(57)【要約】  第１の高光沢区域を含み、成形された粗い表面を備える、第２の低光沢区域も含む、第１の主側面を有するポリマー基材であって、第１及び第２の区域は、所定のパターンで第１の主表面上に提供され、前記基材の第１の主側面は、第１の高光沢区域及び第２の低光沢区域上に重ね合わされる少なくとも１つの物理的微細構造を更に含む、ポリマー基材。【選択図】図３
2015515392.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の主表面を有する第１の主側面を備えるポリマー基材であって、前記第１の主表面が、
第１の高光沢区域と、
第２の低光沢区域であって、前記第２の低光沢区域に前記第１の高光沢区域の前記光沢より低い光沢を有するようにさせる成形された粗い表面を備える、第２の低光沢区域と、を備え、
前記第１及び第２の区域が、所定のパターンで前記第１の主表面上に提供され、
前記基材の前記第１の主側面が、前記第１の高光沢区域及び前記第２の低光沢区域上に重ね合わされる少なくとも１つの物理的微細構造を更に備える、基材。
【請求項２】
前記第２の低光沢区域が、約１０光沢単位未満である８５度の光沢を含む、請求項１に記載の基材。
【請求項３】
前記第１の高光沢区域が、約４０光沢単位を超える８５度の光沢を含む、請求項１に記載の基材。
【請求項４】
前記第２の低光沢区域が、前記第１の高光沢区域の前記光沢より少なくとも約１０光沢単位低い８５度の光沢を含む、請求項１に記載の基材。
【請求項５】
前記第１の高光沢区域が、０．０５マイクロメートル未満の表面粗さＲａを含む、請求項１に記載の基材。
【請求項６】
前記第２の低光沢区域が、０．８マイクロメートルを超える表面粗さＲａを含む、請求項１に記載の基材。
【請求項７】
前記第１の高光沢区域が、前記基材の前記第１の側面上に第１の高光沢巨視的領域を集合的に形成し、前記第２の低光沢区域が、前記基材の前記第１の側面上に第２の低光沢巨視的領域を集合的に形成し、
前記第１の高光沢巨視的領域及び前記第２の低光沢巨視的領域が一緒になって、可視光が前記基材の前記第１の主側面に当たってそこから反射するときに、視覚的に観測可能なパターンを集合的に形成する、請求項１に記載の基材。
【請求項８】
前記第１の高光沢巨視的領域及び前記第２の低光沢巨視的領域が一緒になって、可視光が前記基材の前記第１の主側面に当たってそこから反射するときに、観測可能である情報表示部を集合的に形成する、請求項７に記載の基材。
【請求項９】
前記表示部が、ロゴを含む、請求項８に記載の基材。
【請求項１０】
前記基材が、長手方向軸を有し、前記表示部が、前記基材の前記長手方向軸に対して約２０〜約７０度の角度に配向される長軸を有する少なくとも１つのテキスト文字列を含む、請求項９に記載の基材。
【請求項１１】
前記第１の高光沢巨視的領域及び前記第２の低光沢巨視的領域が一緒になって、可視光が前記基材の前記第１の主側面に当たってそこから反射するときに、観測可能である装飾パターンを集合的に形成する、請求項７に記載の基材。
【請求項１２】
前記基材が、約１０％未満の可視光透過率を含む、請求項１に記載の基材。
【請求項１３】
前記ポリマー基材の前記ポリマー材料が、少なくとも２重量％の不透明化剤を含む、請求項１に記載の基材。
【請求項１４】
前記ポリマー基材の前記ポリマー材料が、可視光が前記基材の前記第１の主側面に当たってそこから反射するときに、前記基材が容易に認識可能な非白色を表示するように、有効な量の少なくとも１つの着色剤を含む、請求項１に記載の基材。
【請求項１５】
前記ポリマー基材の前記ポリマー材料が、半結晶熱可塑性ポリマーである、請求項１に記載の基材。
【請求項１６】
前記基材が、テープ支持体である、請求項１に記載の基材。
【請求項１７】
前記テープ支持体の前記第２の主側面上に配設された感圧接着剤を更に含む、請求項１６に記載の基材。
【請求項１８】
前記少なくとも１つの物理的微細構造が、微細構造化手切れパターンである、請求項１に記載の基材。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの物理的微細構造が、微細構造化液体保持パターンである、請求項１に記載の基材。
【請求項２０】
前記少なくとも１つの物理的微細構造が、微細構造化手切れパターン及び微細構造化液体保持パターンを備え、前記微細構造化手切れパターン及び前記微細構造化液体保持パターンが、同延かつ交差する、請求項１に記載の基材。
【請求項２１】
第１の高光沢区域と、第２の成形された粗い低光沢区域と、前記第１及び第２の区域上に重ね合わされる少なくとも１つの物理的微細構造と、を有する、第１の主側面を備えるポリマー基材を製造する方法であって、前記方法が、
溶融ポリマー押出物の第１の主表面を、前記第１及び第２の区域並びに前記物理的微細構造のネガ型を備える第１の成形面と接触させる工程であって、前記押出物の前記第１の主表面が、第１の高光沢区域と、第２の成形された粗い低光沢区域と、前記第１及び第２の区域上に重ね合わされる少なくとも１つの物理的微細構造と、を有する、第１の主側面を備えるポリマー基材を形成するために、前記第１の成形面に対して成形されるようにする、工程を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
物理的微細構造を上に有する基材は、様々な目的に使用されている。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００２】
本明細書では、第１の高光沢区域を含み、成形された粗い（ｔｅｘｔｕｒｅｄ）表面を備える第２の低光沢区域も含む、第１の主側面を有するポリマー基材であって、第１及び第２の区域が所定のパターンで第１の主表面上に提供され、基材の第１の主側面が第１の高光沢区域及び第２の低光沢区域上に重ね合わされる、少なくとも１つの物理的微細構造を更に含む、ポリマー基材が開示される。かかるポリマー基材を製造する方法もまた開示される。
【０００３】
本発明のこれらの態様及び他の態様は、以下の詳細な説明より明らかになるであろう。ただし、いかなる場合も、請求可能な対象が出願当時の申請内の請求項に提示されようと、補正されるかないしは別の方法で審査時に提示される請求項に提示されようと、上記の要約を請求可能な対象への制限と解釈すべきではない。
【図面の簡単な説明】
【０００４】
【図１】第１の高光沢区域と、第２の低光沢区域と、を備え、第１及び第２の区域上に重ね合わされた代表的な物理的微細構造を更に備える、代表的な基材の一部分の側面概略断面図である。
【図２】第１の高光沢区域と、第２の低光沢区域と、を備え、第１及び第２の区域上に重ね合わされた別の代表的な物理的微細構造を更に備える、代表的な基材の一部分の側面概略断面図である。
【図３】第１の高光沢区域と、第２の低光沢区域と、を備え、第１及び第２の区域上に重ね合わされた代表的な物理的微細構造を更に備える、代表的な基材の第１の主側面の頂面図である。
【図４】第１の高光沢巨視的領域と、第２の低光沢巨視的領域と、を備え、第１及び第２の領域上に重ね合わされた代表的な物理的微細構造を更に備える、別の代表的な基材の第１の主側面の頂面図である。
