(57)【要約】本明細書において、半絶縁性基材（２）と、半絶縁性基材（２）上に形成されたエピタキシャル基材（３）と、コンタクト層（１９）とを含むシュードモルフィック高電子移動度トランジスタ（ＰＨＥＭＴ）パワーデバイス（１）が開示されている。コンタクト層（１９）は、ショットキー層（１８）上に形成された低濃度ドープコンタクト層（２０）、ならびに、低濃度ドープコンタクト層（２０）上に形成されると共に低濃度ドープコンタクト層（２０）より高いドープ濃度を有する高濃度ドープコンタクト層（２１）を含む。ＰＨＥＭＴパワーデバイス（１）は、高濃度ドープコンタクト層（２１）を貫通して形成された広幅リセス（２３）および広幅リセス（２３）中に形成されて低濃度ドープコンタクト層（２０）を貫通する狭幅リセス（２４）をさらに含む。ゲート電極（６）が、狭幅リセス（２４）中に、ショットキー層（１８）とショットキー接続で形成されている。
2010506397.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半絶縁性基材（２）と、
前記半絶縁性基材（２）上に形成されたエピタキシャル基材（３）であって、前記半絶縁性基材（２）上に順番にスタックされた緩衝層（１０）、超格子層（１１）、第１の電子供給層（１２，１３）、第１のスペーサ層（１４）、電子輸送層（１５）、第２のスペーサ層（１６）、第２の電子供給層（１７）、ショットキー層（１８）およびコンタクト層（１９）を含む前記エピタキシャル基材（３）と、
前記コンタクト層（１９）上にオーミック接触で形成されたソース電極およびドレイン電極（４，５）と、
前記ショットキー層（１８）上に形成されて前記コンタクト層（１９）を貫通するゲート電極（６）と、
を含むシュードモルフィック高電子移動度トランジスタ（ＰＨＥＭＴ）パワーデバイス（１、１’、１”）であって、
前記コンタクト層（１９）が、前記ショットキー層（１８）上に形成された低濃度ドープコンタクト層（２０）と、
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）上に形成されると共に、前記低濃度ドープコンタクト層（２０）より高いドープ濃度を有する高濃度ドープコンタクト層（２１）と、
を含むことを特徴とするＰＨＥＭＴパワーデバイス（１）であり、
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）の表面を露出させるよう、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）を貫通して形成された広幅リセス（２３）と、
前記ショットキー層（１８）の表面を露出させるよう、前記広幅リセス（２３）中に形成されて前記低濃度ドープコンタクト層（２０）を貫通する狭幅リセス（２４）と、
によりさらに特徴付けられ、
前記ゲート電極（６）は、前記狭幅リセス（２４）中に前記ショットキー層（１８）とショットキー接続で形成されて、前記ショットキー層（１８）の露出面から延びて前記低濃度ドープおよび高濃度ドープコンタクト層（２０，２１）を貫通しており、
前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）は、前記広幅リセス（２３）が前記ソース電極とドレイン電極と（４，５）の間に配置されるよう、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）上の前記広幅リセス（２３）の外側にオーミック接触で形成されていることを特徴とするＰＨＥＭＴパワーデバイス（１）。
【請求項２】
ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極（４，５，６）により露出された前記高濃度ドープコンタクト層（２１）の表面に形成された保護絶縁層（２５）をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項３】
前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）上に形成されたベース金属層（２６）と、
前記ベース金属層（２６）上に形成されたＡｕ層（２７）と、
をさらに含むことを特徴とする請求項１または２に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項４】
ソースパッド配線およびヒートシンク機構用に、前記半絶縁性基材（２）から前記ソース電極（４）まで延在するよう形成された金属化ビアホール（２８）をさらに含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項５】
前記ゲート電極（６）が全体がＴ字状であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項６】
前記保護絶縁層（２５）上に、前記ゲート電極（６）と電気的に接続されると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）または前記ドレイン電極（５）のいずれとも重畳することなく前記ドレイン電極（５）に向かって延在して形成されたフィールドプレート（２９）をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項７】
前記フィールドプレートが、前記高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層（２１）と実質的に共面に、前記低濃度ドープＧａＡｓコンタクト層（２０）の一部と垂直方向に重畳すると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）から離間して終結するゲート延長部（６ｃ）として形成されていることを特徴とする請求項６に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項８】
前記基材（２）がＧａＡｓ製の半絶縁性基材であり、前記緩衝層（１０）がＧａＡｓ製であり、前記超格子層（１１）がＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ製であり、前記第１および第２の電子供給層（１３，１７）がドープシリコン製であり、前記電子輸送層（１５）がＩｎＧａＡｓ製であり、前記ショットキー層（１８）がＡｌＧａＡｓ製であり、前記低濃度ドープおよび高濃度ドープコンタクト層（２１，２２）がＧａＡｓ製であり、前記ゲート電極（６）がＴｉ／Ａｌ製であり、前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）がＡｕ／Ｇｅ／Ｎｉ／Ａｕ金属薄膜製であり、前記保護絶縁層（２５）が窒化シリコン製であり、ならびに、前記ベース金属層（２６）がＴｉ／Ｐｔ／Ａｕ製であることを特徴とする請求項１、２および３のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項９】
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）がおよそ３×１０１７ｃｍ−３のドープ濃度を有すると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）がおよそ３．５×１０１８ｃｍ−３のドープ濃度を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１０】
前記第１および第２の電子供給層（１３，１７）が、前記電子輸送層（１５）におけるドープレベルがおよそ１．７×１０１２〜２．７×１０１２ｃｍ−２の範囲となるようなドープ濃度を有するよう形成されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１１】
前記第２の電子供給層（１７）が、前記第１の電子供給層（１３）より高いドープ濃度を有するよう形成されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１２】
前記第１の電子供給層（１３）がおよそ１×１０１２ｃｍ−２のドープレベルを有するよう形成されていると共に、前記第２の電子供給層（１７）がおよそ５×１０１２ｃｍ−２のドープレベルを有するよう形成されていることを特徴とする請求項１１に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１３】
