(57)【要約】  フレキソ印刷プレートの形成法が記載されており、それは、マスターツールパターンを画定する複数のくぼみを有するマスターツール上に高分子基材を配置することを含む。溶剤は、このくぼみ内に配置される。次に、溶剤を高分子基材中へ拡散させて、当該マスターパターンに対して補完的な基材レリーフパターンを形成する。次に、この基材レリーフパターンを硬化させて、フレキソ印刷プレートを形成する。フレキソ印刷プレートについてもまた記載される。
2010510093.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキソ印刷プレートの形成法であって、
マスターツールパターンを画定する複数のくぼみを有し、前記くぼみ内に溶剤が配置されたマスターツールの上へ高分子基材を配置することと、
前記溶剤を前記高分子基材中へ拡散させて、前記マスターパターンに対して補完的な基材レリーフパターンを形成することと、
前記基材レリーフパターンを硬化させて、フレキソ印刷プレートを形成することと、を含む、フレキソ印刷プレートの形成法。
【請求項２】
前記基材レリーフパターンが、１５マイクロメートル以下の横方向の寸法を有する形状部を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記基材レリーフパターンが、５マイクロメートル以下の横方向の寸法を有する形状部を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記基材レリーフパターンを硬化することが、前記基材レリーフパターンを放射線に曝すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記基材レリーフパターンを硬化することが、前記基材レリーフパターンを熱に曝すことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記拡散工程後に、前記高分子基材を前記マスターツールから取り外すことを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記フレキソ印刷プレートを用いて、基材をフレキソ印刷することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記高分子基材が、前記配置工程前に部分的に硬化される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記基材レリーフパターンが、前記マスターパターン内に配置されている間に、前記硬化工程が生じる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記硬化工程後に、前記高分子基材を前記マスターツールから取り外すことを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記マスターツールが、高分子マスターツールである、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
主表面及び前記主表面から離れるように突出するレリーフパターンを有する高分子基材を含む、フレキソ印刷プレートであって、前記レリーフパターンが、少なくとも２０マイクロメートルの高さを有し、かつ、前記レリーフパターンが、１５マイクロメートル以下の横方向の寸法を有する形状部を含む、フレキソ印刷プレート。
【請求項１３】
前記レリーフパターンが、５マイクロメートル以下の横方向の寸法を有する形状部を含む、請求項１３に記載のフレキソ印刷プレート。
【請求項１４】
前記レリーフパターンが、少なくとも２５マイクロメートルの高さを有する、請求項１３に記載のフレキソ印刷プレート。
【請求項１５】
レリーフパターンが、少なくとも１００マイクロメートルの横方向の寸法にて隔置された形状部を含む、請求項１３に記載のフレキソ印刷プレート。
【請求項１６】
レリーフパターンが、少なくとも５００マイクロメートルの横方向の寸法にて隔置された形状部を含む、請求項１３に記載のフレキソ印刷プレート。
【請求項１７】
前記高分子基材が、部分的に硬化された、請求項１３に記載のフレキソ印刷プレート。
【請求項１８】
フレキソ印刷プレートの形成法であって、
微細構造を有する剛性マスターツールを提供することと、
前記剛性マスターツールを用いて高分子基材上で前記微細構造を複製して、微細構造を複製した高分子ウェブマスターツールを形成することと、
前記微細構造を複製した高分子ウェブマスターツールを用いて第２高分子基材上で前記微細構造を複製して、微細構造を複製したフレキソ印刷プレートを形成することと、を含む、フレキソ印刷プレートの形成法。
