(57)【要約】  本発明は、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光影響光学配置に関する。本発明の開示の態様により、偏光影響光学配置は、光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第１の部分要素（１１１、３１１、４１１）及び光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第２の部分要素（１１２、３１２、４１２）を含む第１のリターデーション要素（１１０、３１０、４１０）と、光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第３の部分要素（１２１、３２１、４２１）及び光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第４の部分要素（１２２、３２２、４２２）を含む第２のリターデーション要素（１２０、３２０、４２０）とを含み、偏光影響光学配置（１００、３００、４００）の少なくとも１つの構成において、第１のリターデーション要素（１１０、３１０、４１０）の偏光影響効果は、第１の複屈折速軸を有する第１のλ／２板の効果に対応し、第２のリターデーション要素（１２０、３２０、４２０）の偏光影響効果は、第２の複屈折速軸を有する第２のλ／２板の効果に対応し、第１の速軸と第２の速軸の間の角度は、４５°±５°である。【選択図】図１ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
特にマイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光影響光学配置であって、
光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第１の部分要素（１１１、３１１、４１１）及び光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第２の部分要素（１１２、３１２、４１２）を含む第１のリターデーション要素（１１０、３１０、４１０）と、
光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第３の部分要素（１２１、３２１、４２１）及び光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第４の部分要素（１２２、３２２、４２２）を含む第２のリターデーション要素（１２０、３２０、４２０）と、
を含み、
偏光影響光学配置（１００、３００、４００）の少なくとも１つの構成において、前記第１のリターデーション要素（１１０、３１０、４１０）の偏光影響効果が、第１の複屈折速軸を有する第１のλ／２板の効果に対応し、前記第２のリターデーション要素（１２０、３２０、４２０）の偏光影響効果が、第２の複屈折速軸を有する第２のλ／２板の効果に対応し、該第１の速軸と該第２の速軸の間の角度が、４５°±５°である、
ことを特徴とする偏光影響光学配置。
【請求項２】
前記リターデーション要素（１１０、１２０、３１０、３２０、４１０、４２０）のうちの少なくとも１つにおいて、それぞれの前記部分要素（１１１、１１２、１２１、１２２、３１１、３１２、３２１、３２２、４１１、４１２、４２１、４２２）は、互いに垂直な光結晶軸を有することを特徴とする請求項１に記載の偏光影響光学配置。
【請求項３】
前記リターデーション要素（１１０、１２０、３１０、３２０、４１０、４２０）のうちの少なくとも１つにおいて、それぞれの前記部分要素は、互いに直接に接触して配置されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の偏光影響光学配置。
【請求項４】
前記リターデーション要素（１１０、１２０、３１０、３２０、４１０、４２０）は、互いに直接に接触して配置されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の偏光影響光学配置。
【請求項５】
前記光学的ポジティブ単軸結晶材料は、結晶石英（ＳｉＯ2）及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）を含む群から選択されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の偏光影響光学配置。
【請求項６】
前記光学的ネガティブ単軸結晶材料は、サファイア（Ａｌ2Ｏ3）及びフッ化ランタン（ＬａＦ3）を含む群から選択されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の偏光影響光学配置。
【請求項７】
連続する部分要素の間の屈折率整合のための少なくとも１つの中間層を含むことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の偏光影響光学配置。
【請求項８】
前記リターデーション要素のうちの少なくとも１つが、第１及び第２及び／又は第３及び第４の部分要素の格子型配置を含むことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の偏光影響光学配置。
【請求項９】
特にマイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光影響光学配置（２００、６１０、６２０、６３０、７１０、７２０、８１０、８２０）であって、
リターデーション要素（６１１〜６１３、６２１〜６２６、６３１〜６３６）の格子型配置、
を含み、
各リターデーション要素が、各場合に、光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる第１の部分要素（２１１ａ、２１１ｂ、２１１ｃ，．．．）及び光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる第２の部分要素（２１２ａ、２１２ｂ、２１２ｃ，．．．）を含む、
ことを特徴とする偏光影響光学配置。
【請求項１０】
前記リターデーション要素（６１１〜６１３、６２１〜６２６、６３１〜６３６）のうちの少なくとも１つにおいて、それぞれの前記部分要素（２１１ａ、２１２ａ、２１１ｂ、２１２ｂ、２１１ｃ、２１２ｃ，．．．）は、互いに垂直な光結晶軸を有することを特徴とする請求項９に記載の偏光影響光学配置。
【請求項１１】
各場合に互いに対して異なるリターデーション要素の前記第１の部分要素（２１１ａ、２１１ｂ、２１１ｃ，．．．）及び／又は各場合に互いに対して異なるリターデーション要素の前記第２の部分要素（２１２ａ、２１２ｂ、２１２ｃ．．．）は、光結晶軸の少なくとも部分的に異なる向きを有することを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の偏光影響光学配置。
