(57)【要約】  本発明は、基板、それに適用された第１の電極、第２の電極、第１の電極と第２の電極との間に配置される有機発光材料層、第２の電極に適用された多層シールを備える光電気装置、特に有機発光ダイオード装置であって、前記多層シールが高密度材料の少なくとも１つの層と有機材料の少なくとも１つの層とを備え、この有機材料には水分除去剤が混合されており、この水分除去剤が、加水分解を受けたときに酸性プロトンを生成しない有機組成物を含む光電気装置を提供する。さらに、本発明は、前記有機発光装置を備える物品と、前記装置を作成するための方法とに関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板、該基板に適用された第１の電極、第２の電極、前記第１の電極と前記第２の電極との間に配置される有機発光材料の層、および前記第２の電極に適用された多層シールを備える光電気装置であって、前記多層シールが高密度材料の少なくとも１つの層と有機材料の少なくとも１つの層とを備え、前記有機材料には水分除去剤が混合されており、該水分除去剤が、加水分解を受けたときに酸性プロトンを生成しない有機組成物を含む光電気装置。
【請求項２】
前記第１の電極がアノードであり、前記第２の電極がカソードである請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の電極が透明導電性酸化物層を備える請求項１または２に記載の装置。
【請求項４】
前記第１の電極がインジウム錫酸化物層を備える請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記第２の電極がバリウム層とアルミニウム層とを備える請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記基板がポリマー基板である請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記基板が透明層を備える請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記多層シールが前記第２の電極に直接適用される請求項１〜７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
前記多層シールが前記高密度材料の少なくとも２つの層と前記有機材料の少なくとも２つの層とを備え、前記高密度材料の前記層と前記有機材料の前記層とが交互に適用される請求項１〜８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１０】
前記有機材料の前記層が平坦化層である請求項１〜９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１１】
前記多層シールが、交互に連続する前記高密度材料の層および前記有機材料の層を備える請求項９または１０に記載の装置。
【請求項１２】
最初に前記有機材料の層が前記第２の電極に適用されるように、前記多層シールが配置される請求項１〜１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１３】
最初に前記高密度材料の層が前記第２の電極に適用されるように、前記多層シールが配置される請求項１〜１１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
前記高密度材料が、酸化ケイ素、窒化ケイ素、オキシ窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、インジウム錫酸化物、インジウム錫亜鉛酸化物および金属からなる群から選択される請求項１〜１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
前記高密度材料が窒化ケイ素を含む請求項１４に記載の装置。
【請求項１６】
前記水分除去剤が混合された前記有機材料が、ポリマー、フッ化ポリマー、パリレン、シクロテン、エポキシ樹脂およびポリアクリレートからなる群から選択される請求項１〜１５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１７】
前記水分除去剤が混合された前記有機材料が、ポリアクリレートとエポキシ樹脂とからなる群から選択される請求項１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記有機組成物が、オキサゾリジン、それらの誘導体、シアノアクリレート、またはイソシアネートからなる群から選択される請求項１〜１７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１９】
