(57)【要約】  ビーム誘導系（４）は、高電力レーザ光源（２）からターゲット（５）に向けた放射線（３）のフォーカス誘導に役立つ。ビーム誘導系（４）は、反射ビーム誘導構成要素として少なくとも１つのミラー（７）と、屈折ビーム誘導構成要素として放射線（３）に対して少なくとも部分的に透過性である少なくとも１つの透過構成要素（９）とを有する。少なくとも１つのミラー（７）及び少なくとも１つの透過構成要素（９）の配置は、少なくとも１つのミラー（７）のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化が、少なくとも１つの透過構成要素（９）のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化によって少なくとも部分的に補償されるようなものである。これは、ビーム誘導系のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化が、レーザ光源からの放射線のフォーカス誘導に対して有害な効果を持たないビーム誘導系をもたらす。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
９．５μｍと１１μｍの間の範囲に放射線（３）の波長を有する高電力レーザ光源（２）からターゲット（５）に向けた該放射線（３）のフォーカス誘導のためのビーム誘導系（４）であって、
反射ビーム誘導構成要素として少なくとも１つのミラー（７）を含み、
屈折ビーム誘導構成要素（９）として前記放射線（３）に対して少なくとも部分的に透過性である少なくとも１つの透過構成要素（９）を含み、
前記少なくとも１つのミラー（７）及び前記少なくとも１つの透過構成要素（９）の配置が、該少なくとも１つのミラー（７）のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化が、該少なくとも１つの透過構成要素（９）のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化によって少なくとも部分的に補償されるようなものである、
ことを特徴とするビーム誘導系（４）。
【請求項２】
前記透過構成要素（９）は、平行平面板として具現化されることを特徴とする請求項１に記載のビーム誘導系。
【請求項３】
前記透過構成要素（９）は、楔板として具現化されることを特徴とする請求項１に記載のビーム誘導系。
【請求項４】
前記透過構成要素（９）は、それが前記ビーム誘導系（４）のビーム経路において傾斜可能（１５）であるように配置されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のビーム誘導系。
【請求項５】
前記透過構成要素（９）は、前記レーザ光源（２）によって及び／又は前記ビーム誘導系（４）の構成要素（７，９）によって生成されたビーム誘導収差を少なくとも部分的に補償するための補償面プロファイル（１６）を有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のビーム誘導系。
【請求項６】
前記少なくとも１つの透過構成要素（９）は、ＺｎＳｅによって生成されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のビーム誘導系。
【請求項７】
前記少なくとも１つのミラー（７）は、銅からなる反射面を有することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のビーム誘導系。
【請求項８】
開始状態の前記少なくとも１つのミラー（７）は、前記放射線（３）に対して純粋な偏向特性を有することを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のビーム誘導系。
【請求項９】
前記少なくとも１つの透過構成要素（９）は、前記放射線（３）に対して透過性を有する少なくとも１つのミラー（１１）を有する気密ハウジング（１０）に収容されることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載のビーム誘導系。
【請求項１０】
