(57)【要約】本発明は、金属基板をマーキングするための方法に関し、以下：前記金属基板の表面の酸化により、保護層を形成するステップ；前記金属基板の保護層の内側で、無機発光粒子を組み入れ、平均粒径は、４〜１０００ｎｍであるステップ；および前記保護層を目詰まりさせる（clog）ステップ、を含む。【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属基板をマーキングする方法であって、以下：
−  前記金属基板の表面の酸化により、保護層を形成するステップ；
−  前記金属基板保護層内で、無機発光粒子を組み入れ、平均粒径は、４〜１，０００ｎｍの範囲であるステップ；
−  前記保護層を目詰まりさせるステップ、
を含む、方法。
【請求項２】
該金属基板が、ステンレス鋼；スズ；亜鉛；チタン；アルミニウムおよびそれらの鍛練用合金またはそれらの鋳造合金；およびそれらの混合物、を含む群からを選択される材料である、請求項１に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項３】
前記無機発光粒子が、金属酸化物；金属三二酸化物；金属酸化フッ化物；金属バナジウム酸塩；金属フッ化物、およびそれらの混合物ベースの粒子を含む群から選択される、請求項１または２に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項４】
前記無機発光粒子が、Ｙ２Ｏ３；ＹＶＯ４；Ｇｄ２Ｏ３；Ｇｄ２Ｏ２Ｓ；ＬａＦ３；およびそれらの混合物の粒子を含む群から選択される、請求項３に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項５】
前記無機発光粒子を、ランタノイド族からまたは遷移元素の族からの、１つまたは複数の活性サイトでドープする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項６】
前記粒子を、ランタノイド族からのイオンで、有利には、ユーロピウムイオンでドープする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項７】
前記粒子を、有利には、ポリシロキサンまたは酸化ケイ素中で封入する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項８】
前記粒子の組み入れを、前記金属基板をコロイド懸濁液中に浸すことにより行う、請求項１〜７のいずれか一項に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項９】
前記金属基板を、該無機発光粒子の前記コロイド懸濁液中に、５〜１２０分間の、より有利には、１０〜６０分間の範囲の時間、浸す、請求項８に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項１０】
前記コロイド懸濁液が、９０〜１００℃の範囲の温度である、請求項８に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項１１】
前記保護層を目詰まりさせる前記ステップを、前記無機発光粒子の組み入れと同時に行う、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項１２】
前記コロイド懸濁液が、０．０１〜１０ｇ／Ｌの範囲の粒子濃度を有する、請求項８に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項１３】
前記粒子が、４〜１００ナノメートルの、有利には、２０〜５０ナノメートルの範囲にある平均サイズを有するナノ粒子である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の金属基板をマーキングする方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法により得られる、金属基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の分野
本発明は、金属基板保護層内で発光粒子を組み込むことにより前記金属基板をマーキングする方法に関する。
よって、前記組み込まれた発光粒子の光検出により、特に偽造との戦いという意味において、金属基板を認証し、追跡することが可能となる。