前記有機組成物がオキサゾリジンまたはそれらの誘導体を含む請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記有機発光材料が、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）およびそれらの誘導体、ポリ（フルオレン）およびそれらの誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンエチニレン）およびそれらの誘導体、ポリ（ｐ−フェニレン）およびそれらの誘導体、ならびに任意の数の前記ポリマーのモノマーを含むコポリマーからなる群から選択される請求項１〜１９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２１】
前記光電気装置が有機発光装置である請求項１〜２０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２２】
前記有機発光材料が小分子発光材料である請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
前記有機発光材料が、ホスト種として請求項１９に記載されている前記ポリマーまたはコポリマーの一方を使用した蛍光性または燐光性ドーパント分子を含む請求項２２に記載の装置。
【請求項２４】
前記基板と前記第１の電極との間にはバリア層が適用され、該バリア層が高密度材料の少なくとも１つの層と有機材料の少なくとも１つの層とを備える請求項１〜２３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２５】
前記バリア層および前記多層シールの前記有機材料には水分除去剤が混合されており、該水分除去剤が、加水分解を受けたときに酸性プロトンを生成しない有機組成物を含む請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
前記バリア層が前記高密度材料の少なくとも２つの層と前記有機材料の少なくとも２つの層とを備え、前記高密度材料の前記層と前記有機材料の前記層とが交互に適用される請求項２４または２５に記載の装置。
【請求項２７】
前記有機材料の前記層が平坦化層である請求項２４〜２６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２８】
前記多層シールが、交互に連続する前記高密度材料の層および前記有機材料の層を備える請求項２６または２７に記載の装置。
【請求項２９】
前記高密度材料が、酸化ケイ素、窒化ケイ素、オキシ窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、インジウム錫酸化物、インジウム錫亜鉛酸化物および金属からなる群から選択される請求項２４〜２８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３０】
前記高密度材料が窒化ケイ素を含む請求項２９に記載の装置。
【請求項３１】
前記水分除去剤が混合された前記有機材料が、ポリマー、フッ化ポリマー、パリレン、シクロテン、エポキシ樹脂およびポリアクリレートからなる群から選択される請求項２４〜３０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３２】
前記水分除去剤が混合された前記有機材料が、ポリアクリレートとエポキシ樹脂とからなる群から選択される請求項３１に記載の装置。
【請求項３３】
前記有機材料が、オキサゾリジン、それらの誘導体、シアノアクリレート、またはイソシアネートからなる群から選択される請求項２４〜３２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３４】
前記有機組成物がオキサゾリジンまたはそれらの誘導体を含む請求項３３に記載の装置。
【請求項３５】
物品であって、請求項１〜３４のいずれか１項に記載の光電気装置を備える物品。
【請求項３６】
請求項１〜２３のいずれか１項に記載の装置を作成するための方法であって、
（ａ）基板を設けるステップと、
（ｂ）前記基板に第１の電極を適用するステップと、
