(57)【要約】  極性ポリマーと非極性ポリマーとのブレンドの相溶化に、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが用いられる。得られた相溶化ブレンドの物性は、相溶化剤を含まないブレンドおよびポリ（ヒドロキシエーテル）を含むブレンドに対して向上している。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって、特に明記されない限りその合計質量に対して、
セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、ポリ（ビニルブチラール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーを３０〜９３質量％と；
アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを５〜６８質量％と；
少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比が０．９５：１〜１．００：１のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを２〜２０質量％と、
を含むことを特徴とする組成物。
【請求項２】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの数平均分子量が５，０００〜５０，０００原子質量単位である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは下式の構造
【化１】
2015512982.tif 000071
｛式中、Ｑ１とＱ２は、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；Ｑ３とＱ４はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；ｘとｙは独立に、その合計が少なくとも２であることを条件として、０〜３０であり；Ｌは下式の構造
【化２】
2015512982.tif 000072
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；ｚは０または１であり；Ｙは、下式の構造
【化３】
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（式中、Ｒ５はそれぞれ独立に、水素およびＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビルから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルおよびＣ１−Ｃ６ヒドロカルビレンから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７は共同でＣ４−Ｃ１２アルキレン基を形成する）から構成される群から選択された構造を有する］を有する｝を有し；
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造
【化４】
2015512982.tif 000074
｛式中、Ａは下式の構造
【化５】
2015512982.tif 000075
［式中、Ｇ１はそれぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり、Ｅはそれぞれ独立に、直接結合または下式
【化６】
2015512982.tif 000076
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり、ｓは０または１であり、ｔとｕはそれぞれ独立に１〜１０である］の残基であり；Ｂは下式の構造
【化７】
2015512982.tif 000077
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）の残基であり；ｎは１〜６０である｝を有する請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは下式の構造
【化８】
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（式中、Ｑ５とＱ６はそれぞれ独立に、メチル、ジ−ｎ−ブチルアミノメチルまたはモルホリノメチルであり；ａとｂは、その合計が少なくとも２であることを条件として、それぞれ独立に０〜２０である）を有し；
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化９】
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（式中、ｎは１〜６０）を有する請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記非極性ポリマーは前記ポリ（フェニレンエーテル）を含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
前記非極性ポリマーは前記ポリ（フェニレンエーテル）と前記ポリ（アルケニル芳香族）とを含み、前記ポリ（アルケニル芳香族）は、ポリスチレン、ゴム変性ポリスチレンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択される請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
前記非極性ポリマーは前記ポリ（フェニレンエーテル）と前記水素化ブロックコポリマーとを含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記極性ポリマーは前記ポリエステルを含み、前記ポリエステルは、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリカプロラクトン、ポリ（乳酸）、ポリ（ブチレンアジペート）、ポリ（ブチレンスクシネート）、ポリ（ブチレンセバケート）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択される請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
前記極性ポリマーは前記ポリエステルを含み、前記ポリエステルはポリ（ブチレンテレフタレート）を含み、前記非極性ポリマーは、前記ポリ（フェニレンエーテル）と前記水素化ブロックコポリマーとを含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記極性ポリマーは前記ポリエステルを含み、前記ポリエステルはポリ（乳酸）を含み、前記非極性ポリマーは、前記ポリ（フェニレンエーテル）と前記水素化ブロックコポリマーとを含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記極性ポリマーは前記ポリ（エチレン−ビニルアセテート）を含み、前記非極性ポリマーは、前記ポリ（フェニレンエーテル）と、前記未水素化ブロックコポリマー、前記水素化ブロックコポリマーまたはこれらの組み合わせと、を含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記ポリ（エチレン−ビニルアセテート）は、８〜６０質量％の酢酸ビニル残基を含む請求項１１に記載の組成物。
【請求項１３】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組成物を含むことを特徴とする射出成形物品。
【請求項１４】
特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、
ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマー３０〜９３質量％と；
アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマー５〜６８質量％と；
少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比が０．９５：１〜１．００：１のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー２〜２０質量％と、
を溶融混合して前記組成物を形成するステップを備えることを特徴とする組成物の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
ポリ（ヒドロキシエーテル）（フェノキシ樹脂としても既知）は、脂肪族ポリエステル（例えば、Ｊ．Ｅ．Ｈａｒｒｉｓ、Ｓ．Ｈ．Ｇｏｈ、Ｄ．Ｒ．ＰａｕｌおよびＪ．Ｗ．Ｂａｒｌｏｗ、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ、２７巻、８３９ページ（１９８２）参照）、芳香族ポリエステル（例えば、Ｌ．Ｍ．ＲｏｂｅｓｏｎおよびＡ．Ｂ．Ｆｕｒｔｅｋ、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ、２３巻、６４５ページ（１９７９）；Ｗ．Ｈ．Ｃｈｒｉｓｔｉａｎｓｅｎ、Ｄ．Ｒ．ＰａｕｌおよびＪ．Ｗ．Ｂａｒｌｏｗ、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ、３４巻、５３７ページ（１９８７）参照）、ポリエーテルおよびポリオキシド（例えば、Ｌ．Ｍ．Ｒｏｂｅｓｏｎ、Ｗ．Ｆ．ＨａｌｅおよびＣ．Ｎ．Ｍｅｒｒｉａｍ、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１４巻、１６４４ページ（１９８１）；およびＪ．Ｉ．Ｉｒｉｂａｒｒｅｎ、Ｍ．Ｉｒｉａｒｔｅ、Ｃ．Ｕｒｉａｒｔｅ、Ｊ．Ｊ．Ｉｒｕｉｎ、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ、３７巻、３４５９ページ（１９８９）参照）、ポリスルホン（例えば、Ｖ．Ｂ．ＳｉｎｇｈおよびＤ．Ｊ．Ｗａｌｓｈ、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｐａｒｔ  Ｂ：Ｐｈｙｓ．、Ｂ２５巻、６５ページ参照）およびポリ（Ｎ−ビニル−２−ピロリドン）（例えば、Ｊ．Ｉ．Ｅｇｕｉａｚａｂａｌ、Ｊ．Ｊ．Ｉｒｕｉｎ、Ｍ．ＣｏｒｔａｚａｒおよびＧ．Ｍ．Ｇｕｚｍａｎ、Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕｌａｒｅ  Ｃｈｅｍｉｅ、１８５巻、１７６１ページ（１９８４）参照）などの種々のポリマーと混和性ブレンドを形成する。また、ポリ（ヒドロキシエーテル）は、ポリウレタン、ポリエステルおよびナイロン（例えば、Ｃ．Ｕｒｉａｒｔｅ、Ｊ．Ｉ．Ｅｇｕｉａｚａｂａｌ、Ｍ．Ｌｌａｎｏｓ、Ｊ．Ｉ．Ｉｒｉｂａｒｒｅｎ、Ｊ．Ｊ．Ｉｒｕｉｎ、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、２０巻、３０３８〜３０４２ページ（１９８７）；およびＨ．Ｅ．Ｓｎｏｄｇｒａｓｓ、Ｒ．Ｌ．Ｌａｕｃｈｌａｎ、１９７１年１２月２８日発行の米国特許第３，６３１，１２６号参照）のような種々の極性ポリマーのブレンドの相溶化に有用である。
【０００２】
ポリ（ヒドロキシエーテル）は、他のポリマーおよび基質中の極性官能基と相互作用し得る第二級アルコール基を約６質量％含む。こうした相互作用の存在とポリマーブレンドの混和性に及ぼすその影響は、フーリエ変換赤外分光法（例えば、Ｅ．Ｊ．ＭｏｓｋａｌａおよびＭ．Ｍ．Ｃｏｌｅｍａｎ、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ、２４巻、２０６ページ（１９８３）；およびＭ．Ｍ．ＣｏｌｅｍａｎとＥ．Ｊ．Ｍｏｓｋａｌａ、Ｐｏｌｙｍｅｒ、２４巻、２５１ページ（１９８３）参照）によって示されてきた。しかしながら、ポリ（ヒドロキシエーテル）は一般に、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびアルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化および水素化ブロックコポリマーなどの、芳香族非極性ポリマーを含む非極性ポリマーとは非相溶性である。
【０００３】
エポキシ官能化モノマーおよびポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）とポリ（エチレンテレフタレート）およびポリ（ブチレンテレフタレート）との相溶化に使用されてきた。例えば、Ｄ．−Ｗ  Ｌｏ、Ｃ．−Ｒ．ＣｈｉａｎｇおよびＦ．−Ｃ．Ｃｈａｎｇ、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ、６５巻、７３９〜７５３ページ（１９９７）；およびＷ．−Ｂ．Ｌｉｕ、Ｗ．−Ｆ．Ｋｕｏ、Ｃ．−Ｊ．Ｃｈｉａｎｇ、Ｆ．−Ｃ．Ｃｈａｎｇ、Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｊｏｕｒｎａｌ、３２巻、９１〜９９ページ（１９９６）参照。しかしながら、得られた混合物の溶融流動性は、対応する未相溶化ブレンドと比較して実質的に低下した。溶融流動性が低下することによって、相溶化ブレンドの射出成形がより困難になる。
【０００４】
従って、溶融流動特性を犠牲にすることなく、極性ポリマーと非極性ポリマーとのブレンドを相溶化できる材料が求められている。
【発明の概要】
【０００５】
２０１１年６月２７日出願の同時係属米国特許出願第１３／１６９，１２２号には、ポリ（ヒドロキシエーテル）セグメントとポリ（フェニレンエーテル）セグメントとを有するブロックコポリマーの合成が記載されている。本出願では、これらのポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが極性ポリマーと非極性ポリマーとのブレンドの相溶化に用いられている。
【０００６】
一実施形態は組成物であって、特に明記されない限りその合計質量に対して、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、ポリ（ビニルブチラール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーを３０〜９３質量％と；アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを５〜６８質量％と；少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比が０．９５：１〜１．００：１のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含む組成物である。
【０００７】
別の実施形態は、前述の組成物を含む射出成形物品である。
【０００８】
別の実施形態は組成物の形成方法であって、特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマー３０〜９３質量％と；アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマー５〜６８質量％と；少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比が０．９５：１〜１．００：１のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー２〜２０質量％と、を溶融混合して前記組成物を形成するステップを備えた方法である。
【０００９】
これらおよびその他の実施形態について以下詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】比較的大きな分散相領域を示す比較実施例Ｂの組成物の染色表面の走査透過型電子顕微鏡写真である。
【００１１】
【図２】比較的大きな分散相領域を示す比較実施例Ｃの組成物の染色表面の走査透過型電子顕微鏡写真である。
【００１２】
【図３】比較的小さな分散相領域を示す実施例１の組成物の染色表面の走査透過型電子顕微鏡写真である。
【００１３】
【図４】比較的小さな分散相領域を示す実施例４の組成物の染色表面の走査透過型電子顕微鏡写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本明細書で開示された範囲はすべて終点を含むものであり、該終点は互いに独立に組み合わせできる。本明細書で開示した範囲はそれぞれ、この開示範囲内の任意の点またはサブ範囲の開示を構成する。
【００１５】
本発明の記述文脈（特に以下の請求項の文脈）における単数表現は、本明細書で別途明示がある場合または文脈上明らかに矛盾する場合を除き、単数および複数を含むものと解釈される。また、本明細書で用いられる、「第１の」「第２の」などの用語は、いかなる順序や量あるいは重要度を表すものではなく、ある成分と他の成分とを区別するために用いられるものである。量に関連して用いた「約」は、記載された数値を含むものであり、文脈上決定される意味（例えば、特定の量の測定に関連した誤差の程度を含む）を有するものである。
【００１６】
一実施形態は、組成物であって、特に明記されない限りその合計質量に対して、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、ポリ（ビニルブチラール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーを３０〜９３質量％と；アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを５〜６８質量％と；少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比が０．９５：１〜１．００：１のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含む組成物である。
【００１７】
