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【手続補正書】
【提出日】平成22年1月8日(2010.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このため、３級カルボン酸エステルに環状炭酸エステルやビニレンカーボネートを混合することで負極皮膜を安定化させることが、特許文献１（Ｗ００２／０１５３１９号）にて提案されるようになった。また、ジビニルスルホンまたは３重結合を有するアルキン誘導体を混合することでサイクル特性、高温保存特性が改善されることが特許文献２（特開２００３−５９５２９号公報）にて提案されるようになった。また、ハロゲン原子を有する環状エステル誘導体（ＦＥＣなど）を混合することで負極皮膜を安定化させてサイクル特性を向上させることが、特許文献３（特開２００６−３２３０１号公報）にて提案されるようになった。さらに、環式酸無水物として無水コハク酸、無水グルタル酸、無水ジグリコール酸を含有させた非水電解質を用いることが特許文献４（特開２００６−２９４３７３号公報）にて提案されるようになった。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
さらに、特許文献４にて提案された非水電解質二次電池においては、非水電解質に環式酸無水物としての無水コハク酸、無水グルタル酸、無水ジグリコール酸を含むので、非水電解質の分解反応が抑制され、サイクル特性が向上するようになる。
【特許文献１】Ｗ００２／０１５３１９号公報
【特許文献２】特開２００３−５９５２９号公報
【特許文献３】特開２００６−３２３０１号公報
【特許文献４】特開２００６−２９４３７３号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
（３）負極
帯状負極１２は、負極芯体（例えば、厚みが１０μｍの銅箔）の両面に負極活物質スラリーが塗布されて形成されており、負極活物質スラリーが乾燥されることにより負極活物質層が形成され、圧延されて厚みが０．１３ｍｍになるように形成されている。負極活物質スラリーは、負極活物質としての表面を非晶質化した人造黒鉛（ｄ(002)値＝０．３３６ｎｍ）と、結着剤としてのポリビニリデンフルオライド（ＰＶｄＦ）等とを、有機溶剤となるＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）などに溶解させた後、混合・混練して調製されている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
なお、３級カルボン酸エステル以外に用いられる非水溶媒としては、カーボネート類、ラクトン類、エーテル類、エステル類などが挙げられる。これら溶媒の２種類以上を混合して用いることもできる。これらの中でカーボネート類、ラクトン類が好ましく、環状カーボネート類がさらに好適に用いられる。具体例としては、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジメチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、ジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどを挙げることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
また、電解質には、上述した六フッ化リン酸リチウム（ＬｉＰＦ6）以外に、過塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ4）、四フッ化ホウ酸リチウム（ＬｉＢＦ4）、六フッ化ヒ酸リチウム（ＬｉＡｓＦ6）、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム（ＬｉＣＦ3ＳＯ3）、ビストリフルオロメチルスルホニルイミドリチウム（ＬｉＮ（ＣＦ3ＳＯ2）2）、ビスペンタフルオロエチルスルホニルイミドリチウム（ＬｉＮ（Ｃ2Ｆ5ＳＯ2）2）などのリチウム塩が挙げられるが、そのうち、ＬｉＰＦ6、ＬｉＢＦ4を用いるのが好ましく、非水溶媒に対する溶解量は、０．５〜２．０モル／ｌとするのが好ましい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
そして、これらの非水電解質ｆ１〜ｎ１を用いて上述と同様に非水電解質二次電池Ｆ１〜Ｎ１を作製した。なお、非水電解質ｆ１を用いたものを電池Ｆ１とし、非水電解質ｇ１を用いたものを電池Ｇ１とし、非水電解質ｈ１を用いたものを電池Ｈ１とし、非水電解質ｉ１を用いたものを電池Ｉ１とし、非水電解質ｊ１を用いたものを電池Ｊ１とし、非水電解質ｋ１を用いたものを電池Ｋ１とし、非水電解質ｌ１を用いたものを電池Ｌ１とした。
また、非水電解質ｍ１を用いたものを電池Ｍ１とし、非水電解質ｎ１を用いたものを電池Ｎ１とした。これらについて上述と同様にサイクル特性、８０℃充電保存特性および過充電特性を求めると、下記の表３に示すような結果が得られた。なお、下記の表３においては、上述した電池Ａ１の結果も併せて示している。
【表３】
2008243642.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月9日(2010.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の光源部と第二の光源部とを有する光源回路と、
前記光源回路に電力を供給する電力出力回路と、
前記第一の光源部に流れた電流と前記第二の光源部に流れた電流との総和を検出する電流検出回路と、
前記電流検出回路にかかっている電圧に対して特定の利得を与えた電圧を前記電力出力回路に出力して前記電力出力回路の前記光源回路への出力電圧を制御する電力出力制御回路と、
前記光源回路内での断線をオープン故障として検出するオープン故障検出部と、
前記オープン故障検出部が前記第一の光源部のオープン故障を検出した際、前記第一の光源部のオープン故障前に前記第二の光源部に流れていた電流と同じ大きさの電流が前記第一の光源部のオープン故障後の前記第二の光源部に流れるように前記電力出力制御回路の前記特定の利得を変更する利得制御部と、
を備えることを特徴とする点灯装置。
【請求項２】
前記第一の光源部は、光源部Ａと光源部Ｂとを有し、
前記第二の光源部は、光源部Ｃと光源部Ｄとを有し、
前記点灯装置は、さらに、
前記光源部Ａに流れる電流と前記光源部Ｂに流れる電流とを平衡にする第一のバランサ回路と、
前記光源部Ｃに流れる電流と前記光源部Ｄに流れる電流とを平衡にする第二のバランサ回路と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の点灯装置。
【請求項３】
前記点灯装置は、さらに、
前記オープン故障検出部が前記第一の光源部のオープン故障を検出した際、前記電力出力回路から前記第一の光源部への電力の供給を遮断するスイッチ制御部を備えたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の点灯装置。
【請求項４】
