【手続補正書】
【提出日】平成22年10月19日(2010.10.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールと複合金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の混合物を準備すること；
第一連続攪拌槽型反応装置（ＣＳＴＲ）内にエトキシル化条件を確立すること；
エトキシレートを製造するために適する条件下、Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールとＤＭＣ触媒の混合物及びエチレンオキシドを、前記第一ＣＳＴＲ反応装置に連続的に供給すること；
エトキシレート生成物を製造するために適する条件下、前記第一ＣＳＴＲ反応装置からの反応混合物及び更なるエチレンオキシドを、第二ＣＳＴＲ反応装置又は管型反応装置に連続的に供給すること；及び
前記第二ＣＳＴＲ反応装置又は管型反応装置からのエトキシレート生成物を、収集容器に連続的に取り出すこと
を含んで成り、
エトキシレート生成物は、塩基性触媒によって製造される同様のエトキシレート生成物の分子量分布と本質的に同等の分子量分布を有する、エトキシレートの多段階連続製造方法。
【請求項２】
Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールと複合金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の混合物を準備すること；
区切られた連続攪拌槽型反応装置（ＣＳＴＲ）の第一部分内にエトキシル化条件を確立すること；
エトキシレートを製造するために適する条件下、Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールとＤＭＣ触媒の混合物及びエチレンオキシドを、前記ＣＳＴＲ反応装置の第一部分に連続的に供給すること；
エトキシレート生成物を製造するために適する条件下、前記ＣＳＴＲ反応装置からの反応混合物を前記ＣＳＴＲ反応装置の第二部分に連続的に押し進め、更なるエチレンオキシドを加えること；及び
前記ＣＳＴＲ反応装置の第二部分からのエトキシレート生成物を、収集容器に連続的に取り出すこと
を含んで成り、
エトキシレート生成物は、塩基性触媒によって製造される同様のエトキシレート生成物の分子量分布と本質的に同等の分子量分布を有する、エトキシレートの多段階連続製造方法。
【請求項３】
Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールと複合金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の混合物を準備すること；
反応装置内にエトキシル化条件を確立すること；
エトキシレートを製造するために適する条件下、Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールとＤＭＣ触媒の混合物及びエチレンオキシドを、前記反応装置に連続的に供給すること；
エトキシレート生成物を製造するために適する条件下、更なるエチレンオキシドを、前記反応装置に連続的に供給すること；及び
前記反応装置からのエトキシレート生成物を、収集容器に連続的に取り出すこと
を含んで成り、
エトキシレート生成物は、塩基性触媒によって製造される同様のエトキシレート生成物の分子量分布と実質的に類似の分子量分布を有する、エトキシレートの一段階連続製造方法。
【請求項４】
界面活性剤の製造方法において、請求項１に記載の多段階連続製造方法によって製造されるエトキシレート生成物を含有することを含んで成る改良。
【請求項５】
界面活性剤の製造方法において、請求項２に記載の多段階連続製造方法によって製造されるエトキシレート生成物を含有することを含んで成る改良。
【請求項６】
界面活性剤の製造方法において、請求項３に記載の一段階連続製造方法によって製造されるエトキシレート生成物を含有することを含んで成る改良。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
当業者は、異なる型の反応装置を組み合わせて、所望の生成物分布を与える多段階反応装置列を創作することが期待される。例えば、ｈｔｔｐ：ａｄｔ．ｌｉｂ．ｓｗｉｎ．ｅｄｕ．ａｕ／ｕｐｌｏａｄｓ／ａｐｐｒｏｖｅｄ／ａｄｔ−ＶＳＷＴ２００５０６１０．１４０６０７／ｐｕｂｌｉｃ／０２ｃｈａｐｔｅｒ１−４．ｐｄｆに与えられるような、ベンチュリーループ（Venturi Loop）反応器及びスプレータワーループ（Spray Tower Loop）反応器を含む、もともと半バッチアルコキシル化方法のために開発された他の型の反応装置を、連続方法のために容易に修正することもできる。米国特許第７，０１２，１６４号明細書（図１〜４参照）に開示されたような、ステージを取り付けた反応器及び仕切られた反応器、ならびにそれらの変形は、特に、エトキシレートを製造するための本発明の製造方法の使用に適する。
