(57)【要約】  露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光の光路の周囲に配置された第１面と、第１面の外縁に隣接して配置され、第１面に対して傾斜した第１領域を含む第２面と、露光光の光路に対して第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、第１面の少なくとも一部、及び液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、物体の表面とほぼ垂直な所定方向に関して、第２面と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、且つ液体回収面の少なくとも一部と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きい。
2010528449.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光の光路の周囲に配置された第１面と、
前記第１面の外縁に隣接して配置された第２面であり、前記第１面に対して傾斜した第１領域を含む前記第２面と、
前記露光光の光路に対して前記第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、
前記第１面の少なくとも一部、及び前記液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、前記物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、前記第２面と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、且つ前記液体回収面の少なくとも一部と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きい露光装置。
【請求項２】
前記第１面は、前記物体の表面と実質的に平行である請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記第２面は、前記第１面の周囲に配置されている請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１領域は、前記第１面の外縁に隣接して配置される請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５】
前記第２面は、前記第１領域の外縁に隣接して配置され、前記第１面と実質的に平行な第２領域を含む請求項４記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１領域は、前記光路から離れる方向に沿って、前記物体の表面から徐々に離れる請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７】
前記第２面は、前記第２面と前記物体の表面との間に存在する液体が接触し続けるように設けられている請求項１〜６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項８】
前記液体回収面は、前記光路の周囲に配置されている請求項１〜７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項９】
前記液体回収面は、前記第２面の外縁と隣り合って配置される第３領域を含む請求項１〜８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第３領域は、前記第１面に対して傾斜している請求項９記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第３領域は、前記光路から離れる方向に沿って、前記物体の表面に徐々に近づく請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】
前記第３領域は、前記第１面と実質的に平行である請求項９記載の露光装置。
【請求項１３】
前記液体回収面は、前記第３領域の外側に配置された第４領域を含み、前記所定方向に関して、前記第４領域と前記物体との間隔は、前記第３領域と前記物体との間隔よりも小さい請求項９〜１２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第４領域の少なくとも一部は、前記第３領域に対して傾斜している請求項１３記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第４領域の少なくとも一部は、前記光路から離れる方向に沿って、前記物体の表面に徐々に近づく請求項１４記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第４領域の少なくとも一部は、前記第１面と実質的に平行である請求項１３記載の露光装置。
【請求項１７】
前記所定方向に関して、前記第４領域の少なくとも一部と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔と同程度又は実質的に等しい請求項１６記載の露光装置。
【請求項１８】
前記第４領域は、前記第３領域の外縁に隣接して設けられている請求項１３〜１７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１９】
前記第１面は、前記液体に対して親液性を有する請求項１〜１８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２０】
前記第２面は、前記液体に対して親液性を有する請求項１〜１９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２１】
前記液体回収面は、多孔部材の表面を含み、前記液体回収面と対向する前記物体上の液体の少なくとも一部は、前記多孔部材を介して回収される請求項１〜２０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２２】
前記露光光を射出する射出面を有する光学部材をさらに備え、
前記第１面の少なくとも一部が、前記光学部材の射出面の下方に配置された請求項１〜２１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２３】
前記光学部材の下方に配置された、前記露光光が通過する開口をさらに備え、
前記第１面は、前記開口の周囲に設けられている請求項２２記載の露光装置。
【請求項２４】
前記光学部材の射出面と前記開口との間の空間へ液体を供給する供給口をさらに備えた請求項２３記載の露光装置。
【請求項２５】
前記第１面、前記第２面、及び前記液体回収面を有する液浸部材を備え、
前記液浸部材は、前記光路を囲むように配置されている請求項１〜２４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２６】
前記物体は、前記基板を含む請求項１〜２５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２７】
請求項１〜２６のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２８】
光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光において、前記光学部材と前記基板との間の光路を前記液体で満たすために使用される液浸システムであって、
第１面と、
前記第１面の外縁に隣接して配置された第２面であり、前記第１面に対して傾斜した第１領域を含む前記第２面と、
前記第１面に対して前記第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、
前記第１面の少なくとも一部、及び前記液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、前記物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、前記第２面と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、且つ前記液体回収面の少なくとも一部と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きい液浸システム。
【請求項２９】
前記第１面は、前記物体の表面と実質的に平行である請求項２８記載の液浸システム。
【請求項３０】
前記第１領域は、前記第１面の外縁に隣接して配置される請求項２８又は２９記載の液浸システム。
【請求項３１】
前記第２面は、前記第１領域の外縁に隣接して配置され、前記第１面と実質的に平行な第２領域を含む請求項３０記載の液浸システム。
【請求項３２】
前記液体回収面は、前記第２面の外縁と隣り合って配置される第３領域を含む請求項２８〜３１のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項３３】
前記第３領域は、前記第１面に対して傾斜している請求項３２記載の液浸システム。
【請求項３４】
前記第３領域は、前記光路から離れる方向に沿って、前記物体の表面に徐々に近づく請求項３３記載の液浸システム。
【請求項３５】
前記第３領域は、前記第１面と実質的に平行である請求項３２記載の液浸システム。
【請求項３６】
前記液体回収面は、前記第３領域の外側に配置された第４領域を含み、前記所定方向に関して、前記第４領域と前記物体との間隔は、前記第３領域と前記物体との間隔よりも小さい請求項３２〜３５のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項３７】
前記第４領域の少なくとも一部は、前記第３領域に対して傾斜している請求項３６記載の液浸システム。
【請求項３８】
前記第４領域の少なくとも一部は、前記光路から離れる方向に沿って、前記物体の表面に徐々に近づく請求項３７記載の液浸システム。
【請求項３９】
前記第４領域の少なくとも一部は、前記第１面と実質的に平行である請求項３６記載の液浸システム。
【請求項４０】
前記所定方向に関して、前記第４領域の少なくとも一部と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔と実質的に等しい請求項３９記載の液浸システム。
【請求項４１】
前記第３領域の少なくとも一部は、前記第１面と実質的に平行である請求項３９又は４０記載の液浸システム。
【請求項４２】
前記第４領域は、前記第３領域の外縁に隣接して設けられている請求項３６〜４１のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項４３】
前記露光光の光路に対する放射方向において、前記第４領域は、前記第３領域よりも大きい請求項３６〜４２のいずれか一項に記載の液浸システム。
【請求項４４】
前記第４領域における吸引力が、前記第３領域における吸引力と異なる請求項３６〜４３のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項４５】
前記第１面は、前記液体に対して親液性を有する請求項２８〜４４のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項４６】
前記第２面は、前記液体に対して親液性を有する請求項２８〜４５のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項４７】
前記液体回収面は、多孔部材の表面を含み、前記液体回収面と対向する前記物体上の液体の少なくとも一部は、前記多孔部材を介して回収される請求項２８〜４６のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項４８】
前記液体回収面は、多孔部材の表面を含み、
前記液体回収面と対向する前記物体上の液体の少なくとも一部は、前記多孔部材を介して回収され、
前記第３領域における単位面積当たりの前記多孔部材の孔の総面積と、前記第４領域における単位面積当たりの前記多孔部材の孔の総面積とは異なる請求項３６〜４４のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項４９】
前記露光光が通過するための開口と、
前記開口の上側の空間へ液体を供給する供給口と、をさらに備え、
前記供給口から供給された前記液体は、前記開口を介して、前記開口の下側の、前記第１面と前記物体との間の空間へ流れる請求項２８〜４８のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項５０】
前記物体は、前記基板を含む請求項２８〜４９のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項５１】
請求項２８〜請求項５０のいずれか一項記載の液浸システムを使って、前記液浸露光装置の光学部材と基板との間の空間を液体で満たすことと、
前記光学部材と前記液体とを介して前記基板に露光光を照射することと、
を含む露光方法。
【請求項５２】
請求項５１記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項５３】
露光光を射出する光学部材と、
請求項２８〜請求項５０のいずれか一項記載の液浸システムとを備え、
前記液浸システムを使って前記光学部材と基板との間の空間を液体で満たし、前記光学部材と前記液体とを介して前記基板に前記露光光を照射する露光装置。
【請求項５４】
請求項５３記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項５５】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光の光路の周囲に配置された第１面と、
前記第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、
前記露光光の光路に対して前記第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、
前記第１面の少なくとも一部、及び前記液体回収面の少なくとも一部と対向する位置で物体が静止しているときに、前記物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、前記第２面と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、前記液体回収面の少なくとも一部と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、且つ前記物体上の液体の界面が前記第２面と前記液体回収面との境界近傍に形成される露光装置。
【請求項５６】
前記第１面は、前記物体の表面と実質的に平行である請求項５５記載の露光装置。
【請求項５７】
前記第２面は、前記第１面の外縁に隣接して配置される第１領域を含む請求項５５又は５６記載の露光装置。
【請求項５８】
前記第２面は、前記第１領域の外縁に隣接して配置され、前記第１面と実質的に平行な第２領域を含む請求項５７記載の露光装置。
【請求項５９】
前記液体回収面は、前記第２面の外縁と隣り合って配置される第３領域を含む請求項５５〜５８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６０】
