(57)【要約】  ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法は、（ａ）１）スクラロース上に、少なくとも１つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、２）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに３）アミンを含む混合物を形成する工程、（ｂ）工程（ａ）の産出物ｉ）からトリアリールメチル化スクロース誘導体、及びｉｉ）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物を分離する工程、（ｃ）アミンを工程（ｂ）の混合物ｉｉ）から除去する工程、（ｄ）工程（ｃ）の生成物とハロゲン化水素を接触させて、トリアリールメチル基を開裂し、それにより粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、（ｅ）粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに（ｆ）ハロゲン化トリアリールメチルを工程（ｅ）の産出物から回収する工程を含む。【選択図】図１【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法であって、
（ａ）スクロースをアミンの存在下でトリアリールメチル化し、６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロース及びトリアリールメチル化スクロース副生成物を形成する工程、
（ｂ）前記６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースを、アミンの存在下でアシル化し、６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースペンタエステル及びトリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を形成する工程、
（ｃ）前記工程（ｂ）の産出物から、
ｉ）前記６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースペンタエステル、並びに
ｉｉ）前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び前記工程（ｂ）の前記アミンを含む混合物を分離する工程、
（ｄ）前記工程（ｃ）の前記混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、前記アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程、
（ｅ）前記洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｆ）前記第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｇ）前記ハロゲン化トリアリールメチルを前記工程（ｆ）の産出物から回収する工程を含む、ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法。
【請求項２】
前記工程（ｂ）が前記工程（ａ）の前記トリアリールメチル化スクロース副生成物の存在下で実行され、且つ該トリアリールメチル化スクロース副生成物がアシル化されて、前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物の一部を形成する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の副生成物成分が前記工程（ａ）の前記トリアリールメチル化スクロース副生成物をさらに含み、且つ前記工程（ｄ）の接触により、そのトリアリールメチル基がさらに開裂する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の副生成物成分が前記工程（ａ）の前記アミンをさらに含み、且つ前記工程（ｄ）の接触により該工程（ａ）の該アミンを該第１の副生成物成分からさらに除去する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
トリアリールメチルがトリチルである、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記６，１'，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースペンタエステルを、前記トリアリールメチル基をそれから除去するのに十分な条件下で酸と接触させ、それにより２，３，４，３’，４’−ペンタ−Ｏ−アシルスクロース、並びにハロゲン化トリアリールメチル並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第２の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに続いて該第２の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を、前記２，３，４，３’，４’−ペンタ−Ｏ−アシルスクロースから分離すると共に、それをハロゲン化水素と接触させ、前記１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換する工程をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記酸が無水ハロゲン化水素である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記第２の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分が、前記工程（ｅ）の後且つ前記工程（ｆ）の前に、前記第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分と混合される、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
前記工程（ｆ）の前記ハロゲン化水素が水溶液である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記工程（ｆ）の前記ハロゲン化水素が無水物である、請求項８に記載の方法。
【請求項１１】
前記第２の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分が、前記工程（ｄ）の後、且つ前記工程（ｅ）の前又は該工程（ｅ）中に、前記洗浄副生成物成分と混合される、請求項６に記載の方法。
【請求項１２】
前記工程（ｆ）の前記ハロゲン化水素が水溶液である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記工程（ｆ）の前記ハロゲン化水素が無水物である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記２，３，４，３’，４’−ペンタ−Ｏ−アシルスクロースをスクラロースに変換する工程をさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１５】
ハロゲン化物が塩化物である、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
ハロゲン化物が臭化物である、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
前記アシル化する工程がアセチル化を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
前記アシル化する工程がベンゾイル化を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
前記アミンが前記工程（ａ）、前記工程（ｂ）、又はその両方においてピリジンである、請求項１に記載の方法。
【請求項２０】
ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法であって、
（ａ）スクロースをアミンの存在下でトリアリールメチル化して、６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロース及びトリアリールメチル化スクロース副生成物を形成する工程、
（ｂ）前記６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースをアミンの存在下でアシル化して、６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースペンタエステル及びトリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を形成する工程、
（ｃ）前記工程（ｂ）の産出物から、