前記ターゲット（５）の領域における前記放射線（３）のフォーカスを検出するためのセンサモジュール（１４）と、
前記透過構成要素（９）を変位させるための変位ドライブ（１２）と、
前記センサモジュール（１４）と前記変位ドライブ（１２）とに信号接続した制御／調整デバイス（１３）と、
を特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載のビーム誘導系。
【請求項１１】
８００ｎｍと１２００ｎｍの間の範囲の波長の放射線を有する更に別のレーザ光源からの該放射線の前記フォーカス誘導を特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載のビーム誘導系。
【請求項１２】
高電力レーザ光源（２）を含み、かつ
請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載のビーム誘導系（４）を含む、
ことを特徴とするレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）Ｘ線源（１）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ドイツ出願ＤＥ  １０  ２０１２  ２００  ６９３．１及びＤＥ  １０  ２０１２  ２０１  ５５７．４の内容は、本出願に引用によって組み込まれている。
【０００２】
本発明は、高電力レーザ光源からターゲットに向けた放射線のフォーカス誘導のためのビーム誘導系に関する。
【０００３】
本発明は、特に、ＥＵＶＬ（極紫外に波長を有する放射線又は光）のためのＬＰＰ（レーザ生成プラズマ）源におけるレーザのビーム誘導系に関する。本発明は、更に、レーザ光源とそのようなビーム誘導系とを含むＬＰＰ Ｘ線源に関する。
【背景技術】
【０００４】
ＥＵＶリソグラフィのための現時点で好ましいレーザプラズマ源は、材料粒子上に、例えば、金属小滴上に、特に錫小滴上にフォーカスされるＣＯ2高電力レーザを使用している。その結果、１３．５ｎｍ放射線を放出する高温高密プラズマが発生される。生成されるＸ線放射線の使用波長はまた、６．８ｎｍの領域内にあるとすることができる。この場合に、ガドリニウム（Ｇｄ）からなるか又はテルビウム（Ｔｂ）からなる小滴を材料粒子として使用することができる。
【０００５】
ＥＵＶＬ系のいわゆる中間フォーカスで２００ワットの領域内のＥＵＶ電力を達成するためには、典型的に３５ｋＷの平均ＣＯ2レーザ電力が必要である。それに関連付けられる波長は、１０．６μｍである。
【０００６】
プラズマを効率良く点火するためには、ターゲットの場所での可能な限り最高のレーザ強度を確実にすることが不可欠である。ターゲットは、典型的には、数μｍから数十μｍの精度で正確に命中させなければならない小さい（約１０−１００μｍの直径）錫小滴から構成される。
【０００７】
レーザをターゲット上にフォーカスさせることが、ビーム誘導系の仕事である。（銅）ミラー及び屈折要素のための少数の材料（ダイヤモンド、ＺｎＳｅ、及びＺｎＳ、ＧａＡｓ、Ｇｅ、Ｓｉ）のみが、この系における光学構成要素として利用可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】ＤＥ  １０  ２０１２  ２００  ６９３．１
【特許文献２】ＤＥ  １０  ２０１２  ２０１  ５５７．４
【特許文献３】ＤＥ  １０  ２００８  ００１  ２１６  Ａ１
【特許文献４】ＤＥ  １００  １６  １７６  Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従来技術の課題及び欠点の陳述
現在議論されているビーム誘導系は、実質的に水冷銅偏向ミラーとダイヤモンド窓とからなる。他の材料は、小さいビーム断面及び高レーザ電力の範囲で耐性を持たず、高々低い強度の範囲でしか使用することができない。
【００１０】
高いレーザ強度とコーティングされた又は更にコーティングされていないミラーの有限の吸収とは、ミラー面の変形をもたらし、これは、次に、レーザビームの波面を変形する。コーティングは、限られた値のレーザ強度までのみ安定である。より高い強度では、耐用期間の理由により、それらはなしですまさなければならない。
