(57)【要約】  本発明の１つの態様によれば、モールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャを有するゾル−ゲルセラミック領域を含んだ、移植可能または挿入可能な医療用デバイスが提供される。
2010536431.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャを備えたゾル−ゲルセラミック領域を含んでなる、移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項２】
モールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャはマクロ細孔を含んでなる、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項３】
モールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャはナノ細孔を含んでなる、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項４】
モールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャは高密度の多孔性表面である、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項５】
セラミック領域はチタン酸化物を含んでなる、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項６】
セラミック領域はジルコニウム酸化物を含んでなる、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項７】
セラミック領域はイリジウム酸化物を含んでなる、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項８】
セラミック領域は２以上の金属酸化物または半金属酸化物の混合物を含んでなる、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項９】
セラミック領域は金属酸化物または半金属酸化物とポリマーとを含んでなる、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項１０】
セラミック領域は、医療用デバイス全体、または医療用デバイスの個別の構成要素に相当する、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項１１】
セラミック領域は、下層をなす医療用デバイス基材の全体または一部の上に配置されたセラミック層である、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項１２】
基材は金属性基材である、請求項１１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項１３】
基材は、チタンおよび白金から選択されるほぼ純粋な金属を含んでなる、請求項１２に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項１４】
基材は、ニッケル−チタン合金、ステンレス鋼、白金で強化された放射線不透過性のステンレス鋼、およびコバルト−クロム−モリブデン合金から選択される金属合金を含んでなる、請求項１２に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項１５】
基材は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、鉄、亜鉛、およびこれらの組み合わせから選択されるほぼ純粋な金属または金属合金を含んでなる生物分解性の金属性基材である、請求項１２に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項１６】
医療用デバイスは非平面状の医療用デバイスである、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項１７】
医療用デバイスは管状の医療用デバイスである、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項１８】
医療用デバイスはステントである、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項１９】
医療用デバイスは、内側表面にモールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャを備えたステントである、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項２０】
医療用デバイスは、外側表面にモールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャを備えたステントである、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項２１】
前記医療用デバイスは治療薬を含んでなる、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項２２】
前記医療用デバイスは追加の治療薬を進める、請求項２１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項２３】
治療薬はセラミック領域内に配置される、請求項２１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項２４】
治療薬は、抗血栓剤、抗増殖剤、抗炎症剤、抗遊走剤、細胞外マトリックスの産生および構築に作用する薬剤、再狭窄防止剤、抗新生物剤、抗有糸分裂剤、麻酔薬、抗凝血剤、血管細胞増殖促進物質、血管細胞増殖抑制剤、コレステロール降下剤、血管拡張剤、内在性の血管作動性機構を妨げる薬剤、ならびにこれらの組み合わせから選択される、請求項２１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【請求項２５】
医療用デバイスはステントであり、モールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャはステントが展開配置されるとステントの軸に平行に伸びる直線的な表面フィーチャをさらに含んでなる、請求項１に記載の移植可能または挿入可能な医療用デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィーチャが施された表面を有する医療用デバイスに関し、より具体的には、モールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャを備えたゾル−ゲルセラミック領域を有する医療用デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種のセラミック材料は生体活性を有することが知られている。本明細書中に定義されるように、「生体活性材料」は、周囲組織（例えば骨組織または軟組織）との良好な接着を促進するが、有害な生物学的作用（例えば線維性結合組織のような結合組織の形成）は最小限である材料である。生体活性を有するセラミック材料（「バイオセラミック」と呼ばれる場合もある）の例には、リン酸カルシウムセラミック、例えばハイドロキシアパタイト；リン酸カルシウムガラス（ガラスセラミックと呼ばれる場合もある）、例えばバイオガラス；ならびに様々な金属酸化物セラミック、例えば、数ある材料の中でもチタン酸化物、イリジウム酸化物、ジルコニウム酸化物、タンタル酸化物およびニオブ酸化物であって、特にルチル、アナターゼおよびペロブスカイトのような様々な形態のもの、が挙げられる。この点に関して、人工材料上での骨様アパタイトの形成は、特にＳｉ−ＯＨ、Ｔｉ−ＯＨ、Ｚｒ−ＯＨ、Ｎｂ−ＯＨおよびＴａ−ＯＨを含む官能基によって誘導されることが提唱されてきた（非特許文献１）。
【０００３】
さらに、生体活性は与えられた表面の構造に依存することも知られている。例えば、平滑筋細胞および内皮細胞はナノパターン形成された表面上で細胞接着および細胞増殖が向上したことを報告する、Ｅ．Ｋ．Ｆ  イムらの総説（非特許文献２）を参照のこと。どちらの種類の細胞もナノトポグラフィに敏感に反応した。イムらは、高さ１３ｎｍのアイランドを備えた基材上では、高さ３５ｎｍおよび９５ｎｍのアイランドに比べて内皮細胞の接着および増殖が高まることを報告している。さらに、内皮細胞は表面の化学的性質にも敏感であった。例えば、非特許文献３も参照のこと。
【０００４】
ナノポーラスな酸化アルミニウムコーティングは、陽極酸化技術および物理蒸着技術を使用して、土台のステント上で形成されてきた。例えば、表題が「Ｉｍｐｌａｎｔ  ｗｉｔｈ  ｃａｖｉｔｉｅｓ  ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ  ａｇｅｎｔｓ」である特許文献１、および非特許文献４を参照のこと。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許第６７０９３７９号明細書
