(57)【要約】  導電性液体金属またはイオン液体を供給する内部タンク（１６０）と内部タンクと出口開口（１７１）との間を連通する円形スロット（１７０）を形成する第一回転部品（１１０）と第二回転部品（１２０）を有する電界放射式電気推進スラスタ即ちコロイドスラスタ用電界効果エミッタに関する。第一部品は、精密機械加工により作られかつ５°−８°の単一傾斜をもつ円錐部分を備えた研摩された外面（１１１）と内面（１１２）を有している。第二部品は、精密機械加工により作られかつ５°−８°の単一傾斜をもつ円錐部分を備えた内面（１２１）と外面（１２２）を有している。１−２μｍ厚のスロット（１７０）を形成するため金属スタッド（１２３−１２５）が外面（１２２）に真空蒸着され、外側部品（１１０）が内側部品（１２０）に結合手段（１４０）で維持され、シーリング調整スペーサー（１３０）が外側と内側部品間に設けられた。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転対称でありかつ液体金属又は導電性イオン液体を供給する内部リザーバ（１６０）を形成する第一部分（１１０）および第二部分（１２０）と、前記内部リザーバ（１６０）を出口オリフィス（１７１）に連結するスリット（１７０）と、を有する電界放射式電気推進又はコロイドスラスタ用の電界効果エミッタにおいて、
前記第一部分（１１０）が外側部品を形成し、該外側部品が、研摩された外面（１１１）と、５°と８°との間の一定の単一傾斜をもつ円錐形セクションを有する精密機械加工された内面（１１２）と、を備え、
前記第二部分（１２０）が内側部品を形成し、該内側部品が、内面（１２１）と、５°と８°との間の単一傾斜をもつ円錐形セクションを有する精密機械加工された外面（１２２）と、を備え、
前記外側部品（１１０）の内面（１１２）および前記内側部品（１２０）の外面（１２２）が前記内部リザーバ（１６０）および前記スリット（１７０）を形成し、
前記スリット（１７０）に１μｍと２μｍとの間の厚さを形成するため、蒸着により前記内側部品（１２０）の前記外面（１２２）上に金属ブロック（１２３、１２４、１２５）が形成され、
前記外側部品（１１０）は連結手段（１４０）により前記内側部品（１２０）に対して保持され、
前記リザーバ（１６０）から毛管作用によりこのスリット（１７０）に供給するために、前記内部リザーバ（１６０）と前記スリット（１７０）との間に形成され、前記外側部品（１１０）の前記内面（１１２）の円錐面と前記内側部品（１２０）の前記外面（１２２）の円錐面とにより規定された１０μｍと１５μｍとの間の厚さの毛管供給チャネル（１６１）を更に有することを特徴とするエミッタ。
【請求項２】
前記スリット（１７０）の前記出口オリフィス（１７１）は円形オリフィスであり、この円形オリフィスの半径は５ｍｍと５０ｍｍとの間にあり、この円形オリフィスは、前記外側部品（１１０）および前記内側部品（１２０）の縁部により形成された外側リップ（１１６）と内側リップ（１２６）とにより規定され、前記円形オリフィスの整合は、前記第一部分（１１０）および前記第二部分（１２０）の対称軸線に対して直角に横たわる、前記一部分（１１０）および前記第二部分（１２０）の支持面（１１７、１２７）の間に挿入されたシーリングスペーサー（１３０）により調節可能であることを特徴とする請求項１記載のエミッタ。
【請求項３】
前記外側部品（１１０）の前記内面（１１２）の前記円錐面は３つの円錐形セグメントを有し、これらの全ての円錐形セグメントは同じ傾斜であるが、前記毛管供給チャネル（１６１）、前記内部リザーバ（１６０）および前記スリット（１７０）を形成するように、１つのセグメントから他のセグメントへの漸進的な円錐形遷移部を有していることを特徴とする請求項１または２記載のエミッタ。
【請求項４】
外部流体源から前記内部リザーバ（１６０）に供給すべく、前記第二部分（１２０）に形成されかつ前記内部リザーバ（１６０）に通じる１ｍｍと２ｍｍとの間の直径をもつ供給チャネル（１５０）を更に有することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項５】