光源部Ａと光源部Ｂとを有する第一の光源部と光源部Ｃと光源部Ｄとを有する第二の光源部とを有する光源回路と、
前記光源回路に電力を供給する電力出力回路と、
前記光源部Ａに流れる電流と前記光源部Ｂに流れる電流とを平衡にする第一のバランサ回路と、
前記光源部Ｃに流れる電流と前記光源部Ｄに流れる電流とを平衡にする第二のバランサ回路と、
前記第一の光源部に流れた電流と前記第二の光源部に流れた電流との総和を検出する電流検出回路と、
前記電流検出回路が検出した電流の総和に応じて前記電力出力回路の前記光源回路への出力電圧を制御する電力出力制御回路と、
を備えることを特徴とする点灯装置。
【請求項５】
前記点灯装置は、さらに、
バッテリーと、
前記電力出力回路に電力を供給する商用電源について停電の有無を検出し、停電を検出した際に前記電力出力回路への電力の供給元を前記商用電源から前記バッテリーに切り換える電源切替部と
を備えたことを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の点灯装置。
【請求項６】
前記光源部Ａと前記光源部Ｂと前記光源部Ｃと前記光源部Ｄとのそれぞれが複数のＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）を直列に接続している
ことを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載の点灯装置。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれかに記載の点灯装置と、
前記点灯装置の前記第一の光源部を光源として点灯する第一の表示面と、
前記点灯装置の前記第二の光源部を光源として点灯する第二の表示面と、
を有することを特徴とする表示装置。
【請求項８】
前記第一の光源部の前記光源部Ａと前記第一の光源部の前記光源部Ｂとが前記第一の表示面を半面ずつ点灯させることを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれかに記載の点灯装置と、
前記点灯装置を収納する器具本体と、
を備えることを特徴とする照明器具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】点灯装置、表示装置および照明器具
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、例えば、点灯装置、表示装置および照明器具に関するものである。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月2日(2010.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
両面が平坦になった平板状電池を複数積層させた組電池を加圧ホルダーに挟み込んで加圧させる加圧ホルダー付き組電池において、上記の加圧ホルダーが、上記の組電池を挟み込む一対の加圧板と、この一対の加圧板間において上記の組電池を挟み込むように加圧させる金属で構成された加圧部材とを有し、上記の平板状電池相互間に金属で構成された板状のスペーサ部材が設けられ、このスペーサ部材と上記の加圧部材とが部分的に接合されていることを特徴とする加圧ホルダー付き組電池。
【請求項２】
請求項１に記載の加圧ホルダー付き組電池において、上記のスペーサ部材と加圧部材との何れか一方に係合凸部が設けられる一方、他方にこの係合凸部と係合される溝部が設けられ、この係合凸部と溝部とが係合されてスペーサ部材と加圧部材とが部分的に接合されていることを特徴とする加圧ホルダー付き組電池。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の加圧ホルダー付き組電池において、上記のスペーサ部材と加圧ホルダーとの少なくとも一方が、Ｃｕ，Ａｌ，Ｆｅ，ステンレスまたは合金で構成された接続部材によって外部放熱部材に接続されていることを特徴とする加圧ホルダー付き組電池。
【請求項４】
請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の加圧ホルダー付き組電池において、上記の平板状電池が非水電解質二次電池であることを特徴とする加圧ホルダー付き組電池。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月14日(2010.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の処理機能を備えている画像形成装置において、
前記複数の処理機能のうちいずれかを選択するためのメニュー画面や各処理機能を実行するための機能指示画面を表示する表示手段と、
前記表示手段の画面の表示に基づき選択された処理機能についてのユーザの操作を受け付ける操作手段と、
前記選択された処理機能について前記操作手段での操作が一定時間行われなかったことを検知する検知手段と、
前記検知手段によって前記一定時間操作が行われなかったことを検知した際に、前記表示手段の画面を前記選択された処理機能についての機能指示画面の初期画面に戻す制御を行う制御手段と
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
複数の処理機能を備えている画像形成装置において、
前記複数の処理機能のうちいずれかを選択するためのメニュー画面や各処理機能を実行するための機能指示画面を表示する表示手段と、
前記表示手段の画面の表示に基づき選択された処理機能についてのユーザの操作を受け付ける操作手段と、
前記選択された処理機能について前記操作手段での操作が一定時間行われなかったことを検知する検知手段と、
前記検知手段によって前記一定時間操作が行われなかったことを検知した際に、前記表示手段の画面を前記メニュー画面に戻すか、前記選択された処理機能についての機能指示画面の初期画面に戻すかの設定を行う設定手段と、
前記設定手段の設定に基づき画面遷移を制御する制御手段と
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
前記検知手段で検知する前記一定時間は、電源の節電制御を伴わない自動リセットモードへ移行するための時間である
ことを特徴とする請求項１または２記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記設定手段は、装置本体の電源投入の際もしくは節電モードから通常モードへ復帰した際に前記表示手段に表示する画面を設定しており、
前記制御手段は、前記検知手段によって前記一定時間操作が行われなかったことを検知した際の画面遷移、および、装置本体の電源投入の際もしくは節電モードから通常モードへの復帰の際の画面遷移を前記設定手段の設定に基づき制御する
ことを特徴とする請求項２記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記設定手段によって設定される前記節電モードから前記通常モードへの復帰の際に表示する画面としては、前記メニュー画面もしくは前記節電モードに移行する直前に選択されていた処理機能についての機能指示画面の初期画面である
