(57)【要約】  除草剤としての使用に適当であるピランジオン、チオピランジオン及びシクロヘキサントリオン化合物が提供される。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
2010512360.tif 000479
〔式中
Ｒ1はハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、ニトロ又はシアノであり；
Ｒ2は置換されることがあるアリール又は置換されることがあるヘテロアリールであり；
ｒは０，１，２又は３であり；
Ｒ3は、ｒが１である時、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、シアノ又はニトロであり；或いはｒが２又は３である時、置換基Ｒ3は互いに独立に、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、シアノ又はニトロであり；
Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は、互いに独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、シクロプロピル或いはＣ1−もしくはＣ2アルキルにより又はＣ1−もしくはＣ2ハロアルキルにより又はハロゲンにより置換されたシクロプロピル；シクロブチル又はＣ1−もしくはＣ2アルキルにより置換されたシクロブチル；オキセタニル又はＣ1もしくはＣ2−アルキルにより置換されたオキセタニル；Ｃ5〜Ｃ7シクロアルキル又はＣ1−もしくはＣ2アルキルにより又はＣ1−もしくはＣ2ハロアルキルにより置換されたＣ5〜Ｃ7シクロアルキル、ここでシクロアルキル成分のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子により又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられることがあり；Ｃ4〜Ｃ7シクロアルケニル又はＣ1−もしくはＣ2アルキルにより又はＣ1−もしくはＣ2ハロアルキルにより置換されたＣ4〜Ｃ7シクロアルケニル、ここでシクロアルケニル成分のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子により又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられることがあり；シクロプロピル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1−もしくはＣ2アルキルにより、Ｃ1−もしくはＣ2ハロアルキルにより又はハロゲンにより置換されたシクロプロピル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル；シクロブチルＣ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1−もしくはＣ2アルキルにより置換されたシクロブチル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル；オキセタニルＣ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより置換されたオキセタニル-Ｃ1〜Ｃ5アルキル；Ｃ5〜Ｃ7シクロアルキルＣ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1−もしくはＣ2アルキルにより又はＣ1もしくはＣ2−ハロアルキルにより置換されたＣ5〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ここでシクロアルキル成分のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられることがあり；Ｃ4〜Ｃ7シクロアルケニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1−もしくはＣ2アルキルにより又はＣ1−もしくはＣ2ハロアルキルにより置換されたＣ4〜Ｃ7シクロアルケニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキルであり、ここでシクロアルキル成分のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられることがあり；フェニル又はＣ1〜Ｃ4アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルにより、ハロゲンにより、ニトロにより、シアノにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルによりもしくはＣ1〜Ｃ4アルキルカルボニルにより置換されたフェニル；ベンジル又はＣ1〜Ｃ4アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルにより、ハロゲンにより、ニトロにより、シアノにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルによりもしくはＣ1〜Ｃ4アルキルカルボニルにより置換されたベンジル；ヘテロアリール又はＣ1〜Ｃ4アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルにより、ハロゲンにより、ニトロにより、シアノにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルによりもしくはＣ1〜Ｃ4アルキルカルボニルにより置換されたヘテロアリールであり；又は
Ｒ4とＲ5、又はＲ6とＲ7が結合して５〜７員の飽和又は不飽和環を形成し、環中のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子により置き換えられことがあり、又はＣ1−もしくはＣ2アルキルにより置換された５〜７員の飽和又は不飽和環を形成し、環中のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子により置き換えられることがあり；又は
Ｒ4とＲ7が結合して、Ｃ1−もしくはＣ2アルキル、Ｃ1−もしくはＣ2アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ2アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ2アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルにより、ハロゲンにより、ニトロにより、シアノにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルによりもしくはＣ1〜Ｃ4アルキルカルボニルにより置換されたフェニルにより置換された又は未置換の５〜７員の飽和又は不飽和環を形成し；
ＹはＯ，Ｃ＝Ｏ，Ｓ(Ｏ)m又はＳ(Ｏ)nＮＲ8であり；ただしＹがＣ＝Ｏである時、Ｒ4又はＲ5のいずれかが水素である時にはＲ6とＲ7は水素とは異なり、そしてＲ6又はＲ7のいずれかが水素である時はＲ4とＲ5は水素とは異なり；
ｍは０又は１又は２であり、そしてｎは０又は１であり；
Ｒ8は水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、トリ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）シリル−エチルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシカルボニル、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6ヒドロキシアルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6シクロアルキルカルボニル、フェニルカルボニル又はＲ9により置換されたフェニルカルボニル；ベンジルカルボニル又はＲ9により置換されたベンジルカルボニル；ピリジルカルボニル又はＲ9により置換されたピリジルカルボニル；フェノキシカルボニル又はＲ9により置換されたフェノキシカルボニル；ベンジルオキシカルボニル又はＲ9により置換されたベンジルオキシカルボニルであり；
Ｒ9はＣ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、ホルミル、カルボキシル又はハロゲンであり；そして
Ｇは水素、農薬上許容されるカチオン又は潜在化基である〕
により表わされる化合物。
【請求項２】
Ｒ1がハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル又はＣ2〜Ｃ4アルキニルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ2がアリール又はヘテロアリールであるか；或いはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、フェノキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、ニトロ、シアノ、チオシアノ、ヒドロキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ6ジアルキルアミノ、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキルアミノ、モルホリノ、チオモルホリノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニルアミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ3〜Ｃ6アルケニルオキシカルボニルアミノ、Ｃ3〜Ｃ6アルキニルオキシカルボニルアミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノカルボニルアミノ、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノカルボニルアミノ、ホルミル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニルカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニルカルボニル、カルボキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニルオキシカルボニル、カルボキサミド、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノカルボニルオキシ、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノカルボニルオキシ又はＣ1〜Ｃ6アルキルチオカルボニルアミノにより共に置換されているアリールもしくはヘテロアリールである、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ2がアルール又はヘテロアリールであるか；或いはハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、フェノキシ、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル、ニトロ又はシアノにより置換されているアリール又はヘテロアリールである、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ2がフェニル、チエニル、フリル、ピロリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル及びピリダジニル、並びにそれのＮ−オキシド及び塩であり、それらの環は未置換であるか又はハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル、ニトロ又はシアノにより置換されている、請求項４に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ2がフェニル又はピリジルであるか；或いはハロゲン、ニトロ、シアノ、Ｃ1〜Ｃ2アルキル、Ｃ1〜Ｃ2ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ2アルコキシ又はＣ1〜Ｃ2ハロアルコキシにより置換されているフェニル又はピリジルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ3が水素、ハロゲン又はＣ1〜Ｃ6アルキルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7が、互いに独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル；Ｃ5〜Ｃ7シクロアルキル又はＣ1−もしくはＣ2アルキルにより又はＣ1−もしくはＣ2ハロアルキルにより置換されたＣ5〜Ｃ7シクロアルキルであって、そのメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子により又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられることがあり；Ｃ5〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1〜Ｃ2アルキルによりもしくはＣ1−もしくはＣ2ハロアルキルにより置換されたＣ5〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキルであって、そのメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子により又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられることがある、請求項１に記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7が、互いに独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ2アルキル、Ｃ1〜Ｃ2ハロアルキル又はＣ1〜Ｃ2アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ2アルキルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項１０】
ＹがＯ，Ｓ又はＣ＝Ｏである、請求項１に記載の化合物。
【請求項１１】
潜在性基ＧがＣ(Ｘa)−Ｒa又はＣ(Ｘb)−Ｘc−Ｒbであり、ここでＸa，Ｘb及びＸcは酸素であり、ＲaはＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル又はＣ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキルであり、そしてＲbはＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル又はＣ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキルである、請求項１に記載の化合物。
【請求項１２】
Ｇが水素、アルカリ金属又はアルカリ土類金属である、請求項１に記載の化合物。
【請求項１３】
Ｇが水素である、請求項１２に記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒ1がＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｒ2がフェニル又はハロゲンによりもしくはＣ1〜Ｃ2アルキルにより置換されたフェニルであり、Ｒ3が水素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7が互いに独立にＣ1〜Ｃ2アルキルであり、ＹがＯであり、そしてＧが水素である、請求項１に記載の化合物。
【請求項１５】
Ｇが水素である請求項１に記載の式Ｉの化合物の調製方法であって、式（Ｊ）の化合物
【化２】
2010512360.tif 000480
（式中、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7及びＹは請求項１においてそれらに与えられた意味を有する）
を、窒素含有リガンドの存在下で、式（Ｋ）のアリール三酢酸鉛
【化３】
2010512360.tif 000481
（式中、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は請求項１においてそれらに与えられた意味を有する）
と反応させることを含んで成る方法。
【請求項１６】
Ｇが水素である請求項１に記載の式Ｉの化合物の調製方法であって、酸性又は塩基性条件下で、式（Ｂ）の化合物
【化４】
2010512360.tif 000482
（式中Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7及びＹは請求項１においてそれらに与えられた意味を有し、そしてＲはアルキルである）
を環化せしめることを含んで成る方法。
【請求項１７】
Ｇが水素である請求項１に記載の式Ｉの化合物の調製方法であって、酸性条件下で、式（Ｂ）の化合物
【化５】
2010512360.tif 000483
（式中Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7及びＹは請求項１においてそれらに与えられた意味を有し、そしてＲは水素である）
を環化せしめることを含んで成る方法。
【請求項１８】
Ｇが水素である請求項１に記載の式Ｉの化合物の調製方法であって、塩基の存在下で且つ触媒の存在下又は不在下で、式（Ｑ）の化合物
【化６】
2010512360.tif 000484
（式中Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7及びＹは請求項１においてそれらに与えられた意味を有する）
を転位させることを含んで成る方法。
【請求項１９】
請求項１に記載の式Ｉの化合物の調製方法であって、適当なパラジウム触媒、リガンド及び塩基の存在下で、且つ適当な溶媒の存在下で、式（Ｈ）の化合物
【化７】
2010512360.tif 000485
（式中Ｒ1，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｙ及びｒは請求項１においてそれらに与えられた意味を有し、Halは塩素、臭素、ヨウ素又はトリフルオロメタンスルホニルオキシである）
を、式Ｒ2Ｂ(ＯＨ)2（ここでＲ2は請求項１においてそれに与えられた意味を有する）のアリール又はヘテロアリールボロン酸、又はそれの塩もしくはエステルと反応させることを含んで成る方法。
【請求項２０】
請求項１に記載の式Ｉの化合物の調製方法であって、式（Ｘ）のアリールボロン酸
【化８】
2010512360.tif 000486
（式中Ｒ1，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｙ及びｒは請求項１においてそれらに与えられた意味を有する）又はそれの塩もしくはエステルを、適当なパラジウム触媒、リガンド及び塩基の存在下で、且つ適当な溶媒中で、式Ｒ2−Hal（ここでＲ2は請求項１においてそれに与えられた意味を有し、そしてHalは塩素、臭素、ヨウ素又はトリフルオロメタンスルホニルオキシである）と反応させることを含んで成る方法。
【請求項２１】
ＧがＣ(Ｘa)−Ｒa又はＣ(Ｘb)−Ｘc−Ｒb（ここでＸa，Ｘb及びＸcは酸素であり、ＲaはＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル又はＣ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキルであり、そしてＲbはＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル又はＣ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキルである）である請求項１に記載の式Ｉの化合物の調製方法であって、式（Ａ）の化合物
【化９】
2010512360.tif 000487
を、少なくとも１当量の塩基の存在下又は不在下で、アシル化剤で処理することを含んで成る方法。
【請求項２２】
式（Ｂ）の化合物
【化１０】
2010512360.tif 000488
（式中、Ｒ，Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7及びＹは請求項１においてそれらに与えられた意味を有する）。
【請求項２３】
式（Ｈ）の化合物
【化１１】
2010512360.tif 000489
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7及びＹは請求項１においてそれらに与えられた意味を有し、そしてHalは塩素、臭素、ヨウ素又はトリフルオロメタンスルホニルオキシである）。
【請求項２４】
式（Ｘ）の化合物
【化１２】
2010512360.tif 000490
（式中、Ｒ1，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7，Ｙ及びｒは請求項１においてそれらに与えられた意味を有し、式Ｒ2−Hal（Ｒ2は請求項１においてそれに与えられた意味を有し、そしてHalは塩素、臭素、ヨウ素又はトリフルオロメタンスルホニルオキシである）の化合物）又はそれの塩もしくはエステル。
【請求項２５】
有用植物の作物中の草及び雑草を防除する方法であって、式Ｉの化合物又はそのような化合物を含んで成る組成物の除草有効量を、植物に又はそれの部分に適用することを含んで成る方法。
【請求項２６】
製剤補助剤を含んで成ることに加えて、除草有効量の式Ｉの化合物を含んで成る除草剤組成物。
【請求項２７】
式Ｉの化合物に加えて、混合相手として追加の除草剤を含んで成る、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２８】
式Ｉの化合物に加えて、薬害軽減剤を含んで成る、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２９】
式Ｉの化合物に加えて、混合相手として追加の除草剤と薬害軽減剤とを含んで成る、請求項２６に記載の組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、除草剤として活性な新規環状ジオン、及びそれの誘導体、それらの調製方法、それらの化合物を含んで成る組成物、並びに雑草、特に有用植物の作物中の雑草を防除する際の又は植物の成長を抑制するためのそれらの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
除草活性を有する環状ジオンは例えばWO 01/74770中に記載されている。
【０００３】
除草及び成長抑制性質を有する新規ピランジオン、チオピランジオン及びシクロヘキサントリオン化合物が発見された。
【発明の概要】
【０００４】
本発明は、式Ｉの化合物：
【化１】
2010512360.tif 000002
【０００５】
〔式中
Ｒ1はハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、ニトロ又はシアノであり；
Ｒ2は置換されることがあるアリール又は置換されることがあるヘテロアリールであり；
ｒは０，１，２又は３であり；
Ｒ3は、ｒが１である時、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、ニトロ又はシアノであり；或いはｒが２又は３である時、置換基Ｒ3は互いに独立に、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシ、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルスルホニル、ニトロ又はシアノであり；
【０００６】
Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は、互いに独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、シクロプロピル或いはＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより又はＣ1−もしくはＣ2ハロアルキルにより又はハロゲンにより置換されたシクロプロピル；シクロブチル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより置換されたシクロブチル；オキセタニル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより置換されたオキセタニル；Ｃ5〜Ｃ7シクロアルキル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより又はＣ1−もしくはＣ2−ハロアルキルにより置換されたＣ5〜Ｃ7シクロアルキル、ここでシクロアルキル成分のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子により又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられることがあり；Ｃ4〜Ｃ7シクロアルケニル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより又はＣ1−もしくはＣ2−ハロアルキルにより置換されたＣ4〜Ｃ7シクロアルケニル、ここでシクロアルケニル成分のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子により又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられることがあり；シクロプロピル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより、Ｃ1−もしくはＣ2−ハロアルキルにより又はハロゲンにより置換されたシクロプロピル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル；シクロブチル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより置換されたシクロブチル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル；オキセタニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより置換されたオキセタニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル；Ｃ5〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより又はＣ1−もしくはＣ2−ハロアルキルにより置換されたＣ5〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ここでシクロアルキル成分のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられることがあり；Ｃ4〜Ｃ7シクロアルケニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキル又はＣ1−もしくはＣ2−ハロアルキルにより置換されたＣ4〜Ｃ7シクロアルケニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ここでシクロアルケニル成分のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられることがあり；フェニル又はＣ1〜Ｃ4アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルにより、ハロゲンにより、ニトロにより、シアノにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルによりもしくはＣ1〜Ｃ4アルキルカルボニルにより置換されたフェニルであり；ベンジル又はＣ1〜Ｃ4アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルにより、ハロゲンにより、ニトロにより、シアノにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルによりもしくはＣ1〜Ｃ4アルキルカルボニルにより置換されたベンジルであり；ヘテロアリール又はＣ1〜Ｃ4アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルにより、ハロゲンにより、ニトロにより、シアノにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルによりもしくはＣ1〜Ｃ4アルキルカルボニルにより置換されたヘテロアリールであり；又は
【０００７】
Ｒ4とＲ5、又はＲ6とＲ7が結合して５〜７員の飽和又は不飽和環を形成し、環中のメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子により置き換えられることがあり、又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより置換された５〜７員の飽和又は不飽和環を形成し、環中のメチレン基は酸素もしくは硫黄原子により置換されることがあり；又は
Ｒ4とＲ7が結合して、Ｃ1−もしくはＣ2アルキル、Ｃ1−もしくはＣ2アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ2アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ2アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルにより、ハロゲンにより、ニトロにより、シアノにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキスルスルフィニルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルによりもしくはＣ1〜Ｃ4アルキルカルボニルにより置換されたフェニルにより置換された又は未置換の、５〜７員の飽和又は不飽和環を形成し；
ＹはＯ，Ｃ＝Ｏ，Ｓ(Ｏ)m又はＳ(Ｏ)nＮＲ8であり；ただしＹがＣ＝Ｏである時、Ｒ4又はＲ5のいずれかが水素である時にはＲ6とＲ7は水素とは異なり、そしてＲ6又はＲ7のいずれかが水素である時はＲ4とＲ5は水素とは異なり；
ｍは０又は１又は２であり、そしてｎは０又は１であり；
【０００８】
Ｒ8は水素、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、トリ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）シリル−エチルオキシカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルコキシカルボニル、シアノ、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6ヒドロキシアルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ2〜Ｃ6ハロアルケニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキルカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6シクロアルキルカルボニル、フェニルカルボニル又はＲ9により置換されたフェニルカルボニル；ベンジルカルボニル又はＲ9により置換されたベンジルカルボニル；ピリジルカルボニル又はＲ9により置換されたピリジルカルボニル；フェノキシカルボニル又はＲ9により置換されたフェノキシカルボニル；ベンジルオキシカルボニル又はＲ9により置換されたベンジルオキシカルボニルであり；
Ｒ9はＣ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、ニトロ、シアノ、ホルミル、カルボキシル又はハロゲンであり；そして
Ｇは水素、農薬上許容されるカチオン又は潜在化基である〕
に関する。
【０００９】
式Ｉの化合物の置換基定義において、１〜６個の炭素原子を有するアルキル置換基及びアルコキシ、アルキルチオ等のアルキル成分は、好ましくは、それらの直鎖状及び分枝状異性体の形のメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル及びヘキシルである。10個以下の炭素原子を有する高級アルキル基は、好ましくはそれらの直鎖状又は分枝状異性体の形のオクチル、ノニル及びデシルを含んで成る。２〜６個の炭素原子並びに10個以下の炭素原子を有するアルケニル及びアルキニル基は、直鎖状又は分枝状であることができ、そして１個以上の二重結合又は三重結合を含むことができる。例はビニル、アリル、プロパルギル、ブテニル、ブチニル、ペンテニル及びペンチニルである。適当なシクロアルキル基は、３〜７個の炭素原子を含み、そして例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル及びシクロヘプチルである。シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシルが好ましい。好ましいハロゲンはフッ素、塩素及び臭素である。
【００１０】
好ましいアリールの例はフェニル及びナフチルである。好ましいヘテロアリールの例はチエニル、フリル、ピロリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル及びピリダジニル、並びに適当であれば、それらのＮ−オキシド及び塩である。それらのアリール及びヘテロアリールは１又は複数の置換基により置換することができ、好ましい置換基はハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル、ニトロ又はシアノである。基Ｇは水素、農薬上許容されるカチオン〔例えばアルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、スルホニウムカチオン（好ましくはトリ（Ｃ1〜Ｃ6）アルキルスルホニウムカチオン）、アンモニウムカチオン、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアンモニウムカチオン、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アンモニウムカチオン、トリ（Ｃ1〜Ｃ6）アンモニウムカチオン、又はテトラ（Ｃ1〜Ｃ6）アルキルアンモニウムカチオン〕、又は潜在化基（lateniating group）を表す。それらの潜在化基Ｇは、生化学的、化学的又は物理的方法の１つ又は組み合わせによりそれの除去を可能にして、処理領域又は植物への適用前、適用中又は適用後に、ＧがＨである式Ｉの化合物を提供するように選択される。それらの方法の例としては、酵素的開裂、化学的加水分解及び光分解が挙げられる。そのような潜在化基Ｇを担持する化合物は、処置される植物の外皮の浸透性の向上、作物の耐性の向上、別の除草剤、除草剤薬害軽減剤（safener）、植物成長調節剤、殺カビ剤又は殺虫剤を含有する製剤混合物における改善された適応性又は安定性、又は土壌中の浸出の減少といった幾つかの利点を提供することができる。
【００１１】
潜在化基Ｇは、好ましくはＣ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ2〜Ｃ8ハロアルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ8アルキル（ここで該フェニル基は任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、ヘテロアリール−Ｃ1〜Ｃ8アルキル（ここでヘテロアリールは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、Ｃ3〜Ｃ8アルケニル、Ｃ3〜Ｃ8ハロアルケニル、Ｃ3〜Ｃ8アルキニル、Ｃ(Ｘa)−Ｒa、Ｃ(Ｘb)−Ｘc−Ｒb、Ｃ(Ｘd)−Ｎ(Ｒc)−Ｒd、−ＳＯ2−Ｒe、−Ｐ(Ｘe)(Ｒf)−Ｒg又はＣＨ2−Ｘf−Ｒh（ここでＸa，Ｘb，Ｘc，Ｘd，Ｘe及びＸfは互いに独立に酸素又は硫黄であり；
ＲaはＨ、Ｃ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ2〜Ｃ18アルケニル、Ｃ2〜Ｃ18アルキニル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1〜Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルケニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルキニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルキリデンアミノオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、トリ（Ｃ3〜Ｃ6アルキル）シリル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでフェニルは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、ヘテロアリール−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでヘテロアリールは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、Ｃ2〜Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたフェニル、ヘテロアリール又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたヘテロアリールであり；
【００１２】
ＲbはＣ1〜Ｃ18アルキル、Ｃ3〜Ｃ18アルケニル、Ｃ3〜Ｃ18アルキニル、Ｃ2〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1〜Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ2〜Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルケニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルキニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルキリデンアミノオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、トリ（Ｃ3〜Ｃ6アルキル）シリル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでフェニルは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、ヘテロアリール−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでヘテロアリールは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、Ｃ3〜Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたフェニル、ヘテロアリール又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたヘテロアリールであり；
【００１３】
Ｒc及びＲdは互いに独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ3〜Ｃ10アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10アルキニル、Ｃ2〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1〜Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルケニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルキニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルキリデンアミノオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ2〜Ｃ5アルキルアミノアルキル、Ｃ3〜Ｃ6トリアルキルシリル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでフェニルは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、ヘテロアリールＣ1〜Ｃ5アルキル（ここでヘテロアリールは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、Ｃ2〜Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたフェニル、ヘテロアリール又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたヘテロアリール、ヘテロアリールアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたヘテロアリールアミノ、ジヘテロアリールアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたジフェニルアミノ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルアミノ、ジ（Ｃ1〜Ｃ3アルキル）アミノ、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシもしくはＣ3〜Ｃ7シクロアルキルアミノ、ジ（Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル）アミノ又はＣ3〜Ｃ7シクロアルコキシであるか、或いはＲcとＲdが一緒に結合して、任意にＯ又はＳから選択された１個のヘテロ原子を含有しそして任意に１又は２個のＣ1〜Ｃ3アルキル基により置換されている３〜７員環を形成してもよく、
【００１４】
ＲeはＣ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ2〜Ｃ10アルケニル、Ｃ2〜Ｃ10アルキニル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1〜Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルケニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルキニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルキリデンアミノオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ2〜Ｃ5アルキルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、トリ（Ｃ3〜Ｃ6アルキル）シリル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでフェニルは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、ヘテロアリール−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでヘテロアリールは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されることがある）、Ｃ2〜Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたフェニル、ヘテロアリール又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたヘテロアリール、ヘテロアリールアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたヘテロアリールアミノ、ジヘテロアリールアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたフェニルアミノ、ジフェニルアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハ��ゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたジフェニルアミノ、又はＣ3〜Ｃ7シクロアルキルアミノ、ジ（Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル）アミノもしくはＣ3〜Ｃ7シクロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノ又はジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノであり；
【００１５】
