(57)【要約】  本発明は、第１の支持体本体を有する光学モジュールであって、第１の支持体本体に、少なくとも１つの特に反射性の光学要素と、複数の第１の支承要素（７ａ）とが設けられている光学モジュールと、ハウジング（８）、特に真空ハウジングであって、少なくとも１つの別の特に反射性の光学要素のための第２の支持体本体を有し、第２の支持体本体に複数の第２の支承要素（１８ａ）が設けられているハウジング（８）と、運動装置であって、第１の支持体本体を第２の支持体本体に対して相対的に、特に鉛直の運動方向（２３）に沿って、光学モジュールをハウジング（８）から取り出し可能な取り出し位置（Ｅ）と、運動装置が第１の支承要素（７ａ）を第２の支承要素（１８ａ）に圧着させる支承位置（Ｇ）との間で移動させる運動装置と、を備える光学アッセンブリに関する。本発明は、光学モジュール、及びハウジング（８）内で光学モジュールを正しい位置に位置決めする方法にも関する。
2015531887.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学アッセンブリ（１２）であって、
第１の支持体本体（４）を有する光学モジュール（１）であって、前記第１の支持体本体（４）に、レーザビーム（２）を案内する少なくとも１つの特に反射性の光学要素（９，１０，１１）と、複数の第１の支承要素（７ａ〜ｃ）とが設けられている光学モジュール（１）と、
ハウジング（８）、特に真空ハウジングであって、少なくとも１つの別の特に反射性の光学要素（１６）のための第２の支持体本体（１９）を有し、該第２の支持体本体（１９）に複数の第２の支承要素（１８ａ〜ｃ）が設けられているハウジング（８）と、
運動装置（２１）であって、前記第１の支持体本体（４）を前記第２の支持体本体（１９）に対して相対的に、特に鉛直の運動方向（２３）で、前記光学モジュール（１）を前記ハウジング（８）から取り出し可能な取り出し位置（Ｅ）と、前記運動装置（２１）が前記第１の支承要素（７ａ〜ｃ）を前記第２の支承要素（１８ａ〜ｃ）に圧着させる支承位置（Ｇ）との間で移動させる運動装置（２１）と、
を備えることを特徴とする、光学アッセンブリ。
【請求項２】
前記第１の支持体本体（４）は、支持体キャリッジ（５）を有し、該支持体キャリッジ（５）は、複数のロール（６）及び／又は滑動要素を有する、請求項１記載の光学アッセンブリ。
【請求項３】
前記ロール（６）及び／又は前記滑動要素は、取り出し位置（Ｅ）で前記ハウジング（８）の載置面（１７）に載着され、支承位置（Ｇ）で前記載置面（１７）から離間している、請求項２記載の光学アッセンブリ。
【請求項４】
前記光学モジュール（１）は、前記真空ハウジング（８）に前記光学モジュール（１）を真空漏れのないように固定する真空ハウジング構成部材（１３）を有する、請求項１から３までのいずれか１項記載の光学アッセンブリ。
【請求項５】
前記真空ハウジング構成部材（１３）は、弾性的な真空構成要素（１４）を介して前記第１の支持体本体（４）に結合されている、請求項４記載の光学アッセンブリ。
【請求項６】
前記第１の支承要素（７ａ〜ｃ）は、少なくとも１つの平らな支承面（２４）を有し、前記第２の支承要素（１８ａ〜ｃ）は、少なくとも１つの湾曲した支承面（２６）を有するか、又は反対に前記第１の支承要素（７ａ〜ｃ）は、少なくとも１つの湾曲した支承面を有し、前記第２の支承要素（１８ａ〜ｃ）は、少なくとも１つの平らな支承面を有する、請求項１から５までのいずれか１項記載の光学アッセンブリ。
【請求項７】
前記運動装置（２１）は、それぞれ１つの第１の支承要素（７ａ〜ｃ）を、該第１の支承要素（７ａ〜ｃ）に対応する第２の支承要素（１８ａ〜ｃ）に圧着する少なくとも１つ、好ましくは複数の行程装置（２２ａ〜ｃ）を有する、請求項１から６までのいずれか１項記載の光学アッセンブリ。
【請求項８】
少なくとも１つの行程装置（２２ａ〜ｃ）は、予め付勢されてプリロードが加えられた少なくとも１つのばね要素（２９）を有する、請求項７記載の光学アッセンブリ。
【請求項９】
少なくとも１つの行程装置（２２ａ〜ｃ）は、前記少なくとも１つのばね要素（２９）のプリロードとは逆向きの力を発生させるように圧力媒体を供給可能な圧力室（３１）を有する、請求項８記載の光学アッセンブリ。
【請求項１０】
前記光学モジュール（１）の前記少なくとも１つの光学要素（９，１０，１１）は、レーザ放射を反射するように形成されている、請求項１から９までのいずれか１項記載の光学アッセンブリ。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの別の光学要素（１６）は、ＥＵＶ放射を反射するように形成されている、請求項１から１０までのいずれか１項記載の光学アッセンブリ。
