(57)【要約】本発明は、ＬＣＤ、ＯＬＥＤ、ＳＯＬＡＲ等の基板を処理するための多数のチャンバからなる真空処理装置に関するもので、さらに詳細には、互いに隣合うチャンバ間に逆圧を防止するための手段が備えられた真空処理装置に関するものである。このために、チャンバ間の間に備えられて基板の出入するスリットを開閉するスリットバルブの動作を提供する空間を提供するカセットチャンバの圧力をベント（待機状態）がなされるチャンバの圧力と同一の定圧がなされるようにして、真空になるチャンバ（真空チャンバ）側のスリットを密閉しているスリットバルブのバルブプレートを真空チャンバ側にさらに加圧密着させることにより、ベントチャンバと真空チャンバの圧力差によるインタリークが発生することを防止して基板の不良を減らすことができるようにしたものである。【選択図】図３
2015513338.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロセスチャンバ、トランスファーチャンバ及びロードロックチャンバを含む真空処理装置において、
前記各チャンバの間に設置され互いに向い合う両側に基板が出入する通路を提供するスリットがそれぞれ形成され、内部に前記スリットをそれぞれ開閉するために昇降動作する第１バルブプレートと第２バルブプレートとを備えたスリットバルブを収容する空間を提供するカセットチャンバと、
前記各チャンバでベントガスを注入するベンティング工程を感知するベンティング感知部、
前記各チャンバとカセットチャンバをそれぞれ連結する第１及び第２バイパスラインと、前記第１及び第２バイパスライン上にそれぞれ設置され各バイパスラインでガスの流れを断続する第１及び第２断続バルブから構成され、前記各チャンバのベンティング工程時に前記第１及び第２バルブプレートで前記カセットチャンバの両側スリットをそれぞれ密閉した状態で、前記各チャンバに注入されたガスを前記カセットチャンバにバイパスして、ベンティング工程がなされるチャンバとカセットチャンバの間に定圧状態を誘導するカセットチャンバ定圧部、及び
前記ベンティング感知部から感知された信号によって前記各チャンバのベンティング工程または真空工程を判断して前記カセットチャンバ定圧部のガスの流れを断続する制御部、
を含むことを特徴とするチャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置。
【請求項２】
前記各チャンバに連結されて各チャンバでベントガスを注入するベントバルブをさらに含み、前記ベンティング感知部は、前記ベントバルブ側に設置されてベントバルブのオープン及びクローズ状態に動作するための電気的信号を感知するベントバルブ感知センサーからなることを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置。
【請求項３】
前記スリットバルブは、前記第１バルブプレートと第２バルブプレートとを連結する連結部材をさらに含み、前記第１バルブプレートと第２バルブプレートは一つの駆動手段によって同時に駆動されることを特徴とする、請求項１に記載のチャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ、ＯＬＥＤ、ＳＯＬＡＲ等の基板を処理するための多数のチャンバからなる真空処理装置に関する。さらに詳細には、互いに隣合うチャンバ間に逆圧を防止するための手段が備えられた真空処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
通常、ＬＣＤ、ＯＬＥＤ、ＳＯＬＡＲ等の基板を処理する工程は、大部分高真空雰囲気で工程がなされる所定の工程、例えば薄膜蒸着、エッチング等の工程等が進行できるように、密閉されたチャンバが備えられる。またこのようなチャンバによって基板の収率を高めるためには、チャンバ内部が汚染されないように維持することが非常に重要である。
【０００３】
チャンバは、高真空状態で所定の基板工程が行われるプロセスチャンバ（Ｐｒｏｃｅｓｓ  ｃｈａｍｂｅｒ、ＰＭ）と、基板をロードまたはアンロードするロードロックチャンバ（Ｌｏａｄ  ｌｏｃｋ  ｃｈａｍｂｅｒ、ＬＭ）と、そしてプロセスチャンバとロードロックチャンバの間に設置されて基板を移送するトランスファーチャンバ（Ｔｒａｎｓｆｅｒ  ｃｈａｍｂｅｒ、ＴＭ）等からなっている。
