(57)【要約】  多くの有機日焼け止め剤が、ＵＶ線への曝露においてこれらの有効性を失うことが報告されている。さらに有機日焼け止め剤の一部は、ＵＶ放射への曝露が有りまたは無しにおいて、皮膚に適用した場合に相互作用することが知られている。従って、かかる組成物は安定ではない。これらは、製品を皮膚に適用した数分後または数時間後にＵＶ線の遮断においてあまり有効ではなくなる。さらに、かかる組成物が使用され、次いで太陽光線またはＵＶ線に曝露した場合、皮膚が実際に保護されている時間は非常に短いが、一方消費者は、組成物により自分達の皮膚が保護されているという誤った印象の下にある。この誤った印象は、消費者により多くの太陽光線への曝露をもたらす可能性があり、これにより皮膚に対するより大きな損傷を得る。上述の問題に対する解決策は、（ａ）第１常磁性金属イオンとの第１有機日焼け止め剤の錯体；および（ｂ）第２有機日焼け止め剤を含む安定した日焼け止め剤組成物によって提供される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）第１常磁性金属イオンとの第１有機日焼け止め剤の錯体；および
（ｂ）第２有機日焼け止め剤
を含む日焼け止め剤組成物。
【請求項２】
第２有機日焼け止め剤が、第２常磁性金属イオンと錯形成し、これにより第２錯体を形成し、但し、第１と第２有機日焼け止め剤および第１と第２常磁性金属イオンは同じではない、請求項１に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項３】
第１日焼け止め剤の配位子および第２有機日焼け止め剤の配位子が、同じ常磁性金属イオンと錯形成する、請求項２に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項４】
前記有機日焼け止め剤が、ジベンゾイルメタンもしくは桂皮酸またはこれらの誘導体である、請求項１から３のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項５】
常磁性金属イオンが、Ｃｕ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ２＋、Ｍｎ２＋またはＴｉ３＋から選択される、請求項１から４のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項６】
前記常磁性金属イオンが、Ｃｕ２＋、Ｆｅ３＋またはＭｎ２＋である、請求項５に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項７】
ジベンゾイルメタンの誘導体との常磁性金属イオンの錯体および桂皮酸の誘導体との常磁性金属イオンの錯体を含む請求項２に従属する場合の、請求項４から６のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項８】
前記ジベンゾイルメタンの誘導体が、４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンである、請求項４から７のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項９】
前記桂皮酸の誘導体が、４−メトキシシンナメートである、請求項４から８のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項１０】
前記ジベンゾイルメタンの誘導体の錯体が、組成物の０．１重量％から６重量％の範囲の量で存在する、請求項４から９のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項１１】
前記桂皮酸の誘導体の錯体が、組成物の０．１重量％から１３重量％の範囲の量で存在する、請求項４から１０のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項１２】
皮膚美白剤を含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項１３】
前記皮膚美白剤がナイアシンアミドである、請求項１２に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項１４】
ナイアシンアミドが、組成物の０．１重量％から１０重量％の範囲の量で存在する、請求項１３に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項１５】
５重量％から２５重量％のＣ１２−Ｃ２０脂肪酸および０．１重量％から１０重量％の脂肪酸石鹸を含む、請求項１から１４のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項１６】
