(57)【要約】  本発明は、ラミネート化ガラスエレメント、好ましくは一体化エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）光構造体、本発明によるラミネート化ガラスエレメントを製造する方法、本発明の少なくとも１つのラミネート化ガラスエレメントを含む絶縁ガラスエレメント、および本発明のラミネート化ガラスエレメントを内装や外装、好ましくはビルのクラッド、装置の一態様、地上、水上輸送手段、飛行機または広告セクターへの使用を開示する。
2010527506.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）内側と外側を有し、内側上の被膜による通電性を有する、第１の電極Ａを構成する第１の少なくとも部分的に透明な基材、
ｂ）１ｋHzで測定された少なくとも３０の誘電率を有しかつ上記被膜の近傍の第１の少なくとも部分的に透明な基材の内側に配置されている、少なくとも部分的に透明なプラスチック材料からなるポリマー接着剤Ｂ、
ｃ）第１の少なくとも部分的に透明な基材の内側でポリマー接着剤の近傍に配置された少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体Ｃであって、その少なくとも１つの光構造体は第１の少なくとも部分的に透明な基材の全表面上または少なくとも部分的に透明な基材の１またはそれ以上の部分表面上に配置されている少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体Ｃ、
ｄ）内側と外側を有し、上記少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体の近傍で内側上の被膜により導電性である第２の少なくとも部分的に透明な基材であって、該第２の少なくとも部分的に透明な基材の内側が第１の少なくとも部分的に透明な基材の内側に対向する方向に配置され、第２の電極Ｄを構成する第２の少なくとも部分的に透明な基材、
を有する一体化エレクトロルミネッセンス光構造体を有するラミネート化ガラスエレメント、好ましくはラミネート化安全ガラスエレメント。
【請求項２】
第１および第２の少なくとも部分的に透明な基材がガラス基材、好ましくはフロートガラス、焼戻し安全ガラス、好ましくは焼戻しガラスである、請求項１記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項３】
第１および第２の少なくとも部分的に透明な基材の被膜が、導電性の少なくとも部分的に透明な薄膜であって、好ましくは第１および第２の少なくとも部分的に透明な基材に真空または熱分解によるスパッタ法、蒸着法によって適用される、請求項１または２記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項４】
少なくとも部分的に透明なポリマー接着剤Ｂが注型樹脂または熱可塑性コンポジットフィルムであって、該熱可塑性コンポジットフィルムがポリビニルブチラール、エチレンビニルアセテート、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ポリビニルアルコールおよびポリビニルクロライドからなる群から選択され、好ましくはポリビニルブチラールである、前記請求項いずれかに記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項５】
注型樹脂または熱可塑性コンポジットフィルムが、ナノスケール粒子、ナノスケール凝集体、樹木状粒子（ｄｅｎｄｏｒｉｔｉｃ  ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）、サブミクロンオーダーおよびミクロンオーダーの結晶粒子、およびそれらの組合せの形態の実質上透明なエレメントを加えたコンポジットマスマトリックスを形成する、請求項４記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項６】
実質上透明なエレメントがシングルーウォールドーカーボンーナノーチューブ（ＳＷＣＮＴｓ）および／または金属ナノチューブである、請求項５記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項７】
少なくとも部分的に透明なポリマー接着剤が、導電性金属布と相互編織（ｉｎｔｅｒｗｏｖｅｎ）された熱可塑性コンポジットフィルムである、請求項４記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項８】
少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体Ｃが、交流薄膜パウダーエレクトロルミネッセンス（ＡＣ−Ｐ−ＥＬ）光構造体である、前記請求項いずれかに記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項９】
少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体が、図柄的に配置されている、請求項１〜７いずれかに記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項１０】
図式的に配置されたエレクトロルミネッセンス光構造体が複数の光エレメントかが形成され、個々の光エレメントが少なくとも部分的に透明なポリマー接着剤Ｂの近傍に幾何学的に正確またはランダムに配置されたいかなるシンボル、例えばドット、長方形、三角形、正方形、直線、円、星形および／または文字から形成されている、請求項９記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項１１】
少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体の光エレメントが、異なる発光色を有し、および／または一以上のエレクトロルミネッセンス光構造体を用いるときにはエレクトロルミネッセンス光構造体が異なる発光色を有する、請求項１０記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項１２】
少なくとも１つのＡＣ−Ｐ−ＥＬ光構造体中において、ミクロカプセル化されていない顔料が用いられる、請求項１〜８に記載のラミネート化ガラスエレメント。
【請求項１３】
請求項１〜１２に記載の少なくとも１つラミネート化ガラスエレメントを含む絶縁ガラスエレメント。
【請求項１４】
少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体Ｃが、電極ＡまたはＤに、もしくはスクリーン印刷によりポリマー接着剤Ｂに適用される、請求項１〜１２いずれかに記載のラミネート化ガラスエレメントを製造する方法。
【請求項１５】
コンポジット層が、先に製造された成分Ａ、Ｂ、ＣおよびＤ、要すれば他の成分からなり、このコンポジット層が次に高温および高圧で接着されて分離できないユニットを形成する、請求項１〜１２いずれかに記載のラミネート化ガラスエレメントを製造する方法。
【請求項１６】
請求項１〜１２いずれかに記載のラミネート化ガラスエレメント、請求項１４または１５記載の方法によって製造されたラミネート化ガラスエレメント、または請求項１３記載の絶縁ガラスエレメントを装飾エレメントおよび／または光エレメントの外部スペースまたは外部用途、好ましくはビルの外部クラッド上、装置の一部品中または上、水上輸送手段、飛行機または広告セクターへの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一体化エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）光構造体を有するラミネート化ガラスエレメント、好ましくはラミネート化安全ガラスエレメント、本発明によるラミネート化ガラスエレメントを製造方法、本発明の少なくとも１つのラミネート化ガラスエレメントを含む絶縁ガラスエレメント、および本発明のラミネート化ガラスエレメントを内装や外装における装飾エレメントおよび／または光エレメント、好ましくはビルのクラッド、装置の一態様、地上、水上輸送手段、飛行機または広告セクターへの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と省略することもある。）は、交流電場による光顔料（ｌｉｇｈｔ  ｐｉｇｍｅｎｔ；光物質または光発光体とも言う。）の直接ルミネッセンス励起（ｄｉｒｅｃｔ  ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  ｅｘｃｉｔｅｍｅｎｔ）を意味する。
【０００３】
情報キャリアー、プロモーション・バナーまたは装飾用途として用いることができる透明ＥＬ配置、例えばガラスまたは透明プラスチック材料に基づくＥＬ光パネルが公知である。
【０００４】
例えば、ＤＥ２９６  １７  ３２８Ｕ１（特許文献１）は、絶縁ガラスエレメントの気密封止内部スペース中に配置されたＥＬ光パネルに関する。電気的安全および湿気からの保護および（配置によれば）電磁波からの保護がこれにより達成される。
【０００５】
ＥＰ  ０  ２６７  ３３１  Ａ１（特許文献２）は、ラミネート化接着層中に埋設され、シンボルを構成し、またはＥＬエレメントによって裏から発光するシンボルを有するラミネート化ペイン（ｐａｎｅ）に関する。電源ラインは、ラミネートの中の薄い透明な金属性または酸化導電パスまたは層により殆ど見えない方法で構成されている。電荷をかけると、光シンボルが現れて、電源ラインが見えないでペイン中に浮かび上がる。ＥＰ  ０  ２６７  ３３１  Ａ１に記載された構成中のＥＬエレメントは、ラミネート化ペインの両方の内面上に、二つの電極の一つが各々透明な薄層として適用され、光エレメントがその間で誘電パーティション層の近くに配置されている。ＥＬエレメントの透明電極は、好ましくはインジウム錫オキシド（ＩＴＯ）から構成されていて、光発光層は直接この電極に付加されている。
【０００６】
ＵＳ７，００９，１５６Ｂ２（特許文献３）には、電気的に制御できる平面機能エレメント、例えばＥＬエレメントおよび平面機能エレメントの平面電極を形成する少なくとも１つの導電性薄膜を有する加熱可能性ラミネート化ペインを開示する。このＵＳ７，００９，１５６Ｂ１によるラミネート化ペインの加熱可能性によって、平面機能エレメント、例えばＥＬエレメントの光学特性の不都合な変化を阻止することが可能である。このＥＬエレメントは、一体化された対極と緊密に構成されているので、第２のガラスエレメントには導電性でかつ透明な被膜を有していない。