ｉ）前記６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースペンタエステル、並びに
ｉｉ）前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び前記工程（ｂ）の前記アミンを含む混合物を分離する工程、
（ｄ）前記工程（ｃ）の前記混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、該第１の副生成物成分を、実質的に全ての前記工程（ｂ）の前記アミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程、
（ｅ）前記脱アシル化副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｆ）前記第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｇ）前記ハロゲン化トリアリールメチルを前記工程（ｆ）の産出物から回収する工程を含む、ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法。
【請求項２１】
前記工程（ｂ）が前記工程（ａ）の前記トリアリールメチル化スクロース副生成物の存在下で実行され、且つ該トリアリールメチル化スクロース副生成物がアシル化されて、前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物の一部を形成する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
前記第１の副生成物成分が前記工程（ａ）の前記トリアリールメチル化スクロース副生成物をさらに含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２３】
前記第１の副生成物成分が前記工程（ａ）の前記アミンをさらに含み、且つ前記工程（ｄ）のストリッピングにより、該工程（ａ）の該アミンを該第１の副生成物成分からさらに除去する、請求項２０に記載の方法。
【請求項２４】
トリアリールメチルがトリチルである、請求項２０に記載の方法。
【請求項２５】
前記６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースペンタエステルを、前記トリアリールメチル基をそれから除去するのに十分な条件下で酸と接触させ、それにより２，３，４，３’，４’−ペンタ−Ｏ−アシルスクロース、並びにハロゲン化トリアリールメチル並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第２の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに続いて該第２の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を前記２，３，４，３’，４’−ペンタ−Ｏ−アシルスクロースから分離すると共に、それをハロゲン化水素と接触させ、前記１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換する、工程をさらに含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２６】
前記酸が無水ハロゲン化水素である、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記第２の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分が、前記工程（ｅ）の後且つ前記工程（ｆ）の前に、前記第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分と混合される、請求項２５に記載の方法。
【請求項２８】
前記工程（ｆ）の前記ハロゲン化水素が水溶液である、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
前記工程（ｆ）の前記ハロゲン化水素が無水物である、請求項２７に記載の方法。
【請求項３０】
前記第２の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分が、前記工程（ｄ）の後、且つ前記工程（ｅ）の前又は該工程（ｅ）中に、前記脱アシル化副生成物成分と混合される、請求項２５に記載の方法。
【請求項３１】
前記工程（ｆ）の前記ハロゲン化水素が水溶液である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記工程（ｆ）の前記ハロゲン化水素が無水物である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
前記２，３，４，３’，４’−ペンタ−Ｏ−アシルスクロースをスクラロースに変換する工程をさらに含む、請求項２５に記載の方法。
【請求項３４】
ハロゲン化物が塩化物である、請求項２０に記載の方法。
【請求項３５】
ハロゲン化物が臭化物である、請求項２０に記載の方法。
【請求項３６】
前記アシル化する工程がアセチル化を含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項３７】
前記アシル化する工程がベンゾイル化を含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項３８】
前記アミンが前記工程（ａ）、前記工程（ｂ）、又はその両方においてピリジンである、請求項２０に記載の方法。
【請求項３９】
前記工程（ｃ）の前記混合物ｉｉ）が溶媒をさらに含有し、且つ前記ストリッピングにより該溶媒の少なくとも一部が除去される、請求項２０に記載の方法。
【請求項４０】
前記溶媒がメタノールである、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法であって、
（ａ）
１）スクラロース上に、少なくとも１つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
２）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
３）アミンを含む混合物を形成する工程、
（ｂ）前記工程（ａ）の産出物から、
ｉ）前記トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ｉｉ）前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び前記アミンを含む混合物を分離する工程、
（ｃ）前記工程（ｂ）の前記混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、前記アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程、
（ｄ）前記洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｅ）前記第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｆ）前記ハロゲン化トリアリールメチルを前記工程（ｅ）の産出物から回収する工程を含む、ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法。
【請求項４２】
前記トリアリールメチル化スクロース誘導体をスクラロースに変換する工程をさらに含む、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法であって、
（ａ）
１）スクラロース上に、少なくとも１つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
２）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
３）アミンを含む混合物を形成する工程、
（ｂ）前記工程（ａ）の産出物から、
ｉ）前記トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ｉｉ）前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び前記アミンを含む混合物を分離する工程、
（ｃ）前記工程（ｂ）の前記混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、前記第１の副生成物成分を、実質的に全ての前記アミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程、
（ｄ）前記脱アシル化副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｅ）前記第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｆ）前記ハロゲン化トリアリールメチルを前記工程（ｅ）の産出物から回収する工程を含む、ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法。
