(57)【要約】【課題】【解決手段】本発明はカラーフィルタの製造方法およびそれにより製造されたカラーフィルタに関する。より詳しくは、ａ）基板上に遮光部材料をコーティングするステップと；ｂ）前記遮光部材料をプリベークして遮光層を形成するステッと；ｃ）前記遮光層を選択的に露光および現像して遮光部パターンを形成するステップと；ｄ）前記遮光部パターンを事前硬化するステップと；ｅ）前記遮光部パターンが形成された基板上に溶液をコーティングするステップと；ｆ）前記遮光部および溶液をポストベークするステップ；およびｇ）前記遮光部パターンによって区切られた画素部にインクを充填するステップを含むカラーフィルタの製造方法およびそれにより製造されたカラーフィルタに関する。【選択図】図１
2010517110.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）基板上に遮光部材料をコーティングするステップと；
ｂ）前記遮光部材料をプリベークして遮光層を形成するステップと；
ｃ）前記遮光層を選択的に露光および現像して遮光部パターンを形成するステップと；
ｄ）前記遮光部パターンを事前硬化するステップと；
ｅ）前記遮光部パターンが形成された基板上に溶液をコーティングするステップと；
ｆ）前記遮光部および溶液をポストベークするステップ；および
ｇ）前記遮光部パターンによって区切られた画素部にインクを充填するステップ
を含むカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記ａ）ステップにおいて、前記遮光部材料は、前記遮光部材料１００重量部に対し、シリコン系またはフッ素系界面活性剤を ０．０１〜０．３重量部、着色剤を２０〜５０重量部、バインダーポリマー成分２０〜５０重量部および架橋剤１０〜４０重量部を含む、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記ｂ）ステップにおいて、前記プリベークは５０〜１５０℃で１０〜１０００秒間行う、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記ｃ）ステップにおいて、前記遮光部パターンの光学密度は１．１〜５μｍの厚さにおいて２〜６であり、前記遮光部パターンのインクに対する接触角は２０〜６０°である、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記ｄ）ステップにおいて、前記事前硬化は低温熱硬化、光硬化または低温熱硬化と光硬化を同時に行うことを含む、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記低温熱硬化は５０〜１５０℃で１０〜１０００秒間行う、請求項５に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記光硬化はＵＶを用いて５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2の強さで５〜５００秒間行う、請求項５に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記ｅ）ステップにおいて、前記溶液のコーティングは、スピンコーティング、スリットコーティングまたはディップコーティングにより行う、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記ｅ）ステップにおいて、前記溶液は２００〜２５０℃の沸点を有する、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記ｅ）ステップにおいて、前記溶液はインク組成物に用いられる溶媒と同一である、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
前記ｅ）ステップにおいて、前記溶液は、ブチルカルビトールアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートまたはジプロピレングリコールメチルエーテルアセテートである、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１２】
前記ｆ）ステップにおいて、前記ポストベークは２００〜２５０℃で１０〜２００分間行う、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１３】
前記ｇ）ステップにおいて、前記インク充填は２種以上のインクを同時にまたは連続して充填することを含む、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１４】
前記ｇ）ステップにおいて、前記インク充填はインクジェット方法により行う、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１５】
前記ｇ）ステップにおいて、インクは光硬化性または熱硬化性インクである、請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１６】