【背景技術】
【０００２】
異なる基板マーキング方法が、従来技術において記載されてきた。それらには、特に、対象物装飾の分野では、有機染料を組み入れることが含まれる。かかる方法により、プラスチック、紙、または金属対象物を装飾することが可能となる。
例えば、顔料をまた、アルミニウム対象物の保護層内で組み入れてもよい。しかしながら、前記開示された全てのプロセスの関心は、対象物を装飾する目的での、肉眼で見えるマークを形成することにある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
よって、特定の手法により対象物を追跡可能にして識別可能にする、新規なマーキング方法を開発して、偽造との戦いを促進する必要性がある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本出願人は、分光光度法により存在を検出することが可能な発光粒子を組み入れることを可能にする、新規な方法を開発した。
本発明の簡単な説明
本発明は、発光粒子により、特にサブミクロン粒子により基板をマークすることが可能な方法を目指す。このようにマークされた前記基板は、前記粒子が発光するかまたは吸収する波長でのみ識別可能である。したがって、通常の使用条件では、前記マーカーは、肉眼では見えず、よって、前記基板の視覚的な側面を改変しない。よって、この手法は、偽造対象物と非偽造対象物とを判別することを可能にすることができる。
【０００５】
前記発光マーカーを、前記発光特徴（signature）を認識する適切な検出器により検出して、これにより、トレーサビリティおよび認証方法を提供することができる。前記マーカーは、ＵＶ、ＩＲまたは近ＩＲタイプの非可視光下でのみ現れる。
【０００６】
より具体的には、本発明は、金属基板をマーキングする方法に関し、以下：
−  前記金属基板の表面の酸化により、保護層を形成するステップ；
−  前記金属基板保護層内で、無機発光粒子を組み入れるステップ；
−  前記保護層を目詰まりさせる（clog）ステップ、
を含む。
【０００７】
この方法の第１ステップの実施前に、前記金属基板をまた、濃塩基溶液（ＮａＯＨ、ＫＯＨ．．．）中で、場合により酸化してまたはほとんど酸化せずに（炭酸塩、ケイ酸塩）前処理してもよい。かかる前処理により、処理すべき表面のクリーニングを行い、不純物（着色、グリース）および良好な防食特性を提供するには通常不十分な天然保護層を除去することが可能となる。
【０００８】
前記金属基板は、陽極処理可能な材料製で、すなわち、少なくとも酸化され得る上層を有する材料である。前記保護層には、この酸化層が指定される。
【０００９】
一般的には、前記金属基板は、表面で多孔質酸化物層を形成することができる材料である。有利には、ステンレス鋼；スズ；亜鉛；チタン；アルミニウムおよびそれらの鍛練用合金（Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｚｎ、またはＴｉ原子を含むことができる、１０００〜８０００シリーズ）またはそれらの鋳造合金（Ｂ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｚｎ原子を含むことができる、２００００、４００００、５００００、および７００００シリーズ）；およびそれらの混合物、を含む群からを選択してもよい。
前記金属基板は、有利には、アルミニウム製、またはアルミニウムベースの合金製である。
【００１０】
特定の態様によれば、特に前記基板がアルミニウム製またはアルミニウムベースの合金製である場合には、前記陽極処理（酸化）ステップを、ＤＣ、ＡＣ、またはパルス電流下で行ってもよい。前記電解質浴は、硫黄、クロム、ホウ素−硫黄リン陽極処理、または、また自然色（self−colored）陽極処理、または、またアルカリ性陽極処理などの多孔質酸化物層を創出し得る。前記多孔質層は、例えば、前記電解質濃度、温度、電流密度、および化学添加剤などの前記陽極処理パラメータによる種々の（数百マイクロメートルまでの）厚さを有する。
【００１１】
前記酸化ステップを、代替的には、強酸溶液中での、好ましくは、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、Ｈ２ＳＯ４またはそれらの混合物を含む群から選択される、少なくとも１種の構成成分を含む水溶液中での、前記金属基板の浸漬により行ってもよい。この場合において、前記多孔質層の創出に加え、前記基板表面のクリーニングを同時に行う。
