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【手続補正書】
【提出日】平成22年9月17日(2010.9.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モジュールの受光面側に設けられた透光性基板と、
前記透光性基板の前記受光面側に対して反対側の面に、透明導電膜及び受光電極から構成される光極と、前記光極の前記受光面の反対側に所定間隔を隔てて対面する対極と、前記光極及び前記対極の間を充填する電解質と、を備えるセルが複数個電気的に直列に接続されて並設された発電部と、
前記発電部の前記受光面側に対して反対側の面を被覆し、前記発電部を防湿する防湿部材と、
前記複数のセル間には前記セル間を区画するリブ状の中間シール部を有する色素増感型太陽電池モジュールを製造する方法であって、
前記中間シール部には、前記透光性基板及び前記防湿部材の間の距離を規制するスペーサを含み、
複数の前記セルを前記透光性基板上に載置した後に、前記中間シール部が配設される部位に流体状乃至は固体状の接着性材料を載置する工程と、
前記接着材料を載置する工程の後に、前記防湿部材を重ね合わせる工程と、
前記防湿部材を重ね合わせる工程の後に、前記中間シール部が配設される部位を加熱して前記中間シール部を形成する工程と、を有することを特徴とする太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項２】
前記中間シール部は、接着性官能基を導入したポリオレフィン系材料を主成分とする熱接着性材料から構成される請求項１に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項３】
前記接着性官能基はカルボキシ基又はその塩を含む請求項２に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項４】
前記防湿部材を載置する工程の後に、前記透光性基板及び／又は前記防湿部材を介して、加熱した金型又はロールプレスにより前記中間シール部が配設される部位を加圧して前記中間シール部を形成する工程を有する請求項２又は３に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項５】
前記接着性材料は特定波長の光を吸収する吸収剤を含有し、
加熱した前記金型にて加圧する工程の替わりに、特定波長のレーザを照射して前記中間シール部を加熱・接着する工程を有する請求項４に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項６】
前記防湿部材は金属又は無機酸化物から形成される防湿層を備え、且つ、フィルム状である請求項１〜５のいずれかに記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項７】
前記防湿部材の前記セルに対面する側に接着性材料層が設けられている請求項１〜６のいずれかに記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項８】
前記接着性材料層は前記中間シール部と同種の材料で形成されている請求項７に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】色素増感型太陽電池モジュールの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、複数のセルを有する色素増感型太陽電池モジュールの製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（１）上記課題を解決する本発明の色素増感型太陽電池の製造方法は、モジュールの受光面側に設けられた透光性基板と、
前記透光性基板の前記受光面側に対して反対側の面に、透明導電膜及び受光電極から構成される光極と、前記光極の前記受光面の反対側に所定間隔を隔てて対面する対極と、前記光極及び前記対極の間を充填する電解質と、を備えるセルが複数個電気的に直列に接続されて並設された発電部と、
前記発電部の前記受光面側に対して反対側の面を被覆し、前記発電部を防湿する防湿部材と、
前記複数のセル間には前記セル間を区画するリブ状の中間シール部を有する色素増感型太陽電池モジュールを製造する方法であって、
前記中間シール部には、前記透光性基板及び前記防湿部材の間の距離を規制するスペーサを含み、
複数の前記セルを前記透光性基板上に載置した後に、前記中間シール部が配設される部位に流体状乃至は固体状の接着性材料を載置する工程と、
前記接着材料を載置する工程の後に、前記防湿部材を重ね合わせる工程と、
前記防湿部材を重ね合わせる工程の後に、前記中間シール部が配設される部位を加熱して前記中間シール部を形成する工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、前記中間シール部は前記透光性基板及び前記防湿部材の間の距離を規制するスペーサを有する。介在させたスペーサによって、透光性基板と防湿部材との間に加わる圧力を受けることができ、強い力がセルに加わることを効果的に防止できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
更に、必要に応じて、ガラス繊維などの充填材を導入することができる。充填材としては、透光性基板と防湿部材との間の距離を規制する粒子状などの形状をもつスペーサを含有させることができる。スペーサの大きさはセルの厚みと同程度、又は、少し大きい程度の大きさを採用することで、セルに対して好ましくない不要な圧力が加えられることが防止できる。
透光性基板と防湿部材との間の距離を規制することで、透光性基板に形成された透明導電膜と防湿部材に密着する対極との間での短絡を防止できると共に、電解質を注入する空間を確保することができる。ここで、スペーサの形状として球状を採用するのは、中間シール部を形成する際に予めスペーサを混入した材料を利用することが作業性の観点からは好ましいので、スペーサを含有させた材料の流動性を阻害しないようにするためである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月17日(2010.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来より、撮影レンズと撮像素子とを備え被写体を表わす画像信号を生成する撮像ユニットを備えた撮像部と、その撮像部を遠隔操作する操作部とを具備した遠隔撮影システムが知られている（例えば、特許文献１参照。）。このような遠隔撮影システムにおいて、遠隔操作により縦撮り撮影を行なうには、操作部に備えられた操作子を操作して、遠隔地に設置されている撮像部を光軸と平行な回転軸のまわりに９０度回転させるという指示が行なわれる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
