０】
前記負極は、活物質として、硅素（Ｓｉ）の単体、合金および化合物、ならびにスズ（Ｓｎ）の単体、合金および化合物からなる群のうちの少なくとも１種を含んでいる請求項１記載の二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】二次電池
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、正極および負極と、それらの間に設けられたセパレータとの積層構造を有する巻回体を備えた二次電池に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月1日(2010.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
すなわち、本発明の冷陰極蛍光放電管用電極合金は、mass％（以下、単に「％」と表示する。）で、Ｎｉ又はＣｒを３．０〜８．０％含み、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなるＦｅ−Ｎｉ合金又はＦｅ−Ｃｒ合金（これらをまとめてＦｅ基合金という。）によって形成されたものである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月2日(2010.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直列接続される複数の半導体スイッチと、前記半導体スイッチ間に並列接続される第１のコンデンサと、前記第１のコンデンサ毎に直列接続される第１の電流制限手段と、前記複数の半導体スイッチのうち一の半導体スイッチを導通制御することで残余の半導体スイッチの導通を制御させる制御回路と、を有する高電圧スイッチ制御回路において、
前記半導体スイッチ間に並列接続され、前記第１のコンデンサと別設される第２のコンデンサと、前記第２のコンデンサ毎に直列接続される第２の電流制限手段と、を備えたことを特徴とする高電圧スイッチ制御回路。
【請求項２】
前記第２のコンデンサと前記第２の電流制限手段によって求められる時定数は、前記半導体スイッチを駆動する前記第１のコンデンサと前記第１の電流制限手段によって求められる時定数よりも大きくなるように、前記第２のコンデンサの静電容量又は前記第２の電流制限手段の少なくとも一方を設定することを特徴とする請求項１記載の高電圧スイッチ制御回路。
【請求項３】
前記半導体スイッチは、当該半導体スイッチの正負極間で所定値以下の電圧降下を無効化するヒステリシス特性手段を形成することを特徴とする請求項１に記載の高電圧スイッチ制御回路。
【請求項４】
第２のコンデンサの一端が、アースに接続されることを特徴とする請求項１に記載の高電圧スイッチ制御回路。
【請求項５】
前記複数の半導体スイッチは、MOS型FETであって、そのうちの一のＭＯＳ型ＦＥＴのゲートとソース間に前記半導体スイッチの駆動信号を供給するように構成されることを特徴とする請求項１に記載の高電圧スイッチ制御回路。
【請求項６】
前記第２の電流制限手段は前記複数の半導体スイッチのカソード側に放電手段を追加接続することを特徴とする請求項１に記載の高電圧スイッチ制御回路。
【請求項７】
前記第２の電流制限手段は、前記複数の半導体スイッチ間にそれぞれを接続されることを特徴とする請求項１に記載の高電圧スイッチ制御回路。
【請求項８】
前記第２の電流制限手段は、正極アース間及びアース負極間に接続されることを特徴とする請求項６又は７のいずれか一項に記載の高電圧スイッチ制御回路。
【請求項９】
単相交流電源に接続され交流電圧を直流電圧に変換する整流器と、前記変換された直流電圧を高周波交流電圧に変換するインバータと、前記変換された高周波交流電圧を昇圧する高電圧変圧器と、前記昇圧された高周波交流高電圧を直流高電圧に変換する高電圧整流器と、前記変換された直流高電圧が供給されるX線管と、前記高電圧整流器に並列接続される波尾遮断手段と、前記Ｘ線管の曝射信号により前記波尾遮断手段に含まれる高電圧スイッチ手段を制御する制御手段と、を備えたＸ線装置において、
前記高電圧スイッチ手段は、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の高電圧スイッチ制御回路であることを特徴とするＸ線装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
ところで、パルスX線では、X線の照射状態から停止状態へ切り替わっても暫くの間、X線源への電圧供給が完全に断たれることがなく、低エネルギーのX線を照射し続ける「波尾」と称する現象が起きることが知られている。「波尾」現象の長時間化は、被検体への無効被曝、X線画像の画質低下などの影響が懸念される。そこで、X線源の「波尾遮断」は、上記波尾をできるだけ早期に遮断する技術として採用される。波尾遮断技術の一例は、特許文献1に開示される。
上記開示技術では、直列接続体の電力用半導体スイッチング素子の導通が、所定値以上となるようなヒステリシス特性手段を設け、X線管での微放電などで誤作動を防止している。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
第一の電流制限手段Rg(1)〜Rg(n)には、アノード(A)側がスイッチS(3)〜S(n)のゲート側となるように、ダイオードDa(1)〜Da(n)を並列接続している。第一のコンデンサCb(1)〜Cb(n)には、各スイッチに印加される電圧が分圧されるようにバランス抵抗 Rb(1)〜Rb(n)が並列接続される。ダイオードDLは、スイッチS(n)のドレイン側に直列接続され、逆電流を防止する。そして、放電抵抗RDはこの場合、ダイオードDLの更にアノード(A)側に直接接続され、X線管装置17からの放電電流を消費する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
図3について具体的な数値を持って説明する。例えば、複数段直列接続されるスイッチは、50kVの電圧を100個直列接続したスイッチによって遮断するように設計する。その他、各数値は次にとおりとする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