Ｒf及びＲgは各々互いに独立に、Ｃ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ2〜Ｃ10アルケニル、Ｃ2〜Ｃ10アルキニル、Ｃ1〜Ｃ10アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1〜Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノＣ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルケニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルキニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルキリデンアミノオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ2〜Ｃ5アルキルアミノアルキル、トリ（Ｃ3〜Ｃ6アルキル）シリル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでフェニルは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、ヘテロアリール−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでヘテロアリールは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、Ｃ2〜Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたフェニル、ヘテロアリール又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたヘテロアリール、ヘテロアリールアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたヘテロアリールアミノ、ジヘテロアリールアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたジヘテロアリールアミノ、フェニルアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたフェニルアミノ、アミノ、ヒドロキシル、ジフェニルアミノ又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ��より、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたジフェニルアミノ、又はＣ3〜Ｃ7シクロアルキルアミノ、ジ（Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル）アミノもしくはＣ3〜Ｃ7シクロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノもしくはジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノ、ベンジルオキシもしくはフェノキシ（ここでベンジル基とフェニル基は、Ｃ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されてもよい）であり；
【００１６】
ＲhはＣ1〜Ｃ10アルキル、Ｃ3〜Ｃ10アルケニル、Ｃ3〜Ｃ10アルキニル、Ｃ1〜Ｃ10ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ10シアノアルキル、Ｃ1〜Ｃ10ニトロアルキル、Ｃ2〜Ｃ10アミノアルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルケニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ3〜Ｃ5アルキニルオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ2〜Ｃ8アルキリデンアミノオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルアミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、ジ（Ｃ2〜Ｃ8アルキル）アミノカルボニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、Ｎ−Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボニル−Ｎ−Ｃ2〜Ｃ5アルキルアミノ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、トリ（Ｃ3〜Ｃ6アルキル）シリル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル、フェニル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでフェニルは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、ヘテロアリール−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでヘテロアリールは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、フェノキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでフェニルは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されることがある）、ヘテロアリールオキシ−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでヘテロアリールは任意にＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニルにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されることがある）、Ｃ3〜Ｃ5ハロアルケニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたフェニル、ヘテロアリール又はＣ1〜Ｃ3アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシにより、ハロゲンにより、シアノによりもしくはニトロにより置換されたヘテロアリールである。
【００１７】
式Ｉの化合物の好ましい群では、Ｒ1はハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル又はＣ2〜Ｃ4アルキニルである。
【００１８】
式Ｉの化合物の別の好ましい群では、Ｒ2はアリール又はヘテロアリール；又はハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、フェノキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル、Ｃ3〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、ニトロ、シアノ、チオシアナート、ヒドロキシ、アミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノ、Ｃ1〜Ｃ6ジアルキルアミノ、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキルアミノ、モルホリノ、チオモルホリノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニルアミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニルアミノ、Ｃ3〜Ｃ6アルケニルオキシカルボニルアミノ、Ｃ3〜Ｃ6アルキニルオキシカルボニルアミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノカルボニルアミノ、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノカルボニルアミノ、ホルミル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニルカルボニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニルカルボニル、カルボキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニルオキシカルボニル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニルオキシカルボニル、カルボキサミド、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノカルボニル、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノカルボニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボニルオキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルキルアミノカルボニルオキシ、ジ（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）アミノカルボニルオキシ又はＣ1〜Ｃ6アルキルチオカルボニルアミノにより置換されたアリール又はヘテロアリールである。
【００１９】
好ましくは、式Ｉの化合物中のＲ2はアリール又はヘテロアリール；又はハロゲンにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルにより、フェノキシにより、Ｃ2〜Ｃ4アルケニルにより、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニルにより、Ｃ2〜Ｃ4アルキニルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニルにより、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニルにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオにより、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル、ニトロにより又はシアノにより置換されているアリール又はヘテロアリールである。
【００２０】
より好ましくは、Ｒ2はフェニル、チエニル、フリル、ピロリル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、ピラゾリル、イミダゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニル、ピリダジニル、オキサジアゾリル及びチアジアゾリル、並びにそれのＮ−オキシド及び塩であり、ここでそれらの環は未置換であるか又はハロゲン、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ2〜Ｃ4アルケニル、Ｃ2〜Ｃ4ハロアルケニル、Ｃ2〜Ｃ4アルキニル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホニル、ニトロ又はシアノにより置換されている。
【００２１】
更により好ましい式Ｉの化合物では、Ｒ2はフェニルもしくはピリジルであるか、又はハロゲンにより、ニトロにより、シアノにより、Ｃ1〜Ｃ2アルキルにより、Ｃ1〜Ｃ2ハロアルキルにより、Ｃ1〜Ｃ2アルコキシによりもしくはＣ1〜Ｃ2ハロアルコキシにより置換されたフェニルもしくはピリジルである。
【００２２】
特に好ましい化合物の群では、Ｒ2は、ハロゲン（特に塩素）によりパラ位で置換されており且つ任意にハロゲン、ニトロ、Ｃ1〜Ｃ2アルキル、Ｃ1〜Ｃ2ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ2アルコキシ又はＣ1〜Ｃ2ハロアルコキシにより更に置換されることがあるフェニルである。
【００２３】
好ましくは、Ｒ3は水素（ｒは０である）、ハロゲン又はＣ1〜Ｃ6アルキルであり、特に水素である。
好ましくは、ｒが１である場合、Ｒ3はハロゲン又はＣ1〜Ｃ3アルキルである。
【００２４】
Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7が互いに独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルチオ−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルフィニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルスルホニル−Ｃ1〜Ｃ4アルキル；Ｃ5〜Ｃ7シクロアルキル又はＣ1−もしくはＣ2−アルキルにより又はＣ1−もしくはＣ2−ハロアルキルにより置換されたＣ5〜Ｃ7シクロアルキル（ここでメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられる）；Ｃ5〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル又はＣ1〜Ｃ2アルキルによりもしくはＣ1−もしくはＣ2−ハロアルキルにより置換されたＣ5〜Ｃ7シクロアルキル−Ｃ1〜Ｃ5アルキル（ここでメチレン基は任意に酸素もしくは硫黄原子又はスルフィニルもしくはスルホニル基により置き換えられる）である、式Ｉの化合物が好ましい。
【００２５】
より好ましくは、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は互いに独立に、水素、Ｃ1〜Ｃ2アルキル、Ｃ1〜Ｃ2ハロアルキル又はＣ1〜Ｃ2アルコキシＣ1〜Ｃ2アルキルである。
【００２６】
Ｙの好ましい意味はＯ，Ｃ＝Ｏ及びＳである。
Ｙは特に好ましくはＯである。
【００２７】
好ましくは、ＧはＣ(Ｘa)−Ｒa又はＣ(Ｘb)−Ｘc−Ｒbを表し、そしてＸa，Ｒa，Ｘb，Ｘc及びＲbの意味は上記に定義した通りである。更に特に好ましくは、潜在化基Ｇは、Ｃ(Ｘa)−Ｒa、Ｃ(Ｘb)−Ｘc−Ｒbから選択され、ここでＸa，Ｘb及びＸcは酸素であり、ＲaはＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ2〜Ｃ6アルケニル、Ｃ2〜Ｃ6アルキニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル又はＣ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキルであり、そしてＲbはＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ3〜Ｃ6アルケニル、Ｃ3〜Ｃ6アルキニル、Ｃ3〜Ｃ6シクロアルキル又はＣ1〜Ｃ4アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルキルである。
より重要な基Ｇは、水素、農薬上許容されるカチオンとしてアルカリ金属又はアルカリ土類金属カチオンを含んで成り、水素が特に好ましい。
【００２８】
式Ｉの化合物の好ましい群では、Ｒ1がＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｒ2がフェニル又はハロゲンによりもしくはＣ1〜Ｃ2アルキルにより置換されたフェニルであり、Ｒ3が水素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7が互いに独立にＣ1〜Ｃ2アルキルであり、ＹがＯであり、そしてＧが水素である。
【００２９】
本発明は、式Ｉの化合物がアミン、アルカリ金属及びアルカリ土類金属塩基又は第四級アンモニウム塩基と共に形成することができる塩にも関する。
【００３０】
塩形成剤としてのアルカリ金属及びアルカリ土類金属水酸化物の中で、特にリチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム及びカルシウムの水酸化物、特にナトリウム及びカリウムの水酸化物に注目すべきである。本発明に係る式Ｉの化合物は、塩形成中に形成される場合がある水和物も包含する。
【００３１】
アンモニウム塩形成に適当なアミンの例としては、アンモニア並びに第一、第二及び第三Ｃ1〜Ｃ18アルキルアミン、Ｃ1〜Ｃ4ヒドロキシアルキルアミン及びＣ2〜Ｃ4アルコキシアルキルアミン、例えばメチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、４つのブチルアミン異性体、ｎ−アミルアミン、イソアミルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、メチルエチルアミン、メチルイソプロピルアミン、メチルヘキシルアミン、メチルノニルアミン、メチルペンタデシルアミン、メチルオクタデシルアミン、エチルブチルアミン、エチルヘプチルアミン、エチルオクチルアミン、ヘキシルヘプチルアミン、ヘキシルオクチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−アミルアミン、ジイソアミルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、エタノールアミン、ｎ−プロパノールアミン、イソプロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエタノールアミン、Ｎ−エチルプロパノールアミン、Ｎ−ブチルエタノールアミン、アリルアミン、ｎ−ブタ−２−エニルアミン、ｎ−ペンタ−２−エニルアミン、２，３−ジメチルブタ−２−エニルアミン、ジブタ−２−エニルアミン、ｎ−ヘキサ−２−エニルアミン、プロピレンジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ−sec−ブチルアミン、トリ−ｎ−アミルアミン、メトキシエチルアミン及びエトキシエチルアミン；複素環式アミン、例えばピリジン、キノリン、イソキノリン、モルホリン、ピペリジン、ピロリジン、インドリン、キヌクリジン及びアセピン；第一級アリールアミン、例えばアニリン、メトキシアニリン、エトキシアニリン、о−，ｍ−及びｐ−トルイジン、フェニレンジアミン、ベンジジン、ナフチルアミン並びにо−，ｍ−及びｐ−クロロアニリンが挙げられるが、特にトリエチルアミン、イソプロピルアミン及びジイソプロピルアミンである。
【００３２】
塩形成に好ましい第四級アンモニウム塩基は、例えば、式〔Ｎ（ＲaＲbＲcＲd）〕ＯＨに相当し、ここでＲa，Ｒb，Ｒc及びＲdは各々互いに独立にＣ1〜Ｃ4アルキルである。別のアニオンを有する更に適当なテトラアルキルアンモニウム塩基は、例えば、アニオン交換反応により得ることができる。
【００３３】
置換基Ｇ，Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7及びＲ8の性質に依存して、式Ｉの化合物は異なる異性体の形で存在しうる。例えばＧが水素である時、式Ｉの化合物は異なる互変異性体の形で存在しうる。
【００３４】
【化２】
2010512360.tif 000003
【００３５】
更に、ＹがＣ＝ＯでありそしてＲ4が水素である時、式Ｉの化合物は異なる互変異性体の形で存在しうる。
【００３６】
【化３】
2010512360.tif 000004
【００３７】
また、置換基が二重結合を含む時、シス及びトランス異性体が存在できる。本発明は、そのような異性体及び互変異性体並びにあらゆる比率でのそれらの混合物を全て包含する。それらの異性体も式Ｉの本発明化合物の範囲内である。
【００３８】
ＧがＣ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ2〜Ｃ8ハロアルキル、フェニルＣ1〜Ｃ8アルキル（ここでフェニルは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されてもよい）、ヘテロアリールＣ1〜Ｃ8アルキル（ここでヘテロアリールは任意にＣ1〜Ｃ3アルキル、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ3アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3ハロアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルチオ、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルフィニル、Ｃ1〜Ｃ3アルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ又はニトロにより置換されてもよい）、Ｃ3〜Ｃ8アルケニル、Ｃ3〜Ｃ8ハロアルケニル、Ｃ3〜Ｃ8アルキニル、Ｃ(Ｘa)−Ｒa，Ｃ(Ｘb)Ｘc−Ｒb，Ｃ(Ｘd)−Ｎ(Ｒc)−Ｒd，−ＳＯ2Ｒe，−Ｐ(Ｘe)(Ｒf)−Ｒ9又はＣＨ2−Ｘf−Ｒh（ここでＸa，Ｘb，Ｘc，Ｘd，Ｘe，Ｘf，Ｒa，Ｒb，Ｒc，Ｒd，Ｒe，Ｒf，Ｒg及びＲhは前に定義した通りである）である式Ｉの化合物は、ＧがＨである式（Ｉ）の化合物である式（Ａ）の化合物を、試薬Ｇ−Ｚ（ここでＧ−Ｚはアルキル化剤、例えばハロゲン化アルキル（ハロゲン化アルキルの定義は、単純なハロゲン化Ｃ1〜Ｃ8アルキル例えばヨウ化メチル及びヨウ化エチル、置換されたハロゲン化アルキル例えばクロロメチルアルキルエーテルCl−CH2−Ｘf−Ｒh（ここでＸfは酸素である）、クロロメチルアルキルスルフィドCl−CH2−Ｘf−Ｒh（ここでＸfは硫黄である）、Ｃ1〜Ｃ8アルキルスルホネート、もしくはジ（Ｃ1〜Ｃ8アルキル）スルフェート、ハロゲン化Ｃ3〜Ｃ8アルケニル、ハロゲン化Ｃ3〜Ｃ8アルキニル、又はアシル化剤、例えばカルボン酸ＨＯ−Ｃ(Ｘa)Ｒa（ここでＸaは酸素である）、酸クロリドCl−Ｃ(Ｘa)Ｒa（ここでＸaは酸素である）又は酸無水物〔ＲaＣ(Ｘa)〕2Ｏ（ここでＸaは酸素である）又はイソシアネートＲcＮ＝Ｃ＝ＯもしくはカルバモイルクロリドCl−Ｃ(Ｘd)−Ｎ(Ｒc)−Ｒd（ここでＸdは酸素であり、Ｒc又はＲdのいずれも水素でないことを前提とする）、又はチオカルバモイルクロリドCl−(Ｘd)−Ｎ(Ｒc)−Ｒd（ここでＸdは硫黄であり、そしてＲcとＲdのいずれも水素でないことを前提とする）、又はクロロチオホルメートCl−Ｃ(Ｘb)−Ｘc−Ｒb（ここでＸbは酸素でありそしてＸcは硫黄である）、クロロジチオホルメートCl−Ｃ(Ｘb)−Ｘc−Ｒb（ここでＸbとＸcは硫黄である）、又はイオチオシアネートＲcＮ＝Ｃ＝Ｓと反応させることにより、或いは二硫化炭素とアルキル化剤による連続処理により、又は少なくとも１当量の塩基の存在下でリン酸化剤、例えば塩化リン、Cl−Ｐ(Ｘe)(Ｒf)−Ｒg又はスルホニル化剤、例えば塩化スルホニルCl−SO2−Ｒeで処理することにより調製することができる。置換基Ｒ4とＲ5が置換基Ｒ6とＲ7と等しくない場合、それらの反応は、式（Ｉ）の化合物に加えて、式（ＩＡ）の第二化合物を生成することがある。本発明は、式（Ｉ）の化合物と式（ＩＡ）の化合物の両者を、任意の比率でのそれらの化合物の混合物と共に包含する。
【００３９】
【化４】
2010512360.tif 000005
【００４０】
環状１，３−ジオンのＯ−アルキル化は既知であり；適当な方法が例えばT.Wheeler, US4436666により記載されている。別の方法がM. Pizzorno及びS. Albonico, Chem. Ind. (London) (1972), 425-426 ; H. Born他、J. Chem. Soc. (1953), 1779-1782 ; M.G. Constantino他、Synth. Commun. (1992), 22(19), 2859-2864 ; Y. Tian他、Synth. Commun. (1997), 27(9), 1577-1582 ; S. Chandra Roy他、Chem. Letters (2006), 35(1), 16-17 ; P.K. Zubaidha他、Tetrahedron Lett. (2004), 45, 7187-7188により記載されている。
【００４１】
環状１，３−ジオンのＯ−アシル化は、例えば、R. Haines, US4175135により及びT. Wheeler, US4422870, US4659372及びUS4436666により記載されたものと同様な手順により実施することができる。典型的には、式（Ａ）のジオンを、好ましくは少なくとも１当量の適当な塩基の存在下で、そして任意の適当な溶媒の存在下で、アシル化剤で処理することができる。塩基は無機、例えばアルカリ金属炭酸塩もしくは水酸化物、又は金属水素化物、又は有機塩基、例えば第三級アミンもしくは金属アルコキシドであることができる。適当な無機塩基の例としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムもしくはカリウム、水素化ナトリウムが挙げられ、そして適当な有機塩基としてはトリアルキルアミン、例えばトリメチルアミン及びトリエチルアミン、ピリジン又は他のアミン塩基、例えば１，４−ジアゾビシクロ〔２．２．２〕オクタン及び１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデカ−７−エンが挙げられる。好ましい塩基としてはトリエチルアミンとピリジンが挙げられる。この反応に適当な溶媒は試薬と相溶性であるように選択され、その例としてはエーテル、例えばテトラヒドロフラン及び１，２−ジメトキシエタン、並びにハロゲン化溶媒、例えばジクロロメタン及びクロロホルムが挙げられる。ピリジンやトリエチルアミンのような或る種の塩基は、塩基と溶媒の両方としてうまく使用することができる。アシル化剤がカルボン酸である場合には、アシル化は好ましくは既知のカップリング剤、例えばヨウ化２−クロロ−１−メチルピリジニウム、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド及びＮ，Ｎ′−カルボジイミダゾールの存在下で、そして任意に塩基、例えばトリエチルアミン又はピリジンの存在下で、適当な溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジクロロメタン又はアセトニトリル中で実施される。適当な方法は、例えば、W. Zhang及びG. Pugh, Tetrahedron Lett. (1999), 40(43), 7595-7598 ; T. Isobe及びT. Ishikawa, J. Org. Chem. (1999), 64(19), 6984-6988及びK. Nicolaou, T. Montagnon, G. Vassiligiannakis, C. Mathison, J. Am. Chem. Soc. (2005), 127(24), 8872-8888により記載されている。
【００４２】
環状１，３−ジオンのリン酸化は、ハロゲン化ホスホリル又はハロゲン化チオホスホリル及び塩基を使って、L. Hadakowski, US4409153により記載されたものと同様な手順により実施することができる。
【００４３】
式（Ａ）の化合物のスルホニル化は、ハロゲン化アルキル又はアリールスルホニルを使って少なくとも１当量の塩基の存在下で、例えばC. Kowalski及びK. Fields, J. Org. Chem. (1981), 46, 197-201の手順により、達成することができる。
【００４４】
ＹがＳ(Ｏ)mでありそしてｍが１又は２である式（Ａ）の化合物は、ＹがＳである式（Ａ）の化合物から酸化によって、E. Fehnel及びA. Paul, J. Am. Chem. Soc (1955), 77, 4241-4244のものと同様な手順に従って調製することができる。
【００４５】
ＹがＯ，Ｓ又はＣ＝Ｏである式（Ａ）の化合物は、好ましくは酸又は塩基の存在下で、そして場合により適当な溶媒の存在下で、T.Wheeler, US4209532により記載されたものと同様な方法により、式（Ｂ）の化合物の環化を介して調製することができる。式（Ｂ）の化合物は、式Ｉの化合物の合成の中間体として特にデザインされた。Ｒが水素又はＣ1〜Ｃ4アルキル（特にメチル、エチル及びtert−ブチル）である式（Ｂ）の化合物は、酸性条件下で、好ましくは強酸、特に硫酸、ポリリン酸又はイートン試薬の存在下で、任意の適当な溶媒、例えば酢酸、トルエン又はジクロロメタンの存在下で環化することができる。
【００４６】
【化５】
2010512360.tif 000006
【００４７】
Ｒがアルキル（好ましくはメチル又はエチル）である式（Ｂ）の化合物は、酸性又は塩基性条件下で、好ましくは塩基性条件下少なくとも１当量の強酸、例えばカリウムtert−ブトキシド、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド又は水素化ナトリウムの存在下で、及び溶媒、例えばテトラヒドロフラン、トルエン、ジメチルスルホキシド又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド中で環化することができる。
【００４８】
ＲがＨである式（Ｂ）の化合物は、既知の条件下で（例えば酸触媒の存在下でのアルコールＲ−ＯＨでの処理により）、Ｒがアルキルである式（Ｂ）の化合物にエステル化することができる。
【００４９】
ＲがＨである式（Ｂ）の化合物は、例えばT. Wheeler, US4209532により記載されたもの同様な方法により、ＲがＨ又はアルキルでありそしてＲ′がアルキル（好ましくはメチル又はエチル）である式（Ｃ）の化合物の加水分解に続いて、反応混合物の酸性化により脱カルボキシル化を行うことにより、調製することができる。或いは、Ｒがアルキル（好ましくはメチル）である式（Ｂ）の化合物は、Ｒがアルキル（好ましくはメチル）である式（Ｃ）の化合物から、既知の試薬を使った既知の条件下でのKapcho脱カルボキシル化反応（例えばG. Quallich, P. Morrissey, Synthesis (1993), (1), 51-53を参照のこと）を通して調製することができる。
【００５０】
【化６】
2010512360.tif 000007
【００５１】
Ｒがアルキルである式（Ｃ）の化合物は、式（Ｄ）の化合物を、塩基性条件下でＲがアルキルである式（Ｅ）の適当なカルボン酸クロリドで処理することにより調製することができる。適当な塩基としてはカリウムtert−ブトキシド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド及びリチウムジイソプロピルアミドが挙げられ、そして反応は好ましくは適当な溶媒（例えばテトラヒドロフラン又はトルエン）中で−80℃〜30℃の温度で実施される。
【００５２】
【化７】
2010512360.tif 000008
【００５３】
或いは、ＲがＨである式（Ｃ）の化合物は、式（Ｄ）の化合物を適当な溶媒（例えばテトラヒドロフラン又はトルエン）中で適当な温度（−80℃〜30℃）にて適当な塩基（例えばカリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド又はリチウムジイソプロピルアミド）で処理し、そして生じたアニオンを適当な式（Ｆ）の無水物と反応させることにより調製することができる：
【００５４】
【化８】
2010512360.tif 000009
【００５５】
式（Ｅ）及び式（Ｆ）の化合物は既知である（例えばT. Terasawa及びT. Okada, J. Org. Chem. (1977), 42(7), 1163-1169並びにG. Bennett, W. Houlihan, R. Mason及びR. Engstrom, J. Med. Chem. (1976), 19(5), 709-14参照）か又は市販の出発物質から同様な方法により製造することができる。
【００５６】
上記に概説した同様な手順を使って、そして式（Ｇ）のハロゲン化フェニル酢酸エステル（Halが塩素、臭素又はヨウ素である）から出発して、式（Ｈ）の化合物を調製することができる。次いで、これを、パラジウム触媒条件下、好ましくはスズキ−ミヤウラ条件下で、結合相手、例えばアリール又はヘテロアリールボロン酸Ｒ2−Ｂ(ＯＨ)2、それの適当な塩もしくはエステルとの反応により、Ｒ2がアリール又はヘテロアリールである式（Ａ）の化合物に変換することができる。
【００５７】
式（Ｈ）の化合物は、特に式（Ｉ）の化合物の合成のための中間体としてデザインされている。
【００５８】
【化９】
2010512360.tif 000010
【００５９】
式（Ｈ）のハロゲン化アリールと式Ｒ2−Ｂ(ＯＨ)2のアリール又はヘテロアリールボロン酸、又はそれの適当な塩もしくはエステルとのスズキ−ミヤウラ交差カップリングを行うのに適当な条件は、文献から知られている（例えばK. Billingsley及びS. Buchwald, J. Am. Chem. Soc. (2007), 129, 3358-3366 ; H. Stefani, R. Cella及びA. Vieira, Tetrahedron (2007), 63, 3623-3658 ; N. Kudo, M. Rerseghini及びG. Fu, Angew. Chem. Int. Ed. (2006), 45, 1282-1284 ; A. Roglans, A. Roglans, A. Pla-Quintana及びM. Moreno-Manas, Chem. Rev. (2006), 106, 4622-4643 ; J-H Li, Q-M Zhu及びY-X Xie, Tetrahedron (2006), 10888-10895 ; S. Nolan他、J. Org. Chem. (2006), 71, 685-692 ; Lysen及びK. Kohler, Synthesis (2006), 4, 692-698 ; K. Anderson及びS. Buchwald, Angew. Chem. Ind. Ed. (2005), 44, 6173-6177 ; Y. Wang及びD. Sauer, Org. Lett. (2004), 6(16), 2793-2795 ; I. Kondolff, H. Doucet及びM. Santelli, Tetrahedron (2004), 60, 3813-3818 ; F. Bellina, A. Carpita及びR. Rossi, Synthesis (2004), 15, 2419-2440 ; H. Stefani, G. Molander, C-S Yun, M. Ribagorda及びB. Biolatto, J. Org. Chem. (2003), 68, 5534-5539 ; A. Suzuki, Journal of Organometallic Chemistry (2002), 653, 83 ; G. Molander及びC-S Yun, Tetrahedron (2002), 58, 1465-1470 ; G. Zou, Y.K. Reddy及びJ. Falck, Tetrahedron Lett. (2001), 42, 4213-4215 ; S. Darses, G. Michaud及びJ-P. Genet, Eur. J. Org. Chem. (1999), 1877-1883 ; M. Beavers他、WO2005/012243 ; J. Org. Chem. (1994), 59, 6095-6097 ; A. Collier及びG. Wagner, Synthetic Communications (2006), 36, 3713-3721参照）。
【００６０】
或いは、式（Ａ）の化合物は、Halが塩素、臭素、ヨウ素又は擬ハロゲン、例えばＣ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホネート、特にトリフレートである式（Ｉ）の化合物と、式Ｒ2−Ｂ(ＯＨ)2のアリールもしくはヘテロアリールボロン酸、又はそれの適当な塩もしくはエステルとのスズキ−ミヤウラ交差カップリングに続いて、式（Ｂ）の化合物について上述した条件下での環化により、調製することができる。
【００６１】
更なるアプローチとして、Ｒ2がアジンＮ−オキシド、例えばピリジンＮ−オキシド、ピリミジンＮ−オキシド、ピリダジンＮ−オキシド又はピラジンＮ−オキシドである式（Ａ）の化合物は、L. Campeau, S. Rousseaux及びK. Fagnou, J. Am. Chem. Soc. (2005), 127, 18020により並びにJ-P. Leclerc及びK. Fagnou, Angew. Chem. Int. Ed. (2006, 45, 7781-7786により記載された条件下で、適当なアジンＮ−オキシドとの反応により式（Ｈ）の化合物から調製することができる。生じたＮ−オキシドを、既知条件（例えば適当な触媒の存在下で蟻酸アンモニウム又は水素による還元）下で既知の試薬で処理すると、式（Ｉ）の追加の化合物を提供することができる。
【００６２】
Ｒ2が窒素原子を介してフェニル環に結合したヘテロ芳香環である式（Ａ）の追加の化合物は、例えばM. Taillefer, N. Xia及びA. Quali, Angew. Chem. Int. Ed. (2007), 46 (6), 934-936 ; H. Zhang, Q. Cai, D. Ma, J. Org. Chem. (2005), 70, 5164-5173 ; J. Antilla, J. Baskin, T. Barder及びS. Buchwald, J. Org. Chem. (2004), 69, 5578-5587 ; A. Thomas及びS. Ley, Angew. Chem. Int. Ed., 2003, 42, 5400-5449並びにその中の参考文献により記載されたように、適当な触媒、適当なリガンド、適当な塩基の存在下でそして適当な溶媒中で、Ｎ−Ｈ含有ヘテロ芳香環化合物Ｒ2−Ｈと、式（Ｈ）の化合物又は式（Ｉ）の化合物とのUllmann型カップリング（この反応はＮ−アリール化としても文献中に知られている）により得ることができる。
【００６３】
更なるアプローチでは、ＹがＯ，Ｓ又はＣ＝Ｏである式（Ａ）の化合物は、適当なリガンドの存在下でそして適当な溶媒中で、式（Ｊ）の化合物とアリール化されたトリカルボキシレートとの反応により調製することができる。同様な反応が文献中に記載されている（例えばJ. Pinhey, B. Rowe, Aust. J. Chem. (1979), 32, 1561-6 ; J. Morgan, J. Pinhey, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 (1990), 3, 715-20を参照のこと）。好ましくは、アリール化されたトリカルボキシレートが式（Ｋ）のアリール化トリアセテートである。好ましくはリガンドが窒素含有複素環、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，10−フェナントロリンピリジン、ビピリジン又はイミダゾールであり、そして好ましくは式（Ｊ）の化合物に関して１〜10当量のリガンドが使用される。最も好ましくはリガンドがＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンである。溶媒は好ましくはクロロホルム、ジクロロメタン又はトルエン、最も好ましくはクロロホルム又はクロロホルムとトルエンの混合物である。好ましくは反応は−10℃〜100℃の温度、最も好ましくは40〜90℃の温度で実施される。
【００６４】
【化１０】
2010512360.tif 000011
【００６５】
ＹがＯである式（Ｊ）の化合物は既知化合物であるか又は、文献中に記載されたものと同様な経路により調製することができる（例えばM. Morgan及びE. Heyningen, J. Am. Chem. Soc. (1975), 79, 422-424 ; I. Korobitsyna及びK. Pivnitskii, Russian Journal of General Chemistry (1960), 30, 4016-4023 ; T. Terasawa及びT. Okada, J. Org. Chem. (1977), 42(7), 1163-1169 ; R. Anderson他、US5089046 ; R. Altenbach, K. Agrios, I. Drizin及びW. Carroll, Synth. Commun. (2004), 34(4), 557-565 ; R. Beaudegnies他、WO2005/123667 ; W. Li, G. Wayne, J. Lallaman, S. Chang及びS. Wittenberger, J. Org. Chem. (2006), 71, 1725-1727 ; R. Altenbach, M. Brune, S. Buckner, M. Coghlan, A. Daza, A. Fabiyi, M. Gopalakrishnan, R. Henry, A. Khilevich, M. Kort, I. Milicic, V. Scott, J. Smith, K. Whiteaker及びW. Carroll, J. Med. Chem. (2006), 49(23), 6869-6887 ; Carroll他、WO2001/083484 A1 ; J.K. Crandall, W.W. Conover, J. Org. Chem. (1978), 43(18), 3533-5 ; I.K. Korobitsyna, O.P. Studzinskii, Chemistry of Heterocyclic Compounds (1966), (6), 848-854を参照のこと）。ＹがＳである式（Ｊ）の化合物は、既知化合物であるか又は文献中に記載されたものと同様な経路により調製することができる(例えば、E. Fehnel及びA. Paul, J. Am. Chem. Soc. (1955), 77, 4241-4244 ; E. Er及びP. Margaretha, Helvetica Chimica Acta (1992), 75(7), 2265-69 ; H. Gayer他、DE 3318648 A1を参照のこと)。ＹがＣ＝Ｏである式（Ｊ）の化合物は、既知化合物であるか又は文献中に記載されたものと同様な経路により調製することができる（例えば、R. Gotz及びN. Gotz, WO 2001/060776, R. Gotz他、WO 2000/075095 ; M. Benbakkar他、Synth. Commun. (1989) 19(18), 3241-3247 ; A. Jain及びT. Seshadri, Proc. Indian Acad. Sci. Sect.A (1955), 42, 279 ; N. Ahmad他、J. Org. Chem. (2007), 72(13), 4803-4815 ; F. Effenberger他、Chem. Ber. (1986), 119, 3394-3404及びその中の参考文献を参照のこと）。
【００６６】
式（Ｋ）の化合物は、適当な溶媒（例えばクロロホルム）中25℃〜100℃（好ましくは25〜50℃）で、そして場合により触媒、例えば酢酸第二水銀の存在下で、文献中に記載された方法（例えばK. Shimi, G. Boyer, J-P. Finet及びJ-P. Galy, Letters in Organic Chemistry (2005), 2, 407-409 ; J. Morgan及びJ. Pinhey, J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 (1990), 3, 715-720参照）に従って、式（Ｌ）の化合物を四酢酸鉛で処理することにより調製することができる。
【００６７】
【化１１】
2010512360.tif 000012
【００６８】
式（Ｌ）のアリールボロン酸は、既知の方法（例えばW. Thompson及びJ. Gaudino, J. Org. Chem. (1984), 49, 5237-5243 ; R. Hawkins他、J. Am. Chem. Soc. (1960), 82, 3053-3059参照）により、Halが臭素又はヨウ素である式（Ｍ）のハロゲン化アリールから調製することができる。ここで式（Ｍ）のハロゲン化アリールを、低温でハロゲン化アルキルリチウム又はアルキルマグネシウムで処理し、そして得られたアリールマグネシウム又はアリールリチウム試薬をトリアルキルボレートＢ(OR'')3、好ましくはトリメチルボレートと反応させてアリールジアルキルボロネートを提供し、それを酸性条件下で式（Ｌ）の所望のボロン酸に加水分解することができる。或いは、既知試薬を使って既知条件下でのバラジウム触媒使用ホウ素化反応に続いて中間体ボロネートエステルの加水分解を通して、化合物（Ｍ）から化合物（Ｌ）への同一の全変換を達成することができる（例えばT. Ishiyama, M. Murata, N. Miyaura, J. Org. Chem. (1995), 60, 7508-7510 ; K.L. Billingsly, T.E. Barder, S.L. Buchwald, Angrew. Chem. Int. Ed. (2007), 46, 5359-5363参照）。
【００６９】
【化１２】
2010512360.tif 000013
【００７０】
式（Ｍ）のハロゲン化アリールは既知化合物であるか、又は既知化合物から既知方法により調製することができる。例えば、式（Ｍ）のハロゲン化アリールは、既知方法、例えばサンドマイヤー反応により、対応するジアゾニウム塩を経由して、式（Ｎ）のアニリンから調製することができる（例えば、J. March, Advanced Organic Chemistry, 第３版, John Wiley & Sons, 647-648頁及びその中の参考文献を参照のこと。追加の例としてW. Denney他、J. Med. Chem. (1991), 34, 217-222 ; P. Knochel他、Synthesis (2007),  No.1, 81-84も参照のこと）。
【００７１】
更に、式（Ｎ）の化合物は、既知試薬を使った既知条件下で中間体のアリールジアゾニウム塩のパラジウム触媒ホウ素化（例えばD.M. Willis, R.M. Strongin, Tetrahedron Lett. (2000), 41, 8683-8686参照）に続いて、中間体のボロネートエステルの加水分解により、式（Ｌ）の化合物に直接変換することができる。
【００７２】
【化１３】
2010512360.tif 000014
【００７３】
式（Ｎ）のアニリンは既知化合物であるか、又は既知方法により既知化合物から製造することができる。例えば、式（Ｎ）のアニリンは、式（Ｏ）のニトロベンゼン（Halは塩素、臭素、ヨウ素又は擬ハロゲン、例えばＣ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホネート、特にトリフレートである）から、アリール又はヘテロアリール−ボロン酸Ｒ2−Ｂ(ＯＨ)2又は適当なその塩もしくはエステルから、スズキ−ミヤウラ（Suzuki-Miyaura）条件下で、又はＮ−Ｈ含有複素芳香環Ｒ2−Ｈを使って、Ｎ−アルキル化条件下で、次いで標準法によるニトロ基の還元により、調製することができる。或いは、式（Ｏ）の化合物をまずアニリンに還元し、次いでスズキ−ミヤウラ条件下でアニリン交差カップリングすることができる（例えば、A. Maj, L. Delaude, A. Demonceau及びA. Noels, Tetrahedron (2007), 63, 2657-2663 ; F. Bellina, A. Capita及びR. Rossi, Synthesis (2004), 15, 2419-2440 ; A. Suzuki, Journal of Organometallic Chemistry (2002), 653, 83-90を参照のこと）。
【００７４】
【化１４】
2010512360.tif 000015
【００７５】
式（Ｄ）のニトロベンゼンは既知化合物であるか、又は既知方法により既知化合物から調製することができる。
