(57)【要約】  本発明は、少なくとも１つの光透過領域を含み、任意に研磨パッド体を含む研磨パッドを提供する。光透過領域は、（ａ）ポリマー樹脂および（ｂ）少なくとも１つの光吸収化合物を含む材料で構成され、光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、全光線透過率が２５％またはそれより大きい。
2015512799.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの光透過領域を含む研磨パッドであり、そこでは光透過領域は、（ａ）ポリマー樹脂および（ｂ）少なくとも１つの光吸収化合物を含む材料で構成され、ここで光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、全光線透過率が２５％またはそれより大きい。
【請求項２】
光透過領域は、ＡＳＴＭ  Ｄ１１４８−９５により測定して、紫外光照射に際して３９５ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、４５％またはそれより少なく退色される請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項３】
紫外光照射前の光透過領域の全光線透過率は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの波長範囲で、紫外光照射後の光透過領域の全光線透過率と３０％またはそれより小さく異なり、ここで紫外光照射は、１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ２の強度で４分間、光透過領域を照射することを含む請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項４】
光透過領域が紫外光照射に曝された後に、光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有し、ここで紫外光照射は、１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ２の強度で４分間、光透過領域を照射することを含む請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項５】
１０ｍｇ/Lの濃度で光吸収化合物を含む溶液は、３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲において０．５またはそれより小さい吸光度を有する請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項６】
光吸収化合物溶液は、３３５ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に位置する最大光吸収を有さない請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項７】
光透過領域は、２５０ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有する請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項８】
光透過領域は、３６０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲の１つまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有する請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項９】
光透過領域は、表面積で研磨パッドの５０％またはそれより大きい請求項1に記載の研磨パッド。
【請求項１０】
研磨パッドは、その光透過領域からなる請求項９に記載の研磨パッド。
【請求項１１】
研磨パッドは、その材料からなる請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１２】
ポリマー樹脂は、熱可塑性ポリマー樹脂である請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１３】
ポリマー樹脂は、ポリウレタン、ポリカーボネート系ポリウレタン、ポリカーボネート系ジオールもしくはトリオールポリウレタン、線状脂肪族ポリカーボネート系ポリウレタン、分岐脂肪族ポリカーボネート系ポリウレタン、シクロアルカン系脂肪族ポリカーボネート系ポリウレタン、ポリシロキサン系ポリウレタン、（アルキル）（アルキル）アクリレート、（アルキル）（アルキル）アクリル酸、ポリビニリデンフルオライド、ポリビニリデンジフルオライド、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリシロキサン（たとえば、シリコーン等）、ポリカーボネート、線状脂肪族ポリカーボネート、ポリメチルペンテン−１、およびそれらの組み合わせ、からなる群から選択される少なくとも１つの脂肪族ポリマーを含む請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１４】
脂肪族ポリマーは、熱可塑性ポリマー、熱硬化性ポリマー、またはそれらの組み合わせである請求項１３に記載の研磨パッド。
【請求項１５】
熱可塑性ポリマーは、熱可塑性ポリウレタン、ポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタン、シクロアルカン系熱可塑性ポリウレタン、ポリシロキサン系熱可塑性ポリウレタン、それらのランダム共重合体、およびそれらのブロック共重合体、およびそれらのブレンド、からなる群より選択される請求項１４に記載の研磨パッド。
【請求項１６】
脂肪族ポリマーは、（ａ）ポリオール、環状脂肪族環を含むポリオール、ポリカーボネートポリオール、１〜１０００の繰り返し単位を含むポリヘキサメチレンカーボネートジオール、１〜１０００の繰り返し単位を含むポリエチレンエーテルカーボネートジオール、１，１２−ドデカンジオール、１，４−ブタンジオール、およびそれらの組み合わせ、からなる群より選ばれる、１つまたはそれより多いジオール、ならびに（ｂ）ジシクロヘキシルメタン  ４，４’−ジイソシアネートのモノマー単位を含むポリウレタンである請求項１３に記載の研磨パッド。
【請求項１７】
光吸収化合物は、ペンタエリスリトール  テトラキス(２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート）、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート、エチル−２−シアノ−３，３'−ジフェニルアクリレート）、オクチル−ｐ−メトキシシンナメート、４−アミノベンゾエート−トリアルキルオルソフォルメート、エチル（４−エトキシカルボニルフェニル）−N−メチル−N−フェニルフォルムアミジン、N,N−ビス−（４−エトキシカルボニルフェニル）−N−フェニルフォルムアミジン、N2−（４−エトキシカルボニルフェニル）−N1−メチル−N1−フェニルフォルムアミジン、２−ヒドロキシ−４−N−オクトキシベンゾフェノン、２−プロペン酸−３−（４−メトキシフェニル）−２−エチルヘキシル  エステル、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシル−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−３，３−ビス（４−メトキシフェニル）アクリレート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、ホモメチルサリシレート、２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−スルホン酸、トリエチルサリシレート、オクチルジメチル−４−アミノ安息香酸、４−メチルベンジリデンカンファ、ジ−２’−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、２−（４，６−ビス−（２，4−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（オクチルオキシ）−フェノール、シアノアクリレート、トリアジン、ビス−メチン、カンファ誘導体、およびそれらの組み合わせ、からなる群より選択される請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１８】
光透過領域が０．２ｍｍ〜３ｍｍの厚さを有する請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１９】
光透過領域は、次の特性の１つまたはそれより多くを有する：（a）ショア硬度１０Ａ 〜８０Ｄ、（ｂ）多孔率０．１％〜１０％、ここで光透過領域の孔の５０％またはそれより多くが１μｍまたはそれより小さい大きさを有する、（ｃ）５０％またはそれより大きい％伸び、（ｄ）６５ｋＰａまたはそれより大きい引張り強さ、（e）室温での曲げモジュラス７００ｋＰａ〜３，５００，０００ｋＰａ、（ｆ）２１０℃で２１６０ｇ荷重で、５００ｇ/１０分より小さい樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレート、（ｇ）２１０℃で１８/sのずり速度で毛管レオメータで測定された、１０Ｐａ・ｓ〜２０，０００Ｐａ・ｓの樹脂溶融粘度、（ｈ）３０％より小さい％結晶化度、（i）約-１００℃〜１６０℃のガラス転移温度、（ｊ）０．１〜１００μｍの表面粗さ、および（ｋ）屈折率１．１〜２．０である、
請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項２０】
研磨パッドがさらに研磨パッド体を含む請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項２１】
研磨パッド体は、次の特性の１つまたはそれより多くを有し得る：（a）ショア硬度１０Ａ 〜８０Ｄ、（ｂ）多孔率０．１％〜８０％、ここで光透過領域の孔の５０％またはそれより多くが２００μｍまたはそれより小さい大きさを有する、（ｃ）５０％またはそれより大きい％伸び、（ｄ）６５ｋＰａまたはそれより大きい引張り強さ、（e）室温での曲げモジュラス７００ｋＰａ〜３，５００，０００ｋＰａ、（ｆ）２１０℃で２１６０ｇ荷重で、５００ｇ/１０分より小さい樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレート、（ｇ）２１０℃で１８/sのずり速度で毛管レオメータで測定された、１０Ｐａ・ｓ〜２０，０００Ｐａ・ｓの樹脂溶融粘度、（ｈ）０％〜６０％％結晶化度、（i）約-１００℃〜１６０℃のガラス転移温度、（ｊ）０．１〜１００μｍの表面粗さ、および（ｋ）屈折率１．１〜２．０である、
請求項２０に記載の研磨パッド。
【請求項２２】
光透過領域は、熱溶融化学結合融合、超音波溶接、無線周波数溶接、アーク溶接、熱圧縮、摩擦熱、およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる方法により研磨パッド体に結合される請求項２０に記載の研磨パッド。
【請求項２３】
研磨パッド、研磨パッド体および/または光透過領域は、フィルムまたはシート押出し、射出成形、ブロー成形、熱成形、圧縮成形、共押出し成形、反応射出成形、異形押出し成形、回転成形、ガス射出成形、フィルムインサート成形、発泡成形、鋳込成形、またはこれらの組み合わせにより形成される請求項２０に記載の研磨パッド。
【請求項２４】
光透過領域は、研磨パッドの少なくとも１部分を圧縮することにより形成される請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項２５】
光吸収化合物は、光透過領域の重量に基づいて０．０５ｗｔ％〜２０ｗｔ％の量で存在する請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項２６】
ポリマー樹脂は、（ａ）１〜１０００の繰り返し単位を含むポリアルキレンカーボネートジオール、（ｂ）脂肪族ジイソシアネート、および（ｃ）ポリアルキレンカーボネートジオール（ａ）とは異なるアルキルジオール、のモノマー単位を含む脂肪族ポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタンであり、
１０ｍｇ/Lの濃度で光吸収化合物を含む溶液は、３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲において０．５またはそれより小さい吸光度を有する、
光透過領域は、３６０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲の１つまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有する、
光透過領域は、ＡＳＴＭ  Ｄ１１４８−９５により測定して、紫外光照射に際して３９５ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、４５％またはそれより少なく退色される、ならびに
光透過領域が紫外光照射に曝された後に、光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の１つまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有し、ここで紫外光照射は、１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ２の強度で４分間、光透過領域を照射する、
請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項２７】
（ａ）研磨される被加工物を用意すること；
（ｂ）その被加工物を請求項1記載の研磨パッドおよび化学機械研磨組成物と接触させること；ならびに
（ｃ）研磨パッドに対して被加工物を移動させ、被加工物を研磨するように被加工物の表面の少なくとも一部分を摩耗すること、を含む被加工物の研磨方法
【請求項２８】
方法が、光を用いて原位置で研磨終点を検出することをさらに含む請求項２７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
化学機械研磨（「ＣＭＰ」）プロセスは。半導体ウエハ、電界放出ディスプレイおよび他の多くのマイクロエレクトロ基板上に平らな表面を形成するために、マイクロエレクトロデバイスの製造に用いられる。たとえば、半導体デバイスの製造は、種々のプロセス層の形成、これらの層の部分の選択的な除去およびパターニング、および半導体基板の表面の上方にさらなる付加的プロセス層を堆積して半導体ウエハを形成することを含むのが通常である。プロセス層は、たとえば、絶縁層、ゲート酸化物層、導電層、金属もしくはガラスの層、等を含み得る。ウエハ作製プロセスのある段階において、プロセス層の最上表面は、望ましくは次の層の堆積に対して平面、すなわち平らである。ＣＭＰは、プロセス層を平坦化するのに用いられ、そこでは導電性もしくは絶縁性材料のような堆積材料は、次のプロセス段階のためにウエハを平坦化するように研磨される。
【０００２】
典型的なＣＭＰプロセスにおいて、ウエハはＣＭＰ工具においてキャリア上に逆さまに搭載される。力がキャリアおよびウエハを研磨パッドの方へ下方に押す。キャリアおよびウエハは、ＣＭＰ工具の研磨盤上の回転研磨パッドの上方で回転される。研磨組成物（研磨スラリーともいわれる。）は、研磨プロセスの間、回転ウエハと回転研磨パッドの間に導入されるのが通常である研磨組成物は、最上面のウエハ層の部分と作用し、もしくはその部分を溶解する、１つまたはそれより多い化学品、ならびに層を部分的に物理的除去する、１つまたはそれより多い研磨材料を典型的に含む。そのウエハおよび研磨パッドは、同一方向または異なる方向に回転され得、いずれも特定の研磨プロセスが実施されるのに望ましい。キャリアも、研磨盤上の研磨パッドを越えて振動し得る。
【０００３】
ウエハの表面の研磨において、終点検出（ＥＰＤ）システムで、その場で研磨プロセスを、たとえば所望の程度の平坦化が得られたかを決定するために、監視するのが有利であることが多い。その場で研磨プロセスを監視する、１つの方法は、光に半透明性を有する、開口もしくは窓のような光透過領域を有する研磨パッドの使用を含む。この光透過領域は、入口を提供し、それにより光は透過して研磨プロセスの間、ウエハ表面の検査を可能にし得る。光透過領域は、光がその光透過領域を通過し、ＥＰＤシステムにより検出されるように、１つまたはそれより多い波長で十分な光透過性を有していなければならない。
【０００４】
開口および窓のような光透過領域を有する研磨パッドは、知られており、そして半導体デバイスの表面のような基板を研磨するのに用いられている。たとえば、米国特許第７，６１４，９３３号明細書は、石英またはガラスのような、硬い結晶材料、またはポリウレタンのような比較的軟らかいポリマー材料から作製され得る窓を含む研磨パッドを開示する。光透過領域が研磨されるべき基板と接触するとき、ポリマー材料は、比較的硬い窓材料（たとえばガラス）が基板と接触するときに、たとえば基板および/または光透過領域のスクラッチングのような、問題が生じるのを防止するために、特に好適である。典型的に、研磨パッドは、光透過領域を含むポリマー材料と同一または異なっていてもよいポリマー材料から作製される。
【０００５】
従来のＥＰＤシステムは、典型的に、おおよそ可視スペクトルの光に相当する、４００〜６９０ｎｍの範囲の波長を有する光を利用する。比較的新しいＥＰＤシステムは、紫外および可視成分（たとえば、３００ｎｍ〜８００ｎｍ）の両方を含む白色光を用いることにより、比較的高い正確さを持ち、たとえば、Applied Materials, Inc.から入手し得るＦＵＬＬＶＩＳＩＯＮ in situ endpoint detection (EPD)システムである。しかし、従来、ＣＭＰ研磨パッドで典型的に用いられている軟らかいポリマー材料は、紫外範囲で光透過性に乏しい。しかも、これらの従来の材料は、紫外光により非常に劣化されやすく、黄変および/または脆さが経時的に生じ得る。たとえば、従来のポリウレタンからなる研磨パッドが紫外光に曝されると、ポリウレタンは次第に劣化し、架橋して、ポリウレタンを黄変させる。大気の光でも、これらの材料の黄変を生じさせるのに十分であり、従来のポリマー材料を含む研磨パッドを取扱い、および/または貯蔵するときに、特別な用心が観察されなければならない。研磨パッドの光透過領域を構成するポリマー材料の黄変は、光を利用するＥＰＤシステムの機能に特に有害であり得る。これらのＥＰＤシステムは、光透過領域を通過する光の波長および/または強度の変化を正確に監視することに基づくからである。この点で、光透過領域のいかなる黄変または色変化も、検出された光の正確な分析を複雑にし得、これによりたとえば頻繁なＥＰＤシステムの再較正、および新たな研磨パッドによる劣化研磨パッドの取り換えを必要とし、それにより全体の製造時間およびコストを増加させる。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１Ａ】本発明の光透過領域を含む材料に使用するのに適した光吸収化合物の紫外−可視スペクトルを示す。
【図１Ｂ】本発明の光透過領域を構成する材料に使用するのに適した光吸収化合物の紫外−可視スペクトルを示す。
【図２】本発明の光透過領域を構成する材料に使用するのに適さない光吸収化合物の紫外−可視スペクトルを示す。
【図３】異なるショア硬さを有する光透過領域を含む、２つの研磨パッドの紫外−可視スペクトルを示す。その光透過領域は、本発明における使用に適したポリマー樹脂を含む。光透過領域は、光吸収化合物を含まない。
【図４】光透過領域を含む、２つの研磨パッドの紫外−可視スペクトルを示す。２つの研磨パッドの光透過領域は、本発明における使用に適したポリマー樹脂を含み、その光透過領域の１つのみが光吸収化合物を含む。
【図５Ａ】本発明に従って調製された光透過領域を含む研磨パッドの紫外−可視スペクトルを示す。
【図５Ｂ】本発明に従って調製された光透過領域を含む研磨パッドの紫外−可視スペクトルを示す。
【図６】紫外光照射の前後の、本発明に従って調製された光透過領域を含む研磨パッドの紫外−可視スペクトルを示す。
【図７】光透過領域を含む、２つの研磨パッドの紫外−可視スペクトルを示す。２つの研磨パッドの光透過領域は、本発明における使用に適さないポリマー樹脂を含む。その光透過領域の１つは、本発明における使用に適さない、従来の光吸収化合物を含む。
【図８】光透過領域を含む研磨パッドの紫外−可視スペクトルを示す。その光透過領域は、従来のポリマー樹脂、および光吸収化合物を含み、その両方は本発明における使用に適さない。
【図９】光透過領域を含む研磨パッドの紫外−可視スペクトルを示す。その光透過領域は、本発明における使用に適さない従来のポリマー樹脂を含み、その光透過領域は、光吸収化合物を含まない。紫外−可視スペクトルは、紫外光照射の前後に記録された。
【図１０】光透過領域を含む、従来の市販の研磨パッドの紫外−可視スペクトルを示す。その光透過領域は、本発明における使用に適さない従来のポリマー樹脂を含み、その光透過領域は、光吸収化合物を含まない。スペクトルは、紫外光照射による光透過領域の退色を示す。
【図１１】多数の実際のウエハ研磨の前後の、本発明に従って調製された研磨パッドの紫外−可視スペクトルを示す。研磨は、原位置での終点検出システムにおいて白色光を用いて実施された。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このように、ＥＰＤシステムにおいて使用するための改良された研磨パッドに対する要請は、この分野でなお残っており、その研磨パッドは、特に、十分な白色（すなわち、紫外および可視）光透過率と改良された紫外光への安定性を有するポリマー光透過領域を含むものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、少なくとも１つの光透過領域を含む研磨パッドを提供するものであり、そこでは光透過領域は、（ａ）ポリマー樹脂および（ｂ）少なくとも１つの光吸収化合物、を含み、からなり、またはから本質的になる材料で構成され、ここで光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、全光線透過率が２５％またはそれより大きい。さらに、研磨パッドは、光透過領域からならないときに、研磨パッド体をさらに含む。
【０００９】
本発明は、（ａ）研磨される被加工物を用意すること；（ｂ）その被加工物を研磨パッドおよび化学機械研磨組成物と接触させること；ならびに（ｃ）研磨パッドに対して被加工物を移動させ、被加工物を研磨するように被加工物の表面の少なくとも一部分を摩耗すること、を含む被加工物の研磨方法を提供するものであり、ここで研磨パッドは、少なくとも１つの光透過領域を含み、その光透過領域は、（ｉ）ポリマー樹脂および（ｉｉ）少なくとも１つの光吸収化合物、を含み、からなり、またはから本質的になる材料で構成され、ここで光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、全光線透過率が２５％またはそれより大きい。さらに、研磨パッドは、光透過領域からならないときに、研磨パッド体をさらに含む。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明は、少なくとも１つの光透過領域を含む研磨パッドを提供するものであり、そこでは光透過領域は、（ａ）ポリマー樹脂および（ｂ）少なくとも１つの光吸収化合物、を含み、からなり、またはから本質的になる材料で構成され、ここで光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、全光線透過率が２５％またはそれより大きい。研磨パッドは、光透過領域からなり得るが、すなわち研磨パッド全体が光透過領域であり得るが、研磨パッドは、典型的には研磨パッド体と少なくとも１つの光透過領域を含み、すなわち少なくとも１つの光透過領域に加えて光透過領域でない部分を含む。