【請求項１２】
前記格子型配置は、直交格子型配置であることを特徴とする請求項９から請求項１１のいずれか１項に記載の偏光影響光学配置（２００）。
【請求項１３】
前記格子型配置は、非直交格子型配置であることを特徴とする請求項９から請求項１１のいずれか１項に記載の偏光影響光学配置（６１０、６２０、６３０、７１０、７２０、８１０、８２０）。
【請求項１４】
前記リターデーション要素（３１０、３２０）のうちの少なくとも１つにおいて、それぞれの前記部分要素（３１１、３１２、３２１、３２２）は、互いに対して変位可能な２つの楔要素（３１１ａ、３１１ｂ、３１２ａ、３１２ｂ、３２１ａ、３２１ｂ、３２２ａ、３２２ｂ）からなる二重楔配置として具現化されることを特徴とする請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の偏光影響光学配置（３００）。
【請求項１５】
前記リターデーション要素（４１０、４２０）のうちの少なくとも１つにおいて、それぞれの前記部分要素（４１１、４１２、４２１、４２２）は、光弾性変調器として具現化されることを特徴とする請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の偏光影響光学配置（４００）。
【請求項１６】
マイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
照明デバイスと、
投影レンズと、
を含み、
前記照明デバイス（５１０）は、投影露光装置（５００）の作動中に、結像される構造を含んで前記投影レンズ（５３０）の物体平面に配置されたマスク（１２５）を照明し、
前記投影レンズ（１３０）は、前記物体平面を像平面上に結像し、請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の少なくとも１つの偏光影響光学配置を含む、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項１７】
前記リターデーション要素（１１０、１２０、３１０、３２０、４１０、４２０）は、光学系軸（ＯＡ）に沿って直接に連続して配置されることを特徴とする請求項１６に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項１８】
前記偏光影響光学配置は、投影露光装置（５００）の瞳平面の外側に配置されることを特徴とする請求項１６又は請求項１７に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項１９】
前記偏光影響光学配置は、光伝播方向に第１の瞳平面（ＰＰ１）に続く投影露光装置（５００）の瞳平面に配置されることを特徴とする請求項１６又は請求項１７に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項２０】
請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の少なくとも１つの偏光影響光学配置、
を含むことを特徴とするウェーハ検査装置。
【請求項２１】
微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ生産の方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に付加された基板（５４０）を与える段階と、
結像される構造を含むマスク（５２５）を与える段階と、
請求項１６から請求項１９のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置（５００）を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスク（５２５）の少なくとも一部を前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
〔関連出願への相互参照〕
本出願は、２０１２年１月１２日出願のドイツ特許出願第１０  ２０１２  ２００  ３６８．１号に対する優先権を主張するものである。この出願の内容は、これにより引用によって組み込まれる。
【０００２】
本発明は、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光影響光学配置に関する。
【背景技術】
【０００３】
マイクロリソグラフィは、例えば、集積回路又はＬＣＤのような微細構造化構成要素を生成するのに使用される。マイクロリソグラフィ処理は、照明デバイス及び投影レンズを含むいわゆる投影露光装置において実施される。この場合に、マスク構造を基板の感光コーティングに転写するために、照明デバイスを用いて照明されるマスク（＝レチクル）の像は、感光層（フォトレジスト）で被覆されて投影レンズの像平面に配置された基板（例えば、シリコンウェーハ）上に投影レンズを用いて投影される。
【０００４】
結像コントラストを最適化するために、照明デバイスにおいて瞳平面内及び／又はレチクル内に特定の偏光分布をターゲット方式で設定するための様々な手法は公知である。特に、照明デバイスと投影レンズの両方において、高コントラスト結像のためのタンジェンシャル偏光分布を設定することは公知である。「タンジェンシャル偏光」（又は「ＴＥ偏光」）は、個々の直線偏光光線の電界強度ベクトルの振動平面が、光学系軸に向く半径に対してほぼ直角に向けられた偏光分布を意味すると理解される。それとは対照的に、「半径方向偏光」（又は「ＴＭ偏光」）は、個々の直線偏光光線の電界強度ベクトルの振動平面が、光学系軸に関してほぼ半径方向に向けられた偏光分布を意味すると理解される。
【０００５】
特に、照明デバイス又は投影レンズの瞳平面内又はその近くにおける直線複屈折又は円複屈折の使用に基づいて、対応する偏光影響要素又は配置を配置することは公知である。
【０００６】
従来技術に関しては、一例として、ＷＯ  ２００５／０６９０８１  Ａ２、ＷＯ  ２００５／０３１４６７  Ａ２、ＤＥ  １０１  ２４  ５６６  Ａ１、又はＷＯ  ２００６／０７７８４９  Ａ１を参照されたい。
【０００７】
しかし、実際の使用状況に基づいて、配置の偏光影響要素によって与えられるリターデーションが（直線又は円）複屈折材料内の電磁放射線の伝播方向、従って、偏光影響要素又は配置上への電磁放射線の入射角に依存するという問題が発生する可能性がある。この関連における従来技術に関しては、一例として、ＤＥ  １０  ２００７  ０５９  ２５８  Ａ１を参照されたい。
【０００８】