【００７６】
更なるアプローチでは、式（Ａ）の化合物は、適当なパラジウム触媒と塩基の存在下で、好ましくは適当な溶媒中で式（Ｌ）のアリールボロン酸との反応により式（Ｐ）の化合物から調製することができる。適当なパラジウム触媒は一般にパラジウム（II）又はパラジウム（0）錯体、例えば二ハロゲン化パラジウム（II）、酢酸パラジウム（II）、硫酸パラジウム（II）、二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）、二塩化ビス（トリシクロペンチルホスフィン）パラジウム（II）、二塩化ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（II）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（0）又はテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0）である。パラジウム触媒は、所望のリガンドを、例えば錯生成しようとするパラジウム（II）塩、例えば二塩化パラジウム（II）（PdCl2）又は酢酸パラジウム（Pd(OAc)2）と所望のリガンド、例えばトリフェニルホスフィン（PPh3）、トリシクロペンチルホスフィン又はトリシクロヘキシルホスフィン及び選択された溶媒と、式（Ｐ）の化合物、式（Ｌ）の化合物及び塩基とを一緒に混合することにより、パラジウム（II）又はパラジウム（0）化合物から「その場で」調製することもできる。二元性リガンド、例えば１，１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン又は１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンも適当である。反応媒体を加熱することにより、Ｃ−Ｃカップリング反応用に望ましいパラジウム（II）錯体又はパラジウム（0）錯体が「その場で」形成され、次いでＣ−Ｃカップリング反応を開始する。
【００７７】
パラジウム触媒は、式（Ｐ）の化合物に基づいて0.001〜50モル％の量で、好ましくは0.1〜15モル％の量で使用される。より好ましくは、パラジウム源が酢酸パラジウムであり、塩基が水酸化リチウムであり、そして溶媒が4：1〜1：4の比の１，２−ジメトキシエタンと水の混合物である。反応は別の添加剤、例えばテトラアルキルアンモニウム塩、例えば臭化テトラブチルアンモニウムの存在下で実施してもよい。
【００７８】
【化１５】
2010512360.tif 000016
【００７９】
式（Ｐ）の化合物は、K. Schank及びC. Lick, Synthesis (1983), 392-395又はZ. Yang他、Org. Lett. (2002), 4(19), 3333-3336の手法に従って、（ジアセトキシ）ヨードベンゼンでの処理により式（Ｊ）の化合物から調製することができる：
【００８０】
【化１６】
2010512360.tif 000017
【００８１】
更なるアプローチでは、式（Ａ）の化合物は、転位を促進する試薬の存在下で、例えば金属アルコキシド（好ましくは式（Ｑ）の化合物に関して100％に等しいか又はより大きい量で）又はシアニドアニオン（例えば0.001〜25％シアン化カリウム、0.001〜25％シアン化ナトリウム）又はシアノヒドリン（好ましくは式（Ｑ）の化合物に関して0.001〜25％のアセトンシアノヒドリン）の存在下で、式（Ｑ）の化合物の転位により調製することができる。この反応は、任意の適当な溶媒（例えばアセトニトリル）中で適当な温度（典型的には25〜100℃）でそして適当な塩基（例えばトリエチルアミン）を使って実施される。
【００８２】
【化１７】
2010512360.tif 000018
【００８３】
式（Ｑ）の化合物は、適当な温度（典型的には25℃〜150℃）でそして場合によりマイクロ波照射下で、ラクトン化を促進する触媒（例えば二塩化パラジウム（II）、塩化金（I）又は炭酸銀）、好ましくは式（Ｒ）の化合物に関して0.001〜50％の炭酸銀での処理により、式（Ｒ）の化合物から調製することができる。同様なラクトン化は文献中から既知である（例えばP. Huang及びW. Zhou, Tetrahedron Asymmetry (1991), 2(9), 875-878 ; H. Harkat, J-M. Weibel, P. Pale, Tetrahedron Letters (2006), 47(35), 6273-6276参照）。
【００８４】
【化１８】
2010512360.tif 000019
【００８５】
式（Ｒ）の化合物は、Ｒ′がアルキル（好ましくはメチル又はエチル）である式（Ｓ）の化合物の加水分解により調製することができ、そして式（Ｓ）の化合物は、典型的には0.001〜25％の式（Ｔ）の化合物の量で、任意の適当な銅補助触媒（例えば典型的には式（Ｔ）の化合物の0.001〜50％の量のヨウ化銅(I)）及び溶媒としても使用できる適当な塩基（例えばジエチルアミン、トリエチルアミン、ピペリジン又はピロリジン）の存在下で、又は任意の１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドもしくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドのような別の溶媒中で、そして任意のマイクロ波照射下で、適当なパラジウム触媒（例えば、適当なリガンドの存在下の二塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0）、又は酢酸パラジウム）の存在下での式（Ｍ）の化合物とのソノガシラ（Sonogashira）カップリングにより、式（Ｔ）の化合物から調製することができる。同様なソノガシラカップリングは文献から既知である（例えばJ. Vara Prasad, F. Boyer, L. Chupak, M. Dermyer, Q. Ding, K. Gavardinas, S. Hagen, M. Huband, W. Jiao, T. Kaneko, S.N. Maiti, M. Meinick, K. Romero, M. Patterson, X. Wu, Bioorganic and Medicinal Chemistry Letters (2006), 16(20), 5392-5397 ; N, Leadbeater及びB. Tominack, Tetrahedron Lett. (2003), 8653-8656 ; Z. Gan及びR. Roy, Canadian Journal of Chemistry (2002), 80(8), 908-916 ; K. Sonogashira, J. Organomet. Chem. (2002), 653, 46-49及びそれらの中の参考文献を参照のこと）。
【００８６】
【化１９】
2010512360.tif 000020
【００８７】
式（Ｔ）の化合物は既知化合物であるか、又は文献中に記載されたものと同様な経路により調製することができる（例えば、I. Drizin他、WO2001/066544 ; M. Yamamoto, Journal of Chemical Research, Synopses (1991), (7), 165 ; P. Machin, US 4774253 ; M. Morgan及びE. Heyningen, J. Am. Chem. Soc. (1957), 79, 422-424 ; N. Petiniot, A.J. Anciaux, A.F. Noels, A.J. Hubert, P. Teyssie, Tetrahedron Letters, 1978, 14, 1239-42 ; A.F. Noels, A. Demonceau, N. Petiniot, A.J. Hubert, Teyssie, Tetrahedron (1982), 38(17), 2733-9を参照のこと）。
【００８８】
更なるアプローチでは、式（Ａ）の化合物は、式（Ｉ）又は（１Ａ）（ここでＧはＣ1-4〜Ｃ4アルキルである）から、好ましくは酸触媒、例えば塩化水素酸の存在下で、及び好ましくは適当な溶媒、例えばテトラヒドロフラン中で、加水分解により調製することができる。式（Ｉ）又は（１Ａ）の化合物（Ｇは好ましくはＣ1-4アルキルである）は、式（Ｕ）の化合物（ここでＧは好ましくはＣ1-4アルキルであり、Halはハロゲン、好ましくは臭素又はヨウ素である）を、適当なパラジウム触媒（例えば化合物（Ｕ）に関して0.001〜50％の酢酸パラジウム（II））及び塩基（例えば化合物（Ｕ）に関して１〜10当量のリン酸カリウム）の存在下で、そして好ましくは適当なリガンド（例えば化合物（Ｕ）に関して0.001〜50％の（２−ジシクロヘキシルホスフィノ）−２′，６′−ジメトキシビフェニル）の存在下で、適当な溶媒（例えばトルエン）中で、好ましくは25℃〜200℃の温度で、式（Ｌ）のアリールボロン酸と反応させることにより調製することができる。同様なカップリングは文献から既知である（例えばY. Song, B. Kim及びJ.-N. Heo, Tetrahedron Letters (2005), 46(36), 5987-5990を参照のこと）。
【００８９】
【化２０】
2010512360.tif 000021
【００９０】
式（Ｕ）の化合物は、既知の条件下で、例えばR. Shepherd及びA. White（J. Chem. Soc. Perkin Trans. 1 (1987), 2153-2155）並びにY.-L. Lin他（Bioorg. Med. Chem. (2002), 10, 685-690）の手順により、式（Ｊ）の化合物をハロゲン化し、次いで得られた式（Ｖ）のハロゲン化物をハロゲン化Ｃ1-4アルキル又はトリＣ1-4アルキルオルトホルメートでアルキル化することにより調製することができる。或いは、式（Ｕ）の化合物は、式（Ｊ）の化合物をアルキル化剤、例えばハロゲン化Ｃ1-4アルキル又はトリＣ1-4アルキルオルトホルメートでアルキル化し、そして生じた式（Ｗ）のエノンを既知条件下でハロゲン化することにより調製することができる（例えば、Y. Song, B. Kim及びJ.-N. Heo, Tetrahedron Letters (2005), 46(36), 5987-5990を参照のこと）
【００９１】
【化２１】
2010512360.tif 000022
【００９２】
更なるアプローチでは、式（Ａ）の化合物は、式（Ｊ）の化合物を、適当なパラジウム触媒（例えば化合物（Ｊ）の化合物に関して0.001〜50％の酢酸パラジウム（II））及び塩基（例えば化合物（Ｊ）に関して１〜10当量のリン酸カリウム）の存在下で、そして好ましくは適当なリガンド（例えば化合物（Ｊ）に関して0.001〜50％の（２−ジシクロヘキシルホスフィノ）−２′，４′，６′−トリイソプロピルビフェニル）の存在下で、そして適当な溶媒（例えばジオキサン）中で、25℃〜200℃で、場合によりマイクロ波加熱下で式（Ｍ）の化合物と反応させることにより調製することができる。同様なカップリングは文献から既知である（例えば、J. Fox, X. Huang, A. Chieffi, S. Buchwald, J. Am. Chem. Soc. (2000), 122, 1360-1370 ; B. Hong他、WO 2005/000233を参照のこと）。或いは、式（Ａ）の化合物は、式（Ｊ）の化合物を、適当な銅触媒（例えば化合物（Ｊ）に関して0.001〜50％のヨウ化銅（I））及び塩基（例えば化合物（Ｊ）に関して１〜10当量の炭酸セシウム）の存在下で、好ましくは適当なリガンド（例えば化合物（Ｊ）に関して0.001〜50％のＬ−プロリン）の存在下で、そして適当な溶媒（例えばジメチルスルホキシド）中で、好ましくは25℃〜200℃の温度で、式（Ｍ）の化合物と反応させることにより調製することができる。同様なカップリングは文献から既知である（例えばY. Jiang, N. Wu, H. Wu, M. He, Synlett (2005), 18, 2731-2734 ; X. Xie, G. Cai, D. Ma, Organic Letters (2005), 7(21), 4693-4695を参照のこと）。
【００９３】
【化２２】
2010512360.tif 000023
【００９４】
更なるアプローチでは、式（Ａ）の化合物は、上述したスズキ−ミヤウラ条件下での、ハロゲン化アリール又はヘテロアリールＲ2−Hal（ここでHalは好ましくは塩素、臭素、ヨウ素又は擬ハロゲン、例えばＣ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホネート、特にトリフレートである）との、又は例えばP. Lam他、Tetrahedron Lett. (1998), 39(19), 2941-2944 ; P. Lam, G. Vincent, C.G. Clark, S. Deudon, P.K. Jadhav, Tetrahedron Lett. (2001), 42, 3415-3418により記載されたような銅触媒条件下での、Ｎ−Ｈ含有ヘテロ芳香族化合物との、交差カップリングにより、式（Ｘ）の化合物から調製することができる。式（Ｘ）の化合物は、式（Ｉ）の化合物の合成のための中間体として特にデザインされた。
【００９５】
【化２３】
2010512360.tif 000024
【００９６】
式（Ｘ）の化合物は、適当な溶媒（例えばテトラヒドロフラン又はジエチルエーテル）中の適当な塩基（例えば水素化ナトリウム又は水素化カリウム）での処理に続いて、金属−ハロゲン交換反応（好ましくはアルキルリチウム試薬、例えばｎ−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウムもしくはtert−ブチルリチウム、又は有機マグネシウム試薬、例えば塩化イソプロピルマグネシウムでの処理により）、及びその後のトリアルキルボレートＢ(ＯＲ''')3（好ましくはトリメチルボレート）での処理により、式（Ｙ）のアリールボロネートを与えることにより、式（Ｈ）の化合物から調製することができる。或いは、式（Ｙ）の化合物を酸性条件下で加水分解して式（Ｘ）のボロン酸を与えることができる。或いは、式（Ｘ）の化合物を、化合物（Ｌ）の調製について参照したものと同様な既知のパラジウム触媒ボリル化条件下で、式（Ｈ）の化合物（ここでHalは好ましくはヨウ素、臭素、塩素又は擬ハロゲン化物、例えばＣ1〜Ｃ4ハロアルキルスルホネート、特にトリフレートである）から調製することができる。
【００９７】
【化２４】
2010512360.tif 000025
【００９８】
式（Ｈ）の化合物は上述した通りに調整することができる。或いは、式（Ｋ）の化合物からの式（Ａ）の化合物の調製に使用されるものと同様な条件下で、式（Ｚ）の化合物との反応により式（Ｊ）の化合物から、式（Ｈ）の化合物を調製することができる。
【００９９】
【化２５】
2010512360.tif 000026
【０１００】
式（Ｚ）の化合物は、式（Ｌ）の化合物からの式（Ｋ）の化合物の調製について上述したものと同様な方法により、式（Ｙ）の化合物から調製することができる。
【０１０１】
【化２６】
2010512360.tif 000027
【０１０２】
式（Ｚ）の化合物は既知化合物である（例えばR. Bhatt他、US2004/0204386参照）か、又は例えば式（Ｌ）の化合物の調製について記載されたような既知化合物からの既知方法により、調製することができる。
【０１０３】
本発明に係る式Ｉの化合物は、合成で得られた未変更の形で除草剤として使用することができるが、それらは一般に、製剤補助剤、例えば担体、溶媒及び界面活性物質を使って、様々な方法で除草剤組成物に製剤化される。該製剤は様々な物理的形態、例えば微粉末、ゲル、湿潤性粉末、水分散性顆粒、水分散性錠剤、発泡性圧縮錠剤、濃縮乳剤、微小濃縮乳剤、水中油型乳剤、流動性油状物、水性分散体、油性分散体、ＳＥ剤（suspo-emulsion）、カプセル分散剤、乳化性顆粒、可溶性液体、水溶性濃縮物（担体として水又は水混和性有機溶剤を含む）、ポリマーフィルム、又は他の既知の形態、例えば、Manual on Development and Use of FAO Specifications for Plant Protection Products, 第５版, 1999から既知である他の形態であることができる。そのような製剤は直接使用するか、又は使用前に希釈される。希釈製剤は、例えば水、液体肥料、微量栄養素、生物体、油又は溶剤を使って調製することができる。
【０１０４】
製剤は、例えば、微粉末、顆粒、溶液、分散液又は乳液の形の組成物を得るために活性成分を製剤補助剤と混合することにより調製することができる。活性成分は別の補助剤、例えば粉末固体、鉱油、植物油脂、改変植物油脂、有機溶剤、水、界面活性物質又はそれらの混合物と共に製剤化することもできる。活性成分は、ポリマーから成る微小のマイクロカプセル中に含めることもできる。マイクロカプセルは、多孔質担体中に活性成分を含有する。これは、活性成分を制御された量で周囲に放出できるようにする（例えば徐放）。マイクロカプセルは一般に0.1〜500ミクロンの直径を有する。それらはカプセル重量の約25〜95重量％の量で活性成分を含有する。活性成分はモノリス固体の形、固形もしくは液体分散液中の微小粒子の形、又は適当な溶液の形で提供することができる。封入する膜は、例えば、天然及び合成ゴム、セルロース、スチレン−ブタジエンコポリマー、ポリアクリロニトリル、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリアミド、ポリ尿素、ポリウレタン又は化学的に改質されたポリマー、並びにデンプンキサントゲン酸塩又はこれに関係して当業者に既知である他のポリマーを含んで成る。或いは、非常に細かいマイクロカプセルを形成することが可能であり、活性成分は基剤の固体マトリクス中の微分散粒子の形で存在するが、その場合マイクロカプセルは封入されない。
【０１０５】
本発明に係る化合物の調製に適当な製剤補助剤はそれ自体既知である。液体担体として次のものを使用することができる：水、トルエン、キシレン、石油エーテル、植物油、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酸無水物、アセトニトリル、アセトフェノン、アミルアセテート、２−ブタノン、ブチレンカーボネート、クロロベンゼン、シクロヘキサン、シクロヘキサノール、酢酸のアルキルエステル、ジアセトンアルコール、１，２−ジクロロプロパン、ジエタノールアミン、ｐ−ジエチルベンゼン、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールアビエテート、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、１，４−ジオキサン、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジベンゾエート、ジプロキシトール、アルキルピロリドン、酢酸エチル、２−エチルヘキサノール、エチレンカーボネート、１，１，１−トリクロロエタン、２−ヘプタノン、α−ピネン、ｄ−リモネン、乳酸エチル、エチレングリコール、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、γ−ブチロラクトン、グリセロール、酢酸グリセロール、二酢酸グリセロール、三酢酸グリセロール、ヘキサデカン、ヘキシレングリコール、イソアミルアセテート、イソボルニルアセテート、イソオクタン、イソボロン、イソプロピルベンゼン、イソプロピルミリステート、乳酸、ラウリルアミン、メシチルオキシド、メトキシプロパノール、メチルイソアミルケトン、メチルイソブチルケトン、ラウリル酸メチル、オクタン酸メチル、オレイン酸メチル、塩化メチレン、ｍ−キシレン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクチルアミン、オクタデカン酸、酢酸オクチルアミン、オレイン酸、オレイルアミン、о−キシレン、フェノール、ポリエチレングリコール（PEG 400）、プロピオン酸、乳酸プロピル、炭酸プロピレン、プロピレングリコール、プロピレングリコールメチルエーテル、ｐ−キシレン、トルエン、リン酸トリエチル、トリエチレングリコール、キシレンスルホン酸、パラフィン、鉱油、トリクロロエチレン、ペルクロロエチレン、酢酸エチル、酢酸アミル、酢酸ブチル、プロピレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、及び高分子量アルコール、例えばアミルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ヘキサノール、オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセロール、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等である。水は濃縮物の希釈のために選択される担体である。適当な固形担体は、例えば、CFR 180.1001 (c) & (d)中に記載されたような、タルク、二酸化チタン、葉ろう石、シリカ、アタパルジャイト土、珪藻土、石灰石、炭酸カルシウム、ベントナイト、モンモリロナイトカルシウム、綿実殻、小麦全粒粉、大豆粉、軽石、木屑、粉砕したクルミ殻、リグニン及び同様な材料である。
【０１０６】
多数の界面活性物質が固体及び液体製剤の両方、特に使用前に担体で希釈することができるそれらの製剤中で有利に使用することができる。界面活性物質は陰イオン、陽イオン、非イオン性又は重合性であることができ、それらは乳化剤、湿潤剤又は懸濁剤として使用することができ又は別の目的で使用することができる。典型的な界面活性物質としては、例えば、アルキル硫酸の塩、例えばラウリル硫酸ジエタノールアンモニウム；アルキルアリールスルホン酸の塩、例えばドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム；アルキルフェノール−アルキレンオキシド付加生成物、例えばノニルフェノールエトキシレート；アルコール−アルキレンオキシド付加生成物、例えばトリデシルアルコールエトキシレート；石鹸、例えばステアリン酸ナトリウム；アルキルナフタレンスルホン酸の塩、例えばジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム；スルホコハク酸塩のジアルキルエステル、例えばジ（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウム；ソルビトールエステル、例えばオレイン酸ソルビトール；第四級アミン、例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロリド；脂肪酸のポリエチレングリコールエステル、例えばステアリン酸ポリエチレングリコール；エチレンオキシドとプロピレンオキシドのブロックポリマー；並びにモノ−及びジ−アルキルホスフェートエステルの塩；更には、“McCutcheon's Detergents and Emulsifiers Annual”, MC Publishing Corp. Ridgewood, New Jersey, 1981中に記載された物質が挙げられる。
【０１０７】
殺虫剤組成物中で使用することができる更なる補助剤として、結晶化抑制剤、粘度調節物質、懸濁剤、色素、抗酸化剤、発泡剤、光吸収剤、混合助剤、消泡剤、錯生成剤、中和又はｐＨ調節物質及び緩衝剤、腐食防止剤、香料、湿潤剤、吸収改善剤、微栄養素、可塑剤、流動促進剤、潤滑剤、分散剤、増量剤、不凍剤、殺菌剤並びに更に液体及び固形肥料が挙げられる。
【０１０８】
製剤は追加の活性物質、例えば追加の除草剤、除草剤薬害軽減剤（safener）、安全化剤、植物成長調節剤、殺真菌剤又は殺虫剤を含んでもよい。
【０１０９】
本発明に係る組成物は、植物又は動物起源の油、鉱物油、そのような油のアルキルエステル、そのような油の混合物及び油誘導体を含んで成る添加剤を更に含有することができる。本発明に係る組成物で用いられる油状添加剤の量は、一般に噴霧混合物に基づいて0.01〜10％である。例えば、油状添加剤は、噴霧混合物を調製した後で所望の濃度に噴霧槽に添加することができる。好ましい油状添加剤は、鉱物油又は植物起源の油、例えば菜種油、オリーブ油又はひまわり油、乳化植物油、例えばAMIGO（登録商標）（Phone-Poulenc Canada Inc.）、植物起源の油のアルキルエステル、例えばメチル誘導体、又は動物起源の油、例えば魚油もしくは牛脂を含んで成る。好ましい添加剤は、例えば、80重量％の魚油のアルキルエステル及び15重量％のメチル化菜種油、並びに５重量％の常用の乳化剤とｐＨ調整剤を活性成分として含有する。特に好ましい油状添加剤は、Ｃ8〜Ｃ22脂肪酸のアルキルエステル、特にＣ12〜Ｃ18脂肪酸のメチル誘導体を含んで成り、例えばラウリル酸、パルミチン酸及びオレイン酸のメチルエステルが重要である。それらのエステルはラウリル酸メチル（CAS-111-82-0）、パルミチン酸メチル（CAS-112-39-0）及びオレイン酸メチル（CAS-112-62-9）として知られている。好ましい脂肪酸メチルエステル誘導体はEmery（登録商標）2230及び2231（Cognis GmbH）である。それら及び他の油状誘導体はCompendium of Herbicide Adjuvants, 第５版, Southern Illinois University, 2000からも知られている。
【０１１０】
油状添加剤の適用及び作用は、それらを界面活性物質、例えば非イオン性、陰イオン性又は陽イオン性界面活性剤と組み合わせることにより更に改善することができる。適当な陰イオン性、非イオン性及び陽イオン性界面活性剤はWO 97/34485の７〜８頁に列挙されている。好ましい界面活性物質は、ドデシルベンジルスルホン酸型、特にそのカルシウム塩の陰イオン性界面活性剤、及び脂肪アルコールエトキシレート型の非イオン性界面活性剤である。特に好ましいのは、５〜40のエトキシル化度を有するエトキシル化Ｃ12〜Ｃ22脂肪アルコールである。市販の界面活性剤の例はGenapol型（Clariant AG）である。シリコーン界面活性剤、特にSilwet L-77（登録商標）として市販されているポリアルキルオキシド改質ヘプタメチルトリシロキサン、及び過フッ素化界面活性剤である。全添加剤に対する界面活性物質の濃度は一般に１〜30重量％である。油もしくは鉱物油又はそれの誘導体と界面活性剤との混合物から成る油状添加剤の例は、Edenor ME SU（登録商標）、Turbocharge（登録商標）（Syngenta AG, CH）及びActipron（登録商標）（BP Oil UK Limited, GB）である。
【０１１１】
前記界面活性物質は、単独で、即ち油状添加剤を使用せずに製剤中に使用することもできる。
【０１１２】
更に、油状添加剤／界面活性剤混合物への有機溶剤の添加は、作用の更なる増強をもたらし得る。適当な溶剤は、例えば、Solvesso（登録商標）（ESSO）及びAromatic Solvent（登録商標）（Exon Corporation）である。そのような溶剤の濃度は、全重量の10〜80重量％であることができる。溶剤との混合物として使用してもよいそのような油状添加剤は、例えば、US-A-4 834 908中に記載されている。その中に開示された市販の油状添加剤は、MERGE（登録商標）（BASF Corporation）の商品名のもとに知られている。本発明に従って好ましい更なる油状添加剤は、SCORE（登録商標）（Syngenta Crop Protection Canada）である。
【０１１３】
上記に挙げた油状添加剤に加えて、本発明に係る組成物の活性を増強するために、アルキルピロリドンの製剤（例えばAgrimax（登録商標））を噴霧混合物に添加することも可能である。合成ラテックスの製剤、例えばポリアクリルアミド、ポリビニル化合物又はポリ−１−ｐ−メンテン（例えばBond（登録商標）、Courier（登録商標）又はEmerald（登録商標））を使用することもできる。プロピオン酸を含有する溶液、例えばEurogkem Pen-E-trate（登録商標）を、活性増強剤として噴霧混合物に混合することもできる。
【０１１４】
除草剤製剤は一般に0.1〜99重量％、特に0.1〜95重量％の式Ｉの化合物、及び１〜99.9重量％の製剤補助剤を含有し、該製剤補助剤は好ましくは０〜25重量％の界面活性物質を含んで成る。市販製品は好ましくは濃縮物として製剤化されるだろうが、最終使用者は一般に希釈製剤を使用するだろう。
【０１１５】
式Ｉの化合物の散布量は、土壌の性質、散布の方法（出芽前又は出芽後；種子粉衣；種子畝間；無耕散布等）、作物植物、防除すべき種子又は草、支配的な気候条件及び散布方法、散布の時期及び標的作物により左右される他の因子に依存し、且つそれらの因子により広範な限界内で異なり得る。本発明に係る式Ｉの化合物は一般に１〜4000ｇ／ha、特に５〜1000ｇ／haの量で散布される。
【０１１６】
好ましい製剤は特に次の成分を有する：
（％＝重量％）
【０１１７】
濃縮乳剤
活性成分：      １〜95％、好ましくは60〜90％
界面活性剤：    １〜30％、好ましくは５〜20％
液体担体：      １〜80％、好ましくは１〜35％
【０１１８】
粉剤
活性成分：      0.1〜10％、好ましくは0.1〜５％
固体担体：      99.9〜90％、好ましくは99.9〜99％
【０１１９】
濃縮懸濁液
活性成分：      ５〜75％、好ましくは10〜50％
水：            94〜24％、好ましくは88〜30％
界面活性剤：    １〜40％、好ましくは２〜30％
【０１２０】
水和剤
活性成分：      0.5〜90％、好ましくは１〜80％
界面活性剤：    0.5〜20％、好ましくは１〜15％
固体担体：      ５〜95％、好ましくは15〜90％
【０１２１】
粒剤
活性成分：      0.1〜30％、好ましくは0.1〜15％
固体担体：      99.5〜70％、好ましくは97〜85％
次の例は本発明を例証するが限定しない。
【０１２２】
Ｆ１：濃縮乳剤                    a)          b)          c)          d)
活性成分                          ５％        10％        25％        50％
ドデシルベンゼンスルホン          
酸カルシウム                      ６％        ８％        ６％        ８％
ヒマシ油ポリグリコールエーテル    ４％        −          ４％        ４％
（36モルのエチレンオキシド）
オクチルフェノールポリグリコール  −          ４％        −          ２％
エーテル（７〜８モルのエチレンオキシド）
ＮＭＰ                            −          −          10％        20％
芳香族炭化水素                    85％        78％        55％        16％
混合物Ｃ9〜Ｃ12
【０１２３】
任意の所望の濃度の乳剤を水での希釈によりそのような濃縮乳剤から調製することができる。
【０１２４】
Ｆ２：溶液                        a)          b)          c)          d)
活性成分                          ５％        10％        50％        90％
１−メトキシ−３−（３−
メトキシプロポキシ）プロパン      −          20％        20％        −
ポリエチレングリコールMW 400      20％        10％        −          −
ＮＭＰ                            −          −          30％        10％
芳香族炭化水素                    75％        60％        −          −
混合物Ｃ9〜Ｃ12
該溶液は微液滴の形での適用に適する。
【０１２５】
Ｆ３：水和剤                    a)          b)          c)          d)
活性成分                        ５％        25％        50％        80％
リグノスルホン酸ナトリウム      ４％        −          ３％        −
ラウリル硫酸ナトリウム          ２％        ３％        −          ４％
ジイソブチルナフタレンスル
ホン酸ナトリウム                −          ６％        ５％        ６％
オクチルフェノール              −          １％        ２％        −
ポリグリコールエーテル
（７〜８モルのエチレンオキシド）
高分散性ケイ酸                  １％        ３％        ５％        10％
カオリン                        88％        62％        35％        −
【０１２６】
活性成分を補助剤と徹底的に混合し、そして該混合物を適当なミル中で徹底的に粉砕し、水で希釈して所望の濃度の懸濁液を提供することができる水和剤を提供することができる。
【０１２７】
Ｆ４：コーティング粒剤          a)          b)          c)
活性成分                        0.1％      ５％        15％
高分散性ケイ酸                  0.9％      ２％        ２％
無機担体                        99.0％      93％        83％
（直径0.1〜１ mm）
例えばCaCO3又はSiO2
【０１２８】
活性成分を塩化メチレン中に溶解し、該溶液を担体上に噴霧し、続いて溶媒を真空中で蒸発させる。
【０１２９】
Ｆ５：コーティング粒剤            a)          b)          c)
活性成分                          0.1％      ５％        15％
ポリエチレングリコールMW 200      1.0％      ２％        ３％
高分散性ケイ酸                    0.9％      １％        ２％
無機担体                          98.0％      92％        80％
（直径0.1〜１ mm）
例えばCaCO3又はSiO2
【０１３０】
微粉砕した活性成分を、ミキサー中で、ポリエチレングリコールで湿らせた担体に均一に適用する。この方法で非ダストコーティング粒剤が得られる。
【０１３１】
Ｆ６：押出顆粒                    a)          b)          c)          d)
活性成分                          0.1％      ３％        ５％        15％
リグノスルホン酸ナトリウム        1.5％      ２％        ３％        ４％
カルボキシメチルセルロース        1.4％      ２％        ２％        ２％
カオリン                          97.0％      93％        90％        79％
【０１３２】
活性成分を補助剤と共に混合しそして粉砕し、その混合物を水で湿らせる。生じた混合物を押し出し、次いで空気流の中で乾燥する。
【０１３３】
Ｆ７：粉剤                        a)          b)          c)          d)
活性成分                          0.1％        １％        ５％
タルク                            39.9％        49％        35％
カオリン                          60.0％        50％        60％
活性成分を担体と混合し、そして該混合物を適当なミル中で粉砕することにより、すぐに使用できる粉剤が得られる。
【０１３４】
Ｆ８：濃縮懸濁剤                  a)          b)          c)          d)
活性成分                          ３％        10％        25％        50％
エチレングリコール                ５％        ５％        ５％        ５％
ノニルフェノールポリグリコール    −          １％        ２％        −
エーテル
（15モルのエチレンオキシド）
リグノスルホン酸ナトリウム        ３％        ３％        ４％        ５％
カルボキシメチルセルロース        １％        １％        １％        １％
37％水性ホルムアルデヒド溶液      0.2％      0.2％        0.2％      0.2％
シリコーン油乳剤                  0.8％      0.8％        0.8％      0.8％
水                                87％        79％        62％        38％
【０１３５】
微粉砕した活性成分を補助剤と緊密に混合し、そして濃縮懸濁剤を与え、それから水で希釈することにより所望の濃度の懸濁液剤を調製することができる。
【０１３６】
本発明は、有用植物の作物中の草及び雑草の選択的防除方法であって、有用植物又はその栽培地域又はその局部を式Ｉの化合物で処理することを含んで成る方法にも関する。
【０１３７】
本発明に係る組成物を使用することができる有用植物の作物としては、穀物、綿、大豆、甜菜、サトウキビ、プランテーション作物、セイヨウアブラナ、トウモロコシ及びイネが挙げられ、そして非選択的雑草防除にも使用することができる。本発明に係る組成物は特に、穀物、トウモロコシ及びイネ、特にイネ中の草及び雑草の選択的防除に有用である。「作物」という語は、常用の品種改良又は遺伝子操作法の結果として除草剤又は除草剤のクラス（例えばALS，GS, EPSPS, PPO, ACCase及びHPPD阻害剤）に対して耐性になっている作物を含むものとして解釈すべきである。例えば、品種改良の常用法によりイミダゾリノン、例えばイマザモクスに対して耐性にされている作物の例は、Clearfield（登録商標）夏セイヨウアブラナ（Canola）である。遺伝子操作法により除草剤に対して耐性にされている作物の例としては、例えば、RoundupReady（登録商標）及びLibertyLink（登録商標）の商品名のもとで市販されている、グリフォセート及びグルフォシネート−耐性トウモロコシ品種が挙げられる。防除すべき雑草は単子葉植物及び双子葉植物の雑草、例えば、ハコベ属(Stellaria)、キンレンカ(Nasturtium)、アグロスチス属(Agrostis)、ジギタリア属(Digitaria)、カラスムギ属(Avena)、セタリア属(Setaria)、シナピス属(Sinapis)、ムギ属(Lolium)、ナス属(Solanum)、ヒエ属(Echnochloa)、スキルプス属(Scirpus)、ミズアオイ属(Monochoria)、オモダカ属(Sagittaria)、スズメノチャヒキ属(Bromus)、スズメノテッポウ属(Alopecurus)、モロコシ属(Sorghum)、ツノアイアシ属(Rottboellia)、シペラス属(Cyperus)、アブチロン属(Abutilon)、キンゴジカ(Sida)、オナモミ属(Xanthium)、ヒユ属(Amaranthus)、アカザ属(Chenopodium)、サツマイモ属(Ipomoea)、キク属(Chrysanthermum)、ヤエムグラ(Galium)、スミレ属(Viola)及びクワガタソウ属 (Veronica)が挙げられる。
【０１３８】
作物は、遺伝子操作法により有害昆虫に対して耐性にされているもの、例えばBtトウモロコシ（西洋トウモロコシ害虫に対して耐性）、Bt綿（綿花ゾウムシに対して耐性）及びBtジャガイモ（コロラドハムシに対して耐性）としても解釈すべきである。Btトウモロコシの例はNK（登録商標）（Syngenta Seed）のBt-176トウモロコシ交雑種である。Bt毒素は、バシラス・スリンジェンシス（Bacillus thuringiensis）土壌菌により生来形成されるタンパク質である。毒素及びそのような毒素を合成できるトランスジェニック植物の例は、EＰ−A-451 878, EP-A-374 753, WO 93/07278, WO 95/34656, WO 03/052073及びEP-A-427 529中に記載されている。殺虫剤耐性をコードし且つ１又は複数の毒素を発現する１又は複数の遺伝子を含有するトランスジェニック植物の例は、KnockOut（登録商標）（トウモロコシ）、Yield Gard（登録商標）（トウモロコシ）、NuCOTIN33B（登録商標）（綿）、Bollgard（登録商標）（綿）、NewLeaf（登録商標）（ジャガイモ）、NatureGard（登録商標）及びProtexcta（登録商標）（綿）である。植物作物及びそれらの種子材料は除草剤に対して耐性であり、そして同時に昆虫摂食に対しても耐性であることができる（「積み重ね」トランスジェニック現象）。種子は、例えば、殺虫剤活性のCry3タンパク質を発現する能力を有し、そして同時にグリフォサート耐性であることができる。「作物」という語は、いわゆる出力特性（output traits；例えば改善されたフレーバー、貯蔵安定性、栄養素含有量）を含む従来の品種改良又は遺伝子操作法の結果として得られる作物を含むものとして解釈すべきである。
【０１３９】
栽培地域は、既に作物植物が生育している土地、並びにそれらの作物の栽培を意図している土地を含むものと解釈すべきである。
【０１４０】
本発明に係る式Ｉの化合物は、別の除草剤と併用することもできる。次の式Ｉの化合物の混合物が特に重要である。好ましくは、それらの混合物中、式Ｉの化合物は下記の表１〜294に列挙した化合物のうちの１つである。
【０１４１】
式Ｉの化合物＋アセトクロル、式Ｉの化合物＋アシフルオルフェン、式Ｉの化合物＋アシフルオルフェンナトリウム、式Ｉの化合物＋アクロニフェン、式Ｉの化合物＋アクロレイン、式Ｉの化合物＋アラクロル、式Ｉの化合物＋アロキシジム、式Ｉの化合物＋アリルアルコール、式Ｉの化合物＋アメトリン、式Ｉの化合物＋アミカルバゾン、式Ｉの化合物＋アミドスルフロン、式Ｉの化合物＋アミノピラリド、式Ｉの化合物＋アミトロール、式Ｉの化合物＋スルファミン酸アンモニウム、式Ｉの化合物＋アニロフォス、式Ｉの化合物＋アスラム、式Ｉの化合物＋アトラジン、式Ｉの化合物＋アビグリシン、式Ｉの化合物＋アザフェニジン、式Ｉの化合物＋アジムスルフロン、式Ｉの化合物＋BCPC、式Ｉの化合物＋ベフルブタミド、式Ｉの化合物＋ベナゾリン、式Ｉの化合物＋ベンカルバゾン、式Ｉの化合物＋ベンフルラリン、式Ｉの化合物＋ベンフレセート、式Ｉの化合物＋ベンスルフロン、式Ｉの化合物＋ベンスルフロン−メチル、式Ｉの化合物＋ベンスリド、式Ｉの化合物＋ベンタゾン、式Ｉの化合物＋ベンズフェンジゾン、式Ｉの化合物＋ベンゾビシクロン、式Ｉの化合物＋ベンゾフェナプ、式Ｉの化合物＋ビフェノクス、式Ｉの化合物＋ビラナフォス、式Ｉの化合物＋ビスピリバック、式Ｉの化合物＋ビスピリバックナトリウム、式Ｉの化合物＋ボラックス、式Ｉの化合物＋ブロマシル、式Ｉの化合物＋ブロモブチド、式Ｉの化合物＋ブロモフェノキシム、式Ｉの化合物＋ブロモキシニル、式Ｉの化合物＋ブタクロル、式Ｉの化合物＋ブタフェナシル、式Ｉの化合物＋ブタミフォス、式Ｉの化合物＋ブトラリン、式Ｉの化合物＋ブトロキシジム、式Ｉの化合物＋ブチレート、式Ｉの化合物＋カコジル酸、式Ｉの化合物＋カルシウムクロレート、式Ｉの化合物＋カフェンストロール、
【０１４２】
式Ｉの化合物＋カルベタミド、式Ｉの化合物＋カルフェントラゾン、式Ｉの化合物＋カルフェントラゾンエチル、式Ｉの化合物＋CDEA、式Ｉの化合物＋CEPC、式Ｉの化合物＋クロルフルレノール、式Ｉの化合物＋クロルフルレノールメチル、式Ｉの化合物＋クロリダゾン、式Ｉの化合物＋クロリムロン、式Ｉの化合物＋クロリムロンエチル、式Ｉの化合物＋クロロ酢酸、式Ｉの化合物＋クロロトルロン、式Ｉの化合物＋クロルプロファム、式Ｉの化合物＋クロルスルフロン、式Ｉの化合物＋クロルタル、式Ｉの化合物＋クロルタルジメチル、式Ｉの化合物＋シニドンエチル、式Ｉの化合物＋シンメチリン、式Ｉの化合物＋シノスルフロン、式Ｉの化合物＋シサニリド、式Ｉの化合物＋クレトジム、式Ｉの化合物＋クロジナフォプ、式Ｉの化合物＋クロジナフォプ−プロパルギル、式Ｉの化合物＋クロマゾン、式Ｉの化合物＋クロメプロプ、式Ｉの化合物＋クロピラリド、式Ｉの化合物＋クロランスラム、式Ｉの化合物＋クロランスラムメチル、式Ｉの化合物＋CMA、式Ｉの化合物＋４-CPB、式Ｉの化合物＋CPMF、式Ｉの化合物＋4-CPP、式Ｉの化合物＋CPPC、式Ｉの化合物＋クレゾール、式Ｉの化合物＋クミルロン、式Ｉの化合物＋シアナミド、式Ｉの化合物＋シアナジン、式Ｉの化合物＋シクロエート、式Ｉの化合物＋シクロスルファムロン、式Ｉの化合物＋シクロキシジム、式Ｉの化合物＋シハロフォプ、式Ｉの化合物＋シハロフォプブチル、式Ｉの化合物＋2,4-D、式Ｉの化合物＋3,4-DA、式Ｉの化合物＋ダイムロン、式Ｉの化合物＋ダラポン、式Ｉの化合物＋ダゾメット、式Ｉの化合物＋2,4-DB、式Ｉの化合物＋3,4-DB、式Ｉの化合物＋2,4-DEB、式Ｉの化合物＋デスメジファム、式Ｉの化合物＋デスメトリン、式Ｉの化合物＋ジカムバ、式Ｉの化合物＋ジクロロベニル、
【０１４３】
式Ｉの化合物＋オルト−ジクロロベンゼン、式Ｉの化合物＋パラ−ジクロロベンゼン、式Ｉの化合物＋ジクロルプロプ、式Ｉの化合物＋ジクロルプロプ−Ｐ、式Ｉの化合物＋ジクロフォプ、式Ｉの化合物＋ジクロフォプ−メチル、式Ｉの化合物＋ジクロスラム、式Ｉの化合物＋ジフェンゾクアット、式Ｉの化合物＋ジフェンゾクアットメチルスルフェート、式Ｉの化合物＋ジフルフェニカン、式Ｉの化合物＋ジフルフェンゾピル、式Ｉの化合物＋ジメフロン、式Ｉの化合物＋ジメピペレート、式Ｉの化合物＋ジメタクロル、式Ｉの化合物＋ジメタメトリン、式Ｉの化合物＋ジメタナミド、式Ｉの化合物＋ジメタナミド−Ｐ、式Ｉの化合物＋ジメチピン、式Ｉの化合物＋ジメチルアルシン酸、式Ｉの化合物＋ジニトラミン、式Ｉの化合物＋ジノテルブ、式Ｉの化合物＋ジフェナミド、式Ｉの化合物＋ジプロペトリン、式Ｉの化合物＋ジクアット、式Ｉの化合物＋ジクアットジブロミド、式Ｉの化合物＋ジチオピル、式Ｉの化合物＋ジウロン、式Ｉの化合物＋DNOC、式Ｉの化合物＋3,4-DP、式Ｉの化合物＋DSMA、式Ｉの化合物＋EBEP、式Ｉの化合物＋エンドタール、式Ｉの化合物＋EPTC、式Ｉの化合物＋エスプロカルブ、式Ｉの化合物＋エタルフルラリン、
