(57)【要約】【解決手段】強化ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー組成物は、それぞれ特定量のポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物と、難燃剤と、補強充填剤と、を含む。該組成物は、対応するポリ（フェニレンエーテル）組成物と比較して、難燃性、耐熱性および剛性の望ましいバランスを示し、電子写真複写機用フューザーホルダーを含む物品の製造に有用である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって、その合計質量に対して、
第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜９１質量％と；
有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む難燃剤を４〜２５質量％と；
補強充填剤を５〜４０質量％と、を含むことを特徴とする組成物。
【請求項２】
保険業者研究所規格９４「プラスチック材料の燃焼性試験（ＵＬ９４）」の２０ｍｍ垂直燃焼性試験におけるサンプル厚み１．５ｍｍ以下での難燃性等級がＶ−０であり；
ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７に準拠し、応力１．８２ＭＰａおよびサンプル厚６．４ｍｍで求めた熱変形温度が少なくとも１１０℃であり；
ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−０７ｅ１に準拠し、温度２３℃、サンプル厚６．４ｍｍで測定した曲げ弾性率が少なくとも３，５００ＭＰａであることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
さらに第２のポリ（フェニレンエーテル）を５〜９０．５質量％含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物０．５〜５質量％と、前記第２のポリ（フェニレンエーテル）３０〜９０．５質量％と、を含むことを特徴とする請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化１】
2015533925.tif 000074
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化２】
2015533925.tif 000075
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、０．０２５〜５質量％のポリシロキサンを前記組成物に提供することを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記難燃剤は有機リン酸エステルを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の組成物。
【請求項８】
前記難燃剤はホスファゼンを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の組成物。
【請求項９】
前記補強充填剤は、ガラス繊維、炭素繊維、珪灰石、ハロイサイト、粘土、タルク、雲母、ガラスフレーク、固形ガラスビーズ、中空ガラスビーズ、固形セラミックビーズ、中空セラミックビーズおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の組成物。
【請求項１０】
前記補強充填剤はガラス繊維を含むことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の組成物。
【請求項１１】
ゴム変性ポリスチレン、アルケニル芳香族モノマーと共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族モノマーと共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、アクリレートコア−シェル耐衝撃性改良剤およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された耐衝撃性改良剤２〜１０質量％をさらに含むことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の組成物。
【請求項１２】
炭化水素樹脂１〜８質量％をさらに含むことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の組成物。
【請求項１３】
トリヒドロカルビルホスファイト０．０５〜１質量％をさらに含むことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】
線状低密度ポリエチレン０．５〜５質量％をさらに含むことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の組成物。
【請求項１５】
ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含むことを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載の組成物。
【請求項１６】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化３】
2015533925.tif 000076
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化４】
2015533925.tif 000077
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜５質量％含み；
前記組成物は、さらに２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を５０〜７０質量％含み；
前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；
前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；
前記補強充填剤はガラス繊維を含み；
前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；
前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；
前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項１７】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化５】
2015533925.tif 000078
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化６】
2015533925.tif 000079
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；
前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５３〜６３質量％含み；
前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；
前記組成物は、前記難燃剤を１５〜２５質量％含み；
前記補強充填剤はガラス繊維を含み；
前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；
前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含み、ポリオレフィンを３質量％以下含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項１８】
組成物の合計質量に対して、
第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜９１質量％と；
有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む難燃剤を４〜２５質量％と；
補強充填剤を５〜４０質量％と、を含む組成物を含有することを特徴とする物品。
【請求項１９】
前記物品は、電子写真複写機用のフューザーホルダーであることを特徴とする請求項１８に記載の物品。
【請求項２０】
前記組成物は、さらに第２のポリ（フェニレンエーテル）を５〜９０．５質量％含むことを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載の物品。
【請求項２１】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化７】
2015533925.tif 000080
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化８】
2015533925.tif 000081
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；
前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜５質量％含み；
前記組成物は、さらに２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を５０〜７０質量％含み；
前記難燃剤は有機リン酸エステルを含み；
前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；
前記補強充填剤はガラス繊維を含み；
前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；
前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；
前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含むことを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載の物品。
【請求項２２】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化９】
2015533925.tif 000082
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化１０】
2015533925.tif 000083
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；
前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５３〜６３質量％含み；
前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；
前記組成物は、前記難燃剤を１５〜２５質量％含み；
前記補強充填剤はガラス繊維を含み；
前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；
前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含み、ポリオレフィンを３質量％以下含むことを特徴とする請求項１８または請求項１９に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
ポリ（フェニレンエーテル）は、その優れた耐水性、寸法安定性および固有の難燃性で知られるプラスチックの一種である。強度、剛性、耐薬品性および耐熱性などの特性は、他の種々のプラスチックとブレンドすることによって調整でき、例えば、衛生器具、配電盤、自動車部品およびワイヤーやケーブル用の絶縁体などの広範な消費財や工業製品の要件を満たすことができる。
【０００２】
ポリ（フェニレンエーテル）系組成物の一部の用途では、かなりの難燃性が要求される。その例としては、建築産業、運輸産業、エレクトロニクス産業および太陽光発電産業における成形品が挙げられる。ポリ（フェニレンエーテル）は本質的に難燃性だが、耐衝撃性改良剤や流動促進剤などの他の成分とブレンドされることが多く、これらの他の成分によって、得られる組成物の加工特性や機械的特性は向上するものの難燃性は低下する。そのために、ポリ（フェニレンエーテル）とこれらの他の成分とのブレンドには、難燃性添加剤が必要となることが多い。
【０００３】
一部の成形品では、保険業者研究所規格９４「プラスチック材料の燃焼性試験（ＵＬ９４）」の２０ｍｍ垂直燃焼性試験での難燃性等級Ｖ−０が求められる。このＶ−０等級は、難燃剤濃度を上げ、可燃性成分の濃度を低減させたとしても、ポリ（フェニレンエーテル）組成物では達成が困難であり得る。また、Ｖ−０等級が達成可能な場合、耐熱性および剛性の低下を犠牲にしてなされることが多い。
【０００４】
高い耐熱性と剛性を維持しながら、ＵＬ９４Ｖ−０等級を示すポリ（フェニレンエーテル）含有成形用組成物が求められている。
【発明の概要】
【０００５】
一実施形態は、組成物であって、その合計質量に対して、第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物０．５〜９１質量％と；有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む難燃剤４〜２５質量％と；補強充填剤５〜４０質量％と、を含む組成物である。
【０００６】
別の実施形態は、組成物であって、その合計質量に対して、第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物であって、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化１】
2015533925.tif 000002
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、
下式の構造
【化２】
2015533925.tif 000003
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含む反応生成物０．５〜５質量と；２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）５０〜７０質量％と；有機リン酸エステルを含む難燃剤６〜１４質量％と；ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー１〜８質量％と；ガラス繊維１５〜２５質量％と、を含み、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含む組成物である。
【０００７】
別の実施形態は、組成物の合計質量に対して、第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物０．５〜９１質量％と；有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む難燃剤４〜２５質量％と；補強充填剤５〜４０質量％と、を含む組成物を含有する物品である。
