(57)【要約】実質的に炭化水素（ＨＣ）と他の不純物とを含有しない極性炭化水素（ＨＣ）選択性溶媒を、前記選択性溶媒、測定可能な量の重質芳香族炭化水素、および抽出蒸留（ＥＤ）または液−液抽出（ＬＬＥ）プロセスにおいて生成する重合体材料を含有するリーン溶媒ストリームから回収する。前記リーン溶媒ストリームの少なくとも一部は、前記ＥＤもしくはＬＬＥプロセスのＨＣ供給ストリームからのスリップストリームまたは外部ストリームと溶媒浄化ゾーンにおいて接触する。熱分解ガソリン、改質油などの前記ＨＣ供給ストリームは、顕著な量のベンゼンおよび少なくとも５０％の極性（芳香族）ＨＣを含有しており、前記リーン溶媒ストリームから前記重質ＨＣと重合体材料を除去する置換剤としての機能を有している。前記リーン溶媒から常磁性混入物質を除去するために磁気フィルターを用いることができる。
2015512976.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択性溶媒、測定可能な量の重質炭化水素、ならびに熱分解したまたは酸化された溶媒、重質炭化水素、および添加剤の反応により生成された重合体材料を含有する溶媒リッチストリームから、実質的に炭化水素と他の不純物を含有しない極性炭化水素選択性溶媒を回収する方法であって、前記方法は、
（ａ）極性炭化水素と低極性炭化水素とを含有する供給ストリームを提供する工程、
（ｂ）前記供給ストリームを、抽出蒸留カラムまたは液−液抽出カラムを含む抽出ゾーンへ導入し、（ｉ）第１の水ストリームをともなった低極性炭化水素ストリームと（ｉｉ）リーン溶媒ストリームと第２の水ストリームとをともなった極性炭化水素ストリームを得る工程、および
（ｃ）前記リーン溶媒ストリームの一部分を、第１の位置に置いて溶媒浄化ゾーンに導入し、（ｉ）供給ストリームからのスリップストリームまたは（ｉｉ）極性炭化水素を含み、前記供給ストリームの沸点と少なくとも部分的に一致する範囲の沸点を有する外部ストリームを、第２の位置において前記溶媒浄化ゾーンに導入し、そこでは、（ｉ）前記スリップストリーム中の芳香族炭化水素または（ｉｉ）前記外部ストリーム中の極性炭化水素が、前記リーン溶媒ストリームから重質炭化水素を置換し、それによって、前記抽出ゾーンへ導入される溶媒相と、置換された重質炭化水素を含有する炭化水素相とを得る工程、
を備えることを特徴とする選択性溶媒回収方法。
【請求項２】
前記極性炭化水素が芳香族であり、前記低極性炭化水素がパラフィン系、ナフテン系、およびオレフィン系であることを特徴とする、請求項１に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項３】
前記溶媒が、スルホラン、アルキルスルホラン、Ｎ−ホルミルモルホリン、Ｎ−メチルピロリドン、テトラエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジエチレングリコール、およびそれらの混合物からなる群より選択されることを特徴とする、請求項１に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項４】
前記溶媒浄化ゾーンが、（ｉ）トレイ、充填材、または回転ディスクを備えたカラム、（ｉｉ）多段ミキサー／セトラー、および（ｉｉｉ）パルスカラムからなる群より選択される抽出カラムであることを特徴とする、請求項１に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項５】
前記溶媒浄化ゾーンが、向流抽出カラムであることを特徴とする、請求項１に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項６】
前記工程（ｂ）が、
（ｉ）前記供給ストリームを、前記抽出蒸留カラム（ＥＤＣ）の中央部分へ導入し、溶媒リッチストリームを選択性溶媒フィードとして前記ＥＤＣの上部へ導入する工程、
（ｉｉ）水含有、低極性炭化水素リッチストリームを前記ＥＤＣの最上部から回収し、溶媒と極性炭化水素を含有する第１の溶媒リッチストリームを前記ＥＤＣの底部から抜き取る工程、
（ｉｉｉ）前記第１の溶媒リッチストリームを溶媒回収カラム（ＳＲＣ）の中央部分に導入し、実質的に溶媒と低極性炭化水素とを含有しない極性炭化水素リッチストリームを前記ＳＲＣの最上部から回収し、前記ＳＲＣの底部から第２の溶媒リッチストリームを除去する工程、
（ｉｖ）前記第２の溶媒リッチストリームの第１の部分を工程（ｉ）における前記ＥＤＣの上部へ選択性溶媒フィードとして導入する工程、および
（ｖ）工程（ｉｉｉ）における前記第２の溶媒リッチストリームの第２の部分を冷却し、前記溶媒リッチストリームの冷却された前記第２の部分を溶媒浄化ゾーンの上部へ導入して溶媒相を形成する工程、
を備え、前記工程（ｃ）が、
（ｖｉ）（１）前記スリップストリームまたは（２）前記外部ストリームを重質炭化水素置換剤として前記溶媒浄化ゾーンの下部へ導入して重質炭化水素と重合体材料を前記溶媒相から炭化水素相へ抽出する工程、
（ｖｉｉ）重質炭化水素と重合体材料を含有する蓄積された炭化水素相を前記溶媒浄化ゾーンの上部から抜き取り、溶媒と極性炭化水素、および実質的に低減されたレベルの重質炭化水素と重合体材料を含有する前記溶媒相を前記溶媒浄化ゾーンの下部から回収する工程、
を備え、前記方法が、
（ｖｉｉｉ）前記溶媒浄化ゾーンからの前記溶媒相を炭化水素フィードの一部として前記ＥＤＣの中央部へ導入し、精製された溶媒を溶媒ループに再循環させる工程、
をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項７】
さらに、前記第２の溶媒リッチストリームの前記第１の部分が前記ＥＤＣの前記上部へ入る前に、磁場で強化されたインラインフィルターを用いて前記第２の溶媒リッチストリームの前記第１の部分を濾過することを特徴とする、請求項６に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項８】
前記工程（ｖｉ）が、前記スリップストリームを前記溶媒浄化ゾーンの前記下部へ導入することを含む、請求項６に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項９】
前記工程（ｖｉ）が、前記外部ストリームを前記溶媒浄化ゾーンの前記下部へ導入することを含む、請求項６に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項１０】
ベンゼンの回収を最大化するために、前記ＥＤＣが、実質的にすべてのＣ９＋炭化水素を前記第１の溶媒リッチストリーム中に保持する条件において操業されることを特徴とする、請求項６に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項１１】