【０１４４】
式Ｉの化合物＋エタメトスルフロン、式Ｉの化合物＋エタメトスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋エテフォン、式Ｉの化合物＋エトフメセート、式Ｉの化合物＋エトキシフェン、式Ｉの化合物＋エトキシスルフロン、式Ｉの化合物＋エトベンズアニド、式Ｉの化合物＋フェノキサプロプ−Ｐ、式Ｉの化合物＋フェノキサプロプ−Ｐ−エチル、式Ｉの化合物＋フェントラザミド、式Ｉの化合物＋硫酸第一鉄、式Ｉの化合物＋フラムプロプ−Ｍ、式Ｉの化合物＋フラザスルフロン、式Ｉの化合物＋フロラスラム、式Ｉの化合物＋フルアジフォプ、式Ｉの化合物＋フルアジフォプ−ブチル、式Ｉの化合物＋フルアジフォプ−Ｐ、式Ｉの化合物＋フルアジフォプ−Ｐ−ブチル、式Ｉの化合物＋フルアゾレート、式Ｉの化合物＋フルカルバゾン、式Ｉの化合物＋フルカルバゾンナトリウム、式Ｉの化合物＋フルセトスルフロン、式Ｉの化合物＋フルクロラリン、式Ｉの化合物＋フルフェナセト、式Ｉの化合物＋フルフェンピル、式Ｉの化合物＋フルフェンピルエチル、式Ｉの化合物＋フルメトラリン、式Ｉの化合物＋フルメトスラム、式Ｉの化合物＋フルミクロラック、式Ｉの化合物＋フミクロラックペンチル、式Ｉの化合物＋フルミオキサジン、式Ｉの化合物＋フルミプロピン、式Ｉの化合物＋フルオメツロン、式Ｉの化合物＋フルオログリコフェン、
【０１４５】
式Ｉの化合物＋フルオログリコフェンエチル、式Ｉの化合物＋フルオキサプロプ、式Ｉの化合物＋フルポキサム、式Ｉの化合物＋フルプロパシル、式Ｉの化合物＋フルプロパネート、式Ｉの化合物＋フルピルスルフロン、式Ｉの化合物＋フルピルスルフロンメチルナトリウム、式Ｉの化合物＋フルレノール、式Ｉの化合物＋フルリドン、式Ｉの化合物＋フルロクロリドン、式Ｉの化合物＋フルロキシピル、式Ｉの化合物＋フルルタモン、式Ｉの化合物＋フルチアセト、式Ｉの化合物＋フルチアセトメチル、式Ｉの化合物＋フォメサフェン、式Ｉの化合物＋フォラムスルフロン、式Ｉの化合物＋フォサミン、式Ｉの化合物＋グルフォシネート、式Ｉの化合物＋グルフォシネート−アンモニウム、式Ｉの化合物＋グリフォセート、式Ｉの化合物＋ハロスルフロン、式Ｉの化合物＋ハロスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋ハロキシフォプ、式Ｉの化合物＋ハロキシフォプ−Ｐ、式Ｉの化合物＋HC-252、式Ｉの化合物＋ヘキサジノン、式Ｉの化合物＋イマザメタベンズ、式Ｉの化合物＋イマザメタベンズメチル、式Ｉの化合物＋イマザモクス、式Ｉの化合物＋イマザピック、式Ｉの化合物＋イマザピル、式Ｉの化合物＋イマザキン、式Ｉの化合物＋イマゼタピル、式Ｉの化合物＋イマゾスルフロン、式Ｉの化合物＋インダノファン、式Ｉの化合物＋ヨードメタン、式Ｉの化合物＋ヨードスルフロン、式Ｉの化合物＋ヨードスルフロンメチルナトリウム、式Ｉの化合物＋ヨーキシニル、式Ｉの化合物＋イソプロツロン、式Ｉの化合物＋イソウロン、式Ｉの化合物＋イソキサベン、式Ｉの化合物＋イソキサクロルトール、式Ｉの化合物＋イソキサフルトール、式Ｉの化合物＋イソキサピリフォプ、式Ｉの化合物＋カルブチレート、式Ｉの化合物＋ラクトフェン、式Ｉの化合物＋レナシル、式Ｉの化合物＋リヌロン、
【０１４６】
式Ｉの化合物＋MAA、式Ｉの化合物＋MAMA、式Ｉの化合物＋MCPA、式Ｉの化合物＋MCPA-チオエチル、式Ｉの化合物＋MCPB、式Ｉの化合物＋メコプロプ、式Ｉの化合物＋メコプロプ−Ｐ、式Ｉの化合物＋メフェナセト、式Ｉの化合物＋メフルイジド、式Ｉの化合物＋メソスルフロン、式Ｉの化合物＋メソスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋メソトリオン、式Ｉの化合物＋メタム、式Ｉの化合物＋メタミフォプ、式Ｉの化合物＋メタミトロン、式Ｉの化合物＋メタザクロル、式Ｉの化合物＋メタベンズチアズロン、式Ｉの化合物＋メタゾール、式Ｉの化合物＋メチルアルソン酸、式Ｉの化合物＋メチルジムロン、式Ｉの化合物＋メチルイソチオシアネート、式Ｉの化合物＋メトベンズロン、式Ｉの化合物＋メトブロムロン、式Ｉの化合物＋メトラクロル、式Ｉの化合物＋Ｓ−メトラクロル、式Ｉの化合物＋メトスラム、式Ｉの化合物＋メトキシウロン、式Ｉの化合物＋メトリブジン、式Ｉの化合物＋メトスルフロン、式Ｉの化合物＋メトスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋MK-616、式Ｉの化合物＋モリネート、式Ｉの化合物＋モノリヌロン、式Ｉの化合物＋MSMA、式Ｉの化合物＋ナプロアニリド、式Ｉの化合物＋ナプロパミド、式Ｉの化合物＋ナプタラム、式Ｉの化合物＋NDA-402989、式Ｉの化合物＋ネブロン、式Ｉの化合物＋ニコスルフロン、式Ｉの化合物＋ニピラクロフェン、式Ｉの化合物＋ｎ−メチルグリフォセート、式Ｉの化合物＋ノナノン酸、式Ｉの化合物＋ノルフルラゾン、式Ｉの化合物＋オレイン酸（脂肪酸）、
【０１４７】
式Ｉの化合物＋オルベンカルブ、式Ｉの化合物＋オルトスルファムロン、式Ｉの化合物＋オリザリン、式Ｉの化合物＋オキサジアルギル、式Ｉの化合物＋オキサジアゾン、式Ｉの化合物＋オキサスルフロン、式Ｉの化合物＋オキサジクロメフォン、式Ｉの化合物＋オキシフルオルフェン、式Ｉの化合物＋パラクアト、式Ｉの化合物＋パラクアトジクロリド、式Ｉの化合物＋ペブレート、式Ｉの化合物＋ペンジメタリン、式Ｉの化合物＋ペノキシスラム、式Ｉの化合物＋ペンタクロロフェノール、式Ｉの化合物＋ペンタノクロル、式Ｉの化合物＋ペントキサゾン、式Ｉの化合物＋ペトキサミド、式Ｉの化合物＋石油、式Ｉの化合物＋フェンメジファム、式Ｉの化合物＋フェンメジファムエチル、式Ｉの化合物＋ピクロラム、式Ｉの化合物＋ピコリナフェン、式Ｉの化合物＋ピノキサデン、式Ｉの化合物＋ピペロフォス、式Ｉの化合物＋アルセニットカリウム、式Ｉの化合物＋アジ化カリウム、式Ｉの化合物＋プレチラクロル、式Ｉの化合物＋プリミスルフロン、式Ｉの化合物＋プリミスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋プロジアミン、式Ｉの化合物＋プロフルアゾール、
【０１４８】
式Ｉの化合物＋プロフォキシジム、式Ｉの化合物＋プロヘキサジオンカルシウム、式Ｉの化合物＋プロメトン、式Ｉの化合物＋プロメトリン、式Ｉの化合物＋プロパクロル、式Ｉの化合物＋プロパニル、式Ｉの化合物＋プロパキザフォプ、式Ｉの化合物＋プロパジン、式Ｉの化合物＋プロファム、式Ｉの化合物＋プロピソクロル、式Ｉの化合物＋プロポキシカルバゾン、式Ｉの化合物＋プロポキシカルバゾンナトリウム、式Ｉの化合物＋プロピザミド、式Ｉの化合物＋プロスルホカルブ、式Ｉの化合物＋プロスルフロン、式Ｉの化合物＋ピラクロニル、式Ｉの化合物＋ピラフルフェン、式Ｉの化合物＋ピラフルフェンエチル、式Ｉの化合物＋ピラスルホトール、式Ｉの化合物＋ピラゾリネート、式Ｉの化合物＋ピラゾスルフロン、式Ｉの化合物＋ピラゾスルフロンエチル、式Ｉの化合物＋ピラゾキシフェン、式Ｉの化合物＋ピリベンゾキシム、式Ｉの化合物＋ピリブチカルブ、式Ｉの化合物＋ピリダフォル、式Ｉの化合物＋ピリデート、式Ｉの化合物＋ピリフタリド、式Ｉの化合物＋ピリミノバク、式Ｉの化合物＋ピリミノバクメチル、式Ｉの化合物＋ピリミスルファン、式Ｉの化合物＋ピリチオバク、式Ｉの化合物＋ピリチオバクナトリウム、式Ｉの化合物＋ピロキサスルホン（KIH-485）、式Ｉの化合物＋ピロクスラム、
【０１４９】
式Ｉの化合物＋キンクロラク、式Ｉの化合物＋キンメラク、式Ｉの化合物＋キノクラミン、式Ｉの化合物＋キザロフォプ、式Ｉの化合物＋キザロフォプ−Ｐ、式Ｉの化合物＋リンスルフロン、式Ｉの化合物＋セトキシジム、式Ｉの化合物＋シドウロン、式Ｉの化合物＋シマジン、式Ｉの化合物＋シメトリン、式Ｉの化合物＋SMA、式Ｉの化合物＋アルセニットナトリウム、式Ｉの化合物＋アジ化ナトリウム、式Ｉの化合物＋クロル酸ナトリウム、式Ｉの化合物＋スルコトリオン、式Ｉの化合物＋スルフェントラゾン、式Ｉの化合物＋スルホメツロン、式Ｉの化合物＋スルホメツロンメチル、式Ｉの化合物＋スルホセート、式Ｉの化合物＋スルホスルフロン、式Ｉの化合物＋硫酸、式Ｉの化合物＋ター油、式Ｉの化合物＋２，３，６−TBA、式Ｉの化合物＋TCA、式Ｉの化合物＋TCAナトリウム、式Ｉの化合物＋テブタム、式Ｉの化合物＋テブチウロン、式Ｉの化合物＋テフリルトリオン、式Ｉの化合物＋テムボトリオン、式Ｉの化合物＋テプラロキシジム、式Ｉの化合物＋テルバシル、式Ｉの化合物＋テルブメトン、式Ｉの化合物＋テルブチラジン、式Ｉの化合物＋テルブトリン、式Ｉの化合物＋テニルクロル、式Ｉの化合物＋チアザフルロン、式Ｉの化合物＋チアゾピル、式Ｉの化合物＋チフェンスルフロン、式Ｉの化合物＋チエンカルバゾン、式Ｉの化合物＋チフェンスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋チオベンカルブ、式Ｉの化合物＋チオカルバジル、式Ｉの化合物＋トプラメゾン、式Ｉの化合物＋トラルコキシジム、式Ｉの化合物＋トリアルエート、
【０１５０】
式Ｉの化合物＋トリアスルフロン、式Ｉの化合物＋トリアジフラム、式Ｉの化合物＋トリベヌロン、式Ｉの化合物＋トリベヌロンメチル、式Ｉの化合物＋トリカンバ、式Ｉの化合物＋トリクロピル、式Ｉの化合物＋トリエタジン、式Ｉの化合物＋トリフロキシスルフロン、式Ｉの化合物＋トリフロキシスルフロンナトリウム、式Ｉの化合物＋トリフルラリン、式Ｉの化合物＋トリフルスルフロン、式Ｉの化合物＋トリフルスルフロンメチル、式Ｉの化合物＋トリヒドロキシトリアジン、式Ｉの化合物＋トルネキサパクエチル、式Ｉの化合物＋トリトスルフロン、式Ｉの化合物＋〔３−〔２−クロロ−４−フルオロ−５−（１−メチル−６−トリフルオロメチル−２，４−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキシピリミジン−３−イル）フェノキシ〕−２−ピリジルオキシ〕酢酸エチルエステル（CAS RN 353292-31-6）、式Ｉの化合物＋４−ヒドロキシ−３−〔〔２−〔（２−メトキシエトキシ）メチル〕−６−（トリフルオロメチル）−３−ピリジニル〕カルボニル〕ビシクロ〔３．２．１〕オクト−３−エン−２−オン（CAS RN 352010-68-5）、式Ｉの化合物＋２−クロロ−５−〔３，６−ジヒドロ−３−メチル−２，６−ジオキソ−４−（トリフルオロメチル）−１（２Ｈ）−ピリミジニル〕−４−フルオロ−Ｎ−〔〔メチル（１−メチルエチル）アミノ〕スルホニル〕ベンズアミド（CAS RN 372137-35-4）、式Ｉの化合物＋４−ヒドロキシ−３−〔〔２−（３−メトキシプロピル）−６−（ジフルオロメチル）−３−ピリジニル〕カルボニル〕ビシクロ〔３．２．１〕オクタ−３−エン−２−オン。
【０１５１】
式Ｉの化合物の混合相手は、例えばThe Pesticide Manual，第12版（BCPC）2000中に言及されたような、エステル又は塩の形であることもできる。
【０１５２】
本発明に係る式（Ｉ）の化合物は、薬害軽減剤（safener）と組み合わせて使用することもできる。好ましくは、それらの混合物中、式（Ｉ）の化合物は下記の表１〜294に列挙された化合物のうちの１つである。次の薬害軽減剤との混合物が特に考慮される：
【０１５３】
式（Ｉ）の化合物＋クロキントセトメチル、式（Ｉ）の化合物＋クロキントセト酸及びその塩、式（Ｉ）の化合物＋フェンクロラゾールエチル、式（Ｉ）の化合物＋フェンクロラゾール酸及びその塩、式（Ｉ）の化合物＋メフェンピルジエチル、式（Ｉ）の化合物＋メフェンピル二酸、式（Ｉ）の化合物＋イソキサジフェンエチル、式（Ｉ）の化合物＋イソキサジフェン酸、式（Ｉ）の化合物＋フリラゾール、式（Ｉ）の化合物＋フリラゾールＲ異性体、式（Ｉ）の化合物＋ベノキサコル、式（Ｉ）の化合物＋ジクロルミド、式（Ｉ）の化合物＋AD-67、式（Ｉ）の化合物＋オキサベトリニル、式（Ｉ）の化合物＋シオメトリニル、式（Ｉ）の化合物＋シオメトリニルＺ異性体、式（Ｉ）の化合物＋フェンクロリム、式（Ｉ）の化合物＋シプロスルファミド、式（Ｉ）の化合物＋ナフタリン酸無水物、式（Ｉ）の化合物＋フルラゾール、式（Ｉ）の化合物＋Ｎ−（２−メトキシベンゾイル）−４−〔（メチルアミノカルボニル）アミノ〕ベンゼンスルホンアミド、式（Ｉ）の化合物＋CL 304,415、式（Ｉ）の化合物＋ジシクロノン、式（Ｉ）の化合物＋フルキソフェニン、式（Ｉ）の化合物＋DKA-24、式（Ｉ）の化合物＋R-29148、式（Ｉ）の化合物並びに式（Ｉ）の化合物＋PPG-1292。薬害軽減効果は、次の混合物：式（Ｉ）の化合物＋ジムロン、式（Ｉ）の化合物＋MCPA、式（Ｉ）の化合物＋メコプロプ及び式（Ｉ）の化合物＋メコプロプＰについても観察することができる。
【０１５４】
上述した薬害軽減剤及び除草剤は、例えば、the Pesticide Manual, 第12版, British Crop Protection Council, 2000中に記載されている。R-29148は、例えば、R.B. Goldsbrough他、Plant Physiology (2002), 第130巻, 1497-1505及びその中の引用文献により記載されており、そしてPPG-1292はWO09/211761 から知られておりそしてＮ−（２−メトキシベンゾイル）−４−〔（メチルアミノカルボニル）アミノ〕ベンゼンスルホンアミドはEP365484から知られている。
【０１５５】
本発明に係る好ましい組成物は、式Ｉの化合物を含んで成る他に、混合相手としての追加の除草剤及び薬害軽減剤を含有する。
【０１５６】
次の実施例は本発明を更に説明するが本発明を限定しない。
【０１５７】
当業者は、後述する幾つかの化合物がβ−ケトエノールであることを理解するだろう。そしてそれ自体が、例えばJ. March, Advanced Organic Chemistry, 第３版，John Wiley & Sonsにより記載されるように、単一の互変異性体として又はケト−エノールの混合物及びジケトン互変異性体として存在し得ることを理解するだろう。下記並びに表Ｔ１及びＰ１に示す化合物は、不定の単一エノール互変異性体として書かれているが、この記載は、互変異性を通して生じることができるジケトン形と可能なエノールの両方を包含すると理解すべきである。更に、下記、表Ａ，表Ｂ，表Ｃ及び表Ｄに示す幾つかの化合物は、単一鏡像体として明記されない限り、簡略化の目的で単一鏡像体として記載され、それらの構造は鏡像体の混合物を表すものとして解釈すべきである。加えて、幾つかの化合物は、ジアステレオ異性体として存在することができ、それらはジアステレオ異性体の混合物又は任意の可能な単一ジアステレオ異性体として存在できると推論される。詳述した実施例項目は、優先的な互変異性体がエノール型であっても、ジケトン互変異性体が命名の目的で選択される。
【０１５８】
調製例
例１：４−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【０１５９】
【化２７】
2010512360.tif 000028
【０１６０】
段階１：３−アミノ−４′−クロロ−４−メチルビフェニルの調製
【化２８】
2010512360.tif 000029
【０１６１】
テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0）（3.7 g, 0.003モル）と４−クロロフェニルボロン酸（20.2 g, 0.13モル）を、１，２−ジクロロメタン（200 ml）中の５−ブロモ−２−メチルアニリン（20 g, 0.1モル）の溶液に添加した。反応混合物を20℃で15分間攪拌した後、20％水性炭酸ナトリウム溶液（300 ml）を混合物に加え、生じた混合物を加熱して24時間還流させた。反応混合物を室温に冷却し、水（600 ml）で希釈し、酢酸エチルを使って抽出した。合わせた有機抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で蒸発させた。ヘキサン中７％酢酸エチルを用いて溶出させる、シリカゲル上でのカラムクロマトグラフィーにより残渣を更に精製して、３−アミノ−４′−クロロ−４−メチルビフェニル（21.0 g）を得た。
【０１６２】
段階２：３−ブロモ−４′−クロロ−４−メチルビフェニルの調製
【化２９】
2010512360.tif 000030
【０１６３】
臭化水素酸（水中48重量％、120 ml）を、水（80 ml）中の３−アミノ−４′−クロロ−４−メチルビフェニル（21 g, 0.09モル）の懸濁液に滴下添加し、そして固体が溶解するまで混合物を攪拌した。混合物を−５℃に冷却し、温度を０〜５℃に維持しながら水（50 ml）中の亜硝酸ナトリウム（10.12 g, 0.14モル）の溶液を滴下添加した。反応混合物を１時間攪拌し、次いで０℃において臭化水素酸（水中48重量％、120 ml）中の臭化第一銅の予め冷却しておいた溶液に添加した。反応混合物を攪拌し、そして一晩室温にまで温めた。混合物を酢酸エチルで抽出し、有機抽出液を一緒にし、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で濃縮した。ヘキサン中２％酢酸エチルを用いて溶出させる、シリカゲル上でのカラムクロマトグラフィーにより残渣を更に精製して、３−ブロモ−４′−クロロ−４−メチルビフェニル（15.0 g）を得た。
【０１６４】
段階３：４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イルボロン酸の調製
【化３０】
2010512360.tif 000031
【０１６５】
３−ブロモ−４′−クロロ−４−メチルビフェニル（5.0 g, 0.02モル）を無水テトラヒドロフラン（125 ml）に溶かし、該混合物を−78℃に冷却した。温度を約−78℃に維持しながら、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中1.33モル溶液、17.3 ml）を30分間に渡り滴下添加した。反応混合物を−78℃で１時間30分攪拌し、次いでトリメチルボレート（2.58 g, 0.024モル）を滴下添加し、それを０℃に温めながら反応混合物を３時間30分混合した。次いで２Ｎ水性塩酸溶液（50 ml）を滴下添加し、添加が完了したら混合物を２時間攪拌した。該混合物を真空中で濃縮してテトラヒドロフランの大部分を除去し、水（〜80 ml）で希釈し、ジエチルエーテルで抽出した。有機抽出液を合わせ、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で蒸発させた。ヘキサン中７％酢酸エチルを用いて溶出させる、シリカゲル上でのクロマトグラフィーにより残渣を更に精製して、４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イルボロン酸（2.5 g）を得た。
【０１６６】
段階４：４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛の調製
【化３１】
2010512360.tif 000032
【０１６７】
段階４ａ：
窒素を激しく吹き付けた四酢酸鉛（2.44 g, 5.50ミリモル）と二酢酸第二水銀（0.16 g, 0.50ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（6 ml）を添加した。この混合物を40℃に温め、４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イルボロン酸（1.23 g, 5.00ミリモル）を一度に添加し、そして懸濁液をこの温度で５時間加熱した。室温に冷却した後、混合物を少量に濃縮し、ヘキサンで粉砕し、濾過して粗製４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（2.93 g）を得た。
【０１６８】
段階４ｂ：
粗製４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（1.50 g）を無水クロロホルム（20 ml）に溶かし、それに粉末状無水炭酸カリウム（0.59 g，4.24ミリモル）を添加し、次いで５分間素早く攪拌した。濾過により固体を除去し、有機溶液を濃縮して、明るい橙色固体として純粋な４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（1.121 g）を得た。
【０１６９】
段階５：４−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化３２】
2010512360.tif 000033
【０１７０】
２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（US5089046A中に記載）（0.296 g, 1.74ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（1.06 g, 8.70ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（20 ml）を加え、次いで溶解するまで室温で攪拌した。この溶液に無水トルエン（5 ml）を添加し、次いで４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（1.12 g, 1.91ミリモル）を一度に添加し、反応混合物を80℃で１〜２時間加熱した。該混合物を室温まで冷やし、次いでジクロロメタン（150 ml）と希水性塩酸（30 ml）で希釈し、５分間攪拌し、そして珪藻土を通して濾過して無機残渣を除去した（追加の溶媒で洗浄する）。全ての有機画分を一緒にし、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、真空中で濃縮した。粗製生成物をカラムクロマトグラフィー（100％ヘキサンからヘキサン／酢酸エチル５：１比へ）により精製し、次いでヘキサンで粉砕して、クリーム状粉末として４−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.318 g）を得た。
【０１７１】
例２：４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化３３】
2010512360.tif 000034
【０１７２】
段階１：４−エチル−３−ニトロアニリンの調製
【化３４】
2010512360.tif 000035
【０１７３】
硝酸アンモニウム（39.6 g, 0.49モル）を、外部冷却により温度を−10℃〜０℃に維持しながら、濃硫酸（100 ml）中の４−エチルアニリン（20 g, 0.16モル）の冷却（氷浴）溶液に少しずつ添加した。この反応混合物を２時間攪拌し、砕いた氷上に注ぎ、そして沈澱を濾過により収集した。固体を水中に取り、水性希水酸化ナトリウム溶液の添加により中性にし、酢酸エチルで抽出した。有機抽出液を一緒にし、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして濾液を真空中で蒸発させ、４−エチル−３−ニトロアニリン（20 g）を得た。
【０１７４】
段階２：４−ブロモ−１−エチル−２−ニトロベンゼンの調製
【化３５】
2010512360.tif 000036
【０１７５】
臭化水素酸（水中48重量％，240 ml）を、水（80 ml）中の４−エチル−３−ニトロアニリン（20 g, 0.12 ml）の懸濁液に滴下添加し、そしてその混合物を固体が溶解するまで攪拌した。該混合物を−５℃に冷却し、温度を０〜５℃に維持しながら水（100 ml）中の亜硝酸ナトリウム（19.8 g, 0.28モル）の溶液を滴下添加した。添加が完了したら、冷却浴を除去し、反応混合物を室温で１時間攪拌した。混合物を臭化水素酸（水中48重量％）中の臭化第一銅の予冷溶液に０℃にて滴下添加した。反応混合物を攪拌し、３時間に渡り室温にまで温めた。混合物をジエチルエーテルで抽出し、そして有機抽出液を一緒にし、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で濃縮した。ヘキサンを用いて溶出させるシリカゲル上でのカラムクロマトグラフィーにより残渣を精製し、４−ブロモ−１−エチル−２−ニトロベンゼン（18ｇ）を得た。
【０１７６】
段階３：４′−クロロ−４−エチル−３−ニトロビフェニルの調製
【化３６】
2010512360.tif 000037
【０１７７】
150 mlの１，２−ジメトキシエタン中の４−ブロモ−１−エチル−２−ニトロベンゼン（20.0 g, 0.087モル）に、室温で４−クロロフェニルボロン酸（14.98 g, 0.096モル）及びテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（0）（2.0 g, 0.00174モル）を添加し、そして該混合物に窒素ガスを通気した。20℃で10分間攪拌した後、水（350 ml）中の炭酸ナトリウム（73.8 g, 0.696モル）の溶液を加え、混合物を16時間還流させた。反応混合物を室温に冷却し、珪藻土を通して濾過し、200 mlの酢酸エチルで洗浄した。混合物を分液漏斗に入れ、二層を分離した。水性相を酢酸エチルで抽出した。有機抽出液を一緒にし、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で濃縮して、褐色油状物として４′−クロロ−４−エチル−３−ニトロビフェニル（23.84ｇ）を得、それを更に精製せずに次の段階に使用した。
【０１７８】
段階４：３−アミノ−４′−クロロ−４−エチルビフェニルの調製
【化３７】
2010512360.tif 000038
【０１７９】
４′−クロロ−４−エチル−３−ニトロビフェニル（22.6 g, 0.086モル）をメタノール（250 ml）中に懸濁し、反応混合物を室温で攪拌した。蒸留水（100 ml）を加え、次いで亜鉛粉末（39.0 g, 0.60モル）と塩化アンモニウム（13.8 g, 0.26モル）を添加し、混合物を加熱して１時間還流させた。反応混合物を室温まで冷却し、珪藻土を通して濾過し、濾液を真空中で蒸発させてメタノールの大部分を除去した。残渣を酢酸エチル（200 ml）と水の間に分配し、水性相を酢酸エチル（200 ml）で再抽出した。有機抽出液を一緒にし、水とブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で蒸発させて、無色固体として３−アミノ−４′−クロロ−４−エチルビフェニル（15.0ｇ）を得た。この生成物を更に精製せずに段階５で直接使用した。
【０１８０】
段階５：３−ブロモ−４′−クロロ−４−エチルビフェニルの調製
【化３８】
2010512360.tif 000039
【０１８１】
段階５ａ：
３−アミノ−４′−クロロ−４−エチルビフェニル（60.0 g, 0.26モル）を、臭化水酸（水中48重量％，350 ml）と水（250 ml）の混合物に分割して添加した。添加が完了したら、混合物を40℃に加熱し、20分間攪拌した後、氷浴中で５℃に冷却した。水（100 ml）中の亜硝酸ナトリウム（20.65 g, 0.30モル）の溶液を45分間に渡り滴下添加し、添加が終了したら混合物を５℃で更に45分間攪拌した。
【０１８２】
段階５ｂ：
その間に、臭化水素酸（水中48重量％、400 ml）を加熱し、70℃で攪拌し、そしてそこに硫酸銅五水和物（74.75 g, 0.30モル）を一度に添加し、混合物を70℃で２分間攪拌して黒紫色溶液を与え、次いで銅粉末（26.44 g, 0.42モル）を一度に添加し、桃色懸濁液を与えた。
【０１８３】
段階５ｃ：
ジアゾニウム塩（段階５ａで調製したもの）を含む混合物を、段階５ｂで調製した攪拌混合物に70分間に渡り70℃で分割添加した（添加の間にジアゾニウム塩を含む混合物を氷浴中で冷却し続けた）。添加が完了したら、混合物を70℃で更に30分間攪拌し、次いで室温に冷却し、酢酸エチル（３×500 ml）で抽出した。有機抽出液を一緒にし、水とブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で蒸発させた。シリカゲル上でのカラムクロマトグラフィーによる精製が、黄色油状物として３−ブロモ−４′−クロロ−４−エチルビフェニル（52.1ｇ）を与えた。
【０１８４】
段階６：４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イルボロン酸の調製
【化３９】
2010512360.tif 000040
【０１８５】
３−ブロモ−４′−クロロ−４−エチルビフェニル（10 g, 0.03モル）をテトラヒドロフラン（250 ml）に溶かし、該溶液の温度を−78℃に冷却した。温度を−78℃辺りに維持しながら、ｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中1.33モル溶液、34.6 ml）を30分間に渡り滴下添加した。反応混合物を１時間30分攪拌し、次いでトリメチルボレート（4.9 g, 0.05モル）を滴下添加し、反応混合物を２時間攪拌した。２Ｎ水性塩化水素酸（100 ml）を滴下添加し、添加が完了したら、混合物を２時間攪拌した。混合物を濃縮してテトラヒドロフランの大部分を除去し、次いで水で希釈し、ジエチルエーテルで抽出した。有機抽出液を水とブラインで洗浄し、一緒にし、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして濾液を真空中で蒸発させた。ヘキサン中７％酢酸エチルを用いて溶出させる、シリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより残渣を更に精製して、４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イルボロン酸（5.4ｇ）を得た。
【０１８６】
段階７：４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛の調製
【化４０】
2010512360.tif 000041
【０１８７】
段階７ａ：
窒素を激しく吹き付けた四酢酸鉛（2.15 g, 4.85ミリモル）と二酢酸第二水銀（0.15 g, 0.47ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（6 ml）を添加した。この混合物を40℃に温め、４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イルボロン酸（1.17 g, 4.50ミリモル）を一度に添加し、そして懸濁液をこの温度で５時間攪拌した。次いで混合物を室温に冷却し、少量に濃縮し、ヘキサンで粉砕し、濾過して、粗製４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（2.70ｇ）を得た。
【０１８８】
段階７ｂ：
粗製４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（1.50ｇ）を無水クロロホルム（20 ml）に溶かし、そこに粉末状炭酸カリウム（0.58 g, 4.16ミリモル）を添加し、次いで５分間素早く攪拌した。濾過により固体を除去し、有機溶液を濃縮して、明るい橙色固体として純粋な４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（1.176ｇ）を得た。
【０１８９】
段階８：４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化４１】
2010512360.tif 000042
【０１９０】
２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（US5089046A中に記載）（0.303 g, 1.78ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（1.09 g, 8.90ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（20 ml）を加え、次いで溶解するまで室温で攪拌した。この溶液に無水トルエン（5 ml）を添加し、次いで４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（1.17 g, 1.96ミリモル）を一度に添加し、反応混合物を80℃で１〜２時間加熱した。該混合物を室温まで冷やし、次いでジクロロメタン（150 ml）と希水性塩酸（30 ml）で希釈し、５分間攪拌し、そして珪藻土を通して濾過して無機残渣を除去した（溶媒で更に洗浄する）。全ての有機画分を一緒にし、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、真空中で濃縮した。粗製生成物をカラムクロマトグラフィー（100％ヘキサンからヘキサン／酢酸エチル５：１比）により精製し、次いでヘキサンで粉砕して、クリーム色粉末として４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.46 g）を得た。
【０１９１】
例３：４−（３′，４′−ジフルオロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化４２】
2010512360.tif 000043
【０１９２】
段階１：５−クロロ−２−メチルフェニル三酢酸鉛の調製
【化４３】
2010512360.tif 000044
【０１９３】
窒素を激しく吹き付けた四酢酸鉛（2.15 g, 4.85ミリモル）と二酢酸第二水銀（0.15 g, 0.47ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（6 ml）を添加した。この混合物を40℃に温め、５−クロロ−２−メチルフェニルボロン酸（0.76 g, 4.46ミリモル）を一度に添加し、懸濁液をこの温度で５時間攪拌した。室温に冷却した後、混合物を少量に濃縮し、ヘキサンで粉砕しそして濾過して、粗製５−クロロ−２−メチルフェニル三酢酸鉛（2.27ｇ）を得た。
【０１９４】
段階２：４−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化４４】
2010512360.tif 000045
【０１９５】
２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（US5089046A中に記載）（0.504 g, 2.96ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（1.45 g, 11.84ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（40 ml）を添加した。この溶液に粗製５−クロロ−２−メチルフェニル三酢酸鉛（2.26 g, 4.44ミリモル）を一度に添加し、混合物を40℃に17時間加熱し（分析）、次いで45〜50℃で更に23時間攪拌した。混合物を室温にまで放冷し、次いで酢酸エチル（100 ml）で希釈し、希水性塩酸（３×30 ml）で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、次いで濃縮して黄色ガムを与え、それをカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン／酢酸 8:18:1比）により精製し、ヘキサンで粉砕して、白色固体として４−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.53 g）を得た。
【０１９６】
段階３：４−（３′，４′−ジフルオロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化４５】
2010512360.tif 000046
【０１９７】
マイクロ波バイアルに４−（５−クロロ−２−メチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.20 g, 0.68ミリモル）、３，４−ジフルオロフェニルボロン酸（0.107 g, 0.68ミリモル）、リン酸カリウム（0.722 g, 3.40ミリモル）、酢酸パラジウム（II）（1.6 mg, 0.0068ミリモル）及びＳ−ホス−３′−スルホン酸ナトリウム（7.0 mg, 0.0136ミリモル）を添加した。脱気した蒸留水（0.75 ml）を次いで添加し（バイアル壁から全ての固体を洗って滑り込ませた）、次いで５分間攪拌し、アルゴンでフラッシュした。この混合物をマイクロ波照射下で160℃で15分間加熱し、次いで余分な３，４−ジフルオロフェニルボロン酸（0.107 g, 0.68ミリモル）とリン酸カリウム（0.144 g, 0.68ミリモル）を添加し、マイクロ波照射下で更に160℃で15分間加熱した。室温に冷却した後、反応混合物を酢酸エチル（3 ml）で希釈し、希水性塩酸によりpH 2へと酸性化した。有機相を分離し、水性相を酢酸エチル（３×３ ml）で更に抽出した。全ての有機溶液を一緒にし、シリカプラグを通して濾過し、そして蒸発させて粗製生成物を与え、それをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（2.5 ml）中に溶解し、そして調製用逆相HPLCにより精製して、白色固体として４−（３′，４′−ジフルオロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.190ｇ）を得た。
【０１９８】
例４：（１Ｒ*，５Ｓ*）−３−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２，４−ジオンの調製
【化４６】
2010512360.tif 000047
【０１９９】
段階１：（１Ｒ*，５Ｓ*）−２，３，４，４−テトラクロロ−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−２，６−ジエンの調製
【化４７】
2010512360.tif 000048
【０２００】
ペンタクロロシクロプロパン（100 g, 0.467モル）を１，４−ジオキサン（3600 ml）中の水酸化カリウム（31.4 g, 0.56モル）の懸濁液に添加し、そして混合物を室温で30分間攪拌し、次いで65℃に30分間加熱した。２−メチルフラン（38.36 g, 0.467モル）を反応混合物に添加し、温度を85〜90℃に上げ、混合物を16時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却し、珪藻土のプラグを通して濾過し、濾液を真空中で濃縮して、（１Ｒ*，５Ｓ*）−２，３，４，４−テトラクロロ−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−２，６−ジエン（83ｇ）を得、それを更に精製せずに次の段階に使用した。
【０２０１】
段階２：（１Ｒ*，５Ｓ*）−３，４−ジクロロ−５−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−３，６−ジエン−２−オンの調製
【化４８】
2010512360.tif 000049
【０２０２】
硝酸銀（166 g, 0.982モル）を（１Ｒ*，５Ｓ*）−２，３，４，４−テトラクロロ−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−２，６−ジエン（83 g, 0.491モル）、アセトン（1500 ml）及び水（1500 ml）の攪拌混合物に添加し、その混合物を65℃で16時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却し、水性炭酸水素ナトリウムの飽和溶液を添加してpHを７〜８に調整した。混合物を珪藻土のプラグを通して濾過し、濾液を真空中で濃縮してアセトンの大部分を除去した。水性混合物を酢酸エチルで抽出し（３×500 ml）、有機抽出物を一緒にし、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を蒸発させた。残渣をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、黄色油状物として（１Ｒ*，５Ｓ*）−３，４−ジクロロ−５−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−３，６−ジエン−２−オン（29.5ｇ）を得た。
【０２０３】
段階３：３−クロロ−１−メチル−４−オキソ−スピロ（１，３−ジオキソラン−２，２′−〔８〕オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−６−エン）の調製
【化４９】
2010512360.tif 000050
【０２０４】
ナトリウム（4.41 g, 0.204モル）をエチレングリコール（99.75 g）に注意深く添加し、ナトリウムが完全に溶解するまで窒素雰囲気下で混合物を35〜40℃で攪拌した。テトラヒドロフラン（200 ml）中の（１Ｒ*，５Ｓ*）−３，４−ジクロロ−５−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−３，６−ジエン−２−オン（28 g, 0.136モル）の溶液を30分間に渡り滴下添加し、添加が完了したら、混合物を室温で90分間攪拌した。反応混合物を10％リン酸二水素ナトリウムの添加により中和し、酢酸エチル（３×100 ml）で抽出した。有機抽出液を一緒にし、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を蒸発させた。残渣をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、ガムとして３−クロロ−１−メチル−４−オキソスピロ（１，３−ジオキソラン−２，２′−〔８〕オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−６−エン）（24.5ｇ）を得た。
【０２０５】
段階４：（１Ｒ*，５Ｓ*）−１−メチル−４−オキソスピロ（１，３−ジオキソラン−２，２′−〔８〕オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−６−エン）の調製
【化５０】
2010512360.tif 000051
【０２０６】
亜鉛粉末（13.88 g, 0.212モル）を酢酸（122.5 ml）中の３−クロロ−１−メチル−４−オキソスピロ（１，３−ジオキソラン−２，２′−〔８〕オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−６−エン）（24.5 g, 0.016モル）の溶液に添加し、反応混合物を室温で24時間攪拌した。該混合物を水（612.5 ml）で希釈し、酢酸エチル（３×150 ml）で抽出した。有機抽出液を一緒にし、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を蒸発させて、黄色油状物として（１Ｒ*，５Ｓ*）−１−メチル−４−オキソスピロ（１，３−ジオキソラン−２，２′−〔８〕オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−６−エン）を得、それを更に精製せずに次の段階に使用した。
【０２０７】
段階５：（１Ｒ*，５Ｓ*）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−６−エン−２，４−ジオンの調製
【化５１】
2010512360.tif 000052
【０２０８】
塩酸（50 ml）を、３回に分けて、アセトン（500 ml）と水（250 ml）中の（１Ｒ*，５Ｓ*）−１−メチル−４−オキソスピロ（１，３−ジオキソラン−２，２′−〔８〕オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−６−エン）（20 g, 0.102モル）の混合物に添加し、反応混合物を65〜70℃で48時間攪拌した。該混合物を室温に冷却し、減圧下での蒸発によりアセトンの大部分を除去し、残った水性溶液を酢酸エチル（３×100 ml）で抽出した。有機抽出液を一緒にし、無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を蒸発させた。残渣をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、黄色油状物として（１Ｒ*，５Ｓ*）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−６−エン−２，４−ジオン（10.0ｇ）を得た。
【０２０９】
段階６：（１Ｒ*，５Ｓ*）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２，４−ジオンの調製
【化５２】
2010512360.tif 000053
【０２１０】
酢酸エチル（100 ml）中の（１Ｒ*，５Ｓ*）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタ−６−エン−２，４−ジオン（12.0 g, 0.079モル）の溶液に10％パラジウム／炭素（2.4 g）を添加し、１バールの水素雰囲気下で24時間攪拌した。次いで反応混合物を珪藻土を通して濾過し、濃縮して粗生成物を与え、それをフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製して、淡黄色固体として（１Ｒ*，５Ｓ*）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２，４−ジオン（6.90ｇ）を得た。
【０２１１】
段階７：（１Ｒ*，５Ｓ*）−３−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２，４−ジオンの調製
【化５３】
2010512360.tif 000054
【０２１２】
クロロホルム（2.0 ml）とトルエン（0.5 ml）の混合物に（１Ｒ*，５Ｓ*）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２，４−ジオン（0.10 g, 0.6ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（0.395 g, 3.2ミリモル）を窒素下で攪拌しながら添加した。この反応混合物に４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（0.42 g, 0.70ミリモル）を一度に添加し、次いで混合物を80℃で１〜２時間加熱した。反応混合物を室温に冷却し、希水性塩酸で酸性化し、次いで珪藻土を通して濾過して無機残渣を除去した（その後ジクロロメタンで洗浄した）。水性画分をジクロロメタン（２×5 ml）で抽出し、全ての有機画分を一緒にし、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで真空下で濃縮して粗製生成物を与え、それをフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製して、白色固体として（１Ｒ*，５Ｓ*）−３−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２，４−ジオン（0.150ｇ）を得た。