前記電子輸送層（１５）がインジウムをモル比でおよそ１５％〜２０％の範囲で含有し、前記ショットキー層（１８）が、アルミニウムをモル比でおよそ２２％〜２４％で含有すると共におよそ１．０×１０１７〜３．０×１０１７ｃｍ−３の範囲のドープ濃度を有するよう形成されていることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１４】
前記第１の電子供給層（１２，１３）が、前記超格子層（１１）上に形成された非ドープワイドバンドギャップ層（１２）と、
前記非ドープワイドバンドギャップ層（１２）上に形成されたドープシリコン層（１３）と、
を含むことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１５】
前記非ドープワイドバンドギャップ層（１２）が、ＡｌＧａＡｓ製であると共にモル比でおよそ２２％〜２４％の範囲でアルミニウムを含有することを特徴とする請求項１４に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１６】
半絶縁性基材（２）を提供する工程と、
前記半絶縁性基材（２）上にエピタキシャル基材（３）を形成する工程であって、緩衝層（１０）、超格子層（１１）、第１の電子供給層（１２，１３）、第１のスペーサ層（１４）、電子輸送層（１５）、第２のスペーサ層（１６）、第２の電子供給層（１７）、ショットキー層（１８）、およびコンタクト層（１９）を前記半絶縁性基材（２）上に順番にスタックする工程を含む、エピタキシャル基材（３）を形成する工程と、
前記コンタクト層（１９）上に、オーミック接触でソース電極およびドレイン電極（４，５）を形成する工程と、
前記ショットキー層（１８）上に、前記コンタクト層（１９）を貫通してゲート電極（６）を形成する工程と、
を含むシュードモルフィック高電子移動度トランジスタ（ＰＨＥＭＴ）パワーデバイス（１、１’、１”）の製造方法であって、
コンタクト層（１９）を形成する工程が、前記ショットキー層（１８）上に低濃度ドープコンタクト層（２０）を形成する工程と、
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）上に、前記低濃度ドープコンタクト層（２０）より高いドープ濃度を有する高濃度ドープコンタクト層（２１）を形成する工程と、
を含むことを特徴とする製造方法であり、
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）の表面が露出するよう、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）を貫通して広幅リセス（２３）を形成する工程と、
前記ショットキー層（１８）の表面が露出するよう、前記広幅リセス（２３）中に、前記低濃度ドープコンタクト層（２０）を貫通して狭幅リセス（２４）を形成する工程と、
によりさらに特徴付けられ、
前記ゲート電極（６）は、前記狭幅リセス（２４）中に前記ショットキー層（１８）とショットキー接続で、前記ショットキー層（１８）の露出面から延びて前記低濃度ドープおよび高濃度ドープコンタクト層（２０，２１）を貫通するよう形成されており、
前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）は、前記広幅リセス（２３）が前記ソース電極とドレイン電極と（４，５）の間に配置されるよう、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）上の前記広幅リセス（２３）の外側にオーミック接触で形成されることを特徴とする製造方法。
【請求項１７】
ソース電極およびドレイン電極（４，５）が、前記広幅リセスおよび狭幅リセス（２０，２１）の前に形成されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
ソース電極およびドレイン電極（４，５）を形成する工程が、
前記高濃度ドープコンタクト層（２１）上にそれぞれの金属薄膜を形成する工程と、
蒸着された金属薄膜を高速熱アニールする工程と、
を含むことを特徴とする請求項１６または１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極（４，５，６）によって露出された前記高濃度ドープコンタクト層（２１）の表面上に保護絶縁層（２５）を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）上にベース金属層（２６）を形成する工程と、
前記ベース金属層（２６）上にＡｕ層（２７）を形成する工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
ソースパッド配線およびヒートシンク機構用に、前記半絶縁性基材（２）から前記ソース電極（４）まで延在させるようビアホール（２８）を形成し、金属化する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１６〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
ビアホール（２８）を形成する工程が、前記半絶縁性基材（２）およびエピタキシャル基材（３）をバックエッチングする工程を含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記ビアホール（２８）を形成する前に前記半絶縁性基材（２）をシンニングすることをさらに含むことを特徴とする請求項２１または２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記ゲート電極（６）が全体がＴ字状であることを特徴とする請求項１６〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記保護絶縁層（２５）上に、前記ゲート電極（６）と電気的に接続されると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）または前記ドレイン電極（５）のいずれとも重畳することなく前記ドレイン電極（５）に向かって延在するフィールドプレート（２９）を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２６】
フィールドプレートを形成する工程が、前記高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層（２１）と実質的に共面に、前記低濃度ドープＧａＡｓコンタクト層（２０）の一部と垂直方向に重畳すると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）から離間して終結するゲート延長部（６ｃ）を形成する工程を含むことを特徴とする請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記基材（２）がＧａＡｓ製の半絶縁性基材であり、前記緩衝層（１０）がＧａＡｓ製であり、前記超格子層（１１）がＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ製であり、前記第１および第２の電子供給層（１３，１７）がドープシリコン製であり、前記電子輸送層（１５）がＩｎＧａＡｓ製であり、前記ショットキー層（１８）がＡｌＧａＡｓ製であり、前記低濃度ドープおよび高濃度ドープコンタクト層（２１，２２）がＧａＡｓ製であり、前記ゲート電極（６）がＴｉ／Ａｌ製であり、前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）がＡｕ／Ｇｅ／Ｎｉ／Ａｕ金属薄膜製であり、前記保護絶縁層（２５）が窒化シリコン製であり、ならびに、前記ベース金属層（２６）がＴｉ／Ｐｔ／Ａｕ製であることを特徴とする請求項１６、１９および２０に記載の方法。
【請求項２８】
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）がおよそ３×１０１７ｃｍ−３のドープ濃度を有すると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）がおよそ３．５×１０１８ｃｍ−３のドープ濃度を有することを特徴とする請求項１６〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
