(57)【要約】  本発明は、太陽光制御機能を有する層の積重体を１つの面に備えたガラス基材を含む太陽光制御グレージングであり、当該積重体が、ガラス基材の表面から、次の層の連続体、すなわち、ガラス基材からのアルカリイオンのマイグレーションに対して上の層を保護するための下層、インジウムとスズの混合酸化物（ＩＴＯ）の層、空気中の酸素に対して前記ＩＴＯ層を保護するための上層、の連続体を含むグレージングであって、前記上層と下層が、窒化ケイ素、窒化アルミニウム又はそれらの混合物から選択される誘電性材料により基本的に形成されていること、且つ、クロム含有金属から作製されて、場合により部分的に又は完全に酸化及び／又は窒化されていてもよい中間層が、前記ＩＴＯ層のおのおのの側に当該層に接触して配置されていて、当該中間層の厚さが０．５ｎｍと３ｎｍの間であることを特徴とする太陽光制御グレージングに関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽光保護機能を有する層の積重体を面の１つに備えたガラス基材を含む太陽光制御グレージングであり、当該積重体が、ガラス基材の表面から始まる以下の層の連続体、すなわち、
・ガラス基材に由来するアルカリ金属イオンのマイグレーションに対して上の層を保護するための下層であって、２５ｎｍと１００ｎｍの間の厚さを有する下層、
・１００ｎｍと２５０ｎｍの間の厚さを有する、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の層、
・特に熱処理の間、例えば強化又は徐冷などの熱処理の間、大気中の酸素に対して前記ＩＴＯ層を保護するための上層であって、２５ｎｍと１００ｎｍの間の厚さを有する上層、
の連続体を含む太陽光制御グレージングであって、
・前記上層と下層は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、又はそれらの混合物から選択される誘電性材料から基本的に構成されること、
・場合により部分的又は完全に酸化及び／又は窒化された、クロム含有金属から作製された中間層が、前記ＩＴＯ層のおのおのの側に当該層に接触して位置しており、この中間層の厚さが０．５ｎｍと３ｎｍの間であること、
を特徴とする太陽光制御グレージング。
【請求項２】
前記中間層の厚さが１ｎｍと２．５ｎｍの間である、請求項１記載のグレージング。
【請求項３】
前記金属が少なくとも１０重量％のＣｒを含む、請求項１又は２記載のグレージング。
【請求項４】
前記金属がニッケルとクロムとの合金である、請求項１〜３のうちの１項に記載のグレージング。
【請求項５】
前記合金中のＣｒ／Ｎｉ重量比が１０／９０と４０／６０の間である、請求項４記載のグレージング。
【請求項６】
前記下層及び上層保護層が、Ａｌ、Ｚｒ又はＢから選択される元素を所望に応じドープされた、窒化ケイ素から基本的に構成される、請求項１〜５のうちの１項に記載のグレージング。
【請求項７】
前記上層の上に、酸化ケイ素又は酸化チタンから選択される誘電性酸化物から作製された層を追加して含む、請求項１〜６のうちの１項に記載のグレージング。
【請求項８】
誘電性酸化物から作製された前記層の厚さが１ｎｍと１５ｎｍの間である、請求項７記載のグレージング。
【請求項９】
前記積重体が、ガラス基材の表面から始まる以下の層の連続体、すなわち、
・窒化ケイ素から基本的に構成され、所望に応じアルミニウムを含む、厚さが３０ｎｍと１００ｎｍの間、好ましくは４０ｎｍと９０ｎｍの間の下層、
・場合により部分的又は完全に酸化及び／又は窒化された、ニッケルとクロムとの合金の、厚さが０．５ｎｍと３ｎｍの間、好ましくは１ｎｍと２．５ｎｍの間の第１の中間層、
・厚さが１００ｎｍと２５０ｎｍの間のＩＴＯ層、
・場合により部分的又は完全に酸化及び／又は窒化された、ニッケルとクロムとの合金の、厚さが０．５ｎｍと３ｎｍの間、好ましくは１ｎｍと２．５ｎｍの間の第２の中間層、
