(57)【要約】表面処理用組成物は、ポリフルオロポリエーテルシラン、溶媒、並びに組成物から形成される層の外観及び耐久性を改善するため添加化合物を含む。表面処理組成物から形成された層は、しみ及び汚れ耐性、並びに耐久性を含む、優れた物理的特性を有する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面処理用組成物であって、
ポリフルオロポリエーテルシランと、
溶媒と、
添加化合物であって、
以下の一般式を有するシラン化合物であって、
ＲａＳｉＸ４−ａ；
式中、各Ｒは、置換若しくは非置換ヒドロカルビル基及び窒素含有置換基から独立して選択され、少なくとも１つのＲが窒素含有置換基であり、Ｘは、独立して選択される加水分解可能な基であり、１≦ａ＜４である、シラン化合物、
シリルアミン化合物、及び
それらの組み合わせから選択される、添加化合物と、を含む、表面処理用組成物。
【請求項２】
前記ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式（Ａ）を有し、
Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ；
式中、Ｚは、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から独立して選択され、ａ’は、１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は、二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、独立して選択される脂肪族不飽和を有さないＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、Ｒ２、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りであり、
但し、添字ｉが０である場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数である場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数である場合、ｍもまた０を超える整数であることを条件とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）においてＸ”により表される前記加水分解可能な基が、ハロゲン化物基、−ＯＲ３、−ＮＨＲ３、−ＮＲ３Ｒ４、−ＯＯＣ−Ｒ３、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４、−Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５、及び−ＮＲ３ＣＯＲ４から独立して選択され、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、Ｈ及びＣ１〜Ｃ２２炭化水素基からそれぞれ独立して選択され、Ｒ３及びＲ４が、場合によっては、アルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ペルフルオロポリエーテル溶媒が、前記表面処理組成物の総重量に基づいて９５〜９９．９９重量％の量で前記表面処理組成物中に存在し、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、前記表面処理組成物の総重量に基づいて０．０１〜０．５重量％の量で前記表面処理組成物中に存在し、前記添加化合物が、前記表面処理組成物の総重量に基づいて０．００００４〜０．０６重量％の量で前記表面処理組成物中に存在する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記添加化合物が前記シラン化合物を含み、添字ａが１であり、Ｘが独立して選択されるアルコキシ基であり、Ｒがアミノ基を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記添加化合物が、前記シリルアミン化合物を含み、前記シリルアミン化合物が、テトラキス（ジメチルアミン）シラン、トリス（ジメチルアミン）メチルシラン、ビス（ジメチルアミン）ジメチルシラン、ビス［ジメチル（ビニル）シリル］アミン、ビス（トリメチルシリル）アミン、トリス（トリメチルシリル）アミン、及びそれらの組み合わせの群から選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
表面処理された物品を調製する方法であって、前記方法が、表面処理用組成物を物品の表面上に適用して、前記組成物から前記物品の前記表面上に層を形成する工程を含み、前記組成物が、
ポリフルオロポリエーテルシランと、
溶媒と、
添加化合物であって、
以下の一般式を有するシラン化合物であって、
ＲａＳｉＸ４−ａ；
式中、各Ｒは、置換若しくは非置換ヒドロカルビル基及び窒素含有置換基から独立して選択され、少なくとも１つのＲが窒素含有置換基であり、Ｘは、独立して選択される加水分解可能な基であり、１≦ａ＜４である、シラン化合物、
シリルアミン化合物、及び
それらの組み合わせから選択される、添加化合物と、を含む、方法。
【請求項８】
前記ペルフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式（Ａ）を有し、
Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ；
式中、Ｚは、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から独立して選択され、ａ’は１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は、二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、独立して選択される脂肪族不飽和を有さないＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、Ｒ２、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りであり、
但し、添字ｉが０である場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数である場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数である場合、ｍもまた０を超える整数であることを条件とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記物品の前記表面上の前記層を溶媒で洗浄する工程を含まない、請求項７及び８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記組成物を適用する工程が、ディップコーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、真空蒸発、物理的気相蒸着、スパッタリング、化学的気相蒸着、大気圧プラズマ、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項７〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）においてＸ”により表される前記加水分解可能な基が、ハロゲン化物基、−ＯＲ３、−ＮＨＲ３、−ＮＲ３Ｒ４、−ＯＯＣ−Ｒ３、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４、−Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５、及び−ＮＲ３ＣＯＲ４から独立して選択され、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、Ｈ及びＣ１〜Ｃ２２炭化水素基から独立して選択され、Ｒ３及びＲ４が、場合によっては、アルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記ペルフルオロポリエーテル溶媒が、前記表面処理組成物の総重量に基づいて９５〜９９．９９重量％の量で前記組成物中に存在し、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、前記表面処理組成物の総重量に基づいて０．０１〜０．５重量％の量で前記表面処理組成物中に存在し、前記添加化合物が、前記表面処理組成物の総重量に基づいて０．００００４〜０．０６重量％の量で前記表面処理組成物中に存在する、請求項７〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記添加化合物が前記シラン化合物を含み、添字ａが１であり、Ｘが独立して選択されるアルコキシ基であり、Ｒがアミノ基を含む、請求項７〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記添加化合物が、前記シリルアミン化合物を含み、前記シリルアミン化合物が、テトラキス（ジメチルアミン）シラン、トリス（ジメチルアミン）メチルシラン、ビス（ジメチルアミン）ジメチルシラン、ビス［ジメチル（ビニル）シリル］アミン、ビス（トリメチルシリル）アミン、トリス（トリメチルシリル）アミン、及びそれらの組み合わせの群から選択される、請求項７〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
