(57)【要約】少なくとも１つの部分的に形成された機能層と、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層とを有する多層体の形成のための様々な工程および、製造された多層体が記載されている。  このように、多層体は、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、少なくとも１つの部分的に形成された、好適に、幾何学図形、文字と数字との、絵入りの、図形の、または、造形的な表現を与えるために、お互いに補い合う機能層を有する。【選択図】図１８（Ｍ）
2010500186.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのさらに部分的に形成された層と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層を有する多層体（１００ｔ）の製造方法であって、
第１の凹凸構造部が多層体（１００ｔ）の複製層（３）の第１の領域の中で形成され、
前記第１の凹凸構造部が複製層（３）の中には形成されずに構造化される中で、
第１の層（３ｍ）が、
第１の領域の中の複製層（３）と、少なくとも１つの第２の領域の中の複製層（３）とに付与され、
少なくとも１つの第２の領域の中ではなく第１の領域の中で第１の層が取り除かれるか、または、第１の領域の中ではなく少なくとも１つの第２の領域の中で第１の層が取り除かれる中で、
第１の凹凸構造部によって定義され、
そして、前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、直接、および／または、マスク層として構造化された第１の層を使用して、形成され、
その後、前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層が形成されることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
第１の凹凸構造部と異なる深さ対幅の比を有する少なくとも１つの第２の凹凸構造部が、少なくとも１つの第２の領域の中で形成されることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
少なくとも２つの異なる第２の凹凸構造部が少なくとも１つの第２の領域の中で形成されることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
少なくとも１つの第２の凹凸構造部より大きい深さ対幅の比を有する第１の凹凸構造部が形成され、そして、これにより、透過性、特に少なくとも１つの第２の領域の中での第１の層（３ｍ）の透過率に関しては、透過性、特に第１の領域の中での第１の層（３ｍ）の透過率が増大することを特徴とする請求項２ないし請求項３のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
第１の、および／または、少なくとも１つの第２の凹凸構造部が、回折性を示す凹凸構造部として形成されることを特徴とする請求項１ないし請求項４のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
個々の構成部品について０．３より大きい深さ対幅の比を有する回折性を示す凹凸構造部が第１の凹凸構造部としての第１の領域の中に形成されることを特徴とする請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
第１の凹凸構造部の周期的間隔が３００ｌｉｎｅｓ／ｍｍより大きい範囲、特に、１０００ｌｉｎｅｓ／ｍｍより大きい範囲とされていることを特徴とする請求項５ないし請求項６のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
第１の凹凸構造部、および／または、少なくとも１つの第２の凹凸構造部は、等方性の、または、非等方性のつや消し構造、２重の（ｂｉｎａｒｙ）または連続フレネルレンズ、マイクロプリズム構造、ブレイズド回折格子、マクロ構造または、それによって構成される複合的構造としての、光の回折、および／または、光の反射、および／または、光の散乱、および／または、集光性のミクロまたはナノ構造として形成されることを特徴とする請求項１ないし請求項７のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
第１の層（３ｍ）が表面領域に関して一定の密度で複製層によって定義される平面（３）に付与され、
第１の層（３ｍ）は、
第１の層（３ｍ）が第１の領域中で取り除かれるまで、あるいは、
少なくとも１つの第２の領域中での透過性、特に第１の層（３ｍ）の透過率に関して、少なくとも、透過性、特に第１の層（３ｍ）の透過率が第１の領域中で上昇するまで、
前記第１の領域中と前記少なくとも１つの第２の領域中とのどちらでも、エッチング工程中に、エッチング剤、特に、酸または苛性アルカリ溶液に曝されることを特徴とする請求項１ないし請求項８のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
複製層によって定義される平面（３）に関わる表面領域について、前記第１の層（３ｍ）が一定の密度で付与され、かつ、
前記第１の領域中および前記第２の領域中も両方で前記第１の層（３ｍ）がレーザー光により露光されることにより、前記第１の層（３ｍ）が、前記第１の層（３ｍ）自体の部分的な除去のために吸収層として利用されることを特徴とする請求項１ないし請求項８のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記第１の層（３ｍ）が、複製層によって定義される平面（３）に関わる表面領域に関して一定の密度で付与され、そして、
前記第１の層（３ｍ）が、透過性、特に前記少なくとも１つの第２の領域中の前記第１の層（３ｍ）の透過率に関連して、透過性、特に前記第１の領域中での前記第１の層（３ｍ）の透過率が増加するような層厚で形成されることを特徴とする請求項１ないし請求項８のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記第１の層（３ｍ）が、複製層によって定義される平面（３）に関する表面領域に関連して一定の密度で付与され、そして、
第１の感光性ラッカー層が、前記第１の層（３ｍ）に付与されるか、あるいは、前記複製層（３）が第１の感光性の洗浄性ラッカー層によって形成され、
前記第１の感光性ラッカー層または前記第１の洗浄性ラッカー層は、前記第１の領域および前記少なくとも１つの第２の領域の中の前記第１の凹凸構造部によって、別々に露光されるので、
前記第１の感光性ラッカー層または前記第１の洗浄性ラッカー層が、前記第１の層（３ｍ）を通して露光され、
前記露光された第１の感光性ラッカー層または前記第１の洗浄性ラッカー層の構造化が有効となり、
同時か、または、引き続いて、マスク層としての前記構造化された第１の感光性ラッカー層を使用して、
前記第１の層（３ｍ）は、前記少なくとも１つの第２の領域の中ではなく、前記第１の領域の中か、または、前記第１の領域の中ではなく、前記少なくとも１つの第２の領域の中で取り除かれ、構造化されることを特徴とする請求項１ないし請求項８のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記第１の層（３ｍ）が、前記第１の領域中で取り除かれ、そして、これにより構造化されるために、
光活性化層が感光層として前記第１の層（３ｍ）に付与され、
前記感光層は前記第１の層（３ｍ）および前記複製層（３）を通して露光され、そして、
前記第１の領域中で活性化し、そして、
前記光活性化層の前記活性化した領域は、前記第１の層（３ｍ）に対するエッチング中間物を形成することを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が直接形成されていることを特徴とする請求項９ないし請求項１３のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１５】
第１の層（３ｍ）が部分的に形成された機能層を直接形成していることを特徴とする請求項９ないし請求項１４のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１６】
構造化された第１の感光層または第１の洗浄性ラッカー層が部分的に形成された機能層を直接形成していることを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１７】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層、および／または、さらに部分的に形成された層が、ある工程によって形成され、
それによって、特に、着色剤と混合された、第１の陽画または陰画のフォトレジストラッカー層（１２，１２´，１２´´，１２´´´）が付与され、
第１のフォトレジストラッカー層（１２，１２´，１２´´，１２´´´）が前記構造化された第１の層（３ｍ）を通して露光され、
そして、前記露光された第１のフォトレジストラッカー層（１２，１２´，１２´´，１２´´´）の構造化処理が有効となることを特徴とする請求項９ないし請求項１６のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１８】
前記第１の凹凸構造部および、少なくとも１つの第２の凹凸構造部と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、部分的に形成された機能層が、それぞれ形成され、
異なるフォトレジストラッカー層（１２，１２´，１２´´，１２´´´）、特に異なる有色のフォトレジストラッカー層が、前記部分的に形成された機能層の形成のために使用されることを特徴とする請求項２ないし請求項１７のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項１９】
前記第１の層（３ｍ）を部分的に形成する物質が、前記複製層（３）に付着し、そこで拡散し、あるいは、そこで反応するので、
密着性、および／または、拡散抵抗、および／または、前記複製層（３）の表面活性度は、前記第１の凹凸構造部の前記構造によって部分的に影響を受けることを特徴とする請求項１ないし請求項１８のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項２０】
複製層（３）が、部分的に形成された機能層としての着色剤の、そこへの拡散によって部分的に形成され、
複製層（３）上に部分的に形成された追加層が拡散障壁として部分的に機能することを特徴とする請求項１ないし請求項１９のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項２１】
前記第１の層（３ｍ）が、前記粉末または液体の媒体の付与によって形成され、
そのとき、前記第１の層は構造化され、
前記粉末または前記液体の媒体の物理的または化学的な取り扱いの後で可能な限り、
そして、前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、直接、および／または、その後に、形成され、
マスクキング層としての前記構造化された第１の層を利用して、前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層が形成されることを特徴とする請求項１ないし請求項８のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項２２】
前記粉末または前記液体の媒体が、別々に部分的に前記複製層（３）に付着され、そこの中で拡散し、または、そこで作用するので、
前記第１の凹凸構造部の前記構造によって、密着性、および／または、拡散抵抗、および／または、前記複製層の表面活性度が影響を受けることを特徴とする請求項２１に記載の製造方法。
【請求項２３】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層または前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、ある工程によって形成され、
それによって、第１の陽画または陰画のフォトレジストラッカー層（１２，１２´，１２´´，１２´´´）が付与され、
第１のフォトレジストラッカー層（１２，１２´，１２´´，１２´´´）が、前記構造化された第１の層（３ｍ）を通して露光され、
そして、前記露光された第１のフォトレジストラッカー層（１２，１２´，１２´´，１２´´´）の構造化処理が有効となることを特徴とする請求項２１ないし請求項２２のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項２４】
前記複製層（３ａ）は、部分的に形成された機能層としての着色剤の、そこへの拡散によって部分的に形成され、
前記複製層（３）自体または、その上に部分的に形成された層は、拡散障壁として部分的に機能することを特徴とする請求項２３ないし請求項２５のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項２５】
複製層（３）が、少なくとも１つの第２の領域の中で、少なくとも部分的には平坦であることを特徴とする請求項１ないし請求項２４のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項２６】
第１の層（３ｍ）が、ストリッピングブレードまたはストリッピングレーキによって削り取られることにより構造化されることを特徴とする請求項２１ないし請求項２４のうち何れか１項および請求項２５に記載の製造方法。
【請求項２７】
前記複製層（３）の平面に垂直に見て、部分的に形成された機能層または追加層によって囲まれ、そして、少なくとも１つの部分的に形成された機能層または、さらに部分的に形成された層が形成された、前記第１の凹凸構造部または前記少なくとも１つの第２の凹凸構造部を有する前記複製層（３）の露光された領域の中で、物質を引っ掻き落とすことを特徴とする請求項１ないし請求項２６のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項２８】
少なくとも１つのさらに部分的に形成された層と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層を有する多層体（１００ｖ）の製造方法であって、
第１のフォトレジストラッカー層（１２）として形成された第１の層がキャリア層（１）上で形成され、そして、部分的に露光され、
前記露光された第１の層が現像され、そして、
構造化され、そして、それから、
マスク層としての前記構造化された第１の層を利用して、前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層、および／または、前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が形成されることを特徴とする製造方法。
【請求項２９】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層または、少なくとも、さらに部分的に形成された層が、ある工程によって形成され、
それによって、着色剤と混合された、第２の陽画または陰画のフォトレジストラッカー層（１２´）が付与され、
前記第２のフォトレジストラッカー層（１２´）が、前記構造化された第１の層を通して露光され、そして、前記露光された第２のフォトレジストラッカー層（１２´）の構造化処理が有効となることを特徴とする請求項２８に記載の製造方法。
【請求項３０】
第１の、および／または、第２のフォトレジストラッカー層（１２，１２´）が、少なくとも１つの部分的に形成された機能層を形成していることを特徴とする請求項２８ないし請求項２９のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項３１】
引き続いて、前記キャリア層（１）が、部分的に形成された機能層または追加層としての着色剤の拡散によって形成され、
少なくとも第１の、および／または、第２の構造化されたフォトレジストラッカー層（１２，１２´）が拡散障壁として機能することを特徴とする請求項２８ないし請求項３０のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項３２】
前記キャリア層（１）の平面に垂直に見ると、部分的に形成された機能層または、さらに部分的に形成された層によって囲まれた前記キャリア層（１）の露光された領域の中で、
物質が引っ掻き取られ、そして、
少なくとも１つのさらに部分的に形成された機能層または、さらに部分的に形成された層が形成されることを特徴とする請求項２８ないし請求項３１のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項３３】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層がラッカー層または高分子層として形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３２のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項３４】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、１つ以上の、特に、非金属的機能層物質を付加することによって形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項３３のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項３５】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、１つ以上の有色の、特に、多色の機能層物質を付加することによって形成される、および／または、少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、疎水性または親水性の層として形成されることを特徴とする請求項１ないし請求項３４のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項３６】
前記第１の層（３ｍ）、および／または、少なくとも１つの有色の陽画または陰画のフォトレジストラッカー層（１２，１２´，１２´´，１２´´´）によって、
および／または、
視線方向に依存して、光学的な効果による少なくとも１つの光学的に変化する層によって、
および／または、
少なくとも１つの金属の反射層によって、
および／または、
少なくとも１つの誘電性の反射層によって、
前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が形成されることを特徴とする請求項１ないし請求項３５のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項３７】
前記光学的に変化する層は、それが、
前記視線方向に依存して変わる光学的な効果を有する少なくとも１つの物質を含むように、
および／または、
前記視線方向に依存して変わる光学的な効果を有する少なくとも１つの液晶層によって形成されるように、
および／または、
視線方向に依存して変わる干渉性の色の効果を有する薄いフィルム反射層の積み重ねによって、
形成されていることを特徴とする請求項３６に記載の製造方法。
【請求項３８】
前記構造化された第１の層（３ｍ）が、少なくとも部分的に取り除かれ、そして、前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層、および／または、前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層によって置き換えられることを特徴とする請求項１ないし請求項３７のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項３９】
構造化された第１の層（３ｍ）の完全な除去がなされることを特徴とする請求項３８に記載の製造方法。
【請求項４０】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、前記複製層またはキャリア層（１）の平面に垂直に見て、前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層の、上または下に重ね合わせ関係と一致させて重ね合わされることを特徴とする請求項１ないし請求項３９のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項４１】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、前記複製層（３）またはキャリア層（１）の平面に垂直に見て、交互に重ね合わされているか、あるいは、前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層に対して一様な空間を有していることを特徴とする請求項１ないし請求項４０のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項４２】
少なくとも１つの第１の透明な空隙層（２´）が、少なくとも１つの部分的に形成された機能層と少なくとも１つのさらに部分的に形成された層との間に重ね合わされていることを特徴とする請求項１ないし請求項４１のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項４３】
少なくとも１つの第２の透明な空隙層が、少なくとも２つのさらに部分的に形成された層の間に重ね合わされていることを特徴とする請求項１ないし請求項４２のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項４４】
第１の、および／または、第２の空隙層が、少なくとも２つの異なる層厚で部分的に形成されることを特徴とする請求項４２ないし請求項４３のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項４５】
第１の、および／または、第２の空隙層が、１００μｍより小さい、特に、２μｍと５０μｍの間の範囲の層厚で部分的に形成されることを特徴とする請求項４２ないし請求項４４のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項４６】
前記第１の層（３ｍ）は、前記第１の層（３ｍ）が人の目には不透明な、そして、特に、１．５より大きい光学的密度となる厚さ内の前記複製層（３）または前記キャリア層（１）に前記全表面領域上に付与されることを特徴とする請求項１ないし請求項４５のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項４７】
第１の層（３ｍ）が、第１の層（３ｍ）が２と７の間の範囲の光学的な密度となるような厚さに付与されることを特徴とする請求項４６に記載の製造方法。
【請求項４８】
