(57)【要約】【課題】本発明は、幾何学的外形を有する２次元断面のような各層に対し、製造すべき２次元物体に対応する領域を固化するためにレーザビームを使用する工程（１０）を含み、積層法により３次元物体を製造するためのレーザビームの制御方法に関する。【解決手段】当該方法は、少なくとも１つの２次元断面について、前記２次元断面における幾何学的外形を取得する工程（５０）と、前記断面の幾何学的外形から、該幾何学的外形の形状に相関する形状を持つ参照経路を決定する工程（５２）と、決定した参照経路に基づいて、複数の経路からなる経路集合を決定する工程と（５４）、前記経路の進行順序及び各経路の開始点を定義する進行ストラテジに従って、決定した経路の全てを通るようにレーザビームを制御する工程（５８）を備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
幾何学的外形を有する２次元断面のような各層に対し、製造すべき２次元物体に対応する領域を固化するためにレーザビームを使用する工程を含み、積層法により３次元物体を製造するためのレーザビームの制御方法において、少なくとも１つの２次元断面について、
前記２次元断面における幾何学的外形（６２，９２，１０２）を取得し（５０）、
前記断面の幾何学的外形から、該幾何学的外形の形状に相関する形状を持つ参照経路（６４，９４，１０２）を決定し（５２）、
決定した参照経路に基づいて、複数の経路からなる経路集合を決定し（５４）、
前記経路の進行順序及び各経路の開始点を定義する進行ストラテジに従って、決定した経路の全てを通るようにレーザビームを制御する（５８）
工程を含むことを特徴とする制御方法。
【請求項２】
前記参照経路（１０２）は、前記断面の幾何学的外形（１０２）に対応することを特徴とする請求項１に記載の制御方法。
【請求項３】
前記経路集合の決定（５４）は、連続する２つの経路間の予め定められた距離に基づいて、前記参照経路の幾何変換による演算を行うことにより、複数の結合経路を生成することを含むことを特徴とする請求項２に記載の制御方法。
【請求項４】
前記参照経路（６４，９４）は、前記幾何学的外形上の選択した点から等距離にある点の集合により得られる中間経路であることを特徴とする請求項１に記載の制御方法。
【請求項５】
前記経路集合の決定（５４）は、２つの連続する経路が所定距離だけ離隔するように、前記参照経路に平行な複数の経路を生成することを含むことを特徴とする請求項４に記載の制御方法。
【請求項６】
前記経路集合の決定（５４）は、参照経路（９４）の対応するセグメント（ＦＮ１，ＦＮ２，ＦＮ３，ＦＮ４）を有する前記２次元断面の領域に対し、予め定めた規則に基づき、前記参照経路のセグメントに平行及び垂直な経路から選択することを含むことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の制御方法。
【請求項７】
一の経路における進行終了の点と、進行順序で次の経路における進行開始の点との間の距離を最小化するように前記進行ストラテジを決定する工程（５６）を更に含むことを特徴とする請求項１から請求項６の何れか１つに記載の制御方法。
【請求項８】
前記進行ストラテジは、前記経路集合の各経路に対して、予め定められた１つの方向に進行させるモードと、予め定められた２つの方向を交互に交代させるモードとを含む進行モードを定義していることを更に含むことを特徴とする前述の請求項１から請求項７の何れか１つに記載の制御方法。
【請求項９】
レーザビームを偏光する手段（３８）を備え、製造すべき各層に対し、製造すべき３次元物体における幾何学的形状を有する２次元断面に対応した領域をレーザビームを用いて固化する積層法により、３次元物体を製造する装置において、
前記２次元断面における幾何学的外形を取得する手段と、
前記断面の幾何学的外形から、該幾何学的外形の形状に相関する形状を持つ参照経路を決定する手段と、
決定した参照経路に基づいて、経路集合を決定する手段と、
前記経路の進行順序及び各経路の開始点を定義する進行ストラテジに従って、決定した経路の全てを通るようにレーザビームを制御することができる前記レーザビームを偏光する手段を制御する手段と
を備えることを特徴とする製造装置。
【請求項１０】
前記幾何学的外形を取得する手段、前記参照経路を決定する手段、及び前記経路集合を決定する手段を実現することができる演算部（２４）を備えることを特徴とする請求項９に記載の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層法を用いて３次元物体を製造するためのレーザビームの制御方法、及び積層法を用いて３次元物体を製造するための装置に関する。
