(57)【要約】【課題】放射を発生させるための方法を提供する。【解決手段】本方法では、第１の位置から第１の物体を送出し、第２の異なる位置から第２の物体を送出し、第１の物体及び第２の物体を用いてプラズマ形成位置においてターゲットを形成する。第１の物体及び第２の物体の少なくとも一方は、放射発生プラズマを発生させる際に用いられる燃料を含む。プラズマ形成位置におけるターゲットに開始放射を送出して、ターゲットから放射発生プラズマを発生させる。【選択図】図４
2015528994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射を発生させる方法であって、
第１の位置から第１の物体を送出するステップと、
第２の異なる位置から第２の物体を送出するステップであって、プラズマ形成位置においてターゲットを形成するために前記第１の物体及び前記第２の物体が用いられ、前記第１の物体及び前記第２の物体の少なくとも一方が、放射発生プラズマを発生させる際に用いられる燃料を有する、ステップと、
前記プラズマ形成位置における前記ターゲットに開始放射を送出して、前記ターゲットから放射発生プラズマを発生させるステップと、
を備える、方法。
【請求項２】
前記ターゲットを形成するために、前記第１の物体と前記第２の物体との間で衝突を起こすように前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の物体の中心及び前記第２の物体の中心の軌道が衝突位置で実質的に空間及び時間において衝突するように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
平坦化された物体が前記衝突から形成され、前記平坦化された物体が前記ターゲットを形成し、前記開始放射が前記平坦化された表面に入射するように前記開始放射が前記ターゲットに送出される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記平坦化された物体の前記平坦化された表面が、前記平坦化された物体に送出された開始放射の軌道、及び／又は、前記放射発生プラズマによって発生された放射を収集する放射コレクタの光軸、に対して実質的に垂直な方向に延出するように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記第１の物体の中心及び前記第２の物体の中心の軌道が衝突位置で空間及び／又は時間においてずれるように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記第１の物体及び／又は前記第２の物体よりも小さい複数の物体が前記衝突から形成され、前記複数の物体が前記ターゲットを形成する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記複数の物体が実質的に線形に並んでいる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記複数の物体が、前記複数の物体に送出された軌道放射、及び／又は、前記放射発生プラズマによって発生された放射を収集するコレクタの光軸、に対して実質的に平行な方向に並ぶように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記ターゲットに送出された前記放射に対して、前記衝突が、実質的に凹状のターゲット、実質的に凸状のターゲット、又は実質的にトロイダル形状のターゲットを形成する、請求項２に記載の方法。
【請求項１１】
前記ターゲットが、相互に実質的に隣接した前記第１の物体及び前記第２の物体を備えるように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記第１の物体及び前記第２の物体が、前記プラズマ形成位置において、前記第１の物体及び前記第２の物体に送出された放射、及び／又は、前記放射発生プラズマによって発生された放射を収集するコレクタの光軸、に対して実質的に平行な方向に並ぶように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記第１の物体及び／又は前記第２の物体が流体の小滴を備える、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記第１の物体及び前記第２の物体が、放射発生プラズマを発生させる際に用いられる流体の小滴を備える、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１の物体が第１の温度であり、前記第２の物体が第２の異なる温度である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記第１の物体が第１の材料を備え、前記第２の物体が第２の異なる材料を備える、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の物体が、前記第２の物体の温度よりも低い沸点を有する材料を備える、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記第１の物体が、前記放射発生プラズマによって発生される前記放射に対して実質的に透過性の材料を備える、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
第３の異なる位置から第３の物体を送出するステップをさらに備え、
前記第３の物体も用いて前記プラズマ形成位置において前記ターゲットを形成する、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記方法の第２の実施が実質的に同時に行われ、これによって、前記ターゲットと共に前記プラズマ形成位置において複合ターゲットを形成する第２のターゲットを発生させる、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記方法が、前記物体の特性のアクティブ制御を用いて前記ターゲットの形状又は組織を調節するステップをさらに備える、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか一項に記載の方法にしたがって放射を発生させるステップと、
前記発生させた放射を用いて基板にパターンを適用するステップと、
を備える、リソグラフィ方法。
【請求項２３】
第１の位置から第１の物体を送出する第１の構成と、
第２の異なる位置から第２の物体を送出する第２の構成と、を備え、
プラズマ形成位置においてターゲットを形成するように前記第１の物体及び前記第２の物体が使用時に用いられ、前記第１の物体及び前記第２の物体の少なくとも一方が、放射発生プラズマを発生させる際に用いられる燃料を有し、
さらに、前記プラズマ形成位置における前記ターゲットに放射を送出して、使用時に前記ターゲットから放射発生プラズマを発生させる補助放射源を備える、
放射源。
【請求項２４】
前記第１の構成及び／又は前記第２の構成が、小滴流を発生させる小滴発生器を有する、請求項２３に記載の放射源。
【請求項２５】
プラズマ形成位置において前記放射発生プラズマによって発生された放射を収集し、かつ、前記発生させた放射の少なくとも一部を焦点に送出する放射コレコタをさらに備える、請求項２３又は２４に記載の放射源。
【請求項２６】
請求項２３から２５のいずれか一項に記載の前記放射源を備えるか又は前記放射源に接続された、リソグラフィ装置。
【請求項２７】
請求項２３から２５のいずれか一項に記載の前記放射源を備えるか又は前記放射源に接続された、装置。
【請求項２８】
放射を発生させる方法であって、
第１の位置から第１の物体を送出するステップと、
第２の異なる位置から第２の物体を送出するステップであって、プラズマ形成位置においてターゲットを形成するために前記第１の物体及び前記第２の物体が用いられ、前記第１の物体及び前記第２の物体の少なくとも一方が、放射発生プラズマを発生させる際に用いられる燃料を有する、ステップと、
前記プラズマ形成位置における前記ターゲットに開始放射を送出して、前記ターゲットから放射発生プラズマを発生させるステップと、
を備える、方法。
【請求項２９】
前記ターゲットを形成するために、前記第１の物体と前記第２の物体との間で衝突を起こすように前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記第１の物体の中心及び前記第２の物体の中心の軌道が衝突位置で実質的に空間及び時間において衝突するように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
平坦化された物体が前記衝突から形成され、前記平坦化された物体が前記ターゲットを形成し、前記開始放射が前記平坦化された表面に入射するように前記開始放射が前記ターゲットに送出される、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記平坦化された物体の前記平坦化された表面が、前記平坦化された物体に送出された開始放射の軌道、又は、前記放射発生プラズマによって発生された放射を収集する放射コレクタの光軸、に対して実質的に垂直な方向に延出するように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記第１の物体の中心及び前記第２の物体の中心の軌道が衝突位置で空間及び／又は時間においてずれるように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項２９に記載の方法。
