(57)【要約】  本明細書は、基材、伝導性層、および暗色化層を含む伝導性構造体およびその製造方法を提供する。前記伝導性構造体は、伝導性層の伝導度に影響を及ぼすことなく伝導性層による反射を防止することができ、吸光度を向上することによって伝導性層の隠蔽性を向上させることができる。したがって、前記伝導性構造体を用いて視認性が改善されたディスプレイパネルを開発することができる。
2015533682.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材、
伝導性層、および
波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して下記数学式１および数学式２を満たす暗色化層を含む伝導性構造体：
［数学式１］
【数１】
2015533682.tif 000031
［数学式２］
【数２】
2015533682.tif 000032
前記数学式１または数学式２において、
｜Ｒ｜は伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータであり、
ｎは屈折率であり、ｋは減衰係数であり、ＲＭｅｔａｌは伝導性層の反射率であり、
ｄは暗色化層の厚さであり、λは光の波長である。
【請求項２】
波長６００ｎｍの光に対して前記数学式１および数学式２を満たす暗色化層を含むことを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項３】
前記暗色化層が、下記数学式３の値が５１．８以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体：
［数学式３］
【数３】
2015533682.tif 000033
前記数学式３において、
Ａ＊は特定波長に対する明るさを示すパラメータであり、ｎ、ｋおよびＲＭｅｔａｌは数学式１における定義と同様である。
【請求項４】
前記暗色化層が、前記数学式３の値が４０以下であることを特徴とする、請求項３に記載の伝導性構造体。
【請求項５】
前記暗色化層が、下記数学式１５の値が４０以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体：
［数学式１５］
【数４】
2015533682.tif 000034
前記数学式１５において、
Ｌ＊は可視光線の全波長領域に対する明るさを示すパラメータであり、
ＹはＣＩＥ  ＸＹＺ座標系の三色刺激値のうち緑色に該当する刺激値であり、
ＹｎはＣＩＥ  ＸＹＺ座標系の三色刺激値のうち白色に該当する刺激値の正規化された値である。
【請求項６】
前記暗色化層の減衰係数ｋが０．２以上２．５以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項７】
前記暗色化層の減衰係数ｋが０．２以上１．２以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項８】
前記暗色化層の減衰係数ｋが０．４以上１．０以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項９】
前記伝導性層が基材と暗色化層との間に備えられ、
前記伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータは、前記暗色化層が前記伝導性層と接する面の反対面方向から測定することを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項１０】
前記暗色化層が前記伝導性層と基材との間に備えられ、
前記伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータは前記基材側から測定することを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項１１】
前記暗色化層の屈折率ｎが０超過３以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項１２】
前記伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜が０．１５以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項１３】
前記伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜が０．１以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項１４】
前記伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜が０．０７以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項１５】
前記伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜が０．０３以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項１６】
前記暗色化層の厚さｄが２０ｎｍ〜１５０ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項１７】
前記暗色化層または伝導性層のシート抵抗が０Ω／□超過２Ω／□以下であることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項１８】
前記暗色化層が、金属、その酸化物、その窒化物、その酸窒化物およびその炭化物からなる群から選択される１つまたは２つ以上を含むことを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項１９】
前記金属が、Ｎｉ、Ｖ、Ｗ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、ＡｌおよびＣｕからなる群から選択される１つまたは２つ以上であることを特徴とする、請求項１８に記載の伝導性構造体。
【請求項２０】
前記暗色化層が、誘電性物質および金属のうち少なくとも１つを含むことを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項２１】
前記誘電性物質が、ＴｉＯ２−ｘ、ＳｉＯ２−ｘ、ＭｇＦ２−ｘおよびＳｉＮ１．３−ｘ（−１≦ｘ≦１）からなる群から選択されることを特徴とする、請求項２０に記載の伝導性構造体。
【請求項２２】
前記金属が、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、ＡｕおよびＡｇからなる群から選択される１つまたは２つ以上の合金であることを特徴とする、請求項２０に記載の伝導性構造体。
【請求項２３】
前記伝導性層の厚さが０．０１マイクロメートル〜１０マイクロメートルであることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項２４】
前記伝導性層が金属、金属合金、金属酸化物および金属窒化物からなる群から選択される１つ以上の物質を含み、
前記物質は比抵抗が１×１０−６Ω・ｃｍ〜３０×１０−６Ω・ｃｍであることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項２５】
前記伝導性層が、Ｃｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｎｄ、Ｍｏ、Ｎｉ、その酸化物およびその窒化物からなる群から選択される１つまたは２つ以上を含むことを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項２６】
前記暗色化層が前記伝導性層の少なくとも一面に備えられることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項２７】
前記伝導性層または暗色化層がパターン化されることを特徴とする、請求項１に記載の伝導性構造体。
【請求項２８】
前記伝導性構造体は、シート抵抗が１Ω／□〜３００Ω／□であることを特徴とする、請求項２７に記載の伝導性構造体。
【請求項２９】
前記伝導性層および暗色化層がパターン化されたものであり、
前記パターン化された伝導性層におけるパターンの線幅が１０マイクロメートル以下であることを特徴とする、請求項２７に記載の伝導性構造体。
【請求項３０】
前記伝導性層および暗色化層がパターン化されたものであり、
前記パターン化された暗色化層におけるパターンの線幅が前記パターン化された伝導性層におけるパターンの線幅と同一であるか大きいことを特徴とする、請求項２７に記載の伝導性構造体。
【請求項３１】
前記伝導性層および暗色化層がパターン化されたものであり、
前記パターン化された暗色化層が前記パターン化された伝導性層が備えられた面積の８０％〜１２０％の面積を有することを特徴とする、請求項２７に記載の伝導性構造体。
【請求項３２】
請求項１〜３１のいずれか１項に記載の伝導性構造体を含むタッチスクリーンパネル。
【請求項３３】
請求項１〜３１のいずれか１項に記載の伝導性構造体を含むディスプレイ装置。
【請求項３４】
請求項１〜３１のいずれか１項に記載の伝導性構造体を含む太陽電池。
【請求項３５】
基材上に伝導性層を形成するステップ、および
前記伝導性層の形成以前、以後、または以前と以後に全て波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して下記数学式１および数学式２を満たす暗色化層を形成するステップを含む伝導性構造体の製造方法：
［数学式１］
【数５】
2015533682.tif 000035
［数学式２］
【数６】
2015533682.tif 000036
前記数学式１または数学式２において、
｜Ｒ｜は伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータであり、
ｎは屈折率であり、ｋは減衰係数であり、ＲＭｅｔａｌは伝導性層の反射率であり、
ｄは暗色化層の厚さであり、λは光の波長である。
【請求項３６】
前記伝導性層または暗色化層のシート抵抗が０Ω／□超過２Ω／□以下であることを特徴とする、請求項３５に記載の伝導性構造体の製造方法。
【請求項３７】
伝導性層および暗色化層を各々または同時にパターニングするステップをさらに含むことを特徴とする、請求項３５に記載の伝導性構造体の製造方法。
【請求項３８】
基材上にパターン化された伝導性層を形成するステップ、および