また、通信路を介して撮影装置を制御するホストコントローラを有する遠隔撮影システムにおいて、ホストコントローラの表示手段に表示された撮影装置のアイコンを、撮影モードに応じた操作を案内すべく変更する技術が提案されている（特許文献２参照）。この技術によれば、縦撮り撮影にあたり、撮影装置を構える際の回転方向をアイコン表示で知ることができる。
【特許文献１】特開２００５−２７８０２０号公報
【特許文献２】特開２００２−９４８６７号公報
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月8日(2010.4.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
そこで、メニュー項目の表示順をユーザが任意に設定するモードと、頻度順に自動変更するモードと、を選択したり、あるいは製品出荷時の初期状態などの所定の表示順に切り替えて表示する電子カメラが提案されている（例えば、特許文献１を参照）。
また、デジタルカメラ等のメニュー項目を動的に優先順位付けする方法であって、ユーザが選択したメニュー項目を記録し、各メニュー項目に対する使用頻度を確定・分析し、使用頻度に基づいて優先順位付けする方法が提案されている（例えば、特許文献２を参照）。
また、最近ではメニュー画面の使い勝手が良くなるように、任意の条件、例えば被写体周囲の撮影環境に基づいて該撮影環境に適合したメニュー項目を表示するようにした撮影処理装置及び撮影モード選択方法が提案されている（例えば、特許文献３を参照）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−８４４４７号公報（段落０００７等）
【特許文献２】特開２００４−９６７２５号公報（段落０００３、図５等）
【特許文献３】特開２００５−１３０１８４号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
ところで、カメラは、各ユーザがそれぞれ異なる使い方をするため、人によって頻繁に使用する機能や設定などが相違する。例えば特許文献３に記載のものは、撮影環境に適合したメニュー項目を表示するものであるが、そこに表示されたメニュー項目の中でもユーザにより選択される項目は異なる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月4日(2010.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上に下部導電層を形成する段階と、
前記下部導電層を覆う層間絶縁膜を形成する段階と、
前記層間絶縁膜内に前記下部導電層を露出させ、短軸方向に比べて長軸方向に近接して配列された複数の楕円形コンタクトホールを形成する段階と、
前記コンタクトホールを埋め込んでコンタクトプラグを形成する段階と、
を含むことを特徴とする半導体素子の製造方法。
【請求項２】
前記コンタクトホールの短軸対比長軸は、０．５：１〜０．９５：１に形成することを特徴とする請求項１に記載の半導体素子の製造方法。
【請求項３】
前記コンタクトホールの縦横比は、１０：１〜４０：１に形成することを特徴とする請求項１に記載の半導体素子の製造方法。
【請求項４】
前記コンタクトホールの深さは、１．５μｍ以上に形成することを特徴とする請求項１に記載の半導体素子の製造方法。
【請求項５】
前記複数のコンタクトホールの長軸方向における相互の間隔は２０ｎｍ〜１００ｎｍに形成することを特徴とする請求項１に記載の半導体素子の製造方法。
【請求項６】
前記コンタクトホールを形成する段階は、プラズマエッチングすることを特徴とする請求項１に記載の半導体素子の製造方法。
【請求項７】
前記エッチングは、ＣxＦy、Ｏ2及びＡｒの反応ガスを用いることを特徴とする請求項６に記載の半導体素子の製造方法。
【請求項８】
ＣxＨyＦzを用いて付加的なエッチングを行うことを特徴とする請求項７に記載の半導体素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体素子の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は半導体素子の製造方法に係り、さらに詳細には、特にコンタクトボーイング（contact bowing）による短絡を防止する半導体素子の製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
ストレージ電極２３２が形成された基板２００の全面に誘電体膜２３４を形成する。誘電体膜２３４は、タンタル酸化膜（Ｔａ2Ｏ5）又はアルミニウム酸化膜（Ａｌ2Ｏ3）の単一膜、又はタンタル酸化膜／チタン酸化膜、アルミニウム酸化膜／チタン酸化膜などの積層膜として形成される。続けて、プレートノード形成のための導電膜２３６を形成する。導電膜２３６は、ドーピングされたポリシリコン単一膜又は拡散防止膜とドーピングされたポリシリコン膜との積層膜として形成される。拡散防止膜としてＴｉＮを使用する場合、ＣＶＤ法によって３００Å〜４００Åの厚さで形成し、ドーピングされたポリシリコン膜は６００℃〜７００℃の温度でＳｉＨ4又はＳｉ2Ｈ6などの反応ガスとＰＨ3などのドーピング用ガスを使用するＬＰＣＶＤ法によって２０００Å〜３０００Å厚さで形成される。続いて、導電膜２３６及び誘電体膜２３４をパターニングして、セルキャパシタ２４０ａを完成する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
多数の楕円形コンタクトホール２６１、２６２、２６３を形成する場合、第４の層間絶縁膜２５０上面に感光膜又はハードマスク膜（図示せず）を蒸着する。続いて、コンタクトホール２６１、２６２、２６３になる部分の感光膜又はハードマスク膜をオープンしてエッチングすることによって、下部導電層である導電膜２２４が露出するようにする。ここで、エッチング工程は、高密度プラズマ反応性イオンエッチング（High Density Plasma Reactive Ion Etching：ＨＤＰ  ＲＩＥ）工程でありうる。ＨＡＲＣプロセスに用いられる主反応ガスとしてはフルオロカーボン系のガスがあり、添加反応ガスとしては酸素（Ｏ2）、アルゴン（Ａｒ）ガスなどがある。また、フルオロカーボン系のガスは飽和型と不飽和型に分類できる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
