(57)【要約】  処理ツールからの流出物を緩和するための方法及びシステムが提供される。本発明は、１つ以上の処理ツールと、１つ以上のアベートメントシステムと、上記１つ以上の処理ツールと上記１つ以上のアベートメントシステムとの間に流出物流体連通を確立するように適応されたインターフェースマニホルドと、を含み、上記インターフェースマニホルドは、制御信号に応答して、上記１つ以上の処理ツールの間から上記１つ以上のアベートメントシステムへと１つ以上の流出物を選択的に向けるように構成されている。種々な他の態様も提供される。【選択図】      図３
2010501334.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理ツールからの流出物を緩和するためのシステムにおいて、
１つ以上の処理ツールと、
１つ以上のアベートメントシステムと、
上記１つの以上の処理ツールと上記１つ以上のアベートメントシステムとの間に流出物の流体連通を確立するように適応されたインターフェースマニホルドと、
を備えており、上記インターフェースマニホルドは、制御信号に応答して、上記１つ以上の処理ツールの間からの１つ以上の流出物を上記１つ以上のアベートメントシステムへと選択的に向けるように構成された、システム。
【請求項２】
上記１つ以上の処理ツールは、更に、少なくとも１つの流出物を出力するように適応された１つ以上のチャンバを備える、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
上記１つ以上のチャンバは、更に、上記チャンバにより出力される上記少なくとも１つの流出物を、上記インターフェースマニホルドを通して上記１つ以上のアベートメントシステムへと向けるように適応された１つ以上のチャネルを備える、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
上記インターフェースマニホルドが、上記１つ以上の流出物を上記１つ以上のアベートメントシステムへと選択的に向けるようにするように適応されたコントローラを更に備える、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
上記コントローラは、上記インターフェースマニホルドが、上記１つ以上の流出物を自動的及び手動的のうちの少なくとも一方にて向けるようにするか、又は、上記１つ以上の流出物を手動的に向けるようにするように適応されている、請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
上記コントローラは、上記インターフェースマニホルドが、上記１つ以上のアベートメントシステムの状態を示す指示に応答して、上記１つ以上の流出物を上記１つ以上のアベートメントシステムへと選択的に向けるようにするように適応されている、請求項４に記載のシステム。
【請求項７】
上記１つ以上のアベートメントシステムの状態は、流出物を処理するのに使用できる状態及び流出物を処理するのに使用できない状態のうちの少なくとも１つである、請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
上記１つ以上のアベートメントシステムは、冗長度を生成するように適応されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
上記１つ以上のアベートメントシステムは、バックアップ構成を生成するように適応されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
上記１つ以上のアベートメントシステムは、同様及び異なるタイプ及び容量のうちの少なくとも一方のアベートメントユニットの間での自動ロードバランスシステムとして構成されるように適応されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
上記１つ以上のアベートメントシステムは、ツール及び処理の少なくとも一方の異なるタイプに対する緩和用途特定分散システムとして構成されるように適応されている、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
処理ツールからの流出物を緩和するための装置において、
１つ以上の第１のチャネルと、
１つ以上の第２のチャネルと、
上記第１のチャネル及び上記第２のチャネルに作動的結合される複数の弁と、
を備えており、上記１つ以上の第１のチャネルは、１つ以上の処理ツールから１つ以上の第１のアベートメントシステムへの流体連通がなされるようにし、上記１つ以上の第２のチャネルは、１つ以上の処理ツールから１つ以上の第２のアベートメントシステムへの流体連通がなされるようにし、上記複数の弁のうちの少なくとも１つの弁は、少なくとも１つの流出物ストリームを流すように、上記１つ以上の第１のチャネルと上記１つ以上の第２のチャネルとの間の選択をするように動作できる、装置。
【請求項１３】
上記１つ以上の第１のチャネルと上記１つ以上の第２のチャネルとの間の選択を決定するように適応されたコントローラを更に備える、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
上記コントローラは、上記１つ以上のアベートメントシステムの状態を示す指示に応答して、上記１つ以上の第１のチャネルと上記１つ以上の第２のチャネルとの間の選択をするように適応されている、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