請求項１〜１５のうちのいずれか１つの方法により製造されたカラーフィルタ。
【請求項１７】
請求項１６のカラーフィルタを含む表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はカラーフィルタの製造方法およびその方法により製造されたカラーフィルタに関する。より詳しくは、別途の親インク層を構成する工程および複雑な表面処理を施すことなく画素部の親インク性を維持することにより、インクジェットによるカラーフィルタ製造時の費用を節減できるカラーフィルタの製造方法およびそれにより製造されたカラーフィルタに関する。
【０００２】
本出願は２００７年２月２日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２００７−００１１０２２号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。
【背景技術】
【０００３】
一般的に、半導体回路素子およびＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐａｌｙ）などのディスプレイ装置に用いられる微細パターンはフォトレジスト（Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）を用いたフォトリソグラフィ（Ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）によって形成され、主にコーティング、露光、現像、洗浄および硬化の段階を経て製造される。しかし、フォトリソグラフィ（Ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）は所望のパターンを精密に得ることができる長所があるにもかかわらず、多段階の工程を経なければならないという点と、フォトレジストの効果を極大化するために多種類の材料が用いられるという点、およびコーティングなどの工程において多量のフォトレジストを消耗するという短所がある。最近では、このようなフォトリソグラフィの短所を克服するために、インクジェット印刷方式によって微細パターンを得る技術が提案されている。
【０００４】
インクジェット印刷によるカラーフィルタの製造は、従来のフォトリソグラフィ方式によって遮光部であるＢＭ（ｂｌａｃｋ  ｍａｔｒｉｘ）を形成し、この遮光部を隔壁にして遮光部の間の画素部にＲ、Ｇ、Ｂのインクを噴射することによってなされる。前記インクジェット印刷によるカラーフィルタの製造方法を図１に示す。この時、隔壁として用いられる遮光部がインクに対して撥インク性を有しなければ遮光部の間の画素部に噴射されたインクが遮光部をオーバーフローして隣接した画素部に流れるようになり、同種カラーまたは異種カラー間の混色が発生する恐れがある。よって、インクジェット印刷において隔壁の役割をする遮光部パターンはインクに対する撥インク性が相当大きくなければならない。
【０００５】
その逆に、遮光部の間の画素部のガラス基板の表面はインクに対する撥インク性が低いことによって噴射されたインクが画素部内で均一に広がり、画素部内の未充填による光漏れ現象を防止することができ、画素部内またはピクセル間の段差を減らすことができる。しかし、一般的に、撥インク性の強い遮光部材料を用いて遮光部パターンを形成すると、ポストベーク（ｐｏｓｔ−ｂａｋｉｎｇ）過程により、画素部のガラス基板の表面が撥インク性を有する遮光部の表面と類似する程度の撥インク性に改質され、これにより、インクを噴射しても画素部の内部でよく広がらずに未充填が発生し、画素部内または画素部間の段差が激しい。前記遮光部パターンにより形成された遮光部および画素部を図２に示し、前記画素部に撥インク性物質が吸着し、インクが未充填になった状態を図３に示す。
【０００６】
このような問題を解決するために、日本特許公開公報第１９９７−２０３８０３号（特許文献１）には、凹部を親インク処理剤によって表面処理し、凸部を撥インク処理剤によって表面処理する方法が提示されている。しかし、この方法は、親インク処理剤を処理しつつ撥インク処理部分が影響を受けないようにすることや、親インク処理と撥インク処理を２回にかけて別途に行わなければならないという問題点があった。
【０００７】
また他の方法として、大韓民国特許公開公報第２０００−００４７９５８号（特許文献２）には、湿潤性を変化できる湿潤性可変層を有するカラーフィルタが提示されている。しかし、この方法は、遮光部である隔壁層と開口部であるインク層の他に湿潤性可変層という別途の層を形成して製造工程が複雑になる短所がある。
【０００８】
また、日本特許公開公報第２０００−２５８６２２号（特許文献３）には、感光層をパターン露光して露光部分を親水性領域に変化させる方法が紹介されている。しかし、この方法も別途の感光層を形成しなければならない追加的な工程が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平９−２０３８０３号公報
【特許文献２】韓国公開特許第２０００−００４７９５８号公報
