(57)【要約】  界面活性剤、気泡安定剤、モノマー、ポリマー、ウレタン、中間体、金属錯体、ホスフェートエステルを含むＲF−組成物およびテロメリゼーション方法が提供される。
2010502783.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＲF（ＲT）nＱs（式中、ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含み、ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含み、ｎは少なくとも１であり、Ｑs基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子である）を含む界面活性剤組成物であって、ＲF基とＲT基の少なくとも一部がＱs基に比較して疎水性であり、Ｑs基の少なくとも一部がＲF基とＲT基に比較して親水性であることを特徴とする界面活性剤組成物。
【請求項２】
ＲF基が−Ｃ3Ｆ6または−Ｃ3Ｆ7の１つであることを特徴とする請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項３】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項４】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項５】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項６】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項７】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項８】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項９】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項１０】
ＲF（ＲT）nＱFS（式中、ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含み、ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含み、ｎは少なくとも１であり、ＱFS基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子である）を含む気泡安定剤組成物であって、ＲF基とＲT基の少なくとも一部がＱFS基に比較として疎水性であり、ＱFS基の少なくとも一部がＲF基とＲT基に比較して親水性であることを特徴とする気泡安定剤組成物。
【請求項１１】
ＲF基が−Ｃ3Ｆ6または−Ｃ3Ｆ7の１つであることを特徴とする請求項１０に記載の気泡安定剤。
【請求項１２】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１０に記載の気泡安定剤。
【請求項１３】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１０に記載の気泡安定剤。
【請求項１４】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１０に記載の気泡安定剤。
【請求項１５】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項１０に記載の気泡安定剤。
【請求項１６】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１０に記載の気泡安定剤。
【請求項１７】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項１０に記載の気泡安定剤。
【請求項１８】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１０に記載の気泡安定剤。
【請求項１９】
ＲF（ＲT）nＱM（式中、ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含み、ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含み、ｎは少なくとも１であり、ＱM基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子である）を含むことを特徴とするモノマー。
【請求項２０】
ＲF基が−Ｃ3Ｆ6または−Ｃ3Ｆ7の１つであることを特徴とする請求項１９に記載のモノマー。
【請求項２１】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１９に記載のモノマー。
【請求項２２】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１９に記載のモノマー。
【請求項２３】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１９に記載のモノマー。
【請求項２４】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項１９に記載のモノマー。
【請求項２５】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１９に記載のモノマー。
【請求項２６】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項１９に記載のモノマー。
【請求項２７】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項１９に記載のモノマー。
【請求項２８】
ＲF（ＲT）nＱMU（式中、ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含み、ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含み、ｎは少なくとも１であり、ＱMU基はポリマー鎖主鎖の一部である）を含むことを特徴とするポリマー。
【請求項２９】
ＲF基が−Ｃ3Ｆ6または−Ｃ3Ｆ7の１つであることを特徴とする請求項２８に記載のポリマー。
【請求項３０】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項２８に記載のポリマー。
【請求項３１】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項２８に記載のポリマー。
【請求項３２】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項２８に記載のポリマー。
【請求項３３】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項２８に記載のポリマー。
【請求項３４】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項２８に記載のポリマー。
【請求項３５】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項２８に記載のポリマー。
【請求項３６】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項２８に記載のポリマー。
【請求項３７】
ＲF（ＲT）nＱU（式中、ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含み、ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含み、ｎは少なくとも１であり、ＱU基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子である）を含むことを特徴とするウレタン。
【請求項３８】
ＲF基が−Ｃ3Ｆ6または−Ｃ3Ｆ7の１つであることを特徴とする請求項３７に記載のウレタン。
【請求項３９】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項３７に記載のウレタン。
【請求項４０】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項３７に記載のウレタン。
【請求項４１】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項３７に記載のウレタン。
【請求項４２】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項３７に記載のウレタン。
【請求項４３】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項３７に記載のウレタン。
【請求項４４】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項３７に記載のウレタン。
【請求項４５】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項３７に記載のウレタン。
【請求項４６】
ＲF（ＲT）nＱH（式中、ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含み、ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含み、ｎは少なくとも１であり、ＱH基はグリコール鎖主鎖の一部である）を含むことを特徴とするグリコール。
【請求項４７】
ＲF基が−Ｃ3Ｆ6または−Ｃ3Ｆ7の１つであることを特徴とする請求項４６に記載のグリコール。
【請求項４８】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項４６に記載のグリコール。
【請求項４９】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項４６に記載のグリコール。
【請求項５０】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項４６に記載のグリコール。
【請求項５１】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項４６に記載のグリコール。
【請求項５２】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項４６に記載のグリコール。
【請求項５３】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項４６に記載のグリコール。
【請求項５４】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項４６に記載のグリコール。
【請求項５５】
ＲF（ＲT）nＱMC（式中、ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含み、ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含み、ｎは少なくとも１であり、ＱMC基は１つまたは複数の金属イオンを錯化するように設計された帯電基を含む）を含むことを特徴とする金属錯体。
【請求項５６】
ＲF基が−Ｃ3Ｆ6または−Ｃ3Ｆ7の１つであることを特徴とする請求項５５に記載の金属錯体。
【請求項５７】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項５５に記載の金属錯体。
【請求項５８】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項５５に記載の金属錯体。
【請求項５９】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項５５に記載の金属錯体。
【請求項６０】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項５５に記載の金属錯体。
【請求項６１】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項５５に記載の金属錯体。
【請求項６２】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項５５に記載の金属錯体。
【請求項６３】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項５５に記載の金属錯体。
【請求項６４】
ＲF（ＲT）nＱPE（式中、ＲF基は少なくとも２個の−ＣＦ3基を含み、ＲT基は少なくとも２個の炭素を有する基を含み、ｎは少なくとも１であり、ＱPE基はホスフェートエステルの一部である）を含むことを特徴とするホスフェートエステル組成物。
【請求項６５】
ＲF基が−Ｃ3Ｆ6または−Ｃ3Ｆ7の１つであることを特徴とする請求項６４に記載のホスフェートエステル。
【請求項６６】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項６４に記載のホスフェートエステル。
【請求項６７】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項６４に記載のホスフェートエステル。
【請求項６８】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項６４に記載のホスフェートエステル。
【請求項６９】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項６４に記載のホスフェートエステル。
【請求項７０】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項６４に記載のホスフェートエステル。
【請求項７１】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項６４に記載のホスフェートエステル。
【請求項７２】
ＲT基が−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項６４に記載のホスフェートエステル。
【請求項７３】
ＲF（ＲT）nＱg（式中、ＲF基はＣ５より大きい炭素量、および少なくとも１個の末端−ＣＸ3基および少なくとも１個の−ＣＸ3側基を有し、ＸはＨとＦの一方または両方であり、ＲT基は−ＣＨ2ＣＸ2−を含み、ｎは１より大きく、Ｑg基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子である）を含むことを特徴とする組成物。
【請求項７４】
ＲF基がＣ５〜Ｃ１７の間の炭素量を有することを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項７５】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項７６】
ＲT基が−ＣＨ2ＣＦ2−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項７７】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項７８】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項７９】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2ＣＦ2−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項８０】
