(57)【要約】  本発明は、少なくとも１つのポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートを含む少なくとも１つの層を含み、低い位相差およびそのために低い応力複屈折を有し、その光学特性が理由で、光電子デバイス、例えばディスプレイおよびタッチパネルにおける使用に適当であるフィルム、ならびにかかるフィルムの製造方法およびその使用に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのポリ-またはコポリカーボネートを含む少なくとも１つの層を含む基礎フィルムを含む被覆フィルムであって、基礎フィルムは、
−  １００ｎｍ未満の位相差および
−  ２００ｎｍ〜２０μｍの表面粗度を有するマット側および
−  ２００μｍ未満の表面粗度を有する他方側および
−  マット側上にコーティング、ここでは、それにより前記コーティングの表面が２００ｎｍ未満の表面粗度を有する、
を有することを特徴とする、被覆フィルム。
【請求項２】
コーティングはナノ粒子を含むことを特徴とする、請求項１に記載の被覆フィルム。
【請求項３】
５５０ｎｍの波長における基礎フィルムおよびコーティングの屈折率の差は、０．０４未満、好ましくは０．０２未満、より好ましくは０．０１５未満であることを特徴とする、請求項１または２に記載の被覆フィルム。
【請求項４】
基礎フィルムは、５０ｎｍ未満、好ましくは１０ｎｍ未満の位相差を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の被覆フィルム。
【請求項５】
基礎フィルムにおけるポリ-またはコポリカーボネートは、１４０℃以上、好ましくは１７５℃以上のガラス転移温度Ｔｇを有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の被覆フィルム。
【請求項６】
ジヒドロキシアリール化合物として式（Ｉａ）：
【化１】
2015515507.tif 000013
〔式中、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して水素、ハロゲン、好ましくは塩素または臭素、Ｃ１〜Ｃ８-アルキル、Ｃ５〜Ｃ６-シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１０-アリール、好ましくはフェニル、およびＣ７〜Ｃ１２-アラルキル、好ましくはフェニル-Ｃ１〜Ｃ４-アルキル、好ましくはベンジルを表し、
ｍは、４〜７の整数、好ましくは４または５を表し、
Ｒ３およびＲ４は、それぞれのＸに対して個別に選択されてよく、互いに独立して水素、またはＣ１〜Ｃ６-アルキルを表し、
Ｘは、炭素を表し、
ここで、少なくとも１つの原子Ｘにおいて、好ましくは１または２つの原子Ｘにおいて、特には１つのみの原子Ｘにおいて、Ｒ３およびＲ４は同時にアルキルを表す〕
のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンから調製された単位を含むポリ-またはコポリカーボネートを含むことを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の被覆フィルム。
【請求項７】
式（Ｉａ）のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンから調製された単位は、式（Ｉａ−１）ないし（Ｉａ−３）：
【化２】
2015515507.tif 000014
【化３】
2015515507.tif 000015
【化４】
2015515507.tif 000016
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して水素、ハロゲン、好ましくは塩素または臭素、Ｃ１〜Ｃ８-アルキル、Ｃ５〜Ｃ６-シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１０-アリール、好ましくはフェニル、およびＣ７〜Ｃ１２-アラルキル、好ましくはフェニル-Ｃ１〜Ｃ４-アルキル、特にベンジル、特に好ましくは水素を表す〕
のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンから調製された単位であることを特徴とする、請求項６に記載の被覆フィルム。
【請求項８】
式（Ｉａ）のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンから調製された単位を含むポリ-またはコポリ-カーボネートは、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-3,3,5-トリメチル-シクロヘキサンから調製された単位を含むポリ-またはコポリカーボネート、好ましくは式（Ｉａ）のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンとして1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-3,3,5-トリメチル-シクロヘキサンおよび更なるジヒドロキシアリール化合物として2,2-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-プロパンから調製された単位を含むコポリカーボネートであることを特徴とする、請求項６または７に記載の被覆フィルム。
【請求項９】
コーティングは、ナノ粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物から、好ましくはナノ粒子を含むアクリレート系放射線硬化性コーティング組成物から製造されたコーティングであることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の被覆フィルム。
【請求項１０】
−  少なくとも１つのポリ-またはコポリカーボネートを含む少なくとも１つの層を有する基礎フィルムであって、ここで基礎フィルムは１００ｎｍ未満の位相差を有し、マット側は２００ｎｍ〜２０μｍの表面粗度を有し、もう一方の側は２００ｎｍ未満の表面粗度を有する、基礎フィルムを、押出または共押出により、プラスチック溶融物を押出し、または共押出し、次にそれを２つのローラー間で圧延することによって製造され、ここで、その一方のローラーは鋼表面を有し、他方のローラーは弾性表面を有し、
−  次に、そうして製造された基礎フィルムを、マット側において、コーティング組成物を用いて被覆し、ここでコーティングは、乾燥および任意の更なる硬化後に２００ｎｍ未満の粗さを有する
ことを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の被覆フィルムの製造方法。
【請求項１１】
被覆は、ナノ粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物、好ましくは１以上のアクリレートを含む放射線硬化性コーティング組成物を用いて行われ、ここで、放射線による硬化が、コーティング組成物の塗布および乾燥後にさらに行われることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
弾性表面を有するローラーは、ゴム表面を有するローラーであることを特徴とする、請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
光電子デバイスにおける、請求項１〜９のいずれかに記載の被覆フィルムの使用。
【請求項１４】
ディスプレイまたはタッチパネルにおける、請求項１〜９のいずれかに記載の被覆フィルムの使用。
【請求項１５】
