(57)【要約】複数の酸素浄化帯および複数の酸化帯を含む反応帯が提供される。一次流が、液体シクロヘキサン、および任意にシクロヘキサン酸化触媒を含む酸化浄化帯に導入される。さらに、酸素含有ガスが、酸化帯中に導入される。次に、一次流は、下方に、酸素浄化帯から酸化帯に通され、一方、酸素含有ガスは、上方に、酸化帯から酸素浄化帯に逆流的に通される。酸素含有ガスは、酸化帯を通して移動するので一次流中に直接導入され、そして一次流と酸素含有ガスとの間の反応は、生成混合物を生成する。最後に、生成混合物は、ＣＨＨＰ、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含む酸化帯から引き出される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シクロヘキサンの酸化方法であって、以下の：
ａ）複数の酸素浄化帯および複数の酸化帯を含む反応帯を提供するステップであって、酸素浄化帯および酸化帯が流体連絡しており、そして酸素浄化帯および酸化帯が単一連続蒸気空間中に含有されるよう、反応帯が設計されるステップ；
ｂ）液体シクロヘキサンを含む一次流を酸素浄化帯中に導入するステップ；
ｃ）酸素含有ガスを酸化帯中に導入するステップ；
ｄ）一次流を酸素浄化帯から酸化帯に下方へ通し、一方、酸素含有ガスを酸化帯から酸素浄化帯に上方に逆方向に通すステップであって、酸素含有ガスが、酸化帯を通して移動するので、一次流中に直接導入され、そして一次流および酸素含有ガス間の反応が生成混合物を生成するステップ；ならびに
ｅ）シクロヘキシルヒドロペルオキシド（ＣＨＨＰ）、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含む酸化帯から生成混合物を引き出すステップ
を包含する方法。
【請求項２】
酸素含有ガスが多数の酸化帯で一次流中に直接導入される請求項１記載の方法。
【請求項３】
酸素含有ガスが各酸化帯の横断面全体に均一に導入される請求項２記載の方法。
【請求項４】
酸素含有ガスが、ガス導管を介して各々の個々の酸化帯で一次流中に直接導入される請求項２記載の方法。
【請求項５】
ガス導管を出る酸素含有ガスのガス速度が５ｍ／秒〜５０ｍ／秒の範囲である請求項４記載の方法。
【請求項６】
酸素含有ガスが、垂直から１０〜５０度の角度でガス導管を出る請求項４記載の方法。
【請求項７】
ガス導管がガススパージャーを含む請求項４記載の方法。
【請求項８】
ガス導管が複数の穿孔を有するパイプを含む請求項４記載の方法。
【請求項９】
穿孔が２ｍｍ〜４ｍｍの範囲の直径を有する請求項８記載の方法。
【請求項１０】
穿孔が、垂直から１０度〜５０度の角度で下方に向いている請求項８記載の方法。
【請求項１１】
穿孔の一部分が垂直の右方向角度で下方に向いており、穿孔の一部分が垂直の左方向角度で下方に向いている請求項８記載の方法。
【請求項１２】
穿孔を出る酸素含有ガスのガス速度が５ｍ／秒〜５０ｍ／秒の範囲である請求項８記載の方法。
【請求項１３】
酸化帯が１４５℃〜１７０℃の温度範囲に保持される請求項１記載の方法。
【請求項１４】
一次流と酸素含有ガスとの間の反応がシクロヘキサン酸化触媒の存在下で起こる請求項１記載の方法。
【請求項１５】
シクロヘキサン触媒が、コバルトおよびクロムからなる群から選択される少なくとも１つの金属の可溶性塩を含む請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
シクロヘキサン触媒が、ナフテン酸コバルト、オクタン酸コバルト、ラウリン酸コバルト、パルミチン酸コバルト、ステアリン酸コバルト、リノール酸コバルト、アセチルアセトン酸コバルトおよびその混合物からなる群から選択される可溶性コバルト塩である請求項１４記載の方法。
【請求項１７】