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｔ．Ｋｏｋｕｂｏ  ｅｔ  ａｌ．，“Ｎｏｖｅｌ  ｂｉｏａｃｔｉｖｅ  ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ｗｉｔｈ  ｄｉｆｆｅｒｅｎｔ  ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ”，Ｂｉｏｍａｔｅｒｉａｌｓ，２００３，２４（１３）：２１６１−７５
【非特許文献２】Ｅ．Ｋ．Ｆ  Ｙｉｍ  ｅｔ  ａｌ．，“Ｓｉｇｎｉｆｉｃａｎｃｅ  ｏｆ  ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  ｎａｎｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ  ｉｎ  ｄｉｃｔａｔｉｎｇ  ｃｅｌｌｕｌａｒ  ｒｅｓｐｏｎｓｅ”，Ｎａｎｏｍｅｄｉｃｉｎｅ：Ｎａｎｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｂｉｏｌｏｇｙ，ａｎｄ  Ｍｅｄｉｃｉｎｅ  １（２００５）１０−２１
【非特許文献３】Ｖｉｉｔａｌａ  Ｒ．ｅｔ  ａｌ．，“Ｓｕｒｆａｃｅ  ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ  ｏｆ  ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ｂｉｏａｃｔｉｖｅ  ａｎｄ  ｎｏｎ−ｂｉｏａｃｔｉｖｅ  ｓｏｌ−ｇｅｌ  ｄｅｒｉｖｅｄ  ｍａｔｅｒｉａｌｓ”，Ｂｉｏｍａｔｅｒｉａｌｓ．２００２  Ａｕｇ；２３（１５）：３０７３−８６
【非特許文献４】Ｈ．Ｗｉｅｎｅｋｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｃａｔｈｅｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｃａｒｄｉｏｖａｓｃｕｌａｒ  Ｉｎｔｅｒｖｅｎｔｉｏｎｓ  ６０（２００３）３９９−４０７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的はフィーチャが施された表面を有する医療用デバイスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の態様によれば、モールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャを備えたゾル−ゲルセラミック領域を含む、移植可能または挿入可能な医療用デバイスが提供される。
【０００９】
本発明のある実施形態の利点は、アルミナの他にも種々様々の材料、例えば、数多い中でも特にチタン、ジルコニウム、イリジウム、タンタル、ニオブ、ルテニウム、スズの酸化物およびこれらの組み合わせについて、サブミクロンの表面フィーチャを作成可能なことである。
【００１０】
本発明のある実施形態の別の利点は、制御された生物相互作用を有する医療用デバイスを提供できることである。
本発明の上記およびその他の実施形態および利点は、以降の詳細な説明および特許請求の範囲を検討すれば当業者には直ちに明白となるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態による、平面状の医療用デバイス基材と平面状のモールドとの間に配置されたゾル−ゲル前駆体を備えているアセンブリの部分断面を示す概略図である。
【図２Ａ】本発明の実施形態による、管状の医療用デバイス基材と平面状のモールドとの間に配置されたゾル−ゲル前駆体を備えているアセンブリの断面を示す概略図である。
【図２Ｂ】本発明の実施形態による、管状平面状の医療用デバイス基材と中実の円筒状モールドとの間に配置されたゾル−ゲル前駆体を備えているアセンブリの断面を示す概略図である。
【図３Ａ】本発明の実施形態による、管状の医療用デバイス基材と、巻かれてチューブの形態となっている平面状のモールドとの間に配置されたゾル−ゲル前駆体を備えているアセンブリの断面を示す概略図である。
【図３Ｂ】本発明の実施形態による、管状の医療用デバイス基材と、巻かれてチューブの形態となっている平面状のモールドとの間に配置されたゾル−ゲル前駆体を備えているアセンブリの断面を示す概略図である。
【図４Ａ】本発明の実施形態による、管状の医療用デバイス基材と中空の円筒状モールドとの間に配置されたゾル−ゲル前駆体を備えているアセンブリの断面を示す概略図である。
【図４Ｂ】本発明の別の実施形態による、管状の医療用デバイス基材と中空の円筒状モールドとの間に配置されたゾル−ゲル前駆体を備えているアセンブリの断面を示す概略図である。
【図４Ｃ】本発明の別の実施形態による、管状の医療用デバイス基材と、補強要素によって補強された中空の円筒状モールドとの間に配置されたゾル−ゲル前駆体を備えているアセンブリの断面を示す概略図である。
【図５】中空の円筒状モールドと追加のモールド構成要素との間に配置されたゾル−ゲル前駆体を備えている、本発明のアセンブリを例証する概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
上述のように、１つの態様では、本発明は、モールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャを有するゾル−ゲルセラミック領域を含む、移植可能または挿入可能な医療用デバイスを提供する。
【００１３】
本明細書中で使用されるように、「セラミック領域」は、１以上のセラミック材料（例えば、数多い中でも特に、下記に議論されるもののような１以上の金属酸化物および／または半金属酸化物）を含む、例えば１以上のセラミック材料を５０重量％以下から７５重量％、９０重量％、９５重量％、９７．５重量％または９９重量％以上まで様々な量で含んでいる領域（例えば単一体の領域、コーティング層など）である。
【００１４】
本明細書中で使用されるように、「ゾル−ゲルセラミック領域」は、ゾル−ゲル化学反応を使用して形成されるセラミック領域である。
本明細書中で使用されるように、「サブミクロンの表面フィーチャ」は、物理的フィーチャ、例えば細孔、溝、もしくはその他の陥凹部、または突起、隆起、もしくはその他の突出部であって、１ミクロン（１μｍ）以下の幅を有するものである。いくつかの実施形態では、本発明のサブミクロンの表面フィーチャは、セラミック領域の生体活性を向上させるように寸法および間隔が決定される。
【００１５】
本明細書中で使用されるように、「モールド成形された」サブミクロンの表面フィーチャはモールドを使用して作成されたものである。
本明細書中で使用されるように、「モールド」は、該モールドによって、例えばモールドを可塑性材料にスタンピングすることによって、またはモールドの存在下で液体材料を固化することによって作成されるフィーチャとは逆のフィーチャを有する鋳型である。
【００１６】
本明細書中で使用されるように、「サブミクロン細孔」は、１ミクロン以下の幅を有する細孔である。本明細書中で使用されるように、「ナノ細孔」は、５０ｎｍ以下の幅を有する細孔である。本明細書中で使用されるように、ナノ細孔には、幅が２ｎｍ未満である「マイクロ細孔」、および幅が２〜５０ｎｍの範囲である「メソ細孔」が含まれる。本明細書中で使用されるように、「マクロ細孔」は幅が５０ｎｍより大きく、従ってナノ細孔ではない。本明細書中で使用されるように、「多孔性表面」は細孔を含んでいる表面である。「サブミクロポーラス表面」は、サブミクロン細孔を含んでいる表面である。「ナノポーラス表面」はナノ細孔を備えている表面；「マクロポーラス表面」はマクロ細孔を備えている表面；などである。
【００１７】
本発明のいくつかの実施形態では、高密度の多孔性表面が生成される。本明細書中で使用されるように、「高密度の多孔性表面」は、細孔の間の表面積が全表面積の７５％未満である多孔性表面である。いくつかの実施形態では、多孔性表面は、該多孔性表面の細孔の、最も近い隣の細孔との平均の中心−中心間距離が、平均細孔幅の３倍未満である多孔性表面である。
【００１８】
上述のように、「サブミクロンのフィーチャ」は幅が１ミクロン未満である。本明細書中で使用されるように、「フィーチャが施された表面」は、上記に記載したようなフィーチャを含んでいる表面である。「サブミクロンのフィーチャが施された表面」は、サブミクロンのフィーチャを含んでいる表面である。「ナノフィーチャ」は、５０ｎｍ以下の幅を有しているフィーチャである。本明細書中で使用されるように、ナノフィーチャには、幅が２ｎｍ未満である「マイクロフィーチャ」、および幅が２〜５０ｎｍの範囲にある「メソフィーチャ」が含まれる。本明細書中で使用されるように、「マクロフィーチャ」は幅が５０ｎｍより大きく、従ってナノフィーチャではない。「ナノフィーチャが施された表面」はナノフィーチャを含んでいる表面；「マクロフィーチャが施された表面」はマクロフィーチャを含んでいる表面；などである。