【００１１】
光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、原位置での終点検出（ＥＰＤ）システムにより適切に観察され、処理されるに十分な全光線透過率を有し得る。たとえば、光透過領域の全光線透過率は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、２５％またはそれより大きい、３０％またはそれより大きい、３５％またはそれより大きい、４０％またはそれより大きい、４５％またはそれより大きい、５０％またはそれより大きい、５５％またはそれより大きい、６０％またはそれより大きい、６５％またはそれより大きい、７０％またはそれより大きい、７５％またはそれより大きい、８０％またはそれより大きい、８５％またはそれより大きい、９０％またはそれより大きい、９５％またはそれより大きい、または１００％である。
【００１２】
２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲でここで記載される光透過領域の全光線透過率は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長に適用され得、たとえば２５０ｎｍ、２６０ｎｍ、２７０ｎｍ、２８０ｎｍ、２９０ｎｍ、３００ｎｍ、３１０ｎｍ、３２０ｎｍ、３３０ｎｍ、３４０ｎｍ、３５０ｎｍ、３６０ｎｍ、３７０ｎｍ、３８０ｎｍ、３９０ｎｍまたは３９５ｎｍであり、および２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の波長範囲である。たとえば、ここで記載される光透過領域の全光線透過率は、２５０ｎｍまたはそれより多い範囲内であり得、たとえば２５５ｎｍまたはそれより大きい、２６０ｎｍまたはそれより大きい、２６５ｎｍまたはそれより大きい、２７０ｎｍまたはそれより大きい、２７５ｎｍまたはそれより大きい、２８０ｎｍまたはそれより大きい、２８５ｎｍまたはそれより大きい、２９０ｎｍまたはそれより大きい、２９５ｎｍまたはそれより大きい、３００ｎｍまたはそれより大きい、３０５ｎｍまたはそれより大きい、３１０ｎｍまたはそれより大きい、３１５ｎｍまたはそれより大きい、３２０ｎｍまたはそれより大きい、３２５ｎｍまたはそれより大きい、３３０ｎｍまたはそれより大きい、３３５ｎｍまたはそれより大きい、３４０ｎｍまたはそれより大きい、３４５ｎｍまたはそれより大きい、３５０ｎｍまたはそれより大きい、３５５ｎｍまたはそれより大きい、３６０ｎｍまたはそれより大きい、３６５ｎｍまたはそれより大きい、３７０ｎｍまたはそれより大きい、３７５ｎｍまたはそれより大きい、３８０ｎｍまたはそれより大きい、３８５ｎｍまたはそれより大きい、３９０ｎｍまたはそれより大きい、または範囲の上限が３９５ｎｍを超えなければ３０５ｎｍまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、ここで記載される光透過領域の全光線透過率は、３９５ｎｍまたはそれより小さい範囲内であり得、たとえば３９０ｎｍまたはそれより小さい、３８５ｎｍまたはそれより小さい、３８０ｎｍまたはそれより小さい、３７５ｎｍまたはそれより小さい、３７０ｎｍまたはそれより小さい、３６５ｎｍまたはそれより小さい、３６０ｎｍまたはそれより小さい、３５５ｎｍまたはそれより小さい、３５０ｎｍまたはそれより小さい、３４５ｎｍまたはそれより小さい、３４０ｎｍまたはそれより小さい、３３５ｎｍまたはそれより小さい、３３０ｎｍまたはそれより小さい、３２５ｎｍまたはそれより小さい、３２０ｎｍまたはそれより小さい、３１５ｎｍまたはそれより小さい、３１０ｎｍまたはそれより小さい、３０５ｎｍまたはそれより小さい、３００ｎｍまたはそれより小さい、２９５ｎｍまたはそれより小さい、２９０ｎｍまたはそれより小さい、２８５ｎｍまたはそれより小さい、２８０ｎｍまたはそれより小さい、２７５ｎｍまたはそれより小さい、２７０ｎｍまたはそれより小さい、２６５ｎｍまたはそれより小さい、２６０ｎｍまたはそれより小さい、または範囲の下限が少なくとも２５０ｎｍであれば２５５ｎｍまたはそれより小さい。このように、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの全範囲について、ここで記載される光透過領域の全光線透過率は、先の終点の２つにより制限される波長範囲内であり得る。たとえば、光透過領域の全光線透過率は、３６０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲内で２５％またはそれより大きい、３００ｎｍ〜３５５ｎｍの範囲内で７５％またはそれより大きい、または２７５ｎｍ〜３１０ｎｍの範囲内で１００％であり得る。さらに、いかなる個々の波長も、光透過領域の全光線透過率を記載するとき、いかなる波長範囲とも組み合され得る。好適な態様において、光透過領域は、３６０ｎｍ〜３７５ｎｍの範囲内で２５％またはそれより大きい全光線透過率を有する。
【００１３】
光透過領域は、３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、原位置での終点検出（ＥＰＤ）システムにより適切に観察され、処理される全光線透過率を有し得る。たとえば、光透過領域の全光線透過率は、３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、２５％またはそれより大きい、３０％またはそれより大きい、３５％またはそれより大きい、４０％またはそれより大きい、４５％またはそれより大きい、５０％またはそれより大きい、５５％またはそれより大きい、６０％またはそれより大きい、６５％またはそれより大きい、７０％またはそれより大きい、７５％またはそれより大きい、８０％またはそれより大きい、８５％またはそれより大きい、９０％またはそれより大きい、９５％またはそれより大きい、または１００％である。
【００１４】
３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲でここで記載される光透過領域の全光線透過率は、３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長に適用され得、たとえば３９５ｎｍ、４００ｎｍ、５００ｎｍ、６００ｎｍ、７００ｎｍ、８００ｎｍ、９００ｎｍ、１，０００ｎｍ、５，０００ｎｍ、１０，０００ｎｍ、または３５，０００ｎｍであり、および３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の波長範囲である。たとえば、ここで記載される光透過領域の全光線透過率は、３９５ｎｍまたはそれより多い、４００ｎｍまたはそれより大きい、４２５ｎｍまたはそれより大きい、４５０ｎｍまたはそれより大きい、４７５ｎｍまたはそれより大きい、５００ｎｍまたはそれより大きい、５２５ｎｍまたはそれより大きい、５５０ｎｍまたはそれより大きい、５７５ｎｍまたはそれより大きい、６００ｎｍまたはそれより大きい、６２５ｎｍまたはそれより大きい、６５０ｎｍまたはそれより大きい、６７５ｎｍまたはそれより大きい、７００ｎｍまたはそれより大きい、７２５ｎｍまたはそれより大きい、７５０ｎｍまたはそれより大きい、７７５ｎｍまたはそれより大きい、８００ｎｍまたはそれより大きい、８２５ｎｍまたはそれより大きい、８５０ｎｍまたはそれより大きい、８７５ｎｍまたはそれより大きい、９００ｎｍまたはそれより大きい、９２５ｎｍまたはそれより大きい、９５０ｎｍまたはそれより大きい、９７５ｎｍまたはそれより大きい、１０００ｎｍまたはそれより大きい、２０００ｎｍまたはそれより大きい、３０００ｎｍまたはそれより大きい、４０００ｎｍまたはそれより大きい、５０００ｎｍまたはそれより大きい、６０００ｎｍまたはそれより大きい、７０００ｎｍまたはそれより大きい、８０００ｎｍまたはそれより大きい、９０００ｎｍまたはそれより大きい、１０，０００ｎｍまたはそれより大きい、１５，０００ｎｍまたはそれより大きい、２０，０００ｎｍまたはそれより大きい、２５，０００ｎｍまたはそれより大きい、または範囲の上限が３５，０００ｎｍを超えなければ３０，０００ｎｍまたはそれより大きい、範囲内であり得る。あるいは、または加えて、ここで記載される光透過領域の全光線透過率は、３５，０００ｎｍまたはそれより小さい範囲内であり得、たとえば３０，０００ｎｍまたはそれより小さい、２５，０００ｎｍまたはそれより小さい、２０，０００ｎｍまたはそれより小さい、１５，０００ｎｍまたはそれより小さい、１０，０００ｎｍまたはそれより小さい、９，０００ｎｍまたはそれより小さい、８，０００ｎｍまたはそれより小さい、７，０００ｎｍまたはそれより小さい、６，０００ｎｍまたはそれより小さい、５，０００ｎｍまたはそれより小さい、４，０００ｎｍまたはそれより小さい、３，０００ｎｍまたはそれより小さい、２，０００ｎｍまたはそれより小さい、１，０００ｎｍまたはそれより小さい、９７５ｎｍまたはそれより小さい、９５０ｎｍまたはそれより小さい、９２５ｎｍまたはそれより小さい、９００ｎｍまたはそれより小さい、８７５ｎｍまたはそれより小さい、８５０ｎｍまたはそれより小さい、８２５ｎｍまたはそれより小さい、８００ｎｍまたはそれより小さい、７７５ｎｍまたはそれより小さい、７５０ｎｍまたはそれより小さい、７２５ｎｍまたはそれより小さい、７００ｎｍまたはそれより小さい、６７５ｎｍまたはそれより小さい、６５０ｎｍまたはそれより小さい、６２５ｎｍまたはそれより小さい、６００ｎｍまたはそれより小さい、５７５ｎｍまたはそれより小さい、５５０ｎｍまたはそれより小さい、５２５ｎｍまたはそれより小さい、５００ｎｍまたはそれより小さい、４７５ｎｍまたはそれより小さい、４５０ｎｍまたはそれより小さい、４２５ｎｍまたはそれより小さい、または範囲の下限が少なくとも３９５ｎｍであれば４００ｎｍまたはそれより小さい。このように、３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの全範囲について、ここで記載される光透過領域の全光線透過率は、先の終点の２つにより制限される波長範囲内であり得る。たとえば、光透過領域の全光線透過率は、４９５ｎｍ〜１０，０００ｎｍの範囲内で３０％またはそれより大きい、８００ｎｍ〜２，０００ｎｍの範囲内で５５％またはそれより大きい、または７５０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲内で７０％またはそれより大きい、であり得る。好適な態様において、光透過領域は、４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内の１つまたはそれより多い波長で２５％またはそれより大きい全光線透過率を有する。さらに、いかなる個々の波長も、光透過領域の全光線透過率を記載するとき、いかなる波長範囲とも組み合され得る。
【００１５】
２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの波長範囲（ならびにここで記載される個々の波長およびそこに含まれる波長範囲）に関して光透過領域についてここで記載される、いかなる全光線透過率も、適切に組み合され得る。たとえば、光透過領域は、２６０ｎｍ〜３１５ｎｍの波長範囲で２５％またはそれより大きい全光線透過率、および３７０ｎｍ〜３９５ｎｍの波長範囲で３５％またはそれより大きい全光線透過率、を有し得る。あるいは、たとえば、光透過領域は、３５０ｎｍ〜３９５ｎｍの波長範囲で２５％またはそれより大きい全光線透過率、２６５ｎｍ〜２８５ｎｍの波長範囲で４０％またはそれより大きい全光線透過率、および２９５ｎｍ〜３３５ｎｍの波長範囲で３５％またはそれより大きい全光線透過率、を有し得る。もう１つの態様において、光透過領域は、３５０ｎｍ〜３９５ｎｍの波長範囲で２５％またはそれより大きい全光線透過率、および４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲で２５％またはそれより大きい全光線透過率、を有し得る。さらに、いかなる個々の波長も、光透過領域の全光線透過率を記載するとき、いかなる波長範囲とも組み合され得る。
【００１６】
紫外光照射前の光透過領域の全光線透過率は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの波長範囲（またはここで記載される個々の波長またはそこに含まれる波長範囲）で、紫外光照射後の光透過領域の全光線透過率と３０％またはそれより小さく異なり得（以後、「全光線透過率の差異」ということがある。）、ここで紫外光照射は、１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ２の強度で４分間、光透過領域を照射することを含む。たとえば、全光線透過率の差異は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより大きい波長（またはここで記載される個々の波長またはそこに含まれる波長範囲）で、３０％またはそれより小さい、たとえば２８％またはそれより小さい、２６％またはそれより小さい、２４％またはそれより小さい、２２％またはそれより小さい、２０％またはそれより小さい、１８％またはそれより小さい、１６％またはそれより小さい、１４％またはそれより小さい、１２％またはそれより小さい、１０％またはそれより小さい、８％またはそれより小さい、６％またはそれより小さい、５％またはそれより小さい、４％またはそれより小さい、２％またはそれより小さい、または０％である。
【００１７】
光透過領域が紫外光照射に曝された後に、光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより大きい波長（またはここで記載される個々の波長または波長範囲）で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有し、ここで紫外光照射は、１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ２の強度で４分間、光透過領域を照射することを含む。たとえば、光透過領域の全光線透過率は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより大きい波長（またはここで記載される波長範囲）で、ここで記載される条件下での紫外光照射後に、２５％またはそれより大きくあり得、たとえば３０％またはそれより大きい、３５％またはそれより大きい、４０％またはそれより大きい、４５％またはそれより大きい、５０％またはそれより大きい、５５％またはそれより大きい、６０％またはそれより大きい、６５％またはそれより大きい、７０％またはそれより大きい、７５％またはそれより大きい、８０％またはそれより大きい、８５％またはそれより大きい、９０％またはそれより大きい、９５％またはそれより大きい、または１００％である。
【００１８】
１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ２の強度で４分間、光透過領域を照射することは、１０００個のウエハを研磨する典型的な生産運転の間、白色光終点検出システム（たとえば、Advanced Materialsから入手し得るFullVision system）において典型的に使用される５００〜１０００万の光フラッシュをシミュレートする。そのシミュレートされた光照射は、たとえば、ＵＶＥＸＳから入手し得る装置（高強度の紫外および白色光エネルギーを提供する装置である）を用いて、実施され得る。ＵＶＥＸＳシステムで使用される１００ワット水銀ランプは、３６５ｎｍに紫外エネルギーのピークを有する、３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲で、高強度（典型的には１，０００ｍＷ/ｃｍ２を超える）の光を発生できる。
【００１９】
光透過領域を構成する材料を含むポリマー樹脂は、ポリマー樹脂が光透過領域に含まれるとき、光透過領域がここで記載される性質を有するならば、化学機械研磨に使用されるのに適したいかなるポリマー樹脂であり得る。１つの態様において、ポリマー樹脂は、少なくとも１つの脂肪族ポリマーを含む。典型的に、ポリマー樹脂は、共役二重結合および/または芳香族部分を含まない。望ましくは、ポリマー樹脂は、熱可塑性ポリマー樹脂である。
【００２０】
ポリマー樹脂を含む少なくとも１つの脂肪族ポリマーは、ポリウレタン、ポリカーボネート系ポリウレタン、ポリカーボネート系ジオールもしくはトリオールポリウレタン、線状脂肪族ポリカーボネート系ポリウレタン、分岐脂肪族ポリカーボネート系ポリウレタン、シクロアルカン系脂肪族ポリカーボネート系ポリウレタン、ポリシロキサン系ポリウレタン、（アルキル）（アルキル）アクリレート、（アルキル）（アルキル）アクリル酸、ポリビニリデンフルオライド、ポリビニリデンジフルオライド、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリシロキサン（たとえば、シリコーン等）、ポリカーボネート、線状脂肪族ポリカーボネート（たとえば、ＳＴＹＲＯＮから入手し得るCALIBRE 5000シリーズ）、ポリメチルペンテン−１、およびそれらの組み合わせ、からなる群から選択され得る。
【００２１】
ここで用いられる「（アルキル）（アルキル）アクリレート」および「（アルキル）（アルキル）アクリル酸」は、２つの「（アルキル）」部分のそれぞれは任意であり、すなわちポリマー中に存在してもよいし、存在しなくてもよく、そして２つの「（アルキル）」部分は同一でも異なっていてもよい。２つの「（アルキル）」部分は、１〜２０の炭素を有するアルキル基を典型的に含む。たとえば、適切な「（アルキル）（アルキル）アクリレート」は、メチルアクリレート（すなわち、２番目の「（アルキル）」は存在しない）およびメチルメタクリレート（そこでは、両方の「（アルキル）」が存在し、メチル基である）を含む。適切な「（アルキル）」部分は、メチル、エチル、２−エチルヘキシル、プロピル、ブチル、ペンチる、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、等を含み、それらは適切に結合され得る。適切な「（アルキル）（アルキル）アクリレート」は、エチルメタクリレートおよび２−エチルヘキシルメタクリレートを含む。適切な「（アルキル）（アルキル）アクリル酸」は、ブチルメタクリル酸およびヘキシルアクリル酸を含む。
【００２２】
望ましくは、少なくとも１つの脂肪族ポリマーは、熱可塑性ポリマー、熱硬化性ポリマー、またはそれらの組み合わせである（たとえば、熱可塑性ポリウレタン、熱可塑性ポリビニリデンジフルオライド、熱硬化性ポリシロキサン、等）。
【００２３】
熱可塑性ポリマーは、熱可塑性ポリウレタン、ポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタン、シクロアルカン系熱可塑性ポリウレタン、ポリシロキサン系熱可塑性ポリウレタン、それらのブレンド、それらのランダム共重合体、およびそれらのブロック共重合体からなる群から選択され得る。好適な態様において、ポリマー樹脂は、Lubrizolから入手し得るCARBOTHANE（商標）TPU PC-3555Dのような脂肪族ポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタンである。
【００２４】
脂肪族ポリマーは、少なくとも１つのジオールおよび少なくとも１つのジイソシアネートに由来するモノマー単位を含むポリウレタンであり得る。
【００２５】
少なくとも１つのジオールは、ポリオール、環状脂肪族環を含むポリオール、ポリカーボネートポリオール、１〜１０００の繰り返し単位（たとえば、２００〜８００、または４００〜６００の繰り返し単位）を含むポリアルキレンカーボネートジオール、１〜１０００の繰り返し単位（たとえば、２００〜８００、または４００〜６００の繰り返し単位）を含むポリエチレンエーテルカーボネートジオール、１，１２−ドデカンジオール、１，１１−ウンデカンジオール、１，１０−デカンジオール、１，９−ノナンジオール、１，８−オクタンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−プロパンジオール、および１，２−エタンジオールのようなアルキルジオール、ならびにそれらの組み合わせからなる群より選択され得る。ポリアルキレンカーボネートジオールは、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン（すなわち、ヘキサメチレン）、等のような適切なアルキレン基を含み得る。好適な態様において、ポリアルキレンカーボネートジオールは、ポリヘキサメチレンカーボネートジオールである。
【００２６】
ジオールは、この分野で、「鎖延長剤」といわれることがある。前記のジオールの種類は、ジオールがアルカンのαおよびωの位置でヒドロキシル基を含むので、「α，ωジオール」としても知られている。いくつかの態様において、脂肪族ポリマーは、組み合わせて２，３，４，５または６個のジオールを含み、そこでは組み合わせてジオールは同一または異なるジオールであり得る。好適な態様において、脂肪族ポリマーは、１〜１０００の繰り返し単位を含むポリヘキサメチレンカーボネートジオールおよび１，４−ブタンジオールのような、２つの異なるジオールを含む。
【００２７】
さらに、トリオールは、本発明の光透過領域を構成する材料に適切に使用されるポリウレタンを形成するのに適切に使用され得る。適切なトリオールは、トリメチロールプロパン、グリセリン、トリエタノールアミン、１，２，６−ヘキサントリオール、およびそれらの組み合わせを含む。
【００２８】
ポリオール（繰り返し単位を含むジオールを含む）は、いかなる適切な分子量を有し得る。たとえば、ポリオールの分子量は、４００ｇ/molまたはそれより大きくあり得、たとえば５００ｇ/molまたはそれより大きい、７００ｇ/molまたはそれより大きい、９００ｇ/molまたはそれより大きい、１０００ｇ/molまたはそれより大きい、１２００ｇ/molまたはそれより大きい、１４００ｇ/molまたはそれより大きい、１６００ｇ/molまたはそれより大きい、１８００ｇ/molまたはそれより大きい、２０００ｇ/molまたはそれより大きい、２２００ｇ/molまたはそれより大きい、２４００ｇ/molまたはそれより大きい、２６００ｇ/molまたはそれより大きい、２８００ｇ/molまたはそれより大きい、３０００ｇ/molまたはそれより大きい、３２００ｇ/molまたはそれより大きい、３４００ｇ/molまたはそれより大きい、３６００ｇ/molまたはそれより大きい、３８００ｇ/molまたはそれより大きい、４０００ｇ/molまたはそれより大きい、４２００ｇ/molまたはそれより大きい、４４００ｇ/molまたはそれより大きい、４６００ｇ/molまたはそれより大きい、４８００ｇ/molまたはそれより大きい、５０００ｇ/molまたはそれより大きい、または５２００ｇ/molまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、ポリオールの分子量は、５２００ｇ/molまたはそれより小さくあり得、たとえば５０００ｇ/molまたはそれより小さい、４４００ｇ/molまたはそれより小さい、４２００ｇ/molまたはそれより小さい、４０００ｇ/molまたはそれより小さい、３８００ｇ/molまたはそれより小さい、３６００ｇ/molまたはそれより小さい、３４００ｇ/molまたはそれより小さい、３２００ｇ/molまたはそれより小さい、３０００ｇ/molまたはそれより小さい、２８００ｇ/molまたはそれより小さい、２６００ｇ/molまたはそれより小さい、２４００ｇ/molまたはそれより小さい、２２００ｇ/molまたはそれより小さい、２０００ｇ/molまたはそれより小さい、１８００ｇ/molまたはそれより小さい、１６００ｇ/molまたはそれより小さい、１４００ｇ/molまたはそれより小さい、１２００ｇ/molまたはそれより小さい、１０００ｇ/molまたはそれより小さい、９００ｇ/molまたはそれより小さい、７００ｇ/molまたはそれより小さい、または５００ｇ/molまたはそれより小さい。このように、ポリオールの分子量は、先の終点の２つにより制限され得る。たとえば、ポリオールの分子量は、５００ｇ/mol〜５０００ｇ/mol、１２００ｇ/mol〜４６００ｇ/mol、または７００ｇ/mol〜３４００ｇ/molであり得る。