前記パターン化された伝導性層の形成以前、以後、または以前と以後に全て波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して下記数学式１および数学式２を満たすパターン化された暗色化層を形成するステップを含む伝導性構造体の製造方法：
［数学式１］
【数７】
2015533682.tif 000037
［数学式２］
【数８】
2015533682.tif 000038
前記数学式１または数学式２において、
｜Ｒ｜は伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータであり、
ｎは屈折率であり、ｋは減衰係数であり、ＲＭｅｔａｌは伝導性層の反射率であり、
ｄは暗色化層の厚さであり、λは光の波長である。
【請求項３９】
前記パターン化された暗色化層または暗色化層が、波長６００ｎｍの光に対して前記数学式１および数学式２を満たすことを特徴とする、請求項３５〜３８のいずれか１項に記載の伝導性構造体の製造方法。
【請求項４０】
前記パターン化された暗色化層または暗色化層が、下記数学式３の値が５１．８以下であることを満たすことを特徴とする、請求項３５〜３８のいずれか１項に記載の伝導性構造体の製造方法：
［数学式３］
【数９】
2015533682.tif 000039
前記数学式３において、
Ａ＊は特定波長に対する明るさを示すパラメータであり、ｎ、ｋおよびＲＭｅｔａｌは数学式１における定義と同様である。
【請求項４１】
前記パターン化された暗色化層または暗色化層の形成がスパッタリング法を利用することを特徴とする、請求項３５〜３８のいずれか１項に記載の伝導性構造体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書は伝導性構造体およびその製造方法に関する。本出願は２０１２年８月３１日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２０１２−００９６４９３号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、タッチスクリーンパネルは、信号の検出方式に応じて次のように分類することができる。すなわち、直流電圧を印加した状態で圧力によって押された位置を電流または電圧値の変化を通じて検知する抵抗膜方式と、交流電圧を印加した状態で容量結合を用いる静電容量方式と、磁界を印加した状態で選択された位置を電圧の変化として検知する電磁誘導方式などがある。
【０００３】
最近、大面積のタッチスクリーンパネルに対する必要が増加するに伴い、電極の抵抗を減らし、且つ視認性に優れた大型タッチスクリーンパネルを実現できる技術の開発が必要であった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
当技術分野においては、前記様々な方式のタッチスクリーンパネルの性能の向上のための技術開発が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本出願の一実現例は、基材、伝導性層、および波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して下記数学式１および数学式２を満たす暗色化層を含む伝導性構造体を提供する。
［数学式１］
【０００６】
【数１】
2015533682.tif 000003
【０００７】
［数学式２］
【０００８】
【数２】
2015533682.tif 000004
【０００９】
前記数学式１または数学式２において、
｜Ｒ｜は伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータであり、
ｎは屈折率であり、ｋは減衰係数であり、ＲＭｅｔａｌは伝導性層の反射率であり、
ｄは暗色化層の厚さであり、λは光の波長である。
【００１０】
本出願の一実現例は、基材上に伝導性層を形成するステップ、および前記伝導性層の形成以前、以後、または以前と以後に全て波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して前記数学式１および数学式２を満たす暗色化層を形成するステップを含む伝導性構造体の製造方法を提供する。
【００１１】
本出願の一実現例は、基材上にパターン化された伝導性層を形成するステップ、および前記パターン化された伝導性層の形成以前、以後、または以前と以後に全て波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して前記数学式１および数学式２を満たすパターン化された暗色化層を形成するステップを含む伝導性構造体の製造方法を提供する。
【００１２】
本出願の一実現例は前記伝導性構造体を含むタッチスクリーンパネルを提供する。
【００１３】
本出願の一実現例は前記伝導性構造体を含むディスプレイ装置を提供する。
【００１４】
本出願の一実現例は前記伝導性構造体を含む太陽電池を提供する。
【発明の効果】
【００１５】
本出願の一実現例による伝導性構造体は、伝導性層の伝導度に影響を及ぼすことなく伝導性層による反射を防止することができ、吸光度を向上させることによって伝導性層の隠蔽性を向上させることができる。また、本出願の一実現例による伝導性構造体を用いて、視認性が改善されたタッチスクリーンパネルおよびそれを含むディスプレイ装置並びに太陽電池を開発することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本出願の一実現例として、暗色化層を含む伝導性構造体の積層構造を例示した図である。
【図２】本出願の一実現例として、暗色化層を含む伝導性構造体の積層構造を例示した図である。
【図３】本出願の一実現例として、暗色化層を含む伝導性構造体の積層構造を例示した図である。
【図４】本出願の一実現例として、伝導性パターン層および暗色化パターン層を含む伝導性構造体の積層構造を例示した図である。
【図５】本出願の一実現例として、伝導性パターン層および暗色化パターン層を含む伝導性構造体の積層構造を例示した図である。
【図６】本出願の一実現例として、伝導性パターン層および暗色化パターン層を含む伝導性構造体の積層構造を例示した図である。
【図７】本出願の一実現例として、光が強度がＩ０である時、暗色化層の表面から１次反射する光の強度、暗色化層の表面から２次反射する光の強度、伝導性層の表面に到達する光の強度、伝導性層の表面から反射する光の強度を示すものである。
【図８】本出願の一実現例として、Ａｌ下部電極を用いた時、ＡｌＯｘＮｙ（ｘ＞０、ｙ＞０）を含む暗色化層を３００〜８００ｎｍの波長範囲でＭａｃｌｅｏｄプログラムを用いてシミュレーションした時の黒化（暗色化）可能領域を示すものである。
【図９】本出願の一実現例として、９０％の反射率を有するＡｌ下部電極を用いた時、６００ｎｍ波長の相殺的干渉条件でｎ、ｋ値に応じた色相を示すものである。
【図１０】本出願の一実現例として、表２中に３００〜８００ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が２０％以下である全ての場合をグラフで示すものである。
【図１１】図１０中、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４、Ｓ５、Ｓ１６、Ｓ１７、Ｓ１８のグラフを示すものである。
【図１２】図１０中、Ｓ１９、Ｓ２０、Ｓ３０、Ｓ３１、Ｓ３２、Ｓ３３、Ｓ３４、Ｓ３５のグラフを示すものである。
【図１３】図１０中、Ｓ４４、Ｓ４５、Ｓ４６、Ｓ４７、Ｓ４８、Ｓ４９、Ｓ５９、Ｓ６０のグラフを示すものである。
【図１４】図１０中、Ｓ６１、Ｓ６２、Ｓ６３、Ｓ７３、Ｓ７４、Ｓ７５、Ｓ７６、Ｓ７７、Ｓ８７、Ｓ８８、Ｓ８９のグラフを示すものである。
【図１５】図１０中、Ｓ９０、Ｓ９１、Ｓ１０１、Ｓ１０２、Ｓ１０３、Ｓ１０４、Ｓ１０５、Ｓ１１５、Ｓ１１６、Ｓ１１７、Ｓ１１８のグラフを示すものである。
【図１６】本出願の一実現例として、Ａｌ下部電極を用いた時、６００ｎｍ波長の相殺的干渉条件でＭａｃｌｅｏｄプログラムを用いてシミュレーションした時の黒化（暗色化）可能領域を示すものである。
【図１７】本出願の一実現例として、Ａｌ下部電極を用いた時、６００ｎｍ波長の相殺的干渉条件でｎ、ｋ値に応じた数学式１のパラメータ値を計算した時の黒化（暗色化）可能領域を示すものである。
【図１８】本出願の一実現例として、Ａｌ下部電極を用いた時、６００ｎｍ波長の相殺的干渉条件でｎ、ｋ値に応じたＡ＊値を計算した時の黒化（暗色化）可能領域を示すものである。
【図１９】本出願の一実現例として、Ｍｏ下部電極を用いた時、６００ｎｍ波長の相殺的干渉条件でｎ、ｋ値に応じた数学式１のパラメータ値を計算した時の黒化（暗色化）可能領域を示すものである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本出願をより詳細に説明する。
【００１８】
本明細書において、ディスプレイ装置とはＴＶやコンピュータ用モニターなどを総称する言葉であって、画像を形成するディスプレイ素子およびディスプレイ素子を支持するケースを含む。
【００１９】
ディスプレイ素子としては、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ、ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ、ＬＣＤ）、電気泳動ディスプレイおよび陰極線管（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ、ＣＲＴ）、ＯＬＥＤディスプレイなどが挙げられる。ディスプレイ素子には、画像実現のためのＲＧＢ画素パターンおよび追加の光学フィルタが備えられても良い。
【００２０】
一方、ディスプレイ装置と関連し、スマートフォンおよびタブレットＰＣ、ＩＰＴＶなどの普及が加速化するにつれ、キーボードやリモコンなど別途の入力装置無しで人の手が直接入力装置となるタッチ機能に対する必要性が益々大きくなっている。また、特定ポイントの認識だけでなく、筆記が可能なマルチタッチ機能も求められている。
【００２１】
現在、商用化された大半のタッチスクリーンパネルは透明伝導性ＩＴＯ薄膜をベースにしているが、大面積のタッチスクリーンパネルの適用時、ＩＴＯ透明電極自体の比較的高いシート抵抗（最低１５０Ω／□、Ｎｉｔｔｏ  ｄｅｎｋｏ社のＥＬＥＣＲＹＳＴＡ製品）によるＲＣ遅延のためにタッチ認識速度が遅くなり、それを克服するための追加の補償チップを導入しなければならないなどの問題点がある。
【００２２】