上記のように、高い縦横比を有するコンタクトホール２６１、２６２、２６３をエッチングする工程は、ＣxＦy（ｘ、ｙは整数：以下同じ）及びＯ2、Ａｒの流量を変えながら一回で（１ｓｔｅｐ）エッチングされる。例えば、Ｃ2Ｆ6ガスとＣ4Ｆ8及びＯ2、Ａｒの混合ガスを用いることができる。また、Ｃ5Ｆ8、Ｏ2及びＡｒの混合ガスを用いることができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
又は、高い縦横比によってエッチングが碌に行われない可能性を考慮してＣxＦy及びＯ2、Ａｒとして先ずエッチングした後、水素系を含んだＣxＨyＦz（ｘ、ｙ、ｚは整数：以下同じ）としてもう一度エッチングされる（２−ｓｔｅｐ）。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月25日(2009.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
前記ビームエキスパンダー光学系は入射口に凹レンズを有し、
前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凹レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凹レンズとの距離をＸとすると、
前記Ｘが、ｂ−３｜ｆ｜≦Ｘ≦ｂ＋｜ｆ｜、
を満たすことを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項２】
レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
前記ビームエキスパンダー光学系は入射口に凹レンズを有し、
前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凹レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凹レンズとの距離をＸとすると、
前記Ｘが概略、Ｘ＝ｂ−｜ｆ｜、
であることを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項３】
レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記ビームエキスパンダー光学系を通った前記レーザー光を入射させる回折光学素子と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
前記ビームエキスパンダー光学系は、前記レーザー光の進行方向において順に設けられた凹レンズと凸レンズとを有し、
前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凹レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凹レンズとの距離をＸとすると、
前記Ｘが、ｂ−３｜ｆ｜≦Ｘ≦ｂ＋｜ｆ｜、
を満たすことを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項４】
レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記ビームエキスパンダー光学系を通った前記レーザー光を入射させる回折光学素子と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
前記ビームエキスパンダー光学系は、前記レーザー光の進行方向において順に設けられた凹レンズと凸レンズとを有し、
前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凹レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凹レンズとの距離をＸとすると、
前記Ｘが概略、Ｘ＝ｂ−｜ｆ｜、
であることを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項５】
レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
前記ビームエキスパンダー光学系は入射口に凸レンズを有し、
前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凸レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凸レンズとの距離をＸとすると、
前記Ｘが、ｂ−｜ｆ｜≦Ｘ≦ｂ＋３｜ｆ｜、
を満たすことを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項６】
レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
前記ビームエキスパンダー光学系は入射口に凸レンズを有し、
前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記凸レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記凸レンズとの距離をＸとすると、
前記Ｘが概略、Ｘ＝ｂ＋｜ｆ｜、
であることを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項７】
レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記ビームエキスパンダー光学系を通った前記レーザー光を入射させる回折光学素子と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
前記ビームエキスパンダー光学系は、前記レーザー光の進行方向において順に設けられた第１の凸レンズと第２の凸レンズとを有し、
前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記第１の凸レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記第１の凸レンズとの距離をＸとすると、
前記Ｘが、ｂ−｜ｆ｜≦Ｘ≦ｂ＋３｜ｆ｜、
を満たすことを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項８】
レーザー発振器と、前記レーザー発振器から発振されたレーザー光を入射させるビームエキスパンダー光学系と、前記ビームエキスパンダー光学系を通った前記レーザー光を入射させる回折光学素子と、前記レーザー発振器と前記ビームエキスパンダー光学系との間に配置された補正レンズとを有し、
前記ビームエキスパンダー光学系は、前記レーザー光の進行方向において順に設けられた第１の凸レンズと第２の凸レンズとを有し、