請求項１〜９の少なくとも１つに記載の少なくとも１つの被覆フィルムを含む光電子デバイス、好ましくはディスプレイまたはタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低い位相差およびそのために低い応力複屈折を有するフィルムに関する。このフィルムは、少なくとも１つのポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートを含む少なくとも１つの層を含み、その光学特性のために、光電子デバイス、例えばディスプレイおよびタッチパネルにおける使用に適当であり、ならびに本発明は、かかるフィルムの製造方法およびその使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイおよびタッチパネルにおけるプラスチックフィルムの使用に対して、ディスプレイおよびタッチパネルの機能性を損なうのを避けるために、極めて優れた光学特性が必要である。一方では、必要なフィルムの全透過率、透明度および透過率ヘイズ（透過率ヘイズ）に対して高く要求されている。他方では、プラスチックフィルムの低い位相差およびそのために低い応力複屈折は、ディスプレイデバイスにおいて特に興味深くもある。例えば液晶ディスプレイは、映像を形成するために偏光を利用しており、一方、OLEDディスプレイは、周囲光下におけるディスプレイの可読性を改善するために偏光フィルターを利用する。複屈折性材料において、光はその偏光の配向に応じて異なる伝播速度を有する。この現象は位相差と表される。ある結果として、偏光の配向は、複屈折の程度に応じて変わるであろう。LCDまたはOLED等のディスプレイにおいて、位相差の程度を正確に制御することが非常に重要であるが、これは、あらゆる望ましくない複屈折が、望ましくない輝度偏りをもたらすためである。したがって、適合させたまたは低い複屈折を有する材料の使用が好ましい。
【０００３】
従来のフィルムの位相差の程度は、用いる材料およびフィルムの製造方法に依る。ポリエチレンテレフタラート（PET）およびポリエチレンナフタレート（PEN）等の材料は、半結晶性であるその性質により高い位相差を含む。さらに、かかる材料は一般に、機械においてフィルムを横方向に伸ばす際に二軸配向される。この二軸配向により、材料の異方性がもたらされ、位相差が増加もし、応力複屈折と呼ばれる。かかるフィルムにおける位相差の全体のレベルはかなり高く、かかるフィルムは、液晶ディスプレイスタック内で用いることができない。
【０００４】
ポリカーボネート等の非晶質ポリマーは、結晶性領域のラグにより、それ自体、より低い位相差を有する。しかし、溶融キャスト押出によって製造されたプラスチックフィルムは、ディスプレイまたはタッチパネルにおける使用のためのフィルムの透明度およびヘイズの要求に合わせるために、両側において平滑で光沢のある表面が直接達成される場合に特に、増加した位相差およびそのために応力複屈折の不利な点を有することが多い。
【０００５】
押出法による低い位相差およびそれ故に応力複屈折を有するフィルムの製造方法は、同じく当業者に原理上すでに既知であり、DE 39 11 218 A1に記載されている。DE 39 11 218 A1に記載の方法によってフィルムを製造するために、押出し、次に研削されラッカー処理された弾性ローラーおよび高光沢鋼ローラーの間で圧延することによって、または押出し、次にフィルムのマット化側において同じ弾性材料の溶融物を用いて、研削された弾性ローラーおよび高光沢鋼ローラーの間で圧延し、再度、研削された弾性ローラーおよび高光沢鋼ローラーの間でそれを圧延（被覆フィルムの高光沢側は弾性材料のローラーに向く）ことによって製造されたフィルムを被覆することによって、熱可塑性プラスチックからフィルムを製造することが特に好ましい。この方法はDE 39 11 218 A1に詳細に記載されている。しかし、DE 39 11 218 A1に開示される方法の別案は、非常に複雑であり、そのため不利でもある。一方、弾性ゴムローラーのラッカー処理を行わなければならず、かかるラッカー処理されたローラーは非常に繊細である。損傷したラッカーを新しくするための交換が、頻繁に必要であり、製造の停止をもたらし、さらに、製品の均一な品質を確保する際に問題をもたらし得る。他方で、別の方法の別例において、更なる押出工程および更なる圧延を行わなければならず、これは、極めて複雑な方法を表し、さらにフィルムの光学特性を損ない得る。したがって、DE 39 11 218 A1による方法は、ディスプレイまたはタッチパネル用途のための優れた光学特性を有するフィルムの製造に対して好ましくない。
【０００６】
別例は、ポリマー溶液からフィルムをキャストすることである。例えば、ポリカーボネートフィルムの溶媒キャスト溶解は、多量の塩素化溶媒、例えば塩化メチレン中において少量のポリマーを希釈し、この溶液をキャリアフィルム上に注ぎ、次に物理的に乾燥することにおいて行うことができる。しかし、溶媒キャスト製造方法は、通常、溶融キャスト押出フィルムより費用がかかり、職業上および環境上の危険と関連する。さらに、フィルムから溶媒残余分を完全に除去する問題がある場合がある。フィルム中に残存するかかる溶媒残余分は、かかる残余分がかかる装置の操作期間中にフィルムから出る場合に特に、今度はフィルムの光学特性、およびさらにディスプレイまたはタッチパネルの機能に悪影響を有し得る。
【０００７】
そのため、その光学特性が理由で、例えばディスプレイまたはタッチパネルにおける使用に適当であるプラスチックフィルムに対する持続した要求がある。特に、単純な方法で製造することができ、さらに、良好な全透過率、透過率ヘイズ、透明度および低い位相差に対する要件にさらに合致できるかかるフィルムに対する要求がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】独国特許出願公開第３９１１２１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、本発明にある目的は、かかるプラスチックフィルムを提供することであった。更なる目的は、かかるプラスチックフィルムの適当な製造方法を見出すことであった。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
驚くべきことに、この目的は、少なくとも１つのポリ-またはコポリカーボネートを含む少なくとも１つの層を含む基礎フィルムを含む被覆フィルムであって、基礎フィルムは、
−  １００ｎｍ未満の位相差および
−  ２００ｎｍ〜２０μｍの表面粗度を有するマット側および
−  ２００ｎｍ未満の表面粗度を有する他方側および
−  マット側上にコーティング、ここでそれにより前記コーティングの表面が２００ｎｍ未満の表面粗度を有する、
を有することを特徴とする、被覆フィルムによって達成された。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明による表面粗度は、個々の表面、例えばコーティングならびに基礎フィルムの平滑な、またはマット側のRa値（平均粗度）を意味する。
【００１２】
コーティングならびに基礎フィルムの平滑側（２００ｎｍ未満の表面粗度を有する）のRa値（平均粗度）としての表面粗度は、DIN EN ISO 4287に従って、例えばContour GT-KO光学的表面観測記録装置を用いて測定することができる。
【００１３】
基礎フィルムのマット側のRa値としての表面粗度は、DIN EN ISO 4287に従って、例えばGT-KO光学的表面観測記録装置を用いて測定することができる。
【００１４】
基礎フィルムのマット側−粗面とも言われることがある−は、好ましくは２００ｎｍ〜１０μｍ、特に好ましくは２００ｎｍ〜６μｍの表面粗度に対するRa値を有する。
【００１５】
基礎フィルムの他方の側は、好ましくは１５０ｎｍ未満、より好ましくは１００ｎｍ未満、非常に好ましくは５０ｎｍ未満の表面粗度（Ra値）を有する平滑な表面である。かかる平滑な表面は、光沢表面とも言われる。
【００１６】
基礎フィルムは、好ましくは５０ｎｍ未満、特に好ましくは１０ｎｍ未満の位相差を有する。
【００１７】
本発明による位相差は、平均位相差に対する値を意味する。平均位相差の測定は、ASTM D4093-95に従ってIlis GmbHの旋光計Ilis StrainMatic（登録商標）を用いることによって行うことができる。
【００１８】
好ましくは、本発明による被覆フィルムにおいて、５５０ｎｍの波長における基礎フィルムおよびコーティングの屈折率の差は、０．０４未満、より好ましくは０．０２未満、非常に好ましくは０．０１５未満である。
【００１９】
コーティングまたは基礎フィルムの屈折率の測定は、例えば、Metricon 2010/M Prism Couplerを用いて行うことができる。
【００２０】
本発明によるフィルムは、低い位相差およびそれ故に低い応力複屈折を有し、それによって、光の偏光への悪影響が避けられ、優れた全透過率、透明度および透過率ヘイズを有する。特に、プラスチック材料としてのポリ-またはコ-ポリカーボネートの使用は、例えば、全透過率、透明度および透過率ヘイズへの好影響を有し、ならびに良好な色度座標を有する。異なる屈折率および透過する光の生じる屈折によって引き起こされる悪影響がそれによって避けられる。驚くべきことに、コーティングの相当の表面粗度下において、基礎フィルムおよびコーティングの屈折率の間のかかる低い差を有する本発明による被覆フィルム−指数を合わせたコーティングを有するフィルムとも言われる−は、基礎フィルムおよびコーティングの屈折率の間のかかる低い差を有しない本発明によるかかるフィルム（指数を合わせていないコーティングを有するフィルム）と比較して改善された透明度を示す。