（ｃ）有機発光材料を前記第１の電極に、または前記第１の電極に適用された任意の層に適用するステップと、
（ｄ）第２の電極を前記有機発光材料の層に、または前記有機発光材料の前記層に適用された任意の層に適用するステップと、
（ｅ）高密度材料の層を前記第２の電極に適用し、前記高密度材料の前記層には有機材料の層を適用するか、あるいは前記有機材料の層を前記第２の電極に適用し、前記有機材料の前記層には前記高密度材料の層を適用するステップと、
を含む方法。
【請求項３７】
請求項２４〜３４のいずれか１項に記載の装置を作成するための方法であって、
（ａ）基板を設けるステップと、
（ｂ）高密度材料の層を前記基板に適用し、前記高密度材料の前記層には有機材料の層を適用するか、あるいは前記有機材料の層を前記基板に適用し、前記有機材料の前記層には前記高密度材料の層を適用することによって、バリア層を形成するステップと、
（ｃ）このようにして得られた前記バリア層に第１の電極を適用するステップと、
（ｄ）有機発光材料を前記第１の電極に、または前記第１の電極に適用された任意の層に適用するステップと、
（ｅ）第２の電極を前記有機発光材料の層に、または前記有機発光材料の前記層に適用された任意の層に適用するステップと、
（ｆ）前記高密度材料の層を前記第２の電極に適用し、前記高密度材料の前記層には前記有機材料の層を適用するか、あるいは前記有機材料の層を前記第２の電極に適用し、前記有機材料の前記層には前記高密度材料の層を適用するステップと、
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光電気装置、特に、有機発光ダイオード装置と、このような装置を備える物品と、このような装置を作成するための方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）は、印加電圧の影響下で光を発する半導体装置である。有機発光ダイオードは、一般に、基板と活性ポリマー層または小分子層とを備え、これらの層は透明導電層の形状の前部電極と後部電極層との間に配置される。透明導電層と後部電極との間で、適切な電圧が印加された場合、活性ポリマー層で光が発生され、この光が透明導電層を介して発せられる。
【０００３】
通常、複数のＯＬＥＤ層は水分および酸素に敏感である。特に、後部電極層は、水および酸素と反応しやすいバリウムおよびカルシウム等のＩＩＡ族の金属を通常含むので、水および酸化剤に対して一般に敏感である。水および酸化剤への暴露と、その後の反応は、このような装置の寿命に著しい影響を与えることがある。
【０００４】
水および酸化剤が存在することにより生じる劣化からＯＬＥＤを保護するために、種々の方法が提案されてきた。
【０００５】
例えば、ＯＬＥＤの基板に接着される蓋またはキャップで、ＯＬＥＤを覆うことができる。蓋またはキャップは、典型的に、水蒸気伝達率および酸素伝達率が非常に低い高密度材料から作成される。このために使用されるこのような材料の例は、酸化アルミニウムおよび金属酸化物等の金属、例えばガラスを含む。このことに関しては、例えば、「特許文献１」および「特許文献２」を参照されたい。一般に、このような蓋またはキャップを使用すると非常に費用がかかり、さらに、前記蓋またはキャップを可撓性ＯＬＥＤのために使用することができない。
【０００６】
ＯＬＥＤを保護する他の方法には、多層バリア積層体による薄膜カプセルがある。このような多層バリア積層体が記載されている方法は、例えば、「特許文献３」、「特許文献４」、「特許文献５」および「特許文献６」に開示されている。この方法は、可撓性ＯＬＥＤによく用いられる。多層バリア積層体は、（ｉ）化学蒸着（ＣＶＤ）法によって適用できる窒化金属等の高密度材料と、（ｉｉ）次の高密度層が適用される平滑な表面を提供しかつ種々の方法で適用できる有機平坦化層との複数の交互層を備える。この方法の欠点は、窒化金属層が、それぞれの有機平坦化層で完全に覆うことができないピンホールを常に含み、不可避的に、水が前記ピンホールを介してバリア積層体を通過してしまうことである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】独国特許第１０２３６８５５号明細書
【特許文献２】米国特許第６８８８３０７号明細書
【特許文献３】国際公開第２００５０１３３３６号パンフレット
【特許文献４】米国特許第２００３００８５６５２号明細書
【特許文献５】米国特許第２００３０１１７０６８号明細書
【特許文献６】米国特許第５７５７１２６号明細書
