Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成22年5月13日(2010.5.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
長手方向に延びる一対の側壁を所定の間隔を於いて配置して成り、当該隙間に頭付きあるいは鍔付きの部品の脚部を遊嵌するとともに首下を支持して搬送する搬送レールと、この搬送レールの後方部に部品を落下させて供給する手段と、前記搬送レールに振動を付与して搬送レール上の部品を先端方向に移動させる直進振動部とを備える部品供給装置において、
前記搬送レールは、その後方部の高さが前方部よりも高く形成され、当該後方部の長辺には面取りを施して斜面を設けて当該斜面で遊嵌された部品の頭部あるいは鍔部を支持するとともに、当該後方部の上面の搬送最終端には搬送方向に対して下る方向に傾斜する案内斜面を設けて成ることを特徴とする部品供給装置。
【請求項２】
四角柱形状の部材の短辺に面取りを施して前記案内斜面を形成し、かつ当該部材の長辺に面取りを施して前記斜面を形成し、当該部材が搬送レールに着脱自在に取付けられていることを特徴とする請求項１に記載の部品供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の部品供給装置は、上記課題に鑑みて創成されたものであり、長手方向に延びる一対の側壁を所定の間隔を於いて配置して成り、当該隙間に頭付きあるいは鍔付きの部品の脚部を遊嵌するとともに首下を支持して搬送する搬送レールと、この搬送レールの後方部に部品を落下させて供給する手段と、前記搬送レールに振動を付与して搬送レール上の部品を先端方向に移動させる直進振動部とを備える部品供給装置において、前記搬送レールは、その後方部の高さが前方部よりも高く形成され、当該後方部の長辺には面取りを施して斜面を設けて当該斜面で遊嵌された部品の頭部あるいは鍔部を支持するとともに、当該後方部の上面の搬送最終端には搬送方向に対して下る方向に傾斜する案内斜面を設けて成る。また、四角柱形状の部材の短辺に面取りを施して前記案内斜面を形成し、かつ当該部材の長辺に面取りを施して前記斜面を形成し、当該部材が搬送レールに着脱自在に取付けられていることが望ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
通常、搬送レールには部品を遊嵌し易くするために、搬送レールの長辺には面取りが施されている。しかしながら、ここに支持された部品の頭部あるいは鍔部は、当該面取りの搬送最終端部では斜面を上らなければならなくなり、これでは部品の供給効率が低下する弊害が生じる。そこで、本発明の部品供給装置においては、搬送レールは、その後方部の高さが前方部よりも高く形成され、当該後方部の長辺には面取りを施して斜面を設けて当該斜面で遊嵌された部品の頭部あるいは鍔部を支持するとともに、当該後方部の上面の搬送最終端には搬送方向に対して下る方向に傾斜する案内斜面を設けて成る。これにより、斜面に支持された部品の頭部あるいは鍔部が、当該斜面の搬送最終端に到達しても、前記案内斜面により、部品の頭部あるいは鍔部を水平に保った状態で搬送することが可能となり、部品の供給効率が低下する弊害を解消することができる。しかも、四角柱状の部材の短辺および長辺に面取りを施したものを搬送レールに取付けるだけの簡単な加工で、前記斜面および案内斜面に備える搬送レールを手に入れることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年9月27日(2010.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スチレンスルホン酸単位を有する高分子化合物からなるアレルゲン不活化剤であって、前記高分子化合物におけるスチレンスルホン酸単位の割合が、構成単量体中、２０重量％以上である、アレルゲン不活化剤。
【請求項２】
前記高分子化合物の重量平均分子量が1,000〜1,000,000である請求項１記載のアレルゲン不活化剤。
【請求項３】
前記請求項１又は２記載のアレルゲン不活化剤及び水を含むアレルゲン不活化処理剤組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成22年7月20日(2010.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
不純物として塩類を含む含水ペンタメチレンジアミンが、ペンタメチレンジアミン塩水溶液にアルカリを添加、混合してペンタメチレンジアミン相と水相とに分液して得られたものである請求項１に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
ペンタメチレンジアミン塩が、ペンタメチレンジアミン塩酸塩、硫酸塩、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩の何れかである請求項２又は３に記載の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
アルカリが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化カルシウムである請求項２〜４の何れかに記載の製造方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
前記の微生物としては、エシェリヒア・コリ（Ｅ．ｃｏｌｉ）等のエシェリヒア属細菌、ブレビバクテリウム・ラクトファーメンタム（Brevibacterium lactofermentum）等のコリネ型細菌、バチルス・サブチリス（Bacillus subtils）等のバチルス属細菌、セラチア・マルセッセンス（Serratia marcescens）等のセラチア属細菌などの細菌、サッカロマイセス・セレビシエ（Saccharomyces cerevisiae）等の真核細胞が挙げられる。これらの中では、細菌、特にＥ．ｃｏｌｉが好ましい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
