(57)【要約】  【課題】複数の直列結合ノードを同期するための方法を提供する。  【解決手段】マスタトリガは、複数の直列結合ノードを通して、第１のノードから最終ノードへダウンストリーム方向に送信され、この複数の直列結合ノードを通して、最終ノードから第１のノードへアップストリーム方向に再送信される。次に、マスタトリガのダウンストリーム方向とアップストリーム方向の到達の間の差分測定値に基づいて、複数の直列結合ノードのそれぞれで、ローカル同期時間が計算される。ローカルノードでの動作は、ローカル同期時間に基づいて同期させることができる。【選択図】図２
2010537396.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノードを同期させるための方法であって、
マスタトリガを、コントローラノードから、直列に結合された第１及び第２のローカルノードへダウンストリーム方向に送信することと、
前記第１のローカルノード（ｎ）で、前記マスタトリガのダウンストリーム到達時間（Ｔｄｎ）を測定し、前記マスタトリガを前記第２のローカルノード（ｎ＋１）へダウンストリーム方向に再送信することと、
前記第２のローカルノード（ｎ＋１）から前記第１のローカルノード（ｎ）へ前記マスタトリガをアップストリーム方向に送信することと、
前記第１のローカルノード（ｎ）で、前記第２のローカルノード（ｎ＋１）からの前記マスタトリガのアップストリーム到達時間（Ｔｕｎ）を測定し、前記マスタトリガを前記コントローラノードへアップストリーム方向に再送信することと、
ＴｄｎとＴｕｎとの間の差分測定値に基づいてローカル同期時間信号（Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ））を計算し、それによって、前記第１及び第２のローカルノードを前記コントローラノードと同期させることとを含む方法。
【請求項２】
前記ローカル同期時間（Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ））を計算することが、
各ローカルノードに対するローカル差分時間（Ｔｄｉｆｆ（ｎ））を計算することであって、Ｔｄｉｆｆ（ｎ）＝Ｔｕｎ−Ｔｄｎであることと、
オフセット（Ｔｏｆｆｓｅｔ）を決定することとをさらに含み、
前記ローカル同期信号Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ）は、［Ｔｄｎ＋（１／２＊Ｔｄｉｆｆ（ｎ））＋Ｔｏｆｆｓｅｔ］又は［Ｔｕｎ−（１／２＊Ｔｄｉｆｆ（ｎ））＋Ｔｏｆｆｓｅｔ］のいずれかに等しい、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
オフセットＴｏｆｆｓｅｔが、直列の前記第１のローカルノードに対する前記ローカル差分時間Ｔｄｉｆｆ（１）の半分より大きいか又は等しい、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記マスタトリガを第１のバス上の前記第１及び第２のローカルノードへ送信することと、前記オフセット（Ｔｏｆｆｓｅｔ）を第２のバス上の前記第１及び第２のローカルノードへ送信することとをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記ローカル差分時間Ｔｄｉｆｆ（ｎ）が、前記ローカルノードへトレーニングトリガを送信することによって事前に決定される、請求項２、３、又は４に記載の方法。
【請求項６】
前記トレーニングトリガが、以前に送信されたマスタトリガである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
マスタトリガ送信Ｔｄ０と、前記マスタノードでのアップストリーム方向からの前記マスタトリガの到達Ｔｕ０との間の差分測定値に基づいて、前記コントローラノードＴｓｙｎｃｈ（０）に対するローカル同期時間を計算することをさらに含む、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記コントローラノードでのアップストリーム方向の前記マスタトリガの到達に基づいて、前記第１及び第２のローカルノードそれぞれが前記マスタトリガを受信したか否かを決定することにより、前記第１及び第２のローカルノードの連続性を事前評価することをさらに含む、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
（ｉ）コントローラノード差分時間（Ｔｄｉｆｆ（０））を計算することであって、Ｔｄｉｆｆ（０）＝Ｔｕ０−Ｔｄ０であることと、
（ｉｉ）オフセット（Ｔｏｆｆｓｅｔ（０））を計算することであって、Ｔｏｆｆｓｅｔ（０）は［（Ｔｓｙｎｃｈ（０）−Ｔｄ０）−１／２Ｔｄｉｆｆ（０）］又は［（Ｔｓｙｎｃｈ（０）−Ｔｕ０）＋１／２Ｔｄｉｆｆ（０）］のいずれかに等しいこととによって、
前記第１及び第２のローカルノードそれぞれを、前記マスタノード（Ｔｓｙｎｃｈ（０））のタイムドメイン内の絶対モーメントと同期させることと、
Ｔｏｆｆｓｅｔ（０）を前記第１及び第２のローカルノードのそれぞれに分配することとをさらに含む、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
複数の直列に結合されたノードを同期させるための方法であって、
マスタトリガを、前記複数の直列に結合されたローカルノードを通して、第１のノードから最終ノードへダウンストリーム方向に送信することと、
前記マスタトリガを、前記複数の直列に結合されたノードを通して、前記最終ノードから前記第１のノードへアップストリーム方向に再送信することと、
前記ダウンストリーム方向及び前記アップストリーム方向の前記マスタトリガの到達の間の差分測定値に基づいて、前記複数のノードそれぞれで、ローカル同期時間を計算することとを含む方法。
【請求項１１】
パターニングデバイスを制御するための同期システムであって、
ダウンストリームマスタトリガを送信する送信機と、アップストリームマスタトリガを受信する受信機とを含むコントローラノードと、
前記コントローラノードと直列に結合された第１及び第２の連続するダウンストリームローカルノードであって、それぞれ、前記マスタトリガを受信してダウンストリーム方向に再送信するダウンストリームトランシーバと、前記マスタトリガを受信してアップストリーム方向に再送信するアップストリームトランシーバとを有する第１及び第２のダウンストリームローカルノードとを備え、
前記コントローラノード及び前記第１及び第２のローカルノードは、それぞれ、（ｉ）ダウンストリーム方向及びアップストリーム方向の両方で前記マスタトリガの到達を検出するトリガ検出器と、（ｉｉ）前記アップストリーム方向の前記マスタトリガの到達と、前記ダウンストリーム方向の前記マスタトリガの到達との間の差分測定値に基づいて、ローカルタイミング信号を生成するタイミング補償モジュールとを含み、
それによって、前記ローカルタイミング信号は、前記パターニングデバイスの動作を制御するために、前記マスタ信号と同期される、同期システム。
【請求項１２】
前記ローカルタイミング信号が、ソフトウェアプログラマブルオフセットを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第１及び第２の連続するダウンストリームローカルノードが、論理的に直列に結合される、請求項１１又は１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第１及び第２の連続するダウンストリームローカルノードが、物理的に直列に結合される、請求項１１又は１２に記載のシステム。
【請求項１５】
１つ又は複数の放射ビームを生成するイルミネーションシステムと、
前記１つ又は複数の放射ビームをパターン形成するパターニングデバイスであって、前記パターニングデバイスが複数のローカルノードから制御情報を受信し、前記ローカルノードが直列に結合され、
マスタトリガを第１のローカルノードから最終ローカルノードへダウンストリーム方向に送信し、
前記マスタトリガを前記最終ノードから前記第１のノードへアップストリーム方向に再送信し、
前記ダウンストリーム方向と前記アップストリーム方向との前記マスタトリガの到達間の差分測定値に基づいて、前記複数のローカルノードのそれぞれでローカルタイミング信号を生成し、前記パターニングデバイスが前記複数のローカルタイミング信号に従って同期された制御情報を受信するパターニングデバイスと、
前記１つ又は複数のパターン付ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
を備えるリソグラフィシステム。
【請求項１６】
前記パターニングデバイスが、複数のデータストアから制御情報を受信し、各データストアが、前記ローカルタイミング信号をそれぞれが生成するローカルノードを有する、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記ローカルノードのそれぞれが、複数のデータストアに結合され、前記複数のデータストアが、前記複数のローカルタイミング信号に基づいて前記パターニングデバイスへ情報を提供する、請求項１５又は１６に記載のシステム。
【請求項１８】
前記ローカルタイミング信号が、ソフトウェアプログラマブルオフセットを含む、請求項１５、１６、又は１７に記載のシステム。
【請求項１９】
前記複数のローカルノードが、論理的に直列に結合される、請求項１５から１８のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項２０】
前記複数のローカルノードが、物理的に直列に結合される、請求項１５から１８のいずれか１項に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、概して、デバイスを製造するためのリソグラフィ装置及び方法に関する。より詳細には、本発明は、リソグラフィ装置を制御するためのシステムの素子を同期するためのシステム及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、基板又は基板の一部に所望のパターンを印加する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、フラットパネルディスプレイ、集積回路（ＩＣ）及び微細な構造を含むその他のデバイスの製造に使用することができる。従来の装置では、マスク又はレチクルとも言われるパターニングデバイスを用いて、フラットパネルディスプレイ（又はその他のデバイス）の個々の層に対応する回路パターンを生成することができる。このパターンは、基板上に提供された放射感応性材料（例えば、レジスト）の層への結像によって、基板（例えば、ガラス板）の全体又はその一部に転写することができる。
【０００３】
[0003]  回路パターンの代わりに、パターニングデバイスを用いてカラーフィルタパターン又はドットマトリクスなどの他のパターンを生成することができる。マスクの代わりに、パターニングデバイスは、個別に制御可能な素子のアレイを備えるパターニングアレイであってもよい。マスクベースのシステムと比較した場合、このようなシステムではパターンの変更がより迅速にでき、コストが安くなる。例えばパターニングデバイスは、様々な形状の製造に対処するために、基板上の露光領域を柔軟に変更することができる。
【０００４】
[0004]  例えばフラットパネルディスプレイ基板は、通常、矩形の形状を有する。このタイプの基板を露光するように設計されたリソグラフィ装置は、矩形の基板の幅の全体を覆う、又は幅の一部（例えば、幅の半分）を覆う露光領域を提供できる。基板は、露光領域の下でスキャンでき、その間マスク又はレチクルは、同期してビームでスキャンされる。こうして、パターンは基板に転写される。露光領域が基板の幅の全体を覆う場合、露光は１回のスキャンで完了できる。露光領域が例えば基板の幅の半分を覆う場合、第１のスキャン後に基板を横に移動させて、通常、さらにスキャンを実行して基板の残りを露光する。