・窒化ケイ素から基本的に構成され、所望に応じアルミニウムを含む、厚さが３０ｎｍと１００ｎｍの間の上層、
の連続体から構成されている、請求項１〜８のうちの１項に記載のグレージング。
【請求項１０】
前記上層の上に、酸化ケイ素又は酸化チタンから選択される誘電性酸化物から作製された、厚さが１ｎｍと１０ｎｍの間の層を追加して含む、請求項９に記載のグレージング。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に建物又は自動車のグレージングタイプの、ガラス基材又は物品であって、その表面に薄層の連続体の積み重ねにより得られるコーティングを含み、それらに太陽光制御特性、特に太陽光保護特性を付与する、ガラス基材又は物品の分野に関する。「グレージング」という用語は、本発明の意義の範囲内において、１枚又はそれ以上のガラス基材から構成される任意のガラス製品、特に単一グレージング、二重グレージング、三重グレージングなど、を意味するものと理解される。「太陽光保護」という用語は、本発明の意義の範囲内において、入射する放射フラックス、特に、住居又は個室の外部から内部へとグレージングを通過する太陽放射線に由来する赤外線（ＩＲ）を選択的に制限し、その一方で、十分な光の透過率、すなわち一般に４０％超、実際には５０％又は更には５５％超の光透過率を保持するグレージングの能力を意味するものと理解される。更に詳しくは、本発明は、積重体を備えたグレージングに関し、その機能層又は能動層、すなわちこの積重体にそのような特性の主要部分を付与する層は、この分野において多くの場合ＩＴＯとして知られている酸化インジウムスズから構成される。
【０００２】
こうして、薄層の積重体を備えたそのようなグレージングは、太陽放射線に作用して、太陽光保護及び／又は断熱を可能にする。これらのコーティングは、従来は、最も簡単にはＣＶＤタイプの被着法により、又は現在一般的には、特にコーティングが連続層のより複雑な積重体から構成されるときは、当該分野で多くの場合マグネトロンスパッタリングとして知られている、ターゲットの真空スパッタリングによる被着法により被着されている。
【背景技術】
【０００３】
一般に、太陽光制御特性を有する薄層からなる積重体は、１つの、実際のところは数個の、能動層を含む。「能動層」という用語は、グレージングを通過してくる太陽放射線のフラックスに実質的に作用する層を意味するものと理解される。このような能動層は、公知の様式でもって、主に赤外線の反射モードか、あるいは主に赤外線の吸収モードのいずれかで、機能することができる。
【０００４】
特に、現在販売されている最も効率的な積重体は、基本的に赤外線の反射モードで機能する銀タイプの少なくとも１つの金属層を取り込んでいる。これらの積重体は一般に、低放射率（ｌｏｗ−ｅ）積重体と表現される。しかし、これらの層は、湿分に対して非常に感受性が高く、従って湿分から保護するために、もっぱら二重グレージングにおいて、後者の面２又は３で、使用される。本発明による積重体は、このような層を含まない。
【０００５】
米国特許第５８００９３３号明細書、ヨーロッパ特許出願公開第４５６４８７号明細書、同第５６０５３４号明細書、及び同第６２２６４５号明細書には、低放射率の銀層を取り囲むＮｉＣｒ又はＮｉ中間層の積重体が記載されている。これらの刊行物によると、このような中間層の使用は、積重体のおのおのの側に位置する誘電体層へのＡｇ金属層の接着の問題の解決を可能にし、このことはまた、刊行物“Airca Coating Technology, Proceedings of the 2nd Coating Technology Symposium, March 12-14, 1990”にも記載されている。
【０００６】
