(57)【要約】次の構造を有し、2015536333.tif 000034 式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１〜４個の炭素原子を有する一価炭化水素基、アリール、及びアリール基を含有する６〜２０個の炭素原子の炭化水素基から選択され、Ｒ２は、７〜１５個の炭素の分枝鎖又は直鎖炭化水素基、７〜１５個の炭素の置換分枝鎖又は置換直鎖炭化水素基、任意に置換されたアリール基、及び６〜２０個の炭素原子の１つ以上のアリール置換基を有する４〜９個の炭素のアルキル炭化水素鎖、又は、Ｒ１及びＲ３が、独立して、アリール基、又はアリール基を含有する６〜２０個の炭素原子の炭化水素基のとき、１〜６個の炭素の分枝鎖又は直鎖炭化水素基から選択され、Ｚは、２〜１０個（２個及び１０個を含む）の炭素原子の直鎖又は分枝鎖二価炭化水素基であり、Ｒ８は、ＯＨ、Ｈ、１〜６個の炭素原子の一価炭化水素基、及びアセチルから選択され、下付き文字ａ、ｂ及びｃはそれぞれゼロ又は正の数であり、ただし、ａ＋ｂ＋ｃ≧１である、ジシロキサン。
2015536333.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の構造を有し、
【化１】
2015536333.tif 000028
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、１〜４個の炭素原子を有する一価炭化水素基、アリール、及びアリール基を含有する６〜２０個の炭素原子の炭化水素基から選択され、
Ｒ２が、７〜１５個の炭素の分枝鎖又は直鎖炭化水素基、７〜１５個の炭素の置換分枝鎖又は置換直鎖炭化水素基、任意に置換されたアリール基、及び６〜２０個の炭素の１つ以上のアリール置換基を有する４〜９個の炭素のアルキル炭化水素鎖、又は、Ｒ１及びＲ３が、独立して、アリール基、又はアリール基を含有する６〜２０個の炭素の炭化水素基のとき、１〜６個の炭素の分枝鎖又は直鎖炭化水素基から選択され、
Ｚが、２〜１０個の炭素の直鎖又は分枝鎖二価炭化水素基であり、Ｒ８が、ＯＨ、Ｈ、１〜６個の炭素の一価炭化水素基、及びアセチルから選択され、下付き文字ａ、ｂ及びｃがそれぞれゼロ又は正の数であり、ただし、ａ＋ｂ＋ｃ≧１である、ジシロキサン。
【請求項２】
Ｚが、２〜６個の炭素の直鎖又は分枝鎖二価炭化水素基であり、Ｒ８が、ＯＨ、Ｈ、１〜６個の炭素の一価炭化水素基、及びアセチルから選択され、下付き文字ａ≧０、ｂ≧０、かつｃ＝０であり、ただし、ａ＋ｂ≧１であることを特徴とする、請求項１に記載のジシロキサン。
【請求項３】
下付き文字ａ＞１、下付き文字ｂ≧０、かつ下付き文字ｃ＝０であることを特徴とする、請求項２に記載のジシロキサン。
【請求項４】
下付き文字ａが≧３、かつ、ｂ及びｃが両方ともゼロであることを特徴とする、請求項２又は３に記載のジシロキサン。
【請求項５】
Ｒ１及び／又はＲ３が、１〜４個の炭素を有する一価炭化水素基、任意に置換されたアリール基、及び６〜２０個の炭素の１つ以上のアリール置換基を有する４〜９個の炭素の炭化水素基から選択され、Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、１〜４個の炭素を有する一価炭化水素基、典型的にはメチル又はエチル基から選択されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のジシロキサン。
【請求項６】
Ｒ１及び／又はＲ３が、任意に置換されたアリール基であり、Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、１〜４個の炭素を有する一価炭化水素基、典型的にはメチル又はエチル基から選択されることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のジシロキサン。
【請求項７】
Ｒ２が、８〜１２個の炭素の直鎖又は分枝鎖炭化水素基、又は任意に置換されたアリール基から選択されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載のジシロキサン。
【請求項８】
前記ジシロキサンが、式１、３、５、及び７に記載のシロキサンのうち１つ以上から選択され、
【化２】
2015536333.tif 000029
式中、Ｒ１、Ｒ４及びＲ５が、請求項１に記載のとおりであり、ｙが２〜７の整数であり、ｘが５〜１０の整数であり、
【化３】
2015536333.tif 000030
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５が、請求項１に記載のとおりであり、ｙが２〜７の整数であり、ｘが５〜１０の整数であり、
【化４】
2015536333.tif 000031
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５が、上述のものであり、ｚが５〜１５の整数であり、あるいは、ｚが８〜１２の整数であり、ｖが２〜１０の整数であり、あるいは、ｖが２〜６の整数であり、
【化５】
2015536333.tif 000032
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５が、上述のものであり、ｙが２〜７の整数であり、あるいは、ｙが２〜５の整数であり、ｘが５〜１０の整数であり、あるいは、ｘが６、７又は８であることを特徴とする、請求項１に記載のジシロキサン。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のジシロキサンの調製方法であって、次式のジシロキサン：
【化６】
2015536333.tif 000033
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５が、それぞれ独立して、請求項１に定義されるものである）を、次式の化合物：
ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−（ＯＣ２Ｈ４）ａ（ＯＣ３Ｈ６）ｂ（ＯＣ４Ｈ６）ｃＲ８