【００１９】
本発明から利益を得る医療用デバイスには、処置上の用途のために、またはインプラントとして対象者に移植または挿入される、様々な移植可能または挿入可能な医療用デバイスがある。例を挙げると、ステント（冠状動脈ステント、脳ステントのような末梢血管ステント、尿道ステント、尿管ステント、胆管ステント、気管ステント、胃腸管ステントおよび食道ステントを含む）、ステントグラフト、血管グラフト、腹部大動脈瘤（ＡＡＡ）デバイス（例えばＡＡＡステント、ＡＡＡグラフト）、血管アクセスポート、透析ポート、カテーテル（例えばバルーン付きカテーテルのような、腎臓カテーテルまたは血管カテーテル）、ガイドワイヤ、バルーン、フィルタ（例えば大静脈フィルタ）、血管アクセスポート、塞栓デバイスであって例えば脳動脈瘤充填コイル（グリエルミ離脱型コイル（Ｇｕｇｌｉｅｌｍｉ  ｄｅｔａｃｈａｂｌｅ  ｃｏｉｌ）および金属コイルを含む）、ミクロスフェアまたは他の粒子、例えば塞栓粒子および組織膨化粒子（ｔｉｓｓｕｅ  ｂｕｌｋｉｎｇ  ｐａｒｔｉｃｌｅ）、中隔欠損閉鎖デバイス、動脈内に配置され、該動脈のデバイスより先端側にある一部分を治療するようになされた薬物デポー、心筋プラグ、パッチ剤、ペースメーカー、ペースメーカーのリード、除細動器のリード、およびコイルなどのリード、左心補助心臓およびポンプなどの補助心臓、完全人工心臓、シャント、心臓弁および脈管弁を含む弁、組織工学の足場であって軟骨、骨、皮膚およびその他のｉｎ  ｖｉｖｏ組織再生用の足場、人工内耳、縫合糸、縫合固定具、吻合用のクリップおよびリング、手術部位における組織用ステープルおよび結紮クリップ、カニューレ、金属ワイヤ結紮糸、整形外科用人工器官、例えば骨移植片、骨プレート、フィンおよび癒合デバイス、人工関節、脊椎円板および脊髄核、ならびに、様々な疾病および疾患の治療または診断のために体内に移植または挿入するようになされた様々な他の医療用デバイス、がある。
【００２０】
本発明の医療用デバイスには、移植可能または挿入可能な医療用デバイスであって全身的な治療または診断に使用されるもの、同様に任意の哺乳類の組織または臓器の局所的な治療または診断に使用されるものが含まれる。非限定的な例は、腫瘍；臓器、例えば心臓、冠血管系および末梢血管系（全体で「血管系」と呼ばれる）、腎臓、膀胱、尿道、尿管、前立腺、膣、子宮および卵巣を含む泌尿生殖器系、目、耳、脊椎、神経系、肺、気管、食道、腸、胃、脳、肝臓および膵臓、骨格筋、平滑筋、乳房、皮膚組織、軟骨、歯、ならびに骨である。
【００２１】
本明細書中で使用されるように、「治療」は、疾病もしくは疾患の予防、疾病もしくは疾患に関連した症状の低減もしくは除去、または疾病もしくは疾患の十分もしくは完全な除去を指す。好ましい対象者（「患者」とも呼ばれる）は、脊椎動物の対象者、より好ましくは哺乳類の対象者、およびより好ましくはヒト対象者である。本発明と併用するための医療用デバイスの具体例には、再狭窄症の治療のために血管系内に治療薬を送達する、冠状動脈ステントおよび脳ステントのような血管ステントが挙げられる。
【００２２】
いくつかの実施形態では、本発明のゾル−ゲルセラミック領域は医療用デバイス全体に相当する。他の実施形態では、ゾル−ゲルセラミック領域は医療用デバイスの１以上の部分に相当する。例えば、ゾル−ゲルセラミック領域は、１以上の個別の医療用デバイス構成要素の形態、下層をなす医療用デバイス基材の全体またはごく一部の上に配置された１以上のゾル−ゲルセラミック層の形態、などであってよい。層は、下層をなす基材の上に、様々な配置で、かつ様々な形状で（例えば所望のパターンで、例えば適切な塗布技術またはマスキング技術を使用して）提供可能であり、また様々な組成の層であってよい。本明細書中で使用されるように、所与の材料の「層」とは、該材料の領域であってその厚さがその長さおよび幅のいずれと比較しても小さいもの、である。本明細書中で使用されるように、層は平面状である必要はなく、例えば下層をなす基材の輪郭を呈していてよい。層は不連続的であってもよい（例えば、パターン化されてもよい）。「薄膜」、「層」および「コーティング」のような用語は、本明細書中では互換的に使用される場合がある。
【００２３】
下層をなす基材として使用される材料には、ポリマー材料、セラミック材料および金属材料が含まれる。
ポリマー材料の具体例は、例えば、数多い中でも特に、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなフルオロポリマー、様々なポリビニルポリマー、および様々なポリウレタン、ゾル−ゲルセラミック領域に比べて優先的に溶解可能なポリマー、例えばポリメチルメタクリラート（ＰＭＭＡ）から選択可能である。
【００２４】
セラミック基材材料の具体例は、例えば、下記すなわち：数多い中でも特に、金属酸化物、例えば酸化アルミニウムおよび遷移金属酸化物（例えばチタン、ジルコニウム、ルテニウム、ニオブ、ハフニウム、タンタル、モリブデン、タングステン、レニウムおよびイリジウムの酸化物）；シリコン；シリコン系セラミック、例えばシリコン窒化物、シリコン炭化物およびシリコン酸化物を含むもの（ガラスセラミックと呼ばれる場合もある）；リン酸カルシウムセラミック（例えばハイドロキシアパタイト）；カーボンおよびカーボン系のセラミック類似材料、例えば窒化炭素；のうち１以上を含んでいる材料から選択可能である。
【００２５】
金属性基材材料の具体例は、例えば下記すなわち：数多い中でも特に、ほぼ純粋な金属、例えば金、白金、パラジウム、イリジウム、オスミウム、ロジウム、チタン、ジルコニウム、タンタル、タングステン、ニオブおよびルテニウム、ならびに合金、例えば鉄およびクロムを含んでなる合金（例えばステンレス鋼、例えば白金が豊化された放射線不透過性のステンレス鋼）、ニオブ合金、チタン合金、ニッケル合金、例えばニッケルおよびチタンからなる合金（例えばニチノール）、コバルトおよびクロムを含んでなる合金、例えばコバルト、クロムおよび鉄を含んでなる合金（例えばｅｌｇｉｌｏｙ（登録商標）合金）、ニッケル、コバルトおよびクロムを含んでなる合金（例えばＭＰ３５Ｎ）、コバルト、クロム、タングステンおよびニッケルを含んでなる合金（例えばＬ６０５）、ならびにニッケルおよびクロムを含んでなる合金（例えばインコネル（登録商標）合金）；のうち１以上を含んでいる材料から選択可能である。
【００２６】
金属性基材材料のさらなる例には、表題が「Ｍｅｔａｌｌｉｃ  ｉｍｐｌａｎｔ  ｗｈｉｃｈ  ｉｓ  ｄｅｇｒａｄａｂｌｅ  ｉｎ  ｖｉｖｏ」である米国特許出願公開番号第２００２／０００４０６０Ａ１号明細書に記載されている生物分解性の金属材料が挙げられる。これらには、主成分がアルカリ金属、アルカリ土類金属、鉄、および亜鉛から選択されるほぼ純粋な金属および合金、例えば、主成分としてマグネシウム、鉄または亜鉛と、下記すなわち：Ｌｉのようなアルカリ金属、ＣａおよびＭｇのようなアルカリ土類金属、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｃｄ、Ｚｒ、Ａｇ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｅ、ＦｅおよびＺｎのような遷移金属、ＡｌのようなＩＩＩａ群金属、ならびにＣ、Ｓｉ、ＳｎおよびＰｂのようなＩＶａ群元素、から選択された１以上の追加成分とを含有している金属および合金が含まれる。
【００２７】
本発明によるゾル−ゲルセラミック領域は、様々なセラミック材料、例えば様々な金属酸化物、半金属酸化物およびこれらの組み合わせから形成可能である。例えば、本発明によるゾル−ゲルセラミック領域は、シリコン、ゲルマニウム、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、鉄、ハフニウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、タングステン、レニウムおよびイリジウムの酸化物、ならびに２以上の前記金属および半金属の酸化物の組み合わせから形成可能である。
【００２８】
典型的なゾル−ゲル法では、一般に無機の金属および半金属の塩類、金属および半金属の錯塩／キレート化合物、金属および半金属の水酸化物、ならびに有機金属および有機半金属の化合物、例えば金属アルコキシドおよび金属アルコキシシランから選択された前駆体材料が、加水分解反応および縮合（重合と呼ばれる場合もある）反応に供されることによって、「ゾル」（すなわち固形微粒子の液体中懸濁液）が形成される。
【００２９】
例えば、選択された半金属または金属（シリコン、ゲルマニウム、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、スズ、鉄、ハフニウム、ニオブ、タンタル、モリブデン、タングステン、レニウム、イリジウムなど）の選択されたアルコキシド（メトキシド、エトキシド、イソプロポキシド、ｔｅｒｔ−ブトキシドなど）が、適切な溶媒中、例えば１以上のアルコール中で溶解され得る。続いて、水または他の水性溶液、例えば酸性または塩基性の水溶液（この水溶液はアルコールのような有機溶媒種をさらに含むことができる）が添加され、その結果加水分解および縮合が引き起こされる。望ましい場合は、追加の作用物質、例えば、特にゾルの粘性または表面張力のうち少なくともいずれか一方を調整する作用物質などを、添加することができる。