前記機械的連結手段はナット（１４０）からなることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項６】
前記機械的連結手段はねじからなることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項７】
前記機械的連結手段はロウ付継手からなることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項８】
前記第一部分（１１０）および前記第二部分（１２０）はニッケル超合金で作られていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項９】
前記第一部分（１１０）および前記第二部分（１２０）は硬化ステンレス鋼で作られていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項１０】
前記第一部分（１１０）と前記第二部分（１２０）との間に形成されたキャビティ内に組込まれたガス抜きゲッター材料を更に有することを特徴とする請求項１から９のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項１１】
前記金属ブロック（１２３、１２４、１２５）はニッケルで作られていることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項１２】
前記金属ブロック（１２３、１２４、１２５）は直接的機械加工により作られることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項１３】
前記第二部分（１２０）は前記第一部分（１１０）より剛性が大きいことを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項１４】
前記シーリングスペーサー（１３０）はニッケルで作られていることを特徴とする請求項２記載のエミッタ。
【請求項１５】
前記第二部分（１２０）の近傍に配置された発熱抵抗器（１９５）を更に有することを特徴とする請求項１から１４のいずれか１項記載のエミッタ。
【請求項１６】
電界放射式電気推進又はコロイドスラスタであって、
請求項１から１５のいずれか１項記載のエミッタを有し、該エミッタが加速電極構造（２００）の近傍に取付けられ、該加速電極構造（２００）は接地されたスクリーン（３００）により包囲され、絶縁ブロック（４０１、４０２）が、前記エミッタ（１００）と前記加速電極構造（２００）との間、並びに前記加速電極構造（２００）と前記接地されたスクリーン（３００）との間に挿入されていることを特徴とする電界放射式電気推進又はコロイドスラスタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、イオンスラスタ用エミッタに関する。
【０００２】
より詳しくは、本発明は、液化金属または導電性イオン液体を供給する内部リザーバを形成する第一部分および第二部分と、内部リザーバを出口オリフィスに連結するスリットとを有する、電界放射式電気推進又はコロイドスラスタ用の電界効果エミッタに関する。
【背景技術】
【０００３】
電界放射式電気推進（Field Emission Electric Propulsion：ＦＥＥＰ）スラスタは、１９７０年代から知られている。
【０００４】
これらのスラスタには、液体セシウム（融点は２８．５℃）または液体インジウムが供給される。
【０００５】
より最近になって、新規な導電性液体をＦＥＥＰスラスタと同様の幾何学的形状を用いたコロイドスラスタに使用することが提案されている。
【０００６】
下記刊行物（非特許文献１）には、数例のイオンスラスタが説明されている。
【０００７】
これらのスラスタは広いダイナミックレンジに特徴を有し、かつＬＩＳＡ（Laser Interference Space Antenna：レーザー干渉空中アンテナ）ミッション、または一般的相対論の等価原理（the equivalence principle of general relativity）を試験すべく設計されたマイクロスコープ（MICROSCOPE）ミッションのようなドラッグおよび外乱の補償等の非常に正確な相対位置決めを必要とするミッション用に提案されている。