【０００８】
これらおよびその他の実施形態について以下詳細に説明する。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明者らは、組成物の合計質量に対して、第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物０．５〜９１質量％と；有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む難燃剤４〜２５質量％と；補強充填剤５〜４０質量％と、を含む組成物によって、ＵＬ９４Ｖ−０等級と、高耐熱性と、高剛性という達成困難な特性組み合わせが提供されることを見出した。具体的には、該組成物の保険業者研究所規格９４「プラスチック材料の燃焼性試験（ＵＬ９４）」の２０ｍｍ垂直燃焼性試験におけるサンプル厚み１．５ｍｍ以下での難燃性等級がＶ−０であり得；ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７に準拠し、応力１．８２ＭＰａおよびサンプル厚６．４ｍｍで求めた熱変形温度が少なくとも１１０℃であり得；ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−０７ｅ１に準拠し、温度２３℃、サンプル厚６．４ｍｍで測定した曲げ弾性率が少なくとも３，５００ＭＰａであり得る。後述の実施例で実証されるように、一部の実施形態では、Ｖ−０等級は、０．７５ｍｍという薄い厚みで達成され得、熱変形温度は、少なくとも１６８℃という高温であり得、曲げ弾性率は、少なくとも６，１７８ＭＰａまでと高くなり得る。一部の実施形態では、該組成物は、１．５ｍｍ厚でのＵＬ９４等級がＶ−０；ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７に準拠し、応力１．８２ＭＰａ、サンプル厚６．４ｍｍで求めた熱変形温度が少なくとも１５０℃；ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−０７ｅ１に準拠し、温度２３℃、サンプル厚６．４ｍｍで測定した曲げ弾性率が少なくとも５，０００ＭＰａ、という特性組み合わせを示す。
【００１０】
本組成物は、ポリ（フェニレンエーテル）ホモポリマー系組成物より優れていることに加えて、ＵＬ９４Ｖ−０等級が必要な用途に使用される代替材料より優れている。例えば、代替となるガラス充填ポリ（エチレンテレフタレート）組成物やガラス充填ポリ（ブチレンテレフタレート）組成物は、Ｖ−０等級を達成するためにハロゲン化難燃性剤を用いることが多いが、本組成物ではハロゲン化難燃性剤は必要ではない。また、結晶性樹脂系であるガラス充填ポリエステル組成物では、非晶性樹脂を利用した本組成物より反り（部分歪み）も大きい。
【００１１】
該組成物は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとポリ（フェニレンエーテル）（取り込まれたポリシロキサンブロックを含まない）とを順に含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物）を含む。簡略化のために、本明細書では、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を「反応生成物」とも呼ぶ。ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物は、一価フェノールとヒドロキシアリール末端ポリシロキサンの混合物の酸化重合で合成される。この酸化重合によって、所望の生成物としてポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーと、副生成物としてポリ（フェニレンエーテル）と、が生成される。本明細書では、該組成物中に任意に存在し、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物からは誘導されない「第２のポリ（フェニレンエーテル）」と区別するために、反応生成物中に存在するこのポリ（フェニレンエーテル）を「第１のポリ（フェニレンエーテル）」とも呼ぶ。ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーから第１のポリ（フェニレンエーテル）を分離することは困難であり、また不要である。従って、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーの両方を含む「ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物」として、本組成物中に取り込まれ得る。
【００１２】
該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックとポリシロキサンブロックを含む。ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、一価フェノールの重合残基である。一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、下式の構造を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含む：
【化３】
2015533925.tif 000004
式中、それぞれの繰り返し単位について、Ｚ１はそれぞれ独立に、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、あるいはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２は、それぞれ独立に水素、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、あるいはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシである。一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）ブロックは、２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル繰り返し単位、すなわち、下式の構造
【化４】
2015533925.tif 000005
を有する繰り返し単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル繰り返し単位あるいはこれらの組み合わせを含む。
【００１３】
該ポリシロキサンブロックは、ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンの残基である。一部の実施形態では、ポリシロキサンブロックは、下式の構造
【化５】
2015533925.tif 000006
（式中、Ｒ１とＲ２は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビルである）を有する繰り返し単位を含み、さらに、下式の構造
【化６】
2015533925.tif 000007
（式中、Ｙは、水素、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルまたはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシであり；Ｒ３とＲ４は、それぞれ独立に水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビルである）を有する末端単位を含む。一部の実施形態では、ポリシロキサン繰り返し単位は、ジメチルシロキサン（−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−）単位を含む。一部の実施形態では、ポリシロキサンブロックは下式の構造を有する：
【化７】
2015533925.tif 000008
式中、ｎは平均で２０〜６０である。
【００１４】
非常に特定的な実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化８】
2015533925.tif 000009
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化９】
2015533925.tif 000010
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含む。
【００１５】
該ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンは、少なくとも１つのヒドロキシアリール末端基を含む。一部の実施形態では、ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンは、単一のヒドロキシアリール末端基を有しており、その場合、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンジブロックコポリマーが形成される。他の実施形態では、ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンは、２つのヒドロキシアリール末端基を有しており、その場合、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンジブロックコポリマーおよびまたはポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサン−ポリ（フェニレンエーテル）トリブロックコポリマーが形成される。また、ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンが３つ以上のヒドロキシアリール末端基を有して、対応する分枝ブロックコポリマーの形成が可能な分岐構造も有し得る。
【００１６】
一部の実施形態では、該ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンは、平均で２０〜８０個の、具体的には２５〜７０個の、より具体的には３０〜６０個の、さらにより具体的には３５〜５０個の、さらにより具体的には４０〜５０個のシロキサン繰り返し単位を含む。ポリシロキサンブロック中のシロキサン繰り返し単位の数は、共重合および単離条件には本質的に影響されないため、ヒドロキシアリール末端ポリシロキサン出発原料中のシロキサン繰り返し単位の数に等しい。その数が分からない場合、ヒドロキシアリール末端ポリシロキサン１分子当たりのシロキサン繰り返し単位の平均数は、シロキサン繰り返し単位に伴う信号強度をヒドロキシアリール末端基に伴う信号強度と比較する核磁気共鳴（ＮＭＲ）法によって求められる。例えば、ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンがオイゲノールキャップ化ポリジメチルシロキサンの場合、ジメチルシロキサン共鳴のプロトン積分とオイゲノールメトキシ基のプロトン積分とを比較するプロトン核磁気共鳴（１Ｈ  ＮＭＲ）法で、シロキサン繰り返し単位の平均数が求められる。
【００１７】
一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物の質量平均分子量は、少なくとも３０，０００原子質量単位である。該反応生成物の質量平均分子量は、例えば３０，０００〜１５０，０００原子質量単位であり、具体的には３５，０００〜１２０，０００原子質量単位であり、より具体的には４０，０００〜９０，０００原子質量単位であり、さらにより具体的には４５，０００〜７０，０００原子質量単位である。一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物の数平均分子量は、１０，０００〜５０，０００原子質量単位であり、具体的には１０，０００〜３０，０００原子質量単位であり、より具体的には１４，０００〜２４，０００原子質量単位である。
【００１８】
一部の実施形態では、該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物の固有粘度は、２５℃のクロロホルム中、ウベローデ粘度計で測定して、少なくとも０．３ｄＬ／ｇである。一部の実施形態では、固有粘度は０．３〜０．５ｄＬ／ｇであり、具体的には０．３１〜０．５ｄＬ／ｇであり、より具体的には０．３５〜０．４７ｄＬ／ｇである。
【００１９】
ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンのブロックコポリマーへの取り込み効率の一指標は、反応生成物中のいわゆるポリ（フェニレンエーテル）「尾部」基が低濃度であることである。２，６−ジメチルフェノールの単独重合において、生成物分子の大部分は、線状生成物分子の一端が３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル「頭部」で終了し、他端が２，６−ジメチルフェノキシ「尾部」で終了する所謂頭部−尾部構造を有する。従って、一価フェノールが２，６−ジメチルフェノールで構成される場合、ポリ（フェニレンエーテル）尾部基は下式の構造を有する：
【化１０】
2015533925.tif 000011
式中、環の３−、４−および５−位置は水素原子で置換されている（すなわち、「２，６−ジメチルフェノキシ」は一価の基を指し、二価の２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル基を含まない）。一価フェノールとヒドロキシアリール末端ポリシロキサンとの共重合では、ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンのブロックコポリマー内への取り込みによって、フェニレンエーテル「尾部」基の濃度は低減するであろう。従って、一部の実施形態では、一価フェノールは２，６−ジメチルフェノールで構成され、該反応生成物は、その質量に対して、０．４質量％以下の、具体的には０．１〜０．４質量％の２，６−ジメチルフェノキシ基を含む。２，６−ジメチルフェノキシ尾部末端基は、線状生成物分子の一端が３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル「頭部」で終了し、他端が２，６−ジメチルフェノキシ「尾部」で終了する頭部−尾部（ヒドロキシ一末端）構造を有するポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）ホモポリマーの特徴を示す。そのために、２，６−ジメチルフェノキシ尾部末端基が低濃度であることは、反応生成物が、濃度が低減したこうした単官能性ホモポリマーと濃度が上昇した所望のポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサン）ブロックコポリマーとを含むことを示している。
【００２０】
