(57)【要約】  安定性を改善するために沈殿シリカを熱処理する方法。そのような熱処理沈殿シリカ研磨剤とスズイオン源とを含む口腔ケア組成物。
2015535262.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
沈殿シリカ粒子の、金属イオンとの安定性を改善する方法であって、前記方法が
ａ）１つ以上の沈殿シリカ粒子を提供する工程と、
ｂ）前記沈殿シリカ粒子を、ある時間にわたって少なくとも８００℃の温度に晒して、１つ以上の処理沈殿シリカ粒子を製造する工程と、
を含み、前記時間が５分未満、好ましくは３分以下である、方法。
【請求項２】
前記時間が２分以下である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記温度が８５０℃〜１０５０℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法によって製造された処理沈殿シリカ。
【請求項５】
請求項１に記載の方法によって製造された１つ以上の処理沈殿シリカ粒子とスズイオン源とを含む、口腔ケア組成物。
【請求項６】
前記スズイオン源が、フッ化第一スズである、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記スズイオンが、塩化スズ、グルコン酸スズ、酢酸スズ、酒石酸スズ、シュウ酸スズ、硫酸スズ、クエン酸スズ、マロン酸スズ、乳酸スズ、リン酸スズ、二リン酸スズ、臭化スズ、ヨウ化スズ、及びこれらの混合物からなる群から選択されるスズ塩である、請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
前記スズの量が１０，０００ｐｐｍ未満である、請求項５に記載の組成物。
【請求項９】
前記スズイオンが、２５℃での２週間の保管後に、８０％を超える適合性を有する、請求項５に記載の組成物。
【請求項１０】
キレート剤を更に含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項１１】
前記キレート剤が、エトキシル化及び非エトキシル化モノ又はジアルキルホスフェート又はホスホネートを含む、高分子有機リン酸化合物から選択される、請求項８に記載の組成物。
【請求項１２】
１種以上の精油を更に含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項１３】
２種の精油を含み、第１の精油が、非環式又は非環状構造からなる群から選択され、第２の精油が環含有構造から選択される、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１４】
ゲルネットワークを更に含む、請求項５に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、沈殿シリカ粒子の熱処理のための方法及びそのような処理をした沈殿シリカ粒子を含む口腔ケア組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
有効な口腔用組成物は、歯の着色汚れを除去し、かつ歯を研磨することによって、歯の外観の維持及び保護を可能にする。また同じく、有効な口腔用組成物は外面のくずも洗浄して除去し、このことは、歯の齲蝕の予防に役立ち、歯肉の健康を促進し得る。
【０００３】
口腔用組成物中の研磨剤は、歯の着色汚れが固着する、密着性のペリクル膜の除去に役立つ。通常、ペリクル膜は、歯の洗浄後の数分以内でエナメル質に付着する、薄い無細胞糖タンパク質−ムコタンパク質の被膜を含む。この膜の内部に残留する様々な食品色素の存在は、歯の変色の殆どの場合で主な原因となる。研磨剤は、象牙質及びエナメル質などの口腔組織に対する磨耗損傷を最小限に抑えつつ、ペリクル膜を除去することができる。
【０００４】
洗浄に加えて、研磨された表面は、望ましくない構成成分の異所性沈着に対してより抵抗性を示し得るため、研磨剤系が歯表面の研磨を提供することが望ましい場合がある。歯の外観は、研磨されていることを示す特徴を歯に付与することによって改善することができるが、これは歯の視覚的外観に一体となって関連する光の反射及び散乱に対して、表面粗さ、すなわち表面の研磨が影響を与えるためである。表面粗さはまた、歯の感触にも影響を与える。例えば、研磨された歯は、清浄で、平坦で、かつ平滑な感触を有する。
【０００５】
多くの歯磨剤組成物は、研磨剤として沈殿シリカを使用する。沈殿シリカは、米国特許第４，３４０，５８３号（Ｗａｓｏｎ、１９８２年７月２０日）、欧州特許第５３５，９４３（Ａ１）号（ＭｃＫｅｏｗｎら、１９９３年４月７日）、ＰＣＴ出願国際公開第９２／０２４５４号（ＭｃＫｅｏｗｎら、１９９２年２月２０日）、米国特許第５，６０３，９２０号（Ｒｉｃｅ、１９９７年２月１８日）、及び同第５，７１６，６０１号（Ｒｉｃｅ、１９９８年２月１０日）、並びに同第６，７４０，３１１号（Ｗｈｉｔｅら、２００４年５月２５日）に注記され、説明されている。
【０００６】
歯の有効な洗浄を提供する一方で、口腔用組成物中の沈殿シリカは、スズイオンなどの基本的な製剤活性物質との適合性の問題を提示し得る。これらの適合性の問題は、表面積、ヒドロキシル基の数、及び気孔率などの、沈殿シリカの表面特性に直接関連することが認められている。
【０００７】
Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅに譲渡されたＰＣＴ出願国際公開第９３／２３００７号は、３００〜８５０℃で１〜３時間の沈殿シリカの熱処理により、ＣＰＣ又はクロルヘキシジンとの適合性を大幅に改善できることを開示している。非フッ化物治療薬にも言及している。
【０００８】
米国特許第４，３４６，０７１号（ＰＱ  Ｃｏｒｐ−１９８７年８月２４日）は、シリカゲルを脱水した後再水和することによる摩耗性の改善を開示している。上記特許では、シリカゲルを３１０℃に加熱していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】米国特許第４，３４０，５８３号
【特許文献２】欧州特許第５３５，９４３（Ａ１）号
【特許文献３】ＰＣＴ出願国際公開第９２／０２４５４号
【特許文献４】米国特許第５，６０３，９２０号
【特許文献５】米国特許第５，７１６，６０１号
【特許文献６】米国特許第６，７４０，３１１号
【特許文献７】ＰＣＴ出願国際公開第９３／２３００７号
【特許文献８】米国特許第４，３４６，０７１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
スズイオンとの、良好な適合性を有しながらも、歯組織の有効かつ安全な洗浄及び研磨を提供する、研磨剤系が必要とされる。更に、低減されたコストで、優れた洗浄及び研磨を生み出すことができる研磨剤も依然として必要とされている。沈殿シリカ粒子の熱処理に関係する本発明の方法及び組成物は、これらの利点の１つ以上を提供し得る。本発明は、改善された沈殿シリカ粒子を含有する口腔組成物、及びより優れたスズ安定性を提供し得るそのような口腔組成物の使用方法にも関する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
理論によって制限されるものではないが、驚くべきことに、沈殿シリカ粒子の高温での急速な熱処理は、内部沈殿シリカ構造を維持しながら表面のヒドロキシルを削減し、その結果スズイオンとの安定性が改善されることが今回見出された。
【００１２】
したがって、本発明の方法は、沈殿シリカ粒子を約８００℃〜約１０５０℃の温度を有する熱で５分未満処理する工程を包含する。得られる処理された沈殿シリカ粒子は、驚くべきことに、改善されたスズイオンとの適合性及び／又は改善されたＰＣＲ測定値を示す。
【００１３】
本発明の口腔ケア組成物は、熱処理沈殿シリカとスズイオン源とを含む。スズイオンは、フッ化第一スズからのもの、又は塩化スズ、グルコン酸スズ、酢酸スズ、酒石酸スズ、シュウ酸スズ、硫酸スズ、クエン酸スズ、マロン酸スズ、乳酸スズ、リン酸スズ、二リン酸スズ、臭化スズ、ヨウ化スズ、及びこれらの混合物からなる群から選択される、スズ塩からのものとすることができる。スズイオンの量は、約５０ｐｐｍ〜約１５，０００ｐｐｍ、又は約１０，０００ｐｐｍ未満とすることができる。
【００１４】
一実施形態では、スズイオンは、２５℃での２週間の保管後又は使用前に、８０％を超える適合性を有するであろう。別の実施形態では、この適合性は、２５℃で、又は使用前に、９０％を超え得る。
【００１５】
熱処理沈殿シリカとスズイオン源とを含む組成物を対象者の口腔に投与することにより、歯垢、歯肉炎、過敏症、口腔の悪臭、侵食、空洞、結石、炎症、及び着色汚れを低減する方法も開示される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】下記の表２に含まれる２時間加熱時のＺ−１１９シリカのＱ３値への影響のデータのグラフ表示。
【図２】下記の表２に含まれる２時間の熱処理後のＺ−１１９シリカのＱ３値とスズ適合性との関係のデータのグラフ表示。
【図３】下記の表２に含まれる２分の時点のデータのスズ適合性をシリカの熱処理に対してプロットしたグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本明細書は、本発明を具体的に指摘しかつ明確に主張する特許請求の範囲を結論とするが、以下の説明により、本発明がよりよく理解されるものと考えられる。
【００１８】
用語の定義
本明細書で使用するとき、用語「口腔使用が可能なキャリア」とは、本発明の組成物の形成、及び／若しくは安全かつ効果的な方法での本発明の組成物の口腔への適用、に使用できる、好適な賦形剤又は成分を意味する。このような賦形剤としては、フッ化物イオン源、抗菌剤、抗結石剤、緩衝剤、他の研磨剤材料、過酸化物源、アルカリ金属重炭酸塩、増粘剤、保湿剤、水、界面活性剤、二酸化チタン、香味系、甘味剤、冷感剤、キシリトール、着色剤、他の好適な材料、及びこれらの混合物、などの材料を挙げることができる。
【００１９】
本明細書で使用するとき、用語「含む」とは、特定的に言及したもの以外の工程、及び成分を付加できることを意味する。この用語は、「からなる」及び「から本質的になる」を包含する。本発明の組成物は、本明細書に記載の発明の必須要素及び制限、並びに本明細書に記載のいずれの追加的、若しくは任意選択の、成分、構成成分、工程、又は制限をも含み、これらからなり、及びこれらから本質的になることができる。
【００２０】
本明細書で使用するとき、用語「有効量」とは、当業者の妥当な判断の範囲内にある、化合物又は組成物の明白な利益、つまり口腔の健康の利益、を誘導するのに十分な量であり、かつ／又は重篤な副作用を回避するのに十分低い量である量、すなわち合理的な利益対リスク比を提供する量を意味する。
【００２１】
本明細書で使用するとき、用語「口腔用組成物」とは、通常の使用過程において、口腔の活性を目的として、一部若しくは全ての、歯表面及び／又は口腔組織と接触させるのに十分な時間にわたって、口腔内に保持される製品を意味する。本発明の口腔用組成物は、練り歯磨き、歯磨剤、歯磨きゲル、歯磨き粉、タブレット、洗口剤、歯肉縁下用ゲル、フォーム、ムース、チューインガム、リップスティック、スポンジ、フロス、歯面研磨ペースト、ペトロラタムゲル、又は義歯製品が含まれる、様々な形態とすることができる。口腔用組成物はまた、口腔表面への直接的な適用若しくは取り付け用の、ストリップ上又はフィルム上に組み込んでも、あるいはフロス内に組み込んでもよい。
【００２２】
本明細書で使用するとき、用語「歯磨剤」とは、特に指示のない限り、口腔の表面を洗浄するために使用する、ペースト、ゲル、粉末、タブレット、又は液体の製剤を意味する。
【００２３】
本明細書で使用するとき、用語「歯」とは、天然歯、並びに人工歯、又は歯科補綴物を指す。
【００２４】
本明細書で使用するとき、用語「ポリマー」は、１種のモノマーの重合によって作られるか、又は２種（すなわち、コポリマー）、若しくはそれ以上の種類のモノマーによって作られる材料を含むものとする。
【００２５】
本明細書で使用するとき、用語「水溶性」とは、本発明の組成物において、材料が水に可溶性であることを意味する。一般的には、材料は、２５℃において、水溶媒の０．１重量％の濃度で、好ましくは１重量％の濃度で、より好ましくは５重量％の濃度で、より好ましくは１５重量％の濃度で可溶性であるべきである。
【００２６】
本明細書で使用するとき、用語「相」は不均質な系の、機械的に分離した、均一な部分を意味する。
【００２７】
本明細書で使用するとき、用語「実質的に非水和」とは、材料が少数の表面ヒドロキシル基を有するか、又は表面ヒドロキシル基を実質的に含まないことを意味する。これはまた、材料が約５％未満の総水分量（自由水又は／及び結合水）を含有することも意味し得る。
【００２８】
本明細書で使用するとき、用語「大半」とは、大きな数又は大きな部分、全体の半分を超える数を意味する。
【００２９】
本明細書で使用するとき、用語「中央」とは、分布の中央の値であり、その値の上及び下に、同数の値が存在することを意味する。
【００３０】
特に断らない限り、比率、部、及び比は全て、本発明の組成物の総重量に基づく。記載の成分に関する、このような全ての重量は、その活性物質の濃度に基づくものであり、そのため特に指示のない限り、市販材料に含まれ得る溶媒、又は副生成物を含まない。「重量パーセント」という用語は、本明細書では「重量％」として表示し得る。
【００３１】
特に指示のない限り、本明細書で使用するとき、全ての分子量は、グラム／モルで表される重量平均分子量である。
【００３２】
熱処理沈殿シリカ
本発明は、熱処理沈殿シリカを口腔用組成物、特に歯磨剤組成物に使用する。現在の多数の歯磨剤組成物が増粘剤及び研磨剤としてシリカを使用している。沈殿シリカは、水溶液からの沈殿、又は乾燥プロセスによって作製される。
【００３３】
沈殿シリカは、典型的には、３０ｍ２／ｇ〜８０ｍ２／ｇの範囲のＢＥＴ比表面積を有する。ＢＥＴ比表面積は、Ｂｒｕｎａｕｒら、Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，６０，３０９（１９３８）の、ＢＥＴ窒素吸着法によって測定される。米国特許第７，２５５，８５２号（Ｇａｌｌｉｓ、２００７年８月１４日発行）も参照されたい。
【００３４】