該極性ポリマーは、セルロースエステルであり得る。セルロースエステルとしては、例えば、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、三酢酸セルロースおよびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、該セルロースエステルは、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースまたはこれらの組み合わせを含む。セルロースエステルは、硫酸の存在下、セルロースと対応する無水物との反応で調製できる（例えば、セルロースと無水酢酸との反応による酢酸セルロース）。市販のセルロースエステルとしては、Ｃｅｌａｎｅｓｅ  ａｎｄ  Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社の酢酸セルロースと、Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社の酢酸酪酸セルロースと、が挙げられる。
【００１８】
該極性ポリマーは、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）であり得る。本明細書での「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの両方を包含する。ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）としては、例えば、ポリ（アクリル酸メチル）、ポリ（メタクリル酸メチル）、ポリ（アクリル酸エチル）、ポリ（メタクリル酸エチル）、ポリ（アクリル酸ｎ−プロピル）、ポリ（メタクリル酸ｎ−プロピル）、ポリ（アクリル酸イソプロピル）、ポリ（メタクリル酸イソプロピル）、ポリ（アクリル酸ｎ−ブチル）、ポリ（メタクリル酸ｎ−ブチル）、ポリ（アクリル酸イソブチル）、ポリ（メタクリル酸イソブチル）およびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、該ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）はポリ（メタクリル酸メチル）を含む。ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）は、対応するアルキル（メタ）アクリレートのラジカル重合によって形成できる。市販のポリ（アルキル（メタ）アクリレート）としては、Ｌｕｃｉｔｅ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社からＬＵＣＩＴＥおよびＰＥＲＳＰＥＸの商品名で販売されているポリ（メタクリル酸メチル）と、Ａｌｔｕｇｌａｓ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ社からＰＬＥＸＩＧＬＡＳの商品名で販売されているポリ（メタクリル酸メチル）と、が挙げられる。
【００１９】
該極性ポリマーはポリアミドであり得る。ポリアミドとしては、例えば、ポリアミド−６、ポリアミド−６，６、ポリアミド−４、ポリアミド−４，６、ポリアミド−１２、ポリアミド−６，１０、ポリアミド−６，９、ポリアミド−６，１２、非晶質ポリアミド、ポリアミド−６／６Ｔ、ポリアミド−６，６／６Ｔ、ポリアミド−９Ｔおよびこれらの組合せが挙げられる。一部の実施形態では、該ポリアミドはポリアミド−６を含む。一部の実施形態では、該ポリアミドはポリアミド−６，６を含む。一部の実施形態では、該ポリアミドはポリアミド−６とポリアミド−６，６とを含む。ポリアミドは、アミノ酸の重縮合またはラクタムの開環重合によって形成できる。市販のポリアミドとしては、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＡＶＰとＥＳＰＲＥＥの商品名で販売されているポリアミド−６とポリアミド−６，６、Ａｓａｈｉ  Ｋａｓｅｉ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ  Ｎｏｒｔｈ  Ａｍｅｒｉｃａ社からＴＨＥＲＹＬＯＮの商品名で販売されているポリアミド−６とポリアミド−６，６およびＢＡＳＦ社からＵＬＴＲＡＭＩＤの商品名で販売されているポリアミド−６とポリアミド−６，６が挙げられる。
【００２０】
該極性ポリマーはポリカーボネートであり得る。ポリカーボネートは、下式の繰り返し構造カーボネート単位を有する：
【化１】
2015512982.tif 000003
式中、Ｒ１５基の総数の少なくとも６０％は芳香族部分を含み、残りは脂肪族、脂環式または芳香族である。一部の実施形態では、Ｒ１５はそれぞれＣ６−３０芳香族基であり、すなわち、少なくとも１つの芳香族部分を含む。Ｒ１５は、例えば、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、１，６−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−ナフチルメタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、１，１−ビス（ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソブテン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン、ｔｒａｎｓ−２，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブテン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）トルエン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）アセトニトリル、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｎ−プロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソプロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｓｅｃ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，１−ジクロロ−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチレン、１，１−ジブロモ−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチレン、１，１−ジクロロ−２，２−ビス（５−フェノキシ−４−ヒドロキシフェニル）エチレン、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブタノン、１，６−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，６−ヘキサンジオン、エチレングリコールビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フッ素、２，７−ジヒドロキシピレン、６，６’−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラメチルスピロ（ビス）インダン（「スピロビインダンビスフェノール」）、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フタルイミド、２，６−ジヒドロキシジベンゾ−ｐ−ジオキシン、２，６−ジヒドロキシチアントレン、２，７−ジヒド��キシフェノキサチン、２，７−ジヒドロキシ−９，１０−ジメチルフェナジン、３，６−ジヒドロキシジベンゾフラン、３，６−ジヒドロキシジベンゾチオフェン、２，７−ジヒドロキシカルバゾール、レゾルシノール、５−メチルレゾルシノール、５−エチルレゾルシノール、５−プロピルレゾルシノール、５−ブチルレゾルシノール、５−ｔ−ブチルレゾルシノール、５−フェニルレゾルシノール、５−クミルレゾルシノール、２，４，５，６−テトラフルオロレゾルシノール、２，４，５，６−テトラブロモレゾルシノール、カテコール、ヒドロキノン、２−メチルヒドロキノン、２−エチルヒドロキノン、２−プロピルヒドロキノン、２−ブチルヒドロキノン、２−ｔ−ブチルヒドロキノン、２−フェニルヒドロキノン、２−クミルヒドロキノン、２，３，５，６−テトラメチルヒドロキノン、２，３，５，６−テトラ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，３，５，６−テトラフルオロヒドロキノン、２，３，５，６−テトラブロモヒドロキノンおよびこれらの組み合わせなどのジヒドロキシ化合物から誘導できる。一部の実施形態では、該ジヒドロキシ化合物は２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを含む。ポリカーボネートは、該ジヒドロキシ化合物と、ホスゲンまたはジアリールカーボネート（例えばジフェニルカーボネート）などのカーボネート前駆体と、の反応により形成できる。市販のポリカーボネートとしては、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＬＥＸＡＮの商品名で販売されているもの、Ｂａｙｅｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ社からＡＰＥＣの商品名で販売されているもの、およびＣｈｅｍｔｕｒａ社からＢＬＥＮＤＥＸの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００２１】
該極性ポリマーはポリエステルであり得る。ポリエステルとしては、例えば、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（プロピレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（シクロヘキサンジメチレンテレフタレート）、ポリ（エチレンナフタレート）、ポリ（プロピレンナフタレート）、ポリ（ブチレンナフタレート）、ポリ（エチレンイソフタレート／テレフタレート）、ポリ（プロピレンイソフタレート／テレフタレート）、ポリ（ブチレンイソフタレート／テレフタレート）、ポリ（エチレンテレフタレート／ナフタレート）、ポリ（プロピレンテレフタレート／ナフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート／ナフタレート）、ポリカプロラクトン、ポリ乳酸およびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、該ポリエステルはポリ（エチレンテレフタレート）を含む。一部の実施形態では、該ポリエステルはポリ（ブチレンテレフタレート）を含む。一部の実施形態では、該ポリエステルはポリカプロラクトンを含む。一部の実施形態では、該ポリエステルはポリ（乳酸）を含む。ポリエステルは、ジアルコールと二酸の共重合、ヒドロキシ酸の重縮合あるいはラクトンの開環重合によって形成できる。市販のポリエステルとしては、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＶＡＬＯＸの商品名で販売されているポリ（ブチレンテレフタレート）、ＤｕＰｏｎｔ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＣＲＡＳＴＩＮの商品名で販売されているポリ（ブチレンテレフタレート）、ＤｕＰｏｎｔ  Ｐａｃｋａｇｉｎｇ  ＆  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＭＹＬＡＲの商品名で販売されているポリ（エチレンテレフタレート）、ＤＵＲＥＣＴ社からＬＡＣＴＥＬの商品名で販売されているポリカプロラクトンおよびＮａｔｕｒｅＷｏｒｋｓ社からＩＮＧＥＯの商品名で販売されているポリ（乳酸）が挙げられる。
【００２２】
一部の実施形態では、該極性ポリマーは、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリカプロラクトン、ポリ（乳酸）、ポリ（ブチレンアジペート）、ポリ（ブチレンスクシネート）、ポリ（ブチレンセバケート）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリエステルを含む。
【００２３】
該極性ポリマーはポリエーテルイミドであり得る。ポリエーテルイミドは、少なくとも１つのエーテル基と少なくとも１つのイミド基を含む繰り返し単位を有するポリマーである。ポリエーテルイミドは、二無水物とジアミンとの重縮合反応により形成できる。例えば、二無水物が２，２−ビス（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル）プロパン二無水物であり、ジアミンがｍ−フェニレンジアミンの場合、ポリエーテルイミド形成反応は以下のように表わせる。
【化２】
2015512982.tif 000004
好適な二無水物としては、例えば、３，３−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルエーテル二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ベンゾフェノン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、２，２−ビス［４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物、４，４’−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルエーテル二無水物、４，４’−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ベンゾフェノン二無水物、４，４’−ビス（２，３−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニル−２，２−プロパン二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルエーテル二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ベンゾフェノン二無水物、４−（２，３−ジカルボキシフェノキシ）−４’−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物およびこれらの組み合わせが挙げられる。好適なジアミンとしては、例えば、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、トリメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、１，１２−ドデカンジアミン、１，１８−オクタデカンジアミン、３−メチルヘプタメチレンジアミン、４，４−ジメチルヘプタメチレンジアミン、４−メチルノナメチレンジアミン、５−メチルノナメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘキサメチレンジアミン、２，５−ジメチルヘプタメチレンジアミン、２、２−ジメチルプロピレンジアミン、Ｎ−メチル−ビス（３−アミノプロピル）アミン、３−メトキシヘキサメチレンジアミン、１，２−ビス（３−アミノプロポキシ）エタン、ビス（３−アミノプロピル）スルフィド、１，４−シクロヘキサンジアミン、ビス−（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、ｍ−キシリレンジアミン、ｐ−キシリレンジアミン、２−メチル−４，６−ジエチル−１，３−フェニレンジアミン、５−メチル−４，６−ジエチル−１，３−フェニレンジアミン、ベンジジン、３，３’−ジメチルベンジジン、３，３’−ジメトキシベンジジン、１，５−ジアミノナフタレン、ビス（４−アミノフェニル）メタン、ビス（２−クロロ−４−アミノ−３，５−ジエチルフェニル）メタン、ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，４−ビス（ｐ−アミノ−ｔ−ブチル）トルエン、ビス（ｐ−アミノ−ｔ−ブチルフェニル）エーテル、ビス（ｐ−メチル−ｏ−アミノフェニル）ベンゼン、ビス（ｐ−メチル−ｏ−アミノペンチル）ベンゼン、１，３−ジアミノ−４−イソプロピルベンゼン、ビス（４−アミノフェニル）スルフィド、ビス−（４−アミノフェニル）スルホン、ビス（４−アミノフェニル）エーテルおよびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、該二無水物は、２，２−ビス（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル）プロパン二無水物を含み、該ジアミンは、ｍ−フェニレンジアミンを含む。一部の実施形態では、該ポリエーテルイミドは、ポリ（２，２’−ビス（４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニルプロパン）−１，３−フェニレンビスイミド）（ＣＡＳ登録番号第６１１２８−４６−９号）を含む。市販のポリエーテルイミドとしては、例えば、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＥＸＴＥＭとＵＬＴＥＭの商品名で販売されているもの、Ｓａｉｎｔ  Ｇｏｂａｉｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＭＥＬＤＩＮの商品名で販売されているもの、およびＰｏｌｙＯｎｅ社からＥＤＧＥＴＥＫの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００２４】
該極性ポリマーはポリスルホンであり得る。ポリスルホンは、塩基の存在下、ジヒドロキシ化合物とビス（ハロフェニル）スルホンとの反応で形成できる。例えば、該ジヒドロキシ化合物がビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン）、該ビス（ハロフェニル）スルホンが４，４’−ジクロロジフェニルスルホン、該塩基が炭酸ナトリウムの場合、ポリスルホン形成反応は、以下のように表される。
【化３】
2015512982.tif 000005