該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物はさらに、それ自体が一価フェノールの酸化生成物であるジフェノキノンから誘導された基を含み得る。例えば、一価フェノールが２，６−ジメチルフェノールの場合、ジフェノキノンは、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ジフェノキノンである。共重合の形成相の間、ジフェノキノンは典型的には、対応するビフェニル基として頭部−尾部ポリ（フェニレンエーテル）の「尾部」端部内に取り込まれる。さらなる反応を通じて、末端ビフェニル基は、第１のポリ（フェニレンエーテル）鎖内の内部ビフェニル基になり得る。一部の実施形態では、一価フェノールは２，６−ジメチルフェノールで構成され、反応生成物は、０．１〜２．０質量％の、具体的には１．１〜２．０質量％の２，６−ジメチル−４−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−フェノキシ（「ビフェニル」）基を含む。ビフェニル基は、二官能性（頭部−頭部すなわちヒドロキシル−二末端化）構造内にのみ存在する。そのために、ビフェニル基が低濃度であることは、反応生成物が、濃度が低減したこうした二官能性ホモポリマーと濃度が上昇した所望のポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むことを示している。
【００２１】
該酸化共重合は、反応時間が１１０分以上で行われ得る。該反応時間は、酸素流の開始から終了までの経過時間である。（簡略化のために、本明細書では、「酸素」または「酸素流」が繰り返して記載されるが、空気を含む任意の酸素含有ガスを酸素源として使用し得ることは理解されるであろう。）一部の実施形態では、反応時間は１１０〜３００分であり、具体的には１４０〜２５０分であり、より具体的には１７０〜２２０分である。
【００２２】
該酸化共重合は、モノマー添加完了から酸素流終了までの時間である「形成時間」を含み得る。一部の実施形態では、反応時間は８０〜１６０分の形成時間を含む。一部の実施形態では、形成時間の少なくとも一部の間、反応温度は４０〜６０℃であってもよく、具体的には４５〜５５℃であってもよい。
【００２３】
該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物は、揮発性および不揮発性混入物質を最小化する単離法で溶液から単離できる。一部の実施形態では、反応生成物は、例えば１質量％以下の、具体的には０．２〜１質量％の全揮発性物質を含む。一部の実施形態では、モノマー混合物は、金属（銅またはマンガンなど）を含む触媒の存在下で酸化共重合され、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物は、その質量に対して、１００質量ｐｐｍ以下の、具体的には５〜１００質量ｐｐｍの、より具体的には１０〜５０質量ｐｐｍの、さらにより具体的には２０〜５０質量ｐｐｍの該金属を含む。
【００２４】
ある単離法では、残留するヒドロキシアリール末端ポリシロキサン出発材料をポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物に確実に含ませないようにできる。言いかえれば、これらの単離法では、反応生成物のポリシロキサン含有量は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーのポリシロキサンブロックで本質的に構成されることが保証される。共重合反応終了後、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物は、溶液からのポリ（フェニレンエーテル）の単離として当分野で既知の方法を用いて溶液から単離できる。ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物は、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノールまたはイソプロパノールなどのＣ１−Ｃ６アルカノールの１種または複数種を少なくとも５０質量％含む貧溶媒による析出によって単離できる。イソプロパノールは、未反応のヒドロキシアリール末端ポリシロキサンに対する良好な溶媒であるため、イソプロパノール含有貧溶媒の使用は好都合である。従って、イソプロパノール含有貧溶媒（例えばイソプロパノール単独）を用いた析出およびまたは洗浄によって、単離生成物からヒドロキシアリール末端ポリシロキサンを実質的に除去する。
【００２５】
これらの方法を用いて、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物の合計質量に対して、１．５質量％以下の、具体的には１質量％以下の、より具体的には０．５質量％以下の、さらにより具体的には０．１質量％以下のヒドロキシアリール末端ポリシロキサンを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物が生成できる。
【００２６】
該組成物は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー内で共有結合しているヒドロキシアリール末端ポリシロキサン各１００質量部に対して、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー内で共有結合していないヒドロキシアリール末端ポリシロキサンを１０質量部以下含む。この限度内で、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー内で共有結合していないヒドロキシアリール末端ポリシロキサンの量は、５質量部以下であり得、具体的には３質量部以下であり得、より具体的には２質量部以下であり得、さらにより具体的には１質量部以下であり得る。一部の実施形態では、該組成物は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー内で共有結合していないポリシロキサンを０．１質量％以下含む。
【００２７】
一部の実施形態では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物は、ヒドロキシアリール末端ポリシロキサン出発材料の７５質量％超をポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー内に取り込んでいる。具体的には、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー内に取り込まれたヒドロキシアリール末端ポリシロキサンの量は、少なくとも８０質量％であり得、より具体的には少なくとも８５質量％であり得、さらにより具体的には少なくとも９０質量％であり得、さらにより具体的には少なくとも９５質量％であり得る。
【００２８】
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物の調製、キャラクタリゼーションおよび特性に関するさらなる詳細は、Ｃａｒｒｉｌｌｏらの米国特許第８，０１７，６９７号およびＣａｒｒｉｌｌｏらの同時係属米国特許出願第１３／１６９，１３７号（２０１１年６月２７日出願）に見出され得る。
【００２９】
一部の実施形態では、該組成物は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー内で共有結合しているポリシロキサンを０．０２５〜５質量％含む。言いかえれば、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、全体として、ポリシロキサンの０．０２５〜５質量％を組成物に提供する。一部の実施形態では、共有結合しているポリシロキサンの量は、組成物の合計質量に対して、０．０２５〜１質量％であり、具体的には０．０２５〜０．５質量％である。一部の実施形態では、例えば、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物がイソプロパノール中の析出によって精製される場合などは、組成物のポリシロキサン含有量は、本質的にポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー内に取り込まれたポリシロキサンで構成される。一部の実施形態では、該反応生成物は、その合計質量に対して、１〜８質量％のシロキサン繰り返し単位と、１２〜９９質量％のフェニレンエーテル繰り返し単位と、を含む。これらの範囲内で、シロキサン繰り返し単位の量は、２〜７質量％であり得、具体的には３〜６質量％であり得、より具体的には４〜５質量％であり得；フェニレンエーテル繰り返し単位の量は、９３〜９８質量％であり得、具体的には９４〜９７質量％であり得、より具体的には９５〜９６質量％であり得る。該反応生成物は、比較的少量の非常に低分子量の種を含み得る。従って、一部の実施形態では、該反応生成物は、２５質量％未満の、具体的には５〜２５質量％の、より具体的には７〜２１質量％の分子量が１０，０００原子質量単位未満の分子を含む。一部の実施形態では、分子量が１０，０００原子質量単位未満の分子は、平均で５〜１０質量％の、具体的には６〜９質量％のシロキサン繰り返し単位を含む。
【００３０】
同様に、該反応生成物は、比較的少量の非常に高分子量の種も含み得る。従って、一部の実施形態では、該反応生成物は、２５質量％未満の、具体的には５〜２５質量％の、より具体的には７〜２３質量％の分子量が１００，０００原子質量単位超の分子を含む。一部の実施形態では、分子量が１００，０００原子質量単位超の分子は、平均で３〜６質量％の、具体的には４〜５質量％のシロキサン繰り返し単位を含む。
【００３１】
ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物の非常に特定的な調製手順では、一価フェノールは２，６−ジメチルフェノールであり；ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンは、３５〜６０個のジメチルシロキサン単位を含むオイゲノールキャップ化ポリジメチルシロキサンであり；酸化共重合は反応時間１７０〜２２０分で行われ；ヒドロキシアリール末端ポリシロキサンは、合計質量が２〜７質量％の一価フェノールとヒドロキシアリール末端ポリシロキサンを構成する。
【００３２】
該組成物は、その合計質量に対して、０．５〜９１質量％のポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を含む。一部の実施形態では、反応生成物の量は、３０〜９１質量％であり、具体的には５５〜８５質量％であり、より具体的には６０〜８０質量％であり、さらにより具体的には６４〜７４質量％である。他の実施形態では、反応生成物の量は５２〜８０質量％であり、具体的には５３〜７０質量％であり、より具体的には５３〜６３質量％である。さらに別の実施形態では、反応生成物の量は、５〜２０質量％であり、具体的には５〜１５質量％であり、より具体的には７〜１３質量％である。さらに他の実施形態では、反応生成物の量は０．５〜５質量％であり、具体的には１〜３質量％である。
【００３３】
特に、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物の量が５０質量％未満である一部の実施形態では、組成物中に第２のポリ（フェニレンエーテル）が含まれていることが有利であり得る。本明細書での「第２のポリ（フェニレンエーテル）」は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応からは誘導されないポリ（フェニレンエーテル）を指す。第２のポリ（フェニレンエーテル）は、第１のポリ（フェニレンエーテル）と化学的に同じであっても異なっていてもよい。好適な第１および第２のポリ（フェニレンエーテル）としては、下式の繰り返し構造単位を含むものが挙げられる：
【化１１】
2015533925.tif 000012
式中、Ｚ１は、それぞれ独立にハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子を分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２は、それぞれ独立に水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子を分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである。本明細書での「ヒドロカルビル」は、単独であるいは別の用語の接頭辞、接尾辞またはフラグメントとして使用されたとしても、炭素と水素だけを含む残基を指す。該残基は、脂肪族または芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和あるいは不飽和であってもよい。それはまた、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和および不飽和の炭化水素部分の組み合わせを含んでいてもよい。しかしながら、該ヒドロカルビル残基が置換であると記載された場合、それは任意に、置換残基の炭素と水素員上にヘテロ原子を含んでいてもよい。従って、置換であると特定的に記載された場合、ヒドロカルビル残基は、１個または複数個のカルボニル基、アミノ基、水酸基などを含んでいてもよく、あるいはヒドロカルビル残基の骨格内にヘテロ原子を含んでいてもよい。一例として、Ｚ１は、末端の３，５−ジメチル−１，４−フェニル基と酸化重合触媒のジ−ｎ−ブチルアミン成分との反応で形成されたジ−ｎ−ブチルアミノメチル基であり得る。
【００３４】
一部の実施形態では、第２のポリ（フェニレンエーテル）の固有粘度は、２５℃のクロロホルム中、ウベローデ粘度計で測定して０．２〜１ｄＬ／ｇである。この範囲内で、第２のポリ（フェニレンエーテル）の固有粘度は、０．２〜０．５ｄＬ／ｇであってもよく、具体的には０．２〜０．４ｄＬ／ｇであってもよく、さらにより具体的には０．２５〜０．３５ｄＬ／ｇであってもよい。
【００３５】
一部の実施形態では、第２のポリ（フェニレンエーテル）は、２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル単位、２，３，６−トリメチル−１，４−フェニレンエーテル単位あるいはこれらの組み合わせを含む。一部の実施形態では、第２のポリ（フェニレンエーテル）は、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）を含む。一部の実施形態では、第２のポリ（フェニレンエーテル）は、２５℃のクロロホルム中、ウベローデ粘度計で測定した固有粘度が０．２〜０．４ｄＬ／ｇの、具体的には０．２５〜０．３５ｄＬ／ｇのポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）を含む。
【００３６】
第２のポリ（フェニレンエーテル）が存在する場合、その量は、組成物の合計質量に対して、５〜９０．５質量％であってもよく、具体的には２０〜８０質量％であってもよく、より具体的には５０〜７０質量％であってもよい。
【００３７】
該組成物は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物および任意の第２のポリ（フェニレンエーテル）に加えて、難燃剤を含む。該難燃剤は、有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む。
【００３８】