【００１１】
ビーム誘導特性に対するビーム誘起の変化は、ビーム誘起の材料膨張により、及び／又はそれぞれのビーム誘導構成要素の屈折率のビーム誘起変化によってもたらされる変化である。
【００１２】
このようにして導入される主要な収差は以下の通りである。
１．）デフォーカス：レーザ放射線の影響下で全てのミラー面が同じ方向に膨らみ、すなわち、電力増幅器内のミラーを含み、数十個のミラーを有することができる系を通過するときにその効果が累積し、その結果、許容の余地のない有意なフォーカスオフセットが加算される可能性がある。この場合に、レーザは、デフォーカスされる。
２．）ミラーが実質的に９０°偏向ミラーとして使用され、それによって熱負荷の非対称性がもたらされ、実質的に非点収差がもたらされ、それに伴って到達可能なピーク強度の低下がもたらされる。異なるミラーの相対配置に基づいて、これらのミラーの寄与は加算されるか、又は互いに補償し合う可能性がある。
３．）マウント内の対称性の破壊の結果として、波面の傾斜、従って、ビームの横方向オフセットが発生する可能性がある。
４．）より高次のこれらの外乱（コマ、球面収差、より高次の非点収差等）は、ピーク強度の追加の低下（ストレール係数）をもたらす可能性がある。
【００１３】
全体として、レーザプラズマの安定性及び電力は、これらのミラー加熱効果によって大きく損ねられる。
【００１４】
従って、それらが回避不能である場合には、フィードバック又は適切な場合はフィードフォワードによって系を安定化するために、非常に複雑な制御及び調整機構をビーム誘導系に組み込まなければならない。
【００１５】
本発明が対処する課題は、ビーム誘導系のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化がレーザ光源からの放射線のフォーカス誘導に対して有害な効果を持たないような冒頭に言及したタイプのビーム誘導系を開発することである。
【００１６】
この課題は、請求項１に指定される特徴を含むビーム誘導系を用いて本発明によって解決される。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明により、ビーム誘導系の少なくとも１つのミラーのビーム誘導特性に対するビーム誘起変化は、少なくとも１つの透過構成要素のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化により、これらのビーム誘起変化が互いに相殺する構成要素配置が容易に可能であるので、少なくとも部分的に補償することができることが認識されている。この補償は、少なくとも１つの透過構成要素の場合に誘起される材料膨張及びビーム誘起屈折率変化が、少なくとも１つのミラーの場合のビーム誘起材料膨張とは根本的に異なってビーム誘導に影響を及ぼすことを利用する。
【００１８】
ビーム誘導系は、複数のミラーを含むことができる。ビーム誘導系は、複数の透過構成要素を含むことができる。ミラー及び／又は透過構成要素は、反射及び／又は屈折構成要素群を形成するように組み合わせることができ、又はそうでなければビーム誘導系のビーム経路に交互に配置することができる。
【００１９】
特に、ビーム誘導特性に対する熱誘起又は強度誘起の変化を補償することができる。レーザ光源は、特にＩＲ範囲、特にＭＩＲ範囲（２．５μｍと２５μｍの間の中間赤外線波長領域）内の放射線を発生させることができる。レーザ光源は、９．６μｍ、１０．３μｍ、及び／又は１０．６μｍの放出波長を有するＣＯ2レーザとすることができる。
【００２０】
９．５μｍと１１μｍの間の範囲の波長を有する高電力レーザ光源に代えて又はそれに加えて、８００ｎｍと１２００ｎｍの間の範囲の波長を有する高電力レーザ光源からの放射線のフォーカス誘導のためのビーム誘導系を具現化することができる。
【００２１】
高電力レーザ光源は、５００Ｗと１００ｋＷの間の範囲、特に１ｋＷと５０ｋＷの間の範囲、例えば、３５ｋＷの領域内にレーザ放射線のｃｗ電力を有することができる。高電力レーザ光源のレーザ放射線のｃｗ電力は、１５ｋＷよりも高いとすることができ、又は２０ｋＷよりも高いとすることができる。
【００２２】