【請求項１２】
請求項１から１１までのいずれか１項記載の光学アッセンブリ（１２）用の光学モジュール（１）であって、
支持体本体（４）を備え、該支持体本体（４）に少なくとも１つの特に反射性の光学要素（９，１０，１１）と、複数の第１の支承要素（７ａ〜ｃ）とが設けられており、前記支持体本体（４）は、前記光学モジュール（１）をハウジング（８）、特に真空ハウジングから取り出すために、複数のロール（６）及び／又は滑動要素を有する支持体キャリッジ（５）を有することを特徴とする光学モジュール。
【請求項１３】
前記支持体本体（４）に弾性的な真空構成要素（１４）を介して結合されている真空ハウジング構成部材（１３）をさらに備える、請求項１２記載の光学モジュール。
【請求項１４】
請求項１から１１までのいずれか１項記載の光学アッセンブリ（１２）のハウジング（８）内で光学モジュール（１）を正しい位置に位置決めする方法であって、
準備位置（Ｂ）から前記ハウジング（８）内の取り出し位置（Ｅ）に前記光学モジュール（１）の支持体本体（４）を動かす工程と、
取り出し位置（Ｅ）から、第１の支承要素（７ａ〜ｃ）が第２の支承要素（１８ａ〜ｃ）に圧着される支承位置（Ｇ）に、前記光学モジュール（１）の支持体本体（４）を動かす工程と、
を備える、ハウジング内で光学モジュールを正しい位置に位置決めする方法。
【請求項１５】
準備位置（Ｂ）から取り出し位置（Ｅ）に前記支持体本体（４）を動かすために、前記光学モジュール（１）の支持体キャリッジ（５）を前記ハウジング（８）の載置面（１７）に沿って移動させる、請求項１４記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学モジュールとハウジング、特に真空ハウジングとを備える光学アッセンブリ、光学モジュール、及びハウジング内で光学モジュールを正しい位置に位置決めする方法に関する。
【０００２】
光学アッセンブリ内の光学要素あるいは光学構成群の運転中、汚染物質が光学要素あるいは光学構成群の光学表面に析出するため、光学要素あるいは光学構成群が汚損されてしまう場合がある。この問題は、特にいわゆるＥＵＶリソグラフィ系において発生する。ＥＵＶリソグラフィ系では、ＥＵＶ放射を発生させるためにドライバレーザ系のレーザビームが、ターゲット材料が用意される目標位置に向けられる。ターゲット材料は、レーザビームの照射時にプラズマ状態に移行し、その際にＥＵＶ放射を放出する。このようなＥＵＶリソグラフィ系は、例えば米国特許第８１７３９８５号明細書に記載されている。レーザビームの照射時、典型的にはターゲット材料（例えばすず）の一部が蒸発され、目標位置の近傍に配置されている光学要素の光学表面に析出する。
【０００３】
この問題に対処するために、このような光学アッセンブリのドライバレーザとして一般にＣＯ２レーザが使用される。ＣＯ２レーザ放射は、約１０．６μｍの高い波長に基づいて、すずの析出により引き起こされるような比較的粗い光学表面を有する反射性の光学要素でも反射される。加えて、ＣＯ２レーザの形態のドライバレーザの使用は、所定のターゲット材料、例えばすずの場合、ドライバレーザの入力とＥＵＶ放射の出力との間の高い変換効率を可能にする。
【０００４】
上述のＥＵＶリソグラフィ系では、又はその他の光学アッセンブリでも、時折、光学要素あるいは光学構成群のメンテナンス作業を、例えば光学要素をクリーニングするなり、汚れていない光学要素と交換するなりするために実施する必要があり得る。光学構成群が、閉鎖されたハウジング内、例えば真空ハウジング内に配置されている場合、光学構成群の取り外しは、一般に比較的大きな手間なくしては不可能である。光学構成群への例えばメンテナンス開口を通した直接的なアクセスが、構成スペースに起因して不可能である場合、メンテナンス作業を実施するには、ハウジングからの光学モジュールあるいは光学構成群の取り出しが必要である。
【０００５】
ハウジングから光学モジュールを取り出す場合、光学モジュール、具体的には光学モジュールの光学要素が、メンテナンス作業の終了後に再び高い精度で、ハウジング内に残された光学要素に対して相対的に位置決めされねばならないという問題が生じる。加えて、真空ハウジングの場合、ハウジング壁に真空に起因した変形が発生する場合があり、この変形は、光学要素あるいは光学モジュールの正しい位置での位置決めを困難にしてしまう。それゆえ、メンテナンス作業の終了後の光学モジュールの光学要素の正しい位置での位置決めのために、典型的には手間と時間のかかる調整が必要である。
