(57)【要約】  本発明は、被膜および／または汚れを建設材料から除去するために使用することができる、落書き防止処理剤などの処理剤に関する。本発明の処理剤はβ−ジカルボニル生成物が使用される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
建築材料上の被膜および／または汚れの除去を促進する処理剤としてのβ−ジカルボニル生成物の使用。
【請求項２】
処理剤が、塗料の除去を促進する処理剤であることを特徴とする、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
処理剤が、落書き防止処理剤であることを特徴とする、請求項１または２に記載の使用。
【請求項４】
建築材料が、
セラミック、
水硬性バインダー材料、
木材、
テラコッタ、または
石
であることを特徴とする、請求項１から３の一項に記載の使用。
【請求項５】
β−ジカルボニル生成物が液体処理剤組成物中に含まれていることを特徴とする、請求項１から４の一項に記載の使用。
【請求項６】
組成物が水および／または溶媒および／またはストリッパーを含むことを特徴とする、請求項５に記載の使用。
【請求項７】
β−ジカルボニル生成物が、１種類のβ−ジカルボニル化合物または複数のβ−ジカルボニル化合物の混合物もしくは少なくとも１種類のβ−ジカルボニル化合物を含む複合混合物であり、これらの混合物は、β−ジカルボニル化合物の少なくとも５重量％、好ましくは少なくとも１０重量％、好ましくは少なくとも５０重量％、および好ましくは少なくとも８０重量％を含むことを特徴とする、請求項１から６の一項に記載の使用。
【請求項８】
β−ジカルボニル生成物が、
５−メチル−１−フェニルヘキサン−１，３−ジオン、
オクタノイルベンゾイルメタン、
ヘプタノイルベンゾイルメタン、
ステアロイルベンゾイルメタン、
ジベンゾイルメタン、および／または
カルシウムまたはアセチルアセトン酸亜鉛
を含むことを特徴とする、請求項１から７の一項に記載の使用。
【請求項９】
除去が全体的または部分的であることを特徴とする、請求項１から８の一項に記載の使用。
【請求項１０】
β−ジカルボニル生成物を材料の表面に適用するステップを含む、被膜および／または汚れの除去を促進するための建築材料の処理方法。
【請求項１１】
β−ジカルボニル生成物が液体処理剤組成物中に含まれることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記処理に続いて、被膜および／または汚れに適用された後に、溶媒および／またはストリッパーを含む除去組成物の助けを借りて被膜および／または汚れを除去するステップが行われることを特徴とする、請求項１から１１の一項に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１０から１２の一項に記載の方法により処理された、建築材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、建築材料上の被膜および／または汚れの除去を促進する処理剤に関する。これは、例えば落書き防止処理剤であってよい。本発明の処理剤はβ−ジカルボニル生成物を使用する。
【０００２】
被膜および／または汚れ、例えば落書きを建築材料から除去するために、これらの除去を促進するための処理剤が使用される。処理剤は典型的にはこの材料に適用される。誰かが落書きをした場合、好適な組成物を使用することで材料がきれいになる。予備処理によって除去が促進される。
【背景技術】
【０００３】
これらの処理剤の場合、フッ素化ラテックス型ポリマーの使用が知られている。建築材料への適用が意図されたこのようなポリマーを含む製品は、特にＰｒｏｔｅｃｔｇｕａｒｄ（登録商標）の名称で販売されている。しかし、これらのポリマーで常に満足できる結果が得られるわけではない。さらに、フッ素化ラテックス型のポリマーは高価である。より安価な別の処理剤が必要とされている。
【発明の概要】
【０００４】
本発明は、建築材料上の被膜および／または汚れの除去を促進するために、β−ジカルボニル生成物の処理剤としての使用を提案することによってこの要求を満たす。
