(57)【要約】  ラセミ化合物、鏡像異性的に純粋なジアステレオ異性体又はジアステレオ異性体の混合物の形態の式Ｉ（式中、基Ｒ１は、同一又は異なり、それぞれがＣ１〜Ｃ４アルキルであり、ｍは、０又は１〜４の整数であり、ｎは、０又は１〜３の整数であり、ｐは、０又は１〜５の整数であり、Ｒ２は、芳香族炭化水素基又はＣ結合芳香族ヘテロ炭化水素基であり、そして、Ｒ３は、脂肪族又はヘテロ脂肪族炭化水素基であり、Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なり、それぞれが脂肪族又はＣ結合へテロ脂肪族炭化水素基であり、Ｒ４は、非置換又はＣ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシもしくはハロゲン置換炭化水素基であり、Ａは、第二級アミノ基である）の化合物は、均一系触媒として好適な金属錯体のための配位子である。
2010519272.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラセミ化合物、鏡像異性的に純粋なジアステレオ異性体又はジアステレオ異性体の混合物の形態の、式Ｉ
【化２４】
2010519272.tif 000042
（式中、
基Ｒ1は、同一又は異なり、それぞれがＣ1〜Ｃ4アルキルであり、
ｍは、０又は１〜４の整数であり、
ｎは、０又は１〜３の整数であり、
ｐは、０又は１〜５の整数であり、
Ｒ2は、芳香族炭化水素基又はＣ結合芳香族ヘテロ炭化水素基であり、そして、Ｒ3は、脂肪族又はヘテロ脂肪族炭化水素基であり、
Ｒ2及びＲ3は、同一又は異なり、それぞれが脂肪族又はＣ結合ヘテロ脂肪族炭化水素基であり、
Ｒ4は、非置換又はＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシもしくはハロゲン置換炭化水素基であり、
Ａは、第二級アミノ基である）
の化合物。
【請求項２】
アルキル基Ｒ1がメチルであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
ｍ及びｎが、互いに独立して、１又は０であり、ｐが５又は０であることを特徴とする、請求項１又は２記載の化合物。
【請求項４】
炭化水素基Ｒ2及びＲ3が、非置換又は置換されており、及び／又はＯ、Ｓ、−Ｎ＝、−ＮＨ−又はＮ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）からなる群より選択されるヘテロ原子を含み、脂肪族基が１〜２２個の炭素原子及び０〜４個の前記ヘテロ原子を含み、芳香族基が３〜２２個の炭素原子を含み、ヘテロ芳香族基が３〜２２個の炭素原子及び１〜４個の前記ヘテロ原子を含むことを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項５】
芳香族基Ｒ2が、非置換又はハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、トリフルオロメチル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、トリフルオロメトキシ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12アルキル）3Ｓｉ又はsec−アミノによって置換されているＣ6〜Ｃ14アリール及びＣ4〜Ｃ12ヘテロアリールからなる群より選択される基であり、ヘテロアリール基の場合、Ｏ、Ｓ、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）−及び−Ｎ＝からなる群より選択されるヘテロ原子を含むことを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ2が、ｏ−フリル、フェニル、ナフチル、２−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、３−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、４−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、２−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、３−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、４−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、２−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3、３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）2Ｃ6Ｈ3、３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3又は３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）2−４−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ2であることを特徴とする、請求項５記載の化合物。
【請求項７】
脂肪族又はＣ結合ヘテロ脂肪族炭化水素基Ｒ2が、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ1〜Ｃ12アルキル、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ2〜Ｃ12ヘテロアルキル、非置換又はＣ1〜Ｃ6アルキルもしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ置換Ｃ4〜Ｃ12シクロアルキル又はＣ4〜Ｃ12シクロアルキル−ＣＨ2−、非置換又はＣ1〜Ｃ6アルキルもしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ置換Ｃ3〜Ｃ12ヘテロシクロアルキル又はＣ3〜Ｃ12ヘテロシクロアルキル−ＣＨ2−、Ｃ7〜Ｃ14アラルキル及びＣ4〜Ｃ12ヘテロアルキルからなる群より選択される基であり、ヘテロ原子が、Ｏ、Ｓ、−ＮＨ−及び−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）−からなる群より選択されるものであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ2及びＲ3が、互いに独立して、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ5〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ8シクロアルキルメチル又はＣ7〜Ｃ10ポリシクロアルキルであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ2が、ｏ−フリル、フェニル、ナフチル、２−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、３−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、４−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、２−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、３−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、４−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、２−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3、３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）2Ｃ6Ｈ3、３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3及び３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）2−４−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ2であり、Ｒ3が、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ5〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ8シクロアルキルメチル又はＣ7〜Ｃ10ポリシクロアルキルであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ4が、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ1〜Ｃ8アルキル、非置換又はハロゲン（Ｆ、Ｃｌ又はＢｒ）、Ｃ1〜Ｃ6アルキルもしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ置換Ｃ4〜Ｃ8シクロアルキル又はＣ4〜Ｃ8シクロアルキル−ＣＨ2−、非置換又はハロゲン（Ｆ、Ｃｌ又はＢｒ）、Ｃ1〜Ｃ6アルキルもしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ置換Ｃ6〜Ｃ14アリール又はＣ7〜Ｃ14アラルキルからなる群より選択される基であることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ4が、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、Ｃ5〜Ｃ6シクロアルキル、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルフェニル又はＣ1〜Ｃ4アルキルベンジルであることを特徴とする、請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】
Ｒ4がメチルであることを特徴とする、請求項１０記載の化合物。
【請求項１３】
第二級アミノ基が、式−ＮＲ5Ｒ6（式中、Ｒ5及びＲ6は、同一又は異なり、それぞれがＣ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ5〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル又はベンジルであるか、Ｒ5及びＲ6が、Ｎ原子といっしょになって、五〜八員環を形成する）に対応することを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項１４】
Ｒ5及びＲ6が同一の基であり、それぞれがＣ1〜Ｃ4アルキルであるか、いっしょになって、テトラメチレン、ペンタメチレン又は３−オキサ−１，５−ペンチレンであることを特徴とする、請求項１３記載の化合物。
【請求項１５】
基−ＣＨＲ4−Ａが、１−ジメチルアミノエタ−１−イル及び１−（ジメチルアミノ）−１−フェニルメチルであることを特徴とする、請求項１記載の化合物。
【請求項１６】
遷移金属の群から選択される金属と、配位子としての、請求項１〜１５のいずれか記載の式Ｉの化合物の一つとの錯体。
【請求項１７】
遷移金属が、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｕ及びＰｔからなる群より選択される、請求項１６記載の金属錯体。
【請求項１８】
触媒の存在下、プロキラルな有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加によってキラルな有機化合物を調製する方法であって、付加が、請求項１６記載の少なくとも一つの金属錯体の触媒量の存在下で実施されることを特徴とする方法。
【請求項１９】
有機化合物が、式VI
【化２５】
2010519272.tif 000043
（式中、
Ｒ03及びＲ04は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はＣ1〜Ｃ6アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ6アルキルオキシであり、そして、Ｒ05は、Ｃ1〜Ｃ6アルキルである）
に対応し、金属錯体及び触媒としての、式Ｉの配位子とのロジウム錯体の存在下、水素によって水素化されて、式VII
【化２６】
2010519272.tif 000044
の化合物を与える、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