反応帯が単一反応容器を含む請求項１記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、シクロヘキサンの空気酸化のための方法に関する。さらに具体的には、それは、液体シクロヘキサンを含有する反応帯中に酸素含有ガスを導入するための改良された方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
シクロヘキサンの空気酸化は、合成製品、例えばナイロンの製造に用いられるカプロラクタムおよびアジピン酸の生成のための重要な工程である。空気によるシクロヘキサンの酸化は、シクロヘキサノール（Ａ）、シクロヘキサノン（Ｋ）、シクロヘキシルヒドロペルオキシド（ＣＨＨＰ）および少量の副産物を含む反応生成物を生成する。シクロヘキサノン（Ｋ）およびシクロヘキサノール（Ａ）は、全工程の主要生成物であり、混合物はＫＡ油として一般に知られている。いくつかの特許（参照により本明細書中で援用される）、例えば米国特許第３，５３０，１８５号、第３，９８７，１００号、第５，７８０，６８３号、第６，８８８，０３４号および第６，７０３，５２９号は、シクロヘキサンの空気酸化によるシクロヘキサノール、シクロヘキサノンおよびシクロヘキシルヒドロペルオキシドを含有する混合物の調製を教示する。
【０００３】
空気酸化反応の他の生成物であるシクロヘキサノール、シクロヘキサノンを含有する混合物中のＣＨＨＰは、反応してＫＡ油を生成する、ということは周知である。しかしながら、この工程は高収量のＫＡ油を生じることなく、他の廃棄物が生成される。ＫＡ油の最高収量は、より多量のＣＨＨＰを生じる条件下でシクロヘキサンの酸化が実施される場合に達成され得る、ということが判明している。次に、ＣＨＨＰは、シクロヘキサノン（Ｋ）およびシクロヘキサノール（Ａ）への別個の工程での水素化により処理されて、ＫＡ油の全体的収量増大をもたらす。例えば、水素化によるシクロヘキシルヒドロペルオキシドからのシクロヘキサノールおよびシクロヘキサノンの調製は、米国特許第３，６９４，５１１号および第３，９２７，１０８号（これらの記載内容は参照により本明細書中で援用される）に記載されている。
【０００４】
空気酸化反応は、一般的に、多反応段階で反応器中で実行される。米国特許第６，０７５，１６９（この記載内容は参照により本明細書中で援用される）は、シクロヘキサン酸化酸素の方法であって、反応帯においてガスが液体シクロヘキサンと接触されるようになる方法を教示する。液体シクロヘキサンとの酸素含有ガスの直接接触を達成するために、反応器は、連続蒸気空間を有さないよう設計される。この形状は、反応帯を通しての、ならびに所望の酸化生成物の酸化を上回る酸化生成物の逆混合を、そして収量の低減を生じ得る。
【０００５】
米国特許第３，９５７，８７６号（この記載内容は参照により本明細書中で援用される）は、シクロヘキサノール（Ａ）、シクロヘキサノン（Ｋ）およびＣＨＨＰを生成するための、シクロヘキサン酸化方法を教示する。この工程において、シクロヘキサン酸化工程は、帯域間に連続蒸気空間を有するいくつかの反応帯において実行される。次いで、酸素含有ガスが、各反応帯間の蒸気空間に付加され、篩板を介して上の帯域中の液体中に分布される。反応帯上の上記空間中への酸素含有ガスの付加は、酸化反応に関する液体滞留時間を制限する。さらに、シクロヘキサンと酸素含有ガスの最適混合は、この形状では達成されない。
【０００６】
したがって、シクロヘキサンの空気酸化のための改良された工程が必要であるが、この場合、反応帯は、酸素含有ガスの均一分布および最大液体滞留時間を達成し、そして反応帯間の酸化生成物の逆混合を防止するよう設計される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、シクロヘキサンの酸化のための方法であって、酸素含有ガスが連続した反応帯中に導入される方法に関する。酸素含有ガスは、各反応帯内の液体混合物中に直接導入される。反応帯は、さらにまた、反応帯間の酸化生成物の逆混合を防止するために連続蒸気空間を有するよう設計される。