【特許文献７】国際公開第２００４１０７４７０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記方法を考慮すると、ＯＬＥＤをより効果的かつ効率的に保護することが明らかに必要であることが明白である。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
ここで驚くべきことに、多層シールの１つの層が特定の除去剤を混合した有機材料を含む前記多層シールが使用された場合に、上記のことを実現できることが見出された。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
したがって、本発明は、基板、それに適用された第１の電極、第２の電極、第１の電極と第２の電極との間に配置される有機発光材料の層、および第２の電極に適用された多層シールを備える光電気装置であって、前記多層シールが高密度材料の少なくとも１つの層と有機材料の少なくとも１つの層とを備え、この有機材料には水分除去剤が混合されており、この水分除去剤が、加水分解を受けたときに酸性プロトンを生成しない有機組成物を含む光電気装置に関する。
【００１１】
本発明によれば、光電気装置は適切には有機発光ダイオード装置（ＯＬＥＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）または太陽電池であり得る。好ましくは、本発明による光電気装置はＯＬＥＤである。本発明によるＯＬＥＤは、優れた防水性を提供するのと同時に、コストの観点から有利である。
【００１２】
適切には、本発明による装置では、第１の電極はアノードであり、第２の電極はカソードである。
【００１３】
第１の電極は透明導電性酸化物層を備えることが好ましい。マイクロ波スパッタリング法、大気圧化学蒸着（ＡＰＣＶＤ）法、低圧化学蒸着（ＬＰＣＶＤ）法またはプラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）法によって、透明導電性酸化物（ＴＣＯ）層を基板に適切に適用できる。ＴＣＯ層は、ＡＰＣＶＤ法またはスパッタリング法によって基板に適用されることが好ましい。ＴＣＯ層は、少なくとも２５０℃、好ましくは少なくとも４００℃の温度で、より好ましくは４５０〜５５０℃の範囲の、最も好ましくは４９０〜５３０℃の範囲の温度で、基板層、または除去可能な基板層に予め適用された１つ以上の透明層に適切に適用される。このような高温適用により、透明導電層が望ましい特性を得ることが可能になる。そのことは、有機発光材料層の効率を向上させるのと同時に、ＴＣＯ層が有利なバリア層として作用するので有機発光材料層の長期性能を向上させる。
【００１４】
透明導電性酸化物層は、亜鉛酸化物、錫酸化物および／またはインジウム錫酸化物からなる群から選択される１つ以上の透明導電性酸化物を含み得る。好ましくは、透明導電性酸化物層は亜鉛酸化物および／または錫酸化物を含む。より好ましくは、透明導電性酸化物層は錫酸化物を含む。透明導電性酸化物には、インジウム、アルミニウム、フッ素、ガリウムまたはホウ素等の材料をドープできる。最も好ましくは、透明導電性酸化物層は、インジウムまたはフッ素がドープされた錫酸化物を含む。適切には、透明導電性酸化物層の厚さは、１０ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲、好ましくは４５０ｎｍ〜８５０ｎｍの範囲、より好ましくは５０〜１５０ｎｍの範囲であり得る。
【００１５】
好ましくは、第１の電極はインジウム錫酸化物層を備える。
【００１６】
第２の電極は、アルミニウム、銀または金の層で覆われた、カルシウム、バリウム、フッ化リチウム、マグネシウムまたはイッテルビウム等の低作業機能材料層を備えることが可能である。
【００１７】
本発明によるＯＬＥＤが底部から（すなわち装置の基板側から直接）光を発する場合、第２の電極はバリウム層およびアルミニウム層、またはフッ化リチウム層およびアルミニウム層を備えることが好ましい。
【００１８】
第２の電極層は１ｎｍから１マイクロメートルの範囲の厚さを適切に有することができる。スパッタリングまたは低圧熱蒸着によって、第２の電極を有機発光材料層に適切に適用できる。第２の電極は、低圧熱蒸着法によって発光材料層に適用されることが好ましい。
【００１９】
本発明に従って使用される基板は、金属層、合金層、ガラス層、セラミック層、またはポリマー層を適切に備えることが可能である。
【００２０】