前記ＳＲＣが、Ｃ８およびそれより軽質な炭化水素のみを前記第１の溶媒リッチストリームから抽出し、Ｃ９およびそれより重質な炭化水素を実質的にすべて前記第２の溶媒リッチストリーム中に保持する条件において操業されることを特徴とする、請求項６に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項１２】
前記工程（ｉｖ）が、
前記第２の溶媒リッチストリームの大部分を前記ＥＤＣの上部へ導入し、前記第２の溶媒リッチストリームの第１の少量部分を熱溶媒再生ゾーンの上部へ導入し、溶媒、水、ならびに前記溶媒の沸点よりも低い沸点を有する炭化水素および他の化合物を含有する第３の溶媒リッチストリームを前記溶媒再生ゾーンの最上部から回収し、前記溶媒再生ゾーンの下部から重質スラッジを除去することを含み、
前記工程（ｖ）が、
工程（ｉｖ）における前記第３の溶媒リッチストリームおよび工程（ｉｉｉ）における前記第２の溶媒リッチストリームの第２の少量部分を含む混合物を冷却し、前記混合物を前記溶媒浄化ゾーンの上部へ導入して前記溶媒相を形成することを含む、請求項６に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項１３】
前記溶媒がスルホランであることを特徴とする、請求項６に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項１４】
前記溶媒が、Ｎ−ホルミルモルホリンであることを特徴とする、請求項６に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項１５】
前記工程（ｂ）が、
（ｉ）前記供給ストリームを、液−液抽出（ＬＬＥ）カラムの中央部分へ導入し、溶媒リッチストリームを選択性溶媒フィードとして前記ＬＬＥカラムの上部へ導入する工程、
（ｉｉ）水含有、低極性炭化水素リッチストリームを前記ＬＬＥカラムの最上部から回収し、溶媒、極性炭化水素、および少量の低極性炭化水素を含有する前記第１の溶媒リッチストリームを前記ＬＬＥカラムの底部から抜き取る工程、
（ｉｉｉ）前記第１の溶媒リッチストリームおよび溶媒回収カラム（ＳＲＣ）の底部からの第３の溶媒リッチストリームの少量部分を含む混合物を抽出除去カラム（ＥＳＣ）の上部へ導入し、低極性炭化水素ならびに相当量のベンゼンおよびより重質な芳香族化合物を含有し、凝縮させてＬＬＥカラムの下部へ還流として再循環される炭化水素リッチ蒸気を回収し、溶媒と極性炭化水素を含有し実質的に低極性炭化水素を含有しない第２の溶媒リッチストリームを前記ＥＳＣの底部から抜き取る工程、
（ｉｖ）工程（ｉｉｉ）における前記第２の溶媒リッチストリームを前記ＳＲＣの中央部分に導入し、溶媒および低極性炭化水素を実質的に含有しない極性炭化水素リッチストリームを前記ＳＲＣの最上部から抜き取り、前記ＳＲＣの前記底部から第３の溶媒リッチストリームを除去する工程、
（ｖ）前記第３の溶媒リッチストリームの大部分を工程（ｉ）における前記ＬＬＥカラムの上部へ前記選択性溶媒フィードとして導入する工程、および
（ｖｉ）工程（ｉｖ）における前記第３の溶媒リッチストリームの少量部分を冷却し、前記冷却された前記第３の溶媒リッチストリームの少量部分を溶媒浄化ゾーンの上部へ導入して前記溶媒相を形成する工程、
を備え、工程（ｃ）が、
（ｖｉｉ）前記（１）スリップストリームまたは前記外部ストリームを重質炭化水素置換剤として前記溶媒浄化ゾーンの下部へ導入して重質炭化水素と重合体材料とを前記溶媒相から炭化水素相へ抽出すること、および
（ｖｉｉｉ）重質炭化水素および重合体材料を含有する蓄積された炭化水素相を前記溶媒浄化ゾーンの上部から抜き出し、溶媒と極性炭化水素を含有し実質的に低減されたレベルの重質炭化水素と重合体材料とを有する前記溶媒相を前記溶媒浄化ゾーンの下部から除去すること
を含み、前記方法が、
（ｉｘ）工程（ｖｉｉｉ）における前記溶媒浄化ゾーンからの前記溶媒相を炭化水素フィードの一部として工程（ｉ）における前記ＬＬＥカラムの中央部へ導入し、精製された溶媒を溶媒ループへ再循環させること
をさらに備えることを特徴とする、請求項１に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項１６】
さらに、前記第３の溶媒リッチストリームが前記ＬＬＥカラムの前記上部へ入る前に、磁場で強化されたインラインフィルターを用いて前記第３の溶媒リッチストリームを濾過することを特徴とする、請求項１５に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項１７】
前記溶媒がスルホランであることを特徴とする、請求項１５に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項１８】
前記溶媒が、テトラエチレングリコールであることを特徴とする、請求項１５に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項１９】
前記工程（ｖｉｉ）が、前記スリップストリームを前記溶媒浄化ゾーンの前記下部へ導入することを含む、請求項１５に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項２０】
前記工程（ｖｉｉ）が、前記外部ストリームを前記溶媒浄化ゾーンの前記下部へ導入することを含む、請求項１５に記載の選択性溶媒回収方法。
【請求項２１】
前記工程（ｖ）が、
前記第３の溶媒リッチストリームの大部分を工程（ｉ）における前記ＬＬＥカラムの前記上部に導入し、前記第３の溶媒リッチストリームの第１の少量部分を高温熱溶媒再生ゾーンの上部へ導入し、溶媒、水、ならびに前記溶媒の沸点よりも低い沸点を有する炭化水素および他の化合物を含有する第４の溶媒リッチストリームを前記溶媒再生ゾーンの最上部から回収し、前記溶媒再生ゾーンの下部から重質スラッジを回収することを含み、
前記工程（ｖｉ）が、
工程（ｖ）における前記第４の溶媒リッチストリームと工程（ｉｖ）における前記第３の溶媒リッチストリームの第２の少量部分とを含む混合物を冷却し、前記混合物を前記溶媒浄化ゾーンの上部へ導入して前記溶媒相を形成することを含む、請求項１５に記載の選択性溶媒回収方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ベンゼン、トルエン、およびキシレン（ＢＴＸ）芳香族炭化水素（ＨＣｓ）を石油ストリームから回収する最も重要な方法は、スルホランまたはポリアルキレングリコールを抽出溶媒として用いた液−液抽出（ＬＬＥ）である。適切な石油ストリームとしては、コールタールに加え、改質油（reformate）、分解ガソリン（pyrolysis gasoline）、コークス炉油（coke oven oil）が挙げられる。Ｎ−ホルミルモルホリンを抽出溶媒として用いる抽出蒸留（ＥＤ）は、コールタールおよびコークス炉油からベンゼンを回収するために広く用いられている。水性スルホラン溶媒を用いるＥＤは、原料からＣ８＋留分を取り除いた後、ベンゼンとトルエンを改質油または分解ガソリンから回収することができる。