【請求項４４】
前記トリアリールメチル化スクロース誘導体をスクラロースに変換する工程をさらに含む、請求項４３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［関連出願の相互参照］
本出願は、２００６年１２月５日付で出願された米国仮特許出願第６０／８７３，２２６号（その明細書全体が参照により本明細書中に援用される）の優先権の利益を主張するものである。
【背景技術】
【０００２】
スクロース誘導体４，１’，６’−トリクロロ−４，１’，６’−トリデオキシガラクトスクロース（「スクラロース」）は有用且つ商業上重要な非栄養性甘味料である。スクラロースを形成する一方法は、以下の工程を含むが、アセチル基の使用は一例であり、他のアシル基（例えばベンゾイル）を代わりに使用してもよい：
（１）スクロースをトリチル化剤と接触させて、６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリチルスクロース（「ＴＲＩＳ」）を形成する工程、
（２）ＴＲＩＳをアセチル化して、６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリチルスクロースペンタアセテート（「ＴＲＩＳＰＡ」）を得る工程、
（３）ＴＲＩＳＰＡを脱トリチル化して、２，３，４，３’，４’−ペンタ−Ｏ−アセチルスクロース（「４−ＰＡＳ」）を得る工程、
（４）４−ＰＡＳを異性化して、２，３，６，３'，４'−ペンタ−Ｏ−アセチルスクロース（「６−ＰＡＳ」）を得る工程、
（５）６−ＰＡＳを塩素化して、４，１’，６’−トリクロロ−４，１’，６’−トリデオキシガラクトスクロースペンタアセテート（「ＴＯＳＰＡ」）を得る工程、及び
（６）ＴＯＳＰＡを脱アセチル化して、４，１’，６’−トリクロロ−４，１’，６’−トリデオキシガラクトスクロース（「スクラロース」）を形成する工程。
【０００３】
かかる方法は、例えば特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４、及び特許文献５（その全体が参照により本明細書中に援用される）に記載されている。
【０００４】
トリチル基は典型的には、トリチルクロライド等のハロゲン化トリチルとの反応を介して導入される。当該反応は通常、トリチル化反応により遊離したＨＣｌを中和するアミン、例えばピリジンを加えることにより促進される。上記のように、トリチル部分はプロセスの最初の３つの工程：（１）トリチル化してＴＲＩＳを形成する工程、（２）ＴＲＩＳをアセチル化してＴＲＩＳＰＡを形成する工程、及び（３）ＴＲＩＳＰＡを脱トリチル化して４−ＰＡＳを形成する工程において役割を果たす。
【０００５】
重要なことには、この３つの連続した工程の全体の化学量論はトリチル基の正味の消費をもたらさず、トリチル基は工程２中、スクロースにより本質的に「借用」されて使用され、工程３において再び放出される。しかしながら、実際には、ここで論じるように、トリチル化スクロース副生成物及びトリチル化スクロースエステル副生成物（本明細書中で集合的に「トリチル化スクロース不純物」と称される）の形成により、プロセス全体でトリチル基が大幅に失われる可能性がある。
【０００６】
トリチル化反応及び続く後処理（workup）により、典型的には、所望のトリチル化生成物（ＴＲＩＳ）だけでなく、幾つかの不要なトリチル化スクロース副生成物（以下「ＴＲＩＳ−Ｂ」）も生じる。かかる副生成物は、例えばトリチル基を不適切な数で、及び／又はスクロース分子上の不適切な位置に有し得る。トリチルアルコールも過剰のトリチルクロライドから形成される。ＴＲＩＳは典型的には、ＴＲＩＳ−Ｂを除去するためにアセチル化の前に精製されるが、そのようにする必要はない。（例えば、結晶化、抽出、及び／又はクロマトグラフィーによる）ＴＲＩＳの精製の間、相当な割合のトリチル基がＴＲＩＳ上ではなく、母液、ラフィネート、又は溶離液画分として、ＴＲＩＳ−Ｂ及び／又はトリチルアルコールの形態で廃液中に含まれることとなる。正確に保護された生成物の実際の収率はあまり良くない可能性がある。同様に、例えばアセチル基を不適切な数で、及び／又は不適切な位置に有する不正確にアセチル化された化合物を含む付加的な副生成物（以下「ＴＲＩＳＰＡ−Ｂ」）が、アセチル化の間に形成される。ＴＲＩＳがアセチル化の前に精製されなかった（すなわち、ＴＲＩＳ−Ｂが除去されなかった）場合、生じたＴＲＩＳＰＡ−Ｂは、不正確にトリチル化されおよび不正確にアセチル化されたスクロースを含有し得る。
【０００７】
商業上の観点から、トリチル基の利用におけるこれらの非効率性は、トリチル化剤が１）原料として高価であり、２）廃棄物として貯蔵又は処理するのに費用がかかり得るため、このスクラロースへの経路の使用に対して重大な障壁となる。したがって、スクラロース製造プロセスからトリチル化剤を回収し、再利用する方法には有意な価値があり得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国特許第４，７８３，５２６号明細書
【特許文献２】米国特許第４，８０１，７００号明細書
【特許文献３】米国特許第４，３６２，８６９号明細書
【特許文献４】米国特許第４，９２０，２０７号明細書
【特許文献５】米国特許第４，９７７，２５４号明細書
【発明の概要】
【０００９】
一態様では、本発明はハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法を提供する。当該方法は、
（ａ）スクロースをアミンの存在下でトリアリールメチル化し、６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロース及びトリアリールメチル化スクロース副生成物を形成する工程、
（ｂ）６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースを、アミンの存在下でアシル化し、６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースペンタエステル及びトリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を形成する工程、
（ｃ）工程（ｂ）の産出物から、
ｉ）６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースペンタエステル、並びに
ｉｉ）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び工程（ｂ）のアミンを含む混合物を分離する工程、
（ｄ）工程（ｃ）の混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程、
（ｅ）洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｆ）第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｇ）ハロゲン化トリアリールメチルを工程（ｆ）の産出物から回収する工程を含む。
【００１０】
別の態様では、本発明はハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法を提供する。当該方法は、
（ａ）スクロースをアミンの存在下でトリアリールメチル化して、６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロース及びトリアリールメチル化スクロース副生成物を形成する工程、
（ｂ）６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースをアミンの存在下でアシル化して、６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースペンタエステル及びトリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を形成する工程、
（ｃ）工程（ｂ）の産出物から、
ｉ）６，１’，６’−トリ−Ｏ−トリアリールメチルスクロースペンタエステル、並びに
ｉｉ）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び工程（ｂ）のアミンを含む混合物を分離する工程、
（ｄ）工程（ｃ）の混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、第１の副生成物成分を、実質的に全ての工程（ｂ）のアミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程、
（ｅ）脱アシル化副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｆ）第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｇ）ハロゲン化トリアリールメチルを工程（ｆ）の産出物から回収する工程を含む。