上記コントローラは、上記１つ以上の処理ツールの状態を示す指示に応答して、上記１つ以上の第１のチャネルと上記１つ以上の第２のチャネルとの間の選択をするように適応されている、請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
上記１つ以上の第１のアベートメントシステム及び上記１つ以上の第２のアベートメントシステムのうちの少なくとも一方は、バックアップシステムである、請求項１２に記載の装置。
【請求項１７】
上記１つ以上の第１のアベートメントシステム及び上記１つ以上の第２のアベートメントシステムは、冗長機能を果たす、請求項１２に記載の装置。
【請求項１８】
上記１つ以上の第１のアベートメントシステム及び上記１つ以上の第２のアベートメントシステムは、異なるタイプのアベートメントシステムである、請求項１２に記載の装置。
【請求項１９】
上記１つ以上の第１のアベートメントシステム及び上記１つ以上の第２のアベートメントシステムは、異なる容量を有する、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
上記コントローラは、上記少なくとも１つの流出物を、上記流出物のタイプに基づいて、上記第１のアベートメントシステム及び上記第２のアベートメントシステムの間で上記インターフェースマニホルドを通して向けるように適応されている、請求項１３に記載の装置。
【請求項２１】
上記１つ以上の第１のアベートメントシステムは、処理流出物を緩和するように適応されており、上記１つ以上の第２のアベートメントシステムは、洗浄流出物を緩和するように適応されている、請求項２０に記載の装置。
【請求項２２】
処理ツールからの流出物を緩和するための方法において、
１つ以上の処理ツールにより出力される流出物をインターフェースマニホルドを通して１つ以上のアベートメントシステムへと流すステップと、
上記１つ以上のアベートメントシステムのうちの第１のアベートメントシステムが流出物を処理するのに使用できないことを示す上記第１のアベートメントシステムの状態を表す指示を受け取るステップと、
上記指示を受け取ることに応答して、上記インターフェースマニホルドを介して上記１つ以上のアベートメントシステムのうちの第２のアベートメントシステムへと流出物を向けるステップと、
を含む方法。
【請求項２３】
上記流出物は、上記第１のアベートメントシステムへと流される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
上記指示は、上記１つ以上の処理ツール及び上記１つ以上のアベートメントシステムのうちの上記第１のアベートメントシステムのうちの少なくとも一方におけるセンサから受け取られる、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
上記流出物を向けるステップは、更に、上記インターフェースマニホルドにおける少なくとも１つの弁を作動させる段階を含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
上記少なくとも１つの弁を作動させる段階は、自動及び手動のうちの少なくとも一方である、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
上記第１のアベートメントシステムの使用できない状態は、予定された状態及び予定されていない状態のうちの少なくとも一方である、請求項２３に記載の方法。
【請求項２８】
上記１つ以上のアベートメントシステムのうちの上記第２のアベートメントシステムにおいて上記流出物を緩和するステップを更に含む、請求項２３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
[0001]本発明は、２００６年８月２３日に出願され、「ABATEMENTSYSTEM WITH BACK-UP FUNCTINALITY AND METHOD OF USING THE SAME」と題する米国仮特許出願第６０／８２３，２９２号（代理人管理番号１１４６９／Ｌ）に基づく優先権を主張している。
【０００２】
[0002]本願は、次の同一人に譲渡された同時係属の米国特許出願に関連しており、それら出願明細書の記載は、あらゆる目的のため、ここにそのまま援用される。
【０００３】
[0003]２００６年８月２３日に出願され、「SYSTEM FORMONITORING MULTIPLE ABATEMENT SYSTEMS AND METHOD OF USING THE SAME」と題する米国仮特許出願第６０／８２３，２９４号（代理人管理番号１１４７０／Ｌ）、及び
[0004]２００７年８月２３日に出願され、「ANINTERFACE FOR OPERATING AND MONITORING ABATEMENT SYSTEMS」と題する米国特許出願第１２／ , ,  号（代理人管理番号１１４７０）。
【発明の分野】
【０００４】
[0005]本発明は、半導体デバイスの製造に関し、より特定すると、バックアップ機能を有するアベートメント(abatement)システムのための方法及び装置に関する。
【背景】
【０００５】
[0006]半導体物質、デバイス、製品及びメモリ用品の製造から生ずるガス状流出物は、処理設備で使用され更に生成される非常に多くの種々な化合物を含んでいる。これらの化合物としては、無機及び有機化合物、フォトレジスト及び他の試薬の分解生成物及び非常に多くの種々なガスがあり、これらは、その処理設備から大気中へと排気される前に、廃棄ガスから除去されなければならない。
【０００６】