【００３０】
ゾル−ゲル反応は基本的に、Ｇ．Ｋｉｃｋｅｌｂｉｃｋ，Ｐｒｏｇ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２８（２００３）８３−１１４の以下の単純化されたスキーム：
【００３１】
【化１】
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で例証されるようなセラミックネットワーク形成過程であると理解されており、上記スキームにおいて、セラミック相内の金属／半金属原子（ここでは一般にＭとして表記）は、Ｍ−Ｏ−Ｍ結合のような共有結合によって互いに結合していることが示されているが、通常存在する他の相互作用、例えば、ネットワーク内の残余のＭ−ＯＨ基のような水酸基の存在に起因する水素結合も伴う。上述のように、人工材料上における骨様のアパタイトの形成は、特にＳｉ−ＯＨ、Ｔｉ−ＯＨ、Ｚｒ−ＯＨ、Ｎｂ−ＯＨおよびＴａ−ＯＨを含む官能基によって引き起こされることが提唱されている。
【００３２】
典型的なゾル−ゲル法では、いわゆる「湿潤ゲル」は、ゾルから（例えば基材上にゾルをコーティングすることにより）形成される。その後、湿潤ゲルは乾燥される。湿潤ゲル中の溶媒が超臨界条件下で除去される場合、一般に「エアロゲル」と呼ばれる材料が得られる。ゲルが冷凍乾燥（凍結乾燥）によって乾燥される場合、得られる材料は一般に「クリオゲル」と呼ばれる。周囲温度および周囲圧力での乾燥では、一般に「キセロゲル」と呼ばれるものが得られる。その他の可能な乾燥、例えば高温乾燥（例えばオーブン中）、真空乾燥（例えば周囲温度または高温で）なども利用可能である。ゾル−ゲル材料に関するさらに詳しい情報は、例えばＶｉｉｔａｌａ  Ｒ．ｅｔ  ａｌ，“Ｓｕｒｆａｃｅ  ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ  ｏｆ  ｉｎ  ｖｉｔｒｏ  ｂｉｏａｃｔｉｖｅ  ａｎｄ  ｎｏｎ−ｂｉｏａｃｔｉｖｅ  ｓｏｌ−ｇｅｌ  ｄｅｒｉｖｅｄ  ｍａｔｅｒｉａｌｓ”，Ｂｉｏｍａｔｅｒｉａｌｓ，２００２  Ａｕｇ；２３（１５）：３０７３−８６（非特許文献３）において見出すことができる。
【００３３】
サブミクロン細孔を備えた表面の形成におけるゾル−ゲル法の使用は実証済みである。特に、ゴー（Ｇｏｈ）らの文献すなわち、Ｃ．Ｇｏｈ  ｅｔ  ａｌ．，Ｎａｎｏ  Ｌｅｔｔ．，Ｖｏｌ．５，Ｎｏ．８，２００５，１５４５−１５４９では近年、チタニアのゾル−ゲル前駆体がポリ（メタクリル酸メチル）（ＰＭＭＡ）のモールドに適用されて、直径３５〜６５ｎｍの細孔が高密度で配列されているチタニアの薄膜が作られている。
【００３４】
この製法はポリマー製モールドを形成可能な鋳型の準備から始まる。金属および金属酸化物のモールドは、以下にさらに示すように、ポリマー製モールドにほとんど影響を及ぼさない条件下で溶解可能であるため、有用である。
【００３５】
アルミニウム陽極酸化処理法は極めて強健、正確でかつ高再現性が高いため、陽極のアルミナ鋳型は上記目的に関して特に魅力的である。種々の酸浴の使用により、また陽極酸化電圧の調節により調整される細孔間隔および細孔径、ならびに陽極酸化時間の調節により調整される細孔深さ（一般に陽極酸化アルミニウム層の厚さに相当する）を備えた多孔性の陽極アルミナを作製するための陽極酸化条件については、文献に十分な裏付けがある。そのようなパラメータを変えることにより、例えば５〜４２０ｎｍに及ぶ細孔径が報告されている。陽極酸化処理法でアルミナに形成される個々の細孔は乱雑であってもよいし、例えば六角形をなして詰め込まれた構造に規則的に配列されてもよい。細孔の配列化は、あらかじめ緩冷されて電解研磨された高純度アルミニウム薄膜を使用して改善されることが示されている。細孔の配列化はまた、陽極酸化電圧および選択される電解質などの陽極酸化条件にも依存する。細孔の配列化は、最初に一連の浅い凹形フィーチャが押込加工によってアルミニウム上に形成される、プレテクスチャリング加工の使用を通じて実施可能である。細孔の配列化は、２ステップ陽極酸化法の使用によっても実施可能である。第１ステップは、高純度アルミニウムを陽極酸化して多孔性のアルミナ層を形成することを含む。その後、この層が溶解されて、第１の陽極酸化ステップの間に形成された規則的配列の凹形フィーチャを備えたパターン化アルミニウム基材が生成される。その後、この規則的に並んだ凹形フィーチャは、第２の陽極酸化ステップにおいて高度に規則的に配列されたナノ細孔配列を形成するための初期部位としての機能を果たす。アルミニウム陽極酸化により、通常は、Ａｌ２Ｏ３の層によってアルミニウム基材から分離される多孔性アルミナ構造が生じる。陽極アルミナ処理についてのさらに詳しい情報については、例えば“Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｎａｎｏｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｎａｎｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”，Ｅｄ．，Ｎ．Ｓ．Ｎａｌｗａ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，２００３に収録されている、Ｈ．Ｘ．Ｈｅ  ｅｔ  ａｌ．，“Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ  ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｍｅｔａｌ  ｎａｎｏｗｉｒｅｓ”や、Ｆ．Ｌｉ  ｅｔ  ａｌ．Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１９９８，１０，２４７０−２４８０、およびＡ．Ｐ．Ｌｉ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，１９９８，８４（１１），６０２３−６０２６、ならびに本明細書中で引用される参照文献を参照のこと。
【００３６】
選択的エッチング処理に加えて、モールドは、特に選択的堆積処理および選択的フライス加工を使用して形成されてもよい。例えば、ＦＩＢ（集束イオンビームのスパッタリングおよび蒸着）として知られる処理を使用して、モールドにサブミクロンのフィーチャが提供されてもよい。そのような技術は、例えばＴ．Ｔａｎａｋａ  ｅｔ  ａｌ．，Ｔｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ  ５０９（２００６）１１３−１１７および本明細書中で引用される参照文献から分かるように、現在大きく進歩している。この技術を専門とする会社にはカナダ国オタワ所在のフィビックス社（Ｆｉｂｉｃｓ  Ｉｎｃ．）が挙げられる。
【００３７】
適切な表面フィーチャを有する鋳型が得られてしまえば、鋳型にポリマーが（例えば鋳型の細孔内にポリマーを浸透させることによって）導入されればよい。例えば、適切なモノマーが鋳型の存在下で重合されてもよいし、流体形態（例えば溶融物、溶液または未硬化のポリマー前駆体の形態）のポリマーが、鋳型に（例えばスピンコーティング、吹付コーティング、浸漬コーティング、インクジェット印刷、ローラーブラシまたはブレードのようなアプリケータを用いたコーティングにより）導入されて、固化されてもよい。
【００３８】
例えば上述のゴーらの文献では、陽極のアルミニウム鋳型上にクロロベンゼン中ＰＭＭＡ溶液の薄層をスピンコーティングし、続いて鋳型の細孔内への浸透を支援するために試料を２００℃に加熱することによって、モールドが準備された。ＰＭＭＡは、下記：（ａ）弾性率が比較的高いポリマーであるため、高密度かつ微細なフィーチャが複製されるのを可能にすること、（ｂ）鋳型への浸透を支援するために加熱することができること、（ｂ）鋳型への塗布を容易にし、かつゾル−ゲルセラミック領域からの除去を容易にするために、有機溶媒に溶解することができること、ならびに（ｄ）鋳型からＰＭＭＡを分離する処理およびゾル−ゲル法において使用される水溶液またはアルコール溶液のうち少なくともいずれかの溶液中で安定であること、を含むいくつかの理由で、望ましい複製材料である。操作を簡易化し、かつ様々な基材によく順応するのに十分な可撓性をモールドに提供するために、非常に柔軟な材料であるポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）の厚さ１ｍｍの層が、ゴーらのＰＭＭＡの上にコーティングされ、室温で硬化されて、モールドにバック層が提供された。その後、モールドは、例えば鋳型からモールドを引き離すか鋳型を破壊することにより、鋳型から取り外される。例えば、最初に鋳型のアルミニウム部分をＦｅＣｌ３／ＨＣｌ中でウェットエッチングし、続いてアルミナ部分をＮａＯＨ中でウェットエッチングすることにより、陽極処理されたアルミナ鋳型からＰＤＭＳ／ＰＭＭＡモールドが取り外されてもよい。Ｉｄ。