【００１１】
さらに別の態様では、本発明はハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法を提供する。当該方法は、
（ａ）
１）スクラロース上に、少なくとも１つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
２）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
３）アミンを含む混合物を形成する工程、
（ｂ）工程（ａ）の産出物から、
ｉ）トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ｉｉ）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物を分離する工程、
（ｃ）工程（ｂ）の混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程、
（ｄ）洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｅ）第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｆ）ハロゲン化トリアリールメチルを工程（ｅ）の産出物から回収する工程を含む。
【００１２】
さらなる態様では、本発明はハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法を提供する。当該方法は、
（ａ）
１）スクラロース上に、少なくとも１つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
２）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
３）アミンを含む混合物を形成する工程、
（ｂ）工程（ａ）の産出物から、
ｉ）トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ｉｉ）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物を分離する工程、
（ｃ）工程（ｂ）の混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、第１の副生成物成分を、実質的に全てのアミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程、
（ｄ）脱アシル化副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｅ）第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｆ）ハロゲン化トリアリールメチルを工程（ｅ）の産出物から回収する工程を含む。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に従ってトリチル基をスクラロースの製造プロセスから回収する方法のプロセスフロー概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
今や、トリチル基はスクラロースの調製において有益な中間体である４−ＰＡＳの調製に使用される、トリチル化スクロース誘導体から効果的に回収することができることが見出された。前付けとして、４−ＰＡＳのペンタベンゾエート（又は他のペンタエステル）等価物も本発明の方法により調製されて、最終的にスクラロースに変換され、トリチル基が回収され得ることに留意されたい。議論を簡単にするために、本発明の以下の記載は４−ＰＡＳ自体のみに言及するが、ペンタベンゾエート（又は他のペンタエステル）等価物の使用も本発明により考慮されることを理解されたい。
【００１５】
同様に、トリチル以外のトリアリールメチル基を本発明に従って使用してもよい。例えば、アリール環上の置換パターンを慎重に変更することにより、選択された置換基がパラ−メトキシのような電子求引基であるか、又はパラ−メチルのような電子供与基であるかに応じて脱ブロック化（脱トリチル化）の速度を加速又は減速することができる。説明を簡単にするために、トリチル化合物のみが本発明の記載において言及されるが、本発明は、上述の（及び他の）トリアリールメチル基が代わりに使用される実施形態を包含することを理解されたい。
【００１６】
概して、本発明の目的のために使用されるハロゲン化水素はＨＣｌであるが、ＨＢｒを代わりに使用してもよい。便宜上、以下の議論ではＨＣｌに言及する。
【００１７】
同様に便宜上、本明細書中の議論は、ピリジンがプロセスのトリチル化及び／又はアセチル化の工程において塩基として使用されることに基づくが、任意の他の適切なアミン又は他の塩基、例えばジメチルアミノピリジン、ピコリン、コリジン、ルチジン、Ｎ−メチルモルフォリン、トリエチルアミン、ポリ（２−ビニル）ピリジン又は他のものを代わりに使用してもよいことを理解されたい。
【００１８】
本発明者らは、トリチル基が典型的には生成物（ＴＲＩＳＰＡ）並びに副生成物（ＴＲＩＳ−Ｂ及びＴＲＩＳＰＡ−Ｂ）におよそ７０：３０の比で分配されると予想され得ることを見出した。典型的には、副生成物はトリチル化の後に除去され、アセチル化の後に再び除去されるが、どちらの除去も絶対に必要なわけではない。不純物がトリチル化の後に除去される場合、これによりＴＲＩＳの精製中に集められる不純物を含有する第１の廃液ｗ１が、例えば結晶化からの母液として、又はクロマトグラフィー精製若しくは他の同様の精製からの溶離液として形成される。これらのトリチル化スクロース副生成物は、ｗ１流においてスクロース誘導体の少なくとも５０ｍｏｌ％、典型的には少なくとも９０ｍｏｌ％を構成する。アセチル化の後、ＴＲＩＳ−Ｂの存在下又は非存在下で、反応混合物は（典型的には結晶化、又はクロマトグラフィー分離若しくは他の分離により）、ＴＲＩＳＰＡ（本質的に純粋であるが、どの場合もスクロース誘導体の少なくとも９０ｍｏｌ％を構成する）及び任意に溶媒を含有する生成物成分、並びにトリチル化スクロースエステル副生成物を含有する第２の廃液ｗ２にワークアップされる。ｗ２において少なくとも５０ｍｏｌ％、典型的には少なくとも９０ｍｏｌ％のスクロース誘導体は、かかる副生成物を含む。本明細書中で使用される場合、用語「溶液」は液体中の任意の種類の分散液を含み、単一相を意味するものではない。本明細書中で使用される場合、「生成物成分」等の語句中の用語「成分」は、論じられる物質が、溶媒（複数可）を除いた構成要素の少なくとも５０ｗｔ％を構成することを示す。典型的には、当該物質は少なくとも９０ｗｔ％を構成する。「成分」は、例えば、言及の物質の溶媒中の溶液であってもよく、又は溶媒中にない物質であってもよい。
【００１９】
したがって、ｗ１廃液及びｗ２廃液は、「廃」トリチル基（すなわち、最終的にＴＲＩＳＰＡ上にないトリチル基）を含有する。他のトリチル基は所望の生成物（ＴＲＩＳＰＡ）上にある。これらは最終的に脱トリチル化の結果として現れ、廃トリチル化合物（主にトリチルアルコール、トリチルエーテル、及び／又はトリチルエステル）、並びにトリチル保護基を除去するためにＨＣｌを使用する場合、トリチルクロライドを含む廃液ｗ３を形成し得る。したがって、全てのトリチル基が個々の廃液ｗ１、ｗ２、及びｗ３中に含まれることになる。
【００２０】
廃液ｗ１及びｗ２は典型的には、ピリジン（又は他のアミン）を、多くの場合水及びスクラロース製造プロセス全体の様々な部分からの１つ又は複数の有機合成の通常の溶媒、例えばメタノール、ジメチルホルムアミド、トルエンを伴った、その遊離形態で及び／又はピリジン塩酸塩として含有する。ピリジンは、酸性水溶液又は水のみでの抽出により、トリチル化スクロース副生成物を後の脱トリチル化のために有機溶媒中に無傷で残したまま、この混合物から任意に除去され得る。かかる抽出により、典型的にはピリジンの少なくとも８０％、より典型的には少なくとも９０％が除去される。代替的には、ピリジンを適所に残したまま、混合物全体を脱トリチル化条件に曝してもよい。幾つかの実施形態では、無水ＨＣｌがこの目的で、直接粗トリチルクロライドを生成するために使用される。
【００２１】
この粗トリチルクロライドを続いて濃塩酸に接触させて、（ａ）トリチルクロライドの収率をさらに高める一方で、トリチルアルコール、トリチルエーテル、及び／又はトリチルエステルのいずれが存在してもそれを最小限に抑え、且つ（ｂ）最終の仕上げ（polishing）洗浄を行い、どの残留スクロース由来不純物も除去することができる。ＴＲＩＳＰＡの脱トリチル化中に別に生じたｗ３廃液、及びｗ４溶液（トリチルクロライドの結晶化からの濾液）が、このＨＣｌによる最終処理に加えられ得る。
【００２２】