約５％未満の結合水及び自由水を有するシリカは、実質的に非水和であると見なすことができる。結合水及び自由水の総量は、２つの測定値、すなわち乾燥減量（ＬＯＤ）及び強熱減量（ＬＯＩ）を合計することによって算出することができる。乾燥減量に関しては最初に実施し、サンプルを１０５℃で２時間乾燥させ、その重量喪失を自由水とすることができる。強熱減量に関しては、次いで、乾燥させたサンプルを１０００℃で１時間加熱し、その重量喪失を結合水とすることができる。ＬＯＤとＬＯＩの合計が、元のサンプル中の、結合水及び自由水の総量を表す。例えば、典型的な沈殿シリカであるＺＥＯＤＥＮＴ  １９９（Ｚ−１１９）は、６．１％の乾燥減量及び５．１％の強熱減量を有し、総水分量は合計１１．２％である。（他の試験方法に関しては、Ｕｎｉｔｅｄ  Ｓｔａｔｅｓ  Ｐｈａｒｍａｃｏｐｅｉａ−Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｆｏｒｍｕｌａｒｙ（ＵＳＰ−ＮＦ），Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｃｈａｐｔｅｒ  ７３１，Ｌｏｓｓ  ｏｎ  Ｄｒｙｉｎｇ、及びＵＳＰ−ＮＦ，Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｃｈａｐｔｅｒ  ７３３，Ｌｏｓｓ  ｏｎ  Ｉｇｎｉｔｉｏｎを参照されたい）。
【００３５】
数種類のヒドロキシル（「−ＯＨ」）基（シラノール）が沈殿シリカに存在する：孤立した一重線、ジェミナル、及びビシナル。孤立した「Ｑ３」は、水素結合できないケイ素原子上に１つの−ＯＨ基が存在する場合である。ビシナルの「Ｑ３」は、隣接するケイ素原子上の別の−ＯＨ基と水素結合できるケイ素原子上に１つの−ＯＨ基が存在する場合である。ジェミナルの「Ｑ２」は、同じケイ素原子上に２つの−ＯＨ基が存在する場合である。更に、２個のケイ素原子が酸素原子を介して結合するシロキサン結合「Ｑ４」も存在する。ＮＭＲを使用して、所与のサンプルに存在するＱ２、Ｑ３、及びＱ４基の量を測定できる。
【００３６】
典型的な沈殿シリカの測定値は３０００強度／ｇを超え、典型的には３５００シラノール密度（強度／ｇ単位）を超える。表面ヒドロキシル基の計量は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）を使用して、特定のシリカのシラノール密度を測定することにより、明らかにすることができる。シラノールは、ヒドロキシル置換基が直接結合したケイ素原子を含有する化合物である。様々なシリカに対して固体ＮＭＲ分析を実施すると、ケイ素のシグナルは、近傍のプロトンからのエネルギー移動によって増強される。シグナルの増強量は、表面に位置する、又は表面近くに位置するヒドロキシル基中に見出されるプロトンに対する、ケイ素原子の近接度に応じて決定される。それゆえ、正規化したシラノールシグナル強度（強度／ｇ）として表されるシラノール密度は、表面ヒドロキシル濃度の尺度である。例えば、ＨｕｂｅｒのＺＥＯＤＥＮＴ  １１９は、３７１６強度／ｇである。シラノール密度に関する試験方法は、交差分極マジック角スピンニング（５ｋＨｚ）及びプロトン高出力デカップリングによる固体ＮＭＲ、並びにＤｏｔｙ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ製の７ｍｍ超音波デュアルチャネルプローブを備えたＶａｒｉａｎ  Ｕｎｉｔｙ  Ｐｌｕｓ−２００分光計を使用した。緩和遅延は４秒（ｓ）、及び接触時間は３ミリ秒とした。スキャンの数は８，０００〜１４，０００とし、試験時間枠は、１サンプル当たり１０〜１４時間とした。サンプルは、正規化手順のために０．１ｍｇに秤量する。スペクトルを絶対強度モードでプロットし、積分値を絶対強度モードで得た。スペクトルをプロットし、絶対強度モードで積分することによって、シラノール密度を測定する。
【００３７】
シリカの表面反応性、すなわち表面ヒドロキシルの相対数の反映は、溶液からメチルレッドを吸収するシリカの能力によって測定することができる。これによってシラノールの相対数を測定する。この試験は、メチルレッドが、シリカ表面の反応性シラノール部位上で選択的に吸光するという事実に基づく。
【００３８】
理論に束縛されるものではないが、本明細書に記載の方法による熱処理沈殿シリカは、表面ヒドロキシル基の数がより少ないことから、非処理沈殿シリカよりも反応性が低いと考えられる。その結果、熱処理沈殿シリカは、香味剤、活性物質、又はカチオンなどの、他の構成成分をより少なく吸着し、これらの他の構成成分の利用能の向上をもたらし得る。例えば、熱処理沈殿シリカを組み込んだ歯磨剤は、スズに関して優れた安定性及び利用能を有する。本発明による沈殿シリカの熱処理は、カチオン又は他の構成成分と少なくとも約５０％、６０％、７０％、８０％、又は９０％の適合性を生じ得る。カチオンは、スズイオン源とすることができる。
【００３９】
沈殿シリカのタップ密度は典型的には多くとも０．５５ｇ／ｍｌである。嵩密度及びタップ密度は、ＵＳＰ−ＮＦ，Ｇｅｎｅｒａｌ  Ｃｈａｐｔｅｒ  ６１６，Ｂｕｌｋ  Ｄｅｎｓｉｔｙ  ａｎｄ  Ｔａｐｐｅｄ  Ｄｅｎｓｉｔｙにおける方法に従って測定することができる。嵩密度に関しては、方法１の、Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｉｎ  ａ  Ｇｒａｄｕａｔｅｄ  Ｃｙｌｉｎｄｅｒを使用することができ、タップ密度に関しては、機械式タップ装置を使用する、方法２に従うことができる。嵩密度、及びタップ密度は、粒子（所定の空間内に拘束される複数の粒子）の質量対体積の比を表し、所定の空間内での、閉じ込められた空気、気孔率、及び粒子同士の密着の程度を反映する。沈殿シリカの粒子の真密度又は固有密度（１個の粒子の質量対体積の比）は、多くとも約２．０ｇ／ｃｍ３である。沈殿シリカの比重は多くとも約２．０である。
【００４０】
沈殿シリカの吸水率は、典型的には約９０ｇ／１００ｇである。吸水率は、Ｊ．Ｍ  Ｈｕｂｅｒ  Ｃｏｒｐ．の標準的評価方法、Ｓ．Ｅ．Ｍ  Ｎｏ．５，１４０（２００４年８月１０日）を使用して測定される。吸油率は、典型的にはフタル酸ジブチル約１００ｍＬ／沈殿シリカ１００ｇである。（吸油率は、米国特許出願第２００７／０００１０３７（Ａ１）号（２００７年１月４日公開）に記載の方法に従って測定される）。
【００４１】
沈殿シリカ粒子は典型的には５．５〜６のモース硬度を有する。
【００４２】
熱処理沈殿シリカの独自のモルホロジーは、より好都合なＰＣＲ／ＲＤＡ比を生じることがある。ペリクル洗浄率（ＰＣＲ）は、歯磨剤の洗浄特性の尺度である。放射性象牙質研磨値（ＲＤＡ）は、歯磨剤に組み込んだときの熱処理沈殿シリカの研磨性の尺度である。
【００４３】
ＰＣＲ値は、一般的に、「Ｉｎ  Ｖｉｔｒｏ  Ｒｅｍｏｖａｌ  ｏｆ  Ｓｔａｉｎ  ｗｉｔｈ  Ｄｅｎｔｉｆｒｉｃｅ」，Ｇ．Ｋ．Ｓｔｏｏｋｅｙら、Ｊ．Ｄｅｎｔａｌ  Ｒｅｓ．，６１，１２３６〜９，１９８２で考察されている方法によって測定される。ＲＤＡ値は、一般的に、Ｈｅｆｆｅｒｒｅｎの、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｄｅｎｔａｌ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ，Ｊｕｌｙ−Ａｕｇｕｓｔ  １９７６，ｐｐ．５６３〜５７３による前述の方法、並びに米国特許第４，３４０，５８３号、同第４，４２０，３１２号、及び同第４，４２１，５２７号（Ｗａｓｏｎ）に記載の方法に従って測定される。ＲＤＡ値はまた、歯磨剤磨耗性の測定のためのＡＤＡ推奨手順によって、測定することもできる。
【００４４】
市販の沈殿シリカＺＥＯＤＥＮＴ  １０９及びＺＥＯＤＥＮＴ  １１９の顕微鏡写真は、不定形な凝集粒子を示す。粒子は、緩く押し固まり合ったより小さな粒子が凝集して作られているように見える。
【００４５】
いくつかの実施形態では、組成物は、ゲルネットワーク組織を含み得る。いくつかの実施形態では、組成物は、以下の１つ以上を含んでもよい。抗齲蝕剤、抗侵食剤、抗菌剤、抗結石剤、抗過敏剤、抗炎症剤、抗歯垢剤、抗歯肉炎剤、抗悪臭剤、及び／又は抗着色剤。一部の実施形態では、組成物は追加の研磨剤材料を含んでもよく、それらとしては、未処理の沈殿シリカ、炭酸カルシウム、リン酸二カルシウム二水和物、リン酸カルシウム、パーライト、軽石、ピロリン酸カルシウム、ナノダイヤモンド、その他の表面処理された脱水沈殿シリカ、溶融シリカ及びこれらの混合物が挙げられるが、それらに制限されない。いくつかの実施形態は、口腔使用が可能なキャリア中に熱処理沈殿シリカ研磨剤を含む口腔組成物を使用することによって、対象者の歯及び口腔を洗浄する方法であってもよい。
【００４６】
組成物は、例えば、細管遮断剤及び／又は抗過敏剤のような追加の抗過敏剤を含んでもよい。細管遮断剤は、スズイオン源、ストロンチウムイオン源、カルシウムイオン源、リンイオン源、アルミニウムイオン源、マグネシウムイオン源、アミノ酸、バイオガラス、ナノ微粒子、ポリカルボキシレート、Ｇａｎｔｒｅｚ、及びこれらの混合物からなる群から選択することができる。アミノ酸は、塩基性アミノ酸とすることができ、塩基性アミノ酸は、アルギニンであってもよい。ナノ微粒子は、ナノヒドロキシアパタイト、二酸化ナノチタン、ナノ金属酸化物、及びこれらの混合物からなる群から選択することができる。抗過敏剤は、フッ化カリウム、クエン酸カリウム、硝酸カリウム、塩化カリウム、及びこれらの混合物からなる群から選択されるカリウム塩とすることができる。いくつかの実施形態は、必要とする対象者に、熱処理沈殿シリカを含む口腔ケア組成物を投与することによる、歯の過敏症を低減する方法であってもよく、その際熱処理沈殿シリカは０．２５ミクロン〜約５．０ミクロンの中央粒径を有する。
【００４７】
いくつかの実施形態では、粒径は、予防処置用ペースト又はいくつかの他の非日常用ペーストの一部とするため比較的大きくてもよい。このような実施形態では、軽石、パーライト、沈殿シリカ、炭酸カルシウム、もみ殻シリカ、溶融シリカ、シリカゲル、アルミナ、オルトリン酸塩、ポリメタリン酸塩、ピロリン酸塩等のリン酸塩、他の無機微粒子、及びこれらの混合物からなる群から選択される追加の研磨剤が使用されてもよい。
【００４８】
一部の実施形態は、香味剤を有し得る。
【００４９】
沈殿シリカ、すなわち水和シリカは、水酸化ナトリウムを使用してシリカ（ケイ砂）を溶解し、硫酸を添加して沈殿させることによって作製することができる。洗浄及び乾燥の後、次いで材料をミル粉砕する。そのような沈殿シリカは、米国特許第６，７４０，３１１号（Ｗｈｉｔｅ、２００４年）に記載のプロセスによって作製することができる。沈殿シリカ及び他のシリカは、Ｆｅｒｄｉ  Ｓｃｈｕｔｈ、Ｋｅｎｎｅｔｈ  Ｓ．Ｗ．Ｓｉｎｇ、及びＪｅｎｓ  Ｗｅｉｔｋａｍｐによる編集の、「Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｐｏｒｏｕｓ  Ｓｏｌｉｄｓ」の、Ｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｓｉｌｉｃａ  Ｓｏｌｓ，Ｇｅｌｓ，ａｎｄ  Ｐｏｗｄｅｒｓと呼ばれるｃｈａｐｔｅｒ  ４．７．１．１．１において、並びにＣｏｓｍｅｔｉｃ  Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ  ａｎｄ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ｏｆ  Ｆｉｎｅ−Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｐｒｅｃｉｐｉｔａｔｅｄ  Ｓｉｌｉｃａｓ，Ｓ．Ｋ．Ｗａｓｏｎ，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｓｏｃ．Ｃｏｓｍｅｔｉｃ  Ｃｈｅｍ．，ｖｏｌ．２９，（１９７８），ｐｐ  ４９７〜５２１において、より詳細に記載されている。
【００５０】
本発明で使用される熱処理沈殿シリカの量は、約１％、２％、５％、７％、１０％、１２％、１５％、２０％、２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％〜約５％、７％、１０％、１２％、１５％、２０％、２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、若しくは７０％、又はこれらのいずれの組み合わせであってもよい。本発明の熱処理沈殿シリカは、単独で又は他の研磨剤との組み合わせで使用してもよい。組成物は、１種を超える熱処理沈殿シリカを含んでもよい。本明細書に記載される組成物中の全研磨剤は、一般に、組成物の約５重量％〜約７０重量％の濃度で存在する。好ましくは、歯磨剤組成物は、組成物の約５重量％〜約５０重量％の全研磨剤を含有する。
【００５１】
熱処理沈殿シリカは、エトキシル化並びに非エトキシル化脂肪族の、アルコール、酸、及びエステルのような、非イオン性界面活性剤によって処理された、無機微粒子と組み合わせて使用することができる。そのような非イオン性界面活性剤の一例は、ＰＥＧ  ４０硬化ヒマシ油である。一般的には、本発明の口腔ケア組成物は、沈殿シリカ、炭酸カルシウム、もみ殻シリカ、シリカゲル、アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、オルトホスフェート、ポリメタホスフェート、ピロホスフェートを含むリン酸塩、他の無機微粒子、リン酸二カルシウム二水和物、リン酸カルシウム、パーライト、軽石、ピロリン酸カルシウム、ナノダイヤモンド、表面処理された脱水沈殿シリカ、及びこれらの混合物からなる群から１つ以上選択されるような、追加の研磨剤材料と共に使用することができる。
【００５２】
本発明の熱処理沈殿シリカ粒子は、他の沈殿シリカと組み合わせて、例えば表面改質沈殿シリカ、他の脱水沈殿シリカ、又は低い気孔率、少ない表面ヒドロキシル基、若しくは小さい表面積を有し、通常の沈殿シリカに比べて良好なカチオン適合性を有する沈殿シリカ、と組み合わせて使用してもよい。しかし、これらの特定の沈殿シリカは、表面ヒドロキシル基を低減させる目的のために、及び低い気孔率、若しくはカチオン適合性のような特性を改善する目的のために表面処理されるが、依然として沈殿シリカと見なされることは重視されたい。（例えば、米国特許第７，２５５，８５２号、同第７，４３８，８９５号、国際公開第９３２３００７号、及び同第９４０６８６８号を参照されたい）。
【００５３】