ことを特徴とする請求項４記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記画面遷移の制御とともに、その遷移した画面と対応する処理機能について予め設定されたジョブメモリの処理内容を実行する
ことを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項７】
複数の処理機能を備えている画像形成装置において、
前記複数の処理機能のうちいずれかを選択するためのメニュー画面や各処理機能を実行するための機能指示画面を表示する表示手段と、
前記表示手段の画面の表示に基づき選択された処理機能についてのユーザの操作を受け付ける操作手段と、
前記操作手段での操作が一定時間行われなかったことを検知する検知手段と、
前記検知手段によって前記一定時間操作が行われなかったことを検知した際に、ユーザによって予め指定された画面に遷移する遷移手段と
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
前記予め指定された画面は、処理機能を実行するための機能指示画面であることを特徴とする請求項７に記載の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月11日(2010.3.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートにトナー画像を形成する画像形成手段と、
前記画像形成手段によってシートに形成されたトナー画像をシートに定着する第一の定着手段と、
前記第一の定着手段によって定着されたトナー画像を再度定着する第二の定着手段と、
前記第二の定着手段が設けられている定着搬送路と、
前記第二の定着手段を迂回してシートを搬送するための、前記定着搬送路における前記第二の定着手段の上流側で前記定着搬送路から分岐し、前記第二の定着手段の下流側の合流部で前記定着搬送路に合流する迂回搬送路と、
前記合流部の下流側で、再度画像形成部にシートを搬送するための搬送路と、
前記搬送路に設けられ搬送されるシートにカールを付与する第１カール付与手段と、
前記迂回搬送路に設けられ、搬送されるシートにカールを付与する第２カール付与手段と、を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記搬送路は、画像が形成された面の裏側に画像を形成するために再度前記画像形成手段にシートを搬送するための両面搬送路を前記合流部の下流側に備え、前記第１カール付与手段は前記両面搬送路に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
シートにトナー画像を形成する画像形成手段と、
前記画像形成手段によってシートに形成されたトナー画像をシートに定着する第一の定着手段と、
前記第一の定着手段によって定着されたトナー画像を再度定着する第二の定着手段と、
前記第二の定着手段が設けられている定着搬送路と、
前記第二の定着手段を迂回してシートを搬送するための、前記定着搬送路における前記第二の定着手段の上流側で前記定着搬送路から分岐し、前記第二の定着手段の下流側の合流部で前記定着搬送路に合流する迂回搬送路と、
前記合流部の下流側で、装置本外に排出するための排出手段へシートを搬送するための排出搬送路と、
前記排出搬送路に設けられ搬送されるシートにカールを付与する第１カール付与手段と、
前記迂回搬送路に設けられ、搬送されるシートにカールを付与する第２カール付与手段と、を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
前記第一の定着手段と前記２カール付与手段との間に設けられ、シートを搬送するローラ対は２対以下であることを特徴とした請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記第１カール付与手段と、前記２カール付与手段とは同一方向のカールをシートに付与することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記第１カール付与手段と前記第２カール付与手段とはシートに付与するカールの方向がそれぞれ異なる方向であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に画像形成装置。
【請求項７】
前記第１カール付与手段と前記第２カール付与手段とは夫々、軟質材料と硬質材料を有し、前記軟質材料と前記硬質材料とによってシートを挟持することによってシートにカールを付与することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記第１カール付与手段と前記第２カール付与手段とは、いずれも軟質ローラと硬質ローラとで構成されることを特徴とする第１乃至７のいずれか１項記載の画像形成装置。
【請求項９】
前記第１カール付与手段と、前記第２カール付与手段とのいずれかは弾性ベルトと硬質ローラで構成されることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記第１カール付与手段と、前記第２カール付与手段、とは、カール補正能力を段階的に調整することができることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
前記第２カール付与手段の段階的な補正能力は、操作部からの入力、若しくは、設定されたシート種類情報に応じて制御されることを特徴とする請求項１０に項記載の画像形成装置。
【請求項１２】
前記迂回搬送路が前記定着搬送路から分岐する分岐部に回動可能に設けられ前記迂回搬送路と前記定着搬送路とのいずれかに選択的にシートを案内するためのフラッパと、
厚いシートに画像を形成するときに前記定着搬送路にシートを案内し、前記厚いシートよりも薄いシートに画像を形成するときには前記迂回搬送路にシートを案内するようにフラッパの回動を制御する制御部と、を有することを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記のような課題に対し、本発明の画像形成装置は、シートにトナー画像を形成する画像形成手段と、前記画像形成手段によってシートに形成されたトナー画像をシートに定着する第一の定着手段と、前記第一の定着手段によって定着されたトナー画像を再度定着する第二の定着手段と、前記第二の定着手段が設けられている定着搬送路と、前記第二の定着手段を迂回してシートを搬送するための、前記定着搬送路における前記第二の定着手段の上流側で前記定着搬送路から分岐し、前記第二の定着手段の下流側の合流部で前記定着搬送路に合流する迂回搬送路と、前記合流部の下流側で、再度画像形成部にシートを搬送するための搬送路と、前記搬送路に設けられ搬送されるシートにカールを付与する第１カール付与手段と、前記迂回搬送路に設けられ、搬送されるシートにカールを付与する第２カール付与手段と、を有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本願発明の画像形成装置は、シートにトナー画像を形成する画像形成手段と、前記画像形成手段によってシートに形成されたトナー画像をシートに定着する第一の定着手段と、前記第一の定着手段によって定着されたトナー画像を再度定着する第二の定着手段と、前記第二の定着手段が設けられている定着搬送路と、前記第二の定着手段を迂回してシートを搬送するための、前記定着搬送路における前記第二の定着手段の上流側で前記定着搬送路から分岐し、前記第二の定着手段の下流側の合流部で前記定着搬送路に合流する迂回搬送路と、前記合流部の下流側で、装置本外に排出するための排出手段へシートを搬送するための排出搬送路と、前記排出搬送路に設けられ搬送されるシートにカールを付与する第１カール付与手段と、前記迂回搬送路に設けられ、搬送されるシートにカールを付与する第２カール付与手段と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月14日(2010.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
