(57)【要約】  本発明は、ゴムコンパウンドの製造のための改良された方法を記載するものであって、式（Ｉ）［式中、Ｒ1は、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル基、スチリル基、α−メチルスチリル基又は−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ3；又はＣ2−Ｃ20アルケニル基、Ｃ3−Ｃ20アルキニル基、Ｃ5−Ｃ9シクロアルキル基、フェニル基又はトリル基により置換されたＣ1−Ｃ20アルキル基であり；Ｒ2はＣ1−Ｃ20アルキル基又は−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ3であり、Ｒ3は、Ｃ1−Ｃ20アルキル基；フェニル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ホルミル基、アセチル基又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ5により置換されたＣ1−Ｃ20アルキル基；Ｃ2−Ｃ20アルケニル基、Ｃ3−Ｃ20アルキニル基、Ｃ5−Ｃ9シクロアルキル基；又はヒドロキシル基、フェニル基、４−クロロ−フェニル基、２−メトキシカルボニルフェニル基、ｐ−トリル基、１，３−ベンズチアゾール−２−イル基、−（ＣＨＲ5）nＣＯＯＲ6又は−（ＣＨＲ5）nＣＯＮＲ7Ｒ8により置換されたＣ5−Ｃ9シクロアルキル基であり；Ｒ4は、水素又はメチル基であり、Ｒ5は、水素又はＣ1−Ｃ6アルキル基であり、Ｒ6は、Ｃ1−Ｃ20アルキル基；酸素又は硫黄により中断されたＣ3−Ｃ20アルキル基；Ｃ5−Ｃ9シクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基又はトリル基であり、Ｒ7及びＲ8は、互いに独立して水素又はＣ1−Ｃ6アルキル基であり、及びｎは１又は２である］の加工安定剤のゴムの質量に基づいて０．１〜２％の量の存在下で１２５〜２００℃でゴム及び成分を配合することを含む方法を記載する。
2010521576.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゴムコンパウンドの製造のための改良された方法であって、ゴムの質量に基づいて、式Ｉ
【化１】
2010521576.tif 000020
［式中、Ｒ1は、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル基、スチリル基、α−メチルスチリル基又は−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ3；又はＣ2−Ｃ20アルケニル基、Ｃ3−Ｃ20アルキニル基、Ｃ5−Ｃ9シクロアルキル基、フェニル基又はトリル基により置換されたＣ1−Ｃ20アルキル基であり；
Ｒ2は、Ｃ1−Ｃ20アルキル基又は−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ3であり、
Ｒ3は、Ｃ1−Ｃ20アルキル基；フェニル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ホルミル基、アセチル基又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ5により置換されたＣ1−Ｃ20アルキル基；Ｃ2−Ｃ20アルケニル基、Ｃ3−Ｃ20アルキニル基、Ｃ5−Ｃ9シクロアルキル基；又はヒドロキシル基、フェニル基、４−クロロ−フェニル基、２−メトキシカルボニルフェニル基、ｐ−トリル基、１，３−ベンズチアゾール−２−イル基、−（ＣＨＲ5）nＣＯＯＲ6又は−（ＣＨＲ5）nＣＯＮＲ7Ｒ8により置換されたＣ5−Ｃ9シクロアルキル基であり；
Ｒ4は、水素又はメチル基であり、
Ｒ5は、水素又はＣ1−Ｃ6アルキル基であり、
Ｒ6は、Ｃ1−Ｃ20アルキル基；酸素又は硫黄により中断されたＣ3−Ｃ20アルキル基；Ｃ5−Ｃ9シクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基又はトリル基であり、
Ｒ7及びＲ8は、互いに独立して水素又はＣ1−Ｃ6アルキル基であり、及び
ｎは１又は２である］の加工安定剤０．１〜２％の量の存在下で１２５〜２００℃でゴム及び成分を配合することを含む方法。
【請求項２】
Ｒ3がＣ6−Ｃ18アルキルである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｒ1がメチル基であり、
Ｒ2が−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ3であり、
Ｒ3がＣ8−Ｃ12アルキル基であり、及び
Ｒ4が水素である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
該成分が、顔料、染料、充填剤、均展助剤、分散剤、可塑剤、加硫活性剤、加硫促進剤、加硫剤、電荷制御剤、付着促進剤、帯電防止剤、金属酸化物、抗酸化剤及び光安定剤からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
該成分がエポキシド化大豆油及び／又は２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルである、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
該配合が１５０〜２００℃で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