他の砥粒研磨材料としては、シリカゲル、もみ殻シリカ、アルミナ、オルトホスフェート、ポリメタホスフェート、及びピロホスフェートを含むリン酸塩、並びにこれらの混合物を挙げることができる。具体的な例としては、ジカルシウムオルトリン酸二水和物、ピロリン酸カルシウム、リン酸三カルシウム、ポリメタリン酸カルシウム、不溶性ポリメタリン酸ナトリウム、水和アルミナ、βピロリン酸カルシウム、炭酸カルシウム、並びに尿素及びホルムアルデヒドの粒子状縮合生成物などの樹脂性研磨剤材料、並びに米国特許第３，０７０，５１０号（Ｃｏｏｌｅｙら、１９６２年１２月２５日発行）に開示のような他のものが挙げられる。
【００５４】
研磨剤は、米国特許第３，５３８，２３０号（Ｐａｄｅｒら、１９７０年３月２日発行）及び米国特許第３，８６２，３０７号（ＤｉＧｉｕｌｉｏ、１９７５年１月２１日発行）に記載されているシリカキセロゲルのようなシリカゲルであることができる。例は、Ｗ．Ｒ．Ｇｒａｃｅ  ＆  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｄａｖｉｓｏｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｄｉｖｉｓｉｏｎにより商標名「Ｓｙｌｏｉｄ」で市販されているシリカキセロゲルである。また、Ｊ．Ｍ．Ｈｕｂｅｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎにより商標名「ＺＥＯＤＥＮＴ」で市販されているもののような沈殿シリカ材料、具体的には、「ＺＥＯＤＥＮＴ  １０９」（Ｚ−１０９）及び「ＺＥＯＤＥＮＴ  １１９」（Ｚ−１１９）の表記を持つシリカも存在する。市販の、ＺＥＯＤＥＮＴ  １０９及びＺＥＯＤＥＮＴ  １１９と類似した他の沈殿シリカには、例えば、全てＲｈｏｄｉａ製のＴＩＸＯＳＩＬ  ６３、ＴＩＸＯＳＩＬ  ７３及びＴＩＸＯＳＩＬ  １０３、ＨｕｂｅｒシリカＺ−１０３、Ｚ−１１３、及びＺ−１２４、ＴａｉｗａｎのＯＳＣ製のＯＳＣ  ＤＡ、並びにＭａｄｈｕ  Ｓｉｌｉｃａ製のＡＢＳＩＬ−２００及びＡＢＳＩＬ−ＨＣが挙げられる。これら市販の沈殿シリカのうち、ＴＩＸＯＳＩＬ  ７３が最もＺＥＯＤＥＮＴ  １１９に類似する。本沈殿シリカ研磨剤は、熱処理沈殿シリカ及び他の研磨剤と組み合わせて使用されてもよい。
【００５５】
本発明の熱処理沈殿シリカと混合し得る沈殿シリカ歯科用研磨剤の種類は、米国特許第４，３４０，５８３号（Ｗａｓｏｎ、１９８２年７月２９日発行）に、より詳細に記載されている。沈殿シリカ研磨剤は、Ｒｉｃｅの、米国特許第５，５８９，１６０号、同第５，６０３，９２０号、同第５，６５１，９５８号、同第５，６５８，５５３号、及び同第５，７１６，６０１号にも記載されている。
【００５６】
スズイオン
本発明の口腔用組成物は、スズイオン源を含む。上述のように、熱処理沈殿シリカの利点の１つは、他の材料との適合性、具体的には反応性であって効能を失い得る材料との適合性である。スズイオンは反応性であると考えられており、したがってスズイオンを熱処理沈殿シリカと共に使用することはいくつかの重要な利益を有する可能性がある。熱処理沈殿シリカは、沈殿シリカ及び他の従来の研磨剤ほどにはスズと反応しないため、より少ないスズを使用しても、同じ効能、又は更に多大な効能を得ることができる。スズが、不快な、若しくは強い風味、渋味、着色性、又はスズを含有する口腔用組成物を消費者にとって望ましくないものにする他の審美的欠点などの、潜在的な審美的欠点を有することが、報告されている。それゆえ、より少量のスズの使用が好まれる場合がある。更には、（沈殿シリカを含有する製剤と）同じ又は類似の効能のために、より少ないスズを使用することはコストの節減となり、より良好な審美性、及びより少ない着色汚れを有し得る。あるいは、従来の使用量と同量のスズを使用する場合、効果をもたらすためにより多くのスズが利用可能であるため、スズは、より高い効能を有することになる。熱処理沈殿シリカは沈殿シリカのような従来の研磨剤よりも若干硬質であるため、熱処理沈殿シリカは、より多くの着色汚れを除去し、及び／又はより良好に洗浄することもできる。スズを含有する製剤は歯の強度を向上させ得ることが明らかになっている。それゆえ、スズを含有する製剤は、スズを含有しない同等の製剤よりも、低いＲＤＡスコアを有し得る。熱処理沈殿シリカは良好な洗浄研磨剤であり、スズはより強い歯を提供することから、ＲＤＡスコアが低くなるほど、より良好なＰＣＲ対ＲＤＡ比が提供されることになる。熱処理沈殿シリカとスズとの組み合わせにより提供される相乗効果は、消費者に非常に有効で、高い洗浄力を有する製剤を提供する。
【００５７】
熱処理沈殿シリカとスズイオンとの相乗効果は、口腔用組成物における多くの利益を、消費者に提供することができる。熱処理沈殿シリカは、その低ＢＥＴ比表面積、表面ヒドロキシル基の少なさ、及び低気孔率から、スズ含有組成物に好適な研磨剤である。
【００５８】
スズイオンは、フッ化第一スズ及び／又は他のスズ塩から提供することができる。フッ化第一スズは、歯肉炎、歯垢、過敏症、侵食、炎症の低減に、及び息の改善の利益に役立つことが見出されている。歯磨剤組成物中に提供されるスズイオンは、歯磨剤組成物を使用する対象者に効能を提供する。効能としては、歯肉炎の低減以外の利益を挙げることができるが、効能は、その場の歯垢代謝における顕著な量の低減として定義される。そのような効能をもたらす製剤は、典型的には、フッ化第一スズ及び／又は他のスズ塩により提供され、約５０ｐｐｍ〜約１５，０００ｐｐｍの、組成物全体中のスズイオンの範囲である、スズ濃度を含む。スズイオンは、約１，０００ｐｐｍ〜約１０，０００ｐｐｍの量で、一実施形態では、約３，０００ｐｐｍ〜約７，５００ｐｐｍの量で存在する。他のスズ塩としては、酢酸スズ、グルコン酸スズ、シュウ酸スズ、マロン酸スズ、クエン酸スズ、第一スズエチレングリコシド、ギ酸第一スズ、硫酸第一スズ、乳酸スズ、酒石酸スズなどのような、有機スズカルボキシレートが挙げられる。他のスズイオン供給源としては、塩化スズ、臭化スズ、ヨウ化スズ、及び塩化スズ二水素化物などの、ハロゲン化第一スズが挙げられる。一実施形態では、スズイオン源はフッ化第一スズであり、別の実施形態では、塩化スズ二水和物、若しくは塩化スズ三水和物、又はグルコン酸スズである。スズ塩を組み合わせて、口腔ケア組成物の約０．００１重量％〜約１１重量％の量で存在させることができる。スズ塩は、一実施形態では、口腔ケア組成物の約０．０１重量％〜約７重量％の量で、他の実施形態では約０．１重量％〜約５重量％の量で、及び他の実施形態では約１．５重量％〜約３重量％の量で存在させてもよい。
【００５９】
口腔使用が可能なキャリア
本発明の組成物の構成成分のためのキャリアは、口腔内での使用に適したいずれの口腔使用が可能な賦形剤とすることができる。キャリアは、好適な化粧料活性物質、及び／又は治療用活性物質を含み得る。そのような活性物質としては一般に、口腔内での使用に安全であると見なされ、口腔の全体的な外観及び／又は健康に変化を提供するいずれの材料もが挙げられ、それらとしては、抗結石剤、フッ化物イオン源、スズイオン源、美白剤、抗微生物、抗悪臭剤、抗過敏症剤、抗侵食剤、抗齲蝕剤、抗歯垢剤、抗炎症剤、栄養素、酸化防止剤、抗ウイルス剤、鎮痛剤及び麻酔剤、Ｈ−２拮抗剤、並びにこれらの混合物が挙げられるが、それらに限定されない。存在する場合、口腔ケア組成物中の、化粧料活性物質及び／又は治療用活性物質の濃度は、一実施形態では、口腔ケア組成物の約０．００１重量％〜約９０重量％、別の実施形態では、口腔ケア組成物の約０．０１重量％〜約５０重量％、及び別の実施形態では、口腔ケア組成物の約０．１重量％〜約３０重量％である。
【００６０】
活性剤
熱処理沈殿シリカの利点の１つは、他の材料との適合性、具体的には反応性であって活性等の効能を失い得る材料との適合性である。熱処理沈殿シリカは、未処理の沈殿シリカ及び他の従来の研磨剤ほどには活性物質と反応しないため、より少ない活性物質を使用して同様の効能を得ることができる。活性物質が、不快な、若しくは強い風味、渋味、着色性、又は他の審美的欠点などの、何らかの潜在的な審美的欠点を有する場合、より少量の活性物質が好まれ得る。更には、同じ効能、又は類似の効能のためにより活性物質の使用量を減らすことは、コストの削減となる。あるいは、従来の使用量と同量の活性物質を使用する場合、効果をもたらすためにより多くの活性物質を利用可能であるため、その活性物質は、より高い効能を有することになる。
【００６１】
活性物質としては、抗菌活性物質、抗歯垢剤、抗齲蝕剤、抗過敏症剤、抗侵食剤、酸化剤、抗炎症剤、抗結石剤、栄養素、酸化防止剤、鎮痛剤、麻酔剤、Ｈ−１及びＨ−２拮抗剤、抗ウイルス活性物質、並びにこれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。材料又は成分は、２種以上の材料として分類される場合がある。例えば、酸化防止剤は、抗歯垢及び抗菌活性物質とすることもできる。好適な活性物質の例としては、フッ化第一スズ、フッ化ナトリウム、精油、モノアルキルホスフェート、過酸化水素、ＣＰＣ、クロルヘキシジン、トリクロサン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。以下は、本発明で使用することができる活性物質の非限定的な列挙である。
【００６２】
フッ化物イオン
本発明は、安全かつ有効な量のフッ化物化合物を含み得る。フッ化物イオンは、２５℃で組成物内にフッ化物イオン濃度を付与するのに十分な量で存在してもよく、及び／又は、抗齲蝕効果を提供するために、１つの実施形態においては約０．００２５重量％〜約５．０重量％の濃度で使用され得、別の実施形態においては、約０．００５重量％〜約２．０重量％の濃度で使用され得る。多種多様なフッ化物イオン生成材料を、本発明の組成物中の可溶性フッ化物の供給源として使用することができる。好適なフッ化物イオン生成材料の例は、米国特許第３，５３５，４２１号、及び同第３，６７８，１５４号に開示されている。代表的なフッ化物イオン源としては、フッ化第一スズ、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化アミン、モノフルオロリン酸ナトリウム、フッ化亜鉛、及び多くの他のものが挙げられる。一実施形態では、歯磨剤組成物は、フッ化第一スズ、又はフッ化ナトリウム、並びにこれらの混合物を含む。
【００６３】
口腔用組成物のｐＨは、約３〜約１０とすることができる。ｐＨは、一般に、当該産業において既知の方法により、スラリーｐＨとして測定される。口腔用組成物中で使用される活性物質に応じて、異なるｐＨが望まれる場合がある。
【００６４】
抗結石剤
本発明の歯磨剤組成物はまた、抗結石剤を含み得、これは、一実施形態では、口腔ケア組成物の約０．０５重量％〜約５０重量％で存在してもよく、別の実施形態では約０．０５重量％〜約２５重量％であり、別の実施形態では、約０．１重量％〜約１５重量％である。抗結石剤は、ポリホスフェート（ピロホスフェートを含む）及びその塩、ポリアミノプロパンスルホン酸（ＡＭＰＳ）及びその塩、ポリオレフィンスルホネート及びその塩、ポリビニルホスフェート及びその塩、ポリオレフィンホスフェート及びその塩、ジホスホネート及びその塩、ホスホノアルカンカルボン酸及びその塩、ポリホスホネート及びその塩、ポリビニルホスホネート及びその塩、ポリオレフィンホスホネート及びその塩、ポリペプチド、並びにこれらの混合物、ポリカルボキシレート及びその塩、カルボキシ置換ポリマー、並びにこれらの混合物からなる群から選択することができる。一実施形態では、本明細書で使用する高分子ポリカルボキシレートとしては、米国特許第５０３２３８６号に開示されるものが挙げられる。これらの市販のポリマーの例は、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ（ＩＳＰ）による、Ｇａｎｔｒｅｚである。一実施形態では、塩は、アルカリ金属塩、又はアンモニウム塩である。ポリホスフェートは、一般に、カリウム塩、ナトリウム塩、アンモニウム塩、及びこれらの混合物のような、全体的に又は部分的に中和された水溶性アルカリ金属塩として使用される。無機ポリリン酸塩としては、アルカリ金属（例えば、ナトリウム）トリポリホスフェート、テトラポリホスフェート、二酸ジアルキル金属（例えば、二ナトリウム）、一酸トリアルキル金属（例えば、三ナトリウム）、リン酸水素カリウム、リン酸水素ナトリウム、及びアルカリ金属（例えば、ナトリウム）ヘキサメタホスフェート、並びにこれらの混合物が挙げられる。テトラポリホスフェートよりも大きいポリホスフェートは、通常は非晶質のガラス状材料として生じる。１つの実施形態において、ポリホスフェートは、ＦＭＣ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎで製造され、Ｓｏｄａｐｈｏｓ（ｎ≒６）、Ｈｅｘａｐｈｏｓ（ｎ≒１３）、及びＧｌａｓｓ  Ｈ（ｎ≒２１、ヘキサメタリン酸ナトリウム）として商業的に既知であるもの、並びにこれらの混合物である。本発明に有用なピロリン酸塩としては、アルカリ金属ピロホスフェート、ジ−、トリ−及びモノ−ピロリン酸カリウム又はピロリン酸ナトリウム、ジアルカリ金属ピロリン酸塩、テトラアルカリ金属ピロリン酸塩、並びにこれらの混合物が挙げられる。一実施形態では、ピロホスフェート塩は、ピロリン酸三ナトリウム、ピロリン酸二水素二ナトリウム（Ｎａ２Ｈ２Ｐ２Ｏ７）、ピロリン酸二カリウム、ピロリン酸四ナトリウム（Ｎａ４Ｐ２Ｏ７）、ピロリン酸四カリウム（Ｋ４Ｐ２Ｏ７）、及びこれらの混合物からなる群より選択される。ポリオレフィンスルホネートとしては、オレフィン基が２個以上の炭素原子を含有するもの、及びその塩が挙げられる。ポリオレフィンホスホネートとしては、オレフィン基が２個以上の炭素原子を含有するものが挙げられる。ポリビニルホスホネートとしては、ポリビニルホスホン酸が挙げられる。ジホスホネート���びその塩としては、アゾシクロアルカン−２、２−ジホスホン酸及びその塩、アゾシクロアルカン−２、２−ジホスホン酸及びその塩のイオン、アザシクロヘキサン−２、２−ジホスホン酸、アザシクロペンタン−２、２−ジホスホン酸、Ｎ−メチル−アザシクロペンタン−２、３−ジホスホン酸、ＥＨＤＰ（エタン−１−ヒドロキシ−１、１、−ジホスホン酸）、ＡＨＰ（アザシクロヘプタン−２、２−ジホスホン酸）、エタン−１−アミノ−１、１−ジホスホネート、ジクロロメタンジホスホネートなどが挙げられる。ホスホノアルカンカルボン酸、又はそのアルカリ金属塩としては、それぞれが酸、又はアルカリ金属塩である、ＰＰＴＡ（ホスホノプロパントリカルボン酸）、ＰＢＴＡ（ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸）が挙げられる。ポリオレフィンホスフェートとしては、オレフィン基が２個以上の炭素原子を含有するものが挙げられる。ポリペプチドとしては、ポリアスパラギン酸及びポリグルタミン酸が挙げられる。