ＬＤＣ遺伝子のコピー数を高めることは、ＬＤＣ遺伝子を微生物の染色体ＤＮＡ上に多コピー存在させることによっても達成できる。微生物の染色体ＤＮＡ上に遺伝子を多コピーで導入するには、染色体ＤＮＡ上に多コピー存在する配列を標的に利用して相同組換えにより行う。染色体ＤＮＡ上に多コピー存在する配列としては、レペティティブＤＮＡ、転移因子の端部に存在するインバーテッド・リピートが利用できる。または、特開平２−１０９９８５号公報に開示されているように、目的遺伝子をトランスポゾンに搭載してこれを転移させて染色体ＤＮＡ上に多コピー導入することも可能である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
組換えＤＮＡを微生物に導入するには、これまでに報告されている形質転換法に従って行えばよい。例えば、Ｅ．ｃｏｌｉ  Ｋ−１２について報告されているような、受容菌細胞を塩化カルシウムで処理してＤＮＡの透過性を増す方法（Mandel,M.andHiga,A.,J.Mol.Biol.,53,159(1970)）があり、バチルス・サチリスについて報告されているような、増殖段階の細胞からコンピテントセルを調製してＤＮＡを導入する方法（Ducan,C.H.,Wilson,G.A.andYoung,F.E.,Gene,1,153(1997)）がある。また、バチルス・サチリス、放線菌類および酵母について知られているような、ＤＮＡ受容菌の細胞を、組換えＤＮＡを容易に取り込むプロトプラスト又はスフェロプラストの状態にして組換えＤＮＡをＤＮＡ受容菌に導入する方法（Chang,S.andChoen,S.N.,Molec,Gen.Genet.,168,111(1979);Bibb,M.J.,Ward,J.M.andHopwood,O.A.,Nature,274,398(1978); Hinnen,A., Hicks,J.B.andFink,G.R.Proc.Natl.Acad.Sci.USA,751929(1978)）も応用できる。更に、電気パルス法（特開平２−２０７７９１号公報）によっても、微生物の形質転換を行うことが出来る。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
【表２】
2009155284.tif 000001
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
ＰＣＲ終了後、増幅産物をエタノール沈殿により精製した後、制限酵素Ｋｐｎ  Ｉおよび制限酵素Ｓｐｈ  Ｉで切断した。このＤＮＡ標品を、０．７５％アガロース（ＳｅａＫｅｍ  ＧＴＧ ａｇａｒｏｓｅ：ＦＭＣ ＢｉｏＰｒｏｄｕｃｔｓ製）ゲル電気泳動により分離後、臭化エチジウム染色により可視化することによりｃａｄＡを含む約２．６ｋｂの断片を検出し、ＱＩＡｑｕｉｃｋＧｅｌＥｘｔｒａｃｔｉｏｎ Ｋｉｔ（ＱＩＡＧＥＮ製）を使用して目的ＤＮＡ断片の回収を行った。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
回収したＤＮＡ断片を、大腸菌プラスミドベクターｐＵＣ１８（宝酒造製）を制限酵素Ｋｐｎ  Ｉおよび制限酵素Ｓｐｈ  Ｉで切断して調節したＤＮＡ断片と混合し、ライゲーションキットｖｅｒ．２（宝酒造製）を使用して連結後、得られたプラスミドＤＮＡを使用し、大腸菌（ＪＭ１０９株）を形質転換した。この様にして得られた組換え大腸菌を、５０μｇ／ｍＬ：アンピシリン、０．２ｍＭ：ＩＰＴＧ（イソプロピル−β−Ｄ−チオガラクトピラノシド）及び５０μｇ／ｍＬ：Ｘ−Ｇａｌを含むＬＢ寒天培地に塗抹した。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
この培地上で白色のコロニーを形成したクローンを、常法により液体培養した後、プラスミドＤＮＡを精製した。得られたプラスミドＤＮＡを制限酵素ＫｐｎＩおよび制限酵素Ｓｐｈ  Ｉで切断することにより、約２．５ｋｂの挿入断片が認められることを確認し、これをｐＣＡＤ１、ｐＣＡＤ１を含む大腸菌株をＪＭ１０９／ｐＣＡＤ１とそれぞれ命名した。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月15日(2010.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
５回の評価結果を平均し、以下の基準で判定し、◎及び○のものを、成形性が確保される歯磨剤組成物であると判断した。
◎：歯ブラシ上での成形性が３．５点以上〜４．０点以下
○：歯ブラシ上での成形性が３．０点以上〜３．５点未満
△：歯ブラシ上での成形性が２．０点以上〜３．０点未満
×：歯ブラシ上での成形性が２．０点未満
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月15日(2010.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
（２）歯ブラシ上での成形性の評価
サンプルの歯磨剤組成物を上記の直径２６ｍｍ、口部内径５ｍｍのラミネートチューブに５０ｇ充填し、歯ブラシ上に０．５ｇ載せたときの形状変化を下記基準で評価した。
評価基準；
４点：歯ブラシ上での型くずれが観察されない。
３点：歯ブラシ上での型くずれが若干観察される。
２点：歯ブラシ上で徐々に型くずれする。
１点：歯ブラシ上ですぐに型くずれする
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
５回の評価結果を平均し、以下の基準で判定し、◎及び○のものを、成形性が確保される歯磨剤組成物であると判断した。
◎：歯ブラシ上での成形性が３．５点以上〜４．０点以下
○：歯ブラシ上での成形性が３．０点以上〜３．５点未満
△：歯ブラシ上での成形性が２．０点以上〜３．０点未満
×：歯ブラシ上での成形性が２．０点未満
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月28日(2010.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
実施例１