【０００５】
[0005]  リソグラフィ装置は、高精度に同期される必要のある様々なサブシステム及び工程を有することになる。例えば、マクロレベルでは、レーザビームなどの光源、パターニングデバイス、基板ステージ、及び／又はパターニングデバイスステージを含む投影システムは、任意の特定の用途において、すべてが緊密に同期しなければならない。より微細なレベルでは、露光期間がパターニングデバイスと高精度に整合されることを確実にするために、リソグラフィ装置全体を通したデータの流れが緊密に同期しなければならない。これは特に、個別に制御可能な素子のアレイを備える上記パターニングデバイスを使用する光学マスクレスリソグラフィ（ＯＭＬ）のリソグラフィツールの場合に当てはまる。このようなパターニングデバイスは、通常、複数の制御デバイス、ドライバ、及びデータストアを有し、スループットを最大にし、エラーを最小にするために、それらすべてが緊密に同期しなければならない。
【０００６】
[0006]  複数のシステムの非常に正確な同期は、特にリソグラフィ装置の一部が物理的に実際の製造場所の外側に設置されている場合、困難である。マスクレスシステムの場合、通常、熱調節の問題、物理的制約、及びクリーンルーム環境内での１平方メートルあたりの価格が原因である。
【発明の概要】
【０００７】
[0007]  リソグラフィ装置内の種々のシステム及びサブシステムを効果的に同期させることができるシステム及び方法が提供される。
【０００８】
[0008]  本発明の一実施形態では、複数の直列結合ノードを同期するための方法が提供される。マスタトリガは、この複数の直列結合ノードを通して、第１のノードから最終ノードへダウンストリーム方向に送信され、この複数の直列結合ノードを通して、最終ノードから第１のノードへアップストリーム方向に再送信される。次に、マスタトリガのダウンストリーム方向とアップストリーム方向との到達との間の差分測定値に基づいて、複数の直列結合ノードのそれぞれで、ローカル同期時間が計算される。
【０００９】
[0009]  他の実施形態では、パターニングデバイスを制御するための同期システムについて説明される。このシステムは、ダウンストリームマスタトリガを送信する送信機と、アップストリームマスタトリガを受信する受信機とを含むコントローラノードを備える。このシステムは、さらに、マスタノードと直列に結合された１つ又は複数の連続するダウンストリームローカルノードを含み、この１つ又は複数のローカルノードはそれぞれ、マスタトリガを受信してダウンストリーム方向に再送信するダウンストリームトランシーバと、マスタトリガを受信してアップストリーム方向に再送信するアップストリームトランシーバとを有する。コントローラノード及び１つ又は複数のローカルノードは、それぞれ、（ｉ）ダウンストリーム方向及びアップストリーム方向の両方でマスタトリガの到達を検出するトリガ検出器と、（ｉｉ）アップストリーム方向のマスタトリガの到達と、ダウンストリーム方向のマスタトリガの到達との間の差分測定値に基づいて、ローカルタイミング信号を生成するタイミング補償モジュールとを含む。ローカルタイミング信号は、パターニングデバイスの動作を制御するために、マスタ信号と同期される。
【００１０】
[0010]  本発明のその他の実施形態、特徴、及び利点と本発明の様々な実施形態の構造及び動作について添付の図面を参照しながら以下に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
[0011]  本明細書に組み込まれて本明細書の一部を形成する添付の図面は、本発明の１つ又は複数の実施形態を示し、説明と共に、本発明の原理を説明し当業者が本発明を利用できるようにする役割を果たす。
【図１】[0012]本発明の一実施形態による、リソグラフィ装置を示す図である。
【図２】[0012]本発明の一実施形態による、リソグラフィ装置を示す図である。
【図３】[0013]図２に示す本発明の一実施形態による基板にパターンを転写するモードを示す図である。
【図４】[0014]本発明の一実施形態による光エンジンの配置構成を示す図である。
【図５】[0015]例示的リソグラフィ装置の制御システムの一部を示す図である。
【図６Ａ】[0016]リソグラフィ装置における種々のサブシステムの同期の例示的タイミング図である。
【図６Ｂ】[0016]リソグラフィ装置における種々のサブシステムの同期の例示的タイミング図である。
【図７】[0017]マスタノードと、マスタノードと同期される複数のローカルノードとの簡略配置構成を示す図である。
【図８】[0018]マスタノード及びローカルノードをより詳細に示す図である。
【図９】[0019]複数のノードを同期するための例示的方法を示すフローチャートである。
【図１０】[0020]図９に示す方法に対応する簡略タイミング図である。
【図１１】[0021]マスタノード及びローカルノードの配置構成に対する代替トポロジを示す図である。
【図１２】[0022]オープンシステム相互接続（ＯＳＩ）モデルの観点からのマスタノード及びローカルノードの配置構成に対する例示的トポロジを示す図である。
【００１２】
[0023]  本発明の１つ又は複数の実施形態について添付の図面を参照しながら以下に説明する。図面で、同様の参照番号は、同一又は機能的に同様の要素を示す。さらに、参照番号の左端の１つ又は複数の数字は、参照番号が最初に出てくる図面を識別する。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
[0024]  本明細書は、本発明の様々な特徴を組み込んだ１つ又は複数の実施形態を開示する。開示された実施形態は、本発明の例示としての実施形態にすぎない。本発明の範囲は、開示された実施形態に限定されない。本発明は、添付の特許請求の範囲によって規定される。
【００１４】
[0025]  本明細書に記載する実施形態及び、「一実施形態」、「ある実施形態」、「例示的実施形態」などの表現は、記載された実施形態が特定の特徴、構造、又は特性を含むことができる旨を示すが、各実施形態は、特定の特徴、構造、又は特性を必ずしも含まなくてもよい。さらに、そのような字句は、必ずしも同じ実施形態に言及している訳ではない。さらに、特定の特徴、構造、又は特性がある実施形態に関連して記載されている時には、明示的であるか否かを問わず、当業者であれば知識の範囲内でそのような特徴、構造、又は特性を他の実施形態に関連して扱うことができることを理解されたい。
【００１５】
[0026]  本発明の実施形態は、ハードウェア、ファームウェア、ソフトウェア、又はそれらの任意の組合せで実施することができる。また、本発明の実施形態は、１つ又は複数のプロセッサによって読み出して実行することができる機械読み取り可能媒体に記憶された命令として実施することができる。機械読み取り可能媒体は、機械（例えば、コンピュータ装置）が読み取れる形式で情報を記憶又は伝送できる任意の機構を含むことができる。例えば、機械読み取り可能媒体は、読出し専用メモリ（ＲＯＭ）、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ），磁気ディスク記憶媒体、光記憶媒体、フラッシュメモリデバイス、電気、光、音声又はその他の形態の伝搬信号（例えば、搬送波、赤外線信号、デジタル信号など）、その他を含むことができる。さらに、本明細書に一定の動作を実行するファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令を記載できる。しかし、そのような記載は便宜のためだけであり、そのような動作は、実際には、ファームウェア、ソフトウェア、ルーチン、命令などを実行するコンピュータ装置、プロセッサ、コントローラ、又はその他のデバイスによって行われる。
【００１６】
[0027]  図１は、本発明の一実施形態のリソグラフィ装置１を概略示す。この装置は、照明システムＩＬと、パターニングデバイスＰＤと、基板テーブルＷＴと、投影システムＰＳとを備える。照明システム（イルミネータ）ＩＬは、放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射）を調整するように構成されている。
【００１７】
[0028]  説明は、リソグラフィに関するものではあるが、本発明の範囲から逸脱することなく、ターニングデバイスＰＤは、ディスプレイシステム内（例えば、ＬＣＤテレビジョン又はプロジェクタ内）に形成できることを理解されたい。従って、投影されたパターン付ビームを、基板、ディスプレイ装置などの多くの様々なタイプのオブジェクト上に投影することができる。
【００１８】
[0029]  基板テーブルＷＴは、基板（例えば、レジストコート基板）Ｗを支持するように構成され、一定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成されたポジショナＰＷに接続されている。
【００１９】
[0030]  投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳは、個別に制御可能な素子のアレイによって変調された放射ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ又は複数のダイを含む）に投影するように構成されている。本明細書で使用する「投影システム」という用語は、使用する露光放射又は液浸液の使用もしくは真空の使用などのその他の要因にふさわしい、屈折、反射、反射屈折、磁気、電磁気及び静電光学系又はそれらの任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを包含すると広く解釈すべきである。本明細書での「投影レンズ」という用語のいかなる使用も、より一般的な「投影システム」という用語と同義であると考えることができる。
【００２０】
[0031]  照明システムは、放射を方向付け、整形し、又は制御する、屈折、反射、磁気、電磁気、静電又はその他のタイプの光学コンポーネントあるいはそれらの任意の組合せのような様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。
【００２１】
[0032]  パターニングデバイスＰＤ（例えば、レチクル又はマスク又は個別に制御可能な素子のアレイ）は、ビームを変調する。一般に、個別に制御可能な素子のアレイの位置は、投影システムＰＳに対して固定されている。しかし、一定のパラメータに従って個別に制御可能な素子のアレイを正確に位置決めするように構成されたポジショナに接続することもできる。
【００２２】
[0033]  本明細書で使用する、例えばミラーデバイス又はミラーアレイなどの「パターニングデバイス」又は「コントラストデバイス」という用語は、例えば、基板のターゲット部分にパターンを形成するために、放射ビームの断面を変調するために使用することができる任意のデバイスを指すものと広く解釈すべきである。デバイスは、静的パターニングデバイス（例えば、マスク又はレチクル）あるいは動的パターニングデバイス（例えば、プログラマブル素子のアレイ）のいずれでもよい。話を分かりやすくするために、説明の大半を動的パターニングデバイスに関して行うが、本発明の範囲を逸脱することなく、静的パターニングデバイスも使用することができることを理解されたい。
【００２３】
[0034]  放射ビームに付与されたパターンは、基板のターゲット部分の所望のパターンに正確に対応しないこともあることに留意されたい。例えば、パターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合がこれにあたる。同様に、基板上で最終的に生成されるパターンは、個別に制御可能な素子のアレイ上に任意の１つの瞬間に形成されえるパターンに対応できない。これは、個別に制御可能な素子のアレイ上のパターン及び／又は基板の相対位置が変化する所与の期間又は所与の露光回数にわたって基板の各部の上に形成される最終的なパターンが形成される配置構成のケースである。