以下に本発明の主な態様を記載する。
１．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールと複合金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の混合物を準備すること；
第一連続攪拌槽型反応装置（ＣＳＴＲ）内にエトキシル化条件を確立すること；
エトキシレートを製造するために適する条件下、Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールとＤＭＣ触媒の混合物及びエチレンオキシドを、前記第一ＣＳＴＲ反応装置に連続的に供給すること；
エトキシレート生成物を製造するために適する条件下、前記第一ＣＳＴＲ反応装置からの反応混合物及び更なるエチレンオキシドを、第二ＣＳＴＲ反応装置又は管型反応装置に連続的に供給すること；及び
前記第二ＣＳＴＲ反応装置又は管型反応装置からのエトキシレート生成物を、収集容器に連続的に取り出すこと
を含んで成るエトキシレートの多段階連続製造方法であって、
エトキシレート生成物は、塩基性触媒によって製造される同様のエトキシレート生成物の分子量分布と本質的に同等の分子量分布を有する多段階連続製造方法。
２．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、１級アルコールである上記１記載の多段階連続製造方法。
３．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、２級又は３級アルコールである上記１記載の多段階連続製造方法。
４．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、９〜１３の炭素原子を含む上記１記載の多段階連続製造方法。
５．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、Ｃ１２〜Ｃ１５の単官能１級アルコールの混合物を含んで成る単官能１級アルコールである上記１記載の多段階連続製造方法。
６．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、ココナッツ油、ヤシ油、大豆油、ヒマシ油、水酸化植物油、ステアリン酸ヒドロキシメチル、アクリル酸ヒドロキシアルキル及びリシノール酸メチルに由来するアルコールから成る群から選択される上記１記載の多段階連続製造方法。
７．エトキシレート生成物は、塩基性触媒によって製造される同様のエトキシレート生成物より、狭い分子量分布を有する上記１記載の多段階連続製造方法。
８．前記管型反応装置は、パイプ反応器又は栓流反応器である上記１記載の多段階連続製造方法。
９．エトキシレート生成物を製造するために適する条件下、前記第二ＣＳＴＲ反応装置又は管型反応装置からの生成物を、第三反応装置に連続的に供給する工程を更に含む上記１記載の多段階連続製造方法。
１０．前記第三反応装置は、ＣＳＴＲ反応装置又は管型反応装置である上記９記載の多段階連続製造方法。
１１．エトキシレート生成物は、約２００Ｄａ〜約２０，０００Ｄａの数平均分子量を有する上記１記載の多段階連続製造方法。
１２．エトキシレート生成物は、約２５０Ｄａ〜約１２，０００Ｄａの数平均分子量を有する上記１記載の多段階連続製造方法。
１３．エトキシレート生成物は、約３５０Ｄａ〜約６５０Ｄａの数平均分子量を有する上記１記載の多段階連続製造方法。
１４．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールと複合金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の混合物を準備すること；
区切られた連続攪拌槽型反応装置（ＣＳＴＲ）の第一部分内にエトキシル化条件を確立すること；
エトキシレートを製造するために適する条件下、Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールとＤＭＣ触媒の混合物及びエチレンオキシドを、前記ＣＳＴＲ反応装置の第一部分に連続的に供給すること；
エトキシレート生成物を製造するために適する条件下、前記ＣＳＴＲ反応装置からの反応混合物を前記ＣＳＴＲ反応装置の第二部分に連続的に押し進め、更なるエチレンオキシドを加えること；及び
前記ＣＳＴＲ反応装置の第二部分からのエトキシレート生成物を、収集容器に連続的に取り出すこと
を含んで成るエトキシレートの多段階連続製造方法であって、
エトキシレート生成物は、塩基性触媒によって製造される同様のエトキシレート生成物の分子量分布と本質的に同等の分子量分布を有する多段階連続製造方法。
１５．前記連続攪拌槽反応装置（ＣＳＴＲ）は、一又はそれ以上の多孔板及び／又は回転盤で区切られる上記１４記載の多段階連続製造方法。