【０００４】
一方、上述した各チャンバの間には、基板を通過させるための通路の役割をするスリット（ｓｌｉｔ）が形成されており、このスリットにはスリットを開閉するスリットバルブが設置されていてスリットの開閉がなされるようになっている。
【０００５】
このようなスリットバルブは、実質的にチャンバ間の通路をなすスリットを開閉するもので、スリットと同一の形状でスリットの開口部より大きい大きさのプレートからなるバルブプレートと、空圧によって作動しバルブプレート側に連結されているシャフトを動作させてバルブプレートを昇降させるアクチュエータ等を含む形態からなっている。
【０００６】
また、バルブプレート１には、スリット２をシーリングするためにスリット２との接触部位にオーリング３が備えられる。バルブプレート１を利用してスリット２を閉鎖する場合、バルブプレート１がチャンバ側に加圧されながらオーリング３が圧縮されてスリットが密閉されるのである。
【０００７】
しかし図１に示されたように、従来の真空処理装置は、チャンバとチャンバの間の基板通路であるスリット２を一つのバルブプレート１で密閉するので、もし互いに隣合うチャンバのうちいずれか一つのチャンバを大気圧状態に維持するために窒素等のガスを注入するベント（Ｖｅｎｔ）工程がなされる場合には、二つのチャンバ間での圧力差が非常に大きくなる。スリット２を密閉するバルブプレート１が、圧力が高いチャンバ（ベントがなされるチャンバ）から圧力が低いチャンバ（真空を維持するチャンバ）側に押される力が発生する。
【０００８】
この際、プロセスチャンバＰＭが高い圧力（ベントがなされるチャンバ）である場合、バルブプレート１は圧力差よってトランスファーチャンバＴＭの方向に押されながら逆圧が発生する。この場合に、オーリング３とスリット２の接触面に微細な隙が発生して、隣合う他のチャンバの真空に影響を与え、これは結局工程不良を誘発して製品に不良が発生する問題点がある。
【０００９】
特に、最近は基板の大量生産を追及する趨勢であるため、設備も中央に設けられたトランスファーチャンバＴＭを中心に、これと隣合う多数のプロセスチャンバＰＭが一つの設備に設けられて、複数の工程が同時に行われるマルチプロセスチャンバ型の真空処理装置が広く使用されている実情である。
【００１０】
この場合に、多数のプロセスチャンバのうちどれか一つのプロセスチャンバに問題が発生したり、または周期点検（ＰＭ）によってプロセスチャンバにベント工程を行う場合に、共通チャンバとして使用されるトランスファーチャンバは、真空状態を維持しなくては他のプロセスチャンバが正常に工程を行うことができなくなる。
【００１１】
しかし、このようなマルチプロセスチャンバにおいて、ある一プロセスチャンバのベント工程時に、共通で使用されるトランスファーチャンバとの圧力差による逆圧によって、ベント中のプロセスチャンバとトランスファーチャンバの間にインターリーク（ｉｎｔｅｒｌｅａｋ）が発生してトランスファーチャンバの真空が崩れ、工程中の他のプロセスチャンバの真空にも影響を与えるようになることにより、全体の工程に不良を引き起こす問題点がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、真空処理装置でのチャンバのベント工程時に、ベント工程がなされるチャンバとこれと隣合う他のチャンバとの間に、逆圧によるインタリークが発生することを防止することにより工程不良を減らすことができるチャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明で提供するチャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置は次のような特徴がある。
【００１４】
