(57)【要約】本発明は、像面に配置される感光層に、物体面に配置されるマスクを投影するためのマイクロリソグラフィック投影露光装置の投影対物レンズに関するものであり、投影対物レンズ（１０８）が、光入射面と光射出面を有する像面側の最後の光学素子（１１３）を備えており、液浸液（１１４）が光射出面と像面（ＩＰ）との間の領域に配置される液浸モードに合わせて設計されており、像面側における最後の光学素子（１１３）の光入射面と液浸液（１１４）との少なくとも１つの界面が、少なくとも領域状の微細構造（１１７、２１７、３１３ａ、４１３ａ、５１５ａ、６１５ａ）を備えていることを特徴とする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
像面に配置される感光層に、物体面に配置されるマスクを投影するためのマイクロリソグラフィック投影露光装置の投影対物レンズであって、
前記投影対物レンズ（１０８）が、光入射面と光射出面を有する像面側の最後の光学素子（１１３）を備えており、液浸液（１１４、２１４）が前記光射出面と前記像面（ＩＰ）との間の領域に配置される液浸モードに合わせて設計されており、
前記像面側における前記最後の光学素子（１１３）の光入射面と前記液浸液（１１４、２１４）との少なくとも１つの界面が、少なくとも領域状の微細構造（１１７、２１７、３１３ａ、４１３ａ、５１５ａ、６１５ａ）を備えていることを特徴とする、
投影対物レンズ。
【請求項２】
前記投影対物レンズ（１０８）の動作波長における前記液浸液（１１４、２１４）の屈折率が水の屈折率より大きいことを特徴とする、請求項１に記載の投影対物レンズ。
【請求項３】
前記投影対物レンズ（１０８）の動作波長において、前記液浸液（１１４、２１４）の屈折率が少なくとも１．５であり、少なくとも１．６であればさらに望ましいことを特徴とする、請求項２に記載の投影対物レンズ。
【請求項４】
前記微細構造（１１７、３１３ａ）が前記像面側の前記最後の光学素子（１１３、３１３）の光射出面に設けられていることを特徴とする、請求項１〜３の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項５】
少なくとも１つの層（４１５、５１５、６１５、６１６）が前記像面側における前記最後の光学素子の光射出側に配置されていることを特徴とする、請求項１〜４の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項６】
前記投影対物レンズ（１０８）の動作波長において、前記層（４１５、５１５、６１５）の屈折率が前記像面側における前記最後の光学素子（１１３）を製作する材料の屈折率より大きいことを特徴とする、請求項１〜５の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項７】
前記層（４１５）によって前記少なくとも１つの微細構造（４１３ａ）が被覆されることを特徴とする、請求項５又は請求項６に記載の投影対物レンズ。
【請求項８】
前記少なくとも１つの微細構造（５１５ａ、６１５ａ）が前記層（５１５、６１５）の光射出面に設けられていることを特徴とする、請求項５又は請求項６に記載の投影対物レンズ。
【請求項９】
前記少なくとも１つの微細構造（６１５ａ）がもう１つの層（６１６）によって被覆されることを特徴とする、請求項８に記載の投影対物レンズ。
【請求項１０】
前記もう１つの層（６１６）の屈折率が前記液浸液の屈折率にほぼ一致することを特徴とする、請求項９に記載の投影対物レンズ。
【請求項１１】
前記像面側における前記最後の光学素子が第１の部分素子（２１３）と第２の部分素子（２１８）から形成され、前記第１の部分素子（２１３）と前記第２の部分素子（２１８）との界面に前記少なくとも１つの微細構造（２１７）が配置されることを特徴とする、請求項１〜１０の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項１２】
前記第１の部分素子（２１３）と前記第２の部分素子（２１８）が、好ましくは密着によって継目のないように接合されることを特徴とする、請求項１１に記載の投影対物レンズ。
【請求項１３】
前記第１の部分素子（２１３）が平凸レンズであることを特徴とする、請求項１１又は請求項１２に記載の投影対物レンズ。
【請求項１４】
前記第２の部分素子（２１８）が平行平板であることを特徴とする、請求項１１〜請求項１３の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項１５】
前記第２の部分素子（２１８）が、前記投影対物レンズの動作波長において屈折率が石英（ＳｉＯ2）の屈折率より大きい材料から形成されることを特徴とする、請求項１１〜請求項１４の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項１６】