図4は、波尾遮断回路1の構成の一例で実施形態2を示す図である。実施形態2では、実施形態1の回路に、ヒステリシス特性手段として各スイッチS(1)〜S(n)のゲートと第一の電流制限手段Rg(1)〜Rg(n)との間に配置するツェナーダイオードDzb(1)〜Dzb(n)を接続したものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
｛実施形態3｝
図5は、波尾遮断回路1の構成の一例で実施形態3を示す図である。実施形態3では、実施形態1で示した回路の第二のコンデンサCs(1)〜Cs(n)を、スイッチS(1)〜S(n)のドレインとカソード(K)などのアース電位へ接続した例である。この例ではアース電位に接続したが、アース電位ではなく筐体などのカソード(K)に接続してもよい。
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図３】
2009037936.tif 000001
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図５】
2009037936.tif 000002
【手続補正９】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2009037936.tif 000003
【手続補正１０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2009037936.tif 000004
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2009037936.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月21日(2010.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスフィールドイオン源を備えたイオンビーム照射系と、その照射軸が前記イオンビーム照射系の照射軸に対し９０度又は９０度よりも狭い角度に配置された電子ビーム照射系と、
前記イオンビーム照射系から射出されるイオンビームと前記電子ビーム照射系から射出される電子ビームとの交差位置で試料を支持する試料台と、
前記試料上のビーム照射位置にデポジション用又はエッチング用の機能ガスを供給するガス銃と、
を備えていることを特徴とする複合荷電粒子ビーム装置。
【請求項２】
前記イオンビーム照射系が前記試料台の鉛直方向の上方に配置される一方、前記電子ビーム照射系が鉛直方向に対して傾斜して配置されていることを特徴とする請求項１に記載の複合荷電粒子ビーム装置。
【請求項３】
前記ガスフィールドイオン源が、エミッタと、前記エミッタの先端部に対向する開口部を有する引出電極と、前記イオンとなるガスを供給するガス供給部とを備えていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の複合荷電粒子ビーム装置。
【請求項４】
前記イオンが、ヘリウムイオンであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の複合荷電粒子ビーム装置。
【請求項５】
前記イオンが、ヘリウムよりも質量の大きいイオンであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の複合荷電粒子ビーム装置。
【請求項６】
前記イオンビーム又は前記電子ビームの照射によって試料から発生する二次荷電粒子と前記試料を透過した荷電粒子の少なくとも一方を検出する検出装置と、前記検出装置の出力に基づいて前記試料の画像を表示する画像表示装置とを備えていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の複合荷電粒子ビーム装置。
【請求項７】
前記検出装置が、電子検出器、イオン検出器、及び透過荷電粒子検出器の少なくとも１つを備えていることを特徴とする請求項６に記載の複合荷電粒子ビーム装置。
【請求項８】
ガスフィールドイオン源を備えたイオンビーム照射系から試料に対してイオンビームを照射するとともに前記試料のイオンビーム照射位置にガスを供給することで前記試料を加工するステップと、
前記試料に電子ビームを照射して前記試料を観察するステップと
を有することを特徴とする加工観察方法。
【請求項９】
試料に対して前記イオンビーム照射系からヘリウムよりも大きい質量のイオンのイオンビームを照射することで前記試料を加工するステップと、
前記試料に電子ビームを照射して前記試料を観察するステップと
を有することを特徴とする加工観察方法。
【請求項１０】
前記電子ビームを、前記イオンビームと鋭角又は概略９０度で交差する方向から前記試料に照射することを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の加工観察方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月15日(2010.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性を有した第１の基板と、
前記第１の基板と対向するように配置された第２の基板と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に平面的に配置された複数の色素増感型太陽電池と、
前記複数の色素増感型太陽電池を直列接続する複数の導電性部材と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置された、
複数の電解液充填部と、
前記複数の導電性部材を収容するための複数の導電性部材収容部と、を有し、
前記複数の色素増感型太陽電池を分離するスペーサーと、を備えた色素増感型太陽電池モジュールであって、
前記各電解液充填部及び前記各導電性部材収容部と対向する部分の前記第２の基板に、前記各電解液充填部に前記電解液を導入するための電解液導入部と、前記各導電性部材収容部に前記導電性部材の母材となる導電性ペーストを導入するための導電性ペースト導入部と、を設け、