【００３９】
適切なモールドが得られれば、該モールドをゾル−ゲル法と共に使用して所望の形状および大きさの多孔性領域を形成することができる。例えば、上述のゴーらの文献では、ゾル−ゲル前駆体（すなわちチタンエトキシド、ＨＣｌおよび２−プロパノール）が基材上にスピンコーティングされ、続いてモールドとの接触が行われた後に前駆体が乾燥された。この方法では基材上に高密度の空隙がもたらされたので、ゾル−ゲル前駆体溶液はモールド上にもスピンコーティングされ、続いて基材との接触が行われた後に前駆体が乾燥された。前駆体が乾いた後で、ＰＤＭＳが剥がされた。その後、得られたＴｉＯ２に強く付着した残存ＰＭＭＡが、アセトニトリルに溶解された。得られた多孔性ＴｉＯ２薄膜は最後に空気中で焼成されて、直径３５〜６５ｎｍの細孔が高密度で配列されているチタニア薄膜が生成された。
【００４０】
本発明の態様に従って、類似の技術を使用してサブミクロンの表面フィーチャを有する医療用デバイスが形成される。シリコンウェハ、インジウムスズ酸化物でコーティングされたガラス基材、およびフッ素ドープ酸化スズでコーティングされたガラス基板の上に堆積された（かつ光起電性および光触媒性の用途において利用するために用いられた）、ゴーらの文献に記載のゾル−ゲル法によるチタン酸化物層とは異なり、本発明のゾル−ゲルセラミック領域は、医学的用途、典型的には生体適合性（生体活性を含む）を要する医学的用途または薬物送達の用途のうち少なくともいずれか一方のために提供される。
【００４１】
更に、ゴーらの文献ではナノポーラスなチタニアセラミック材料が形成されるが、特に上記に具体的に列挙した金属酸化物および半金属酸化物を含む、チタニア以外のゾル−ゲルセラミック材料を有するデバイスは、本発明の範囲内にある。さらに、ナノ細孔以外のフィーチャ、例えばサブミクロンの溝およびその他のサブミクロンの陥凹部、サブミクロンの突起、サブミクロンの隆起およびその他のサブミクロンの突出部、ならびにこれらの組み合わせも、本発明の範囲内にある。
【００４２】
例えば、サブミクロンのフィーチャは細胞の成長または増殖を刺激または緩徐化可能であることが知られている。例えば、Ｅ．Ｋ．Ｆ．Ｙｉｍ  ｅｔ  ａｌ．，Ｎａｎｏｍｅｄｉｃｉｎｅ：Ｎａｎｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｂｉｏｌｏｇｙ，ａｎｄ  Ｍｅｄｉｃｉｎｅ  １（２００５）１０−２１（非特許文献２）およびＳ．Ｂｕｔｔｉｇｌｉｅｒｉ  ｅｔ  ａｌ．，Ｂｉｏｍａｔｅｒｉａｌｓ  ２４（２００３）２７３１−２７３８を参照のこと。例えば、平滑筋細胞の増殖を規則的パターン（例えば３５０ｎｍのライン）によって抑制することが可能である一方、内皮細胞は（例えば１３ｎｍの山部によって）刺激されることが示されている。本発明のある実施形態では、サブミクロンのライン（すなわち、約２００〜５００ｎｍの幅を有する（かつ、同じ深さまたは間隔を有する）形態または隆起または溝の直線的フィーチャ）は、平滑筋細胞の増殖を阻害するために形成される。望ましい場合には、上記寸法のラインは、１３ｎｍの突出部（例えばナノドット、ナノ突起、ナノドームなど）とともに提供されてもよい。血管ステントの場合には、ステントが展開配置されるとステントの長手方向軸と平行になるラインが、ステントのストラット上に設けられてもよい。ステントが展開配置の間に変形（例えば湾曲）する場合、フィーチャはこれを考慮に入れて作成される場合もある。例えば、ステントの幾何学形状は展開配置の前後いずれについても分かっているので、展開配置前の段階（例えばレーザー切断後）から展開配置後の段階への各ステント要素の配向の変化を計算し、このマッピングをモールド作製時に考慮に入れることができる。
【００４３】
さらに、ゾル−ゲル法に基づいて、同様にポリマー合成、ポリマーの取扱および加工の原則に基づいて、１以上のポリマーをさらに含む本発明によるセラミック領域が形成されてもよい。ゾル−ゲル法は、例えば周囲温度で実施することが可能なので、ポリマーおよびその前駆体と併せて使用するのに適している。ポリマー−セラミック複合材料を生成するための様々な技術に関する総説は、例えばＧ．Ｋｉｃｋｅｌｂｉｃｋ，Ｐｒｏｇ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２８（２００３）８３−１１４に見出すことができる。
【００４４】
例えば、ポリマーを含有するセラミック領域は、キセロゲルのようなゲルをモノマーとともに含浸させて、ゲル内でモノマーを重合させることにより形成されてもよい。この種の技術を用いて、モノマー／ポリマーとゲルとの間の相互作用が巨視的な相分離を防ぐのに十分な強さである、一層良好な結果が得られる可能性がある。
【００４５】
反対に、ポリマーを含有するセラミック領域は、例えばゾル−ゲル前駆体の内部に予め形成されたポリマーを含めることにより形成されてもよい。上記のように、ポリマー成分とセラミック成分との間の相互作用が巨視的な相分離を防ぐのに十分な強さである、一層良好な結果が得られる可能性がある。
【００４６】
サブミクロン相のドメインを備えたポリマー含有セラミック領域は、ポリマー成分とセラミック成分との間の共有結合による相互作用を、例えば下記すなわち（ａ）セラミック前駆体の基（例えば、金属または半金属のアルコキシド基のような、加水分解／縮合に関与可能な基）とともにポリマーを含む、ゾル−ゲル前駆体を提供すること、（ｂ）セラミック前駆体の基およびポリマー前駆体の基の両方を含むゾル−ゲル前駆体を提供すること、ならびにその後加水分解／縮合反応および重合反応を同時に、または順次進めること、（ｃ）ポリマー前駆体の基（例えば、ビニル基または環状エーテル基のような、重合反応に関与可能な基）を含有しているセラミック領域を形成すること、およびその後１以上の重合ステップを行うこと、などのうちの１つによって提供することより作成されてもよい。
【００４７】
ここで図１に戻ると、平面状の医療用デバイス基材１１０と平面状のモールド１３０との間に配置されたゾル−ゲル前駆体１２０を備えた、本発明によるアセンブリ１００の部分的概略図が例証されている。ゾル−ゲル前駆体１２０が、例えば上述のようなスピンコーティングによってモールド１３０に塗布され、その後直ちに基材１１０に適用されてもよい。ゾル−ゲル前駆体１２０が乾燥した後、例えば上述のような溶媒溶解または別の方法で、現実的な場合は例えばモールドの物理的な取り外しもしくはその後の加熱ステップの間のモールドの破壊などによって、モールド１３０が除去されてもよい。
【００４８】
しかしながら本発明の様々な他の実施形態では、平面状でないゾル−ゲルセラミック領域が形成される。これらの実施形態のうちあるものにおいては、平面状のモールドであって、例えば、陽極処理アルミニウム鋳型または数ある技術の中でも特に集束イオンビームのスパッタリングもしくは蒸着のうち少なくともいずれかを使用して形成された鋳型に基づいたモールドが、非平面状のゾル−ゲル領域を構築するために使用される場合もある。
【００４９】
例えば、図２Ａの概略断面図で例証される本発明の実施形態によれば、外側表面上にゾル−ゲル前駆体１２０を有している管状の医療用デバイス１１０が、平面状のモールド１３０に対して転がされて、モールド１３０の表面上の突出部／陥凹部とは逆に相当するサブミクロンのフィーチャがゾル−ゲル前駆体１２０に形成されるという、回転の概念が用いられる場合もある。ゾル−ゲル前駆体１２０が乾燥した後、例えば望ましい場合には、焼成のために加熱が行われてもよい。
【００５０】
別例として、図３Ａは、管状の医療用デバイス基材１１０とモールド１３０との間に配置されたゾル−ゲル前駆体１２０を備えている本発明の実施形態によるアセンブリを示す、概略断面図である。ゾル−ゲル前駆体１２０は、例えば上述のようなスピンコーティングによってモールド１３０に塗布され、続いて直ちに、例えばゾル−ゲル前駆体でコーティングされたモールドで基材のまわりを包むことにより、基材１１０の外側表面への適用が行われてもよい。包んだ時にモールド１３０の端部が出会う位置１３１も示されている。ゾル−ゲル前駆体１２０が乾燥した後、モールド１３０は、例えば上述のようにして除去可能であり、その結果得られたデバイスは望ましい場合には加熱されてもよい。
【００５１】
図３Ａと同様に、図３Ｂは、管状の医療用デバイス基材１１０とモールド１３０との間に配置されたゾル−ゲル前駆体１２０を備えている本発明によるアセンブリを例証する部分概略断面図である。しかしながら図３Ｂでは、モールド１３０は基材１１０の外側ではなく内側に配置されている。包んだ時にモールド１３０の端部が出会う位置１３１も、図３Ｂに示されている。ゾル−ゲル前駆体１２０が乾燥した後、モールド１３０は、例えば上述のようにして除去可能であり、その結果得られたデバイスは望ましい場合には加熱されてもよい。
【００５２】