皮膚は角化とともに細胞膜を蛋白質で裏打ちしてコーニファイドエンベローブを形成していく。この折、角化とともにコーニファイドエンベローブの成分として生成される蛋白質として抗菌力を有するソラヤシンが知られている。本試験ではこのソラヤシンの遺伝子発現量を指標として、カルシウム塩と酪酸塩の組み合わせによる角化への影響を検討した。
＜試験方法＞
４系代目の人包皮由来ケラチノサイトを６ウェルのプレート１ウェルあたり２．２５×１０５個播種し、３日間培養（３７℃、９５％Ａｉｒ、５％ＣＯ2）して７０％コンフルエントにする。そして、ＣａＣｌ2（０．０６２〜０．５mM）、酪酸ナトリウム（０．０３〜１mM）或は両方ＣａＣｌ2（０．０６２〜０．５mM）と酪酸ナトリウム（０．０３〜１mM）を加えて、４８時間で培養する。その後、上清を捨てて、細胞を完全に溶解する。全ＲＮＡを抽出し、ＲＮＡを逆転写してｃＤＮＡを作成し、定量リアルタイムＰＣＲを用いてソラヤシンの遺伝子発現量を検出した。
＜試験結果＞
結果を図１〜４に示す。
その結果、塩化カルシウム及び酪酸ナトリウム単品ではほとんどソラヤシンの遺伝子は発現していないにもかかわらず、２成分を組み合わせることによって遺伝子発現量が飛躍的に増加することが明らかとなった。
【手続補正書】
【提出日】平成22年10月22日(2010.10.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記廃材が、６０ｍｍ以下に破砕された廃材である、請求項１又は２に記載の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明による製造方法の好ましい態様においては、前記加熱処理を、５５０〜７００℃の温度で実施する。
本発明による製造方法の別の好ましい態様においては、前記廃材として、６０ｍｍ以下に破砕された廃材を用いる。
本発明による製造方法の更に別の好ましい態様においては、前記建築物内装用塩化ビニル樹脂壁紙の組成が、塩化ビニル樹脂２０〜４０質量％、可塑剤１０〜２０質量％、安定剤１〜２質量％、光遮蔽材２〜１０質量％、粉末充填材１５〜３５質量％、及び裏紙２０〜３０質量％である。
本発明による製造方法の更に別の好ましい態様においては、前記加熱処理の後に、更に、水又は希塩酸による洗浄処理を実施する。
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月25日(2009.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内面ゴム層と外面ゴム層との間に補強層を有する水道配管であって、前記内面ゴム層の内周面に内面樹脂層を設け、該内面樹脂層の厚みを０．０５ｍｍ以上１．０ｍｍ以下とし、前記内面ゴム層のゴムを無可塑配合とした水道配管。
【請求項２】
前記外面ゴム層の外周面にカバー樹脂層を設け、該カバー樹脂層の厚みを０．５ｍｍ以上３．０ｍｍ以下とする請求項１に記載の水道配管。
【請求項３】
前記補強層を破断伸び１５％以下の補強糸を編組角度４９．４°以上５２．２°以下の範囲で編組して形成し、かつ前記内面ゴム層を構成するゴム組成物の１００％モジュラスを４．０ＭＰａ以上１０．０ＭＰａ以下とした請求項１または２に記載の水道配管。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の水道配管の製造方法であって、前記内面樹脂層となる樹脂チューブの外周面に前記内面ゴム層を濃度９．０〜１７．０％のフェノール樹脂系接着剤で接着して積層し、順次、外周面に前記水道配管を構成する部材層を積層して加硫する水道配管の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記目的を達成するため本発明の水道配管は、内面ゴム層と外面ゴム層との間に補強層を有する水道配管であって、前記内面ゴム層の内周面に内面樹脂層を設け、該内面樹脂層の厚みを０．０５ｍｍ以上１．０ｍｍ以下とし、前記内面ゴム層のゴムを無可塑配合としたことを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明の水道配管の製造方法は、請求項１〜３のいずれかに記載の水道配管の製造方法であって、前記内面樹脂層となる樹脂チューブの外周面に前記内面ゴム層を濃度９．０〜１７．０％のフェノール樹脂系接着剤で接着して積層し、順次、外周面に前記水道配管を構成する部材層を積層して加硫することを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、この内面樹脂層の厚みを１．０ｍｍ以下とするので、水道配管の柔軟性を損なうことなく、配管の自由度が高まり、切断や金具との接合等の加工が容易になり、現場での施工性を向上させることができる。また、内面ゴム層のゴムを無可塑配合にするので、内面樹脂層に移行、透過しやすい可塑剤による水道水の汚染を防止することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の水道配管の製造方法によれば、内面樹脂層となる樹脂チューブの外周面に内面ゴム層を濃度９．０〜１７．０％のフェノール樹脂系接着剤で接着して積層するので、接着剤の成分が大幅に希釈されて、この成分が内面樹脂層を透過して水道水を汚染することがなく、より非汚染性を高めることができる。また、フェノール樹脂系接着剤は低濃度でも接着力に優れるので、内面樹脂層と内面ゴム層とを強固に接着して層間はく離を防止できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
内面ゴム層３のゴムは、可塑剤を配合していない無可塑配合のゴムとする。これによって、内面樹脂層２に移行、透過しやすい可塑剤による水道水の汚染を防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年6月16日(2010.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
又、上述した先発明の構造の場合には、それぞれの検出部を第一、第二両特性変化部１２、１３に対向させた１対のセンサ６ａ、６ｂから成るセンサ組を１組だけ設けている。これに対し、特願２００６−１４３０９７、特願２００６−３４５８４９には、それぞれが１対のセンサから成るセンサ組を複数組設ける事で、多方向の変位或は外力を求められる構造が開示されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