前記レーザー発振器の射出点を第１の共役点、前記第１の共役点の像が前記補正レンズを介して結像される点を第２の共役点、前記補正レンズから前記第２の共役点までの距離をｂ、前記第１の凸レンズの焦点距離をｆ、前記補正レンズと前記第１の凸レンズとの距離をＸとすると、
前記Ｘが概略、Ｘ＝ｂ＋｜ｆ｜、
であることを特徴とするレーザー光照射装置。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項において、
前記補正レンズは、凸レンズであることを特徴とするレーザー光照射装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レ−ザー光照射装置
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月31日(2010.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
本技術分野の背景技術としては、例えば特許文献１がある。特許文献１には、店頭での展示に有効なデモ機能を有する電子カメラが開示されている。
また、例えば特許文献２には
「[要約][課題]ＯＳの起動中にＡＶコンテンツを表示部へ表示することが可能であるシステムを提供する。
[解決手段]ＡＶ再生スイッチ１１５をオンにしグラフィックコントローラ１０４が信号線１２１ａおよび信号線１２２ａをディセーブルするようセットされることでサウスブリッジ１０７がＴＶチューナ１２１およびＤＶＤドライブ１２２の制御をできないようにする。ＴＶチューナ１２１から出力されるコンテンツは信号線１０４ｂを介してＶＣＯＮＴ１０５に入力されさらにＬＣＤ１０６へ出力される。ＬＣＤ１０６にコンテンツの映像が表示されるとともにＯＳの起動が開始され、ＯＳ起動中、グラフィックコントローラ１０４はノースブリッジ１０２から送られる信号をＶＣＯＮＴ１０５に出力しない。ＯＳ起動処理が終了すると、ＯＳ起動完了を意味するメッセージがＬＣＤ１０６に表示されているＡＶコンテンツ上に表示される。」と記載されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
【特許文献１】特開2001−352479号公報
【特許文献２】特開平10−243368号公報
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月8日(2010.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
充電式ニッケル亜鉛電池であって、
亜鉛又は亜鉛化合物を含む陰極と、
酸化ニッケル、水酸化ニッケル、および/又は、オキシ水酸化ニッケルを含む正極と、
0.025Mないし0.25Mの範囲のリン酸塩と、4Mないし9Mの範囲の遊離アルカリとを含む電解質で、1M以下のホウ酸塩を含む電解質と、
を備える電池。
【請求項２】
請求項１記載の電池であって、リン酸塩が、0.05Mないし0.15Mの濃度範囲で前記電解質中に存在する、電池。
【請求項３】
請求項１記載の電池であって、遊離アルカリが、4Mないし6Mの濃度範囲で前記電解質中に存在する、電池。
【請求項４】
請求項１記載の電池であって、遊離アルカリが、6Mないし9Mの濃度範囲で前記電解質中に存在する、電池。
【請求項５】
請求項４記載の電池であって、遊離アルカリが、ナトリウム、リチウムおよびカリウムの水酸化物として存在する、電池。
【請求項６】
請求項５記載の電池であって、前記電解質は、0Mないし4Mの範囲の水酸化リチウムと、1.5Mないし3.5Mの範囲の水酸化ナトリウムと、4Mないし7Mの範囲の水酸化カリウムとを含む、電池。
【請求項７】
請求項１記載の電池であって、前記電解質が、更にインジウム化合物を含む、電池。
【請求項８】
請求項７記載の電池であって、インジウム化合物が、硫酸インジウム、酢酸インジウム、フッ化インジウムのいずれかである、電池。
【請求項９】
請求項７記載の電池であって、インジウム化合物が、0.0003Ｍないし0.01Ｍの濃度範囲で前記電解質中に存在する、電池。
【請求項１０】
請求項１記載の電池であって、前記電解質が、更にポリエチレングリコール、水酸化テトラブチルアンモニウム、および、アルキルリン酸エステルからなる群から選択される化合物を含む、電池。
【請求項１１】
請求項１記載の電池であって、前記正極が、フッ素化ポリオレフィンおよび分散剤の一方又は両方以外の有機化合物を含まない、電池。
【請求項１２】
請求項１記載の電池であって、密閉型である充電式ニッケル亜鉛電池。
【請求項１３】
請求項１記載の電池であって、充電式ニッケル亜鉛電池を形成する前に、前記電解質の組成が存在する、電池。
【請求項１４】
請求項１記載の電池であって、前記電解質が、更に0.01Ｍないし1Ｍの範囲のフッ化物を含む、電池。
【請求項１５】
ニッケル亜鉛電池の作成方法であって、
インジウムをアノード溶解させた溶液を作成し、
前記溶液に水酸化物を加え、
亜鉛電極を準備し、
ニッケル含有電極を準備し、
前記電極と前記溶液とを組み合わせて、電池を作成する、
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月13日(2010.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケーシング（２）と、該ケーシング（２）内に構成された１つの接続室（３）と、該接続室（３）内へ接続しようとする電気的な導体（６）を通す２つの導体挿入部（４，５）と、該導体挿入部（４，５）あたり前記接続室（３）内に配置され、それぞれ１つの電流ビーム（７）とクランプばね（１０）の一方のクランプ脚（８，９）とから成る導体接続装置とを有し、前記クランプ脚（８，９）と前記電流ビーム（７）とが、接続しようとする電気的な導体（６）のためにばね力クランプ接続部を形成しており、前記両方のクランプ脚部（８，９）がそれぞれ支持脚部（１１，１２）と結合されている形式の電気的な接続クランプにおいて、
前記ケーシング（２）内に１つのクランプばね（１０）しか配置されておらず、両方の前記支持脚部（１１，１２）が前記クランプ脚部（８，９）から遠い端部で互いに結合されかつ前記接続室（３）の縁にてケーシング壁に接触しており、
前記電流ビーム（７）の一方又は両方が前記両方のクランプ脚部（８，９）の間に配置されておりかつ接続しようとする導体（６）の挿込み方向（Ｅ）に対しほぼ平行に延びるように前記電流ビーム（７）の一方又は両方とクランプばね（１０）とが配置されかつ構成されていることを特徴とする、電気的な接続クランプ。
【請求項２】
１つの電流ビーム（７）だけが前記ケーシング（２）内に配置され、この場合、前記電流ビーム（７）のそれぞれ片側がそれぞれ１つのクランプ脚部（８，９）と１つのばね力クランプ接続部を形成している、請求項１記載の電気的な接続クランプ。