【請求項３４】
前記第１の物体及び／又は前記第２の物体よりも小さい複数の物体が前記衝突から形成され、前記複数の物体が前記ターゲットを形成する、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
前記複数の物体が実質的に線形に並んでいる、請求項３４に記載の方法。
【請求項３６】
前記複数の物体が、前記複数の物体に送出された軌道放射、又は、前記放射発生プラズマによって発生された放射を収集するコレクタの光軸、に対して実質的に平行な方向に並ぶように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
前記ターゲットに送出された前記放射に対して、前記衝突が、実質的に凹状のターゲット、実質的に凸状のターゲット、又は実質的にトロイダル形状のターゲットを形成する、請求項２９に記載の方法。
【請求項３８】
前記ターゲットが、相互に実質的に隣接した前記第１の物体及び前記第２の物体を備えるように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項２８に記載の方法。
【請求項３９】
前記第１の物体及び前記第２の物体が、前記プラズマ形成位置において、前記第１の物体及び前記第２の物体に送出された放射、又は、前記放射発生プラズマによって発生された放射を収集するコレクタの光軸、に対して実質的に平行な方向に並ぶように、前記第１の物体及び前記第２の物体が送出される、請求項３８に記載の方法。
【請求項４０】
前記第１の物体及び前記第２の物体の少なくとも一方が流体の小滴を備える、請求項２８に記載の方法。
【請求項４１】
前記第１の物体及び前記第２の物体が、放射発生プラズマを発生させる際に用いられる流体の小滴を備える、請求項２８に記載の方法。
【請求項４２】
前記第１の物体が第１の温度であり、前記第２の物体が第２の異なる温度である、請求項２８に記載の方法。
【請求項４３】
前記第１の物体が第１の材料を備え、前記第２の物体が第２の異なる材料を備える、請求項２８に記載の方法。
【請求項４４】
前記第１の物体が、前記第２の物体の温度よりも低い沸点を有する材料を備える、請求項２８に記載の方法。
【請求項４５】
前記第１の物体が、前記放射発生プラズマによって発生される前記放射に対して実質的に透過性の材料を備える、請求項２８に記載の方法。
【請求項４６】
第３の異なる位置から第３の物体を送出するステップをさらに備え、
前記第３の物体も用いて前記プラズマ形成位置において前記ターゲットを形成する、請求項２８に記載の方法。
【請求項４７】
前記方法の第２の実施が実質的に同時に行われ、これによって、前記ターゲットと共に前記プラズマ形成位置において複合ターゲットを形成する第２のターゲットを発生させる、請求項２８に記載の方法。
【請求項４８】
前記方法が、前記物体の特性のアクティブ制御を用いて前記ターゲットの形状又は組織を調節するステップをさらに備える、請求項２８に記載の方法。
【請求項４９】
前記発生させた放射を用いて基板にパターンを適用するステップをさらに備える、請求項２８に記載の方法。
【請求項５０】
第１の位置から第１の物体を送出する第１の構成と、
第２の異なる位置から第２の物体を送出する第２の構成と、を備え、
プラズマ形成位置においてターゲットを形成するために前記第１の物体及び前記第２の物体が使用時に用いられ、前記第１の物体及び前記第２の物体の少なくとも一方が、放射発生プラズマを発生させる際に用いられる燃料を有し、
さらに、前記プラズマ形成位置における前記ターゲットに放射を送出して、使用時に前記ターゲットから放射発生プラズマを発生させる補助放射源を備える、
放射源。
【請求項５１】
前記第１の構成及び前記第２の構成の少なくとも一方が、小滴流を発生させる小滴発生器を備える、請求項５０に記載の放射源。
【請求項５２】
プラズマ形成位置において前記放射発生プラズマによって発生された放射を収集し、かつ、前記発生させた放射の少なくとも一部を焦点に送出する放射コレコタをさらに備える、請求項５０に記載の放射源。
【請求項５３】
前記放射源が、リソグラフィ装置又は他の装置の一部である、請求項５０に記載の放射源。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
[0001]  本出願は、２０１２年８月１日に出願された米国仮出願第６１／６７８，５６０号の利益を主張し、全体が引用により本願に含まれる。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又は幾つかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが与えられる隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。
【０００３】
[0003]  リソグラフィは、ＩＣ及びその他のデバイス及び／又は構造を製造する際の主要なステップの１つとして広く認識されている。しかし、リソグラフィを使用して製造される特徴の寸法がより微細になると共に、リソグラフィは小型ＩＣ又はその他のデバイス、及び／又は構造の製造を可能にするためのより決定的なファクタになってきている。
【０００４】
[0004]  パターン印刷の限界の理論的な推定値は式（１）に示すようなレイリーの解像基準によって得られる。
【数１】
2015528994.tif 000003
但し、λは使用される放射の波長、ＮＡはパターンを印刷するために使用される投影システムの開口数、ｋ１はレイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、ＣＤは印刷される特徴のフィーチャサイズ（すなわちクリティカルディメンション）である。式（１）から、特徴の印刷可能な最小サイズの縮小は３つの方法で達成できることが分かる。すなわち、露光波長λの短縮によるもの、開口数ＮＡの増加によるもの、又はｋ１の値の減少によるものである。
【０００５】
[0005]  露光波長を短縮し、印刷可能な最小サイズを縮小するため、極端紫外（ＥＵＶ）放射源を使用することが提案されてきた。ＥＵＶ放射は５〜２０ｎｍの範囲内、例えば１３〜１４ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射である。さらに、例えば６．７ｎｍ又は６．８ｎｍなどの５〜１０ｎｍの範囲内の、１０ｎｍ未満の波長を有するＥＵＶ放射を使用できることが提案されてきた。このような放射は極端紫外放射、又は軟ｘ線放射と呼ばれている。可能な放射源には例えば、レーザ生成プラズマ放射源、放電プラズマ放射源、又は電子蓄積リングにより与えられるシンクロトロン放射に基づく放射源が含まれる。
【０００６】
[0006]  ＥＵＶ放射は、プラズマを用いて生成することができる。ＥＵＶ放射を生成するための放射システムは、プラズマを得るために燃料を励起するレーザと、プラズマを収容するための放射源コレクタモジュールと、を含むことができる。プラズマを生成するには、例えば、適切な燃料材料（例えば、現在、ＥＵＶ放射源の燃料として最も有望で、したがって可能性の高い選択肢であると考えられているスズ）の粒子（すなわち小滴（droplet））、又はＸｅガスもしくはＬｉ蒸気などの適切な気体もしくは蒸気の流れのような燃料に、レーザビーム（すなわち開始放射）を送出すればよい。これによって得られたプラズマは、例えばＥＵＶ放射のような出力放射を発し、これが放射コレクタによって収集される。放射コレクタは、放射を受けてこの放射をビームに集束するミラー垂直入射放射コレクタ（近垂直入射放射コレクタと称されることもある）とすればよい。放射コレクタは、他のいずれかの適切な形態を有することも可能である。放射源コレクタモジュールは、プラズマをサポートする真空環境を与えるように構成された閉鎖構造又はチャンバを含むことができる。このような放射システムは通例、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源と呼ばれる。ある代替的なシステムでは、やはりレーザの使用を採用することができるが、放電を用いて形成したプラズマによって放射を発生させることができる。すなわち、放電生成プラズマ（ＤＰＰ）源である。
【０００７】
[0007]  上述のように、レーザビームは、放射発生プラズマを発生させるために適切な燃料材料のターゲットに送出される。しかしながら、ターゲットにメインビームを送出する前に、初期（例えばもっと低いエネルギの）レーザパルスをターゲットに送出することが提案されている。初期（又は第１の又はプレパルス）レーザパルスは、例えば、放射発生プロセスを何らかの方法で最適化するために、ターゲットの特性を何らかの点で変化させるように構成することができる。例えば、この最適化は、所与のターゲットについて発生するＥＵＶ放射量が増えるように、及び／又は放射が優先的にある方向へと送出されるように、及び／又は放射発生プラズマの発生から生じたごみがある方向へと送出されるように行うことができる。典型的に、初期レーザパルスは、ターゲットを加熱し及び／又はターゲットの形状を変化させ、これらの一方又は双方によって上述の最適化を促進することができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
