【手続補正書】
【提出日】平成21年12月28日(2009.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写して前記インキ膜形成基材から除去する除去工程と、前記インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版であって、該凸版の要部対応領域である凹部に撥インキ処理を施してあることを特徴とする凸版反転オフセット印刷用凸版。
【請求項２】
前記撥インキ処理は撥インキ性のシランカップリング剤からなる分子膜であることを特徴とする請求項１記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
【請求項３】
前記撥インキ性のシランカップリング剤はフルオロアルキル基、フルオロエーテル基、若しくはシロキサンであることを特徴とする請求項２記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
【請求項４】
前記凸版の凸部の頂部に親インキ処理を施してあることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷用凸版。
【請求項５】
インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版の製造方法であって、凸版基材となる基板表面の凸部に対応する位置をパターン状にマスキングする工程、次に該基板表面のマスキングされていない領域をエッチングする工程、次に該基板表面のエッチングされた領域に撥インキ処理を施す工程、次にパターン状になされたマスキングを剥離する工程、を備えることを特徴とする請求項１に記載の凸版反転オフセット印刷用凸版の製造方法。
【請求項６】
前記撥インキ処理は撥インキ性のシランカップリング剤による処理であることを特徴とする請求項５記載の凸版反転オフセット印刷用凸版製造方法。
【請求項７】
前記撥インキ性のシランカップリング剤はフルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を含むオリゴマー、フルオロエーテル基含有ポリマー、もしくは加水分解性基を含むシロキサンであることを特徴とする請求項６記載の凸版反転オフセット印刷用凸版製造方法。
【請求項８】
前記凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版の製造方法であって、凸版基材となる基板表面の凸部に対応する位置をパターン状にマスキングする工程、次に該基板表面のマスキングされていない領域をエッチングする工程、次に該基板表面のエッチングされた領域に撥インキ処理を施す工程、次にパターン状になされたマスキングを剥離する工程、次に該基材上凸部の頂部に親インキ処理を施す工程、を備えることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷用凸版の製造方法。
【請求項９】
前記親インキ処理は親インキ性のシランカップリング剤による処理であることを特徴とする請求項８記載の凸版反転オフセット印刷用凸版製造方法。
【請求項１０】
インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法による印刷物の製造方法であって、請求項１乃至４のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷用凸版を凸版として用いたことを特徴とする印刷物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
請求項２に係る第２の発明は、前記撥インキ処理は撥インキ性のシランカップリング剤からなる分子膜であることを特徴とする請求項１記載の凸版反転オフセット印刷用凸版である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項３に係る第３の発明は、前記撥インキ処理は撥インキ性のシランカップリング剤からなる分子膜であることを特徴とする請求項１記載の凸版反転オフセット印刷用凸版である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項４に係る第４の発明は、前記凸版の凸部の頂部に親インキ処理を施してあることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷用凸版である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項５に係る第５の発明は、インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版の製造方法であって、凸版基材となる基板表面の凸部に対応する位置をパターン状にマスキングする工程、次に該基板表面のマスキングされていない領域をエッチングする工程、次に該基板表面のエッチングされた領域に撥インキ処理を施す工程、次にパターン状になされたマスキングを剥離する工程、を備えることを特徴とする請求項１に記載の凸版反転オフセット印刷用凸版の製造方法である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項６に係る第６の発明は、前記撥インキ処理は撥インキ性のシランカップリング剤による処理であることを特徴とする請求項５記載の凸版反転オフセット印刷用凸版製造方法である。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
