(57)【要約】  本発明は、主に平面のヘテロ環式有機化合物の合成、およびこれらの化合物に基づいた光学フィルムの製造に関する。前記有機化合物は、構造式を有し、式中Ｈｅｔが親水性を所有する主に平面のヘテロ環式分子系；Ｂは結合基；ｐは３から８までの範囲内の数；Ｓは有機化合物の可溶性を与える基；ｍは０から８までの範囲内の数である。前記有機化合物は、４００から７００ｎｍまでの可視スペクトル範囲内の電磁放射に対しては透明である。また、化合物またはその塩の溶液は、基板上で本質的に透明な光学層を形成することができ、該光学層は基板表面に対して主に平行に配向したヘテロ環式分子の平面を持つ。
2010500397.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
構造式（Ｉ）の有機化合物であって、
【化１】
2010500397.tif 000026
式中、Ｈｅｔは親水性を有する主に平面のヘテロ環式分子系、
Ｂは結合基、
ｐは、３、４、５、６、７、又は８、
Ｓは有機化合物の可溶性を与える基、
ｍは０、１、２、３、４、５、６、７又は８であり、
前記有機化合物が４００〜７００ｎｍの可視スペクトル域内の電磁放射に対しては透明であり、かつ該化合物またはその塩の溶液は、ヘテロ環式分子系の平面は基板の面に対して主に平行に配向されるように、実質的に透明な光学層を基板上に形成することができる、有機化合物。
【請求項２】
前記結合基Ｂは、非共有結合の化学結合によって溶液中で生体分子からの平板粒子の形成をもたらす、請求項１に記載の有機化合物。
【請求項３】
少なくとも１つの結合基Ｂは、前記溶液によって平板粒子の不安定な平衡を与える、請求項２に記載の有機化合物。
【請求項４】
前記非共有結合の化学結合は、単水素結合、双極子間相互作用、陽イオン−パイ相互作用、ファンデルワールス相互作用、配位結合、イオン結合、イオン双極子相互作用、多重水素結合、ヘテロ原子を介した相互作用、及びそれらの任意の組み合わせからなる群から選択される、請求項２又は３に記載の有機化合物。
【請求項５】
少なくとも１つの結合基Ｂは、水素受容体（Ａ）、水素供与体（Ｄ）、および構造式（ＩＩ）
【化２】
2010500397.tif 000027
を有する基を含む群から選択され、
式中、水素受容体（Ａ）及び水素供与体（Ｄ）は、ＮＨ基および酸素（Ｏ）を含む群から独立して選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機化合物。
【請求項６】
前記結合基の少なくとも一つは、ヘテロ原子、ＣＯＯＨ、ＳＯ３Ｈ、Ｈ２ＰＯ３、ＮＨ、ＮＨ２、ＣＯ、ＯＨ、ＮＨＲ、ＮＲ、ＣＯＯＭｅ、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＮＨ２、ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２、及びそれらの任意の組み合わせからなる群から選択され、式中ラジカルＲはアルキル基またはアリール基であり、前記アルキル基は、一般式ＣｎＨ２ｎ＋１−を有し、ここで、ｎは１〜２３、好適には１、２、３、又は４、前記アリール基はフェニル、ベンジルおよびナフチルからなる群から選択される、請求項
１〜５のいずれか一項に記載の有機化合物。
【請求項７】
前記ヘテロ原子は、窒素、酸素、硫黄、およびそれらの任意の組み合わせからなる群から選択される、請求項６に記載の有機化合物。
【請求項８】
前記結合基の少なくとも１つは相補基である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の有機化合物。
【請求項９】
前記結合基の少なくとも１つは、水中あるいは有機溶媒における有機化合物の可溶性を与える基として作用する、請求項１〜８のいずれかに記載の有機化合物。
【請求項１０】
水中における前記有機化合物の可溶性を与える少なくとも１つの基を、ＣＯＯＨ、ＳＯ３Ｈ、Ｈ２ＰＯ３、及びそれらの任意の組み合わせからなる群から選択する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の有機化合物。
【請求項１１】
有機溶媒中の前記有機化合物の可溶性を与える少なくとも１つの基は、ＣＯＮＲ１Ｒ２、ＣＯＮＨＣＯＮＨ２、ＳＯ２ＮＲ１Ｒ２、Ｒ３、又はそれらの任意の組み合わせからなる群から選択され、ここで、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、水素、アルキル基、アリール基、及びそれらの任意の組み合わせから選択され、ここで、前記アルキル基は、一般式ＣｎＨ２ｎ＋１−を有し、式中ｎは１〜２３、好適には１、２、３、又は４であり、前記アリール基はフェニル、ベンジル、およびナフチルからなる群から選択される、請求項１〜９のいずれかに記載の有機化合物。
【請求項１２】
前記主に平面のヘテロ環式分子系は、部分的あるいは完全に共役したものになる、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の有機化合物。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか一項に記載の有機化合物であって、
前記ヘテロ環式分子系は、ヘテロ環式分子系の平面に対して垂直をなす次数ｋ（Ｃｋ）の対称性の軸を有し、ここでｋは３以上の整数である、有機化合物。
【請求項１４】
前記主に平面のヘテロ環式分子系は、ピラジン及びイミダゾール環のうちの少なくとも一方を有し、かつ構造１〜４
【化３】
2010500397.tif 000028
から選択される構造式を有する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の有機化合物。
【請求項１５】
前記ヘテロ環式分子系は長手方向軸を持つ拡大非等軸形態を有する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の有機化合物。
【請求項１６】
前記ヘテロ環式分子系は、構造５〜６
【化４】
2010500397.tif 000029
から選択される構造式を有し、
式中、部分Ｅ及びＧは、Ｏ、Ｓ、及びＮＲ４から独立して選択され、ここでＲ４はＨ、ＮＨ２、ＯＨから選択される、請求項１５に記載の有機化合物。
【請求項１７】
前記ヘテロ環式分子系は、イミダゾール及びベンズイミダゾール・サイクルのうちの少な
くとも一方を含むオリゴマーであり、前記イミダゾール及びベンズイミダゾール・サイクルのうちの少なくとも一方は水素結合を形成することができる、請求項１〜１２，１５のいずれか一項に記載の有機化合物。
【請求項１８】
前記ヘテロ環式分子系は、構造７〜１５
【化５】
2010500397.tif 000030
2010500397.tif 000031
から選択される構造式を有し、
式中、ｎは１〜５の範囲内の数である、請求項１７に記載の有機化合物。
【請求項１９】
１Ｈ，１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾールの誘導体、２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体、および２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体を含むリストから選択される、請求項１〜１２，１５のいずれか一項に記載の有機化合物。
【請求項２０】
構造１６〜３４
【化６】
2010500397.tif 000032
2010500397.tif 000033
2010500397.tif 000034
から選択される構造式を有する、請求項１９に記載の有機化合物。
【請求項２１】
−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＮＯ２、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｆ、−ＣＦ３、−ＣＮ、−ＮＣＳ、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯＣＨ３、及び−ＣＯＮＨ２からなる群から選択される少なくとも１つの追加の置換基をさらに有する、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の有機化合物。
【請求項２２】
表面及び裏面を有する基板と、該基板の表面上の少なくとも１つの固体層とを備え、前記固体層が構造式（ＩＩＩ）
【化７】
2010500397.tif 000035
（式中、Ｈｅｔは親水性を有する主に平面のヘテロ環式分子系、
Ｂは結合基、
ｐは、３、４、５、６、７、又は８、
Ｓは有機化合物における可溶性を与える分子基、
ｍは、Ｏ、１、２、３、４、５、６、７、又は８、
Ｘは、Ｈ＋、ＮＨ４＋、ＮＨ（Ｃ２Ｈ５）３＋、ＮＨ（ＣＨ３）３＋、ＮＨ（Ｃ３Ｈ７）３＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋、Ｃｓ＋、Ｂａ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｒ２＋、Ｌａ３＋、Ｚｎ２＋、Ｚｒ４＋、Ｃｅ３＋、Ｙ３＋、Ｙｂ３＋、Ｇｄ３＋、及びそれらの任意
の組み合わせからなる群から選択される対イオン、
ｔは対イオンの数）
の少なくとも１つの有機化合物を含み、
ここで、前記ヘテロ環式分子系の平面は、前記基板の面に対して主に平行に配向され、前記固体層は、４００〜７００ｎｍの可視スペクトル域の電磁放射に対しては透明である、光学フィルム。
【請求項２３】
前記結合基は、固体層において、主に基板表面の平面内で配向されるフラットな非等軸粒子の非共有結合の化学的結合を介した形成を提供する、請求項２２に記載の光学フィルム。
【請求項２４】
前記非共有結合の化学結合は、単水素結合、双極子間相互作用、陽イオン−パイ相互作用、ファンデルワールス相互作用、配位結合、イオン結合、イオン双極子相互作用、多重水素結合、ヘテロ原子を介した相互作用、及びそれらの任意の組み合わせからなる群から独立して選択される、請求項２３に記載の光学フィルム。
【請求項２５】
前記有機化合物は、水素受容体（Ａ）、水素供与体（Ｄ）、及び構造式（ＩＩ）
【化８】
2010500397.tif 000036
を有する基をからなる群から選ばれる少なくとも１つの結合基を有し、
式中、水素受容体（Ａ）および水素供与体（Ｄ）は、ＮＨ基および酸素（Ｏ）を含むリストから独立して選ばれる、請求項２２〜２４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項２６】
前記結合基は、ヘテロ原子、ＣＯＯＨ、ＳＯ３Ｈ、Ｈ２ＰＯ３、ＮＨ、ＮＨ２、ＣＯ、ＯＨ、ＮＨＲ、ＮＲ、ＣＯＯＭｅ、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＮＨ２、ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２、及びそれらの任意の組み合わせから選択され、式中ラジカルＲはアルキル基又はアリール基であり、前記アルキル基は、化学式ＣｎＨ２ｎ＋１−を有し、
ここで、ｎは１〜２３、好適には１、２、３又は４、前記アリール基はフェニル、ベンジルおよびナフチルからなる群から選択される、請求項２２〜２５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項２７】
前記ヘテロ原子は、窒素、酸素、硫黄、及びそれらの任意の組み合わせから選択される、請求項２６に記載の光学フィルム。
【請求項２８】
少なくとも１つの結合基は相補基である、請求項２２〜２７のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項２９】
