(57)【要約】スキャンアームから基材ホルダーを接続および取り外しするためのイオン注入装置、システム、および方法が提供されている。静電チャックを実装可能なようにツイストヘッドが設けられており、１つ以上の上記ツイストヘッドに付随する１つ以上の回転および非回転部材、および静電チャックは、自身に付随する１つ以上の動的流体シールを有している。上記静電チャックはさらに、上記１つ以上の動的流体シールを外すことなく上記ツイストヘッドから取り外し可能である。
2010501106.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自身に付随する１つ以上の電気的および流体コネクタを有する静電チャックと、
上記静電チャックを回転することのできるツイストヘッドと、を備えている回転エンドエフェクターであって、
上記ツイストヘッドは、
通常は静的である非回転エンクロージャと、
上記非回転エンクロージャに回転可能なように結合されており、且つ１つ以上の電気的および流体コネクタを有する、回転シャフトと、
上記静電チャックを上記ツイストヘッドに選択的に結合するＫクランプとを備えており、
上記静電チャックの上記電気的および流体コネクタは、上記ツイストヘッドの上記電気的および流体コネクタに選択的に接続されている、回転エンドエフェクター。
【請求項２】
スキャンアームに動作可能なように結合されたエンドエフェクターであって、当該エンドエフェクターは、静電チャックおよび上記スキャンアームの回転実装面を接続および／または密封するＫクランプを備えており、当該Ｋクランプは上記静電チャックおよびスキャンアームの外部に接近可能である、エンドエフェクター。
【請求項３】
上記静電チャックに付随する電気的接続点をさらに備えており、当該電気的接続点は、結合接続点を、上記スキャンアームに付随する回転式電気的接続モジュールに直接接触させることができる、請求項２に記載のエンドエフェクター。
【請求項４】
基材を処理するスキャンアームであって、
自身の外径周辺に配置された複数の第１の動的シールを有する、非回転流路部材と、
自身の内径周囲に配置された複数の第２の動的シールを有する、回転ツイストヘッドシャフトと、
上記ツイストヘッドシャフトおよび流路部材に付随する、複数のベアリングと、
上記流路部材に付随して並進運動する流路部とを備えており、
上記複数のベアリングおよび流路部は、流路部材に対する上記ツイストヘッドシャフトの同心度を維持することができる、スキャンアーム。
【請求項５】
基材を処理するスキャンアームであって、
自身の内径周辺に複数の第１の動的シールが配置されている、非回転流路部材と、
自身の外径周辺に複数の第２の動的シールが配置されている、回転ツイストヘッドシャフトと、
上記ツイストヘッドシャフトおよび流路部材に付随する、複数のベアリングと、
上記流路部材に付随付随して並進運動する流路部とを備えており、
上記複数のベアリングおよび流路部は、上記ツイストヘッドシャフトの流路部材に対する同心度を維持することができる、スキャンアーム。
【請求項６】
少なくとも１つの動的流体シールと、
自身に付随する少なくとも１つの電気的接続点を有している、静電チャックと、
回転部材を有する、回転式電気的接続モジュールと、
上記回転式電気的接続モジュールの上記回転部材に付随する、少なくとも１つのスリップリングと、
上記回転式電気的接続モジュールの上記少なくとも１つのスリップリングに付随しており、且つ静電チャックに付随する上記少なくとも１つの接続点のそれぞれと結合可能である、少なくとも１つの実装ピンとを備えており、
上記少なくとも１つの実装ピンと上記少なくとも１つの接続点との間の電気的接続は、上記回転式電気的接続モジュールと上記静電チャックとの間における上記回転部材の回転軸に沿った軸方向並進運動によって形成および切断可能であり、
上記少なくとも１つの動的流体シールは、上記回転式電気的接続モジュールおよび上記静電チャックの上記軸方向並進運動中は破損されない、スキャンアームツイストヘッド。
【請求項７】
少なくとも１つの動的流体シールと、
自身に付随する少なくとも１つの電気的接続点を有している、静電チャックと、
回転部材を有する、回転式電気的接続モジュールと、
上記回転式電気的接続モジュールに付随する、回転フランジと、