本出願の発明者らは、透明ＩＴＯ薄膜を金属微細パターンに代替するための技術を研究した。そこで、本出願の発明者らは、タッチスクリーンパネルの電極用途として、高い電気伝導度を有する金属薄膜であるＡｇ、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ、ＭｏＴｉ／Ｃｕなどを用いる場合は、特定形状の微細電極パターンを実現しようとする時、高い反射率によって視認性の面でパターンが人の目によく認知されるという問題点と共に外部光に対する高い反射率およびヘイズ値などによって眩しさなどが生じ得るということを明らかにした。また、製造工程時、高価なターゲット値がかかるか、工程が複雑な場合が多いことを明らかにした。
【００２３】
そこで、本出願の一実現例は、従来のＩＴＯに基づいた透明伝導性薄膜層を用いたタッチスクリーンパネルと差別化することができ、金属微細パターン電極の隠蔽性および外部光に対する反射および回折特性が改善されたタッチスクリーンパネルに適用できる伝導性構造体を提供しようとする。
【００２４】
本明細書において、暗色化層はパターン化された暗色化層であっても良く、または暗色化パターン層であっても良い。また、本明細書において、伝導性層はパターン化された伝導性層であっても良く、または伝導性パターン層であっても良い。
【００２５】
本出願の一実現例による伝導性構造体は、波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して下記数学式１および数学式２を満たす暗色化層を含むことができる。
［数学式１］
【００２６】
【数３】
2015533682.tif 000005
【００２７】
数学式１において、
｜Ｒ｜は伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータであり、
ｎは屈折率であり、ｋは減衰係数であり、ＲＭｅｔａｌは伝導性層の反射率であり、λは光の波長である。
［数学式２］
【００２８】
【数４】
2015533682.tif 000006
【００２９】
数学式２において、
ｄは暗色化層の厚さであり、ｎは屈折率であり、λは光の波長である。
Ｎは相殺的干渉条件での定数を意味する。
【００３０】
数学式１において、ｎ＞０、ｋ＞０であっても良い。
【００３１】
数学式２において、ｎ＞０であっても良い。
【００３２】
数学式１の範囲を満たす場合、ｎ、ｋ、ＲＭｅｔａｌに応じて暗色化層を構成できる材料を決定することができ、材料の特定組成比を決定することができる。
【００３３】
また、数学式２の範囲を満たす場合、暗色化層の材料に応じて異なる好適な暗色化層の厚さを決定することができる。
【００３４】
すなわち、本出願の一実現例による伝導性構造体は、ｎ及びｋに応じて暗色化層を構成する材料、材料の特定組成比、暗色化層の厚さを決定することができる。
【００３５】
数学式１の伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜は数学式４の｜Ｒ１−Ｒ２｜で表すことができ、数学式１は下記数学式４を満たすことができる。
［数学式４］
【００３６】
【数５】
2015533682.tif 000007
【００３７】
数学式４において、
Ｒ１は暗色化層の１次反射率であり、Ｒ２は暗色化層の２次反射率である。
本出願の一実現例による伝導性構造体は、暗色化層の１次反射率と２次反射率の差が０．２以下であることを満たすことができる。
【００３８】
屈折率が
【００３９】
【数６】
2015533682.tif 000008
【００４０】
（ｎ＞０、ｋ＞０）である物質での１次反射率Ｒ１は下記数学式５の通りである。
［数学式５］
【００４１】
【数７】
2015533682.tif 000009
【００４２】
また、暗色化層での２次反射率Ｒ２は下記数学式６の通りである。
［数学式６］
【００４３】
【数８】
2015533682.tif 000010
【００４４】
強度Ｉ０の光が暗色化層に加えられた時、一部は一次的に暗色化層の表面から反射し、残りの光は暗色化層の内部に通過する。この時、暗色化層の表面での１次反射率はＲ１であり、１次反射した光の強度はＲ１Ｉ０である。また、暗色化層の表面での２次反射率はＲ２であり、２次反射した光の強度はＲ２Ｉ０である。
【００４５】
また、残りの光のうち一部は暗色化層に一次的に吸収され、一部は暗色化層を通過して隣接した他の層に到達するようになる。この時、暗色化層の厚さがｄである場合、厚さｄの暗色化層を通過した後に伝導性層の表面に到達する光の強度は下記数学式７の通りである。下記数学式７において、αは線吸収係数であり、ｄは暗色化層の厚さであり、ｋは減衰係数であり、λは光の波長である。
［数学式７］
【００４６】
【数９】
2015533682.tif 000011
【００４７】
数学式７において、線吸収係数αは下記数学式８の通りである。
［数学式８］
【００４８】
【数１０】
2015533682.tif 000012
【００４９】
また、厚さｄの暗色化層を通過した光の一部は暗色化層と隣接した層、具体的には伝導性層の表面から暗色化層の方向へ反射し、この時の伝導性層の表面から反射する光の強度は下記数学式９の通りである。ここで、ＲＭｅｔａｌは伝導性層の反射率を意味する。
［数学式９］
【００５０】
【数１１】
2015533682.tif 000013
【００５１】
数学式９で表される反射する光のうち一部は暗色化層を通過して２次的に光吸収され、残りの一部は暗色化層の表面に反射する。この時、反射する光を暗色化層から２次反射する光とし、この時、２次反射率を数学式６で表されるＲ２とする。また、暗色化層の表面から２次反射した光の強度Ｒ２Ｉ０は下記数学式１０で表される。
［数学式１０］
【００５２】
【数１２】
2015533682.tif 000014
【００５３】
図７は、光が強度がＩ０である時、暗色化層の表面から１次反射する光の強度、数学式１０で表される暗色化層の表面から２次反射する光の強度、数学式７で表される伝導性層の表面に到達する光の強度、数学式９で表される伝導性層の表面から反射する光の強度を示すものである。
【００５４】
数学式２で表される暗色化層の厚さｄは、暗色化層の表面での１次反射と２次反射の波長が１８０°の位相差を有する相殺的干渉条件での関係式である。
【００５５】
本出願の一実現例による伝導性構造体は基材および伝導性層をさらに含むことができる。ここで、暗色化層は伝導性層のいずれか１つの面にのみ備えられても良く、伝導性層の両面の全てに備えられても良い。
【００５６】
本出願の一実現例による伝導性構造体は、基材、基材上に備えられる伝導性層、および伝導性層上に備えられる暗色化層を含むことができる。
【００５７】
本出願の一実現例による伝導性構造体は、基材、基材上に備えられる暗色化層、および暗色化層上に備えられる伝導性層を含むことができる。
【００５８】
本出願の一実現例による伝導性構造体は、基材、基材上に備えられる暗色化層、暗色化層上に備えられる伝導性層、および伝導層上に備えられる暗色化層を含むことができる。
【００５９】
本出願の一実現例において、伝導性層または暗色化層はパターン化されたものであっても良い。伝導性層はパターン化された伝導性層であっても良く、暗色化層はパターン化された暗色化層であっても良い。パターンの形態は後述する。
【００６０】
本出願の発明者らは、有効画面部に備えられた伝導性金属微細パターンを含むタッチスクリーンパネルにおいて、伝導性金属微細パターンの視認性にパターン層による光反射および回折特性が主な影響を及ぼすという事実を明らかにし、それを改善しようとした。具体的には、既存のＩＴＯに基づいたタッチスクリーンパネルでは、ＩＴＯ自体の高い透過度により、伝導性パターンの反射率による問題がそれほど大きく現れなかったが、有効画面部内に備えられた伝導性金属微細パターンを含むタッチスクリーンパネルでは、伝導性金属微細パターンの反射率および暗色化特性が重要であるということを明らかにした。
【００６１】
本出願の一実現例によるタッチスクリーンパネルにおいて、伝導性金属微細パターンの反射率を下げ、吸光度特性を改善するために、暗色化層を導入することができる。暗色化層はタッチスクリーンパネル内の伝導性層の少なくとも一面に備えられることにより、伝導性層の高い反射率による視認性低下の問題を大幅に改善させることができる。
【００６２】
具体的には、暗色化層は吸光性を有するため、伝導性層自体へ入射する光と伝導性層から反射する光の量を減少させることによって伝導性層による反射率を下げることができる。また、暗色化層は伝導性層に比べて低い反射率を有することができる。これにより、使用者が直接伝導性層を見る場合に比べて光の反射率を下げることができるため、伝導性層の視認性を大幅に改善させることができる。
【００６３】
本明細書において、暗色化層は吸光性を有するために伝導性層自体へ入射する光と伝導性層から反射する光の量を減少できる層を意味するものであり、暗色化層はパターン化された暗色化層であっても良く、暗色化層は吸光性層、黒化層、黒化性層などの用語で表現され、パターン化された暗色化層はパターン化された吸光性層、パターン化された黒化層、パターン化された黒化性層などの用語で表現されることができる。
【００６４】
本出願の一実現例において、パターン化された伝導性層およびパターン化された暗色化層を含む伝導性構造体は、シート抵抗が１Ω／□以上３００Ω／□以下であっても良く、具体的には１Ω／□以上１００Ω／□以下であっても良く、より具体的には１Ω／□以上５０Ω／□以下であっても良く、さらに具体的には１Ω／□以上２０Ω／□以下であっても良い。
【００６５】
伝導性構造体のシート抵抗が１Ω／□以上３００Ω／□以下であれば、従来のＩＴＯ透明電極を代替できるという効果がある。伝導性構造体のシート抵抗が１Ω／□以上１００Ω／□以下である場合、または１Ω／□以上５０Ω／□以下である場合、特に１Ω／□以上２０Ω／□以下である場合は、従来のＩＴＯ透明電極の使用時よりシート抵抗が相当に低いため、信号印加時にＲＣ遅延が短くなってタッチ認識速度を顕著に改善することができ、これに基づいて１０インチ以上の大面積のタッチスクリーンの適用が容易であるという長所がある。
【００６６】
伝導性構造体において、パターン化する前の伝導性層または暗色化層のシート抵抗は０Ω／□超過２Ω／□以下、具体的には０Ω／□超過０．７Ω／□以下であっても良い。シート抵抗が２Ω／□以下であれば、特に０．７Ω／□以下であれば、パターニング前の伝導性層または暗色化層のシート抵抗が低いほど、微細パターニングの設計および製造工程が容易に行われ、パターニング後の伝導性構造体のシート抵抗が低くなって電極の反応速度を迅速にする効果がある。シート抵抗は、伝導性層または暗色化層の厚さに応じて調節されることができる。
【００６７】
