(57)【要約】  輻射線感受性組成物を使用して、例えば平版印刷版を作製するのに有用なポジ型画像形成性要素を製造できる。この組成物は、フェノール系樹脂（例えばノボラック）またはポリ（ビニルアセタール）を含む、水性アルカリ性溶媒に可溶性のポリマーバインダーを含む。この組成物は１種または２種以上の塩基性の窒素含有有機化合物を含む現像性向上組成物も含む。輻射線感受性組成物は、例えば赤外線に感受性である輻射線吸収化合物をさらに含む画像形成性層としてコーティングすることができる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ．フェノール系樹脂またはポリ（ビニルアセタール）を含む、水性アルカリ性現像液に可溶性のポリマーバインダー、および
ｂ．塩基性の窒素含有有機化合物を含む現像性向上組成物、
を含む輻射線感受性組成物。
【請求項２】
さらに輻射線吸収化合物を含む請求項１に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項３】
前記ポリマーバインダーがノボラック樹脂を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記ポリマーバインダーが、５０〜７５モル％の反復アセタール含有単位を有するポリ（ビニルアセタール）を含む、請求項１に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項５】
前記ポリマーバインダーが、下記構造（ＰＶＡｃ）： 
【化１】
2010532488.tif 000019
（ここで、ＲおよびＲ’は独立に水素またはアルキルもしくはハロ基であり、Ｒ2 は置換もしくは非置換のフェノール、ナフトールもしくはアントラセノール基である）
により表される反復単位を含むポリ（ビニルアセタール）を含む、請求項１に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項６】
前記ポリマーバインダーが、下記構造（Ｉ）：
【化２】
2010532488.tif 000020
（ここで、Ａは下記構造（Ｉａ）により表される反復単位を表し：
【化３】
2010532488.tif 000021
Ｂは下記構造（Ｉｂ）により表される反復単位を表し：
【化４】
2010532488.tif 000022
Ｃは下記構造（Ｉｃ）により表される反復単位を表し：
【化５】
2010532488.tif 000023
Ｄは下記構造（Ｉｄ）により表される反復単位を表し：
【化６】
2010532488.tif 000024
Ｅは下記構造（Ｉｅ）により表される反復単位を表し：
【化７】
2010532488.tif 000025
ｍは５〜４０モル％であり、ｎは１０〜６０モル％であり、ｐは０〜２０モル％であり、ｑは１〜２０モル％であり、ｒは５〜６０モル％であり、ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは少なくとも５０モル％であり、
ＲおよびＲ’は独立に水素またはアルキルもしくはハロ基であり、
Ｒ1 はアルキル基、シクロアルキル基、またはフェノールもしくはナフトール以外のアリール基であり、
Ｒ2 はフェノールまたはナフトール基であり、
Ｒ3 はアルキル基であり、
Ｒ4 は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ5 基であり、ここでＲ5 はアルキルまたはアリール基であり、
Ｒ6 はヒドロキシ基である）
により表されるポリ（ビニルアセタール）を含む、請求項４に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項７】
ｍが１５〜３５モル％であり、ｎが２０〜４０モル％であり、ｐが０〜１０モル％であり、ｑが１〜１５モル％であり、ｒが１５〜５５モル％であり、ｓが５〜１５モル％である、請求項６に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項８】
前記現像性向上材料が、下記構造（ＩＩ）：
【化８】
2010532488.tif 000026
（ここで、ｓとｖの和が３であることを条件として、ｓは０，１または２であり、ｖは１〜３であり、ｔは１〜６であり、
ｓが１である場合に、Ｒ7 は水素であるか、あるいはアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミンまたはヘテロアリール基であり、ｓが２である場合に、複数のＲ7 基は、同じまたは異なるアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミンまたはヘテロアリール基であることができ、あるいは、２個のＲ7 基が窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式環を形成していてもよく、
Ｒ8 およびＲ9 は独立に水素またはアルキル基である）
により表される１種または２種以上の塩基性の窒素含有化合物を含む、請求項１に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項９】
ｔが２であり、Ｒ8 およびＲ9 が両方とも水素である、請求項８に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項１０】
前記現像性向上組成物が、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−［ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）−エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）−エチレンジアミン、３−［（２−ヒドロキシエチル）フェニルアミノ］プロピオニトリル、およびヘキサヒドロ−１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）−ｓ−トリアジンのうちの１種または２種以上を含む、請求項１に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項１１】
前記１種または２種以上の塩基性の窒素含有有機化合物が、輻射線感受性組成物の全固形分の１〜３０％の量で存在する、請求項１に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項１２】
前記塩基性の窒素含有有機化合物のうちの２種または３種以上を含む、請求項１に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項１３】
前記塩基性の窒素含有有機化合物のうちの１種または２種以上と１種または２種以上の酸性の現像性向上化合物を含む、請求項１に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項１４】
前記塩基性の窒素含有有機化合物が、２５℃で液体であるか、あるいは３００℃を超える沸点とｎ−ブチルアセテートに対して０．０１未満の蒸発速度を有する、請求項１に記載の輻射線感受性組成物。
【請求項１５】
基材を含み、当該基材上に、フェノール系樹脂またはポリ（ビニルアセタール）を含む、水性アルカリ性現像液に可溶性のポリマーバインダーと、塩基性の窒素含有有機化合物を含む現像性向上組成物と、輻射線吸収化合物とを含む画像形成性層を有するポジ型画像形成性要素。
【請求項１６】
前記ポリマーバインダーが３０〜９５質量％の被覆量で存在し、前記現像性向上組成物が１〜３０質量％の被覆量で存在し、前記輻射線吸収化合物が０．１〜２０質量％の被覆量で存在する赤外線吸収化合物である（これらの被覆量は全て前記画像形成性層の全乾燥質量を基準とする）、請求項１５に記載の要素。
【請求項１７】
前記ポリマーバインダーがノボラック樹脂を含む、請求項１５に記載の要素。
【請求項１８】
前記ポリマーバインダーが、下記構造（ＰＶＡｃ）： 
【化９】
2010532488.tif 000027
（ここで、ＲおよびＲ’は独立に水素またはアルキルもしくはハロ基であり、Ｒ2 は置換もしくは非置換のフェノール、ナフトールもしくはアントラセノール基である）
により表される反復単位を含むポリ（ビニルアセタール）を含む、請求項１５に記載の要素。
【請求項１９】
前記ポリマーバインダーが、下記構造（Ｉ）：
【化１０】
2010532488.tif 000028
（ここで、Ａは下記構造（Ｉａ）により表される反復単位を表し：
【化１１】
2010532488.tif 000029
Ｂは下記構造（Ｉｂ）により表される反復単位を表し：
【化１２】
2010532488.tif 000030
Ｃは下記構造（Ｉｃ）により表される反復単位を表し：
【化１３】
2010532488.tif 000031
Ｄは下記構造（Ｉｄ）により表される反復単位を表し：
【化１４】
2010532488.tif 000032
Ｅは下記構造（Ｉｅ）により表される反復単位を表し：
【化１５】
2010532488.tif 000033
ｍは５〜４０モル％であり、ｎは１０〜６０モル％であり、ｐは０〜２０モル％であり、ｑは１〜２０モル％であり、ｒは５〜６０モル％であり、ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは少なくとも５０モル％であり、
ＲおよびＲ’は独立に水素またはアルキルもしくはハロ基であり、
Ｒ1 はアルキル基、シクロアルキル基、またはフェノールもしくはナフトール以外のアリール基であり、
Ｒ2 はフェノールまたはナフトール基であり、
Ｒ3 はアルキル基であり、
Ｒ4 は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ5 基であり、ここでＲ5 はアルキル基またはアリール基であり、
Ｒ6 はヒドロキシ基である）
により表されるポリ（ビニルアセタール）を含む、請求項１５に記載の要素。
【請求項２０】
前記現像性向上材料が、下記構造（ＩＩ）：
【化１６】
2010532488.tif 000034
（ここで、ｓとｖの和が３であることを条件として、ｓは０，１または２であり、ｖは１〜３であり、ｔは１〜６であり、
ｓが１である場合に、Ｒ7 は水素であるか、あるいはアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミンまたはヘテロアリール基であり、ｓが２である場合に、複数のＲ7 基は、同じまたは異なるアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミンまたはヘテロアリール基であることができ、あるいは、２個のＲ7 基が窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式環を形成していてもよく、
Ｒ8 およびＲ9 は独立に水素またはアルキル基である）
により表される１種または２種以上の塩基性の窒素含有化合物を含む、請求項１５に記載の要素。
【請求項２１】
ｔが２であり、Ｒ8 およびＲ9 が両方とも水素である、請求項２０に記載の要素。
【請求項２２】
前記現像性向上組成物が、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−［ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）−エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）−エチレンジアミン、３−［（２−ヒドロキシエチル）フェニルアミノ］プロピオニトリル、およびヘキサヒドロ−１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）−ｓ−トリアジンのうちの１種または２種以上を含む、請求項１５に記載の要素。
【請求項２３】
前記塩基性の窒素含有有機化合物が、２５℃で液体であるか、あるいは３００℃を超える沸点とｎ−ブチルアセテートに対して０．０１未満の蒸発速度を有する、請求項１５に記載の要素。
【請求項２４】
前記現像性向上組成物が、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン、トリエタノールアミン、およびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）−エチレンジアミンのうちの１種または２種以上を、前記画像形成性層の全乾燥質量を基準として３〜１５質量％の量で含む、請求項１５に記載の要素。