【００２４】
[0035]  一般に、基板のターゲット部分に作成されるパターンは、集積回路又はフラットパネルディスプレイ（例えば、フラットパネルディスプレイ内のカラーフィルタ層又はフラットパネルディスプレイ内の薄膜トランジスタ層）などの、ターゲット部分に作成されるデバイスの特定の機能層に対応する。そのようなパターニングデバイスの例としては、レチクル、プログラマブルミラーアレイ、レーザダイオードアレイ、発光ダイオードアレイ、格子光弁、及びＬＣＤアレイが挙げられる。
【００２５】
[0036]  電子手段（例えば、コンピュータ）の助けを借りてパターンがプログラマブルであるパターニングデバイス、例えば、複数のプログラマブル素子を備えるパターニングデバイス（例えば、レチクルを除く上述のすべてのデバイス）を本明細書では「コントラストデバイス」と総称する。パターニングデバイスは、少なくとも１０の、少なくとも１００の、少なくとも１，０００の、少なくとも１０，０００の、少なくとも１００，０００の、少なくとも１，０００，０００の、又は少なくとも１０，０００，０００のプログラマブル素子を備える。
【００２６】
[0037]  プログラマブルミラーアレイは、粘弾性の制御層及び反射面を有するマトリクスアドレッサブル表面を有することができる。そのような装置の基本原理は、反射面のアドレス指定された領域が入射光を回折光として反射する一方、アドレス指定されていない領域は、入射光を非回折光として反射するというものである。適切な空間フィルタを用いて、反射ビームから非回折光を除去して基板に到達する回折光だけを残すことができる。こうして、ビームは、マトリクスアドレッサブル表面のアドレス指定パターンに従ってパターン付ビームになる。
【００２７】
[0038]  別の方法としては、フィルタは、回折光を除去して基板に到達する非回折光だけを残すことができることを理解されたい。
【００２８】
[0039]  回折光学マイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）デバイスのアレイも対応する方法で使用することができる。一例では、回折光学ＭＥＭＳデバイスは、互いに対して変形して入射光を回折光として反射する格子を形成できる複数の反射リボンから構成される。
【００２９】
[0040]  プログラマブルミラーアレイの別の代替実施例は、適切な局部電場を印加するか、又は圧電駆動手段を使用することで各々を軸周りに個別に傾けることができる小さいミラーのマトリクス配列を採用している。また、ミラーはマトリクスアドレス指定可能であるため、アドレス指定されたミラーは、アドレス指定されていないミラーとは異なる方向に入射放射ビームを反射する。こうして、反射ビームは、マトリクスアドレッサブルミラーのアドレス指定パターンに従ってパターン付ビームになる。必要なマトリクスアドレス指定は、適切な電子手段を用いて実行することができる。
【００３０】
[0041]  ＰＤの別の例は、プログラマブルＬＣＤアレイである。
【００３１】
[0042]  リソグラフィ装置は、１つ又は複数のコントラストデバイスを含んでいてもよい。例えば、リソグラフィ装置は、各々が互いに独立して制御される個別に制御可能な素子の複数のアレイを有することができる。そのような配置構成では、個別に制御可能な素子のアレイの一部又は全部は、共通の照明システム（又は照明システムの一部）、個別に制御可能な素子のアレイの共通の支持構造及び／又は共通の投影システム（又は投影システムの一部）を有していてもよい。
【００３２】
[0043]  図１に示す実施形態のような一例では、基板Ｗは実質的に円形の形状を有し、オプションとして円周上に切欠き及び／又は平坦な縁部を有する。別の例では、基板は、多角形、例えば矩形の形状を有する。
【００３３】
[0044]  基板が実質的に円形の形状を有する例は、基板の直径が少なくとも約２５ｍｍ、少なくとも５０ｍｍ、少なくとも７５ｍｍ、少なくとも１００ｍｍ、少なくとも１２５ｍｍ、少なくとも１５０ｍｍ、少なくとも１７５ｍｍ、少なくとも２００ｍｍ、少なくとも２５０ｍｍ、又は少なくとも３００ｍｍである例を含む。あるいは、基板は、最大で５００ｍｍ、最大で４００ｍｍ、最大で３５０ｍｍ、最大で３００ｍｍ、最大で２５０ｍｍ、最大で２００ｍｍ、最大で１５０ｍｍ、最大で１００ｍｍ、又は最大で７５ｍｍの直径を有する。
【００３４】
[0045]  基板が多角形、例えば矩形である例は、基板の少なくとも１辺、少なくとも２辺又は３辺が、少なくとも５ｃｍ、少なくとも２５ｃｍ、少なくとも５０ｃｍ、少なくとも１００ｃｍ、少なくとも１５０ｃｍ、少なくとも２００ｃｍ、又は少なくとも２５０ｃｍの長さを有する例を含む。
【００３５】
[0046]  基板の少なくとも１辺は、最大で１０００ｃｍ、最大で７５０ｃｍ、最大で５００ｃｍ、最大で３５０ｃｍ、最大で２５０ｃｍ、最大で１５０ｃｍ、又は最大で７５ｃｍの長さを有する。
【００３６】
[0047]  一例では、基板Ｗは、ウェーハ、例えば、半導体ウェーハである。ウェーハ材料は、Ｓｉ、ＳｉＧｅ、ＳｉＧｅＣ、ＳｉＣ、Ｇｅ、ＧａＡｓ、ＩｎＰ、及びＩｎＡｓからなるグループから選択できる。ウェーハは、ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体ウェーハ、シリコンウェーハ、セラミック基板、ガラス基板、又はプラスチック基板であってもよい。基板は、透明（人間の裸眼から見て）でも、着色されていても、無色でもよい。
【００３７】
[0048]  基板の厚さは様々であり、ある程度までは、基板の材料及び／又は基板の寸法に依存する。厚さは、少なくとも５０μｍ、少なくとも１００μｍ、少なくとも２００μｍ、少なくとも３００μｍ、少なくとも４００μｍ、少なくとも５００μｍ、又は少なくとも６００μｍであってもよい。あるいは、基板の厚さは、最大で５０００μｍ、最大で３５００μｍ、最大で２５００μｍ、最大で１７５０μｍ、最大で１２５０μｍ、最大で１０００μｍ、最大で８００μｍ、最大で６００μｍ、最大で５００μｍ、最大で４００μｍ、又は最大で３００μｍであってもよい。
【００３８】
[0049]  本明細書に記載する基板は、露光前又は後に、例えば、トラック（通常、レジスト層を基板に塗布して露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツール及び／又はインスペクションツール内で処理される。一例では、基板上にレジスト層が提供される。
【００３９】
[0050]  投影システムは、基板上にパターンがコヒーレントに形成されるように複数の個別に制御可能な素子のアレイ上にパターンを結像できる。別の方法としては、投影システムは、個別に制御可能な素子のアレイの各素子がシャッターとしての働きをする第２の放射源を結像できる。これに関し、投影システムは、第２の放射源を形成し基板上にスポットを結像するマイクロレンズアレイ（ＭＬＡとして知られる）又はフレネルレンズアレイなどの集束素子のアレイを備えることができる。集束素子のアレイ（例えば、ＭＬＡ）は、少なくとも１０個の結像素子、少なくとも１００個の結像素子、少なくとも１，０００個の結像素子、少なくとも１０，０００個の結像素子、少なくとも１００，０００個の結像素子、又は少なくとも１，０００，０００個の結像素子を備える。
【００４０】
[0051]  パターニングデバイス内の個別に制御可能な素子の数は、集束素子のアレイ内の集束素子の数に等しいか、又はそれより大きい。集束素子のアレイ内の１つ又は複数の（例えば、１，０００以上の、大多数の、又は各々の）集束素子は、オプションとして、個別に制御可能な素子のアレイ内の１つ又は複数の、２つ以上、３つ以上、５つ以上、１０以上、２０以上、２５以上、３５以上、又は５０以上の個別に制御可能な素子と関連付けることができる。
【００４１】
[0052]  ＭＬＡは、少なくとも基板へ近づく方向と基板から離れる方向に可動にできる（例えば、１つ又は複数のアクチュエータを用いて）。ＭＬＡを少なくとも基板へ近づく方向と基板から離れる方向に移動させられることで、例えば、基板を動かさずに焦点調節が可能になる。
【００４２】
[0053]  本明細書の図１及び図２に示すように、この装置は、反射型（例えば、個別に制御可能な素子の反射型アレイを使用する）である。別の方法としては、この装置は、透過型（例えば、個別に制御可能な素子の透過型アレイを使用する）であってもよい。
【００４３】
[0054]  リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブルを有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブルを並行して使用するか、１つ又は複数の他のテーブルを露光に使用している間に１つ又は複数のテーブルで予備工程を実行することができる。
【００４４】
[0055]  リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する「液浸液」で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばパターニングデバイスと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野で周知である。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。
【００４５】
[0056]  図１を再度参照すると、イルミネータＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受光する。放射源は、少なくとも５ｎｍ、少なくとも１０ｎｍ、少なくとも１１〜１３ｎｍ、少なくとも５０ｎｍ、少なくとも１００ｎｍ、少なくとも１５０ｎｍ、少なくとも１７５ｎｍ、少なくとも２００ｎｍ、少なくとも２５０ｎｍ、少なくとも２７５ｎｍ、少なくとも３００ｎｍ、少なくとも３２５ｎｍ、少なくとも３５０ｎｍ、又は少なくとも３６０ｎｍの波長を有する放射を提供する。あるいは、放射源ＳＯによって提供される放射は、最大で４５０ｎｍ、最大で４２５ｎｍ、最大で３７５ｎｍ、最大で３６０ｎｍ、最大で３２５ｎｍ、最大で２７５ｎｍ、最大で２５０ｎｍ、最大で２２５ｎｍ、最大で２００ｎｍ、又は最大で１７５ｎｍの波長を有する。放射は、４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍ、３５５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ及び／又は１２６ｎｍを含む波長を有することができる。
【００４６】
[0057]  放射源及びリソグラフィ装置は、例えば放射源がエキシマレーザの時には、別のエンティティであってもよい。そのような場合、放射源は、リソグラフィ装置の一部を形成するとは考えられず、放射ビームは、例えば、適切な誘導及び／又はビームエクスパンダを備えるビームデリバリシステムＢＤの助けを借りて放射源ＳＯからイルミネータＩＬへ伝達される。別の場合、例えば放射源が水銀ランプの時、放射源はリソグラフィ装置の一体化部分であってもよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤと共に、放射システムと呼ぶことができる。
【００４７】