好適なジヒドロキシ化合物としては、ポリカーボネートの文脈における上記に記載のものと、１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジヒドロキシベンゼン、４，４’−ビフェノール、３，３’−ビフェノール、３，４’−ビフェノールおよびこれらの組み合わせが挙げられる。好適なビス（ハロフェニル）スルホンとしては、４，４’−ジフルオロジフェニルスルホン、４，４’−ジクロロジフェニルスルホン、４，４’−ジブロモジフェニルスルホン、３，４’−ジフルオロジフェニルスルホン、３，４’−ジクロロジフェニルスルホン、３，４’−ジブロモジフェニルスルホン、３，３’−ジフルオロジフェニルスルホン、３，３’−ジクロロジフェニルスルホン、３，３’−ジブロモジフェニルスルホンおよびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、該ジヒドロキシ化合物は、ビスフェノールＡ（２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン）であり、該ビス（ハロフェニル）スルホンは、４，４’−ジクロロジフェニルスルホンである。一部の実施形態では、該ジヒドロキシ化合物は４，４’−スルホニルジフェノールであり、該ビス（ハロフェニル）スルホンは４，４’−ジクロロジフェニルスルホンである。市販のポリスルホンとしては、例えば、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＬＮＰ  ＴＨＥＲＭＯＣＯＭＰの商品名で販売されているもの、ＢＡＳＦ社からＵＬＴＲＡＳＯＮの商品名で販売されているもの、および住友化学（株）からＳＵＭＩＫＡＥＸＣＥＬとＳＵＭＩＰＬＯＹの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００２５】
該極性ポリマーはポリエーテルスルホンであり得る。ポリエーテルスルホンは、下式の構造の繰り返し単位を有するポリマーである：
【化４】
2015512982.tif 000006
式中、ｆとｇはそれぞれ独立に０〜４であり、Ｒ２３とＲ２４はそれぞれ独立に、ハロゲンまたはＣ１−Ｃ６アルキルである。一部の実施形態では、該ポリエーテルスルホンは、下式の構造の繰り返し単位を含む。
【化５】
2015512982.tif 000007
ポリスルホンは、塩基の存在下、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホンとビス（ハロフェニル）スルホンとの反応で調製できる。市販のポリエーテルスルホンとしては、例えば、Ｐｏｒｔ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＵＤＥＬの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００２６】
該極性ポリマーは、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）であり得る。ポリ（エチレン−エチルアクリレート）（ＣＡＳ登録番号第９０１０−８６−０号）は、エチレンとアクリル酸エチルのランダムコポリマーである。一部の実施形態では、該ポリ（エチレン−エチルアクリレート）のエチレン含有量は、７０〜９８質量％、具体的には８０〜９５質量％であり、残りはアクリル酸エチル含有量である。ポリ（エチレン−エチルアクリレート）は、エチレンとアクリル酸エチルのラジカル共重合により調製できる。市販のポリ（エチレン−エチルアクリレート）としては、Ｄｏｗ社からＡＭＰＬＩＦＹの商品名で販売されているもの、Ａｒｋｅｍａ社からＬＯＴＡＤＥＲの商品名で販売されているもの、およびＤｕＰｏｎｔ社からＥＬＶＡＬＯＹの商品名で販売されているものが含まれる。
【００２７】
該極性ポリマーはポリ（エチレン−ビニルアセテート）であり得る。ポリ（エチレン−ビニルアセテート）（ＣＡＳ登録番号第２４９３７−７８−８号）は、エチレンと酢酸ビニルのランダムコポリマーである。一部の実施形態では、該ポリ（エチレン−ビニルアセテート）の酢酸ビニル含有量は、８〜６０質量％であり、具体的には１０〜５０質量％であり、より具体的には１５〜４０質量％であり、さらにより具体的には２０〜３０質量％であり、残りはエチレン含有量である。ポリ（エチレン−ビニルアセテート）は、エチレンと酢酸ビニルのラジカル共重合により調製できる。市販のポリ（エチレン−ビニルアセテート）としては、ＤｕＰｏｎｔ社からＥＬＶＡＸの商品名で販売されているもの、Ａｒｋｅｍａ社からＥＶＡＴＡＮＥの商品名で販売されているもの、およびＬｙｏｎｄｅｌｌＢａｓｅｌｌ社からＵＬＴＲＡＴＨＥＮＥの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００２８】
該極性ポリマーは、熱可塑性ポリウレタンとしても既知のポリウレタンであり得る。ポリウレタンは、ジイソシアネートと長鎖ジオール（「ポリオール」と呼ばれることもある）との反応により形成される。例えば、該ジイソシアネートがジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネートであり、該長鎖ジオールがポリエチレングリコールである場合、ポリウレタン形成反応は以下のように表される。
【化６】
2015512982.tif 000008
好適なジイソシアネートとしては、例えば、１，２−フェニレンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、１，４−ナフタレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，２’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートおよびこれらの組み合わせが挙げられる。長鎖ジオールは、最も一般には、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオールおよびポリブタジエンジオールの３つの種類に分類される。ポリエーテルジオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、エチレンオキシド−キャップ化ポリ（オキシプロピレン）ジオールとポリオール、アルコキシ化ビスフェノール（エトキシ化ビスフェノールＡおよびプロポキシ化ビスフェノールＡなど）およびこれらの組み合わせが挙げられる。ラクトンのジオール開始重合により調製できるポリエステルジオールとしては、例えば、ポリカプロラクトンジオール、ポリ（エチレンアジペート）ジオール、ポリ（プロピレンアジペート）ジオール、ポリ（ブチレンアジペート）ジオール、オルトフタル酸ポリエステルポリオール、テレフタル酸ポリエステルポリオールおよびこれらの組み合わせが挙げられる。ポリブタジエンジオールは、各端末にヒドロキシ基を有する線状ポリブタジエンである。一部の実施形態では、該長鎖ジオールの数平均分子量は、５００〜１０，０００原子質量単位であり、具体的には１，０００〜５，０００原子質量単位である。該ポリウレタンの形成に用いられる反応物質は、ジイソシアネートと長鎖ジオールに加えて、鎖延長剤とも呼ばれることがある短鎖ジオールをさらに含む。好適な短鎖ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオールおよびこれらの組み合わせが挙げられる。市販のポリウレタンとしては、Ｈｕｎｔｓｍａｎ社からＩＲＯＧＲＡＮの商品名で販売されているもの、Ｂａｙｅｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ社からＤＥＳＭＯＰＡＮとＴＥＸＩＮの商品名で販売されているもの、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ社からＰＥＬＬＥＴＨＡＮＥの商品名で販売されているもの、Ｇｒｅａｔ  Ｅａｓｔｅｒｎ  Ｒｅｓｉｎｓ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ社からＩＳＯＴＨＡＮＥの商品名で販売されているもの、およびＢＡＳＦ社からＥＬＡＳＴＯＬＬＡＮの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００２９】
該極性ポリマーは、ポリ（酢酸ビニル）であり得る。ポリ（酢酸ビニル）（ＣＡＳ登録番号第９００３−２０−７号）は、酢酸ビニルのホモポリマーである。ポリ（エチレン−ビニルアセテート）は、酢酸ビニルのラジカル重合により調製できる。市販のポリ（酢酸ビニル）としては、ＡＣＨＥＭＡ社から販売されているもの、Ｗａｃｋｅｒ社からＶＩＮＮＡＰＡＳの商品名で販売されているもの、およびＳｏｌｕｔｉａ社からＧＥＬＶＡの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００３０】
該極性ポリマーは、ポリ（ビニルアルコール）であり得る。ポリ（ビニルアルコール）（ＣＡＳ登録番号第９００２−８９−５号）は、ビニルアルコールのホモポリマーである。ポリ（ビニルアルコール）は、概してその互変異性体であるアセトアルデヒドで存在するビニルアルコールのラジカル重合により調製できる。市販のポリ（ビニルアルコール）としては、Ｄｅｎｋａ社からＰＯＶＡＬの商品名で販売されているもの、ＭｏｎｏＳｏｌ社からＭＯＮＯＳＯＬの商品名で販売されているもの、および積水化学工業（株）社からＣＥＬＶＯＬの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００３１】
該極性ポリマーはポリ（スチレン−アクリロニトリル）であり得る。ポリ（スチレン−アクリロニトリル）（ＣＡＳ登録番号第９００３−５４−７号）は、スチレンとアクリロニトリルのランダムコポリマーである。一部の実施形態では、該ポリ（スチレン−アクリロニトリル）のスチレン含有量は、６０〜９０質量％、具体的には７０〜８０質量％であり、残りはアクリロニトリル含有量である。ポリ（スチレン−アクリロニトリル）は、スチレンとアクリロニトリルのラジカル共重合により調製できる。市販のポリ（スチレン−アクリロニトリル）としては、Ｃｈｅｍｔｕｒａ社からＢＬＥＮＤＥＸの商品で販売されているもの、Ｆｅｒｒｏ社からＳＴＹＶＥＸの商品名で販売されているもの、およびＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＥＳＰＲＥＥ、ＬＮＰ  ＬＵＢＲＩＣＯＭＰおよびＬＮＰ  ＴＨＥＲＭＯＣＯＭＰの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００３２】
該極性ポリマーは、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）であり得る。ポリ（スチレン−無水マレイン酸）（ＣＡＳ登録番号第９０１１−１３−６号）は、スチレンと無水マレイン酸のランダムコポリマーである。一部の実施形態では、該ポリ（スチレン−無水マレイン酸）のスチレン含有量は、３〜２５質量％、具体的には５〜１５質量％であり、残りは無水マレイン酸含有量である。ポリ（スチレン−無水マレイン酸）は、スチレンと無水マレイン酸のラジカル共重合により調製できる。市販のポリ（スチレン−無水マレイン酸）としては、ＩＮＥＯＳ  ＡＢＳ社からＬＵＳＴＲＡＮの商品名で販売されているもの、およびＰｏｌｙｓｃｏｐｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＸＩＲＡＮの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００３３】
該極性ポリマーは、ポリ（ビニルブチラール）であり得る。ポリ（ビニルブチラール）（ＣＡＳ登録番号第９００１−１３−６号）。ポリ（ビニルブチラール）は、ポリ（ビニルアルコール）とブチルアルデヒドとの反応により調製される。市販のポリ（ビニルブチラール）としては、ＤｕＰｏｎｔ社からＢＵＴＡＣＩＴＥの商品名で販売されているもの、Ｓｏｌｕｔｉａ社からＳＡＦＬＥＸの商品名で販売されているもの、および（株）クラレからＴＲＯＳＩＦＯＬの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００３４】
該極性ポリマーの分子量または溶融粘度は特に限定されない。当業者であれば、所望の使用法（例えば成形条件）や極性ポリマーのそれ自体との分子間相互作用を含む要因に基づいて、極性ポリマーの分子量あるいは溶融粘度を選択できる。
【００３５】
該極性ポリマーは、組成物の質量に対して、３０〜９３質量％の量で使用できる。この範囲内で、極性ポリマーの量は、４０〜８６質量％、具体的には４５〜７４質量％、より具体的には５０〜６４質量％、さらにより具体的には５０〜５４質量％であり得る。
【００３６】
該組成物は、極性ポリマーに加えて、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを含む。
【００３７】
該非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマーであり得る。簡略化のために、この成分を「未水素化ブロックコポリマー」と呼ぶ。該未水素化ブロックコポリマーは、その質量に対して、１０〜９０質量％のポリ（アルケニル芳香族）と、１０〜９０質量％のポリ（共役ジエン）と、を含み得る。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、低ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーであり、その中でのポリ（アルケニル芳香族）含有量は、該低ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーの質量に対して、１０〜４０質量％未満であり、具体的には２０〜３５質量％であり、より具体的には２５〜３５質量％であり、さらにより具体的には３０〜３５質量％である。他の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、高ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーであり、その中でのポリ（アルケニル芳香族）含有量は、該高ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーの質量に対して、４０〜９０質量％であり、具体的には５０〜８０質量％であり、より具体的には６０〜７０質量％である。
【００３８】
一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーの質量平均分子量は、４０，０００〜４００，０００原子質量単位である。数平均分子量と質量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフィによって、およびポリスチレン標準との比較に基づいて求められる。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーの質量平均分子量は、２００，０００〜４００，０００原子質量単位であり、具体的には２２０，０００〜３５０，０００原子質量単位である。他の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーの質量平均分子量は、４０，０００〜２００，０００原子質量単位あり、具体的には４０，０００〜１８０，０００原子質量単位であり、より具体的には４０，０００〜１５０，０００原子質量単位である。
【００３９】
該未水素化ブロックコポリマーの調製に用いるアルケニル芳香族モノマーは下式の構造を有する：
【化７】
2015512982.tif 000009
式中、Ｒ１６およびＲ１７はそれぞれ独立に、水素原子、Ｃ１−Ｃ８アルキル基またはＣ２−Ｃ８アルケニル基を表し；Ｒ１８およびＲ２２はそれぞれ独立に、水素原子、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、塩素原子または臭素原子を表し；Ｒ１９、Ｒ２０およびＲ２１はそれぞれ独立に、水素原子、Ｃ１−Ｃ８アルキル基またはＣ２−Ｃ８アルケニル基を表し、あるいはＲ１９およびＲ２０は中央の芳香環と共にナフチル基を形成し、あるいはＲ２０およびＲ２１は中央の芳香環と共にナフチル基を形成する。具体的なアルケニル芳香族モノマーとしては、例えば、スチレン、ｐ−クロロスチレンなどのクロロスチレン、α−メチルスチレンおよびｐ−メチルスチレンなどのメチルスチレン、および３−ｔ−ブチルスチレンおよび４−ｔ−ブチルスチレンなどのｔ−ブチルスチレンが挙げられる。一部の実施形態では、該アルケニル芳香族モノマーはスチレンである。
【００４０】
該未水素化ブロックコポリマーの調製に用いる共役ジエンはＣ４−Ｃ２０共役ジエンであり得る。好適な共役ジエンとしては、例えば、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエンおよびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、該共役ジエンは、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエンあるいはこれらの組み合わせである。一部の実施形態では、該共役ジエンは１，３−ブタジエンから構成される。
【００４１】
該未水素化ブロックコポリマーは、（Ａ）アルケニル芳香族化合物から誘導された１つのブロックと、（Ｂ）共役ジエンから誘導された少なくとも１つのブロックと、を含むコポリマーである。ブロック（Ａ）と（Ｂ）の配置としては、リニア構造、グラフト構造、および分枝鎖の有無に拘わらないラジアルテレブロック構造がある。リニアブロックコポリマーには、傾斜型リニア構造および非傾斜型リニア構造がある。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは傾斜型リニア構造を有する。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは非傾斜型リニア構造を有する。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、アルケニル芳香族モノマーがランダムに取り込まれた（Ｂ）ブロックを含む。リニアブロックコポリマー構造には、ジブロック（Ａ−Ｂブロック）構造、トリブロック（Ａ−Ｂ−ＡブロックまたはＢ−Ａ−Ｂブロック）構造、テトラブロック（Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂブロック）構造、ペンタブロック（Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂ−ＡブロックあるいはＢ−Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂブロック）構造、および（Ａ）および（Ｂ）を合計で６個以上含むリニア構造などがあり、ここで、各（Ａ）ブロックの分子量は、他のＡブロックのそれと同じであっても異なっていてもよく、各（Ｂ）ブロックの分子量は、他のＢブロックのそれと同じであっても異なっていてもよい。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、ジブロックコポリマー、トリブロックコポリマーまたはこれらの組み合わせである。