一方で少なくとも１つのミラーによってもたらされ、他方で少なくとも１つの透過構成要素によってもたらされるビーム誘導特性に対するビーム誘起変化の少なくとも部分的な補償は、補償されたビーム誘導特性が、未補償ビーム誘導特性よりも少なくとも５％だけ良好な予め定められた値に対応する場合に存在する。補償されたビーム誘導特性は、１０％を上回って、２５％を上回って、又は更に５０％を上回って良好な予め定められた値に対応することができる。補償効果は、特に、予め定められた値が正確に得られるようなものとすることができる。
【００２３】
これらの相対補償値は、例を用いて以下に説明する。
【００２４】
ターゲット５の領域内の放射線の焦点位置Ｆは、ビーム誘導特性として予め定めるべきである。予め定められた値をビーム誘導方向ｚのビーム位置Ｆ＝ｚ0とする。少なくとも１つのミラーのビーム誘導特性に対するビーム誘起変化は、値ｚ0＋δｚSに向けて焦点位置変化をもたらす。透過構成要素によってもたらされる焦点位置に対するビーム誘起変化は、焦点位置ｚ0−δｚTをもたらす。焦点位置は、少なくとも１つのミラーのビーム誘導特性に対するビーム誘起変化と、少なくとも１つの透過構成要素のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化とに起因して、こうして値Ｆ＝ｚ0＋δｚS−δｚTに変更されている。δｚT≧０．０５・δｚSが成り立つ場合に、少なくとも部分的な補償が達成される。特に、δｚT≧０．１・δｚS、δｚT≧０．２５・δｚS、δｚT≧０．５・δｚSが成り立つ。特に、δｚT＝δｚSが成り立つ。対応する補償条件は、上述の他の主要収差にも成り立つ。
【００２５】
請求項２に記載の実施形態において、非点収差の補償の可能性が生じる。平行平面板に代えて又はそれに加えて、フォーカス効果又はデフォーカス効果を有する少なくとも１つの透過構成要素、例えば、１つ又は複数のレンズ要素をビーム誘導系に使用することもできる。
【００２６】
請求項３に記載の楔板は、熱誘起性のコマ収差又は傾斜収差の補償、すなわち、特に１回折り返し回転対称性を示す外乱の補償を可能にする。
【００２７】
請求項４に記載の傾斜可能である透過構成要素は、その補償の影響の目標を定めた設定を可能にする。
【００２８】
請求項５に記載の補償面プロファイルは、定常状態のビーム誘導収差の補償を可能にする。補償面プロファイルは、補正非球面の形態に具現化することができる。そのような補正非球面は、投影露光装置のための投影光学ユニットにおける使用に対して公知である。この点に関しては、例えば、ＤＥ  １０  ２００８  ００１  ２１６  Ａ１及びＤＥ  １００  １６  １７６  Ａ１を参照されたい。
【００２９】
ＺｎＳｅは、その透過率特性に起因して少なくとも１つの透過構成要素に適する材料である。これに代えて、透過構成要素は、ＺｎＳ、ＧａＡｓ、ゲルマニウム、シリコン、ダイヤモンド、又は他の十分に透過性の高い材料から生成することができる。
【００３０】
請求項７に記載のミラーは、特にＭＩＲ範囲の高電力レーザ放射線を誘導する上で有益であることが証明されている。
【００３１】
請求項８に記載の少なくとも１つのミラーは、開始状態において、すなわち、高電力レーザ光源からの放射線の入射がない状態では純粋な偏向ミラーであり、すなわち、特に平面ミラーである。
【００３２】
請求項８に記載の偏向ミラーに対する代わりとして、フォーカス効果又はデフォーカス効果を有する少なくとも１つのミラーを使用することができる。従って、凹ミラー及び／又は凸ミラーを使用することができる。
【００３３】
請求項９に記載のハウジングは、周囲の影響の結果として、例えば、粉塵の結果としてのそこに収容された透過構成要素の劣化を回避する。ハウジングは、排気するか又は保護ガス又は不活性ガスで充填することができる。ハウジング窓はダイヤモンド窓とすることができる。ハウジングは、これに加えて、補償器の熱誘起破壊の場合に周囲の汚染を防止する。
【００３４】
請求項１０に記載の構成は、ビーム誘導系のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化の調節された補償を可能にする。
【００３５】