【０００８】
本発明の一実施形態は、以下の：
ａ）複数の酸素浄化帯および複数の酸化帯を含む反応帯を提供するステップであって、酸素浄化帯および酸化帯が流体連絡しており、そして酸素浄化帯および酸化帯が単一連続蒸気空間中に含有されるよう、反応帯が設計されるステップ；
ｂ）液体シクロヘキサンを含む一次流を酸素浄化帯中に導入するステップ；
ｃ）酸素含有ガスを酸化帯中に導入するステップ；
ｄ）一次流を酸素浄化帯から酸化帯に下方へ通し、一方、酸素含有ガスを酸化帯から酸素浄化帯に上方に逆方向に通すステップであって、酸素含有ガスが、酸化帯を通して移動するので一次流中に直接導入され、そして一次流および酸素含有ガス間の反応が生成混合物を生成するステップ；ならびに
ｅ）シクロヘキシルヒドロペルオキシド（ＣＨＨＰ）、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含む酸化帯から生成混合物を引き出すステップ
を包含する。
【０００９】
別の実施形態では、酸素含有ガスは、多数の酸化帯で一次流中に直接導入される。
【００１０】
別の実施形態では、酸素含有ガスは、各酸化帯の横断面全体に均一に導入される。
【００１１】
別の実施形態では、酸素含有ガスは、ガス導管を介して各々の個々の酸化帯で一次流中に直接導入される。
【００１２】
別の実施形態では、ガス導管を出る酸素含有ガスのガス速度は、約５ｍ／秒〜約５０ｍ／秒の範囲である。
【００１３】
別の実施形態では、酸素含有ガスは、垂直から約１０〜約５０度の角度でガス導管を出る。
【００１４】
別の実施形態では、ガス導管はガススパージャーを含む。
【００１５】
別の実施形態では、ガス導管は複数の穿孔を有するパイプを含む。
【００１６】
別の実施形態では、穿孔は、約２ｍｍ〜約４ｍｍの範囲の直径を有する。
【００１７】
別の実施形態では、穿孔は、垂直から約１０度〜約５０度の角度で下方に向いている。
【００１８】
別の実施形態では、穿孔の一部分は垂直の右方向角度で下方に向いており、穿孔の一部分は垂直の左方向角度で下方に向いている。
【００１９】
別の実施形態では、穿孔を出る酸素含有ガスのガス速度は、約５ｍ／秒〜約５０ｍ／秒の範囲である。
【００２０】
別の実施形態では、酸化帯は、約１４５℃〜約１７０℃の温度範囲に保持される。
【００２１】
別の実施形態では、一次流と酸素含有ガスとの間の反応は、シクロヘキサン酸化触媒の存在下で起こる。
【００２２】
別の実施形態では、シクロヘキサン触媒は、コバルトおよびクロムからなる群から選択される少なくとも１つの金属の可溶性塩を含む。
【００２３】
別の実施形態では、シクロヘキサン触媒は、ナフテン酸コバルト、オクタン酸コバルト、ラウリン酸コバルト、パルミチン酸コバルト、ステアリン酸コバルト、リノール酸コバルト、アセチルアセトン酸コバルトおよびその混合物からなる群から選択される可溶性コバルト塩である。
【００２４】
別の実施形態では、反応帯は単一反応容器を含む。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の実施形態に関する工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明は、シクロヘキサンの酸化方法であって、酸素含有ガスが反応帯シリーズ中に導入される方法に関する。酸素含有ガスは、各反応帯内の液体混合物中に直接導入される。反応帯は、さらにまた、反応帯間の酸化生成物の逆混合を防止するために連続蒸気空間を有するよう設計される。
【００２７】
本明細書中で引用される特許、特許出願、試験手法、優先権書類、論文、出版物、マニュアルおよびその他の文書はすべて、このような開示が本発明と矛盾しない程度に、そしてこのような援用が許される権限に関して、これらの記載内容は参照により本明細書中で援用される。