【０００７】
ＤＥ１０２  ５５１  ９９Ａ１（特許文献４）には、ＥＬ光エレメントの製造方法が記載されていて、薄層システムが透明表面電極を形成するために基材上に適用され、その上に続けてスクリーン印刷により、ＥＬ光層および少なくとも第２の表面電極が形成される。従って、このＥＬエレメントは、ＥＬエレメントの絶縁分離層の少なくとも一部を含む透明薄層電極上に形成される。実際の導電性電極層とＥＬ光層との間には、少なくとも１つの絶縁（部分）層が配置されている。
【０００８】
ＷＯ２００５／１０４６２５Ａ１（特許文献５）には、ガラス基材上に第１の電極およびその上に第２の電極を有する照明層システムが開示されており、その電極層は両方とも導電性層または部分層の形態で構成されている。電極の少なくとも１つは可視光線の範囲内で透明で、少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス層は第１と第２の電極の間に提供される。少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス層はスクリーン印刷されたエレクトロルミネッセンス層であり、第２の電極は導電性スクリーン印刷層によって形成される。
【０００９】
当業者に公知の多くのＥＬエレメントにおいて、特に硫化亜鉛含有ＥＬ顔料に基づく交流電圧厚膜エレクトロルミネッセンス光構造体、いわゆるＺｎＳ厚膜ＡＣ−ＥＬエレメントが使用されている。この厚膜エレクトロルミネッセンス光構造体は、従来技術によれば、ＥＬ光構造体中に存在する第２の電極をＥＬ構造体にスクリーン印刷または他の印刷技術によってまたはＰＶＤ法によって適用され、第２の電極は透明、または不透明、もしくは非透明であり得る。一方この理由は、ｄ５０値２０〜３０μｍ（対応する顔料径分布）を一般に有する比較的大きな硫化亜鉛含有ＥＬ顔料で、その結果異なるＥＬ顔料径、凝集ＥＬ顔料および／または２以上ＥＬ顔料（これらが一つの上に別の一つ乗る配置）によって、不均一部分で２０〜５０μｍとなることが含まれる。この比較的不均一なＥＬ層の為に、優れた絶縁層または誘電層が必要である。スクリーン印刷層を用いるときには、小さな空気やガスの泡、いわゆるマイクロバブルが、スクリーン印刷では特に避けることが難しいので、それらの２層が形成される。また、５０Ｈｚ〜８００Ｈｚおよびそれ以上のネットワーク振動数で１００〜２００ボルトの必要な交流電圧が誘電力によって高く要求される。
【００１０】
しかしながら、もし光層が二つの電極間のショートを阻止する層厚を有するならば、絶縁層は不要であるかもしれない。
【００１１】
絶縁即ち誘電層およびＥＬ層の直ぐ上の第２電極の配置によって、二つの方向に均一である電極間隔が一般に確保され、その結果均一なＥＬ発光が得られる。積層ガラス、特に積層安全ガラス（ＬＳＧ）におけるフロートガラス、焼戻し安全ガラス（ＴＳＧ）または特に焼戻しガラス（ＴＶＧ）の使用や対電極基材として導電性塗装表面を有するラミネート化ガラスの使用が、対応する大きさのガラス機材についてアンジュレーションをもたらす。各不均一部分が均一な交流電場の形成に問題をもたらし、非均一ＥＬ発光がおこる。
【００１２】
アンジュレーションと不均一性により、ラミネートガラス、特にラミネート化安全ガラスは少なくとも約０．３８ｍｍである比較的厚膜層のポリマー接着剤に形成され、もし高レベルの強度が必要ならば、多くの場合少なくとも０．７６ｍｍの厚さの層が必要である。接着剤層は例えばポリビニルブチラールであってよい。
【００１３】
しかしながら、ＥＬキャパシター構造を有する０．３８ｍｍ厚の絶縁層は、非常に高いレベルの電圧を要求する。それは電極間隔が既に４０〜１００μｍ開いていて、１００〜２００ボルトのＥＬ交流電圧が必要である。
【００１４】
小さなガラス基材の大きさおよび１または２ｍｍ厚さの薄いガラスには、非均一電極感化の問題が大きな領域をカバーする窓やクラッドパネルにおいてそれほど大きな問題ではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】ＤＥ２９６  １７  ３２８Ｕ１
【特許文献２】ＥＰ  ０  ２６７  ３３１  Ａ１
【特許文献３】ＵＳ７，００９，１５６Ｂ１
【特許文献４】ＤＥ１０２  ５５１  ９９Ａ１
【特許文献５】ＷＯ２００５／１０４６２５Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明の目的は、ラミネート化ガラスエレメント、特に交流で作動するエレクトロルミネッセンスシステムに基づく光効果を有するラミネート化安全ガラスエレメントを提供する。エレクトロルミネッセンスシステムを用いると、追加する層が最も少ない数でラミネート化ガラスに導入される。即ち、ラミネート化ガラスに存在する層がエレクトロルミネッセンスシステムの層としても同時に使用されることを意図している。このラミネート化ガラスエレメントは大きな均一EL発光（大きな表面積を有するガラスエレメント）を有すべきでもあり、かつ内部スペースおよび／または外部領域における装飾エレメントおよび／または光エレメントとしての使用に有用である。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の目的は、ａ）内側と外側を有し、内側上の被膜による通電性を有する、第１の電極Ａを構成する第１の少なくとも部分的に透明な基材、
ｂ）１ｋHzで測定された少なくとも３０の誘電率を有しかつ上記被膜の近傍の第１の少なくとも部分的に透明な基材の内側に配置されている、少なくとも部分的に透明なプラスチック材料からなるポリマー接着剤Ｂ、
ｃ）第１の少なくとも部分的に透明な基材の内側でポリマー接着剤の近傍に配置された少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体Ｃであって、その少なくとも１つの光構造体は第１の少なくとも部分的に透明な基材の全表面上または少なくとも部分的に透明な基材の１またはそれ以上の部分表面上に配置されている少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体Ｃ、
ｄ）内側と外側を有し、上記少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体の近傍で内側上の被膜により導電性である第２の少なくとも部分的に透明な基材であって、該第２の少なくとも部分的に透明な基材の内側が第１の少なくとも部分的に透明な基材の内側に対向する方向に配置され、第２の電極Ｄを構成する第２の少なくとも部分的に透明な基材、
を有する一体化エレクトロルミネッセンス光構造体を有するラミネート化ガラスエレメント、好ましくはラミネート化安全ガラスエレメントで達成される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のラミネート化ガラスエレメントは、ラミネート化ガラスシステムによって予想される平面−平行ベース基材によって、均一電極空間を特徴とし、それによる均一EL発光が得られる。
【００１９】
本発明によるラミネート化ガラスエレメントにおいて、ラミネート化ガラスエレメントに存在する構造は少なくとも１つのEL光構造体を一体化するために用いられる。即ち、ラミネート化ガラスエレメントに一般に存在するガラスペインが、適当な塗装後、電極として用いられ、ポリマー接着剤（接着性中間層）が絶縁体として用いられ得る。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は非ラミネート状態で対称的に配置された少なくとも二つのガラスエレメント（３、４）と有するラミネート化ガラスエレメントの例示的断面を示す模式図である。
【００２１】
【図２】図２は非ラミネート化状態で対称的に配置された二つの薄膜絶縁層（１９、２０）を含む少なくとも二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。
【００２２】
【図３】図３は非ラミネート化状態で共押出コンポジットフィルム（１２’）を有して対称的に配置された二つの薄膜絶縁層（１９、２０）を含む少なくとも二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。
【００２３】
【図４】図４は非ラミネート化状態で対称的に配置された二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。
【００２４】
【図５】図５は潜在的オフセット対称状態で配置された二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。
【００２５】
【図６】図６は右および上方向に向かって対称的状態オフセットで配置された二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。
【００２６】
【図７】図７は対称的状態で突出する二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。
【００２７】
【図８】図８は対称的に配置された二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）を有する絶縁ガラスエレメント（２）の例示的断面を示す模式図である。
【００２８】
【図９】図９はガラスエレメント（１、２）を有するビル（２５）の例示的模式図である。
【００２９】
【図１０】図１０はフレーム（２７）および一体化されたガラスエレメント（１、２）を有する例示的ウォールエレメント（２６）の模式図である。
【００３０】
【図１１】図１１は例示的光の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
本明細書において、用語「少なくとも部分的に透明」とは、少なくとも６０％の透過率を有する基材を意味する。用語「透明」とは少なくとも９０％の透過率を有することを意味する。
【００３２】