請求項７に記載の方法に従って形成される表面処理された物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して、表面処理用組成物に関し、より具体的には、優れた物理的特性を有する層を形成するための組成物、組成物で表面処理された物品を調製する方法、及びそれから形成される表面処理された物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子及び光学機器／部品の表面は、多くの場合、手及び指の油により汚れやすく、しみが付きやすい。例えば、インタラクティブタッチスクリーンディスプレイなどの電子機器（例えば、スマートフォン）は、使用時に、一般に、指紋、皮脂、汗、化粧品などのしみが付く。一度、これらの汚れ及び／又はしみがこれらの機器の表面に付着すると、これらの汚れ及び／又はしみは容易に除去されない。更に、このような汚れ及び／又はしみは、これらの機器の使い勝手を低下させる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このような汚れ及びしみの出現及び蔓延を最小化しようと、従来の表面処理組成物が、従来の層を形成するよう様々な機器／部品の表面に適用されてきた。しかしながら、これらの機器／部品の表面に適用されると、従来の表面処理組成物は、望ましくない不均一な外観を残すことが多い。例えば、従来の表面処理組成物から形成された従来の層は、一般に、望ましくない筋を含む。したがって、このような機器／部品の表面は、一般に、従来の表面処理組成物を適用した後にすすがれ、そのため、追加の処理工程、費用、及び時間を必要とし、同時に、従来の層をすすぐ追加の工程に起因して従来の層の耐久性は減少する。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、表面処理用組成物を提供する。本組成物は、ポリフルオロポリエーテルシラン、溶媒、及び添加化合物を含む。添加化合物は、シラン化合物及びシリルアミン化合物から選択される。シラン化合物は、以下の一般式を有する：
ＲａＳｉＸ４−ａ；
式中、各Ｒは、置換若しくは非置換ヒドロカルビル基及び窒素含有置換基から独立して選択され、少なくとも１つのＲが窒素含有置換基であり、Ｘは、独立して選択される加水分解可能な基であり、１≦ａ＜４である。
【０００５】
本発明はまた、表面処理された物品を調製する方法を提供する。本方法は、表面処理組成物を物品の表面上に適用して、組成物から物品の表面上に層を形成する工程を含む。
【０００６】
更に、本発明は、本方法に従って形成される表面処理された物品を提供する。
【０００７】
本組成物は、汚れ及びしみ耐性、並びに優れた耐久性を含む、優れた物理的特性を有する層を形成する。そのため、本組成物から形成された層は、拡張された耐用寿命を有し、ここで、層が従来の組成物から形成された従来の層と比較して、このような望ましい物理的特性を有する。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明は、表面処理用組成物、表面処理された物品の調製方法、及びこの方法に従って製造される表面処理された物品を提供する。本組成物は、しみ及び汚れ耐性、並びに耐久性を含む、優れた物理的特性を有する層を形成する。
【０００９】
本組成物は、ポリフルオロポリエーテルシランを含む。ある特定の実施形態において、本組成物のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式（Ａ）を有する：Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。本組成物のポリフルオロポリエーテルシランは、一般式（Ａ）のものに制限されるものではないが、一般式（Ａ）の具体的な態様は、以下に更に詳細に説明される。添字ｂ〜ｇにより表される基、即ち、式（Ａ）における角括弧内の基は、上述の一般式（Ａ）及び本開示全体を通じて示されるものとは異なる順序を含む、任意の順序でポリフルオロポリエーテルシラン内に存在し得る。更に、これらの基はランダム化又はブロック形態で存在し得る。加えて、添字ｂにより表される基は、典型的には直鎖である、即ち、添字ｂにより表される基は、代替として（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂとして記述されてもよい。以下の説明において、炭化水素又はアルキル基に関するＣｐ〜Ｃｑ（ｐ及びｑがそれぞれ整数である）は、このような基がｐ〜ｑ個の炭素原子を有することを意味する。
【００１０】
上述の一般式（Ａ）において、Ｚは、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２）−、−（ＣＦ２−ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から独立して選択される。Ｚは、典型的に、ポリフルオロポリエーテルシランが骨格内に酸素−酸素（Ｏ−Ｏ）結合を含まないように選択される。加えて、この一般式において、ａ’は１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０又は１〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０又は１〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０又は１〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は、二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、独立して選択される脂肪族不飽和を有さないＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ２、Ｒ１、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りである。
【００１１】
独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であるＲ１は、直鎖、分枝鎖、又は環式であり得る。加えて、Ｒ１は、炭化水素基内に酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を含んでもよく、置換又は非置換であってもよい。典型的には、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基である。加えて、添字ｎ及びｊにより表される基、即ち、基（ＣｎＨ２ｎ）及び（ＣｊＨ２ｊ）もまた、直鎖又は分枝鎖であり得る。例えば、ｎが３である場合、これらの基は、独立して、構造−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２、又は−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）を有し得、後者の２つの構造は、側鎖アルキル基を有する、即ち、これらの構造は分枝鎖であり、直鎖ではない。
【００１２】
添字ｍ、ｉ、及びｊによって表される部分に関して、添字ｉが０の場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数である場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数である場合、ｍもまた０を超える整数である。言い換えると、添字ｉによって表される基が存在する場合、添字ｊによって表される基もまた存在する。逆もまた真であり、即ち、添字ｉによって表される基が存在しない場合には、添字ｊによって表される基もまた存在しない。加えて、ｉが０を超える整数である場合、添字ｍによって表される基は存在し、ｍもまた０を超える整数である。ある特定の実施形態において、添字ｍ及びｉは、それぞれ１である。典型的に、添字ｉは、１を超えないが、添字ｍは、シロキサン結合（即ち、Ｓｉ−Ｏ結合）が添字ｉによって表される基に存在するように、１を超える整数であり得る。