【００２９】
ジアミン、アミン含有ジオールもしくはポリオール、および/または２官能アルカノールアミンのような、アミン含有２官能化合物も、本発明での使用に適切な脂肪族ポリマーを形成するためにジイソシアネートとの反応に用いられ得る。アミン含有２官能化合物は、ジイソシアネートとの反応において、ジオールに代えて、または加えて用いられ得る。いかなるアミン含有２官能化合物も、脂肪族の主鎖を有していれば、用いられ得る。適切なアミン含有２官能化合物は、１，２−ジアミノエタン、１，３−ジアミノプロパン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、１，６−ジアミノヘキサン、１，７−ジアミノヘプタン、１，８−ジアミノオクタン、１，９−ジアミノノナン、１，１０−ジアミノデカン、２−アミノエタノール、３−アミノプロパノール、４−アミノブタノール、５−アミノペンタノール、６−アミノヘキサノール、７−アミノヘプタノール、８−アミノオクタノール、９−アミノノナノール、１０−アミノデカノール、およびそれらの組み合わせを含む。
【００３０】
すくなくとも１つのジイソシアネートは、ポリマー樹脂に配合されるとき、ポリマー樹脂がここに記載される性質を有していれば、いかなる脂肪族ジイソシアネートからも選択され得る。本発明で適切に使用され得るジイソシアネートの化学構造は、以下に示される。
【００３１】
【化１】
2015512799.tif 000003
【００３２】
上記のジイソシアネート化学構造において、下付き文字ｘおよびｙは、同一または異なるものであり得、０、１、２、３，４、５，６，７，８，９，１０，１１、１２，１３、１４，１５、１６、１７、１８、１９、または２０であり得る。ＲおよびＲ１基は同一または異なるものであり得る。
【００３３】
好適な態様において、ジイソシアネートは、下記の構造を有するジシクロヘキシルメタン  ４，４’−ジイソシアネートである。ジシクロヘキシルメタン  ４，４’−ジイソシアネートは、上記の構造Ｆに相当し、そこではＸ＝１、ｙ＝０、そしてＲおよびＲ１は同一である。
【００３４】
【化２】
2015512799.tif 000004
【００３５】
好適な態様において、脂肪族ポリマーは、１，４−ブタンジオールとポリヘキサメチレンカーボネートジオール（１〜１０００の繰り返し単位を含み、５００ｇ/mol〜５０００ｇ/molの分子量を有する）のような、２つのジオールと、ジシクロヘキシルメタン  ４，４’−ジイソシアネートのような、１つのジイソシアネートとを含む。これらの単位を含む脂肪族ポリマーの構造は、次に示される。
【００３６】
【化３】
2015512799.tif 000005
【００３７】
上記の構造において、ポリヘキサメチレンカーボネートジオールの繰り返し単位の数は、ｎで表され、その特徴は他の箇所で示される。１，４−ブタンジオールが用いられる場合において、下付き文字ｘは４である。下付き文字ｙは、１，４−ブタンジオールのようなα，ωジオールをジシクロヘキシルメタン  ４，４’−ジイソシアネートのようなジイソシアネートと反応させて得られる繰り返し単位の数を表す。ｎおよびｙで表される繰り返し単位の数は、ここでもっと詳細に説明されるように、ポリマーが適切に成形（たとえば押し出しまたは射出聖経されるのを確実にするために、得られるポリマーの所望のレオロジー特性（たとえば樹脂メルトインデックス、またはメルトフロー速度、樹脂溶融粘度、等）に依存してバランスされなければならない。さらに、ｎおよびｙで表される繰り返し単位の数は、ポリマーの分子量を決定し、ここで説明される。しかし、典型的に、ｙで表される繰り返し単位の数は、１〜１０００の繰り返し単位の範囲（たとえば、２００〜８００、または４００〜６００の繰り返し単位）にある。
【００３８】
光透過領域を構成する材料に使用するのに好適ではないポリマー（以下、「好適ではないポリマー」ということがある）は、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリアリーレン、ポリスチレンのような非脂肪族ポリマー、および/または光透過領域をここで記載される性質から典型的に妨げる、多くの光吸収部分（たとえば、芳香族基および/または共役二重結合）を有する脂肪族ポリマーを含む。たとえば、アルキレンジフェニルジイソシアネート（たとえば、４，４’−メチレンジフェニルジイソシアネート、２，４’−メチレンジフェニルジイソシアネート、および２，２’−メチレンジフェニルジイソシアネートのようなメチレンジフェニルジイソシアネート）、またはトルエンジイソシアネート（たとえば、２，３’−トルエンジイソシアネート、２，４’−トルエンジイソシアネート、２，５’−トルエンジイソシアネート、および２，６’−トルエンジイソシアネート、）を含む、熱可塑性もしくは熱硬化性ポリウレタンもしくはポリ尿素は、架橋されていてもいなくても、本発明の光透過領域を含む材料に使用するのに典型的には好適でない。これらの好適ではないポリマーは、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲で典型的にあまりに強く光を吸収するので、白色光で原位置での終点検出システムに使用するのに不適切である。好適でない従来の熱可塑性ポリウレタンポリマーの例は如何に示される。
【００３９】
【化４】
2015512799.tif 000006
【００４０】
好適な態様において、これらの好適でないポリマーは、光透過領域を構成する材料に含まれない。しかし、いくつかの態様において、光透過領域がここで記載される性質有するならば、いかなる好適でないポリマーも、光透過領域を構成する材料に含まれ得る。たとえば、光透過領域の構造（硬さ、多孔性、等）および/または光透過性を調節するとき、光透過領域を構成する材料に１つまたはそれより多い、好適でないポリマーを含むことが望まれ得る。
【００４１】
好適でないポリマー、または好適でないポリマーを含むモノマーは、芳香族環および/または共役二重結合を脂肪族構造に変換するために、この分野で周知の方法を用いて水素化され得る。このような水素化は、これらの化合物の全光線吸収を有意に低減または除去するので、これらの水素化された化合物が研磨パッドの光透過領域に配合されるとき、光透過領域はここで開示される性質を有し得る。
【００４２】
好適でないポリマーが光透過領域を構成する材料に含まれるとき、好適でないポリマーは、光透過領域の重量に基づいて、１０ｗｔ．％またはそれより少ない量で存在するのが典型的である。たとえば、その材料は１０ｗｔ．％またはそれより少なく含み得、たとえば９．５ｗｔ．％またはそれより少ない、９ｗｔ．％またはそれより少ない、８．５ｗｔ．％またはそれより少ない、８ｗｔ．％またはそれより少ない、７．５ｗｔ．％またはそれより少ない、７ｗｔ．％またはそれより少ない、６．５ｗｔ．％またはそれより少ない、６ｗｔ．％またはそれより少ない、５．５ｗｔ．％またはそれより少ない、５ｗｔ．％またはそれより少ない、４．５ｗｔ．％またはそれより少ない、４ｗｔ．％またはそれより少ない、３．５ｗｔ．％またはそれより少ない、３ｗｔ．％またはそれより少ない、２．５ｗｔ．％またはそれより少ない、２ｗｔ．％またはそれより少ない、１．５ｗｔ．％またはそれより少ない、１ｗｔ．％またはそれより少ない、または０．５ｗｔ．％またはそれより少ない。あるいは、または加えて、その材料は０．５ｗｔ．％またはそれより多く含み得、たとえば１ｗｔ．％またはそれより多い、１．５ｗｔ．％またはそれより多い、２ｗｔ．％またはそれより多い、２．５ｗｔ．％またはそれより多い、３ｗｔ．％またはそれより多い、３．５ｗｔ．％またはそれより多い、４ｗｔ．％またはそれより多い、４．５ｗｔ．％またはそれより多い、５ｗｔ．％またはそれより多い、５．５ｗｔ．％またはそれより多い、６ｗｔ．％またはそれより多い、６．５ｗｔ．％またはそれより多い、７ｗｔ．％またはそれより多い、７．５ｗｔ．％またはそれより多い、８ｗｔ．％またはそれより多い、８．５ｗｔ．％またはそれより多い、９ｗｔ．％またはそれより多い、または９．５ｗｔ．％またはそれより多い。このように、光透過領域を構成する材料における好適でないポリマーの量は、前記の終点の２つにより制限され得る。たとえば、その材料は、１．５ｗｔ．％〜３ｗｔ．％、２ｗｔ．％〜５ｗｔ．％、または８ｗｔ．％〜８．５ｗｔ．％を含み得る。好適な態様において、その材料は０ｗｔ．％の好適でないポリマーを含む。
【００４３】
光吸収部分（たとえば、芳香族基および/または共役二重結合）が実質的にない、すべてのポリマーまたはポリマー樹脂がここで記載する光透過特性を満たすとは限らない。たとえば、いくつかのポリカプロラクタム系脂肪族熱可塑性ポリウレタン（下記の化学構造参照）は、ポリカーボネート系脂肪族熱可塑性ポリウレタンに構造が非常に似ているが、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲内で２５％またはそれより多い全光線透過率を有さない（実施例参照）。その結果、あるタイプのポリマーまたはポリマー樹脂のみが本発明で適切に使用され得る。
【００４４】
【化５】
2015512799.tif 000007
【００４５】
光透過領域を構成する材料に含まれる、少なくとも１つの光吸収化合物は、光吸収化合物が光透過領域を構成する材料に含まれるとき、光透過領域がここに記載される性質を有するならば、適切な光吸収化合物であり得る。光吸収化合物は、白色光（たとえば、紫外および可視光）への材料の安定性を増大させるために材料中に含まれる。たとえば、光吸収化合物は、ポリマー樹脂が白色光（たとえば、紫外および可視光）に曝される際に黄変および/または脆弱化するのを防止する。
【００４６】
１つの態様において、光透過領域を構成する材料に用いられ得る適切な光吸収化合物は、次の条件を満たす：１０ｍｇ/Lの濃度の光吸収化合物溶液は、３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲において０．５またはそれより小さい吸光度を有する。たとえば、光吸収化合物溶液の吸光度は、３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲において、０．５またはそれより小さくあり得、たとえば０．４５またはそれより小さい、０．４またはそれより小さい、０．３５またはそれより小さい、０．３またはそれより小さい、０．２５またはそれより小さい、０．２またはそれより小さい、０．１５またはそれより小さい、０．１またはそれより小さい、または０．０５またはそれより小さい。あるいは、または加えて、光吸収化合物溶液の吸光度は、溶液の吸光度が０．５を超えなければ３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲において、０．０５またはそれより大きくあり得、たとえば０．１またはそれより大きい、０．１５またはそれより大きい、０．２またはそれより大きい、０．２５またはそれより大きい、０．３またはそれより大きい、０．３５またはそれより大きい、０．４またはそれより大きい、または０．４５またはそれより大きい。このように、１０ｍｇ/Lの濃度の光吸収化合物溶液は、前記の終点の２つにより制限され得る。たとえば、吸光度は、３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲において、０．０５〜０．４、０．３〜０．３５または０．２５〜０．４５であり得る。１つの態様において、吸光度は、３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲において、０である。
【００４７】
１０ｍｇ/Lの濃度の光吸収化合物溶液についてここで記載される吸光度は、３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の１つまたはそれより多い波長、たとえば３３０ｎｍ、３４０ｎｍ、３５０ｎｍ、３６０ｎｍ、３７０ｎｍ、３８０ｎｍ、３９０ｎｍ、または４００ｎｍに、および３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の波長範囲に、適用され得る。たとえば、ここで記載されるように、１０ｍｇ/Lの濃度の光吸収化合物溶液の吸光度は、範囲の上限が４００ｎｍを超えなければ、３３０ｎｍまたはそれより大きい範囲内であり得、たとえば３３５ｎｍまたはそれより大きい、３４０ｎｍまたはそれより大きい、３４５ｎｍまたはそれより大きい、３５０ｎｍまたはそれより大きい、３５５ｎｍまたはそれより大きい、３６０ｎｍまたはそれより大きい、３６５ｎｍまたはそれより大きい、３７０ｎｍまたはそれより大きい、３７５ｎｍまたはそれより大きい、３８０ｎｍまたはそれより大きい、３８５ｎｍまたはそれより大きい、３９０ｎｍまたはそれより大きい、または３９５ｎｍまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、ここで記載されるように、１０ｍｇ/Lの濃度の光吸収化合物溶液の吸光度は、その範囲の下限が少なくとも３３０ｎｍであれば、４００ｎｍまたはそれより小さくあり得、たとえば３９５ｎｍまたはそれより小さい、３９０ｎｍまたはそれより小さい、３８５ｎｍまたはそれより小さい、３８０ｎｍまたはそれより小さい、３７５ｎｍまたはそれより小さい、３７０ｎｍまたはそれより小さい、３６５ｎｍまたはそれより小さい、３６０ｎｍまたはそれより小さい、３５５ｎｍまたはそれより小さい、３５０ｎｍまたはそれより小さい、３４５ｎｍまたはそれより小さい、３４０ｎｍまたはそれより小さい、または
３３５ｎｍまたはそれより小さい。このように、ここで記載されるように、１０ｍｇ/Lの濃度の光吸収化合物溶液の吸光度は、前記の終点の２つにより制限された範囲内であり得る。たとえば、吸光度は、３５５ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲内で０．１〜０．４５、３６０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲内で０．０５〜０．３５、または３７０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内で０．２〜０．２５であり得る。１つの態様において、１０ｍｇ/Lの濃度の少なくとも１つの光吸収化合物の溶液の吸光度は、３５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲で０である。さらに、１０ｍｇ/Lの濃度の光吸収化合物のトルエン溶液の吸光度を記載するとき、いかなる個々の波長もいかなる波長範囲と組み合され得る。
【００４８】
光透過領域を構成する材料に用いられ得る、適切な光吸収化合物は、追加的にまたは代替的に、次の条件を満たす：少なくとも１つの光吸収化合物は、３３５ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に位置する最大光吸収を有さない。ここで使用されるように、用語「最大光吸収」は、ここで記載されるように光透過領域の望ましい性質について、吸光度の位置および程度に依存して、極地的最大値または全体的最大値を意味し得るが、典型的には、その用語は全体的な最大値をいう。光吸収化合物は、３３５ｎｍまたはそれより大きい、たとえば３４０ｎｍまたはそれより大きい、３４５ｎｍまたはそれより大きい、３５０ｎｍまたはそれより大きい、３５５ｎｍまたはそれより大きい、３６０ｎｍまたはそれより大きい、３６５ｎｍまたはそれより大きい、３７０ｎｍまたはそれより大きい、３７５ｎｍまたはそれより大きい、３８０ｎｍまたはそれより大きい、３８５ｎｍまたはそれより大きい、３９０ｎｍまたはそれより大きい、またはその範囲の上限が４００ｎｍを超えないならば３９５ｎｍまたはそれより大きい、範囲に位置する最大光吸収を典型的に有さない。あるいは、または加えて、光吸収化合物は、４００ｎｍまたはそれより小さい、たとえば３９５ｎｍまたはそれより小さい、３９０ｎｍまたはそれより小さい、３８５ｎｍまたはそれより小さい、３８０ｎｍまたはそれより小さい、３７５ｎｍまたはそれより小さい、３７０ｎｍまたはそれより小さい、３６５ｎｍまたはそれより小さい、３６０ｎｍまたはそれより小さい、３５５ｎｍまたはそれより小さい、３５０ｎｍまたはそれより小さい、３４５ｎｍまたはそれより小さい、またはその範囲の下限が少なくとも３３５ｎｍであれば、３４０ｎｍまたはそれより小さい、範囲に位置する最大光吸収を有さない。このように、少なくとも１つの光吸収化合物は、前記の終点の２つにより制限された波長範囲に位置する最大光吸収を典型的に有さない。たとえば、光吸収化合物の溶液は、３３５ｎｍ〜３８５ｎｍ、３５０ｎｍ〜４００ｎｍまたは３４０ｎｍ〜３７５ｎｍに位置する最大光吸収を典型的に有さない。
【００４９】
光吸収化合物の吸光度は、メタノール、トルエンおよびクロロホルムをそれぞれ含む、種々の溶媒中で測定され得る。光吸収化合物の１０ｍｇ/L溶液の吸光度および/または吸収最大値の位置は、紫外−可視スペクトルが記録される特定の溶媒とは関係なく、光吸収化合物が本発明の光透過領域での使用に適切かどうかの良好な予測事項である。
【００５０】
１つの態様において、光透過領域を構成する材料は、1つの光吸収化合物を含む。もう1つの態様において、光透過領域を構成する材料は、1つより多い光吸収化合物、たとえば2，3，4，5または６個の光吸収化合物の組み合わせであり、それらは同一でも異なっていてもよい、を含む。１つまたはそれより多い光吸収化合物が光透過領域を構成する材料に用いられるとき、光透過領域がここに記載される特性を有するならば、いかなる光吸収化合物も単独または組み合わせて、本発明において使用され得る。
【００５１】
適切な光吸収化合物は、ペンタエリスリトール  テトラキス(２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート）（たとえば、UVINUL(商標）3030）、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート（たとえば、UVINUL(商標）3088）、エチル−２−シアノ−３，３'−ジフェニルアクリレート）（たとえば、UVINUL(商標）3035）、オクチル−ｐ−メトキシシンナメート、４−アミノベンゾエート−トリアルキルオルソフォルメート（たとえばBITTUVEN(商標)312）、エチル（４−エトキシカルボニルフェニル）−N−メチル−N−フェニルフォルムアミジン、N,N−ビス−（４−エトキシカルボニルフェニル）−N−フェニルフォルムアミジン、N2−（４−エトキシカルボニルフェニル）−N1−メチル−N1−フェニルフォルムアミジン（たとえば、CINABSORB（商標））、２−ヒドロキシ−４−N−オクトキシベンゾフェノン（たとえば、CYASORB（商標）UV-531）、２−プロペン酸−３−（４−メトキシフェニル）−２−エチルヘキシル  エステル（たとえば、EUSOLEX（商標）2292）、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシル−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−３，３−ビス（４−メトキシフェニル）アクリレート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、ホモメチルサリシレート、２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−スルホン酸、トリエチルサリシレート、オクチルジメチル−４−アミノ安息香酸（たとえば、ESCALOL（商標）507）、４−メチルベンジリデンカンファ（たとえば、PARSOL（商標）5000）、ジ−２’−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、２−（４，６−ビス−（２，4−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（オクチルオキシ）−フェノール（たとえば、CYASORB（商標）UV-1164）、シアノアクリレート、トリアジン、ビス−メチン、カンファ誘導体、およびそれらの組み合わせ、からなる群より選択され得る。
【００５２】
図１Ａおよび図１Ｂは、本発明の光透過領域を構成する材料に使用するのに適切である光吸収化合物の紫外−可視スペクトルを示す。図１Ａおよび図１Ｂに示されるデータは、光吸収化合物の製造者から得られた。図１Ａは、１０ｍｇ/Lの濃度のメタノール（１ｃｍ経路長）における２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート（たとえば、UVINUL(商標）3088）の紫外−可視スペクトルであり、少なくとも２５０ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲での０．４２またはそれより小さい吸光度ならびに３１０ｎｍに位置する最大光吸収を明らかにする。図１Ｂは、１０ｍｇ/Lの濃度のトルエンにおける２−ヒドロキシ−４−N−オクトキシベンゾフェノン（たとえば、CYASORB（商標）UV-531）および２−（４，６−ビス−（２，4−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（オクチルオキシ）−フェノール（たとえば、CYASORB（商標）UV-1164）の分離された溶液のオーバーレイドされた紫外−可視スペクトルを示す。図１Ｂに示されるように、CYASORB（商標）UV-531は、２９０ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲および３２５ｎｍに位置する最大光吸収で、０．５またはそれより小さい吸光度を有し、そしてCYASORB（商標）UV-1164は、３１０ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲での０．５またはそれより小さい吸光度ならびに３４０ｎｍに位置する最大光吸収を有する。図１ＡにおけるUVINUL(商標）3088のスペクトル、ならびに図１ＢにおけるCYASORB（商標）UV-531およびCYASORB（商標）UV-1164のオーバーレイドされたスペクトルは、これらの３つの光吸収化合物が本発明の光透過領域を構成する材料に適切に使用され得ることを明らかにする。
【００５３】