[0058]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するアジャスタＡＤを備えることができる。一般に、少なくともイルミネータの瞳面内の強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にσ-inner及びσ-outerと呼ばれる）を調整することができる。さらに、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及び集光器ＣＯなどの他の様々なコンポーネントを備えることができる。イルミネータは、その断面に所望の均一性及び強度分布を有するように放射ビームを調節するために使用することができる。イルミネータＩＬ、又はそれに関連付けられた追加のコンポーネントも、各々が個別に制御可能な素子のアレイの１つ又は複数の個別に制御可能な素子に関連付けることができる複数のサブビームに放射ビームを分割するように配置することができる。例えば、２次元回折格子を用いて放射ビームをサブビームに分割できる。本明細書で、「放射のビーム」及び「放射ビーム」という用語は、これに限定はされないが、ビームが複数のそのような放射サブビームから構成されている状況を含む。
【００４８】
[0059]  放射ビームＢは、パターニングデバイスＰＤ（例えば、複数の個別に制御可能な素子のアレイ）に入射し、パターニングデバイスによって変調される。パターニングデバイスＰＤによって反射された放射ビームＢは、投影システムＰＳを通過し、これによって、ビームは、基板Ｗのターゲット部分Ｃに集束する。ポジショナＰＷと位置センサＩＦ２（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、容量センサなど）との助けを借りて、基板テーブルＷＴは、正確に移動でき、例えば、異なるターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に配置することができる。使用時には、複数の個別に制御可能な素子のアレイの位置決め手段を用いて、例えばスキャン中にビームＢの経路に対してパターニングデバイスＰＤの位置を正確に修正するために使用することができる。
【００４９】
[0060]  一例では、基板テーブルＷＴの移動は、図１に明示していないロングストロークモジュール（粗位置決め）及びショートストロークモジュール（微細位置決め）の助けを借りて実現する。別の例では、ショートストロークステージは存在しない。同様なシステムを用いて複数の個別に制御可能な素子のアレイを配置することができる。ビームＢを代替的に／追加的に移動でき、その間、オブジェクトテーブル及び／又は複数の個別に制御可能な素子のアレイは固定位置を有して必要な相対移動を提供することができることを理解されたい。そのような配置構成は、装置のサイズを制限する役に立つ。フラットパネルディスプレイの製造に適用可能な別の代替形態として、基板テーブルＷＴと投影システムＰＳの位置を固定し、基板Ｗを基板テーブルＷＴに対して移動するように配置することができる。例えば、基板テーブルＷＴは、実質的に一定の速度で基板Ｗ全体をスキャンするシステムを備えることができる。
【００５０】
[0061]  図１に示すように、放射が最初にビームスプリッタによって反射されてからパターニングデバイスＰＤへ誘導されるように構成されたビームスプリッタＢＳによって、放射ビームＢはパターニングデバイスＰＤへ誘導できる。ビームスプリッタを使用せずに放射ビームＢをパターニングデバイスへ誘導することもできることを理解されたい。放射ビームは、０〜９０°、５〜８５°、１５〜７５°、２５〜６５°、又は３５〜５５°の角度でパターニングデバイスへ誘導することができる（図１に示す実施形態では、角度は９０°である）。パターニングデバイスＰＤは放射ビームＢを変調し、変調された放射ビームＢを反射してビームスプリッタＢＳへ戻し、ビームスプリッタＢＳは変調されたビームを投影システムＰＳへ伝達する。しかし、放射ビームＢをパターニングデバイスＰＤへ誘導してから投影システムＰＳへ誘導する別の配置構成も使用することができる。特に、透過型パターニングデバイスを使用する場合、図１に示すような配置構成は不要である。
【００５１】
[0062]  図示の装置は、以下のいくつかのモードで使用することができる。
【００５２】
[0063]  １．ステップモードでは、複数の個別に制御可能な素子のアレイと基板は基本的に静止しているが、放射ビームに付与されたパターン全体は１回で（すなわち、１回の静的露光で）ターゲット部分Ｃに投影される。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴがＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の静止露光で結像されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
【００５３】
[0064]  ２．スキャンモードでは、複数の個別に制御可能な素子のアレイと基板は同期してスキャンされるが、放射ビームに付与されたパターンは、ターゲット部分Ｃに投影される（すなわち、１回の動的露光）。複数の個別に制御可能な素子のアレイに対する基板の速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大縮小及び画像反転特性によって決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、１回の動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
【００５４】
[0065]  ３．パルスモードでは、複数の個別に制御可能な素子のアレイは、基本的に静止しており、パターン全体は、パルス放射源を用いて基板Ｗのターゲット部分Ｃに投影される。基板テーブルＷＴは、ビームＢが基板Ｗ全体にわたり線をスキャンするように基本的に一定の速度で移動する。複数の個別に制御可能な素子のアレイ上のパターンは、放射システムのパルスの間に必要に応じて更新され、連続したターゲット部分Ｃが基板Ｗ上の必要な場所で露光されるようにパルスがタイミング調整されている。従って、ビームＢは、基板Ｗ全体をスキャンして基板のストリップについて完全なパターンを露光することができる。この工程は、線ごとに基板Ｗ全体が露光されるまで繰り返される。
【００５５】
[0066]  ４．連続スキャンモードは、基本的にパルスモードと同じである。異なる点として、基板Ｗは、実質的に一定の速度で変調された放射ビームＢに対してスキャンされ、複数の個別に制御可能な素子のアレイ上のパターンは、ビームＢが基板Ｗ全体をスキャンし露光するにつれて更新される。複数の個別に制御可能な素子のアレイ上のパターンの更新に同期した実質的に一定の放射源又はパルス放射源を使用することができる。
【００５６】
[0067]  ５．図２のリソグラフィ装置を用いて実行されるピクセル格子結像モードでは、基板Ｗ上に形成されるパターンは、パターニングデバイスＰＤ上へ誘導されるスポットジェネレータによって形成されるその後のスポットの露光によって実現する。露光されたスポットは、実質的に同じ形状を有する。基板Ｗ上でスポットは、実質的に格子として印刷される。一例では、スポットのサイズは、印刷されたピクセル格子のピッチよりも大きいが、露光されたスポット格子よりもはるかに小さい。印刷されたスポットの強度を変化させることで、パターンが実現する。露光のフラッシュの間にスポットの強度分布が変化する。
【００５７】
[0068]  上述した使用モードの組合せ及び／又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。
【００５８】
[0069]  リソグラフィ分野では、基板上のレジスト層にパターンが露光される。次に、レジストは現像される。その後、基板上で追加の処理ステップが実行される。基板の各部上のこれらの後続の処理ステップの効果はレジストの露光に依存する。特に、所与のドーズしきい値を超える放射ドーズを受ける基板の各部がドーズしきい値に満たない放射ドーズを受ける基板の各部に対して異なる応答をするように各工程が調整されている。例えば、エッチング工程では、しきい値を超える放射ドーズを受ける基板の各領域は、現像されたレジストの層によってエッチングから保護されている。しかし、露光後の現像では、しきい値に満たない放射ドーズを受けるレジストの各部は除去され、これらの領域はエッチングから保護されない。従って、所望のパターンをエッチングできる。特に、パターニングデバイス内の個別に制御可能な素子は、基板上のパターンフィーチャ内のある領域に伝達される放射が十分に強度が高く、この領域が露光中にドーズしきい値を超える放射ドーズを受けるように設定されている。基板上の残りの領域は、対応する個別に制御可能な素子がゼロ又は十分に低い放射強度を提供するように設定することで、ドーズしきい値に満たない放射ドーズを受ける
【００５９】
[0070]  実際、個別に制御可能な素子がフィーチャの境界の一方の側に最大放射強度を提供し、他方の側に最小放射強度を提供するように設定されている場合でも、パターンフィーチャの縁部の放射ドーズ量は、所与の最大ドーズ量からゼロドーズ量に急激に変化するわけではない。逆に、回折効果のために、放射ドーズ量のレベルは遷移帯全体にわたって低下する。現像されたレジストによって究極的に形成されたパターンフィーチャの境界の位置は、受光したドーズ量が放射ドーズしきい値を下回る位置によって決定される。遷移帯全体をわたる放射ドーズ量の低下のプロファイル、すなわち、パターンフィーチャの境界の正確な位置は、パターンフィーチャの境界上又はその近くの基板上のポイントに放射を提供する個別に制御可能な素子を設定することでより正確に制御することができる。個別に制御可能な素子は、最大又は最小強度レベルだけでなく、最大及び最小強度レベルの間の各強度レベルに設定することができる。これを一般に「グレースケーリング」と呼ぶ。
【００６０】
[0071]  グレースケーリングは、所与の個別に制御可能な素子によって基板に提供される放射強度が２つの値（例えば、最大値と最小値のみ）にしか設定できないリソグラフィシステムで可能な制御と比較して、パターンフィーチャの境界の位置の制御をはるかに広げている。少なくとも３つの、少なくとも４つの放射強度値、少なくとも８つの放射強度値、少なくとも１６個の放射強度値、少なくとも３２個の放射強度値、少なくとも６４個の放射強度値、少なくとも１２８個の放射強度値、又は少なくとも２５６個の異なる放射強度値を基板に投影できる。
【００６１】
[0072]  グレースケーリングは、上述した目的の追加又は代替の目的のためにも使用することができることを理解されたい。例えば、露光後の基板の処理は、受光した放射ドーズレベルに応じて基板の領域の３つ以上の潜在的な応答があるように調整することができる。例えば、第１のしきい値に満たない放射ドーズ量を受ける基板の部分は第１の方法で応答し、第１のしきい値を超えているが第２のしきい値に満たない放射ドーズ量を受ける基板の部分は第２の方法で応答し、第２のしきい値を超えた放射ドーズ量を受ける基板の部分は第３の方法で応答する。従って、グレースケーリングは、３つ以上の所望のドーズレベルを有する基板全体に放射ドーズプロファイルを提供するために使用することができる。放射ドーズプロファイルは、少なくとも２つの所望のドーズレベル、少なくとも３つの所望のドーズレベル、少なくとも４つの所望のドーズレベル、少なくとも６つの所望のドーズレベル、又は少なくとも８つの所望のドーズレベルを有する。
【００６２】
[0073]  さらに、上記のように、放射ドーズプロファイルは、基板上の各ポイントで受ける放射の強度を制御するだけではないその他の方法によって制御することができる。例えば、基板上の各ポイントで受ける放射ドーズ量は、そのポイントの露光時間を制御することで、代替的に又は追加的に制御することができる。別の例として、基板上の各ポイントは、複数の連続露光で放射を受けることができる。従って、各ポイントが受ける放射は、複数の連続露光の選択したサブセットを用いてそのポイントを露光することで、代替的に又は追加的に制御することができる。