【００１３】
本組成物のポリフルオロポリエーテルシランは、ＹがＦである場合、Ｚが−（ＣＦ２）−であり、ａ’が１〜３の整数であり、添字ｃ、ｄ、ｆ、及びｉが０であるという条件に従う。
【００１４】
一般式（Ａ）においてＸ”により表される加水分解可能な基は、ハロゲン化物基、アルコキシ（−ＯＲ３）基、アルキルアミノ（−ＮＨＲ３若しくは−ＮＲ３Ｒ４）基、カルボキシ（−ＯＯＣ−Ｒ３）基、アルキルイミノキシ（−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４）基、アルケニルオキシ（Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５）基、又はＮ−アルキルアミド（−ＮＲ３ＣＯＲ４）基から独立して選択され、式中、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、Ｈ及びＣ１〜Ｃ２２炭化水素基からそれぞれ独立して選択される。Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、独立してＣ１〜Ｃ２２炭化水素基である場合、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、直鎖、分枝鎖、又は環式であり得る。加えて、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、独立して、炭化水素基内にヘテロ原子を含んでもよく、置換又は非置換であり得る。典型的に、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、それぞれ独立して選択されるＣ１〜Ｃ４アルキル基である。ある特定の実施形態において、一般式（Ａ）においてＸ”により表される加水分解可能な基は、アルコキシ（−ＯＲ３）基及びアルキルアミノ（−ＮＨＲ３若しくは−ＮＲ３Ｒ４）基から独立して選択される。一般式（Ａ）においてＸ”により表される加水分解可能な基がアルキルアミノ基である場合、Ｒ３及びＲ４は、場合によっては、アルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る。
【００１５】
この組成物のポリフルオロポリエーテルシランの具体的な種の非限定的な代表的実施形態は、下記に詳細に説明される。これらの実施形態では典型的に、ｚは、ポリフルオロポリエーテルシランが、Ｘ”により表される３つの加水分解可能な基を含むように、０である。しかしながら、上述のように、ｚは、これらの特定のポリフルオロポリエーテルシランが、３つよりも少ない加水分解可能な基を含むように、０以外の整数（例えば、１又は２）であってもよい。
【００１６】
ある特定の実施形態において、一般式（Ａ）におけるＹは、Ｆである。典型的には、一般式（Ａ）におけるＹがＦである場合、一般式（Ａ）における添字ｃ、ｄ、及びｇは、０である。このように、これらの実施形態では、添字ｃ、ｄ、及びｇにより表される基が不在の場合、ポリフルオロポリエーテルシランは、一般式Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚを有する。
【００１７】
上記で紹介したように、一般式（Ａ）におけるＹがＦである組成物の一実施形態において、一般式（Ａ）におけるＺは、−（ＣＦ２）−であり、一般式（Ａ）における添字ｃ、ｄ、ｆ、及びｇは、０であり、一般式（Ａ）における添字ｂ、ｅ、ｈ、及びｎは、それぞれ独立して０を超える整数である。この実施形態のほんの一例として、添字ａ’は３であり、添字ｂは少なくとも１であり、添字ｅは１であり、添字ｈは１であり、Ｘ’は酸素原子であり、添字ｎは３であり、添字ｍ、ｉ、及びｊは、それぞれ０である。この一例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。したがって、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、メトキシ基といったアルコキシ基である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３。あるいは、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、Ｎ（ＣＨ３）２基といったアルキルアミノ基である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｎ（ＣＨ３）２）３。これらの実施形態において、添字ｂは、典型的に、独立して選択される１７〜２５の整数である。
【００１８】
上記のように、一般式（Ａ）におけるＹがＦであり、一般式（Ａ）におけるＺが−（ＣＦ２）である表面処理組成物の別の実施形態では、一般式（Ａ）における添字ｃ、ｄ、ｆ、及びｇは、０であり、一般式（Ａ）における添字ｂ、ｅ、ｈ、ｎ、ｍ、ｉ、及びｊは、それぞれ独立して０を超える整数である。この実施形態のほんの一例として、添字ａ’は３であり、添字ｂは少なくとも１であり、添字ｅは１であり、添字ｈは１であり、Ｘ’は酸素原子であり、添字ｎは３であり、添字ｍ及びｉはそれぞれ１であり、添字ｊは２である。この一例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。したがって、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、メトキシ基といったアルコキシ基であり、ｚが０である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＦ２−（Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＦ２）ｂ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。これらの実施形態において、添字ｂは、典型的に、独立して選択される１７〜２５の整数である。
【００１９】
上記で紹介したように、一般式（Ａ）における添字ＹがＦである表面処理組成物の別の実施形態において、一般式（Ａ）におけるＺは、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−である。この実施形態において、一般式（Ａ）における添字ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｇは、０であり、一般式（Ａ）における添字ｆ、ｈ、及びｎは、それぞれ独立して０を超える整数である。この実施形態のほんの一例として、一般式（Ａ）における添字ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｇは、０であり、添字ａ’は少なくとも１であり、添字ｆは１であり、添字ｈは１であり、Ｘ’は酸素原子であり、添字ｎは３であり、添字ｉ、ｍ、及びｊは、それぞれ０である。この一例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２−Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。したがって、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、メトキシ基といったアルコキシ基であり、ｚが０である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２−Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３。あるいは、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、Ｎ（ＣＨ３）２基といったアルキルアミノ基である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＦ２−Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｎ（ＣＨ３）２）３。これらの実施形態において、添字ａ’は、典型的に、独立して選択される１４〜２０の整数である。
【００２０】