例えば国際公開第０１／２１５４０号パンフレットに記載されているように、Ｎｂ、Ｔａ又はＷタイプの、又はこれらの金属の窒化物の機能層を含む、太陽光保護機能を有する他の金属層もまた、当該分野において記載されている。しかし、このような層内では、今度は太陽放射線は吸収されるが非選択的であり、すなわち、赤外線（特に波長が約７８０ｎｍと２５００ｎｍの間であるもの）と可視光線が、等しく非選択的に吸収される。従って、このようなグレージングは、１未満の又はせいぜい約１の、ＴL／ｇ比で示される選択性を示す。
【０００７】
本発明及び従来技術によれば、選択性は、ＩＳＯ  ９０５０（２００３）国際標準規格に従って測定されるように、光透過係数／日射係数ｇ比に等しい。
【０００８】
公知の従来の方式では、前述の比において、光透過係数（大抵は光透過率ＴLとして知られている）は、光源Ｄ65に準じて、且つＩＳＯ  ９０５０（２００３）国際標準規格の具体的な基準に従って、グレージングを通過する入射放射線フラックス、すなわち３８０〜７８０ｎｍの波長範囲内のフラックスに対応する。
【０００９】
公知の様式では、前述の比において、大抵の場合ｇとしても知られる日射係数ＳＦは、グレージングを通過する（すなわち、系に入ってくる）エネルギーと、入射する太陽エネルギーとの比に等しい。更に詳しく言えば、それは、グレージングを直接透過するフラックスと、グレージング（その表面の１つに場合により存在する層の積重体を含む）により吸収され、次いで内部（系内）に向け再放射されるフラックスとの合計に相当する。日射係数はまた、ＩＳＯ  ９０５０（２００３）国際標準規格に記載された指示に従って測定される。
【００１０】
一般に、本明細書に提示される全ての光特性は、建築産業用のガラスで使用されるグレージングの光特性と日射特性の測定に関する、ＩＳＯ  ９０５０（２００３）国際標準規格に記載された原理と方法に従って得られる。
【００１１】
米国特許出願公開第２００９／０３２０８２４号明細書には、赤外線へのバリア層としてのスズドープインジウム（ＩＴＯ）の層の使用に基づく交互積重体が記載されている。この刊行物によれば、ＩＴＯ層の上へ酸化ケイ素ＳｉＯ2又は窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4で作製された層を貼着することが、積重体が最高５００℃までの範囲になることがある温度にさらされる場合に積重体の耐久性を実質的に向上させる。同様に、ＩＴＯ層の下へ酸化ケイ素ＳｉＯ2又は窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4で作製された層を挿入することが、基材からＩＴＯ層へのアルカリ金属のマイグレーションを防止し、こうしてその劣化を防止することを可能にする。しかし、この刊行物に示されているように、最小厚さは１００ｎｍに等しいが一般にはそれよりははるかに厚い酸化ケイ素で作製された層の使用は、「マグネトロン陰極スパッタリング」法によるＳｉＯ2層の過度に遅い被着速度のために、経済的採算性の問題を提起する。従って、窒化ケイ素で作製された層の使用が経済的観点から好適であるように思われ、その被着速度は酸化ケイ素のそれの約３倍速い。しかし、後により詳細に説明するように、出願人の会社の研究から、このような窒化物含有層の使用は、特に積重体を備えたグレージングが高温で熱処理を受けなければならない場合に、グレージングに曇りが現れることに反映されることが示されており、これは、それを特に建築用グレージングとして使用するのに不適としている。更に、このような積重体は、本明細書の以下で説明するように、特に引掻きについて、明らかに不十分な機械的強度特性を示すことが分かった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の主要な目的は、まず、層の積重体を含むグレージングであって、グレージングに太陽光制御特性と、特に太陽放射線の赤外線反射特性を付与するが、上記した意味の範囲内で、高選択性、すなわちＴL／ｇ比が１．１より大きいか又は１．２より大きい高選択性を示し、更に特別な予防措置なしに長期にわたり耐久性がある層の積重体を含むグレージングを提供することである。