【０００６】
発明の課題
本発明の課題は、ハウジング内での光学モジュールの光学要素の正しい位置での位置決めを容易にする、光学モジュールとハウジングとを備える光学アッセンブリ、光学モジュール及び方法を提供することである。
【０００７】
発明の対象
この課題は、第１の支持体本体を有する光学モジュールであって、第１の支持体本体に、少なくとも１つの特に反射性の光学要素と、複数の第１の支承要素とが設けられている光学モジュールと、ハウジング、特に真空ハウジングであって、少なくとも１つの別の特に反射性の光学要素のための第２の支持体本体を有し、第２の支持体本体に複数の第２の支承要素が設けられているハウジングと、運動装置であって、第１の支持体本体を第２の支持体本体に対して相対的に、特に鉛直の運動方向に沿って、光学モジュールをハウジングから取り出し可能な取り出し位置と、運動装置が第１の支承要素を第２の支承要素に圧着させる支承位置との間で移動させる運動装置と、を備える本発明に係る光学アッセンブリにより解決される。
【０００８】
支承位置で第１の支承要素を第２の支承要素に圧着することで、（真空）ハウジング内で第２の支持体本体に設けられている少なくとも１つの光学要素に対して相対的な、光学モジュールの少なくとも１つの光学要素の再現可能な正しい位置での位置決めが、この目的のために手間のかかる調整を必要とすることなく、実現可能である。加えて、支持体本体に支承要素を設けたことにより、光学要素を支承するために、ハウジング内部の支持体構造が実現可能であり、このことは、特に真空ハウジングの場合に好適であることが判っている。光学モジュールの支持体本体及びこの支持体本体に不動に結合された光学要素は、少なくとも３対の支承要素での支承により静定であり、これにより再現可能にハウジング内に支承されている。
【０００９】
支承位置で光学モジュールは、支承要素が互いに係合するあるいは支承面が互いに当接するので、典型的にはハウジングから取り出し不能である。光学モジュールをハウジングから取り出すために、光学モジュールは、支承位置から取り出し位置に移行される。取り出し位置で支承要素は、もはや互いに係合しておらず、取り出しのために十分なスペースを提供している。この場合、運動方向（ひいては支承要素の圧着方向）は、横方向力の作用しない配置を保証するために、好ましくは鉛直方向に延びている。
【００１０】
取り出し位置は、特に支承位置の下側に存在していてもよい。この場合、運動装置は、光学モジュールの支承要素を光学アッセンブリの運転中に重力の作用に抗して下から上に、定置の支持体本体の支承要素に圧着する。支承位置から取り出し位置に支持体本体を移行させるために、支持体本体は、運動装置により下降される。取り出し位置と支承位置との間での光学モジュールの変位量は、数ミリメートルである。取り出し位置を起点とするハウジングからの光学モジュールの取り出しは、特に水平方向に延びる移動により実施可能である。
【００１１】
一態様において、第１の支持体本体は、支持体キャリッジを有し、支持体キャリッジは、複数のロール及び／又は滑動要素を有する。ロールにより、支持体キャリッジは、取り出し位置から出発して簡単に、ハウジングの典型的には水平に延びる載置面に沿って摺動あるいは転動可能である。これにより、ハウジングからの光学モジュールの取り出しは容易になる。ロールの１つが、移動時にハウジングとの接触を失うと直ちに、光学モジュールの重量は、付加的な支持ロール、案内ロッド及び／又はハウジングの載置面に接続している補助面により受容されてもよい。例えばスキッドの形態の滑動要素の使用も可能である。
【００１２】
本態様の一変化態様において、ロール及び／又は滑動要素は、取り出し位置でハウジングの載置面に載着され、支承位置で載置面から離間している。取り出し位置から光学モジュールは、ロールあるいは滑動要素により、典型的には水平に延びる載置面に沿って移動可能である。支承位置では、ハウジングに対するロールあるいは滑動要素の直接的な接触が生じないので、ハウジングの変形は、光学モジュールに直接伝達されない。
【００１３】
別の態様において、光学モジュールは、真空ハウジングに光学モジュールを真空漏れのないように固定する真空ハウジング構成部材を有する。光学モジュールが取り出し位置（又は場合によっては支承位置）にあるときに、真空ハウジング構成部材、例えばカバープレートの形態の真空ハウジング構成部材が、真空ハウジングに取り付け可能である。その結果、真空ハウジングは、真空漏れのないように閉鎖されており、光学アッセンブリを運転するために排気可能である。
【００１４】