キラルな有機化合物の調製のための、好ましくはプロキラルな有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加のための均一系触媒としての、請求項１６記載の金属錯体の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、α−置換フェロセニル基が二つのＰ原子それぞれに結合しており、Ｐ原子上の第二の置換基が、二つのＰ原子上で同一の又は異なる脂肪族炭化水素基である、又は第一のＰ原子上では芳香族Ｃ結合基であり、第二のＰ原子上では脂肪族炭化水素基である、フェロセン−１，１’−ジホスフィンに関する。本発明はまた、これらのフェロセン−１，１’−ジホスフィンを配位子として有する遷移金属の錯体及び触媒としてのそのような金属錯体の存在下、プロキラルな有機化合物を不斉水素化する方法に関する。
【０００２】
有機ジホスフィンのようなキラルな配位子は、均一系立体選択性触媒反応における触媒にとって特別に重要な助剤であることがわかった。満足な触媒活性だけでなく、高い立体選択性をも達成することを可能にする金属錯体が実用的である。これら二つの性質を有しなければ、経済的な理由のため、工業プロセスにおける使用が保証されないか、代替の欠如のせいで、非経済的なプロセスを運用しなければならない。そのような非経済的なプロセスを避けるため、最近の数十年間、数多くの様々なキラルなジホスフィンが利用可能になった。
【０００３】
フェロセンは、配位子の調製に非常に有用な骨格であり、第二級ホスフィノ基による様々な置換を提供するために首尾よく使用されてきた。さらには、フェロセン骨格を有し、ステレオジェニック（stereogenic）なＰ原子を含むジホスフィン配位子が公知である。たとえば、C. Gambs et al., Helvetica Chimica Acta volume 84 (2001), pages 3105-3126又はＷＯ２００５／０６８４７７を参照。しかし、純粋なジアステレオ異性体の調製は複雑であり、ジアステレオ異性体はしばしば望ましくないエピマー化を受ける傾向にあるため、そのようなジホスフィンは実用的な重要性を達成していない。
【０００４】
ＷＯ２００６／０７５１６６及びＷＯ２００６／０７５１７７は、橋かけ基を介して結合されており、そのＰ又はＡｓ原子に対し、Ｐ又はＡｓ結合に対してα位置でキラルな基によって置換されているフェロセニル基が結合しているジホスフィン及びジアルシンを記載している。１，１’−フェロセニレン橋かけ基を有する唯一の特定のジホスフィンは１，１’−ビス−［（Ｓp，ＲC，ＳFe）（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルフェロセニル）フェニルホスフィノ］フェロセンであり、このように、さらなる置換基としてフェニル基をＰ上に含む。この配位子は、α，β−不飽和カルボン酸の水素化において高い光学選択性を与える。しかし、触媒活性はなおも不満足であり、また、高い転換率を達成するために長い反応時間が必要であるため、水素化は非経済的である。加えて、完全な転換は、触媒に対する基質の比較的低い比率でしか達成することができないため、触媒生産性が不満足である。より高い比率では、転換率は急激に低下する。
【０００５】
驚くことに今、一方のＰ原子がＣ結合芳香族基によって置換され、他方のＰ原子が脂肪族基によって置換されている場合、この配位子タイプとの金属錯体の触媒活性をかなり大きく増すことができ、ひいては、触媒に対する基質の高い比率で不斉水素化を経済的に実施することができるということがわかった。さらには、驚くべきことに、二つのＰ原子が、同一又は異なることができる脂肪族基のみによって置換されている場合、触媒活性におけるさらなる実質的な増大を達成することができるということがわかった。また、驚くべきことに、活性及び生産性におけるこのような増大にもかかわらず、優れた、ときには改善された光学選択性を達成することができるということがわかった。
【０００６】
本発明は、第一に、ラセミ化合物、鏡像異性的に純粋なジアステレオ異性体又はジアステレオ異性体の混合物の形態の、式Ｉ
【０００７】
【化１】
2010519272.tif 000003
【０００８】
（式中、
基Ｒ1は、同一又は異なり、それぞれがＣ1〜Ｃ4アルキルであり、
ｍは、０又は１〜４の整数であり、
ｎは、０又は１〜３の整数であり、
ｐは、０又は１〜５の整数であり、
Ｒ2は、芳香族炭化水素基又はＣ結合芳香族ヘテロ炭化水素基であり、そして、Ｒ3は、脂肪族又はＣ結合ヘテロ脂肪族炭化水素基であり、
Ｒ2及びＲ3は、同一又は異なり、それぞれが脂肪族又はＣ結合ヘテロ脂肪族炭化水素基であり、
Ｒ4は、非置換又はＣ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシもしくはハロゲン置換炭化水素基であり、
Ａは、第二級アミノ基である）
の化合物を提供する。
【０００９】
アルキル基Ｒ1は、たとえば、メチル、エチル、ｎ−又はｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−又はｔ−ブチルであり、メチルが好ましい。ｍ及び／又はｎが１である、特に好ましくは０である（この場合、Ｒ1は水素原子である）及び／又はｐが５である、特に好ましくは０であるものが好ましい。
【００１０】
炭化水素基Ｒ2及びＲ3は、非置換若しくは置換されており、及び／又は、Ｏ、Ｓ、−Ｎ＝、−ＮＨ−及びＮ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）からなる群より選択されるヘテロ原子を含むことができる。脂肪族基は、１〜２２個、好ましくは１〜１８個、特に好ましくは１〜１２個、非常に特に好ましくは１〜８個の炭素原子及び０〜４個、好ましくは０、１又は２個の前記ヘテロ原子を含むことができる。芳香族及びヘテロ芳香族基は、３〜２２個、好ましくは３〜１８個、特に好ましくは４〜１４個、非常に特に好ましくは４〜１０個の炭素原子及び１〜４個、好ましくは１又は２個の前記ヘテロ原子を含むことができる。
【００１１】
芳香族基Ｒ2は、非置換又はハロゲン（フッ素、塩素又は臭素）、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、トリフルオロメチル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、トリフルオロメトキシ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12アルキル）3Ｓｉ又はsec−アミノによって置換されているＣ6〜Ｃ14アリール及びＣ4〜Ｃ12ヘテロアリールからなる群より選択される基であることができる。ヘテロアリール基は、好ましくは、Ｏ、Ｓ、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）−及び−Ｎ＝からなる群より選択されるヘテロ原子を含む。
【００１２】
アリール基Ｒ2の例は、フェニル、ナフチル、アントラセニル、フルオレニル及びベンジルである。ヘテロアリール基Ｒ2の例は、フリル、チオフェニル、Ｎ−メチルピロリジニル、ピリジル、ベンゾフラニル、ベンゾチオフェニル及びキノリニルである。置換アリール、アラルキル、ヘテロアリール及びヘテロアラルキル基Ｒ2の例は、メチル、エチル、ｎ−及びｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−及びｔ−ブチル、エトキシ、メトキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、フッ素及び塩素からなる群より選択される１〜３個の基によって置換されているフェニル、ナフチル、フリル、チオフェニル、ベンゾフリル及びベンゾチオフェニルである。いくつかの好ましい例は、２−、３−又は４−メチルフェニル、２，４−又は３，５−ジメチルフェニル、３，４，５−トリメチルフェニル、４−エチルフェニル、２−、３−又は４−メトキシフェニル、２，４−又は３，５−ジメトキシフェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、２−、３−又は４−トリフルオロメチルフェニル、２，４−又は３，５−ジ（トリフルオロメチル）フェニル、トリストリフルオロメチルフェニル、２−又は４−トリフルオロメトキシフェニル、３，５−ビス−トリフルオロメトキシフェニル、２−又は４−フルオロフェニル、２−又は４−クロロフェニル及び３，５−ジメチル−４−メトキシフェニルである。
【００１３】
特に好ましい実施態様において、アリール又はヘテロアリール基Ｒ2は、ｏ−フリル、フェニル、ナフチル、２−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、３−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、４−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、２−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、３−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、４−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、２−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3、３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）2Ｃ6Ｈ3、３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3及び３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）2−４−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ2である。
【００１４】
脂肪族又はＣ結合ヘテロ脂肪族炭化水素基Ｒ2は、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ1〜Ｃ12アルキル及び好ましくはα分岐Ｃ3〜Ｃ12アルキル、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ2〜Ｃ12ヘテロアルキル、非置換又はＣ1〜Ｃ6アルキルもしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ置換Ｃ4〜Ｃ12シクロアルキル又はＣ4〜Ｃ12シクロアルキル−ＣＨ2−、非置換又はＣ1〜Ｃ6アルキルもしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ置換Ｃ3〜Ｃ12ヘテロシクロアルキル又はＣ3〜Ｃ12ヘテロシクロアルキル−ＣＨ2−、Ｃ7〜Ｃ14アラルキル及びＣ4〜Ｃ12ヘテロアラルキルからなる群より選択される基であることができ、環式基は、ハロゲン（フッ素、塩素又は臭素）、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、トリフルオロメチル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、トリフルオロメトキシ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1〜Ｃ12アルキル）3Ｓｉ又はsec−アミノによって置換されていることができる。好ましいヘテロ原子は、Ｏ、Ｓ、−ＮＨ−及び−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）−からなる群より選択される。
【００１５】
好ましくは１〜６個の炭素原子を含むアルキル基Ｒ2及びＲ3の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチルならびにペンチル及びヘキシルの異性体である。非置換又はアルキルもしくはアルコキシ置換シクロアルキル基Ｒ2及びＲ3の例は、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル及びエチルシクロヘキシル、ジメチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ノルボルニルならびにアダマンチルである。非置換又はアルキルもしくはアルコキシ置換Ｃ5〜Ｃ12シクロアルキル−ＣＨ2−基Ｒ2及びＲ3の例は、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロオクチルメチル、メチルシクロヘキシルメチル及びジメチルシクロヘキシルメチルである。置換又は非置換アラルキル又はヘテロアラルキル基Ｒ2及びＲ3の例は、ベンジル、メチルベンジル及びフリルメチルである。ヘテロアルキル基Ｒ2及びＲ3の例は、メトキシメチル、メトキシエチル、メチルチオメチル及びジメチルアミノメチル又はジメチルアミノエチルである。非置換又はアルキルもしくはアルコキシ置換ヘテロシクロアルキル基Ｒ2及びＲ3の例は、ピロリジニル、ピペリジニル及びテトラヒドロフラニルである。非置換又はアルキルもしくはアルコキシ置換ヘテロシクロアルキル基Ｒ2及びＲ3の例は、ピロリジニルメチル、ピペリジニルメチル及びテトラヒドロフラニルメチルである。本発明に関して、「シクロアルキル」の用語は、多環式、橋かけ及び場合によっては縮合した環系、たとえばノルボルニル又はアダマンチルをも包含する。
