(57)【要約】  本発明は、（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、そして（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物に関し、ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）分子当たり、より大きい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ｂ）または（ａ）のモル量と等しいかもしくはそれより小さいモル量で存在する；そして（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
分岐ポリシロキサン組成物であって、：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物であって、ここで前記不飽和炭化水素官能基が、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能であり；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ場合、そのとき、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり、より小さい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）のモル量と等しいかもしくはそれより小さいモル量で存在する；そして、（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する、分岐ポリシロキサン組成物。
【請求項２】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（６−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくは大きく、そして５より小さい数を表し、ｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．２５−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして３．２５より小さい数を表し、ｔは０より大きい、そして３．２５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基が、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約４．５：１から約２：１までの範囲内である、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり少なくとも４つの官能基をもち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり少なくとも６つの官能基をもち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
分岐ポリシロキサン組成物であって、：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物であって、前記不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり、より大きい数の官能基をもち、そして、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ｂ）または（ａ）より少ないモル量であり；そして、（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物。
【請求項１０】
分岐ポリシロキサン組成物であって、：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、前記不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約（６−ｓ）：１または約１：（１＋ｔ）の範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す；（ｉｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ場合、そのとき、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり、より小さい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）のモル量と等しいかもしくはそれより小さいモル量で存在する；そして、（ｉｖ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物。
【請求項１１】
分岐ポリシロキサン組成物であって、：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、前記不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約（６−ｓ）：１または約１：（１＋ｔ）の範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す；（ｉｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり、より大きい数の官能基をもち、そして分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）よりも、分子当たり、より少ないモル量である；そして、（ｉｖ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物。