前記スペーサーが設けられていない側の前記第２の基板の面に、前記電解液導入部及び前記導電性ペースト導入部を封止する封止部材を設けたことを特徴とする色素増感型太陽電池モジュール。
【請求項２】
前記電解液導入部及び前記導電性ペースト導入部は、前記第２の基板を貫通する貫通穴であることを特徴とする請求項１記載の色素増感型太陽電池モジュール。
【請求項３】
透光性を有した第１の基板と第２の基板との間に平面的に配置された複数の色素増感型太陽電池を直列接続する複数の導電性部材と、
前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置された、
前記導電性部材が収容される複数の導電性部材収容部と、
電解液が充填される複数の電解液充填部と、を有したスペーサーにおいて、前記導電
性部材収容部及び前記電解液充填部が、前記スペーサーを厚さ方向に貫通するように形
成された前記スペーサーと、を備えた色素増感型太陽電池モジュールの製造方法であって、
前記各電解液充填部と対向する部分の前記第２の基板に、前記第２の基板を貫通する電解液導入部を複数形成する電解液導入部形成工程と、
前記各導電性部材収容部と対向する部分の前記第２の基板に、前記第２の基板を貫通する導電性ペースト導入部を複数形成する導電性ペースト導入部形成工程と、
前記電解液導入部形成工程及び前記導電性ペースト導入部形成工程の後に、前記スペーサーの一方の端部に前記第１の基板を固定し、かつ、前記スペーサーの他方の端部に前記第２の基板を固定する基板固定工程と、
前記基板固定工程後に、前記複数の導電性部材収容部を複数の前記導電性ペースト導入部を介して供給された導電性ペーストで充填して、前記複数の導電性部材を形成する導電性部材形成工程と、
前記導電性部材形成工程と同時に、前記各電解液導入部から前記複数の電解液充填部に電解液を充填する電解液充填工程と、
前記導電性部材形成工程及び前記電解液充填工程の後に、前記スペーサーが設けられていない側の前記第２の基板の面に、前記複数の電解液導入部及び前記複数の導電性ペースト導入部を封止する封止部材を形成する封止部材形成工程と、を含むことを特徴とする色素増感型太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項４】
前記電解液導入部形成工程と、前記導電性ペースト導入部形成工程とが、同時になされることを特徴とする請求項３記載の色素増感型太陽電池モジュールの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明の一観点によれば、透光性を有した第１の基板と、前記第１の基板と対向するように配置された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に平面的に配置された複数の色素増感型太陽電池と、前記複数の色素増感型太陽電池を直列接続する複数の導電性部材と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置された、複数の電解液充填部と、前記複数の導電性部材を収容するための複数の導電性部材収容部と、を有し、前記複数の色素増感型太陽電池を分離するスペーサーと、を備えた色素増感型太陽電池モジュールであって、前記各電解液充填部及び前記各導電性部材収容部と対向する部分の前記第２の基板に、前記各電解液充填部に前記電解液を導入するための電解液導入部と、前記各導電性部材収容部に前記導電性部材の母材となる導電性ペーストを導入するための導電性ペースト導入部と、を設け、前記スペーサーが設けられていない側の前記第２の基板の面に、前記電解液導入部及び前記導電性ペースト導入部を封止する封止部材を設けたことを特徴とする色素増感型太陽電池モジュールが提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明の他の観点によれば、透光性を有した第１の基板と第２の基板との間に平面的に配置された複数の色素増感型太陽電池を直列接続する複数の導電性部材と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に配置された、前記導電性部材が収容される複数の導電性部材収容部と、電解液が充填される複数の電解液充填部と、を有したスペーサーにおいて、前記導電性部材収容部及び前記電解液充填部が、前記スペーサーを厚さ方向に貫通するように形成された前記スペーサーと、を備えた色素増感型太陽電池モジュールの製造方法であって、前記各電解液充填部と対向する部分の前記第２の基板に、前記第２の基板を貫通する電解液導入部を複数形成する電解液導入部形成工程と、前記各導電性部材収容部と対向する部分の前記第２の基板に、前記第２の基板を貫通する導電性ペースト導入部を複数形成する導電性ペースト導入部形成工程と、前記電解液導入部形成工程及び前記導電性ペースト導入部形成工程の後に、前記スペーサーの一方の端部に前記第１の基板を固定し、かつ、前記スペーサーの他方の端部に前記第２の基板を固定する基板固定工程と、前記基板固定工程後に、前記複数の導電性部材収容部を複数の前記導電性ペースト導入部を介して供給された導電性ペーストで充填して、前記複数の導電性部材を形成する導電性部材形成工程と、前記導電性部材形成工程と同時に、前記各電解液導入部から前記複数の電解液充填部に電解液を充填する電解液充填工程と、前記導電性部材形成工程及び前記電解液充填工程の後に、前記スペーサーが設けられていない側の前記第２の基板の面に、前記複数の電解液導入部及び前記複数の導電性ペースト導入部を封止する封止部材を形成する封止部材形成工程と、を含むことを特徴とする色素増感型太陽電池モジュールの製造方法が提供される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
図１７を参照するに、第２の基板１３は、第２の基板１３の面１３Ａが第１の基板１１の面１１Ａと対向するように、スペーサー１２の上端部に固定されている。第２の基板１３は、複数の電解液導入部２５と、複数の導電性ペースト導入部２６とを有する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月9日(2010.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転駆動される複数の像担持体と、該複数の像担持体と当接した状態で回転駆動される中間転写手段と、前記像担持体の回転速度を検出する第１の検出手段と、前記中間転写手段の回転速度を検出する第２の検出手段と、前記第１の検出手段および前記第２の検出手段での検出の結果に基づいて、前記複数の像担持体の回転速度および回転位相を制御する制御手段と、を備える画像形成装置において、