前記液体回収面は、多孔部材の表面を含み、前記液体回収面と対向する前記物体上の液体の少なくとも一部は、前記多孔部材を介して回収される請求項５５〜５９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６１】
前記物体は、前記基板を含む請求項５５〜６０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６２】
請求項５５〜６１のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項６３】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光の光路の周囲に配置された第１面と、
前記第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、
前記露光光の光路に対して前記第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、
前記液体回収面は、前記露光光の光路に対して前記第２面の外側に配置される第３領域と前記露光光の光路に対して前記第３領域の外側に配置された第４領域とを含み、
前記第１面の少なくとも一部、及び前記液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、前記物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、前記第２面と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、前記第３領域と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、前記第４領域と前記物体との間隔は、前記第３領域と前記物体との間隔よりも小さく、
前記露光光の光路に対する放射方向において、前記第４領域の大きさは、前記第３領域の大きさよりも大きい露光装置。
【請求項６４】
前記液体回収面は、多孔部材の表面を含む請求項６３記載の露光装置。
【請求項６５】
前記液体回収面は、前記液体を吸引して回収し、
前記第４領域における吸引力は、前記第３領域における吸引力と異なる請求項６３記載の露光装置。
【請求項６６】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光の光路の周囲に配置された第１面と、
前記第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、
前記露光光の光路に対して前記第２面の外側に配置され、液体を吸引して回収する液体回収面と、を備え、
前記液体回収面は、前記露光光の光路に対して前記第２面の外側に配置される第３領域と前記露光光の光路に対して前記第３領域の外側に配置された第４領域とを含み、
前記第１面の少なくとも一部、及び前記液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、前記物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、前記第２面と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、前記第３領域と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、前記第４領域と前記物体との間隔は、前記第３領域と前記物体との間隔よりも小さく、
前記第４領域における吸引力は、前記第３領域における吸引力と異なる露光装置。
【請求項６７】
前記液体回収面は、多孔部材の表面を含む請求項６５又は６６記載の露光装置。
【請求項６８】
前記液体回収面は、多孔部材の表面を含み、前記液体回収面と対向する前記物体上の液体の少なくとも一部は、前記多孔部材の孔を介して吸引され、
前記第４領域における前記多孔部材の単位面積当たりの孔の総面積は、前記第３領域における前記多孔部材の単位面積当たりの孔の総面積と異なる請求項６７記載の露光装置。
【請求項６９】
前記多孔部材は、前記物体と対向する第１多孔面と、前記第１多孔面との間に前記孔が形成された第２多孔面とを有し、
前記第４領域における前記第１多孔面と前記第２多孔面との圧力差は、前記第３領域における前記第１多孔面と前記第２多孔面との圧力差と異なる請求項６７又は６８記載の露光装置。
【請求項７０】
前記第４領域における吸引力は、前記第３領域における吸引力より小さい請求項６５〜６９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７１】
前記第４領域における吸引力は、前記第３領域における吸引力より大きい請求項６５〜６９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７２】
前記第４領域は、前記第１面と実質的に平行である請求項６３〜７１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７３】
前記第１面は、前記物体の表面と実質的に平行である請求項６３〜７２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７４】
前記所定方向に関して、前記第４領域と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔と実質的に等しい請求項６３〜７３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７５】
前記第３領域と前記第４領域とは実質的に平行である請求項６３〜７４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７６】
前記第２面は、前記第１面の外縁に隣接して配置され、前記第１面に対して傾斜した第１領域を含む６３〜７５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７７】
前記第２面は、前記第１領域の外縁に隣接して配置され、前記第１面と実質的に平行な第２領域を含む請求項７６記載の露光装置。
【請求項７８】
前記第３領域は、前記露光光の光路に対して前記第２面の外縁に隣り合って配置される請求項６３〜７７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７９】
前記物体は、前記基板を含む請求項６３〜７８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項８０】
請求項６３〜７９のいずれか一項記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項８１】
光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光において、前記光学部材と前記基板との間の光路を前記液体で満たすために使用される液浸システムであって、
第１面と、
前記第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、
前記第１面に対して前記第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、
前記第１面の少なくとも一部、及び前記液体回収面の少なくとも一部と対向する位置で物体が静止しているときに、前記物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、前記第２面と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、前記液体回収面の少なくとも一部と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、且つ前記物体上の液体の界面が前記液体回収面と前記第２面との境界近傍に形成される液浸システム。
【請求項８２】
光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光において、前記光学部材と前記基板との間の光路を前記液体で満たすために使用される液浸システムであって、
第１面と、
前記第１面の外縁に隣接して、前記第１面の周囲に配置された第２面と、
前記第２面の外縁に隣接して、前記第２面の周囲に配置された液体回収面と、を備え、
前記第１面の少なくとも一部、及び前記液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、前記物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、前記第２面と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、且つ前記液体回収面の少なくとも一部と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きい液浸システム。
【請求項８３】
前記第１面は、前記物体の表面と実質的に平行である請求項８１または８２記載の液浸システム。
【請求項８４】
前記第２面は、前記第１面の外縁に隣接して配置され、前記第１面に対して傾斜した第１領域を含む請求項８１〜８３のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項８５】
前記第２面は、前記第１面と実質的に平行な第２領域を含む請求項８４記載の液浸システム。
【請求項８６】
前記液体回収面は、前記第２領域の外縁と隣り合って配置される請求項８５記載の液浸システム。
【請求項８７】
前記液体回収面は、多孔部材の表面を含み、前記液体回収面と対向する前記物体上の液体の少なくとも一部は、前記多孔部材を介して回収される請求項８１〜８６のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項８８】
光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光において、前記光学部材と前記基板との間の光路を前記液体で満たすために使用される液浸システムであって、
第１面と、
前記第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、
前記第１面に対して前記第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、
前記液体回収面は、前記露光光の光路に対して前記第２面の外側に配置される第３領域と前記第３領域の外側に配置された第４領域とを含み、
前記第１面の少なくとも一部、及び前記液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、前記物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、前記第２面と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、前記第３領域と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、前記第４領域と前記物体との間隔は、前記第３領域と前記物体との間隔よりも小さく、
前記露光光の光路に対する放射方向において、前記第４領域の大きさは、前記第３領域の大きさよりも大きい液浸システム。
【請求項８９】
光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光において、前記光学部材と前記基板との間の光路を前記液体で満たすために使用される液浸システムであって、
第１面と、
前記第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、
前記第１面に対して前記第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、
前記液体回収面は、前記露光光の光路に対して前記第２面の外側に配置される第３領域と前記第３領域の外側に配置された第４領域とを含み、
前記第１面の少なくとも一部、及び前記液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、前記物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、前記第２面と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、前記第３領域と前記物体との間隔は、前記第１面と前記物体との間隔よりも大きく、前記第４領域と前記物体との間隔は、前記第３領域と前記物体との間隔よりも小さく、
前記第４領域における吸引力は、前記第３領域における吸引力と異なる液浸システム。
【請求項９０】
前記第１面は、前記物体の表面と実質的に平行である請求項８８又は８９記載の液浸システム。
【請求項９１】
前記第２面は、前記第１面の外縁に隣接して配置され、前記第１面に対して傾斜した第１領域を含む請求項８８〜９０のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項９２】
前記第２面は、前記第１面と実質的に平行な第２領域を含む請求項９１記載の液浸システム。
【請求項９３】
前記液体回収面は、前記第２領域の外縁と隣り合って配置される請求項９２記載の液浸システム。
【請求項９４】
前記液体回収面は、多孔部材の表面を含み、前記液体回収面と対向する前記物体上の液体の少なくとも一部は、前記多孔部材を介して回収される請求項８８〜９３のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項９５】
前記所定方向に関して、前記第４領域と前記物体との間隔は、前記第３領域と前記物体との間隔よりも小さい請求項８８〜９４のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項９６】
前記第４領域は、前記第１面と実質的に平行である請求項８８〜９５のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項９７】
前記第３領域は、前記第１面と実質的に平行である請求項９６記載の液浸システム。
【請求項９８】
前記第４領域は、前記第３領域の外縁に隣接して配置される請求項８８〜９７のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項９９】
前記第３領域は、前記第２面の外縁に隣り合って配置される請求項８８〜９８のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項１００】
前記露光光が通過するための開口と、
前記開口の上側の空間へ液体を供給する供給口と、をさらに備え、
前記供給口から供給された前記液体は、前記開口を介して、前記開口の下側の、前記第１面と前記物体との間の空間へ流れる請求項８８〜９９のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項１０１】
前記物体は、前記基板を含む請求項８０〜１００のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項１０２】
液浸露光に使用される液浸システムであって、
光学部材の射出面の下方に配置され、前記光学部材の射出面から射出される露光光が通過する開口と、
前記開口の周囲に配置され、前記開口を通過した露光光の光路と交差する所定のリファレンス面に面する第１面と、