前記第１および第２の電子供給層（１３，１７）が、前記電子輸送層（１５）におけるドープレベルがおよそ１．７×１０１２〜２．７×１０１２ｃｍ−２の範囲となるようなドープ濃度を有するよう形成されることを特徴とする請求項１６〜２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
前記第２の電子供給層（１７）が、前記第１の電子供給層（１３）より高いドープ濃度を有するよう形成されることを特徴とする請求項１６〜２９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
前記第１の電子供給層（１３）がおよそ１×１０１２ｃｍ−２のドープレベルを有するよう形成されると共に、前記第２の電子供給層（１７）がおよそ５×１０１２ｃｍ−２のドープレベルを有するよう形成されることを特徴とする請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記電子輸送層（１５）がインジウムをモル比でおよそ１５％〜２０％の範囲で含有し、前記ショットキー層（１８）が、アルミニウムをモル比でおよそ２２％〜２４％で含有すると共におよそ１．０×１０１７〜３．０×１０１７ｃｍ−３の範囲のドープ濃度を有するよう形成されることを特徴とする請求項１６〜３１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３３】
前記第１の電子供給層（１２，１３）が、前記超格子層（１１）上に形成された非ドープワイドバンドギャップ層（１２）と、
前記非ドープワイドバンドギャップ層（１２）上に形成されたドープシリコン層（１３）と、
を含むことを特徴とする請求項１６〜３２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４】
前記非ドープワイドバンドギャップ層（１２）が、ＡｌＧａＡｓ製であると共にモル比でおよそ２２％〜２４％の範囲でアルミニウムを含有することを特徴とする請求項３３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、パワーデバイスに関し、特に、シュードモルフィック高電子移動度トランジスタ（ＰＨＥＭＴ）パワーデバイスおよびこれの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
公知であるとおり、シュードモルフィック高電子移動度トランジスタ（ＰＨＥＭＴ）は、無線通信システムにおいて、スイッチ、パワーアンプおよびローノイズアンプ用途に広範に用いられている。これらのトランジスタは、高いＲＦ利得および電力付加効率（ＰＡＥ）、ならびに、低い雑音指数（ＮＦ）のために、幅広い市場での受容性が見出される。これらのトランジスタの優れた特性はまた、これらのトランジスタを、衛星放送（ＤＢＳ−ＴＶ）およびグローバル衛星通信システムを含む衛星通信システムにおける使用に対しても魅力的としている。ＰＨＥＭＴテクノロジーはまた、２．５〜１０Ｇｂ／ｓ光波通信システムなどの高速アナログおよびデジタルＩＣにおいても用いられている。ＰＨＥＭＴのより高い周波数応答が、現在、ミリ波通信（４０Ｇｂ／ｓ）およびレーダーシステムにおいて用途が見出されている。
【０００３】
無線通信システム、レーダー探知、衛星および電子戦システムのための、さらに高い性能を有するＲＦパワーデバイスに対する市場での需要の増加が、エレクトロニクス産業における利用可能なパワーデバイスおよびテクノロジーの動作周波数の拡張をもたらしてきた。パワーデバイスの動作周波数をミリ波レンジまで高めるために、最適化されたＰＨＥＭＴエピタキシャル層構造、特定の用途のためのユニットセルの最適化されたデバイスレイアウト、および高周波数機能に適した薄膜技術開発を含む数々の重要な技術的な機構が提案されてきている。特に、エピタキシャル層構造について規定される最も重要な要件は、導電路中の自由電子をイオン化ドナーから確実に物理的に分離する条件に関連する。このソリューションは、散乱しているイオン化された不純物を顕著に低減させ、電子移動度を高めることによって、従来の金属−半導体電界効果トランジスタ（ＭＥＳＦＥＴ）を超えて著しく性能を向上させる。
【０００４】
さらに、シュードモルフィック高電子移動度トランジスタＰＨＥＭＴは、通常、負のゲート電圧バイアスを動作のために必要とする。従って、正のゲート電圧を用いるヘテロ接合バイポーラトランジスタ（ＨＢＴ）と比して、このような負の電圧の印加には、不都合なことに、専用の電圧供給回路が必要であり、チップの複雑性が増加すると共に製造コストが増大する。
【０００５】
単一の電圧供給で動作することができるＰＨＥＭＴパワーデバイスは、例えば、特許文献１に開示されている。ＰＨＥＭＴパワーデバイスは、半絶縁性ＧａＡｓ基材上に順番にスタックされたＧａＡｓ緩衝層とＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格子層と非ドープＡｌＧａＡｓ層と第１のドープシリコン層と第１のスペーサとＩｎＧａＡｓ電子輸送層と第２のスペーサと第１のドープシリコン層とは異なるドープ濃度を有する第２のドープシリコン層と低濃度ドープＡｌＧａＡｓ層と非ドープＧａＡｓキャップ層とを含むエピタキシャル基材と、非ドープＧａＡｓキャップ層上にオーミック接触で形成されたソース電極およびドレイン電極と、低濃度ドープＡｌＧａＡｓ層上に形成されて、非ドープＧａＡｓキャップ層を貫通して延在するゲート電極とを含む。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第６，５９３，６０３号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本出願人は、単一電圧供給（ドレイン供給電圧のみ）で動作可能であるＰＨＥＭＴパワーデバイスを提供するためには、いかなるバイアスも無しでゲートを接地させたままＡ級動作条件（達成可能な最大値の半分に等しいドレイン−ソース間電流）を達成させるピンチオフ電圧の最適化が必要であることに注目した。
【０００８】
特に、本出願人は、優れたリニアリティおよび電力付加効率、高い降伏電圧を有すると共に単一電圧供給で動作可能である最適化ＰＨＥＭＴパワーデバイスが、以下の低いニー電圧、高くて均一な相互コンダクタンス、および低いソース−ゲート間キャパシタンスといった要件を満たすべきであることに注目した。
【０００９】
この点において、本出願人は、特許文献１に開示のＰＨＥＭＴパワーデバイスが、単一電圧供給で動作可能であっても、しかしながら、その性能は、Ｃバンド（４〜６ＧＨｚ）においてのみ良好であり、その一方で、Ｘバンド（８．０〜１２．０ＧＨｚ）においては非常に不満足となることが判明しており、このＰＨＥＭＴパワーデバイスは、Ｋａ（Ｋ−ａｂｏｖｅ）バンド（１８〜４０ＧＨｚ）においては完全に使用不能であることに注目した。
【００１０】
従って、本出願人は、単一電圧供給で動作可能であると共に、ＸバンドおよびＫａバンドにおいて優れた性能をも有するＰＨＥＭＴパワーデバイスを提供するためには、専用のエピタキシャル基材の構造、ひいては、特許文献１に開示のデバイス製造方法をさらに最適化する必要があることに注目した。
【００１１】
従って、本発明は、単一電圧供給で動作可能であり、特に、４０ＧＨｚ以下のシグナル、すなわち、例えばＣバンド、ＸバンドおよびＫａバンドの増幅に用いられ得る高周波数デジタル無線通信における良好な使用に好適であり、ならびに、従来技術におけるＰＨＥＭＴより高いリニアリティ、降伏電圧および電力付加効率を有する、ＰＨＥＭＴパワーデバイスを提供することを主な目的とする。
【００１２】
本発明の他の目的は、このＰＨＥＭＴパワーデバイスの製造方法を提供することである。
【００１３】