検出できなかったrise("０"から"１"への遷移)を検出するために、LogicBISTMode=0とした通常のスキャンパタンを準備する必要があるが、この場合、外部からクロックを入力しなければならないため、内部PLLクロックを使用することができず、実動作周波数でのテストができない。更には、スキャンパタン増加へも繋がる。LSI内部に、このようなフォルスパスによるマスク回路挿入箇所が多く存在した場合の活性化率("０"，"１"変化率)低下はLSI全体の遅延故障検出率低下へ大きく影響し、出荷テストとして十分な遅延故障検出率を維持したテストパタンを作成できないことになる。
ところで、関連する技術としては、特許文献１に開示の技術がある。
【特許文献１】特開２００２−１４８３０９号公報
【手続補正書】
【提出日】平成22年1月25日(2010.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
次に、追加実験として、耐久性試験を行った。図７は横軸に磨耗回数をとり、横軸に凸部２５の高さＨをとって、凸部２５の高さＨと耐久性との関係を示すグラフ図である。この追加実験では、高さＨが０．０６ｍｍの凸部２５により構成されたエンボス模様４１上に陶器を載置し、この陶器の底を往復させながら引きずり、磨耗回数に対する凸部２５の高さＨの変化を測定した。その際、往復時においては、陶器に対して上方から３ｋｇの荷重をかけた。その結果、図７に示すように、磨耗回数が８０回のときに、凸部２５の高さＨが０．０４８ｍｍとなり、磨耗回数が１６０回のときに高さＨが０．０４３ｍｍとなった。更に、凸部２５の高さＨが０．０４８ｍｍを下回ると、視覚的に確認可能な疵が生じることが分かった。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月30日(2010.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
（Ａ）液晶性ポリマー９５〜５０重量％と（Ｂ）繊維状無機フィラー５〜５０重量％を必須成分として含有する組成物であって、（Ｂ）繊維状無機フィラーの数平均繊維長が５０〜１２０μｍ、かつ繊維長２０〜１５０μｍの含有率が８０％以上であることを特徴とする液晶性樹脂組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
成形品がコネクター、リレー用部品、カメラモジュール用部品、ＬＥＤ用部品のいずれかに用いられることを特徴とする請求項４記載の成形品。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
すなわち本発明は、
（１）液晶性ポリマー９５〜５０重量％と（Ｂ）繊維状無機フィラー５〜５０重量％を必須成分として含有する組成物であって、（Ｂ）繊維状無機フィラーの数平均繊維長が５０〜１２０μｍ、かつ繊維長２０〜１５０μｍの含有率が８０％以上であることを特徴とする液晶性樹脂組成物、
（２）前記（Ｂ）の繊維状無機フィラーの最大繊維長が４００μｍ以下であることを特徴とする上記（１）記載の液晶性樹脂組成物、
（３）前記（Ｂ）の繊維状無機フィラーの累積粒度分布曲線より得られる累積度８０％繊維長（Ｄ８０）と累積度２０％繊維長（Ｄ２０）の比（Ｄ８０／Ｄ２０）が２．５〜３．５であることを特徴とする上記（１）または（２）記載の液晶性樹脂組成物、
（４）上記（１）〜（３）のいずれか記載の液晶性樹脂組成物を射出成形してなる成形品、
（５）成形品がコネクター、リレー用部品、カメラモジュール用部品、ＬＥＤ用部品のいずれかに用いられることを特徴とする上記（４）記載の成形品である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
（１）繊維長、繊維長分布および最大繊維長
射出成形機”ＲＯＢＯＳＨＯＴα−３０ｉ”（ファナック株式会社製）を用い、表１の樹脂温度、金型温度の温度条件で、７０ｍｍ長×７０ｍｍ幅×１ｍｍ厚（フィンゲート）の成形品を作成し、突き出しピン側を表側として反ゲート側左側隅を１ｃｍ×１ｃｍで切り出し、るつぼに入れて５５０℃×８時間電気炉で焼成する。その後、灰化した物を１００ｍｇ採取し、走査型電子顕微鏡（日立製作所製Ｓ２１００Ａ）を用いて観察、１００００倍で写真撮影し、ランダムに１０００本サンプリングし、各繊維の最長部の長さの最大のものを最大繊維長とし、繊維長の数平均値を平均繊維長とした。また、累積粒度分布曲線より得られる累積度８０％繊維長（Ｄ８０）と累積度２０％繊維長（Ｄ２０）を算出した。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
（５）ゲート部突出長とフィラー脱離性
射出成形機”ＲＯＢＯＳＨＯＴα−３０ｉ”（ファナック株式会社製）を用い、表１の樹脂温度、金型温度９０℃の温度条件、射出速度９０ｍｍ／秒、保圧：１９．６ＭＰａ×２秒、射出時間／冷却時間＝１．０／５．０秒，スクリュウ回転数１５０ｒｐｍ，背圧２ＭＰａ，サックバック５ｍｍ，の成形条件にて、棒状成形品（幅１２．７ｍｍ，厚み０．５ｍｍ、成形品天面部ピンゲート０．５ｍｍ径）を成形し、走査型電子顕微鏡ＪＳＭ６３６０ＬＶ（日本電子社製）にて成形品ゲート部の繊維状フィラーのゲート残り長さを測定した。また、得られた成形品を１ｍの高さから落下させた後のゲートの繊維状無機フィラーの脱離状況を観察した。なお、評価は変化のないものを○、脱離したものを×とした。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月12日(2010.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
γ−グルタミル−Ｓ（ベンジル）システイニル−Ｒ−フェニルグリシンジエチルエステルまたはその医薬的に許容しうる塩である化合物を含むリポソーム製剤であって、
(ａ)リポソーム製剤中の脂質が、重量比０．７５〜１．２５：０．７５〜１．２５の卵ホスファチジルコリンおよび卵ホスファチジルグリセロールであり、
(ｂ)脂質と化合物の重量比が、３：１〜６：１であり、
(ｃ)平均リポソームサイズが５０〜２０００ｎｍであり、および
(ｄ)製剤が化合物を８０％以上内包する製剤。
【請求項２】
リポソームのサイズが、４００〜６００ｎｍである請求項１に記載のリポソーム製剤。