一部の実施形態では、難燃剤は、有機リン酸エステルを含むか、あるいはこれで構成される。典型的な有機リン酸エステル難燃剤としては、フェニル基、置換フェニル基あるいはこれらの組み合わせを含むリン酸エステル、例えばレゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）などのレゾルシノール系ビス−アリールリン酸エステルおよび、例えばビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）などのビスフェノール系リン酸エステルが挙げられる。一部の実施形態では、有機リン酸エステルは、トリス（アルキルフェニル）ホスフェート（例えば、ＣＡＳ登録番号第８９４９２−２３−９号または同登録番号７８−３３−１号）、レゾルシノールビス、（ジフェニルホスフェート）（ＣＡＳ登録番号第５７５８３−５４−７号）、ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）（ＣＡＳ登録番号第１８１０２８−７９−５号）、トリフェニルホスフェート（ＣＡＳ登録番号第１１５−８６−６号）、トリス（イソプロピルフェニル）ホスフェート（例えば、ＣＡＳ登録番号第６８９３７−４１−７号）およびこれらの組み合わせから選択される。
【００３９】
一部の実施形態では、有機リン酸エステルは、下式のビス−アリールホスフェートを含むか、あるいはこれで構成される：
【化１２】
2015533925.tif 000013
式中、Ｒは、それぞれ独立にＣ１−Ｃ１２アルキレン基であり；Ｒ９とＲ１０は、それぞれ独立にＣ１−Ｃ５アルキル基であり；Ｒ５、Ｒ６およびＲ８は、独立にＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル基であり；Ｒ７は、それぞれ独立にＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル基であり；ｎは１〜２５であり；ｓ１およびｓ２は、独立に０、１または２の整数である。一部の実施形態では、ＯＲ５、ＯＲ６、ＯＲ７およびＯＲ８は、独立にフェノール、モノアルキルフェノール、ジアルキルフェノールまたはトリアルキルフェノールから誘導される。
【００４０】
当業者には容易に理解されるように、該ビス−アリールホスフェートはビスフェノールから誘導される。典型的なビスフェノールとしては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）メタンおよび１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンが挙げられる。一部の実施形態では、該ビスフェノールはビスフェノールＡを含む。
【００４１】
一部の実施形態では、該難燃剤はホスファゼンを含む。ホスファゼンは、下式の構造を有する繰り返し単位を含む化合物である：
【化１３】
2015533925.tif 000014
式中、Ｒ１９は、それぞれ独立にＣ１−Ｃ６アルコキシ、未置換または置換フェノキシあるいは未置換または置換ナフチルオキシである。フェノキシ基またはナフチルオキシ基上に置換基が存在する場合、その置換基は、例えば、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシまたはフェニルであってもよい。
【００４２】
一部の実施形態では、ホスファゼンは、下式の構造を有する環式ホスファゼンを含む：
【化１４】
2015533925.tif 000015
式中、Ｒ１９は上記で定義したものであり、ａは３〜１２であり、具体的には３〜６である。一部の実施形態では、ａは３であり、Ｒ１９は、それぞれ独立に未置換のフェノキシである。
【００４３】
一部の実施形態では、ホスファゼンは、下式の構造を有する線状ポリホスファゼンを含む：
【化１５】
2015533925.tif 000016
式中、Ｒ１９は上記で定義したものであり；ｂは３〜１，０００であり；Ａは、−Ｎ＝Ｐ（Ｏ）（Ｒ１９）または−Ｎ＝Ｐ（Ｒ１９）３であり；Ｂは、−Ｐ（Ｒ１９）４または−Ｐ（Ｏ）（Ｒ１９）２である。
【００４４】
ホスファゼンは、フェニレン基、ビフェニレン基、あるいは下式の構造
【化１６】
2015533925.tif 000017
（式中、Ｘは、Ｃ１−Ｃ６アルキリデン、Ｏ、ＳまたはＳＯ２）を有する基と架橋していてもよい。
【００４５】
環式ホスファゼン、線状ポリホスファゼンおよび架橋ホスファゼンの内の少なくとも２つの混合物が使用できる。一部の実施形態では、ホスファゼンは、その質量に対して、少なくとも８０質量％の環式ホスファゼンを含む。
【００４６】
ホスファゼンの製造方法は既知であり、例えば、（株）伏見製薬所からＲＡＢＩＴＬＥ（登録商標）ＦＰ−１００およびＲＡＢＩＴＬＥ（登録商標）ＦＰ−１１０として；ＩＤ−Ｂｉｏｃｈｅｍ社からＩＤＢ−Ｐｏｒｅｔａｒ−２０１として；および大塚化学（株）からＳＰＢ−１００として、市販されている。
【００４７】
有機リン酸エステル、ホスファゼンまたはこれらの組み合わせの量は、組成物の合計質量に対して、１〜２５質量％であってもよい。一部の実施形態では、有機リン酸エステル、ホスファゼンまたはこれらの組み合わせの量は、４〜１５質量％であり、具体的には４〜１２質量％であり、より具体的には４〜１０質量％である。他の実施形態では、有機リン酸エステル、ホスファゼンまたはこれらの組み合わせの量は、１０〜２５質量％であり、具体的には１５〜２５質量％である。
【００４８】
該難燃剤は、有機リン酸エステルおよびまたはホスファゼンに加えて、さらに任意にジアルキルホスフィネート塩を含んでいてもよい。本明細書での「ジアルキルホスフィネート塩」は、少なくとも１つのカチオンと、少なくとも１つのジアルキルホスフィネートアニオンと、を含む塩を指す。一部の実施形態では、ジアルキルホスフィネート塩は下式の構造を有する：
【化１７】
2015533925.tif 000018
式中、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立にＣ１−Ｃ６アルキルであり；Ｍは、カルシウム、マグネシウム、アルミニウム、亜鉛、アンモニウムまたはヒドロカルビル−置換アンモニウムであり；ｄは２または３である。ＲａおよびＲｂの例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルおよびフェニルが挙げられる。一部の実施形態では、ＲａおよびＲｂはエチルであり、Ｍはアルミニウムであり、ｄは３である（すなわち、ジアルキルホスフィネート塩は、アルミニウムトリス（ジエチルホスフィネート）である）。
【００４９】
一部の実施形態では、ジアルキルホスフィネート塩は微粒子状である。ジアルキルホスフィネート塩粒子の中央粒径（Ｄ５０）は、４０μｍ以下であってもよく、より具体的には３０μｍ以下であってもよく、さらにより具体的には２５μｍ以下であってもよい。また、ジアルキルホスフィネート塩を、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物、第２のポリ（フェニレンエーテル）あるいはこれらの組み合わせなどのポリマーと組み合わせてマスターバッチを形成してもよい。ジアルキルホスフィネート塩マスターバッチは、熱可塑性組成物中の量より多い量のジアルキルホスフィネート塩を含む。ジアルキルホスフィネート塩の組成物の他の成分への添加のためのマスターバッチを採用することによって添加が容易となり、ジアルキルホスフィネート塩の分布が向上し得る。
【００５０】
一部の実施形態では、ジアルキルホスフィネート塩の使用量は、組成物の合計質量に対して、１〜５質量％であり、具体的には１〜３質量％である。有機リン酸エステル、ホスファゼンまたはこれらの組み合わせの量が４質量％未満の場合、ジアルキルホスフィネート塩の量を難燃剤の合計量が少なくとも４質量％とするに十分な量とする。一部の実施形態では、該組成物は、その合計質量に対して、１質量％以下のジアルキルホスフィネート塩を含む。一部の実施形態では、該組成物はジアルキルホスフィネート塩を含まない。
【００５１】
該組成物は、その合計質量に対して、４〜２５質量％の難燃剤を含む。一部の実施形態では、難燃剤の量は、４〜１５質量％であり、具体的には４〜１２質量％であり、より具体的には４〜１０質量％である。他の実施形態では、難燃剤の量は、１０〜２５質量％であり、具体的には１５〜２５質量％である。
【００５２】
該組成物は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物、任意の第２のポリ（フェニレンエーテル）および難燃剤に加えて、補強充填剤を含む。補強充填剤としては、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、珪灰石、ハロイサイト、粘土、タルク、雲母、ガラスフレーク、固形ガラスビーズ、中空ガラスビーズ、固形セラミックビーズ、中空セラミックビーズおよびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、補強充填剤はガラス繊維を含むか、あるいはこれで構成される。
【００５３】
好適なガラス繊維としては、Ｅ、Ａ、Ｃ、ＥＣＲ、Ｒ、Ｓ、ＤおよびＮＥガラス系のもの、および石英系のものが挙げられる。一部の実施形態では、ガラス繊維の径は２〜３０μｍであり、具体的には５〜２５μｍであり、より具体的には１０〜１５μｍである。一部の実施形態では、混合前のガラス繊維の長さは２〜７ｍｍであり、具体的には３〜５ｍｍである。好適なガラス繊維は、例えば、Ｏｗｅｎｓ  Ｃｏｒｎｉｎｇ社、日本電気硝子（株）、ＰＰＧ社およびＪｏｈｎｓ  Ｍａｎｖｉｌｌｅ社などを含む供給者から市販されている。
【００５４】
補強充填剤には、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物との相溶性を向上させるために、任意に接着促進剤が含まれていてもよい。接着促進剤としては、クロム錯体、シラン、チタネート、ジルコアルミネート、プロピレン無水マレイン酸コポリマー、反応性セルロースエステルなどが挙げられる。
【００５５】
補強充填剤の使用量は、組成物の合計質量に対して、５〜４０質量％であってもよい。一部の実施形態では、補強充填剤の量は、８〜３０質量％であり、具体的には１５〜２５質量％である。他の実施形態では、補強充填剤の量は、１０〜３０質量％であり、具体的には１５〜２５質量％である。
【００５６】
該組成物は、さらに任意に耐衝撃性改良剤を含んでいてもよい。耐衝撃性改良剤としては、例えば、ゴム変性ポリスチレン、アルケニル芳香族モノマーと共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族モノマーと共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、アクリレートコア−シェル耐衝撃性改良剤（例えば、架橋ポリ（ブチルアクリレート）コアとグラフト化ポリ（メチルメタクリレート）シェルを有するものなど）、およびこれらの組み合わせが挙げられる。
【００５７】
耐衝撃性改良剤はゴム変性ポリスチレンを含んでいてもよい。ゴム変性ポリスチレンは、ポリスチレンとポリブタジエンを含む。ゴム変性ポリスチレンは、「耐衝撃性ポリスチレン」あるいは「ＨＩＰＳ」とも呼ばれる。一部の実施形態では、ゴム変性ポリスチレンは、その質量に対して、８０〜９６質量％の、具体的には８８〜９４質量％のポリスチレンと、４〜２０質量％の、具体的には６〜１２質量％のポリブタジエンと、を含む。好適なゴム変性ポリスチレンは、例えば、ＳＡＢＩＣ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＨＩＰＳ３１９０として市販されている。
【００５８】
耐衝撃性改良剤は、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマーを含んでいてもよい。簡略化のために、この成分を「未水素化ブロックコポリマー」と呼ぶ。未水素化ブロックコポリマーは、その質量に対して、１０〜９０質量％のポリ（アルケニル芳香族）と、１０〜９０質量％のポリ（共役ジエン）と、を含んでいてもよい。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、低ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーであり、その中でのポリ（アルケニル芳香族）含有量は、該低ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーの質量に対して、１０〜４０質量％未満であり、具体的には２０〜３５質量％であり、より具体的には２５〜３５質量％であり、さらにより具体的には３０〜３５質量％である。他の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、高ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーであり、その中でのポリ（アルケニル芳香族）含有量は、該高ポリ（アルケニル芳香族）含有量未水素化ブロックコポリマーの質量に対して、４０〜９０質量％であり、具体的には５０〜８０質量％であり、より具体的には６０〜７０質量％である。
【００５９】
一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーの質量平均分子量は４０，０００〜４００，０００原子質量単位である。数平均分子量と質量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフィによって、およびポリスチレン標準との比較に基づいて求められる。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーの質量平均分子量は２００，０００〜４００，０００原子質量単位であり、具体的には２２０，０００〜３５０，０００原子質量単位である。他の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーの質量平均分子量は、４０，０００〜２００，０００原子質量単位あり、具体的には４０，０００〜１８０，０００原子質量単位であり、より具体的には４０，０００〜１５０，０００原子質量単位である。
【００６０】
未水素化ブロックコポリマーの調製に用いられるアルケニル芳香族モノマーは下式の構造を有していてもよい：
【化１８】
2015533925.tif 000019
式中、Ｒ１１とＲ１２は、それぞれ独立に水素原子、Ｃ１−Ｃ８アルキル基またはＣ２−Ｃ８アルケニル基を表わし；Ｒ１３とＲ１７は、それぞれ独立に水素原子、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、塩素原子または臭素原子を表わし；Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は、それぞれ独立に水素原子、Ｃ１−Ｃ８アルキル基またはＣ２−Ｃ８アルケニル基を表わし、あるいは、Ｒ１４とＲ１５は、中央の芳香環と共にナフチル基を形成し、あるいは、Ｒ１５とＲ１６は、中央の芳香環と共にナフチル基を形成する。具体的なアルケニル芳香族モノマーとしては、例えば、スチレン、ｐ−クロロスチレンなどのクロロスチレン、α−メチルスチレンおよびｐ−メチルスチレンなどのメチルスチレン、および３−ｔ−ブチルスチレンおよび４−ｔ−ブチルスチレンなどのｔ−ブチルスチレンが挙げられる。一部の実施形態では、アルケニル芳香族モノマーはスチレンである。