【００４２】
一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、該アルケニル芳香族化合物と共役ジエン以外のモノマーの残基を含まない。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、該アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとから誘導されたブロックからなる。該未水素化ブロックコポリマーは、これらで形成されたグラフト、あるいは他の任意のモノマーで形成されたグラフトを含まない。また、該未水素化ブロックコポリマーは炭素原子と水素原子からなり、従って、ヘテロ原子を含まない。
【００４３】
一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、無水マレイン酸などの１つまたは複数の酸官能化剤の残基を含む。
【００４４】
一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレントリブロックコポリマーを含む。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレントリブロックコポリマーを含む。
【００４５】
未水素化ブロックコポリマーの調製方法は当分野で既知であり、また、未水素化ブロックコポリマーは市販されている。市販の未水素化ブロックコポリマーの具体的なものとしては、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＤ１１０１とＤ１１０２の商品名で販売されているポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレントリブロックコポリマーと、Ｃｈｅｖｒｏｎ  Ｐｈｉｌｌｉｐｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社からＫ−ＲＥＳＩＮ  ＫＲ０１、ＫＲ０３およびＫＲ−０５の商品名で販売されているスチレン−ブタジエンラジアルテレブロックコポリマーと、が挙げられる。
【００４６】
該非極性ポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーであり得る。簡略化のために、この成分を「水素化ブロックコポリマー」と呼ぶ。該水素化ブロックコポリマーは、このコポリマーにおいては、共役ジエンから誘導されたブロック（Ｂ）中の脂肪族不飽和基含有量が、水素化によって少なくとも部分的に低減されている点を除いて、未水素化ブロックコポリマーと同じである。一部の実施形態では、（Ｂ）ブロック中の脂肪族不飽和は、少なくとも５０％、具体的には少なくとも７０％、より具体的には少なくとも９０％低減されている。
【００４７】
市販の水素化ブロックコポリマーの具体的なものとしては、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫｒａｔｏｎ  Ｇ１７０１とＧ１７０２として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）ジブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫｒａｔｏｎ  Ｇ１６４１、Ｇ１６５０、Ｇ１６５１、Ｇ１６５４、Ｇ１６５７、Ｇ１７２６、Ｇ４６０９、Ｇ４６１０、ＧＲＰ−６５９８、ＭＤ−６９３２Ｍ、ＭＤ−６９３３およびＭＤ−６９３９として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ  Ｇ１７３０として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ  Ｇ１９０１、Ｇ−１９２４およびＭＤ−６６８４として販売されている無水マレイン酸−グラフト化ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ  ＭＤ−６６７０として販売されている無水マレイン酸−グラフト化ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン−スチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；旭化成ケミカルズ（株）からＴＵＦＴＥＣ  Ｈ１０４３として販売されている、ポリスチレン含有量が６７質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；旭化成ケミカルズ（株）からＴＵＦＴＥＣ  Ｈ１０５１として販売されている、ポリスチレン含有量が４２質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；旭化成ケミカルズ（株）からＴＵＦＴＥＣ  Ｐ１０００とＰ２０００として販売されているポリスチレン−ポリ（ブタジエン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；（株）クラレからＳＥＰＴＯＮ  Ｓ８１０４として販売されている、ポリスチレン含有量が６０質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；（株）クラレからＳＥＰＴＯＮ  Ｓ４０４４、Ｓ４０５５、Ｓ４０７７およびＳ４０９９として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−エチレン／プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；および（株）クラレからＳＥＰＴＯＮ  Ｓ２１０４として販売されている、ポリスチレン含有量が６５質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーが挙げられる。
【００４８】
該非極性ポリマーは、ポリ（アルケニル芳香族）であり得る。本明細書での「ポリ（アルケニル芳香族）」は、アルケニル芳香族モノマーのホモポリマー、２つ以上のアルケニル芳香族モノマーのコポリマー、これらのポリマーのいずれかのゴム変性誘導体あるいはこれらの組み合わせを指す。該アルケニル芳香族モノマーは、未水素化ブロックコポリマーの文脈において上記している。代表的なポリ（アルケニル芳香族）としては、アタクチックポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、アイソタクチックポリスチレンおよびゴム変性ポリスチレンが挙げられる。一部の実施形態では、該ポリ（アルケニル芳香族）はアタクチックポリスチレンを含む。一部の実施形態では、該ポリ（アルケニル芳香族）は、ゴム変性ポリスチレンの質量に対して、８０〜９６質量％の、具体的には８８〜９４質量％のポリスチレンと、４〜２０質量％の、具体的には６〜１２質量％のポリブタジエンと、を含む。一部の実施形態では、該ポリ（アルケニル芳香族）は、アタクチックポリスチレンとゴム変性ポリスチレンとを含む。市販のポリ（アルケニル芳香族）としては、Ａｍｅｒｉｃａｓ  Ｓｔｙｒｅｎｉｃｓ社からＥＡ３１３０−ＡＭＳＴとして、およびＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＥＳＰＲＥＥ  ＣＰＳ１５ＧＰとしてそれぞれ販売されているアタクチックポリスチレン；ＰｏｌｙＯｎｅ社からＥＤＴＥＫ  ＱＴ−３０ＧＦ／０００Ｎａｔｕｒａｌとして販売されているシンジオタクチックポリスチレン；およびＡｍｅｒｉｃａｓ  Ｓｔｙｒｅｎｉｃｓ社からＥＢ６４００−ＡＭＳＴとして、およびＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＨＩＰＳ３１９０としてそれぞれ販売されているゴム変性ポリスチレンが挙げられる。
【００４９】
該非極性ポリマーはポリ（フェニレンエーテル）であり得る。好適なポリ（フェニレンエーテル）としては、下式の繰り返し構造単位を含むものが挙げられる：
【化８】
2015512982.tif 000010
式中、Ｚ１はそれぞれ独立に、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである。本明細書において、「ヒドロカルビル」は、単独であるいは別の用語の接頭辞、接尾辞またはフラグメントとして使用されたとしても、炭素と水素だけを含む残基を指す。該残基は、脂肪族または芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和または不飽和であり得る。それはまた、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和および不飽和炭化水素部分の組み合わせも含み得る。しかしながら、該ヒドロカルビル残基が置換であると記載された場合、それは任意に、該置換残基の炭素と水素員上にヘテロ原子を含んでいてもよい。従って、置換であると特定的に記載された場合、該ヒドロカルビル残基は、１個または複数個のカルボニル基、アミノ基、水酸基なども含み得、あるいは、該ヒドロカルビル残基の骨格内にヘテロ原子を含み得る。一例として、Ｚ１は、末端の３，５−ジメチル−１，４−フェニル基と酸化重合触媒のジ−ｎ−ブチルアミン成分との反応で形成されたジ−ｎ−ブチルアミノメチル基であり得る。
【００５０】
一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）の固有粘度は、２５℃のクロロホルム中で測定して、０．２５〜１ｄＬ／ｇである。この範囲内で、ポリ（フェニレンエーテル）の固有粘度は０．３〜０．６５ｄＬ／ｇであり得、より具体的には０．３５〜０．５ｄＬ／ｇであり得、さらにより具体的には０．４〜０．５ｄＬ／ｇであり得る。
【００５１】
一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）は、組み込まれたジフェノキノン残基を本質的に含まない。この文脈において、「本質的に含まない」とは、ジフェノキノンの残基を含むポリ（フェニレンエーテル）分子が１質量％未満であることを意味する。Ｈａｙの米国特許第３，３０６，８７４号に記載されているように、一価フェノールの酸化重合によるポリ（フェニレンエーテル）の合成では、所望のポリ（フェニレンエーテル）だけでなく、ジフェノキノンも副生成物として生成される。例えば、一価フェノールが２，６−ジメチルフェノールの場合、３，３’，５，５’−テトラメチルジフェノキノンが生成される。該ジフェノキノンは典型的には、前記重合反応混合物を加熱して末端または内部ジフェノキノン残基を含むポリ（フェニレンエーテル）を生成することによって、ポリ（フェニレンエーテル）内に「再平衡される」（すなわち、ジフェノキノンがポリ（フェニレンエーテル）構造内に取り込まれる）。例えば、ポリ（フェニレンエーテル）を２，６−ジメチルフェノールの酸化重合で調製してポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）と３，３’，５，５’−テトラメチルジフェノキノンを生成する場合、反応混合物の再平衡によって、取り込まれたジフェノキノンの末端および内部残基を有するポリ（フェニレンエーテル）が生成され得る。しかしながら、こうした再平衡によって、ポリ（フェニレンエーテル）の分子量が低減する。従って、より高分子量のポリ（フェニレンエーテル）が望ましい場合、該ジフェノキノンをポリ（フェニレンエーテル）鎖へ再平衡させずに、ポリ（フェニレンエーテル）から分離することが望ましいものであり得る。こうした分離は、例えば、ポリ（フェニレンエーテル）は不溶だがジフェノキノンが可溶の溶媒または溶媒混合物に、ポリ（フェニレンエーテル）を沈殿させることによって実現される。例えば、トルエン中の２，６−ジメチルフェノールの酸化重合によってポリ（フェニレンエーテル）を調製して、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）と３，３’，５，５’−テトラメチルジフェノキノンとを含むトルエン溶液を生成する場合、ジフェノキノンを本質的に含まないポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）は、該トルエン溶液１容積とメタノールまたはメタノール／水混合物約１〜約４容積とを混合することによって得られる。あるいは、酸化重合中に生成されるジフェノキノン副生成物の量は、（例えば、１０質量％未満の一価フェノールの存在下で酸化重合を開始し、少なくとも５０分の間に少なくとも９５質量％の一価フェノールを添加することによって）最小化でき、およびまたは、ポリ（フェニレンエーテル）鎖へのジフェノキノンの再平衡は、（例えば、酸化重合終了後２００分以内にポリ（フェニレンエーテル）を単離することによって）最小化できる。これらの方法は、Ｄｅｌｓｍａｎらの国際特許出願第２００９／１０４１０７Ａ１号に記載されている。トルエン中のジフェノキノンの温度依存性の溶解度を利用する代替方法では、ジフェノキノンとポリ（フェニレンエーテル）とを含むトルエン溶液の温度を、ジフェノキノンはほとんど不溶だがポリ（フェニレンエーテル）は可溶である約２５℃に調整して、不溶のジフェノキノンを固液分離（例えばろ過）によって除去できる。
【００５２】
一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）は、２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位あるいはこれらの組み合わせを含む。一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）は、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）である。一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）は、２５℃のクロロホルム中で測定した固有粘度が０．３５〜０．５ｄＬ／ｇの、具体的には０．３５〜０．４６ｄＬ／ｇのポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）を含む。
【００５３】
該ポリ（フェニレンエーテル）は、典型的にはヒドロキシ基に対してオルト位置に存在するアミノアルキル含有末端基（類）を有する分子を含み得る。また、テトラメチルジフェノキノン（ＴＭＤＱ）副生成物が存在する２，６−ジメチルフェノール含有反応混合物から典型的に得られるＴＭＤＱ末端基類も存在することが多い。該ポリ（フェニレンエーテル）は、ホモポリマー、コポリマー、グラフトコポリマー、イオノマーあるいはブロックコポリマーの形態であり得る。
【００５４】
該ポリ（フェニレンエーテル）は、１つまたは複数の一価フェノールの酸化重合により調製できる。市販のポリ（フェニレンエーテル）としては、旭化成ケミカルズ（株）からＸＹＲＯＮの商品名で販売されているものおよびＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＰＰＯの商品名で販売されているものが挙げられる。
【００５５】
該組成物は、その質量に対して、５〜６８質量％の量の非極性ポリマーを含む。この範囲内で、非極性ポリマーの量は、１０〜６５質量％、具体的には２０〜６０質量％、より具体的には３０〜５５質量％、さらにより具体的には４０〜５０質量％であり得る。
【００５６】
一部の実施形態では、該非極性ポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）と、ポリスチレン、ゴム変性ポリスチレンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリ（アルケニル芳香族）と、を含む。
【００５７】
一部の実施形態では、該非極性ポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）と水素化ブロックコポリマーとを含む。
【００５８】
一部の実施形態では、該極性ポリマーは、ポリ（ブチレンテレフタレート）を含有するポリエステルを含み、該非極性ポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）と水素化ブロックコポリマーとを含む。
【００５９】
一部の実施形態では、該極性ポリマーは、ポリ（乳酸）を含有するポリエステルを含み、該非極性ポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）と水素化ブロックコポリマーとを含む。
【００６０】
一部の実施形態では、該極性ポリマーは、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）を含み、該非極性ポリマーは、（ａ）ポリ（フェニレンエーテル）と、（ｂ）未水素化ブロックコポリマー、水素化ブロックコポリマーまたはこれらの組み合わせと、を含む。
【００６１】
該組成物は、極性ポリマーと非極性ポリマーに加えて、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含む。該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、それらのモル比は０．９５：１〜１．００：１である。
【００６２】
該ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、末端フェノール性ヒドロキシ基を有するテレケリックポリ（フェニレンエーテル）から誘導される。「フェノール性ヒドロキシル基」は、置換または未置換ベンゼン環に結合したヒドロキシル基である。「テレケリック」は、ポリマー鎖の２つの末端基が同じ官能性を有する線状ポリマーを表す。一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【化９】
2015512982.tif 000011
式中、Ｑ１とＱ２は、各フェニレンエーテル単位内で同一であり、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；Ｑ３とＱ４はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；ｘとｙは独立に、その合計が少なくとも２、具体的には少なくとも３、より具体的には少なくとも４であることを条件として、０〜３０、具体的には０〜２０、より具体的には０〜１５、さらにより具体的には０〜１０、さらにより具体的には０〜８であり；Ｌは下式の構造
【化１０】
2015512982.tif 000012
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；ｚは０または１であり；Ｙは、下式の構造
【化１１】
2015512982.tif 000013
（式中、Ｒ５はそれぞれ独立に、水素およびＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビルから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルおよびＣ１−Ｃ６ヒドロカルビレンから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７は共同でＣ４−Ｃ１２アルキレン基を形成する）から構成される群から選択された構造を有する］を有する。一部の実施形態では、Ｑ１は、末端の３，５−ジメチル−１，４−フェニル基と酸化重合触媒のジ−ｎ−ブチルアミン成分との反応で形成されたジ−ｎ−ブチルアミノメチル基である。一部の実施形態では、Ｑ１とＱ２はそれぞれメチルであり、Ｑ３はそれぞれ水素であり、Ｑ４はそれぞれ水素またはメチルであり、ｘとｙの合計は２〜１５であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｙは下式の構造
【化１２】
2015512982.tif 000014
（式中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルおよびＣ１−Ｃ６ヒドロカルビレンから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７は共同でＣ４−Ｃ１２アルキレン基を形成する）を有する。
【００６３】
上記の構造において、変数ｘとｙは限定されているが、それらは、二官能性ポリ（フェニレンエーテル）分子中の２つの異なる場所におけるフェニレンエーテル繰り返し単位数に相当する。該構造では、ｘとｙは独立に、０〜３０であり、具体的には０〜２０であり、より具体的には０〜１５であり、さらにより具体的には０〜１０であり、さらにより具体的には０〜８である。ｘとｙの合計は少なくとも２であり、具体的には少なくとも３であり、より具体的には少なくとも４である。特別の多官能性ポリ（フェニレンエーテル）樹脂では、プロトン核磁気共鳴分光法（１Ｈ−ＮＭＲ）で分析して、樹脂全体に対してこれらの限定が平均で満たされているかを決定できる。具体的には、１Ｈ−ＮＭＲで、内部および末端フェニレンエーテル基に関連するプロトン共鳴と、多価フェノールの内部および末端残基およびその他の末端残基に関連するプロトン共鳴と、を識別できる。従って、１分子当たりのフェニレンエーテル繰り返し単位の平均数と、二価フェノール由来の内部および末端残基の相対存在量が求められる。
【００６４】
一部の実施形態では、該少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【化１３】
2015512982.tif 000015
式中、Ｑ５とＱ６はそれぞれ独立に、メチル、ジ−ｎ−ブチルアミノメチルまたはモルホリノメチルであり；ａとｂは、その合計が少なくとも２、具体的には少なくとも３、より具体的には少なくとも４であることを条件として、それぞれ独立に０〜２０である。
【００６５】
該少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【化１４】
2015512982.tif 000016
式中、Ａは原子価２のヒドロカルビル残基であり、Ｂは下式の構造
【化１５】
2015512982.tif 000017
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）の残基であり、ｎは１〜６０である。
【００６６】
一部の実施形態では、Ａは、下式の構造
【化１６】
2015512982.tif 000018
［式中、Ｇ１はそれぞれ独立に、Ｃ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり、Ｅはそれぞれ独立に、直接結合または下式
【化１７】
2015512982.tif 000019
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から選択された構造であり、ｓは０または１であり、ｔとｕはそれぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【化１８】
2015512982.tif 000020
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）の残基であり；ｎは１〜６０である。
【００６７】
一部の実施形態では、該少なくとも１つのポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【化１９】
2015512982.tif 000021
式中、Ｒはそれぞれ独立に、水素またはメチルであり；Ｘはそれぞれ独立に、水素、クロロ、フルオロ、ブロモまたは、カルボキシ、カルボキサミド、ケトン、アルデヒド、アルコール、ハロゲンおよびニトリルから選択された一つまたは複数の員を任意にさらに含むＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビルであり；Ｂはそれぞれ独立に、炭素−炭素単結合、Ｃ１−Ｃ１８ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、カルボニル、スルフィド、スルホニル、スルフィニル、ホスホリル、シランあるいは、カルボキシアルキル、カルボキサミド、ケトン、アルデヒド、アルコール、ハロゲンおよびニトリルから選択された一つまたは複数の員をさらに含むこれらの基であり；ｐは独立に１〜２０である。
【００６８】
一部の実施形態では、該少なくとも１つのポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【化２０】
2015512982.tif 000022
式中、Ｒ、Ｘおよびｐは上記に定義した通りである。
【００６９】
一部の実施形態では、該少なくとも１つのポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【化２１】
2015512982.tif 000023
式中、ｎは１〜６０であり、具体的には１〜４０であり、より具体的には１〜２０である。
【００７０】
一部の実施形態では、該少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは下式の構造
【化２２】
2015512982.tif 000024
（式中、Ｑ５とＱ６はそれぞれ独立に、メチル、ジ−ｎ−ブチルアミノメチルまたはモルホリノメチルであり；ａとｂは、その合計が少なくとも２であることを条件として、それぞれ独立に０〜２０である）を有し；該少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造
【化２３】
2015512982.tif 000025
（式中、ｎは１〜６０）を有する。
【００７１】
一部の実施形態では、該ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックの残基Ａは、ジヒドロキシ芳香族化合物から誘導される。好適なジヒドロキシ芳香族化合物としては、レゾルシノール、カテコール、ヒドロキノン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、２−（ジフェニルホスホリル）ヒドロキノン、ビス（２，６−ジメチルフェノール）２，２’−ビフェノール、４，４−ビフェノール、２，２’，６，６’−テトラメチルビフェノール、２，２’，３，３’６，６’−ヘキサメチルビフェノール、３，３’，５，５’−テトラブロモ−２，２’，６，６’−テトラメチルビフェノール、３，３’−ジブロモ−２，２’，６，６’−テトラメチルビフェノール、２，２’，６，６’−テトラメチル−３，３’，５−ジブロモビフェノール、４，４’−イソプロピリデンジフェノール（ビスフェノールＡ）、４，４’−イソプロピリデンビス（２，６−ジブロモフェノール）（テトラブロモビスフェノールＡ），４，４’−イソプロピリデンビス（２，６−ジメチルフェノール）（テトラメチルビスフェノールＡ）、４，４’−イソプロピリデンビス（２−メチルフェノール）、４，４’−イソプロピリデンビス（２−アリルフェノール）、４，４’−（１，３−フェニレンジイソプロピリデン）ビスフェノール（ビスフェノールＭ）、４，４’−イソプロピリデンビス（３−フェニルフェノール）、４，４’−（１，４−フェニレンジイソプロピリデン）ビスフェノール（ビスフェノールＰ）、４，４’−エチリデンジフェノール（ビスフェノールＥ）、４，４’−オキシジフェノール、４，４’−チオジフェノール、４，４’−チオビス（２，６−ジメチルフェノール）、４，４’−スルホニルジフェノール、４，４’−スルホニルビス（２，６−ジメチルフェノール）、４，４’−スルフィニルジフェノール、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ビスフェノール（ビスフェノールＡＦ）、４，４’−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール（ビスフェノールＡＰ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２，２−ジクロロエチレン（ビスフェノールＣ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン（ビスフェノールＦ）、ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、４，４’−（シクロペンチリデン）ジフェノール、４，４’−（シクロヘキシリデン）ジフェノール（ビスフェノールＺ）、４，４’−（シクロドデシリデン）ジフェノール、４，４’−（ビシクロ［２．２．１］ヘプチリデン）ジフェノール、４，４’−（９Ｈ−フルオレン−９，９−ジイル）ジフェノール、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソベンゾフラン−１（３Ｈ）−オン、１−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−オール、１−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１，３，３，４，６−ペンタメチル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−オール、３，３，３’，３’テトラメチル−２，２’，３，３’テトラヒドロ−１，１’スピロビ［インデン］−５，６’ジオール（スピロビインダン）、ジヒドロキシベンゾフェノン（ビスフェノールＫ）、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、テトラキス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルホスフィンオキシド、ジシクロペンタジエニルビス（２，６−ジメチルフェノール）、ジシクロペンタジエニルビス（２−メチルフェノール）、ジシクロペンタジエニルビスフェノール、４，４’−ジヒドロキシ−α−メチルスチルベンなどが挙げられる。
【００７２】
一部の実施形態では、残基Ａは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（テトラクロロビスフェノールＡ）、（２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（テトラブロモビスフェノールＡ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン（ビスフェノールＦ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＡＣＰ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン（ビスフェノールＳ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（水素化ビスフェノールＡ）、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，２’，６，６’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニルおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたジヒドロキシ芳香族化合物から誘導される。特定のジヒドロキシ芳香族化合物は、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）である。
【００７３】
一部の実施形態では、該ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックの残基Ａは、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−シクロヘキシル）プロパン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどから構成される群から選択されたジヒドロキシ化合物から誘導される。
【００７４】
一部の実施形態では、残基Ｂは、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、１，２−エポキシ−１−メチル−３−クロロプロパン、１，２−エポキシ−１−ブチル−３−クロロプロパン、１，２−エポキシ−２−メチル−３−フルオロプロパンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたエピハロヒドリンから誘導される。特定のエピハロヒドリンはエピクロロヒドリンである。
【００７５】
一部の実施形態では、ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比は０．９５：１〜１．００：１である。ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比の下限値は０．９６：１であり得、具体的には０．９７：１であり得、より具体的には０．９８：１であり得、さらにより具体的には０．９９：１であり得る。上記のモル比の上限値は０．９９：１であり得、具体的には０．９８：１であり得、より具体的には０．９７：１であり得、さらにより具体的には０．９６：１であり得る。ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比をこうした範囲に維持することによって、該ブロックコポリマーの分子量は最大化され、エポキシ末端基は実質的に回避される。従って、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは溶融安定性を有する。ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比は、１．００：１をわずかでも上回れないことに留意することが重要である。従って、モル比が１．００１：１の比較実施例１およびモル比が１．００２：１の比較実施例２は、これらの実施形態の範囲外である。
【００７６】
一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、その質量に対して、１〜９９質量％の量の、具体的には１０〜９０質量％の量の、より具体的には２０〜８０質量％の量の、さらにより具体的には３０〜７０質量％の量の、さらにより具体的には４０〜６０質量％の量の少なくとも１つのポリ（ヒドロキシルエーテルブロック）と、その質量に対して、１〜９９質量％の量の、具体的には１０〜９０質量％の量の、より具体的には２０〜８０質量％の量の、さらにより具体的には３０〜７０質量％の量の、さらにより具体的には４０〜６０質量％の量の少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテルブロック）と、を含む。
【００７７】
一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの数平均分子量は、ポリスチレン標準を用いたゲル透過クロマトグラフィ（ＧＰＣ）で測定して、５，０００〜５０，０００原子質量単位であり、具体的には５，５００〜３０，０００原子質量単位であり、より具体的には５，０００〜３０，０００原子質量単位であり、さらにより具体的には５，５００〜２０，０００原子質量単位であり、さらにより具体的には５，５００〜１０，０００原子質量単位である。
【００７８】
一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中の末端エポキシ基の量（すなわち、末端グリシジル基の質量％）は、該コポリマーの質量に対して、０．０９質量％未満であり、具体的には０．０５質量％未満であり、より具体的には０．０２５質量％未満であり、さらにより具体的には０．０１質量％未満であり、さらにより具体的には０．００５質量％未満である。末端エポキシ基の量は、実施例に記載のプロトン核磁気共鳴（１Ｈ−ＮＭＲ）分光法で測定できる。末端エポキシ基含有量が０．０９質量％未満の場合、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは熱安定性を有しており、押出、カレンダー成形、射出成形およびブロー成形などの熱成形プロセスに適している。