ＲF基が（ＣＦ3）3ＣＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項８１】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項８２】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項８３】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項８４】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項８５】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項８６】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項８７】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項８８】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項８９】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＨ2ＣＦ2）l−（式中、ｌは１〜２である）を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項９０】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ）m−（式中、ｍは１〜３である）を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項９１】
ＲF基が（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＨ2ＣＦ2）l（ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ）m−（式中、ｌは１〜２であり、ｍは１〜３である）を含むことを特徴とする請求項７３に記載の組成物。
【請求項９２】
タキソゲンをテロゲンにさらしてテロマーを生成させることを含むテロメル化方法であって、前記タキソゲンがＶＤＦ、ＴＦＰおよびエチレンの１つまたは複数であり、前記テロゲンがＣ3Ｆ6（ＲT）nＸまたはＣ3Ｆ7（ＲT）nＸ（式中、Ｘはハロゲンであり、ＲTは−ＣＨ2ＣＦ2−と−ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−との一方または両方であり、ｎは１〜４である）の一方を含むことを特徴とするテロメル化方法。
【請求項９３】
前記タキソゲンがＶＤＦであり、前記テロゲンが（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）Ｉであることを特徴とする請求項９２に記載のテロメル化方法。
【請求項９４】
前記タキソゲンがＴＦＰであり、前記テロゲンが（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2Ｉであることを特徴とする請求項９２に記載のテロメル化方法。
【請求項９５】
前記タキソゲンがＴＦＰであり、前記テロゲンが（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2Ｉであることを特徴とする請求項９２に記載のテロメル化方法。
【請求項９６】
前記タキソゲンがＴＦＰであり、前記テロゲンが（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）Ｉであることを特徴とする請求項９２に記載のテロメル化方法。
【請求項９７】
前記タキソゲンがＴＦＰであり、前記テロゲンが（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）Ｉであることを特徴とする請求項９２に記載のテロメル化方法。
【請求項９８】
前記タキソゲンがエチレンであり、前記テロゲンが（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）Ｉであることを特徴とする請求項９２に記載のテロメル化方法。
【請求項９９】
前記タキソゲンがエチレンであり、前記テロゲンが（ＣＦ3）3ＣＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）Ｉであることを特徴とする請求項９２に記載のテロメル化方法。
【請求項１００】
タキソゲンをテロゲンにさらしてテロマーを生成させることを含むテロメル化方法であって、前記タキソゲンが２個を上回る炭素原子を有するオレフィンを含み、前記テロゲンが少なくとも５個の炭素原子を含み、かつ少なくとも２個の−ＣＦ3基を有することを特徴とするテロメル化方法。
【請求項１０１】
前記タキソゲンがエチレン、ＶＤＦ、ＴＦＰ、ＶＤＦ、４，５，５，５−テトラフルオロ−４−（トリフルオロメチル）ペンタ−１−エンおよび／または６，７，７，７−テトラフルオロ−６−（トリフルオロメチル）ヘプタ−１−エンの１つであることを特徴とする請求項１００に記載のテロメル化方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本特許は、２００６年９月１日出願の米国仮特許出願第６０／８４１，９３６号明細書「発明の名称」：「生産の方法およびシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、ホスフェートエステル、グリコール、水性膜形成性気泡および気泡安定剤（Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  ａｎｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ,Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ、Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｍｏｎｏｍｅｒ  Ｕｎｉｔｓ，Ｍｅｔａｌ  Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ，Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ  Ｅｓｔｅｒｓ，Ｇｌｙｃｏｌｓ，Ａｑｕｅｏｕｓ  Ｆｉｌｍ  Ｆｏｒｍｉｎｇ  Ｆｏａｍｓ  ａｎｄ  Ｆｏａｍ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ）」への優先権を主張する。この特許出願は参照により本明細書に援用する。
【０００２】
本発明は、ハロゲン化組成物、ハロゲン化組成物の製造方法、より詳しくは、フッ素化組成物、フッ素化組成物の製造方法およびフッ素化組成物で基材を処理する方法の分野に関する。
【背景技術】
【０００３】
例えば、界面活性剤およびポリマーなどの組成物は、組成物を材料のための処理剤として用いるとき、および組成物を材料の性能を高めるために用いるとき、組成物の性能に影響を与えるためにフッ素を導入させてきた。例えば、フッ素化官能基を導入している界面活性剤を単独で、または水性膜形成性気泡（ＡＦＦＦ）などの配合物中のいずれかで消火剤として用いることが可能である。パーフルオロオクチルスルホネート誘導体（ＰＦＯＳ）などの従来のフルオロ界面活性剤は線状過フッ素化部分を有する。
【０００４】
フッ素を導入しているポリマーは材料を処理するために用いられてきた。例示的なフッ素化処理剤には、「スコッチガード（Ｓｃｏｔｃｈｇｕａｒｄ）」（登録商標）などの組成物が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／０３４２９号明細書
【特許文献２】国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／０２６１７号明細書
【特許文献３】国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／０３４３３号明細書
【特許文献４】国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／０３１３７号明細書
【特許文献５】国際出願ＰＣＴ／ＵＳ０５／０３１３８号明細書
【特許文献６】米国特許第３，５４４，６６３号明細書
【特許文献７】米国特許第４，０００，１８８号明細書
【特許文献８】米国特許第４，９８３，７６９号明細書
【特許文献９】米国特許第３，３５１，６４３号明細書
【特許文献１０】米国特許第３，５７４，５１８号明細書
【特許文献１１】米国特許第３，９０７，５７６号明細書
【特許文献１２】米国特許第６，５２５，１２７号明細書
【特許文献１３】米国特許第６，２９４，１０７号明細書
【特許文献１４】米国特許第３，９４８，８８７号明細書
【特許文献１５】米国特許第３，１１２，２４１号明細書
【特許文献１６】米国特許第４，８９８，９８１号明細書
【特許文献１７】米国特許第５，４９１，２６１号明細書
【特許文献１８】米国特許第５，０９１，５５０号明細書
【特許文献１９】米国特許第５，１３２，４４５号明細書
【特許文献２０】米国特許第３，４９１，１６９号明細書
【特許文献２１】米国特許第３，２８２，９０５号明細書
【特許文献２２】米国特許第３，４９７，５７５号明細書
【特許文献２３】米国特許第６，５６６，４７０号明細書
【特許文献２４】米国特許第４，１４７，８５１号明細書
【特許文献２５】米国特許第４，３６６，２９９号明細書
【特許文献２６】米国特許第４，４３９，３２９号明細書
【特許文献２７】米国特許第５，４３９，９９８号明細書
【特許文献２８】米国特許第６，３８３，５６９号明細書
【特許文献２９】米国特許第６，１９７，３８２号明細書
【特許文献３０】米国特許第５，６７４，９６１号明細書
【特許文献３１】米国特許第５，７９８，４１５号明細書
【特許文献３２】米国特許第４，４７８，９７５号明細書
【特許文献３３】米国特許第６，１２０，８９２号明細書
【特許文献３４】米国特許第５，６２９，３７２号明細書
【特許文献３５】米国特許第４，０４３，９２３号明細書
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】デュパウ（Ｄｕｐａｕ）ら、Ａｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔａｌ．２００２年，３４４，Ｎｏ．３＆４，手順Ｂ
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００７】
ＲF（ＲT）nＱなどの組成物およびこの組成物を製造する方法が提供される。ＲF基は少なくとも２個の−ＣＦ3基を含むことが可能であり、ＲT基は少なくとも２個の炭素を有し、ｎは少なくとも１であることが可能であり、Ｑ基は元素の周期律表の１つまたは複数の原子を含むことが可能である。
【０００８】
ＲF（ＲT）nＱgなどのＲF−中間体およびこのＲF−中間体を製造する方法も提供される。Ｑg基は元素の周期律表の１つまたは複数の原子である。
【０００９】
ＲF（ＲT）nＱSを含むことが可能である界面活性剤およびこの界面活性剤を製造する方法が提供される。ＱS基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子であり、ＲF基とＲT基の少なくとも一部はＱs基に比較して疎水性であり、Ｑs基の少なくとも一部はＲF基とＲT基に比較して親水性である。
【００１０】
ＲF（ＲT）nＱFSを含むことが可能である気泡安定剤およびこの気泡安定剤を製造する方法が提供される。ＱFS基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子であり、ＲF基とＲT基の少なくとも一部はＱFS基に比較して疎水性であり、ＱFS基の少なくとも一部はＲF基とＲT基に比較して親水性である。
【００１１】
ＲF（ＲT）nＱMCを含むことが可能である金属錯体およびこの金属錯体を製造する方法が提供される。ＱMC基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子である。
【００１２】
ＲF（ＲT）nＱPEを含むことが可能であるホスフェートエステルおよびこのホスフェートエステルを製造する方法が提供される。ＱPE基はホスフェートエステル基の一部である。
【００１３】
ＲF（ＲT）nＱMUを含むことが可能であるポリマーおよびこのポリマーを製造する方法が提供される。ＱMU基はポリマー鎖主鎖の一部である。
【００１４】
ＲF（ＲT）nＱUを含むことが可能であるウレタンおよびこのウレタンを製造する方法が提供される。ＱU基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子である。
【００１５】
ＲF（ＲT）nＱHを含むことが可能であるグリコールおよびこのグリコールを製造する方法が提供される。ＱH基はグリコール鎖主鎖の一部である。
【００１６】
実施形態を以下の添付図に関連して以下で記載する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】例示的なＲF−組成物の全体図である。    [図２]実施形態に従って組成物を調製するための例示的なシステムである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
例示的なＲF−組成物および生産方法を図１〜２に関連して記載している。出発材料および／または中間体材料ならびに出発材料および／または中間体材料を製造する方法および／または界面活性剤、ポリマー、グリコール、モノマー、モノマー単位、ホスフェートエステル、金属錯体および／または気泡安定剤にＲＦ−中間体組成物を導入する方法は、公開国際特許出願；２００５年１月２８日出願の（特許文献１）：発明の名称「生産の方法およびシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、ホスフェートエステル、グリコール、水性膜形成性気泡および気泡安定剤（Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  ａｎｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ,Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｍｏｎｏｍｅｒ  Ｕｎｉｔｓ，Ｍｅｔａｌ  Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ，Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ  Ｅｓｔｅｒｓ，Ｇｌｙｃｏｌｓ，Ａｑｕｅｏｕｓ  Ｆｉｌｍ  Ｆｏｒｍｉｎｇ  Ｆｏａｍｓ，ａｎｄ  Ｆｏａｍ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ）」、２００５年１月２８日出願の（特許文献２）：発明の名称「組成物、ハロゲン化組成物、化学製造およびテロメル化方法（Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｈａｌｏｇｅｎａｔｅｄ  Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｔｅｌｏｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ）」、２００５年１月２８日出願の（特許文献３）：発明の名称「生産の方法およびシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、ホスフェートエステル、グリコール、水性膜形成性気泡および気泡安定剤（Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  ａｎｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ,Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｍｏｎｏｍｅｒ  Ｕｎｉｔｓ，Ｍｅｔａｌ  Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ，Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ  Ｅｓｔｅｒｓ，Ｇｌｙｃｏｌｓ，Ａｑｕｅｏｕｓ  Ｆｉｌｍ  Ｆｏｒｍｉｎｇ  Ｆｏａｍｓ，ａｎｄ  Ｆｏａｍ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ）」、２００５年１月２８日出願の（特許文献４）：発明の名称「生産の方法およびシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、ホスフェートエステル、グリコール、水性膜形成性気泡および気泡安定剤（Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  ａｎｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ,Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｍｏｎｏｍｅｒ  Ｕｎｉｔｓ，Ｍｅｔａｌ  Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ，Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ  Ｅｓｔｅｒｓ，Ｇｌｙｃｏｌｓ，Ａｑｕｅｏｕｓ  Ｆｉｌｍ  Ｆｏｒｍｉｎｇ  Ｆｏａｍｓ，ａｎｄ  Ｆｏａｍ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ）」に記載されている場合がある。これらの特許のすべての全文は参照により本明細書に援用する（「公開国際特許出願」）。