【請求項３】
１重量部のγ−グルタミル−Ｓ（ベンジル）システイニル−Ｒ−フェニルグリシンジエチルエステルまたはその医薬的に許容しうる塩、２重量部の卵ホスファチジルコリン、２重量部の卵ホスファチジルグリセロールおよび７重量部のスクロースを構成成分として含む請求項１に記載のリポソーム製剤。
【請求項４】
１重量部のγ−グルタミル−Ｓ（ベンジル）システイニル−Ｒ−フェニルグリシンジエチルエステルまたはその医薬的に許容しうる塩、２重量部の卵ホスファチジルコリン、２重量部の卵ホスファチジルグリセロールおよび７重量部のスクロースを構成成分として含む凍結乾燥したリポソームを特徴とする請求項３に記載のリポソーム製剤。
【請求項５】
造血の調節または化学療法の破壊効果からの保護のための医薬の製造における請求項１−４のいずれか１つに記載リポソーム製剤の使用。
【請求項６】
γ−グルタミル−Ｓ（ベンジル）システイニル−Ｒ−フェニルグリシンジエチルエステルまたはその医薬的に許容しうる塩である化合物を含むリポソーム製剤であって、
(ａ)リポソーム製剤中の脂質が、重量比０．７５〜１．２５：０．７５〜１．２５の卵ホスファチジルコリンおよび卵ホスファチジルグリセロールであり、
(ｂ)脂質と化合物の重量比が、３：１〜６：１であり、
(ｃ)平均リポソームサイズが５０〜２０００ｎｍであり、および
(ｄ)製剤が化合物を８０％以上内包する製剤の製造方法。
【請求項７】
さらに製剤の押し出しを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
１重量部のγ−グルタミル−Ｓ（ベンジル）システイニル−Ｒ−フェニルグリシンジエチルエステルまたはその医薬的に許容しうる塩、２重量部の卵ホスファチジルコリンおよび２重量部の卵ホスファチジルグリセロールをエタノールおよび水に溶解し、その溶液を７重量部のスクロースを含む水に注入し、次いで、押し出してリポソーム製剤を形成することを特徴とする請求項７に記載の方法。
【請求項９】
請求項６−８のいずれか１つに記載の方法によって製造されるリポソーム製剤。
【請求項１０】
さらに、凍結乾燥を特徴とする請求項６−８のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１１】
１重量部のγ−グルタミル−Ｓ（ベンジル）システイニル−Ｒ−フェニルグリシンジエチルエステルまたはその医薬的に許容しうる塩、２重量部の卵ホスファチジルコリンおよび２重量部の卵ホスファチジルグリセロールをエタノールおよび水に溶解し、その溶液を７重量部のスクロースを含む水に注入し、押し出してリポソーム製剤を形成し、次いで、リポソーム製剤を凍結乾燥して凍結乾燥リポソームを形成することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載の方法によって製造される凍結乾燥リポソーム製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月25日(2010.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
工具と工具受け構造との間で、位置や識別のようなデータを交換するための装置であって、
前記工具受け構造に配置された、センサの細長いトラックと、
前記工具に配置された、少なくとも１つのセンサ駆動要素と
を備える装置。
【請求項２】
前記センサは受光センサであり、前記少なくとも１つのセンサ駆動要素は前記センサのトラックに向けられた光源を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記受光センサは有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）技術に基づくものである、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記光源は、前記工具に配置された反射面と、前記工具受け構造に配置されて前記反射面に向けられた光線を放つ発光デバイスとを備える、請求項２又は請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記工具は、前記反射面がその中に配置された線形溝を備える、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記発光デバイスは発光デバイスの１つの細長いトラックである、請求項４又は請求項５に記載の装置。
【請求項７】
前記発光デバイスのトラックと前記受光センサのトラックが組み合わされている、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記発光デバイスは有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）技術に基づくものである、請求項４から請求項７のいずれかに記載の装置。
【請求項９】
前記センサは第１及び第２の電極を備え、前記少なくとも１つのセンサ駆動要素は電気的伝導要素を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記センサは共通の第１の電極を有する、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記工具は、前記工具を識別するためにセンサを駆動するセンサ駆動要素の区別可能なパターンを有する、請求項１から請求項１０のいずれかに記載の装置。
【請求項１２】
多数のセンサの列（row）を備え、前記区別可能なパターンはセンサ駆動領域と非駆動領域のマトリクスを備える、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記センサ駆動領域は光源の反射領域を備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
工具と工具受け構造との間でデータを交換する方法であって、
請求項１から請求項１３のいずれかに記載の装置を準備する段階と、
前記少なくとも１つのセンサ駆動要素を駆動する段階と、
１つのセンサを駆動するために前記センサのトラックを確認する段階と
を備える、方法。
【請求項１５】
データ信号に基づいて前記少なくとも１つのセンサ駆動要素の駆動を制御する段階と、
前記センサのトラックで前記データ信号を検出する段階と
をさらに備える、請求項１４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
図３及び図４では、受光センサと発光デバイスの交互配置の単一のラインが図示されており、この単一のラインによって例えば反射面８のバイナリコードを検出できる。しかしながら、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）技術は簡易であるので、受光センサと発光デバイス１２のマトリクス１４を設けることもできる（図５参照）。このようなマトリクスは、列の配置を千鳥状ないしジグザグ状とすることで、耐障害性ないし障害許容力が向上する。また、マトリクスによりロバスト性が向上する。例えば、受光センサが壊れたなら、隣接するセンサが光を検出して情報をもたらす。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月1日(2010.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷機で使用される印刷フォームを作るプロセスであって、
