(57)【要約】  本発明は、第１の空間（２）を第２の空間（３）に対して密閉するためのストリップゲート（１）であって、両空間（２，３）をストリップ（４）、特にメタルストリップが通過し、これら空間（２，３）を密閉するために、ストリップ（４）の両側をシールするようにストリップに当接する少なくとも２つのローラ（５，６）が設けられている、ストリップゲート（１）に関する。良好なシール作用を得るために、本発明によれば、少なくとも一方のローラ（５，６）が、その軸方向の終端領域（７）に、ストリップ（４）のエッジ（９）に横から当接するために形成されたシール要素（８）を備え、ローラ（５，６）をシール要素（８）と共に軸方向（ａ）に位置決め可能にする調整要素（１０）が設けられている。
2010509492.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の空間（２）を第２の空間（３）に対して密閉するためのストリップゲート（１）であって、両空間（２，３）をストリップ（４）、特にメタルストリップが通過し、これら空間（２，３）を密閉するために、ストリップ（４）の両側をシールするようにストリップに当接する少なくとも２つのローラ（５，６）が設けられている、ストリップゲート（１）において、
少なくとも一方のローラ（５，６）が、その軸方向の終端領域（７）に、ストリップ（４）のエッジ（９）に横から当接するために形成されたシール要素（８）を備え、ローラ（５，６）をシール要素（８）と共に軸方向（ａ）に位置決め可能にする調整要素（１０）が設けられていることを特徴とするストリップゲート。
【請求項２】
両ローラ（５，６）が、向かい合う軸方向の終端領域（７）にシール要素（８）を備えていることを特徴とする請求項１に記載のストリップゲート。
【請求項３】
シール要素（８）がシールローラであることを特徴とする請求項１又は２に記載のストリップゲート。
【請求項４】
シールローラ（８）が、少なくとも部分的に柔軟な弾性材料から成ることを特徴とする請求項３に記載のストリップゲート。
【請求項５】
ローラ（５，６）の軸方向の終端領域（７）に配設されたシールローラ（８）が、バネ要素（１１）によって予荷重を受けたスイングアーム（１２）内に支承されていることを特徴とする請求項３又は４に記載のストリップゲート。
【請求項６】
シール要素（８）がシールプレートであることを特徴とする請求項１又は２に記載のストリップゲート。
【請求項７】
シールプレート（８）が、向かい合うローラ（５，６）の端面（１３）に当接するために形成されていることを特徴とする請求項６に記載のストリップゲート。
【請求項８】
ローラ（５，６）に、好ましくはローラ（５，６）の上又は下に、密閉要素（１４）が配設されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載のストリップゲート。
【請求項９】
密閉要素（１４）が密閉プレートであることを特徴とする請求項８に記載のストリップゲート。
【請求項１０】
密閉要素（１４）が密閉ローラであることを特徴とする請求項８に記載のストリップゲート。
【請求項１１】
少なくとも一方のローラ（５，６）が、ストリップの同じ側に配設された少なくとも１つの密閉ローラ（１５）に接して作動することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１つに記載のストリップゲート。
【請求項１２】
密閉ローラ（１５）が、別の密閉ローラ（１６）に接して作動することを特徴とする請求項１１に記載のストリップゲート。
【請求項１３】
密閉ローラ（１５，１６）の少なくとも一方が、シール面（１７）に接して作動することを特徴とする請求項１１又は１２に記載のストリップゲート。
【請求項１４】
シール面（１７）が、凹に形成され、特にこのシール面に接触する密閉ローラ（１５，１６）の形状に適合されていることを特徴とする請求項１３に記載のストリップゲート。
【請求項１５】
複数のゲート段が、ストリップ走行方向に連続的に配設されていることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１つに記載のストリップゲート。
【請求項１６】
ストリップゲートが、第１の圧力レベル（ｐ１）を有する第１の空間（２）を第１の圧力レベルとは違う第２の圧力レベル（ｐ２）を有する第２の空間（３）に対して密閉するために使用されることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１つに記載のストリップゲート。