好ましくは、真空ハウジング構成部材は、弾性的な真空構成要素を介して第１の支持体本体に結合されている。弾性的な真空構成要素として、例えば波形の金属製のベローズ（コルゲートチューブ）が働くことができる。弾性的な結合により、光学モジュールの支持体本体は、真空ハウジングからデカップリング、つまり切り離し可能である。その結果、真空により発生され、真空構成要素に及ぼされる力は、支持体本体あるいは支持体本体に結合された光学要素に伝達されない。支持体本体には、光学モジュールの光学要素に放射を供給する開口が設けられていてもよい。放射は、例えば、真空ハウジングの外側に配置されたビーム源、特にレーザ源により発生される。支持体本体の移動時、開口は、真空ハウジングに不動に結合されている真空構成要素に対して相対的に移動する。
【００１５】
別の態様において、第１の支承要素は、少なくとも１つの平らな支承面を有し、第２の支承要素は、少なくとも１つの湾曲した支承面を有するか、又は反対に第１の支承要素は、少なくとも１つの湾曲した支承面を有し、第２の支承要素は、少なくとも１つの平らな支承面を有する。第１の支承要素は、好ましくは第２の支承要素の支承面が係合する凹部を有している。凹部は、逆錐台の形態で形成されていてもよく、このとき、逆錐台の側面は、周方向に複数の平らな支承面、場合によっては面取り部を形成する複数の平らな支承面を有している。この場合、錐台の底面は、多角形、例えば正方形に形成されている。第１の支承要素の凹部の錐台状の幾何学形状により、第２の支承要素が第１の支承要素の凹部に係合する際、自動調心が実施可能である。定置の第２の支承要素は、少なくとも１つの湾曲した、好ましくは曲面状に湾曲した、特に球面状又は楕円体状に湾曲した支承面を有している。第１の支承要素が運動方向で運動する際、湾曲した支承面は、それぞれの平らな支承面に沿って、支承面が互いに定置に配置され、互いに圧着されることになる支承位置に到達するまで滑動可能である。曲面をプリズム状（ｐｒｉｓｍａｔｉｓｃｈ）の凹部の平面で支承したことで、支持体本体の位置は、静定であり、これにより光学モジュールは、再現可能に定置の支持体本体に支承されている。支承を実現するために、原則、あらゆる形態の静定あるいは過静定の支承が可能である。特に、例えば第１の支承要素における湾曲した支承面及び第２の支承要素における平らな支承面も可能である。
【００１６】
別の態様において、移動装置は、それぞれ１つの第１の支承要素を、第１の支承要素に対応する第２の支承要素に圧着する少なくとも１つ、好ましくは複数の行程装置を有する。行程装置は、好ましくは第１の支持体本体の下面、特に支持体キャリッジの下面に、第１の支持体本体あるいは支持体キャリッジを取り出し位置から支承位置に持ち上げるように作用している。第１の支承要素を第２の支承要素に圧着するために、行程装置と第２の支承要素とが、１つの共通の、運動方向で延びる軸線（行程軸線）に沿って配置されていると、有利である。例えば、鉛直の運動方向あるいは行程軸線の場合、行程装置は、取り出し位置においてそれぞれ第２の支承要素の下側に位置決め可能である。行程装置は、典型的には直動可能な行程要素を介して支持体本体、具体的には支持体キャリッジの下面に作用する。移動可能な行程要素は、弾性的な真空構成要素、例えばベローズの形態の真空構成要素を介して真空ハウジングに結合されていてもよい。こうして、行程要素の内室は、真空ハウジングの内室内の真空環境から気密に隔離可能である。場合によっては支持体本体を持ち上げるために、光学モジュールの全３つ（又はそれ以上）の支承要素を、対応する定置の支承要素に圧着する、１つの面状の行程要素を有する単一の行程装置が設けられていてもよいことは、自明である。
【００１７】
別の態様において、少なくとも１つの行程装置は、予め付勢されてプリロードが加えられた少なくとも１つのばね要素を有する。このプリロードは、取り出し位置から支承位置への第１の支持体本体の移行時の行程運動を実現するためと、支承位置で圧着力を加えるためとに利用可能である。こうして、光学アッセンブリの運転中に、第２の支承要素に対して第１の支承要素を保持あるいは圧着するために、エネルギの供給は不要である。支持体本体を取り出し位置に移行させるには、アクチュエータにより、ばね要素のプリロードを克服する外的なエネルギが加えられる。この外的なエネルギは、行程装置の、運動方向に沿って移動可能な行程要素の、ばね要素の力作用に抗した移動を引き起こす。
【００１８】