少なくとも５０重量％の水を含む、請求項１から１５のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項１７】
常磁性金属イオンとの有機日焼け止め剤の前記錯体が、
（ａ）前記有機日焼け止め剤を溶媒中で溶解し／分散して、溶液／分散体を調製する段階；
（ｂ）前記溶液／分散体をアルカリ性材料で処理する段階；および
（ｃ）段階（ｂ）の生成物を前記常磁性金属イオンの塩で処理する段階
を含む方法を使用して調製される、請求項１から１６のいずれか一項に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項１８】
前記溶媒が、エタノールまたはメタノールである、請求項１７に記載の日焼け止め剤組成物。
【請求項１９】
前記アルカリ性材料が、水酸化ナトリウム、酢酸ナトリウムまたは水酸化アンモニウムである、請求項１７または１８に記載の日焼け止め剤組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、日焼け止め剤組成物に関する。本発明は、より特に、向上した安定性を示すように改質された有機日焼け止め剤を含有する日焼け止め剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
日焼け止め剤は、長時間の局所適用のために化粧品組成物において使用されている。日焼け止め剤は、太陽光線に曝されている皮膚へ太陽の紫外（ＵＶ）放射が影響することを遮断するために皮膚の化粧品組成物に添加される。無機日焼け止め剤は、ＵＶ線が皮膚表面から反射または散乱を起こすことによって、ＵＶ線の一部または全部を物理的に遮断することで作用する。有機日焼け止め剤は、一部または全部のＵＶ放射を吸収し、これによってＵＶ線が皮膚表面に達しないことを確実にすることで作用する。ＵＶ線は、一般的にＵＶ−Ａ、ＵＶ−ＢまたはＵＶ−Ｃ線に分類される。ＵＶ−Ａは、一般的に３２０から４００ｎｍまでのＵＶ波長範囲を含み、ＵＶ−Ｂは２９０から３２０ｎｍまでの範囲を含み、ＵＶ−Ｃは２００から２９０ｎｍまでの範囲を含む。ＵＶ−Ａ線への曝露による皮膚の損傷は、刺激作用、発赤および日焼けを起こすと報告されており、ＵＶ−Ｂ線への曝露は、紅斑に加えてより厳しい刺激作用、発赤および日焼けを起こす。ＵＶ−Ｃ線は、これの大部分がオゾン層によって吸収されるので、太陽光線に占める割合は小さい。従って、日焼け止め剤の製剤は、一般的にＵＶ−ＡとＵＶ−Ｂとの日焼け止め剤の組合せで処方される。
【０００３】
多くの有機日焼け止め剤が、ＵＶ線への曝露においてこれらの有効性を失うことが報告されている。さらに有機日焼け止め剤の一部は、ＵＶ放射への曝露が有りまたは無しにおいて、皮膚に適用した場合に相互作用することが知られている。従って、かかる組成物は安定ではない。これらは、製品を皮膚に適用した数分後または数時間後にＵＶ線の遮断においてあまり有効ではなくなる。さらに、かかる組成物が使用され、次いで太陽光線またはＵＶ線に曝露した場合、皮膚が実際に保護されている時間は非常に短いが、一方消費者は、組成物により自分達の皮膚が保護されているという誤った印象の下にある。この誤った印象は、消費者により多くの太陽光線への曝露をもたらす可能性があり、これにより皮膚に対するより大きな損傷を得る。
【０００４】
日焼け止め剤の安定性改善においていくらかの努力がなされている。一部の日焼け止め剤の種類は、別の種類の日焼け止め剤と処方した場合に改良された安定性を示すことが見出されている。ＥＰ７８０１１９（Ｇｉｖａｕｄａｎ、１９９７年）は、基本的に特定の量および比率のジベンゾイルメタン型ＵＶ−Ａスクリーニング剤およびα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート安定化剤を含む光安定性の光スクリーニング化粧品組成物を記述している。
【０００５】
ＵＳ６４３６３７５（Ｓｏｌ−Ｇｅｌ  Ｔｅｃｈ、２００２年）は、一緒に処方した場合は光不安定である少なくとも２つの日焼け止め剤活性成分を含有する、改良された光安定性を有する日焼け止め剤組成物を調製する方法について記述している。この方法は、２つの成分を、ゾル−ゲルマイクロカプセル中の前記成分の少なくとも１つをマイクロカプセル化によってお互いに分離する段階を含む。
【０００６】
有機日焼け止め剤の安定性を向上させる幾つかの方法が報告されているとはいえ、そこには皮膚をＵＶ放射の有害な影響に対してより長い時間保護するように向上した安定性を提供する組成物を開発する必要性が存在する。本発明者らは、有機日焼け止め剤が安定に保持される日焼け止め剤組成物の多くの様々な調製方法に対する徹底した研究の過程において、有機日焼け止め剤との金属イオンの選択された種類の錯体を開発し、これは、従来技術による日焼け止め剤組成物の問題点の大部分を解決する。
【０００７】