【請求項３】
前記電流ビーム（７）が互いにほぼ平行に延びる２つの電流ビーム区分（１３，１４）から成り、両方の電流ビーム区分（１３，１４）が挿込み方向（Ｅ）に対して反対方向に向いた湾曲した結合領域（１５）を介して互いに結合されており、それぞれ１つの電流ビーム区分（１３，１４）がそれぞれ１つのクランプ脚部（８，９）と１つのばね力クランプ接続部を形成している、請求項２記載の電気的な接続クランプ。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月23日(2010.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と、
該発光素子と光学的に結合される光導波路を備えた基板とを有し、
前記発光素子のバンプを前記基板上の電気配線に接合して構成される発光素子と基板との接合構造であって、
前記発光素子から前記基板への出射光の光路を含む箇所には、前記発光素子と前記基板とを接着するフィラーを含有しない透明樹脂を設け、
前記発光素子と前記基板との間であり前記出射光の光路を含まない箇所にはフィラーを含有する樹脂を設けたことを特徴とする発光素子と基板との接合構造。
【請求項２】
前記基板は、前記出射光の光路上に透明樹脂を備え、
当該透明樹脂は、前記フィラーを含有しない透明樹脂に接着されており、
前記フィラーを含有しない透明樹脂は、前記接着される基板の透明樹脂の屈折率と同等の屈折率を持つ透明樹脂で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の発光素子と基板との接合構造。
【請求項３】
前記フィラーを含有する樹脂は、前記フィラーを含有しない透明樹脂の周囲及び前記バンプの周囲を覆うように設けられており、
前記フィラーを含有しない透明樹脂を、前記接着される基板の前記出射光の光路の箇所に形成された開口部に充填して前記出射光を通過させることを特徴する請求項１又は２に記載の発光素子と基板との接合構造。
【請求項４】
受光素子と、
該受光素子と光学的に結合される光導波路を備えた基板とを有し、
前記受光素子のバンプを前記基板上の電気配線に接合して構成される受光素子と基板との接合構造であって、
前記基板から前記受光素子への入射光の光路を含む箇所には、前記受光素子と前記基板とを接着するフィラーを含有しない透明樹脂を設け、
前記受光素子と前記基板との間であり前記入射光の光路を含まない箇所にはフィラーを含有する樹脂を設けたことを特徴とする受光素子と基板との接合構造。
【請求項５】
前記基板は、前記入射光の光路上に透明樹脂を備え、
当該透明樹脂は、前記フィラーを含有しない透明樹脂に接着されており、
前記フィラーを含有しない透明樹脂は、前記接着される基板上の透明樹脂の屈折率と同等の屈折率を持つ透明樹脂で形成されていることを特徴とする請求項４に記載の受光素子と基板との接合構造。
【請求項６】
前記フィラーを含有する樹脂は、前記フィラーを含有しない透明樹脂の周囲及び前記バンプの周囲を覆うように設けられており、
前記フィラーを含有しない透明樹脂を、前記接着される基板上の前記入射光の光路の箇所に形成された開口部に充填して前記入射光を通過させることを特徴する請求項４又は５に記載の受光素子と基板との接合構造。
【請求項７】
請求項１乃至３の何れか一つに記載の発光素子と基板との接合構造と、請求項４乃至６の何れか一つに記載の受光素子と基板との接合構造とを備えたことを特徴とする光送受信モジュール。
【請求項８】
請求項７に記載の光送受信モジュールにおいて、前記発光素子用の駆動ドライバ並びに前記受光素子用の出力信号増幅器を前記基板に搭載したことを特徴とする光送受信モジュール。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の光送受信モジュールにおいて、前記基板が可撓性を有することを特徴とする光送受信モジュール。
【請求項１０】
光素子と光学的に結合される光導波路を備えた基板の透明樹脂上における前記光素子からの出射光又は／前記光素子への入射光の光路に該当する箇所にフィラーを含有しない透明樹脂を供給する第１の工程と、
該第１の工程で前記フィラーを含有しない透明樹脂が供給された前記基板上の電気配線に前記光素子のバンプを搭載して接合する第２の工程と、
該第２の工程によって前記光素子のバンプを前記基板上の電気配線に接合した状態で前記フィラーを含有しない透明樹脂を熱硬化させて前記光素子及び前記基板の透明樹脂に接着する第３の工程と、
該第３の工程によって前記フィラーを含有しない透明樹脂が接着された前記光素子と前記基板との間隙にフィラー含有するアンダーフィルを充填する第４の工程と、
該第４の工程で充填された前記フィラー含有するアンダーフィルを熱硬化する第５の工程と、
を含むことを特徴とする光モジュールの製造方法。
【請求項１１】
前記第３の工程において、前記フィラーを含有しない透明樹脂を熱硬化させて前記光素子の発光点又は受光点を含む領域を接着することを特徴とする請求項１０に記載の光モジュールの製造方法。
【請求項１２】
前記第１の工程において、前記基板の透明樹脂上における前記該当する箇所に前記フィラーを含有しない透明樹脂を供給する前に、前記基板の透明樹脂上における前記該当する箇所に開口部を形成する工程を有することを特徴とする請求項１０又は１１に記載の光モジュールの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
基板１の裏面には、樹脂を用いた光導波路コア３２および光導波路クラッド３１ａ、３１ｂからなる光導波層３が形成されている。光導波路層には４５°ミラー３３が形成されており、光素子２が発光素子のとき、紙面内上からの発光素子で発光（出射）された光ビームを紙面内左から右方向へ反射させ、光導波路コア３２へ導くようになっている。なお、光素子２が受光素子の場合、光導波路コア３２内を紙面内右から左へ伝播してきた光を、４５°ミラー３３が紙面内下から上方向に反射し、受光素子２に受光（入射）される。以下、本第１の実施の形態では、光素子２としてＶＣＳＥＬ（面発光レーザ）の場合について主に説明することとする。しかしながら、光素子２としては発光素子の場合も、受光素子の場合も同様の作用がなされる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月23日(2010.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、この立体画像印刷物において、同じ半円筒状レンズに対応して配列された複数の細長画像における前記基準位置は、直線状に配置されていると良い。この構成により、基準位置周辺に印刷する画素が連続することで印刷領域が広がり、印刷機や刷版機による網点印刷の着肉をより確実に行うことができるようになり、印刷機や刷版機の解像度を最大限活かした階調表現が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月17日(2010.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面型の表示パネルモジュールと、前記表示パネルの表示面側に設置される表示面側カバーと、非表示面側に設置される非表示面側カバーと、表示駆動基板と、電源基板と、少なくとも１個の冷却ファンとを備えた画像表示装置において、