【請求項２５】
Ａ）請求項１５に記載のポジ型画像形成性要素を像様露光して露光領域および非露光領域をもたらすこと、および
Ｂ）前記像様露光された要素を現像して露光領域のみを除去すること、
を含む印刷版の製造方法。
【請求項２６】
前記画像形成性要素が７００〜１２００ｎｍの波長で画像形成される、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記画像形成性要素が前記画像形成性層中にポリマーバインダーを含み、当該ポリマーバインダーが、ノボラック樹脂または下記構造（ＰＶＡｃ）： 
【化１７】
2010532488.tif 000035
（ここで、ＲおよびＲ’は独立に水素またはアルキルもしくはハロ基であり、Ｒ2 は置換もしくは非置換のフェノール、ナフトールもしくはアントラセノール基である）
により表される反復単位を含むポリ（ビニルアセタール）を含み、前記現像性向上組成物が、下記構造（ＩＩ）：
【化１８】
2010532488.tif 000036
（ここで、ｓとｖの和が３であることを条件として、ｓは０，１または２であり、ｖは１〜３であり、ｔは１〜６であり、
ｓが１である場合に、Ｒ7 は水素であるか、あるいはアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミンまたはヘテロアリール基であり、ｓが２である場合に、複数のＲ7 基は、同じまたは異なるアルキル、アルキルアミン、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、アリールアミンまたはヘテロアリール基であることができ、あるいは、２個のＲ7 基が窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式環を形成していてもよく、
Ｒ8 およびＲ9 は独立に水素またはアルキル基である）
により表される１種または２種以上の塩基性の窒素含有化合物を含む、請求項２５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、輻射線感受性組成物およびこれらの組成物を使用して製造されるポジ型画像形成性要素に関する。本発明は、これらの要素を画像形成して平版印刷版として使用できる画像形成された要素を提供する方法にも関する。
【背景技術】
【０００２】
平版印刷では、画像領域として知られるインク受容領域を親水性表面上に生成させる。その表面を水で湿らせ、インクを適用すると、親水性領域は水を保持してインクを弾き、インク受容領域はインクを受容して水を弾く。次に、インクは画像が再現されるべき材料の表面に転写される。場合によって、インクを先ず中間ブランケットに転写し、次に、そのブランケットを用いて、画像が再現されるべき材料の表面にインクを転写する。
【０００３】
平版（またはオフセット）印刷版前駆体として有用な画像形成性要素は、典型的には、基材（または媒介層）の親水性表面上に適用された１または２つ以上の画像形成性層を含む。画像形成性層は、好適なバインダー中に分散された１種又は２種以上の輻射線感受性成分を含む。画像形成に続いて、画像形成性層の露光領域又は非露光領域を好適な現像剤によって除去し、下側に位置する基材の親水性表面を露出させる。露光領域が除去される場合には、当該要素はポジ型と見なされる。逆に、非露光領域が除去される場合には、当該要素はネガ型とみなされる。それぞれの場合において、残される画像形成性層の領域はインク受容性であり、現像プロセスによって露出した親水性表面の領域は、水または水溶液（典型的には湿し水）を受容し、インクを弾く。
【０００４】
同様に、印刷回路板（ＰＣＢ）の製造、厚いおよび薄いフィルム回路、レジスター、キャパシターおよびインダクター、マルチチップデバイス、集積回路、並びに活性半導体デバイスを形成するためにポジ型組成物を使用できる。
【０００５】
コンピューターからのデジタルデータを使用してオフセット印刷版または印刷回路番を直接形成する「レーザーダイレクト画像形成（ｌａｓｅｒ  ｄｉｒｅｃｔ  ｉｍａｇｉｎｇ）」法（ＬＣＤ）が知られており、当該方法は、マスキング写真フィルムを使用する以前の方法よりも多くの利点を提供する。より有効なレーザー、改善された画像形成組成物およびそれらの成分に由来するかなりの発展がこの分野であった。
【０００６】
感熱性画像形成性要素は、好適な量の熱エネルギーへの暴露または好適な量の熱エネルギーの吸収に応じて化学変換するものに分類できる。熱的に誘発される化学変換の性質は、要素中の画像形成性組成物をアブレートするためのもの、もしくは特定の現像液へのその溶解性を変化させるためのもの、または感熱性層の表面層の粘着性もしくは親水性もしくは疎水性を変化させるためのものであることができる。そのため、平版印刷表面またはＰＣＢの製造においてレジストパターンとして機能することのできる画像形成性層の所定の領域を露光するのに熱画像形性を使用できる。
【０００７】
ノボラックまたは他のフェノール系ポリマーバインダーおよびジアゾキノン画像形成成分を含むポジ型画像形成性組成物は、平版印刷版およびフォトレジスト業界において長年普及してきた。様々なフェノール系樹脂および赤外線吸収性化合物に基づく画像形成性組成物もよく知られている。
【０００８】
サーモグラフィック記録材料として有用な幅広い熱画像形成性組成物が英国特許出願公開第１，２４５，９２４号明細書（Ｂｒｉｎｃｋｍａｎ）に記載されている。この刊行物には、短時間、高強度の可視光または赤外線に直接暴露することにより画像形成性層を加熱することによって、所定の溶剤中で画像形成性層の所定の領域の溶解性を増加させることが記載されている。この輻射線は、記録材料と接触して位置しているグラフィックオリジナル（ｇｒａｐｈｉｃ  ｏｒｉｇｉｎａｌ）のバックグラウンド領域から透過または反射し得る。この刊行物には、様々な機構が記載されており、現像材料およびノボラック樹脂が水性現像組成物中に含まれ、当該水性現像組成物はカーボンブラックまたはＣ．Ｉ．ピグメントブルー２７などの輻射線吸収化合物も含む得る。
【０００９】
他の熱的に画像形成可能な単層または多層の要素は、例えば国際公開第９７／０３９８９４号（Ｈｏａｒｅら）、国際公開第９８／０４２５０７号（Ｗｅｓｔら）、国際公開第９９／０１１４５８号（Ｎｇｕｅｎｇら）、米国特許第５，８４０，４６７号明細書（Ｋａｔａｔａｎｉ）、米国特許第６，０６０，２１７号明細書（Ｎｇｕｅｎｇら）、米国特許第６，０６０，２１８号明細書（Ｖａｎ  Ｄａｍｍｅら）、米国特許第６，１１０，６４６号明細書（Ｕｒａｎｏら）、米国特許第６，１１７，６２３号明細書（Ｋａｗａｕｃｈｉ）、米国特許第６，１４３，４６４号明細書（Ｋａｗａｕｃｈｉ）、米国特許第６，２９４，３１１号明細書（Ｓｈｉｍａｚｕら）、米国特許第６，３５２，８１２号明細書（Ｓｈｉｍａｚｕら）、米国特許第６，５９３，０５５号明細書（Ｓｈｉｍａｚｕら）、米国特許第６，３５２，８１１号明細書（Ｐａｔｅｌら）、米国特許第６，３５８，６６９号明細書（Ｓａｖａｒｉａｒ−Ｈａｕｃｋら）および米国特許第第６，５２８，２２８号明細書（Ｓａｖａｒｉａｒ−Ｈａｕｃｋら）、並びに米国特許出願公開第２００２／００８１５２２号明細書（Ｍｉｙａｋｅら）および第２００４／００６７４３２号明細書（Ｋｉｔｓｏｎら）に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】国際公開第９７／０３９８９４号
【特許文献２】国際公開第９８／０４２５０７号
【特許文献３】国際公開第９９／０１１４５８号
【特許文献４】米国特許第５，８４０，４６７号明細書
【特許文献５】米国特許第６，０６０，２１７号明細書
【特許文献６】米国特許第６，０６０，２１８号明細書
【特許文献７】米国特許第６，１１０，６４６号明細書
【特許文献８】米国特許第６，１１７，６２３号明細書
【特許文献９】米国特許第６，１４３，４６４号明細書
【特許文献１０】米国特許第６，２９４，３１１号明細書
【特許文献１１】米国特許第６，３５２，８１２号明細書
【特許文献１２】米国特許第６，５９３，０５５号明細書
【特許文献１３】米国特許第６，３５２，８１１号明細書
【特許文献１４】米国特許第６，３５８，６６９号明細書
【特許文献１５】米国特許第第６，５２８，２２８号明細書
【特許文献１６】米国特許出願公開第２００２／００８１５２２号明細書
【特許文献１７】米国特許出願公開第２００４／００６７４３２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
当業界では、露光前の画像形成性層におけるフェノール系バインダー（溶解阻害剤）の露光領域の溶解性を低減することおよび好適な熱エネルギーへの露光後のそれらの溶解性を高めること（溶解促進剤）の必要性に対して重点的に取り組んできた。ポジ型組成物の感度を高めることのできる幾つかの材料が記載されている。記載されている以前の溶解促進剤の全ては、酸性の性質を有するものであり、スルホン酸、スルフィン酸、アルキル硫酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、リン酸エステル、カルボン酸、フェノール類、スルホンアミド類およびスルホンイミド類が挙げられる。
【００１２】
これらの有機酸および環状酸無水物は単独で使用できるが、それらは、それらのうちの少なくとも２種の任意の組み合わせで使用されることが好ましい。少なくとも２種の有機酸に加えて少なくとも１種の環状酸無水物を使用することも好ましい。なぜなら、かかる組み合わせは現像ラチチュード及び印刷耐久性のさらなる改善を達成するのを可能にするからである。
【００１３】
国際公開第２００４／０８１６６２号（Ｍｅｍｅｔｅａら）には、ポジ型組成物および要素の感度を高めて必要な画像形成エネルギーを低減するために、酸性の性質を有する様々な現像性向上（ｄｅｖｅｌｏｐａｂｉｌｉｔｙ  ｅｎｈａｎｃｉｎｇ）化合物をフェノール系ポリマーまたはポリ（ビニルアセタール）と併用することが記載されている。かかる組成物および要素に対して特に有用なポリ（ビニルアセタール）の幾つかが米国特許第６，２５５，０３３号明細書（Ｌｅｖａｎｏｎら）および米国特許第６，５４１，１８１号明細書（Ｌｅｖａｎｏｎら）に記載されている。
【００１４】
上記のＭｅｍｅｔｅａらおよびＬｅｖａｎｏｎらの刊行物に記載されている組成物は当該技術分野で重要な進歩をもたらしたが、ポジ型組成物および要素の感度、特に赤外線に対する感度をよりいっそう改善する必要性が依然としてある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、新規な組成物およびポジ型要素によって上記の課題を解決する。すなわち、本発明は、
ａ．フェノール系樹脂またはポリ（ビニルアセタール）を含む、水性アルカリ性現像液に可溶性のポリマーバインダー、および
ｂ．塩基性の窒素含有有機化合物を含む現像性向上材料、
を含む輻射線感受性組成物を提供する。
【００１６】
本発明は、基材を含み、当該基材上に、フェノール系樹脂またはポリ（ビニルアセタール）を含む、水性アルカリ性現像液に可溶性のポリマーバインダーと、塩基性の窒素含有有機化合物を含む現像性向上材料と、輻射線吸収化合物とを含む画像形成性層を有するポジ型画像形成性要素も提供する。
【００１７】
さらに、本発明は、
Ａ）本発明のポジ型画像形成性要素を像様露光して露光領域および非露光領域をもたらすこと、および
Ｂ）像様露光された要素を現像して露光領域のみを除去すること、
を含む印刷版の製造方法を提供する。
【００１８】
本発明のポジ型組成物および画像形成性要素は、画像形成輻射線に対して改善された感度を示す。さらに、本発明の画像形成性要素は、現像後にベーキングされなかった場合に非常に良好な印刷性能を提供する。しかしながら、現像後にベーキングされた場合には、本発明の画像形成性要素は、任意の攻撃的な印刷用化学薬剤の存在下で非常に長いランレングスを提供する。
【００１９】
これらの利点は、フェノール系樹脂またはポリ（ビニルアセタール）ポリマーバインダーと組み合わせて特定の部類の塩基性の窒素含有有機化合物を含む現像性向上組成物を使用することにより達成された。有用な窒素含有有機化合物は、水に加えられた場合に７を越えるｐＨを有する溶液を形成するという意味で「塩基性」である。実施態様によっては、塩基性の窒素含有有機化合物は３００℃を超える沸点と、ｎ−ブチルアセテートに対して０．０１未満の蒸発速度を有する。実施態様によっては、かかる化合物は、室温（すなわち２５℃）で液体でもある。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