これらの目的は、添付の特許請求の範囲に定義されるＰＨＥＭＴパワーデバイスおよびこれの製造方法に関する本発明により達成される。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、ＩＩＩ−Ｖ半導体ヘテロ接合のエピタキシャル成長テクノロジーにおける進歩であって、バンド構造、半導体デバイスの異なる領域におけるドープタイプおよびドープレベルを設計する可能性を確実とする進歩を開拓することにより、ならびに、ワイドバンドギャップ半導体などの優れた電気的特性を有する新規の半導体材料を採用することにより、ならびに、ＰＨＥＭＴ構造を適当に設計することにより、前述の目的を達成する。これらの追加の自由度の使用が、ＲＦ性能がかなり向上された新規のデバイスを開発する状況をもたらす。特に、本発明は、最適化されたエピ層順序およびダブルリセスゲート幾何学的形状を導入することにより、前述の目的を達成する。より詳細には、本発明は、半絶縁性基材と、半絶縁性基材上に形成されたエピタキシャル基材であって、半絶縁性基材上に順番にスタックされた緩衝層と超格子層と第１の電子供給層と第１のスペーサ層と電子輸送層と第２のスペーサ層と第２の電子供給層とショットキー層とコンタクト層とを含むエピタキシャル基材と、コンタクト層上にオーミック接触で形成されたソース電極およびドレイン電極と、ショットキー層上に形成されてコンタクト層を貫通するゲート電極とを含むシュードモルフィック高電子移動度トランジスタ（ＰＨＥＭＴ）パワーデバイスを提供することにより、前述の目的を達成する。
ＰＨＥＭＴパワーデバイスは、コンタクト層がショットキー層上に形成された低濃度ドープコンタクト層と、低濃度ドープコンタクト層上に形成されると共に低濃度ドープコンタクト層より高いドープ濃度を有する高濃度ドープコンタクト層とを含むことを特徴とする。
ＰＨＥＭＴパワーデバイスは、低濃度ドープコンタクト層の表面を露出させるよう、高濃度ドープコンタクト層を貫通して形成された広幅リセスと、ショットキー層の表面を露出させるよう、広幅リセス中に形成されて低濃度ドープコンタクト層を貫通する狭幅リセスとによりさらに特徴付けられる。その中で、ゲート電極は、狭幅リセス中にショットキー層とショットキー接続で形成されて、ショットキー層の露出面から延びて低濃度ドープおよび高濃度ドープコンタクト層を貫通しており、ソース電極およびドレイン電極は、広幅リセスがソース電極とドレイン電極との間に配置されるよう、高濃度ドープコンタクト層上の広幅リセスの外側にオーミック接触で形成されている。
【００１５】
本発明のより良い理解のために、純粋に一例として意図されていると共に限定的であると解釈されるべきではない好ましい実施形態が、添付の図面を参照して記載される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の実施形態によるＰＨＥＭＴパワーデバイスの断面図である。
【図２】図２は、本発明の他の実施形態によるＰＨＥＭＴパワーデバイスの断面図である。
【図３】図３は、本発明の異なる実施形態によるＰＨＥＭＴパワーデバイスの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下の考察は、当業者が、本発明を形成し、用いることができるよう提示されている。実施形態に対する種々の改良は当業者に対して直ちに明確であり、本明細書における一般的な原理は、本発明の思想および範囲から逸脱することなく、他の実施形態および用途に適用され得る。それ故、本発明は示されている実施形態に限定されることは意図されず、本明細書に開示されていると共に添付の特許請求の範囲に定義された原理および機構と一致する最も広い範囲に従う。
【００１８】
図１は、本発明の実施形態によるＰＨＥＭＴパワーデバイスの断面図である。
【００１９】
ＰＨＥＭＴパワーデバイス１は、例えば半絶縁性ＧａＡｓ基材といったＩＩＩ−Ｖ基材２、半絶縁性ＧａＡｓ基材２上に形成されたドープエピタキシャル基材３、ならびに、エピタキシャル基材３上に形成されたソース電極、ドレイン電極およびゲート電極４，５および６を含む。
【００２０】
特に、エピタキシャル基材３は、半絶縁性ＧａＡｓ基材２上に順番にスタックされた、非ドープＧａＡｓ緩衝層１０、非ドープＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格子層１１、非ドープワイドバンドギャップＡｌＧａＡｓ層１２、第１の超薄型ドープシリコン（パルス）電子供給（ドナー）層１３、第１のスペーサ層１４、非ドープナローバンドギャップＩｎＧａＡｓ電子輸送（チャネル）層１５、第２のスペーサ層１６、第１の電子供給層１３とは異なるドープ濃度を有する第２の超薄型シリコンドープ（パルス）電子供給（ドナー）層１７、非ドープまたは低濃度ドープワイドバンドギャップショットキーＡｌＧａＡｓ層１８、およびＧａＡｓ（オーミック）コンタクト（キャップ）層１９を含む。
【００２１】
ＧａＡｓコンタクト層１９とソース電極およびドレイン電極４，５とのオーミック接触抵抗を低くするために、ＧａＡｓコンタクト層１９はドープされていると共に、下方の低濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２０および上方の高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２１を含む。具体的には、ドープＧａＡｓコンタクト層１９はおよそ１００ｎｍ厚であって、低濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２０はおよそ３０ｎｍ厚であると共におよそ３×１０１７ｃｍ−３のドープ濃度を有するよう形成されており、ならびに、高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２１はおよそ７０ｎｍ厚であると共におよそ３．５×１０１８ｃｍ−３のドープ濃度を有するよう形成されている。
【００２２】
非ドープＡｌＧａＡｓ層１２はおよそ４ｎｍ厚であると共にアルミニウム（Ａｌ）をモル比でおよそ２２％〜２４％の範囲で含有し、ＩｎＧａＡｓ電子輸送層１５はおよそ１３〜１５ｎｍ厚であると共にインジウム（Ｉｎ）をモル比でおよそ１５％〜２０％の範囲で含有し、ならびに低濃度ドープＡｌＧａＡｓ層１８は、およそ３０ｎｍ厚であり、アルミニウム（Ａｌ）をモル比でおよそ２２％〜２４％の範囲で含有し、およびおよそ１．０×１０１７〜３．０×１０１７ｃｍ−３の範囲のドープ濃度を有するよう形成されている。
【００２３】
相互コンダクタンスのリニアリティを向上させるために、第１の電子供給層１３は、第２の電子供給層１７より低いドープ濃度を有する。さらに、ＩｎＧａＡｓ電子輸送層１５におけるドープレベルをおよそ１．７×１０１２〜２．７×１０１２ｃｍ−２の範囲とするために、第１の電子供給層１３はおよそ１×１０１２ｃｍ−２のドープレベルを有するよう形成され、および第２の電子供給層１７はおよそ５×１０１２ｃｍ−２のドープレベルを有するよう形成される。さらに、第１および第２の電子供給層１３，１７は、各々、およそ０．５ｎｍ厚である。
【００２４】
オーミック接触を達成するために、Ａｕ／Ｇｅ／Ｎｉ／Ａｕメタライゼーションが高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２１上に蒸着され、高速熱アニール（ＲＴＡ）に供されて、高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２１とオーミック接触でソース電極およびドレイン電極４，５が形成されている。
【００２５】
個別のＰＨＥＭＴパワーデバイスの作用面積を分離するために、エピタキシャル基材３は、メサエッチされ得るか、または、好ましくは、ＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格子層１１まで重水素あるいはフッ素高エネルギーイオンを用いてイオン注入され得る。
【００２６】
これらの２つのステップの後に、高い相互コンダクタンスおよび高いＰＨＥＭＴ利得を保持しながら降伏電圧を高めると共にニー電圧を低く維持し、これによりＰＨＥＭＴ電力特性を向上するために、ドープＧａＡｓコンタクト層１９は、リセスエッチされて、高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２１に形成された上方の広幅リセス２３ならびに低濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２０と低濃度ドープＡｌＧａＡｓ層１８の一部とに形成された下方の狭幅リセス２４を含むダブルリセス構造２２が形成されている。具体的には、ダブルリセス構造２２を形成するために、ソース電極およびドレイン電極４，５の間の高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２１がエッチされて広幅リセス２３が形成され、次いで、低濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２０が、広幅リセス２３内において、低濃度ドープＡｌＧａＡｓ層１８まで選択的にウェットエッチされて狭幅リセス２４が形成されている。具体的には、選択的エッチングは、ｐｈ制御されると共に温度制御されたクエン酸および過酸化水素溶液を用いて実施される。さらに、２回のエッチングの各々は、低濃度および高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２０，２１をポジ型ｉ−ラインフォトレジストでパターン化することにより実施される。低濃度ドープＡｌＧａＡｓ層１８の存在が、ＰＨＥＭＴパワーデバイス１の製造中におけるダブルリセスの形成のために実施されるウェットエッチングにおいても、エッチングの均一性を確実とする。