【請求項１２】
分岐ポリシロキサン組成物であって、：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、前記不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す；（ｉｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）よりも、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ場合、そのとき、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり、より小さい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）のモル量と等しいかそれより小さいモル量で存在する；そして、（ｉｖ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物。
【請求項１３】
分岐ポリシロキサン組成物であって、：
（ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、前記不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す；（ｉｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり、より大きい数の官能基をもち、そして分子当たりより小さい数の官能基を持つもう１つの成分（（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；そして、（ｉｖ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物。
【請求項１４】
分岐ポリシロキサン組成物であって、：
（ａ）不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、前記不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）シリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも４つの官能基を有し、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約（６−ｓ）：１または約１：（１＋ｔ）の範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きい、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す；そして（ｉｉｉ）；不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物。
【請求項１５】
分岐ポリシロキサン組成物であって、：
（ａ）不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、前記不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）シリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも６つの官能基を有し、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約（６−ｓ）：１または約１：（１＋ｔ）の範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す；そして（ｉｉｉ）；不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物。
【請求項１６】
分岐ポリシロキサン組成物であって、：
（ａ）不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、前記不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）シリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも４つの官能基を有し、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す；そして（ｉｉｉ）；不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物。
【請求項１７】
分岐ポリシロキサン組成物であって、：
（ａ）不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、前記不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）シリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物；
（ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも６つの官能基を有し、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より少ないモル量である；（ｉｉ）成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す；そして（ｉｉｉ）；不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である）