【請求項１９】
前記微細構造が、１０マイクロメートル以下の横方向の寸法を有する形状部を含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
ダイヤモンド旋削によって、前記剛性マスターツール微細構造を形成することを更に含む、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
フレキソ印刷プレートの形成法であって、
微細構造を有し、前記微細構造がダイヤモンド旋削により形成された、剛性マスターツールを提供することと、
前記微細構造を、前記剛性マスターツールを用いて高分子基材上で複製して、微細構造を複製したフレキソ印刷プレートを形成することと、を含む、フレキソ印刷プレートの形成法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、フレキソ印刷プレートに関し、より詳しくは、フレキソ印刷プレートの溶剤アシストエンボス加工に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
フレキソ印刷プレートは、紙、段ボール、フィルム、ホイル及びラミネートなどの種々の基材上での凸版印刷においての使用がよく知られている。フレキソ印刷プレートは、支持体とカバーシート又は多層カバー要素との間に挟みこまれた、エラストマー系結合剤、モノマー、及び光開始剤を含有する光重合層を有する感光性要素から作製可能である。このような感光性要素の製造プロセスの１つは、米国特許第４，４６０，６７５号に記載されており、そこでは、予め押出加工された光重合性組成物がカレンダのニップ内へ供給され、支持体と多層カバー要素との間でカレンダ加工されて、光重合層が形成される。フォトマスクを通して化学線を用いた感光性要素へのイメージ露光で、光重合層の露光領域が光重合によって不溶化される。好適な溶剤又は溶剤混合液を用いた処理で、光重合層の非露光領域を除去して、フレキソ印刷に使用可能な印刷用レリーフを残す。このような材料及びプロセスは、米国特許第４，３２３，６３７号、同第４，４２７，７５９号、及び同第４，８９４，３１５に記載されている。
【０００３】
しかし、露光済み感光性要素を溶剤又は溶剤混合物を用いて現像することは、同伴する現像液を除去するために長時間（０．５時間〜２４時間）の乾燥が必要なため、時間がかかる。加えて、これらの現像システムは、現像処理中に、潜在的毒性のある副生成廃棄物（溶剤及び溶剤由来の任意物質の両方）を生じる。
【０００４】
溶液現像の問題を回避するために、「ドライ」熱現像プロセスを使用してもよい。熱現像プロセスにおいては、化学線によってイメージ露光した感光性層を、感光性層の未露光部分が組成物を生じるのに十分な温度で吸収性材料と接触させて、軟化又は溶融させて、吸収材料中に流す。米国特許第３，２６４，１０３号（コーエン（Cohen）ら）、同第５，０１５，５５６号（マーチン（Martens））、同第５，１７５，０７２号（マーチン（Martens））、同第５，２１５，８５９号（マーチン（Martens））、及び同第５，２７９，６９７号（ピーターソン（Peterson）ら）を参照のこと。これら全ての引用特許において、ハロゲン化銀フィルムターゲットを用いて、真空フレーム内でイメージ露光を実施する。感光性層の露光部分は、未露光部分の軟化温度においては、固いまま、即ち軟化したり溶解したりしない。吸収性材料は、軟化した未照射材料を収集し、次に、感光性層から分離及び／又は除去する。流動性組成物を未照射領域から完全に除去して、印刷に好適なレリーフ構造を形成するために、感光性層の加熱及び接触サイクルは数回繰り返す必要があり得る。これにより、所望の印刷イメージを表す、照射し硬化した組成物の隆起したレリーフ構造が残る。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
これらの方式では、２０マイクロメートル未満の形状を持つフレキソ印刷プレートを形成することはできない。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１実施形態では、フレキソ印刷プレートの形成法が記載されており、形成法は、マスターツールパターンを画定する複数のくぼみを有するマスターツールの上へ高分子基材を配置することを包含する。溶剤は、このくぼみ内に配置される。次に、溶剤を高分子基材内へ拡散させて、マスターパターンに対して補完的な基材レリーフパターンを形成し、基材レリーフパターンを硬化させて、フレキソ印刷プレートを形成する。