ＵＳ６４１９９０７（Ｌ’Ｏｒｅａｌ、２００２年）は、少なくとも１つの脂肪相、有効量の銅（ＩＩ）ビス（３，５−ジイソプロピルサリチレート）および場合によりＵＶ−ＢまたはＵＶ−Ａの日焼け止め剤の１つまたは複数を含む化粧品ビヒクルを含有する、皮膚を紫外線放射から保護する化粧品組成物について記述している。
【０００８】
ＷＯ９３／１１０９５（Ｒｉｃｈａｒｄｓｏｎ  Ｖｉｃｋｓ）は、ＵＶ−Ａ吸収発色団、ＵＶ−Ｂ吸収発色団および金属カチオンを有する日焼け止め剤錯体について記述している。金属イオンは、長くて網羅的な金属カチオンのリストから選択することができる。
【０００９】
上の２つの従来技術文献は、日焼け止め剤または日焼け止め剤との金属錯体と組み合わせた一部の金属化合物を取り扱っているが、有機日焼け止め剤と錯形成した場合に化粧品組成物において大幅に改良された安定性を提供する金属イオンの選択的リストについては教示していない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】欧州特許出願公開第７８０１１９号明細書
【特許文献２】米国特許第６４３６３７５号明細書
【特許文献３】米国特許第６４１９９０７号明細書
【特許文献４】国際公開第９３／１１０９５号パンフレット
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】ＣＴＦＡ化粧品成分ハンドブック（Ｃｏｓｍｅｔｉｃ  Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ）第２版、１９９２年
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
それ故に、本発明の目的は、安定した日焼け止め剤組成物を提供することである。
【００１３】
本発明の別の目的は、組成物中で従来相互作用し、低い安定性を有すると知られているＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂ日焼け止め剤の両方を含有する安定した日焼け止め剤組成物を提供することである。
【００１４】
本発明の別の目的は、単純で費用効率のよい方法によって調整することのできる、安定した日焼け止め剤組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の第１態様によれば、
（ａ）第１常磁性金属イオンとの第１有機日焼け止め剤の錯体；および
（ｂ）第２有機日焼け止め剤
を含む安定した日焼け止め剤組成物が提供される。
【００１６】
特別に好ましい常磁性金属イオンは、Ｃｕ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ２＋、Ｍｎ２＋またはＴｉ３＋である。
【００１７】
特別に好ましい有機日焼け止め剤は、４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンまたは４−メトキシシンナメートである。
【００１８】
本発明の第２態様によれば、第１態様の安定した日焼け止め剤組成物を調製するための方法が提供され、ここで常磁性金属イオンとの有機日焼け止め剤の錯体は、
（ａ）有機日焼け止め剤を溶媒中で溶解し／分散させて、溶液／分散体を調製する段階；
（ｂ）前記溶液／分散体をアルカリ性材料で処理する段階；および
（ｃ）段階（ｂ）の生成物を前記常磁性金属イオンの塩で処理する段階
を含む方法を使用して調製される。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明は、有機日焼け止め剤を含有する安定した日焼け止め剤組成物を提供する。本発明の安定した日焼け止め剤組成物は、第１常磁性金属イオンとの第１有機日焼け止め剤の錯体および第２有機日焼け止め剤を含む。「錯体（ｃｏｍｐｌｅｘ）」という言葉は、金属イオンが有機日焼け止め剤中に存在する酸素および窒素などのドナー原子に配位共有結合によって結合している配位錯体を意味する。
【００２０】
第２有機日焼け止め剤は、第２常磁性金属イオンと錯形成し、これにより第２錯体を形成することもできるが、但し第１と第２有機日焼け止め剤および第１と第２常磁性金属イオンが同じでないことを条件とする。
【００２１】
本発明の好ましい態様によれば、日焼け止め剤組成物は、ジベンゾイルメタン誘導体との常磁性金属イオンの錯体およびメトキシシンナメート誘導体との常磁性金属イオンの錯体を含む。
【００２２】
第１日焼け止め剤の配位子と第２有機日焼け止め剤の配位子は、同じ常磁性金属イオンと錯形成することもできる。
【００２３】