前記複製層（３）または前記キャリア層（１）の平面に垂直にみて、前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層および前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、装飾的な幾何学図形、および／または、情報を示す幾何学図形、文字と数字との、絵入りの、図形の、または、造形的な表現を与えるために、お互いに補い合うことを特徴とする請求項１ないし請求項４７のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項４９】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層および前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、それぞれ付与され、少なくとも領域的に見て線状であり、
前記線が、横からの切除部以外で、お互いに混ざり合い、および／または、同心円状の模様を形成することを特徴とする請求項１ないし請求項４８のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項５０】
前記線が、お互いに連続的な色構成の中で混ざり合うように構成されていることを特徴とする請求項４９に記載の製造方法。
【請求項５１】
前記複製層（３）またはキャリア層（１）の平面に垂直に見て、前記線が１００μｍより小さい範囲の、特に０．５μｍと５０μｍとの間の範囲の幅で形成されることを特徴とする請求項４９ないし請求項５０のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項５２】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層中に、
可視スペクトルの外側で励起され、そして、見て取れる識別可能な色の印象を生成できる着色剤が含まれ、
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層は、少なくとも電磁スペクトル波長領域において、有色であるか、または、色を生じ、そして、特に、明るく多色であるか、または、明るい色を生じる、少なくとも１つの不透明な前記着色剤、および／または、少なくとも１つの透明な前記着色剤によって着色されることを特徴とする請求項１ないし請求項５１のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項５３】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層と、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層とが、補色となるように形成されることを特徴とする請求項５２に記載の製造方法。
【請求項５４】
少なくとも１つの着色剤が、無機あるいは有機着色剤、特に、顔料または染料のグループから選択されることを特徴とする請求項５２ないし請求項５３のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項５５】
複製層（１）が、キャリア層（１）上に重ね合わされることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項５６】
キャリア層（１）が、前記形成された多層体から離脱可能に構成されていることを特徴とする請求項２８ないし請求項５５のうち何れか１項に記載の製造方法。
【請求項５７】
請求項１および、請求項１ないし請求項５６のうち何れか１項に記載の製造方法によって製造される多層体（１００ｔ）であって、
少なくとも１つのさらに部分的に形成された層と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層を有し、
第１の凹凸構造部が、前記多層体（１００ｔ）の複製層（３）の第１の領域の中に形成され、
前記第１の凹凸構造部に依存して、前記複製層（３）が構造化されている中で、前記第１の凹凸構造部が形成されていない状態で、
前記少なくとも１つの機能層が、前記第１の領域の中の、または、少なくとも１つの第２の領域の中の前記複製層（３）に付与されていることを特徴とする多層体。
【請求項５８】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層、および／または、前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、回折性を示す凹凸構造部によって裏打ちされて、
ホログラムまたはキネグラムにより光学的に変化する効果を示すことを特徴とする請求項５７に記載の多層体。
【請求項５９】
請求項２８および、請求項１ないし請求項５６のうち何れか１項、に記載の製造方法によって製造される多層体、あるいは、請求項５７または請求項５８に記載の多層体であって、
少なくとも１つのさらに部分的に形成された層と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層を有し、
第１のフォトレジストラッカー層（１２）として形成された第１の層がキャリア層（１）上に構造化された模様の形状に形成され、かつ、
マスク層としての前記構造化された第１の層を利用して、前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層、および／または、前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が形成されていることを特徴とする多層体。
【請求項６０】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層および前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、装飾的な幾何学図形、および／または、情報を示す幾何学図形、文字と数字との、絵入りの、図形の、または、造形的な表現を与えるために、お互いに補い合うことを特徴とする請求項５７ないし請求項５９のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項６１】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層、
および／または、
前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、
線幅が５０μｍより小さい、特に０．５μｍと１０μｍとの間の範囲の少なくとも１つの線として形成される、
および／または、
ピクセル直径が５０μｍより小さい、特に０．５μｍと１０μｍとの間の範囲の少なくとも１つのピクセルとして少なくとも形成される、
ことを特徴とする請求項５７ないし請求項６０のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項６２】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、特に、不透明な金属層であり、かつ、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、有色のラッカー層であることを特徴とする請求項５７ないし請求項６１のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項６３】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、液晶を含む層であり、かつ、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、有色のラッカー層であることを特徴とする請求項５７ないし請求項６１のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項６４】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が視線方向に依存する干渉性の色の効果を有する薄いフィルム反射層の積み重ねによって形成されて、
前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が有色のラッカー層であることを特徴とする請求項５７ないし請求項６１のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項６５】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、第１の有色のラッカー層であり、かつ、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、さらに異なる有色のラッカー層であることを特徴とする請求項５７ないし請求項６１のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項６６】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、第１の有色のラッカー層であり、かつ、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、誘電性の反射層であることを特徴とする請求項５７ないし請求項６１のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項６７】
ラッカー層が、少なくとも１つの不透明な、および／または、少なくとも１つの透明な物質によって有色となっていることを特徴とする請求項６２ないし請求項６６のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項６８】
有色のラッカー層が、少なくとも１つの、黄色、マゼンタ、シアン、または、黒（ＣＭＹＫ）、あるいは、赤、緑、または、青（ＲＧＢ）の着色剤によって有色とされ、
および／または、
少なくとも１つの部分的に形成された機能層に、少なくとも１つの赤の、緑の、および／または、青の蛍光発光顔料または染料が付与されて、
これにより照明下で付加的な色を生成することを特徴とする請求項６７に記載の多層体。
【請求項６９】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層と少なくとも１つのさらに部分的に形成された層とが、少なくとも与えられた視線方向で、あるいは、与えられた種類の光の下で補色となるように形成されることを特徴とする請求項５７ないし請求項６８のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項７０】
前記少なくとも１つの部分的に形成された機能層および前記少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、それぞれ線状となり、前記線が、横からの切除部以外で、お互いに混ざり合うようになっていることを特徴とする請求項５７ないし請求項６９のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項７１】
前記線が、お互いに連続的な色構成の中で混ざり合うことを特徴とする請求項７０に記載の多層体。
【請求項７２】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層、および／または、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、少なくとも領域的に見て、人の目では個別に判別できないピクセル、点または線模様からなるラスターイメージを形成することを特徴とする請求項５７ないし請求項７１のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項７３】
少なくとも２つのさらに部分的に形成された層が存在していることを特徴とする請求項５７ないし請求項７２のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項７４】
第１の透明な空隙層（２´）が、少なくとも１つの部分的に形成された機能層と、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層との間に付与されることを特徴とする請求項５７ないし請求項７３のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項７５】
第２の透明な空隙層が、少なくとも２つのさらに部分的に形成された層の間に付与されることを特徴とする請求項５７ないし請求項７４のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項７６】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層と、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層とが、少なくとも１つの、可能な限り視線方向に依存した光学的な干渉効果を生じるようにされていることを特徴とする請求項７４または請求項７５に記載の多層体。
【請求項７７】
多層体（１００ｔ、１００ｖ）が、フィルム体、特に、転写フィルム、ホットエンボスフィルムまたはラミネートフィルムとして形成されていることを特徴とする請求項５７ないし請求項７６のうち何れか１項に記載の多層体。
【請求項７８】
フィルム体が、少なくとも一方側に接着層（２´´）を有していることを特徴とする請求項７７に記載の多層体。
【請求項７９】
請求項５７ないし請求項７８のうち何れか１項に記載の多層体（１００ｔ、１００ｖ）を有する、偽造防止対策がなされた証書あるいは有価の証書のための偽造防止模様体。
【請求項８０】
偽造防止対策がなされた証書あるいは有価の証書が、許可証、パスポート、銀行券、ＩＤカード、紙幣、偽造防止対策がなされた証書、チケットまたは偽造防止対策がなされたパッケージであることを特徴とする請求項７９に記載の偽造防止模様体。
【請求項８１】
請求項５７ないし請求項７８のうち何れか１項に記載の多層体を有することを特徴とする電子部品。
【請求項８２】
特に有価の、または偽造防止対策がなされた証書のための偽造防止模様体であって、
前記誘電層の平面に垂直に見て透明な誘電層、特に紫外線光を通さず、開口が設けられた反射層を有し、
紫外線によって励起可能な少なくとも１種類の蛍光着色剤を含む少なくとも１つのラッカー層が、少なくとも部分的には、そして、少なくとも、それの開口の領域には、見る人から遠い側となる前記誘電層の一方側に配置されていることを特徴とする偽造防止模様体。
【請求項８３】
誘電層がＺｎＳによって形成されていることを特徴とする請求項８２に記載の偽造防止模様体。
【請求項８４】
着色剤が、可視波長領域では無色の、少なくとも１つの蛍光性のナノ顔料を有していることを特徴とする請求項８２ないし請求項８３のうち何れか１項に記載の偽造防止模様体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層と一緒に型による重ね合わせ関係に基づいて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層を有する多層体の製造工程、および、それによって得ることが可能な多層体に関する。
【０００２】
さらに、本発明は、特に、そのような多層体を有する偽造防止対策がなされた証書および有価の証書のための偽造防止模様に関する。
【背景技術】
【０００３】
光学的な偽造防止模様は、証書や製品をコピーしたり、悪用したりするのが困難となるように、そして、そのようなコピーや悪用を可能な限り防止するために、よく利用される。
【０００４】
このように、光学的な偽造防止模様は、証書、紙幣、クレジットカード、キャッシュカード、ＩＤカードおよび許可証、梱包材などを保護するために、よく利用される。
【０００５】
その点に関しては、従来の複製方法では複製できない、光学的に変化する模様が知られている。
【０００６】
また、偽造防止模様に、文字、ロゴまたは他のパターンの形をした構造化された金属層を付与することが知られている。
【０００７】
特に高度な偽造防止性を有する微細構造が形成できるならば、ある領域上に付与された金属層から構造化された金属層への、例えばスパッタリングによる形成には、複数の工程が必要となる。
【０００８】
このように、例えば、関連する全表面領域上に付与される金属層が、陽画の／陰画のエッチングまたはレーザー除去によって部分的に腐食され、そして、このため、構造化されることが知られている。
【０００９】
ここでの選択肢として、蒸着マスクを使用することによって、予めキャリアに金属層を構造化された形で付与することができる。
【００１０】
形成した偽造防止模様が、特性または構造に関係して、すでに偽造防止模様上に存在しているときには、偽造防止模様の形成のための製造工程の数が沢山与えられるほど、これに応じて、個々の工程のステップにおける型の正確さまたは個々の道具の位置決めの正確さの程度の重要性が増してくる。
【００１１】
特許文献１には偽造防止模様として形成されたホログラムを付与するシーリングフィルムの製造のための製造工程が記載されている。
【００１２】
その場合には、樹脂フィルムは、その全表面領域上で金属被服処理される。
【００１３】
回折性を示す凹凸構造部のエンボス加工の後に、そして、それからエンボス加工された回折性を示す凹凸構造部と共に型による正確な重ね合わせ関係に基づいて領域に関連した仕方で腐食（エッチング）される。
【００１４】
型による正確な重ね合わせ関係に基づく腐食処理は、コストが掛かり、そして、達成可能な解像度は、耐性の調整と使用される処理とによって制限される。
【００１５】
特許文献２にはフィリグリーパターンを有する偽造防止模様の製造の工程が記載されている。
【００１６】
上記のパターンは、金属層で覆われた回折性を示す構造により形成され、そして、金属層が除去されている透明な領域によって囲まれている。
【００１７】
フィリグリーパターンの輪郭は、金属コーティングされたキャリア物質の中に凹所として組み込まれているようにする。
【００１８】
その場合には、同時に、溝の底部に、回折性を示す構造が付与され、そして、それから、溝が保護ラッカーで満たされる。
【００１９】
余分な保護ラッカーは、スクレーパーのヘラによって取り除くことができる。
【００２０】
保護ラッカーの付与の後で、金属層は、保護されていない領域がエッチングによって取り除かれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２１】
【特許文献１】ＧＢ２１３６３５２Ａ
【特許文献２】ＥＰ０５３７４３９Ｂ２
【発明の概要】
【００２２】
本発明の目的は、特に、複製するのが困難な多層体、および、部分的に形成された機能層が、さらに部分的に形成された層と共に型による重ね合わせ関係に基づいて完全な形か、あるいは、ほとんど完全な形に形成されるような多層体の製造のための工程を提供することである。
【００２３】
上記の目的は、第１の凹凸構造部が多層体の複製層の第１の領域の中に形成される中で、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層を有し、第１の層が、第１の凹凸構造部が複製層の中には形成されずに構造化される中で、第１の領域の中の複製層と、少なくとも１つの第２の領域の中の複製層とに付与され、少なくとも１つの第２の領域の中ではなく、第１の領域の中で第１の層が取り除かれるか、または、第１の領域の中ではなく、少なくとも１つの第２の領域の中で第１の層が取り除かれる中で、第１の凹凸構造部によって定義され、そして、直接、および／または、マスク層として構造化された第１の層を使用して、少なくとも１つの部分的に形成された機能層が形成され、その後、少なくとも１つの部分的に形成された機能層が形成される、多層体の製造のための第１の工程によって達成される。
【００２４】
その場合に、第１の層は、特に全表面領域上で複製層に付与されるだけでなく、少しの部分的な、例えば、ストライプ形状か、それと同様な形状の付与を含んでもよい。
【００２５】
そのような工程によって、特に偽造防止用の多層体を製造することができる。
【００２６】
さらに、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層からなる本発明に係る第１の工程によって得ることができ、第１の凹凸構造部が、多層体の複製層の第１の領域の中に形成され、第１の凹凸構造部が複製層の中には形成されず、第１の凹凸構造部によって明確に構造化される中で、少なくとも１つの機能層が、第１の領域の中か、または、少なくとも１つの第２の領域の中の複製層に付与される第１の多層体によって、上記の目的が達成される。
【００２７】
本発明によって形成された、部分的に形成された機能層あるいは追加層は、非常に高いレベルの解像度に到達し得る。
【００２８】
達成可能なレジストレーションおよび解像度は、公知の工程によって達成可能なものより約１００倍優れている。
【００２９】
第１の凹凸構造部の構成部品の幅が、可視光の波長領域内（約３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）だけでなく、それより小さくすることができるので、非常に微細な輪郭、パターン、線を形成することができる。  また、これにより、この点において、従来から使用されている工程を上回る、重要な効果が達成される。
【００３０】
そして、従来に比べて十分に高度な防止策を有する、コピーや偽造に対する偽造防止模様を本発明によって形成することができる。
【００３１】
線やピクセルや画素を高解像度で、例えば、５０μｍより小さい幅または直径で、特に、０．５μｍと１０μｍとの間の範囲で、極端な場合には、約２００ｎｍまで小さいものでさえ形成できる。
【００３２】
好適には、約０．５μｍと５μｍの間の範囲の解像度のレベル、特に、約１μｍの領域中で形成される。
【００３３】
これに対して、型による重ね合わせ関係に伴う道具の調整を必要とするような工程を使用するときは、非常に大きな手間と費用を掛けたときだけ、１０μｍより小さい線幅を達成するができる。  第１のフォトレジストラッカー層として形成された第１の層がキャリア層上で形成され、そして、部分的に露光され、特に、帯状のマスク露光手段または同様のものによって、露光された第１の層が現像され、そして、構造化され、そして、それからマスク層として構造化された第１の層を利用し、少なくとも１つの部分的に形成された機能層や少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が形成される中で、その目的は、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層を有する多層体の製造のための第２の工程によって達成される。
【００３４】
また、そのような工程は、特に偽造防止用の多層体の製造も可能にする。
【００３５】
さらに、その目的は、第２の本発明に係る工程によって得ることができる、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層からなる第２の多層体によって達成されるものであって、第１のフォトレジストラッカー層として形成された第１の層はキャリア層上で構造化された模様の形状に形成され、そして、マスク層としての構造化された第１の層を利用して、少なくとも１つの部分的に形成された機能層や少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が形成される。
【００３６】
ここでは、端末（ｔｅｒｍ）機能層は、与えられた波長に対して見た目の色の印象も示され、また、電気的に、磁気的に、または、化学的にその存在も観測されるような層の意味で使用されている。
【００３７】