前記第２の部分素子（２１８）が、前記投影対物レンズ（１０８）の動作波長において屈折率が少なくとも１．７、好ましくは少なくとも１．８５、さらに望ましいのは少なくとも２．０の材料から形成されることを特徴とする、請求項１５に記載の投影対物レンズ。
【請求項１７】
前記第２の部分素子（２１８）が、ルテチウムアルミニウムガーネット（Ｌｕ3Ａｌ5Ｏ12）、スピネル（ＭｇＡｌ2Ｏ4）、イットリウムアルミニウムガーネット（Ｙ3Ａｌ5Ｏ12）、ＮａＣｌ、ＺｒＯ2：０．１２  Ｙ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、及び、Ｙ2Ｏ3を含むグループから選択された材料から形成されることを特徴とする、請求項１１〜請求項１６の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項１８】
前記第１の部分素子（２１３）が石英（ＳｉＯ2）から形成されることを特徴とする、請求項１１〜請求項１７の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項１９】
前記少なくとも１つの微細構造が、格子定数が２００Ｌ／ｍｍ〜３０００Ｌ／ｍｍの範囲内の回折格子構造（１１７、２１７、３１３ａ、４１３ａ、５１５ａ、６１５ａ）を備えることを特徴とする、請求項１８に記載の投影対物レンズ。
【請求項２０】
前記少なくとも１つの微細構造がブレーズド回折光学構造であることを特徴とする、請求項１〜請求項１９の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項２１】
前記少なくとも１つの微細構造が、とりわけ、バイナリ振幅又は位相格子又は多段位相格子といった量子化回折光学構造であることを特徴とする、請求項１〜請求項１９の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項２２】
前記投影対物レンズ（１０８）の開口数が少なくとも１．２、好ましくは少なくとも１．４、さらに望ましいのは少なくとも１．５であることを特徴とする、請求項１〜請求項２１の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項２３】
前記投影対物レンズ（１０８）の動作波長が、２５０ｎｍ未満、好ましくは２００ｎｍ未満、さらに望ましいのは１６０ｎｍ未満であることを特徴とする、請求項１〜請求項２２の１つに記載の投影対物レンズ。
【請求項２４】
照射系（１０１）と投影対物レンズ（１０８）を含むマイクロリソグラフィック投影露光装置（１００）であって、前記投影対物レンズ（１０８）が請求項１〜請求項２３の１つに記載のように設計されていることを特徴とする、マイクロリソグラフィック投影露光装置。
【請求項２５】
微細構造化構成部品をマイクロリソグラフィック生産するためのプロセスであって、
感光材料の層（１１５）が少なくとも部分的に塗布される基板（１１６）を設けるステップと、
像が投影されることになる構造を備えたマスク（１０７）を設けるステップと、
請求項２４に記載の投影露光装置（１００）を設けるステップと、
前記投影露光装置（１００）によって前記層（１１５）の一領域に前記マスク（１０７）の少なくとも一部を投影するステップが含まれている、
プロセス。
【請求項２６】
請求項２５に記載のプロセスによって生産される微細構造化構成部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマイクロリソグラフィック投影露光装置の投影対物レンズに関する。
【背景技術】
【０００２】
マイクロリソグラフィは、例えば集積回路又はＬＣＤのような微細構造構成部品の生産に用いられる。マイクロリソグラフィプロセスは、照射系と投影対物レンズを備えた投影露光装置と呼ばれる装置で実施される。照射系によって照射されたマスク（＝レチクル）の像は、投影対物レンズを用いて基板（例えばシリコンウェーハ）に投影される。基板は、基板上の感光コーティングにマスク構造を転写するために、感光層（例えばフォトレジスト）が塗布されて、投影対物レンズの像面に配列される。
【０００３】
像面側における投影対物レンズの最後の光学素子と感光層の間の領域に屈折率が１を超える液浸媒質を導入することによって、対物レンズで実現可能な解像度が向上することが知られている。この手法は液浸リソグラフィと呼ばれる。用いられる液浸媒質は、例えば波長λ＝１９３ｎｍにおけるその屈折率が約ｎ＝１．４３の脱イオン水である。
【０００４】