【０２１３】
例５：（１Ｒ*，５Ｓ*）−３−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２，４−ジオンの調製
【化５４】
2010512360.tif 000055
【０２１４】
クロロホルム（3.5 ml）とトルエン（0.75 ml）の混合物に（１Ｒ*，５Ｓ*）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２，４−ジオン（0.25 g, 1.62ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（0.99 g, 8.11ミリモル）を窒素下で攪拌しながら添加した。この反応混合物に４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（1.05 g, 1.78ミリモル）を一度に添加し、次いで混合物を80℃で１〜２時間加熱した。反応混合物を室温に冷却し、希水性塩酸で酸性化し、次いで珪藻土を通して濾過して無機残渣を除去した（その後ジクロロメタンで洗浄した）。水性画分をジクロロメタン（２×10 ml）で抽出し、全ての有機画分を一緒にし、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで真空下で濃縮して粗製生成物を与え、それをフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル）により精製して、白色固体として（１Ｒ*，５Ｓ*）−３−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−１−メチル−８−オキサビシクロ〔３．２．１〕オクタン−２，４−ジオン（0.240ｇ）を得た。
【０２１５】
例６：４−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−２，２−ジメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化５５】
2010512360.tif 000056
【０２１６】
段階１：〔３−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−１，１−ジメチルプロパ−２−イニルオキシ〕酢酸メチルエステルの調製
【化５６】
2010512360.tif 000057
【０２１７】
トリエチルアミン（70 ml）中の３−ブロモ−４′−クロロ−４−メチルビフェニル（12.6 g, 44.7ミリモル）と（１，１−ジメチルプロパ−２−イニルオキシ）酢酸メチルエステル（WO2001/066544に従って調製）の溶液に、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）ジクロリド（0.63 g, 0.9ミリモル）とヨウ化銅（I）（0.34 g, 1.8ミリモル）を添加した。反応混合物を脱気し、そして窒素でフラッシュし（×３）、次いで窒素下で80℃にて１時間攪拌した。冷却した混合物を珪藻土を通して濾過して触媒を取り除き、濾液を真空中で蒸発させた。残渣を同じ反応条件〔窒素下での70 mlのトリエチルアミン中の8.4 gの１，１−ジメチルプロパ−２−イニルオキシ）酢酸メチルエステル、0.63 gのビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）ジクロリド、0.34 gのヨウ化銅（I）〕に再びかけ、次いで80℃で１時間攪拌した。冷却した混合物を珪藻土を通して濾過し、次いで真空中で濃縮し、フラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 3:1）により精製して、油状物として〔３−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−１，１−ジメチルプロパ−２−イニルオキシ〕酢酸メチルエステル（6.70ｇ）を得た。
【０２１８】
段階２：〔３−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−１，１−ジメチルプロパ−２−イニルオキシ〕酢酸の調製
【化５７】
2010512360.tif 000058
【０２１９】
水酸化カリウム（1.105 g, 19.7ミリモル）を、ジオキサン（20 ml）と水（20 ml）中の〔３−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−１，１−ジメチルプロパ−２−イニルオキシ〕酢酸メチルエステル（6.7 g, 18.8ミリモル）の溶液に添加した。20℃で４時間攪拌した後、反応混合物をジクロロメタンで２回抽出した。水性相を０℃で１Ｎ水性塩酸を使ってpH 2-3に酸性化し、酢酸エチルで２回抽出した。合わせた有機抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で蒸発させた。残渣をヘキサン中で攪拌し、濾過して〔３−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−１，１−ジメチルプロパ−２−イニルオキシ〕酢酸（4.50ｇ）を白色固体（融点125℃）として得た。
【０２２０】
段階３：６−〔１−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）メチリデン〕−５，５−ジメチル〔１，４〕ジオキサン−２−オンの調製
【化５８】
2010512360.tif 000059
【０２２１】
炭酸銀（0.17 g, 0.61ミリモル）を、マイクロ波バイアルに入った無水アセトニトリル（15 ml）中の〔３−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−１，１−ジメチルプロパ−２−イニルオキシ〕酢酸（2.1 g, 6.13ミリモル）の溶液に添加した。反応混合物を攪拌し、マイクロ波照射下で120℃に40分間加熱して褐色懸濁液を与えた。この混合物を真空中で蒸発させ、次いで水で希釈し、酢酸エチルで抽出した。合わせた有機抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で蒸発させて、固体として６−〔１−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）メチリデン〕−５，５−ジメチル〔１，４〕ジオキサン−２−オン（1.75ｇ）を得た。
【０２２２】
段階４：４−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−２，２−ジメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化５９】
2010512360.tif 000060
【０２２３】
無水アセトニトリル（22 ml）中の６−〔１−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）メチリデン〕−５，５−ジメチル〔１，４〕ジオキサン−２−オン（1.5 g, 4.38ミリモル）の懸濁液に、トリエチルアミン（0.67 ml, 4.81ミリモル）とシアン化カリウム（30 mg, 0.46ミリモル）を添加した。反応混合物を還流下で２時間攪拌した。冷却した混合物を酢酸エチルで希釈し、そして0.5Ｎ水性塩酸を０℃で添加した。有機相を分離し、水性相を酢酸エチルで２回抽出した。合わせた有機抽出液を無水硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で蒸発させた。残渣をフラッシュクロマトグラフィー（ヘプタン／酢酸エチル 1:1比）により精製して、泡状物として４−（４′−クロロ−４−メチルビフェニル−３−イル）−２，２−ジメチルピラン−３，５−ジオン（1.35ｇ）を得た。この生成物の試料をヘキサン／ジイソプロピルエーテル（4:1比）中で攪拌し、濾過して、186-188℃の融点を有する固体を得た。
【０２２４】
例７：４−（４′−クロロ−４−エチル−２′−フルオロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化６０】
2010512360.tif 000061
【０２２５】
段階１：５−ブロモ−２−エチルアニリンの調製
【化６１】
2010512360.tif 000062
【０２２６】
エタノール（125 ml）中の２−エチル−５−ブロモニトロベンゼン（9.71 g, 230ミリモル）の溶液に塩化錫（II）二水和物（35.72 g, 225.71ミリモル）を添加し、70℃で２時間加熱した。室温に冷却した後、該溶液を砕いた氷（１Ｌ）中に注ぎ、次いで酢酸エチル（200 ml）で希釈した。固体の炭酸ナトリウムをpH 7になるまで注意深く添加し、その段階で粘稠な混合物を珪藻土を通して濾過し（更にに酢酸エチル／水性炭酸ナトリウムで洗浄し）、相を分離した。水性相を更に抽出後、全ての有機相を一緒にし、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空中で濃縮した。粗製油状物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 8:2比）により精製して、褐色油状物として５−ブロモ−２−エチルアニリン（7.89ｇ）を得た。
【０２２７】
段階２：４−ブロモ−１−エチル−２−ヨードベンゼン
【化６２】
2010512360.tif 000063
【０２２８】
蒸留水（110 ml）中の５−ブロモ−２−エチルアニリン（3.39 g, 200ミリモル）の攪拌混合物に濃硫酸（5.60 ml）を添加し、次いで溶解するまで還流温度で手短に加熱した。混合物を室温に放冷すると細かい沈澱が生じ、それを更に氷／食塩浴中で約０℃に冷却した。このスラリーに蒸留水（10 ml）中の亜硝酸ナトリウム（1.17 g, 16.94ミリモル）の水溶液を５℃以下に温度を維持しながら15分間に渡り滴下添加し、次いで30分間更に攪拌した。反応混合物を次いで蒸留水（45 ml）中のヨウ化カリウム（8.44 g, 50.83ミリモル）の第二の水溶液に室温で滴下添加した。添加が終了した後、溶液を80℃に手短に加熱し、次いで室温に再び冷却した。反応混合物を酢酸エチル（３×50 ml）で抽出し、有機相を１Ｍ水性塩酸（30 ml）と水性チオ硫酸ナトリウム（２×30 ml）で洗浄した。無水硫酸マグネシウム上で乾燥しそして真空中で濃縮した後、橙色液体として４−ブロモ−１−エチル−２−ヨードベンゼン（4.90ｇ）が得られた。
【０２２９】
段階３：５−ブロモ−２−エチルフェニルボロン酸の調製
【化６３】
2010512360.tif 000064
【０２３０】
−78℃の無水テトラヒドロフラン（60 ml）中の４−ブロモ−１−エチル−２−ヨードベンゼン（10.00 g, 32.20ミリモル）の溶液に、温度を−60℃以下に維持しながら塩化イソプロピルマグネシウム（16.90 ml, 33.80ミリモル、テトラヒドロフラン中２Ｍ溶液）を滴下添加した。20分間攪拌した後、反応混合物をゆっくりと室温まで温め、次いで更に１時間攪拌した。溶液を−78℃に再冷却し、トリメチルボレート（7.18 ml, 64.32ミリモル）を滴下添加し、その後混合物を再び室温まで温め、更に２時間攪拌した。０℃にて希水性塩酸（30 ml）を添加し、粗生成物を酢酸エチル（100 ml）中に抽出した。水性相を酢酸エチル（２×100 ml）で洗浄し、全ての有機物を一緒にし、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、次いで真空中で濃縮して薄褐色固体を得、それをヘキサンと共に粉砕してクリーム色粉末として５−ブロモ−２−エチルフェニルボロン酸（6.46ｇ）を得た。
【０２３１】
段階４：５−ブロモ−２−エチルフェニル三酢酸鉛の調製
【化６４】
2010512360.tif 000065
【０２３２】
窒素で激しくフラッシュした四酢酸鉛（13.7 g, 31.00ミリモル）と二酢酸第二水銀（0.47 g, 1.50ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（42 ml）を添加した。この混合物を40℃に温め、５−ブロモ−２−エチルフェニルボロン酸（6.50 g, 28.00ミリモル）を一度に添加し、懸濁液をこの温度で５時間加熱した。次いで混合物を室温まで放冷し、０℃に冷却し、次いで迅速に5分間攪拌しながら粉末状無水炭酸カリウム（3.22 g）を添加し、次いで濾過した。ろ液を半分の容量にまで濃縮し、次いでヘキサンを添加して沈澱を誘導した。この混合物を更に濃縮し、溶媒をデカンテーションし、固体をヘキサンで洗浄して、砂状の着色固体として５−ブロモ−２−エチルフェニル三酢酸鉛（10.69ｇ）を得た。
【０２３３】
段階５：４−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化６５】
2010512360.tif 000066
【０２３４】
２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（3.57 g, 21.00ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（13.50 g, 111.00ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（120 ml）を添加し、溶解するまで室温で攪拌した。この溶液に、無水トルエン（37 ml）、次いで５−ブロモ−２−エチルフェニル三酢酸鉛（10.69 g, 24.00ミリモル）を一度に添加し、反応混合物を80℃に２時間加熱し、次いで室温で一晩放置しておいた。混合物をジクロロメタン（185 ml）と希水性塩酸（185 ml）で希釈し、５分間渦動攪拌し、濾過して無機残渣を除去した（更にジクロロメタンで洗浄した）。全ての有機画分を一緒にし、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、次いで真空中で濃縮して粗製油状物を得、それをフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 5:1比）により更に精製して黄色固体（4.47ｇ）を得た。この固体をクロロホルム（50 ml）中に溶解しそして３−メルカプトプロピル官能化シリカゲル（5.50 g, 1.20ミリモル／g負荷量）と共に一晩攪拌することにより、鉛残渣を除去した。濾過及び濃縮後、クリーム色粉末として４−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（4.36ｇ）を得た。
【０２３５】
段階６：４−（４′−クロロ−４−エチル−２′−フルオロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化６６】
2010512360.tif 000067
【０２３６】
４−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.278 g, 0.79ミリモル）、フッ化セシウム（1.19 g, 7.90ミリモル）、４−クロロ−２−フルオロフェニルボロン酸（0.194 g, 1.11ミリモル）及び〔１，１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン〕ジクロロパラジウム(II)（0.102 g, 0.12ミリモル）の混合物に、脱気したジメトキシエタン（2 ml）を添加し、生じた懸濁液を窒素下で45分間攪拌し、次いで80℃に20時間加熱した。室温に冷却した後、反応混合物を酢酸エチルと１Ｍ水性塩酸の間に分配させた。水性相を酢酸エチルで更に抽出し、全ての有機抽出液を一緒にし、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空中で濃縮した。生じた物質をシリカゲル上でのカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 3:1比）により精製して、白色固体として４−（４′−クロロ−４−エチル−２′−フルオロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.248ｇ）を得た。
【０２３７】
例８：４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化６７】
2010512360.tif 000068
【０２３８】
４−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.278 g, 0.79ミリモル）、フッ化セシウム（1.19 g, 7.90ミリモル）及び２，４−ジクロロフェニルボロン酸（0.30 g, 1.58ミリモル）の混合物に、脱気したジオキサン（2.5 ml）を添加し、生じた懸濁液を45分間窒素下で攪拌すると、その時間の間に乳状の懸濁液が形成した。この懸濁液に〔１，１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン〕ジクロロパラジウム(II)（0.102 g, 0.12ミリモル）を一度に添加し、混合物を約100℃で３時間加熱した。室温に冷却した後、ジクロロメタン（150 ml）を添加し、該溶液を１Ｍ塩酸（150 ml）で洗浄した。有機相を分離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で濃縮して粗製油状物を得、それをカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 5:1比）により精製して、泡状物として生成物を得た。ヘキサンとの粉砕により、白色固体として４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.250ｇ）を得た。
【０２３９】
例９：４−（４′−クロロ−４−エチル−２′−メチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化６８】
2010512360.tif 000069
【０２４０】
マイクロ波バイアルに酢酸パラジウム（II）（3.3 mg, 0.015ミリモル）、トリス（３−スルホフェニル）ホスフィン三ナトリウム塩（22 mg, 0.038ミリモル）、４−クロロ−２−メチルフェニルボロン酸（0.152 g, 0.89ミリモル）、４−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.208 g, 0.59ミリモル）及びリン酸カリウム（0.625 g, 2.95ミリモル）を添加した。次いで脱気したアセトニトリル／蒸留水（1.5 ml, 1:1比）の混合溶液を添加し（バイアルの壁面から全ての固体を洗い落した）、５分間攪拌し、そしてアルゴンでフラッシュした。この混合物をマイクロ波照射の下で160℃に15分間加熱した。室温に冷却した後、反応混合物を酢酸エチル（３ ml）で希釈し、希水性塩酸でpH 2にまで酸性化した。有機相を分離し、水性相を酢酸エチル（２×3 ml）で更に抽出した。全ての有機物を一緒にし、シリカプラグを通して濾過し、蒸発させて粗生成物を得、それをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（2.5 ml）中に溶解し、調製用逆相HPLCにより精製して、白色粉末として４−（４′−クロロ−４−エチル−２′−メチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.139ｇ）を得た。
【０２４１】
例10：４−（４′−クロロ−４−エチル−３′−トリフルオロメチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化６９】
2010512360.tif 000070
【０２４２】
マイクロ波バイアルに酢酸パラジウム（II）（3.3 mg, 0.015ミリモル）、トリス（３−スルホフェニル）ホスフィン三ナトリウム塩（22 mg, 0.038ミリモル）、４−クロロ−３−トリフルオロメチルフェニルボロン酸（0.200 g, 0.89ミリモル）、４−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.208 g, 0.59ミリモル）及びリン酸カリウム（0.625 g, 2.95ミリモル）を添加した。次いで脱気したアセトニトリル／蒸留水（1.5 ml, 1:1比）の混合溶液を添加し（バイアルの壁面から全ての固体を洗い落した）、５分間攪拌し、そしてアルゴンでフラッシュした。この混合物をマイクロ波照射下で160℃に15分間加熱した。室温に冷却した後、反応混合物を酢酸エチル（３ ml）で希釈し、希水性塩酸でpH 2にまで酸性化した。有機相を分離し、水性相を酢酸エチル（２×3 ml）で更に抽出した。全ての有機物を一緒にし、シリカプラグを通して濾過し、蒸発させて粗生成物を得、それをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（2.5 ml）中に溶解し、調製用逆相HPLCにより精製して、白色粉末として４−（４′−クロロ−４−エチル−３′−トリフルオロメチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.143ｇ）を得た。
【０２４３】
例11：４−（４′−ブロモ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化７０】
2010512360.tif 000071
【０２４４】
段階１a
４−（４′−アミノ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.260 g, 0.71ミリモル）を塩酸（水中48重量％、1.7 ml）と水（1.2 ml）の混合物に分割して添加し、添加が完了したら、混合物を40℃に加熱し、20分間攪拌した後、氷浴中で５℃に冷却した。水（1.2 ml）中の亜硝酸ナトリウム（0.099 g, 1.40ミリモル）の溶液を20分間に渡り滴下添加し、添加が完了したら、混合物を５℃で更に45分間攪拌した。
【０２４５】
段階１ｂ
その間に、臭化水素酸（水中48重量％、3.3 ml）の溶液に硫酸銅五水和物（0.388 g,1.55ミリモル）を70℃で一度に添加し、混合物を70℃で２分間攪拌して黒紫色溶液を与え、次いでそれに銅粉末（0.135 g, 2.15ミリモル）と（0.30 g, 0.47ミリモル）を添加し、ピンク色の懸濁液を得た。
【０２４６】
段階１ｃ
ジアオニウム塩を含む混合物（段階１aで調製）を、５℃において段階１ｂで調整した攪拌混合物に分割して添加し、次いで70℃で更に45分間加熱した。室温に冷却した後、反応混合物を酢酸エチルで抽出し、水とブラインで洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空中で濃縮した。フラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 3:1比）による精製が粗製の固体を与え、それをヘキサン／ジエチルエーテルで粉砕すると、白色固体として４−（４′−ブロモ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.045ｇ）が得られた。
【０２４７】
例12：４−（４′−ヨード−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化７１】
2010512360.tif 000072
【０２４８】
アセトニトリル（11 ml）中のパラ−トルエンスルホン酸一水和物（1.03 g, 5.40ミリモル）の溶液に４−（４′−アミノ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.65 g, 1.80ミリモル）を添加し、次いで室温で10分間攪拌し、10℃に冷却した。この混合物に、蒸留水（1.3 ml）中の亜硝酸ナトリウム（0.25 g, 3.60ミリモル）とヨウ化カリウム（0.76 g, 4.50ミリモル）の第二混合溶液を添加し、該混合物を10℃で20分間攪拌し、次いで室温で２時間攪拌した。pH 9-10になるまで水性炭酸水素ナトリウム溶液を添加し、次いで酢酸エチルで希釈し、水性飽和メタ硫酸ナトリウム（20 ml）で洗浄した。酢酸エチル（×２）を使った水性相の追加の抽出後、全ての有機画分を一緒にし、蒸留水とブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空中で濃縮した。この粗製生成物をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 3:1比）により精製して橙色ガムを与え、それをヘキサンで粉砕すると、白色固体として４−（４′−ヨード−４−エチルビエニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.413ｇ）が得られた。
【０２４９】
例13：４−（４−エチル−４′−エチニルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
段階１：４−〔４−エチル−４′−（トリメチルシリルエチニル）ビフェニル−３−イル〕−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化７２】
2010512360.tif 000073
【０２５０】
無水Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（0.25 ml）中の４−（４′−ヨード−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.200 g, 0.42ミリモル）、トリメチルシリルアセチレン（0.10 ml, 0.47ミリモル）、ヨウ化銅（I）（4 mg, 0.023ミリモル）、塩化ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）（0.016 g, 0.023ミリモル）、トリフェニルホスフィン（0.022 g, 0.084ミリモル）及びジエチルアミン（0.65 ml）の混合物をマイクロ波照射下で120℃にて25分間加熱した。この混合物を次いで室温に戻し、珪藻土を通して濾過した（更にジクロロメタンで洗浄した）。減圧下で溶媒を除去し、残渣をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 9:1から3:1比）により精製して、白色固体として４−〔４−エチル−４′−（トリメチルシリルエチニル）ビフェニル−３−イル〕−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.143ｇ）を得、それを更に精製せずに次の段階に使用した。
【０２５１】
段階２：４−（４−エチル−４′−エチニルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化７３】
2010512360.tif 000074
【０２５２】
メタノール（6.5 ml）中の４−〔４−エチル−４′−（トリメチルシリルエチニル）ビフェニル−３−イル〕−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.143 g, 0.32ミリモル）の溶液に粉末状炭酸カリウム（0.177 g, 1.28ミリモル）を添加し、混合物を室温で１時間攪拌した。次いで水を加えて全ての無機物を溶解し、混合物を真空中で濃縮した。pH 2-3が得られるように２Ｍ塩酸を加え、次いで所望の物質を酢酸エチル（×３）で抽出した。全ての有機物を一緒にし、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空中で濃縮した。残渣をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 4:1比）にｙり精製して、黄色固体として４−（４−エチル−４′−エチニルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.070ｇ）を得た。
【０２５３】
例14：４−〔５−（３，５−ジクロロピリジン−２−イル）−２−メチルフェニル〕−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化７４】
2010512360.tif 000075
【０２５４】
段階１：５−ブロモ−２−メチルフェニル三酢酸鉛の調製
【化７５】
2010512360.tif 000076
【０２５５】
窒素を激しく吹き付けた四酢酸鉛（11.25 g, 25.40ミリモル）と二酢酸第二水銀（0.40 g, 1.27ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（35 ml）を添加した。この混合物を40℃に温め、５−ブロモ−２−メチルフェニルボロン酸（4.96 g, 23.10ミリモル）を一度に添加し、懸濁液をこの温度で５時間加熱した。次いで混合物を室温に戻し、０℃に更に冷却し、５分間迅速に攪拌しながら粉末状無水炭酸カリウム（1.61ｇ）を添加した。混合物を濾過し、濾液を半分の容量にまで濃縮し、ヘキサンを加えて沈澱を誘導した。この混合物を更に濃縮し、溶媒をデカンテーションし、固体をヘキサンで洗浄して、砂状の着色固体として５−ブロモ−２−メチルフェニル三酢酸鉛（10.10ｇ）を得た。
【０２５６】
段階２：４−（５−ブロモ−２−メチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化７６】
2010512360.tif 000077
【０２５７】
２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（6.00 g, 35.29ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（21.62 g, 177.21ミリモル）の混合物に無水クロロホルム（200 ml）を添加し、次いで溶解するまで室温で攪拌した。この溶液に無水トルエン（55 ml）、次いで５−ブロモ−２−メチルフェニル三酢酸鉛（21.60 g, 38.99ミリモル）を一度に添加し、反応混合物を80℃で２時間加熱した。この混合物を室温に戻し、次いでジクロロメタン（300 ml）と水性塩酸（300 ml）で希釈し、混合物を５分間攪拌し、濾過して無機残渣を除去した。濾過ケークをジクロメタンで洗浄し、全ての有機画分を一緒にし、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で濃縮して粗製固体を得、それをジクロロメタン／ヘキサンから再結晶した。この物質をフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 5:1比）により更に精製した。得られた固体（約6.50ｇ）をクロロホルム（100 ml）中に溶かし、そして３−メルカプトプロピル官能化シリカゲル（6.50 g, 1.20ミリモル／g 負荷量）と共に一晩攪拌することにより、鉛残渣を除去した。混合物を濾過し、濾液を真空中で濃縮してクリーム色粉末として４−（５−ブロモ−２−メチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（6.50ｇ）を得た。
【０２５８】
段階３：４−メチル−３−（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ジオキソテトラヒドロピラン−４−イル）フェニルボロン酸の調製
【化７７】
2010512360.tif 000078
【０２５９】
４−（５−ブロモ−２−メチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（5 g, 0.0147モル）を無水テトラヒドロフラン（150 ml）中に溶解し、反応混合物を０℃に冷却し、水素化ナトリウム（708 mg, 0.0294モル, オイル中60％分散体）を添加した。混合物を30分間攪拌し、次いで−78℃に冷却した。ｎ−ブチルリチウム（14.7 ml, 0.0294モル、シクロヘキサン中２Ｍ溶液）を約10分間に渡り滴下添加し、反応混合物を15分間攪拌した後、トリメチルボレート（4.95 ml, 0.0442モル）を加えた。反応混合物を更に45分間攪拌し、周囲温度にまで温め、次いで更に1.5時間攪拌した後、２Ｍ水性塩酸でクエンチングした。反応混合物を更に１時間攪拌し、次いでジクロロメタンで抽出した。有機相の分離後、減圧下で溶媒を除去して淡黄色のガムを得た。イソヘキサンでの粉砕により、白色固体として４−メチル−３−（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ジオキソテトラヒドロピラン−４−イル）フェニルボロン酸（2.01ｇ）を得た。
【０２６０】
段階４：４−〔５−（３，５−ジクロロピリジン−２−イル）−２−メチルフェニル〕−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化７８】
2010512360.tif 000079
【０２６１】
マイクロ波バイアルに４−メチル−３−（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ジオキソテトラヒドロピラン−４−イル）フェニルボロン酸（200 mg, 0.657ミリモル）、２−ブロモ−３，５−ジクロロピリジン（149 mg, 0.657ミリモル）、酢酸パラジウム（3.7 mg, 0.0164ミリモル）、トリス（３−スルホフェニル）ホスフィン三ナトリウム塩（22 mg, 0.0394ミリモル）及びリン酸カリウム（697 mg, 3.28ミリモル）を添加し、次いで脱気した水／アセトニトリルの溶媒混合物（1.6 ml, 2:1比）を添加した。混合物を窒素でフラッシュし、次いで周囲温度で５分間攪拌した後、マイクロ波照射下で160℃にて15分間加熱した。室温に冷却した後、反応液を２Ｍ水性塩酸とジクロロメタンの間に分配させ、有機相を分離した。水性相をジクロロメタンで更に抽出し、全ての有機画分を一緒にし、蒸発させた。残渣を調製用逆相HPLCにより精製して、４−〔５−（３，５−ジクロロピリジン−２−イル）−２−メチルフェニル〕−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（113 mg）を得た。
【０２６２】
例15：４−〔２−メチル−５−（４−メチルチアゾール−２−イル）フェニル〕−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化７９】
2010512360.tif 000080
【０２６３】
４−（５−ブロモ−２−メチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（200 mg, 0.589ミリモル）、４−メチルチアゾール（70 mg, 0.707ミリモル）、炭酸銀（814 mg, 2.94ミリモル）、トリフェニルホスフィン（15 gm, 0.0589ミリモル）及び〔１，１−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン〕パラジウム（II）クロリド（24 mg, 0.0294ミリモル）の混合物に、水／アセトニトリルの脱気した溶媒混合物（1.5 ml, 1:1比）を添加し、次いで窒素でパージし、振盪しながら65℃で65時間加熱した。室温に冷却した後、反応混合物を２Ｍ水性塩酸とジクロロメタンの間に分配させ、そして有機相を分離した。水性相を追加のアリコートのジクロロメタンで洗浄し、合わせた有機相を減圧下で蒸発させて褐色固体を与えた。その固体を調製用逆相HPLCにより精製して淡黄色固体として４−〔２−メチル−５−（４−メチルチアゾール−２−イル）フェニル〕−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（36 mg）を得た。
【０２６４】
例16：４−〔２−メチル−５−（１−オキシピリジン−２−イル）フェニル〕−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化８０】
2010512360.tif 000081
【０２６５】
トルエン（1 ml）中の４−（５−ブロモ−２−メチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（30 mg, 0.0888ミリモル）、ピリジン−Ｎ−オキシド（33.7 mg, 0.355ミリモル）、酢酸パラジウム（1 mg, 0.0044ミリモル）、炭酸カリウム（24.5 mg, 0.1775ミリモル）及び四フッ化ホウ素酸トリ−tert−ブチルホスホニウム（3.86 g, 0.0133ミリモル）の混合物を振盪しながら110℃で18時間加熱した。室温に冷却した後、反応混合物を減圧下で蒸発させ、残渣を調製用逆相HPLCにより精製して、無色ガムとして４−〔２−メチル−５−（１−オキシピリジン−２−イル）フェニル〕−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（5.2 mg）を得た。
【０２６６】
例17：４−（４′−ジフルオロメチル−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化８１】
2010512360.tif 000082
【０２６７】
無水ジクロロメタン（4 ml）中の４−（４′−カルボアルデヒド−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.110 g, 0.3ミリモル）の溶液に、三フッ化（ジエチルアミノ）硫黄（0.14 ml, 1.06ミリモル）を０℃にて滴下添加した。１時間攪拌した後、混合物を室温に戻し、溶液を更に一晩攪拌した。該溶液を氷浴中で冷却し、激しく攪拌しながら30分間に渡り飽和水性炭酸ナトリウム（4 ml）を滴下添加した。反応混合物を酢酸エチル（×２）で希釈し、次いで二層を分離し、水性相を更に酢酸エチルで抽出した。有機抽出液を一緒にし、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。混合物を濾過し、濾液を真空中で濃縮し、残渣を調製用逆相クロマトグラフィーにより精製して、白色固体として４−（４′−ジフルオロメチル−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.015 g）を得た。
【０２６８】
例18：４−（４，４′−ジクロロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化８２】
2010512360.tif 000083
【０２６９】
段階１：４−ブロモ−１−クロロ−２−ヨードベンゼンの調製
【化８３】
2010512360.tif 000084
【０２７０】
ｔ−ブチルニトリット（3 ml, 25ミリモル）をアセトニトリル（60 ml）中の塩化銅（II）（2.71 g, 20ミリモル）の懸濁液に添加し、生じた混合物を60℃で攪拌しながら加熱した。アセトニトリル（15 ml）中の４−ブロモ−２−ヨードアニリン（5 g, 17ミリモル）の溶液を滴下添加し、添加が完了したら混合物を60℃で2.5時間攪拌した。該混合物を室温に戻し、20％水性塩酸中に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。有機抽出液を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で蒸発させた。残渣をシリカゲル上でのカラムクロマトグラフィーにより更に精製して、油状物として４−ブロモ−１−クロロ−２−ヨードベンゼン（4.32ｇ）を得た。
【０２７１】
段階２：５−ブロモ−２−クロロフェニルボロン酸の調製
【化８４】
2010512360.tif 000085
【０２７２】
４−ブロモ−１−クロロ−２−ヨードベンゼン（10.35 g, 33ミリモル）を無水テトラヒドロフラン（60 ml）中に溶解し、その溶液をアルゴン雰囲気下で−75℃に冷却した。外部冷却により内部温度を−70℃以下に維持しながら、塩化イソプロピルマグネシウム（17.1 ml, 34ミリモル, テトラヒドロフラン中２Ｍ溶液）を30分間に渡り滴下添加した。添加が完了したら、反応混合物を約−70℃で30分間攪拌し、次いで室温にまで温め、１時間攪拌した。反応混合物を−78℃に冷却し、ホウ酸トリメチル（7.3 ml, 65ミリモル）を滴下添加した。混合物を−78℃で30分間攪拌し、次いで冷却浴を取り外し、混合物を室温で1.5時間攪拌した。２Ｍ水性塩酸（30ml）を加え、粗製生成物を酢酸エチルで抽出した。有機相を水とブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で蒸発させた。ヘキサンで粉砕して、オフホワイト色の固体として５−ブロモ−２−クロロフェニルボロン酸（6.16ｇ）を得た。
【０２７３】
段階３：５−ブロモ−２−クロロフェニル三酢酸鉛の調製
【化８５】
2010512360.tif 000086
【０２７４】
窒素を激しく吹き付けた、四酢酸鉛（1.46 g, 3.3ミリモル）と二酢酸第二水銀（42 mg, 0.13ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（2.5 ml）を加え、反応混合物を攪拌しそして40℃に加熱した。５−ブロモ−２−クロロフェニルボロン酸（0.62 g, 2.6ミリモル）を一度に添加し、反応混合物を40℃で４時間加熱した。室温に冷却した後、炭酸カリウム（0.18ｇ）を加え、混合物を激しく５分間攪拌し、濾過した。濾液を真空中で濃縮して５−ブロモ−２−クロロフェニル三酢酸鉛（1.23ｇ）を得、それを更に精製せずに次の段階に使用した。
【０２７５】
段階４：４−（５−ブロモ−２−クロロフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化８６】
2010512360.tif 000087
【０２７６】
２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（2.78 g, 16.3ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（9.97 g, 81.6ミリモル）の混合物に無水クロロホルム（120 ml）を添加した。この溶液に無水トルエン（30 ml）を添加し、次いで５−ブロモ−２−クロロフェニル三酢酸鉛（10.32 g, 18ミリモル）を一度に添加し、反応混合物を80℃で一晩加熱した。混合物を室温に戻し、次いでジクロロメタン（120 ml）と２Ｍ水性塩酸（250 ml）で希釈し、珪藻土を通して濾過して無機残渣を除去した。濾過ケークをジクロロメタンで洗浄し、全ての有機画分を一緒にし、２Ｍ塩酸、水及びブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空中で濃縮した。この物質をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製すると十分な純度の４−（５−ブロモ−２−クロロフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.44ｇ）が得られ、それを次の段階にそのまま使用した。
【０２７７】
段階５：４−（４，４′−ジクロロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラヒドロピラン−３，５−ジオンの調製
【化８７】
2010512360.tif 000088
【０２７８】
４−（５−ブロモ−２−クロロフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.22 g, 0.6ミリモル）、４−クロロフェニルボロン酸（0.14 g, 0.9ミリモル）及びフッ化セシウム（0.28 g, 1.8ミリモル）の混合物を、窒素雰囲気下で１，２−ジメトキシエタン（2.4 ml）中で一緒に室温で45分間攪拌した。〔１，１′−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン〕ジクロロパラジウム(II)（80 mg, 0.098ミリモル）を添加し、反応混合物を80℃に一晩加熱した。反応混合物を珪藻土を通して濾過し、濾過ケークをジクロロメタン（7 ml）と水（3 ml）で洗浄した。混合物を２Ｍ水性塩酸の添加によりpH 1に酸性化し、有機相を分離した。水性相をジクロロメタンで抽出し、そして全ての有機抽出液を一緒にし、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を蒸発させた。残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（約１ml）中に溶かし、逆相HPLCにより精製して４−（４，４′−ジクロロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（80 mg）を得た。
【０２７９】
例19：４−（４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化８８】
2010512360.tif 000089
【０２８０】
段階１：４′−クロロ−３−ヨードビフェニル−４−イルアミンの調製
【化８９】
2010512360.tif 000090
【０２８１】
メタノール（10 ml）と蒸留水（40 ml）の混合溶媒系中の４′−クロロビフェニル−４−イルアミン（2.03 g, 0.01ミリモル）の溶液に、クロロ酸カリウム（0.830 g, 6.77ミリモル）とヨウ化カリウム（3.32 g, 0.02ミリモル）を添加した。反応混合物を80℃に加熱した後、濃塩酸（0.60 ml）を添加し、混合物をこの温度で更に一晩加熱した。該溶液を室温に冷却し、粗製生成物をジエチルエーテル（×３）で抽出し、合わせた有機画分を５％水性チオ硫酸ナトリウム溶液と蒸留水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で蒸発させて黒っぽい固体を与え、それをヘキサンで粉砕して明褐色固体として４′−クロロ−３−ヨードビフェニル−４−イルアミン（2.94ｇ）を得た。
【０２８２】
段階２：４−ブロモ−４′−クロロ−３−ヨードビフェニルの調製
【化９０】
2010512360.tif 000091
【０２８３】