【図５】第１の高光沢区域及び第２の低光沢区域上に重ね合わされた手切れパターンを備える、代表的な物理的微細構造の斜視図である。
【図６】第１の高光沢区域及び第２の低光沢区域上に重ね合わされた液体保持パターンを備える、代表的な物理的微細構造の斜視図である。
【図７】第１の高光沢区域及び第２の低光沢区域上に重ね合わされた同延の交差する手切れ及び液体保持パターンを備える、代表的な物理的微細構造の斜視図である。
【図８】微細構造化テープ支持体及びテープを製造するための代表的なプロセスの概略図である。
【０００５】
様々な図面における類似参照番号は、類似要素を表す。要素によっては、同じ又は同等のものが複数個存在するものがあり、その場合、１つ以上の代表的な要素のみが参照符合によって示されている場合があるが、こうした参照符合はすべてのこのような同じ要素に適用されるものであることは理解されるであろう。特に指定されない限り、本文献における全ての図面及び図は、一定の縮尺ではなく、本発明の異なる実施形態を例示する目的で選択される。特に、様々な構成要素の寸法は、指示のない限り、例示的な表現としてのみ記述され、様々な構成要素の寸法間の関係は、図面から推測されるべきではない。上部、下部、上側、下側、下、上、前、後、上方、下方、並びに第１及び第２などの用語が本開示に使用され得るが、特に断らない限り、これらの用語はあくまで相対的な意味においてのみ使用される点を理解すべきである。外側に及び内側にという用語は、それぞれ、概ね基材１の内部から離れる方向、及び基材１の内部に向う方向を指す。同じ、等しい、均一、一定などの用語は、定量化可能な特性又は属性に適用されるように、具体的に定義されない限り、＋／−５％以内を意味する。特性又は属性に対する修飾語句として本明細書で使用されるとき、用語「概ね」は、具体的に定義されない限り、絶対的な精度又は完璧な一致を求めるものではないが、特性又は属性が当業者により容易に理解できるであろうことを表し（例えば、定量化可能な特性に関して＋／−２０％以内）、用語「実質的に」は、重ねて絶対的な精度又は完璧な一致を求めるものではないが、高度な近似を表す（例えば、定量化可能な特性に関して＋／−１０％以内）。高い／より高い、及び低い／より低いなどの用語は、光沢に関して使用されるとき、以下に具体的に定義される。
【発明を実施するための形態】
【０００６】
図１及び２では、第１の主側面１００と第２の主側面４００とを各々備える、代表的な基材１の側断面斜視図が示されるが、これは、第１及び第２の対向する主表面１０１及び４０１をそれぞれ備える。第１の主側面１００の第１の主表面１０１は、高光沢の第１の区域１１０を備える。第１の主表面１０１は、低光沢の第２の区域１３０を更に備える。高光沢及び低光沢とは、具体的に区域１３０の光沢が区域１１０のものより低いことを意味する。区域１３０は、成形された表面の粗さを備えることによってこのより低い光沢を示すことができる。これに関連して、成形された表面の粗さを有する区域１３０は、以下の本明細書で詳細に考察されるように、平面によって示されるであろう区域１３０の光沢を低下させるように平板状表面から偏位する特徴（図１に示されるように基材１のｚ軸に沿った）を有する区域を表す。成形された粗い表面とは、基材１の主表面１０１の粗さ付与特徴が、基材１の成形によって及び成形中に得られることを意味する。したがって、成形された粗い表面は、既存の表面の処理から得られた（例えば、かかる表面の研磨、アブレーション、若しくは物理的粗面化、又はその上に粗さ付与材料を堆積させることから得られた）粗い表面と区別されてもよい。第１及び第２の区域１１０及び１３０は、所定のパターンで提供される。
【０００７】
基材１の第１の主側面１００は、第１及び第２の区域１１０及び１３０上に重ね合わされる少なくとも１つの物理的微細構造２００を更に備える。重ね合わされるとは、このような微細構造又は微細構造２００が第１の高光沢区域１１０のうちの少なくともいくつかの中に及び／又はそれを通って延在し、第２の低光沢区域１３０のうちの少なくともいくつか（例えば、図３の代表的な図解に最も容易に見られるような）の中に及び／又はそれを通って延在することを意味する。
【０００８】
様々な実施形態では、成形された粗い表面を有する低光沢区域１３０は、約４０、２０、１０、５、又は２光沢単位未満の光沢を示すことができる。いくつかの実施形態では、低光沢区域１３０は、当業者に認識可能であるように、艶消し仕上げ（外観）を示すことができる。様々な実施形態では、高光沢区域１１０は、少なくとも２０、４０、６０、又は８０光沢単位の光沢を示すことができる。様々な実施形態では、低光沢区域１３０は、例えば、高光沢及び低光沢区域から反射した可視光の特質の差が観測者によって視認可能である光沢における十分なコントラストを提供するように、高光沢区域１１０のものより少なくとも５、１０、２０、４０、又は６０光沢単位（それぞれの区域の光沢単位の絶対値に関係なく）低い光沢を示すことができる。
【０００９】
このような光沢測定は、例えば、局所規模で光沢測定値を提供することができる、又は光沢単位と相関性があり得るパラメータを提供することができる、どのような方法及び装置を用いても局所的に行われ得る（このような方法としては、例えば、プロフィロメトリー、共焦点顕微鏡検査などが挙げられ得る）。さもなければ、このような光沢測定は、高光沢区域によって集合的に形成された巨視的領域、及び同様に低光沢区域によって集合的に形成された巨視的領域に行われ得る（このような巨視的領域は以下の本明細書で考察される）。このような測定は、従来の光沢度計、例えば、商品名ＭＩＣＲＯ−ＴＲＩ  ＧＬＯＳＳの下でのＢＹＫ  Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ  ａｎｄ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ（Ｃｏｌｕｍｂｉａ，ＭＤ）から入手可能な光沢度計で行われ得る（並びに、例えば、ＡＳＴＭ試験方法Ｄ２４５７−０８及びＤ５２３−０８が両方とも２００８年に規定され、それらに見出された手順に概ね類似の様式で測定され得る）。このような光沢測定は、６０度の入射角で行われることが多いが、（例えば、物理的微細構造２００の特定の設計が、例として陰影効果によって６０度における光沢測定を過度に妨げ得る事象では、）光沢測定は、物理的微細構造のあらゆる効果が最小化される角度、例えば、８５度で行われ得ることが理解される。ある区域の表面の粗い性質及び／又は特定の区域上に重ね合わされる任意の微細構造２００の性質に応じて、区域／領域の光沢は、粗さ及び／又は微細構造の任意の配向に対する（即ち、図１〜３に示されるように、基材のｘ−ｙ軸に対する）入射光の配向に依存し得ることも認識される。このような状況では、基材のｘ−ｙ軸に対して様々な配向で取られた光沢測定値から生じる平均光沢が得られてもよい。
【００１０】
