(57)【要約】  ビームスプリッタなどの光学素子のための膜を提供する。膜は、屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなる少なくとも１つの二重層と、二重層を被覆する屈折率ｎ3を有する物質からなる最上層とを含み、ｎ3＞ｎ2＞ｎ1である。二重層は、ＢａＦ２およびＫＲＳ５から構成可能である。最上層は、Ｇｅから構成可能である。特定の膜により、広スペクトル帯域にわたり非常に効率的な発光を示すビームスプリッタが得られる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビームスプリッタ用の膜であって、
屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなる第１の二重層と、
屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなり、前記第１の二重層と接する第２の二重層と、
前記第２の二重層と結合した基板と、
屈折率ｎ3を有する物質からなり、前記第１の二重層と接する最上層とを備え、
前記最上層の物質とともに構成された、選択された物質からなる前記第１の二重層および前記第２の二重層は、１００００ｃｍ-1までのスペクトル透過帯域を有するビームスプリッタ膜を提供するように設計された層厚で構成され、スペクトル透過率の最大値が１０００ｃｍ-1から１５００ｃｍ-1までにあり、ｎ3＞ｎ2＞ｎ1である、ビームスプリッタ用の膜。
【請求項２】
前記第１の二重層内または前記第２の二重層内に構成された屈折率ｎ1を有する前記物質が、ＫＢｒ、ＢａＦ2、ＰｂＦ2、Ｎａ3ＡｌＦ6から選択された物質のうち少なくとも１つである、請求項１に記載の膜。
【請求項３】
前記第１の二重層内または前記第２の二重層内に構成された屈折率ｎ2を有する前記物質が、臭沃化タリウム（ＫＲＳ５）およびＺｎＳｅから選択された物質のうち少なくとも１つである、請求項１に記載の膜。
【請求項４】
屈折率ｎ3を有する前記物質からなる前記最上層がＧｅを含む、請求項１に記載の膜。
【請求項５】
前記第１の二重層内の屈折率ｎ1を有する前記物質からなる前記層の層厚が約１２５０Åから約１５００Åまでの範囲にあり、
前記第１の二重層内の屈折率ｎ2を有する前記物質からなる前記層の層厚が約２５５０Åから約２８００Åまでの範囲にあり、
前記第２の二重層内の屈折率ｎ1を有する前記物質からなる前記層の層厚が約８００Åから約１０００Åまでの範囲にあり、
前記第２の二重層内の屈折率ｎ2を有する前記物質からなる前記層の層厚が約５００Åから約７００Åまでの範囲にあり、
屈折率ｎ3を有する前記最上層の層厚が１２５０Åから約１５００Åまでの範囲にある、請求項１に記載の膜。
【請求項６】
前記ビームスプリッタ膜の層厚および前記選択された物質は、約１０００ｃｍ-1から約１００００ｃｍ-1までのスペクトル帯域にわたって、約５０％＋／−５％の透過率を与えるが、約９０００ｃｍ-1において９０％までの高透過率を与える、請求項５に記載の膜。
【請求項７】
屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなる第１の二重層を提供する工程と、
屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなり、前記第１の二重層と接する第２の二重層を提供する工程と、
前記第２の二重層と結合した基板を提供する工程と、
屈折率ｎ3を有する物質からなり、前記第１の二重層と接する最上層を提供する工程と、を有し、
前記最上層の物質とともに構成され、選択された物質からなる提供された前記第１の二重層および第２の二重層は、１００００ｃｍ-1までのスペクトル透過帯域を有するビームスプリッタ膜を提供するような層厚で設計され、スペクトル透過率の最大値が１０００ｃｍ-1から１５００ｃｍ-1までにあり、ｎ3＞ｎ2＞ｎ1である、ビームスプリッタ製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
多層誘電体膜は、画像化、分光法、通信などの様々な用途向けの、光学フィルタ、反射防止膜、ビームスプリッタを提供するのに使用されてきた。これらの種々の素子および用途に求められる膜特性は、非常に様々であり得る。周波数分割多重（ＷＤＭ）フィルタを使用する用途などのなかには、そのフィルタに狭帯域スペクトル性能があること、例えば、最大透過率が狭い波長域にわたることが、望ましいものもある。反射防止膜を使用する用途などには、反射率を非常に低い値、例えば、特定の波長域にわたり２％未満に最小限に抑えるのが望ましいものもある。