【００１６】
特に好ましい実施態様において、Ｒ2及びＲ3は、互いに独立して、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ5〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ8シクロアルキルメチル又はＣ7〜Ｃ10ポリシクロアルキルである。
【００１７】
さらなる特に好ましい実施態様において、Ｒ2は、ｏ−フリル、フェニル、ナフチル、２−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、３−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、４−（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）Ｃ6Ｈ4、２−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、３−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、４−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ4、２−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、３−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、４−（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ4、３，５−ビス（トリフルオロメチル）Ｃ6Ｈ3、３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）2Ｃ6Ｈ3、３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）2Ｃ6Ｈ3及び３，５−ビス（Ｃ1〜Ｃ6アルキル）2−４−（Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ）Ｃ6Ｈ2であり、Ｒ3は、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ5〜Ｃ8シクロアルキル、Ｃ5〜Ｃ8シクロアルキルメチル又はＣ7〜Ｃ10ポリシクロアルキルである。
【００１８】
炭化水素基Ｒ4は、１〜１８個、好ましくは１〜１２個、特に好ましくは１〜８個、非常に特に好ましくは１〜４個の炭素原子を含むことができる。Ｒ4は、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ1〜Ｃ8アルキル、非置換又はハロゲン（Ｆ、Ｃｌ又はＢｒ）、Ｃ1〜Ｃ6アルキルもしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ置換Ｃ4〜Ｃ8シクロアルキル又はＣ4〜Ｃ8シクロアルキル−ＣＨ2−、非置換又はハロゲン（Ｆ、Ｃｌ又はＢｒ）、Ｃ1〜Ｃ6アルキルもしくはＣ1〜Ｃ6アルコキシ置換Ｃ6〜Ｃ14アリール又はＣ7〜Ｃ14アラルキルからなる群より選択される基であることができる。
【００１９】
Ｒ4に好ましい置換基は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、特にメチル又はエチル及びＣ1〜Ｃ4アルコキシ、特にメトキシ又はエトキシである。
【００２０】
好ましい実施態様において、Ｒ4は、Ｃ1〜Ｃ4アルキル、特にメチル、Ｃ5〜Ｃ6シクロアルキル、フェニル、Ｃ1〜Ｃ4アルキルフェニル又はＣ1〜Ｃ4アルキルベンジルである。Ｒ4は、非常に特に好ましくはメチルである。
【００２１】
第二級アミノ基は式−ＮＲ5Ｒ6（式中、Ｒ5及びＲ6は、同一又は異なり、それぞれがＣ1〜Ｃ8アルキル、Ｃ5〜Ｃ8シクロアルキル、フェニル又はベンジルであるか、Ｒ5及びＲ6が、Ｎ原子といっしょになって、五〜八員環を形成する）に対応することができる。Ｒ5及びＲ6は、好ましくは同一の基であり、好ましくは、それぞれがＣ1〜Ｃ4アルキル、たとえばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル又はｎ−もしくはｉ−ブチルであるか、いっしょになって、テトラメチレン、ペンタメチレン又は３−オキサ−１，５−ペンチレンである。
【００２２】
Ｒ5及びＲ6は、好ましくは、それぞれがメチル又はエチルである。非常に特に好ましい基−ＣＨＲ4−Ａは、１−ジメチルアミノエタ−１−イル及び１−（ジメチルアミノ）−１−フェニルメチルである。
【００２３】
式Ｉの化合物は、鏡像異性的に純粋なジアステレオ異性体としても、簡単かつ規格的なやり方（modular fashion）で高収率で調製することができる。多くの場合、中間体が鏡像異性的に純粋なジアステレオ異性体として得られ、それが、純粋なジアステレオ異性最終生成物の調製をより容易にする。アルキルリチウムのようなメタレーション試薬（metallation reagents）によってハロゲンを選択的に金属で置換することができる、市販されている１，１’−ジハロフェロセン、たとえば１，１’−ジブロモフェロセンから出発することが有利である。
【００２４】
第一の変形態様においては、１−ブロモ−１’−リチオフェロセンとＲ3−Ｐ（Ｈａｌ）2との反応によって基Ｒ3ＨａｌＰ−を導入する。基−ＣＨＲ4−Ａによって置換されたオルトメタレーションされたフェロセンと反応させ、加熱及びその後のたとえば再結晶又はクロマトグラフィー精製により、式Ｂの中心中間体を純粋なジアステレオ異性体として得ることができる。
【００２５】
【化２】
2010519272.tif 000004
【００２６】
式中、Ｈａｌは、ハロゲン（Ｃｌ、Ｂｒ又はＩ、好ましくはＢｒ）であり、ｍ、ｎ、ｐ、Ａ、Ｒ3及びＲ4は、式Ｉの化合物に関して定義したとおりである。
【００２７】
第二の変形態様において、式Ｂの化合物は、非置換又はＲ1置換１−ハロ−１’−リチオフェロセンを非置換又はＲ1置換１−（ＣＨＲ4−Ａ）−２−（Ｒ3）ＰＨａｌ−フェロセン（Ｈａｌは、ハロゲン（Ｃｌ、Ｂｒ又はＩ、好ましくはＣｌ）である）と反応させることによって調製することができる。
【００２８】
式Ｂの化合物を再度メタレーションし（Ｈａｌの置換）、非置換又はＲ1置換１−（ＣＨＲ4−Ａ）−２−（Ｒ2）ＰＨａｌ−フェロセンと反応させると、式Ｉの化合物を得ることができる（Ｈａｌは好ましくはＣｌである）。代替の変形態様として、基Ｒ2ＨａｌＰ−（Ｈａｌは好ましくはＣｌである）は、Ｒ2−Ｐ（Ｈａｌ）2との反応によって式Ｂのメタレーションされた化合物に導入することもできる。その後、非置換又はＲ1置換１−（ＣＨＲ4−Ａ）−２−Ｌｉ−フェロセンとの反応が式Ｉの化合物を生じさせる。
【００２９】
式Ｂの化合物の調製は、通常、Ｐキラルな化合物のジアステレオ異性体の混合物を与える。式Ｂの化合物のジアステレオ異性体の混合物は、公知の方法、たとえばクロマトグラフィーによって様々な立体異性体に分離することができる。
【００３０】
式Ｉの化合物は、一般に、ジアステレオ異性体の混合物として得られる。これらの混合物は、簡単な熱処理によって驚くほど簡単なやり方で所望のジアステレオ異性体へと少なくとも大幅に濃縮することができ、純粋なジアステレオ異性体は、場合によっては、その後の再結晶及び／又はクロマトグラフィー分離によって得ることができる。熱処理は、たとえば、反応生成物を不活性担体（溶媒）中にとり、４０〜２００℃、好ましくは６０〜１６０℃で数分〜数時間、たとえば３０分〜１０時間、加熱することによって実施することができる。溶媒の除去後、抽出された固体残渣を熱処理することがより有利である。このようにして、所望のジアステレオ異性体を高い収率及び純度で得ることができる。
【００３１】
使用するジハロフェロセン及びジハロホスフィンは公知であり、それらのいくつかは市販されているか、同様な方法によって調製することもできる。メタレーションされたフェロセンは公知であるか、公知の又は同様な方法によって調製することができる。好ましい方法は、公知のＣＨＲ4−Ａ置換フェロセンから出発し、それらをオルト位置でメタレーションしたのち、ジハロホスフィンと反応させる方法である。アルキルリチウム又はマグネシウムグリニャール化合物によるフェロセンのメタレーションは、たとえばT. Hayashi et al., Bull. Chem. Soc. Jpn. 53 (1980), pages 1138-1151又はJonathan Clayden Organolithiums: Selectivity for Synthesis (Tetrahedron Organic Chemistry Series), Pergamon Press (2002)によって記載されている公知の反応を含む。アルキルリチウム中のアルキルは、たとえば、１〜６個の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を含むことができる。多くの場合、メチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム及びｔ−ブチルリチウムが使用される。マグネシウムグリニャール化合物は、好ましくは、式（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）ＭｇＸ0（Ｘ0はＣｌ、Ｂｒ又はＩである）の化合物である。
【００３２】
式Ｉの新規な化合物は、不斉合成、たとえばプロキラルな不飽和有機化合物の不斉水素化のための優れた触媒又は触媒前駆体である遷移金属錯体のための配位子である。プロキラルな不飽和有機化合物が使用されるならば、有機化合物の合成で非常に大きく過剰な光学異性体を誘導することができ、短い反応時間で高い化学転換率を達成することができる。達成することができるエナンチオ選択性及び触媒活性は優秀である。さらには、そのような配位子は、他の不斉触媒反応、たとえば付加又は環化反応で使用することもできる。
【００３３】
本発明はさらに、遷移金属の群から選択される金属、たとえばＴＭ８金属（元素周期表８、９及び１０族）と、配位子としての式Ｉの化合物の一つとの錯体を提供する。本発明に関して、好ましい遷移金属は、元素周期表７、８、９、１０及び１１族の金属である。
【００３４】
可能な金属は、たとえば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｕ及びＰｔである。好ましい金属は、ロジウム及びイリジウムならびにルテニウム、白金及びパラジウムである。
【００３５】
特に好ましい金属は、ルテニウム、ロジウム及びイリジウムである。
【００３６】
金属錯体は、金属原子の酸化数及び配位数に依存して、さらなる配位子及び／又はアニオンを含むことができる。錯体はまた、カチオン金属錯体であることもできる。このような同様の金属錯体及びそれらの調製は文献で広く記載されている。
【００３７】
金属錯体は、たとえば、一般式II及びIIIに対応することができる。
【００３８】
【化３】
2010519272.tif 000005
【００３９】
式中、Ａ1は、式Ｉの化合物の一つであり、
Ｌは、同一又は異なる単座アニオン又は非イオン配位子を表すか、同一又は異なる二座アニオン又は非イオン配位子を表し、
ｒは、Ｌが単座配位子である場合には２、３又は４であり、Ｌが二座配位子である場合には１又は２であり、
ｚは、１、２又は３であり、
Ｍｅは、Ｒｈ、Ｉｒ及びＲｕからなる群より選択される金属であり、当該金属は酸化状態０、１、２、３又は４を有するものであり、
Ｅ-は、オキソ酸又は錯酸のアニオンであり、
アニオン配位子が、金属の酸化状態１、２、３又は４の電荷を均衡させる。
【００４０】
上記の好ましい要素及び実施態様は式Ｉの化合物に当てはまる。
【００４１】
単座非イオン配位子は、たとえば、オレフィン（たとえばエチレン、プロピレン）、溶媒和性溶媒（ニトリル、直鎖状又は環式エーテル、非アルキル化又はＮ−アルキル化アミド及びラクタム、アミン、ホスフィン、アルコール、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル）、一酸化窒素及び一酸化炭素からなる群より選択することができる。
【００４２】