【特許文献３】特開２０００−２５８６２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、インクジェット方式によりカラーフィルタを製造するにおいて、隔壁の役割をする遮光部の撥インク性を維持しつつ、前記遮光部によって区切られた画素部の親水性を維持して画素部内におけるインクの拡散性を向上させ、画素部内あるいは画素部間の混色がなく、未充填による色抜けがなく、表面が均一でありながらも画素部内あるいは画素部間の段差が小さいカラーフィルタを製造する方法およびその方法により製造されたカラーフィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記目的を達成するために、本発明は、
ａ）基板上に遮光部材料をコーティングするステップと；ｂ）前記遮光部材料をプリベーク（ｐｒｅ−ｂａｋｅ）して遮光層を形成するステップと；ｃ）前記遮光層を選択的に露光および現像して遮光部パターンを形成するステップと；ｄ）前記遮光部パターンを事前硬化するステップと；ｅ）前記遮光部パターンが形成された基板上に溶液をコーティングするステップと；ｆ）前記遮光部および溶液をポストベーク（ｐｏｓｔ−ｂａｋｅ）するステップ；およびｇ）前記遮光部パターンによって区切られた画素部にインクを充填するステップを含むカラーフィルタの製造方法を提供する。
【００１２】
また、本発明は前記製造方法により製造されたカラーフィルタを提供する。
【００１３】
また、本発明は前記カラーフィルタを含む表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明においては、インクジェット印刷方式によりカラーフィルタを製造するにおいて、隔壁の役割をする遮光部の撥インク性を維持しつつ、遮光部パターンの間の画素部の親水性を維持して画素部内におけるインクの拡散性を向上させ、画素部内あるいは画素部間の混色がなく、未充填による色抜けがなく、表面が均一でありながらも画素部内あるいは画素部間の段差が小さいカラーフィルタを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】インクジェット印刷によるカラーフィルタの製造方法を示す図である。
【図２】パターン化された基板の断面図である。
【図３】画素部に撥インク性物質が吸着し、インクが未充填になった状態を示すＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ−Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）カメラ（×５０）写真である。
【図４】ポストベーク工程中に遮光部の撥インク性物質が揮発する様子を示す図である。
【図５】本発明の概略的な工程図である。
【図６】溶液をコーティングした後、ポストベーク工程中に遮光部の撥インク性物質が揮発する様子を示す図である。
【図７】本発明の実施例１によるインクが画素部の内部で均一に充填されたＣＣＤカメラ（×５０）写真である。
【図８】本発明の実施例２によるインクが画素部の内部で均一に充填されたＣＣＤカメラ（×５０）写真である。
【図９】本発明の実施例３によるインクが画素部の内部で均一に充填されたＣＣＤカメラ（×５０）写真である。
【図１０】本発明の比較例１によるインクが画素部の内部で未充填になったＣＣＤカメラ（×５０）写真である。
【図１１】本発明の比較例２によるインクが画素部の内部で未充填になったＣＣＤカメラ（×５０）写真である。
【図１２】本発明の比較例３によるインクが画素部の内部で未充填になったＣＣＤカメラ（×５０）写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下では本発明をより具体的に説明する。
【００１７】
本発明に係るカラーフィルタの製造方法は、ａ）基板上に遮光部材料をコーティングするステップと；ｂ）前記遮光部材料をプリベークして遮光層を形成するステップと；ｃ）前記遮光層を選択的に露光および現像して遮光部パターンを形成するステップと；ｄ）前記遮光部パターンを事前硬化するステップと；ｅ）前記遮光部パターンが形成された基板上に溶液をコーティングするステップと；ｆ）前記遮光部および溶液をポストベークするステップ；およびｇ）前記遮光部パターンによって区切られた画素部にインクを充填するステップを含むことを特徴とする。
【００１８】
具体的には、カラーフィルタの製造工程において、インクジェット方法の適用時に隔壁の役割をする前記遮光部パターンの形成を従来のフォトリソグラフィ工程により行う場合、基板上に撥インク性の遮光部材料を塗布し、プリベーク、ＵＶ露光、現像およびポストベーク過程を経ることになる。特に、高温の熱処理により遮光部材料を硬化するポストベーク過程を経、遮光部の撥インク性成分が画素部に影響を及ぼすことにより、親インク性を維持しなければならない画素部が撥インク性に改質される現象が発生する。このような現象は、遮光部パターンを製造する際、遮光部パターンの撥インク性物質がポストベーク中に高速度で揮発する過程において、隣接した画素部に吸着し残っているためであると推定される。前記遮光部パターンの撥インク性物質が揮発する様子を図４に示す。
