(57)【要約】  精密部品を洗浄する方法であって、部品を、予備洗浄モジュールタンク中に分配された、加熱された溶媒和剤中に浸漬して、それによって付着した汚染物質を除去する工程；部品をすすぎ溶媒で処理して、分離したすすぎ液脱脂装置内で、いずれかの残留する汚染物質および残留する溶媒和剤を除去し、部品から除去された汚染物質はすすぎ液脱脂装置内に集められる工程；ならびに、汚染された溶媒を、すすぎ液脱脂装置からマイクロ蒸留器へと移して汚染物質をすすぎ溶媒から分離して、そして精製されたすすぎ溶媒をすすぎ脱脂装置へと送る工程、を含んでいる方法。精密部品から汚染物質を洗浄するための、加熱された溶媒和剤を含む予備洗浄モジュールタンク、すすぎ溶媒を含む脱脂装置、ならびに、汚染物質をすすぎ溶媒から分離し、そして精製されたすすぎ溶媒をすすぎ液脱脂装置へんと送るマイクロ蒸留器を含む、装置もまた提供される。
2015527196.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
精密部品から汚染物質を洗浄するための装置であって、
ａ．該精密部品から汚染物質を除去する、加熱された溶媒和剤を含む予備洗浄モジュールタンク、
ｂ．該精密部品から残留する溶媒和剤および付着した汚れを除去するすすぎ剤を収容するすすぎ液タンクとして作用する、蒸気脱脂装置、ならびに、
ｃ．該残留する溶媒和剤および付着した汚れを該すすぎ剤から分離し、該すすぎ剤を該すすぎ液タンクへ戻し、そして該残留する溶媒和剤および汚染物質を廃棄物処理へと送る、マイクロ蒸留器、
を含んでなる装置。
【請求項２】
前記すすぎ液タンクが、前記予備洗浄モジュールタンクから持ち越された、溶媒和剤および残留する汚染物質で汚染されているすすぎ剤を運び、そしてすすぎ剤を、前記すすぎ液タンクへと戻すように、動作可能なように、前記マイクロ蒸留器に連結されている、請求項１記載の装置。
【請求項３】
電子部品および他の部品を洗浄するために、汚染物質を、系内のすすぎ溶媒から連続的に分離するための方法であって、
ａ．溶媒和剤での処理に付された汚染された基材を、分離したすすぎ液タンク中でいずれかの残留する汚染物質および残留する溶媒和剤を除去するために、すすぎ溶媒で処理し、該部品から除去された汚染物質は、該すすぎ液タンク中に集められる工程、ならびに、
ｂ．該汚染物質を、該すすぎ溶媒から分離して、該すすぎ剤を該すすぎ液タンクへと戻し、そして該残留する溶媒和剤および汚染物質を廃棄物処理へと送るために、汚染されたすすぎ溶媒を、該すすぎ液タンクからマイクロ蒸留器へと移動させる工程、
を含んでなる方法。
【請求項４】
精密部品を洗浄するための方法であって、
ａ．該部品を、予備洗浄モジュールタンク中に容れられた加熱された溶媒和剤中に浸漬し、それによって、付着した汚染物質を除去する工程；
ｂ．該部品を、すすぎ溶媒で処理して、分離したすすぎ液脱脂装置中でいずれかの残留する汚染物質および残留する溶媒和剤を除去し、該部品から除去された汚染物質は、該すすぎ液脱脂装置中に集められる工程；ならびに、
ｃ．汚染されたすすぎ溶媒を、該すすぎ液脱脂装置からマイクロ蒸留器へと移して、該汚染物質を該すすぎ溶媒から分離し、そして該すすぎ溶媒を該すすぎ液脱脂装置へと送る工程、
を含んでなる方法。
【請求項５】
前記部品をすすぎ剤で処理する前記工程が、
ｄ．すすぎ液脱脂装置に分配されたすすぎ剤の熱蒸気に前記部品を暴露することによって、前記部品を、予浸作用に付す工程；
ｅ．前記部品を、沸騰液溜中に分配された沸騰すすぎ剤中に浸漬し、それによっていずれかの残留している付着した汚れおよび残留している溶媒和剤を除去する工程；ならびに、
ｆ．前記部品を、該沸騰チャンバーから取り出し、そしてその前記部品をすすぎチャンバー中に分配された精製されたすすぎ溶媒中に浸漬する工程、
を含む、請求項４記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品および他の部品の洗浄のためのシステムにおけるすすぎ液から、汚染物質を連続的に分離するための方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