ここで、本発明の或る特定の実施形態の詳細を、図１を参照して提示する。この特定の実施形態の詳細は例示目的で示され、本発明の範囲を限定するものではないことを理解されたい。特に、図１に示す実施形態は連続処理システムを採用するが、この手法を用いると比較的短い滞留時間がもたらされる傾向がある。これにより、典型的には分解量がより低くなり、回収されるトリチルクロライドの収率及び／又は純度が向上される。しかしながら、バッチ処理又は半連続処理の代替手段を、本発明に従って代わりに使用してもよい。
【００２３】
図１の全体的な図には、大まかに３つの機能：塩基抽出、脱トリチル化、及び（トリチルクロライドを再生するための）活性化を実行する装置を含む。これらの機能は統合されて、自動運転を容易にし、装置サイズ、内部滞留量（internal holdups）、及び在庫費用を最小限に抑える単一の連続フローシステムを形成する。これらの機能は示されるように統合する必要はなく、またプロセスのいずれも連続させる必要はないことに留意されたい。バッチ処理及び半バッチ処理を、同様に図１に示される装置により実行されるプロセスのいずれかに使用してもよい。しかしながら、重要な一考慮事項は、スクロース由来化合物のシステムにおけるよく知られた不安定性、特に熱又は酸の存在下における分解に対するその感受性である。これらの考慮事項により、可能な限り最も穏やかな条件を提供するようにバッチ処理よりも連続処理の選択が求められ得る。
【００２４】
塩基抽出
塩基抽出容器Ａにより、トリチル化スクロース副生成物のＴＲＩＳ−Ｂ及びＴＲＩＳＰＡ−Ｂが、ピリジン又はトリチル化廃液及びアセチル化廃液（それぞれｗ１及びｗ２）の他の塩基構成要素（複数可）から分離される（後の脱トリチル化のために水と混和しない有機溶媒中で無傷なように単離される）。流入水流Ｓ１は、水（１０で示す）及び市販の３４％濃ＨＣｌ（１２で示す）を静的ミキサーＭ１で合わせることにより生じる希ＨＣｌ溶液を含む。流入有機流Ｓ２は、必要に応じて水と混和しない有機溶媒Ｓ１２（例えばトルエン）がインラインミキサーＭ２で適切に補充される、トリチル化廃液及びアセチル化廃液（ｗ１及びｗ２）を含む。抽出プロセスは典型的には周囲温度で実行されるが、より高いか又は低い温度を同様に使用してもよい。適温の使用により、様々な炭水化物誘導体の酸触媒分解が低温で最小限に抑えられるために、収率及びスループットが向上する傾向がある。
【００２５】
Ｓ１流及びＳ２流は、ピリジン及び／又は希酸溶液中の他の塩基構成要素（複数可）若しくは塩の高い隔離（sequestration）を促進するために、抽出容器Ａにおいて激しく混合される。流出水流Ｓ３は、ピリジン、及び／又は廃液ｗ１及び／又は廃液ｗ２中に本来存在する他の塩基構成要素（複数可）を塩形態で含有する希ＨＣｌ溶液を含む。流出有機流Ｓ４は、ピリジン及び／又は他の塩基構成要素（複数可）を実質的に含有しない高度に非極性のトリチル化スクロースを含む水と混和しない有機溶媒を含有する。Ｓ４流は本質的にピリジン及び非保護スクロースを含有しないため、この実施形態の利点は、必要に応じてＳ４流が蒸留により濃縮され、それにより続く工程が容易になり得る点である。
【００２６】
ミキサーＭ１及びミキサーＭ２は、当該技術分野で既知の任意の型のものであってもよい。典型的には、これらは、剪断及び流量が厳しく管理された条件下で、最大限の半径方向混合、及び最小限の軸方向混合を生じさせるような角度を付けて配置され、したがって最大限の横断面均一性をもって連続栓流混合をもたらす一連のバッフル、プレート、及び／又はバーを含む静的ミキサーである。しかしながら、攪拌槽型ミキサー等の他のミキサーを使用してもよい。
【００２７】
水と混和しない有機溶媒の選択肢は、ｗ１及び／又はｗ２中での、工程１及び／又は工程２の処方及び／又は処理からの残留物（holdovers）としての、その前身（pre-existence）により予め定められ得る。軽い酢酸アルキル、エーテル、アレーン（例えばそれぞれ酢酸エチル、ジエチルエーテル、トルエン）から、重い塩化アルキル（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素等）まで密度スペクトルの両極端の代表的な有機溶媒が見られる。本明細書中で使用される場合、用語「溶媒」とは溶媒の混合物も指す。有機溶媒（複数可）の性質は、それが酸性の運転条件に不活性であり、トリチル物体を可溶化し、且つ水流Ｓ１との相の区別を達成することが可能であれば重要ではない。別個の軽い溶媒、重い溶媒、及び／又は水混和性溶媒（例えばメタノール）の組み合わせでさえも、有機画分Ｓ４の複合比重が、２つの別個の分離可能な相が得られるように抽出水流Ｓ３と十分に異なっていれば、実施可能である。
【００２８】
他の実施形態では、ピリジン除去のために代替技術が利用され得る。例えば、遊離ピリジン部分を完全に酸性化して抽出可能な塩形態を形成するのではなく、代替的な手法ではピリジン塩酸塩水溶液を塩基性化して遊離ピリジンを形成し、蒸留により回収する。
【００２９】
抽出容器Ａは、当該技術分野で既知の任意の型のものであってもよい。有利には、抽出容器Ａは、水相と有機相との間の複数回の対向流の接触を促進し、それにより多数の中間体平衡を介した溶質の全体的な再分配を最適化するように連続的に構成された、一段階抽出率の違いを効果的に組み合わせて、最小限の溶媒量で最大限の分離を達成する一連の遠心式液−液抽出ユニットを含んでいてもよい。したがって、図１の例示的な４段階の連結では、水流は、トレーンの終わりまでに対向する有機流Ｓ２から徐々に多くのピリジン及び／又は塩を取り込みながら、蛇行して抽出容器Ａを通過し、両方の流が最終的に抽出容器Ａを抜けると、実質的に全てのピリジン及び／又は他の塩基構成要素が完全に有機流Ｓ２から水流Ｓ３に移行し、塩水溶液廃液タンクＴ１に誘導される。
【００３０】
脱トリチル化
同時に、有機溶媒（典型的には主にトルエン）に溶解し、ピリジン及び／又は他の塩基構成要素（複数可）を実質的に含有しない状態にされた、高度に非極性のトリチル化スクロースを含有する抽出容器Ａからの流出有機流Ｓ４は、脱トリチル化容器Ｂに誘導され、ここでトリチル除去工程の大部分が実際に遂行される。廃トリチル物質を様々に生成する多数の試薬、例えば（ａ）ＨＣｌ等の酸性水溶液からのトリチルアルコール、（ｂ）アルコール性酸からのトリチルエーテル、及び（ｃ）カルボン酸からのトリチルエステルをこのために適用してもよい。脱トリチル化は多くの種類の酸、例えば鉱酸、ルイス酸、カルボン酸、スルホン酸等により触媒され得る。幾つかの実施形態では、試薬は直接トリチルクロライドを生じさせる無水ＨＣｌである。他の代替物により、トリチルクロライドへの変換にさらなる化学処理を要する中間誘導体が生成する。例えば、濃ＨＣｌ水溶液を使用してもよく、それによりトリチルクロライド／トリチルアルコール混合物が生成する。さらに別の代替手法は、トリチル基を水素化により開裂してトリフェニルメタンを形成することである。この場合、トリチルクロライドはトリフェニルメタンをＣｌ２で処理することにより再生することができ、結果として遊離したＨＣｌもトリチルアルコールとの反応によって、より多くのトリチルクロライドを形成する。
【００３１】
図１に示した配置では、無水ＨＣｌ（１６で示す）は、静的ミキサーＭ３の前でトリチル化スクロースを含有するＳ４流に注入される。静的ミキサーＭ１及びＭ２の場合に前述のように、静的ミキサーＭ３の内部には、剪断及び流量が厳しく管理された条件下で、最大限の半径方向混合であるが、最小限の軸方向混合を生じさせるような角度を付けて配置され、したがって最大限の横断面均一性をもって連続栓流混合をもたらす一連のバッフル、プレート、及び／又はバーが含まれる。静的ミキサーにより整備費用の削減、低い資本コスト及び空間効率（乱流非粘性混合を確実にするために、わずか３〜４の長さの管径しか要しない）という利益がもたらされ得る。しかしながら、他の型のミキサーを代わりに使用してもよい。
【００３２】
静的ミキサーＭ３を出ると、Ｓ４流は直ちに脱トリチル化容器Ｂに入り、ここでトリチル基を開裂するのに十分であるが、スクロース誘導体の不要な破壊を引き起こすほどではない滞留時間が与えられる。不安定なスクロース誘導体の酸性環境への曝露を制限する他の方法としては、（ａ）化学量論量をやや上回るＨＣｌを利用すること、（ｂ）反応器に適切に管理された冷却液ジャケットを装備すること、及び（ｃ）遊離したスクロース誘導体を即座に析出させることができる非極性溶媒を選択することが挙げられる。容器の温度は、典型的には３０℃以上、より典型的には４０℃以上に維持される。温度は典型的には７０℃以下、より典型的には５５℃以下である。脱トリチル化容器Ｂは典型的には栓流反応器であるが、どの設計の反応器であってもよい。
【００３３】