本投影対物レンズにおいてより大きい開口数を実現するため、より屈折率の大きい液浸媒質（すなわち、屈折率が水の屈折率より大きい液浸媒質）を利用する必要がますます高まっている。ただし、こうしたより屈折率の大きい液浸媒質を用いると、高開口角で液浸媒質に光が結合することがますます問題になるという点に留意されたい。とりわけ液浸媒質の屈折率が投影対物レンズの隣接する最後の光学素子の屈折率を超えると、屈折の法則ｎ1*ｓｉｎ（α1）＝ｎ2*ｓｉｎ（α2）によって、その光学素子において必要なビーム角が、液浸媒質におけるビーム角と比較して、ほとんどそれ以上対処することのできない高い値になる可能性があるということにである。
【０００５】
その問題を克服するため、とりわけ先行技術文献の１つ（特許文献１参照）から既知のように、投影対物レンズは、液浸動作モードにおいて液浸液が物体面に向かって凸状に湾曲するように設計される。その特許文献１の開示内容が、参考までに本明細書にそっくりそのまま組み込まれている（参考のための援用）。
【０００６】
先行技術文献の１つ（非特許文献１参照）には、とりわけ、光の入射側に回折構造が設けられており、同時に液浸媒質の働きもするレンズ（「回折に基づく固体液浸レンズ」）の利用が開示されている。
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２００５／０８１０６７  Ａ１号パンフレット
【非特許文献１】Ｒｏｂｅｒｔ  Ｂｒｕｎｎｅｒ他、「Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ−ｂａｓｅｄ  ｓｏｌｉｄ  ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ  ｌｅｎｓ」、Ｊ．Ｏｐｔ．Ｓｏｃ．Ａｍ．Ａ、２００４年７月、第２１巻、第７号、ｐ．１１８６−１１９１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、屈折率の大きい液浸媒質を利用する場合であっても、高開口角のビーム結合で解像度を高めることを可能にするマイクロリソグラフィック投影露光装置の投影対物レンズを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
像面に配置することが可能な感光層に、物体面に配置されるマスクを投影するための、本発明によるマイクロリソグラフィック投影露光装置の投影対物レンズは、光入射面と光射出面を有する像面側の最後の光学素子を備えており、液浸液が光射出面と像面との間の領域に配置される液浸モードに合わせて設計されている。像面側における最後の光学素子の光入射面と液浸液との少なくとも１つの界面は、少なくとも領域状の微細構造を備えている。
【００１０】
本願に関して、「微細構造」という用語は、投影対物レンズにさらなる「回折」屈折力を与える回折構造をあらわすために用いられる。こうした回折構造は、現在の例えば電子リソグラフィックプロセスによって製作することが可能である。
【００１１】
本発明による微細構造化の結果として、像面側における最後の光学素子の光入射面の後で液浸液の前に位置する領域において投影対物レンズに屈折力をもたらすことになり、その結果、液浸液へのビーム結合が容易になるか、あるいはより高い開口角でもやはり前記ビーム結合が可能になるが、そのために光入射側において液浸液を湾曲させる必要がなく、これは、液浸モードにおいて投影対物レンズとウェーハの間に生じる液浸液流に関して有利である。本発明によれば、とりわけ像面側における最後の光学素子の光射出面をほぼ平坦にすることもできるし（すなわち、設けられる可能性のある本発明による微細構造を除いて）、あるいは、光入射側における液浸液の界面をほぼ平坦にすることも可能である。さらに、本発明による液浸液への結合は、高開口角でも、屈折率の高い（屈折率が１９３ｎｍで約ｎ＝１．５６である水晶の屈折率を超える）材料を用いずに実現することが可能であるため、それに関する問題（例えば十分な透過特性と十分な光学的品質を備えたこうした材料の利用可能性）が回避される。
【００１２】
像面側における最後の光学素子の光入射面自体は、微細構造を備える前記界面が「像面側における最後の光学素子の光入射面と液浸液との間」に配置されているという基準によって拘束されない、すなわち、前記界面が光伝搬方向においてその光入射面の下流に配置されているのが望ましい。
【００１３】
望ましい実施態様の１つによれば、投影対物レンズの動作波長における液浸液は、屈折率が水の屈折率よりも大きい。とりわけ投影対物レンズのある動作波長の場合、液浸液の屈折率は少なくとも１．５になる可能性があるが、少なくとも１．６になればさらに望ましい。
【００１４】
実施態様の１つによれば、像面側の最後の光学素子の光射出面に微細構造が設けられる。
【００１５】
もう１つの実施態様によれば、像面側の最後の光学素子は、光射出側に少なくとも１つの層を備えている。投影対物レンズの動作波長において、その層は、とりわけ像面側の最後の光学素子を製作する材料の屈折率よりも大きい屈折率を有する。