【請求項１７】
ストリップゲートが、第１のプロセス媒体を有する第１の空間（２）を第１のプロセス媒体とは違う第２のプロセス媒体を有する第２の空間（３）に対して密閉するために使用されることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか１つに記載のストリップゲート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、第１の空間を第２の空間に対して密閉するためのストリップゲートであって、両空間をストリップ、特にメタルストリップが通過し、これら空間を密閉するために、ストリップの両側をシールするようにストリップに当接する少なくとも２つのローラが設けられている、ストリップゲートに関する。
【背景技術】
【０００２】
メタルストリップ、特にスチールストリップの製造及び精錬時、減圧した環境内でのプロセス（真空プロセス）を実施することが時々必要になる。このため、ストリップは、環境圧に対して低くした圧力レベルを備える空間に案内される。このため、連続プロセスを達成するために、異なった圧力レベルの空間の間でストリップを密閉する、前記形式のストリップゲートが必要である。即ち、ゲートは、１次的に、２つのストリップ処理領域の間の圧力差を構成するために役立つ。
【０００３】
この種のストリップゲートは、例えば特許文献１及び特許文献２から公知である。そこには、ストリップを密閉するために、１つのゲート段で２つの密閉ローラがストリップに当接することが、しかも第１の密閉ローラがストリップの上面を密閉し、第２の密閉ローラがストリップの下面を密閉することが記載されている。この場合、ゲート段のシール性を改善するために、シリンダ状に形成されたロールは、その周囲に、柔軟な弾性材料から成るジャケットによって覆われている。ジャケットは、シールするようにストリップの表面に当接し、これにより、ゲートのシール性を向上させることができる。
【０００４】
このようなストリップゲートは、一般に、本質的に１より大きい幅と厚さの否を有する製品のために使用される。ストリップゲートは、ストリップの処理をするために異なった媒体が使用されるチャンバを互いに密閉するためにも使用可能である。
【０００５】
この場合、前記公知の解決策は、常に完全に満足のいくようには働かない。これは、特に、チャージに依存して、密閉すべきストリップの幅が変化する場合に当て嵌まる。異なったはばのストリップへのストリップゲートの適合は、費用がかかり、常に良好なシール結果をもたらさない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】独国特許第４４  １８  ３８３号明細書
【特許文献２】独国特許出願公開第１９９  ６０  ７５１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従って、本発明の根底にある課題は、冒頭で述べた形式のストリップゲートを、これに関して改善が得られるように発展させることにある。即ち、ゲートは、改善されたシール作用を備え、全般的にことなった幅と厚さのストリップのために使用可能であるべきである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この課題の本発明による解決策は、少なくとも一方のローラが、その軸方向の終端領域に、ストリップのエッジに横から当接するために形成されたシール要素を備え、ローラをシール要素と共に軸方向に位置決め可能にする調整要素が設けられていることを特徴とする。
【０００９】
ストリップゲートのこの形成により、ローラからシール要素への移行部が、正確にエッジ領域に位置するように、ローラをシール要素と共に軸方向に位置決めすることが可能である。その場合、シール要素は、エッジに横から接触し、これによりエッジを密閉することができる。従って、特に、従来技術によればさもなければ常に「隅部」が密閉不能なエッジ領域における良好なシール効果を得ることができる。
【００１０】
従って、エッジの危険領域におけるストリップゲートの密閉性を本質的に改善することが可能になる。
【００１１】
この場合、好ましくは、両ローラが、向かい合う軸方向の終端領域にシール要素を備えている。
【００１２】