前記制御手段は、前記複数の像担持体の回転位相を揃える制御を行なう場合において、前記複数の像担持体と前記中間転写手段との速度差が予め定められた範囲を超えたときに、該速度差を制限する制限手段を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記複数の像担持体の回転速度を制御する回転速度制御を該複数の像担持体の回転位相を揃える回転位相制御に切り替え可能な切替手段を備え、該切替手段は、前記複数の像担持体のうちの基準となる像担持体と前記中間転写手段との速度差に基づき、前記複数の像担持体のうちの少なくとも一つの像担持体ごとに前記制御を切り替えることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
回転駆動される複数の像担持体と、該複数の像担持体と当接した状態で回転駆動される中間転写手段と、前記像担持体の回転速度を検出する第１の検出手段と、前記中間転写手段の回転速度を検出する第２の検出手段と、前記第１の検出手段および前記第２の検出手段での検出の結果に基づいて、前記複数の像担持体の回転速度および回転位相を制御する制御手段と、を備える画像形成装置において、
前記制御手段は、前記複数の像担持体の回転速度を制御する回転速度制御を該複数の像担持体の回転位相を揃える回転位相制御に切り替え可能な切替手段を備え、該切替手段は、前記複数の像担持体のうちの基準となる像担持体と前記中間転写手段との速度差に基づき、前記複数の像担持体のうちの少なくとも一つの像担持体ごとに前記制御を切り替えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
前記複数の像担持体および前記中間転写手段は、それぞれ独立した駆動源を備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の画像形成装置は、回転駆動される複数の像担持体と、該複数の像担持体と当接した状態で回転駆動される中間転写手段と、前記像担持体の回転速度を検出する第１の検出手段と、前記中間転写手段の回転速度を検出する第２の検出手段と、前記第１の検出手段および前記第２の検出手段での検出の結果に基づいて、前記複数の像担持体の回転速度および回転位相を制御する制御手段と、を備える画像形成装置において、前記制御手段は、前記複数の像担持体の回転速度を制御する回転速度制御を該複数の像担持体の回転位相を揃える回転位相制御に切り替え可能な切替手段を備え、該切替手段は、前記複数の像担持体のうちの基準となる像担持体と前記中間転写手段との速度差に基づき、前記複数の像担持体のうちの少なくとも一つの像担持体ごとに前記制御を切り替えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月2日(2010.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱式の定着ローラと、
該定着ローラに非接触な状態で配置されて、前記定着ローラの温度を検知する第１のセンサと、
前記第１のセンサの雰囲気温度を検知する第２のセンサと、
前記第１のセンサ及び前記第２のセンサで検知される温度に基づいて、演算式を用いて算出される前記定着ローラの表面温度が目標温度になるように温度制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記表面温度が第１の目標温度になる様に温度上昇させる場合における前記表面温度を算出するための第１の演算式と、前記表面温度が前記第１の目標温度よりも低い第２の目標温度になる様に温度下降させる場合における前記表面温度を算出するための第２の演算式とを異ならせることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記第１の演算式は、前記第２のセンサで検知される温度と前記第１の目標温度に応じた所定の温度との差分をパラーメータとし、前記第２の演算式は、前記第１のセンサで検知される温度と前記第２の目標温度に応じた所定の温度との差分及び前記第２のセンサで検知される温度と前記第１の目標温度に応じた所定の温度との差分をパラーメータとすることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像形成装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、例えば、複写機、プリンタ、ファクシミリ等の画像形成装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
そこで、本発明は、定着ローラの表面に傷をつけることなく、簡単な回路構成によって精度の高い定着ローラの温度検知を行なうことができる画像形成装置を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
上記目的を達成するために、本発明の画像形成装置は、加熱式の定着ローラと、該定着ローラに非接触な状態で配置されて、前記定着ローラの温度を検知する第１のセンサと、前記第１のセンサの雰囲気温度を検知する第２のセンサと、前記第１のセンサ及び前記第２のセンサで検知される温度に基づいて、演算式を用いて算出される前記定着ローラの表面温度が目標温度になるように温度制御する制御手段と、を備え、前記制御手段は、前記表面温度が第１の目標温度になる様に温度上昇させる場合における前記表面温度を算出するための第１の演算式と、前記表面温度が前記第１の目標温度よりも低い第２の目標温度になる様に温度下降させる場合における前記表面温度を算出するための第２の演算式とを異ならせることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月24日(2010.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体側から像側へ順に、ズーミングに際して固定の正の屈折力の第１レンズ群と、広角端から望遠端へのズーミングに際して、像側へ移動する負の屈折力の第２レンズ群と、変倍に伴う像面変動を補正する第３レンズ群と、ズーミングに際して固定の結像作用をする第４レンズ群とから構成されるズームレンズであって、