【０００８】
例えば下記特許文献１に開示されているように、リニア形電界効果エミッタを用いた宇宙応用のイオンスラスタの建造が提案されている。
【０００９】
図２−図４には、この種の既知のリニアエミッタの一例が示されている。
【００１０】
リニアエミッタ１０は第一部分１１および第二部分１２を有し、これらの両部分１１、１２は重ね合わされ、これらの間にリザーバ１６を形成（例えば下方部分１２に形成）している。リザーバ１６はリニアスリット１７に連結されており、リニアスリット１７は、該スリット１７の全幅を横切って延びているリニアオリフィスを通って外部に開口している。
【００１１】
重ね合わされた部分１１、１２は、これらの両部分１１、１２に形成されたオリフィス１８を通るＭ２ねじのような連結手段により連結されている。
【００１２】
厚さ１．５μｍのスリット１７は、例えばニッケルで作られたスペーサー１９のマスクを通して第一部分１１上に真空蒸着により形成される。Ｕ形スペーサー１９は、１つのリアアームと、スリット１７の両側に２つのサイドアームとを有している。マスクを通して第一部分１１上に蒸着されたニッケルブロック１５によりスリットの最小幅が維持される（図３）。
【００１３】
図４は、加速電極２０と組合されたエミッタ１０を示す断面図であり、加速電極２０は−５００から−５０００Ｖの電位に昇圧されており、＋５０００から＋１００００Ｖの電位のパワフルな電界をエミッタ１０の先端部に発生する。
【００１４】
液体（例えばセシウム）がダクト１３を通してリザーバ１６内に導入され、次にスリット１７を通して排出される。
【００１５】
テイラーコーン内への静電力により、液体メニスカスが変形される。コーンの先端部での電界は、イオンを直接液体表面から抽出することを可能にする。エミッタの端部を丸めることによりエッジ効果が制限される。
【００１６】
液体で完全に濡らす作業が必要であり、この作業は、発熱抵抗器により得られる真空下での加熱（約２００℃の温度までの加熱）を必要とする。
【００１７】
冷却後、セシウムまたは他の液体がエミッタ内に導入される。
【００１８】
しかしながら、真直で１μｍ内の平面度を有する７０ｍｍより長いスリット長を有し且つ０．０５μｍ ｒｍｓより良好な表面仕上げを有する、図２−図４に示すようなフラットエミッタを作ることは非常に困難である。
【００１９】
リニアエミッタ技術は、１ｍＮより小さい推力を発生させるのに困難性は全くないが、例えば約５ｍＮから１０ｍＮのより大きい推力を発生させることはより困難である。
【００２０】
例えば低軌道の衛星のドラッグを補償し、または大きい速度増分（１５ｋｍ／ｓより大きい）を要する惑星ミッションを補償するには大きい推力を必要とする。
【００２１】
特許文献１及び２、および非特許文献２には、エッジ効果の問題を無くすように設計された円形エミッタが提案されている。
【００２２】
しかしながら、これまで、この形式のエミッタは製造上の困難性に遭遇し、満足できる作動はできていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２３】
【特許文献１】米国特許第４３２８６６７号明細書（Valentian等）
【特許文献２】フランス国特許２５１０３０４号明細書
【非特許文献】
【００２４】
【非特許文献１】１９８４年５月第１７回ＩＥＰＣ東京におけるC. BartoliおよびD. valentianの「電界放射式電気推進の開発状況（Field emission electric propulsion development status）」（IEPC International Electric Propulsion Conference）
【非特許文献２】M. Andrenucci, G. Genuini, D. LauriniおよびC. Bartoliの「電界放射式電気推進用環状スリット源のイオン源の開発（Development of an annular slit source ion source for field emission electric propulsion）」（AIAA 85-2069、International Electric Propulsion Conference、Alexandria、Virginia）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２５】