【０００５】
本発明は、β−ジカルボニル生成物を材料の表面に適用するステップを含む建築材料の処理方法にも関する。本発明は、β−ジカルボニル生成物を含む、このように処理された材料にも関する。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は、等級０（表面が清浄でない。）の場合を示す写真である。
【図２】図２は、等級１（表面の２０％が清浄である。）の場合を示す写真である。
【図３】図３は、等級２（表面の４０％が清浄である。）の場合を示す写真である。
【図４】図４は、等級３（表面の６０％が清浄である。）の場合を示す写真である。
【図５】図５は、等級４（表面の８０％が清浄である。）の場合を示す写真である。
【図６】図６は、等級５（表面の１００％が清浄である。）の場合を示す写真である。
【０００７】
被膜および／または汚れは塗料であってよい。建築材料上の被膜および／または汚れの除去を促進する本発明の処理剤は、特に塗料の除去を促進する処理剤であってよい。この塗料は、装飾、芸術、抗議および／または糾弾の目的で一般に作成されるが、この建築材料の所有者、製造者および／または使用者には望まれていない落書きの結果によるものであり得る。従って、本発明の処理剤は落書き防止処理剤であり得る。
【０００８】
塗料は、所有者、製造者および／または使用者による特定の目的、例えば表示または安全の目的で適用されている場合もあることに注意されたい。この場合、前記所有者、製造者および／または使用者は、塗料を一時的に適用しており、後に塗料を除去することを意図している。
【０００９】
本特許出願において、用語「建築材料」は、公的な領域において見ることができるあらゆる大型構成材料を意味し（企業およびレストランなどの多数の人々が利用可能な建造物内部、第三者が利用可能な建造物の外装部品、輸送手段、床、都市設備など）を意味し、個人的な領域（第三者が利用できないアパートの一部や住宅）とは対照的である。
【００１０】
建築材料は、例えば、
セラミック、好ましくは例えば光沢のある陶器製のタイル、
好ましくはセメント、モルタルまたはコンクリートでできた水硬性バインダー材料、
木材、
テラコッタ、例えばれんが、屋根瓦または陶器製床タイル、または
石、好ましくは多孔質の石であってよい。
【００１１】
これらは特に、ファサード、採石された石（ｑｕａｒｒｙ  ｓｔｏｎｅ）、バラスター、コーニス、彫像、接合部、開口のまぐさおよびたて部、外装、プリンス、バルコニー、テラス、階段、歩道および通路、囲い、植木鉢台、駐車場、主要通路、車庫の床、プールの縁石、噴水の縁、バーベキュー用の炉、屋根および煙突などの室外の面であり得る。
【００１２】
これらは、床、炉胸、調理台、タイルの継ぎ目などの室内の面であってよい。
【００１３】
これらは特に、多孔質材料、例えば石灰質の石、大理石、砂岩、花崗岩、粘板岩、テラコッタ（屋根瓦、建築用れんがまたは陶器製床タイル）、コンクリート製品、下塗り（ＭＰＣ）、再生石またはビチューメンであってよい。
【００１４】
建築材料は、プレハブの構成要素であってもよいし、建築現場で製造された建築部材であってもよい。
【００１５】
被膜および／または汚れの除去は、全体的な場合も部分的な場合もある。本発明によって特に、
事前に処理剤を適用しなかった場所よりも除去を増加させること、および／または
同等の処理の場合に、労力および／または除去組成物量を最小限にすることが可能となる。
【００１６】
本発明の処理のために、好ましくはβ−ジカルボニル生成物が液体処理剤組成物中に含まれる。この生成物は、例えば浸漬、吹き付け、またはブラシやローラーによる適用によるあらゆる好適な手段で適用することができる。塗装および／または洗浄の分野において私用される手段、例えばスプレーガンまたは加圧噴霧器を特に使用することができる。
【００１７】
適用される処理剤の量は、例えば０．００５から０．５ｇ／ｍ２（乾燥β−ジカルボニル生成物の量として表される。）の間であってよい。
【００１８】
処理剤は、１回で適用することもできるし、選択された時間間隔（例えば１年に１回）で数回適用することもできる。
【００１９】