【００１９】
図１を参照すると、例示的なＲF−組成物の全体図を示している。ＲF−組成物には、ＲF−界面活性剤、ＲF−モノマー、ＲF−モノマー単位、ＲF−金属錯体、ＲF−ホスフェートエステル、ＲF−グリコール、ＲF−ウレタン、および／またはＲF−気泡安定剤が挙げられるが、それらに限定されない。例示的な実施形態において、ポリ−酸無水物、アクリル、ウレタン、金属錯体、ポリ−エン、および／またはホスフェートエステルもＲF部分を含むことが可能である。
【００２０】
ＲF−組成物はＲF部分および／またはＲF部分を有する組成物を含む。ＲF部分は、組成物の側基および／または部分などのＲF基であることが可能である。ＲF部分は少なくとも２個の−ＣＦ3基を含むことが可能であり、−ＣＦ3基は末端であってもよい。ＲF基は、例えば、−Ｃ3Ｆ6または−Ｃ3Ｆ7であることが可能である。ＲF部分は、−ＣＦ3基と−ＣＦ2−基などのフッ素を含有する追加の基の両方を含むことも可能である。例示的な実施形態において、ＲF部分は、（ＣＦ3）2ＣＦ−基のような２以下である−ＣＦ2−基対−ＣＦ3基の比を含むことが可能である。他の実施形態において、ＲF部分は３個の−ＣＦ3側基を含むことも可能である。ＲF部分は、少なくとも３個の−ＣＦ3側基および少なくとも１個の−ＣＦ2−基を含むことが可能である。例示的な実施形態において、ＲF部分は、少なくとも３個の−ＣＦ3側基、少なくとも１個の−ＣＦ2−基および少なくとも５個の−ＣＨ2−を含むことが可能である。例示的な実施形態において、ＲF部分は、０．４：１であることが可能である−ＣＦ2−基対−ＣＨ2−基の比を含むことが可能である。例示的な実施形態において、ＲF部分は、０．４：１であることが可能である−ＣＦ2−基対−ＣＦ3−基の比を含むことが可能である。ＲF部分は、例えば、１，１，１，２，４，４，６，６，１３，１３，１３−ウンデカフルオロ−２，８，１０−トリス（トリフルオロメチル）トリデシル基であることが可能である。
【００２１】
ＲF−組成物はＲF（ＲT）nＱを含むことが可能であり、ここで、ＲF基はＣ５より大きい炭素量、少なくとも１個の末端および少なくとも１個の−ＣＸ3側基を有し、Ｘは例えばＨとＦの一方または両方である。ＲF基は、Ｃ５〜Ｃ１７の間の炭素量を有することが可能である。実例ＲF基には、（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＨ2ＣＦ2）l−（ｌは１〜２である）、（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ）m−（ｍは１〜３である）および／または（ＣＦ3）2ＣＦ（ＣＨ2ＣＦ2）l（ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ）m−（ｌは１〜２であり、ｍは１〜３である）を挙げることが可能である。
【００２２】
より詳しくは、ＲF基は、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2ＣＦ2−、（ＣＦ3）3ＣＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−、および／または（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）ＨＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−の１つまたは複数であることが可能である。例示的な実施形態によると、ＲF基は、１つまたは複数の（ＲT）基の少なくとも一部を更に含むことが可能である。
【００２３】
ＲT基は少なくとも１個のＣ−２基を含むことが可能である。ＲT基はＣ−３基を含むことが可能であり、炭素求核性試薬を用いる付加反応などの本明細書に記載された方法を経由してＲF基に導入されるとともにＲF基の一部をなすことが可能である。ＲT基は、例えば−ＣnＨ2n−（式中、ｎは少なくとも１である）であることが可能である。例示的な実施形態において、ＲT基はブチルであることが可能である。ＲT基は、例えば−ＣＨ2ＣＸ2−（ＸはＨおよび／またはＦである）であることが可能である。ＲT基は、−ＣＨ2ＣＨ2−および／または−ＣＨ2ＣＦ2−であることが可能である。ＲT基は、−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−、−ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−、−ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−、−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−，−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−、−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2−、および／または−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−の１つまたは複数であることが可能である。ＲT基は、単位が反復することが可能であり、単位をｎとして示すことが可能であり、ここで、ｎは１より大きい。実例実施において、これらのＲT基は、テロメル化法などの本明細書に記載された方法によってＲF基に導入されることが可能であるとともにＲF基の一部をなすことが可能である。
【００２４】
例示的な実施において、ＲF−組成物は、望ましい表面エネルギーを実証することが可能であり、ＲF−組成物がさらされる溶液の表面張力に影響を及ぼすことが可能であり、および／またはＲF−組成物が被着されるおよび／または導入される材料の耐環境性に影響を及ぼすことが可能である。例示的な組成物には、ＲF−組成物を上に有する基材および／またはＲF−組成物を中に有する液体が挙げられるが、それらに限定されない。ポリマー、アクリレートモノマーおよびポリマー、グリコール、フルオロ界面活性剤および／またはＡＦＦＦ配合物などの組成物にＲF部分を導入することが可能である。これらの組成物は分散剤として、または編織布、編織用糸、皮革、紙、プラスチック、シート、木材、セラミッククレーなどの基材、および服飾品、壁紙、紙袋、ボール箱、多孔質陶器の物品；煉瓦、石、木材、コンクリート、セラミック、タイル、ガラス、スタッコ、石膏、ドライウォール、パーティクルボード、チップボード、カーペット、ドレープ材料、椅子張り、自動車、日よけ布地および雨着などの構成材料を処理するために用いることが可能である。ＲF−組成物をＲF−中間体から調製することが可能である。
【００２５】
ＲF部分をＲF−組成物に導入することが可能であり、および／またはＲF部分はＲF−中間体を経由するＲF−組成物のための出発材料であることが可能である。例示的なＲF−中間体は、上に記載されたＲF部分、およびＲF−組成物を生成させるために組成物にＲF部分の導入を見込む少なくとも１つの官能性部分を含む。ＲF−組成物のＱ基はＲF−中間体のためのＱg基であることが可能であり、このＱg基は官能性部分であることが可能である。官能性部分には、例えば、ハロゲン（例えばヨウ素）、メルカプタン、チオシアネート、スルホニル、クロリド、酸、酸ハロゲン化物、ヒドロキシル、シアノ、アセテート、アリル、エポキシド、アクリルエステル、エーテル、スルフェート、チオール、ホスフェートおよび／またはアミンを挙げることが可能である。導入および／または反応なしで、ＲF−中間体は、例えば、ＲF−モノマーおよび／またはＲF−金属錯体の配位子などのＲF−組成物を含むことが可能である。
【００２６】
ＲF−中間体はＲF−Ｑgを含むことが可能であり、ここで、ＲFはＲF部分を表し、Ｑgは、例えば、官能性部分、および／または別の例として、元素の周期律表の元素を表す。例示的な実施形態において、Ｑgは陽子、メチル基および／またはメチレン基ではない。例示的なＲF−中間体には、以下の表１のＲF−中間体が挙げられるが、それらに限定されない。
【００２７】
【表１】
2010502783.tif 000003
【００２８】
国際公開特許出願に記載された出発材料および／または反応生成物を調製するためのシステムおよび方法を用いて、新規なＲF−中間体を以下の例１〜１５により調製することが可能である。
【００２９】
【化１】
2010502783.tif 000004
【００３０】
【化２】
2010502783.tif 000005
【００３１】
ＲF−組成物およびＲF−組成物を製造する方法は図２に関連して記載されている。テロメル化法は、タキソゲンをテロゲンにさらしてテロマーを生成させることを含むことが可能である。
【００３２】
図２を参照すると、テロマー９などの製品を生成させるために反応器８に供給されるタキソゲン２、テロゲン４および開始剤６などの試薬を含むハロゲン化組成物を調製するためのシステム１０を示している。例示的な実施形態において、システム１０はテロメル化法を行うことが可能である。一実施形態によると、タキソゲン２をテロゲン４にさらしてテロマー９を生成させることが可能である。別の実施形態によると、開始剤６の存在下でタキソゲン２をテロゲン４にさらすことが可能である。反応器８は、暴露中に試薬に熱を供給するために構成することも可能である。
【００３３】
タキソゲン２は、少なくとも１種のＣＦ3を含む化合物を含むことが可能である。ＣＦ3を含む化合物は少なくとも２個の炭素を有することが可能である。例示的な実施形態において、タキソゲン２は、３，３，３−トリフルオロプロペン（ＴＦＰ、トリフルオロプロペン）、エチレン（エテン）、１，１−ジフルロロエテン（ＶＤＦ）、１，１，３，３，３−ペンタフルオロプロペン（ＰＦＰ、ペンタフルオロプロペン）などのオレフィンを含むことが可能である。例示的な実施形態において、タキソゲン４２はＴＦＰを含むことが可能であり、テロゲン４４は（ＣＦ3）2ＣＦＩを含むことが可能であり、ここで、タキソゲン４２対テロゲン４４のモル比は約０．２：１〜約１０：１、約１．１〜約５：１、および／または約２：１〜約４：１である。タキソゲン２は４，５，５，５−テトラフルオロ−４−（トリフルオロメチル）ペンタ−１−エンおよび／または６，７，７，７−テトラフルオロ−６−（トリフルオロメチル）ヘプタ−１−エンを含むことが可能であり、テロゲン４は、例えば（ＣＦ3）2ＣＦＩを含むことが可能である。
【００３４】
追加の実施形態によると、タキソゲン２は表２で以下に示した化合物を含むことが可能である。
【００３５】
【表２】
2010502783.tif 000006
【００３６】
テロゲン４はフッ素および／または塩素などのハロゲンを含むことが可能である。テロゲン４は少なくとも４個のフッ素原子を含むことが可能であり、ＲFＱおよび／またはＲClＱとして表すことが可能である。ＲF基は少なくとも４個のフッ素原子を含むことが可能であり、Ｑ基は元素の周期律表の１つまたは複数の原子を含むことが可能である。例示的なＲF基には、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨＣＦ2−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−、（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）を挙げることが可能である。
【００３７】
ＲＦ−Ｑは、例えば、１，１，１，２，３，３，３−ヘプタフルオロ−２−ヨードプロパン（２−ヨードヘプタフルオロプロパン、ｉ−Ｃ3Ｆ7Ｉ，Ｆ7Ｉ）であることが可能である。例示的なテロゲンは、（ＣＦ3）2ＣＦ−、Ｃ6Ｆ13Ｉ、トリクロロメタン、ＨＰ（Ｏ）（ＯＥｔ）2、ＢｒＣＦＣＩＣＦ2Ｂｒ、Ｒ−ＳＨ（Ｒは少なくとも１個の炭素を含む基である）および／またはＲＯＨ（Ｒは少なくとも１個の炭素を含む基である）などの上述したハロゲン化化合物を含むことが可能である。Ｑ基はＨまたはＩであることが可能であり、ここで、ＲＦ基は、例えば、（ＣＦ3）2ＣＦ−および／または−Ｃ6Ｆ13である。ＲＣｌ基は少なくとも１個の−ＣＣｌ3基を含むことが可能である。
【００３８】
追加の実施形態によると、テロゲン４は表３で以下に示した化合物を含むことが可能である。例示的な実施が以下の表３で示されているように、テロゲンはテロメル化の生成物であることが可能である。
【００３９】
【表３】
2010502783.tif 000007
【００４０】
例示的な実施形態において、タキソゲン２はトリフルオロプロペンを含むことが可能であり、テロゲン４は（ＣＦ3）2ＣＦＩを含むことが可能であり、ここで、タキソゲン２対テロゲン４のモル比は約１：１〜約１：１０、１．４〜約４：１、および／または約２：１〜約４：１である。
【００４１】
反応器８は、いずれかの実験室規模または工業規模の反応器であることが可能であり、特定の実施形態において、反応器８は反応器内の試薬の温度を制御するように構成することが可能である。例示的な実施形態によると、反応器８は、約９０℃〜約１８０℃、約６０℃〜約２２０℃および／または約１３０℃〜約１５０℃の試薬の暴露中の温度を提供するために用いることが可能である。
【００４２】
実例実施によると、タキソゲンは、ＶＤＦ、ＴＦＰおよびエチレンの１つまたは複数であることが可能であり、テロゲンは、Ｃ3Ｆ6（ＲT）nＸまたはＣ3Ｆ7（ＲT）nＸ（式中、Ｘはハロゲンである）の１つを含むことが可能である。ＲTは−ＣＨ2ＣＦ2−とＣＨ2Ｃ（ＣＦ3）Ｈ−の一方または両方であることが可能であり、ｎは１〜４である。より詳しくは、タキソゲンはＶＤＦであることが可能であり、テロゲンは（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）Ｉであることが可能である。タキソゲンはＴＦＰであることが可能であり、テロゲンは（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2Ｉであることが可能である。タキソゲンはＴＦＰであることが可能であり、テロゲンは（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2Ｉであることが可能である。タキソゲンはＴＦＰであることが可能であり、テロゲンは（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）Ｉであることが可能である。タキソゲンはＴＦＰであることが可能であり、テロゲンは（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）Ｉであることが可能である。タキソゲンはエチレンであることが可能であり、テロゲンは（ＣＦ3）2ＣＦＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）Ｉであることが可能である。タキソゲンはエチレンであることが可能であり、テロゲンは（ＣＦ3）3ＣＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）Ｉであることが可能である。