上記回転式電気的接続モジュールに付随する、非回転部材と、
上記回転式電気的接続モジュールの上記回転フランジと上記非回転部材とを電気的に接続する、柔軟な導電体のコイルと、
上記回転式電気的接続モジュールの上記回転フランジに付随しており、且つ静電チャックに付随する上記少なくとも１つの接続点のそれぞれと結合可能である、少なくとも１つの実装ピンとを備えており、
上記少なくとも１つの実装ピンと上記少なくとも１つの接続点との電気的接続は、上記回転式電気的接続モジュールと上記静電チャックとの間における上記回転部材の回転軸に沿った軸方向並進運動によって形成および切断可能であり、
上記少なくとも１つの動的流体シールは、上記回転式電気的接続モジュールおよび上記静電チャックの上記軸方向並進運動中は破損されない、スキャンアームツイストヘッド。
【請求項８】
自身に付随する真空環境を有する、プロセスチャンバと、
自身に付随する加圧環境および１つ以上の流体および動的流体シールを有する、スキャンアームツイストヘッドと、
上記スキャンアームツイストヘッドに付随しており、且つ上記スキャンアームツイストヘッドに付随する流体の漏れから上記プロセスチャンバを保護することのできる、空気対真空シールと、
通常は上記スキャンアームツイストヘッドの上記加圧環境内に配置されており、且つ上記加圧環境において上記動的流体シールからの上記１つ以上の流体の漏れを感知することのできる、漏れセンサとを備えている、処理システム。
【請求項９】
非回転アーム構造と、
ツイストヘッドと、
中間構造と、
１つ以上の回転式流体接続と、
１つ以上の回転式電気的接続とを備えており、
上記１つ以上の回転式流体接続および１つ以上の回転式電気的接続は、通常は、上記ツイストヘッドと上記中間構造との間に各１つ以上の流体および電気経路を提供し、
流体および電気経路は、上記１つ以上の回転式流体接続および１つ以上の回転式電気的接続を介して上記非回転アーム構造にさらに接続されており、通常は、上記非回転アーム構造と上記ツイストヘッドとの間の少なくとも部分的な回転を可能にする、スキャンアーム。
【請求項１０】
イオン注入システムを保守する方法であって、
静電チャック、ツイストヘッド、および当該静電チャックとツイストヘッドとの間の１つ以上の動的流体シールを設ける工程と、
上記１つ以上の動的流体シールを外すことなく上記ツイストヘッドから上記静電チャックを取り外す工程とを含んでいる、方法。
【請求項１１】
アーム部材と、
上記アーム部材に回転可能なように結合されたツイストヘッドとを備えており、
上記アーム部材に対する上記ツイストヘッドの連続回転は、通常は３６０度を超えて行うことができる、スキャンアーム。
【請求項１２】
ＥＳＣおよびツイストヘッドの一部と結合することのできる表面を備えている、ツイストヘッドに用いられるウェッジクランプ。
【請求項１３】
ＥＳＣの回転を制御するツイストヘッドを有する走査システムを備えた、イオン注入システムであって、
上記ＥＳＣは、動的流体シールを破ることなく上記ツイストヘッドから取り外し可能である、イオン注入システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的には、基材内にイオンを注入するためのイオン注入システムおよび方法に関する。本発明は、特に、基材を取り扱うスキャンアームエンドエフェクターに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体産業では、通常は、イオン注入システムを用いて基材に不純物をドープする。このようなシステムでは、イオン源は所望のドーパント元素をイオン化し、イオンは一般的に未分化イオンビームであるイオン源から抽出される。未分化イオンビームは、通常は、質量分析装置または質量分析器を備えたビームラインアッセンブリに照射される。ここでは、所望の電荷／質量比のイオンが磁場を用いて選択される。質量分析器は、通常は、質量分析マグネット（ＡＭＵマグネットとも称される）を用いて双極子磁場を生成する。ここでは、イオンビーム内の様々なイオンが、電荷／質量比の異なるイオンを効果的に分離する弓形の経路内の磁気偏向を介して偏向される。イオンの電荷に対するイオンの質量（すなわち電荷／質量比）は、当該イオンが静電場または磁場によって軸方向および横方向に加速される程度に影響を与える。従って、選択されるイオンビームまたは所望するイオンビームの純度を非常に高くすることができる。これは、所望しない分子量のイオンをビームから離れた位置へ偏向することができるからである。所望する電荷／質量比のイオンと所望しない電荷／質量比のイオンとを選択的に分離する処理は、質量分析として知られている。