【背景技術】
【０００２】
ビームスプリッタは、シングルビーム光を２つの別々のビーム、透過ビームと反射ビームとに分割する光学素子である。５０／５０ビームスプリッタは、シングルビーム光の約５０％を透過し、シングルビーム光の約５０％を反射する。５０／５０ビームスプリッタの効率は、式１によって与えられる。
Ｅ（効率）＝Ｒ（反射率）×Ｔ（透過率）        式１
理想の５０／５０ビームスプリッタの効率は、０．２５である。フーリエ変換赤外（ＦＴＩＲ）分光法などの分光法において使用されるビームスプリッタには、広帯域スペクトル性能、例えば、広波長域にわたり透過率が５０％（つまり、０．２５の効率）であることが望ましいことがある。ビームスプリッタ用の多層誘電体膜は発展を遂げてきたが、これらの膜の効率およびスペクトル帯域には限界があることが多い。さらに、多層誘電体膜は、あるとしても少ないが、スペクトルの高エネルギー成分、例えば、約１μｍから３０μｍまでの成分を含めた広スペクトル帯域にわたり非常に効率的な発光をもたらすことができる。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
光学膜およびこれらの膜を使用したビームスプリッタを含む光学素子を、本明細書に提供する。関連する方法についても提供する。
【０００４】
本発明の特定の態様は、特定の物質の特定の組み合わせ、構成、厚さが、広スペクトル帯域にわたり非常に効率的な発光を示すビームスプリッタをもたらす膜を形成するのに使用できるという発明者の発見に、少なくとも部分的に、基づくものである。さらに、これらのスペクトル帯域には、スペクトルの高エネルギー成分が含まれる（例えば、１μｍに達する）。スペクトル帯域の広がり幅、およびスペクトルの高エネルギー成分への範囲の拡大は、重要である。というのは、これらは少なくとも、単一のビームスプリッタから追加のスペクトル情報が得られるという利点、及び、異なるスペクトル帯域をカバーするために複数のビームスプリッタを用いる必要性を無くすことができるという利点を提供するからである。
【０００５】
したがって、本実施形態の第１の態様は、屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなる第１の二重層と、屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなり、第１の二重層と接する第２の二重層と、屈折率ｎ3を有する物質からなり、第１の二重層と接する最上層とを含み、第１の二重層内の屈折率ｎ1を有する物質からなる層が、最上層とともに、スペクトル透過帯域が１００００ｃｍ-1までとなるようなビームスプリッタの所望の層厚を可能にし、スペクトル透過率の最大値が１０００ｃｍ-1から１５００ｃｍ-1までにあり、ｎ3＞ｎ2＞ｎ1であるビームスプリッタ用の膜を含むものである。
【０００６】
本明細書に開示した構成の第２の態様は、屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなる第１の二重層を提供する工程と、屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなり、第１の二重層に接する第２の二重層を提供する工程と、屈折率ｎ3を有する物質からなり、第１の二重層と接する最上層を提供する工程とを含み、第１の二重層内の屈折率ｎ1を有する物質からなる層が、最上層とともに、スペクトル透過帯域が１００００ｃｍ-1までとなるようなビームスプリッタの所望の層厚を可能にし、スペクトル透過率の最大値が１０００ｃｍ-1から１５００ｃｍ-1までにあり、ｎ3＞ｎ2＞ｎ1であるビームスプリッタ製造方法を含むものである。
【０００７】
本発明の他の主な特徴および利点は、以下の図面、詳細な説明、実施例、添付の請求項を検討することにより、当業者に明らかになると思われる。
【０００８】
以下、本発明の例証となる実施形態を添付の図面を参照して説明する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】例示の膜を含むビームスプリッタの一例を表す。膜は、ＫＢｒ基板を覆うＢａＦ2からなる第１の層と、ＢａＦ2からなる第１の層を覆うＫＲＳ５からなる第１の層と、ＫＲＳ５からなる第１の層を覆うＢａＦ2からなる第２の層と、ＢａＦ2からなる第２の層を覆うＫＲＳ５からなる第２の層と、Ｇｅからなる最上層とを含む。