別の態様において、少なくとも１つの行程装置は、少なくとも１つのばね要素のプリロードとは逆向きの力を発生させるように圧力媒体（加圧流体）を供給可能な圧力室を有する。例えば加圧ガス又は加圧液体を用いて流体圧を発生させることにより、プリロードの克服が可能であり、ばね要素は、支承要素がもはや互いに係合しなくなるまでさらに圧縮可能である。ばね要素は、特に皿ばねとして形成可能である。皿ばねのばね受けには、直接、皿ばねを圧縮するために流体圧が印加可能である。好ましくは支持体キャリッジは、加圧流体により、ロールあるいはホイール及び／又は滑動要素が取り出し位置で載置面に当接するまで下降され、その結果、光学モジュールは、簡単にハウジングから進出可能である。
【００１９】
好ましい態様において、光学モジュールの少なくとも１つの光学要素は、レーザ放射を反射するように形成されている。光学モジュールは、特にレーザビーム、特にＣＯ２レーザビームの案内のために設計されていてもよい。上述したように、ＣＯ２レーザ放射を反射する光学要素は、ターゲット材料による光学要素の光学表面の汚損がその反射率に対して及ぼす影響が比較的少ないため、ターゲット材料が蒸発される目標位置の近傍に配置可能である。（ＣＯ２）レーザ放射を反射する光学要素は、それ自体を反射性の表面として用いることが可能な金属製の基板、例えば銅からなる基板を有していてもよい。金属製の基板には、レーザ放射の反射率をさらに高めるために、反射性のコーティングが被着されていてもよい。
【００２０】
別の態様において、第２の支持体本体に設けられている少なくとも１つの別の光学要素は、ＥＵＶ放射を反射するように形成されている。この別の光学要素は、特に、ターゲット材料に照射を当てることにより目標位置に発生されるＥＵＶ放射のためのいわゆるコレクタミラーであってもよい。ＥＵＶ放射を反射させるために、光学要素には、典型的には、交互に高い屈折率と低い屈折率とを有する複数の交番層を有する多層コーティングが施されている。
【００２１】
第１あるいは第２の支持体本体に設けられている光学要素は、必ずしも反射性の光学要素として形成されている必要はなく、場合によっては透過性の光学要素として形成されていてもよいことは、自明である。特にこのことは、光学要素が、ＥＵＶ波長領域（すなわち約５ｎｍ〜約５０ｎｍの波長）又は赤外波長領域（例えば１０．６μｍ）とは異なる波長領域の放射を透過あるいは反射するように形成されている場合に該当する。赤外波長領域で透過する光学要素、例えばセレン化亜鉛からなる光学要素を光学モジュールに設けることも可能である。
【００２２】
本発明は、上述のような光学アッセンブリ用の光学モジュールにも関し、本発明に係る光学モジュールは、支持体本体を備え、支持体本体に少なくとも１つの特に反射性の光学要素と、複数の第１の支承要素とが設けられており、支持体本体は、光学モジュールをハウジング、特に真空ハウジングから取り出すために、複数のロール及び／又は滑動要素を有する支持体キャリッジを有する。支持体キャリッジあるいはロール／滑動要素の使用により、取り出し位置からの／取り出し位置への光学モジュールの移動は、容易なものとすることができる。光学要素は、典型的には不動に支持体本体に結合されている。その結果、支持体本体の規定された支承により、光学要素も、所定の位置に配置可能である。
【００２３】
別の態様において、光学モジュールは、光学モジュールを真空ハウジングに真空漏れのないように取り付ける真空ハウジング構成部材を備える。真空ハウジング構成部材は、例えばプレート状に形成されていてもよく、典型的には、周囲を取り巻くように延びる縁部において真空ハウジングに密に固定される。好ましい態様において、真空ハウジング構成部材は、支持体本体に、弾性的な真空構成要素、例えばベローズを介して結合されている。こうして真空ハウジング構成部材は、支持体本体に対して相対的に移動可能であり、これにより、支持体本体を組み付け状態において取り出し位置と支承位置との間で移動させることが可能となる。
【００２４】
本発明は、上述のような光学アッセンブリのハウジング内で光学モジュールを正しい位置に位置決めする方法であって、準備位置からハウジング内の取り出し位置に光学モジュールの支持体本体を動かす工程と、取り出し位置から、第１の支承要素が第２の支承要素に圧着される支承位置に、光学モジュールの支持体本体を動かす工程と、を備える、ハウジング内で光学モジュールを正しい位置に位置決めする方法も包含する。典型的には、準備位置から取り出し位置あるいは支承位置への光学モジュールあるいは支持体本体の移動後、真空ハウジング構成部材を真空ハウジングに結合し、これにより、真空ハウジングを光学アッセンブリの運転のために排気することができる。
【００２５】