電磁放射線の異なる入射角は、特に、対応する偏光影響要素又は配置が、照明デバイスの光伝播方向に第１の瞳平面（光線が依然として平行に通過する瞳平面）内に使用されず、例えば、偏光影響要素又は配置を通過する光線の角度分布が存在する下流の平面内（例えば、照明デバイスの下流瞳平面内、そうでなければ投影レンズの瞳平面内）に位置決めされる場合に発生する可能性がある。
【０００９】
偏光影響要素又は配置をマイクロリソグラフィ投影露光装置内に使用する際に発生する更に別の問題は、これらの要素又は配置の偏光影響効果が、一般的に、これらの要素又は配置を通過する電磁放射線の偏光状態に依存することであり、異なる照明設定が、例えば、光伝播方向に第１の瞳平面内での用途に依存して設定される可能性がある。
【００１０】
偏光影響要素を通過する光線の異なる伝播方向又は角度、及び異なる入力偏光の上述の状況は、例えば、３Ｄマスク効果の補償又は最小化、又は例えば照明デバイスにおけるリターデーション又はｓｐ分割のターゲットを定めた最小化などのためにＴＭ偏光分布又は半径方向偏光分布を有する照明設定が設定され（ＴＥ偏光分布又はタンジェンシャル偏光分布を有する実際に望ましい照明設定の代わりに）、かつビーム経路の更に別の進路（例えば、マスクの下流の）において実際に望ましいＴＥ偏光分布に変換することが意図される場合に発生する可能性がある。別の可能なシナリオは、寿命によって誘起される複屈折効果の補償である。
【００１１】
更に、一般的に、投影露光装置において、ターゲット方式で設定された可能性がある最初に存在する偏光状態が、偏光影響効果による影響（例えば、例えばレンズ要素のような光学構成要素の材料内のマウント構成要素により誘起される応力複屈折、誘電体層の影響、光学構成要素の材料内の内在性複屈折等）を受ける可能性があり、望ましい出力偏光分布の生成が、偏光影響要素又は配置によって得られる効果の上述の偏光依存性によって更に困難にされることも可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】ＷＯ  ２００５／０６９０８１  Ａ２
【特許文献２】ＷＯ  ２００５／０３１４６７  Ａ２
【特許文献３】ＤＥ  １０１  ２４  ５６６  Ａ１
【特許文献４】ＷＯ  ２００６／０７７８４９  Ａ１
【特許文献５】ＤＥ  １０  ２００７  ０５９  ２５８  Ａ１
【特許文献６】ＵＳ  ５，８８６，８１０  Ａ１
【特許文献７】ＵＳ  ５，７４４，７２１  Ａ１
【特許文献８】ＵＳ  ２００５／０２４３２２２  Ａ１
【特許文献９】ＵＳ  ２００５／００９４２６８  Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
上述の背景に対して、本発明の目的は、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置において偏光影響光学配置を提供することであり、その手段によって、偏光の設定は、互いに平行ではない光線に対しても、同じく入力偏光方向とは独立に実現することができる。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
この目的は、独立請求項の特徴を用いて達成される。
【００１５】
本発明の開示の態様により、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光影響光学配置は、光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第１の部分要素と光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第２の部分要素とを含む第１のリターデーション要素と、光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第３の部分要素と光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる少なくとも１つの第４の部分要素とを含む第２のリターデーション要素とを含み、偏光影響光学配置の少なくとも１つの構成において、第１のリターデーション要素の偏光影響効果は、第１の複屈折速軸を有する第１のλ／２板の効果に対応し、第２のリターデーション要素の偏光影響効果は、第２の複屈折速軸を有する第２のλ／２板の効果に対応し、第１の速軸と第２の速軸の間の角度は、４５°±５°である。
【００１６】
以下では、従来の術語に従って、光学的ポジティブ単軸結晶材料（光学的ポジティブ特性の複屈折材料とも呼ぶ）は、異常屈折率ｎeが正常屈折率数よりも大きい光学的単軸結晶材料を意味すると理解される。相応に、光学的ネガティブ単軸結晶材料（光学的ネガティブ特性の複屈折材料とも呼ぶ）は、異常屈折率ｎeが正常屈折率数よりも小さい光学的単軸結晶材料を意味すると理解される。
【００１７】
上述の態様により、本発明の開示は、特に、反対の光学特性を有する光学的単軸結晶材料の組合せ（すなわち、光学的ポジティブ単軸結晶材料と光学的ネガティブ単軸結晶材料の組合せ）を互いに対してほぼ４５°の角度にある２つの複屈折速軸の向きを有するように組み合わせて、このようにして第１に偏光影響光学配置を通過する光線の角度分布に関して、かつ第２にこの配置上に入射する光線の（入力）偏光方向に関しても、偏光影響光学配置によって得られる効果の非依存性を獲得するという概念に基づいている。
【００１８】
本発明は、特に、光線が互いに対して全て平行であるわけではなく、角度分布を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置の平面内で、配置上に入射する光線の入射角に依存せず、更にその（入力）偏光方向にも依存しない偏光設定を実施することを可能にする。特に、偏光は、瞳平面に対応しないか、又はそうでなければ光伝播方向に視野発生光学要素の下流に配置され、従って、光が様々な角度で通過する瞳平面を構成するかのそのいずれかの平面において入射角に依存せずに設定することができる。
【００１９】
「偏光影響光学配置の少なくとも１つの構成において」第１及び第２のリターデーション要素の偏光影響効果が、速軸の間に４５°±５°の角度を有する第１及び第２のλ／２板の効果にそれぞれ対応するという言い回しは、言及した角度基準を満たすこれらの速軸の固定の設定を有する配置と共に、以下により詳細に説明するように、対応する速軸を可変方式で設定することができ、この場合に、速軸の間の角度が固定的に設定されず、言及した角度基準をこの変動性（構成又は設定における）を用いてもたらすことができる実施形態も本発明が包含すると見なさなければならないことを表すように意図している。
【００２０】
更に、第１の速軸と第２の速軸の間の角度が４５°±５°であるという基準は、対応する軸の間の４５°の向きからのある一定のずれも許容可能であり、又は本発明によって包含されると見なされることを表している。