【０００２】
ＥＤおよびＬＬＥの両方の芳香族化合物回収プロセスで用いられる抽出溶媒は、閉ループにおいて、無制限に内部循環される。適切に設計された前処理ユニットでさえ、測定可能な量の炭化水素（ＨＣ）種、これは意図された原料よりも重いものである、がすり抜けて、供給ストリームとともに抽出プロセスへ入る。不十分に操作された、または機能不全をきたした原料前処理ユニットにおいては、供給ストリームにおける重質ＨＣのレベルは顕著なものとなり得る。高濃度の重質ＨＣ、重質ＨＣ同士の反応により生成する重合体材料、分解した溶媒、溶媒の添加剤、および装置の腐食に起因する種は、溶媒の能力を低下させ、プロセスを操業不能にしさえする。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、そうしなければ閉溶媒ループ中にトラップされる重質ＨＣ及び重合体材料を除去するための、ＥＤおよびＬＬＥプロセス用の改良された溶媒再生システムを対象とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、選択性溶媒から、重質ＨＣと重合体スラッジを除去するための技術を採用する。一形態において、本発明は、選択性溶媒、測定可能な量の重質ＨＣ、ならびに熱分解したまたは酸化された溶媒、重質ＨＣ、および添加剤の反応により生成された重合体材料を含む溶媒リッチストリームから、実質的にＨＣと他の不純物を含有しない極性ＨＣ選択性溶媒を回収する方法を対象とし、この方法は、
（ａ）極性および低極性ＨＣを含有する供給ストリームを提供する工程、
（ｂ）前記供給ストリームを、抽出蒸留カラム（ＥＤＣ）または液−液抽出（ＬＬＥ）カラムを含む抽出ゾーンへ導入し、（ｉ）第１の水ストリームをともなった低極性ＨＣストリームと、（ｉｉ）リーン（ｌｅａｎ）溶媒ストリームと第２の水ストリームとをともなった極性ＨＣストリームを得る工程、および
（ｃ）前記リーン溶媒ストリームの一部を、第一の位置において溶媒浄化ゾーンに導入し、（ｉ）供給ストリームからのスリップ（ｓｌｉｐ）ストリームまたは（ｉｉ）極性ＨＣを含み、前記供給ストリームの沸点と少なくとも部分的に一致する範囲の沸点を有する外部ストリームを第２の位置において前記溶媒浄化ゾーンに導入し、そこでは、（ｉ）前記スリップストリーム中の芳香族ＨＣまたは（ｉｉ）前記外部ストリーム中の極性ＨＣが、リーン溶媒ストリームから重質ＨＣを置換し、それによって、前記抽出ゾーンへ導入される溶媒相と、置き換えられた重質ＨＣを含有するＨＣ相とを得る工程、を含む。
【０００５】
分解ガソリンや改質油などのＨＣ供給ストリームは、かなりの量のベンゼンと、通常、５０％以上の、選択性溶媒に対し高い親和性を有する極性（芳香族）ＨＣを含んでいる。本発明は、ＨＣフィードが、重質ＨＣと重合体材料をリーン溶媒から除去するための置換剤（displacement agent）として機能するという知見に一部で基づくものである。リーン溶媒中の常磁性の混入物質を除去するために、磁場によって強化されたフィルターを、リーン溶媒循環ラインに取り付けて、溶媒浄化ゾーンと同時に機能させることもできる。この磁気フィルターは、エネルギーを大量に消費する高温の熱溶媒再生機（thermal solvent regenerator）の必要性を最小化し、場合によっては不要にする。
【０００６】
芳香族ＨＣの回収のための本発明の一つの実施態様においては、測定可能な量の重質ＨＣと重合体材料を含むものである、ＥＤまたはＬＬＥプロセスにおけるリーン溶媒の一部分は、溶媒回収カラムの底部から抜き取られ、熱溶媒再生機のオーバーヘッドからの再生された溶媒と混合される。この混合されたストリームは、冷却された後、低温で、省エネルギーで、操作が容易である溶媒浄化ゾーンに導入される。この溶媒浄化の操作は、典型的には、連続多段接触装置、好ましくは、向流抽出用に設計されたものにおいて実施される。適切な向流の設計としては、両端、通常は上端と下端に、導入口と排出口を備え、トレイ、充填材、または回転ディスクを組み込んだカラムや、パルスカラムが挙げられる。非向流の設計としては、多段ミキサー／セトラーや回転型接触器が挙げられる。
【０００７】
ＥＤプロセスにおけるＥＤＣ（またはＬＬＥプロセスにおけるＬＬＥ）へのＨＣ供給ストリームからのスリップストリームは、溶媒浄化ゾーンへ導入され、混合された溶媒ストリームと接触する。好ましくは、置換剤としてのスリップＨＣ供給ストリームは、重質ＨＣと重合体材料を溶媒相からＨＣ相へ追い出すために、混合された溶媒ストリームと向流方式で接触する。溶媒相は、基本的には溶媒、ＨＣ供給スリップストリーム（置換剤）中の芳香族成分のほとんど、特に、ベンゼン、および非常に低減されたレベルの重質ＨＣと重合体材料を含んでおり、接触器の下部から連続的に抜き出され、ＥＤＣ（またはＬＬＥプロセスにおけるＬＬＥカラム）へ、精製された溶媒を閉溶媒ループへ再循環させる手段としてのこのカラムへのＨＣフィードの一部として、供給される。「抽出された（squeezed）」重質ＨＣと重合体材料、そしてＨＣ供給ストリーム中の非芳香族成分の大部分を含有している、溶媒浄化ゾーンのＨＣ相は、溶媒浄化接触器の上部に蓄積され、前記接触器から、好ましくはレベルを制御した状態で、連続的に取り除かれ、水洗カラムに供給されてＨＣ相中の残りの溶媒が除去される。溶媒浄化ゾーンは、ＥＤＣ（またはＬＬＥカラム）からのラフィネートストリームと混合された後、水洗カラムの前または後、そのＨＣ相のベンゼン含有量が要求されるレベルに制御されるように操業される。例えば、もし、混合されたＨＣストリームがガソリンに混合して使用されるのであれば、そのベンゼン濃度は１体積％以下であるべきである。  
【０００８】
あるいは、スリップストリームを用いることに代えて、好ましくは、極性（芳香族）ＨＣを含有する、脱硫された軽質ＨＣ混合物を、リーン溶媒から重質ＨＣと重合体材料を除去するための置換剤として使用することができる。本発明においては、大部分の重質ＨＣと重合体材料を除去するための溶媒浄化ゾーンを組み込むことは、従来型の熱溶媒再生機を用いる場合におけるその負荷要求を著しく低下させ、特にＥＤプロセスにおいて、プロセスをより容易に操業可能とする。
【０００９】
任意に、磁気フィルターを溶媒ループに導入して、分解した溶媒、様々な溶媒添加剤、および硫化鉄や酸化鉄を含む重質ＨＣの反応によって生成した常磁性混入物質を除去することができる。
【００１０】