定義
特に断らない限り、本明細書で使用する場合には、「輻射線感受性組成物」および「画像形成性要素」は、本発明の実施態様を指すことを意図する。
さらに、特に断らない限り、例えば「第１のポリマーバインダー」、「フェノール系樹脂」、「ポリ（ビニルアセタール）」、「輻射線吸収性化合物」および「塩基性の窒素含有有機化合物」は、各成分の混合物も意味する。従って、冠詞「ａ」、「ａｎ」又は「ｔｈｅ」の使用は、必ずしも単一成分だけを意味しない。
特に断らない限り、百分率は質量百分率を意味する。
用語「単層の画像形成性要素」は、要素が、画像形成のために１つの画像形成性層のみを含むことを意味するが、以下で詳しく説明するように、かかる要素は、様々な特性を提供するように画像形成性層の下方又は上方に１又は２以上の層（上方の場合にトップコート）を含んでもよい。
本明細書において、用語「輻射線吸収性化合物」は、輻射線の特定の波長に対して感受性である化合物を意味し、「光熱変換材料」、「増感剤」、または「光熱変換剤」として言い換えられることがある。
ポリマーに関連するあらゆる用語の定義を明らかにするために、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｕｎｉｏｎ  ｏｆ  Ｐｕｒｅ  ａｎｄ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（「ＩＵＰＡＣ」）によって発行された「Ｇｌｏｓｓａｒｙ  ｏｆ  Ｂａｓｉｃ  Ｔｅｒｍｓ  ｉｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ（ポリマー科学における基礎用語の解説）」，Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．６８，２２８７−２３１１（１９９６）を参照されたい。しかし、本明細書中のあらゆる定義が支配的なものと見なされるべきである。
用語「ポリマー」（例えば、フェノール系樹脂およびポリビニルアセタール）は、オリゴマーを包含する高分子量及び低分子量のポリマーを意味し、ホモポリマーとコポリマーも包含する。
用語「コポリマー」は、２種または３種以上の異なるモノマーから誘導されたポリマー、または、同じモノマーから誘導された場合であっても２種または３種以上の異なる反復単位を有するポリマーを意味する。
用語「主鎖」は、複数のペンダント基（ｐｅｎｄａｎｔ  ｇｒｏｕｐ）が結合したポリマー中の複数の原子から構成される鎖を意味する。かかる主鎖の一例は、１種または２種以上のエチレン系不飽和重合性モノマーを重合させることによって得られる「全炭素（ａｌｌ  ｃａｒｂｏｎ）」の主鎖である。しかしながら、他の主鎖は、ポリマーが縮合反応又は他の方法で形成される場合に、ヘテロ原子を含むことがある。
【００２１】
用途
本発明の輻射線感受性組成物は、印刷回路板（ＰＣＢ）の製造におけるレジストパターン、厚いおよび薄いフィルム回路、レジスター、キャパシターおよびインダクター、マルチチップデバイス、集積回路、並びに活性半導体デバイスを形成するのに使用できる。さらに、本発明の輻射線感受性組成物は、ポジ型画像形成性要素を提供するために使用でき、当該ポジ型画像形成性要素は、平版印刷版を提供するのに使用できる。他の用途は当業者であえば容易に分かるであろう。
【００２２】
輻射線感受性組成物
輻射線感受性組成物は、１種または２種以上の水性アルカリ性溶媒（現像液）に可溶性のポリマーバインダーを第１のポリマーバインダーとして含む。これらの第１のポリマーバインダーとしては、様々なフェノール系樹脂およびポリ（ビニルアセタール）類が挙げられる。第１のバインダーとして有用なポリマーの質量平均分子量（Ｍｗ）は、標準的な方法を使用して測定した場合に、一般的に、少なくとも５，０００であり、最大３００，０００まで可能であり、典型的には、２０，０００〜５０，０００である。最適なＭｗは、ポリマーの個々の部類及びその用途に応じて変わるであろう。
【００２３】
第１のポリマーバインダーは、輻射線感受性組成物（または画像形成層）中の唯一のバインダーであることができるが、より一般的には、それらは全ポリマーバインダーの乾燥質量を基準にして、少なくとも１０質量％、より典型的には少なくとも５０質量％かつ９０質量％以下を構成する。
【００２４】
幾つかの有用なポリ（ビニルアセタール）類が米国特許第６，２５５，０３３号および第６，５４１，１８１号明細書並びに国際公開第２００４／０８１６６２に記載されている。同じまたは類似のポリ（ビニルアセタール）が欧州特許出願公開第１，６２７，７３２号明細書（Ｈａｔａｎａｋａら）並びに米国特許出願公開第２００５／０２１４６７７号明細書（Ｎａｇａｓｈｉｍａ）および米国特許出願公開第２００５／０２１４６７８号明細書（Ｎａｇａｓｈｉｍａ）（これらの文献に記載のポリ（ビニルアセタール）は全て本明細書に援用する）に構造単位（ａ）から（ｅ）を含む構造（Ｉ）および（ＩＩ）により記載されている。
【００２５】
欧州特許出願公開第１，６２７，７３２号明細書（上記）に記載の構造（Ｉ）および（ＩＩ）は、以下で定義する構造（Ｉ）および（ＩＩ）と混同されるべきではない。幾つかの有用なポリ（ビニルアセタール）類は、反復単位のうちの少なくとも５０モル％（５０モル％〜７０モル％、より典型的には少なくとも６０モル％）がアセタール含有反復単位である限り、アセタール含有反復単位以外の反復単位を含む。かかるポリマーバインダーに於いて、非アセタール含有反復単位は、同じまたは異なるペンダントフェノール系基を有することもでき、または、非アセタール含有反復単位はペンダントフェノール系基を持たない反復単位であることができ、あるいは、非アセタール含有反復単位は両方のタイプの反復単位を含むことができる。例えば、ポリ（ビニルアセタール）は、イタコン酸またはクロトン酸基を含む反復単位を有することができる。さらに、ペンダントフェノール系基を含む反復単位が存在する場合には、それらの反復単位は、異なるペンダントフェノール系基を有することができる［例えば、ポリ（ビニルアセタール）は、アセタール含有反復単位を有することができ、２種または３種以上の異なるタイプの反復単位が異なるペンダントフェノール系基を有する］。さらに別の態様において、ポリ（ビニルアセタール）中の低モル量（２０モル％未満）のアセタール基を環状酸無水物またはイソシアネート化合物、例えばトルエンスルホニルイソシアネートと反応させることができる。
【００２６】
有用なポリ（ビニルアセタール）類は、下記の構造（ＰＶＡｃ）により表される反復単位も含むことができる。
【００２７】
【化１】
2010532488.tif 000002
【００２８】
構造（ＰＶＡｃ）において、ＲおよびＲ’は独立に水素、もしくは置換もしくは非置換の線状もしくは分岐状の炭素原子数１〜６のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、クロロメチル、トリクロロメチル、ｉｓｏ−プロピル、ｉｓｏ−ブチル、ｔ−ブチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１−メチルブチルおよびｉｓｏ−ヘキシル基など）、もしくは環中に３〜６個の炭素原子を有する置換もしくは非置換のシクロアルキル環（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、メチルシクロヘキシルおよびシクロヘキシル基）、またはハロ基（例えばフルオロ、クロロ、ブロモ、またはヨード）である。典型的には、ＲおよびＲ’は独立に水素、もしくは置換もしくは非置換メチル基、またはクロロ基であるか、あるいは、例えば、それらは独立に水素または非置換メチルである。
【００２９】
Ｒ2 は置換もしくは非置換フェノール、置換もしくは非置換ナフトール、または置換もしくは非置換アントラセノール基である。これらのフェノール基、ナフトール基およびアントラセノール基は、さらなるヒドロキシ置換基、メトキシ、アルコキシ、アリールオキシ、チオアリールオキシ、ハロメチル、トリハロメチル、ハロ、ニトロ、アゾ、チオヒドロキシ、チオアルコキシ、シアノ、アミノ、カルボキシ、エテニル、カルボキシアルキル、フェニル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリールおよび複素脂環式基などのさらなる置換基を最大３個まで有することができる。例えば、Ｒ2 は非置換フェノールもしくはナフトール基、例えば、２−ヒドロキシフェニルまたはヒドロキシナフチル基であることができる。
【００３０】
このように、ポリ（ビニルアセタール）類は、構造（ＰＶＡｃ）により表されるものの他に様々な他の反復単位を有することができるが、一般的に、反復単位の少なくとも５０モル％は、構造（ＰＶＡｃ）により表される同じまたは異なる反復単位である。
【００３１】
より具体的な有用なポリ（ビニルアセタール）類は上記の反復単位を含む下記構造（Ｉ）：
【００３２】
【化２】
2010532488.tif 000003
【００３３】
により表される。
【００３４】
ここで、Ａは下記構造（Ｉａ）により表される反復単位を表し：
【００３５】
【化３】
2010532488.tif 000004
【００３６】
Ｂは下記構造（Ｉｂ）により表される反復単位を表し：
【００３７】
【化４】
2010532488.tif 000005
【００３８】
Ｃは下記構造（Ｉｃ）により表される反復単位を表し：
【００３９】
【化５】
2010532488.tif 000006
【００４０】
Ｄは下記構造（Ｉｄ）により表される反復単位を表し：
【００４１】
【化６】
2010532488.tif 000007
【００４２】
Ｅは下記構造（Ｉｅ）により表される反復単位を表し：
【００４３】
【化７】
2010532488.tif 000008
【００４４】
ｍは５〜４０モル％（典型的には１５〜３５モル％）であり、ｎは１０〜６０モル％（典型的には２０〜４０モル％）であり、ｐは０〜２０モル％（典型的には０〜１０モル％）であることができ、ｑは１〜２０モル％（典型的には１〜１５モル％）であり、ｒは５〜６０モル％（典型的には１５〜５５モル％）である。
【００４５】
ＲおよびＲ’は構造（ＰＶＡｃ）について先に記載したとおりである。
【００４６】
Ｒ1 は置換もしくは非置換の線状もしくは分岐状の炭素原子数１〜１２のアルキル基（例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、メトキシメチル、クロロメチル、トリクロロメチル、ベンジル、シンナモイル、ｉｓｏ−プロピル、ｉｓｏ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｉｓｏ−ペンチル、ｎｅｏ−ペンチル、１−メチルブチルおよびｉｓｏ−ヘキシル基など）、環中に３〜６個の炭素原子を有する置換もしくは非置換のシクロアルキル環（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、メチルシクロヘキシルおよびシクロヘキシル基）、または、フェノールもしくはナフトール以外の芳香環中に６または１０個の炭素原子を有する置換もしくは非置換アリール基（例えば、フェニル、キシリル、トルリル、ｐ−メトキシフェニル、３−クロロフェニルおよびナフチルなどの置換もしくは非置換フェニルおよびナフチル基）である。典型的には、Ｒ1 は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜６のアルキル基である。
【００４７】
Ｒ2 は構造（ＰＶＡｃ）について先に記載したとおりである。
【００４８】
Ｒ3 は置換もしくは非置換の炭素原子数２〜４のアルキニル基（例えばエチニル基）、または置換もしくは非置換のフェニル基（例えば、フェニル、４−カルボキシフェニル、カルボキシアルキレンオキシフェニルおよびカルボキシアルキルフェニル基）である。典型的には、Ｒ3 はカルボキシアルキルフェニル基、４−カルボキシフェニルもしくはカルボキシアルキレンオキシフェニル基、または他のカルボキシ含有フェニル基である。
【００４９】