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコーン系の紙剥離コーティングにおけるミスト抑制剤として特に有用の分岐ポリシロキサン組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来技術の説明
シリコーン系の紙剥離コーティング製剤が、充分に高い回転運動または並進運動にさらされる作業では、例えば、柔軟な担体と紙の高速ロールコーティングにおいて、ミスト化および／またはエアロゾル化が重要な問題になりうることは周知である。これらの問題は、これら剥離コーティング剤を１，０００フィート／分に達するロールコーティング速度で塗布するとき、特に重要になるが、一方で、紙コーティング産業における傾向では、１，５００フィート／分を超える速度、例えば、２，０００から３，０００フィート／分の速度を使用している。これらミストとエーロゾルの粒子は、製造作業に悪影響を及ぼす上に、コーティング装置の近くで作業したり労働したりする人々に対する産業衛生上および安全上の課題を提起する。
【０００３】
そのような作業中のミストの生成を減少させるために、「ミスト抑制剤」として一般的に既知である特定の化学物質製剤が、一般に使用されてきた。例えば、米国特許第６，８０５，９１４号および第６，４８９，４０７号（以下「’９１４号特許」および「’４０７号特許」）は、ケイ素に結合された水素基を分子当たり少なくとも３つ有する有機水素化ケイ素化合物（成分（ａ））の少なくとも１つを過剰量で、アルケニル基を分子当たり少なくとも２つ有する化合物（成分（ｂ））の少なくとも１つと反応させることにより誘導されたシリコーンミスト抑制剤組成物を開示し、ここで、成分（ｂ）のアルケニル基の数に対する成分（ａ）のケイ素に結合された水素原子の数の比は、少なくとも４．６：１であり、そしてより好ましくは、４．６：１から５００：１までである。
【０００４】
米国特許第６，５８６，５３５号は、「’９１４号特許」および「’４０７号特許」と本質的には逆のもの、すなわち、ケイ素に結合された水素基を少なくとも２つ有する有機水素化ケイ素化合物の少なくとも１つを、ケイ素に結合されたアルケニル基を少なくとも３つ有する有機アルケニルシロキサン化合物の少なくとも１つの過剰量と、反応させることにより誘導されたシリコーンミスト抑制剤組成物を開示し、ここで、成分（ｂ）のアルケニル基の数に対する成分（ａ）のケイ素に結合された水素原子の数の比は、１：４．６以下であり、そして好ましくは１：４．６から１：５００まである。
【０００５】
米国特許第６，７６４，７１７号および６，９５６，０９６号は、（ａ）少なくとも３つの脂肪族二重結合を有する炭化水素を、末端にケイ素に結合された水素原子を持つオルガノシロキサン化合物の化学量論的に過剰量と反応させる工程であって、ここで脂肪族二重結合に対するケイ素に結合された水素の比は、１．３から１０まで、そして好ましくは１．５から５まである工程；そして（ｂ）生成した、ケイ素に結合された水素原子を有する炭化水素−シロキサン共重合体を、α，ω−ジアルケニルシロキサン重合体の化学量論的に過剰量と反応させる工程であって、ここで最初の工程で得られた炭化水素−シロキサン共重合体中のケイ素に結合された水素に対する、α，ω−ジアルケニルシロキサン重合体中の脂肪族二重結合の比は、１．２から１０まで、好ましくは１．５から５．０までである工程、を含む二工程プロセスから誘導された、シリコーン系のミスト抑制剤組成物を開示する。
【０００６】
米国特許第６，８８７，９４９号、第６，７７４，２０１号および第６，７２７，３３８号は、ミスト防止添加剤としてのシリコーンポリマーを開示し、ここで不飽和炭化水素化合物は、シリコーン重合体の合成に使われている。
【０００７】
米国特許第５，６２５，０２３号は、有機ケイ素化合物、オキシアルキレン含有化合物、および触媒を反応させることによって誘導されたミスト抑制剤組成物を開示する。
【０００８】
米国特許第５，３９９，６１４号は、アルケニル末端ポリジオルガノシロキサンと、シリルヒドリド末端有機水素化ポリシロキサンを含む接着剤組成物を開示する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、ミストの減少が少なくとも同じまたは改善された性能をもち、一方ではコスト削減、製造の容易さ、使いやすさ、および／または様々な末端利用への広い用途、のような他の利点を備えるミスト抑制剤に対する必要性が依然としてある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
これらのもしくは他の目的は  （ａ）分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する、１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物、この不飽和炭化水素官能基は、ヒドロシリル化条件下で、シリルヒドリド含有化合物によりヒドロシリル化反応を受けることが可能である；そして
（ｂ）分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物、
を含有する成分混合物のヒドロシリル化条件下での共重合から生成する分岐ポリシロキサン組成物を提供することによって達成された。
【００１１】