【０００３】
選択されたイオンまたは所望のイオンは、ターゲットチャンバまたはエンドステーション内に配置された基材の表面に与えられる。ターゲットチャンバまたはエンドステーション内では、一般的に、基材(例えば、半導体基板またはウェハ）にドーパント元素が注入される。これによって、所望のイオンビームのイオンが基材表面に浸透し、所望の特性（トランジスタデバイスの形成に有用な所望の導電率など）を有する領域が形成される。イオンは、例えば基材材料の結晶格子内に埋め込まれて、所望の導電性を有する領域が形成され、イオンビームのエネルギーは、一般的には注入深度を決定する。
【０００４】
イオンビームは、基材が一般的には固定のスポットビームに一般的には直交する二次元に機械的に走査される、スポットビーム（例えばペンシルビーム）であってよく、基材が直交方向に機械的に走査される一方でビームが基材全体を一方向に電磁的に走査する、リボンビームであってよく、あるいは、固定基材全体がニ方向に電磁的に走査される、電磁走査ビームであってよい。典型的な二次元走査システムでは、例えば、エンドステーションの真空チャンバ内に（複数の）基材を並進運動するために、基材を取り扱うスキャンアームが（複数の）エンドステーションに付随している。このスキャンアームは、通常は、イオンビーム内において基材を保持する静電チャック（ＥＳＣ）を走査する。ＥＳＣは、処理（例えば、基材へのイオン注入)中に、ＥＳＣに対する基材の位置を維持するために、基材とＥＳＣとを選択的に固定する。様々なイオン注入プロセスは、ＥＳＣ／基材の中心までＥＳＣ／基材面に対して垂直に構成された軸を中心としてＥＳＣおよび基材がさらに回転するように設計されている。従って、従来のスキャンアームには、ＥＳＣがスキャンアームに対して回転できるようにするツイストヘッドエンドエフェクターが備えられている。
【０００５】
従来のツイストヘッドエンドエフェクターは、回転部品とツイストヘッドに付随する非回転部品との間に様々な接続部を備えている。これらの接続部によって、ＥＳＣがスキャンアームに対して回転することができる。これらの接続部は、ＥＳＣとスキャンアームとの電気および流体継手を可能にし、ＥＳＣに電力が供給され、クーラントが循環し、また場合によっては、導電性ガスがＥＳＣに供給される。典型的なツイストヘッドエンドエフェクターは、流体管をＥＳＣに直接接続する動的流体シール（例えばスライディングシール）を備えている。このような動的流体シールは、通常は、分解および再組み立て中に破損しやすい。また、従来のツイストヘッドエンドエフェクターでは、通常、動的流体シールを分解することなくＥＳＣあるいはその他のツイストヘッド部品を交換および／または機能させることができない。さらに、ＥＳＣとの典型的な電気的接続部は、スキャンアームとＥＳＣとの間にリボンケーブルを備えている。ここでは、スキャンアームに対するＥＳＣの回転運動は、可能ではあるが、リボンケーブルの長さおよび／または構成によって制限される。このようなリボンケーブルもまた摩耗しやすく、イオン注入システム内部において粒子が生成される可能性がある。また、このようなリボンケーブルは、通常はイオン注入プロセスからスパッタリングに曝露され、またエンドステーションの真空環境に曝露されるため、保守間隔が多くなる。
【０００６】
従って、ＥＳＣの取り外しおよび再実装が大幅に容易になった回転式エンドエフェクターおよびＥＳＣのための装置および方法を提供することが望まれている。さらに、動的流体シールを分解することなく取り外しおよび再実装が可能であること、および、電気的接続が強力に、保守が容易であるように、且つ従来技術において見られる汚染物を実質的に制限するように形成されることが望まれている。
【発明の概要】
【０００７】
本発明は、エンドエフェクター上におけるＥＳＣの取り外しおよび再実装の容易さを大幅に改善し、さらにエンドエフェクターの強度を高める装置および方法を提供することによって、従来技術の制限を克服する。