【００６５】
美白剤
白化剤は、本発明の歯磨剤組成物に活性物質として含まれ得る。白化に適した活性物質は、アルカリ金属過酸化物及びアルカリ土類金属過酸化物、亜塩素酸金属塩、単水和物及び四水和物を含む過ホウ酸塩、ペルホスフェート、過炭酸塩、過酸化物、並びに過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、及び過硫酸リチウムなどの過硫酸塩、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択される。好適な過酸化物化合物としては、過酸化水素、過酸化尿素、過酸化カルシウム、過酸化カルバミド、過酸化マグネシウム、過酸化亜鉛、過酸化ストロンチウム、及びこれらの混合物が挙げられる。一実施形態では、過酸化物化合物は過酸化カルバミドである。好適な亜塩素酸金属塩としては、亜塩素酸カルシウム、亜塩素酸バリウム、亜塩素酸マグネシウム、亜塩素酸リチウム、亜塩素酸ナトリウム、及び亜塩素酸カリウムが挙げられる。追加的な白化活性物質は、次亜塩素酸塩及び二酸化塩素であってもよい。一実施形態では、亜塩素酸塩は亜塩素酸ナトリウムである。別の実施形態では、過炭酸塩は過炭酸ナトリウムである。一実施形態では、過硫酸塩はオキソンである。これらの物質の濃度は、着色汚れを漂白するために分子が提供できる、利用可能な酸素又は塩素のそれぞれに応じて決定される。一実施形態では、美白剤は、口腔ケア組成物の約０．０１重量％〜約４０重量％の濃度で、別の実施形態では約０．１重量％〜約２０重量％の濃度で、別の実施形態では約０．５重量％〜約１０重量％の濃度で、及び別の実施形態では約４重量％〜約７重量％の濃度で存在させることができる。
【００６６】
酸化剤
本発明の組成物は、過酸化物源のような酸化剤を含有し得る。過酸化物源は、過酸化水素、過酸化カルシウム、過酸化カルバミド、又はこれらの混合物を含み得る。一部の実施形態では、過酸化物源は過酸化水素である。他の過酸化物活性物質としては、過炭酸塩、例えば過炭酸ナトリウムのような、水と混合すると過酸化水素を生成するものを挙げることができる。特定の実施形態では、過酸化物源はスズイオン源と同じ相に存在し得る。一部の実施形態では、この組成物は、口腔用組成物の約０．０１重量％〜約２０重量％の過酸化物源を含み、他の実施形態では、口腔用組成物の約０．１重量％〜約５重量％、特定の実施形態では、口腔用組成物の約０．２重量％〜約３重量％、及び別の実施形態では、口腔用組成物の約０．３重量％〜約２．０重量％の過酸化物源を含む。過酸化物源は、遊離イオン、塩、錯体、又はカプセル状として提供することができる。組成物中の過酸化物は、安定であることが望ましい。過酸化物は、サイクル着色汚れ試験、又は他の関連方法によって測定される、着色汚れの低減をもたらし得る。
【００６７】
以下で詳しく述べる任意成分に加えて、特定の増粘剤、及び香味剤が、過酸化物などの酸化剤とのより良好な適合性をもたらす。例えば、一部の実施形態では、好ましい増粘剤は、架橋ポリビニルピロリドン、ポリアクリレート、アルキル化ポリアクリレート、アルキル化架橋ポリアクリレート、高分子アルキル化ポリエーテル、カルボマー、アルキル化カルボマー、ゲルネットワーク、非イオン性高分子増粘剤、Ｓｅｐｉｎｏｖ  ＥＭＴ  １０（Ｓｅｐｐｉｃ−ヒドロキシエチルアクリレート／アクリロイルジメチルタウリン酸ナトリウムコポリマー）、Ｐｕｒｅ  Ｔｈｉｘ  １４５０、１４４２、ＨＨ（ＰＥＧ  １８０ラウレス−５０／ＴＭＭＰ、又はポリエーテル１−Ｒｏｃｋｗｏｏｄ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ）、Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ２００１（Ａｋｚｏ−アクリレート／Ｓｔｅａｒｅｔｈ−２０イタコネートコポリマー）、Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ３００１（Ａｋｚｏ−アクリレート／Ｃｅｔｅｔｈ−２０イタコネートコポリマー）、Ａｃｕｌｙｎ  ２８（Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ／Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ−アクリレート／Ｂｅｈｅｎｅｔｈ−２５メタクリレートコポリマー）、Ｇｅｎｏｐｕｒ  ３５００Ｄ（Ｃｌａｒｉａｎｔ）、Ａｃｕｌｙｎ  ３３（Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ／Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ−アクリレートコポリマー）、Ａｃｕｌｙｎ  ２２（Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ／Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ−アクリレート／Ｓｔｅａｒｅｔｈ−２０メタクリレートコポリマー）、Ａｃｕｌｙｎ  ４６（Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ／Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ−ＰＥＧ−１５０／ステアリルアルコール／ＳＭＤＩコポリマー）、Ａ５００（架橋カルボキシメチルセルロース−Ｈｅｒｃｕｌｅｓ）、Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ＸＬ（ヒドロキシプロピルデンプンリン酸−Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｓｔａｒｃｈ）、及びこれらの混合物とすることができる。
【００６８】
他の好適な増粘剤としては、Ａｒｉｓｔｏｆｌｅｘ  ＡＶＣ、ＡＶＳ、ＢＬＶ、及びＨＭＢ（Ｃｌａｒｉａｎｔの、アクリロイルジメチルタウリンポリマー、コポリマー、及び架橋ポリマー）のような高分子スルホン酸、Ｄｉａｆｏｒｍｅｒ（Ｃｌａｒｉａｎｔの、アミンオキシドメタクリレートコポリマー）、Ｇｅｎａｐｏｌ（Ｃｌａｒｉａｎｔの、脂肪族アルコールポリグリコールエーテル及びアルキル化ポリグリコールエトキシル化脂肪族アルコール）、脂肪族アルコール、エトキシル化脂肪族アルコール、ＢＲＩＪ  ７２１（Ｃｒｏｄａ）のような高分子量非イオン性界面活性剤、及びこれらの混合物を挙げることができる。
【００６９】
過酸化物と特に適合する好適な香味系としては、米国特許出願第２００７／０２３１２７８号に記載のものが挙げられる。一実施形態では、香味系は、過酸化物の存在下で比較的安定であることが見出されている、選択された従来の香味構成成分と共に、少なくとも１種の二次冷感剤と組み合わせた、メントールを含む。本明細書で「安定」とは、香味の特徴又はプロファイルが著しく変化しないこと、又は製品の耐用期間中不変であることを意味する。
【００７０】
本発明の組成物は、少なくとも約０．０１５重量％のメントールを含めた、約０．０４重量％〜１．５重量％の全冷感剤（メントール＋二次冷感剤）を含み得る。典型的には、最終組成物中のメントールの濃度は、約０．０１５％〜約１．０％の範囲であり、二次冷感剤の濃度は、約０．０１％〜約０．５％の範囲である。好ましくは、全冷感剤の濃度は、約０．０３％〜約０．６％の範囲である。
【００７１】
メントールと共に使用するのに好適な二次冷感剤としては、カルボキサミド、ケタール、ジオール、メンチルエステル、及びこれらの混合物などの多種多様な材料が挙げられる。本発明の組成物中の二次冷感剤の例は、「ＷＳ−３」として商業的に既知である、Ｎ−エチル−ｐ−メンタン−３−カルボキサミド、「ＷＳ−２３」として既知の、Ｎ，２，３−トリメチル−２−イソプロピルブタンアミド、並びにこのシリーズの、ＷＳ−５、ＷＳ−１１、ＷＳ−１４、及びＷＳ−３０のような他のもの、などのパラメンタンカルボキサミド剤である。更なる好適な冷感剤としては、Ｔａｋａｓａｇｏにより製造される、ＴＫ−１０として既知の３−１−メントキシプロパン−１，２−ジオール、ＭＧＡとして既知のメントングリセロールアセタール、メンチルエステル、例えば、酢酸メンチル、アセト酢酸メンチル、Ｈａａｒｍａｎｎ  ａｎｄ  Ｒｅｉｍｅにより供給されるＦｒｅｓｃｏｌａｔ（登録商標）として既知の乳酸メンチル、及びＶ．Ｍａｎｅによる商標Ｐｈｙｓｃｏｏｌのコハク酸モノメンチル、が挙げられる。本明細書において使用するとき、用語「メントール」及び「メンチル」には、これらの化合物の右旋性及び左旋性の異性体、並びにこれらのラセミ混合物が含まれる。ＴＫ−１０は、米国特許第４，４５９，４２５号（Ａｍａｎｏら、１９８４年７月１０日発行）に記載されている。ＷＳ−３及び他の薬剤は、１９７９年１月２３日発行のＷａｔｓｏｎらによる米国特許第４，１３６，１６３号に述べられている。
【００７２】
風味剤は、一般に組成物中で、組成物の約０．００１重量％〜約５重量％の濃度で使用される。
【００７３】
抗菌剤
抗微生物剤を、本発明の歯磨剤組成物中に含ませることができる。そのような薬剤としては、クロルヘキシジン、アレキシジン、ヘキセチジン、塩化ベンザルコニウム、臭化ドミフェン、塩化セチルピリジニウム（ＣＰＣ）、塩化テトラデシルピリジニウム（ＴＰＣ）、Ｎ−テトラデシル−４−エチルピリジニウムクロリド（ＴＤＥＰＣ）、オクテニジン、ビスビグアニド、亜鉛イオン若しくはスズイオン剤、グレープフルーツ抽出物、及びこれらの混合物のようなカチオン性抗菌剤が挙げられるが、これらに限定されない。他の抗菌剤及び抗微生物剤としては、一般にトリクロサンと呼ばれる、５−クロロ−２−（２，４−ジクロロフェノキシ）−フェノール；８−ヒドロキシキノリン及びその塩；塩化銅（ＩＩ）、硫酸銅（ＩＩ）、酢酸銅（ＩＩ）、フッ化銅（ＩＩ）、及び水酸化銅（ＩＩ）が挙げられるが、これらに限定されない銅ＩＩ化合物；フタル酸一カリウムマグネシウムを含む米国特許第４，９９４，２６２号で開示されているものが挙げられるが、これらに限定されないフタル酸及びその塩；サンギナリン；サリチルアニリド；ヨウ素；スルホンアミド；フェノール樹脂；デルモピノール、オクタピノール、及び他のピペリジノ誘導体；ナイアシン調剤；ナイスタチン；リンゴ抽出物；タイム油；チモール；オーグメンチン、アモキシシリン、テトラサイクリン、ドキシサイクリン、ミノサイクリン、メトロニダゾール、ネオマイシン、カナマイシン、塩化セチルピリジニウム、及びクリンダマイシンなどの抗生物質；上記の類似体及び塩；サリチル酸メチル；過酸化水素；亜塩素酸塩の金属塩；ピロリドンココイルアルギニンエチル；ラウロイルアルギニンモノクロルヒドロキシエチル；並びに上記の全ての混合物を挙げられるが、これらに限定されない。別の実施形態では、組成物は、フェノール樹脂抗微生物剤化合物、及びそれらの混合物を含む。抗微生物剤構成成分は、口腔ケア組成物の約０．００１重量％〜約２０重量％で存在させることができる。別の実施形態では、抗微生物剤は、一般に、本発明の口腔ケア組成物の約０．１重量％〜約５重量％を構成する。
【００７４】
他の抗微生物剤は、限定するものではないが、精油であってもよい。精油は、揮発性の芳香油であり、合成されてもよく、又は蒸留、圧搾、若しくは抽出による植物由来であってもよく、通常、それらが得られた植物の匂い又は香味を伝える。有用な精油は、防腐活性を提供し得る。これらの精油の一部は、香味剤としても作用する。有用な精油としては、シトラ（citra）、チモール、メントール、サリチル酸メチル（冬緑油）、ユーカリプトール、カルバクロール、カンファー、アネトール、カルボン、オイゲノール、イソオイゲノール、リモネン、オシメン（osimen）、ｎ−デシルアルコール、シトロネル（citronel）、ａ−サルピネオール（salpineol）、酢酸メチル、酢酸シトロネリル、メチルオイゲノール、シネロ−ル、リナロール、エチルリナラオール（linalaol）、サフロラバニリン、スペアミント油、ペパーミント油、レモン油、オレンジ油、セージ油、ローズマリー油、桂皮油、ピメント油、月桂樹油、ニオイヒバ油、ゲリアノール、ベルベノーン、アニス油、ベイ油、ベンズアルデヒド、ベルガモット油、苦扁桃、クロロチモール、桂皮アルデヒド、シトロネラ油、クローブ油、コールタール、ユーカリ油、グアヤコール、ヒノキチオールのようなトロポロン誘導体、ラベンダー油、カラシ油、フェノール、サリチル酸フェニル、パイン油、マツ葉油、サッサフラス油、スパイクラベンダー油、ストラックス、タイム油、トルーバルサム、テレビン油、クローブ油、及びこれらの組み合わせが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態では、精油は、チモール、サリチル酸メチル、ユーカリプトール、メントール、及びこれらの組み合わせから選択される。
【００７５】
抗歯垢剤
本発明の歯磨剤組成物は、スズ塩、銅塩、ストロンチウム塩、マグネシウム塩、Ｇａｎｔｒｅｚのようなカルボキシル化ポリマーのコポリマー、又はジメチコンコポリオールのような、抗歯垢剤を含み得る。ジメチコンコポリオールは、Ｃ１２〜Ｃ２０アルキルジメチコンコポリオール、及びこれらの混合物から選択される。一実施形態では、ジメチコンコポリオールは、商標名Ａｂｉｌ  ＥＭ９０で市販のセチルジメチコンコポリオールである。ジメチコンコポリオールは、一実施形態では、口腔ケア組成物の約０．００１重量％〜約２５重量％の濃度で、別の実施形態では、口腔ケア組成物の約０．０１重量％〜約５重量％の濃度で、及び別の実施形態では、口腔ケア組成物の約０．１重量％〜約１．５重量％の濃度で存在させることができる。
【００７６】
抗炎症剤
抗炎症剤もまた、本発明の歯磨剤組成物中に存在させることができる。そのような薬剤としては、オキシカム系非ステロイド性抗炎症（ＮＳＡＩＤ）剤、サリチル酸塩、プロピオン酸、酢酸、及びフェナム酸が挙げられるが、これらに限定されない。このようなＮＳＡＩＤとしては、ケトロラク、フルルビプロフェン、イブプロフェン、ナプロキセン、インドメタシン、ジクロフェナク、エトドラク、インドメタシン、スリンダク、トルメチン、ケトプロフェン、フェノプロフェン、ピロキシカム、ナブメトン、アスピリン、ジフルニサル、メクロフェナム酸、メフェナム酸、オキシフェンブタゾン、フェニルブタゾン、及びアセトアミノフェンが挙げられるが、これらに限定されない。ケトロラクなどのＮＳＡＩＤの使用は、米国特許第５，６２６，８３８号で特許請求されている。有効量のＮＳＡＩＤを、口腔又は中咽頭へ局所投与することによって、口腔若しくは口腔咽頭の、原発性及び再発性の扁平上皮細胞癌を予防、並びに／又は処置する方法が、そこで開示されている。好適なステロイド性抗炎症剤としては、フルオシノロン（fluccinolone）及びヒドロコルチゾンのような、副腎皮質ホルモンが挙げられる。
