(57)【要約】組成物は、大気圧にて少なくとも１２０℃の沸点温度を有するペルフルオロポリエーテル溶媒及び窒素含有過フッ素化溶媒から選択される、少なくとも１つのＣＦ３基を有する過フッ素化溶媒を含む。この組成物は、ポリフルオロポリエーテルシランを更に含む。この組成物は、汚れ及びしみ耐性に加えて、耐久性及び外観を含む、優れた物理的特性を有する層を形成する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面処理用組成物であって、
少なくとも１つのＣＦ３基を有する過フッ素化溶媒であって、
大気圧にて少なくとも１２０℃の沸点温度を有し、以下の一般式（Ａ）を有する、ペルフルオロポリエーテル溶媒であって、
【化１】
2015523445.tif 000018
式中、ｍ’は１以上の整数であり、ｎ’は０以上である、ペルフルオロポリエーテル溶媒、
以下の一般式（Ｂ）を有する窒素含有過フッ素化溶媒であって、
【化２】
2015523445.tif 000019
式中、各Ｒは、独立して選択される、１〜１０個の炭素原子を有する過フッ素化炭化水素基である、窒素含有過フッ素化溶媒、
及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、過フッ素化溶媒と、
以下の一般式（Ｃ）を有するポリフルオロポリエーテルシランであって、
Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ；
式中、Ｚは、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から独立して選択され、ａ’は１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は、二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、独立して選択される脂肪族不飽和を有さないＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、Ｒ２、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りである、ポリフルオロポリエーテルシランと、を含み、
但し、添字ｉが０である場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数である場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数である場合、ｍもまた０を超える整数であることを条件とする、組成物。
【請求項２】
前記溶媒が、前記ペルフルオロポリエーテル溶媒を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記溶媒が、前記窒素含有過フッ素化溶媒を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記窒素含有過フッ素化溶媒の各Ｒが、独立して、３〜５個の炭素原子を有する、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ｃ）においてＸ”により表される前記加水分解可能な基が、ハロゲン化物基、−ＯＲ３、−ＮＨＲ３、−ＮＲ３Ｒ４、−ＯＯＣ−Ｒ３、Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４、Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５、及び−ＮＲ３ＣＯＲ４から独立して選択され、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、Ｈ及びＣ１〜Ｃ２２炭化水素基からそれぞれ独立して選択され、Ｒ３及びＲ４が、場合によってはアルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記溶媒が、前記組成物の総重量に基づいて９５〜９９．９９重量％の量で前記組成物中に存在し、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、前記組成物の総重量に基づいて０．０１〜０．５重量％の量で前記組成物中に存在する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
表面処理された物品を調製する方法であって、前記方法が、
表面処理用組成物を物品の表面上に適用して、前記組成物から前記物品の前記表面上に層を形成する工程であって、
前記組成物は、
少なくとも１つのＣＦ３基を有する過フッ素化溶媒であって、
大気圧にて少なくとも１２０℃の沸点温度を有し、以下の一般式（Ａ）を有する、ペルフルオロポリエーテル溶媒であって、
【化３】
2015523445.tif 000020
式中、ｍ’は１以上の整数であり、ｎ’は０以上である、ペルフルオロポリエーテル溶媒、
以下の一般式（Ｂ）を有する窒素含有過フッ素化溶媒であって、
【化４】
2015523445.tif 000021
式中、各Ｒは、独立して選択される、１〜１０個の炭素原子を有する過フッ素化炭化水素基である、窒素含有過フッ素化溶媒、
及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、過フッ素化溶媒と、
以下の一般式（Ｃ）を有するポリフルオロポリエーテルシランであって、
Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ；
式中、Ｚは、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から独立して選択され、ａ’は１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は、二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、独立して選択される脂肪族不飽和を有さないＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、Ｒ２、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りである、ポリフルオロポリエーテルシランと、を含み、
但し、添字ｉが０である場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数である場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数である場合、ｍもまた０を超える整数であることを条件とする、工程を含む、方法。
【請求項８】
前記物品の前記表面上の前記層を溶媒で洗浄する工程を含まない、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記組成物を適用する工程が、ディップコーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スパッタリング、スロットコーティング、大気圧プラズマ、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項７及び８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記溶媒が、前記ペルフルオロポリエーテル溶媒を含む、請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記溶媒が、前記窒素含有過フッ素化溶媒を含む、請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記窒素含有過フッ素化溶媒の各Ｒが、独立して、３〜５個の炭素原子を有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ｃ）においてＸ’により表される前記加水分解可能な基が、ハロゲン化物基、−ＯＲ３、−ＮＨＲ３、−ＮＲ３Ｒ４、−ＯＯＣ−Ｒ３、Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４、Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５、及び−ＮＲ３ＣＯＲ４から独立して選択され、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、Ｈ及びＣ１〜Ｃ２２炭化水素基からそれぞれ独立して選択され、Ｒ３及びＲ４が、場合によってはアルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る、請求項７〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記溶媒が、前記組成物の総重量に基づいて９５〜９９．９９重量％の量で前記組成物中に存在し、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、前記組成物の総重量に基づいて０．０１〜０．５重量％の量で前記組成物中に存在する、請求項７〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