Ｒ4 は−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ5 基であり、ここでＲ5 は、上記のＲ1 の定義と同様に、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜１２のアルキル基、または芳香環中に６もしくは１０個の炭素原子を有する置換もしくは非置換アリール基である。典型的には、Ｒ5 は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜６のアルキル基、例えば、非置換メチル基である。
【００５０】
Ｒ6 はヒドロキシ基である。
【００５１】
構造（Ｉ）の反復単位の比により示されるように、ポリ（ビニルアセタール）は、存在する異なる反復単位の数に応じて少なくともテトラマーであることができる。例えば、構造（Ｉａ）から構造（Ｉｅ）の先に定義した部類の反復単位のいずれとも異なる多数のタイプの反復単位が存在してもよい。例えば、構造（Ｉ）のポリ（ビニルアセタール）は異なるＲ1 基を有する構造（Ｉａ）の反復単位を有することができる。反復単位のかかる多様性は、構造（Ｉａ）から構造（Ｉｅ）のいずれかにより表されるものについても言える。
【００５２】
構造（Ｉ）により表される第１のポリマーバインダーは、構造（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）、（Ｉｄ）および（Ｉｅ）により定義されるもの以外の反復単位を含むことができ、かかる反復単位は当業者であれば容易に分かるであろう。すなわち、構造（Ｉ）は、その最も広い意味において、定義した反復単位に限定されないが、実施態様によっては、構造（Ｉ）中に上記の反復単位のみが存在する。
【００５３】
輻射線感受性層を形成する輻射線感受性組成物中に第１のポリマーバインダーの含有量は、一般的に、全乾燥質量の１０〜９９％であり、典型的には全乾燥質量の３０〜９５％である。多くの実施態様は、全組成物または層乾燥質量の５０〜９０％の量で第１のポリマーバインダーを含む。
【００５４】
本明細書に記載のポリ（ビニルアセタール）類は、米国特許第６，５４１，１８１号（上記）に記載のものなどの公知の出発物質および反応条件を使用して調製できる。
【００５５】
例えば、ポリビニルアルコールのアセタール化は、例えば米国特許第４，６６５，１２４号明細書（Ｄｈｉｌｌｏｎら）、米国特許第４，９４０，６４６号明細書（Ｐａｗｌｏｗｓｋｉ）、米国特許第５，１６９，８９８号明細書（Ｗａｌｌｓら）、米国特許第５，７００，６１９号明細書（Ｄｗａｒｓら）および米国特許第５，７９２，８２３号明細書（Ｋｉｍら）、並びに日本国特開平０９−３２８５１９号公報（Ｙｏｓｈｉｎａｇａ）に記載に公知の標準的な方法に従って起こる。
【００５６】
このアセタール化反応は、一般的に、強い無機または有機触媒酸の添加を必要とする。触媒酸の例は、塩酸、硫酸、リン酸およびｐ−トルエンスルホン酸である。例えばペルフルオロアルキルスルホン酸および他のペルフルオロ活性化酸（ｐｅｒｆｌｕｏｒｏ−ａｃｔｉｖａｔｅｄ  ａｃｉｄｓ）などの他の強酸も有用である。酸の量は、プロトン化を有効に引き起こす量であるが、アセタール基の望ましくない加水分解を引き起こすことにより最終生成物を著しく変化させない量である。アセタール化の反応温度は、アルデヒドの種類および所望の置換の程度に依存する。アセタール化の反応温度は、０℃乃至、もし当てはまるなら、溶剤の沸点である。この反応には、有機溶剤、および、水と有機溶剤の混合物が使用される。例えば、好適な有機溶剤は、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、□ホスホール□（□ｈｏｓｐｈｏｒ□）、ブタノールおよびグリコールエーテル）、環状エーテル（例えば１，４−ジオキサン）、および双極性非プロトン性溶剤（例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンまたはジメチルスルホキシド）である。アセタール化が、有機溶剤中または有機溶剤と水の混合物中で実施される場合には、原料のポリビニルアルコールが完全に溶解しなかった場合でも、反応生成物は往々にして溶剤中に残る。有機溶剤中への原料のポリビニルアルコールの不完全な溶解は、再現性のない転化率および異なる生成物をもたらすことがあるという１つの欠点である。ポリビニルアルコールの完全な溶解を達成し、アセタール化の結果として再現性のある生成物を得るには、水または有機溶剤と水の混合物を使用すべきである。様々なアセタール化剤の添加順序は、往々にして、重要ではなく、異なる調製手順から同等の最終生成物が得られる。最終生成物を固形分として単離するために、ポリマー溶液を、激しく攪拌しながら非溶媒中に導入し、濾過し、乾燥させる。ポリマーに対する非溶媒としては水が特に好適である。
【００５７】
ヒドロキシル置換芳香族アルデヒド類によるアセタール化によってもたらされるアセタール基の望ましくない加水分解は、同じ合成条件下で脂肪族もしくは非置換芳香族アルデヒド類から生じたまたはカルボン酸部分を含むアルデヒドから生じたアセタール基よりもかなり容易に起こる。反応混合物中にほんのわずかな量の水が存在する場合でも、アセタール化度の低下、および使用された芳香族ヒドロキシアルデヒドの不完全な転化がもたらされる。一方、水が存在しない場合には、ヒドロキシ置換芳香族アルデヒドは、アルコールのヒドロキシル基と即座にほぼ１００％の転化率で反応する。そのため、所望のポリビニルアセタールを得るためのヒドロキシ置換芳香族アルデヒドによるポリビニルアルコールのアセタール化のプロセスは、当該技術分野で知られている方法と異なるように実施できる。水は合成中に減圧下での蒸留により反応混合物から除去し、有機溶剤と置換できる。残留する水は、水と容易に反応し、その反応に結果として揮発性物質または不活性化合物を生じる有機物質を上記混合物に加えることにより除去できる。これらの物質は、水と容易に反応するカーボネート、炭酸のオルトエステルもしくはカルボン酸のオルトエステル、シリカ含有化合物、例えばジエチルカーボネート、トリメチルオルトホルメート、テトラエチルカーボネートおよびテトラエチルシリケートから選択することができる。反応混合物にこれらの物質を添加することにより、使用されるアルデヒドの１００％の転化がもたらされる。
【００５８】
例えば、有用なポリ（ビニルアセタール）の調製は、原料のポリビニルアルコールを８０〜９０℃のＤＭＳＯに溶解させることから始まり、次に、溶液を６０℃に冷却し、有機溶剤中に溶解された酸性触媒を加える。次に、この溶液に、同じ溶媒中の脂肪族アルデヒドの溶液を加え、溶液を６０℃に３０分間保ち、次いで、同じ溶媒中の芳香族アルデヒドおよび／またはカルボン酸置換アルデヒドまたは他のアルデヒドの溶液を加える。反応混合物にアニソールを加え、水とアニソールの共沸混合物を蒸留により除去し、有機溶剤と置換する。この段階で、芳香族ヒドロキシアルデヒドの転化率は９５〜９８％に達する。反応混合物中の酸を中和し、当該混合物を水と混合してポリマーを析出させ、ポリマーを濾過し、水で洗浄し、乾燥させる。ベンザールへの芳香族ヒドロキシアルデヒドの１００％の転化を達成する第２の方法は、反応混合物にアルデヒドを転化した後に水を除去する有機物質（例えばカーボネートまたはオルトホルメート）を加えることである。
【００５９】
本発明における第１のポリマーバインダーとして様々なフェノール系樹脂も使用でき、かかるフェノール系樹脂としては、□ホスホール（□ｈｏｓｐｈｏｒ）樹脂、例えばフェノールとホルムアルデヒドの縮合ポリマー、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドの縮合ポリマー、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドの縮合ポリマー、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドの縮合ポリマー、フェノールとクレゾール（ｍ−，ｐ−またはｍ−／ｐ−混合物）とホルムアルデヒドの縮合ポリマー、およびピロガロールとアセトンの縮合コポリマーが挙げられる。さらに、側鎖にフェノール基を含む化合物を共重合させることにより得られるコポリマーも使用できる。かかるポリマーバインダーの混合物も使用できる。
【００６０】
少なくとも１５００の質量平均分子量および少なくとも３００の数平均分子量を有するノボラック樹脂も有用である。一般的に、質量平均分子量は３，０００〜３００，０００の範囲内にあり、数平均分子量は５００〜２５０，０００の範囲内にあり、分散度（質量平均分子量／数平均分子量）は１．１〜１０の範囲内にある。
【００６１】
上記の第１のポリマーバインダーの特定の混合物を使用でき、かかる混合物としては、１種もしくは２種以上のポリ（ビニルアセタール）と１種もしくは２種以上のフェノール系樹脂との混合物が挙げられる。例えば、１種もしくは２種以上のポリ（ビニルアセタール）と１種もしくは２種以上の□ホスホール（□ｈｏｓｐｈｏｒ）もしくはレゾール樹脂（または□ホスホール（□ｈｏｓｐｈｏｒ）およびレゾール樹脂）との混合物を使用できる。
【００６２】
上記の１種または２種以上の第１のポリマーバインダーに「第２」のポリマーバインダーを含めることが有用なことがある。特に、かかる第２のポリマーバインダーは、上記のとおりのポリ（ビニルアセタール）との組み合わせで有用なことがある。
【００６３】
第１のポリマーバインダーとともに使用できる第２のポリマーバインダーのタイプに特に制限はない。一般的に、画像形成性要素のポジ型輻射線感受性を低減させないという観点から、第２のポリマーバインダーも一般的にアルカリ可溶性ポリマーである。
【００６４】
第２のポリマーバインダーの例としては、以下に示す（１）〜（５）に含まれる酸性基を主鎖および／または側鎖（ペンダント基）上に有する以下の部類のポリマーが挙げられる。
（１）スルホンアミド基（−ＳＯ2 ＮＨ−Ｒ），
（２）置換スルホンアミドに基づく酸基（ここでは活性イミド基という）［例えば−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ，ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ，−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ］，
（３）カルボン酸基（−ＣＯ2Ｈ），
（４）スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）、および
（５）リン酸基（−ＯＰＯ3Ｈ2）．
【００６５】
上記の基（１）〜（５）におけるＲは水素または炭化水素基を表す。
【００６６】
基（１）のスルホンアミド基を有する代表的な第２のポリマーバインダーは、例えば、スルホンアミド基を有する化合物から誘導された主たる成分として最低限の構成単位から構成されたポリマーが挙げられる。そのため、かかる化合物の例としては、その分子中に、少なくとも１個の水素原子が窒素原子に結合している少なくとも１個のスルホンアミド基と、少なくとも１個の重合性の不飽和基を有する化合物が挙げられる。これらの化合物には、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、およびＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミドがある。そのため、スルホンアミド基を有する重合性モノマー、例えばｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、またはＮ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミドなどのホモポリマーおよびコポリマーを使用できる。
【００６７】
基（２）の活性イミド基を有する第２のポリマーバインダーは、主たる構成成分として活性イミド基を有する化合物から誘導された反復単位を含むポリマーである。かかる化合物の例としては下記の構造式により定義される部分を有する重合性の不飽和化合物が挙げられる。
【００６８】
【化８】
2010532488.tif 000009
【００６９】
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミドおよびＮ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミドはかかる重合性化合物の例である。
【００７０】