【００４３】
テロメル化法は、タキソゲンをテロゲンにさらしてテロマーを生成させることを含むことも可能である。ここで、タキソゲンは２個を上回る炭素原子を有するオレフィンを含み、テロゲンは少なくとも５個の炭素原子を含むとともに少なくとも２個の−ＣＦ3基を有する。例として、タキソゲンは、エチレン、ＶＤＦ、ＴＦＰ、ＶＤＦ、４，５，５，５−テトラフルオロ−４−（トリフルオロメチル）ペンタ−１−エンおよび／または６，７，７，７−テトラフルオロ−６−（トリフルオロメチル）ヘプタ−１−エンの１つであることが可能である。
【００４４】
タキソゲン２をテロゲン４にさらすと生成するテロマー９は、ＲF（ＲT）nＱおよび／またはＲCl（ＲT）nＨを含むことが可能である。ＲT基は
【００４５】
【化３】
2010502783.tif 000008
【００４６】
などの−ＣＦ3側基を有する少なくとも１個のＣ−２基を含むことが可能である。例示的な製品は、
【００４７】
【化４】
2010502783.tif 000009
【００４８】
および／または
【００４９】
【化５】
2010502783.tif 000010
【００５０】
と
【００５１】
【化６】
2010502783.tif 000011
【００５２】
の一方または両方および／または
【００５３】
【化７】
2010502783.tif 000012
【００５４】
を含み、ここで、Ｒ1は、例えば、−ＣＨ2−および／または−ＣＦ2−のように少なくとも１個の炭素原子を含む。ＲTは、−ＣＨ2−ＣＦ2−、−ＣＨ2−（ＣＨ2ＣＦ（ＣＦ3）2）ＣＨ−、および／または−ＣＨ2−ＣＨ2−も含むことが可能である。例示的な実施形態において、ｎは少なくとも１であることが可能であり、他の実施形態において、ｎは少なくとも２であることが可能であり、製品は、例えば、
【００５５】
【化８】
2010502783.tif 000013
【００５６】
の１つまたは複数を含むことが可能である。他の実施によると、ｎは３または少なくとも４でさえあることが可能である。例示的な実施形態において、ｎは少なくとも１であることが可能であり、他の実施形態において、ｎは少なくとも２であることが可能であり、製品は、
【００５７】
【化９】
2010502783.tif 000014
【００５８】
の１つまたは複数を含むことが可能である。Ｚは、例えば、Ｈ、Ｂｒおよび／またはＣｌである。
【００５９】
例示的な実施形態において、タキソゲントリフルオロプロペンをテロゲン（ＣＦ3）2ＣＦＩにさらしてテロマー
【００６０】
【化１０】
2010502783.tif 000015
【００６１】
を生成させることが可能であり、別の例として、トリフルオロプロペンをテロゲンＣ6Ｆ13Ｉにさらしてテロマー
【００６２】
【化１１】
2010502783.tif 000016
【００６３】
を生成させることが可能である。
【００６４】
例示的な実施形態において、タキソゲントリフルオロプロペンをテロゲン（ＣＦ3）2ＣＦＩにさらしてテロマー
【００６５】
【化１２】
2010502783.tif 000017
【００６６】
を生成させることが可能であり、別の例として、トリフルオロプロペンをテロゲンＣ6Ｆ13Ｉにさらしてテロマー
【００６７】
【化１３】
2010502783.tif 000018
【００６８】
を生成させることが可能である。別の実施形態によると、タキソゲントリフルオロプロペンをテロゲンＣＣｌ3Ｚ（例えば、Ｚ＝Ｈ、Ｂｒおよび／またはＣｌ）にもさらしてテロマー
【００６９】
【化１４】
2010502783.tif 000019
【００７０】
を生成させることが可能である。テロゲンに比べて過剰のタキソゲンを用いるときに少なくとも２であるｎを有する製品を生成させることが可能である。例えば、タキソゲン対テロゲンの少なくとも２：１モル比を用いて、少なくとも２であるｎを有する製品を得ることが可能である。例えばあくまで例として、少なくとも２モルのタキソゲントリフルオロプロペンを少なくとも１モルのテロゲン（ＣＦ3）2ＣＦＩにさらしてテロマー
【００７１】
【化１５】
2010502783.tif 000020
【００７２】
の一方または両方を生成させることが可能である。例示的な実施形態によると、テロマー９は、以下の表４に示した化合物を含むことが可能である。例示的な実施が以下の表４で示されているように、テロマーもテロゲンとして用いることが可能である。
【００７３】
ヘテロテロメル化もコテロメル化および／またはオリゴテロメル化を経由して実行することが可能である。例として、少なくとも２種の異なるタキソゲンを少なくとも１種のテロゲンと組み合わせて、少なくともコテロマーの生産を促進してもよい。別の例として、テロマーを第１のタキソゲンから製造してもよく、製品テロマーを第１のタキソゲンとは異なる第２のタキソゲンとの後続のテロメル化において用いてもよい。
【００７４】
【表４】
2010502783.tif 000021
【００７５】
追加の実施形態において、開始剤６を試薬の暴露中に反応器８に供給してもよい。開始剤６は、例えば、ジ−ｔ−ブチルペルオキシドなどの過酸化物を含め、熱開始剤、光化学（ＵＶ）開始剤、ラジカル開始剤および／または金属錯体開始剤を含むことが可能である。開始剤６はＣｕなどの触媒も含むことが可能である。開始剤６およびテロゲン４を例えば、約０．００１〜約０．０５の間および／または約０．０１〜約０．０３の間の開始剤６対テロゲン２のモル比で反応器８に供給することが可能である。
【００７６】
例示的な実施形態によると、種々の開始剤６およびテロゲン４を用いて、以下の表５で参照されるようにタキソゲン２をテロ重合させることが可能である。カリウスチューブ反応器８を用いてバッチ条件で光化学開始剤および／または金属錯体開始剤６を用いるテロメル化を行うことが可能である。熱開始剤および／または過酸化物開始剤６を用いるテロメル化を１６０および／または５３０ｃｍ3のハステロイ反応器８内で行うことが可能である。
【００７７】
開示の実施形態は、上述したＲF部分を含むＲF−界面活性剤組成物を提供する。例示的なＲF−界面活性剤組成物をＲF−ＱSと呼ぶことが可能である。例示的な実施形態によると、ＲF部分は、上述したようにＲF（ＲT）n部分を少なくとも部分的に含むことが可能である。界面活性剤のＲF（ＲT）n部分は、上述したＲS部分も含むことが可能である。例示的な実施によると、ＲS部分を導入して、界面活性剤のＲF部分および／またはＲF（ＲT）n部分とＱS部分との間に追加の炭素を提供することが可能である。例示的なＲS部分は−ＣＨ2ＣＨ2−を含む。例として、界面活性剤組成物はＲF（ＲT）nＱSを含むことが可能である。ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含むことが可能である。ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことが可能であり、ここで、ｎは少なくとも１である。ＱS基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子であることが可能であり、ここで、ＲF基およびＲT基の少なくとも一部はＱS基に比較して疎水性であり、ＱS基の少なくとも一部はＲF基およびＲT基に比較して親水性である。
【００７８】
少なくとも２つの部分を有するシステムにおいて、ＲFは、ＱSより大きい親和性をシステムの第１の部分のために有することが可能であり、ＱSは、ＲFより大きい親和性をシステムの第２の部分のために有することが可能である。システムは、液／液システム、液／気システム、液／固システム、および／または気／固システムを含むことが可能である。例えば、液／液システムは、水を含む少なくとも１つの液部分および水を含む部分に比較して疎水性であるもう１つの液部分を有するシステムを含むことが可能である。液／液システムは、水が炭化水素液システムなどのシステムの一部でないシステムも含むことが可能である。例示的な実施形態において、ＲFはＱSに比較して疎水性であることが可能であり、および／またはＱSはＲFに比較して親水性であることが可能である。例えば、ＲFは疎水性であることが可能であり、ＱSは親水性であることが可能である。疎水性部分をＲF−界面活性剤の尾と呼ぶことが可能であり、親水性部分をＲF−界面活性剤の頭と呼ぶことが可能である。ＲF−界面活性剤は、フッ素を含有する尾部分または疎水性部分を有する界面活性剤を含むことが可能である。ＲF−界面活性剤の尾部分または疎水性部分をＲF部分と呼ぶことが可能である。そしてＲF−界面活性剤の頭部分または親水性部分をＱS部分と呼ぶことが可能である。ＲF−界面活性剤は、国際公開特許出願：２００５年１月２８日出願の（特許文献１）：発明の名称「生産の方法およびシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、ホスフェートエステル、グリコール、水性膜形成性気泡および気泡安定剤（Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  ａｎｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ,Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｍｏｎｏｍｅｒ  Ｕｎｉｔｓ，Ｍｅｔａｌ  Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ，Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ  Ｅｓｔｅｒｓ，Ｇｌｙｃｏｌｓ，Ａｑｕｅｏｕｓ  Ｆｉｌｍ  Ｆｏｒｍｉｎｇ  Ｆｏａｍｓ，ａｎｄ  Ｆｏａｍ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ）」、２００５年１月２８日出願の（特許文献２）：発明の名称「組成物、ハロゲン化組成物、化学製造およびテロメル化方法（Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｈａｌｏｇｅｎａｔｅｄ  Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ，ａｎｄ  Ｔｅｌｏｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ）」、２００５年１月２８日出願の（特許文献３）：発明の名称「生産の方法およびシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、ホスフェートエステル、グリコール、水性膜形成性気泡および気泡安定剤（Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  ａｎｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ,Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｍｏｎｏｍｅｒ  Ｕｎｉｔｓ，Ｍｅｔａｌ  Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ，Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ  Ｅｓｔｅｒｓ，Ｇｌｙｃｏｌｓ，Ａｑｕｅｏｕｓ  Ｆｉｌｍ  Ｆｏｒｍｉｎｇ  Ｆｏａｍｓ，ａｎｄ  Ｆｏａｍ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ）」、２００５年１月２８日出願の（特許文献４）：発明の名称「生産の方法およびシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、ホスフェートエステル、グリコール、水性膜形成性気泡および気泡安定剤（Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  ａｎｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ,Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｍｏｎｏｍｅｒ  Ｕｎｉｔｓ，Ｍｅｔａｌ  Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ，Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ  Ｅｓｔｅｒｓ，Ｇｌｙｃｏｌｓ，Ａｑｕｅｏｕｓ  Ｆｉｌｍ  Ｆｏｒｍｉｎｇ  Ｆｏａｍｓ  ａｎｄ  Ｆｏａｍ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ）」および２００５年１月２８日出願の（特許文献５）：発明の名称「生産の方法およびシステム、組成物、界面活性剤、モノマー単位、金属錯体、ホスフェートエステル、グリコール、水性膜形成性気泡および気泡安定剤（Ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ  ａｎｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ,Ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ，Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｍｏｎｏｍｅｒ  Ｕｎｉｔｓ，Ｍｅｔａｌ  Ｃｏｍｐｌｅｘｅｓ，Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ  Ｅｓｔｅｒｓ，Ｇｌｙｃｏｌｓ，Ａｑｕｅｏｕｓ  Ｆｉｌｍ  Ｆｏｒｍｉｎｇ  Ｆｏａｍｓ，ａｎｄ  Ｆｏａｍ  Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ）」において詳述された方法およびシステムを用いてＲF−中間体から製造することが可能である。例示的なＲF−界面活性剤には、以下の表５の界面活性剤が挙げられる。
【００７９】
【表５】
2010502783.tif 000022
【００８０】
ＬＣ／ＭＳを用いて化合物を識別することが可能である場合、以下のＬＣ／ＭＳパラメータの表６を用いることが可能である。
【００８１】
【表６】
2010502783.tif 000023
【００８２】
【化１６】
2010502783.tif 000024
【００８３】
上の機構（１６）によると、攪拌機、熱電対および還流コンデンサを備えることができるフラスコに３０グラム（６７ミリモル）の１，１，１，２−テトラフルオロ−２，４−ビス（トリフルオロメチル）−８−ヨードオクタン（例えば、国際公開特許出願参照）、３５ｍｌの無水エタノール、９．８グラムのチオシアン酸カリウム（ＫＳＣＮ）および１．４ｍｌの氷酢酸（ＨＯＡｃ）を入れて混合物を生成させることが可能である。混合物を加熱して還流（約８４．７℃）させるとともに、攪拌しつつ一晩維持することが可能である。混合物を淡黄色スラリーとして観察することが可能であり、真空で濃縮して粘性黄色スラリーを与えることが可能である。スラリーを３００ｍＬのジエチルエーテルで抽出するとともに（２回デカントし）濾過して、湿りケーキと濾液を与えることが可能である。湿りケーキをジエチルエーテルの３つの１００ｍＬ部分で洗浄することが可能である。ここで、捕集した洗浄液を濾液と組み合わせるとともに真空で濃縮して、淡黄色油として観察され得る２５．２８グラム（収率９９．５％）の１，１，１，２−テトラフルオロ−２，４−ビス（トリフルオロメチル）−８−チオシアナトオクタン製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【００８４】
【化１７】
2010502783.tif 000025
【００８５】