本出願の一実現例による伝導性構造体は、暗色化層の減衰係数ｋが０．２以上２．５以下、具体的には０．２以上１．２以下、より具体的には０．４以上１以下、または０．４以上０．８以下であっても良い。
【００６８】
減衰係数ｋが０．２以上であれば、暗色化を可能にする効果がある。減衰係数ｋは吸収係数ともいい、特定波長において伝導性構造体が光をどれほど強く吸収するかを定義できる尺度であり、伝導性構造体の透過度を決定する要素である。例えば、透明な誘電体物質の場合、ｋ＜０．２としてｋ値が非常に小さい。しかし、物質内部に金属成分が増加するほどｋ値が増加する。仮に金属成分がより多くなれば、透過がほぼ起こらず、大部分が表面反射だけ起こる金属となり、減衰係数ｋは２．５超過となって暗色化層の形成には好ましくない。
【００６９】
減衰係数ｋが０．２以上１．２以下である場合は、数学式１を満たす場合に、伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜がより減少して暗色化層の暗色化度がより増加する効果がある。具体的には、数学式１によるパラメータの百分率が２０％以下であるか、数学式３によるパラメータの値が５１．８以下である場合に対応する。または、可視光線波長領域、具体的には３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域、より具体的には３８０〜７８０ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が２０％の場合と対応する。この場合、伝導性層の隠蔽性が向上し、タッチスクリーンパネルに適用時に視認性が改善されることができる。
【００７０】
減衰係数ｋが０．４以上１以下である場合は、数学式１を満たす場合に、伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜がより減少して暗色化層の暗色化度がより増加する効果がある。具体的には、数学式１によるパラメータの百分率が約１２％以下であるか、数学式３によるパラメータの値が約４０以下である場合に対応する。または、可視光線波長領域、具体的には３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域、より具体的には３８０〜７８０ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が約１５％の場合と対応する。この場合、伝導性層の隠蔽性がさらに向上し、タッチスクリーンパネルに適用時に視認性がさらに改善されることができる。
【００７１】
本出願の一実現例において、伝導性構造体は屈折率ｎが０超過〜３以下であっても良い。
【００７２】
下記伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜または反射率に関する説明において、暗色化層はパターン化された暗色化層であっても良く、伝導性層はパターン化された伝導性層であっても良い。
【００７３】
本明細書において、数学式１の伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜は数学式４の｜Ｒ１−Ｒ２｜で表すことができる。また、｜Ｒ｜は、測定しようとする面の反対面を黒体で処理した後、測定しようとする面に９０°で入射した波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対する反射率を意味することができる。波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して数学式１の値が０．２以下である場合、可視光線の全波長領域、具体的には３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長、より具体的には３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長に対しても伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜が０．２以下となることができる。
【００７４】
より具体的には、｜Ｒ｜は、測定しようとする面の反対面を黒体で処理した後、測定しようとする面に９０°で入射した波長が６００ｎｍである光に対する反射率を意味することができる。波長６００ｎｍの光に対して数学式１の値が０．２以下である場合、可視光線の全波長領域、具体的には３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長、より具体的には３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長に対しても伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜が０．２以下となることができる。
【００７５】
本出願の一実現例において、数学式１で表される伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜は０．２以下であっても良く、具体的には０．１５以下であっても良く、より具体的には０．１以下であっても良く、さらに具体的には０．０７以下であっても良く、０．０３以下であっても良い。｜Ｒ｜は小さいほど効果がさらに良い。
【００７６】
本出願の一実現例において、数学式１で表される伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜の百分率は２０％以下であっても良く、具体的には１５％以下であっても良く、より具体的には１０％以下であっても良く、さらに具体的には７％以下であっても良く、３％以下であっても良い。｜Ｒ｜の百分率は小さいほど効果がさらに良い。
【００７７】
伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜の測定は、伝導性層が基材と暗色化層との間に備えられ、暗色化層が伝導性層と接する面の反対面方向から測定したものであっても良い。具体的には、暗色化層は伝導性層と接する第１面および第１面に対向する第２面を含む時、第２面の方向から測定したものであっても良い。この方向から測定した時、伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜は０．２以下であっても良く、具体的には０．１５以下であっても良く、より具体的には０．１以下であっても良く、さらに具体的には０．０７以下であっても良く、０．０３以下であっても良い。｜Ｒ｜は小さいほど効果がさらに良い。
【００７８】
また、暗色化層が伝導性層と基材との間に備えられ、基材側から測定したものであっても良い。基材側から｜Ｒ｜を測定した時、｜Ｒ｜は０．２以下であっても良く、具体的には０．１５以下であっても良く、より具体的には０．１以下であっても良く、さらに具体的には、０．０７以下であっても良く、０．０３以下であっても良い。｜Ｒ｜は小さいほど効果がさらに良い。
【００７９】
本出願の一実現例において、伝導性構造体の反射率は０．２以下であっても良く、具体的には０．１５以下であっても良く、より具体的には０．１以下であっても良く、さらに具体的には、０．０７以下であっても良く、０．０３以下であっても良い。反射率は小さいほど効果がさらに良い。
【００８０】
本出願の一実現例において、伝導性構造体の反射率の百分率は２０％以下であっても良く、具体的には１５％以下であっても良く、より具体的には１０％以下であっても良く、さらに具体的には７％以下であっても良く、３％以下であっても良い。反射率は小さいほど効果がさらに良い。
【００８１】
本明細書において、反射率は、入射光を１００％とした時、光が入射した対象パターン層または伝導性構造体によって反射された反射光中３００〜８００ｎｍ、具体的には３８０〜７８０ｎｍ、より具体的には５５０〜６００ｎｍの波長値を基準に測定した値であっても良い。
【００８２】
本出願の一実現例による伝導性構造体において、暗色化層は、伝導性層と接する第１面および第１面に対向する第２面を含むことができる。この時、暗色化層の第２面側から伝導性構造体の反射率を測定した時、伝導性構造体の反射率（Ｒｔ）は下記数学式１１で計算されることができる。
［数学式１１］
反射率（Ｒｔ）＝基材の反射率＋閉鎖率×暗色化層の反射率
【００８３】
また、伝導性構造体の構成が伝導性構造体の２種がラミネーションされた場合は、伝導性構造体の反射率（Ｒｔ）は下記数学式１２で計算されることができる。
［数学式１２］
反射率（Ｒｔ）＝基材の反射率＋閉鎖率×暗色化層の反射率×２
【００８４】
数学式１１および１２において、基材の反射率はタッチ強化ガラスの反射率であっても良く、表面がフィルムである場合はフィルムの反射率であっても良い。
【００８５】
また、閉鎖率は、伝導性構造体の平面を基準に伝導性パターンによって覆われる領域が占める面積比率、すなわち、（１−開口率）で表すことができる。
【００８６】
したがって、パターン化された暗色化層がある場合とない場合との差は、パターン化された暗色化層の反射率によって依存する。このような観点から、本出願の一実現例による伝導性構造体の反射率（Ｒｔ）は、パターン化された暗色化層がないことを除いては同一の構成を有する伝導性構造体の反射率（Ｒ０）に比べて１０〜２０％減少したものであっても良く、２０〜３０％減少したものであっても良く、３０〜４０％減少したものであっても良く、４０〜５０％減少したものであっても良く、５０〜７０％減少したものであっても良い。すなわち、数学式１１および１２において、閉鎖率の範囲を１〜１０％の範囲に変化させながら反射率の範囲を１〜３０％まで変化させる場合、最大７０％の反射率の減少効果を示すことができ、最小１０％の反射率の減少効果を示すことができる。
【００８７】
本出願の一実現例による伝導性構造体において、パターン化された暗色化層は伝導性パターンと接する第１面および第１面に対向する第２面を含み、暗色化パターンの第２面側から伝導性構造体の反射率を測定した時、伝導性構造体の反射率（Ｒｔ）は基材の反射率（Ｒ０）との差が４０％以下であっても良く、３０％以下であっても良く、２０％以下であっても良く、１０％以下であっても良い。
【００８８】
本出願の一実現例において、暗色化層の厚さは数学式２を満たすことができる。具体的には、暗色化層の厚さは２０ｎｍ〜１５０ｎｍであっても良い。暗色化層は用いられる材料の屈折率および製造工程に応じて好ましい厚さが異なるが、エッチング特性を考慮すれば、厚さが２０ｎｍ以上であれば工程調節が比較的容易であり、１５０ｎｍ以下であれば生産速度の面で比較的有利である。厚さ範囲で工程調節が容易であり、生産速度が改善されて、製造工程においてさらに有利である。この場合、反射率がより減少して、暗色化層がさらによく形成され、より有利な効果がある。