【００２７】
ダブルリセス２２の形成の後、ゲート電極６が、次いで、低濃度ドープＡｌＧａＡｓ層１８の露出面上のチタン（Ｔｉ）およびアルミニウム（Ａｌ）を蒸発させることにより、ＡｌＧａＡｓショットキー層１８と接触して形成される。具体的には、ゲート電極６は、ダブルリセス２２における中央において、ＡｌＧａＡｓショットキー層１８から、低濃度および高濃度ドープ下方ＧａＡｓコンタクト層２０，２１の両方を貫通して、ダブルリセス２２の外側に突出するよう延在する。
【００２８】
次いで、例えば窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）製の保護絶縁層２５が、ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極４，５，６により露出された高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２１の表面上に、例えばプラズマ化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ）法により形成される。
【００２９】
次いで、Ｔｉ／Ｐｔ／Ａｕベース金属層２６が例えば蒸発により形成され、次いで、ソース電極およびドレイン電極４，５上に積層され、次いで、Ａｕ層２７がベース金属層２６上に例えば電気メッキにより形成される。ベース金属層２６は、オーミック接触を分離させると共にＡｕメッキ層２７からソース電極およびゲート電極４，５への金の拡散を防止する相互拡散バリアを画定する。
【００３０】
ソース電極およびドレイン電極４，５は、次いで、ソースおよびドレインパッド（図示せず）のそれぞれにＡｕメッキエアブリッジ（図示せず）を介して接続される。
【００３１】
最後に、半絶縁性ＧａＡｓ基材２は、およそ６５０μｍの初期の厚さからおよそ５０〜１２０μｍの範囲の最終厚さにシンニングされ、次いで、ＰＨＥＭＴ１はバックエッチされてビアホール２８が形成され、このビアホールは、寄生ソース−接地インダクタンスの最少化、およびヒートシンク機構を提供するために、シンニングされた半絶縁性ＧａＡｓ基材２からソース電極４までソースパッド配線のために延在する厚型のＡｕ層でその周辺領域を含めて金属化される。
【００３２】
図２は、図１に図示のものと類似のＰＨＥＭＴパワーデバイスの断面図であり、ここで、同一の符号は同一の構成要件を指す。特に、図２に示されている、１’により指定されているＰＨＥＭＴパワーデバイスは、ゲート電極６が、Ｔｉ製の下方の脚部分６ａおよびＡｌ製の上部のヘッド部分６ｂからなる全体がＴ字状とされている点で図１に示されているＰＨＥＭＴパワーデバイス１とは異なる。より具体的には、ゲート電極６の脚部分６ａは、ゲート電極６のヘッド部分６ｂがダブルリセス２２の外に突出するよう、ダブルリセス２２の深さと実質的に等しい高さを有する。より具体的には、Ｔ形状は、ゲート金属スタックのＴｉを、好適なフッ素／酸素プラズマ化学で、低損傷性等方性プラズマ−エッチ反応器においてドライエッチングすることにより得られる。フッ素ガスキャリアはＣＦ４、またはＣＨＦ３またはＳＦ６であることが可能である。酸素キャリアガスはＯ２であることが可能である。
【００３３】
プラズマは、平行平板型構成プラズマエッチにおけるＲＦ放電により生成される。チャンバの各平板が例えば１００〜２００℃の範囲に加熱され、チャンバ圧力が２００〜１０００ｍＴｏｒｒの範囲とされる。ＲＦパワー放電は、イオンおよび電子の衝撃により生じる表面の損傷を可能な限り低減させるために、低くされるべきである。プラズマエッチ平行平板型構成がこのゲートエッチ用に利用される場合、ＲＦパワー放電は５０ワット未満でなければならない。しかも、機器がコールドプラズマを確実に誘導することができれば、より良好な結果が達成可能である（ＥＣＲ−電子サイクロトロン共鳴、ＩＣＰ−誘導結合プラズマ）。
【００３４】
このようなプロセスにおいて、Ａｌはフッ素化されて、フッ素プラズマによってはエッチされずに残留するため、ゲート電極６のヘッド部分６ｂのＡｌはマスク層として用いられる。従って、Ａｌ製のゲート電極６のヘッド部分６ｂがエッチされずに残る一方、Ｔｉ製でＡｌＧａＡｓショットキー層１８上に位置するゲート電極６の脚部分６ａは側方がエッチされる。このように、０．１５μｍ以上のゲート長が、ゲートフィンガー抵抗を低く維持しながら、迅速、かつ、低コストの製造方法で達成可能である。
【００３５】
図３は、図１および２に図示のものと類似のＰＨＥＭＴパワーデバイスの断面図であり、ここで、同一の符号は同一の構成要件を指す。特に、図３に示されている１”が指定されているＰＨＥＭＴパワーデバイスは、ゲート電極６に接続されていると共に、高濃度ドープコンタクト層２１またはドレイン電極（５）のいずれとも重畳することなくドレイン電極５に向かって延在しているフィールドプレート２９が設けられている点で、図１および２に示されているＰＨＥＭＴパワーデバイスとは異なる。具体的には、フィールドプレート２９は、高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２１と共面に、低濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２０の保護絶縁層２５の一部に垂直方向に重畳すると共に、高濃度ドープ下方ＧａＡｓコンタクト層２１から１．０μｍの距離で終結するゲート延長部６ｃとして形成されている。窒化シリコン（Ｓｉ３Ｎ４）製の保護絶縁層２５は超薄型（５０ｎｍ未満）であり、Ｓｉ３Ｎ４の高誘電率を達すると共に、ＧａＡｓ／Ｓｉ３Ｎ４界面状態を制御するために最適化されるようＰＥＣＶＤにより蒸着される。
【００３６】
図１、２および３に示されるＰＨＥＭＴパワーデバイスにおいては、異なるＧａＡｓおよびＡｌＧａＡｓ層が設けられているが、最も関心のあるヘテロ接合はシリコンドープＡｌＧａＡｓ層１２および１８と非ドープＩｎＧａＡｓ層１５との間のものである。実際には、隣接するＩｎＧａＡｓ層と比してより高いＡｌＧａＡｓ層のバンドギャップのために、自由電子がＩｎＧａＡｓ層に拡散して二次元電子ガス（２−ＤＥＧ）をヘテロ界面に形成し、ここで、自由電子はきわめて薄型のシートに封じ込められたままであり、そして、２−ＤＥＧの輸送特性は従来のＭＥＳＦＥＴにおける自由電子のものよりもかなり良好である。
【００３７】
ＡｌＧａＡｓ層１８はドナー層であり、最終的なＰＨＥＭＴパワーデバイスにおいて、この層は、そうでなければＰＨＥＭＴ性能に悪影響を及ぼすＡｌＧａＡｓにおけるいかなる平行伝導効果もＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ界面から排除するよう、ショットキーゲート６から空乏であるべきである。ヘテロ構造設計の最中において、ドナー層におけるドープレベルの増加がＰＨＥＭＴの降伏電圧を低減させることを考慮しなければならない。高い２−ＤＥＧシートキャリア濃度を維持しながらこの問題点を克服するために、パルスドープ、δドープＡｌＧａＡｓ層を用いることが可能である。この解法は、およそ０．５ｎｍ厚の、きわめて高いドープレベルを有するＳｉ単一層を利用する。
【００３８】
スペーサ層１４，１６の厚さに関しては、自由電子は物理的にドナーから分離されているにもかかわらず、きわめて近い近接性がクーロン散乱として知られる静電的な相互作用をもたらす。この効果は、非ドープＡｌＧａＡｓの薄型スペーサ層により、２−ＤＥＧをＡｌＧａＡｓドナー層から分離させることにより低減される。ＰＨＥＭＴのノイズ性能はスペーサ厚に厳密に結びついていることに言及しておくことは重要である。
【００３９】