前記有機化合物は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＮＯ２、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｆ、−ＣＦ３、−ＣＮ、−ＮＣＳ、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯＣＨ３、及び−ＣＯＮＨ２からなる群から選択される少なくとも１つの追加の置換基をさらに有する、請求項２２〜２８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項３０】
前記固体層は実質的に水には不溶である、請求項２２〜２９のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項３１】
前記主に平面のヘテロ環式分子系は、部分的あるいは完全に共役したものになる、請求項２２〜３０のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項３２】
前記ヘテロ環式分子系は、ヘテロ環式分子系の平面に対して垂直をなす次数ｋ（Ｃｋ）の対称性の軸を有し、ここでｋは３以上の整数である、請求項２２〜３１のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項３３】
前記主に平面のヘテロ環式分子系は、ピラジン及びイミダゾール環の少なくとも一方を有し、かつ構造１〜４
【化９】
2010500397.tif 000037
の構造式を有する、請求項３２に記載の光学フィルム。
【請求項３４】
前記ヘテロ環式分子系は長手方向軸を持つ拡大非等軸形態を有する、請求項２２〜３１のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項３５】
前記ヘテロ環式分子系は、構造５〜６
【化１０】
2010500397.tif 000038
から選択される構造式を有し、
式中、ＥおよびＧの部分は、Ｏ、Ｓ、ＮＲ４を含むリストから独立して選択される（ここでＲ４はＨ、ＮＨ２、ＯＨを含むリストから選択される）、請求項３４に記載の光学フィルム。
【請求項３６】
前記ヘテロ環式分子系は、イミダゾール及びベンズイミダゾール・サイクルのうちの少なくとも一方を含むオリゴマーであり、前記イミダゾール及びベンズイミダゾール・サイクルのうちの少なくとも一方は水素結合を形成することができる、請求項２２〜３１，３４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項３７】
前記ヘテロ環式分子系は、構造７〜１５
【化１１】
2010500397.tif 000039
2010500397.tif 000040
から選択される構造式を有し、式中、ｎは１〜５の範囲内の数である、請求項３６に記載の光学フィルム。
【請求項３８】
前記有機化合物は、１Ｈ，１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾールの誘導体、２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体、及び２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体から選択される、請求項２２〜３１，３４，３５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項３９】
前記有機化合物は構造１６〜３４
【化１２】
2010500397.tif 000041
2010500397.tif 000042
から選択される構造式を有する、請求項３８に記載の光学フィルム。
【請求項４０】
前記ヘテロ環式分子系の長手方向軸は基板平面にほぼ等方性のアラインメントを有している、請求項３４〜３９のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項４１】
前記ヘテロ環式分子系の長手方向軸は基板平面内にほぼ異方性のアラインメントを有している、請求項３４〜３９のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項４２】
前記固体層は、一般に、基板表面の平面内の相互に垂直な２つの方向に対応する２つの屈折率（ｎｘおよびｎｙ）と基板表面に対して法線方向にある一つの屈折率（ｎｚ）とを所有する単軸遅延層であり、これらの屈折率は下記条件：ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚに従う、請求項２２〜４１のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項４３】
前記固体層は、一般に、基板表面に対して法線方向にある１つの屈折率（ｎｚ）と基板表面の平面内の相互に垂直な２つの方向に対応する２つの屈折率（ｎｘおよびｎｙ）とを所有する二軸遅延層であり、これらの屈折率は下記条件：ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚに従う、請求項２２〜３１，３４〜３９，４１のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項４４】
前記基板がポリマーからなる、請求項２２〜４３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項４５】
前記基板がガラスからなる、請求項２２〜４３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項４６】
前記基板の裏面に反射防止コーティング又はフラッシング防止コーティングをさらに備える、請求項２２〜４５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項４７】
前記基板は可視スペクトル域の電磁放射に対しては透明である、請求項２２〜４６のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項４８】
前記可視スペクトル域での前記基板の透過係数は９０％以上である、請求項４７に記載の光学フィルム。
【請求項４９】
前記基板の前面上に平坦化透明層をさらに備える、請求項２２〜４８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５０】
前記基板の裏面上に反射層をさらに備える、請求項２２〜４５，４７〜４９のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５１】
前記基板が正反射性または拡散性反射材である、請求項２２〜４５，４９のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５２】
前記基板が反射偏光子である、請求項２２〜４５，４９のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５３】
前記固体層の上に塗布された実質的に透明な接着剤層をさらに備える、請求項２２〜５２のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５４】
前記透明接着剤層上に設けられた保護コーティングをさらに備える、請求項５３に記載の光学フィルム。
【請求項５５】
２つ以上の固体層を備え、
前記２つ以上の固体層は、２つの隣接層における屈折率（ｎｘ、ｎｙ、またはｎｚ）の少なくとも１つの違いを補償する構造式（ＩＩＩ）の異なる有機化合物を含む、請求項２２〜５４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５６】
前記固体層が部分的にあるいは完全に結晶層である、請求項２２〜５５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５７】
ａ）構造式（Ｉ）
【化１３】
2010500397.tif 000043
（式中、Ｈｅｔは親水性を有する主に平面のヘテロ環式分子系、
Ｂは結合基、
ｐは、３、４、５、６、７、又は８、
Ｓは有機化合物の可溶性を与える分子基、
ｍは、０、１、２、３、４、５、６、７、又は８であり；
少なくとも前記ヘテロ環式分子系の一部分は、溶液中で非等軸粒子を水平に形成することができ、非共有結合の化学的結合によって結合基の側面の相互作用に起因する）
の有機化合物又はその塩の溶液を調製する工程と、
ｂ）液体層は、４００〜７００ｎｍまでの可視スペクトル域の電磁放射に対しては実質的に透明であり、フラットな非等軸粒子およびヘテロ環式分子系は、非共有結合の化学的結合によって結合基の側面の相互作用に起因して、それらが互いに結合するとともに、基板の平面上で主に配向する、前記溶液の液体層を基板に塗布する工程と、
ｃ）乾燥させて固体層を形成する工程とを備える、光学フィルムの製造方法。
【請求項５８】
主に平面のヘテロ環式分子系は、部分的あるいは完全に共役したものになる、請求項５７に記載の方法。
【請求項５９】
−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＮＯ２、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｆ、−ＣＦ３、−ＣＮ、−ＮＣＳ、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯＣＨ３、及び−ＣＯＮＨ２から選択される少なくとも１つの追加の置換基をさらに有する、請求項５７又は５８に記載の方法。
【請求項６０】
前記結合基は、水素受容体（Ａ）、水素供与体（Ｄ）、及び構造式（ＩＩ）
【化１４】
2010500397.tif 000044
を有する基から選択され、式中、水素受容体（Ａ）及び水素供与体（Ｄ）は、ＮＨ基及び酸素（Ｏ）から独立して選択される、請求項５７〜５９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６１】
前記結合基の少なくとも一つは、ヘテロ原子、ＣＯＯＨ、ＳＯ３Ｈ、Ｈ２ＰＯ３、ＮＨ、ＮＨ２、ＣＯ、ＯＨ、ＮＨＲ、ＮＲ、ＣＯＯＭｅ、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＮＨ２、ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２、及びそれらの任意の組み合わせから選択され、式中ラジカルＲはアルキル基またはアリール基であり、
前記アルキル基は、一般式ＣｎＨ２ｎ＋１−を有し、式中ｎは１〜２３、好適には１、２、３、又は４であり、前記アリール基はフェニル、ベンジル、及びナフチルからなる群から選択される、請求項５７〜６０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６２】
前記ヘテロ原子は、窒素、酸素、硫黄、及びそれらの任意の組み合わせから選ばれる、請求項６１に記載の方法。
【請求項６３】
前記結合基の少なくとも１つは相補基である、請求項５７〜６２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６４】
前記ヘテロ環式分子系は、ヘテロ環式分子系の平面に対して垂直をなす次数ｋ（Ｃｋ）の対称性の軸を有し、ここでｋは３以上の整数である、請求項５７〜６３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６５】
前記主に平面のヘテロ環式分子系は、ピラジンおよびイミダゾール環、もしくはそのいずれかを有し、かつ構造１〜４
【化１５】
2010500397.tif 000045
の構造式を有する、請求項６４に記載の方法。
【請求項６６】
前記ヘテロ環式分子系は長手方向軸を持つ拡大非等軸形態を有する、請求項５７〜６３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６７】
前記ヘテロ環式分子系は、構造５〜６
【化１６】
2010500397.tif 000046
から選択される構造式を有し、
式中、ＥおよびＧの部分は、Ｏ、Ｓ、およびＮＲ４を含むリストから独立して選択され、ここでＲ４はＨ、ＮＨ２、ＯＨを含むリストから選択される、請求項６６に記載の方法。