【００６３】
[0074]  図２は、例えば、フラットパネルディスプレイの製造に使用することができる本発明の装置の配置構成を示す。図１のコンポーネントに対応するコンポーネントは、同じ参照番号で示されている。また、様々な実施形態、例えば、基板、コントラストデバイス、ＭＬＡ、放射ビームなどについての上記説明は適用可能である。
【００６４】
[0075]  図２に示すように、投影システムＰＳは、２つのレンズＬ１、Ｌ２を備えるビームエクスパンダを含む。第１のレンズＬ１は、開口止めＡＳ内の開口を通して変調放射ビームＢを受光して集束させるように配置されている。開口内に別のレンズＡＬを配置してもよい。次に、放射ビームＢは、発散し、第２のレンズＬ２（例えば、フィールドレンズ）によって集束する。
【００６５】
[0076]  投影システムＰＳは、拡張された変調放射Ｂを受光するように構成されたレンズのアレイＭＬＡをさらに備える。パターニングデバイスＰＤ内の個別に制御可能な素子の１つ又は複数に対応する変調放射ビームＢは、レンズのアレイＭＬＡ内のそれぞれの異なるレンズＭＬを通過する。各レンズは、変調放射Ｂのそれぞれの部分を基板Ｗ上にあるポイントに集束させる。こうして、放射スポットＳのアレイが基板Ｗ上に露光される。レンズ１４の図示のアレイのうち８個のレンズしか示していないが、レンズのアレイは数千のレンズを備えることができる（同じことがパターニングデバイスＰＤとして使用される個別に制御可能な素子のアレイにもあてはまる）。
【００６６】
[0077]  図３は、本発明の一実施形態による、図２のシステムを用いて基板Ｗ上のパターンを生成する方法の概略図を示す。黒く塗りつぶした円は、投影システムＰＳ内のレンズのアレイＭＬＡによって基板Ｗ上に投影されるスポットＳのアレイを表す。基板Ｗ上で一連の露光が実行される間に、基板Ｗは、投影システムＰＳに対してＹ方向に移動する。白抜きの円は、基板Ｗ上ですでに実行されたスポット露光ＳＥを表す。図示のように、投影システムＰＳ内のレンズのアレイによって基板上に投影される各スポットは、基板Ｗ上にスポット露光の行Ｒを露光する。基板の完全なパターンは、各スポットＳによって露光されるスポット露光ＳＥのすべての行Ｒの合計によって生成される。そのような配置構成を一般に上述した「ピクセル格子結像」と呼ぶ。
【００６７】
[0078]  放射スポットＳのアレイは、基板Ｗに対してある角度θで配置されている（基板の縁部はＸ及びＹ方向に平行である）ことが分かる。すなわち、基板がスキャン方向（Ｙ方向）に移動すると、各放射スポットは、基板の異なる領域上を通過し、それによって基板全体が放射スポットのアレイ１５で覆われる。角度θは、最大で２０°、最大で１０°、最大で５°、最大で３°、最大で１°、最大で０．５°、最大で０．２５°、最大で０．１０°、最大で０．０５°、又は最大で０．０１°であってよい。あるいは、角度θは、少なくとも０．００１°である。
【００６８】
[0079]  図４は、本発明の一実施形態による、複数の光エンジンを用いて１回のスキャンでフラットパネルディスプレイ基板Ｗ全体を露光する方法の概略図を示す。図示の例では、放射スポットＳの８つのアレイＳＡが、放射スポット（例えば、図３のスポットＳ）の１つのアレイの縁部が放射スポットの隣接するアレイの縁部にわずかに重なる（スキャン方法Ｙに）ように「チェス盤」構成の２つの行Ｒ１、Ｒ２に配置された８つの光エンジン（図示せず）によって生成される。一例では、光エンジンは、少なくとも３つの行、例えば、４つの行又は５つの行に配置される。こうして、放射の帯が基板Ｗの幅一杯に延在し、１回のスキャンで基板全体の露光を実行することができる。任意の適切な数の光エンジンを使用することができることを理解されたい。一例では、光エンジンの数は、少なくとも１、少なくとも２、少なくとも４、少なくとも８、少なくとも１０、少なくとも１２、少なくとも１４、又は少なくとも１７である。あるいは、光エンジンの数は、４０未満、３０未満、又は２０未満である。
【００６９】
[0080]  上記のように、各々の光エンジンは、別々の照明システムＩＬ、パターニングデバイスＰＤ及び投影システムＰＳを備えることができる。しかし、複数の光エンジンが、照明システム、パターニングデバイス及び投影システムのうちの１つ又はそれ以上の少なくとも一部を共用できることを理解されたい。
【００７０】
[0081]  上記例示的リソグラフィ装置からわかるように、リソグラフィ装置内の多種多様なシステム及びサブシステムを同期させる必要がある。例えば、種々のシステム及びサブシステムが緊密に同期しなければならないイベントの１つが、露光イベントであり、放射ビームがリソグラフィ装置を通過してパターニングデバイスへと進んだ後、パターン付ビームが基板上に投影される。その時点で、イルミネーションシステムＩＬ、パターニングデバイスＰＤ、基板テーブルＷＴ、及び投影システムＰＳを含む各システム及びサブシステムは、正確に位置決めされ、安定している必要がある。露光イベント間にリソグラフィ装置全体を準備するのに要する時間が、システムのスループットに直接影響する。
【００７１】
[0082]  リソグラフィデバイス内で最も動的なサブシステムはパターニングデバイスＰＤであってもよく、特に、パターニングデバイスＰＤは、プログラマブルミラーアレイ（ＰＭＡ）などの上記微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）のうちの１つであることを理解されたい。例えば、光マスクレスリソグラフィでは、基板に順次転写される複数のイメージを形成するために、ＰＭＡが使用される。リソグラフィ動作が進行する際、ＰＭＡ内での個々のミラーの正しい位置決めに対応するように、露光イベントを高精度にタイミング調整しなければならない。そのため、リソグラフィデバイス内の複数ノードを同期させるためのシステム及び方法について、ＰＭＡを参照しながら以下で説明する。以下でより詳細に説明するように、例示的ＰＭＡは複数のドライバモジュールによって制御され、次にこのドライバモジュールが、複数のデータストアから制御情報を受信する。しかし、動作の原理は、ＰＭＡ同期化を越えて、リソグラフィ装置内に存在する複数のシステム及びサブシステムそれぞれにまで拡張することができる。追加のローカルノードを定義し、これを他のローカルノードと（論理的又は物理的に）直列に結合するだけでよい。
【００７２】
[0083]  図５は、例示的光マスクレスリソグラフィシステム５００の一部を示す。本発明の一実施形態に適合し、システム５００は、コントローラノード５５０、タイミングバス５４０（０）、５４０（ｎ）、５４０（ｎ＋１）などの複数のタイミングバス、例えばデータストア５１０（ｎ）などのデータストアを含むノード５３０（ｎ）と同様の複数のローカルノードを含むことができる。システム５００は、さらに、複数のドライバボード５２０及び複数のミラーデバイス５６０、５６２を含む。コントローラノード５５０は、タイミングノード５０３、トリガ発生器モジュール５０１、タイミングバスマスタ５０２を含むことができる。コントローラノード５５０は、スタンプキュー５０８及び１秒タイミング発生器５０９をさらに含むことができる。コントローラノード５５０は、タイミングバスデイジーチェーン５７０によって、ノード５３０（ｎ）などの複数のローカルノードに結合される。一実施形態では、各ローカルノード５３０（ｎ）は、タイミングバスデイジーチェーン５７０の一部ともみなすことができるタイミングバスハブ５０４（ｎ）を包含する。タイミングバスハブ５０４の細部について、以下でより詳細に説明する。
【００７３】
[0084]  その名が示すように、タイミングバスデイジーチェーン５７０は、コントローラノード５５０とデータストア５１０との間でタイミング情報が送信される１次コンジットである。以下に例示するように、他の制御情報及びデータも、タイミングバスデイジーチェーン５７０上で同様に送信することができる。ある実施形態では、タイミングバス５４０（ｎ）は光データバスであってもよい。タイミングバスデイジーチェーン５７０は、様々な情報を、コントローラノード５５０から、ミラーデバイス５６０の一部を制御するドライバボード５２０などのデータストア、及び光マスクレスリソグラフィデータ経路内のダウンストリームクライアントへ配布することができる。例えば、タイミングバスデイジーチェーン５７０は、以下の情報を送信することができる。
【００７４】
１．マスタトリガパルス
[0085]  マスタトリガパルス５２２、又は単にマスタトリガは、データストア５１０（ｎ）及び５１０（ｎ＋１）を介した、例えばミラーデバイス５６０へのデータの送信を開始する１次タイミングトリガである。プログラマブルミラーアレイ内のすべてのミラー５６０、５６２を新しいセットポイントに設定するためなどの他のトリガは、このマスタトリガ５２２からローカルに導出される。例えば、マスタトリガ５２２は、トリガ発生器モジュール５０１によって生成又は製造されて、タイミングバスマスタ５２２に送信され、タイミングバスマスタ５２２はマスタトリガパルス５２２をダウンストリーム方向に伝搬する。ある実施形態では、マスタトリガパルス５２２は、タイミングバスハブ上の通信コマンドであってもよい。
【００７５】
２．スタンプキュー
[0086]  「スタンプ」キュー又は露出キュー５０８は、各「スタンプ」に対するファイルインデックス番号の形の情報、又は最終的にパターニングデバイスに使用される情報のセットを提供する。例えば、この情報は、ミラーデバイス５６０、５６２などのプログラマブルミラーアレイの特定動作に対する正しいデータにアクセスする際に、ローカルデータストア５１０によって使用される露光イベントに対応することができる。
【００７６】
３．タイミングパラメータ
[0087]  他のタイミングパラメータも同様に、マスタトリガ５２２から導出され、タイミングバスデイジーチェーン５７０に沿って送信される。例えば、タイミングオフセット（Ｔｏｆｆｓｅｔ（０））が導出され、ローカルノード５３０（ｎ）などのそれぞれのローカルノードに送信される。さらに、トレーニングトリガ（図示せず）を使用して、マスタトリガが送信される前に、タイミングバスマスタ５０２でＴｏｆｆｓｅｔ（０）を決定することができる。トレーニングトリガを使用して、データストア上のファイルインデックス番号キューをフラッシュするか、又は全体としてデータ経路をフラッシュすることもできる。このようなトレーニングトリガは、タイミングバスデイジーチェーン５７０に沿って送信することもできる。
【００７７】
４．１秒タイムスタンプ
[0088]  例示的実施形態によれば、１秒タイミング発生器５０９によって１秒タイミングスタンプを生成することができる。１秒タイムスタンプは、例えば、タイミングバスデイジーチェーン５７０に対する心拍として使用することができる。例えば、２秒の間タイムスタンプが受け取られない場合、タイムスタンプの欠如がソフトウェアアプリケーションに報告される。この情報を使用して、ローカルノード５３０に接続されたデイジーチェーン又は直列における障害を検出することができる。１秒タイムスタンプを使用して、目視状況チェックのために、クライアントボード上のフロントボードＬＥＤを同期的に明滅させることもできる。
【００７８】
[0089]  タイミングバスデイジーチェーン５７０は、例示的な７層オープンシステム相互接続（ＯＳＩ）モデルを使用して指定される。図１２に関してより詳細に説明されるように、例示的な７層ＯＳＩモデルは、アプリケーション層１２０２、プレゼンテーション／セッション層１２０４、トランスポート／ネットワーク層１２０６、データリンク層１２０８、及び物理層１２１０を有するスタックを含む。セッション層１２０４は、同期のために使用することができる。タイミングバス５４０プロトコルの場合、セッション層１２０４は、情報及び制御データの優先順位付けにも使用することができ、マスタトリガ５２２の待ち時間補償にも使用することができる。最終的に、データ及び制御情報を、例えばタイミングバスハブ５０４（ｎ）からローカルデータストア５１０（ｎ）へ転送すると、通常、セッション層１２０４で実行される。