はんだフラックスおよび他の汚染物質が、電子部品および他の部品上に、それらの製造においてしばしば残される。これらの汚染物質は、それらの部品から、溶媒の使用によって除去される。この溶媒および残留する汚染物質は、すすぎ溶媒で除去される。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
種々の製品、特には電子部品、例えば回路基板、医療用装置、航空宇宙部品、および軍用部品の製造においては、二重溶媒洗浄システムが用いられる。典型的には、第１の溶媒（また、「溶媒和剤」とも称される）が、付着した汚れ、例えばはんだフラックス、オイル、潤滑油などを取り除くために用いられ、そして次いで第２の溶媒（また、「すすぎ剤」とも称される）がその製品をすすぎ洗いするために用いられる。そのようにする中で、大量の洗浄用溶媒および製造時の砕屑（detritus）がすすぎ溶媒中に集まる。このすすぎ溶媒は、費用の掛かるラインの停止を引き起こすことなしに、それらの汚染物質を定期的に取り除かなければならない。
【０００４】
本発明は、複数の溶媒および汚染物質を自動的に分離するためのシステム操作の間に連続式で実施され、一方で、高価なすすぎ溶媒を、脱脂装置における再使用のために再生する、二重溶媒プロセスを基にしている。このプロセスは、高いパーセントの再生溶媒を、洗浄作用に影響を与えず、溶媒、装置、および洗浄される製品にいずれかの損傷を引き起こさないような品質でもたらし、そしてシステムからの定期的な除去のために廃棄物流を自動的に分離する。この二重溶媒プロセスは、溶媒和剤を用いた、浸漬しながらの噴霧（spray-under-immersion）、超音波処理または他の撹拌プロセスでの、用途に特有の化学薬品の１つの種類についての、初期の洗浄工程、それに続く、残りの汚染物質もしくは溶媒和剤を除去するための第２の洗浄およびすすぎ作用のための第２の異なる溶媒プロセスを組み合わせている。
【０００５】
この洗浄モジュールプロセスは、初期の汚れ除去の段階を提供して、第２のすすぎ溶媒のより少ない充填量をもたらし、それ故に洗浄度の水準を高めながら、溶媒浴の寿命を延長する。
【０００６】
本発明は、付着した汚れを基材から効果的に除去するプロセス工程の組み合わせを用いている。用語「基材」は、本明細書では、望まない物質による汚染に曝される可能性がある製造におけるいずれかの装置または物品を表すように広い意味で用いられる。従って、用語「基材」は、例えば機械部品、用具、または電子部品、例えば、印刷回路基板、医療用装置、航空宇宙部品、および軍用部品を包含する。同様に、用語「付着した汚れ」もまた、例えば、通常の機械的な手段によっては基材から容易に取り除けない望まれない物質を表すように広い意味で用いられる。従って、用語「付着した汚れ」は、無機および有機物質、例えば、グリース、ワックス、オイル、粘着剤、ロジンおよび樹脂系のフラックスを包含する。しかしながら、本出願人は、本発明は、印刷回路基板からのロジンおよび／または樹脂フラックスの洗浄に関連して、また機械部品からのワックス、グリースおよび／またはオイルの洗浄に関連して、特に有用性を見出すであろうことを企図している。
【０００７】
本発明に用いられる溶媒和剤は、当技術分野でよく知られている１種もしくは２種以上の洗浄剤である。そのような洗浄剤の例としては、Bixenmanらの米国特許第5,128,057号明細書；Doyelらの米国特許第7,288,511号明細書中に教示されているもの、Hayesらによって、米国特許第5,679,175号明細書の第４欄、第６４行〜第５欄第１２行目に教示されている洗浄剤、Doyelらの米国特許出願公開第2012/0152286号明細書中に教示されているもの、およびDoyelらの米国特許第6,130,195号明細書中に教示されているものがある。また、これらの洗浄剤は、他の望ましい特質および特徴を有することができる。例えば、溶媒和剤は、好ましくは、基材もしくはその成分を構成する材料の強度、完全性または操作性に悪影響を与えない。