上の機構（１７）に関して、攪拌機、熱電対、還流コンデンサおよび塩素ガス分散チューブを備えることができるフラスコに２５．２グラム（６６．４ミリモル）の１，１，１，２−テトラフルオロ−２，４−ビス（トリフルオロメチル）−８−チオシアナトオクタン（上の機構（１５）を参照する）および４０ｍｌの氷酢酸（ＨＯＡｃ）を入れて混合物を生成させることが可能であり、約６０℃に加熱することが可能である。加熱された混合物を塩素ガス（Ｃｌ2）により分散チューブを経由してパージして、一晩にわたって反応混合物を生成させることが可能である。反応混合物を約１０℃に冷却するとともに５０ｍＬの水を滴下することが可能である。反応混合物を室温に暖め、２００ｍｌのＣＨＣｌ3および１００ｍｌの水を添加して、有機相を水相から分離できる多相混合物を生成させることが可能である。水相を捕集するとともに２００ｍｌのＣＨＣｌ3で抽出することが可能である。有機相を捕集し、組み合わせるとともに水の３つの３００ｍｌ部分および３００ｍｌの塩水で洗浄することが可能であり、その後、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥させ、濾過し、真空で濃縮して、濁った無色油として観察され得る２６．２６グラム（収率９５．３％）の７，８，８，８−テトラフルオロ−５，７−ビス（トリフルオロメチル）オクタン−１−スルホニルクロリド製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【００８６】
【化１８】
2010502783.tif 000026
【００８７】
上の機構（１８）によると、攪拌機、熱電対、ドライアイス／アセトン浴を備えることができるフラスコに１５０ｍｌのＣＨＣｌ3中の１７．８０グラム（１７４．５ミリモル）のＮ1，Ｎ1−ジメチルプロパン−１，３−ジアミンを入れて混合物を生成させることが可能である。反応温度を約０℃〜−５℃の間に維持しつつ、２６．２０グラム（６２．３ミリモル）の７，８，８，８−テトラフルオロ−５，７−ビス（トリフルオロメチル）オクタン−１−スルホニルクロリド（上の機構（１６）参照）および１５０ｍｌのＣＨＣｌ3を混合物に４０分間にわたり滴下して、反応混合物を生成させることが可能である。反応混合物を放置して室温に暖めるとともに週末にわたって攪拌しつつ室温に維持することが可能である。３００ｍＬの水、２つの３００ｍＬ部分の炭酸水素塩、３００ｍＬの水および３００ｍＬの塩水を添加することにより反応混合物を洗浄することが可能である。ここで、有機相を水相から分離できる多相混合物を与えるために各工程を観察することが可能であり、有機相を次工程に移送することが可能である。洗浄された有機相をＮａ2ＳＯ4上で乾燥させ、濾過し、真空で濃縮して、淡黄色液体として観察され得る３０．２３グラム（収率９９．８％）の
【００８８】
【化１９】
2010502783.tif 000027
【００８９】
製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【００９０】
【化２０】
2010502783.tif 000028
【００９１】
上の機構（１９）を参照すると、攪拌機、熱電対および添加漏斗を備えることができるフラスコに１０．０グラム（２０．６ミリモル）の
【００９２】
【化２１】
2010502783.tif 000029
（上の機構（１８）参照）、５０ｍＬの無水エタノール（ＥｔＯＨ）および２．４グラム（２０．６ミリモル）のクロロ酢酸ナトリウムの混合物を入れて混合物を生成させることが可能である。混合物を加熱して還流（約７９℃）させるとともに一定時間にわたり攪拌して、淡白色のスラリーとして観察され得る物質を与えることが可能である。スラリーを濾過し、濾液を真空で濃縮するとともに高真空下で４５℃で乾燥させて、もろい淡黄色固体として観察され得る１１．２９グラムの
【００９３】
【化２２】
2010502783.tif 000030
【００９４】
製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【００９５】
【化２３】
2010502783.tif 000031
【００９６】
上の機構（２０）を参照すると、攪拌機、熱電対、還流コンデンサおよび添加漏斗を備えることができるフラスコに１０．０グラム（２０．６ミリモル）の
【００９７】
【化２４】
2010502783.tif 000032
【００９８】
（上の機構（１８）参照）、２０ｍＬの無水エタノール（ＥｔＯＨ）および３ｍＬの水を入れて混合物を生成させることが可能である。水中の９．６ｍＬの５０％（ｗｔ／ｗｔ）Ｈ2Ｏ2を室温で５分間にわたり混合物に滴下して、反応混合物を生成させることが可能である。反応混合物を３５℃に加熱するとともに一晩にわたり維持することが可能である。反応混合物を６ｇの脱色炭（中性）で３５℃で２時間にわたり幾つかに分けて処理してスラリーを生成させることが可能であり、５０℃に加熱するとともに一晩にわたり攪拌を維持することが可能である。スラリーのサンプルを捕集し、濾過し、失活しなかったあらゆる過酸化物をＫＩ／澱粉紙で陰性と試験することが可能である。セライトを通してスラリーの残りを濾過し、回転蒸発器上でＥｔＯＨを除去することが可能である。ＣＨＣｌ3で３回共ストリッピングすることにより微量のＥｔＯＨを除去して濃縮物を与えることが可能である。濃縮物を真空（４５℃で高真空下で２時間）で濃縮して、オフホワイトのもろい固体として観察され得る１０．０３グラム（収率９７．４％）の
【００９９】
【化２５】
2010502783.tif 000033
【０１００】
製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１０１】
【化２６】
2010502783.tif 000034
【０１０２】
上の機構（２１）に従って、攪拌機および熱電対を備えることができる密封可能なチューブに１０．０グラム（２０．６ミリモル）の
【０１０３】
【化２７】
2010502783.tif 000035
（上の機構（１８）参照）、２５ｍＬのメチル−ｔ−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）中の２．１グラム（４１．１ミリモル）のクロロメタンを入れて混合物を生成させることが可能であり、長い時間にわたって５５℃に加熱することが可能である。攪拌を止め、ボトルを約０℃より下に冷却し、ベントするとともに混合物を真空で濃縮して、白色蝋状固体として観察され得る９．８１グラム（収率８８．９％）の
【０１０４】
【化２８】
2010502783.tif 000036
【０１０５】
製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１０６】
【化２９】
2010502783.tif 000037
【０１０７】
上の機構（２２）を参照すると、攪拌機、熱電対、還流コンデンサおよび添加漏斗を備えることができるフラスコに５グラム（０．０１モル）の５，６，６，６−テトラフルオロ−３−（２，３，３，３−テトラフルオロ−２−（トリフルオロメチル）プロピル）−５−（トリフルオロメチル）ヘキサン−１−スルホニルクロリド（例えば、国際公開特許出願参照）、１．２グラム（０．０１モル）のメチル２−（エチルアミノ）アセテートおよび１０ｍＬのクロロホルムを入れて、混合物を生成させるとともに０℃に冷却することが可能である。３ｍＬのトリエチルアミン（ＴＥＡ）および１０ｍＬのクロロホルムを混合物に滴下して反応混合物を生成させることが可能である。添加中のピーク温度は約３．９℃であることが可能である。一晩にわたり攪拌し、維持しつつ、反応混合物を放置して室温に暖めることが可能である。反応混合物に２０ｍＬのクロロホルムを添加することが可能であり、水中のＮａＨＣＯ3の飽和溶液の２つの２５ｍＬ部分、水の２つの２５ｍＬ部分および水中の２５ｍＬの飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄して有機相を水相から分離できる多相混合物を生成させることが可能である。有機相を捕集し、乾燥させ、濃縮して濃縮物を生成させることが可能である。濃縮物に２５ｍＬのクロロホルムを添加して希釈液を生成させることが可能である。希釈液に水中のＨＣｌの５％（ｗｔ／ｗｔ）溶液２５ｍＬを添加して酸性化希釈液を与えることが可能である。酸性化希釈液にＮａＯＨの１Ｎ・溶液２５ｍＬを添加して、有機相を水相から分離できる中性多相混合物を生成させることが可能である。有機相を乾燥させるとともに濃縮して、黄色油（収率５９．５％）として観察され得る３．４５グラムの
【０１０８】
【化３０】
2010502783.tif 000038
【０１０９】
製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１１０】
【化３１】
2010502783.tif 000039
【０１１１】
上の機構（２３）に関連して、攪拌機、エタン送出装置および熱電対を備えることができる６０ｍＬ反応器に２３．０グラム（５０．４ミリモル）の１，１，１，２，４，４，７，７，７−ノナフルオロ−２−（トリフルオロメチル）−６−ヨードヘプタン（例えば、国際公開特許出願参照）および０．９５グラム（２．５ミリモル）のジ−（ｔ−ブチルシクロヘキシル）ペルオキシジカルバメート（アクゾノーベル（Ａｋｚｏ  Ｎｏｂｅｌ）−パーカドックス（Ｐｅｒｋａｄｏｘ）１６Ｓ）を入れて、混合物を生成させることが可能である。反応器を密封するとともに攪拌しつつ約５０℃に加熱することが可能である。反応器にエチレンを連続方式で添加して、約２６０ｐｓｉｇの反応器圧力を与えるとともに維持して反応混合物を生成させることが可能である。約２時間後、エチレンの供給および加熱を止め、反応を約１０℃に冷却し、攪拌を止めるとともに反応器をベントし、開放することが可能である。反応混合物に１．０グラムのパーカドックス（Ｐｅｒｋａｄｏｘ）１６Ｓを添加し、加熱を３時間にわたり続けることが可能である。反応混合物に０．９グラムのパーカドックス（Ｐｅｒｋａｄｏｘ）１６Ｓを添加し、反応器を約５０℃に加熱し、エチレンで約２６０ｐｓｉｇに加圧するとともに約５時間にわたり維持することが可能である。反応混合物に追加のパーカドックス（Ｐｅｒｋａｄｏｘ）１６Ｓを添加し、上の反応条件を確立するとともに一晩にわたり維持することが可能である。反応混合物を捕集するとともにクーゲルロール蒸留装置上に置いて２６．０５グラムの１，１，１，２，４，４−ヘキサフルオロ−２，６−ビス（トリフルオロメチル）−８−ヨードオクタン製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１１２】
【化３２】
2010502783.tif 000040
【０１１３】
上の機構（２４）に従って、攪拌機、熱電対、還流コンデンサおよび添加漏斗を備えることができる密封可能なチューブに６．０グラム（１１．５ミリモル）の
【０１１４】
【化３３】
2010502783.tif 000041
【０１１５】
（例えば、国際公開特許出願参照）および３０ｍＬのメチル−ｔ−ブチルエーテル（ｔＢｕＯＭｅ）中の１．２グラム（２３ミリモル）のクロロメタン（ＣＨ3Ｃｌ）を入れて、混合物を生成させるとともに長い時間にわたり約５５℃に加熱することが可能である。厚い層がチューブの底に沈殿したことを観察することが可能であり、よって攪拌を制限する。チューブを冷却し、ベントするとともに加熱して均質性を回復させることが可能である。攪拌棒を異なるタイプと取り替えることが可能であり、内容物を冷却し、追加の２．９グラムのＣＨ3Ｃｌを投入した。一旦密封すると、加熱を再開することが可能である。厚い層が再び沈殿したことを観察することが可能である。チューブを超音波処理して均質化するとともに一晩にわたり５５℃で攪拌することが可能である。チューブを約０℃より下に冷却するとともにベントすることが可能である。ここで、液相を透明オレンジ色タールから分離できる多相混合物としてチューブの内容物を観察することが可能である。液相を廃棄することが可能であり、エーテルを添加し、内容物を加熱するとともに超音波処理して、溶解させることが可能である。内容物を室温に冷却し、再生成（沈殿した）したことを観察され得るタールからエーテルをデカントすることが可能である。タールをジクロロメタンに溶解させ、移送するとともに濃縮して、オレンジ色半固体として観察され得る５．４１グラム（収率９０．０％）の
【０１１６】
【化３４】
2010502783.tif 000042
【０１１７】
製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１１８】
【化３５】
2010502783.tif 000043
【０１１９】
上の機構（２５）に関連して、攪拌機、熱電対およびエチレン添加装置を備えることができる反応器内で２３．０グラム（５０．４ミリモル）の１，１，１，２，６，６−ヘキサフルオロ−２，４−ビス（トリフルオロメチル）−６−ヨードヘキサン（例えば、国際公開特許出願参照）および０．９５グラム（２．５ミリモル）のジ−（ｔ−ブチルシクロヘキシル）ペルオキシジカルバメート（アクゾノーベル（Ａｋｚｏ  Ｎｏｂｅｌ）−パーカドックス（Ｐｅｒｋａｄｏｘ）１６Ｓ）を添加して、混合物を生成させることが可能である。攪拌しつつ反応器を密封するとともに５０℃に加熱することが可能であり、エチレンで約２６０ｐｓｉｇ（反応条件）に連続的に加圧して反応混合物を生成させることが可能である。約２時間後、エチレンの供給および加熱を止め、反応を約１０℃に冷却し、攪拌を止めるとともに反応器をベントし開放することが可能である。反応混合物に１．０グラムのパーカドックス（Ｐｅｒｋａｄｏｘ）１６Ｓを添加し、反応条件を回復するとともに週末にわたって維持することが可能である。反応混合物に０．９グラムのパーカドックス（Ｐｅｒｋａｄｏｘ）１６Ｓを添加し、反応条件を回復するとともに約５時間〜約２４時間にわたり維持することが可能である。ここで追加のパーカドックス（Ｐｅｒｋａｄｏｘ）１６Ｓを添加することが可能である。反応混合物を捕集するとともにクーゲルロール蒸留装置上に置いて２６．０５グラムの１，１，１，２，６，６−ヘキサフルオロ−２，４−ビス（トリフルオロメチル）−８−ヨードオクタン製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１２０】
【化３６】
2010502783.tif 000044
【０１２１】
上の機構（２６）を参照すると、攪拌機および熱電対を備えることができる密封可能なチューブに７．１グラム（１３．６ミリモル）の３，３，７，８，８，８−ヘキサフルオロ−５，７−ビス（トリフルオロメチル）オクタン−１−スルホン酸（３−ジメチルアミノプロピル）アミド（例えば、国際公開特許出願参照）および１．４グラム（２７．２ミリモル）のクロロメタンおよび３０ｍＬのメチル−ｔ−ブチルエーテルを入れて、混合物を生成させることが可能である。混合物を５５℃に加熱するとともに長い時間にわたり維持することが可能である。厚い層がチューブの底に沈殿したことを観察することが可能であり、よって攪拌を制限する。チューブを冷却し、ベントするとともに加熱して、均質性を回復することが可能である。攪拌機を異なるタイプに取り替え、内容物を冷却するとともに追加の３．１グラムのＣＨ3Ｃｌを投入することが可能である。チューブを密封するとともに加熱を再開することが可能である。層が再び沈殿したことを観察することが可能である。チューブを超音波処理して均質化するとともに一晩にわたり５５℃で攪拌して、液相をタール相から分離できる多相混合物を生成させることが可能である。チューブを約０℃より下に冷却し、ベントするとともに液体をタールからデカントすることが可能である。タールにエーテルを添加し、内容物を加熱するとともに超音波処理して、溶解させることが可能である。混合物を室温に冷却するとともに、再生成したことが観察され得るタールから液体をデカントすることが可能である。タールをジクロロメタンに溶解させ、移送するとともに濃縮して、オレンジ色半固体として観察され得る７．０グラム（収率９０．０％）の３，３，７，８，８，８−ヘキサフルオロ−５，７−ビス（トリフルオロメチル）オクタン−１−スルホン酸（３−トリメチルアミノプロピル）アミドクロリド製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１２２】
【化３７】
2010502783.tif 000045
【０１２３】