１    外輪
２    ハブ
３    転動体
４    エンコーダ
５    カバー
６ａ、６ｂ、６ｃ  センサ
７    芯金
８    エンコーダ本体
９    大径円筒部
１０    小径円筒部
１１    円輪部
１２    第一特性変化部
１３    第二特性変化部
１４    透孔
１５    柱部
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月5日(2010.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のピンを有する半導体集積回路のピン間ショートを検出する半導体集積回路の試験方法において、
ＩＣテスタまたは前記半導体集積回路が、前記半導体集積回路の所望ピンにパルスまたはステップ信号を発生し、
前記ＩＣテスタが、前記所望ピンに隣接する前記半導体集積回路のピンからの波形によりピン間ショートの判定を行うことを特徴とする半導体集積回路の試験方法。
【請求項２】
ＩＣテスタが、判定タイミングで、波形が判定値より大きいとき、ピン間ショートと判定することを特徴とする請求項１記載の半導体集積回路の試験方法。
【請求項３】
半導体集積回路は、液晶駆動ドライバであることを特徴とする請求項１または２記載の半導体集積回路の試験方法。
【請求項４】
複数のピンを有する半導体集積回路を試験するＩＣテスタにおいて、
前記半導体集積回路の所望ピンにパルスまたはステップ信号を発生し、この所望ピンに隣接する隣接ピンの波形によりピン間ショートを判定する試験部を設けたことを特徴とするＩＣテスタ。
【請求項５】
試験部が、判定タイミングで、波形が判定値より大きいとき、ピン間ショートと判定することを特徴とする請求項４記載のＩＣテスタ。
【請求項６】
試験部は、
所望ピンにパルスまたはステップ信号を発生するパルス発生部と、
隣接ピンを測定する測定部と
を有する請求項４または５記載のＩＣテスタ。
【請求項７】
半導体集積回路は、液晶駆動ドライバであることを特徴とする請求項４〜６のいずれかに記載のＩＣテスタ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
このような課題を達成するために、本発明のうち請求項１記載の発明は、
複数のピンを有する半導体集積回路のピン間ショートを検出する半導体集積回路の試験方法において、
ＩＣテスタまたは前記半導体集積回路が、前記半導体集積回路の所望ピンにパルスまたはステップ信号を発生し、
前記ＩＣテスタが、前記所望ピンに隣接する前記半導体集積回路のピンからの波形によりピン間ショートの判定を行うことを特徴とするものである。
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明であって、
ＩＣテスタが、判定タイミングで、波形が判定値より大きいとき、ピン間ショートと判定することを特徴とするものである。
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載の発明であって、
半導体集積回路は、液晶駆動ドライバであることを特徴とするものである。
請求項４記載の発明は、
複数のピンを有する半導体集積回路を試験するＩＣテスタにおいて、
前記半導体集積回路の所望ピンにパルスまたはステップ信号を発生し、この所望ピンに隣接する隣接ピンの波形によりピン間ショートを判定する試験部を設けたことを特徴とするものである。
請求項５記載の発明は、請求項４記載の発明であって、
試験部が、判定タイミングで、波形が判定値より大きいとき、ピン間ショートと判定することを特徴とするものである。
請求項６記載の発明は、請求項４または５記載の発明であって、
試験部は、
所望ピンにパルスまたはステップ信号を発生するパルス発生部と、
隣接ピンを測定する測定部と
を有するものである。
請求項７記載の発明は、請求項４〜６のいずれかに記載の発明であって、
半導体集積回路は、液晶駆動ドライバであることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明によれば以下のような効果がある。
請求項１〜３によれば、ＩＣテスタまたは半導体集積回路が半導体集積回路の所望ピンにパルスまたはステップ信号を与え、ＩＣテスタが所望ピンに隣接する半導体集積回路のピンの波形によりピン間ショートの判定を行うので、完全なショートでなくとも、ピン間ショートを検出することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項４〜７によれば、試験部が半導体集積回路の所望ピンにパルスまたはステップ信号を与え、試験部が所望ピンに隣接する半導体集積回路の隣接ピンの波形によりピン間ショートを判定するので、完全なショートでなくとも、ピン間ショートを検出することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年2月9日(2010.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
流体が流入する流入側流路と流出する流出側流路とこれらの流路を連通させる流量調整用開口部とが形成された流路ブロックと、
前記流路ブロックに前記流量調整用開口部に対向して設けられた流量調整用ハウジングと、
前記流量調整用開口部の開度を調整する弁体が取り付けられるとともに、前記流量調整用ハウジングのシリンダ室に組み込まれて前記シリンダ室を前記弁体を閉じる方向のばね力を付勢するばね部材が組み込まれるばね室と前記弁体を開く方向の流体圧を加える圧力室とに区画する流量調整用ピストンと、
前記流量調整用ハウジングに設けられ、内周に調整用雌ねじ部が形成される一方、前記流量調整用ハウジングから突出する外周に締結用雄ねじ部が形成されたガイド筒体と、
前記流量調整用ピストンに係合して前記流量調整用ピストンの前記流量調整用開口部に向かう方向の位置を規制するストッパを有し、前記調整用雌ねじ部にねじ結合する調整用雄ねじ部が外周に形成される調整ねじ部材と、