用語「ラミネート化ガラス」は、当業者に公知である。ラミネート化ガラスは一般に少なくとも２つのガラス、または少ないが、プラスチック材料、例えば注型樹脂または高い引き裂き強度を有する粘可塑性（viscoplastic）熱可塑性コンポジットフィルムの透明接着中間層（ポリマー接着剤、コンポジットマス）によって結合されたプラスチック材料ペインを有するラミネートである。常套の熱可塑性コンポジットフィルムはポリビニルブチラール（ＰＶＢ)、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）、ポリアクリレート（ＰＡ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、またはポリビニルクロライド（ＰＶＣ）から形成されるが、ポリビニルブチラールが多くの場合使用される。接着性中間層の屈折率は一般に１より大きく、２未満、好ましくは１．５の領域である。
【００３３】
「ラミネート化安全ガラス」（Ｌａｍｉｎａｔｅｄ  Ｓａｆｅｔｙ  Ｇｌａｓｓ：ＬＳＧ）は、最低限の法的要求を満足するラミネート化ガラスの特定の形態である。法的要求に応じて、例えばペインの数や、ペインの厚さおよび中間層の厚さやコンポジットフィルムを用いるときにはフィルムの厚さを変えることが可能である。ガラスまたはプラスチック材料ペインとして、例えばフロートガラス、焼戻し（tempered）安全ガラス（ＴＳＧ）または部分焼戻し（partially tempered）ガラスを用いることができる。
【００３４】
ラミネート化ガラスおよびラミネート化安全ガラスの製造はクリーンルーム条件下で一般的に行われる。オートクレーブ中で、ガラス（またはプラスチック材料）および中間層（一般にフィルム）を加圧加熱下に溶融して分離不可能なユニットを形成する。
【００３５】
ラミネート化ガラスまたはラミネート化安全ガラスの構造体に関する上記材料および上記製造法は本発明によるラミネート化ガラスエレメントまたはその製法に本質的に用いることができる。本発明のラミネート化ガラスエレメントに関して好ましい材料や製法を以下に詳述する。
【００３６】
第１の電極、第２の電極
少なくとも部分的に透明な基材
電極ＡおよびＤの少なくとも部分的に透明な基材として、ラミネート化ガラスの製造、特にラミネート化安全ガラス（ＬＳＧ）の製造に有用ないかなる少なくとも部分的に透明な基材を用いても良い。一般に、ガラスまたは透明プラスチック材料は少なくとも部分的に透明な基材として用いられる。好適な透明プラスチック材料は当業者に公知である。その例として、ＰｌｅｘｉｇｌａｓＲおよびポリカーボネートが挙げられる。
【００３７】
好ましくは少なくとも部分的に透明な基材は、ガラス基材、好ましくはフロートガラス、焼戻し安全ガラス（ＴＳＧ）または部分焼戻しガラス（ＴＶＧ）が包含される。
【００３８】
ガラスの厚さは、用途に応じるが、第１の電極Ａおよび第２の電極Ｂにおいて異なっていても良い。常套厚さは、一般に１〜２５ｍｍの範囲である。本発明のラミネート化ガラスエレメントが用いられ得る特定の形態を以下に述べる。
【００３９】
例えば、近代的窓構造は、フラットガラス（またはフロートガラスとよばれている）からなる均一または不均一空間を有する、厚さが一般に１〜２１ｍｍ、好ましくは３〜８ｍｍである２以上のガラスペインを用いる。ガラスペインの空間は一般に１２〜１６ｍｍである。
【００４０】
構造は要求される特徴、例えば耐熱性、耐日光性、防音性、耐火性、耐人性および耐物性またはそれらの組合せに応じて構成されうる。例えば、ビルのクラッド中の外装用には、約３８０ｎｍからのガラス基材の一般のＵＶフィルターに加えて、もし電極ＡまたはＤが好適に構成されているのならば、電極Ａおよび／または電極Ｄの外側に別のＵＶ保護層Ｆを付け加えることが有用であり得る。
【００４１】
本発明によるラミネート化ガラスエレメントは特に大きな表面積（大きい寸法）を有するガラスエレメントに好適であり、均一ＥＬを提供する。常套の寸法は０．５〜１０ｍ（高さおよび幅）の範囲である。この寸法は純粋に一例として述べている。本発明によるラミネート化ガラスエレメントをより大きい寸法やより小さい寸法を有するガラスエレメントに用いることも可能である。
【００４２】
本発明に好適な常套のフラットガラス大きさは、例えば６．００×３．２１ｍである。典型的な複層ペイン絶縁ガラス構造体用のペインは、例えばそれから形成し、気密封止中間スペースは絶縁ガラス構造体中の端部結合で形成され、その中に一般には不活性ガスを充填し、ガス圧は製造した物の場所と時間で空気圧に応じて調製される。製造時には、窓ガラスユニットにおける圧力と、製造環境における外部気圧との間で平衡である。
【００４３】
本発明の別の観点は、本発明による少なくとも１つのラミネート化ガラスエレメント、好ましくはラミネート化安全ガラスエレメントを有する絶縁ガラスエレメントである。絶縁ガラスエレメントの構造は当業者に公知である。
【００４４】
大きな温度変化を有する国々では、絶縁ガラス構造体が必要且つ常套の省エネ手段である。一つの可能な絶縁ガラス構造体は例えば本発明によるラミネート化ガラスエレメントおよび追加のガラスエレメントを含む。
【００４５】
絶縁ガラス構造体は、従来技術によれば、例えばアルミニウムやスチールフレームのスペーサーおよびいわゆる第２のシーリングを用いて、それらが本発明によるラミネート化ガラスエレメントまたは付加的ガラスエレメントを第３のガラスエレメントと、スペーサーによる永久弾性手段において接合する。端部の結合により、気密封止中間スペースが不活性ガスで一般に充填されたものを製造することができ、そのガス圧力は外気圧、製造時圧、使用時における外気圧に応じて調製される。また、ガスの圧力をその場で適当な状態に調節できるようなバルブを設けても良い。
【００４６】
スペーサーフレームは、一般に乾燥剤を充填しても良く、充填剤は開口部によって上記中間スペースと通じており、導入されるかもしれない湿気を吸収することを目的とし、それにより絶縁ガラスエレメントの寿命を延ばす。
【００４７】
原則的には、絶縁ガラスエレメントのガラスエレメントは単純なフロートガラス、少量の酸化鉄を含むホワイトガラス、焼戻し安全ガラス、ラミネート化安全ガラスまたは部分焼戻しガラスエレメントから形成されうる。全てのガラス表面は、種々の耐熱、光吸収、光反射および／または耐引っ掻きおよび／または汚れ除去性被膜を提供しても良く、その他の機能を有する被膜を提供しても良い。
【００４８】
絶縁ガラスエレメントは、二つの中間スペース、即ち第３のガラスエレメントを用いて、を形成しても良い。
【００４９】
上述のように、単純フロートガラスの２層、３層または多層絶縁ガラス構造体に加えて、多層ペイン絶縁構造体は被膜を一面若しくは両面に設けて所定の波長の入射光に反射性および／または透過性を有する物にしてもよい。更に、個別ペインは調和したり（tempered）、着色したりに調製されても良く、またいわゆる焼戻し安全ガラス（ＴＳＧ）や部分焼戻しガラス（ＴＶＧ）から形成しても良い。
【００５０】
絶縁ガラスシステムにおいて、いわゆるｋ値がまた重要である。熱伝導係数ｋは、ガラス表面積の単位面積（ｍ２）におけるワットおよびケルビンにおける温度差の程度（Ｗ／ｍ２Ｋ）で表して、どのくらいのエネルギーがロスするかと言うことを表す。低いｋ値は小さなエネルギーがロスすることを表す。２〜３ｍｍ厚さの焼戻しガラスの一般的なｋ値は５〜６Ｗ／ｍ２Ｋであり、最近の絶縁ガラス構造体は例えば４ｍｍフロートガラス、１６ｍｍアルゴンガスおよび４ｍｍフロートガラスの場合、被膜の性能にもよるが１．７〜１．１Ｗ／ｍ２Ｋである。
【００５１】
導電性被膜
本発明によれば、第１および第２の少なくとも部分的に透明な基材はそれらの各内面の被膜によって導電性にしてもよい。これは当業者に知られているいかなる方法で行っても良い。適当な方法を以下に説明する。
【００５２】
導電性に塗布され実質上透明であるガラスおよびプラスチックフィルムは工業的に広く使用されてきた。導電性透明薄膜を有するこの種の基材の機能は、液晶ディスプレーエレメント、いわゆる液晶ディスプレー（ＬＣＤ）のカバー電極、エレクトロルミネッセンスディスプレーのカバー電極、コンピュータースクリーンエレメントから、静電シールドエレメント、鏡や侵入者警戒窓の加熱エレメントなどが含まれる。
【００５３】
好ましくは、導電性被膜は導電性で、少なくとも部分的に透明な、好ましくは無機薄膜であり、それは第１のおよび第２の少なくとも部分的に透明な基材に真空または熱分解方法によるスパッタリング、蒸着法により形成される。従って、熱工程、例えば４５０〜７５０℃で行うこともできる。
【００５４】
熱可塑性フィルムまたは熱可塑性プレート上に、低温スパッタおよび蒸着法を用い、インジウム錫オキシド（ＩＴＯ）または錫オキシド（ＮＥＳＡ）ペーストまたは当業者に公知の他の金属酸化物で、対応するポリマーマトリックス中に埋設されたものを使用しても良い。更に、本質的に導電性のポリマーまたは導電性ポリマーフィルム、例えば金属酸化物を充填してもしなくてもよいポリアニリン、ポリチオフェン、ポリアセチレン、ポリピロール（導電性ポリマーハンドブック、１９８６）を有するペーストを用いても良い。
【００５５】
これらは基材上に、例えばスクリーン印刷、ドクターブレードによる塗布、インジェクション、スプレー、ブラシ塗布により、その後の乾燥を低温、例えば８０〜１２０℃で行って行う。
【００５６】
好ましい態様では、導電性被膜の塗布は、真空または熱分解方法によって行われる。
【００５７】
特に好ましい態様では、導電性被膜は、真空または熱分解方法によって製造される薄膜かつ実質上透明な金属または金属酸化物層であり、それは好ましくは表面抵抗５ｍΩ／□〜３０００Ω／□（Ohm per square）、特に好ましい態様では表面抵抗０．１〜１０００Ω／□、より特に好ましい態様では表面抵抗５〜３０Ω／□であり、他の好ましい態様では日光透過率少なくとも６０％、特に少なくとも７６％を有する。
【００５８】
特に好ましい方の導電性でかつ高透明性ガラス、特にフロートガラスは、熱分解方法により形成され、高いレベルの表面硬度を有し、且つその表面抵抗が２〜３（a few）ｍΩ／□〜３０００Ω／□の範囲で大きく調節することができる層を含んでいる。日光透過率は一般に７７〜８６％の範囲である。米国のオハイオ州、トレドのピルキントン・リベイーオーエンスーフォード（Pilkington Libbery-Owens-Ford）社からのＴＥＣＲガラスが例として挙げることができる。
【００５９】
ＴＥＣＲ１５／４のガラスが４ｍｍ厚さのガラスであり、１４Ω／□以下の表面抵抗で、日光透過率８３％を示す。
【００６０】
ＴＥＣＲ７０／４のガラスが４ｍｍ厚さのガラスであり、８０Ω／□以下の表面抵抗で、日光透過率８２％を示す。