上の機構（２７）によると、攪拌機、熱電対および還流コンデンサを備えることができるフラスコに２０グラム（２７ミリモル）の１，１，１，２，４，４，６，６−オクタフルオロ−２，８，１０，１２−テトラキス（トリフルオロメチル）−１４−ヨードテトラデカン（例えば、国際公開特許出願参照）、２０ｍＬの無水エタノール、３．９グラム（４０．５ミリモル）のチオシアン酸カリウム（ＫＳＣＮ）および０．５ｍＬの氷酢酸（ＨＯＡｃ）を入れて、混合物を生成させることが可能である。混合物を加熱して還流（８４．７℃）させるとともに一晩にわたり攪拌を維持することが可能である。混合物を真空で濃縮して、濃い黄色スラリーとして観察され得る物質を与えることが可能である。スラリーを３００ｍＬのジエチルエーテルで抽出し、２回デカントするとともに濾過して、湿りケーキと濾液を与えることが可能である。湿りケーキをジエチルエーテルの３つの１００ｍＬ部分で洗浄するとともに濾液を組み合わせることが可能である。組み合わせた濾液を真空で濃縮して、淡黄色油として観察され得る１７．１２グラム（収率９４．６％）の１，１，１，２，４，４，６，６−オクタフルオロ−２，８，１０，１２−テトラキス（トリフルオロメチル）−１４−チオシアナトテトラデカン製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１２４】
【化３８】
2010502783.tif 000046
【０１２５】
上の機構（２８）を参照すると、攪拌機、熱電対、還流コンデンサおよび分散チューブを備えることができるフラスコに１７．１グラム（２５．５ミリモル）の１，１，１，２，４，４，６，６−オクタフルオロ−２，８，１０，１２−テトラキス（トリフルオロメチル）−１４−チオシアナトテトラデカン（上の機構（２３）参照）および３０ｍＬのＨＯＡｃの黄色溶液を入れて、混合物を生成させることが可能である。混合物を約６０℃に加熱するとともに塩素ガス（Ｃｌ2）により一晩にわたり分散チューブを経由して散布することが可能である。塩素の流れが一晩停止したことを観察することが可能であり、反応材料をトラップに後退させる。白色液体として観察され得る混合物の一部はフラスコ内に残ることが可能であり、熱電対になお接触していることが可能である。塩素化をおよそ二晩にわたり続けてスラリーとして観察され得る物質を与えることが可能である。スラリーを約１０℃に冷却することが可能であり、約４０ｍｌの水を滴下して反応混合物を生成させることが可能である。反応混合物を室温に暖めるとともに約２００ｍｌのクロロホルム（ＣＨＣｌ3）および約１００ｍｌの水で希釈して、有機相を水相から分離できる多相混合物を生成させることが可能である。水相を２００ｍｌのＣＨＣｌ3で抽出するとともに有機相を組み合わせることが可能である。組み合わされた抽出物を水の３つの３００ｍＬ部分で洗浄するとともに有機相を捕集することが可能である。有機相を３００ｍｌの塩水で洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥させ、濾過するとともに真空で濃縮して、濁った無色油として観察され得る１６．５２グラム（収率９１．０％）の９，９，１１，１１，１３，１４，１４，１４−オクタフルオロ−３，５，７，１３−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラデカン−１−スルホニルクロリドを与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１２６】
【化３９】
2010502783.tif 000047
【０１２７】
上の機構（２９）に関連して、攪拌機、熱電対、還流コンデンサ、添加漏斗およびドライアイス／アセトン浴を備えることができるフラスコに１６．５グラム（２３．１ミリモル）の９，９，１１，１１，１３，１４，１４，１４−オクタフルオロ−３，５，７，１３−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラデカン−１−スルホニルクロリド（上の機構（２４）参照）および５０ｍＬのＣＨＣｌ3を入れて、混合物を生成させることが可能である。添加漏斗に６．６０グラム（６４．９ミリモル）の３−ジメチルアミノプロピルアミンおよび５０ｍｌのＣＨＣｌ3を添加して、追加の混合物を生成させることが可能である。温度を約０℃〜−５℃の間に維持しつつ、混合物に追加混合物を３０分間にわたり滴下して、反応混合物を生成させることが可能である。反応混合物を放置して室温に暖めるとともに一晩攪拌することが可能である。反応混合物を水の１つの２００ｍｌ部分、炭酸水素塩の飽和溶液の２つの２００ｍｌ部分および塩水の１つの２００ｍｌ部分で洗浄することが可能である。ここで、有機相を水相から分離できる多相混合物を生成させるように各工程を観察することが可能である。有機相を捕集し、Ｎａ2ＳＯ4上で乾燥させ、濾過するとともに真空で濃縮して、淡黄色液体として観察され得る３９．３０グラム（収率９５．９％）の
【０１２８】
【化４０】
2010502783.tif 000048
【０１２９】
製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１３０】
【化４１】
2010502783.tif 000049
【０１３１】
上の機構（３０）によると、攪拌機、熱電対、還流コンデンサおよび添加漏斗を備えることができるフラスコに室温で５．８０グラムの
【０１３２】
【化４２】
2010502783.tif 000050
【０１３３】
（上の機構（２６）参照）、１５ｍｌの無水エタノールおよび１．１ｍｌの水を入れて、混合物を生成させることが可能である。混合物に３．５ｍｌの５０％Ｈ2Ｏ2を１分間にわたって滴下して、反応混合物を生成させることが可能である。反応混合物を３５℃に加熱するとともに週末にわたって維持することが可能である。反応混合物を５グラムの脱色炭（中性）で３５℃で１時間にわたり幾つかに分けて処理してスラリーを生成させることが可能である。スラリーを約５０℃に加熱するとともに攪拌しつつ一晩にわたり維持することが可能である。
【０１３４】
スラリーのサンプルを濾過するとともに濾液の過酸化物の存在を陰性と試験することが可能である。セライトを通してスラリーの残りを濾過し、濾液を与えることが可能である。濾液を真空で濃縮して、オフホワイトのもろい固体として観察され得る
【０１３５】
【化４３】
2010502783.tif 000051
【０１３６】
製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１３７】
【化４４】
2010502783.tif 000052
【０１３８】
上の機構（３１）に従って、攪拌機を備えることができる密封可能なチューブに５．５０グラム（７．１ミリモル）の
【０１３９】
【化４５】
2010502783.tif 000053
【０１４０】
（例えば、上の機構（２６）参照）、２０ｍＬのメチル−ｔ−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）中の２．２グラムのクロロメタンを入れて、混合物を形成させることが可能であり、長い時間にわたり約５５℃に加熱することが可能である。攪拌を停止し、混合物を約０℃より低く冷却するとともにチューブをベントすることが可能である。混合物を真空で濃縮して、白色蝋状固体として観察され得る
【０１４１】
【化４６】
2010502783.tif 000054
【０１４２】
製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１４３】
【化４７】
2010502783.tif 000055
【０１４４】
上の機構（３２）によると、攪拌機、熱電対、還流コンデンサおよび添加漏斗を備えることができるフラスコに５．５０グラム（７．１ミリモル）の
【０１４５】
【化４８】
2010502783.tif 000056
【０１４６】
（上の機構（２６）参照）、２０ｍＬの無水エタノールおよび０．９０グラム（７．１ミリモル）のクロロ酢酸ナトリウムを入れて、混合物を生成させることが可能である。混合物を加熱して還流（約７９℃）させるとともに約６．５日にわたり攪拌することが可能である。反応混合物を薄い白色スラリーとして観察することが可能であり、濾過して濾液を与えることが可能である。濾液を真空で濃縮し、高真空下で４５℃で乾燥させて、淡黄色のもろい固体として観察され得る１１．０３グラムの
【０１４７】
【化４９】
2010502783.tif 000057
【０１４８】
製品を与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０１４９】
別の実施形態によると、メルカプタンＲF−中間体も米国特許公報（特許文献６）に記載されたようにヨウ素ＲF−中間体をチオウレアと反応させて、イソチオウロニウム塩を製造し、イソチオウロニウム塩を水酸化ナトリウムで処理して、メルカプタンＲF−中間体＋ヨウ化ナトリウムを与えることにより製造してよい。この特許は参照により本明細書に援用する。
【０１５０】
開示の例示的な態様において、メルカプタンＲF−中間体は、米国特許公報（特許文献７）に一般に記載されているように、ＡＰＭＳ２４０３としてルブリゾール（Ｌｕｂｒｉｚｏｌ）から入手できる基２−アクリルアミド−２−メチル−１−プロパンスルホン酸などのＱS部分に結合されていてもよい。この特許は参照により本明細書に援用する。
【０１５１】
ＲF−界面活性剤のアミンオキシドは、米国特許公報（特許文献８）に一般に記載されたプロセスを含むプロセスにより製造することが可能である。この特許は参照により本明細書に援用する。従って、スルホアミドアミンをエタノールおよび水および７０％（ｗｔ／ｗｔ）過酸化水素と組み合わせることが可能であり、少なくとも３５℃に２４時間にわたり加熱することが可能である。活性炭を添加するとともに混合物を約２時間にわたり還流させることが可能である。反応混合物を濾過するとともに濾液を蒸発乾固させて、ＲF−界面活性剤のアミンオキシドを提供することが可能である。
【０１５２】
開示の別の実施形態によると、少なくとも２つの部分を有するシステムの一部分の表面張力を変えるために使用できるプロセスが提供される。システムは、液／固システム、液／気システム、気／固システム、および／または液／液システムを含むことが可能である。例示的な実施形態において、液／液システムは、水を含む一部分と水と比べたときに比較的疎水性である液体を含むもう１つの部分を有することが可能である。別の例によると、液／液システムは、水と比べたときに比較的疎水性である、および／またはシステムのもう１つの部分と比べたときに比較的疎水性である１つの部分を含有することが可能である。ＲF−界面活性剤は、例えば、システムにＲF−界面活性剤を添加することによりシステムの一部の表面張力を変えるために用いることが可能である。
【０１５３】
ＲF−界面活性剤は、比較的純粋な溶液として、または他の成分との混合物として用いてもよい。例えばあくまで例として、ＲF−界面活性剤をシステムに添加することが可能であり、システムの表面張力をウィルヘルミー板法によって、および／またはクルス張力計法を用いて決定することが可能である。
【０１５４】
別の例として、種々の濃度での
【０１５５】
【化５０】
2010502783.tif 000058
【０１５６】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃１において示される通りである。
【０１５７】
【表７】
2010502783.tif 000059
【０１５８】
別の例として、種々の濃度での
【０１５９】
【化５１】
2010502783.tif 000060
【０１６０】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃２において示される通りである。
【０１６１】
【表８】
2010502783.tif 000061
【０１６２】
別の例として、種々の濃度での
【０１６３】
【化５２】
2010502783.tif 000062
【０１６４】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃３において示される通りである。
【０１６５】
【表９】
2010502783.tif 000063
【０１６６】
別の例として、種々の濃度での
【０１６７】
【化５３】
2010502783.tif 000064
【０１６８】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃４において示される通りである。
【０１６９】
【表１０】
2010502783.tif 000065
【０１７０】
別の例として、種々の濃度での
【０１７１】
【化５４】
2010502783.tif 000066
【０１７２】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃５において示される通りである。
【０１７３】
【表１１】
2010502783.tif 000067
【０１７４】
別の例として、種々の濃度での
【０１７５】
【化５５】
2010502783.tif 000068
【０１７６】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃６において示される通りである。
【０１７７】
【表１２】
2010502783.tif 000069
【０１７８】
別の例として、種々の濃度での
【０１７９】
【化５６】
2010502783.tif 000070
【０１８０】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃７において示される通りである。
【０１８１】
【表１３】
2010502783.tif 000071
【０１８２】
別の例として、種々の濃度での
【０１８３】
【化５７】
2010502783.tif 000072
【０１８４】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃８において示される通りである。
【０１８５】
【表１４】
2010502783.tif 000073
【０１８６】
別の例として、種々の濃度での
【０１８７】
【化５８】
2010502783.tif 000074
【０１８８】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃９において示される通りである。
【０１８９】
【表１５】
2010502783.tif 000075
【０１９０】
別の例として、種々の濃度での
【０１９１】
【化５９】
2010502783.tif 000076
【０１９２】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃１０において示される通りである。
【０１９３】
【表１６】
2010502783.tif 000077
【０１９４】
別の例として、種々の濃度での
【０１９５】
【化６０】
2010502783.tif 000078
【０１９６】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃１１において示される通りである。
【０１９７】
【表１７】
2010502783.tif 000079
【０１９８】
別の例として、種々の濃度での
【０１９９】
【化６１】
2010502783.tif 000080
【０２００】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃１２において示される通りである。
【０２０１】
【表１８】
2010502783.tif 000081
【０２０２】
別の例として、種々の濃度での
【０２０３】
【化６２】
2010502783.tif 000082
【０２０４】
の表面張力を決定することが可能であり、データは以下でプロット＃１３において示される通りである。
【０２０５】
【表１９】
2010502783.tif 000083
【０２０６】
上述したＲF−界面活性剤は、例えば、洗剤、乳化剤、顔料、接着剤、インキ、湿潤剤、起泡剤および／または脱泡剤に導入してもよい。
【０２０７】
ＲF−界面活性剤をＡＦＦＦ配合物に導入することが可能であり、これらの配合物を消火用泡として用いて、燃焼を防止および／または消火してもよい。ＲF−界面活性剤を含むＡＦＦＦの例示的な用途には、高圧噴霧システムへのＡＦＦＦの添加、燃焼を防止および／または消火するために用いられる噴霧システムが挙げられる。ＡＦＦＦ配合物を例えば基材に提供することが可能である。基材は液体組成物および／または固体組成物を含むことが可能である。ＡＦＦＦ配合物を空気などの気体状雰囲気を含む雰囲気に分散させて、燃焼を防止および／または消火することも可能である。