【００１３】
本発明の別の目的は、その層の積重体が、特に例えば強化又は曲げ加工などの熱処理後に、積重体の赤外線反射特性の顕著な劣化を示すことなく、「透明」グレージングとして使用するの十分に高いＴL値、特に少なくとも４０％程度の、特に少なくとも５０％程度、理想的には５５％より大きなＴLを維持することができる、太陽光制御グレージングを提供することである。
【００１４】
よって、本発明の別の実施形態によれば、ＩＳＯ  １０２９２（１９９４）標準規格に記載された垂直放射率εNにより測定される、層の積重体を備えたグレージングの面の赤外線反射特性の向上を可能にするために、グレージングの熱処理が一般に必要である。例えば参考文献“Les techniques de l'ingenieur, Vitrage a isolation thermique renforcee [Reinforce Thermal Insulation Glazing], C3635 (2004) ”に記載された公知のやり方において、この反射特性は赤外線反射層を含む積重体を備えたグレージングの面の放射率に直接関係するものとなる。特に、公知のやり方において、陰極スパッタリングによる被着後の、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）タイプの本発明による機能層は、その結晶性を改良しその結果その放射率を低下させるために、一般に、数分間ほぼ６２０℃程度の温度での処理を受けなければならない。従って本発明は、このような熱処理後の垂直放射率εNが最小である、特に２０％未満、好ましくは１５％未満である、グレージングを提供する。
【００１５】
もちろん、可能性のある用途にとって必須の特性によれば、本発明によるグレージングが備えている薄層の積重体はまた、特にそれらがグレージングの外面に位置しなければならない場合、機械的に十分に耐久性でなければならない。それらは特に、それらを清浄にするために使用される種々の手段によりもたらされかねない引掻きに対して耐久性がなくてはならない。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
結局、こうして本発明によるグレージングは、赤外線、すなわちその波長が７８０ｎｍより大きいもの、の大部分、特に近赤外線、すなわちその波長が約７８０ｎｍと約１４００ｎｍの間であるもの、を選択的に反射しながら、光波、すなわちその波長が約３８０ｎｍと７８０ｎｍの間であるもの、の透過を促進することにより、それを通過する放射線の選択を都合よく可能にする。
【００１７】
本発明によれば、晴天時の太陽放射線により入ってくる熱の量を最小にしながら、グレージングにより保護された部屋又は個室の明るい照明を維持することが可能であり、その小さい放射性は更に、寒い季節にグレージングを通過する熱の損失を最小にすることを可能にする。
【００１８】
本発明の別の利点によれば、それらはまた、特に湿分に対して、化学的にはるかに感受性が低く、従って多重グレージングの外面上に、又は単一グレージングの面の１つの上に、特にその面２（すなわち内部を向いているそれ）の上に配置することができる。
【００１９】
より具体的に言えば、本発明は、太陽光保護機能を有する層の積重体を面の１つに備えたガラス基材を含む太陽光制御グレージングであって、その積重体が、ガラス基材の表面から始まる以下の層の連続体、すなわち、
・ガラス基材に由来するアルカリ金属イオンのマイグレーションに対して上の層を保護するための下層であって、２５ｎｍと１００ｎｍの間、好ましくは４０ｎｍと９０ｎｍの間の厚さを有する下層、