[0007]半導体製造処理は、種々なケミカルを使用するものであり、これらケミカルの多くは、非常に低い人体許容レベルを有している。処理（例えば、物理気相堆積、拡散、エッチングＰＦＣ処理、エピタキシー等）中に、使用されるツールのあるもの（例えば、化学気相堆積チャンバ、化学機械研摩チャンバ、拡散等）並びにそれらの処理は、例えば、ペルフルオロ化合物（ＰＦＣ）又は分解してＰＦＣを形成するかもしれない副生物を含めて望ましくない副生物を生成することがある。ＰＦＣは、地球温暖化に強い影響を与える因子であると認識されている。
【０００７】
[0008]これらの望ましくない副生物は、アベートメントシステムを通して流出物ストリームから除去することができる。このようなアベートメントシステムは、基板及びフラットパネルディスプレイ／ＬＣＤの処理により生成されるガスを、より環境を害さないような変形種へと変換して、環境へと放出できるようにすることができる。これらアベートメントシステムは、種々な半導体製造ツールに結合することができ、典型的には、ツールから生成されてくる処理ガスを緩和することができる。これらアベートメントシステムは、ツールからの処理ガスを扱うことのできる流量容量を有しているのであるが、これらアベートメントシステムは、例えば、予定の保守管理及び予定していない保守管理等を含めて種々な理由のため停止させることがある。従って、ツールに結合されたアベートメントシステムを停止するときに、そのツールからの処理ガスを継続して緩和することができるようなシステムが必要とされている。
【発明の概要】
【０００８】
[0009]本発明の態様によれば、処理ツールからの流出物を緩和するためのシステムが提供される。このシステムは、１つ以上の処理ツールと、１つ以上のアベートメントシステムと、上記１つの以上の処理ツールと上記１つ以上のアベートメントシステムとの間に流出物流体連通を確立するように適応されたインターフェースマニホルドと、を備え、上記インターフェースマニホルドは、制御信号に応答して、上記１つ以上の処理ツールの間からの１つ以上の流出物を上記１つ以上のアベートメントシステムへと選択的に向けるように構成されている。
【０００９】
[0010]本発明の他の態様によれば、処理ツールからの流出物を緩和するための装置が提供される。この装置は、１つ以上の第１のチャネルと、１つ以上の第２のチャネルと、上記第１のチャネル及び上記第２のチャネルに作動的結合される複数の弁と、を備え、上記１つ以上の第１のチャネルは、１つ以上の処理ツールから１つ以上の第１のアベートメントシステムへの流体連通がなされるようにし、上記１つ以上の第２のチャネルは、１つ以上の処理ツールから１つ以上の第２のアベートメントシステムへの流体連通がなされるようにし、上記複数の弁のうちの少なくとも１つの弁は、少なくとも１つの流出物ストリームを流すように、上記１つ以上の第１のチャネルと上記１つ以上の第２のチャネルとの間の選択をするように動作できる。
【００１０】
[0011]本発明の更に他の態様によれば、処理ツールからの流出物を緩和するための方法が提供される。この方法は、（１）１つ以上の処理ツールにより出力される流出物を、インターフェースマニホルドを通して１つ以上のアベートメントシステムへと流すステップと、（２）上記１つ以上のアベートメントシステムのうちの第１のアベートメントシステムが流出物を処理するのに使用できないことを示す上記第１のアベートメントシステムの状態を表す指示を受け取るステップと、（３）上記指示を受け取ることに応答して、上記インターフェースマニホルドを介して上記１つ以上のアベートメントシステムのうちの第２のアベートメントシステムへと流出物を向けるステップと、を含む。
【００１１】
[0012]本発明の他の特徴及び態様は、以下の詳細な説明、特許請求の範囲及び添付図面からより十分に明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態による１つ以上のアベートメントシステムを動作させ監視するためのシステムの概略図である。
【図２】本発明の一実施形態による１つ以上のアベートメントシステムを動作させ監視するためのシステムの概略図である。
【図３】本発明の一実施形態による１つ以上のアベートメントシステムを動作させ監視するための典型的なシステムの概略図である。
【図４】本発明の一実施形態による１つ以上のアベートメントシステムを動作させ監視するためのバックアップ構成を有する典型的なシステムの概略図である。
【図５】本発明の一実施形態による１つ以上のアベートメントシステムを動作させ監視するための用途特定構成を有する典型的なシステムの概略図である。
【図６】本発明の一実施形態による１つ以上のアベートメントシステムを動作させ監視するためのロードバランス構成を有する典型的なシステムの概略図である。
【図７】本発明の一実施形態による１つ以上のアベートメントシステムを動作させ監視するための冗長構成（redundant configuration）を有する典型的なシステムの概略図である。
【図８】本発明の一実施形態による１つ以上のアベートメントシステムを動作させ監視するための典型的な方法を例示するフローチャートである。
【詳細な説明】
【００１３】
[0021]本発明は、電子装置製造ツールからアベートメントシステムへの流出物ストリームの流れを制御するためのシステム及び方法を提供する。本発明によれば、流出物ストリームを緩和するためのシステムの能力に影響を及ぼすような予定の事象又は予定していない事象が生ずる場合に、その流出物ストリームを自動的に向け直すことができる。例えば、２つのアベートメントシステム（例えば、主システム及びバックアップシステム）を有するようなシステムにおいては、本発明は、例えば、主アベートメントシステムがオフラインとなることを示すアラームに応答して、主アベートメントシステムからの流出物ストリームをバックアップアベートメントシステムへと自動的に向け直すように適応されている。