その１つまたはそれより多い光吸収化合物は、適切な量で光透過領域を構成する材料に用いられ得る。本発明の光透過領域に含まれる光吸収化合物の量は、光吸収化合物の、最大吸光度の位置および/またはモル吸光率に、部分的に依存する。たとえば、１つまたはそれより多い光吸収化合物は、光透過領域の重量に基づいて０．０５％〜２０％の量で、光透過領域を構成する材料に配合され得る。特に、１つまたはそれより多い光吸収化合物は、光透過領域の重量に基づいて０．０５％またはそれより多い量で、光透過領域を構成する材料に配合され得、たとえば０．１％またはそれより多い、０．１５％またはそれより多い、０．２％またはそれより多い、０．２５％またはそれより多い、０．３％またはそれより多い、０．３５％またはそれより多い、０．４％またはそれより多い、０．４５％またはそれより多い、０．５％またはそれより多い、０．５５％またはそれより多い、０．６％またはそれより多い、０．６５％またはそれより多い、０．７％またはそれより多い、０．７５％またはそれより多い、０．８％またはそれより多い、０．８５％またはそれより多い、０．９％またはそれより多い、０．９５％またはそれより多い、１．１％またはそれより多い、１．２％またはそれより多い、１．３％またはそれより多い、１．４％またはそれより多い、１．５％またはそれより多い、１．６％またはそれより多い、１．７％またはそれより多い、１．８％またはそれより多い、１．９％またはそれより多い、２％またはそれより多い、２．５％またはそれより多い、３％またはそれより多い、３．５％またはそれより多い、４％またはそれより多い、４．５％またはそれより多い、５％またはそれより多い、５．５％またはそれより多い、６％またはそれより多い、６．５％またはそれより多い、７％またはそれより多い、７．５％またはそれより多い、８％またはそれより多い、８．５％またはそれより多い、９％またはそれより多い、９．５％またはそれより多い、１０％またはそれより多い、１１％またはそれより多い、１２％またはそれより多い、１３％またはそれより多い、１４％またはそれより多い、１５％またはそれより多い、１６％またはそれより多い、１７％またはそれより多い、１８％またはそれより多い、または１９％より多い。あるいは、または加えて、１つまたはそれより多い光吸収化合物は、光透過領域の重量に基づいて２０％またはそれより少ない量で、光透過領域を構成する材料に配合され得、たとえば１９％またはそれより少ない、１８％またはそれより少ない、１７％またはそれより少ない、１６％またはそれより少ない、１５％またはそれより少ない、１４％またはそれより少ない、１３％またはそれより少ない、１２％またはそれより少ない、１９％またはそれより少ない、１８％またはそれより少ない、１７％またはそれより少ない、１６％またはそれより少ない、１１％またはそれより少ない、１０％またはそれより少ない、９．５％またはそれより少ない、９％またはそれより少ない、８．５％またはそれより少ない、８％またはそれより少ない、７．５％またはそれより少ない、７％またはそれより少ない、６．５％またはそれより少ない、６％またはそれより少��い、５．５％またはそれより少ない、５％またはそれより少ない、４．５％またはそれより少ない、４％またはそれより少ない、３．５％またはそれより少ない、３％またはそれより少ない、２．５％またはそれより少ない、２％またはそれより少ない、１．９％またはそれより少ない、１．８％またはそれより少ない、１．７％またはそれより少ない、１．６％またはそれより少ない、１．５％またはそれより少ない、１．４％またはそれより少ない、１．３％またはそれより少ない、１．２％またはそれより少ない、１．１％またはそれより少ない、１％またはそれより少ない、０．９５％またはそれより少ない、０．９％またはそれより少ない、０．８５％またはそれより少ない、０．８％またはそれより少ない、０．７５％またはそれより少ない、０．７％またはそれより少ない、０．６５％またはそれより少ない、０．６％またはそれより少ない、０．５５％またはそれより少ない、０．５％またはそれより少ない、０．４５％またはそれより少ない、０．４％またはそれより少ない、０．３５％またはそれより少ない、０．３％またはそれより少ない、０．２５％またはそれより少ない、０．２％またはそれより少ない、０．１５％またはそれより少ない、または０．１％またはそれより少ない。このように、１つまたはそれより多い光吸収化合物は、前述の終点の２つで制限される量で、光透過領域を構成する材料に配合され得る。たとえば、１つまたはそれより多い光吸収化合物は、光透過領域の重量に基づいて０．０５％〜１．５％、１％〜５％、または４．５％〜１１％の量で、光透過領域を構成する材料に配合され得る。１つより多い光吸収化合物が用いられるとき、前述の量は、光透過領域を構成する材料に存在する光吸収化合物の合計量をいう。
【００５４】
すべての光吸収化合物が本発明の光透過領域に十分に用いられ得るというわけではない。不適切な光吸収化合物は、光を著しく吸収し、および/またはこれらの不適切な化合物を含む研磨パッドが適切に白色光終点検出シスステムで使用されるのを困難にする波長範囲に位置する最大吸収を有する。本発明での使用に適切でない光吸収化合物の例は、ヒンダードアミン光安定剤（すなわち、ＨＡＬＳ）、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール（たとえば、ＴＩＮＵＶＩＮ（商標）Ｐ）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジtertペンチルフェノール（たとえば、ＴＩＮＵＶＩＮ（商標）３２８）、等を含む。好適な態様において、本発明の光透過領域を構成する材料は、これらの適切でない光吸収化合物を含まない。本発明の光透過領域の材料に使用するのに適切でない光吸収化合物の２つの種類は、以下に示され、ある種類のベンゾトリアゾールおよびベンゾフェノンを含む。
【００５５】
【化６】
2015512799.tif 000008
【００５６】
これらのべンゾトリアゾールおよびベンゾフェノン構造において、置換基Ｒは、典型的に水素、アルキル基（たとえば、メチル、エチル、プロピル、ブチルおよびペンチル）、エステル、等である。置換基Ｒ１およびＲ２は、同一または異なっていてもよく、典型的に水素、アルキル基（たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、tert−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、ｎ−ペンチル,  tert−ペンチル、sec−ペンチル、等）、ヒドロキシ基、ハロゲン（たとえば、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード、等）、またはエステルを含む。
【００５７】
図２は、本発明の光透過領域の材料に使用するのに適切でない光吸収化合物の紫外−可視スペクトルを示す。図２に示されるデータは、光吸収化合物の製造者から得られた。図２は、１０ｍｇ/Lの濃度のクロロホルムにおける２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール（たとえば、ＴＩＮＵＶＩＮ（商標）Ｐ）の紫外−可視スペクトルであり、その光吸収化合物が２５０ｎｍ〜２８８ｎｍおよび３６０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲で０．５またはそれより小さい吸光度、ならびに３０１ｎｍ〜３４１ｎｍに位置する最大光吸収を有することを明らかにする。図２のスペクトルは、この光吸収化合物が本発明の光透過領域の材料に使用するのに適切でないことを明らかにする。
【００５８】
光透過領域は、ＡＳＴＭ  Ｄ１１４８−９５により測定して（参照により全体をここに組み入れられる）、紫外光照射に際して４５％またはそれより少なく退色される。たとえば、光透過領域は、ＡＳＴＭ  Ｄ１１４８−９５により測定して、紫外光照射に際して、３９５ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、４０％またはそれより少なく、３５％またはそれより少なく、３０％またはそれより少なく、２５％またはそれより少なく、２０％またはそれより少なく、１５％またはそれより少なく、１０％またはそれより少なく、５％またはそれより少なく、または０％、退色される。
【００５９】
ＡＳＴＭ  Ｄ１１４８−９５により測定して３９５ｎｍ〜８００ｎｍの範囲について、ここで記載される光透過領域の退色（％）の程度は、３９５ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内の１つまたはそれより多い波長に適用し得、個々の波長（たとえば、３９５ｎｍ、４００ｎｍ、４１０ｎｍ、４２０ｎｍ、４３０ｎｍ、４４０ｎｍ、４５０ｎｍ、４６０ｎｍ、４７０ｎｍ、４８０ｎｍ、４９０ｎｍ、５００ｎｍ、５２０ｎｍ、５４０ｎｍ、５６０ｎｍ、５８０ｎｍ、６００ｎｍ、６２０ｎｍ、６４０ｎｍ、６６０ｎｍ、６８０ｎｍ、７００ｎｍ、７２０ｎｍ、７４０ｎｍ、７６０ｎｍ、７８０ｎｍ、または８００ｎｍ）および３９５ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内の波長の範囲を含む。たとえば、ここで記載される光透過領域の退色（％）の程度は、３９５ｎｍまたはそれより大きくあり得、たとえば４００ｎｍまたはそれより大きい、４１０ｎｍまたはそれより大きい、４２０ｎｍまたはそれより大きい、４３０ｎｍまたはそれより大きい、４４０ｎｍまたはそれより大きい、４５０ｎｍまたはそれより大きい、４６０ｎｍまたはそれより大きい、４７０ｎｍまたはそれより大きい、４８０ｎｍまたはそれより大きい、４９０ｎｍまたはそれより大きい、５００ｎｍまたはそれより大きい、５１０ｎｍまたはそれより大きい、５２０ｎｍまたはそれより大きい、５３０ｎｍまたはそれより大きい、５４０ｎｍまたはそれより大きい、５５０ｎｍまたはそれより大きい、５６０ｎｍまたはそれより大きい、５７０ｎｍまたはそれより大きい、５８０ｎｍまたはそれより大きい、５９０ｎｍまたはそれより大きい、６００ｎｍまたはそれより大きい、６１０ｎｍまたはそれより大きい、６２０ｎｍまたはそれより大きい、６３０ｎｍまたはそれより大きい、６４０ｎｍまたはそれより大きい、６５０ｎｍまたはそれより大きい、６６０ｎｍまたはそれより大きい、６７０ｎｍまたはそれより大きい、６８０ｎｍまたはそれより大きい、６９０ｎｍまたはそれより大きい、７００ｎｍまたはそれより大きい、７１０ｎｍまたはそれより大きい、７２０ｎｍまたはそれより大きい、７３０ｎｍまたはそれより大きい、７４０ｎｍまたはそれより大きい、７５０ｎｍまたはそれより大きい、７６０ｎｍまたはそれより大きい、７７０ｎｍまたはそれより大きい、７８０ｎｍまたはそれより大きい、または７９０ｎｍまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、ここで記載される光透過領域の退色（％）の程度は、８００ｎｍまたはそれより小さくあり得、たとえば７９０ｎｍまたはそれより小さい、７８０ｎｍまたはそれより小さい、７７０ｎｍまたはそれより小さい、７６０ｎｍまたはそれより小さい、７５０ｎｍまたはそれより小さい、７４０ｎｍまたはそれより小さい、７３０ｎｍまたはそれより小さい、７２０ｎｍまたはそれより小さい、７１０ｎｍまたはそれより小さい、７００ｎｍまたはそれより小さい、６９０ｎｍまたはそれより小さい、６８０ｎｍまたはそれより小さい、６７０ｎｍまたはそれより小さい、６６０ｎｍまたはそれより小さい、６５０ｎｍまたはそれより小さい、６４０ｎｍまたはそれより小さい、６３０ｎｍまたはそれより小さい、６２０ｎｍまたはそれより小さい、６１０ｎｍまたはそれより小さい、６００ｎｍ���たはそれより小さい、５９０ｎｍまたはそれより小さい、５８０ｎｍまたはそれより小さい、５７０ｎｍまたはそれより小さい、５６０ｎｍまたはそれより小さい、５５０ｎｍまたはそれより小さい、５４０ｎｍまたはそれより小さい、５３０ｎｍまたはそれより小さい、５２０ｎｍまたはそれより小さい、５１０ｎｍまたはそれより小さい、６００ｎｍまたはそれより小さい、５９０ｎｍまたはそれより小さい、５００ｎｍまたはそれより小さい、４９０ｎｍまたはそれより小さい、４８０ｎｍまたはそれより小さい、４７０ｎｍまたはそれより小さい、４６０ｎｍまたはそれより小さい、４５０ｎｍまたはそれより小さい、４４０ｎｍまたはそれより小さい、４３０ｎｍまたはそれより小さい、４２０ｎｍまたはそれより小さい、４１０ｎｍまたはそれより小さい、または４００ｎｍまたはそれより小さい。このように、ここで記載される光透過領域の退色（％）の程度は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域の退色の程度は、３９５ｎｍ〜８００ｎｍの範囲で４５％またはそれより少なく、４１０ｎｍ〜４８０ｎｍの範囲で２５％またはそれより少なく、または４５０ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲で、４０％またはそれより少なく、あり得る。さらに、いかなる個々の波長も、光透過領域の退色の程度を記載するとき、いかなる波長範囲とも組み合わせられ得る。
【００６０】
研磨パッド体は、典型的には多孔質であり、第１の空隙容積（すなわち、気孔率）を有する。第１の空隙容積は、典型的にはゼロではなく、いかなるゼロではない空隙容積であってもよい。たとえば、第１の空隙容積は、０．１％またはそれより大きくあり得、たとえば０．２％またはそれより大きい、０．３％またはそれより大きい、０．４％またはそれより大きい、０．５％またはそれより大きい、０．６％またはそれより大きい、０．７％またはそれより大きい、０．８％またはそれより大きい、０．９％またはそれより大きい、１％またはそれより大きい、２％またはそれより大きい、３％またはそれより大きい、４％またはそれより大きい、５％またはそれより大きい、６％またはそれより大きい、７％またはそれより大きい、８％またはそれより大きい、９％またはそれより大きい、１０％またはそれより大きい、１５％またはそれより大きい、２０％またはそれより大きい、２５％またはそれより大きい、３０％またはそれより大きい、３５％またはそれより大きい、４０％またはそれより大きい、４５％またはそれより大きい、５０％またはそれより大きい、５５％またはそれより大きい、６０％またはそれより大きい、６５％またはそれより大きい、７０％またはそれより大きい、または７５％またはそれより大きい。あるいは、またはそれに加えて、第１の空隙容積は、８０％またはそれより小さくあり得、たとえば７５％またはそれより小さい、７０％またはそれより小さい、６５％またはそれより小さい、６０％またはそれより小さい、５５％またはそれより小さい、５０％またはそれより小さい、４５％またはそれより小さい、４０％またはそれより小さい、３５％またはそれより小さい、３０％またはそれより小さい、２５％またはそれより小さい、２０％またはそれより小さい、１５％またはそれより小さい、１０％またはそれより小さい、９％またはそれより小さい、８％またはそれより小さい、７％またはそれより小さい、６％またはそれより小さい、５％またはそれより小さい、４％またはそれより小さい、３％またはそれより小さい、２％またはそれより小さい、１％またはそれより小さい、０．９％またはそれより小さい、０．８％またはそれより小さい、０．７％またはそれより小さい、０．６％またはそれより小さい、０．５％またはそれより小さい、０．４％またはそれより小さい、０．３％またはそれより小さい、または０．２％またはそれより小さい。このように、第１の空隙容積は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、第１の空隙容積は、０．１％〜８０％、２０％〜５０％、または６５％〜７０％であり得る。
【００６１】
研磨パッド体は、いかなる適切な平均孔径の孔も含み得る。ここで使用されるように、「平均孔径」は平均孔直径をいう。たとえば、研磨パッド体の孔は、１０００μｍまたはそれより小さい平均孔径を有し得、たとえば、９００μｍまたはそれより小さい、８００μｍまたはそれより小さい、７００μｍまたはそれより小さい、６００μｍまたはそれより小さい、５００μｍまたはそれより小さい、４００μｍまたはそれより小さい、３００μｍまたはそれより小さい、２００μｍまたはそれより小さい、１９０μｍまたはそれより小さい、１８０μｍまたはそれより小さい、１７０μｍまたはそれより小さい、１６０μｍまたはそれより小さい、１５０μｍまたはそれより小さい、１４０μｍまたはそれより小さい、１３０μｍまたはそれより小さい、１２０μｍまたはそれより小さい、１１０μｍまたはそれより小さい、１００μｍまたはそれより小さい、９０μｍまたはそれより小さい、８０μｍまたはそれより小さい、７０μｍまたはそれより小さい、６０μｍまたはそれより小さい、５０μｍまたはそれより小さい、４０μｍまたはそれより小さい、３０μｍまたはそれより小さい、２０μｍまたはそれより小さい、１０μｍまたはそれより小さい、または５μｍまたはそれより小さい。あるいは、または加えて、研磨パッド体の孔は、１μｍまたはそれより大きい平均孔径を有し得、たとえば、５μｍまたはそれより大きい、１０μｍまたはそれより大きい、２０μｍまたはそれより大きい、３０μｍまたはそれより大きい、４０μｍまたはそれより大きい、５０μｍまたはそれより大きい、６０μｍまたはそれより大きい、７０μｍまたはそれより大きい、８０μｍまたはそれより大きい、９０μｍまたはそれより大きい、１００μｍまたはそれより大きい、１１０μｍまたはそれより大きい、１２０μｍまたはそれより大きい、１３０μｍまたはそれより大きい、１４０μｍまたはそれより大きい、１５０μｍまたはそれより大きい、１６０μｍまたはそれより大きい、１７０μｍまたはそれより大きい、１８０μｍまたはそれより大きい、１９０μｍまたはそれより大きい、２００μｍまたはそれより大きい、３００μｍまたはそれより大きい、４００μｍまたはそれより大きい、５００μｍまたはそれより大きい、６００μｍまたはそれより大きい、７００μｍまたはそれより大きい、８００μｍまたはそれより大きい、または９００μｍまたはそれより大きい。このように、研磨パッド体の孔は、前述の終点の２つにより制限される平均孔径を有し得る。たとえば、平均孔径は、１μｍ〜５μｍ、５０μｍ〜１１０μｍ、または１８０μｍ〜６００μｍであり得る。
【００６２】
好適な態様において、研磨パッド体の孔の実質的な部分（たとえば５０％またはそれより多い）は、２００μｍまたはそれより小さい孔径を有する。たとえば、孔の５５％またはそれより多くは、２００μｍまたはそれより小さい孔径を有し、たとえば６０％またはそれより多い、６５％またはそれより多い、７０％またはそれより多い、７５％またはそれより多い、８０％またはそれより多い、８５％またはそれより多い、９０％またはそれより多い、９５％またはそれより多い、または１００％である。
【００６３】
典型的に、研磨パッド体は、主としてクローズドセル（すなわち孔）を含む。しかし、研磨パッド体は、オープンセルも含み得る。好適には、研磨パッド体は、研磨パッド体の合計空隙容積に基づいて、５％またはそれより大きいクローズドセルの空隙容積を含み、たとえば１０％またはそれより大きい、１５％またはそれより大きい、２０％またはそれより大きい、２５％またはそれより大きい、３０％またはそれより大きい、３５％またはそれより大きい、４０％またはそれより大きい、４５％またはそれより大きい、５０％またはそれより大きい、６０％またはそれより大きい、７０％またはそれより大きい、８０％またはそれより大きい、９０％またはそれより大きい、または１００％である。
【００６４】
光透過領域は、第２の空隙容積（すなわち、気孔率）（研磨パッド体の第１の空隙容積と区別される）を有し、多孔質、実質的に非多孔質、または非多孔質（すなわち、空隙容積０％）であり得る。光透過領域の第２の空隙容積は、典型的に研磨パッド体の第１の空隙容積よりも小さい。たとえば、第２の空隙容積は、０％またはそれより大きく、たとえば０．０５％またはそれより大きい、０．１％またはそれより大きい、０．１５％またはそれより大きい、０．２％またはそれより大きい、０．２５％またはそれより大きい、０．３％またはそれより大きい、０．３５％またはそれより大きい、０．４％またはそれより大きい、０．４５％またはそれより大きい、０．５％またはそれより大きい、０．５５％またはそれより大きい、０．６％またはそれより大きい、０．６５％またはそれより大きい、０．７％またはそれより大きい、０．７５％またはそれより大きい、０．８％またはそれより大きい、０．８５％またはそれより大きい、０．９％またはそれより大きい、０．９５％またはそれより大きい、１％またはそれより大きい、１．１％またはそれより大きい、１．２％またはそれより大きい、１．３％またはそれより大きい、１．４％またはそれより大きい、１．５％またはそれより大きい、１．６％またはそれより大きい、１．７％またはそれより大きい、１．８％またはそれより大きい、１．９％またはそれより大きい、２％またはそれより大きい、２．５％またはそれより大きい、３％またはそれより大きい、３．５％またはそれより大きい、４％またはそれより大きい、４．５％またはそれより大きい、５％またはそれより大きい、５．５％またはそれより大きい、６％またはそれより大きい、６．５％またはそれより大きい、７％またはそれより大きい、７．５％またはそれより大きい、８％またはそれより大きい、８．５％またはそれより大きい、９％またはそれより大きい、または９．５％またはそれより大きい。あるいは、または加えて、第２の空隙容積は、１０％またはそれより小さく、たとえば９．５％またはそれより小さい、９％またはそれより小さい、８．５％またはそれより小さい、８％またはそれより小さい、７．５％またはそれより小さい、７％またはそれより小さい、６．５％またはそれより小さい、６％またはそれより小さい、５．５％またはそれより小さい、５％またはそれより小さい、４．５％またはそれより小さい、４％またはそれより小さい、３．５％またはそれより小さい、３％またはそれより小さい、２．５％またはそれより小さい、２％またはそれより小さい、１．９％またはそれより小さい、１．８％またはそれより小さい、１．７％またはそれより小さい、１．６％またはそれより小さい、１．５％またはそれより小さい、１．４％またはそれより小さい、１．３％またはそれより小さい、１．２％またはそれより小さい、１．１％またはそれより小さい、１％またはそれより小さい、０．９５％またはそれより小さい、０．９％またはそれより小さい、０．８５％またはそれより小さい、０．８％またはそれより小さい、０．７５％またはそれより小さい、０．７％またはそれより小さい、０．６５％またはそれより小さい、０．６％またはそれより小さい、０．５５％またはそれより小さい、０．５％またはそれより小さい、０．４５％またはそれより小さい、０．４％またはそれより小さい、０．３５％またはそれより小さい、０．３％またはそれより小さい、０．２５％またはそれより小さい、０．２％またはそれより小さい、０．１５％またはそれより小さい、０．１％またはそれより小さい、または０．０５％またはそれより小さい。光透過領域の第２の空隙容積は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、第２の空隙容積は、０．１％〜１０％、０．０５％〜１．９％、または０．５％〜１％であり得る。１つの態様において、第２の空隙容積は０である。
【００６５】
光透過領域が孔を有するとき、その孔は、いかなる適切な平均孔径をも有し得る。ここで使用されるように、「平均孔径」は平均孔直径をいう。たとえば、光透過領域の孔は、２００μｍまたはそれより小さい平均孔径を有し得、たとえば、１００μｍまたはそれより小さい、９０μｍまたはそれより小さい、８０μｍまたはそれより小さい、７０μｍまたはそれより小さい、６０μｍまたはそれより小さい、５０μｍまたはそれより小さい、４０μｍまたはそれより小さい、３０μｍまたはそれより小さい、２０μｍまたはそれより小さい、１０μｍまたはそれより小さい、５μｍまたはそれより小さい、１μｍまたはそれより小さい、０．９μｍまたはそれより小さい、０．８μｍまたはそれより小さい、０．７μｍまたはそれより小さい、０．６μｍまたはそれより小さい、０．５μｍまたはそれより小さい、０．４μｍまたはそれより小さい、０．３μｍまたはそれより小さい、０．２μｍまたはそれより小さい、０．１μｍまたはそれより小さい、または０．０５μｍまたはそれより小さい。あるいは、または加えて、光透過領域の孔は、０．０１μｍまたはそれより大きい平均孔径を有し得、たとえば、０．０５μｍまたはそれより大きい、０．１μｍまたはそれより大きい、０．２μｍまたはそれより大きい、０．３μｍまたはそれより大きい、０．４μｍまたはそれより大きい、０．５μｍまたはそれより大きい、０．６μｍまたはそれより大きい、０．７μｍまたはそれより大きい、０．８μｍまたはそれより大きい、０．９μｍまたはそれより大きい、１μｍまたはそれより大きい、５μｍまたはそれより大きい、１０μｍまたはそれより大きい、２０μｍまたはそれより大きい、３０μｍまたはそれより大きい、４０μｍまたはそれより大きい、５０μｍまたはそれより大きい、６０μｍまたはそれより大きい、７０μｍまたはそれより大きい、８０μｍまたはそれより大きい、９０μｍまたはそれより大きい、または１００μｍまたはそれより大きい。このように、光透過領域の孔の平均孔径は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、平均孔径は、０．０５μｍ〜１μｍ、０．２μｍ〜０．８μｍ、または１０μｍ〜１００μｍであり得る。