該第４レンズ群は、レンズ群中で最も長い空気間隔を境に物体側に位置する第４Ｆ群、像側に位置する第４Ｂ群から構成されており、
該第４Ｂ群は、２枚の負レンズと少なくとも３枚の正レンズを含んでおり、
該第４Ｂ群は、該第４Ｂ群の全長の中心位置より、レンズ厚の中心位置が物体側に位置する第４Ｂ１群、像側に位置する第４Ｂ２群を有しており、該第４Ｂ１群と該第４Ｂ２群は、いずれも１つの負レンズと、少なくとも１つの正レンズを含んでおり、
該第４Ｂ１群と該第４Ｂ２群の正レンズの材料の平均アッベ数を各々ν１ｐ、ν２ｐ（但し、正レンズが１つのときは、該正レンズの材料のアッベ数である）、該第４Ｂ１群と該第４Ｂ２群の負レンズの材料のアッベ数を各々ν１ｎ、ν２ｎとするとき
０．５０ ＜ ν１ｐ/ν１ｎ ＜ １．０５
２．３０ ＜ ν２ｐ/ν２ｎ
なる条件を満足することを特徴とするズームレンズ。
【請求項２】
前記第４Ｂ２群の正レンズの材料の平均アッベ数と平均部分分散比を各々ν２ｐ、θ２ｐ、該第４Ｂ２群の負レンズの材料のアッベ数と部分分散比を各々ν２ｎ、θ２ｎとするとき
θ２ｎ＋０.００１６２ × ν２ｎ ＜ ０.６５０
（θ２ｎ − θ２ｐ）／（ν２ｐ−ν２ｎ） ＜ ０．００１７５
なる条件を満足することを特徴とする請求項１に記載のズームレンズ。
【請求項３】
前記第４レンズ群の第４Ｆ群と第４Ｂ群の間に、光路中から挿脱可能で、全系の焦点距離範囲を変位させるレンズユニットを有することを特徴とする請求項１又は２に記載のズームレンズ。
【請求項４】
前記第４Ｂ群は物体側から像側へ順に、正レンズ、負レンズと正レンズとの接合レンズ、正レンズと負レンズとの接合レンズ、正レンズより成ることを特徴とする請求項１、２又は３に記載のズームレンズ。
【請求項５】
前記第４Ｂ群は物体側から像側へ順に、正レンズ、正レンズと負レンズとの接合レンズ、正レンズと負レンズとの接合レンズ、正レンズより成ることを特徴とする請求項１、２又は３に記載のズームレンズ。
【請求項６】
前記第４Ｂ群は物体側から像側へ順に、正レンズ、負レンズと正レンズとの接合レンズ、負レンズと正レンズとの接合レンズ、正レンズより成ることを特徴とする請求項１、２又は３に記載のズームレンズ。
【請求項７】
前記第４Ｂ群は物体側から像側へ順に、正レンズ、負レンズ、正レンズと負レンズとの接合レンズ、正レンズより成ることを特徴とする請求項１、２又は３に記載のズームレンズ。
【請求項８】
前記第４Ｂ群は物体側から像側へ順に、正レンズ、負レンズ、正レンズ、正レンズ、負レンズ、正レンズより成ることを特徴とする請求項１、２又は３に記載のズームレンズ。
【請求項９】
前記第４Ｂ群は物体側から像側へ順に、正レンズ、正レンズ、負レンズと正レンズとの接合レンズ、正レンズと負レンズとの接合レンズ、正レンズより成ることを特徴とする請求項１、２又は３に記載のズームレンズ。
【請求項１０】
前記第４Ｆ群は、物体側から像側へ順に、正レンズ、正レンズ、正レンズと負レンズとの接合レンズより成ることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項のズームレンズ。
【請求項１１】
光電変換素子に像を形成することを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のズームレンズ。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項のズームレンズと、該ズームレンズによって形成された像を受光する固体撮像素子を有することを特徴とする撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のズームレンズは、物体側から像側へ順に、ズーミングに際して固定の正の屈折力の第１レンズ群と、広角端から望遠端へのズーミングに際して、像側へ移動する負の屈折力の第２レンズ群と、変倍に伴う像面変動を補正する第３レンズ群と、ズーミングに際して固定の結像作用をする第４レンズ群とから構成されるズームレンズであって、
該第４レンズ群は、レンズ群中で最も長い空気間隔を境に物体側に位置する第４Ｆ群、像側に位置する第４Ｂ群から構成されており、
該第４Ｂ群は、２枚の負レンズと少なくとも３枚の正レンズを含んでおり、
該第４Ｂ群は、該第４Ｂ群の全長の中心位置より、レンズ厚の中心位置が物体側に位置する第４Ｂ１群、像側に位置する第４Ｂ２群を有しており、該第４Ｂ１群と該第４Ｂ２群は、いずれも１つの負レンズと、少なくとも１つの正レンズを含んでおり、
該第４Ｂ１群と該第４Ｂ２群の正レンズの材料の平均アッベ数を各々ν１ｐ、ν２ｐ（但し、正レンズが１つのときは、該正レンズの材料のアッベ数である）、該第４Ｂ１群と該第４Ｂ２群の負レンズの材料のアッベ数を各々ν１ｎ、ν２ｎとするとき
０．５０ ＜ ν１ｐ/ν１ｎ ＜ １．０５
２．３０ ＜ ν２ｐ/ν２ｎ
なる条件を満足することを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月9日(2010.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動電流を生成する駆動トランジスタ、前記駆動トランジスタの出力端に接続された電気光学素子、映像信号の信号振幅に応じた情報を保持する保持容量、および前記映像信号の信号振幅に応じた情報を前記保持容量に書き込むサンプリングトランジスタを具備し、前記保持容量に保持された情報に基づく駆動電流を前記駆動トランジスタで生成して前記電気光学素子に流すことで当該電気光学素子が発光する画素回路が行列状に配置されている画素アレイ部と、