本発明の目的は、上記問題を解決することにあり、より詳しくは、高い精度の構造を確保できる簡単かつ信頼性のある方法で、１ｍＮより大きい推力、一般的には約５−１０ｍＮの推力でイオンスラスタを建造できるようにすることにある。
【００２６】
本発明の他の目的は、水平または垂直発射位置における地上、および微小重力（microgravity）における空間の両方で作動できるエミッタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２７】
これらの目的は、回転対称でありかつ液体金属又は導電性イオン液体を供給する内部リザーバを形成する第一部分および第二部分と、内部リザーバを出口オリフィスに連結するスリットと、を有する電界放射式電気推進又はコロイドスラスタ用の電界効果エミッタにおいて、第一部分が外側部品を形成し、該外側部品が、研摩された外面と、５°と８°との間の一定の単一傾斜をもつ円錐形セクションを有する精密機械加工された内面とを備え、第二部分が内側部品を形成し、該内側部品が内面と、５°と８°との間の単一傾斜をもつ円錐形セクションを有する精密機械加工された外面とを備え、外側部品の内面および内側部品の外面が前記内部リザーバおよび前記スリットを形成し、前記スリットに１μｍと２μｍとの間の厚さを形成すべく、蒸着により内側部品の外面上に金属ブロックが形成され、外側部品は連結手段により内側部品に対して保持され、内部リザーバとスリットとの間で、外側部品の内面の円錐面と内側部品の外面の円錐面とにより形成された１０μｍと１５μｍとの間の厚さの毛管供給チャネルを更に有することを特徴とするエミッタにより達成される。
【００２８】
より詳しくは、本発明のエミッタは、スリットの出口オリフィスが円形オリフィスであり、円形オリフィスの半径が５ｍｍと５０ｍｍとの間にあり、円形オリフィスが、外側部品および内側部品の縁部により形成された外側リップと内側リップとにより形成され、円形オリフィスの整合が、第一部分および第二部分の対称軸線に対して直角に横たわる両部分の支持面の間に挿入されるシーリングスペーサーにより調節可能であることに特徴を有する。
【００２９】
有利なことは、外側部品の内面の円錐面が３つの円錐形セグメントを有し、これらの全ての円錐形セグメントは同じ傾斜であるが、毛管供給チャネル、内部リザーバおよびスリットを形成するように、１つのセグメントから他のセグメントへの漸進的な円錐形遷移部を有していることである。
【００３０】
１つの特別な特徴は、外部流体源から内部リザーバに供給すべく、第二部分に形成されかつ内部リザーバに通じる１ｍｍと２ｍｍとの間の直径をもつ供給チャネルを更に有することである。
【００３１】
円形スリットをもつエミッタを作ることにより、エッジ効果（端部での大電流）に対して自動的に保護される。
【００３２】
円形スリットを有するエミッタに推奨できる特別構造は、自動調心を可能にしかつ単なる機械加工では得られない精度を達成するように調節する可能性を確保する幾何学的形状により、３０ｍｍ−１００ｍｍの直径を横切って例えば１．５μｍの円形スリットの正確な構造を可能にする。
【００３３】
本発明はまた、加速電極構造の近傍に取付けられ、該加速電極構造が、接地されたスクリーンにより包囲され、絶縁ブロックが、エミッタと加速電極構造との間並びに加速電極構造と接地されたスクリーンとの間に挿入されている構成のエミッタを、電界放射式電気推進又はコロイドスラスタに適用することに関する。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明による円形エミッタの一例の主部品を通る軸線方向半断面図である。
【図２】既知のリニアスリットエミッタの一例を示す側面図である。
【図３】図２に示したリニアスリットエミッタの下方部分に真空蒸着されたスペーサーの一例を示す平面図である。
【図４】図２に示したリニアスリットエミッタを組込んだイオンスラスタを通る断面図である。
【図５】本発明による真円エミッタを通る軸線方向半断面図である。