Ａ）指定されたラスタパーセンテージを有し、０％のラスタパッチ、１００％のラスタパッチ、および所定のパーセンテージの少なくとも１つの他のラスタパッチを含む少なくとも１つの階段状のくさびの形を含む、定義された印刷イメージを有する印刷フォームを提供するステップと、
Ｂ）少なくとも１つの階段状のくさびのテストプリントを得るために、ステップＡ）から提供された前記印刷フォームを用いて印刷インクを用いて前記印刷機で下地に印刷するステップであって、０％の前記ラスタパッチは前記下地のカラーシェードに対応し、１００％の前記ラスタパッチは前記印刷インクのソリッドシェードに対応する、ステップと、
Ｃ）前記テストプリントの前記少なくとも１つの階段状のくさびの０％の前記ラスタパッチ、１００％前記のラスタパッチ、および前記少なくとも１つの他のラスタパッチのそれぞれについて、分光光度計を使用して反射率スペクトルを測定し、前記反射率スペクトルから関連する比色値Ｌ*ａ*ｂ*を判定するステップと、
Ｄ）公式
【数１】
2007326365.tif 000001
を使用して人間の目の色知覚との線形相関で前記少なくとも１つの他のラスタパッチの前記比色値Ｌ*ａ*ｂ*を変換するステップであって、ＲＣＤは、パーセンテージとして表された相対比色差であり、前記印刷機で達成された実際のラスタパーセンテージを表す、ステップと、
Ｅ）プレートの前記少なくとも１つの他のラスタパッチの前記所定のパーセンテージとステップＤ）で得られた前記ＲＣＤパーセンテージとの間の差に基づいて、前記少なくとも１つの他のラスタパッチのドットゲインを判定するステップと、
Ｆ）ステップＥ）からの前記ドットゲインによって前記印刷フォームからの前記所定のラスタパーセンテージを補正し、これによって、前記少なくとも１つの他のラスタパッチの補正されたラスタパーセンテージを作成するステップと、
Ｇ）ステップＦ）で前記少なくとも１つの他のラスタパッチについて得られた前記補正されたラスタパーセンテージを使用して印刷イメージを有する印刷フォームを作るステップと
を備えることを特徴とするプロセス。
【請求項２】
印刷フォームは、前記印刷イメージに関する所望の印刷インクごとに作られることを特徴とする請求項１に記載のプロセス。
【手続補正書】
【提出日】平成21年11月16日(2009.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
定期券には、券面印字の他に発駅−経由駅−着駅のエンコード情報が記録されている。エンコード情報について説明すると、各社の全路線にはそれぞれ異なる線区コードが割り当てられ、各線区の駅には駅順コードが割り当てられている。例えば、東海道線の線区はＡＡ、東京駅から神戸駅まで順に駅順コードがＮ1 、Ｎ2 ……Ｎ253 と割り当てられており、東京駅はＡＡ−Ｎ1 、有楽町駅はＡＡ−Ｎ2 、新橋駅はＡＡ−Ｎ3 のように駅コード（駅番号）が割り当てられる。このように、各社の全路線の全駅は異なる駅番号が付されており、定期券の経路はこの駅コードで特定され、この駅コードが定期券に記録されている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年8月20日(2010.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々が異なる色で発光する複数種類の発光素子と、
前記複数種類の発光素子を各々駆動する駆動手段と、
前記複数種類の発光素子の発光強度を各々測定して複数の発光強度信号を生成する複数の発光強度検出手段と、
前記複数の発光強度信号の各々について最大値を保持して、前記複数種類の発光素子ごとに各最大発光強度信号を出力する複数のピークホールド手段と、
前記各最大発光強度信号の値と前記複数種類の発光素子ごとに定められた各基準値とを各々比較し、比較結果に基づいて前記各最大発光強度信号の値が前記各基準値に一致させるように前記駆動手段を制御する制御手段とを備える、
ことを特徴とする発光装置。
【請求項２】
前記複数の発光強度信号の中から一つを順次選択して選択発光強度信号を出力する選択手段とを備え、
前記ピークホールド手段は、前記選択光強度信号の最大値を保持して最大発光強度信号を出力し、
前記制御手段は、前記複数種類の発光素子ごとに定められた複数の基準値の中から、前記最大発光強度信号に対応する基準値を選択し、前記最大発光強度信号と前記選択した基準値とを比較し、
比較結果に基づいて前記最大発光強度信号の値が前記基準値に一致させるように前記駆動手段を制御する、
ことを特徴とする請求項１に発光装置。
【請求項３】
前記複数の発光強度検出手段の各々は、前記複数種類の発光素子が発光する光のピーク波長に対応した波長感度特性を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の発光装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のうちいずれか1項に記載の発光装置を光源として備えることを特徴とする電子機器。
【請求項５】
各々が異なる色で発光する複数種類の発光素子を備えた発光装置の制御方法において、
前記複数種類の発光素子の発光強度を各々測定して複数の発光強度信号を生成し、
前記複数の発光強度信号の各々について最大値を保持して、前記複数種類の発光素子ごとに各最大発光強度信号を生成し、
前記各最大発光強度信号の値と前記複数種類の発光素子ごとに定められた各基準値とを各々比較し、比較結果に基づいて前記各最大発光強度信号の値が前記各基準値に一致させるように前記複数種類の発光素子を各々駆動する、
ことを特徴とする発光装置の制御方法。
【請求項６】
各々が異なる色で発光する複数種類の発光素子を備えた発光装置の制御方法において、
前記複数種類の発光素子の発光強度を各々測定して複数の発光強度信号を生成し、
前記複数の発光強度信号の中から一つを順次選択して選択発光強度信号を生成し、
前記選択光強度信号の最大値を保持して最大発光強度信号を生成し、
前記複数種類の発光素子ごとに定められた複数の基準値の中から、前記最大発光強度信号に対応する基準値を選択し、
前記最大発光強度信号と前記選択した基準値とを比較し、比較結果に基づいて前記最大発光強度信号の値が前記基準値に一致させるように前記複数種類の発光素子を各々駆動する、
ことを特徴とする発光装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月31日(2010.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、配線層と絶縁層を積層した配線部材を形成する工程と、
前記配線部材から前記支持体を除去する工程とを有する配線基板の製造方法であって、