例えば、これは有色の顔料または染料のような着色剤を含んでおり、そして、有色となる、特に通常の昼光下で多色となる層を含んでもよい。
【００３８】
また一方で、それは光発色性の、または、サーモクロミック物質、干渉性の顔料のような光学的変化を生じる発光性物質、液晶、メタメリック顔料などの、反応染料、指示染料のような、あるいは、異なる波長の光による励起による異なる色の放射、磁気的材料、電気伝導性の材料、電場あるいは磁場中で変色する物質、ｅ−ｉｎｋ（登録商標）と呼ばれるもの、および、その他同種類のものを示す反転可能な、または、反転不可能な色の変化を有する他の物質、変化する発光顔料と反応するような特別な着色剤を含む層であってもよい。
【００３９】
凹凸構造部が有する表面上で形成可能な層を示すのに、端末（ｔｅｒｍ）複製層が一般的に使用される。
【００４０】
それは、例えば、樹脂またはラッカー層のような有機層、あるいは、無機プラスチック材料（例えば、シリコン）、ガラス層、半導体層、金属層または、それらの化合物などの無機層を含む。
【００４１】
凹凸構造部は、特に、紫外線光の下で硬化するラッカーによって、特に、スタンピングパンチまたはローラーなどの道具によって形成され、樹脂として形成された複製層またはラッカー層の中の表面でエンボス加工される。
【００４２】
また、特に、射出成形やリソグラフィー工程を利用することによって、表面の凹凸構造部の形成が可能となる。
【００４３】
凹凸構造部が、特に、ガラス、半導体または金属層として形成された複製層の表面上に、マスクを通して露光され、そして、現像され、感光層が付与される、リソグラフィー工程を使用することによって、形成される。
【００４４】
複製層上の感光層が残っている領域は、エッチングマスクとして利用される。
【００４５】
そして、凹凸構造部が、複製層中で、エッチングによって形成される。
【００４６】
その感光層は、そのとき、好適に取り除かれる。
【００４７】
使用される、それぞれの製造工程と形成された多層体の後の使用目的とによって、透過性または非透過性の複製層特に、不透明であるか、人の目には透明である複製層が利用できる。
【００４８】
第１の凹凸構造部に関して、異なった深さ対幅の比ｈ／ｄを有する少なくとも１つの第２の凹凸構造部、好適には、複製層の少なくとも１つの第２の領域の中に、少なくとも１つの第２の凹凸構造部が形成される。
【００４９】
特に、第１の凹凸構造部の形成と同様の方法において、第２の凹凸構造部は形成される。
【００５０】
さらに少なくとも１つの第２の領域の中に、少なくとも２つの異なる第２の凹凸構造部が形成可能である。
【００５１】
第１の凹凸構造部が、少なくとも１つの第２の凹凸構造部よりも大きい深さ対幅の比を有して形成されるならば、透過性、特に少なくとも１つの第２の領域の中の第１の層の透過率に関連して、透過性、特に第１の領域の中の第１の層の透過率が増大することが好ましいと分かっている。
【００５２】
そして、第１および第２の凹凸構造部の光学的密度に関して、特に大きな違いを生じさせるために、回折性を示す凹凸構造部は、個々の構成部品に関して大きな深さ対幅比、特に、０．３より大きな深さ対幅比を有しており、この回折性を示す凹凸構造部は、第１の領域中の第１の凹凸構造部として形成可能であり、そして、第２の凹凸構造部は、小さな深さ対幅比を有した凹凸構造部として形成可能である。  好適には、第１の凹凸構造部や少なくとも１つの第２の凹凸構造部が、回折性を示す凹凸構造部の中に形成されている。
【００５３】
特に、深さ対幅の比を有する回折性を示す凹凸構造部が、０．３より大きい個々の構成部品に関しては、第１の凹凸構造部としての第１の領域中に形成されることは好適である。
【００５４】
第１の凹凸構造部に関する周期的間隔は、特に３００ｌｉｎｅｓ／ｍｍより大きい範囲に、特に、１０００ｌｉｎｅｓ／ｍｍより大きい範囲に選択される。
【００５５】
さらに、周期的間隔と第１の凹凸構造部の凹凸構造の深さとの積が、周期的間隔と第２の凹凸構造部の凹凸構造の深さとの積より大きくなるようにすることができる。
【００５６】
また、それによって、第１の領域中の複製層および第２の領域中の複製層の中の凹凸構造部の外形形状によって、第２の領域中に付与された層に関連して、第１の領域中の複製層に与えられた第１の層の透過性を増大させることもできる。
【００５７】
第１の凹凸構造部や、少なくとも１つの第２の凹凸構造部は、等方性の、または、非等方性のつや消し構造、２重の（ｂｉｎａｒｙ）または連続フレネルレンズ、マイクロプリズム構造、ブレイズド回折格子、マクロ構造または、それによって構成される複合的構造としての、光の回折や、光の反射や、光の散乱や、集光性のミクロまたはナノ構造として形成できる。
【００５８】
また、さらに加えて、第１の凹凸構造部や少なくとも１つの第２の凹凸構造部は、線形の、または、クロス状のサイン格子であってもよい。
【００５９】
サイン格子の周期的間隔は、その場合には、３００ｌｉｎｅｓ／ｍｍより大きい範囲にある。
【００６０】
また、さらに加えて、サイン格子は、例えば、格子ラスターにおいて、波状あるいは円形状に配置（配向）された、変形された線状の格子ラスターに基づくものであってもよい。
【００６１】
クロス状のサイン格子の場合には、方位角の差は、好適には９０°であるが、５°と８５°との角度範囲を含んでもよい。
【００６２】
この場合に、サイン格子とは、サイン（ｓｉｎ）構造の表面の凹凸が、三角関数形状であることを意味する。
【００６３】
正弦関数的な表面の凹凸の他に、異なった種類の表面の凹凸形状、例えば、２重の方形形状、三角形状などの凹凸形状を有する凹凸構造部であってもよい。
【００６４】
凹凸構造部が、液晶（高分子）の配向に役立てることができるように、複製層の中に形成された凹凸構造部を選択することができる。
【００６５】
そのとき、これにより、複製層や第１の層を液晶用の配向層として使用できる。
【００６６】
一例として、液晶（高分子）の配向が、その位置で、架橋、または、いくつかの他の方法によって固定されないうちに、溝形の中の構造は、その構造によって液晶を配向させるような配向層によって形成される。
【００６７】
架橋された液晶層が、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層を形成するようにすることができる。
【００６８】
配向層は、その構造の配向方向が一様に変化する領域を有してもよい。
【００６９】
そのような回折性を示す構造によって形成された領域が、例えば、偏光方向を回転させる偏光体を通して見られる場合には、はっきりと認識できる様々な偽造防止模様、例えば、動きによる効果は、その領域の偏向方向の直線的な変化に基づいて生成可能である。  偏光で見ることを考慮したときに、液晶が、例えば、ロゴのような情報アイテムを表すように、配向層は、部分的に異なる配向とされた、液晶の配向のための回折性を示す構造を有するようにすることができる。
【００７０】
回折性を示す凹凸構造部の使用によって、第１の層の厚さに関して適した選択をすることによって、第１の領域の中の、および、第２の領域の中の、第１の層の光学的な密度について、人の目で感じられる程、非常に大きな違いを生じさせることができる。
【００７１】
しかしながら、驚くべきことではあるが、第１および第２の領域における透過率の、そのような大きな違いは、本発明による工程の実施のためには、必ずしも必要ではないことがわかった。
【００７２】
薄い層厚を有し、深さ対幅比についての僅かな違いを有する構造は、透過率について、いつでも相対的に僅かな違いを有している。
【００７３】
しかしながら、第１の層の厚さと、これにより平均の光学的密度とを増加させることによって、比較的僅かな違いでさえも増大させることができる。
【００７４】
このように、すでに、第１および第２の領域中の第１の層に関する透過率のほんの僅かな違いによって、良い結果を得ることができる。
【００７５】
ディメンションのない深さ対幅比は、表面領域の拡大、好適には、例えば、サインの平方の外形形状を有する周期的構造などの周期的構造の拡大に関する特徴的な特性である。
【００７６】
ここで、そのような構造の、最も高い点と次の最も低い点との間の空間は「深さ」とみなされる。
【００７７】
すなわち、これは「山」と「谷」との間の空間を含んでいる。
【００７８】
２つの隣接した最高点の間の空間、すなわち、２つの「山」の間の空間は「幅」とみなされる。
【００７９】
ここで、深さ対幅の比が大きくなるほど、それに対応して、「山の側面」は急勾配となり、そして、それに対応して、「山の側面」に堆積される第１の層が薄くなる。
【００８０】
垂直な側面、例えば、方形の格子を有する構造に関しては、透過性、特に深さ対幅比の増加に伴う一層高いレベルの透過率を生じさせる効果も認められる。
【００８１】
しかしながら、これには、このモデルが適用できない構造も含めることができる。
【００８２】
この例としては、２つの「谷」の間の空間が「谷」の深さに比べて数倍大きい、単に「谷」の形に断続的に重ね合わされた線状に形成された領域を含めることができる。
【００８３】
上述の定義を形式的に適用すると、その方法で計算された深さ対幅比は近似的に０となり、特徴的な物理的性質を反映しない。
【００８４】
したがって、実質的に「谷」だけからなる断続的に重ね合わされた構造の場合には、「谷」の深さが「谷」の幅と関係している可能性がある。
【００８５】
すでに示されたように、その点において、第１の層が、大きな深さ対幅比を有する領域において、透明な性質の層であることは重要ではない。
【００８６】
これには、例えば、ホログラムやキネグラム（Ｋｉｎｅｇｒａｍ；登録商標）による偽造防止模様の光学的に有用な領域を形成している構造を含めることができる。  唯一の重要な考え方は、それらの領域が、それらの透過特性によって、あるいは、光学的密度が、どちらがより小さいか、または大きいかによって他の領域に関連して区切られていることである。
【００８７】
第１および第２の凹凸構造部には、１つ以上の凹凸構造定数、例えば、配向、細かさ、または、外形形状が所望の回折特性を生成するために変化する、例えば、キネグラム（登録商標）のような異なる凹凸構造部が含まれる。
【００８８】
そのような構造の役割は、凹凸構造部が複製層に形成されている領域中で第１の層の透過特性の変化を達成するだけでなく、さらに反射層または光学的な分離層によって裏打ちされていると光学的にデザインが変わる模様として作用する機能を達成する。
【００８９】
もし、そのような第１の凹凸構造部の他に、複製ラッカー（層）に中にも、そのような第２の凹凸構造部が形成されるならば、そのとき、第１および第２の凹凸構造部は、好適には、第１の層の透過特性に関連して１つ以上の変数が異なっており、そして、それゆえ、例えば、凹凸構造の深さ、あるいは深さ対幅比が異なっている。
【００９０】
このように、例えば、フィリグリー加工による線状パターンを有する２つのキネグラム（登録商標）による偽造防止模様が、複製層の中で部分的に重なった型による重ね合わせ関係に基づいて形成可能である。
【００９１】
第１のキネグラム（Ｋｉｎｅｇｒａｍ；登録商標）によって第１の凹凸構造部が形成され、第２のキネグラムによって第２の凹凸構造部が形成されている。
【００９２】
２つのデザインの凹凸構造部では、他の構造定数が同様であっても、典型的な深さ対幅比が異なっている。
【００９３】
このように、構造の３つの「グループ」、すなわち、第１のキネグラム（登録商標）の中のグループＩの構造、第２のキネグラム（登録商標）の中のグループＩＩの構造、および、グループＩＩＩの構造が存在し、バックグラウンドの中には、構造が存在しない。
【００９４】
第１の段階において、第１の層、例えば、第１のデザインのキネグラム（登録商標）の領域中の銅層のような蒸着された第１の層が残され、残りは取り除かれる。  そのとき、例えば、有色の機能層は、全表面領域上に付与され、そして、背景の領域中で適した工程のステップによって取り除かれる。
【００９５】
型による重ね合わせ関係に基づいた２つのデザインが得られる。
【００９６】
このように、第１および第２の領域の中の凹凸構造部の構造を変化させることによって、達成可能な第１の層の透過特性における変化は、特に紫外線領域中で判断されることが、実験によって示されてきた。
【００９７】
このように、特に、露光工程において紫外線光を使用する場合に、よい結果が得られる。
【００９８】
第１の層は、数ｎｍの大きさのオーダーの非常に薄い層であってもよい。
【００９９】
複製層によって定義された平面に関して、大きい深さ対幅の比を有する領域中で、表面領域に関しては一定の密度を有する第１の層の堆積について、一層大きな表面領域によって、第１の層は、小さい深さ対幅の比を有する領域中に比べて、かなり薄くなっている。
【０１００】
金属層または合金層として有効に形成されるようにする。
【０１０１】
そのような層は、スパッタリングのような試行錯誤的な工程によって付与される。
【０１０２】
そして、それらは、すでに、小さい層厚で十分な光学的密度を与えている。
【０１０３】
また一方で、第１の層は、それの光学的密度を増大させるために、例えば、特に明るい色に着色されたか、ドープ塗料されたか、ナノパーティクルまたはナノスフェアが混合された機能層物質または非金属層を含んでいてもよい。  第１の層が液晶物質を含む物質によって形成されることが、一層好ましいと分かっている。
【０１０４】
第１の工程に対して、第１の層が表面領域に関して一定の密度で複製層によって定義される平面に付与されるならば、第１の層は、第１の層が第１の領域中で取り除かれるまで、あるいは、少なくとも１つの第２の領域中での透過性、特に第１の層の透過率に関して、少なくとも、透過性、特に第１の層の透過率が第１の領域中で上昇するまで、第１の領域中と少なくとも１つの第２の領域中とのどちらでもエッチング工程中に、エッチング剤、特に、酸または苛性アルカリ溶液に曝されるのが好ましいと分かっている（逆もまた同様）。
【０１０５】
例えば、苛性アルカリ溶液または酸は、第１の層に対するエッチング剤として与えられてもよい。
【０１０６】
さらに、第１の層は、ほんの一部が取り除かれ、予め決まった透明度に到達するとすぐにエッチング作用が阻止されるようにすることができる。
【０１０７】
それによって、例えば、部分的に異なる透過性に基づいた偽造防止模様が形成可能となる。
【０１０８】
例えば、アルミニウムが第１の層として使用された場合には、このように等方的に作用するエッチング剤としてＮａＯＨやＫＯＨのような苛性アルカリ溶液を使用することができる。
【０１０９】
また、ＰＡＮ（リン酸化物，窒素酸化物および水の混合物）のような酸性媒質を用いることもできる。
【０１１０】
一般に、反応速度は苛性アルカリ溶液の濃度と温度とに伴い上昇する。
【０１１１】
また、工程定数の選択は、過程の再現性と、多層体の耐性とに依存する。
【０１１２】
苛性アルカリ溶液を使ったエッチングを行う際に影響を与える要素としては、一般に、エッチング浴槽の構成、特に、エッチング剤の濃度，エッチング浴槽の温度，および、エッチング浴槽でエッチングされる層に流入する流れの状態がある。
【０１１３】
エッチング浴槽中のエッチング剤の濃度に関する一般的な変数の範囲は０．１％と１０％との間の範囲にあり、温度に関する一般的な変数の範囲は２０℃と８０℃との間の範囲にある。
【０１１４】
第１の層に対するエッチング作用は電気化学的に促進することができ、エッチング処理は、電気的な電圧の作用により強化される。
【０１１５】
一般に、その作用は等方的であるので、構造によって変わる表面領域の増加に伴い、エッチングの効果は一層強くなる。
【０１１６】
湿潤剤，緩衝物質，反応抑制剤，活性剤，触媒のような一般的な電気化学的な添加剤、および、例えば酸化物層を取り除くための同様のものによって、エッチング工程を促進することができる。  エッチング工程の間に、エッチングの速さを減少させるような、第１の層が有する境界層の中でのエッチングの媒質の消耗やエッチング生成物の濃縮が、それぞれ生じる可能性がある。
【０１１７】
できるだけ適度な流れを生じさせることによって、或いは、超音波の刺激によって、エッチングの媒体を徹底的に強制的に撹拌することによって、エッチング特性が改善される。
【０１１８】
さらに、エッチング工程は、エッチングの効果を最大限に引き出すために、時間的な温度プロファイルを有していてもよい。
【０１１９】
したがって、エッチングは、最初は低温状態から始め、そして処理を繰り返すのに伴って徐々に昇温させて行なってもよい。
【０１２０】
それは、エッチング漕の中で、多層体が異なる温度領域を有する細長いエッチング漕を通って引き出される間に、３ディメンション的な温度勾配によって好適に実施される。
【０１２１】
エッチング工程において、第１の層の最後の数ナノメートルの部分は、比較的硬く、エッチング処理に対する耐性を備えていることがわかる。
【０１２２】
それゆえに、第１の層の残りの部分を取り除くのに、エッチング工程における僅かな機械的な補助は有効である。
【０１２３】
上述の硬さは、第１の層の中の構成が、おそらく第１の層が複製層上に形成されたときに境界層において生じた現象によって、ほんの僅かに異なっていることが原因となっている。
【０１２４】
この場合には、第１の層の最後の数ナノメートルの部分は、多層体を、ファインクロスで覆われたローラーの上を通過させることによる拭き取り工程によって、好適に取り除かれる。
【０１２５】
そのクロスは、多層体を傷つけることなく第１の層の残りの部分をぬぐい去る。
【０１２６】
上記のエッチング工程には、液体を使って行なわれるような製造工程を含む必要はない。
【０１２７】
また、エッチング工程は、例えば、プラズマエッチングのような「ドライ工程」であってもよい。
【０１２８】
さらに、また一方で、第１の層は、その厚さが僅かに薄くなるだけで、一部が完全に取り除かれるということはないようにすることができる。  例えば、光学的なや電気的な特性を変えるか、または、装飾的な効果を生成するような、お互いに重なり合う層を有する領域が形成可能ならば、そのような実施例は特に有益となり得る。
【０１２９】
さらに、複製層によって定義される平面に関わる表面領域について、第１の層が一定の密度で付与される場合、かつ、第１の領域中および第２の領域中も両方で第１の層がレーザー光により露光されることにより、第１の層が、第１の層自体の部分的な除去のために吸収層として利用される場合には、上記の第１の工程が好ましいことが分かってきている。
【０１３０】
大きな深さ対幅比を有する構造および、特に２つの隣接した立ち上がった部分の間の代表的な間隔が入射光の波長より小さい凹凸構造、いわゆる０次構造を有する構造の場合には、たとえ、鏡に反射作用を起こさせる領域で反射層の反射率が高くても、入射光の大部分を吸収することができる。  レーザー光が、広がった領域と反射層とに吸収され、これによって大きな深さ対幅比をもつ上述の凹凸構造を有する吸収性の強い領域で温度が上昇するような場合には、反射層として形成された第１の層に集中したレーザービームを照射する。
【０１３１】
反射層として形成された第１の層の除去または切除、あるいは、反射層または第１の層の物質の凝固が起こる場合には、高レベルのエネルギーを入力することによって反射層を部分的に取り除くことができる。
【０１３２】
レーザーによるエネルギーの入力が、ほんの短い時間に起こり、それゆえ熱伝導の効果がほんの僅かならば、除去あるいは凝固は、凹凸構造部によって予め決められた領域でのみ生じる。
【０１３３】
レーザー除去に影響を与える要素には、凹凸構造部の形状（周期，深さ，配向および外形形状），波長，偏光，および入射レーザー光の入射角，作用の継続時間（時間に依存する仕事率），およびレーザー光の局所的照射線量，第１の層の特性と吸収特性、および、第１の層が、構造化された感光層または洗浄性ラッカー層のような追加層に場合に上からと下から重ねられるか否かがある。
【０１３４】
とりわけ、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーは、レーザー加工に適していることが知られている。
【０１３５】
ＹＡＧレーザーは、約１０６４ｎｍの波長の光を放射し、そして、好適にはパルス制御もなされている。
【０１３６】
また、ダイオードレーザーを使用してもよい。
【０１３７】
レーザー光の波長は、周波数の切り替え、例えば、第二次高調波によって切り替えることができる。
【０１３８】
例えば、ガルバノメーターミラーと焦点レンズとを利用した、いわゆるスキャン装置と呼ばれるものによって、レーザービームが多層体の上を通過する。
【０１３９】
スキャン操作中に、ナノ秒からマイクロ秒の範囲で継続するパルス光が放射され、そのパルス光が、その構造によって予め決められた第１の層の上述した除去、あるいは、凝固を行う。
【０１４０】
パルスの継続時間は、一般にミリ秒を下回っており、好適には数マイクロ秒か、それより短い範囲にある。
【０１４１】
また、ナノ秒からフェムト秒の間のパルス継続時間を使用することも実際に可能である。
【０１４２】
構造化された形状の中に存在する感光層または洗浄性ラッカー層が、第１の層へのレーザー光の到達を部分的に阻止する限りにおいては、その工程が自己参照されるので、レーザービームの正確な位置決めは必要ない。
【０１４３】
その工程は、好適には、レーザービームが描く輪郭と、隣接するパルスの重なりとの適当な選択によって一層最適化される。  また一方で、複製層の中で重ねられた凹凸構造部、あるいは、感光層または洗浄性ラッカー層の中の開口と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、層体上のレーザーの経路が制御できるので、同一の凹凸構造部を有するか、感光層中の開口または洗浄性ラッカー層を有する、および／または、有さないか、領域だけが照射される。
【０１４４】
例えば、カメラシステムは、そのような制御に利用できる。
【０１４５】
また、点または線上に合焦されたレーザーの代わりに、例えば、短く放射するフラッシュ光のようにパルス制御した面発光装置を使用することもできる。
【０１４６】
第１の層が、レーザー光に関して透過的な１つ以上の追加層によって両側が覆われ、かつ、それが例えばエッチングの媒体に直接アクセスできない場合であっても、凹凸構造部が有するレジスト重ね合わせを利用して、第１の層の部分的な除去が可能であるという事実が、とりわけレーザーによる除去工程の利点となっている。  また、レーザー除去の工程の利点は、とりわけ、それが、レーザー光に対して透明であり、そして、このため、エッチング媒体に直接触れない、１つ以上の追加層の両側で覆われるならば、凹凸構造部と共に型による重ね合わせ関係に基づく、第１の層の部分的な除去を有効に行なえることにある。
【０１４７】
第１の層はレーザーによってだけ破壊される。  第１の層の物質は堆積し、再び、見る人には光学的には見えず、照射された領域で透過率にすぐに僅かな影響を与える、小さい塊または小さいボールとして形成される。
【０１４８】
レーザー除去後に複製層上に、第１の領域中の第１の層から、まだ残っている残留物は、第１の層が、そこに直接接触可能となっていれば、随意に、洗浄またはエッチング工程によって取り除くことができる。
【０１４９】
第１の層のエッチング後に、エッチングマスクの残っている残留物を取り除くことができる。
【０１５０】
第１の層が、複製層によって定義される平面に関して、表面領域に関して一定の密度で付与され、そして、第１の層が、すでに、透過性および、特に、少なくとも１つの第２の領域中の第１の層の透過率（逆もまた同様）に関して、透過性、特に第１の領域中での第１の層の透過率が増加するような層厚で形成されるならば、それは、第１の工程に対して、特に、好適である。
【０１５１】