[0008]  第１の低エネルギレーザパルスを用いて実際に放射の発生を最適化することができるが、このような初期レーザパルスの使用には欠点も伴う。例えば１つの欠点は、初期レーザパルスがターゲットに入射すると、燃料のナノメートル規模の多数の粒子という形態で粒子汚染が発生し得ることである。これらの粒子は小さくて高速であるため、これらの粒子が放射源のコレクタ等に接触して汚染するのを防ぐはずであったバッファガス又は存在する他の緩和機構を乗り越えてしまう恐れがある。この代わりに、又はこれに加えて、このような粒子の発生によって、放射発生プラズマの発生に用いられる材料が少なくなり、全体として放射発生プロセスの変換効率を（わずかにであっても）低下させる可能性がある。さらに、例えば、典型的には小滴状ターゲットを円盤状ターゲットに平坦化させることに関して、初期レーザパルスを用いてターゲットの形状を変化させることができる方法は限られている。最後に、初期レーザパルスの使用には著しいエネルギ量が必要であり、放射発生プラズマの発生に用いられるレーザ機構において全体として設計上の複雑さが増す場合がある。
【０００９】
[0009]  従来技術の少なくとも１つの問題点を、本明細書で認識されたものか他で認識されたものかに関わらず、防止もしくは軽減すること、又は、既存の装置もしくは方法に対する代替案を提供することが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
[0010]  本発明の第１の態様によれば、放射を発生させる方法が提供される。この方法は、第１の位置から第１の物体を送出することと、第２の異なる位置から第２の物体を送出することと、第１の物体及び第２の物体を用いてプラズマ形成位置においてターゲットを形成し、第１の物体及び第２の物体の少なくとも一方が、放射発生プラズマを発生させる際に用いられる燃料を含むことと、プラズマ形成位置におけるターゲットに開始放射を送出して、ターゲットから放射発生プラズマを発生させることと、を含む。
【００１１】
[0011]  ターゲットを形成するために、第１の物体と前第２の物体との間で衝突を起こすように第１の物体及び第２の物体を送出することができる。衝突の性質を制御することで、ターゲットの形状（例えば凹形状、凸形状、平坦化形状、トロイダル形状）又は組織（make-up）（例えばもっと小さい複数の物体）を制御することができる。
【００１２】
[0012]  第１の物体の中心及び第２の物体の中心の軌道が衝突位置で実質的に空間及び時間において衝突するように、第１の物体及び第２の物体を送出することができる。
【００１３】
[0013]  平坦化された（例えば円盤状の）物体を前記衝突から形成することができ、平坦化された物体はターゲットを形成する。開始放射が平坦化された表面に入射するように開始放射をターゲットに送出することができる。
【００１４】
[0014]  平坦化された物体の平坦化された表面が、平坦化された物体に送出された開始放射の軌道、及び／又は放射発生プラズマによって発生された放射を収集するように構成された放射コレクタの光軸、に対して実質的に垂直な方向に延出するように、第１の物体及び第２の物体を送出することができる。
【００１５】
[0015]  第１の物体の中心及び第２の物体の中心の軌道が衝突位置で空間及び／又は時間においてずれるように、第１の物体及び第２の物体を送出することができる。
【００１６】
[0016]  第１の物体及び／又は第２の物体よりも小さい複数の物体を衝突から形成することができ、複数の物体がターゲットを形成する。
【００１７】
[0017]  衝突から１つ以上の鎖（strand）又は糸（filament）を形成することができ、１つ以上の鎖又は糸がターゲットを形成する。
【００１８】
[0018]  複数の物体を実質的に線形に並べることができる。
【００１９】
[0019]  複数の物体が、複数の物体に送出された軌道放射、及び／又は放射発生プラズマによって発生された放射を収集するように構成されたコレクタの光軸、に対して実質的に平行な方向に並ぶように、第１の物体及び第２の物体を送出することができる。
【００２０】
[0020]  ターゲットに送出された放射に対して、衝突が、実質的に凹状のターゲット、実質的に凸状のターゲット、又は実質的にトロイダル形状のターゲットを形成することができる。衝突は、（第１の物体及び／又は第２の物体の形状に対して）実質的に平坦化した形状のターゲットを形成することができる。
【００２１】
[0021]  ターゲットが、相互に実質的に隣接した第１の物体及び第２の物体を含むように、第１の物体及び第２の物体を送出することができる。このため、プラズマ形成位置において特定の位置に物体を送出することによって、ターゲットの組織を制御することができる。
【００２２】
[0022]  第１の物体及び第２の物体が、プラズマ形成位置において、第１の物体及び第２の物体に送出された放射、及び／又は放射発生プラズマによって発生された放射を収集するように構成されたコレクタの光軸、に対して実質的に平行な方向に並ぶように、第１の物体及び第２の物体を送出することできる。
【００２３】
[0023]  第１の物体及び／又は第２の物体は流体の小滴を含むことができる。
【００２４】
[0024]  第１の物体及び前記第２の物体が、放射発生プラズマを発生させる際に用いられる燃料（例えば流体の小滴）を含むことができる。
【００２５】
[0025]  例えば物体の衝突位置において、第１の物体が第１の温度であり（又は第１の温度を有し）、第２の物体が第２の異なる温度である（又は第２の温度を有する）ことができる。
【００２６】
[0026]  第１の物体が第１の材料を含み、第２の物体が第２の異なる材料を含むことができる。
【００２７】
[0027]  例えば物体の衝突位置において、第１の物体が、第２の物体の温度よりも低い沸点を有する材料を含むことができる。
【００２８】
[0028]  第１の物体及び／又は第２の物体が、放射発生プラズマによって発生される放射に対して実質的に透過性の材料を含むことができる。
【００２９】
[0029]  この方法は、第３の異なる位置から第３の物体を送出することをさらに含むことができ、第３の物体も用いてプラズマ形成位置においてターゲットを形成する。
【００３０】
[0030]  方法の第２の実施も実質的に同時に行い、これによって、ターゲットと共にプラズマ形成位置において複合ターゲットを形成する第２のターゲットを発生させることができる。
【００３１】
[0031]  この方法は、物体の特性のアクティブ制御を用いてターゲットの形状又は組織を調節することをさらに含むことができる。
【００３２】
[0032]  本発明の第２の態様によれば、前出の請求項のいずれかに記載の方法にしたがって放射を発生させることと、発生させた放射を用いて基板にパターンを適用することと、を含むリソグラフィ方法が提供される。
【００３３】
[0033]  本発明の第３の態様によれば、放射源が提供される。この放射源は、第１の位置から第１の物体を送出するための第１の構成と、第２の異なる位置から第２の物体を送出するための第２の構成と、第１の物体及び第２の物体を使用時に用いてプラズマ形成位置においてターゲットを形成し、第１の物体及び第２の物体の少なくとも一方が、放射発生プラズマを発生させる際に用いられる燃料を含み、さらに、プラズマ形成位置におけるターゲットに放射を送出して、使用時にターゲットから放射発生プラズマを発生させるように構成された補助（すなわち異なる）放射源と、を含む。
【００３４】
[0034]  第１の構成及び／又は第２の構成が、それぞれ小滴流を発生させるように構成された小滴発生器を含むことができる。
【００３５】
[0035]  この放射源はさらに、プラズマ形成位置において放射発生プラズマによって発生された放射を収集するための放射コレクタを含むことができる。放射コレクタは、発生させた放射の少なくとも一部を焦点に送出するように構成することができる。
【００３６】
[0036]  本発明の第４の態様によれば、本発明の第３の態様の放射源を含むか又はこの放射源に接続された（例えば共に物理的に接続されているか、又は放射源から放射を受信することができる）リソグラフィ装置が提供される。
【００３７】
[0037]  このリソグラフィ装置は、以下のうち１つ以上を追加的に含むことができる。すなわち、放射ビームを供給及び／又は調節するための照明システム、放射ビームの断面にパターンを与えるためのパターニングデバイス、基板を保持するための基板ホルダ、及び／又はパターニングした放射ビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムである。
【００３８】
[0038]  本発明の第５の態様によれば、本発明に従った放射源を含むか又はこの放射源に接続された（例えば共に物理的に接続されているか、又は放射源から放射を受信することができる）装置が提供される。この装置は、インスペクションツール（例えばパターニングデバイスのインスペクションツール）、又はリソグラフィ以外の理由で（例えば照明、検査、実験、プロービング等）放射を用いるいずれかの装置とすることができる。
【００３９】
[0039]  本発明の１つ以上の態様は、当業者にとって適切な場合、本明細書に記載する他のいずれかの１つ以上の態様と、及び／又は本明細書に記載するいずれかの１つ以上の特徴と組み合わせることができる。