４′−クロロ−３−ヨードビフェニル−４−イルアミン（13.5 g, 0.041ミリモル）を微粉末に粉砕し、それを48％水性臭化水素（54 ml）と蒸留水（42 ml）の混合物中に懸濁した。この懸濁液を45℃に30分間加熱し、次いで０〜５℃に冷却し、そして内部温度を５℃以下にずっと維持しながら、蒸留水（6 ml）中の亜硝酸ナトリウム（3.54 g, 0.0125ミリモル）の溶液を滴下添加した。この混合物を、48％水性臭化水素（80 ml）中の硫酸銅(II)五水和物（15 g, 0.06ミリモル）と銅粉末（5.29 g, 0.084ミリモル）の予め形成しておいた第二の懸濁液に80℃にて滴下添加した。添加が完了したら、反応混合物を80℃で更に90分間攪拌した。室温に冷却した後、酢酸エチルを加え、反応混合物を蒸留水中に注ぎ、二層を分離した。水性相を酢酸エチル（×２）で更に抽出し、合わせた有機抽出液を中性pHに達するまで蒸留水で洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。混合物を濾過し、濾液を真空中で蒸発させ、残渣をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶離剤ヘキサン）により精製して、淡橙色液体として４−ブロモ−４′−クロロ−３′−ヨードビフェニル（10.5ｇ）を得た。
【０２８４】
段階３：４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イルボロン酸の調製
【化９１】
2010512360.tif 000092
【０２８５】
−75℃において無水ジエチルエーテル（80 ml）と無水テトラヒドロフラン（80 ml）の混合溶媒系中の４−ブロモ−４′−クロロ−３−ヨードビフェニル（8.00 g, 20.40ミリモル）の溶液に、反応混合物の温度を−70℃以下に維持しながら、臭化イソプロピルマグネシウム（31.60 ml, テトラヒドロフラン中15％）を滴下添加した。添加が完了したら、混合物を−75℃で更に２時間攪拌し、次いで−25℃に温め、その時点でトリメチルボレート（3.15 g, 30.60ミリモル）を滴下添加した。添加が完了したら反応液を室温まで温め、一晩攪拌し、次いで氷浴中で冷却し、２Ｍ水性塩酸により酸性化した。粗製生成物を酢酸エチル（３×）で抽出し、有機画分を一緒にし、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。混合物を濾過し、濾液を真空中で蒸発させて固体を与え、それをヘキサンで更に粉砕して、白色固体として４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イルボロン酸（5.20ｇ）を得た。
【０２８６】
段階４：４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イル三酢酸鉛の調製
【化９２】
2010512360.tif 000093
【０２８７】
窒素を激しく吹き付けた四酢酸鉛（3.76 g, 8.49ミリモル）と二酢酸第二水銀（0.27 g, 0.85ミリモル）の混合物に無水クロロホルム（25 ml）を添加した。この混合物を40℃に温め、４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イルボロン酸（2.40 g, 7.72ミリモル）を一度に添加し、混合物を攪拌し、この温度で４時間加熱した。室温に冷却した後、混合物をクロロホルム（25 ml）で希釈し、氷浴中で冷却し、粉末状無水炭酸カリウム（2.75 g）を素早く添加し、次いで５分間迅速に攪拌した。固体を濾過により除去し、濾液を約四分の一の容量にまで濃縮した。ヘキサンを加えて結晶化を促進し、溶媒を真空中で除去した。ヘキサンでの粉砕により、４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イル三酢酸鉛（3.25ｇ）が得られ、それを更に精製せずに次の段階に使用した。
【０２８８】
段階５：４−（４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化９３】
2010512360.tif 000094
【０２８９】
２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.75 g, 4.9ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（2.52 g, 20.6ミリモル）の混合物に、無水クロロホルム（40 ml）を加え、次いで溶解するまで室温で攪拌した。この溶液に無水トルエン（12 ml）を添加し、次いで４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イル三酢酸鉛（3.25 g, 5.1ミリモル）を一度に添加し、反応混合物を80℃で２時間加熱した。該混合物を室温まで冷やし、次いでクロロホルム（50 ml）と１Ｍ水性塩酸（50 ml）で希釈し、混合物を５分間攪拌した。沈澱を濾過により除去し、二相を分離し、有機相をブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で濃縮した。残渣をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製し、所望の化合物を含む画分を一緒にし、そして蒸発させて残渣を与え、それを調製用逆相HPLCにより更に精製して、４−（４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.013 g）を得た。
【０２９０】
例20：４−（４′−クロロ−４−シクロプロピルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化９４】
2010512360.tif 000095
【０２９１】
トルエン（4 ml）と蒸留水（0.2 ml）の混合溶媒系中の４−（４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.390 g, 0.90ミリモル）、シクロプロピルボロン酸（0.100 g, 1.16ミリモル）、リン酸カリウム（0.665 g, 3.14ミリモル）及びトリシクロヘキシルホスフィン（0.025 g, 0.09ミリモル）の攪拌混合物に、酢酸パラジウム（0.010 g, 0.044ミリモル）を添加した。この混合物を100℃で一晩加熱した。室温に冷却した後、溶液を酢酸エチルと蒸留水で希釈し、次いで珪藻土を通して濾過した（酢酸エチル／蒸留水で更に洗浄した）。水性相を２Ｍ水性塩酸でpH 3に酸性化し、次いで有機相を分離し、水性相を酢酸エチル（×２）で再抽出した。全ての有機画分を一緒にし、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過した。真空中で濃縮した後、粗製油状物を調製用逆相HPLCにより精製し、次いでヘキサンで粉砕して白色固体として４−（４′−クロロ−４−シクロプロピルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.011ｇ）を得た。
【０２９２】
例21：４−（４′−クロロ−４−ビニルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化９５】
2010512360.tif 000096
【０２９３】
４−（４−ブロモ−４′−クロロビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.314 g, 0.72ミリモル）、ビニルボロン酸無水物ピリジン錯体（0.175 g, 0.73ミリモル）、水酸化リチウム一水和物（0.177 g, 4.22ミリモル）、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン（0.015 g, 0.036ミリモル）及び酢酸パラジウム（0.010 g, 0.044ミリモル）の混合物を、１，２−ジメトキシエタン（5 ml）と蒸留水（１ml）の混合溶媒系中で80℃にて３時間攪拌した。室温に冷却した後、混合物を珪藻土を通して濾過し、次いで酢酸エチルと水で洗浄した。水性相を２Ｍ水性塩酸でpH 3にまで酸性化し、次いで有機相を分離し、水性相を酢酸エチルで再抽出した。全ての有機画分を一緒にし、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過した。真空中で濃収縮した後、粗製油状物を調製用逆相HPLCにより精製し、次いでヘキサンで粉砕して、白色固体として４−（４′−クロロ−４−ビニルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.038ｇ）を得た。
【０２９４】
例22：４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２−メトキシメチル−２，６，６−トリメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化９６】
2010512360.tif 000097
【０２９５】
段階１：１−メトキシ−２，５−ジメチルヘキサ−３−イン−２，５−ジオールの調製
【化９７】
2010512360.tif 000098
【０２９６】
無水ジエチルエーテルの溶液に０〜５℃において臭化エチルマグネシウム（37.33 g, 112ミリモル、ジエチルエーテル中３Ｍ溶液）、次いで２−メチル−３−ブチン−２−オール（4.70 g, 55.87ミリモル）を滴下添加した。混合物を室温に温め、この温度で30分間攪拌し、次いでガス発生が鎮まるまで（約１時間）40℃で攪拌した。粘稠な混合物を室温に冷却し、メトキシアセトン（3.78 g, 42.90ミリモル）を滴下添加し、次いで40℃に１時間加熱した。室温に冷却した後、懸濁液を氷と飽和水性塩化アンモニウムの混合物中に注ぎ、生成物をジエチルエーテル（２×50 ml）次いでジクロロメタン（２×50 ml、２×100 ml）で抽出した。有機抽出液を一緒にし、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空中で濃縮して透明な油状物として１−メトキシ−２，５−ジメチルヘキサ−３−イン−２，５−ジオール（6.98ｇ）を得た。
【０２９７】
段階２：５−メトキシメチル−２，２，５−トリメチルジヒドロフラン−３−オン及び２−メトキシメチル−２，５，５−トリメチルジヒドロフラン−３−オンの調製
【化９８】
2010512360.tif 000099
【０２９８】
酸化第二水銀（0.05 g, 0.231ミリモル）にメタノール（0.053 ml）中のトリクロロ酢酸（0.02 g, 0.122ミリモル）の溶液、次に三フッ化ホウ素−ジエチルエーテラート（0.053 ml, 0.37ミリモル）を添加した。混合物を手短に攪拌し、クリーム状ペーストが生成するまで加熱し（約５分）、次いで追加のメタノール（１ml）で希釈した。この懸濁液にメタノール（１ml）中の１−メトキシ−２，５−ジメチルヘキサ−３−イン−２，５−ジオール（1.22 g, 7.09ミリモル）の溶液を滴下添加し、生じた混合物を50℃で３時間加熱した。室温に冷却した後、反応混合物を珪藻土を通して濾過し（追加のメタノールで洗浄し）、次いで40℃／150ミリバールで濃縮して粗製油状物を得た。この物質をジエチルエーテルで更に希釈し、固体の炭酸水素ナトリウム上で攪拌し、次いで濾過し、40℃／150ミリバールで濃縮し、褐色油状物として５−メトキシメチル−２，２，５−トリメチルジヒドロフラン−３−オンと２−メトキシメチル−２，５，５−トリメチルジヒドロフラン−３−オンの混合物（0.73ｇ）を得、それを更に精製せずに次の段階に使用した。
【０２９９】
段階３：２−メトキシメチル−２，５，５−トリメチルフラン−３，４−ジオンの調製
【化９９】
2010512360.tif 000100
【０３００】
含水ジオキサン（17 ml, 容量で0.5％蒸留水を含有）中の二酸化セレン（2.10 g, 18.91ミリモル）の攪拌溶液を100℃に加熱し、その時点で含水ジオキサン（5 ml, 容量で0.5％蒸留水を含有）中の５−メトキシメチル−２，５，５−トリメチルジヒドロフラン−３−オンと２−メトキシメチル−２，５，５−トリメチルジヒドロフラン−３−オン（2.55 g, 14.82ミリモル）の第二の（混合）溶液を40分間に渡り滴下添加し、次いでこの温度で３時間更に加熱した。室温に冷却した後、混合物を珪藻土を通して濾過し（ジエチルエーテルで洗浄し）、次いで40℃／50ミリバールで溶媒を除去し、粘稠な赤褐色油状物を得た。この物質をバルブからバルブへの蒸留により精製し、明赤色油状物として２−メトキシメチル−２，５，５−トリメチルフラン−３，４−ジオン（2.15ｇ）を得た。
【０３０１】
段階４：２−メトキシメチル−２，６，６−トリメチル−３，５−ジオキソテトラヒドロピラン−４−カルボン酸エチルエステルの調製
【化１００】
2010512360.tif 000101
【０３０２】
塩化亜鉛溶液（11.80 ml, 11.80ミリモル、ジエチルエーテル中１Ｍ溶液）に８℃においてtert−ブチルメチルエーテル（8 ml）中の２−メトキシメチル−２，５，５−トリメチルフラン−３，４−ジオン（2.15 g, 11.56ミリモル）の第二溶液を注意深く添加した。この混合物を15℃に温め、その段階で内部温度を21℃以下に維持しながらtert−ブチルメチルエーテル（6 ml）中のジアゾ酢酸エチル（1.35 g, 11.84ミリモル）の溶液を１時間に渡り滴下添加し、次いで室温で一晩更に攪拌した。混合物をtert−ブチルメチルエーテル（15 ml）で希釈し、１Ｍ塩酸（３×20 ml）で洗浄し、１Ｍ水酸化ナトリウム（２×100 ml）で抽出した。この水性相に固体の塩化ナトリウムを添加し、濃塩酸で酸性化し、次いで混合物をジクロロメタンで抽出した。有機抽出液を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で濃縮して、桃色油状物として２−メトキシメチル−２，６，６−トリメチル−３，５−ジオキソテトラヒドロピラン−４−カルボン酸エチルエステル（2.11ｇ）を得た。
【０３０３】
段階５：２−メトキシメチル−２，６，６−トリメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化１０１】
2010512360.tif 000102
【０３０４】
ジオキサン（2.5 ml）中の２−メトキシメチル−２，６，６−トリメチル−３，５−ジオキソテトラヒドロピラン−４−カルボン酸エチルエステル（2.11 g, 7.72ミリモル）の溶液に、20％水性硫酸（2.5 ml）を添加し、混合物を110℃で2.5時間加熱した。この混合物を室温に冷却し、飽和ブラインで希釈し、ジクロロメタンで抽出した。粗製物質を水性水酸化ナトリウム中に抽出し、水性相をジクロロメタンで洗浄し、次いで濃塩酸で酸性化し、ジクロロメタン（２×15 ml）で抽出した。有機相を真空中で濃縮して粗製油状物を得、それをシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィー（イソヘキサン／ジエチルエーテル 7.5：1.5比）により精製して、桃色の固体として２−メトキシメチル−２，６，６−トリメチルピラン−３，５−ジオン（0.250ｇ）を得た。
【０３０５】
段階６：４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２−メトキシメチル−２，６，６−トリメチルピラン−３，５−ジオンの調製
【化１０２】
2010512360.tif 000103
【０３０６】
無水クロロホルム（7.5 ml）と無水トルエン（1.75 ml）の混合溶媒系中の２−メトキシメチル−２，６，６−トリメチルピラン−３，５−ジオン（0.141 g, 0.705ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（0.43 g, 3.52ミリモル）の混合物に、４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（0.465 g, 0.775ミリモル）を一度に添加し、混合物を80℃で２時間加熱した。この混合物を室温に戻し、ジクロロメタンで希釈し、水性希塩酸で希釈し、５分間攪拌し、そして珪藻土を通して濾過して無機残渣を除去した（溶媒で更に洗浄した）。有機画分を一緒にし、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で濃縮した。残渣をシリカゲル上でのカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 4:1比）により精製した。所望の生成物を含有する画分を一緒にし、真空中で蒸発させた。ヘキサンで粉砕して、白色固体として４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２−メトキシメチル−２，６，６−トリメチルピラン−３，５−ジオン（0.070ｇ）を得た。
【０３０７】
表Ａ中の追加の化合物も、適当な出発物質から同様な手順により調製した。本発明の幾つかの化合物は、1H-NMRデータを得るのに使用する条件下でアトロプ異性体又は上述したような別の異性体の混合物として存在することに注意すべきである。これが起こった場合、特長づけるデータは、異性体Ａと異性体Ｂの個々の異性体について報告され、それは特定の溶媒中周囲温度で存在するアトロプ異性体又は別の異性体の混合物を一緒に表す。
【０３０８】
【表１】
2010512360.tif 000104
【０３０９】
【表２】
2010512360.tif 000105
【０３１０】
【表３】
2010512360.tif 000106
【０３１１】
【表４】
2010512360.tif 000107
【０３１２】
【表５】
2010512360.tif 000108
【０３１３】
【表６】
2010512360.tif 000109
【０３１４】
【表７】
2010512360.tif 000110
【０３１５】
【表８】
2010512360.tif 000111
【０３１６】
【表９】
2010512360.tif 000112
【０３１７】
【表１０】
2010512360.tif 000113
【０３１８】
【表１１】
2010512360.tif 000114
【０３１９】
【表１２】
2010512360.tif 000115
【０３２０】
【表１３】
2010512360.tif 000116
【０３２１】
【表１４】
2010512360.tif 000117
【０３２２】
【表１５】
2010512360.tif 000118
【０３２３】
【表１６】
2010512360.tif 000119
【０３２４】
【表１７】
2010512360.tif 000120
【０３２５】
【表１８】
2010512360.tif 000121
【０３２６】
【表１９】
2010512360.tif 000122
【０３２７】
【表２０】
2010512360.tif 000123
【０３２８】
【表２１】
2010512360.tif 000124
【０３２９】
【表２２】
2010512360.tif 000125
【０３３０】
【表２３】
2010512360.tif 000126
【０３３１】
例23：６−（４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオンの調製
【化１０３】
2010512360.tif 000127
【０３３２】
２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオン（0.100 g, 0.55ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（0.33 g, 2.70ミリモル）の混合物に無水クロロホルム（3.60 ml）を添加し、次いで溶解するまで室温で攪拌した。この溶液に無水トルエン（1.00 ml）を加え、次いで４′−クロロ−４−エチルビエニル−３−イル三酢酸鉛（0.36 g, 0.60ミリモル）を一度に添加した。該溶液を80℃で１時間加熱し、次いで室温に冷却し、ジクロロメタン（200 ml）を加え、１Ｍ塩酸（200 ml）で洗浄した。有機相を分離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、濾液を真空中で濃縮した。残渣をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 5:1比）により精製して、白色結晶質固体として６−（４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオン（0.17ｇ）を得た。
【０３３３】
例24：６−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオンの調製
【化１０４】
2010512360.tif 000128
【０３３４】
段階１：６−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオンの調製
【化１０５】
2010512360.tif 000129
【０３３５】
２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオン（0.6 g, 3.6ミリモル）、５−ブロモ−２−エチルフェニル三酢酸鉛（2.27 g, 4.00ミリモル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（2.22 g, 18ミリモル）の混合物に無水クロロホルム（25 ml）とトルエン（6.3 ml）を添加し、反応混合物を80℃で３時間加熱した。該混合物をジクロロメタン（50 ml）と２Ｍ水性塩酸（100 ml）で希釈し、珪藻土を通して濾過して無機残渣を除去した。濾過ケークをジクロロメタンで洗浄し、全ての有機画分を一緒にし、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過した。濾液を真空中で濃縮し、残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィーにより精製して、白色固体（0.84ｇ）として６−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオンを得た。
【０３３６】
段階２：６−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオンの調製
【化１０６】
2010512360.tif 000130
【０３３７】
マイクロ波バイアルに、酢酸パラジウム(II)（1.1 mg, 0.0049ミリモル）、トリス（３−スルホフェニル）ホスフィン三ナトリウム塩（5.1 mg, 0.0099ミリモル）、２，４−ジクロロフェニルボロン酸（0.099 g, 0.5ミリモル）、６−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオン（0.19 g, 0.05ミリモル）及びリン酸カリウム（0.53 g, 2.5ミリモル）を添加した。脱気した水（0.75 ml）を添加し（バイアルの壁から全ての固体を洗い落した）、次いで５分間攪拌し、アルゴンでフラッシュした。この混合物をマイクロ波照射下で160℃に15分間加熱した。追加量の２，４−ジクロロフェニルボロン酸（0.099 g, 0.5ミリモル）及びリン酸カリウム（0.095 g, 0.5ミリモル）を加え、反応混合物をアルゴン雰囲気下で再び覆い、混合物を160℃で更に15分間加熱した。室温に冷却した後、反応混合物をジクロロメタン（5 ml）で希釈し、２Ｍ水性塩酸で酸性化した。有機相を分離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、シリカゲルのプラグを通して濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（約１ ml）中に溶かし、調製用逆相HPLCにより精製して無色油状物として６−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオンを得た（80.6 mg）。
【０３３８】
例25：６−〔５−（６−クロロ−２−メチルピリジン−３−イル）−２−エチルフェニル〕−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオンの調製
【化１０７】
2010512360.tif 000131
【０３３９】
６−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオン（0.19 g, 0.5ミリモル）、フッ化セシウム（0.24 g, 1.6ミリモル）、６−クロロ−２−メチルピリジン−３−イルボロン酸（0.13 g, 0.8ミリモル）及び脱気した１，２−ジメトキシエタン（1.7 ml）の混合物を、窒素下で室温にて30分間攪拌した。〔１，１′−ビス−（ジフェニルホスフィノ）フェロセン〕ジクロロパラジウム（II）（0.034 g, 0.042ミリモル）を加え、混合物を室温で10分間攪拌し、次いで80℃で一晩加熱した。室温に冷却した後、反応混合物をジクロロメタン（5 ml）と水で希釈し、珪藻土を通して濾過した。濾液を２Ｍ水性塩酸で酸性化し、有機相を分離し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（約１ml）中に溶かし、調製用逆相HPLCにより精製して、淡褐色固体（75.3 mg）として６−〔５−（６−クロロ−２−メチルピリジン−３−イル）−２−エチルフェニル〕−２，２，４，４−テトラメチルシクロヘキサン−１，３，５−トリオンを得た。
【０３４０】
例26：３−（４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）ビシクロ〔３．２．１〕ノナン−２，４，９−トリオンの調製
【化１０８】
2010512360.tif 000132
【０３４１】
４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル三酢酸鉛（0.94 g, 1.57ミリモル）を、無水クロロホルム（10 ml）とトルエン（2.5 ml）の混合物中のビシクロ〔３．２．１〕ノナン−２，４，９−トリオン（F. Effenberger他, Chem. Ber. (1986) 119, 3394-3404の手順に従って調製）（0.237 g, 1.42ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（0.87 g , 7.13ミリモル）の溶液に80℃で注意深く添加した。この混合物を80℃で３時間攪拌し、次いで室温に冷却し、ジクロロメタンで希釈し、２Ｍ水性塩酸を加えた。混合物を珪藻土を通して濾過して無機残渣を除去した。濾過ケークをジクロロメタンで洗浄し、濾液を一緒にし、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過した。濾液を真空中で濃縮し、残渣をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィーにより更に精製して、更に調整用逆相HPLCにより精製して、オフホワイト色固体として３−（４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）ビシクロ〔３．２．１〕ノナン−２，４，９−トリオン（0.087ｇ）を得た。
表Ｂの化合物を更に適当な出発物質から同様な手順で調製した。
【０３４２】
【表２４】
2010512360.tif 000133
【０３４３】
【表２５】
2010512360.tif 000134
【０３４４】
【表２６】
2010512360.tif 000135
【０３４５】
【表２７】
2010512360.tif 000136
【０３４６】
【表２８】
2010512360.tif 000137
【０３４７】
【表２９】
2010512360.tif 000138
【０３４８】
【表３０】
2010512360.tif 000139
【０３４９】
【表３１】
2010512360.tif 000140
【０３５０】
【表３２】
2010512360.tif 000141
【０３５１】
例27：４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルチオピラン−３，５−ジオンの調製
【化１０９】
2010512360.tif 000142
【０３５２】
段階１：４−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルチオピラン−３，５−ジオンの調製
【化１１０】
2010512360.tif 000143
【０３５３】
クロロホルム（60 ml）中の２，２，６，６−テトラメチルチオピラン−３，５−ジオン（E. Er及びP. Margaretha, Helvetica Chimica Acta (1992), 75(7), 2265-69の手順に従って調製）（1.8 g, 9.9ミリモル）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（5.3 g, 4.34ミリモル）の溶液に、トルエン（18 ml）に次いで５−ブロモ−２−エチルフェニル三酢酸鉛（6.2 g, 1.09ミリモル）を一度に添加した。生じた混合物を加熱して２時間還流させ、次いで周囲温度にまで冷却し、ジクロロメタンと１Ｍ水性塩酸で希釈し、有機相を分離した。有機相を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲル上でのフラッシュカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 95:5〜7:3比）により精製して、橙色固体として４−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルチオピラン−３，５−ジオン（2.42ｇ）を得た。
【０３５４】
段階２：４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルチオピラン−３，５−ジオンの調製
【化１１１】
2010512360.tif 000144
【０３５５】
マイクロ波バイアルに４−（５−ブロモ−２−メチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルチオピラン−３，５−ジオン（500 mg, 1.36ミリモル）、２，４−ジクロロフェニルボロン酸（389 mg, 2.05ミリモル）、〔１，１−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン〕パラジウム（II）ジクロリド（111 mg, 0.000136モル）及びフッ化セシウム（620 mg, 0.00408モル）を添加し、次いで脱気した１，２−ジメトキシエタン（3 ml）を窒素雰囲気下で添加した。混合物を周囲温度で５分間攪拌し、マイクロ波照射下で160℃に15分間加熱した。反応混合物を室温に冷却し、２Ｍ水性塩酸とジクロロメタンの間に分配した。有機相を分離し、減圧下で濃縮した。残渣を調製用逆相HPLCにより精製して褐色ガムとして４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルチオピラン−３，５−ジオン（264 mg）を得た。
【０３５６】
例28：４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチル−１−オキソチオピラン−３，５−ジオンの調製
【化１１２】
2010512360.tif 000145
【０３５７】
４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルチオピラン−３，５−ジオン（79 mg, 0.1816ミリモル）、パラ酢酸（1.8 g, 7.2ミリモル, 酢酸中36〜40％溶液）及びジクロロメタン（0.23 ml）の混合物を周囲温度で４時間攪拌した。反応混合物を水とジクロロメタンの間に分配し、有機相を分離し、次いで減圧下で濃縮した。残渣を調製用逆相HPLCにより精製して、透明なガムとして４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチル−１−オキソチオピラン−３，５−ジオン（32.9 mg）を得た。
【０３５８】
例29：４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチル−１，１−ジオキソチオピラン−３，５−ジオンの調製
【化１１３】
2010512360.tif 000146
【０３５９】
４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルチオピラン−３，５−ジオン（79 mg, 0.1816ミリモル）とオキソン（446 mg, 0.726ミリモル）の混合物をメタノール／水（１ml, 1:1比）中の溶液として周囲温度で20時間攪拌した。次いで反応混合物を水とジクロロメタンの間に分配し、有機相を分離し、減圧下で濃縮した。残渣を調製用逆相HPLCにより精製して、透明なガムとして４−（２′，４′−ジクロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチル−１，１−ジオキソチオピラン−３，５−ジオン（24.6 mg）を得た。
表Ｃの追加の化合物を適当な出発物質から同様な手順で調製した。
【０３６０】
【表３３】
2010512360.tif 000147
【０３６１】
【表３４】
2010512360.tif 000148
【０３６２】
次の表１〜表294の化合物を同様な方法で得ることができる。
【０３６３】
表１
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１１４】
2010512360.tif 000149
【０３６４】
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は下記に定義した通りである。
【０３６５】
【表３５】
2010512360.tif 000150
【０３６６】
【表３６】
2010512360.tif 000151
【０３６７】
【表３７】
2010512360.tif 000152
【０３６８】
【表３８】
2010512360.tif 000153
【０３６９】
【表３９】
2010512360.tif 000154
【０３７０】
【表４０】
2010512360.tif 000155
【０３７１】
【表４１】
2010512360.tif 000156
【０３７２】
【表４２】
2010512360.tif 000157
【０３７３】
【表４３】
2010512360.tif 000158
【０３７４】
【表４４】
2010512360.tif 000159
【０３７５】
【表４５】
2010512360.tif 000160
【０３７６】
表２：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１１５】
2010512360.tif 000161
【０３７７】
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３７８】
表３：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１１６】
2010512360.tif 000162
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３７９】
表４：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１１７】
2010512360.tif 000163
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３８０】
表５：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１１８】
2010512360.tif 000164
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３８１】
表６：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１１９】
2010512360.tif 000165
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３８２】
表７：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１２０】
2010512360.tif 000166
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３８３】
表８：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１２１】
2010512360.tif 000167
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３８４】
表９：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１２２】
2010512360.tif 000168
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３８５】
表10：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１２３】
2010512360.tif 000169
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３８６】
表11：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１２４】
2010512360.tif 000170
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３８７】
表12：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１２５】
2010512360.tif 000171
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３８８】
表13：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１２６】
2010512360.tif 000172
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３８９】
表14：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１２７】
2010512360.tif 000173
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３９０】
表15：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１２８】
2010512360.tif 000174
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３９１】
表16：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１２９】
2010512360.tif 000175
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３９２】
表17：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１３０】
2010512360.tif 000176
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３９３】
表18：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１３１】
2010512360.tif 000177
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３９４】
表19：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１３２】
2010512360.tif 000178
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7はメトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３９５】
表20：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１３３】
2010512360.tif 000179
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7はメトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３９６】
表21：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１３４】
2010512360.tif 000180
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7はメトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３９７】
表22：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１３５】
2010512360.tif 000181
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３９８】
表23：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１３６】
2010512360.tif 000182
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０３９９】
表24：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１３７】
2010512360.tif 000183
式中、ＹはＳであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４００】
表25：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１３８】
2010512360.tif 000184
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４０１】
表26：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１３９】
2010512360.tif 000185
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４０２】
表27：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１４０】
2010512360.tif 000186
式中、ＹはＳであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４０３】
表28：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１４１】
2010512360.tif 000187
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４０４】
表29：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１４２】
2010512360.tif 000188
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４０５】
表30：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１４３】
2010512360.tif 000189
式中、ＹはＳであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４０６】
表31：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１４４】
2010512360.tif 000190
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４０７】
表32：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１４５】
2010512360.tif 000191
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４０８】
表33：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１４６】
2010512360.tif 000192
式中、ＹはＳであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４０９】
表34：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１４７】
2010512360.tif 000193
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４１０】
表35：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１４８】
2010512360.tif 000194
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４１１】
表36：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１４９】
2010512360.tif 000195
式中、ＹはＳであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４１２】
表37：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１５０】
2010512360.tif 000196
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４１３】
表38：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１５１】
2010512360.tif 000197
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４１４】
表39：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１５２】
2010512360.tif 000198