本発明において有用な常磁性金属イオンは、Ｃｕ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ２＋、Ｍｎ２＋、Ｔｉ３＋、Ｖ２＋、Ｖ４＋、Ｃｒ２＋、Ｃｒ３＋、Ｃｒ４＋、Ｍｎ３＋、Ｍｎ４＋、Ｎｉ２＋、Ｎｉ３＋、Ｍｏ３＋、Ｔｃ６＋、Ｒｕ３＋、Ｒｈ４＋、Ｃｅ３＋、Ｐｒ３＋、Ｎｄ３＋、Ｐｍ３＋、Ｓｍ３＋、Ｅｕ３＋、Ｇｄ３＋、Ｔｂ３＋、Ｔｂ４＋、Ｄｙ３＋、Ｈｏ３＋、Ｅｒ３＋、Ｔｍ３＋、Ｙｂ３＋、Ｒｅ２＋、Ｒｅ４＋、Ｒｅ６＋、Ｏｓ３＋、Ｏｓ４＋、Ｏｓ６＋、Ｉｒ３＋、Ｉｒ４＋、Ｉｒ６＋、Ａｕ３＋およびＨｇ＋である。好ましい常磁性金属イオンは、遷移金属または内部遷移金属のグループ、すなわち、「ｄ」ブロック金属または「ｆ」ブロック金属からの常磁性金属イオンである。より好ましい常磁性金属イオンは、Ｃｕ２＋、Ｆｅ３＋、Ｃｏ２＋、Ｍｎ２＋またはＴｉ３＋から選択され、より好ましくはＣｕ２＋、Ｆｅ３＋またはＭｎ２＋である。
【００２４】
常磁性金属イオンとのいずれもの有機日焼け止め剤錯体の錯体が、本発明の組成物において使用するのに適している。好ましい日焼け止め剤は、シクロアルキル、アリール、ヒドロキシル、カルボニル、カルボン酸またはスルホン酸官能基を含有する化合物である。適切な有機日焼け止め剤には、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、オクチルジメチル−ｐ−アミノ安息香酸、ジガロイルトリオレエート、２，２−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、エチル−４−（ビス（ヒドロキシプロピル））アミノベンゾエート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシルサリチレート、グリセリル−ｐ−アミノベンゾエート、３，３，５−トリメチルシクロヘキシルサリチレート、メチルアントラニレート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸またはアミノベンゾエート、２−エチルヘキシル−ｐ−ジメチル−アミノベンゾエート、２−フェニルベンジミダゾール−５−スルホン酸、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−５−スルホン酸安息香酸、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、オクチルジメチル−ｐ−アミノ安息香酸およびこれらの混合物が含まれる。さらに好ましいのは、２５０−４５０ｎｍの範囲で最大吸光度を有するジケトンまたはカルボン酸官能基の誘導体である日焼け止め剤である。より一層好ましい日焼け止め剤は、ジベンゾイルメタンまたは桂皮酸あるいはこれらの誘導体である。
【００２５】
ＵＶ−Ａ日焼け止め剤は、ジベンゾイルメタン誘導体であることが好ましい。最も好ましいジベンゾイルメタン誘導体は、４−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンであり、これはＰａｒｓｏｌ  １７８９のブランド名の下、Ｇｉｖａｕｄａｎから入手できる。本発明の組成物に含めることもできる他のジベンゾイルメタン誘導体には、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、４，４’−ジイソプロピル−ジベンゾイルメタンおよび２，４−ジメチルジベンゾイルメタンが含まれる。常磁性金属イオンと錯形成する好ましいＵＶ−Ｂ日焼け止め剤は、４−メトキシシンナメートである。
【００２６】
最も適切な有機日焼け止め剤は、４−メトキシシンナメートおよび４−ｔ−ブチル−４−メトキシジベンゾイルメタンである。
【００２７】
非錯体化有機日焼け止め剤は、上で説明した有機日焼け止め剤のいずれか１つから選択することもできる。
【００２８】
前記錯体は、組成物の０．１重量％から１５重量％の範囲の量で存在することが好ましい。本発明の日焼け止め剤組成物中におけるジベンゾイルメタン誘導体との常磁性金属イオンの錯体の好ましい量は、組成物の０．１重量％から６重量％の範囲である。本発明の日焼け止め剤組成物中の、メトキシシンナメート誘導体との常磁性金属イオンの錯体の好ましい量は、組成物の０．１重量％から１３重量％の範囲である。
【００２９】
有用な無機日焼け止め剤もまた、本発明で使用することが好ましい。これらには、例えば、酸化亜鉛、酸化鉄、ヒュームドシリカなどのシリカ、および二酸化チタンが含まれる。
【００３０】
２つの形態、すなわち、水分散性二酸化チタンおよびオイル分散性二酸化チタンのいずれかの形態の超微細二酸化チタンが、本発明に特に適している。水分散性二酸化チタンは、超微細二酸化チタンであって、これの粒子は、被覆されていないまたは粒子に親水性表面の性質を付与する材料で被覆されている。かかる材料の例には、酸化アルミニウムおよびケイ酸アルミニウムが含まれる。
【００３１】
オイル分散性二酸化チタンは、超微細二酸化チタンであって、これの粒子は疎水性表面の性質を示し、この目的のために、ステアリン酸アルミニウム、ラウリル酸アルミニウムもしくはステアリン酸亜鉛などの金属石鹸または有機シリコーン化合物で被覆することができる。