区域１１０及び区域１３０の表面の粗さは、当業者に理解されるように、プロフィロメトリーによって特徴付けられてもよい。このようなプロフィロメトリーは、表面の粗さが配向依存性を有する場合、基材１のｘ−ｙ軸に対して様々な配向に沿って行われ得る。（この表面の粗いこのようなプロフィロメトリー測定は、物理的微細構造２００のあらゆる寄与を省略することができる）。このようなプロフィロメトリーの特徴付けの結果は、周知の平均表面の粗さ（ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）のパラメータである、表面粗さ、例えば、Ｒａにおいて鋳造されることが多い。様々な実施形態では、高光沢区域１１０は、０．２μｍ、０．１μｍ、０．０５μｍ、又は０．０２μｍ未満のＲａを含むことができる。様々な実施形態では、低光沢区域１３０は、０．２μｍ、０．４μｍ、０．８μｍ、２μｍ、又は４マイクロメートルを超えるＲａを含むことができる。（低光沢及び高光沢の上記に提示された定義は、それぞれの区域によって示される光沢又はＲａの任意の絶対値を必要とせずに、区域１３０が区域１１０より低い光沢を含むことを必要とするのに過ぎないことが理解されるであろう。したがって、例えば、０．２μｍのＲａは、「高」光沢と「低」光沢との間の決定的境界であると推論されるべきではない。むしろ、表面粗さＲａは、高光沢区域及び低光沢区域を特徴付けるために使用され得る追加のパラメータに過ぎない。
【００１１】
基材１の更なる詳細は、図３を参照することにより考察されてもよく、これは、基材１の第１の主表面１０１の平面図を示し、第１の高光沢区域１１０（任意の表面の陰影の欠如によって示される）と、低光沢（即ち、区域１１０のものより低い）が成形された粗い表面によって付与される第２の区域１３０（粗い表面が図３の表面点刻によって示される）と、を含む。
【００１２】
第１の高光沢区域１１０及び第２の低光沢区域１３０は、任意の所望のパターンで基材１の第１の主表面１０１上に提供されてもよい。これに関連して、区域という用語は、微細区域（例えば、小さ過ぎて裸眼のヒトの目によって見られないもの、例として、数平方マイクロメートルの大きさまでのもの）を含む任意の大きさの表面部分を包含する。いくつかの実施形態では、高光沢の区域１１０は、領域１１１を形成する区域１１０が隣接配列であろうと、又はそれらが、例えば、区域１３０のいくつかの部分及び／若しくは微細構造２００によって互いに分離されようと、高光沢を有する巨視的領域１１１（即ち、約２ｍｍ２を超える区域）を集合的に含むように配列されてもよい。同様に、低光沢の区域１３０は、区域１３０が隣接配列であろうと、又はそれらが、例えば、区域１１０のいくつかの部分及び／若しくは微細構造２００によって互いに分離されようと、低光沢を有する（例えば、艶消し仕上げによる）巨視的領域１３１を集合的に含むように配列されてもよい。
【００１３】
様々な実施形態では、成形された粗い表面を有する低光沢巨視的領域１３１は、約４０、２０、１０、５、又は２光沢単位未満の光沢を示すことができる。いくつかの実施形態では、低光沢区域の巨視的区域１３１は、当業者に認識可能であるように、艶消し仕上げ（外観）を示すことができる。様々な実施形態では、高光沢巨視的領域１１１は、少なくとも２０、４０、６０、又は８０光沢単位の光沢を示すことができる。様々な実施形態では、低光沢巨視的領域１３１は、例えば、反射光表示部が観測され得る光沢における十分なコントラストを提供するように、高光沢巨視的領域１１１のものより少なくとも５、１０、２０、４０、又は６０光沢単位（例えば、それぞれの巨視的領域の光沢単位の絶対値に関係なく）低い光沢を示すことができる。高光沢区域及び低光沢区域の任意の好適な配列が使用されてもよい。例えば、高光沢巨視的領域１１１は、いくつかの数の低光沢（例えば、微細）区域１３０を含むことができるが、巨視的領域１１１が、巨視的高光沢を示すように高光沢区域１１０によって支配される限り、領域１１１はまだ、高光沢領域であると考えられることが理解される。同様の考察が低光沢巨視的領域１３１に関して適用される。
【００１４】
いくつかの実施形態では、このような巨視的領域１１１及び１３１は、任意の好適な装飾パターンを集合的に提供するように組み合わせて配列されてもよい。このような装飾パターンは、物体又はシーン、抽象パターン、ランダムパターン、規則的パターンなどの表現を含むことができる。（チェス盤パターンが図３の代表的な実施形態に示される）。
【００１５】
いくつかの実施形態では、高光沢区域／領域及び低光沢区域／領域は、代表的な様式の図４に示されるように、少なくとも１つの情報表示部６００を集合的に提供するように組み合わせて配列されてもよい。このような情報表示部は、例えば、ロゴ、商品名など（このような表示部がテキスト、又はシンボル若しくは写真、又は両方の混合の形態であろうと）を含むことができる。これらの特徴は、可視光が基材１の第１の主側面に当たってそこから反射するときに少なくとも観測可能であり、かつ任意の顔料、インク、ラベルなどを基材１に堆積させる必要なしに得られる印刷されていない情報表示部（例えば、透かしに類似する）を基材１が表示するのを可能にし得ることが理解される。いくつかの実施形態では、情報表示部は、図４のテキスト文字列６０１によって例示されるようにテキスト文字列（単独、又は他の視覚要素との組み合わせであろうと）を含むことができる。更なる実施形態では、基材１は、長手方向軸「Ｌ」を含むことができ、テキスト文字列は、図４に示されるように長軸「ｌ」を含むことができる。特定の実施形態では、テキスト文字列の長軸は、図４に示されるように、基材１の長手方向軸に対して約２０度〜約７０度の角度に配向されてもよい。更なる実施形態では、テキスト文字列の長軸は、基材１の長手方向軸に対して約３５度〜約６０度の角度に配向されてもよい。
【００１６】
これらの実施形態のいずれかでは、低光沢領域１３１は、バックグラウンドを個々又は集合的に提供することができ、特定の高光沢領域１１１は、その上に特定の観測可能な特徴（例えば、画像又は文字）を個々又は集合的に提供する。さもなければ、逆の場合であってもよい。さもなければ、両方の手法の組み合わせが用いられてもよい。
【００１７】
任意の好適な成形された特徴は、区域１１０に対して区域１３０の光沢を低下させるために使用され得る。これに関連して、特徴は、平板状表面からの逸脱又は偏位（基材１のｚ軸に沿った）を表す何かであり得、この偏位は、可視光を散乱させ、それ故に表面からの鏡面反射を減少させるのに好適な規模である。このような特徴は、不規則に提供されてもよく、又は所定のパターンを含んでもよい。区域１３０のこのような特徴は、例えば、区域１３０内の主表面１０１の平均レベル（例えば、区域１３０にわたって測定され、平均化され、物理的微細構造２００から全く寄与を含まないような）に対して外側に突出するもの（基材１の主平面に垂直な軸（ｚ軸）に沿った）を備えることができる。このような特徴はまた、この平均レベルに対して内側に凹んでいるものを備えることができる。このような突出特徴は、例えば、突出部、小節、ヒロック、ピラミッド、茎、支柱、突起、隆起部などと特徴付けられてもよく、このような凹んだ特徴は、例えば、凹部、穴、ピット、亀裂、溝、裂け目、ディボットなどと特徴付けられてもよい。粗い表面は、突出と凹んだ特徴との組み合わせ（例えば、溝と隆起部、突出と凹んだピラミッド、ピットをその間に有する小節など）を保有することができる。