ただし、（ｉ）成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する；（ｉｉ）成分（ａ）または（ｂ）の１つが、分子当たり、より小さい数の官能基を持つもう１つの成分（ａ）または（ｂ）より、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ場合、そのとき、分子当たり、より大きい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり、より小さい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）のモル量と当量もしくはそれより小さいモル量で存在する；そして、（ｉｉｉ）不飽和炭化水素化合物は、成分混合物から除外される、という条件である。
【００１２】
１つの実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（６−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、ｔは０より大きい、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す。
【００１３】
別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す。
【００１４】
別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．２５−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして３．２５より小さい数を表し、ｔは０より大きく、そして３．２５と等しいかそれより小さい数を表す。
【００１５】
さらに別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約４．５：１から約２：１までの範囲内である。
【００１６】
特定の実施態様において、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり少なくとも４つの、または少なくとも６つの、または少なくとも８つの、またはより大きい数の官能基をもち、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を持つもう１つの成分（ｂ）または（ａ）より少ないモル量である。
【００１７】
本発明は、有利には、ミスト抑制剤として有用である新規の分岐ポリシロキサン組成物を提供する。この分岐ポリシロキサン組成物は、使用や製造が、経済的で、簡単であるという付加的な利点を生じる一方で、ミストの減少において著しい改善が可能である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の分岐ポリシロキサン組成物は、分子当たり少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を有する１つもしくはそれ以上の有機ケイ素化合物を、すなわち成分（ａ）を、分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物と、すなわち成分（ｂ）と、ヒドロシリル化反応条件下で、共重合させることから生成する。
【００１９】
成分（ａ）の有機ケイ素化合物は、任意の低分子量化合物、ならびに、１つもしくはそれ以上のケイ素原子を有し、そして少なくとも２つの不飽和炭化水素官能基を持つより高い分子量のオリゴマーおよび重合体をも含む。成分（ａ）の有機ケイ素化合物の類の幾つかの例は、少なくとも２つの不飽和炭化水素基を有する（すなわち、ケイ素−酸素結合はないが、ケイ素−炭素結合を有する）オルガノシラン、シロキサン、およびシラザンを含む。
【００２０】
成分（ａ）の有機ケイ素化合物において不飽和炭化水素基は、ヒドロシリル化条件下でシリルヒドリド基との反応が可能な少なくとも１つの炭素−炭素二重結合または三重結合を持つ、任意の直鎖、分岐または環状の炭化水素基を含む。より典型的には、不飽和炭化水素基は、２から６の炭素原子を有する。不飽和炭化水素基の幾つかの例は、置換されたおよび無置換の、ビニル、アリル、ブテニル、ブタジエニル、４−ペンテニル、２，４−ペンタジエニル、５−ヘキセニル、シクロブテニル、シクロヘキセニル、アクリロイル、およびメタクリロイルを含む。
【００２１】
成分（ａ）の低分子量の有機シラン化合物の幾つかの例は、ジビニルジメチルシラン、ジビニルジクロロシラン、ジビニルメチルプロピルシラン、ジビニルジプロピルシラン、ジビニルジイソプロピルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジビニルフェニルプロピルシラン、トリビニルメチルシラン、トリビニルエトキシシラン、トリビニルクロロシラン、トリビニルフェニルシラン、ジアリルジメチルシラン、ジアリルジクロロシラン、アリルビニルジメチルシラン、トリビニルフェニルシラン、１，３−ジビニルテトラメチルジシリルメタン、１，４−ジビニルテトラメチルジシリルエタン、１，１−ジビニルテトラメチルジシリルエタン、１，１，４−トリビニルトリメチルジシリルエタン、１，１，１−トリビニルトリメチルジシリルエタン、１，１，４，４−テトラビニルジメチルジシリルエタン、１，１，４，４−テトラビニルジメチルジシリルエタン、１，１，１，４，４，４−ヘキサビニルジシリルエタン、１，３−ジビニルテトラフェニルジシリルメタン、１，４−ジビニルテトラフェニルジシリルエタン、１，１−ジビニルテトラフェニルジシリルエタン、１，１，４−トリビニルトリフェニルジシリルエタン、１，１，１−トリビニルトリフェニルジシリルエタン、１，１，４，４−テトラビニルジフェニルジシリルエタン、および１，１，１，４−テトラビニルジフェニルジシリルエタンを含む。
【００２２】