【００２８】
ここで図面を参照して、本発明の例示的実施形態をここで説明する。シクロヘキサン酸化反応器１００は、酸素浄化帯１４０と酸化帯１５０を含み、これらは流体連絡している。酸化帯１５０は、複数のトレー１９０で構成され、ここでシクロヘキサンの酸化が起こり得る。酸素浄化帯１４０は、複数のトレー１９０からなり、ここで、酸化反応からの熱が回収され得る。酸化帯および酸素浄化帯は、多数の容器中に含有され得る。本発明の例示的実施形態では、酸素浄化帯１４０および酸化帯１５０は、単一反応容器１００中に含有される。
【００２９】
流れ１１０中の液体シクロヘキサンは新鮮なシクロヘキサンを含有し得るし、および／または液体シクロヘキサンは工程のその後の任意部分から再循環される。流れ１１０は、反応器１００の上部で付加され、酸化浄化帯１４０および酸化帯１５０におけるトレー１９０を直交横断して移動する。シクロヘキサン酸化触媒の流れ（示されていない）は、任意に、酸化浄化帯中に付加され得る。触媒は、当該技術分野で既知の任意の適切なシクロヘキサン触媒、例えばコバルトまたはクロムの可溶性塩およびその混合物であり得る。コバルト触媒が選択される場合、それは、ナフテン酸コバルト、オクタン酸コバルト、ラウリン酸コバルト、パルミチン酸コバルト、ステアリン酸コバルト、リノール酸コバルト、アセチルアセトン酸コバルトおよびその混合物からなる群から選択され得る。
【００３０】
シクロヘキサン酸化は、さらにまた、リン酸エステル、例えばジ（２−エチルヘキシル）リン酸の存在下で実行され得る。このような方法は、米国特許第４，６７５，４５０号（Ｌｙｏｎ等）（この記載内容は参照により本明細書中で援用される）に開示されている。
【００３１】
酸素含有ガスは、多数の点１８０でおよび流れ１６０で酸化帯１５０に供給される。液体シクロヘキサン流１１０は、酸素浄化帯１４０から酸化帯１５０に下方に供給され、一方、酸素含有ガスは、酸化帯１５０から酸素浄化帯１４０に上方に逆流通過され、この場合、一次流と酸素含有ガスとの間の反応が混合物１３０を生成する。生成混合物１３０は、シクロヘキシルヒドロペルオキシド（ＣＨＨＰ）、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールならびにその他の酸化生成物を含む。
【００３２】
シクロヘキサン酸化反応器１００は、下降管２１０を備えた篩板１９０により、多数の酸化帯１５０および酸化浄化帯１４０に分離される。トレー１９０は、操作中に反応器１００内に連続蒸気空間が存在するよう、間隔を置かれる。操作中、各酸化帯１５０および酸化浄化帯１４０は、液相および蒸気相を含有する。液体シクロヘキサン１１０は、反応器１００の上部で付加され、下降管２１０を介して進入し、出ていく一続きの各酸化浄化帯および酸化帯を直交横断して移動する。下降管２１０は、各篩板１９０間の蒸気相の上部近くで気体−液体分離が起きるようなサイズにされる。反応器１００内に酸化帯１５０および酸化浄化帯１４０を作り出すために、当該技術分野で周知の任意の分離手段が用いられ得る。
【００３３】
酸素含有ガス１６０、１８０は、ガススパージャー２００により、酸化帯１５０および反応器底部に導入される。ガススパージャー２００は、各酸化帯１５０内の篩板１９０上に配置される。ガススパージャー２００は、各酸化帯１５０の液相内に酸素含有ガス１６０、１８０を分布させるための穿孔を備えたパイプからなる。各酸化帯１５０内の各篩板１９０の横断面全体に均一に酸素含有ガスをガススパージャー２００が分布させるよう、酸化帯１５０は設計される。
【００３４】