【００１８】
光を散乱させるのに適切な大きさの範囲における（例えば、約０．２マイクロメートル〜約３０マイクロメートルの範囲における）このような特徴の存在は、このような機能性を提供することができることが理解される。このような特徴は、例えば、局所的に平面（即ち、数マイクロメートル以下の範囲にわたる）であり得るが、このような小さな大きさを有し、及び／又は低光沢を集合的に提供するように配列される表面を備えることができる。この一般型の基材の例は、例えば、米国特許出願公開第２０１０／０３０２４７９号に記載される。さもなければ、このような特徴は、例えば、数マイクロメートル以下の寸法範囲にわたって、非平面（湾曲状）である（例として、小節などの形態である）表面を備えることができる。この一般型の基材の例は、例えば、米国特許出願公開第２００７／００１４９９７号に記載される。両方のタイプの特徴、並びに／又は局所的に平面及び／若しくは局所的に弓状の表面の任意の組み合わせを有する特徴を備えた基材が使用されてもよい。（表面の粗さが存在することで、物理的微細構造に隣接する区域内の主表面１０１の平均ｚ軸レベルは、物理的微細構造の高さを特徴付ける目的のために基準データ面として使用され得ることに留意されたい。）
【００１９】
第１の高光沢区域１１０は、いくつかの成形された表面の粗さを有することを妨げられないが、このような区域は、上記で考察されるように、それらが区域１３０によって示されたものより高い光沢を示すように、第２の区域１３０より少ない表面の粗さを有する。いくつかの実施形態では、高光沢区域１１０は、表面の粗さに欠けてもよく、例えば、それらは、平面で（例えば、０．２μｍ以上の寸法規模で）あってもよい。いくつかの実施形態では、このような表面は、例えば、光学的に平滑な表面（例として、溶融ポリマー材料を研磨された金属ロールなどの非常に平滑な成形面に対して成形することによって、基材１の形成中に得られたものなど）であってもよい。
【００２０】
光沢の制御は、例えば、基材からの鏡面反射が基材を通って透過される光を妨げ得る度合いを最小限にするために、高度に光透過性の基材で用いられることが多かった。このような問題は、例えば、透過光と反射光との相互作用が重要であるディスプレイ及び類似の用途で生じることが多い。それに対して、本出願は、例えば、物理的微細構造を備える基材の外観を高める目的で光沢の制御に関係している。例えば、テープなどの利用を見出し得るこのような基材は、不十分に光透過性（例えば、半透明又は更には不透明）であることが多い場合である。したがって、本明細書に開示される様式で、このような基材の光沢を扱うのに有用であることが見出されたのは、既知ではなかった。しかしながら、本発明者らは今日、具体的に特定の用途（例えば、艶消し外観の紙基材を歴史的に用いたマスキングテープ）では、エンドユーザーがいくらか「プラスチックのような」、それ故にあまり望ましくないと何人かのユーザーによって視認され得る光沢のある外観を有する比較的高光沢基材（即ち、基材に、より低い光沢を付与するように本明細書に開示される方法のいずれも有することなしに製造されたプラスチックフィルムなど）に気付き得ることを見出した。したがって、本明細書に開示されるように低光沢（例えば、艶消し仕上げ）の区域の提供は有益であり得る。更に、パターン、例えば、装飾パターンを集合的に形成する高光沢及び低光沢の区域の提供は、基材の魅力を更に高めることができる。その上更に、このような対照的な光沢パターンは、形成後ではない印刷、エンボス加工、又はラベル付け操作が表示部を提供するのに必要とされるように、基材を製造する行為で形成される情報表示部を提供するように構成され得る。これらの全ては、重要な利点を提供することができ、同様に、基材を含む偽造品の製造を難しくし得る。そして、この全てを、その上に重ね合わされた微細構造（複数可）の性能を妨げる対照的な光沢パターンなしに行うことができ、その逆も同様である。
【００２１】
微細構造２００は、任意の所望の物理的微細構造を含むことができる。物理的微細構造とは、基材１の通常使用では、物質（例えば、流体の操作、及び／又は基材１による引き裂きの伝播、並びに以下に考察されるように他のものなど）に物理的影響を与えるのに役立つ微細構造を意味する。したがって、通常使用では、本質的に光学的である（即ち、所望の光学的効果のために電磁放射、例えば、可視光を操作する）効果を得る微細構造は、この定義から具体的に除外される。（それにもかかわらず、上記定義は、物理的微細構造を含む任意の微細構造が当然のことながら、いくつかの条件下で可視的である理由のみである場合に、いくつかの偶発的光学効果を示し得る事実である）。
【００２２】
物理的微細構造の概念は、基材１の主表面１０１（図２の突出部２０１によって例示されるような）の上に突出する構造、及び基材１の主表面１０１（図３の凹部２０２によって例示されるような）の下に凹んでいる「構造」（即ち、特徴）の両方を包含する。この２つの組み合わせが当然のことながら存在し得る。微細構造とは、構造が少なくとも２つの直交方向に約５〜約４００マイクロメートルの幅がある寸法の所定の成形された構造（例えば、基材１の第１の主側面１００に提供されるのを所望された微細構造のネガ型を備える成形面に対して、ポリマー熱可塑性樹脂を成形することによって得られるような）であることを更に意味する。これらの直交方法のうちの１つは、支持体１の平面に垂直である（即ち、ｚ軸に沿った）ことが多い場合があり、それ故にこの寸法は、例えば、突出部の高さ又は凹部の深さを含むことができる。特定の例として、凹んだ微細構造が、例えば、細長い溝を備える場合では、このような方向は溝の深さである。多くの場合、このような溝の横方向幅（横方向は、溝の幅にわたる方向であることを意味する）は、第２の直交方向を含むことができる。したがって、溝の深さ及び溝の横方向幅が共に、溝の長さに沿った任意の位置において約５〜約４００マイクロメートルである場合、溝は、極めて長い長さを有し得るという事実に関係なく、定義によれば微細構造化特徴である。同じ考察が、リブの高さ、幅、及び長さに関して、例えば、細長いリブの形態である突出する微細構造に適用される。
【００２３】
様々な実施形態では、少なくとも１つの物理的微細構造２００の表面は、粗さ（例えば、低光沢区域１３０によって構成された類似又は同じタイプの）を備えることができ、あるいは、このような表面は、必要に応じて平坦、例えば、光学的に平滑であってもよい。物理的微細構造２００は、上記に考察されるように、基材１の巨視的領域の光沢に、少なくともいくらかのわずかな影響を及ぼし得ることが認識される。しかしながら、物理的微細構造２００は、その区域、表面粗さＲａなどにおける表面の平均レベルに対するこれらの区域の表面特徴の高さなど、区域１１０及び１３０の特性を特徴付けるときに省略されてもよい。（これに関して、光沢低減の粗さを提供するその能力に関して、区域の任意の特定の特徴の高さ又は深さは、その区域内の主表面の平均レベルに対して測定されるべきであり、例えば、区域１３０が区域１１０に対して垂直にオフセット（基材１のｚ軸に沿って）される場合に問題が生じ得ることに留意されたい）。