脱トリチル化容器Ｂが栓流反応器である場合、脱トリチル化容器Ｂは、最も簡便にはらせん巻きコイルとして、又は共通のシェル内に構成された複数連の平行管として、あらゆる最適な間隔配置で配置された口径の比較的狭い管を含む。後者の設計は、シェル及び管熱交換器に一般に見られるものに類似した設計で、外部冷却液の格納を提供する共通のシェルを可能にする点で特に適切であり得る。脱トリチル化容器Ｂの設計においてさらに重要な考慮事項は、沈殿したスクロース誘導体の内壁への過度の堆積を防ぐことの必要性である。これは、流速と断面積との相互作用の最適化、及びＴＥＦＬＯＮ（登録商標）ＰＴＦＥ等の不粘着面の使用により達成され得る。極めて困難な状況では、幾らかの重力による助力を利用するために、管をわずかに傾斜した位置に置くことで、追加の利益を得ることができる。必要に応じて、任意にメタノール（１４で示す）等の有機共溶媒と混ざった水（１０で示す）の並流を、堆積の可能性が最も高い前方のゾーンを対象として、反応器の下流域に沿って適切に配置された地点で導入してもよい。例えば、これは一貫した共溶媒送達率を確実にするインラインミキサーＭ４を介して簡便に導入される。
【００３４】
したがって、脱トリチル化容器Ｂを出ると、反応混合物は主に、水と混和しない有機溶媒に溶解した遊離トリチルクロライド、並びに脱トリチル化スクロース及びスクロース誘導体が溶解及び／又は分散した相補的な水相を含む。概して、この混合物Ｓ５が、遊離トリチルクロライドのトリチルアルコールへの逆加水分解を最小限にするだけでなく、酸性の水性環境において形成される任意のスクロース誘導体分解生成物による、外からの汚染から保護するための即時の相分離を受けるように誘導されることが望ましい。図１の実施形態では、この動作は単純な連続デカンタ構成の利用により遂行される。したがって、脱トリチル化容器Ｂから出た二相性混合物Ｓ５は、相の分離に十分な沈降時間を可能にするのに適切な大きさのデカンタ容器Ｄへと前方へ誘導される。堰の構成は、溢流ゾーンからの粗トリチルクロライドの溶液Ｓ７の、及びスクロース誘導体水相Ｓ６の、沈降ゾーン自体の基部に位置する底弁を介した連続したドローオフを可能にするように、デカンタ容器Ｄ内に適切に位置され得る。抽出容器Ａに関して前に議論したように、本発明から逸脱することなく他の液−液抽出装置で容易に置き換られ得ることを理解されたい。
【００３５】
活性化
デカンタ容器Ｄからの水相Ｓ６は、スクロース誘導体廃液タンクＴ２に誘導される。溢流有機流Ｓ７は、脱トリチル化容器Ｂ及びデカンタ容器Ｄにおいて課せられた水性の環境の結果として、必然的にごく一部のトリチルクロライドの加水分解形態であるトリチルアルコールを伴った遊離トリチルクロライドを含有する。この活性の減少は、溢流有機流Ｓ７がここで誘導される活性化容器Ｃにおいて、遊離トリチルアルコールのヒドロキシル基が必要な塩素原子により再置換されることにより回復する。トリチルアルコール、トリチルエステル、トリチルエーテル、及び／又はトリチルクロライドのいずれかを含有し、スクロース誘導体及び／又はその分解生成物を実質的に含有しないｗ３流を、活性化容器Ｃの前で全回収システムに任意に導入し、インラインミキサーＭ５においてＳ７と組み合わせることによって、複合流Ｓ８を発生させてもよい。ルイス酸、酸性水溶液、カルボン酸、及び／又は無水ＨＣｌを使用して脱トリチル化を実行する実施形態では、ｗ３流はＴＲＩＳＰＡの脱トリチル化中の廃液として発生する。代替的には、脱トリチル化スクロース誘導体（複数可）がどの程度存在してもそれを除去するのを助けるために、ｗ３流を脱トリチル化容器Ｂの排出口の幾らか上流の地点に、又は完全に脱トリチル化容器Ｂの前に誘導してもよい。
【００３６】
活性化容器Ｃは任意の種類の反応器であってもよいが、典型的には、抽出容器Ａに関して前に記載されているものと同じ設計のものである。具体的には、図１の例示的な４段階の連結では、水流Ｓ９は、トレーンの終わりまでに対向する有機流Ｓ８から徐々に多くの任意のスクロース誘導体不純物を取り込みながら、蛇行して活性化容器Ｃを通過し、両方の流が最終的に活性化容器Ｃを抜けると、実質的に全てのスクロース由来不純物が完全に有機流Ｓ８から水溶流Ｓ９に移行し、最終的に水流Ｓ１０としてこの抽出機構（chain）から出ることになる。反応器は典型的には周囲温度で運転されるが、より高い又はより低い温度を使用してもよい。
【００３７】
流入有機流Ｓ８は、水と混和しない有機溶媒並びに高度に非極性のトリチルクロライド、トリチルアルコール、トリチルエーテル、及び／又はトリチルエステルを含み、スクロース誘導体及び／又はその分解生成物を実質的に含有しない。流入水流Ｓ９は、必要に応じてミキサーＭ６において無水ＨＣｌ（１６で示す）で濃度を高めた（boosted）濃ＨＣｌ溶液を含む。前述のように、このミキサーは任意の型であってもよいが、典型的には静的ミキサーである。Ｓ８流及びＳ９流は、接触すると活性化容器Ｃにおいて激しく混合され、トリチルアルコール、トリチルエーテル、及び／又はトリチルエステルのトリチルクロライドへの高レベルでの変換、並びに任意のスクロース由来不純物の酸性水相への高い率での除去を促進する。典型的には、変換は実質的に完全であるが、どの場合も少なくとも５０％である。このプロセスの結果、２つの流が生じる。流出有機流Ｓ１１は、流入有機流Ｓ８中に本来存在する、水と混和しない有機溶媒及び高度に非極性のトリチルクロライドを取り込んでいるが、スクロース由来不純物及び／又はその分解生成物を実質的に含有しない。それに対応して、流出水流Ｓ１０は、流入有機流Ｓ８中に本来存在するスクロース由来不純物及び／又はその分解生成物を含有する濃ＨＣｌ溶液を含有する。
【００３８】
活性化容器Ｃからの流出水流Ｓ１０は、濃酸廃液タンクＴ３に誘導される。活性化容器Ｃからの流出有機流Ｓ１１は、有機溶媒に溶解し、且つスクロース誘導体及び／又はその分解生成物を実質的に含有しない状態にされたトリチルクロライドを高純度、典型的には９５ｗｔ％を超える純度で含有し（すなわち、存在するトリチル化物質全体において最大でも５ｗｔ％が他のトリチル化合物である）、蒸発器、晶析器、クロマトグラフ、又は他の精製装置（１８で示す）に誘導されて、高純度のトリチルクロライドを濃縮液又は結晶形態として提供する。
【００３９】
Ｔ１の内容物は様々な再利用工程を受け得る。例えば、プロセス溶媒を蒸留により、塩基を添加すると遊離ピリジンを遊離するピリジン塩の水溶液を除いて集めてもよく、次に遊離ピリジンを蒸留により集めてプロセスで再利用することができる。
【００４０】
ここで本発明の他の実施形態を記載する。この実施形態ではバッチ処理システムが採用されるが、連続又は半連続の処理代替手段を本発明に従って代わりに使用してもよい。
【００４１】
スクラロース製造プロセスの一部として、トリチルクロライドは２つの供給源：ＴＲＩＳＰＡの脱トリチル化中にトリチルクロライドと共に生成する、トリチル化スクロース不純物、及び廃トリチル化合物（主にトリチルアルコール、トリチルメチルエーテル等のトリチルエーテル、及び／又はトリチルアセテート等のトリチルエステル）から回収される。これらの供給源の各々の形成及び処理をここで記載する。
【００４２】
トリチル化スクロース不純物
幾つかの実施形態では、アセチル化の前にＴＲＩＳは精製されず（すなわち、トリチル化スクロース副生成物は除去されない）、生じたトリチル化スクロース不純物は、不正確にトリチル化及び不正確にアセチル化された化合物を含む。しかしながら、他の実施形態では、トリチル化スクロース副生成物はアセチル化の前に除去される。これらは、例えば本明細書中でｗ１流に関して先に記載されているような、トリチル化スクロース副生成物を含有する成分を形成し得るが、ｗ２流に関して上記に記載されているような精製ＴＲＩＳのアセチル化の結果、トリチル化スクロースエステル副生成物が別に生じる。このような場合、トリチル化スクロース副生成物は必要に応じてトリチル化スクロース不純物成分の一部を形成し得る。
【００４３】
どちらの場合も、トリチル化スクロース不純物は典型的には、幾らかのピリジンを含む溶媒及び他の溶媒、典型的にはメタノール中の溶液として存在する。少量の他の溶媒、例えばトルエンが、スクラロース製造プロセスの他の部分から存在していてもよい。第１の工程では、溶液のｐＨは適切な塩基、例えば２５％水酸化ナトリウムの添加により約１２〜１３に上昇し、混合物はこのｐＨ範囲に維持され、任意の酢酸及び／又は無水酢酸（ＴＲＩＳＰＡ形成からの残渣）を水溶性塩に変換し、且つ任意のピリジン塩を遊離ピリジンに変換するのに十分な温度でしばらく加熱される。典型的には約５０℃又はそれより幾らか高い温度で行なわれるが、穏やかな条件が用いられ得るトリチル化スクロースエステル副生成物の脱アセチル化も或る程度この段階で起こる。
【００４４】
第１の工程が実質的に完了すると、混合物をより高い温度、典型的には約９０℃に加熱し、メタノールの大部分及びピリジンの一部を蒸発させ、同様に脱アセチル化を実質的に完了させる。続いて、混合物を実質的に全ての残存する揮発性構成要素、主にピリジン、並びに少量のメタノール及びトルエンをストリッピングするのに十分な時間、蒸気で散布する。このスチームストリッピングをする工程は典型的には、混合物のピリジン（又は他のアミン）の含量が約０．１ｗｔ％未満になると完了したと見なされる。
【００４５】
次に、溶媒（典型的にはトルエンであるが、他の水と混和しない溶媒を使用してもよい）を混合物に添加して、トリチル基の大部分を含有し、主にトリチル化スクロースの形態であるが、時には少量のトリチルアルコールを含有する溶媒相、及び主に水溶性塩、例えば酢酸ナトリウムを含有する水相を生じさせる。相を分離し、水相はさらなるトルエンで抽出した後、廃棄する。トルエン相を、それに含有されるトリチル化スクロースの続く脱トリチル化のために合わせる。