前記光学部材の射出面と前記開口との間の空間に液体を供給する供給口と、
前記開口に対して前記第１面よりも遠くに配置され、前記リファレンス面から離れる方向に沿った深さを有する前記第１面に対する窪みと、
前記窪みを形成する壁と、
前記壁の少なくとも一部に設けられた、前記液体が回収され得る第１液体回収部と、
前記開口に対して前記窪みよりも遠くに配置され、前記液体が回収され得る第２液体回収部と、を備えた液浸システム。
【請求項１０３】
前記壁は、前記光路から離れる方向に沿って、前記リファレンス面から徐々に遠ざかる第１勾配領域を含む請求項１０２記載の液浸システム。
【請求項１０４】
前記壁は、前記光路から離れる方向に沿って、前記リファレンス面に徐々に近づく第２勾配領域を含む請求項１０２又は１０３記載の液浸システム。
【請求項１０５】
前記第１液体回収部の少なくとも一部が、前記第２勾配領域の少なくとも一部に設けられる請求項１０４記載の液浸システム。
【請求項１０６】
前記壁は、前記リファレンス面と実質的に平行なフラット領域を含み、前記第１液体回収部の少なくとも一部が、前記フラット領域の少なくとも一部に設けられる請求項１０２〜１０５のいずれかに記載の液浸システム。
【請求項１０７】
前記第２液体回収部は、前記リファレンス面に面し、前記リファレンス面と実質的に平行である請求項１０２〜１０６のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項１０８】
前記第２液体回収部の吸引力は、前記第１液体回収部の吸引力と異なる請求項１０２〜１０７のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項１０９】
前記光路から離れる方向において、前記第２液体回収部のサイズは、前記第１液体回収部のサイズと異なる請求項１０２〜１０８のいずれか一項記載の液浸システム。
【請求項１１０】
前記壁は、前記光路から離れる方向において、実質的に連続的又は断続的である請求項１０２〜１０９のいずれか一項に記載の液浸システム。
【請求項１１１】
前記リファレンス面は、前記光学部材の対向位置における物体表面の配置面として設定される請求項１０２〜１１０のいずれか一項に記載の液浸システム。
【請求項１１２】
請求項８０〜請求項１１１のいずれか一項記載の液浸システムを使って、前記光学部材と基板との間の空間を液体で満たすことと、
前記光学部材と前記液体とを介して前記基板に露光光を照射することと、
を含む露光方法。
【請求項１１３】
請求項１１２記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項１１４】
露光光を射出する射出面を有する光学部材と、
請求項８０〜請求項１１１のいずれか一項記載の液浸システムと、を備え、
前記液浸システムを使って前記光学部材の射出面と基板との間の空間を液体で満たし、前記光学部材と前記液体とを介して前記基板に露光光を照射する露光装置。
【請求項１１５】
請求項１１４記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、液浸システム、露光方法、及びデバイス製造方法に関する。
本願は、２００７年５月２１日に出願された特願２００７−１３４０６１号、及び２００７年１１月１４日に出願された特願２００７−２９５７０２号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、国際公開第９９／４９５０４号及び国際公開第２００６／１０６９０７号（対応欧州特許出願公開第１８７３８１５号）に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
液浸露光装置において、基板を高速で移動した場合、例えば投影光学系等の光学部材と基板との間の露光光の光路を液体で所望状態に満たすことが困難となる可能性がある。また、基板を高速で移動した場合、液体が所定空間から漏出したり、基板上に液体（膜、滴など）が残留したりする可能性がある。それにより、基板に形成されるパターンに欠陥が生じる等、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが製造される可能性がある。
【０００４】
本発明の態様は、基板などの物体上における液体の残留を抑制し、露光不良の発生を抑制できる露光装置、露光方法を提供することを目的とする。別の目的は、基板などの物体上における液体の残留を抑制できる液浸システムを提供することである。また別の目的は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光の光路の周囲に配置された第１面と、第１面の外縁に隣接して配置された第２面であり、第１面に対して傾斜した第１領域を含む第２面と、露光光の光路に対して第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、第１面の少なくとも一部、及び液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、第２面と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、且つ液体回収面の少なくとも一部と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きい露光装置が提供される。
【０００６】
本発明の第２の態様に従えば、第１の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【０００７】
本発明の第３の態様に従えば、光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光において、光学部材と基板との間の光路を液体で満たすために使用される液浸システムであって、第１面と、第１面の外縁に隣接して配置された第２面であり、第１面に対して傾斜した第１領域を含む第２面と、第１面に対して第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、第１面の少なくとも一部、及び液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、第２面と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、且つ液体回収面の少なくとも一部と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きい液浸システムが提供される。
【０００８】
本発明の第４の態様に従えば、第３の態様の液浸システムを使って、液浸露光装置の光学部材と基板との間の空間を液体で満たすことと、光学部材と液体とを介して基板に露光光を照射することと、を含む露光方法が提供される。
【０００９】
本発明の第５の態様に従えば、第４の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１０】
本発明の第６の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光の光路の周囲に配置された第１面と、第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、露光光の光路に対して第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、第１面の少なくとも一部、及び液体回収面の少なくとも一部と対向する位置で物体が静止しているときに、物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、第２面と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、液体回収面の少なくとも一部と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、且つ物体上の液体の界面が第２面と液体回収面との境界近傍に形成される露光装置が提供される。
【００１１】
本発明の第７の態様に従えば、第６の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１２】
本発明の第８の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光の光路の周囲に配置された第１面と、第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、露光光の光路に対して第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、液体回収面は、露光光の光路に対して第２面の外側に配置される第３領域と露光光の光路に対して第３領域の外側に配置された第４領域とを含み、第１面の少なくとも一部、及び液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、第２面と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、第３領域と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、第４領域と物体との間隔は、第３領域と物体との間隔よりも小さく、露光光の光路に対する放射方向において、第４領域の大きさは、第３領域の大きさよりも大きい露光装置が提供される。
【００１３】
本発明の第９の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、露光光の光路の周囲に配置された第１面と、第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、露光光の光路に対して第２面の外側に配置され液体を吸引して回収する液体回収面と、を備え、液体回収面は、露光光の光路に対して第２面の外側に配置される第３領域と露光光の光路に対して第３領域の外側に配置された第４領域とを含み、第１面の少なくとも一部、及び液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、第２面と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、第３領域と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、第４領域と物体との間隔は、第３領域と物体との間隔よりも小さく、第４領域における吸引力は、第３領域における吸引力と異なる露光装置が提供される。
【００１４】
本発明の第１０の態様に従えば、第８及び第９の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１５】
本発明の第１１の態様に従えば、光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光において、光学部材と基板との間の光路を液体で満たすために使用される液浸システムであって、第１面と、第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、第１面に対して第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、第１面の少なくとも一部、及び液体回収面の少なくとも一部と対向する位置で物体が静止しているときに、物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、第２面と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、液体回収面の少なくとも一部と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、且つ物体上の液体の界面が液体回収面と第２面との境界近傍に形成される液浸システムが提供される。
【００１６】
本発明の第１２の態様に従えば、光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光において、光学部材と基板との間の光路を液体で満たすために使用される液浸システムであって、第１面と、第１面の外縁に隣接して、第１面の周囲に配置された第２面と、第２面の外縁に隣接して、第２面の周囲に配置された液体回収面と、を備え、第１面の少なくとも一部、及び液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、第２面と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、且つ液体回収面の少なくとも一部と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きい液浸システムが提供される。
【００１７】
本発明の第１３の態様に従えば、光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光において、光学部材と基板との間の光路を液体で満たすために使用される液浸システムであって、第１面と、第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、第１面に対して第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、液体回収面は、露光光の光路に対して第２面の外側に配置される第３領域と第３領域の外側に配置された第４領域とを含み、第１面の少なくとも一部、及び液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、第２面と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、第３領域と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、第４領域と物体との間隔は、第３領域と物体との間隔よりも小さく、露光光の光路に対する放射方向において、第４領域の大きさは、第３領域の大きさよりも大きい液浸システムが提供される。
【００１８】
本発明の第１４の態様に従えば、光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光において、光学部材と基板との間の光路を液体で満たすために使用される液浸システムであって、第１面と、第１面の外縁に隣接して配置された第２面と、第１面に対して第２面の外側に配置された液体回収面と、を備え、液体回収面は、露光光の光路に対して第２面の外側に配置される第３領域と第３領域の外側に配置された第４領域とを含み、第１面の少なくとも一部、及び液体回収面の少なくとも一部と対向する位置に物体が配置されたときに、物体の表面と実質的に垂直な所定方向に関して、第２面と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、第３領域と物体との間隔は、第１面と物体との間隔よりも大きく、第４領域と物体との間隔は、第３領域と物体との間隔よりも小さく、第４領域における吸引力は、第３領域における吸引力と異なる液浸システムが提供される。
【００１９】
本発明の第１５の態様に従えば、第１１〜第１４の態様の液浸システムを使って、液浸露光装置の光学部材と基板との間の空間を液体で満たすことと、光学部材と液体とを介して基板に露光光を照射することと、を含む露光方法が提供される。
【００２０】