【請求項６８】
前記ヘテロ環式分子系は、イミダゾール及びベンズイミダゾール・サイクルのうちの少なくとも一方を含むオリゴマーであり、前記イミダゾール及びベンズイミダゾール・サイクルのうちの少なくとも一方は水素結合を形成することができる、請求項５７〜６３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６９】
前記ヘテロ環式分子系は、構造７〜１５
【化１７】
2010500397.tif 000047
2010500397.tif 000048
から選択される構造式を有し、
式中、ｎは１〜５の範囲内の数である、請求項６８に記載の方法。
【請求項７０】
前記有機化合物は、１Ｈ，１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾールの誘導体、２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体、及び２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体から選択される、請求項５７〜６３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７１】
構造１６〜３４
【化１８】
2010500397.tif 000049
2010500397.tif 000050
2010500397.tif 000051
から選択される構造式を有する、請求項７０に記載の方法。
【請求項７２】
前記非共有結合の化学結合は、単水素結合、双極子間相互作用、陽イオン−パイ相互作用、ファンデルワールス相互作用、配位結合、イオン結合、イオン双極子相互作用、多重水素結合、ヘテロ原子を介した相互作用、及びそれらの任意の組み合わせから選択される、請求項５７〜７１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７３】
前記液体層は、水、水混和性溶媒、及びそれらの任意の組み合わせから選択される溶媒をさらに含む、請求項５７〜７２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７４】
水混和性溶媒は、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセトン、アセチルアセトン、液体アミン、アミン水溶液、アルコール、及びそれらの任意の組み合わせから選択される、請求項７３に記載の方法。
【請求項７５】
溶媒の量は、流体力学的流動によって液体層を塗布するために必要な液体層粘性が与えられるように制御される、請求項５７〜７４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７６】
液体層の粘性は２Ｐａ・ｓを超えない、請求項７５に記載の方法。
【請求項７７】
前記乾燥ステップを空気流の中で実行する、請求項５７〜７６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７８】
前記基板上への塗布の前の前処理工程をさらに備える、請求項５７〜７７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７９】
前記前処理が、前記基板の表面を親水性にするステップを含む、請求項７８に記載の方法。
【請求項８０】
前記前処理において、さらに平坦化層を設ける、請求項７８又は７９に記載の方法。
【請求項８１】
Ｈ＋、Ｂａ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｒ２＋、Ｌａ３＋、Ｚｎ２＋、Ｚｒ４＋、Ｃｅ
３＋、Ｙ３＋、Ｙｂ３＋、Ｇｄ３＋、及びそれらの任意の組み合わせから選択された陽イオンを有する任意の水溶性無機塩の溶液による後処理工程をさらに備える、請求項５７〜８０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８２】
前記液体層を前記基板へ塗布する工程と前記後処理工程とを同時に行う、請求項８１に記載の方法。
【請求項８３】
前記乾燥工程及び前記後処理工程を同時に行う、請求項８１又は８２に記載の方法。
【請求項８４】
前記後処理工程を前記乾燥の後に行う、請求項８１又は８２に記載の方法。
【請求項８５】
前記溶液が等方性の溶液である、請求項５７〜８４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８６】
前記溶液がリオトロピック液晶溶液である、請求項５７〜８４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８７】
前記塗布がゲルを用いてなされる、請求項５７〜８４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８８】
前記塗布が粘稠液相を用いてされる、請求項５７〜８４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８９】
前記塗布の工程と前記乾燥の工程とを周期的に繰り返し、
前記基板上の前記液体層上にアラインメント基板上の前記液体層上に重ねる、アラインメント動作を行う工程を、前記基板に前記液体層を塗布する工程の後に、あるいはその工程と同時におこない、
前記液体層内の前記有機化合物は、前サイクルで使用されたものと同一または異なり、かつ前記ＵＶスペクトル範囲の、独立して選択された少なくとも１つの波長部分的範囲で、電磁放射の吸収をしている、請求項５７〜８８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９０】
前記塗布の工程と前記乾燥の工程とを周期的に繰り返し、
前記基板上の前記液体層上にアラインメント基板上の前記液体層上にアラインメントする動作を行う工程を、前記基板に前記液体層を塗布する工程の後に、あるいはその工程と同時におこない、
前記液体層内の前記有機化合物は、前サイクルで使用されたものと異なり、隣接する２つの層で少なくとも屈折率（ｎｘ、ｎｙ、またはｎｚ）の一つが異なる、請求項５７〜８９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９１】
構造式（ＩＶ）
【化１９】
2010500397.tif 000052
（式中、ｑ＋ｌ＝０、１、２、３又は４、
ｑ’＋Ｉ’＝０、１、２、３、又は４、
部分Ｅ及びＧは、Ｏ、Ｓ、ＮＲ４を含むリストから独立して選択され、ここでＲ４はＨ、ＮＨ２、ＯＨを含むリストから選択され、
Ｒ５，Ｒ’５，Ｒ６，Ｒ’６は、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＭｅ、−ＣＯ２Ｍｅ、−ＣＯＮＨ２、−ＣＯＮＨＮＨ２、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２から独立して選択される）
によって表わされる２，２’−ビベンズヘテロアゾール誘導体を合成するための方法であって、
ａ）化学式（Ｖ）の成分を構造（ＶＩＩ）及び（ＶＩＩＩ）から選択された成分と反応させる工程と、
ｂ）先の工程で得られた化合物を化学式（ＶＩ）の成分と反応させる工程とを有し、
【化２０】
2010500397.tif 000053
ここで、溶媒は、ＡｃＯＨ、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、及びそれらの混合物から選択される、２，２’−ビベンズヘテロアゾール誘導体を合成するための方法。
【請求項９２】
構造式（ＩＶ’）によって表わされる２，２’−ビベンズヘテロアゾール誘導体を合成するための方法であって、
【化２１】
2010500397.tif 000054
（式中、ｑ＋ｌ＝０、１、２、３又は４、
部分Ｅは、Ｏ、Ｓ、ＮＲ４を含むリストから選択され、ここでＲ４はＨ、ＮＨ２、ＯＨを含むリストから選択され、Ｒ５，Ｒ６は、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＭｅ、−ＣＯ２Ｍｅ、−ＣＯＮＨ２、−ＣＯＮＨＮＨ２、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２から独立して選択される）
ａ）化学式（Ｖ）の成分を構造（ＶＩＩ）及び（ＶＩＩＩ）から選択された成分と反応させる工程と、
【化２２】
2010500397.tif 000055
（ｂ）混合物を撹拌する工程とを有し、
ここで、溶媒は、ＡｃＯＨ、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、およびそれらの混合物から選択される、構造式（ＩＶ’）によって表わされる２，２’−ビベンズヘテロアゾール誘導体を合成するための方法。
【請求項９３】
混合物をＥｔ３Ｎで処理した後にＨＣｌで処理する工程をさらに有し、該処理のステップが撹拌ステップと同時あるいはその後に行われる、請求項９２に記載の方法。
【請求項９４】
構造式（ＩＶ）
【化２３】
2010500397.tif 000056
（式中、ｑ＋ｌ＝０、１、２、３又は４、
ｑ’＋Ｉ’＝０、１、２、３又は４、
部分Ｅ及びＧは、Ｏ、Ｓ、ＮＲ４を含むリストから独立して選択され、
ここでＲ４はＨ、ＮＨ２、ＯＨを含むリストから選択され、Ｒ５，Ｒ’５，Ｒ６，Ｒ’６は、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＭｅ、−ＣＯ２Ｍｅ、−ＣＯＮＨ２、−ＣＯＮＨＮＨ２、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２から独立して選択される）
の２，２’−ビベンズヘテロアゾール誘導体。
【請求項９５】
構造１６〜３４
【化２４】
2010500397.tif 000057
2010500397.tif 000058
2010500397.tif 000059
の構造式を有している、請求項９４に記載の２，２’−ビベンズヘテロアゾール誘導体。
【請求項９６】
構造式（ＩＸ）で表されるトリカルボキシ−５，１１，１７−トリメチル−１１，１７−ジヒドロ−５Ｈ−ビスベンジイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール−６，１２，１８−トリイウム臭化物を合成する方法であって、
【化２５】
2010500397.tif 000060
ａ）１Ｈ−ベンズイミダゾール−６−カルボキシル酸の臭素化およびメチル化をおこなって２−ブロモ−１−メチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５（６）−カルボン酸を得る工程と、
ｂ）ステップ（ａ）で得られた２−ブロモ−１−メチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５（６）−カルボン酸の縮合をおこなう工程とを含む、方法。
【請求項９７】
構造式（Ｘ）で表されるビスベンズイミドアゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール−トリカルボン酸を合成する方法であって、
【化２６】
2010500397.tif 000061
ａ）メタノール中の３，４−ジアミノベンゾイン酸の溶液を介して塩化水素を泡立たせることからなる、メチル３，４−ジアミノベンゾエート二塩酸塩の調製を工程と、
ｂ）尿素を用いたステップ（ａ）由来のメチル３，４−ジアミノベンゾエート二塩酸塩の凝縮によってメチル２−オキソ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−カルボン酸塩の調製を行う工程と、
ｃ）塩化水素及びオキシ塩化リンによる処理によって、ステップ（ｂ）からのメチル２−オキソ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５−カルボン酸塩をメチル２−クロロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５（６）−カルボン酸塩に変換する工程と、