【００６１】
未水素化ブロックコポリマーの調製に用いられる共役ジエンはＣ４−Ｃ２０共役ジエンであってもよい。好適な共役ジエンとしては、例えば、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエンおよびこれらの組み合わせが挙げられる。一部の実施形態では、共役ジエンは、１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエンあるいはこれらの組み合わせである。一部の実施形態では、共役ジエンは１，３−ブタジエンで構成される。
【００６２】
未水素化ブロックコポリマーは、（Ａ）アルケニル芳香族化合物から誘導された１つのブロックと、（Ｂ）共役ジエンから誘導された少なくとも１つのブロックと、を含むコポリマーである。ブロック（Ａ）と（Ｂ）の配置としては、リニア構造、グラフト構造、および分枝鎖の有無に拘わらないラジアルテレブロック構造がある。リニアブロックコポリマーには、傾斜型リニア構造および非傾斜型リニア構造がある。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは傾斜型リニア構造を有する。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは非傾斜型リニア構造を有する。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、アルケニル芳香族モノマーがランダムに取り込まれた（Ｂ）ブロックを含む。リニアブロックコポリマー構造には、ジブロック（Ａ−Ｂブロック）構造、トリブロック（Ａ−Ｂ−ＡブロックまたはＢ−Ａ−Ｂブロック）構造、テトラブロック（Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂブロック）構造、ペンタブロック（Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂ−ＡブロックあるいはＢ−Ａ−Ｂ−Ａ−Ｂブロック）構造、および（Ａ）および（Ｂ）を合計で６個以上含むリニア構造などがあり、ここで、各（Ａ）ブロックの分子量は、他の（Ａ）ブロックのそれと同じであっても異なっていてもよく、各（Ｂ）ブロックの分子量は、他の（Ｂ）ブロックのそれと同じであっても異なっていてもよい。一部の実施形態では、該未水素化ブロックコポリマーは、ジブロックコポリマー、トリブロックコポリマーまたはこれらの組み合わせである。
【００６３】
一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエン以外のモノマーの残基を含まない。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとから誘導されたブロックで構成される。未水素化ブロックコポリマーは、これらで形成されたグラフトあるいは他の任意のモノマーで形成されたグラフトを含まない。また、未水素化ブロックコポリマーは炭素原子と水素原子で構成され、従って、ヘテロ原子を含まない。
【００６４】
一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、無水マレイン酸などの１つまたは複数の酸官能化剤の残基を含む。
【００６５】
一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレントリブロックコポリマーを含む。一部の実施形態では、未水素化ブロックコポリマーは、ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレントリブロックコポリマーを含む。
【００６６】
未水素化ブロックコポリマーの調製方法は当分野で既知であり、また、未水素化ブロックコポリマーは市販されている。市販の未水素化ブロックコポリマーの具体的なものとしては、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫｒａｔｏｎ（登録商標）Ｄ１１０１およびＤ１１０２の商品名で販売されているポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレントリブロックコポリマー；およびＣｈｅｖｒｏｎ  Ｐｈｉｌｌｉｐｓ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社からＫ−ＲＥＳＩＮ（登録商標）ＫＫ３８、ＫＲ０１、ＫＲ０３およびＫＲ０５の商品名で販売されているスチレン−ブタジエンラジアルテレブロックコポリマーが挙げられる。
【００６７】
耐衝撃性改良剤は、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーであってもよい。簡略化のために、この成分を「水素化ブロックコポリマー」と呼ぶ。水素化ブロックコポリマーでは、共役ジエンから誘導されたブロック（Ｂ）中の脂肪族不飽和基含有量が、水素化によって少なくとも部分的に低減している点を除いて、水素化ブロックコポリマーは未水素化ブロックコポリマーと同じである。一部の実施形態では、（Ｂ）ブロック中の脂肪族不飽和は、少なくとも５０％、具体的には少なくとも７０％、より具体的には少なくとも９０％低減されている。
【００６８】
市販の水素化ブロックコポリマーの具体的なものとしては、Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ（登録商標）Ｇ１７０１およびＧ１７０２として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）ジブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ（登録商標）Ｇ１６４１、Ｇ１６５０、Ｇ１６５１、Ｇ１６５４、Ｇ１６５７、Ｇ１７２６、Ｇ４６０９、Ｇ４６１０、ＧＲＰ−６５９８、ＭＤ−６９３２Ｍ、ＭＤ−６９３３およびＭＤ−６９３９として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社ＫＲＡＴＯＮ（登録商標）Ｇ１７３０として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ（登録商標）Ｇ１９０１、Ｇ１９２４およびＭＤ−６６８４として販売されている無水マレイン酸−グラフト化ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；Ｋｒａｔｏｎ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ社からＫＲＡＴＯＮ（登録商標）ＭＤ−６６７０として販売されている無水マレイン酸−グラフト化ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン−スチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；旭化成ケミカルズ（株）からＴＵＦＴＥＣ（登録商標）Ｈ１０４３として販売されている、ポリスチレン含有量が６７質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；旭化成ケミカルズ（株）からＴＵＦＴＥＣ（登録商標）Ｈ１０５１として販売されている、ポリスチレン含有量が４２質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；旭化成ケミカルズ（株）からＴＵＦＴＥＣ（登録商標）Ｐ１０００およびＰ２０００として販売されているポリスチレン−ポリ（ブタジエン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；（株）クラレからＳＥＰＴＯＮ（登録商標）Ｓ８１０４として販売されている、ポリスチレン含有量が６０質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；（株）クラレからＳＥＰＴＯＮ（登録商標）Ｓ４０４４、Ｓ４０５５、Ｓ４０７７およびＳ４０９９として販売されているポリスチレン−ポリ（エチレン−エチレン／プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー；および（株）クラレからＳＥＰＴＯＮ（登録商標）Ｓ２１０４として販売されている、ポリスチレン含有量が６５質量％のポリスチレン−ポリ（エチレン−プロピレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーが挙げられる。
【００６９】
一部の実施形態では、耐衝撃性改良剤は、ポリスチレン含有量が２５〜３５質量％、質量平均分子量が２００，０００〜４００，０００原子質量単位のポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーである。
【００７０】
耐衝撃性改良剤が存在する場合、その使用量は、組成物の合計質量に対して、２〜１０質量％であってもよく、具体的には３〜６質量％であってもよい。
【００７１】
該組成物は、さらに任意に炭化水素樹脂を含んでいてもよい。炭化水素樹脂の例としては、脂肪族炭化水素樹脂、水素化脂肪族炭化水素樹脂、脂肪族／芳香族炭化水素樹脂、水素化脂肪族／芳香族炭化水素樹脂、脂環式炭化水素樹脂、水素化脂環式樹脂、脂環式／芳香族炭化水素樹脂、水素化脂環式／芳香族炭化水素樹脂、水素化芳香族炭化水素樹脂、テルペン樹脂、水素化テルペン樹脂、テルペン−フェノール樹脂、ロジンおよびロジンエステル、水素化ロジンおよびロジンエステル、およびこれらの混合物が挙げられる。本明細書での「水素化」は、炭化水素樹脂に言及される場合、完全に水素化された樹脂、実質的に水素化された樹脂および部分的に水素化された樹脂を含む。好適な芳香族樹脂としては、芳香族変性脂肪族樹脂、芳香族変性脂環式樹脂、および芳香族含有量が１〜３０質量％の水素化芳香族炭化水素樹脂が挙げられる。上記の何れの樹脂も、当分野で既知の方法を用い、不飽和エステルまたは無水物でグラフト化されていてもよい。こうしたグラフト化によって、樹脂の特性は向上させられる。一部の実施形態では、炭化水素樹脂は水素化芳香族炭化水素樹脂である。
【００７２】
好適な炭化水素樹脂は市販されており、例えば、ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から販売されているＥＭＰＲ（登録商標）１００、１０１、１０２、１０３、１０４、１０５、１０６、１０７、１０８、１０９、１１０、１１６、１１７および１１８樹脂とＯＰＰＥＲＡ（登録商標）樹脂；荒川化学工業（株）（日本）から販売されているＡＲＫＯＮ（登録商標）Ｐ１４０、Ｐ１２５、Ｐ１１５、Ｍ１１５およびＭ１３５とＳＵＰＥＲ  ＥＳＴＥＲ（登録商標）ロジンエステル；Ａｒｉｚｏｎａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から販売されているＳＹＬＶＡＲＥＳ（登録商標）ポリテルペン樹脂、スチレン化テルペン樹脂およびテルペンフェノール樹脂；Ａｒｉｚｏｎａ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から販売されているＳＹＬＶＡＴＡＣ（登録商標）およびＳＹＬＶＡＬＩＴＥ（登録商標）ロジンエステル；Ｃｒａｙ  Ｖａｌｌｅｙ社から販売されているＮＯＲＳＯＬＥＮＥ（登録商標）脂肪族芳香族樹脂；ＤＲＴ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から販売されているＤＥＲＴＯＰＨＥＮＥ（登録商標）テルペンフェノール樹脂およびＤＥＲＣＯＬＹＴＥ（登録商標）ポリテルペン樹脂；Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から販売されているＥＡＳＴＯＴＡＣ（登録商標）樹脂、ＰＩＣＣＯＴＡＣ（登録商標）樹脂、ＲＥＧＡＬＩＴＥ（登録商標）およびＲＥＧＡＬＲＥＺ（登録商標）水素化脂環式／芳香族樹脂、およびＰＩＣＣＯＬＹＴＥ（登録商標）およびＰＥＲＭＡＬＹＮ（登録商標）ポリテルペン樹脂、ロジンおよびロジンエステル；Ｇｏｏｄｙｅａｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から販売されているＷＩＮＧＴＡＣＫ（登録商標）樹脂；Ｎｅｖｉｌｌｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社から販売されているクマロン／インデン樹脂；日本ゼオン（株）から販売されているＱＵＩＮＴＯＮＥ（登録商標）酸変性Ｃ５樹脂、Ｃ５／Ｃ９樹脂および酸変性Ｃ５／Ｃ９樹脂；およびヤスハラケミカル（株）から販売されているＣＬＥＡＲＯＮ（登録商標）水素化テルペン樹脂が挙げられる。一部の実施形態では、炭化水素樹脂は水素化テルペン樹脂である。一部の実施形態では、炭化水素樹脂は飽和多環脂環式炭化水素樹脂である。
【００７３】
炭化水素樹脂の軟化点は、ＡＳＴＭ  Ｅ２８に準拠して測定して、少なくとも１２０℃であり得る。具体的には、軟化点は１２０〜１８０℃であり得、より具体的には１３０〜１７０℃であり得、さらにより具体的には１４０〜１６０℃であり得る。一部の実施形態では、炭化水素樹脂は、水素化脂環式炭化水素樹脂、水素化テルペン樹脂あるいはこれらの組み合わせを含む。一部の実施形態では、炭化水素樹脂は、軟化点が１２０〜１３５℃の水素化脂環式炭化水素樹脂を含む。こうした樹脂の例としては、荒川化学工業（株）から販売されている、軟化点が約１２５℃のＡＲＫＯＮ（登録商標）Ｐ１２５が挙げられる。一部の実施形態では、炭化水素樹脂は、軟化点が１３５〜１４５℃の水素化脂環式炭化水素樹脂を含む。こうした樹脂の例としては、荒川化学工業（株）から販売されている、軟化点が約１４０℃のＡＲＫＯＮ（登録商標）Ｐ１４０が挙げられる。一部の実施形態では、炭化水素樹脂は、軟化点が１４５〜１６０℃の水素化テルペン樹脂を含む。こうした樹脂の例としては、ヤスハラケミカル（株）から販売されているＣＬＥＡＲＯＮ（登録商標）Ｐ１５０が挙げられる。
【００７４】
炭化水素樹脂が存在する場合、その使用量は、組成物の合計質量に対して、１〜８質量％であってもよく、具体的には２〜６質量％であってもよい。
【００７５】