【００３２】
「超微細二酸化チタン」は、１００ｎｍ未満、好ましくは７０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍから４０ｎｍ、最も好ましくは１５ｎｍから２５ｎｍの平均粒径を有する二酸化チタンの粒子を意味する。
【００３３】
水分散性超微細二酸化チタンとオイル分散性超微細二酸化チタンの混合物を皮膚に局所的に適用することで、ＵＶ−Ａ線およびＵＶ−Ｂ線両方の有害な影響に対する相乗的に向上した皮膚の保護が達成される。
【００３４】
超微細二酸化チタンは、本発明の好ましい無機日焼け止め剤である。本発明による組成物に好ましくは組み込まれる日焼け止め剤の総量は、組成物の０．１重量％から５重量％である。
【００３５】
日焼け止め剤組成物は、皮膚美白剤を含むことが好ましい。この皮膚美白剤は、１つまたは複数のビタミンＢ３化合物またはこれの誘導体、例えば、ナイアシン、ニコチン酸、ナイアシンアミドまたは他の良く知られている皮膚美白剤、例えばアダパレン、アロエ抽出物、乳酸アンモニウム、アネトール誘導体、リンゴ抽出物、アルブチン、アゼライン酸、コジック酸、竹抽出物、ベアベリー抽出物、ブレチラチューバ、ブレウラムファルカタム抽出物、ワレモコウ抽出物、ブチルヒドロキシアニソール、ブチルヒドロキシトルエン、クエン酸エステル、チャンキソング、ダン−グイ、デオキシアルブチン、１，３−ジフェニルプロパン誘導体、２，５−ジヒドロキシ安息香酸およびこれの誘導体、２−（４−アセトキシフェニル）−１，３−ジタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−１，３−ジタン、エラグ酸、エスシノール、エストラゴール誘導体、Ｆａｄｅｏｕｔ（Ｐｅｎｔａｐｈａｒｍから入手可能）、Ｆａｎｇｆｅｎｇ、フェンネル抽出物、ガノデルマ抽出物、ガオベン、Ｇａｔｕｌｉｎｅ  Ｗｈｉｔｅｎｉｎｇ（Ｇａｔｔｌｅｆｏｓｓｅから入手可能）、ゲニスチン酸およびこれの誘導体、グラブリジンおよびこれの誘導体、グルコピラノシル−１−アスコルビン酸塩、グルコン酸、グリコール酸、緑茶抽出物、４−ヒドロキシ−５−メチル−３［２Ｈ］−フラノン、ヒドロキノン、４−ヒドロキシアニソールおよびこれの誘導体、４−ヒドロキシ安息香酸誘導体、ヒドロキシカプリル酸、アスコルビン酸イノシトール、コジック酸、乳酸、レモン抽出物、リノール酸、アスコリビルマグネシウムリン酸塩、Ｍｅｌａｗｈｉｔｅ（Ｐｅｎｔａｐｈａｒｍから入手可能）、クワ抽出物、マルベリー根抽出物、５−オクタノイルサリチル酸、パセリ抽出物、フェリナスリンテアス抽出物、ピロガロール誘導体、２，４−レゾルシノール誘導体、３，５−レゾルシノール誘導体、バラの実抽出物、サリチル酸、Ｓｏｎｇ−Ｙｉ抽出物、３，４，５トリヒドロキシベンジル誘導体、トラネキサム酸、ビタミンＢ６、ビタミンＢ１２、ビタミンＣ、ビタミンＡなどのビタミン、ジカルボン酸、レゾルシノール誘導体、植物からの抽出物すなわち、ルビアおよびシンプロコス、乳酸などのヒドロキシカルボン酸および例えば乳酸ナトリウムなどのこれらの塩、ならびにこれらの混合物から選択されることが好ましい。例えば、ナイアシン、ニコチン酸、ナイアシンアミドなどのビタミンＢ３化合物またはこれの誘導体が、本発明によるより好ましい皮膚美白剤であり、最も好ましくはナイアシンアミドである。ナイアシンアミドは、使用する場合、組成物の０．１重量％から１０重量％の、より好ましくは０．２重量％から５重量％の範囲の量で存在することが好ましい。
【００３６】
様々な利益となる薬剤を提供する化粧品組成物は、様々な化粧品的に許容される乳化システムおよびビヒクルを使用して調製される。本発明に関し、化粧品的に許容される基剤は、５％から２５％の脂肪酸または０．１％から８０％の石鹸を含む。例えば、高く評価される、皮膚に対してつや消し（ｍａｔｔｙ）の感覚を与えるバニシングクリーム基剤など、脂肪酸と石鹸の混合物も適している。本発明に関して、Ｃ１２からＣ２０の脂肪酸が特に好ましく、より好ましいのはＣ１４からＣ１８の脂肪酸である。最も好ましい脂肪酸は、ステアリン酸である。組成物中の脂肪酸は、組成物の５重量％から２０重量％の範囲の量で存在することがより好ましい。バニシングクリーム基剤中の石鹸は、ナトリウムまたはカリウム塩のような、脂肪酸のアルカリ金属塩を含み、ステアリン酸カリウムであることが最も好ましい。バニシングクリーム基剤中の石鹸は、一般に組成物の０．１重量％から１０重量％の、より好ましくは０．１重量％から３重量％の範囲の量で存在する。一般的に、化粧品組成物中のバニシングクリーム基剤は、全脂肪性物質の所望量を取り、所望量の水酸化カリウムと混合することで調製される。石鹸は、通常混合中の現場（ｉｎ  ｓｉｔｕ）において形成される。日焼け止め剤組成物は、通常５０％超の水を含む。
【００３７】