【００６１】
熱分解方法によって塗装されたそのようなガラスは容易に成形することができ、優れたひっかき傷抵抗を示す。特に、ひっかき傷が導電性表面の電気的断裂を引き起こさずに、表面抵抗値の少しの上昇をもたらすだけである。
【００６２】
更に、熱分解方法によって製造された導電性表面層は、表面に拡散し、後の材料塗布時に、非常に高い接着力をガラス基材に関して達成されるような高いレベルの加熱工程にも耐えるように、表面に固着され、そのことが本発明において有用な点である。また、この種の被膜は、優れたレベルの均質性、即ち広い面積において表面抵抗値が大きく変化しない。このことも、本発明の利点を構成する。
【００６３】
導電性でかつ高い透明性の薄膜層は、ポリマー基材（例えば、ＰＥＴ、ＰＭＭＡまたはＰＣ）よりガラス基材上で効率的でコスト的にも優れた形で形成することができる。ガラス被膜を有する表面抵抗値は平均にして対応するレベルの透明性を有するポリマーフィルムよりも１０倍優れている。即ち、ＰＥＴフィルム上での３０〜１００Ω／□と比べてガラス層じょうでは３〜１０Ω／□である。顧客や用途に特有の方法で形成されたガラス基材表明に真空法やスクリーン印刷法で第２の透明電極を製造することは、本発明の好適な態様に従って導電性被膜を有するガラス基材を用いることより、かなり複雑で費用が掛かる。
【００６４】
導電パス、電極の結合部
光キャパシター構造体を有する大表面光エレメントの場合、大表面導電性は均一な発光にとって重要である。本発明によるラミネート化ガラスエレメントを用いて本発明により製造されることが好ましい大表面光エレメントの場合、いわゆる母線（ｂｕｓｂａｒ）が、特にハイレベルな電流が流れる半導体ＬＥＰまたはＯＬＥＤシステムと共に、用いられる。非常に高いレベルの導電性を有する導電パスはクロスの方法で製造される。この方法では、例えば、大表面積を４つの小さな領域に分割する。従って、光表面の中央領域での電圧降下が大きく減少し、発光の均一性や光フィールドの中央での明るさに減少が小さくなる。
【００６５】
本発明の一態様に使用される硫化亜鉛含有特定のＥＬフィールドに着いて、一般に１００〜２００ボルトの交流電圧が印加され、良い絶縁が用いられる場合、低いレベルの電流が流れる。従って、本発明により好ましく用いられるＺｎＳ厚膜ＡＣ−ＥＬエレメントついて、電流負荷の問題が半導体ＬＥＤやＯＬＥＤシステムにおいてより非常に小さく、母線（ｂｕｓｂａｒ）を使う必要は必ずしも無く、大表面積光エレメントが母線（ｂｕｓｂａｒ）を用いないで提供されうる。
【００６６】
電気的結合部は、例えば導電性でかつ燃焼して錫、亜鉛、銀、パラジウム、アルミニウムや他の導電性金属またはその組合せや混合体、若しくはそれらの合金になりうるペーストを用いて製造される。
【００６７】
導電性接色ストリップは一般に導電性でかつ少なくとも部分的に透明な薄塗膜にスクリーン印刷、ハケ塗り、インクジェット、ドクターブレード、ローラー、インジェクション、スプレーまたはディスペンサー塗布、または当業者に公知の比較しうる塗布方法で塗布し、その後一般にオーブンで加熱処理される。その結果、基材の端部にそって適用されたストリップははんだ付けや、クランピング、接着結合、クリッピングや挿入（insertion）によって導電的に正確に接触されうる。
【００６８】
好ましくは、導電性被膜は、少なくとも１つのガラス端部に、１〜１０ｍｍ幅の正確な導電性金属ストリップが提供される。このストリップは好ましくはスクリーン印刷やハケ塗り、インクジェット、ドクターブレード、ローラー、スプレーヘッドを用いるスプレー法、ディスペンサー塗布、当業者に公知の塗布方法で（上述のように）好ましくは適用され、乾燥され、加熱工程にかけて、はんだ付けされうる接触ストリップが得られる。
【００６９】
他の態様において、少なくとも２つのガラス端部を配置して、接触ストリップが露出して配置され、はんだ付、クランピングまたはスプリング接触もしくは摩擦溶接または超音波接触によって結合エレメントを正しく提供しうるようにオフセットする。
【００７０】
導電性および少なくとも部分的に透明な被膜に基づいてエレクトロルミネッセンス効果を有する本発明に好ましいガラスエレメントは最も可能な導電性接触ストリップまたはいわゆる母線が必要であるが、上述したように母線を使用することは必ずしも必要しない。
【００７１】
低いレベルの電力が導電性被膜を経由して流される限り、スプリング接触もしくは炭素充填ゴムエレメントもしくはいわゆるゼブラゴムストリップが十分である。
【００７２】
導電性接着ペーストとして銀、パラジウム、銅または金が充填されたポリマー接着剤に基づく導電性接着ペーストが用いられる。また、ｚ方向に導電性である接着剤で錫メッキされた銅フィルムの圧着よる自己接着性による導電性ストリップを適用することも可能である。
【００７３】
接着層は一般に表面圧力２〜３（a few）Ｎ／ｃｍ２で均一な方法で圧着し、その態様に応じて値が０．０１３Ω／ｃｍ２（例えばＤ＆Ｍ・インターナショナル社（Ａ−８４５１  Ｈｅｉｍｓｃｈｕｈ）からの導電性銅ホイルテープＶＥ１６９１）または０．００５Ω（表面積１インチ２で測定されたＭＩＬ−ＳＴＤ−２００方法３０７による５ｐｓｉ／３．４Ｎ／ｃｍ２で保持された、例えばアメリカ合衆国テキサス州、オースチンの３Ｍ・エレクトリカル・プロダクツ・ディビジョンからタイプ１１８３）または０．００１Ω（例えば、３Ｍ社からタイプ１３４５）または０．００３Ω（例えば、ホランド・シールディング・システムＢＶからタイプ３２０２）で達成される。
【００７４】
ポリマー接着剤Ｂ
少なくとも部分的に透明な接着剤（接着性中間層、コンポジットマス）Ｂは１ｋＨｚで測定した相対誘電定数（誘電率）少なくとも３０、特に好ましくは少なくとも５０を有するプラスチック材料から形成される。
【００７５】
「誘電定数」の語は当業者に公知である。誘電定数は実数部ε１（またはε’またはεｒ）および虚数部ε２（またはε”またはεｉ）を有する複素変数として用いられる。これらの二つの成分において、材料（例えば、ストリップトランジション）中の種々のメカニズムの作用が直接言及され、その振動数に従って共に加えられる。クレーマーズ／クローニッヒ（Kramers/Kronig）関係を用いて、複素誘電定数と光学パラメータ屈折率ｎおよび吸収係数ｋの間の（分散）結合が述べられる。次いでこのことが測定されたスペクトルと比較され採用されうる吸収と反射の理論スペクトルに到達する。
【００７６】
相対誘電定数は当業者に公知の方法によって外から適応される電場と共に分光データおよび共作用から確立されうる。
【００７７】
ポリマー接着剤Ｂは被膜に近接する第１の少なくとも部分的に透明な基材Ａの内側に配置される。ポリマー接着剤Ｂが第１の少なくとも部分的に透明な基材Ａの被膜の近傍に直接配置されてもよく、また第１の少なくとも部分的に透明な基材Ａの被膜とポリマー接着剤との間に１またはそれ以上の別の層が配置されてもよい。二つの絶縁層は同一または異なる構成を有してもよい。
【００７８】
抵抗導電性の場合、別の絶縁体が本発明のラミネート化ガラスエレメント中に導入されるのが有利である。本発明の別の対応では絶縁層Ｅが第１の少なくとも部分的に透明な基材Ａの被膜とポリマー接着剤との間の被膜に近接して直接配置される。別の対応ではそのような絶縁層は最初に述べた絶縁層に対する代替としてまたは第２の少なくとも部分的に透明な基材Ｄの被膜の近傍に最初に述べた絶縁層に加えて配置してもよい。
【００７９】
適当な絶縁層Ｅは公知であり、パッシベーションの理由のために導電性被膜に塗布される。これらの層は一般に真空法または薄い非常に高い透明性の酸化物含有またはニトリド含有層の形で化学的に形成される。厚さは一般に５０〜５００ｎｍである。もし二つの絶縁層が本発明によるラミネート化ガラスエレメントに用いられるのならば、個々の絶縁層の厚さは同一または異なってよい。
【００８０】
この型の絶縁層Ｅは高い温度で優れた電気的絶縁性を提供し、ＥＬ光構造体Ｃまたはポリマー接着剤Ｂに結合する優れた接着を可能にし、化学的に一般に安定である。
【００８１】
別の好ましい態様において、本発明は電極ＡおよびＤの導電性被膜が透明かつ薄膜の絶縁性酸化物含有またはニトリド含有絶縁層Ｅと共に、少なくともＥＬ光構造体の領域に提供されているラミネート化ガラスエレメントにも関する。
【００８２】
本発明によるラミネート化ガラスエレメントが製造される場合、好ましい場合には本発明の好ましい態様において存在する接触ストリップの領域に存在しうる絶縁層Ｅ（導電性パス、電極の結合部を参照）が取り除かれることを考慮しなければならない、このことは、エッチング方法で一般的に行われるか、または電極ＡおよびＤを絶縁層Ｅで塗装する前に、接触ストリップの領域をマスクまたはカバーして導電性被膜を塗布し、その後絶縁層Ｅを塗布する。本質的に、絶縁層Ｅは常套のローラーまたはカーテン塗装、またはスプレーと層、スクリーン印刷により製造される。絶縁層Ｅとして、透明薄膜ガラスフリット被膜または薄膜透明ポリマー被膜を選択することが可能である。
【００８３】
少なくとも部分的に透明なポリマー接着剤Ｂは好ましくは、成形樹脂または熱可塑性コンポジットフィルムであり、熱可塑性コンポジットフィルムは好ましくはポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）、ポリアクリレート（ＰＡ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）およびポリビニルクロライド（ＰＶＣ）、好ましくはポリビニルブチラールからなる群から選択される。
【００８４】
好適なあＰＶＢフィルムは当業者に公知であり、例えばＢｕｔａｃｉｔｅＲ、ＳａｆｌｅｘＲ、Ｓ−ＬｅｃＲおよびＴｒｏｓｉｆｏｌＲが市販されている。
【００８５】
ポリマー接着剤Ｂとして好ましく使用される熱可塑性コンポジットフィルムは、厚さ１００〜１０００μｍ、好ましくは３８０〜７６０μｍを有する。一以上のフィルム、例えば２または３種のフィルムを用いてもよい。
【００８６】
ポリマー接着剤Ｂが注型樹脂から製造されるならば、厚さは上記フィルムの厚さよりかなり厚く選択しても良い。注型樹脂を用いるときのポリマー接着剤Ｂの好適な厚さは、０．５〜５．０ｍｍ、好ましくは１〜２ｍｍである。より厚いフィルム厚は不均一なガラス表面の場合、大きいフォーマットの場合および／またはいわゆる残存保持キャパシティによる高い要求の場合に用いられる。
【００８７】