印刷回路基板を含む基材については、溶媒和剤は、好ましくは、繊維ガラスに含浸されたエポキシ樹脂に対して不活性であり、そして溶媒ではない。また、溶媒和剤は、好ましくは、加工特性を向上させるために表面張力が低く、そして安全性が向上するように毒性が低く、そして高い引火点を有している。溶媒和剤は、大気、土壌および水に対して優しいことが極めて好ましい。また、化学的および光化学的安定性も、溶媒和剤の他の好ましい特徴である。溶媒和剤の更なる望ましい特徴は、すすぎ剤の高められた回収を促進するすすぎ剤の沸点に、当業者によって適合される沸点である。
【０００８】
また、すすぎ剤は、好ましくは、オゾン層の減少を引き起こす既知の傾向が少ない、または無いことが好ましい。より具体的には、すすぎ剤が、約０．１５以下、より好ましくは０．０５以下、そして更により好ましくは約０のオゾン破壊係数（ＯＤＰ）を有することが非常に好ましい。オゾン破壊係数は、揮発性物質が、地球のオゾン層に与える負の効果のよく知られた尺度である。
【０００９】
現在用いられているすすぎ剤は、少なくとも部分的には、すすぎ剤を構成する分子中に塩素が存在しない、または存在が抑制されているために、大気中のオゾンに比較的に優しいことが当業者に理解されなければならない。しかしながら、低減された塩素含有量は、すすぎ剤の多くの付着した汚染物質、例えばロジンはんだフラックスを溶媒和する能力の低下をもたらすこともまた理解されなければならない。それにもかかわらず、好ましいすすぎ剤の比較的に低い溶媒和能力は、本発明の方法の洗浄効果に不利益ではない。従って、本発明のすすぎ剤は、溶媒和剤を、洗浄される基材から洗い流し、そしてすすぎ剤が、付着した汚れ物質を溶媒和するいずれかの能力を有することが必要とされない、ことが理解されるであろが、しかしながら、この能力は、本発明の特定の態様では存在することができる。
【００１０】
また、本発明で用いられるすすぎ剤は、他の望ましい、そして有益な特徴を有することができる。例えば、すすぎ剤は、好ましくは基材もしくはその成分を構成する物質の強度、完全性または操作性に悪影響を与えない。印刷回路基板を含む基材については、すすぎ剤は、好ましくは繊維ガラスに含浸されたエポキシ樹脂に対して不活性であり、そして溶媒ではない。また、すすぎ剤は、安全性を向上させるために、好ましくは毒性が低く、そして高い引火点を有している。また、すすぎ剤は、大気、土壌および水に優しいことが極めて好ましい。また、化学的および光化学的安定性も、すすぎ剤の他の好ましい特徴である。すすぎ剤について上記したそれぞれの特徴は、全体としてすすぎ組成物ついて同様に好ましい。すすぎ剤の更なる望ましい特徴、例えば、沸点および、洗浄剤からのすすぎ剤の分離を促進する沸点における性質が、当業者には明らかであろう。
【００１１】
従って、本発明は、１つの態様では、精密部品から汚染物質を洗浄するための装置であり、以下のａ〜ｃを含んでいることで特徴付けられる。
ａ．精密部品から汚染物質を除去する、加熱された溶媒和剤を含む予備洗浄モジュールタンク、
ｂ．精密部品から残留する溶媒和剤および付着した汚れを除去する、すすぎ剤を収容するすすぎ液タンクとして作用する、蒸気脱脂装置、ならびに、
ｃ．前記残留する溶媒和剤および付着した汚れをすすぎ剤から分離し、すすぎ剤をすすぎ液タンクへ戻し、そして残留する溶媒和剤および汚染物質を廃棄物処理へと送る、マイクロ蒸留器。
【００１２】
本発明の装置では、すすぎ液タンクは、予備洗浄モジュールタンクから持ち越された、残留する溶媒和剤および付着した汚れで汚染されているすすぎ剤を運び、そしてすすぎ剤を、すすぎ液タンクへと戻すように、動作可能なように、マイクロ蒸留器に連結されている。
【００１３】
本発明の他の態様では、電子部品および他の部品を洗浄するために、汚染物質を、系内のすすぎ溶媒から連続的に分離するための、方法が提供され、この方法は、以下の工程ａおよびｂを含んでいることで特徴付けられる。