【００２１】
好ましくは、コーティングは、ナノ粒子を含み、より好ましくは２００ｎｍ未満、非常に特に好ましくは１００ｎｍ未満、好ましい実施態様においては５０ｎｍ未満の粒度d50を有するナノ粒子を含む。非常に好ましい実施態様において、ナノ粒子は、１０〜４０ｎｍの粒度を有するナノ粒子である。
【００２２】
粒度d50は、動的光散乱によってZetasizer Nano ZS90を用いて測定することができる。
【００２３】
有機および無機ナノ粒子の両方が、ナノ粒子として適当である。しかし、ナノ粒子は、好ましくは無機ナノ粒子、特に好ましくは酸化物ナノ粒子である。本発明によるフィルムのコーティングにおける使用に適当なナノ粒子の例は、任意にドープされた酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化セリウム、酸化イットリウムおよび酸化アルミナである。本発明の好ましい実施態様において、亜鉛ドープ酸化錫、フッ素ドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、リンドープ酸化錫、アンチモンドープ酸化錫の粒子がナノ粒子として用いられる。
【００２４】
ナノ粒子は、乾燥コーティングにおいて、コーティング組成物の固体含有量に基づいて、好ましくは10〜80重量％の量、特に好ましくは20〜60重量％の量で含まれる。
【００２５】
コーティングは、放射線硬化したコーティングまたはポリウレタンまたはエポキシ樹脂に基づくコーティングであり得る。放射線硬化したコーティング、特にアクリレートに基づくものが好ましい。
【００２６】
放射線硬化したコーティングは、好ましくは放射線硬化性ポリマーおよび／またはモノマーを含むコーティング組成物から得ることができる。
【００２７】
適当な放射線架橋性ポリマーは、特に、電磁放射によって、例えばUV線、電子ビーム、X線またはガンマ線によって、好ましくはUVまたは電子ビーム放射によって架橋し得るポリマーである。特に好ましくは、放射線によって架橋し得るエチレン性不飽和基を有するポリマーが挙げられる。かかるエチレン性不飽和基は、例えばアクリレート、メタクリレート、ビニルエーテル、アリルエーテルおよびマレイミド基であってよい。適当なエチレン性不飽和ポリマーは、例えばおよび好ましくは、（メタ）アクリレート化ポリ（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリレート化オイルおよび不飽和ポリエステルである（R. Schwalm、UV Coatings、2007年、Elsevier、第93〜139頁）。特に好ましいエチレン性不飽和ポリマーは、（メタ）アクリレート化ポリ（メタ）アクリレートまたはポリウレタン（メタ）アクリレートである。
【００２８】
適当な放射線架橋性モノマーは、特に、電磁放射によって、例えばUV線、電子ビーム、X線またはガンマ線によって、好ましくはUVまたは電子ビーム放射によって架橋し得るモノマーである。それは、好ましくは不飽和モノマーである。不飽和モノマーは、好ましくは、アクリレートまたはメタクリレート、好ましくはC1〜C20-アルキルアクリレートまたはC1〜C20-アルキルメタクリレート、ビニル芳香族化合物、好ましくはC1〜C20-ビニル芳香族化合物、例えばスチレン、ビニルトルエン、α-ブチルスチレンまたは4-n-ブチルスチレン等、カルボン酸のビニルエステル、好ましくはC1〜C20-カルボン酸のビニルエステル、例えばビニルラウレート、ビニルステアレート、ビニルプロピオネートおよびビニルアセテート等、ビニルエーテル、好ましくはC1〜C20-アルコールのビニルエーテル、例えばビニルメチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル、ビニルヘキシルエーテルまたはビニルオクチルエーテル等、不飽和ニトリル、例えばアクリルニトリルまたはメタクリロニトリル等、または１以上の二重結合、好ましくは１または２つの二重結合を有するアルケン、好ましくは１以上の二重結合、好ましくは１または２つの二重結合を有するC2〜C20-アルケン、例えばエチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエンまたはイソプレン等であってよい。放射線架橋性モノマーは、特に好ましくはアクリレートまたはメタクリレート、好ましくはC1〜C20-アルキルアクリレートまたはC1〜C20-アルキルメタクリレートである。
【００２９】
かかるアクリレートまたはメタクリレート、好ましくはC1〜C20-アルキルアクリレートまたはC1〜C20-アルキルメタクリレートの適当な例は、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n-ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert-ブチルアクリレート、2-エチル-ヘキシルアクリレート、イソデシルアクリレート、n-ラウリルアクリレート、C12〜C15-アルキルアクリレート、n-ステアリルアクリレート、n-ブトキシエチルアクリレート、ブトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、2-フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシピロピルアクリレート、2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、メタンジオールジアクリレート、グリセロールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、2-ブチル-2-エチル-1,3-プロパンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、グリセロールトリアクリレート、1,2,4-ブタントリオールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびその対応するメタクリレートである。アクリレートおよびメタクリレートとしてさらに適当であるのは、アルコキシ化、好ましくはエトキシ化した、上記のアクリレートおよびメタクリレートである。
【００３０】
基礎フィルムを被覆するために用いられるコーティング組成物は、好ましくは、少なくとも１つの適当な光開始剤を含む。光開始剤は、架橋性ポリマーに共有結合することもできる。放射線化学的誘起重合は、好ましくは４００ｎｍ〜１ｐｍの波長を有する放射線、例えばUV線、電子ビーム、X線またはガンマ線等によって行われる。
【００３１】
UV放射を用いる場合、硬化は、光開始剤の存在下において開始される。光開始剤では、原理上、２つの種類、単分子タイプ（I）および２分子タイプ（II）の間に区別される。適当なタイプ（I）系は、芳香族ケトン化合物、例えば第３級アミンと組み合わせたベンゾフェノン、アルキルベンゾフェノン、4,4'-ビス（ジメチルアミノ）-ベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、アントロンおよびハロゲン化ベンゾフェノン、または上記のタイプの混合物等である。また適当であるのは、タイプ（II）の開始剤であり、例えばベンゾインおよびその由来物、ベンジルケタール、アシルホスフィンオキシド、2,4,6-トリメチル-ベンゾイル-ジフェニルホスフィンオキシド、ビスアシルホスフィンオキシド、フェニルグリオキシル酸エステル、カンファキノン、α-アミノアルキルフェノン、α,α-ジアルコキシ-アセトフェノンおよびα-ヒドロキシアルキルフェノンである。容易に水性分散体に組み込むことができる光開始剤が好ましい。かかる製品は、例えばIrgacure（登録商標）500（ベンゾフェノンおよび（1-ヒドロキシシクロヘキシル）フェニルケトンの混合物、BASF SE、Ludwigshafen、DE）、Irgacure（登録商標）819 DW（フェニルビス-（2,4,6-トリメチルベンゾイル）-ホスフィンオキシド、BASF SE、Ludwigshafen、DE）、Esacure（登録商標）KIP EM（オリゴ-[2-ヒドロキシ-2-メチル-1-[4-（1-メチルビニル）-フェニル]-プロパノン]、Lamberti、Aldizzate、伊国）である。これらの化合物の混合物を用いてもよい。