【００６６】
好適な態様において、光透過領域の孔の実質的な部分（たとえば５０％またはそれより多い）は、１μｍまたはそれより小さい孔径を有する。たとえば、孔の５５％またはそれより多くは、１μｍまたはそれより小さい孔径を有し、たとえば６０％またはそれより多い、６５％またはそれより多い、７０％またはそれより多い、７５％またはそれより多い、８０％またはそれより多い、８５％またはそれより多い、９０％またはそれより多い、９５％またはそれより多い、または１００％である。
【００６７】
典型的に、光透過領域は、主としてクローズドセル（すなわち孔）を含む。しかし、光透過領域は、オープンセルも含み得る。好適には、光透過領域は、光透過領域の合計空隙容積に基づいて、５％またはそれより大きいクローズドセルの空隙容積を含み、たとえば１０％またはそれより大きい、１５％またはそれより大きい、２０％またはそれより大きい、２５％またはそれより大きい、３０％またはそれより大きい、３５％またはそれより大きい、４０％またはそれより大きい、４５％またはそれより大きい、５０％またはそれより大きい、６０％またはそれより大きい、７０％またはそれより大きい、８０％またはそれより大きい、９０％またはそれより大きい、または１００％である。
【００６８】
典型的に、研磨パッド体は、実質的にまたは完全に不透明である。特定の理論に縛られることは望まないが、研磨パッド体の孔は、孔構造を通過する光を散乱させ、それにより研磨パッド体の半透明性を低減させ、または研磨パッド体を不透明にすると考えられる。光散乱の程度は、平均孔径および平均細孔容積の作用であると考えられる。さらに、研磨パッドを圧縮することは、圧縮された領域で研磨パッドの多孔性（たとえば空隙容積）を低減させることにより、孔の光散乱効果を低減させると考えられる。その結果、圧縮された領域（たとえば、研磨パッドの光透過領域）は、圧縮されていない研磨パッド（すなわち研磨パッド体）に比べて、増加した光透過率（すなわち、光散乱の減少したレベル、および増加した半透明）を有する。
【００６９】
当業者に理解されるように、この方法で得られる半透明性の程度は、孔構造が圧縮される程度（すなわち、孔の多孔性が低減する程度）に少なくとも部分的に依存する。たとえば、研磨パッド体は、圧縮前の厚さ（すなわち、研磨パッドの非圧縮厚さ）の１０〜５０％（たとえば、２０〜４０％、または１０〜３０％）に圧縮され得る。
【００７０】
研磨パッド体を構成する材料は、光透過領域を含む材料と同一または異なっていてもよい。通常、研磨パッド体を構成する材料は、化学機械研磨と相性の良いポリマー材料から構成され得る。この点で、研磨パッド体を構成する材料は、光透過領域で使用されるためにここで記載されたポリマー、光透過領域に使用するのに好ましくないとここで記載されたポリマー（すなわち、「好適でないポリマー」）、またはそれらの組み合わせから選択され得る。研磨パッド体のための適切なポリマーは、たとえば、熱可塑性エラストマー、熱可塑性ポリウレタン、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ナイロン、エラストマーゴム、スチレンポリマー、ポリ芳香族、フルオロポリマー、ポリイミド、架橋ポリウレタン、架橋ポリオレフィン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリアクリレート、エラストマーポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアラミド、ポリアリーレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、それらのコポリマーおよびブロックコポリマー、ならびにそれらの混合物およびブレンド、を含む。好適には、ポリマー樹脂は、メチレンジフェニルジイソシアネート系熱可塑性ポリウレタンのような熱可塑性ポリウレタンである。
【００７１】
光透過領域および/または研磨パッド体の材料を構成するポリマー樹脂（たとえば、ポリマー材料）は、いかなる適切な分子量も有し得る。ポリマー樹脂の分子量は部分的にポリマー樹脂のレオロジー特性を決定するので、ポリマー樹脂の分子量は、ポリマー樹脂の成形（たとえば、押出し、射出成型等）特性に重要である。光透過領域および/または研磨パッド体を構成するポリマー樹脂の分子量は、５０，０００ｇ/mol〜３００，０００ｇ/molであり得る。たとえば、分子量は、５０，０００ｇ/molまたはそれより大きくあり得、たとえば６０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、７０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、８０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、９０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、１００，０００ｇ/molまたはそれより大きい、１２０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、１４０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、１６０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、１８０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、２００，０００ｇ/molまたはそれより大きい、２２０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、２４０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、２６０，０００ｇ/molまたはそれより大きい、または２８０，０００ｇ/molまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、分子量は、３００，０００ｇ/molまたはそれより小さくあり得、たとえば２８０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、２６０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、２４０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、２２０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、２００，０００ｇ/molまたはそれより小さい、１８０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、１６０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、１４０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、１２０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、１００，０００ｇ/molまたはそれより小さい、９０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、８０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、７０，０００ｇ/molまたはそれより小さい、または６０，０００ｇ/molまたはそれより小さい。このように、光透過領域および/または研磨パッド体の材料を構成するポリマー樹脂の分子量は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、分子量は、５０，０００ｇ/mol〜８０，０００ｇ/mol、７０，０００ｇ/mol〜２２０，０００ｇ/mol、または６０，０００ｇ/mol〜７０，０００ｇ/molであり得る。
【００７２】
光透過領域および/または研磨パッド体の材料を構成するポリマー樹脂（たとえば、ポリマー材料）は、いかなる適切な多分散性指数（ＰＤＩ）をも有し得る。ポリマー樹脂のＰＤＩは、部分的にポリマー樹脂のレオロジー特性を決定するので、ポリマー樹脂のＰＤＩは、ポリマー樹脂の成形（たとえば、押出し、射出成型等）特性に重要である。ポリマー樹脂のＰＤＩは、典型的には、１．１〜６、好適には２〜４である。
【００７３】
研磨パッド、研磨パッド体および/または光透過領域は、この分野で知られている適切な方法により形成され得る。たとえば、研磨パッド、研磨パッド体および/または光透過領域は、フィルムまたはシート押出し、射出成形、ブロー成形、熱成形、圧縮成形、共押出し成形、反応射出成形、異形押出し成形、回転成形、ガス射出成形、フィルムインサート成形、発泡成形、鋳込成形、圧縮、またはこれらの組み合わせにより形成され得る。たとえば、研磨パッド、研磨パッド体および/または光透過領域が、たとえば熱可塑性材料（たとえば熱可塑性ポリウレタン）から製造されるとき、その熱可塑性材料は、流動し、ついでたとえば鋳込みまたは押出しにより所望の形状に形成される、温度に加熱され得る。
【００７４】
研磨パッド体を構成する材料が光透過領域を構成する材料と同一であるとき、研磨パッドの光透過領域は、たとえば、光学的に透過性である研磨パッドの、１つまたはそれより多い光透過領域を形成するために、実質的にまたは完全に不透明である研磨パッドの少なくとも一部を圧縮することにより、形成され得る。ここで使用される「光学的に透過性」とは、研磨パッドの表面と接触する少なくとも一部の光を透過する能力をいい、わずかに、部分的に、実質的におよび完全に半透明または透明な材料を記載するのに使用され得る。研磨パッド体の圧縮され、光学的に透過性の領域は、ここで記載される性質を有する、本発明の光透過領域である。たとえば米国特許第６，８４０，８４３号明細書参照（参照によりその全体をここに組み入れられる）。
【００７５】
研磨パッドを光透過領域圧縮して光透過領域を形成することは、この分野で知られている適切な方法で実施され得る。当業者に理解されるように、圧縮の最も効果的な方法は、研磨パッドの作製に使用される特定のポリマー（たとえばポリマー樹脂）に少なくとも部分的に依存する。研磨パッドは、たとえば、無線周波数（ＲＦ）溶接法の使用により、カレンダーローラーの使用により、またはプラテンプレス、型材機等のような、この分野で知られている種々のプレス機構の使用により、圧縮され得る。さらに、圧縮された構造を達成するために熱が、単独で、または他の圧縮法と組み合わせて、使用され得る。たとえば、研磨パッドは、研磨パッド体の孔を研磨パッド体の構成に使用されるポリマーの重量下に崩壊させるのに十分な時間、その軟化または溶融温度に近づく、満たすまたは超える温度に加熱され得る。あるいは、もう１つの圧縮法を用いて、研磨パッドの圧縮前、中、または後に研磨パッドに、熱が付与される。たとえば、ＲＦ溶接法は、メガヘルツ領域の無線周波数エネルギーの適用とともにダイを用い得、研磨パッドの圧縮を生じさせるダイと接触する研磨パッドの加熱を生じさせる。もう１つの例において、加熱されたプレスまたは加熱されたローラーが、研磨パッドの領域を圧縮するために研磨パッドを圧縮するのに使用され得る。研磨パッドを圧縮するためにもう１つの圧縮法とともに熱を用いるとき、研磨パッドは、研磨パッドの軟化または溶融温度に近づく、を満たすまたは超える温度に加熱されるのが好適である。
【００７６】
光透過領域が研磨パッドの少なくとも１部分を圧縮することにより形成されないとき、光透過領域は、別々に製造され、ついでこの分野で知られている適切な方法で研磨パッド体に結合され得る。このような状況で、光透過領域を構成する材料は、研磨パッド体を構成する材料と同一または異なっていてもよい。典型的に、研磨パッドの一部は、そこから除去され、空の空隙を含む研磨パッド体を得る。光透過領域は、ここで記載されるように、適切な方法により別々に製造され得、ついで光透過領域は、研磨パッド体の空隙の大きさに合うように適合、たとえば切り取られ得る。ついで、適合された光透過領域は、空隙内に位置し、熱溶融化学結合融合、超音波溶接（たとえば、米国特許第６，９９７，７７７号明細書参照。全体は、ここに組み入れられる。）、無線周波数（ＲＦ）溶接、アーク溶接、熱圧縮、摩擦熱、およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる方法のような、適切な方法により研磨パッドに結合され得る。好適な態様において、適合された光透過領域は、接着剤により研磨パッド体に結合されない。
【００７７】
ＲＦ溶接は、研磨パッドに溶接されるべき光透過領域を位置合わせすること、および接合プロセスに向けるダイを使用することを含む。メガヘルツ周波数の高周波が材料を通過すると、加熱されて、光透過領域は、研磨パッドに結合されるようになる。超音波溶接は、光透過領域および研磨パッドを構成する材料を溶融するように高周波音波を使用することを含み、それにより材料を一緒に流動させて光透過領域は研磨パッドに結合されるようになる。典型的に、超音波源は高周波電気信号をキロヘルツ周波数範囲に変換する音響発生金属チューニングデバイス（たとえば、「ホーン」）であるが、いかなる超音波源も使用され得る。ホーンは、いかなる適切なホーンであってもよく、たとえばステンレス鋼ホーンである。ホーンはいかなる適切な形状または配置であってもよく、好適には光透過
領域の形状と類似の形状、または同一の形状を有するように機械加工される。
【００７８】
研磨パッドは、１つまたはそれより多い光透過領域を含み得、それぞれは同一または異なる方法で調製され得（たとえば、圧縮で形成される１つの領域、および１つの領域をべつべつに製造し、ついで研磨パッドに溶接）、および/またはそれぞれは同一または異なる材料から構成され得る（異なるポリマー樹脂および/または光吸収化合物）。研磨パッドは、１，２，３，４，５，６，７，８，９または１０の光透過領域を含み得る。
【００７９】
光透過領域は研磨パッドの一部を構成し得、または光透過領域は全研磨パッドを構成し得る。たとえば、光透過領域は、表面積で研磨パッドの５％またはそれより大きく含み得、たとえば１０％またはそれより大きい、１５％またはそれより大きい、２０％またはそれより大きい、２５％またはそれより大きい、３０％またはそれより大きい、３５％またはそれより大きい、４０％またはそれより大きい、４５％またはそれより大きい、５０％またはそれより大きい、５５％またはそれより大きい、６０％またはそれより大きい、６５％またはそれより大きい、７０％またはそれより大きい、７５％またはそれより大きい、８０％またはそれより大きい、８５％またはそれより大きい、９０％またはそれより大きい、９５％またはそれより大きい、または１００％である。あるいは、光透過領域は、表面積で研磨パッドの１００％またはそれより小さく含み得、たとえば９５％またはそれより小さい、９０％またはそれより小さい、８５％またはそれより小さい、８０％またはそれより小さい、７５％またはそれより小さい、７０％またはそれより小さい、６５％またはそれより小さい、６０％またはそれより小さい、５５％またはそれより小さい、５０％またはそれより小さい、４５％またはそれより小さい、４０％またはそれより小さい、３５％またはそれより小さい、３０％またはそれより小さい、２５％またはそれより小さい、２０％またはそれより小さい、１５％またはそれより小さい、または１０％またはそれより小さい。このように、光透過領域により構成される研磨パッドの部分は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域は、表面積で研磨パッドの１０％〜３５％、３０％〜５５％、または６０％〜９５％含み得る。好適な態様において、研磨パッドは、１つの光透過領域を含み、そこでは光透過領域は全研磨パッドを構成しない。もう１つの態様において、研磨パッドは、１つの光透過領域を含み、そこでは全研磨パッド（すなわち、表面積で１００％）は、光透過領域であり、すなわち全研磨パッドは、光透過領域として使用するのに適した材料から構成され、その材料は光透過領域のためにここで記載される特性を有するように、適切に処理されている（たとえば圧縮され、押出され、および/または成形されている）。
【００８０】
光透過領域は、研磨パッドの適切な位置に位置決めされ得、光透過領域は、いかなる適切な形状、大きさおよび配置を有し得る。たとえば、光透過領域は、円形、楕円形、長方形、または正方形の形状を有し得る。光透過領域が、楕円形または長方形の形状であるとき、光透過領域は、典型的に最大長さが３ｃｍ〜８ｃｍである。光透過領域が、円形または正方形の形状であるとき、光透過領域は、典型的に直径または幅が１ｃｍ〜４ｃｍである。
【００８１】
光透過領域は、いかなる適切な厚さも有し得る。典型的に、光透過領域は、０．２ｍｍまたはそれより大きい厚さを有し、たとえば０．３ｍｍまたはそれより大きい、０．４ｍｍまたはそれより大きい、０．５ｍｍまたはそれより大きい、０．６ｍｍまたはそれより大きい、０．７ｍｍまたはそれより大きい、０．８ｍｍまたはそれより大きい、０．９ｍｍまたはそれより大きい、１ｍｍまたはそれより大きい、１．１ｍｍまたはそれより大きい、１．２ｍｍまたはそれより大きい、１．３ｍｍまたはそれより大きい、１．４ｍｍまたはそれより大きい、１．５ｍｍまたはそれより大きい、１．６ｍｍまたはそれより大きい、１．７ｍｍまたはそれより大きい、１．８ｍｍまたはそれより大きい、１．９ｍｍまたはそれより大きい、２ｍｍまたはそれより大きい、２．２ｍｍまたはそれより大きい、２．４ｍｍまたはそれより大きい、２．６ｍｍまたはそれより大きい、または２．８ｍｍまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、光透過領域は、３ｍｍまたはそれより小さい厚さを有し、たとえば２．８ｍｍまたはそれより小さい、２．６ｍｍまたはそれより小さい、２．４ｍｍまたはそれより小さい、２．２ｍｍまたはそれより小さい、２ｍｍまたはそれより小さい、１．９ｍｍまたはそれより小さい、１．８ｍｍまたはそれより小さい、１．７ｍｍまたはそれより小さい、１．６ｍｍまたはそれより小さい、１．５ｍｍまたはそれより小さい、１．４ｍｍまたはそれより小さい、１．３ｍｍまたはそれより小さい、１．２ｍｍまたはそれより小さい、１．１ｍｍまたはそれより小さい、１ｍｍまたはそれより小さい、０．９ｍｍまたはそれより小さい、０．８ｍｍまたはそれより小さい、０．７ｍｍまたはそれより小さい、０．６ｍｍまたはそれより小さい、０．５ｍｍまたはそれより小さい、０．４ｍｍまたはそれより小さい、または０．３ｍｍまたはそれより小さい。このように、光透過領域の厚さは、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域の厚さは、０．２ｍｍ〜３ｍｍ、０．２ｍｍ〜１ｍｍ、または０．５ｍｍ〜１．６ｍｍであり得る。好適な態様において、光透過領域の厚さは１ｍｍである。
【００８２】
光透過領域を構成する材料は、適切な方法で形成され得、その材料は少なくとも１つのポリマー樹脂および少なくとも１つの光吸収化合物から構成される。たとえば、ポリマー樹脂を形成するのに使用される適切な重合媒体において、たとえば縮合重合のような、適切な重合法を用いることにより、光吸収化合物が重合の前、間、または後にこの重合媒体に添加され得、光吸収化合物がそこに分散されたポリマー樹脂を形成する。もう１つの態様において、ポリマー樹脂は、商業的に購入するか、または従来の重合法（たとえば、縮合重合）により合成され得、ついでポリマー樹脂および光吸収化合物の両方が適切な溶媒（たとえば、テトラハイドロフランのような有機溶媒）に溶解され得る。ポリマー樹脂および光吸収化合物を含む溶液は、溶媒を除去するために、減圧および/または熱に供され得、それにより光吸収化合物がそこに分散されたポリマー樹脂を得る。さらにもう１つの態様において、予め合成されおよび/または商業的に購入されたポリマー樹脂ならびに光吸収化合物は、一緒に溶融混合され得、その方法はポリマーを溶融するために十分な温度にポリマー樹脂を加熱することを含む。光吸収化合物は、ポリマー樹脂が溶融される前、間または後に添加され得、光吸収化合物がそこに分散されたポリマー樹脂を得る。
【００８３】
多孔性の程度が、研磨パッド体および/または光透過領域において望まれるとき、研磨パッド体および/または光透過領域を構成するポリマー樹脂は、それらの自然な配置により多孔構造を提供し得る。他の態様において、多孔構造は、この分野で知られている種々の製造方法（たとえば、発泡およびブロー等）を用いて導入され得る。クローズドセル孔を含む多孔構造を与える代表的な方法は、Mucell法、転相法、スピノダルもしくはバイモーダル分解法、または加圧ガス射出法のような発泡法を含み、それらはすべてこの分野で周知である。オープンセル孔を含む多孔構造を与える代表的な方法は、熱可塑性ポリウレタンのような熱可塑性ポリマー粒子を焼成してオープンセル多孔構造を得ることを含む。
【００８４】
研磨パッドは、いかなる適切な大きさであってもよい。典型的に、研磨パッドは、形状が円形（回転研磨工具で使用されるように）であり、またはループ状の線状ベルトとして製造される（線状研磨工具で使用されるように）。好適には、研磨パッドは、円形である。
【００８５】
光透過領域および/または研磨パッド体は、次の特性の１つまたはそれより多くを有し得る：（a）ショア硬度１０Ａ 〜８０Ｄ、（ｂ）孔特定の大きさと割合を有する多孔性（すでにここで記載されたとおり）、（ｃ）５０％より大きい％伸び、（ｄ）６５ｋＰａより大きい引張り強さ、（e）室温での曲げモジュラス７００ｋＰａ〜３，５００，０００ｋＰａ、（ｆ）２１０℃で２１６０ｇ荷重で、５００ｇ/１０分より小さい樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレート、（ｇ）２１０℃で１８/sのずり速度で毛管レオメータで測定された、１０Ｐａ・ｓ〜２０，０００Ｐａ・ｓの樹脂溶融粘度、（ｈ）結晶化度％、（i）約−１００℃〜１６０℃のガラス転移温度、（ｊ）０．１〜１００μｍの表面粗さ、および（ｋ）屈折率１．１〜２．０である。前述の特性は、ポリマー樹脂のレオロジー特性を部分的に決定し、ポリマーが研磨パッド体および/または光透過領域に適切に成形（たとえば、押出しまたは射出成形）され得ることを確実にするのに重要である。さらに、前述の特性は、研磨パッド体および/または光透過領域の構造特性を決定し、たとえば研磨パッドが化学機械研磨に適切に使用され得ることを確実にするのに重要である。たとえば、前述の特性は、研磨パッドが研磨組成物と適合し、物理的および化学的研磨に耐え得、そして基板表面を適切に摩耗して平坦化し得ることを確実にする。
【００８６】