前記配線部材から前記支持体をエッチングにより除去する際、前記配線部材の表面に露出する接続パッドの配設位置を囲繞するように前記支持体の一部を残すことにより前記配線部材を補強する補強体を形成すると共に、該補強体に前記配線部材で発生する応力を緩和させるスリットを前記補強体が複数の領域に分離されるように形成することを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項２】
前記補強体及び前記スリットは、前記支持体をエッチングすることにより同時形成される請求項１記載の配線基板の製造方法。
【請求項３】
前記支持体の材料を銅とし、該支持体の厚さを５０μｍ以上１５０μｍ以下に設定した請求項１又は２に記載の配線基板の製造方法。
【請求項４】
配線層と絶縁層を積層した構造の配線部材を有し、前記配線部材の表面に前記配線層と接続した接続パッドが露出した配線基板であって、
前記配線部材の表面の前記接続パッドの配設位置を囲繞する位置に設けられ、前記配線部材を補強する補強体と、
該補強体に設けられ、前記配線部材で発生する応力を緩和させるスリットとを有し、
該スリットにより前記補強体が複数の領域に分離される構成としたことを特徴とする配線基板。
【請求項５】
前記スリットは、非直線形状である請求項４に記載の配線基板。
【請求項６】
前記スリットを前記補強体の四隅位置に設けてなる請求項４又は５に記載の配線基板。
【請求項７】
前記支持体の材料を銅とし、該支持体の厚さを５０μｍ以上１５０μｍ以下に設定した請求項４乃至６のいずれか一項に記載の配線基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記の課題は、本発明の第１の観点からは、
支持体上に、配線層と絶縁層を積層した配線部材を形成する工程と、
前記配線部材から前記支持体を除去する工程とを有する配線基板の製造方法であって、
前記配線部材から前記支持体をエッチングにより除去する際、前記配線部材の表面に露出する接続パッドの配設位置を囲繞するように前記支持体の一部を残すことにより前記配線部材を補強する補強体を形成すると共に、該補強体に前記配線部材で発生する応力を緩和させるスリットを前記補強体が複数の領域に分離されるように形成することを特徴とする配線基板の製造方法により解決することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また上記の課題は、本発明の他の観点からは、
配線層と絶縁層を積層した構造の配線部材を有し、前記配線部材の表面に前記配線層と接続した接続パッドが露出した配線基板であって、
前記配線部材の表面の前記接続パッドの配設位置を囲繞する位置に設けられ、前記配線部材を補強する補強体と、
該補強体に設けられ、前記配線部材で発生する応力を緩和させるスリットとを有し、
該スリットにより前記補強体が複数の領域に分離される構成としたことを特徴とする配線基板により解決することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また上記発明において、前記応力緩和部を前記補強体の四隅位置に設けることが望ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月24日(2010.9.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成された第１のインダクタと、
前記半導体基板内に埋設された第２のインダクタとを備え、
前記第１のインダクタと前記第２のインダクタとが、前記半導体基板の厚み方向からみたときに重ならない位置に配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体装置において、
前記第２のインダクタを前記厚み方向からみたときに前記第２のインダクタと重なる位置に、前記第１のインダクタが放出する磁力線を減衰させるシールド膜が形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成されたインダクタと、
前記半導体基板内に埋設されたアナログフロントエンドとを備え、
前記インダクタと前記アナログフロントエンドとが、前記半導体基板の厚み方向からみたときに重ならない位置に配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３に記載の半導体装置において、
前記アナログフロントエンドを前記厚み方向からみたときに前記アナログフロントエンドと重なる位置に、前記インダクタが放出する磁力線を減衰させるシールド膜が形成されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項２または請求項４に記載の半導体装置において、
前記絶縁膜と前記絶縁膜を挟んで形成された前記シールド膜とでキャパシタが形成され、
前記シールド膜がキャパシタ上電極及びキャパシタ下電極を兼ねていることを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
内部インダクタが形成された半導体基板に第１再配置配線を形成する工程と、
前記第１再配置配線が形成された半導体基板に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜が形成された半導体基板に第２再配置配線を形成する工程とを有し、
前記第１再配置配線を形成する工程でインダクタの一部と、前記第２再配置配線を形成する工程で前記一部以外の前記インダクタの残部とを形成し、
前記第１再配置配線を形成する工程で、前記一部の形成と同時にシールド膜を前記内部インダクタと対向する第１箇所に形成し、または、
前記第２再配置配線を形成する工程で、前記残部の形成と同時に前記シールド膜を前記内部インダクタと対向する第２箇所に形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項７】
アナログフロントエンドが形成された半導体基板に第１再配置配線を形成する工程と、
前記第１再配置配線が形成された半導体基板に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜が形成された半導体基板に第２再配置配線を形成する工程とを有し、
前記第１再配置配線を形成する工程でインダクタの一部と、前記第２再配置配線を形成する工程で前記一部以外の前記インダクタの残部とを形成し、
前記第１再配置配線を形成する工程で、前記一部の形成と同時に前記アナログフロントエンドと対向する第３箇所にシールド膜を形成し、または、
前記第２再配置配線を形成する工程で、前記残部の形成と同時に前記アナログフロントエンドと対向する第４箇所に前記シールド膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項８】
内部インダクタが形成された半導体基板に第１再配置配線を形成する工程と、
前記第１再配置配線が形成された半導体基板に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜が形成された半導体基板に第２再配置配線を形成する工程とを有し、
前記第１再配置配線を形成する工程で、インダクタの一部の形成と同時にキャパシタ下電極を前記内部インダクタと対向する第１箇所に形成し、