方法の一態様において、準備位置から取り出し位置に支持体本体を動かすために、光学モジュールの支持体キャリッジをハウジングの載置面に沿って移動（好ましくは転動及び／又は滑動）させる。載置面に沿った移動を容易にするために、上述のように、支持体本体は、ロール及び／又は滑動要素を有する支持体キャリッジを有していてもよい。
【００２６】
本発明のその他の利点は、明細書及び図面から看取可能である。また、前述した特徴及び後述する特徴は、それ自体単独でも、複数の特徴の任意の組み合わせでも使用可能である。図示し、説明する実施の形態は、限定列挙と解すべきものではなく、むしろ本発明を説明するための例示的な性質を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】ＥＵＶリソグラフィ装置のビーム発生系の形態の光学アッセンブリの真空ハウジング内で使用される光学モジュールの概略図である。
【図２】真空ハウジング内に組み付けた状態の図１に示した光学モジュールの概略図である。
【図３】図３ａ，ｂは、光学モジュールの支持体キャリッジが真空ハウジングから離間した準備位置にある状態と取り出し位置にある状態とで真空ハウジングのハウジング部分を示す図である。
【図４ａ】支承位置へと光学モジュールの支持体本体を持ち上げる３つの行程装置を有する真空ハウジングの一部を示す図である。
【図４ｂ】支承位置で光学モジュールの３つの支承要素と係合する３つの支承要素を有するコレクタミラー用の支持体本体を示す図である。
【図５】図５ａ，ｂは、光学モジュールの支持体キャリッジが支承位置（図５ａ）と取り出し位置（図５ｂ）とにある状態で行程装置を示す図である。
【００２８】
図１は、ＣＯ２レーザビーム２のビームガイド用の光学モジュール１を示している。ＣＯ２レーザビーム２は、ビーム入射開口３において光学モジュール１に入射する。光学モジュール１は、剛体の支持体本体４を有している。支持体本体４は、支持体キャリッジ５及び支持要素５ａ（支持体フレーム）を有している。支持体キャリッジ５には、本実施の形態では４つのロール６が設けられており、これにより、典型的には水平の運動方向に沿った光学モジュール１の転動を可能とすることができる。滑動要素、例えばスキッドを支持体キャリッジ５に取り付けることも可能である。支持体本体４、具体的には支持体キャリッジ５には、３つの支承要素７ａ〜ｃも設けられており、これにより、光学モジュール１を図２に示したハウジング８内の正しい位置に位置決めすることができる。
【００２９】
レーザビーム２のビームガイドのために、光学モジュール１は、３つの光学要素９，１０，１１を有している。これらの光学要素９，１０，１１のうち、第１及び第２の光学要素９，１０は、図１では支持体本体４に覆われており、看取することができない。第１及び第２の光学要素９，１０は、図示しない目標位置にてレーザビーム２を集光するために用いられる。目標位置には、レーザビーム２の照射を受けた際にプラズマ状態に移行し、このときにＥＵＶ放射を放出するターゲット材料、本実施の形態ではすずが用意される。第３の光学要素１１は、集光されたレーザビーム２を目標位置に向けて変向する平面ミラー１１である。レーザビーム２の照射を受けると、ターゲット材料の一部が蒸発する。ターゲット材料は、目標位置の近傍に配置されている光学要素９，１０，１１の光学表面上に析出する場合がある。この例は、図１に示した平面ミラー１１の光学表面１１ａである。平面ミラー１１は、３つの光学要素９，１０，１１のうち、目標位置に対して最も小さい間隔を有している。
【００３０】
図２は、光学モジュール１を、ＥＵＶ放射を発生するビーム発生系の形態の光学アッセンブリ１２のハウジング８内に組み付けた状態で示している。光学アッセンブリ１２内で発生されたＥＵＶ放射は、構造担持要素（マスク）が配置されている画像部を可及的均一に照らすために、照明系（図示せず）に供給される。投影系（やはり図示せず）は、マスクの構造を感光性の基板（ウエハ）上に結像するために用いられる。ビーム発生系、照明系及び投影系は相俟って、感光性の基板（ウエハ）を構造化するＥＵＶリソグラフィ装置を形成している。
【００３１】
発生されたＥＵＶ放射がガス状の物質により吸収されてしまうのを可及的僅かに維持するために、ハウジング８は、真空ハウジングとして形成されており、ポンプ装置（図示せず）により排気可能である。光学モジュール１が装入された真空ハウジング８を真空漏れのないように閉鎖するために、光学モジュール１には、カバープレート１３の形態の真空ハウジング構成部材（図１には図示せず、図２参照）が設けられている。カバープレート１３は、真空漏れのないように真空ハウジング８に結合される。真空ハウジング８とのカバープレート１３の真空漏れのない密な結合のために、図示しないねじ結合部及び適当なシールが用いられ、シールは、カバープレート１３の外縁に沿って延びている。