成分（ａ）の低分子量のシロキサン化合物の幾つかの例は、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、トリビニルエトキシシラン、ジアリルジエトキシシラン、トリアリルエトキシシラン、ビニルジメチルシロキシビニルジメチルカルビノール（ＣＨ２＝ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２＝ＣＨ２）、１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、１，３−ジビニルテトラエチルジシロキサン、１，１−ジビニルテトラメチルジシロキサン、１，１，３−トリビニルトリメチルジシロキサン、１，１，１−トリビニルトリメチルジシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルジメチルジシロキサン、１，１，１，３−テトラビニルジメチルジシロキサン、１，３−ジビニルテトラフェニルジシロキサン、１，１−ジビニルテトラフェニルジシロキサン、１，１，３−トリビニルトリフェニルジシロキサン、１，１，１−トリビニルトリフェニルジシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルジフェニルジシロキサン、１，１，１，３−テトラビニルジフェニルジシロキサン、ヘキサビニルジシロキサン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）メチルシラン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）メトキシシラン、トリス（ビニルジメチルシロキシ）フェニルシラン、およびテトラキス（ビニルジメチルシロキシ）シランを含む。
【００２３】
成分（ａ）の線状のシロキサンオリゴマーの幾つかの例は、１，５−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、１，３−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、１，１−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、３，３−ジビニルヘキサメチルトリシロキサン、１，５−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、１，３−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、１，１−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、３，３−ジビニルヘキサフェニルトリシロキサン、１，１，１−トリビニルペンタメチルトリシロキサン、１，３，５−トリビニルペンタメチルトリシロキサン、１，１，１−トリビニルペンタフェニルトリシロキサン、１，３，５−トリビニルペンタフェニルトリシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルテトラメチルトリシロキサン、１，１，５，５−テトラビニルテトラメチルトリシロキサン、１，１，３，３−テトラビニルテトラフェニルトリシロキサン、１，１，５，５−テトラビニルテトラフェニルトリシロキサン、１，１，１，３，３−ペンタビニルトリメチルトリシロキサン、１，１，３，５，５−ペンタビニルトリメチルトリシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサビニルジメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサビニルジメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサビニルジフェニルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサビニルジメトキシトリシロキサン、１，７−ジビニルオクタメチルテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラビニルヘキサメチルテトラシロキサン、および１，１，７，７−テトラビニルヘキサメチルテトラシロキサンを含む。
【００２４】
成分（ａ）の環状のシロキサンオリゴマーの幾つかの例は、１，３−ジビニルテトラメチルシクロトリシロキサン、１，３，５−トリビニルトリメチルシクロトリシロキサン、１，３−ジビニルテトラフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５−トリビニルトリフェニルシクロトリシロキサン、１，３−ジビニルヘキサメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５−トリビニルペンタメチルシクロテトラシロキサン、および１，３，５，７−テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサンを含む。
【００２５】
成分（ａ）のシラザンの幾つかの例は、１，３−ジビニルテトラメチルジシラザン、１，３−ジビニル−１，３−ジフェニル−１，３−ジメチルジシラザン、１，３，５−トリビニルトリメチルシクロトリシラザン、１，３，５−トリビニルトリフェニルシクロトリシラザン、１，３，５−トリビニルペンタメチルシクロテトラシラザン、および１，３，５，７−テトラビニルテトラメチルシクロテトラシラザンを含む。
【００２６】
成分（ａ）の重合体のシロキサン（ポリシロキサン）は、Ｍ基、Ｄ基、Ｔ基、およびＱ基の任意の２つもしくはそれ以上の組合せを持つ、任意の線状、分岐および／または架橋の重合体を含み、ここで、技術上既知のように、Ｍ基は、式Ｒ３ＳｉＯ１／２の単官能基を表し、Ｄ基は、式Ｒ２ＳｉＯ２／２の二官能基を表し、Ｔ基は、式ＲＳｉＯ３／２の三官能基を表し、そして、Ｑ基は、式ＳｉＯ４／２の四官能基を表し、そしてここで少なくともＲ基の２つは、不飽和炭化水素基であり、そしてＲ基の残りは、（例えば、Ｃ１からＣ６の）炭化水素基、ハロゲン基、アルコキシ基、および／またはアミノ基を含む任意の適切な基であってよい。