光透過領域および/または研磨パッド体は、典型的にポリマー樹脂から形成される。光透過領域、研磨パッド体、および/またはポリマー樹脂は、いかなる適切なショア硬度も有し得る。ショア硬度は、たとえば研磨パッドを構成する材料および研磨パッドの製造方法に依存する。ショアＡおよびショアＤの目盛スパン０〜１００は、材料の硬さの尺度であり、ＡＳＴＭ  Ｄ２２４０−１０により測定される（これにより、その全体が組み入れられる）。ショアＡ目盛は典型的に比較的軟らかい材料について用いられ、一方、ショアＤ目盛は典型的に比較的硬い材料について用いられる；しかし、その目盛にはいくらかの重複がある。光透過領域、研磨パッド体、および/またはポリマー樹脂のショア硬度Ａは１０またはそれより大きくあり得、たとえば２０またはそれより大きい、３０またはそれより大きい、４０またはそれより大きい、５０またはそれより大きい、６０またはそれより大きい、７０またはそれより大きい、８０またはそれより大きい、または９０またはそれより大きい。あるいは、または加えて、光透過領域、研磨パッド体、および/またはポリマー樹脂のショア硬度Ａは１００またはそれより小さくあり得、たとえば９０またはそれより小さい、８０またはそれより小さい、７０またはそれより小さい、６０またはそれより小さい、５０またはそれより小さい、４０またはそれより小さい、３０またはそれより小さい、または２０またはそれより小さい。光透過領域、研磨パッド体、および/またはポリマー樹脂のショア硬度Ｄは０より大きくあり得、たとえば１０またはそれより大きい、２０またはそれより大きい、３０またはそれより大きい、４０またはそれより大きい、５０またはそれより大きい、６０またはそれより大きい、または７０またはそれより大きい。あるいは、または加えて、光透過領域、研磨パッド体、および/またはポリマー樹脂のショア硬度Ｄは８０またはそれより小さくあり得、たとえば７０またはそれより小さい、６０またはそれより小さい、５０またはそれより小さい、４０またはそれより小さい、３０またはそれより小さい、２０またはそれより小さい、または１０またはそれより小さい。このように、光透過領域、研磨パッド体、および/またはポリマー樹脂のショア硬度は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域、研磨パッド体、および/またはポリマー樹脂のショア硬度は、１０Ａ〜５０Ａ，２０Ａ〜５０、または２０Ｄ〜７０Ｄであり得る。
【００８７】
光透過領域および/または研磨パッド体は、いかなる適切な％伸びも有し得る。その％伸びは、ＡＳＴＭ  Ｄ４１２−０６ａにより測定される（これにより、その全体が組み入れられる）。％伸びは、たとえば研磨パッドを構成する材料および研磨パッドの製造方法に依存する。光透過領域および/または研磨パッド体の％伸びは、５０％またはそれより大きくあり得、たとえば６０％またはそれより大きい、８０％またはそれより大きい、１００％またはそれより大きい、１２０％またはそれより大きい、１４０％またはそれより大きい、１６０％またはそれより大きい、１８０％またはそれより大きい、２００％またはそれより大きい、２２０％またはそれより大きい、２４０％またはそれより大きい、２６０％またはそれより大きい、２８０％またはそれより大きい、３００％またはそれより大きい、３２０％またはそれより大きい、３４０％またはそれより大きい、３６０％またはそれより大きい、３８０％またはそれより大きい、４００％またはそれより大きい、５００％またはそれより大きい、６００％またはそれより大きい、７００％またはそれより大きい、８００％またはそれより大きい、９００％またはそれより大きい、１，０００％またはそれより大きい、または１，１００％またはそれより大きい。あるいは、または加えて、光透過領域および/または研磨パッド体の％伸びは、１，２００％またはそれより小さくあり得、たとえば１，１００％またはそれより小さい、１，０００％またはそれより小さい、９００％またはそれより小さい、８００％またはそれより小さい、７００％またはそれより小さい、６００％またはそれより小さい、５００％またはそれより小さい、４００％またはそれより小さい、３８０％またはそれより小さい、３６０％またはそれより小さい、３４０％またはそれより小さい、３２０％またはそれより小さい、３００％またはそれより小さい、２８０％またはそれより小さい、２６０％またはそれより小さい、２４０％またはそれより小さい、２２０％またはそれより小さい、２００％またはそれより小さい、１８０％またはそれより小さい、１６０％またはそれより小さい、１４０％またはそれより小さい、１２０％またはそれより小さい、１００％またはそれより小さい、８０％またはそれより小さい、または６０％またはそれより小さい。このように、光透過領域および/または研磨パッド体の％伸びは、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域および/または研磨パッド体の％伸びは、６０％〜１８０％、１００％〜１２０％、または３００％〜４００％であり得る。好適な態様において、％伸びは、１００％〜７００％である。
【００８８】
光透過領域および/または研磨パッド体は、いかなる適切な引張り強さも有し得る。％伸びは、たとえば研磨パッドを構成する材料および研磨パッドの製造方法に依存する。その引張り強さは、ＡＳＴＭ  Ｄ４１２−０６ａにより測定される（これにより、その全体が組み入れられる）。光透過領域および/または研磨パッド体の引張り強さは、６５ｋＰａまたはそれより大きくあり得、たとえば１００ｋＰａまたはそれより大きい、２００ｋＰａまたはそれより大きい、４００ｋＰａまたはそれより大きい、６００ｋＰａまたはそれより大きい、８００ｋＰａまたはそれより大きい、１，０００ｋＰａまたはそれより大きい、２，０００ｋＰａまたはそれより大きい、３，０００ｋＰａまたはそれより大きい、４，０００ｋＰａまたはそれより大きい、５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、６，０００ｋＰａまたはそれより大きい、７，０００ｋＰａまたはそれより大きい、８，０００ｋＰａまたはそれより大きい、９，０００ｋＰａまたはそれより大きい、１０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、１５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、２０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、２５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、３０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、３５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、４０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、４５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、５０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、５５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、６０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、６５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、７０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、７５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、８０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、８５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、９０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、９５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、１００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、２００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、３００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、４００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、５００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、６００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、７００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、８００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、または９００，０００ｋＰａまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、光透過領域および/または研磨パッド体の引張り強さは、１，０００，０００ｋＰａまたはそれより小さくあり得、たとえば９００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、８００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、７００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、６００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、５００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、４００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、３００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、２００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、１００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、９５，０００ｋＰａまたはそれより小さい、９０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、８５，０００ｋＰａまたはそれより小さい、８０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、７５，０００ｋＰａまたはそれより小さい、７０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、６５，０���０ｋＰａまたはそれより小さい、６０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、５５，０００ｋＰａまたはそれより小さい、５０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、４５，０００ｋＰａまたはそれより小さい、４０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、３５，０００ｋＰａまたはそれより小さい、３０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、２５，０００ｋＰａまたはそれより小さい、２０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、１５，０００ｋＰａまたはそれより小さい、１０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、９，０００ｋＰａまたはそれより小さい、８，０００ｋＰａまたはそれより小さい、７，０００ｋＰａまたはそれより小さい、６，０００ｋＰａまたはそれより小さい、５，０００ｋＰａまたはそれより小さい、４，０００ｋＰａまたはそれより小さい、３，０００ｋＰａまたはそれより小さい、２，０００ｋＰａまたはそれより小さい、１，０００ｋＰａまたはそれより小さい、８００ｋＰａまたはそれより小さい、６００ｋＰａまたはそれより小さい、４００ｋＰａまたはそれより小さい、２００ｋＰａまたはそれより小さい、または１００ｋＰａまたはそれより小さい。このように、光透過領域および/または研磨パッド体の引張り強さは、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域および/または研磨パッド体の引張り強さは、６５ｋＰａ〜１，０００ｋＰａ、８０ｋＰａ〜２００ｋＰａ、または４５，０００ｋＰａ〜６５，０００ｋＰａであり得る。好適な態様において、光透過領域および/または研磨パッド体の引張り強さは、１０，０００ｋＰａ〜１００，０００ｋＰａである。
【００８９】
光透過領域および/または研磨パッド体は、いかなる適切な曲げモジュラスも有し得る。曲げモジュラスは、たとえば研磨パッドを構成する材料および研磨パッドの製造方法に依存する。その曲げモジュラスは、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−１０により測定される（これにより、その全体が組み入れられる）。光透過領域および/または研磨パッド体の曲げモジュラスは、７００ｋＰａまたはそれより大きくあり得、たとえば８００ｋＰａまたはそれより大きい、９００ｋＰａまたはそれより大きい、１，０００ｋＰａまたはそれより大きい、２，０００ｋＰａまたはそれより大きい、３，０００ｋＰａまたはそれより大きい、４，０００ｋＰａまたはそれより大きい、５，０００ｋＰａまたはそれより大きい、１０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、２０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、３０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、４０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、５０，０００ｋＰａまたはそれより大きい、１００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、２００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、３００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、４００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、５００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、１，０００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、２，０００，０００ｋＰａまたはそれより大きい、または３，０００，０００ｋＰａまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、光透過領域および/または研磨パッド体の曲げモジュラスは、３，５００，０００ｋＰａまたはそれより小さくあり得、たとえば３，０００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、２，０００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、１，０００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、５００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、４００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、３００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、２００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、１００，０００ｋＰａまたはそれより小さい、５０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、４０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、３０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、２０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、１０，０００ｋＰａまたはそれより小さい、５，０００ｋＰａまたはそれより小さい、４，０００ｋＰａまたはそれより小さい、３，０００ｋＰａまたはそれより小さい、２，０００ｋＰａまたはそれより小さい、１，０００ｋＰａまたはそれより小さい、９００ｋＰａまたはそれより小さい、または８００ｋＰａまたはそれより小さい。このように、光透過領域および/または研磨パッド体の曲げモジュラスは、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域および/または研磨パッド体の曲げモジュラスは、７００ｋＰａ〜３，０００ｋＰａ、２．０００ｋＰａ〜５０，０００ｋＰａ、または１０，０００ｋＰａ〜１，０００，０００ｋＰａであり得る。
【００９０】
光透過領域および/または研磨パッド体を構成する材料は、いかなる適切な樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレートも有し得る。樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレートは、たとえば研磨パッドを構成する材料（たとえば特定のポリマー樹脂）に依存する。材料（たとえばポリマー樹脂）の樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレートは、所定の温度で特定の時間において、特定の直径の開口を流動する材料の量（ｇ）の尺度を与え、このように樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレートは材料の粘度に関連する。ここに記載する樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレートは、２１０℃の温度および２１６０ｇの荷重で測定される。光透過領域および/または研磨パッド体の樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレートは、１０ｇ/１０分またはそれより大きくあり得、たとえば２０ｇ/１０分またはそれより大きい、３０ｇ/１０分またはそれより大きい、４０ｇ/１０分またはそれより大きい、５０ｇ/１０分またはそれより大きい、６０ｇ/１０分またはそれより大きい、７０ｇ/１０分またはそれより大きい、８０ｇ/１０分またはそれより大きい、９０ｇ/１０分またはそれより大きい、１００ｇ/１０分またはそれより大きい、１５０ｇ/１０分またはそれより大きい、２００ｇ/１０分またはそれより大きい、２５０ｇ/１０分またはそれより大きい、３００ｇ/１０分またはそれより大きい、３５０ｇ/１０分またはそれより大きい、４００ｇ/１０分またはそれより大きい、または４５０ｇ/１０分またはそれより大きい。あるいは、または加えて、光透過領域および/または研磨パッド体の樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレートは、５００ｇ/１０分またはそれより小さくあり得、たとえば４５０ｇ/１０分またはそれより小さい、４００ｇ/１０分またはそれより小さい、３５０ｇ/１０分またはそれより小さい、３００ｇ/１０分またはそれより小さい、２５０ｇ/１０分またはそれより小さい、２００ｇ/１０分またはそれより小さい、１５０ｇ/１０分またはそれより小さい、１００ｇ/１０分またはそれより小さい、９０ｇ/１０分またはそれより小さい、８０ｇ/１０分またはそれより小さい、７０ｇ/１０分またはそれより小さい、６０ｇ/１０分またはそれより小さい、５０ｇ/１０分またはそれより小さい、４０ｇ/１０分またはそれより小さい、３０ｇ/１０分またはそれより小さい、または２０ｇ/１０分またはそれより小さい。このように、光透過領域および/または研磨パッド体の樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレートは、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域および/または研磨パッド体の樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレートは、７０ｇ/１０分〜３５０ｇ/１０分、１５０ｇ/１０分〜４００ｇ/１０分、または１００ｇ/１０分〜５００ｇ/１０分であり得る。
【００９１】