本発明は、レーザ処理（特にレーザ焼結）により３次元物体を製造する技術分野に属する。
【背景技術】
【０００２】
レーザ焼結を用いて各層を追加的に製造することにより、形状の制約を受けることなく、三次元物体を製造することが知られている。このような製造方法は、基板上に粉末状又は液体生成物の層を堆積させる工程を含む。前記基板は製造されるべき物体において既に固化された層であり得る。粉末又は液体材料の層は、製造されるべき物体の２次元断面により定められる領域に、レーザビームが照射（または発振ともいう）されることによって徐々に固化される。したがって、三次元物体は、複数の層が積層されることにより製造される。各層は製造すべき物体の２次元断面に対応する。
【０００３】
既知の手法において、レーザビームは、製造すべき２次元断面に対応した領域を徐々に固化させるために、使用される材料の物理的制約に基づいて決定される距離だけ離間して、ガルバノモータによって作動するミラー（ガルバノミラー）を用いて直線経路に沿って動くように構成されている。
【０００４】
図１は、従来技術で示すような、２次元断面１０の層を固化させるための直線経路を示す図である。直線経路又はベクトル１２は端点１４，１６により特徴付けられ、これらの端点は２次元断面１０の幾何学的外形１８に関連して定められる。第１の公知の製造方法に依れば、レーザビームは、ある決まった方向に全ての直線経路１２を連続的に移動する。この方向は、図１の矢符の方向であり、経路開始点（端点）１４から経路終了点（端点）１６へ向かう方向である。１つの経路から次の経路に移動させるために、レーザ源を停止させ、ガルバノミラーを再配置してから、レーザ源を再開させる必要がある。累積的な停止、再配置、再開の時間、または、２つの経路を移動させる時間は、大幅な生産性の低下を招く原因となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】英国特許出願公開第２３７８１５０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
この問題を解決するために、ある経路の終了点と次の経路の開始点との間の距離を減少させて、移動時間を減少させるために、進行方向を交互に変更しながら直線経路を進行させる従来技術が提案されている。例えば、図１を参照すれば、点１４と点１６との間の直線経路を進行させた後、次の直線経路は点１６’から点１４’へ向けて進行させる。生産性におけるこの改善は、レーザビームを照射して領域１０の全体を固化させるために進行させるべき多数の直線経路が存在するので、不十分なままである。
【０００７】
更に、多数の経路は、多数の開始点及び終了点を発生させる。それ故、レーザ発振面がマークされる場所が多数発生し、所謂「表面」効果を引き起こし、得られるレーザ発振面に欠陥が生じる。この現象は、レーザビームの照射により外形１８が再トレースされた場合でも持続する。
【０００８】
したがって、より良い生産性及びレーザ焼結によって得られる部分の改善された表面状態を可能にするために、当技術分野で公知の方法の欠点を解決する必要性がある。
【０００９】
そのために、本発明は、積層法により３次元物体を製造するためにレーザビームを制御する方法を提案する。この方法は、各層に対し、幾何学的外形を有する２次元断面のような製造すべき２次元物体に対応する領域をレーザビームを用いて固化するステップを含む。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
少なくとも１つの２次元断面に対し、前記方法は、次の各ステップを備える。
・２次元断面の幾何学的外形を取得する。
・前記断面の幾何学的外形から、該幾何学的外形の形状に相関する形状を持つ参照経路を決定する。
・参照経路に基づいて経路集合を決定する。
・前記経路の進行順序及び各経路の開始点を定義する進行ストラテジに従って、決定した経路の全てを通るようにレーザビームを制御する。
【００１１】
好都合に、製造すべき物体の２次元断面の幾何学的外形から参照経路を定義すること、及び参照経路から経路集合を定義することは、製造すべき物体の形状への微細な適応を可能とする。このようにして、得られる表面の品質は向上する。更に、経路の数が大幅に減少することで、停止及び再配置の時間（移動時間）を減少させることができ、それ故、生産性を向上させることができる。
【００１２】
本発明に係るレーザビームの制御方法は、以下の１又は複数の特徴を備え得る。
・前記参照経路は断面の幾何学的外形に対応する。
・経路集合の決定は、連続する２つの経路間の予め定められた距離に基づいて、前記参照経路の幾何変換による演算を行うことにより、複数の結合経路を生成することを含む。