ガススパージャー２００における穿孔は、約１０ｍ／秒〜約５０ｍ／秒の範囲の速度で酸素含有ガスを分布するよう意図される。本発明の例示的実施形態では、２５ｍ／秒の平均ガス速度が保持される。穿孔は円形で、約２ｍｍ〜約４ｍｍの範囲の直径の開口部を有する。本発明の他の実施形態では、穿孔は任意の地理学的形状の開口を有するよう意図され得る。穿孔の幾何学的寸法および数は、指示されるガス速度範囲を生じるよう算定される。穿孔は、酸化帯１５０の液相内で下方に向いており、垂直から約１０〜約５０度の角度で酸素含有ガスを分布させる。
【００３５】
本発明の例示的実施形態では、穿孔は下方向に垂直から３０度である。それらは、左に３０度のものと右に３０度のものとの対で整列される。酸化帯１５０の液相内に酸素含有ガス１８０を分布させるために、多数の形状の穿孔が用いられ得る、と理解される。各ガススパージャー２００における酸素含有ガス１８０の流動は、酸化帯１５０からガススパージャー中に液体またはガスが流動しないよう十分高く保持される。さらに、各ガススパージャー２００内の圧力は、酸化帯１５０内の圧力より十分に高く保たれ、すべての穿孔を通るガス流が一様になるよう保持される。
【００３６】
酸素含有ガス１８０は、篩板１９０を介して、各酸化帯１５０の基部から、次の酸化帯または酸素浄化帯１４０までそしてその中に、流動する。各酸化帯１５０を出るガスは、酸素を欠失している。付加的酸素含有ガス１８０が各酸化帯１５０に付加されて、その酸化帯において過剰量の非反応酸素を保持する。不活性ガス１７０も、酸化帯１５０の下方に、同様のガススパージャー２００を介して付加される。
【００３７】
酸素浄化帯１４０は、反応器１００を退出するガス１２０中の非反応酸素の制御を可能にするために付加的反応容積を提供する。蒸気は、篩板１９０における空間を介して区域から区域に移動する。液体はトレー空間を下方に通過せず、むしろ、上記のように下降管２１０を通過する。篩板１９０および下降管２１０は、酸化帯１５０および酸素浄化帯が液相中に分散される蒸気で主に満たされて、各トレーの下に小蒸気相のみを伴うことを保証するよう設計される。
【００３８】
酸素浄化帯１４０の上に、液体シクロヘキサン供給１１０の部分と直接接触することにより酸素浄化帯１４０を出るオフガス１２０からのシクロヘキサン蒸気を濃縮する熱伝達帯も、反応器は含有し得る。この工程は、酸素浄化帯１４０に進入する前に、供給１１０を予熱する。
【００３９】
本発明の例示的実施形態では、酸化帯中の温度は、約１４５℃〜約１７０℃の範囲に保持される。酸化帯１５０を出る生成混合物１３０の温度は、約１４５℃〜約１７０℃の範囲の温度に保持される。
【００４０】
任意の非反応酸素（空気中に存在する窒素とともに）は、オフガス流１２０として反応器１００を退出する。オフガス１２０は、気化シクロヘキサンおよびその他の化合物も含有する。オフガス中の非反応酸素の量は、一般に、「酸素漏出」として言及される。オフガス中の気化シクロヘキサンおよびその他の生成物は、濃縮され、回収され、そしてオフガスは当該系を出て、通常は除害装置に運ばれる。酸化反応から生成される酸化生成物は、単数または複数の反応器からの液体流出物から回収され、非反応シクロヘキサンは再循環される。
【００４１】
酸素漏出の安全レベルを保持するために、酸素浄化帯１４０を出るオフガス１２０の温度は、約１１０℃〜約１５０℃の範囲の温度を保持される。本発明の例示的実施形態では、オフガスにおける酸素漏出は、ＶＯＣ無含有に基づいて測定される非反応酸素を３．０容量％未満に保持される。さらに好ましくは、酸素漏出は、ＶＯＣ無含有に基づいて測定される非反応酸素を約１．０％〜約２．０容量％の範囲に保持される。
【実施例】
【００４２】
以下の実施例は、本発明ならびにその使用能力を実証する。本発明は、その他のおよび異なる実施形態が可能であり、そのいくつかの詳細は、本発明の範囲および精神を逸脱しない限り、種々の明白な点で修正可能である。したがって、本実施例は、事実上例証的で、非限定的であるとみなされるべきものである。
【００４３】
実施例１