【００３２】
カバープレート１３は、本実施の形態では支持体本体４に、図２に略示した金属製のベローズ１４を介して結合されている。ベローズ１４は、弾性的な真空ハウジング構成部材として用いられ、真空ハウジング８に対して相対的な支持体本体４の運動を、カバープレート１３を固定した後にも許容する。このような運動は、真空ハウジング８内に組み込まれた光学モジュール１を取り出し位置から支承位置に移行させるために必要である。これについては下で詳述する。図２には、プロセスチャンバ１５も示してある。プロセスチャンバ１５内には、図２に矢印で略示したコレクタミラー１６が、目標位置から出たＥＵＶ放射を捕集するために格納されている。
【００３３】
光学要素９，１０，１１の光学表面をクリーニングするために、あるいは場合によっては光学要素９，１０，１１のうちの１つ又は複数を交換するために、光学モジュール１は、カバープレート１３の、真空ハウジング８との結合が解かれ、光学モジュール１が真空ハウジング８から取り出されることにより、ハウジング８から取り出し可能である。
【００３４】
真空ハウジング８内の光学モジュール１の取り出し及び新規位置決めのために、光学モジュール１は、真空ハウジング８に設けられた平らな水平の載置面１７に沿って移動可能である。載置面１７は、図３ａ及び図３ｂに示してある。図３ａは、ここでは簡略化のため、ロール６を有する支持体キャリッジ５のみを、準備位置Ｂ、すなわちハウジング８から離間した位置で示している。準備位置Ｂでメンテナンスを実施することができる。これに対して図３ｂは、ハウジング８内に挿入された支持体キャリッジ５を、支持体キャリッジ５がカバープレート１３により真空ハウジング８内に、具体的には真空ハウジング８のくさび形の部分内に組み込み可能な位置で示している。
【００３５】
支持体キャリッジ５を図３ａに示した位置から図３ｂに示した位置に（及び逆方向に）移動させるために、支持体キャリッジ５あるいは光学モジュール１の可及的水平な運動を可能にする補助面（図示せず）が設けられていてもよい。補助面として、例えば平らな載置プレートを設けることができ、載置プレートの上面は、真空ハウジング８の載置面１７と面一に終わっている。また、支持体キャリッジ５の重量を受けるために、支持体キャリッジ５に付加的な支持ロールが取り付けられてもよい。また、光学モジュール１の移動を容易にするために、案内レールが使用されてもよい。
【００３６】
支持体キャリッジ５の図３ｂに示した位置で、支承要素７ａ〜ｃは、コレクタミラー１６のための支持体本体として用いられる図４ｂに示した支持体プレート１９に設けられている支承要素１８ａ〜ｃの鉛直方向下側に存在する。支持体プレート１９には、レーザ放射のための通過開口の縁部に、かつ支承要素１８ａ〜ｃの近傍に、コレクタミラー１６を保持する３つの支承点２０ａ〜ｃが設けられている。支承点２０ａ〜ｃが光学モジュール１のための支承要素１８ａ〜ｃの比較的近傍にあることにより、動剛性及び静剛性が改善される。
【００３７】
真空ハウジング８の図４ａに示した部分の上面は、図４ｂに示した支持体プレート１９に固定され、支持体プレート１９に固く結合されている。支持体プレート１９、ひいては支持体プレート１９に設けられた支承要素１８ａ〜ｃ，２０ａ〜ｃは、ビーム形成系１２の定置の構成部分であり、この定置の構成部分に関して光学要素９，１０，１１は、ビーム形成系１２に組み込む際に正しい位置に位置決めされねばならない。
【００３８】
光学モジュール１、具体的には光学要素９，１０，１１を、支持体プレート１９（ひいてはコレクタミラー１６）に対して相対的に正しい位置に位置合わせするために、ビーム形成系１２に運動装置２１が設けられている。運動装置２１は、光学モジュール１の支持体本体４を、図５ａに示す支承位置Ｇと図５ｂに示す取り出し位置Ｅとの間で、鉛直方向に延びる行程軸線２３に沿って往復運動させるために、３つの行程装置２２ａ〜ｃを有している。図５ｂに示した取り出し位置Ｅで、光学モジュール１は、上述したような形で真空ハウジング８から取り出し可能である。
【００３９】