（式中、ｎが０〜８であり、ａ、ｂ、ｃ及びＲ８が、それぞれ独立して、請求項１に定義されるものである）と、ヒドロシリル化触媒の存在下でヒドロシリル化反応によって反応させることを含む、方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法によって得られうるジシロキサン。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のシロキサンの、湿潤剤及び／又は界面活性剤としての使用。
【請求項１２】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のジシロキサンの加水分解生成物として得られうる疎水化剤。
【請求項１３】
農薬及び／又は除草剤と、請求項１〜８のいずれか一項に記載のジシロキサンと、を含む、農薬及び／又は除草剤組成物。
【請求項１４】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のジシロキサンと、溶媒又は水と、を含む、溶媒性コーティング及び水性コーティングから選択されるコーティング。
【請求項１５】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のジシロキサンと、好適なキャリアと、を含む、家庭用ケア組成物。
【請求項１６】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のジシロキサンと、生理学的に許容できるキャリアと、を含む、パーソナルケア組成物。
【請求項１７】
軟膏、クリーム、ゲル、ペースト、フォーム、及びエアゾールから選択される局所適用のための、請求項１６に記載のパーソナルケア組成物。
【請求項１８】
一方が連続的であり、他方が非連続的である少なくとも２つの不混和性相を有し、エマルションが、請求項１〜８のいずれか一項に記載のジシロキサンを含む、エマルション組成物。
【請求項１９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載のジシロキサンが、セメント又は下塗りなどのドライミックスに液体形態か好適な溶媒との組成物で添加される、建設業におけるドライミックス用添加剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加水分解によって、疎水化材料として機能する１つ以上の加水分解生成物を生産するジシロキサン化合物に関する。かかる材料は、特に、ドライミックス製品及びドライミックス製品組成物、例えば、セメント及びモルタルなどの建築材料で使用する湿潤添加剤としての各種用途において使用できる。
【背景技術】
【０００２】
トリシロキサン材料は、活性成分の送達を向上させるために、水溶液中で界面活性剤及び／又は湿潤剤として利用される。しかしながら、トリシロキサン化合物は、弱酸性であるｐＨ  ６から非常に弱い塩基性であるｐＨ  ７．５の、狭いｐＨ範囲でのみ使用できる。この狭いｐＨ範囲を外れると、トリシロキサン化合物は加水分解に対して不安定で急速に分解し、更に、分解生成物はその後の処理に対して有利でない。
【０００３】
セメント及びモルタルなどの建築材料は、上記トリシロキサンが添加剤として利用されてきた用途分野の１つである。かかる建築材料は、その特性を改良するために添加される大量の添加剤を含有する場合がある。これらは、ドライミックス製品、ウェットミックス製品（すなわち水の添加後）、又は施工後の硬化状態に追加される場合がある。かかる添加剤として、例えば、流動化剤、速硬剤、遅硬剤、増量剤、湿潤剤、分散剤、補強剤、消泡剤、耐収縮剤、レオロジー変性剤、及び界面活性剤が挙げられ得る。
【０００４】
建築材料、例えばセメント及びモルタルの場合、多岐にわたる添加剤を投入して、適用及び乾燥後に、最終生成物を疎水性にする傾向がある。これは、コンクリート及び下塗りなどの深刻な損壊の最も一般的な原因が水であるからである。水は、かかるコンクリートなどに悪影響を有する物質、例えば塩の侵入の原因となる。水は、微生物の増殖の促進、及び寒い時期の凍害にも関与する。また、熱伝導は、建築材料中の水分量に直接関係する。
【０００５】
モルタル及びコンクリートなどの建築材料を疎水様にするため、多岐にわたる材料が利用される場合がある。これらには、油脂化学的原材料、すなわち、金属石鹸及びシリコン系材料が挙げられる。かかる材料の添加は、有利なコスト／疎水性能比（０．３％の添加で、所望レベルの疎水性を得るのに十分である）によって利点があるが、かかる材料の存在による悪影響がある場合がある。水がドライミックスに加えられるとき、これらは疎水性が高いために水に不溶性であり、モルタルペースト中への混和を難しくするため、これらの疎水性によって乾燥モルタルの湿潤性（wetability）が乏しくなる。実際にはこれは、多くの場合、撥水剤が十分に効果的ではなく、又は、そのバッチが均一に混合されないことを意味する。ステアリン酸ナトリウム及びオレイン酸ナトリウムなどの水溶性石鹸が代替品として使用されているが、これらの水溶性が有利である一方で、アルカリ土類金属及び遷移金属石鹸よりも、高いレベルの白華（ナトリウム塩の存在による）、高度な水吸収（すなわち疎水性の減少）、及び貯蔵寿命の低下の原因となるなど、欠点も有する。
【０００６】
そのため、疎水化材料としてアルカリ土類金属及び遷移金属石鹸を選択すると、例えば界面活性剤及び湿潤剤を含むかかるドライミックス組成物における更なる添加剤の必要性とその利用につながる。しかしながら、かかる界面活性剤及び湿潤剤が存在すると、界面活性剤は、水と混合されるとき、多くの他の成分に比べて比較的短い貯蔵寿命を有し、気泡の原因となる気体を閉じ込めることがあるため、逆効果になる場合もある。これは、高ｐＨ及び低ｐＨにおいてこれらが不安定であるからである。
【０００７】
更に、ドライミックス、例えばコンクリート及びモルタルのｐＨは、水和（水の添加）後、好適な界面活性剤及び湿潤剤の選択を劇的に制限する。例えば、トリシロキサン系材料の湿潤特性はこの業界で周知であるが、米国特許第７９３５８４２号の第１欄に記載されるように、「トリシロキサン化合物は、弱酸性であるｐＨ  ６から非常に弱い塩基性であるｐＨ  ７．５の、狭いｐＨ範囲でのみ使用できる。この狭いｐＨ範囲を外れると、トリシロキサン化合物は加水分解に対して不安定で急速に分解する」ことも知られている。米国特許第７６５２０７２号は、幅広いｐＨ範囲にわたって加水分解に対する抵抗性を示すジシロキサン界面活性剤組成物の選択について、より詳細には、ｐＨ約３〜ｐＨ約１２で加水分解に対する抵抗性を有する加水分解抵抗性ジシロキサン界面活性剤について記載している。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００８】