【００１２】
目詰まりは、前記多孔質層の前記孔を閉じ、前記耐食特性を提供することを可能にするステップである。アルミニウムについては、多くのプロセスが存在する。一般的には、かかるプロセスは、液体形態のまたは蒸気形態の水を使用する。したがって、それらを、異なる温度で行ってもよい。さらに、添加剤の添加により、前記孔を閉じる動力学を修正することが可能となる。
【００１３】
前記無機発光粒子を、有利には、金属酸化物；金属三二酸化物（sesquioxide）；金属酸化フッ化物；金属バナジウム酸塩；金属フッ化物、およびそれらの混合物ベースの、および有利には、金属酸化物；金属三二酸化物；金属酸化フッ化物；金属バナジウム酸塩；金属フッ化物、およびそれらの混合物製の、粒子を含む群から選択してもよい。
【００１４】
それらはまた、Ｙ２Ｏ３；ＹＶＯ４；Ｇｄ２Ｏ３；Ｇｄ２Ｏ２Ｓ；ＬａＦ３；およびそれらの混合物を含む群から選択される粒子であってもよい。
前記粒子を、有利には、ランタノイド族からまたは遷移元素の族からの、１つまたは２つ以上の活性サイトでドープする。
さらに、無機発光粒子を混合物中で使用して、発光光学コードを創出してもよい。
【００１５】
有利には、前記無機発光粒子を、ランタノイド族からのイオンで、有利には、ユーロピウムイオンでドープする。前記発光の強度は、ドープ率（doping  rate）に依存し、最大値により遷移し得る。よって、これらの粒子のドープは、前記粒子を形成する金属のモル数に関して、０．５〜５０％に、より有利には、１〜５％に変化し得る。
【００１６】
複数のマーカーを、すなわち、複数の発光粒子を使用して、前記基板をマークしてもよい。この場合において、組み入れられる粒子の各タイプの量は、異なってもよい。さらに、粒子の各タイプは、それ自体の特徴を有してもよい。言い換えると、前記基板認証は、異なる波長において、複数の粒子を検出することを要求し得る。
【００１７】
よって、前記異なる各マーカーの割合を変化させることにより、複数の光学コードを、前記発光シグナルの相対的強度の観点から創出し得る。
特定の態様によれば、前記粒子は、同一粒子内に、異なる波長において検出可能な、異なる光学的特徴を含んでもよい。そして、それらは、例えば、ジプティク（diptych）またはトリプティク（triptych）である。
【００１８】
無機粒子を使用することは、有機マーカーの発光を劣化させる、光退色現象への、それらのより大きな抵抗性により、特に有利である。さらに、この方法において実装される前記マーキング溶液は、有機マーカーを含むものよりも長寿命である。
【００１９】
一般的には、前記粒子は、球の、立方体の、円筒の、平行六面体の（parallelepipedal）形状を有してもよい。
前記粒子のサイズを、それらの最高平均寸法（greatest  average  dimension）により、すなわち、それらが球形状を有する場合にはそれらの直径により、それらがロッドの形状である場合にはそれらの平均長により、定義する。
【００２０】
よって、本発明の意味において、前記発光粒子は、有利には、４〜１，０００ナノメートルの範囲の平均サイズを有する粒子である。
好ましい態様によれば、前記粒子は、ナノ粒子である。
【００２１】
前記平均ナノ粒径は、有利には、４〜１００ナノメートルの、より有利には、なお２０〜５０ナノメートルの範囲にある。
【００２２】
さらに、前記粒子を、より有利には、前記ナノ粒子を、特にポリシロキサンまたは酸化ケイ素マトリックス中で封入（encapsulated）（コーティング）してもよい。前記新規なポリシロキサンまたはシリカ表面を、次いで、例えば、アミノプロピルトリエトキシシランなどの置換アルコキシシランまたは同族の誘導体などの、有機シランカップリング剤で官能化することができる。前記ポリシロキサン表面の形成またはこの表面の官能化により、溶媒中での分散および分散体中での前記粒子安定性を改善することが可能となる。さらに、前記粒子のかかる表面改質は、前記粒子の親水／疎水特性に影響を与えることができ、よって、前記保護層内での前記無機発光粒子の親和性および拡散性を改変することができる。このようにして、前記発光粒子分布のより良好な均質性を得ることができる。