前記サンプリングトランジスタを水平周期で順次制御することで前記画素回路を線順次走査して１行分の各保持容量に映像信号の信号振幅に応じた情報を書き込むための書込走査パルスを前記サンプリングトランジスタに出力する書込走査部、前記書込走査部での前記線順次走査に合わせて１行分の映像信号を前記映像信号線に供給する水平駆動部を具備する制御部とを備え
前記画素アレイ部は、
前記映像信号を前記サンプリングトランジスタに伝達するための映像信号線と、前記駆動トランジスタの制御入力端側の配線が、別の配線層に形成されている
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記映像信号を前記サンプリングトランジスタに伝達するための映像信号線と、前記駆動トランジスタの制御入力端側の配線が、平面上において別の位置に設けられている
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
駆動電流を生成する駆動トランジスタ、前記駆動トランジスタの出力端に接続された電気光学素子、映像信号の信号振幅に応じた情報を保持する保持容量、および前記映像信号の信号振幅に応じた情報を前記保持容量に書き込むサンプリングトランジスタを具備し、前記保持容量に保持された情報に基づく駆動電流を前記駆動トランジスタで生成して前記電気光学素子に流すことで当該電気光学素子が発光する画素回路が行列状に配置されている画素アレイ部と、
前記サンプリングトランジスタを水平周期で順次制御することで前記画素回路を線順次走査して１行分の各保持容量に映像信号の信号振幅に応じた情報を書き込むための書込走査パルスを前記サンプリングトランジスタに出力する書込走査部、前記書込走査部での前記線順次走査に合わせて１行分の映像信号を前記映像信号線に供給する水平駆動部を具備する制御部とを備え
前記画素アレイ部は、前記映像信号を前記サンプリングトランジスタに伝達するための映像信号線と前記駆動トランジスタの制御入力端側の配線と間に形成される線間容量の容量値が、黒ウィンドウパターン表示時において、前記線間容量を起因とする映像信号飛込みノイズによる白表示エリア同士の輝度差が１％以下となるように設定されている
ことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
前記駆動電流を一定に維持する駆動信号一定化回路をさらに備えている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記駆動信号一定化回路は、基準電位と信号電位で切り替わる映像信号を前記サンプリングトランジスタに供給するとともに、駆動電流を前記電気光学素子に流すために使用される第１電位に対応する電圧が前記駆動トランジスタの前記電源供給端に供給されかつ映像信号における基準電位が前記サンプリングトランジスタに供給されている時間帯で前記サンプリングトランジスタを導通させることで前記駆動トランジスタの閾値電圧に対応する電圧を前記保持容量に保持させる閾値補正機能を実現するように構成されたものである
ことを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記駆動信号一定化回路は、前記駆動トランジスタの閾値電圧に対応する電圧を前記保持容量に保持させる閾値補正機能と、閾値補正動作の後に、前記サンプリングトランジスタを導通させることで前記保持容量に信号振幅に応じた情報を書き込む際、前記駆動トランジスタの移動度に対する補正分を前記保持容量に書き込まれる信号に加える移動度補正 機能とを実現するように構成されたものである
ことを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【請求項７】
前記駆動信号一定化回路は、前記保持容量が前記駆動トランジスタの制御入力端と前記駆動電流出力端の間に接続されることでブートストラップ機能を実現するように構成されたものである
ことを特徴とする請求項４に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月9日(2010.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電極が設けられた第１基板と、第２電極が設けられた第２基板と、これらの基板間に前記電極を介して挟持された液晶層とを備えると共に、表示光の取り出し側に配置される前記第２基板上の第２電極に前記液晶層を構成する液晶分子の配向に寄与する開口が設けられた液晶表示装置において、
前記第２基板と第２電極との間に帯電防止層が設けられている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記帯電防止層には所定の電位が印加される
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の液晶表示装置において、
前記帯電防止層は透明導電性材料からなり、当該帯電防止層上に絶縁性のカラーフィルタ層を介して前記第２電極が設けられている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３記載の液晶表示装置において、
前記第２電極は複数の画素に共通の共通電極であり、前記帯電防止層に対して当該第２電極が接続されている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記第２基板上には、カラーフィルタ層を介して前記第２電極が設けられており、当該カラーフィルタ層が前記帯電防止層として用いられている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記第２基板上には、カラーフィルタ層および平坦化層がこの順に設けられ、当該平坦化層上に前記第２電極が設けられており、
前記平坦化層が前記帯電防止層として用いられている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１記載の液晶表示装置において、
前記第２基板上には、カラーフィルタ層およびセルギャップ調整層がこの順に設けられ、当該セルギャップ調整層上に前記第２電極が設けられており、
前記説ギャップ調整層が前記帯電防止層として用いられている