【０００８】
本発明は、上記目的およびそれに関連する目的を達成するために、以下に説明されていると共に特許請求の範囲に具体的に指摘されている特徴を備えている。以下の説明および添付図面は、本発明の例示としての特定の実施形態を詳細に示している。しかし、これらの実施形態は、本発明の原理を採用することのできる様々な方法の一部のみを示すものである。本発明の他の目的、利点、および新奇的な特徴は、以下の発明の詳細な説明を添付図面と共に考慮することによって明らかとなるであろう。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一形態に係る典型的なイオン注入システムを示す図である。
【図２】本発明の別の形態に係る典型的なスキャンアームの斜視図である。
【図３】本発明のさらに別の典型的な形態に係る典型的なツイストアームの斜視図である。
【図４】本発明のまたさらに別の形態に係る典型的なツイストアームの拡大図である。
【図５】本発明の典型的な別の形態に係るスキャンアームを保守する典型的な方法を示すブロック図である。
【発明の詳細な説明】
【００１０】
本発明は、一般的には、イオンビームの経路または焦点を制御するイオン注入システムおよび方法を対象としている。従って、本発明について、図面を参照しながら説明する。これらの図面では、同様の構成要素を示すために同様の参照符号が用いられている。これら形態の説明は単なる例証であって、限定的な意義で解釈されるべきではないことについて理解されたい。以下の説明では、本発明を十分に理解するための説明する目的として多数の具体的詳細が記載されている。しかし、当業者であれば、これらの具体的詳細なしで本発明を実施することができることは明らかである。
【００１１】
本発明の典型的な一形態に係る図を参照すると、図１は、典型的なイオン注入システム１００を示している。当該イオン注入システムは、イオンビーム１０４に対して基材１０２（例えば、半導体基板またはウェハ）を走査することができ、また当該イオン注入システム内において、基材内にイオンが注入される。前述したように、任意の種類のイオン注入装置に関連して本発明の様々な形態を実施することができる。任意の種類のイオン注入装置は、図１の典型的なシステム１００を備えているが、これに限定されるものではない。典型的なイオン注入システム１００は、端子１０６、ビームラインアッセンブリ１０８、および一般的にはプロセスチャンバ１１２を形成しているエンドステーション１１０を備えている。イオンビーム１０４は、一般的には、基材位置１１４に配置された基材１０２に照射される。端子１０６内のイオン源１１６は、電源１１８を動力源とし、抽出されたイオンビーム１２０（例えば、未分化イオンビーム）をビームラインアッセンブリ１０８に供給する。上記イオン源は、ソースチャンバからイオンを抽出する抽出電極１２２を１つ以上備えており、これによって抽出されたイオンビームをビームラインアッセンブリ１０８に照射する。
【００１２】
ビームラインアッセンブリ１０８は、例えば、イオン源１１６に近接した入口１２６と、エンドステーション１１０に近接した出口１２８とを有する、ビームガイド１２４を備えている。ビームガイド１２４は、例えば、質量分析器１３０（例えば、質量分析マグネット）を備えている。質量分析器１３０は、抽出されたイオンビーム１２０を受け取り、双極子磁場を発生させて、適切なエネルギー対質量比またはその範囲にあるイオンのみを、分析スリット１３２を介して基材１０２へ通過させる。質量分析器１３０を通過して分析スリット１３２を出たイオンは、一般的には、所望のエネルギー対質量比またはその範囲にあるイオンを有する、質量分析されたイオンビーム１３４または所望のイオンビーム１３４を構成する。ビームラインアッセンブリ１０８に付随する様々なビーム形成および整形構造（図示せず）をさらに設けて、イオンビームが所望のビーム経路１３６に沿って基材１０２へと輸送される際にイオンビーム１０４を保持および制限することができる。
【００１３】