第１の層が、複製層によって定義される平面に関しては、表面領域に関して一定の密度で付与され、そして、第１の感光性ラッカー層が第１の層に付与されるか、または、複製層が第１の感光性の洗浄性ラッカー層によって形成されるならば、それは、第１の工程に対して、特に、好適である。
【０１５２】
第１の工程に対して、第１の層が、複製層によって定義される平面に関する表面領域に関して、一定の密度で付与され、そして、第１の感光性ラッカー層が、第１の層に付与されるか、あるいは、複製層が第１の感光性の洗浄性ラッカー層によって形成されるならば、第１の感光性ラッカー層または第１の洗浄性ラッカー層は、第１の領域と、少なくとも１つの第２の領域の中の第１の凹凸構造部とによって、別々に扱われて露光されるので、第１の感光性ラッカー層または第１の洗浄性ラッカー層が、第１の層を通して露光され、露光された第１の感光性ラッカー層または第１の洗浄性ラッカー層の構造化が同時か、または、引き続きかの何れか一方で有効となり、そして、構造化された第１の感光性ラッカー層または第１のマスク層としての洗浄性ラッカー層を使用して、第１の層は取り除かれ、そして、このため、少なくとも１つの第２の領域の中ではなく、第１の領域の中で構造化されるか、または、第１の領域の中ではなく、少なくとも１つの第２の領域の中で構造化される。それは、特に好ましい。
【０１５３】
さらに、本工程は、２重の特性を有する感光性の物質が感光層または感光性の洗浄性ラッカー層として付与され、そして、感光層または感光性の洗浄性ラッカー層が、第１の凹凸構造部によって、第１の層の透過性が増加する中で、感光層または感光性の洗浄性ラッカー層が、第１の領域の中で励起され、そして、第２の領域の中では励起されないような露光強度と露光時間とを有する第１の層を通して露光されるようなものであってもよい。
【０１５４】
上述したように、意外にも媒体に対して大きい光学的密度となっていることを決めて係ることができる場合に、第１および第２の領域の光学的密度が、お互いに少しだけ異なるならば、本発明に係る工程を使用することができる。
【０１５５】
感光層または洗浄性ラッカー層は、陽画または陰画のフォトレジストとして形成可能なフォトレジストであってもよい。
【０１５６】
このように、複製層が、同じ特性の他の方法によってなされても、第１の層の異なる領域を取り除くことができる。
【０１５７】
さらに、感光層または洗浄性ラッカー層が、陽画のフォトレジスト、または陰画のフォトレジスト、それは、第１の領域中で硬化するか、または、現像液に溶けるかどうかに依存して、感光層は、感光性樹脂として形成されるようにすることができる。
【０１５８】
また、その点に関して、陽画のフォトレジスト層および陰画のフォトレジスト層は、互いに平行な重ね合わせ関係に基づいて、付与でき、そして、同時に露光される。
【０１５９】
その場合には、第１の層は、マスクとして使用でき、そして、フォトレジストに直接接触して、好適に重ね合わされるので、正確な露光が有効にできる。
【０１６０】
フォトレジストを現像して、最終的に、硬化されない領域が洗浄されるか、または、ダメージを受けた領域が取り除かれる。
【０１６１】
ところで、使用されたフォトレジストに依存して、現像されたフォトレジストは、第１の層が紫外線光に対して透明である領域中、不透明である領域中でも正確に存在している。
【０１６２】
残され、そして、第１の層によって構造化されたフォトレジスト層の抵抗力を増大するために、残っている領域が、その後、現像工程後に好適に硬化される、
第１の層付近の、感光層または洗浄性ラッカー層が第１の層を通して露光される限りにおいては、第１の層が、第１の層自体の部分的な除去のために、特にマスク層として使用される。
【０１６３】
そのことは、マスク層が、調整に係る複雑さや浪費なく、型による正確な重ね合わせ関係に基づいて配向される、従来の工程を利用して付与されたマスク層上で有利となる。
【０１６４】
凹凸構造部の僅かな誤差が、第１の層の異なる透過性の領域の位置の誤差に影響を与える。
【０１６５】
第１の凹凸構造部と、第１の層の、それらの領域との間の側面の切除部は生じない。
【０１６６】
したがって、同一の物理的な特性を有する第１の層の領域の配置は、第１の凹凸構造部と共に型による重ね合わせ関係に正確に基づいている。
【０１６７】
さらに、処理方法に関しては、感光層を使用したときに、第１の層が第１の領域中で取り除かれ、そして、これにより、構造化されるように、光活性化層が感光層として第１の層に付与されたならば、光活性化層は第１の層および複製層を通して露光され、そして、第１の領域中で活性化し、そして、光活性化層の活性化した領域は、第１の層に対してエッチング中間物を形成することが可能である。
【０１６８】
さらに、露光された領域が構造的に弱くなっているならば、露光された領域の除去は、削り取り、払い落とし、ふき取り、超音波またはレーザー除去または同様のものによって有効となるので、感光層または洗浄性ラッカー層を部分的に取り除くことができる。
【０１６９】
感光層の露光または洗浄性ラッカー層が結果として部分的に層の脆弱性を増加させるならば、複製層は、それが柔軟であるか、または延びる場合には、鋭いエッジまたはナイフのエッジによって引き剥がすことができ、そして、脆弱な領域は剥げ落ちる理由となり得る。
【０１７０】
有効な構造によって、感光層または洗浄性ラッカー層が、第１の層を通して紫外線光によって露光される。
【０１７１】
これによって、第１の層を、直後の、あるいは、さらなる工程のステップの実施の後に、異なる工程によって、構造化でき、あるいは、部分的に取り除くことができる。
【０１７２】
その点に関して、少なくとも１つの部分的に形成された機能層は、直ちにやその後に、マスク層として構造化された第１の層を利用して、形成され、少なくとも１つの部分的に形成された機能層が形成される。
【０１７３】
一方で、第１の工程および第１の多層体に関して、本発明は、複製層の第１の領域中の第１の凹凸構造部によって扱われた現実化に基づき、第１の層の物理的な特性が複製層に付与される。
【０１７４】
前記の領域において、第１の層の透過特性が、第１の領域と第２の領域とで異なるので、例えば、実効的な厚さまたは光学的密度は影響を受ける。
【０１７５】
第１の層は、複製層上に、粉末を振りかけることによって、あるいは、スプレーすることによって、好適には、スパッタリング，蒸着によって付与される。
【０１７６】
スパッタリング工程は、その含む工程により、物質の向き付けられた付与を伴うので、凹凸構造部が備えられた複製層に、この複製層によって境界が定められた面に関して一定の面密度で、スパッタリングによって、第１の層の物質を付与するときに、その物質は部分的に異なる厚さで堆積する。  第１の層の物質上のスパッタリング工程において、表面領域に関して一定の密度で、複製層によって定義される平面に関して、物質が部分的に異なる厚さに凹凸構造部が付与された複製層上に堆積されるので、含まれる上記の工程により、スパッタリング工程は、物質の付与を必然的に伴う。
【０１７７】
また、工程の技術に関して、第１の層の蒸着または、そこへの粉末の付与または、そこへの吹き付けは、好適には、少なくとも部分的な直接的な物質の付与の形成を含む。
【０１７８】
第１の層が蒸着および噴霧によって付与されるときには、その含む工程により、少なくとも部分的には、向きづけられた物質の付与も好適に実現される。  第１の工程を実行するときに、好適には直接的に、第１の層は部分的に形成された機能層を形成する。
【０１７９】
なお、また、構造化された第１の感光層または第１の洗浄性ラッカー層が直接部分的に形成された機能層を形成するならば、それは有効である。
【０１８０】
最終的に、第１の工程に対して、少なくとも１つの部分的に形成された機能層やさらに部分的に形成された層が、ある工程によって形成されるならば、その後に、第１の陽画の、または陰画のフォトレジストラッカー層が付与され、第１のフォトレジストラッカー層が構造化された第１の層を通して露光され、そして、露光された第１のフォトレジストラッカー層の構造化処理が有効となるのが好ましいと分かっている。
【０１８１】
異なるフォトレジストラッカー層、特に異なる有色のフォトレジストラッカー層が部分的に形成された機能層の形成に使用される場合に、それぞれの部分的に形成された機能層が、第１の凹凸構造部、および、少なくとも１つの第２の凹凸構造部と共に型による重ね合わせ関係に基づいて形成されるならば、それは好適である。
【０１８２】
例えば、分光感度、化学的な組成、陽画の、または陰画の特性などのような顕著に異なる特性を有するフォトレジストラッカー層を使用することができる。
【０１８３】
また一方で、異なる方法によって露光される同様なフォトレジストラッカー層の利用も可能である。
【０１８４】
２つのフォトレジストラッカー層の違いは、特に、波長、入射角、偏光などのような露光作用に含まれる特性によって、有効となり得る。
【０１８５】
また、第１の層または追加層を形成する物質が部分的に異なる方法で複製層または追加層に、付着し、複製層または追加層の中に拡散し、または複製層または追加層と反応するので、第１の凹凸構造部の特性によって、できるだけ、第１の層または追加層の特性、密着性や拡散抵抗や複製層または追加層の表面活性度は、可能な限り部分的に影響を受ける。
【０１８６】
物質が複製層の中に拡散するとき、物質を含めて複製層の一部は、そこで拡散され、第１の層になる。
【０１８７】
ここでの選択肢として、複製層上に部分的に形成された追加層、例えば、構造化された感光性の、金属の、または、有機の、誘電層、が拡散障壁として部分的に機能する場合には、複製層は、色付け手段自体の、そこへの拡散によって部分的に部分的に形成された機能層として形成された部分の中で形成される。
【０１８８】
感光層を、部分的な色付けの後で、または、追加層の付与より先に、取り除くことができる。
【０１８９】
さらに、第１の工程に対して、第１の層が、粉末または液体の媒体の付与によって形成されるならば、そのとき、第１の層は構造化され、できるだけ、粉末または液体の媒体の物理的または化学的な取り扱いの後で、そして、直接、少なくとも１つの部分的に形成された機能層が形成されるか、および／または、マスクキング層としての構造化された第１の層を利用して、少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、そのとき形成されるのが好ましいことが分かっている。
【０１９０】
液体の媒体が特に、流し込み、プリントまたは吹き付けによって付与される一方で、粉末は、特に振り掛け、または拡散によって付与される。
【０１９１】
凹凸構造部の中での力学的な結合は、その後に、例えば、攪拌、ブラッシングまたは同様のものによって有効となり得る。
【０１９２】
第１の層の部分的な除去は、そのとき、接着力が小さいか、または、拡散抵抗が増大するような領域中で、特に、ストリッピングレーキ、エアーレーキまたはストリッピングブレードによって、それを力学的に剥ぎ取ることによって、あるいは、化学的な溶解、洗浄工程または、それらの工程の組み合わせによって有効となる。
【０１９３】
第１の層の構造化は、複製層上で動かされるストリッピングブレードまたはストリッピングレーキによって、好適に有効となり、凹凸構造部の凹所の中に入り込まない第１の層の領域が取り除かれる。
【０１９４】
その後に、平坦な領域の中の第１の層の残留物、または、顔料の霧の残留物の除去のために、時間により管理されたエッチング工程を引き続き行なうことができる。
【０１９５】
また、エッチング工程は、第１の層の厚さを凹凸構造部内に操るために、色彩度を異なる度合いに設定するために、または、視線方向に依存する干渉効果を有する第１の層の虹色に調整するために部分的に利用できる。
【０１９６】
また一方で、特に、洗浄工程における第１の層の凹凸構造部内部での毛細管引力が物質を、そこの中に保持しておくのに十分であれば、洗浄工程は、第１の層の構造化処理に最適化できる。
【０１９７】
ここで、特に巨視的な溝および、さらに溝の中の微細構造を有する凹凸構造部は有効となり得る。
【０１９８】
さらなる好適な実施例において、凹凸構造部は、異なる深さの少なくとも２つの溝を有して形成されるか、または、異なる深さの少なくとも２つの溝の底部上に付与されるものであって、溝が、それぞれ、特に、１と１０μｍの間の範囲の深さであり、そして、幅５と１００μｍの間の範囲にある。
【０１９９】
溝が、例えば、有色のフォトレジストで満たされ、そして、溝のない領域中で複製層がフォトレジストから免れるならば、溝の深さおよび、更なる可能な光学的な効果に依存して色彩度の程度に違いが生じる。
【０２００】
また、この場合には、さらに、粉末または液体の媒体が部分的に、異なる方法で、複製層または追加層に接着され、そこに拡散し、または、それと作用するので、第１の凹凸構造部の構造、また、できるだけ、第１の層または追加層の構造が、部分的に密着性や拡散抵抗や複製層または追加層の表面活性度に影響を与えることが可能である。
【０２０１】
その後に、好適な実施例において、少なくとも１つの部分的に形成された機能層または少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、ある工程によって形成される。
【０２０２】
それによって、第１の陽画の、または陰画のフォトレジストラッカー層が付与され、第１のフォトレジストラッカー層が、構造化された第１の層を通して露光され、そして、露光された第１のフォトレジストラッカー層の構造化処理は有効である。
【０２０３】
なお、また、複製層自体または、その上に部分的に形成された層は、拡散障壁として部分的に機能する場合には、複製層は、随意に、部分的に形成された機能層として形成された着色剤の、そこへの拡散によって部分的に形成される。
【０２０４】
第１の工程に関しては、複製層は、少なくとも部分的に、特に、少なくとも１つの第２の領域中で平坦である。
【０２０５】
それよって、最適な方法で、そこをサポートするために役立つ平坦な領域としての表面の、例えば、ストリッピングレーキまたはストリッピングブレードによる引き離し工程が促進される。
【０２０６】
さらに加えて、その平坦な領域は、光学的な鏡面効果が生じるように、金属の反射層によって裏打ちしてもよい。
【０２０７】
最終的に、第１の工程に対して、比較的厚い、部分的に形成された層の配置のために、複製層の平面に垂直に見て、部分的に形成された機能層または追加層によって囲まれ、そして、少なくとも１つの部分的に形成された機能層または、さらなる部分的に形成された層が形成された、第１の凹凸構造部または少なくとも１つの第２の凹凸構造部を有する複製層の、露光された領域の中で、物質を引っ掻き落とすならば、それは好ましいと分かっている。
【０２０８】
第２の工程に対して、少なくとも１つの部分的に形成された機能層または少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、ある工程によって形成されるならば、それは好ましいと分かっている。
【０２０９】
それによって、着色剤と混合された第２の陽画または陰画のフォトレジストラッカー層が付与され、第２のフォトレジストラッカー層が構造化された第１の層を通して露光される。
【０２１０】
そして、露光された第２のフォトレジストラッカー層の構造化処理が有効となる。
【０２１１】
第１または第２のフォトレジストラッカー層が、少なくとも１つの部分的に形成された機能層となるならば、その点に関して、それは好適である。
【０２１２】
その後、キャリア層が、着色剤の拡散によって、部分的に形成された機能層または追加層として部分的に随意に形成されるものであって、少なくとも第１のフォトレジストラッカー層や第２の構造化されたフォトレジストラッカー層が拡散障壁として機能する。
【０２１３】
キャリア層の平面に垂直に見ると、部分的に形成された機能層またはさらに部分的に形成された層によって囲まれた、キャリア層の露光された領域の中の物質が随意に引っ掻き取られ、そして、少なくとも１つのさらに部分的に形成された機能層または、さらに部分的に形成された層が形成される。
【０２１４】
部分的に形成された機能層または追加層を形成するための物質は、キャリア層または部分的に異なるつくりの追加層に接着され、その中で拡散するか、あるいは、そこで作用するので、随意にフォトレジスト層の構造も、可能な限り追加層の構造も、密着性や拡散抵抗やキャリア層または追加層の表面活性度に影響を与える。
【０２１５】
なお、ポリエステルが、複製層またはキャリア層として使用され、そして、金属層が、第１の層として使用されるならば、異なる場の特性によって、その方法で残った領域は静電場に曝され、そして、同様にトナーによって、残っている粉末は、その領域に、選択的に堆積されるのが好ましいと分かっている。
【０２１６】
そのとき、粉末の温度圧密は、閉じており、しっかりと接着され、部分的に形成された機能層または追加層を形成するのに有効である。
【０２１７】
また、第１の層は、２つの機能を有する層である。
【０２１８】
すなわち、第１の層は、一方で、製造工程の間、高度に精密な露光マスクの機能を果たし、他方で、製造工程が完了すると、高度に精密に重ね合わされた機能層を形成する。  部分的に形成された機能層または追加層は、できれば、例えば、ＯＶＤ層、導電経路または電気部品の機能層、例えば、有機の半導体の構成部品、明るい多色層のような装飾的な層または同様のものとして形成される。
【０２１９】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層がラッカー層または高分子層として形成されるならば、それは好適である。
【０２２０】
顔料または染料のような上述の好適な機能層物質を、特に容易に、そのような層に統合することができる。
【０２２１】
特に、少なくとも１つの部分的に形成された機能層が１つ以上の、特に非金属の機能層物質の付与によって形成されている。
【０２２２】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、１つ以上の有色の、特に明るく多色の機能層物質の付与によって形成されるならば、それは、部分的に形成された機能層の装飾的な効果に関しては、特に有効である。
【０２２３】
特に、第１の層や少なくとも１つの有色の陽画の、または陰画のフォトレジストラッカー層によって、および／または、視線方向に依存して、および／または、少なくとも１つの金属の反射層によって、および／または、少なくとも１つの誘電性の反射層によって変わる光学的な効果を有する少なくとも１つの光学的に変化する層によって、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が形成される。
【０２２４】
誘電体は、例えば、ＴｉＯ２またはＺｎＳすることができる。
【０２２５】
光学的な効果を、それによって与えることができるので、少なくとも１つの部分的に形成された機能層および、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層を異なる屈折率を有するように形成できる。
【０２２６】
第１の層や第２の層には、例えば、一方の層を導電体として形成でき、他方の層を電気的絶縁体として形成できるように、両方の層が透明な層として形成可能な点で高分子を使用してもよい。  光学的に変化する層は、それが視線方向に依存して変わる光学的な効果を有する少なくとも１つの物質を含むように、および／または、視線方向に依存して変わる光学的な効果を有する少なくとも１つの液晶層によって形成されるように、および／または、視線方向に依存して変わる干渉性の色の効果を有する薄いフィルム反射層の積み重ねによって形成されるようにするのが好適である。
【０２２７】
なお、構造化された第１の層が、少なくとも部分的に取り除かれ、そして、少なくとも１つの部分的に形成された機能層や少なくとも１つのさらに部分的に形成された層によって置き換わるならば、それは好ましいと分かっている。
【０２２８】
また、構造化された第１の層の完全な除去は、効果的に可能である。
【０２２９】
それと同時に、機能材料（例えば、染料、顔料）を有する親水性または疎水性の媒体を部分的に、上記の工程によって部分的に形成された、疎水性または親水性の堆積層上に、後に続く処理において、例えば、印刷、浸漬または噴霧工程の方法によって堆積させることができる。
【０２３０】
有効な構造において、第１のさらに部分的に形成された層を第１の層が取り除かれているような領域に導入できる。
【０２３１】
さらに、完全な除去の後で、第２のさらに部分的に形成された層によって、第１の層の残留物が置き換えられるようにすることができる。
【０２３２】
ところで、多層体は、他の状態では透明となることができ、見る人に対してだけフォトレジストの高解像度の「カラープリント」を有することができる。
【０２３３】
その場合には、フォトレジストが第１の層に対してエッチングマスクとして機能する。
【０２３４】
したがって、形成領域または分化領域に対する光学的密度の違いを利用するときは、本発明に係る工程は、層の部分的な除去に制限されず、さらに、それは、層の交換または工程のステップの繰り返しを提供するような、さらなる工程のステップを有することができる。
【０２３５】
好都合なことに、高解像度の画素を、この方法で形成できる。
【０２３６】
本発明の範囲から離れることなく、型による正確な重ね合わせ関係に基づいて、異なった色の画素を付与することができ、それらを、例えば、点状の格子ラスターに重ね合わせることができる。  異なる多層体を第１の層に対する、ある工程による最初のレイアウトによって形成できるので、それによって、本発明に係る工程を使用するときには、工程のステップが増大するにもかかわらず、例えば、異なる露光およびエッチング工程が一緒に組み合わされ、あるいは実行されて、相次いで、層の付与に引き続いて型による正確な重ね合わせ関係に基づく位置決めが可能となる。
【０２３７】
さらに、第１の層や、少なくとも１つの部分的に形成された機能層や、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、これが導電層または無電流の亜鉛メッキに適した層を有しているならば、ガルバニー電流によって補強されるようにすることができる。
【０２３８】
複製層またはキャリア層の平面に垂直に見て、少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、上の重ね合わせ関係と一致させて重ね合わされるならば、あるいは、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層の下に．一致させて重ね合わされるならば、それは好適である。
【０２３９】
また一方で、代わりに、それに、複製層またはキャリア層の平面に垂直にみて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層が交互に重ね合わされ、あるいは、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層に対して一様な空間を有するならば、それは、同様に望ましい。
【０２４０】
特に、少なくとも１つの部分的に形成された機能層と少なくとも１つのさらに部分的に形成された層との間で、少なくとも１つの第１の透明な空隙層が重ね合わされるならば、興味深い光学的な効果を達成できる。
【０２４１】
代わりに、それに、または、それと組み合わせるので、少なくとも１つの第２の透明な空隙層が、少なくとも２つのさらに部分的に形成された層との間に配置される。
【０２４２】