【図６】図５に示したエミッタを示す端面図である。
【図７】本発明による円形エミッタを組込んだイオンスラスタの一例を通る軸線方向半断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本発明の他の特徴および長所を、添付図面を参照して例示する本発明の或る特定実施形態に関連して以下に説明する。
【００３６】
図５および図６は、本発明による円形エミッタ１００の一例の概略的構造を示し、図７は、このような円形エミッタ１００が、どのようにイオンスラスタ内に組込まれるかを示すものである。
【００３７】
エミッタ１００は、軸線Ｏの回りで回転対称でありかつベース１９０および突出部を備えた内側部品１２０を有し、突出部の外面１２２（図１）は外側部品１１０の内面１１２に関連して作用する。外側部品１１０も軸線Ｏの回りで回転対称であり、内側部品１２０に嵌合されかつナット１４０等の連結手段によりこの内側部品１２０に対して保持されている。
【００３８】
図１に関連して後述するように、内側部品１２０と外側部品１１０との間には内部リザーバおよび円形スリットが形成されているが、これらの両方とも図５−図７には示されていない。
【００３９】
図７は、円形エミッタ１００が、どのようにして電界放射式スラスタまたはコロイドスラスタ等のイオンスラスタ内に組込まれるかを示している。
【００４０】
エミッタ１００は、該エミッタ１００を包囲する加速電極構造２００に近接して取付けられる。
【００４１】
加速電極構造２００は、接地されたスクリーン３００により包囲される。エミッタ１００と加速電極構造２００との間には絶縁ブロック４０１、４０２が配置され、加速電極構造２００と接地されたスクリーン３００との間にも絶縁ブロックが配置される。内側部品１２０のベースプレート１９０には、エミッタ１００のブロック４０１のような高電圧絶縁ブロックを通しかつセシウム等の液体を内部リザーバに供給するパイプ１８５（図５）を通すための孔４００（図６）を有している。
【００４２】
接地されたスクリーン３００は、外側部品１１０と内側部品１２０との間に形成された円形スリットのオリフィス１７１の外部に発生する外部プラズマと、帯電された電極２００との間の相互作用を防止する。
【００４３】
地上で作動すると、外部プラズマは、エミッタ１００の円形スリットの出力オリフィス１７１の近傍のスクリーンの外部に位置する中空カソード中性化器（hollow-cathode neutralizer)の作動から生じる。
【００４４】
加速電極２００およびスクリーン３００は、エミッタ１００のスリットの円形出力オリフィス１７１と整合している環状開口２０１、３０１を有している（図７）。
【００４５】
内側部品１２０の近傍で、ベース１９０の下の液体供給パイプ１８５の近くには、エミッタ１００を加熱するための発熱抵抗器１９５（図５および図７）を配置でき、外側部品１１０および内側部品１２０からなるエミッタ１００は、次に冷却され、そしてエミッタ内の液体状態は適正に維持される。
【００４６】
特定の一実施形態では、ベース１９０および内側部品１２０により形成される肩部は、高さを低くでき、このベース１９０上には別体のプレート１９１を重ねることができる（図６の右側に示した変形例）。
【００４７】
加速電極２００の電位は大きい負の電位（−１０００Ｖから−５０００Ｖ）であり、プラズマイオンを誘引する。加速電極２００は、電離プラズマおよび中性化器により引起こされるイオンの流れが大きくなり過ぎないように、スクリーン３００（より詳しくは、スクリーン３００は、エミッタ内の加速電極２００の中央部を包囲している）により充分に保護されている。
【００４８】
本発明による円形エミッタ１００の特殊構造を、図５−図７の簡単化した組立図より詳細にエミッタを示す図１を参照して説明する。
【００４９】
内側部品１２０は、表面状態が厳格でない内面１２１と、精密に機械加工および研摩された外面１２２とを有し、外面は、５°と８°との間の一定の単一傾斜をもつ円錐部分を備えている。
【００５０】
外側部品１１０は研摩された外面１１１および内面１１２を有し、内面１１２は、精密な機械加工により形成され、５°と８°との間の一定の単一傾斜をもつイオン部分を備えている。