【００４０】
[0040]  本発明の別の特徴及び利点並びに本発明の様々な実施形態の構造及び作用は、添付の図面を参照して以下に詳細に説明する。本発明は、本明細書に記載する特定の実施形態に限定されないことに留意されたい。このような実施形態は、例示のみを目的として本明細書に記載されている。本明細書に含まれる教示に基づいて当業者はさらなる実施形態を容易に思い付くであろう。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
[0041]  本明細書に組み込まれ、その一部を形成する添付の図面は本発明を図示し、説明とともに、さらに本発明の原理を説明し、当業者が本発明を作成して使用できるようにする働きをする。
【図１】[0042]  本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を示す。
【図２】[0043]  図１の装置の詳細図であり、ＬＰＰ放射源コレクタモジュールを含む。
【図３】[0044]  提案する放射発生方法に関連した原理を概略的に示す。
【図４】[0045]  本発明の一実施形態による放射源を概略的に示す。
【図５】[0046]  図４を参照して図示し記載したような放射源を用いて実現可能なターゲット形状を概略的に示す。
【図６】[0046]  図４を参照して図示し記載したような放射源を用いて実現可能なターゲット形状を概略的に示す。
【図７】[0046]  図４を参照して図示し記載したような放射源を用いて実現可能なターゲット形状を概略的に示す。
【図８】[0047]  放射発生プラズマの発生において、図５及び図６を参照して図示し記載したターゲット形状の少なくとも１つをどのように生成し用いることができるかを概略的に示す。
【図９】[0047]  放射発生プラズマの発生において、図５及び図６を参照して図示し記載したターゲット形状の少なくとも１つをどのように生成し用いることができるかを概略的に示す。
【図１０】[0047]  放射発生プラズマの発生において、図５及び図６を参照して図示し記載したターゲット形状の少なくとも１つをどのように生成し用いることができるかを概略的に示す。
【図１１】[0047]  放射発生プラズマの発生において、図５及び図６を参照して図示し記載したターゲット形状の少なくとも１つをどのように生成し用いることができるかを概略的に示す。
【図１２】[0048]  本発明の一実施形態に従った、図７を参照して図示し記載したようなターゲット形状を発生する方法を概略的に示す。
【図１３】[0049]  本発明の別の実施形態に従った、異なる組織を有するターゲットを用いて放射を発生する方法を概略的に示す。
【図１４】[0050]  図１３を参照して図示し記載したものと実質的に同じターゲット組織を実現するための代替的な構成を概略的に示す。
【図１５】[0050]  図１３を参照して図示し記載したものと実質的に同じターゲット組織を実現するための代替的な構成を概略的に示す。
【発明を実施するための形態】
【００４２】
[0051]  本発明の特徴及び利点は、同様の参照符号は全体を通して対応する要素を識別する図面を参照しながら以下の詳細な説明を読むことでさらに明白になろう。図面では、一般に、同様の参照番号が同一の、機能が類似した、及び／又は構造が類似する要素を示す。ある要素が最初に出現する図面は、対応する参照番号の左端の１つ又は複数の数字によって示される。
【００４３】
[0052]  本明細書は、本発明の特徴を組み込んだ１つ以上の実施形態を開示する。開示される１つ又は複数の実施形態は本発明を例示するにすぎない。本発明の範囲は開示される１つ又は複数の実施形態に限定されない。本発明は、本明細書に添付される特許請求の範囲によって定義される。
【００４４】
[0053]  記載された実施形態、及び本明細書で「一実施形態」、「ある実施形態」、「例示的実施形態」などに言及した場合、それは記載された実施形態が特定の特徴、構造、又は特性を含むことができるが、それぞれの実施形態が必ずしも特定の特徴、構造、又は特性を含まないことがあることを示す。さらに、このようなフレーズは、必ずしも同じ実施形態に言及するものではない。さらに、ある実施形態に関連して特定の特徴、構造、又は特性について記載している場合、明示的に記載されているか、記載されていないかにかかわらず、このような特徴、構造、又は特性を他の実施形態との関連で実行することが当業者の知識の範囲内にあることが理解される。
【００４５】
[0054]  本発明の実施形態はハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア又はその任意の組み合せで実施することができる。本発明の実施形態は、１つ以上のプロセッサで読み取り、実行することができる機械読み取り式媒体に記憶した命令として実施することもできる。機械読み取り式媒体は、機械（例えば、計算デバイス）で読み取り可能な形態で情報を記憶するか、又は伝送する任意の機構を含むことができる。例えば、機械読み取り式媒体は読み取り専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、磁気ディスク記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、電気、光、音響又は他の形態の伝搬信号（例えば、搬送波、赤外線信号、デジタル信号など）、及びその他を含むことができる。さらに、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令を、本明細書では特定の行為を実行するものとして記述することができる。しかし、このような記述は便宜的なものにすぎず、このような行為は実際には計算デバイス、プロセッサ、コントローラ、又はファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令などを実行する他のデバイスの結果であることを認識されたい。
【００４６】
[0055]  このような実施形態を詳述する前に、本発明の実施形態を実施することができる例示の環境を提示することが有用であろう。
【００４７】
[0056]  図１は、本発明の一実施形態に従った放射源コレクタモジュールＳＯを含むリソグラフィ装置ＬＡＰを概略的に示す。この装置は、放射ビームＢ（例えばＥＵＶ放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク又はレチクル）ＭＡを支持するように構築されると共に、このパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１のポジショナＰＭに接続された支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴと、基板（例えばレジストでコーティングしたウェーハ）Ｗを保持するように構築されると共に、この基板を正確に位置決めするように構成された第２のポジショナＰＷに接続された基板テーブル（例えばウェーハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば１つ以上のダイを含む）上に投影するように構成された投影システム（例えば反射投影システム）ＰＳと、を備えている。
【００４８】
[0057]  照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組合せなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。
【００４９】
[0058]  支持構造ＭＴは、パターニングデバイスの配向、リソグラフィ装置の設計及び、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否か等の条件に応じた方法でパターニングデバイスＭＡを保持する。この支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械式、真空式、静電式等のクランプ技術を使用することができる。支持構造は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置に来るようにしてもよい。
【００５０】
[0059]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。
【００５１】
[0060]  パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型(alternating)位相シフトマスク、ハーフトーン型(attenuated)位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００５２】
[0061]  照明システムのような投影システムは、使用する露光放射、又は真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組み合せなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。その他のガスは放射を吸収しすぎるため、ＥＵＶ放射用には真空を使用することが望ましいことがある。したがって、真空壁及び真空ポンプを用いてビーム経路全体に真空環境を設けてもよい。
【００５３】