適当な多座アニオン配位子は、たとえば、アリル（アリル、２−メタリル）又は脱プロトン化１，３−ジケト化合物、たとえばアセチルアセトネート（acetylacetonate）である。
【００４３】
単座アニオン配位子は、たとえば、ハロゲン化物（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、擬ハロゲン化物（シアン化物、シアン酸塩、イソシアネート）及びカルボン酸、スルホン酸及びホスホン酸のアニオン（炭酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、メチルスルホン酸、トリフルオロメチルスルホン酸、フェニルスルホン酸、トシル酸のアニオン）からなる群より選択することができる。
【００４４】
二座非イオン配位子は、たとえば、直鎖状又は環式ジオレフィン（たとえばヘキサジエン、シクロオクタジエン、ノルボルナジエン）、ジニトリル（マロンニトリル）、非アルキル化又はＮ−アルキル化カルボン酸ジアミド、ジアミン、ジホスフィン、ジオール、ジカルボン酸ジエステル及びジスルホン酸ジエステルからなる群より選択することができる。
【００４５】
二座アニオン配位子は、たとえば、ジカルボン酸、ジスルホン酸及びジホスホン酸（たとえば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、メチレンジスルホン酸及びメチレンジホスホン酸）のアニオンからなる群より選択することができる。
【００４６】
好ましい金属錯体はまた、Ｅが−Ｃｌ-、−Ｂｒ-、−Ｉ-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ-、（ＣＦ3ＳＯ2）3Ｃ-、テトラアリールボレート、たとえばＢ（フェニル）4-、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4-、Ｂ［ビス（３，５−ジメチル）フェニル］4-、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4-及びＢ（４−メチルフェニル）4-、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-又はＳｂＦ6-である錯体を含む。
【００４７】
水素化に特に適した特に好ましい金属錯体は式IV及びＶに対応する。
【００４８】
【化４】
2010519272.tif 000006
【００４９】
式中、
Ａ1は、式Ｉの化合物の一つであり、
Ｍｅ2は、ロジウム又はイリジウムであり、
Ｙ1は、二つのオレフィン又は一つのジエンを表し、
Ｚは、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、そして
Ｅ１−は、オキソ酸又は錯酸のアニオンである。
【００５０】
上記の好ましい要素及び実施態様は式Ｉの化合物に当てはまる。
【００５１】
オレフィンＹ1は、Ｃ2〜Ｃ12−、好ましくはＣ2〜Ｃ6−、特に好ましくはＣ2〜Ｃ4−オレフィンであることができる。例は、プロペン、１−ブテン及び特にエチレンである。ジエンは、５〜１２個、好ましくは５〜８個の炭素原子を含むことができ、開鎖、環式又は多環式ジエンであることができる。ジエンの二つのオレフィン基は、好ましくは、一つ又は二つのＣＨ2基によって接続されている。例は、１，４−ペンタジエン、シクロペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−又は１，５−ヘプタジエン、１，４−又は１，５−シクロヘプタジエン、１，４−又は１，５−オクタジエン、１，４−又は１，５−シクロオクタジエン及びノルボルナジエンである。Ｙは、好ましくは、二つのエチレンを表すか、１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエン又はノルボルナジエンである。
【００５２】
式IV中、Ｚは、好ましくはＣｌ又はＢｒである。Ｅ1の例は、ＢＦ4-、ＣｌＯ4-、ＣＦ3ＳＯ3-、ＣＨ3ＳＯ3-、ＨＳＯ4-、Ｂ（フェニル）4-、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4-、ＰＦ6-、ＳｂＣｌ6-、ＡｓＦ6-又はＳｂＦ6-である。
【００５３】
本発明の金属錯体は、文献から公知の方法によって調製される（ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４、ＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１ならびにE. Jacobsen, A. Pfaltz, H. Yamamoto (Eds.), Comprehensive Asymmetric Catalysis I to III, Springer Verlag, Berlin, 1999及びその中で引用されている参考文献を参照）。
【００５４】
本発明の金属錯体は、プロキラルな不飽和有機化合物に対する不斉付加反応のために使用することができる均一系触媒又は反応条件下で活性化することができる触媒前駆体である。
【００５５】
金属錯体は、たとえば、炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合を有するプロキラルな化合物の不斉水素化（水素付加）のために使用することができる。均一系反応媒体中で可溶性金属錯体を使用するそのような水素化は、たとえば、Pure and Appl. Chem., Vol. 68, No. 1, pages 131-138 (1996)に記載されている。水素化される好ましい不飽和化合物は、基Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏを含む。本発明にしたがって、好ましくは、ルテニウム、ロジウム及びイリジウムの金属錯体が水素化に使用される。
【００５６】
本発明はさらに、キラルな有機化合物の調製のための、好ましくはプロキラルな有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加のための均一系触媒としての、本発明の金属錯体の使用を提供する。
【００５７】
本発明のさらなる態様は、触媒の存在下、プロキラルな有機化合物中の炭素−炭素又は炭素−ヘテロ原子二重結合への水素の不斉付加によってキラルな有機化合物を調製する方法であって、付加反応が、本発明の少なくとも一つの金属錯体の触媒量の存在下で実施されることを特徴とする方法である。
【００５８】
水素化される好ましいプロキラルな不飽和化合物は、開鎖又は環式有機化合物中に一つ以上の同一又は異なる基Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏを含むことができ、当該基Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ及び／又はＣ＝Ｏは、環系又は環外基の一部であることもできる。プロキラルな不飽和化合物は、アルケン、シクロアルケン、ヘテロシクロアルケン及び開鎖又は環式ケトン、α，β−ジケトン、α−又はβ−ケトカルボン酸ならびにそれらのエステル及びアミド、α，β−ケトアセタール又はケタール、ケトイミン及びケトヒドラゾンであることができる。
【００５９】
不飽和有機化合物のいくつかの例は、アセトフェノン、４−メトキシ−アセトフェノン、４−トリフルオロメチルアセトフェノン、４−ニトロアセトフェノン、２−クロロアセトフェノン、対応する非置換又はＮ−置換アセトフェノンベンジルイミン、非置換又は置換ベンゾシクロヘキサノン又はベンゾシクロペンタノン及び対応するイミン、非置換又は置換テトラヒドロキノリン、テトラヒドロピリジン及びジヒドロピロールからなる群からのイミンならびに不飽和カルボン酸、エステル、アミド及び塩、たとえばα−及び、適当ならばβ−置換アクリル酸又はクロトン酸である。カルボン酸は、式
Ｒ01−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ02）−Ｃ（Ｏ）ＯＨ
のカルボン酸ならびにそれらの塩、エステル及びアミドであることができる。式中、Ｒ01は、炭素原子を介して結合された置換又は非置換炭化水素基であり、Ｒ02は、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ1〜Ｃ18アルキル、非置換又は置換Ｃ3〜Ｃ12シクロアルキル、非置換又は置換Ｃ6〜Ｃ14アリールオキシ、非置換又は置換Ｃ1〜Ｃ18アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ18ヒドロキシアルコキシ、Ｃ1〜Ｃ18アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ6アルキル又は保護されたアミノ（たとえばアセチルアミノ）である。
【００６０】
基Ｒ01及びＲ02は、一つ以上の同一又は異なる置換基、たとえば保護された又は保護されていないヒドロキシ、チオールもしくはアミノ、ＣＮ、ハロゲン、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、Ｃ6〜Ｃ10アリール（好ましくはフェニル）、ヘテロアリール、エステル基又はアミド基によって置換されていることができる。
【００６１】
炭化水素基Ｒ01は、非置換又は置換されていることができ、及び／又は、Ｏ、Ｓ、−Ｎ＝、−ＮＨ−又はＮ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）からなる群より選択されるヘテロ原子を含むことができる。脂肪族炭化水素基は、１〜３０個、好ましくは１〜２２個、特に好ましくは１〜１８個、非常に特に好ましくは１〜１２個の炭素原子及び０〜４個、好ましくは０、１又は２個の前記ヘテロ原子を含むことができる。芳香族及びヘテロ芳香族炭化水素基は、３〜２２個、好ましくは３〜１８個、特に好ましくは４〜１４個、非常に特に好ましくは４〜１０個の炭素原子及び１〜４個、好ましくは１又は２個の前記ヘテロ原子を含むことができる。
【００６２】
炭化水素基の例及び好ましい実施態様は、基Ｒ2及びＲ3に関して先に挙げたものであり、それらがＲ01及びＲ02にも当てはまる。
【００６３】
Ｒ01は、好ましくは、たとえば保護された又は保護されていないヒドロキシ、チオールもしくはアミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、エステル基又はアミド基によって置換されていてもよい、単環式又は多環式（たとえば二〜四環式）Ｃ6〜Ｃ14アリール又はＯ、Ｓ、−Ｎ＝、−ＮＨ−又は−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）からなる群より選択されるヘテロ原子を含むＣ3〜Ｃ14ヘテロアリールである。アリール及びヘテロアリールは、たとえば、ベンゼン、ナフタレン、インダン、アントラセン、フェナントレン、フルオレン、チオフェン、フラン、ピロール、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ベンゾチオフェン、ベンゾフラン、インドール、イソインドール及びキノリンから誘導されることができる。
【００６４】
驚くべきことに、ロジウム錯体及び式Ｉの配位子を触媒として使用する、α−アルキル−β−アリールアクリル又はβ−ヘテロアリールアクリル酸、特に式VIのカルボン酸の水素化において、２０００以上の、触媒に対する基質の高い比率でさえ、９７％ｅｅ（エナンチオマー過剰率）を超える非常に傑出した光学収率及び高い化学転換率を短い反応時間内に達成することが可能である、すなわち、高い触媒活性が認められるということがわかった。キラルな二座配位子の金属錯体を使用する式VIのカルボン酸の水素化は、ＷＯ２００２／０２５００Ａ１に記載されている。
【００６５】
本発明の方法の特に好ましい実施態様は、式VI
【００６６】
【化５】
2010519272.tif 000007
【００６７】
（式中、
Ｒ03及びＲ04は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ6アルキル又はＣ1〜Ｃ6アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ6アルキルオキシであり、そして、Ｒ05は、Ｃ1〜Ｃ6アルキルである）
の化合物が、触媒としての、式Ｉの配位子とのロジウム錯体の存在下、水素によって水素化されて、式VII
【００６８】
【化６】
2010519272.tif 000008
【００６９】
（Ｒ03は、好ましくはメトキシプロピルオキシであり、Ｒ04は、好ましくはメトキシであり、そして、Ｒ05は、好ましくはイソプロピルである）
の化合物を与えるということを特徴とする。
【００７０】