【０００７】
別の実施形態では、フレキソ印刷プレートは、主表面及びこの主表面から離れるように突出するレリーフパターンを有する高分子基材を含む。このレリーフパターンは、少なくとも２０マイクロメートルの高さを有し、形状部は１５マイクロメートル以下の横方向の寸法を有する。
【０００８】
好ましい実施形態では、フレキソ印刷プレートの形成法は、微細構造を有する剛性微細構造マスターツールを提供することと、剛性微細構造マスターツールを用いて高分子基材上で微細構造を複製して、微細構造を複製した高分子ウェブマスターツールを形成することと、微細構造を複製した高分子ウェブマスターツールを用いて第２高分子基材上で微細構造を複製して、微細構造を複製したフレキソ印刷プレートを形成することと、を含む。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本発明は、以下の本発明の各種実施形態の詳細な説明を、添付の図面を関連させて考慮することにより、より完全に理解され得る。
【図１】例示的フレキソ印刷装置の概略図。
【図２】フレキソ印刷プレートの例示的形成法のブロックフローチャート。
【図３Ａ】図２に記載されているフレキソ印刷プレートの例示的形成法の概略断面図。
【図３Ｂ】図２に記載されているフレキソ印刷プレートの例示的形成法の概略断面図。
【図３Ｃ】図２に記載されているフレキソ印刷プレートの例示的形成法の概略断面図。
【図３Ｄ】図２に記載されているフレキソ印刷プレートの例示的形成法の概略断面図。
【図４】実施例１で形成されるフレキソ印刷プレートの表面形状スキャン（profilometric scan）。
【図５】実施例１の印刷表面の顕微鏡画像。
【図６】実施例２で形成される、微細構造を複製したフレキソ印刷プレートの顕微鏡画像。
【図７】実施例２の印刷表面の顕微鏡画像。
【００１０】
図面は、必ずしも一定の比率の縮尺ではない。図中に使用されている数字は、構成要素、工程などにおけるものと同じである。しかし、所与の図中の構成要素を意味する数字の使用は、同一数字でラベルした別の図中の構成要素を制約するものではないことは理解されよう。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
次の記述において、本明細書の一部を構成する添付の図面を参照し、幾つかの特定の実施形態を例として示す。本発明の範囲又は趣旨を逸脱せずに、その他の実施形態が考えられ、実施され得ることを理解すべきである。したがって、以下の「発明を実施するための形態」は、限定する意味で理解すべきではない。
【００１２】
本開示は、フレキソ印刷プレートに関し、より詳しくは、フレキソ印刷プレートの溶剤アシストエンボス加工に関するものである。特に、本開示は、部分的にのみ硬化され得る、高分子基材の溶剤アシストエンボス加工について記載する。溶剤は、高分子シート内に拡散し、微細構造高分子フレキソ印刷プレートを形成し、続いて部分的に硬化された微細構造高分子フレキソ印刷プレートを硬化させる。従来のフレキソ印刷プレート形成法とは異なり、本明細書で開示される方法は、２０マイクロメートル未満、又は１５マイクロメートル未満、又は１０マイクロメートル未満、あるいは、場合により、５マイクロメートル未満の側面寸法の形状を有するフレキソ印刷プレートが形成可能である。
【００１３】
特に指示がない限り、本明細書及び請求項において使用される形状、量、及び物理的性質を表す全ての数字は、全ての場合において「約」という語句によって修正されるものとして理解されるべきである。したがって、特に異議を唱えない限り、先の明細書及び添付した特許請求の範囲に記述されている数値パラメータは、当業者により本明細書にて開示した技術を利用して獲得しようとされてきた所望の性質に応じて変化しうる概算である。
【００１４】
端点による数の範囲の列挙には、その範囲内に包含される全ての数（例えば１から５には、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４、及び５）並びにその範囲内の任意の範囲が含まれる。
【００１５】
本明細書及び添付特許請求の範囲内にて使用される場合、単数形「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、別段の明確な指示がない限り、複数の指示対象を有する実施形態を包含する。本明細書及び添付特許請求の範囲内にて使用される場合、用語「又は」とは、別段の明確な指示がない限り、一般的に「及び／又は」を包含する意味で用いられる。
【００１６】