したがって、本明細書に提供されるのは、次の構造を有するジシロキサンであり、
【化１】
2015536333.tif 000003
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１〜４個の炭素原子を有する一価炭化水素基、１〜４個の炭素原子を有する置換一価炭化水素基、アリール、及びアリール基を含有する６〜２０個の炭素原子の炭化水素基からなる群から選択され、Ｒ２は、７〜１５個の炭素からなる分枝鎖又は直鎖炭化水素基、７〜１５個の炭素からなる置換分枝鎖又は置換直鎖炭化水素基、任意に置換されたアリール基、及び６〜２０個の炭素原子の１つ以上のアリール置換基を有する４〜９個の炭素のアルキル炭化水素鎖、又は、Ｒ１及びＲ３が、独立して、アリール基、又はアリール基を含有する６〜２０個の炭素原子の炭化水素基であるとき、１〜６個の炭素からなる分枝鎖又は直鎖炭化水素基から選択され、
Ｚは、２〜１０個（２個及び１０個を含む）の炭素原子の直鎖又は分枝鎖二価炭化水素基であり、Ｒ８は、ＯＨ、Ｈ、１〜６個の炭素原子の一価炭化水素基、及びアセチルからなる群から選択され、下付き文字ａ、ｂ及びｃはそれぞれゼロ又は正の数であり、ただし、ａ＋ｂ＋ｃ≧１である。
【０００９】
更に提供されるのは、次の構造を有するジシロキサンであり、
【化２】
2015536333.tif 000004
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１〜４個の炭素原子を有する一価炭化水素基、アリール、及びアリール基を含有する６〜２０個の炭素原子の炭化水素基から選択され、
Ｒ２は、７〜１５個の炭素の分枝鎖又は直鎖炭化水素基、７〜１５個の炭素の置換分枝鎖又は置換直鎖炭化水素基、任意に置換されたアリール基、及び６〜２０個の炭素の１つ以上のアリール置換基を有する４〜９個の炭素のアルキル炭化水素鎖、又は、Ｒ１及びＲ３が、独立して、アリール基、又はアリール基を含有する６〜２０個の炭素の炭化水素基のとき、１〜６個の炭素の分枝鎖又は直鎖炭化水素基から選択され、
Ｚは、２〜１０個の炭素の直鎖又は分枝鎖二価炭化水素基であり、Ｒ８は、ＯＨ、Ｈ、１〜６個の炭素の一価炭化水素基、及びアセチルから選択され、下付き文字ａ、ｂ及びｃがそれぞれゼロ又は正の数であり、ただし、ａ＋ｂ＋ｃ≧１である。
【００１０】
本明細で使用される「含む（comprising）」という概念は、「含む（include）」、「包含する（comprehend）」、及び「からなる（consist of）」の概念を意味し、これらを包含する最も広義で使用されることが理解される。この出願の目的において、「置換」とは炭化水素基中の１つ以上の水素原子が別の置換基で置換されることを意味する。そのような置換基の例としては塩素、フッ素、臭素、及びヨードのようなハロゲン原子；ハロゲン原子を含む基、例えばクロロメチル、パーフルオロブチル、トリフルオロエチル、及びノンアフルオロヘキシルのようなハロゲン原子を含む基；酸素原子；（メタ）アクリル及びカルボキシルのような酸素原子を含む基；窒素原子；アミノ官能基、アミド機能基、及びシアノ機能基のような窒素原子を含む基；硫黄原子；及びメルカプト基のような硫黄原子を含む基を含むが、これらに限定しない。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
一実施形態では、Ｚは、２〜６個（２個及び６個を含む）の炭素原子の直鎖又は分枝鎖二価炭化水素基であり、更に、Ｒ８は、ＯＨ、Ｈ、１〜６個の炭素原子の一価炭化水素基、及びアセチルからなる群から選択されるが、最も好ましくはＯＨであり、下付き文字ａ≧０、ｂ≧０、及びｃ＝０であり、ただし、ａ＋ｂ≧１である。
【００１２】
更なる選択肢では、Ｚは、２〜６個（２個及び６個を含む）の炭素原子の直鎖又は分枝鎖二価炭化水素基であり、Ｒ８は、ＯＨ、Ｈ、１〜６個の炭素原子の一価炭化水素基、及びアセチルからなる群から選択されるが、最も好ましくはＯＨであり、下付き文字ａ＞１、下付き文字ｂ≧０であり、下付き文字ｃ＝０である。あるいは、ａは≧３で、ｂ及びｃは両方ともゼロである。更なる選択肢では、ａ及びｂは両方とも≧３でａ≧ｂであり、ｃはゼロである。
【００１３】
一実施形態では、Ｒ１及び／又はＲ３は、１〜４個の炭素原子を有する一価炭化水素基、任意に置換されたアリール基、及びアリール基を含有する４〜９個の炭素の炭化水素基からなる群から選択され、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１〜４個の炭素原子を有する一価炭化水素基、典型的にはメチル又はエチル基からなる群から選択される。あるいは、Ｒ１及び／又はＲ３は任意に置換されたアリール基であり、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１〜４個の炭素原子を有する一価炭化水素基、典型的にはメチル又はエチル基からなる群から選択される。式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、１〜４個の炭素原子を有する置換一価炭化水素基から選択され、これらは少なくとも１つのＣ−Ｆ結合を含む。
【００１４】
１つの代替例では、Ｒ２は、８〜１２個の炭素からなる直鎖又は分枝鎖炭化水素基、８〜１２個の炭素からなる置換直鎖又は置換分枝鎖炭化水素基、又は任意に置換されたアリール基から選択される。更なる代替例では、Ｒ２は７〜１５個の炭素からなる置換分枝鎖又は置換直鎖炭化水素基であり、Ｒ２は少なくとも１つのＣ−Ｆ結合を含んでよい。
【００１５】
具体的に好ましいシロキサンとして、以下の組成のシロキサンが挙げられる。
【化３】
2015536333.tif 000005
式中、式１ａ及び１ｂのそれぞれの場合において、Ｒ１、Ｒ４及びＲ５は上述のものであり、ｙは２〜７の整数であり、あるいは、ｙは２〜５の整数であり、ｘは５〜１０の整数であり、あるいは、ｘは６、７又は８である。アリール基の両方又は片方は任意に置換されてよく、式１ｂでは、当然ながら、Ｒ２は、１〜６個の炭素からなる分枝鎖又は直鎖炭化水素基である。例として