一般に、本発明の処理は、被膜および／または汚れが適用された後、特に落書きが形成された後、溶媒および／またはストリッパーを含む除去組成物を使用して被膜および／または汚れを除去するステップによって行われる。使用できる溶媒としては、特に、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）などのケトン、ジカルボン酸ジエステル、好ましくはジメチルエステル、例えばＲｈｏｄｉａよりＲｈｏｄｉａｓｏｌｖ（登録商標）ＲＰＤＥの名称で販売される製品が挙げられる。除去組成物は、市販もされている。例えば、Ｇｒａｆｆｉｇｕａｒｄ（登録商標）の名称で販売される製品が挙げられる。
【００２０】
処理剤を再生するための除去組成物へのβ−ジカルボニル生成物の添加が排除されるものではない。
【００２１】
β−ジカルボニル生成物
本発明のβ−ジカルボニル生成物は、１種類のβ−ジカルボニル化合物または複数のβ−ジカルボニル化合物の混合物もしくは少なくとも１種類のβ−ジカルボニル化合物を含む複合混合物であってよく、これらの混合物は、β−ジカルボニル化合物の少なくとも５重量％、好ましくは少なくとも１０重量％、好ましくは少なくとも５０重量％、および好ましくは少なくとも８０重量％を含む。
【００２２】
β−ジカルボニル化合物およびこれらの調製方法は当業者には公知である。このような化合物は市販されている。使用される方法、場合による精製、回収および／または副生成物の品質向上のステップに依存して、より一般的には生成物に期待される要求に依存して、以下の異なる種類の生成物を得ることができる。
【００２３】
例えば、β−ジカルボニル生成物の少なくとも９５重量％、さらには少なくとも９９重量％を含む、純粋または実質的に純粋なβ−ジカルボニル化合物、
β−ジカルボニル化合物が、例えば、少なくともβ−ジカルボニル化合物９５％を含む純粋または実質的に純粋である、複数のβ−ジカルボニル化合物の混合物、
β−ジカルボニル化合物の少なくとも５重量％、好ましくは少なくとも１０重量％、好ましくは少なくとも５０重量％、好ましくは少なくとも８０重量％、および一般に９５重量％未満を含む、β−ジカルボニル化合物を含む複合混合物、またはβ−ジカルボニル化合物と、β−ジカルボニル化合物ではない副生成物または不純物、例えば脂肪酸との混合物。場合に応じて、特にβ−ジカルボニル化合物の含有率と関連して、これらの生成物は、「粗生成物」、「重質残渣」または「重質残渣から誘導される生成物」と記載されることがある。
【００２４】
β−ジカルボニル化合物の重量比率は、ガスクロマトグラフィーによって特に正確に評価することができ、パーセント値としてのこれらの結果は重量比率に等しい。この分析を使用する場合、生成物３０ｍｇをクロロホルム１ｍｌ中に希釈し、持続性の黄色が得られるまで過剰のジアゾメタン（過剰分は後に除去される。）を使用してエステル化し（これはより厳密には、エステル化される生成物中に含まれ得る酸である。）、続いてトリメチルペンタン２０ｍｌを加える。より迅速で、精度は低いが第一近似としては十分である方法では、β−ジカルボニル化合物の含有率は、電位差測定によって求めることができる（酸の量が電位差測定によって求められ、次に生成物から差し引かれる。）。
【００２５】
本発明のβ−ジカルボニル化合物は特に全体的に、有機の形態または金属、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の錯体の形態、例えば亜鉛またはカルシウムの錯体の形態であってよい。
【００２６】
本発明のβ−ジカルボニル化合物は、アルカリ化剤、典型的にはアミドまたはアルコキシドなどの強塩基の存在下でのエステルとケトンとの縮合反応によって得ることができる。
【００２７】
より特に、上述の縮合反応で使用されるエステルは次式：Ｒ１’ＣＯＯＲ２’に対応し、式中、Ｒ１’は、１つ以上の基−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−または−ＣＯ−で場合により中断された１から３０個の炭素原子を含有する炭化水素系基を表し；Ｒ２’は、１から４個の炭素原子を含有する炭化水素系基を表す。