該組成物は、さらに任意にトリヒドロカルビルホスファイトを含んでいてもよい。トリヒドロカルビルホスファイトは、Ｐ（ＯＲ１８）３（Ｒ１８：それぞれ独立にＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビル）の一般構造を有する。一部の実施形態では、Ｒ１８は、それぞれ独立にしてＣ６−Ｃ１８アルキルである。他の実施形態では、少なくとも１つのＲ１８はＣ６−Ｃ１８アリールである。一部の実施形態では、Ｒ１８は、それぞれ独立に未置換または置換Ｃ６−Ｃ１８アリールである。好適なトリヒドロカルビルホスファイトとしては、例えば、トリオクチルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリドデシルホスファイト、フェニルジデシルホスファイト、デシルジフェニルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリトリルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなど、およびこれらの組み合わせが挙げられる。好適なトリヒドロカルビルホスファイトとしてはさらに、例えば、３，９−ビス［２，４−ビス（１，１−ジメチルエチル）フェノキシ］−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン（ＣＡＳ登録番号第２６７４１−５３−７号）（Ｃｉｂａ社からＩＲＧＡＦＯＳ（登録商標）１２６の商品名で市販されている）などのスピロジホスファイトが挙げられる。一部の実施形態では、アリールホスファイトは、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（ＣＡＳ登録番号第３１５７０−０４−４号）を含む。一部の実施形態では、アリールホスファイトは、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト（ＣＡＳ登録番号第２６７４１−５３−７号）を含む。
【００７６】
トリヒドロカルビルホスファイトが存在する場合、その使用量は、組成物の合計質量に対して、０．０５〜１質量％であってもよく、具体的には０．１〜０．５質量％であってもよい。
【００７７】
該組成物は、さらに任意に線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）を含んでいてもよい。線状低密度ポリエチレンは、エチレンと、１−ブテン、１−ヘキセンまたは１−オクテンなどの長鎖オレフィンと、のコポリマーである。一部の実施形態では、線状低密度ポリエチレンは、エチレンと１−ブテンとのコポリマーである。線状低密度ポリエチレンの密度は、典型的には約０．９２ｇ／ｃｍ３である。線状低密度ポリエチレンが存在する場合、その使用量は、組成物の合計質量に対して、０．５〜５質量％であってもよく、具体的には１〜３質量％であってもよい。
【００７８】
該組成物は、さらに任意に熱可塑性分野で既知の添加剤を１種または複数種含んでいてもよい。組成物はさらに任意に、例えば、安定剤、離型剤、潤滑剤、加工助剤、滴下防止剤、成核剤、ＵＶカット剤、染料、顔料、酸化防止剤、帯電防止剤、発泡剤、鉱油、金属不活性化剤、ブロッキング防止剤など、およびこれらの組み合わせから選択された添加剤を含んでいてもよい。こうした添加剤が存在する場合、その合計使用量は、組成物の合計質量に対して、典型的には５質量％以下であり、具体的には４質量％以下であり、より具体的には３質量％以下である。
【００７９】
該組成物は任意に、必要なもの以外のポリマーを含まなくてもよい。例えば、該組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含んでいてもよい。一部の実施形態では、該組成物は、４質量％以下の、具体的には３質量％以下の、より具体的には２質量％以下のポリオレフィンを含む。一部の実施形態では、該組成物は、線状低密度ポリエチレン以外のポリオレフィンを１質量％以下含む。他の実施形態では、該組成物は、任意のポリオレフィンを１質量％以下含む。
【００８０】
該組成物の１つの利点は、同様の製品用途で利用されるガラス充填ポリエステル組成物に典型的に採用されるハロゲン化難燃性剤を使用せずに、ＵＬ  ９４Ｖ−０等級を達成できることである。従って、該組成物は、組成物の合計質量に対して、０．１質量％以下の、具体的には０．０１質量％以下のハロゲンを含んでいてもよい。一部の実施形態では、該組成物はハロゲンフリーである。
【００８１】
該組成物の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化１９】
2015533925.tif 000020
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化２０】
2015533925.tif 000021
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を６４〜７４質量％含み；前記難燃剤は有機リン酸エステルを含み（あるいは、有機リン酸エステルで構成され）；前記組成物は、前記難燃剤を４〜１０質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み（あるいは、ガラス繊維で構成され）；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを２〜８質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含む。
【００８２】
該組成物の別の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化２１】
2015533925.tif 000022
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化２２】
2015533925.tif 000023
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５３〜６３質量％含み；前記難燃剤は有機リン酸エステルを含み（あるいは、有機リン酸エステルで構成され）；前記組成物は、前記難燃剤を１５〜２５質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み（あるいは、ガラス繊維で構成され）；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含む。
【００８３】
該組成物の別の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化２３】
2015533925.tif 000024
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化２４】
2015533925.tif 000025
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５〜１５質量％含み；前記組成物はさらに、２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を４７〜６７質量％含み；前記難燃剤は有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含む。
【００８４】
該組成物の別の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化２５】
2015533925.tif 000026
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化２６】
2015533925.tif 000027
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜５質量％含み；該組成物は、さらに２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を５０〜７０質量％含み；前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含む。
【００８５】
該組成物の別の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化２７】
2015533925.tif 000028
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化２８】
2015533925.tif 000029
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜５質量％含み；前記組成物は、さらに２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を５０〜７０質量％含み；前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含む。
【００８６】
該組成物の別の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化２９】
2015533925.tif 000030
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化３０】
2015533925.tif 000031
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５３〜６３質量％含み；前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を１５〜２５質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含み、ポリオレフィンを３質量％以下含む。
【００８７】
該組成物は、物品の成形に有用である。従って、一実施形態は、組成物の合計質量に対して、第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜９１質量％と；有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む難燃剤４〜２５質量％と；補強充填剤５〜４０質量％と、を含む組成物を含有する物品である。該組成物は、フューザーホルダーなどの電子写真複写機部品および、太陽電池端子ボックスとコネクタ、インバーター筐体、自動車電気コネクタ、継電器および充電カプラなどの電気部品用の部品を含む物品の成形に特に有用である。本組成物で製造されるもの以外でも、そうした物品は既知であり、それらの製造方法も既知である。例えば、Ｈｉｒａｏｋａらの米国特許第５，４９９，０８７号には、電子写真複写機用のフューザーホルダーが記載されている。こうした物品の形成に好適な方法としては、単層および複層シート押出、射出成形、ブロー成形、フィルム押出、異型押出、引抜、圧縮成形、熱成形、圧力成形、ハイドロホーミング、真空成形などが挙げられる。これらの物品製造法の組み合わせも使用できる。一部の実施形態では、該物品は射出成形で形成される。
【００８８】
上記の組成変形例は、該組成物を含む物品にも同様に当てはまる。
【００８９】
該物品の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化３１】
2015533925.tif 000032
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化３２】
2015533925.tif 000033
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を６４〜７４質量％含み；前記難燃剤は有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を４〜１０質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを２〜８質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含む。
【００９０】
該物品の別の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化３３】
2015533925.tif 000034
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化３４】
2015533925.tif 000035
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５３〜６３質量％含み；前記難燃剤は有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を１５〜２５質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含む。
【００９１】
該物品の別の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化３５】
2015533925.tif 000036
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化３６】
2015533925.tif 000037
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５〜１５質量％含み；前記組成物は、さらに２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を４７〜６７質量％含み；前記難燃剤は有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含む。
【００９２】
該物品の別の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化３７】
2015533925.tif 000038
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化３８】
2015533925.tif 000039
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜５質量％含み；前記組成物は、さらに２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を５０〜７０質量％含み；前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含む。
【００９３】
該物品の別の非常に特定的な実施形態では、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化３９】
2015533925.tif 000040
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化４０】
2015533925.tif 000041
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５３〜６３質量％含み；前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を１５〜２５質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルをそれぞれ１質量％以下含み、ポリオレフィンを３質量％以下含む。
【００９４】
本発明は少なくとも以下の実施形態を含む。
【００９５】
実施形態１：組成物であって、その合計質量に対して、第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物０．５〜９１質量％と；有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む難燃剤４〜２５質量％と；補強充填剤５〜４０質量％と、を含む組成物。
【００９６】