【００５１】
外側部品１１０の内面１１２および内側部品１２０の外面１２２は、環状の内部リザーバ１６０と、円形オリフィス１７１に通じる環状スリット１７０とを形成している。
【００５２】
スリット１７０の幅を決定すべく、内側部品１２０の外面１２２の一部には、例えばニッケルからなる金属ブロック１２３、１２４、１２５が、例えばカソードスパッタリングにより真空蒸着されている。ブロックの真空蒸着は、スリットを備えた円錐形マスクを用いて行うことができる。両円錐部品が一緒に嵌合されるとき、対向面上でのスタッドのスライディングは、１６μｍのギャップおよび１０％（６°）の傾斜を得るのに例えば１６０μｍに過ぎない。この僅かな摩擦移動は、ブロックが押し潰される危険を制限する。他の可能な実施形態では、ブロックは、１μｍから２μｍのツールリフトで直接的に機械加工できる。
【００５３】
図１に示すような実施形態で提案される幾何学的形状は、所望の流体インピーダンスに基づいて、１μｍと２μｍとの間（一般的には１．５μｍ）のスリット厚さを形成する。外側部品１１０および内側部品１２０の端部により形成されかつ円形出口オリフィス１７１を形成するリップ１１６、１２６は、５ｍｍと５０ｍｍとの間に定めることができる出口オリフィス１７１の半径に対して１μｍ内に整合させることができる。
【００５４】
両リップ１１６、１２６の垂直整合は、外側部品１１０および内側部品１２０の対称軸線Ｏに対して直角をなす両部品１１０、１２０の支持面１１７、１２７間に挿入されるシーリングスペーサー１３０を仕上げ研摩することにより調節できる。
【００５５】
スペーサーはニッケルで作るのが好ましく、両部品１１０、１２０をシールして、外側部品１１０の底部から液体が漏洩することを防止する。
【００５６】
外側部品１１０および内側部品１２０は、ねじまたはロウ付等の機械的連結手段により一体に閉じられる。図１に示す例では、スペーサー１３０をグリップする両部品１１０、１２０間の機械的連結は、微細ピッチのナット１４０が好ましい。
【００５７】
一変形例として、この機械的連結は、フランジおよび一連のＭ３ねじを用いて行うことができる。これにより、いかなる非平行性も、連続回転とは異なる不連続回転により減衰される。
【００５８】
図１から理解されようが、外側部品１１０の内面１１２は３つの円錐形セグメント１１２Ａ、１１２Ｂ、１１２Ｃを有する。これらの全てのセグメントは同じ傾斜であるが互いに整合しておらず、漸進的な円錐形遷移部により互いに連結されている。これにより、液体のメニスカスが、直径の突然的変化により妨げられることがない。内側部品１２０の外面１２２はその上部に単一円錐面を有する一方、セグメント１１２Ａと関連して内部リザーバ１６０を形成し、ブロック１２３−１２５が配置された上部では、セグメント１１２Ｃと関連して環状スリット１７０を形成している。
【００５９】
中間セグメント１１２Ｂおよび外面１２２の対応傾斜は毛管供給チャネル１６１を形成している。この毛管供給チャネル１６１の直径は、内部リザーバ１６０とスリット１７０との間で、１０μｍと１５μｍとの間にあり、液体が、エミッタの位置にかかわらず、毛管作用により内部リザーバ１６０から細いスリット１７０まで上昇できるようになっている。毛管供給チャネル１６１は、あらゆる状態において細いスリット１７０への供給を促進しかつ例えば軸線が水平な状態での発射を可能にする。
【００６０】
円錐面１１２の下方セグメント１１２Ａと円錐面１２２とにより形成される小体積１６０は、例えば、セグメント１１２Ａの半径と円錐面１１２の半径との間の約１．５ｍｍから２ｍｍの平均差に一致し、かつ同時にエミッタのガス抜きを可能し、かつオリフィス１７１から噴射されるセシウム等の液体のためのエミッタ内のバッファリザーバを形成する。
【００６１】
内側部品１２０は、そのベース１９０の下面とオリフィス１７１との間の、例えば２０ｍｍと３０ｍｍとの間の高さＨを有している。
【００６２】
内部リザーバ１６０には、外部パイプ１８５（図５）により、内側部品１２０のベース１９０の例えば１ｍｍと２ｍｍとの間の直径をもつ孔１５０を通して供給される。
【００６３】