【化４】
2015536333.tif 000006
式中、Ｒ１、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、メチル、エチル、プロピル又はイソプロピル基から選択される。
【化５】
2015536333.tif 000007
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｘ及びｙは上述のものであり、例えば以下のものである。
【化６】
2015536333.tif 000008
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、メチル、エチル、プロピル又はイソプロピル基から選択される。
【化７】
2015536333.tif 000009
式中、ｙ、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上述のものであり、ｚは５〜１５の整数であり、あるいはｚは８〜１２の整数であり、ｖは２〜１０の整数であり、あるいは、ｖは２〜６の整数である。例として
【化８】
2015536333.tif 000010
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、メチル、エチル、プロピル又はイソプロピル基から選択される。
【化９】
2015536333.tif 000011
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上述のものであり、ｙは２〜７の整数であり、あるいは、ｙは２〜５の整数であり、ｘは５〜１０の整数であり、あるいは、ｘは６、７又は８である。例として
【化１０】
2015536333.tif 000012
式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、メチル、エチル、プロピル又はイソプロピル基から選択される。
【００１６】
本明細書に記載のジシロキサンは、組成物中で界面活性剤として、及び／又は湿潤材料として使用できるが、先に記載したように、高ｐＨ環境で加水分解反応によって分解する。上記が加水分解されると放出される疎水化剤は、例として以下のものである。
【化１１】
2015536333.tif 000013
【００１７】
したがって、式１ａ及び２ａの場合、加水分解後の疎水化分子は以下のものであり、
【化１２】
2015536333.tif 000014
式１ｂ及び２ｂの場合、加水分解後の疎水化分子は以下のものであり、
【化１３】
2015536333.tif 000015
式３、４、５及び６の場合、加水分解後の疎水化分子は以下のものであり、
【化１４】
2015536333.tif 000016
式７及び８の場合、加水分解後の疎水化分子は以下のものである。
【化１５】
2015536333.tif 000017
それぞれの場合において、Ｒ１及びＲ３は上述のものである。
【００１８】
上述のジシロキサンの調製方法は、次式のジシロキサンであって、
【化１６】
2015536333.tif 000018
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ上述のものであるジシロキサンを、次式の化合物であって、
ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−（ＯＣ２Ｈ４）ａ（ＯＣ３Ｈ６）ｂ（ＯＣ４Ｈ６）ｃＲ８
式中、ｎは０〜８であり、ａ、ｂ、ｃ及びＲ８は上述のものである化合物と、ヒドロシリル化触媒の存在下でヒドロシリル化反応によって反応させることを含む。
【００１９】
ヒドロシリル化触媒は、ＳｉＨ末端ジシロキサンのケイ素結合水素原子と、ポリオキシアルキレン（polyoxyalkyllene）上の不飽和アルケニル基との反応を促進する金属含有触媒である。触媒は通常、次の金属、すなわち、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、又は白金のうち１つ以上を含有する。
【００２０】
ヒドロシリル化触媒は、次のもの、すなわち、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸のオレフィン錯体、塩化白金酸及びジビニルテトラメチルジシロキサンの錯体、炭素担体に吸着された白金微粒子、金属酸化物担体に担持された白金、例えばＰｔ（Ａｌ２Ｏ３）、白金黒、白金アセチルアセトネート、白金（ジビニルテトラメチルジシロキサン）、ＰｔＣｌ２、ＰｔＣｌ４、Ｐｔ（ＣＮ）２で例示されるハロゲン化白金、ハロゲン化白金のエチレン、プロピレン、及びオルガノビニルシロキサンで例示される不飽和化合物との錯体、スチレンヘキサメチルジ白金によって例示される。かかる貴金属触媒は、白金触媒を示すために参考として本明細書に組み込まれる米国特許第３，９２３，７０５号に記載されている。１つの好ましい白金触媒はＫａｒｓｔｅｄｔ触媒であり、参考として本明細書に組み込まれるＫａｒｓｔｅｄｔによる米国特許第３，７１５，３３４号、及び同第３，８１４，７３０号に記載されている。Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒は、典型的に、トルエンなどの溶媒中に約１重量パーセントの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体である。別の好ましい白金触媒は、塩化白金酸と、末端脂肪族不飽和含有オルガノシリコン化合物との反応生成物である。これは、参考として本明細書に組み込まれる米国特許第３，４１９，５９３号に記載されている。触媒として最も好ましいものは、例えば米国特許第５，１７５，３２５号に記載されるような、塩化白金及びジビニルテトラメチルジシロキサンの中和錯体である。
【００２１】
ルテニウム触媒、例えばＲｈＣｌ３（Ｂｕ２Ｓ）３、並びに、ルテニウムカルボニル化合物、例えばルテニウム１，１，１−トリフルオロアセチルアセトネート、ルテニウムアセチルアセトネート、及びトリルテニウム（triruthinium）ドデカカルボニル又はルテニウム１，３−ケトエノラートが、代替的に使用できる。
【００２２】
本発明の組成物の使用：