ＧａＡｓ緩衝層１０に関しては、ドレイン−ソース間の電界により、電子の一部がＧａＡｓ緩衝層１０に注入される可能性がある。この現象は、ドレイン出力導電率の増加の結果として利得低減を誘起する。ＰＨＥＭＴにおいて、ＧａＡｓ緩衝層１０への電子注入は、ＧａＡｓ緩衝層１０へのＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ超格子層１１により制御され、これは、同時に、チャネル品質を変化させない。
【００４０】
本発明に基づいて製造された、０．５−μｍ−ゲート長さ、０．２５−μｍ−ゲート長さを有すると共にフィールドプレート構造を有するＰＨＥＭＴパワーデバイスについて実施された特性計測の結果が以下に記載されている。記載した結果のすべては、１００−μｍ−単位ゲート幅および１−ｍｍ−合計ゲート幅を参照している。具体的には、相互コンダクタンスおよび飽和電流に関する限り、本発明による異なるゲート長さを有するＰＨＥＭＴパワーデバイスは、およそ−０．８Ｖ〜−０．６Ｖのピンチオフ電圧、０Ｖのゲート電圧で１００〜３００ｍＡ／ｍｍの範囲の飽和電流、および０．８Ｖのゲート電圧で３００〜６００ｍＡ／ｍｍの範囲の最大飽和電流を有する。加えて、相互コンダクタンスは、０〜１Ｖの範囲のゲート電圧で２５０〜３５０ｍＳ／ｍｍの範囲でほぼ一貫している。その結果、ＰＨＥＭＴパワーデバイスは、向上したリニアリティを発揮する。電流−電圧特性に関する限り、本発明によるＰＨＥＭＴパワーデバイスは、最大電流に影響を与えないままに、約１Ｖの低いニー電圧、ならびに、フィールドプレート構造無しで約１８Ｖおよびフィールドプレート構造有りで４０Ｖのオフ降伏電圧を発揮する。この結果は、低いオーミック接触抵抗を維持したまま高いゲートドレイン降伏電圧を得ることができることを説明する。電力特性に関する限り、本発明によるＰＨＥＭＴパワーデバイスは、関連する１２ｄＢ以下の電力利得を伴う２９ｄＢｍ／ｍｍ以下の出力を有し、これらの電力特性は、ゲート長さが簡便に適応される場合には、周波数１０ＧＨｚ以下、ゲイン圧縮１ｄＢの標準値でのロードプル法により測定される。フィールドプレート構造を導入することで、電力性能がさらに高まり、３２ｄＢｍ／ｍｍ以下の出力および、関連する１５ｄＢ以下の電力利得がＣバンド用途について達成される。最後に、高ＲＦアンプ用途に関する限り、本発明によるＰＨＥＭＴパワーデバイスは、適切にゲート長さを変更することによりシグナルを４０ＧＨｚ以下まで増幅するために用いられ得る。
【００４１】
本発明の利点は、上記から明白である。具体的には、本発明によるＰＨＥＭＴパワーデバイスにおいては、ドープＧａＡｓコンタクト層１９であって、特にソース電極およびドレイン電極とオーミック接触の、下方低濃度ドープ下方ＧａＡｓコンタクト層２０および上方高濃度ドープ下方ＧａＡｓコンタクト層２１製のものの形成は、それらの間の接触抵抗を低下させ、それ故、ＰＨＥＭＴの電圧特性を向上させる。
【００４２】
さらに、上方高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２１に形成された上方広幅リセス２３と、下方低濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２０に形成された下方狭幅リセス２４とからなるダブルリセス構造２２の形成は、高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２１上にオーミック接触を形成させ、それ故、ＰＨＥＭＴの全体的な電力特性を向上させ、特に、低いニー電圧を維持しながら降伏電圧を著しく高め、およびリニアリティおよび電力付加効率を向上させる。
【００４３】
しかも、ダブルリセス構造２２と低濃度および高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層２０，２１との組み合わせは、ＰＨＥＭＴパワーデバイスの、ゲートコンタクトに対する負のバイアス電圧を全く必要とすることなく、単一電圧供給型での動作を許容する。
【００４４】
さらに、本発明のＰＨＥＭＴは、直接的に接地されたゲートコンタクトパッドで、Ａ級増幅器要件を充足させる。
【００４５】
さらに、ドープシリコン層１７より低いドープ濃度を有するドープシリコン層１３は、ＰＨＥＭＴパワーデバイスの相互コンダクタンスを、ゲート−ソース間電圧に関して一定とする。その一方で、低濃度ドープＡｌＧａＡｓ層１８がＰＨＥＭＴパワーデバイスを製造するために実施されるウェットリセスエッチングにおけるエッチング均一性を確実とする。それ故、ＰＨＥＭＴパワーデバイスに対する製造方法全体を容易化するため、生産性が向上される。
【００４６】
最後に、Ｔ−ゲート構造は、ゲート−ソース間キャパシタンスおよびゲートフィンガー抵抗を著しく低減させて、ＰＨＥＭＴの４０ＧＨｚ以下の動作周波数を達成させる。
【００４７】
最後に、数多くの変更および変形を本発明に対してなすことが可能であり、すべてが添付の特許請求の範囲に定義されている本発明の範囲に属する。
【００４８】
例えば、非ドープワイドバンドギャップＡｌＧａＡｓ層１２および第１の超薄型ドープシリコン電子供給層１３は、単一の均一ドープＡｌＧａＡｓ電子供給層で置き換えられてもよい。
【図１】
2010506397.tif 000003
【図２】
2010506397.tif 000004
【図３】
2010506397.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成20年1月23日(2008.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
さらに、シュードモルフィック高電子移動度トランジスタＰＨＥＭＴは、通常、例えば特許文献２に記載のように、負のゲート電圧バイアスを動作のために必要とする。従って、正のゲート電圧を用いるヘテロ接合バイポーラトランジスタ（ＨＢＴ）と比して、このような負の電圧の印加には、不都合なことに、専用の電圧供給回路が必要であり、チップの複雑性が増加すると共に製造コストが増大する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
【特許文献１】米国特許第６，５９３，６０３号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００２／００２４０５７号明細書
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
ダブルリセス２２の形成の後、ゲート電極６が、次いで、ＡｌＧａＡｓショットキー層１８の露出面上のチタン（Ｔｉ）およびアルミニウム（Ａｌ）を蒸発させることにより、ＡｌＧａＡｓショットキー層１８と接触して形成される。具体的には、ゲート電極６は、ダブルリセス２２における中央において、ＡｌＧａＡｓショットキー層１８から、低濃度および高濃度ドープ下方ＧａＡｓコンタクト層２０，２１の両方を貫通して、ダブルリセス２２の外側に突出するよう延在する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半絶縁性基材（２）と、
前記半絶縁性基材（２）上に形成されたエピタキシャル基材（３）であって、前記半絶縁性基材（２）上に順番にスタックされた緩衝層（１０）、超格子層（１１）、第１の電子供給層（１２，１３）、第１のスペーサ層（１４）、電子輸送層（１５）、第２のスペーサ層（１６）、第２の電子供給層（１７）、ショットキー層（１８）およびコンタクト層（１９）を含む前記エピタキシャル基材（３）と、
前記コンタクト層（１９）上にオーミック接触で形成されたソース電極およびドレイン電極（４，５）と、
前記ショットキー層（１８）上に形成されて前記コンタクト層（１９）を貫通するゲート電極（６）とを含み、
前記ゲート電極およびソース電極（４、６）は接地され、前記ドレイン電極（５）は電圧源に接続される、単一電圧供給型シュードモルフィック高電子移動度トランジスタ（ＰＨＥＭＴ）パワーデバイス（１、１’、１”）であって、
前記コンタクト層（１９）が、前記ショットキー層（１８）上に形成された低濃度ドープコンタクト層（２０）と、
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）上に形成されると共に、前記低濃度ドープコンタクト層（２０）より高いドープ濃度を有する高濃度ドープコンタクト層（２１）と、
を含むことを特徴とするＰＨＥＭＴパワーデバイス（１）であり、
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）の表面を露出させるよう、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）を貫通して形成された広幅リセス（２３）と、