一実施例では、所望のイオンビーム１３４が基材１０２に照射される。当該基材は、一般的には、エンドステーション１１０に付随する基材走査システム１３８を介して配置されている。図１に示されているエンドステーション１１０は、例えば、真空プロセスチャンバ１１２内の基材を機械的走査する「シリアル」タイプのエンドステーションを備えていてよい。「シリアル」タイプのエンドステーションは、基材１０２（例えば、半導体ウェハ、ディスプレイパネル、あるいはその他の基材）が、基材走査システム１３８を介して、ビーム経路１３６を通って１つ以上の方向に機械的に並進運動される。本発明の典型的な一形態では、イオン注入システム１００は、一般的には固定されている所望のイオンビーム１３４（例えば、「スポットビーム」または「ペンシルビーム」とも称される）を供給し、基材走査システム１３８は、一般的には、固定イオンビームに対して一般的には直交する２つの軸に基材１０２を並進運動させる。しかし、バッチあるいはその他のタイプのエンドステーションを用いてもよく、これらは本発明の範囲内であることに留意されたい。例えば、システム１００は、基材１０２に対して１つ以上の走査面に沿ってイオンビーム１０４を走査することのできる静電ビーム走査システム（図示せず）を備えていてよい。従って本発明は、走査されたあるいは走査されていない任意のイオンビーム１０４を本発明の範囲内にあると想定する。本発明の典型的な一形態では、イオン注入システム１００は、２００５年４月に出願された所有者共通の米国特許出願第１１／０９８,９４２号に記載されているイオン注入システムおよび走査装置を備えていてよい。上記文献の内容は、本明細書内に参照として援用される。イオン注入システム１００はさらに、マサチューセッツ州ビバリー所在のＡｘｃｅｌｉｓ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製のＯｐｔｉｍａ  ＨＤ  Ｓｃａｎ  Ｓｙｓｔｅｍなど、他のシステムを備えていてよい。
【００１４】
本発明の好ましい一実施形態では、図１の基材走査システム１３８は、図２に詳細に示されているスキャンアーム１４０を備えている。図１のイオン注入システム１００は、例えば、コントローラ１５０によってさらに制御される。イオン注入システムおよび基材走査システムの機能性は、上記コントローラを介して制御される。
【００１５】
図２は、典型的なスキャンアーム２００の斜視図である。当該スキャンアームは、静電チャック（ＥＳＣ）２０４を備えたエンドエフェクター２０２を備えている。本実施例では、エンドエフェクター２０２は、スキャンアーム２００の端部２０８に動作可能に結合されたツイストヘッド２０６を備えている。当該ツイストヘッドは、ツイスト軸２１０を中心にＥＳＣ２０４を回転させることができる。本実施例におけるスキャンアーム２００は、アーム軸２１２を中心にさらに回転することができるため、エンドエフェクター２０２を弓形の経路２１３に沿って並進運動させることができる。本発明のＥＳＣ２０４は、様々な動的シールを分解することなくツイストヘッド２０６から容易に取り外すことができる。これについては後述する。
【００１６】
従来の回転ＥＳＣに見られる問題の一解決策として、図３および図４に示されているウェッジマウント２１２を用いてＥＳＣをツイストヘッド２０６の回転シャフト２１４に動作可能なように結合することによって、ＥＳＣ２０４をスキャンアーム２００に結合するという新奇的な手法がある。本発明はさらに、従来技術に見られる電気的および流体接続の問題を克服する。これについて、以下に説明する。
【００１７】
図３および図４に見られるように、エンドエフェクター２０２はさらに、回転式電気的接続モジュール２１６（「ＲＥＣＭ」とも称される)を備えている。ＥＳＣ２０４に付随するＥＳＣコネクタピン２１８、および電気的接続モジュールに付随する回転式電気的接続モジュールピン２２０（「ＲＥＣＭピン」とも称される）は、一般的には、回転シャフト２１４に付随する１つ以上のスルーホール２２２を通って伸びている。ＥＳＣコネクタピン２１８および回転式電気的接続モジュールピン２２０はさらに、スルーホール２２２内に挿入された時に互いに結合することができるため、エンドエフェクター２０２のＥＳＣ２０４とツイストヘッド２０６とを電気的に結合することができる。
【００１８】