請求項７に係る第７の発明は、前記撥インキ性のシランカップリング剤はフルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を含むオリゴマー、フルオロエーテル基含有ポリマー、もしくは加水分解性基を含むシロキサンであることを特徴とする請求項６記載の凸版反転オフセット印刷用凸版製造方法である。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
請求項８に係る第８の発明は、前記凸版反転オフセット印刷法に使用する凸版の製造方法であって、凸版基材となる基板表面の凸部に対応する位置をパターン状にマスキングする工程、次に該基板表面のマスキングされていない領域をエッチングする工程、次に該基板表面のエッチングされた領域に撥インキ処理を施す工程、次にパターン状になされたマスキングを剥離する工程、次に該基材上凸部の頂部に親インキ処理を施す工程、を備えることを特徴とする請求項５乃至７のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷用凸版の製造方法である。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項９に係る第９の発明は、前記親インキ処理は親インキ性のシランカップリング剤による処理であることを特徴とする請求項８記載の凸版反転オフセット印刷用凸版製造方法である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項１０に係る第１０の発明は、インキをインキ膜形成基材上に塗布してインキの膜を形成するインキ膜形成工程と、該インキ膜に対し所定形状の凸版を接触させて凸版の凸部に該インキ膜の不要部を転写してインキ膜形成基材から除去する除去工程と、該インキ膜形成基材上に残った該インキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写工程とを備える凸版反転オフセット印刷法による印刷物の製造方法であって、請求項１乃至４のいずれかに記載の凸版反転オフセット印刷用凸版を凸版として用いたことを特徴とする印刷物の製造方法である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
請求項８に記載の発明によって、請求項４に記載の凸版反転オフセット印刷用凸版が製造できた。この凸版によって、インキ膜形成領域が広い印刷物を形成する際にも画像パターンの抜けを防ぐことができ、さらにインキ不要部の正確な除去がなされることにより、高精細かつ画素の抜けのない印刷物を製造することができた。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図１の（ａ）示す本発明の凸版１０は、インキ膜形成基材上のインキ膜から不要部を除去し、要部を残すために、不要部に対応した部位が凸部（レリーフパターン）となるように形成されている。図１を用いて説明すると、本明細書中では凸版表面の最も高い部位を凸部頂部１４、最も低い部位を凹部底面１６とし、凸部の側面、あるいは凹部の側面でもある部位は凸部側面１５とする。凸部頂部１４と凹部底面１６の差を版深ｄとし、その許容される範囲は製造される印刷物によって選択される。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
こうして得られた、マスク済みの基材３３のマスクで覆われていない領域を彫り込んでレリーフ３４を形成する（図３（ｂ））。レリーフの形成方法は選択した基材に応じて適宜選択することができ、例えばサンドブラスト、ウェットブラストなどのブラスト法、ＦＩＢ（収束イオンビーム）による切削、ナノインプリンティング法、ドライエッチング、ウエットエッチング等を挙げることができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
（比較例）
凹部に撥インキ処理を施さない他は実施例１と同様に凸版反転オフセット印刷用凸版を製造し、印刷物の製造までを行った。得られた印刷物について、導電性パターンを光学顕微鏡で観察したところ、パターン疎部におけるパターン抜けが顕著で、所々に印刷不良があった。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
【図１】本発明の凸版反転オフセット印刷用凸版の一例を示す断面図である。
【図２】（ａ）は本発明の凸版反転オフセット印刷用凸版の他の例を示す上面図であり、（ｂ）は（ａ）で示す図のＡ−Ｂラインでの断面図である。
【図３】本発明の凸版の製造工程の一例を示す模式図である。
【図４】（ａ）はインキ膜と凸版との接触状態を説明する模式図である。（ｂ）は凸    版の製造方法の一例を説明する模式図である。
【図５】反転オフセット印刷法に用いる装置の模式図である。
【図６】反転オフセット印刷法を説明する工程の模式図である。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
１０：凸版
１１：撥インキ処理面
１４：凸部頂部
１５：凸部側面
１６：凹部底面
２０：凸版
２２：撥インキ処理された凹部
２７：パターン疎部
２８：パターン密部
３０：撥インキ性処理凸版
３１：凸版基材
３２：マスク
３３：マスク済みの基材
３４：レリーフ
３５：撥インキ処理
３６：撥インキ処理面（シランカップリング剤単分子膜）
３７：親インキ処理
３８：親インキ処理面（シランカップリング剤単分子膜）
３９：親インキ性処理凸版
４０：凸版
４１ａ：パターン疎部
４１ｂ：パターン密部
４２：インキ膜形成基材
４３：インキ膜
４４：凸版基材
４５：マスク
５０：凸版反転オフセット印刷装置
５１、６１：インキ供給手段
５２：ブランケット
６２：インキ膜形成基材
５３、６３：インキ膜
５３ａ、６３ａ：インキ膜の要部
５３ｂ、６３ｂ：インキ膜の不要部
５４：除去版
５５：被印刷基板
５６：搬送手段
６４：凸版
６５：被印刷基板