プロセスチャンバ、トランスファーチャンバ及びロードロックチャンバを含む本発明によるチャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置は、前記各チャンバの間に設置され互いに向い合う両側に基板が出入する通路を提供するスリットがそれぞれ形成され、内部に前記スリットをそれぞれ開閉するために昇降動作する第１バルブプレートと第２バルブプレートとを備えたスリットバルブを収容する空間を提供するカセットチャンバと、前記各チャンバでベントガスを注入するベンティング工程を感知するベンティング感知部と、前記各チャンバとカセットチャンバをそれぞれ連結する第１及び第２バイパスラインと、前記第１及び第２バイパスライン上にそれぞれ設置され各バイパスラインでガスの流れを断続する第１及び第２断続バルブから構成され、前記各チャンバのベンティング工程時に前記第１及び第２バルブプレートで前記カセットチャンバの両側スリットをそれぞれ密閉した状態で、前記各チャンバに注入されたガスを前記カセットチャンバにバイパスして、ベンティング工程がなされるチャンバとカセットチャンバの間に定圧状態を誘導するカセットチャンバ定圧部と、前記ベンティング感知部から感知された信号によって前記各チャンバのベンティング工程または真空工程を判断して前記カセットチャンバ定圧部のガスの流れを断続する制御部を含む。
【００１５】
また本発明によるチャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置は、前記各チャンバに連結されて各チャンバにベントガスを注入するベントバルブをさらに含み、前記ベンティング感知部は、前記ベントバルブ側に設置されてベントバルブのオープン及びクローズ状態に動作するための電気的信号を感知するベントバルブ感知センサーからなる。
【００１６】
ここで、前記スリットバルブは、前記第１バルブプレートと第２バルブプレートとを連結する連結部材をさらに含み、前記第１バルブプレートと第２バルブプレートは一つの駆動手段によって同時に駆動される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明はある一チャンバのベント工程時に、ベント工程がなされるチャンバ（ベントチャンバ）と、これと隣合う他のチャンバ（真空チャンバ）の間に設けられてスリットバルブの昇降動作空間を提供するカセットチャンバが互いに大気圧状態で定圧になる一方、カセットチャンバと真空チャンバは、大気圧と真空圧による圧力差により、カセットチャンバ内部で真空チャンバを密閉しているバルブプレートが真空チャンバ側に加圧密着されることによりオーリングの密閉性（シーリング）がさらに向上して、ベントチャンバと真空チャンバの間に逆圧によるインタリークが発生することを完全に遮断することができる効果が発揮される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】従来の真空処理装置でトランスチャンバとプロセスチャンバとの間のスリットバルブを示した概念図である。
【図２】本発明のチャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置が適用されるマルチ型チャンバを示した平面図である。
【図３】本発明の真空処理装置で、プロセスチャンバとトランスファーチャンバとの間のカセットチャンバ定圧誘導部を示した概念図である。
【図４】本発明の真空処理装置で、制御部による制御の流れを示した制御ブロック図である。
【図５】本発明の真空処理装置で、プロセスチャンバがベンティング工程の状態でカセットチャンバとトランスファーチャンバ間の定圧状態を示した概念図である。
【図６】本発明の真空処理装置で、トランスファーチャンバがベンティング工程の状態でカセットチャンバとプロセスチャンバ間の定圧状態を示した概念図である。
【発明の実施のための形態】
【００１９】
以下、添付された図面を参照して本発明の一実施例を詳しく説明すれば、次のとおりである。
【００２０】
以下で説明される本発明のプロセスチャンバＰＭ、ロードロックチャンバＬＭ、トランスファーチャンバＴＭ及びカセットチャンバＣＭを説明するにおいて、これらの構成について図面上に表示された構成番号と略字を混用して使用しているが、これは説明の便宜上互いに混用して使用したもので、実質的に同一の構成を説明するものである。