【００８９】
本出願の一実現例による伝導性構造体は、下記数学式３の値が５１．８以下であることを満たす暗色化層を含むことができる。より具体的には、下記数学式３の値が４０以下であることを満たす暗色化層を含むことができる。
［数学式３］
【００９０】
【数１３】
2015533682.tif 000015
【００９１】
数学式３において、
Ａ＊は特定波長に対する明るさを示すパラメータであり、ｎ、ｋおよびＲＭｅｔａｌは数学式１における定義と同様である。例えば、Ａ＊は波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対する明るさを示すパラメータであり、より具体的には、波長６００ｎｍの光に対する明るさを示すパラメータである。
［数学式１３］
【００９２】
【数１４】
2015533682.tif 000016
【００９３】
Ｌ＊は可視光線の全波長領域に対する明るさを示すパラメータであり、具体的には、ＣＩＥ（国際照明委員会：Ｃｏｍｍｉｓｓｉｏｎ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌｅ  ｄｅ  ｌ’Ｅｃｌａｉｒａｇｅ）Ｌ＊ａ＊ｂ＊色座標を基準に明度値を示す。
［数学式１４］
【００９４】
【数１５】
2015533682.tif 000017
【００９５】
数学式１３の場合、暗色化層の反射率が０．９％以上である場合は、数学式１４を満たすので、Ｌ＊は下記数学式１５を満たすことができる。
［数学式１５］
【００９６】
【数１６】
2015533682.tif 000018
【００９７】
ＹはＣＩＥ  ＸＹＺ座標系の三色刺激値のうち緑色に該当する刺激値を意味し、下記数学式１６を満たす。また、ＹｎはＣＩＥ  ＸＹＺ座標系の三色刺激値のうち白色に該当する刺激値の正規化された値を意味し、下記数学式１７を満たす。
［数学式１６］
【００９８】
【数１７】
2015533682.tif 000019
【００９９】
［数学式１７］
【０１００】
【数１８】
2015533682.tif 000020
【０１０１】
数学式１６または数学式１７において、Ｒは伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータを意味し、Ｓはスペクトルの出力分布関数を意味し、ｙは三色刺激値に対する反応を数値で示したカラーマッチング関数を意味する。
【０１０２】
数学式１５〜１７において、伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータが波長に関係なく一定であると仮定すれば、（Ｙ／Ｙｎ）がＲと同一であるため、特定波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊は数学式３を満たす。
【０１０３】
特定波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊が小さいほど、伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータ｜Ｒ｜が小さくなって有利な効果がある。例えば、６００ｎｍの波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊が５１．８以下であれば、可視光線波長領域、具体的には３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域、より具体的には３８０〜７８０ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が２０％以下であっても良い。この時、Ａ＊が４０以下であれば、可視光線波長領域、具体的には３００ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域、より具体的には３８０〜７８０ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が１５％以下程度にさらに低くなることができる。この場合、伝導性層の隠蔽性がさらに向上し、タッチスクリーンパネルに適用時に視認性がさらに改善されることができる。
【０１０４】
本出願の一実現例において、伝導性構造体内にはピンホールがほぼなく、ピンホールが存在するとしてもその直径が３マイクロメートル以下であり、より具体的には１マイクロメートル以下である。伝導性構造体内でピンホール直径が３マイクロメートル以下である場合は断線の発生を防止することができる。また、伝導性構造体内でピンホールがほぼなくて個数が非常に少ない場合は断線の発生を防止することができる。
【０１０５】
本出願の一実現例において、暗色化層は伝導性層の少なくともいずれか１つの面に備えられることができる。具体的には、伝導性層のいずれか１つの面にのみ備えられても良く、両面の全てに備えられても良い。
【０１０６】
本出願の一実現例において、暗色化層は伝導性層と同時にまたは別途にパターン化されることができる。
【０１０７】
本出願の一実現例において、パターン化された暗色化層とパターン化された伝導性層は同時にまたは別途のパターニング工程によって積層構造を形成することができる。このような点で、吸光物質の少なくとも一部が伝導性パターン内に埋没または分散している構造や単一層の伝導性パターンが追加表面処理によって表面側の一部が物理的または化学的な変形がなされた構造とは差別される。
【０１０８】
また、本出願の一実現例による伝導性構造体において、暗色化層は、接着層または粘着層を介在せず、直接基材上にまたは直接伝導性層上に備えられることができる。接着層または粘着層は耐久性や光学物性に影響を及ぼし得る。また、本出願の一実現例による伝導性構造体は、接着層または粘着層を用いる場合と比較する時に製造方法が全く異なる。さらに、接着層や粘着層を用いる場合に比べ、本出願の一実現例においては基材または伝導性層と暗色化層の界面特性に優れる。
【０１０９】
本出願の一実現例において、暗色化層は単一層からなっても良く、２層以上の複数層からなっても良い。
【０１１０】
本出願の一実現例において、暗色化層は無彩色系の色を帯びることが好ましい。この時、無彩色系の色とは、物体の表面に入射する光が選択吸収されず、各成分の波長に対して均一に反射吸収される時に現れる色を意味する。
【０１１１】
本出願の一実現例において、暗色化層の材料は、数学式１〜３を満たすものであれば特に制限されることなく用いることができる。例えば、カラーフィルタでのブラックマトリクス材料として用いられるものなどを用いることができる。また、反射防止機能が与えられた材料を用いることもできる。
【０１１２】
例えば、暗色化層は、金属、その酸化物、その窒化物、その酸窒化物およびその炭化物からなる群から選択される１つまたは２つ以上を含んで用いることができる。金属の酸化物、窒化物、酸窒化物または炭化物は、当業者が設定した蒸着条件などによって形成することができる。金属は、ニッケル（Ｎｉ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニオブ（Ｎｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）、アルミニウム（Ａｌ）および銅（Ｃｕ）からなる群から選択される１つまたは２つ以上であっても良い。
【０１１３】
具体的な例として、暗色化層はＮｉおよびＭｏを同時に含むことができる。暗色化層はＮｉ  ５０〜９８原子％およびＭｏ  ２〜５０原子％を含むことができ、その他の金属、例えば、Ｆｅ、Ｔａ、Ｔｉなどの原子を０．０１〜１０原子％さらに含むことができる。ここで、暗色化層は、必要な場合、窒素０．０１〜３０原子％または酸素および炭素４原子％以下をさらに含むこともできる。
【０１１４】
また１つの具体的な例として、暗色化層は誘電性物質および金属のうち少なくとも１つを含むことができる。金属は金属または金属の合金であっても良い。具体的には、ＴｉＯ２−ｘ、ＳｉＯ２−ｘ、ＭｇＦ２−ｘおよびＳｉＮ１．３−ｘ（−１≦ｘ≦１）から選択される誘電性物質および鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）および銀（Ａｇ）のうちから選択される金属を含むことができ、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）および銀（Ａｇ）のうちから選択される２以上の金属の合金をさらに含むこともできる。
【０１１５】
本出願の一実現例によれば、暗色化層は金属の酸化物、金属の窒化物、金属の酸窒化物および金属の炭化物からなる群から選択される１つまたは２つ以上を含み、誘電性物質および金属のうち少なくとも１つをさらに含むことができる。
【０１１６】
誘電性物質は外部光が入射する方向から遠くなるほど次第に減少するように分布しており、金属および合金成分はその逆に分布していることが好ましい。この時、誘電性物質の含量は２０〜５０重量％、金属の含量は５０〜８０重量％であることが好ましい。暗色化層が合金をさらに含む場合、暗色化層は、誘電性物質１０〜３０重量％、金属５０〜８０重量％および合金５〜４０重量％を含むことが好ましい。
【０１１７】
また１つの具体的な例として、暗色化層は、ニッケルとバナジウムの合金、ニッケルとバナジウムの酸化物、窒化物または酸窒化物のうちいずれか１つ以上を含む薄膜からなることができる。この時、バナジウムは２６〜５２原子％で含まれることが好ましく、ニッケルに対するバナジウムの原子比は２６／７４〜５２／４８であることが好ましい。
【０１１８】
また１つの具体的な例として、暗色化層は２以上の元素を有し、１つの元素組成比率が外光が入射する方向に沿って１００オングストローム当たりに最大約２０％ずつ増加する遷移層を含むことができる。この時、１つの元素はニッケル（Ｎｉ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニオブ（Ｎｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）、コバルト（Ｃｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）のような金属元素であっても良く、金属元素以外の元素は酸素、窒素または炭素であっても良い。
【０１１９】