ａ．溶媒和剤での処理に付された汚染された基材を、分離したすすぎ液タンク中で残留するいずれかの汚染物質および残留する溶媒和剤を除去するために、すすぎ溶媒で処理し、部品から除去された汚染物質は、すすぎ液タンク中に集められる工程、ならびに、
ｂ．汚染物質を、すすぎ溶媒から分離して、すすぎ剤をすすぎ液タンクへと戻し、そして残留する溶媒和剤および汚染物質を廃棄物処理へと送るために、すすぎ液タンクから汚染されたすすぎ溶媒を、マイクロ蒸留器へと移動させる工程。
【００１４】
本発明の更に他の態様では、精密部品を洗浄するための、以下の工程ａ〜ｃを含むことで特徴づけられる方法が提供される。
ａ．部品を、予備洗浄モジュールタンク中に容れられた加熱された溶媒和剤中に浸漬し、それによって、付着した汚染物質を除去する工程；
ｂ．その部品を、すすぎ溶媒で処理して、分離したすすぎ液脱脂装置中でいずれかの残留する汚染物質および残留する溶媒和剤を除去し、その部品から除去された汚染物質は、すすぎ液脱脂装置中に集められる工程；ならびに、
ｃ．汚染されたすすぎ溶媒を、すすぎ液脱脂装置からマイクロ蒸留器へと移して、汚染物質をすすぎ溶媒から分離し、そしてすすぎ溶媒をすすぎ液脱脂装置へと送る工程。
【００１５】
本発明の好ましい態様では、すすぎ剤で部品を処理する工程は、以下のｄ〜ｆの工程を含んでいる。
ｄ．すすぎ液脱脂装置に分配されたすすぎ剤の熱蒸気に部品を暴露することによって、部品を、予浸作用に付す工程；
ｅ．部品を、沸騰液溜中に分配された沸騰すすぎ剤中に浸漬し、それによっていずれかの残留している付着した汚れおよび残留している溶媒和剤を除去する工程；ならびに、
ｆ．部品を、沸騰液溜から取り出し、そしてその部品をすすぎチャンバー中に分配された精製されたすすぎ溶媒中に浸漬する工程。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の洗浄システムの概略図であり、洗浄およびすすぎおよび脱脂モードを示している。
【図２】図２は、洗浄、すすぎおよび溶媒回収の工程を示す、フロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明による二重溶媒洗浄システム１０が、図１に示されている。二重溶媒洗浄システム１０は、予備洗浄モジュールタンク１２およびすすぎ液脱脂装置１４を広範囲に含んでいる。マイクロ蒸留器１６は、連続的な溶媒の低容積の蒸留のために、好ましくは、予備洗浄モジュール１２のキャビネット内部に収容されている。ここに記載された装置は、当技術分野でよく知られたいずれかの好適な材料、例えばステンレス鋼またはハステロイ７（Haynes International, Inc.の登録商標；この商標は、「超合金」と称される２２種の異なる高度に耐腐食性の金属合金の予め定めた名称として適用される）で構成されることができることが、当業者には理解されるであろう。
【００１８】
段階１  予備洗浄プロセスサイクル：
洗浄される加工品は、材料取扱いシステム（示されていない）によって、予備洗浄モジュールタンク１２中の浸漬チャンバー１８中へと下降され、そこで加工品は、加熱された溶媒和剤２０に曝露されて、そのタンクの中で「浸漬」作用を受ける。材料取扱いシステムは、当技術分野でよく知られた種類のものであり、ラックまたはバスケットなどのキャリヤーであることができ、手動でまたは自動化システムによって制御されてこのタンク中に下降され、それらの全ては当技術分野でよく知られている。溶媒和剤２０は、タンク中に、熱電対制御２４と並置して設置された電気浸漬ヒータ２２によって加熱される。ヒータ２２を別に置くことによって、それらは凹室（alcove）によって保護されて、入ってくる部品／バスケットが偶発的にヒータと接触し、そして損傷させる可能性を防止する。溶媒和剤２０の組成物は、基材および汚れの種類に応じて特有であり、そして当技術分野ではよく知られている。溶媒和剤の組成物は、１種もしくは２種以上の異なった相を含むことができるが、それには限定されず、または反応性、溶解度パラメータ、引火点、酸性度もしくはアルカリ性度、沸点、および種々の他の化学的および物理的性質を変える添加剤を含んでおり、それは当業者には知られている。