【図２】図１の膜を含むビームスプリッタの模擬実験の透過率％を表す。
【図３】図３Ａは図１の膜を含むビームスプリッタおよび標準のビームスプリッタのシングルビーム（比率ではない）スペクトルを示し、図３Ｂは図３Ａに表したスペクトルの約６０００ｃｍ-1から９０００ｃｍ-1までのスペクトル帯域の拡大図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
光学膜およびこれらの膜を使用するビームスプリッタを含む光学素子が本明細書により提供される。また、関連する方法が提供される。
【００１１】
膜
一態様では、ビームスプリッタのような光学素子のための膜を提供する。膜は、屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなる二重層を含む。「接する」とは、二重層の層間に介在する層がないことを意味する。実施形態のなかには、屈折率ｎ1を有する物質からなる層が、屈折率ｎ2を有する物質からなる層の下層にあるものもある。つまり、このような実施形態では、屈折率ｎ1を有する物質からなる層は二重層の下部層であり、屈折率ｎ2を有する物質からなる層は二重層の上部層である。膜はさらに、二重層を覆う屈折率ｎ3を有する物質からなる最上層を含む。膜内の各層の屈折率は、ｎ3＞ｎ2＞1である。実施形態のなかには、最上層が二重層と接するものもある。実施形態のなかには、最上層が二重層内の屈折率ｎ2を有する物質からなる層と接するものもある。
【００１２】
実施形態のなかには、膜が、各二重層が屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなる２つ以上の二重層と、２つ以上の二重層を覆う屈折率ｎ3を有する物質からなる最上層とを含むものもある。膜内の各層の屈折率は、ｎ3＞ｎ2＞ｎ1である。実施形態のなかには、膜が、２つの二重層、３つの二重層、またはそれを超える数の二重層を含むものもある。実施形態のなかには、２つ以上の二重層が二重層の積層体を形成するものもあり、各二重層は隣り合う二重層と接しており、隣り合う二重層の間に介在する層はない。上述のように、二重層の各層は、屈折率ｎ1を有する物質からなる層が、屈折率ｎ2を有する物質からなる層の下層となるように配置され得る。同様に、最上層は二重層と接し得るものであり、最上層は二重層内の屈折率ｎ2を有する物質からなる層と接し得る。
【００１３】
実施形態のなかには、膜が、各二重層が屈折率ｎ1を有する物質からなる層と屈折率ｎ2を有する物質からなる層とが接してなる１つの二重層、２つの二重層、または３つの二重層の積層体と、積層体を覆う屈折率ｎ3を有する物質からなる最上層とから実質的に構成されるか、またはこれらから構成されるものもある。膜内の各層の屈折率は、ここにおいても、ｎ3＞ｎ2＞ｎ1である。上述したように、二重層の各層は、屈折率ｎ1を有する物質からなる層が屈折率ｎ2を有する物質からなる層の下層となるように配置され得る。同様に、最上層は二重層と接し得るものであり、最上層は二重層内の屈折率ｎ2を有する物質からなる層と接し得る。
【００１４】
二重層の各層および最上層の物質は、多様であり得る。種々の誘電体物質が二重層の各層に使用し得る。実施形態のなかには、屈折率ｎ1を有する物質が、ＫＢｒ、ＢａＦ2、ＰｂＦ2、またはＮａ3ＡｌＦ6であるものもある。実施形態のなかには、屈折率ｎ2を有する物質が、臭沃化タリウム（Ｔｈａｌｌｉｕｍ  Ｂｒｏｍｏ−Ｉｏｄｉｄｅ）（ＫＲＳ５またはＴｌＢｒ−ＴｌＩとしても知られる）またはＺｎＳｅであるものもある。実施形態のなかには、屈折率ｎ3を有する物質がＧｅであるものもある。
【００１５】
膜はさらに、膜の特定の層に含まれない特定の物質を指定することによって特徴づけられ得る。ある実施形態では、二重層の各層はＧｅを含まない。他の実施形態では、二重層の各層および／または最上層は、金属酸化物、例えば、シリカ、カーバイド、またはナイトライドを含まない。さらに、他の実施形態では、二重層の各層および／または最上層は、ポリマー、置換有機分子または非置換有機分子（ｓｕｂｓｔｉｔｕｔｅｄ  ｏｒ  ｕｎｓｕｂｓｔｉｔｕｔｅｄ  ｏｒｇａｎｉｃ  ｍｏｌｅｃｕｌｅ）を含まない。これらの各実施形態では、このことは、膜または膜の各層がこれらの物質を意図的に含まないことを意味する。これらの物質のうち１つ以上は、光学膜を形成するための標準の技術に一般的な程度で（例えば、不純物として）、膜内に存在してもよい。