式中、ＹはＳであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４１５】
表40：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１５３】
2010512360.tif 000199
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４１６】
表41：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１５４】
2010512360.tif 000200
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４１７】
表42：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１５５】
2010512360.tif 000201
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４１８】
表43：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１５６】
2010512360.tif 000202
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４１９】
表44：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１５７】
2010512360.tif 000203
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４２０】
表45：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１５８】
2010512360.tif 000204
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４２１】
表46：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１５９】
2010512360.tif 000205
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４２２】
表47：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１６０】
2010512360.tif 000206
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４２３】
表48：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１６１】
2010512360.tif 000207
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４２４】
表49：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１６２】
2010512360.tif 000208
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４２５】
表50：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１６３】
2010512360.tif 000209
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４２６】
表51：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１６４】
2010512360.tif 000210
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４２７】
表52：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１６５】
2010512360.tif 000211
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４２８】
表53：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１６６】
2010512360.tif 000212
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４２９】
表54：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１６７】
2010512360.tif 000213
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４３０】
表55：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１６８】
2010512360.tif 000214
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４３１】
表56：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１６９】
2010512360.tif 000215
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４３２】
表57：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１７０】
2010512360.tif 000216
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４３３】
表58：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１７１】
2010512360.tif 000217
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４３４】
表59：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１７２】
2010512360.tif 000218
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４３５】
表60：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１７３】
2010512360.tif 000219
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４３６】
表61：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１７４】
2010512360.tif 000220
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４３７】
表62：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１７５】
2010512360.tif 000221
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４３８】
表63：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１７６】
2010512360.tif 000222
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４３９】
表64：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１７７】
2010512360.tif 000223
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４４０】
表65：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１７８】
2010512360.tif 000224
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４４１】
表66：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１７９】
2010512360.tif 000225
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４４２】
表67：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１８０】
2010512360.tif 000226
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４４３】
表68：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１８１】
2010512360.tif 000227
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４４４】
表69：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１８２】
2010512360.tif 000228
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４４５】
表70：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１８３】
2010512360.tif 000229
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４４６】
表71：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１８４】
2010512360.tif 000230
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４４７】
表72：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１８５】
2010512360.tif 000231
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４４８】
表73：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１８６】
2010512360.tif 000232
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４４９】
表74：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１８７】
2010512360.tif 000233
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４５０】
表75：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１８８】
2010512360.tif 000234
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４５１】
表76：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１８９】
2010512360.tif 000235
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４５２】
表77：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１９０】
2010512360.tif 000236
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４５３】
表78：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１９１】
2010512360.tif 000237
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４５４】
表79：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１９２】
2010512360.tif 000238
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４５５】
表80：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１９３】
2010512360.tif 000239
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及び6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４５６】
表81：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１９４】
2010512360.tif 000240
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４５７】
表82：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１９５】
2010512360.tif 000241
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４５８】
表83：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１９６】
2010512360.tif 000242
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４５９】
表84：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化１９７】
2010512360.tif 000243
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０４６０】
表85：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化１９８】
2010512360.tif 000244
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は下表に定義された通りである。
【０４６１】
【表４６】
2010512360.tif 000245
【０４６２】
【表４７】
2010512360.tif 000246
【０４６３】
【表４８】
2010512360.tif 000247
【０４６４】
【表４９】
2010512360.tif 000248
【０４６５】
表86：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化１９９】
2010512360.tif 000249
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４６６】
表87：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２００】
2010512360.tif 000250
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４６７】
表88：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２０１】
2010512360.tif 000251
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４６８】
表89：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２０２】
2010512360.tif 000252
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４６９】
表90：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２０３】
2010512360.tif 000253
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４７０】
表91：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２０４】
2010512360.tif 000254
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４７１】
表92：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２０５】
2010512360.tif 000255
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４７２】
表93：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２０６】
2010512360.tif 000256
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４７３】
表94：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２０７】
2010512360.tif 000257
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４７４】
表95：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２０８】
2010512360.tif 000258
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４７５】
表96：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２０９】
2010512360.tif 000259
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４７６】
表97：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２１０】
2010512360.tif 000260
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7はメトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４７７】
表98：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２１１】
2010512360.tif 000261
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7はメトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４７８】
表99：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２１２】
2010512360.tif 000262
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４７９】
表100：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２１３】
2010512360.tif 000263
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４８０】
表101：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２１４】
2010512360.tif 000264
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４８１】
表102：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２１５】
2010512360.tif 000265
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４８２】
表103：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２１６】
2010512360.tif 000266
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４８３】
表104：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２１７】
2010512360.tif 000267
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４８４】
表105：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２１８】
2010512360.tif 000268
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４８５】
表106：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２１９】
2010512360.tif 000269
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４８６】
表107：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２２０】
2010512360.tif 000270
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４８７】
表108：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２２１】
2010512360.tif 000271
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４８８】
表109：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２２２】
2010512360.tif 000272
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４８９】
表110：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２２３】
2010512360.tif 000273
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４９０】
表111：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２２４】
2010512360.tif 000274
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４９１】
表112：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２２５】
2010512360.tif 000275
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４９２】
表113：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２２６】
2010512360.tif 000276
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４９３】
表114：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２２７】
2010512360.tif 000277
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４９４】
表115：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２２８】
2010512360.tif 000278
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４９５】
表116：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２２９】
2010512360.tif 000279
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４９６】
表117：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２３０】
2010512360.tif 000280
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４９７】
表118：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２３１】
2010512360.tif 000281
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４９８】
表119：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２３２】
2010512360.tif 000282
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０４９９】
表120：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２３３】
2010512360.tif 000283
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５００】
表121：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２３４】
2010512360.tif 000284
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５０１】
表122：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２３５】
2010512360.tif 000285
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５０２】
表123：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２３６】
2010512360.tif 000286
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５０３】
表124：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２３７】
2010512360.tif 000287
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５０４】
表125：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２３８】
2010512360.tif 000288
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５０５】
表126：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２３９】
2010512360.tif 000289
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4はメチルであり、Ｒ5，Ｒ6及びＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５０６】
表127：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２４０】
2010512360.tif 000290
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５０７】
表128：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２４１】
2010512360.tif 000291
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５０８】
表129：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２４２】
2010512360.tif 000292
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５０９】
表130：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２４３】
2010512360.tif 000293
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ6はメチルであり、Ｒ5とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５１０】
表131：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２４４】
2010512360.tif 000294
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５１１】
表132：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２４５】
2010512360.tif 000295
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５１２】
表133：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２４６】
2010512360.tif 000296
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５１３】
表134：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２４７】
2010512360.tif 000297
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５１４】
表135：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２４８】
2010512360.tif 000298
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５１５】
表136：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２４９】
2010512360.tif 000299
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4とＲ5はメチルであり、Ｒ6とＲ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５１６】
表137：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２５０】
2010512360.tif 000300
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５１７】
表138：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２５１】
2010512360.tif 000301
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5及びＲ6はメチルであり、Ｒ7は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５１８】
表139：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２５２】
2010512360.tif 000302
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５１９】
表140：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２５３】
2010512360.tif 000303
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５２０】
表141：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２５４】
2010512360.tif 000304
式中、ＹはＯであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５２１】
表142：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２５５】
2010512360.tif 000305
式中、ＹはＳであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５２２】
表143：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２５６】
2010512360.tif 000306
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５２３】
表144：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２５７】
2010512360.tif 000307
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５２４】
表145：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２５８】
2010512360.tif 000308
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５２５】
表146：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２５９】
2010512360.tif 000309
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５２６】
表147：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２６０】
2010512360.tif 000310
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５２７】
表148：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２６１】
2010512360.tif 000311
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５２８】
表149：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２６２】
2010512360.tif 000312
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５２９】
表150：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２６３】
2010512360.tif 000313
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５３０】
表151：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２６４】
2010512360.tif 000314
式中、ＹはＯであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５３１】
表152：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２６５】
2010512360.tif 000315
式中、ＹはＳであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５３２】
表153：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２６６】
2010512360.tif 000316
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５３３】
表154：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２６７】
2010512360.tif 000317
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５３４】
表155：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２６８】
2010512360.tif 000318
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6及びＲ7はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５３５】
表156：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２６９】
2010512360.tif 000319
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５３６】
表157：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２７０】
2010512360.tif 000320
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５３７】
表158：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２７１】
2010512360.tif 000321
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５３８】
表159：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２７２】
2010512360.tif 000322
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５３９】
表160：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２７３】
2010512360.tif 000323
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５４０】
表161：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２７４】
2010512360.tif 000324
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５４１】
表162：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２７５】
2010512360.tif 000325
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５４２】
表163：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２７６】
2010512360.tif 000326
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５４３】
表164：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２７７】
2010512360.tif 000327
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５４４】
表165：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２７８】
2010512360.tif 000328
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５４５】
表166：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２７９】
2010512360.tif 000329
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５４６】
表167：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２８０】
2010512360.tif 000330
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５４７】
表168：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２８１】
2010512360.tif 000331
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はエトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５４８】
表169：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２８２】
2010512360.tif 000332
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はエトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５４９】
表170：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２８３】
2010512360.tif 000333
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はエトキシメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５５０】
表171：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２８４】
2010512360.tif 000334
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５５１】
表172：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２８５】
2010512360.tif 000335
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５５２】
表173：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２８６】
2010512360.tif 000336
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５５３】
表174：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２８７】
2010512360.tif 000337
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5はメチルであり、Ｒ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５５４】
表175：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２８８】
2010512360.tif 000338
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5はメチルであり、Ｒ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５５５】
表176：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化２８９】
2010512360.tif 000339
式中、ＹはＯであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5はメチルであり、Ｒ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５５６】
表177：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２９０】
2010512360.tif 000340
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５５７】
表178：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２９１】
2010512360.tif 000341
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５５８】
表179：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２９２】
2010512360.tif 000342