【００２１】
図２は、本発明の一実施例によるチャンバ間逆圧防止手段を備えたマルチプロセスチャンバ型真空処理装置を示した平面図である。
【００２２】
図２に示されたように、本発明による真空処理装置は、通常中央に設けられて共通で使用されるトランスファーチャンバ２０から一側にはロードロックチャンバ３０が設けられ、他側には基板の加工工程を進行する複数のプロセスチャンバ１０が相互並列に連結される。
【００２３】
また、各チャンバの間には、チャンバ間に基板の通路の役割をするスリットを開閉するスリットバルブが動作する空間を提供するカセットチャンバ４０がそれぞれ設けられる。
【００２４】
本発明では、カセットチャンバ４０を基準としてこれと隣合うチャンバのうちある一チャンバにはベンティング工程がなされ、他のチャンバでは真空工程がなされる場合に、カセットチャンバ４０をベンティング工程がなされるチャンバと同一の圧力状態、すなわち定圧状態を維持するようにするカセットチャンバ定圧誘導部を設けて、ベンティング工程がなされるチャンバと真空工程がなされるチャンバの間での圧力差によるインタリーク発生を防止する。
【００２５】
これと係わる図３は、本発明の要旨をなすカセットチャンバ定圧誘導部を示した概念図である。
【００２６】
図３では、プロセスチャンバとトランスファーチャンバの間に設けられたカセットチャンバ定圧誘導部を示したが、本発明では、カセットチャンバ定圧誘導部がプロセスチャンバとトランスファーチャンバの間のカセットチャンバに備えられたものに限定されるものではなく、ロードロックチャンバとトランスファーチャンバの間に設けられたカセットチャンバにも同様に適用されることができるのは勿論である。
【００２７】
図３に示されたように、本発明によるチャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置は、大きく互いに隣合うチャンバ、例えばトランスファーチャンバ２０とプロセスチャンバ１０の間を区画して基板の移送される通路を開閉するスリットバルブの昇降動作する空間を提供するカセットチャンバ４０と、トランスファーチャンバ２０またはプロセスチャンバ１０のうちベンティング工程がなされるいずれか一チャンバとカセットチャンバ４０が互いに定圧をなすようにするカセットチャンバ定圧部と、各チャンバ１０、２０のベンティング工程を感知するベンティング感知部６０と、このベンティング感知部６０から電気的信号を受けてカセットチャンバ定圧部の動作を制御する制御部８０を含んで構成される。
【００２８】
カセットチャンバ４０は、内部が空いている正六面体状のケースで、トランスファーチャンバ２０側とプロセスチャンバ１０側の間に設置され、互いに向い合う側面には基板が出入する通路の役割をするスリット４１、４２がそれぞれ形成される。
【００２９】
カセットチャンバ４０内部には、各スリット４１、４２を開閉できるように空圧によって昇降作動するスリットバルブが設置される。
【００３０】
この際、スリットバルブは、カセットチャンバ４０の両側に設けられた各スリット４１、４２の開閉を分けて担当するもので、垂直姿勢で互いに向かい合って連結部材４３を介して互いに一体に連結された第１及び第２バルブプレート５１、５２と、連結部材４３の中央に結合されるシャフト（図示なし）を有する空圧シリンダー方式のアクチュエータ（図示なし）で構成される。このようなスリットバルブは、アクチュエータの駆動によるシャフトの昇降動作によって連結部材４３を介して互いに連結された第１及び第２バルブプレート５１、５２が同時に昇降するデュアルシーリング方式からなる。
【００３１】
そして第１及び第２バルブプレート５１、５２には、カセットチャンバ４０の両側のスリット４１、４２をシーリングするために各スリット４１、４２との接触部位にオーリング４４がそれぞれ備えられる。
【００３２】
カセット定圧誘導部は、プロセスチャンバ１０とカセットチャンバ４０の間にガスの流れが可能なようにプロセスチャンバ１０とカセットチャンバ４０を互いに連結する第１バイパスライン７１と、トランスファーチャンバ２０とカセットチャンバ４０の間にガスの流れが可能なようにトランスファーチャンバ２０とカセットチャンバ４０を互いに連結する第２バイパスライン７２と、第１及び第２バイパスライン７１、７２上にそれぞれ設置されて後述する制御部８０の制御信号によってこれらが配属された各バイパスライン７１、７２のガスの流れを断続する第１及び第２断続バルブ７３、７４からなる。