ポリマー接着剤Ｂとして、特に好ましい場合、厚さ０．１〜０．７６μｍ、好ましくは０．１〜０．３８μｍを有するＰＶＢフィルムが用いられる。この型のフィルムは相対誘電定数３．５〜５を有し、ラミネート化ガラスエレメントを製造するためのラミネート化の後、完全に透明である。厚さ０．１〜０．３８μｍは、公式技術的ビル安全基準、例えばＣＦＲ１６パート１２０１またはＡＮＳＩ  Ｚ９７．１またはＣＥＮ標準ＥＮ１２６００、例えばサイドライトおよびガラスパネルにおける水平窓、入り口ドア、安全ドア、スライドドア、浴室およびシャワー・パーティション・ウォールの基準に合わせるために、二つのガラス基材の大きな表面積積層についての経験に従って要求される。
【００８８】
本発明の好ましい態様において、ポリマー接着剤Ｂは１ｋＨｚで測定した相対誘電定数が少なくとも３０，好ましくは少なくとも５０になるように形成される。相対誘電定数（ε）が１０の割合で、好ましくは実施上１０以上の割で増加するにつれて、ポリマー接着剤の厚さが電気的に同様に減少し、ＥＬシステムに常套である用に、ＥＬ供給電圧が１００〜２００ボルトＡＣに保持されうる。比較的高い電圧による複層絶縁プロビジョンに合わせるため、ラミネート化ガラスのラミネート操作の場合にポリマー接着剤中において別のガラス基材および／またはプラスチックフィルムを一体にすることが可能である。
【００８９】
ポリマー接着剤Ｂの誘電定数の上昇はラミネートガラスの製造に一般に使用されるポリマー接着剤（好ましいポリマー接着剤）中に機能性粒子を添加することにより行われる。
【００９０】
機能性粒子は導電性の透明粒子であるのが好ましい。機能性粒子は好ましくは高い誘電定数を有する。
【００９１】
機能性粒子としては、ナノスケール粒子、ナノスケール凝集体、樹木状粒子（ｄｅｎｄｏｒｉｔｉｃ  ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）、サブミクロンオーダーおよびミクロンオーダーの結晶粒子、および／またはそれらの組合せを用いるのが好ましい。これらは一般に平均粒径０．５〜５μｍ、好ましくは０．５〜３μｍ、より好ましくは１〜２μｍを有する。好ましい粒子は、例えばシングル−ウォールド−カーボン−ナノ−チューブ（いわゆるＳＷＣＮＴｓ）である。シングル−ウォールド−カーボン−ナノ−チューブ（ＳＷＣＮＴｓ）は、以下、ナノファイバーを含んでもよいシングルウォールを有するカーボン−ナノ−チューブの異なる種類を意味する。シングル−ウォールド−カーボン−ナノ−チューブは一般的に直径２〜３ｎｍを有するシリンダー状カーボン構造体である。シングル−ウォールド−カーボン−ナノ−チューブの製造は当業者に知られており、従来技術に対応する方法を参照する。これらには、例えば触媒化学蒸着（ＣＣＶＤ）が含まれる。
【００９２】
これらの方法はしばしば直径、長さ、キラル性および電気特性において異なるものを提供する。それらはひとかたまりで起こりアモルファスカーボンの部分と混合される。ＳＷＣＮＴｓはこれらの部分に基づいて分離される。
【００９３】
ＳＷＣＮＴｓは公知の分離方法はジアゾニウム塩で処理された金属ＳＷＣＮＴｓ状の電子移動効果、誘電泳動、オクタデシルアミンに対する半導体カーボン−ナノ−チューブの特定の化学的親和性および単一ＤＮＡにより囲まれたカーボン−ナノ−チューブに基づいて行われる。これらの方法の選択は更に既に処理された分散体の濃度およびイオン交換クロマトグラフィーの使用によって更に改良される。本発明においてフラクションフリーのシングル−ウォールド−カーボン−ナノ−チューブ、即ち直径、長さ、キラル性および電気特性からなる群から選択される一つのパラメータに関して異なるシングル−ウォールド−カーボン−ナノ−チューブのフラクションを最大５０％まで、特に好ましくは４０％まで、特に３０％まで、更に好ましくは２０％、より特に好ましくは最大１０％までの量で使用される。
【００９４】
本発明により配合されるＳＷＣＮＴｓは既知であり市販されている。ＳＷＣＮＴｓは好ましくは外径１〜５０ｎｍ、好ましくは３〜２５ｎｍ、特に好ましくは５〜１５ｎｍおよび長さ１〜１００μｍ、好ましくは１〜５０μｍ、特に好ましくは１〜１０μｍを有する。ＳＷＣＮＴｓはポリマー接着剤Ｂと、好ましくは均一状態で純粋物質または熱可塑性プラスチック材料中におけるマスターバッチとして混合される。シングル−ウォールド−カーボン−ナノ−チューブ（ＳＷＣＮＴｓ）は本発明の目的に特に好ましい。なぜならばそれらは薄くて、高いレベルの導電容量を有し、それにより望ましい効果が低レベルでの使用で達成されるからである。
【００９５】
使用されうるＳＷＣＮＴｓは延伸されてもよく、ランダムに延伸されてもよい。
【００９６】
更に、金属ナノチューブ、例えば銀ナノチューブも使用されうる。金属ナノワイヤーに関して、ＷＯ２００７／０２２２２６Ａ２が引用され、その中に記載されているナノワイヤーに関する記載をこの明細書中に導入する。ＷＯ２００７／０２２２２６Ａ２に記載されている優れたレベルの電気特性を有する実質的に透明な銀ナノワイヤーは本発明に特に有用である。
【００９７】
他の好適な粒子の例としては、１．０〜２．０μｍを有するバリウムチタネート粒子が含まれる。それらは高い充填量で１００までの相対誘電定数を製造できる。更に、ＩＴＯ（インジウム錫オキシド）ナノ粒子および／または実質的に透明で導電性フレークも添加されうる。いかなる場合においても、ポリマー接着剤に分散された種々の機能性粒子を有するポリマー接着剤Ｂは少なくとも部分的に透明であることを考慮に入れるべきである。
【００９８】
ポリマー接着剤は、上記粒子を（使用するポリマー接着剤に対して）０〜７０重量％、好ましくは０．５〜３０重量％、特に好ましくは１〜２０重量％の量で含んでよい。ポリマー接着剤Ｂに添加される粒子は、ラミネート化ガラスエレメントのラミネート操作後、粒子のパーコレーション、即ちＥＬ構造体Ｃの個々の光エレメントの間の少なくとも領域で添加される個々の粒子の直接の電気的接触による通電がポリマー接着剤のｚ方方向における抵抗にならないような量で好ましくは添加される。
【００９９】
従って、本発明は、ラミネート化ガラスエレメントに関し、その注型樹脂または熱可塑性コンポジットフィルムはナノスケール粒子、ナノスケール凝集体、樹木状粒子（ｄｅｎｄｏｒｉｔｉｃ  ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）、サブミクロンオーダーおよびミクロンオーダーの結晶粒子、および／またはそれらの組合せの形態で実質的に透明なエレメントが添加されたコンポジットマスを形成する、。
【０１００】
特に好ましい態様では、本発明は、ラミネート化ガラスエレメントに関し、その少なくとも部分的に透明なポリマー接着剤Ｂが０．１〜０．７６ｍｍ、好ましく０．１〜０．３８ｍｍのポリビニルブチラール（ＰＶＢ）から形成され、それには前述のナノスケール粒子、ナノスケール凝集体、樹木状粒子（ｄｅｎｄｏｒｉｔｉｃ  ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）、サブミクロンオーダーおよびミクロンオーダーの結晶粒子、および／またはそれらの組合せを添加し、少なくとも３０、好ましくは少なくとも５０の高い相対誘電定数を有するものに関する。電気絶縁性の適当なレベルも同時にもたらされる。
【０１０１】
別の態様では、本発明は、ラミネート化ガラスエレメントに関し、その少なくとも部分的に透明なポリマー接着剤が導電性金属布を相互編織した熱可塑性コンポジットフィルムであるものに関する。適当な金属布は当業者に公知である。コンポジットフィルムは好ましくは厚さ０．１〜０．３８ｍｍを有する。
【０１０２】
エレクトロルミネッセンス光構造体Ｃ
少なくとも一つのエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）構造体Ｃは第１の少なくとも部分的に透明な基材Ａの内側にポリマー接着剤の近くに配置される。ＥＬ光構造体Ｃはポリマー接着剤Ｂの近くに直接配置されてもよく、また別の層をポリマー接着剤ＢとＥＬ光構造体Ｃとの間に配置してもよい。好ましくは、ＥＬ光構造体Ｃはポリマー接着剤Ｂの近くに直接配置される。「第１の少なくとも部分的に透明な基材の内側」とは、本明細書中では、本発明によるラミネート化ガラスエレメントを形成する層の重なりや方向が記載された通りであり、そのことは第１の層が内側に被膜によって導電性である第１の少なくとも部分的に透明な基材によって形成され（第１の電極Ａ）、第２の層が電極Ａの被膜側に配置される絶縁層Ｅであり、その上の層（即ち、電極Ａまたは要すれば絶縁層Ｅの被膜）がポリマー接着剤ＢでありＥＬ光構造体Ｃが好ましくはその上に配置されるように本明細書では理解されることを意味する。しかしながら、製造時には、ＥＬ光構造体Ｃが電極層ＡまたはＤまたは必要な絶縁層ＥまたはＦがスクリーン印刷、インクジェット印刷、ディスペンサー塗布、インジェクション、スプレー塗布、ローラー塗装、カーテン塗装および他の同様な塗装または印刷方法によって形成された寸法安定性基材に適用される。ＥＬ光構造体Ｃは電極Ａまたは要すれば絶縁層Ｅを有する第１の基材の内側上または電極Ｄまたは要すれば絶縁層Ｆを有する第２の基材上に印刷または塗布されうる。
【０１０３】
少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）光構造体は第１または第２の少なくとも部分的に透明な基材の内側表面全面もしくは第１の少なくとも部分的に透明な基材の１またはそれ以上の部分表面に配置されてもよい。もし光構造体が複数の表面部分に配置されるのならば、各表面は０．５〜１０．０ｍｍ、好ましくは１〜５ｍｍの間隔を相互に有する。
【０１０４】
ＥＬ光構造体は一般的に均一に分散されたＥＬ顔料を有する結合剤マトリックスから構成される。結合剤マトリックスは、高いレベルの接着結合が電極層Ｃ（またはその上に塗布された絶縁層Ｅ）上で得られ、接着結合の高いレベルはその後の積層操作におけるポリマー接着剤Ｂでも可能であるように選択される。好ましい対応ではＰＶＢまたはＰＵに基づくシステムが用いられる。ＥＬ顔料に加えて結合剤マトリックス中に他の添加剤、例えば色変換有機および／または無機システム、日中または夜間の光効果のための着色添加剤および／または反射および／または光吸収効果の顔料、アルミニウムフレーク、ガラスフレークまたはマイカ片を結合剤マトリックスに添加してもよい。一般に、ＥＬ光構造体の全量におけるＥＬ顔料の割合（配合割合）は２０〜７５重量％、好ましくは５０〜７０重量％である。