外側部品１１０の仕上げ研摩された内面１１２の異なるセグメント１１２Ａ、１１２Ｂ、１１２Ｃの傾斜は、互いに同一であるのが好ましい。これにより、機械加工および組立てが容易になる。機械加工上の制約により、傾斜は５°と８°との間の角度に決定される。
【００６４】
内側部品１２０は、外側部品１１０より非常に大きい剛性を有するように設計するのが好ましい。例えば図１からも理解されようが、内側部品１２０は補完部品１１０よりも大きい重量を有している。
【００６５】
内側部品１２０および外側部品１１０は、ニッケル超合金または硬化ステンレス鋼で作ることができる。
【００６６】
機械加工すべき表面１１２、１２２は、通常、硬質基板上に形成すべきである。したがって、部品１１０、１２０を作るのに非常に適した材料は、ＩＮＣＯＮＥＬ７１８等のニッケル超合金またはニッケル層が化学めっきされた硬化ステンレス鋼である。
【００６７】
外側部品１１０の外面１１１および内面１１２、内側部品１２０の外面、または垂直（図１の形状による）に対して約３０°の傾斜を有する外面を備えたリップ１１６、１２６を形成する端部品のような、部品１１０、１２０の研摩面は、金属ミラーの製造に使用される技術を用いて、精密機械でダイヤモンド工具により製造するのが好ましい。
【００６８】
これらの研摩領域、特に、スリット１７０を形成する表面および電界を受ける外面は、０．０２５μｍ ｒｍｓの平滑度に研摩されるのが好ましい。
【００６９】
スリット１７０に隣接する表面およびリップ１１６、１２６の表面の真直度は、非常に高くしなければならない。これに対し、外面１１１の表面欠陥は許容できる。なぜならば、この表面では、研摩の目的は微小凹凸からの局部的放電を防止することにあるからである。
【００７０】
部品１１０、１２０の表面のうちの厳格でない領域は、約０．２μｍの表面仕上げにすることができる。
【００７１】
本発明によるエミッタ構造は、例えば好ましくは１μｍと１．８μｍとの間の細い幅をもつ円形スリット１７０を形成し、出口オリフィス１７１が１５ｍｍと５０ｍｍとの間の半径Ｒをもつスリット１７０の場合でもリップ１１６、１２６の整合は１μｍ以内である。
【００７２】
これは、エミッタの幾何学的形状は自動調心が可能でありかつ調節を行うこともできるため可能であり、したがって、もはや機械加工のみによって必要精度を達成する必要はない。
【００７３】
本発明はエミッタ１００の構造を簡単化する。なぜならば、外側部品１１０を内側部品１２０に組付けることを目的とした場合、接触表面１１２に円錐形の傾斜を付す方が、膨張差（differential expansion）により組付けるより容易だからである。
【００７４】
エミッタ１００を構成するのに使用される円錐形組立て方法は、この組付けを数回可能にする。かくして外側部品１１０を回転させることによりリップ１１６、１２６を整合させることができ、これにより基準面に対するリップ１１６、１２６の平行性の欠陥が矯正される。また、外側部品１１０の底部のスペーサー１３０を仕上げ研摩することにより、外側部品１１０と内側部品１２０との高さ差を補償できる。
【００７５】
エミッタ１００は、スリット１７０および地上試験形態をなす図４のリニアエミッタのダクト１３と同様な液体充填ダクトを通すことによりガス抜きできる。しかしながら、宇宙では、ガス抜きは、専用オリフィスを通して行うか、外側部品１１０と内側部品１２０との間のキャビティ１６０、１６１（該キャビティを通してスリット１７０に液体が供給される）内に組込まれたガス抜きゲッター材料を用いることにより行うことができる。用語「ゲッター（getter）」は、真空度を高めるため真空チューブ内に使用される一定範囲の反応性金属について使用されるものである。
【符号の説明】
【００７６】
１００  エミッタ
１１０  外側部品
１１２Ａ、１１２Ｂ、１１２Ｃ  円錐形セグメント
１１６  リップ
１２０  内側部品
１２３、１２４、１２５  金属ブロック
１２６  リップ
１３０  シーリングスペーサー
１６０  内部リザーバ
１７０  スリット
１７１  オリフィス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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