本発明の他の実施の形態においては、溶媒再生スキームは、効率的で、低温で、省エネルギーである溶媒浄化システムを用いる。このプロセスは、従来型の高温で、エネルギーを大量に消費する熱溶媒再生機を必要としない。溶媒回収カラムの底部から抜出されるリーン溶媒ストリームの一部分は、取り分けられて、冷却した後に溶媒浄化ゾーンに導入される。ＥＤプロセスにおけるＥＤ（またはＬＬＥプロセスにおけるＬＬＥカラム）へのＨＣ供給ストリームからのスリップストリームも、溶媒浄化ゾーンへ供給され、取り分けられたリーン溶媒ストリームと接触する。
【００１１】
溶媒浄化操作は、上記と同様の装置を使用する。溶媒相は、基本的には溶媒、スリップＨＣ供給ストリーム（置換剤）中の芳香族成分のほとんど、特に、ベンゼン、および非常に低減されたレベルの重質ＨＣを含んでおり、接触器の下部から連続的に抜出され、ＥＤＣまたはＬＬＥカラムへ、ＨＣフィードの一部として、供給される。「抽出された（squeezed）」重質ＨＣと重合体材料を含むＨＣ相は、接触器の上部に蓄積され、定期的または連続的に界面のレベルを制御した状態で接触器から取り除かれる。あるいは、好ましくは極性（芳香族）ＨＣを含有する、脱硫された軽質ＨＣ混合物を、リーン溶媒から重質ＨＣと重合体材料を除去するための置換剤として使用することができる。この場合においても、磁気フィルターを溶媒ループに導入して、リーン溶媒ストリーム中の常磁性混入物質を選択的に除去することができる。
【００１２】
上記の好ましい実施態様においては、溶媒浄化ゾーンにおいて、リーン溶媒からＣ９＋重質ＨＣが回収されるため、ＥＤプロセスにおけるＥＤＣは、実質的にすべてのＣ９＋ＨＣをリッチ溶媒（抽出）ストリームとともにＥＤＣの底部に維持することにより、ベンゼンの回収を最大化できるような条件で操業することが好ましい。溶媒回収カラムは、リッチ溶媒ストリームからＣ８およびより軽質なＨＣのみを取り（strip）、実質的にすべてのＣ９およびより重質なＨＣをリーン溶媒ストリームとともに溶媒回収カラムの底部に維持するような条件で操業することが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】溶媒浄化システムと磁気強化フィルターを採用した抽出蒸留プロセスを表す図である。
【図２】溶媒浄化システムと磁気強化フィルターを採用し、熱溶媒再生機を備えない抽出蒸留プロセスを表す図である。
【図３】溶媒浄化システムと磁気強化フィルターを採用した液−液抽出プロセスを表す図である。
【図４】溶媒浄化システムと磁気強化フィルターを採用し、熱溶媒再生機を備えない液−液抽出プロセスを表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明は、極性ＨＣと低極性ＨＣを含有する混合物からの極性ＨＣの選択的分離と回収のための、ＥＤまたはＬＬＥプロセスへの統合とすることができる。本発明のプロセスは、芳香族化合物と、パラフィン、イソパラフィン、ナフテン、および／またはオレフィンを含む非芳香族化合物とを含有する混合物からの、芳香族ＨＣの分離、回収との関連で説明されるが、この技術が多数のＨＣ混合物に適用可能であることが理解される適切な抽出溶媒としては、共溶媒としての水を伴った、例えば、スルホラン、アルキルスルホラン、Ｎ−ホルミルモルホリン、Ｎ−メチルピロリドン、テトラエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジエチレングリコール、およびそれらの混合物が挙げられる。芳香族ＨＣの回収においては、ＥＤプロセスのための好適な溶媒には、共溶媒としての水とを伴ったスルホランと、非水のホルミルモルホリンが含まれ、ＬＬＥプロセスのための好適な溶媒には、ともに共溶媒としての水を伴ったスルホランとテトラエチレングリコールが含まれる。ＥＤとＬＬＥの両プロセスにおける最も好適な溶媒は、共溶媒としての水を伴ったスルホランである。
【００１５】
図１は、芳香族ＨＣの回収のためのＥＤプロセスの模式図であり、前記プロセスでは他の装置とともに、抽出蒸留カラム（ＥＤＣ）３０１、溶媒回収カラム（ＳＲＣ）３０２、熱溶媒再生機（ＳＲＣ）３０３、溶媒浄化カラム（ＳＣＣ）３０４、および水洗カラム（ＷＷＣ）３０５が用いられる。選択性溶媒としては、水を伴うスルホランが使用される。ＳＲＣ３０２の底部からのリーン溶媒が、ライン１４、１６、１８、および２１を通ってＥＤＣ３０１の最上部付近、かつライン４のためのオーバーヘッドの還流導入口の下に供給されるとともに、芳香族と非芳香族のＨＣの混合物を含有するＨＣフィードが、ライン１を通ってＥＤＣ３０１の中央部に供給される。
【００１６】
ＥＤＣ３０１の最上部から、ライン２を通って排出される非芳香族化合物の蒸気は、図示されない冷却器（condenser）により凝縮され、凝縮物は、非芳香族ＨＣと水相との間の相分離を達成する働きを持つオーバーヘッドレシーバー３０６へと移送される。前記非芳香族ＨＣ相の一部分は、ライン３および４を通って、還流としてＥＤＣ３０１の最上部に再循環され、第２の部分はラフィネート生成物として、ライン５を通って抜き取られる。ライン８におけるオーバーヘッドレシーバー３０６からの水相は、ライン３０におけるＷＷＣ３０５からの水と混合され、その混合物はライン２５を通って蒸気発生器３０７へ移送され、ライン２６を通ってＳＲＣ３０２へ、またライン２３を通ってＳＲＧ３０３へ導入される蒸留用蒸気（stripping steam）となる。溶媒、芳香族化合物、および測定可能なレベルの重質ＨＣを含有するリッチ溶媒ストリームは、ＥＤＣ３０１の底部から抜き取られる。前記リッチ溶媒の一部分は、リボイラー３０８で加熱され、ライン７を通ってＥＤＣ３０１の底部へ再循環されて、カラム内で蒸気の流れを形成し、一方で、リッチ溶媒の残部はライン６を通ってＳＲＣ３０２の中央部分へ供給される。
【００１７】
ライン２６を通ってＳＲＣ３０２の低い部分に注入された蒸留用蒸気は、溶媒からの芳香族ＨＣの除去を助ける。水を含有し、実質的に溶媒と非芳香族ＨＣを含まない芳香族の濃縮物は、オーバーヘッド蒸気ストリームとしてライン９を通ってＳＲＣ３０２から抜き出され、冷却器（図示されない）において凝縮された後、その液体は芳香族ＨＣ相と水相との間の相分離を達成する働きを持つオーバーヘッドレシーバー３０９に導入される。ライン１０からの芳香族ＨＣ相の一部分は、還流として、ライン１１を通ってＳＲＣ３０２の最上部に再循環され、残りの部分は芳香族ＨＣ生成物として、ライン１２を通って抜き取られる。水相は、ライン１３を通って、洗浄水としてＷＷＣ３０５の上部へ移送され、ＷＷＣ３０５の最上部からは、溶媒を含まない非芳香族生成物がライン３１を通って除去される。
【００１８】