前記締結用雄ねじ部にねじ結合する締結用雌ねじ部と、前記調整用雄ねじ部に設けられた接触面を前記弁体を閉じる方向に押圧する締結面とが形成されたロックナットとを有し、
前記調整ねじ部材の回転により前記弁体の開度を調整し、前記調整用雄ねじ部の前記弁体側に対向する弁体側歯面が前記調整用雌ねじ部の歯面に接触した状態のもとで前記ロックナットにより前記弁体側歯面を前記調整用雌ねじ部の歯面に押圧して前記調整ねじ部材を締結することを特徴とする流量制御弁。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の流量制御弁は、流体が流入する流入側流路と流出する流出側流路とこれらの流路を連通させる流量調整用開口部とが形成された流路ブロックと、前記流路ブロックに前記流量調整用開口部に対向して設けられた流量調整用ハウジングと、前記流量調整用開口部の開度を調整する弁体が取り付けられるとともに、前記流量調整用ハウジングのシリンダ室に組み込まれて前記シリンダ室を前記弁体を閉じる方向のばね力を付勢するばね部材が組み込まれるばね室と前記弁体を開く方向の流体圧を加える圧力室とに区画する流量調整用ピストンと、前記流量調整用ハウジングに設けられ、内周に調整用雌ねじ部が形成される一方、前記流量調整用ハウジングから突出する外周に締結用雄ねじ部が形成されたガイド筒体と、前記流量調整用ピストンに係合して前記流量調整用ピストンの前記流量調整用開口部に向かう方向の位置を規制するストッパとを有し、前記調整用雌ねじ部にねじ結合する調整用雄ねじ部が外周に形成される調整ねじ部材と、前記締結用雄ねじ部にねじ結合する締結用雌ねじ部と、前記調整用雄ねじ部に設けられた接触面を前記弁体を閉じる方向に押圧する締結面とが形成されたロックナットとを有し、前記調整ねじ部材の回転により前記弁体の開度を調整し、前記調整用雄ねじ部の前記弁体側に対向する弁体側歯面が前記調整用雌ねじ部の歯面に接触した状態のもとで前記ロックナットにより前記弁体側歯面を前記調整用雌ねじ部の歯面に押圧して前記調整ねじ部材を締結することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
図４は図２の一部を拡大して示す断面図である。流量調整用開口部２２の開度は調整弁体２６の軸方向位置により設定されることになり、開度を設定する際には調整つまみ５５を作業者が操作して中空軸５３を回転させる。このときには、流量調整用ピストン４２には調整弁体２６を閉じる方向にばね力が加えられているので、図４に示すように、差動軸４８の雄ねじ部４８ａの弁体側歯面つまり調整弁体２６に対向する側の歯面は、中空軸５３の雌ねじ部５３ｂのうち調整弁体２６に対して反対側の歯面つまり外側歯面に接触した状態となり、雄ねじ部４８ａの外側歯面と雌ねじ部５３ｂの弁体側歯面との間には図４において誇張して示すようにバックラッシュに対応した隙間が形成される。同様に、中空軸５３の調整用雄ねじ部５３ａの弁体側歯面は、ガイド筒体４５の調整用雌ねじ部４５ｂの外側歯面に接触した状態となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
比較例として示すように、調整ねじ部材５４の中空軸５３の雄ねじ部５３ａに直接ロックナット６０を締結するようにし、ロックナット６０が流量調整用ハウジング２４の端面に押し付けられることにより中空軸５３の締結固定が行われるようにすると、締結固定時における中空軸５３の雄ねじ部５３ａの歯面とロックナット６０の雌ねじ部６０ａの歯面との接触状態は図６に示すようになる。つまり、調整つまみ５５を回転させて調整弁体２６の開度を調整したときには、中空軸５３は圧縮コイルばね４３のばね力により調整弁体２６に向かって押し付けられている状態となっており、この状態のもとでロックナット６０を回転させて中空軸５３を締結すると、ロックナット６０の雌ねじ部６０ａの外側歯面が中空軸５３の雄ねじ部５３ａの弁体側歯面に密着した状態で締結固定されるので、中空軸５３は雌ねじ部６０ａと雄ねじ部５３ａとの間のバックラッシュの隙間分だけ調整弁体２６から離れる方向にずれ移動することになる。このため、最初に調整した弁開度とずれることになり、何度も弁開度の調整をやり直さなければならなくなってしまうのである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
次に、図１に示す流量制御装置により液体の流量を調整する手段について説明すると、流路ブロック１３に形成された流路は、開放用圧力室２７ａに圧縮空気を供給すると開閉制御弁１１の開閉弁体２５は弁座から開閉用開口部２１が全開状態となる。一方、流量制御装置が使用されないとき等には閉塞用圧力室２７ｂ内に圧縮空気を供給することにより開閉弁体２５は全閉状態となる。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月1日(2010.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料に所定の照射で一次電子線を照射し、該一次電子線照射により発生する二次荷電粒子を検出して検出信号を出力する電子光学系と、
当該検出信号を用いて前記試料の計測または検査を行う電子線応用装置において、
前記試料を保持する複数の試料ホルダと、
該複数の試料ホルダと前記試料との接触抵抗値を測定する手段と、
前記電子光学系を制御する制御手段と、
該制御手段を制御する制御コンピュータとを備え、
該制御コンピュータは、前記接触抵抗値を元に前記電子光学系の照射条件を制御することを特徴とする電子線応用装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電子線応用装置において、
前記試料の表面抵抗値を計測する手段を備え、
前記制御コンピュータは、前記接触抵抗値と該表面抵抗値の比に基づき前記照射条件を調整することを特徴とする電子線応用装置。
【請求項３】
請求項１に記載の電子線応用装置において、
前記試料の表面抵抗値と該試料の属性情報とを対比して格納する記憶手段と、
前記試料の属性情報を前記制御コンピュータに設定入力する手段とを備え、