１２５〜２００℃でのゴム配合のための加工安定剤としての請求項１に記載の式Ｉの化合物の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ゴムコンパウンドの製造のための改良された方法であって、硫黄含有加工安定剤の特定の群のゴムの質量に基づいて０．１〜２％の存在下で１２５〜２００℃でゴム及び成分を配合することを含む方法に関する。
【０００２】
加工上の問題がある場合であっても、市販の特定のゴム配合用加工安定剤は存在しない。加硫物の安定化のために使用される劣化防止剤は、加工安定度をもたらすと部分的に考えられている。しかしながら、加工安定剤としてのそれらの性能は非常に限定されている。
【０００３】
硫黄含有安定剤の非常に特定の群が、１２５〜２００℃でのゴム配合に特に有用であることが今や判明した。
【０００４】
故に、本発明は、ゴムコンパウンドの製造のための改良された方法を提供するものであって、式Ｉ
【化１】
2010521576.tif 000003
［式中、Ｒ1は、水素、Ｃ1−Ｃ20アルキル基、スチリル基、α−メチルスチリル基又は−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ3；又はＣ2−Ｃ20アルケニル基、Ｃ3−Ｃ20アルキニル基、Ｃ5−Ｃ9シクロアルキル基、フェニル基又はトリル基により置換されたＣ1−Ｃ20アルキル基であり；
Ｒ3は、Ｃ1−Ｃ20アルキル基；フェニル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ホルミル基、アセチル基又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ5により置換されたＣ1−Ｃ20アルキル基；Ｃ2−Ｃ20アルケニル基、Ｃ3−Ｃ20アルキニル基、Ｃ5−Ｃ9シクロアルキル基；又はヒドロキシル基、フェニル基、４−クロロ−フェニル基、２−メトキシカルボニルフェニル基、ｐ−トリル基、１，３−ベンズチアゾール−２−イル基、−（ＣＨＲ5）nＣＯＯＲ6又は−（ＣＨＲ5）nＣＯＮＲ7Ｒ8により置換されたＣ5−Ｃ9シクロアルキル基であり；
Ｒ4は、水素又はメチル基であり、
Ｒ5は、水素又はＣ1−Ｃ6アルキル基であり、
Ｒ6は、Ｃ1−Ｃ20アルキル基；酸素又は硫黄により中断されたＣ3−Ｃ20アルキル基；Ｃ5−Ｃ9シクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基又はトリル基であり、
Ｒ7及びＲ8は、互いに独立して水素又はＣ1−Ｃ6アルキル基であり、及び
ｎは１又は２である］の加工安定剤のゴムの質量に基づいて０．１〜２％の量の存在下で１２５〜２００℃でゴム及び成分を配合することを含む方法を提供するものである。
【０００５】
最高２０個の炭素原子を有するアルキルは、分岐した又は非分枝の基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テトラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基又はオクタデシル基）である。
【０００６】
例えば、Ｃ2−Ｃ20アルケニル基は、ビニル基、アリル（プロパ−２−エニル）基、ブタ−３−エニル基、ペンタ−４−エニル基、ヘキサ−５−エニル基、オクタ−７−エニル基、デカ−９−エニル基又はドデカ−１１−エニル基である。
【０００７】
例えば、Ｃ3−Ｃ20アルキニル基は、プロパルギル基、ブタ−３−イニル基、ヘキサ−５−イニル基、オクタ−７−イニル基、デカ−９−イニル基、ドデカ−１１−イニル基、テトラデカ−１３−イニル基、ヘキサデカ−１５−イニル基、オクタデカ−１７−イニル基又はエイコサ−１９−イニル基である。
【０００８】
例えば、Ｃ5−Ｃ9シクロアルキル基は、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基及び特にシクロヘキシル基である。
【０００９】
フェニル基によって置換されたＣ1−Ｃ20アルキル基は、例えば、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基、フェニルブチル基、フェニル−α，α−ジメチルプロピル基、フェニルヘキシル基、フェニル−α，α−ジメチルブチル基、フェニルオクチル基又はフェニル−α，α−ジメチルヘキシル基である。
【００１０】
１又は２個のヒドロキシル基によって置換されたＣ1−Ｃ20アルキル基は、例えば、２−ヒドロキシ−エチル基、２−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシヘキシル基、２−ヒドロキシオクチル基、２−ヒドロキシデシル基、２―ヒドロキシドデシル基、２−ヒドロキシテトラデシル基、２−ヒドロキシヘキサデシル基、２−ヒドロキシオクタデシル基、２−ヒドロキシエイコシル基又は２，３−ジヒドロキシプロピル基である。
【００１１】
フェニル基及びヒドロキシ基によって置換されたＣ1−Ｃ20アルキル基は、例えば、１−フェニル−２−ヒドロキシエチル基である。
【００１２】
シアノ基によって置換されたＣ1−Ｃ20アルキル基は、例えば、２−シアノエチル基である。
【００１３】
１〜５個の酸素又は硫黄原子によって中断されたＣ3−Ｃ20アルキル基は、例えば、３−オキサプロピル基、３−チアプロピル基、３−オキサブチル基、３−チアブチル基、３−オキサペンチル基、３−チアペンチル基、３，６−ジオキサヘプチル基、３，６，９−トリオキサデシル基又は３，６，９，１２，１５，１８−ヘキサオキサノナデシル基である。
【００１４】
ゴムコンパウンドの製造のための興味深い改良された方法は、式Ｉ［式中、Ｒ3はＣ6−Ｃ18アルキル基である］の化合物を含む。
【００１５】
ゴムコンパウンドの製造のための好ましい改良された方法は、式Ｉ
［式中、Ｒ1はメチル基であり、
Ｒ2は−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ3であり、