請求項７に記載の方法に従って形成される表面処理された物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して、表面処理用組成物に関し、より具体的には、ポリフルオロポリエーテルシラン及び溶媒を含む組成物、組成物で表面処理された物品を調製する方法、並びにそれから形成される表面処理された物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子及び光学機器／部品の表面は、多くの場合、手及び指の油により汚れやすく、しみが付きやすい。例えば、インタラクティブタッチスクリーンディスプレイなどの電子機器（例えば、スマートフォン）は、使用時に、一般に、指紋、皮脂、汗、化粧品などのしみが付く。一度、これらの汚れ及び／又はしみがこれらの機器の表面に付着すると、これらの汚れ及び／又はしみは容易に除去されない。更に、このような汚れ及び／又はしみは、これらの機器の使い勝手を低下させる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このような汚れ及びしみの出現及び蔓延を最小化しようと、従来の表面処理組成物が、従来の層を形成するよう様々な機器／部品の表面に適用されてきた。しかしながら、これらの機器／部品の表面に適用されると、従来の表面処理組成物は、望ましくない不均一な外観を残すことが多い。例えば、従来の表面処理組成物から形成された従来の層は、一般に、望ましくない筋を含む。したがって、このような機器／部品の表面は、一般に、従来の表面処理組成物を適用した後にすすがれ、そのため、追加の処理工程、費用、及び時間を必要とし、同時に、従来の層をすすぐ追加の工程に起因して従来の層の耐久性は減少する。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、表面処理用組成物を提供する。本組成物は、少なくとも１つのＣＦ３基を有する過フッ素化溶媒を含む。特定の実施形態において、溶媒は、大気圧にて少なくとも１２０℃の沸点温度を有し、以下の一般式（Ａ）を有する、ペルフルオロポリエーテル溶媒を含み、
【化１】
2015523445.tif 000002
式中、ｍ’は１以上の整数であり、ｎ’は０以上である。他の実施形態において、溶媒は、以下の一般式（Ｂ）を有する窒素含有過フッ素化溶媒を含み、
【化２】
2015523445.tif 000003
式中、各Ｒは、独立して選択される過フッ素化Ｃ１〜Ｃ１０基である。あるいは、組成物の溶媒は、このようなペルフルオロポリエーテル溶媒及び窒素含有過フッ素化溶媒の組み合わせを含んでもよい。本組成物は、以下の一般式（Ｃ）を有するポリフルオロポリエーテルシランを更に含み、
Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ；
式中、Ｚは、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から独立して選択され、ａ’は１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は、二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは０〜２から独立して選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、脂肪族不飽和を含まない独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、Ｒ２、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りであり、但し、添字ｉが０の場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数の場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数の場合、ｍもまた０を超える整数であることを条件とする。
【０００５】
本発明はまた、表面処理された物品を調製する方法を提供する。本方法は、組成物を物品の表面上に適用して、組成物により物品の表面上に層を形成する工程を含む。本発明はまた、本方法に従って形成される表面処理された物品を提供する。
【０００６】
本組成物は、汚れ及びしみ耐性を含む、優れた物理的特性を有する層を形成する。更に、本組成物から形成された層は、実質的に均一であり、従来の組成物から形成された従来の層に一般的である筋を有さない。したがって、本組成物から形成された層は、従来の組成物から形成された従来の層における筋の出現を低減するために典型的に依存される、更なるすすぎ又は他の追加の工程を行う必要がない。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本発明の他の利点及び態様は、添付の図面に関連して、以下の詳細な説明に記載されている。
【図１】本開示の組成物から形成された層の倍率３７．５倍での光学顕微鏡画像である。
【図２】本開示の別の組成物から形成された層の倍率３７．５倍での光学顕微鏡画像である。
【図３】本開示の更に別の組成物から形成された層の倍率３７．５倍での光学顕微鏡画像である。
【図４】従来の組成物から形成された従来の層の倍率３７．５倍での光学顕微鏡画像である。
【図５】別の従来の組成物から形成された従来の層の倍率３７．５倍での光学顕微鏡画像である。
【図６】更に別の従来の組成物から形成された従来の層の倍率３７．５倍での光学顕微鏡画像である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明は、表面処理用組成物、表面処理された物品、及び表面処理された物品を調製する方法を提供する。本組成物は、耐久性、並びにしみ及び／若しくは汚れに対する耐性を含む、優れた物理的特性を有する層を形成する。更に、本組成物から形成された層は、概して、従来の組成物から形成された層に付随する斑点又は筋を有さない望ましい外観を有する。
【０００９】
本組成物は、少なくとも１つのＣＦ３基を有する過フッ素化溶媒を含む。溶媒は、ペルフルオロポリエーテル溶媒、窒素含有過フッ素化溶媒、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される。これらの溶媒のそれぞれは、以下により詳細に記載される。溶媒は、概して、ポリフルオロポリエーテルシランを少なくとも部分的に可溶化する、あるいは可溶化する。例えば、ポリフルオロポリエーテルシランは、溶媒が、少なくとも部分的にポリフルオロポリエーテルシランを可溶化するかどうかを目視検査によって判定するために、溶媒中に滴下添加され得る。より具体的には、組成物は、溶媒がポリフルオロポリエーテルシランをどの程度良好に可溶化するかに応じて曇っているか、又は濁っている可能性があるが、ポリフルオロポリエーテルシランは、概して、溶媒中に分散する。典型的に、溶媒は、ポリフルオロポリエーテルシランに対して優れた可溶性を有する。