すぐ上で紹介したように、一般式（Ａ）における添字ＹがＦであり、一般式（Ａ）におけるＺが−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−である表面処理組成物の別の実施形態では、一般式（Ａ）における添字ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｇは、０であり、添字ａ’は少なくとも１であり、添字ｆは１であり、添字ｈは１であり、Ｘ’は酸素原子であり、添字ｎは３であり、添字ｍ及びｉはそれぞれ１であり、添字ｊは２である。この一例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。したがって、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、メトキシ基といったアルコキシ基であり、ｚが０である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。これらの実施形態において、添字ａ’は、典型的に、独立して選択される１４〜２０の整数である。
【００２１】
他の実施形態において、一般式（Ａ）におけるＹは、Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−である。典型的に、一般式（Ａ）におけるＹがＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−である場合、一般式（Ａ）における添字ｂ、ｃ、及びｆは、０である。このように、これらの実施形態では、添字ｂ、ｃ、及びｆにより表される基が不在の場合、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。
【００２２】
すぐ上で紹介したように、一般式（Ａ）におけるＹがＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−である一実施形態において、Ｚは−（ＣＦ２）−であり、Ｘ’は酸素原子であり、一般式（Ａ）における添字ｂ、ｃ、ｄ、及びｆは０であり、一般式（Ａ）における添字ｅ及びｇは、それぞれ独立して０を超える整数である。この実施形態のほんの一例として、Ｚは−（ＣＦ２）−であり、Ｘ’は酸素原子であり、一般式（Ａ）における添字ｂ、ｃ、ｄ、ｆ、ｍ、ｉ、及びｊは０であり、添字ｅは少なくとも１であり、添字ｇは少なくとも１であり、添字ｈは１であり、Ｘ’は酸素原子であり、ｎは３である。この一例において、ポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：（Ｒ２）ｚ（Ｘ”）３−ｚＳｉ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｇ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ。したがって、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、メトキシ基といったアルコキシ基であり、ｚが０である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｇ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＣＨ３）３。あるいは、Ｘ”により表される加水分解可能な基がすべて、例えば、Ｎ（ＣＨ３）２基といったアルキルアミノ基であり、ｚが０である場合、この特定のポリフルオロポリエーテルシランは、以下の一般式を有する：（（ＣＨ３）２Ｎ）３Ｓｉ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｇ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（Ｎ（ＣＨ３）２）３。
【００２３】
あるいは、上で紹介したように、一般式（Ａ）におけるＹがＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−である別の実施形態では、Ｚは−（ＣＦ２）−であり、Ｘ’は酸素原子であり、一般式（Ａ）における添字ｂ、ｃ、ｅ、及びｆは０であり、一般式（Ａ）における添字ｄ及びｇは、それぞれ独立して０を超える整数である。
【００２４】
ポリフルオロポリエーテルシランは、入手されてもよく又は形成されてもよく、別個の成分として組成物中に含まれ得るか、あるいは、ポリフルオロポリエーテルシランは、ポリフルオロポリエーテルシランとキャリア溶媒を組成物中に組み込む前に、キャリア溶媒の中に加えられ得る。キャリア溶媒が利用される場合には、キャリア溶媒は典型的には以下に開示される溶媒から選択されるが、他の溶媒が代替として利用されてもよい。
【００２５】
ポリフルオロポリエーテルシランは、典型的に、組成物の総重量に基づいて、０．０１〜０．５重量％、あるいは０．０５〜０．３５重量％、あるいは０．１０〜０．３０重量％の量で組成物中に存在する。溶媒の量は、以下に更に詳細に記載されるように、組成物中に採用される様々な任意成分の不在又は存在により、すぐ上に記載の範囲から変動し得る。
【００２６】
本組成物は、溶媒を更に含む。本組成物の溶媒は、ポリフルオロポリエーテルシランを少なくとも部分的に可溶化することが可能な任意の溶媒であり得る。例えば、ポリフルオロポリエーテルシランは、可能性のある溶媒が、ポリフルオロポリエーテルシランを少なくとも部分的に可溶化するかどうかを目視検査によって判定するために、可能性のある溶媒中に滴下添加され得る。より具体的には、ポリフルオロポリエーテルシランは、概して、溶媒中に分散するが、組成物は、溶媒がポリフルオロポリエーテルシランをどの程度良好に可溶化するかに応じて曇っているか、又は濁っている可能性がある。溶媒は、典型的には、溶媒がポリフルオロポリエーテルシランに対して非反応性であるように、選択される。本組成物に好適な溶媒の具体的な例としては、ペルフルオロ脂肪族Ｃ５〜Ｃ１２炭化水素（例えば、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロメチルシクロヘキサン、及びペルフルオロ−１，３−次メチルシクロヘキサン）、多フッ素化芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）、多フッ素化脂肪族炭化水素、ペルフルオロブチルメチルエーテル及び同様のＨＦＥ、ペルフルオロポリエーテル、ペルフルオロエーテル、窒素含有過フッ素化若しくは多フッ素化溶媒などが挙げられる。本組成物は、単一の溶媒又は２つ以上の溶媒の組み合わせを用いてもよい。このような溶媒は、直鎖、分枝鎖、環式、芳香族であってもよく、又はそれらの組み合わせを含有してもよい。
【００２７】
ある特定の実施形態において、上記のように、溶媒は、ペルフルオロポリエーテル溶媒を含む。ペルフルオロポリエーテル溶媒は、典型的に、大気圧にて少なくとも４０℃、あるいは少なくとも６０℃、あるいは少なくとも８０℃、あるいは少なくとも１００℃、の沸点温度を有する。具体的な一実施形態では、ペルフルオロポリエーテル溶媒は、大気圧にて１２５℃〜１４５℃、あるいは１３０℃〜１４０℃の沸点温度を有する。別の具体的実施形態では、ペルフルオロポリエーテル溶媒は、大気圧にて１６０℃〜１８０℃、あるいは１６５℃〜１７５℃の沸点温度を有する。典型的には、ペルフルオロポリエーテル溶媒の沸点温度は、大気圧にて１２０℃超〜１８０℃、あるいは１２５℃超〜１８０℃、あるいは１６０℃超〜１８０℃である。しかしながら、ペルフルオロポリエーテル溶媒の分子量に依存して、ペルフルオロポリエーテル溶媒の沸点温度は、１８０℃の上方範囲を超えてもよく、例えば、２００℃、２３０℃、又は２７０℃に至り得る。
【００２８】
溶媒がペルフルオロポリエーテル溶媒を含む実施形態では、本組成物の溶媒は、典型的に、以下の一般式（Ｂ）を有する：
【化１】
2015529703.tif 000002
式中、ｍ’は１を超える整数であり、ｎ’は０以上である。具体的には、上の一般式（Ａ）の添字ｍ’及びｎ’は、ペルフルオロポリエーテル溶媒の所望される沸点温度を提供することができるように選択される。具体的には、添字ｍ’及びｎ’、沸点温度、並びにペルフルオロポリエーテル溶媒の分子量の間の関係は、以下に記載される。
【００２９】
【表１】
2015529703.tif 000003
【００３０】