Ｒ3はＣ8−Ｃ12アルキル基であり、及び
Ｒ4は水素である］の化合物を含む。
【００１６】
式Ｉの化合物として式Ａ１又はＡ２の化合物を含むゴムコンパウンドの製造のための改良された方法は、特に好ましい。
【００１７】
【化２】
2010521576.tif 000004
【００１８】
式Ａ１及びＡ２の化合物は、例えばＩｒｇａｎｏｘ  １５２０（ＲＴＭ）及びＩｒｇａｎｏｘ  １７２６（ＲＴＭ）［Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．から入手可能］として市販されている。
【００１９】
式Ｉの化合物の製造は、米国特許第６，３６５，７８１Ｂ２号に開示されており、例えば上述の参考文献に開示されている通りの本技術分野で知られている方法によって製造することが可能である。
【００２０】
ゴムとは、室温での小さな負荷の下で相当に変形された後、速やかにそれらの原形をほとんど回復する高分子材料を意味するものとして理解されることになっている。また、Ｈａｎｓ−Ｇｅｏｒｇ  Ｅｌｉａｓ，"Ａｎ  Ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｔｏ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ"，Ｓｅｃｔｉｏｎ  １２．"Ｅｌａｓｔｏｍｅｒｓ"，ｐｐ．３８８−３９３，１９９７，ＶＣＨ  Ｖｅｒｌａｇｓｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ  ｍｂＨ，Ｗｅｉｎｈｅｉｍ，Ｇｅｒｍａｎｙ又は"Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｆｉｆｔｈ，ｃｏｍｐｌｅｔｅｌｙ  ｒｅｖｉｓｅｄ  ｅｄｉｔｉｏｎ，Ｖｏｌｕｍｅ  Ａ  ２３"，ｐｐ．２２１−４４０（１９９３）も参照されたい。
【００２１】
本発明の方法において存在し得るゴムの例としては、以下の材料がある。
１．共役ジエンのポリマー（例えばポリブタジエン又はポリイソプレン）。
２．モノオレフィン及びジオレフィンと互いとの又は他のビニルモノマーとのコポリマー（例えば、プロピレン−イソブチレンコポリマー、プロピレン−ブタジエンコポリマー、イソブチレン−イソプレンコポリマー、エチレンアクリル酸アルキルコポリマー、エチレンメタクリル酸アルキルコポリマー、エチレン酢酸ビニルコポリマー、アクリロニトリル−ブタジエンコポリマー）及び更にエチレンとプロピレン及びジエンとのターポリマー（例えば、ヘキサジエン、ジシクロペンタジエン又はエチリデンノルボルネン）。
３．スチレン又はα−メチルスチレンとジエン又はアクリル誘導体とのコポリマー（例えば、スチレン−ブタジエン、スチレン−ブタジエン−イソプレン、スチレン−ブタジエン−アクリル酸アルキル及びスチレン−ブタジエン−メタクリル酸アルキル）；スチレンのブロックコポリマー（例えば、スチレン−ブタジエン−スチレン、スチレン−イソプレン−スチレン及びスチレン−エチレンブチレン−スチレン）。
４．ハロゲン含有ポリマー（例えばポリクロロプレン）、塩化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素含有コポリマー又は臭素化コポリマー（ハロブチルゴム）、イソブチレン及びｐ−メチルスチレンのハロゲン化コポリマー。
５．天然ゴム。
６．天然ゴム又は合成ゴムの水性エマルジョン（例えば、カルボキシル化スチレン−ブタジエンコポリマーの天然ゴムラテックス又はラテックス）。
【００２２】
好ましくは、ゴム成分は、高不飽和ゴム（例えば、天然ゴム及び／又はスチレンブタジエンゴム及び／又はブタジエンゴム）に基づくものである。ジエン系ゴムは、本発明の実施において使用され得る高不飽和ポリマーの代表的なものである。より高い又は低いヨウ素価（例えば５０〜１００）を有する高不飽和ゴムを使用することもできるが、かかるゴムは、通常、約２０〜約４５０の間のヨウ素価を有する。共役ジエンに基づくポリマー（例えば、１，３−ブタジエン；２−メチル−１，３−ブタジエン；１，３−ペンタジエン；２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン；等）並びにモノマーを有するかかる共役ジエンのコポリマー（例えば、スチレン、α−メチルスチレン、アセチレン（例えば、ビニルアセチレン）、アクリロニトリル、メタクリレート、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、酢酸ビニル等）は、利用され得るジエン系ゴムの例証となる。好ましい高不飽和ゴムとしては、天然ゴム、シスポリイソプレン、ポリブタジエン、ポリ（スチレン−ブタジエン）、スチレン−イソプレンコポリマー、イソプレン−ブタジエンコポリマー、スチレン−イソプレン−ブタジエントリポリマー、ポリクロロプレン、クロロ−イソブテン−イソプレン、ニトリル−クロロプレン、スチレン−クロロプレン及びポリ（アクリロニトリル−ブタジエン）が挙げられる。その上、不飽和度がより低いエラストマーとの２種以上の高不飽和ゴムの混合物（例えば、ＥＰＤＭ、ＥＰＲ、ブチルゴム又はハロゲン化ブチルゴム）はまた、本発明の意図の範囲内である。
【００２３】
式Ｉの化合物は、配合すべきゴムの質量に基づいて０．１〜２％の量、例えば０．１〜１．５％、好ましくは０．２〜１．５％の量で、配合すべきゴムに有用に添加される。
【００２４】
本発明の方法は、式Ｉの化合物の他に、以下のもの等の他の添加剤を含むことができる。
【００２５】
１． 抗酸化剤