・１００ｎｍと２５０ｎｍの間、好ましくは１００ｎｍと２００ｎｍの間の厚さを有する、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の層、
・特に熱処理の間、例えば強化又は徐冷などの熱処理の間、大気中の酸素に対して前記ＩＴＯ層を保護するための上層であって、２５ｎｍと１００ｎｍの間、好ましくは４０ｎｍと９０ｎｍの間の厚さを有する上層、
・前記上層と下層は、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、又はそれらの混合物から選択される誘電性材料から基本的に構成される、
・クロム含有金属から作製された中間層であって、場合により部分的又は完全に酸化及び／又は窒化されており、前記ＩＴＯ層のおのおのの側に当該層に接触して位置していて、厚さが０．５ｎｍと３ｎｍの間である中間層、
の連続体を含む、太陽光制御グレージングに関する。
【００２０】
「場合により部分的又は完全に酸化及び／又は窒化されて」いるとの表現は、通常の陰極スパッタリング法により完全に金属性の層の形態で最初に通常のように被着された中間層が、その後、層の種々の被着の作用により又は続いて行われる熱処理の作用にもより、部分的に又は完全に、場合により酸化又は窒化することがあることを意味すると理解される。例えば、窒化ケイ素で作製された上層保護層の被着の事例に関して言えば、窒素の存在下での反応性スパッタリングにより積重体の窒化物含有層を続いて被着させる場合、中間金属層の窒化が本発明に従って可能である。同様に、本発明の範囲から逸脱することなく、上記したように、完全な積重体の被着後に、酸素の存在下でＩＴＯ層をマグネトロン被着する際に、又はそれに続く熱処理の際にも、中間金属層のその後の酸化が可能である。
【００２１】
本発明の意義の範囲内で、「酸化インジウムスズ」又は「スズドープ酸化インジウム」（ＩＴＯ）という用語は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ2Ｏ3）及び酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ2）から、好ましくは第１の酸化物については７０％と９５％の間そして第２の酸化物については５％と２０％の間の重量比率で得られる、混合酸化物又は混合物を意味するものと理解される。典型的な重量比率は、約１０重量％のＳｎＯ2に対して約９０重量％のＩｎ2Ｏ3である。
【００２２】
良好な性能が得られた形態によるならば、
・前記中間層の厚さは１ｎｍと２．５ｎｍの間である。
・金属は、少なくとも１０重量％のＣｒ、好ましくは少なくとも２０重量％のＣｒを含む。
・金属は、ニッケルとクロムの合金である。
・合金中のＣｒ／Ｎｉ重量比は１０／９０と４０／６０の間、特に約２０／８０である。
・下層保護層及び上層保護層は、所望に応じＡｌ、Ｚｒ又はＢから選択される元素をドープされた、窒化ケイ素から基本的に構成される。
・積重体は、上層の上に、酸化ケイ素又は酸化チタンから選択される誘電性酸化物から作製された層を追加して含む。
・誘電性酸化物から作製された層の厚さは、１ｎｍと１５ｎｍの間、更に好ましくは２ｎｍと１０ｎｍの間である。
【００２３】
一例として、本発明による好ましい太陽光制御グレージングは、ガラス基材の表面から始まる以下の層の連続体、すなわち、
・窒化ケイ素から基本的に構成され、任意選択的にアルミニウムを含む、厚さが３０ｎｍと１００ｎｍの間、好ましくは４０ｎｍと９０ｎｍの間の、下層、
・場合により部分的又は完全に酸化及び／又は窒化された、厚さが０．５ｎｍと３ｎｍの間、好ましくは１ｎｍと２．５ｎｍの間の、ニッケルとクロムとの合金の第１の中間層、
・厚さが１００ｎｍと２５０ｎｍの間のＩＴＯ層、
・場合により部分的又は完全に酸化及び／又は窒化された、厚さが０．５ｎｍと３ｎｍの間、好ましくは１ｎｍと２．５ｎｍの間の、ニッケルとクロムとの合金の第２の中間層、