・前記参照経路は、前記幾何学的外形上の選択した点から等距離にある点の集合により得られる中間経路である。
・前記経路集合の決定は、２つの連続する経路が所定距離だけ離隔するように、前記参照経路に平行な複数の経路を生成することを含む。
・前記経路集合の決定は、参照経路の対応するセグメントを有する前記２次元断面の領域に対し、予め定めた規則に基づき、参照経路のセグメントに平行及び垂直な経路から選択することを含む。
・一の経路における進行終了の点と、進行順序で次の経路における進行開始の点との間の距離を最小化するように前記進行ストラテジを決定する工程を更に含む。
・前記進行ストラテジは、前記経路集合の各経路に対して、予め定められた１つの方向に進行させるモードと、予め定められた２つの方向を交互に交代させるモードとを含む進行モードを定義していることを更に含む。
【００１３】
第２の側面によれば、本発明は、レーザビームを偏光する手段を備え、製造すべき各層に対し、製造すべき３次元物体における幾何学的形状を有する２次元断面に対応した領域をレーザビームを用いて固化する積層法により、３次元物体を製造する装置に関する。
本発明に係る装置は、以下を備える。
・前記２次元断面における幾何学的外形を取得する手段
・前記断面の幾何学的外形から、該幾何学的外形の形状に相関する形状を持つ参照経路を決定する手段
・決定した参照経路に基づいて、経路集合を決定する手段
・前記経路の進行順序及び各経路の開始点を定義する進行ストラテジに従って、決定した経路の全てを通るようにレーザビームを制御する手段
【００１４】
１つの特徴に依れば、前記装置は、前記幾何学的外形を取得する手段、前記参照経路を決定する手段、及び前記経路集合を決定する手段を実現することができる演算部を備える。
【００１５】
本発明の他の特徴及び利点は、情報の為かつ非限定的に用意された以下の説明、添付の図面を参照して明らかになるであろう。  
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】既に記述された従来の直線経路に沿ったレーザビームにより処理された２次元断面を示す図である。
【図２】各層のレーザ焼結により物体を製造するための設備を示す概略図である。
【図３】本発明の１つの実施形態によるレーザビームを制御する手法のステップを示すブロック図である。
【図４】本発明の第１の実施形態による製造すべき物体の２次元断面及び参照経路の平面図である。
【図５】第１の実施形態による参照経路により生成される全ての経路を示す図である。
【図６】本発明の第１の実施形態に対する変形例による製造すべき物体の２次元断面及び経路集合を示す平面図である。
【図７】本発明の第２の実施形態による全ての経路を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、積層製造法により、各層が製造すべき物体の２次元断面に対応し、形状の制約を受けない３次元物体の製造に適用した本発明の形態について説明する。各層は、層に対応した２次元断面に基づいて定められる固化領域を得るために、液体又は粉末状の物質に対してレーザビームを照射して固化することにより形成される。
【００１８】
図２は、レーザビームにより実現する積層法の製造装置におけるモジュールを模式的に示している。なお、図２は本発明を実現するために関わりのあるモジュールのみを示している。
【００１９】
装置２０は、レーザ発振部２２と、例えばコンピュータのような演算部２４とを備える。レーザ発振部２２は、レーザビーム２７を作り出すことができる電磁放射源又はレーザ源２６と、ガルバノヘッド２８と、ここでは断面として示され、製造すべき物体の各層が生成される焼結フィールド３０とを備える。
【００２０】
レーザ発振部２２は、「ビームシェイパー」又は「ビームイクスパンダー」と称されるレーザビーム２７の形状を整える手段３２、焦点距離を変更する手段３４、及び／又は平面場対物レンズ３６を備える。更に、レーザ発振部は、例えば、それぞれの軸が垂直である２つのガルバノモータに設けられた２つのミラーにより構成され、ＸＹ平面でレーザビームを偏光するための手段３８を備える。単純化のために、単一のミラーのみが示されている。
【００２１】
演算部２４は、レーザビームを偏光する手段３８へ制御順序を送出することが可能であり、製造すべき物体を構成する各層を形成することができるように、液体又は粉末状の物質の層を含む焼結フィールド３０の与えられた経路上をレーザビームで走査するように構成されている。
【００２２】