【００２３】
前記粒子がコーティングされている場合には、それらの平均サイズは、上記サイズ範囲内のままである。一般的には、前記コーティングは、前記平均粒径を、５〜１５ナノメートルのオーダーで増加させる。
前記ナノ粒子の可能なサブミクロン寸法は、特に、前記金属基板の前記保護層におけるそれらの組み入れを促進することを可能にする。
【００２４】
前記金属基板内での粒子の前記組み入れに関するこのステップを、有利には、無機発光粒子のコロイド懸濁液中に前記基板を浸すことにより行ってもよい。
前記金属基板を、前記コロイド懸濁液中に、有利には、５〜１２０分間の、より有利には、なお１０〜６０分間の範囲の時間、浸漬して、浸してもよい。
【００２５】
このステップの間、前記コロイド懸濁液は、好ましくは、９０〜１００℃の、より有利には、９６〜９９℃の範囲の温度である。
一般的には、前記コロイド懸濁液は、０．０１〜１０ｇ／Ｌの、より有利には、０．０１〜１ｇ／Ｌの範囲であり得る、粒子濃度を有する。
【００２６】
さらに、前記コロイド懸濁液は、有利には、有機性および／または水性液体中の無機発光粒子の少なくとも１タイプの懸濁液である。
有利には、例えば、アルコール（グリコール、プロパノール）などの、水と混和し得る、多くとも１０％の有機溶媒について、有利には、少なくとも９０体積％の水を含む、水性媒体中の懸濁液である。
【００２７】
なお好ましくは、１００％の水からできた液体中の懸濁液である。
前記コロイド懸濁液はまた、界面活性剤、分散剤、およびそれらの混合物を含む群から選択される添加剤を含んでもよい。
【００２８】
前記発光マーカーを、陽極処理（酸化）後に、前記金属基板の前記保護層中の拡散により組み入れる一方で、前記保護層の孔は開放されている。前記目詰まりステップでのみ、前記保護層は閉じ、前記粒子に固定化される。
【００２９】
このようにして、前記マーカーを、前記金属基板の前記保護層中で捕捉し、前記保護層を破壊せずには除去され得ない。
特定の態様によれば、発光粒子を組み入れる前記ステップを、一般的に、例えば、アルミニウム部分などの金属基板の防食処理の方法において使用される、染色浴（有機または無機染料）中で実施してもよい。
【００３０】
このようにして、この態様によれば、前記実施されたマーキングは、前記金属基板の製造方法を修正しない。
一般的には、前記保護層を目詰まりさせるステップを、有利には、前記無機発光粒子組み入れステップと同時に行う。
【００３１】
複数の目詰まり浴（clogging  bath）をまた、使用してもよい。第１目詰まり浴が、前記粒子を組み入れるために使用される浴に対応する一方で、第２目詰まり浴は、粒子を奪うものであってもよい。一方は、特に、３０〜９９℃の範囲の温度で水浴を使用してもよい。前記基板を、このようにして、１０〜６０分間、前記第２目詰まり浴中に浸してもよい。
【００３２】
前記目詰まりステップの後、前記金属基板を乾燥する。また、乾燥する前に、室温で、水で洗い流してもよい。
さらに、別の特定の態様によれば、前記マーカーの、すなわち、前記粒子の前記表面を官能化して、前記保護層との化学的親和性を改善し、これにより、前記目詰まり浴中での前記浸漬の間、前記マーカーの脱着を減少させてもよい。
【００３３】
本発明はまた、上記方法により得ることができる前記金属基板を目指す。
本発明およびその結果としての利点は、本発明の非限定的例示として提供される、以下の例からより良好に明らかとなるであろう。
【００３４】
本発明の態様
以下に記載される例について、使用される前記マーカー溶液は、混合された、ユーロピウムドープされたイットリウムバナジウム酸塩ナノ粒子（５％）（イットリウムイオンの５％  ｍｏｌ置換）の水性懸濁液である。例によれば、前記ナノ粒子を、ポリシロキサンまたは酸化ケイ素層により、封入してもまたはしなくてもよい。使用される前記ナノ粒子懸濁液の濃度は、水中で、（ＹＶＯ４：Ｅｕ）で、０．０１；０．１または１ｇ／Ｌである。この例の前記ナノ粒子は、準球形状を有し、非コーティングナノ粒子については２０ナノメートルの、およびコーティングナノ粒子については３０ナノメートルの直径を有する。
【００３５】
前記金属基板を酸化するために使用される前記酸溶液は、濃縮された、２／１  ｖ／ｖ  ＨＣｌ／ＨＮＯ３混合物からできている。
使用される前記金属基板は、５ｍｍの幅、３ｃｍの長さ、および０．０８ｍｍの厚さを有する、アルミニウムストリップである。