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記第１電極および第２電極に対して電圧無印加の状態では前記液晶分子が前記基板に対してほぼ垂直に配向し、電圧印加の状態では前記液晶分子が前記基板に対してほぼ水平に配向する
ことを特徴とする液晶表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月9日(2010.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動電流を生成する駆動トランジスタ、前記駆動トランジスタの出力端に接続された電気光学素子、映像信号の信号振幅に応じた情報を保持する保持容量、前記映像信号の信号振幅に応じた情報を前記保持容量に書き込むサンプリングトランジスタ、および前記電気光学素子と電気回路的に並列接続された補助容量を具備し、前記保持容量に保持された情報に基づく駆動電流を前記駆動トランジスタで生成して前記電気光学素子に流すことで当該電気光学素子が発光する画素回路が行列状に配置されている画素アレイ部と、
前記サンプリングトランジスタを水平周期で順次制御することで前記画素回路を線順次走査して１行分の各保持容量に映像信号の信号振幅に応じた情報を書き込むための書込走査パルスを前記サンプリングトランジスタに出力する書込走査部、前記書込走査部での前記線順次走査に合わせて１行分の映像信号を前記映像信号線に供給する水平駆動部を具備する制御部とを備え
前記画素アレイ部は、
１画素内において、前記サンプリングトランジスタを駆動するための書込走査線と、前記駆動トランジスタの電源供給端にパルス状の電源電圧を供給するための電源供給線とが同一方向に配線され、
前記補助容量の一端は前記駆動トランジスタが属する当該段の前記駆動トランジスタの駆動電流出力端と接続されており、前記補助容量の他端は当該段に隣接する隣接段の前記駆動トランジスタ用の前記電源供給線と接続されており、
前記当該段の書込走査線と前記隣接段の電源供給線との配線間に、他の配線もしくは他の回路部材が配置されている
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記当該段の書込走査線と前記隣接段の電源供給線との配線間に配置されている前記他の配線には、固定電位が供給される
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記当該段の書込走査線と前記隣接段の電源供給線との配線間に配置されている前記他の配線は、フローティング状態とされている
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
駆動電流を生成する駆動トランジスタ、前記駆動トランジスタの出力端に接続された電気光学素子、映像信号の信号振幅に応じた情報を保持する保持容量、前記映像信号の信号振幅に応じた情報を前記保持容量に書き込むサンプリングトランジスタ、および前記電気光学素子と電気回路的に並列接続された補助容量を具備し、前記保持容量に保持された情報に基づく駆動電流を前記駆動トランジスタで生成して前記電気光学素子に流すことで当該電気光学素子が発光する画素回路が行列状に配置されている画素アレイ部と、
前記サンプリングトランジスタを水平周期で順次制御することで前記画素回路を線順次走査して１行分の各保持容量に映像信号の信号振幅に応じた情報を書き込むための書込走査パルスを前記サンプリングトランジスタに出力する書込走査部、前記書込走査部での前記線順次走査に合わせて１行分の映像信号を前記映像信号線に供給する水平駆動部を具備する制御部とを備え
前記画素アレイ部は、
１画素内において、前記サンプリングトランジスタを駆動するための書込走査線と、前記駆動トランジスタの電源供給端にパルス状の電源電圧を供給するための電源供給線とが同一方向に配線され、
前記補助容量の一端は前記駆動トランジスタが属する当該段の前記駆動トランジスタの駆動電流出力端と接続されており、前記補助容量の他端は当該段に隣接する隣接段の前記駆動トランジスタ用の前記電源供給線と接続されており、
前記当該段の書込走査線と前記隣接段の電源供給線と間に形成される線間容量の容量値が、黒ウィンドウパターン表示時において、前記線間容量を起因とする書込駆動パルスノイズによる白表示エリア同士の輝度差が１％以下となるように設定されている
ことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
前記駆動電流を一定に維持する駆動信号一定化回路をさらに備えている
ことを特徴とする請求項１，２または４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記駆動信号一定化回路は、基準電位と信号電位で切り替わる映像信号を前記サンプリングトランジスタに供給するとともに、駆動電流を前記電気光学素子に流すために使用される第１電位に対応する電圧が前記駆動トランジスタの前記電源供給端に供給されかつ映像信号における基準電位が前記サンプリングトランジスタに供給されている時間帯で前記サンプリングトランジスタを導通させることで前記駆動トランジスタの閾値電圧に対応する電圧を前記保持容量に保持させる閾値補正機能を実現するように構成されたものである
ことを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
前記駆動信号一定化回路は、前記駆動トランジスタの閾値電圧に対応する電圧を前記保持容量に保持させる閾値補正機能と、閾値補正動作の後に、前記サンプリングトランジスタを導通させることで前記保持容量に信号振幅に応じた情報を書き込む際、前記駆動トランジスタの移動度に対する補正分を前記保持容量に書き込まれる信号に加える移動度補正機能とを実現するように構成されたものである
ことを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項８】
前記駆動信号一定化回路は、前記保持容量が前記駆動トランジスタの制御入力端と前記駆動電流出力端の間に接続されることでブートストラップ機能を実現するように構成されたものである
ことを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月2日(2010.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮影光路内に侵入するミラーダウン位置と前記撮影光路から退避するミラーアップ位置との間を移動可能な第１ミラー部材と、