【００１０】
特定の実施形態において、溶媒は、ペルフルオロポリエーテル溶媒を含む。ペルフルオロポリエーテル溶媒は、大気圧にて少なくとも１２０℃の沸点温度を有する。具体的な一実施形態では、ペルフルオロポリエーテル溶媒は、大気圧にて１２５℃〜１４５℃、あるいは１３０℃〜１４０℃の沸点温度を有する。別の具体的実施形態では、ペルフルオロポリエーテル溶媒は、大気圧にて１６０℃〜１８０℃、あるいは１６５℃〜１７５℃の沸点温度を有する。ペルフルオロポリエーテル溶媒の分子量に応じて、ペルフルオロポリエーテル溶媒の沸点温度は、１８０℃よりも高い範囲であってもよく、例えば、沸点温度は少なくとも２００℃、２３０℃、又は２７０℃であり得る。
【００１１】
溶媒がペルフルオロポリエーテル溶媒を含む実施形態において、本組成物の溶媒は、以下の一般式（Ａ）を有し、
【化３】
2015523445.tif 000004
式中、ｍ’は１を超える整数であり、ｎ’は０以上である。具体的には、一般式（Ａ）の添字ｍ’及びｎ’は、ペルフルオロポリエーテル溶媒の所望される沸点温度を提供することができるように選択される。具体的には、添字ｍ’及びｎ’、沸点温度、並びにペルフルオロポリエーテル溶媒の分子量の間の関係は、以下に記載される。
【００１２】
【表１】
2015523445.tif 000005
【００１３】
他の実施形態において、溶媒は、窒素含有過フッ素化溶媒を含む。窒素含有過フッ素化溶媒は、以下の一般式（Ｂ）を有し、
【化４】
2015523445.tif 000006
式中、各Ｒは、１〜１０個、あるいは２〜８個、あるいは３〜５個の炭素原子を有する、独立して選択される過フッ素化炭化水素基である。
【００１４】
窒素含有過フッ素化溶媒の各Ｒが、独立して、過フッ素化Ｃ１〜Ｃ１０基から選択されるが、特定に実施形態では、窒素含有過フッ素化溶媒の各Ｒは、同一である、即ち、これらの置換基が、同じ数の炭素原子を有する。このような窒素含有過フッ素化溶媒のほんの一例として、各Ｒが４個の炭素原子を有するＣ１２Ｆ２７Ｎの構造の代表例は、例示のみの目的で以下に記載される：
【化５】
2015523445.tif 000007
【００１５】
溶媒は、ペルフルオロポリエーテル溶媒及び／又は窒素含有過フッ素化溶媒を含む、溶媒の任意の組み合わせを含み得る。例えば、ペルフルオロポリエーテル溶媒は、窒素含有過フッ素化溶媒と共に利用され得る。あるいは、ペルフルオロポリエーテル溶媒及び／又は窒素含有過フッ素化溶媒は、互いに組み合わせて及び／又は他の溶媒と組み合わせて利用され得る。
【００１６】
組成物に利用される特定の溶媒に関係なく、溶媒は、典型的に、組成物の総重量に基づいて９５〜９９．９９重量％、あるいは９７．３５〜９９．９５重量％、あるいは９９．７〜９９．９重量％の量で、組成物中に存在する。溶媒の量は、以下に更に詳細に記載されるように、組成物中に採用される様々な任意成分の不在又は存在により、すぐ上に記載の範囲から変動し得る。
【００１７】
この組成物は、ポリフルオロポリエーテルシランを更に含む。ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式（Ｃ）を有する：Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。添字ｂ〜ｇにより表される基、即ち、式（Ｃ）における角括弧内の基は、上述の一般式（Ｃ）及び本開示全体を通じて示されるものとは異なる順序を含む、任意の順序でポリフルオロポリエーテルシラン内に存在し得る。更に、これらの基はランダム化又はブロック形態で存在し得る。加えて、添字ｂにより表される基は、典型的には直鎖である、即ち、添字ｂにより表される基は、代替として（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂとして記述されてもよい。以下の説明において、炭化水素又はアルキル基に関するＣｐ〜Ｃｑ（ｐ及びｑがそれぞれ整数である）は、このような基がｐ〜ｑ個の炭素原子を有することを意味する。
【００１８】
上述の一般式（Ｃ）において、Ｚは、独立して、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２）−、−（ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から選択される。Ｚは、典型的に、ポリフルオロポリエーテルシランが、骨格内に酸素−酸素（Ｏ−Ｏ）結合を含まないように、選択される。更に、この一般式において、ａ’は１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０又は１〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０又は１〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０又は１〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは、独立して０〜２から選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、独立して選択される脂肪族不飽和を含まないＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ２、Ｒ１、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りである。
【００１９】
独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であるＲ１は、直鎖、分枝鎖、又は環式であり得る。更に、Ｒ１は、炭化水素基内に酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を含んでもよく、置換されていてもよく又は非置換であってもよい。典型的に、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基である。加えて、添字ｎ及びｊにより表される基、即ち、基（ＣｎＨ２ｎ）及び（ＣｊＨ２ｊ）もまた、独立して、直鎖又は分枝鎖であり得る。例えば、ｎが３である場合、これらの基は、独立して、構造−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２、又は−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）を有し得、後者の２つの構造は、側鎖アルキル基を有する、即ち、これらの構造は分枝鎖であり、直鎖ではない。
【００２０】
添字ｍ、ｉ、及びｊによって表される部分に関して、添字ｉが０の場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数である場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数である場合、ｍもまた０を超える整数である。言い換えると、添字ｉによって表される基が存在する場合、添字ｊによって表される基もまた存在する。逆もまた真であり、即ち、添字ｉによって表される基が存在しない場合には、添字ｊによって表される基もまた存在しない。加えて、ｉが０を超える整数である場合、添字ｍによって表される基は存在し、ｍもまた０を超える整数である。特定の実施形態において、添字ｍ及びｉは、それぞれ１である。典型的に、添字ｉは、１を超えないが、添字ｍは、シロキサン結合（即ち、Ｓｉ−Ｏ結合）が添字ｉによって表される基に存在するように、１を超える整数であり得る。
【００２１】
組成物のポリフルオロポリエーテルシランは、ＹがＦである場合、Ｚが−（ＣＦ２）−であり、ａ’が１〜３の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｆ、及びｉが０であるという条件に従う。
【００２２】
ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ｃ）においてＸ”で表される加水分解可能な基は、独立して、ハロゲン化物基、アルコキシ（−ＯＲ３）基、アルキルアミノ（−ＮＨＲ３若しくは−ＮＲ３Ｒ４）基、カルボキシ（−ＯＯＣ−Ｒ３）基、アルキルイミノキシ（−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４）基、アルケニルオキシ（Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５）基、又はＮ−アルキルアミド（−ＮＲ３ＣＯＲ４）基から選択され、式中、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、それぞれ独立して、Ｈ及びＣ１〜Ｃ２２炭化水素基から選択される。Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、独立して、Ｃ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、直鎖、分枝鎖、又は環式であり得る。加えて、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、独立して、炭化水素基内にヘテロ原子を含んでもよく、置換されてもよく又は置換されなくてもよい。典型的に、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、それぞれ独立して選択されるＣ１〜Ｃ４アルキル基である。特定の実施形態において、一般式（Ｃ）においてＸ”で表される加水分解可能な基は、アルコキシ（−ＯＲ３）基及びアルキルアミノ（−ＮＨＲ３又は−ＮＲ３Ｒ４）基から独立して選択される。一般式（Ｃ）においてＸ”により表される加水分解可能な基は、アルキルアミノ基であり、Ｒ３及びＲ４は、場合によりアルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る。
【００２３】
この組成物のポリフルオロポリエーテルシランの具体的な種の非限定的な代表的実施形態は、下記に詳細に説明される。これらの実施形態では典型的に、ｚは、ポリフルオロポリエーテルシランが、Ｘ”により表される３つの加水分解可能な基を含むように、０である。しかしながら、上述のように、ｚは、これらの特定のポリフルオロポリエーテルシランが、３つよりも少ない加水分解可能な基を含むように、０以外の整数（例えば、１又は２）であってもよい。
【００２４】
特定の実施形態において、一般式（Ｃ）におけるＹは、Ｆである。典型的には、一般式（Ｃ）におけるＹがＦである場合、一般式（Ｃ）における添字ｃ、ｄ、及びｇは、０である。このように、これらの実施形態では、添字ｃ、ｄ、及びｇにより表される基が不在の場合、ポリフルオロポリエーテルシランは、一般式Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚを有する。
【００２５】
上記で紹介したように、一般式（Ｃ）におけるＹがＦである組成物の一実施形態において、一般式（Ｃ）におけるＺは−（ＣＦ２）−であり、一般式（Ｃ）における添字ｃ、ｄ、ｆ、及びｇは、０であり、一般式（Ｃ）における添字ｂ、ｅ、ｈ、及びｎは、それぞれ独立して０を超える整数である。この実施形態のほんの一例として、添字ａ’は３であり、添字ｂは少なくとも１であり、添字ｅは１であり、添字ｈは１であり、Ｘ’は酸素原子であり、添字ｎは３であり、添字ｍ、ｉ、及びｊは、それぞれ０である。この一例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。したがって、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、メトキシ基といったアルコキシ基である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３。あるいは、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、Ｎ（ＣＨ３）２基といったアルキルアミノ基である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｎ（ＣＨ３）２）３。これらの実施形態において、添字ｂは、典型的に、独立して選択される１７〜２５の整数である。
【００２６】
一般式（Ｃ）におけるＹがＦであり、一般式（Ｃ）におけるＺが−（ＣＦ２）−である組成物の別の実施形態において、上述のように、一般式（Ｃ）における添字ｃ、ｄ、ｆ、及びｇは、０であり、一般式（Ｃ）における添字ｂ、ｅ、ｈ、ｎ、ｍ、ｉ、及びｊは、それぞれ独立して０を超える整数である。この実施形態のほんの一例として、添字ａ’は３であり、添字ｂは少なくとも１であり、添字ｅは１であり、添字ｈは１であり、Ｘ’は酸素原子であり、添字ｎは３であり、添字ｍ及びｉはそれぞれ１であり、添字ｊは２である。この一例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。したがって、Ｘ”により表される加水分解可能な基はすべて、例えば、メトキシ基といったアルコキシ基であり、ｚは０であり、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。これらの実施形態において、添字ｂは、典型的に、独立して選択される１７〜２５の整数である。
【００２７】
上記で紹介したように、一般式（Ｃ）におけるＹがＦである組成物の別の実施形態において、一般式（Ｃ）におけるＺは、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−である。この実施形態において、一般式（Ｃ）における添字ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｇは、０であり、一般式（Ｃ）における添字ｆ、ｈ、及びｎは、それぞれ独立して０を超える整数である。この実施形態のほんの一例として、一般式（Ｃ）における添字ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｇは、０であり、添字ａ’は少なくとも１であり、添字ｆは１であり、添字ｈは１であり、Ｘ’は酸素原子であり、添字ｎは３であり、添字ｉ、ｍ、及びｊは、それぞれ０である。この一例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２−Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。したがって、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、メトキシ基といったアルコキシ基であり、ｚが０である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２−Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３。あるいは、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、Ｎ（ＣＨ３）２基といったアルキルアミノ基である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２−Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｎ（ＣＨ３）２）３。これらの実施形態において、添字ａ’は、典型的に、独立して選択される１４〜２０の整数である。
【００２８】
すぐ上で紹介したように、一般式（Ｃ）におけるＹがＦであり、一般式（Ｃ）におけるＺが−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−である組成物の別の実施形態において、一般式（Ｃ）における添字ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｇは、０であり、添字ａ’は少なくとも１であり、添字ｆは１であり、添字ｈは１であり、Ｘ’は酸素原子であり、添字ｎは３であり、添字ｍ及びｉはそれぞれ１であり、添字ｊは２である。この一例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。したがって、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、メトキシ基といったアルコキシ基であり、ｚが０である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。これらの実施形態において、添字ａ’は、典型的に、独立して選択される１４〜２０の整数である。