【００７７】
栄養素
栄養素は、口腔の状態を改善することができ、かつ本発明の歯磨剤組成物中に含めることができる。栄養素としては、ミネラル、ビタミン、経口栄養補給剤、経腸栄養補給剤、及びこれらの混合物が挙げられる。有用なミネラルとしては、カルシウム、リン、亜鉛、マンガン、カリウム、及びこれらの混合物が挙げられる。ビタミンは、ミネラルと共に含まれてもよく、又は別個に使用されてもよい。好適なビタミンとしては、ビタミンＣ及びビタミンＤ、チアミン、リボフラビン、パントテン酸カルシウム、ナイアシン、葉酸、ニコチンアミド、ピリドキシン、シアノコバラミン、パラ−アミノ安息香酸、バイオフラボノイド、並びにこれらの混合物が挙げられる。経口栄養補給剤としては、アミノ酸、脂肪親和物、魚油、及びこれらの混合物が挙げられる。アミノ酸としては、Ｌ−トリプトファン、Ｌ−リジン、メチオニン、スレオニン、レボカルニチン又はＬ−カルニチン、及びこれらの混合物が挙げられるが、それらに限定されない。脂肪親和物としては、コリン、イノシトール、ベタイン、リノール酸、リノレン酸、及びこれらの混合物が挙げられるが、それらに限定されない。魚油は、大量のω−３（Ｎ−３）多不飽和脂肪酸、エイコサペンタエン酸、及びドコサヘキサエン酸を含有する。経腸栄養補給剤としては、タンパク質製品、グルコースポリマー、コーン油、ベニバナ油、中鎖トリグリセリドが挙げられるが、これらに限定されない。ミネラル類、ビタミン類、経口栄養補給剤及び経腸栄養補給剤は、「Ｄｒｕｇ  Ｆａｃｔｓ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｒｉｓｏｎｓ」（ルーズリーフ式薬剤情報サービス）（Ｗｏｌｔｅｒｓ  Ｋｌｕｅｒ  Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｓｔ．Ｌｏｕｉｓ，Ｍｏ．）（著作権）１９９７、ｐｐｓ．３〜１７及び５４〜５７に、より詳細に記載されている。
【００７８】
酸化防止剤
酸化防止剤は、歯磨剤組成物に有用であると一般に認識されている。酸化防止剤は、Ｃａｄｅｎａｓ及びＰａｃｋｅｒの「Ｔｈｅ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ａｎｔｉｏｘｉｄａｎｔｓ（著作権）」（１９９６年、Ｍａｒｃｅｌ  Ｄｅｋｋｅｒ，Ｉｎｃより）などの文献に開示されている。本発明で有用な酸化防止剤としては、ビタミンＥ、アスコルビン酸、尿酸、カロチノイド、ビタミンＡ、フラボノイド及びポリフェノール、薬草由来酸化防止剤、メラトニン、アミノインドール、リポ酸、並びにこれらの混合物が挙げられるが、それらに限定されない。
【００７９】
鎮痛剤及び麻酔剤
抗疼痛剤又は減感剤もまた、本発明の歯磨剤組成物中に存在し得る。鎮痛剤は、意識を撹乱させることなく、又は他の感覚様相を変えることなく、疼痛の閾値を上げるように中枢に作用することによって疼痛を緩和する薬剤である。そのような薬剤としては、塩化ストロンチウム、硝酸カリウム、フッ化ナトリウム、硝酸ナトリウム、アセトアニリド、フェナセチン、アセルトファン（acertophan）、チオルファン、スピラドリン、アスピリン、コデイン、テバイン、レボルフェノール（levorphenol）、ヒドロモルフォン、オキシモルフォン、フェナゾシン、フェンタニール、ブプレノルフィン、ブタファノール（butaphanol）、ナルブフィン、ペンタゾシン、没食子のような自然の薬草、アサルム、クベビン、ガランガ、スクテラリア、両面針、及び白しを挙げることができるが、これらに限定されない。アセトアミノフェン、サリチル酸ナトリウム、サリチル酸トロラミン、リドカイン、及びベンゾカインのような、麻酔剤又は局所鎮痛剤もまた存在させてもよい。これらの鎮痛剤活性物質は、Ｋｉｒｋ−Ｏｔｈｍｅｒの「Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」、第４版、第２巻、Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ（１９９２）、ｐｐ．７２９〜７３７で詳細に記載されている。
【００８０】
Ｈ−１及びＨ−２拮抗剤、並びに抗ウイルス活性物質
本発明はまた、米国特許第５，２９４，４３３号に開示の化合物を含めた、選択的Ｈ−１及びＨ−２拮抗剤を所望により含み得る。本組成物において有用な抗ウイルス性活性物質は、ウイルス感染を治療するために通常使用される任意の既知の活性物質を含む。このような抗ウイルス活性物質は、Ｄｒｕｇ  Ｆａｃｔｓ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｒｉｓｏｎｓ，Ｗｏｌｔｅｒｓ  Ｋｌｕｅｒ  Ｃｏｍｐａｎｙ，（著作権）１９９７，ｐｐ．４０２（ａ）−４０７（ｚ）に開示される。具体的な例としては、米国特許第５，７４７，０７０号（１９９８年５月５日発行）に開示された抗ウイルス性活性物質が含まれる。前記特許はウイルスをコントロールするためのスズ塩の使用を開示している。スズ塩及び他の抗ウイルス活性物質は、Ｋｉｒｋ  ＆  Ｏｔｈｍｅｒ，Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，第３版，第２３巻，Ｗｉｌｅｙ−ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ（１９８２），ｐｐ．４２〜７１に詳述されている。本発明で使用することができるスズ塩としては、有機カルボン酸第一スズ、及び無機ハロゲン化第一スズが挙げられる。フッ化第一スズを使用してもよいが、それは典型的には、別のハロゲン化第一スズ若しくは１種以上のカルボン酸第一スズ、又は他の治療薬との組み合わせでのみ使用される。
【００８１】
キレート化剤
本発明の組成物には、キレート剤又は金属イオン封鎖剤とも呼ばれる、キレート化剤を所望により含有させることができ、その多くはまた、抗結石活性、又は歯直接活性（tooth substantive activity）も有する。口腔ケア製品へのキレート化剤の使用は、細菌の細胞壁に見られるようなカルシウムを錯化する能力のために有利である。キレート化剤はまた、このバイオマスを無傷のまま保持する一助となるカルシウムの架橋から、カルシウムを除去することによって、歯垢を崩壊させることもできる。キレート化剤はまた、金属イオンと錯体を形成し、それによって製品の安定性又は外観に悪影響を及ぼすのを予防するのに有効である能力も有する。鉄又は銅などのイオンのキレート化は、最終製品の酸化による変質を遅延させるのに役立つ。
【００８２】
更に、キレート剤は、原理上、歯の表面に結合し、色素体、又は色素原（chromagen）を置換することで、着色汚れを除去することができる。これらのキレート剤の定着はまた、歯表面上の色素体の結合部位を破壊するため、着色汚れの発生を予防することもできる。
【００８３】
キレート剤は、カチオン性抗菌剤を含有する製剤への添加が望まれ得る。キレート剤を、スズ含有製剤に添加することが望まれ得る。キレート剤はスズの安定化に役立ち、より多量のスズを利用可能に維持することができる。キレート剤は、約４．０を超えるｐＨを有するスズ製剤に使用することができる。一部の製剤では、スズは、沈殿シリカと比較して、熱処理沈殿シリカに対してより安定であるため、スズはキレート剤を必要とせずに安定であることができる。
【００８４】
好適なキレート化剤としては、可溶性リン酸化合物、例えば、フィチン酸塩、並びに、とりわけ、トリポリホスフェート、テトラポリホスフェート、及びヘキサメタホスフェートを含めた２つ以上のホスフェート基を有する、直鎖ポリホスフェートが挙げられる。好ましいポリホスフェートは、Ｓｏｄａｐｈｏｓ（ｎ≒６）、Ｈｅｘａｐｈｏｓ（ｎ≒１３）、及びＧｌａｓｓ  Ｈ（ｎ≒２１）として商業的に既知のものなどであり、約６〜約２１の平均ホスフェート基数ｎを有する。他のポリリン酸化化合物を、ポリホスフェート、具体的には、フィチン酸、ミオ−イノシトールペンタキス（二水素リン酸）、ミオ−イノシトールテトラキス（二水素リン酸）、ミオ−イノシトールトリキス（二水素リン酸）、及びこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、若しくはアンモニウム塩のような、ポリリン酸化イノシトール化合物に加えて、又はその代わりに使用してもよい。本明細書では、ミオ−イノシトール１，２，３，４，５，６−ヘキサキス（二水素リン酸）としても既知であるフィチン酸、又はイノシトール六リン酸、及びそのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、若しくはアンモニウム塩が好ましい。本明細書では、用語「フィチン酸塩」は、フィチン酸及びその塩、並びに他のポリリン酸化イノシトール化合物を包含する。組成物中のキレート化剤の量は、使用するキレート化剤に応じて決定され、典型的には、少なくとも約０．１％〜約２０％、好ましくは約０．５％〜約１０％、及びより好ましくは約１．０％〜約７％となる。
【００８５】
結合、可溶化、及びカルシウム輸送の能力に関して、本明細書で有用な更なる他のリン酸化合物は、有機リン酸モノ−、ジ−、又はトリエステルを含めた、歯直接剤（tooth substantive agents）として有用な上述の界面活性有機リン酸化合物である。
【００８６】
歯垢、歯石、及び着色汚れの制御に有用な、キレート化特性を有する他の好適な薬剤としては、米国特許第３，６７８，１５４号（Ｗｉｄｄｅｒら）、同第５，３３８，５３７号（Ｗｈｉｔｅ，Ｊｒら）、及び同第５，４５１，号（Ｚｅｒｂｙら）に記載のポリホスホネート、米国特許第３，７３７，５３３号（Ｆｒａｎｃｉｓ）のカルボニルジホスホネート、米国特許第４，８４７，０７０号（１９８９年７月１１日、Ｐｙｒｚら）、及び同第４，６６１，３４１号（１９８７年４月２８日、Ｂｅｎｅｄｉｃｔら）のアクリル酸ポリマー若しくはコポリマー、米国特許第４，７７５，５２５号（１９８８年１０月４日発行、Ｐｅｒａ）のアルギン酸ナトリウム、英国特許第７４１，３１５号、国際公開第９９／１２５１７号、及び米国特許第５，５３８，７１４号（Ｐｉｎｋら）のポリビニルピロリドン、並びに米国特許第５，６７０，１３８号（Ｖｅｎｅｍａら）、及び日本公開特許第２０００−０６３３２５０号（Ｌｉｏｎ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）のビニルピロリドンとカルボキシレートとのコポリマーが挙げられる。
【００８７】
本発明での使用に好適な、更なる他のキレート化剤は、アニオン性高分子ポリカルボキシレートである。そのような物質は従来技術では周知であり、その遊離酸又は部分的に若しくは好ましくは完全に中和された水溶性アルカリ金属塩（例えばカリウム、好ましくはナトリウム）若しくはアンモニウム塩の形態で使用される。例としては、無水マレイン酸又はマレイン酸と、別の重合可能なエチレン性不飽和モノマー、好ましくは約３０，０００〜約１，０００，０００の分子量（Ｍ．Ｗ．）を有するメチルビニルエーテル（メトキシエチレン）との１：４〜４：１のコポリマーである。これらのコポリマーは、例えば、ＧＡＦ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＧａｎｔｒｅｚ（登録商標）ＡＮ１３９（分子量５００，０００）、ＡＮ１１９（分子量２５０，０００）及びＳ−９７医薬品等級（分子量７０，０００）として入手可能である。
【００８８】
その他の有効な高分子ポリカルボキシレートとしては、無水マレイン酸と、エチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、又はエチレンとの１：１コポリマー（後者は、例えばＭｏｎｓａｎｔｏ  ＥＭＡ  Ｎｏ．１１０３、分子量１０，０００、及びＥＭＡ等級６１として入手可能である）、並びにアクリル酸と、メチル若しくはヒドロキシエチルメタクリレート、メチル若しくはエチルアクリレート、イソブチルビニルエーテル、又はＮ−ビニル−２−ピロリドンとの１：１コポリマーが挙げられる。
【００８９】
追加的な有効な高分子ポリカルボキシレートは、米国特許第４，１３８，４７７号（ガファル、１９７９年２月６日）及び同第４，１８３，９１４号（ガファルら、１９８０年１月１５日）に開示されており、無水マレイン酸とスチレン、イソブチレン又はエチルビニルエーテルとのコポリマー；ポリアクリル酸、ポリイタコン酸及びポリマレイン酸；並びにユニロイヤル（Uniroyal）ＮＤ−２として入手可能な、１，０００程度の低分子量スルホアクリルオリゴマー（sulfoacrylic oligomer）が挙げられる。
【００９０】
他の好適なキレート剤としては、米国特許第５，０１５，４６７号（Ｓｍｉｔｈｅｒｍａｎ）、同第５，８４９，２７１号、及び同第５，６２２，６８９号（双方ともＬｕｋａｃｏｖｉｃ）に記載の、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、リンゴ酸、コハク酸、二コハク酸、並びにグルコン酸ナトリウム若しくはグルコン酸カリウム、及びクエン酸ナトリウム若しくはクエン酸カリウムのようなそれらの塩、クエン酸／アルカリ金属クエン酸塩の組み合わせ、酒石酸二ナトリウム、酒石酸二カリウム、酒石酸ナトリウムカリウム、酒石酸水素ナトリウム、酒石酸水素カリウム、酒石酸モノスクシネートナトリウムの酸若しくは塩形態、酒石酸ジスクシネートカリウム、及びこれらの混合物のような、ポリカルボン酸並びにその塩が挙げられる。一部の実施形態では、キレート化剤の混合物又は組み合わせが存在させてもよい。
【００９１】
歯直接剤
本発明は、歯直接剤を含み得る。本出願の目的のために、歯直接剤もまた、キレート剤として同様に含まれる。好適な薬剤は、高分子電解質、より具体的にはアニオン性ポリマーを含めた、高分子界面活性剤（ＰＭＳＡ）とすることができる。ＰＭＳＡは、アニオン基、例えば、ホスフェート基、ホスホネート基、カルボキシ基、又はこれらの混合を含み、したがって、カチオン性又は正帯電の実体と相互作用する能力を有する。「無機質」という記述語は、ポリマーの界面活性、又は直接性が、歯のリン酸カルシウム鉱物のような無機質表面に対するものであることを伝えるものとする。