【００１６】
ある実施形態においては、膜用の物質が、二重層がＢａＦ2からなる層とＫＲＳ５からなる層とから構成されるように選択される。この特定の組み合わせは、発明者が、開示された光学素子のために特に良好な物質の組み合わせであると見い出したように、驚くほど有益な結果をもたらすものである。具体的には、発明者は、成膜又は蒸着工程の間に、ＢａＦ2とＫＲＳ５との相互拡散および／または化学的相互作用がわずかであるかまたは発生しないことを見い出した。このため、成膜工程自体の間は、ＢａＦ２とＧｅ（耐候性の膜であることが多い）との相互拡散および／または化学的相互作用が驚くほどわずかであるかまたは発生せず、このような層の設計層厚がある精度に保たれるため、最終的な膜／基板の組み合わせの反射率／透過率（Ｒ／Ｔ）特性が低下しない。
【００１７】
さらに、最上層が二重層内のＫＲＳ５からなる層と接するような実施形態については、ＫＲＳ５は、ＢａＦ2および／またはその構成物質の最上層への拡散を抑制するか妨げ、これにより最上層の屈折率および完全性が保たれる。実施形態のなかには、膜用の物質が、二重層がＢａＦ2からなる層とＫＲＳ５からなる層とで構成され、最上層がＧｅで構成されるように選択されるものもある。
【００１８】
膜内の各層の層厚は、様々であり得る。実施形態のなかには、屈折率ｎ1を有する物質からなる層の層厚が約８００Åから１５００Åまでの範囲にあり、屈折率ｎ2を有する物質からなる層の層厚が約５００Åから２８００Åまでの範囲にあるものもある。膜が第１の二重層、第２の二重層、第１の二重層に接する最上層を含む実施形態のなかには、層厚が以下のように様々になり得るものもある。第１の二重層内の屈折率ｎ1を有する物質からなる層の層厚が約１２５０Åから１５００Åまでの範囲にあり、第１の二重層内の屈折率ｎ2を有する物質からなる層の層厚が約２５５０Åから２８００Åまでの範囲にあり、第２の二重層内の屈折率ｎ1を有する物質からなる層の層厚が約８００Åから１０００Åまでの範囲にあり、第２の二重層内の屈折率ｎ2を有する物質からなる層の層厚が約５００Åから７００Åまでの範囲にある。実施形態のなかには、屈折率ｎ3を有する物質からなる層の層厚が、１２５０Åから１５００Åまでの範囲にあるものもある。
【００１９】
膜は、これらがもたらす光学的特性によってさらに特徴づけられ得る。実施形態のなかには、膜が基板を被膜するとビームスプリッタをもたらすということによって特徴づけられるものもある。実施形態のなかには、膜が、その膜を含むビームスプリッタに約２μｍにおいて約５０％の透過率をもたらすということによって特徴づけられるものもある。実施形態のなかには、膜が、その膜を含むビームスプリッタに、約１０００ｃｍ-1から約１００００ｃｍ-1までのスペクトル帯域（つまり、約９．５μｍから約１．０μｍまで）にわたり約５０％＋／−５％の透過率をもたらすとともに、約９０００ｃｍ-1（約１．１μｍ）のエネルギー範囲では９０％までの高透過率をもたらすということによって特徴づけられるものもある。膜は、反射防止膜および光学フィルタ用の膜とは区別され得る。このため、実施形態のなかには、膜が、基板を被覆すると反射防止膜および／または光学フィルタをもたらさないということによって特徴づけられるものもある。
【００２０】
光学素子
別の態様では、開示された膜を含む光学素子が提供される。光学素子は、基板と、基板を被覆する上述の膜のうちいずれかとを含む。実施形態のなかには、光学素子が基板と、基板を被覆する開示の膜のうちいずれか１つとから実質的に構成されるか、またはこれらから構成されるものもある。本明細書において利用される有益な基板物質の例として、基板は、ＫＢｒ、ケイ素、石英、フッ化カルシウム、セレン化亜鉛から選択可能である。実施形態のなかには、二重層の屈折率ｎ1を有する物質からなる層が、基板と接するものもある。実施形態のなかには、光学素子がビームスプリッタであるものもある。例証のビームスプリッタ１００を図１に示す。ビームスプリッタには、基板１０４および膜１０２が含まれる。膜１０２には、第１の二重層１０６、第２の二重層１０８、二重層を覆う最上層１１０（つまり、第５の層）が含まれる。第１の二重層１０６には、屈折率ｎ2を有する物質からなる第４の層１１４の下層に、屈折率ｎ１を有する物質からなる例としての第３の層１１２が含まれる。図１の第２の二重層１０８は、屈折率ｎ２を有する物質からなる第２の層１１８の下層に屈折率ｎ１を有する物質からなる第１の層１１６を含めて示されることが多い。実施形態のなかには、光学素子が反射防止用の光学素子および／または光学フィルタでないものもある。