前記制御コンピュータは、入力された属性情報を元に前記表面抵抗値を読み出して前記接触抵抗値と該表面抵抗値の比を計算し、当該比に基づき前記電子光学系を調整することを特徴とする電子線応用装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の電子線応用装置において、
前記試料ホルダに対して、前記試料と前記試料ホルダ間に絶縁破壊を発生するための電圧を印加する電源を備えたことを特徴とする電子線応用装置。
【請求項５】
請求項１から３のいずれか１項に記載の電子線応用装置において、
前記試料に対して所定の加速電圧の一次電子線を照射することにより前記試料と前記試料ホルダ間に絶縁破壊を発生させることを特徴とする電子線応用装置。
【請求項６】
請求項１から３のいずれか１項に記載の電子線応用装置において、
前記電子光学系は、前記試料ホルダに対向して配置された帯電制御電極を備え、
前記前記照射条件として、前記一次電子線の照射エネルギー，電流値および前記帯電制御電極に印加する電圧のうち、少なくともいずれか１つを決定することを特徴とする電子線応用装置。
【請求項７】
請求項３に記載の電子線応用装置において、
前記試料が、半導体ウェハ上にパターンが形成された試料であって、
前記属性情報として、パターンの形状，パターン密度，前記半導体ウェハに対して施された処理工程の工程名のうち、少なくともいずれか１つを用いることを特徴とする電子線応用装置。
【請求項８】
請求項５に記載の電子線応用装置において、
前記絶縁破壊をモニタする手段を備えたことを特徴とする電子線応用装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電子線応用装置
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月23日(2010.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テーブルに設けたチャンバに加熱手段を収納し、前記加熱手段の調理面で焼成する調理物から立ち上る煙を排煙フードへ導くことのできる焼成調理装置であって、チャンバは平面視円形で、チャンバ壁面に沿って周方向に空気を吹き出す吹出口を加熱手段の調理面より下方位置に設け、前記調理面はチャンバ開口より下方位置に設けてなる焼成調理装置。
【請求項２】
チャンバは、チャンバ壁面に開口した空気の吹込口に被せた吹出カバーをチャンバ壁面に設けてなり、吹出カバーは少なくとも上面、側面及び吹出口に囲まれた箱体であり、吹出口は周方向に向けて開口し、側面はチャンバ壁面から吹出口に向けてチャンバの半径方向内向きに傾けてなる請求項１記載の焼成調理装置。
【請求項３】
チャンバは、チャンバ壁面に連続してテーブルから突出する平面視円形のガイド枠をチャンバ開口に設け、加熱手段の調理面は前記ガイド枠のガイド枠開口より下方位置に設けてなる請求項１又は２いずれか記載の焼成調理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
検討の結果開発したものが、テーブルに設けたチャンバに加熱手段を収納し、前記加熱手段の調理面で焼成する調理物から立ち上る煙を排煙フードへ導くことのできる焼成調理装置であって、チャンバは平面視円形で、チャンバ壁面に沿って周方向に空気を吹き出す吹出口を加熱手段の調理面より下方位置に設け、前記調理面はチャンバ開口より下方位置に設けた焼成調理装置である。例えば加熱手段の調理面が焼き網の場合、焼き網はテーブルより下方位置で加熱手段に載せられ、前記焼き網より更に下方位置となるチャンバ内に吹出口が設けられる。加熱手段は、従来公知の各種加熱機器、例えば七輪のほか、ガスコンロ、電熱コンロ等を用いることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の焼成調理装置は、吹出口がチャンバ壁面に沿って空気を吹き出すことにより、加熱手段の下方位置、すなわちチャンバ内に旋回方向の力の強い旋回流を発生させる。旋回流は、後述するように、吹出口が僅かに上向きに空気を吹き出すことで上昇する力を与えることもできる。しかし、旋回流は、空気の吹出により高まるチャンバ内の圧力と、空気が上昇する加熱手段の調理面より上方の圧力との差により、上向きに吸引されて上昇させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
チャンバは、チャンバ壁面に開口した空気の吹込口に被せた吹出カバーをチャンバ壁面に設ける。この場合、吹出カバーは少なくとも上面、側面及び吹出口に囲まれた箱体、好ましくは上面、下面、側面及び吹出口に囲まれた箱体であり、吹出口は周方向に向けて開口し、側面はチャンバ壁面から吹出口に向けてチャンバの半径方向内向きに傾けた構成にするとよい。吹込口は、周方向に複数設け、前記各吹込口個々毎に又は複数個毎に吹出カバーを被せる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の焼成調理装置は、まず吹出口を加熱手段の調理面より下方位置、すなわちチャンバ内に設け、チャンバ壁面に沿って空気を吹き出すことにより、旋回方向の力が強く、調理面に向けて吹き込む空気の影響を受けにくい旋回流を発生させる。次に、前記旋回流は、調理面上が負圧になることにより吸引され、また吹出口を有する吹出カバーの上面を上り勾配にすることで、上向きの力が与えられ、無理なく竜巻状に形成できる。更に、調理面をテーブルより下方位置に設ける又はチャンバ開口にガイド枠を設けて前記調理面をガイド枠開口より下方位置に設けることにより、調理面に向けて吹き込む空気の旋回流に対する影響を回避又は低減する。こうして、本発明の焼成調理装置は、竜巻状の旋回流が煙を捕まえて確実に排煙フードへ導くことのできる効果を得る。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