【００４６】
脱トリチル化は、トルエン相を典型的には約３２ｗｔ％濃度のＨＣｌ水溶液に接触させて、トリチル化スクロースエステルのトリチル基を開裂し、トリチルアルコール及び幾らかのトリチルクロライドを形成することにより達成してもよい。所望であれば、トリチルクロライドの形成は、およそ３５ｗｔ％のさらなる濃ＨＣｌを使用するか、又はトルエン相を無水ＨＣｌで処理することにより完成度をさらに高めてもよい。典型的には、これらの処理のいずれも、ほぼ周囲温度で実行されるが、幾らか高い又は低い温度を使用してもよい。概して、これらの工程は約１５℃〜約３０℃の範囲で実行される。結果として、中間純度のトリチルクロライドのトルエン溶液が生じ、これは典型的には、下記でさらに記載するように高純度トリチルクロライドへの最終変換を受ける。幾つかの実施形態では、かかる変換の前に、粗トリチルクロライドは最初に、これから記載するＴＲＩＳＰＡの脱トリチル化により生じる粗トリチルクロライドと合わせられ、４−ＰＡＳが形成される。
【００４７】
廃トリチル化合物
廃トリチル化合物（主にトリチルアルコール、トリチルエーテル、及び／又はトリチルエステル）は、ＴＲＩＳＰＡの脱トリチル化中にトリチルクロライドと共に生成するが、脱トリチル化は典型的にはＴＲＩＳＰＡを、溶媒（典型的にはトルエン）中で無水ＨＣｌに接触させることにより実行される。典型的には、無水ＨＣｌを脱トリチル化に使用する場合、トリチル基は主にトリチルクロライドの形態であり、トリチルアルコール、トリチルエーテル、又はトリチルエステルは少量しか寄与しない。廃トリチル化合物及びトリチルクロライドはトルエン溶液中に存在するが、当該溶液は典型的には３２ｗｔ％ＨＣｌ水溶液で洗浄され、水溶性成分、例えばスクロース誘導体、及びスクラロース製造プロセスの他の部分からの残留量のアミンが除去される。洗浄には周囲温度が典型的には使用され、約１５℃〜約３０℃の範囲のどの温度も一般に実行可能であるが、他の温度を使用してもよい。結果として、蒸留又は真空ストリッピングにより濃縮され得る、第２の粗トリチルクロライドのトルエン溶液が生じ、その後これから記載するように、単独で、又は上記に記載されているようにトリチル化スクロース不純物から得られる粗トリチルクロライドと組み合わせて、高純度トリチルクロライドに変換される。
【００４８】
高純度トリチルクロライドの調製
上記に記載されているように（トルエン中の溶液として）調製される粗トリチルクロライドは、次に高純度トリチルクロライドに変換され得る。トリチルクロライドの最終結晶化からの母液も供給量に加えられ得る。幾つかの実施形態では、最初に粗物質を活性炭で処理して、全体の純度を向上することが有益であり得るが、これは必要ではない。高純度トリチルクロライドへの変換は、溶液を濃ＨＣｌ水溶液（典型的には３５ｗｔ％〜３７ｗｔ％）に接触させることにより実行してもよい。無水ＨＣｌの使用も変換を完了するために利用され得る。生じたトリチルクロライドは典型的には、有機溶媒に溶解して９５ｗｔ％を超える純度を有する（すなわち、存在するトリチル化物質全体において最大でも５ｗｔ％が他のトリチル化合物である）。この溶液をストリッピングにより高温で（典型的には約５０℃〜約７０℃、且つ典型的には真空下で）約５０ｗｔ％〜５５ｗｔ％の濃度に濃縮してもよい。続いて冷却してトリチルクロライドを高純度（典型的には少なくとも９８ｗｔ％）の結晶として析出させ、これを遠心分離又は濾過により回収してもよい。典型的には、冷却は約０℃〜約２０℃の範囲の温度までである。結晶生成物はそのままでも、又は乾燥させて溶媒を除去してから使用してもよく、母液を上述のように再利用してもよい。
【００４９】
より一般的には、以上の手順のいずれもトリチルクロライドの他のスクロース誘導体化プロセス、特にスクラロース製造プロセスからの回収に適用することができる。例示的な一用途は、例えば２００７年３月２８日に公開された中国特許出願公開１９３５８２２号明細書（参照により本明細書中に援用される）に開示されているような合成経路を使用した、以上に記載されているもの以外のトリチル化中間体及びアシル化中間体を介したスクラロース製造プロセスにおけるものである。このプロセスは、例えば米国特許第４，８８９，９２８号（参照により本明細書中に援用される）に記載されているように調製されるスクロース４，６−オルトエステルから始まる。オルトエステルをアミン（例えばピリジン）の存在下でトリチルクロライドと反応させると、対応する１'，６’ジトリチル化オルトエステルが生じる。これを次に（同様にアミン、例えばピリジンの存在下で）無水酢酸により２位、３位、３’位、及び４’位でアセチル化し、全ての残存するヒドロキシル基を保護する。この生成物を水／酢酸（１：５）で部分加水分解することにより、２，３，６，３’，４’−ペンタ−Ｏ−アセチルスクロース（６−ＰＡＳ）が生じ、これが次に既知の方法でスクラロースに変換され得る。
【００５０】
本発明によると、このような経路によるスクラロースの製造には、中間体の１つ又は複数を結晶化、クロマトグラフィー、又は他の手段により単離することも含まれ、この過程でトリチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物が形成され得る。このような混合物を、本明細書中で前に記載されている方法により処理して、トリチルクロライドを回収してもよい。トリチルクロライドは、ＴＲＩＳＰＡの脱トリチル化により遊離したトリチル基からトリチルクロライドを回収することに関して本明細書中で前に記載されているものと同じ技法を用いて、トリチル化及びアセチル化オルトエステルを２，３，６，３’，４’−ペンタ−Ｏ−アセチルスクロースに変換する工程で回収し、２，３，４，３’，４’−ペンタ−Ｏ−アセチルスクロースを形成してもよい。
【００５１】
したがって、概して、本発明はトリチルクロライドを回収する方法であって、
（ａ）
１）スクラロース上に、少なくとも１つのトリチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリチル化スクロース誘導体、
２）トリチル化スクロースエステル副生成物、並びに
３）アミンを含む混合物を形成する工程、
（ｂ）工程（ａ）の産出物から、
ｉ）トリチル化スクロース誘導体、及び
ｉｉ）トリチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物を分離する工程を含む方法を提供する。
【００５２】
一実施形態では、当該方法は次に、工程（ｂ）の混合物ｉｉ）を含む副生成物成分を、アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより１つ又は複数のトリチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程を含む。続いて、洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数のトリチル化スクロース不純物のトリチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリチル、並びにトリチルアルコール、トリチルエステル、及びトリチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリチル化合物を含む粗ハロゲン化トリチル成分を形成する。次に粗ハロゲン化トリチル成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数の廃トリチル化合物をハロゲン化トリチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリチル成分を形成した後、ハロゲン化トリチルを回収する。
【００５３】
別の実施形態では、当該方法は、工程（ｂ）の混合物ｉｉ）を含む副生成物成分を、トリチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、第１の副生成物成分を、実質的に全てのアミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより１つ又は複数のトリチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程を含む。この成分を次にハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数のトリチル化スクロース不純物のトリチル基（及び任意のオルトエステル基）を開裂し、それによりハロゲン化トリチル、並びにトリチルアルコール、トリチルエステル、及びトリチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリチル化合物を含む粗ハロゲン化トリチル成分を形成する。次に粗ハロゲン化トリチル成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数の廃トリチル化合物をハロゲン化トリチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリチル成分を形成し、続いてハロゲン化トリチルを回収する。