本発明の第１６の態様に従えば、第１５の態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００２１】
本発明の第１７の態様に従えば、液浸露光に使用される液浸システムであって、光学部材の射出面の下方に配置され、前記光学部材の射出面から射出される露光光が通過する開口と、前記開口の周囲に配置され、前記開口を通過した露光光の光路と交差する所定のリファレンス面に面する第１面と、前記光学部材の射出面と前記開口との間の空間に液体を供給する供給口と、前記開口に対して前記第１面よりも遠くに配置され、前記リファレンス面から離れる方向に沿った深さを有する前記第１面に対する窪みと、前記窪みを形成する壁と、前記壁の少なくとも一部に設けられた、前記液体が回収され得る第１液体回収部と、前記開口に対して前記窪みよりも遠くに配置され、前記液体が回収され得る第２液体回収部と、を備えた液浸システムが提供される。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の態様によれば、露光光の光路を液体で所望状態に満たして、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】第１実施形態に係る露光装置を示す概略構成図である。
【図２】第１実施形態に係る液浸部材の近傍を示す側断面図である。
【図３】第１実施形態に係る液浸部材を示す概略斜視図の一部破断図である。
【図４】第１実施形態に係る液浸部材を下側から見た斜視図である。
【図５】第１実施形態に係る液浸部材の一部を拡大した側断面図である。
【図６】比較例に係る液浸部材の作用を説明するための模式図である。
【図７】第１実施形態に係る液浸部材の作用を説明するための模式図である。
【図８】第１実施形態に係る液浸部材の作用を説明するための模式図である。
【図９】第１実施形態に係る液浸部材の別の例を説明するための模式図である。
【図１０】第１実施形態に係る液浸部材の別の例を説明するための模式図である。
【図１１】第１実施形態に係る液浸部材の別の例を説明するための模式図である。
【図１２】第１実施形態に係る液浸部材の別の例を説明するための模式図である。
【図１３】第１実施形態に係る液浸部材の別の例を説明するための模式図である。
【図１４】第１実施形態に係る液浸部材の別の例を説明するための模式図である。
【図１５】第１実施形態に係る液浸部材の別の例を説明するための模式図である。
【図１６】第２実施形態に係る液浸部材の一部を拡大した側断面図である。
【図１７】第３実施形態に係る液浸部材を下側から見た斜視図である。
【図１８】第３実施形態に係る液浸部材の一部を拡大した側断面図である。
【図１９】第３実施形態に係る液浸部材の一部を拡大した側断面図である。
【図２０】第３実施形態に係る液浸部材の一部を拡大した側断面図である。
【図２１】マイクロデバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。そして、水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００２５】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持しながら移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持しながら移動可能な基板ステージ２と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置３とを備えている。
【００２６】
なお、ここでいう基板Ｐは、デバイスを製造するための基板であって、例えばシリコンウエハのような半導体ウエハ等の基材に感光膜が形成されたものを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐには、感光膜に加えて保護膜（トップコート膜）等の各種の膜が形成されていてもよい。マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含み、例えばガラス板等の透明板部材上にクロム等の遮光膜を用いて所定のパターンが形成されたものである。この透過型マスクは、遮光膜でパターンが形成されるバイナリーマスクに限られず、例えばハーフトーン型、あるいは空間周波数変調型などの位相シフトマスクも含む。また、本実施形態においては、マスクＭとして透過型のマスクを用いるが、反射型のマスクを用いてもよい。
【００２７】
本実施形態において、露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置であって、露光光ＥＬの光路空間Ｋの少なくとも一部を液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳを形成する。なお、露光光ＥＬの光路空間Ｋは、露光光ＥＬが通過する光路を含む空間である。液浸空間ＬＳは、液体ＬＱで満たされた空間である。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００２８】
本実施形態においては、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い終端光学素子４の像面側の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳが形成される。終端光学素子４は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する射出面５を有する。液浸空間ＬＳは、終端光学素子４の射出側（像面側）の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように形成される。具体的には、液浸空間ＬＳは、終端光学素子４とその終端光学素子４の射出面５と対向する位置に配置された物体との間の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように形成される。物体が終端光学素子４の射出面５と対向する位置は、露光光ＥＬが物体に照射可能な位置を含む。
【００２９】
露光装置ＥＸは、液浸空間ＬＳを形成可能な液浸部材６を備えている。液浸部材６は、終端光学素子４の近傍に配置されている。液浸部材６は、下面７を有する。本実施形態において、終端光学素子４の射出面５と対向可能な物体は、液浸部材６の下面７と対向可能である。物体の表面が終端光学素子４の射出面５と対向する位置に配置されたとき、液浸部材６の下面７の少なくとも一部と物体の表面とが対向する。終端光学素子４の射出面５と物体の表面とが対向しているとき、終端光学素子４の射出面５と物体の表面との間の空間は液体ＬＱを保持できる。また、液浸部材６の下面７と物体の表面とが対向しているとき、液浸部材６の下面７と物体の表面との間の空間は液体ＬＱを保持できる。一方側の終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７と他方側の物体の表面との間に液体ＬＱを保持することによって、終端光学素子４の射出面５と物体の表面との間の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳが形成される。
【００３０】
本実施形態において、終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７と対向可能な物体は、終端光学素子４の射出側（像面側）で移動可能な物体を含み、終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７と対向する位置に移動可能な物体を含む。本実施形態においては、終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７と対向可能な物体は、基板ステージ２、及びその基板ステージ２に保持された基板Ｐの少なくとも一方を含む。なお、以下においては、説明を簡単にするために、主に、終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７に基板Ｐが対向している状態を例にして説明する。
【００３１】
本実施形態においては、終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７と対向する位置に配置された基板Ｐの表面の一部の領域（局所的な領域）が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成され、その基板Ｐの表面と液浸部材６の下面７との間に液体ＬＱの界面(メニスカス、エッジ)ＬＧが形成される。すなわち、本実施形態においては、露光装置ＥＸは、基板Ｐの露光時に、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲを含む基板Ｐ上の一部の領域が液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳを形成する局所液浸方式を採用する。なお、界面ＬＧの様子は、図に示されたものに限定されない。
【００３２】
照明系ＩＬは、マスクＭ上の所定の照明領域ＩＲを均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとしては、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光が用いられる。
【００３３】
マスクステージ１は、リニアモータ等のアクチュエータを含む第１駆動システム１Ｄにより、マスクＭを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向に移動可能である。マスクステージ１（マスクＭ）のＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の位置情報はレーザ干渉計１Ｓによって計測される。レーザ干渉計１Ｓは、マスクステージ１に設けられた反射ミラー１Ｒを用いて位置情報を計測する。制御装置３は、レーザ干渉計１Ｓの計測結果に基づいて第１駆動システム１Ｄを駆動し、マスクステージ１に保持されているマスクＭの位置制御を行う。
【００３４】
投影光学系ＰＬは、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で基板Ｐに投影する。投影光学系ＰＬの複数の光学素子は、鏡筒ＰＫに保持されている。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは縮小系、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸはＺ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００３５】
基板ステージ２は、リニアモータ等のアクチュエータを含む第２駆動システム２Ｄにより、基板Ｐを保持した状態で、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。基板ステージ２（基板Ｐ）のＸ軸、Ｙ軸、及びθＺ方向の位置情報はレーザ干渉計２Ｓによって計測される。レーザ干渉計２Ｓは、基板ステージ２に設けられた反射ミラー２Ｒを用いて位置情報を計測する。また、基板ステージ２に保持されている基板Ｐの表面の面位置情報（Ｚ軸、θＸ、及びθＹ方向に関する位置情報）は、不図示のフォーカス・レベリング検出システムによって検出される。制御装置３は、レーザ干渉計２Ｓの計測結果及びフォーカス・レベリング検出システムの検出結果に基づいて第２駆動システム２Ｄを駆動し、基板ステージ２に保持されている基板Ｐの位置制御を行う。
【００３６】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持する基板ホルダ２Ｈと、基板ホルダ２Ｈの周囲に配置され、終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７と対向可能な上面２Ｔとを有する。基板ホルダ２Ｈは、基板ステージ２上に設けられた凹部２Ｃに配置されている。基板ホルダ２Ｈは、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持する。基板ホルダ２Ｈに保持された基板Ｐの表面は、終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７と対向可能である。また、基板ステージ２の上面２Ｔは、ＸＹ平面とほぼ平行な平坦面である。基板ホルダ２Ｈに保持された基板Ｐの表面と基板ステージ２の上面２Ｔとは、ほぼ同一平面内に配置され、ほぼ面一である。上面２Ｔは、例えばフッ素を含む材料で形成されており、液体ＬＱに対して撥液性を有する。上面２Ｔと液体ＬＱとの接触角は、例えば８０°以上である。
【００３７】
露光装置ＥＸは、基板ステージ２を移動可能に支持するガイド面１０を有する定盤１１を備えている。本実施形態においては、ガイド面１０は、ＸＹ平面とほぼ平行である。基板ステージ２は、ガイド面１０に沿って、ＸＹ方向（二次元方向）に移動可能である。
【００３８】
本実施形態において、露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。基板Ｐの露光時において、マスクＭ及び基板Ｐは、Ｚ軸とほぼ平行な投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ（露光光ＥＬの光路）と交差するＸＹ平面内の所定の走査方向に移動される。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。露光装置ＥＸは、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。
【００３９】
次に、液浸部材６について、図２〜図５を参照して説明する。図２は、液浸部材６の近傍を示す側断面図、図３は、液浸部材６を示す概略斜視図の一部破断図、図４は、液浸部材６を下側から見た斜視図、図５は、液浸部材６の一部を拡大した側断面図である。
【００４０】
なお、以下の説明においては、終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７と対向する位置に基板Ｐが配置されている場合を例にして説明するが、上述のように、終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７と対向する位置には、基板ステージ２等、基板Ｐ以外の物体も配置可能である。また、以下の説明においては、終端光学素子４の射出面５を適宜、終端光学素子４の下面５、と称する。
【００４１】
液浸部材６は、環状の部材であって、露光光ＥＬの光路の周囲に配置されている。本実施形態においては、液浸部材６は、終端光学素子４の周囲に配置される側板部１２と、Ｚ軸方向に関して少なくとも一部が終端光学素子４の下面５と基板Ｐの表面との間に配置される下板部１３とを有する。
【００４２】
側板部１２は、終端光学素子４の外周面１４と対向し、その外周面に沿って形成された内周面１５を有する。液浸部材６の内周面１５は、終端光学素子４の外周面１４と所定の間隙を介して対向するように配置されている。
【００４３】