前記ショットキー層（１８）の表面を露出させるよう、前記広幅リセス（２３）中に形成されて前記低濃度ドープコンタクト層（２０）を貫通する狭幅リセス（２４）と、
によりさらに特徴付けられ、
前記ゲート電極（６）は、前記狭幅リセス（２４）中に前記ショットキー層（１８）とショットキー接続で形成されて、前記ショットキー層（１８）の露出面から延びて前記低濃度ドープおよび高濃度ドープコンタクト層（２０，２１）を貫通しており、
前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）は、前記広幅リセス（２３）が前記ソース電極とドレイン電極と（４，５）の間に配置されるよう、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）上の前記広幅リセス（２３）の外側にオーミック接触で形成されていることを特徴とするＰＨＥＭＴパワーデバイス（１）。
【請求項２】
ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極（４，５，６）により露出された前記高濃度ドープコンタクト層（２１）の表面に形成された保護絶縁層（２５）をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項３】
前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）上に形成されたベース金属層（２６）と、
前記ベース金属層（２６）上に形成されたＡｕ層（２７）と、
をさらに含むことを特徴とする請求項１または２に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項４】
ソースパッド配線およびヒートシンク機構用に、前記半絶縁性基材（２）から前記ソース電極（４）まで延在するよう形成された金属化ビアホール（２８）をさらに含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項５】
前記ゲート電極（６）が全体がＴ字状であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項６】
前記保護絶縁層（２５）上に、前記ゲート電極（６）と電気的に接続されると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）または前記ドレイン電極（５）のいずれとも重畳することなく前記ドレイン電極（５）に向かって延在して形成されたフィールドプレート（２９）をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項７】
前記フィールドプレートが、前記高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層（２１）と実質的に共面に、前記低濃度ドープＧａＡｓコンタクト層（２０）の一部と垂直方向に重畳すると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）から離間して終結するゲート延長部（６ｃ）として形成されていることを特徴とする請求項６に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項８】
前記基材（２）がＧａＡｓ製の半絶縁性基材であり、前記緩衝層（１０）がＧａＡｓ製であり、前記超格子層（１１）がＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ製であり、前記第１および第２の電子供給層（１３，１７）がドープシリコン製であり、前記電子輸送層（１５）がＩｎＧａＡｓ製であり、前記ショットキー層（１８）がＡｌＧａＡｓ製であり、前記低濃度ドープおよび高濃度ドープコンタクト層（２１，２２）がＧａＡｓ製であり、前記ゲート電極（６）がＴｉ／Ａｌ製であり、前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）がＡｕ／Ｇｅ／Ｎｉ／Ａｕ金属薄膜製であり、前記保護絶縁層（２５）が窒化シリコン製であり、ならびに、前記ベース金属層（２６）がＴｉ／Ｐｔ／Ａｕ製であることを特徴とする請求項１、２および３のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項９】
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）がおよそ３×１０１７ｃｍ−３のドープ濃度を有すると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）がおよそ３．５×１０１８ｃｍ−３のドープ濃度を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１０】
前記第１および第２の電子供給層（１３，１７）が、前記電子輸送層（１５）におけるドープレベルがおよそ１．７×１０１２〜２．７×１０１２ｃｍ−２の範囲となるようなドープ濃度を有するよう形成されていることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１１】
前記第２の電子供給層（１７）が、前記第１の電子供給層（１３）より高いドープ濃度を有するよう形成されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１２】
前記第１の電子供給層（１３）がおよそ１×１０１２ｃｍ−２のドープレベルを有するよう形成されていると共に、前記第２の電子供給層（１７）がおよそ５×１０１２ｃｍ−２のドープレベルを有するよう形成されていることを特徴とする請求項１１に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１３】
前記電子輸送層（１５）がインジウムをモル比でおよそ１５％〜２０％の範囲で含有し、前記ショットキー層（１８）が、アルミニウムをモル比でおよそ２２％〜２４％で含有すると共におよそ１．０×１０１７〜３．０×１０１７ｃｍ−３の範囲のドープ濃度を有するよう形成されていることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１４】
前記第１の電子供給層（１２，１３）が、前記超格子層（１１）上に形成された非ドープワイドバンドギャップ層（１２）と、
前記非ドープワイドバンドギャップ層（１２）上に形成されたドープシリコン層（１３）と、
を含むことを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１５】
前記非ドープワイドバンドギャップ層（１２）が、ＡｌＧａＡｓ製であると共にモル比でおよそ２２％〜２４％の範囲でアルミニウムを含有することを特徴とする請求項１４に記載のＰＨＥＭＴパワーデバイス。
【請求項１６】
半絶縁性基材（２）を提供する工程と、
前記半絶縁性基材（２）上にエピタキシャル基材（３）を形成する工程であって、緩衝層（１０）、超格子層（１１）、第１の電子供給層（１２，１３）、第１のスペーサ層（１４）、電子輸送層（１５）、第２のスペーサ層（１６）、第２の電子供給層（１７）、ショットキー層（１８）、およびコンタクト層（１９）を前記半絶縁性基材（２）上に順番にスタックする工程を含む、エピタキシャル基材（３）を形成する工程と、
前記コンタクト層（１９）上に、オーミック接触でソース電極およびドレイン電極（４，５）を形成する工程と、
前記ショットキー層（１８）上に、前記コンタクト層（１９）を貫通してゲート電極（６）を形成する工程とを含み、
前記ゲート電極およびソース電極（４、６）は接地され、前記ドレイン電極（５）は電圧源に接続される、単一電圧供給型シュードモルフィック高電子移動度トランジスタ（ＰＨＥＭＴ）パワーデバイス（１、１’、１”）の製造方法であって、
コンタクト層（１９）を形成する工程が、前記ショットキー層（１８）上に低濃度ドープコンタクト層（２０）を形成する工程と、
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）上に、前記低濃度ドープコンタクト層（２０）より高いドープ濃度を有する高濃度ドープコンタクト層（２１）を形成する工程と、
を含むことを特徴とする製造方法であり、