【００３３】
一方、各チャンバ１０、２０には、工程中に真空状態を形成するために、各チャンバ１０、２０の一側に連結された真空ライン９３には真空ポンプ９４がそれぞれ設置される。真空ポンプ９４の前端には、真空ライン９３を開閉するバルブが設置される。
【００３４】
また、各チャンバ１０、２０のまた他の一側には、チャンバ内部を大気圧状態に転換するためにチャンバ内部にベントガスを注入するためのベントライン９１がそれぞれ設けられる。ベントライン９１には、各チャンバ１０、２０へのベントガスの流入を断続するために開閉機能のみを有するベントバルブ９２がそれぞれ設置される。
【００３５】
ここで、ベントガスは一般的に反応性が低い窒素Ｎ２を使用する。
【００３６】
一方、本発明では、プロセスチャンバ１０とトランスファーチャンバ２０のベンティング工程時に各チャンバ１０、２０のベンティング工程有無を感知するベンティング感知部６０が設けられる。
【００３７】
この際、ベンティング感知部６０は、各チャンバ１０、２０のベントバルブ９２側に設置されてベントバルブ９２がオープン（ｏｐｅｎ）及びクローズ（ｃｌｏｓｅ）状態に開閉動作するための電気的信号を感知するセンサーである。
【００３８】
制御部８０は、各チャンバ１０、２０に設けられたベントバルブ感知部６０と第１及び第２断続バルブ７３、７４と電気的に連結されている。
【００３９】
これと関連した図４は、本発明の一実施例によるカセットチャンバ定圧誘導部を動作させるための制御ブロック図である。
【００４０】
図４に示されたように、制御部８０は、各チャンバのベントバルブ感知センサー６０からベントバルブ９２がオープン（ｏｐｅｎ）状態の信号を受ける場合に、このベントバルブ９２が配属されたチャンバがベンティング工程段階と判断して該当チャンバとカセットチャンバに連結されたバイパスライン（７１または７２）上に設置された断続バルブ（７３または７４）をオープン（ｏｐｅｎ）状態に動作するように制御する。反対に、各チャンバのベントバルブ感知センサー６０からベントバルブ９２がクローズ（ｃｌｏｓｅ）状態の信号を受ける場合に、このベントバルブ９２が配属されたチャンバが真空工程段階と判断して該当のチャンバとカセットチャンバに連結されたバイパスライン（７１または７２）上に設置された断続バルブ（７３または７４）をクローズ（ｃｌｏｓｅ）状態に動作するように制御する。
【００４１】
以下では、上述のように構成された本発明による真空処理装置で、ある一チャンバのベンティング工程中にこれと隣合う他のチャンバの間での逆圧防止のための動作を説明することにする。
【００４２】
図５は、プロセスチャンバＰＭがベンティング工程を行いトランスファーチャンバＴＭが真空工程を行う場合に、トランスファーチャンバＴＭとカセットチャンバＣＭの間に定圧を誘導するための動作を説明した概念図で、図６は、トランスファーチャンバＴＭがベンティング工程を行いプロセスチャンバＰＭが真空工程を行う場合に、プロセスチャンバＰＭとカセットチャンバＣＭの間に定圧を誘導するための動作を説明する概念図である。
【００４３】
図５を参照してプロセスチャンバＰＭがベンティング工程を行う工程を説明すれば、プロセスチャンバＰＭが多数備えられたマルチチャンバで、他のプロセスチャンバの工程中にある一つのプロセスチャンバＰＭに問題が生じたり、または周期点検によってプロセスチャンバＰＭを大気圧状態に維持するために、プロセスチャンバＰＭに窒素ガスを注入するベンティング工程を行うようになる。
【００４４】
この際、外部からプロセスチャンバ１０に窒素ガスを注入するために、プロセスチャンバ１０側のベンティングベルブ９２は開放された状態をなす。そしてトランスファーチャンバ２０には他のプロセスチャンバと工程間の作業を連続的になすことができるよう真空状態が維持されるようにトランスファーチャンバ２０側のベンティングベルブ９２はクローズ状態になる。（図３参照）