前記冷却ファンのケースの外形は、前記冷却ファン設置部における前記表示パネルモジュールと前記非表示面側カバーとの間隔よりも大きく、
前記冷却ファンのケースの排気面側の一端が、前記非表示面側カバーよりも前記表示パネルモジュールに近接し、かつ前記ファンのケースの排気面側の他端が、前記表示パネルモジュールよりも前記非表示面側カバーに近接し、
さらに前記非表示面側カバーに近接する側の前記ファンのケースの排気面側の他端は、前記表示パネルモジュールに近接する側の前記冷却ファンのケースの排気面側の一端に対して、上側に位置するように少なくとも１個の前記冷却ファンを設置することを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載のものにおいて、前記冷却ファンは、前記表示駆動基板及び前記電源基板よりも上側に設置されることを特徴とする画像表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載のものにおいて、前記冷却ファンは、前記表示駆動基板と、前記電源基板と、の間で、前記表示パネルモジュールの高さ方向における上側１／２以上に設置されたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載のものにおいて、複数の画像処理用電子部品が前記表示パネルモジュールの上端部付近に設置されたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項５】
請求項１に記載のものにおいて、開口部が前記冷却ファンの吸気面の後部以外に設けられたことを特徴とする画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月21日(2009.12.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め設定された印刷条件に従って画像を印刷する画像印刷装置であって、
表示画面と、前記表示画面上へのペン状物体の接触状態を表す接触情報を取得する接触情報取得部と、を有するタッチパネルと、
前記接触情報取得部が取得した前記接触情報に基づいて、画像の印刷条件を設定する印刷条件設定部と、
を備え、
前記印刷条件設定部は、
前記印刷の対象になり得る複数の印刷対象画像を、縮小した状態で、前記表示画面に表示する画像表示制御部と、
前記接触情報に基づいて、前記印刷対象画像が表示された前記表示画面上に前記ペン状物体によって記入された手書き文字を認識する手書文字認識部と、
を備え、
前記接触情報に基づいて、前記表示画面上に表示された前記複数の印刷対象画像のうち、前記印刷条件の設定の対象となる設定対象画像を選択するための設定対象選択指示を取得し、
前記手書文字認識部によって認識された認識文字列に基づいて、前記選択対象指示により特定される全ての設定対象画像の印刷条件を設定する
画像印刷装置。
【請求項２】
予め設定された印刷条件に従って画像を印刷する画像印刷方法であって、
前記印刷条件の設定対象になり得る複数の印刷対象画像を、縮小した状態で、表示画面に表示し、
前記表示画面上に前記印刷対象画像を表示した状態で、前記表示画面へのペン状物体の接触状態を表す接触情報を取得し、
前記接触情報に基づいて、前記表示画面上に表示された前記複数の印刷対象画像のうち、前記印刷条件の設定の対象となる設定対象画像を選択するための設定対象選択指示を取得し、
前記接触情報に基づいて、前記対象画像が表示された前記表示画面上に前記ペン状物体によって記入された手書き文字を認識し、
前記手書文字認識部によって認識された認識文字列に基づいて、前記選択対象指示により特定される全ての設定対象画像の印刷条件を設定する
画像印刷方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的の少なくとも一部を達成するために、本発明の画像印刷装置は、予め設定された印刷条件に従って画像を印刷する画像印刷装置であって、表示画面と、前記表示画面上へのペン状物体の接触状態を表す接触情報を取得する接触情報取得部と、を有するタッチパネルと、前記接触情報取得部が取得した前記接触情報に基づいて、画像の印刷条件を設定する印刷条件設定部と、を備え、前記印刷条件設定部は、前記印刷の対象なり得る複数の印刷対象画像を、縮小した状態で、前記表示画面に表示する画像表示制御部と、前記接触情報に基づいて、前記印刷対象画像が表示された前記表示画面上に前記ペン状物体によって記入された手書き文字を認識する手書文字認識部と、を備え、前記接触情報に基づいて、前記表示画面上に表示された前記複数の印刷対象画像のうち、前記印刷条件の設定の対象となる設定対象画像を選択するための設定対象選択指示を取得し、前記手書文字認識部によって認識された認識文字列に基づいて、前記選択対象指示により特定される全ての設定対象画像の印刷条件を設定することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月17日(2010.5.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学表示ユニットと、当該光学表示ユニットに貼り合わされた光学部材とを有する光学表示装置の製造方法であって、
気流を作用させた環境で、前記光学表示ユニットに前記光学部材を貼り合わせる貼合工程を含む、光学表示装置の製造方法。
【請求項２】
少なくとも前記光学表示ユニットに前記光学部材を貼り合せる位置における気流をイオン化された気体で構成し、
前記貼合工程前および／または貼合工程中に搬送手段と接触しながら搬送される前記光学表示ユニットに、前記イオン化された気体の気流を作用させる、請求項１に記載の光学表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記貼合工程は、離型フィルムが貼り合わされた光学部材を有するシート製品のロール原反から繰り出された当該シート製品から当該離型フィルムを剥離しながら、当該離型フィルムの剥離により露出した光学部材の貼合面を前記光学表示ユニットに貼り合わせる、請求項１または２に記載の光学表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記貼合工程は、搬送手段と接触しながら搬送される前記光学表示ユニットにおける、当該搬送手段と非接触の側の面よりも先に、当該搬送手段と接触する側の面に前記光学部材を貼り合わせる、請求項１から３のいずれか1項に記載の光学表示装置の製造方法。