ＥＳＣ２０４はさらに、Ｋクランプ２２４を介して回転シャフト２１４に実装されている。上記Ｋクランプは、Ｋクランプに付随するねじ２２８が締められた時に、外的くさび作用によって、各ＥＳＣの結合面２２６Ａおよび２２６Ｂと回転シャフトとを共に軸方向に圧迫することができる。例えば、Ｋクランプ２２４は、２つの半円２３０Ａおよび２３０Ｂを備えている。ねじ２２８は、これらの半円同士を引き付けることができ、これによってＥＳＣ２０４の結合面２２６Ａおよび２２６Ｂと回転シャフト２１４とを共に圧迫することができる。これによって、従来技術によるエンドエフェクターに見られるように動的シールを分解する必要なく、ＥＳＣ２０４を容易に取り外して再組み立てすることができる。また、内部実装ねじが設けられていないことは、ＥＳＣの取り外しあるいはＥＳＣのエンドエフェクターへの再実装の際に、従来のエンドエフェクターに見られるような回転シャフトの内側へのアクセスが不要であることを意味している。
【００１９】
本発明の別の形態では、静的Ｏリングシール２３２が、ＥＳＣ２０４に付随する流路２３４を界面２３６において回転シャフト２１４に接続する。図３に示されているように、動的リップシール２３８がさらに設けられている。ここでは、回転シャフト２１４は、非回転流体核２４０に動的に密封されている。図４に示されているように、同心制御ベアリング２４２Ａおよび２４２Ｂがさらに設けられている。同心制御ベアリング２４２Ａおよび２４２Ｂは、回転シャフト２１４の雌穴２４４に対する流体核２４０の軸位および同心度を制御する。同心制御ベアリング２４２Ａ（「上部ベアリング」）は、流体核２４０を回転シャフト２１４に対して軸方向および放射方向に拘束する。一方、同心制御ベアリング２４２Ｂ（「下部ベアリング」）は、内輪２４６を備えている。内輪２４６は、一般的には流体核２４０に固定されているが、下部ベアリングの外輪２５０の界面２４８において回転シャフト内の雌穴２４４へと軸方向にスライド可能である。流体核２４０はさらに、図４に示されている第１の流体線ブロック２５２に動作可能なように結合されている。図４では、第１の流体線ブロックはさらに、第２の流体線ブロック２５４に結合されている。第２の流体線ブロック２５４は、例えば、それに付随するコンプライアンスを有するように設計されており、流体核２４０上の半径方向力が流体核および第１の流体線ブロックの並進運動中に最小限に抑えられると有利である。例えば、第２の流体線ブロック２５４の下部２５６は、第２の流体線ブロックの下部２５６に付随するコンプライアンスが一般的に流体核２４０上の半径方向力を軽減するように、スキャンアーム２００に付随する実質的に硬い流体継手２５８から一般的に一端が突出している。流体核２４０および第１の流体線ブロック２５２の上記のような並進運動は、例えば、ツイストヘッド２０６の回転シャフト２１４が回転する際における、同心制御ベアリング２４２Ａおよび２４２Ｂの偏心によって生じる。
【００２０】
図３および図４に示されているように、回転式電気的接続モジュール２１６は、それに付随する実装フランジ２６４内において、ねじ２６２によってモータ回転子ホルダー２６０に動作可能なように結合されている。ＲＥＣＭは、流体核２４０を取り外すことなく、軸運動によって取り外しおよび再実装が可能である。実装フランジ２６４は、例えば、ＲＥＣＭ２１６の回転内部シリンダー２６６に動作可能なように結合されている。ＲＥＣＭの非回転エンクロージャ２６８は、一般的には、第１の流体線ブロック２５２に結合された回転防止ピン２７０によって回転できないようになっている。ＲＥＣＭ２１６は、例えば内部ベアリング２８２を備えている。当該内部ベアリングは、一般的には、回転内部シリンダー２６６と非回転エンクロージャ２６８との間の同心を維持する。
【００２１】
典型的な別の形態では、ＲＥＣＭ２１６は、スリップリングスタック２７４を備えており、同軸スリップリング２７６（例えば、本実施例では７つの同軸スリップリング）は、回転内部シリンダー２６６に結合されている。実装フランジ２６４Ｂは、例えば回転内部シリンダー２６６と一体になっている。また、ＲＥＣＭピン２２０は、ツイストヘッド２０６の回転シャフト２１４内のスルーホール２２２を通過するように、適切な位置において実装フランジ２６４に結合されている。各ＲＥＣＭピン２２０から対応するスリップリング２７６へと、例えばワイヤ２８０がさらに配線されている。
【００２２】