【０２０８】
こうした配合物は水溶性溶媒などの他の成分を含むことが可能である。これらの溶媒は、ＲF−界面活性剤および他の界面活性剤の可溶化を促進する場合がある。これらの溶媒は、気泡安定剤および／または凍結保護剤としても作用することが可能である。例示的な溶媒には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセロール、エチル「セルソルブ（Ｃｅｌｌｕｓｏｌｖｅ）」（登録商標）、ブチル「カルビトール（Ｃａｒｂｉｔｏｌ）」（登録商標）、「ドワノールＤＰＭ（Ｄｏｗａｎｏｌ  ＤＭＰ）」（登録商標）、「ドワノールＴＰＭ（Ｄｏｗａｎｏｌ  ＴＰＭ）」（登録商標）、「ドワノールＰＴＢ（Ｄｏｗａｎｏｌ  ＰＴＢ）」（登録商標）、プロピレングリコールおよび／またはヘキシレングリコールを挙げることが可能である。高分子安定剤および増粘剤などの追加の成分を配合物に導入して、配合物の水溶液の曝気から生じる気泡の気泡安定特性を高めることが可能である。例示的な高分子安定剤および増粘剤には、部分水解蛋白質、澱粉、ポリビニルアルコールなどのポリビニル樹脂、ポリアクリルアミド、カルボキシビニルポリマー、および／またはポリ（オキシエチレン）グリコールが挙げられる。キサンタンガムなどの多糖樹脂は、例えば、アルコール燃焼、ケトン燃焼および／またはエーテル燃焼などの極性溶媒燃焼を防止または消火する際に用いるための配合物中の気泡安定剤として配合物中に含めることが可能である。配合物は、配合物のｐＨを調節するための緩衝剤、例えば、トリス（２−ヒドロキシエチル）アミンまたは酢酸ナトリウムも含むことが可能であり、トルオールトリアゾールまたは亜硝酸ナトリウムなどの腐食抑制剤を含めてもよい。硫酸マグネシウムなどの水溶性電解質は含めてもよく、そして配合物の膜拡がり特性を改善することが可能である。
【０２０９】
ＲF−界面活性剤は、アルキルスルフェート、アルキルエーテルスルフェート、アルファオレフィンスルホネート、アルキルスルホベタイン、アルキルポリグリセリド、アルキルアミドプロピルベタイン、アルキルイミダゾリンジカルボキシレート、２−アルキルチオプロピオンアミド−２−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩、アルキルイミノジプロピオネート、アルキルスルホネート、エトキシル化アルキルフェノール、ジアルキルスルホスクシネート、および／またはアルキルトリメチルアンモニウムクロリドなどの他の界面活性剤を含む配合物中で有用であることも可能である。
【０２１０】
ＡＦＦＦの変種、耐アルコール性水性膜形成性気泡の頭字語であるＡＲＡＦＦＦは、ＡＦＦＦ気泡を用いるのと大体同じ方式で炭化水素火災を消火するために用いることが可能であり、従来のＡＦＦＦ気泡が消火しないアセトンおよびイソプロパノールなどの水溶性溶媒が関与する火災を消火するためにも用いてよい。
【０２１１】
ＡＲＡＦＦＦ配合物は、従来のＡＦＦＦ配合物と同じ材料＋キサンタンガムなどの多糖、および幾つかの配合物において、高分子気泡安定剤を含有することが可能である。
【０２１２】
高分子気泡安定剤は、デュポン（ＤｕＰｏｎｔ）（登録商標）および「ダイナックス（Ｄｙｎａｘ）」（登録商標）社によって提供されている。デュポン（ＤｕＰｏｎｔ）の例示的な製品である「ホラファック（Ｆｏｒａｆａｃ）」（登録商標）１２６８は水溶液アクリルポリマーである。「ダイナックス（Ｄｙｎａｘ）」の例示的な製品であるＤＸ５０１１（登録商標）はエチレンイミンポリマーである。キサンタンガムは、ケルコＣＰ（Ｋｅｌｃｏ  ＣＰ）（「ケルザン（Ｋｅｌｚａｎ）」）およびローディア・ノースアメリカ（Ｒｈｏｄｉａ  Ｎｏｒｔｈ  Ａｍｅｒｉｃａ）（「ロドポール（Ｒｈｏｄｏｐｏｌ）」）を含む幾つかの供給業者によって提供されている。
【０２１３】
多糖単独は、ＡＲＡＦＦＦ配合物を耐アルコール性にするのに十分であることが可能であるが、必要とされる量は非常に粘性であり得る気泡濃縮物を生成させる。高分子気泡安定剤の使用は、有用な耐アルコール性を与えるのに必要な多糖の量の削減を可能にすることができる。
【０２１４】
多糖溶液上での微生物浸食の可能性のゆえに、ＡＲＡＦＦＦ濃縮物は、ロームアンドハース（Ｒｏｈｍ  ＆  Ｈａａｓ）によって製造された「カトン（Ｋａｔｈｏｎ）」ＣＧＩＣＰなどの有効量の殺虫剤を含有することが可能である。「アクティサイド（Ａｃｔｉｃｉｄｅ）」、「ニパサイド（Ｎｉｐａｃｉｄｅ）」および「ドウィシル（Ｄｏｗｉｃｉｌ）」などの他の多くの殺虫剤も有効であることが可能である。
【０２１５】
幾つかのＡＲＡＦＦＦ配合物は、消火されるべき基材が例えば炭化水素型基材またはアルコール型基材であるかどうかに応じて異なる百分率で配分させるべく設計することが可能である。アルコール型は、ヒドロキシル基を有するいかなる燃料も含むことが可能である。
【０２１６】
ＲF−界面活性剤を用いる例示的なＡＲＡＦＦＦ配合物は、国際公開特許出願に記載された方法により提供および／または配合することが可能である。例えば、上述したＲF基を含むＲF−安定剤などの気泡安定剤を調製することが可能である。ＲF−安定剤はＲF−ＱFS組成物を含むことが可能である。実例気泡安定剤組成物はＲF（ＲT）nＱFSを含むことが可能である。ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含むことが可能である。ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことが可能であり、ここでｎは少なくとも１である。ＱFS基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子であることが可能である。ここで、ＲF基とＲT基の少なくとも一部はＱFS基に比較して疎水性であり、ＱFS基の少なくとも一部はＲF基とＲT基に比較して親水性である。
【０２１７】
例示的な実施形態によると、ＲF部分は上述したようにＲF（ＲT）n部分を少なくとも部分的に含むことが可能である。界面活性剤のＲF（ＲT）n部分は上述したＲS部分も含むことが可能である。例示的な実施によると、ＲS部分を導入して、界面活性剤のＲF部分および／またはＲF（ＲT）n部分とＱFS部分との間に追加の炭素を提供することが可能である。例示的なＲS部分は−ＣＨ2−ＣＨ2−ＱFSを含み、そしてＲFより大きい親水性を有する部分を含むことが可能である。例示的なＱFS部分は本明細書に記載されたＱS部分、およびポリアルコキシル化アミンを有するＱS部分を含む。例示的なＲF−気泡安定剤には、以下の表７の気泡安定剤が挙げられるが、それらに限定されない。
【０２１８】
【表２０】
2010502783.tif 000084
【０２１９】
ＲF部分を導入しているＲF−ＱMCなどのＲF−金属錯体も提供される。ＲF部分は酸ハロゲン化物として、または例えば酸フッ化物に限定されないが、酸フッ化物を含む酸ハロゲン化物を有する例えばカルボン酸として導入することが可能である。例示的な実施形態によると、ＲF部分は上述したＲF（ＲT）n部分を少なくとも部分的に含むことが可能である。錯体のＲF（ＲT）n部分は上述したＲS部分も含むことが可能である。例示的な実施によると、ＲS部分を導入して、錯体のＲF部分および／またはＲF（ＲT）n部分とＱMC部分との間に追加の炭素を提供することが可能である。例示的なＲS部分は−ＣＨ2−ＣＨ2−を含む。ＲF−金属錯体はＲF−中間体を含むことが可能であり、従って、ＱgはＱMCと互換可能である。ＱMCは、例えば、錯化された金属に配位される金属錯体の配位子の部分を含むことが可能である。ＲF（ＲT）nＱMCを含むことが可能である金属錯体が提供される。ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含むことが可能である。ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことが可能であり、ここでｎは少なくとも１である。ＱMC基は１つまたは複数の金属イオンを錯化するように構成された帯電基を含むことが可能である。例示的なＲF−金属錯体には、以下の表８の金属錯体が挙げられるが、それらに限定されない。
【０２２０】
【表２１】
2010502783.tif 000085
【０２２１】
ＲF部分を導入しているＲF−ＱMCなどのＲF−金属錯体も提供される。ＲF部分は酸ハロゲン化物として、または例えば酸フッ化物に限定されないが、酸フッ化物を含む酸ハロゲン化物を有する例えばカルボン酸として導入することが可能である。例示的な実施形態によると、ＲF部分は上述したＲF（ＲT）n部分を少なくとも部分的に含むことが可能である。錯体のＲF（ＲT）n部分は上述したＲS部分も含むことが可能である。例示的な実施によると、ＲS部分を導入して、錯体のＲF部分および／またはＲF（ＲT）n部分とＱMC部分との間に追加の炭素を提供することが可能である。例示的なＲS部分は−ＣＨ2−ＣＨ2−を含む。ＲF−金属錯体はＲF−中間体を含むことが可能であり、従って、ＱgはＱMCと互換可能である。ＱMCは、例えば、錯化された金属に配位される金属錯体の配位子の部分を含むことが可能である。例示的なＲF−金属錯体は、以下の例示的な合成工程を経由して調製することが可能である。
【０２２２】
【化６３】
2010502783.tif 000086
【０２２３】
酸フッ化物ＲF−中間体をグリシン（２−アミノ酢酸）などのアミノ酸と反応させて、アミド−カルボン酸を生成させることが可能である。アミド−カルボン酸をメタノールおよび／またはイソプロパノールなどのアルコール中で塩化第二クロムと反応させて、ＲFクロム錯体などの例示的なＲF−金属錯体を生成させることが可能である。ＲF−金属錯体の調製の際に用いるための例示的な酸ＲF−中間体は、エチレンカルボン酸ＲF−中間体および／またはエチレンカルボン酸ＲF−中間体とカルボン酸ＲF−中間体の混合物を含むことが可能である。例示的な調製は、米国特許公報（特許文献９）、米国特許公報（特許文献１０）、米国特許公報（特許文献１１）、米国特許公報（特許文献１２）および米国特許公報（特許文献１３）により行うことが可能である。これらの特許は参照により本明細書に援用する。ＲF−金属錯体は、ＲF部分を有する配位子と錯体の金属に附随したＱMC部分を含むことが可能である。例示的な実施形態において、ＱMC部分はＲF部分より大きい親和性を金属錯体のために有することが可能である。紙、皮革、織物、糸、布地、ガラス、セラミックスおよび／または金属などの基材を処理するためにＲF−金属錯体を用いることが可能である。場合によって、錯体で基材を処理すると、水および／または油に対して基材をより浸透されにくくすることが可能である。上述したクロム錯体溶液は、参照により本明細書に援用する、米国特許公報（特許文献９）および米国特許公報（特許文献１４）に記載された方法の使用によって皮革に限定されないが、皮革を含む様々な材料の表面処理剤として被着させることが可能である。
【０２２４】
本発明の実施形態は、例示的な実施形態において基材を処理するために用いられ得る、および／またはポリマーの調製中に分散剤として用いられ得るホスフェートエステルへのＲF部分の導入も提供する。例示的なＲF−ホスフェートエステルはＲF−ＱPEを含み、ここでＱPE部分はＲF−組成物のホスフェート部分である。例示的な実施形態によると、ＲF部分は上述したようにＲF（ＲT）n部分を少なくとも部分的に含むことが可能である。エステルのＲF（ＲT）n部分は、上述したＲS部分も含むことが可能である。例示的な実施によると、ＲS部分を導入して、エステルのＲF部分および／またはＲF（ＲT）n部分とＱPE部分との間に追加の炭素を提供することが可能である。例示的なＲS部分は−ＣＨ2ＣＨ2−を含む。ＲF（ＲT）nＱPEを含むことが可能であるホスフェートエステルが提供される。ＲF基は少なくとも２個の−ＣＦ3基を含むことが可能である。ＲT基は少なくとも２個の炭素を有する基を含むことが可能であり、ここで、ｎは少なくとも１である。ＱPE基はホスフェートエステルの一部であることが可能である。ＲF−ホスフェートエステルには、以下の表９のホスフェートエステルが挙げられるが、それらに限定されない。
【０２２５】
【表２２】
2010502783.tif 000087
【０２２６】
ＲF−ホスフェートエステルはポリマーの調製に際して分散剤として用いることが可能であるか、または例えば、パジング、浸漬、含浸、噴霧などの普通の手段によって水浴内で基材材料を処理するために希釈して用いることが可能である。これらの組成物を導入するか、または用いて、編織布、編織用糸、皮革、紙、プラスチック、シート、木材、セラミッククレーのような材料、および服飾品、壁紙、紙袋、ボール箱、多孔質陶器などの製品を処理することが可能である。米国特許公報（特許文献１５）には、ホスフェートエステルを用いて材料を処理する方法が記載されている。この特許は参照により本明細書に援用する。ＲF−リン酸エステルを用いて、食品包装製品を含む包装製品などの紙製品を含む木材パルプ製品などの基材を処理することが可能である。
【０２２７】
【化６４】
2010502783.tif 000088
【０２２８】
上の機構（３４）によると、ベンゼン、ピリジンおよびオキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3）を組み合わせて、混合物Ａを生成させることが可能である。混合物Ａを約７℃に、約０℃〜約１５℃、および／または約２℃に冷却することが可能である。混合物ＡにＲF（ＲT）n−ＯＨ、ピリジンおよびベンゼンの混合物を添加して反応混合物を生成させることが可能である。反応混合物を放置して室温に暖め、加熱して還流させ、約１時間にわたり維持して、モノ（ｎ＝２）、ビス（ｎ＝１）およびトリス（ｎ＝０）ＲF−ホスフェートエステルを含むことができる製品混合物を与えることが可能である。製品混合物に水を添加して、上の酸塩化物の酸エステルを含むことができる製品混合物を提供することが可能である。
【０２２９】
一実施形態は、ＲF−ＱHを含むＲF−グリコールなどのグリコールに導入されたＲF部分を含み、ＱHは、共役後のグリコールのエーテル部分またはエーテルとして共役前のヒドロキシル官能基を表す。例示的な実施形態によると、ＲF部分は、上述したＲF（ＲT）n部分を少なくとも部分的に含むことが可能である。グリコールのＲF（ＲT）n部分は、上述したＲS部分も含むことが可能である。例示的な実施によると、ＲS部分を導入して、グリコールのＲF部分および／またはＲF（ＲT）n部分とＱH部分との間に追加の炭素を提供することが可能である。例示的なＲS部分は−ＣＨ2−ＣＨ2−を含む。ＲF（ＲT）nＱHを含むことが可能であるグリコールが提供される。ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含むことが可能である。ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことが可能であり、ここで、ｎは少なくとも１である。ＱH基はグリコール鎖主鎖の一部であることが可能である。例示的なＲF−グリコールには、以下の表１０のグリコールが挙げられるが、それらに限定されない。
【０２３０】
【表２３】
2010502783.tif 000089
【０２３１】
例えば、ポリウレタンのエラストマー、フィルムおよび塗料を含むウレタンなどのポリマーにＲF−グリコールを導入することが可能である。ＲF−グリコールをグリコールのリン酸またはホスフェートエステルに転化することも可能である。以下の機構３５を参照すると、ＲF部分をグリコールに導入することが可能である。
【０２３２】
グリコールを調製する方法は、米国特許公報（特許文献１６）、米国特許公報（特許文献１７）、米国特許公報（特許文献１８）、米国特許公報（特許文献１９）および（非特許文献１）に記載されている。これらの刊行物のすべては参照により本明細書に援用する。例えばあくまで例として、ＲF−中間体（ＱＧ＝ＳＨ）をスルフィドジオールまたは２，６−ジオクス−アスピロ（３，３）ヘプタンと反応させて、例示的なＲF−グリコール（ＱH＝Ｈ2ＣＨ2ＣＳＨ2ＣＨ2−）を生成させることが可能である。ＲF−グリコールは、ポリエステル、ポリウレア、ポリカーボネートおよびポリウレタンなどのＲF縮合製品を調製するために直接的にまたは間接的に用いることが可能である。ＲF−グリコールを用いてブロックポリマーにグリコール官能基を導入することが可能である。米国特許公報（特許文献１７）には、本発明のＲF部分から利益を受けることができる幾つかの他のグリコールが開示されている。この特許は参照により本明細書に援用する。