ＳＲＣ３０２の底部温度を最低限に抑えるために、レシーバー３０９は真空源に接続され、ＳＲＣ３０２内が大気圧より低い条件とされる。測定可能な量の重質ＨＣを含有するリーン溶媒ストリームは、ライン１４を通ってＳＲＣ３０２の底部から抜出される。その主要部分は、ＥＤＣにおける芳香族ＨＣの抽出のために、ライン１４、１６、１８、および２１を通って、リーン溶媒フィードとして、ＥＤＣ３０１の上部へ再循環される。磁場（ＭＦ）によって強化されたインライン磁気フィルター３１０は、主リーン溶媒ループに設置され、リーン溶媒から常磁性混入物質とスラッジを除去する。適切な磁石を備えたフィルターは、すべてイェンらによる米国特許出願公開第２００９／０２７２７０２号明細書、米国特許出願公開第２０１０／００６５５０４号明細書、米国特許出願公開第２０１２／０１６５５５１号明細書、および米国特許出願公開第２０１２／０２２８２３１号明細書に記載されている。
【００１９】
ＳＲＣ３０２の底部からのリーン溶媒ストリームの少量部分は、ライン１７を通ってＳＲＧ３０３へまわされ、ライン２３を通って、リーン溶媒供給ポイントの下にある導入ポイントからＳＲＧ３０３内へ蒸気が導入される。ＳＲＧ３０３の底部温度を最低限に抑えるために、低圧（真空）下で操業することが好ましい。リーン溶媒の別の少量部分は、リボイラー３１１で加熱され、ライン１５を通ってＳＲＣ３０２の底部へ再循環される。
【００２０】
劣化した溶媒と重合体スラッジは、ＳＲＧ３０３から底部ストリームとしてライン２４を通って取り除かれ、一方で、（溶媒の沸点より低い沸点を持つ）重質ＨＣを含有する再生された溶媒と、実質的にすべての蒸留用蒸気は、オーバーヘッド蒸気ストリーム２２として回収される。この蒸気は、ＳＲＣ３０２の底部からライン１９を通って来る分割されたリーン溶媒と混合され、この混合されたストリームは、溶媒と、測定可能な量の重質ＨＣと、実質的にすべてのＳＲＧ３０３からの蒸留用蒸気を含有しており、冷却器３１２において凝縮、冷却されて混合物を形成し、次いで、ライン２０を通ってＳＣＣ３０４の上部、かつ溶媒／ＨＣ界面位置より下に導入される。ＳＣＣ３０４の最上部からのＨＣ相は、２８を通ってＷＷＣ３０５へ移送される。
【００２１】
ＥＤＣ３０１のＨＣ供給ストリームからのスリップストリームは、ライン２７を通ってＳＣＣ３０４の低い部分に供給され、置換剤としてリーン溶媒相と向流接触し、溶媒相から重質ＨＣと重合体材料を取り除く。
【００２２】
図１に示された、スルホランを溶媒として用いるＥＤプロセスの、好ましい利用においては、ＳＲＧ３０３からのオーバーヘッド蒸気２２の温度は、典型的には１５０〜２００℃の範囲であり、好ましくは１６０〜１８０℃であり、圧力は０．１〜１０気圧、好ましくは０．１〜０．８気圧である。前記蒸気は、冷却器３１２において、約０〜１００℃、好ましくは５０〜８０℃へ冷却される。ＥＤＣへのＨＣフィードは、加熱される前に分割され、ＳＣＣ３０４へのスリップストリームの温度は、０〜１００℃、好ましくは２５〜５０℃の範囲である。ＳＣＣ３０４における、リーン溶媒供給に対するＨＣフィードの質量比は、典型的には、０．１〜１００であり、好ましくは０．１〜１０である。ＳＣＣ３０４における接触温度は、０〜１００℃、好ましくは２５〜８０℃の範囲である。ＳＣＣ３０４の操業圧力は、典型的には１〜１００気圧であり、好ましくは１〜１０気圧である。ＳＣＣ３０４の操業条件は、好ましくは、以下の目的を達成するように選択される：
１．ＨＣ相のベンゼン含有量が、ライン３２（ライン５と３１の合流）を通してのラフィネートストリームにおけるベンゼン濃縮物が、製品仕様を満たすレベルに維持される。例えば、ガソリンとの混合のためには、ライン３２におけるベンゼン濃度は、１体積％未満であるべきである。
２．ライン２９で抜き出される溶媒相中の重質ＨＣと重合体材料の含有量は、溶媒の性能を維持するために求められる範囲に保たれる。
３．ＥＤＣまたはＬＬＥカラムへのＨＣフィードは、５０％以上の芳香族化合物を含有しており、リーン溶媒から重質ＨＣと重合体材料を置換するうえで高効率であるため、ＳＣＣのＨＣ相におけるベンゼン含有量を最小限とし、ＥＤまたはＬＬＥプロセスにおけるラフィネート生成物の品質問題を生じさせないため、最小限の量のＨＣフィードが使用される。
【００２３】
図１のプロセスにおいては、置換剤としてスリップストリーム２７を導入することに代えて、極性炭化水素（置換剤）を含有し、溶媒浄化ゾーンへの供給ストリームの沸点と、少なくとも部分的に一致する範囲の沸点を有する外部ストリームが用いられる。
【００２４】
図２は、ＥＤＣのＨＣフィードを置換剤として用いるリーン溶媒浄化（ＳＣＣ）カラム３２４と、インラインフィルター３３０が用いられる、芳香族ＨＣ回収のためのＥＤプロセスを示す。このプロセスにおける溶媒再生スキームは、エネルギーを大量に消費する高温の熱溶媒再生機を使用しない。このＥＤプロセスでは、他の装置とともに、抽出蒸留カラム（ＥＤＣ）３２１、溶媒回収カラム（ＳＲＣ）３２２、溶媒浄化カラム（ＳＣＣ）３２４、および水洗カラム（ＷＷＣ）３２５が用いられる。
【００２５】
ＥＤＣ３２１における芳香族ＨＣの抽出のために、ストリーム５９におけるリーン溶媒がＥＤＣ３２１の最上部付近、かつライン４４のためのオーバーヘッドの還流導入口の下に供給されるとともに、芳香族と非芳香族のＨＣの混合物を含有するＨＣフィードが、ライン４１を通ってＥＤＣ３２１の中央部に供給される。この場合においても、ＳＲＣ３２２からのリーン溶媒を、本質的に常磁性である鉄さび粒子と他の重合体スラッジを除去する磁気強化フィルター３３０を用いて濾過することができる。ライン４２を通ってＥＤＣ３２１の最上部から排出される非芳香族化合物の蒸気は、冷却器（図示されない）において凝縮され、その凝縮物は、非芳香族ＨＣと水相との間の相分離を達成する働きを持つオーバーヘッドレシーバー３２６へ移送される。ライン４３における前記非芳香族ＨＣ相の一部分は、ライン４４を通って、還流としてＥＤＣ３２１の最上部に再循環され、第２の部分はラフィネート生成物として、ライン４５を通って抜き取られる。ライン４８におけるオーバーヘッドレシーバー３２６からの水相は、ライン６５におけるＷＷＣからの水と混合され、その混合物はライン６３を通って蒸気発生器３２７へ移送され、ライン６４を通ってＳＲＣ３２２へ導入される蒸留用蒸気となり、それは溶媒からの芳香族ＨＣの除去を助ける。溶媒、芳香族ＨＣ、および測定可能な量の重質ＨＣを含有するリッチ溶媒ストリームは、ＥＤＣ３２１の底部から抜き取られる。前記リッチ溶媒の一部分は、リボイラー３２８で加熱され、ライン４７を通ってＥＤＣ３２１の底部へ再循環されて、カラム内で蒸気の流れを形成し、一方で、リッチ溶媒の残部はライン４６を通ってＳＲＣ３２２の中央部分へ供給される。
【００２６】