回転内部シリンダー２６６はさらに、例えば、それに付随する２つのベアリング２８２Ａおよび２８２Ｂを備えている。これらベアリングの周囲には、複数のハーフパイプ２８４がボルトで互いに固定されており、これによって回転内部シリンダーと同心のエンクロージャ２６８が形成されている。これらのハーフパイプ２８４は、例えば、図４に示されているブラッシュブロック２８８をさらに備えている。一方のブラッシュブロック２８８は、例えば、４つのデュアルリーフ接触ブラシに動作可能なように結合されており、他方のブラッシュブロックは、３つのブラッシュに動作可能なように結合されている。これらのブラッシュブロック２８８は、例えば、各ブラッシュがスリップリングスタック２７４上の同軸スリップリング２７６と１つおきに接触するように設計されている。これらのブラッシュブロック２８８は、各スリップリング２７６が１つのブラッシュと接触するように、一般的にはハーフパイプ２８４内のスロット内に実装されており、各スリップリングに対して２つの接触点を提供している。
【００２３】
本発明は、スキャンアームの連続回転または逆回転を想定しており、１つ以上のキャンアームおよびツイストヘッドが３６０度を超えて連続的に回転可能であることに留意されたい。さらに、ツイストヘッドの回転駆動部は、一体的電気的接続、流体接続および流路、くさび作用クランプ、およびツイストヘッドに付随する結合可能な回転駆動部によって、ＥＳＣの保守および／または取り外しおよび／または交換を容易にするため有利である。
【００２４】
図５には、本発明のさらに別の形態に係る、スキャンアームからＥＳＣを取り外す方法が示されている。図５には、典型的な方法が一連の動作または事象として図示および説明されている。しかし本発明は、図示されているそのような動作または事象の順番に限定されるものではなく、一部の工程は、図５に図示および説明されている順番とは異なる順番で行うことができ、および／または、図５に図示および説明されていない工程と同時に行うことができることを理解されたい。また、本発明に係る方法を実施するために、図示されている全ての工程が必要ではない場合もある。さらに、これらの方法は、ここに図示および説明されているシステム、並びにここに図示されていない別のシステムに関連して実施することができることを理解されたい。
【００２５】
図５に示されているように、方法３００は、動作３０２において、静電チャックおよびツイストヘッドを設け、さらに静電チャックとツイストヘッドとの間に１つ以上の動的流体シールを設ける工程から始まる。動作３０４では、１つ以上の動的流体シールを外すことなく、ツイストヘッドから静電チャックが取り外される。このような取り外しは、ここに説明されているいかなる構造においても可能である。動作３０６では、静電チャックがツイストヘッドに取り付けられる。
【００２６】
本発明について、特定の好ましい実施形態または実施形態に照らして図示および説明した。しかし当業者であれば、本明細書および添付図面を読んで理解することによって、同等の変化および変形を加えることができることは明らかであることに留意されたい。特に、前述した構成部品（アッセンブリ、デバイス、回路等)によって実行される様々な機能に関し、このような構成部品を説明するために用いられている用語（「意味している」という表現を含む）は、本明細書に示されている本発明の典型的な実施形態における機能を実行する開示された構造と構造的に同等ではない場合であっても、別段の記載がない限りは、説明されている当該構成部品の特定の機能を実行する（すなわち、機能的に同等である)あらゆる構成部品に対応するものとして用いられている。さらに、本発明の特定の特徴について、複数ある実施形態のいずれか１つのみに照らして開示されている場合がある。しかしこのような特徴は、所定あるいは特定のアプリケーションにおいて望ましく有利である場合には、他の実施形態の１つ以上の別の特徴と適宜組み合わせることができる。
【図１】
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【図２】
2010501106.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
2010501106.tif 000008
2010501106.tif 000009
2010501106.tif 000010
2010501106.tif 000011