本発明の他の実施形態では、非平面状の鋳型、例えば非平面状の陽極処理アルミナ鋳型または数ある技術の中でも集束イオンビームのスパッタリングまたは蒸着のうち少なくともいずれかを使用して形成された鋳型が、モールド作出に使用される。例えば、中空の円筒形アルミニウムの内側表面が陽極処理されてもよいし、中空または中実の円筒形アルミニウムの外側表面が陽極処理されてもよい。この目的のためには、非平面状の対向電極、例えば電流分布の影響を考慮に入れるのに適した幾何学的構成を有するものが使用されるとよい。例えば、中空の円筒形状を有する対向電極が、中空または中実の円筒形アルミニウムの外側かつ同軸上に配置されてもよいし、中空または中実の円筒形状を有する対向電極が、中空の円筒形アルミニウムの内側かつ同軸上に配置されてもよい。別例として、中空または中実の円筒形アルミニウムは、集束イオンビームスパッタリングを使用して外側表面をフライス加工されてもよい。別例として、中空または中実の円筒形アルミニウムの外側表面上に、集束イオンビーム蒸着法を使用して表面フィーチャが形成されてもよい。
【００５３】
そのような鋳型を上述の技術に類似の技術と併用して、突出部が内側表面に作成されている中空の円筒状モールドが作成されてもよいし、突出部が外側表面に作成されている中空または中実の円筒状モールドが作成されてもよい。その後、これらはゾル−ゲルセラミック領域にサブミクロンの表面フィーチャを作成するために使用することができる。
【００５４】
例えば、図２Ｂの概略横断面に示された本発明の実施形態によれば、図２Ａに示されたものと類似の方法によって回転の概念が用いられてもよい。しかしながら、図２Ｂでは、管状の医療用デバイス１１０はその中空の内側表面上にゾル−ゲル前駆体１２０を有している。さらに、ゾル−ゲル前駆体でコーティングされた医療用デバイスの内側周面の周囲上に、円筒状のモールド１３０（例えばロッドの形態のもの）が転がされて、ゾル−ゲル前駆体１２０にサブミクロンのフィーチャが形成される。別例として、ゾル−ゲル前駆体１２０のコーティングを備えた医療用デバイス１１０が、円筒状モールド１３０の周囲上で転がされて、ゾル−ゲル前駆体１２０にサブミクロンのフィーチャが形成されてもよい。いずれの場合も、ゾル−ゲル前駆体１２０が乾燥した後、得られたデバイスは望ましい場合には加熱されてもよい。
【００５５】
別例として、図４Ａは、管状の医療用デバイス基材１１０と中空の円筒状モールド１３０との間に配置されたゾル−ゲル前駆体１２０を含んでいる、本発明の実施形態によるアセンブリを示す概略断面図である。例えば、ゾル−ゲル前駆体１２０は適切な技術によってモールド１３０の内側表面に塗布されて、その後基材１１０との接触が直ちに行われてもよい。ある特定の実施形態では、基材１１０はバルーン拡張式ステントであって、基材１１０とモールド１３０上のゾル−ゲル前駆体１２０との間の係合を増強するためにモールド１３０の内部で拡張可能であってよい。ゾル−ゲル前駆体１２０が乾燥した後、モールド１３０は、例えば上述のようにして除去可能であり、得られたデバイスは望ましい場合には加熱されてもよい。
【００５６】
図４Ｂは、管状の医療用デバイス基材１１０と中空の円筒状モールド１３０（望ましい場合には中実であってもよい）との間に配置されたゾル−ゲル前駆体１２０を含んでいる、本発明によるアセンブリを例証する概略断面図である。図４Ａとは対照的に、図４Ｂのモールド１３０は基材１１０の内側に配置される。例えば、ゾル−ゲル前駆体１２０は適切な技術によってモールド１３０の外側表面に塗布されて、その後基材１１０との接触が直ちに行われてもよい。ある特定の実施形態では、基材１１０はバルーン拡張式ステントであって、該ステントは拡張状態でモールド上に配置され、次いで基材１１０とモールド１３０上のゾル−ゲル前駆体１２０との間の係合を増強するためにモールド１３０の外側表面に向けて圧縮可能である。
【００５７】
望ましい場合には、モールド１３０は、図４Ｃに示すような補強材要素１４０によって補強可能である。（モールドが中実の円筒の形態である実施形態では、当然そのような補強材は不適当である。）補強材要素１４０は例えばモールド内部で拡張可能なロッドまたは器具であってよい。後者の場合、かつモールド１３０が十分な弾性を有する場合、拡張可能な補強材要素１４０は、モールド１３０上のゾル−ゲル前駆体１２０と基材１１０との間のより十分な係合のため、モールド１３０を拡張させるために使用されてもよい。
【００５８】
選択された実施形態にかかわらず、ゾル−ゲル前駆体１２０が乾燥した後、モールド１３０は、例えば上述のようにして除去可能であり、望ましい場合には加熱されてもよい。
本発明の他の実施形態では、モールドが上述のようにして形成されて、単一体のゾル−ゲルセラミック領域を生成するために使用されてもよい。例えば、図５は本発明によるアセンブリを例証する概略断面図であり、該アセンブリは、例えば上述のようにして用意された円筒状鋳型を使用して用意された中空の円筒状モールド１３０と、上述のようにして用意される場合もそうでない場合もある追加のモールド要素１３５（例えば、追加のモールド要素にはサブミクロンの表面フィーチャが設けられてもよいし、設けられなくてもよい）との間に配置されたゾル−ゲル前駆体１２０を含んでいる。モールド１３０と追加のモールド要素１３５との間の空間は、ゾル−ゲル前駆体１２０で充填される。ゾル−ゲル前駆体１２０が乾燥した後、モールド１３０は、例えば上述のようにして除去されて、多孔性の単一体のゾル−ゲルセラミック領域を生成することが可能であり、該領域はその後、望ましい場合には加熱されてもよい。
【００５９】
ステントを形成する方法の最後の例として、本発明によるモールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャを有するゾル−ゲルセラミック層が、金属チューブの管腔外側表面に最初に作成される。その後、チューブは例えばフェムト秒アブレーションレーザによって切断されてステントとなる。この実施形態で得られるステントはその管腔外側表面にセラミック層を有し、例えば管腔外側に優先的に薬物送達する場合に有用となりうる。このチューブは、既に成形済みのステントと比較して形状が安定なので、前述の加工法は、例えば配置されたゾル−ゲル層の一部が、下層をなす金属構造の完全性に影響を及ぼすことなくアブレーションレーザで選択的に除去されるのを可能にするという点で、有利である。
【００６０】
具体的な例では、極めて均質な厚さのゾル−ゲルセラミック層が金属チューブの管腔外側表面に堆積され、その後該チューブがレーザアブレーション装置（例えばナノメートル精度を備えたレーザ光線下でチューブの回転およびチューブの軸方向移動を可能にするもの）に取り付けられて、意図されたステントパターンの高歪み域に対応する領域のゾル−ゲル層の選択的除去が可能となる。ゾル−ゲル層はこのステップではステントを切断（アブレーション）することなく除去される。これが行われた後、金属が切断（アブレーション）されてステントパターンが作られる。
【００６１】
さらに、該チューブをレーザ切断装置に正確に同じ配置で（例えばチューブ上の単純な溝穴を使用することにより）再び取り付けることができるので、最初に、形成しようとするストラットに相当するチューブ内の位置にリザーバ（例えば小さなポケット）をアブレーションし、チューブを取り外し、ポケット内にＰＭＭＡを堆積させ、チューブを研磨してポケット内のＰＭＭＡを表面と同じ高さとし、ゾル−ゲル層を提供し、そしてゾル−ゲルをモールド成形することができる。ゾル−ゲル層が、その後適用される溶媒（後述）を通過させるのに十分な多孔性を持たない場合は、成形加工が使用されて、例えば鋳型上のパターンがＰＭＭＡ層に確実に到達できるようにすることで、ゾル−ゲル中に細孔を作ることができる。その後、ＰＭＭＡが（例えばアセトニトリルを含有する溶媒を用いて）除去される。ＰＭＭＡは、１−ブタノールおよびアセトニトリルの７：３混合物に、完全に、かつ一定速度で溶解する。アセトニトリルと他のアルコール（例えばメタノール、エタノール、２−プロパノール、ヘキサノールなど）との混合物も、様々な速度でＰＭＭＡを溶解する。その後、ステントパターンが切り込まれる。この加工処理の結果、多孔性セラミック膜の真下に中空のポケットを作成することができる。
【００６２】
上述の技術のような技術を使用して、例えば、モールド成形されたサブミクロンの表面フィーチャを内側表面（管腔側表面）、外側表面（管腔外側表面）、または両方に備えているステントが形成可能である。
【００６３】
平面状および管状の医療用デバイスについては上記の具体的な実施形態に述べられているが、他の形状を有するデバイスも本発明の範囲内にあることは当業者には明白であろう。
【００６４】
さらに、いくつかの上記特定の実施形態におけるゾル−ゲルセラミック材料は下層をなす医療用デバイス基材の上で形成されるが、他の実施形態では、ゾル−ゲルセラミック材料が最初に形成されてから医療用デバイス基材に取り付けられてもよい。
【００６５】
本発明の医療用デバイスは、さらに任意選択で１以上の治療薬を含む。「治療薬」、「薬物」、「薬学的活性剤」、「薬学的活性物質」およびその他の関連する用語は、本明細書中において互換的に使用可能である。これらの用語には、遺伝子治療薬、非遺伝子治療薬、および細胞が含まれる。