【００９２】
ＰＭＳＡは、着色汚れ予防などの、その多くの利益のために、本発明の組成物中で有用である。ＰＭＳＡとしては、歯表面に対して強い親和性を有し、ポリマー層又は被膜を歯表面に沈着させ、所望の表面改質効果を生み出すいずれの薬剤も挙げられる。そのようなポリマーの好適な例は、縮合リン酸化ポリマー；ポリホスホネート；ホスフェート若しくはホスホネート含有モノマー若しくはポリマーと、エチレン性不飽和モノマー及びアミノ酸のような他のモノマーとのコポリマー、又はタンパク質、ポリペプチド、多糖、ポリ（アクリレート）、ポリ（アクリルアミド）、ポリ（メタクリレート）、ポリ（エタクリレート）、ポリ（ヒドロキシアルキルメタクリレート）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（無水マレイン酸）、ポリ（マレエート）、ポリ（アミド）、ポリ（エチレンアミン）、ポリ（エチレングリコール）、ポリ（プロピレングリコール）、ポリ（ビニルアセテート）及びポリ（ビニルベンジルクロライド）のような他のポリマーとのコポリマー；ポリカルボキシレート及びカルボキシ置換ポリマー；並びにこれらの混合物のような高分子電解質である。好適な高分子無機質界面活性剤としては、米国特許第５，２９２，５０１号、同第５，２１３，７８９号、同第５，０９３，１７０号、同第５，００９，８８２号、及び同第４，９３９，２８４号（全てＤｅｇｅｎｈａｒｄｔら）に記載のカルボキシ置換アルコールポリマー、並びに米国特許第５，０１１，９１３号（Ｂｅｎｅｄｉｃｔら）のジホスホネート誘導体化ポリマー、例えば米国特許第４，６２７，９７７号（Ｇａｆｆａｒら）に記載のような、ポリアクリレート、及び無水マレイン酸若しくはマレイン酸とメチルビニルエーテルとのコポリマー（例えばＧａｎｔｒｅｚ（登録商標））、が含まれる合成アニオン性ポリマーが挙げられる。好ましいポリマーは、ジホスホネート改質されたポリアクリル酸である。活性を有するポリマーは、ペリクルタンパク質を脱着し、かつエナメル質表面への付着を維持するのに十分な、表面結合特性を有さなければならない。歯表面に関しては、末端鎖又は側鎖に、ホスフェート官能基又はホスホネート官能基を有するポリマーが好ましいが、無機質結合活性を有する他のポリマーも、吸着親和性に応じて、実効を示す場合がある。
【００９３】
好ましいＰＭＳＡの１つは、ポリホスフェートである。ポリホスフェートは一般に、主に直鎖構造に配置された２つ以上のホスフェート分子からなると理解されているが、幾つかの環状誘導体が存在する場合もある。ピロホスフェート（ｎ＝２）は理論的にはポリホスフェートであるが、所望のポリホスフェートは、有効濃度での表面吸着により十分な非結合のホスフェート官能基を生成し、これがアニオン性表面電荷並びに表面の親水性特徴を強化するように、およそ３以上のホスフェート基を有するものである。所望の無機ポリリン酸塩としては、特に、トリポリホスフェート、テトラポリホスフェート、及びヘキサメタホスフェートが挙げられる。テトラポリホスフェートよりも大きいポリホスフェートは、通常は非晶質のガラス状材料として生じる。本発明の組成物で好ましいのは、以下の式を有する直鎖ポリホスフェートである。
ＸＯ（ＸＰＯ３）ｎＸ
式中、Ｘはナトリウム、カリウム、又はアンモニウムであり、ｎの平均は約３〜約１２５である。好ましいポリリン酸塩は、ソーダフォス（ｎ≒６）、ヘキサフォス（ｎ≒１３）、及びグラスＨ（ｎ≒２１）として商業的に既知であり、ＦＭＣコーポレーション（FMC Corporation）及びアスタリス（Astari）により製造されるもののような、平均約６〜約２１のｎを有するものである。これらのポリホスフェート類は単独で又は組み合わせて用いることができる。ポリホスフェートは、酸性ｐＨ、具体的にはｐＨ５未満で、高含水製剤中での加水分解の影響を受けやすい。したがって、より長鎖のポリホスフェート、具体的には、平均鎖長約２１のＧｌａｓｓ  Ｈを使用することが好ましい。そのようなより長鎖のポリホスフェートが加水分解を受けた場合、より短鎖のポリホスフェートが生成され、それらのより短鎖のポリホスフェートも、歯上に沈着して着色汚れ予防効果を提供するのに有効であると考えられている。
【００９４】
非高分子リン酸化合物、具体的には、フィチン酸、ミオ−イノシトールペンタキス（二水素リン酸）、ミオ−イノシトールテトラキス（二水素リン酸）、ミオ−イノシトールトリキス（二水素リン酸）、及びそれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、若しくはアンモニウム塩のような、ポリリン酸化イノシトール化合物もまた、歯直接剤として有用である。本明細書では、ミオ−イノシトール１，２，３，４，５，６−ヘキサキス（二水素リン酸）としても既知であるフィチン酸、又はイノシトール六リン酸、及びそのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、若しくはアンモニウム塩が好ましい。本明細書では、用語「フィチン酸塩」は、フィチン酸及びその塩、並びに他のポリリン酸化イノシトール化合物を包含する。
【００９５】
歯直接剤として有用な、他の界面活性リン酸化合物としては、米国特許第２００８０２４７９７３（Ａ１）号として共に譲渡された特許出願公開に記載されるような、リン酸モノ−、ジ−又はトリエステルなどの有機リン酸が挙げられる。例としては、ドデシルホスフェート、ラウリルホスフェート、ラウレス−１ホスフェート、ラウレス−３ホスフェート、ラウレス−９ホスフェート、ジラウレス−１０ホスフェート、トリラウレス−４ホスフェート、Ｃ１２〜１８  ＰＥＧ−９ホスフェートなどの、モノ−、ジ−及びトリ−アルキルホスフェート並びにアルキル（ポリ）アルコキシホスフェート、並びにその塩が挙げられる。多くは、Ｃｒｏｄａ、Ｒｈｏｄｉａ、Ｎｉｋｋｏｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ、Ｓｕｎｊｉｎ、Ａｌｚｏ、Ｈｕｎｔｓｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ、Ｃｌａｒｉａｎｔ、及びＣｏｇｎｉｓを含めた供給元より市販されている。幾つかの好ましい剤は、例えば、高分子部分としての反復アルコキシ基、特に３つ以上のエトキシ、プロポキシイソプロポキシ、又はブトキシ基を含有する高分子のものである。
【００９６】
更なる好適な高分子有機リン酸薬剤としては、リン酸デキストラン、リン酸ポリグルコシド、リン酸アルキルポリグルコシド、リン酸ポリグリセリル、リン酸アルキルポリグリセリル、リン酸ポリエーテル、及びリン酸アルコキシル化ポリオールが挙げられる。幾つかの具体例は、ＰＥＧホスフェート、ＰＰＧホスフェート、アルキルＰＰＧホスフェート、ＰＥＧ／ＰＰＧホスフェート、アルキルＰＥＧ／ＰＰＧホスフェート、ＰＥＧ／ＰＰＧ／ＰＥＧホスフェート、ジプロピレングリコールホスフェート、ＰＥＧグリセリルホスフェート、ＰＢＧ（ポリブチレングリコール）ホスフェート、ＰＥＧシクロデキストリンホスフェート、ＰＥＧソルビタンホスフェート、ＰＥＧアルキルソルビタンホスフェート、及びＰＥＧメチルグルコシドホスフェートである。
【００９７】
更なる好適な非高分子リン酸としては、アルキルモノグリセリドホスフェート、アルキルソルビタンホスフェート、アルキルメチルグルコシドホスフェート、アルキルスクロースホスフェートが挙げられる。
【００９８】
他の有用な歯直接材としては、米国特許第７，０２５，９５０号、及び同第７，１６６，２３５号（双方ともＰｒｏｃｔｅｒ  ＆  Ｇａｍｂｌｅ  Ｃｏに譲渡）に記載されるような、カルボン酸基で官能化されたシロキサンポリマーが挙げられる。これらのポリマーは、疎水性のシロキサン主鎖、及びペンダントアニオン性部分を含有するカルボキシ基を含み、水性基剤の製剤から、又は本質的に非水性基剤の製剤から表面に沈着して、実質的に疎水性の被膜を処理表面上に形成する能力を有する。カルボキシ官能化シロキサンポリマーは、極性表面に結合し、静電相互作用によってその上に被膜を形成する、すなわちペンダントカルボキシ基と、歯に存在するカルシウムイオンとの間で錯体生成すると考えられる。それゆえ、カルボキシ基は、シロキサンポリマー主鎖を表面上に定着させることにより、表面を疎水性に改質し、次いで、洗浄の容易性、着色汚れの除去及び予防、白化などのような、様々な最終用途の利益を表面に付与することに役立つ。カルボキシ官能化シロキサンポリマーは更に、活性の薬剤の、表面上への沈着を強化し、これらの活性物質の、処理表面上での保持及び効能を改善するように作用する。
【００９９】
ビニルピロリドン（ＶＰ）モノマーの１つ又は混合物と、アルケニルカルボキシレート（ＡＣ）モノマーの１つ又は混合物、具体的には、共に譲渡された米国特許第６，６８２，７２２号に記載の、飽和直鎖又は分枝鎖Ｃ１〜Ｃ１９アルキルカルボン酸のＣ２〜Ｃ１２アルケニルエステルとを、共重合することによって調製される、水溶性又は水分散性のポリマー剤もまた、歯直接剤として有用である。例としては、ビニルピロリドンと、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、若しくはビニルブチラートのうちの１つ又は混合物とのコポリマーが挙げられる。好ましいポリマーは、約１，０００〜約１，０００，０００、好ましくは約１０，０００〜約２００，０００、更により好ましくは約３０，０００〜約１００，０００の範囲の平均分子量を有する。
【０１００】
歯直接剤の量は、典型的には、口腔用組成物全体の約０．１重量％〜約３５重量％である。歯磨剤製剤中では、量は、好ましくは約２％〜約３０％、より好ましくは約５％〜約２５％、最も好ましくは約６％〜約２０％である。洗口剤組成物中では、歯直接剤の量は、好ましくは約０．１％〜５％、より好ましくは約０．５％〜約３％である。
【０１０１】
追加的な活性物質
本発明での使用に適した追加的な活性物質としては、インスリン、ステロイド、薬草剤、及び他の植物由来の治療薬が挙げられるが、これらに限定されない。更には、当該技術分野において既知の抗歯肉炎剤又は歯肉ケア剤もまた挙げることができる。歯に清浄感を付与する構成成分が任意に含まれてもよい。これらの成分としては、例えば、重曹、又はＧｌａｓｓ−Ｈを挙げることができる。また、治療の特定の形態では、これら上記指定の薬剤の組み合わせが、最適の効果を得るために有用である可能性がある。したがって、例えば、抗微生物剤及び抗炎症剤を、単一の歯磨剤組成物中で併用し、複合的な有効性を提供することができる。
【０１０２】
使用される任意薬剤としては、例えば米国特許第４，６２７，９７７号に記載のような、ポリアクリレート、及び無水マレイン酸若しくはマレイン酸とメチルビニルエーテルとのコポリマー（例えば、Ｇａｎｔｒｅｚ）を含む、合成アニオン性ポリマーとして既知の材料、並びに例えばポリアミノプロパンスルホン酸（ＡＭＰＳ）、クエン酸亜鉛三水和物、ポリホスフェート（例えば、トリポリホスフェート、ヘキサメタホスフェート）、ジホスホネート（例えば、ＥＨＤＰ、ＡＨＰ）、ポリペプチド（例えば、ポリアスパラギン酸、及びポリグルタミン酸）、並びにこれらの混合物が挙げられる。更には、歯磨剤組成物としては、米国特許第６，６８２，７２２号、及び同第６，５８９，５１２号、並びに米国特許出願第１０／４２４，６４０号、及び同第１０／４３０，６１７号に記載のような、ポリマーキャリアを挙げることができる。
【０１０３】
他の任意成分
緩衝剤
歯磨剤組成物は、緩衝剤を含有し得る。ここで使用される緩衝剤は、歯磨剤組成物のｐＨを約ｐＨ  ３．０〜約ｐＨ  １０に調整するために使用できる化学物質を指す。緩衝剤には、水酸化アルカリ金属、水酸化アンモニウム、有機アンモニウム化合物、炭素塩、セスキ炭酸ソーダ、ボレート、シリケート、ホスフェート、イミダゾール、及びこれらの混合物が挙げられる。具体的な緩衝剤としては、リン酸一ナトリウム、リン酸三ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アルカリ金属炭酸塩、炭酸ナトリウム、イミダゾール、ピロリン酸塩、グルコン酸ナトリウム、乳酸、乳酸ナトリウム、クエン酸、及びクエン酸ナトリウムが挙げられる。緩衝剤は、歯磨剤組成物の約０．１重量％〜約３０重量％、好ましくは約０．１重量％〜約１０重量％、及びより好ましくは約０．３重量％〜約３重量％の濃度で用いられる。
【０１０４】
着色剤
着色剤もまた本組成物に添加されてもよい。着色剤は水溶液の形態であってもよく、好ましくは１％の着色剤水溶液であってもよい。顔料、パール剤（pealing agent）、充填剤粉末、タルク、雲母、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、オキシ塩化ビスマス、酸化亜鉛、及び歯磨剤組成物に視覚的変化を生み出すことができるその他の物質も使用できる。着色剤溶液及び他の薬剤は、一般に、組成物の約０．０１重量％〜約５重量％を構成する。二酸化チタンをまた本組成物に添加してもよい。二酸化チタンは、組成物に不透明感を加える白色粉末である。二酸化チタンは、一般に、組成物の約０．２５重量％〜約５重量％を構成する。
【０１０５】
香味剤
好適な香味構成成分としては、冬緑油、クローブバッドオイル、メントール、アネトール、サリチル酸メチル、ユーカリプトール、カッシア、１−メンチルアセテート、セージ、オイゲノール、パセリオイル、オキサノン、α−イリソン、マジョラム、レモン、オレンジ、プロペニルグエトール、桂皮、バニリン、エチルバニリン、ヘリオトロピン、４−シス−ヘプテナール、ジアセチル、メチル−パラ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルアセテート、クランベリー、チョコレート、緑茶、及びこれらの混合物が挙げられる。精油もまた、香味剤として含まれてもよく、抗菌剤の考察において上記で説明されている。冷感剤もまた、香味組成物の部分とすることができる。本発明の組成物に好適な冷感剤としては、Ｎ−エチル−ｐ−メンタン−３−カルボキサミド（ＷＳ−３、ＷＳ−２３、ＷＳ−５として商業的に既知である）、ＭＧＡ、ＴＫ−１０、Ｐｈｙｓｃｏｏｌ、及びこれらの混合物のような、パラメンタンカルボキシアミド剤が挙げられる。唾液分泌促進剤、加温剤、局部麻酔剤、及び他の任意材料は、口腔用組成物が使用されている間に、シグナルを放出するために使用することができる。一部の実施形態では、存在する香味剤の量は、同等の沈殿シリカ製剤よりも、組成物の約１０重量％、約２０重量％、又は約５０重量％少ないが、その一方で同じ香味効果を達成することができる。
【０１０６】