１．１． アルキル化モノフェノール、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジ−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチル−フェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メタ−オキシメチルフェノール、側鎖において直鎖状又は分岐鎖状であるノニルフェノール（例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール）、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデカ−１−イル）フェノール及びそれらの混合物。
【００２６】
１．２． ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジパート。
【００２７】
１．３． トコフェロール、例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【００２８】
１．４． ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。
【００２９】
１．５． アルキリデンビス−及びポリフェノール、例えば、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α、α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス、（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチラート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン、ｐ−クレゾール及びジシクロペンタジエンのブチル化反応生成物。
【００３０】
１．６． Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３、５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００３１】
１．７． ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００３２】
１．８． 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００３３】
１．９． トリアジン化合物、例えば、２，４−ビス、（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス、（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００３４】
１．１０． ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【００３５】
１．１１． アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウラニリド、４−ヒドロキシステアラニリド、オクチル−Ｎ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【００３６】
１．１２． β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステル（モノアルコール又は多価アルコールとの、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス−（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとの）。
【００３７】
１．１３． β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステル（モノアルコール又は多価アルコールとの、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス−（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとの）；３，９−ビス−［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン。
【００３８】
１．１４． β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステル（モノアルコール又は多価アルコールとの、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス−（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとの）。
【００３９】
１．１５． ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸のエステル（モノアルコール又は多価アルコールとの、例えば、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス−（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとの）。
【００４０】
１．１６． β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド。
【００４１】
１．１７． アスコルビン酸（ビタミンＣ）
１．１８． アミン系酸化防止剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えば、ｐ，ｐ’−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノアルキル化及びジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノ−ブタ−２−エン。
【００４２】