このため、異なる色の効果やパターンを異なる視線方向に見ることができるか、あるいは、３次元的な印象または光学的な深さが達成できる。
【０２４３】
第１の空隙層や第２の空隙層が少なくとも２つの異なる層厚内に部分的に形成されるならば、効果が補強できる。
【０２４４】
そこでの組み合わせにおいて、特に、連続的に変わる線幅によって、付加的な光学的な効果を与えることができる場合には、少なくとも１つの部分的に形成された機能層および少なくとも１つのさらに部分的に形成された層は、それぞれ、線状に形成された構造にすることができる。
【０２４５】
第１の空隙層や第２の空隙層１００μｍより小さい、特に、２と５０μｍとの間の範囲の領域内の層厚で部分的に形成されるならば、それが望ましいと分かっている。
【０２４６】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層および少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、視線方向に依存する特に、モアレ効果または陰影効果が可能となる、少なくとも１つの光学的な干渉効果が生じるような構造となるならば、それは特に好適である。
【０２４７】
第１の層は、第１の層が人の目には不透明な、そして、特に、１．５より大きい光学的密度、特に、２と７の間の範囲の光学的密度となる厚さ内の複製層またはキャリア層に好適に全表面領域上に付与される。
【０２４８】
さらに具体的には、意外にも、回折性を示す凹凸構造部を有する領域の透過率の割合が、第１の層の不透明度を増大することによって増加可能であると分かっている。
【０２４９】
このように、いつも不透明（例えば、光学的密度５）であると認識されるような、それの大きい光学的密度によって、マスク層としては、通常は使用しない層を通る適当な光の強さで、露光が有効であるならば、特に、よい結果を達成することができる。
【０２５０】
特に、好適な実施例は、複製層またはキャリア層の平面に垂直にみて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層および少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、装飾的な幾何学図形や情報を示す幾何学図形、文字と数字との、絵入りの、図形の、または、造形的な表現を与えるために、お互いに補い合うようなものである。
【０２５１】
その点に関して、特に、偽造防止用であると分かっている実施例は、少なくとも１つの部分的に形成された機能層および少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、それぞれ、少なくとも領域的に見て、線状に形成された構造となるものであって、線が切除部以外で、お互いに混ざり合い、そして、特に、また、お互いに連続的な色構成の中でも混ざり合い、例えば、虹のような構造を有することを特徴としているものである。
【０２５２】
また、異なるラインが、選択的に、または、付加的に、互いに平行な重ね合わせ関係に基づいて、重ね合わされ、そして、同心円状の模様を形成する。
【０２５３】
特に、線が、複製層またはキャリア層の平面に垂直に見て、５０μｍより小さい領域、特に、０．５と１０μｍの間の範囲の幅を有して形成されているならば、その点に関して、特に、細線は有効であることが分かっている。
【０２５４】
また一方で、上記の工程によって形成される多層体に対して、第２の領域が第１の領域によって囲まれた２つ以上の部分領域からなり、回折性を示す第２の凹凸構造部が第２の領域の中の複製層の中で形成され、そして、第１の層が第１の領域中で取り除かれた反射層となり、これにより、第２の凹凸構造部と共に型による正確な重ね合わせ関係に基づいて重ね合わされるようにすることができる。
【０２５５】
このような多層体は、偽造防止用の偽造防止模様として有効に付与できる。
【０２５６】
特に、それらは、特に、本発明に係る工程により、微細な線幅が形成できるという理由により、すでに偽造防止用となっている。
【０２５７】
さらに、それらの回折性を示す構造、および、反射層と共に型による正確な重ね合わせ関係に基づく、それらの配向により、それらの細線は、極端な困難さを伴う場合にのみ模倣可能な光学的な効果を生成できる。
【０２５８】
さらに、第１の領域が、第２の領域によって囲まれた２つ以上の部分領域を含み、（逆もまた同様）、そして、第１の層が、第２の領域の中で取り除かれた反射層となり、そして、これにより、第１の凹凸構造部と共に正確な型による重ね合わせ関係に基づいて重ねあわされるようにすることができる。
【０２５９】
有効な構造は、第２の領域の部分領域または第１の領域の部分領域が、それぞれ２ｍｍより小さい、好適には、１ｍｍより小さい幅を有している。
【０２６０】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層は、少なくとも電磁スペクトル波長領域において、有色であるか、または、色を生じ、そして、特に、明るく多色であるか、または、明るい色を生じる、少なくとも１つの不透明な着色剤や少なくとも１つの透明な着色剤によって、好適に有色となる。
【０２６１】
特に、例えば、紫外線または赤外線光の下で、可視スペクトルの外側で励起でき、そして、見て取れる色の印象を生成する着色剤が、少なくとも１つの部分的に形成された機能層中に含まれるならば、それはが好ましいと分かっている。
【０２６２】
したがって、少なくとも１つの部分的に形成された機能層に、光により励起し、そして、赤、緑や青の蛍光を発し、そして、それによって、照射されることにより付加的な色を生成するような少なくとも１つの染料または顔料を付与することができる。
【０２６３】
少なくとも１つの着色剤は、好適に、無機または有機の着色剤、特に顔料または染料のグループから選択できる。
【０２６４】
とりわけ、冷光を発する、そして、特に、紫外線に照射され、または、励起されることによって、可視波長領域で蛍光を発する着色剤が、特に好適である。
【０２６５】
その点に関して、励起することなく、可視波長領域中で有色か、または無色である発光顔料、染料または共重合体を使用してもよい。
【０２６６】
さらに、同じか、または異なる種類の少なくとも２つ以上の発光性着色剤を含む混合物を使用することができる。
【０２６７】
顔料は、１と１００ｎｍとの間の大きさのナノ顔料とすることができる。
【０２６８】
その点に関して、特に、可視波長領域では無色の、そして、特に、波長が２５４ｎｍ、３１３ｎｍまたは３６５ｎｍの紫外線光下で蛍光を発する蛍光性のナノ顔料が好適である。
【０２６９】
従来の顔料は、使用できる分散具合を達成するために、複雑かつ費用の掛かる工程によって、印刷用媒質用にすり潰さなければならなかったのに対して、ナノ顔料は、印刷用媒質の中で単に掻き混ぜるだけで分散させることができ、そして、インクジェットによる印刷工程においてプリントインク中で容易に処理できる。
【０２７０】
また、ナノ粒子、そして、それの使用上の注意に関しては、ＷＯ０３／０５２０２５Ａ１に指示されている。
【０２７１】
異なる波長による励起によって、異なる可視色の放射を生成する発光性着色剤か、または少なくとも２つの発光性着色剤の組み合わせの使用は、特に好適である。
【０２７２】
その点に関して、少なくとも１つの光の表現は、赤外線や可視や紫外線の範囲で生成することができる。
【０２７３】
このように、例えば、単一の着色剤は、波長２５４ｎｍを有する紫外線による励起によって可視領域で発生させるのと違って、波長３６５ｎｍを有する紫外線による励起によって、異なる有色の蛍光発光を可視領域で発生させることができる。
【０２７４】
２５４ｎｍでの励起によって赤の蛍光を発することができ、そして、３６５ｎｍでの励起によって青白い蛍光を発することができるような２重蛍光（ｂｉｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ）顔料を例えば、Ｓｐｅｃｉｍｅｎ  Ｄｏｃｕｍｅｎｔ  Ｓｅｃｕｒｉｔｙ  Ｄｉｖｉｓｉｏｎ，ＢｕｄａｐｅｓｔのＢＦ１１（名称）の下で得ることができる。
【０２７５】
また、励起による異なる色の可視放射を示し、そして、混合して使用することができる単一の発光性の着色剤に関する例は、ＵＳＮｏ５００５８７３中に見られる。
【０２７６】
可視波長で無色となり、そして、実色の模様が生成されるように、紫外線光下では可視領域の色として冷光を発する発光性着色剤の混合物は、特に好適である。
【０２７７】
例えば、紫外線照射によって励起可能な有機の発光性着色剤は、例えば、紫外線領域および可視領域において蛍光を発するＵＶＩＴＥＸ（名称）（登録商標）の下で得ることができる。
【０２７８】
無機の励起可能な発光性着色剤は、Ｌａ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ、ＺｎＳｉＯ４：ＭｎまたはＹＶＯ４：Ｎｄ、他の物質の間で、そして、例えば、名称ＬＵＭＩＬＵＸ（登録商標）の下で得ることができる。
【０２７９】
発光性共重合体は、蛍光性の成分に混合した、例えば、コポリアミド、コポリエステルまたはコポリエステルアミドである。
【０２８０】
発光性着色剤および、それの混合物は、その点に関して、従来の非発光性の着色剤が単独で、あるいは、組み合わせで使用できる。
【０２８１】
少なくとも与えられた視線方向で見たとき、または、与えられた種類の光で見たとき、赤と緑とのような補色において、特に、興味深い構造は、少なくとも１つの部分的に形成された機能層および少なくとも１つのさらに部分的に形成された層を含む構造である。
【０２８２】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層や少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が回折性を示す凹凸構造部によって裏打ちされ、そして、ホログラムによる、あるいは、キネグラムによる光学的に変化する効果を示すならば、特に、印象的で興味深い効果が、第１の多層体によって達成される。
【０２８３】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が、特に、不透明な金属層であり、そして、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が有色のラッカー層であるならば、第１の実施例の好適な多層体が形成される（逆もまた同様）。
【０２８４】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が液晶を含む層であり、そして、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が有色のラッカー層であるならば、第２の実施例の好適な多層体が形成される（逆もまた同様）。
【０２８５】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が視線方向に依存する干渉性の色の効果によって薄いフィルム反射層の積み重ねによって形成されるならば、そして、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が有色のラッカー層であるならば、第３の実施例の好適な多層体が形成される（逆もまた同様）。
【０２８６】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が第１の有色のラッカー層であり、そして、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、さらに異なる有色のラッカー層であるならば、第４の実施例の好適な多層体が形成される。
【０２８７】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層が第１の有色のラッカー層であり、そして、少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が誘電性の反射層であるならば、第５の実施例の好適な多層体が形成される（逆もまた同様）。
【０２８８】
その場合には、好適には、ラッカー層が、少なくとも１つの不透明な物質や少なくとも１つの透明物質によって有色となる。
【０２８９】
特に、有色のラッカー層を、黄色、マゼンタ、シアンまたは黒（ＣＭＹＫ）、あるいは、赤、緑および青（ＲＧＢ）の、少なくとも１つの着色剤を使って有色とするならば、これにより、例えば、上述の光励起（例えば、紫外、赤外）顔料または染料によって形成可能となる、減色や加色によって色を混合することによって、異なる色の印象が生成できるのが好ましいと分かっている。
【０２９０】
多層体が、第１の有色のラッカー層として形成された少なくとも１つの部分的に形成された機能層および誘電性の反射層として形成された少なくとも１つのさらに部分的に形成された層、また逆も同様、を有している、上述の第５の実施例は、特に紫外線光によって励起された発光性着色剤を有するラッカー層に適している。
【０２９１】
さらに具体的には、例えば、ＺｎＳまたは、多くの樹脂物質のような様々な透明な誘電層は、紫外線光を通過させず、そして、このため、紫外線光によって励起された発光性着色剤を含む光線経路中の、その下に重ね合わされた有色層の励起は、阻止されるか、あるいは、少なくとも抑制されることが分かっている。
【０２９２】
ところで、紫外線光によって励起されるラッカー層は、好適には、誘電性の反射層が紫外線光源とラッカー層との間の光路中にない領域の中にだけ見出されるので、第５の実施例において、ラッカー層を誘電性の反射層に関して並べ替えることができる。
【０２９３】
なお、少なくとも１つの部分的に形成された機能層や少なくとも１つのさらに部分的に形成された層が、少なくとも領域的に見て、人の目では個別に判別できないピクセル模様の点または線からなるラスターイメージを形成するならば、それは好ましいと分かっている。
【０２９４】
また、第１の層のラスタリングは、反射層の下に置かれたラスター構造および、できるだけ異なる回折性を示す回折構造を有するラスター構造の他にも効果を与えることができる。
【０２９５】
反射層のない透明な領域を表す他のラスター構造が存在する。
【０２９６】
その点に関して、振幅変調されたラスタリング、または、表面で変調されたラスタリングが、ラスタリング効果として選択できる。
【０２９７】
そのような反射または回折領域と、および、ある状況下で非反射、透明で、回折性も示す領域との組み合わせによって、興味深い光学的な効果を達成できる。
【０２９８】
そのようなラスターイメージが、例えば、有価の証書の窓の中に配置されれば、そのとき、透明なラスターイメージは、透過光モードにあると分かる。
【０２９９】
入射光の中で、その模様は、光が反射面によって回折または反射されない、与えられた角度の範囲でだけ見ることができる。
また、さらに加えて、そのような部品を利用するだけでなく、透明な窓の中に、それらに有色のインプリントを付与することもできる。
【０３００】
別の角度の範囲では、それが、回折構造または他の（マクロ）構造によって反射される光によって、見ることができない間に、有色のインプリントは、例えば、ラスターイメージとして見ることができる。
【０３０１】
また、さらに加えて、適した選択的なラスタリングによって、それらの反射率が減少するような複数の外向きの反射領域を形成できる。
【０３０２】
最終的に、少なくとも２つのさらに部分的に形成された層が付与されれば、光学的には興味深いことが分かっている。
【０３０３】
複製層が、例えば、独立でないか、または、少なくとも非常に薄い層であるならば、複製層は、キャリア層上に重ね合わせることができる。
【０３０４】
キャリア層は、特に、形成された多層体から離脱、あるいは、解除可能なように改良されている。
【０３０５】
フィルム体、特に転写フィルム、ホットエンボスフィルムまたはラミネートフィルムとして形成された多層体の実施例は有効である。
【０３０６】
その場合には、フィルム体は、好適には、少なくとも一方側に接着層を有する。
【０３０７】
また一方で、多層体は、フィルム体だけでなく、剛体であってもよい。
【０３０８】
フィルム体は、例えば、偽造防止模様を有する証書、紙幣、その他同種類のものを形成するのに利用される。
【０３０９】
また、それには、本発明に係る工程によって形成することができる、さらに部分的に形成された層と共に完全な型による重ね合わせ関係に基づいて、部分的に形成された機能層を有する、紙に縫いこむための、あるいは、カードの中に導入するための偽造防止対策がなされた糸も含めることができる。
【０３１０】
また、例えば、ＩＤカード、センサー部品の基板、半導体チップまたは電子デバイスの表面、例えば、携帯電話の表面部分のような剛体には、有効に本発明に係る多層体を付与することができる。
【０３１１】
本発明に係る多層体が付与されるか、または、多層体によって、少なくとも部分的に形成された、偽造防止対策がなされた、あるいは有価の証書のための偽造防止模様は、特に偽造防止用であり、そして、光学的に興味深い特性を有している。
【０３１２】
特に、ＩＤカードまたは許可証、パスポート、銀行券、ＩＤカード、紙幣、偽造防止対策がなされた証書、チケット、偽造防止対策がなされたパッケージまたは同様のものは、偽造防止対策がなされた、あるいは有価証書と考えられる。
証書のための防止策として、好適には、少なくとも部分的に、特にパスポート写真または所有者のサインまたは証書全体上または証書の中の開口部のような証書の重要な領域の中に、透明な多層体が偽造防止模様として重ね合わされている。
【０３１３】
さらに加えて、第１の情報アイテムが反射モードにおける、そのような窓の中を見えるようにすることができ、そして、第２の情報アイテムが透過光モードにおいて、見えるようにすることができる。
【０３１４】
特に光り輝くフィリグリー模様を有する新しい偽造防止模様を形成できる。  このように、例えば、透過光モードにおいて、少なくとも１つの部分的に形成された機能層や、さらに部分的に形成された層のラスタリングの形成によって、半透明である模様を形成することができる。
【０３１５】
また、多層体のほかにも、偽造防止対策がなされた証書は、例えば、光学的に変化する着色剤、磁気的な層、透かし模様などを含むプリントされた層のようなさらなる偽造防止対策がなされた手段を有していてもよい。
【０３１６】
その場合には、プリントされた層を偽造防止模様の中に統合するか、あるいは、偽造防止対策がなされた証書の基材上に直接形成することができる。
【０３１７】
偽造防止対策がなされた証書に重ね合わされたプリントされた層が、紫外線光によって励起される発光性着色剤を有しているならば、それらが、もうすでに、ここまでに見てきた理由により、紫外線フィルターとして働き、蛍光性の着色剤の励起を防止または抑制するＺｎＳのような透明な誘電層によって覆われていないならば、それは望ましいと分かっている。
【０３１８】
また一方で、普通の照明下では有色であり、そして、さらに紫外線光によって励起された蛍光性の着色剤を含むプリントインクの使用は、そこに形成されたプリントされた模様が部分的に、紫外線光に対して非透過性の、そして、部分的には非透過性でない透明な誘電層によって覆われるときに、興味深い光学的な効果を生成することもできることを意味する。
【０３１９】
紫外線光がプリントされた模様のプリントインク上に直接あたる領域中で蛍光発光が生じる間に、紫外線フィルターとして機能する透明な誘電層が存在する中で、紫外線を照射した場合には、いつもの色が、そのとき、まだプリントされた模様の領域の中に表されている。
【０３２０】
透明な誘電層の中の開口の、それぞれの構造に依存して、それゆえ、蛍光発光のマークがプリントされた模様の形とは独立に模様の形状に形成され、あるいは文字や数字のキャラクターなどとして形成される。
【０３２１】
また一方で、本発明に係る多層体によって電子部品も製造できる。
【０３２２】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層や少なくとも１つの追加層の一例としては、電子部品、例えば、アンテナ、コンデンサー、コイルまたは有機半導体の構成部品を形成することができる。
【０３２３】
また、少なくとも１つの部分的に形成された機能層や少なくとも１つのさらに部分的に形成された層は、高分子層を含むことができるので、例えば、一方の層を導電体として形成することができ、そして、他方の層を絶縁体として形成することができる。
【０３２４】
両方の層が透明な層として形成可能な場合には、上述のように、本発明の工程によって、型による正確な重ね合わせ関係に基づいて、多層体に重ねることができる追加層を提供することが可能である。
【０３２５】
本発明に係る多層体は、例えば、レンズ系、露光および投影マスクのような光学的な構成部品として適している。
【０３２６】
また、それらは、遠隔通信分野における構成部品または装飾部品として利用することもできる。
【０３２７】
少なくとも１つの部分的に形成された機能層や少なくとも１つの追加層が、複数の部分層により形成されるならば、特に、部分層が、薄いフィルムの層からなる系により形成されるならば、さらなる光学的な効果を生成可能である。
【０３２８】
部分層が異なる物質によって形成されるようにすることができる。
【０３２９】
そのような構造は、上述の薄いフィルムの層からなる系だけでなく形成できる。
【０３３０】
また、そのように、例えば、ナノテクノロジーによる機能素子、例えば、２つの異なる金属層によって、μｍレンジの広がりを有するバイメタルスイッチを製造できる。
【０３３１】
多層体の製造および工程のステップに関して多くの異なる可能な選択肢を与える本発明に係る工程は、例えば、そのうえ、さらに複雑な多層体を形成するための単独の使用に制限されない。
【０３３２】
さらに加えて、多層体の層は、例えば、力学的な、あるいは、化学的な抵抗力を変えたり、それぞれの層の他の特性に影響を与えたりするために実施される工程における如何なる点においても、化学的に、物理的に、あるいは、電気的に扱うことができる。
【０３３３】
また、ここで、上述の発明とは独立に、保護は、全く一般的に、紫外線光に対して不透明である透明な誘電層と、特に、開口を有する反射層とを有する偽造防止模様および、その製造方法に対して主張されるものであって、誘電層の面に垂直に見て、紫外線光によって励起された発光性着色剤を含むラッカー層は、誘電層の見ている人から遠い側に、少なくとも部分的に、そして、少なくとも、それの開口の領域の中に重ねられていることを特徴としている。
【０３３４】
本発明は、以下に示す図面を一例として参照して記述される。
【図面の簡単な説明】
【０３３５】
【図１】本発明に係る多層体の第１の実施例の断面図を示す。
【図２】図１の多層体の第１の製造工程の断面図を示す。
【図３】図１の多層体の第２の製造工程の断面図を示す。
【図４】図１の多層体の第３の製造工程の断面図を示す。
【図５】図１の多層体の第４の製造工程の断面図を示す。
【図５ａ】図５に示される製造工程の変形実施例の断面図を示す。
【図５ｂ】図５ａの製造工程の後に続く製造工程の断面図を示す。
【図６】図１の多層体の第５の製造工程の断面図を示す。
【図７】図１の多層体の第６の製造工程の断面図を示す。
【図８】さらなる多層体の断面図を示す。
【図９】さらなる多層体の断面図を示す。
【図１０】第１の工程に関する、さらなる工程のステップの断面図を示す。
【図１１】第１の工程に関する、さらなる工程のステップの断面図を示す。
【図１２】第１の工程に関する、さらなる工程のステップの断面図を示す。
【図１３】第１の工程に関する、さらなる工程のステップの断面図を示す。
【図１４】第１の工程に関する断面図を示す。