さらには、驚くべきことに、ロジウム錯体及び式Ｉの配位子を触媒として使用する、α−アルコキシ−β−アリールアクリル又は−β−ヘテロアリールアクリル酸、特に式VIIIのカルボン酸の水素化において、２００以上の、触媒に対する基質の高い比率でさえ、９７％ｅｅ（ｅｅ＝エナンチオマー過剰率）を超える非常に傑出した光学収率及び高い化学転換率を短い反応時間内に達成することが可能である、すなわち、高い触媒活性が認められるということがわかった。
【００７１】
本発明の方法のさらなる特に好ましい実施態様は、式VIII
【００７２】
【化７】
2010519272.tif 000009
【００７３】
（式中、
Ｒ06は、Ｃ1〜Ｃ8アルキル、保護された又は保護されていないＣ1〜Ｃ8ヒドロキシアルキル又はＣ1〜Ｃ8アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ6アルキルであり、Ｒ07は、非置換であってもよいし、保護された又は保護されていないヒドロキシ、チオールもしくはアミノ、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、エステル基又はアミド基によって置換されていてもよい、Ｃ6〜Ｃ14アリール又はＯ、Ｓ、−Ｎ＝、−ＮＨ−又は−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ4アルキル）からなる群より選択されるヘテロ原子を含むＣ3〜Ｃ14ヘテロアリールである）
の化合物が水素化されて式IX
【００７４】
【化８】
2010519272.tif 000010
【００７５】
（Ｒ06は、好ましくはＣ1〜Ｃ4アルキルであり、Ｒ07は、好ましくは、非置換であってもよいし、保護された又は保護されていないヒドロキシもしくはチオール、Ｃ1〜Ｃ6アルキル、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ、Ｃ1〜Ｃ6アルコキシ−Ｃ1〜Ｃ4アルコキシ、エステル基又はアミド基によって置換されていてもよい、フェニル、ナフチル、チオフェニル、フリル、ベンゾチオフェニル又はベンゾフリルである）
の化合物を与えるということを特徴とする。保護基の例は、ベンジル、トリチル、トリアルキルシリル及びアミノカルボニルである。
【００７６】
本発明の方法は、低温又は高温、たとえば−２０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃、特に好ましくは１０〜８０℃の温度で実施することができる。一般に、光学収率は、高めの温度よりも比較的低い温度でより良好である。
【００７７】
本発明の方法は、大気圧又は過圧で実施することができる。圧力は、たとえば、１０5〜２×１０7Pa（パスカル）であることができる。水素化は、大気圧又は過圧で実施することができる。
【００７８】
触媒は、水素化される化合物に基づいて、好ましくは０．０００１〜１０モル％、特に好ましくは０．００１〜１０モル％、非常に特に好ましくは０．０１〜５モル％の量で使用される。
【００７９】
配位子及び触媒の調製ならびに水素化は、溶媒なしで実施することもできるし、不活性溶媒の存在下で実施することもでき、その場合、一つの溶媒又は溶媒の混合物を使用することができる。適当な溶媒は、たとえば、脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素（ペンタン、ヘキサン、石油エーテル、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン）、脂肪族水素化炭化水素（塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン及びテトラクロロエタン）、ニトリル（アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル）、エーテル（ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールモノメチル又はモノエチルエーテル）、ケトン（アセトン、メチルイソブチルケトン）、カルボン酸エステル及びラクトン（エーテル又はメチルアセテート、バレロラクトン）、Ｎ−置換ラクタム（Ｎ−メチルピロリドン）、カルボキサミド（ジメチルアミド、ジメチルホルムアミド）、非環式尿素（ジメチルイミダゾリン）及びスルホキシド及びスルホン（ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホキシド、テトラメチレンスルホン）及びアルコール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル）ならびに水である。溶媒は、単独で使用することもできるし、少なくとも二つの溶媒の混合物として使用することもできる。
【００８０】
反応は、共触媒、たとえば第四級アンモニウムハロゲン化物（ヨウ化テトラブチルアンモニウム）の存在及び／又はプロトン酸、たとえば鉱酸の存在で実施することができる（たとえば、ＵＳ−Ａ−５，３７１，２５６、ＵＳ−Ａ−５，４４６，８４４及びＵＳ−Ａ−５，５８３，２４１ならびにＥＰ−Ａ−０６９１９４９を参照）。同じく、フッ素化アルコール、たとえば１，１，１−トリフルオロエタノール又は塩基（アミン、アルカリ金属水酸化物、炭酸塩及び炭酸水素塩）の存在が触媒反応を促進することができる。触媒として使用される金属錯体は、別個に調製された独立した化合物として加えることもできるし、反応の前にその場で形成したのち、水素化される基質と混合することもできる。独立した金属錯体を使用する反応にさらなる配位子を加えること又はその場での調製において過剰量の配位子を使用することが有利であることもある。過剰量は、調製に使用される金属化合物に基づいて、たとえば６モルまで、好ましくは２モルまでであることができる。
【００８１】
本発明の方法は、一般に、触媒を反応容器に入れ、次いで基質、場合によっては反応助剤及び追加される化合物を加え、その後、反応を開始することによって実施される。追加される気体化合物、たとえば水素又はアンモニアは、好ましくは加圧下で導入される。方法は、様々なタイプの反応器中、連続的又はバッチ式に実施することができる。
【００８２】
本発明にしたがって調製されるキラルな有機化合物は、特に香味料及び芳香剤、医薬品ならびに農薬の調製における活性物質又はそのような物質の調製のための中間体である。
【００８３】
以下の実施例が本発明を例示する。略号は以下の意味を有する。
ＴＢＭＥ＝tert−ブチルメチルエーテル、ｓ−ＢｕＬｉ＝sec−ブチルリチウム、ｎ−ＢｕＬｉ＝ｎ−ブチルリチウム、ＥｔＯＡｃ＝酢酸エチル、Ｅｔ3Ｎ＝トリエチルアミン、ＴＨＦ＝テトラヒドロフラン、ＤＥ＝ジエチルエーテル、ＴＭＥＤＡ＝テトラメチルエチレンジアミン、ｎｂｄ＝ノルボルナジエン、ｃｏｄ＝シクロオクタ−１，５−ジエン
【００８４】
Ａ）中間体の調製
実施例Ａ１：式（Ａ１）［Ｐｈ＝フェニル、Ｍｅ＝メチル］の（ＲC，ＳFc，ＳP）−１−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセン−１−イル］フェニルホスフィノ−１’−ブロモフェロセンの調製
【００８５】
【化９】
2010519272.tif 000011
【００８６】
ａ）１−フェニルクロロホスフィノ−１’−ブロモフェロセン（Ｘ１）の調製
ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中１．６M）１４．５ml（２３．２mmol）を、−３０℃未満（＜−３０℃）の温度で、ＴＨＦ３０ml中１，１’−ジブロモフェロセン８g（２３．２mmol）の溶液に滴下した。混合物をこの温度でさらに３０分間撹拌した。次いで、−７８℃に冷却し、フェニルジクロロホスフィン３．１５ml（２３．２mmol）を、温度が−６０℃を超えないような速度で滴下した。−７８℃でさらに１０分間撹拌したのち、温度を室温まで上昇させ、混合物をさらに１時間撹拌した。これによりモノクロロホスフィンＸ１の懸濁液を得た。
【００８７】
ｂ）Ａ１（ジアステレオ異性体の混合物）の調製
ｔ−ブチルリチウム（ｔ−ＢｕＬｉ）（ペンタン中１．５M）１５．５ml（２３．２mmol）を、−１０℃未満（＜−１０℃）で、ＤＥ４０ml中（Ｒ）−１−ジメチルアミノ−１−フェロセニルエタン５．９８g（２３．２mmol）の溶液に滴下した。同じ温度で１０分間撹拌したのち、温度を室温まで上昇させ、混合物をさらに１．５時間撹拌した。これにより化合物Ｘ２の溶液を得て、それを、カニューレを介して、モノクロロホスフィンＸ１の冷却懸濁液に、温度が−３０℃を超えないような速度で加えた。−３０℃でさらに１０分間撹拌したのち、温度を０℃まで上昇させ、混合物をこの温度でさらに２時間撹拌した。反応混合物を水２０mlと混合した。有機相を分別し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を、ロータリーエバポレータで、減圧下で留去した。クロマトグラフィーによる精製（シリカゲル６０、溶離剤＝ヘプタン／ＥｔＯＡｃ／Ｅｔ3Ｎ８５：１０：５）で二つのジアステレオ異性体の混合物として目的生成物１１．３９gを得た。
【００８８】
ｃ）Ａ１（一つのジアステレオ異性体）の調製
望むならば、以下のような熱処理により、ジアステレオ異性体の混合物を単一のジアステレオ異性体に転換することができる。プロセスステップｂ）で得られた生成物をトルエン５０mlに溶解し、４時間環流させた。トルエンを留去したのち、残渣をエタノールから再結晶させた。これにより、黄色の結晶として化合物Ｘ３を、また、純粋なジアステレオ異性体として、理論値の５９％の収率で得た。
31Ｐ−ＮＭＲ（１２１．５MHz），ＣＤＣｌ3）：δ−３５．３（s）
【００８９】
実施例Ａ２：式（Ａ２）［Ｃｙ＝シクロヘキシル、Ｍｅ＝メチル］の（ＲC，ＳFc，ＳP）−１−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセン−１−イル］シクロヘキシルホスフィノ−１’−ブロモフェロセンの調製
【００９０】
【化１０】
2010519272.tif 000012
【００９１】
ａ）モノクロロホスフィンＸ４の調製
シクロヘキサン中１．３M  ｓ−ＢｕＬｉ溶液（７．７ml、１０mmol）を、−２０℃未満の温度で、ＴＢＭＥ（１５ml）中（Ｒ）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−フェロセニルエチルアミン［（Ｒ）−Ugiアミン］（２．５７g、１０mmol）の溶液に１０分かけて加えた。添加が完了したのち、反応混合物を０℃に加温し、この温度で１．５時間撹拌した。次いで、ジクロロシクロヘキシルホスフィン（１．５１ml、１０mmol）を−６０℃未満の温度で１０分かけて加えた。次いで、混合物を−７８℃でさらに３０分間撹拌し、冷却槽を取り除き、反応混合物をさらに１時間撹拌した。これによりモノクロロホスフィンＸ４を得た。
【００９２】
ｂ）１−ブロモ−１’−リチオフェロセンＸ５の調製
ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中２．５M）４ml（１０mmol）を、−３０℃未満（＜−３０℃）で、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１０ml中１，１’−ジブロモフェロセン３．４３g（１０mmol）の溶液に滴下した。この混合物をこの温度でさらに１．５時間撹拌したのち、−７８℃に冷却した。これにより１−ブロモ−１’−リチオフェロセンＸ５の懸濁液を得た。
【００９３】
ｃ）化合物Ａ２の調製
モノクロロホスフィンＸ４を含む反応混合物ａ）を、−２０℃未満の温度で撹拌しながら、１−ブロモ−１’−リチオフェロセンＸ５の懸濁液ｂ）に滴下した。次いで、冷却を取り除き、反応混合物を室温で１時間撹拌した。これにより二つのジアステレオ異性体の混合物として化合物Ｘ６を得た。反応混合物は、さらに次の反応ステップに直接使用することができる。必要ならば、実施例Ａ１ｃ）と同様なやり方で、中間体Ｘ６を処理し、熱的に異性化し、純粋なジアステレオ異性体として単離することもできる。
【００９４】
代替方法として、化合物Ａ１を実施例Ａ２と同様なやり方で調製する、又は化合物Ａ２を実施例Ａ１と同様なやり方で調製することもできる。
【００９５】
Ｂ）配位子の調製
実施例１：式（Ｂ１）［Ｒ＝フェニル、Ｍｅ＝メチル、Ｒ’＝シクロヘキシル］の［（ＲC，ＲC，）（ＳFc，ＳFc，）（ＳP，ＳP）−１−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセニル］シクロヘキシルホスフィノフェロセンの調製
【００９６】
【化１１】
2010519272.tif 000013
【００９７】
反応混合物ａ）