【００６６】
本発明と併せて使用するための典型的な非遺伝子治療薬としては：（ａ）抗血栓剤、例えばヘパリン、ヘパリン誘導体、ウロキナーゼおよびＰＰａｃｋ（デキストロフェニルアラニン・プロリン・アルギニンクロロメチルケトン）；（ｂ）抗炎症剤、例えばデキサメタゾン、プレドニゾロン、コルチコステロン、ブデソニド、エストロゲン、スルファサラジンおよびメサラミン；（ｃ）抗新生物剤／抗増殖剤／抗縮瞳薬、例えばパクリタキセル、５−フルオロウラシル、シスプラチン、ビンブラスチン、ビンクリスチン、エポチロン、エンドスタチン、アンギオスタチン、アンギオペプチン、平滑筋細胞の増殖を阻止することができるモノクローナル抗体、およびチミジンキナーゼ阻害剤；（ｄ）麻酔薬、例えばリドカイン、ブピバカインおよびロピバカイン；（ｅ）抗凝血剤、例えばＤ−Ｐｈｅ−Ｐｒｏ−Ａｒｇクロロメチルケトン、ＲＧＤペプチド含有化合物、ヘパリン、ヒルジン、抗トロンビン化合物、血小板受容体拮抗薬、抗トロンビン抗体、抗血小板受容体抗体、アスピリン、プロスタグランジン阻害剤、抗血小板薬およびダニ抗血小板ペプチド；（ｆ）血管細胞増殖促進物質、例えば増殖因子、転写活性化因子および翻訳プロモータ；（ｇ）血管細胞増殖抑制剤、例えば増殖因子阻害剤、増殖因子受容体拮抗薬、転写抑制因子、翻訳抑制因子、複製阻害剤、阻害抗体、増殖因子に対する抗体、増殖因子と細胞毒素とで構成される二機能分子、抗体と細胞毒素とで構成される二機能分子；（ｈ）タンパク質キナーゼおよびチロシンキナーゼ阻害剤（例えばチルホスチン、ゲニステイン、キノキサリン）；（ｉ）プロスタサイクリン類似体；（ｊ）コレステロール降下剤；（ｋ）アンジオポエチン；（ｌ）抗菌物質、例えばトリクロサン、セファロスポリン、アミノグリコシドおよびニトロフラントイン；（ｍ）細胞毒性薬、細胞静止薬、および細胞増殖の影響因子；（ｎ）血管拡張剤；（ｏ）内在性の血管作動性機構を妨げる薬剤；（ｐ）モノクローナル抗体のような、白血球動員の阻害剤；（ｑ）サイトカイン；（ｒ）ホルモン；（ｓ）ＨＳＰ９０タンパク質（すなわち熱ショックタンパク質。熱ショックタンパク質は分子シャペロンまたはハウスキーピングタンパク質であり、細胞の増殖および生存を担う他のクライアントタンパク質／情報伝達タンパク質の安定性および機能に必要とされる）の阻害剤、例えばゲルダナマイシン、（ｔ）α受容体拮抗薬（例えばドキサゾシン、タムスロシン）およびβ受容体作動薬（例えばドブタミン、サルメテロール）、β受容体拮抗薬（例えばアテノロール、メタプロロール（ｍｅｔａｐｒｏｌｏｌ）、ブトキサミン）、アンジオテンシンＩＩ受容体拮抗薬（例えばロサルタン、バルサルタン、イルベサルタン、カンデサルタンおよびテルミサルタン）、および鎮痙薬（例えば塩化オキシブチニン、フラボキサート、トルテロジン、硫酸ヒヨスチアミン、ジクロミン（ｄｉｃｌｏｍｉｎｅ））、（ｕ）ｂＡＲＫｃｔ阻害剤、（ｖ）ホスホランバン阻害剤、（ｗ）Ｓｅｒｃａ２遺伝子／タンパク質、（ｘ）免疫応答修飾剤、例えばアミノキゾリン（ａｍｉｎｏｑｕｉｚｏｌｉｎｅ）類、例えばレシキモド（ｒｅｓｉｑｕｉｍｏｄ）およびイミキモド（ｉｍｉｑｕｉｍｏｄ）のようなイミダゾキノリン類、（ｙ）ヒトのアポリポタンパク質（例えばＡＩ、ＡＩＩ、ＡＩＩＩ、ＡＩＶ、ＡＶなど）、（ｚ）選択的エストロゲン受容体モジュレータ（ＳＥＲＭ）、例えばラロキシフェン、ラソフォキシフェン、アルゾキシフェン、ミプロキシフェン、オスペミフェン、ＰＫＳ３７４１、ＭＦ１０１およびＳＲ１６２３４、（ａａ）ＰＰＡＲ作動薬、例えばロシグリタゾン、ピオグリタゾン、ネトグリタゾン、フェノフィブラート、ベキサオテン（ｂｅｘａｏｔｅｎｅ）、メタグリダセン（ｍｅｔａｇｌｉｄａｓｅｎ）、リボグリタゾンおよびテサグリタザル、（ｂｂ）プロスタグランジンＥ作動薬、例えばアルプロスタジルまたはＯＮＯ８８１５Ｌｙ、（ｃｃ）トロンビン受容体活性化ペプチド（ＴＲＡＰ）、（ｄｄ）バソペプチダーゼ阻害剤、例えばベナゼプリル、フォシノプリル、リシノプリル、キナプリル、ラミプリル、イミダプリル、デラプリル、モエキシプリルおよびスピラプリル、（ｅｅ）チモシンβ４、が挙げられる。
【００６７】
非遺伝子治療薬の具体例には、特に、パクリタキセルのようなタキサン（その微粒子形態、例としてタンパク質結合パクリタキセル粒子、例えばアルブミン結合パクリタキセルナノ粒子、例えばＡＢＲＡＸＡＮＥ（登録商標）を含む）、シロリムス、エベロリムス、タクロリムス、ゾタロリムス、ＥｐｏＤ、デキサメタゾン、エストラジオール、ハロフジノン、シロスタゾール、ゲルダナマイシン、塩化アラゲブリウム（ＡＬＴ−７１１）、ＡＢＴ−５７８（アボット・ラボラトリーズ（Ａｂｂｏｔｔ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ））、トラピジル、リプロスチン（ｌｉｐｒｏｓｔｉｎ）、アクチノムシンＤ（Ａｃｔｉｎｏｍｃｉｎ  Ｄ）、Ｒｅｓｔｅｎ−ＮＧ、Ａｐ−１７、アブシキシマブ、クロピドグレル、リドグレル、β−遮断薬、ｂＡＲＫｃｔ阻害剤、ホスホランバン阻害剤、Ｓｅｒｃａ２遺伝子／タンパク質、イミキモド、ヒトのアポリポタンパク質（例えばＡＩ−ＡＶ）、増殖因子（例えばＶＥＧＦ−２）、ならびに前述のものの誘導体、が挙げられる。
【００６８】
本発明と併せて使用するための例示的な遺伝子治療薬としては、アンチセンスＤＮＡおよびＲＮＡ、ならびに様々なタンパク質をコードするＤＮＡ（並びにタンパク質自体）、すなわち（ａ）アンチセンスＲＮＡ、（ｂ）不完全であるかまたは欠損している内在性分子の代替となるｔＲＮＡまたはｒＲＮＡ、（ｃ）血管新生因子およびその他の因子、例えば増殖因子であって酸性および塩基性繊維芽細胞増殖因子、血管内皮増殖因子、内皮細胞分裂促進性増殖因子、上皮増殖因子、形質転換増殖因子αおよびβ、血小板由来内皮増殖因子、血小板由来増殖因子、腫瘍壊死因子α、肝細胞増殖因子、およびインスリン様増殖因子など、（ｄ）細胞周期阻害薬、例えばＣＤ阻害薬、ならびに（ｅ）チミジンキナーゼ（「ＴＫ」）およびその他の細胞増殖を妨害するのに有用な薬剤、が挙げられる。さらに、骨形態形成タンパク質（「ＢＭＰ」）ファミリー、例えばＢＭＰ−２、ＢＭＰ−３、ＢＭＰ−４、ＢＭＰ−５、ＢＭＰ−６（Ｖｇｒ−１）、ＢＭＰ−７（ＯＰ−１）、ＢＭＰ−８、ＢＭＰ−９、ＢＭＰ−１０、ＢＭＰ−１１、ＢＭＰ−１２、ＢＭＰ−１３、ＢＭＰ−１４、ＢＭＰ−１５およびＢＭＰ−１６をコードしているＤＮＡも興味深い。現時点で好ましいＢＭＰは、ＢＭＰ−２、ＢＭＰ−３、ＢＭＰ−４、ＢＭＰ−５、ＢＭＰ−６およびＢＭＰ−７のいずれかである。これらの二量体タンパク質は、ホモ二量体、ヘテロ二量体またはこれらの組み合わせとして、単独で、または他の分子と一緒に提供可能である。別例として、または追加として、ＢＭＰの上流または下流での作用を引き起こすことができる分子が提供されてもよい。そのような分子には、「ヘッジホッグ」タンパク質のうちのいずれか、またはそれらをコードするＤＮＡが含まれる。
【００６９】
遺伝子治療薬の送達のためのベクターには、ウイルスベクター、例えばアデノウイルス、ヘルパー依存型（ｇｕｔｔｅｄ）アデノウイルス、アデノ随伴ウイルス、レトロウイルス、αウイルス（セムリキ森林熱ウイルス、シンドビスウイルスなど）、レンチウイルス、単純ヘルペスウイルス、複製能を有するウイルス（例えば、ＯＮＹＸ−０１５）およびハイブリッドベクターなど；並びに非ウイルスベクター、例えば人工染色体およびミニ染色体、プラスミドＤＮＡベクター（例えば、ｐＣＯＲ）、カチオン性ポリマー（例えば、ポリエチレンイミン、ポリエチレンイミン（ＰＥＩ））、グラフトコポリマー（例えば、ポリエーテル−ＰＥＩおよびポリエチレンオキシド−ＰＥＩ）、中性ポリマーであるＰＶＰ、ＳＰ１０１７（スプラテック（ＳＵＰＲＡＴＥＫ））、脂質、例えばカチオン性脂質、リポソーム、リポプレックス、ナノ粒子、またはマイクロ粒子などがあり、タンパク質導入ドメイン（ＰＴＤ）のようなターゲティング配列を備えていても備えていなくてもよい。
【００７０】
本発明と併用するための細胞には、ヒトを起源とする細胞（自己由来もしくは同種異系由来）、例えば全骨髄、骨髄由来単核細胞、始原細胞（例えば内皮前駆細胞）、幹細胞（例えば、間充織幹細胞、造血幹細胞、ニューロン幹細胞）、多分化能性幹細胞、繊維芽細胞、筋芽細胞、衛星細胞、周皮細胞、心筋細胞、骨格筋細胞もしくはマクロファージ、または動物、細菌もしくは真菌を起源とする細胞（異種由来）であって、望ましい場合には、対象とするタンパク質を送達するために遺伝子操作可能であるもの、が挙げられる。
【００７１】