【図１５（Ａ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１５（Ｂ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１５（Ｃ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１５（Ｄ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１５（Ｅ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１５（Ｆ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１５（Ｇ）】図１５（Ａ）〜（Ｆ）によって形成された多層体の工程の平面図を示す。
【図１６（Ａ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１６（Ｂ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１６（Ｃ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１７（Ａ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１７（Ｂ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１７（Ｃ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１７（Ｄ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１７（Ｅ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１７（Ｆ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１７（Ｇ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１７（Ｈ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１８（Ａ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１８（Ｂ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１８（Ｃ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１８（Ｄ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１８（Ｅ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１８（Ｆ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１８（Ｇ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１８（Ｈ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図１８（Ｋ）】図１８（Ａ）〜（Ｈ）の工程によって形成された第１の多層体の平面図を示す。
【図１８（Ｍ）】図１８（Ａ）〜（Ｈ）の工程によって形成された第２の多層体の平面図を示す。
【図１９】さらなる多層体の断面図を示す。
【図２０（Ａ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図２０（Ｂ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図２０（Ｃ）】第１の工程に関する、さらなる断面図を示す。
【図２１】第１の工程よって形成された多層体の断面図を示す。
【図２２（Ａ）】多層体からなる様々な偽造防止対策がなされた証書の図を示す。
【図２２（Ｂ）】多層体からなる様々な偽造防止対策がなされた証書の図を示す。
【図２３（Ａ）】多層体からなる様々な偽造防止対策がなされた証書の図を示す。
【図２３（Ｂ）】多層体からなる様々な偽造防止対策がなされた証書の図を示す。
【図２４（Ａ）】第２の工程に関する断面図を示す。
【図２４（Ｂ）】第２の工程に関する断面図を示す。
【図２４（Ｃ）】第２の工程に関する断面図を示す。
【図２４（Ｄ）】第２の工程に関する断面図を示す。
【図２４（Ｅ）】第２の工程に関する断面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【０３３６】
図１は、搬送フィルム１上に、機能層２，複製層３，アルミニウムにより構造化された第１の層３ｍおよび２つの異なる色の透明なフォトレジスト層１２ａ，１２ｂが、第１の層３ｍと共に型による重ね合わせ関係に基づいて重ね合わされた多層体１００を示している。  機能層２は、その層が複数の部分層から形成されて備えられる点において、主に多層体の力学的かつ化学的な安定性を高める作用をする層であるが、その層が複数の部分層により形成されるようにできるという点で、さらに公知の方法によって光学的効果を生じるように改良できる。
【０３３７】
また、機能層２は、ワックスからなる層や除去層として形成された層を含んでいてもよい。
【０３３８】
また一方で、機能層２を省いて複製層３を搬送フィルム１上に直接重ね合わせてもよい。
【０３３９】
さらに、搬送フィルム１それ自体を複製層として形成するようにすることができる。
【０３４０】
多層体１００は、例えば、接着層（図示省略）によって基材に付与されたホットエンボスフィルムなどの転写フィルムの一部分であってもよい。
【０３４１】
上記の接着層は、熱の効果によって溶融して、多層体を基材の表面に取り外せないように接着する熱溶融性の接着剤であってもよい。
【０３４２】
搬送フィルム１は、力学的にも熱的にも安定なＰＥＴからなるフィルムとして形成することができる。
【０３４３】
複製層３の中に異なる凹凸構造部を備えた領域を公知の工程によって形成することができる。  図示された本実施例は、回折性を示す凹凸構造部を備えた第１の領域４と、平坦な領域６である第２の領域と、を有している。
【０３４４】
複製層３上の第１の層３ｍは、第１の領域４と共に完全に一致した型による重ね合わせ関係に基づいて重ね合わされた腐食領域１０ｄを有している。
【０３４５】
多層体１００は、領域１０ｄの中が透明あるいは部分的に透明に見える。
【０３４６】
ところで、図２〜図８は、多層体１００の製造工程を示している。
【０３４７】
図１と同一部分は同一の符号によって記載されている。
【０３４８】
図２は、搬送フィルム１上に機能層２と複製層３とが重ね合わされた多層体１００ａを示している。
【０３４９】
複製層３は、公知の工程によって表面構造化されている。
【０３５０】
その目的のために、具体的には複製層３を形成するために、熱可塑性の複製ラッカー（層）が、焼き付け、吹きつけ、または、ラッカリングによって複製層３として付与され、そして、凹凸の構造部が、加熱ダイまたは加熱複製用ローラーによって、その複製ラッカー（層）の中に形成される。
【０３５１】
また、複製層３は、例えば、複製用ローラーによって構造化された紫外線硬化性の複製ラッカー層であってもよい。
【０３５２】
どのような構造化であっても、露光マスクを通過した紫外線によって生成することができ、この方法により、領域４と領域６とが複製層３に形成できる。  また一方で、構造化処理を、露光マスクを通った紫外線光によっても実行できる。
【０３５３】
このように、領域４および領域６は、複製層３の中に形成される。
【０３５４】
領域４は、例えば、ホログラムやキネグラム（登録商標）による偽造防止模様の光学的に活性な領域であってもよい。
【０３５５】
ところで、図３は、第１の層３ｍが、例えばスパッタリングによって、複製層３によって決まる平面に関する表面領域について一様な密度で複製層３に付与される工程により図２の多層体１００ａから形成された多層体１００ｂを示している。
【０３５６】
本実施例において、第１の層３ｍは、約１０ｎｍの層厚を有している。
【０３５７】
領域４および領域６が低いレベルの透過率、例えば１０％と０．００１％との間の透過率となるように、すなわち、それらが１と５との間、できれば１．５と３との間の光学的密度となるように第１の層３ｍの層厚を好適に選択することができる。
【０３５８】
したがって、領域４および領域６において、第１の層３ｍの光学的密度、すなわち、透過率の負の常用対数は、１と３との間にある。
【０３５９】
好適には、第１の層３ｍが、１．５と２．５との間の光学的密度を有して形成されるようにすることができる。  したがって、領域４および領域６はそれらを見ている人の目に不透明に見える。
【０３６０】
層３ｍが２より大きい光学的密度を有しかつ平坦な表面に付与されるときに、すなわち、領域６におけるのと同様に、そして、２より大きい光学的密度となるときに、層３ｍが実質的に不透明となる層厚でもって付与されることは、ここでは特に有益である。
【０３６１】
第１の層３ｍが複製層３に厚く付与されるほど、それに対応して、領域４に付与された回折性を示す凹凸構造部によって生じる、第１の層３ｍの透過特性上の実効的な光学的層厚における変化による効果が大きくなる。  回折性を示す凹凸構造部によって生じる第１の層３ｍの実効的な光学的密度の変化が、蒸着された層の厚さに近似的に比例し、そして、それゆえ、光学的密度に近似的に比例することが研究によって示されている。
【０３６２】
光学的密度が透過率の負の対数値を示しているので、領域４と領域６との間の透過率の変化は、第１の層３ｍの表面領域に対して物質を付与する量を増大させるにしたがい、比例する以上に増大する。
【０３６３】
第１の層３ｍの光学的密度が領域６に関連して領域４の中で減少するので、第１の層３ｍの光学的密度が、領域４の中と領域６の中とでは異なっていることに注意する。
【０３６４】
構成部品の０ではない深さ対幅比と、結果として減少する第１の層３ｍの厚さとが原因となって、そのような応答性は領域４の表面領域の増加に依存する。
【０３６５】
ディメンションのない深さ対幅比と周期的間隔とが、好適な周期的構造の表面領域の増加に関連して模様を特徴付けている。
【０３６６】
このような構造によって、周期的な連続体中に「山」と「谷」とが形成される。
【０３６７】
ここで、「山」と「谷」との間の空間を深さと呼ぶと共に、２つの「山」の間の空間を「幅」と呼ぶ。
【０３６８】
ところで、深さ対幅比が大きくなるほど、それに応じて「山の側面」が急勾配になり、それに応じて「山の側面」上に堆積する第１の層３ｍが薄くなる。
【０３６９】
また、その効果は、その位置に、「谷」の深さより数倍大きい間隔で互いに相対的に配列可能とする、断続的に配置された「谷」があるときに観測される。
【０３７０】
そのような場合において、深さ対幅比を明示することにより「谷」の配置を正確に記述するために、「谷」の深さを「谷」の幅と関係づけるべきである。
【０３７１】
光学的密度が減少した領域の形成において、それらの依存性に関する個々の変数を知り、そして、適切に選択することは重要である。
【０３７２】
光学的密度についての減少の程度は、背景や照明などに依存して変化していてもよい。
【０３７３】
この点において、第１の層における光の吸収が重要な役割を果たす。
【０３７４】
一例として、クロムおよび銅は、ある条件下では、ほとんど光を反射しない。
【０３７５】
表１は、樹脂フィルム（屈折率ｎ＝１．５）の間に配置された、Ａｇ，Ａｌ，Ａｕ，Ｃｒ，Ｃｕ，ＲｈおよびＴｉからなる金属の第１の層の確認された光の波長λ＝５５０ｎｍでの反射率を示している。
【０３７６】
その場合には、厚さの比εは、反射率Ｒが最大値Ｒｍａｘの８０％となるような第１の層の厚さｔと、反射率Ｒが最大値Ｒｍａｘの２０％となるような第１の層の厚さｔとの商として定義される。
【０３７７】
【表１】
2010500186.tif 000003
【０３７８】
発見的な考察の視点から、銀および金（ＡｇおよびＡｕ）は、大きな最大反射率Ｒｍａｘを有しており、そして、透過性を生じさせる上述の例において、第１の層の光学的密度を減少させるために比較的小さい凹凸構造部の深さ対幅比を要求することが分かる。
【０３７９】
一般に、アルミニウム（Ａｌ）も大きな最大反射率Ｒｍａｘを有するが，アルミニウム（Ａｌ）では、一層大きな凹凸構造部の深さ対幅比が要求される。
【０３８０】
したがって、好適には、第１の層は、銀または金によって形成するようにすることができる。
【０３８１】
また一方で、第１の層は、他の金属、合金または機能層物質によって形成するようにすることもできる。
【０３８２】
ところで、表２は、３５０ｎｍの格子間隔を有し、異なる深さ対幅比を有する断面が正弦関数的形状の線形格子として形成された凹凸構造部に対する厳密な回折計算から得られた計算結果を示している。
【０３８３】
凹凸構造部は、呼び厚がｔ０＝４０ｎｍの銀によってコーティングされている。
【０３８４】
凹凸構造部上に入射する光は、波長λ＝５５０ｎｍ（緑色）であり、それぞれＴＥ偏光およびＴＭ偏光となっている。
【０３８５】
【表２】
2010500186.tif 000004
【０３８６】
表２からわかるように、深さ対幅比とは別に、特に透過率または透過性の程度は、入射光の偏光に依存している。
【０３８７】
上記の依存性が深さ対幅の比ｈ／ｄ＝１．１に対して表２に示されている。
【０３８８】
さらに部分的に形成された層の選択的な配置のために、上記の効果を利用することができる。
【０３８９】
さらに、金属層の透過性または反射率は波長に依存することが分かった。
【０３９０】
その波長の効果は、特にＴＥ偏光の光に対しては、大きいとわかる。  さらに、光の入射角が通常の入射角とは異なる場合には、透過性の程度または透過性が減少する。すなわち、光が垂直に入射しな場合には、透過性の程度が減少することが分かった。
【０３９１】
そのことは、第１の層３ｍは、透明であってもよいし、あるは、制限された入射光円錐の中だけは、反射領域６の中より不透明性が小さくてもよい、ということを意味する。
【０３９２】
したがって、さらに部分的に形成された層の選択的配置のために、その効果も役立つという点において、斜めの光が当てられたときに、第１の層３ｍが不透明であるようにすることができる。
【０３９３】
また、凹凸構造部の深さ対幅の比の他にも、光学的密度における変化は、凹凸構造部の周期的間隔によって影響を受ける。
【０３９４】
このため、さらに、凹凸構造部の第１の領域中の周期的間隔と凹凸構造の深さとの積が、凹凸構造部の第２の領域中の周期的間隔と凹凸構造の深さとの積より大きいならば、凹凸構造部に付与された第１の層の透過特性における変化を達成できることが分かっている。
【０３９５】
しかしながら、透過性や透過率が異なっている領域の形成は、他の作用、例えば、
・  異なる重ね合わせ構造の結果として形成された透過量の偏光依存性によっても、
・  構造の形状因子、すなわち、矩形，正弦，鋸歯状または同一の周期的間隔と凹凸構造の深さとの積を有しかつ異なる透過量に影響を与え得る他の輪郭の構造によっても、そして、
・  空間的な構造や構造の組み合わせや構造配置の組み合わせにより重ね合わされた第１の層の蒸着によっても、達成可能である。
【０３９６】
第１の構造が、統計的な分析結果に影響を与えるような構造である場合には、例えば、つや消し構造，相関長，凹凸の深さ，および、分析結果の統計的分布などが、透過率に影響を与える典型的な変数となり得る。
【０３９７】
また、例えば、透明度や透過率の違いに影響を与える領域を形成するために、第１の領域および第２の領域の中で、１つ以上の上記変数が異なっている凹凸構造部を使用することもできる。  図４は、図３に示された多層体１００ｂおよび感光層８によって形成された多層体１００ｃを示している。
【０３９８】
これは、液体中で凹刻するような、従来のコーティング工程によって付与された有機層を含んでいてもよい。
【０３９９】
また、感光層８は、蒸着されるか、または、ドライフィルムとしてのラミネーションによって付与されるようにすることができる。
【０４００】
感光層８は、例えば、０．１ｇ／ｍ２と５０ｇ／ｍ２との間の面密度で、第１の層３ｍに付与されたＣｌａｒｉａｎｔ社製のＡＺ１５１２，ＡＺＰ４６２０、あるいは、Ｓｈｉｐｌｅｙ社製のＳ１８２２のような陽画のフォトレジストであってもよい。
【０４０１】
層厚は所望の解像度や過程に依存する。
【０４０２】
このように、引き上げ工程は、約１ｇ／ｍ２の面密度に対して、一層あたり１μｍより厚い層からなる、かなり厚い層に影響を及ぼす。
【０４０３】
好適な表面領域に対する重量は、０．２ｇ／ｍ２と１０ｇ／ｍ２との間の範囲にある。
【０４０４】
ここでは、全表面領域上に付与される。
【０４０５】
また一方で、部分的な領域の中に、例えば、上述の領域４および６の外側に配置された領域の中に付与することもできる。
【０４０６】
これらには、例えば、繰り返された模様または文字により形成されたランダムなパターンまたはパターンのような装飾的な絵入りの表現のデザインと共に型による重ね合わせ関係に基づいて、少し大雑把に重ね合わされねばならない領域を含めることもできる。
【０４０７】
ところで、図５は、搬送フィルム１を通して、図４における多層体１００ｃを露光することによって形成される多層体１００ｄを示しており、露光目的のために紫外線光９を与えることができる。
【０４０８】
ところで、上述したように、０より大きい深さ対幅比を有する回折性の構造が付与された第１の層３ｍの領域４が、第１の層３ｍの反射領域６より小さい光学的密度となっているので、紫外線光は、ほとんど露光されていない領域１１とは、それらの化学的な特性に関して異なり、一層強く露光された領域１０を感光層８の中に形成するであろう。
【０４０９】
図５に示す実施例は、等しい強度で多層体１００ｄの全領域を形成させる一様な露光を提供する。
【０４１０】
また一方で、例えば、
ａ）  装飾体として大きな深さ対幅比をもった構造を残し、それらを腐食（エッチング）しないように、
ｂ）  例えば、露光工程の間、多層体１００ｄと共に移動する帯状のマスクを通すことによって、付加的な情報アイテムを取り入れるために、そして、
ｃ）  例えば、シリアルナンバーのような個別の情報を取り入れるために、部分的な露光を提供することもできる。
【０４１１】
その点に関して、プログラム可能な偏向装置（空間的光変調器）または制御されたレーザーによる短時間の露光のよって認証性が導入されるようにすることができる。  光の波長および偏光と光の入射角とは、照明を強調することを可能とし、そして、具体的には、目標位置に照射する方法において凹凸構造部を選択的に形成可能とするような照明の変数である。
【０４１２】
また、この目的のためには、化学的な特性も使用できる。
【０４１３】
例えば、領域１０および領域１１では、溶媒中での、それらの可溶性が異なっていてもよい。  さらに図６に示されるように、紫外光による露光後に、この方法によって感光層８を「現像」感光層８の「現像」において、領域１０または領域１１は、感光層８の中で取り除かれる。
【０４１４】
人の目に見える透過率を与えるために、０．３より大きい深さ対幅の比が、いつでも領域４の中で付与されるならば、意外にも、感光層８の現像のために十分な深さ対幅の比は、十分に小さくとることができることが分かっている。
【０４１５】
また、目で見たときに、領域４が透明に見えるほど、第１の層３ｍが薄い必要はない。
【０４１６】
したがって、感光層８の増加された露光量によって、減少した透過率を補うことができるように、蒸着されたキャリアフィルムは、不透明であってもよい。
【０４１７】
さらに、感光層８の露光が、光学的密度を評価するに当たり、見た目の印象が重要ではないので、決まって近紫外線領域において与えられるということを覚えておく。
【０４１８】
図５ａおよび図５ｂは、変形実施例を示している。
【０４１９】
多層体１００ｄ´は、さらに強く露光される領域１００の中で、複製層３´が洗い流され得るという方法によって、複製層３´が入れ替わることにより下側から露光される。  図５ａ中の多層体１００ｄ´は、図５に示された感光層８を有していない。
【０４２０】
代わりにサーモクロミック物質を有する有色の感光性の洗浄性ラッカー層である複製層３´が設けられている。
【０４２１】
多層体１００ｄ´は、第１の層３ｍを通して下から露光されている。
【０４２２】
それによって、複製層３´は、領域１０が洗浄可能となるように、領域１０が一層強く露光されるように変更される、
ところで、図５ｂは、洗浄工程の後に多層体１００ｄ´から得られる結果としての多層体１００ｄ´´を示している。
【０４２３】
領域１０において、第１の層３ｍは、複製層３´と共に洗浄工程の間に、同時に取り除かれている。
【０４２４】
第１の層３ｍが、そこでの完全な型による重ね合わせ関係に基づいて、第１のさらに部分的に形成されたアルミニウムの層が形成する間に、構造化された複製層３´は、第１の部分的に形成されたサーモクロミック機能層を形成する。
【０４２５】
図６は、露光された感光層８の表面に与えられた溶媒の作用によって、多層体１００ｄから形成され、「現像された」多層体１００ｅを示している。
【０４２６】
ところで、溶媒は、感光層８が取り除かれた中で、領域１０ｅの形状を形成する。
【０４２７】
領域１０ｅは、構成部品が０より大きい深さ対幅比を有する図３に示された領域４である。
【０４２８】
これは、構成部品が０に等しい深さ対幅比を有する中で、図３に示す領域６を含んでいるので、感光層８は領域１１の中に形成される。  青の顔料によって着色された透明な陽画のフォトレジストが感光層８として使用されたならば、これにより、凹凸構造部と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、部分的に形成された透明な青の機能層が形成される。
【０４２９】
図６に示される実施例において、感光層８は、陽画のフォトレジストによって形成されている。
【０４３０】
このような陽画のフォトレジストを使用する場合には、その陽画のフォトレジストの露光された領域が現像液の中で溶ける。  したがって、図６に示された実施例において、露光された領域が現像液中で溶解するようなフォトレジストを使って、感光層８は、陽画のフォトレジストによって形成される。
【０４３１】
これとは対照的に、陰画のフォトレジストを使用すると、図９〜図１２に示される実施例の中で、この後に示されるように、露光されない領域が現像液中で溶解する。
【０４３２】
ところで、図７の多層体１００ｆを参照することによってわかるように、エッチングマスクとして機能する現像された感光層８によって、エッチング剤の作用から保護されることがない領域１０ｅ中で第１の層３ｍを取り除くことができる。
【０４３３】
このエッチング剤は、例えば、酸または苛性アルカリ溶液であってもよい。  また、図１に示された領域１０ｄが形成される。
【０４３４】
このように、エッチング処理後に第１の層３ｍが、そこでの完全な型による重ね合わせ関係に基づいて、第１のさらに部分的に形成されたアルミニウムの層を形成する間に、構造化された感光層８が第１の部分的に形成された透明な青の機能層を形成している。
【０４３５】
したがって、この方法により、付加的な技術的な手間を必要とせずに、型による正確な重ね合わせ関係に基づいて、第１の層３ｍを構造化できる。
【０４３６】
例えば、マスク露光または印刷によってエッチングマスクを付与するときには、そのような目的のために複雑かつ高価な準備をする必要はない。
【０４３７】