【００７９】
[0090]  一例では、ローカルノード５３０（ｎ）は、データストア５１０（ｎ）に結合されたタイミングバスハブ５０４（ｎ）を含む。タイミングバスハブ５０４（ｎ）は、ローカル同期又はタイミング信号Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ）５０５（ｎ）を生成する。データストア５１０（ｎ）は、ローカルタイミング動作を担当し、例えば、Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ）５０５（ｎ）に基づいてミラーデバイス５６０を制御するために使用されるデータの送信を制御するローカルタイミングモジュール５１５を含む。以下でより詳細に説明するように、ローカルノード５３０（ｎ）内のタイミングバスハブ５０４（ｎ）は、コントローラノード５５０内のタイミングバスマスタ５０２からマスタトリガ５２２を受信する。次に、タイミングバスハブ５０４（ｎ）は、データストア５１０によって使用されるローカル同期又はタイミング信号Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ）５０５（ｎ）を導出する。複数のデータストア５１０が図５に例示されており、複数のデータストア５１０を単一ドライバボード５２０に結合することができる。ドライバボード５２０は、ミラーデバイス５６０の一部を直接制御する。上述したように、ミラーデバイス５６０はプログラマブルミラーアレイであってもよく、各々のドライバボード５２０は、例えばミラーアレイ内のミラーの一部又はセクタを制御することができる。
【００８０】
[0091]  図５に、データストア５１０が、タイミングバスデイジーチェーン５７０に対して並列に結合されているものとして示されている。しかし、複数のデータストア５１０を同期させるために、マスタトリガ５２２などのタイミング信号及び情報を、デイジーチェーン方法で、すなわち直列に、ローカルノードに送信することができる。この配置構成は、上述したように、タイミングバスデイジーチェーン５７０の及び対応するタイミングバスハブ５０４（ｎ）を包含するローカルノード５３０（ｎ）の概念を使用することによって論理的に構成することができる。直列配置構成は、また、物理的に構成することもできる。直列又はデイジーチェーン接続については、図７に関連して以下でより詳細に説明する。
【００８１】
[0092]  図６Ａ及び図６Ｂは、例示的な光マスクレスリソグラフィシステム５００におけるタイミング考慮事項を示す。上述したように、１つのイベントでは、露光イベントがタイミングウィンドウ又は「露光ウィンドウ」６３２内で確実に行われるように、種々のシステム及びサブシステムが効果的に同期される必要がある。露光ウィンドウ６３２では、放射ビームがリソグラフィ装置を通ってパターニングデバイスへと通過し、パターン付ビームが、パターン形成される基板上に投影される。図６Ａに示すように、露光クロック６０２は、基板を露光すべき時期を示す周期信号を送る。例えばパルスレーザビームなどの放射ビームが、レーザトリガ信号６０４によって開始される。レーザ光６０８の期間は、レーザトリガ信号６０４に応答した後の何らかの時点で発生する。
【００８２】
[0093]  しかし、実際の露光が発生する前に、例えばミラーデバイス５６０などのパターニングデバイスは、その対応するデータストア５１０及び対応するドライバ５２０からデータを受信するための時間を必要とする。そのデータは、ミラーデバイス５６０、５６２が入射する放射ビームを整形するのに取る必要のある位置及び／又はパターンを示す。これを実施するために、ミラーデバイス５６０、５６２をまずアドレス指定し、セットアップし、安定させることができるようにしてもよい。ミラーデバイス５６０、５６２は、安定した位置に入ると、露光ウィンドウ６３２中に放射ビームで露光又は「スタンピング」される。次に、ミラーデバイス５６０は、図６Ａに示すように、次のサイクルの始まりまでにランプダウンさせることができる。
【００８３】
[0094]  図６Ａは、露光クロック６０２、レーザトリガ６０４、レーザ光６０８、及びミラーデバイス５６０、５６２のタイミングを維持するが、図６Ｂは、ミラーが適切にセットアップされる前に理想的に発生するデータ転送のタイミングに対応する。図６Ｂに示すように、マスタトリガパルス５２２が開始される。マスタトリガ５２２は、データが転送される、例えばミラーデバイス５６０のデータストア５１０からドライバボード５２０へと転送される期間を開始させることができる。この転送期間は、データ転送６２４によって示される。データ転送６２４が開始されると、ミラーデバイス５６０は、図６Ｂのミラーデバイスプログラム６２６によって示されるようにプログラミングすることができる。ミラーデバイス５６０がプログラミングされると、ミラー制御コマンドをミラーデバイス５６０上で働かせることができる。これは、図６Ｂのミラー制御６２８によって例示される。ミラーデバイス５６０上のミラーが安定すると、露光ウィンドウ６３２内で露光６３０を行うことができる。次に図７に関して示すように、例示的データストア５１０（ｎ）は、対応するタイミングバスハブ５０４（ｎ）でマスタトリガ５２２から導出されるローカル同期又はタイミング信号Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ）５０５（ｎ）を受信するローカルタイミングノード５１５を含む。
【００８４】
[0095]  図７は、本発明の実施形態のある特徴を示すための例示的な簡略化したローカルノード配置構成を示す。コントローラノード５５０は、後続のローカルノード５３０（ｎ）、５３０（ｎ＋１）から、５３０（ｍ）へ直列に結合される。特定のアプリケーションに基づいて、任意の数のローカルノード５３０を使用することができることを理解されたい。５０４（ｎ）、５０４（ｎ＋１）．．．５０４（ｍ）のタイミングバスハブは、タイミングバスマスタ５０２と直列に結合される。直列結合は、図７に示すように物理的なものであってもよい。別の方法としては、直列結合は、マスタトリガ５２２を含むタイミング情報がローカルタイミングバスハブ５０４（ｎ）、５０４（ｎ＋１）．．．５０４（ｍ）に送信される方法により論理的に実施することもできる。例えば、図５では、マスタトリガ５２２は、タイミングバスデイジーチェーン５７０を介して、タイミングバスマスタ５０２からローカルノード５０４（ｎ）へ、さらに他のローカルノード（図５では図示せず）へ順次送信することができる。
【００８５】
[0096]  図７に示すように、タイミングバスマスタ５０２及び後続のタイミングバスハブ５０４（ｎ）、５０４（ｎ＋１）．．．５０４（ｍ）は、一般的に、それぞれ素子７０５（０）、７０５（ｎ）、７０５（ｎ＋１）．．．７０５（ｍ）によって示されるタイミング補償モジュールを備えることができる。コントローラノード５５０は、また、トリガ発生器モジュール５０１、マスタトリガ５２２（ｄ）をダウンストリーム方向に送信するための送信機７０３、及びマスタトリガ５２２（ｕ）をアップストリーム方向から受信するための受信機７０４を含むことができる。タイミングバスマスタ５０２及びタイミングバスハブ５０４（ｎ）、５０４（ｎ＋１）．．．５０４（ｍ）は、また、それぞれダウンストリームマスタトリガパルス５２２（ｄ）及びアップストリームマスタトリガパルス５２２（ｕ）を検出するためのトリガ検出モジュール７１０（ｄ）及び７１０（ｕ）も含むことができる。
【００８６】
[0097]  また、ローカルタイミングバスハブ５０４（ｎ）、５０４（ｎ＋１）．．．５０４（ｍ）は、それぞれトランシーバセット７０８も含むことができる。例えば、ローカルノード５０４（ｎ）は、アップストリームタイミングバスマスタ５０２からダウンストリームマスタトリガ５２２（ｄ）を受信し、このダウンストリームマスタトリガ５２２（ｄ）をローカルノード５０４（ｎ＋１）へダウンストリーム方向に再送信するダウンストリームトランシーバ７０８（ｄ）を備えることができる。同様に、ローカルノード５０４（ｎ）は、また、ローカルノード５０４（ｎ＋１）からアップストリームマスタトリガ５２２（ｕ）を受信するための受信機を含み、このアップストリームマスタトリガ５２２（ｕ）をマスタノード５０２へ再送信するアップストリームトランシーバ７０８（ｕ）も含む。
【００８７】
[0098]  一実施形態では、ローカルタイミングバスハブ５０４（ｎ）、５０４（ｎ＋１）．．．５０４（ｍ）は、また、それぞれダウンストリーム方向のマスタトリガ５２２（ｄ）の到達と後続のアップストリーム方向のマスタトリガ５２２（ｕ）の到達との間の差分測定値に基づいて、それぞれのローカル同期信号Ｔｓｙｎｃｈ５０５（ｎ）を生成するためのそれぞれのタイミング補償モジュール７０５（ｎ）を含むこともできる。タイミング補償モジュール７０５（ｎ）は、差分計算モジュール７０７及びＴｓｙｎｃｈ計算モジュール７０９を含むことができる。
【００８８】
[0099]  図７に示す実施形態の例示的動作は以下の通りである。マスタトリガ５２２は、トリガ生成モジュール５０１から発生し、マスタノード５０２内の送信機７０３を通して、ダウンストリームローカルノード５３０（ｎ）に送信することができる。次いで、ローカルノード５３０（ｎ）のタイミングバスハブ５０４（ｎ）内のダウンストリームトランシーバ７０８（ｄ）は、マスタトリガ５２２（ｄ）をローカルノード５３０（ｎ＋１）へダウンストリーム方向に再送信し、再度、ローカルタイミングバスハブ５０４（ｎ＋１）内のトランシーバ７０８（ｄ）によって受信され、最終ローカルノード５３０（ｍ）へ再送信することができる。次いで、最終ローカルノード５３０（ｍ）は、タイミングバスハブ５０４（ｎ＋１）内のトランシーバ７０８（ｕ）を介し、ローカルノード５３０（ｎ＋１）を通してアップストリーム方向に、マスタトリガ５２２（ｕ）を再送信する。次いで、ローカルノード５３０（ｎ＋１）は、マスタトリガ５２２（ｕ）をローカルノード５０４（ｎ）に向かってアップストリーム方向に再送信する。次に、ローカルノード５３０（ｎ）は、タイミングバスハブ５０４（ｎ）内のトランシーバ７０８（ｕ）を介してマスタトリガ５２２（ｕ）をコントローラノード５５０に再度返信する。このように、マスタトリガパルスは、コントローラノード５５０から始まり、直列の最終ローカルノード５３０（ｍ）を通ってコントローラノード５５０へと戻るループ内を効果的に送信される。
【００８９】
[00100]  各々のローカルタイミングバスハブ５０４（ｎ）、５０４（ｎ＋１）．．．５０４（ｍ）において、トリガ検出モジュール７１０（ｄ）は、アップストリームノードから到達した時点でのマスタトリガ５２２（ｄ）を検出、すなわち、マスタトリガ５２２（Ｔｄ）のダウンストリーム到達時間を検出することができる。また、ダウンストリームノードから到達した時点でのマスタトリガ５２２（ｕ）を検出、すなわち、マスタトリガ５２２（Ｔｕ）のアップストリーム到達時間を検出することもできる。差分計算モジュール７０７は、アップストリームマスタトリガとダウンストリームマスタトリガとの間の到達時間の差分を計算、すなわちＴｄｉｆｆ＝Ｔｕ−Ｔｄを計算する。以下でより詳細に示すように、ダウンストリームマスタトリガ（Ｔｄ）とアップストリームマスタトリガ（Ｔｕ）との間の到達時間の差分測定値を使用して、Ｔｓｙｎｃｈ計算モジュール７０９により、ローカル同期又はタイミング信号Ｔｓｙｎｃｈ５０５を生成する。Ｔｓｙｎｃｈ５０５信号がデータ転送工程を開始し、次に、ドライバ５２０を介してイメージプログラミング及び後続のミラーデバイス５６０の作動をトリガする。
【００９０】