光透過領域および/または研磨パッド体は、いかなる適切な樹脂溶融粘度も有し得る。樹脂溶融粘度は、たとえば研磨パッドを構成する材料に依存する。樹脂溶融粘度（Ｐａ・ｓ）は、２１０℃の温度で、１８/sのずり速度で毛管レオメータにより測定される。光透過領域および/または研磨パッド体の樹脂溶融粘度は、１０Ｐａ・ｓまたはそれより大きくあり得、たとえば５０Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、２００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、３００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、４００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、５００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、６００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、７００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、８００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、９００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、２，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、３，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、４，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、５，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、６，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、７，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、８，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、９，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１０，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１１，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１２，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１３，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１４，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１５，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１６，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１７，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、１８，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい、または１９，０００Ｐａ・ｓまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、光透過領域および/または研磨パッド体の樹脂溶融粘度は、２０，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さくあり得、たとえば１９，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１８，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１７，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１６，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１５，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１４，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１３，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１２，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１１，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１０，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、９，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、８，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、７，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、６，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、５，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、４，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、３，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、２，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１，０００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、９００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、８００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、７００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、６００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、５００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、４００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、３００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、２００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、１００Ｐａ・ｓまたはそれより小さい、または５０Ｐａ・���またはそれより小さい。このように、光透過領域および/または研磨パッド体の樹脂溶融粘度は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域および/または研磨パッド体の樹脂溶融粘度は、５０Ｐａ・ｓ〜３，０００Ｐａ・ｓ、４００Ｐａ・ｓ〜２，０００Ｐａ・ｓ、または１５，０００Ｐａ・ｓ〜１８，０００Ｐａ・ｓであり得る。
【００９２】
光透過領域は、いかなる適切な％結晶化度も有し得る。％結晶化度は、たとえば光透過領域を構成する材料および光透過領域の製造方法に依存する。その％結晶化度は、ＡＳＴＭ  Ｄ３４１８−０８により測定される（これにより、その全体が組み入れられる）。高い結晶化度は光透過領域がここに記載される光透過特性を持つのを妨げるので、通常、比較的低い結晶化度が望ましい。光透過領域の％結晶化度は、０％より大きくあり得、たとえば１％またはそれより大きい、２％またはそれより大きい、４％またはそれより大きい、６％またはそれより大きい、８％またはそれより大きい、１０％またはそれより大きい、１２％またはそれより大きい、１４％またはそれより大きい、１６％またはそれより大きい、１８％またはそれより大きい、２０％またはそれより大きい、２２％またはそれより大きい、２４％またはそれより大きい、２６％またはそれより大きい、または２８％またはそれより大きい。あるいは、または加えて、光透過領域の％結晶化度は、３０％より小さくあり得、たとえば２８％またはそれより小さい、２６％またはそれより小さい、２４％より小さい、２２％またはそれより小さい、２０％またはそれより小さい、１８％より小さい、１６％またはそれより小さい、１４％またはそれより小さい、１２％またはそれより小さい、１０％またはそれより小さい、８％より小さい、６％またはそれより小さい、４％またはそれより小さい、２％より小さい、または１％またはそれより小さい。このように、光透過領域の％結晶化度は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域の％結晶化度は、たとえば光透過領域の望ましい光透過特性に依存して、１％〜１０％、４％〜２２％、または１２％〜２８％であり得る。
【００９３】
研磨パッド体は、いかなる適切な％結晶化度も有し得る。％結晶化度は、たとえば研磨パッド体を構成する材料および研磨パッド体の製造方法に依存する。％結晶化度は、光透過領域の％結晶化度の関する上記のように測定され得る。研磨パッド体の％結晶化度は、０％より大きくあり得、たとえば１％またはそれより大きい、５％またはそれより大きい、１０％またはそれより大きい、１５％またはそれより大きい、２０％またはそれより大きい、２５％またはそれより大きい、３０％またはそれより大きい、３５％またはそれより大きい、４０％またはそれより大きい、４５％またはそれより大きい、５０％またはそれより大きい、または５５％またはそれより大きい。あるいは、または加えて、研磨パッド体の％結晶化度は、６０％より小さくあり得、たとえば５５％またはそれより小さい、５０％またはそれより小さい、４５％より小さい、４０％またはそれより小さい、３５％またはそれより小さい、３０％より小さい、２５％またはそれより小さい、２０％またはそれより小さい、１５％またはそれより小さい、１０％またはそれより小さい、５％より小さい、または１％またはそれより小さい。このように、研磨パッド体の％結晶化度は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、研磨パッド体の％結晶化度は、たとえば研磨パッド体の望ましい光透過特性に依存して、１％〜１０％、２％〜３０％、または２５％〜４５％であり得る。
【００９４】
光透過領域および/または研磨パッド体は、いかなる適切なガラス転移（Ｔｇ）温度も有し得る。ガラス転移温度は、たとえば研磨パッドを構成する材料に依存する。ガラス転移温度は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）のような従来法により測定され得る。光透過領域および/または研磨パッド体のガラス転移温度は、−１００℃またはそれより高くあり得、たとえば−９０℃またはそれより高い、−８０℃またはそれより高い、−７０℃またはそれより高い、−６０℃またはそれより高い、−５０℃またはそれより高い、−４０℃またはそれより高い、−３０℃またはそれより高い、−２０℃またはそれより高い、−１０℃またはそれより高い、０℃またはそれより高い、１０℃またはそれより高い、２０℃またはそれより高い、３０℃またはそれより高い、４０℃またはそれより高い、５０℃またはそれより高い、６０℃またはそれより高い、７０℃またはそれより高い、８０℃またはそれより高い、９０℃またはそれより高い、１００℃またはそれより高い、１１０℃またはそれより高い、１２０℃またはそれより高い、１３０℃またはそれより高い、１４０℃またはそれより高い、または１５０℃またはそれより高い。あるいは、または加えて、光透過領域および/または研磨パッド体のガラス転移温度は、１６０℃またはそれより低くあり得、たとえば１５０℃またはそれより低い、１４０℃またはそれより低い、１３０℃またはそれより低い、１２０℃またはそれより低い、１１０℃またはそれより低い、１００℃またはそれより低い、９０℃またはそれより低い、８０℃またはそれより低い、７０℃またはそれより低い、６０℃またはそれより低い、５０℃またはそれより低い、４０℃またはそれより低い、３０℃またはそれより低い、２０℃またはそれより低い、１０℃またはそれより低い、０℃またはそれより低い、−１０℃またはそれより低い、−２０℃またはそれより低い、−３０℃またはそれより低い、−４０℃またはそれより低い、−５０℃またはそれより低い、−６０℃またはそれより低い、−７０℃またはそれより低い、−８０℃またはそれより低い、または−９０℃またはそれより低い。このように、光透過領域および/または研磨パッド体のガラス転移温度は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域および/または研磨パッド体のガラス転移温度は、−８０℃〜１０℃、０℃〜７０℃、または１１０℃〜１５０℃であり得る。
【００９５】
光透過領域および/または研磨パッド体は、いかなる適切な表面粗さも有し得る。光透過領域および/または研磨パッド体の表面粗さは、材料の性質、および/または光透過領域および/または研磨パッド体を形成するのに使用される方法に起因し得る。表面粗さは、研削のような適切な方法により所望の程度の表面粗さに、追加的にまたは代替的に、調節され得る。その表面粗さは、ＩＳＯ４２８７により測定される（これにより、その全体が組み入れられる）。光透過領域および/または研磨パッド体の表面粗さは、０．１μｍまたはそれより大きくあり得、たとえば０．５μｍまたはそれより大きい、１μｍまたはそれより大きい、５μｍまたはそれより大きい、１０μｍまたはそれより大きい、１５μｍまたはそれより大きい、２０μｍまたはそれより大きい、２５μｍまたはそれより大きい、３０μｍまたはそれより大きい、３５μｍまたはそれより大きい、４０μｍまたはそれより大きい、４５μｍまたはそれより大きい、５０μｍまたはそれより大きい、５５μｍまたはそれより大きい、６０μｍまたはそれより大きい、６５μｍまたはそれより大きい、７０μｍまたはそれより大きい、７５μｍまたはそれより大きい、８０μｍまたはそれより大きい、８５μｍまたはそれより大きい、９０μｍまたはそれより大きい、または９５μｍまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、光透過領域および/または研磨パッド体の表面粗さは、１００μｍまたはそれより小さくあり得、たとえば９５μｍまたはそれより小さい、９０μｍまたはそれより小さい、８５μｍまたはそれより小さい、８０μｍまたはそれより小さい、７５μｍまたはそれより小さい、７０μｍまたはそれより小さい、６５μｍまたはそれより小さい、６０μｍまたはそれより小さい、５５μｍまたはそれより小さい、５０μｍまたはそれより小さい、４５μｍまたはそれより小さい、４０μｍまたはそれより小さい、３５μｍまたはそれより小さい、３０μｍまたはそれより小さい、２５μｍまたはそれより小さい、２０μｍまたはそれより小さい、１５μｍまたはそれより小さい、１０μｍまたはそれより小さい、５μｍまたはそれより小さい、１μｍまたはそれより小さい、または０．５μｍまたはそれより小さい。このように、光透過領域および/または研磨パッド体の表面粗さは、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域および/または研磨パッド体の表面粗さは、１μｍ〜２０μｍ、５μｍ〜８０μｍ、または３０μｍ〜６０μｍであり得る。
【００９６】
光透過領域および/または研磨パッド体は、いかなる適切な屈折率も有し得る。光透過領域の屈折率は、研磨パッドで使用される研磨スラリーの屈折率と類似するのが望ましく、それにより窓/スラリー界面が最小化される。屈折率は、屈折計を用いるような、従来法により測定され得る。光透過領域および/または研磨パッド体の屈折率は、１．１またはそれより大きくあり得、たとえば１．２またはそれより大きい、１．３またはそれより大きい、１．４またはそれより大きい、１．５またはそれより大きい、１．６またはそれより大きい、１．７またはそれより大きい、１．８またはそれより大きい、または１．９またはそれより大きい。あるいは、または加えて、屈折率は、２．０またはそれより小さくあり得、たとえば１．９またはそれより小さい、１．８またはそれより小さい、１．７またはそれより小さい、１．６またはそれより小さい、１．５またはそれより小さい、１．４またはそれより小さい、１．３またはそれより小さい、または１．２またはそれより小さい。このように、光透過領域および/または研磨パッド体の屈折率は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、光透過領域および/または研磨パッド体の屈折率は、１．３〜１．５、１．２〜１．４、または１．６〜１．９であり得る。
【００９７】
いくつかの態様において、研磨パッド（すなわち、研磨パッド体および/または光透過領域）は、表面組織を有し得る。その表面組織は、研磨時に研磨パッドの表面を越える、研磨組成物の横方向輸送を容易にする。表面組織は、標準的なパッド調整法のような、適切な方法を用いて用意され得る。適切な方法の一例は、研磨パッド表面のエンボス加工である。エンボス加工は、くぼみ（dimple）、亀甲形（hexagonal patterns）、溝(grooves)、チャンネル、および/または穿孔（perforations）のような多くのパターンを用意し得る。研磨パッドは、２つまたはそれより多いパターンを有し得る。たとえば、おおきな溝と小さな溝の組み合わせが使用され得る。溝は、傾斜溝、同心溝、らせんもしくは円形溝、およびＸＹクロスハッチパターンの形状であり得、連続性は連続または不連続であり得る。他の適切な表面組織パターンも容易に利用され得る。
【００９８】
表面組織は、光透過領域を研磨パッドに統合/付着する溶接プロセスの間に、研磨パッド表面に移す特徴を有するＲＦ溶接工具を用いて、研磨パッド表面にエンボス加工され得る。あるいは、表面組織は、研磨パッドへの統合の前に研磨パッドの表面にエンボス加工され得る。さらに、多孔質研磨パッド表面上の表面組織の形成は、組織パターンの形成をもたらす圧縮の異なる度合いに対応して、研磨パッド内に比較的高いおよび比較的低い多孔性領域を典型的に生じさせる。
【００９９】
研磨パッドの表面組織は、所望量の光透過を与えるように適合され得る。表面組織の存在は、照射の入射光の比較的大きい光散乱を生じさせ得る。このように、表面組織の密度および種類は、所望の光透過特性を与えるように選択され得る。さらに、たとえばエンボス加工による研磨パッドの多孔性の度合いの変更も、孔による光散乱に影響し得る。
【０１００】
本発明による研磨パッドは、単独で使用され得、または多層に積層された研磨パッドの一つの層としても任意に使用され得、その構造はこの分野で周知である。米国特許第６，８８４，１５６号明細書参照、これによりその全体が組み入れられる。たとえば、本発明の研磨パッドは、サブパッドと組み合わせて使用され得る。適切なサブパッドは、ポリウレタン発泡サブパッド、含侵フェルトサブパッド、微孔ポリウレタンサブパッドおよび焼成ウレタンサブパッドを含む。サブパッドは、典型的に本発明の研磨パッドより柔らかく、したがって研磨パッドよりもっと圧縮できる。いくつかの態様において、サブパッドは、研磨パッドより少なく圧縮できる。サブパッドは、研磨パッドの光透過領域を曝すために少なくとも１つの窓または開口を含む。サブパッドは、溝、チャンネル、くぼみ(hollow)部分、等を任意に含む。本発明の研磨パッドがサブパッドと組み合わせて使用されるとき、典型的には、研磨パッドおよびサブパッドと同一の広がりをもつ、ポリエチレンテレフタレートのような中間裏打ち層がある。サブパッドおよび/または裏打ち層は、研磨パッド体および/または光透過領域と同一または異なる材料から構成され得る。いくつかの態様において、サブパッドおよび/または裏打ち層は、ここで記載されるような本発明材料から構成され得る。他の態様において、サブパッドおよび/または裏打ち層は、ここで記載されるような本発明材料でない材料から構成され得る。
【０１０１】
本発明は、被加工物の研磨方法をさらに提供し、その方法は、（ａ）研磨される被加工物を用意すること；（ｂ）その被加工物を研磨パッドおよび化学機械研磨組成物と接触させること；ならびに（ｃ）研磨パッドに対して被加工物を移動させ、被加工物を研磨するように被加工物の表面の少なくとも一部分を摩耗すること、を含み、ここで研磨パッドは、少なくとも１つの光透過領域を含み、その光透過領域は、（ｉ）ポリマー樹脂および（ｉｉ）少なくとも１つの光吸収化合物、を含む材料で構成され、ここで光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、全光線透過率が２５％またはそれより大きい。
【０１０２】
好適な態様において、被加工物の研磨方法は、原位置で研磨終点を検出することを含む。好適な態様において、研磨終点は光を用いて検出される。光を用いて原位置で研磨終点を検出することは、研磨プロセスの間に研磨パッドおよび被加工物アセンブリに光を照射して、光が研磨パッドの少なくとも１つの光透過領域を通過するようにすることを含む。少なくとも１つの光透過領域を通過した後に、光は研磨される被加工物の表面に当たり、光は被加工物から反射して光透過領域に戻り、そしてその反射光は、光の特性（たとえば、強度、波長、吸収、透過等）を分析および/または記録する、１つまたはそれより多い光検出器により検出される。反射光は、基板の平坦化および/または摩耗の所望の程度が達成されることが決定されるまで監視される（たとえば、反射光の強度変化、反射光の短波長への青色シフトもしくは長波長への赤色シフト等、またはそれらの組み合わせにより示されるように）。強度変化および/または青色もしくは赤色シフト等は、研磨プロセスの間に発生する所定の出来事、たとえば所望の平坦化レベルの達成、の前に反射光の特性に関して測定される。
【０１０３】
原位置で研磨終点を検出するのに使用される光は、１つまたはそれより多い単一波長（たとえば、２５０ｎｍ、２５５ｎｍ、２６０ｎｍ、２６５ｎｍ、２７０ｎｍ、２７５ｎｍ、２８０ｎｍ、２８５ｎｍ、２９０ｎｍ、２９５ｎｍ、３００ｎｍ、３０５ｎｍ、３１０ｎｍ、３１５ｎｍ、３２０ｎｍ、３２５ｎｍ、３３０ｎｍ、３３５ｎｍ、３４０ｎｍ、３４５ｎｍ、３５０ｎｍ、３５５ｎｍ、３６０ｎｍ、３６５ｎｍ、３７０ｎｍ、３７５ｎｍ、３８０ｎｍ、３８５ｎｍ、３９０ｎｍ、または３９５ｎｍ、）を含み得、および/または光は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲で、１つまたはそれより多い波長範囲を含み得る。たとえば、光の波長は、範囲の上限が３９５ｎｍを超えなければ、２５０ｎｍまたはそれより大きい範囲内であり得、たとえば２５５ｎｍまたはそれより大きい、２６０ｎｍまたはそれより大きい、２６５ｎｍまたはそれより大きい、２７０ｎｍまたはそれより大きい、２７５ｎｍまたはそれより大きい、２８０ｎｍまたはそれより大きい、２８５ｎｍまたはそれより大きい、２９０ｎｍまたはそれより大きい、２９５ｎｍまたはそれより大きい、３００ｎｍまたはそれより大きい、３０５ｎｍまたはそれより大きい、３１０ｎｍまたはそれより大きい、３１５ｎｍまたはそれより大きい、３２０ｎｍまたはそれより大きい、３２５ｎｍまたはそれより大きい、３３０ｎｍまたはそれより大きい、３３５ｎｍまたはそれより大きい、３４０ｎｍまたはそれより大きい、３４５ｎｍまたはそれより大きい、３５０ｎｍまたはそれより大きい、３５５ｎｍまたはそれより大きい、３６０ｎｍまたはそれより大きい、３６５ｎｍまたはそれより大きい、３７０ｎｍまたはそれより大きい、３７５ｎｍまたはそれより大きい、３８０ｎｍまたはそれより大きい、３８５ｎｍまたはそれより大きい、または３９０ｎｍまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、光の波長は、範囲の下限が少なくとも２５０ｎｍであれば、３９５ｎｍまたはそれより小さい範囲内であり得、たとえば３９０ｎｍまたはそれより小さい、３８５ｎｍまたはそれより小さい、３８０ｎｍまたはそれより小さい、３７５ｎｍまたはそれより小さい、３７０ｎｍまたはそれより小さい、３６５ｎｍまたはそれより小さい、３６０ｎｍまたはそれより小さい、３５５ｎｍまたはそれより小さい、３５０ｎｍまたはそれより小さい、３４５ｎｍまたはそれより小さい、３４０ｎｍまたはそれより小さい、３３５ｎｍまたはそれより小さい、３３０ｎｍまたはそれより小さい、３２５ｎｍまたはそれより小さい、３２０ｎｍまたはそれより小さい、３１５ｎｍまたはそれより小さい、３１０ｎｍまたはそれより小さい、３０５ｎｍまたはそれより小さい、３００ｎｍまたはそれより小さい、２９５ｎｍまたはそれより小さい、２９０ｎｍまたはそれより小さい、２８５ｎｍまたはそれより小さい、２８０ｎｍまたはそれより小さい、２７５ｎｍまたはそれより小さい、２７０ｎｍまたはそれより小さい、２６５ｎｍまたはそれより小さい、２６０ｎｍまたはそれより小さい、または２５５ｎｍまたはそれより小さい。このように、もの波長は、前述の終点の２つにより制限され得る。たとえば、原位置で研磨終点を検出するのに使用される光の波長は��２５０ｎｍ〜３００ｎｍ、２８０ｎｍ〜３２５ｎｍ、または３５０ｎｍ〜３９５ｎｍであり得る。さらに、いかなる個々の波長も、原位置で研磨終点を検出するのに使用される光を記載するとき、いかなる波長範囲とも組み合され得る。
【０１０４】