この場合、シール要素は、好ましくはシールローラである。この場合、シールローラは、少なくとも部分的に柔軟な弾性材料から成ることも可能である。ローラの軸方向の終端領域に配設されたシールローラは、バネ要素によって予荷重を受けたスイングアーム内に支承可能である。
【００１３】
選択的な形成によれば、シール要素は、シールプレートである。この場合、シールプレートは、向かい合うローラの端面に当接するために形成されていることも可能である。
【００１４】
更に良好な密閉をするため、発展形では、ローラに、好ましくはローラの上又は下に、密閉要素が配設されている。この密閉要素は、密閉プレートとして形成可能である。これに対して選択的に、密閉要素は、密閉ローラとして形成することもできる。
【００１５】
効率的な背後空間の密閉をするため、少なくとも一方のローラは、ストリップの同じ側に配設された少なくとも１つの密閉ローラに接して作動することも可能である。この場合、密閉ローラは、別の密閉ローラに接して作動可能である。この場合、密閉ローラの少なくとも一方は、シール面に接して作動可能である。この場合、好ましくは、シール面は、凹に形成され、特にこのシール面に接触する密閉ローラの形状に適合されている。
【００１６】
高い圧力差を構成するために、複数のゲート段が、ストリップ走行方向に連続的に配設されている場合が、有効であった。
【００１７】
ストリップゲートは、好ましくは、第１の圧力レベルを有する第１の空間を第１の圧力レベルとは違う第２の圧力レベルを有する第２の空間に対して密閉するために使用される。しかしながらまた、ストリップゲートは、これら空間の圧力が同じ場合でも、これら空間内で異なった媒体が互いに密閉されなければならない場合に使用可能であり、即ち、この場合には、ストリップゲートは、第１のプロセス媒体を有する第１の空間を第１のプロセス媒体とは違う第２のプロセス媒体を有する第２の空間に対して密閉するために使用される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】ローラゲートの中心部材として、ストリップの移送方向で見たストリップの密閉をするための、軸方向終端部に配設されたシールローラと協働する２つのローラを示す。
【図２】軸方向で見た図１の装置の上部を示す。
【図３】図１に対して選択的な形成のストリップゲートを示す。
【図４】軸方向で見た図３の装置の上部を示す。
【図５】図１に対して選択的な形成のストリップゲートを示す。
【図６】ストリップの移送方向で見た、スイングアームによって保持されたシールローラと図５のローラのピンの終端部を示す。
【図７】軸方向で見た特にスイングアームの図６に対応する図を示す。
【図８】図１に対して選択的な別の形成のストリップゲートを示す。
【図９】軸方向で見た図８の装置を示す。
【図１０】図８の装置を平面図で示す。
【図１１】ストリップの移送方向で見た図８に対して選択的な形成のストリップゲートを示す（半分だけ図示した）。
【図１２】軸方向で見た図１１の装置を示す。
【図１３】図１１の装置を平面図で示す。
【図１４】ストリップの移送方向で見た図８に対して選択的な別の形成のストリップゲートを示す。
【図１５】図１４の装置を平面図で示す。
【図１６】軸方向で見た、１つの密閉ローラを後に配設したシールすべきストリップの上のローラを示す。
【図１７】軸方向で見た、２つの密閉ローラを後に配設した図１６に対して選択的な構成のローラを示す。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図１及び２には、ストリップ４を移送方向Ｆに連続的に案内すべきストリップゲート１が図示されている。ストリップゲート１の前後で、異なった圧力ｐ１及びｐ２が空間２及び３に作用する。連続運転中でも両空間の圧力差を維持するために、ストリップゲート１が役立つ。密閉を形成するため、ストリップゲート１は、ストリップ上面もしくはストリップ下面に当接し、ストリップ４の面のシール性に寄与する２つのローラ５及び６を備える。
【００２０】
特にストリップ４の側面領域で、即ちエッジ９の領域で、シール性を形成するために、図１及び２に図示した形成のストリップゲート１が設けられている。
【００２１】
平坦な領域を密閉するため、前記のように、ローラ５がストリップ４の上面に当接し、ローラ６がストリップ４の下面に当接する。ローラ５，６は、スチールローラでもよい。ローラ表面が、良好なシール材料で、例えば柔軟で弾力を有するゴム状材料で、コーティングされていることも可能である。
【００２２】