下板部１３は、中央に開口１６を有する。終端光学素子４の下面５から射出された露光光ＥＬは、開口１６を通過可能である。例えば、基板Ｐの露光中、終端光学素子４の下面５から射出された露光光ＥＬは、開口１６を通過し、液体ＬＱを介して基板Ｐの表面に照射される。本実施形態においては、開口１６における露光光ＥＬの断面形状はＸ軸方向を長手方向とする略矩形状（スリット状）である。開口１６は、露光光ＥＬの断面形状に応じて、ＸＹ方向において略矩形状（スリット状）に形成されている。また、開口１６における露光光ＥＬの断面形状と、基板Ｐにおける投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲの形状とはほぼ同じである。
なお、液浸部材６は１つ又は複数の部材で形成することができる。また、他の実施形態において、液浸部材６を光学素子４に対して可動にできる。
【００４４】
液浸部材６は、露光光ＥＬの光路の周囲に配置された第１面２１と、露光光ＥＬの光路に対して第１面２１の外側に設けられた第２面２２と、露光光ＥＬの光路に対して第２面２２の外側に設けられた液体回収面２３とを備えている。
【００４５】
第１面２１、第２面２２、及び液体回収面２３は、基板Ｐの表面と対向するように設けられている。本実施形態において、液浸部材６の下面７は、第１面２１、第２面２２、及び液体回収面２３を含む。
【００４６】
図２及び図５に示すように、本実施形態においては、第１面２１、第２面２２、及び液体回収面２３と対向する位置に基板Ｐが配置されたときに、Ｚ軸方向に関して、第２面２２と基板Ｐの表面との間隔Ｇ２は、第１面２１と基板Ｐの表面との間隔Ｇ１よりも大きく、且つ液体回収面２３の一部（後述の第３領域２７）と基板Ｐの表面との間隔Ｇ３は、第１面２１と基板Ｐの表面との間隔Ｇ１よりも大きい。なお、上述のように、基板ホルダ２Ｈは、基板Ｐの表面とＸＹ平面とがほぼ平行となるように、基板Ｐを保持している。また、本実施形態において、基板Ｐの表面が配置されるＸＹ平面（あるいは投影光学系ＰＬの像面が位置するＸＹ平面）をリファレンス面として、基板Ｐの表面と液浸部材６の下面７との間隔を、そのリファレンス面と液浸部材６の下面７との間隔と考えることもできる。例えば、間隔Ｇ１を第１面２１とりリファレンス面との間隔と考えることもできる。
【００４７】
本実施形態においては、液浸部材６は、露光光ＥＬの光路に対して第１面２１の外側に位置する凹部（窪み）１７を有する。第２面２２、及び液体回収面２３の少なくとも一部は、凹部１７の内側に配置されている。
【００４８】
凹部１７は、第１面２１に対して窪み、基板Ｐの表面から離れる方向に沿った深さを有する。本実施形態において、凹部１７は、液体回収面２３の一部及び第２面２２を含む壁によって形成されている。本実施形態において、凹部１７の壁の表面は、実質的に連続的である。他の実施形態において、凹部１７の壁の表面は実質的に断続的にできる。本実施形態において、凹部１７の壁の表面は、第１面２１の外縁から延びる実質的な連続面を含み、連続面の一部に液体回収面２３の一部が設けられている。その連続面は、それと基板Ｐの表面（リファレンス面）との距離が互いに異なる複数の位置を含む。
【００４９】
第１面２１は、露光光ＥＬの光路の周囲に配置されている。第１面２１と基板Ｐの表面との間の空間は液体ＬＱを保持可能である。本実施形態においては、第１面２１は、実質的に平坦であり、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）とほぼ平行である。本実施形態においては、ＸＹ平面内における第１面２１の外形は、矩形状であるが、他の形状、例えば円形、であってもよい。他の実施形態において、第１面２１は、ＸＹ平面と実質的に非平行にできる。
【００５０】
本実施形態においては、第１面２１は、下板部１３の下面を含む。第１面２１は、開口１６の周囲に配置されている。
【００５１】
第２面２２は、露光光ＥＬの光路に対して第１面２１の外側に配置されている。第２面２２と基板Ｐの表面との間の空間は液体ＬＱを保持可能である。第２面２２は、第１面２１の外縁に隣接して設けられている。本実施形態においては、第２面２２は、露光光ＥＬの光路の周囲に配置されている。すなわち、第２面２２は、第１面２１の周囲に配置されている。
【００５２】
液体回収面２３は、露光光ＥＬの光路に対して第２面２２の外側に配置されている。液体回収面２３は、液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間の液体ＬＱを回収可能である。液体回収面２３は、第２面２２の外縁に隣接して設けられている。本実施形態においては、液体回収面２３は、露光光ＥＬの光路の周囲に配置されている。すなわち、液体回収面２３は、第２面２２の周囲に配置されている。
【００５３】
液体回収面２３は、一方側の終端光学素子４の下面５及び液浸部材６の下面７と他方側の基板Ｐの表面との間の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。液体回収面２３は、多孔部材（メッシュ部材）２４の表面（下面）を含む。液体回収面２３と対向する基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部は、多孔部材２４を介して回収される。液体回収面２３は、液体回収面２３（多孔部材２４の表面）に接触した液体ＬＱを回収可能である。多孔部材２４は、液体ＬＱが流通可能な多数の微小な孔（pore）が形成された部材である。本実施形態においては、多孔部材２４は、薄板を加工して複数の孔を形成したメッシュ板である。代替的又は追加的に、多孔部材２４として、多数の孔（pore）が形成された焼結部材（例えば、焼結金属）、発泡部材（例えば、発泡金属）等を用いることができる。
【００５４】
第２面２２は、第１面２１に対して傾斜した第１領域２５を含む。すなわち、第１領域２５は、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）に対して傾斜している。第１領域２５は、露光光ＥＬの光路から離れる方向において、基板Ｐの表面から徐々に離れるように傾斜している。すなわち、第１領域２５は、光軸ＡＸを基準とした放射方向において、基板Ｐの表面から徐々に離れるように傾斜している。本実施形態においては、第１領域２５は、第１面２１の外縁に隣接して配置されている。第１領域２５は、第１面２１の周囲に配置されている。換言すると、凹部１７の壁は、光軸ＡＸ（光路）から離れる方向に沿って、徐々にその窪みが深くなる勾配領域（第１領域２５）を含む。
【００５５】
また、本実施形態においては、第２面２２は、露光光ＥＬの光路に対して第１領域２５の外側に配置された第２領域２６を含む。本実施形態においては、第２領域２６は、第１領域２５の外縁に隣接して配置されている。第２領域２６は、第１領域２５の周囲に配置されている。本実施形態において、第２領域２６は、第１面２１とほぼ平行である。すなわち、第２領域２６は、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）とほぼ平行である。本実施形態において、第２領域（フラット領域）２６は実質的に平坦にできる。他の実施形態において、第２領域２６は、第１面２１と実質的に非平行、又は非平坦にできる。
【００５６】
本実施形態においては、第２面２２と基板Ｐの表面との間隔Ｇ２は、第１領域２５と基板Ｐの表面との間隔Ｇ２１、及び第２領域２６と基板Ｐの表面との間隔Ｇ２２を含む。
【００５７】
液体回収面２３は、第２面２２（第２領域２６）の外縁と隣り合って配置される第３領域２７を含む。第３領域２７は、第２領域２６の周囲に配置されている。本実施形態においては、第３領域２７は、第１面２１とほぼ平行である。すなわち、第３領域２７は、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）とほぼ平行である。他の実施形態において、第３領域２７は、第１面２１と実質的に非平行にできる。また、本実施形態においては、第２面２２の第２領域２６と液体回収面２３の第３領域２７とは、ほぼ同一平面内に配置され、ほぼ面一である。
【００５８】
また、本実施形態においては、液体回収面２３は、露光光ＥＬの光路に対して第３領域２７の外側に配置された第４領域２８を含む。本実施形態においては、第４領域２８は、第３領域２７の外縁に隣接して配置されている。第４領域２８は、第３領域２７の周囲に配置されている。
【００５９】
本実施形態においては、Ｚ軸方向に関して、第４領域２８と基板Ｐの表面との間隔Ｇ４は、第３領域２７と基板Ｐの表面との間隔Ｇ３よりも小さい。
【００６０】
本実施形態においては、第４領域２８は、第３領域２７の外縁に隣接して配置され、第３領域２７に対して傾斜している傾斜領域（inclined area, sloped region）２９と、傾斜領域２９の外縁に隣接して配置され、第１面２１とほぼ平行な平行領域（フラット領域）３０とを含む。第４領域２８の傾斜領域２９は、露光光ＥＬの光路から離れる方向において、基板Ｐの表面に除々に近づくように傾斜している。第４領域２８の平行領域３０は、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）とほぼ平行である。すなわち、第４領域２８の傾斜領域２９は、光軸ＡＸを基準とした放射方向において、基板Ｐの表面に徐々に近づくように傾斜している。
【００６１】
換言すると、凹部１７の壁（連続面）は、光軸ＡＸ（光路）から離れる方向に沿って、徐々にその窪みが浅くなる勾配領域(傾斜領域２９)を含む。本実施形態において、勾配方向に沿った傾斜領域２９の延在長さは、勾配方向に沿った第１領域２５の延在長さと同程度である。他の実施形態において、勾配方向に沿った傾斜領域２９の延在長さは、勾配方向に沿った第１領域２５の延在長さに比べて大きく又は小さくできる。また、本実施形態において、傾斜領域２９の絶対勾配値（例えば、第１面２１との平均挟角度）は、第１領域２５の絶対勾配値と同程度である。他の実施形態において、傾斜領域２９の絶対勾配値は、第１領域２５の絶対勾配値に比べて大きく又は小さくできる。
【００６２】
第４領域２８と基板Ｐの表面との間隔Ｇ４は、傾斜領域２９と基板Ｐの表面との間隔Ｇ４１、及び平行領域３０と基板Ｐの表面との間隔Ｇ４２を含む。
【００６３】
本実施形態においては、Ｚ軸方向に関して、第４領域２８の平行領域３０と基板Ｐの表面との間隔Ｇ４２は、第１面２１と基板Ｐの表面との間隔Ｇ１とほぼ等しい。別の実施形態において、間隔Ｇ４２と間隔Ｇ１とが実質的に異なっていてもよい。
【００６４】
露光装置ＥＸは、液体ＬＱを供給する供給口３１と、液体ＬＱを回収する回収口３２とを備えている。本実施形態においては、供給口３１及び回収口３２は、液浸部材６に設けられている。
【００６５】
供給口３１は、光路空間Ｋの近傍に配置されており、光路空間Ｋに液体ＬＱを供給可能である。供給口３１は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する。供給口３１は、一方側の終端光学素子４の下面５及び液浸部材６の下面７と他方側の基板Ｐの表面との間に液体ＬＱを供給可能である。
【００６６】
本実施形態においては、液浸部材６は、露光光ＥＬの光路の周囲に配置され、終端光学素子４の下面５との間に所定の間隙を介して対向する上面３３を有する。供給口３１は、終端光学素子４の下面５と上面３３との間の所定空間３４の近傍に配置されている。供給口３１は、所定空間３４に接続するように配置されており、所定空間３４に液体ＬＱを供給可能である。すなわち、供給口３１は、開口１６の上側の空間３４に液体ＬＱを供給可能である。また、本実施形態においては、供給口３１は、光路空間Ｋに対してＹ軸方向両側のそれぞれに設けられている。以下の説明において、所定空間３４を適宜、内部空間３４、と称する。
【００６７】
本実施形態においては、上面３３は、下板部１３の上面を含む。上面３３は、平坦であり、ＸＹ平面とほぼ平行である。上面３３は、開口１６の周囲に配置されている。
【００６８】
また、露光装置ＥＸは、液体供給装置３５を備えている。液体供給装置３５は、清浄で温度調整された液体ＬＱを送出可能である。供給口３１と液体供給装置３５とは、流路３６を介して接続されている。流路３６は、液浸部材６の内部に形成された供給流路３６Ａ、及びその供給流路３６Ａと液体供給装置３５とを接続する供給管で形成される流路３６Ｂを含む。液体供給装置３５から送出された液体ＬＱは、流路３６を介して供給口３１に供給される。供給口３１は、液体供給装置３５からの液体ＬＱを光路空間Ｋに供給する。
【００６９】
回収口３２は、液体ＬＱを吸引して回収可能である。回収口３２には多孔部材２４が配置されており、液体回収面２３を形成する。本実施形態においては、多孔部材２４は、プレート状の部材であり、液体回収面２３は、１つ（１枚）の多孔部材２４によって形成されている。すなわち、本実施形態においては、多孔部材２４は、屈曲する部分を有する。別の実施形態において、多孔部材２４は複数の多孔部材から形成できる。
【００７０】
また、露光装置ＥＸは、液体回収装置３７を備えている。液体回収装置３７は、真空システムを含み、液体ＬＱを吸引して回収可能である。回収口３２（液体回収面２３）と液体回収装置３７とは、流路３８を介して接続されている。流路３８は、液浸部材６の内部に形成された回収流路３８Ａ、及びその回収流路３８Ａと液体回収装置３７とを接続する回収管で形成される流路３８Ｂを含む。本実施形態においては、制御装置３は、真空システムを含む液体回収装置３７を作動して、多孔部材２４の上面と下面との間に圧力差を発生させることによって、多孔部材２４（液体回収面２３）より液体ＬＱを回収する。液体回収面２３から回収された液体ＬＱは、流路３８を介して、液体回収装置３７に回収される。
【００７１】
また、図３に示すように、液浸部材６は、内部空間３４と外部空間３９とを連通させるための排気口４０を有している。排気口４０は、内部空間３４の近傍に配置されている。排気口４０は、内部空間３４に接続するように配置されており、内部空間３４の気体を排気可能である。また、本実施形態においては、排気口４０は、光路空間Ｋに対してＸ軸方向両側のそれぞれに設けられている。
【００７２】
排気口４０は、液浸部材６の内部に形成されている排気流路４１に接続されている。排気流路４１の上端の開口４２は、液浸部材６（液浸空間ＬＳ）の周囲の外部空間３９（周囲環境）の気体と接触可能な位置に配置されている。外部空間３９の気体は開口４２に流入可能である。開口４２は、排気口４０よりも＋Ｚ側であって、基板Ｐの表面と対向しない位置に配置されている。開口４２は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触不能な位置に配置されており、液浸空間ＬＳの液体ＬＱは開口４２には流入しない。
【００７３】
外部空間３９の気体は、排気流路４１を介して、内部空間３４に流入可能であるとともに、内部空間３４の気体は、排気流路４１を介して、外部空間３９に流出可能である。本実施形態においては、内部空間３４とその内部空間３４の外側の外部空間３９（大気空間）との間において、排気流路４１を介して、常に気体が出入り可能となっている。内部空間３４は、排気流路４１を介して、大気開放された状態となっている。
【００７４】
なお、ここでは、供給口３１が光路空間Ｋに対してＹ軸方向両側のそれぞれに設けられ、排気口４０が光路空間Ｋに対してＸ軸方向両側のそれぞれに設けられているが、供給口３１が光路空間Ｋに対してＸ軸方向両側のそれぞれに設けられ、排気口４０が光路空間Ｋに対してＹ軸方向両側のそれぞれに設けられていてもよい。また、別の実施形態において、排気口４０を設けなくてもよい。この場合、代替的又は追加的に、光路空間Ｋに対してＸ軸方向両側のそれぞれに供給口を設けることもできる。また、別の実施形態において、供給口は１つでもよい。
【００７５】