【００１９】
しかし、本発明は、遮光部パターンをポストベーク処理するステップの前に、画素部の撥インク化を防止するために、前記遮光部パターンが形成された基板上に揮発性の少ない溶液をコーティングする。この場合、コーティングされた溶液により、硬化しない遮光部の隔壁が溶けないようにするために、遮光部を事前硬化した後に溶液をコーティングすることを特徴とする。本発明の概略的な工程図を図５に示す。
【００２０】
前記ａ）ステップは基板上に遮光部材料をコーティングするステップである。
【００２１】
前記基板の材料に特に限定はないが、ガラス基板、プラスチック基板またはその他のフレキシブル基板などを用いることができ、耐熱性の強い透明ガラス基板が好ましい。
【００２２】
前記基板上に遮光部材料をコーティングする方法は当技術分野で知られた方法、例えば、スピンコーティング、ディップコーティングまたはドクターブレードなどによって行うことができる。
【００２３】
前記遮光部材料は撥インク性を有することが好ましく、前記遮光部材料は、撥インク性を有するために、撥インク性成分であるシリコン系またはフッ素系界面活性剤を遮光部材料１００重量部に対し０．０１〜０．３重量部含むことが好ましい。また、前記遮光部材料は、組成物の全体固形分中、着色剤としてカーボンブラック、有機顔料混合型遮光性着色剤、カーボンブラックと有機顔料混合型遮光性着色剤を混合したハイブリッド型着色材料を２０〜５０重量部、バインダーポリマー成分２０〜５０重量部、架橋剤１０〜４０重量部およびその他の添加剤を含むことができる。また、前記遮光部形成用組成物はコーティング性のために溶媒をさらに含むことができる。
【００２４】
前記ｂ）ステップは前記遮光部材料をプリベークして遮光層を形成するステップである。
【００２５】
前記プリベークは５０〜１５０℃で１０〜１０００秒間行うことが好ましい。
【００２６】
前記ｃ）ステップは前記遮光層を選択的に露光および現像して遮光部パターンを形成するステップである。
【００２７】
前記選択的露光および現像は当技術分野に知られた方法を利用して行うことができる。例えば、前記プリベークした遮光部材料をフォトマスクにより選択的に露光した後、露光部位または非露光部位を現像することによって行われる。
【００２８】
前記製造された遮光部パターンの厚さは１．１〜５μｍであることが好ましく、光学密度は前記厚さ範囲で２〜６であることが好ましい。また、前記遮光部パターンはインクに対し２０〜６０°の接触角を有することが好ましい。
【００２９】
前記ｄ）ステップは前記遮光部パターンを事前硬化するステップである。
【００３０】
前記事前硬化ステップ後、溶液をコーティングする過程において、前記溶液によって遮光部の硬化しない成分が前記溶液に溶けて遮光部が変形することを防止するために行われる。
【００３１】
前記事前硬化は光硬化、熱硬化または光硬化と熱硬化を同時に行うことができる。この時、熱硬化は、撥インク成分が画素部に影響を与えないように、５０〜１５０℃で１０〜１０００秒間行うことが好ましい。前記光硬化は、ＵＶを５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2の強さで５〜５００秒間行うことが好ましい。この時、本発明は遮光部材料として感光性樹脂を用いているため、本発明による事前硬化は光硬化が好ましい。
【００３２】
前記ｅ）は前記遮光部パターンが形成された基板上に溶液をコーティングするステップである。
【００３３】
前記溶液のコーティングは、スピンコーティング、スリットコーティングまたはディップコーティングなどの一般的な全面コーティング方法を使用することができる。前記遮光部パターンは撥インク性性質を帯びているため、前記溶液に別途の処理を施すことがなくても、遮光部パターンの全面にコーティングすれば、前記溶液が遮光部から流れて画素部だけにコーティングすることが可能である。前記溶液は画素部にコーティングされ、ポストベーク工程中、遮光部の撥インク性物質が揮発する過程において垂直方向だけに揮発が発生して前記遮光部の撥インク性物質が画素部へ影響を及ぼすことを遮断する役割をする。前記揮発過程において、水平方向への揮発が発生するにしてもコーティング溶液によって薄められ、その効果を顕著に減少させることができる。前記溶液をコーティングした後、ポストベーク工程中に遮光部の撥インク性物質が揮発する様子を図６に示す。
【００３４】
この時、遮光部の撥インク性物質が揮発する前にコーティングされた物質の揮発が先に発生してはいけないため、前記溶液は揮発性の少ない物質を用いることが好ましい。また、前記溶液は、別途の工程を施すことがなくても、ポストベーク温度２００〜２５０℃で共に蒸発して除去できるように、前記溶液の沸点は、高温熱処理温度と類似したレベルの２００〜２５０℃である溶液を用いることが好ましい。また、前記溶液はその後のインクジェットによって塗布されるインクとよく混合する溶液が好ましく、特に、インクジェット工程に用いられたインク組成物の溶媒と同じ溶液を用いることが好ましい。これは、コーティング物質が画素部に残留物として残っている場合、インク吐出時の親インク性に役に立つ。