ｄ）ステップ（ｃ）から得られたメチル２−クロロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５（６）−カルボン酸塩の三量体化によって、トリメチルビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾールトリカルボン酸塩を調製する工程と、
ｅ）ステップ（ｄ）からのトリメチルビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾールトリカルボン酸塩のメチルエステルをアルカリ加水分解して生成物（Ｘ）を得る工程とを備える、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に有機化学の分野に関し、より詳細には位相遅延特性を持つディスプレイ用の有機膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
本出願に記載される偏光、補償、及び遅延の層又は膜に関しては、以下の用語定義を明細書及び請求項の全体にわたって使用する。
光学軸という用語は、伝播光が複屈折を示さない方向をいう。
【０００３】
いかなる光学的異方性媒体もその誘電体誘電率の２階テンソルによって特徴づけられる。補償板プレートの分類は、プレートの自然座標フレームに関して特別の誘電率テンソルの主軸の配向と明確な関係がある。ｚ軸が法線方向と平行で、ｘｙ平面がプレート表面と一致するように、プレートのｘｙｚ自然座標フレームが選ばれる。図１は、誘電率テンソルの主軸（Ａ、Ｂ、Ｃ）がｘｙｚフレームに対して任意に配向している一般的な場合の例を示す。
【０００４】
主軸の配向は、誘電率テンソルの主成分（εＡ，εＢ，εＣ）と一緒に、異なるタイプの光学の補償板（図１）を一意的に定義する３つのオイラー角（θ、φ、ψ）を使用して特徴づけられる。誘電率テンソルの主成分のすべてが異なる値を有している場合の例は、二軸補償板に相当し、それによってプレートは２つの光軸を有することになる。例えば、εＡ＜εＢ＜εＣの場合、これらの光軸は、Ｃ軸からの両面上のＣおよびＡ軸の平面にある。一軸範囲内で、εＡ＝εＢの場合、２つの軸が一致し、かつＣ軸が単一光軸である場合、我々は縮退例を有する。
【０００５】
Ｃ軸とｚ軸芯の間の天頂角θは、様々な補償板タイプを定義する際にとても重要である。いくつかの重要なタイプの補償板プレートがあり、実際にはそれが最も頻繁に使用される。
【０００６】
一軸のＣプレートは、オイラー角θ＝０およびεＡ＝εＢ≠εＣによって定義される。この場合、主Ｃ軸（異常軸）はプレート表面（ｘｙ平面）に垂直である。εＡ＝εＢ＜εＣの場合、プレートは「ポジティブＣプレート」と呼ばれる。これに反して、εＡ＝εＢ＞εＣの場合、プレートは「ネガティブＣプレート」と呼ばれる。図２は、ポジティブ（ａ）およびネガティブ（ｂ）Ｃプレートの自然座標フレームに関して特定の誘電率テンソルの主軸の配向を示す。ｘｙ平面にある軸ＯＡおよびＯＢは等価である。したがって、屈折率ｎａと屈折率ｎｂとの間の条件は、インデックスｎａによってインデックスｎｂによるインデックスｎａの置換、およびインデックスｎｂの置換で公平なままである。
【０００７】
一般に、誘電率テンソル成分（εＡ、εβ、およびεＣ）が、複素数値である場合、誘電率テンソルの主成分（εＡ、εＢ、またεＣ）、屈折率（ｎａ、ｎｂ、およびｎｃ）、および吸収係数（ｋａ、ｋｂおよびｋｃ）は、下記条件を満たす：
ｎａ＝Ｒｅ［（εＡ）１／２］、ｎｂ＝Ｒｅ［（εＢ）１／２］、ｎｃ＝Ｒｅ［（εＣ）１／２］、ｋａ＝ｌｍ［（εＡ）１／２］、ｋｂ＝ｌｍ［（εＢ）１／２］、ｋｃ＝ｌｍ［（εＣ）１／２］。
【０００８】
液晶は、電子表示装置に広く使用されている。そのような表示システムでは、液晶セルは、典型的に一対の偏光子プレートと検光子プレートとの間に位置している。入射光は偏
光子によって偏光され、液晶セルを通して伝搬される。この液晶セルでは、該セルの両端にバイアス電圧を印加することによって制御される液晶の分子配向によって入射光の伝搬が影響を受ける。その後、変化光は検光子を通して伝搬される。このスキームを採用することで、周辺光を含む任意の外部の供給源からの光の伝送を制御することができる。この制御をおこなうのに必要なエネルギーは陰極線管（ＣＲＴ）等のディスプレイ・タイプで使用される発光材料からの発光を制御するのに必要なエネルギーよりも一般的には、はるかに低い。したがって、液晶技術は、軽量、低電力消費、および長可用年数が重要である多くの電子画像装置に用いられており、該装置として、限定されるものではないが、デジタル腕時計、電卓、ポータブル・コンピュータ、および電子ゲーム機器が挙げられる。
【０００９】
コントラスト、色再現および安定したグレースケール強度は、液晶技術を使用する電子表示装置の重要な品質特性である。液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のコントラストを決定する主要な要因は、暗または「ブラック」画素状態にある液晶分子またはセルによって「漏れる」光の傾向である。さらに、光学的漏れおよびそれによるＬＣＤのコントラストは、ディスプレイ画面が見られる方向にも依存する。典型的には、最適のコントラストは、ディスプレイに対する法線（α＝０）を中心とした狭い視角範囲内にのみ観察され、極視野角αが増加されるとともに、急速に減少する。図３は、視角方向の定義を示す。カラーディスプレイでは、漏洩問題はコントラストの劣化のみならず、色再現の劣化と共に色または色相シフトも起こす。
【００１０】
ＬＣＤは、テレビ（ＴＶ）、コンピュータ（例えば、ノートブック・コンピュータまたはデスクトップ・コンピュータ等）、中央制御装置、および種々の装置、例えば、ギャンブル機器、電気光学ディスプレイ（例えば、時計、ポケット電卓、ポケット電子ゲーム）、携帯型データバンク（例えば、携帯情報端末または携帯電話）のモニタとして、ＣＲＴと置き替っている。より大きなスクリーンサイズを備えたＬＣＤテレビモニタの数が今後急速に増加するであろうと予測されている。しかし、着色、コントラストの劣化、および明るさの反転等の視野角が影響する問題を解決しなければ、伝統的なＣＲＴの代替としてのＬＣＤ用途は制限される。
【００１１】
ノーマリー・ホワイト・ディスプレイ構成では、交差した偏光子の間に９０°ツイストネマチック・セルが配置されることで、各偏光子の透過軸が、それに隣接したセルの領域内における液晶分子の配向ベクトル（ｄｉｒｅｃｔｏｒ）の配向に対して平行となる。このことは、ノーマリー・ブラック・ディスプレイの場合と比較して、明領域および暗領域のセンスを逆転させる。ノーマリー・ホワイト・ディスプレイでは、印加されていない（バイアスがかかっていない）領域は明るく見え、一方印加された領域は暗く見える。大角度で見た場合に明るく見える表面上暗い領域の問題が、いまだ生ずる。しかし、この理由は異なり、その補正には異なるタイプの光学的補償素子が必要である。印加された領域では、液晶分子は、印加電場の方向に整列する傾向がある。もしこの整列が完全ならば、セルの液晶分子はすべて基板ガラスプレートに垂直な長軸を持つと考えられる。ホメオトロピック配置として知られているこの配置は、正複屈折Ｃプレートの光学の対称を示す。通電状態では、ノーマリー・ホワイトは、交差した偏光子によってブロックされる法線入射光に対して等方性を示す。
【００１２】
視角が増加するにつれてコントラストの損失が生じる。このことは、ホメオトロピック液晶層は、法線方向に対して角度をなして伝搬する光に対して等方性を示さないことにある。法線に関する非ゼロ角に向けられた光は、層の複屈折により２つのモードで伝搬するもので、これらのモード間での位相遅延は光入射角度にともなって増加する。入射角へのこの位相依存は、分極状態に楕円率を取り入れ、その後、第２の偏光子によって不完全に消滅し、光漏れを生じさせる。Ｃプレート対称であることから、複屈折は方位角に依存しない。明らかに、必要なものは光学的補償素子であり、さらにＣプレート対称ではあるが
、負複屈折を有する。そのような補償板によって、液晶層により生じたものと符号が逆である位相遅延を生じさせ、それによって原分極状態が回復し、光を出力偏光子によってブロックすることが可能となると思われる。
【００１３】
負のＣプレート光学対称性と必要な均等度とを備えた広面積のフィルムが得られるようにポリマーを伸展または圧縮することに利用可能な方法はなかった。また、サファイアのような負複屈折結晶から補償板を形成することも可能ではなかった。そのような補償板が有効となるために、そのようなプレートの位相遅延は、液晶中の場合と同程度とする必要があり、また液晶内での位相遅延と同率で視覚角によって変化しなければならないものと考えられる。これらの制約は、負のＣプレートの厚さが約１０μｍになるだろうということを示唆しており、そのようなアプローチを実行することが非常に困難となる。なぜなら、それは、プレートの表面が平行であることを確実にする一方で、非常に正確な複屈折（負）がある薄板の研摩を必要とするだろう。そのようなディスプレイのサイズが比較的大きいので、十分なサイズの負の複屈折の有効性はさらに大きな難題となろう。
【００１４】
１種類のＣプレートが公知であり、該Ｃプレートは、反射率が異なる材料の薄膜が交互になったものからなる。そのような層構造体は人工複屈折の薄板として動作する。このように作り上げられた多層の補償板を、負の複屈折を示すようにすることができる。さらに、多層構造の所望の複屈折は、適切な層厚みおよび材料を選ぶことにより正確に調整することができる。前記Ｃプレートの主な欠点はその生産コストが高いことである。
【００１５】
非補償フルカラーＬＣＤは、典型的には視野上の色度に大きな変化を示す。従って、垂直入射で見た場合に１つの色を示す領域は、低飽和を示し、または大角度で見た場合にその補色としても現れる場合がある。これら、大角度でコントラストの低下を引き起こすのと同じ物理学的機構に起因するもので、すなわち、表面上暗い領域による不要の光漏れである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】米国特許第５，３１５，１２９号
【特許文献２】米国特許第６，４５１，４１５号
【特許文献３】米国特許第５，３１５，１２９号
【特許文献４】米国特許第５，７３９，２９６号
【特許文献５】米国特許第６，０４９，４２８号
【非特許文献】
【００１７】
【非特許文献１】エル・スクーディエロら（Ｌ．Ｓｃｕｄｉｅｒｏ  ｅｔ  ａｌ．）、「Ａ  Ｓｅｌｆ−Ｏｒｇａｎｉｚｅｄ  Ｔｗｏ−Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎａｌ  Ｂｉｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ」、Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｂ、第１０７巻、２９０３〜２９０９ページ（２００３年）
【非特許文献２】エックス・ファン、ジェイ・ロックリン、ジェイ・ホ・ヨークら（Ｘ．Ｆａｎ，Ｊ．Ｌｏｃｋｌｉｎ，Ｊ．Ｈｏ  Ｙｏｕｋ，ｅｔ  ａｌ．）、「Ｎａｎｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅｄ  Ｓｅｘｉｔｈｉｏｐｈｅｎｅ／Ｃｌａｙ  Ｈｙｂｒｉｄ  Ｍｕｔｉｌａｙｅｒｓ」、Ａ  Ｃｏｍｐａｒａｔｉｖｅ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ  ａｎｄ  Ｍｏｒｐｈｏｌｏｇｉｃａｌ  Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ，Ｃｈｅｍ．  Ｍａｔｅｒ．、第１４巻、２１８４〜２１９１ページ（２００２年）