演算部２４は、例えばコンピュータであり、特にデータ記憶手段４０及びプロセッサ４２を備え、コンピュータプログラムコードから各種演算及び命令を実行し、本発明によるレーザビームの制御方法を実現できるように構成されている。特に、データ記憶手段４０は、製造すべき３次元物体の各２次元断面の形状に関するデータを記憶することができる。このようなデータは、例えば、適当なコンピュータ支援設計製造（ＣＡＤＭ）ソフトウェア（不図示）により用意される。また、演算部２４は、マンマシンインタフェース手段４４を備え、オペレータから本発明によるレーザビームの制御方法を実現するために有用なパラメータの入力を受付ける。
【００２３】
図３に示す一般原理に依れば、製造すべき各層に対し、積層法による３次元物体を製造するためにレーザビームを制御する方法が適用される。製造すべき各層に対応した２次元断面が入力して用意される。上述したように、このような断面は、焼結フィールド３０で固化させるべき物質の外形を定めるものであり、例えばＣＡＤＭソフトウェアにより、連続する各層毎に用意される。
【００２４】
最初のステップ５０において、まず最初に断面の幾何学的外形が得られる。任意形状の物体の製造を含む場合、図４から図７に後に示すように、幾何学的外形は任意の幾何形状を有する。このような外形は、直線部を含むものであってもよく、含まないものであってもよい。また、外形は、多角形の形状を有するものであってもよい。製造すべき層が物質の接続されていない幾つかの部分により構成される場合、各部分は、２次元断面及び関連する幾何学的外形と共に個別に処理される。
【００２５】
ステップ５０に続くステップ５２では、処理すべき２次元断面における参照経路を決定する。参照経路は、断面の幾何学的外形から算出される。ステップ５２について幾つかの実施形態が考えられる。これらの実施形態は、以下において、図４から図７を参照してより詳細に説明される。
【００２６】
第１の実施形態では、参照経路は、断面の外形上の点から等距離の点からなり、外形に対する中間経路として定義される。参照経路は、ボロノイ又はドロネーアルゴリズムにより算出される。特に、ドロネー法は、三角網の形成を含み、各三角形の頂点は断面の幾何学的外形上にあり、この頂点は、既知の手法では、外形の区分的な直線表示に基づき選択される。参照経路は、ドロネー三角形の辺の中点を通る全ての点により定められる。そして、経路を描く点は、外形の選択した点から等距離にある。この第１の実施形態では、参照経路は、断面の幾何学的外形を代表する骨格である。
【００２７】
第２の実施形態では、処理すべき２次元断面の幾何学的外形は参照経路を定義する。すなわち、参照経路は、断面の幾何学的外形から直接的に得られる。第２の実施形態において、参照経路は閉曲線である。
【００２８】
これらの２つの実施形態に依れば、参照経路は、断面の幾何学的外形に対応する形状を持つ経路であり、それゆえ、処理対象の断面に特に適合し、任意の幾何形状を有する経路である。第１の実施形態では、参照経路の形状は、解析的な計算により断面の幾何学的外形から導出され、それは外形から得られる「骨格」であるため、外形の形状に関係がある。第２の実施形態では、参照経路の形状は外形の幾何形状と同一である。
【００２９】
レーザビームを進行させる経路集合は、ステップ５２の後に実行されるステップ５４において、参照経路から決定される。この集合は、所定間隔Ｅｖだけ離隔した複数の経路を含んでいる。間隔Ｅｖは、製造すべき物体の構造及び用いられる材料の物理的性質に基づいて事前に計算される。間隔Ｅｖは、例えば、１０μｍから１５０μｍの範囲の値である。
【００３０】
経路の集合は参照経路を含む。経路の数は、以下で説明する例の如く、連続する２つの経路の間隔Ｅｖ及び外形の幾何形状に依存する。
【００３１】
進行させる全ての経路が決定された場合、進行ストラテジがステップ５６で決定される。進行ストラテジは、レーザ照射の経路集合に含まれる各経路に対する進行順序、各経路の進行の開始点を含み、終了点は、経路及び断面の幾何学的外形が既知であることから暗に分かる。更に、進行ストラテジは、進行モードを定義してもよい。進行モードは、例えば、１つの決められた進行方向を用いるモード、連続する２つの経路間において進行方向を交互に交代させるモード、又は、別の代替モードを含む。進行ストラテジは、例えば、生産性を最適化し、移行時間を減少させるべく、ある経路の終端と進行順序において次の経路の開始点との間の距離を最小化する条件に依れば、自動的に定義され得る。また、進行ストラテジは、オペレータによって定義されるものであってもよい。
【００３２】
経路集合及び関連する進行ストラテジを取得した後に、当該方法は、例えば、ＸＹ平面内でレーザビームを偏光するために、手段３８のガルバノモータに対して制御命令を送出することにより、レーザビームを制御するステップ５８を含む。得られた経路を非常に細かなピッチで走査することにより、レーザビームを偏光する手段３８を非常に正確に誘導することができ、任意の幾何形状について非常に正確な経路を得ることを可能にする。