【００３２】
コーティングの表面は、２００ｎｍ未満、好ましくは１５０ｎｍ未満、より好ましくは１００ｎｍ未満、非常に好ましくは５０ｎｍ未満の粗度を有する。
【００３３】
この表面は、同じく平滑な表面である。基礎フィルムのマット表面の粗度は、コーティングによって極めて平らにされ、その結果、本発明による被覆フィルムは両側において平滑な表面を有する。
【００３４】
基礎フィルムは、少なくとも１つのポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネート（ポリ-またはコ-ポリカーボネートとも言われる）を含む少なくとも１つの層を含む。基礎フィルムは、１層または多層フィルムであってよい。多層フィルムの場合、１層または１より多い層は、少なくとも１つのポリ-またはコ-ポリカーボネートを含んでよい。フィルムは、好ましくは１層のフィルムである。
【００３５】
少なくとも１つのポリ-またはコ-ポリカーボネートを含む層は、１以上のポリ-またはコ-ポリカーボネートを含んでよいが、ポリ-またはコ-ポリカーボネートに加えて更なるプラスチックを含んでもよい。しかし、好ましくは、少なくとも１つのポリ-またはコ-ポリカーボネートを含む層は、50重量％より多く、特に好ましくは70重量％より多く、非常に特に好ましくは80重量％より多くのポリ-またはコ-ポリカーボネートをプラスチックとして含む。特に好ましい実施態様において、少なくとも１つのポリ-またはコ-ポリカーボネートを含む層は、１以上のポリ-またはコ-ポリカーボネートから実質的になり、必要に応じて、プラスチック組成物の全重量に基づいて少量の、好ましくは5重量％未満の、特に好ましくは1重量％未満の添加剤をさらに含む。
【００３６】
芳香族ポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートは、好ましくはポリ-またはコ-ポリカーボネートとして適当である。
【００３７】
ポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートは、既知の態様で直鎖状または分岐状であってよい。
【００３８】
これらのポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートの調製は、ジフェノール、炭酸由来物、必要に応じて連鎖停止剤および必要に応じて分岐剤から、界面重縮合または溶融重縮合による既知の方法で行うことができる。かかるポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートの調製の詳細は、約40年間、多くの特許明細書に記録されてきた。例えばSchnell、「Chemistry and Physics of Polycarbonates」、Polymer Reviews、第9巻、Interscience Publishers、New York、London、Sydney 1964年を参照してよい。
【００３９】
適当なジフェノールは、例えば、一般式（I）：
HO-Z-OH      （I）
〔式中、Zは、１以上の任意に置換された芳香核および脂肪族または脂環族基またはアルキルアリールまたはヘテロ原子を架橋部として含み得る6〜34個の炭素原子を有する芳香族基である〕
のジヒドロキシアリール化合物であってよい。
【００４０】
適当なジヒドロキシアリール化合物の例は：ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシジフェニル、ビス-（ヒドロキシフェニル）-アルカン、ビス-（ヒドロキシフェニル）-シクロアルカン、ビス-（ヒドロキシフェニル）-アリール、ビス-（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス-（ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス-（ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス-（ヒドロキシフェニル）-スルホン、ビス-（ヒドロキシフェニル）スルホキシド、1,1'-ビス-（ヒドロキシフェニル）-ジイソプロピルベンゼン、ならびに環上においてアルキル化およびハロゲン化されたその化合物である。
【００４１】
これらおよび更なる適当な他のジヒドロキシアリール化合物は、例えば、DE-A 3 832 396、FR-A 1 561 518、H. Schnell、Chemistry and Physics of Polycarbonates、Interscience Publishers、New York 1964年、第28頁〜；第102頁〜、およびD.G. Legrand、J.T. Bendler、Handbook of Polycarbonate Science and Technology、Marcel Dekker New York 2000年、第72頁〜に記載されている。
【００４２】
好ましいジヒドロキシアリール化合物は、例えばレゾルシノール、4,4'-ジヒドロキシジフェニル、ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-メタン、ビス-（3,5-ジメチル4-ヒドロキシフェニル）-メタン、ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-ジフェニル-メタン、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-1-フェニル-エタン、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-1-（1-ナフチル）-エタン、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-1-（2-ナフチル）-エタン、2,2-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-プロパン、2,2-ビス-（3-メチル-4-ヒドロキシフェニル）-プロパン、2,2-ビス-（3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル）-プロパン、2,2-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-1-フェニル-プロパン、2,2-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-ヘキサフルオロ-プロパン、2,4-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-2-メチル-ブタン、2,4-ビス-（3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル）-2-メチルブタン、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-シクロヘキサン、1,1-ビス-（3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル）-シクロヘキサン、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-4-メチル-シクロヘキサン、1,3-ビス-[2-（4-ヒドロキシフェニル）-2-プロピル]-ベンゼン、1,1'-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-3-ジイソプロピル-ベンゼン、1,1'-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-4-ジイソプロピル-ベンゼン、1,3-ビス-[2-（3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル）-2-プロピル]-ベンゼン、ビス-（4-ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス-（4-ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-スルホン、ビス-（3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル）-スルホンおよび2,2',3,3'-テトラヒドロ-3,3,3',3'-テトラメチル-1,1'-スピロビ-[1H-インデン]-5,5'-ジオールまたは