【００２９】
組成物の他の実施形態において、一般式（Ｃ）中のＹは、Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−である。典型的に、一般式（Ｃ）におけるＹが、Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−である場合、一般式（Ｃ）における添字ｂ、ｃ、及びｆは、０である。このように、これらの実施形態では、添字ｂ、ｃ、及びｆにより表される基が不在の場合、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。
【００３０】
すぐ上で紹介したように、一般式（Ｃ）におけるＹがＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−である一実施形態において、Ｚは−（ＣＦ２）−であり、Ｘ’は酸素原子であり、一般式（Ｃ）における添字ｂ、ｃ、ｄ、及びｆは０であり、一般式（Ｃ）における添字ｅ及びｇは、それぞれ独立して０を超える整数である。この実施形態のほんの一例として、Ｚは−（ＣＦ２）−であり、Ｘ’は酸素原子であり、一般式（Ｃ）における添字ｂ、ｃ、ｄ、ｆ、ｍ、ｉ、及びｊは、０であり、添字ｅは少なくとも１であり、添字ｇは少なくとも１であり、添字ｈは１であり、Ｘ’は酸素原子であり、ｎは３である。この一例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：（Ｒ２）ｚ（Ｘ”）３−ｚＳｉ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｇ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。したがって、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、メトキシ基といったアルコキシ基であり、ｚが０である場合、この具体的なポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｇ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３。あるいは、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、Ｎ（ＣＨ３）２基といったアルキルアミノ基であり、ｚが０である場合、この具体的なポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：（（ＣＨ３）２Ｎ）３Ｓｉ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｇ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｎ（ＣＨ３）２）３。
【００３１】
あるいは、上記で紹介したように、一般式（Ｃ）におけるＹがＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−である別の実施形態において、Ｚは−（ＣＦ２）−であり、Ｘ’は酸素原子であり、一般式（Ｃ）における添字ｂ、ｃ、ｅ、及びｆ、並びに一般式（Ｃ）における添字ｄ及びｇは、それぞれ独立して０を超える整数である。
【００３２】
ポリフルオロポリエーテルシランは、典型的に、組成物の総重量に基づいて、０．０１〜０．５重量％、あるいは０．０５〜０．３５重量％、あるいは９９．７〜９９．９重量％の量で組成物中に存在する。溶媒の量は、以下に更に詳細に記載されるように、組成物中に採用される様々な任意成分の不在又は存在により、すぐ上に記載の範囲から変動し得る。
【００３３】
触媒は場合により、組成物による表面改質を促進するために利用され得る。これらの触媒は、ポリフルオロポリエーテルシランの加水分解可能な基と物品の表面との間の反応を促進する。これらの触媒は個々に使用されてもよく、あるいは、組成物中で２種以上の組み合わせとして使用されてもよい。好適な触媒化合物の例には、酸、例えば、カルボン酸、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、及び／又は吉草酸；塩基；有機酸の金属塩、例えば、ジブチルスズジオクトエート（dibutyl tin dioctoate）、ステアリン酸鉄、及び／又はリードオクトエート；チタン酸エステル、例えば、テトライソプロピルチタン酸塩及び／又はテトラブチルチタン酸塩；キレート化合物、例えば、アセチルアセトナートチタニウム；シラザン、例えば、ヘキサメチルジシラザン及び／又はジビニルテトラメチルジシラザン；シラン、例えば、テトラキス（ジメチルアミン）シラン及び／又はアミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。利用される場合、触媒は典型的には組成物の１００重量部に基づいて０重量％〜５重量％、あるいは０．０１重量％〜２重量％の量で利用される。
【００３４】
この組成物は、加えて、カップリング剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、色素、触媒などといった、任意の好適な他の成分を含んでもよい。
【００３５】
上記に示されているように、本発明は、表面処理された物品と、表面処理された物品の調製方法を更に提供し、これらは総じて下記に更に詳細に説明される。
【００３６】
表面処理された物品は、表面を呈する物品を含む。層は、物品の表面に堆積させる。層は組成物から形成され、表面処理された物品を調製するために物品の表面上に適用される。物品は、任意の物品であり得るが、本発明の組成物から得られる優れた物理的特性のため、この物品は、典型的には、電子物品、光学物品、消費財及び部品、自動車車体及び部品などである。最も典型的には、この物品は、指紋又は皮脂によりもたらされる汚れ及び／又はしみを低減させることが望ましい物品である。
【００３７】
電子物品の例には、典型的に、電子ディスプレイ、例えばＬＣＤディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、ＯＬＥＤディスプレイ、プラズマディスプレイなどを有するものが挙げられる。これらの電子ディスプレイは、種々の電子機器、例えば、コンピュータディスプレイ、テレビ、スマートフォン、ＧＰＳ装置、音楽プレーヤー、リモートコントロール、ポータブルリーダなどに用いられることが多い。電子物品の例示的な例には、インタラクティブタッチスクリーンディスプレイ又は皮膚と接触することが多く、汚れ及び／若しくはしみを表示することが多い他の部品を有するものが挙げられる。
【００３８】
上記で紹介したように、物品はまた、民生用機器及び部品のような金属物品であってもよい。例示的な物品には、食器洗浄機、ストーブ、電子レンジ、冷蔵庫、冷凍庫などが挙げられ、これらは、典型的に、ステンレス鋼、艶消しニッケルなどの光沢のある金属外観を有する。
【００３９】
あるいは、物品は、自動車車体又は部品であり得る。例えば、この組成物は、自動車車体に光沢のある外観を付与する層であって、審美的に心地良く、埃などの汚れ及び指紋からのしみを防ぐ層を形成するために、自動車車体のトップコート上に直接適用され得る。
【００４０】
好適な光学物品の例としては、ガラス板、無機層を含むガラス板、セラミックス、及びこれらに類するものなどの無機材料が挙げられる。好適な光学物品の更なる例には、有機材料、例えば、透明なプラスチック材料及び無機層を含む透明なプラスチック材料などが挙げられる。光学物品の特定の例には、反射防止フィルム、光学フィルタ、光学レンズ、眼鏡のレンズ、ビームスプリッタ、プリズム、鏡などが挙げられる。