あるいは、上記のように、溶媒は、窒素含有過フッ素化又は多フッ素化溶媒を含み得る。これらの実施形態では、窒素含有過フッ素過又は多フッ素化溶媒は、典型的には、窒素原子が中心の原子である三級アミンであって、場合により酸素などのヘテロ原子を含む、過フッ素化又は多フッ素化置換基を３個有する三級アミンである。典型的には、窒素原子に結合した置換基のそれぞれは同一であるが、これらの置換基は、存在する炭素原子の数、ヘテロ原子の存在若しくは不在、及びフッ素含量の点で異なってもよい。これらの置換基は一般に２〜１０個の炭素原子を独立して含み、典型的には過フッ素化されている。このような窒素含有過フッ素化溶媒のほんの一例として、Ｃ１２Ｆ２７Ｎの代表的な構造は、例示目的のみのために以下に記載される：
【化２】
2015529703.tif 000004
【００３１】
典型的には、溶媒が窒素含有過フッ素化又は多フッ素化溶媒を含む場合、溶媒は、異なる窒素含有過フッ素化又は多フッ素化溶媒の組み合わせを含む。
【００３２】
溶媒は、任意の溶媒の組み合わせを含み得るが、このような組み合わせは典型的にはペルフルオロポリエーテル溶媒及び／又は窒素含有過フッ素化溶媒を含む。例えば、ペルフルオロポリエーテル溶媒は、窒素含有過フッ素化溶媒と共に利用され得る。あるいは、ペルフルオロポリエーテル溶媒及び／又は窒素含有過フッ素化溶媒は、互いに組み合わせて及び／又は他の溶媒と組み合わせて利用され得る。
【００３３】
組成物に利用される特定の溶媒に関係なく、溶媒は、典型的に、組成物の総重量に基づいて９５〜９９．９９重量％、あるいは９７．３５〜９９．９５重量％、あるいは９９．７〜９９．９重量％の量で、組成物中に存在する。溶媒の量は、以下に更に詳細に記載されるように、組成物中に採用される様々な任意成分の不在又は存在により、すぐ上に記載の範囲から変動し得る。
【００３４】
本組成物は、加えて、カップリング剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、色素、触媒などといった、任意の好適な他の成分を含んでもよい。
【００３５】
触媒は場合により、組成物による表面改質を促進するために利用され得る。これらの触媒は、ポリフルオロポリエーテルシランの加水分解可能な基と物品の表面との間の反応を促進する。これらの触媒は個々に使用されてもよく、あるいは、組成物中で２種以上の組み合わせとして使用されてもよい。好適な触媒化合物の例には、酸、例えば、カルボン酸、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、及び／又は吉草酸；塩基；有機酸の金属塩、例えば、ジブチルスズジオクトエート（dibutyl tin dioctoate）、ステアリン酸鉄、及び／又はリードオクトエート；チタン酸エステル、例えば、テトライソプロピルチタン酸塩及び／又はテトラブチルチタン酸塩；キレート化合物、例えば、アセチルアセトナートチタニウム；シラザン、例えば、ヘキサメチルジシラザン及び／又はジビニルテトラメチルジシラザン；シラン、例えば、テトラキス（ジメチルアミン）シラン及び／又はアミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。利用される場合、触媒は典型的には組成物の１００重量部に基づいて０重量％〜５重量％、あるいは０．０１重量％〜２重量％の量で利用される。
【００３６】
本組成物は、組成物から形成される層の耐久性を改善するための添加化合物を更に含む。添加化合物は、シラン化合物、シリルアミン化合物、及びそれらの組み合わせから選択される。
【００３７】
添加化合物に好適なシラン化合物は、以下の一般式を有する：
ＲａＳｉＸ４−ａ
式中、各Ｒは、置換若しくは非置換ヒドロカルビル基及び窒素含有置換基から独立して選択され、少なくとも１つのＲが窒素含有置換基であり、Ｘは、独立して選択される加水分解可能な基であり、１≦ａ＜４である。
【００３８】
シラン化合物のＸにより表される加水分解可能な基は、ハロゲン化物基、アルコキシ（−ＯＲ３）基、カルボキシ（−ＯＯＣ−Ｒ３）基、又はアルケニルオキシ（Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５）基から独立して選択され、式中、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５は、一般式（Ａ）により表されるポリフルオロポリエーテルシランの加水分解可能な基Ｘ”に関して上に定義される。より具体的には、シラン化合物のＸにより表される加水分解可能な基は、アルコキシ基から独立して選択され、これは、Ｒ３により表される、異なる数の炭素原子を有し得る。
【００３９】
Ｒにより表されるシラン化合物の窒素含有置換基は、アミノ基、アルキルアミノ（−ＮＨＲ３若しくは−ＮＲ３Ｒ４）基、アルキルイミノキシ（−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４）基、及びＮ−アルキルアミド（−ＮＲ３ＣＯＲ４）基から独立して選択され得る。添加化合物の窒素含有置換基がアルキルアミノ基である場合、Ｒ３及びＲ４は、場合によってはアルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る。窒素含有置換基の窒素原子は、シラン化合物のケイ素原子に直接結合し得るか、又は窒素原子は、場合によってはヘテロ原子（複数可）、例えば酸素を含み得る、二価の連結基、例えば、（ＣＨ２）ｘによって、シラン化合物のケイ素原子に結合し得る。
【００４０】
上記のように、１≦ａ＜４である。このように、シラン化合物は、少なくとも１つの窒素含有置換基を必然的に含む。より具体的には、添字ａは、１〜３、あるいは１〜２、あるいは１の整数である。このように、少なくとも１つのＲが窒素含有置換基であるため、添字ａが１である実施形態では、シラン化合物は、（窒素含有置換基が置換ヒドロカルビル基を構築しない限り）置換又は非置換ヒドロカルビル基を含まない。
【００４１】
本組成物の添加化合物に好適なシラン化合物の具体的な例としては、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、［３−（２−アミノエチルアミノ）プロピル］トリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、及びそれらの組み合わせが挙げられるがこれらに限定されない。
【００４２】
上記のように、他の実施形態では、添加化合物は、シリルアミン化合物を含む。シリルアミン化合物は、１つ以上のケイ素原子及び／又は１つ以上の窒素原子を含み得る。より典型的には、しかしながら、シリルアミン化合物は、１つを超えるケイ素原子及び１つを超える窒素原子を１つの分子中に同時に含まない、即ち、シリルアミン化合物は、１つのケイ素原子及び２つ以上の窒素原子を含むか、又はシリルアミン化合物は、１つの窒素原子及び２つ以上のケイ素原子を含む。ある特定の実施形態において、シリルアミン化合物は、２〜４個の窒素系置換基を有する中心ケイ素を含み、他の実施形態では、シリルアミン化合物は、２〜３個の窒素系置換基を有する中心窒素原子を含む。シリルアミン化合物は、少なくとも１つ、典型的には少なくとも２つのＳｉ−Ｎ結合を有する。しかしながら、単一のケイ素原子は、２つのＳｉ−Ｎ結合をもたらすように２つの異なる窒素原子に結合するか、又は単一の窒素原子に結合し得る。
【００４３】
この目的で、シリルアミン化合物は、シラザン化合物と称され得るが、すべてのシリルアミン化合物がＳｉ−Ｈ結合を含むわけではなく、これは、一般に、従来的なシラザン化合物中に存在する。シリルアミン化合物のケイ素及び窒素原子の置換基は、典型的に、水素及び置換若しくは非置換ヒドロカルビル基から選択される。より具体的には、シリルアミン化合物のケイ素及び窒素原子の置換基は、Ｃ１〜Ｃ４炭化水素基における窒素から選択され、これは、場合によっては１つ以上の不飽和炭素−炭素結合を含み得る。
【００４４】
本組成物の添加化合物に好適なシリルアミン化合物の具体的な例としては、テトラキス（ジメチルアミン）シラン、トリス（ジメチルアミン）メチルシラン、ビス（ジメチルアミン）ジメチルシラン、ビス［ジメチル（ビニル）シリル］アミン、ビス（トリメチルシリル）アミン、トリス（トリメチルシリル）アミン、及びそれらの組み合わせが挙げられる。
【００４５】
このようなシリルアミン化合物の化学構造は、例示のみの目的で以下に記載され、これらの化学構造は、添加化合物の目的で好適なすべての可能なシリルアミン化合物を表すものではなく、むしろ、これらはシリルアミン化合物の例示的な例にすぎない：
【化３】
2015529703.tif 000005
【００４６】
添加化合物は、入手されてもよく又は形成されてもよく、別個の成分として組成物中に含まれ得、あるいは、添加化合物は、添加化合物及びキャリア溶媒を組成物中に組み込む前に、キャリア溶媒中に加えられてもよい。キャリア溶媒が利用される場合には、キャリア溶媒は典型的には上に開示される溶媒から選択されるが、他の溶媒も利用され得る。