本発明で使用する全ての科学用語及び専門用語は、特に指示がない限り、当該技術分野において一般的に使用される意味を有する。本明細書にて提供される定義は、本明細書でしばしば使用されるある種の用語の理解を促進しようとするものであり、本開示の範囲を限定するものではない。
【００１７】
本発明で使用する場合、「フレキソ印刷」とは、可撓性印刷プレート（即ち、フレキソ印刷プレート）を使用する回転式印刷プロセスを意味する。フレキソ印刷プレートから受容基材へと転写され得る任意の材料は、「印刷され」得る。
【００１８】
本発明で使用する場合、「フレキソ印刷プレート」とは、その上ヘ、受容基材へ転写される材料が配置されてもよい形状部を有する印刷プレートを意味し、プレート又は形状部は、受容基材と接触した際に（受容基材と接触しない場合と比較して）変形可能である。フレキソ印刷プレートは、ロール又はシリンダーに取り付け可能な平面プレートであり得、あるいは、フレキソ印刷プレートは、チャックに取り付けたスリーブに取り付けることができる。
【００１９】
本発明で使用する場合、「形状部」とは、フレキソ印刷プレートの隆起した突出部を意味する。この隆起した突出部は、フレキソ印刷プレート（その上に材料を配置してもよい）のバルクから除去された遠心面（又はランド）を有する。
【００２０】
本明細書で記載されるフレキソ印刷ロールは、任意のフレキソ印刷装置又はシステムにて使用可能である。図１は、例示的フレキソ印刷装置１０００の概略図である。システム１０００は、受容基材５０上へ印刷する材料２０を受容するように構成された供与基材１０を含む。システム１０００は、フレキソ印刷プレート８０（後述）を取り付け可能に受容するように構成されたフレキソロール３０を含む。フレキソ印刷プレート８０は、任意の好適な手法を使用して、フレキソロール３０に取り付けてもよい。１つの好適な手法としては、接着剤を使用して、フレキソプレート８０をフレキソロール３０へ取り付けることが挙げられる。
【００２１】
フレキソロール３０は、供与基材１０に対して移動可能であり、材料２０が供与基材１０からフレキソ印刷プレート８０の形状部（後述）へと転写され得るようになっている。図１に示したシステム１０００は、フレキソロール３０に対する基材ロール４０の動作が、受容基材５０がフレキソロール３０と基材ロール４０との間で動作可能になるようにして、材料２０をフレキソ印刷プレート８０の形状部から転写できるように、フレキソロール３０に対して配置された基材ロール４０を更に包含する。
【００２２】
図１に示したフレキソロール３０及び基材ロール４０は、シリンダーの形態であってもよく、ロール３０及びロール４０は、シリンダーの対応する中心軸の周りを回転することが可能である。このような回転によって、フレキソロール３０に取り付けた印刷プレート８０を材料２０と接触させ、次に材料２０を受容基材５０へと転写させることができる。このような回転によって、受容基材５０をフレキソロール３０と基材ロール４０との間で動かすこともできる。
【００２３】
図２は、フレキソ印刷プレートの例示的形成法のブロックフローチャートであり、図３Ａ〜図３Ｄは、図２に記載されているフレキソ印刷プレートの例示的形成法の概略断面図である。幾つかの実施形態では、高分子マスターツール１１０は、金属製マスターツール１０５などの剛性マスターツール１０５から微細構造１０６を複製することによって形成された（ブロック２００）。高分子マスターツール１１０を形成するための、剛性マスターツール１０５からの微細構造１０６の複製は、例えば、エンボス加工、キャスティング、モールディング、スクライビングなどの任意の有用な方法によって、実施することができる。幾つかの実施形態では、マスターツールは、金属製基材又は高分子ではない剛性基材である。その他の実施形態では、剛性マスターツールは、剛性高分子基材である。これらの実施形態の幾つかでは、剛性マスターツールは、ダイヤモンド旋削技術（後述）によって形成された微細構造を有し、フレキソ印刷プレートは、剛性（金属製又は高分子製）マスターツールを用いて任意の複製方法（例えば、エンボス加工、キャスティングなど）によって複製する。
【００２４】
本明細書で記載されるレリーフパターン又は微細構造１０６を有する剛性マスターツール１０５は、任意の有用な方法によって形成することができる。多くの実施形態では、剛性マスターツール形状部１０６は、ダイヤモンド旋削技術によって形成される。ダイヤモンド旋削技術は、例えば、米国特許出願公開第２００６／０２３４６０５号に記載されており、これは、本開示に抵触しない範囲で、本明細書に参考として組み込まれる。
【００２５】