【００４１】
無機材料の例には、ガラス板が挙げられる。無機層を含むガラス板を形成するための無機化合物の例には、金属酸化物（酸化ケイ素、例えば二酸化ケイ素、一酸化ケイ素など）、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化アンモチン、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）などが挙げられる。
【００４２】
このような無機化合物を含む無機層又は無機材料は、単一又は複数の層であり得る。無機層は、反射防止層として機能し、ウェットコーティング法などの既知の方法によって形成され得る。ウェットコーティング法の例には、ディップコーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティングなどの方法が挙げられる。
【００４３】
有機材料の中で、透明なプラスチック材料の例としては、様々な有機ポリマーを含む材料が挙げられる。透明性、屈折率、分散性、及びこれらに類するものといった光学特性、並びに、衝撃耐性、耐熱性、及び耐久性などの様々な他の特性の観点から、光学部材として使用される材料は、通常、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレンなど）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリアミド（ナイロン６、ナイロン６６など）、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、セルロース（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファンなど）、又はこのような有機ポリマーのコポリマーを含む。これらの材料が眼科用素子において利用され得ることを理解されたい。眼科用素子の非限定例としては、補正又は非補正レンズ（例えば、二焦点、三焦点、及び多重焦点レンズのようなシングルビジョン又はマルチビジョンレンズ−仕切りされているか又は仕切りされていないかのいずれかであり得る−）、並びに、視覚の補正、保護又は改善のために使用される他の素子（限定するものではないが、例えば、コンタクトレンズ、眼球内レンズ、拡大レンズ、及び保護レンズ又は遮光板が挙げられる）が挙げられる。眼科用素子に好ましい材料は、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレートから選択される１種以上のポリマー、並びに、ポリカーボネートコポリマー、ポリオレフィン、特にポリノルボルネン、ジエチレングリコール−ビス（アリルカーボネート）ポリマー−ＣＲ３９として既知−及びコポリマー、（メタ）アクリルポリマー及びコポリマー、特にビスフェノールＡから誘導される（メタ）アクリルポリマー及びコポリマー、チオ（メタ）アクリルポリマー及びコポリマー、ウレタン及びチオウレタンポリマー及びコポリマー、エポキシポリマー及びコポリマー、並びにエピスルフィドポリマー及びコポリマーを含む。
【００４４】
このような光学物品に加えて、本発明の組成物は、自動車又は飛行機用の窓部材などの他の物品上に層を形成するために適用することができ、これにより、機能性の向上をもたらす。表面硬度の更なる改善のために、この組成物とＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）を組み合わせて用いるいわゆるゾル−ゲルプロセスにより表面改質を行うことも可能である。
【００４５】
物品の表面上に組成物を適用して、層を形成する工程は、典型的に、ウェットコーティング方法を含む。
【００４６】
この方法に好適なウェットコーティング方法の具体例としては、ディップコーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スロットコーティングなどの方法が挙げられる。
【００４７】
物品の表面上に組成物から層が形成されると、この層に、更に、加熱、加湿、触媒後処理、光照射、電子ビーム照射などを行うことができる。
【００４８】
典型的には、組成物から形成される層の厚さは、１〜５，０００ｎｍ、あるいは１〜２００ｎｍ、あるいは１〜２０ｎｍ、あるいは１〜１０ｎｍである。
【００４９】
上述のように、組成物から形成される層は、概して、従来の組成物から形成された層に付随する望ましくない筋を含まない、望ましい外観を有する。従来の組成物から形成された層は、従来の組成物に用いられる溶媒と同じか又は異なり得る溶媒で、洗浄及び／又はすすぎを行って、このような筋を最小限に抑える。注目すべきことに、従来の組成物から形成された従来の層のこのようなすすぎはまた、このような従来の層の摩耗耐性に悪影響を及ぼす、即ち、それをひどく低下させる。したがって、特定の実施形態において、表面処理された物品を調製する方法は、溶媒による物品表面上の洗浄工程を含まず、これにより、層の形成に伴う費用及び処理工程が低減され、更に、概してこのようなすすぎに起因する摩耗耐性の低下を最小限に抑えるか、又は排除する。
【００５０】
加えて、本組成物から形成された層は、従来の溶媒を含む従来の組成物から形成された層と比較して、優れた耐久性を有する。
【００５１】
添付の特許請求の範囲が、詳細な説明に記述された明確で特定の化合物、組成物、又は方法に限定されず、化合物、組成物、又は方法が、添付の特許請求の範囲内にある特定の実施形態間で異なってもよいことを理解されたい。様々な実施形態の具体的な特徴及び態様を説明するために本明細書において依拠されている任意のマーカッシュ群に関して、異なる、特殊な、及び／又は不測の結果は、すべての他のマーカッシュ群の構成要素から独立して、各マーカッシュ群のそれぞれの構成要素から得られるものとする。マーカッシュ群の各構成要素は、添付の特許請求の範囲内の特定の実施形態に個別及び／又は組み合わせで依存してもよく、これに適切な根拠を提供する。
【００５２】
更に、本発明の様々な実施形態を説明する際に依拠される任意の範囲及び部分範囲は、独立して及び総じて、添付の請求の範囲内に入り、たとえ、本明細書にその中の全部及び／又は一部の値が明記されていなくても、そのような値を包含する全範囲を説明及び想到するものと理解される。計数範囲及び部分範囲が、本発明の様々な実施態様を十分に記述しかつ可能にし、かかる範囲及び部分範囲が、更に、関連する２分の１、３分の１、４分の１、５分の１などに詳述されてよいことを当業者は容易に理解する。ほんの一例として、範囲「０．１〜０．９」は、下の方の３分の１、即ち、０．１〜０．３、中間の３分の１、即ち、０．４〜０．６、及び上の方の３分の１、即ち、０．７〜０．９に更に詳述でき、これらは、個別かつ集合的に添付の特許請求の範囲内であり、添付の特許請求の範囲内の特定の実施態様に個別及び／又は集合的に依存され、適切な根拠を提供し得る。更に、「少なくとも」、「より大きい」、「未満」、「以下」などの範囲を定義又は修飾する用語に関して、かかる用語が部分範囲及び／又は上限若しくは下限を含むことを理解されたい。別の例として、「少なくとも１０」の範囲は、本質的に、少なくとも１０〜３５の部分範囲、少なくとも１０〜２５の部分範囲、２５〜３５の部分範囲などを含み、各部分範囲は、添付の特許請求の範囲内の特定の実施形態に個別及び／又は集合的に依存してもよく、これに適切な根拠を提供する。最終的には、開示された範囲内の個々の数は、添付の特許請求の範囲内の特定の実施態様に依存することができ、これに適切な根拠を提供する。例えば、範囲「１〜９」は、様々な個々の整数、例えば、３、並びに小数点（又は分数）を含む個別の数、例えば、４．１を含み、これは添付の特許請求の範囲内の特定の実施態様に依存してもよく、これに適切な根拠を提供する。
【００５３】
以下の実施例は、本発明を例示することを意図されており、決して本発明の範囲を限定するものとして見られるものではない。
【実施例】
【００５４】
組成物を、主題の開示に従って調製する。具体的には、以下に記載される組成物のそれぞれは、溶媒とポリフルオロポリエーテルシランとを含む。別途記載のない限り、以下に記載の任意の百分率は重量百分率に関する。