【００３３】
図４から図６は、本発明の第１の実施形態に関して、断面の例を平面図として示したものである。図４から図６において参照経路は中心経路である。
【００３４】
図４は、幾何学的外形６２を有し、製造すべき物体の２次元断面６０を示す平面図である。参照経路６４は、解析的な計算により骨組みを得る上述のドロネー法を適用することによって得られる。参照経路６４は複数の点により構成されており、参照経路６４の点は、図に示すように外形上の点から所定方向に等距離の位置に存在する。
【００３５】
図５には、図４に示したものと同一の断面６０が参照経路ＴR 及び参照経路から決定される経路集合と共に示される。
【００３６】
各経路は参照経路ＴR から算出される。各経路は、断面６２の幾何学的外形の内側に参照経路ＴR からＥvの整数倍の距離に位置している。上述したように、Ｅｖは任意のパラメータであり、連続する２つの経路の間隔Ｅｖは、与えられた２次元断面において一定である。２つの連続する任意の経路をＴi 及びＴi+1 とした場合、経路Ｔi+1 の各点は、概ね経路Ｔi の点から垂直に間隔Ｅｖ（又はオフセット）だけ離れた位置に存在する。不連続な経路Ｔi の場合、すなわち、同一の点（屈曲点）への個別の接線が２本存在する場合、その点は、長さＥｖを有する法線の回転中心をなし、経路Ｔi+1 上で連続性を生成し得る。
【００３７】
別の実施形態では、２次元断面の連続する２つの経路は一定の距離Ｅｖｉを有する。例えば、参照経路と参照経路に連続する１番目の経路との間の離隔距離がＥｖ１であり、当該１番目の経路と２番目の経路との間の距離がＥｖ２などのように、与えられた２次元断面の範囲で変化するものであってもよい。
【００３８】
外形の内部に包含させるという制約条件を課した場合、幾つかの経路は分割される。そのため、経路６６，６８及び７０は、参照経路ＴR から等しい距離にある。
【００３９】
図５は、参照番号が増加する順序によって、好ましい経路の進行順序を示したものである。ある経路の進行終了の点と次の経路の進行開始の点と間の距離を減少させるために、幾何学的外形６２上の点に到達した場合、進行方向を反転させる。したがって、進行順序は、進行方向を交互に変更しながら、経路６６，６８，７０，…，８６の順となる。
【００４０】
また、経路の進行順序及び進行モード（単一方向又は交互方向）に関して、別の形態が考えられる。
例えば、経路に伴って参照番号が減少する進行順序は、参照番号が増加する進行順序と同等である。
【００４１】
経路の単一方向への進行は、停止及び再配置の時間を最小化する観点で少しだけ改善され得る。
【００４２】
別の形態では、次の進行順序が考慮される。すなわち、経路７６，７４，７２，７０，６８，６６、次に、経路７８，８０，８６，８４，８２の順序である。
【００４３】
それでも、対象となる断面の全域を移動するのに少数の閉じた経路で十分であり、直線経路の方法を用いた既知のグレージング技術と比較すれば生産性は向上することに留意すべきである。
【００４４】
図６は本発明の第１の実施形態における変形例を示している。この特定の事例では、２次元断面は複数の領域又は部分を有している。図６に示す事例では、処理すべき断面９０は、幾何学的外形９２により定められ、それぞれがｌi で表記された幅を有する複数の矩形領域により形成されている。４つの領域が見られ、これらの領域を領域１から領域４と称する。この例では、中心の参照経路９４は複数の直線部により形成される。より一般的には、参照経路は、複数のセグメントにより構成され、各セグメントは領域の１つに対応する。参照経路の各セグメントは、Ｌi で表記される関連する長さを有する。この例では、それぞれＬ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3 ，及びＬ4 の長さを有する４つのセグメントが存在する。
【００４５】
もちろん、セグメントの数は例示のために与えられたものであり、記述された方法は、外形に基づいて決定された直線部の数に関わらず適用可能である。
【００４６】
１つの変形例によれば、２次元断面の各領域の内部にて、経路は、次の方法により参照経路に基づいて算出される。
【００４７】
符号ＦＮｉは、この例において、領域番号ｉ、幅ｌi の中心経路の直線部であるセグメントを表す。セグメントＦＮｉは長さＬi を有する。
【００４８】
符号ＸｔｉP は、セグメントＦＮｉに平行な経路の数を表し、ＸｔｉO は、セグメントＦＮｉに垂直な経路の数を表す。連続する２つの経路間の距離は予め定められており、Ｅｖに等しい。