上記ジシロキサンは、湿潤剤及び／又は界面活性剤を必要とする任意の好適な用途において利用できるが、加水分解（特に強酸性及び強塩基性環境において）をうけると、１つ以上の疎水性分子に分解されるという更なる利点を提供するため、疎水性コーティング又は本体を必要とする用途において特に好適である。これらには、上記化合物を噴霧混合物中に添加して、表面上での濡れと広がりを提供することができる、農薬及び／又は除草剤用途を挙げることができる。ジシロキサン化合物は界面活性剤として作用でき、表面上での噴霧液滴の保持を増大する、噴霧範囲を増すために広がり性を高める、又は除草剤を浸透させるなどの様々な機能を果たすことができる。この場合、当然のことながら、表面に付与された疎水性が、雨などの作用によって活性成分が洗い流されるのを防止できる。
【００２３】
かかる農薬及び／又は除草剤用途では、１つ以上の農薬及び化合物を活性成分として含む。任意成分として、賦形剤、補助界面活性剤、溶媒、泡制御剤、付着助剤、流れ落ち遅延剤、生物学的薬剤、微量栄養素、肥料などが挙げられる。用語、農薬は、有害生物の駆除に使用される任意の化合物、例えば、殺鼠剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺真菌剤、及び除草剤を意味することが理解される。
【００２４】
本明細書に記載の化合物の別の可能な用途は、乳化、構成成分の相溶化、レベリング、流動、及び表面欠陥の削減の目的で、湿潤剤又は界面活性剤を必要とするコーティング配合物に関するものである。加えて、これらの添加剤は、硬化した、つまり乾燥したフィルムにおいて、向上した耐摩耗性、ブロッキング防止性、親水性、及び疎水性などの向上をもたらし得る。コーティング配合物は、溶媒性コーティング、水性コーティング、及び粉末コーティングとして存在し得る。コーティング組成物は、建築用コーティング、自動車用コーティング及びコイルコーティングなどのＯＥＭ製品コーティング、産業保全用コーティング及び船舶用コーティングなどの特殊用途コーティング、並びに、溶媒、例えば水を使用前に加えるドライミックスとして保存される疎水化コーティングとして利用することができる。
【００２５】
その他可能な用途として、家庭用ケア、パルプ（例えば、木材蒸解用の界面活性剤として）及びその他パルプ及び紙分野での応用、並びに繊維での利用が挙げられる。
【００２６】
更に可能な用途は、上記ジシロキサンが、パーソナルケア組成物と、ジシロキサンと、を含む総パーソナルケア組成物の１００重量部（「ｐｂｗ」）当たり、０．１〜９９ｐｂｗ、より好ましくは０．５ｐｂｗ〜３０ｐｂｗ、及び更により好ましくは１〜１５ｐｂｗのジシロキサンと、１ｐｂｗ〜９９．９ｐｂｗ、より好ましくは７０ｐｂｗ〜９９．５ｐｂｗ、及び更により好ましくは８５ｐｂｗ〜９９ｐｂｗのパーソナルケア組成物と、で含まれる、パーソナルケア用途である。
【００２７】
上記ジシロキサンは、パーソナルケアエマルション、例えばローション及びクリームにおいて利用できる。周知なように、エマルションは、一方が連続的であり、他方が非連続的である少なくとも２つの不混和性相を含み、エマルションのうちマイクロエマルション及びエマルションが挙げられる。
【００２８】
シリコーンのみの相、シリコーン相を含む無水混合物、シリコーン相を含む含水混合物、油中水型エマルション、水中油型エマルション、若しくは２つの非水性エマルションのいずれか、又はこれらの変更例のいずれかとして所望の形態に達するとき、得られる物質は、通常、向上した付着性及び良好な感触性を有するクリーム又はローションである。これを、ヘアケア、スキンケア、制汗剤、日焼け止め剤、化粧料、着色化粧料、防虫剤、ビタミン及びホルモンキャリア、芳香剤キャリアなどの配合物にブレンドすることが可能である。
【００２９】
本発明の上記ジシロキサン及びこれらから誘導されるシリコーン組成物が利用され得るパーソナルケア用途として、防臭剤、制汗剤、制汗剤／防臭剤、剃毛製品、スキンローション、保湿剤、トナー、入浴関連製品、洗浄製品、シャンプー、コンディショナー、ムース、スタイリングジェル、ヘアスプレー、毛髪染剤、ヘアカラー製品、毛髪漂白剤、ウェーブ用製品、直毛化剤などのヘアケア製品、ネイルエナメル、ネイルエナメルリムーバー、ネイルクリーム及びローション、甘皮軟化剤などのマニキュア製品、日焼け止め剤、防虫剤及び老化防止製品などの保護クリーム、口紅、ファンデーション、おしろい、アイライナー、アイシャドウ、頬紅、メーキャップ品、マスカラなどの着色化粧料、並びに、従来からシリコーン成分が添加されているその他パーソナルケア配合物、加えて、皮膚に適用される医薬品組成物の局所適用薬物送達システムが挙げられるが、これらに限定されない。
【００３０】
好ましい実施形態では、本発明のパーソナルケア組成物は、１つ以上のパーソナルケア成分を更に含む。好適なパーソナルケア成分として、例えば、皮膚軟化剤、保湿剤、湿潤剤、真珠光沢顔料を含む顔料、例えば、オキシ塩化ビスマス及び二酸化チタン被覆雲母、着色剤、芳香剤、殺生物剤、防腐剤、酸化防止剤、抗菌剤、抗真菌剤、制汗剤、剥離剤、ホルモン、酵素、医薬品化合物、ビタミン、塩、電解質、アルコール、ポリオール、紫外線吸収剤、植物抽出物、界面活性剤、シリコーンオイル、有機油、ワックス、被膜形成剤、例えば、ヒュームドシリカ又は水酸化ケイ素などの増粘剤、例えば、タルク、カオリン、デンプン、化工デンプン、雲母、ナイロンなどの粒子充填剤、例えば、ベントナイト及び有機変性粘土などの粘土が挙げられる。
【００３１】
好適なパーソナルケア組成物は、例えば、１つ以上の上記構成成分をジシロキサンと混合するなど、当該技術分野において既知の方法を組み合わせることによって調製される。好適なパーソナルケア組成物は、単一相形態、又は、シリコーン相が非連続相若しくは連続相のいずれかであってよい、水中油型、油中水型、及び無水エマルションなど、並びに、例えば、油中水中油型エマルション及び水中油中水型エマルションなどの多重エマルションのエマルション形態であってよい。
【００３２】
上記ジシロキサンを含有する処理されたワックス、光沢剤、及び織物などの他の製品も意図され、例えば、洗濯用洗剤及び布地柔軟剤、食器洗浄液、木材及び家具光沢剤、床光沢剤、浴槽及びタイルクリーナー、便器クリーナー、硬質表面クリーナー、窓クリーナー、防曇剤、排水管クリーナー、食洗機用洗剤及び食洗機用リンス剤、カーペットクリーナー、予備洗浄染み抜き剤、錆クリーナー、並びに水あかリムーバーにおける、ホームケア用途などである。