・窒化ケイ素から基本的に構成され、任意選択的にアルミニウムを含む、厚さが３０ｎｍと１００ｎｍの間の、上層、
の連続体、から構成される積重体を含む。
【００２４】
好ましくは、前記積重体は更に、上層の上に、酸化ケイ素又は酸化チタンから選択される誘電性酸化物から作製された、１ｎｍと１０ｎｍの間の厚さを有する層を含む。
【実施例】
【００２５】
以下の例は、単に実例として示すものであり、説明したいかなる実施形態の下でも、本発明の範囲を限定するものではない。比較のために、以下の例の全ての積重体は、単一のガラス基材の上に作製される。積重体の全ての層は、マグネトロンスパッタリングにより、真空下での被着のための従来法に従って被着された。
【００２６】
〔例１〕
本発明によるこの例では、下記の層の連続体から構成される積重体を得るために、通常のマグネトロン法に従って層の連続体を被着させた。
ガラス／Ｓｉ3Ｎ4（５６ｎｍ）／ＮｉＣｒ（１ｎｍ）／ＩＴＯ（１７５ｎｍ）／ＮｉＣｒ（１ｎｍ）／Ｓｉ3Ｎ4（７０ｎｍ）
【００２７】
積重体は、Ｐａｒｓｏｌ  Ｈ（商標）の呼称でサン−ゴバン・グラス・フランス社により販売されているガラス板から構成された基材上に被着させ、このガラス板の初期の光透過率は０．７４に等しく、その係数ｇは０．６０に等しい。
【００２８】
より具体的に言えば、当該分野の公知の技術に従って、陰極スパッタリング装置の特定の且つ一連の区画中で連続層を被着させ、各区画は、被着させる層に従って、雰囲気と金属Ｓｉ製ターゲット、相応の比率のニッケル／クロム合金製ターゲット又はＩＴＯ製ターゲットとを特別に備えている。
【００２９】
窒化ケイ素（便宜上、本書に記載した構成では多くの場合Ｓｉ3Ｎ4と表示されるが、この表示は必ずしもこの化学量論量が認められるとは限らなくとも用いられる）で作製された層は、８重量％のアルミニウムをドープされた金属ケイ素のターゲットから始まる装置の第１の区画において、アルゴンと窒素とを含む反応性雰囲気中で、当該分野で公知の方法と操作条件に従って被着される。従って、Ｓｉ3Ｎ4で作製された層は少量のアルミニウムを含む。
【００３０】
金属ＮｉＣｒ層は、アルゴンのみからなるプラズマを用いて、ＮｉＣｒ合金（８０重量％のＮｉと２０重量％のＣｒ）で作製されたターゲットを当該分野で公知の方法と操作条件に従ってスパッタリングすることにより得られる。
【００３１】
ＩＴＯで作製された層は、アルゴンと少量の酸素とを基本的に含む雰囲気中で、ターゲット（９０重量％の酸化インジウムと１０重量％の酸化スズ）を当該分野で公知の方法と操作条件に従ってスパッタリングすることにより得られる。
【００３２】
その積重体を備えた基材を次に、６２０℃で８分間加熱してから焼戻しするものである熱処理に付した。
【００３３】
ＴLと係数ｇを、本発明によるグレージングについてその選択性を求めるために測定する。
【００３４】
法線入射での放射率εNも、ＩＳＯ  １０２９２（１９９４）標準規格の付属文書Ａに記載された条件に従って、層の積重体でカバーされた基材の内面上で測定する。
【００３５】
〔例２（比較例）〕
この例によれば、例１と同一のやり方でもって同じ装置において同じ方法に従って作製を行い、ＮｉＣｒで作製された層を被着させなかった以外は、実質的に同じ積重体を得た。従ってこの積重体は、下記の層の連続体から構成される。
ガラス／Ｓｉ3Ｎ4（５６ｎｍ）／ＩＴＯ（１７５ｎｍ）／Ｓｉ3Ｎ4（７０ｎｍ）
【００３６】
このグレージングについて、ＴL、係数ｇ、及びεNを上記と同じ条件下で測定した。
【００３７】
〔例３（本発明による）〕
本例では、例１と同一のやり方で作製を行い、ＮｉＣｒで作製された層が１．６ｎｍの厚さを示す以外は実質的に同じ積重体を得た。従ってこの積重体は、下記の層の連続体から構成される。