請求項１１に記載のビーム誘導系は、主パルスを生成するための高電力レーザ光源からの放射線とプレパルスを生成するための更に別のレーザ光源からの放射線とを同時に誘導するように具現化することができる。この場合に、主パルスは、９．５μｍと１１μｍの間の範囲の波長、及び上述の電力範囲を有することができる。プレパルスは、８００ｎｍと１２００ｎｍの間の範囲の波長を有することができる。プレパルスは、２００Ｗと１０００Ｗの間の範囲、特に３００Ｗと１０００Ｗの間の範囲のｃｗ電力を有することができる。プレパルスの電力は、典型的に主パルスの電力の１０％である。
【００３６】
原理的には、プレパルスと主パルスの両方が９．５μｍと１１μｍの間の波長領域を有する実施形態も可能である。プレパルスと主パルスの両方が８００ｎｍと１２００ｎｍの間の波長領域を有する更に別の実施形態も可能である。ビーム誘導系の構成要素は、全て、異なる波長を生成するように、すなわち、一方で９．５μｍと１１μｍの間の範囲の波長、他方で８００ｎｍと１２００ｎｍの間の範囲の波長を生成するように設計することができる。これに代えて、ビーム誘導系は、対応するビームスプリッタを用いて、特にダイクロイックビームスプリッタを用いて部分ビーム誘導系に再分割することができ、ビーム誘導系のうちの１つが、９．５μｍと１１μｍの間の範囲の放射線を専従的に誘導するように具現化され、及び／又は１つの部分ビーム誘導系が、８００ｎｍと１２００ｎｍの間の範囲の放射線を専従的に誘導するように具現化される。
【００３７】
請求項１２に記載のＸ線源の利点は、本発明によるビーム誘導系を参照して上述したものに対応する。Ｘ線源のレーザ光源は、プレパルスレーザ光源と主パルスレーザ光源に再分割することができる。プレパルスの波長と主パルスの波長は、同一とすることができるが、異なるとすることもできる。
【００３８】
ビーム誘導系及びＸ線源の有利な構成に関する一部の説明を同じく以下に与える。
【００３９】
本発明により、課題は、ＺｎＳｅからなる１つ又は複数の構成要素をビーム誘導系内に導入することによって解決される。
【００４０】
これは、ＺｎＳｅに対する放射線負荷に関して非臨界の、ビーム誘導系内の場所で結果として生じる。これは、例えば、レーザ電力が依然として適度のレベルにある増幅器チェーン内の場所、又はレーザ強度が十分に低い相応に拡大された場所で行うことができる。
【００４１】
ＺｎＳｅの屈折率の温度依存性の結果として、温度上昇の事象におけるこの材料は、レーザビームに対してフォーカス効果を有し、従って、誘起されたミラーのデフォーカス効果を補償することができるという事実が使用される。
【００４２】
この効果の大きさは、材料の厚み及びレーザ電力に依存する。
【００４３】
ミラーによって誘起される効果とＺｎＳｅ平行平面板によって誘起される効果との両方は、レーザ電力においてほぼ線形であることを仮定することができるので、固定された構成に対して、好ましい電力に対するレーザ誘起フォーカス効果を（ほとんどの部分に対して）補償する最適ＺｎＳｅ厚を決定することが可能である。
【００４４】
適切な厚みを有するそのようなＺｎＳｅ板をビーム経路内で適切に傾斜させることにより、ミラー内に非点収差を生じる同じ機構を用いて、系全体の非点収差を電力に関係なく補償することができるような非点収差を補償するプロファイルを生成することができるはずである。
【００４５】
ＺｎＳｅからなる適切な楔を導入することにより、熱誘起性のコマ又は傾斜（１回折り返し外乱）を補償することができる。
【００４６】
これに加えて、適切な面プロファイルを印加することにより、マウントによってもたらされる定常状態のビーム収差、冷却効果、及び他の効果を補償することができる。
【００４７】
理想的には、これらの全ての補償機構は、組み込み補正プロファイルを有する定められた厚みのカスタマイズされた傾斜ＺｎＳｅ楔に実現することができると考えられる。
【００４８】
本発明の実施は、当然ながら他の材料及び波長に一般化することもできる。
【００４９】
本発明の一態様は、ミラーによって熱誘起された波面変形が板形又は楔形ＺｎＳｅ要素の配置によって電力に関係なく補償されることを特徴とするＣＯ2レーザのためのビーム誘導系として構築することができる。
【００５０】
図面を参照して本発明の例示的実施形態を下記でより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】レーザ光源とビーム誘導系とを含むＸ線源の概略図である。