シクロヘキサン中１．３M  ｓ−ＢｕＬｉ溶液（３．８５ml、５mmol）を、−２０℃未満の温度で、ＴＢＭＥ（１０ml）中（Ｒ）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−フェロセニルエチルアミン［（Ｒ）−Ugiアミン］（１．２８g、５mmol）の溶液に１０分かけて加えた。添加が完了したのち、反応混合物を０℃に加温し、この温度で１．５時間撹拌した。次いで、ジクロロシクロヘキシルホスフィン（０．７６ml、５mmol）を−６０℃未満の温度で１０分かけて加えた。次いで、反応混合物を−７８℃でさらに３０分間撹拌し、冷却槽を取り除き、反応混合物をさらに１時間撹拌して、モノクロロホスフィンＸ７を得た。
【００９８】
反応混合物ｂ）
別の反応容器中、ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３M、３．８５ml、５mmol）を、−６０℃未満の温度で、ＴＭＢＥ（１０ml）中、化合物Ａ１（３．１５g、５mmol）の溶液に加えたのち、混合物を−７８℃でさらに１時間撹拌した。これによりリチウム化化合物Ｘ３の溶液を得た。
【００９９】
ｃ）反応混合物ｂ）を、−７８℃に冷却しておいた反応混合物ａ）に、温度が−６０℃を超えないような速度で加えた。添加が完了したのち、冷却槽を取り除き、反応混合物をさらに１．５時間撹拌した。次いで、撹拌しながらＮａＨＣＯ3飽和水溶液５mlを加えた。次いで、有機相を分別し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させ、減圧下、蒸発乾固させた。次いで、残渣を１５０℃で２時間加熱し、その後、クロマトグラフィーによって精製した（ＳｉＯ2：１２０g、まずヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、次にヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、Ｅｔ3Ｎ１％含有）。第一の画分が純粋な標記化合物Ｂ１を与えた（２．１０g、４５．７％）。第二の画分は様々なジアステレオ異性体の混合物であった（１．２０g、２６．１％）。第二の画分を再び１５０℃で１．５時間加熱し、前記と同様にクロマトグラフィーによって精製した。単離された第一の画分は、純粋な標記化合物Ｂ１をさらに０．５７g（１２．４％）を得た。
【０１００】
【表１】
2010519272.tif 000014
【０１０１】
実施例２：式（Ｂ２）［Ｒ＝フェニル、Ｍｅ＝メチル、Ｒ’＝イソプロピル］の［（ＲC，ＲC，）（ＳFc，ＳFc，）（ＳP，ＳP）−１−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセニル］イソプロピルホスフィノフェロセンの調製
反応混合物ａ）中でシクロヘキシルジクロロホスフィンの代わりにイソプロピルジクロロホスフィンを使用したことを除き、実施例１の化合物Ｂ１と同様なやり方で化合物Ｂ２を調製した。粗生成物をクロマトグラフィーによって精製した（シリカゲル、溶離剤＝まず酢酸エチル／ヘキサン１：５、その後さらに１％のトリエチルアミン）。二つのジアステレオ異性体の混合物（比＝５：４）を得た。これを、溶媒なしで１５０℃で２時間加熱したのち、クロマトグラフィーによって精製した（シリカゲル、溶離剤＝まず酢酸エチル／ヘキサン１：３、その後さらに１％のトリエチルアミン）。第一の画分によりオレンジ色固体として清浄なＢ２を４７．５％の収率で得た。第二の画分（３０％）により様々なジアステレオ異性体の混合物を得た。
【０１０２】
【表２】
2010519272.tif 000015
【０１０３】
式Ｂ１及びＢ２の化合物は、以下の代替ルートによって得ることもできる。
【０１０４】
【化１２】
2010519272.tif 000016
【０１０５】
実施例３：式（Ｂ１）［Ｒ＝フェニル、Ｍｅ＝メチル、Ｒ’＝シクロヘキシル］の［（ＲC，ＲC，）（ＳFc，ＳFc，）（ＳP，ＳP）−１−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセニル］シクロヘキシルホスフィノフェロセンの調製
ａ）シクロヘキサン中１．３M  ｓ−ＢｕＬｉ溶液（３．８５ml、５mmol）を、−２０℃未満の温度で、ＴＢＭＥ（１０ml）中（Ｒ）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−フェロセニルエチルアミン［（Ｒ）−Ugiアミン］（１．２８g、５mmol）の溶液に１０分かけて加えた。添加が完了したのち、反応混合物を０℃に加温し、この温度で１．５時間撹拌した。これによりリチウム化UgiアミンＸ９を得た。
【０１０６】
ｂ）別の反応容器中、ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３M、３．８５ml、５mmol）を、−６０℃未満の温度で、ＴＭＢＥ（１０ml）中、化合物Ａ１（３．１５g、５mmol）の溶液に加えたのち、混合物を−７８℃で１時間撹拌した。これがリチウム化化合物Ｘ３の溶液を得た。次いで、ジクロロシクロヘキシルホスフィン（０．７６ml、５mmol）を−６０℃未満の温度で１０分かけて加えた。次いで、この混合物を−７８℃で３０分間撹拌し、冷却槽を取り除き、反応混合物をさらに１時間撹拌した。
【０１０７】
ｃ）ａ）に記載のようにして調製した化合物Ｘ９を含む懸濁液を、−６０℃未満の温度で撹拌しながら、ｂ）に記載のようにして調製した反応混合物に加えた。次いで、冷却槽を取り除き、混合物をさらに１．５時間撹拌した。次いで、撹拌しながらＮａＨＣＯ3飽和水溶液５mlを加えた。次いで、有機相を分別し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させ、減圧下、蒸発乾固させた。次いで、残渣を１５０℃で２時間加熱し、その後、クロマトグラフィーによって精製した（ＳｉＯ2：１２０g、まずヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、次にヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、Ｅｔ3Ｎ１％含有）。第一の画分により純粋な標記化合物Ｂ１を得た。第二の画分は様々なジアステレオ異性体の混合物であった。1Ｈ−ＮＭＲ及び31Ｐ  ＮＭＲは、実施例Ｂ１に記載のようにして調製した化合物Ｂ１と同一であった。
【０１０８】
実施例４：式（Ｂ２）［Ｒ＝フェニル、Ｍｅ＝メチル、Ｒ’＝イソプロピル］の［（ＲC，ＲC，）（ＳFc，ＳFc，）（ＳP，ＳP）−１−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセニル］イソプロピルホスフィノフェロセンの調製
ａ）シクロヘキサン中１．３M  ｓ−ＢｕＬｉ溶液（３．０８ml、４mmol）を、−２０℃未満の温度で、ＴＢＭＥ（１０ml）中（Ｒ）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−フェロセニルエチルアミン［（Ｒ）−Ugiアミン］（１．０３g、４mmol）の溶液に１０分かけて加えた。添加が完了したのち、反応混合物を０℃に加温し、この温度でさらに１．５時間撹拌した。これによりリチウム化UgiアミンＸ９を得た。
【０１０９】
ｂ）別の反応容器中、ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３M、３．０８ml、４mmol）を、−６０℃未満の温度で、ＴＭＢＥ（５ml）中、化合物Ａ１（２．５２g、４mmol）の溶液に加えたのち、混合物を−７８℃で１時間撹拌した。これによりリチウム化合物Ｘ３の溶液を得た。次いで、ジクロロイソプロピルホスフィン（０．４９ml、４mmol）を−６０℃未満の温度で１０分かけて加えた。次いで、この混合物を−７８℃で３０分間撹拌し、冷却槽を取り除き、反応混合物をさらに１時間撹拌した。
【０１１０】
ｃ）ａ）に記載のようにして調製した懸濁液を、−６０℃未満の温度で撹拌しながら、ｂ）に記載のようにして調製した反応混合物に加えた。次いで、冷却槽を取り除き、混合物をさらに１．５時間撹拌した。次いで、撹拌しながらＮａＨＣＯ3飽和水溶液５mlを加えた。次いで、有機相を分別し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させ、減圧下、蒸発乾固させた。次いで、残渣を１５０℃で２時間加熱し、その後、クロマトグラフィーによって精製した（ＳｉＯ2：１２０g、まずヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、次にヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、Ｅｔ3Ｎ１％含有）。第一の画分により純粋な標記化合物Ｂ２を得た。第二の画分は様々なジアステレオ異性体の混合物であった。1Ｈ−ＮＭＲ及び31Ｐ  ＮＭＲスペクトルは、実施例Ｂ２に記載のようにして調製した化合物Ｂ２のスペクトルと同一であった。
【０１１１】
実施例５：式（Ｂ３）の［（ＲC，ＲC），（ＳFc，ＳFc），（ＳP，ＳP）］−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］（４−メトキシフェニル）ホスフィノフェロセン［（ＳP，ＳP）−３ｃ］の調製
【０１１２】
【化１３】
2010519272.tif 000017
【０１１３】
反応混合物ａ）中でシクロヘキシルジクロロホスフィンの代わりに４−メトキシフェニルジクロロホスフィンを使用したことを除き、実施例１の化合物Ｂ１と同様なやり方で化合物Ｂ３を調製した。反応混合物を水で急冷して、黄色固体として沈殿する生成物を得た。ろ過及び酢酸エチルでの洗浄により純粋な生成物Ｂ３を６４％の収率で得た。
【０１１４】
【表３】
2010519272.tif 000018
【０１１５】
実施例６：式（Ｂ４）の［（ＲC，ＲC），（ＳFc，ＳFc），（ＳP，ＳP）］−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］（４−（トリフルオロメチル）フェニル］ホスフィノフェロセン［（ＳP，ＳP）−３ｄ］の調製
【０１１６】
【化１４】
2010519272.tif 000019
【０１１７】
反応混合物ａ）中でシクロヘキシルジクロロホスフィンの代わりに４−トリフルオロメチルフェニルジクロロホスフィンを使用したことを除き、実施例１の化合物Ｂ１と同様なやり方で化合物Ｂ４を調製した。反応後、反応混合物を水で急冷して、酢酸エチルで抽出した。有機相を捕集し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒をロータリーエバポレータ上で留去した。粗生成物を、溶媒なしで１５０℃で１時間加熱したのち、クロマトグラフィーによって精製した（シリカゲル、溶離剤＝酢酸エチル／ヘキサン１：５、トリエチルアミン１％含有）。生成物Ｂ４がオレンジ色固体として５６％の収率で得られた。
【０１１８】
【表４】
2010519272.tif 000020
【０１１９】
実施例７：式（Ｂ５）［Ｒ＝シクロヘキシル、Ｍｅ＝メチル、Ｒ’＝イソプロピル］の［（ＲC，ＲC），（ＳFc，ＳFc），（ＳP，ＳP）］−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］イソプロピルホスフィノ−１’−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］シクロヘキシルホスフィノフェロセンの調製
【０１２０】
【化１５】
2010519272.tif 000021
【０１２１】
ａ）実施例Ａ２に記載のようにして調製した反応混合物ｃ）（１０mmolバッチ）を−５０℃に冷却した。次いで、温度を−３０℃未満に維持しながらｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中２．５M）４ml（１０mmol）を滴下した。次いで、温度を０℃まで上昇させ、混合物をその温度で３０分間撹拌し、−５０℃まで冷却し直した。これにより（ＲC，ＳFc）−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］シクロヘキシルホスフィノ−１’−リチオフェロセンの懸濁液を得た。
【０１２２】
ｂ）容器中、ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３M）７．７ml（１０mmol）を、−２０℃未満の温度で、ＴＭＢＥ（１５ml）中（Ｒ）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−フェロセニルエチルアミン［（Ｒ）−Ugiアミン］（２．５７g、１０mmol）の溶液に１０分かけて加えた。添加が完了したのち、反応混合物を０℃に加温し、この温度でさらに１．５時間撹拌した。次いで、ジクロロイソプロピルホスフィン（１．２３ml、１０mmol）を−６０℃未満の温度で１０分かけて加えた。次いで、混合物を−７８℃でさらに３０分間撹拌し、冷却槽を取り除き、反応混合物をさらに１時間撹拌した。これによりモノクロロホスフィンＸ８を得た。