【００４５】
各チャンバ１０、２０のベンティングベルブ９２側に連結されたベンティングベルブ感知センサー６０は、各チャンバ１０、２０のベンティングベルブ９２のオープンまたはクローズ状態信号を感知して、これを制御部８０に電気的信号で各々送る。（図４参照）
【００４６】
制御部８０は、各チャンバ１０、２０のベンティングベルブ感知センサー６０の信号によって、プロセスチャンバ１０がベンティング工程を行いトランスファーチャンバ２０が真空工程を行うものと判断して、プロセスチャンバ１０とカセットチャンバ４０に連結された第１バイパスライン７１上に設置された第１断続バルブ７３はオープン（ｏｐｅｎ）になるように制御し、トランスファーチャンバ２０とカセットチャンバ４０に連結された第２バイパスライン７２上に設置された第２断続バルブ７４はクローズ（ｃｌｏｓｅ）になるように制御する。
【００４７】
これによって、プロセスでチャンバ１０に流入したベンティングガスは、第１バイパスライン７１を通ってカセットチャンバ４０に流入し、プロセスチャンバ１０とカセットチャンバ４０は同一の大気圧Ｐａ状態に定圧を維持することができる。一方、カセットチャンバ４０とトランスファーチャンバ２０は、第２バイパスライン７２がクローズ（ｃｌｏｓｅ）されてカセットチャンバ４０からトランスファーチャンバ２０へのベンティングガスの流入が遮断されることにより、真空状態の圧力Ｐｖを維持し続けることができる。
【００４８】
この際、カセットチャンバ４０とトランスファーチャンバ２０は、大気圧Ｐａと真空圧Ｐｖによる圧力差によって、トランスファーチャンバ２０側のスリットを密閉している第２バルブプレート５２をトランスファーチャンバ２０側に加圧密着することにより、オーリング４３の密閉力（シーリング）がさらに向上して圧力差によるインタリークが全く発生しなくなる。
【００４９】
上述したプロセスチャンバ１０のベンティング工程が完了した以後に、プロセスチャンバ１０を再び真空状態を維持して工程を行う場合には、第１断続バルブ７３はオープン（ｏｐｅｎ）状態そして第２断続バルブ７４はクローズ（ｃｌｏｓｅ）した状態で、プロセスチャンバ１０に設置された真空ポンプ（図３の９４）を稼動することによりプロセスチャンバ１０とカセットチャンバ４０はそれぞれ真空状態になる。
【００５０】
以後プロセスチャンバ１０とカセットチャンバ４０の真空が完了した後、最初のバルブの動作時、制御部８０は第１断続バルブ７３はクローズ（ｃｌｏｓｅ）及び第２断続バルブ７４はオープン（ｏｐｅｎ）になるように制御して以後の工程がなされるようにする。
【００５１】
参考に、プロセスチャンバ１０の工程中には、第２断続バルブ７４は常にオープン（ｏｐｅｎ）状態が維持される。
【００５２】
図６を参照して、トランスファーチャンバＴＭのベンティング工程と関連して説明すれば、トランスファーチャンバＴＭの場合には、工程中にトランスファーチャンバＴＭ内部に問題が発生した場合、例えば移送ロボットに問題が起こった場合等には、移送ロボットの修理及び点検のためにトランスファーチャンバＴＭを大気圧状態に維持しなければならないので、トランスファーチャンバＴＭに窒素ガスを注入するベンティング工程を行うようになる。
【００５３】
この場合、外部からトランスファーチャンバ２０に窒素ガスを注入するために、トランスファーチャンバ２０側のベンティングベルブ９２をオープン（ｏｐｅｎ）する場合にも、他のプロセスチャンバ１０は汚染防止のための真空状態を維持するために継続的な真空工程作業がなされる。この際、プロセスチャンバ１０側のベンティングベルブ９２はクローズ（ｃｌｏｓｅ）状態になる。（図３参照）
【００５４】
制御部８０は、各チャンバ１０、２０のベンティングベルブ感知センサー６０の信号によって、トランスファーチャンバ２０はベンティング工程を行い、他のプロセスチャンバ１０は真空工程を行うものと判断して、プロセスチャンバ１０とカセットチャンバ４０に連結された第１バイパスライン７１上に設置された第１断続バルブ７３はクローズ（ｃｌｏｓｅ）されるように制御し、トランスファーチャンバ２０とカセットチャンバ４０に連結された第２バイパスライン７２上に設置された第２断続バルブ７４はオープン（ｏｐｅｎ）になるように制御する。