【００３６】
Ａ／  前記酸化ステップの影響
例１：
アルミニウムストリップを、前記酸溶液に浸す。１０〜３０秒後でガス処理（gassing）後、前記ストリップを、ＭＱ水（ＭｉｌｌｉＱ  抵抗率＞１８ＭΩ）により洗い流し、３０分〜１時間の範囲の時間、室温で、前記ナノ粒子溶液中に浸す。
乾燥後に、発光堆積物が、前記ストリップ全体の上に存在するが、前記覆いは均質ではない。
【００３７】
以下の例において、前記懸濁液中のナノ粒子（コーティングされたものまたはそうでないもの）の濃度は、水中の１ｇ／ＬのＹＶＯ４：Ｅｕである。
【００３８】
反例１：
アルミニウムストリップを、室温で、ナノ粒子の懸濁液中に浸す。前記ストリップの除去に際し、後者は、その表面に前記ナノ粒子懸濁液の液滴を有する。前記液滴は、液滴の形態のままであり、前記金属を「濡らす」ことはしない。前記洗い流しステップ後、前記金属基板は、もはや発光ナノ粒子を含まない。
【００３９】
例２：
アルミニウムストリップを、前記酸溶液中に浸す。１０〜３０秒後でガス処理後、前記ストリップを、ＭＱ水で洗い流し、３０分間、前記ナノ粒子溶液（ＹＶＯ４：Ｅｕ  予めポリシロキサンまたは酸化ケイ素層でコーティングしたもの）中に浸し、９９℃で加熱する。前記ストリップを、次いで、水気を切って（drained）空気で乾燥する。
【００４０】
強い発光が見え、乾燥後の前記堆積物は、耐摩耗性である。前記ストリップが冷却されたところで、前記摩耗試験を、水および／またはエタノールを含浸した布で前記金属基板をこすることにより行った。
【００４１】
例３：
アルミニウムストリップを、前記酸溶液中に浸す。１０〜３０秒後でガス処理後、前記ストリップを、ＭＱ水により洗い流し、３０分間、前記ナノ粒子溶液（非コーティングＹＶＯ４：Ｅｕ）中に浸し、９９℃で加熱する。前記ストリップを、水気を切って空気で乾燥する。
前記発光は、低度であるか、または存在しない。
【００４２】
表１：前記酸化ステップの影響
【表１】
2015524516.tif 000002
Ｔａｍｂ＝室温、２５℃
ｎｐ＝ナノ粒子
【００４３】
前記ストリップが冷却されたところで、前記耐摩耗性試験を、水および／またはエタノールを含浸した布で前記金属基板をこすることにより行った。
【００４４】
これらの例は、酸化ステップ（酸処理）により前記金属基板を処理することが必要であること、およびポリシロキサンまたは酸化ケイ素層でコーティングされたナノ粒子を使用することが有利であることを示す。さらに、前記目詰まりステップを、有利には、室温より高い温度で行う。
【００４５】
Ｂ／  目詰まり浴の数の影響
以下の例において、前記懸濁液中のナノ粒子（コーティングされたものまたはそうでないもの）の濃度は、水中の１ｇ／ＬのＹＶＯ４：Ｅｕである。
【００４６】
表２の例において、アルミニウムストリップを、前記酸溶液中に浸す。１０〜３０秒後でガス処理後、前記ストリップを、ＭＱ水により洗い流す。次いで、第１目詰まり溶液中に浸し、洗い流し、次いで、可能であれば第２目詰まり溶液中に浸す。前記目詰まり浴の性質、前記浸漬時間、および前記浴温度を、表２に示す。
前記発光および前記覆いを、自由大気中で前記ストリップを乾燥した後に、観察する。
【００４７】
表２：目詰まり浴の数の影響
【表２】
2015524516.tif 000003
【００４８】
表３の例において、前記ストリップを、逐次的に、前記ナノ粒子を含む５０℃の予備目詰まり浴中に浸し、次いで、９９℃の水浴中に浸す。前記ストリップを、洗い流すか、または前記２種の浴の間は洗い流さない。２つのステップのかかる目詰まり法は、前記アルミニウム表面の処理の際に、有機マーカーの導入のために、従来技術において現在実施されている。
【００４９】
表３：目詰まり浴の数の影響
【表３】
2015524516.tif 000004
【００５０】
従来技術の有機染料とは異なり、前記マーカーを含む予備目詰まり浴を使用することを含む操作モードは、ナノ粒子には適合されないようである。前記マーカーは、最終高温目詰まり（hot  clogging）の間、ほぼ確実に放出されて戻される（released  back）。
【００５１】
Ｃ／  前記目詰まり浴中の浸漬時間の影響
アルミニウム基板の目詰まりを行うために必要な時間は、一般的には、２分／酸化物のマイクロメートル、のオーダーである。