１．１９． キノリン誘導体、例えば、重合２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン、６−エトキシ−２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン。
【００４３】
２． ＵＶ吸収剤及び光安定剤
２．１． ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３，−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３，−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イル−フェノール］；２−［３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのトランスエステル化物；［Ｒ−ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ−ＣＨ2ＣＨ2］2、［式中、Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル］、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３，−テトラメチルブチル）フェニル］ベンゾトリアゾール；２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３，−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾール。
【００４４】
２．２． ２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシ及び２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００４５】
２．３． 置換及び非置換安息香酸のエステル、例えば、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ビベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【００４６】
２．４． アクリレート、例えば、エチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル−α−カーボメトキシシンナメート、メチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチル−α−カーボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート及びＮ−（β−カーボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【００４７】
２．５． ニッケル化合物、例えば、２，２’−チオビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体（例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−シクロヘキシルジエタノールアミン等の更なるリガンドの有無に関わらず、１：１又は１：２錯体）、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、例えば、メチル又はエチルエステルのニッケル塩、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスホン酸のニッケル塩、ケトオキシムのニッケル錯体、例えば、２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトオキシムのニッケル錯体、更なるリガンドの有無に関わらず１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【００４８】
２．６． 立体障害アミン、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状又は環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状又は環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、並びに４−ブ��ルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ  Ｒｅｇ．Ｎｏ．［１３６５０４−９６−６］）；１，６−ヘキサンジアミンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、並びにＮ，Ｎ−ジブチルアミン及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ  Ｒｅｇ．Ｎｏ．［１９２２６８−６４−７］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ホルミル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、無水マレイン酸α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、２，４−ビス［Ｎ−（１−シクロ−ヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ−ブチルアミノ］−６−（２−ヒドロキシエチル）アミノ−１，３，５−トリアジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、Ｓａｎｄｕｖｏｒ（Ｃｌａｒｉａｎｔ；ＣＡＳ  Ｒｅｇ．Ｎｏ．［１０６９１７−３１−１］）、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、２，４−ビス［（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−ピペリジン−４−イル）ブチルアミノ］−６−クロロ−ｓ−トリアジンとＮ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン）との反応生成物、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン、１，３，５−トリス、（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン。