【００２４】
言及されるように、物理的微細構造２００は、物質への任意の所望の物理的影響を提供する意図された機能を有することができる。様々な実施形態では、物理的微細構造２００は、それ故に、品目を研磨し（即ち、いわゆる構造化された研磨剤を提供し）、品目に導電性経路を確立し（即ち、いわゆるｚ軸導体を提供し）、品目に熱伝導性経路を確立し、固体粒子を濾過し、品目に機械的に取り付け（即ち、嵌合面締結具などの機械的締結具又はフックのフック構成要素及びループ締結具を提供し）、品目に接着して取り付ける（即ち、いわゆる構造化された接着剤を提供する）などに役立ち得る。
【００２５】
いくつかの実施形態では、物理的微細構造は、基材１に沿った引き裂きを容易にする及び／又は伝播するのに（例えば、基材１の一部分が基材１の別の部分から分離されるのを可能にするのに）役立ち得る。いくつかの実施形態では、物理的微細構造２００は、それ故に、微細構造化手切れパターンを備えることができるが、これは、例えば、手切れ可能なテープのための支持体として有用な基材１にするように、基材１をより容易に引き裂く（例えば、基材１の横断幅にわたり、図５に示されるように横断軸「Ｔ」に概ね沿う）ことができる状態にすることができる。代表的な手切れパターン２０３が図５に示されるが、そこで物理的微細構造２００／手切れパターン２０３が多数の脆い線２１０を含む。各個々の脆い線２１０は、基材１の第１の主側面１００における凹部によって提供される連続的な脆い線であってもよく、又は基材１の第１の主側面１００における多数の凹部によって集合的に提供される不連続的な脆い線であってもよい。凹部とは、開放端の外側に面する空洞を備えるように、表面（複数可）が、基材１の第１の主側面１００の第１の主表面１０１の下に（即ち、基材１の内部に向かって内側に）凹んでいるうちの少なくともいくつかの特徴を意味する。いくつかの実施形態では、脆い線２１０を提供する凹部は、例えば、基材１の横断幅にわたって（即ち、基材１の１つの副縁部から基材１の別の副縁部まで）連続的に延在し得る、細長い溝２１１を備えることができる。いくつかの実施形態では、脆い線２１０は、第１の側面１００の横断幅にわたって離間配置される凹部から集合的になることによって不連続であってもよい。様々な実施形態では、脆い線２１０は、基材１の長手方向範囲に沿って離間配置されてもよく、更なる実施形態では、各脆い線は、基材１の横断軸Ｔからプラス又はマイナス４５、２０、１０、若しくは５度内に配向されてもよい。
【００２６】
いくつかの実施形態では、物理的微細構造２００は、流体を（液体又はガスにかかわらず）操作するのに役立ち得る。このタイプの様々な実施形態では、物理的微細構造２００は、液体のウィッキングを容易にし、液体又はガスから固体粒子を濾過し、液体又はガスを加熱又は冷却し、治療薬を届け、生体サンプルを取得し、その音響特性を変えるようにガスの動きを変えるなどに役立ち得る。特定の実施形態では、物理的微細構造２００は、基材１の主側面１００に沿って流れる液体の能力を減速又は低減させるように、液体を捕捉及び保持するのに役立つ液体保持微細構造（例えば、塗料保持微細構造）を備えることができる。このような特性は、例えば、マスキングテープのための支持体として基材１を有用な状態にすることができる。このタイプの流体操作微細構造は、
微細構造化液体保持パターン１０３の形態である物理的微細構造２００によって画定される（即ち、連続的又は不連続的にかかわらず境界される）多数のマイクロレセプタクル１０７を備えることができるが、これは、微細構造化仕切り１０２（例えば、図６の代表的な様式で示されるような）を備える。いくつかの実施形態では、微細構造化仕切り１０２は、互いに物理的に交差し得ない多数の第１の細長い仕切り１０４と、互いに物理的に交差し得ない第２の細長い仕切り１０６と、を備えることができる。第１の仕切り１０４のうちの少なくともいくつかは、それによってマイクロレセプタクル１０７を画定するように、交差点１５０で第２の仕切り１０６のうちの少なくともいくつかと交差することができる。（様々な実施形態では、仕切り１０４及び／又は１０６は、連続的又は不連続的であってもよく、したがって、不連続的仕切りを備える実施形態では、交差点１５０は、仕切り１０４と１０６との実際に物理的交差点ではなく、仕切り１０４及び１０６の長軸が交差する空間内に点を備えることができる。）様々な実施形態では、微細構造化仕切り１０２は、約１０マイクロメートル〜約２００マイクロメートルの幅のその長さに沿ったどこかで高さを含むことができる。更なる実施形態では、微細構造化仕切り１０２は、約２０マイクロメートル〜約８０マイクロメートルの幅のその長さに沿ったどこかで高さを含むことができる。更なる実施形態では、微細構造化仕切り１０２は、約３０マイクロメートル〜約５０マイクロメートルの幅のその長さに沿ったどこかで高さを含むことができる。いくつかの実施形態では、細長い仕切り１０４及び１０６は、細長いリブ（図６の代表的な設計と同様に）を備えることができる。
【００２７】
微細構造化手切れパターン及び微細構造化液体保持パターンの更なる詳細は、Ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ  Ｔａｐｅと題する２０１１年３月８日に出願された米国特許出願第１３／０４２５３６号に見出され、この全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【００２８】
上述されるように、いくつかの実施形態では、基材１は、例えば、物質への２つ以上の物理的影響を提供するように、多数の物理的微細構造２００を備えることができる。例えば、上述される代表的な物理的微細構造の任意のこのような組み合わせは、本明細書の開示内に包含される。
【００２９】
特定の実施形態では、基材１の第１の主側面１００の少なくとも１つの物理的微細構造２００は、液体保持パターン１０３と手切れパターン２０３との両方を備えることができるが、パターンは、同延かつ交差してもよい。同延とは、２つのパターンが重なり合っていて、即ち、それらが第１の主側面１００の少なくともいくつかの巨視的区域（即ち、約２ｍｍ２を超える区域）で両方とも存在することを意味する。交差するとは、液体保持パターンの少なくともいくつかの仕切りの長軸が、仕切りの細長い長さ及び脆い線内のいくつかの位置で、手切れパターンの少なくともいくつかの脆い線の長軸と交差することを意味する。各パターンの微細構造は、他のパターンの微細構造と物理的に交差することができるが、それをする必要はない。パターンが同延かつ交差している微細構造化手切れパターン及び微細構造化液体保持パターンの形態で、少なくとも１つの物理的微細構造を備える基材１が、図７の代表的な様式で示される。各パターンの様々な構造及び特徴は、上述されるように属性及び特性を含むことができる。
【００３０】