図５ａに示した支承位置Ｇで、光学モジュール１の３つの支承要素７ａ〜ｃは、重力の作用に抗して、これらの支承要素７ａ〜ｃにそれぞれ対応するように配置された、図５ａには示していない支持体プレート１９の支承要素１８ａ〜ｃに圧着される。図５ａには、支承要素の第１のペア７ａ，１８ａを例示してある。支承時の高い精度を保証するために、第１の支承要素７ａ〜ｃは、正方形の底面を有する（逆）錐台の形態で（プリズム状に）形成されている凹部２５の縁部あるいは面取り部を形成するそれぞれ２つの平面状の支承面２４を有している。支持体プレート１９の支承要素１８ａ〜ｃには、環状に延び、球面状に湾曲した支承面２６が形成されている。支承位置Ｇでは、光学モジュール１の支承要素７ａ〜ｃの平面状の支承面２４が、支持体プレート１９の支承要素１８ａ〜ｃの球面状の支承面２６に当接している。支承位置Ｇでは、光学モジュール１の支承要素７ａ〜ｃの支承面２４は、行程装置２２ａ〜ｃにより支持体プレート１９の支承要素１８ａ〜ｃに圧着される。圧着を行うために、それぞれの行程装置２２ａ〜ｃの行程要素２７は、支持体キャリッジ５の下面に圧着される。
【００４０】
球面状の支承面２６と、平面状の支承面２４のプリズム状の配置とにより達成される、支持体本体４の支承の精度は、マイクロメートルの領域にある。このような精度は、定置の光学要素、特にコレクタミラー１６に対する光学モジュール１の光学要素９，１０，１１の位置合わせの際に、支持体プレート１９に対して相対的に支持体本体４あるいは支持体キャリッジ５を付加的に調整することを省略し得るのに十分である。
【００４１】
図５ａにやはり看取可能であるように、支承位置Ｇでは、支持体キャリッジ５のロールあるいはホイール６は、載置面１７から持ち上げられている。支持体キャリッジ５の下面を押圧するそれぞれの行程装置２２ａ〜ｃの、行程軸線２３に沿って移動可能な行程要素２７は、やはりベローズとして形成されている弾性的な真空構成要素２８を介して真空ハウジング８に結合されている。弾性的な真空構成要素２８は、真空を周囲から封止するのに用いられる。
【００４２】
支持体キャリッジ５を図５ａに示した支承位置Ｇに保持するために、行程装置２２ａ〜ｃ内には、定置の基体３０と行程要素２７との間に、予め付勢されてプリロードが加えられた皿ばね２９が設けられている。行程要素２７（ひいては支持体キャリッジ５）を、図５ａに示した支承位置Ｇから、支持体キャリッジ５のロール６が載置面１７に載着されている図５ｂに示した取り出し位置Ｅに移行させるために、運動装置２１の一部であるアクチュエータが使用される。
【００４３】
行程要素２７を下向きに移動させるために、行程装置２２ａ〜ｃ内に形成された圧力室３１内に、圧力媒体、本実施の形態では圧縮空気が供給される。圧力媒体は、皿ばね２９の上面に対して、皿ばね２４を圧縮し、支持体キャリッジ５の下面と行程要素２７との間に間隙を形成するに十分な大きさの力を働かせる。その結果、支持体キャリッジ５は、もはや行程装置２２ａ〜ｃにより支持されておらず、ロール９は載置面１７に載着する。これに応じて、取り出し位置Ｅでは、支承要素７ａ〜ｃ及び支承要素１８ａ〜ｃも、もはや互いに係合しなくなるので、光学モジュール１は、載置面１７に沿って転動して真空ハウジング８外に移動可能である。
【００４４】
支持体本体４の下降時、典型的には３つの行程装置２２ａ〜ｃの圧力室３１に、互いに相前後して圧力媒体が供給される。このことは、行程軸線２３に沿った変位量が一般に数ミリメートルの範囲にあるため、これにより傾斜姿勢となったところで、真空ハウジング８内での光学モジュール１の引っ掛かりを危惧する必要がないので可能である。場合によっては、３つの行程装置２２ａ〜ｃの行程要素２７の同期的な下降、ひいては支持体キャリッジ５の、載置面１７に対して平行な下降を実現するために、行程装置２２ａ〜ｃの３つすべての圧力室３１に同時に（制御して）圧力媒体を供給してもよいことは、自明である。圧力媒体は、半径方向の孔を介して圧力室３１に供給される。
【００４５】
光学モジュール１は、取り出し位置Ｅで、提供可能な構成スペースが僅かであるにもかかわらず、簡単にメンテナンス作業のために真空ハウジング８から、例えば光学要素９，１０，１１の１つを他のものと交換するために取り出されることができる。支承位置Ｇでは、光学要素９，１０，１１の再現可能な支承あるいは位置合わせが、この目的のために付加的な調整を必要とすることなく、可能となる。
【図１】
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【図２】
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【図３ａ】
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【図３ｂ】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【国際調査報告】
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