あるいは、皮膚美白剤組成物は、例えば５％から８０％の脂肪酸の塩を有する石鹸などの、洗い落とし（ｗａｓｈ−ｏｆｆ）生成物である。
【００３８】
場合により使用される成分
本発明による組成物は、他の希釈剤を含んでもよい。この希釈剤は、組成物が皮膚に適用された場合、組成物に存在する他の材料の分散を促進するように、他の材料の分散剤または担体として作用する。
【００３９】
水以外の希釈剤は、液体または固体の皮膚軟化剤、 溶媒、保湿剤、増粘剤および粉末を含むことができる。単独でまたは１つまたは複数のビヒクルの混合物として使用することのできる、これらビヒクルの種類のそれぞれの例は以下の通りである。
【００４０】
皮膚軟化剤、例えば、ステアリルアルコール、グリセリルモノリシノールエート、ミンクオイル、セチルアルコール、イソプロピルイソステアレート、ステアリン酸、イソブチルパルミテート、イソセチルステアレート、オレイルアルコール、イソプロピルラウレート、ヘキシルラウレート、デシルオレエート、オクタデカン−２−オール、イソセチルアルコール、エイコサニルアルコール、ベヘニルアルコール、セチルパルミテート、ジメチルポリシロキサンなどのシリコーンオイル、ジ−ｎ−ブチルセバシエート、イソプロピルミリステート、イソプロピルパルミテート、イソプロピルステアレート、ブチルステアレート、ポリエチレングリコール、トリエチレングリコール、ラノリン、ココアバター、コーンオイル、綿実油、オリーブオイル、パーム核油、菜種油、ベニバナ種子油、月見草油、大豆油、ヒマワリ油、アボカド油、ごま油、ココナッツオイル、ラッカセイ油、キャスターオイル、アセチル化ラノリンアルコール、石油ジェリー、鉱物油、ブチルミリステート、イソステアリン酸、パルミチン酸、イソプロピルリノレート、ラウリルラクテート、ミリスチルラクテート、デシルオレエートおよびミリスチルミリステートなど；
噴射剤、例えば、プロパン、ブタン、イソブタン、ジメチルエーテル、二酸化炭素、窒素酸化物など；
溶媒、例えば、エチルアルコール、イソプロパノール、アセトン、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルおよびジエチレングリコールモノエチルエーテルなど；および
粉末、例えば、チョーク、タルク、フラー土、カオリン、デンプン、ゴム、コロイド状シリカナトリウムポリアクリレート、テトラアルキルおよび／またはトリアルキルアリールアンモニウムスメタイト、化学的に改質したケイ酸アルミニウムマグネシウム、有機的に改質したモンモリロナイト粘土、水和したケイ酸アルミニウム、フュームドシリカ、カルボキシビニルポリマー、ナトリウムカルボキシメチルセルロースおよびエチレングリコールモノステアレートなど。
【００４１】
これら追加の材料は、化粧品組成物の好ましくは１０重量％から９９．９重量％、好ましくは５０重量％から９９重量％存在し、他の化粧品付加物が無い場合は、組成物の残余を形成することができる。
【００４２】
場合により使用される皮膚に利益のある薬剤
本発明の組成物は、広範囲な他の場合により使用される成分を含むことができる。全体が参照により本明細書に組み込まれている、ＣＴＦＡ化粧品成分ハンドブック（Ｃｏｓｍｅｔｉｃ  Ｉｎｇｒｅｄｉｅｎｔ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ）第２版、１９９２年は、スキンケア産業において普通に使用され、本発明の組成物において使用するのに適した多種多様の非限定的な化粧品および薬剤成分を記述している。例には、坑酸化剤、結合剤、生物的添加物、緩衝剤、着色剤、増粘剤、ポリマー、収斂剤、芳香剤、保湿剤、乳白剤、コンディショナー、剥離剤、ｐＨ調節剤、保存剤、天然抽出物、エッセンシアルオイル、皮膚知覚剤、皮膚癒し剤および皮膚ヒーリング剤が含まれる。
【００４３】
本発明の第２態様によれば、第１態様の日焼け止め剤組成物が提供され、ここで常磁性金属イオンとの有機日焼け止め剤の錯体は、
（ａ）前記有機日焼け止め剤を溶媒中で溶解し／分散して、溶液／分散体を調製する段階；
（ｂ）前記溶液／分散体をアルカリ性材料で処理する段階；および
（ｃ）段階（ｂ）の生成物を前記常磁性金属イオンの塩で処理する段階
を含む方法を使用して調製される。
【００４４】
溶媒は、例えば、エタノール、メタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、テトラヒドロフラン、アセトン、ジクロロメタン、クロロホルム、トルエン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドおよびベンゼンなどの任意の有機溶媒から選択することもでき、好ましい溶媒はエタノールまたはメタノールである。アルカリ性材料は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化アンモニウム、酢酸ナトリウム、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムエトキシド、ソーダミド、アニリン、ジフェニルアミン、Ｎ−メチルアニリン、ピリジンおよびエチレンジアミンとすることもでき、好ましいアルカリ性材料は、水酸化ナトリウム、酢酸ナトリウムまたは水酸化アンモニウムである。通常常磁性金属イオンとの有機日焼け止め剤の錯体は、方法の段階（ｉｉｉ）の後に沈澱する。次いで沈澱物は洗浄および乾燥されて、錯体の粉末を調製する。次いで粉末は、本発明の日焼け止め剤組成物中で使用することもできる。