香味組成物は、口腔ケア組成物中で、口腔ケア組成物の約０．００１重量％〜約５重量％の濃度で通常使用される。香味組成物は、好ましくは約０．０１重量％〜約４重量％の量で、より好ましくは約０．１重量％〜約３重量％の量で、及びより好ましくは約０．５重量％〜約２重量％の量で存在する。
【０１０７】
同様に、冷感剤は、本発明の組成物中にそれほど多量に吸収され得ず、このことは、冷感剤がより長く持続し得るか、又はより少量での使用が可能であることを意味する。精油もまた、より少なく吸収され得るため、より少量の使用で、同じ有効性を達成することができる。熱処理沈殿シリカは、沈殿シリカのように味覚受容体に結合しない可能性があり、これは味覚受容体が着香剤に対してより接近しやすい可能性があることを意味する。
【０１０８】
例えば、口内が清浄であるという体験、及び甘味若しくは冷感の感知の増大のような、他の審美的利益が、ユーザには明白であり得る。改善された、滑らかで清浄な口内感覚は、口内乾燥の感知が少なくなる一因となり得、熱処理沈殿シリカの改善された洗浄は、ムチン（muscin）の層の除去に役立ち、保湿の感知を増大させることができる。消費者の別の審美的利益は、ユーザがブラッシングする間、不活性の熱処理沈殿シリカ粒子が凝集せずに分散状態を維持することに由来する、口腔用組成物の口からのすすぎ出しの改善であり得る。更に別の潜在的利益は、泡立ちの改善である。この点でも、熱処理沈殿シリカは、沈殿シリカよりも反応性が低いため、界面活性剤の利用効率が増し、結果として泡立ちが改善され得る。
【０１０９】
一部の実施形態は、小直径の感覚ニューロン上に優先的に発現し、有害物質並びに他の物質を検出する、リガンド開口型、非選択性カチオンチャネルである、ＴＲＰＶ１活性剤、すなわち一過性受容器電位バニロイド受容体１活性剤を含み得る。異味の構成成分を含む口腔ケア組成物にＴＲＰＶ１活性剤を添加することにより、この組成物のユーザは、ＴＲＰＶ１活性剤を有さない口腔ケア組成物に勝る改善された味を経験することができる。このように、ＴＲＰＶ１活性剤は、口腔ケア組成物中で使用される多くの構成成分に関連した嫌な味を相殺する働きをする。これらの活性剤は、嫌な味を相殺し得るばかりではなく、乾燥状態を感知する口の能力を制限することによって、乾燥状態の感知を低減することもできる。一実施形態では、ＴＲＰＶ１活性剤は、バニリルブチルエーテル、ジンゲロン、カプサイシン、カプシエイト、ショウガオール（shoagol）、ギンゲロール、ピペリン、又はこれらの組み合わせを含む。一実施形態では、ＴＲＰＶ１活性剤を、口腔ケア組成物の約０．０００１重量％〜約０．２５重量％の量で添加する。
【０１１０】
甘味剤
甘味剤を組成物に添加することができる。これらとしては、サッカリン、ブドウ糖、スクロース、ラクトース、キシリトール、マルトース、果糖、アスパルテーム、シクラミン酸ナトリウム、Ｄ−トリプトファン、ジヒドロカルコン、アセスルファム、スクラロース、ネオテーム、及びこれらの混合物のような、甘味剤が挙げられる。様々な着色剤もまた、本発明中に組み込んでもよい。甘味剤は、一般に口腔用組成物中で、組成物の約０．００５重量％〜約５重量％の濃度で使用される。
【０１１１】
増粘剤
高分子増粘剤などの、追加の増粘剤が利用されてもよい。好適な増粘剤は、カルボキシビニルポリマー、カラギーナン、ヒドロキシエチルセルロース、ラポナイト、並びにカルボキシメチルセルロースナトリウム及びカルボキシメチルヒドロキシエチルセルロースナトリウムのような、セルロースエーテルの水溶性塩である。カラヤゴム、キサンタンガム、アラビアゴム、及びトラガカントゴムのような天然ゴムも使用することができる。更に質感を改善するために、コロイド状ケイ酸アルミニウムマグネシウム、又は超微粒子状シリカを、増粘剤の一部として使用できる。他の増粘剤としては、アルキル化ポリアクリレート、アルキル化架橋ポリアクリレート、又はゲルネットワークを挙げることができる。増粘剤としては、高分子ポリエーテル化合物、例えば、炭素原子１個〜約１８個を含有するアルキル基又はアシル基で末端保護されたポリエチレンオキシド又はポリプロピレンオキシド（分子量３００〜１，０００，０００）が挙げられる。
【０１１２】
増粘剤又はゲル化剤の好適な部類としては、ペンタエリスリトールのアルキルエーテルで若しくはスクロースのアルキルエーテルで架橋された、アクリル酸のホモポリマー、又はカルボマーの部類が挙げられる。カルボマーは、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ（Ｏｈｉｏ，ＵＳＡ）よりＣＡＲＢＯＰＯＬ（登録商標）シリーズとして市販されている。具体的には、ｃａｒｂｏｐｏｌとして、ＣＡＲＢＯＰＯＬ  ９３４、９４０、９４１、９５６、及びこれらの混合物が挙げられる。
【０１１３】
ラクチド及びグリコリドモノマーのコポリマーである、約１，０００〜約１２０，０００（数平均）の範囲の分子量を有するコポリマーは、「歯肉縁下用ゲルキャリア」として歯周ポケットの中又は歯周ポケットの周りに活性物質を送達するのに有用である。これらのポリマーは、米国特許第５，１９８，２２０号、同第５，２４２，９１０号、及び同第４，４４３，４３０号に記載されている。
【０１１４】
沈殿シリカの、他の製剤構成成分との相互作用のために、沈殿シリカは、組成物のレオロジーに経時的な影響を及ぼし得る。しかしながら熱処理沈殿シリカは、他の製剤構成成分との相互作用がないため、レオロジーに及ぼす影響は少ない。このことは、熱処理沈殿シリカを用いて製剤化される口腔ケア組成物は、経時的により安定であるため、とりわけ、より良好な洗浄、及びより良好な予測可能性が得られることを意味する。それゆえ、一部の実施形態では、増粘剤の組み合わせ及び量は、従来の歯磨剤とは非常に異なる場合がある。本発明では、増粘剤は、口腔用組成物全体の約０重量％〜約１５重量％の量、若しくは約０．０１重量％〜約１０重量％の量で、又は他の実施形態では、口腔用組成物全体の約０．１重量％〜約５重量％の量で使用することができる。
【０１１５】
本発明の一部の実施形態では、組成物は、天然源及び合成源から選択される増粘剤を含み得る。一部の実施形態では、増粘剤は、粘土、ラポナイト、及びこれらの混合物からなる群から選択することができる。一部の実施形態では、組成物は、カルボキシビニルポリマー、カラギーナン、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースエーテルの水溶性塩、例えばカルボキシメチルセルロースナトリウム、架橋カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロースナトリウム、架橋デンプン、天然ゴム、例えばカラヤゴム、キサンタンガム、アラビアゴム、及びトラガカントゴム、ケイ酸アルミニウムマグネシウム、シリカ、アルキル化ポリアクリレート、アルキル化架橋ポリアクリレート、並びにこれらの混合物からなる群から選択される増粘剤を更に含むことができる。
【０１１６】
他の可能な増粘剤としては、カルボマー、疎水変性カルボマー、カルボキシメチルセルロース、セチル／ステアリルアルコール、アルギン酸ナトリウム、ジェランガム、アシル化ジェランガム、ヒドロキシプロピルデンプンリン酸ナトリウム、微結晶セルロース、微細繊維状セルロース、架橋ポリビニルピロリドン、セチルヒドロキシエチルセルロース、架橋アクリロイルメチルプロパンスルホン酸ナトリウム及びコポリマー、並びにこれらの混合物が挙げられる。
【０１１７】
組成物の作製時の粘度を、そのまま組成物の粘度とすることができ、又は言い換えれば、組成物は、安定した粘度を有することができる。粘度が安定であると見なされる場合には、典型的には、粘度は３０日後で約５％を超えて変化しない。一部の実施形態では、組成物の粘度は、約３０日後で約５％を超えて、約３０日後で約１０％を超えて、約３０日後で約２０％を超えて、又は約９０日後で約５０％を超えて、変化しない。経時的に不安定な粘度の問題は、水分量が少ない製剤ではより顕著であるため、一部の実施形態では、本発明の組成物は、約２０％未満の総水分量、又は約１０％未満の総水分量を含有し得る。
【０１１８】
ゲルネットワーク
ゲルネットワークを、口腔用組成物に使用することができる。口腔用組成物を構造化するため、又は活性物質、香味剤、若しくは他の反応性材料の送達を助けるために、ゲルネットワークを使用することができる。ゲルネットワークを構造化に使用してもよく、即ち、それ自体で又は他の増粘剤若しくは構造化剤と組み合わせて、熱処理沈殿シリカ口腔ケア組成物を増粘化するか又は組成物に所望のレオロジーを提供するために使用してもよい。熱処理沈殿シリカは他の研磨剤又は口腔用組成物中の材料よりも高密度であることから、ゲルネットワーク組成物は熱処理沈殿シリカに有利となり得るレオロジーを有する。熱処理沈殿シリカは、より重質又はより高密度であるため、他の低密度の材料よりも容易に組成物又は溶液から抽出され、又は脱落し得る。このことは、組成物が水で希釈される場合に起こり得る。例えば、歯磨剤をブラッシングに使用する場合、歯磨剤は、口中にあるときに水によって希釈される。歯磨剤の構造化を補助するゲルネットワークを含有する、歯磨剤に関する希釈レオロジーは、高分子材料又はより一般的な増粘材料によって構造化された歯磨剤よりも高い可能性がある。希釈レオロジーが高いことは、熱処理沈殿シリカを懸濁状態に保持すること及び熱処理沈殿シリカを洗浄プロセスに完全に関与させることに有益である。研磨剤のような材料が、一旦希釈された後、組成物中に懸濁又は維持されない場合は、ペリクル洗浄率などの洗浄の効能が減少する可能性がある。更には、研磨剤、すなわち熱処理沈殿シリカがより多く懸濁するにつれて、より多くの研磨剤が洗浄に関与することが可能となるため、口腔用組成物は、全体としてより少量の研磨剤を含み得る。図１３は、ゲルネットワークによって構造化されずに一般的な高分子結合剤によって増粘された組成物と比較した、ゲルネットワークによって構造化された組成物に関する、ＰＣＲ及びＲＤＡのデータを示す。図に示すように、１５％の熱処理沈殿シリカを含有する製剤中でゲルネットワークを使用した場合、ＰＣＲのスコアは、９２．５から１２７．５６へ、及び９５．４４から１２１．０４へと増大している。この約１０％、約１５％、約２０％、又は約２５％を超えるＰＣＲの増大は、洗浄の間、より多くの熱処理沈殿シリカを懸濁させるゲルネットワークの能力によるものである可能性がある。洗浄のスコアは上昇するが、その一方で、磨耗は許容可能な範囲に留まる。
【０１１９】
本発明の口腔用組成物は、分散ゲルネットワークを含み得る。本明細書で使用するとき、用語「ゲルネットワーク」とは、少なくとも１種の脂肪族両親媒性物質、少なくとも１種の界面活性剤、及び溶媒を含む、層状の、又は小胞性の固体結晶相を指す。層状相、又は小胞性相は、脂肪族両親媒性物質及び第２界面活性剤を含む第１層と、交互の、溶媒を含む第２層とから構成される二重層を含む。層状結晶相を形成するためには、脂肪族両親媒性物質及び第２界面活性剤は、溶媒内で分散しなければならない。本明細書で使用するとき、用語「固体結晶」とは、１種以上の脂肪族両親媒性物質を含むゲルネットワーク中の層の鎖融解温度未満の温度において形成される、層状相又は小胞性相の構造を指す。本発明での使用に好適なゲルネットワークは、ゲルネットワークの材料、作製方法、及び使用を説明する米国特許第２００８／００８１０２３（Ａ１）号で、より詳細に記載されている。更には、米国特許第２００９／０２４６１５１（Ａ１）号もまた、ゲルネットワーク、及びゲルネットワークを含有する組成物の作製方法を記載している。
【０１２０】
口腔用組成物中のゲルネットワークを使用して、口腔用組成物を構造化することができる。ゲルネットワークによって提供される構造化は、口腔用組成物を増粘化させることによって所望のレオロジー又は粘度を提供する。構造化は、高分子増粘剤を必要とすることなく行うことができるが、口腔用組成物の構造化のために、高分子増粘剤、又は他の薬剤をゲルネットワークに加えて使用することができる。熱処理沈殿シリカは増粘化をもたらさないか、又は一般的な沈殿シリカほど増粘化をもたらさないため、口腔用組成物の増粘化は、口腔用組成物の構造化のために使用されるゲルネットワークから、より大きな利益を得ることができる。熱処理沈殿シリカが口腔用組成物の粘度若しくは増粘化に与える影響が小さいか又は全くないことは、ゲルネットワーク又は他の増粘系を口腔用組成物に配合することを可能にし、次いで、沈殿シリカの量を調節する場合には不可欠となる増粘化の濃度の再調節を必要とすることなく、所望の量の熱処理沈殿シリカを添加することができる、という利益も提供し得る。
【０１２１】
本発明のゲルネットワーク構成成分は、少なくとも１種の脂肪族両親媒性物質を含む。本明細書で使用するとき、「脂肪族両親媒性物質」とは、疎水性末端基、及び化合物を水溶性にしない（不混和性）親水性先端基を有する化合物を指し、この化合物はまた、口腔用組成物のｐＨにおいて、正味の中性電荷も有する。脂肪族両親媒性物質は、脂肪族アルコール、アルコキシル化脂肪族アルコール、脂肪族フェノール、アルコキシル化脂肪族フェノール、脂肪酸アミド、アルコキシル化脂肪酸アミド、脂肪族アミン、脂肪族アルキルアミドアルキルアミン、脂肪族アルコキシル化アミン、脂肪族カルバメート、脂肪族アミンオキシド、脂肪酸、アルコキシル化脂肪酸、脂肪族ジエステル、脂肪族ソルビタンエステル、脂肪族糖エステル、メチルグルコシドエステル、脂肪族グリコールエステル、モノ、ジ−、及びトリ−グリセリド、ポリグリセリン脂肪酸エステル、アルキルグリセリルエーテル、プロピレングリコール脂肪酸エステル、コレステロール、セラミド、脂肪族シリコーンワックス、脂肪族グルコースアミド、及びリン脂質、並びにこれらの組み合わせからなる群から選択することができる。好適な脂肪族両親媒性物質としては、セチルアルコールとステアリルアルコールとの組み合わせが挙げられる。
【０１２２】