前記第１ミラー部材上に設けられた第１及び第２の揺動支点に軸部により軸支され前記第１及び第２の揺動支点を中心として前記第１ミラー部材に対して揺動可能な第２ミラー部材と、
前記第１及び第２の揺動支点の少なくとも一方の、前記軸部の延びる方向に交差する方向の位置を調整する調整機構と、
前記軸部を遮蔽する遮蔽部材と、
を備えることを特徴とするミラー装置。
【請求項２】
前記第１ミラー部材の少なくとも前記第１及び第２の揺動支点を樹脂材料で形成し、
前記第２ミラー部材は、前記第１及び第２の揺動支点に設けられた軸穴部に圧入固定された前記軸部により軸支されていることを特徴とする請求項１記載のミラー装置。
【請求項３】
前記遮蔽部材を前記第１ミラー部材の反射面とは反対側に配置したことを特徴とする請求項１または請求項２記載のミラー装置。
【請求項４】
前記遮蔽部材は、その表面に反射防止処理が施されていることを特徴とする請求項３記載のミラー装置。
【請求項５】
前記第１ミラー部材を支持する支持部材を更に備え、
前記支持部材は、前記第１ミラー部材の前記調整機構に対向する位置に、前記調整機構の調整を行う調整具が貫通するための穴を有することを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載のミラー装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明のミラー装置ＲＭは、撮影光路内に侵入するミラーダウン位置と前記撮影光路から退避するミラーアップ位置との間を移動可能な第１ミラー部材（１８）と、前記第１ミラー部材上に設けられた第１及び第２の揺動支点（１８ｃ）に軸部（３０、３２）により軸支され前記第１及び第２の揺動支点を中心として前記第１ミラー部材に対して揺動可能な第２ミラー部材（１９）と、前記第１及び第２の揺動支点の少なくとも一方の、前記軸部の延びる方向に交差する方向（撮影光路Ｌ１に対するヨーイング方向）の位置を調整する調整機構（３０）と、前記軸部を遮蔽する遮蔽部材（４０）と、を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月22日(2010.7.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線タルボ干渉計に用いられる回折格子の製造方法であって、
紫外線透過型基板の表面に所定のパターンでＸ線吸収金属部が形成された回折格子を準
備し、前記紫外線透過型基板及び前記Ｘ線吸収金属部の表面に紫外線感光樹脂層を形成し
て、光学リソグラフィー法により、前記Ｘ線吸収金属部を光学リソグラフィーマスクとし
て前記紫外線透過型基板の裏面から紫外線を照射して、前記Ｘ線吸収金属部に対応する前
記紫外線感光樹脂層を現像により除去し、そして、電鋳法により、前記Ｘ線吸収金属部に
電圧を印加して前記紫外線感光樹脂層が除去された部分にＸ線吸収金属部を積層させるこ
とを特徴とする、回折格子の製造方法。
【請求項２】
紫外線透過型基板の表面に金属シード層を形成し、その金属シード層の表面に紫外線感
光樹脂層を形成して、光学リソグラフィー法により、前記金属シード層の表面に形成され
た紫外線感光樹脂層に光学リソグラフィーマスクを用いたパターニングを行って現像によ
り前記紫外線感光樹脂層を除去し、そして、電鋳法により、前記金属シード層に電圧を印
加して当該紫外線感光樹脂層が除去された部分にＸ線吸収金属部を形成し、前記Ｘ線吸収
金属部が形成された部分以外の部分に対応する前記紫外線感光樹脂層及び前記金属シード
層を除去した後、
前記紫外線透過型基板及び前記Ｘ線吸収金属部の表面に紫外線感光樹脂層を形成して、
光学リソグラフィー法により、前記Ｘ線吸収金属部を光学リソグラフィーマスクとして前
記紫外線透過型基板の裏面から紫外線を照射して、前記Ｘ線吸収金属部に対応する前記紫
外線感光樹脂層を現像により除去し、そして、電鋳法により、前記金属シード層を介して
前記Ｘ線吸収金属部に電圧を印加して前記紫外線感光樹脂層が除去された部分にＸ線吸収
金属部を積層させることを特徴とする、請求項１に記載の回折格子の製造方法。
【請求項３】
Ｘ線タルボ干渉計に用いられる回折格子の製造方法であって、
紫外線透過型基板の表面に金属シード層を形成し、その金属シード層の表面に紫外線感
光樹脂層を形成して、光学リソグラフィー法により、前記金属シード層の表面に形成され
た紫外線感光樹脂層に光学リソグラフィーマスクを用いたパターニングを行って現像によ
り前記紫外線感光樹脂層を除去し、そして、電鋳法により、前記金属シード層に電圧を印
加して当該紫外線感光樹脂層が除去された部分にＸ線吸収金属部を形成し、前記Ｘ線吸収
金属部が形成された部分以外の部分に対応する前記紫外線感光樹脂層及び前記金属シード
層を除去することを特徴とする、回折格子の製造方法。
【請求項４】
Ｘ線タルボ干渉計に用いられる回折格子の製造方法であって、
Ｘ線透過型基板の表面に所定のパターンでＸ線吸収金属部が形成された回折格子を準備
し、前記Ｘ線透過型基板及び前記Ｘ線吸収金属部の表面にＸ線感光樹脂層を形成して、Ｘ
線リソグラフィー法により、前記Ｘ線吸収金属部をＸ線リソグラフィーマスクとして前記
Ｘ線透過型基板の裏面からＸ線を照射して、前記Ｘ線吸収金属部に対応する前記Ｘ線感光
樹脂層を現像により除去し、そして、電鋳法により、前記Ｘ線吸収金属部に電圧を印加し
て前記Ｘ線感光樹脂層が除去された部分にＸ線吸収金属部を積層させることを特徴とする
、回折格子の製造方法。
【請求項５】
Ｘ線タルボ干渉計に用いられる回折格子の製造方法であって、
Ｘ線透過型基板の表面に金属シード層を形成し、その金属シード層の表面にＸ線感光樹
脂層を形成して、Ｘ線リソグラフィー法により、前記金属シード層の表面に形成されたＸ
線感光樹脂層にＸ線リソグラフィーマスクを用いたパターニングを行って現像により前記
Ｘ線感光樹脂層を除去し、そして、電鋳法により、前記金属シード層に電圧を印加して当
該Ｘ線感光樹脂層が除去された部分にＸ線吸収金属部を形成することを特徴とする、回折
格子の製造方法。
の回折格子の製造方法。