【００４７】
組成物に利用される添加化合物に関係なく、添加化合物は、典型的に、組成物の合計重量に基づいて０〜０．１重量％、あるいは０．０００４〜０．０５９７６重量％、あるいは０．００３４４５〜０．０４００３５重量％の量で、組成物中に存在する。添加化合物の量は、以下に更に詳細に記載されるように、組成物中に利用される様々な任意成分の不在又は存在により、すぐ上に記載の範囲から変動し得る。
【００４８】
添加化合物は、組成物から形成される層の外観及び耐久性の両方を改善する。
【００４９】
上記に示されているように、本発明は、表面処理された物品及び表面処理された物品の調製方法を更に提供し、これらは総じて下記に更に詳細に説明される。
【００５０】
表面処理された物品は、表面を呈する物品を含む。層は、物品の表面に堆積させる。層は組成物から形成され、表面処理された物品を調製するために物品の表面上に適用される。物品は、任意の物品であり得るが、本発明の組成物から得られる優れた物理的特性のため、この物品は、典型的には、電子物品、光学物品、消費財及び部品、自動車車体及び部品などである。最も典型的には、この物品は、指紋又は皮脂によりもたらされる汚れ及び／又はしみを低減させることが望ましい物品である。
【００５１】
電子物品の例には、典型的に、電子ディスプレイ、例えばＬＣＤディスプレイ、ＬＥＤディスプレイ、ＯＬＥＤディスプレイ、プラズマディスプレイなどを有するものが挙げられる。これらの電子ディスプレイは、種々の電子機器、例えば、コンピュータディスプレイ、テレビ、スマートフォン、ＧＰＳ装置、音楽プレーヤー、リモートコントロール、ポータブルリーダなどに用いられることが多い。例示的な電子物品には、インタラクティブタッチスクリーンディスプレイ又は皮膚と接触することが多く、汚れ及び／若しくはしみを表示することが多い他の部品を有するものが挙げられる。
【００５２】
上記で紹介したように、物品はまた、民生用機器及び部品のような金属物品であってもよい。代表的な物品は、食器洗浄機、ストーブ、電子レンジ、冷蔵庫、冷凍庫などであり、典型的には、例えば、ステンレス鋼、艶消しニッケルなどのような光沢のある金属外観を有する。
【００５３】
あるいは、物品は、自動車車体又は部品であり得る。例えば、この組成物は、自動車車体に光沢のある外観を付与する層であって、審美的に心地良く、埃などの汚れ及び指紋からのしみを防ぐ層を形成するために、自動車車体のトップコート上に直接適用され得る。
【００５４】
好適な光学物品の例としては、ガラス板、無機層を含むガラス板、セラミックス、及びこれらに類するものなどの無機材料が挙げられる。好適な光学物品の更なる例には、有機材料、例えば、透明なプラスチック材料及び無機層を含む透明なプラスチック材料などが挙げられる。光学物品の特定の例には、反射防止フィルム、光学フィルタ、光学レンズ、眼鏡のレンズ、ビームスプリッタ、プリズム、鏡などが挙げられる。
【００５５】
無機材料の例には、ガラス板が挙げられる。無機層を含むガラス板を形成するための無機化合物の例には、金属酸化物（酸化ケイ素、例えば二酸化ケイ素、一酸化ケイ素など）、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化アンモチン、酸化インジウム、酸化ビスマス、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）などが挙げられる。
【００５６】
このような無機化合物を含む無機層又は無機材料は、単一又は複数の層であり得る。無機層は、反射防止層として機能し、ウェットコーティング法などの既知の方法によって形成され得る。ウェットコーティング法の例には、ディップコーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティングなどの方法が挙げられる。ＰＶＤ方法の例には、真空蒸発、反応性蒸着、複合照射法、スパッタリング、イオンめっき、及び同様の方法が挙げられる。
【００５７】
有機材料の中で、透明なプラスチック材料の例としては、様々な有機ポリマーを含む材料が挙げられる。透明性、屈折率、分散性、及びこれらに類するものといった光学特性、並びに衝撃耐性、耐熱性、及び耐久性などの様々な他の特性の観点から、光学部材として使用される材料は、通常、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレンなど）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリアミド（ナイロン６、ナイロン６６など）、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、アクリル、セルロース（トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファンなど）、又はこのような有機ポリマーのコポリマーを含む。これらの材料が眼科用素子において利用され得ることを理解されたい。眼科用素子の非限定例としては、補正又は非補正レンズ（例えば、二焦点、三焦点、及び多重焦点レンズのようなシングルビジョン又はマルチビジョンレンズ−仕切りされているか又は仕切りされていないかのいずれかであり得る−）、並びに視覚の補正、保護、又は改善のために使用される他の素子（限定するものではないが、例えば、コンタクトレンズ、眼球内レンズ、拡大レンズ、及び保護レンズ又は遮光板が挙げられる）が挙げられる。眼科用素子に好ましい材料は、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレートから選択される１種以上のポリマー、並びに、ポリカーボネートコポリマー、ポリオレフィン、特にポリノルボルネン、ジエチレングリコール−ビス（アリルカーボネート）ポリマー−ＣＲ３９として既知−及びコポリマー、（メタ）アクリルポリマー及びコポリマー、特にビスフェノールＡから誘導される（メタ）アクリルポリマー及びコポリマー、チオ（メタ）アクリルポリマー及びコポリマー、ウレタン及びチオウレタンポリマー及びコポリマー、エポキシポリマー及びコポリマー、並びにエピスルフィドポリマー及びコポリマーを含む。
【００５８】
このような光学物品に加えて、本発明の組成物は、自動車又は飛行機用の窓部材などの他の物品上に層を形成するために適用することができ、これにより、機能性の向上をもたらす。表面硬度の更なる改善のために、この組成物とＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）を組み合わせて用いるいわゆるゾル−ゲルプロセスにより表面改質を行うことも可能である。
【００５９】
層を形成するために組成物が適用され得る１つの具体的な対象基材は、Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ  ｏｆ  Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋから市販されているＣｏｒｎｉｎｇ（登録商標）Ｇｏｒｉｌｌａ（登録商標）Ｇｌａｓｓである。
【００６０】
物品の表面上に組成物を適用して、層を形成する工程は、典型的に、ウェットコーティング方法を含む。
【００６１】
この方法に好適なウェットコーティング方法の具体例としては、ディップコーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スロットコーティングなどの方法が挙げられる。
【００６２】
物品の表面上に組成物から層が形成されると、この層に、更に、加熱、加湿、触媒後処理、光照射、電子ビーム照射などを行うことができる。
【００６３】
典型的には、組成物から形成される層の厚さは、１〜１，０００ｎｍ、あるいは１〜２００ｎｍ、あるいは１〜２０ｎｍ、あるいは１〜１０ｎｍである。
【００６４】
上述のように、組成物から形成される層は、概して、従来の表面処理組成物から形成さされた層に付随する望ましくない筋を含まない、望ましい外観を有する。従来の組成物から形成された層は、従来の組成物に用いられる溶媒と同じか又は異なり得る溶媒で、洗浄及び／又はすすぎを行って、このような筋を最小限に抑える。しかしながら、このような洗浄及び／又はすすぎは、概して、摩耗耐性に悪影響を及ぼす。ある特定の実施形態において、表面処理された物品を調製する方法は、物品の表面上の層を溶媒で洗浄する工程を含まないにもかかわらず、本発明の組成物から形成された層は、優れた耐久性と共に望ましい外観を有する。
【００６５】