【００２７】
成分（ａ）に適切なポリシロキサンの類の幾つかの例は、ＭＤＭ、ＴＤ、ＭＴ、ＭＤＴ、ＭＤＴＱ、ＭＱ、ＭＤＱ、およびＭＴＱの類のポリシロキサン、そしてそれらの組合せを含み、これらは少なくとも２つの不飽和炭化水素基を持つ。
【００２８】
特定の実施態様において、成分（ａ）は、１つもしくはそれ以上のＤ基および／またはＤｖｉ基と組み合せて、１つもしくはそれ以上のＭ基および／またはＭＶｉ基を持つＭＤタイプのポリシロキサンであり、ここでＭはＳｉ（ＣＨ３）３Ｏ−を表し、Ｍｖｉは（ＣＨ２＝ＣＨ２）Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、Ｄは−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、そして、Ｄｖｉは−Ｓｉ（ＣＨ２＝ＣＨ２）（ＣＨ３）Ｏ−を表し、「ｖｉ」は、「ビニル」の略語である。そしてここで、ＭＤタイプのポリシロキサンは、少なくとも２つのビニル基を有する。
【００２９】
成分（ａ）に適切なＭＤタイプのポリシロキサンの幾つかの例は、ＭｖｉＤｎＭｖｉ、ＭｖｉＤｖｉｎＭ、ＭｖｉＤｖｉｎＤｍＭ、ＭｖｉＤｖｉｎＭｖｉ、ＭｖｉＤｖｉｎＤｍＭｖｉ、ＭＤｖｉｎＭ、およびＭＤｖｉｎＤｍＭの類の、ＭＤタイプのポリシロキサンを含み、式中、ｍおよびｎの各々は少なくとも１を表す。ＭＤポリシロキサンのこれらの類の任意の１つ、または任意の組合せは、成分（ａ）に使用してよい。様々な実施態様において、ｍおよびｎは、独立して、例えば１から１０、１１から２０、５０から１００、１０１から２００、２０１から５００、５０１から１５００の範囲内の数、そしてより大きい数を表すことができる。
【００３０】
Ｄｖｉ基は、Ｄ基の中に不規則に（すなわち、ブロックとしてではなく）組み込まれてもよい。例えば、ＭｖｉＤｖｉｎＤｍＭは、重合体を表すことができ、式中、ｎは５から２０を表し、そしてｍは５０から１５００を表し、そしてここで５から２０のＤｖｉ基は、５０から１５００のＤ基の中に不規則に組み込まれる。
【００３１】
他の実施態様において、Ｍｖｉ基およびＤｖｉ基は、各々独立して、例えばＭｖｉに対しては（ＣＨ２＝ＣＨ２）２（ＣＨ３）ＳｉＯ−基および（ＣＨ２＝ＣＨ２）３ＳｉＯ−基、またはＤｖｉに対対しては−Ｓｉ（ＣＨ２＝ＣＨ２）２Ｏ−のような、より大きい数の不飽和官能基を含んでもよい。
【００３２】
成分（ｂ）の１つもしくはそれ以上のシリルヒドリド含有化合物は、分子当たり少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する任意の低分子量化合物、オリゴマー、または重合体を含む。成分（ｂ）のシリルヒドリド含有化合物の類の幾つかの例は、少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を有する、有機シラン、シロキサンおよびシラザンを含む。
【００３３】
成分（ｂ）の低分子量化合物の幾つかの例は、ジメチルシラン、ジエチルシラン、ジ−（ｎ−プロピル）シラン、ジイソプロピルシラン、ジフェニルシラン、メチルクロロシラン、ジクロロシラン、１，３−ジシラプロパン、１，３−ジシラブタン、１，４−ジシラブタン、１，３−ジシラペンタン、１，４−ジシラペンタン、１，５−ジシラペンタン、１，６−ジシラヘキサン、ビス−１，２−（ジメチルシリル）エタン、ビス−１，３−（ジメチルシリル）プロパン、１，２，３−トリシリルプロパン、１，４−ジシリルベンゼン、１，２−ジメチルジシラン、１，１，２，２−テトラメチルジシラン、１，２−ジフェニルジシラン、１，１，２，２−テトラフェニルジシラン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１、１，３，３−テトラフェニルジシロキサン、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチルトリシロキサン、１，３，５−トリメチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、および１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサンを含む。
【００３４】
成分（ｂ）のシリルヒドリド含有シラザンの幾つかの例は、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３，５−トリエチル−２，４，６−トリメチルシクロトリシラザン、１，２，３，４，５，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、および１，２，３，４，５，６，７，８−オクタメチルシクロテトラシラザンを含む。
【００３５】
成分（ｂ）のシリルヒドリド含有のオリゴマーおよび重合体の幾つかの例は、オリゴマーまたは重合体において、Ｍ基、Ｄ基、Ｔ基、およびＱ基の２つもしくはそれ以上の任意の組合せをもち、そして少なくとも２つのシリルヒドリド官能基を持つ、任意の線状、分岐および／または架橋の重合体を含む。
【００３６】
特定の実施態様において、成分（ｂ）は、１つもしくはそれ以上のＤ基および／またはＤＨ基と組み合せて、１つもしくはそれ以上のＭ基および／またはＭＨ基を持つ、ＭＤタイプのポリシロキサンであり、ここで、ＭはＳｉ（ＣＨ３）３Ｏ−を表し、ＭＨはＨＳｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、Ｄは−Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ−を表し、そしてＤＨは−Ｓｉ（Ｈ）（ＣＨ３）Ｏ−を表し、そしてここで、ＭＤタイプのポリシロキサンは、少なくとも２つのシリルヒドリド基を有する。