水を含有し、実質的に溶媒と非芳香族ＨＣを含まない芳香族の濃縮物は、オーバーヘッド蒸気ストリームとしてライン４９を通ってＳＲＣ３２２から抜き出され、冷却器（図示されない）において凝縮された後、その液体は芳香族ＨＣ相と水相との間の相分離を達成する働きを持つオーバーヘッドレシーバー３２９に導入される。ライン５０からの芳香族ＨＣ相の一部分は、還流として、ライン５１を通ってＳＲＣ３２２の最上部に再循環され、残りの部分は芳香族ＨＣ生成物として、ライン５２を通って抜き取られる。水相は、ライン５３を通って、洗浄水としてＷＷＣ３２５の上部へ移送され、最上部からは、溶媒を含まないＨＣがライン６６を通って除去され、ライン４５におけるＥＤＣラフィネートと混合されてライン６７のラフィネート生成物が得られる。
【００２７】
ＳＲＣ３２２の底部温度を最低限に抑えるために、レシーバー３２９は真空源に接続され、ＳＲＣ３２２内が大気圧より低い条件とされる。測定可能な量の重質ＨＣを含有するリーン溶媒ストリームは、ＳＲＣ３２２の底部から抜出される。その主要部分は、磁気強化フィルター３３０を通ってライン５４、５６、および５９経由で、リーン溶媒フィードとして、ＥＤＣ３２１の上部へ再循環される。前記リーン溶媒の少量部分は、ライン５７を通ってまわされ、冷却器３３２で冷却され、次いでライン５８を通ってＳＣＣ３２４の上部、かつ溶媒／ＨＣ界面の位置よりも下へ導入される。リーン溶媒の別の少量部分は、リボイラー３３１で加熱され、ライン５５を通ってＳＲＣ３２２の底部へ再循環される。ＥＤＣ３２１のＨＣ供給ストリームからのスリップストリームは、ライン６０を通ってＳＣＣ３２４の下部へ供給され、溶媒相から重質ＨＣと重合体材料を除去するための置換剤として、リーン溶媒相と向流接触する。
【００２８】
ＳＣＣ３２４からの底部ストリームは、実質的に精製された溶媒と、スリップＥＤＣ供給ストリームにおける芳香族成分、特にベンゼン、の大部分と、より低減されたレベルの重質ＨＣおよび重合体材料とを含有しており、ＳＣＣ３２４の下部から連続的に抜き出され、ライン６２を通って、ＨＣフィードの一部として、精製された溶媒を溶媒ループに再循環させる手段として、ＥＤＣ３２１へ導入される。ＳＣＣ３２４の最上部に蓄積されたＨＣ相は、界面のレベルを制御した状態で、定期的または連続的にＳＣＣ３２４のオーバーヘッドから除去され、ライン６１を通ってＷＷＣ３２５へ供給され、ＨＣ生成物から溶媒が除去され、ライン６６を通って最上部から抜き出される。溶媒浄化操作は、他の適切な向流多段接触装置、好ましくは、多段ミキサー／セトラーなど、向流抽出用に設計されたものや、他の回転型接触器において実施することができる。熱溶媒再生機がない場合、分解された溶媒と、様々な溶媒添加剤、および重質ＨＣの反応により生じる常磁性物質を選択的に除去するために、ＳＲＣとＥＤＣの間のリーン溶媒ラインにおける磁気フィルター３３０が重要である。非常磁性重質ＨＣはＳＣＣ３２４において除去され、リーン溶媒は常に清浄に保たれる。
【００２９】
図２に示した、スルホランを溶媒とするＥＤプロセスの好ましい利用においては、ＳＲＣ３２２の底部からライン５７を通ってくる、分割されたリーン溶媒ストリームは、ＳＣＣ３２４の上部に供給される前に冷却器３３２において冷却される。ＥＤＣのＨＣフィードは、加熱の前に分割されて、ＳＣＣ３２４の下部に供給される。冷却器３３２とＳＣＣ３２４の操業条件は、典型的には、図１に示したプロセスにおいて対応するユニットと同じである。同様に、図２のプロセスにおいて、スリップストリーム６０に代えて、先に述べたように外部ストリームを用いることもできる。
【００３０】
図３は、他の装置とともに、液−液抽出（ＬＬＥ）カラム３４０、溶媒回収カラム（ＳＲＣ）３４１、溶媒再生機（ＳＲＧ）３４２、溶媒浄化カラム（ＳＣＣ）３４３、水洗カラム（ＷＷＣ）３４４、および抽出除去（extractive stripper）カラム（ＥＳＣ）３４５を用いる、芳香族ＨＣの回収のためのＬＬＥプロセスの模式図である。芳香族化合物と非芳香族化合物の混合物を含有するＨＣフィードは、ライン１０１と１０２を通って、ＬＬＥカラム３４０の中央部へ供給されるとともに、リーン溶媒がライン１０３を通ってＬＬＥカラム３４０の最上部付近へ導入され、ＨＣフィードと向流接触する。フィード中の芳香族ＨＣは、典型的にはベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、Ｃ９＋芳香族化合物、およびそれらの混合物を含有しており、非芳香族炭化水素は、典型的にはＣ５〜Ｃ９＋パラフィン、ナフテン、オレフィン、およびそれらの混合物を含有する。
【００３１】
少量の溶媒とともに非芳香族化合物を基本的に含有するラフィネート相は、ストリーム１０４として、ＬＬＥカラム３４０から抜き出され、ライン１３２を通ってＷＷＣ３４４の中央部分へ供給される。ライン１０５におけるＬＬＥカラム３４０の底部からの抽出相は、ライン１０６からの第２のリーン溶媒と混合され、混合されたストリーム１０７はＥＳＣ３４５の最上部へ供給される。
【００３２】
ＥＳＣ３４５を通る蒸気の流れは、リボイラー３４６の動作により形成され、底部におけるリッチ溶媒の一部分はライン１１１を経由し、リボイラー３４６を通ってＥＳＣ３４５へ再循環され、それは通常、カラム底部の温度、オーバーヘッドストリームの組成、および流速を制御するために十分な速度で、蒸気によって加熱される。ＥＳＣ３４５の最上部から排出されるオーバーヘッド蒸気は、冷却器（図示されない）によって凝縮され、その凝縮物はライン１０８を通って、ＨＣと水相との間の相分離を達成する働きを有するオーバーヘッドレシーバー３４７へ移送される。非芳香族化合物と、３０〜４０％までのベンゼンおよびより重質な芳香族化合物とを含有する前記ＨＣ相は、ライン１０９を通って、還流としてＬＬＥカラム３４０の下部へ再循環される。前記水相は、ライン１１０および１２５を通って、蒸気発生器３４８へ移送され、ＳＲＣ３４１のための蒸留用蒸気を生成する。溶媒、非芳香族化合物を含まない芳香族化合物、ならびに測定可能な量の重質ＨＣおよび重合体材料を含有するリッチ溶媒は、ＥＳＣ３４５の底部から抜き出され、ライン１１２を通ってＳＲＣ３４１の中央部分へ移送される。蒸留用蒸気は、ライン１２６を通って蒸気発生器３４８からＳＲＣ３４１の下部へ注入され、溶媒からの芳香族ＨＣの除去を助ける。水を含有し、実質的に溶媒と非芳香族炭化水素を含んでいない芳香族濃縮物は、オーバーヘッド蒸気ストリームとしてＳＲＣ３４１から抜き出され、冷却器（図示されない）で凝縮された後、ライン１１３を通ってオーバーヘッドレシーバー３４９へ導入される。ＳＲＣ３４１の底部温度を最低限にするために、レシーバー３４９は真空源に接続され、ＳＲＣ３４１内は大気圧より低い条件とされる。
【００３３】