【００２１】
当然ながら、以下では、「第１の部分要素」、「第２の部分要素」のような表現は、各場合に、それぞれのリターデーション要素に属するこれらの部分要素の光伝播方向の順番が任意であるか又は可換であり、すなわち、例えば、光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる部分要素を光伝播方向に光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる部分要素の上流又は下流にこれに代えて配置することができるようなものであると理解される。
【００２２】
一実施形態により、リターデーション要素のうちの少なくとも１つにおいて、それぞれの部分要素は、互いに垂直な光結晶軸を有する。しかし、本発明は、これに限定されない。原理的に、本発明によるリターデーションの角度依存性を低減する効果は、本発明による偏光影響光学配置の１つの同じリターデーション要素の両側の部分要素内で互いに垂直な向きの光結晶軸の場合と互いに平行な向きの結晶軸の場合との両方において達成することができる。
【００２３】
互いに垂直な向きの結晶軸の場合には、リターデーションが、リターデーション要素の一方の部分要素においてリターデーション要素の傾斜角αの増大（法線入射の位置から始めて）と共に連続して減少し、それに対して他方の部分要素では傾斜角αの増大と共に連続して増大し、その結果、リターデーション要素の傾斜角に依存するリターデーションの小さい変化という意味での補償効果が得られるという状況が利用される。
【００２４】
互いに平行な向きの結晶軸の場合には、本発明は、リターデーション要素の傾斜の場合に、光学的に反対の特性を有する２つの結晶材料の異なる屈折率に起因して、入射光線が、高い平均屈折率を有する部分要素を低い平均屈折率を有する部分要素よりも垂直に対して依然として小さい角度で（すなわち、光の垂直通過に依然として「近寄る」位置で）通過するという状況を利用する。その結果、リターデーション要素の傾斜が増大する（又は偏光影響光学配置上への電磁放射線の入射角が増大する）場合には、低い平均屈折率を有する結晶材料内に大きい角度依存性が実質的に現れ、この場合に、両側の構成要素の厚みの適切な選択を用いて、低い平均屈折率を有する結晶材料からなる部分要素内に高い平均屈折率を有する結晶材料と比較してより大きいリターデーションを（すなわち、例えば、λ／２の合計リターデーションを得るために、石英からなる部分要素内に１＊λの絶対値を有するリターデーションを、更にサファイアからなる部分要素内に１．５＊λの絶対値を有するリターデーションを）設定することにより、この大きい角度依存性を望ましい補償効果を達成する目的に使用することができる。２つの構成要素の光学的に反対の特性と、ある一定値までの（すなわち、低屈折性結晶材料内の大きい角度依存性が、高屈折性結晶材料内の依存性を補償し過ぎない限り）構成要素の厚みとを併用することにより、リターデーション要素の傾斜角に依存するリターデーションの小さい変化という意味での補償効果を達成することが同じく可能である。
【００２５】
本発明に従って特に適切であり、かつマイクロリソグラフィにおいて典型的な２５０ｎｍよりも小さい作動波長に対して十分に透過性を有する光学的ポジティブ材料は、例えば、結晶石英（ＳｉＯ2）及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）である。本発明に従って特に適切な光学的ネガティブ材料は、例えば、サファイア（Ａｌ2Ｏ3）及びフッ化ランタン（ＬａＦ3）である。
【００２６】
本発明は、マイクロリソグラフィにおける２５０ｎｍよりも小さい作動波長の実現に限定されず、例えば、他の波長領域でも有利に実現することができる。更に別の用途は、特に、より長い波長領域で（例えば、約８５０ｎｍまでの波長で）欠陥に関するウェーハ検査を行うことができるウェーハ検査装置にもある。
【００２７】
一実施形態により、リターデーション要素のうちの少なくとも１つにおいて、それぞれの部分要素は、互いに直接に接触して配置される。更に、リターデーション要素は、互いに直接に接触して配置することができる。特に、部分要素及びリターデーション要素は、それぞれ、例えば捻合を用いて互いに光学的に継ぎ目なく接合することができる。
【００２８】
一実施形態により、偏光影響光学配置は、連続する部分要素の間の屈折率整合のための少なくとも１つの中間層を含み、その結果、配置の透過率を高めることができる。この場合に、一例として、マイクロリソグラフィにおいて慣例である典型的な反射防止（ＡＲ）コーティングは、中間層として適切である。
【００２９】
一実施形態により、リターデーション要素のうちの少なくとも１つは、第１及び第２の部分要素、及び／又は第３及び第４の部分要素の格子型配置を含む。この場合に、特に、同じ格子型配置の部分要素は、互いに異なる向きの光結晶軸を有することができる。
【００３０】
本発明は、更に、リターデーション要素の格子型配置を含む特にマイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光影響光学配置にも関し、各リターデーション要素は、各場合に、光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる第１の部分要素と、光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる第２の部分要素とを含む。このようにして、各場合に、配置から射出する光において望ましい偏光分布が設定されるように、リターデーション要素の有効速軸を設定することができ、この設定は、ここでも本発明の上述の態様における場合と同様に、反対の特性を有する光学的単軸結晶材料の組合せに起因して、角度に依存せずに（又は少なくとも低い角度依存性しか伴わずに）もたらすことができる。この場合に、特に、リターデーション要素のうちの少なくとも１つにおいて、それぞれの部分要素は、互いに垂直な光結晶軸を有することができる。
【００３１】
一実施形態により、上記格子型配置は、直交格子型配置である。
【００３２】
別の実施形態により、上記格子型配置は、非直交格子型配置である。
【００３３】
一実施形態により、リターデーション要素のうちの少なくとも１つにおいて、それぞれの部分要素は、互いに対して変位可能な２つの楔要素からなる二重楔配置として具現化される。その結果、動的に変更可能な偏光補正を提供することができるように、関連の楔要素の相対変位（楔方向に起こされる）によって対応する部分要素の厚みを設定することができる。
【００３４】
一実施形態により、リターデーション要素のうちの少なくとも１つにおいて、それぞれの部分要素は、光弾性変調器として具現化される。
【００３５】