【００２８】
より特に、基Ｒ１’は、線状または分岐のＣ１−Ｃ３０および好ましくはＣ１−Ｃ２４アルキルまたはアルケニル基；少なくとも１つのＣ１−Ｃ１０アルキルまたはＣ１−Ｃ１０アルコキシ基、ハロゲン原子および／またはケイ素原子で場合により置換されたＣ６−Ｃ３０アリール基；Ｃ３−Ｃ１４脂環式基を表す。前記基は、炭素−炭素二重結合を場合により含んでもよく、１つ以上の基−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−または−ＣＯ−で場合により中断されていてもよい。
【００２９】
可能性のある基の中では、１つ以上のアルキルまたはアルコキシ置換基を場合により有するラウリル、ミリスチル、ステアリル、イソステアリル、パルミチル、ベヘニル、リグノセリル、オレイル、パルミトレイル、リノレイル、リノレニルまたはベンジル基を挙げることができる。
【００３０】
基Ｒ２’に関して、これは好ましくはＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。アルカリ化剤の性質に依存するが、縮合反応の条件下で対応するアルコールが揮発性となるように基Ｒ２’を選択すると好都合となり得ることに留意されたい。特に好都合な方法においては、前記基はメチル基である。
【００３１】
エステルはこの単純形態、または部分的または完全に縮合した形態であってよいことに留意されたい。一実施形態によると、エステルがエステル基に対してα位に水素を含有する場合、部分的または完全にβ−ケトエステルの形態で使用することができる。この場合、前出のエステルの式中、基Ｒ１’を、前出のエステルの式中でＲ１’ＣＯＲ’１で置き換えることができる。この場合、この式はＲ１’ＣＯＲ’１ＣＯＯＲ２’となり、Ｒ１’は前述と同じ意味を有し、二価の基であることを除けばＲ’１も同様である。
【００３２】
縮合反応中に使用されるケトンは、より特に、次式：Ｒ３ＣＯＣＨ２Ｒ４に対応し、式中、Ｒ３は、１つ以上の基−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−または−ＣＯ−で場合により中断された１から３０個の炭素原子を含有する炭化水素系基を表し；Ｒ４は、水素原子、または４個以下の炭素原子を含有する炭化水素系基を表す。
【００３３】
好ましくは基Ｒ３は、線状または分岐のＣ１−Ｃ３０および好ましくはＣ１−Ｃ２４アルキルまたはアルケニル基；少なくとも１つのＣ１−Ｃ１０アルキルまたはＣ１−Ｃ１０アルコキシ基、ハロゲン原子および／またはケイ素原子で場合により置換されたＣ６−Ｃ３０アリール基；Ｃ３−Ｃ１４脂環式基を表す。前記基は、炭素−炭素二重結合を場合により含んでもよく、１つ以上の基−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−または−ＣＯ−で場合により中断されていてもよい。
【００３４】
可能性のある基の中では、１つ以上のアルキルまたはアルコキシ置換基を場合により有するラウリル、ミリスチル、ステアリル、イソステアリル、パルミチル、ベヘニル、リグノセリル、オレイル、パルミトレイル、リノレイル、リノレニルまたはベンジル基が挙げられる。
【００３５】
基Ｒ４に関して、これは好ましくはＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。特に好都合な方法においては、前記基はメチル基である。
【００３６】
通常、ケトン対エステルのモル比は２／３から１／１の範囲内である。好ましくはエステルは、ケトンに対して最高３０ｍｏｌ％過剰で存在し、および非常に好ましくは５ｍｏｌ％から２０ｍｏｌ％過剰で存在する。
【００３７】
従って本発明のβ−ジカルボニル化合物は式Ｒ１’ＣＯＣＨ２ＣＯＲ３となることができ、式中、Ｒ１’およびＲ３は先に詳述した意味を有する。Ｒ１’およびＲ３が互いに結合して、β−ジカルボニル化合物が環の形態となることが排除されるものではない。
【００３８】
本発明の一実施形態によると、反応は溶媒の存在下で行われる。溶媒は、反応条件下で不活性である化合物から選択される。
【００３９】