以下の実施例は、ＩＮＶＩＳＴＡ’ｓ  Ｖｉｃｔｏｒｉａシクロヘキサン酸化工程で用いられるように、本発明の方法を例証する。Ｖｉｃｔｏｒｉａプラントにおける反応帯は１７のトレーを含有し、これらは酸化帯（基部およびトレー１〜１３）および酸化浄化帯（トレー１４〜１７）を含む。カラム中の材料の温度は、トレー２、５、８、１１、１４および１７上で、ならびにカラム基部、末尾線およびオフガス中で測定される。表１における気流分布を用いて、酸化帯（基部、およびトレー１〜１３）における温度は、１４５℃〜１７０℃で観察されている。基部（末尾線）における温度は、１４５〜１７０℃である。反応器オフガス温度における温度は、通常は１１０〜１５０℃に操作する。平均直径３．２ｍｍの穿孔を有するガススパージャーを介して、空気を酸化帯（基部およびトレー１〜１３）中に注入した。垂直から３０度の角度で下方に空気が酸化帯中に注入されるよう、穿孔を配置した。スパージャーを出る平均ガス速度を、約６．５ｍ／秒〜約１９ｍ／秒に保持した。シクロヘキサン転化は３．０％〜４．５％の範囲であり、生成物中のＣＨＨＰ対シクロヘキサノン（Ｋ）、シクロヘキサノール（Ａ）およびＣＨＨＰの比は０．５０対０．６５であった。
【００４４】
実施例２
以下の実施例は、シクロヘキサンの酸化方法である。複数の酸素浄化帯および複数の酸化帯を含む反応帯が提供される。酸素浄化帯および酸化帯は流体連絡しており、そして反応帯全体を通して連続蒸気空間が存在するよう設計される。一次流を、液体シクロヘキサンおよび任意にシクロヘキサン酸化触媒を含む酸化浄化帯に導入する。さらに、酸素含有ガスを酸化帯中に導入する。次に、一次流を、酸素浄化帯から酸化帯に下方に通し、一方、酸素含有ガスを上方に酸化帯から酸素浄化帯に逆方向に通す。酸素含有ガスを、酸化帯を通して移動するので一次流中に直接導入し、一次流と酸素含有ガスとの間の反応は生成混合物を生成する。最後に、ＣＨＨＰ、シクロヘキサノンおよびシクロヘキサノールを含む酸化帯から生成混合物を引き出す。
【００４５】
実施例３
実施例２の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、酸素含有ガスを、多数の酸化帯で一次流中に直接導入する。
【００４６】
実施例４
実施例３の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、酸素含有ガスを、各酸化帯の横断面全体に均一に導入する。
【００４７】
実施例５
実施例４の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、酸素含有ガスを、ガス導管を介して各々の個々の酸化帯で一次流中に直接導入する。
【００４８】
実施例６
実施例５の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、ガス導管を出る酸素含有ガスのガス速度は、約５ｍ／秒〜約５０ｍ／秒の範囲である。
【００４９】
実施例７
実施例６の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、酸素含有ガスは、垂直から約１０〜約５０度の角度でガス導管を出る。
【００５０】
実施例８
実施例７の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、ガス導管はガススパージャーを含む。
【００５１】
実施例９
実施例８の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、ガス導管は複数の穿孔を有するパイプを含む。
【００５２】
実施例１０
実施例９の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、穿孔は、約２ｍｍ〜約４ｍｍの範囲の直径を有する。
【００５３】
実施例１１