【非特許文献３】ピー・ラザレヴら（Ｐ．Ｌａｚａｒｅｖ  ｅｔ  ａｌ．）、「Ｘ−ｒａｙ  Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ  ｂｙ  Ｌａｒｇｅ  Ａｒｅａ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  Ｎａｎｏｆｉｌｍｓ」、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ、第１４（４）巻、３０３〜３１１ページ（２００１年）
【非特許文献４】ワイ・ボブロフ（Ｙ．  Ｂｏｂｒｏｖ）、「Ｓｐｅｃｔｒａｌ  Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ  ｏｆ  Ｔｈｉｎ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｆｉｌｍ  Ｐｏｌａｒｉｚｅｒｓ」、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ、第１４（３）巻、１９１〜２０３ページ（２００１年）
【非特許文献５】ジェームス・エイ・セオバルドら（Ｊａｍｅｓ  Ａ．  Ｔｈｅｏｂａｌｄ  ｅｔ  ａｌ．）、「Ｃｏｎｔｒｏｌｌｉｎｇ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｌａｙｅｒ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ｗｉｔｈ  Ｓｕｐｒａｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｓｓｅｍｂｌｉｅｓ」、Ｎａｔｕｒｅ、第４２４巻、１０２９〜１０３１ページ（２００３年）
【非特許文献６】ラッキンガーら（Ｌａｃｋｉｎｇｅｒ  ｅｔ  ａｌ．）、「Ｌａｎｇｍｕｉｒ」、第２１巻、４９８４〜４９８８ページ（２００５年）
【非特許文献７】アール・セントレおよびエイ・ツジ（Ｒ．ＣｅｎｔｏｒｅおよびＡ．Ｔｕｚｉ）、「Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｅｎｇ．」、第６巻、８７〜９７ページ（２００３年）
【非特許文献８】レディら（Ｒｅｄｄｙ  ｅｔ  ａｌ．）「Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｇｒｏｗｔｈ  ＆  Ｄｅｓｉｇｎ」、第４巻、８９〜９４ページ（２００４年）
【非特許文献９】ジャヤラマンら（Ｊａｙａｒａｍａｎ  ｅｔ  ａｌ．）「Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｇｒｏｗｔｈ  ＆  Ｄｅｓｉｇｎ」、第４巻、１４０３〜１４０９ページ（２００４年）
【非特許文献１０】ディー・イー・リンチら（Ｄ．Ｅ．  Ｌｙｎｃｈ  ｅｔ  ａｌ．）「Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｅｎｇ．」、第２巻、１３７〜１４４ページ（１９９９年）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明は、そのような補償板の必要に現実的解決案を提供する。目的は、有機化合物に高い光学パラメータで結晶のリターダフィルムを作製することである。そのような種類の結晶のリターダーの生成は、多層フィルム中の分子が特別配置されることを必要とする。有機分子は基板上表面と平行でなければならない。
【００１９】
光電子デバイスの形成を意図した既知の有機疑似エピタキシャル方法がある（特許文献１を参照）。この方法によれば、有機分子の平面は基板上表面と平行に配向される。疑似エピタキシャル光電子デバイス構造は、基板と、前記基板上に置かれた第一の層と、第一の層の上に置かれた第二の層とを含む。前記第一の層は、有機芳香族半導体合成物の平面の結晶質膜を表わす。それは、ポリアセン、ポルフィリンおよびそれらの誘導体を含む有機化合物のリストから選ばれる。前記第二の層は、さらに有機芳香族半導体のプレーナー結晶膜を表わす。その化学組成（一般に第一の層のものとは異なる）も、ポリアセン、ポルフィリン、およびそれらの誘導体を含む有機化合物のリストから選ばれる。第一および第二の層は結晶構造を有しており、それらは互いに一定の相関関係にある。第一および第二の層を、特に、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無水物（ＰＴＣＤＡ）、３，４，７，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物（ＮＴＣＤＡ）、銅フタロシアニン、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸ビス−ベンズイミダゾール、および−オキサジアゾール誘導体を含むリストから、独立して選択することができる。有機光電子デバイスの成長は、有機分子線蒸着技術の使用によってなされた。有機分子線蒸着法を用いて、有機物を極薄の層として１０オングストローム（Ａ）だけ蒸着した。
【００２０】
ＰＴＣＤＡおよびＮＴＣＤＡは、有機光ＩＣ装置を製造する上で優れた材料であることが確認された。しかし、容易に結晶構造を形成することができる任意のプレーナー型芳香族有機半導体を使用してもよい。先行技術の好ましい方法は、ＰＴＣＤＡおよびＮＴＣＤＡの供給源と有機構造とに対する電気接点を作る上で適切な材料で作られていた無機基板を含んでいるチャンバーを使用する。チャンバーの圧力は、一般に１０−６Ｔｏｒｒ未満
に維持されている。基板と成分材料の供給源とを一定の最小離間距離１０ｃｍで配置する。蒸着中、基板の温度を１５０Ｋ未満に保つ一方、ＰＴＣＤＡおよびＮＴＣＤＡの供給源を選択的に加熱する。
【００２１】
前記疑似エピタキシャル成長方法のありとあらゆる利点（特許文献２および特許文献３を参照）にもかかわらず、不都合な点がないわけではない。前記既知の方法によれば、エピタキシャル成長プロセスの間中、チャンバー内で一定の温度支配および真空レベルを維持しなければならない。温度および真空支配中のいかなるブレークダウンも、成長している層の欠陥の出現に結びつくことから、結晶学的なパラメータおよび分子層の配向が共に変化を示す。技術的なパラメータの不安定性に関してのこのようなプロセス感度も、前記既知の方法の問題点と見なすことができ、そのことは比較的厚い（１〜１０μｍ）エピタキシャル層の蒸着においては特に重要である。
【００２２】
前記方法の別の問題点は、精巧な技術的装置を必要とすることである。リアクター・チャンバーは超高真空（１０−６〜１０−１０Ｔｏｒｒ）を保持しなければならず、近接離間した区域間の顕著な温度勾配に耐えなければならない。装置は、供給源を加熱するための手段および基板を冷やすための手段と、複雑なポンピング・ステージと、ガス添加、温度および圧力モニタリング、並びに技術的プロセス制御のための設備を有するものでなければならない。高真空必要条件は、プロセスを高価にするとともに基板の寸法を制限する。
【００２３】
前記既知の技術のもう１つの問題点は、基板材料の選択に対する制限である：大きな圧力差、高真空、および著しい温度勾配の条件下で、それらの物理的、機械的、光学的、および他の特性を保持する物質のみだけを使用することができる。
【００２４】
弱い非共有相互作用を用いて二次元二分子表面構造の製造を明らかにし、生産物は走査トンネル顕微鏡法によって特徴づけられた（非特許文献１を参照）。この研究は、三次元の結晶エンジニアリングについての考えに密接に従う。それによって、超分子反応物（シントン）の概念を、伝導性表面上の物理的な吸着（物理吸着）によって、二次元に抑制された分子系に適用する。フッ素・フェニル相互作用により自己集合する、秩序だった平面構造が実証された。この研究は、自己組織化層の系統的設計の一例を提供する。金上に熱蒸着した完全フッ素化コバルトフタロシアニン（Ｆ１６ＣｏＰｃ）フィルムは、反射吸収作用赤外分光法（ＲＡＩＲＳ）と、Ｘ線および紫外光電子分光法（ＸＰＳおよびＵＰＳ）と、走査トンネル顕微鏡法（ＳＴＷ）とによって、特徴づけられた。金上のＣｏＰｃ、Ｆ１６ＣｏＰｃおよびニッケル・テトラフェニルポルフィリン（ＮｉＴＰＰ）の薄膜のＵＰＳスペクトルが測定された。また、それらの相対的な表面電荷が比較された。Ｆ１６ＣｏＰｃ、ＮｉＴＰＰ、並びにＮｉＴＰＰ−Ｆ１６ＣｏＰｃおよびＮｉＴＰＰ−ＣｏＰｃの混合物の単一分子層のＳＴＭイメージが得られた。秩序だった１：１構造がＮｉＴＰＰ−ＦＩ６ＣｏＰｃによって自発的に形成される一方で、ＮｉＴＰＰ−ＣｏＰｃが二次元の固溶体を形成したことが分かった。
【００２５】
特定の無機および有機材料から調製された極薄フィルムについて、ハイブリッドのナノ合成物材料として、関心が高まっている。モンモリロナイト粘土（ＭＯＮＴ）および重炭酸セキシチオフェン誘導体（６ＴＮ）からなるナノ構造化超薄フィルムの形成は、多層自己集合法を用いて検討された（非特許文献２を参照）。主な目的は、有機半導体装置において将来の用途に適したこれらのフィルムにおける構造および層の順序を検討することであった。純水および０．１ＭのＮａＣｌ系から調製した６ＴＮ／ＭＯＮＴ多層膜の構造および形態が比較されている。６ＴＮ両親媒性物質は、溶液中および表面上の両方で、助溶剤として塩およびＴＨＦがある状態で変更される独特の凝集挙動を示した。粘土表面においては、純水系から得られたものと比較して、食塩水から堆積した６ＴＮ凝集物がより一
定の粒度分布および吸着率を示した。このことは、ＵＶ−ＶＩＳスペクトル、Ｘ線回折（ＸＲＤ）、および原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって確認された。より滑らかな表面形態が得られるように、表面上で吸着されたより多くの６ＴＮ種を取り込むという考えは、半導体デバイス組立てにとって大きな意味があるに違いない。
【００２６】
入手可能な文献は、基板上に溶液を適用するための低価格かつ有効な方法によって調製されたスタックの垂直配向を備えたフィルムの例を提示しない。スルホ誘導体のリオトロピック液晶（ＬＬＣ）溶液を用いることで、水平配向したスタックを有するフィルムが一般に得られる（特許文献４および特許文献５と、非特許文献３および非特許文献４を参照）。
【００２７】
一方、文献からわかることは、いくつかの分子は、水および様々な有機溶媒に溶液から析出している基板上表面の規則的に配列された平面フラグメント（超分子）を形成することができること、ならびに水素結合Ｈ結合はそのような平面超分子形成の原動力であることである。この現象は、ヘテロ環式アミン、アミド、およびカルボン酸について観察された。得られた単層の構造の種類は、分子構造、溶媒、および表面活性に依存する。様々なタイプ（安定および不安定、緻密および弛緩）の層構造を、異なる分子構造および条件を用いて得ることができる。
【００２８】
多くの新規な吸着質−基板系があり、それらは大規模な順序づけの高い度合いを示すことが知られている。走査トンネル顕微鏡法（ＳＴＭ）によって、分子下の解像度レベルでそのような系および構造の電子的性質を研究することが可能であることがわかった。いくつかの系では、Ｈ結合が分子間の優勢な相互作用であり、または分子集合プロセスを支配することが確立された。
【００２９】
選択的な非共有結合の相互作用は、カプセル、スイッチ、およびプロトタイプ・ナノマシン等のナノメートル・サイズの機能的構造に分子が集合するように、溶液化学において広く用いられてきた。超分子の構成の概念も、Ｈ結合、双極子結合、あるいは金属配位によって安定した表面上の二次元（２Ｄ）集合に適用された。表面構造を制御する別の方法は、吸着された分子の単層を用いて、個々の標的分子を提供する選択的結合部位を作ることにある。ジェームス・エイ・セオバルドら（Ｊａｍｅｓ  Ａ．  Ｔｈｅｏｂａｌｄ）（非特許文献５）は、Ｈ結合を用いてこれらの方法を組み合わせて、２つのタイプの分子の集合を、開放されたハチの巣状２Ｄネットワーク構造に導いた。このネットワーク構造は、その後に堆積したフラーレン分子によって形成された新たな表面相を制御し、かつそのテンプレートを作る。いくつかの大きなゲスト分子を提供する十分なキャパシティーを持つ大きな孔隙の２Ｄ配列として開放ネットワーク構造が働き、順序づけられたフラーレン層を形成するためのテンプレートとして役立つことが分かった。