マスターツール１１０（高分子マスターツールであってもよい）は、マスターツールのくぼみパターンに対応し、かつ、それを画定する複数のくぼみ１１５を含む。ポリマー材料内に拡散可能な溶剤１２０は、くぼみ１１５のパターン内に配置されており、高分子基材１３０は、くぼみ１１５のパターン中の溶剤１２０を有するマスターツール１１０の上へ配置される（ブロック２１０）。
【００２６】
溶剤１２０は、高分子基材１３０中へと拡散し（ブロック２２０）、溶剤１２０に隣接した高分子基材１３０の一部を膨潤及び／又は溶解させて、高分子基材１３０の一部をくぼみ１１５のマスターツール１１０パターンに適合させる。一旦、溶剤１２０が放散したら、ポリマーは固化して、くぼみ１１５のマスターツール１１０パターンに対して相補的なパターンを有するレリーフパターン１１６を形成する。レリーフパターン１１６は、高分子基材１３０がマスターツール１１０から除去される前及び／又は後で、放射線（例えば、紫外線、可視光線、赤外線、若しくは電子線）あるいは加熱によって硬化させることができ（ブロック２３０）、フレキソ印刷プレートとして利用される。
【００２７】
フレキソ印刷プレートを形成する高分子基材は、溶剤を用いて膨潤及び／又は溶解させ、続いて硬化させ、レリーフパターンを形成可能な任意の高分子材料で作製することができる。多くの実施形態では、高分子基材は、少なくとも１種のエラストマー系結合剤、少なくとも１種の硬化性又は光重合可能性のエチレン系不飽和モノマー、及び少なくとも１種の光開始剤又は開始剤系（ここで、光開始剤は、化学線に敏感である）を含む。本明細書を通して、化学線（又は化学光）としては、紫外線及び／又は可視光線が挙げられる。
【００２８】
エラストマー系結合剤の例は、ポリアルカジエン類、アルカジエン／アクリロニトリルコポリマー類、エチレン／プロピレン／アルカジエンコポリマー類、エチレン／（メタ）アクリル酸（メタ）アクリレートコポリマー類、並びに熱可塑性でエラストマー系のスチレン、ブタジエン、及び／又はイソプレンのブロックコポリマー類である。多くの実施形態では、エラストマー系結合剤としては、線状かつ放射状で熱可塑性の、スチレン及びブタジエン及び／又はイソプレンのブロックコポリマー類が挙げられる。
【００２９】
熱的に硬化性の高分子基材としては、熱可塑性のエラストマー系結合剤などの熱可塑性結合剤が使用される。熱可塑性結合剤は、単一ポリマー又はポリマー混合物であり得る。結合剤としては、ポリイソプレン、１，２−ポリブタジエン、１，４−ポリブタジエン、及びブタジエン／アクリロニトリルを含む共役ジオレフィン炭化水素の天然又は合成ポリマーが挙げられる。多くの実施形態では、熱可塑性結合剤は、Ａ−Ｂ−Ａ型ブロックコポリマーのエラストマー系ブロックコポリマーであり、Ａは非エラストマー系ブロックポリマー（non-elastomeric block）、好ましくは、ビニルポリマー、最も好ましくはポリスチレンを表し、Ｂはエラストマー系ブロックポリマー（elastomeric block）、好ましくはポリブタジエン又はポリイソプレンを表す。この種の好適な熱可塑性エラストマー系結合剤としては、ポリ（スチレン／イソプレン／スチレン）ブロックコポリマー及びポリ（スチレン／ブタジエン／スチレン）ブロックコポリマー（これが好ましい）が挙げられる。非エラストマー対エラストマーの比は、好ましくは、１０：９０〜３５：６５の範囲内である。幾つかの実施形態では、熱可塑性エラストマー系結合剤は、米国特許第５，９７２，５６５号に記載されているように、少なくとも２種類のポリ（スチレン／イソプレン／スチレン）ブロックコポリマーの混合物である。結合剤は、感光性層の少なくとも６０重量％の量で存在することができる。本発明で使用する場合、用語「結合剤」とは、米国特許第４，９５６，２５２号及び同第５，７０７，７７３号にて開示されているもののような、コアシェルミクロゲル及びミクロゲルのブレンド、並びに予め形成された高分子ポリマーを包含する。
【００３０】
使用してもよい、他の好適な感光性又は硬化性のエラストマーとしては、ポリウレタンエラストマーが挙げられる。好適なポリウレタンエラストマーの例は、（ｉ）有機ジイソシアネート、（ｉｉ）イソシアネート基と重合し得る２つ以上の遊離水素基（free hydrogen groups）を有し、１分子当たり少なくとも１つのエチレン系不飽和付加重合性基を有する、少なくとも１つの鎖延長剤、及び（ｉｉｉ）最小分子量５００で、かつ、イソシアネート基と重合し得る少なくとも２つの遊離水素を含有する基を有する有機ポリオールの反応生成物である。これらの部分的な材料についてのより完全な説明は、米国特許第５，０１５，５５６号を参照のこと。
【００３１】