実施例１０の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、穿孔は、垂直から約１０度〜約５０度の角度で下方に向いている。
【００５４】
実施例１２
実施例１１の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、穿孔の一部分は、垂直の右方への角度で下方に向き、穿孔の一部分は垂直の左方への角度で下方に向いている。
【００５５】
実施例１３
実施例１２の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、穿孔を出る酸素含有ガスのガス速度は、約５ｍ／秒〜約５０ｍ／秒の範囲である。
【００５６】
実施例１４
実施例１３の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、酸化帯は、約１４５℃〜約１７０℃の温度範囲に保持される。
【００５７】
実施例１５
実施例１４の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、一次流と酸素含有ガスとの間の反応は、シクロヘキサン酸化触媒の存在下で起こる。
【００５８】
実施例１６
実施例１５の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、シクロヘキサン触媒は、コバルトおよびクロムからなる群から選択される少なくとも１つの金属の可溶性塩を含む。
【００５９】
実施例１７
実施例１６の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、シクロヘキサン触媒は、ナフテン酸コバルト、オクタン酸コバルト、ラウリン酸コバルト、パルミチン酸コバルト、ステアリン酸コバルト、リノール酸コバルト、アセチルアセトン酸コバルトおよびその混合物からなる群から選択される可溶性コバルト塩である。
【００６０】
実施例１８
実施例１７の工程を、付加的ステップを伴って反復する。この実施例では、反応帯は単一反応容器を含む。
【００６１】
比、濃度、量およびその他の数的データは、本明細書中では、範囲フォーマットで表され得る、ということに留意すべきである。このような範囲フォーマットは、便利で且つ簡単であるために用いられ、したがって、範囲の限界として明白に列挙される数値を含むだけでなく、各数値および亜範囲が明白に列挙されるかのようにその範囲内に包含される個々の数値または亜範囲すべてを含むと柔軟に解釈されるべきである、と理解されるものである。例証するために、「約０．１％〜約５％」の濃度範囲は、約０．１重量％〜約５重量％の明白に列挙される濃度だけでなく、指示範囲内の個々の濃度（例えば、１％、２％、３％および４％）および亜範囲（例えば、０．５％、１．１％、２．２％、３．３％および４．４％）も含むと解釈されるべきである。「約」という用語は、数値（単数または複数）の±１％、±２％、±３％、±４％、±５％、±８％または±１０％が加減されることを包含する。さらに、「約「ｘ」〜「ｙ」」という語句は、「約「ｘ」〜約「ｙ」」を包含する。
【００６２】
本発明の例証的実施形態を特定性を伴って記載してきたが、本発明はその他のおよび異なる実施形態が可能であり、そして種々のその他の修正は、当業者に明らかであり、本発明の精神および範囲を逸脱しない限り、当業者により容易になされ得る、と理解されるべきである。したがって、本明細書の特許請求の範囲は本明細書中の実施例および記載に限定されるようには意図されず、むしろ特許請求の範囲は、本発明の開示中に存在する特許可能な新規性を有する特徴すべてを、例えば本発明が関する当該技術分野の当業者によりその等価物として処理される特徴すべてを包含するよう意図される。
【図１】
2015522611.tif 000003
【国際調査報告】
2015522611.tif 000004
2015522611.tif 000005