【００３０】
液体固体界面でのトリメシン酸（ＴＭＡ）の緩くまとまったＨ結合２Ｄネットワーク構造の自己集合は、ＳＴＭを用いて観察された（非特許文献６を参照）。ＴＭＡの２種類の結晶学的に異なる２Ｄ相は、溶媒を変えることによって識別かつ選択された。この論文では、対応するＨ結合モードを持つ種々の結晶構造のいくつかのモデルが導入された。すなわち、（ａ）金網構造、ａ＝ｂ＝１．７ｎｍ、角度σ＝６０°、面積＝２．５ｎｍ２、２分子／単位セル；（ｂ）フラワー構造、ａ＝ｂ＝２．５ｎｍ、角度σ＝６０°、面積＝５．４ｎｍ２、６分子／単位セル；（ｃ）完全に３倍のＨ結合に基づいて、より稠密にパックされた２Ｄ−ＴＭＡ多形体を表している「スーパー・フラワー」構造である。より稠密な「フラワー」構造（ｂ）が、観察された２つの単層多形体のなかで最も熱力学的に安定しているものだろうことが示唆された。一連の酸溶媒［ｎ＝２〜７であるＣＨ３（ＣＨ２）ｎＣＯＯＨ］に溶解したＴＭＡのこれらの吸着多形体構造に関する研究は、より短い鎖の溶媒にとってフラワー構造が好ましく、またＴＭＡの溶解度が最大となることを示した
。純粋にＨ結合が３倍なされた構造（「スーパー・フラワー」構造）が、さらによりいっそう稠密にパックされたＴＭＡ構造を作ることができたかもしれないという点に注目すべきである。しかし、このＴＭＡ形態は観察されなかった。この挙動についての考えられる解釈は、短鎖溶媒中において、ＴＭＡのフラワー形態の前駆体と考えられるＴＭＡ三量体［（ＴＭＡ）３］溶液相核形成種が安定化することである。しかし、フラワー構造および金網構造の表面単層の溶媒安定化が異なることにもとづいた説明を除外することはできない。
【００３１】
数種類のフッ素化アゾベンゼンカルボン酸の結晶充填は、アール・セントレおよびエイ・ツジ（Ｒ．ＣｅｎｔｏｒｅおよびＡ．Ｔｕｚｉ）（非特許文献７）によって研究された。Ｃ６Ｈ５ＣＯＯＨ、Ｃ６Ｆ５ＣＯＯＨ（１）、Ｃ６Ｈ５ＣＯＮＨ２、Ｃ６Ｆ５ＣＯＮＨ２（２）およびＣ６Ｈ５ＣＯＮＨ２、Ｃ６Ｆ５ＣＯＯＨ（３）のＸ線の結晶構造は、これらの共結晶中の自己集合およびＨ結合を誘導する際のＰｈ−ＰｈＦシントンの役割を解明するために分析された（非特許文献８を参照）。フェニル環およびペルフルオロフェニル環の混合スタックと一緒のＣ６Ｆ５ＣＯＯＨおよびＣ６Ｆ５ＣＯＮＨ２のＨ結合の供与体酸性度が高いことによって、共結晶１および２内の酸間およびアミド間のＨ結合がもたらされる。酸アミドＨ結合は、十分に３の供与体酸性度および受容体塩基度によって強くなるので、芳香環が側面オフセットしながら積み重ねることからＰｈ−ＰｈＦシントンの役割はより弱い。同様の結晶化条件下で、複雑なＣ６Ｈ５ＣＯＯＨ、Ｃ６Ｆ５ＣＯＮＨ２（４）を得ることができなかった。分子の構成およびＨ結合を共結晶中のモチーフと比較するために、Ｃ６Ｆ５ＣＯＮＨ２の結晶構造も決定した。
【００３２】
４−ヒドロキシ安息香酸（１）が結晶化して３通りの結晶形態になることが分かった。すなわち、（ｉ）ＤＭＳＯ溶液（１Ａ）からの単斜晶、（ｉｉ）１：１ＤＭＳＯ／加熱酢酸エチル（１Ｂ）中の溶液からの三斜晶系、および（ｉｉｉ）ピリジン溶液（１Ｃ）からの三斜晶系である（非特許文献９を参照）。これらの疑似多形の形成およびそれらの充填モチーフの構造類似性について、小数マルチポイント溶質溶媒相互作用の点から合理的説明を与えることができる。３つの構造すべてにおいて、Ｈ結合ネットワーク構造の形成への溶媒分子の影響に関係する結晶学的な様相が記述される。強いＨ結合に加えて、Ｃ−Ｈ・・・Ｏ、Ｃ−Ｈ・・・π、およびπ・・・π相互作用が結晶構造を安定させることが分かった。
【００３３】
一連の４，４−ジピリジル（４，４−ＤＰ）誘導体が調製され、単結晶Ｘ線回折技術を用いて調べられた（非特許文献１０を参照）。該構造は、全面的なＨ結合ネットワーク中の複雑度を増加させた。１の構造は、ＩＣＡ分子上の相補的な部位を介して伝搬する４，４−ＤＰおよびＩＣＡ会合分子の重合体のＨ結合鎖を含む。２の構造は、平行した２つの重合体のＨ結合鎖からなるもので、各々の鎖は、相補的３−ＡＢＡ部位を介して架橋した４，４−ＤＰおよび３−ＡＢＡ会合分子を伴う。３の構造は、構成する分子上のＨ結合供与体および受容部位すべてに関する広範囲な３次元Ｈ結合ネットワークであった。各々の場合において、Ｎ−Ｈ基の位置および方向は最終格子ネットワークを決定する上で重要であった。
【課題を解決するための手段】
【００３４】
上で述べたように、最も一般的な例では、二軸フィルムは、屈折率の３つの異なる主値ｎＡ、ｎＢ、ｎＣによって特徴付けられ、ｘｙ平面が光学フィルム平面と一致する実験用のｘｙｚフレームに対して主軸Ａ、Ｂ、Ｃが任意に配向する。以下、主軸が以下のかたち：Ａ｜｜ｘ；Ｂ｜｜ｙ；Ｃ｜｜ｚ、で配向される重要な具体例を用いて本発明を説明する。
本発明は、秩序だった平面構造を形成するために窒素ヘテロ原子を含んでいる主に平面のヘテロ環式分子系に適用された面内Ｈ結合を用いる。この考えを、酸残基と置換されたヘ
テロ環式化合物について点検した。実験によって、望ましい光学的性質を備えたフィルムが得られる可能性が確認された。
【００３５】
本発明の第一の態様では、構造式（Ｉ）の有機化合物が提供される。
【００３６】
【化１】
2010500397.tif 000003
【００３７】
式中、Ｈｅｔは親水性を有する主に平面のヘテロ環式分子系である；Ｂは結合基である；ｐは、３、４、５、６、７、または８である；Ｓは有機化合物の可溶性を与える基である；ｍは、０、１、２、３、４、５、６、７、または８である。有機化合物は、４００から７００ｎｍまでの可視スペクトル範囲内の電磁放射に対しては透明である。また、化合物またはその塩の溶液は、基板上で本質的に透明な光学層を形成することができ、該光学層は基板表面に対して主に平行に配向したヘテロ環式分子の平面を持つ。
本発明の第二の態様は、表面および裏面を有する基板と、該基板上の少なくとも１つの固体層とを含み、該固体層が構造式（ＩＩＩ）の少なくとも１つの有機化合物を含む光学フィルムを提供する。
【００３８】
【化２】
2010500397.tif 000004
【００３９】
式中、Ｈｅｔは親水性を有する主に平面のヘテロ環式分子系である；Ｂは結合基である；ｐは、３、４、５、６、７、または８である；Ｓは有機化合物の可溶性を与える基である；ｍは、０、１、２、３、４、５、６、７、または８である；Ｘは、Ｈ＋、ＮＨ４＋、ＮＨ（Ｃ２Ｈｇ）３＋、ＮＨ（ＣＨ３）３＋、ＮＨ（Ｃ３Ｈ７）３＋、Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｌｉ＋、Ｃｓ＋、Ｂａ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｒ２＋、Ｌａ３＋、Ｚｎ２＋、Ｚｒ４＋、Ｃｅ３、Ｙ３＋、Ｙｂ３＋、Ｇｄ３＋、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストからの対イオンである；ｔは所定の有機化合物の対イオンの数である。ヘテロ環式分子の平面は前記基板の表面と主に平行に配向され、前記固体層酸は、４００から７００ｎｍまでの可視スペクトル域の電磁放射に対しては透明である。固体層は、好ましくは基板の前面上にある。
【００４０】
本発明の第三の態様は、光学フィルムを生産する方法を提供するもので、該方法はいくつかのステップから構成される。第一のステップは、構造式（Ｉ）の有機化合物またはその塩の溶液を調製することである。
【００４１】
【化３】
2010500397.tif 000005
【００４２】
ここで、Ｈｅｔは親水性を有する主に平面のヘテロ環式分子系である；Ｂは結合基である；ｐは、３、４、５、６、７、または８である；Ｓは有機化合物の可溶性を与える基である；ｍは、０、１、２、３、４、５、６、７、または８である。少なくとも前記ヘテロ環式分子系のうちのいくつかは、溶液中で非等軸粒子を水平に形成することができ、非共有結合の化学的結合によって結合基の側面の相互作用に起因する。第２のステップは、有機化合物の溶液の液体層を基板上に適用することである。液体層は、４００から７００ｎｍまでの可視スペクトル域の電磁放射に対しては実質的に透明である。ヘテロ環式分子系のフラットな非等軸粒子は、非共有結合の化学的結合によって結合基の側面の相互作用に起因して、粒子同士が互いに結合するとともに、基板の平面上で主に配向する。最終ステップは固体層の形成をともなう乾燥である。
【００４３】
本発明の第四の態様では構造式（ＩＶ）によって表わされる２，２’−ビベンズヘテロアゾール誘導体を合成する方法を提供する：
【００４４】
【化４】
2010500397.tif 000006
【００４５】
式中、ｑ＋ｌ＝０、１、２、３あるいは４；ｑ’＋Ｉ’＝０、１、２、３あるいは４；ＥおよびＧの部分は、Ｏ、Ｓ、ＮＲ４を含むリストから独立して選択され、ここでＲ４はＨ、ＮＨ２、ＯＨを含むリストから独立して選択される；Ｒ５、Ｒ’５、Ｒ６およびＲ’６は、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＭｅ、−ＣＯ２Ｍｅ、−ＣＯＮＨ２、−ＣＯＮＨＮＨ２、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２を含むリストから独立して選択され、該方法は以下のステップを含む：
ａ）化学式（Ｖ）の成分を構造（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）を含むリストから選択された成分と反応させること；
ｂ）先のステップで得られた化合物を化学式（ＶＩ）の成分と反応させること；
【００４６】
【化５】
2010500397.tif 000007
【００４７】
ここで、溶媒は、ＡｃＯＨ、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、およびそれらの混合を含むリストから選択される。
本発明の第五の態様は、構造式（ＩＶ’）によって表わされる２，２’−ビベンズヘテロアゾール誘導体を合成するための方法を提供する：
【００４８】
【化６】
2010500397.tif 000008
【００４９】
式中、ｑ＋ｌ＝０、１、２、３あるいは４；Ｅ部分は、Ｏ、Ｓ、ＮＲ４を含むリストから選択され、ここでＲ４はＨ、ＮＨ２、ＯＨを含むリストから選択される；Ｒ５およびＲ６は、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＭｅ、−ＣＯ２Ｍｅ、−ＣＯＮＨ２、−ＣＯＮＨＮＨ２、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２を含むリストから独立して選択され、該方法は以下のステップを含む：
ａ）化学式（Ｖ）の成分を構造（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）を含むリストから選択された成分と反応させること；および
【００５０】
【化７】
2010500397.tif 000009
【００５１】
（ｂ）混合を撹拌すること；
ここで、溶媒は、ＡｃＯＨ、ＤＭＦ、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、およびそれらの混合を含むリストから選択される。
【００５２】
一実施形態では、構造（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）を含むリストから選択される化合物のモル量と比較して、化学式（Ｖ）の成分のモル量が反応混合物中に２倍含まれている。
【００５３】
一実施形態では、前記方法は混合物をＥｔ３Ｎで処理した後にＨＣｌで処理することが含まれ、ここで該処理の動作は、撹拌ステップと同時あるいはその後におこなわれる。
本発明の第六の態様は、構造式（ＩＶ）の２，２’−ビベンズヘテロアゾール誘導体を提供する。
【００５４】
【化８】
2010500397.tif 000010
【００５５】