【００１６】
実施態様の１つによれば、その層によって少なくとも１つの微細構造が被覆される。こうした層によって、一方では微細構造が保護され、もう一方では液浸液に関連して界面に生じる微細構造によって導入される面粗さの回避も可能になり、その結果、液浸液によるその界面の湿潤も改善される。
【００１７】
もう１つの実施態様によれば、その層の光射出面に少なくとも１つの微細構造を設けることが可能である。それには、像面側において最後の光学素子の材料（例えば石英又はフッ化カルシウム）を微細構造化せずに済ますことが可能になるという利点がある。
【００１８】
その層の光射出面におけるこうした微細構造は、さらにもう１つの層によって被覆することも可能であり、それによって、またもや微細構造を保護する働きが可能になり、液浸液に対してよりうまく湿潤させることができる界面にすることが可能になる。そのもう１つの層は、液浸液への移行部においてそれ以上のビーム偏向が生じないように、とりわけ液浸液の屈折率とほぼ一致する屈折率を備えることが可能である。
【００１９】
本発明の実施態様の１つによれば、像面側の最後の光学素子は、第１の部分素子と第２の部分素子から形成され、第１の部分素子と第２の部分素子の間の界面に少なくとも１つの微細構造が配置される。第１の部分素子及び第２の部分素子は、とりわけ、例えば密着によって継目のないように接合させることが可能である。さらに望ましい実施形態の１つでは、第１の部分素子は平凸レンズとし、第２の部分素子は平行平板とすることが可能である。こうした平行平板によって、微細構造化によって形成される回折光学構造のために像面から十分に広い間隔をあけることが可能になる。
【００２０】
第２の部分素子は、投影対物レンズの動作波長において屈折率が石英（ＳｉＯ2）を超える材料から形成される。投影対物レンズの動作波長におけるその材料の屈折率は、少なくとも１．７、好ましくは少なくとも１．８、さらに望ましいのは少なくとも２．０である。第２の部分素子は、とりわけ、ルテチウムアルミニウムガーネット（Ｌｕ3Ａｌ5Ｏ12）、スピネル（ＭｇＡｌ2Ｏ4）、イットリウムアルミニウムガーネット（Ｙ3Ａｌ5Ｏ12）、ＮａＣｌ、ＺｒＯ2：０．１２  Ｙ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、及び、Ｙ2Ｏ3を含むグループから選択された材料から形成することが可能である。
【００２１】
本発明の実施態様の１つによれば、少なくとも１つの微細構造は、格子定数が２００Ｌ／ｍｍ〜３０００Ｌ／ｍｍの範囲内の回折格子構造を備えている。
【００２２】
本発明の実施態様の１つによれば、ブレーズド(brazed)回折光学構造が少なくとも１つの微細構造によって形成される。それに関して、ブレーズド回折光学構造という表現は、所定の回折次数において高レベルの回折効率を設定するための構造を表わすために用いられるが、回折効率は、他の回折次数の場合それに対応して低くなる、すなわち、エネルギは望ましい回折次数において最大になる。こうしたブレーズド回折光学構造は、基本的に既知のように屈折率格子の形態又は面形状の形態をとることが可能である。
【００２３】
もう１つの実施態様によれば、量子化回折光学構造が微細構造によって形成される。こうした量子化回折光学構造は、基本的に既知のようにバイナリ格子として、すなわち、振幅又は位相格子あるいは多相レベル構造として形成することが可能である。
【００２４】
本発明のさらなる構造についてはその説明及び付属の請求項において記載されている。
【００２５】
本発明については、例証のため添付の図面に示された実施形態によってさらに詳細に後述することにする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
図１には、マイクロリソグラフィック投影露光装置１００の構造の概略を例示した線図が示されている。投影露光装置１００は、照射系１０１と投影対物レンズ１０８を備えている。
【００２７】
照射系１０１には、光源１０２を含み、かつ、レンズ１０３、１０４及び絞り部材１０５によって記号化してかなり簡略に示された光学照射系構成を含む。ＡｒＦエキシマレーザを光源１０２として用いる場合、図解例における投影露光装置１００の動作波長は１９３ｎｍである。しかしながら、この動作波長は、例えば、ＫｒＦエキシマレーザを用いる場合には２４８ｎｍであり、あるいは、Ｆ2レーザを光源１０２として用いる場合には１５７ｎｍであろう。
【００２８】
照射系１０１と投影対物レンズ１０８の間には、投影対物レンズ１０８の物体面ＯＰに配置され、マスクホルダ１０６によってビーム経路内に保持されたマスク１０７が設けられている。マスク１０７は、マイクロメートル〜ナノメートル範囲の構造を備えており、その像が、投影対物レンズ１０８によって、例えば１／４又は１／５といった縮尺で投影対物レンズ１０８の像面ＩＰに結ばれる。