実施形態２：保険業者研究所規格９４「プラスチック材料の燃焼性試験（ＵＬ９４）」の２０ｍｍ垂直燃焼性試験におけるサンプル厚み１．５ｍｍ以下での難燃性等級がＶ−０であり；ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７に準拠し、応力１．８２ＭＰａおよびサンプル厚６．４ｍｍで求めた熱変形温度が少なくとも１１０℃であり；ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−０７ｅ１に準拠し、温度２３℃、サンプル厚６．４ｍｍで測定した曲げ弾性率が少なくとも３，５００ＭＰａである実施形態１に記載の組成物。
【００９７】
実施形態３：さらに第２のポリ（フェニレンエーテル）を５〜９０．５質量％含む実施形態１または実施形態２に記載の組成物。
【００９８】
実施形態４：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物０．５〜５質量％と、前記第２のポリ（フェニレンエーテル）３０〜９０．５質量％と、を含む実施形態３に記載の組成物。
【００９９】
実施形態５：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化４１】
2015533925.tif 000042
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化４２】
2015533925.tif 000043
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含む実施形態１乃至実施形態４のいずれかに記載の組成物。
【０１００】
実施形態６：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、０．０２５〜５質量％のポリシロキサンを前記組成物に提供する実施形態１乃至実施形態５のいずれかに記載の組成物。
【０１０１】
実施形態７：前記難燃剤は有機リン酸エステルを含む実施形態１乃至実施形態６のいずれかに記載の組成物。
【０１０２】
実施形態８：前記難燃剤はホスファゼンを含む実施形態１乃至実施形態７のいずれかに記載の組成物。
【０１０３】
実施形態９：前記補強充填剤は、ガラス繊維、炭素繊維、珪灰石、ハロイサイト、粘土、タルク、雲母、ガラスフレーク、固形ガラスビーズ、中空ガラスビーズ、固形セラミックビーズ、中空セラミックビーズおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択される実施形態１乃至実施形態８のいずれかに記載の組成物。
【０１０４】
実施形態１０：前記補強充填剤はガラス繊維を含む実施形態１乃至実施形態９のいずれかに記載の組成物。
【０１０５】
実施形態１１：ゴム変性ポリスチレン、アルケニル芳香族モノマーと共役ジエンとの未水素化ブロックコポリマー、アルケニル芳香族モノマーと共役ジエンとの水素化ブロックコポリマー、アクリレートコア−シェル耐衝撃性改良剤およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された耐衝撃性改良剤２〜１０質量％をさらに含む実施形態１乃至実施形態１０のいずれかに記載の組成物。
【０１０６】
実施形態１２：炭化水素樹脂１〜８質量％をさらに含む実施形態１乃至実施形態１１のいずれかに記載の組成物。
【０１０７】
実施形態１３：トリヒドロカルビルホスファイト０．０５〜１質量％をさらに含む実施形態１乃至実施形態１２のいずれかに記載の組成物。
【０１０８】
実施形態１４：線状低密度ポリエチレン０．５〜５質量％をさらに含む実施形態１乃至実施形態１３のいずれかに記載の組成物。
【０１０９】
実施形態１５：ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含む実施形態１乃至実施形態１４のいずれかに記載の組成物。
【０１１０】
実施形態１６：組成物であって、その合計質量に対して、第１のポリ（フェニレンエーテル）と、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーであって、下式の構造
【化４３】
2015533925.tif 000044
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化４４】
2015533925.tif 000045
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含むブロックコポリマーと、を含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物０．５〜５質量％と；２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）５０〜７０質量％と；有機リン酸エステルを含む難燃剤６〜１４質量％と；ポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマー１〜８質量％と；ガラス繊維１５〜２５質量％と、を含み、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含む組成物。
【０１１１】
実施形態１６ａ：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化４５】
2015533925.tif 000046
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化４６】
2015533925.tif 000047
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜５質量％含み；前記組成物は、さらに２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を５０〜７０質量％含み；前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含む実施形態１に記載の組成物。
【０１１２】
実施形態１７：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化４７】
2015533925.tif 000048
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化４８】
2015533925.tif 000049
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５３〜６３質量％含み；前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を１５〜２５質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含み、ポリオレフィンを３質量％以下含む実施形態１に記載の組成物。
【０１１３】
実施形態１８：組成物の合計質量に対して、第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物０．５〜９１質量％と；有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む難燃剤４〜２５質量％と；補強充填剤５〜４０質量％と、を含む組成物を含有する物品。
【０１１４】
実施形態１９：前記物品は、電子写真複写機用のフューザーホルダーである実施形態１８に記載の物品。
【０１１５】
実施形態２０：前記組成物は、さらに第２のポリ（フェニレンエーテル）を５〜９０．５質量％含む実施形態１８または実施形態１９に記載の物品。
【０１１６】
実施形態２１：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化４９】
2015533925.tif 000050
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化５０】
2015533925.tif 000051
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜５質量％含み；前記組成物は、さらに２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を５〜７０質量％含み；前記難燃剤は有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含む実施形態１８に記載の物品。
【０１１７】
実施形態２２：前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化５１】
2015533925.tif 000052
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化５２】
2015533925.tif 000053
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５３〜６３質量％含み；前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；前記組成物は、前記難燃剤を１５〜２５質量％含み；前記補強充填剤はガラス繊維を含み；前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含み、ポリオレフィンを３質量％以下含む実施形態１８に記載の物品。
【０１１８】
本明細書で開示された範囲はすべて終点を含むものであり、該終点は互いに独立に組み合わせできる。本明細書で開示した範囲はそれぞれ、この開示範囲内の任意の点またはサブ範囲の開示を構成する。
【０１１９】
以下の非限定的実施例によって、本発明をさらに例証する。
【０１２０】
（比較実施例１〜１５）
これらの比較実施例では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物ではなく、ポリ（フェニレンエーテル）ホモポリマーを用いた。組成物の調製に用いた成分を表１に要約する。
【０１２１】
【表１−１】
2015533925.tif 000054
【０１２２】
【表１−２】
2015533925.tif 000055
【０１２３】
３０ｍｍＷｅｒｎｅｒ  ＆  Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ  ＺＳＫ二軸押出機を回転数３５０ｒｐｍ、スループット１８ｋｇ／Ｈｒ（４０ポンド／Ｈｒ）で作動させ、バレル設定温度を供給口からダイまで２４０℃／２６０℃／２９０℃／２９０℃／２９０℃として樹脂組成物を混合した。ガラス繊維は押出機の下流側で添加し、他のすべての固形成分は供給口で添加した。また、液状難燃剤（Ｂｕｔ−ＴＰＰまたはＢＰＡＤＰ）は、供給口とガラス繊維供給場所間のポートで注入した。混合樹脂はストランドカットしてペレットとした。
【０１２４】
熱変形温度および曲げ特性のＡＳＴＭ測定用の試験物品は、バレル温度２８８〜３１０℃（５５０〜５９０°Ｆ）、金型温度約８８℃（約１９０°Ｆ）とした１２０トンＶａｎＤｏｒｎ射出成形機で射出成形した。１．０ｍｍ厚または１．５ｍｍ厚のフレームバーは、バレル温度２９９〜３２１℃（５７０〜６１０°Ｆ）、金型温度８８〜９９℃（１９０〜２１０°Ｆ）とした８０トンＶａｎＤｏｒｎ射出成形機で射出成形した。
【０１２５】
射出成形フレームバーの難燃性は、保険業者研究所規格９４「プラスチック材料の燃焼性試験（ＵＬ９４）」の２０ｍｍ垂直燃焼性試験に準拠して求めた。試験前に、１．０ｍｍ厚または１．５ｍｍ厚のフレームバーを、温度２３℃、相対湿度５０％で少なくとも２４時間状態調節した。ＵＬ９４  ２０ｍｍ垂直燃焼性試験では、１０枚のフレームバーを１セットとして試験した。各バーについて、火炎を印加後に除去し、自己消火までに要した時間（第１残炎時間、ｔ１）を記録した。その後、火炎を再度印加・除去し、自己消火までに要した時間（第２残炎時間、ｔ２）と、火炎後赤熱時間（残赤熱時間、ｔ３）を記録した。Ｖ−０等級を達成するためには、個々の試験片それぞれの残炎時間ｔ１、ｔ２が１０秒以内でなければならず；１０個の試験片すべての残炎時間の合計（１０個の試験片すべてのｔ２＋ｔ１）が１００秒以内でなければならず；個々の試験片それぞれの第２残炎時間＋残赤熱時間（ｔ２＋ｔ３）が３０秒以内でなければならず；また、いずれの試験片も保持クランプまで燃焼あるいは赤熱してはならず、また、燃焼粒子又は液滴によって綿指標が点火されてはならない。Ｖ−１等級を達成するためには、個々の試験片それぞれの残炎時間ｔ１、ｔ２が３０秒以内でなければならず；１０個の試験片すべての残炎時間の合計（１０個の試験片すべてのｔ２＋ｔ１）が５００秒以内でなければならず；個々の試験片それぞれの第２残炎時間＋残赤熱時間（ｔ２＋ｔ３）が６０秒以内でなければならず；また、いずれの試験片も保持クランプまで燃焼あるいは赤熱してはならず、また、燃焼粒子又は液滴によって綿指標が点火されてはならない。Ｖ−２等級を達成するためには、個々の試験片それぞれの残炎時間ｔ１、ｔ２が３０秒以内でなければならず；１０個の試験片すべての残炎時間の合計（１０個の試験片すべてのｔ２＋ｔ１）が２５０秒以内でなければならず；個々の試験片それぞれの第２残炎時間＋残赤熱時間（ｔ２＋ｔ３）が６０秒以内でなければならず；また、いずれの試験片も保持クランプまで燃焼あるいは赤熱してはならないが、綿指標は、燃焼粒子または液滴によって添加されてもよい。Ｖ−２等級を達成しない組成物は不合格とした。
【０１２６】
熱変形温度（ＨＤＴ）（℃）は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７に準拠し、６．４ｍｍ厚の棒（３．２ｍｍ厚と明記した場合を除く）、試験方向エッジワイズ方向、支点間距離１００ｍｍ（方法Ｂ）、応力１．８２ＭＰａ、変形０．２５ｍｍ示度、加熱速度２℃／分、１組成物当たり３試験片の条件で求めた。曲げ弾性率（ＭＰａ）と曲げ破断応力（ＭＰａ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−０７ｅ１に準拠し、温度２３℃、６．４ｍｍ厚の棒、支点間距離１０１．６ｍｍ、試験速度２．５４ｍｍ／分（０．１インチ／分；手順Ａ）、１組成物当たり３試験片の条件で求めた。
【０１２７】
組成物と結果を表２に示す。成分量の単位は、組成物の合計質量に対する質量％である。
【０１２８】
表２の結果から、１．５ｍｍ厚のバーでの難燃性等級Ｖ−０の達成は、難燃剤濃度が非常に高く（２１．００質量％以上）、従って熱変形温度が低い（１１２℃以下）比較実施例１〜３に限定されることがわかる。１．０ｍｍ厚での難燃性等級Ｖ−０は、熱変形温度が１０６℃と低い比較実施例１だけに観察された。
【０１２９】
【表２−１】
2015533925.tif 000056
【０１３０】
【表２−２】
2015533925.tif 000057
【０１３１】
【表２−３】
2015533925.tif 000058
【０１３２】
（比較実施例１６〜２３）
ポリ（フェニレンエーテル）ホモポリマーと水素化ブロックコポリマーＳＥＢＳを用いて、８つの比較実施例を調製した。これらの実施例は、熱変形温度が少なくとも１５０℃、ガラス繊維補強材が少なくとも１０％の組成物では、１．５ｍｍ厚でのＶ−０等級達成は実現不可能である（対応する未充填の組成物（比較実施例１６および２０）はＶ−０難燃性を有するものの）ことを示している。発明的組成物が示す特性バランスと比較して、未充填の比較実施例１６および２０では、曲げ弾性率が不足しており、充填された比較実施例１７〜１９および２１〜２３では、少なくともＵＬ９４等級が不足している。