式中、ｑ＋ｌ＝０、１、２、３あるいは４；ｑ’＋Ｉ’＝０、１、２、３あるいは４；ＥおよびＧの部分は、Ｏ、Ｓ、ＮＲ４を含むリストから独立して選択され、ここでＲ４はＨ、ＮＨ２、ＯＨを含むリストから選択される；Ｒ５、Ｒ’５、Ｒ６およびＲ’６は、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＭｅ、−ＣＯ２Ｍｅ、−ＣＯＮＨ２、−ＣＯＮＨＮＨ２、−ＳＯ３Ｈ、−ＳＯ２ＮＨ２、および−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２を含むリストから独立して選択される。
【００５６】
本発明の第七の態様は、構造式（ＩＸ）で表されるトリカルボキシ−５，１１，１７−トリメチル−１１，１７−ジヒドロ−５Ｈ−ビスベンジイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール−６，１２，１８−トリイウム臭化物を合成する方法を提供する。
【００５７】
【化９】
2010500397.tif 000011
【００５８】
この方法は以下のステップを含む：
ａ）１Ｈ−ベンズイミダゾール−６−カルボキシル酸の臭素化およびメチル化、並びにｂ）ステップ（ａ）で得られた２−ブロモ−１−メチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５（６）−カルボン酸の縮合。
【００５９】
本発明の第八の態様は、構造式（Ｘ）で表されるビスベンズイミドアゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール−トリカルボン酸を合成する方法を提供する。
【００６０】
【化１０】
2010500397.tif 000012
【００６１】
方法は、以下のステップを含む：
ａ）メタノール中の３，４−ジアミノベンゾイン酸の溶液を介して塩化水素を泡立たせるステップを含むメチル３，４−ジアミノベンゾエート二塩酸塩の調製；
ｂ）尿素を用いたステップ（ａ）由来のメチル３，４−ジアミノベンゾエート二塩酸塩の凝縮によってメチル２−オキソ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−カルボン酸塩を調製すること；
ｃ）塩化水素およびオキシ塩化リンによる処理によって、ステップ（ｂ）からのメチル２−オキソ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−カルボン酸塩をメチル２−クロロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５（６）−カルボン酸塩に変換すること；
ｄ）ステップ（ｃ）から得られたメチル２−クロロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５（６）−カルボン酸塩の三量体化によって、トリメチルビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾールトリカルボン酸塩を調製すること；および
ｅ）ステップ（ｄ）からのトリメチルビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”
，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾールトリカルボン酸塩のメチルエステルをアルカリ加水分解して生成物（Ｘ）を得ること。
【００６２】
本発明の概略を説明したが、一層の理解は、特定の好ましい実施形態への言及によって得ることができる。該実施形態は本明細書においては例証のみを目的としたものであり、添付した請求の範囲を制限するようには意図されない。
【００６３】
本発明は、分子平面が基板の表面と平行して主に配向される光学フィルムを製造するのに適した有機化合物の生成に関する。
開示された有機化合物の構造を、好ましくは特徴づけることは、ヘテロ原子、ＣＯＯ−、ＳＯ３−、ＨＰＯ３−、ＰＯ３２−、ＮＨ、ＮＨ２、ＣＯ、ＯＨ、ＮＨＲ、ＮＲ、ＣＯＯＭｅ、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＮＨ２、ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選択される３つ以上の結合基の存在であり、式中、ラジカルＲは、ヘテロ環式分子の側面Ｈ結合を可能にし、平面Ｈ結合超分子を形成する傾向を持つ互いに凝集してなる凝集物を可能にするアルキルまたはアリールである。好ましいアルキルおよびアリール基を以下に挙げる。
アルキル基：
一般式：ＣｎＨ２ｎ＋１−、式中ｎは１〜２３、好ましくは１、２、３、または４
例：メチル（ＣＨ３−）、エチル（Ｃ２Ｈ５−）、プロピル（ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２−またはＣＨ３ＣＨ（ＣＨ３）−）、ブチル（ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−またはＣ（ＣＨ３）３−またはＣＨ３ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−またはＣＨ３ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−）
アリール基：
例：フェニル基（Ｃ６Ｈ５−）、ベンジル（Ｃ７Ｈ７−）、ナフチル（Ｃ１０Ｈ７−）
前記酸基は、炭素、ダイヤモンド、金、銀、ガラス、および他の多くの材料で作られていたものを含む様々な基板上に選択されたヘテロ環式化合物の物理吸着を与える。平面超分子中の結合基によって形成されたＨ結合の系と親水性表面との相互作用は、超分子の面内配向を引き起こすことが可能である。親水性表面および平面Ｈ結合超分子は基板表面上に層を形成する。
【００６４】
酸基の配置は、平面Ｈ結合超分子の構造に影響を及ぼし、異なる空間構成を備えた様々な構造モチーフを生産してもよい。
構造式（Ｉ）の有機化合物を、当該技術分野で公知の従来の方法を用いて調製することができる。いくつかのヘテロ環式化合物の合成は、カルボン酸基を有するフラグメントの環化し、あるいは市販のヘテロ環系へ置換基を導入し、それらを後修飾することで、おこなうことができる。
【００６５】
基板に対して平行に配向した平面Ｈ結合ヘテロ環式分子を含む光学フィルムを得るために、この系での２つのタイプの相互作用を提供することが好ましい。すなわち、
最初の要因は、基板上表面で分子の所望の配向あるいはそれらの凝集物に帰着する基板（吸着剤）で平面のヘテロ環式分子（吸着質）の相互作用（吸着）である。分子の吸着は、物理的（物理収着）または化学的（化学吸着）である。物理吸着には分子間力が介在し、吸着分子の電子構造が顕著に変化することはない。この場合、吸着分子（吸着分子）は通常、表面（側面）移動度を保つ。化学吸着は、吸着質の分子と吸着剤の分子との間の化学的結合の形成をともなう。したがって、化学吸着は、吸着質の表層に限定された領域における化学反応のひとつと見なすことができる。明らかに、化学的結合は、吸着分子の表面移動度を制限する。開示された発明は、主に物理吸着を特色とする有機化合物（吸着質）と基板との組み合わせを使用する。したがって、吸着分子およびそれらの凝集物は基板上表面上に移動できる。
【００６６】
次に、物理的に吸着された平面ヘテロ環式分子は、基板平面内で作用する弱い横力によ
って互いと相互に作用するべきである。これらの分子間力は、吸着層および最終単一層における長距離秩序の形成に重要な役割を果たす。ヘテロ環式分子のいくつかの置換分間で形成されたＨ結合によって、側面相互作用を与えることができる。
【００６７】
本発明にもとづく有機化合物の一実施形態では、主に平面のヘテロ環式分子系は部分的に、または完全に共役したものである。本発明による有機化合物の別の実施形態では、ヘテロ環式分子系は、窒素、酸素、硫黄、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選ばれたヘテロ原子を含む。本発明による有機化合物の一実施形態では、結合基の少なくとも一つは、前記ヘテロ原子、ＣＯＯＨ、ＳＯ３Ｈ、Ｈ２ＰＯ３、ＮＨ、ＮＨ２、ＣＯ、ＯＨ、ＮＨＲ、ＮＲ、ＣＯＯＭｅ、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＮＨ２、ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選択され、上記したように、式中ラジカルＲはアルキルまたはアリールである。開示された有機化合物のさらに別の実施形態では、結合基の少なくとも１つは相補基である。異なるヘテロ環式分子系に属する同一の結合基は、これらの系の間の非共有結合の化学的結合を形成することも可能である。そのような結合基は自己結合または相補的と呼ばれる。本発明による有機化合物の他の実施形態では、結合基の少なくとも１つは、水素受容体（Ａ）、水素供与体（Ｄ）、および構造式（ＩＩ）を有する基を含むリストから選ばれる。
【００６８】
【化１１】
2010500397.tif 000013
【００６９】
式中、水素受容体（Ａ）および水素供与体（Ｄ）は、ＮＨ基および酸素（Ｏ）を含むリストから独立して選ばれる。
開示された発明の一実施形態では、有機化合物は、さらに、ＵＶスペクトル範囲の少なくとも一箇所の所定の部分的範囲内での電磁放射の吸収を保証する。
【００７０】
開示された発明の別の実施例では、結合基の少なくとも１つは、水中あるいは有機溶媒中の有機化合物の可溶性を与える基として作用する。水中の有機化合物の可溶性を与える基Ｓを、ＣＯＯＨ、ＳＯ３Ｈ、Ｈ２ＰＯ３、およびそれらの任意の組み合わせからなるリストから選択してもよい。有機溶媒中のヘテロ環式分子系の可溶性を与える基Ｓを、ＣＯＮＲ１Ｒ２、ＣＯＮＨＣＯＮＨ２、ＳＯ２ＮＲ１Ｒ２、Ｒ３、あるいはそれらの任意の組み合わせからなるリストから選択してもよい。ここで、上記に定義されるように、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、水素、アルキル、およびアリールから選ばれる。
【００７１】
開示された発明の一実施形態では、ヘテロ環式分子系は長手方向軸を持つ拡大非等軸形態を有する。開示された発明の別の実施例では、ヘテロ環式分子系は、ヘテロ環式分子系の平面に対して垂直をなす次数ｋ（Ｃｋ）の対称性の軸を有し、ここでｋは３以上の整数である。構造式を有するピラジンおよびイミダゾール・フラグメント、もしくはそのいずれかを持つ主に平面のヘテロ環式分子系の例を、表１に示す。
【００７２】
表１．ピラジンおよびイミダゾール・フラグメント、もしくはそのいずれかを有する主に平面のヘテロ環式分子系の例
【００７３】
【表１】
2010500397.tif 000014
【００７４】
有機化合物の一実施形態では、ヘテロ環式分子系（Ｈｅｔ）は、表２に示される構造式を有する。ＥおよびＧの部分は、Ｏ、Ｓ、ＮＲ４を含むリストから独立して選択される（ここでＲ４はＨ、ＮＨ２、ＯＨを含むリストから選択される）：
表２．拡大非等軸形態を有する主に平面のヘテロ環式分子系の例
【００７５】
【表２】
2010500397.tif 000015
【００７６】
有機化合物の一実施形態では、ヘテロ環式分子系は、イミダゾールおよびベンズイミダゾール・サイクル、もしくはそのいずれかを含むオリゴマーであり、それらは水素結合を形成することができる。構造式を有するイミダゾールおよびベンズイミダゾール・サイクル、もしくはそのいずれかを含むオリゴマーを有する主に直線状のヘテロ環式系の例を、表３に示す。ここで、ｎは１〜５の範囲内にある数である。
【００７７】
表３．イミダゾールおよびベンズイミダゾール・サイクル、もしくはそのいずれかを含むオリゴマーを含むヘテロ環式分子系の例
【００７８】
【表３】
2010500397.tif 000016
2010500397.tif 000017