【００２９】
投影対物レンズ１０８には、やはりただ単に記号化してレンズ１０９〜１１３によってかなり簡略に示された、光軸ＯＡを形成するレンズ構成が取り入れられている。
【００３０】
基板ホルダ１１８によって位置決めされ、感光層１１５が設けられた基板１１６すなわちウェーハが、投影対物レンズ１０８の像面ＩＰ内に保持されている。最小であるが、それでも解像可能な構造は、投影露光装置１００の動作波長λ及び投影対物レンズ１０８の像側開口数によって決まるが、実現可能な最大解像度は、照射系１０１の動作波長λが短くなるにつれて、また、投影対物レンズ１０８の像側開口数が増すにつれて高くなる。
【００３１】
像面側における投影対物レンズ１０８の最後の光学素子１１３と感光層１１５の間には、図解例における屈折率が動作波長（例えばλ＝１９３ｎｍ）において脱イオン水の屈折率を超え、この例の場合、λ＝１９３ｎｍにおいてｎ＝１．６５である液浸液が配置されている。例えばその目的に適した液体は「Ｄｅｋａｌｉｎ」という呼称で識別される。
【００３２】
本発明は、特定の対物レンズ設計に制限されるものではなく、反射屈折投影対物レンズにも純然たる屈折対物レンズにも用いることが可能である。適合する対物レンズ設計例については、とりわけその開示に関して参考までに援用されている上述の国際公開第２００５／０８１０６７  Ａ１号パンフレットにおいて見出されるはずである。
【００３３】
次に本発明によれば、像面側における最後の光学素子１１３の光入射面と液浸液１１４の間に配置される界面は、少なくとも微細構造の領域を有している。図１に示す例の場合、その微細構造は、図２に関連してさらに詳細に後述するように、像面側における最後の光学素子１１３の光射出面において、直接液浸液１１４への移行部分に配置されている。
【００３４】
図２には、投影対物レンズ１０８の細部の略断面図が示されているが、それに関して、像面側の最後の光学素子１１３と液浸液１１４との界面における本発明による微細構造１１７の位置を見ることが可能である。微細構造１１７は、像面側の最後の光学素子１１３の光射出面上においてＣＧＨ（＝computer generated hologram、コンピュータ生成ホログラム）の形態である。
【００３５】
表１には図２に示す構成の設計データが記載されている。表１の欄１にはそれぞれの屈折面すなわち重要な光学面の番号が明記され、欄２には、その面の半径ｒ（ｍｍ）が指定され、欄３には、厚さとして分類されたその面の後続面に対する間隔（ｍｍ）が指定され、欄４には、光学部品の光学的に有効な自由直径が指定され、欄５には、それぞれの面に後続する材料が指定され、欄６にはλ＝１９３ｎｍにおけるその材料の屈折率が指定されている。
【００３６】
【表１】
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【００３７】
微細構造１１７によって形成される回折光学構造によって、方程式（１）で表わされる位相関数が導入される。
φ（ｘ、ｙ）＝ａ*（ｘ2＋ｙ2）    （１）
ここで、ｘ及びｙは光軸ＯＡ（ｚ方向に延びる）に対して垂直な平面におけるデカルト座標を特定し、また、この実施形態による微細構造１１７には、ａ＝２．１７７９４６*１０-3ｍｍが適用される。微細構造１１７によって形成される回折光学構造は、光軸からの間隔に対して２乗で増大し、構造のエッジにおいて約１５５０Ｌ／ｍｍに達する格子定数を有している。
【００３８】
図２に示す例によれば、液浸液１１４によって形成される液層は、微細構造１１７によって形成された回折光学構造に関して像面ＩＰから十分に広い間隔をあけるため比較的厚い。
【００３９】
図３には、本発明の第２の実施形態による微細構造化の実施について明らかにする略断面図が示されている。図３を参照すると、ここで平板２１８が平凸レンズ２１３の光射出側に配置されている（好ましくは密着されるか接合されている）限りにおいて、像面側における最後の光学素子は第１の部分素子と第２の部分素子から形成されるが、ここで微細構造２１７は平凸レンズ２１３の光射出面上においてＣＧＨ（「コンピュータ生成ホログラム」）の形態であり、従って、平凸レンズ２１３と平板２１８との界面に配置される。平板２１８は屈折率の大きい材料（石英と比べて）から製作されており、本実施形態の場合、λ＝１９３ｎｍにおける屈折率がｎ＝２．１４のルテチウムアルミニウムガーネット（Ｌｕ3Ａｌ5Ｏ12、ＬＵＡＧ）が含まれる。適合する屈折率の大きい他の材料には、ＭｇＡｌ2Ｏ4（スピネル）、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12（ＹＡＧ）、ＮａＣｌ、ＺｒＯ2：０．１２  Ｙ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、及び、Ｙ2Ｏ3がある。図３では液浸液が２１４で示され、平板２１８と像面ＩＰの間に位置している。