【００３３】
しかしながら、上述したように本願は、上記ジシロキサンが、未希釈、すなわち希釈されていないか、好適な溶媒との組成物かのいずれかで、セメント又は下塗りなどのドライミックスに液体形態で添加される、建設業におけるドライミックス用添加剤としての使用を特に目的とする。あるいは、ジシロキサンは、疎水化剤または他の添加剤を、セメントまたは下塗りなどのドライミックスへ導入するために利用されるエマルション中の界面活性剤として使用できる。ジシロキサンは、疎水化剤として産業的に利用される疎水化剤のための湿潤剤として特に有用であろう。かかるドライミックスにおいて使用できる疎水化剤として、例えば、アンモニア、アルカリ金属、アルカリ土類金属、若しくは遷移金属のパルミチン酸塩、ステアリン酸塩、若しくはオレイン酸塩、又はこれらの混合物が挙げられ、亜鉛、鉄、銅、バリウム、カルシウム、マグネシウム、リチウム、ナトリウム、カリウム、アルミニウム、及びアンモニアの、パルミチン酸塩、ステアリン酸塩、又はオレイン酸塩から選択されてよく、好ましくは、ステアリン酸アンモニウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウム、ステアリン酸亜鉛、トリステアリン酸アルミニウム、ジステアリン酸アルミニウム、モノステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸銅、オレイン酸ナトリウム、及びオレイン酸カリウム、オレイン酸カルシウム、及びオレイン酸亜鉛から選択される。最も好ましくは、塩は、ステアリン酸亜鉛又はステアリン酸カルシウムである。固まったセメント系材料中に残留するアルカリ金属カチオンが、内部で白華を引き起こすことが知られていることから、最も好ましくないステアリン酸金属は、ステアリン酸アルカリ金属である。
【００３４】
ステアリン酸塩の意味とは、全アニオンがステアレートアニオンである１００％ステアリン酸塩から、どちらかといえば実質的にステアリン酸及びパルミチン酸の塩の混合物である市販のステアリン酸までの、任意のものであると理解されるであろう。
【００３５】
かかる疎水化剤を含有するドライミックス中への上記ジシロキサンの導入とは、セメント又はモルタルなどの調製のためにドライミックスに水が導入されるとき、ジシロキサンが湿潤剤として作用することであるが、一旦加水分解されると、ジシロキサンは、得られるコンクリートなどの疎水性を向上させるために他の疎水化剤を補足（compliment）する能力を有する。上述は、例えば、水がセメント系ドライミックス組成物に導入される場合であるが、しかしながらこの場合、本明細書に記載のジシロキサンの加水分解生成物のうち少なくとも１つが疎水性であり、それによって、湿潤剤の一部としての機能後に分解した後に、セメント系混合物の疎水化に肯定的な効果を有するという追加の利点を有する。
【００３６】
本発明の第２の態様によるセメント系材料も、追加成分を含み得る。これら追加成分として、砂、充填剤、並びにセメント系材料に従来から見出されるその他材料、例えば石灰、骨材、速硬剤、空気連行剤、顔料、遅硬剤、及びポゾラン材を挙げることができる。好ましくは、セメント系材料は、セメント、コンクリート、モルタル、又はグラウトなどである。
【００３７】
水がドライミックス中に導入されると、ジシロキサンは、最初は湿潤剤として機能するが、セメント系材料の環境が塩基性であるため、本明細書に記載する顆粒状粒子を含むセメント質組成物内に水が導入されると開始される加水分解反応によって、徐々に分解する。しかしながら、本開示によると、得られる分解生成物の少なくとも一部は疎水性であり、そのため、湿潤剤の一部として機能した後、その分解に続いて、セメント質混合物の疎水化において肯定的な効果を有する。
【００３８】
それぞれの場合において、上記疎水性分解生成物は、水の添加前にセメント系材料中の顆粒状添加剤に存在したジシロキサン（Ｃ）が、分解後にわずかに存在することによって、得られるコンクリート又は類似材料の疎水性を向上する。
【００３９】
本発明の第３の態様では、セメント系材料中に上記ジシロキサンを混合することによる、セメント系材料に疎水性を付与するプロセスが提供される。混合は、機械的手段、又は当該技術分野において既知の任意の他の適当な方法によって実施されてよい。
【００４０】
更なる実施形態では、上記用途において説明されるジシロキサンの、湿潤剤、界面活性剤及び／又は疎水化剤としての使用が提供される。
【００４１】
ここで、一連の実施例を以下に示す。上記ジシロキサンが使用できる用途の例に続いて、ジシロキサンの調製方法について示す一連の調製法を記載する。使用されるとき、Ｍｅはメチル基である。
【実施例】
【００４２】
調製実施例１：式２ｂの調製
【化１７】
2015536333.tif 000019
【００４３】
（ｉ）ジフェニルジシロキサンの２段階合成
【化１８】
2015536333.tif 000020
ジフェニルジシロキサン
【００４４】
（ｉｉ）部分Ａ
２Ｌのフラスコに、８４．９７ｇのＮａＨＣＯ３（１モル）と７９５ｇの脱イオン水を加えた。この内容物を攪拌して重炭酸ナトリウムを溶解し、その後２１５．２ｇの（Ｐｈ）２ＭｅＳｉＣｌ、ＦＷ  ２３２．５、０．９２モルを加えた。この内容物を周囲温度で一晩攪拌し、その後２７３ｇの脱イオン水を加えた。底部相のＧＣ／ＦＩＤ面積％解析によって、８７％の（Ｐｈ）２ＭｅＳｉＯＨと６．５％のジシロキサンが示された。ほとんどの水層をデカンテーションした後、残存内容物を分液漏斗に移してペンタンで洗浄し、脱イオン水で数回洗浄した。有機層をフラスコに移して、大気圧、容器温度８０℃までストリッピングした。
【００４５】
（ｉｉｉ）部分Ｂ
部分Ａよりストリッピングした（Ｐｈ）２ＭｅＳｉＯＨ生成物と、２１０．６ｇのテトラメチルジシロキサン及びトリフルオロメタンスルホン酸触媒（２滴）を、２Ｌのフラスコに投入した。内容物を４時間還流し、その後冷却して、２．０ｇのＣａＣＯ３を加えた。内容物を５μｍの膜を通して濾過し、７８〜８０℃、圧力０．３９ｋＰａ（３トル（３９９．９Ｎｍ−２））で濾液を塔頂から留出して、７３．６ｇ、全収率２９％、ＧＣ／ＦＩＤ面積％による純度９５％が得られた。（Ｐｈ）２ＭｅＳｉＯＳｉ（Ｍｅ）２Ｈは、融点４２〜４３℃、ＧＣ／ＭＳ−ＥＩ、ｍ／ｚ（％相対存在量）：８９（６）、１２１（６）、１３５（１５）、１６５（６）、１７９（ｂａｓｅ）、１８０（２０）、１８１（１２）、１９３（１４）、１９４（３１）、１９５（２２）、１９６（６）、１９７（７）、２４１（７）、２５７（８１）、２５８（２１）、２５９（８）、２７２（Ｍ＋，７．８）を特徴とした。