[0062]  本明細書で示すように、本装置は反射タイプである（例えば反射マスクを使用する）。
【００５４】
[0063]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスクテーブル）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、１つ以上の他のテーブルを露光に使用している間に１つ以上のテーブルで予備工程を実行することができる。
【００５５】
[0064]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、放射源コレクタモジュールＳＯから極端紫外線放射ビームを受光する。ＥＵＶ放射を生成する方法は、少なくとも１つの元素、例えば、キセノン、リチウム又はスズを有する物質を、ＥＵＶ範囲の１つ以上の輝線を有するプラズマ状態に変換するステップを含むが、必ずしもこれに限定されない。レーザ生成プラズマ（「ＬＰＰ」）と呼ばれることが多いそのような１つの方法では、必要な輝線放出元素を有する物質の小滴、流れ、又はクラスタなどの燃料をレーザビームで照射することで必要なプラズマを生成できる。放射源コレクタモジュールＳＯは、燃料の流れを発生させるための燃料流発生器及び／又は燃料を励起するレーザビームを提供するためのレーザ（どちらも図１には示さず）を含むＥＵＶ放射システムの一部であってもよい。結果として得られるプラズマは、放射源コレクタモジュール内に配置された放射コレクタを用いて収集される出力放射、例えば、ＥＵＶ放射を放出する。レーザ及び／又は燃料流発生器及びコレクタモジュール（放射源コレクタモジュールと呼ばれることが多い）は、例えば燃料を励起するためのレーザビームを提供するためにＣＯ２レーザが使用される場合には別個の要素であってもよい。
【００５６】
[0065]  そのような場合、レーザはリソグラフィ装置の一部を形成するとは考えられず、放射ビームをレーザから放射源コレクタモジュールに送る際には、例えば適切な送出ミラー及び／又はビームエクスパンダを備えるビームデリバリシステムを利用する。他の場合、例えば放射源が、ＤＰＰ放射源と呼ばれることが多い放電生成プラズマＥＵＶ発生器である場合、放射源は放射源コレクタモジュールの一体的な部分とすることができる。
【００５７】
[0066]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するアジャスタを備えていてもよい。通常、イルミネータＩＬの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。また、イルミネータＩＬは、ファセットフィールドミラーデバイス及びファセット瞳ミラーデバイスなどの他の種々のコンポーネントを備えていてもよい。イルミネータを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００５８】
[0067]  放射ビームＢは、支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに反射した後、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳはビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に合焦させる。第２のポジショナＰＷと位置センサＰＳ２を用いて（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ又は容量センサを用いて）、基板テーブルＷＴは、例えば、様々なターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路に位置決めするように正確に移動できる。同様に、第１のポジショナＰＭと別の位置センサＰＳ１を用いて、放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを正確に位置決めできる。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせしてもよい。
【００５９】
[0068]  図示のリソグラフィ装置は、以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
１．ステップモードにおいては、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一静的露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。
２．スキャンモードにおいては、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一動的露光）。支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特性によって求めることができる。
３．別のモードにおいては、支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴを移動させるごとに、又はスキャン中に連続する放射パルス間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用できる。
【００６０】
[0069]  上述した使用モードの組み合せ及び／又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。
【００６１】
[0070]  図２は、放射源コレクタモジュールＳＯ、照明システムＩＬ、及び投影システムＰＳを含むリソグラフィ装置ＬＡＰをさらに詳細に示す。放射源コレクタモジュールＳＯは、この放射源コレクタモジュールの閉鎖構造２内に真空環境を維持することができるように構築及び配置されている。
【００６２】
[0071]  レーザ４は、流体流発生器８から供給されるキセノン（Ｘｅ）、スズ（Ｓｎ）、又はリチウム（Ｌｉ）等の燃料に、レーザビーム６によってレーザエネルギを堆積させるように配置されている。液体（すなわち溶融）スズ（小滴の形態が最も可能性が高い）、又は液体の別の金属は、現在、ＥＵＶ放射源の燃料として最も有望な、したがって可能性の高い選択肢と考えられている。燃料にレーザエネルギを堆積することで、数十電子ボルト（ｅＶ）の電子温度を有する高度に電離されたプラズマ１０をプラズマ形成位置１２に生成する。これらのイオンの下方遷移及び再結合の間に発生した高エネルギ放射が、プラズマ１０から放出され、近垂直入射放射コレクタ１４（より一般的には垂直入射放射コレクタと呼ばれることが多い）によって収集されて集束される。コレクタ１４は多層構造を有することができ、例えば特定の波長の放射（例えば特定のＥＵＶ波長の放射）の反射、さらに容易な反射、又は優先的な反射を行うように調整されたものである。コレクタ１４は、２つの自然楕円焦点を有する楕円形の構成とすることができる。一方の焦点はプラズマ形成位置１０にあり、他方の焦点は以下で述べる中間焦点にある。
【００６３】
[0072]  レーザ４及び／又は流体流発生器８及び／又はコレクタ１４は、共に放射源、具体的にはＥＵＶ放射源を構成すると考えることができる。ＥＵＶ放射源を、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）放射源と呼ぶことができる。閉鎖構造２内のコレクタ１４は、（この例では）放射源の一部を形成するコレクタモジュールを形成することができる。
【００６４】
[0073]  第２のレーザ（図示せず）を提供することができる。この第２のレーザは、レーザビーム６の入射前に燃料を予熱するように構成されている。この手法を採用するＬＰＰ源を、デュアルレーザパルス（ＤＬＰ）源と呼ぶことができる。このような第２のレーザは、燃料ターゲットにプレパルスを与え、例えば変更したターゲットを提供するためにそのターゲットの特性を変化させるものとして記載することができる。特性の変化は、例えば温度、サイズ、形状などの変化とすればよく、一般的にはターゲットの加熱によって引き起こされる。
【００６５】
[0074]  図示しないが、燃料流発生器は、プラズマ形成位置１２へと向かう軌道に沿って、例えば燃料小滴の流れを送出するように構成されたノズルを備えているか、又はそのようなノズルに接続される。
【００６６】
[0075]  放射コレクタ１４によって反射された放射Ｂは、仮想放射源ポイント１６に集束される。仮想放射源ポイント１６は、一般に中間焦点と呼ばれ、放射源コレクタモジュールＳＯは、中間焦点１６が閉鎖構造２の開口１８に又はその近傍に位置するように構成されている。仮想放射源ポイント１６は放射射出プラズマ１０の像である。
【００６７】
[0076]  この後、放射Ｂは照明システムＩＬを横切る。照明システムＩＬは、パターニングデバイスＭＡにおいて放射ビームＢの所望の角度分布を与えると共にパターニングデバイスＭＡにおいて放射強度の所望の均一性を与えるように配置されたファセットフィールドミラーデバイス２０及びファセット瞳ミラーデバイス２２を含むことができる。支持構造ＭＴによって保持されたパターニングデバイスＭＡで放射ビームが反射すると、パターニングビーム２４が形成され、このパターニングビーム２４は、投影システムＰＳによって、反射要素２６、２８を介して、ウェーハステージ又は基板テーブルＷＴによって保持された基板Ｗ上に結像される。
【００６８】