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）の表面が露出するよう、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）を貫通して広幅リセス（２３）を形成する工程と、
前記ショットキー層（１８）の表面が露出するよう、前記広幅リセス（２３）中に、前記低濃度ドープコンタクト層（２０）を貫通して狭幅リセス（２４）を形成する工程と、
によりさらに特徴付けられ、
前記ゲート電極（６）は、前記狭幅リセス（２４）中に前記ショットキー層（１８）とショットキー接続で、前記ショットキー層（１８）の露出面から延びて前記低濃度ドープおよび高濃度ドープコンタクト層（２０，２１）を貫通するよう形成されており、
前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）は、前記広幅リセス（２３）が前記ソース電極とドレイン電極と（４，５）の間に配置されるよう、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）上の前記広幅リセス（２３）の外側にオーミック接触で形成されることを特徴とする製造方法。
【請求項１７】
ソース電極およびドレイン電極（４，５）が、前記広幅リセスおよび狭幅リセス（２０，２１）の前に形成されることを特徴とする請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
ソース電極およびドレイン電極（４，５）を形成する工程が、
前記高濃度ドープコンタクト層（２１）上にそれぞれの金属薄膜を形成する工程と、
蒸着された金属薄膜を高速熱アニールする工程と、
を含むことを特徴とする請求項１６または１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記ソース電極、ドレイン電極およびゲート電極（４，５，６）によって露出された前記高濃度ドープコンタクト層（２１）の表面上に保護絶縁層（２５）を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）上にベース金属層（２６）を形成する工程と、
前記ベース金属層（２６）上にＡｕ層（２７）を形成する工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
ソースパッド配線およびヒートシンク機構用に、前記半絶縁性基材（２）から前記ソース電極（４）まで延在させるようビアホール（２８）を形成し、金属化する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１６〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
ビアホール（２８）を形成する工程が、前記半絶縁性基材（２）およびエピタキシャル基材（３）をバックエッチングする工程を含むことを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記ビアホール（２８）を形成する前に前記半絶縁性基材（２）をシンニングすることをさらに含むことを特徴とする請求項２１または２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記ゲート電極（６）が全体がＴ字状であることを特徴とする請求項１６〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記Ｔ字状のゲート電極（６）が、前記狭幅リセス（２４）中にチタン製の狭窄部分を含み、前記狭幅リセス（２４）の外側にアルミニウム製の幅広部分を含み、
前記Ｔ字状のゲート電極（６）を形成する工程が、前記ショットキー層（１８）の露出面上のチタンおよびアルミニウムを蒸発し、
フッ素／酸素プラズマでチタンをドライエッチングすること、
を含むことを特徴とする請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記保護絶縁層（２５）上に、前記ゲート電極（６）と電気的に接続されると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）または前記ドレイン電極（５）のいずれとも重畳することなく前記ドレイン電極（５）に向かって延在するフィールドプレート（２９）を形成する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２７】
フィールドプレートを形成する工程が、前記高濃度ドープＧａＡｓコンタクト層（２１）と実質的に共面に、前記低濃度ドープＧａＡｓコンタクト層（２０）の一部と垂直方向に重畳すると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）から離間して終結するゲート延長部（６ｃ）を形成する工程を含むことを特徴とする請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記基材（２）がＧａＡｓ製の半絶縁性基材であり、前記緩衝層（１０）がＧａＡｓ製であり、前記超格子層（１１）がＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓ製であり、前記第１および第２の電子供給層（１３，１７）がドープシリコン製であり、前記電子輸送層（１５）がＩｎＧａＡｓ製であり、前記ショットキー層（１８）がＡｌＧａＡｓ製であり、前記低濃度ドープおよび高濃度ドープコンタクト層（２１，２２）がＧａＡｓ製であり、前記ゲート電極（６）がＴｉ／Ａｌ製であり、前記ソース電極およびドレイン電極（４，５）がＡｕ／Ｇｅ／Ｎｉ／Ａｕ金属薄膜製であり、前記保護絶縁層（２５）が窒化シリコン製であり、ならびに、前記ベース金属層（２６）がＴｉ／Ｐｔ／Ａｕ製であることを特徴とする請求項１６、１９および２０に記載の方法。
【請求項２９】
前記低濃度ドープコンタクト層（２０）がおよそ３×１０１７ｃｍ−３のドープ濃度を有すると共に、前記高濃度ドープコンタクト層（２１）がおよそ３．５×１０１８ｃｍ−３のドープ濃度を有することを特徴とする請求項１６〜２８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３０】
前記第１および第２の電子供給層（１３，１７）が、前記電子輸送層（１５）におけるドープレベルがおよそ１．７×１０１２〜２．７×１０１２ｃｍ−２の範囲となるようなドープ濃度を有するよう形成されることを特徴とする請求項１６〜２９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３１】
前記第２の電子供給層（１７）が、前記第１の電子供給層（１３）より高いドープ濃度を有するよう形成されることを特徴とする請求項１６〜３０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３２】
前記第１の電子供給層（１３）がおよそ１×１０１２ｃｍ−２のドープレベルを有するよう形成されると共に、前記第２の電子供給層（１７）がおよそ５×１０１２ｃｍ−２のドープレベルを有するよう形成されることを特徴とする請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記電子輸送層（１５）がインジウムをモル比でおよそ１５％〜２０％の範囲で含有し、前記ショットキー層（１８）が、アルミニウムをモル比でおよそ２２％〜２４％で含有すると共におよそ１．０×１０１７〜３．０×１０１７ｃｍ−３の範囲のドープ濃度を有するよう形成されることを特徴とする請求項１６〜３２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４】
前記第１の電子供給層（１２，１３）が、前記超格子層（１１）上に形成された未ドープワイドバンドギャップ層（１２）と、
前記未ドープワイドバンドギャップ層（１２）上に形成されたドープシリコン層（１３）と、
を含むことを特徴とする請求項１６〜３３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】
前記未ドープワイドバンドギャップ層（１２）が、ＡｌＧａＡｓ製であると共にモル比でおよそ２２％〜２４％の範囲でアルミニウムを含有することを特徴とする請求項３４に記載の方法。
【国際調査報告】
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