液浸部材６の下面７と対向する位置に基板Ｐが配置されているとき、第１面２１と基板Ｐの表面との間の空間は液体ＬＱを保持できる。本実施形態においては、液浸部材６のうち、少なくとも第１面２１は、親液性を有する。例えば、第１面２１と液体ＬＱとの接触角は、９０、８０、７０、６０、５０、４０、３０、２０、又は１０度以下にできる。その接触角は、好ましくは４０度以下にでき、より好ましくは２０度以下にできる。第１面２１は、基板ＰがＸＹ方向に移動した場合でも、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触し続けることができる。第１面２１は、少なくとも基板Ｐの露光中に、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触し続ける。
【００７６】
また、第２面２２は、基板Ｐ上の液体ＬＱと接触可能であり、液浸部材６の下面７と対向する位置に基板Ｐが配置されているとき、第２面２２と基板Ｐの表面との間の空間は液体ＬＱを保持できる。また、本実施形態においては、第２面２２も、液体ＬＱに対して親液性を有する。例えば、第２面２２と液体ＬＱとの接触角は、９０、８０、７０、６０、５０、４０、３０、２０、又は１０度以下にできる。その接触角は、好ましくは４０度以下にでき、より好ましくは２０度以下にできる。
【００７７】
また、上述のように、液体回収面２３と接触した液体ＬＱは、その液体回収面２３より回収される。
【００７８】
図２及び図５においては、基板Ｐ上の液体ＬＱの一部が、第１面２１、及び第２面２２の一部の領域と基板Ｐとの間に保持されている状態が示されている。例えば基板Ｐの露光中、第１面２１、及び第２面２２を含む液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間に液体ＬＱを保持することによって、液浸空間ＬＳが形成される。
【００７９】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを液浸露光する方法について説明する。
【００８０】
液浸空間ＬＳを形成するために、制御装置３は、供給口３１を用いて、露光光ＥＬの光路空間Ｋに液体ＬＱを供給する。液体ＬＱを供給するときには、制御装置３は、終端光学素子４の下面５及び液浸部材６の下面７と対向する位置に、基板Ｐ（基板ステージ２）等の物体を配置する。液体供給装置３５から送出された液体ＬＱは、流路３６を介して供給口３１に供給される。供給口３１は、内部空間３４に液体ＬＱを供給する。供給口３１からの液体ＬＱは、内部空間３４を流れ、開口１６を介して、第１面２１と基板Ｐの表面との間の空間を含む、開口１６の下側の空間に流入し、その少なくとも一部は、第１面２１と基板Ｐの表面との間に保持される。また、液体ＬＱの少なくとも一部は、第２面２２と基板Ｐの表面との間の空間に流入し、その第２面２２と基板Ｐの表面との間に保持される。
【００８１】
こうして、内部空間３４、及び第１面２１と基板Ｐの表面との間の空間が液体ＬＱで満たされ、終端光学素子４の下面５と基板Ｐの表面との間の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たすように液浸空間ＬＳが形成される。
【００８２】
また、本実施形態においては、制御装置３は、供給口３１による液体供給動作と並行して、液体回収面２３（回収口３２）による液体回収動作を行う。液体回収面２３と接触した液体ＬＱの少なくとも一部は、液体回収面２３を形成する多孔部材２４を介して吸引される。制御装置３は、液体供給動作と液体回収動作とを並行して行うことで、常に所望状態（温度、クリーン度等）の液体ＬＱで、基板Ｐ表面の一部に液浸領域（液浸空間ＬＳ）を局所的に形成できる。
【００８３】
液浸空間ＬＳが形成された後、制御装置３は、基板Ｐの露光を開始する。上述のように、本実施形態の露光装置ＥＸは走査型露光装置である。制御装置３は、終端光学素子４の下面５及び液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間に液体ＬＱを保持して液浸空間ＬＳを形成した状態で、露光光ＥＬの光路及び液浸空間ＬＳに対して、基板Ｐの表面をＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液体ＬＱとを介して露光光ＥＬを基板Ｐに照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影され、基板Ｐは露光光ＥＬで露光される。
【００８４】
また、制御装置３は、例えば基板Ｐ上の第１のショット領域の露光が終了した後、第２のショット領域の露光を開始するために、液浸空間ＬＳを形成した状態で、基板Ｐの表面をＸ軸方向（あるいはＸＹ平面内においてＸ軸方向に対して傾斜する方向）に移動する動作を実行する。
【００８５】
本実施形態においては、第２面２２は、第２面２２と基板Ｐの表面との間に存在する液体ＬＱが接触し続けるように設けられている。本実施形態においては、終端光学素子４の下面５及び液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間に液浸空間ＬＳを形成した状態で、基板ＰをＸＹ方向に移動した場合でも、第２面２２と基板Ｐの表面との間に存在する液体ＬＱが第２面２２と接触し続けるように、第２面２２の形状及び第２面２２の表面状態が調整されている（最適化されている）。第２面２２の形状の調整は、第１領域２５の傾斜角度、及び第２領域２６と基板Ｐの表面との間隔Ｇ２２の少なくとも一方の調整を含む。また、第２面２２の表面状態の調整は、第２面２２に対する液体ＬＱの接触角の調整を含む。
【００８６】
また、本実施形態においては、液浸部材６の凹部１７の内側の空間の少なくとも一部に液体ＬＱが満たされるように、液浸条件が設定されている。本実施形態においては、液浸部材６に対して基板Ｐが静止しているときに、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧが、液浸部材６の第２面２２と液体回収面２３の境界付近に形成されるように、液浸条件が設定されている。液浸条件は、供給口３１の単位時間当たりの液体ＬＱの供給量、回収口３２からの単位時間当たりの液体ＬＱの回収量等を含む。
【００８７】
本実施形態においては、第２面２２及び液体回収面２３を含む凹部１７が設けられているので、液浸空間ＬＳに対して基板Ｐの表面をＸＹ方向に移動した場合においても、液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間の液体ＬＱが、その液浸部材６の下面７と基板Ｐの表面との間の空間の外側に漏出することが抑制される。また、基板Ｐの表面に液体ＬＱ（液体ＬＱの膜、滴など）が残留することが抑制される。このように、液浸部材６に、第２面２２及び液体回収面２３を含む凹部１７を設けたのは、以下のような発明者の知見による。
【００８８】
図６は、比較例に係る液浸部材６Ｊを示す模式図である。図６に示す液浸部材６Ｊには凹部が形成されておらず、下面７Ｊは、基板Ｐの表面とほぼ平行である。図６の（Ａ）部は、液浸部材６Ｊと、液浸部材６Ｊに対して静止している状態の基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳが形成されている状態を示す図である。基板Ｐ上の液浸領域は、ＸＹ平面内において所定の大きさＪ０を有する。
【００８９】
なお、以下の説明においては、説明を簡単にするために、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと基板Ｐの表面とが交わる位置と、所定方向（ここではＹ軸方向）に関する液体ＬＱの界面ＬＧの先端と基板Ｐの表面とが交わる位置との距離を、ＸＹ平面内における液浸領域の大きさＪＯとする。
【００９０】
液浸部材６Ｊに対して基板ＰをＸＹ平面内の一方向（ここでは−Ｙ方向）に高速で移動すると、図６の（Ｂ）部に示すように、液浸部材６Ｊの下面７Ｊと基板Ｐとの間において液体ＬＱの一部が基板Ｐ上で薄い膜となり、基板Ｐ上の液体ＬＱが液体回収面２３Ｊの外側、具体的には、基板Ｐの移動方向の前方側（−Ｙ側）において、液体回収面２３Ｊの外側に漏出する場合がある。すなわち、基板Ｐを移動することによって、液浸領域の大きさＪ１が非常に大きくなる可能性がある。
【００９１】
この現象は、液浸部材６Ｊの下面７Ｊと基板Ｐの表面との間において、液浸部材６Ｊの下面７Ｊ近傍の液体ＬＱは、液体回収面２３Ｊの吸引動作によって上方（＋Ｚ方向）に流れ、その液体回収面２３Ｊに回収されるが、基板Ｐの表面近傍の液体ＬＱは、基板Ｐとの表面張力等により、液体回収面２３Ｊから回収されずに、基板Ｐ上で薄い膜となり、基板Ｐの移動とともに、基板Ｐの移動方向の前方側において液体回収面２３Ｊの外側へ引き出されることによって生じる。このような現象が生じると、液体回収面２３Ｊの外側に引き出された液体ＬＱが、例えば滴となって基板Ｐ上に残留し、パターンの欠陥等を引き起こす原因となる。そして、このような現象は、基板Ｐの移動速度の高速化に伴って発生しやすくなることが、発明者の知見により明らかになった。
【００９２】
図７は、本実施形態に係る液浸部材６を示す模式図である。図７の（Ａ）部は、液浸部材６と、液浸部材６に対して静止している状態の基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳが形成されている状態の一例を示す図である。図７の（Ａ）部において、液体ＬＱの界面ＬＧは、第１面２１と、第２面２２との間に形成されている。本実施形態においては、第２面２２と連続的に液体回収面２３が設けられているので、液浸部材６に対して基板Ｐ等の物体が静止しているときに、液体ＬＱの界面ＬＧを第２面２２と液体回収面２３の境界近傍に形成することができる。
【００９３】
図７の（Ａ）部に示す基板Ｐ上の液浸領域は、ＸＹ平面内において所定の大きさＨ０を有する。ここでは、図７の（Ａ）部に示す基板Ｐ上の液浸領域のＸＹ平面内における大きさＨ０と、図６の（Ａ）部に示す基板Ｐ上の液浸領域のＸＹ平面内における大きさＪ０とが等しいものとする。
【００９４】
図７の（Ａ）部に示す本実施形態に係る液浸部材６には凹部１７が形成されているので、図７の（Ａ）部に示す液浸空間ＬＳのＸＹ平面内における大きさＪ０と、図６の（Ａ）部に示す液浸空間ＬＳのＸＹ平面内における大きさＨ０とが等しい場合でも、図７の（Ａ）部に示す液浸空間ＬＳの体積は、図６の（Ａ）部に示す液浸空間ＬＳの体積よりも大きい。換言すれば、図７の（Ａ）部に示す液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量は、図６の（Ａ）部に示す液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量よりも重い。
【００９５】
図７の（Ｂ）部は、本実施形態に係る液浸部材６を用いて形成された液浸空間ＬＳに対して基板Ｐを−Ｙ方向に高速で移動させたときの液浸空間ＬＳの状態を示す図である。本実施形態においては、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量が重いので、液浸空間ＬＳに対して基板Ｐを移動させた場合でも、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの移動（液浸空間ＬＳの拡大）が抑えられ、基板Ｐ上での液浸領域（液浸空間ＬＳ）のＸＹ平面内における大きさＨ１が大きくなることを抑制することができる。
【００９６】
すなわち、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量を重くすることによって、慣性の法則を利用して、基板Ｐを移動した場合でも、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの移動は抑制される。換言すれば、液体ＬＱの重量を重くすることによって、液体ＬＱがその位置に留まろうとする力を大きくすることができるので、例えば図６の（Ｂ）部と同じ距離だけ、−Ｙ方向に、基板Ｐを移動した場合でも、図６の（Ｂ）部の場合よりも、液体ＬＱの拡がり（液浸領域の大きさＨ１）を抑制することができる。したがって、液浸部材６と基板Ｐとの間の空間よりも外側で、基板Ｐ上の液体ＬＱの一部が膜状になったり、滴状になったりすることが抑制される。
【００９７】
また、図８に示すように、液浸部材６と基板Ｐとの間で基板Ｐ上の液体ＬＱが膜になった場合でも、液体回収面２３の第４領域２８で、液体ＬＱを回収することができる。上述したように、本実施形態においては、第３領域２７の表面と基板Ｐの表面との間の間隔Ｇ３は、第１面２１と基板Ｐの表面との間の間隔Ｇ１よりも大きい。したがって、図８に示すように、基板Ｐ上の液体ＬＱの一部が膜になったとしても、その膜の厚さは比較的厚い（例えば、図６の（Ｂ）部で説明した基板Ｐ上の膜よりも厚い）。したがって、図８のように、基板Ｐ上で膜となった液体ＬＱを、液体回収面２３の第３領域２７よりも基板Ｐに近い位置に設けられた第４領域２８で回収することができる。特に、第４領域２８の平行領域３０と基板Ｐの表面との間隔Ｇ４２は、第１面２１と基板Ｐの表面との間隔Ｇ１とほぼ等しく、第４領域２８の平行領域３０は、基板Ｐの表面に近い位置に配置されているので、基板Ｐ上で膜となった液体ＬＱを良好に回収することができる。したがって、液浸部材６と基板Ｐとの間の空間の外側に液体ＬＱが漏出することを抑制することができる。
【００９８】
また、本実施形態の液体回収面２３は、第３領域２７、第４領域２８の傾斜領域２９、第４領域２８の平行領域３０が連続的に設けられているので、液体回収面２３と基板Ｐの間の液体ＬＱをより確実に回収することができる。
【００９９】
以上説明したように、本実施形態によれば、液体ＬＱの漏出、残留等の発生を抑制できるので、露光不良の発生を抑制できる。また、露光不良の発生を抑制しつつ、基板Ｐの移動速度を高速化できる。したがって、良好なデバイスを生産性良く製造できる。
【０１００】
本実施形態においては、ＸＹ平面内における液浸空間ＬＳの大型化を抑制しつつ、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量を重くすることができる。したがって、例えば液浸部材６の大型化、基板ステージ２の大型化、ひいては露光装置ＥＸ全体の大型化を抑制しつつ、液体ＬＱの漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【０１０１】
なお、上述の実施形態においては、第１面２１に対して傾斜した第２面２２の第１領域２５は、第１面２１の外縁に隣接して配置されているが、例えば図９に示すように、第１面２１と第１領域２５との間に、第１面２１に対して垂直な垂直領域２５Ｂが配置されていてもよい。図９に示す例においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量を重くすることができ、液体ＬＱの漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【０１０２】
また、上述の実施形態においては、第２面２２は、第１面２１とほぼ平行な第２領域２６を有しているが、図１０に示すように、第２領域を配置しなくてもよい。図１０に示す例は、第１面２１に対して傾斜した第２面２２の第１領域２５の外縁に隣接して、液体回収面２３の第３領域２７が配置されている。図１０に示す例においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量を重くすることができ、液体ＬＱの漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【０１０３】