【００５５】
実施例１：
【００５６】
【表２】
2015523445.tif 000008
【００５７】
ポリフルオロポリエーテルシラン１は、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３、式中、ｂは、１７〜２５の整数である。
【００５８】
溶媒１は、２つの窒素含有過フッ素化溶媒の混合物である。具体的には、溶媒１は、Ｃ１２Ｆ２７ＮとＣ９Ｆ２１Ｎとの混合物である。前者の化合物では、各置換基はＣ４Ｆ９であるが、後者の化合物では、１つの置換基がＣＦ３であり、２つの置換基がＣ４Ｆ９である。
【００５９】
実施例２：
【００６０】
【表３】
2015523445.tif 000009
【００６１】
ポリフルオロポリエーテルシラン２は、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、式中、ａ’は、１４〜２０の整数である。
【００６２】
添加剤化合物１は、アミノプロピルトリエトキシシランである。
【００６３】
実施例３：
【００６４】
【表４】
2015523445.tif 000010
【００６５】
溶媒２は、約１７０℃の沸点温度を有し、以下の一般式を有する、ペルフルオロポリエーテル溶媒であり、
【化６】
2015523445.tif 000011
式中、約７６０Ｄａの平均分子量を提供するように、ｍ’は１以上の整数であり、ｎ’は０以上である。
【００６６】
比較例１：
【００６７】
【表５】
2015523445.tif 000012
【００６８】
比較溶媒１は、エチルノナフルオロイソブチルエーテル及びエチルノナフルオロブチルエーテルを含む、従来の溶媒である。
【００６９】
比較例２
【００７０】
【表６】
2015523445.tif 000013
【００７１】
比較溶媒２は、約１１０℃の沸点温度を有し、以下の一般式を有する、ペルフルオロポリエーテル溶媒であり、
【化７】
2015523445.tif 000014
式中、約５８０Ｄａの平均分子量を提供するように、ｍ’は１以上の整数であり、ｎ’は０以上である。
【００７２】
比較例３：
【００７３】
【表７】
2015523445.tif 000015
【００７４】
実施例１〜３及び比較例１〜３の各組成物はそれぞれ、スプレーコーティングを用いて基材の表面に適用される。具体的には、これらの組成物は、６．９ｋＰａ（１ｐｓｉ）の霧化圧、３４．５ｋＰａ（５ｐｓｉ）の液圧、５０．８μｍ（２ｍｉｌ）以上のストローク、５．３ｃｍのノズル高さ、及び約２０，０００計数／秒の速度を有する、ＰＶＡ−１０００分注器を用いて、ガラス基材に適用される。それぞれの組成物を基材に適用した後、組成物を室温で約２４時間硬化させて、基材の上に層を形成した。
【００７５】
組成物から形成された層の物理的特性が測定される。具体的には、各層の物理的特性は、下記のように、層を摩耗耐性試験にかける前後で測定される。
【００７６】
磨耗耐性試験は、往復式摩耗試験機モデル５９００（Ｔａｂｅｒ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販）を利用する。用いた摩耗材料は、Ｔａｂｅｒ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ  ｏｆ  Ｎｏｒｔｈ  Ｔｏｎａｗａｎｄａ，Ｎｅｗ  ＹｏｒｋからのＣＳ−１０  Ｗｅａｒａｓｅｒ（登録商標）であった。摩耗材料は、６．５ｍｍ×１２．２ｍｍの寸法を有する。往復式摩耗試験機は、２．５４ｃｍ（１インチ）のストローク長さ及び７．５Ｎの荷重で、毎分２５サイクルの速度にて２５サイクルにわたって操作される。
【００７７】
各層の水接触角（ＷＣＡ）は、ＶＣＡ  Ｏｐｔｉｍａ  ＸＥ測角器（ＡＳＴ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃ．（Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ，ＭＡ）から市販）を用いて測定される。測定される水接触角は、各層上の２μＬ液滴に基づく静的接触角である。水接触角は、摩耗耐性試験の前（以下の表７において「初期」と示される）及び後（以下の表７において「終了」と示される）に測定する。摩耗耐性試験の前に、層のそれぞれの外観を、目視検査して、外観が許容可能である、即ち、筋及び／若しくは斑点がないか、又は許容できない、即ち、著しい筋及び／若しくは斑点を有するかを判定する。
【００７８】
スプレーコーティングにより形成されたこれらの層の物理的特性を、以下の表７に記載する。
【００７９】
【表８】
2015523445.tif 000016
【００８０】
実施例１〜３及び比較例１〜３の各組成物を、それぞれ、フローコーティングによっても基材の表面に適用する。具体的には、これらの組成物を、ピペットによってアセトンですすいだガラス基材に適用する。より具体的には、ガラス基材を垂直に保ち、組成物を、ピペットによってガラス基材の大部分の表面に適用し、ガラス基材の大部分の表面が、重力により組成物でコーティングされることになる。これらの層は、ガラス基材を垂直に保ちながら、約２４時間乾燥及び硬化して、基材上に層を形成することにより形成される。
【００８１】
フローコーティングにより形成したこれらの層の物理的特性を、以下の表８に記載する。
【００８２】
【表９】
2015523445.tif 000017
【００８３】
それぞれの層の外観に関して、図１は、実施例１により形成された層の倍率３７．５倍での顕微鏡画像である。図２は、実施例２により形成された層の倍率３７．５倍での顕微鏡画像である。図３は、実施例３により形成された層の倍率３７．５倍での顕微鏡画像である。図１〜３に明確に示されるように、実施例１〜３により形成された層は、概して斑点及び筋を有さない優れた外観を有していた。対照的に、図４は、比較例１により形成された層の倍率３７．５倍での顕微鏡画像である。図５は、比較例２により形成された層の倍率３７．５倍での顕微鏡画像である。図６は、比較例３により形成された層の倍率３７．５倍での顕微鏡画像である。図４〜６に明確に示されるように、比較例１〜３により形成された従来の層は、望ましくないことに、斑点及び筋を有していた。
【００８４】
注目すべきことに、実施例１及び比較例１は、利用した特定の溶媒以外は同一であるが、図１は、図４に示される比較例１のものと比べて、実施例１の溶媒の有利な効果を明確に示す。同様に、実施例２及び比較例３は、利用した特定の溶媒以外は同一であるが、図２は、図６に示される比較例３のものと比べて、実施例２の溶媒の有利な効果を明確に示す。
【００８５】
本発明を説明的に述べてきたが、使用した用語が、限定ではなく記述の語句の本質を意味するものであることを理解されたい。明らかに本発明の多くの修正及び変更が上記教示から可能である。本発明は、具体的に記載した方法の通り以外の方法でも実施され得る。
【図１】
2015523445.tif 000022
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【手続補正書】
【提出日】平成27年2月12日(2015.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面処理用組成物であって、
少なくとも１つのＣＦ３基を有する過フッ素化溶媒であって、
大気圧にて少なくとも１２０℃の沸点温度を有し、以下の一般式（Ａ）を有する、ペルフルオロポリエーテル溶媒であって、
【化１】
2015523445.tif 000028
式中、ｍ’は１以上の整数であり、ｎ’は０以上である、ペルフルオロポリエーテル溶媒、
以下の一般式（Ｂ）を有する窒素含有過フッ素化溶媒であって、
【化２】
2015523445.tif 000029
式中、各Ｒは、独立して選択される、１〜１０個の炭素原子を有する過フッ素化炭化水素基である、窒素含有過フッ素化溶媒、
及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、過フッ素化溶媒と、