【００１９】
浸漬チャンバー１８中の加熱された溶媒和剤２０は、汚れた部品の表面から、付着した汚れを除去する。付着した汚れの性質に応じて、溶液は、除去されるべき付着した汚れに、洗浄剤の溶媒作用または化学反応を及ぼす。幾つかの用途では、用いられる流体は、付着した汚れと化学的に反応して、エマルジョンを形成するか、またはそれらを、すすぎ溶媒での基材からの将来的な除去を容易にするために柔軟化させる。
【００２０】
加工品を溶媒和剤２０中に沈めながら、液体チャンバー１８中の浸漬下スプレー作用２６が、基材の表面からの粒子状物質および付着した汚れを除去するための機械的な補佐として用いられる。洗浄されている部品への効果に関連する浸漬下のスプレー作用は、部品の露出／ラック／バスケットの設計によって影響される可能性があることに注意しなければならない。浸漬スプレーヘッダ２６は、タンクの中心に、乱流の洗浄作用区域を生じさせるために、加熱された溶液の上方への流れを与えるように、最も一般的には、タンクの底に搭載される。加熱された溶液は、シールドポンプ２８によって、ろ過システム３０を介して、再循環され、この流体が再循環されるに際して、遊離の汚染物質を浴から除去し、そしてスプレーノズルを保護する。
【００２１】
含浸サイクルの継続時間は、所望の洗浄結果を基に、使用者によって決定される。溶媒和剤２０中への、浸漬下スプレー作用２６を伴った浸漬が完了すると、加工品は機械３２のフリーボード領域中に持ち上げられ、そこで加工品は、タンク上への重力廃液のために放置される。この作用は、部品および加工品バスケットからの、プロセスタンク中への溶液廃液を可能とさせて、同伴（carry-out）／溶液の保持を低減する。
【００２２】
随意選択的な圧縮空気掃引ヘッダー３４（場所と継続時間は、ソレノイド３６を介して物質取扱いシステムによって制御される）を、タンク中に設置して、部品／バスケットからの流体の除去を援けることができ、それによって必要であれば、溶液の同伴および漏えい排出物を低減する。このことが一旦終了したら、加工品は、システム１２から取り出して、そしてプロセスの中の次の工程に移すことができる。
【００２３】
加工品が洗浄され、そして予備洗浄モジュール１２から取り出された後に、加工品（部品／バスケット）上に同伴された少量の溶液がある。それらの品目が、すすぎ脱脂装置１４中に、そのプロセスサイクルのために運ばれると、残留した同伴物は、すすぎ脱脂装置を沸騰液溜３８中に堆積される。従って、洗浄モジュール１２中の溶液レベルは、継時的に体積が減少し始める。正常な溶液操作レベルを維持するために、移送ポンプ４０が、サクションホース４２を介して、未使用溶液容器４４へと連結される。
【００２４】
標準的な移送ポンプ４０は、空気圧ポンプであり、そして手動で運転される場合には、圧縮空気供給バルブ４６が開けられると、このポンプは、容器４４から新しい溶液を吸引し、そしてそれを予備洗浄モジュール浸漬液溜１８中に移送する。この移送ポンプ４０は、運転者によって定期的に観測された、モジュールタンク１２中の液体レベルを基に、運転者によって手動で制御される。また、化学薬品の補填も、選択肢として、自動で行うことができる。
【００２５】
段階２Ｂ：すすぎ液脱脂装置プロセスサイクル
加工品が予備洗浄モジュール１２から取り出された後に、それは、第２の洗浄／すすぎプロセスのために、すすぎ液脱脂装置１４へと移送される。一旦脱脂装置１４上に来ると、加工品は、脱脂装置タンク４６中に下降され、そこで加工品は、沸騰液溜３８中に下方に移送されながら、「予備浸漬」作用のために熱溶媒蒸気４８に曝露される。加工品は、下方に移送され、そして脱脂装置の沸騰チャンバー３８中に浸漬される。このチャンバー中の沸騰溶媒は、部品の表面から、いずれかの残留する汚染物質および残留する溶媒和剤を除去する。チャンバー３８中の沸騰溶媒によって引き起こされた乱流は、洗浄プロセスを促進するために部品をこすり洗う機械的な作用を生じさせる。更に、脱脂装置は、沸騰液溜３８中に、超音波または他の撹拌機能を有することができる。他の添加剤を、所望の性質、例えば混和性、沸点、溶媒和特性、および共沸もしくは共沸様の挙動などが挙げられるが、それらには限定されない性質を変えるために、当業者によって、すすぎ剤中に組み込むことができる。