この光弾性変調器（ＰＥＭ）は、音響振動を起こすＰＥＭの励振が、周期的に変化する機械応力、従って、時変リターデーションをもたらすように応力複屈折を示す材料から製造された光学構成要素である。この種の光弾性変調器（ＰＥＭ）は、従来技術において、例えば、ＵＳ  ５，８８６，８１０  Ａ１又はＵＳ  ５，７４４，７２１  Ａ１から公知であり、可視光からＶＵＶ範囲（約１３０ｎｍ）までの波長における使用に向けて、例えば、米国オレゴン州ヒルズボロのＨｉｎｄｓ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．によって生産及び販売されている。ＰＥＭの結晶材料は、一般的に、そこに取り付けられた圧電接点に印加される電圧を用いて振動を起こすようにされ、レーザのパルス周波数を例えばレーザパルスがＰＥＭ上に各場合に最大のリターデーションで入射するように印加電圧の周波数に同調させることができる。
【００３６】
光弾性変調器（ＰＥＭ）を有する本発明による偏光影響光学配置の構成は、ＰＥＭの圧電接点に存在する電圧を用いて、有効光学的ポジティブ単軸結晶材料と有効光学的ネガティブ単軸結晶材料の両方を時変方式で生成することができ、レーザ光源の適切な「トリガ」により、レーザパルスを各場合に望ましい複屈折分布に向けて発生させることができるという利点を有する。その結果、このようにして、以下に一層詳細に説明するように、通過する光の入力偏光及び光線通過角度に依存しない偏光影響効果の本発明により説明する効果を例えば配置によって生成される複屈折の波長依存性の補償に向けて電圧を再調節する可能性と組み合わせることができる。
【００３７】
本発明は、更に、マイクロリソグラフィ投影露光装置、及び微細構造化構成要素のマイクロリソグラフィ生産の方法に関する。
【００３８】
本発明の更に別の構成は、本明細書及び従属請求項から収集することができる。
【００３９】
以下において、本発明を添付図面に示す例示的実施形態に基づいてより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１ａ】本発明の異なる実施形態を解説する概略図である。
【図１ｂ】本発明の異なる実施形態を解説する概略図である。
【図２】本発明の異なる実施形態を解説する概略図である。
【図３】本発明の異なる実施形態を解説する概略図である。
【図４ａ】本発明の異なる実施形態を解説する概略図である。
【図４ｂ】本発明の異なる実施形態を解説する概略図である。
【図５】マイクロリソグラフィ投影露光装置の構成の概略図である。
【図６】本発明の更に別の実施形態を解説する概略図である。
【図７】本発明の更に別の実施形態を解説する概略図である。
【図８】本発明の更に別の実施形態を解説する概略図である。
【図９】ａ〜ｃは、異なる結晶カットに対して内在性複屈折レンズによって引き起こされる典型的なリターデーション分布の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
図５は、光源ユニット５０１と、照明デバイス５１０と、結像される構造を含むマスク５２５と、投影レンズ５３０と、露光される基板５４０とを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置５００を概略図に示している。光源ユニット５０１は、光源としてＤＵＶレーザ又はＶＵＶレーザ、例えば、１９３ｎｍのＡｒＦレーザ、１５７ｎｍのＦ2レーザ、１２６ｎｍのＡｒ2レーザ、又は１０９ｎｍのＮｅ2レーザを含み、更に平行光ビームを発生させる光線成形光学ユニットを含む。光ビームの光線は、個々の光線の電界ベクトルの振動平面が均一な方向い延びる場合に直線偏光分布を有する。
【００４２】
平行光ビームは、発散増大光学要素５１１上に入射する。一例として、回折光学要素（ＤＯＥ）を発散増大光学要素５１１として使用することができる。この要素に、可変直径を有する平行光ビームを発生させるズームレンズ５１２が続く。平行光ビームは、偏向ミラー５１３により、アキシコン５１５を含む光学ユニット５１４上に向けられる。ズームレンズ５１２をアキシコン５１５と併用することにより、ズーム設定とアキシコン要素の位置とに基づいて、光伝播方向に第１の瞳平面ＰＰ１内に異なる照明構成が生成される。
【００４３】
光学ユニット５１４には、レチクルマスキング系（ＲＥＭＡ）５１８が続き、それは、ＲＥＭＡレンズ５１９により、結像される構造を担持するマスク（レチクル）５２５上に結像され、それによってマスク５２５の照明領域が区切られる。マスク５２５は、投影レンズ５３０を用いて感光基板５４０上に結像される。ＰＰ２は、投影レンズ５３０内の瞳平面を表している。この例では、投影レンズ５３０の最後の光学要素５３５と感光基板５４０の間に、空気のものとは異なる屈折率を有する液浸液５３６が置かれる。
【００４４】
図５のマイクロリソグラフィ投影露光装置５００に対して使用することができる偏光影響光学配置の異なる構成を図１から図４及び図６から図９を参照して以下に説明する。図５に示すように、そのような偏光影響光学配置は、例えば、投影レンズ５３０内の瞳平面ＰＰ２内に置くことができる。使用に対する更に別の可能性は、例えば、ＲＥＭＡレンズ５１９内の瞳平面（図示せず）内への位置決めである。使用に対する更に別の有利な可能性は、照明デバイス５１０の光伝播方向に第１の瞳平面ＰＰ１に続き、光線の全てが互いに平行というわけではなく、角度分布を有するような他の平面内への位置決めである。
【００４５】
図１により、本発明の第１の実施形態における偏光影響光学配置１００は、光伝播方向（＝示す座標系ではｚ方向）に直接連続して配置された２つのリターデーション要素１１０及び１２０を含み、これらのリターデーション要素自体は、それぞれ２つの部分要素１１１、１１２及び１２１、１２２からなり、これらの部分要素は、各場合に光学的単軸結晶材料から生成され、それぞれ同じリターデーション要素１１０、１２０に属する部分要素１１１、１１２及び部分要素１２１、１２２は、反対の光学特性のものである。
【００４６】
本発明により、特に適切な光学的ポジティブ材料は、例えば、結晶石英（ＳｉＯ2）及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）である。適切な光学的ネガティブ材料は、例えば、サファイア（Ａｌ2Ｏ3）及びフッ化ランタン（ＬａＦ3）である。それぞれリターデーション要素のうちの１つにおいて存在する部分要素１１１、１１２及び１２１、１２２に関する例示的な量的桁に関して、特にλ／２板に対応する効果を生成するのに適切な厚みに関しては、ＤＥ  １０  ２００７  ０５９  ２５８  Ａ１を参照されたい（この文献中の表１及びそれ以降を参照されたい）。
【００４７】