【００１４】
[0022]ある実施形態では、本発明は、１つ以上の電子装置処理ツールと１つ以上のアベートメントシステムとの間のチャネルを開いたり、閉じたり及び／又は切り換えたりするように適応された一連の弁（例えば、電子的に制御される弁）を含むようなインターフェースマニホルドを提供する。このインターフェースマニホルドは、それら処理ツール及びアベートメントシステムからの情報を受け取るコントローラに結合され、そのコントローラにより動作させられる。例えば、主システムが故障したことを示す情報に応答して、このコントローラは、その処理ツールとバックアップシステムとの間のチャネルにおける弁を開き、一方、同時に、その処理ツールと主システムとの間のチャネルにおける弁を閉じる。
【００１５】
[0023]本発明の図１を参照するに、システム１００が提供される。このシステムは、インターフェースマニホルド１０６を通して少なくとも２つのアベートメントシステム１０４に結合される少なくとも１つの処理ツール１０２を含んでおり、そのインターフェースマニホルド１０６は、処理ツール１０２とアベートメントシステム１０４との間の流体連通を許容するものである。別の仕方として、このシステムは、インターフェースマニホルド１０６を通して少なくとも１つのアベートメントシステム１０４に結合される少なくとも２つの処理ツール１０２を含むようにすることもできる。ここに示した実施形態では、Ｎ個の処理ツール１０２ａ、１０２ｂ、１０２ｃ及びＮ個のアベートメントシステム１０４ａ、１０４ｂ、１０４ｃが示されている。任意の数（例えば、１、２、……、ｎ）の処理ツール１０２及びアベートメントシステム１０４を含むことができる。
【００１６】
処理ツール
[0024]各処理ツール１０２は、１つ以上の処理チャンバ１０８を含むことができる。処理ツール１０２ａ−１０２ｃは、例えば、化学気相堆積チャンバ、物理気相堆積チャンバ、化学機械研摩チャンバ等を含むことができる。これらチャンバにおいて行われる処理としては、例えば、拡散、エッチングＰＦＣ処理及びエピタキシーがある。これら処理からの緩和されるべき副生物としては、例えば、アンチモン、ヒ素、ホウ素、ゲルマニウム、窒素、リン、シリコン、セレン、シラン、ホスフィンとのシラン混合物、アルゴン、水素、オルガノシラン、ハロシラン、ハロゲン、有機金属及びその他の有機化合物の水素化物がある。緩和を必要とする種々な成分の中でも、ハロゲン、例えば、フッ素（Ｆ２）及び他のフッ素化化合物は、特に問題の多いものである。電子工業においては、堆積ステップからの残留物を除去したり、薄膜をエッチングしたりするため、基板処理ツールにおいてペルフルオロ化合物（ＰＦＣ）を使用することが多い。最も普通に使用されるＰＦＣの実施例としては、ＣＦ４、Ｃ２Ｆ６、ＳＦ６、Ｃ３Ｆ８、Ｃ４Ｈ８、Ｃ４Ｈ８Ｏ、ＮＦ３、ＣＨＦ３、ＣＨ３Ｆ、ＣＨ２Ｆ２がある。
【００１７】
インターフェースマニホルド
[0025]チャネル１１０は、各チャンバ１０８から延長していて、１つ以上の流出物の流れが処理ツール１０２ａを出て行くことができるようにする。ここに説明する典型的な実施形態では、処理ツール１０２ａは、単一のチャンバ及び単一の対応するチャネルを含み、一方、処理ツール１０２ｂは、２つのチャンバ及び２つの対応するチャネルを含む。
【００１８】
[0026]流出物は、処理ツール１０２からチャネル１１０を通してインターフェースマニホルド１０６へと流れる。インターフェースマニホルド１０６は、流出物のインターフェースマニホルド１０６への流れを許容したり阻止したりするためチャネル１１０におけるゲートとして作用する１つ以上の弁（図示せず）を含むことができる。インターフェースマニホルド１０６は、異なるチャネル１１０からの流出物をアベートメントシステム１０４へと選択的に向けるようにするための１つ以上の弁（図２）を含むこともできる。
【００１９】
[0027]コントローラ１１２は、インターフェースマニホルド１０６における弁の動作を選択的に行わせることができる。別の仕方として、又は付加的に、コントローラ１１２は、システム１００を通しての流出物の移動を助成する複数のポンプ（図示せず）の動作を選択的に行わせるようにすることができる。コントローラ１１２は、インターフェースマニホルド１０６にワイヤ接続で結合されてもよいし、又はワイヤレスで結合されてもよい。ある実施形態では、コントローラ１１２は、インターフェースマニホルド１０６の一体部分として内蔵されてもよいし、一方、他の実施形態では、コントローラ１１２は、インターフェースマニホルド１０６と離れて別体としてもよい。ある実施形態では、コントローラ１１２は、後述するように、処理ツール１０２ａから１０２ｃ及びアベートメントシステム１０４ａから１０４ｃのうちの１つ以上と、結合され及び／又は別の仕方で通信し、及び／又はその動作を制御する。コントローラ１１２は、マイクロコンピュータ、マイクロプロセッサ、ロジック回路、ハードウエア及びソフトウエアの組合せ等であってよい。コントローラ１１２は、入力／出力ポート、キーボード、マウス、ディスプレイ、ネットワークアダプタ等を含む種々な通信ファシリティーを含むことができる。
【００２０】