オーバーヘッドレシーバー３４９は、芳香族ＨＣ相と水相の間における相分離を達成する働きを有している。ライン１１４における芳香族ＨＣ相の一部分は、ライン１１５を通って、還流としてＳＲＣ３４１の最上部に再循環され、一方、残りの部分は芳香族ＨＣ生成物として、ライン１１６を通って抜き出される。オーバーヘッドレシーバー３４９の水分岐路（water leg）に蓄積された水相は、水洗水として、ライン１３４を通って、ＷＷＣ３４４の最上部付近の、ＨＣ相と水相の界面の下の位置において、ＷＷＣ３４４へ供給される。溶媒は、ＬＬＥラフィネートとＳＣＣ３４３のＨＣ相から、向流水洗によって除去され、次いで、ＷＷＣ３４４のＨＣ相に蓄積された、溶媒を含まないＨＣは、ライン１３５を通って、溶媒を含まないラフィネート生成物として、カラムの最上部から抜き出される。溶媒を含有する水相は、ＷＷＣ３４４の底部からライン１３３を通って出て、オーバーヘッドレシーバー３４７からの水相であるライン１１０と混合され、ライン１２５を通って蒸気発生器３４８へ供給され、そこで、ライン１２６を通ってＳＲＣ３４１へ、ライン１２２を通ってＳＲＧ３４２へと導入される蒸留用蒸気へ変換される。
【００３４】
ＳＲＣ３４１の底部からのリーン溶媒の大部分は、磁気強化フィルター３５０を通って、ライン１１８、１２０、１２１、および１０３経由で、ＬＬＥカラム３４０における芳香族ＨＣの抽出のためにＬＬＥカラム３４０の上部へ供給されるリーン溶媒フィードとして再循環される。ＳＲＣ３４１底部からのリーン溶媒の分割されたストリームは、ライン１１９を通ってＳＲＧ３４２へと送られ、また、ライン１２２を通って、リーン溶媒導入口より下の位置において蒸気がＳＲＧ３４２へ導入される。リーン溶媒の一部分は、リボイラー３５１で加熱され、ライン１１７を通ってＳＲＣ３４１へ再循環される。劣化した溶媒と重合体スラッジは、ライン１２４を通って底部ストリームとして除去され、一方、再生された溶媒と実質的にすべての蒸留用蒸気は、オーバーヘッドストリーム１２３として回収される。ライン１２３における前記蒸気と、ライン１２７におけるＳＲＣ３４１の底部からの分割されてリーン溶媒とで形成される混合物は、溶媒、測定可能な量の重質ＨＣ、およびＳＲＧ３４２からの蒸留用蒸気の実質的にすべてを含有しており、冷却器３５２において冷却され、ライン１２８を通って、溶媒／ＨＣ界面の位置より下において、ＳＣＣ３４３の上部へ導入される。
【００３５】
ＬＬＥカラム３４０へのＨＣフィードから分割されたストリームは、置換剤として、ライン１２９を通ってＳＣＣ３４３の下部へ供給され、ＳＣＣ３４３において溶媒相と向流接触して、重質ＨＣと重合体材料を溶媒相からＨＣ相へと抜き取る。必要に応じて、任意の脱硫された軽質ＨＣ、好ましくは、極性（芳香族）ＨＣを含有するものを、置換剤として有効に用いることができる。
【００３６】
本質的に精製された溶媒、スリップＨＣストリーム（置換剤）中の芳香族成分のほとんど、および実質的に低減されたレベルの重質ＨＣおよび重合体材料を含有する溶媒相は、ＳＣＣ３４３の底部から連続的に抜き出され、ＨＣフィードの一部として、生成された溶媒を溶媒ループへ再循環させる手段として、ライン１３１を通ってＬＬＥカラム３４０へ導入される。ＨＣ相はＳＣＣ３４３の最上部に連続的に蓄積し、レベルを制御した状態で、ライン１３０を通って、ＳＣＣ３４３のオーバーヘッドから、定期的または連続的に除去され、次いで、ＬＬＥカラム３４０のオーバーヘッドからのラフィネートストリームと混合され、ライン１３２を通ってＷＷＣ３４４へ供給される。溶媒浄化操作は、他の適切な向流多段接触装置、好ましくは、多段ミキサー／セトラーなど、向流抽出用に設計されたものや、他の回転型接触器において実施することができる。
【００３７】
図３に示した、好ましくはスルホランを溶媒とする、ＬＬＥプロセスの好ましい利用においては、ＳＲＧ３４２、冷却器３５２、およびＳＣＣ３４３の操業条件は、図１に示したプロセスにおいて対応するユニットのものと同じである。同様に、スリップストリーム１２９に代えて、外部ストリームを用いることもできる。
【００３８】
図４は、リーン溶媒を再生するために、ＬＬＥカラムへのＨＣフィードを置換剤として使用する溶媒浄化カラム（ＳＣＣ）と、磁場（ＭＦ）で強化されたインラインフィルターが設けられた、芳香族ＨＣと非芳香族ＨＣを含有する混合物から芳香族ＨＣを回収するためのＬＬＥプロセスを示したものである。エネルギー消費が大きい高温の溶媒再生機は必要ではない。
【００３９】
このプロセスでは、液−液抽出（ＬＬＥ）カラム３６０、溶媒回収カラム（ＳＲＣ）３６１、溶媒浄化カラム（ＳＣＣ）３６２、水洗カラム（ＷＷＣ）３６３、および抽出除去カラム（ＥＳＣ）３６４が用いられる。芳香族化合物と非芳香族化合物の混合物を含有するＨＣフィードが、ライン２０１および２０２を通って、ＬＬＥカラム３６０の中央部へ供給され、一方、リーン溶媒がライン２０３を通ってＬＬＥカラム３６０の最上部付近に導入されて、ＨＣフィードと向流接触する。ストリーム２０４におけるラフィネート相は、少量の溶媒とともに基本的に非芳香族化合物を含有しており、ＬＬＥカラム３６０の最上部から抜き取られて、ライン２２７を通ってＷＷＣ３６３の中央部へ供給される。抽出相は、ＬＬＥカラム３６０の底部からライン２０５を通って移送され、ライン２０６からの第２のリーン溶媒と混合され、混合されたストリーム２０７はＥＳＣ３６４の最上部へ供給される。
【００４０】
ＥＳＣ３６４を通る蒸気の流れは、リボイラー３６５の動作により形成され、底部におけるリッチ溶媒の一部分はライン２１１を経由し、リボイラー３６５を通ってＥＳＣ３６４へ再循環され、それは通常、カラム底部の温度、オーバーヘッドストリームの組成、および流速を制御するために十分な速度で、蒸気によって加熱される。ＥＳＣ３６４の最上部から排出されるオーバーヘッド蒸気は、冷却器（図示されない）によって凝縮され、その凝縮物はライン２０８を通って、ＨＣと水相との間の相分離を達成する働きを有するオーバーヘッドレシーバー３６６へ移送される。非芳香族化合物と、３０〜４０％までのベンゼンおよびより重質な芳香族化合物とを含有する前記ＨＣ相は、ライン２０９を通って、還流としてＬＬＥカラム３６０の下部へ再循環される。前記水相は、ライン２１０および２２１を通って、蒸気発生器３６７へ移送され、ＳＲＣ３６１のための蒸留用蒸気を生成する。溶媒、精製された芳香族化合物、ならびに測定可能な量の重質ＨＣおよび重合体材料を含有するリッチ溶媒は、ＥＳＣ３６４の底部から抜き出され、ライン２１２を通ってＳＲＣ３６１の中央部分へ移送される。蒸留用蒸気は、ライン２２２を通って蒸気発生器３６７からＳＲＣ３６１の下部へ注入され、溶媒からの芳香族ＨＣの除去を助ける。水を含有し、実質的に溶媒と非芳香族炭化水素を含んでいない芳香族濃縮物は、オーバーヘッド蒸気ストリームとしてＳＲＣ３６１から抜き出され、冷却器（図示されない）で凝縮された後、ライン２１３を通ってオーバーヘッドレシーバー３６８へ導入される。ＳＲＣ３６１の底部温度を最低限にするために、レシーバー３６８は真空源に接続され、ＳＲＣ３６１内は大気圧より低い条件とされる。
【００４１】