【００４９】
２．７． オキサミド、例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エトキサニリド、その２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物及びｏ−及びｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【００５０】
２．８． ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００５１】
３． 金属不活性剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチルアル−Ｎ’−サリチルオイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキザリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【００５２】
４． ホスファイト及びホスホニト、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス［２，４，６−トリス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）］ペンタエリスリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジホスホニト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイト、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２"−ニトリロ−［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスファイト、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
【００５３】
５．ヒドロキシルアミン、例えば、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ、Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００５４】
６．ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタ−デシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化牛脂アミンから誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
【００５５】
７． チオ相乗的化合物、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリルエステル又はチオジプロピオン酸ジステアリルエステル、又は式ＩＶ
【化３】
2010521576.tif 000005
［式中、Ｒ1は、水素、Ｃ1−Ｃ12アルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基又はベンジル基であり、
Ｒ2は、水素又はＣ1−Ｃ4アルキル基であり、及び
ｎは、０、１又は２の数である］の化合物。
【００５６】
８． 過酸化物スカベンジャー、例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、又は２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス−（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００５７】
９． 塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩、例えば、カルシウムステアレート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノールエート及びカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート又は亜鉛ピロカテコレート。
【００５８】
１０． 充填剤及び補強剤、例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラスビーズ、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉、及び他の天然物の粉又は合成繊維。
【００５９】
１１． 他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、レオロジー添加剤、触媒、流れ制御剤、蛍光増白剤、防炎剤、帯電防止剤及び発泡剤。
【００６０】