[0028]コントローラ１１２は、例えば、処理ツール１０２ａから１０２ｃ、アベートメントシステム１０４ａから１０４ｃ、チャネル１１０、インターフェースマニホルド１０６、（後述する）インレット等に取り付けられた（後述する）センサからの信号を受けて、それら信号に基づいて、特定の流出物の流れをどのアベートメントシステム１０４ａから１０４ｃへと向けるかを選択的に決定することができる。コントローラ１１２は、又、インターフェースマニホルド１０６における弁にそのような選択を行わせるようにすることができる。この決定は、複数のファクタに基づいてなされる。これらのファクタとしては、例えば、特定のアベートメントシステムが流出物を緩和することができないようにする予定の事象及び予定されていない事象がある。これらの予定の事象及び予定されていない事象に対して採ることのできる構成としては、例えば、バックアップ構成（図４）、異なるタイプのツール／処理のためのアベートメント用途特定分配構成（図５）、アベートメントユニットの同様の又は異なるタイプ／容量の間での自動ロードバランスシステム（図６）、冗長構成（図７）等がある。
【００２１】
アベートメントシステム
[0029]典型的には、電子装置製造に関連した処理動作は、例えば、たいていは、フッ素、四フッ化シリコン（ＳｉＦ４）、フッ化水素（ＨＦ）、フッ化カルボニル（ＣＯＦ２）、ＣＦ４及びＣ２Ｆ６を含む流出物を生成する。アベートメントシステムは、例えば、流出物ガスの処理並びに流出物ガスをより毒性のないものへと変換するための処理のための、熱的、ウエットスクライビング、ドライスクライビング、触媒、プラズマ及び／又は同様の手段を使用することができる。典型的なアベートメントシステム１０４ａから１０４ｃとしては、例えば、いずれもカリフォルニア州サンタクララのアプライドマテリアルズ社によって製造されている、３００リットル／分の入力流量容量を有するＣＤＯアベートメントシステム及び１１００リットル／分の入力流量容量を有するマラトン(Marathon)アベートメントシステムがある。各アベートメントシステムの入力流量容量は、複数のツールからの流出物を扱うことができるようなものである。
【００２２】
[0030]アベートメントシステム１０４ａから１０４ｃは、図３に示すように、インターフェースマニホルド１０６から流出物を受け入れるための１つ以上のインレットを含むことができる。アベートメントシステム１０４ａから１０４ｃは、１、２、３、……ｎのインレットを含むことができる。ある典型的な実施形態では、これらインレットは、特定のツールからの流出物流に専用のものと、別のアベートメントシステムのためのバックアップとして使用されるものと、に分けられる。例えば、予定されていない事象が生ずるときには、第１のアベートメントシステム１０４ａからのインレットの半分が第１のツール１０２ａからの流出物流を受け入れ、第１のアベートメントシステム１０４ａからのインレットの他の半分が第２のツール１０２ｂからの流出物流を受け入れる。例えば、第１のアベートメントシステム１０４ａは、この第１のアベートメントシステム１０４ａのインレット１、２及び３を通して第１の処理ツール１０２ａからの流出物流を受け入れ、第２のアベートメントシステム１０４ｂは、この第２のアベートメントシステム１０４ｂのインレット１、２及び３を通して第２の処理ツール１０２ｂからの流出物流を受け入れる。もし、第２のアベートメントシステム１０４ｂが使用できなくなる場合には、第２の処理ツール１０２ｂからの流出物流は、インターフェースマニホルド２０６を通して第１のアベートメントシステム１０４ａのインレット４、５及び６へと向けられる。別な仕方として、これらインレットの目的は、その環境に応じて変更することができる。
【００２３】
[0031]これらのインレット、従って、アベートメントシステム１０４ａから１０４ｃは、１つ以上のセンサ（図示せず）により監視される。例えば、流出物流量、インレットの圧力、システムの温度、流出物の組成等を監視するのに、幾つかのセンサを使用することができる。これらセンサは、アベートメントシステム１０４ａから１０４ｃの状態を示す１つ以上の信号をコントローラ１１２へ送り、適当な動作が行われるようにすることができる。ある実施形態では、それら１つ以上のセンサは、コントローラ１１２へ情報を与えるように、処理ツール１０２ａから１０２ｃに結合され、又は、アベートメントシステム１０４ａから１０４ｃ及び処理ツール１０２ａから１０２ｃの両方に結合される。
【００２４】
[0032]図２を参照するに、一実施例のシステム２００が提示されている。図１に関してシステム１００を説明し且つ図２に関してシステム２００を後述するのに使用される同様の参照符号は、同様の特徴を示している。
【００２５】
[0033]ここに説明するように、システム２００は、インターフェースマニホルド２０６を通して２つのアベートメントシステム２０４ａ及び２０４ｂに結合された２つの処理ツール２０２ａ及び２０２ｂを含む。そのインターフェースマニホルド２０６は、処理ツール２０２ａ及び２０２ｂとアベートメントシステム２０４ａ及び２０４ｂとの間の流体連通を可能とするものである。
【００２６】