【０１０５】
好ましくは、少なくとも１つのＥＬ光構造体Ｃは交流厚膜粉体エレクトロルミネッセンス（ＡＣ−Ｐ−ＥＬ）光構造体である。
【０１０６】
厚膜ＡＣ−ＥＬシステムは１９３６年のデストリアウ（Ｄｅｓｔｒｉａｕ）以来公知であり、スクリーン印刷によりＩＴＯ−ＰＥＴフィルムに多くの場合塗布される。硫化亜鉛含有光発光体は操作時に、特に比較的高温でかつ水蒸気環境時に大きく劣化するので、マイクロカプセル化ＥＬ顔料（またはＥＬ発光顔料）が最近長寿命厚膜型ＡＣ−ＥＬ光構造体に用いられる。しかしながら、以下に述べるような非マイクロカプセル化顔料もラミネート化ガラス構造体に用いることができる。
【０１０７】
本明細書中において,
ＥＬフィルムまたはＥＬランプまたはＥＬエレメントは、１００ボルトで４００ヘルツの交流電圧で操作され、１〜数百ｃｄ／ｍ２(a few cd/m2 to a few 100 cd/m2)のいわゆるコールド・ライト（cold light）を発する厚膜ＥＬシステムを意味する。無機厚膜型交流電圧ＥＬエレメントにおいて、ＥＬスクリーン印刷ペーストが一般に用いられる。
【０１０８】
そのようなＥＬスクリーン印刷ペーストは一般に無機物質に基づいて形成される。好適な物質は、例えば周期律表ＩＩおよびＩＶ族の純粋なＺｎＳ、ＣｄＳ，ＺｎｘＣｄ１−Ｘ
Ｓであり、ＺｎＳが特に好ましく用いられる。上記物質はドープされたり、活性化されてもよく、要すればまた共活性化されてもよい。ドープには例えば銅および／またはマンガンが用いられる。共活性化には例えば塩素、臭素、ヨウ素およびアルミニウムで行われる。上記物質中にはアルカリおよび稀土類金属の含有量は、存在するとしても非常に少ない。最も好ましくは、ＺｎＳが用いられ、銅および／またはマンガンでドープまたは活性化され、好ましくは塩素、臭素、ヨウ素および／またはアルミニウムで共活性化される。
【０１０９】
一般のＥＬ発光色は黄色、オレンジ色、緑色、緑−青色、青−緑色および白であり、発光色白または赤は適当なＥＬ顔料の添加もしくは色変換によって達成される。色変換は変換層および／またはスクリーン印刷色またはポリマーマトリックスのバインダー中にＥＬ顔料を導入した中に対応する色素および顔料を添加することによって行われる。
【０１１０】
本発明の別の対応において、ＥＬ光構造体を製造するために用いられるポリマー接着剤Ｂおよび／またはスクリーン印刷マトリックスはつや出し（glazing）、カラーフィルターまたは色変換色素および／または顔料で提供される。この方法において、白または日光／夜間光効果の発光色が得られる。
【０１１１】
他の対応において、顔料はＥＬ光構造体Ｃに用いられ４２０〜４８０ｎｍのブルーの波長域の発光を示し、色変換マイクロカプセル化で提供される。この方法において白色が発光されてもよい。
【０１１２】
一つの対応において、ＡＣ−Ｐ−ＥＬ顔料はＥＬ光構造体Ｃ中の顔料として用いられ、４２０〜４８０ｎｍのブルー波長域の発光域の発光を有する。また、ＡＣ−Ｐ−ＥＬスクリーン印刷マトリックスはまたユーロピウム（ＩＩ）活性化アルカリ土類オルトシリケート発光顔料、例えば（Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ）２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋、またはＹＡＧ発光顔料、例えばＹ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ３＋またはＴｂ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ３＋またはＳｒ２ＧａＳ４：Ｅｕ２＋またはＳｒＳ：Ｅｕ２＋または（Ｙ、Ｌｕ、Ｇｄ、Ｔｂ）３（ＡＬ、Ｓｃ、Ｇａ）５Ｏ１２：Ｃｅ３＋または（Ｚｎ、Ｃａ、Ｓｒ）（Ｓ、Ｓｅ）：Ｅｕ２＋に基づく波長変換無機微粒子を有する。この方法において白色発光が達せられる。
【０１１３】
従来技術による上記ＥＬ顔料はマイクロカプセル化されてもよい。無機マイクロカプセル化技術によって優れた半減期を達成することができる。この場合、Ｅ．Ｉ．デュポン・デ・ネモース・アンド・カンパニーからのＥＬ用ＥＬスクリーン印刷システムＬｕｘｐｒｉｎｔＲが例示される。無機マイクロカプセル化技術および種々の熱可塑性フィルムによるフィルムシェル型ラミネートが好適であるが、費用がかかり、使用期間を大きく延ばすことはできないことがわかった。
【０１１４】
好適な硫化亜鉛含有マイクロカプセル化ＥＬ顔料は、トワンダのオスラム・シルバニア社（Ｏｓｒａｍ  Ｓｙｌｖａｎｉａ，Ｉｎｃ．）からＧｌａｃｉｅｒＧＬＯＴＭ・スタンダード・ハイブライトおよびロングライフとして市販品、ロジャース社（Ｒｏｇｅｒｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）のデュレルディビジョンから１ＰＨＳ００１Ｒ高効率グリーンカプセル化ＥＬ発光顔料、１ＰＨＳ００２Ｒ高効率ブルーグリーンカプセル化ＥＬ発光顔料、１ＰＨＳ００３Ｒロングライフブルーカプセル化ＥＬ発光顔料、１ＰＨＳ００４Ｒロングライフオレンジカプセル化ＥＬ発光顔料が挙げられる。
【０１１５】
ＥＬ光構造体におけるマイクロカプセル化顔料の平均粒径は一般に１５〜６０μｍ、好ましくは２０〜３５μｍである。
【０１１６】
本発明において、無機ガラスは好ましくは少なくとも部分的に透明な基材として用いられる。これらは水蒸気または酸素に対するバリアーを提供する。本発明によるラミネート化ガラスエレメントのＥＬ光構造体Ｃにおいて、長い寿命を有する非マイクロカプセル化微粉ＥＬ顔料を用いることも可能である。好適な非マイクロカプセル化微粉硫化亜鉛含有ＥＬ顔料は、例えば米国特許６，２４８，２６１およびＷＯ０１／３４７２３に開示されている。これらは好ましくは立方体結晶構造を有する。非マイクロカプセル化顔料は好ましくは平均粒径１〜３０μｍ、好ましくは２〜１５μｍ、特に好ましくは５〜１０μｍを有する。
【０１１７】
より小さな顔料寸法１０μｍ以下を有する特別な非マイクロカプセル化ＥＬ顔料も使用されうる。ガラスエレメントの透明性を増大することができる。
【０１１８】
従って、非カプセル化顔料（好ましくは、顔料の吸湿性を考慮にいれてＺｎＳ顔料）を本発明による好適なスクリーン印刷染料に加えることが可能である。結合剤は、いわゆるＩＴＯ（インジウム錫オキシド）層に高いレベルの接着性を有しまたは本質的に導電性で透明なポリマー層を有し、かつ優れた絶縁性を提供し、誘電性を増大し高電場強さを有する誘電力の改良をもたらし、硬化した場合には優れた耐湿度性および光顔料を保護し、使用期間を増大する結合剤が用いられる。
【０１１９】
本発明の一つの対応において、マイクロカプセル化されていない顔料は少なくとも一つのＡＣ−Ｐ−ＥＬ光構造体において使用される。
【０１２０】
ＥＬ光構造体Ｃを有するラミネート化ガラスエレメント中の好適な顔料の半減期、即ち本発明によるラミネート化ガラスエレメントの初期明るさが半分になる時間は１００または８０ボルトで４００ヘルツにおいて、最大５０００時間、１０００〜３５００時間である。ＥＬ光構造体を有する本発明のラミネート化ガラスエレメントの半減期は本発明によるラミネート化ガラスエレメントに好ましく用いられるガラス基材とポリマー接着剤Ｂが水蒸気の効果に対して効果的にエレクトロルミノフォレス（electroluminophores）を保護するので、非常に高い。
【０１２１】
明るさの値（ＥＬ発光）は一般に１〜２００ｃｄ／ｍ２、好ましくは３〜１００ｃｄ／ｍ２、特に好ましくは５〜４０ｃｄ／ｍ２であり、広光表面積では明るさの値が好ましくは１〜１００ｃｄ／ｍ２である。
【０１２２】
しかしながら、より長いまたはより短い半減期を有する顔料およびより高いまたはより低い明るさの値を有する顔料も本発明のラミネート化ガラスエレメントのＥＬ構造体に用いられうる。
【０１２３】
前記層には、上記のように要すればドープされ、好ましくはマイクロカプセル化されたＺｎＳ結晶をペーストの重量に基づいて４０〜９０重量％、好ましくは５０〜８０重量％、特に好ましくは５５〜７０重量％の量で含有する。結合剤として単一および好ましくは２成分ポリウレタンを使用することが可能である。本発明で使用するのに好ましくはバイエル・マテリアルサイエンス・ＡＧから市販の高可撓性材料、デスモヘンおよびデスモジュールからの塗膜原料、ＢＡＳＦ・ＡＧからのＬｕｐｒａｎａｔｅ、Ｌｕｒａｎｏｌ、ＰｌｕｒａｃｏｌまたはＬｕｐｒａｐｈｅｎの被膜原料が挙げられる。溶媒としては、エトキシプロピルアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート、メトキシプロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルオール、キシロール、ソルベントナフサ１００またはこれらの溶媒の二種以上の混合物をペースト材料に基づいて１〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％、特に好ましくは５〜１５重量％の量で用いることが可能である。更に他の高可撓性結合剤、例えばＰＭＭＡ、ＰＶＡに基づくもの、特にクラレヨーロッパＧｍｂＨ（クラレスペシャリティーとも呼ぶ。）からのＭｏｗｉｏｌおよびＰｏｖａｌまたはワッカーＡＧからのＰｏｌｙｖｉｏｌ、またはＰＶＢ、クラレヨーロッパＧｍｂＨからのＭｏｗｉｔａｌ（Ｂ２０Ｈ、Ｂ３０Ｔ、Ｂ３０Ｈ、Ｂ３０ＨＨ，Ｂ４５Ｈ，Ｂ６０Ｔ、Ｂ６０Ｈ、Ｂ６０ＨＨ、Ｂ７５Ｈ）またはピオロフォルム、ワッカーＡＧからのＰｉｏｌｏｆｏｒｍＢＲ１８、ＢＭ１８，またはＢＴ１８が挙げられる。ポリマー結合剤を用いる場合、例えばＰＶＢの場合、溶媒、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ジアセトンアルコール、ベンジルアルコール、１−メトキシプロパノール−２、ブチルグリコール、メトキシブタノール、ドーワノール、メトキシプロピルアセテート、メチルアセテート、エチルアセテート、ブチルアセテート、ブトキシル、グリコール酸−ｎ−ブチルエステル、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルオール、キシロール、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、およびそれらの二種以上の混合物をペーストの総重量に基づいて１〜３０重量％、２〜２０重量％、特に好ましくは３〜１０重量％の量で添加することもできる。