【００４５】
ここにおいて、本発明を以下の非限定的な実施例を参照して説明する。
【実施例】
【００４６】
比較例Ａ−Ｄ
比較例Ａは、Ｐａｒｓｏｌ  １７８９の対照サンプルであった。比較例ＢからＤは、Ｐａｒｓｏｌ  １７８９の反磁性金属イオン、例えば、Ｃｏ３＋（比較例Ｂ）、Ｚｎ２＋（比較例Ｃ）およびＡｌ３＋（比較例Ｄ）、との錯体であった。
【００４７】
実施例１−３
実施例１−３は、常磁性金属イオンとのＰａｒｓｏｌ  １７８９の錯体であった。常磁性金属イオンは、実施例１においてＣｕ２＋であり、実施例２においてＣｏ２＋であり、一方実施例３においてはＦｅ３＋であった。
【００４８】
金属イオンとのＰａｒｓｏｌ  １７８９の錯体は、以下に示す方法により調製した。
金属錯体の調製方法
Ｐａｒｓｏｌ  １７８９を、２５０ｍｌの丸底フラスコ中のメタノールに取った。等モル量の酢酸ナトリウムを、連続的に撹拌しながらＰａｒｓｏｌ  １７８９に添加した。所望のモル比（金属対Ｐａｒｓｏｌ  １７８９のモル比が、Ｃｕ（ＩＩ）、Ｚｎ（ＩＩ）およびＣｏ（ＩＩ）に関して１：２、Ｆｅ（ＩＩＩ）、Ｃｏ（ＩＩＩ）およびＡｌ（ＩＩＩ）に関して１：３）の所望する塩（典型的に金属塩化物）のメタノール溶液を混合物に添加した。この反応混合物を約１時間撹拌すると、錯体が沈澱した。沈殿物を吸引によりろ過し、メタノールを用いて完全に洗浄し、空気中で乾燥した。
【００４９】
以下に示す試験手順１を用いて、Ｐａｒｓｏｌ  １７８９／Ｐａｒｓｏｌ  １７８９錯体を試験した。
試験手順１
Ｐａｒｓｏｌ  １７８９とこれの金属錯体をジクロロメタン中に溶解し、１の吸光度に希釈した。ペトリ皿上の上記溶液２５ｍｌを室温で暗闇において蒸発させることによって、上に日焼け止め剤が堆積しているペトリ皿を調製した。このようなペトリ皿を幾つか調製した。乾燥したペトリ皿を真昼の太陽光線に曝し、曝露２０分後毎に１つのペトリ皿を取り除いた。ペトリ皿を太陽光線に曝していないブランク試験も実施した。太陽に曝した後、ペトリ皿の内容物をジクロロメタン中に再溶解し、２５ｍｌとした。これら溶液の吸光度を測定した。ブランク中の日焼け止め剤の百分率を１００％とし、曝露サンプル中の日焼け止め剤のブランクに対する百分率を、以下に示す式（１）を用いて決定した。
【００５０】
【数１】
2010510170.tif 000002
式中、Ｑｔは太陽曝露ｔ分後に存在する日焼け止め剤の百分率であり、Ａ０およびＡｔは、太陽曝露０分間およびｔ分間後における日焼け止め剤溶液の吸光度である。
【００５１】
Ｐａｒｓｏｌ  １７８９および様々な錯体の安定性の結果を表１に示す。
【００５２】
【表１】
2010510170.tif 000003
【００５３】
上の表は、常磁性金属イオンとの有機日焼け止め剤の錯体（実施例１−３）が、日焼け止め剤のみまたは反磁性金属イオンとの錯体に比較した場合、はるかにより安定であることを示している。
【００５４】
日焼け止め剤組成物：比較例Ｅおよび実施例４
以下の表２に示す日焼け止め剤組成物を調製した。比較例Ｅは、Ｐａｒｓｏｌ  １７８９およびＰａｒｓｏｌ  ＭＣＸを有する在来の日焼け止め剤クリームである。実施例４は、常磁性金属イオンＣｕ２＋とのＰａｒｓｏｌ  １７８９の錯体を含む本発明の日焼け止め剤クリームである。
【００５５】
【表２】
2010510170.tif 000004
【００５６】
サンプルは、以下に示す試験手順２を用いて安定性について試験した。その結果を表３および４に示す。
【００５７】
試験手順２
１０ｍｇのクリームを、ガラスプレート上の２平方センチメートルの面積に薄くのばした。このようなガラススライドを幾つか調製した。スライドを真昼の太陽光線に曝した。２０分間の太陽曝露後毎に、１枚のスライドを太陽曝露から取り除いた。スライドを太陽光線に曝さないブランク試験も実施した。太陽光に曝したスライド中のクリームおよびブランクスライド中のクリームを、容量フラスコ中で個別にジクロロメタンに抽出して２５ｍｌとし、これらの吸光度をＰｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ分光光度計を使用して測定した。吸光度から、残存日焼け止め剤の量を計算した。ブランクスライド中の日焼け止め剤を１００％とし、上で示した式（１）を使用してこれに対する他の全てを定量化した。