[0034]ここに示した実施形態では、各処理ツール２０２ａ及び２０２ｂは、３つの処理チャンバ２０８（それぞれ、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤ、Ｅ、Ｆ）を含む。１つ以上の流出物が処理ツール２０２ａ及び２０２ｂを出て行くように流すため、各チャンバ２０８から対応するチャネル２１０（Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤ、Ｅ、Ｆ）が延長している。２つのアベートメントシステム２０４ａ及び２０４ｂの各々は、６つのインレット（１、２、３、４、５、６）を含む。第１の処理ツール２０２ａの３つの（Ａ、Ｂ、Ｃ）チャネル２１０は、インターフェースマニホルド２０６を通して、第１のアベートメントシステム２０４ａのインレット１、２、３と流体連通することができる。もし、第１のアベートメントシステム２０４ａが使用できない場合には、第１の処理ツール２０２ａからの流出物は、チャネルＡ、Ｂ、Ｃを通して第２のアベートメントシステム２０４ｂのインレット４、５、６へと流れることができる。第２の処理ツール２０２ｂの３つの（Ｄ、Ｅ、Ｆ）チャネル２１０は、インターフェースマニホルド２０６を通して第２のアベートメントシステム２０４ｂのインレット１、２、３と流体連通することができる。もし、第２のアベートメントシステム２０４ｂが使用できない場合には、第２の処理ツール２０２ｂからの流出物は、チャネルＤ、Ｅ、Ｆを通して第１のアベートメントシステム２０４ａのインレット４、５、６へと流れることができる。
【００２７】
[0035]図３を参照するに、システム３００の典型的な実施形態が概略的に例示されている。このシステム３００は、図２に示したシステム２００と同様であり、インターフェースマニホルド３０６（点線）を通して２つのアベートメントシステム３０４ａ及び３０４ｂに結合される２つの処理ツール３０２ａ及び３０２ｂを含む。しかしながら、ここに示すシステム３００では、典型的なインターフェースマニホルド３０６の詳細が示されている。前述したように、このインターフェースマニホルド３０６は、処理ツールの異なるチャネル３０８からの流出物をアベートメントシステム３０４ａ及び３０４ｂへ選択的に向けるようにする１つ以上の弁３０７を含むことができる。ここに使用するのに適した典型的な弁としては、ゲート弁、ニードル弁、ベローズ弁又はボール弁、又はその他のタイプの弁がある。好ましい実施形態では、ボール弁が使用される。ボール弁の実施例としては、カリフォルニア州サンタフェスプリングスのSVF Flow Cotrolsにより製造されているSeries SMC９弁、オハイオ州ノーウッドのJ-Flowにより製造されているCFDM３L/３T５９００ Series弁、ミシガン州ミルフォードのTriad ProcessEquipmentにより製造されているTriad Series ３０L-９２０６１及びT-９２０６１弁、及びテキサス州ヒューストンのFlow-Tekにより製造されているマルチポートシリーズがある。
【００２８】
[0036]典型的な動作実施形態では、第１の処理ツール３０２ａの３つの（Ａ、Ｂ、Ｃ）チャネル３０８は、インターフェースマニホルド３０６を通して、第１のアベートメントシステム３０４ａのインレット１、２、３と流体連通することができる。前述したように、第１のアベートメントシステム３０４ａは、１つ以上のセンサ（図示せず）を含むことができる。このセンサは、この第１のアベートメントシステム３０４ａが流出物を緩和するのに使用できないことを示す信号をコントローラ３１０へ送ることができる。別の実施形態では、処理ツールは、アベートメントシステムの状態を示す信号をコントローラへ送るセンサを含むことができる。コントローラ３１０は、このとき、使用できない第１のアベートメントシステム３０４ａのインレット１、２、３の代わりに、第２のアベートメントシステム３０４ｂのインレット４、５、６へと流出物の流れを向けるように、インターフェースマニホルド３０６の弁３０７を作動させる。種々な実施形態において、それら弁３０７は、自動的に操作されてもよいし、又は手動で操作されてもよい。同様に、第２の処理ツール３０２ｂの３つの（Ｄ、Ｅ、Ｆ）チャネル３０８は、インターフェースマニホルド３０６を通して、第２のアベートメントシステム３０４ｂのインレット１、２、３と流体連通することができる。前述したように、センサは、第２のアベートメントシステム３０４ｂが使用できないことを検出して、この状態を示す信号をコントローラ３１０へ送ることができる。コントローラ３１０は、これに応答して、使用できない第２のアベートメントシステム３０４ｂのインレット１、２、３の代わりに、第１のアベートメントシステム３０４ａのインレット４、５、６へ流出物の流れを向けるように弁３０７を作動させることができる。
【００２９】
[0037]システム３００は、又、バックアップ緩和の付加的レベルとして作用するハウス排気スクラバ３１２を含むことができる。従って、両方のアベートメントシステム３０４ａ及び３０４ｂが予期せずに使用できないような状態が生じた場合には、インターフェースマニホルド及びコントローラを介して流出物を緩和のためハウス排気スクラバ３１２へと向けるように、弁を作動させることができる。
【００３０】
[0038]図４を参照するに、バックアップ構成にて機能するように適応されたシステム４００の典型的な実施形態が示されている。この実施例のシステム４００は、インターフェースマニホルド４０６（点線）を通して２つのアベートメントシステム４０４ａ及び４０４ｂに結合される２つの処理ツール４０２ａ及び４０２ｂを含み、このインターフェースマニホルド４０６は、処理ツール４０２ａ及び４０２ｂとアベートメントシステム４０４ａ及び４０４ｂとの間の流体連通を選択的に可能とするものである。
【００３１】