１２． ベンゾフラノン及びインドリノン、例えば、Ｕ．Ｓ．４，３２５，８６３；Ｕ．Ｓ．４，３３８，２４４；Ｕ．Ｓ．５，１７５，３１２；Ｕ．Ｓ．５，２１６，０５２；Ｕ．Ｓ．５，２５２，６４３；ＤＥ−Ａ−４３１６６１１；ＤＥ−Ａ−４３１６６２２；ＤＥ−Ａ−４３１６８７６；ＥＰ−Ａ−０５８９８３９；ＥＰ−Ａ−０５９１１０２又はＥＰ−Ａ−１２９１３８４に記載されたもの、又は３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル］ベンゾフラン−２−オン］、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン又は３−（２−アクチル−５−イソオクチルフェニル）−５−イソオクチルベンゾフラン−２−オン。
【００６１】
本発明の好ましい方法は、他の添加剤として、顔料、染料、充填剤、均展助剤、分散剤、可塑剤、加硫活性剤、加硫促進剤、加硫剤、電荷制御剤、付着促進剤、帯電防止剤、金属酸化物、抗酸化剤及び光安定剤（例えば、フェノール系酸化防止剤（リスト内の第１．１〜１．１７項）又はアミン抗酸化剤（リスト内の第１．１８項））、有機ホスファイト又はホスホニト（リスト内の第４項）、チオ相乗剤（リスト内の第７項）及び／又はベンゾフラノン（リスト内の第１２項）からなる群から選択される１種以上の成分を含む。
【００６２】
好ましくは、前記成分は、エポキシド化大豆油及び／又は２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル（ＴＥＭＰＯ）である。後者は、遊離基である。
【００６３】
好ましくは、前記成分（例えばエポキシド化大豆油）に対する式Ｉの化合物の質量比は、９９.５：０．５〜１０：９０である。２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル（ＴＥＭＰＯ）に対する式Ｉの化合物の好ましい質量定量は、２：１〜１：２である。
【００６４】
これらの他の添加剤が添加される濃度の例は、配合すべきゴムの全質量に基づいて０．０１〜１０％である。
【００６５】
式Ｉの化合物、更に、所望により、他の添加剤は、加硫前に混合ロール機又は混合押出機において、例えばラム（Ｂａｎｂｕｒｙ）を有する密閉式混合機における混合中に、１つ又は複数のステップでゴム内に含有される。ゴムに添加される際、式Ｉの化合物、及び所望により、他の添加剤は、例えば２．５〜２５質量％の濃度でこれらを含むマスターバッチの形態であってもよい。
【００６６】
結果として生じる配合ゴムは、多種多様な形態（例えばリボン、成形材料、異形材、コンベヤーベルト又はタイヤ）で使用され得る。次いで、最終形態は加硫される（ゴムの架橋）。
【００６７】
好ましくは、前記成分とのゴムの配合は１２５〜２００℃で行い、例えば１５０〜２００℃の間、最も好ましくは１５０〜１６０℃で行う。
【００６８】
本発明の更なる実施態様は、１２５〜２００℃でのゴム配合のための加工安定剤としての式Ｉの化合物の使用である。
【００６９】
以下の実施例は、更なる本発明を示すものである。部又はパーセントは、質量に関するものである。
【００７０】
実施例１：シリカ充填ゴムコンパウンドの製造
製法（第１表参照）：
第１表：
【表１】
2010521576.tif 000006
【００７１】
４５０ｍＬミクシングヘッドを使用してＨａａｋｅ実験室用ミキサにおいて通常の方法により成分を混合する。本発明による実施例において、０．５質量部の加工安定剤［Ｉｒｇａｎｏｘ  １５２０（ＲＴＭ）；実施例１ｂ］を更に添加する。ミキサ温度は１２５℃、ロータ速度は７５ｒｐｍ、充填比は７０％、総混合時間は２０分間である。対応するＡＳＴＭスタンダードに従って、塩基性混合物のムーニー粘度ＭＳ１＋４（１００）を測定する。結果を第２表にまとめる。より低いムーニー粘度は、加工安定度の向上により酸化架橋がより低くなることを示す。
【００７２】
第２表：
【表２】
2010521576.tif 000007
【００７３】
第９表の最後の脚注の説明を参照されたい。
【００７４】
実施例２：シランカップリング剤を含有するシリカ充填ゴムコンパウンドの製造
シランカップリング剤は、機械的性質を改質するために、多くのシリカ充填ゴムコンパウンド、特にタイヤトレッド化合物に使用される。良好な加工安定度は、粘度の増加及びその後の温度上昇を引き起こす酸化架橋を回避するために不可欠である。温度制御は、シリカ及びゴム鎖間の化学結合を早急に形成することによる更なる粘度上昇につながる望ましくない「シランスコーチ」を回避するために非常に重要である。
【００７５】
製法（第３表参照）：
第３表：
【表３】
2010521576.tif 000008
【００７６】
４５０ｍＬミクシングヘッドを使用してＨａａｋｅ実験室用ミキサにおいて通常の方法により成分を混合する。本発明による実施例において、０．５質量部の加工安定剤［Ｉｒｇａｎｏｘ  １５２０（ＲＴＭ）］を更に添加する。比較例２ｂにおいて、Ｉｒｇａｎｏｘ  １５２０の代わりに、２．０質量部のＶｕｌｋａｎｏｘ４０２０（ＲＴＭ）を更に添加する。ミキサ温度は１２５℃、ロータ速度は７５ｒｐｍ、充填比は７０％、総混合時間は２０分間である。対応するＡＳＴＭスタンダードに従って、塩基性混合物のムーニー粘度ＭＳ１＋４（１００）を測定する。結果を第４表にまとめる。より低いムーニー粘度は、加工安定度の向上により酸化架橋がより低くなることを示す。
【００７７】
第４表：
【表４】
2010521576.tif 000009
【００７８】
第９表の最後の脚注の説明を参照されたい。
【００７９】
実施例３：ＥＰＤＭカーボンブラックマスターバッチの製造。
【００８０】
マスターバッチを作製するために、１８０℃及び４５ｒｐｍでカムブレード型ロータによりＢｒａｂｅｎｄｅｒ実験室用ミキサにおいて、１００部のＥＰＤＭを、７０部又はカーボンブラックＮ５５０と混合する。混合過程の開始時に加工安定剤を添加する。混合中のトルクの増加は、剪断力、高温及び酸素による酸化架橋を示す。誘導時間、即ち、最小／平衡をまとめた後でトルクが１Ｎｍ上昇するまでの混合時間は、加工安定性又は加工安定剤系の性能の良好な指標である。より長い誘導時間は、安定性がより良好であることを示す。結果を第５表にまとめる。