【０１２４】
更に流れや移動を改良するために０．１〜２重量％の添加剤を配合してもよい。レベリング剤の例としてはブトキシル中のＡｄｄｉｔｏｌＸＬ４８０、混合比４０：６０から６０：４０が挙げられる。別の添加剤として、レオロジー添加剤（ペースト中の顔料および充填剤の沈澱を減少する）、例えばＢＹＫ４１０、ＢＹＫ４１１、ＢＹＫ４３０、ＢＹＫ４３１またはそれらの混合物をペーストの総重量に基づいて０．０１〜１０重量％好ましくは０．０５〜５重量％、特に好ましくは０．１〜２重量％の量で配合することが可能である。
【０１２５】
本発明によれば、ＥＬ光構造体Ｃを製造するための印刷ペーストの特に好ましい配合は以下の通りである。
【０１２６】
【表１】
2010527506.tif 000003
【０１２７】
【表２】
2010527506.tif 000004
【０１２８】
【表３】
2010527506.tif 000005
【０１２９】
更に、製造者メタロー（Ｍｅｔａｌｏｒ）またはノルコテ（Ｎｏｒｃｏｔｅ）からの既成の混合スクリーン印刷ペーストを用いてもよい。
【０１３０】
一般に、上記ＥＬスクリーン印刷ペーストを透明プラスチック材料フィルムまたはガラスに塗布して、次いで実質上透明で導電性被膜を有しそれにより可視側に電極を形成する（本発明によるラミネート化ガラスエレメントにおいて、上記電極は電極Ｄに相当し、ＥＬ光構造体は要すれば絶縁層Ｅに適用される。）および裏側電極（本発明のラミネート化ガラスエレメントにおいて電極Ａ）は印刷および／またはラミネート法を用いて製造される。
【０１３１】
しかしながら、逆の製造方法も可能であり、裏側電極（本発明のラミネート化ガラスエレメントでは、電極Ａ）をまず製造するか、裏側電極を金属塗布フィルムのかたちで用い、誘電体（ポリマー接着剤Ｂ）を、必要に応じて絶縁層Ｅを塗布した後この電極に適応する。従って、ＥＬスクリーン印刷ペースト（ＥＬ光構造体Ｃ）およびその後透明および導電性上部電極Ａを適応する。得られたシステムを次いで必要に応じて透明カバーフィルムでラミネートし、水蒸気および機械的ダメージから保護する。
【０１３２】
ＥＬ光構造体Ｃはスクリーン印刷またはディスペンサー塗布またはインクジェット塗布またはドクターブレード操作またはローラー塗装法またはカーテン塗装方法または転移方法による技術的印刷方法によって形成されるが、スクリーン印刷が好ましい。好ましくは、ＥＬ光構造体を必要応じて電極Ｄに適応された絶縁層Ｅまたは電極Ｄの表面に形成される。
【０１３３】
本発明の別の観点は本発明によるラミネート化ガラスエレメントを製造する方法であり、少なくとも１つのエレクトロルミネッセンス光構造体を接着剤Ｂにスクリーン印刷により形成する。特に好ましい方法では、ＡＣ−Ｐ−ＥＬ顔料をＰＶＢマトリックスに分散し、スクリーン印刷によって図柄形式で塗布する。
【０１３４】
他の対応において、結合剤として用いられるＰＶＢは顔料、好ましくはＡＣ−Ｐ−ＥＬ顔料、および相対誘電定数を増大する粒子と共に押出またはキャスティング技術により製造される。誘電定数を増大する好適な粒子はポリマー接着剤Ｂに関して説明し誘電定数を増大する粒子である。
【０１３５】
別の態様において、結合剤として用いられるＰＶＢは共押出によって製造され、誘電定数を増大する粒子を用いないで顔料、好ましくはＡＣ−Ｐ−ＥＬ顔料をＰＶＢ中で、誘電定数を増大する粒子を有するＰＶＢ層の上に押し出す。
【０１３６】
好ましくは、少なくとも一つのエレクトロルミネッセンス光構造体は図柄的方法で配置される。特に好ましい方法では、図柄を有するエレクトロルミネッセンス光構造体を複数の光エレメントから形成され、個々の光エレメントはシンボル、好ましくは、ドット、長方形、三角形、正方形、線、円、星印、数字および／または文字から形成されそれらは少なくとも部分的に透明なポリマー接着剤Ｂの近くに幾何学的に正確またはランダムな方法で配置される。本明細書中において正確な配置とは数字、図、テキストまたはロゴの形での配置を特に意味する。更に、正確な配置は規則正しい配置を意味する。個々の光エレメントの大きさは一般に２、３ｍｍ（a few mm）、好ましくは１〜１０ｍｍである。
【０１３７】
少なくとも一つのＥＬ光構造体の光エレメントおよび／または、１以上のエレクトロルミネッセンス光構造体を用いる場合には、複数のエレクトロルミネッセンス光構造体を同じもしくは異なる発光色を持つようにしてもよい。少なくとも一つのＥＬ光構造体の光エレメントおよび／または、１以上のエレクトロルミネッセンス光構造体を用いる場合には、複数のエレクトロルミネッセンス光構造体が好ましくは異なる発光色を有する。好適な発光色は上述したものである。
【０１３８】
本発明の一つの態様において、本発明のラミネート化ガラスエレメントは、光構造体が電気的に活性な状態にスィッチされていないときには、少なくとも部分的にまたは領域的に透明であってよい。
【０１３９】
本発明の一つの態様において、ＥＬ光構造体Ｃ中に存在する顔料はＥＬ光構造体または個々の光エレメント中において小さな平均粒径または低い添加量を有する粒子であってよく、個々の光エレメントは幾何学的に非常に小さく構成してもよく、また個々の光エレメントを間隔を非常に大きくとってラミネート化ガラスエレメントを少なくとも部分的に透明にしてもよく、透明性は光構造体が電気的に活性化されない時に確保される。好適な顔料粒径、配合量、光エレメントの大きさおよび光エレメントの間隔は上述した通りである。
【０１４０】
本発明の別の態様では光構造体を、電気的に活性でかつ発光状態において個々の光エレメントのランバーティアン（Lambertian）・ビーム特性により、ガラスエレメント中に透明性がないように構成してもよい。
【０１４１】
製造方法
本発明によるラミネート化ガラスエレメントまたは本発明による絶縁ガラスエレメントは当業者に公知の方法により製造される。
【０１４２】
ラミネート化ガラスエレメントの個々の成分の製造および個々の層の形成に関して、上記した方法を引用する。ラミネート化ガラスエレメントの成分から所望の層の形成後、本発明によるラミネート化ガラスエレメントをラミネート法により一般的にうる。そのようなラミネート法は当業者に公知であり、プレラミネートおよびオートクレーブ中でのラミネート操作と共に従来技術により行われる。
【０１４３】
本発明の別の観点は本発明のラミネート化ガラスエレメントを製造する方法であり、成分Ａ、Ｂ、ＣおよびＤおよび要すれば他の成分ＥまたはＦを含むコンポジット層およびこのコンポジット層を高温高圧で結合して非分離ユニットを形成する。適当な温度および圧力は前述の通りである。
【０１４４】
使用
本発明によるラミネート化ガラスエレメントは、ラミネート化エレメントが常套に用いられる全ての用途に原則としてもちいられる。一体型ＥＬ光構造体によって、用途を装飾エレメントまたは外的または内的使用の為の安全エレメントとしても可能である。
【０１４５】
本発明の別の観点は、従って、本発明のラミネート化エレメントの装置上のまたは装置内における、陸上または水上輸送手段または飛行機における、または宣伝セクターにおける装飾エレメントおよび／または内装スペースまたは外装スペース、特にビルの外装クラッドにおける光エレメントとしての使用である。
【０１４６】
本発明は以下、図面を用いて更に詳細に説明する。図面は好ましい態様を表すものであり、発明を減縮するものと解釈してはならない。
【０１４７】
図１は、非ラミネート状態で対称的に配置された少なくとも二つのガラスエレメント（３、４）と有するラミネート化ガラスエレメントの例示的断面を示す模式図である。一つの上に別のものを置くようなガラスエレメント（３、４）の対称的配置は、一端に配置された二つの接触ストリップ（８、９）および一端に配置された二つの接合部（１０、１１）で達成される。しかしながら、原則的には、接触ストリップは４つの端部の全部に伸びていてもよい。接触ストリップ（８、９）およびＥＬ接合部（１０、１１）の配置と状態は、特にラミネート化ガラスエレメント（１）のサイズ、二つの透明電極（６、７）の表面抵抗および所望の発光の明るさ（１５）に依存する。
【０１４８】
それぞれ上下に配置されているガラスエレメント（３、４）の側端に接触ストリップ（８、９）を配置する場合、接触ストリップ（８、９）の厚さおよび接合部（１０、１１）の厚さは、ラミネート化安全ガラスコンポジットマスの厚さに適応させる。また、この領域における適当な絶縁性にも考慮を払わねばならない。接触ストリップ（８、９）に各々面している電極領域（６、７）は、研削したり、エッチングしたり、放射線により取り除いたりしてもよく、また掻き取ったり、ミリングしたり、レーザー処理を行うことも可能である。接触ストリップ（８、９）の下の電極領域（６、７）は電極（６、７）の残りの部分から電気的に絶縁されている。
【０１４９】
ＥＬ光構造体、好ましくはＡＣ−Ｐ−ＥＬ光構造体（１６）は電極（６）の表面に印刷方法、例えばスクリーン印刷、ディスペンサー塗布またはインクジェット塗布で、またはドクターブレード法、ローラー塗布方法、カーテン塗装方法または転移方法を用いて形成する。光構造体（１６）は一般に結合剤マトリックス（１８）とそのマトリックス中に均一に分散されたＥＬ顔料（１７）を含有する。結合剤マトリックス（１８）は、接着性結合の高いレベルが電極層６上で形成され、その後のラミネート操作時に接着結合の高いレベルがラミネート化安全ガラスコンポジットマス（１２）を用いて形成されるように選択される。好ましい態様では、ＰＶＢまたはＰＵに基づくシステムが用いられる。ＥＬ顔料（１７）の他に、結合剤マトリックス（１８）には他の添加剤、例えば色変換有機または無機システムおよび日中および夜間光効果用の色添加剤および／または反射および／または光吸収性顔料、例えばアルミニウムフレーク、ガラスフレークまたはマイカ片を配合することも有用である。ＥＬ顔料（１７）はマイクロカプセル化または非マイクロカプセル化状態で使用されうる。特に非マイクロカプセル化ＥＬ顔料（１７）は小さな顔料サイズ１０μｍ以下で用いて、ガラスエレメント（１）の透明性が増大する。大きな表面積用途を有するＥＬ発光体（１５）は５〜１００ｃｄ／ｍ２であってよい（詳細は上記説明に記載している）。使用期間もしくは半減期、即ちガラスエレメント（１）の最初の明るさ（１５）が半分に減少する時間は約２０００〜３５００時間の常套の使用期間と比べて非常に大きい。なぜならば二つのガラス基材（３、４）はラミネート化安全ガラスコンポジットマス（１２）と共に、水蒸気の効果に対して光発光体の保護が非常に有効である。ビルのクラッドにおける外的用途の場合、約３８０ｎｍからのガラス基材の一般的なＵＶフィルターに加えて、別のＵＶ保護層を提供するために、この層がＵＶフィルター効果を有することが、もし電極層（６）が適当な方法で形成されるのならば、有利である。