【００２１】
光学素子は、フーリエ変換赤外（ＦＴＩＲ）分光法などの種々の分光用途に使用し得る。このため、開示した光学素子のうちいずれかを含むＦＴＩＲ装置についても得られる。
【００２２】
方法
膜および光学素子を形成する方法も提供される。方法は、開示の膜のうちいずれかの各層を順次成膜又は蒸着する工程を含む。誘電体物質からなる層の成膜又は蒸着には、電子ビーム蒸着、熱蒸着、スパッタリング、化学気相蒸着、プラズマ化学気相蒸着を含む標準の技術および成膜パラメータが用いられ得る。例にすぎないが、基板に屈折率ｎ1を有する物質からなる層を成膜し、屈折率ｎ1を有する物質からなる層に屈折率ｎ2を有する物質からなる層を成膜して下側の二重層を形成し、下側の二重層上に屈折率ｎ1を有する物質からなる層を成膜し、屈折率ｎ1を有する物質からなる層に屈折率ｎ2を有する物質からなる層を成膜して上側の二重層を形成し、上側の二重層に屈折率ｎ3を有する物質からなる最上層を成膜することにより、ビームスプリッタを形成し得る。この方法の実施形態の詳細を、以下の実施例においてさらに提供する。
【００２３】
開示した光学素子のうちいずれかを使用する方法が提供される。実施形態のなかには、光学素子がビームスプリッタであり、方法が、ビームスプリッタによって、光ビームを透過ビームと反射ビームとに分割する工程を含む。方法はさらに、光ビームをビームスプリッタに方向づける工程を含み得る。
【００２４】
膜、光学素子、関連する方法は、例証する目的で提供しかつ限定することを意図しない以下の実施例を参照することにより、さらに容易に理解される。
【実施例】
【００２５】
特に、読者は、図１に示したビームスプリッタ１００の装置の例示的構成に再度目を向けられる。具体的には、好ましい設計は次のように表１に構成される。
【００２６】
【表１】
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【００２７】
図２は、単一層Ｇｅ膜２０２（約１３８８オングストローム（実線で示す））および上に示したような表１の成膜法を有する本実施形態の新規な５層２０６の設計（破線で示す）の理論上の透過特性を示すものである。理論上の計算は、各物質層が明確に定められた境界を有し（拡散層がない）、各物質の屈折率が周知の計測値を維持しているものとする。
【００２８】
具体的には、図２は、設計された５層ビームスプリッタ２０６の構成が、約５０％＋／−１０％の有益な透過率を有する結果となり、約１０００ｃｍ-1から約１００００ｃｍ-1まで（つまり、約９．５μｍから約１．０μｍまで）のスペクトル帯域にわたる広範囲の効率をもたらすとともに、約９０００ｃｍ-1（〜約１．１μｍ）のエネルギー範囲において顕著なノッチ状の高透過率（〜約９０％）をもたらすことを示している。図２が、膜の反射率（Ｒ）と透過率（Ｔ）との積の値についてある情報を示していることも、認識しておくべきことである。特に、１０００ｃｍ-1において、５層膜２０６が６０％Ｔの値を有していることが明らかである。これに対して、Ｇｅ膜２０２は７５％Ｔの値を有している。したがって、５層ビームスプリッタ２０６は、Ｒ×Ｔ＝０．４×０．６＝０．２４であり、Ｇｅ２０２膜は、Ｒ×Ｔ＝０．７５×０．２５＝０．１８８である。これは、５層膜をＧｅ膜よりも２８％（０．２４／０．１８８＝１．２８）良好なものにしている。これは、所望の用途のために所望の分光計においてビームスプリッタとして使用する際、２８％多くの信号を変換することになる（つまり、効率が増大している）。
【００２９】
本実施形態を製造する際に補助可能ないかなる薄膜設計ソフトウェアも所望の際には使用し得るが、上に示した例示の光学素子ビームスプリッタの設計パラメータが、Ｏｒｅｇｏｎ  ９７２２９、Ｐｏｒｔｌａｎｄ、Ｈａｒｖｅｓｔ  Ｌａｎｅ、１４０２５  Ｎ．Ｗ．のＳｏｆｔｗａｒｅ  Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ．のＴＦＣａｌｃ（薄膜設計ソフトウェア）によって得られたことも、認識しておくべきことである。