この場合に、それぞれの部分要素１１１、１１２及び１２１、１２２内の光結晶軸の向きは、第１のリターデーション要素１１０の偏光影響効果が、第１の複屈折速軸を有する第１のλ／２板の効果に対応し、第２のリターデーション要素１２０の偏光影響効果が、第２の複屈折速軸を有する第２のλ／２板の効果に対応するように選択される。
【００４８】
部分要素１１１、１１２及び１２１、１２２は、これらの部分要素から形成されたリターデーション要素１１０、１２０と同じ手法で互いに直接に接触して光学的に継ぎ目なく互いに接合することができる（例えば、捻合により）。
【００４９】
それぞれの部分要素内の光結晶軸の向きに関する偏光影響光学配置１００の１つの可能な構成は、図１ｂから明らかである。この場合に、図１ｂでは、光結晶軸のそれぞれの向きを黒い棒線で表しており、一方、図１ａに示す双方向矢印は、偏光影響光学配置１００の上流及び下流で異なる角度にある配置１００を通過する２つの光線における偏光方向を記号化したものである。図１ａ及び図１ｂの概略図から分るように、図示の両方の光線は、異なる光線通過角度にも関わらず、各場合に偏光方向の９０°の回転を受け、この回転は、第１のリターデーション要素１１０の第１の速軸と第２のリターデーション要素１２０の第２の速軸の間に４５°の角度が存在するということによって達成される。
【００５０】
図２は、本発明の更に別の実施形態を示しており、この実施形態において、偏光影響光学配置は、リターデーション要素の格子配置として具現化され、これらのリターデーション要素の各々は、各場合に、光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる第１の部分要素２１１ａ、２１１ｂ、２１１ｃ，．．．と、光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる第２の部分要素２１２ａ、２１２ｂ、２１２ｃ，．．．とを含み、１つの同じリターデーション要素に関する部分要素は、各場合に、ここでもまた図２に示す棒線を用いて記号化した互いに垂直な向きの光結晶軸を有する。その結果、この例示的実施形態において、これらのリターデーション要素の各々は、その偏光効果に関して通過する光の光線通過角度に依存しないλ／２板を形成する。更に、図２から同じく分るように、第１の部分要素２１１ａ、２１１ｂ、２１１ｃ，．．．は、互いの間で少なくとも部分的に異なる向きを有するそれぞれの光結晶軸を有し、第２の部分要素２１２ａ、２１２ｂ、２１２ｃ，．．．も、互いの間で少なくとも部分的に異なる向きを有するそれぞれの光結晶軸を有する。
【００５１】
互いの間で異なる向きを有する第１の部分要素２１１ａ、２１１ｂ、２１１ｃ，．．．及び互いの間で異なる向きを有する第２の部分要素２１２ａ、２１２ｂ、２１２ｃ，．．．に起因して、対応するリターデーション要素の得られる複屈折速軸も互いに異なり、それによってリターデーション要素によって各場合に形成される個々のプロット又はチャネル内の通過する直線偏光光の偏光方向は、異なる偏光回転角で回転される（出力偏光方向は、各場合にそれぞれのリターデーション要素の有効複屈折速軸における入力偏光方向の鏡像反転からもたらされる）。そのような配置は、望ましい偏光照明設定、すなわち、望ましい強度分布及び偏光分布を生成するために使用することができ（強度分布は、例えば、図５に示す適切な回折光学要素を用いて設定することができる）、特に（しかし、限定されることなく）、定常的直線入力偏光分布を疑似タンジェンシャル出力偏光分布又は疑似半径方向出力偏光分布に変換することができる。
【００５２】
更に別の実施形態において、例えば、光学系内で発生する望ましくない複屈折又はそこからもたらされる望ましくないリターデーション（「系リターデーション」）を補償するために、図２に記載の格子配置の個々のリターデーション要素をλ／２という値とは異なるリターデーションに向けて設計することができる（例えば、１０ｎｍのリターデーションを用いて）。従来の実施形態の場合と同様に、そのような構成も、得られる効果（すなわち、この例では、例えば、生成される１０ｎｍのリターデーション）が通過する光の光線通過角度に依存しないことによって特徴付けられる。
【００５３】
この角度非依存性は、瞳依存の偏光補正を実施するために、本発明による偏光影響光学配置を例えば光が異なる角度で通過する（例えば、光が上流で予め通過する視野発生要素に起因して）瞳平面内（例えば、事前に発生させた視野が各々の内部に角度分布の形態で存在する照明デバイスのＲＥＭＡレンズの瞳平面又は投影レンズの瞳平面ＰＰ２内）に使用することができるという結果を有する。言い換えれば、例えば、図５に記載の投影露光装置５００内での本発明による偏光影響光学配置の使用は、照明デバイス５１０の第１の瞳平面ＰＰ１に限定されず、これは、他の平面（例えば、上述の更に別の瞳平面等）内でも光線通過角度への望ましくない依存性なしに偏光補正を実施することができることによる。
【００５４】
更に、この偏光影響光学配置は、瞳平面内の分布には依存せずに（又はこの分布に影響を及ぼすことなく）視野平面内のリターデーション分布を補正するために、又は視野平面にわたる偏光分布を操作するか又は偏光方向の回転を実施するために視野平面に使用することができる。
【００５５】
更に、この偏光影響光学配置は、視野平面と瞳平面の間に使用することができる（例えば、偏光方向の角度９０°の回転しか望まれない場合に）。原理的には、本発明による偏光影響光学配置は、照明デバイス又は投影レンズ内の任意の位置に配置することができ、この場合に、偏光影響光学配置上に入射する光線の入射角は、好ましくは、４０°よりも大きくない。
【００５６】
図３は、リターデーション要素３１０及び３２０内でそれぞれの部分要素３１１、３１２及び３２１、３２２が（これらの材料に関しては、図１に関する説明を同じく当て嵌めることができる）互いに対して変位可能な２つの楔要素３１１ａ、３１１ｂ、３１２ａ、３１２ｂ、３２１ａ、３２１ｂ、３２２ａ、及び３２２ｂからなる二重楔配置として具現化される点で、図１に記載の配置１００とは異なる偏光影響光学配置３００の形態にある本発明の更に別の実施形態を示している。その結果、部分要素３１１、３１２、３２１、及び３２２の厚みは、ｘ方向に起こる関連の楔要素３１１ａ、３１１ｂ、３１２ａ、３１２ｂ、３２１ａ、３２１ｂ、３２２ａ、及び３２２ｂの相対変位によって設定することができ、この手法により、この場合も動的に変更可能な偏光補正を実施することができる。この場合に、例えば、図３に示す初期構成では、リターデーション要素３１０、３２０の各々の偏光影響効果は、λ／２板の効果に対応することができ、次に、この偏光影響効果をｘ方向に起こる関連の楔要素の相対変位によって変更することができる。
【００５７】