【００２６】
加工品は、基材、付着した汚れ、用いられる溶媒系の種類、およびプロセスチャンバー中で用いられる機械的な作用の種類（超音波／浸漬下のスプレー／乱流、など）に応じて予め定められた時間の長さ処理された後に、加工品は、沸騰液溜３８から引き上げられ、蒸気ラインの下に移送され、蒸気ラインは、蒸気区域４８とフリーボード区域５４の間の一次凝縮器コイル５２の垂直の中間点であり、そして部材の清澄性の水準を高めるための精製されたすすぎ溶液中への第２の全体の浸漬のために、機械のすすぎ液溜５０中に浸漬される。
【００２７】
すすぎサイクルが完了したら、加工品は液体の外に引き上げられ、そして廃液滞留（dwell）のために蒸気区域４８中に放置させる。過剰なすすぎ溶媒は、重力によって、部品／バスケットから流出して、溶媒の保全のために、すすぎ液タンク中に落下して戻る。ここで、加工品は、最終的な凝縮物すすぎ（condensate rinse）および乾燥効果のために、純粋な清澄な溶媒蒸気４８に曝露することによって再加熱される。
【００２８】
凝集物すすぎが完了したら、加工品は、機械のフリーボード領域５４中に引き上げられ、そこで凝縮物すすぎ／乾燥時間の三分の一に同等の時間、または延長された時間放置させて、いずれかの残留するすすぎ溶媒の同伴を低減させ、それによってすすぎ溶媒を保存する。
【００２９】
これが一旦終了したら、加工品は、脱脂装置１４から取り出すことができ、そしてこのプロセスは、処理される新しい加工品で、所望により繰り返される。
【００３０】
段階３：マイクロ蒸留器プロセスサイクル
加工品が脱脂装置１４中ですすがれている時に、製品から溶媒和剤によって製品から除去された汚染物質は、継時的に沸点液溜３８中に、質量が増加し始める。溶媒の純度の水準を、洗浄および／またはすすぎ能力ならびに蒸気発生能力に影響を与えないように、容認可能な範囲に維持するために、汚染物質を、沸騰液溜３８から、定期的に除去することが必要である。
【００３１】
このことは、溶媒蒸留システムの使用によって達成される。「マイクロ蒸留器」１６は、汚染されたすすぎ溶媒の連続的な低体積の蒸留のために、脱脂装置の沸騰液溜３８に連結される。
【００３２】
マイクロ蒸留器１６は、汚染されたすすぎ溶媒を、蒸留器液体レベル制御器５８によって制御された移送ポンプ５６から周期的に受け入れる。蒸留器の容器は、ヒータ６０によって加熱されて、混合物の内部の溶媒部分を蒸発させる。付着した汚れ／汚染物質は、すすぎ溶媒に用いられている溶媒の種類を基にした、適用された低い温度設計の範囲では、典型的には蒸発せず、そして従って、熱いすすぎ溶媒蒸気が上昇し、そして蒸気移動によって外部の熱交換器／凝縮器６２へと出て行く時に、容器中に留まる。
【００３３】
この空冷の外部凝縮器６２は、熱い溶媒蒸気温度を低下させて、それを液体に変え、そこでそれは重力によって排出され、そしてパイプを通して、連結された脱脂装置１４へと流れる。蒸留され／回収されたすすぎ剤の流れは、存在する溶媒と混合するために、脱脂装置の沸騰液溜３８中に導かれ、そこでそれは正常な脱脂装置の作用の間に蒸発させられる。
【００３４】
標準的な設計では、ここに記載されたマイクロ蒸留器および部品は、図１中に示されているように、予備洗浄モジュール１０のキャビネット中に収容される。
【００３５】
＜自動投棄機能（Auto-Dump Feature）＞
蒸留器容器１６についての選択されたプロセスパラメータに基づいて、蒸留器の加熱操作（cook-down）は周期的に開始されるが、しかしながら更なる汚染されたすすぎ剤が、マイクロ蒸留器容器１６に入ることは許されない。移送ポンプ５６は、自動的にロックされる。マイクロ蒸留器容器１６中に存在する流体は、ヒータ６０によって、回収可能なすすぎ溶媒の大部分／高収量が放出されるまで、加熱され続ける。プロセスパラメータは、用いられている溶媒、再循環するすすぎ溶媒流から除去される汚染物質／付着した汚れの種類および容量、システム運転の経過時間、処理される種々の基材／種々の汚染物質／付着した汚れに基づく汚染物質／付着した汚れの量の変化、所望の溶媒純度の水準に基づくマイクロ蒸留器加熱操作（cook-down）の最終使用者の選好、ならびに基材の清澄度の水準を考慮に入れる。