多くの実施形態では、光重合性材料は、化学線によって光重合可能な、少なくとも１種のエチレン系不飽和化合物を含有する。このような化合物は、モノマー又はオリゴマーとも称される。高分子層内にて使用可能なモノマーは、当該技術分野において周知であり、エチレン系不飽和の共重合性有機化合物、好ましくは、少なくとも１つの末端エチレン系不飽和基を有するものが挙げられるが、これらに限定されない。一般に、モノマー又はオリゴマーは、比較的低い分子量（約３０，０００未満）を有する。好ましくは、モノマー又はオリゴマーは、比較的低い分子量（約５，０００未満）を有し、例えば、一価アルコール又は多価アルコールのアクリレート及びメタクリレート、（メタ）アクリルアミド、ビニルエーテル及びビニルエステルなどであり、特にブタンジオール、ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどのアクリルエステル及び／又はメタクリルエステル、並びにこのような化合物の混合物である。
【００３２】
ポリアクリロイルオリゴマーを使用する場合、好ましくは、オリゴマーが１，０００を超える分子量を有していなければならない。１官能性及び多官能アクリレート又はメタクリレートの混合物を使用してもよい。好適なモノマー又はオリゴマーのその他の例としては、イソシアネート、エステル、エポキシドなどのアクリレート及びメタクリレート誘導体が挙げられる。モノマー又はオリゴマーは、当業者によって適切に選択され、エラストマー特性を光重合性組成物に提供することができる。エラストマー系モノマー又はオリゴマーの例としては、アクリレート化液体ポリイソプレン、アクリレート化液体ブタジエン、高ビニル含有量の液体ポリイソプレン、及び高ビニル含有量の液体ポリブタジエン（即ち、１個〜２個のビニル基の含有量が２０重量％を超える）が挙げられるが、これらに限定されない。モノマー又はオリゴマーの更なる例は、米国特許第４，３２３，６３６号（チェン（Chen））、同第４，７５３，８６５号（フライド（Fryd）ら）、同第４，７２６，８７７号（フライド（Fryd）ら）、及び同第４，８９４，３１５号（ファインベルグ（Feinberg）ら）に見出すことができる。モノマー及び／若しくはオリゴマー又はモノマー及び／若しくはオリゴマー混合物は、光重合性材料の重量に対して、少なくとも５重量％、好ましくは１０重量％〜２０重量％の量で存在することができる。
【００３３】
好適な光開始剤は、例えば、キノン、ベンゾフェノン、ベンゾインエーテル、アリールケトン、過酸化物、ビイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシルアルキルフェニルアセトフェノン（acetophone）、ジアルコキシアセトフェノン、トリメチルベンゾイルホスフィンオキシド誘導体、アミノケトン、ベンゾイルシクロヘキサノール、メチルチオフェニルモルホリノケトン、モルホリノフェニルアミノケトン、α−ハロゲノアセトフェノン、オキシスルホニルケトン、スルホニルケトン、オキシスルホニルケトン、スルホニルケトン、ベンゾイルオキシムエステル、チオキサントン、カンファーキノン、ケトクマリン、ミヒラーケトンなど、またトリフェニルホスフィン、三級アミンなどと共に更に混合される、個々の光開始剤又は光開始剤系である。多くの実施形態では、光開始剤は、紫外線又は可視光線の放射に敏感である。一般に、光開始剤は、光重合性材料の重量に対して、０．００１重量％〜１０．０重量％の量で存在できる。
【００３４】
高分子基材の厚さは、所望のフレキソ印刷プレートの種別に応じて、広い範囲で変えることができる。多くの実施形態では、高分子基材は、約０．０５ｃｍ〜０．１７ｃｍの厚み、０．２５ｃｍ〜０．６４ｃｍ以上の厚み、又は１ミリメートル〜１０ミリメートルの厚みであり得る。有用なフレキソ（flexographuic）印刷プレート高分子基材は、米国特許出願公開第２００５／０１９６７０１号に記載されており、本開示に抵触しない範囲で本明細書に参考として組み込まれる。有用な高分子基材としては、デュポン社（DuPont Co.）社から市販されている、サイレル（CYREL）（登録商標）ブランドのフレキソ印刷プレート基材が挙げられる。上記のように、フレキソ印刷プレートは、例えば、取り付け用テープ、又はチャックに取り付けられたスリーブによってロールに取り付け可能な平面プレート（例えば、デュポン（DuPont）（商標）サイレル（CYREL）（登録商標）の丸いプレート付き）であってもよい。
【００３５】