また、図１１に示すように、液体回収面２３において、第４領域２８の傾斜領域２９と平行領域３０との間に、第１面２１に対して垂直な垂直領域２９Ｂが配置されていてもよい。図１１に示す例においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量を重くすることができ、液体ＬＱの漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【０１０４】
また、図１２に示すように、第２面２２（第２領域２６）と隣り合って配置される液体回収面２３Ｂの第３領域２７Ｂが、第１面２１に対して傾斜していてもよい。図１２において、第３領域２７Ｂは、露光光ＥＬの光路から離れる方向において（光軸ＡＸを基準とする放射方向において）、基板Ｐの表面に除々に近づくように傾斜している。また、図１２に示す例では、第４領域２８Ｂは、第３領域２７Ｂの外縁と隣接して配置され、第１面２１とほぼ平行である。他の例において、第４領域２８Ｂは、第１面２１と実質的に非平行にできる。図１２に示す例においても、第４領域２８Ｂと基板Ｐの表面との間隔Ｇ４Ｂは、第３領域２７Ｂと基板Ｐの表面との間隔Ｇ３Ｂよりも小さい。図１２に示す例においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量を重くすることができ、液体ＬＱの漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【０１０５】
また、図１３に示すように、第２面２２の第２領域２６を無くし、第１面２１に対して傾斜した第２面２２の第１領域２５の外縁と隣接して、第１面２１に対して傾斜する液体回収面２３Ｃの第３領域２７Ｃを配置してもよい。また、図１３に示す例では、第４領域２８Ｃは、第３領域２７Ｃの外縁と隣接して配置され、第１面２１とほぼ平行である。他の例において、第４領域２８Ｂは、第１面２１と実質的に非平行にできる。図１３に示す例においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量を重くすることができ、液体ＬＱの漏出、残留等の発生を抑制することができる。
【０１０６】
また、図１４及び図１５に示すように、液体回収面２３の第４領域２８の少なくとも一部を無くしてもよい。図１４に示す例では、液体回収面２３Ｄは、第１面２１とほぼ平行な第３領域２７Ｄと第１面２１に対して傾斜した第４領域２８Ｄ（傾斜領域２９Ｄ）を有し、第４領域２８Ｄには平行領域が設けられていない。また図１５に示す例では、液体回収面２３Ｅは、第１面２１に対して傾斜した第３領域２７Ｅのみを有し、第４領域を有していない。図１４及び図１５に示す例においても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの重量を重くすることができる。
【０１０７】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１０８】
図１６は、第２実施形態に係る液浸部材６Ｂを示す図である。上述の第１実施形態と異なる第２実施形態に係る液浸部材６Ｂの特徴的な部分は、多孔部材２４を支持する支持部材２４Ｓを備えた点にある。
【０１０９】
上述の第１実施形態と同様、多孔部材２４は、プレート状の部材である。支持部材２４Ｓは、多孔部材２４を補強する補強部材として機能する。支持部材２４Ｓは、回収流路３８Ａの内部に配置され、多孔部材２４の上面の少なくとも一部に接続されている。支持部材２４Ｓの一部は、回収流路３８Ａを形成する側板部１２の内壁面の少なくとも一部に接続され、別の一部は、多孔部材２４の上面の少なくとも一部に接続されている。
【０１１０】
本実施形態においては、支持部材２４Ｓの上端が、−Ｚ方向を向く側板部１２の内壁面の一部（多孔部材２４と対向する側板部１２の内壁面の一部）に接続され、支持部材２４Ｓの下端が、傾斜領域２９における多孔部材２４の上面の少なくとも一部に接続されている。なお、支持部材２４Ｓの下端が、第３領域２７における多孔部材２４の上面の少なくとも一部に接続されてもよいし、平行領域３０における多孔部材２４の上面の少なくとも一部に接続されてもよい。
【０１１１】
支持部材２４Ｓは、多数の微小な孔（pore）が形成された部材である。本実施形態においては、支持部材２４Ｓは、多数の孔（pore）が形成されたセラミックス（多孔質セラミックス）である。なお、支持部材２４Ｓとして、多数の孔（pore）が形成された焼結部材（例えば、焼結金属）、発泡部材（例えば、発泡金属）等を用いてもよい。
【０１１２】
本実施形態において、支持部材２４Ｓは、ロッド状の部材であり、光路空間Ｋの周囲に複数配置されている。なお、ＸＹ平面内において環状になるように支持部材２４Ｓを形成し、傾斜領域２９における多孔部材２４の上面のほぼ全てと支持部材２４Ｓの下端とを接続してもよい。
【０１１３】
以上説明したように、本実施形態によれば、支持部材２４Ｓを配置したので、多孔部材２４を補強することができる。したがって、本実施形態のように、多孔部材２４が屈曲部分を有する場合でも、支持部材２４Ｓによって多孔部材２４を補強して、その多孔部材２４の形状、強度を維持することができる。
【０１１４】
また、本実施形態によれば、支持部材２４Ｓは、多数の孔が形成された部材なので、液体回収面２３及び回収流路３８Ａを用いる液体回収動作を円滑に実行できる。例えば、支持部材２４Ｓの下端が傾斜領域２９における多孔部材２４の上面に接続されている場合でも、液浸部材６Ｂは、液体回収面２３と対向する基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部を、傾斜領域２９を含む液体回収面２３のほぼ全ての位置において回収することができる。また、支持部材２４Ｓは、多数の孔が形成された部材なので、回収流路３８Ａのうち、光路空間Ｋに対して支持部材２４Ｓより内側の空間と外側の空間とで液体ＬＱの移動が円滑に行われる。
【０１１５】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１１６】
図１７は、第３実施形態に係る液浸部材６Ｃを下側から見た斜視図、図１８は、液浸部材６Ｃの一部を拡大した側断面図である。図１７及び図１８において、液浸部材６Ｃは、露光光ＥＬの光路の周囲に配置された第１面２１と、第１面２１の外縁に隣接して設けられた第２面２２と、露光光ＥＬの光路に対して第２面２２の外側に設けられた液体回収面２３とを備えている。上述の実施形態と同様、液体回収面２３は、多孔部材２４の下面を含む。
【０１１７】
液体回収面２３は、第２面２２の外縁と隣り合って配置される第３領域２７Ｆと露光光ＥＬの光路に対して第３領域２７Ｆの外側に配置された第４領域２８Ｆとを含む。本実施形態において、第３領域２７Ｆと第４領域２８Ｆとはほぼ平行である。本実施形態において、第３領域２７Ｆ及び第４領域２８Ｆのそれぞれは、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）とほぼ平行である。また、上述の実施形態と同様、第１面２１は、基板Ｐの表面（ＸＹ平面）とほぼ平行である。すなわち、本実施形態においては、第４領域２８Ｆは、第１面２１とほぼ平行である。他の例において、第３領域２７Ｆ及び第４領域２８Ｆの少なくとも１つは、第１面２１と実質的に非平行にできる。
【０１１８】
また、本実施形態においては、第２面２２は、第１面２１に対して傾斜している。第２面２２は、露光光ＥＬの光路から離れる方向において、基板Ｐの表面から徐々に離れるように傾斜している。すなわち、第２面２２は、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対する放射方向において、基板Ｐの表面から徐々に離れるように傾斜している。
【０１１９】
本実施形態においては、露光光ＥＬの光路（投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ）に対する放射方向において、第３領域２７Ｆと第４領域２８Ｆとの間に、液体ＬＱを回収不可能な、第３領域２７Ｆに対して傾斜した非回収領域２３Ｎが配置されている。非回収領域２３Ｎは、例えばチタン等の金属製のプレート部材１２Ｎの表面（下面）を含む。また、本実施形態においては、第３領域２７Ｆは、第１多孔部材２４Ａの下面を含み、第４領域２８Ｆは、第２多孔部材２４Ｂの下面を含む。すなわち、本実施形態においては、液浸部材６Ｃは、側板部１２と、第１面２１を形成する下板部１３と、第３領域２７Ｆを形成する第１多孔部材２４Ａと、非回収領域２３Ｎを形成するプレート部材１２Ｎと、第４領域２８Ｆを形成する第２多孔部材２４Ｂとを含む。なお、本実施形態において、側板部１２と下板部１３とプレート部材１２Ｎとは、同じ材料（例えばチタン）で形成されているが、互いに異なる材料で形成されてもよい。
【０１２０】
本実施形態において、第１面２１、第２面２２、及び液体回収面２３と対向する位置に基板Ｐが配置されたときに、Ｚ軸方向に関して、第２面２２と基板Ｐの表面との間隔Ｇ２は、第１面２１と基板Ｐの表面との間隔Ｇ１よりも大きく、第３領域２７Ｆと基板Ｐの表面との間隔Ｇ３は、第１面２１と基板Ｐの表面との間隔Ｇ１よりも大きく、第４領域２８Ｆと基板Ｐの表面との間隔Ｇ４は、第３領域２７Ｆと基板Ｐの表面との間隔Ｇ３よりも小さい。
【０１２１】
また、本実施形態においては、Ｚ軸方向に関して、第４領域２８Ｆと基板Ｐの表面との間隔Ｇ４は、第１面２１と基板Ｐの表面との間隔Ｇ１とほぼ等しい。すなわち、本実施形態においては、第１面２１と第４領域２８Ｆとは、ほぼ同一平面内に配置される（ほぼ面一である）。なお、間隔Ｇ１と間隔Ｇ４とが異なってもよい。
【０１２２】
本実施形態において、露光光ＥＬの光路（投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ）に対する放射方向に関して、第４領域２８Ｆの大きさ（径方向長さ）Ｌ４は、第３領域２７Ｆの大きさ（径方向長さ）Ｌ３よりも大きい。本実施形態において、第４領域２８Ｆの面積は、第３領域２７Ｆの面積よりも大きくできる。他の実施形態において、放射方向に関して、第４領域２８Ｆの大きさ（径方向長さ）Ｌ４は、第３領域２７Ｆの大きさ（径方向長さ）Ｌ３と同程度にできる。第４領域２８Ｆは、第３領域２７Ｆに対して径方向外方に配置されているから、Ｌ４とＬ３が実質的に同じ場合、第４領域２８Ｆの面積は、第３領域２７Ｆの面積よりも大きくできる。
【０１２３】
上述の実施形態と同様、液体回収面２３は、その液体回収面２３と対向する基板Ｐ上の液体ＬＱの少なくとも一部を吸引して回収する。本実施形態において、第４領域２８Ｆにおける吸引力は、第３領域２７Ｆにおける吸引力と異なっている。吸引力は、単位面積及び単位時間当たりにおける第３、第４領域２７Ｆ、２８Ｆそれぞれの液体回収量（液体ＬＱを回収可能な量）を含む。本実施形態においては、第４領域２８Ｆにおける吸引力は、第３領域２７Ｆにおける吸引力よりも大きい。すなわち、本実施形態においては、単位面積及び単位時間当たりの液体回収量（回収能力）は、第３領域２７Ｆよりも第４領域２８Ｆの方が大きい。
【０１２４】
本実施形態においては、第１、及び第２多孔部材２４Ａ、２４Ｂに形成されている孔は、第１、及び第２多孔部材２４Ａ、２４Ｂの基板Ｐと対向する下面と回収流路３８Ａと接する上面との間をＺ軸とほぼ平行に貫通する孔であり、第４領域２８Ｆにおける（第２多孔部材２４Ｂの下面における）複数の孔の総面積の割合（単位面積当たりの孔の総面積）が、第３領域２７Ｆにおける（第１多孔部材２４Ａの下面における）複数の孔の総面積の割合（単位面積当たりの孔の総面積）と異なる。すなわち、第４領域２８Ｆにおける開口率（単位面積当たりの開口面積）が、第３領域２７Ｆにおける開口率（単位面積当たりの開口面積）と異なる。あるいは、第４領域２８Ｆにおけるボイド率が第３領域２７Ｆにおけるボイド率と異なる。
【０１２５】
例えば、第１多孔部材２４Ａに形成される孔の大きさ（径）と、第２多孔部材２４Ｂに形成される孔の大きさ（径）とを異ならせることによって、第３領域２７Ｆにおける孔の総面積の割合と、第４領域２８Ｆにおける孔の総面積の割合とを異ならせることができる。本実施形態においては、第２多孔部材２４Ｂに形成される孔の大きさが、第１多孔部材２４Ａに形成される孔の大きさより大きい。これにより、第４領域２８Ｆにおける吸引力は、第３領域２７Ｆにおける吸引力よりも大きくなる。
【０１２６】
また、第１及び第２多孔部材２４Ａ、２４Ｂに形成される孔の径が同じであっても、第１多孔部材２４Ａに形成される単位面積当たりの孔の数と、第２多孔部材２４Ｂに形成される単位面積当たりの孔の数とを異ならせることによっても、第３領域２７Ｆにおける孔の総面積の割合（単位面積当たりの孔の総面積）と、第４領域２８Ｆにおける孔の総面積の割合（単位面積当たりの孔の総面積）とを異ならせることができる。すなわち、第３領域２７Ｆにおける孔の密度と、第４領域２８Ｆにおける孔の密度とを異ならせることによって、第３領域２７Ｆにおける孔の総面積の割合と、第４領域２８Ｆにおける孔の総面積の割合とを異ならせることができる。したがって、本実施形態において、第３領域２７Ｆにおける孔の密度を、第４領域２８Ｆにおける孔の密度よりも大きくしてもよい。そうすることによって、第４領域２８Ｆにおける吸引力を、第３領域２７Ｆにおける吸引力よりも大きくできる。
【０１２７】
以上説明したように、本実施形態によれば、露光光ＥＬの光路に対する放射方向において、第４領域２８Ｆの大きさＬ４を、第３領域２７Ｆの大きさＬ３より大きくしたので、例えば図８を参照して説明したように、液浸部材６Ｃと基板Ｐとの間で基板Ｐ上の液体ＬＱが膜（あるいは滴）になった場合でも、その液体ＬＱを液体回収面２３の第４領域２８Ｆでより確実に回収することができる。すなわち、第４領域２８Ｆの大きさＬ４が大きいので、液体回収面２３と対向する基板Ｐ上の液体ＬＱ（膜、滴など）と第４領域２８Ｆとはより確実に接触することができる。したがって、第４領域２８Ｆで液体ＬＱをより確実に回収することができる。
【０１２８】
また、本実施形態によれば、第３領域２７Ｆにおける吸引力を、第４領域２８Ｆにおける吸引力より小さくしたので、第３領域２７Ｆと基板Ｐとの間で液体ＬＱが薄い膜になることが抑制される。また、第３領域２７Ｆと基板Ｐとの間で液体ＬＱの薄膜が発生したとしても、第３領域２７Ｆよりも基板Ｐに近く、第３領域２７Ｆよりも吸引力が大きい第４領域２８Ｆが配置されているので、第４領域２８Ｆと対向する基板Ｐ上の液体ＬＱをより確実に回収することができる。したがって、基板Ｐ上に液体ＬＱの滴などが残留することを抑制できる。
【０１２９】
なお、第３領域２７Ｆの吸引力を第４領域２８Ｆにおける吸引力よりも大きくしてもよい。例えば、基板Ｐの移動距離が短い場合、基板Ｐの移動速度がそれほど速くない場合など、液体ＬＱの薄い膜が生じにくい条件では、第３領域２７Ｆの吸引力を第４領域２８Ｆにおける吸引力よりも大きくしてもよい。この場合も、液体ＬＱの一部が第３領域２７Ｆで回収しきれなかった液体ＬＱを第４領域２８Ｆで回収することができる。
【０１３０】
また、本実施形態においては、液浸部材６Ｃに関して、第４領域２８Ｆの大きさＬ４が第３領域２７Ｆの大きさＬ３よりも大きい場合について説明したが、第３領域２７Ｆの周囲全域において、大きさＬ４が大きさＬ３より大きくなくてもよい。また、第４領域２８Ｆの大きさＬ４を第３領域２７Ｆの大きさＬ３よりも小さくしてもよいし、大きさＬ３と大きさＬ４とをほぼ同じにしてもよい。
【０１３１】