【００３６】
監視装置が、事前に設定された状態に到達したら、ヒータ６０は電源を遮断され、そして底部の投棄（dump）ソレノイドバルブ６４は「開」に電圧を印加される。この底部バルブ６４は、可撓性のパイプ６６によって、廃棄物容器６８に連結されており、それは、需要家による周期的な適切な廃棄のために、蒸留器の「釜残（bottoms）」を受け入れる。
【００３７】
自動投棄サイクルが所定の時間で完結したら、底部バルブ６４は、自動的に閉鎖される。次いで、プログラムは、移送ポンプ５６によってマイクロ蒸留器容器１６を再充填することによって、通常の操作を再開する。容器のレベルが、液体レベルセンサー５８によって定められた通常の運転レベルになると、ポンプ５８は、電源を遮断され、そして次いでヒータ６０は電圧を印加されて、マイクロ蒸留器１６を通常の操作に戻す。
【００３８】
マイクロ蒸留器１６が加熱され、そして蒸気を発生すると、移送ポンプ５６は、蒸留器を、脱脂装置の沸騰液溜３８からの汚染されたすすぎ溶媒で再充填するように、要求に応じて反復する。
【００３９】
この設計で、マイクロ蒸留器の運転、加熱操作（cook-down）、および投棄サイクルが、運転者をこのプロセスから隔離しながら、自動的に制御される。この動作は、プロセスの監視のために、ＨＭＩスクリーン上に表示される。
【００４０】
＜マイクロ蒸留器Ｂ溶媒サイクル＞
併せて、マイクロ蒸留器が、脱脂装置の沸騰液溜からの汚染されたすすぎ溶媒を処理する間に、すすぎ溶媒は、脱脂装置からマイクロ蒸留器そして脱脂装置へ戻るように循環され、少量が、蒸留器釜残で周期的に廃棄される。特定の量のすすぎ溶媒は、溶媒和剤および付着した汚れ／汚染物質と共に懸濁液中に残留し、付着した汚れ／汚染物質は周期的に蒸留器から、上記の「自動投棄（auto-dump）」サイクルを介して取り出される。
【００４１】
マイクロ蒸留器の容器の液体容積は、脱脂装置から供給されると自動的に制御される。従って、脱脂装置の沸騰液溜は、運転時間、処理される部品／バスケットの種類／大きさ／形態および蒸留器の投棄（dump）サイクルに応じて、周期的な溶媒の補充を必要とする。
【００４２】
＜溶媒流れのまとめ＞
図２を参照すると、加工品が溶媒和剤中に含浸される段階１では、未使用の溶媒ならびに、使用されそしてろ過された溶媒が導入されることが分かる。次いで、加工品は、段階２へと移され、ここで加工品は、蒸気および液体の両方のすすぎ剤でのすすぎと付加的な洗浄を受ける。
【００４３】
持ち越された、溶媒和剤および付着した汚れ、ならびにすすぎ剤は、マイクロ蒸留器へと送られ、マイクロ蒸留器は、低沸点のすすぎ剤を、高沸点の溶媒和剤および他の汚染物質から熱的に分離する。入ってくる汚染されたすすぎ剤は、廃棄物流中の材料の量を低減させるために濃縮される。蒸発されたすすぎ剤は、凝縮され、そして蒸気脱脂装置の沸騰液溜へと戻される。主に溶媒和剤および除去された汚れである、濃縮された蒸留器の釜残（bottoms）は、生態学的に許容し得る廃棄処分のために、廃棄物容器へと移送される。
【００４４】
本発明は、ここで説明した例示の態様および例によって不都合に限定されることが意図されていないこと、そしてそのような例および態様は例示のためだけに与えられていることが理解される。それらの例において、全てのパーセントは、質量基準である。
【実施例】
【００４５】
例１