【００７９】
該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、末端ヒドロキシル基を有するテレケリックポリ（フェニレンエーテル）と末端エポキシ基を有するテレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）エポキシ樹脂とを、テレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）とテレケリックポリ（フェニレンエーテル）とのモル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で反応させるステップを備えた方法で調製され得る。該反応は、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素および極性非プロトン性溶媒から選択された溶媒の存在下で行える。好適な極性非プロトン性溶媒としては、ケトン、エステル、エーテル、アミド、ニトリル、スルホキシド、スルホンおよびこれらの混合物が挙げられる。一部の実施形態では、該溶媒はシクロヘキサノンである。一実施形態は、こうした方法で調製されたポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーである。
【００８０】
該反応は、該反応条件下で不揮発性である第三アミン触媒の存在下で行える。好適な第三アミン触媒の例としては、トリエチルアミン、トリ−ｎ‐プロピルアミン、トリ−ｎ‐ブチルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、α−メチルベンジルジメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、アルキルイミダゾールなど、およびこれらの混合物が挙げられる。特定の第三アミン触媒は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）である。
【００８１】
一部の実施形態では、反応混合物中、エポキシ基に対してフェノール基が常に過剰になるように、テレケリックポリ（ヒドロキシルエーテル）エポキシ樹脂をテレケリックポリ（フェニレンエーテル）に添加する。エポキシ樹脂は１５〜３００分かけて、具体的には３０〜２７０分かけて、より具体的には４５〜２４０分かけて、さらにより具体的には６０〜２１０分かけて、さらにより具体的には９０〜１８０分かけて、小分けして添加され得る。エポキシ樹脂のポリ（フェニレンエーテル）への添加終了後、混合物を該反応温度で１〜１２時間撹拌してもよい。該反応は、温度１００〜２００℃で、具体的には１２０〜１８０℃で、より具体的には１３０〜１７０℃で、さらにより具体的には１４０〜１６０℃で行われ得る。
【００８２】
反応が終了すると、反応混合物を冷却し、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素および極性非プロトン性溶媒から選択された共溶媒で希釈してもよい。一部の実施形態では、該共溶媒は２−ブタノンである。反応混合物を共溶媒で希釈後、貧溶媒を添加してポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを沈殿させる。該共溶媒はアルコールであり得る。好適なアルコールとしてはメタノールとイソプロパノールが挙げられる。沈殿後、生成物をろ過・貧溶媒で洗浄し、減圧乾燥させるとポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが得られる。
【００８３】
該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、成形用組成物の成分として有用な好都合な物性を有する。これらの物性はフェノキシ樹脂に対して向上している。ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの密度は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９２−０８に準拠し温度２３℃で測定して、１．１〜１．２ｇ／ｃｍ３であり、一方、フェノキシ樹脂のそれは１．１７７４ｇ／ｃｍ３であり；ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ３４１８−０８に準拠し示差走査熱量法で測定して１００〜１７０℃であり、一方、フェノキシ樹脂のそれは９０℃であり；熱変形温度（ＨＤＴ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７方法Ｂに準拠し応力１．８２ＭＰａで測定して９０〜１４０℃であり、一方、フェノキシ樹脂のそれは７７℃であり；曲げ弾性率は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−１０方法Ａに準拠し温度２３℃、速度６．４ｍｍ／ｍｉｎで測定して２９００〜３３００ＭＰａであり、一方、フェノキシ樹脂のそれは２７６１ＭＰａである。
【００８４】
上記のように、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーにおけるポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比は０．９５：１〜１．００：１である。これによって、末端エポキシ基が０．０９質量％未満のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが得られる。これは、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが良好な溶融安定性を有するため、特に好都合な特長である。該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは溶解混合または溶融混錬でき、押出、カレンダー成形または型成形で該組成物から物品を形成できる。これは、末端エポキシ基が０．０９質量％超のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと明らかに対照的である。これらのブロックコポリマーでは、融液のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの末端エポキシ基とヒドロキシル基が架橋反応し易い。従って、これらのブロックコポリマーは、熱可塑性ではなく、熱硬化性材料である。従って、末端エポキシ基が０．０９質量％超のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは溶融混合または溶融混錬できず、この材料から押出、カレンダー成形または射出成形で物品を形成できない。該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを極性および非極性ポリマーの相溶化剤として含む組成物から形成できる物品の例としては、電気コネクタ、小型の装置および電動工具の筐体および自動車部品が挙げられる。押出、カレンダー成形または射出成形条件は、極性ポリマーの種類と非極性ポリマーの種類の選択に依存するが、当業者であれば決定できる。
【００８５】
一実施形態は、組成物の形成方法であって、特に明記されない限り前記組成物の合計質量に対して、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマー３０〜９３質量％と；アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマー５〜６８質量％と；少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比が０．９５：１〜１．００：１のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー２〜２０質量％と、を溶融混合して組成物を形成することを含む、前記組成物を形成する方法である。３０〜９３質量％の範囲内で、該極性ポリマーの量は、４０〜８６質量％、具体的には４５〜７４質量％、より具体的には５０〜６４質量％、さらにより具体的には５０〜５４質量％であり得る。５〜６８質量％の範囲内で、該非極性ポリマーの量は、１０〜６５質量％、具体的には２０〜６０質量％、より具体的には３０〜５５質量％、さらにより具体的には４０〜５０質量％であり得る。２〜２０質量％の範囲内で、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの量は、４〜１５質量％、具体的には６〜１２質量％であり得る。溶融混合または溶融混練は、リボンブレンダ、Ｈｅｎｓｃｈｅｌミキサー、Ｂａｎｂｕｒｙミキサー、ドラムタンブラー、単軸押出機、二軸押出機、多軸押出機、共混練機などの一般的な装置を用いて行える。溶融混合温度は、極性ポリマーおよび非極性ポリマーが何であるかに依存するが、当業者であれば決定できる。具体的な溶融混合条件については、後述の実施例で説明する。
【００８６】
本発明は少なくとも以下の実施形態を含む。
【００８７】
実施形態１：組成物であって、特に明記されない限りその合計質量に対して、セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、ポリ（ビニルブチラール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーを３０〜９３質量％と；アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを５〜６８質量％と；少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比が０．９５：１〜１．００：１のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを２〜２０質量％と、を含む組成物。
【００８８】
実施形態２：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの数平均分子量が５，０００〜５０，０００原子質量単位である実施形態１に記載の組成物。
【００８９】
実施形態３：前記少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、下式の構造
【化２４】
2015512982.tif 000026
｛式中、Ｑ１とＱ２は、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；Ｑ３とＱ４はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；ｘとｙは独立に、その合計が少なくとも２であることを条件として、０〜３０であり；Ｌは下式の構造
【化２５】
2015512982.tif 000027
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；ｚは０または１であり；Ｙは、下式の構造
【化２６】
2015512982.tif 000028
（式中、Ｒ５はそれぞれ独立に、水素およびＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビルから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルおよびＣ１−Ｃ６ヒドロカルビレンから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７は共同でＣ４−Ｃ１２アルキレン基を形成する）から構成される群から選択された構造を有する］を有する｝を有し；前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造
【化２７】
2015512982.tif 000029
｛式中、Ａは下式の構造
【化２８】
2015512982.tif 000030
［式中、Ｇ１はそれぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり、Ｅはそれぞれ独立に、直接結合または下式
【化２９】
2015512982.tif 000031
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり、ｓは０または１であり、ｔとｕはそれぞれ独立に１〜１０である］の残基であり；Ｂは下式の構造
【化３０】
2015512982.tif 000032
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）の残基であり；ｎは１〜６０である｝を有する実施形態１または実施形態２に記載の組成物。
【００９０】
実施形態４：前記少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、下式の構造
【化３１】
2015512982.tif 000033
（式中、Ｑ５とＱ６はそれぞれ独立に、メチル、ジ−ｎ−ブチルアミノメチルまたはモルホリノメチルであり；ａとｂは、その合計が少なくとも２であることを条件として、それぞれ独立に０〜２０である）を有し；前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化３２】
2015512982.tif 000034
（式中、ｎは１〜６０）を有する実施形態１乃至実施形態３のいずれかに記載の組成物。
【００９１】
実施形態５：前記非極性ポリマーは前記ポリ（フェニレンエーテル）を含む実施形態１乃至実施形態４のいずれかに記載の組成物。
【００９２】
実施形態６：前記非極性ポリマーは前記ポリ（フェニレンエーテル）と前記ポリ（アルケニル芳香族）とを含み、前記ポリ（アルケニル芳香族）は、ポリスチレン、ゴム変性ポリスチレンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択される実施形態１乃至実施形態５のいずれかに記載の組成物。
【００９３】
実施形態７：前記非極性ポリマーは、前記ポリ（フェニレンエーテル）と前記水素化ブロックコポリマーとを含む実施形態１乃至実施形態５のいずれかに記載の組成物。
【００９４】
実施形態８：前記極性ポリマーは前記ポリエステルを含み、前記ポリエステルは、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリカプロラクトン、ポリ（乳酸）、ポリ（ブチレンアジペート）、ポリ（ブチレンスクシネート）、ポリ（ブチレンセバケート）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択される実施形態１乃至実施形態７のいずれかに記載の組成物。
【００９５】
実施形態９：前記極性ポリマーは前記ポリエステルを含み、前記ポリエステルはポリ（ブチレンテレフタレート）を含み、前記非極性ポリマーは、前記ポリ（フェニレンエーテル）と前記水素化ブロックコポリマーとを含む実施形態１乃至実施形態６のいずれかに記載の組成物。
【００９６】
実施形態１０：前記極性ポリマーは前記ポリエステルを含み、前記ポリエステルはポリ（乳酸）を含み、前記非極性ポリマーは、前記ポリ（フェニレンエーテル）と前記水素化ブロックコポリマーとを含む実施形態１乃至実施形態６のいずれかに記載の組成物。
【００９７】
実施形態１１：前記極性ポリマーは前記ポリ（エチレン−ビニルアセテート）を含み、前記非極性ポリマーは、前記ポリ（フェニレンエーテル）と、前記未水素化ブロックコポリマー、前記水素化ブロックコポリマーまたはこれらの組み合わせと、を含む実施形態１乃至実施形態６のいずれかに記載の組成物。
【００９８】
実施形態１２：前記ポリ（エチレン−ビニルアセテート）は、８〜６０質量％の酢酸ビニル残基を含む実施形態１１に記載の組成物。
【００９９】
実施形態１３：実施形態１乃至実施形態１２のいずれかに記載の組成物を含む射出成形物品。
【０１００】
実施形態１４：特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマー３０〜９３質量％と；アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマー５〜６８質量％と；少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比が０．９５：１〜１．００：１のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー２〜２０質量％と、を溶融混合して前記組成物を形成するステップを備えた組成物の形成方法。
【０１０１】
以下の非限定的実施例によって、本発明をさらに例証する。
【０１０２】
調製実施例
調製実施例で使用されるそれぞれの成分を表１に示す。
【表１】
2015512982.tif 000035
2015512982.tif 000036
【０１０３】
ヒドロキシ−二官能性ポリ（フェニレンエーテル）と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーとの反応により、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを調製した。その手順を以下に記載する。
【０１０４】
調製例１：２４質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックを有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー
【表２】
2015512982.tif 000037
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。該ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、ＤＥＲ６６８−２０ポリマーを９０分かけて、小分けして添加した。
2015512982.tif 000038