【請求項５】
光学表示ユニットと、当該光学表示ユニットに貼り合わされた光学部材とを有する光学表示装置を製造する製造システムであって、
前記光学表示ユニットに前記光学部材を貼り合せる貼合装置と、
前記貼合装置を含む空間に、気流を作用させる送風装置と、を備える光学表示装置の製造システム。
【請求項６】
少なくとも前記光学表示ユニットに前記光学部材を貼り合せる位置における気流をイオン化するイオン化装置をさらに備える、請求項５に記載の光学表示装置の製造システム。
【請求項７】
前記貼合装置は、離型フィルムが貼り合わされた光学部材を有するシート製品のロール原反から繰り出された当該シート製品から当該離型フィルムを剥離しながら、当該離型フィルムの剥離により露出した光学部材の貼合面を前記光学表示ユニットに貼り合わせる、請求項５または６に記載の光学表示装置の製造システム。
【請求項８】
前記貼合装置は、搬送手段と接触しながら搬送される前記光学表示ユニットにおける、当該搬送手段と非接触の側の面よりも先に、当該搬送手段と接触する側の面に前記光学部材を貼り合わせる、請求項５から７のいずれか１項に記載の光学表示装置の製造システム。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月30日(2010.4.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性基板上に、金属を主成分とする一層又は多層の遮光膜を有するフォトマスクブランクであって、
前記フォトマスクブランクは、２００ｎｍ以下の露光波長に供されるフォトマスクを製造するために用いられ、
前記遮光膜上に、シリコンと、酸素及び／又は窒素とを少なくとも含む反射防止膜を有し、
前記遮光膜は、前記反射防止膜に対してエッチング耐性を有する材料からなることを特徴とするフォトマスクブランク。
【請求項２】
前記遮光膜は、塩素系ガスを用いたドライエッチングが可能な材料からなり、前記反射防止膜は、フッ素系ガスを用いたドライエッチングが可能な材料からなることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスクブランク。
【請求項３】
前記遮光膜における金属がタンタル又はこれら金属と他の金属との合金、あるいは、前記金属又は合金に、酸素、窒素、炭素、ホウ素又は水素を一種又は二種以上含む材料から選択されることを特徴とする請求項１又は２に記載のフォトマスクブランク。
【請求項４】
前記遮光膜における金属がクロム又はこれら金属と他の金属との合金、あるいは、前記金属又は合金に、酸素、窒素、炭素、ホウ素又は水素を一種又は二種以上含む材料から選択されることを特徴とする請求項１又は２に記載のフォトマスクブランク。
【請求項５】
前記遮光膜における金属がタングステン又はこれら金属と他の金属との合金、あるいは、前記金属又は合金に、酸素、窒素、炭素、ホウ素又は水素を一種又は二種以上含む材料から選択されることを特徴とする請求項１又は２に記載のフォトマスクブランク。
【請求項６】
前記反射防止膜は、金属を含むことを特徴とする請求項１〜５から選ばれる一項に記載のフォトマスクブランク。
【請求項７】
前記遮光膜と前記反射防止膜との間に、前記反射防止膜に対してエッチング耐性を有する材料からなる反射率低減膜を有することを特徴とする請求項１〜６から選ばれる一項に記載のフォトマスクブランク。
【請求項８】
前記遮光膜と前記反射防止膜との間に、前記反射防止膜を構成する材料の屈折率よりも小さい屈折率を有する材料からなる反射率低減膜を有することを特徴とする請求項１〜７から選ばれる一項に記載のフォトマスクブランク。
【請求項９】
前記遮光膜と前記反射防止膜との間に、前記反射防止膜を構成する材料の屈折率よりも小さい屈折率を有する材料からなる反射率低減膜を有し、
１５０〜３００ｎｍの波長帯域に亘って表面反射率が１５％以下であることを特徴とする請求項１〜７から選ばれる一項に記載のフォトマスクブランク。
【請求項１０】
前記遮光膜と前記反射防止膜との間に、前記反射防止膜を構成する材料の屈折率よりも小さい屈折率を有する材料からなる反射率低減膜を有し、
１５０〜２５０ｎｍの波長帯域に亘って表面反射率が１０％以下であることを特徴とする請求項１〜７から選ばれる一項に記載のフォトマスクブランク。
【請求項１１】
前記遮光膜と前記反射防止膜との間に、前記遮光膜を構成する材料の屈折率よりも大きく前記反射防止膜を構成する材料の屈折率よりも小さい屈折率を有する材料からなる反射率低減膜を有することを特徴とする請求項１〜１０から選ばれる一項に記載のフォトマスクブランク。
【請求項１２】
前記反射率低減膜は、クロムを含むことを特徴とする請求項７〜１１から選ばれる一項に記載のフォトマスクブランク。
【請求項１３】
前記反射防止膜の透過率は、２００ｎｍ以下の波長に対して７０％以上であり、前記反射率低減膜の透過率よりも高いことを特徴とする請求項７〜１２のいずれかに記載のフォトマスクブランク。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれかに記載のフォトマスクブランクを用いて製造されたことを特徴とするフォトマスク。
【請求項１５】
請求項１４に記載のフォトマスクを用いてパターン転写を行うことを特徴とするパターン転写方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月14日(2010.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置及び表示装置の駆動方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランジスタと、容量素子と、発光素子と、ソース信号線と、電流供給線とを有し、前記発光素子は、前記トランジスタによって決定される電流値に応じた輝度で発光する表示装置の駆動方法であって、
前記トランジスタのソースに第１の電位を入力する動作と、
前記ソース信号線から、前記トランジスタのゲートに映像信号を入力する動作と、
前記第１の電位と、前記映像信号とに応じて決定される電位差を、前記容量素子に保持し、前記トランジスタのソースの電位を第２の電位に変化させる動作と、を含むことを特徴とする表示装置の駆動方法。
【請求項２】