１６．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、１級アルコールである上記１４記載の多段階連続製造方法。
１７．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、２級又は３級アルコールである上記１４記載の多段階連続製造方法。
１８．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、９〜１３の炭素原子を含む上記１４記載の多段階連続製造方法。
１９．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、Ｃ１２〜Ｃ１５単官能１級アルコールの混合物を含んで成る単官能１級アルコールである上記１４記載の多段階連続製造方法。
２０．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、ココナッツ油、ヤシ油、大豆油、ヒマシ油、水酸化植物油、ステアリン酸ヒドロキシメチル、アクリル酸ヒドロキシアルキル及びリシノール酸メチルに由来するアルコールから成る群から選択される上記１４記載の多段階連続製造方法。
２１．エトキシレート生成物は、塩基性触媒によって製造される同様のエトキシレート生成物より、狭い分子量分布を有する上記１４記載の多段階連続製造方法。
２２．エトキシレート生成物は、約２００Ｄａ〜約２０，０００Ｄａの数平均分子量を有する上記１４記載の多段階連続製造方法。
２３．エトキシレート生成物は、約２５０Ｄａ〜約１２，０００Ｄａの数平均分子量を有する上記１４記載の多段階連続製造方法。
２４．エトキシレート生成物は、約３５０Ｄａ〜約６５０Ｄａの数平均分子量を有する上記１記載の多段階連続製造方法。
２５．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールと複合金属シアン化物（ＤＭＣ）触媒の混合物を準備すること；
反応装置内にエトキシル化条件を確立すること；
エトキシレートを製造するために適する条件下、Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールとＤＭＣ触媒の混合物及びエチレンオキシドを、前記反応装置に連続的に供給すること；
エトキシレート生成物を製造するために適する条件下、更なるエチレンオキシドを、前記反応装置に連続的に供給すること；及び
前記反応装置からのエトキシレート生成物を、収集容器に連続的に取り出すこと
を含んで成るエトキシレートの一段階連続製造方法であって、
エトキシレート生成物は、塩基性触媒によって製造される同様のエトキシレート生成物の分子量分布と実質的に類似の分子量分布を有する一段階連続製造方法。
２６．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、１級アルコールである上記２５記載の一段階連続製造方法。
２７．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、２級又は３級アルコールである上記２５記載の一段階連続製造方法。
２８．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、９〜１３の炭素原子を含む上記２５記載の一段階連続製造方法。
２９．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、Ｃ１２〜Ｃ１５の単官能１級アルコールの混合物を含んで成る単官能１級アルコールである上記２５記載の一段階連続製造方法。
３０．Ｃ１〜Ｃ２６非フェノール性アルコールは、ココナッツ油、ヤシ油、大豆油、ヒマシ油、水酸化植物油、ステアリン酸ヒドロキシメチル、アクリル酸ヒドロキシアルキル及びリシノール酸メチルに由来するアルコールから成る群から選択される上記２５記載の一段階連続製造方法。
３１．エトキシレート生成物は、約２００Ｄａ〜約２０，０００Ｄａの数平均分子量を有する上記２５記載の一段階連続製造方法。
３２．エトキシレート生成物は、約２５０Ｄａ〜約１２，０００Ｄａの数平均分子量を有する上記２５記載の一段階連続製造方法。
３３．エトキシレート生成物は、約３５０Ｄａ〜約６５０Ｄａの数平均分子量を有する上記２５記載の一段階連続製造方法。
３４．前記反応装置は、パイプ反応器又は栓流反応器である上記２５記載の一段階連続製造方法。
３５．界面活性剤の製造方法において、上記１に記載の多段階連続製造方法によって製造されるエトキシレート生成物を含有することを含んで成る改良。
３６．界面活性剤の製造方法において、上記１４に記載の多段階連続製造方法によって製造されるエトキシレート生成物を含有することを含んで成る改良。
３７．界面活性剤の製造方法において、上記２５に記載の一段階連続製造方法によって製造されるエトキシレート生成物を含有することを含んで成る改良。