【０１０５】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。得られたポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーをメタノール沈殿で単離し、ろ過、メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は４６５ｇ（９３％）であった。
【０１０６】
調製例２：３０質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックを有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー
【表３】
2015512982.tif 000039
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。該ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、ＥＰＯＮ１００７Ｆポリマーを９０分かけて、小分けして添加した。
2015512982.tif 000040
【０１０７】
該溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。得られたポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーをメタノール沈殿で単離し、ろ過、メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収率は４６２ｇ（９２．４％）であった。
【０１０８】
調製例３：３６質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックを有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー
【表４】
2015512982.tif 000041
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。該ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、ＤＥＲ６１５５ポリマーを９０分かけて、小分けして添加した。
2015512982.tif 000042
【０１０９】
該溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。得られたポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーをメタノール沈殿で単離し、ろ過、メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収率は４５５ｇ（９１％）であった。
【０１１０】
調製例４：５４質量％のポリ（フェニレンエーテル）  ブロックを有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー
【表５】
2015512982.tif 000043
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。該ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、ＥＰＯＮ１００２Ｆポリマーを９０分かけて、小分けして添加した。
2015512982.tif 000044
【０１１１】
該溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。得られたポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーをメタノール沈殿で単離し、ろ過、メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収率は４６０ｇ（９２％）であった。
【０１１２】
調製例５：６０質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックを有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー
【表６】
2015512982.tif 000045
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。該ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、ＥＰＯＮ１００１Ｆポリマーを９０分かけて、小分けして添加した。
2015512982.tif 000046
【０１１３】
該溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。得られたポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーをメタノール沈殿で単離し、ろ過、メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収率は４７１ｇ（９４．２％）であった。
【０１１４】
調製例６：８０質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックを有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー
【表７】
2015512982.tif 000047
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。該ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、ＤＥＲ３１７ポリマーを９０分かけて、小分けして添加した。
2015512982.tif 000048
【０１１５】
該溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。得られたポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーをメタノール沈殿で単離し、ろ過、メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収率は４６６ｇ（９３．２％）であった。
【０１１６】
調製例７：４６．５質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックを有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー
【表８】
2015512982.tif 000049
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた１Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン２５０ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。該ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ２．５ｇ（０．０２０５モル）を添加し溶解させた。以下のように、ＤＥＲ６６７−Ｅポリマーを１２０分かけて、小分けして添加した。
2015512982.tif 000050
【０１１７】
該溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン２００ｍＬで希釈した。得られたポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーをメタノール沈殿で単離し、ろ過、メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収率は２３７ｇ（９４．８％）であった。
【０１１８】
調製例８：４８．６質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックを有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー
【表９】
2015512982.tif 000051
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた１Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン２５０ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。該ヒドロキシ−二官能性ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ２．５ｇ（０．０２０５モル）を添加し溶解させた。以下のように、ＥＰＯＮ１００２Ｆポリマーを１２０分かけて、小分けして添加した。
2015512982.tif 000052
【０１１９】
該溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン２００ｍＬで希釈した。得られたポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーをメタノール沈殿で単離し、ろ過、メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収率は２２６ｇ（９０．４％）であった。
【０１２０】
調製例９：４８質量％のポリ（フェニレンエーテル）ブロックを有するポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー
【表１０】
2015512982.tif 000053
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。該ポリ（フェニレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、ＤＭＡＰ５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、ＥＰＯＮ１００４Ｆポリマーを９０分かけて、小分けして添加した。
2015512982.tif 000054
【０１２１】
該溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。得られたポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーをメタノール沈殿で単離し、ろ過、メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収率は４７１ｇ（９４％）であった。
【０１２２】
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのキャラクタリゼーション
調製実施例１〜９のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの諸特性を求めた。ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ３４１８−０８に準拠し示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）で測定した。数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ）および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ポリスチレン標準を用いたゲル透過クロマトグラフィ（ＧＰＣ）で求めた。密度は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９２−０８に準拠し温度２３℃で測定した。曲げ弾性率（ＭＰａ）および曲げ破断応力（ＭＰａ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−１０方法Ｂに準拠し、厚み３．２ｍｍ×幅１２．７ｍｍのサンプルを用い、支点間距離１０ｃｍ（３．９３７インチ）、クロスヘッド速度１．３５ｍｍ／ｍｉｎ（０．０５３インチ／ｍｉｎ）で測定した。熱変形温度（℃）は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７方法Ｂに準拠し、応力１．８２ＭＰａ、幅３．２０ｍｍ×高さ１２．８０ｍｍの射出成形サンプルを用いて測定した。熱変形試験では、初期温度が３０℃未満のシリコーン油にサンプルを浸漬した。試験前に、サンプルを２３℃で２４時間状態調節した。
【０１２３】
末端エポキシ基含有量は、Ｖａｒｉａｎ  Ｍｅｒｃｕｒｙ  Ｐｌｕｓ４００Ｍｅｇａｈｅｒｔｚ  １Ｈ−ＮＭＲ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒを用いたプロトン核磁気共鳴（１Ｈ−ＮＭＲ）分光法で求めた。末端エポキシ基量は、下記の構造中の「ａ」プロトンと「ｈ」プロトンに対応するピークの高さから下式を用いて算出した：
末端エポキシ基の質量％＝ｈ／（ｈ＋ａ）×１００．
【０１２４】
下記の化学構造中のラベル化されたプロトンに対応するプロトンピークの割り当てを表１１に示す。
【化３３】
2015512982.tif 000055
【化３４】
2015512982.tif 000056
【表１１】
2015512982.tif 000057
【０１２５】
この方法での末端エポキシ基の検出限界は０．０５質量％未満である。調製実施例１〜８に対する特性を表１２に示す。
【表１２】
2015512982.tif 000058
【０１２６】
調製実施例１０
混合実験で使用した材料を表１３に示す。
【表１３】
2015512982.tif 000059
2015512982.tif 000060
2015512982.tif 000061
【０１２７】
ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）８ｋｇと、ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー２ｋｇと、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（表１３における「ＴＢＰＰ」）５０ｇと、ペンタエリスリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）（表１３における「ＰＨＢＰＰ」）５０ｇと、を混合して、約８０質量％のポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）（表１３における「ＰＰＥ０．４０ＩＶ」）と約２０質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー（表１３における「ＳＥＢＳ」）とを含むマスターバッチを調製した。スクリュー径３０ｍｍの二軸Ｗｅｒｎｅｒ  ＆  Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ押出機を、スクリュー回転数３２５ｒｐｍ、スループット４８ポンド／ｈ（２１．８ｋｇ／ｈ）、トルク８３％、ゾーン温度が供給口からダイまで２４０℃、２８５℃、２８５℃、２８０℃、２８０℃および２８５℃で操作して上記の混合物を押し出した。
【０１２８】
調製実施例１１
スクリュー回転数３００ｒｐｍ、トルク４０％、ゾーン温度が供給口からダイまで１８０℃、２３０℃、２６０℃、２６０℃、２６０℃、２５５℃および２４０℃としたＣｏｐｅｒｉｏｎ  ＺＳＫ１８二軸スクリュー実験室押出機（スクリュー径１８ｍｍ）で、ポリ（ブチレンテレフタレート）（表１３における「ＰＢＴ」）２９９１ｇと無水リン酸一ナトリウム９ｇ（０．３質量％）とを混合して、安定化したポリ（ブチレンテレフタレート）を調製した。
【０１２９】
調製実施例１２
スクリュー回転数３００ｒｐｍ、トルク６０〜７５％、ゾーン温度が供給口からダイまで１５０℃、１９０〜２００℃、２１０〜２４０℃、２４０〜２７０℃、２４０〜２７０℃、２４０〜２７０℃および２５０〜２８０℃としたＣｏｐｅｒｉｏｎ  ＺＳＫ１８二軸スクリュー実験室押出機（スクリュー径１８ｍｍ）で、ポリ（乳酸）（表１３における「ＰＬＡ」）２９９１ｇと無水リン酸一ナトリウム９ｇ（０．３質量％）とを混合して、安定化したポリ（乳酸）（ポリラクチド）を調製した。
【０１３０】
実施例１〜４、比較実施例Ａ〜Ｃ
これらの実施例では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ブチレンテレフタレート）組成物用の相溶化剤としてのポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの使用を例証する。
【０１３１】
スクリュー回転数３００ｒｐｍ、トルク７０〜９５％、ゾーン温度が供給口からダイまで１８０℃、２３０℃、２６０℃、２７０℃、２７０℃、２７０℃および２７０℃としたＣｏｐｅｒｉｏｎ  ＺＳＫ１８二軸スクリュー実験室押出機（スクリュー外径１８ｍｍ）で、組成物を混合した。物性試験用の物品は、表１４に示す条件（射出圧値および背圧値の単位はＭＰａ）でＤｅｍａｇ  Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｇｒｏｕｐ  Ｍｏｄｅｌ４０−８０射出成形機を操作して射出成形した。
【表１４】
2015512982.tif 000062
【０１３２】
ポリ（ブチレンテレフタレート）含有組成物とその特性を表１５に示す。ここでの成分量の単位は、組成物の合計質量に対する質量部である。表１５における「（ＰＢＴマスターバッチから誘導された）ＰＢＴ」に関連する量は、ポリ（ブチレンテレフタレート）の量である（ＰＢＴマスターバッチの量ではない）。同様に、表１５における「（ＰＰＥ／ＳＥＢＳマスターバッチから誘導された）ＰＰＥ」に関連する量は、ポリ（フェニレンエーテル）の量である（ＰＰＥ／ＳＥＢＳマスターバッチの量ではない）。密度（単位：ｇ／ｃｍ３）は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９２−０８に準拠し温度２３℃で求めた。ノッチ付アイゾット値（単位：Ｊ／ｍ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ２５６−０８方法Ａに準拠し、温度２３℃、ハンマーエネルギー２フィート−ポンド（２．７１１Ｊ）、棒寸法３．２ｍｍ×１２．７ｍｍ×０．２０ｍｍで求めた。熱変形温度は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７に準拠し、試験方向エッチワイズ方向、断面寸法３．２ｍｍ×１２．５ｍｍ、応力１．８２ＭＰａ、試験前のアニーリングなしの条件で求めた。表１５の結果は、ポリ（ヒドロキシエーテル）を含有する比較実施例Ｃに比べて、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含有する実施例１〜４の靭性および耐熱性は実質的に大きい（それぞれ、ノッチ付アイゾッド衝撃強度と熱変形温度とによって証明されている）ことを示している。