【０１２３】
ｃ）ｂ）に記載のようにして調製したモノクロロホスフィンＸ８の懸濁液を、撹拌し、温度を−２０℃未満に維持しながら、ａ）に記載のようにして調製した（ＲC，ＳFc）−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］シクロヘキシルホスフィノ−１’−リチオフェロセンの懸濁液に滴下した。その後、冷却を取り除き、混合物を１．５時間撹拌した。反応混合物をＮａＨＣＯ3飽和水溶液５mlと混合し、有機相を分別し、Ｎａ2ＳＯ4で乾燥させ、減圧下、蒸発乾固させた。残渣を１５０℃で１．５時間加熱した。この処理中、ジアステレオ異性体混合物は優先的に一つのジアステレオ異性体へと異性化した。クロマトグラフィー精製（ＳｉＯ2：まずヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、次にさらに１％のＥｔ3Ｎ）により、第一の画分中に生成物Ｂ５（オレンジ色固体、収率６３％）５．６０gを得た。第二の画分はジアステレオ異性体の混合物であった。新たな熱処理及びその後のクロマトグラフィーにより最終的に全部で７．８３gの生成物Ｂ５を得た（収率８９％）。
【０１２４】
【表５】
2010519272.tif 000022
【０１２５】
実施例８：式（Ｂ６）の［（ＲC，ＲC），（ＳFc，ＳFc），（ＳP，ＳP）］−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］（４−メトキシフェニル）ホスフィノ−１’−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］シクロヘキシルホスフィノフェロセンの調製
【０１２６】
【化１６】
2010519272.tif 000023
【０１２７】
反応混合物ａ）
ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３M）７．７ml（１０mmol）を、ＴＢＭＥ（１５ml）中（Ｒ）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−フェロセニルエチルアミン［（Ｒ）−Ugiアミン］２．５７g（１０mmol）の冷却溶液に、温度が−２０℃未満にとどまるような速度で滴下した。添加後、温度を０℃まで上昇させ、混合物をこの温度でさらに１．５時間撹拌した。次いで、混合物を−７８℃に冷却し、シクロヘキシルジクロロホスフィン１．５２ml（１０mmol）を、温度が−６０℃を超えないような速度で滴下した。混合物を−７８℃でさらに３０分間撹拌したのち、冷却を取り除き、モノクロロホスフィン（ＲC，ＳFc）−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］シクロヘキシルクロロホスフィンを含む懸濁液をさらに１時間撹拌した。
【０１２８】
反応混合物ｂ）
第二の反応フラスコ中、ｎ−ＢｕＬｉ（ヘキサン中２．５M）４．０ml（１０mmol）を、−３０℃に冷却しておいたＴＨＦ１０ml中１，１’−ジブロモフェロセン３．４３g（１０mmol）の溶液に、温度が−３０℃を超えないような速度で滴下した。その後、混合物を−３０℃でさらに１．５時間撹拌し、１−ブロモ−１’−リチオフェロセンを含む混合物を最終的に−７８℃に冷却した。
【０１２９】
反応混合物ｃ）
反応混合物ａ）を、冷却した反応混合物ｂ）に、温度が−２０℃を超えないような速度で加えた。添加後、冷却を取り除き、反応混合物をさらに１時間撹拌した。次いで、混合物を少なくとも−５０℃に冷却し直し、ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３M）７．７ml（１０mmol）を、温度が−３０℃を超えないような速度で加えた。その後、混合物を氷中で冷却し、０℃で撹拌した。（ＲC，ＳFc）−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］シクロヘキシルホスフィン−１’−リチオフェロセンを含む反応混合物を最終的に−５０℃未満（＜−５０℃）に冷却した。
【０１３０】
反応混合物ｄ）
ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３M）７．７ml（１０mmol）を、ＴＢＭＥ（１５ml）中（Ｒ）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−フェロセニルエチルアミン［（Ｒ）−Ugiアミン］（２．５７g、１０mmol）の冷却溶液に、温度が−２０℃未満にとどまるような速度で滴下した。添加後、温度を０℃まで上昇させ、混合物をこの温度でさらに１．５時間撹拌した。次いで、−７８℃に冷却し、４−メトキシフェニルジクロロホスフィン２．０９g（１０mmol）を、温度が−６０℃を超えないような速度で滴下した。混合物を−７８℃でさらに３０分間撹拌したのち、冷却を取り除き、モノクロロホスフィン（ＲC，ＳFc）−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］−４−メトキシフェニルクロロホスフィンを含む懸濁液をさらに１時間撹拌した。
【０１３１】
反応混合物ｄ）を、冷却した反応混合物ｃ）に、温度が−２０℃を超えないような速度で加えた。添加後、冷却を取り除き、反応混合物を室温でさらに１．５時間撹拌した。
【０１３２】
ＮａＨＣＯ3飽和溶液１５mlを加え、反応混合物を酢酸エチルで抽出し、有機相を捕集し、硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を、ロータリーエバポレータで、減圧下で留去した。残渣を１５０℃で１．５時間加熱したのち、クロマトグラフィーによって精製した（シリカゲル；溶離剤＝酢酸エチル／ヘキサン１：３）。第一の画分により黄〜オレンジ色固体として生成物を５４％の収率で得た。
【０１３３】
【表６】
2010519272.tif 000024
【０１３４】
実施例９：式（Ｂ７）の［（ＲC，ＲC），（ＳFc，ＳFc），（ＳP，ＳP）］−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］（４−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィノ−１’−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］シクロヘキシルホスフィノフェロセンの調製
【０１３５】
【化１７】
2010519272.tif 000025
【０１３６】
反応混合物ｄ）中で４−メトキシフェニルジクロロホスフィンの代わりに４−トリフルオロメチルフェニルジクロロホスフィンを使用したことを除き、実施例８の化合物Ｂ６と同様なやり方で化合物Ｂ７を調製した。
【０１３７】
熱処理（溶媒なしで１５０℃で１時間加熱）後、粗生成物をクロマトグラフィーによって精製した（シリカゲル；溶離剤＝酢酸エチル／ヘキサン１：８）。第一の画分により目的生成物を５３％の収率で得た。
【０１３８】
【表７】
2010519272.tif 000026
【０１３９】
実施例１０：式（Ｂ８）の［（ＲC，ＲC），（ＳFc，ＳFc），（ＳP，ＳP）］−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］（４−トリフルオロメチルフェニル）ホスフィノ−１’−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］（４−メトキシフェニル）ホスフィノフェロセンの調製
【０１４０】
【化１８】
2010519272.tif 000027
【０１４１】
反応混合物ａ）に関してはシクロヘキシルジクロロホスフィンの代わりに４−メトキシフェニルジクロロホスフィンを使用し、反応混合物ｄ）に関しては４−メトキシフェニルジクロロホスフィンの代わりに４−トリフルオロメチルフェニルジクロロホスフィンを使用したことを除き、実施例８の化合物Ｂ６と同様なやり方で化合物Ｂ８を調製した。
【０１４２】
熱処理（溶媒なしで１５０℃で１時間加熱）後、粗生成物をクロマトグラフィーによって精製した（シリカゲル、溶離剤＝酢酸エチル／ヘキサン１：５）。第一の画分により目的生成物を５２％の収率で得た。
【０１４３】
【表８】
2010519272.tif 000028
【０１４４】
実施例１１：式（Ｂ９）の［（ＲC，ＲC），（ＳFc，ＳFc），（ＳP，ＳP）］−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−［２−（１−メトキシエチル）−１−フェロセニル］フェニルホスフィノフェロセンの調製
【０１４５】
【化１９】
2010519272.tif 000029
【０１４６】
反応混合物ａ）
ｔ−ＢｕＬｉ（ペンタン中１．５M）３．４ml（５mmol）を、ＴＢＭＥ（５ml）中（Ｒ）−１−メトキシエチルフェロセン１．２２g（５mmol）の冷却溶液に、温度が−４０℃未満にとどまるような速度で滴下した。添加後、温度を０℃まで上昇させ、混合物をこの温度でさらに１．５時間撹拌した。次いで、混合物を−７８℃に冷却し、フェニルジクロロホスフィン０．６８ml（５mmol）を、温度が−６０℃を超えないような速度で滴下した。反応混合物を−７８℃でさらに３０分間撹拌したのち、冷却を取り除き、モノクロロホスフィン（ＲC，ＳFc）−［２−（１−メトキシエチル）−１−フェロセニル］フェニルクロロホスフィンを含む反応混合物をさらに１時間撹拌した。
【０１４７】
反応混合物ｂ）
第二の反応フラスコ中、sec−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３M）３．８５ml（５mmol）を、−７８℃に冷却しておいたＴＭＢＥ１０ml中（ＲC，，ＳFc，ＳP）−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−ブロモフェロセン３．１５g（５mmol）の溶液に、温度が−６０℃を超えないような速度で滴下した。その後、リチウム化フェロセンを含む反応溶液を−７８℃でさらに１時間撹拌した。
【０１４８】
反応混合物ｂ）を、−７８℃に冷却しておいた反応混合物ａ）に、温度が−６０℃を超えないような速度で加えた。添加後、冷却を取り除き、反応混合物をさらに１．５時間撹拌した。次いで、水１０mlを加え、反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機相を捕集し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を、ロータリーエバポレータで、減圧下で留去した。残渣をクロマトグラフィーによって精製した（シリカゲル；溶離剤＝酢酸エチル／ヘキサン１：５）。これにより二つのジアステレオ異性体の混合物（比約１：１）を得た。熱処理（１４５℃で１．５時間）が、約９：１のジアステレオ異性体比を生じさせた。クロマトグラフィーにより（シリカゲル；溶離剤＝酢酸エチル／ヘキサン１：５）、主要なジアステレオ異性体が純粋な形態で６１％の収率で得られた。
【０１４９】
【表９】
2010519272.tif 000030
【０１５０】
実施例１２：式（Ｂ１０）の［（ＲC，ＲC），（ＳFc，ＳFc），（ＳP，ＳP）］−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−［２−（α−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニルメチル）−１−フェロセニル］フェニルホスフィノフェロセンの調製
【０１５１】
【化２０】
2010519272.tif 000031
【０１５２】
反応混合物ａ）
ｓ−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３M）３．８５ml（５mmol）を、ＴＢＭＥ（５ml）中（Ｒ）−［α−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニルメチル］フェロセン１．６０g（５mmol）の冷却溶液に、温度が−４０℃未満にとどまるような速度で滴下した。添加後、温度を０℃まで上昇させ、混合物をこの温度でさらに１．５時間撹拌した。次いで、混合物を−７８℃に冷却し、フェニルジクロロホスフィン０．６８ml（５mmol）を、温度が−６０℃を超えないような速度で滴下した。混合物を−７８℃でさらに３０分間撹拌したのち、冷却を取り除き、モノクロロホスフィン（ＲC，ＳFc）−［２−（α−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニルメチル）−１−フェロセニル］フェニルクロロホスフィンを含む反応混合物をさらに１時間撹拌した。
【０１５３】
反応混合物ｂ）