上記の基（３）〜（５）のいずれかを有する第２のポリマーバインダーとしては、望ましい酸性基または重合後にかかる酸性基に変換可能な基を有するエチレン性不飽和重合性モノマーを反応させることにより容易に調製されるものが挙げられる。
【００７１】
上記の（１）〜（５）から選択される酸性基を有する最低限の構成単位について、ポリマー中にただ１種類の酸性基を使用する必要はなく、実施態様によっては、少なくとも２種の酸性基を有することが有用なことがある。当然、第２のポリマーバインダー中の全ての反復単位が上記酸性基のうちの１つを持たなくてはならないというわけではないが、通常、少なくとも１０モル％、典型的には少なくとも２０モル％が上記の酸性基のうちの一つを有する反復単位から構成される。
【００７２】
第２のポリマーバインダーは、少なくとも２，０００の質量平均分子量および少なくとも５００の数平均分子量を有することができる。典型的には、質量平均分子量は５，０００〜３００，０００の範囲内にあり、数平均分子量は８００〜２５０，０００の範囲内にあり、分散度（質量平均分子量／数平均分子量）は１．１〜１０の範囲内にある。
【００７３】
第２のポリマーバインダーの混合物を１種または２種以上の第１のポリマーバインダーと併用してもよい。第２のポリマーバインダー（１種または２種以上）は、輻射線感受性組成物または画像形成性層中の全ポリマーバインダーの乾燥質量を基準にして、少なくとも１質量％かつ５０質量％以下、典型的には５〜３０質量％の量で存在することができる。
【００７４】
輻射線感受性組成物は、１種または２種以上の塩基性の窒素含有有機化合物を含む現像性向上組成物をさらに含む。ほとんどの実施態様において、これらの塩基性の窒素含有有機化合物の各々は、３００℃を超える沸点と、ｎ−ブチルアセテートに対して０．０１未満の蒸発速度を有する。有用な塩基性の窒素含有有機化合物のほとんどは２５℃で液体である。所望であれば、これらの化合物のうちの２種または３種以上を同じ現像性向上組成物において使用できる。
【００７５】
代表的な塩基性の窒素含有有機化合物は下記構造（ＩＩ）：
【００７６】
【化９】
2010532488.tif 000010
【００７７】
により定義することができる。ここで、ｔは１〜６であり、ｓは０，１または２であり、ｖは１〜３であるが、ただしｓとｖの和が３であることを条件とする。
【００７８】
ｓが１である場合に、Ｒ7 は水素であるか、あるいは置換もしくは非置換の分岐状もしくは線状のアルキル、線状もしくは分岐状のアルキルアミン基、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、炭素環式アリール、アリールアミン、またはヘテロアリール基である。かかる基は、非置換のもの、またはアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素脂環式、ハロ、ニトロ、アゾ、ヒドロキシ、アルコキシ、チオヒドロキシ、チオアルコキシ、シアノまたはアミノ基により置換されたものでもよい。
【００７９】
ｓが２である場合に、複数のＲ7 基は、ｓが１である場合に先にＲ7 について定義したとおりの同じまたは異なる置換もしくは非置換基であることができる。あるいは、２個のＲ7 基が窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式環を形成していてもよい。この環上の置換基は、例えば、１個または２個以上のアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、アリールアミン、ヘテロアリール、複素脂環式、ハロ、ニトロ、アゾ、ヒドロキシ、アルコキシ、チオヒドロキシ、チオアルコキシ、シアノまたはアミノ基であることができ、これらの基は、所望により、１個または２個以上のハロ、ニトロ、アゾ、ヒドロキシ、アルコキシ、チオヒドロキシ、チオアルコキシ、シアノまたはアミノ基によりさらに置換されていてもよい。
【００８０】
Ｒ8 およびＲ9 は同じであっても異なっていてもよく、水素、または置換もしくは非置換の線状もしくは分岐状のアルキル基であることができる。当該アルキル基についての代表的な置換基としては、１個または２個以上のアルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、複素脂環式、ハロ、ニトロ、アゾ、ヒドロキシ、アルコキシ、チオヒドロキシ、チオアルコキシ、シアノおよびアミノ基が挙げられる。典型的には、ｔは２であり、Ｒ8 およびＲ9 は両方とも水素である。
【００８１】
現像性向上組成物において有用な塩基性の窒素含有有機化合物の例はＮ−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドン、１−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−［ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）−エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）−エチレンジアミン、３−［（２−ヒドロキシエチル）フェニルアミノ］プロピオニトリル、およびヘキサヒドロ−１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）−ｓ−トリアジンである。これらの化合物のうちの２種または３種以上の混合物も有用である。塩基性の窒素含有有機化合物は、ＢＡＳＦ（ドイツ国）およびＡｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ（ワイオミング州ミルウォーキー所在）などの多くの商業的供給業者から入手できる。
【００８２】
塩基性の窒素含有有機化合物（１種または２種以上）は、輻射線感受性組成物の全固形分または画像形成性層の全乾燥質量を基準として１〜３０質量％、典型的には３〜１５質量％の量で輻射線感受性組成物中に存在する。
【００８３】
上記のとおり、これらの塩基性の窒素含有有機化合物は単独で使用できるが、それらは２種または３種以上の任意の組み合わせでも有用である。
【００８４】
これらの塩基性の窒素含有有機化合物のうちの１種または２種以上を１種または２種以上の酸性の現像性向上化合物、例えばカルボン酸もしくは環状酸無水物、スルホン酸、スルフィン酸、アルキル硫酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、ホスホン酸エステル、フェノール類、スルホンアミド類またはスルホンイミド類と組み合わせて使用することもできる。なぜなら、かかる組み合わせは、現像ラチチュードおよび印刷耐久性のさらなる改善を可能にすることができるからである。かかる化合物の代表例は、米国特許出願公開第２００５／０２１４６７７号明細書（上記）の段落［００３０］〜［００３６］に記載されており、米国特許出願公開第２００５／０２１４６７７号明細書はこれらの酸の現像性向上化合物について本明細書に援用する。かかる化合物は、輻射線感受性組成物または画像形成性層の全乾燥質量を基準として０．１〜３０質量％の量で存在することができる。
【００８５】
場合によって、これらの酸性の現像性向上化合物のうちの少なくとも２種が、上記の塩基性の窒素含有有機化合物の１種または２種以上（たとえば２種）と組み合わせて使用される。
【００８６】
上記の塩基性化合物と酸性化合物の組み合わせにおいて、１種もしくは２種以上の塩基性の窒素含有有機化合物と１種もしくは２種以上の酸性の現像性向上化合物とのモル比は一般的に０．１：１〜１０：１、より典型的には０．５：１〜２：１である。
【００８７】
輻射線感受性組成物は、画像形成性層について以下に記載するような他の任意成分を含んでもよい。
【００８８】
画像形成性要素
画像形成性要素は、ポジ型の画像形成性要素であり、本明細書に記載のポリ（ビニルアセタール）またはフェノール系バインダーが当該要素の単一の画像形成層中にポリマーバインダーとして一般的に存在する。
【００８９】
一般的に、画像形成性要素は、画像形成性層を形成するために、１種又は２種以上のポリマーバインダー、現像性向上組成物、および典型的には輻射線吸収化合物（下記）並びに他の任意選択の添加剤を含有する輻射線感受性組成物の配合物を好適な基材に好適に適用することによって形成される。この基材は、配合物の適用の前に、下記のような種々の方法で処理又は塗布される。例えば、基材は、付着性又は親水性の向上のための「中間層」を提供するように処理することができ、画像形成性層がこの中間層上に適用される。
【００９０】
基材は、一般的に、親水性表面、又は、画像形成側の適用された画像形成用配合物よりも親水性が高い表面を有する。基材は支持体を含み、その支持体は、平版印刷版などの画像形成可能な要素を製造するため通常使用されるいかなる材料からでも製造できる。基材は、通常、シート、フィルム又は箔の形態にあり、色記録がフルカラー画像を記録するように使用条件下で、強力で安定であり、可撓性でかつ寸法の変化に対して抵抗性がある。典型的には、支持体は、ポリマーフィルム（例えば、ポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、セルロースエステルポリマー及びポリスチレンのフィルムなど）、ガラス、セラミック類、金属シート類もしくは箔類、又は剛性紙（樹脂コート紙及び金属化紙など）、又はこれら材料のいずれかの積層体、例えば、ポリエステルフィルム上にアルミニウム箔を積層したもの）を含むどのような自立性材料でもよい。金属支持体としては、アルミニウム、銅、亜鉛、チタン及びこれらの合金のシート又は箔が挙げられる。
【００９１】
ポリマーフィルム支持体は、親水性を高めるために片面又は両面が「下引き」層で改質されていてもよく、また、紙製支持体は、平坦性を高めるために同様にコートされていてもよい。下引き層の材料の例としては、アルコキシシラン類、アミノ−プロピルトリエトキシシラン類、グリシジオキシプロピル-トリエトキシシラン類及びエポキシ機能性ポリマー類、並びにハロゲン化銀写真フィルムに使用される通常の親水性下引き材料（例えば、ゼラチン及び他の天然に産出する及び合成の親水性コロイド、並びに塩化ビニリデンコポリマーなどのビニルポリマー類）が挙げられ、これらに限定されない。
【００９２】
好ましい基材は、物理的研磨、電気化学的研磨および化学的研磨を行った後に陽極酸化を行うなどの当該技術分野で知られた技術を使用してコーティングまたは処理されたアルミニウム支持体から構成される。アルミニウムシートは、リン酸又は硫酸及びコンベンショナルな手順を用いて電気化学的に研磨され陽極酸化される。
【００９３】
例えばケイ酸塩、デキストリン、フッ化カルシウムジルコニウム、ヘキサフルオロケイ酸、リン酸塩／フッ化ナトリウム、ポリ（ビニルホスホン酸）（ＰＶＰＡ）、ビニルホスホン酸コポリマー、ポリ（アクリル酸）又はアクリル酸コポリマーの溶液でアルミニウム支持体を処理することにより、任意選択的に用いられる中間層を形成することができる。好ましくは、研磨及び陽極酸化が施されたアルミニウム支持体は、表面親水性を改善するために周知の手順を用いてポリ（アクリル酸）で処理される。
【００９４】
基材の厚さは多様であることが可能であるが、しかし、印刷から生じる摩耗に耐えるのに十分な厚さを有し、しかも印刷版の周りに巻き付けるのに十分に薄くあるべきである。好ましい態様としては、厚さ１００μｍ〜６００μｍの処理されたアルミ箔が挙げられる。
【００９５】
基材の裏側（非画像形成側）には、画像形成性要素の取り扱い及び「触感」を改善するために、静電防止剤及び／又はスリップ層又は艶消し層を被覆することができる。
【００９６】
基材は、種々の層組成物が塗布された円筒形表面であってもよく、ひいては印刷機の一体部分であってもよい。このような画像形成されたシリンダの使用は、例えば米国特許第５，７１３，２８７号明細書（Ｇｅｌｂａｒｔ）に記載されている。
【００９７】
画像形成性層は、典型的には、１種又は２種以上の輻射線吸収化合物を含む。これらの化合物は、１５０〜１５００ｎｍの任意の好適なエネルギー形態（例えばＵＶ線、可視光およびＩＲ線）に対して感受性を有することができるが、これらは典型的には赤外線に対して感受性を有するので、輻射線吸収化合物は、６００〜１４００ｎｍ、より好ましくは７００〜１２００ｎｍの輻射線を吸収する赤外線吸収化合物（「ＩＲ吸収化合物」）として知られる。
【００９８】