同延の交差する物理的微細構造の使用は、例えば、制御された光沢の区域と組み合わせて、Ｍｉｃｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ  Ｔａｐｅ  Ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ  Ｃｏｅｘｔｅｎｓｉｖｅ，Ｉｎｔｅｒｓｅｃｔｉｎｇ  Ｐａｉｎｔ−Ｒｅｔｅｎｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｈａｎｄ−Ｔｅａｒ  Ｐａｔｔｅｒｎｓと題する、本出願と同日に出願された米国特許仮出願第ｘｘ／ｘｘｘｘｘｘ号により詳細に記載されるが、本出願は、この全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【００３１】
第１の区域１１０及び第２の区域１３０と、物理的微細構造２００と、を含む基材１及びこの主表面１０１は、モノリシックのプラスチック材料で製造されたモノリシックのプラスチックユニットを構成すると本明細書で定義される。これは、主表面１０１、この第１の区域１１０及び第２の区域１３０（第２の区域１３０の粗い特徴を含む）、並びに物理的微細構造２００（微細構造２００が突出する特徴、凹んだ特徴、又は両方を備えることにかかわらず）が基材１に一体に接続され、それと成形されることによって形成されたことを意味する。このようなモノリシックのプラスチックユニットは、例えば、ポリマー熱可塑性フィルム又は溶融ポリマー熱可塑性押出物を提供し、基材１、この主表面１０１の第１の区域１１０及び第２の区域１３０、並びに物理的微細構造２００を全て同時に、一体のユニットとして形成するように第１の主表面を成形することによって便利に形成されてもよい。様々な実施形態では、第２の主側面４００の第２の主表面４０１から物理的微細構造２００の最外部までの基材１の全厚は、少なくとも約２５マイクロメートル、少なくとも約５０マイクロメートル、少なくとも約６０マイクロメートル、又は少なくとも約７０マイクロメートルであり得る。更なる実施形態では、基材１の全厚は、最大でも約１０００マイクロメートル、５００マイクロメートル、２５０マイクロメートル、１５０マイクロメートル、１００マイクロメートル、又は５０マイクロメートルであり得る。いくつかの実施形態では、基材１とこの第２の主表面４０１とを備える材料、区域１３０の粗い特徴を備える材料、及び物理的微細構造２００を備える材料は、全て同じ組成である。
【００３２】
基材１のプラスチック材料は、例えば、成形可能なポリマー熱可塑性材料であってもよく、定義によれば発泡又は多孔質材料ではない。いくつかの実施形態では、プラスチック材料は非セルロースであり得る、つまり、セルロース系材料（例えば、セルロース、紙、再生セルロース、木質繊維、木粉等、これに関連して、酢酸セルロース及び同様のものはセルロース系材料であると考慮されない）を約５重量％未満含有し得る。特定の実施形態では、プラスチック材料は、溶融加工可能、例えば、押出可能であり得る。成形用ポリマー熱可塑性材料は、様々な物質のいずれかから形成され得る、又は様々な物質のいずれかを含むことができる。ホモポリマー、コポリマー、及びポリマーブレンドは有用であり得、様々な添加剤を含有してもよい。好適な熱可塑性ポリマーとしては、例えば、ポリプロピレン若しくはポリエチレンなどのポリオレフィン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、エチレンビニルアセテートコポリマー、アクリレートで修飾されたエチレンビニルアセテートポリマー、エチレンアクリル酸コポリマー、ナイロン、ポリ塩化ビニル、及びポリケトン若しくはポリメチルペンタンなどのエンジニアリングポリマーを挙げることができる。ポリマーの混合物も使用することができる。
【００３３】
いくつかの実施形態では、プラスチック材料は、任意のオレフィン系ポリマー（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなど）の任意のホモポリマー、コポリマー、ブレンドなどであると本明細書に定義されたポリオレフィン系材料であってもよい。いくつかの実施形態では、ポリオレフィン系材料は、存在し得る任意の無機充填剤の重量を数えずに、ポリエチレンの少なくとも約９０重量％、少なくとも約９５重量％、又は少なくとも約９８重量％を含有することができる。（これに関連して、ポリエチレンとは、少なくとも９５％のエチレン単位からなるポリマーを意味する。更なる実施形態では、ポリエチレンはエチレンホモポリマーである。）いくつかの実施形態では、ポリオレフィン系材料は、エチレンホモポリマーから本質的になってもよく、この要件は（無機充填剤の重量は勘定に入れないことに加えて）、加工助剤、可塑剤、抗酸化剤、着色剤、顔料、及び同様のもの（これらの少なくともいつくかは、少量の非ポリエチレンポリマーをある程度含有する場合がある）の存在を排除するものではないことに留意されたい。
【００３４】
様々な実施形態では、基材１は、半結晶ポリマーの少なくとも２０、４０、６０、８０、９０、９５、又は９９重量％からなってもよく、半結晶ポリマーは、少なくとも約２０、４０、６０、又は８０％の結晶化度パーセント（例えば、示差走査熱量測定法によって測定されるような）を有することができる。例えば、相当量の半結晶ポリマーを含むものなどの基材は、高度の光散乱を示し得ることが理解される。したがって、様々な実施形態では、基材１は、少なくとも約２０、４０、８０、又は９５％のヘイズ（例えば、ＡＳＴＭ試験方法Ｄ−１０３３−１１ｅ１で概説された手順に類似の様式で測定されるような）を示すことができる（ヘイズが粗い表面によって少なくともわずかに影響を受ける場合があり、したがって、基材１の測定されたヘイズが区域１１０及び１３０の両方からの寄与を表し得ることに留意されたい）。
【００３５】
様々な実施形態では、基材１は、基材１を通る光透過率を減少させる１つ以上の不透明化剤を含むことができる。このような薬剤としては、不透明化充填剤（例えば、炭酸カルシウム、二酸化チタン、又はカオリンなどの無機充填剤、カーボンブラックなどの充填剤など）が挙げられ得る。基材１はまた、容易に認識可能な色又は色相を基材に付与する（即ち、白色以外のはっきりした色）有効な量の１つ以上の着色剤（例えば、インク、毛髪染料、顔料など）を含むことができる。多くのこのような着色剤はまた、例えば、それらの濃度に応じて不透明化機能を果たすことができる。様々な実施形態では、基材１は、例えば、２０１１年に規定されるように、ＡＳＴＭ試験方法Ｄ−１０３３−１１ｅ１に記載された手順に類似の様式で試験されるように、約４０％、２０％、１０％、５％、２％、１％、０．５％、又は０．１％未満の可視光透過率を含むことができる。（このような光透過率は、例えば、半結晶ポリマーの光散乱領域の影響、不透明化剤の影響、又は両方により、光透過率の低下から生じ得る）。
【００３６】