【００４０】
図３に示す構成の設計データが、表１と同様に表２に記載されており、半径及び厚さはやはりミリメートル（ｍｍ）で指定されている。
【００４１】
【表２】
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【００４２】
微細構造２１７によって形成される回折光学構造によって方程式（１）で表わされる位相関数が導入されるが、この場合ａ＝２．９０６２６２*１０-3ｍｍが適用される。微細構造２１７によって形成される回折光学構造は、格子定数が約１４５０Ｌ／ｍｍである。図３の例の場合、平板２１８は、微細構造２１７によって形成された回折光学構造に関して像面ＩＰから十分に広い間隔をあけるために比較的厚い。
【００４３】
図４には、本発明のさらなる実施形態による微細構造化の具体例について明らかにする概略図が示されている。
【００４４】
これに関して、いずれの場合にも像面側の最後の光学素子は、像面（感光層を備えている）の上方に概略が描かれているだけであり、それに関して、図面をさらに簡略化するため、その間に配置される液浸液がここでは示されていない。
【００４５】
図４ａの場合、微細構造３１３ａは像面側における最後の光学素子３１３の光射出面に設けられている（従って、この場合、図１及び図２の実施形態に対応する）。
【００４６】
図４ｂの場合、微細構造４１３ａは、図４ａと同様に像面側における最後の光学素子４１３に設けられているが、この場合には、この微細構造４１３ａが層４１５によって被覆されている。層４１５の材料は、この場合、動作波長における屈折率が像面側における最後の光学素子４１３の材料（例えば石英又はフッ化カルシウムから製作される）よりも高い。一方ではその層４１５によって、微細構造４１３ａが保護され、もう一方では液浸液に関して界面に生じる微細構造４１３ａによってもたらされる面粗さも回避されるので、その界面の液浸液よる湿潤も改善される。
【００４７】
図４ｃの場合、像面側における最後の光学素子５１３が製作される材料は当初微細構造化されておらず、層５１５によって被覆される平坦な面を備えており、光射出側の微細構造５１５ａはその層５１５に形成される。その層５１５は、やはり動作波長における屈折率が像面側における最後の光学素子５１３の材料（例えば石英又はフッ化カルシウム）より大きいことが望ましい。
【００４８】
図４ｄを参照すると、図４ｃと同様に、像面側において最後の光学素子６１３に形成され微細構造６１５ａが設けられる層６１５も、やはり層６１６（例えば液浸液とほぼ同じ屈折率を備える）によって被覆されてもよい。層６１６は、やはり一方では、微細構造６１５ａを保護する働きをし、もう一方では液浸液に関して界面に生じるその微細構造によってもたらされる面粗さも回避されるので、その界面の液浸液よる湿潤も改善される。
【００４９】
本発明の説明が特定の実施形態によってなされたものであって、例えば個々の実施形態の特徴の組合せ及び／又は交換によって、当該技術者にはさまざまな変更及び代替実施形態が明らかになるであろう。従って、当該技術者には明らかなように、こうした変更及び代替実施形態も本発明に包含されるものであり、本発明の範囲は添付の請求項及びその同等物の意図するところによってのみ制限される。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】照射系及び投影対物レンズを備えたマイクロリソグラフィック投影露光装置の構造の概略を示した線図である。
【図２】本発明の第１の実施形態による微細構造を備えた図１の投影対物レンズの細部に関する略断面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態による微細構造化の実施を明らかにする略断面図である。
【図４】本発明のさらなる実施形態による微細構造化の実施を明らかにする線図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４ａ）】
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【図４ｂ）】
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【図４ｃ）】
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【図４ｄ）】
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【国際調査報告】
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