[0039]バックアップ構成の場合には、両方の処理ツール４０２ａ及び４０２ｂからの流出物は、太線で示されるように、一次アベートメントシステム４０４ａのみへ向けられ、一方、二次アベートメントシステム４０４ｂは、休止状態にある。もし、一次アベートメントシステム４０４ａが予定された（例えば、計画保守管理）状態又は予定されていない（例えば、構成部分の故障による非常停止）状態のために停止される場合には、コントローラ４１２は、この停止状態を示す信号を受け取り、両方の処理ツール４０２ａ及び４０２ｂからの流出物の流れを、細線で示すように、二次アベートメントシステム４０４ｂのみへと向け直すようにインターフェースマニホルド４０６の弁４０７を作動させることができる。一次アベートメントシステム４０４ａに対するバックアップとして二次アベートメントシステム４０４ｂを使用することにより、流出物をアベートメントシステムへと継続して流すことができ、環境法令をより遵守することができるようになり、停止アベートメントシステムをバイパスして、流出物をハウス排気へと直接的に流してしまわなければならないようなことをなくすことができる。
【００３２】
[0040]図５を参照するに、異なるタイプのツール／処理のための緩和用途特定分散構成において機能するように適応されたシステム５００の典型的な実施形態が示されている。このシステム５００は、インターフェースマニホルド５０６（点線）を通して２つのアベートメントシステム５０４ａ及び５０４ｂに結合される２つの処理ツール５０２ａ及び５０２ｂを含み、このインターフェースマニホルド５０６は、処理ツール５０２ａ及び５０２ｂとアベートメントシステム５０４ａ及び５０４ｂとの間の流体連通を選択的に可能とするものである。
【００３３】
[0041]用途特定システムの典型的な例としては、処理ツール５０２ａ及び５０２ｂにおける基板処理から生ずる流出物は、インターフェースマニホルド５０６を通して、太線で示されるように、第１のアベートメントシステム５０４ａへと向けられ、一方、処理ツール５０２ａ及び５０２ｂを洗浄することにより生ずる流出物は、細線で示されるように、第２のアベートメントシステム５０４ｂへと向けられるようにするものがある。点線で示すチャネルライン及び弁５０７は、流出物の流れを向け直すことができるようにするものである。流出物が、例えば、異なる腐食性及び燃焼性特性を有するような場合には、それら異なる流出物は、異なるアベートメントシステム５０４ａ及び５０４ｂへと向けるようにするのが望ましい。処理流出物及び洗浄流出物の場合には、洗浄流出物は、処理流出物よりも腐食性及び燃焼性が高く、従って、処理流出物よりもアベートメントシステム５０４ｂをより速く消耗させてしまう。異なる装置を付加したり又は異なるアベートメントシステムにおいて緩和の異なる燃料／方法を使用することによって異なるシステムをカスタマイズ／適応させることに加えて、個々のシステムの使用を、より少ない種類の処理に限定することにより、必要となる保守管理（例えば、消耗部品の交換）の予測を、より正確になすことができるようになる。同様に処理流出物及び洗浄流出物を例とした場合、例えば、その腐食性のより高い洗浄流出物を処理するシステムの交換の時期は、既知の腐食割合からより正確に予測することができる。
【００３４】
[0042]図６を参照するに、同様の又は異なるタイプ／容量のアベートメントユニットの間の自動ロードバランスを行う構成として機能するように適応されたシステム６００の典型的な実施形態が示されている。この実施例のシステム６００は、インターフェースマニホルド６０６（点線）を通して３つのアベートメントシステム６０４ａ、６０４ｂ及び６０４ｃに結合される２つの処理ツール６０２ａ及び６０２ｂを含み、そのインターフェースマニホルド６０６は、処理ツール６０２ａ及び６０２ｂとアベートメントシステム６０４ａ、６０４ｂ及び６０４ｃとの間の流体連通を可能とするものである。
【００３５】
[0043]ここに説明する実施例においては、第１のアベートメントシステム６０４ａ及び第３のアベートメントシステム６０４ｃは、各々が１１００リットル／分の流量容量を有するマラソン（Marathon）アベートメントシステムであり、第２のアベートメントシステム６０４ｂは、３００リットル／分の流量容量を有するＣＤＯアベートメントシステムである。第２のアベートメントシステム６０４ｂは、第１のアベートメントシステム６０４ａ及び第３のアベートメントシステム６０４ｃよりもはるかに低い流量容量であるので、特定の状態においては、第１のアベートメントシステム６０４ａ及び第３のアベートメントシステム６０４ｃのみを運転するのが望ましい。このような特定の状態の一例は、１３００リットル／分より高く２０００リットル／分より低い流量において流出物の緩和を行う場合である。１０００リットル／分より高く１３００リットル／分より低い流量の流出物の緩和を行おうとするときには、第１のアベートメントシステム６０４ａ及び第２のアベートメントシステム６０４ｂのみが使用される。３００リットル／分より高く１０００リットル／分より低い流量の流出物の緩和を行うべきときには、第１のアベートメントシステム６０４ａのみが使用される。２０００リットル／分より高く２３００リットル／分より低い流量の流出物を緩和すべきときには、３つのアベートメントシステム６０４ａ、６０４ｂ及び６０４ｃのすべてが使用される。
【００３６】
[0044]どのアベートメントシステム６０４ａ、６０４ｂ及び６０４ｃを使用するかを決定するのに、他のパラメータ及びしきい値を使用することができる。ある実施形態では、その時にどのシステムを使用するか又はどのシステムとどのシステムとを組み合わせて使用するかの選択を行うのに、例えば、効率及び／又はコストに基づいて、種々なアベートメントシステムの使用を最適化するアルゴリズムが使用される。こうして、ここに示す実施例では、コントローラ６１２は、処理ツール６０２ａ及び６０２ｂからの流出物の流れを、太線で示されるように、第１のアベートメントシステム６０４ａ及び第３のアベートメントシステム６０４ｃへと向けるようにインターフェースマニホルド６０６の弁６０７を作動させる。