式（Ia）：
【化１】
2015515507.tif 000002
〔式中、
R1およびR2は、互いに独立して、水素、ハロゲン、好ましくは塩素または臭素、C1〜C8-アルキル、C5〜C6-シクロアルキル、C6〜C10-アリール、好ましくはフェニル、およびC7〜C12-アラルキル、好ましくはフェニル-C1〜C4-アルキル、特にベンジルを表し、
mは、4〜7の整数、好ましくは4または5を表し、
R3およびR4は、それぞれのXに対して個別に選択されてよく、互いに独立して水素またはC1〜C6-アルキルを表し、
Xは、炭素を表す〕
のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンであり、ここで、少なくとも１つの原子Xにおいて、R3およびR4は同時にアルキルを表す。式（Ia）において、R3およびR4は、好ましくは１または２つの原子Xにおいて、特にたった１つの原子Xにおいて、同時にアルキルである。
【００４３】
式（Ia）における基R3およびR4に対する好ましいアルキル基はメチルである。ジフェニル-置換炭素原子（C-1）に対してアルファ位におけるX原子は、好ましくはジアルキル置換されない；しかし、C-1に対してベータ位におけるアルキル２置換が好ましい。
【００４４】
特に好ましい式（Ia）のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンは、脂環族基において5および6員環炭素原子X（式（Ia）においてm=4または5）を有するものであり、例えば、式（Ia-1）〜（Ia-3）：
【化２】
2015515507.tif 000003
【化３】
2015515507.tif 000004
【化４】
2015515507.tif 000005
のジフェノールである。
【００４５】
非常に特に好ましい式（Ia）のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンは、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-3,3,5-トリメチル-シクロヘキサン（R1およびR2はHである式（Ia-1））である。
【００４６】
かかるポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートは、EP-A 359 953によって式（Ia）のジヒドロキシジフェニルシクロアルカンから調製することができる。
【００４７】
特に好ましいジヒドロキシアリール化合物は、レゾルシノール、4,4'-ジヒドロキシジフェニル、ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-ジフェニル-メタン、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-1-フェニル-エタン、ビス-（4-ヒドロキシ-フェニル）-1-（1-ナフチル）-エタン、ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-1-（2-ナフチル）-エタン、2,2-ビス-（4-ヒドロキシ-フェニル）-プロパン、2,2-ビス（3,5-ジメチル4-ヒドロキシフェニル）-プロパン、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-シクロヘキサン、1,1-ビス-（3,5-ジメチル-4-ヒドロキシフェニル）-シクロヘキサン、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-3,3,5-トリメチル-シクロヘキサン、1,1'-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-3-ジイソプロピル-ベンゼンおよび1,1'-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-4-ジイソプロピルベンゼンである。
【００４８】
非常に特に好ましいジヒドロキシアリール化合物は、4,4'-ジヒドロキシジフェニル、2,2-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-プロパンおよび1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-3,3,5-トリメチル-シクロヘキサンである。
【００４９】
ホモ-ポリカーボネート（ポリカーボネート）の構造を有する、１つのジヒドロキシアリール化合物、およびコ-ポリカーボネートの構造を有する、種々のジヒドロキシアリール化合物の両方を用いてよい。ホモ-ポリカーボネートの構造を有する、式（I）または（Ia）の１つのジヒドロキシアリール化合物、およびコ-ポリカーボネートの構造を有する、式（I）および／または（Ia）の複数のジヒドロキシアリール化合物の両方を用いてよい。種々のジヒドロキシアリール化合物は、ランダム状およびブロック状両方が違いに結合してよい。式（I）および（Ia）のジヒドロキシアリール化合物のコ-ポリカーボネートの場合、必要に応じて用いられる式（I）の他のジヒドロキシアリール化合物に対する式（Ia）のジヒドロキシアリール化合物のモル比は、好ましくは（I）の1モル％に対して（Ia）の99モル％と（I）の98モル％に対して（Ia）の2モル％との間、好ましくは（I）の1モル％に対して（Ia）の99モル％と（I）の90モル％に対して（Ia）の10モル％との間、特には（I）の1モル％に対して（Ia）の99モル％と（I）の70モル％に対して（Ia）の30モル％との間である。
【００５０】
式（Ia）のジヒドロキシアリール化合物を用いて調製されるポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートは、通常、ジヒドロキシアリール化合物として2,2-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-プロパンに基づくポリポリカーボネートよりも高いガラス転移温度Tgを有する。
【００５１】
基礎フィルムにおける好ましいポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートは、140℃以上、好ましくは175℃以上のガラス転移温度Tgを有するものである。ガラス転移温度Tgは、10K/分の加熱速度において規格DIN EN 61006による動的示差熱量測定（DSC）によって測定され、ここで、Tgは中点温度と定義される（正接法）。
【００５２】
そのため、基礎フィルムにおける好ましいポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートは、式（Ia）、好ましくは式（Ia-1）、（Ia-2）および／または（Ia-3）のジヒドロキシアリール化合物を、必要に応じて１以上の他のジヒドロキシアリール化合物と組み合わせて調製されたものである。基礎フィルムにおける特に好ましいポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートは、式（Ia）、好ましくは式（Ia-1）、（Ia-2）および／または（Ia-3）のジヒドロキシアリール化合物を、１以上の他のジヒドロキシアリール化合物と組み合わせて用いて調製したものである。非常に特に好ましいコポリカーボネートは、1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-3,3,5-トリメチル-シクロヘキサンおよび2,2-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-プロパンを式（Ia）および（I）のジヒドロキシアリール化合物として用いて調製することができる。
【００５３】