【００３７】
成分（ｂ）に適切なＭＤタイプのポリシロキサンの幾つかの例は、ＭＨＤｎＭＨ、ＭＨＤＨｎＭ、ＭＨＤＨｎＤｍＭ、ＭＨＤＨｎＭＨ、ＭＨＤＨｎＤｍＭＨ、ＭＤＨｎＭ、およびＭＤＨｎＤｍＭの類の、ＭＤタイプのポリシロキサン、そしてそれらの組合せを含み、式中、ｍおよびｎは、各々少なくとも１を表し、そして上に記載した任意の数値を持ってよい。
【００３８】
ＤＨ基は、Ｄ基の中に不規則に（すなわち、ブロックとしてではなく）組み込まれてもよい。例えば、ＭＨＤＨｎＤｍＭは、重合体を表すことができ、式中、ｎは５から２０を表し、そしてｍは５０から１５００を表し、そしてここで、５から２０のＤＨ基は、５０から１５００のＤ基の中に不規則に組み込まれる。
【００３９】
他の実施態様において、ＭＨおよびＤＨ基は、独立して、例えば、ＭＨに対してはＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）Ｏ−およびＨ３ＳｉＯ−基、またはＤＨに対しては−Ｓｉ（Ｈ）２Ｏ−のような、より大きい数のシリルヒドリド官能基を持ってよい。
【００４０】
本発明によれば、成分（ａ）または（ｂ）の少なくとも１つは、分子当たり少なくとも３つの官能基を有する。例えば、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり３つの官能基を持ってよいが、その一方でもう１つの成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たり２つの官能基を有する；または、成分（ａ）および（ｂ）の両方が、分子当たり３つの官能基を各々有してよい；または、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、分子当たり３つの官能基を持ってよいが、その一方でもう１つの成分（ａ）または（ｂ）は、分子当たりの４つの官能基を有する；または、成分（ａ）および（ｂ）の両方が、分子当たりの４つの官能基を各々有してよい；などである。
【００４１】
１つの実施態様において、成分（ａ）および（ｂ）は、等しい数の官能基を有し、そして相互に関しては等しいかまたは同じようなモル量を含む任意のモル比である。別の実施態様において、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、もう１つの成分（ａ）または（ｂ）より大きい数の官能基を有し、そして両方の成分は等しいモル量である。
【００４２】
別の実施態様において、分岐ポリシロキサンは、星形重合体に類似した分岐パターン（branching pattern）に従い、ここで、より大きい数の官能基を持つ成分（ａ）または（ｂ）のどちらか一方の分子（すなわち、架橋剤）は、より小さい数の官能基を持つ成分（ｂ）または（ａ）のどちらか一方の分子（すなわち、増量剤）より、少ないモル量である。前記の星形重合体のパターンは、分岐がたくさんある樹枝状パターン（dendritic pattern）とは異なる。
【００４３】
例えば、成分（ａ）または（ｂ）の１つは、少なくとも４つ、５つ、６つ、７つ、８つ、９つ、１０、またはそれより大きい数の官能基を持つことができ、そして分子当たり２つまたは３つの官能基を有する、もう１つの成分（ａ）または（ｂ）より小さい数のモル量であってよい。
【００４４】
成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対する任意の適切なモル比であってよく、例えば、１００：１、５０：１、２５：１、２０：１、１０：１、１：１０、１：２０、１：２５、１：５０、１：１００、およびそれの間の比の任意の範囲であってよい。
【００４５】
特定の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（６−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内にあり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す。（ｂ）の官能基に対する（ａ）の官能基のそのようなモル比の幾つかの例は、６：１、５．５：１、５：１、４．５：１、４：１、３．５：１、３：１、２．５：１、２：１、１．５：１、１．４：１、１．２：１、１：１．２、１：１．４、１：１．５、１：２、１：２．５、１：３、１：３．５、１：４、１：４．５、１：５、１：５．５、および１：６、そしてそれの間の比の任意の範囲を含む。
【００４６】
例えば、１つの実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．６−ｓ）：１または１：（１＋ｓ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０より大きく、そして３．６より小さい数を表す。別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、式（４．２５−ｓ）：１または１：（１＋ｔ）に従う範囲内であり、式中、ｓは０と等しいかもしくはそれより大きく、そして３．２５より小さい数を表し、そしてｔは０より大きく、そして３．２５と等しいかもしくはそれより小さい数を表す。さらに、別の実施態様において、成分（ａ）の不飽和炭化水素官能基は、成分（ｂ）のシリルヒドリド官能基に対するモル比において、約４．５：１から約２：１の範囲内である。
【００４７】