上で詳述した例について、前記ナノ粒子濃度は、１ｇ／Ｌであり、前記目詰まり浴の温度を、９９℃に設定する。使用される前記ナノ粒子を、ポリシロキサン層でコーティングするか、またはコーティングしない。
【００５２】
表４の各例について、２つのストリップを処理し、一方を、前記目詰まり浴から出てきた直後であって乾燥する前に、蒸留水で洗い流し（ＡＲ）、他方を、周囲空気中に単に放置して乾燥する（ＳＲ）。
【００５３】
表４：前記目詰まり浴中の浸漬時間の影響
【表４】
2015524516.tif 000005
【００５４】
表１の例１および２とは反対に、表４の例の前記洗い流し操作を、前記目詰まり浴から出てきた後に、すなわち、前記ストリップがまだ熱い場合に、直接行う。かかる金属温度は、前記溶液の前記乾燥時間と共に、前記２連の取り扱いの間の差を説明し得る。
これらの例は、特に、前記基板の酸処理による前記酸化ステップの重要性を示す。
【００５５】
前記目詰まりステップの後、前記金属基板を、予備の洗い流しをせずに、または低温での洗い流し（cold  rinsing）後に、乾燥してもよい。
３０分間の目詰まり時間で十分であるが、前記浸漬時間の延長は、前記堆積の側面に悪影響を与えるものではない。
【００５６】
Ｄ／  蛍光体サイズの影響
この一連の取扱いは、前記目詰まりステップ中の、前記マーカー組み込みにおける粒径の影響を確認することを目指す。
前記ユーロピウムドープされたイットリウムバナジウム酸塩のマイクロメートル範囲粒子は、特定の形状を有さず、平均２マイクロメートルサイズを有する、市販の粒子（Ｐｈｏｓｐｈｏｒ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ＱＨＫ  ６３／  ＦＦ−Ｕ１）である。
【００５７】
反例４〜６は、かかるマイクロメートル範囲粒子の使用に関する。
前記粒子濃度は、１ｇ／Ｌであり、前記溶媒は水であり、前記目詰まり浴の温度は、９９℃である。
【００５８】
表５の各例について、２つのストリップの一方を、前記目詰まり浴から出てきた直後であって乾燥する前に、蒸留水で洗い流し（ＡＲ）、他方を、周囲空気中に単に放置して乾燥する（ＳＲ）。
【００５９】
表５：前記蛍光体サイズの影響
【表５】
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【００６０】
前記マイクロメートル範囲粒子分布を、水中におけるマイクロメートル範囲粒子の撹拌下で、混合物中で４ｍｍ直径を有するガラスボールの添加により調製する。２４時間の撹拌後、前記懸濁液は、白色であり、撹拌を前記目詰まりバイアル中で維持しない場合には、前記粒子はすぐに沈殿する。
【００６１】
前記ガラスボールにより、前記マイクロメートル範囲粒子をせん断することにより、摩耗を行い、これにより、この全てについて前記単位粒子のサイズを修正することなく、前記粉粒体の解砕により、前記水相中のそれらの懸濁を促進する。
【００６２】
軽度の白色ベールは、マイクロメートル範囲粒子で処理された前記ストリップ上で乾燥後に現れる。１，０００ナノメートルよりも小さい平均サイズを有する粒子の使用に関する例とは反対に、前記マーキングは見えないものではない。
【００６３】
このように、１，０００ナノメートルよりも小さい平均サイズを有する前記発光マーカーの前記サイズは、前記金属基板の前記保護層の孔サイズに従う。実際に、マイクロメートル範囲マーカーは、前記基板表面上に残留し、前記孔を目詰まりさせる前記ステップの間、部分的にのみ捕捉され得るか、または捕捉されない。
【００６４】
当然のことながら、本発明は、当業者において容易に生じるであろう、種々の改変、修正、および改善を有する見込みである。かかる改変、修正、および改善は、本開示の一部であることが意図され、本発明の主旨および範囲内にあることが意図される。したがって、上記の説明は、例の目的のみであり、限定することを意図するものではない。本発明は、添付の特許請求の範囲において定義されたものおよびこれに均等なものとしてのみ限定される。
【国際調査報告】
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2015524516.tif 000008
2015524516.tif 000009
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