【００３５】
前記溶液の具体的な例として、ブチルカルビトールアセテート（沸点：２４５℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点：２１７℃）またはジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（沸点：２０９℃）などが挙げられる。
【００３６】
前記ｆ）ステップは前記遮光部および溶液をポストベークするステップである。
【００３７】
前記溶液によってコーティングされた遮光部パターンが形成された基板を２００〜２５０℃で１０〜２００分間ポストベークする。前記溶液は、ポストベーク工程中、揮発性物質が揮発する過程において、垂直方向だけに揮発が発生するようにして画素部に影響を及ぼすことを防止する役割をする。前記ポストベーク過程により、遮光部の硬化と共にコーティングされた溶液を除去することができ、前記遮光部は撥インク性を帯び、画素部はインクと同じ親インク性を確保したパターンを得ることができる。
【００３８】
前記ｇ）ステップは前記遮光部パターンによって区切られた画素部にインクを充填するステップである。
【００３９】
前記インクの充填は、２種以上のインク、例えばＲ、Ｇ、Ｂの３種のインクを同時にまたは連続して充填することができる。前記インクとしては光硬化性または熱硬化性インクを用いることができる。前記インクの充填はインクジェット方法によって行われることが好ましい。
【００４０】
各インクをインクジェット方法によって画素部に吐出すれば、本発明の方法により形成された遮光部パターンは撥インク性を帯び、画素部は親インク性を帯びるため、吐出されたインクは画素部内で均一に広がり、また、遮光部パターンより高く凸状に塗布され得る。
【００４１】
この過程において、吐出されたインクは撥インク性である遮光部パターンをオーバーフローしないため、インクごとの別途の後処理工程が必要なく、３種インクの連続吐出が可能であり、必要により、各インクの吐出後または全インクの吐出後にインクに対して光硬化または熱硬化を行うことができる。
【００４２】
光硬化型インクの場合には、各インクの吐出後または全インクの吐出後、４０〜３００ｍＪ／ｃｍ2の露光量で露光した後、２００〜２５０℃の温度で１０〜２００分間高温熱硬化を施すことができる。熱硬化型インクの場合には、各インクの吐出後または全インクの吐出後、５０〜１５０℃の温度で１０〜２０００秒間低温熱硬化を施した後、別途の露光工程を経ることなく、２００〜２５０℃の温度で１０〜２００分間高温熱硬化を実施することができ、熱硬化型と光硬化型が混合されたインクに対しても前記工程を行うことができる。
【００４３】
本発明は前記方法により製造されたカラーフィルタを提供する。
【００４４】
このように製造されたカラーフィルタは、別途の親インク層を構成する工程が必要なく、且つ、複雑な表面処理を施すことなく、画素部の親インク性を維持することにより、インク充填時の混色と色抜け、未充填、染みがなく、表面が均一なカラーフィルタを製造することができ、工程を単純化して費用の節減に寄与できる。
【００４５】
本発明は前記カラーフィルタを含む表示装置を提供する。
【００４６】
本発明による表示装置は前述した本発明に係るカラーフィルタを含むことを除いては当技術分野に知られた構成を有することができる。
【実施例】
【００４７】
以下、実施例により本発明をより詳細に説明する。但し、下記実施例は本発明を例示するためのものに過ぎず、本発明の範囲が下記実施例によって限定されるものではない。
【００４８】
［製造例１：遮光性材料の製造］
感光性樹脂組成物１０００重量部に対し、着色剤としてカーボンブラック６５重量部、アルカリ可溶性樹脂バインダーとしてベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸の共重合体（酸価１１０ＫＯＨｍｇ／ｇ、モル比７０／３０、Ｍｗ＝３０，０００）２９重量部、およびベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸の共重合体にアリルグリシジルエーテルが付加された重合体（酸価８０ＫＯＨｍｇ／ｇ、Ｍｗ＝２２，０００）７０重量部、官能性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５０重量部、光重合開始剤として２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）ブチル−１−オン２０重量部、２．２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール１０重量部、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン５重量部、およびメルカプトベンゾチアゾール５重量部、添加剤として分散剤であるポリエステル系分散剤９重量部、および撥インク性を付与するためのレベリング剤としてフッ素系界面活性剤１重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４４０重量部、エトキシエチルプロピオネート２９０重量部を混合した。その次、前記混合物を５時間攪拌して感光性樹脂組成物を製造した。