本発明によるＯＬＥＤが底部から光を発する場合または透明である場合、基板は透明層を備えることが好ましい。頂部から光を発する本発明によるＯＬＥＤを金属箔加工し得る。
【００２１】
ＯＬＥＤが非可撓性である場合、金属層、合金層、ガラス層またはセラミック層を備える基板が適切に使用される。
【００２２】
好ましくは、本発明は、可撓性基板を有する可撓性ＯＬＥＤに関する。
【００２３】
ＯＬＥＤが可撓性である場合、ポリマー基板を適切に使用できる。ポリマー基板は複数の層を含むことが可能であり、これらの層は、ポリイミド、ポリアミド、ポリアラミド、ポリエステル、ポリオレフィン、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、コポリマー、ポリマーブレンドおよび／または複合物からなる群から選択される１つ以上のポリマー材料を適切に含むことができる。ポリマー基板層は１種類以上のポリマーを含み得るが、実際には、特定の１種類のポリマーを使用することが好ましい。好ましくは、ポリマー基板層はポリエステルおよび／またはポリオレフィンを含む。より好ましくは、ポリマー基板層はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）またはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を含む。ポリマー基板層は、５０マイクロメートル〜１０センチメートルの範囲の、好ましくは１００〜５００マイクロメートルの範囲の厚さを適切に有することができる。
【００２４】
多層シールは少なくとも１つの高密度材料層を備える。「高密度材料」とは、汚染物質および有害な種、特に水および酸化剤の拡散が防止されるかまたは劇的に抑制されるように、十分に狭い原子間隔と十分に小さな亜分子移動度とを有する材料を意味する。典型的に、シールの水蒸気伝達率（ＷＶＴＲ）は＜１０−５ｇ／ｍ２／日であるべきである。
【００２５】
本発明によれば、多層シールは少なくとも２つの高密度材料層と、水分除去剤が混合されている少なくとも１つの有機材料層とを備える。
【００２６】
多層シールは、第２の電極に直接適用されることができるか、または最初に第２の電極に適用された１つ以上の層に適用されることができる。適切には、多層シールは第２の電極に直接適用される。しかし、基板と第１の電極との間にバリア層が適用され、したがってこのバリア層が水分除去剤を含む場合、多層シールは、最初に第２の電極に適用された１つ以上の層に適切に適用することができる。
【００２７】
適切には、水分除去剤が混合された有機材料層は平坦化層である。本発明によれば、平坦化層は、下層表面の不規則な輪郭を反映する表面を有する層とは逆に、平滑な平坦面を有する層として定義される。
【００２８】
好ましくは、多層シールは、交互に連続する高密度材料層および有機材料層を備える。
【００２９】
適切には、最初に有機材料層が第２の電極に適用されるように、多層シールが配置される。
【００３０】
本発明の他の有利な実施形態では、最初に高密度材料層が第２の電極に適用されるように、多層シールが配置される。
【００３１】
好ましくは、本発明に従って使用される高密度材料は、酸化ケイ素、窒化ケイ素、オキシ窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、インジウム錫酸化物、インジウム錫亜鉛酸化物および金属からなる群から選択される。
【００３２】
より好ましくは、高密度材料は窒化ケイ素を含む。
【００３３】
好ましくは、多層シールに使用すべき有機材料は、ポリマー、フッ化ポリマー、パリレン、シクロテン、エポキシ樹脂、ポリアクリレート、ポリエステル、およびポリエーテルからなる群から選択される。
【００３４】
より好ましくは、有機材料は、ポリアクリレートとエポキシ樹脂とからなる群から選択される。
【００３５】
有機材料には、加水分解を受けたときに酸性プロトンを生成しない有機組成物を含む水分除去剤が混合されている。好ましくは、有機組成物は、オキサゾリジン、それらの誘導体、シアノアクリレート、およびイソシアネートからなる群から選択される。
【００３６】
このような水分除去剤の選択により、除去剤が有機材料に有利に溶解されることが保証される。したがって、無機除去剤（ＣａＯ等）が使用された場合に、有機材料のナノ粒子分散が不要となる。周知の無水物基の有機水分除去剤（（特許文献７）参照）の場合と同様に、除去剤が加水分解を受けたときに酸性プロトンを生成しないことは、除去反応後に高反応性プロトンおよび可動プロトンが残留しないという利点を有する。