必ずしも上記に列挙されたものに限らず、数多くの治療薬が、例えば再狭窄を標的とする薬剤（すなわち再狭窄防止剤）として血管の治療計画のための候補であると確認されている。そのような薬剤は本発明の実施に有用であり、以下のうちの１つ以上が挙げられる：（ａ）Ｃａチャネル遮断薬、例えば、ジルチアゼムおよびクレンチアゼムのようなベンゾチアザピン（ｂｅｎｚｏｔｈｉａｚａｐｉｎｅ）類、ニフェジピン、アムロジピンおよびニカルダピン（ｎｉｃａｒｄａｐｉｎｅ）のようなジヒドロピリジン類、ならびにベラパミルのようなフェニルアルキルアミン類、（ｂ）セロトニン経路モジュレータ、例えば：ケタンセリンおよびナフチドロフリルのような５−ＨＴアンタゴニスト、ならびにフルオキセチンのような５−ＨＴ取り込み阻害剤、（ｃ）環状ヌクレオチドの経路作用物質、例えば、シロスタゾールおよびジピリダモールのようなホスホジエステラーゼ阻害剤、ホルスコリンのようなアデニル酸／グアニル酸シクラーゼ刺激剤、ならびにアデノシン類似体、（ｄ）カテコールアミンモジュレータ、例えば、プラゾシンおよびブナゾシン（ｂｕｎａｚｏｓｉｎｅ）のようなα−拮抗薬、プロプラノロールのようなβ−拮抗薬、ならびにラベタロールおよびカルベジロールのようなα／β−拮抗薬、（ｅ）エンドセリン受容体拮抗薬、例えばボセンタン、シタキセンタンナトリウム、アトラセンタン、エンドネンタン（ｅｎｄｏｎｅｎｔａｎ）、（ｆ）一酸化窒素供与体／放出分子、例えば、ニトログリセリン、硝酸イソソルビドおよび亜硝酸アミルのような有機硝酸塩／亜硝酸塩、ニトロプルシドナトリウムのような無機ニトロソ化合物、モルシドミンおよびリンシドミンのようなシドノンイミン類、ジアゼニウムジオラートおよびアルカンジアミンのＮＯ付加物のようなＮＯＮＯアート、Ｓ−ニトロソ化合物の低分子量化合物（例えばカプトプリル、グルタチオンおよびＮ−アセチルペニシラミンのＳ−ニトロソ基誘導体）および高分子化合物（例えばタンパク質、ペプチド、オリゴ糖、多糖、合成ポリマー／オリゴマーおよび天然ポリマー／オリゴマーのＳ−ニトロソ基誘導体）、ならびにＣ−ニトロソ化合物、Ｏ−ニトロソ化合物、Ｎ−ニトロソ化合物およびＬ−アルギニン、（ｇ）アンギオテンシン転換酵素（ＡＣＥ）阻害剤、例えばシラザプリル、フォシノプリルおよびエナラプリル、（ｈ）ＡＴＩＩ受容体拮抗薬、例えばサララシンおよびロサルチン（ｌｏｓａｒｔｉｎ）、（ｉ）血小板粘着阻害剤、例えばアルブミンおよびポリエチレンオキシド、（ｊ）血小板凝集阻害剤、例えばシロスタゾール、アスピリンおよびチエノピリジン（チクロピジン、クロピドグレル）、ならびにＧＰ  ＩＩｂ／ＩＩＩａ阻害剤、例えばアブシキシマブ、エピチフィバチド（ｅｐｉｔｉｆｉｂａｔｉｄｅ）およびチロフィバン、（ｋ）凝固経路モジュレータ、例えば、ヘパリン、低分子ヘパリン、デキストラン硫酸およびβ−シクロデキストリンテトラデカスルファートのようなヘパリン類似物質、ヒルジン、ヒルログ、ＰＰＡＣＫ（Ｄ−ｐｈｅ−Ｌ−プロピル−Ｌ−ａｒｇ−クロロメチルケトン）およびアルガトロバンのようなトロンビン阻害物質、アンチスタチン（ａｎｔｉｓｔａｔｉｎ）およびＴＡＰ（ダニ抗凝固ペプチド）のようなＦＸａ阻害剤、ワルファリンのようなビタミンＫ阻害剤、ならびに活性化プロテインＣ、（ｌ）シクロオキシゲナーゼ経路阻害剤、例えばアスピリン、イブプロフェン、フルルビプロフェン、インドメタシンおよびスルフィンピラゾン、（ｍ）天然および合成コルチコステロイド、例えばデキサメタゾン、プレドニゾロン、メチルプレドニゾロンおよびヒドロコルチゾン、（ｎ）リポキシゲナーゼ経路阻害剤、例えばノルジヒドログアヤレチック酸およびカフェ酸、（ｏ）ロイコトリエン受容体拮抗薬、（ｐ）Ｅ−セレクチンおよびＰ−セレクチンの拮抗薬、（ｑ）ＶＣＡＭ−１およびＩＣＡＭ−１相互作用の阻害剤、（ｒ）プロスタグランジンおよびその類似体、例えばＰＧＥ１およびＰＧＩ２のようなプロスタグランジン、ならびにシプロステン、エポプロステノール、カルバサイクリン、イロプロストおよびベラプロストのようなプロスタサイクリン類似体、（ｓ）マクロファージ活性化防止剤、例えばビスホスホネート類、（ｔ）ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤、例えばロバスタチン、プラバスタチン、アトルバスタチン、フルバスタチン、シンバスタチンおよびセリバスタチン、（ｕ）魚油およびオメガ−３−脂肪酸、（ｖ）フリーラジカル捕捉剤／抗酸化物質、例えばプロブコール、ビタミンＣおよびビタミンＥ、エブセレン、トランスレチノイン酸およびＳＯＤ（オルゴテイン）、ＳＯＤ模倣体、ベルテポルフィン、ロスタポルフィン（ｒｏｓｔａｐｏｒｆｉｎ）、ＡＧＩ１０６７ならびにＭ４０４１９、（ｗ）様々な増殖因子に作用する薬剤、例えばｂＦＧＦ抗体およびｂＦＧＦキメラ融合タンパク質のようなＦＧＦ経路作用物質、トラピジルのようなＰＤＧＦ受容体拮抗薬、アンギオペプチンおよびオクレオチド（ｏｃｒｅｏｔｉｄｅ）のようなソマトスタチン類似体などのＩＧＦ経路作用物質、ポリアニオン性物質（ヘパリン、フコイジン）、デコリン、およびＴＧＦ−β抗体のようなＴＧＦ−β経路作用物質、ＥＧＦ抗体、ＥＧＦ受容体拮抗薬およびＥＧＦキメラ融合タンパク質のようなＥＧＦ経路作用物質、サリドマイドおよびその類似体のようなＴＮＦ−α経路作用物質、スロトロバン（ｓｕｌｏｔｒｏｂａｎ）、バピプロスト、ダゾキシベンおよびリドグレルのようなトロンボキサンＡ２（ＴＸＡ２）経路モジュレータ、ならびにチルホスチン、ゲニステインおよびキノキサリン誘導体のようなタンパク質チロシンキナーゼ阻害剤、（ｘ）マトリックスメタロプロテアーゼ（ＭＭＰ）経路阻害剤、例えばマリマスタット、イロマスタット、メタスタット、ペントサンポリスルファート、レビマスタット（ｒｅｂｉｍａｓｔａｔ）、インサイクリニド（ｉｎｃｙｃｌｉｎｉｄｅ）、アプラタスタット（ａｐｒａｔａｓｔａｔ）、ＰＧ１１６８００、ＲＯ１１３０８３０またはＡＢＴ５１８、（ｙ）細胞運動阻害剤、例えばサイトカラシンＢ、（ｚ）抗増殖剤／抗新生物剤、例えば代謝拮抗物質のプリン類似体（例えば６−メルカプトプリンまたは塩素化プリンヌクレオシド類似体であるクラドリビン）、ピリミジン類似体（例えばシタラビンおよび５−フルオロウラシル）およびメトトレキサート、ナイトロジェンマスタード、スルホン酸アルキル、エチレンイミン、抗生物質（例えばダウノルビシン、ドキソルビシン）、ニトロソ尿素、シスプラチン、微小管動態に作用する薬剤（例えばビンブラスチン、ビンクリスチン、コルヒチン、ＥｐｏＤ、パクリタキセルおよびエポチロン）、カスパーゼ活性化剤、プロテアソーム阻害剤、血管新生阻害剤（例えばエンドスタチン、アンギオスタチンおよびスクアラミン）、オリムス（ｏｌｉｍｕｓ）系薬物（例えばシロリムス、エベロリムス、タクロリムス、ゾタロリムスなど）、セリバスタチン、フラボピリドールおよびスラミン、（ａａ）マトリックス沈着／構築経路阻害剤、例えばハロフジノンまたはその他のキナゾリノン誘導体およびトラニラスト、（ｂｂ）内皮化（ｅｎｄｏｔｈｅｌｉａｌｉｚａｔｉｏｎ）促進剤、例えばＶＥＧＦおよびＲＧＤペプチド、（ｃｃ）血液レオロジーモジュレータ、例えばペントキシフィリン、ならびに（ｄｄ）グルクロース（ｇｌｕｃｏｓｅ）架橋切断薬、例えば塩化アラゲブリウム（ＡＬＴ−７１１）。
【００７２】
本発明の実施に有用なさらに別の治療薬は、クンツ（Ｋｕｎｚ）の米国特許第５，７３３，９２５号明細書にも開示されている。
治療薬が含まれる場合、様々な治療薬装荷が治療上有効な量として本発明の医療用デバイスと併用可能であり、治療上有効な量は、当業者により容易に決定され、かつ最終的には、数ある要素の中でも特に、例えば治療の対象である疾患、患者の年齢、性別および状態、治療薬の性質、セラミック領域の性質、または医療用デバイスの性質のうち少なくともいずれかによって決まる。
【００７３】
治療薬または他の任意選択の添加剤のうち少なくともいずれか一方は、いくつかの実施形態ではゾル−ゲルセラミック領域の形成後に導入可能である。このことは、例えば、ゾル−ゲルが高温に、例えば１００℃、２００℃、３００℃、４００℃、５００℃、またはそれ以上の温度に供される場合には適切かもしれない。そのような高温は一般にゾル−ゲルの孔隙率を低減すると同時に、その機械的強度を高める。例えば、いくつかの実施形態では、治療薬または他の任意選択の添加剤のうち少なくともいずれか一方が溶媒中に溶解または分散され、得られた溶液は、事前に形成されたセラミック領域と（例えば上述の塗布技術のうち１つ以上、例えば浸漬、吹付などを用いて）接触するようになされて、セラミック領域に治療薬が装荷される。
【００７４】
他の実施形態では、ゾル−ゲル法は低温（例えば５０℃またはそれ以下の温度）で行われる場合もある。本発明のこの態様は、ゾル−ゲル法進行中に温度に敏感な治療薬を組み入れることを可能にする。
【００７５】
さらに別の実施形態では、ゾル−ゲルセラミック材料は、形成されてから医療用デバイス表面上の治療薬含有領域の上に（例えば接着により）配置されてもよい。
様々な実施形態が本明細書中で具体的に例証かつ記載されているが、当然ながら、本発明の改変形態および変更形態は上記教示内容に包含されており、本発明の趣旨および意図された範囲から逸脱することなく添付の特許請求の範囲の範囲内にある。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５】
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【国際調査報告】
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2010536431.tif 000014
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