【図２】レーザ光源とビーム誘導系とを含むＸ線源の更に別の実施形態の図１と類似の図である。
【図３】図１に記載のＸ線源の様々な実施形態を同じく概略的ではあるが、より詳細に示す図である。
【図４】図１に記載のＸ線源の様々な実施形態を同じく概略的ではあるが、より詳細に示す図である。
【図５】図１に記載のＸ線源の様々な実施形態を同じく概略的ではあるが、より詳細に示す図である。
【図６】図５からの詳細なＶＩに従った抜粋拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
図１は、Ｘ線源１を略示している。Ｘ線源１は、特にＥＵＶ（極紫外）波長領域、例えば、５ｎｍと３０ｎｍの間の波長領域のＸ線放射線を発生させるように機能する。Ｘ線源１は、ＬＰＰ（レーザ生成プラズマ）Ｘ線源である。
【００５３】
Ｘ線源１は、レーザ放射線３を発生させるレーザ光源２を有する。レーザ光源２は、ｋＷ範囲、すなわち、例えば、５００Ｗと１００ｋＷの間の範囲、特に１ｋＷと５０ｋＷの間の範囲、例えば、３５ｋＷの領域内にレーザ放射線３のｃｗ電力を有する高電力レーザ光源である。レーザ放射線３は、ＩＲ範囲、特にＭＩＲ範囲の波長を有する。レーザ光源２は、ＣＯ2レーザである。レーザ光源２は、ＬＰＰ Ｘ線源の原理で一般に知られているように、プレパルス源と主パルス源とに再分割することができる。この場合に、上述の電力範囲は、主パルス源に適用される。プレパルス源は、２００Ｗと１０００Ｗの間の範囲、特に３００Ｗと１０００Ｗの間の範囲にレーザ放射線のｃｗ電力を有することができる。Ｎｄ固体レーザ、特にＮｄ：ＹＡＧレーザをプレパルス源として使用することができる。原理的には、高電力レーザ光源、特に主パルス源がそのようなＮｄ固体レーザとして具現化される実施形態も可能である。
【００５４】
Ｘ線源１は、更にビーム誘導系４を含む。後者は、レーザ光源２からターゲット５に向けたレーザ放射線３のフォーカス誘導に対して機能する。ターゲットは、１０μｍと１００μｍの間の範囲の典型的な直径、特に３０μｍの典型的な直径を有する錫小滴である。ビーム誘導系４は、ターゲット５に１μｍから数十μｍまでの範囲のビーム誘導精度で正確に命中させるように具現化される。
【００５５】
ビーム誘導系４は、反射ビーム誘導構成要素として少なくとも１つのミラー７を有する反射構成要素群６と、屈折ビーム誘導構成要素として放射線に対して少なくとも部分的に透過性を有する少なくとも１つの透過構成要素９を有する屈折構成要素群８とを含む。反射構成要素群６は、ちょうど１つのミラー７を含むことができるが、複数のミラーを含むこともできる。屈折構成要素群８は、ちょうど１つの透過構成要素７を含むことができるが、複数の透過構成要素を含むこともできる。レーザ放射線３のビーム経路内で透過構成要素９が２つのミラー７の間に配置されている図２に例示的に示すように、ビーム誘導系４のミラー７と透過構成要素９とは、ビーム誘導系４のビーム経路内で交互に配置することができる。同じように、例示していない実施形態において、ミラー７はまた、２つの透過構成要素９の間に配置することができる。
【００５６】
ビーム誘導系４内での少なくとも１つのミラー７及び少なくとも１つの透過構成要素９の配置は、少なくとも１つのミラー７のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化が、少なくとも１つの透過構成要素９のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化によって少なくとも部分的に補償されるようなものである。
【００５７】
少なくとも１つのミラー７のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化は、特に、放射線が入射するミラー７の反射面の一部分のビーム誘起加熱及びそれに関連付けられたミラー材料の熱膨張に起因する反射面のトポグラフィの変化の結果として生じる。
【００５８】