すなわち、与えられた偏光効果の切り換え機能又は動的設定機能を結果として達成することができる。図３に記載の例示的実施形態において与えられる偏光影響効果の動的変更機能は、更に、配置３００によって生成される複屈折の波長依存性を有効厚みを操作するために楔要素３１１ａ、３１１ｂ、３１２ａ、３１２ｂ、３２１ａ、３２１ｂ、３２２ａ、及び３２２ｂを適切な方式でｘ方向に互いに対して変位させることによって考慮又は補償することも可能にする。
【００５８】
特に、９０°回転子（上述の実施形態により、その効果は、光通過角度及び入力偏光方向には依存しない）としての偏光影響光学配置３００の構成（図３に示す）から始めて、９０°回転子としてのこの機能を楔要素の適切な変位によって波長に依存しない方式で維持することができる。
【００５９】
図４は、リターデーション要素４１０及び４２０内でそれぞれの部分要素４１１、４１２及び４２１、４２２が光弾性変調器（ＰＥＭ）として構成される点で、図１に記載の配置１００とは異なる偏光影響光学配置４００の形態にある本発明の更に別の実施形態を示している。
【００６０】
この場合に、ＰＥＭの圧電接点（例示していない）に存在する電圧を用いて、周期的に現れるこの電圧によって部分要素４１１、４１２及び４２１、４２２の各々が光学的ポジティブ単軸挙動と光学的ネガティブ単軸挙動を交互に、又は振動方式に示すように有効光学的ポジティブ単軸結晶材料と有効光学的ネガティブ単軸結晶材料とを時変方式で生成することができる。１つの同じリターデーション要素４１０又は４２０に関するＰＥＭが、それぞれ互いに対して１８０°の位相ずれを有するように作動される場合には、偏光影響効果に関して、入力偏光と通過する光の光線通過角度の両方に依存しない上述の実施形態に従って有効な偏光影響光学配置を提供することができる。
【００６１】
例として、図４ａにより、時点ｔ＝ｔ1において、第１の部分要素４１１は光学的ポジティブ単軸結晶を形成することができ、この同じ時点において第２の部分要素４１２は光学的ネガティブ単軸結晶を構成する。後の時点ｔ＝ｔ2では、条件は全く逆転し、以降同じく続く。レーザ光源の適切な「トリガ」は、各場合に望ましい複屈折分布に対してレーザパルスを発生させるという効果を達成することができる。
【００６２】
すなわち、その結果、前と同じく光学系における複屈折の適合又は変更の目的で与えられた偏光効果の切り換え機能又は動的設定機能を達成することができる。この場合に、図３に記載の実施形態と同様に、配置４００によって生成される複屈折の波長依存性を対応する電圧再調節によって考慮又は補償することができる。特に、ここでもまた、９０°回転子（上述の実施形態により、その効果は、光通過角度及び入力偏光方向には依存しない）としての偏光影響光学配置４００の構成から始めて、この機能を電圧の適切な再調節によって波長に依存しない方式で維持することができる。
【００６３】
以下では、本発明の更に別の実施形態を図６〜図８を参照して説明する。図６〜図８を参照して説明する本発明の開示の更に別の態様により、本発明によるリターデーション要素の配置を特に内在性複屈折（例えば、フッ化カルシウムＣａＦ2のような立方晶材料から製作されたレンズのような光学構成要素に存在する）によってもたらされる可能性がある望ましくないリターデーション効果を実質的に補償するために使用することができる。
【００６４】
図９ａ〜図９ｃは、［１１１］結晶カット（図９ａ）、［１００］結晶カット（図９ｂ）、又は［１１０］結晶カット（図９ｃ）を有するフッ化カルシウムレンズ内の内在性複屈折によってもたらされる典型的なリターデーション分布の概略図を示している。［１１１］結晶カットでは、図９ａに記載の複屈折分布の３回方位対称性が得られるのに対して、［１００］結晶カットに対して複屈折分布は４回方位対称性を有する。図９ａ〜図９ｃの図は、内在性複屈折の速軸が示された領域が複屈折の絶対値の最大値を有し、それに対して残りの他の領域内では、内在性複屈折の絶対値が比較的低くなるように大幅に簡略化したものである。
【００６５】
次に、図６は、［１１１］結晶カットを有するフッ化カルシウムレンズの複屈折分布の例示的な状況（図６ａを参照されたい）における偏光影響光学配置６１０、６２０、及び６３０（図６ｂ〜図６ｄ）の概略図を示している。図６〜図８（［１１１］ＣａＦ2レンズの例に関する）を参照して以下に説明するように、図６ｂ〜図６ｄに示すもののような偏光影響光学配置は、上述の内在性複屈折によってもたらされる望ましくないリターデーション効果を効率的に補償するために使用することができる。図６から図８を参照して説明する偏光影響光学配置は、好ましくは、光学系の瞳平面内を基本位置とする。
【００６６】
図６ｂ〜図６ｄに示す偏光影響光学配置の実施形態の各々は、それぞれリターデーション要素６１１〜６１３、６２１〜６２６、又は６３１〜６３６の格子型配置を表し、これらのリターデーション要素の各々は、図２の実施形態と同様に、光学的ポジティブ単軸結晶材料からなる第１の部分要素と、光学的ネガティブ単軸結晶材料からなる第２の部分要素とを含む。その結果、前に上述したように、偏光影響光学配置によって得られる効果の偏光影響光学配置を通過する光線の角度分布に関する非依存性が得られる。更に、図６ｂ〜図６ｄに示す偏光影響光学配置は、各々が２つだけの部分要素によって形成されたリターデーション要素６１１〜６１３、６２１〜６２６、又は６３１〜６３６を含む（図２と同様であるが、図１とは対照的に）。この点に関して、図６ｂ〜図６ｄの実施形態は、光ビームの断面にわたる入力偏光の変化を格子型配置のそれぞれのリターデーション要素内で得られる有効速軸の方向の変化によって考慮することができる格子型配置を形成することによって部分要素の（すなわち、必要な光学構成要素の）個数を低減するという概念を更に含む。
【００６７】
更に、図６ｂ〜図６ｄは、図６ｂ〜図６ｄに示すそれぞれの偏光影響光学配置内で図２と同じく光伝播方向に沿って連続して配置された２つの部分要素によって形成された各リターデーション要素に対する得られる有効複屈折速軸の向きのみを示している。得られる複屈折絶対値に関して、リターデーション要素６１１〜６１３、６２１〜６２６、又は６３１〜６３６の各々は、λ／２板（このλ／２板は、既に上述したように、その偏光効果に関して通過する光の光線通過角度には依存しない）を形成する。
【００６８】
同じく図６ｂ〜図６ｄで分るように、それぞれのリターデーション要素６１１〜６１３、６２１〜６２６、又は６３１〜６３６は、リターデーション要素の非直交格子型配置と見なすことができる領域分割配置をそれぞれ形成している。より具体的には、得られるリターデーション要素６１１〜６１３、６２１〜６２６、又は６３１〜６３６の有効速軸の向きは、それぞれ、少なくとも適切な近似で図６ａに記載の［１１１］フッ化カルシウムレンズの内在性複屈折分布のそれぞれの速軸と平行又は垂直のいずれかである。
【００６９】