本例は、チャンバ壁面112の周方向に並ぶ18個の吹込口113と、一つおきの吹込口113を2個一組として被せた６個の吹出カバー13とから構成される（図４及び図５参照）。吹込口113は、30mm径の円形の開口で、中心がチャンバ11の底面から30mmの高さで周方向等間隔に設けている。吹出カバー13は、上面131、下面、側面132及び吹出口133からなる金属製の箱体で、チャンバ11に対しては溶接又はロウ付けする。本例の吹出カバー13は、吹出口133を周方向に向けて開口し、側面132をチャンバ壁面112から吹出口133に向けてチャンバ11の半径方向内向きに傾けている。また、発生させた旋回流Ｓに上向きの力を与えるため、上面131を吹出口133に向けた上り勾配にしている。前記勾配角は10度以下、数度程度でよい。これにより、各吹込口113からチャンバ11内に吹き込む空気は、吹出カバー13の側面132に衝突してチャンバ壁面112に沿った方向に変えられ、また上面131の上り勾配に沿って吹出口133からやや上向きに吹き出し、旋回しながら上昇する旋回流Ｓとなる。本例の吹出カバー13は、上面131が長辺100mm及び短辺28mmで直角を挟む略直角三角形、側面が高さ70mm、長さ100mmの長方形、そして吹出口133が高さ70mm、幅28mmの方形開口である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月25日(2010.3.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の走査配線を有する表示パネルを駆動するための駆動回路であって、
前記走査配線のそれぞれに電気的に接続される複数の出力端子と、
前記複数の出力端子の中から、前記走査配線に対して駆動信号を出力する出力端子を複数選択可能な走査制御部と、
選択された出力端子の電位と基準電位との差電圧に基づいて、前記駆動信号の電位を制御する電位補正部と、
出力端子と走査配線とを接続する接続部材に起因する電圧降下を補正するために、前記選択された出力端子に流れる電流に応じて前記基準電位を調整する基準電位調整部と、を備え、
前記基準電位調整部は、前記選択された出力端子の数に応じて調整後の基準電位を変更可能とする
ことを特徴とする表示パネルの駆動回路。
【請求項２】
前記基準電位調整部は、前記選択された出力端子の数が複数の場合に、前記基準電位の調整をオフにする
ことを特徴とする請求項１に記載の表示パネルの駆動回路。
【請求項３】
前記基準電位調整部は、前記基準電位の供給源と前記電位補正部との間に調整用抵抗を有しており、
前記選択された出力端子に流れる電流に対応した電流を前記調整用抵抗に流すことによって、前記電位補正部に供給される前記基準電位を調整するものである
ことを特徴とする請求項１に記載の表示パネルの駆動回路。
【請求項４】
前記基準電位調整部は、前記選択された出力端子の数が複数の場合に、前記調整用抵抗をバイパスして前記基準電位を前記電位補正部に供給する
ことを特徴とする請求項３に記載の表示パネルの駆動回路。
【請求項５】
前記基準電位調整部は、前記選択された出力端子の数に応じて前記調整用抵抗の抵抗値を変更する
ことを特徴とする請求項３に記載の表示パネルの駆動回路。
【請求項６】
前記調整用抵抗は、抵抗値の異なる複数の抵抗を有しており、
前記基準電位調整部は、前記選択された出力端子の数に応じて調整に用いる抵抗を切り替える
ことを特徴とする請求項５に記載の表示パネルの駆動回路。
【請求項７】
複数の走査配線を有する表示パネルと、
前記表示パネルを駆動するための請求項１〜６のいずれかに記載の駆動回路と、
を備えることを特徴とする画像表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の第１態様は、
複数の走査配線を有する表示パネルを駆動するための駆動回路であって、
前記走査配線のそれぞれに電気的に接続される複数の出力端子と、
前記複数の出力端子の中から、前記走査配線に対して駆動信号を出力する出力端子を複数選択可能な走査制御部と、
選択された出力端子の電位と基準電位との差電圧に基づいて、前記駆動信号の電位を制御する電位補正部と、
出力端子と走査配線とを接続する接続部材に起因する電圧降下を補正するために、前記選択された出力端子に流れる電流に応じて前記基準電位を調整する基準電位調整部と、を備え、
前記基準電位調整部は、前記選択された出力端子の数に応じて調整後の基準電位を変更可能とする
ことを特徴とする表示パネルの駆動回路である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2008256915.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2008256915.tif 000002
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2008256915.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月2日(2010.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
本実施例では、第２の波長帯の光が該第２のプリズムを透過した際に生じる画素ズレをＧ２、第１及び第２の波長帯の光が第３のプリズムを透過する際に生じる画素ズレをＧ３とする。投射レンズの収差による画素ズレ量を第３の波長帯の光を基準とし、第１と第２の波長帯の光の該投射レンズの収差による画素ズレ量をτ１、τ２とする。このとき、画素ズレが１／２以下となるようにしている。即ち、
τ１≠０ 又は τ２≠０ 又は Ｇ２≠０ Ｇ３≠０
であり、
−０．５≦τ１−Ｇ３≦０．５
−０．５≦τ２−Ｇ２−Ｇ３≦０．５
なる条件を満足するようにしている。
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月1日(2010.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートが載置される載置台と、前記載置台に載置されたシートを上方より押える開閉自在なシート押圧部とを備え、前記シート押圧部を開放して前記載置台にシートを載置した後、前記シート押圧部を閉じてシートを上方より押えた状態でシートの画像を読み取る画像読取装置において、
前記シート押圧部を前記載置台に対して開閉可能に支持する開閉部と、
前記開閉部を昇降させて前記シート押圧部を前記載置台に対して昇降させる昇降部と、
前記載置台に載置されたシートを押えるよう前記シート押圧部が閉じられる際に前記載置台に載置されたシートの高さを検出する高さ検出部と、を備え、