分岐ポリシロキサンの粘度は、典型的には１，５００センチポアズ（ｃＰｓ）より大きく、ここで、１ｃＰｓ＝１ミリパスカル秒（ｍＰａ．ｓ）である。より典型的には、分岐ポリシロキサンの粘度は、約３，０００ｃＰｓと等しいかもしくはそれより大きく、そして、さらにより典型的には、約５，０００ｃＰｓである。他の実施態様において、分岐ポリシロキサンの粘度は、約１０，０００ｃＰｓ、約２５，０００ｃＰｓ、約５０，０００ｃＰｓであるかそれらより大きい、またはより高い粘度であってよい。
【００４８】
１つの実施態様において、４価のＳｉＯ４／２基（すなわち、Ｑ基）は、分岐ポリシロキサン組成物から除外される。
【００４９】
別の実施態様において、例えば、アルファ−オレフィンのような不飽和炭化水素化合物は、分岐ポリシロキサンが誘導される成分混合物から除外される。そのような不飽和炭化水素化合物の幾つかの例は、式ＣＨ２＝ＣＨＲ１のアルファ−オレフィンを含み、式中、Ｒ１は、ハロゲン、水素、または１から６０の炭素原子を持つヘテロ原子で置換されたまたは無置換の炭化水素基から選択される。幾つかのヘテロ原子は、酸素（Ｏ）原子および窒素（Ｎ）原子を含む。
【００５０】
さらに別の実施態様において、オキシアルキレン含有および／またはエステル含有の、飽和または不飽和の化合物のようなオキシ置換炭化水素化合物は、分岐ポリシロキサン組成物から除外される。
【００５１】
分岐ポリシロキサンは、ヒドロシリル化条件下で成分（ａ）と成分（ｂ）との共重合から生成する。「ヒドロシリル化条件」は、不飽和基を有する化合物とシリルヒドリド基を有する化合物との間のヒドロシリル化による架橋に関して、当業者に既知の条件を意味する。
【００５２】
当業者に既知であるように、ヒドロシリル化触媒は、成分を混合する間に、または混合した後に、適切な温度で成分（ａ）と（ｂ）との間のヒドロシリル化反応を促進するか、または達成するのに必要である。ヒドロシリル化触媒は、典型的には１つもしくはそれ以上の白金族金属または白金族金属錯体を含む。例えば、ヒドロシリル化触媒は、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、または白金の金属形態または錯体形態であってよい。より典型的には、ヒドロシリル化触媒は白金系である。白金系触媒は、例えば、白金の金属、担体（例えば、シリカ、チタニア、ジルコニア、または炭素）上に析出させた白金の金属、塩化白金酸、または白金の錯体であってよく、ここで白金は、ジビニルテトラメチルジシロキサンのような弱く結合する配位子と錯体を形成する。白金触媒は、例えば、１から１００ｐｐｍの濃度範囲で含まれてよいが、より典型的には約５から約４０ｐｐｍの濃度で含まれる。
【００５３】
補助的な成分および他の成分は、分岐ポリシロキサンの作製用の成分混合物に必要に応じて含まれてよい。幾つかのタイプの補助的な成分は、触媒阻害剤、界面活性剤、および希釈剤を含む。触媒阻害剤の幾つかの例は、マレイン酸エステル、フマル酸エステル、不飽和アミド、アセチレン化合物、不飽和イソシアナート、不飽和炭化水素ジエステル、ヒドロペルオキシド、ニトリル、およびジアジリジンを含む。希釈剤の幾つかの例は、炭化水素（例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン）、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、およびキシレン）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、およびハロゲン化炭化水素（例えば、トリクロロエテンおよびテトラクロロエチレン）を含む。
【００５４】
実施例は、例証を目的として以下に説明されている。本発明の範囲は、ここに説明された実施例によって決して制限されるものではない。
【実施例】
【００５５】
実施例１
分岐ポリシロキサン組成物の合成
本実施例において、成分Ａと称される成分は、市販の２００から３００ｃＰｓの粘度を持つ、式ＭｖｉＤ１１０Ｍｖｉの二官能性ビニル末端のポリシロキサンである。成分Ｂと称される成分は、市販の６，０００から１５，０００ｃＰｓの粘度、および１５５から１８０ｐｐｍの水素化物含量を持つ、式ＭＤ５００ＤＨ６．５Ｍの六官能性シリルヒドリド含有ポリシロキサンであり、式中、６．５は、Ｄ基中で不規則に組み込まれたＤＨ基の平均数を表す。成分Ｃと称される成分は、市販の１０重量％の白金を含む触媒製剤である。
【００５６】
頂部のかくはん器、窒素ガス注入口、温度計、および油浴を備えた１リットルの反応器に、１６８．７ｇ（約２０．２ｍｍｏｌ）の成分Ａおよび約０．０５ｇの成分Ｃを入れた。混合物を周囲条件下で１時間かくはんした。次に、５４．４ｇ（約１．４ｍｍｏｌ）の成分Ｂを４℃まで冷却し、次にかくはんしながら前記の成分に加えた。混合物を周囲条件下で１５分間かくはんし、その後ゆっくりと９０℃に加熱した。３０分後、多少のゲル化が観察された。この反応混合物に、９０℃で２５５．５ｇの成分Ａを加えた。混合物を９０℃で２時間かくはんし、室温（およそ２５℃）に冷却し、そして反応器から取り出した。生成物の量は、４３０．９ｇであり、収率９０％に相当した。ずり粘性と剛性率を１２Ｈｚで測定したところ、それぞれ２．８１３Ｐａ．ｓと２０１．２Ｐａであった。
【００５７】
上で述べたように、本発明の好ましい実施態様であると現在考えられることを記載したが、本発明の趣旨から逸脱しないで、他の実施態様およびさらなる実施態様がなされうることを、当業者なら明確に理解しよう。ここで説明した特許請求の真の範囲内に入る、そのような更に進んだ修飾および変更の総てを含むことを意図するものである。
【国際調査報告】
2010502780.tif 000002
2010502780.tif 000003