【００４９】
ＸｔｉP 及びＸｔｉO のそれぞれの値は、次式を用いて算出される。
【００５０】
【数１】
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【００５１】
領域番号ｉに対し、経路全体の数を最小化するために、ＸｔｉP がＸｔｉO より小さい場合（すなわち、セグメントの長さＬi が領域の幅ｌi より大きい場合）には、セグメントＦＮｉに平行な複数の経路が選択され、ＸｔｉO がＸｔｉP より小さい場合、セグメントＦＮｉに垂直な複数の経路が選択される。
【００５２】
参照経路から経路を決定する前記方法の適用例は図６に開示される。図６は、領域２及び３において、参照経路のセグメントに平行な複数の経路が選択され、領域４において、参照経路のセグメントＦＮ４に垂直な複数の経路が選択されたことを示している。
【００５３】
参照経路に基づき経路を決定する前記方法により、経路の全数は最小化され、生産性を最適化することができる。
【００５４】
図７は本発明の参照経路及び関連する複数の経路の集合を取得する第２の方法を示している。
【００５５】
図４と同様に、図７は製造すべき物体の２次元断面１００の平面図を示している。２次元断面１００は幾何学的外形１０２を有する。
【００５６】
この実施形態において、幾何学的外形１０２は参照経路である。符号１０４から１１２で示される経路集合の他の経路は、連続する２つの経路間の間隔Ｅｖに応じて、参照経路１０２の幾何変換により決定される。実際、第１の実施形態では、ＥｖのオフセットがＴi 及びＴi+1 で表記される２つの連続する経路間に適用される。経路Ｔi+1 の各点は、経路Ｔi の各点から垂直に間隔Ｅｖ（又はオフセット）だけ離隔した位置にある。
【００５７】
第１の実施形態のように、幾つかの経路は、参照経路からＥｖの整数倍だけ離隔した同じ距離にある複数のサブ経路（例えば、経路１０８，１１０及び１１２）に分割される。参照経路から描かれる複数の経路は互いに連結している。
【００５８】
各経路に関連付けられている参照番号が増加する順序に、外部から内部への進行順序が考慮されている。
【００５９】
若しくは、この例では、参照番号が減少する順序に、内部から外部へ経路が進行する。
【００６０】
経路が閉曲線である場合、各経路において、経路の終了点と経路の開始点とは同一である。
このため、経路上の任意の点が進行開始の点として選択され得る。
【００６１】
例えば、進行開始の点の集合は、与えられた経路の全てに対し、１１４から１２４の番号を付けて図７に示されている。第１の実施形態のように、進行方向は、複数の経路の全てについて同一方向（例えば時計回り）に移動することが考えられる。若しくは、進行方向は、与えられた交代規則に従って交互に変更される。
【００６２】
しかしながら、進行方向を交互に変更することは、第１の実施形態と比べると移動時間を減少させることとの関係性が少なくなる。それにも関わらず、各適用例に応じて、特に断面の処理における温度の均一性の改善を目的として、進行方向を交互に変更してもよい。
【００６３】
好都合に、この第２の実施形態では、断面を処理するために必要な経路の数は、２つの経路間の所定間隔Ｅｖを適用することにより更に減少し、移動時間を更に減少させ、生産性を向上させることができる。
【００６４】
参照経路を決定する２つの実施形態について説明した。これらのモード間の選択は、生産性及び得られる表面の品質に有利となるように、処理すべき２次元断面の幾何学的外形の形状に基づいて実行され得ることに留意すべきである。好都合に、この実施形態のため、本発明に係るレーザビームの制御により、任意の種類の幾何学的外形の形状は処理され得る。
【００６５】
本発明は、例に記載し、示したものに限定されない。
したがって、例えば、２次元断面の数又は任意のパラメータに基づき、様々な関連する進行ストラテジを用いて、処理した２次元断面の数を関連付けたり、上述した２つの実施形態を交互に用いたりすることが考慮され得る。
【図１】
2015527225.tif 000004
【図２】
2015527225.tif 000005
【図３】
2015527225.tif 000006
【図４】
2015527225.tif 000007
【図５】
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【図６】
2015527225.tif 000009
【図７】
2015527225.tif 000010
【国際調査報告】
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