そのような従来の工程では、誤差が０．２ｍｍより大きいのは普通である。  これに対して、本発明に係る工程では、誤差、すなわち、複製層の構造化処理のために選択された最初の工程と繰り返しの工程とだけによって決定される誤差をμｍレンジからｎｍレンジに下げることができる。
【０４３８】
第１の層３ｍは様々な金属の連続体として形成され、そして、金属の部分層の物理的特性や化学的特性の違いが利用されるようにすることができる。  例えば、堆積した第１の金属の部分層が、高レベルの反射性を有し、そして、したがって、キャリア側から多層体を見たときに反射領域がはっきりと見えるアルミニウムであるようにすることができる。
【０４３９】
クロムを様々なエッチング剤に対する高レベルの化学的耐性を有する第２の金属の部分層として堆積させることができる。
【０４４０】
ところで、第１の層３ｍに対するエッチング工程は、２つの処理によって実施可能となる。  現像された感光層８がエッチングマスクとして使用される場合には、クロム層は、第１の処理においてエッチングされ、そして、それから、クロム層が、今エッチングマスクとして役立つ場合には、第２の処理においてアルミニウム層がエッチングされるようにすることができる。
フォトレジストのための、エッチング剤のための、そして、第１の層３ｍのための形成工程において使用される物質の選択において、そのような多層系は、一層大きな柔軟性の自由度を許す。
【０４４１】
図８は、第１の領域１０ｄの中の発光性顔料を含む透明なプリントインクの層８ａを引っ掻き落とす、図７に示された製造工程の後での、随意の可能性を示している。
【０４４２】
図８は、搬送フィルム１、機能層２、複製層３、第１のさらに部分的に形成された層としての、アルミニウムの構造化された第１の層３ｍ、第１の部分的に形成された機能層としての構造化された透明な青の感光層８および第２の部分的に形成された機能層としての、透明な発光性プリントインクの部分的に形成された追加層８ａによって形成された多層体１００ｇを示している。
【０４４３】
ところで、図９は、陽画のフォトレジストの感光層８（図５、６、７および８に示されたように）の代わりに、陰画のフォトレジストの感光層８は使用された中で、多層体１００ｅ´の第２の実施例を示している。
【０４４４】
図９ａから分かるように、露光されない感光層８が現像工程によって取り除かれていた中で、多層体１００ｅ´は領域１０ｅ´を有している。
【０４４５】
領域１０ｅ´は、第１の層３ｍの不透明な領域となっている。
【０４４６】
露光された感光層８は、領域１１中では取り除かれず、これらは、第１の層３ｍの透過性の領域、すなわち、領域１０ｅ´中より光学的密度が小さい領域となる。
【０４４７】
図１０は、エッチング工程による第１の層３ｍの除去よって多層体１００ｅ´（図９）から形成された多層体１００ｆ´を示している。  その目的のために、現像された感光層８が、そこで、エッチング剤が、第１の層３ｍを破壊できるので、領域１０ｅ´（図９）の中で取り除かれるエッチングマスクとして付与されている。
【０４４８】
もはや、第１の層３ｍを有さない領域１０ｄ´が、その方法で形成されている。
【０４４９】
その場合には、部分的に形成された第１の層３ｍが追加層を形成している一方で、部分的に形成された層８を不透明な黒ラッカー層として形成することができ、そして、部分的に形成された層８が部分的に形成された機能層を形成することできる。
【０４５０】
ところで、図１１に示されるように、全表面領域上に付与されているＴｉ０２またはＺｎＳのような誘電体からなる反射層３ｐによって形成される多層体１００ｆ´´は、多層体１００ｆ´からなる。
【０４５１】
その層は、それらの屈折率を異なったものにでき、このため、そこをよじ登る光の中に干渉性の色の効果を生じさせることができる、複数の相互に重なり合った薄い層によって形成されるようにすることができる場合には、そのような層を表面領域に、例えば、蒸着によって付与することができる。
【０４５２】
色の効果を有する薄い層の連続体を、例えば、構造を有する３つの薄い層によって形成できる。
【０４５３】
色の効果は、例えば、その方法でパターンがパスポートまたはＩＤカード上に形成されるならば有効な金属の反射性の層と比較すると、あまり目立たない。
【０４５４】
パターンは、例えば、透明な緑や赤のように、見る人に見えるようにすることができる。
【０４５５】
ところで、図１２は、残っている感光層８の除去後に多層体１００ｆ´´（図１１）によって形成された多層体１００ｆ´´´を示している。
【０４５６】
それは「引き上げ」過程を含んでいてもよい。
【０４５７】
このように、前の処理で、そこに付与された層３ｐが感光層８と同時に取り除かれる。
【０４５８】
ところで、これにより、それは、誘電層３ｐおよびアルミニウムの第１の層３ｍを有する、それらの光学的な屈折率や、それらの導電性がお互いに異なる隣接した領域の多層体１００ｆ´´´の配置を有している。  ところで、第１の層３ｍがガルバニー電流によって補強され、そして、このため、領域１１は、例えば、特に、優れた導電性を有する領域として形成されるようにすることができる。
【０４５９】
その後に、透明な紫外線硬化性の液晶を全表面領域上に擬似的な陰画のフォトレジストとして付与することができ、そして、キャリア層１を通して露光される。
【０４６０】
フォトレジスト層の、ほとんど露光されないか、または、露光されない領域は、部分的に形成された第１の層３ｍ上に配置され、そして、取り除かれる。
【０４６１】
透明なフォトレジストの、第１の部分的に形成された機能層、誘電層３ｐとして形成された第一のさらに部分的に形成された層および第１の層３ｍとして形成された第２の部分的に形成された追加層を有する多層体（ここでは別々には示さない）が結果として得られる。
【０４６２】
代わりに、または、その後に、領域１１を透明とし、そして、その目的のために、第１の層３ｍが、エッチングによって取り除かれるようにすることができる。
【０４６３】
他の領域中で付与された誘電層３ｐに影響を与えないエッチング剤を提供することができる。
【０４６４】
また一方で、第１の層３ｍが、見た目の印象という視点から、もはや認識されない位に、エッチング剤が作用を引き起こすようにすることもできる。
【０４６５】
ところで、図１３は、図１に示されたフォトレジスト層１２ａ，１２ｂの付加によって、多層体１００ｆ´´´（図１２）から形成される多層体１００´を示している。
【０４６６】
多層体１００´は、同一の複製層３を使うことによって、図１に示される多層体１００と同様に形成されている。
【０４６７】
したがって、本発明に係る工程を使って、一つのレイアウトから初めて、異なる構造の多層体を生成することができる。
【０４６８】
型による正確な重ね合わせ関係に基づいて、追加層を構造化するので、品質を損なうことなく、本発明に係る工程を、さらに続けることができる。
【０４６９】
その目的のために、すでに付与された層の、全反射，偏光および分光透過性のような、さらなる光学的効果が、型による正確な重ね合わせ関係に基づいて露光マスクを形成するために異なった光学的密度の領域を形成するのに利用されるようにすることができる。  その目的のために、型による正確な重ね合わせ関係に基づいて露光マスクを形成することにより、全反射、偏光および前もって付与された層の分光透過率のような、さらなる光学的な効果が異なる光学的密度の領域を形成するために利用されるようにすることができる。
【０４７０】
異なる局所的な吸収能力が、相互に重なった層によって生成され、そして、露光マスクまたはエッチングマスクがレーザーの作用による熱的除去により生成されるようにすることができる。  ところで、図１４は、第１の層３ｍに対する層厚の変更による、異なる透過性の程度、特に、透過率の生成の原因となる効果を詳細に示している。
【０４７１】
図１４は、図３に示された層構造の部分拡大断面図を示す。
【０４７２】
領域６の中では、それは如何なる凹凸構造部も有さないか、あるいは、平坦な領域を有している間に、領域５の中の複製層３は、０．３より大きい深さ対幅の比を有する第１の凹凸構造部５ｈを有している。
【０４７３】
矢印３ｓは、ここではスパッタリングによって付与された第１の層３ｍの付与方向を記述している。
【０４７４】
第１の凹凸構造部５ｈの領域の中では、それが公称の厚さｔｏより薄い厚さｔに形成されている間に、第１の層３ｍは、平坦な領域６ｎの中で公称の厚さｔｏに形成される。
【０４７５】
その点に関して、厚さｔの平均値として解される厚さｔは、水平に対する第１の凹凸構造部５ｈの表面の傾斜角度に依存する。
【０４７６】
その傾斜角度は、数学的には、第１の凹凸構造部５ｈの関数の一階微分によって記述されてもよい。
【０４７７】
したがって、傾斜角度が０に等しいならば、第１の層３ｍは、公称の厚さで堆積され、傾斜角度が０より大きいならば、第１の層３ｍは、厚さｔ、すなわち、公称の厚さｔ０より薄い厚さｔで堆積される。
【０４７８】
図１５は、ＰＥＴのキャリア層１、少なくとも１つの機能層２および複製層３の断面図である。
【０４７９】
第１の領域Ｃにおいて、第１のキネグラムによる凹凸構造部は、複製層３の中に形成されている。
【０４８０】
凹凸構造部は、第２の領域Ｄの中には形成されない。
【０４８１】
そこで直ちに、異なる透過率の領域が、領域ＣおよびＤと共に型による重ね合わせ関係に基づいて、第１の層３ｍの中に形成される場合には、複製層３は、銀の第１の層３ｍを有する、それの全表面領域上で蒸着される。
【０４８２】
図１５（Ｂ）を参照すると、陽画のフォトレジスト層１２は、付与されている。
【０４８３】
図１５（Ａ）に示された複合層は、全表面領域上で、そして、キャリア層１を通して露光される。
【０４８４】
フォトレジスト層１２の、一層強く露光されているか、または、一般に露光された領域Ｃは、取り除かれ、そして、隠れた第１の層３ｍは、凹凸構造部の領域の中で露光される。
【０４８５】
ところで、図１５（Ｃ）を参照すると、第１の層３ｍは、領域Ｃの中で、エッチングマスクとして役立つ構造化されたフォトレジスト層１２を使って、エッチングによって取り除かれる。
【０４８６】
エッチング処理の後で、構造化された第１の層３ｍだけが、フォトレジスト層１２と複製層３との間に存在している。
【０４８７】
ところで、図１５（Ｄ）を参照すると、高い反射率を有するＺｎＳ誘電性の反射層Ｒまたは視線方向に依存する干渉性の色の効果を有する薄いフィルムの反射層の積み重ねは、関わる全表面領域上で蒸着によって付与される。
【０４８８】
フォトレジスト層１２は、すでに可能な限り取り除かれていてもよい。
【０４８９】
ところで、図１５（Ｄ）に示された層の積み重ねは、それの全表面領域上で、赤く色付いた陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´で覆われ、そして、キャリア層１を通して露光される。
【０４９０】
図１５（Ｅ）は、露光されない領域Ｄの中の、陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´の除去後の結果を示している。
【０４９１】
最終的に、もはや必要がない層が、構造化されたフォトレジスト層１２が分解除去され、そして、その上で重ね合わされた誘電性の反射層Ｒの領域も取り除かれることによって、このとき、平坦な第２の領域Ｄ中で取り除かれる。
【０４９２】
その結果が、図１５（Ｆ）に示されている。
ところで、これは、平坦な第２の領域Ｄの中で部分的に形成された第１の層３ｍによって形成された銀の反射面の他にも、キャリア層１と、機能層２と、複製層３と、第１の領域Ｃの中で構造化された赤いフォトレジスト層１２´として形成された、部分的に形成された機能層と、  そして、フォトレジスト層１２´と共に型による重ね合わせ関係に基づいて、誘電性の構造化された反射層Ｒとして形成された、さらに部分的に形成された層とを有する多層体１００ｋを含んでいる。
【０４９３】
図１５（Ｇ）は、図１５（Ａ）〜１５（Ｆ）に示されるような工程によって形成された多層体１００ｋ´を、それの平面図として示している。
【０４９４】
突き出たことによる吸い上げ効果を示すキネグラムによる装飾体Ｄは、それぞれの場合に２０μｍの線幅を有する複数の細線によって形成されていた。
【０４９５】
線と線との間の領域が、凹凸構造部を有さない第２の領域Ｄに対応しているのに対して、線自体は、凹凸構造部を有する第１の領域Ｃに対応している。
【０４９６】
これによって、その線は、凹凸構造部と誘電層Ｒとによるキネグラムによる効果を示し、そして、また、フォトレジスト層１２´による赤い色の背景となっている。
【０４９７】
反射性の銀表面は、領域Ｄの中の他の所に配置される。
【０４９８】
図１６（Ａ）〜（Ｃ）は、第１の工程に対して追加の実施例の断面図を示している。
【０４９９】
図１６（Ａ）は、凹凸構造部が第１の領域Ｃ中でエンボス加工されていた中の、ＰＥＴのキャリア層１、機能層２および複製層３を示している。
【０５００】
凹凸構造部は、第２の領域Ｄの中には存在せず、複製層３は、ここでは、平坦である。
【０５０１】
紫外線光に対して、領域Ｄ中よりも高いレベルの透過性が第１の領域Ｃ中で与えられている場合には、金の第１の層３ｍが、スパッタリングによって、そこに不透明な層として全表面領域上に付与される。
【０５０２】
図１６（８）を参照すると、不透明に青く色付いた陰画のフォトレジスト層１２は、そこに全表面領域上に付与され、そして、同じものが露光さキャリア層１を通して露光される。
【０５０３】
第１の層３ｍが領域Ｄの中で露光されているので、フォトレジスト層１２の、露光されないか、ほとんど露光されない領域は、取り除かれる。
【０５０４】
ところで、第１の層３ｍは、領域Ｄの中で複製層３からエッチングによって取り除くことができる。
【０５０５】
その結果が、図１６（Ｃ）に示されている。
【０５０６】
これは、キャリア層１と、機能層２と、複製層３と、青のフォトレジスト層１２として形成された部分的に形成された機能層と、そして、そこでの完全な型による重ね合わせ関係に基づいて、金の第１の層３ｍとして形成された、さらに部分的に形成された層とを有する多層体１００ｍを含んでいる。
【０５０７】
多層体１００ｍが、キャリア層１側から見られたならば、金線模様は、光学的に変化する効果、特に、ホログラムによる効果を生じさせる回折性を示す凹凸構造部によって干渉され、第１の領域Ｃの中に表わされる。
【０５０８】
反対側から見ると、多層体１００ｍは、完全に異なる見掛けを示す。
【０５０９】
これにより、領域Ｃの中では、フォトレジスト層１２側から見る人は、単にフィリグリーの不透明な青の線状模様に見える。
【０５１０】
これにより、金線模様は、完全に覆われ、そして、これにより、見えなくなっている。
【０５１１】
多層体１００ｍは、領域Ｄの中で透明である。
【０５１２】
図１７（Ａ）〜１７（Ｈ）は、複合的な第１の工程の実施を示す断面図を示している。
【０５１３】
図１７（Ａ）は、３つの異なる凹凸構造部がエンボス加工された中のキャリア層１、機能層２および複製層３を示している。
【０５１４】
凹凸構造部が領域Ｄの中には形成されないうちには、第１の凹凸構造部は、領域Ａの中に形成され、第２の凹凸構造部は、領域Ｂの中に形成され、そして、第３のキネグラムによる凹凸構造部は、領域Ｃの中に形成されていた。
【０５１５】
第１および第２の凹凸構造部は、異なる縦横比を有する大きな格子定数の格子構造となっている。
【０５１６】
領域Ａが領域Ｂより紫外線光に対する透過性の一層高いレベルを伴い、領域Ｂが領域Ｃより紫外線光に対する透過性の一層高いレベルを伴い、そして、領域Ｃが領域Ｄより紫外線光に対する透過性の一層高いレベルを伴う場合には、アルミニウムの第１の層３ｍは、図１７（Ｂ）に示されたように、その後に、全表面領域上で複製層３に不透明にスパッタされた。
【０５１７】
第１の凹凸構造部を有する領域Ａは、最も強く露光されており、そして、その後に、取り除ける場合には、陽画のフォトレジスト層１２は、そこに、図１７（Ｃ）に示されたように全表面領域上に付与され、そして、第１の層３ｍを通して露光される。
【０５１８】
図１７（Ｄ）は、そこでの構造化処理の後の、そして、領域Ａの第１の層３ｍｍのエッチングによる除去の後の、エッチングマスクとして機能する構造化されたフォトレジスト１２を有するフォトレジスト層１２を示している。
【０５１９】
したがって、領域Ｂ、ＣおよびＤの中では、まだ、第１の層３ｍだけが見出される。
【０５２０】
ところで、陽画のフォトレジスト１２が取り除かれ、青く色付いた陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´が全表面領域上に付与され、そして、キャリア層１を通して露光される。
【０５２１】
領域Ａの中で硬化が有効となる間に、ほとんど露光されない領域Ｂ，ＣおよびＤにおいて、その後に、陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´は、取り除くことができる。
【０５２２】
図１７（Ｅ）は、陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´の構造化処理の後の段階での層構造を示している。
【０５２３】
そこで直ちに、図１７（Ｆ）を参照すると、さらなる陽画のフォトレジスト層１２´´は、全表面領域上に形成され、そして、キャリア層１を通して露光される。
【０５２４】
そこで直ちに、さらなる陽画のフォトレジスト層１２´´は、領域Ｂの中で取り除かれる。
【０５２５】
その結果が、図１７（Ｇ）に示されている。
【０５２６】
ところで、露光された第１の層３ｍは、領域Ｂの中でエッチングによって取り除かれる。
【０５２７】
その結果が、図１７（Ｈ）に示されている。
【０５２８】
これには、キャリア層１と、機能層２と、複製層３と、陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´として形成された、部分的に形成された青の機能層と、第１の層３ｍとして形成された、さらに部分的に形成された層とを有し、一方で、領域Ｄの中で鏡面として機能し、他方で、領域Ｃの中でキネグラムによる効果によって干渉する多層体１００ｎは含まれる。
【０５２９】
さらなる陽画のフォトレジスト層１２´´が、随意に取り除かれ、そして、接着層が関わる全表面領域上に付与される。
【０５３０】
また一方で、有色の陽画のフォトレジスト層１２´´が使用されるならば、それを多層体上で維持することもできる。
【０５３１】
図１８（Ａ）〜１８（Ｈ）は、お互いに完全な型による重ね合わせ関係に基づいて、２つの異なるインクまたは色からなるフィリグリーのプリントされたパターンの製造のための、さらなる第１の工程の断面図を図式的に示している。
【０５３２】
図１８（Ａ）は、２つの異なる凹凸構造部がエンボス加工された中での、キャリア層１、機能層２および複製層３を示している。
【０５３３】
このように、凹凸構造部が領域Ｄの中には形成されていないうちに、第１の凹凸構造部は領域Ａの中に形成され、第２の凹凸構造部は領域Ｂの中に形成されていた。
【０５３４】
第１および第２の凹凸構造部は、異なる縦横比を有する大きな格子定数の格子構造となっている。
【０５３５】
領域Ａが領域Ｂより紫外線光に対する透過性の一層高いレベルを伴い、そして、領域Ｂが領域Ｄより紫外線光に対する透過性の一層高い程度を伴う場合には、アルミニウムの第１の層３ｍは、複製層３に不透明に、かつ全表面領域上にスパッタリングによって付与される。
【０５３６】
図１８（Ｂ）を参照すると、第１の凹凸構造部を有する領域Ａが、最も強く露光され、そして、その後で、具体的には、目標位置に照射する方法において取り除ける場合には、陽画のフォトレジスト層１２は、全表面領域上に、そこに付与され、そして、キャリア層１および第１の層３ｍを通して露光されていた。
【０５３７】
ところで、部分的に形成された陽画のフォトレジスト層１２は、エッチングマスクとして利用され、そして、第１の層３ｍの露光された領域Ａが、エッチングによって取り除かれる。
【０５３８】
その結果が、図１８（Ｃ）に示されている。
【０５３９】
ところで、領域Ａの中で硬化が起こるので、青く色付いた陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´は、全表面領域上に付与され、そして、キャリア層を通して露光される。
【０５４０】
陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´は、領域ＢおよびＤの中で取り除かれる。
【０５４１】
その結果が、図１８（Ｄ）に示されている。
【０５４２】
ところで、陽画のフォトレジスト層１２は、完全に取り除かれ、そして、第１の層３ｍも、完全にエッチングによって取り除かれる。
【０５４３】
そこで直ちに、アルミニウムのさらなる第１の層３ｍ´が、全表面領域上にスパッタリングによって付与され、そして、さらなる陽画のフォトレジスト層１２´´が、全表面領域上に付与される。
【０５４４】
その結果が、図１８（Ｅ）に示されている。
【０５４５】
それは、さらなる陽画のフォトレジスト層１２´´のキャリア層１を通した露光に従い、そして、それから、さらなる陽画のフォトレジスト層１２´´の最も強く露光された領域１３の中の除去に従う。
【０５４６】
陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´が、領域Ａ内の第１の凹凸構造部を満たした後で、領域Ａ内のさらなる第１の層３ｍ´を通した透過性、今は領域Ｄ内も等価である透過性において、陽画のフォトレジスト層１２´´の領域ＡとＤも両方が維持される。
【０５４７】
図１８（Ｆ）に示すように、さらなる第１の層３ｍ´は領域Ｂの中で露光され、そして、エッチングによって取り除かれる。
【０５４８】
ところで、赤く色付いたさらなる陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´´´が全表面領域上に付与され、そして、領域Ｂの中で硬化が起こるように、キャリア層１を通して露光される。
【０５４９】
他の領域において、赤く色付いさらなる陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´´´が取り除かれる。
【０５５０】
その結果が、図１８（Ｇ）に示されている。
【０５５１】
最終的に、さらなる陽画のフォトレジスト層１２´´は取り除かれ、そして、さらなる第１の金属層３ｍ´が、エッチングによって完全に溶かされる。
【０５５２】
多層体１００ｐが、キャリア層１と、機能層２と、青の陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´として形成された、部分的に形成された機能層と、さらなる赤の陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´´として形成された、さらに部分的に形成された層とによって形成されているところの、その結果が、図１８（Ｈ）に示されている。
【０５５３】
赤と青の層１２´、１２´´がお互いに完全な型による重ね合わせ関係に基づいて位置づけられている。
【０５５４】
図１８（Ｋ）は、図１８（Ａ）〜（Ｈ）に示されるような工程によって形成された多層体１００ｐ´の平面図を示す。
【０５５５】
陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´によって形成される青の線と、透明な背景に対する有色のフィリグリーの偽造防止対策がなされた装飾体を共同で形成するさらなるフォトレジスト層１２´´によって形成される赤の線とを見ることができる。
【０５５６】