また１つの具体的な例として、暗色化層は第１酸化クロム層、金属層、第２酸化クロム層およびクロムミラーを含むことができ、この時、クロムの代わりに、ニッケル（Ｎｉ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）、タンタル（Ｔａ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニオブ（Ｎｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）のうちから選択された金属を含むことができる。金属層は１０〜３０ｎｍの厚さ、第１酸化クロム層は３５〜４１ｎｍの厚さ、第２酸化クロム層は３７〜４２ｎｍの厚さを有することが好ましい。
【０１２０】
また１つの具体的な例として、暗色化層としては、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）層、クロム酸化物（Ｃｒ２Ｏ３）層およびクロム（Ｃｒ）層の積層構造を用いることができる。ここで、アルミナ層は反射特性の改善および光拡散の防止特性を有し、クロム酸化物層は鏡面反射率を減少させてコントラスト特性を向上させることができる。
【０１２１】
また１つの具体的な例として、暗色化層は、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）およびＡｌからなる積層構造を用いることができる。ここで、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）層は、全体層の反射率を減少させてコントラスト特性を向上させることができる。
【０１２２】
本出願の一実現例において、暗色化層は伝導性層のいずれか１つの面にのみ備えられても良く、両面の全てに備えられても良い。ここで、暗色化層は伝導性層と同一形状のパターンを有することができる。但し、パターン化された暗色化層のパターン規模がパターン化された伝導性層と完全に同一である必要はなく、パターン化された暗色化層におけるパターンの線幅がパターン化された伝導性層におけるパターンの線幅に比べて狭いか広い場合も本出願の範囲に含まれる。具体的には、パターン化された暗色化層におけるパターンの線幅は、パターン化された伝導性層におけるパターンの線幅の８０％〜１２０％であっても良い。
【０１２３】
本出願の一実現例において、パターン化された暗色化層は、パターン化された伝導性層のパターンの線幅に比べて小さいか大きい線幅を有するパターン形状を有することができる。例えば、パターン化された暗色化層は、パターン化された伝導性層が備えられた面積の８０％〜１２０％の面積を有することができる。
【０１２４】
本出願の一実現例において、暗色化層のパターンは、伝導性層のパターンの線幅と同一であるか大きい線幅を有するパターン形状であることが好ましい。
【０１２５】
パターン化された暗色化層がパターン化された伝導性層の線幅より大きい線幅を有するパターン形状を有する場合、使用者が見る時、パターン化された暗色化層がパターン化された伝導性層を遮る効果をより大きく与えることができるため、パターン化された伝導性層自体の光沢や反射による効果を効率的に遮断できるという長所がある。しかし、パターン化された暗色化層におけるパターンの線幅がパターン化された伝導性層におけるパターンの線幅と同一であっても本出願が目的とする効果を達成することができる。
【０１２６】
本出願の一実現例による伝導性構造体において、基材としては透明基板を用いることができるが、特に限定されず、例えば、ガラス、プラスチック基板、プラスチックフィルムなどを用いることができる。
【０１２７】
本出願の一実現例において、伝導性層の厚さは特に限定されないが、０．０１マイクロメートル〜１０マイクロメートルであることが伝導性層の伝導度およびパターン形成工程の経済性の面でより優れた効果を示すことができる。
【０１２８】
本出願の一実現例において、伝導性層の材料は比抵抗１×１０−６Ω・ｃｍ〜３０×１０−６Ω・ｃｍの物質が好適であり、好ましくは１×１０−６Ω・ｃｍ〜７×１０−６Ω・ｃｍであっても良い。
【０１２９】
本出願の一実現例による伝導性構造体において、伝導性層の材料は、金属、金属合金、金属酸化物および金属窒化物からなる群から選択される１つまたは２つ以上を含むことが好ましい。伝導性層の材料は、電気伝導度に優れ、エッチングが容易な金属材料であるほど好ましい。但し、一般的に電気伝導度に優れた材料は反射率が高いという短所がある。しかし、本出願においては、暗色化層を用いることにより、反射率の高い材料を用いて伝導性層を形成することができる。本出願においては、反射率７０〜８０％以上の材料を用いる場合にも、暗色化層を追加することによって反射率を下げ、伝導性層の隠蔽性を向上させることができ、コントラスト特性を維持または向上させることができる。
【０１３０】
本出願の一実現例において、伝導性層の材料の具体的な例としては、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、ネオジム（Ｎｄ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、その酸化物およびその窒化物からなる群から選択される１つまたは２つ以上を含むことができる。例えば、前述の金属のうちから選択される２つ以上の合金であっても良い。より具体的には、モリブデン、アルミニウムまたは銅を含むことができる。伝導性層は単一膜または多層膜であっても良い。
【０１３１】
本出願の一実現例において、パターン化された伝導性層におけるパターンの線幅は０マイクロメートル超過１０マイクロメートル以下であっても良く、具体的には０．１マイクロメートル以上１０マイクロメートル以下であっても良く、より具体的には０．２マイクロメートル以上８マイクロメートル以下であっても良く、さらに具体的には、０．５マイクロメートル以上５マイクロメートル以下であっても良い。
【０１３２】
本出願の一実現例において、パターン化された伝導性層の開口率、すなわち、パターンによって覆われない面積比率は７０％以上であっても良く、８５％以上であっても良く、９５％以上であっても良い。また、パターン化された伝導性層の開口率は９０〜９９．９％であっても良いが、これのみに限定されるものではない。
【０１３３】
本出願の一実現例において、パターン化された伝導性層のパターンは規則的なパターンであっても良く、不規則なパターンであっても良い。
【０１３４】
規則的なパターンとしてはメッシュパターンなど当技術分野のパターン形状が用いられることができる。不規則なパターンとしては特に限定されないが、ボロノイ図をなす図形の境界線の形態であっても良い。本出願において、不規則なパターンとパターン化された暗色化層を共に用いる場合、不規則なパターンによって指向性のある照明による反射光の回折パターンを除去することもでき、パターン化された暗色化層によって光の散乱による影響を最小化することができるため、視認性における問題点を最小化することができる。
【０１３５】
本出願の一実現例による伝導性構造体の例を図１〜図３に例示する。図１〜図３は基材、伝導性層および暗色化層の積層順を例示するためのものであり、伝導性層および暗色化層は実際にタッチスクリーンパネルなどの微細透明電極の用途として適用する時、全面層ではなくパターン形状であっても良い。
【０１３６】
図１によれば、暗色化層２００が基材１００と伝導性層３００との間に配置された場合を例示したものである。これは、使用者が基材側からタッチスクリーンパネルを見る場合に伝導性層による反射率を大幅に減少させることができる。
【０１３７】
図２によれば、暗色化層２００が伝導性層３００上に配置された場合を例示したものである。これは、使用者が基材側の反対面からタッチスクリーンパネルを見る場合に伝導性層による反射率を大幅に減少させることができる。
【０１３８】
図３によれば、暗色化層２００，２２０が基材１００と伝導性層３００との間と、伝導性層３００上に全て配置された場合を例示したものである。これは、使用者がタッチスクリーンパネルを基材側から見る場合とその反対側から見る場合にいずれも伝導性層による反射率を大幅に減少させることができる。
【０１３９】
図１〜図３の説明において、伝導性層はパターン化された伝導性層であっても良く、暗色化層はパターン化された暗色化層であっても良い。
【０１４０】
図４〜図６は、各々、本出願の一実現例による伝導性パターン層および暗色化パターン層を含む伝導性構造体の積層構造を例示した図である。
【０１４１】
本出願の一実現例による伝導性構造体の構造は、暗色化層が伝導性層の少なくとも一面に備えられたものであっても良い。
【０１４２】
本出願の一実現例による伝導性構造体の構造は、基材、暗色化層、伝導性層および暗色化層が順次積層された構造であっても良い。また、伝導性構造体は、最外郭の暗色化層上に追加の伝導性層および暗色化層を含むことができる。
【０１４３】
すなわち、本出願の一実現例による伝導性構造体の構造は、基材／暗色化層／伝導性層の構造、基材／伝導性層／暗色化層の構造、基材／暗色化層／伝導性層／暗色化層の構造、基材／伝導性層／暗色化層／伝導性層の構造、基材／暗色化層／伝導性層／暗色化層／伝導性層／暗色化層の構造、基材／暗色化層／伝導性層／暗色化層／伝導性層／暗色化層／伝導性層／暗色化層の構造などであっても良い。
【０１４４】
説明において、伝導性層はパターン化された伝導性層であっても良く、暗色化層はパターン化された暗色化層であっても良い。
【０１４５】
本出願の一実現例による伝導性構造体の製造方法は、基材上に伝導性層を形成するステップ、および伝導性層の形成以前、以後、または以前と以後に全て波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して、具体的には波長６００ｎｍの光に対して数学式１および数学式２を満たす暗色化層を形成するステップを含む。
【０１４６】
本出願の一実現例による伝導性構造体の製造方法は、伝導性層および暗色化層を各々または同時にパターニングするステップをさらに含むことができる。パターニングするステップは、暗色化層を形成するステップ後に含まれることもできる。
【０１４７】
本出願の一実現例において、伝導性構造体の製造方法は、基材上に暗色化層を形成し、暗色化層を形成した後に伝導性層を形成し、伝導性層を形成した後に暗色化層を形成することができ、暗色化層および伝導性層を各々または同時にパターニングすることを含むことができる。
【０１４８】
伝導性構造体の製造方法において、パターン化する前の伝導性層または暗色化層のシート抵抗は０Ω／□超過２Ω／□以下、好ましくは０Ω／□超過０．７Ω／□以下であっても良い。シート抵抗が２Ω／□以下であれば、特に０．７Ω／□以下であれば、パターニング前の伝導性層または暗色化層のシート抵抗が低いほど、微細パターニングの設計および製造工程が容易に行われ、パターニング後の伝導性構造体のシート抵抗が低くなって電極の反応速度を迅速にする効果がある。