有用な溶剤としては、高分子基材へと拡散し、膨潤させ、及び／又は溶解させることができる任意の溶剤が挙げられる。溶剤は、有機溶剤、水溶液若しくは半水溶液、又は水であることができる。溶剤の選択は、主として、膨潤及び／又は溶解させる高分子基材の化学的性質に依存する。好適な有機溶剤としては、芳香族又は脂肪族炭化水素、及び脂肪族若しくは芳香族のハロ炭化水素溶剤、例えば、ｎ−ヘキサン、石油エーテル、水和石油、リモネン又はその他テルペン類若しくはトルエン、イソプロピルベンゼン等、ケトン類（例えば、メチルエチルケトン）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、クロロホルム、トリクロロエタン）、若しくはテトラクロロエチレン、エステル類（例えば、酢酸若しくはアセト酢酸エステル）、又はこのような溶剤と好適なアルコールとの混合物が挙げられる。好適な半水性溶剤は、通常、水及び水混和性有機溶剤並びにアルカリ性材料を含有する。
【００３６】
本明細書記載の方法によって、既に知られているものよりも小さい形状を有するフレキソ印刷プレートが可能となる。特に、これらのフレキソ印刷プレートは、少なくとも２０マイクロメートル、又は少なくとも２５マイクロメートル、又は少なくとも５０マイクロメートル、又は少なくとも１００マイクロメートルの距離で、プレート表面から離れるように突出する形状部のレリーフパターンを有し、１５マイクロメートル以下、又は１０マイクロメートル以下、又は５マイクロメートル以下の横方向の寸法を有し、少なくとも１００マイクロメートル、又は少なくとも１５０マイクロメートル、又は少なくとも２５０マイクロメートル、又は少なくとも５００マイクロメートルの横方向の寸法にて隔置されることができ、従来の形成法及び従来のフレキソ印刷プレートに付随する弛み問題（sagging problems）が無い。
【実施例】
【００３７】
（実施例１）
マイクロフレキソ印刷プレートは、微細構造を複製した線状角柱構造体（ＢＥＦ  ９０／５０、３Ｍ社（3M Co.）から市販されている）を備えた高分子フィルムを用いることと（本マスター構造体の表面形状スキャン（profilometric scan）は、図４に示されており、ＢＥＦ  ＭＡＳＴＥＲと称される）、メチルエチルケトンの薄膜をその構造化された表面上に堆積することと、次に、サイレル（CYREL）（登録商標）フレキソプレート（型式ＴＤＲ  Ｂ  ６．３５ｍｍ厚、カバーシートを除去したもの、デュポン社（DuPont Co.）より市販されている）を微細構造を複製した表面の最上部に位置決めすることと、によって作製された。１５時間後、サイレル（CYREL）（登録商標）プレートを、取り付けた微細構造を複製したフィルムを通して、ＵＶ処理装置（フュージョン（Fusion）製、メリーランド州ロックビル（Rockville））製紫外線硬化ランプ、型式ＭＣ−６ＲＱＮ、７８．７４ワット／ｃｍ（２００ワット／インチ）、水銀ランプ、約５ｆｐｍにて運転）内で紫外線に曝し、次に微細構造を複製したフレキソ印刷プレートをＢＥＦマスターから取り外した。形状部を示しているこの微細構造を複製したフレキソ印刷プレートの表面形状スキャン（profilometric scan）は、図４に示されており、スタンプ・キュアード・スルー・ＢＥＦ（STAMP CURED THROUGH BEF）と称される。ｘ軸目盛りは、マイクロメートルであり、ｙ軸目盛りはオングストロームである。
【００３８】
図４は、微細構造を複製したフレキソ印刷プレートは、ＢＥＦマスターから取り外した後で硬化させた点を除いて、上記方法によって形成された別の微細構造を複製したフレキソ印刷プレートの表面形状スキャン（profilometric scan）をも示す。この微細構造を複製したフレキソ印刷プレートの表面形状スキャンは図４に示されており、ＢＥＦからの分離後のＳＴＡＭＰ硬化（STAMP CURED AFTER SEPARATING FROM BEF）と称される。
【００３９】
スタンプ・キュアード・スルー・ＢＥＦ（STAMP CURED THROUGH BEF）の微細構造を複製したフレキソ印刷プレートを、フレキソ取り付け用テープ（型式１１２０、３Ｍ社（3M Co.）から市販されている）によって１２．７ｃｍ直径のガラス外筒に取り付けた。９０６ハードコート（３Ｍ社（3M Co.）製９０６ハードコートは、ＩＰＡ中に、３２重量％の２０ｎｍＳｉＯ２ナノ粒子、８重量％のＮ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、８重量％のメタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、及び５２重量％のペンタエリスリトールトリ／テトラアクリレート（ＰＥＴＡ）を含有する３３重量％固形分のセラマー（ceramer）ハードコート分散体である）の薄膜を清浄なスライド・ガラス（エリーサイエンティフィック社（Erie Scientific Company）（ニューハンプシャー州ポーツマス（Portsmouth））から入手可能）上に、ＩＰＡ中の９０６ハードコート溶液（２５重量％固形分）から毎分０．