前記シート押圧部を閉じてシートを押える際、前記高さ検出部により検出されたシートの高さに応じた位置に前記シート押圧部を上昇させるように前記昇降部を制御することを特徴とする画像読取装置。
【請求項２】
前記シート押圧部の開閉を検知する開閉検知部を有し、
前記高さ検出部により検出されたシートの高さに応じて前記シート押圧部を前記シートの高さに応じた位置に上昇させた後、前記シート押圧部が閉じられたことを前記開閉検知部が検知すると、シートを前記載置台に押し付けるように閉じた状態の前記シート押圧部を下降させるよう前記昇降部を制御することを特徴とする請求項１記載の画像読取装置。
【請求項３】
前記高さ検出部を、前記シート押圧部の載置台側に設けられ、前記シート押圧部が閉じられる際、前記シート押圧部のシートとの接触位置を検出する接触位置検出部と、前記シート押圧部がシートと接触した際の前記シート押圧部の開閉角度を検出する開閉角度検出部とで構成し、
前記接触位置検出部により検出された前記シート押圧部とシートとの接触位置と、前記開閉角度検出部により検出されたシートと接触した際の前記シート押圧部の開閉角度に基づいてシートの高さを検出することを特徴とする請求項１又は２記載の画像読取装置。
【請求項４】
前記高さ検出部は、前記シート押圧部がシートと接触したことを検出する接触検知部と、前記シート押圧部がシートと接触した際の前記シート押圧部の開閉角度を検出する開閉角度検出部とを備え、
前記接触検知部により前記シート押圧部とシートとの接触が検知された際、前記開閉角度検出部により検出されたシートと接触した際の前記シート押圧部の開閉角度に基づいてシートの高さを検出することを特徴とする請求項１又は２記載の画像読取装置。
【請求項５】
前記載置台の前記シート押圧部の開閉中心側に、シートを載置する際、シートを突き当てるための部材を設けたことを特徴とする請求項４記載の画像読取装置。
【請求項６】
前記シート押圧部が閉じ方向に移動する際の加速度を検知する加速度検出部を備え、前記加速度検出部により、前記接触検知部と、前記開閉角度検出部を構成することを特徴とする請求項４又は５記載の画像読取装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の画像読取装置と、前記画像読取装置により読み取られた画像をシートに形成する画像形成部と、を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成22年3月26日(2010.3.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
明細書に記載の方法により定義されるポリスチレン換算分子量５，０００以下の成分の含有量Ｗが５重量％以下である樹脂層と、該樹脂層上に間隔を開けて複数形成された線状の金属層（以下、線状金属層とする）とで構成された反射型偏光板。
【請求項２】
前記樹脂層が熱可塑性樹脂を主たる成分とし、かつ該熱可塑性樹脂のＧＰＣによるポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗが１０，０００以上であり、かつＧＰＣによるポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗとポリスチレン換算数平均分子量Ｍｎから計算される多分散度Ｍｗ／Ｍｎが３．０以下である請求項１に記載の反射型偏光板。
【請求項３】
前記線状金属層の膜厚Ｈが１０〜２００ｎｍであり、かつピッチＰ＝５０〜４００ｎｍ、幅Ｗ＝２０〜３８０ｎｍで形成されている請求項１または２のいずれかに記載の反射型偏光板。
【請求項４】
前記線状金属層が、アルミニウム、銀、クロム、および金からなる群より選ばれる少なくとも１種の金属を主たる成分とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射型偏光板。
【請求項５】
前記樹脂層の表面に、それぞれが平行に配列した線状の樹脂パターン（以下、線状樹脂パターンとする）が形成されかつ前記線状樹脂パターンの長手方向に対して垂直な断面における凸部の形状が、ピッチｐ＝５０〜４００ｎｍ、幅ｗ＝２０〜３８０ｎｍ、及び高さｈ＝１０〜４００ｎｍであり、かつ前記線状樹脂パターンの高さｈと幅ｗの比（ｈ／ｗ）が０．５〜５である請求項１〜４のいずれかに記載の反射型偏光板。
【請求項６】
前記樹脂層が熱可塑性樹脂を主たる成分とし、かつ該熱可塑性樹脂のＧＰＣによるポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗが１０，０００〜１００，０００であり、かつＧＰＣによるポリスチレン換算Ｚ平均分子量Ｍｚとポリスチレン換算重量平均分子量Ｍｗから計算される多分散度Ｍｚ／Ｍｗが２．０以下である請求項５に記載の反射型偏光板。
【請求項７】
前記線状金属層が、前記線状樹脂パターンの凸部頂部上に形成されている請求項５〜６のいずれかに記載の反射型偏光板。
【請求項８】
前記樹脂層が脂環族基を有するポリエステル樹脂からなる請求項５〜７のいずれかに記載の反射型偏光板。
【請求項９】
前記樹脂層が支持体層と積層されてなり、かつ支持体層が二軸延伸ポリエステルフィルムである請求項５〜８のいずれかに記載の反射型偏光板。
【請求項１０】
少なくとも、面光源と、請求項１〜９のいずれかに記載の反射型偏光板と、液晶セルとをこの順に配置した液晶表示装置であって、該液晶セルは、液晶層と、該液晶層を挟むように配置された偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）を有し、該液晶セルを構成する面光源側の偏光板（Ｂ）を透過する偏光の偏光軸の方向と、該反射型偏光板を透過する偏光の偏光軸の方向とが合致しており、かつ前記反射型偏光板は、前記線状金属層が前記液晶セルに対向するように設置されている液晶表示装置。
【請求項１１】
面光源と、液晶セルからなる液晶表示装置であって、該液晶セルは、液晶層と、該液晶層を挟むように配置された偏光板（Ａ）と偏光板（Ｂ）とを有し、面光源側の偏光板（Ｂ）が請求項１〜９のいずれかに記載の反射型偏光板であり、かつ前記反射型偏光板は、前記線状金属層が前記液晶層に対向するように設置されている液晶表示装置。