第１乃至第３のトランジスタと、容量素子と、発光素子と、ソース信号線と、電流供給線と、第１及び第２の電源線とを有し、
前記第２のトランジスタの第１の電極は、前記ソース信号線と電気的に接続され、前記第２のトランジスタの第２の電極は、前記第１のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第３のトランジスタの第１の電極は、前記第１のトランジスタの第１の電極と電気的に接続され、前記第３のトランジスタの第２の電極は、前記第１の電源線と電気的に接続され、
前記第１のトランジスタの第１の電極は、前記発光素子の一端と電気的に接続され、前記第１のトランジスタの第２の電極は、前記電流供給線と電気的に接続され、
前記発光素子の他端は、前記第２の電源線と電気的に接続され、
前記容量素子の一端は、前記第１のトランジスタのゲートと電気的に接続され、前記容量素子の他端は、前記第１のトランジスタの第１の電極と電気的に接続され、
前記第１乃至第３のトランジスタのチャネル長に関して、前記第１のトランジスタのチャネル長が最も大きいことを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月1日(2010.9.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
データを記憶する記憶部と、
前記記憶部へのライトアクセスを要求する第１処理部と、
前記記憶部へのリードアクセスを要求する第２処理部と、
前記第１処理部から前記記憶部へのライトアクセスおよび前記第２処理部から前記記憶部へのリードアクセスをそれぞれ制御するアクセス制御部と、
を有する情報処理装置であって、
前記アクセス制御部は、
前記第２処理部から前記記憶部へのリードアクセス時に、前記第１処理部から前記記憶部へのライトアクセス時にライトデータが所定の条件を満たすか否かを判定して得られた判定結果および前記ライトアクセス時のアクセス位置情報を参照し、前記リードアクセス時のアクセス位置に対応する前記判定結果が、前記ライトアクセス時に前記所定の条件を満たしていたことを示す場合には、前記記憶部からデータの読み出しを行わず、前記所定の条件から決定される所定のデータを前記第２処理部に返し、
前記第１処理部から前記記憶部へのライトアクセス時に、ライトデータが前記所定の条件を満たすか否かを判定し、得られた判定結果および前記ライトアクセス時のアクセス位置情報を管理するとともに、前記所定の条件を満たしたライトデータについて前記記憶部への書き込みを行なわない、
情報処理装置。
【請求項２】
前記アクセス制御部は、
前記リードアクセス時のアクセス位置に対応する前記判定結果が、前記ライトアクセス時に前記所定の条件を満たしていなかったことを示す場合には、前記記憶部からデータの読み出しを行い、前記記憶部から読み出したデータを前記第２処理部に返す、
請求項１記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記所定の条件は、ライトデータが、あらかじめ設定された設定データと一致するか否かである、
請求項１または請求項２記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記所定の条件は、ライトデータが、１つ前のライトデータと一致するか否かである、
請求項１または請求項２記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記所定の条件は、ライトデータが、１つ前のアクセス位置のデータと一致するか否かである、
請求項１または請求項２記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記アクセス制御部は、
前記所定の条件を満たすか否かの判定を、前記記憶部の特定領域においてのみ行う、
請求項１から請求項５のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項７】
前記アクセス位置情報は、前記記憶部内のアドレスである、
請求項１から請求項６のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項８】
前記アクセス位置情報は、前記記憶部内の座標である、
請求項１から請求項６のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項９】
前記判定結果および前記アクセス位置情報は、前記アクセス制御部または前記記憶部に格納される、
請求項１から請求項８のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項１０】
前記アクセス制御部は、
前記判定結果をテーブルの形式で管理する、
請求項１から請求項９のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項１１】
前記アクセス制御部は、
同一のライトデータが連続して前記所定の条件を満たす場合、前記判定結果として、前記所定の条件を満たす連続したライトデータの先頭アドレスおよび最終アドレスを管理する、
請求項１から請求項９のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項１２】
前記アクセス制御部は、
同一のライトデータが連続して前記所定の条件を満たす場合、前記判定結果として、前記所定の条件を満たす連続したライトデータの先頭座標および最終座標を管理する、
請求項１から請求項９のいずれかに記載の情報処理装置。
【請求項１３】
データを記憶する記憶部と、
前記記憶部へのライトアクセスを要求する第１処理部と、
前記記憶部へのリードアクセスを要求する第２処理部と、
前記第１処理部から前記記憶部へのライトアクセスおよび前記第２処理部から前記記憶部へのリードアクセスをそれぞれ制御するアクセス制御部と、
を有する情報処理装置におけるアクセス制御方法であって、
前記第２処理部から前記記憶部へのリードアクセス時に、前記第１処理部から前記記憶部へのライトアクセス時にライトデータが所定の条件を満たすか否かを判定して得られた判定結果および前記ライトアクセス時のアクセス位置情報を参照し、前記リードアクセス時のアクセス位置に対応する前記判定結果が、前記ライトアクセス時に前記所定の条件を満たしていたことを示す場合には、前記記憶部からデータの読み出しを行わず、前記所定の条件から決定される所定のデータを前記第２処理部に返し、
前記第１処理部から前記記憶部へのライトアクセス時に、ライトデータが前記所定の条件を満たすか否かを判定し、得られた判定結果および前記ライトアクセス時のアクセス位置情報を管理するとともに、前記所定の条件を満たしたライトデータについて前記記憶部への書き込みを行なわない、
アクセス制御方法。