好適なＩＲ色素の一例としては、アゾ色素、スクアリリウム色素、クロコネート色素、トリアリールアミン色素、チアゾリウム色素、インドリウム色素、オキソノール色素、オキサゾリウム色素、シアニン色素、メロシアニン色素、フタロシアニン色素、インドシアニン色素、インドトリカルボシアニン色素、ヘミシアニン色素、ストレプトシアニン色素、オキサトリカルボシアニン色素、チオシアニン色素、チアトリカルボシアニン色素、メロシアニン色素、クロプトシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ポリアニリン色素、□ホスホール□レス(□hosphor□les）色素、ポリチオフェン色素、カルコゲノピリロアリーリデン及びビス（カルコゲノピリロ）ポリメチン色素、オキシインドリジン色素、ピリリウム色素、ピラゾリンアゾ色素、オキサジン色素、ナフトキノン色素、アントラキノン色素、キノンイミン色素、□ホスホ（□hospho）色素、アリールメチン色素、ポリメチン色素、スクアリン色素、オキサゾール色素、クロコニン色素、ポルフィリン色素、及び前記色素の部類の任意の置換形態又はイオン形態が挙げられる。好適な色素は、例えば米国特許第４，９７３，５７２号明細書（ＤｅＢｏｅｒ）、及び同第５，２０８，１３５号明細書（Ｐａｔｅｌ他）、同第５，２４４，７７１号明細書（Ｊａｎｄｒｕｅ  Ｓｒ．他）、及び同第５，４０１，６１８号明細書（Ｃｈａｐｍａｎ他）、及び欧州特許出願公開第０  ８２３  ３２７号明細書（Ｎａｇａｓａｋａ他）に開示されている。
【００９９】
アニオン性発色団を有するシアニン色素も有用である。例えば、シアニン色素は、２つの複素環式基を有する発色団を有することができる。別の態様において、シアニン色素は、少なくとも２つのスルホン酸基、より具体的には２つのスルホン酸基と２つのインドレニン基とを有することができる。このタイプの有用なＩＲ感光性シアニン色素が、例えば米国特許出願公開第２００５−０１３００５９号（Ｔａｏ）に記載されている。
【０１００】
有用な部類の好適なシアニン色素に関する一般的な説明が、国際公開第２００４／１０１２８０号パンフレット（Ｍｕｎｎｅｌｌｙ他）の段落００２６における式によって示されている。
【０１０１】
低分子量ＩＲ吸収色素に加えて、ポリマーに結合されたＩＲ色素部分を使用することもできる。さらに、ＩＲ色素カチオンを使用することができ、すなわち、このカチオンは、カルボキシ、スルホ、□ホスホール（□hosphor）、又はホスホノ基を側鎖内に含むポリマーとイオン相互作用する色素塩のＩＲ吸収部分である。
【０１０２】
近赤外線吸収シアニン色素も有用であり、例えば米国特許第６，３０９，７９２号明細書（Ｈａｕｃｋ他）、同第６，２６４，９２０号明細書（Ａｃｈｉｌｅｆｕ他）、同第６，１５３，３５６号明細書（Ｕｒａｎｏ他）、同第５，４９６，９０３号明細書（Ｗａｔａｎａｔｅ他）に記載されている。好適な色素は、コンベンショナルな方法及び原料を用いて形成することができ、あるいは、Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｄｙｅ  Ｓｏｕｒｃｅ（カナダ国ケベック州バイエウルフェ（Ｂａｉｅ  Ｄ’Ｕｒｆｅ）所在）及びＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（ドイツ国）を含む種々の商業的供給元から得ることができる。近赤外線ダイオード・レーザービームのための他の有用な色素が、例えば米国特許第４，９７３，５７２号明細書（上記）に記載されている。以下のＩＲ色素は有用な輻射線吸収化合物の代表的なものであり、決してこれらに限定されるものではない。
【０１０３】
【化１０】
2010532488.tif 000011
【０１０４】
アニオンとしてＣ3Ｆ7ＣＯ2- を有することを除いて同じ上記のもの。
【０１０５】
【化１１】
2010532488.tif 000012
【０１０６】
【化１２】
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【０１０７】
【化１３】
2010532488.tif 000014
【０１０８】
【化１４】
2010532488.tif 000015
【０１０９】
有用なＩＲ吸収化合物は顔料であることもでき、顔料としてはカーボンブラック、例えば当業者によく知られているように可溶化基で表面官能化されたカーボンブラックが挙げられる。親水性、非イオン性ポリマーにグラフト化されたカーボンブラック、例えばＦＸ−ＧＥ−００３（Ｎｉｐｐｏｎ  Ｓｈｏｋｕｂａｉ製）、又はアニオン基で表面官能化されたカーボンブラック、例えばＣＡＢ−Ｏ−ＪＥＴ（登録商標）２００又はＣＡＢ−Ｏ−ＪＥＴ（登録商標）３００（Ｃａｂｏｔ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製）も有用である。他の有用な顔料としては、ヘリオゲン・グリーン、ニグロシン・ベース、酸化鉄（ＩＩＩ）、酸化マンガン、プリシアン・ブルー、及びパリス・ブルーが挙げられる。顔料粒子のサイズは、画像形成性層の厚さを上回るべきではなく、好ましくは、粒子のサイズは、画像形成性層の厚さの半分未満になる。
【０１１０】
画像形成性要素において、輻射線吸収化合物は、一般的に、０．１〜２０質量％の乾燥塗布量で存在するか、あるいは、輻射線吸収化合物は０．５〜５質量％の量で存在する。あるいは、この量は、反射ＵＶ−可視分光光度分析により測定した場合に、乾燥フィルムにおいて０．０５〜３、好ましくは０．１〜１．５の範囲内の吸光度によって定義できる。この目的に必要な特定の量は、使用される個々の化合物に応じて、当業者であれば容易に分かるであろう。
【０１１１】
あるいは、輻射線吸収化合物は、単一の画像形成性層と熱的に接触する別個の層中に含まれてもよい。従って、画像形成中に、別個の層における輻射線吸収化合物の作用を、化合物がもともと含まれていない画像形成性層に移すことができる。
【０１１２】
画像形成性層（および輻射線感受性組成物）は、着色剤として作用する１種又は２種以上のさらなる化合物を含んでもよい。アルカリ性現像液中に可溶性の着色剤色素が有用である。着色剤色素のための有用な極性基としては、エーテル基、アミン基、アゾ基、ニトロ基、フェロセニウム基、スルホキシド基、スルホン基、ジアゾ基、ジアゾニウム基、ケト基、スルホン酸エステル基、リン酸エステル基、トリアリールメタン基、オニウム基（例えばスルホニウム、インドニウム、及びホスホニウム基）、窒素原子が複素環内に組み込まれている基、及び正に帯電した原子を含有する基（例えば四級化アンモニウム基）が挙げられるが、これらに限定されない。溶解抑制剤として有用な正に帯電した窒素原子を含有する化合物としては、例えばテトラルキルアンモニウム化合物、及び四級化複素環式化合物、例えばキノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合物、ピリジニウム化合物、及びイミダゾリウム化合物が挙げられる。有用な着色剤色素としては、トリアリールメタン色素、例えばエチルバイオレット、クリスタル・バイオレット、マラカイト・グリーン、ブリリアント・グリーン、ビクトリア・ブルーＢ、ビクトリア・ブルーＲ、及びビクトリア・ピュアブルーＢＯ、ＢＡＳＯＮＹＬ（登録商標）バイオレット６１０及びＤ１１（フランス国ロンジュモー（Ｌｏｎｇｊｕｍｅａｕ）所在のＰＣＡＳ）が挙げられる。これらの化合物は、現像された画像形成性要素における非露光（非画像形成）領域を露光（画像形成された）領域から区別するコントラスト色素として作用できる。
【０１１３】
着色剤色素が画像形成性層中に存在する場合には、その量は極めて多様であり得るが、一般的には、０．５質量％〜３０重量％（総乾燥層質量を基準）の量で存在する。
【０１１４】
画像形成性層（および輻射線感受性組成物）は、さらに、分散剤、保湿剤、殺生物剤、可塑剤、塗布性又は他の特性のための非イオンまたは両性界面活性剤、耐摩耗性ポリマー（例えばポリウレタン、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリアミドおよびアクリル樹脂）、粘度ビルダー、充填剤および増量剤、書き込まれた画像の視覚化を可能にするための色素又は着色剤、ｐＨ調整剤、乾燥剤、消泡剤、保存剤、抗酸化剤、現像助剤、レオロジー調整剤又はこれらの組み合わせ、あるいは平版印刷分野において通常使用されている任意の他の添加物などの様々な他の添加剤をコンベンショナルな量（例えば上記米国特許出願公開第２００５／０２１４６７７号に記載）で含むことができる。
【０１１５】
ポジ型画像形成性要素は、コンベンショナルな塗布法又はラミネーション法を用いて、基材（及び表面上に設けられた任意選択の他の親水性層）の表面に層配合物を適用することにより製造できる。例えば、配合物は、好適なコーティング用溶剤中に所望成分を分散又は溶解させ、その結果生じた配合物を、好適な装置及び手順、例えばスピンコーティング、ナイフコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティング、スロットコーティング、バーコーティング、ワイヤロッドコーティング、ローラーコーティング又は押出ホッパーコーティングを使用して基材に適用される。配合物は、好適な支持体（例えば機上印刷胴）上に噴き付けることによっても適用できる。
【０１１６】
単一の画像形成性層のコーティング量は、０．５〜２．５ｇ／ｍ2 、好ましくは１〜２ｇ／ｍ2 である。
【０１１７】
層配合物をコーティングするために使用される溶剤の選択は、配合物中のポリマーバインダー並びに他のポリマー材料および非ポリマー材料成分の性質に依存する。一般的に、画像形成性層配合物は、当業者によく知られている条件及び技術を用いて、アセトン、メチルエチルケトンまたは別のケトン、テトラヒドロフラン、１−メトキシプロパン−２−オール（または１−メトキシ−２−プロパノール）、Ｎ−メチルピロリドン、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、γ−ブチロラクトン及びこれらの混合物からコーティングされる。
【０１１８】
あるいは、それぞれの層組成物の溶融混合物からコンベンショナルな押出コーティング法によって層（単数または複数）を適用することもできる。典型的には、このような溶融混合物は、揮発性有機溶剤を含有しない。
【０１１９】
上記の各種の層配合物の適用の間に、他の配合物をコーティングする前に溶剤（１種又は複数種）を除去するために、中間乾燥工程を用いることができる。乾燥工程は、各種の層の混合を防止するのにも役立つ。
【０１２０】
ポジ型の単層の画像形成性要素の代表的な製造方法は下記の実施例に記載する。
【０１２１】
上記の画像形成性層を基材上で乾燥（すなわちコーティングが自立性で手で触れられるくらいまで乾燥）後、要素を、４０〜９０℃（典型的には５０〜７０℃）で少なくとも４時間、典型的には少なくとも２０時間または少なくとも２４時間熱処理できる。最長熱処理時間は、９６時間程度の長い時間であることができるが、熱処理に最適な時間及び温度は常套的実験により容易に決定できる。かかる熱処理は、例えば欧州特許出願公開第８２３，３２７号明細書（Ｎａｇａｓａｋａら）および欧州特許出願公開第１，０２４，９５８号（ＭｃＣｕｌｌｏｕｇｈら）に記載されている。
【０１２２】
前駆体からの湿分除去に対する効果的なバリヤを形成するために、熱処理中、画像形成性要素が、不透水性シート材料内に包まれるか又は収容されることも好ましい。好ましくは、このシート材料は、画像形成性要素（又はその積層体）の形状に密接に一致するのに十分に可撓性であり、そして一般的に、画像形成性要素（又はその積層体）と密に接触する。例えば、不透水性シート材料は、画像形成性要素又はその積層体の端部の周りでシールされる。かかる不透水性シート材料は、画像形成性要素又はその積層体の端部の周りでシールされた高分子フィルム又は金属箔である。
【０１２３】
あるいは、画像形成性要素（又はその積層体）の熱処理は、相対湿度が２５％からまたは３０％からに調節された環境で実施される。相対湿度は、所与の温度における飽和のために必要となる水の量の百分率として表される、空気中に存在する水蒸気の量として定義される。
【０１２４】
通常、少なくとも５個、かつ、１００個以下の画像形成性要素が同時に熱処理される。より一般的には、かかる積層体は、少なくとも５００個の画像形成性要素を含む。
【０１２５】