高いガラス転移温度Tgを有するかかるポリカーボネートまたはコ-ポリカーボネートは、損傷することなく150℃〜200℃のプロセス温度に耐えるという利点をさらに有する。この物性により、導電性構造体、例えばその後に200℃以下の温度での焼結プロセスに課さなければならない銀バスバー等を適用することができる。高温での焼結は、一般に、かかる構造体に付与されたプラスチック基材の耐性が望ましく、有利であるために、導電性構造体の顕著に良好な物性−例えば、より高い導電性等−をもたらす。この製造における不良品は、高温安定性を有するプラスチックフィルムの使用によって顕著に減少させることができる。さらに、高温耐性を有するプラスチックフィルムは、それにより、より高い導電性を達成するために、a-ITOの結晶化のための温度150〜180℃でのポスト-アニーリングがあるITO蒸着を行った後にも求められる。さらに、乾燥エッチングプロセスに対して、より高いTgを有するプラスチックフィルムは、130〜200℃のエッチング温度に耐えるのに望ましい。
【００５４】
ポリ-またはコ-ポリカーボネートの調製のための適当な炭酸由来物は、−好ましくは界面重縮合法に対して−ホスゲン、または−好ましくは溶融縮合法に対して−例えば、一般式（II）：
【化５】
2015515507.tif 000006
〔式中、
R、R'およびR''は、同一または異なっており、互いに独立して、水素、直鎖状または分岐状のC1〜C34-アルキル、C7〜C34-アルキルアリールまたはC6〜C34-アリールを表し、Rはさらに-COO-R'''を表してもよく、ここで、R'''は、水素、直鎖状または分岐状のC1〜C34-アルキル、C7〜C34-アルキルアリールまたはC6〜C34-アリールを表す〕
のジアリールカーボネートであってよい。
【００５５】
好ましいジアリールカーボネートは、例えば、ジフェニルカーボネート、メチルフェニル-フェニルカーボネートおよびジ-（メチルフェニル）カーボネート、4-エチルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-エチルフェニル）カーボネート、4-n-プロピルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-n-プロピルフェニル）カーボネート、4-イソプロピルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-イソプロピルフェニル）カーボネート、4-n-ブチルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-n-ブチルフェニル）カーボネート、4-イソブチルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-イソブチルフェニル）カーボネート、4-tert-ブチルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-tert-ブチルフェニル）カーボネート、4-n-ペンチルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-n-ペンチルフェニル）カーボネート、4-n-ヘキシルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-n-ヘキシルフェニル）カーボネート、4-イソオクチルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-イソオクチルフェニル）カーボネート、4-n-ノニルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-n-ノニルフェニル）カーボネート、4-シクロヘキシルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-シクロヘキシルフェニル）カーボネート、4-（1-メチル-1-フェニルエチル）-フェニル-フェニルカーボネート、ジ-[4-（1-メチル-1-フェニルエチル）-フェニル]カーボネート、ビフェニル-4-イル-フェニルカーボネート、ジ-（ビフェニル-4-イル）カーボネート、4-（1-ナフチル）-フェニル-フェニルカーボネート、4-（2-ナフチル）-フェニル-フェニルカーボネート、ジ-[4-（1-ナフチル）-フェニル]カーボネート、ジ-[4-（2-ナフチル）フェニル]カーボネート、4-フェノキシフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-フェノキシフェニル）カーボネート、3-ペンタデシルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（3-ペンタデシルフェニル）カーボネート、4-トリチルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-トリチルフェニル）カーボネート、メチルサリチレート-フェニルカーボネート、ジ-（メチルサリチレート）カーボネート、エチルサリチレート-フェニルカーボネート、ジ-（エチルサリチレート）カーボネート、n-プロピルサリチレート-フェニルカーボネート、ジ-（n-プロピルサリチレート）カーボネート、イソプロピルサリチレート-フェニルカーボネート、ジ-（イソプロピルサリチレート）カーボネート、n-ブチルサリチレート-フェニルカーボネート、ジ-（n-ブチルサリチレート）カーボネート、イソブチルサリチレート-フェニルカーボネート、ジ-（イソブチルサリチレート）カーボネート、tert-ブチルサリチレート-フェニルカーボネート、ジ-（tert-ブチルサリチレート）カーボネート、ジ-（フェニルサリチレート）カーボネートおよびジ-（ベンジルサリチレート）カーボネートである。
【００５６】
特に好ましいジアリール化合物は、ジフェニルカーボネート、4-tert-ブチルフェニル-フェニルカーボネート、ジ-（4-tert-ブチルフェニル）カーボネート、ビフェニル-4-イル-フェニルカーボネート、ジ-（ビフェニル-4-イル）カーボネート、4-（1-メチル-1-フェニルエチル）-フェニル-フェニルカーボネート、ジ-[4-（1-メチル-1-フェニルエチル）-フェニル]カーボネートおよびジ-（メチルサリチレート）カーボネートである。
【００５７】
ジフェニルカーボネートが非常に特に好ましい。
【００５８】
１つのジアリールカーボネートおよび複数のジアリールカーボネートの両方を用いてよい。
【００５９】
末端基を制御または修飾するために、連鎖停止剤として、例えば、用いたジアリールカーボネートの調製において用いていない１以上のモノヒドロキシアリール化合物をさらに用いてよい。かかる化合物は、一般式（III）：
【化６】
2015515507.tif 000007
〔式中、
RAは、直鎖状または分岐状のC1〜C34-アルキル、C7〜C34-アルキルアリール、C6〜C34-アリールまたは-COO-RDを表し、ここで、RDは、水素、直鎖状または分岐状のC1〜C34-アルキル、C7〜C34-アルキルアリールまたはC6〜C34-アリールを表し、
RB、RCは、同一または異なっており、互いに独立して、水素、直鎖状または分岐状のC1〜C34-アルキル、C7〜C34-アルキルアリールまたはC6〜C34-アリールを表す〕
のものであってよい。
【００６０】
かかるモノヒドロキシアリール化合物は、例えば1-、2-または3-メチルフェノール、2,4-ジメチルフェノール、4-エチルフェノール、4-n-プロピルフェノール、4-イソプロピルフェノール、4-n-ブチルフェノール、4-イソブチルフェノール、4-tert-ブチルフェノール、4-n-ペンチルフェノール、4-n-ヘキシルフェノール、4-イソオクチルフェノール、4-n-ノニルフェノール、3-ペンタデシルフェノール、4-シクロヘキシルフェノール、4-（1-メチル-1-フェニルエチル）-フェノール、4-フェニルフェノール、4-フェノキシフェノール、4-（1-ナフチル）-フェノール、4-（2-ナフチル）-フェノール、4-トリチルフェノール、メチルサリチレート、エチルサリチレート、n-プロピルサリチレート、イソプロピルサリチレート、n-ブチルサリチレート、イソブチルサリチレート、tert-ブチルサリチレート、フェニルサリチレートおよびベンジルサリチレートである。
【００６１】
4-tert-ブチルフェノール、4-イソオクチルフェノールおよび3-ペンタデシルフェノールが好ましい。
【００６２】
適当な分岐剤は、３以上の官能基を有する化合物、好ましくは３以上のヒドロキシル基を有する化合物であり得る。
【００６３】