従来、これは芳香族、脂肪族および環状の炭化水素；炭化水素系画分ならびにエーテルから選択される。
【００４０】
好ましくは溶媒は、アルキルベンゼン、例えばトルエン、ジアルキルベンゼンおよびトリアルキルベンゼンから選択されるが、イソプロピルエーテルであってもよく、トルエンおよびキシレンが好ましい。
【００４１】
さらに、縮合反応は塩基性剤（またはアルカリ化剤）の存在下で行われる。より特に、前記剤は、アミド、水素化物および１から４個の炭素原子を含有するアルコキシドから選択される。
【００４２】
通常、反応中に存在する塩基性剤のモル数は、塩基性剤／（エステルおよびケトンのモル数の合計）が約１となるモル比である。
【００４３】
第１の実施形態によると、縮合反応は、水素化ナトリウム、または好ましくはナトリウムアミドの存在下で行われる。
【００４４】
ナトリウムアミドが存在する場合、不活性雰囲気下、好ましくは窒素をフラッシングすることによって反応を行うことが好ましい。
【００４５】
さらに、反応は好ましくは３０から６０℃の間の温度で行われる。
【００４６】
本発明の第２の実施形態によると、塩基性剤はナトリウムアルコキシドであり、この対応するアルコールは、縮合反応の条件下で揮発性である。好ましくはこのアルコキシドはナトリウムメトキシドである。
【００４７】
さらにこの場合、溶媒は、反応温度よりも少なくとも２０℃高い沸点を有する溶媒から選択される。
【００４８】
好ましくは反応は還流下の溶媒中で行われる。
【００４９】
採用されるいずれの変形においても、反応は好ましくは塩基性剤と、適切であれば溶媒とを含むエステル中にケトンを投入することによって行われる。
【００５０】
塩基性剤の性質に依存するが、生成したアンモニアまたは生成したアルコールのいずれかを回収する手段を提供することが賢明である。
【００５１】
特に前記剤がアルコキシドである場合、反応混合物中に形成されるアルコールを徐々に除去することで、この方法の非常に好都合な特徴が示され、特に、所望のβ−ジカルボニル化合物の収率を増加させることが可能となる。
【００５２】
反応終了時、この場合も採用される変形とは無関係に、反応媒体が好ましくは酸性化される。
【００５３】
この目的のために、反応混合物が酸の水溶液中に投入され、好ましい酸は酢酸、塩酸および硫酸である。この水層のｐＨは好ましくは１から３の間の値に調整される。
【００５４】
水で少なくとも１回洗浄してから、蒸発などのあらゆる好適な手段によって溶媒を除去して、粗生成物が得られる。
【００５５】
この粗生成物は、所望のβ−ジカルボニル化合物（Ｒ１’ＣＯＣＨ２ＣＯＲ３）を含み、対称同族体（Ｒ１’ＣＯＣＨ２ＣＯＲ１’、Ｒ３ＯＣＨ２ＣＯＲ３）も副生成物と共に含む。従って、前述したような「複合混合物」であってよい。
【００５６】
副生成物の厳密な組成の評価は非常に複雑であることに留意されたい。これらは特に互いのβ−ジカルボニル化合物のクロトン化（ｃｒｏｔｏｎｉｚａｔｉｏｎ）反応によって生じる可能性もあるし、または塩基性剤が窒素を含む場合にはアミド官能基を含む化学種が出現するために生じる可能性もある。
【００５７】
第１の可能性によると、β−ジカルボニル生成物は、縮合反応から得られた粗生成物に相当するする混合物を含む。
【００５８】
この可能性の場合、β−ジカルボニル化合物の含有率は一般に４０重量％から９５重量％の間、および好ましくは４０重量％から８０重量％の間であり、副生成物の含有率は５重量％から６０重量％の間、および好ましくは２０重量％から６０重量％の間である。
【００５９】
この可能性によると、β−ジカルボニル生成物は、分割された固体の形態となる場合があり、使用される形成方法に依存するが、粉末またはフレークの形態となり得る。
【００６０】
限定を望むものではないが、組成物の形成方法の中では、フレーキング、溶媒中での沈殿、低温粉砕およびガス流中の噴霧／乾燥を挙げることができる。
【００６１】
フレーキングによって、常時冷却される回転ドラムに溶液を通すことによって反応混合物から溶媒を除去することができる。ドラム表面に固化した生成物は、ドクターブレードを使用してフレークの形態で回収される。
【００６２】