不透水性シート材料を使用して、このような積層体の上側及び下側を良好に包むことが難しい場合があり、このような場合には、積層体のこのような領域内に「ダミー」又は不合格品要素を使用することが望ましいことがある。このようにして、熱処理された積層体は、ダミー又は不合格品要素との組み合わせにおいて、少なくとも１００個の有用な画像形成性要素を含むことができる。これらのダミー又は不合格品要素はまた、包装過程又はシール過程によってもたらされる損傷から、有用な要素を保護するのにも役立つ。
【０１２６】
あるいは、画像形成性要素は、コイルの形態で熱処理され、次いで、後で個々の要素に切り分けられてもよい。このようなコイル体は、少なくとも１０００ｍ2の画像形成性表面、そしてより典型的には少なくとも３０００ｍ2の画像形成性表面を含むことができる。
【０１２７】
コイル体の隣接する巻き又は「らせん」、又は積層体の層は、所望の場合には、インターリービング材料、例えばプラスチック又は樹脂（例えばポリテン）でサイズ処理されていてもよい紙又は薄葉紙によって分離することができる。
【０１２８】
画像形成および現像
画像形成性要素は、任意の有用な形態を有し、限定されないが、印刷版前駆体、印刷胴、印刷スリ−ブ及び印刷テープ（可撓性印刷ウェブを含む）がある。画像形成性部材は、好ましくは、平版印刷版を提供する印刷版前駆体である。
【０１２９】
印刷版前駆体は、適切な基材の上に配置された必須の画像形成性要素を有する有用な大きさと形（例えば正方形又は長方形）のものであればよい。印刷胴及びスリ−ブは、円筒形の、基材及び画像形成性層を有する輪転印刷部材として知られている。中空又は中実の金属コアを、印刷スリーブ用の基材として使用できる。
【０１３０】
使用の際、画像形成性要素は、１５０〜１５００ｎｍの波長で、輻射線感受性組成物中に存在する輻射線吸収性化合物に応じて、紫外線、可視光、近赤外線または赤外線などの輻射線の好適な供給源に暴露される。好ましくは、３５０〜４５０ｎｍのλmaxを有する紫外線の供給源を使用して、または７００〜１４００ｎｍの波長で赤外レーザーを使用して、画像形成が行われる。ダイオードレーザー装置は、信頼性が高くかつ保守費が低いので、本発明の画像形成性要素を露光するのに使用されるレーザーとしては、ダイオードレーザーを使用できる。しかしながら、例えばガスレーザーまたは固体レーザーなどの他のレーザーも使用できる。レーザーで画像形成する場合の出力、強度及び暴露時間の組合せは、当業者であれば容易に分かるであろう。市販されているイメージセッターに使用されている高性能のレーザーまたはレーザーダイオードは、現在、８００〜８５０ｎｍまたは１０６０〜１１２０ｎｍの波長の赤外線を放射する。
【０１３１】
画像形成装置は、単独でプレートセッターとして機能することができ又は平版印刷機中に直接組み込むことができる。後者の場合、画像を形成させた後、直ちに印刷を開始できるので、印刷機のセットアップ時間をかなり短縮することができる。画像形成装置は、平台記録器（ｆｌａｔｂｅｄ  ｒｅｃｏｒｄｅｒ）、又はドラムの内部もしくは外部の円筒形表面に取り付けられた画像形成性部材を備えたドラム記録器として製造できる。有用な画像形成装置の例は、Ｃｒｅｏ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｅａｓｔｍａｎ  Ｋｏｄａｋ  Ｃｏｍｐａｎｙの子会社、カナダ国ブリティッシュコロンビア州バーナビー所在）から入手可能なＣｒｅｏ  Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ（登録商標）イメージセッターのモデルとして入手可能であり、このモデルは８３０ｎｍの波長の近赤外線を放射するレーザーダイオードを備える。他の好適な画像形成源としては、波長１０６４ｎｍで作動するＣｒｅｓｃｅｎｔ  ４２Ｔ  Ｐｌａｔｅｓｅｔｔｅｒ（米国イリノイ州シカゴ所在のＧｅｒｂｅｒ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃから入手可能）及びＳｃｒｅｅｎ  ＰｌａｔｅＲｉｔｅ ４３００シリーズもしくは８６００シリーズのプレートセッター（米国イリノイ州シカゴ所在のＳｃｒｅｅｎから入手可能）が挙げられる。さらなる有用な輻射線源としては、印刷版胴に要素を取り付けてその要素に画像を形成するのに使用できるダイレクトイメージング印刷機が挙げられる。好適なダイレクトイメージング印刷機の例としては、Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ  ＳＭ７４−ＤＩ印刷機（米国オハイオ州デイトン所在のＨｅｉｄｅｌｂｅｒｇから入手可能）が挙げられる。
【０１３２】
ＩＲ画像形成速度は、３０〜１５００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内にあることができる、特に４０〜２００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内にあることができる。
【０１３３】
レーザー画像形成が通常実施されるが、熱エネルギーを像様方式で提供する他の方法で画像形成できる。例えば、米国特許第５，４８８，０２５号（Ｍａｒｔｉｎら）に記載され、「熱印刷法（ｔｈｅｒｍａｌ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）」として知られている方法で熱抵抗ヘッドを使用して画像形成できる。サーマルプリントヘッドは市販されている（例えば、Ｆｕｊｉｔｓｕ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｈｅａｄ  ＦＴＰ−０４０  ＭＣＳ００１及びＴＤＫ  Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｈｅａｄ  Ｆ４１５ＨＨ７−１０８９として）。
【０１３４】
画像形成は、一般的に、ダイレクトデジタル画像形成を用いて行われる。画像信号は、コンピューターのビットマップデータファイルとして記憶される。かかるデータファイルは、ラスタ画像プロセッサー（ＲＩＰ）又は他の適切な手段で生成させることができる。ビットマップを構築して、色相並びにスクリーン周波数および角度を設定する。
【０１３５】
画像形成性要素に画像形成すると、画像形成（露光）領域及び非画像形成（非露光）領域の潜像を含む画像形成済み要素が生成する。この画像形成済み要素を、適切な現像液で現像すると、画像形成性層の露光領域とその下の任意の層が除去されて、基材の親水性表面が露出する。このように、かかる画像形成可能な要素は、「ポジ型」（例えば、「ポジ型」平版印刷版前駆体）である。
【０１３６】
このように現像が行われ、現像は、画像形成性層の画像形成（露光）領域とその下の層を除去するのに十分な時間であるが、画像形成性層の非画像形成（非露光）領域を除去するほど長くない時間実施する。画像形成性層の画像形成（露光）領域は、画像形成性層の非画像形成（非露光）領域より容易に現像液中で除去、溶解又は分散されるので、現像液に「可溶性」又は現像液中で「除去可能」であると記載される。したがって、「可溶性」という語句は、「分散性」であることも意味する。
【０１３７】
画像形成された要素は、一般的に、慣用的な処理条件を用いて現像される。水性アルカリ性現像液及び有機溶剤含有現像液の両方を使用できる。本発明の方法のほとんどの実施態様において、より高いｐＨの水性アルカリ性現像液が使用される。
【０１３８】
水性アルカリ性現像液は、一般的に、ｐＨが少なくとも７であり、好ましくは少なくとも１１である。有用なアルカリ性の水性現像液としては、３０００ディベロッパー、９０００ディベロッパー、ＧＯＬＤＳＴＡＲディベロッパー、ＧＲＥＥＮＳＴＡＲＰｌｕｓディベロッパー、ＧＯＬＤＳＴＡＲプレミアムディベロッパー、ＧＲＥＥＮＳＴＡＲディベロッパー、ＴｈｅｒｍａｌＰｒｏディベロッパー、ＰＲＯＴＨＥＲＭ（登録商標）ディベロッパー、ＭＸ１８１３ディベロッパー及びＭＸ１７１０ディベロッパー（これらは全て、コネチカット州ノーウォーク所在のＥａｓｔｍａｎ Ｋｏｄａｋ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能）が挙げられる。これらの組成物は、一般的に、界面活性剤、キレート化剤（例えば、エチレンジアミン四酢酸の塩）及びアルカリ性成分（例えば、無機メタケイ酸塩類、有機メタケイ酸塩類、水酸化物類及び重炭酸塩類）も含む。
【０１３９】
有機溶剤含有現像液は、一般的に、水と混和性の１種もしくは２種以上の有機溶剤の単相溶液である。有用な有機溶剤は、フェノールとエチレンオキシド及びプロピレンオキシドとの反応生成物［例えば、エチレングリコールフェニルエーテル（フェノキシエタノール）］；ベンジルアルコール；エチレングリコールの６個以下の炭素原子を含有する酸によるエステル及びプロピレングリコールの６個以下の炭素原子を含有する酸によるエステル；並びに６個以下の炭素原子を有するアルキル基を含有するエチレングリコール、ジエチレングリコール及びプロピレングリコールのエーテル類、例えば２−エチルエタノール及び２−ブトキシエタノールである。１種又は２種以上のこれら有機溶剤が、一般的に、現像液の総質量を基準として０．５〜１５％の量で存在する。かかる現像液は、中性、アルカリ性またはわずかに酸性ｐＨを有するものであることができる。これらの現像液の多くはアルカリ性のｐＨ、例えば１１以下のアルカリ性である。
【０１４０】
代表的な溶剤系のネガ型アルカリ性現像液としては、ＮＤ−１ディベロッパー、「ツー・イン・ワン（２ｉｎ１）」ディベロッパー、９５５ディベロッパー及び９５６ディベロッパー（全てコネチカット州ノーウォーク所在のＥａｓｔｍａｎ  Ｋｏｄａｋ  Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能）が挙げられる。
【０１４１】
一般的に、現像液は、当該現像液を含むアプリケーターを用いて画像形成された要素にこすりつける又は塗りつけることにより、画像形成された要素に適用される。代わりに、画像形成された要素に現像液をはけ塗りすることができ、又は露光領域を除去するのに十分な力で要素に吹き付けることによって現像液を適用してもよい。また、画像形成された要素を現像液に浸すこともできる。全ての場合に、印刷機室の化学薬剤に対して優れた耐性を有する現像画像が平版印刷版に生成する。
【０１４２】
現像の次に、画像形成された要素を、好適な様式で水ですすぎ、乾燥させる。乾燥させた要素を、通常のガム引き用溶液（好ましくはアラビアゴム）で処理することもできる。
【０１４３】
画像形成され現像された要素を、得られる画像形成された要素のランレングスを増加させるために行うことができる露光後ベーク操作でベーキングすることができる。ベーキングは、例えば、２２０℃〜２４０℃にて２〜１０分間、又は１２０℃にて３０分間実施できる。
【０１４４】
平版印刷インクと湿し水を画像形成された要素の印刷面に適用することにより印刷を行うことができる。インクは、画像形成性層の非画像形成（非露光又は非除去）領域によって吸収され、湿し水は、画像形成と現像の工程で露出した基材の親水性表面によって吸収される。次に、インクは、好適な受容材料（例えば、布地、紙、金属、ガラス又はプラスチック）に転写され、これら材料上に画像の望ましい刷りを提供する。必要に応じて、中間の「ブランケット」ローラーを使用して、インクを画像形成された部材から受容材料に転写させることができる。画像形成された部材は、刷りの間、必要に応じて、通常の洗浄方法と化学薬剤を使って洗浄できる。
【０１４５】
下記実施例は、本発明の実施を例示するために提供するものであるが、決して本発明を限定することを意図したものではない。
【実施例】
【０１４６】
実施例で使用した成分及び材料並びに評価に用いた分析法は以下のとおりである。特に断らない限り、化学物質は、Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ（ワイオミング州ミルウォーキー）などの商業的供給業者から得ることができる。
【０１４７】
ＢＦ−０３は、Ｃｈａｎｇ  Ｃｈｕｎ  Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．（台湾）から入手したポリ（ビニルアルコール）、９８％加水分解（Ｍｗ＝１５，０００）を表す。
ＢＩＳ−ＴＲＩＳは２，２-ビス（ヒドロキシメチル）−２，２’，２’’−ニトリロトリエタノールを表す。
Ｂｙｋ（登録商標）３０７は、ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ（コネチカット州ウォリングフォード所在）から入手した変性ジメチルポリシロキサンコポリマーのキシレン／メトキシプロピルアセテート中２５（質量）％溶液である。