【００３７】
[0045]図７を参照するに、冗長構成において機能するように適応されたシステム７００の典型的な実施形態が示されている。このシステム７００は、インターフェースマニホルド７０６（点線）を通して２つのアベートメントシステム７０４ａ及び７０４ｂに結合される２つの処理ツール７０２ａ及び７０２ｂを含み、そのインターフェースマニホルド７０６は、処理ツール７０２ａ及び７０２ｂとアベートメントシステム７０４ａ及び７０４ｂとの間の流体連通を選択的に可能とするものである。
【００３８】
[0046]冗長システムの典型的な場合には、太線で示されるように、第１の処理ツール７０２ａからの流出物は、第１のアベートメントシステム７０４ａへ向けられ、第２の処理ツール７０２ｂからの流出物は、第２のアベートメントシステム７０４ｂへ向けられる。もし、アベートメントシステム７０４ａ及び７０４ｂのいずれかが流出物の緩和を行うのに使用できなくなる場合には、例えば、第１のアベートメントシステム７０４ａであるアベートメントシステムの停止状態を示す信号がコントローラ７１２へ送られる。コントローラ７１２は、それに応答して、第１の処理ツール７０２ａからの流出物の流れを、細線で示されるように、第２のアベートメントシステム７０４ｂへと向けるように弁７０７を作動させる。
【００３９】
[0047]図８を参照するに、処理ツールからの流出物を緩和するための、図２に示した流出物流構成の典型的な方法を例示しているフローチャートが示されている。しかしながら、この方法は、個々に説明する典型的な構成のいずれにも適用できるものである。ステップＳ１００において、１つ以上の処理ツール２０２ａ及び２０２ｂ（図２）から出される流出物が、インターフェースマニホルド２０６（図２）を通して１つ以上のアベートメントシステム２０４ａ及び２０４ｂ（図２）へと流される。ステップＳ１０２において、それら１つ以上のアベートメントシステムのうちの第１のアベートメントシステム２０４ａの状態を示す指示が受け取られる。その状態は、第１のアベートメントシステム２０４ａが流出物を処理するのに使用できないことを示すことがある。その時には、ステップＳ１０４において、その指示を受け取ることに応答して、その流出物は、インターフェースマニホルド２０６を通して第２のアベートメントシステム２０４ｂへと向けられる。なお、種々な構成の代替的方法については、２００６年８月２３日に出願され、「SYSTEM FOR MONITORING MULTIPLE ABATEMENT SYSTEMS AND METHOD OF USINGTHE SAME」と題する米国特許出願第６０／８２３，２９４号（代理人管理番号１０４７０）に開示されている。
【００４０】
[0048]前述の説明は、単に、本発明の典型的な実施形態を示すだけのものである。本発明の範囲内に入る前述の装置及び方法の種々な変形態様については、当業者には容易に明らかとなろう。ある実施形態では、本発明の装置及び方法は、半導体デバイス処理及び／又は電子装置製造に適用することができる。
【００４１】
[0049]本発明の種々な典型的な実施形態について本発明を説明してきたのであるが、特許請求の範囲により限定されるような本発明の精神及び範囲内に入る他の種々な実施形態もあることは理解されよう。
【符号の説明】
【００４２】
１００…システム、１０２ａ…処理ツール、１０２ｂ…処理ツール、１０２ｃ…処理ツール、１０４ａ…アベートメントシステム、１０４ｂ…アベートメントシステム、１０４ｃ…アベートメントシステム、１０６…インターフェースマニホルド、１０８…チャンバ、１１０…チャネル、１１２…コントローラ、２００…システム、２０２ａ…第１の処理ツール、２０２ｂ…第２の処理ツール、２０２ｃ…第３の処理ツール、２０４ａ…第１のアベートメントシステム、２０４ｂ…第２のアベートメントシステム、２０６…インターフェースマニホルド、２０８…チャンバ、２１０…チャネル、２１２…コントローラ、３００…システム、３０２ａ…第１の処理ツール、３０２ｂ…第２の処理ツール、３０４ａ…第１のアベートメントシステム、３０４ｂ…第２のアベートメントシステム、３０６…インターフェースマニホルド、３０７…弁、３０８…チャネル、３１０…コントローラ、３１２…ハウス排気スクラバ、４００…システム、４０２ａ…処理ツール、４０２ｂ…処理ツール、４０４ａ…一次アベートメントシステム、４０４ｂ…二次アベートメントシステム、４０６…インターフェースマニホルド、４０７…弁、４１２…コントローラ、５００…システム、５０２ａ…処理ツール、５０２ｂ…処理ツール、５０４ａ…第１のアベートメントシステム、５０４ｂ…第２のアベートメントシステム、５０６…インターフェースマニホルド、５０７…弁、５１２…コントローラ、６００…システム、６０２ａ…処理ツール、６０２ｂ…処理ツール、６０４ａ…第１のアベートメントシステム、６０４ｂ…第２のアベートメントシステム、６０４ｃ…第３のアベートメントシステム、６０６…インターフェースマニホルド、６０７…弁、６１２…コントローラ、７００…システム、７０２ａ…第１の処理ツール、７０２ｂ…第２の処理ツール、７０４ａ…第１のアベートメントシステム、７０４ｂ…第２のアベートメントシステム、７０６…インターフェースマニホルド、７０７…弁、７１２…コントローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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