溶媒中での沈殿技術は、例えば、室温において粗生成物を、この温度においてこの粗生成物に対して良溶媒でない化合物、例えばエタノールまたはメタノールの中に注ぎ、形成された沈殿物を分離することにある。
【００６３】
低温粉砕に関して、この方法は、一般に、ミルの中に液体窒素またはＣＯ２などのあらゆる他の不活性液体ガスを投入し、粗い粉砕またはフレーキング技術によって得られた数ミリメートルから数センチメートルの破片の形態の粗反応生成物を投入することによって行われる。
【００６４】
最後に、噴霧／乾燥方法は、溶融形態の粗反応生成物を向流方向または並流方向に投入された冷不活性ガス流を介して噴霧することにある。
【００６５】
第２の可能性によると、β−ジカルボニル生成物は、精製ステップ中およびβ−ジカルボニル化合物からの分離後に回収される生成物に相当する混合物を含む。
【００６６】
この変形によると、粗生成物は好適な溶媒、例えばエタノールなどのアルコールから再結晶される。精製されたβ−ジカルボニル化合物は、特に濾過することによって、溶媒、および副生成物とβ−ジカルボニル化合物との混合物を含む溶液から分離される。次にこの溶液は、例えば蒸発によって、結晶化溶媒を除去する処理が行われる。この第２の可能性によると、このようにして生成物Ａが回収される。
【００６７】
この可能性によると、β−ジカルボニル化合物の含有率は一般に５重量％から４０重量％未満の間であり、副生成物の含有率は６０重量％から９５重量％の間である。
【００６８】
この第２の可能性によるβ−ジカルボニル生成物は、固体および／またはペーストの形態となることができる。
【００６９】
β−ジカルボニル生成物は好都合には液体処理剤組成物中に含まれる。この処理剤組成物は水および／または溶媒および／またはストリッパーを含むこともできる。β−ジカルボニル生成物が単独で使用される場合、液体である生成物が好ましくは使用される。
【００７０】
使用することができるβ−ジカルボニル生成物は特に、
５−メチル−１−フェニルヘキサン−１，３−ジオン、
オクタノイルベンゾイルメタン、
ヘプタノイルベンゾイルメタン、
ステアロイルベンゾイルメタン、
ジベンゾイルメタン、および／または
カルシウムまたはアセチルアセトン酸亜鉛
を含む生成物である。
【００７１】
このような生成物は、ＲｈｏｄｉａよりＲｈｏｄｉａｓｔａｂ（登録商標）の名称で販売されている。
【００７２】
本発明のβ−ジカルボニル生成物は、他の処理剤、特に、Ｇｒａｆｆｉｇｕａｒｄ（登録商標）の名称で販売される製品中に含まれるものなどのフッ素化ラテックス型ポリマーと組み合わせることができることに留意されたい。この組み合わせは、典型的には処理剤組成物中で調製される。このような組成物は相補性を付与することができ、即ちより広範囲の被膜および／または汚れに対する作用が得られたり、および／または処理剤の費用の低下に寄与したりすることができる。
【００７３】
本発明の処理剤組成物は、媒介物、例えば溶媒を含むこともできる。好適な溶媒は、除去組成物に関して前述している。この組成物は、この種類の処理剤に一般的に使用される添加剤から選択することができる他の添加剤を含むことができる。これらは、例えば、消泡剤または増粘剤であってよい。好ましくは処理剤組成物は、β−ジカルボニル生成物の少なくとも１０重量％、好ましくは少なくとも２５重量％、および最高１００重量％以下、例えば最高９０重量％を含む。
【００７４】
本発明の他の詳細および利点は、以下の非限定的な実施例を考慮すれば明らかとなる。
【実施例】
【００７５】
以下の生成物を使用する。
【００７６】
処理剤
「Ｒｈ９２」：Ｒｈｏｄｉａｓｔａｂ（登録商標）９２
「Ｒｈ９２／ＲＰＤＥ」：Ｒｈｏｄｉａｓｔａｂ（登録商標）９２  ５０重量％とＲｈｏｄｉａｓｏｌｖ（登録商標）ＲＰＤＥ  ５０重量％との混合物
Ｇｕａｒｄ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅより販売され、Ｐｏｉｎｔ  Ｐ  ｓｈｏｐで流通するＰｒｏｔｅｃｔｇｕａｒｄ（登録商標）（比較例）
電話番号（＋３３）８２５  ０７７  ０７７で連絡可能な企業による製品によって販売されるＮｏｖｉｐｒｏ（登録商標）（比較例）。
【００７７】
材料