３以上のフェノール系ヒドロキシル基を有する適当な化合物は、例えばフロログルシノール、4,6-ジメチル2,4,6-トリ-（4-ヒドロキシフェニル）-ヘプト-2-エン、4,6-ジメチル2,4,6-トリ-（4-ヒドロキシフェニル）-ヘプタン、1,3,5-トリ-（4-ヒドロキシフェニル）-ベンゼン、1,1,1-トリ-（4-ヒドロキシフェニル）-エタン、トリ-（4-ヒドロキシフェニル）-フェニルメタン、2,2-ビス-（4,4-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-シクロヘキシル]-プロパン、2,4-ビス-（4-ヒドロキシフェニル-イソプロピル）-フェノールおよびテトラ-（4-ヒドロキシフェニル）-メタンである。
【００６４】
３以上の官能基を有する他の適当な化合物は、例えば、2,4-ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸（三塩化物）、三塩化シアヌル酸および3,3-ビス-（3-メチル-4-ヒドロキシフェニル）-2-オキソ-2,3-ジヒドロインドールである。
【００６５】
好ましい分岐剤は、3,3-ビス-（3-メチル-4-ヒドロキシフェニル）-2-オキソ-2,3-ジヒドロインドールおよび1,1,1-トリ-（4-ヒドロキシフェニル）-エタンである。
【００６６】
ポリ-またはコ-ポリカーボネートまたはポリ-もしくはコ-ポリカーボネートを含むプラスチック組成物は、さらに添加剤を含んでよい。プラスチック組成物のための従来の添加剤は当業者に既知である。
【００６７】
本発明による被覆フィルムは、平滑な表面を既に有する基礎フィルムの他方側上においてコーティングを含んでもよい。かかるコーティングに対して、マット側のコーティングに用いられるコーティング組成物が好ましく用いられる。基礎フィルムの平滑な表面上におけるかかるコーティングは、そのコーティングが基礎フィルム上においてハードコートとしても機能し得るために、有利な場合がある。かかるハードコートは、被覆フィルムの光学特性に悪影響を及ぼし得る引っ掻きまたは他の損傷から基礎フィルム材料を保護することができる。基礎フィルムのマット側および平滑側上におけるコーティングの別の利点は、そのコーティングが被覆フィルムの両側において耐薬品性をもたらすことである。被覆フィルムの両側上における耐薬品性は、エッチングがデバイスの製造方法に含まれる場合に必要となる。したがって、有利なことに、および好ましくは、基礎フィルムは、マット側上および平滑側上においてかかるコーティングを含む（２００ｎｍ未満の表面粗度を有する）。基礎フィルムのマットおよび平滑側のコーティングに対する好ましい実施態様において、同一のコーティング組成物が用いられる。
【００６８】
本発明による被覆フィルムは、好ましくは２０〜１０００μｍ、特に好ましくは２５〜５００μｍ、非常に特に好ましくは２５〜２５０μｍの全体厚みを有する。
【００６９】
本発明による被覆フィルムは、好ましくは３８０ｎｍ〜８００ｎｍの波長の光に対して、８５％より高い、好ましくは８８％より高い全透過率を有する。
【００７０】
本発明による被覆フィルムは、好ましくは2％未満、好ましくは1％未満の透過率ヘイズを有する。本発明の更なる利点は、本発明による被覆フィルムが、単純な方法において押出または共押出法によって基礎フィルムを製造し、その後にコーティングを適用することによって製造することができることである。
【００７１】
したがって、本発明はさらに、本発明による被覆フィルムの製造方法であって、
−  少なくとも１つのポリ-またはコポリカーボネートを含む少なくとも１つの層を有する基礎フィルムであって、ここで基礎フィルムは１００ｎｍ未満の位相差を有し、マット側は２００ｎｍ〜２０μｍの表面粗度を有し、他方側は２００ｎｍ未満の表面粗度を有する、基礎フィルムを、押出または共押出により、プラスチック溶融物を押出し、または共押出し、次に２つのローラーの間で圧延することによって製造され、ここで、その一方のローラーは鋼表面を有し、他方のローラーは弾性表面を有し、
−  次に、そうして製造された基礎フィルムを、マット側においてコーティング組成物を用いて被覆し、ここでコーティングは乾燥および任意の更なる硬化後に２００ｎｍ未満の粗度を有する
ことを特徴とする、方法を提供する。
【００７２】
DE 39 11 218 A1による既知の方法から始めて、良好な光学特性、またとりわけ特に低い応力複屈折、および両側上において平滑な表面を有するプラスチックフィルムの製造方法に対する持続的な要求があり、この方法は、DE 39 11 218 A1の不利な点を回避する。
【００７３】
本発明による方法は、ラッカー処理したローラーまたは更なる押出（ラミネーション）工程を利用するDE 39 11 218 A1に記載されている方法に勝る顕著な利点を提供する。それによって、弾性ローラーのラッカー処理を省くことができる。さらに、コーティング、特に屈折率の観点から基礎フィルムに適合させたコーティングの適用は、極めて優れた光学特性および極めて低い応力複屈折を有するフィルムの製造の可能性を広げる。更なるプラスチック層の適用のための第２の押出工程は同じく必要でない。
【００７４】
好ましくは、弾性表面を有するローラーとして、ゴム表面、好ましくはシリコーンゴムの表面を有するローラーが用いられる。この表面は、好ましくは研削されてよい。
【００７５】
好ましくは、鋼表面を有するローラーとして高光沢の鋼表面を有するローラーが用いられる。
【００７６】
圧延は、好ましくは150℃〜400℃、より好ましくは250〜400℃、特に好ましくは320℃〜360℃の温度範囲において、50〜200bar、より好ましくは80〜150bar、特に好ましくは70〜120barの圧力において行われる。
【００７７】
次に、コーティングを基礎フィルムのマット表面に適用し、乾燥し、ここでは放射線硬化性コーティング組成物を用い、放射線によって硬化する。放射線硬化、すなわち架橋は、好ましくは電磁放射によって、例えばUV線、電子ビーム、X線またはガンマ線によって、好ましくはUVまたは電子ビーム放射によって行われる。
【００７８】
コーティングの適用は、好ましくは湿式化学コーティング法によって行われる。かかる方法は、従来の湿式コーティング法、例えばスプレー処理、キャスティング、ナイフ塗工、印刷またはローラー塗工等であってよい。
【００７９】
本発明による被覆フィルムに対してこれまでに記載されたコーティング組成物は、この目的のために用いられる。それは、ナノ粒子、放射線硬化性ポリマーまたはモノマーおよび光開始剤の上記の成分に加えて溶媒を含んでよい。適当な溶媒は、例えば、必要に応じて水と混合させた有機溶媒である。適当な有機溶媒は、例えば、芳香族溶媒、例えばキシレンまたはトルエン等、ケトン、例えばアセトン、2-ブタノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等、アルコール、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、2-メトキシプロピルアルコール等、エーテル、例えば1,4-ジオキサン、エチレングリコールn-プロピルエーテル等、またはエステル、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸1-メトキシ-2-プロピル等、またはこれらの溶媒を含む混合物を含む群から選択することができる。イソプロパノール（イソプロピルアルコール）、酢酸エチル、酢酸ブチル、1-メトキシ-2-プロパノール、キシレンまたはトルエンが特に好ましい。しかし、別案として、かかる溶媒を含まないコーティング組成物として用いることができる。
【００８０】
本発明による方法を用いて得られるかかる被覆フィルムは、極めて優れた光学特性、例えば高い全透過率、低い透過率ヘイズ、優れた透明度および低い位相差を示す。
【００８１】
そのため、本発明はさらに、本発明による方法によって得られる被覆フィルムを提供する。
【００８２】
その光学的性質により、本発明による被覆フィルムは、光電子デバイス、例えばディスプレイ、タッチパネルおよび他の光電子デバイスにおける使用に極めて適当である。
【００８３】
そのため、本発明はさらに、光電子デバイスにおける、特にディスプレイまたはタッチパネルにおける本発明による被覆フィルムの使用を提供する。
【００８４】
本発明はさらに、本発明による少なくとも１つの被覆フィルムを含む光電子デバイス、特にディスプレイまたはタッチパネルを提供する。
【００８５】
かかる光電子デバイス、例えばディスプレイまたはタッチパネルにおいて、本発明による被覆フィルムは、例えば
−  ガラスをLCD、OLED、EPD用のバックプレーンに取り替えるための、および／またはガラスをカラーフィルターに取り替えるための、基材フィルム、または
−  透明電極フィルム、例えばITOフィルムのための基礎フィルム、または