基材１及びそれから製品を製造するための代表的な装置及びプロセス４００が、図８に示される。溶融ポリマー熱可塑性押出物４３１を押し出すために押出成形機４３０を使用することができ、次に、この押出物の一方の主表面は、成形ロール４１０と接触し、このロールはその表面に、基材１の第１の主側面１００に付与されるべき所望の特徴のネガ型を有する。加えて、押出物４３１の対向する主表面は、支持ロール４２０と接触し、このロールは、特定の粗い特徴及び／又は微細構造（特定の粗い特徴及び／又は特定の微細構造を基材１の第２の主側面４００に付与することを所望されない限り）を有しない場合がある。例えば、支持ロール４２０の表面は、より望ましい場合であっても（例えば、基材１のそれ故に形成された表面上の感圧接着剤の被覆性及び付着性を高めるように）、例えば、従来の艶消し仕上げ表面又は従来の研磨された表面を備えることができる。便宜的に、押出物の２つの成形面との接触は、例えば、ロール４１０とロール４２０との間の狭い間隙（つかみ部）への溶融押出物４３１の衝突によって、本質的に同時に行われてもよい。当業者は、ロール４１０及び／又は４２０ではなく、ベルト、プラテンなどによって提供され得るようなこのような表面が、必要に応じて使用され得ることを理解するであろう。成形面は、金属で（例えば、図８の代表的な構成などの金属ロールの形態で）あってもよく、又は金属支持ロール上に配設されるより軟らかい材料、例えば、ポリマーベルト、スリーブ又はコーティングを含むことができる。所望の特徴のネガ型をその上に有するかかる成形面は、例えば、当業者によく知られているような彫刻、ローレット切り、ダイヤモンド切削、レーザーアブレーション、電気メッキ、又は無電解堆積などによって得られてもよい。
【００３７】
更に詳細に、基材１の第１の主側面１００の第１の主表面１０１の区域１３０上に（光沢低減）成形された表面の粗い特徴を提供するために、成形型の主表面の部分は、このような粗いネガ型を備えるように処理され得る。これは、任意の好適な方法（例えば、彫刻、ローレット切り、電気メッキ、無電解堆積、化学エッチング、レーザーアブレーション、サンドブラスティングなど）によって行われてもよい。さもなければ、高速成形型サーボ機構に連結された機械加工成形型は、例えば、米国特許出願公開第２００８／００４９３４１号の実施例８及び９に記載されるように、所望の区域内にカオス的又は不規則に粗い構造を製造するように、選択された主表面区域を機械加工するために使用されてもよい。
【００３８】
上記で考察された特徴及び構造をその上に付与するように成形面と接触させた溶融押出物４３２は、基材１を形成するように固化され得る。成形された押出物は、このような固化を可能にするために、図８の代表的な様式で示されるように、支持ロール４２０の大部分の周囲の経路に従うことにより、支持ロールと接触して保持されることが便利であり得る。（さもなければ、溶融押出物が可能な限り長く成形面と接触して保持されることを所望される場合、成形された押出物は、成形ロール４１０の大部分の周囲の経路に従うことができる。）所望の場合には、成形ロール又は支持ロールから取り外される際に成形されて固化された基材１の取り扱いを支援するために、引取ロール４２５が提供されてもよい。次に、基材１は、いかなる目的に対してもそのまま使用され得る。任意に、感圧接着剤３００は、例えば、コーター４３３を使用することによって、例えば、基材１の第２の主側面４００上に（図７の代表的な図解に示されるタイプの製品、例えば、接着テープを形成するように）配設され得る。感圧接着剤３００の堆積は、図８の代表的な構成のように、成形と同じプロセスにおいてインラインで行うことができる。又は、別個のプロセスにおいてオフラインで行うことができる。
【００３９】
任意の好適な感圧接着材又は組成物を感圧接着剤３００で使用することができる。感圧接着剤は、通常、室温で粘着性であり、ただ軽い指圧のみを加えることによって表面に接着することができ、したがって感圧性でない他のタイプの接着剤と区別することができる。有用な感圧性接着剤の一般的な説明は、Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ，Ｖｏｌ．１３，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ（Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９８８）に見出すことができる。有用な感圧接着剤の更なる説明は、Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｖｏｌ．１，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ（Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９６４）に見出すことができる。表面への良好な接着を提供する一方で、残留物（例えば、可視残留物）を残すことなく、適度な力で取り外し可能であるように接着材を選択するのが好都合であり得る。
【００４０】
図８に示される一般型のプロセス、又は任意の他の好適なプロセスによって製造されようと、それ故に形成された接着テープは、例えば、ロールの形態で便利に提供されてもよい。いくつかの実施形態では、このような接着テープ及びこのロールは、任意の種類の剥離ライナー（例えば、剥離面を有する紙若しくはプラスチック、フィルム自体によって供給されるか又はフィルム上の低エネルギーコーティングによって供給されるかにかかわらず、かかる剥離ライナーは接着剤の分野で周知である）を含まなくてもよい。即ち、かかる実施形態では、ロールは自己巻き取りロールであり、つまり、感圧接着剤３００の外側面３０１が物理的微細構造２００の最外面と、及び／又は基材１の第１の主側面１００の主表面１０１と剥離可能に接触した状態で、それ自体の上に直接巻き取られることを意味する。このようなテープは、当業者に容易に理解されるように、例えば、マスキングテープとして使用されてもよい。基材１がテープに形成されるような場合、上記方法は、情報表示などの視覚的に観測可能なパターンが、テープの外側側面（即ち、テープがロールの形態であるとき、かつそれが表面に接着して取り付けられた後に可視的である側面）上に提供されるのを可能にすることが理解される。したがって、このような表示部などは、インク、顔料、ラベルなどをテープ上に堆積させる必要がなく、物理的微細構造２００の機能を受け入れられない形で妨げることなく提供され得る。
【００４１】
任意のコーティング、処理などは、物理的微細構造２００の機能を受け入れられない形で妨げない限り、基材１の第１の主側面１００に行われ、又はそれに適用され、区域１３０又は１１０の光沢を受け入れられない形で変化させない。このような処理としては、金属コーティング、プライミング層、処理（例えば、コロナ、プラズマ等）などが挙げられ得る。しかしながら、いくつかの実施形態では、コーティング、処理、又は任意の種類の追加の層は、基材１の主側面１００上に存在しない。いくつかの実施形態では、基材１は、いずれかのこの主側面内、及び／又はその上に任意の種類の光学的微細構造を備えていない（即ち、物理的微細構造（複数可）２００は、区域１３０内の表面の粗さの存在に関係なく基材１にのみ存在する微細構造である）。いくつかの実施形態では、基材１は、基材１の内部の中に任意の種類の艶消し付与粒子を備えていない。様々な実施形態では、基材１は、貼り付け機能、非貼り付け機能、研磨機能、又は液体ウィッキング機能を含む物理的微細構造を備えない。