０３メートルでディップコーティングすることによって堆積し、開放空気中にてスライド・ガラスを乾燥させた。次に、フレキソ印刷プレートを、そのハードコート層へと手で伸ばし、次に清潔な１２５マイクロメートルＰＥＴ（即ち、ポリ（エチレンテレフタレート）フィルム（デュポン社（DuPont Co.）から入手可能））の上へ伸ばした。印刷したラインを備えたこのＰＥＴフィルムをＵＶ処理装置（フュージョン（Fusion）製、メリーランド州ロックビル（Rockville））紫外線硬化ランプ、型式ＭＣ−６ＲＱＮ、７８．７４ワット／ｃｍ（２００ワット／インチ）、水銀ランプ、酸素約５０ｐｐｍまで窒素パージ済み、約１．５メートル／分にて稼働）を通して送った。得られた印刷済み９０６ハードコートラインは、約２．５マイクロメートル幅であり、約５０マイクロメートルで隔置され、図５の顕微鏡画像に示す並行線パターンが形成された。
【００４０】
（実施例２）
マイクロフレキソ印刷プレートは、微細構造を複製したコーナーキューブ構造を備えた高分子フィルムを用い、少量のメチルエチルケトンを、マスターツールの構造化された表面上に堆積し、次に、サイレル（CYREL）（登録商標）フレキソプレート（型式ＴＤＲ  Ｂ  ６．３５ｍｍ厚、カバーシートを除去したもの、デュポン社（DuPont Co.）社から入手可能）をマスターツールの微細構造を複製した表面の最上部に位置決めすることによって作製された。１５時間後、サイレル（CYREL）（登録商標）プレートを、取り付けた微細構造を複製したフィルムを通して、ＵＶ処理装置（フュージョン（Fusion）製、メリーランド州ロックビル（Rockville））紫外線硬化ランプ、型式ＭＣ−６ＲＱＮ、７８．７４ワット／ｃｍ（２００ワット／インチ）、水銀ランプ、約１．５メートル／分にて稼働）内で紫外線へ露光し、次に微細構造を複製したフレキソ印刷プレートをマスターツールから取り外した。次に、この微細構造を複製したフレキソ印刷プレートを、フレキソ取り付け用テープ（型式１１２０、３Ｍ社（3M Co.）から市販されている）によって、１２．７ｃｍ直径のガラス外筒に取り付けた。形状部を示す、この微細構造を複製したフレキソ印刷プレートの顕微鏡画像を、図６に示す。
【００４１】
９０６ハードコート（実施例１に記載されている）の薄膜を清潔なスライド・ガラス上へと、ディップコーティングによって０．０３メートル／分にて、９０６ハードコートのＩＰＡ溶液（２５重量％固形分）から堆積し、そのスライド・ガラスを開放空気中にて乾燥させた。次に、フレキソ印刷プレートを、そのハードコート層へと手で伸ばし、次に清潔な１２５マイクロメートルＰＥＴ（即ち、ポリ（エチレンテレフタレート）フィルム（デュポン社（DuPont Co）から入手可能））上へと伸ばした。印刷したラインを備えたこのＰＥＴフィルムをＵＶ処理装置（フュージョン（Fusion）製、メリーランド州ロックビル（Rockville））紫外線硬化ランプ、型式ＭＣ−６ＲＱＮ、７８．７４ワット／ｃｍ（２００ワット／インチ）、水銀ランプ、酸素約５０ｐｐｍまで窒素パージ済み、約１．５メートル／分にて稼働）を通して送った。得られた印刷ラインは、約３マイクロメートル幅及び１３５マイクロメートル長であって、図７に示す顕微鏡画像にて図示されているような三角形パターンを形成する。
【００４２】
このため、フレキソ印刷プレートの溶剤アシストエンボス加工の実施形態が開示されている。当業者は、それら開示されたもの以外の実施形態が、想定されていることを理解するであろう。開示された実施形態は、図示の目的のために示され、制限のために示されてはおらず、本発明は以下の特許請求の範囲によってのみ制限される。
【図１】
2010510093.tif 000003
【図２】
2010510093.tif 000004
【図３Ａ】
2010510093.tif 000005
【図３Ｂ】
2010510093.tif 000006
【図３Ｃ】
2010510093.tif 000007
【図３Ｄ】
2010510093.tif 000008
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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