【０１３３】
【表３−１】
2015533925.tif 000059
【０１３４】
【表３−２】
2015533925.tif 000060
【０１３５】
（実施例１〜６、比較実施例２４、２５）
これらの発明的実施例および比較実施例では、水素化ブロックコポリマーＳＥＢＳと組み合わせたポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーの使用について例証する。発明的実施例１〜６はすべて、熱変形温度が少なくとも１５５℃であり、１．５ｍｍ厚でのＵＬ９４等級がＶ−０であり、曲げ弾性率が３，５００ＭＰａ超である。比較実施例２４と２５は未充填であり、熱変形温度、曲げ弾性率および曲げ強度が実質的に低い。
【０１３６】
【表４−１】
2015533925.tif 000061
【０１３７】
【表４−２】
2015533925.tif 000062
【０１３８】
（実施例７〜１５、比較実施例２６）
これらの発明的実施例および比較実施例では、溶融流動性の改善手段について例証する。
【０１３９】
メルトボリュームフローレート（ＭＶＲ）（ｃｍ３／１０分）は、ＡＳＴＭ  Ｄ１２３８−０４に準拠し、温度３００℃、負荷５ｋｇ、自動計時（手順Ｂ）、キャピラリ径２．０９５５ｍｍ、キャピラリ長８．００ｍｍ、試験片形状ペレット、試験前の試験片の状態調節７０℃×１時間、１組成物当たり１サンプルについて５回測定の条件で求めた。
【０１４０】
表５の結果から、発明的組成物は、高い熱変形温度と１．５ｍｍ厚でのＵＬ９４等級Ｖ−０を維持しながら、溶融流動性を向上させるように改質できることがわかる。発明的実施例１３は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーの濃度が低減しても、まだ１．５ｍｍでＶ−０等級が得られることを示している。発明的実施例１５では、混合充填剤の補強材の使用について例証する。この実施例からも、炭化水素樹脂流動促進剤（実施例１０〜１５）およびまたはＡＯ６２６などのホスファイト酸化防止剤の使用によって、溶融流動性が向上させられることがわかる。炭化水素樹脂またはホスファイト酸化防止剤のいずれも含まない発明的実施例７では、溶融流動性が比較的低い。比較実施例２６は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物ではなく、ポリ（フェニレンエーテル）ホモポリマーを含む場合、難燃剤の濃度が高くても、１．５ｍｍ厚でＶ−０難燃性等級は得られないことを再び示している。
【０１４１】
【表５−１】
2015533925.tif 000063
【０１４２】
【表５−２】
2015533925.tif 000064
【０１４３】
（実施例１６〜１９）
これらの発明的実施例は、水素化ブロックコポリマーを削除することによって、熱変形温度がさらに高くなることを示している。
【０１４４】
【表６】
2015533925.tif 000065
【０１４５】
（実施例２０、２１、比較実施例２７、２８）
すべて２０％ガラス繊維強化材を含むこれらの発明的実施例と比較実施例は、ポリ（フェニレンエーテル）ホモポリマーではなく、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物の使用に伴う難燃性の向上は、耐熱性を犠牲にすることなく得られることを示している。また、比較実施例２８は、比較実施例２７に対して、ＨＩＰＳ濃度が低減し、難燃剤とポリ（フェニレンエーテル）ホモポリマーが増加しているものの、１．５ｍｍ厚でＶ−０難燃性能を得るには不十分であることを示している。
【０１４６】
【表７】
2015533925.tif 000066
【０１４７】
（実施例２２、２３、比較実施例２９、３０）
すべて３０％ガラス繊維強化材を含むこれらの発明的実施例と比較実施例は、ポリ（フェニレンエーテル）ホモポリマーではなく、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物の使用に伴う難燃性の向上は、耐熱性を実質的に犠牲にすることなく得られることをさらに示している。また、比較実施例３０は、比較実施例２９に対して、ＨＩＰＳ濃度が低減し、難燃剤とポリ（フェニレンエーテル）ホモポリマーが増加しているものの、１．５ｍｍ厚でＶ−０難燃性能を得るには不十分であることも示している。
【０１４８】
【表８】
2015533925.tif 000067
【０１４９】
（実施例２４〜２６、比較実施例３１〜３６）
これらの発明的実施例および比較実施例では、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーを含む２０％ガラス繊維強化組成物では、熱変形温度１１０℃超を維持しながら、０．７５ｍｍ厚でＵＬ９４等級Ｖ−０を達成できることも実証された。比較実施例３６はＶ−０等級を達成したが、熱変形温度が不足した。
【０１５０】
【表９−１】
2015533925.tif 000068
【０１５１】
【表９−２】
2015533925.tif 000069
【０１５２】
（実施例２７〜４３、比較実施例３７〜３９）
これらの実施例は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５質量％という少量含む組成物によって、１．５ｍｍ厚でＵＬ９４Ｖ−０等級が得られることを示している。さらに、第１のポリ（フェニレンエーテル）（該ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物から誘導されたもの）と第２のポリ（フェニレンエーテル）（別に添加されたもの；実施例２８〜４３参照）とを含む組成物を示している。
【０１５３】
ノッチ付アイゾット（Ｊ／ｍ）とノッチなしアイゾッド（Ｊ／ｍ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ２５６−０８に準拠し、温度２５℃、ハンマーエネルギー２フィート−ポンド（２．７１Ｊ）、棒の横断面寸法３．２ｍｍ×１２．７ｍｍの条件で求めた。曲げ弾性率（ＭＰａ）、曲げ降伏点応力（ＭＰａ）および曲げ破断応力（ＭＰａ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−０７ｅ１に準拠し、温度２３℃、６．４ｍｍ厚の棒、支点間距離１０１．６ｍｍ、試験速度２．５４ｍｍ／分（０．１インチ／分；手順Ａ）、１組成物当たり３試験片の条件で求めた。引張弾性率（ＭＰａ）、引張破断応力（ＭＰａ）および引張破断伸び率（％）は、ＡＳＴＭ  Ｄ６３８−０８に準拠し、温度２３℃、厚みが３．２ｍｍのタイプＩ棒、ゲージ長５０ｍｍ、試験速度５ｍｍ／分の条件で求めた。
【０１５４】
これらの結果は、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜４０質量％含む組成物の１．５ｍｍ厚でのＵＬ９４等級はＶ−０であることを実証している。すべてのサンプルの物性は測定していないが、得られた結果から、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を２〜４０質量％含む組成物はさらに、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７に準拠し、応力１．８２ＭＰａ、サンプル厚６．４ｍｍの条件で求めた熱変形温度が少なくとも１５０℃であり、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−０７ｅ１に準拠し、温度２３℃、サンプル厚６．４ｍｍの条件で測定した曲げ弾性率が少なくとも５，０００ＭＰａであることがわかる。ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーを含まない比較実施例３７と３８および、ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーをわずか０．４質量％含む比較実施例３９では、１．５ｍｍ厚でＵＬ９４Ｖ−０等級は達成されない。
【０１５５】
【表１０−１】
2015533925.tif 000070
【０１５６】
【表１０−２】
2015533925.tif 000071
【０１５７】
【表１０−３】
2015533925.tif 000072
【０１５８】
【表１０−４】
2015533925.tif 000073
【手続補正書】
【提出日】平成27年8月7日(2015.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
組成物であって、その合計質量に対して、
第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜９１質量％と；
有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む難燃剤を４〜２５質量％と；
補強充填剤を５〜４０質量％と、を含むことを特徴とする組成物。
【請求項２】
さらに第２のポリ（フェニレンエーテル）を５〜９０．５質量％含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物０．５〜５質量％と、前記第２のポリ（フェニレンエーテル）３０〜９０．５質量％と、を含むことを特徴とする請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化１】
2015533925.tif 000084
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化２】
2015533925.tif 000085
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜５質量％含み；
前記組成物は、さらに２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を５０〜７０質量％含み；
前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；
前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；
前記補強充填剤はガラス繊維を含み；
前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；
前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；
前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化３】
2015533925.tif 000086
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化４】
2015533925.tif 000087
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；
前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５３〜６３質量％含み；
前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；
前記組成物は、前記難燃剤を１５〜２５質量％含み；
前記補強充填剤はガラス繊維を含み；
前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；
前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含み、ポリオレフィンを３質量％以下含むことを特徴とする請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
組成物の合計質量に対して、
第１のポリ（フェニレンエーテル）とポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーとを含むポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜９１質量％と；
有機リン酸エステル、ホスファゼンあるいはこれらの組み合わせを含む難燃剤を４〜２５質量％と；
補強充填剤を５〜４０質量％と、を含む組成物を含有することを特徴とする物品。
【請求項７】
前記物品は、電子写真複写機用のフューザーホルダーであることを特徴とする請求項６に記載の物品。
【請求項８】
前記組成物は、さらに第２のポリ（フェニレンエーテル）を５〜９０．５質量％含むことを特徴とする請求項６または請求項７に記載の物品。
【請求項９】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化５】
2015533925.tif 000088
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化６】
2015533925.tif 000089
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；
前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を０．５〜５質量％含み；
前記組成物は、さらに２，６−ジメチルフェノールのホモポリマーを含む第２のポリ（フェニレンエーテル）を５０〜７０質量％含み；
前記難燃剤は有機リン酸エステルを含み；
前記組成物は、前記難燃剤を６〜１４質量％含み；
前記補強充填剤はガラス繊維を含み；
前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；
前記組成物は、さらにポリスチレン−ポリ（エチレン−ブチレン）−ポリスチレントリブロックコポリマーを１〜８質量％含み；
前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含むことを特徴とする請求項６または請求項７に記載の物品。
【請求項１０】
前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマーは、下式の構造
【化７】
2015533925.tif 000090
を有するフェニレンエーテル繰り返し単位を含むポリ（フェニレンエーテル）ブロックと、下式の構造
【化８】
2015533925.tif 000091
（式中、ｎは３０〜６０）を有するポリシロキサンブロックと、を含み；
前記組成物は、前記ポリ（フェニレンエーテル）−ポリシロキサンブロックコポリマー反応生成物を５３〜６３質量％含み；
前記難燃剤は前記有機リン酸エステルを含み；
前記組成物は、前記難燃剤を１５〜２５質量％含み；
前記補強充填剤はガラス繊維を含み；
前記組成物は、前記補強充填剤を１５〜２５質量％含み；
前記組成物は、ポリアミドとポリエステルそれぞれを１質量％以下含み、ポリオレフィンを３質量％以下含むことを特徴とする請求項６または請求項７に記載の物品。
【国際調査報告】
2015533925.tif 000092
2015533925.tif 000093