クリスタル・バイオレット（Ｃ．Ｉ．４２５５５）はベーシック・バイオレット３（λmax＝５８８ｎｍ）である。
ＤＭＳＯはジメチルスルホキシドを表す。
ＨＥＰは１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドンを表す。
ＨＥＰＡＰＮは３−［（２−ヒドロキシエチル）フェニルアミノ］−プロピオニトリルを表す。
【０１４８】
Ｌ−６は、サリチル酸ナトリウム（１％）、Ｄ−ソルビトール（１％）、Ｔｒｉｔｏｎ（登録商標）Ｈ５５非イオン性界面活性剤（０．５％）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）ＮＰ１２界面活性剤（０．０４％）、ケイ酸カリウム（８．２％）および水を含むケイ酸カリウム水性現像液を表し、約１：１．２のＫ2Ｏ：ＳｉＯ2比および約１３．５のｐＨを有する。百分率は質量による。
ＭＥＫはメチルエチルケトンを表す。
ＭＳＡはメタノールスルホン酸（９９％）を表す。
ＮＭＰはＮ−メチルピロリドンを表す。
ＰＤＥＡはＮ−フェニルジエタノールアミンを表す。
ＰＧはフロログルシノールを表す。
ＰＭは１−メトキシ−２−プロパノール（Ｄｏｗａｎｏｌ  ＰＭとしても知られている）を表す。
Ｒｕｔｈａｐｅｎ  ＬＢ  ９９００はＨｅｘｉｏｎ  ＡＧ（ドイツ国）から入手したクレゾールレゾール樹脂である。
Ｒｕｔｈａｐｅｎ  ０７４４  ＬＢはＢａｋｅｌｉｔｅ  ＡＧ（ドイツ国）から入手したクレゾールノボラック樹脂である。
Ｓ  ０４５１はＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（ドイツ国）から入手したＩＲ色素（λmax＝７７５ｎｍ）である。
Ｓ  ００９４はＦＥＷ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ（ドイツ国）から入手したＩＲ色素（λmax＝８１３ｎｍ）である。
スダン・ブラックＢはニュートラルジアゾ色素（Ｃ．Ｉ．２６１５０）を表す。
ＴＥＡはトリエタノールアミンを表す。
ＴＥＴＲＡＫＩＳ−ＨＥＥＤＡはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）−エチレンジアミンを表す。
ＴＥＴＲＡＫＩＳ−ＨＰＥＤＡはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）−エチレンジアミンを表す。
ＴＨＰＥは１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンを表す。
ビクトリア・ブルーＲはトリアリールメタン色素（Ｃ．Ｉ．４４０４０）を表す。
【０１４９】
ポリマーＡは下記の手順を用いて調製した：
水冷コンデンサー、滴下漏斗および温度計を備え、ＤＭＳＯ（２００ｇ）を含む反応容器にＢＦ−０３（５０ｇ）を加えた。連続撹拌しながら、混合物が透明溶液になるまで混合物を８０℃で３０分間加熱した。次に、温度を６０℃に調節し、ＤＭＳＯ（５０ｇ）中のＭＳＡ（２．７ｇ）を加えた。１５分間かけて、ブチルアルデヒド（１０．４ｇ）の溶液を反応混合物に加え、反応混合物を５５〜６０℃に１時間保った。次に、ＤＭＳＯ（１００ｇ）中の２−ヒドロキシベンズアルデヒド（サリチル酸アルデヒド、３９ｇ）を反応混合物に加えた。次に、反応混合物をアニソール（３５０ｇ）により希釈し、真空蒸留を開始した。反応混合物からアニソール：水共沸混合物を留去した（溶液中の残った水は０．１％未満）。反応混合物を室温に冷却し、ＤＭＳＯ（３０ｇ）中に溶解したＴＥＡ（８ｇ）により中和し、次に６ｋｇの水とブレンドした。その結果析出したポリマーを水で洗浄し、濾過し、５０℃で真空中で２４時間乾燥させ、８６ｇの乾燥したポリマーＡを得た。
【０１５０】
本発明例１〜４並びに比較例１および２：
本発明の画像形成性要素および本発明の範囲外の２つの比較用要素（比較例１は「対照」）を、下記の成分を有する輻射線感受性組成物を用いて以下のように製造した。
Ｒｕｔｈａｐｈｅｎ  ７４４  ＬＢ              ７．２２ｇ
クリスタル・バイオレット                      ０．２ｇ
Ｓ  ００９４ＩＲ色素                          ０．１６ｇ
塩基性の窒素含有有機化合物
（下記表Ｉ参照）                              合計０．４ｇ
ＰＭ                                          ９１．８ｇ
【０１５１】
各配合物を濾過し、電気化学的に粗面化され陽極参加処理されたアルミニウム基材であってポリ（ビニルホスホン酸）の水溶液による処理にかけられたアルミニウム基材に通常の方法により適用し、得られた画像形成性層コーティングをＧｌｕｎｚ＆Ｊｅｎｓｅｎの「Ｕｎｉｇｒａｐｈ  Ｑｕａｒｔｚ」オーブン内で１０５℃で２．５時間乾燥させた。各画像形成性層の乾燥被覆量は約１．５ｇ／ｍ2 であった。
【０１５２】
各得られた画像形成性要素をＣＲＥＯ（登録商標）Ｌｏｔｅｍ  ４００  Ｑｕａｎｔｕｍイメージャーにより４０ｍＪ/ｃｍ2 〜２００ｍＪ/ｃｍ2 のエネルギー範囲で露光し、ＧＯＬＤＳＴＡＲプレミアムディベロッパーを使用してＧｌｕｎｚ＆Ｊｅｎｓｅｎの「ＩｎｔｅｒＰｌａｔｅｒ  ８５ＨＤ」プロセッサー内で２５℃で３０秒間現像した。得られた印刷版を感度（クリアリングポイント：所定の温度および時間で露光領域が現像液により完全に除去）および非露光領域におけるシアン濃度の減少について評価した。結果を表Ｉに示す。
【０１５３】
【表１】
2010532488.tif 000016
【０１５４】
表Ｉ中の結果から、本発明（本発明例１および２）に従う現像性向上化合物として塩基性の窒素含有有機化合物をノボラック含有輻射線感受性組成物に添加することで、デジタル画像形成装置で７００〜１０００ｎｍで画像形成された場合に、高い感度を有する印刷版前駆体がもたらされることが分かる。さらに、本発明の要素を水性アルカリ性現像液中で現像した場合には、非露光領域において許容可能な小さい質量損失がある。
【０１５５】
さらに、本発明例３および４の結果から、輻射線感受性組成物および画像形成性層においてこれらの塩基性の窒素含有有機化合物を、酸性の現像性向上化合物（例えばＴＨＰＥ）と組み合わせて使用することによって、７００〜１０００ｎｍでデジタル画像形成装置で画像形成された場合に高い感度を有する画像形成性要素がもたらされることが分かる。さらに、本発明の要素が水性アルカリ性現像液中で現像される場合には、非露光領域において許容可能な質量損失がある。
【０１５６】
本発明例５〜１１および比較例３：
本発明の画像形成性要素および本発明の範囲外の比較用要素を、下記の成分を有する輻射線感受性組成物を用いて以下のように製造した。
ポリマーＡ                                    １６．３ｇ
ビクトリア・ブルーＲ                          ０．３４ｇ
Ｓ  ００９４ＩＲ色素                          ０．４８ｇ
塩基性の窒素含有有機化合物
（下記表Ｉ参照）                              １．６ｇ
ＰＭ                                          １６２．９ｇ
【０１５７】
各配合物を濾過し、電気化学的に粗面化され陽極参加処理されたアルミニウム基材であってポリ（ビニルホスホン酸）の水溶液による処理にかけられたアルミニウム基材に通常の方法により適用し、得られた画像形成性層コーティングをＧｌｕｎｚ＆Ｊｅｎｓｅｎの「Ｕｎｉｇｒａｐｈ  Ｑｕａｒｔｚ」オーブン内で１００℃で２．５時間乾燥させた。各画像形成性層の乾燥被覆量は約１．５ｇ／ｍ2 であった。
【０１５８】
各得られた画像形成性要素をＣＲＥＯ（登録商標）Ｌｏｔｅｍ  ４００  Ｑｕａｎｔｕｍイメージャーにより４０ｍＪ/ｃｍ2 〜３５０ｍＪ/ｃｍ2 のエネルギー範囲で露光し、Ｌ−６（９０ｍｓ）ディベロッパーを使用してＧｌｕｎｚ＆Ｊｅｎｓｅｎの「ＩｎｔｅｒＰｌａｔｅｒ  ８５ＨＤ」のプロセッサー内で２５℃で３０秒間現像した。得られた印刷版を感度（クリアリングポイント：所定の温度および時間で露光領域が現像液により完全に除去）および非露光領域におけるシアン濃度の減少について評価した。結果を表ＩＩに示す。
【０１５９】
【表２】
2010532488.tif 000017
【０１６０】
表ＩＩ中の結果から、本発明に従う現像性向上化合物として塩基性の窒素含有有機化合物をノボラック含有輻射線感受性組成物に添加することで、デジタル画像形成装置で７００〜１０００ｎｍで画像形成された場合に、高い感度を有する印刷版前駆体がもたらされることが分かる。さらに、本発明の要素を水性アルカリ性現像液中で現像した場合には、非露光領域において許容可能な少ない質量損失がある。
【０１６１】
本発明例１２〜１９並びに比較例４および５：
本発明の画像形成性要素および本発明の範囲外の比較用要素を、下記の成分を有する輻射線感受性組成物を用いて以下のように製造した。
ポリマーＡ                                    １１ｇ
クリスタル・バイオレット                      ０．４２ｇ
Ｓ  ００９４ＩＲ色素                          ０．１７ｇ
Ｓ  ０４５１ＩＲ色素                          ０．２９ｇ
Ｒｕｔｈａｐｈｅｎ  ＬＢ  ９９００            ５．０ｇ
スダン・ブラックＢ                            ０．１７ｇ
塩基性の窒素含有有機化合物
（量とともに下記表ＩＩＩ参照）
ＰＭ                                          １２０ｇ
ＭＥＫ                                        １５ｇ
【０１６２】
各配合物を濾過し、電気化学的に粗面化され陽極参加処理されたアルミニウム基材であってポリ（ビニルホスホン酸）の水溶液による処理にかけられたアルミニウム基材に通常の方法により適用し、得られた画像形成性層コーティングをＧｌｕｎｚ＆Ｊｅｎｓｅｎの「Ｕｎｉｇｒａｐｈ  Ｑｕａｒｔｚ」オーブン内で１００℃で１分間乾燥させた。画像形成性層をコートした後、画像形成性層を５５℃の温度および相対湿度２５％で３日間熱処理した。各画像形成性層の乾燥被覆量は約１．５ｇ／ｍ2 であった。
【０１６３】
各得られた画像形成性要素をＣＲＥＯ（登録商標）Ｌｏｔｅｍ  ４００  Ｑｕａｎｔｕｍイメージャーにより４０ｍＪ/ｃｍ2 〜１５０ｍＪ/ｃｍ2 のエネルギー範囲で露光し、Ｌ−６（９０ｍｓ）ディベロッパーを使用してＧｌｕｎｚ＆Ｊｅｎｓｅｎの「ＩｎｔｅｒＰｌａｔｅｒ  ８５ＨＤ」のプロセッサー内で２３℃で３０秒間現像した。得られた印刷版を感度（クリアリングポイント：所定の温度および時間で露光領域が現像液により完全に除去）および非露光領域におけるシアン濃度の減少について評価した。
【０１６４】
その後、印刷版の各々をＨｅｉｄｅｌｂｅｒｇ  ＧＴＯ−５２印刷機に取り付けて２０万刷りを印刷した。１％、２％、３％、５％および５０％ドットのドット率％を１万刷りごとのプリントで求め、１％ドットの場合のドット％が１０％未満の先鋭化した場合には、優れているとして判定される。結果を下記表ＩＩＩに示す。
【０１６５】
【表３】
2010532488.tif 000018
【０１６６】
表ＩＩＩ中の結果から、ポリ（ビニルアセタール）を含む輻射線感受性組成物および画像形成性層において本発明に従う現像性向上化合物として１種または２種以上の塩基性の窒素含有有機化合物を使用することで、デジタル画像形成装置で７００〜１０００ｎｍで画像形成された場合に、高い感度を有する印刷版前駆体（画像形成性要素）がもたらされることが分かる。さらに、現像によって、それらは非露光領域において許容可能な少ない質量損失を示し、非常に良好な耐久印刷性能をもたらした。
【０１６７】
本発明例１２および１３の結果からも、酸性の現像性向上化合物と組み合わせてこれらの塩基性の窒素含有有機化合物のうちの少なくとも1種を使用することで、現像ラチチュードおよび印刷の改善がもたらされることも分かる。
【国際調査報告】
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