【００５８】
表３は、サンプルを試験手順２に従って特定の時間太陽光線に曝した後の残存しているＰａｒｓｏｌ  １７８９／Ｐａｒｓｏｌ  １７８９金属錯体の百分率を示す。
【００５９】
【表３】
2010510170.tif 000005
【００６０】
この様に、残存Ｐａｒｓｏｌ  １７８９の百分率は、比較例Ｅよりも実施例４の方が６０分間後でも著しく高いことが分かる。
【００６１】
表４は、サンプルを試験手順２に従って特定の時間太陽光線に曝した後の残存しているＰａｒｓｏｌ  ＭＣＸの百分率を示す。
【００６２】
【表４】
2010510170.tif 000006
【００６３】
この様に、残存Ｐａｒｓｏｌ  ＭＣＸの百分率は、比較例Ｅよりも実施例４の方が、６０分間後でも著しく高いことが分かる。
【００６４】
別の実験セットにおいて、Ｐａｒｓｏｌ  １７８９とＰａｒｓｏｌ  ＭＣＸとの混合物の光安定性を、錯体化および非錯体化の状態において検討した。Ｐａｒｓｏｌ  １７８９の銅錯体を上で述べた手順で調製し、一方Ｐａｒｓｏｌ  ＭＣＸの銅錯体は、以下の手順により調製した。
【００６５】
手順
Ｐａｒｓｏｌ  ＭＣＸを、２５０ｍｌの丸底フラスコ中のメタノールに取った。等モル量の酢酸ナトリウムを、連続的に撹拌しながらＰａｒｓｏｌ  ＭＣＸに添加した。（金属：Ｐａｒｓｏｌ  ＭＣＸ）のモル比が１：２の塩化銅のメタノール溶液をメタノール溶液に添加した。この反応混合物を約１時間撹拌すると、錯体が沈澱した。この沈殿物を吸引によりろ過し、メタノールを用いて完全に洗浄し、空気中で乾燥した。
【００６６】
試験手順３
Ｐａｒｓｏｌ  １７８９とＰａｒｓｏｌ  ＭＣＸとの混合物の光安定性を、混合物をこれの吸光度が約１となるように２５ｍ１のジクロロメタン中で溶解することで検討した。４−メトキシ桂皮酸（Ｐａｒｓｏｌ  ＭＣＸ）のλｍａｘは約３１０ｎｍであり、Ｐａｒｓｏｌ  １７８９のλｍａｘは約３６０ｎｍである。この溶液をペトリ皿に注ぎ、室温（摂氏２５度）において暗闇中で蒸発させた。それぞれの溶液について、５個のこのようなペトリ皿を調製した。４個のペトリ皿を真昼の太陽光線に曝し、１５分毎にさらなる分析のために１個のペトリ皿を取り除いた。蒸発した日焼け止め剤混合物を含む１個のペトリ皿は太陽光には曝さず、対照と考えた。太陽光線への曝露後、ペトリ皿の内容物をジクロロメタン中に再溶解し、容積を２５ｍｌとした。これら溶液のそれぞれの吸光度を上で述べたλｍａｘ値において測定した。対照中の日焼け止め剤の百分率を１００とし、対照と比較した太陽光線に曝したサンプル中の日焼け止め剤の百分率を、上の式（１）を用いて決定した。
【００６７】
錯体化したおよび非錯体化したＰａｒｓｏｌ  １７８９およびＰａｒｓｏｌ  ＭＣＸの相対的安定性の観察結果を、以下の表５および６に示す。
【００６８】
【表５】
2010510170.tif 000007
【００６９】
【表６】
2010510170.tif 000008
【００７０】
この様に、Ｐａｒｓｏｌ  ＭＣＸおよびＰａｒｓｏｌ  １７８９の光安定性は、これらの錯体化形態において、非錯体化の形態に比べて基本的に改良されることが容易に明らかであり、太陽光への曝露６０分間後でも光安定性は高く止まっている。
【００７１】
安定性を、また化粧品組成物中においても測定した。適用した手順は、溶液調製および抽出に関して、ジクロロメタンの代りにメタノールとジクロロメタンの１：２混合物（容積）を用いたことを除いて、上で設定した試験手順２と同じである。これは、ステアリン酸がジクロロメタンに不溶性であり（但しメタノールには溶解性である。）、Ｐａｒｓｏｌ  １７８９およびＰａｒｓｏｌ  ＭＣＸの銅錯体がジクロロメタンには溶解性であるが、メタノールには不溶性であることが理由である。試験手順２の様にペトリ皿を２０分間で抜き取るのに代えて、ペトリ皿を１５分間の間隔で抜き取った。
【００７２】
以下の表７における３つの組成物は、バニシングクリームを作成する標準的手順を使用して調製した。
【００７３】
【表７】
2010510170.tif 000009
【００７４】
結果を、以下の表８および９に示す。
【００７５】
【表８】
2010510170.tif 000010
【００７６】
【表９】
2010510170.tif 000011
【００７７】
表８および９から、少なくとも１つの日焼け止め剤が常磁性金属イオンとの錯体の形態で存在する場合、６０分間の終わりにおいてさえも、日焼け止め剤の安定性が大幅に改良されることを容易に理解することができる。
【００７８】
この様に、例示した実施例は従来技術において報告されている安定性に比べて向上した安定性を有する日焼け止め剤を提供する。
【国際調査報告】
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