【００４６】
（ｉｖ）アリルＥＯ７ＯＨによるジフェニルジシロキサンの反応
上記は、ジフェニルジシロキサン＋アリルＥＯ７ＯＨ末端保護化ポリエーテルのヒドロシリル化反応によって実施した。この反応はバッチ反応とした。Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒（１０ｐｐｍ  Ｐｔ）の初期アリコート後に反応はなかったが、引き続いてＫａｒｓｔｅｄｔ触媒を加えると（１０ｐｐｍ）、発熱反応が起こり、温度が７０℃から１３３℃に上昇した。その後、この反応をＦＴＩＲによってＳｉ−Ｈについて確認し、ゼロであることがわかった。
【００４７】
調製実施例２：式８の調製
【化１９】
2015536333.tif 000021
【００４８】
（ｉ）ｎ−オクチルジシロキサンの合成
【化２０】
2015536333.tif 000022
【００４９】
ｎ−オクチル（Ｍｅ）２Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ（Ｍｅ）２−Ｈの化学構造
５００ｍＬの三つ口フラスコに、温度計／サーモウォッチ／Ｎ２ヘッドスペースパージ、電磁攪拌棒、加熱マントル、１４７．２２ｇの１−オクテンを含む添加漏斗、及びＣａＳＯ４を充填した乾燥管を有する水冷還流凝縮器を備えた。このフラスコに、１６１．９３ｇのテトラメチルジシロキサンを投入して７０℃に加熱し、その後少量の１−オクテン、続いて４滴（０．０５ｇ、３７ｐｐｍ  Ｐｔ）のＫａｒｓｔｅｄｔ触媒を添加した。オレフィン添加率を使用して、加熱マントルを外した状態で容器温度を制御した。オレフィン添加完了後、加熱マントルを用いて、容器温度７０℃に維持し、アリコート２回分（４滴及び６滴）Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒を添加して、ヒドロシリル化を完了させた。ジャケット付きビグリュー（Vigeraux）カラムを１回用いて生成物を蒸留し、生成物の留分を塔頂温度６２〜７０℃、０．３９ｋＰａ（３トル（３９９．９Ｎｍ−２））で回収した。ｎ−オクチル（Ｍｅ）２Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ（Ｍｅ）２−Ｈは、ＧＣ／ＭＳ−ＥＩ、ｍ／ｚ（％相対存在量）：７３（７）、１１９（２８）、１３３（ｂａｓｅ）、１３４（１５）、１３５（８）、２３１（１２）を特徴とした。
【００５０】
（ｉｉ）アリルＥＯ７ＯＨによるｎ−オクチル（Ｍｅ）２Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ（Ｍｅ）２−Ｈのヒドロシリル化
この反応はバッチプロセスで行った。この反応は、６ｐｐｍのＫａｒｓｔｅｄｔ触媒によって６０℃において触媒され、この反応は発熱性であって、温度が１２０℃に上昇した。１時間後、この反応をＦＴＩＲによって確認し、Ｓｉ−Ｈは０ｐｐｍであった。
【００５１】
調製実施例３：式４の調製
（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれメチルである）
【化２１】
2015536333.tif 000023
（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれメチルである）
【００５２】
（ｉ）ジイソブチレンテトラメチルジシロキサンの合成
【化２２】
2015536333.tif 000024
【００５３】
ジイソブチレンジシロキサンの化学構造
１Ｌの三つ口フラスコに、温度計／サーモウォッチ／Ｎ２ヘッドスペースパージ、電磁攪拌棒、加熱マントル、及びＣａＳＯ４を充填した乾燥管を有する水冷還流凝縮器を備えた。このフラスコに、２６７．６８ｇのテトラメチルジシロキサン（２モル）、１１９．５２ｇのジイソブチレン（２，４，４−トリメチル−１−ペンテン：２，４，４−トリメチル−２−ペンテンの３：１混合物、末端異性体のみがシロキサンＳｉＨと反応するため、〜０．８モルが潜在的な反応性異性体である）、及び０．７９ｇのヒドロシリル化触媒（１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサンとのＰｔ錯体、〜２４％  Ｐｔ）を投入した。自発的な発熱によって、内容物の温度が２６℃まで上昇した。内容物を設定値である７７℃まで加熱し、アリコート２回分の追加の触媒（０．４５ｇ及び０．７２ｇ）を加えて、２，４，４−トリメチル−１−ペンテンの消費を促進した。粗生成物を頂部のみでストリッピングすると、わずか７７％の面積純度（ＧＣ／ＦＩＤ）である所望の生成物を生じた（２１６．７ｇ）。この分留を、０．６７ｋＰａ（５トル）、５７〜５８℃でビグリューカラムを１回通して再度蒸留し、１６２．４ｇを得た（収率６６％）。この生成物は、ＧＣ／ＭＳ−ＥＩ、ｍ／ｚ（％相対存在量）：７３（９％）、１１９（２２）、１３３（ｂａｓｅ）、１３４（１６）、１７５（１６）、２３１（６）、２４６（Ｍ＋，０．０６）を特徴とした。
【００５４】
（ｉｉ）アリルＥＯ７ＯＨによるジイソブチレンジシロキサンのヒドロシリル化
アリルＥＯ７ＯＨを、温度を１００℃未満に維持しているジイソブチレンジシロキサンに計量しながら供給した。最初のＫａｒｓｔｅｄｔ触媒添加（４ｐｐｍ）に続いて１時間保持した後、１００ｐｐｍのＳｉ−Ｈが残存し、反応率９３％を示した。この反応を、更に１ｐｐｍのＫａｒｓｔｅｄｔ触媒と、更に１０重量％のアリルＥＯ７ＯＨとによって再触媒させた。更に４時間後、Ｓｉ−Ｈレベルは２０ｐｐｍまで減少した（反応率９８．６％）。この点で、完全に反応したと見なした。Ｓｉ２９  ＮＭＲによる生成物純度は９７％である。
【００５５】
調製実施例４：式６の調製
（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれメチルである）
【化２３】
2015536333.tif 000025
【００５６】
（ｉ）調製実施例３（ｉ）に示されるジイソブチレンテトラメチルジシロキサンの合成。