以下の一般式（Ｃ）を有するポリフルオロポリエーテルシランであって、
Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ；
式中、Ｚは、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から独立して選択され、ａ’は１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は、二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、独立して選択される脂肪族不飽和を有さないＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、Ｒ２、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りである、ポリフルオロポリエーテルシランと、を含み、
但し、添字ｉが０である場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数である場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数である場合、ｍもまた０を超える整数であることを条件とする、組成物。
【請求項２】
前記溶媒が、前記ペルフルオロポリエーテル溶媒を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記溶媒が、前記窒素含有過フッ素化溶媒を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記窒素含有過フッ素化溶媒の各Ｒが、独立して、３〜５個の炭素原子を有する、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ｃ）においてＸ”により表される前記加水分解可能な基が、ハロゲン化物基、−ＯＲ３、−ＮＨＲ３、−ＮＲ３Ｒ４、−ＯＯＣ−Ｒ３、Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４、Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５、及び−ＮＲ３ＣＯＲ４から独立して選択され、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、Ｈ及びＣ１〜Ｃ２２炭化水素基からそれぞれ独立して選択され、Ｒ３及びＲ４が、場合によってはアルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記溶媒が、前記組成物の総重量に基づいて９５〜９９．９９重量％の量で前記組成物中に存在し、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、前記組成物の総重量に基づいて０．０１〜０．５重量％の量で前記組成物中に存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
表面処理された物品を調製する方法であって、前記方法が、
表面処理用組成物を物品の表面上に適用して、前記組成物から前記物品の前記表面上に層を形成する工程であって、
前記組成物は、
少なくとも１つのＣＦ３基を有する過フッ素化溶媒であって、
大気圧にて少なくとも１２０℃の沸点温度を有し、以下の一般式（Ａ）を有する、ペルフルオロポリエーテル溶媒であって、
【化３】
2015523445.tif 000030
式中、ｍ’は１以上の整数であり、ｎ’は０以上である、ペルフルオロポリエーテル溶媒、
以下の一般式（Ｂ）を有する窒素含有過フッ素化溶媒であって、
【化４】
2015523445.tif 000031
式中、各Ｒは、独立して選択される、１〜１０個の炭素原子を有する過フッ素化炭化水素基である、窒素含有過フッ素化溶媒、
及びそれらの組み合わせからなる群から選択される、過フッ素化溶媒と、
以下の一般式（Ｃ）を有するポリフルオロポリエーテルシランであって、
Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ；
式中、Ｚは、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から独立して選択され、ａ’は１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は、二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、独立して選択される脂肪族不飽和を有さないＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、Ｒ２、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りである、ポリフルオロポリエーテルシランと、を含み、
但し、添字ｉが０である場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数である場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数である場合、ｍもまた０を超える整数であることを条件とする、工程を含む、方法。
【請求項８】
前記物品の前記表面上の前記層を溶媒で洗浄する工程を含まない、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記組成物を適用する工程が、ディップコーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スパッタリング、スロットコーティング、大気圧プラズマ、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項７及び８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記溶媒が、前記ペルフルオロポリエーテル溶媒を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記溶媒が、前記窒素含有過フッ素化溶媒を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記窒素含有過フッ素化溶媒の各Ｒが、独立して、３〜５個の炭素原子を有する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ｃ）においてＸ’により表される前記加水分解可能な基が、ハロゲン化物基、−ＯＲ３、−ＮＨＲ３、−ＮＲ３Ｒ４、−ＯＯＣ−Ｒ３、Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４、Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５、及び−ＮＲ３ＣＯＲ４から独立して選択され、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、Ｈ及びＣ１〜Ｃ２２炭化水素基からそれぞれ独立して選択され、Ｒ３及びＲ４が、場合によってはアルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る、請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
前記溶媒が、前記組成物の総重量に基づいて９５〜９９．９９重量％の量で前記組成物中に存在し、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、前記組成物の総重量に基づいて０．０１〜０．５重量％の量で前記組成物中に存在する、請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
請求項７に記載の方法に従って形成される表面処理された物品。
【国際調査報告】
2015523445.tif 000032
2015523445.tif 000033
2015523445.tif 000034