[0100]  図８は、コントローラノード５５０及びローカルノード５３０（ｎ）をより詳細に示す。図に示すように、タイミングバスデイジーチェーン５７０は、タイミングバスマスタ５０２とローカルタイミングバスハブ５０４（ｎ）との間に物理リンクを提供する。図に示すように、タイミングバスマスタ５０２は、８Ｂ／１０Ｂエンコーダ、シリアライザモジュール、及び電気−光変換モジュール（Ｅ／Ｏ）を含むことができるマスタ送信機７０３を備えてもよい。同様に、タイミングバスマスタ５０２は、おそらく光−電気（Ｏ／Ｅ）変換モジュール、デシリアライザ、及び８Ｂ／１０Ｂデコーダを含むことができる受信機７０４を備える。
【００９１】
[0101]  図８は、また、タイミングバスマスタ５０２を有するコントローラノード５５０の一部と、例えばローカルデータストア５１０（ｎ）を包含するローカルノードを表すことができるタイミングバスハブ５０４（ｎ）を有するローカルノード５３０（ｎ）の一部を、より詳細に示す。タイミングバスハブ５０４（ｎ）では、ダウンストリームトランシーバの受信機部分７０８（ｄ）（ｒｘ）と、送信機部分７０８（ｄ）（ｔｘ）が示される。送信機部分は、例えば、それらの機能に対して適切に構成された８Ｂ／１０Ｂエンコーダ、シリアライザモジュール、及び電気−光（Ｅ／Ｏ）変換モジュールを含む。受信機部分は、例えば、それらの機能に対して適切に構成された８Ｂ／１０Ｂデコーダ、デシリアライザモジュール、及び光−電気（Ｏ／Ｅ）変換モジュールを含む。同様に、アップストリームトランシーバが、７０８ｕ（ｔｘ）及び７０８ｕ（ｒｘ）によって示される。
【００９２】
[0102]  さらに、図８は、ダウンストリームマスタトリガパルス５２２（ｄ）の到達を検出するためのトリガ検出モジュール７１０（ｄ）と、アップストリームマスタトリガパルス５２２（ｕ）の到達を検出するためのトリガ検出モジュール７１０（ｕ）を示す。トリガ検出モジュール７１０（ｄ）及び７１０（ｕ）は、どちらもタイミング補償モジュール７０５（ｎ）に結合される。特に、それらは、アップストリームマスタトリガ５２２（ｕ）とダウンストリームマスタトリガ５２２（ｄ）との間の到達時間の差分、すなわちＴｄｉｆｆ＝Ｔｕ−Ｔｄを決定するために、差分計算器８０２に結合される。Ｔｄｉｆｆは、マスタトリガの平均到達時間を決定するために、「／２」モジュール８０４で２つに分割される。最終的に、以下でより詳細に説明するように、モジュール８０８を合計することによって、ローカル同期又はタイミング信号Ｔｓｙｎｃｈ５０５（ｎ）が決定される。一実施形態では、ローカルノード５３０（ｎ）に対するローカル同期時間５０５（ｎ）は、Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ）＝Ｔｄｎ＋（１／２＊Ｔｄｉｆｆ（ｎ））＋Ｔｏｆｆｓｅｔの式で表すことができる。代替実施形態では、ローカルノード５３０（ｎ）に対するローカル同期時間５０５（ｎ）は、Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ）＝Ｔｕｎ−（１／２＊Ｔｄｉｆｆ（ｎ））＋Ｔｏｆｆｓｅｔの式で表すことができる。
【００９３】
[0103]  オフセットＴｏｆｆｓｅｔ８１０は、システム５００内のすべてのローカルノード５３０に対する最大のＴｏｆｆｓｅｔ＝１／２＊Ｔｄｉｆｆ（ｎ）である最悪のケースのオフセットよりも大きいか又は等しいものであってもよい。一実施形態では、オフセットＴｏｆｆｓｅｔ８１０は、実際のマスタトリガ５２２を送信する前に、トレーニングトリガを送信することによって決定することができる。さらに、タイミングバスマスタ５０２は、また、ローカルＴｓｙｎｃｈも計算することができる。オフセットＴｏｆｆｓｅｔ８１０は、また、現在のマスタトリガ５２２の直前のマスタトリガ５２２を分析することによって決定することもできる。最後に、オフセットＴｏｆｆｓｅｔ８１０は、特定のシステム又はサブシステムの特定のニーズを満たすように、ユーザによってプログラミングすることができる。
【００９４】
[0104]  代替実施形態では、複数のローカルノードは、それぞれタイミングバスマスタ（Ｔｓｙｎｃｈ（０））のタイムドメイン内の絶対モーメントと同期することができる。第一に、タイミングバスマスタ差分時間（Ｔｄｉｆｆ（０））が計算され、Ｔｄｉｆｆ（０）＝Ｔｕ０−Ｔｄ０である。次に、オフセット（Ｔｏｆｆｓｅｔ（０））が計算され、Ｔｏｆｆｓｅｔ（０）は、［（Ｔｓｙｎｃｈ（０）−Ｔｄ０）−１／２Ｔｄｉｆｆ（０）］又は［（Ｔｓｙｎｃｈ（０）−Ｔｕ０）＋１／２Ｔｄｉｆｆ（０）］のいずれかに等しい。最後に、Ｔｏｆｆｓｅｔ（０）は、各ローカルノードに分配され、図８に示すように、Ｔｏｆｆｓｅｔとして使用することができる。
【００９５】
[0105]  図９は、本発明の実施形態を示すフローチャートであり、複数のノードを同期させるための方法を表す。ステップ９０５に示すように、トリガは、タイミングバスマスタ５０２を介して、コントローラノード５５０から、直列に結合された複数のローカルノード５３０へダウンストリーム方向に送信される。上述したように、タイミングバスマスタ及びローカルノードのトポロジは、直列に又は「デイジーチェーン」トポロジで物理的に結合することができる。別の方法としては、直列トポロジを論理的に実施してもよい。さらに、ローカルノード５３０は、図５に関して上述したデータストア５１０などのいくつかのクライアントのためのハブを実行可能にしてもよい。このような実施形態について、図１１を参照しながら以下で説明する。
【００９６】
[0106]  次に、ステップ９１０で、各ローカルノード（ｎ）に対して、マスタトリガのダウンストリーム到達時間（Ｔｄｎ）が測定され、マスタトリガ５２２（ｄ）がノード（ｎ＋１）へダウンストリーム方向に再送信される。これは、複数のタイミングバスハブ５０４それぞれによって行うことができる。直列の最終ローカルノード５３０（ｍ）で、ステップ９１５により、マスタトリガ５２２がアップストリーム方向に送信される。ステップ９２０はステップ９１０と同様であるが、逆方向である。より詳細には、ステップ９２０では、各ローカルノード（ｎ）に対して、マスタトリガのアップストリーム到達時間（Ｔｕｎ）が測定され、マスタトリガ５２２（ｕ）がローカルノード（ｎ−１）へアップストリーム方向に再送信される。このようにして、マスタトリガ５２２は、デイジーチェーントポロジを通して、直列の最終ローカルノード５３０（ｍ）へ送信され、コントローラノード５５０へ再度返信される。このようにして、マスタトリガのダウンストリーム方向とアップストリーム方向との間の到達差分時間を評価することができる。この差分時間を使用して、ローカル動作をベースとすることができるローカル同期時間を導出することができる。
【００９７】
[0107]  より詳細には、ステップ９２５により、各ローカルノード（ｎ）に対して、ＴｄｎとＴｕｎとの間の差分測定値に基づいて、ローカル同期時間（Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ））が計算される。このローカル同期時間を使用して、ローカルノードをタイミングバスマスタと同期させる。ローカル動作はＴｓｙｎｃｈ（ｎ）で発生することになり、これによってローカルノード５３０（ｎ）がコントローラノード５５０と確実に同期する。
【００９８】
[0108]  図１０は、図９に対応して上記方法を示す図である。マスタトリガ５２２は、時間Ｔｄ０でダウンストリーム方向に送信される。ローカルノード（ｎ）でのマスタトリガ５２２の到達は、Ｔｄｎによって示される。ローカルノード（ｎ＋１）でのマスタトリガ５２２の後続の到達は、時間Ｔｄ（ｎ＋１）によって示され、最終的に最終ローカルノード（ｍ）でのダウンストリーム方向のマスタトリガの到達は、時間Ｔｄｍによって示される。アップストリーム方向のマスタトリガ５２２の再送信は、時間Ｔｕｍで発生する。図１０に示すように、マスタトリガのアップストリーム到達は、後続のローカルノード（ｎ＋１）及び（ｎ）についても同様に示され、最終的に、タイミングバスマスタでのアップストリーム方向のマスタトリガの到達で終了する。
【００９９】
[0109]  タイミングバスマスタ５０２及び各ローカルタイミングバスハブ５０４で、差分時間が計算される。本発明の１つの例示的実施形態により、差分時間は、図１０において、タイミングバスマスタ５０２に対してはＴｄｉｆｆ（０）で、ローカルタイミングバスハブ５０４（ｎ）に対してはＴｄｉｆｆ（ｎ）で、ローカルタイミングバスハブ５０４（ｎ＋１）に対してはＴｄｉｆｆ（ｎ＋１）で、最終ローカルタイミングバスハブ５０４（ｍ）に対してはＴｄｉｆｆ（ｍ）で図示される。図を見ればわかるように、差分時間Ｔｄｉｆｆは、連続する各ローカルタイミングバスハブ５０４及びそれぞれのローカルノード５３０に対して小さくなる。次に、ダウンストリームとアップストリームのマスタトリガパルスの到達間の差分時間を表す差分時間Ｔｄｉｆｆを使用して、上述したように、各ダウンストリームローカルノードに対してローカル同期時間Ｔｓｙｎｃｈを生成する。各ローカルノード５３０（ｎ）がＴｓｙｎｃｈ（ｎ）でそのローカル動作を実行した場合、ローカルノード５３０（ｎ）〜５３０（ｍ）はコントローラノード５５０と同期される。
【０１００】
[0110]  図１１は、複数のタイミングハブノードがタイミングバスマスタ１１０２と同期された本発明の代替実施形態を示す。例えば、タイミングハブ１１０４（ｎ）及びタイミングハブ１１０４（ｎ＋１）は、タイミングバスマスタ１１０２と同期される。タイミングハブ１１０４（ｎ）及び１１０４（ｎ＋１）は、種々のローカルノードのタイミングを制御するために論理的に確立することができるタイミングノードを表す。図に示すように、各タイミングハブ１１０４（ｎ）及び１１０４（ｎ＋１）は、最終ハブノードへダウンストリーム方向に、及びタイミングバスマスタ１１０２へ再度アップストリーム方向に戻って、マスタトリガを受信及び再送信するための光受信機及び送信機のセットを有する。バックプレーンタイミングバス１１１０（ｎ）は、タイミングハブ１１０４（ｎ）を複数のクライアントデバイスに結合する。例示的クライアントデバイスは、例えばデータストア１１１２であってもよい。
【０１０１】
[0111]  ローカルノードをタイミングバスマスタと同期させるための上記システム及び方法は、タイミングバスマスタと直列のローカルノード又は「デイジーチェーン」トポグラフィとを物理的又は論理的にリンクすることを前提とする。マスタトリガは、マスタトリガパルスのダウンストリームとアップストリームの到達間の差分測定値を評価するために、デイジーチェーンを通してダウンストリーム及び逆アップストリーム方向に送信される。次に、差分測定値に基づいてローカルタイミング信号が生成される。これは、基本的にローカルタイムドメイン内の時間モーメントである。
【０１０２】
[0112]  本発明の実施形態のデイジーチェーントポロジは、スケーラブルシステムを可能にする。例えばノード間の物理的距離は、各接続の静的タイミング補償が自動的に行われる場合、タイミング精度を犠牲にすることなく変更することができる。新しいリンクは、例えば光ケーブルの１メートルにつき５から７ｎｓの遅延を導く可能性があるため、これは並列又は「スター」トポロジには当てはまらない。本発明の実施形態によるこのスケーラビリティにより、ノードが多くなれば、ローカルノード間の最大達成可能タイミングスキューを増大させるだけである。さらに、タイミングバスマスタがマスタトリガをローカルノードから逆に受信した場合、タイミングバスマスタは、各ローカルノードがトリガを受信したことを確認することができ、それによってデイジーチェーントポロジの連続性を継続して検証し、それによってローカルノードがトリガを受信したことを確保する。
【０１０３】