【００４２】
例示的実施形態の一覧
実施形態１．第１の主表面を有する第１の主側面を備えるポリマー基材であって、第１の主表面が、第１の高光沢区域と、第２の低光沢区域であって、該第２の低光沢区域に第１の高光沢区域の光沢より低い光沢を有するようにさせる成形された粗い表面を備える、第２の低光沢区域と、を備え、第１及び第２の区域が、所定のパターンで第１の主表面上に提供され、基材の第１の主側面が、第１の高光沢区域及び第２の低光沢区域上に重ね合わされる少なくとも１つの物理的微細構造を更に備える、基材。
【００４３】
実施形態２．第２の低光沢区域は、約１０光沢単位未満である８５度の光沢を含む、実施形態１に記載の基材。
【００４４】
実施形態３．第２の低光沢区域は、約２０光沢単位未満である８５度の光沢を含む、実施形態１に記載の基材。
【００４５】
実施形態４．第２の低光沢区域は、約５光沢単位未満である８５度の光沢を含む、実施形態１に記載の基材。
【００４６】
実施形態５．第１の高光沢区域は、約４０光沢単位を超える８５度の光沢を含む、実施形態１〜４のいずれかに記載の基材。
【００４７】
実施形態６．第１の高光沢区域は、約３０光沢単位を超える８５度の光沢を含む、実施形態１〜４のいずれかに記載の基材。
【００４８】
実施形態７．第１の高光沢区域は、約６０光沢単位を超える８５度の光沢を含む、実施形態１〜４のいずれかに記載の基材。
【００４９】
実施形態８．第２の低光沢区域は、第１の高光沢区域の光沢より少なくとも約１０光沢単位低い８５度の光沢を含む、実施形態１〜７のいずれかに記載の基材。
【００５０】
実施形態９．第２の低光沢区域は、第１の高光沢区域の光沢より少なくとも約２０光沢単位低い８５度の光沢を含む、実施形態１〜７のいずれかに記載の基材。
【００５１】
実施形態１０．第２の低光沢区域は、第１の高光沢区域の光沢より少なくとも約４０光沢単位低い８５度の光沢を含む、実施形態１〜７のいずれかに記載の基材。
【００５２】
実施形態１１．第１の高光沢区域は、０．０５マイクロメートル未満の表面粗さＲａを含む、実施形態１〜１０のいずれかに記載の基材。
【００５３】
実施形態１２．第２の低光沢区域は、０．８マイクロメートルを超える表面粗さＲａを含む、実施形態１〜１１のいずれかに記載の基材。
【００５４】
実施形態１３．第１の高光沢区域は、基材の第１の側面上に第１の高光沢巨視的領域を集合的に形成し、第２の低光沢区域は、基材の第１の側面上に第２の低光沢巨視的領域を集合的に形成し、第１の高光沢巨視的領域及び第２の低光沢巨視的領域は一緒になって、可視光が基材の第１の主側面に当たってそこから反射するときに、視覚的に観測可能なパターンを集合的に形成する、実施形態１〜１２のいずれかに記載の基材。
【００５５】
実施形態１４．第１の高光沢巨視的領域及び第２の低光沢巨視的領域は一緒になって、可視光が基材の第１の主側面に当たってそこから反射するときに、観測可能である情報表示部を集合的に形成する、実施形態１３に記載の基材。
【００５６】
実施形態１５．表示部は、ロゴを含む、実施形態１４に記載の基材。
【００５７】
実施形態１６．基材は、長手方向軸を有し、表示部は、基材の長手方向軸に対して約２０〜約７０度の角度に配向される長軸を有する少なくとも１つのテキスト文字列を含む、実施形態１４に記載の基材。
【００５８】
実施形態１７．第１の高光沢巨視的領域及び第２の低光沢巨視的領域は一緒になって、可視光が基材の第１の主側面に当たってそこから反射するときに、観測可能である装飾パターンを集合的に形成する、実施形態１３に記載の基材。
【００５９】
実施形態１８．基材は、約１０％未満の可視光透過率を含む、実施形態１〜１７のいずれかに記載の基材。
【００６０】
実施形態１９．基材は、約４、２、１、及び０．５％未満の可視光透過率を含む基材からなる群から選択される、実施形態１〜１７のいずれかに記載の基材。
【００６１】
実施形態２０．ポリマー基材のポリマー材料は、少なくとも２重量％の不透明化剤を含む、実施形態１〜１９のいずれかに記載の基材。
【００６２】
実施形態２１．ポリマー基材のポリマー材料は、可視光が基材の第１の主側面に当たってそこから反射するときに、基材が容易に認識可能な非白色を表示するように、有効な量の少なくとも１つの着色剤を含む、実施形態１〜２０のいずれかに記載の基材。
【００６３】
実施形態２２．基材のポリマー材料は、半結晶熱可塑性ポリマーである、実施形態１〜２１のいずれかに記載の基材。
【００６４】
実施形態２３．基材は、テープ支持体である、実施形態１〜２２のいずれかに記載の基材。
【００６５】
実施形態２４．テープ支持体の第２の主側面上に配設された感圧接着剤を更に含む、実施形態２３に記載の基材。
【００６６】
実施形態２５．少なくとも１つの物理的微細構造は、微細構造化手切れパターンである、実施形態１〜２４のいずれかに記載の基材。
【００６７】
実施形態２６．少なくとも１つの物理的微細構造は、微細構造化液体保持パターンである、実施形態１〜２４のいずれかに記載の基材。
【００６８】
実施形態２７．少なくとも１つの物理的微細構造は、微細構造化手切れパターン及び微細構造化液体保持パターンを備え、微細構造化手切れパターン及び微細構造化液体保持パターンは、同延かつ交差する、実施形態１〜２４のいずれかに記載の基材。
【００６９】
実施形態２８．第１の高光沢区域と、第２の成形された粗い低光沢区域と、第１及び第２の区域上に重ね合わされる少なくとも１つの物理的微細構造と、を有する、第１の主側面を備えるポリマー基材を製造する方法であって、該方法が、溶融ポリマー押出物の第１の主表面を、第１及び第２の区域並びに物理的微細構造のネガ型を備える第１の成形面と接触させる工程であって、押出物の第１の主表面が、第１の高光沢区域と、第２の成形された粗い低光沢区域と、第１及び第２の区域上に重ね合わされる少なくとも１つの物理的微細構造と、を有する、第１の主側面を備えるポリマー基材を形成するために、第１の成形面に対して成形されるようにする、工程を含む、方法。
【００７０】
本明細書で開示された具体的な代表的構造、特徴、詳細、形態などは、改変すること、及び／又は数多くの実施形態で組み合わせることができることが、当業者には明らかであろう。そのような改変及び組み合わせはすべて、本発明の範囲内にあるものとして発明者らによって想到される。したがって、本発明の範囲は、本明細書に記載される特定の例示的構造に限定されるべきではないが、むしろ少なくとも請求項の言語によって説明される構造、及びそれらの構造に相当する構造にまで拡大する。参照により本明細書に援用したいずれかの文書内での仕様と開示との間の不一致及び矛盾が存在するという点に関して、本仕様書が統制する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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