ガラス／Ｓｉ3Ｎ4（５６ｎｍ）／ＮｉＣｒ（１．６ｎｍ）／ＩＴＯ（１７５ｎｍ）／ＮｉＣｒ（１．６ｎｍ）／Ｓｉ3Ｎ4（７０ｎｍ）
【００３８】
このグレージングについて、ＴL、係数ｇ、及びεNを上記と同じ条件下で測定した。
【００３９】
〔例４（本発明による）〕
本例では、例１と同一のやり方で作製を行い、ＮｉＣｒで作製された層が２．５ｎｍの厚さを示す以外は実質的に同じ積重体が得た。従ってこの積重体は、下記の層の連続体から構成される。
ガラス／Ｓｉ3Ｎ4（５６ｎｍ）／ＮｉＣｒ（２．５ｎｍ）／ＩＴＯ（１７５ｎｍ）／ＮｉＣｒ（２．５ｎｍ）／Ｓｉ3Ｎ4（７０ｎｍ）
【００４０】
このグレージングについて、ＴL、係数ｇ、及びεNを上記と同じ条件下で測定した。
【００４１】
〔例５（比較例）〕
本例では、例１と同一のやり方で作製を行い、ＮｉＣｒで作製された層が４．０ｎｍの厚さを示す以外は実質的に同じ積重体を得た。従ってこの積重体は、下記の層の連続体から構成される。
ガラス／Ｓｉ3Ｎ4（５６ｎｍ）／ＮｉＣｒ（４．０ｎｍ）／ＩＴＯ（１７５ｎｍ）／ＮｉＣｒ（４．０ｎｍ）／Ｓｉ3Ｎ4（７０ｎｍ）
【００４２】
このグレージングについて、ＴL、係数ｇ、及びεNを上記と同じ条件下で測定した。
【００４３】
得られた種々のグレージングの特性を、以下の表１に示す。
【表１】
2015519275.tif 000002
【００４４】
表１に提示したデータの比較から、例２による比較の積重体は最良の選択性を示すが、試料の端部に完全に目に見える曇りを示すことも明らかとなり、これはこのようなグレージングの使用を不可能にする。例４によるより厚いＮｉＣｒ層の被着は、光透過率のかなりの低下による選択性のかなりの低下に更に反映される。
【００４５】
＜耐引掻き性試験＞
例１〜５による積重体の耐引掻き性を、ＥＳＴ（エリクセン引掻き試験）法に従って測定する。これは、試験を行う（Ｖａｎ  Ｌａａｒチップ、鋼製ボール）ときに積重体に引掻き傷を発生させるのに必要な加えたニュートン単位での力の値を示すものである。選択された値は、肉眼で見える連続引掻き傷を与えた最初の値である。
【００４６】
従って、下記の表２に示した値は、連続引掻き傷を出現させる結果に至った加えられた力（ニュートン単位）である。
【表２】
2015519275.tif 000003
【００４７】
表２に示したデータから、ＮｉＣｒ層を備えた積重体はそのような層のない例２による積重体と比較して実質的に向上した機械的強度を示すことが明らかになる。
【００４８】
〔例６、７（比較例）〕
これらの例では、上記の例と同一のやり方で作製を行い、例１のＮｉＣｒで作製された層を、アルゴン雰囲気中で今回は金属チタンで作製されたターゲットのスパッタリングにより得られた、厚さがそれぞれ１．６ｎｍと４．０ｎｍの金属チタンで作製された層で置き換えた以外は、実質的に同じ積重体を得た。
【００４９】
例６による積重体は、下記の層の連続体から構成される。
ガラス／Ｓｉ3Ｎ4（５６ｎｍ）／Ｔｉ（１．６ｎｍ）／ＩＴＯ（１７５ｎｍ）／Ｔｉ（１．６ｎｍ）／Ｓｉ3Ｎ4（７０ｎｍ）
【００５０】
例７による積重体は、下記の層の連続体から構成される。
ガラス／Ｓｉ3Ｎ4（５６ｎｍ）／Ｔｉ（４．０ｎｍ）／ＩＴＯ（１７５ｎｍ）／Ｔｉ（４．０ｎｍ）／Ｓｉ3Ｎ4（７０ｎｍ）
【００５１】
このグレージングについて、ＴL、係数ｇ、εNとコーティングの耐引掻き性を上記と同じ条件下で測定した。結果を下記の表３にまとめて示す。
【表３】
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【００５２】
ＮｉＣｒで作製された層とは対照的に、能動ＩＴＯ反射層の両側に配置されたＴｉから作製された層が、今回は積重体の耐引掻き性能の何らの向上にも寄与しないことが明らかに分かる。
【国際調査報告】
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