少なくとも１つの透過構成要素のビーム誘導特性に対するビーム誘起変化は、構成要素材料の屈折率のビーム誘起変化の結果として、同じく透過構成要素９の熱膨張に起因する、特にレーザ放射線３の残留吸収に起因するレーザ放射線３を屈折させる構成要素面のトポグラフィ変化の結果として生じる可能性がある。
【００５９】
透過構成要素９は、ＺｎＳｅ（セレン化亜鉛）から生成される。これに代えて、透過構成要素９は、ＺｎＳ、Ｇｅ、ＧａＡｓ、シリコン、ダイヤモンド、又は十分な透過率を有する他の材料から生成することができる。
【００６０】
少なくとも１つのミラー７は、銅からなる反射面を有する。このミラーは、吸収低減コーティングを有することができる。低い強度の範囲では他のミラー材料を考えることができる。少なくとも１つのミラー７は、純粋な偏向特性を有することができる。これに代えて、ミラー７は、レーザ放射線３に対するフォーカス又はデフォーカス効果を有することができる。
【００６１】
少なくとも１つの透過構成要素９又はそうでなければ屈折構成要素群８全体は、図１及び図２に破線で示すように、レーザ放射線３に対して透過性を有する少なくとも１つの窓１１を有する気密ハウジング１０に収容することができる。ハウジング１０の内部は、排気することができる。これに代えて又はこれに加えて、ハウジング１０の内部は、不活性ガス雰囲気を有することができる。
【００６２】
図３に記載の実施形態において、ミラー７は、凹平行化ミラーとして具現化される。透過構成要素９は、平凸レンズ要素として具現化される。両凸レンズ要素又はメニスカスレンズ要素としての透過構成要素の実施形態も可能である。例示していない実施形態において、透過構成要素９のうちの少なくとも１つは、デフォーカスレンズ要素として、例えば、平凹レンズ要素又は両凹レンズ要素として具現化することができる。
【００６３】
ビーム誘導系４に対する異なる変形を図３から図６を参照して以下に説明する。図１及び図２を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を伴い、これらに対しては、再度詳細に説明することはしない。
【００６４】
図４に記載の実施形態の場合には、ミラー７は、凹フォーカスミラーとして具現化される。透過構成要素９は、平行平面板として具現化される。図４に記載の平行平面板９は、平行平面板９の制御された傾斜のための傾斜ドライブ１２に機械的かつ作動的に接続される。傾斜ドライブ１２は、制御／調整デバイス１３に信号接続される。制御／調整デバイス１３は、ターゲット５の領域内でレーザ放射線３のビームフォーカスを検出する結像光センサモジュール１４に信号接続される。センサモジュール１４によって検出され、かつ対応するアルゴリズムを用いて制御／調整デバイス１３において評価されるフォーカス像結果に基づいて、レーザ放射線３のビーム経路内の平行平面板９の傾斜角は、図４の双方向矢印１５に示すように、傾斜ドライブ１２を用いて再調節される。
【００６５】
図５に記載の実施形態の場合には、楔板が透過構成要素９として機能する。レーザ放射線３が通される楔板９の２つの光学面は、互いに対して１°と３０°の間の範囲にある楔角を有する。楔板９は、図４記載の平行平面板９に関して上述したように、調節された態様で傾斜させることもできる（双方向矢印１５）。
【００６６】
楔板９の射出面１６は、レーザ光源２によって及び／又はビーム誘導系４の更に別の構成要素のうちの１つによって生成されたビーム誘導収差を少なくとも部分的に補償するための補償面プロファイル（図６に記載の抜粋拡大図を参照されたい）として具現化される。特に、定常状態ビーム誘導収差は、補償面プロファイルを用いて補償することができる。
【符号の説明】
【００６７】
１  Ｘ線源
２  レーザ光源
４  ビーム誘導系
６  反射構成要素群
８  屈折構成要素群
【図１】
2015506565.tif 000003
【図２】
2015506565.tif 000004
【図３】
2015506565.tif 000005
【図４】
2015506565.tif 000006
【図５】
2015506565.tif 000007
【図６】
2015506565.tif 000008
【国際調査報告】
2015506565.tif 000009
2015506565.tif 000010
2015506565.tif 000011
2015506565.tif 000012