ゲルネットワークはまた、界面活性剤を含む。１種以上の界面活性剤を脂肪族両親媒性物質及び口腔キャリアと組み合わせ、本発明のゲルネットワークを形成する。界面活性剤は一般に水溶性であるか、又は溶媒と混和性、若しくは口腔キャリアと混和性である。好適な界面活性剤としては、アニオン性、双極性、両性、カチオン性、及び非イオン性の界面活性剤が挙げられる。一実施形態では、ラウリル硫酸ナトリウムのような、アニオン性界面活性剤が好ましい。界面活性剤は、アニオン性及び非イオン性界面活性剤のような、２種以上の界面活性剤の組み合わせであってもよい。ゲルネットワークはまた、水、又は他の好適な溶媒などの、溶媒も含む傾向にある。溶媒及び界面活性剤は、協働して脂肪族両親媒性物質の膨潤に寄与する。言い換えると、これは、ゲルネットワークの形成及び安定性を導く。ゲルネットワークの形成に加えて、溶媒は、空気に曝された際に歯磨剤組成物が硬化することを防ぎ、口内に湿潤感を提供することに役立ち得る。本明細書で使用するとき、溶媒とは、本発明のゲルネットワークの形成において、水の代わりに、又は水と組み合わせて使用することができる好適な溶媒を指す。本発明に好適な溶媒としては、水、食用多価アルコール、例えばグリセリン、ジグリセリン、トリグリセリン、ソルビトール、キシリトール、ブチレングリコール、エリスリトール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、及びこれらの組み合わせが挙げられる。ソルビトール、グリセリン、水、及びこれらの組み合わせが、好ましい溶媒である。
【０１２３】
ゲルネットワークを形成するために、口腔用組成物は、口腔用組成物の約０．０５重量％〜約３０重量％の量で、好ましくは約０．１重量％〜約２０重量％の量で、及びより好ましくは約０．５重量％〜約１０重量％の量で、脂肪族両親媒性物質を含み得る。脂肪族両親媒性物質の量は、ゲルネットワークの形成、及び口腔用製剤の組成に基づいて選択される。例えば、少量の水を含有する口腔用組成物は、約１％の脂肪族両親媒性物質を必要とし得るが、多量の水を含む口腔用組成物は、６％以上の脂肪族両親媒性物質を必要とし得る。ゲルネットワークを形成するために必要な、界面活性剤及び溶媒の量もまた、選択される材料、ゲルネットワークの機能、及び脂肪族両親媒性物質の量に基づいて変化する。ゲルネットワーク相の一部としての界面活性剤は、一般に、口腔組成物の約０．０１重量％〜約１５重量％、好ましくは約０．１重量％〜約１０重量％、より好ましくは約０．３重量％〜約５重量％の量で存在する。一部の実施形態では、界面活性剤の希釈水溶液を利用する。一実施形態では、界面活性剤の量は、口腔用組成物中で所望される泡立ちの程度に基づいて、及び界面活性剤によって生じる刺激に基づいて選択される。溶媒は、本発明に従った、脂肪族両親媒性物質及び界面活性剤と組み合わせた場合に、ゲルネットワークを達成するのに好適な量で、存在させることができる。口腔用組成物は、口腔用組成物の少なくとも約０．０５重量％の溶媒を含み得る。溶媒は、口腔用組成物中に、約０．１％〜約９９％、約０．５％〜約９５％、及び約１％〜約９０％の量で存在させてもよい。
【０１２４】
保湿剤
保湿剤は、空気に曝される際に歯磨剤組成物が硬化するのを防ぎ、口に湿った感触を与えるのを補助することができる。保湿剤、すなわち追加的な溶媒を、口腔キャリア相に添加することができる。本発明に好適な保湿剤としては、水、食用多価アルコール、例えば、グリセリン、ソルビトール、キシリトール、ブチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、及びこれらの組み合わせが挙げられる。ソルビトール、グリセリン、水、及びこれらの組み合わせが好ましい保湿剤である。保湿剤は、約０．１％〜約９９％、約０．５％〜約９５％、及び約１％〜約９０％の量で存在させてもよい。
【０１２５】
界面活性剤
界面活性剤が、歯磨剤組成物に加えられてもよい。界面活性剤はまた、一般的に起泡剤とも称され、歯磨剤組成物の洗浄及び泡立ちを補助する。好適な界面活性剤は、広いｐＨ範囲にわたって適度に安定かつ発泡性であるものである。界面活性剤は、アニオン性、非イオン性、両性、双極性、カチオン性、又はこれらの混合物であってよい。
【０１２６】
本明細書で有用なアニオン性界面活性剤の例としては、アルキルラジカルに８個〜２０個の炭素原子を有するアルキルサルフェートの水溶性塩類（例えば、アルキル硫酸ナトリウム）並びに８個〜２０個の炭素原子を有する脂肪酸のスルホン化モノグリセリドの水溶性塩類が挙げられる。ラウリル硫酸ナトリウム（ＳＬＳ）及びココナツモノグリセリドスルホン酸ナトリウムは、この種類のアニオン性界面活性剤の例である。他の好適なアニオン性界面活性剤の例は、ラウロイルサルコシン酸ナトリウム、タウレート、ラウリルスルホ酢酸ナトリウム、ラウロイルイセチオン酸ナトリウム、ラウレスカルボン酸ナトリウム、及びドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムのようなサルコシネートである。アニオン性界面活性剤の混合物を使用することもできる。多数の好適なアニオン性界面活性剤が、Ａｇｒｉｃｏｌａらの米国特許第３，９５９，４５８号（１９７６年５月２５日発行）に開示されている。一部の実施形態では、口腔ケア組成物は、約０．０２５％〜約９％の濃度で、一部の実施形態では約０．０５％〜約５％の濃度で、及び他の実施形態では約０．１％〜約１％の濃度で、アニオン性界面活性剤を含み得る。
【０１２７】
別の好適な界面活性剤は、サルコシネート界面活性剤、イセチオネート界面活性剤及びタウレート界面活性剤からなる群から選択されるものである。本明細書で用いるのに好ましいのは、サルコシン酸ラウロイル、サルコシン酸ミリストイル、サルコシン酸パルミトイル、サルコシン酸ステアロイル、及びサルコシン酸オレオイルの、ナトリウム塩及びカリウム塩のような、これらの界面活性剤のアルカリ金属塩又はアンモニウム塩類である。サルコシン酸界面活性剤は、本発明の組成物中に、総組成物の約０．１重量％〜約２．５重量％、又は約０．５重量％〜約２重量％で存在させてもよい。
【０１２８】
本発明で有用なカチオン性界面活性剤としては、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム、塩化セチルピリジニウム、臭化セチルトリメチルアンモニウム、塩化ジ−イソブチルフェノキシエチル−ジメチルベンジルアンモニウム、亜硝酸ココナツアルキルトリメチルアンモニウム、フッ化セチルピリジニウムなどのような、約８個〜１８個の炭素原子を含有する１つの長アルキル鎖を有する、脂肪族四級アンモニウムの化合物の誘導体が挙げられる。好ましい化合物は、米国特許第３，５３５，４２１号（１９７０年１０月２０日、Ｂｒｉｎｅｒら）に記載のフッ化四級アンモニウムであり、このフッ化四級アンモニウムは、洗剤特性を有する。特定のカチオン性界面活性剤はまた、本明細書に開示された組成物中で殺菌剤として作用する場合もある。
【０１２９】
本発明の組成物に使用できる非イオン性界面活性剤としては、アルキレンオキシド基（性質上は親水性）と、性質上は脂肪族又はアルキル芳香族であってもよい有機疎水性化合物との縮合によって生成される化合物が挙げられる。好適な非イオン性界面活性剤の例としては、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ、アルキルフェノールのポリエチレンオキシド縮合物、エチレンオキシドとプロピレンオキシド及びエチレンジアミンの反応生成物との縮合から誘導される生成物、脂肪族アルコール、脂肪族酸、及び脂肪族エステルの、エチレンオキシド縮合物、長鎖三級アミンオキシド、長鎖三級ホスフィンオキシド、長鎖ジアルキルスルホキシド、並びにこのような材料の混合物が挙げられる。
【０１３０】
本発明で有用な双極性合成界面活性剤としては、脂肪族四級アンモニウム、ホスホニウム、及びスルホニウム化合物の誘導体が挙げられ、その脂肪族基は直鎖又は分枝鎖であってもよく、脂肪族置換基の１つは約８個〜約１８個の炭素原子を含有し、１つは例えばカルボキシ基、スルホネート基、サルフェート基、ホスフェート基、又はホスホネート基のようなアニオン性水溶性基を含有する。
【０１３１】
好適なベタイン界面活性剤は、米国特許第５，１８０，５７７号（Ｐｏｌｅｆｋａら、１９９３年１月１９日発行）に開示されている。典型的なアルキルジメチルベタインとしては、デシルベタイン、すなわち２−（Ｎ−デシル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）アセテート、ココベタイン、すなわち２−（Ｎ−ｃｏｃ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニオ）アセテート、ミリスチルベタイン、パルミチルベタイン、ラウリルベタイン、セチルベタイン、セチルベタイン、ステアリルベタインなどが挙げられる。アミドベタインは、ココアミドエチルベタイン、ココアミドプロピルベタイン、ラウラミドプロピルベタインなどによって例示される。選択されるベタインは、好ましくはココアミドプロピルベタイン、より好ましくはラウラミドプロピルベタインである。
【０１３２】
沈殿シリカは、口腔用組成物の泡立ちを減少させる傾向がある。対照的に、熱処理沈殿シリカは、反応性が低いことから、泡立ちを抑制せず、すなわち沈殿シリカ程には泡立ちを抑制しない。界面活性剤への干渉性の欠如は、使用する界面活性剤の量に影響を与え得るものであり、このことは同様に、他の変数に影響を及ぼし得る。例えば、消費者の許容可能な泡立ちを達成するために必要な界面活性剤がより少量であれば、刺激性（消費者がＳＬＳを嫌う点として知られる）を低減することができ、又は組成物のｐＨを低下させて、より良好なフッ化物の取り込みを可能にし得る。
【０１３３】
一部の実施形態では、これらの化合物の審美的欠点を緩和するために、高分子無機質界面活性剤が添加される。高分子無機質界面活性剤は、有機リン酸ポリマーとすることができ、一部の実施形態では、アルキルリン酸エステル若しくはその塩、エトキシル化アルキルリン酸エステル及びその塩、又は非エトキシル化アルキルリン酸、あるいはアルキルリン酸エステル若しくはその塩の混合物である。一部の実施形態では、高分子無機質界面活性剤は、ポリカルボキシレート若しくはポリホスフェート、又はＧａｎｔｒｅｚのような高分子カルボキシレートのコポリマーであってもよい。
【０１３４】
いくつかの実施形態では、組成物は熱処理沈殿シリカを含み、かつＳＬＳを本質的に含まなくてもよい。本質的に含まない、とは、組成物の約０．０１重量％未満で存在することを意味する。一部の実施形態では、組成物は、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、双極性界面活性剤、及びこれらの混合物からなる群から選択される、ＳＬＳ以外の界面活性剤を更に含み得る。一部の実施形態では、組成物は、キレート剤を更に含み得る。一部の実施形態では、界面活性剤は、例えばベタインのような、両性界面活性剤とすることができる。一部の実施形態では、組成物は、少なくとも約８０のＰＣＲを有し得る。一部の実施形態では、界面活性剤は、少なくとも約５０％で利用可能とすることができる。一部の実施形態では、組成物は、組成物の３重量％未満の界面活性剤を有する。一部の実施形態では、組成物は、過酸化物源、及び／又は酵素を更に含み得る。いくつかの実施形態は、熱処理沈殿シリカを含む口腔用組成物を対象者の口腔に投与することによる、口内乾燥状態を処置する方法であってもよく、ここで組成物はラウリル硫酸ナトリウムを本質的に含まない。
【０１３５】
使用方法
本発明はまた、歯の洗浄及び研磨のための方法にも関する。本明細書の使用方法は、対象者の歯のエナメル質表面及び口腔粘膜に、本発明による口腔用組成物を接触させることを含む。処置方法は、歯磨剤を使用するブラッシング、又は歯磨剤スラリー若しくは洗口剤を使用するすすぎによるものとすることができる。他の方法としては、局所口腔用ゲル、口中スプレー、練り歯磨き、歯磨剤、歯磨きゲル、歯磨き粉、タブレット、歯肉縁下用ゲル、フォーム、ムース、チューインガム、リップスティック、スポンジ、フロス、ペトロラタムゲル、若しくは義歯製品、又は他の形態物を、対象者の歯及び口腔粘膜に接触させることが挙げられる。実施形態に応じて、口腔用組成物は、練り歯磨きと同じく頻繁に使用されてもよく、又はより少ない頻度、例えば週単位で使用されてもよく、又は歯面研磨ペースト、若しくは他の集中治療の形態で、専門家により使用されてもよい。
【実施例】
【０１３６】
（実施例Ｉ）
熱処理沈殿シリカ
市販の沈殿シリカのサンプルを、表１に示す時間及び温度で熱処理した。
【０１３７】
【表１】
2015535262.tif 000003
【０１３８】
Ｚ−１０９及びＺ−１１９は、Ｈｕｂｅｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（ＵＳＡ）から市販されている沈殿シリカである。表１からわかるように、沈殿シリカＺ−１１９を９００℃で約１分間処理することで、スズとの適合性（経時的に利用可能なスズイオンのパーセンテージ）が、同じ材料を６００℃で２時間処理することによって得られるレベルとほぼ同じレベルにまで改善される。したがって、本発明は、かなり低いエネルギーコストで類似の効果を提供する。
【０１３９】
（実施例ＩＩ）
熱処理沈殿シリカ
市販の沈殿シリカのサンプルを、表２に示す時間及び温度で熱処理した。続いて、ＮＭＲを使用して、Ｑ２、Ｑ３及びＱ４シラノールのレベルを、読取値をＱ４に対して正規化して求めた。スズ−シリカスラリーにおけるスズとの適合性を、６０℃で１週間後に利用可能なスズイオンの量を測定することによって評価した。結果を以下に作表し、表２にも示す。
【０１４０】
【表２】
2015535262.tif 000004
【０１４１】
本明細書に開示した寸法及び値は、記載された正確な数値に厳密に限定されるものと理解されるべきではない。むしろ、特に断らない限り、そのような寸法のそれぞれは、記載された値及びその値の周辺の機能的に同等の範囲の両方を意味するものとする。例えば、「４０ｍｍ」として開示される寸法は、「約４０ｍｍ」を意味することを意図する。
【０１４２】
「発明を実施するための形態」で引用する全ての文献は、関連部分において本明細書に参照により組み込まれるが、いずれの文献の引用も、それが本発明に関する先行技術であることを容認するものとして解釈されるべきではない。この文書における用語のいずれかの意味又は定義が、参照することにより組み込まれる文献における用語のいずれかの意味又は定義と矛盾する範囲については、本文書においてその用語に与えられた意味又は定義が適用されるものとする。
【０１４３】
以上、本発明の特定の実施形態を図示、説明したが、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく様々な変更及び改変を行い得る点は当業者には自明であろう。したがって、本発明の範囲に含まれるそのような全ての変更及び改変を、付属の「特許請求の範囲」において網羅するものとする。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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