【００５４】
本発明は特定の実施形態を参照して、本明細書中で説明及び記載されているが、添付の請求項がそこに示される詳細に限定されることは意図されない。むしろ、当業者によってこれらの詳細において様々な変更が、その変更がクレームされた主題の精神及び範囲内にあるように為されることが期待され、これらの請求項がそれに応じて解釈されることが意図される。
【図１】
2010511705.tif 000002
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月3日(2009.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
さらに別の態様では、本発明はハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法を提供する。当該方法は、
（ａ）
１）スクロース上に、少なくとも１つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
２）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
３）アミンを含む混合物を形成する工程、
（ｂ）工程（ａ）の産出物から、
ｉ）トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ｉｉ）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物を分離する工程、
（ｃ）工程（ｂ）の混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程、
（ｄ）洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｅ）第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｆ）ハロゲン化トリアリールメチルを工程（ｅ）の産出物から回収する工程を含む。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらなる態様では、本発明はハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法を提供する。当該方法は、
（ａ）
１）スクロース上に、少なくとも１つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
２）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
３）アミンを含む混合物を形成する工程、
（ｂ）工程（ａ）の産出物から、
ｉ）トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ｉｉ）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物を分離する工程、
（ｃ）工程（ｂ）の混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、第１の副生成物成分を、実質的に全てのアミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程、
（ｄ）脱アシル化副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｅ）第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｆ）ハロゲン化トリアリールメチルを工程（ｅ）の産出物から回収する工程を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
したがって、概して、本発明はトリチルクロライドを回収する方法であって、
（ａ）
１）スクロース上に、少なくとも１つのトリチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリチル化スクロース誘導体、
２）トリチル化スクロースエステル副生成物、並びに
３）アミンを含む混合物を形成する工程、
（ｂ）工程（ａ）の産出物から、
ｉ）トリチル化スクロース誘導体、及び
ｉｉ）トリチル化スクロースエステル副生成物及びアミンを含む混合物を分離する工程を含む方法を提供する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４１】
ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法であって、
（ａ）
１）スクロース上に、少なくとも１つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
２）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
３）アミンを含む混合物を形成する工程、
（ｂ）前記工程（ａ）の産出物から、
ｉ）前記トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ｉｉ）前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び前記アミンを含む混合物を分離する工程、
（ｃ）前記工程（ｂ）の前記混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、前記アミンをそれから除去するのに十分な条件下でハロゲン化水素水溶液と接触させ、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む洗浄副生成物成分を形成する工程、
（ｄ）前記洗浄副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｅ）前記第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｆ）前記ハロゲン化トリアリールメチルを前記工程（ｅ）の産出物から回収する工程を含む、ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４３】
ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法であって、
（ａ）
１）スクロース上に、少なくとも１つのトリアリールメチル置換基及び少なくとも１つのアシル置換基を含むトリアリールメチル化スクロース誘導体、
２）トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物、並びに
３）アミンを含む混合物を形成する工程、
（ｂ）前記工程（ａ）の産出物から、
ｉ）前記トリアリールメチル化スクロース誘導体、及び
ｉｉ）前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物及び前記アミンを含む混合物を分離する工程、
（ｃ）前記工程（ｂ）の前記混合物ｉｉ）を含む第１の副生成物成分を、前記トリアリールメチル化スクロースエステル副生成物を脱アシル化するのに十分な条件下で塩基水溶液と接触させると共に、前記第１の副生成物成分を、実質的に全ての前記アミンを除去するのに十分な条件下でストリッピングし、それにより１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物を含む脱アシル化副生成物成分を形成する工程、
（ｄ）前記脱アシル化副生成物成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数のトリアリールメチル化スクロース不純物のトリアリールメチル基を開裂し、それによりハロゲン化トリアリールメチル、並びにトリアリールメチルアルコール、トリアリールメチルエステル、及びトリアリールメチルエーテルから成る群から選択される１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物を含む第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、
（ｅ）前記第１の粗ハロゲン化トリアリールメチル成分をハロゲン化水素と接触させて、前記１つ又は複数の廃トリアリールメチル化合物をハロゲン化トリアリールメチルに変換し、それにより精製ハロゲン化トリアリールメチル成分を形成する工程、並びに
（ｆ）前記ハロゲン化トリアリールメチルを前記工程（ｅ）の産出物から回収する工程を含む、ハロゲン化トリアリールメチルをスクロース誘導体化プロセスから回収する方法。
【国際調査報告】
2010511705.tif 000003
2010511705.tif 000004