[0077]  一般に、照明システムＩＬ及び投影システムＰＳには、図示するよりも多くの要素が存在し得る。さらに、図に示すよりも多くのミラーがある場合があり、例えば投影システムＰＳには、図２に示すものに比べて１〜６の追加の反射要素が存在することがある。
【００６９】
[0078]  すでに述べたように、ターゲットの形状及び／又は温度を変更するために、メインビームの前に、放射の初期（又はプレ）ビーム（又はビームパルス）を燃料ターゲットに送出することができる。この変更は典型的に、燃料ターゲットの放射発生プラズマへの変換を何らかの方法で最適化するようなものである。図３は、そのような最適化の例を図で示す。
【００７０】
[0079]  図３では、レーザ放射の初期（例えば低エネルギ）パルスが、実質的に球形の燃料ターゲット小滴にすでに送出されて、実質的に平坦化された燃料ターゲット３０を与えている。平坦化燃料ターゲット３０は通例、実質的に円盤状である。ターゲットの平坦化（及び／又は平坦化ターゲット）が望ましい理由は多数ある。第１の理由は、平坦化ターゲット３０の直径３２が、平坦化燃料ターゲット３０を放射発生プラズマに変換させるために用いるレーザビーム６のレーザビームウエスト３４に実質的に合致する（又は、少なくとも球形のターゲット小滴よりもはるかに合致する）ことである。これによって、平坦化燃料ターゲット３０を放射発生プラズマに変換する際に、できるだけ多くのレーザビーム６を用いることが確実となる。これは、レーザビーム６に必要なエネルギ又はドーズ量を最適化し、及び／又は平坦化ターゲット３０の燃料材料の放射発生プラズマへの変換を最適化する。ターゲット３０を平坦化する別の理由は、レーザビーム６がターゲット３０に入射した場合に、放射発生プラズマにおいて又はこれによって発生した放射及び／又はごみ（汚染と呼ばれることがある）の方向を制御し得ることである。すなわち、ターゲット３０は平坦化された表面を示す。ターゲット３０の平坦化された表面は、放射源の放射コレクタの光軸３６に対して実質的に垂直であると共に、レーザビーム６の軌道（すなわち伝搬方向）に対して実質的に垂直であるように示されている。この配置によって、ほとんどの放射が確実に光軸３６に沿って発生することがわかっている。なぜなら、平坦化ターゲットは、放射発生プラズマに変換されると、通常、放射が実質的にかつ優先的に光軸３６に沿って送出される異方性分布を有するからである。また、生成されるごみは一般に、ある程度光軸に平行な伝搬方向を有し得る。このような知識を利用して、そのようなごみの制御又は対処を行うことができる（例えば、１つ以上のごみもしくは汚染捕集器、又は他の形態の軽減機構、例えばバッファガスなどを適切に位置付けることによる）。
【００７１】
[0080]  少なくともいくつかの点では、実質的に球形の燃料ターゲットを再整形することが有利であり得るが、平坦化形状が常に必要とされるわけではなく、この平坦化（又は、より一般的には再整形）を達成するためにレーザビームを用いることには欠点が伴う。少なくとも１つの欠点は、レーザビームを用いたターゲットの整形が、ターゲットを整形可能な方法において柔軟性が高くないことである。例えば実際問題として、単一のレーザビームのみを用いた場合、得られるのは平坦化ターゲットのみであり、他に別の形状を与えることは難しいか又は不可能であると考えられている。別の重要な欠点は、ターゲットを平坦化するために用いる初期レーザパルスは、単にターゲットを平坦化するだけでなく、ナノメートルのオーダーの直径を有する粒子汚染も発生させる。この汚染の発生は問題が多い。１つの問題は、エネルギ及びサイズのために汚染を停止させることが難しいので、例えばコレクタのようなプラズマ形成位置を取り囲む表面が、そのような汚染で汚染される可能性がある。また、このような汚染の発生により、後に放射発生プラズマに変換され得るターゲットの燃料質量が減って、発生可能な放射の量を（わずかではあるが）低減させる恐れがある。
【００７２】
[0081]  本発明の一実施形態によれば、上述の問題を防止又は軽減することができる。本発明によれば、放射を発生させる方法と、この方法の実施において用いられる装置（すなわち放射源）と、が提供される。この方法は、第１の位置から第１の物体を送出することを備えている。第２の異なる位置から第２の物体を送出する。第１の物体及び第２の物体を用いて、プラズマ形成位置にターゲットを形成することができる。第１の物体及び第２の物体の少なくとも一方は、放射発生プラズマの発生において用いられる燃料を含み、典型的に、少なくとも一方の物体（通常は燃料を含む物体）は、流体（例えば溶融）の形態である。この方法はさらに、使用時にターゲットから放射発生プラズマを発生させるため、プラズマ形成位置におけるターゲットに、開始放射（すなわちターゲットからプラズマを発生させるのに充分な放射）を送出することを含む。
【００７３】
[0082]  異なる位置から発する第１及び第２の物体を用いることで、ターゲットの形状及び／又は組織の形成において自由度を高くすることができる。例えば、異なる物体は１つ以上の異なる方向から入来して、特別な形状のターゲット、又は相互に隣接して位置する１つ以上の物体を備えたターゲットを生成することができる。これによって、放射の発生を最適化することができ、及び／又は放射発生プラズマの発生時に発生した汚染の伝搬方向などに対する制御を強化することができる。さらに、（例えば１つの物体及び１つのレーザビームとは異なり）２つの物体を用いてプラズマ形成位置にターゲットを形成することで、上述のような、球形ターゲットを変更するために用いるプレパルス（又は初期）レーザビームの使用に伴う問題の少なくとも一部が回避される。１つの利点は、プレパルスレーザビームの使用とは対照的に、２つの物体を用いる際に必要なエネルギを低減し得ることである。また、２つの物体の使用では、放射源の１つ以上の表面を汚染する恐れがあった大量の小規模（例えばナノメートルサイズ）の粒子汚染が発生しない。
【００７４】
[0083]  これより図４から図１５を参照して、本発明の実施形態について一例としてのみ説明する。異なる図に描かれる同一の特徴は、一貫性及び明確さのために同一の参照番号を与えている。
【００７５】
[0084]  図４は、本発明の一実施形態に従った方法を実施するために使用可能である装置を概略的に示す。図４に示す装置は、図２のＬＰＰ放射源を参照してすでに図示し記載した装置と概ね同一である。しかしながら、上述の方法にしたがって第２の異なる位置から物体を提供するために、第１の小滴発生器８に加えて第２の小滴発生器４０が設けられている。第１の小滴発生器８及び第２の小滴発生器４０を実質的に同一の面内に位置付けることで、第１の小滴発生器８（又は第２の小滴発生器４０）が発生した放射に生じる影が、第２の小滴発生器４０（又は第１の小滴発生器８）の存在によって加わらないようにする。こうしなければ、収集される放射の減少を引き起こしかねないからである。コレクタ１４は垂直入射コレクタとして示すが、他の実施形態では、グレージング入射コレクタ又は他のいずれかの適切な形態のコレクタとすればよい。
【００７６】
[0085]  一実施形態においては、第１の物体及び第２の物体（例えば第１の小滴及び第２の小滴）を相互に対して送出して、第１の小滴及び第２の小滴の衝突を起こす。第２の小滴に対する第１の小滴の入射角、小滴の相対的なサイズ、及び／又は小滴の相対的な速度によるが、小滴は少なくとも一時的かつ少なくとも部分的に合体して、第１及び第２の小滴のいずれとも異なる形状の（すなわち単に異なるサイズであるだけでなく異なる形状の）単一の実質的に一体化したターゲットを形成することができる。このようにして、多くの異なる形状を生成することができる。上述のパラメータに加えて、正確な形状は、用いる小滴の性質（例えばそれらの組成、温度など）にも依存し得る。このため、それぞれの特定の形状を達成するために求められる厳密な要件は、少数の実験、試行錯誤、又はモデリングを必要とする場合があることは認められよう。しかしながら、２つの小滴の衝突を用いて、凹形状、凸形状、トロイダル形状、実質的に平坦化した（例えば円盤の）形状を形成することができ、あるいは、ターゲット組織が、鎖状もしくは糸状であるか、又は複数のもっと小さい小滴から構成されることを確実にすることができる。
【００７７】
[0086]  図５から図７は、２つの小滴の衝突及び少なくとも部分的な合体によって達成可能なターゲット形状を概略的に示す。これらの図に、コレクタの光軸３６も示している。文脈上、図５から図７の各々において、各ターゲットから放射発生プラズマを形成するために用いるレーザビームは、実質的に光軸３６に沿って、これらの図の面において左から右に向かう方向で入射する。一例として、図５において、ターゲット５０は、このターゲットに送出される放射に対して実質的に凹状のターゲットを表している。この形状は、大きい小滴に小さい小滴を送出することで達成可能であり、この場合、大きい小滴の凹状の表面を設ける側で大きい小滴に小さい小滴を送出する。ターゲット５０にレーザ放射を送出した場合、この結果得られるプラズマが発生する放射の分布は、例えば図３で用いた平坦化ターゲットを使用して発生した放射に比べて、等方性を低くすることができる。また、ターゲットのこの形状により、いっそう多くのターゲット材料が放射発生プラズマに変換されるので、図３を参照して図示し記載した平坦化ターゲットに比べて変換効率を高めることができる。
【００７８】