【０１４９】
本出願の一実現例による伝導性構造体の製造方法は、基材上にパターン化された伝導性層を形成するステップ、およびパターン化された伝導性層の形成以前、以後、または以前と以後に全て波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して、具体的には波長６００ｎｍの光に対して数学式１および数学式２を満たすパターン化された暗色化層を形成するステップを含む。
【０１５０】
本出願の一実現例において、伝導性構造体の製造方法は、基材上にパターン化された暗色化層を形成し、パターン化された暗色化層を形成した後にパターン化された伝導性層を形成することを含むことができる。
【０１５１】
本出願の一実現例において、伝導性構造体の製造方法は、基材上にパターン化された伝導性層を形成し、パターン化された伝導性層を形成した後にパターン化された暗色化層を形成することを含むことができる。
【０１５２】
本出願の一実現例において、伝導性構造体の製造方法は、基材上にパターン化された暗色化層を形成し、パターン化された暗色化層を形成した後にパターン化された伝導性層を形成し、パターン化された伝導性層を形成した後にパターン化された暗色化層を形成することをさらに含むことができる。
【０１５３】
本出願の一実現例において、パターン化された暗色化層または暗色化層は数学式３の値が５１．８以下であること、より具体的には数学式３の値が４０以下であることを満たすことができる。
【０１５４】
本出願の一実現例において、パターン化された暗色化層または暗色化層を形成するステップにおいて、パターン化された暗色化層または暗色化層の形成は当技術分野で知られた方法を利用することができる。例えば、蒸着、スパッタリング、湿式コーティング、蒸発、電解メッキまたは無電解メッキ、金属箔のラミネーションなどの方法によって形成することができ、具体的にはスパッタリング法によって形成することができる。
【０１５５】
例えば、暗色化層の形成時にＡｌＯｘＮｙ（ｘ、ｙは各々Ａｌの１原子に対するＯとＮの原子数の比）のようにＡｌ金属ターゲットを用いて反応性スパッタリング方法を利用すれば、Ｏ２とＮ２のような反応性ガスの分圧調節で工程を行うことができる。
【０１５６】
例えば、Ｃｕを含む伝導性層とＣｕＯｘ（ｘはＣｕの１原子に対するＯの原子数の比）を含む暗色化層を形成する場合、スパッタリングガスとして不活性気体、例えば、Ａｒのような気体を用いる場合、ＣｕＯｘ単一物質スパッタリングターゲットを用いることによって得るという長所がある。そこで、ＣｕＯｘ単一物質ターゲットを用いるため、反応性ガスの分圧調節が必要ないので工程調節が比較的容易であり、最終伝導性構造体の形成においてもＣｕエッチャントを用いて一括エッチングが可能であるという長所を有する。
【０１５７】
本出願の一実現例において、パターン化された伝導性層の形成方法は特に限定されず、パターン化された伝導性層を直接印刷方法によって形成することもでき、伝導性層を形成した後にこれをパターン化する方法を利用することができる。
【０１５８】
本出願の一実現例において、パターン化された伝導性層を印刷方法によって形成する場合、伝導性材料のインクまたはペーストを用いることができ、ペーストは伝導性材料の他にバインダー樹脂、溶媒、ガラスフリットなどをさらに含むこともできる。
【０１５９】
伝導性層を形成した後にこれをパターン化する場合、エッチングレジスト特性を有する材料を用いることができる。
【０１６０】
本出願の一実現例において、伝導性層は、蒸着、スパッタリング、湿式コーティング、蒸発、電解メッキまたは無電解メッキ、金属箔のラミネーションなどの方法によって形成することができる。伝導性層の形成方法として、有機金属、ナノ金属またはこれらの複合体溶液を基板上にコーティングした後、焼成および／または乾燥によって伝導度を与える方法を利用することもできる。有機金属としては有機銀を用いることができ、ナノ金属としてはナノ銀粒子などを用いることができる。
【０１６１】
本出願の一実現例において、伝導性層のパターン化は、エッチングレジストパターンを用いた方法を利用することができる。エッチングレジストパターンは、印刷法、フォトリソグラフィ法、フォトグラフィ法、マスクを用いた方法またはレーザー転写、例えば、熱転写イメージングなどを用いて形成することができ、印刷法またはフォトリソグラフィ法がより好ましいが、これらのみに限定されるものではない。エッチングレジストパターンを用いて伝導性薄膜層をエッチングしてパターニングし、エッチングレジストパターンはストリップ工程によって容易に除去することができる。
【０１６２】
本出願の一実現例は伝導性構造体を含むタッチスクリーンパネルを提供する。例えば、静電容量式タッチスクリーンパネルにおいて、本出願の一実現例による伝導性構造体はタッチセンサー式の電極基板として用いられることができる。
【０１６３】
本出願の一実現例はタッチスクリーンパネルを含むディスプレイ装置を提供する。
【０１６４】
本出願の一実現例によるタッチスクリーンパネルは、前述した基材、パターン化された伝導性層およびパターン化された暗色化層を含む伝導性構造体以外に追加の構造体をさらに含むことができる。この場合、２個の構造体が互いに同じ方向に配置されても良く、２個の構造体が互いに反対方向に配置されても良い。本出願のタッチスクリーンパネルに含まれる２個以上の構造体は同一の構造である必要はなく、いずれか１つ、好ましくは使用者に最も近い側の構造体だけが前述した基材、パターン化された伝導性層およびパターン化された暗色化層を含むものであっても良く、追加で含まれる構造体はパターン化された暗色化層を含まなくても良い。また、２個以上の構造体内の層の積層構造が互いに異なっても良い。２個以上の構造体が含まれる場合、これらの間には絶縁層が備えられることができる。この時、絶縁層は粘着層の機能がさらに付与されることもできる。
【０１６５】
本出願の一実現例によるタッチスクリーンパネルは、下部基材；上部基材；および下部基材の上部基材に接する面および上部基材の下部基材に接する面のうちいずれか１つの面または両面に備えられた電極層を含むことができる。電極層は、各々、Ｘ軸位置検出およびＹ軸位置検出機能を行うことができる。
【０１６６】
この時、下部基材および下部基材の上部基材に接する面に備えられた電極層；および上部基材および上部基材の下部基材に接する面に備えられた電極層のうちの１つまたは２つの全てが前述した本出願の一実現例による伝導性構造体であっても良い。電極層のうちいずれか１つだけが本出願による伝導性構造体である場合、残りの他の１つは当技術分野で周知の伝導性パターンを有しても良い。
【０１６７】
上部基材と下部基材の全ての一面に電極層が備えられて２層の電極層が形成される場合、電極層の間隔を一定に維持し、接続が生じないように下部基材と上部基材との間に絶縁層またはスペーサが備えられることができる。絶縁層は、粘着剤またはＵＶあるいは熱硬化性樹脂を含むことができる。タッチスクリーンパネルは、前述した伝導性構造体中の伝導性層のパターンと連結された接地部をさらに含むことができる。例えば、接地部は、基材の伝導性層のパターンが形成された面の縁部に形成されることができる。また、伝導性構造体を含む積層材の少なくとも一面には、反射防止フィルム、偏光フィルム、耐指紋フィルムのうち少なくとも１つが備えられることができる。設計仕様に応じ、前述した機能性フィルム以外に他種類の機能性フィルムをさらに含むこともできる。のようなタッチスクリーンパネルは、ＯＬＥＤディスプレイパネル、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、および陰極線管（ＣＲＴ）、ＰＤＰのようなディスプレイ装置に適用されることができる。
【０１６８】
本出願の一実現例によるタッチスクリーンパネルにおいて、基材の両面に各々パターン化された伝導性層およびパターン化された暗色化層が備えられることができる。
【０１６９】
本出願の一実現例によるタッチスクリーンパネルは伝導性構造体上に電極部またはパッド部をさらに含むことができ、この時、有効画面部と電極部およびパッド部は同一の伝導体で構成されることができる。
【０１７０】
本出願の一実現例によるタッチスクリーンパネルにおいて、パターン化された暗色化層は使用者が見る側に備えられることができる。
【０１７１】
本出願の一実現例は伝導性構造体を含むディスプレイ装置を提供する。ディスプレイ装置において、カラーフィルタ基板または薄膜トランジスタ基板などに本出願の一実現例による伝導性構造体が用いられることができる。
【０１７２】
本出願の一実現例は伝導性構造体を含む太陽電池を提供する。例えば、太陽電池はアノード電極、カソード電極、光活性層、正孔輸送層および／または電子輸送層を含むことができ、本出願の一実現例による伝導性構造体はアノード電極および／またはカソード電極として用いられることができる。
【０１７３】
伝導性構造体はディスプレイ装置または太陽電池において従来のＩＴＯを代替することができ、フレキシブル可能な用途として活用することができる。また、ＣＮＴ、導電性高分子、グラフェンなどと共に次世代透明電極として活用することができる。
【０１７４】
以下、実施例によって本出願をより詳細に説明する。但し、以下の実施例は本出願を予告するためのものに過ぎず、これらによって本出願の範囲が限定されるものではない。
【０１７５】
＜実施例１＞
下記表１のようにマトリクス形態で変数を構成し、Ａｌ下部電極を用いて検証を実施した。
［表１］
【０１７６】
【表１】
2015533682.tif 000021
【０１７７】
Ａｌ下部電極を用いた時、ＡｌＯｘＮｙ（ｘ＞０、ｙ＞０）を含む暗色化層を３００〜８００ｎｍの波長範囲でＭａｃｌｅｏｄプログラムを用いてシミュレーションした時の黒化（暗色化）可能領域を図８に示す。
【０１７８】
また、６００ｎｍ波長の相殺的干渉条件でｎ、ｋ値に応じた色相を図９に示す。これは、Ａｌ下部電極が９０％の反射率を有する構造である時、数学式１の値によって計算した伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率値を色差に変換して示すものである。
【０１７９】
また、５５０ｎｍ、６００ｎｍ、６５０ｎｍの波長の相殺的干渉条件と下部電極が約９０％の反射率を有する構造である時にＭａｃｌｅｏｄプログラムを用いてシミュレーションした結果を示すものである。
【０１８０】