当然ながら、［１００］結晶カット又は［１１０］結晶カットのフッ化カルシウムレンズを有するフッ化カルシウムレンズの内在性複屈折分布（それぞれ、図９ｂ又は図９ｃを参照されたい）に同じく適合される偏光影響光学配置の他の実施形態が可能である。更に、本発明の開示は、フッ化カルシウムで製作された内在性複屈折レンズに限定されず、立方晶構造を有する他の内在性複屈折材料にも適用可能である。
【００７０】
図７及び図８の各々は、［１１１］結晶カットを有する２つの内在性複屈折ＣａＦ2レンズが存在する光学要素の配置を示している。これらのＣａＦ2レンズにおいて対応する内在性複屈折を図６ａと同じく略示し、図７では、それぞれ「７０５」、「７１５」、又は「８０５」、「８１５」で表している。以下で説明するように、これらの内在性複屈折レンズのリターデーション効果の補償は、２つの同一の偏光影響光学配置７１０、７２０又は８１０、８２０それぞれによって達成される。図７の実施形態と図８の実施形態とは、それぞれ全体の配置（又は第１の内在性複屈折ＣａＦ2レンズ）上に入射する光のそれぞれの入力偏光分布においてのみ異なる。
【００７１】
図７により、第１の内在性複屈折ＣａＦ2レンズ上に入射する入力偏光分布Ｐ７０１は、タンジェンシャル偏光分布である。偏光影響光学配置７１０、７２０内の複屈折の有効速軸の概略図から分るように、これらの速軸は、それぞれ、内在性複屈折分布７０５又は７１５内の最大値のそれぞれの速軸と平行であり、光学構成要素の全体の配置を通過する光の偏光分布が実質的に変更されないままに留まるという効果を有する。この効果は、偏光方向が、複屈折の速軸（又は遅軸）と平行又は垂直のいずれかに位置合わせされ、すなわち、それぞれの偏光状態が、内在性複屈折の固有状態に対応する場合には、複屈折材料内での光ビームの偏光分布の摂動が回避されると記載されたＵＳ  ２００５／０２４３２２２  Ａ１に開示された概念に基づいている。
【００７２】
図８では、第１の内在性複屈折ＣａＦ2レンズ上に入射する入力偏光分布Ｐ８０１は、定常的直線偏光分布（直線偏光の方向がｙ方向と平行な）である。その結果、偏光分布は、第１の内在性複屈折ＣａＦ2レンズの内在性複屈折分布８０５における速軸のそれぞれの向きに対して領域的に（特に偏光分布Ｐ８０１における左上の領域及び左下の領域において）平行ではない。その結果、光が第１の偏光影響光学配置８１０に入射する前に、偏光状態は、これらの領域内で内在性複屈折によって修正される（それぞれの領域内で楕円偏光状態をもたらす）。偏光影響光学配置８１０又は８２０のリターデーション要素の各々は、それぞれ、既に上述したように、λ／２板の効果に対応する偏光影響効果を有するので、偏光は、配置８１０のそれぞれのリターデーション要素のそれぞれの得られる速軸で鏡像であるか又は反転され、それによって回転されて第２の内在性複屈折レンズ（内在性複屈折分布８１５を有する）上に入射する偏光分布Ｐ８０２がもたらされる。
【００７３】
配置８１０によって起こされる偏光の領域別回転の結果として、配置８１０の下流で「収集」されるいずれのリターデーションも、ＵＳ  ２００５／００９４２６８  Ａ１から既に公知である概念を利用して、配置８１０の上流で収集されたリターデーションを少なくとも部分的に補償する。ＵＳ  ２００５／００９４２６８  Ａ１において９０°回転子の例でより詳細に指摘されているように、この補償概念は、偏光の９０°回転に起因して、光線のそれぞれの入射平面内又はそれと垂直に位置する偏光状態が、実際に９０°回転子の上流と下流とで置換され、それによって９０°回転子の下流で収集されるいずれのリターデーションも、９０°回転子の上流で収集されたリターデーションを少なくとも部分的に補償するということに基づいている。図８を再度参照すると、この概念は、配置８１０のそれぞれのリターデーション要素内の複屈折速軸の４５°の向きに対して完全に使用するか（９０°回転子の効果に対応する）、又は９０°とは異なる角度の偏光の回転に対して部分的に使用することができる。
【００７４】
図８に略示すように、内在性複屈折のこの補償の最終的な結果として、第２の偏光影響光学配置８２０の下流では、最終出力偏光分布Ｐ８０３は、元の入力偏光分布Ｐ８０１に対応する（内在性複屈折レンズに起因する望ましくないリターデーション効果及び関連する偏光状態の楕円度が補償されている）。
【００７５】
図７及び図８の上述の実施形態では、２つの偏光影響光学配置７１０、７２０又は８１０、８２０をそれぞれ用いたが、本発明の開示はそのことに限定されない。他の実施形態において、１つの偏光影響光学配置だけを使用することができる（この偏光影響光学配置は、光学系内の適切な位置、特に、図７又は図８と同じく少なくとも２つの複屈折レンズの間に配置することができる）。この場合に、望ましい出力偏光を最終的に得るために、入力偏光（例えば、第１の内在性複屈折レンズ上に入射する）は、この望ましい出力偏光が偏光影響光学配置の結果として初めて得られるように望ましい出力偏光とは異なるように選択される。
【００７６】
更に別の実施形態において、図６から図８を参照して上述した偏光影響光学配置は、それらを適切なリトラクタを用いて光路から引っ込めることができるように構成することもできる。
【００７７】
本発明を特定の実施形態に基づいて記載したが、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び／又は交換による多くの変形及び代替実施形態が当業者には明らかである。従って、そのような変形及び代替実施形態が、本発明によって関連的に包含され、本発明の範囲が、特許請求の範囲及びその均等物の意味の範囲でのみ限定されることは、当業者には説明するまでもないことである。
【符号の説明】
【００７８】
１００  偏光影響光学配置
１１０  第１のリターデーション要素
１１１  第１の部分要素
１１２  第２の部分要素
１２０  第２のリターデーション要素
【図１ａ】
2015505169.tif 000003
【図１ｂ】
2015505169.tif 000004
【図２】
2015505169.tif 000005
【図３】
2015505169.tif 000006
【図４ａ】
2015505169.tif 000007
【図４ｂ】
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【図５】
2015505169.tif 000009
【図６】
2015505169.tif 000010
【図７】
2015505169.tif 000011
【図８】
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【図９】
2015505169.tif 000013
【国際調査報告】
2015505169.tif 000014
2015505169.tif 000015
2015505169.tif 000016