なお、第３領域２７Ｆにおける吸引力と第４領域２８Ｆにおける吸引力とを異ならせるために、例えば図１９に示す液浸部材６Ｄのように、仕切部材３８Ｓによって、回収流路３８Ａを、第３領域２７Ｆを介した液体ＬＱを回収する回収流路３８１Ａと、第４領域２８Ｆを介した液体ＬＱを回収する回収流路３８２Ａとに分け、回収流路３８１Ａに対する液体回収装置３７Ａの吸引力と、回収流路３８２Ａに対する液体回収装置３７Ｂの吸引力とを異ならせてもよい。すなわち、第１多孔部材２４Ａの基板Ｐに対向する下面と回収流路３８１Ａに接する上面との間の圧力差を、第２多孔部材２４Ｂの基板Ｐに対向する下面と回収流路３８２Ａに接する上面との間の圧力差と異ならせることによって、第３領域２７Ｆでの吸引力と第４領域２８Ｆでの吸引力とを異ならせてもよい。
なお、第３実施形態において、第３領域２７Ｆの吸引力と第４領域２８Ｆの吸引力とが異なるように、上述の複数の方法を適宜組み合わせてもよい。
【０１３２】
なお、上述の第３実施形態において、例えば図２０に示す液浸部材６Ｅのように、第２面２２が、第１面２１の外縁に隣接して設けられ、第１面２１に対して傾斜した第１領域２５Ｆと、第１領域２５Ｆの外縁に隣接して設けられ、第１面２１とほぼ平行な第２領域２６Ｆとを含んでもよい。
【０１３３】
また、上述の第３実施形態においては、第３領域２７Ｆと第４領域２８Ｆとの間に非回収領域２３Ｎが設けられているが、上述の第１実施形態のように、第３領域２７Ｆと第４領域２８Ｆとの間に液体回収領域があってもよい。この場合、第３領域２７Ｆと第４領域２８Ｆとの間の液体回収領域の吸引力を、第３領域２７Ｆの吸引力と、第４領域２８Ｆの吸引力との間に設定してもよい。例えば、第３領域２７Ｆと第４領域２８Ｆとの間の液体回収領域の吸引力を、第３領域２７Ｆの吸引力よりも大きく、第４領域２８Ｆの吸引力よりも小さくしてもよい。すなわち、第３領域２７Ｆの吸引力、第３領域２７Ｆと第４領域２８Ｆとの間の液体回収領域の吸引力、及び第４領域２８Ｆの吸引力を、段階的に変化させてもよい。また、第３領域２７Ｆの吸引力、第３領域２７Ｆと第４領域２８Ｆとの間の液体回収領域の吸引力、及び第４領域２８Ｆの吸引力を、露光光ＥＬの光路に対する放射方向において、徐々に変化（連続的に変化）させてもよい。
【０１３４】
なお、上述の各実施形態において、「環状」は、矩形環状を含むことができる。なお、「環状」は、矩形環状、リング状環状、円形環状、多角形環状などのような様々な形状を含むこともできる。また、環状は、周方向に連続する閉じた形状に限定されず、断続形状を含むことができる。
【０１３５】
なお、上述の各実施形態において、「傾斜した領域」又は「傾斜領域」は、上述のリファレンス面（ＸＹ平面）に対する勾配が一定の平面又は平坦領域を含むことができる。なお、「傾斜した領域」又は「傾斜領域」は、リファレンス面に対する勾配が徐々に変化する領域（湾曲領域など）、勾配が段階的に変化する領域（折り曲げ領域）を含むことができる。
【０１３６】
なお、上述の各実施形態において、投影光学系ＰＬは、終端光学素子４の射出側（像面側）の光路空間Ｋを液体ＬＱで満たしているが、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているように、終端光学素子４の入射側（物体面側）の光路空間Ｋも液体ＬＱで満たす投影光学系を採用することもできる。
【０１３７】
なお、上述の実施形態の液体ＬＱは水であるが、水以外の液体であってもよい。液体ＬＱとしては、露光光ＥＬに対する透過性があってできるだけ屈折率が高く、投影光学系ＰＬ、あるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱとして、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル、セダー油等を用いることも可能である。また、液体ＬＱとして、屈折率が１．６〜１．８程度のものを使用してもよい。液体ＬＱと接触する投影光学系ＰＬの光学素子（終端光学素子４など）は、例えば石英（シリカ）、あるいは、フッ化カルシウム（蛍石）、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、フッ化リチウム、及びフッ化ナトリウム等のフッ化化合物の単結晶材料で形成してもよい。更に、終端光学素子４は、石英及び蛍石よりも屈折率が高い（例えば１．６以上）材料で形成してもよい。さらに、終端光学素子の表面の一部（少なくとも液体との接触面を含む）又は全部に、親液性及び／又は溶解防止機能を有する薄膜を形成してもよい。液体ＬＱとして、種々の流体、例えば、超臨界流体を用いることも可能である。なお、液体としては、光の吸収係数が小さく、温度依存性が少なく、投影光学系、及び／又は基板の表面に塗布されている感光材（又はトップコート膜あるいは反射防止膜など）に対して安定なものであることが好ましい。
【０１３８】
また、例えば露光光ＥＬがＦ２レーザ光である場合、このＦ２レーザ光は水を透過しないので、液体ＬＱとしてはＦ２レーザ光を透過可能なもの、例えば、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フッ素系オイル等のフッ素系流体を用いることができる。この場合、液体ＬＱと接触する部分には、例えばフッ素を含む極性の小さい分子構造の物質で薄膜を形成することで親液化処理する。
【０１３９】
なお、上述の各実施形態の基板Ｐとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）、またはフィルム部材等が適用される。また、基板はその形状が円形に限られるものでなく、矩形など他の形状でもよい。  
【０１４０】
露光装置ＥＸとしては、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。
【０１４１】
さらに、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系ＰＬを用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系ＰＬを用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光してもよい（スティッチ方式の一括露光装置）。また、スティッチ方式の露光装置としては、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【０１４２】
また、例えば米国特許第６，６１１，３１６号に開示されているように、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置などにも本発明を適用することができる。また、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明を適用することができる。
【０１４３】
また、本発明は、米国特許６，３４１，００７号、米国特許６，４００，４４１号、米国特許６，５４９，２６９号、及び米国特許６，５９０,６３４号、米国特許６，２０８，４０７号、米国特許６，２６２，７９６号などに開示されているような複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置にも適用できる。この場合、複数の基板ステージのそれぞれを、終端光学素子４の射出面５及び液浸部材６の下面７と対向可能な物体とすることができる。
【０１４４】
更に、例えば特開平１１−１３５４００号公報、米国特許第６，８９７，９６３号等に開示されているように、基板を保持する基板ステージと基準マークが形成された基準部材及び／又は各種の光電センサを搭載した計測ステージとを備えた露光装置にも本発明を適用することができる。また、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。計測ステージが終端光学素子の射出面及び液浸部材の下面と対向する位置に配置されることによって、終端光学素子及び液浸部材は、計測ステージとの間で液浸空間を形成することができる。
【０１４５】
露光装置ＥＸの種類としては、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【０１４６】
なお、上述の各実施形態においては、レーザ干渉計１Ｓ、２Ｓを含む干渉計システムを用いてマスクステージ１及び基板ステージ２の各位置情報を計測するものとしたが、これに限らず、例えば各ステージ１、２に設けられるスケール（回折格子）を検出するエンコーダシステムを用いてもよい。この場合、干渉計システムとエンコーダシステムとの両方を備えるハイブリッドシステムとし、干渉計システムの計測結果を用いてエンコーダシステムの計測結果の較正（キャリブレーション）を行うことが好ましい。また、干渉計システムとエンコーダシステムとを切り換えて用いる、あるいはその両方を用いて、ステージの位置制御を行うようにしてもよい。
【０１４７】
また、上述の各実施形態では、露光光ＥＬとしてＡｒＦエキシマレーザ光を発生する光源装置として、ＡｒＦエキシマレーザを用いてもよいが、例えば、米国特許７,０２３,６１０号に開示されているように、ＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザなどの固体レーザ光源、ファイバーアンプなどを有する光増幅部、及び波長変換部などを含み、波長１９３ｎｍのパルス光を出力する高調波発生装置を用いてもよい。さらに、上記実施形態では、前述の各照明領域と、投影領域がそれぞれ矩形状であるものとしたが、他の形状、例えば円弧状などでもよい。
【０１４８】
なお、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号公報に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。可変成形マスクは、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器：Spatial Light Modulator (ＳＬＭ)とも呼ばれる）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）等を含む。なお、ＤＭＤを用いた露光装置は、例えば米国特許第６,７７８,２５７号公報に開示されている。また、可変成形マスクとしては、ＤＭＤに限られるものでなく、ＤＭＤに代えて、以下に説明する非発光型画像表示素子を用いても良い。ここで、非発光型画像表示素子は、所定方向へ進行する光の振幅（強度）、位相あるいは偏光の状態を空間的に変調する素子であり、透過型空間光変調器としては、透過型液晶表示素子（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）以外に、エレクトロクロミックディスプレイ（ＥＣＤ）等が例として挙げられる。また、反射型空間光変調器としては、上述のＤＭＤの他に、反射ミラーアレイ、反射型液晶表示素子、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ：Electrophoretic Display）、電子ペーパー（または電子インク）、光回折型ライトバルブ（Grating Light Valve）等が例として挙げられる。
【０１４９】
また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしても良い。この場合、照明系は不要となる。ここで自発光型画像表示素子としては、例えば、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）、無機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）、ＬＥＤディスプレイ、ＬＤディスプレイ、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Field Emission Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）等が挙げられる。また、パターン形成装置が備える自発光型画像表示素子として、複数の発光点を有する固体光源チップ、チップを複数個アレイ状に配列した固体光源チップアレイ、または複数の発光点を１枚の基板に作り込んだタイプのもの等を用い、該固体光源チップを電気的に制御してパターンを形成しても良い。なお、固体光源素子は、無機、有機を問わない。
【０１５０】
上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬを備えた露光装置を例に挙げて説明してきたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に本発明を適用することができる。このように投影光学系ＰＬを用いない場合であっても、露光光はレンズ等の光学部材を介して基板に照射され、そのような光学部材と基板との間の所定空間に液浸空間が形成される。
【０１５１】
また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているように、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって、基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１５２】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【０１５３】
以上のように、上記実施形態の露光装置ＥＸは、各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置ＥＸへの組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置ＥＸへの組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置ＥＸへの組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置ＥＸ全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置ＥＸの製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１５４】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２１に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンを用いて露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【符号の説明】
【０１５５】
２…基板ステージ、４…終端光学素子、５…射出面、６…液浸部材、７…下面、２１…第１面、２２…第２面、２３…液体回収面、２４…多孔部材、２４Ａ…第１多孔部材、２４Ｂ…第２多孔部材、２５…第１領域、２６…第２領域、２７…第３領域、２７Ｆ…第３領域、２８…第４領域、２８Ｆ…第４領域、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、Ｇ１…間隔、Ｇ２…間隔、Ｇ３…間隔、Ｋ…光路空間、ＬＱ…液体、ＬＳ…液浸空間、Ｐ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【国際調査報告】
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