両ローラ５，６の軸方向の終端領域７には、シールローラの形態のシール要素８が配設されている。この場合、シールローラ８は、シリンダ形状を備えるので、シールローラの端面１８は、エッジ９と接触可能である。シリンダ状の領域１９で、シールローラ１８は、向かい合うロール６もしくは５に接して作動する。この場合、シールローラ８は、軸方向ａで見たローラ５もしくは６に不動に結合されている。好ましくは、シールローラは、柔軟な弾性材料、例えばゴム、から成る少なくとも１つのジャケットを備える。
【００２３】
ローラ５，６自身は、非常に概略的に図示した移動要素１０と結合しており、この移動要素は、ローラ５，６の軸方向の位置を、これによりシールローラ８の軸方向の位置も調整可能な調整手段である。
【００２４】
図１から分かるように、ローラ５，６は、ローラ５，６の軸方向の終端領域７が正確にエッジ９の軸方向の領域に位置するように、シールローラ８と共に調整手段１０によって軸方向に位置決めされる。結果として、シールローラ８の直径を相応に選択した場合、横断面が長方形のストリップ４は、ストリップ４の確実な密閉が得られるように、正確に両ローラ５及び６と横に配設された両シールローラ８とによって包囲可能である。
【００２５】
上下方向のローラ５及び６とシールローラ８から成るシステムの更なる密閉は、図１に明らかな輪郭に応じて形成され、ローラ５，６及びシールローラ８に当接する密閉要素１４によって得られるので、その点で、図示してないチャンバ隔壁に対するシール性が得られる。図１の密閉要素１４の領域に記入した２重矢印２０によって図示したように、密閉要素１４は、ローラ５，６及びシールローラ８の軸方向の位置決め時に相応に共に移動される。
【００２６】
前記調整移動により、異なった幅及び厚さを有するストリップが、問題なく密閉可能であり、新しいストリップの形状への調整を迅速に行なうことができる。厚さの違うストリップへの調整は、２重矢印２１の方向に上のローラ５を移動することによって行なわれる。シールローラ８が弾性材料から製造されているか、少なくともそのような材料から成るジャケットを有する場合は、シールローラ８の柔軟性により、ある程度のばらつきを有する厚さのストリップが密閉可能である。
【００２７】
調整手段１１は、油圧作動式又は機械作動式の要素（例えばスピンドル式リフト要素）として形成可能である。
【００２８】
シールローラ８は、自由回転するようにローラ５，６のピンに支承可能である。これにより、相対運動の相殺が可能であることにより、摩耗が最小になる。
【００２９】
図３及び４による解決策は、密閉要素１４としてローラを使用することによって、図１及び２による解決策と異なる。このローラは、図３に図示したゲート段の全幅にわたり一定の直径を有するシリンダ形状を有する。これにより、ローラは、図４に見ることができるように、シールローラ８の弾性材料に押し込まれ、これにより、シールローラ８と密閉要素１４の間に良好なシール効果が得られる。
【００３０】
図５〜７に、シールローラ８がバネにより予荷重を受けたスイングアーム内に支承された選択的な解決策を見ることができる。スイングアーム１２は、ローラ５，６とシールローラ８の横の終端領域に配設され（特に図６参照）、スリーブ２２を介してシールローラ８を保持する。スイングアーム１２は、図７に見られるように、バネ要素１１によって予荷重を受けているので、シールローラ８は、ローラ５，６に対して極僅か半径方向に自由度を有するように、ストリップの表面に押付け可能である（図６及び７に図示したローラ５，６のピン２３とシールローラ８の間の偏心参照）。スイングアーム１２の、従ってまたシールローラ８の移動能力は、図７の２重矢印によって図示されている。
【００３１】
即ち、エッジ領域での密閉は、ここでは旋回可能に支承された回転可能なカラーを介して行なわれる。カラーは、ローラ５，６の位置調整範囲内で、常に相手ローラと接触する。再調整は、能動的又は受動的に（例えばバネ要素を介して）行なうことができる。
【００３２】
図８〜１０に、本発明の別の選択的な形成を見ることができる。ここでは、横に移動可能なシールプレート８が、シール要素として使用される。
【００３３】
この場合、シールプレート８は、シールプレートがエッジ９に接触するだけでなく、向かい合うローラ５，６の端面１３にも接触するように構成されている。符号１０による２重矢印の指示以外に、図８には、調整手段が、ピストンシリンダシステムとして図示されている。密閉要素１４は、ここでは、図９から分かるように、ローラ５，６の背後領域に配設されている。