[0087]  図６は、入来する放射ビームに対して凸状の表面５２を有するターゲットを示す。この形状は、大きい小滴に小さい小滴を送出することで達成可能であり、この場合、大きい小滴の凸状の表面を設ける側とは反対側で大きい小滴に小さい小滴を送出する。この結果得られる放射発生プラズマが発生する放射は、例えば図３を参照して図示し記載した平坦化ターゲットに比べて、等方性が高い分布を有する。同時に、ターゲットのこの形状は、図３を参照して図示し記載した平坦化ターゲットに比べて、変換効率が低下する可能性がある。
【００７９】
[0088]  図７は、ほぼ等しいサイズの小滴を与えることで生成可能なトロイダル形状ターゲット５４を示す。この結果得られる放射発生プラズマから発生する放射は、例えば図３を参照して図示し記載した平坦化ターゲットに比べて、等方性が高い分布を有する。同時に、ターゲットのこの形状は、図３を参照して図示し記載した平坦化ターゲットに比べて、変換効率を高めることができる。
【００８０】
[0089]  図８から図１１は、例えば図５を参照して図示し記載したターゲット形状をどのように生成可能であるかを概略的に示す。図８は、比較的小さい小滴６０をどのように比較的大きい小滴６２へと送出して衝突させることができるかを示す。大きい小滴６２は、第１の小さい小滴６０と実質的に同一の方向に動いているか、又は少なくとも同一方向の速度成分を有することができる。図９は、第１の小滴６０が第２の大きい小滴６２に衝突していることを示す。図１０は、衝突の結果、第１の小滴６０及び第２の小滴６２が部分的に平坦化し、衝突の結果として少なくともある程度合体を開始していることを示す。図１１は、第１の小滴６０を形成する材料が、その推進力（momentum）で、引き続き第２の小滴６２内へと入ることを示す。２つの小滴６０、６２が単一のターゲットになると、ターゲットは全体として、少なくとも断面が、図５を参照して図示し記載したような凹形状５０となる。ターゲットの形状が所望の通りに例えば凹形状５０になった時点で、レーザビーム６をトリガして、そこから放射発生プラズマを発生させるためにターゲット５０に入射させることができる。
【００８１】
[0090]  ターゲットの形状及び組織は、図５から図１０を参照して示したものとは異なってもよい。例えば図１２は、２つの小滴の衝突からどのようにして平坦化ターゲット（例えば円盤形状を有する）を形成可能であるかを示す。第１の物体流７０（例えば小滴）を、第２の物体流７２（例えば小滴）と衝突するように送出する。この送出は、第１の小滴の中心及び第２の小滴の中心の軌道が、衝突位置で実質的に空間及び時間において衝突するようになっている。これは、この代わりに又はこれに加えて、もしも衝突が起きなかったら（例えばもしも小滴が相互に通り過ぎることが可能であったら）、第１の小滴及び第２の小滴の中心が衝突点において相互に一致する状況として説明することができる。このような衝突の結果、衝突点のわずかに下流において、円盤形状７４を有する実質的に平坦化したターゲットが生じることが、実験によって示されている。
【００８２】
[0091]  第１及び第２の小滴（又は、さらに一般的にはそれらの流れ７０、７２）を適切に送出することで、例えばターゲット７４の配向又はターゲット７４の平坦化の程度などの平坦化ターゲット７４の特性を制御することができる。例えば図１２では、平坦化物体７４の平坦化表面が、放射コレクタの光軸３６に対して実質的に垂直な方向に、かつ放射ビーム６の軌道（すなわち伝搬方向）に対して実質的に垂直な方向に延出するように、第１の小滴７０及び第２の小滴７２を送出することを示す。これは、図３に示して記載し、先に提案したプレパルス構成に対して、すでに述べた利点を有する。しかしながら、本発明による実施形態では、平坦化ターゲット７４を形成するためにプレパルスレーザ放射を必要とせず、したがって粒子汚染が全く（又は少なくとも著しく少量しか）発生しないという利点を有する。
【００８３】
[0092]  何らかの理由でレーザビーム６が平坦化ターゲット７４に送出されない場合、衝突位置の下流では小滴などの無秩序な分散７６が発生する。しかしながら、レーザビーム６が平坦化ターゲット７４に送出されると、レーザビームの下流において小滴などの分散は発生しない（平坦化ターゲットはプラズマに変換される）。
【００８４】
[0093]  図１３は、図１２を参照して図示し記載したものに対して代替的であるが関連する実施形態を概略的に示す。図１３において、第１の小滴７０及び第２の小滴７２は、この場合も衝突位置で衝突するように整然と相互に対して送出される。しかしながら、図１２に示した方法とはわずかに異なり、第１の小滴及び第２の小滴は、第１の小滴の中心及び第２の小滴の中心の軌道が衝突位置で空間及び／又は時間においてずれるように、相互に対して送出される。この概念の代替的な記述又は追加的な記述において、もしも第１及び第２の小滴が相互に通り過ぎることが可能であったら、衝突点において及び衝突点を介して、小滴の中心同士は決して衝突しない。
【００８５】
[0094]  上述の原理によると、衝突はわずかにずれた衝突であり、このため衝突時に１つ以上の小滴が他の小滴から材料を取り込む。図に示すように、結果としてこの衝突では２つの小滴８０（通例は元の小滴７０、７２よりも小さい）が形成されることがある。これら２つの小滴は、すでに衝突した２つの異なる物体７０、７２から組み合わされた材料（例えば多くの糸又は鎖の１つの形態）によって、最初は相互につながっている。時間が経つと、２つの小さい小滴８０をつなぐ材料が分解して、２つの小さい小滴８０間に実質的に線形に並んだ複数の小滴８２（すなわち物体）となる。複数の小滴は典型的に、元の（衝突前の）小滴７０、７２より小さく、衝突後に最初に形成されつながっていた小さい小滴８０より小さい。
【００８６】
[0095]  実質的に線形に並んだ複数の小滴８２に分解する時点で又はその直後に、レーザビーム６を複数の小滴８２に送出して、放射発生プラズマを形成することができる。何らかの理由で、複数の物体８２を含むターゲットにレーザビーム６が送出されない場合、小滴はその後、衝突位置の下流でさらにばらばらになる（８４）、及び／又は解体して小さい小滴になる。しかしながら、レーザビーム６がターゲットに送出された場合、レーザビームの下流に小滴は存在しない（ターゲットはプラズマに変換される）。
【００８７】
[0096]  関連する実施形態では、衝突後に１つ以上の鎖又は糸から形成されたターゲットに、すなわち複数の小滴が形成される前に、レーザを送出することができる。
【００８８】
[0097]  第１の小滴及び第２の小滴（又は、さらに一般的にはそれらの流れ７０、７２）を適切に送出することで、例えばターゲット８２の配向又はターゲット８２を構成する小滴の分離度などのターゲット８２の特性を制御することができる。例えば図１３では、ターゲット８２が、放射コレクタの光軸３６に対して実質的に平行で光軸３６に沿った方向に、かつターゲット８２に入射する放射ビーム６の軌道（すなわち伝搬方向）に対して実質的に平行な方向に延出するように、第１の小滴７０及び第２の小滴７２を送出することを示す。
【００８９】
[0098]  図１３の構成が有利である理由は、複数の小滴の分布が、コレクタの光軸３６に沿っていること、及び／又は放射ビームの軌道（伝搬方向）に沿ってこの軌道に対して平行であることにより、組み合わさったターゲットの質量がいっそう高効率で放射発生プラズマに変換されるような分布を確実に達成可能なことである。これは、質量が光軸３６及び／又はレーザビーム６の軌道に沿って分布していること、及び／又は小滴が光軸３６又はビーム６の軌道からわずかにずれている（これは当然、衝突後に発生し得る）ことで、レーザビームのウエストをさらに充分に充填することが可能だからである。
【００９０】
[0099]  放射源において、上に述べた構成の多数の実施を提供することができる。例えば図１２を参照すると、小滴流７０、７２に加えて、２つの追加の小滴流を発生させることも可能である（例えば２つを用いて、２つの追加の小滴流を相互に衝突するように送出し、これによって、（例えば図１２に示した平坦化物体に相当する形状及び配向を有する）平坦化物体を形成してもよい。この方法の２つの実施を実質的に同時に実行して、軸方向に離間した２つの平坦化物体を含む複合ターゲットを発生させることができる。軸方向の平坦化物体は、例えば光軸３６に沿って軸方向に変位させることができる。同様に、図１３を参照すると、２つの追加の小滴流を発生させることによって、レーザビーム６を受けるターゲットを、ターゲット８２が２度繰り返された（例えば軸方向に離間した）複合ターゲットとしてもよい。一般に、上述したターゲットの２つ以上を含む複合ターゲットを発生させることができる。これは例えば、上述の方法の多数の実施を実質的に同時に行う（例えば小滴発生器の多数のペア又はセットを用いて）ことによって達成可能である。複合ターゲットの部分は軸方向に離間させることができる。複合ターゲットの部分は実質的に光軸３６に沿って並べることができる。
【００９１】
[0100]  図１４及び図１５は、図１３を参照してすでに図示し記載したようなターゲット（複数の小滴を含む）を形成するための代替的な方法を概略的に示す。図１４及び図１５において、ターゲット９０を形成するために小滴の衝突は必要ない。その代わりに、異なる位置から発する小滴流７０、７２を、単に所望のプラズマ形成位置（及びターゲット形成位置）に送出するだけである。複数の小滴が、相互に隣接して位置する小滴９０の実質的に線形の構成を形成するように、小滴流の送出を行う。