【００３７】
適切には、多層シールの全体の厚さは５００〜１０００００ｎｍの範囲、好ましくは５００〜１５０００ｎｍの範囲、より好ましくは１０００〜５０００ｎｍの範囲であり得る。
【００３８】
少なくとも１つの高密度材料層は１００〜１０００ｎｍ、好ましくは１５０〜５００ｎｍの範囲の厚さを適切に有することができ、これに対して、少なくとも１つの有機材料層は２００〜２００００ｎｍの範囲の、好ましくは５００〜５０００ｎｍの範囲の厚さを適切に有することができる。
【００３９】
プラズマ強化化学蒸着またはマイクロ波スパッタリングによって、少なくとも１つの高密度材料層を第２の電極にまたは有機材料層に適切に適用できる。好ましくは、プラズマ強化化学蒸着によって、１つまたは複数の高密度材料層が第２の電極にまたは有機材料層に適用される。
【００４０】
スピンコーティング、ロールコーティング、スロットダイコーティング、ドクターブレード、インクジェット印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、またはリバースグラビア印刷によって、水分除去剤が混合された少なくとも１つの有機材料層を第２の電極にまたは高密度材料層に適切に適用できる。好ましくは、インクジェット印刷によって、１つまたは複数の有機材料層が第２の電極にまたは高密度材料層に適用される。
【００４１】
第１の電極と第２の電極との間に複数の光電子有機材料層を配置し得る。これらの層は電子孔注入層、エレクトロルミネセンス層、孔阻止層および電子孔輸送層を含む。有機発光材料層は、色素分子またはフラーレン等の有機分子、あるいはポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリフルオレン、ポリアリレン、ポリカバゾール、ポリビニルカバゾール、およびこれらの誘導体、コポリマーおよび／または混合物からなる群から選択される半導電性ポリマーを適切に含むことができる。有機発光材料層は上記化合物の１つ以上の層を含み得るが、実際には、１つの層にポリエチレンジオキシチオフェンを使用することが好ましく、これに対して、第２の有機発光材料層は発光ポリマー層または光受容層を備える。有機発光材料層は１０〜５００ｎｍの範囲の、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲の厚さを適切に有することができる。ドクターブレード、スクリーン印刷またはインクジェット印刷等のスピンコーティング法または印刷法によって、有機発光材料層を第１の電極に適切に適用できる。好ましくは、有機発光材料層は１００℃未満の温度で導電性ポリマー層に適用される。
【００４２】
より好ましくは、有機発光材料は、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）およびそれらの誘導体、ポリ（フルオレン）およびそれらの誘導体、ポリ（ｐ−フェニレンエチニレン）およびそれらの誘導体、ポリ（ｐ−フェニレン）およびそれらの誘導体、ならびに任意の数の上記ポリマーおよび／または三重項放出色素のモノマーを含むコポリマーからなる群から選択される。
【００４３】
本発明の他の有利な実施形態では、有機発光材料は、ドーパントとしてホスト材料に埋め込まれた小分子発光材料である。発光ドーパントは蛍光性または燐光性であり得る。小分子蛍光ドーパントの適切な例はペリレン、ジスチリルビフェニル、キノンアクリドン、ＤＰＴ、ルブレン、ＢＴＸ、ＡＢＴＸおよびＤＣＪＴＢを含む。小分子燐光ドーパントの適切な例はＦＩｒｐｉｃ、（ＣＦ３ｐｐｙ）２Ｉｒ（ｐｉｃ）、Ｉｒ（ｐｐｙ）３、Ｉｒ（ｍｐｐ）３、Ｉｒ（ｐｐｙ）２ａｃａｃ、ＰｔＯＥＰ、およびＢｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）を含む。蛍光ドーパント用の適切なホスト材料の例はＴＤＫ、ＤＰＶＢｉ、Ａｌｑ３、ｍ−Ａｌｑ３、およびＧａｑ３を含む。燐光ドーパント用の適切なホスト材料の例はＣＢＰ、ｍＣＰ、ＵＧＨ２、ＰＶＫ、ＴＡＺ、およびＣＮ−ＰＰＶを含む。小分子ベースの装置は発光層の頂部に孔阻止層をしばしば必要とする。適切な孔阻止材料の例はＢＣＰおよびＢＡｌｑを含む。小分子ベースの装置は電子孔輸送層をしばしば必要とする。適切な孔輸送材料の例はＴＰＤ、□−ＮＰＤ、およびｍ−ＭＴＤＡＴＡを含む。適切な電子輸送材料の例はＴＡＺ、ＰＢＤ、およびＡｌｑ３である。
【００４４】