【００３４】
即ち、エッジ９の密閉は、ここではシールプレート８を介して行なわれる。エッジ９の形状とシールプレート８の形状の間の形状の一致が得られる。シールプレートは、ローラ５，６の軸方向の移動時に相応に（同期して）共に移動される。
【００３５】
この場合、ストリップの厚さが変わった場合、圧下可能なローラに向かい合うシール要素が能動的又は受動的に（バネ要素２４によって）共に移動可能である。相手ローラとの接触は、ローラの周囲で維持されなければならない。
【００３６】
図１１〜１３に、別の選択的な形成のストリップゲートを見ることができるが、この解決策は、図８〜１０による解決策を手本としている。シールプレート８として形成されたシール要素は、多数の部材から構成可能である。
【００３７】
図１４及び１５による形成の場合、ストリップ４の厚さに装置を調整するための圧下システム２５図示されている。ここでもまた、シールローラ８がシール要素として使用される。
【００３８】
図１６に、どのようにしてストリップゲート１の背後空間の密閉を得ることができるのかを見ることができる。ローラ５は、ここでは、ローラ５と同じ長さで軸方向ａに延在する密閉ローラ１５に当接する。見ペイローラ１５は、更にまたシール面１７に接して作動し、このシール面１７は、密閉ローラ１５の形状に応じるように凹の作動面を備える。この茶道面は、滑り面もしくは滑り軸受である。
【００３９】
即ち、プロセス空間を密閉するローラ５に、固定の密閉ローラ１５が押し付けられる。密閉ローラは、支持をする滑り面１７との組合せで背後空間領域の密閉装置を構成する。
【００４０】
最後に、図１７に、２つの密閉ローラ１５及び１６が使用される場合に、この原理が相応に利用されることを見ることができる。密閉ローラ１５は、ここでは柔軟な密閉ローラとして形成可能である。この密閉ローラは、固定の密閉ローラ１６によって背面を密閉される。密閉ローラ１６は、支持をする滑り面１７との組合せで背後空間領域の密閉装置を構成する。
【００４１】
提案した解決策によって、異なった圧力の空間の密閉も、異なったプロセス媒体、特にプロセスガスや液体が存在する同じ圧力の空間も互いにシール可能である。エッジに接して作動する横のローラが設けられる場合に限って、これらローラにより、ストリップＹの良好なサイドガイドが得られる。ストリップ表面で作動するローラは、ブラインド要素をガイドするために利用可能である。
【符号の説明】
【００４２】
１      ストリップゲート
２      第１の空間
３      第２の空間
４      ストリップ
５      ローラ
６      ローラ
７      軸方向の終端領域
８      シール要素（シールローラ；シールプレート）
９      エッジ
１０    調整手段
１１    バネ要素
１２    スイングアーム
１３    端面
１４    密閉要素
１５    密閉ローラ
１６    密閉ローラ
１７    シール面
１８    端面
１９    シリンダ状の領域
２０    ２重矢印
２１    ２重矢印
２２    スリーブ
２３    ピン
２４    バネ要素
２５    圧下システム
ａ      軸方向
Ｆ      移送方向
ｐ１    第１の圧力
ｐ２    第２の圧力
【図１】
2010509492.tif 000003
【図２】
2010509492.tif 000004
【図３】
2010509492.tif 000005
【図４】
2010509492.tif 000006
【図５】
2010509492.tif 000007
【図６−７】
2010509492.tif 000008
【図８】
2010509492.tif 000009
【図９】
2010509492.tif 000010
【図１０】
2010509492.tif 000011
【図１１】
2010509492.tif 000012
【図１２】
2010509492.tif 000013
【図１３】
2010509492.tif 000014
【図１４】
2010509492.tif 000015
【図１５】
2010509492.tif 000016
【図１６】
2010509492.tif 000017
【図１７】
2010509492.tif 000018
【国際調査報告】
2010509492.tif 000019
2010509492.tif 000020
2010509492.tif 000021
2010509492.tif 000022