【００５５】
これによって、トランスファーチャンバ２０に流入したベンティングガスは、第２バイパスライン７２を通ってカセットチャンバ４０に流入して、トランスファーチャンバ２０とカセットチャンバ４０は同一の大気圧Ｐａ状態で定圧を維持することができる。一方、カセットチャンバ４０とプロセスチャンバ１０は、第１バイパスライン７１上の第１断続バルブ７３がクローズ（ｃｌｏｓｅ）されてカセットチャンバ４０からプロセスチャンバ１０へのベンティングガスの流入が遮断されて真空状態の圧力Ｐｖを維持し続けることができる。
【００５６】
この際、カセットチャンバ４０とプロセスチャンバ１０は、大気圧Ｐａと真空圧Ｐｖによる圧力差によってプロセスチャンバ１０側のスリットを密閉している第１バルブプレート５１をプロセスチャンバ１０側に加圧密着することにより、オーリング４４の密閉力（シーリング）がさらに向上して圧力差によるインタリークが全く発生しなくなる。
【００５７】
上述したトランスファーチャンバ２０のベンティング工程が完了した以後に、再びトランスファーチャンバ２０の真空状態を維持して継続的な工程を行う場合には、第１断続バルブ７３はクローズ（ｃｌｏｓｅ）そして第２断続バルブ７４はオープン（ｏｐｅｎ）した状態で、トランスファーチャンバ２０に設置された真空ポンプ（図３の９４）を稼動してトランスファーチャンバ２０とカセットチャンバ４０がそれぞれ真空になるようにする。
【００５８】
以後トランスファーチャンバ２０とカセットチャンバ４０の真空が完了した状態では、第１断続バルブ７３はクローズ（ｃｌｏｓｅ）そして第２断続バルブ７４はオープン（ｏｐｅｎ）になった状態を継続的に維持しながら以後の工程がなされるようにする。
【００５９】
このように、本発明によるチャンバ間逆圧防止手段を備えた真空処理装置においては、プロセスチャンバＰＭのベント工程時にカセットチャンバＣＭはプロセスチャンバＰＭと同様にベント（待機状態）になり、またトランスファーチャンバＴＭのベント工程時にカセットチャンバＣＭはトランスファーチャンバＴＭと同様にベント（待機状態）になる。これは結局、プロセスチャンバＰＭまたはトランスファーチャンバＴＭがベント工程がなされる場合に、両チャンバの間に設けられたカセットチャンバＣＭでスリットバルブの各バルブプレートが両チャンバＴＭ、ＰＭのスリットを密閉した状態でカセットチャンバＣＭはベント状態（待機状態）になる緩衝の役割をすることにより、両チャンバ間の圧力差による逆圧によってチャンバ間のインタリークが発生することを防止することができるようになる。
【００６０】
一方、ロードロックチャンバＲＭの場合には、外部から基板が流入されたり、または工程が完了した基板を外部に搬出する場合にベンティング工程がなされるようになるが、この際ロードロックチャンバＲＭとトランスファーチャンバＴＭの間のカセットチャンバＣＭの定圧を維持するための構成及び方法は、上述したトランスファーチャンバとプロセスチャンバの間のカセットチャンバの定圧を維持するための構成及び方法と同様に適用される。
【００６１】
以上、本発明をいくつかの好ましい実施例を使って説明したが、これらの実施例は例示的なものであて限定的なものではない。本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者ならば、本発明の思想と添付された特許請求の範囲に提示された権利範囲から逸脱しないで多様な変化と修正を加えることができることを理解するであろう。
【図１】
2015513338.tif 000003
【図２】
2015513338.tif 000004
【図３】
2015513338.tif 000005
【図４】
2015513338.tif 000006
【図５】
2015513338.tif 000007
【図６】
2015513338.tif 000008
【国際調査報告】
2015513338.tif 000009
2015513338.tif 000010
2015513338.tif 000011
2015513338.tif 000012