オーバーヘッドレシーバー３６８は、芳香族ＨＣ相と水相の間における相分離を達成する働きを有している。ライン２１４における芳香族ＨＣ相の一部分は、ライン２１５を通って、還流としてＳＲＣ３６１の最上部に再循環され、一方、残りの部分は芳香族ＨＣ生成物として、ライン２１６を通って抜き出される。オーバーヘッドレシーバー３６８の水分岐路（water leg）に蓄積された水相は、水洗水として、ライン２２９を通って、ＷＷＣ３６３の最上部付近の、ＨＣ相と水相の界面の下の位置において、ＷＷＣ３６３へ供給される。溶媒は、ＬＬＥラフィネートとＳＣＣ３６２のＨＣ相から、向流水洗によって除去され、溶媒を含まないＨＣ相が得られ、それは次に、ライン２３０を通って、ラフィネート生成物として、ＷＷＣ３６３の最上部から抜き出される。溶媒を含有する水相は、ライン２２８を通ってＷＷＣ３６３の底部から抜き出され、レシーバー３６６からの水であるライン２１０と混合される。その混合物は、ライン２２１を通って蒸気発生器３６７に供給され、そこで蒸留用蒸気となって、ライン２２２を通ってＳＲＣ３６１に導入される。
【００４２】
ライン２１８におけるＳＲＣ３６１からのリーン溶媒を分割したストリーム２１９は、冷却器３６９で冷却され、次いでライン２２３を通って、溶媒／ＨＣ界面の位置よりも下においてＳＣＣ３６２の上部へ導入される。リーン溶媒の一部分は、リボイラー３７０で加熱され、ライン２１７を通ってＳＲＣ３６１へ再循環される。ＳＲＣの底部からのリーン溶媒の大部分は、ライン２１８、２２０、および２０３を通ってＬＬＥカラム３６０へ供給される。
【００４３】
ＨＣフィードからＬＬＥカラム３６０へのストリームを分割したものは、置換剤として、ライン２２４を通ってＳＣＣ３６２の下部へ供給され、ＳＣＣ３６２において、溶媒相と接触し、重質ＨＣと重合体材料を溶媒相からＨＣ相へと抽出する。基本的に精製された溶媒、前記分割ストリーム（置換剤）中の芳香族成分の大部分、および実質的に低減されたレベルの重質ＨＣおよび重合体材料を含有する溶媒相は、ＳＣＣ３６２の下部から連続的に抜き出され、ＨＣフィードの一部として、ライン２２６を通ってＬＬＥカラム３６０へ、精製された溶媒を溶媒ループへ再循環させる方法として、導入される。磁気フィルター３７１は、好ましくはＳＲＣ３６１とＬＬＥカラム３６０の間の主リーン循環ラインに設置され、常磁性混入物質を除去する。
【００４４】
ＳＣＣ３６２の最上部に連続的に蓄積するＨＣ相は、界面のレベルを制御した状態で、ライン２２５を通って、定期的または連続的にＳＣＣ３６２のオーバーヘッドから除去され、次いで、ＬＬＥカラム３６０のオーバーヘッドからのラフィネートストリームと混合され、ライン２３０を通ってＷＷＣ３６３の最上部から引き出されるラフィネート生産物から溶媒を除去するために、ライン２２７を通ってＷＷＣ３６３へ供給される。図４に示したＬＬＥプロセスの好ましい利用においては、スルホランが溶媒であり、冷却器３６９およびＳＣＣ３６２の操業条件は、図１に示したプロセスにおいて対応するユニットと同様である。最後に、スリップストリーム２２４に代えて、先に述べたような外部ストリームが置換剤として溶媒浄化ゾーンへ導入される。
【実施例】
【００４５】
代表的な商業的データを用いた、芳香族ＨＣ回収のための抽出蒸留プロセスのコンピュータシミュレーションモデリングは、本発明の実現性を証明した。とくに、本実施例は、ＳＲＣの底部から精製されたリーン溶媒中の検出可能な重質ＨＣが、ＥＤＣまたはＬＬＥカラムへ供給されるＨＣ原料によって、前記リーン溶媒から置換されることを示す。図２に示したプロセスに関しては、ＥＤＣ中で芳香族ＨＣを抽出するために、５５．４ｗｔ％のＣ６〜Ｃ８芳香族ＨＣを含有し、１１２℃、５．０ｂａｒであるＨＣ原料、約３９，０９７ｋｇ／ｈｒをライン４１を通ってＥＤＣの中央部分へ供給し、同時に、０．４ｗｔ％の水を含有し、９５℃、２ｂａｒであるストリーム５９中のスルホラン溶媒、約１４５，００７ｋｇ／Ｈｒを、ＥＤＣの最上部付近で、ライン４４からのオーバーヘッド還流導入口より下において供給した。選択されたストリームにおける化学種の質量流量（mass flow rate）を、表１にまとめる。
【００４６】
【表１】
2015512976.tif 000003
【００４７】
上記の表において、接頭辞「ｎ」は、直鎖脂肪族化合物を表し、「ｉ」は分岐鎖脂肪族化合物を表し、「Ｃｙ」は環状脂肪族化合物を表す。参照文字番号４２、４５、４８、６５、６４、４６、４９、５１、５３、６６、５４、５９、５７、３３２、６０、６２、および６１で特定されるストリームまたは装置の選択されたプロセス流量と操業パラメータは、図２中に、ＡからＱまでの文字記号のそばに、それぞれ記載した。これらのプロセス条件の下で、ライン５０からの芳香族ＨＣの５０％が２１，７４２ｋｇ／Ｈｒの速度でライン５１を通って、還流としてＳＲＣの最上部へ再循環され、残りの部分は芳香族ＨＣ生成物として、ライン５２を通って抜き出された。
【００４８】
ＨＣ原料がリーン溶媒中の重質ＨＣを置換する能力を実証するために、溶媒浄化カラム（ＳＣＣ）周辺における複数の異なるストリーム中の重質ＨＣの材料バランスを表２にまとめる。
【００４９】
【表２】
2015512976.tif 000004
【００５０】
表２に示したように、リーン溶媒に対するＨＣフィード（置換剤）の質量比がわずか０．２で、理論分離段階がわずか１である場合、リーン溶媒中のすべての重質ＨＣは、１９．０３９ｋｇ／Ｈｒ（ストリーム５８）から７．５９７ｋｇ／Ｈｒ（ストリーム６２）へ減少し、これはたった１回の処理（one pass）での６０ｗｔ％の減少であり、Ｃ１０＋非芳香族化合物とＣ１０＋芳香族化合物は、それぞれ８９．８および３６．１ｗｔ％減少した。このことは、ＥＤＣに対するＨＣ原料が、リーン溶媒からの重質ＨＣの除去における極めて効果的な置換剤であることを示している。
【００５１】
ＨＣ原料は約３０ｗｔ％のベンゼンを含有しているため、リーン溶媒から重質ＨＣを除去するための置換剤としてＨＣ原料が用いられる場合には、ライン６７（図２のライン４５と６６の混合）におけるラフィネート生成物中のベンゼン含有量が、製品仕様を満足することが特に好ましい。表１に示したように、ラフィネート生成物（ライン６７中）におけるベンゼン含有量は、０．９８ｗｔ％であり、ガソリン混合物での要求（＜１．０ｗｔ％ベンゼン）を満足している。ＳＣＣ３２４の操業は、様々な用途における仕様を満足する異なるベンゼン含有量を有するラフィネート生成物を得るために、調整することができる。
【図１】
2015512976.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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2015512976.tif 000010