【００４９】
［製造例２：熱硬化インクの製造］
インクジェット方法により各画素部に噴射されるＲ熱硬化インクは、着色剤としてピグメントレッド＃２５４  ４．３３重量部、ピグメントレッド＃１７７  １．２６重量部、ピグメントイエロー＃１３９  ０．８７重量部、アルカリ可溶性樹脂バインダーとしてベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸が７０：３０のモル比で形成された共重合体にアリルグリシジルエーテルが付加された重合体（Ｍｗ＝２４，０００）３．７７重量部、官能性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート７．５４重量部、アゾアミド系熱重合開始剤（Ｖａｍ−１１０、Ｗａｋｏ  Ｐｕｒｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｓ．ＬＴＤ）０．５重量部、添加剤として分散剤であるポリエステル系分散剤２．２９重量部、密着促進剤である３−メタアクリルオキシプロピルトリメトキシシラン１．０重量部、レベリング剤としてフッ素系界面活性剤（Ｍｅｇａｆａｃｅ  Ｆ−４７５、大日本インク化学工業株式会社）０．０４重量部、溶媒としてブチルカルビトールアセテート６４．７重量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６．２２重量部、メトキシプロパノール５．９５重量部、およびブチルセロソルブアセテート１．５３重量部を混合し、前記混合物を５時間攪拌してインクジェット用インク組成物を製造した。
【００５０】
［実施例１〜３および比較例１〜３：カラーフィルタの製造］
［実施例１］
前記製造例１で製造された遮光性材料をガラス基板上にスピンコーティングし、約１００℃で２分間前熱処理して約２．４μｍ厚さの塗膜を形成した。その次、室温に冷却した後、フォトマスクを利用して高圧水銀ランプ下で１００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギーで１分間露光させた。前記露光された基板を２５℃の温度で０．０４％のＫＯＨ水溶液でスプレー方式により現像した後、純水で洗浄し、エアーブロー（ａｉｒ  ｂｌｏｗｉｎｇ）によって乾燥した。遮光部パターンを１００℃で２分間事前硬化した後、形成されたガラス基板上にディップコーティング方式によりブチルカルビトールアセテート（沸点：２４５℃）を均一に塗布した後、２２０℃の対流式オーブンで３０分間ポストベークして遮光部パターンを硬化し、コーティング溶液を除去した。
【００５１】
前記形成された遮光部パターンに前記製造例２で製造された熱硬化インクを吐出した（２０ｄｒｏｐ）直後の様子を図７に示す。
【００５２】
［実施例２］
遮光部パターンを１００℃で２分間事前硬化する代わりにＵＶ１００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギーで１分間光硬化して事前硬化したことを除いては、前記実施例１と同じ方法により遮光部パターンを形成した。
【００５３】
前記形成された遮光部パターンに前記製造例２で製造された熱硬化インクを吐出した（２０ｄｒｏｐ）直後の様子を図８に示す。
【００５４】
［実施例３］
遮光部パターンを１００℃で２分間事前硬化する代わりに１００℃で２分間熱硬化およびＵＶ１００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギーで１分間光硬化によって事前硬化したことを除いては、前記実施例１と同じ方法により遮光部パターンを形成した。
【００５５】
前記形成された遮光部パターンに前記製造例２で製造された熱硬化インクを吐出した（３５ｄｒｏｐ）直後の様子を図９に示す。
【００５６】
［比較例１］
遮光部パターンを形成する工程中、溶液のコーティング過程を除いては、前記実施例１と同じ方法によりカラーフィルタを製造した。
【００５７】
前記熱硬化インクを吐出した直後、インクが未充填になった様子を図１０に示す。
【００５８】
［比較例２］
遮光部パターンを形成する工程中、溶液のコーティング過程を除いては、前記実施例２と同じ方法によりカラーフィルタを製造した。
【００５９】
前記熱硬化インクを吐出した直後、インクが未充填になった様子を図１１に示す。
【００６０】
［比較例３］
遮光部パターンを形成する工程中、溶液のコーティング過程を除いては、前記実施例３と同じ方法によりカラーフィルタを製造した。
【００６１】
前記熱硬化インクを吐出した直後、インクが未充填になった様子を図１２に示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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