添付の特許請求の範囲は、詳細な説明に記述された明確で特定の化合物、組成物、又は方法に限定されず、化合物、組成物、又は方法が、添付の特許請求の範囲内にある特定の実施形態間で異なってもよい。様々な実施形態の具体的な特徴及び態様を説明するために本明細書において依拠されている任意のマーカッシュ群に関して、異なる、特殊な、及び／又は不測の結果は、すべての他のマーカッシュ群の構成要素から独立して、各マーカッシュ群のそれぞれの構成要素から得られるものとする。マーカッシュ群の各構成要素は、添付の特許請求の範囲内の特定の実施形態に個別及び／又は組み合わせで依存し得、これに適切な根拠を提供する。
【００６６】
更に、本発明の様々な実施形態を説明する際に依拠される任意の範囲及び部分範囲は、独立して及び総じて、添付の請求の範囲内に入り、たとえ、本明細書にその中の全部及び／又は一部の値が明記されていなくても、そのような値を包含する全範囲を説明及び想到するものと理解される。計数範囲及び部分範囲が、本発明の様々な実施形態を十分に記述しかつ可能にし、かかる範囲及び部分範囲が、更に、関連する２分の１、３分の１、４分の１、５分の１などに詳述されてよいことを当業者は容易に理解する。ほんの一例として、範囲「０．１〜０．９」は、下の方の３分の１、即ち、０．１〜０．３、中間の３分の１、即ち、０．４〜０．６、及び上の方の３分の１、即ち、０．７〜０．９に更に詳述でき、これらは、個別かつ集合的に添付の特許請求の範囲内であり、添付の特許請求の範囲内の特定の実施形態に個別及び／又は集合的に依存し得、これに適切な根拠を提供する。更に、「少なくとも」、「より大きい」、「未満」、「以下」などの範囲を定義又は修飾する用語に関して、かかる用語が部分範囲及び／又は上限若しくは下限を含むことを理解されたい。別の例として、「少なくとも１０」の範囲は、本質的に、少なくとも１０〜３５の部分範囲、少なくとも１０〜２５の部分範囲、２５〜３５の部分範囲などを含み、各部分範囲は、添付の特許請求の範囲内の特定の実施形態に個別及び／又は集合的に依存し得、これに適切な根拠を提供する。最終的には、開示された範囲内の個々の数は、添付の特許請求の範囲内の特定の実施形態に依存し得、これに適切な根拠を提供する。例えば、範囲「１〜９」は、様々な個々の整数、例えば、３、並びに小数点（又は分数）を含む個別の数、例えば、４．１を含み、これは添付の特許請求の範囲内の特定の実施形態に依存し得、これに適切な根拠を提供する。
【００６７】
以下の実施例は、本発明を例示することを意図しており、決して本発明の範囲を限定するものとして見られるものではない。
【実施例】
【００６８】
表面処理用組成物は、主題の開示に従って調製される。具体的には、以下に記載の組成物のそれぞれは、溶媒、添加化合物、及びポリフルオロポリエーテルシランを含む（このような添加化合物を含まない比較実施例１を除く）。別途記載のない限り、以下に記載の任意の百分率は重量百分率に関する。
【００６９】
実施例１：
【００７０】
【表２】
2015529703.tif 000006
【００７１】
ポリフルオロポリエーテルシラン１は、以下の一般式を有する：Ｆ−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ａ’−ＣＦ（ＣＦ３）−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、式中、ａ’は１４〜２０の整数である。
【００７２】
添加化合物１は、テトラキス（ジメチルアミノシラン）を含むシリルアミン化合物である。
【００７３】
キャリア溶媒は、エトキシ−ノナフルオロブタン（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）である。
【００７４】
溶媒１は、大気圧にて約１７０℃の沸点温度を有し、以下の一般式を有する、ペルフルオロポリエーテル溶媒である：
【化４】
2015529703.tif 000007
式中、約７６０Ｄａの平均分子量を提供することができるように、ｍ’は１以上の整数であり、ｎ’は０以上である。
【００７５】
実施例２：
【００７６】
【表３】
2015529703.tif 000008
【００７７】
添加化合物２は、ビス［ジメチル（ビニル）シリル）アミンを含むシリルアミン化合物である。
【００７８】
実施例３：
【００７９】
【表４】
2015529703.tif 000009
【００８０】
添加化合物３は、アミノプロピルトリエトキシシランを含むシラン化合物である。
【００８１】
比較実施例１：
【００８２】
【表５】
2015529703.tif 000010
【００８３】
実施例１〜３及び比較実施例１の組成物は、それぞれ、基材の表面に適用される。具体的には、これらの組成物は、６．９ｋＰａ（１ｐｓｉ）の霧化圧、３４．５ｋＰａ（５ｐｓｉ）の液圧、０．０６ｍｍ（２．５ｍｉｌ）のストローク、５．３ｃｍのノズル高さ、及び約２０，０００計数／秒の速度を有する、ＰＶＡ−１０００分注器を用いて、ガラス基材に適用される。それぞれの組成物を基材に適用した後、組成物を室温で約２４時間硬化させて、基材の上に層を形成した。
【００８４】
組成物から形成された層の物理的特性が測定される。具体的には、以下に更に詳細に記載されるように、層のそれぞれの水接触角及び摩耗耐性が測定される。
【００８５】
層の摩耗耐性、即ち、耐久性は、Ｔａｂｅｒ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから市販されている往復式摩耗試験機Ｍｏｄｅｌ  ５９００を用いる摩耗耐性試験によって判定される。用いた摩耗材料は、６．５ｍｍ×１２．２ｍｍの寸法を有する摩擦式消しゴムであった。往復式摩耗試験機は、２．５センチメートル（１インチ）のストローク長さ及び５Ｎの荷重で、毎分４０サイクルの速度で１５００サイクルにわたって操作される。
【００８６】
各層の水接触角（ＷＣＡ）は、ＶＣＡ  Ｏｐｔｉｍａ  ＸＥ測角器（ＡＳＴ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ，Ｉｎｃ．（Ｂｉｌｌｅｒｉｃａ，ＭＡ）から市販）を用いて測定される。測定される水接触角は、各層上の２μＬ液滴に基づく静的接触角である。水接触角は、摩耗耐性試験の前及び後に測定される。
【００８７】
【表６】
2015529703.tif 000011
【００８８】
表５に明確に示されるように、摩耗耐性試験後のＷＣＡは、特に添加化合物を含まなかった比較実施例１の層と比較して、実施例１〜３の層のそれぞれについては実質的に維持された。例えば、実施例の層のいずれについても、これらの層の初期ＷＣＡと比較して最も低い最終ＷＣＡは、実施例３におけるものであり、ここで、最終ＷＣＡは、初期ＷＣＡの約８７．６％であった（この値は、実施例１では約８９．３％であり、実施例２では約９２．８％であった）。しかしながら、対照的に、比較実施例１の層についてのＷＣＡは、初期ＷＣＡのたった４６．３％であり、これは、本添加化合物の不在に起因する。
【００８９】
本発明を説明的に述べてきたが、使用した用語が、限定ではなく記述の語句の本質を意味するものであることを理解されたい。明らかに本発明の多くの修正及び変更が上記教示から可能である。本発明は、具体的に記載した方法の通り以外の方法でも実施され得る。
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月12日(2015.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面処理用組成物であって、
ポリフルオロポリエーテルシランと、
溶媒と、
添加化合物であって、
以下の一般式を有するシラン化合物であって、
ＲａＳｉＸ４−ａ；
式中、各Ｒは、置換若しくは非置換ヒドロカルビル基及び窒素含有置換基から独立して選択され、少なくとも１つのＲが窒素含有置換基であり、Ｘは、独立して選択される加水分解可能な基であり、１≦ａ＜４である、シラン化合物、
シリルアミン化合物、及び
それらの組み合わせから選択される、添加化合物と、を含む、表面処理用組成物。
【請求項２】
前記ポリフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式（Ａ）を有し、
Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ；
式中、Ｚは、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から独立して選択され、ａ’は、１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は、二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、独立して選択される脂肪族不飽和を有さないＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、Ｒ２、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りであり、