【０２３３】
ＲF−グリコールをリン酸官能基またはホスフェートエステル（示していない）に転化してもよい。米国特許公報（特許文献１８）、米国特許公報（特許文献１９）、米国特許公報（特許文献１６）および米国特許公報（特許文献１７）はすべて、ジオールを調製する方法およびジオールをホスフェートエステルに転化する方法を開示している。これらの特許は参照により本明細書に援用する。例示的な実施において、リン酸の存在下でジオールを反応させることにより、ジオールをリン酸またはホスフェートエステルに転化することが可能である。これらの組成物は、紙のための防油処理および／または防脂処理、ならびに織物繊維のための防汚剤として作用できる化合物に導入することが可能である。
【０２３４】
【化６５】
2010502783.tif 000090
【０２３５】
上の機構（３５）によると、ペンタエチレングリコールと無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を組み合わせて、第１の混合物を生成させることが可能である。混合物をアセトン／氷浴内で約０℃に冷却することが可能である。第１の混合物にＴＨＦ中のナトリウムビス（トリメチルシリル）アミドを添加して、第２の混合物を生成させることが可能である。第２の混合物を約０℃で約１５分間にわたり攪拌することが可能である。第２の混合物にＲF（ＲT）n−Ｘ（式中、Ｘはハロゲンである）およびＴＨＦを滴下して反応混合物を生成させることが可能である。反応混合物を放置して室温に暖め、約２時間にわたり維持することが可能である。反応混合物を約４０℃に加熱するとともに一晩にわたり維持することが可能である。反応混合物を放置して室温に冷却し、ＨＣｌの５％（ｗｔ／ｗｔ）溶液を添加して、有機相を水相から分離できる約７のｐＨを有する多相混合物を生成させることが可能である。有機相を真空で濃縮してＲF−グリコールを与えることが可能である。ＮＭＲおよび／またはクロマトグラフ分析によって製品構造を確認することが可能である。
【０２３６】
本発明の別の実施形態によると、ＲF−ＱMUなどのＲF−モノマー単位を含む、例えば、オリゴマー、ポリマー、コポリマー、アクリル、および／または樹脂を調製することが可能である。モノマー単位部分、ＱMUは、単位の複合体内の単一単位であることが可能であり、モノマー単位は複合体内で反復する必要はない。例示的な実施形態において、モノマー単位は複合体内で単一単位であることが可能であるか、または例えば、ホモポリマーのように互いに連結された多くの同じ単位の１つであってもよい。複合体は、ブロックポリマーおよび／またはポリウレタン樹脂も含むことが可能である。単位のＲFはモノマー単位の側基を含むことが可能である。モノマー単位は、例えば、複合体に恐らく結合されてさえ複合体に関連付けられてよく、ＱMUは、複合体に関連付けられているモノマー単位の部分を含むことが可能である。複合体を基材上に被覆してもよいか、または基材に化学的に結合させてもよい。例えば、ＲF−中間体の調製を基材に提供することが可能であり、木綿のような基材に共通のヒドロキシル基などの基は、複合体の一部を形成するか、または複合体に関連付けられるとき、ＲF−中間体が基材に化学的に結合することを可能にする部位を提供してもよい。例示的な実施形態において、ＱMUは、アクリルのアクリレート官能基を表すことが可能であり、ＲFは、アクリル鎖および／または主鎖からの側基であることが可能である。ＲF（ＲT）nＱMUを含むポリマーが提供される。ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含むことが可能である。ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことが可能であり、ここで、ｎは少なくとも１である。ＱMU基はポリマー鎖主鎖の一部であることが可能である。例示的なＲF−モノマー単位には、以下の表１１のモノマー単位が挙げられるが、それらに限定されない。
【０２３７】
【表２４】
2010502783.tif 000091
【０２３８】
例示的な実施形態において、ＲF−モノマー単位を含有するオリゴマーをＲF−モノマーから調製することが可能である。ＲF−モノマーは上のＲF−中間体を含むことが可能であるが、必ずしも同じＲF−モノマーとは限らない別のモノマーとの共役を見込む官能基を含有してもよい。モノマーはＲF（ＲT）nＱMを含むことが可能である。ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含むことが可能である。ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことが可能であり、ここで、ｎは少なくとも１である。ＱM基は元素の周期律表の少なくとも１個の原子であることが可能である。例示的なＲF−モノマーには、以下の表１２のモノマーが挙げられるが、それらに限定されない。
【０２３９】
【表２５】
2010502783.tif 000092
【０２４０】
以下の機構（３６）を参照すると、多反応シーケンスは、ＲF基を有するＲF−モノマーの調製のために示されている。
【０２４１】
【化６６】
2010502783.tif 000093
【０２４２】
米国特許公報（特許文献２０）、米国特許公報（特許文献２１）、米国特許公報（特許文献２２）、米国特許公報（特許文献６）、米国特許公報（特許文献２３）、米国特許公報（特許文献２４）、米国特許公報（特許文献２５）、米国特許公報（特許文献２６）および米国特許公報（特許文献２７）はすべて、ＲF基から利益を受けることができるアクリルエマルジョンポリマーの使用および調製に関する。これらの特許は参照により本明細書に援用する。チオールＲF−中間体、ヨウ素ＲF−中間体、ヒドロキシルＲF−中間体および／またはアセテートＲF−中間体を上の機構（３５）によりＲF−モノマーに転化させることが可能であり、これらのＲF−モノマーを用いて、ＲF−モノマー単位を含有する組成物を調製することが可能である。
【０２４３】
例えばあくまで例として、ＲF部分が上述した通りであるＲF−Ｗ−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（Ｒ1）＝ＣＨ2として表される米国特許公報（特許文献２３）に記載されたＲF−モノマーにＲF部分を導入することが可能である。Ｗは１〜１５個の炭素を有するアルキレン、３〜１５個の炭素を有するヒドロキシアルキレン、−（ＣnＨ2n）（ＯＣmＨ2m）q−、−ＳＯ2ＮＲ2−（ＣnＨ2n）−または−ＣＯＮＲ2−（ＣnＨ2n）−であることが可能であり、ここで、ｎは１〜１２であり、ｍは２〜４であり、ｑは１〜１０であり、Ｒ1は例えば炭素原子数１〜４のアルキル基であり、ＸはＯ、Ｓおよび／またはＮ（Ｒ2）である。ここで、Ｒ2はＲ1と同様である。
【０２４４】
【化６７】
2010502783.tif 000094
【０２４５】
機構（３７）および国際公開特許出願に記載された手順によると、ＲF−アクリレート（式中、ＲはＣＨ3またはＨであり、Ｘはハロゲンである）を調製することが可能である。国際公開特許出願に記載された一般手順に従って、得られたアクリレートを単独重合する、および／または共重合することが可能である。例えばあくまで例として、例えば、ＲF−モノマー単位を含む複合体を生成させるために溶液の溶媒を蒸発させ、ガラス、ナイロンおよび／または木綿などの基材にこれらの溶液を提供し、ＲF−モノマーが基材を被覆するような複合体の一部になることを可能にすることによって、ＲF−モノマーの溶液を基材に提供するとともに複合化させることができる。
【０２４６】
プローブ液としてジヨードメタンおよび水を用いる標準フォークス法およびプローブ液としてオクタン、デカン、テトラデカンおよびヘキサデカンを用いる表面エネルギー分析のジスマン法を用いて、複合体の表面エネルギーを決定することが可能である。クルス滴形状分析システムを用いて、ジスマンプローブ液およびフォークスプローブの滴の接触角を決定することが可能である。
【０２４７】
ＲF−モノマーを他のモノマーに導入ことが可能であり、その後、紙材料の組織に導入するか、または紙材料を処理するために用いることが可能である。ＲF−モノマーを用いてポリマー溶液を調製することも可能である。高分子溶液を％水溶液または％非水溶液に希釈することが可能であり、その後、紙板などの処理されるべき基材に被着させることが可能である。
【０２４８】
米国特許公報（特許文献２４）に記載されたように、ジアルキルアミノアルキルアクリレートまたはメタクリレートあるいはアクリルアミドまたはメタクリルアミドモノマー、およびそのアミン塩形態、第四アンモニウム形態またはアミンオキシド形態などのコモノマーと共にコポリマーにもＲF−モノマーを導入することが可能である。この特許は参照により本明細書に援用する。ＲF−モノマーの一般式はＲFｑＯ2ＣＣ（Ｒ）＝ＣＨ2であることが可能であり、ここで、ＲはＨまたはＣＨ3であり、ｑは炭素原子数１〜１５のアルキレン、炭素原子数３〜１５のヒドロキシアルキレンあるいはＣnＨ2n（ＯＣqＨ2q）m−、−ＳＯ2ＮＲ1（ＣnＨ2n）−または−ＣＯＮＲ1（ＣnＨ2n）−であり、ｎは１〜１５であり、ｑは２〜４であり、ｍは１〜１５である。アクリレートおよびＲF−モノマーと共にコポリマーを生成させるために用いられるモノマーには、アミン官能基を有するモノマーが挙げられる。これらのコポリマーを溶液で希釈し、紙などの処理されるべき基材上に被着させるか、または基材に直接導入することが可能である。
【０２４９】
米国特許公報（特許文献２５）に記載されたアクリレートポリマーと一致するアクリレートポリマーまたは他のアクリレートモノマーを生成させるためにＲF−モノマーを用いることも可能である。この特許は参照により本明細書に援用する。記載されたように、ＲF−モノマーを紙製品に導入することが可能であるか、またはＲF−モノマーを紙製品上に被着させることが可能である。
【０２５０】
例えば、ＲF−モノマー、アクリレートおよび／またはアクリルを仕上カーペットに被着させることが可能であるか、または繊維をカーペットに織る前に仕上カーペット繊維に導入することが可能である。ＲF−モノマーおよび例えば、ラテックス、水および／または非再湿り表面などの他の添加剤を含有する浴にカーペットを通すパジングとして知られている標準織物仕上プロセスによってＲF−モノマーをカーペットに被着させることが可能である。その後、幅出機内で乾燥させる前に含浸量の比率を制御するためにカーペットをニップロールに通すことが可能である。
【０２５１】
例えば、イソシアネート官能基、ＲF−イソシアネートを有するＲF−中間体と繊維を反応させることによりＲF−モノマーを繊維にも導入してよい。
【０２５２】
方解石粒子状材料および／またはケイ質粒子状材料を処理するために用いられる材料にＲF部分を導入することも可能である。例えば、米国特許公報（特許文献２８）に記載されたように、コポリマーがこれらの材料を処理するための配合物の一部であるか、またはこれらの材料を処理するために単独で用いられる場合、ＲF−モノマーをコポリマーに導入することが可能である。この特許は参照により本明細書に援用する。ＲF−モノマーは、一般式ＲF−Ｑ−Ａ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｒ）＝ＣＨ2（式中、ＲFは上で記載されており、ＲはＨまたはＣＨ3であり、ＡはＯ、ＳまたはＮ（Ｒ1）であり、ここで、Ｒ1はＨまたは炭素原子数１〜４のアルキルであり、Ｑは炭素原子数１〜約１５のアルキレン、炭素原子数３〜約１５のヒドロキシアルキレン、−ＣnＨ2n（ＯＣqＨ2q）m−、−ＳＯ2−ＮＲ1（ＣnＨ2n）−または−ＣＯＮＲ1（ＣnＨ2n）−であり、ここで、Ｒ1はＨまたは炭素原子数１〜４のアルキルであり、ｎは１〜１５であり、ｑは２〜４であり、ｍは１〜１５である）で表すことが可能である。
【０２５３】
ＲF部分を含むＲF−組成物および混合物を用いて、煉瓦、石、木材、コンクリート、セラミック、タイル、ガラス、塗壁材料、石膏、ドライウォール、パーティクルボードおよび再生紙などの建築材料のような固い表面を含む基材を処理することが可能である。これらの組成物および混合物を単独で、または非イオン界面活性剤などの浸透補助剤と組み合わせて用いることが可能である。これらの組成物を既知の方法、例えば、浸漬、含浸、出現（ｅｍｅｒｓｉｏｎ）、ブラシ掛け、ローリングまたは噴霧によって方解石建築構造材料および／またはケイ質建築構造材料の表面に被着させることが可能である。組成物を保護されるべき表面に噴霧によって被着させることが可能である。適する噴霧装置は市販されている。圧縮空気噴霧器による噴霧は、特定の基材への被着の例示的な方法である。米国特許公報（特許文献２９）および米国特許公報（特許文献３０）にも、ポリマー溶液を被着させるとともに使用する方法が記載されている。これらの特許は参照により本明細書に援用する。
【０２５４】
ＲFを有する成分を有する溶液を製造する例示的なプロセスにおいて、メチルエポキシド官能基を有するＲF−中間体をモノカルボン酸のアルケン酸により縮合させて、不飽和ＲF−エステル（示していない）を調製してもよい。これらの種類の不飽和エステルを製造する例示的な方法は米国特許公報（特許文献３１）に記載されている。この特許は参照により本明細書に援用する。追加のエステルを米国特許公報（特許文献３２）により調製してもよい。この特許は参照により本明細書に援用する。米国特許公報（特許文献３３）に記載されたように、これらの溶液の成分はジメチルアミノエチルメタクリレートも含むことが可能であり、これらの成分を有機溶媒および無機溶媒中で被着させることが可能である。この特許は参照により本明細書に援用する。米国特許公報（特許文献３４）によって記載されたように、ＲF−モノマーを他のモノマーと、またはアミドモノマーおよび硫黄モノマーと溶液中で組み合わせてコポリマーを生成させることも可能である。この特許は参照により本明細書に援用する。
【０２５５】
例示的な反応機構（示していない）として米国特許公報（特許文献３５）を用いて、アミン官能基を有するＲF−中間体をテトラクロロ無水フタル酸と反応させることも可能である。米国特許公報（特許文献３５）は参照により本明細書に援用する。反応生成物をカーペットクリーニング溶液と混合して、防汚性を提供することが可能である。
【０２５６】
例示的な実施形態において、ＲFＱUを含有するウレタン（ＲF−ウレタン）をＲF−中間体から調製することが可能である。ＲF−ウレタンは上のＲF−中間体を含むことが可能であるが、必ずしも同じＲFＱU化合物とは限らない別のＲFＱU化合物との共役を見込む官能基を含有してもよい。例示的な実施形態によると、ウレタンのＲF部分は、上述したようにＲF（ＲT）n部分を少なくとも部分的に含むことが可能である。ウレタンのＲF（ＲT）n部分は上述したＲS部分も含むことが可能である。例示的な実施によると、ＲS部分を導入して、ウレタンのＲF部分および／またはＲF（ＲT）n部分とＱU部分との間に追加の炭素を提供することが可能である。例示的なＲS部分は−ＣＨ2ＣＨ2−を含む。ＲF（ＲT）nＱU部分を含むウレタンが提供される。ＲF基は少なくとも１個の−ＣＦ3基を含むことが可能である。ＲT基は−ＣＦ2ＣＨ2ＣＨ（ＣＦ3）−を含むことが可能であり、ここで、ｎは少なくとも１である。ＱU基は元素の周期律表の少なくとも１つの原子であることが可能である。ＲF−ＱUなどの例示的なＲF−ウレタンには、以下の表１３に記載されたウレタンが挙げられるが、それらに限定されない。
【０２５７】
【表２６】
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【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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2010502783.tif 000099
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