【０１５０】
電気抵抗性について、別の絶縁体を導入することも可能である。このことは二つの絶縁層（１９、２０）を導入した図２に模式的に示されているが、原理的には１つの絶縁層でも可能である。
【０１５１】
図２は非ラミネート化状態で対称的に配置された二つの薄膜絶縁層（１９、２０）を含む少なくとも二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。この図には、二つの別の絶縁層（１９、２０）が電極層（６、７）上に形成されている。そのような絶縁層（１９、２０）はパッシベーションの目的のために導電性ガラス被膜（６．７）に形成され、多くの場合５０〜１００ｎｍ厚さの薄膜高透明性酸化物含有またはニトリド含有層を用いて形成される。そのような絶縁層（１９、２０）はまた高温で優れた電気抵抗性を提供し、ＥＬバインダーマトリックス（１１）またはラミネート化安全ガラスコンポジットマスマトリックス（１４）を有する接着結合を高くし、化学的に極めて安定になる。しかしながら、絶縁層（１９、２０）は接触ストリップ（８、９）の領域では一般的に剥離されるものである。適当な剥離方法は既に記載している。本質的に、絶縁層（１９、２０）の形成は一般的なローラーまたはカーテン塗装またはスプレー塗装方法によるか、スクリーン印刷によって行われうる。透明薄膜ガラスフリット被膜を選択することも可能であり、または薄膜透明ポリマー塗布操作を行いうる。
【０１５２】
図３は非ラミネート化状態で共押出コンポジットフィルム（１２）と共に対称的に配置された二つの薄膜絶縁層（１９、２０）を含む少なくとも二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。この図には、ラミネート化安全ガラスコンポジットマス（１２）が表面一体型ＥＬ顔料（１７）を有する共押出ＰＶＢフィルムの形で図示されている。ラミネート化安全ガラスコンポジットマスマトリックス（１４）中に均質に分散されたＥＬ粒子（１７）はラミネート化安全ガラスコンポジットマス（１２’）に押し出され、その逆もある。ラミネート化安全ガラスコンポジットマス（１２’）において、上述のように、機能性粒子（１３）が相対誘電定数を増大するために導入される。この型の場合全表面にＥＬ発光（１５）がもたらされる。光非侵入性または半透明性を有する別の図柄プリントを用いても達成される。
【０１５３】
図４は非ラミネート化状態で対称的に配置された二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。この態様は接触ストリップ（８、９）の配置が開放されてもよいことを示す。この方法において、接触接合部（１０、１１）は大変簡単な方法で製造され、完全ガラスエレメント（１１）が設置されるまで行われない。ガラス突起は数ｍｍ（a few mm）、例えば１ｍｍ〜１０ｍｍまで、およびそれを超えてもよい。
【０１５４】
図５は潜在的オフセット対称状態で配置された二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。また、この図は個々の光エレメント（２９）の図柄的配置の可能性、例えばドット、正方形、三角形、長方形または線、星形または多角形または環状を示す。そのような光エレメント（２９）は規則的（３０）または不規則、非規則性（３１）または図柄的（３２）、例えば数字またはロゴを形成してもよい。個々の光エレメント（２９）は異なる発光を有するＥＬ粒子（１７）またはＥＬ粒子（１７）の混合物で形成してもよい。個々のＥＬ粒子（１７）はまた色変換被膜と共に形成してもよく、色変換または色フィルター添加剤を個々の結合剤中に導入してもよい。
【０１５５】
図６は右および上方向に向かって対称的状態で配置された二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。この配置は完全に例示であるが、接触ストリップ（８、９）および接合部（１０、１１）の配置の可能性を示している。
【０１５６】
図７は対称的状態で突出する二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）の例示的断面を示す模式図である。この図では、ガラスエレメント（３、４）の反対末端での接触を可能にする。
【０１５７】
図８は対称的に配置された二つのガラスエレメント（３、４）を有するラミネート化ガラスエレメント（１）を有する絶縁ガラスエレメント（２）の例示的断面を示す模式図である。この例では、ラミネート化ガラスエレメント（１）および第３のガラスエレメント（５）を用いる一つの絶縁ガラス構造体（２）の可能性を示す。
【０１５８】
絶縁ガラス組成（２）は従来技術に従って、アルミニウムまたはスチールフレームのスペーサー（２１）およびいわゆる第２のシーリング（２２）を用いて形成され、スペーサー（２１）は永久に弾性的な方法でラミネート化ガラスエレメント（１）または第２のガラスエレメント（４）を第３のガラスエレメント（５）に結合する。端部結合（２２、２１）によって、一般的に不活性ガスが充填されうる密封中間スペース（３３）が形成される。
【０１５９】
スペーサーフレーム（２１）は乾燥剤（２３）で通常満たされており、それは開口部（２４）によって中間スペース（３３）と結合され、導入されうる水蒸気を吸着して絶縁ガラス組成（２）の使用期間を増大することを目的とする。
【０１６０】
本質的に、ガラスエレメント（３、４、５）はフロートガラス、低レベルの酸化鉄を有するホワイトガラス、焼戻し安全ガラス、ラミネート化安全ガラス、部分焼戻しガラスエレメントから形成されてもよい。すべてのガラス表面は、種々の耐熱、光吸収、光反射および／または耐引っ掻きおよび／または掃除しやすい被膜、または別の機能を有する被膜を形成してもよい。
【０１６１】
絶縁ガラスエレメント（２）は二つの中間スペース（３３）および第４のガラスエレメントを有してもよい。
【０１６２】
図９はガラスエレメント（１、２）を有するビル（２５）の例示的模式図である。ビル（２５）の代わりに、地上または水上輸送体、または飛行機もしくはコンテナーがガラスエレメント（１、２）を有してもよい。
【０１６３】
図１０はフレーム（２７）および一体化されたガラスエレメント（１、２）を有する例示的壁エレメント（２６）の模式図である。この図はフレーム構成（２７）によってビルまたは輸送体にガラスエレメント（１、２）を一体化することを例示的に示す。フレーム（２７）の代わりに、フレームのない設置体を有してもよい。
【０１６４】
図１１は例示的光の模式図である。この図は室内発光手段として光（２８）を形成する可能性を例示的に示す。電気接合部（１０、１１）はまた完全に例示として示されている。そのような光（２８）は室内パーティションまたは階段部境界エレメントなどとして使用してもよい。
【符号の説明】
【０１６５】
１…ＥＬ光構造体、好ましくは無機交流厚膜粉体エレクトロルミネッセンス（ＡＣ−Ｐ−ＥＬ）光構造体を有するラミネート化ガラスエレメント。
２…ＥＬ光構造体、好ましくは無機交流厚膜粉体エレクトロルミネッセンス（ＡＣ−Ｐ−ＥＬ）光構造体を有する少なくとも一つのラミネート化ガラスエレメントを有する絶縁ガラスエレメント。
３…第１のガラスエレメント（少なくとも部分的に透明な基材）：フロートガラスまたは低いレベルの酸化鉄を有するホワイトガラス焼戻し安全ガラス（ＴＳＧ）または部分焼戻しガラス（ＴＶＧ）またはラミネート化安全ガラス（ＬＳＧ）。
４…第２のガラスエレメント（少なくとも部分的に透明な基材）：フロートガラスまたは低いレベルの酸化鉄を有するホワイトガラス焼戻し安全ガラス（ＴＳＧ）または部分焼戻しガラス（ＴＶＧ）またはラミネート化安全ガラス（ＬＳＧ）。
５…第３のガラスエレメント：フロートガラスまたは低いレベルの酸化鉄を有するホワイトガラス焼戻し安全ガラス（ＴＳＧ）または部分焼戻しガラス（ＴＶＧ）またはラミネート化安全ガラス（ＬＳＧ）。
６…第１の電極（導電性被膜）：実質的に透明薄膜で導電性被膜。
７…第２の電極（導電性被膜）：実質的に透明薄膜で導電性被膜。
８…接触ストリップ右。
９…接触ストリップ左。
１０…ＥＬ接続右。
１１…ＥＬ接続左。
１２…ラミネート化安全ガラスコンポジットマス（ポリマー接着剤）：厚さ０．３８ｍｍ未満のＰＶＢフィルム。
１２’…ラミネート化安全ガラスコンポジットマス（ポリマー接着剤）：共押出フィルムの形態における厚さ０．３８ｍｍ未満のＰＶＢフィルム。
１３…ラミネート化安全ガラスマトリックス（ポリマー接着剤のマトリックス）中の機能性粒子。
１４…ラミネート化安全ガラスマトリックス。
１５…ＥＬ発光。
１６…ＥＬ光構造体、好ましくは無機交流厚膜粉体エレクトロルミネッセンス（ＡＣ−Ｐ−ＥＬ）光構造体。
１７…ＥＬ顔料または粉体。
１８…ＥＬバインダーマトリックス。
１９…第１の絶縁層。
２０…第２の絶縁層。
２１…スペーサー：例えば、アルミニウムフレーム。
２２…二次シーリング。
２３…スペーサーフレーム中の乾燥手段。
２４…スペーサーフレーム中の絶縁ガラスキャビティーへの開口部。
２５…ビル。
２６…壁：ビルのブロック、地上輸送車、水上輸送車または飛行機の外側部分、コンテナーの外側部分など。
２７…フレーム。
２８…ランプまたは光。
２９…単一の図柄状光エレメント：例えば、ドット、四角、三角、長方形または線、星印または多角形、環。
３０…一般的に配置された光エレメント。
３１…ランダムに配置された光エレメント。
３２…個々の光エレメントの図柄状配置。
【図１】
2010527506.tif 000006
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2010527506.tif 000012
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
2010527506.tif 000017
2010527506.tif 000018
2010527506.tif 000019
2010527506.tif 000020
2010527506.tif 000021
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