但し、添字ｉが０である場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数である場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数である場合、ｍもまた０を超える整数であることを条件とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）においてＸ”により表される前記加水分解可能な基が、ハロゲン化物基、−ＯＲ３、−ＮＨＲ３、−ＮＲ３Ｒ４、−ＯＯＣ−Ｒ３、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４、−Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５、及び−ＮＲ３ＣＯＲ４から独立して選択され、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、Ｈ及びＣ１〜Ｃ２２炭化水素基からそれぞれ独立して選択され、Ｒ３及びＲ４が、場合によっては、アルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ペルフルオロポリエーテル溶媒が、前記表面処理組成物の総重量に基づいて９５〜９９．９９重量％の量で前記表面処理組成物中に存在し、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、前記表面処理組成物の総重量に基づいて０．０１〜０．５重量％の量で前記表面処理組成物中に存在し、前記添加化合物が、前記表面処理組成物の総重量に基づいて０．００００４〜０．０６重量％の量で前記表面処理組成物中に存在する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記添加化合物が前記シラン化合物を含み、添字ａが１であり、Ｘが独立して選択されるアルコキシ基であり、Ｒがアミノ基を含む、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記添加化合物が、前記シリルアミン化合物を含み、前記シリルアミン化合物が、テトラキス（ジメチルアミン）シラン、トリス（ジメチルアミン）メチルシラン、ビス（ジメチルアミン）ジメチルシラン、ビス［ジメチル（ビニル）シリル］アミン、ビス（トリメチルシリル）アミン、トリス（トリメチルシリル）アミン、及びそれらの組み合わせの群から選択される、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
表面処理された物品を調製する方法であって、前記方法が、表面処理用組成物を物品の表面上に適用して、前記組成物から前記物品の前記表面上に層を形成する工程を含み、前記組成物が、
ポリフルオロポリエーテルシランと、
溶媒と、
添加化合物であって、
以下の一般式を有するシラン化合物であって、
ＲａＳｉＸ４−ａ；
式中、各Ｒは、置換若しくは非置換ヒドロカルビル基及び窒素含有置換基から独立して選択され、少なくとも１つのＲが窒素含有置換基であり、Ｘは、独立して選択される加水分解可能な基であり、１≦ａ＜４である、シラン化合物、
シリルアミン化合物、及び
それらの組み合わせから選択される、添加化合物と、を含む、方法。
【請求項８】
前記ペルフルオロポリエーテルシランが、以下の一般式（Ａ）を有し、
Ｙ−Ｚａ’−［（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＣＦ（ＣＦ３））ｆ−（ＯＣＦ２）ｇ］−（ＣＨ２）ｈ−Ｘ’−（ＣｎＨ２ｎ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｊＨ２ｊ）−Ｓｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ；
式中、Ｚは、−（ＣＦ２）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）−、−（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、及び−（ＣＦ（ＣＦ３））−から独立して選択され、ａ’は１〜２００の整数であり、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、及びｇは、０〜２００からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｈ、ｎ、及びｊは、０〜２０からそれぞれ独立して選択される整数であり、ｉ及びｍは、０〜５からそれぞれ独立して選択される整数であり、Ｘ’は、二価の有機基又は酸素原子であり、Ｒ１は、独立して選択されるＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、ｚは、０〜２から独立して選択される整数であり、Ｘ”は、独立して選択される加水分解可能な基であり、Ｒ２は、独立して選択される脂肪族不飽和を有さないＣ１〜Ｃ２２炭化水素基であり、Ｙは、Ｆ及びＳｉ−（Ｘ”）３−ｚ（Ｒ２）ｚ（ＣｊＨ２ｊ）−（（ＳｉＲ１２−Ｏ）ｍ−ＳｉＲ１２）ｉ−（ＣｎＨ２ｎ）−Ｘ’−（ＣＨ２）ｈ−から選択され、Ｘ”、Ｘ’、ｚ、Ｒ１、Ｒ２、ｊ、ｍ、ｉ、ｎ、及びｈは、上に定義される通りであり、
但し、添字ｉが０である場合、添字ｊもまた０であり、添字ｉが０を超える整数である場合、添字ｊもまた０を超える整数であり、添字ｉが０を超える整数である場合、ｍもまた０を超える整数であることを条件とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記物品の前記表面上の前記層を溶媒で洗浄する工程を含まない、請求項７及び８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記組成物を適用する工程が、ディップコーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、真空蒸発、物理的気相蒸着、スパッタリング、化学的気相蒸着、大気圧プラズマ、及びそれらの組み合わせから選択される、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記ポリフルオロポリエーテルシランの一般式（Ａ）においてＸ”により表される前記加水分解可能な基が、ハロゲン化物基、−ＯＲ３、−ＮＨＲ３、−ＮＲ３Ｒ４、−ＯＯＣ−Ｒ３、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ３Ｒ４、−Ｏ−Ｃ（＝ＣＲ３Ｒ４）Ｒ５、及び−ＮＲ３ＣＯＲ４から独立して選択され、Ｒ３、Ｒ４、及びＲ５が、Ｈ及びＣ１〜Ｃ２２炭化水素基から独立して選択され、Ｒ３及びＲ４が、場合によっては、アルキルアミノ基内で環式アミンを形成し得る、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記ペルフルオロポリエーテル溶媒が、前記表面処理組成物の総重量に基づいて９５〜９９．９９重量％の量で前記組成物中に存在し、前記ポリフルオロポリエーテルシランが、前記表面処理組成物の総重量に基づいて０．０１〜０．５重量％の量で前記表面処理組成物中に存在し、前記添加化合物が、前記表面処理組成物の総重量に基づいて０．００００４〜０．０６重量％の量で前記表面処理組成物中に存在する、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記添加化合物が前記シラン化合物を含み、添字ａが１であり、Ｘが独立して選択されるアルコキシ基であり、Ｒがアミノ基を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
前記添加化合物が、前記シリルアミン化合物を含み、前記シリルアミン化合物が、テトラキス（ジメチルアミン）シラン、トリス（ジメチルアミン）メチルシラン、ビス（ジメチルアミン）ジメチルシラン、ビス［ジメチル（ビニル）シリル］アミン、ビス（トリメチルシリル）アミン、トリス（トリメチルシリル）アミン、及びそれらの組み合わせの群から選択される、請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
請求項７に記載の方法に従って形成される表面処理された物品。
【国際調査報告】
2015529703.tif 000012
2015529703.tif 000013