第二の反応フラスコ中、sec−ＢｕＬｉ（シクロヘキサン中１．３M）３．８５ml（５mmol）を、−７８℃に冷却しておいたＴＭＢＥ１０ml中（ＲC，ＳFc，ＳP）−１−［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−ブロモフェロセン３．１５g（５mmol）の溶液に、温度が−６０℃を超えないような速度で滴下した。その後、リチウム化フェロセンを含む反応混合物を−７８℃でさらに１時間撹拌した。
【０１５４】
反応混合物ｂ）を、−７８℃に冷却しておいた反応混合物ａ）に、温度が−６０℃を超えないような速度で加えた。添加後、冷却を取り除き、反応混合物をさらに１．５時間撹拌した。次いで、水１０mlを加え、反応混合物を酢酸エチルで抽出した。有機相を捕集し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、溶媒を、ロータリーエバポレータで、減圧下で留去した。残渣を１５０℃で１時間加熱したのち、クロマトグラフィーによって精製した（シリカゲル；溶離剤＝酢酸エチル／ヘキサン１：５）。生成物が４３％の収率で得られた。
【０１５５】
【表１０】
2010519272.tif 000032
【０１５６】
実施例１３：式（Ｂ１１）［Ｒ＝シクロヘキシル、Ｍｅ＝メチル］の［（ＲC，ＲC），（ＳFc，ＳFc），（ＳP，ＳP）］−１，１’−ビス［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］シクロヘキシルホスフィノフェロセン
【０１５７】
【化２１】
2010519272.tif 000033
【０１５８】
ａ）ｎ−ＢｕＬｉ１３．７ml（２２mmol、ヘキサン中１．６M）を、ヘキサン２０ml中フェロセン（１０mmol）１．８６g及びＴＭＤＥＡ（２０mmol）３．２０mlの懸濁液に１０分かけて加えた。撹拌を５０℃でさらに２時間継続したのち、ジチオフェロセンＸ１０を含む反応混合物を次のステップで使用した。
【０１５９】
ｂ）ｓ−ＢｕＬｉ（１．３M、２２mmol）のシクロヘキサン溶液１５．４mlを、２０℃未満（＜２０℃）で、ｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）３０ml中（Ｒ）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−フェロセニルエチルアミン［（Ｒ）−Ugiアミン］５．１４g（２０mmol）の溶液に１０分かけて加えた。次いで、混合物を撹拌しながら０℃に加熱し、この温度で１．５時間維持した。次いで、６０℃未満（＜６０℃）に冷却し、ジクロロシクロヘキシルホスフィン３．０ml（２０mmol）を１０分かけて加えた。混合物を−７８℃で３０分間撹拌したのち、ゆっくりと室温まで温まらせ、その温度で１．５時間撹拌した。
【０１６０】
ｃ）ａ）に記載のようにして調製した懸濁液を、−２０℃未満で、ｂ）に記載のようにして調製した反応混合物に加えた。混合物を室温で２．５時間撹拌したのち、水２０mlを加えた。有機相を分別し、硫酸ナトリウムで乾燥させたのち、混合物が乾燥するまで溶媒を除去した。これが、生成物Ｂ４を、オレンジ色固体として、三つのジアステレオ異性体（ＳP，ＳP）、（ＳP，ＲP）及び（ＲP，ＲP）の比１：４：６の混合物として与えた。この比は31Ｐ  ＮＭＲによって決定した。
31Ｐ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，１０１MHz）：（ＲP，ＲP）異性体：δ−２１．６（ｓ）、（ＳP，ＲP）異性体：δ−２１．３（ｓ）及び−２６．９（ｓ）；（ＳP，ＳP）異性体：δ−２６．５（ｓ）。
【０１６１】
ｄ）ｃ）に記載のようにして得た固体を１５０℃で２時間維持した。そのとき、（ＳP，ＳP）：（ＳP，ＲP）：（ＲP，ＲP）の比は２．５：１：０であった。次いで、ジアステレオ異性体の混合物をクロマトグラフィーによって分離した（ＳｉＯ2、まずヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、次にヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、Ｅｔ3Ｎ１％含有）。純粋な標記化合物Ｂ４を５．４３g（理論値の５８．７％）含む第一の画分が得られた。
【０１６２】
【表１１】
2010519272.tif 000034
【０１６３】
第二の画分は、ジアステレオ異性体（ＳP，ＳP）及び（ＳP，ＲP）の混合物（２．９６g、理論値の３２．０％）を含むものであった。新たな熱処理及びその後のクロマトグラフィー分離によって目的のジアステレオ異性体の収率を高めることができた。
【０１６４】
実施例１４：式（Ｂ１２）［Ｒ＝イソプロピル、Ｍｅ＝メチル］の［（ＲC，ＲC），（ＳFc，ＳFc），（ＳP，ＳP）］−１，１’−ビス［２−（１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル）−１−フェロセニル］イソプロピルホスフィノフェロセンの調製
【０１６５】
ａ）ｎ−ＢｕＬｉ１３．７ml（２２mmol、ヘキサン中１．６M）を、ヘキサン２０ml中フェロセン（１０mmol）１．８６g及びＴＭＤＥＡ（２０mmol）３．２０mlの懸濁液に１０分かけて加えた。撹拌を５０℃で２時間継続したのち、ジチオフェロセンＸ１０を含む反応混合物を次のステップで使用した。
【０１６６】
ｂ）ｓ−ＢｕＬｉ（１．３M、２２mmol）のシクロヘキサン溶液１５．４mlを、２０℃未満（＜２０℃）で、ｔ−ブチルメチルエーテル（ＴＢＭＥ）３０ml中（Ｒ）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−１−フェロセニルエチルアミン［（Ｒ）−Ugiアミン］５．１４g（２０mmol）の溶液に１０分かけて加えた。次いで、混合物を撹拌しながら０℃に加温し、この温度で１．５時間維持した。次いで、６０℃未満（＜６０℃）に冷却し、ジクロロイソプロピルホスフィン２．４７ml（２０mmol）を１０分かけて加えた。−７８℃で３０分間撹拌したのち、混合物をゆっくりと室温まで温め、その温度で１．５時間撹拌した。
【０１６７】
ｃ）ａ）に記載のようにして調製した懸濁液を、−２０℃未満で、ｂ）に記載のようにして調製した反応混合物に加えた。混合物を室温で２．５時間撹拌したのち、水２０mlを加えた。有機相を分別し、硫酸ナトリウムで乾燥させたのち、混合物が乾燥するまで溶媒を除去した。生成物Ｂ５が、三つのジアステレオ異性体（ＳP，ＳP）、（ＳP，ＲP）及び（ＲP，ＲP）の比１：４．８：７．７の混合物を含むオレンジ色固体として得られた。この比は31Ｐ  ＮＭＲによって決定した。
31Ｐ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，１０１MHz）：（ＲP，ＲP）異性体：δ−１６．４（ｓ）、（ＳP，ＲP）異性体：δ−１８．８（ｓ）及び−２４．１（ｓ）；（ＳP，ＳP）異性体：δ−２３．８（ｓ）。
【０１６８】
ｄ）ｃ）に記載のようにして得られた固体を１５０℃で２時間維持した。そのとき、（ＳP，ＳP）：（ＳP，ＲP）：（ＲP，ＲP）の比は１４：７：１であった。次いで、クロマトグラフィー分離（ＳｉＯ2、まずヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、次にヘキサン：ＥｔＯＡｃ＝３：１、Ｅｔ3Ｎ１％含有）を実施した。これが、純粋な標記化合物Ｂ５を４．８５g（理論値の５７．５％）含む第一の画分を得た。
【０１６９】
【表１２】
2010519272.tif 000035
【０１７０】
第二の画分は、三つのジアステレオ異性体（ＳP，ＳP）、（ＳP，ＲP）及び（ＲP，ＲP）の混合物（２．２０g、理論値の３２．０％）を含むものであった。新たな熱処理及びその後のクロマトグラフィー分離によって目的のジアステレオ異性体の収率を高めることができた。
【０１７１】
Ｃ）金属錯体の調製
実施例Ｃ１：ロジウム錯体の調製（ｎｂｄはノルボルナジエンである）
配位子Ｂ３  １１．６mg（０．０１３１mmol）及び［Ｒｈ（ｎｂｄ）2］ＢＦ4４．９mg（０．０１３１mmol）をＣＤ3ＯＤ／ＣＨ2Ｃｌ2（１：１）０．８mlに溶解し、溶液を１０分間撹拌した。次いで、溶液を測定のためにＮＭＲ管に移した。
31Ｐ  ＮＭＲ（１２１．５MHz，ＣＤ3ＯＤ）：二つの二重項。可能な割り当て：δ１１．５（ｄ，ＪＲｈ−Ｐ＝１７２Ｈｚ）、８．３（ｄ，ＪＲｈ−Ｐ＝１７２Ｈｚ）。
【０１７２】
Ｄ）使用例（水素化）
実施例Ｄ１〜Ｄ７：
【０１７３】
【化２２】
2010519272.tif 000036
【０１７４】
の水素化
【０１７５】
すべての操作は、アルゴン下、脱気された溶媒を使用して実施した。
【０１７６】
配位子Ｂ１  ２．１７mg（０．００２３８mol）及び［Ｒｈ（ｎｂｄ）2］ＢＦ4０．８５mg（０．００２２７mmol）を、磁気撹拌機及びゴム製隔壁を備えた２５mlのシュレンク(Schlenk)容器に秤量し、メタノール８mlに溶解した。溶液を約１０分間撹拌したのち、メタノール２７ml中、基質Ｓ１  ８．４g（２７．２４mmol）の溶液を加えた。次いで、トリフルオロ酢酸１．７mgを加えた。得られた溶液を、加圧下、カニューレを介して、事前にアルゴンを充填しておいた５０mlスチール製オートクレーブに移した。オートクレーブを、減圧弁を介して水素タンクに接続した。オートクレーブを閉じ、所望の温度の加熱浴に入れ、水素での加圧及び圧抜きを二回実施することによってアルゴンを水素で置き換えた。次いで、オートクレーブを水素で所望の圧まで加圧し、撹拌機をオンにすることによって水素化を開始した。水素化後、撹拌機をオフにし、オートクレーブを圧抜きし、水素化溶液を取り出した。転換率及びエナンチオマー過剰率（ｅｅ）をＨＰＬＣによって測定した（Chirapak AD；０．４６×２５０mm、ヘキサン／エタノール（ＥｔＯＨ）／酢酸（ＡｃＯＨ）９５０：５０：１、流量＝０．７ml/min、２０℃）。
【０１７７】
配位子Ｂ２〜Ｂ５及び比較用配位子Ｃ１に対しても同様な手順を使用した。
【０１７８】
比較用配位子Ｃ１は［（ＲC，ＲC，）（ＳFc，ＳFc，）（ＳP，ＳP）−１−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセニル］フェニルホスフィノ−１’−［２−（１−ジメチルアミノエチル）フェロセニル］シクロヘキシルホスフィノフェロセンであった（ＷＯ２００６／０７５１６６、実施例１を参照）。
【０１７９】
＊実施例Ｄ６〜Ｄ７及び比較例＊は、メタノール１７ml中、基質Ｓ１  ６gを使用し、トリフルオロ酢酸を加えなかったことを除き、実施例Ｄ１〜Ｄ５と同様なやり方で実施した。
【０１８０】
結果を表１に示す。
【０１８１】
【表１３】
2010519272.tif 000037
【０１８２】
実施例Ｄ８〜Ｄ１０：
【０１８３】
【化２３】
2010519272.tif 000038
【０１８４】
の水素化
【０１８５】
すべての操作は、アルゴン下、脱気された溶媒を使用して実施した。
【０１８６】
［Ｒｈ（ｎｂｄ）2］ＢＦ4０．９４mg（０．００２５mmol）及び配位子（表２を参照）０．００２７５mmolを、磁気撹拌機及びゴム製隔壁を備えた２５mlのシュレンク（Schlenk）容器に秤量した。メタノール１mlの添加後、混合物を２０分間撹拌した。得られた触媒溶液に、メタノール４ml中、基質Ｓ２  １４３mg（０．５mmol）の溶液を加えた。得られた溶液を、加圧下、カニューレを介して、ガラスライナー及び磁気撹拌機を備えた５０mlスチール製オートクレーブに移した。次いで、実施例Ｄ１〜Ｄ７と同様なやり方で水素化を実施した。転換率及びエナンチオマー過剰率（ｅｅ）をＨＰＬＣによって測定した（Chirapak AD-H）。結果を表２にまとめる。
【０１８７】
【表１４】
2010519272.tif 000039
【０１８８】
実施例Ｄ１１〜Ｄ１３：様々な基質の水素化
１．２mlアンプル中で水素化を実施した。撹拌の代わりに、アンプルを激しく振とうした。グローブボックス中、組成を表１から取り出すことができる組成物である、約０．５mlの量を有する溶液を、窒素雰囲気下、１．２mlアンプル中に調製した。触媒は、ジクロロエタン中、金属前駆体１当量を配位子１．３当量と混合したのち、減圧下でジクロロエタンを留去することにより、その場で調製した。基質を水素化溶媒に溶解し、溶液として触媒に添加した。アンプルを圧力定格加熱可能容器中に固定し、容器を閉じ、所望の温度をセットし、容器中の窒素雰囲気を、所望の圧を有する水素雰囲気で置き換え、シェーカをオンにすることによって水素化を開始した。
【０１８９】
【表１５】
2010519272.tif 000040
【０１９０】
結果を表３にまとめる。
【０１９１】
【表１６】
2010519272.tif 000041
【国際調査報告】
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