本発明の特に有利な実施形態では、基板と第１の電極との間にバリア層が適用され、このバリア層は少なくとも１つの高密度材料層と少なくとも１つの有機材料層とを備える。好ましくは、バリア層の有機材料には水分除去剤が混合され、この水分除去剤は、加水分解を受けたときに酸性プロトンを生成しない有機組成物を含む。
【００４５】
好ましくは、バリア層は少なくとも２つの高密度材料層と少なくとも２つの有機材料層とを備え、これにより、高密度材料層と有機材料層とが交互に適用される。
【００４６】
より好ましくは、有機材料層は平坦化層である。
【００４７】
適切には、バリア層は、交互に連続する高密度材料層および有機材料層を備え、これらの層には水分除去剤が混合されている。
【００４８】
さらに、本発明は、本発明による光電気装置を備える物品に関する。このような物品の適切な例は（可撓性）ＯＬＥＤテレビディスプレイと、携帯電話、ダッシュボード、制御パネル用の（可撓性）ＯＬＥＤディスプレイとを含む。このような物品の他の適切な例はＯＬＥＤ照明箔、ＯＬＥＤ照明タイルおよびＯＬＥＤ照明パネルを含む。
【００４９】
その上、本発明は、本発明による装置を作成するための方法であって、
（ａ）基板を設けるステップと、
（ｂ）第１の電極を基板に適用するステップと、
（ｃ）有機発光材料を第１の電極に、またはそれに適用された任意の層に適用するステップと、
（ｄ）第２の電極を有機発光材料の層に、またはそれに適用された任意の層に適用するステップと、
（ｅ）高密度材料の層を第２の電極に適用し、高密度材料の層には、水分除去剤が混合された有機材料の層を適用するか、あるいは水分除去剤が混合された有機材料の層を第２の電極に適用し、水分除去剤が混合された有機材料の層には、高密度材料の層を適用するステップと、
を含む方法も提供する。
【００５０】
本発明によれば、第１の電極が適用される表面の反対側の基板表面は、上記のような多層シールによって保護することもできる。
【００５１】
したがって、本発明の他の有利な実施形態では、最初に、上記のような第１の多層シールが基板の第１の表面に適用され、その後、
（ａ）第１の多層シールが適用される表面の反対側に配置される基板表面に、第１の電極が適用され、
（ｂ）有機発光材料が第１の電極に、またはそれに予め適用された任意の層に適用され、
（ｃ）第２の電極が有機発光材料の層に、またはそれに予め適用された任意の層に適用され、さらに、
（ｄ）第２の多層シールが第２の電極に適用される。
【００５２】
ステップ（ｄ）では、高密度材料層が第２の電極に適用され、次に、高密度材料層には有機材料層が適用されるか、あるいは有機材料層が第２の電極に適用され、次に、有機材料層には高密度材料層が適用される。２つ以上の高密度材料層と２つ以上の有機材料層とを交互に適用できることが理解されるであろう。
【００５３】
本発明のさらに他の実施形態では、本発明によるＯＬＥＤが製造され、次に、第１の電極が適用された表面の反対側に配置される基板表面に、第２の多層シールが適用される。
【００５４】
さらに、本発明は、本発明による装置を作成するための方法であって、基板と第１の電極との間にバリア層が適用され、このバリア層が少なくとも１つの高密度材料層と少なくとも１つの有機材料層とを備える方法に関する。
【００５５】
したがって、本発明は、基板と第１の電極との間にバリア層を備える本発明による光電気装置を作成するための方法であって、
（ａ）基板を設けるステップと、
（ｂ）高密度材料の層を基板に適用し、高密度材料の層には有機材料の層を適用するか、あるいは有機材料の層を基板に適用し、有機材料の層には高密度材料の層を適用することによって、バリア層を形成するステップと、
（ｃ）このようにして得られたバリア層に第１の電極を適用するステップと、
（ｄ）有機発光材料を第１の電極に、またはそれに適用された任意の層に適用するステップと、
（ｅ）第２の電極を有機発光材料の層に、またはそれに適用された任意の層に適用するステップと、
（ｆ）高密度材料の層を第２の電極に適用し、高密度材料の層には有機材料の層を適用するか、あるいは有機材料の層を第２の電極に適用し、有機材料の層には高密度材料の層を適用するステップと、
を含む方法も提供する。
【００５６】
好ましくは、ステップ（ｂ）では、第２の高密度材料層が有機材料層に適用される。
【００５７】
好ましくは、ステップ（ｆ）では、第２の高密度材料層が有機材料層に適用される。
【００５８】