表２においては、Ｍａｃｌｅｏｄプログラムを用いてシミュレーションした５５０ｎｍ、６００ｎｍ、６５０ｎｍの波長での各々の伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率値、３８０〜７８０ｎｍの波長領域で伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率値、および、この時、６００ｎｍの波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊を示すものである。表２において、Ｓ１〜Ｓ１２６は表１に対応し、この時のｎ、ｋ値も表１に対応する。
［表２］
【０１８１】
【表２】
2015533682.tif 000022
【０１８２】
【表３】
2015533682.tif 000023
【０１８３】
【表４】
2015533682.tif 000024
【０１８４】
【表５】
2015533682.tif 000025
【０１８５】
【表６】
2015533682.tif 000026
【０１８６】
表２のＭａｃｌｅｏｄプログラムを用いてシミュレーションした結果を見ると、波長５５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光のうち少なくとも１つの波長の光に対して伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率が２０％以下であれば、３８０〜７８０ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が２０％以下であることを確認することができる。また、波長６００ｎｍの光に対して伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率が２０％以下であれば、３８０〜７８０ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が２０％以下であることを確認することができる。
【０１８７】
また、６００ｎｍの波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊が５１．８以下であれば、３８０〜７８０ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が２０％以下であり、Ａ＊が４０以下であれば、３８０〜７８０ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が１５％以下程度にさらに下がることを確認することができる。
【０１８８】
また、伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率が２０％以下であるか、６００ｎｍの波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊の値が５１．８以下である場合、または３８０〜７８０ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が２０％である場合を表１に対応してみれば、ｋ値の範囲が０．２〜１．２であることを確認することができる。また、６００ｎｍの波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊が約４０以下であるか、伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率が約１２％以下であるか、３８０〜７８０ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が約１５％以下であれば、ｋ値の範囲が０．４〜１．０であることを確認することができる。
【０１８９】
表２中、３００〜８００ｎｍの波長領域での伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの平均百分率が２０％以下である全ての場合をグラフで図１０に示す。
【０１９０】
また、図１０中、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４、Ｓ５、Ｓ１６、Ｓ１７、Ｓ１８のグラフを図１１に示し、Ｓ１９、Ｓ２０、Ｓ３０、Ｓ３１、Ｓ３２、Ｓ３３、Ｓ３４、Ｓ３５のグラフを図１２に示し、Ｓ４４、Ｓ４５、Ｓ４６、Ｓ４７、Ｓ４８、Ｓ４９、Ｓ５９、Ｓ６０のグラフを図１３に示す。また、Ｓ６１、Ｓ６２、Ｓ６３、Ｓ７３、Ｓ７４、Ｓ７５、Ｓ７６、Ｓ７７、Ｓ８７、Ｓ８８、Ｓ８９のグラフを図１４に示し、Ｓ９０、Ｓ９１、Ｓ１０１、Ｓ１０２、Ｓ１０３、Ｓ１０４、Ｓ１０５、Ｓ１１５、Ｓ１１６、Ｓ１１７、Ｓ１１８のグラフを図１５に示す。
【０１９１】
一方、６００ｎｍ波長の相殺的干渉条件とＡｌ下部電極が９０％の反射率を有する構造である時に計算したパラメータ値は下記の表３の通りである。表３においては、６００ｎｍの波長でのｎ、ｋ値に応じて、数学式１の値によって計算した伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率値、数学式２の値によって計算した暗色化層の厚さ、および数学式３によって計算した６００ｎｍの波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊を示す。
［表３］
【０１９２】
【表７】
2015533682.tif 000027
【０１９３】
表３を見れば、波長６００ｎｍの光に対して伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率が２０％以下であるか、６００ｎｍの波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊が５１．８以下であれば、ｋ値の範囲が０．４〜１であることを確認することができる。
【０１９４】
表２での６００ｎｍの基準にＭａｃｌｅｏｄプログラムを用いてシミュレーションした時の黒化（暗色化）可能領域を図１６に示し、表３での６００ｎｍの基準に数学式１による計算値である黒化（暗色化）可能領域を図１７に示す。
【０１９５】
図１６と図１７を比較してみれば、Ｍａｃｌｅｏｄプログラムによる値の結果と数学式１による値は傾向性と範囲が類似することを確認することができた。
【０１９６】
また、数学式３に応じて６００ｎｍ波長の相殺的干渉条件でｎ、ｋ値に応じたＡ＊値を計算した時の黒化（暗色化）可能領域を図１８に示す。図１８を図１６および図１７と比較してみれば、Ａ＊値に応じた色領域はＭａｃｌｅｏｄプログラムによる値の結果と数学式１による値の結果との傾向性と範囲が類似することを確認することができた。
【０１９７】
＜実施例２＞
実施例１での表１のようにマトリクス形態で変数を構成し、Ｍｏ下部電極を用いて検証を実施した。この時、暗色化層の形成材料は下記表４のｎ、ｋ値の範囲を有する物質であれば良く、例えば、Ｍｏ酸化物、Ｍｏ窒化物、ＡｌＯｘＮｙ（ｘ＞０、ｙ＞０）であっても良い。
【０１９８】
６００ｎｍの波長の相殺的干渉条件とＭｏ下部電極が５７．５％の反射率を有する構造である時のパラメータ値は下記表４の通りである。表４においては、６００ｎｍの波長でのｎ、ｋ値に応じて数学式１の値によって計算した伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率値、数学式２の値によって計算した暗色化層の厚さ、および数学式３によって計算した６００ｎｍの波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊を示す。
［表４］
【０１９９】
【表８】
2015533682.tif 000028
【０２００】
【表９】
2015533682.tif 000029
【０２０１】
【表１０】
2015533682.tif 000030
【０２０２】
表４を見れば、波長６００ｎｍの光に対して伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率が２０％以下であれば、ｋ値の範囲が０．２〜１であることを確認することができる。また、６００ｎｍの波長に対する明るさを示すパラメータＡ＊が５１．８以下であれば、ｋ値の範囲が０．２〜１であることを確認することができる。
【０２０３】
Ｍｏの可視光線領域の平均反射率は５７．５（％）であって、伝導性構造体の可視性を下げるためのパラメータの百分率が２０％以下であれば、ｋ値の範囲が０．２〜１であって、Ａｌ電極層を用いた場合に比べて低い反射率を有するｋ領域が増加したことを確認することができた。
【０２０４】
下部電極として５７．５％の反射率を有するＭｏ下部電極を用いた時、６００ｎｍ波長の相殺的干渉条件でｎ、ｋ値に応じた数学式１のパラメータ値を計算した時の黒化（暗色化）可能領域を図１９に示す。
【０２０５】
本出願が属した分野で通常の知識を有した者であれば、上記の内容に基づいて本出願の範疇内で様々な応用および変形を行うことができるであろう。
【０２０６】
以上、本出願の特定部分を詳細に記述したが、当業界の通常の知識を有する者にとってこのような具体的な記述は単に好ましい実現例に過ぎず、それに本出願の範囲が制限されるものではないことは明らかである。したがって、本出願の実質的な範囲は添付された請求項とその等価物によって定義されると言える。
【符号の説明】
【０２０７】
１００  基材
２００  暗色化層
２２０  暗色化層
３００  伝導性層
２０１  暗色化パターン層
２２１  暗色化パターン層
３０１  伝導性パターン層
【図１】
2015533682.tif 000040
【図２】
2015533682.tif 000041
【図３】
2015533682.tif 000042
【図４】
2015533682.tif 000043
【図５】
2015533682.tif 000044
【図６】
2015533682.tif 000045
【図７】
2015533682.tif 000046
【図８】
2015533682.tif 000047
【図９】
2015533682.tif 000048
【図１０】
2015533682.tif 000049
【図１１】
2015533682.tif 000050
【図１２】
2015533682.tif 000051
【図１３】
2015533682.tif 000052
【図１４】
2015533682.tif 000053
【図１５】
2015533682.tif 000054
【図１６】
2015533682.tif 000055
【図１７】
2015533682.tif 000056
【図１８】
2015533682.tif 000057
【図１９】
2015533682.tif 000058
【国際調査報告】
2015533682.tif 000059
2015533682.tif 000060
2015533682.tif 000061
2015533682.tif 000062