前記第２再配置配線を形成する工程で、前記一部以外の前記インダクタの残部の形成と同時にキャパシタ上電極を前記内部インダクタと対向する第２箇所に形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項９】
アナログフロントエンドが形成された半導体基板に第１再配置配線を形成する工程と、
前記第１再配置配線が形成された半導体基板に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜が形成された半導体基板に第２再配置配線を形成する工程とを有し、
前記第１再配置配線を形成する工程で、インダクタの一部の形成と同時にキャパシタ下電極を前記アナログフロントエンドと対向する第３箇所に形成し、
前記第２再配置配線を形成する工程で、前記一部以外の前記インダクタの残部の形成と同時にキャパシタ上電極を前記アナログフロントエンドと対向する第４箇所に形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月27日(2010.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の配線層と絶縁層が積層された配線部材と、
前記配線部材に設けられた接続パッドの形成位置と対応する位置に貫通孔が形成されると共に、一側面が前記配線部材の一面側に露出するよう前記絶縁層に配設される補強部材とを有し、
前記補強部材が前記絶縁層内に配設された際、前記接続パッドが前記貫通孔から露出し、かつ前記補強部材と前記電極パッドとが面一となるよう構成したことを特徴とする配線基板。
【請求項２】
前記補強部材の表面を粗面としたことを特徴とする請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
支持基板に接続パッドを形成する工程と、
前記接続パッドの形成位置に対応した貫通孔が形成された補強部材を、前記接続パッドが前記貫通孔から露出するよう前記支持基板上に配設する工程と、
前記補強部材に絶縁樹脂を配設し、該絶縁樹脂を硬化させて前記補強部材上に絶縁層を形成する工程と、
前記補強部材が配設された前記支持体上に、配線層と絶縁層を積層して配線部材を形成する工程と、
前記配線部材から前記支持体を除去する工程と、
を有することを特徴とする配線基板の製造方法。
【請求項４】
配線層と絶縁層が積層された配線部材と、
開口部を有した枠状の補強部材と、
前記開口部内に配置された前記配線部材の外周側壁と前記開口部の内壁とを接着する接着部材と、
前記配線部材に搭載された半導体チップと、
前記配線部材と前記半導体チップを覆うように設けられた放熱部材とを有する半導体装置。
【請求項５】
前記放熱部材は、前記補強部材と前記半導体チップを熱的に接続することを特徴とする請求項４記載の半導体装置。
【請求項６】
前記配線部材の表面と前記補強部材の表面とが、少なくともその一面側同士が面一となるよう構成したことを特徴とする請求項４又は５記載の半導体装置。
【請求項７】
前記配線部材の表面に対し前記補強部材の表面が突出するよう段差部を形成したことを特徴とする請求項４乃至６のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項８】
前記補強部材に内側に向け延出する鍔部を形成し、前記開口部の内壁と共に前記鍔部も前記接着部材により前記配線部材に接着する構成としたことを特徴とする請求項４乃至７のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項９】
支持体上に配線層と絶縁層を積層して配線部材を形成する工程と、
前記配線部材から前記支持基板を除去する工程と、
開口部が形成された枠状の補強部材の該開口部内に、接着剤を介在させて前記配線部材を配置する工程と、
前記配線部材が配置された前記補強部材を金型に装着し、プレスしつつ加熱することにより前記接着剤を硬化させる工程と、
前記配線部材に半導体チップを搭載する工程と、
前記配線部材と前記半導体チップを覆うよう放熱部材を配設する工程と、
を有する半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】配線基板及びその製造方法及び半導体装置及びその製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は配線基板及びその製造方法及び半導体装置及びその製造方法に係り、支持体上に配線層と絶縁層を積層した後に支持体を除去することにより形成される配線部材に補強部材を設けてなる配線基板及びその製造方法及び半導体装置及びその製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、薄型化を図りつつ機械的強度の向上を図りうる配線基板及びその製造方法及び半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記の課題は、本発明の第１の観点からは、
複数の配線層と絶縁層が積層された配線部材と、
前記配線部材に設けられた接続パッドの形成位置と対応する位置に貫通孔が形成されると共に、一側面が前記配線部材の一面側に露出するよう前記絶縁層に配設される補強部材とを有し、
前記補強部材が前記絶縁層内に配設された際、前記接続パッドが前記貫通孔から露出し、かつ前記補強部材と前記電極パッドとが面一となるよう構成したことを特徴とする配線基板により解決することができる。
また上記の課題は、本発明の他の観点からは、
支持基板に接続パッドを形成する工程と、
前記接続パッドの形成位置に対応した貫通孔が形成された補強部材を、前記接続パッドが前記貫通孔から露出するよう前記支持基板上に配設する工程と、
前記補強部材に絶縁樹脂を配設し、該絶縁樹脂を硬化させて前記補強部材上に絶縁層を形成する工程と、
前記補強部材が配設された前記支持体上に、配線層と絶縁層を積層して配線部材を形成する工程と、
前記配線部材から前記支持体を除去する工程とを有することを特徴とする配線基板の製造方法により解決することができる。
また上記の課題は、本発明の他の観点からは、
配線層と絶縁層が積層された配線部材と、
開口部を有した枠状の補強部材と、
前記開口部内に配置された前記配線部材の外周側壁と前記開口部の内壁とを接着する接着部材と、
前記配線部材に搭載された半導体チップと、
前記配線部材と前記半導体チップを覆うように設けられた放熱部材とを有する半導体装置により解決することができる。
また上記の課題は、本発明の他の観点からは、
支持体上に配線層と絶縁層を積層して配線部材を形成する工程と、
前記配線部材から前記支持基板を除去する工程と、
開口部が形成された枠状の補強部材の該開口部内に、接着剤を介在させて前記配線部材を配置する工程と、
前記配線部材が配置された前記補強部材を金型に装着し、プレスしつつ加熱することにより前記接着剤を硬化させる工程と、
前記配線部材に半導体チップを搭載する工程と、
前記配線部材と前記半導体チップを覆うよう放熱部材を配設する工程と、
を有する半導体装置の製造方法により解決することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】