次のように、本発明によるＯＬＥＤを作成できる。１つまたは複数のＯＬＥＤをガラス基板またはプラスチック基板に作成でき、これらの基板には、バリアコーティング、耐スクラッチコーティングまたは光出力結合強化コーティングを適用し得る。本発明によれば、バリアコーティングは、典型的に、水分除去剤が混合される有機層を含む。スパッタリングおよびパターン化により（例えば、リソグラフィ／エッチング、あるいは除去マスクまたはシャドーマスク／／エッチングにより）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）アノード層を適用して、発光領域と非発光領域とを区別することができる。スパッタリングおよびパターン化によって、ＭＡＭ（モリブデン−アルミニウム−モリブデン）構造を適用できる。次に、装置構成に応じて、レジスト層を適用して、例えばバンク構造およびセパレータ構造にリソグラフィ的にパターン化することが可能である。コーティング技術または印刷技術により、パターン化されたＩＴＯ層の頂部には、ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を適用し得る。適用後、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを典型的に１００〜２００℃の温度に加熱して、水および添加剤を蒸発させ、層を焼成することができる。このことにより、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ固体の含有量および適用に応じて、８０〜２００ｎｍの乾燥層が残される。ガラス基板を２００℃にすることが可能であり、一方、ＰＥＴおよびＰＥＮ等のポリエステル箔基板の焼成温度は典型的に１５０℃を超えない。溶剤の蒸発を補助するために減圧を行い得る。コーティングまたは印刷によって、溶液から厚さ８０ｎｍの発光ポリマー（ＬＥＰ）層をＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ層の頂部に適用することが可能である。減圧と組み合わせて高温（典型的に＜１３０℃）を用いて、１つまたは複数のＬＥＰ溶剤を蒸発させ得る。その後の段階でＬＥＰを必要としないかまたは含むべきでない箇所（例えば金属カプセル蓋が配置される箇所）は、レーザー除去によって処理される。当然、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳおよびＬＥＰが印刷によって選択的に適用された場合には、レーザー除去は不要である。次に、１０−７ｍｂａｒの熱蒸発により、バリウム／アルミニウムカソード（５ｎｍのＢａ、１００ｎｍのＡｌ）を適用し得る。シャドーマスクを用いて、パターン化されたカソードを適用できる。
【００５９】
次に、本発明によれば、薄膜カプセル積層体を使用して装置を保護できる。典型的なプロセスでは、プラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）およびコーティングまたは印刷、それに続き、光硬化、熱硬化または乾燥のそれぞれによって、窒化ケイ素（またはオキシ窒化ケイ素）層と有機平坦化層とを交互に適用できる。本発明によれば、１つ以上の有機平坦化層は水分除去剤を含む。
【００６０】
小分子ＬＥＤ（ＳＭＯＬＥＤ）の場合、基板、ならびにＩＴＯの適用およびパターン化、ならびにＭＡＭ層およびレジスト層の適用およびパターン化は、ＯＬＥＤのそれらのものと同等である。対照的に、材料が、溶液処理可能な誘導体でない限り、ＳＭＯＬＥＤの活性層はコーティングまたは印刷によって典型的に適用されない。むしろ、活性層を適用するには熱蒸着を用いた方がよい。典型的に、ＳＭＯＬＥＤは、ＯＬＥＤよりも多い層、例えば、別個の孔阻止層および電子阻止層、ならびに電子孔注入層等を含み得る。これらの全ての層は、一般に、熱蒸発によって適用されるが、溶液処理可能な活性材料を含んでいる場合には、印刷またはコーティングによって適用することも可能である。ＳＭＯＬＥＤの薄膜カプセルはＯＬＥＤの薄膜カプセルと同様である。
【００６１】
次に、本発明によれば、薄膜カプセル積層体を使用して、装置を保護できる。典型的なプロセスでは、プラズマ強化化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）およびコーティングまたは印刷、それに続き、光硬化、熱硬化または乾燥のそれぞれによって、窒化ケイ素（またはオキシ窒化ケイ素）層と有機平坦化層とを交互に適用し得る。本発明によれば、１つ以上の有機平坦化層は水分除去剤を含む。
【国際調査報告】
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