もう１つの態様において、研磨終点検出のために研磨中に研磨パッドおよび被加工物アセンブリを照射するのに使用される光は、１つまたはそれより多い単一波長（たとえば、３９５ｎｍ、４００ｎｍ、４２５ｎｍ、４５０ｎｍ、４７５ｎｍ、５００ｎｍ、５２５ｎｍ、５５０ｎｍ、５７５ｎｍ、６００ｎｍ、６２５ｎｍ、６５０ｎｍ、６７５ｎｍ、７００ｎｍ、７２５ｎｍ、７５０ｎｍ、７７５ｎｍ、８００ｎｍ、８２５ｎｍ、８５０ｎｍ、８７５ｎｍ、９００ｎｍ、９２５ｎｍ、９５０ｎｍ、９７５ｎｍ、１，０００ｎｍ、２，０００ｎｍ、５，０００ｎｍ、１０，０００ｎｍ、２０，０００ｎｍ、３０，０００ｎｍ、または３５，０００ｎｍ、）を含み得、および/または光は、３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲で、１つまたはそれより多い波長範囲を含み得る。たとえば、光の波長は、範囲の上限が３５，０００ｎｍを超えなければ、３９５ｎｍまたはそれより大きい範囲内であり得、たとえば４００ｎｍまたはそれより大きい、４２５ｎｍまたはそれより大きい、４５０ｎｍまたはそれより大きい、４７５ｎｍまたはそれより大きい、５００ｎｍまたはそれより大きい、５２５ｎｍまたはそれより大きい、５５０ｎｍまたはそれより大きい、５７５ｎｍまたはそれより大きい、６００ｎｍまたはそれより大きい、６２５ｎｍまたはそれより大きい、６５０ｎｍまたはそれより大きい、６７５ｎｍまたはそれより大きい、７００ｎｍまたはそれより大きい、７２５ｎｍまたはそれより大きい、７５０ｎｍまたはそれより大きい７７５ｎｍまたはそれより大きい、８００ｎｍまたはそれより大きい、８２５ｎｍまたはそれより大きい、８５０ｎｍまたはそれより大きい、８７５ｎｍまたはそれより大きい、９００ｎｍまたはそれより大きい、９２５ｎｍまたはそれより大きい、９５０ｎｍまたはそれより大きい、９７５ｎｍまたはそれより大きい、１，０００ｎｍまたはそれより大きい、２，０００ｎｍまたはそれより大きい、３，０００ｎｍまたはそれより大きい、４，０００ｎｍまたはそれより大きい、５，０００ｎｍまたはそれより大きい、６，０００ｎｍまたはそれより大きい、７，０００ｎｍまたはそれより大きい、８，０００ｎｍまたはそれより大きい、９，０００ｎｍまたはそれより大きい、１０，０００ｎｍまたはそれより大きい、１５，０００ｎｍまたはそれより大きい、２０，０００ｎｍまたはそれより大きい、２５，０００ｎｍまたはそれより大きい、または３０，０００ｎｍまたはそれより大きい。あるいは、または加えて、光の波長は、範囲の下限が少なくとも３９５ｎｍであれば、３５，０００ｎｍまたはそれより小さい範囲内であり得、たとえば３０，０００ｎｍまたはそれより小さい、２５，０００ｎｍまたはそれより小さい、２０，０００ｎｍまたはそれより小さい、１５，０００ｎｍまたはそれより小さい、１０，０００ｎｍまたはそれより小さい、９，０００ｎｍまたはそれより小さい、８，０００ｎｍまたはそれより小さい、７，０００ｎｍまたはそれより小さい、６，０００ｎｍまたはそれより小さい、５，０００ｎｍまたはそれより小さい、４，０００ｎｍまたはそれより小さい、３，０００ｎｍまたはそれより小さい、２，０００ｎｍまたはそれより小さい、１，０００ｎ��またはそれより小さい、９７５ｎｍまたはそれより小さい、９５０ｎｍまたはそれより小さい、９２５ｎｍまたはそれより小さい、９００ｎｍまたはそれより小さい、８７５ｎｍまたはそれより小さい、８５０ｎｍまたはそれより小さい、８２５ｎｍまたはそれより小さい、８００ｎｍまたはそれより小さい、７７５ｎｍまたはそれより小さい、７５０ｎｍまたはそれより小さい、７２５ｎｍまたはそれより小さい、７００ｎｍまたはそれより小さい、６７５ｎｍまたはそれより小さい、６５０ｎｍまたはそれより小さい、６２５ｎｍまたはそれより小さい、６００ｎｍまたはそれより小さい、５７５ｎｍまたはそれより小さい、５５０ｎｍまたはそれより小さい、５２５ｎｍまたはそれより小さい、５００ｎｍまたはそれより小さい、４７５ｎｍまたはそれより小さい、４５０ｎｍまたはそれより小さい、４２５ｎｍまたはそれより小さい、または４００ｎｍまたはそれより小さい。このように、原位置で研磨終点を検出するのに使用される光の波長は、前述の終点の２つにより制限される波長範囲内であり得る。たとえば、光の波長は、４９５ｎｍ〜１０，０００ｎｍ、８００ｎｍ〜２，０００ｎｍ、または４００ｎｍ〜８００ｎｍであり得る。さらに、いかなる個々の波長も、原位置で研磨終点を検出するのに使用される光を記載するとき、いかなる波長範囲とも組み合され得る。
【０１０５】
原位置で研磨終点を検出するとき、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍのすべての範囲の光について記載される、いかなる単一の波長または波長範囲も、原位置で研磨終点を検出するために適切な方法で組み合され得る。たとえば、原位置で研磨終点を検出ことは、３５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび４００ｎｍ〜８００ｎｍ、２５０ｎｍ〜３０５ｎｍおよび４２５ｎｍ〜７７５ｎｍ、５２５ｎｍ〜６５０ｎｍおよび８００ｎｍ〜１，０００ｎｍ、または３８０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび４２５ｎｍ〜６７５ｎｍ、の波長を有する光を利用することを含み得る。好適な態様において、終点検出のために研磨中に研磨パッドおよび被加工物アセンブリを照射するのに使用される光は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の波長を有する。
【０１０６】
本発明の研磨パッドに利用される研磨組成物は、いかなる適切な組成物でもよい。研磨組成物は、典型的に水性キャリア、ｐＨ調節剤および任意に研磨剤を含む。研磨される被加工物に依存して、研磨組成物は任意に酸化剤、有機もしくは無機酸、錯化剤、ｐＨバッファー、界面活性剤、腐食防止剤、消泡剤、等をさらに含み得る。
【実施例】
【０１０７】
次の例は、本発明をさらに説明するが、本発明の範囲を限定するものではないことはもちろんである。
例
これらの例において、紫外光照射は、１００ワット水銀ランプを用いて少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ２の強度で４分間、実施された。このプロトコールは、１０００個のウエハを研磨する典型的な生産運転の間、白色光終点検出システム（たとえば、Advanced Materialsから入手し得るFullVision system）において使用される５００〜１０００万の光フラッシュをシミュレートする。そのシミュレートされた光照射は、たとえば、ＵＶＥＸＳから入手し得る装置（高強度の紫外および白色光エネルギーを提供する装置である）を用いて、実施され得る。ＵＶＥＸＳシステムで使用される１００ワット水銀ランプは、３６５ｎｍに紫外エネルギーのピークを有する、３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲で、高強度（典型的には１，０００ｍＷ/ｃｍ２を超える）の光を発生できる。
【０１０８】
紫外−可視スペクトルは、１ｎｍの解像度で、Ａｇｉｌｅｎｔ  ８４５３紫外−可視分光計を用いて記録された。
例１
この例は、ポリマー樹脂を含む材料から構成され、適切な全光線透過率を有する、光透過領域を持つ本発明の研磨パッドを示す。
【０１０９】
研磨パッド体および光透過領域を含む、２つの研磨パッドが調製された。得られた２つの研磨パッドは、（ａ）第１のポリマー樹脂からなる研磨パッド体、および（ｂ）光吸収化合物なしに、第２のポリマー樹脂からなり、厚さが１ｍｍである、実質的に非多孔質の光透過領域、を含んでいた。第１のポリマー樹脂は、下記の化学構造を有する従来のメチレンジフェニルジイソシアネート系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、ＭＤＩ系ＴＰＵ）であった。
【０１１０】
【化７】
2015512799.tif 000009
【０１１１】
第２のポリマー樹脂は、下記の化学構造を有するポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、ＰＣ系ＴＰＵ）であった。
【０１１２】
【化８】
2015512799.tif 000010
【０１１３】
第１の研磨パッドは、米国特許第６，８９６，５９３号明細書（ここで、引用により全体を組み入れられる）に記載される微細セル発泡法を用いて高多孔質研磨パッド体を形成することにより調製された。ついで、研磨パッドの一部が、空の空隙を含む研磨パッド体を得るために除去された。光透過領域は、第２のポリマー樹脂から射出成形法を用いて別々に形成され、そこでは第２のポリマー樹脂は、ショア硬度が４２Ｄ（すなわち、８７Ａ）であった。光透過領域は、実質的に非多孔質であり、ショア硬度が６５Ａであった。光透過領域は、研磨パッド体中の空隙の大きさに適合するように切り取られ、空隙内に置かれ、ついで超音波およびＲＦ溶接の組み合わせを用いて空隙内で研磨パッド体に付着された。第２の研磨パッドも同一の方法で形成された。ただし、光透過領域は、ショア硬度が５５Ｄ（すなわち、９２Ａ）を有する第２のポリマー樹脂から形成された。
【０１１４】
紫外−可視スペクトルが２つの研磨パッドの光透過領域について記録され、図３に示される。２つの研磨パッドのそれぞれの光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた。特に、第１および第２の研磨パッドの光透過領域は、それぞれ３５７ｎｍまたはそれより大きい、および３５３ｎｍまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた。
例２
この例は、ポリマー樹脂を含み、光吸収化合物を有するか、もしくは有さない材料から構成される光透過領域を持つ本発明の研磨パッドを示す。
【０１１５】
研磨パッド体および光透過領域を含む、２つの研磨パッドが調製された。得られた２つの研磨パッドは、（ａ）第１のポリマー樹脂からなる研磨パッド体、および（ｂ）光吸収化合物とともに、または、なしで、第２のポリマー樹脂からなり、厚さが１ｍｍである、実質的に非多孔質の光透過領域、を含んでいた。第１の研磨パッドは、光透過領域に存在する光吸収化合物を有さないが、第２の研磨パッドは、光透過領域に光吸収化合物を光透過領域の重量に基づいて０．５ｗｔ％の量で有していた。第１のポリマー樹脂は、例１のメチレンジフェニルジイソシアネート系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、ＭＤＩ系ＴＰＵ）であった。第２のポリマー樹脂は、ショア硬度５５Ｄ（すなわち、９２Ａ）を有する、例１のポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、ＰＣ系ＴＰＵ）であった。光吸収化合物は、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート（たとえば、ＵＶＩＮＵＬ（商標）３０８８）であった。
【０１１６】
光吸収化合物を含まない、第１の研磨パッドは、例１に記載されるのと同一の方法で調製された。光吸収化合物を含む、第１の研磨パッドは、第２のポリマー樹脂が光吸収化合物と溶融混合され、ついで射出成形法を用いて光透過領域に成形されたこと以外は、例１に記載されるのと類似の方法で調製された。光透過領域は、実質的に非多孔質であった。光透過領域は、例１に記載されるのと同一の方法で、研磨パッドに付着された。
【０１１７】
紫外−可視スペクトルが２つの研磨パッドの光透過領域について記録され、図４に示される。２つの研磨パッドのそれぞれの光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた。特に、光吸収化合物を含まない、第１の研磨パッドの光透過領域は、２９３ｎｍまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた。そして、光吸収化合物を含む、第２の研磨パッドの光透過領域は、３４９ｎｍまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた。このように、所望の範囲（２５０ｎｍ〜３９５ｎｍ）で適切なレベルの全光線透過率（たとえば、２５％またはそれより大きい）が、光吸収化合物の含有でも維持された。
例３
この例は、ポリマー樹脂および光吸収化合物を含む材料から構成される光透過領域を持つ、本発明の研磨パッドの全光線透過率を示す。
【０１１８】
研磨パッド体および光透過領域を含む、２つの研磨パッドが例２記載の方法で調製された。得られた２つの研磨パッドは、（ａ）第１のポリマー樹脂からなる研磨パッド体、および（ｂ）光吸収化合物とともに、または、なしで、第２のポリマー樹脂からなり、厚さが１ｍｍである、実質的に非多孔質の光透過領域、を含んでいた。第１の研磨パッドは、光透過領域に存在する光吸収化合物を有さないが、第２の研磨パッドは、光透過領域に光吸収化合物を光透過領域の重量に基づいて０．５ｗｔ％の量で有していた。第１のポリマー樹脂は、例１のメチレンジフェニルジイソシアネート系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、ＭＤＩ系ＴＰＵ）であった。第２のポリマー樹脂は、ショア硬度５５Ｄ（すなわち、９２Ａ）を有する、例１のポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、ＰＣ系ＴＰＵ）であった。第１の研磨パッドにおける光吸収化合物は、２−ヒドロキシ−４−N−オクトキシベンゾフェノン（たとえば、CYASORB（商標）UV-531）であり、第２の研磨パッドにおける光吸収化合物は、ペンタエリスリトール  テトラキス(２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート）（たとえば、UVINUL(商標）3030）あった。光吸収化合物は、光透過領域の重量に基づいて０．５ｗｔ％の量で光透過領域に存在していた。
【０１１９】
紫外−可視スペクトルが２つの研磨パッドの光透過領域について記録され、図５ＡおよびＢにそれぞれ示される。２つの研磨パッドのそれぞれの光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた。特に、第１の研磨パッドの光透過領域は、３７７ｎｍまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた（図５Ａ参照）。そして、第２の研磨パッドの光透過領域は、３８０ｎｍまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた（図５Ｂ参照）。所望の範囲（２５０ｎｍ〜３９５ｎｍ）で適切なレベルの全光線透過率（たとえば、２５％またはそれより大きい）が、光透過領域のための光吸収化合物と組み合わせてポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタンを使用して達成された。
例４
この例は、ポリマー樹脂および光吸収化合物を含む材料から構成される光透過領域を持つ、本発明の研磨パッドの紫外光照射の効果を示す。
【０１２０】
紫外−可視スペクトルが、紫外光照射前後に、例２の研磨パッドの光透過領域について記録され、図６に示される。紫外光照射に使用されたプロトコールは、上述のとおりである。
【０１２１】
図６に示されるように、紫外光照射前に、研磨パッドの光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた。特に、研磨パッドの光透過領域は、紫外光照射前に、３５０ｎｍまたはそれより大きい波長で、２５％の全光線透過率を有していた。
【０１２２】
図６に示されるように、紫外光照射後に、光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲で、特に３５０ｎｍまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を維持していた。紫外光照射前の光透過領域の全光線透過率は、紫外光照射後の光透過領域の全光線透過率と、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、３０％またはそれより少なく異なっていた。特に、全光線透過率の差異は、２５０ｎｍ〜８００ｎｍの全範囲内で５％またはそれより少なく、紫外光への高い安定性を示している。
例５
この例は、本発明の範囲内でないポリマー樹脂を含む材料から構成される（従来の適切でない光吸収化合物の存在ありとなしの両方を含む）光透過領域を持つ、研磨パッドを示す。
【０１２３】
研磨パッド体および光透過領域を含む、２つの研磨パッドが例１および２に記載される方法で、それぞれ調製された。得られた２つの研磨パッドは、（ａ）第１のポリマー樹脂からなる研磨パッド体、および（ｂ）光吸収化合物とともに、または、なしで、第２のポリマー樹脂からなり、厚さが１ｍｍである、実質的に非多孔質の光透過領域、を含んでいた。第１の研磨パッドは、光透過領域に存在する光吸収化合物を有さないが、第２の研磨パッドは、光透過領域に光吸収化合物を光透過領域の重量に基づいて０．５ｗｔ％の量で有していた。第１のポリマー樹脂は、例１のメチレンジフェニルジイソシアネート系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、ＭＤＩ系ＴＰＵ）であった。第２のポリマー樹脂は、下記の化学構造を有する、ポリカプロラクタム系脂肪族熱可塑性ポリウレタンであった。
【０１２４】
【化９】
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【０１２５】
光吸収化合物は、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジtertペンチルフェノール（たとえば、ＴＩＮＵＶＩＮ（商標）３２８）であった。
【０１２６】
紫外−可視スペクトルが２つの研磨パッドの光透過領域について記録され、図７に示される。２つの研磨パッドの光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の波長範囲で、２５％またはそれより小さい全光線透過率を有していた。特に、光吸収化合物を含まない、第１の研磨パッドの光透過領域は、３９９ｎｍまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた。そして、光吸収化合物を含む、第２の研磨パッドの光透過領域は、４０１ｎｍまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた。このように、、所望の範囲（２５０ｎｍ〜３９５ｎｍ）で適切なレベルの全光線透過率（たとえば、２５％またはそれより大きい）は、光吸収化合物のありまたはなしで、ポリカプロラクタム系熱可塑性ポリウレタンでは達成されなかった。
例６
この例は、望ましくない全光線透過率を有する、ポリマー樹脂および光吸収化合物から構成される光透過領域を持つ、研磨パッドを示す。
【０１２７】
研磨パッド体および光透過領域を含む研磨パッドが、例２に記載される方法で調製された。得られた研磨パッドは、（ａ）ポリマー樹脂からなる研磨パッド体、および（ｂ）同一のポリマー樹脂および光吸収化合物からなり、厚さが１ｍｍである、実質的に非多孔質の光透過領域、を含んでいた。ポリマー樹脂は、例１のメチレンジフェニルジイソシアネート系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、ＭＤＩ系ＴＰＵ）であった。光吸収化合物は、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジtertペンチルフェノール（たとえば、ＴＩＮＵＶＩＮ（商標）３２８）であった。
【０１２８】
紫外−可視スペクトルが光透過領域について記録され、図８に示される。光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の波長範囲で、２５％またはそれより小さい全光線透過率を有していた。むしろ、光透過領域は、４０２ｎｍまたはそれより大きい波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していた。
例７
この例は、紫外光照射後に全光線透過率の有意の低減を有する光吸収化合物を含まない、ポリマー樹脂から構成される光透過領域を持つ、研磨パッドを示す。
【０１２９】
研磨パッド体および光透過領域を含む研磨パッドが、光透過領域が光吸収化合物を含まない以外は、例６に記載されるのと同一の方法で調製された。
【０１３０】
紫外−可視スペクトルが、上記に記載されるように紫外光照射の前後に、光透過領域について記録され（それぞれ３回測定）、図９に示される。
【０１３１】
紫外光照射前に、光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長範囲で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していなかった。むしろ、光透過領域は、紫外光照射の前に、４１０ｎｍまたはそれより小さい波長で、２５％より小さい全光線透過率を有していた。
【０１３２】
紫外光照射後に、光透過領域の全光線透過率は、有意に低下した。特に、光透過領域は、５００ｎｍまたはそれより小さい波長で、２５％より小さい全光線透過率を有していた。さらに、紫外光照射前の光透過領域の全光線透過率は、紫外光照射後の光透過領域の全光線透過率と、４１５ｎｍで２０％異なり（２５％〜５％の全光線透過率）、そして全光線透過率の差異はもっと長波長で増加し、８００ｎｍで最大４０％の差異であった。
例８
この例は、光透過領域を含む研磨パッドの退色を示す。
商業的に入手し得る研磨パッドが評価され、それはエーテル系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、エーテル系ＴＰＵ）から構成され、光吸収化合物を含まない。
紫外−可視スペクトルが、上記に記載されるように紫外光照射の前後に、研磨パッドの光透過領域について記録され（それぞれ３回測定）、図９１０に示される。光透過領域の退色の度合いがＡＳＴＭ  Ｄ１１４８−９５により測定された。
【０１３３】
紫外光照射は、３９５ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲において５０％より多い、光透過領域の退色を生じさせた。
例９
この例は、白色光終点検出システムを使用しながら、多数のウエハを研磨する生産運転ポリマーにおいて使用される前と後で、研磨パッドの光透過領域の全光線透過率を示す。
【０１３４】
研磨パッド体および光透過領域を含む研磨パッドが例２記載の方法と類似の方法で調製された。得られた研磨パッドは、（ａ）第１のポリマー樹脂からなる研磨パッド体、および（ｂ）第２のポリマー樹脂および光吸収化合物からなり、厚さが１ｍｍである、実質的に非多孔質の光透過領域、を含んでいた。第１のポリマー樹脂は、例１のメチレンジフェニルジイソシアネート系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、ＭＤＩ系ＴＰＵ）であった。第２のポリマー樹脂は、ショア硬度４２Ｄ（すなわち、８７Ａ）を有する、例１のポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタン（すなわち、ＰＣ系ＴＰＵ）であった。光吸収化合物は、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート（たとえば、ＵＶＩＮＵＬ（商標）３０８８）であった。光吸収化合物は、光透過領域の重量に基づいて０．５ｗｔ％の量で光透過領域に存在していた。
【０１３５】
紫外−可視スペクトルが、数多くのウエハを研磨パッドで研磨する前後に、光透過領域について記録され、図１１に示される。ウエハを研磨する前に、光透過領域は３５０ｎｍまたはそれより大きい波長で２５％またはそれより多い全光線透過率を有していた。２０のウエハを研磨した後に、光透過領域は３５０ｎｍまたはそれより大きい波長で２５％またはそれより多い全光線透過率を維持していた。２９０のウエハを研磨した後に、光透過領域は３８５ｎｍまたはそれより大きい波長で２５％またはそれより多い、十分な全光線透過率をなお維持していた。
【０１３６】
この例の結果は、本発明の光透過領域が、白色光終点検出システムを使用しながら、多数のウエハを研磨しても十分な全光線透過率を維持することを示す。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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