【００８１】
第５表：
【表５】
2010521576.tif 000010
【００８２】
第９表の最後の脚注の説明を参照されたい。
【００８３】
実施例４：最適化加工安定剤を使用した損傷ゴムの平滑な加工
損傷ゴムは、劣化防止剤の添加の後において大規模に再生し得ない。故に、混合過程の開始時のアンチエージング剤の添加により損傷ゴムの酸化架橋を防止可能であるかどうか確認するために試験を実施する。この目的のために、まず、最高３週間７０℃で、商業的に安定した低シスポリブタジエンのエージングを行う。１５０℃及び４５ｒｐｍのロータ速度でＢｒａｂｅｎｄｅｒミキサにおいて誘導時間を測定することによって、加工安定度及び加工安定剤系の性能を決定する。結果を第６表にまとめる。より長い誘導時間は、加工安定度がより良好であることを示す。
【００８４】
第６表：
【表６】
2010521576.tif 000011
【００８５】
第９表の最後の脚注の説明を参照されたい。
【００８６】
実施例５：ＥＰＤＭカーボンブラックマスターバッチの製造
マスターバッチを作製するために、１８０℃及び４５ｒｐｍでカムブレード型ロータによりＢｒａｂｅｎｄｅｒ実験室用ミキサにおいて、１００部のＥＰＤＭを、７０部又はカーボンブラックＮ５５０と混合する。混合過程の開始時に加工安定剤を添加する。剪断力、高温及び酸素によって混合中にゴム鎖の酸化架橋が生じ得る。これによって、ＥＰＤＭカーボンブラックマスターバッチの粘度が増加する。対応するＡＳＴＭスタンダードに従ってムーニー粘度単位ＭＳ１＋４（１００）として表される低粘度は、安定性がより良好であることを示す。結果を第７表にまとめる。
【００８７】
第７表：
【表７】
2010521576.tif 000012
【００８８】
第９表の最後の脚注の説明を参照されたい。
【００８９】
実施例６：高混合温度でのカーボンブラック充填ゴムコンパウンドの製造
高温でゴムコンパウンドを混合する場合、良好な加工安定度は、粘度上昇につながるためにその後の製造ステップで問題となる酸化架橋を回避するために不可欠である。適切な加工安定剤系の使用は、ゴムを保護し、粘度上昇を抑制する。
【００９０】
製法（第８表を参照）：
第８表：
【表８】
2010521576.tif 000013
【００９１】
カムブレード型ミキサを使用してＢｒａｂｅｎｄｅｒ実験室用ミキサにおける通常の方法により成分を混合する。本発明による実施例において、１．０質量部の加工安定剤を更に添加する。ミキサ温度は１８０℃、ロータ速度は４５ｒｐｍ、総混合時間は６分間である。塩基性混合物のムーニー粘度ＭＬ１＋４（１００）を、対応するＡＳＴＭスタンダードに従って測定する。より低いムーニー粘度は、より良好な加工安定度により酸化架橋がより低いことを示す。結果を第９表にまとめる。
【００９２】
第９表：
【表９】
2010521576.tif 000014
【００９３】
ａ）比較例。
【００９４】
ｂ）本発明による実施例。
【００９５】
ｃ）Ｉｒｇａｎｏｘ  １５２０（ＲＴＭ）［Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．］は、式Ａの化合物である。
【００９６】
【化４】
2010521576.tif 000015
【００９７】
ｄ）Ｖｕｌｋａｎｏｘ４０２０（ＲＴＭ）［Ｂａｙｅｒ］は、式Ｂの４−［１，３−ジメチルブチル］アミノジフェニルアミンである。
【００９８】
【化５】
2010521576.tif 000016
【００９９】
ｅ）Ｉｒｇａｎｏｘ  ＨＰ２２２５（ＲＴＭ）［Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．］は、１５％のＨＰ１３６f)と８５％のＩｒｇａｎｏｘ  Ｂ２２５との混合物［５０％Ｉｒｇａｆｏｓ１６８g)と５０％Ｉｒｇａｎｏｘ  １０１０h)との混合物］である。
【０１００】
ｆ）ＨＰ１３６（ＲＴＭ）は、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オンと３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オンとの混合物である。
【０１０１】
ｇ）Ｉｒｇａｆｏｓ１６８（ＲＴＭ）は、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトである。
【０１０２】
ｈ）Ｉｒｇａｎｏｘ  １０１０（ＲＴＭ）は、式Ｃの化合物である。
【０１０３】
【化６】
2010521576.tif 000017
【０１０４】
ｉ）Ｉｒｇａｎｏｘ  １０７６（ＲＴＭ）は、式Ｄの化合物である。
【０１０５】
【化７】
2010521576.tif 000018
【０１０６】
ｊ）Ｉｒｇａｎｏｘ  ＰＳ８００（ＲＴＭ）は、式Ｅの化合物である。
【０１０７】
【化８】
2010521576.tif 000019
【０１０８】
ｋ）Ｆｌｅｃｔｏｌ  Ｈ（ＲＴＭ）は、重合１，２−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリンである。
【０１０９】
Ｉ）ＥＢ５１−６７７は、９８．２５％のＩＲＧＡＮＯＸ  １５２０（ＲＴＭ）C)と、エポキシ化大豆油である１．７５％のＩｒｇａｐｌａｓｔ３９２（ＲＴＭ）との混合物である。
【０１１０】
ｍ）ＴＥＭＰＯは、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル（遊離基）である。
【国際調査報告】
2010521576.tif 000021
2010521576.tif 000022
2010521576.tif 000023