−  湿度および／または酸素から感応性材料を保護する任意のバリアフィルムのための基礎フィルム、または
−  偏光子層に対する機械的支持として機能し、それ故にTACまたはCOPフィルムまたは他の低位相差フィルムに置き換えられるフィルム
として用いることができる。
【００８６】
さらに、本発明による被覆フィルムは、バリアフィルム、特に低い酸素および／または水蒸気透過率を有するフィルムのための基材として用いるのに適当である。
【００８７】
次の実施例は、本発明を例によって説明するのに役立つが、それに限定されることはない。
【実施例】
【００８８】
実施例
測定法：
乾燥コーティング厚みは、ASTM D1400に従って、BYK Additives & Instrumentsのbyco-test MP0Rを用いて測定した。
【００８９】
基礎フィルムの平滑およびマット側におけるコーティングの表面粗度−Ra値（平均粗度）として測定される−を、DIN EN ISO 4287に従って、Contour GT-KO光学的表面観測記録装置を用いて測定した。
【００９０】
屈折率は、Metricon 2010/M Prism Couplerを用いて測定した。基礎フィルム材料およびコーティングに対する屈折率の測定後、これら２つの屈折率の差を計算した。
【００９１】
透明度（シースルーの性質である）、全透過率および透過率ヘイズは、BYK Additives & InstrumentsのBYK Haze-gard plusを用いて測定した。かかるBYK Haze-gard plusを用いて、全透過率および透過率ヘイズをASTM D 1003に従って測定する。本発明による全透過率は、３８０ｎｍ〜８００ｎｍの波長の光に対する全透過率である。
【００９２】
位相差は、ASTM D4093-95に従って、Ilis GmbHのpolarimeter Ilis StrainMatic（登録商標）を用いて測定した。位相差は、フィルムの応力複屈折の評価基準である。
【００９３】
基礎フィルム：  Makrofol（登録商標）DP 1202 1-M（Bayer Material Science AGから入手できる）、１００μｍのフィルム厚みを有するポリカーボネートフィルム、４５０〜５００ｎｍの表面粗度に対するRa値を有する１つのマット表面および２０ｎｍ未満の表面粗度に対するRa値を有する１つの平滑（光沢）表面、用いたポリカーボネートはAPEC（登録商標）9379（Bayer MaterialScience AG）であり、60モル％の2,2-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-プロパンおよび40モル％の1,1-ビス-（4-ヒドロキシフェニル）-3,3,5-トリメチル-シクロヘキサンからの残余物をジヒドロキシアリール化合物として含むコポリカーボネートである。
Desmolux（登録商標）U680H：  不飽和脂肪族ウレタンアクリレート（Bayer MaterialScience AG）
Irgacure（登録商標）184：  1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン（BASFによる光開始剤）
Additol（登録商標）VXL 4930：  修飾シリコーンの溶液（Cytec Industriesによる表面調整剤）
BYK（登録商標）306：  ポリエーテル修飾ポリジメチルシロキサンの溶液（BYK Additives & instrumentsによる表面調整剤）
Tego（登録商標）Glide100：  ポリエーテルシロキサンコポリマー（Evonik Tego Chemie GmbHによる流動および滑り添加剤）
【００９４】
押出基礎フィルムの製造：
コポリカーボネートの溶融物を、345℃の溶融温度および96barの押出機における圧力において幅広いシート押出ダイを通して押出し、高光沢鋼ローラーおよび弾性ゴムローラーからなる圧延装置において圧延する。２０ｎｍ未満の表面粗度（Ra）を有する平滑、高光沢側および４５０〜５００ｎｍの表面粗度（Ra）を有するマット側を有する１００μｍの厚みのフィルムが、この手順によって得られる。３０ｎｍ未満の位相差がこのフィルムに対して測定された。
【００９５】
実施例１：
基礎フィルムを、表１によるコーティング処方のコーティング組成物を用いて被覆した。
【００９６】
【表１】
2015515507.tif 000008
【００９７】
バーコーターを用いて手作業のドローダウン（manual hand drawdown）によって、コーティング処方物を外気温において基礎フィルム上に被覆し、80℃で10分間熱乾燥した。コーティングは、１５〜２０μｍの湿潤フィルム厚みで適用した。その後、コーティングを、2400mJ/cm2のUV線量を用いることによって外気条件下で硬化した。
【００９８】
実施例２：
実施例Ａから得られたフィルムを、表２によるコーティング処方のコーティング組成物を用いて被覆した。
【００９９】
【表２】
2015515507.tif 000009
【０１００】
ロール・トゥー・ロールコーター（roll-to-roll coater）において、コーティング処方物を、70℃のウェブ温度および３ｍ/分のウェブ速度において、基礎フィルム上に塗布した。コーティングを１５〜２０μｍの湿潤フィルム厚みで適用した。次に、コーティングを、550mJ/cm2のUV線量を用いて窒素ガス下においてUV硬化させた。
【０１０１】
実施例３：
実施例Ａから得られたフィルムを、表３によるコーティング処方のコーティング組成物を用いて被覆した。
【０１０２】
【表３】
2015515507.tif 000010
【０１０３】
バーコーターを用いて手作業のドローダウンによって、コーティング組成物を、外気温において基礎フィルム上に被覆し、80℃で10分間熱乾燥した。コーティングを、３５〜４０μｍの湿潤フィルム厚みで適用した。その後、コーティングを、2400mJ/cm2のUV線量を用いることによって外気条件下で硬化させた。
【０１０４】
実施例４：
実施例Ａから得られたフィルムを、表４によるコーティング処方のコーティング組成物を用いて被覆した。
【０１０５】
【表４】
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【０１０６】
バーコーターを用いて手作業のドローダウンによって、コーティング組成物を、外気温において基礎フィルム上に被覆し、80℃で10分間熱乾燥した。コーティングを、１５〜２０μｍの湿潤フィルム厚みで適用した。その後、コーティングを、2400mJ/cm2のUV線量を用いることによって外気条件下で硬化させた。
【０１０７】
実施例５：
実施例１〜４から得られた被覆フィルムの、乾燥および硬化コーティングの厚み、コーティングの平均表面粗度、コーティングおよび基礎フィルム基材の間の５５０ｎｍにおける屈折率の差、透明度、全透過率、透過率ヘイズおよび位相差を測定した。その結果は、表５において示される。
【０１０８】
【表５】
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【０１０９】
表５における結果によれば、未被覆の基礎フィルムは、27.8％の低い透明度および34.1％の高い透過率ヘイズを有する。かかるフィルムは、優れた位相差および全透過率を有するが、透明度および透過率ヘイズに対する不十分な結果のために、それをLCD-ディスプレイまたはタッチパネル用途に用いることができない。
【０１１０】
実施例１〜４に対する結果は、本発明によるこの基礎フィルムのマット側を被覆して、透明度（透明度>95％）および透過率ヘイズ（<1％）が顕著に改善されたことを示す。生成した本発明による被覆フィルムは、優れた位相差、全透過率、透過率ヘイズおよび透明度を有し、例えばLCD-ディスプレイまたはタッチパネル用途における使用によく適合する。
【０１１１】
さらに、同じコーティング表面粗度（Ｒａ＜２０ｎｍ）において、屈折率を合わせたコーティングを有する実施例２および３の被覆フィルムは、驚くべきことに、指数を合わせていないコーティングを有する実施例１および４の被覆フィルムと比較して高い透明度を与え、その結果、屈折率を合わせたコーティングを用いることによって、本発明のよるフィルムの特性およびLCD-ディスプレイまたはタッチパネル用途におけるその使用をさらに改善できる。
【国際調査報告】
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