多孔質面および非多孔質面を有する屋外床タイル、Ｐｏｉｎｔ  Ｐ  ｓｈｏｐで流通する３６×３６タイルと類似、１４２  １４０８参照、
松材パネル、
軽量コンクリートブロック。
【００７８】
落書きをシミュレートする塗料
Ｓｏｐｐｅｃより販売され、Ｐｏｉｎｔ  Ｐ  ｓｈｏｐで流通する蛍光オレンジのエアロゾル塗料「Ｏｒａｎｇｅ  Ｆｌｕｏ  ＴＰ」。
【００７９】
除去組成物
Ａ：Ｒｈｏｄｉａｓｏｌｖ（登録商標）ＲＰＤＥ
Ｂ：Ｇｕａｒｄ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅより販売され、Ｐｏｉｎｔ  Ｐ  ｓｈｏｐで流通するＧｒａｆｆｉｇｕａｒｄ（登録商標）２０３０。
Ｃ：Ｇｕａｒｄ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅより販売され、Ｐｏｉｎｔ  Ｐ  ｓｈｏｐで流通するＧｒａｆｆｉｇｕａｒｄ（登録商標）２０５０。
【００８０】
試験
処理剤を適用し（「含浸」）、塗料を適用し（「適用」）、種々の条件下で塗料をエージングし（「エージング」）、塗料を除去し（「脱インク」）、次に除去された塗料の量を目視で評価する（等級が得られる。）という試験を行う。種々の作業に関する詳細を以下に示す。
【００８１】
床タイル上への含浸
処理剤３ｍｌを非多孔質表面に適用し、６ｍｌを多孔質表面に適用し（０．０５３３ｇ／ｍ２で）、これを吸い取り紙で塗り広げ、室温で乾燥させる。
【００８２】
木材上への含浸
処理剤をはけで適用する。
【００８３】
適用
スプレー缶から塗料を３回適用する。
【００８４】
エージング
異なる種類のエージングが行われる。
【００８５】
エージング１：室温で２４時間乾燥
エージング２：室温で２４時間乾燥した後、Ｘｅｎｏｔｅｓｔ（ＵＶおよび雨をシミュレートする。）中で３０日間
エージング３：室温で２４時間乾燥した後、食塩水ミスト（５％ＮａＣｌ、３５℃）中に４週間。
【００８６】
脱インク
水平に置いたタイルに除去組成物２ｍｌを５分間適用した後、吸い取り紙で拭き取る。
【００８７】
等級分け
【００８８】
【表１】
2010513645.tif 000002
【００８９】
写真を撮影し、図中に示している。
【００９０】
（実施例１から１３）
タイルの平滑面の処理
文字Ｃは比較例を示している。種々の処理剤、種々のエージング、および種々の除去組成物を使用した場合の等級を報告する。
【００９１】
【表２】
2010513645.tif 000003
【００９２】
【表３】
2010513645.tif 000004
【００９３】
（実施例１４から２７）
タイルの多孔質面の処理
文字Ｃは比較例を示している。種々の処理剤、種々のエージングおよび種々の除去組成物を使用した場合の等級を報告する。
【００９４】
【表４】
2010513645.tif 000005
【００９５】
【表５】
2010513645.tif 000006
【００９６】
【表６】
2010513645.tif 000007
【００９７】
本発明の処理剤は、除去組成物が同じ場合には、塗料の除去に関して比較例と同等以上の結果が得られることが分かった。
【００９８】
（実施例２７および２８）
松材の処理
文字Ｃは比較例を示している。処理剤を使用する場合または使用しない場合で、除去組成物Ａを使用した場合の等級を報告する。
【００９９】
【表７】
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【０１００】
（実施例２９および３０）
軽量コンクリートブロックの処理
文字Ｃは比較例を示している。処理剤を使用する場合または使用しない場合で、種々の除去組成物を使用した場合の等級を報告する。
【０１０１】
【表８】
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【０１０２】
本発明の処理剤は、塗料の含浸を防止する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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