（ｉｉ）アリルＥＯ１０ＰＯ４ＯＨによるジイソブチレンジシロキサンのヒドロシリル化
【００５７】
この反応は、両化合物が反応フラスコ中にある、バッチプロセスを用いて実施した。フラスコを最大７０℃に加熱し、Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒（４ｐｐｍ）で触媒させた。発熱反応により、温度が７０℃から１１０℃まで上昇した。この反応は、１時間後に完了し、ＦＴＩＲによって視認できるＳｉ−Ｈはなかった。Ｓｉ２９  ＮＭＲによる生成物純度は９８％である。
【００５８】
【表１】
2015536333.tif 000026
【００５９】
全てのメチルトリシロキサン及びジシロキサンは、ｐＨ  １２かつ室温においても、非常に速い分解を受ける。上記ジシロキサンは、加水分解に対する抵抗性の増大を示すが、依然として塩基性条件下で分解する。しかしながら、これらは分解によって疎水性を呈するだけではなく、加水分解されると、かかるジシロキサンは、それ自身がある程度の界面活性（表面張力４０ｍＮ／Ｍ）を示すシラノールの生成に至る。これは、分解生成物であっても、依然として界面活性剤として有効であることを意味する。
【００６０】
ここで、本発明のジシロキサンの使用について説明する多くの実施例を以下に示すが、これらは本発明の範囲を制限すると解釈されない。実施例中の全ての部及び百分率は重量ベースであり、全ての測定値は、それとは異なると記載されないかぎり、室温（典型的には、２０℃±１〜２℃）で得られたものである。
【００６１】
（実施例１）
１０８ｇの、０〜２ｍｍのグラニュロメトリーの乾燥した砂、３６ｇのセメント（ＣＥＭ  ＩＩ  ３２．５Ｎ）を、１分間ブレンドする。続いて、１９ｇの混合水及び０．３７３ｇの上記表１の式２ｂのジシロキサンを添加する。続いて、得られたスラリーを、予め作製した６０×６０×２０ｍｍの試験片型内に注ぐ。この型を振動台に３分間置き、その後、相対湿度１００％の密閉容器内に入れる。２４時間後、試験モルタルブロックを型から外し、温度２５℃、相対湿度１００％のチャンバ内で、７日間硬化させる。硬化７日後、モルタルブロックを、５０℃のオーブン内で２４時間乾燥させる。
【００６２】
（実施例２）
１０８ｇの、０〜２ｍｍのグラニュロメトリーの乾燥した砂、３６ｇのセメント（ＣＥＭ  ＩＩ  ３２．５Ｎ）を、１分間ブレンドする。続いて、１９ｇの混合水と、０．３６７ｇの上記表１の式８のジシロキサンを添加する。続いて、得られたスラリーを、予め作製した６０×６０×２０ｍｍの試験片型内に注ぐ。この型を振動台に３分間置き、その後、相対湿度１００％の密閉容器内に入れる。２４時間後、試験モルタルブロックを型から外し、温度２５℃、相対湿度１００％のチャンバ内で、７日間硬化させる。硬化７日後、モルタルブロックを、５０℃のオーブン内で２４時間乾燥させる。
【００６３】
（実施例３）
１０８ｇの、０〜２ｍｍのグラニュロメトリーの乾燥した砂、３６ｇのセメント（ＣＥＭ  ＩＩ  ３２．５Ｎ）を、１分間ブレンドする。続いて、１９ｇの混合水と０．３６０ｇのジシロキサン４（式中、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれメチルである）を添加する。続いて、得られたスラリーを、予め作製した６０×６０×２０ｍｍの試験片型内に注ぐ。この型を振動台に３分間置き、その後、相対湿度１００％の密閉容器内に入れる。２４時間後、試験モルタルブロックを型から外し、温度２５℃、相対湿度１００％のチャンバ内で、７日間硬化させる。硬化７日後、モルタルブロックを、５０℃のオーブン内で２４時間乾燥させる。
【００６４】
参照実施例４ａ、４ｂ及び４ｃ
３つの同じ参照サンプルを比較して試験し、全ての測定結果を以下の表２に示す。１０８ｇの、０〜２ｍｍのグラニュロメトリーの乾燥した砂、３６ｇのセメント（ＣＥＭ  ＩＩ  ３２．５Ｎ）を、１分間ブレンドする。続いて、１９ｇの混合水を加える。続いて、得られたスラリーを、予め作製した６０×６０×２０ｍｍの試験片型内に注ぐ。この型を振動台に３分間置き、その後、相対湿度１００％の密閉容器内に入れる。２４時間後、試験モルタルブロックを型から外し、温度２５℃、相対湿度１００％のチャンバ内で、７日間硬化させる。硬化７日後、モルタルブロックを、５０℃のオーブン内で２４時間乾燥させる。
【００６５】
得られたモルタルブロックを、吸水率及び水排除率の両方について試験し、その結果を以下の表２に示す。試験方法は以下の通りとした。
【００６６】
最初に、乾燥したモルタルブロックを秤量した（Ｗｄｒｙ）。試験装置は、底面に合成スポンジを置いたプラスチック製のたらいとした。次に、水面がスポンジの上面より１ｍｍ上になるように、このたらいに水を満たした。あらゆる水分損失を補うために、水面を一定に維持した。続いて、乾燥ブロックを浸漬したスポンジ上に置いた。これによって、ブロックの下面が水面より１ｍｍ下の深さにあること、モルタルブロックの底が常に濡れていることの両方を確実にする。ブロックの残りの部分は水面上に突き出ていた。実験時間中に、毛管現象による吸水が起こることがある。たらいを（蓋で）閉じ、水の蒸発を防ぐ。モルタルブロックを、１時間水に接触したままにした。１時間後、各モルタルブロックを布で拭いて表面から過剰な水を除き、その後、再度秤量した（Ｗｗｅｔ）。続いて、ブロックをスポンジ上に戻して更に２時間（すなわち、合計３時間）置き、再度秤量した。その後、上記と同じ作業を浸漬時間が６時間に達するまで再び行う。吸水率及び水排除率の値は、以下の式を用いて計算した。
吸水率（ＷＵ％）＝（Ｗｗｅｔ−Ｗｄｒｙ）×１００／Ｗｄｒｙ
水排除率（ＷＥ％）＝（ＷＵｔｒｅａｔｅｄ−ＷＵｒｅｆｅｒｅｎｃｅ）×１００／ＷＵｒｅｆｅｒｅｎｃｅ
【００６７】
【表２】
2015536333.tif 000027
【００６８】
本発明によるジシロキサンを含有するモルタルブロックの吸水率は、モルタルブロックの吸水率が参照と比較して低いことから、対照と比較して顕著に初期疎水性を向上した。
【００６９】
この表は、異なるジシロキサンで変性されたモルタルブロックの吸水率を示す。低い吸水率値（吸水率＜９％）は、本発明に従って調製したジシロキサンによってのみ得られたことが理解される。
【国際調査報告】
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