[0113]  デイジーチェーントポロジの第１のローカルノード又はタイミングバスハブは、コントローラノードのタイミングバスマスタと同期していることに対して最も正確である確率が高く、最終ローカルノード又はタイミングハブは最も正確でない確率が高いことも留意されたい。この特性を使用してシステムを最適化することができる。例えば、最も緊密なタイミングマージンを必要とするノード又はタイミングハブを第１のローカルノードとして（論理的又は物理的に）確立することができ、一方、最も緊密でないタイミング要件を有するローカルノード又はタイミングハブをデイジーチェーントポロジ内に最終として確立することができる。最終的に、タイミング信号Ｔｓｙｎｃ（ｎ）及びＴｓｙｎｃ（ｎ−１）における最悪のケースの差分は、常に等しい。複数のローカルシステムの同期をたとえより正確に実行可能にするシステムであっても、この特徴を活用することができる。特に、ＯＭＬの場合、単一ミラーデバイスを駆動するために複数のストアが必要であれば、この特徴が、ローカルタイミング差分を補償するために必要な弾性バッファサイズの縮小を可能にする。例えば、単一ミラーデバイスを駆動するデータストア間に、２つの異なるミラーデバイスを駆動するデータストア間よりもかなり正確なタイミングを有することが重要である。
【０１０４】
[0114]  本明細書では、特定のデバイス（例えば、集積回路又はフラットパネルディスプレイ）の製造におけるリソグラフィ装置の使用について特に言及してきたが、本明細書に記載するリソグラフィ装置は、別の用途を有することができる。それらの用途は、これに限定はされないが、集積回路、集積光システム、磁気ドメインメモリの案内及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド、マイクロ電気機械デバイス（ＭＥＭＳ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）などの製造を含む。また、例えばフラットパネルディスプレイでは、本発明の装置を用いて、様々な層、例えば、薄膜トランジスタ層及び／又はカラーフィルタ層の作成の支援にあてることができる。
【０１０５】
[0115]  光リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内の微細構成（ｔｏｐｏｇｒａｐｈｙ）が基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスの微細構成は基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組合せを印加することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると内部にパターンが残される。
【０１０６】
結論
[0116]  以上、本発明の様々な実施形態について説明してきたが、それらの実施形態は、限定的ではなく例示的であることを理解されたい。本発明の範囲を逸脱することなく本発明の形態及び詳細を様々に変更することができることは、当業者には明らかであろう。それ故、本発明の範囲は、上述した例示的実施形態によって限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲に従ってのみ規定されなければならない。
【０１０７】
[0117]  発明の概要及び要約書の項は、発明者（ら）が考える本発明の１つ又は複数の例示的実施形態を記載できるがそのすべては記載できないため、本発明及び添付の特許請求の範囲を限定するものではない。
【図１】
2010537396.tif 000003
【図２】
2010537396.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【手続補正書】
【提出日】平成22年4月9日(2010.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノードを同期させるための方法であって、
マスタトリガを、コントローラノードから、直列に結合された第１及び第２のローカルノードへダウンストリーム方向に送信することと、
前記第１のローカルノード（ｎ）で、前記マスタトリガのダウンストリーム到達時間（Ｔｄｎ）を測定し、前記マスタトリガを前記第２のローカルノード（ｎ＋１）へダウンストリーム方向に再送信することと、
前記第２のローカルノード（ｎ＋１）から前記第１のローカルノード（ｎ）へ前記マスタトリガをアップストリーム方向に送信することと、
前記第１のローカルノード（ｎ）で、前記第２のローカルノード（ｎ＋１）からの前記マスタトリガのアップストリーム到達時間（Ｔｕｎ）を測定し、前記マスタトリガを前記コントローラノードへアップストリーム方向に再送信することと、
ＴｄｎとＴｕｎとの間の差分測定値に基づいてローカル同期時間信号（Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ））を計算し、それによって、前記第１及び第２のローカルノードを前記コントローラノードと同期させることとを含む方法。
【請求項２】
前記ローカル同期時間（Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ））を計算することが、
各ローカルノードに対するローカル差分時間（Ｔｄｉｆｆ（ｎ））を計算することであって、Ｔｄｉｆｆ（ｎ）＝Ｔｕｎ−Ｔｄｎであることと、
オフセット（Ｔｏｆｆｓｅｔ）を決定することとをさらに含み、
前記ローカル同期信号Ｔｓｙｎｃｈ（ｎ）は、［Ｔｄｎ＋（１／２＊Ｔｄｉｆｆ（ｎ））＋Ｔｏｆｆｓｅｔ］又は［Ｔｕｎ−（１／２＊Ｔｄｉｆｆ（ｎ））＋Ｔｏｆｆｓｅｔ］のいずれかに等しい、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
オフセットＴｏｆｆｓｅｔが、直列の前記第１のローカルノードに対する前記ローカル差分時間Ｔｄｉｆｆ（１）の半分より大きいか又は等しい、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記マスタトリガを第１のバス上の前記第１及び第２のローカルノードへ送信することと、前記オフセット（Ｔｏｆｆｓｅｔ）を第２のバス上の前記第１及び第２のローカルノードへ送信することとをさらに含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記ローカル差分時間Ｔｄｉｆｆ（ｎ）が、前記ローカルノードへトレーニングトリガを送信することによって事前に決定される、請求項２、３、又は４に記載の方法。
【請求項６】
前記トレーニングトリガが、以前に送信されたマスタトリガである、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
マスタトリガ送信Ｔｄ０と、前記マスタノードでのアップストリーム方向からの前記マスタトリガの到達Ｔｕ０との間の差分測定値に基づいて、前記コントローラノードＴｓｙｎｃｈ（０）に対するローカル同期時間を計算することをさらに含む、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記コントローラノードでのアップストリーム方向の前記マスタトリガの到達に基づいて、前記第１及び第２のローカルノードそれぞれが前記マスタトリガを受信したか否かを決定することにより、前記第１及び第２のローカルノードの連続性を事前評価することをさらに含む、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
（ｉ）コントローラノード差分時間（Ｔｄｉｆｆ（０））を計算することであって、Ｔｄｉｆｆ（０）＝Ｔｕ０−Ｔｄ０であることと、
（ｉｉ）オフセット（Ｔｏｆｆｓｅｔ（０））を計算することであって、Ｔｏｆｆｓｅｔ（０）は［（Ｔｓｙｎｃｈ（０）−Ｔｄ０）−１／２Ｔｄｉｆｆ（０）］又は［（Ｔｓｙｎｃｈ（０）−Ｔｕ０）＋１／２Ｔｄｉｆｆ（０）］のいずれかに等しいこととによって、
前記第１及び第２のローカルノードそれぞれを、前記マスタノード（Ｔｓｙｎｃｈ（０））のタイムドメイン内の絶対モーメントと同期させることと、
Ｔｏｆｆｓｅｔ（０）を前記第１及び第２のローカルノードのそれぞれに分配することとをさらに含む、前記請求項のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
複数の直列に結合されたノードを同期させるための方法であって、
マスタトリガを、前記複数の直列に結合されたローカルノードを通して、第１のノードから最終ノードへダウンストリーム方向に送信することと、
前記マスタトリガを、前記複数の直列に結合されたノードを通して、前記最終ノードから前記第１のノードへアップストリーム方向に再送信することと、
前記ダウンストリーム方向及び前記アップストリーム方向の前記マスタトリガの到達の間の差分測定値に基づいて、前記複数のノードそれぞれで、ローカル同期時間を計算することとを含む方法。
【請求項１１】
パターニングデバイスを制御するための同期システムであって、
ダウンストリームマスタトリガを送信する送信機と、アップストリームマスタトリガを受信する受信機とを含むコントローラノードと、
前記コントローラノードと直列に結合された第１及び第２の連続するダウンストリームローカルノードであって、第１及び第２のローカルノードはそれぞれ、前記マスタトリガを受信してダウンストリーム方向に再送信するダウンストリームトランシーバと、前記マスタトリガを受信してアップストリーム方向に再送信するアップストリームトランシーバとを有するダウンストリームローカルノードとを備え、
前記コントローラノード及び前記第１及び第２のローカルノードは、それぞれ、（ｉ）ダウンストリーム方向及びアップストリーム方向の両方で前記マスタトリガの到達を検出するトリガ検出器と、（ｉｉ）前記アップストリーム方向の前記マスタトリガの到達と、前記ダウンストリーム方向の前記マスタトリガの到達との間の差分測定値に基づいて、ローカルタイミング信号を生成するタイミング補償モジュールとを含み、
それによって、前記ローカルタイミング信号は、前記パターニングデバイスの動作を制御するために、前記マスタ信号と同期される同期システム。
【請求項１２】
前記ローカルタイミング信号が、ソフトウェアプログラマブルオフセットを含む、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記第１及び第２の連続するダウンストリームローカルノードが、論理的に直列に結合される、請求項１１又は１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記第１及び第２の連続するダウンストリームローカルノードが、物理的に直列に結合される、請求項１１又は１２に記載のシステム。
【請求項１５】
１つ又は複数の放射ビームを生成するイルミネーションシステムと、
前記１つ又は複数の放射ビームをパターン形成するパターニングデバイスであって、前記パターニングデバイスが複数のローカルノードから制御情報を受信し、前記ローカルノードが直列に結合され、
マスタトリガを第１のローカルノードから最終ローカルノードへダウンストリーム方向に送信し、
前記マスタトリガを前記最終ノードから前記第１のノードへアップストリーム方向に再送信し、
前記ダウンストリーム方向と前記アップストリーム方向との前記マスタトリガの到達間の差分測定値に基づいて、前記複数のローカルノードのそれぞれでローカルタイミング信号を生成し、前記パターニングデバイスが前記複数のローカルタイミング信号に従って同期された制御情報を受信するパターニングデバイスと、
前記１つ又は複数のパターン付ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、
を備えるリソグラフィシステム。
【国際調査報告】
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