楕円形の領域は、赤の線の範囲を示す点線によって示されている。
【０５５７】
仮想線が装飾体の有色の線を横切っている全ての場所で、全くずれることなく線が真っ直ぐに繋がっているので、色が赤から青に変化する。
【０５５８】
その種の装飾体は、極端に模倣が困難である。
【０５５９】
線に沿った異なる色の配列は、型による正確な重ね合わせ関係に基づいく、その方法において、今のところ、従来の工程を使用しては達成されていない。
【０５６０】
また一方で、本発明に係る工程によって形成される装飾体は、一様に、互いに平行な色付の線または、お互いに絡み合う色付の線を有していてもよい。
【０５６１】
図１８（Ｍ）は、図１８（Ａ）〜（Ｈ）に示されるような工程によって形成されるさらなる多層体１００ｐ´´の平面図を示す。
【０５６２】
陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´により形成された青の線と、透明な背景に対して有色の丸い偽造防止対策がなされた装飾体を共同で形成する、さらなるフォトレジスト層１２´´により形成された赤の線とを見ることができる。
【０５６３】
赤の線の範囲は、クロスハッチで表されている。
【０５６４】
切れることなく繋がっている線の輪郭の内部で、クロスハッチの周囲の全ての場所で、その色が直接赤から青に変わる。
【０５６５】
また、そのような装飾体は、模倣するのが極端に困難である。
【０５６６】
代案として、そこの、そのような偽造防止対策がなされた装飾体としては、青の線の代わりに、反射性の金属層によって形成してもよいし、赤の線の代わりに、発光性層または液晶層、および、さらに他のものなどによって形成してもよい。
【０５６７】
同時に、そのような偽造防止模様で、多層体の表側と裏側とから異なる色の印象を与えることができる。
【０５６８】
図１９は、本発明に係る多層体１００ｒを通してみた、さらなる断面図を示している。
【０５６９】
第１の凹凸構造部が、第１の領域Ａの中で形成されている場合には、キャリア層１および複製層３がある。
【０５７０】
これに対して、第２の領域Ｂの中には凹凸構造部がない。
【０５７１】
ここでは、誇張された厚さで示された、構造化された第１の層３ｍ´´を形成するのに、緑のプリントインクが、第１の凹凸構造部の中で削り取られた。
【０５７２】
ところで、２つの方法によって、さらに進めることができる。
【０５７３】
左の領域Ａ１のような構造が形成可能ならば、透明な空隙層２´が形成され、そして、赤く色付いた陽画のフォトレジスト層１２が、そこに、関わる全表面領域上に付与される。フォトレジスト層１２は、キャリア層１および露光マスクとして機能する第１の層３ｍ´´を通して露光される。
【０５７４】
フォトレジスト層１２は、そのとき、領域Ｂの中で取り除かれる。
【０５７５】
それは、赤の構造化されたフォトレジスト層１２として形成された、さらに部分的に形成された層によって正確になされた、緑のプリントインクとして形成された、部分的に形成された機能層を与える。
【０５７６】
さらに、視線方向に依存するモアレ効果または局所的な陰影効果のような光学的な重ね合わせによる効果が空隙層２´によって生じる。
【０５７７】
右の領域Ａ２のような構造が形成可能ならば、赤色の陽画のフォトレジスト層１２は、関わる全表面領域上に付与される。
【０５７８】
フォトレジスト層１２は、キャリア層１および露光マスクとして機能する第１の層３ｍ”を通して露光される。
【０５７９】
フォトレジスト層１２は、そのとき、領域Ｂの中で取り除かれる。
【０５８０】
その結果は、赤の構造化されたフォトレジスト層１２として形成された、さらなる部分的に形成された層によって、正確に裏打ちされた緑のプリントインクとして形成された部分的に形成された機能層となる。
【０５８１】
そして、最終的に接着層２´´が形成可能である。
【０５８２】
図２０（Ａ）〜２０（Ｃ）は、第１の工程の断面を図式的に示している。
【０５８３】
この場合には、図２０（Ａ）に示されたように、第２の領域Ｄが平坦なままになっている間に、凹凸構造部が第１の領域Ａの中に形成される場合には、キャリア層１と、機能層２と、そして、複製層３とが付与されている。
【０５８４】
層３ｍは、領域Ａの中で透明であり、そして、すでに領域Ｄの中で不透明であるので、アルミニウムの第１の層３ｍは、そのとき、全表面領域上に、スパッタリングによって、そこに付与される。
【０５８５】
黄色く色付いた透明な陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２は、そのとき、全表面領域上にそこに付与され、そして、キャリア層１を通して露光される。
【０５８６】
フォトレジスト層１２の露光されない領域は、すなわち、領域Ｄの中で、そのとき、取り除かれ、そして、第１の層３ｍはそこで露光される。
【０５８７】
さらなる不透明に青く色付いた陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２´は、そのとき、全表面領域上に付与され、そして、キャリア層１を通して露光される。
【０５８８】
さらなるフォトレジスト層１２´の露光されない領域が、すなわち、領域Ｄの中で、そのとき、取り除かれ、そして、第１の層３ｍは、そこで露光される。
【０５８９】
その結果が、図２０（Ｂ）に示されている。
【０５９０】
２つのフォトレジスト層１２，１２´がエッチングマスクとして機能するので、そのとき、第１の層３ｍは、領域Ｄの中でエッチングによって取り除かれる。
【０５９１】
その結果が、図２０（Ｃ）に示されている。
【０５９２】
多層体１００ｓは、キャリア層１と、機能層２と、複製層３と、部分的に形成された機能層としての黄色のフォトレジスト層１２と、そして、そこでの、完全な型による重ね合わせ関係に基づいた、明な背景に対しては、さらに部分的に形成された層となる青のフォトレジスト層１２´とを有している。
【０５９３】
多層体１００ｓをキャリア層１側から見たときに、領域Ａの中に、まだ存在している透明な第１の層３ｍは、色の効果を生じることなく、凹凸構造部が認識されるのを許可する。
【０５９４】
図２１は、キャリア層１と、複製層３と、アルミニウムの構造化された第１の層３ｍと、透明な空隙層２´と、そして、２つの異なる有色のフォトレジスト層１２，１２´とからなる第１の工程によって形成された、本発明に係るさらなる多層体を示している。
【０５９５】
この場合には、直接第１の層３ｍの下にある第１の層に依存して、あるいは、それと共に解除された重ね合わせ関係に基づいて、フォトレジスト層１２，１２´の配向が有効となる。
【０５９６】
それによって、具体的には目標位置に照射する方法によって、フォトレジスト層１２´について見られるように、第１の層３ｍを通しての斜めの露光によって、斜めの切除部も形成できる。
最終的に透明な接着層２´´が形成される。
【０５９７】
図２２（Ａ）〜２３（Ｂ）は、第１の工程によって形成された偽造防止対策がなされた証書の断面を示している。
【０５９８】
図２２（Ａ）は、接着層２´´によってくっついている透明な多層体１００ｔ上の透明なＩＤカード１´を示している。
【０５９９】
機能層２として形成された透明な保護ラッカー層と、第１の凹凸構造部を有する透明なラッカーの複製層３と、不透明なアルミニウム層として形成された部分的に形成された第１の層３ｍと、ＺｎＳの透明な誘電性の反射層として形成された、さらに部分的に形成された層と、そして、不透明な緑のプリントインクとして形成された部分的に形成された機能層１２とがある。
【０６００】
機能層１２は、さらに部分的に形成された層３ｍ，３ｍ´、および、複製層３の中の第１の凹凸構造部と共に完全な型による重ね合わせ関係に基づいて形成されている。
【０６０１】
これによって、ホログラムによる表現が、一方で微細なアルミニウムの線によって、そして、他方で透明なＺｎＳ層および緑の色によってなされているので、線の形でのホログラムによる表現は、見る人に、機能層２を通して、それ自体を見せる。
【０６０２】
反対側から見ると、細線からなるフィリグリーの緑にプリントされた模様自体が、ＩＤカード１´を通して見る人に見える。
【０６０３】
図２２（Ｂ）は、接着層２´´によって、くっつけられてきた透明な多層体１００ｔ´上の透明なＩＤカード１´を示している。
【０６０４】
機能層２として形成された透明な保護ラッカー層と、第１の凹凸構造部を有する透明なラッカーの複製層３と、不透明なアルミニウム層として形成された部分的に形成された第１の層３ｍと、ＺｎＳの透明な誘電性の反射層として形成された、さらに部分的に形成された層と、そして、不透明な緑のプリントインクとして形成された部分的に形成された機能層１２とがある。
【０６０５】
機能層１２は、さらに部分的に形成された層３ｍ，３ｍ´と共に、および、複製層３の中の第１の凹凸構造部と共に完全な型による重ね合わせ関係に基づいて形成されている。
【０６０６】
これによって、細線からなるフィリグリーの緑にプリントされた模様は、それ自体、見る人に、機能層２を通して見られる。
【０６０７】
ホログラムによる表現が、一方で微細なアルミニウムの線によって、そして、他方で透明なＺｎＳ層および緑の色によってなされているので、反対側から見ると、線の形でのホログラムによる表現は、見る人に、ＩＤカード１´を通して、それ自体を見せる。
【０６０８】
図２３（Ａ）は、透明な接着層２´´によってくっつけられた透明な多層体１００ｔ´´上の透明なＩＤカード１´を示している。
【０６０９】
機能層２として形成された透明な保護ラッカー層と、第１の凹凸構造部を有する透明なラッカーの複製層３と、不透明なアルミニウム層として形成された部分的に形成された第１の層３ｍと、ここでは、空隙層、透明な赤いフォトレジスト層１２として形成されたさらに部分的に形成された層、不透明な緑のプリントインクとして形成された部分的に形成された機能層１２´として機能する接着層２´´とがある。
【０６１０】
赤いフォトレジスト層１２は、ＩＤカード１´の面に垂直に見て、部分的に形成された第１の層３ｍと完全に一致した重ね合わせ関係に基づいて部分的に重ね合わされ、そして、底から部分的に取り除かれる。
【０６１１】
部分的に形成された機能層１２´は、第１の層３ｍと共に取り除かれた重ね合わせ関係に基づいて形成されている。
【０６１２】
したがって、第１の凹凸構造部によって金属の線が、ホログラムによる効果を示す、微細な緑と赤の線および金属の線からなるフィリグリーの装飾的な模様が、見る人に、機能層２を通して見える。
【０６１３】
また、反対側から見ると、ホログラムによる効果を示す第１の凹凸構造部によって、微細な緑と赤の線および金属の線のフィリグリーの装飾的な模様が、見る人に、ＩＤカード１´と、金属の線とを通して見える。
【０６１４】
しかしながら、透明な赤いフォトレジスト層１２によって、重なり合う金属の線があるということには注意する。
【０６１５】
多層体１００ｔ´´が、ＩＤカード１´の表面の個人に関わるデータを巧みに細工するために、偽造者によって、ＩＤカード１´から分離されるならば、他方の層２´´，３ｍ，３，２が引き離せたとしても、赤と緑の層１２，１２´がＩＤカード１´上に残る。
【０６１６】
データの巧妙な取り扱いの後で、フィリグリーの装飾的な模様を与えるために、独立の層の積み重ねをＩＤカード１´に再び付与しなければならない。
【０６１７】
また一方で、細線によって、それは、ほとんど絶望的であり、そして最初の位置からの誤差は、認識できる程度に残る。
【０６１８】
ＩＤカード１´は、特に有効に多層体１００ｔ´´により、偽造の試みから保護されている。
【０６１９】
図２３（Ｂ）は、透明な接着層２´´によってくっつけられた透明な多層体１００ｔ´´上の透明なＩＤカード１´を示している。
【０６２０】
機能層２として形成された透明な保護ラッカー層と、第１の凹凸構造部を有する透明なラッカーの複製層３と、透明な赤いフォトレジスト層１２として形成された機能層としての部分的に形成された第１の層３ｍと、空隙層および不透明な緑のフォトレジスト層１２´として形成されたさらに部分的に形成された層として機能する接着層２´´とがある。
【０６２１】
赤いフォトレジスト層１２は、ＩＤカード１´の面に垂直に見ると、第１の凹凸構造部と完全に一致した重ね合わせ関係に基づいており、そして、領域的に見て、部分的に形成された緑のフォトレジスト層１２´と共に完全に一致した重ね合わせ関係に基づいて重ねあわされている。
【０６２２】
したがって、微細な透明な赤の線および不透明な黒の線からなるフィリグリーの装飾的な模様は、見る人に、機能層２を通して見られる。
【０６２３】
反対側から見ると、微細で不透明な緑の線および透明な赤の線からなるフィリグリーの装飾的な模様は、見る人に、ＩＤカード１´を通して、それ自体を見せる。
【０６２４】
多層体１００ｔ´´が、ＩＤカード１´の表面の個人に関わるデータを巧みに細工するために、偽造者によって、ＩＤカード１´から分離されるならば、他方の層２´´，１２，３，２が引き離せたとしても、緑の層１２´がＩＤカード１´上に残る。
【０６２５】
データの巧妙な取り扱いの後で、フィリグリーの装飾的な模様を与えるような方法で、独立の層の積み重ねをＩＤカード１´に再び付与しなければならない。
【０６２６】
また一方で、細線によって、それは、ほとんど絶望的であり、そして最初の位置からの誤差は、まだ認識できる程度に残る。
【０６２７】
また、ＩＤカード１´は、特に有効に多層体１００ｔ´´により、偽造の試みから保護されている。
【０６２８】
図２４（Ａ）〜（Ｅ）は、お互いに完全な型による重ね合わせ関係に基づいた２つの異なる色からなるフィリグリーのプリントされたパターンの製造のための第２の工程の断面図を図式的に示している。
【０６２９】
図２４（Ａ）は、赤く色付いた陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２が全表面領域上に付与されてきた一方側の、ＰＥＴの透明なキャリア層１を示している。
【０６３０】
陰画の緑に色づいたフォトレジスト層１２は、そのとき、光を通す開口２００ａを有するマスク２００を通して模様の形状に露光される（矢印は光の照射方向を示している。）。
【０６３１】
露光された領域がキャリア層１上に残り、そして、赤の線状模様を形成する間は、マスクの除去の後で、フォトレジスト層１２の露光されない領域が、取り除かれる。
【０６３２】
その結果が、図２４（Ｂ）に示されている。
【０６３３】
ところで、上記の工程は、空隙層としての透明なラッカー層と、それから緑に着色された陽画のフォトレジスト層１２’か、または、一方で、図２４（Ｃ）に示されるように、直接緑に着色された陽画のフォトレジスト層１２’のどちらかの付与処理を含んでいる。
【０６３４】
陽画のフォトレジスト層１２´は、キャリア層１および部分的に形成されたマスク層として機能する赤いフォトレジスト層１２を通して露光される（矢印は光の照射方向を示している。）。
【０６３５】
ところで、露光されない領域が、部分的に形成された赤いフォトレジスト層１２上に残っている間は、緑のフォトレジスト層１２´の露光された領域が取り除かれる。
【０６３６】
最終的に、接着層２は、関わる全表面領域上に付与される。
【０６３７】
図２４（Ｄ）は、形成された多層体１００ｖが透明なＩＤカード１´にくっついた状態で示された、そのように形成された多層体を有して形成された、偽造防止対策がなされた証書を示している。
【０６３８】
多層体１００ｖは、透明なキャリア層１と、部分的に形成された機能層として機能する赤いフォトレジスト層１２と、それと共に完全な型による重ね合わせ関係に基づき、さらに部分的に形成された層として形成された緑のフォトレジスト層１２´と、そして、透明な接着層２´´とを有している。
【０６３９】
偽造防止対策がなされた証書は、キャリア層１側から見ると、見る人にフィリグリーの赤の線状模様を示し、ＩＤカード１´側から見たときに、それはフィリグリーの緑の線状模様を示す。
【０６４０】
図２４（Ｅ）は、形成された多層体１００ｖ´が透明なＩＤカード１´にくっついた状態で示された、空隙層を含めて形成された多層体を有して形成された、偽造防止対策がなされた証書を示している。
【０６４１】
多層体１００ｖ´は、透明なキャリア層１と、部分的に形成された機能層として機能する赤いフォトレジスト層１２と、透明な空隙層２´と、そして、赤いフォトレジスト層１２と共に完全な型による重ね合わせ関係に基づき、さらに部分的に形成された層として形成された緑のフォトレジスト層１２´と、そして、透明な接着層２´´とを有している。
【０６４２】
偽造防止対策がなされた証書は、キャリア層１側から見ると、見る人にフィリグリーの赤い線状模様を示し、そして、ＩＤカード１´側から見ると、フィリグリーの緑の線状模様を示すものであって、空隙層２´のそれぞれの厚さに依存して、偽造防止対策がなされた証書が傾けられたときに、それぞれの他の色や光学的干渉効果が表れる。
【０６４３】
全ての多数の可能な工程手順および形成可能な多層体および偽造防止対策がなされた証書または構成部品によって、余すところなく、それら全てに着手する必要がないことが認識されるであろう。
【０６４４】
また一方で、本発明の知識を有する当業者は、期待される結果に到達するために、容易に工程のステップを改良または組み合わせできる立場にある。
【０６４５】
このように、当業者は容易に第１の本発明に係る工程と、第２の本発明に係る工程とを、特にフィリグリーの線状模様を有すると同時に、高いレベルの模造に対する防止策を有する装飾的な効果における追加の実施例を達成するために、組み合わせることもできる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５（Ａ）】
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【図１５（Ｂ）】
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【図１５（Ｃ）】
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【図１５（Ｄ）】
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【図１５（Ｅ）】
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【図１５（Ｆ）】
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【図１５（Ｇ）】
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【図１６（Ａ）】
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【図１６（Ｂ）】
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【図１６（Ｃ）】
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【図１７（Ａ）】
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【図１７（Ｂ）】
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【図１７（Ｃ）】
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【図１７（Ｄ）】
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【図１７（Ｅ）】
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【図１７（Ｆ）】
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【図１７（Ｇ）】
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【図１７（Ｈ）】
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【図１８（Ａ）】
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【図１８（Ｂ）】
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【図１８（Ｃ）】
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【図１８（Ｄ）】
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【図１８（Ｅ）】
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【図１８（Ｆ）】
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【図１８（Ｇ）】
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【図１８（Ｈ）】
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【図１８（Ｋ）】
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【図１８（Ｍ）】
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【図１９】
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【図２０（Ａ）】
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【図２０（Ｂ）】
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【図２０（Ｃ）】
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【図２１】
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【図２２（Ａ）】
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【図２２（Ｂ）】
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【図２３（Ａ）】
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【図２３（Ｂ）】
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【図２４（Ａ）】
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【図２４（Ｂ）】
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【図２４（Ｃ）】
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【図２４（Ｄ）】
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【図２４（Ｅ）】
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【国際調査報告】
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