【０１３３】
密度（単位：ｇ／ｃｍ３）は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９２−０８に準拠し温度２３℃で求めた。ノッチ付アイゾット値（単位：Ｊ／ｍ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ２５６−０８方法Ａに準拠し、温度２３℃、ハンマーエネルギー２フィート−ポンド（２．７１１Ｊ）、棒寸法３．２ｍｍ×１２．７ｍｍ×０．２０ｍｍで求めた。熱変形温度は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７に準拠し、試験方向エッチワイズ方向、断面寸法３．２ｍｍ×１２．５ｍｍ、応力１．８２ＭＰａ、試験前のアニーリングなしの条件で測定した。表１５の結果は、ポリ（ヒドロキシエーテル）を含有する比較実施例Ｃに比べて、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含有する実施例１〜４の靭性および耐熱性は実質的に大きい（それぞれ、ノッチ付アイゾッド衝撃強度と熱変形温度とによって証明されている）ことを示している。
【表１５】
2015512982.tif 000063
【０１３４】
透過型走査電子顕微鏡法を用いて、比較実施例Ｂ、比較実施例Ｃ、実施例１および実施例４の形態を調査した。ミクロトームで薄片化した表面を四酸化オスミウムと四酸化ルテニウムで染色し、透過型走査電子顕微鏡法モジュールを備えたＺｅｉｓｓ  ＥＶＯ４０ＸＶＰ走査電子顕微鏡で観察した。比較実施例Ｂ、比較実施例Ｃ、実施例１および実施例４の代表的な顕微鏡写真をそれぞれ図１〜４に示す。比較実施例Ｂ（図１）および比較実施例Ｃ（図２）の顕微鏡写真では、非常に大きなポリ（フェニレンエーテル）／ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン分散相領域が見られる。対照的に、実施例１（図３）および実施例４（図４）の顕微鏡写真では、かなり小さな、良好に分散したポリ（フェニレンエーテル）／ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレン分散相領域が見られる。
【０１３５】
実施例５および６、比較実施例ＤおよびＥ
これらの実施例では、ＰＰＥおよびＥＶＡ用の相溶化剤としてのポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの使用を例証する。実施例１〜４で説明したように組成物を混合し成形した。混合条件を表１６に示すが、ここでの「スクリュー回転数（ｒｐｍ）」は、押出機スクリューの回転数（ｒｐｍ）である。
【表１６】
2015512982.tif 000064
【０１３６】
物性試験用の物品は、表１７に示す条件でＤｅｍａｇ  Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｇｒｏｕｐ  Ｍｏｄｅｌ４０−８０射出成形機を操作して射出成形した。
【表１７】
2015512982.tif 000065
【０１３７】
組成物と特性を表１８に示す。５％歪時の曲げ応力（単位：ＭＰａ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−０７ｅ１手順Ａに準拠し、温度２３℃、棒断面寸法３．２ｍｍ×１２．７ｍｍ、支点間距離５０．８ｍｍ、試験速度１．２７ｍｍ／ｍｉｎ（０．０５インチ／ｍｉｎ）で求めた。ビカット軟化温度（単位：℃）は、ＡＳＴＭ  Ｄ１５２５−０７に準拠し、荷重１０Ｎ、加熱速度５０℃／ｈ、針貫入量示度１ｍｍ、予備負荷時間５分、報告値当たり３個の試験片を用いて求めた。表１８の特性結果は、相溶化剤を含有しない比較実施例Ｄおよびポリ（ヒドロキシエーテル）を含有する比較実施例Ｅに比べて、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含有する実施例５および６の剛性および耐熱性は大きい（それぞれ、曲げ特性とビカット軟化温度とによって証明されている）ことを示している。
【表１８】
2015512982.tif 000066
【０１３８】
実施例７および８、比較実施例ＦおよびＧ
これらの実施例では、ポリ（乳酸）およびポリ（フェニレンエーテル）用の相溶化剤としてのポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの使用を例証する。実施例１〜４で説明したように組成物を混合し成形した。混合条件を表１９に示す。
【表１９】
2015512982.tif 000067
【０１３９】
物性試験用の物品は、表２０に示す条件でＤｅｍａｇ  Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｇｒｏｕｐ  Ｍｏｄｅｌ４０−８０射出成形機を操作して射出成形した。
【表２０】
2015512982.tif 000068
【０１４０】
組成物とその特性を表２１に示すが、ここでの引張弾性率（ＭＰａ）と引張破断応力（ＭＰａ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ６３８−０８に準拠し、温度２３℃、Ｉ形棒、ゲージ長５０ｍｍ、試験速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で求めた。表２１の特性結果は、相溶化剤を含有しない比較実施例Ｆおよびポリ（ヒドロキシエーテル）を含有する比較実施例Ｇに比べて、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含有する実施例７および８の剛性および靭性は実質的に大きい（それぞれ、曲げおよび引張弾性特性と、ノッチ付衝撃強度および引張破断応力とによって証明されている）ことを示している。
【表２１】
2015512982.tif 000069
【０１４１】
実施例９〜１２、比較実施例ＨおよびＩ
これらの実施例では、エポキシ官能化相溶化剤を有するポリマーブレンドに対する本組成物の溶融流動性利点を例証する。
【０１４２】
Ｄ．−Ｗ  Ｌｏ、Ｃ−Ｒ．ＣｈｉａｎｇおよびＦ．−Ｃ．Ｃｈａｎｇ、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ、６５巻、７３９〜７５３ページ（１９９７）には、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）とポリ（フェニレンエーテル）（ＰＰＥ）との混合物用の反応性相溶化剤として、四官能性エポキシ樹脂であるテトラグリシジル−４、４’−ジアミノジフェニルメタン（ＴＧＤＤＭ）の使用が教示されている。ＴＧＤＤＭは、ＰＥＴおよびＰＰＥ上の末端基と反応することで作用する。ＴＧＤＤＭと１つまたは複数のＰＥＴおよびＰＰＥ分子との反応では、はるかに高い分子量の反応生成物が得られるであろう。参照文献で実証されているように、エポキシ官能化相溶化剤ＴＧＤＤＭの添加によって、ポリ（エチレンテレフタレート）／ポリ（フェニレンエーテル）ブレンドの溶融流動性は実質的に低減する。
【０１４３】
Ｗ．−Ｂ．Ｌｉｕ、Ｗ．−Ｆ．Ｋｕｏ、Ｃ．−Ｊ．Ｃｈｉａｎｇ、Ｆ．−Ｃ．Ｃｈｉａｎｇ、Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｊｏｕｒｎａｌ、２巻、９１〜９９ページ（１９９６）には、ポリ（ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）とポリ（フェニレンエーテル）（ＰＰＥ）とのブレンド用の反応性相溶化剤として、スチレン−グリシジルメタクリレートコポリマー（ＳＧＭ）の使用が教示されている。該スチレン−グリシジルメタクリレートコポリマーは、グリシジル基（エポキシ）がＰＢＴおよびＰＰＥ上の末端基と反応することにより該末端基に作用する。ＳＧＭと１つ以上のＰＢＴおよびＰＰＥ分子との反応によって、より高い分子量の反応生成物が得られるであろう。参照文献で実証されているように、エポキシ官能化相溶化剤ＳＧＭの添加によって、ポリ（ブチレンテレフタレート）／ポリ（フェニレンエーテル）ブレンドの溶融流動性は実質的に低減する。
【０１４４】
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー相溶化のポリ（ブチレンテレフタレート）／ポリ（フェニレンエーテル）ブレンドの溶融流動性に与える影響を表２２に示すが、この表には、ブロックコポリマー相溶化剤の種類と量を変えた２つの比較実施例と４つの発明的実施例での溶融流動性結果が示されている。
【０１４５】
メルトフローレート（単位：ｇ／１０分）は、ＡＳＴＭ  Ｄ１２３８−０４手順Ｂ（自動計時）に準拠し、温度２８０℃、印加荷重３．８ｋｇ、キャピラリー径２．０９５５ｍｍ、キャピラリー長８ｍｍ、試験材料ペレットは試験前に１２５℃×３時間乾燥の条件で測定した。
【０１４６】
表２２の成分量は、組成物の合計質量に対する質量％である。比較実施例ＱおよびＲは、上記の比較実施例ＢおよびＣと同じであり、実施例９〜１２は、それぞれ実施例１〜４と同じである。表２２の結果は、４つの発明的サンプルにおけるポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの使用によって、それらの溶融流動性が実質的に向上することを示している。
【表２２】
2015512982.tif 000070
【図１】
2015512982.tif 000080
【図２】
2015512982.tif 000081
【図３】
2015512982.tif 000082
【図４】
2015512982.tif 000083
【手続補正書】
【提出日】平成26年11月10日(2014.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって、特に明記されない限りその合計質量に対して、
セルロースエステル、ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、ポリ（ビニルブチラール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーを３０〜９３質量％と；
アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマーを５〜６８質量％と；
少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比が０．９５：１〜１．００：１のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを２〜２０質量％と、
を含むことを特徴とする組成物。
【請求項２】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの数平均分子量が５，０００〜５０，０００原子質量単位である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは下式の構造
【化１】
2015512982.tif 000084
｛式中、Ｑ１とＱ２は、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；Ｑ３とＱ４はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；ｘとｙは独立に、その合計が少なくとも２であることを条件として、０〜３０であり；Ｌは下式の構造
【化２】
2015512982.tif 000085
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；ｚは０または１であり；Ｙは、下式の構造
【化３】
2015512982.tif 000086
（式中、Ｒ５はそれぞれ独立に、水素およびＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビルから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルおよびＣ１−Ｃ６ヒドロカルビレンから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７は共同でＣ４−Ｃ１２アルキレン基を形成する）から構成される群から選択された構造を有する］を有する｝を有し；
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造
【化４】
2015512982.tif 000087
｛式中、Ａは下式の構造
【化５】
2015512982.tif 000088
［式中、Ｇ１はそれぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族ラジカルであり、Ｅはそれぞれ独立に、直接結合または下式
【化６】
2015512982.tif 000089
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり、ｓは０または１であり、ｔとｕはそれぞれ独立に１〜１０である］の残基であり；Ｂは下式の構造
【化７】
2015512982.tif 000090
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）の残基であり；ｎは１〜６０である｝を有する請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
前記少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックは下式の構造
【化８】
2015512982.tif 000091
（式中、Ｑ５とＱ６はそれぞれ独立に、メチル、ジ−ｎ−ブチルアミノメチルまたはモルホリノメチルであり；ａとｂは、その合計が少なくとも２であることを条件として、それぞれ独立に０〜２０である）を有し；
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化９】
2015512982.tif 000092
（式中、ｎは１〜６０）を有する請求項１乃至３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
前記非極性ポリマーは前記ポリ（フェニレンエーテル）を含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項６】
前記非極性ポリマーは前記ポリ（フェニレンエーテル）と前記ポリ（アルケニル芳香族）とを含み、前記ポリ（アルケニル芳香族）は、ポリスチレン、ゴム変性ポリスチレンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択される請求項１乃至５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項７】
前記非極性ポリマーは前記ポリ（フェニレンエーテル）と前記水素化ブロックコポリマーとを含む請求項１乃至５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項８】
前記極性ポリマーは前記ポリエステルを含み、前記ポリエステルは、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリカプロラクトン、ポリ（乳酸）、ポリ（ブチレンアジペート）、ポリ（ブチレンスクシネート）、ポリ（ブチレンセバケート）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択される請求項１乃至７のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の組成物を含むことを特徴とする射出成形物品。
【請求項１０】
特に明記されない限り組成物の合計質量に対して、
ポリ（アルキル（メタ）アクリレート）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリエーテルイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（エチレン−ビニルアセテート）、ポリウレタン、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（スチレン−アクリロニトリル）、ポリ（スチレン−無水マレイン酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマー３０〜９３質量％と；
アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、ポリ（アルケニル芳香族）、ポリ（フェニレンエーテル）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された非極性ポリマー５〜６８質量％と；
少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（フェニレンエーテル）ブロックとを含み、ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（フェニレンエーテル）ブロックとのモル比が０．９５：１〜１．００：１のポリ（フェニレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー２〜２０質量％と、
を溶融混合して前記組成物を形成するステップを備えることを特徴とする組成物の形成方法。
【国際調査報告】
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