【００９２】
[0101]  プラズマ形成位置において、複数の小滴９０にレーザビーム６を送出する。この場合も、ターゲット９０を形成する複数の小滴は、ターゲット９０に送出される放射及び／又はコレクタの光軸３６に対して実質的に平行な方向に並べることができる。その理由については図１３を参照してすでに図示し記載した。
【００９３】
[0102]  複数の小滴９０は、厳密に線形に延在する必要はなく、実質的に線形であればよい。例えば、レーザビーム６のウエストを充填するか又は充填度を高めるために、小滴９０のアレイ内で小滴がある程度ずれている（例えば光軸３６から離れている）と好都合である場合がある。図１５は、小滴流７０、７２を提供するために用いる構成（例えば小滴発生器）の適切な位置付けによって、及び／又はそういった小滴発生器からの小滴放出の適切な同期によって、どのようにこれを達成可能であるかを示す。
【００９４】
[0103]  ターゲットの形状は、変換効率の検討事項と共に、例えば放射及び／又は汚染の特に好適な伝搬方向のような特定の要件に合わせて調整可能であることは認められよう。例えば、放射コレクタが垂直入射コレクタであるか、グレージング入射コレクタであるか、又は他の何らかの形態のコレクタであるかに応じて、発生する放射には好適な伝搬方向があり得る。ターゲットの形状によって、汚染をある特定の方向に送出することができるので、そのような汚染をいっそう効果的に処理することが可能となる。
【００９５】
[0104]  上述の実施形態では、第１の物体及び第２の物体の双方が流体の小滴を含むものとして記載した。他の実施形態では、一方又は双方の物体が、固体材料（例えば粒子又はペレット）であるか又は固体材料を含むことも可能である。しかしながら、物体の送出及びそれによって得られるターゲットの形状は、固体の使用ではなく流体の小滴を用いることで、いっそう正確かつ容易に達成可能であると考えられる。
【００９６】
[0105]  上述の実施形態では、ターゲットの形成に用いる第１の物体及び第２の物体が、放射発生プラズマの発生に用いられる燃料（例えばその小滴）を含むものとして記載した。しかしながら、他の実施形態では、物体の一方のみがそのような燃料を含み、他方の物体は、後の放射発生プラズマ発生における使用のため単にその物体を整形するためにだけ用いることも可能である。
【００９７】
[0106]  第１の物体及び第２の物体は、（例えば衝突位置において）異なる温度とすることができる。これが好都合である場合がある。例えば第１の物体は、第２の物体の温度よりも沸点の低い材料を含むことができる。物体が衝突した場合、衝突の結果として第１の物体の少なくとも部分的な沸騰が起こり、これは衝突にエネルギを与え、例えば蒸気圧の上昇などが生じて、その後のプラズマ発生及び／又はプラズマからの放射の発生を促進又は最適化することができる。この代わりに又はこれに加えて、沸騰（又は少なくとも温度差）により、（特に双方の物体が流体である場合）物体間にガス膜又は他の薄いバリアが容易に提供され、これがターゲットの整形を促進することができる。
【００９８】
[0107]  第１の物体及び第２の物体は、同一の材料から成るか、又は異なる材料から成ることができる。例えば第１の物体は、放射発生プラズマによって発生する放射に対して実質的に透過性の材料から成ることができる。これは、例えば第１の物体を用いて第２の物体を整形する場合、第１の物体が、得られた放射発生プラズマから発生する放射の伝搬を妨害又は抑制しないので、有利とすることができる。
【００９９】
[0108]  上述のように、第１の物体及び第２の物体の様々な特性を用いて、得られるターゲットの形状もしくは組織、又はその配向を制御することができる。また、第３の異なる位置から送出される第３の物体を用いることも可能である。ターゲットの形成に３つの物体を用いることで、得られるターゲットの配向などの制御を強化することができる。
【０１００】
[0109]  上述のように、小滴発生器を用いて第１及び第２の物体を提供することができる。しかしながら、いくつかの実施形態では、小滴が必要ない場合がある。このため、さらに一般的には、本発明は、第１の位置から第１の物体を送出するための第１の構成と共に第２の異なる位置から第２の物体を送出するための第２の構成を備えた装置の提供に関するものとすることができる。第１及び第２の構成は、必ずしも装置の別個の部分であるとは限らないが、第１の物体及び第２の物体が異なる位置から送出及び／又は発生する以上は、上述の整形及び／又は組織の構成を可能とするために、例えばノズル又は貯蔵容器等における異なる開口部とすることができる。
【０１０１】
[0110]  物体が発生する位置及び／又は物体の軌道は、固定してもよく、又は、（例えば物体を送出する構成を移動又は変更することによって）変更可能としてもよい。同様に、物体の速度は、固定してもよく、又は変更可能としてもよい。変更可能な場合、ターゲットの形状又は組織を所望の際に変更することができ、これは有用であり得る。物体が発生する位置のアクティブ制御を用いて、ターゲットの形状又は組織を調節することも可能である。同様に、物体の軌道、速度、又は他の特性のアクティブ制御を用いて、ターゲットの形状又は組織を調節することができる。アクティブ制御では、１つ以上の測定値を考慮に入れることができる（すなわちフィードバックを使用可能である）。測定値は例えば、発生したＥＵＶの特性（例えば強度）、及び／又は物体の軌道の測定値、及び／又はターゲットの形状の測定値とすることができる。アクティブ制御は、マイクロプロセッサなどの制御装置（図示せず）を用いて実行することができる。
【０１０２】
[0111]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【０１０３】
[0112]  リソグラフィ装置を記載する場合、「レンズ」という用語は、文脈が許す限り、屈折、反射、磁気、電磁気、及び静電気型の光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか１つ又はそれらの組み合わせを指すことができる。
【０１０４】
[0113]  以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法で本発明を実施可能であることは認められよう。上述の説明は、限定でなく例示であることを意図している。このため、以下の特許請求の範囲から逸脱することなく、記載したような本発明に対して変更を実施可能であることは当業者には認められよう。
【０１０５】
[0114]  特許請求の範囲を解釈するには、「発明の概要」及び「要約書」の項ではなく、「発明を実施するための形態」の項を使用するよう意図されていることを理解されたい。「発明の概要」及び「要約書」の項は、本発明者が想定するような本発明の１つ以上の例示的実施形態について述べることができるが、全部の例示的実施形態を述べることはできず、したがって本発明及び添付の特許請求の範囲をいかなる意味でも限定しないものとする。
【０１０６】
[0115]  以上では、特定の機能の実施態様を例示する機能的構成要素及びその関係を用いて本発明について説明してきた。これらの機能的構成要素の境界は、本明細書では説明の便宜を図って任意に画定されている。特定の機能及びその関係が適切に実行される限り、代替的境界を画定することができる。
【０１０７】
[0116]  特定の実施形態に関する以上の説明は、本発明の全体的性質を十分に明らかにしているので、当技術分野の知識を適用することにより、過度の実験をせず、本発明の全体的概念から逸脱することなく、このような特定の実施形態を容易に修正する、及び／又はこれらを様々な用途に適応させることができる。したがって、このような適応及び修正は、本明細書に提示された教示及び案内に基づき、開示された実施形態の同等物の意味及び範囲内に入るものとする。本明細書の言葉遣い又は用語は説明のためのもので、限定するものではなく、したがって本明細書の用語又は言葉遣いは、当業者には教示及び案内の観点から解釈されるべきことを理解されたい。
【０１０８】
[0117]  本発明の範囲は、上述の例示的な実施形態のいずれかによって限定されるものではなく、以下の特許請求の範囲及びそれらの均等物にしたがってのみ規定されるものとする。
【図１】
2015528994.tif 000004
【図２】
2015528994.tif 000005
【図３】
2015528994.tif 000006
【図４】
2015528994.tif 000007
【図５】
2015528994.tif 000008
【図６】
2015528994.tif 000009
【図７】
2015528994.tif 000010
【図８】
2015528994.tif 000011
【図９】
2015528994.tif 000012
【図１０】
2015528994.tif 000013
【図１１】
2015528994.tif 000014
【図１２】
2015528994.tif 000015
【図１３】
2015528994.tif 000016
【図１４】
2015528994.tif 000017
【図１５】
2015528994.tif 000018
【国際調査報告】
2015528994.tif 000019
2015528994.tif 000020