洗浄剤のすすぎ剤からの分離の効率を示すために、すすぎ液脱脂装置を、２，３−ジヒドロデカフルオロペンタンで満たし、そして５４℃（約１２９°Ｆ）で沸騰させた。マイクロ蒸留器を作動させ、そしてプログラムで、汚染されたすすぎ溶媒のマイクロ蒸留器への添加およびマイクロ蒸留器の温度を制御した。主にテトラヒドロフルフリルアルコールからなる溶媒和剤の毎時２５０ｍＬ分を、活性化剤、界面活性剤、および腐食防止剤とともに、米国特許第5,128,057号明細書に適合した配合で、すすぎ剤に加えた。この２５０ｍＬ分は、ＰＣＢを洗浄する場合に持ち越されることが予測される溶媒和剤の容積の２５倍より大きい。主にテトラヒドロフルフリルアルコールからなる溶媒和剤の、活性化剤、界面活性剤、および腐食防止剤と一緒の添加（その配合は、米国特許第5,128,057号明細書に適合している）の前および後の、沸騰液溜中のすすぎ剤、ならびにマイクロ蒸留器からの蒸留液ならびにマイクロ蒸留器からの釜残（bottoms）を、ガスクロマトグラフで調べた。マイクロ蒸留器は、付着した汚れならびに主にテトラヒドロフルフリルアルコールからなる溶媒和剤を、活性化剤、界面活性剤、および腐食防止剤（その配合は米国特許第5,128,057号明細書に適合している）とともに、すすぎ剤の２質量％未満の混入の純度まで濃縮することができ、それらの蒸留器釜残が廃棄物として廃棄された場合には、廃棄されてしまうことになる貴重なすすぎ剤の量を有意に低減する。マイクロ蒸留器からの蒸留物は、本質的に純粋なすすぎ剤であった（溶媒和剤および付着した汚れの１質量％未満の混入）が、これは、マイクロ蒸留器が、溶媒和剤および付着した汚れを、すすぎ剤から効果的に取り出すことを証明している。
【００４６】
例２
このプロセスで用いることができる種々の洗浄剤および溶媒和剤を更に説明するために、すすぎ液脱脂装置にエチルノナフルオロブチルエーテルを充填し、そして７８℃（約１７２°Ｆ）で沸騰させた。マイクロ蒸留器を作動させ、そしてプログラムで、汚染されたすすぎ溶媒のマイクロ蒸留器への添加およびマイクロ蒸留器の温度を制御した。主に３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノールからなる溶媒和剤の毎時２５０ｍＬ分を、少量のテトラヒドロフルフリルアルコール、界面活性剤、活性化剤、および腐食防止剤とともに、その配合は、Doyelらの米国特許第6,130,195号明細書に適合している。主に３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノールからなる溶媒和剤の、少量のテトラヒドロフルフリルアルコール、界面活性剤、活性化剤、および腐食防止剤と一緒の添加の前および後の、沸騰液溜中のすすぎ剤、ならびにマイクロ蒸留器からの蒸留液ならびにマイクロ蒸留器からの釜残（bottoms）をガスクロマトグラフで調べた。マイクロ蒸留器は、付着した汚れならびに主に３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノールからなる溶媒和剤を、少量のテトラヒドロフルフリルアルコール、界面活性剤、活性化剤、および腐食防止剤とともに、すすぎ剤の２質量％未満の混入の純度まで濃縮することができ、それらの蒸留器釜残が廃棄物として廃棄された場合には、廃棄されてしまうことになる貴重なすすぎ剤の量を有意に低減する。マイクロ蒸留器からの蒸留物は、本質的に純粋なすすぎ剤であった（溶媒和剤および付着した汚れの１質量％未満の混入）が、これは、マイクロ蒸留器が、溶媒和剤および付着した汚れを、すすぎ剤から効果的に取り出すことを証明している。
【００４７】
本発明の当面の好ましい態様を示し、そして記載してきたが、本発明はそれらには限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲内で、他のように種々に具体化することができ、そして実施することができることが、明確に理解されなければならない。本発明の種々の修正および変更が、本発明の範囲および精神から逸脱することなく、当業者には明らかであろう。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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