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５５９】
表180：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２９３】
2010512360.tif 000343
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５６０】
表181：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２９４】
2010512360.tif 000344
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５６１】
表182：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２９５】
2010512360.tif 000345
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５６２】
表183：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２９６】
2010512360.tif 000346
式中、ＹはＯであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５６３】
表184：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２９７】
2010512360.tif 000347
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５６４】
表185
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２９８】
2010512360.tif 000348
式中、ＹはＯであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５６５】
表186：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化２９９】
2010512360.tif 000349
式中、ＹはＯであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５６６】
表187：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３００】
2010512360.tif 000350
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５６７】
表188：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３０１】
2010512360.tif 000351
式中、ＹはＯであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５６８】
表189：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３０２】
2010512360.tif 000352
式中、ＹはＯであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５６９】
表190：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３０３】
2010512360.tif 000353
式中、ＹはＯであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５７０】
表191：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３０４】
2010512360.tif 000354
式中、ＹはＯであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５７１】
表192：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３０５】
2010512360.tif 000355
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５７２】
表193：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３０６】
2010512360.tif 000356
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５７３】
表194：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３０７】
2010512360.tif 000357
式中、ＹはＳであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５７４】
表195：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３０８】
2010512360.tif 000358
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５７５】
表196：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３０９】
2010512360.tif 000359
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５７６】
表197：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３１０】
2010512360.tif 000360
式中、ＹはＳであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５７７】
表198：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３１１】
2010512360.tif 000361
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５７８】
表199：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３１２】
2010512360.tif 000362
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５７９】
表200：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３１３】
2010512360.tif 000363
式中、ＹはＳであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５８０】
表201：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３１４】
2010512360.tif 000364
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５８１】
表202：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３１５】
2010512360.tif 000365
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５８２】
表203：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３１６】
2010512360.tif 000366
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５８３】
表204：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３１７】
2010512360.tif 000367
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５８４】
表205：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３１８】
2010512360.tif 000368
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５８５】
表206：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３１９】
2010512360.tif 000369
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０５８６】
表207：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３２０】
2010512360.tif 000370
式中、ＹはＳであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５８７】
表208：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３２１】
2010512360.tif 000371
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５８８】
表209：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３２２】
2010512360.tif 000372
式中、ＹはＳであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５８９】
表210：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３２３】
2010512360.tif 000373
式中、ＹはＳであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５９０】
表211：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３２４】
2010512360.tif 000374
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５９１】
表212：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３２５】
2010512360.tif 000375
式中、ＹはＳであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５９２】
表213：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３２６】
2010512360.tif 000376
式中、ＹはＳであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５９３】
表214：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３２７】
2010512360.tif 000377
式中、ＹはＳであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５９４】
表215：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３２８】
2010512360.tif 000378
式中、ＹはＳであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０５９５】
表216：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３２９】
2010512360.tif 000379
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５９６】
表217：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３３０】
2010512360.tif 000380
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５９７】
表218：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３３１】
2010512360.tif 000381
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５９８】
表219：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３３２】
2010512360.tif 000382
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０５９９】
表220：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３３３】
2010512360.tif 000383
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６００】
表221：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３３４】
2010512360.tif 000384
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６０１】
表222：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３３５】
2010512360.tif 000385
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６０２】
表223：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３３６】
2010512360.tif 000386
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６０３】
表224：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３３７】
2010512360.tif 000387
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６０４】
表225：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３３８】
2010512360.tif 000388
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６０５】
表226：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３３９】
2010512360.tif 000389
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６０６】
表227：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３４０】
2010512360.tif 000390
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６０７】
表228：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３４１】
2010512360.tif 000391
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６０８】
表229：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３４２】
2010512360.tif 000392
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６０９】
表230：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３４３】
2010512360.tif 000393
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６１０】
表231：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３４４】
2010512360.tif 000394
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６１１】
表232：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３４５】
2010512360.tif 000395
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６１２】
表233：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３４６】
2010512360.tif 000396
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６１３】
表234：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３４７】
2010512360.tif 000397
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６１４】
表235：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３４８】
2010512360.tif 000398
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６１５】
表236：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３４９】
2010512360.tif 000399
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６１６】
表237：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３５０】
2010512360.tif 000400
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６１７】
表238：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３５１】
2010512360.tif 000401
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６１８】
表239：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３５２】
2010512360.tif 000402
式中、ＹはＳ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６１９】
表240：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３５３】
2010512360.tif 000403
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６２０】
表241：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３５４】
2010512360.tif 000404
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６２１】
表242：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３５５】
2010512360.tif 000405
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６２２】
表243：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３５６】
2010512360.tif 000406
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６２３】
表244：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３５７】
2010512360.tif 000407
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６２４】
表245：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３５８】
2010512360.tif 000408
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６２５】
表246：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３５９】
2010512360.tif 000409
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６２６】
表247：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３６０】
2010512360.tif 000410
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６２７】
表248：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３６１】
2010512360.tif 000411
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６２８】
表249：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３６２】
2010512360.tif 000412
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６２９】
表250：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３６３】
2010512360.tif 000413
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６３０】
表251：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３６４】
2010512360.tif 000414
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６３１】
表252：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３６５】
2010512360.tif 000415
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６３２】
表253：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３６６】
2010512360.tif 000416
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６３３】
表254：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３６７】
2010512360.tif 000417
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６３４】
表255：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３６８】
2010512360.tif 000418
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６３５】
表256：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３６９】
2010512360.tif 000419
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６３６】
表257：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３７０】
2010512360.tif 000420
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６３７】
表258：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３７１】
2010512360.tif 000421
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６３８】
表259：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３７２】
2010512360.tif 000422
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６３９】
表260：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３７３】
2010512360.tif 000423
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６４０】
表261：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３７４】
2010512360.tif 000424
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６４１】
表262：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３７５】
2010512360.tif 000425
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６４２】
表263：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３７６】
2010512360.tif 000426
式中、ＹはＳ(＝Ｏ)2であり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６４３】
表264：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３７７】
2010512360.tif 000427
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６４４】
表265：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３７８】
2010512360.tif 000428
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６４５】
表266：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３７９】
2010512360.tif 000429
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６４６】
表267：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３８０】
2010512360.tif 000430
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６４７】
表268：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３８１】
2010512360.tif 000431
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６４８】
表269：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３８２】
2010512360.tif 000432
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６４９】
表270：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３８３】
2010512360.tif 000433
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６５０】
表271：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３８４】
2010512360.tif 000434
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６５１】
表272：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３８５】
2010512360.tif 000435
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６５２】
表273：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３８６】
2010512360.tif 000436
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６５３】
表274：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３８７】
2010512360.tif 000437
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６５４】
表275：
この表は次のタイプの378化合物を包含する：
【化３８８】
2010512360.tif 000438
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1は塩素であり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表１に定義された通りである。
【０６５５】
表276：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３８９】
2010512360.tif 000439
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６５６】
表277：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３９０】
2010512360.tif 000440
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６５７】
表278：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３９１】
2010512360.tif 000441
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６５８】
表279：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３９２】
2010512360.tif 000442
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６５９】
表280：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３９３】
2010512360.tif 000443
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６６０】
表281：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３９４】
2010512360.tif 000444
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６６１】
表282：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３９５】
2010512360.tif 000445
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６６２】
表283：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３９６】
2010512360.tif 000446
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｇは水素であり、そしてＲ2とＲ3は表85に定義された通りである。
【０６６３】
表284：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３９７】
2010512360.tif 000447
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６６４】
表285：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３９８】
2010512360.tif 000448
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６６５】
表286：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化３９９】
2010512360.tif 000449
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６６６】
表287：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化４００】
2010512360.tif 000450
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６６７】
表288：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化４０１】
2010512360.tif 000451
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６６８】
表289：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化４０２】
2010512360.tif 000452
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5は水素であり、Ｒ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６６９】
表290：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化４０３】
2010512360.tif 000453
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６７０】
表291：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化４０４】
2010512360.tif 000454
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６７１】
表292：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化４０５】
2010512360.tif 000455
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはエチルであり、Ｒ5とＲ6はメチルであり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６７２】
表293：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化４０６】
2010512360.tif 000456
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1とＲ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６７３】
表294：
この表は次のタイプの126化合物を包含する：
【化４０７】
2010512360.tif 000457
式中、ＹはＣ＝Ｏであり、Ｒ1はエチルであり、Ｒ3aはメチルであり、Ｒ5とＲ6は水素であり、Ｒ3bはメチルであり、Ｇは水素であり、そしてＲ2は表85に定義された通りである。
【０６７４】
例30：２，２−ジメチルプロピオン酸４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチル−５−オキソ−５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−３−イルエステルの調製
【化４０８】
2010512360.tif 000458
【０６７５】
無水ジクロロメタン（3 ml）中に溶かした４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.07 g, 0.20ミリモル）の溶液に、トリエチルアミン（0.031 ml, 0.22ミリモル）に次いで塩化ピバロイル（0.027 ml, 0.22ミリモル）を添加した。この混合物を室温で３時間攪拌し、ジクロロメタン（15 ml）で希釈し、そして蒸留水（２×10 ml）で洗浄した。有機画分を一緒にし、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮して粗製油状物を得た。その油状物をフラッシュクロマトグラフィー（100％ヘキサンからヘキサン／酢酸エチル 9:1比へ）により精製して、無色ガムとして２，２−ジメチルプロピオン酸４−（４′−クロロ−４−ビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチル−５−オキソ−５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−３−イルエステル（0.090 g）を得た。
【０６７６】
例31：炭酸４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチル−５−オキソ−５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−３−イルエステルメチルエステルの調製
【化４０９】
2010512360.tif 000459
【０６７７】
乾燥クロロホルム（3 ml）中の４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.141 g, 0.366ミリモル）の溶液に、トリエチルアミン（0.152 ml, 1.09ミリモル）とクロロ蟻酸メチル（0.084 ml, 1.09ミリモル）を添加し、混合物を室温で２時間攪拌した。溶媒を除去し、残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 5:1比）により直接精製して、白色固体として炭酸４−（４′−クロロ−４−エチルビフェニル−３−イル）−２，２，６，６−テトラメチル−５−オキソ−５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−３−イルエステルメチルエステル（0.150ｇ）を得た。
【０６７８】
例32：炭酸４−〔５−（４−クロロピラゾール−１−イル）−２−エチルフェニル〕−２，２，６，６−テトラメチル−５−オキソ−５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−３−イルエステルメチルエステルの調製
【化４１０】
2010512360.tif 000460
【０６７９】
４−（５−ブロモ−２−エチルフェニル）−２，２，６，６−テトラメチルピラン−３，５−ジオン（0.15 g, 0.42ミリモル）、４−クロロピラゾール（0.065 g, 0.63ミリモル）、Ｌ−プロリン（0.049 g, 0.42ミリモル）、ヨウ化銅（Ｉ）（0.080 g, 0.42ミリモル）及び無水粉末状リン酸カリウム（0.36 g, 1.68ミリモル）の混合物に、脱気した無水ジメチルスルホキシド（1.5 ml）を添加した。この混合物をマイクロ波照射下で160℃にて30分間加熱し、次いで室温に冷却し、ジクロロメタン（150 ml）で希釈し、１Ｍ水性塩酸（２×50 ml）で洗浄した。有機画分を一緒にし、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、真空中で濃縮した。次いで粗製油状物にジエチルエーテルを加えて生成物を沈澱させ、それを濾過し、ジクロロメタン（20 ml）中に再溶解した。この溶液にトリエチルアミン（0.16 ml, 1.16ミリモル）に続いてクロロ蟻酸メチル（0.090 ml, 1.16ミリモル）を加え、室温で３時間攪拌した。溶媒を減圧下で除去し、残渣をシリカゲル上でのカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル 3:1比）により直接精製して、無色油状物として炭酸４−〔５−（４−クロロピラゾール−１−イル）−２−エチルフェニル〕−２，２，６，６−テトラメチル−５−オキソ−５，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−３−イルエステルメチルエステル（0.075ｇ）を得た。
【０６８０】
表Ｄ中の追加の化合物を適当な出発物質を使って同様な方法により調製した。
【０６８１】
【表５０】
2010512360.tif 000461
【０６８２】
【表５１】
2010512360.tif 000462
【０６８３】
【表５２】
2010512360.tif 000463
【０６８４】
【表５３】
2010512360.tif 000464
【０６８５】
【表５４】
2010512360.tif 000465
【０６８６】
【表５５】
2010512360.tif 000466
【０６８７】
【表５６】
2010512360.tif 000467
【０６８８】
生物学的実施例
例Ａ
多様な試験品種の種子を植木鉢中の標準土壌中に播種した。温室中の制御された条件下で１日間栽培後（発芽前）又は10日間栽培後（発芽後）、植物に0.6 mlアセトン中の活性成分の製剤から誘導された水性噴霧溶液と、10.6％Emulsogen EL (登録番号61791-12-6)並びに42.2%Ｎ−メチルピロリドン、42.2％ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（登録番号34590-94-8）及び0.2％Ｘ-77（登録番号11097-66-8）を含む45 mlの製剤溶液を噴霧した。次いで試験植物を最適条件下で、発芽後15日又は発芽前20日まで、最適条件下で成長させ、試験植物を評価した（100＝植物に対して完全な被害；０＝植物に対して被害なし）。
【０６８９】
試験植物：
スズメノテッポウ（Alopecurus myosuroides）（ALOMY)，カラスムギ（Avena fatua）(AVEFA), ペレニアルライグラス（Lolium perenne）(LOLPE), アキノエノコログサ（Setaria faberi）(SETFA), オニメヒシバ（Digitaria sanguinalis）(DIGSA), ヒエ（Echinochloa crus-galli）(ECHCG).
【０６９０】
【表５７】
2010512360.tif 000468
【０６９１】
【表５８】
2010512360.tif 000469
【０６９２】
例Ｂ
様々な種の試験品種の種子を植木鉢中の標準土壌に播種した。温室中の制御された条件下（24／16℃, 昼／夜；14時間の光；65％湿度）で１日間栽培（発芽前）又は８日間栽培後（発芽後）、植物に0.5％Tween 20（ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート，CAS RN 9005-64-5）を含有するアセトン／水（50：50）溶液中の本発明活性成分の製剤から誘導された水性噴霧溶液を噴霧した。植物を制御された条件下温室中で（24／16℃, 昼／夜；14時間の光；65％湿度）成長させ、一日２回水を与えた。発芽前又は後13日間の後、試験植物を評価した（100＝植物に対して完全な被害；０＝植物に対して被害なし）。
【０６９３】
試験植物：
スズメノテッポウ（Alopecurus myosuroides）(ALOMY)，カラスムギ（Avena fatua）(AVEFA)，アキノエノコログサ（Setaria faberi）(SETFA)，ヒエ（Echinochloa crus-galli）(ECHCG)，イヌホオズキ（Solanum nigrum）(SOLNI)及びアオゲイトウ（Amaranthus retroflexus）(AMARE).
【０６９４】
【表５９】
2010512360.tif 000470
【０６９５】
【表６０】
2010512360.tif 000471
【０６９６】
【表６１】
2010512360.tif 000472
【０６９７】
【表６２】
2010512360.tif 000473
【０６９８】
【表６３】
2010512360.tif 000474
【０６９９】
【表６４】
2010512360.tif 000475
【０７００】
【表６５】
2010512360.tif 000476
【０７０１】
【表６６】
2010512360.tif 000477
【０７０２】
【表６７】
2010512360.tif 000478
【国際調査報告】
2010512360.tif 000491
2010512360.tif 000492