【００３０】
本明細書における実施形態の新規な態様をさらに理解するため、読者は、公知の設計３０２（破線によって示した２層設計）と５層設計３０６（実線で示す）のビームスプリッタ膜間のシングルビーム（比率ではない）強度のスペクトル比較を示した図３Ａに目を向けられる。図３Ｂは、６０００ｃｍ-1から９０００ｃｍ-1までのスペクトル帯域の拡大図を示すものであり、本実施例の利用による９０００を超えて拡大した透過性能を有益に例証するものである。特に、上に示した新規のビームスプリッタの成膜法を用いた場合、特に図３Ｂを検討すると、高エネルギー端、つまり、７０００ｃｍ-1を超えるエネルギーにおいて、公知の構造３０２（再び破線で示す）のエネルギースループットは約６０００ｃｍ-1から始まり０に急落しているが、本明細書に開示した５層構成３０６は８０００ｃｍ-1以上まで（例えば、少なくとも１００００ｃｍ-1まで）エネルギーを透過し続けており、計測ではスペクトル帯域を大幅に拡大させる結果となっていることは、認識しておくべきことである。
【００３１】
さらに、言及しておくべきことは、５層設計３０６の驚くべきさらに別の態様として、その構成が、図３Ａの破線の楕円領域におおまかに示したように、最大スペクトル透過率（約１０００ｃｍ-1〜１５００ｃｍ-1）領域３０８の位置を不変にもしている（つまり、スペクトル位置に実質的な移動がない）ことであり、その領域がエネルギーを損なうことなく赤外指紋領域にわたり良好に位置しているということである。スペクトル範囲を高エネルギー領域に拡大させるために提供された以前の設計は、最大透過率が指紋領域から大幅に距離を置いて移動するだけでなく、スループットが低下するという損害を被っていたため、これは重要な態様である。この組み合わせは、本明細書において提供された新規のものである。
【００３２】
用語「例証の」または「代表的な」は、本明細書では、実例、例、または例証として扱うことを意味するために使用している。「例証の」または「代表的な」として本明細書に説明したいかなる態様または設計も、別の態様または設計よりも良好で有益であると必ずしも解釈されるものではない。さらに、本開示の目的のため、別の意味として明記していない限り、「ａ」または「ａｎ」は「１つ以上」を意味するものである。またさらに、「および」または「または」の使用は、別の意味として具体的に示さない限り、「および／または」を含むことを意図するものである。
【００３３】
本明細書に引用したすべての特許、出願、参考文献、出版物は、個々が参照によって包含される程度と同一の程度で、その全体が参照によって包含されるものである。
【００３４】
当業者には理解されるものと思われるが、すべての目的のため、特に書面による説明を提供することについては、本明細書に開示したすべての範囲には、その可能な部分的範囲および部分的範囲の組み合わせについてもすべて含まれる。記載したいかなる範囲も、その範囲を少なくとも二等分、三等分、四等分、五等分、十等分等に分割されることを十分に説明しこれが可能であるとして容易に認め得るものである。限定しない実例として、本明細書に論じた各範囲は、下部３分の１、中央部３分の１、上部３分の１等まで容易に分割可能である。ここでもまた当業者によって理解されるものと思われるが、「まで」、「少なくとも」、「よりも大きい」、「よりも小さい」等の用語はすべて、引用した数を含むものであり、続けて上述の部分的範囲に分解可能である範囲にまで言及するものである。最後に、当業者に理解されるものと思われるが、範囲には個々の各要素が含まれる。
【００３５】
以上の本発明の例証の実施形態の説明は、例証および説明を目的として表したものである。包括的であること、または開示した形式に本発明を厳密に限定することを意図するものではなく、変形および変更が上記教授に鑑みて可能であるか、または本発明の実施により得られるものである。本実施形態は、本発明の原理を説明するため、かつ本発明の実用的な適用として、選択し記述したものであり、当業者が本発明を種々の実施形態に、意図した特定の使用に合わせるような種々の変形を含めて利用できるようにしたものである。本発明の範囲は、本明細書に添付した請求項およびこれらの均等物によって定義されることを意図するものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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