本発明の別の実施形態では、１Ｈ，１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾールの誘導体、２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体、および２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体を含むリストから選択される。また本発明のさらに別の実施形態では、有機化合物には表４に示される構造式を有する。
【００７９】
表４．２．２’−ビベンズイミダゾール誘導体の例
【００８０】
【表４】
2010500397.tif 000018
2010500397.tif 000019
2010500397.tif 000020
有機化合物の別の実施形態では、結合基は、非共有結合の化学的結合によって溶液でのフラットな非等軸粒子の形成をもたらす。有機化合物のさらに別の実施形態では、非共有結合の化学結合は、単水素結合、双極子間相互作用、陽イオン−パイ相互作用、ファンデルワールス相互作用、配位結合、イオン結合、イオン双極子相互作用、多重水素結合、ヘテロ原子を介した相互作用、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選択される。また有機化合物の別の実施形態では、少なくとも１つの結合基は、溶液内の非等軸粒子の不安定な平衡を与える。本発明の一実施形態では、有機化合物は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＮＯ２、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｆ、−ＣＦ３、−ＣＮ、−ＮＣＳ、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯＣＨ３、および−ＣＯＮＨ２を含むリストから選択される少なくとも１つの追加の置換基をさらに含む。
本発明はまた、上記に開示されたように、光学フィルを提供する。開示された光学フィルムの一実施形態では、主に平面のヘテロ環式分子系は、部分的あるいは完全に共役したものになる。開示された光学フィルムの別の実施形態では、前記ヘテロ環式分子系は、窒素、酸素、硫黄、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選択されるヘテロ原子を含む。開示された光学フィルムのさらに別の実施形態では、少なくとも１つの結合基は、水素受容体（Ａ）、水素供与体（Ｄ）、および構造式（ＩＩ）を有する基を含むリストから選ばれる。
【００８１】
【化１２】
2010500397.tif 000021
式中、水素受容体（Ａ）および水素供与体（Ｄ）は、ＮＨ基および酸素（Ｏ）を含むリストから独立して選ばれる。開示された光学フィルムの一実施形態では、結合基は、前記ヘテロ原子、ＣＯＯＨ、ＳＯ３Ｈ、Ｈ２ＰＯ３、ＮＨ、ＮＨ２、ＣＯ、ＯＨ、ＮＨＲ、ＮＲ、ＣＯＯＭｅ、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＮＨ２、ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選択され、上記したように、式中ラジカルＲはアルキルまたはアリールである。開示された光学フィルムの別の実施形態では、少なくとも１つの結合基は相補基である。まだ開示された光学フィルムの別の実施形態では、前記有機層は、ＵＶスペクトル範囲の少なくとも１つの部分的な所定波長範囲に電磁放射を吸収する。光学フィルムの別の実施形態では、結合基は、固体層におい
て、主に基板表面の平面内で配向されるフラットな非等軸粒子の非共有結合の化学的結合を介した形成を提供する。開示された光学フィルムの一実施形態では、非共有結合の化学結合は、単水素結合、双極子間相互作用、陽イオン−パイ相互作用、ファンデルワールス相互作用、配位結合、イオン結合、イオン双極子相互作用、多重水素結合、ヘテロ原子を介した相互作用、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選択される。
光学フィルムの一実施形態では、前記有機層は、水に実質的に溶けない。光学フィルムの別の実施形態では、有機層は、ＵＶスペクトル範囲の少なくとも１つの部分的な所定波長範囲内での電磁放射の吸収を各々保証する構造式（ＩＩＩ）の有機化合物を２種類以上含む。
【００８２】
開示された光学フィルムの一実施例では、ヘテロ環式分子系は、ヘテロ環式分子系の平面に対して垂直をなす次数ｋ（Ｃｋ）の対称性の軸を有し、ここでｋは３以上の整数である。
【００８３】
開示された光学フィルムの別の実施形態では、ヘテロ環式分子系は長手方向軸を持つ拡大非等軸形態を有する。開示された光学フィルムのさらに別の実施形態では、ヘテロ環式分子系の長手方向軸は基板の面内にほぼ等方性のアラインメントを有している。
【００８４】
開示された光学フィルムのさらに別の実施形態では、ヘテロ環式分子系の長手方向軸は基板平面内にほぼ異方性のアラインメントを有している。
開示された光学フィルムの一実施形態では、主に平面のヘテロ環式分子系は、ピラジンおよびイミダゾール・フラグメント、もしくはそのいずれかを含む。平面の結合したヘテロ環系の例を表１に示す。また開示された光学フィルムの別の実施形態では、ヘテロ環式分子系には表２に示される拡大非等軸形態がある。開示された光学フィルムのさらに別の実施形態では、ヘテロ環式分子系は、イミダゾールおよびベンズイミダゾール・サイクル、もしくはそのいずれかを含むオリゴマーであり、該環は水素結合を形成することができる。平面の結合したヘテロ環系の例を表３に示す。ここでｎは１〜５の範囲の数である。開示された光学フィルムのさらに別の実施形態では、１Ｈ，１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾールの誘導体、２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体、および２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体を含むリストから選択される。また光学フィルムの別の実施形態では、有機化合物には表４に示す構造式を有する。開示された光学フィルムの一実施形態では、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＮＯ２、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｆ、−ＣＦ３、−ＣＮ、−ＮＣＳ、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯＣＨ３、および−ＣＯＮＨ２を含むリストから選択される少なくとも１つの追加の置換基をさらに含む。
【００８５】
光学フィルムの一実施形態では、ヘテロ環式分子系の長手方向軸は基板平面にほぼ等方性のアラインメントを有している。開示された光学フィルムの別の実施形態では、ヘテロ環式分子系の長手方向軸は基板平面内にほぼ異方性のアラインメントを有している。
【００８６】
光学フィルムのさらに別の実施形態では、前記固体層は、一般に、基板表面の平面内の相互に垂直な２つの方向に対応する２つの屈折率（ｎｘおよびｎｙ）と基板表面に対して法線方向にある一つの屈折率（ｎｚ）とを所有する単軸遅延層であり、これらの屈折率は下記条件に従う：ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚ。光学フィルムのさらに別の実施形態では、前記固体層は、一般に、基板表面に対して法線方向にある１つの屈折率（ｎｚ）と基板表面の平面内の相互に垂直な２つの方向に対応する２つの屈折率（ｎｘおよびｎｙ）とを所有する二軸遅延層であり、これらの屈折率は下記条件に従う：ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ。開示された光学フィルムのさらに別の実施形態では、基板はポリマー製である。開示された光学フィルムのさらに別の実施形態では、基板はガラス製である。開示された光学フィルムの一実施形態では、基板の裏面は反射防止コーティングまたはフラッシング防止コーティングで覆わ
れている。開示された光学フィルムの一実施形態では、基板は可視スペクトル域の電磁放射に対しては透明である。別の実施形態では、本発明は、可視スペクトル域における基板の透過係数が少なくとも９０％であることを特徴とする光学フィルムを提供する。さらに別の実施形態では、光学フィルムは、基板の前面上に適用された付加的な平坦化透明層をさらに含む。開示された発明の別の実施例では、光学フィルムは、基板の裏面上に適用された反射層を含む。開示された光学フィルムの一実施形態では、基板は正反射性または拡散性反射材である。開示された光学フィルムのさらなる別の実施形態では、基板は反射偏光子である。また別の実施形態では、本発明は、有機層上に適用された付加的な透明接着剤層をさらに含む光学フィルムを提供する。開示された発明の別の実施例では、光学フィルムは、透明接着剤層上に適用された保護コーティングをさらに含む。開示された発明の一実施形態では、光学フィルムは２つ以上の有機層を有し、これらの層は、ＵＶスペクトル範囲の少なくとも１つの独立的に選択された部分的波長範囲内での電磁放射の吸収を各々保証する構造式（ＩＩＩ）の異なる有機化合物を含む。開示された光学フィルムの別の実施形態では、固体層は部分的にあるいは完全に結晶層である。開示された発明の別の実施例では、光学フィルムは２つ以上の有機質層を含む。ここで、これらの層は、２つの隣接層の屈折率（ｎｘ、ｎｙあるいはｎｚ）の少なくとも１つの違いを補償する構造式（ＩＩＩ）の異なる有機化合物を含む。
【００８７】
上記に開示したように、本発明はまた光学フィルムを生産する方法を提供する。
開示された方法の一実施形態では、主に平面のヘテロ環式分子系は、部分的あるいは完全に共役したものになる。開示された方法の別の実施形態ではヘテロ環分子系は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−ＮＯ２、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｆ、−ＣＦ３、−ＣＮ、−ＮＣＳ、−ＯＨ、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣＯＣＨ３、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯＣＨ３、および−ＣＯＮＨ２を含むリストから選択される少なくとも１つの追加の置換基をさらに含む。開示された方法のさらに別の実施形態では、結合基は、水素受容体（Ａ）、水素供与体（Ｄ）、および構造式（ＩＩ）を有する基を含むリストから選ばれる。
【００８８】
【化１３】
2010500397.tif 000022
式中、水素受容体（Ａ）および水素供与体（Ｄ）は、ＮＨ基および酸素（Ｏ）を含むリストから独立して選ばれる。開示された方法の別の実施形態では、前記ヘテロ環式分子系は、窒素、酸素、硫黄、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選択されるヘテロ原子を含む。
【００８９】
開示された方法の一実施形態によれば、結合基の少なくとも一つは、前記ヘテロ原子、ＣＯＯＨ、ＳＯ３Ｈ、Ｈ２ＰＯ３、ＮＨ、ＮＨ２、ＣＯ、ＯＨ、ＮＨＲ、ＮＲ、ＣＯＯＭｅ、ＣＯＮＨ２、ＣＯＮＨＮＨ２、ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ２−ＮＨ−ＳＯ２−ＮＨ２、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選択され、式中ラジカルＲはアルキルまたはアリールである。開示された発明の一実施形態では、異なるヘテロ環式分子系に属する同一の結合基は、これらの系の間の非共有結合の化学的結合を形成する。そのような結合基は自己結合または相補的と呼ばれる。方法の一実施形態では、液体層は、ＵＶスペクトル範囲の少なくとも一箇所の所定の波長部分的範囲内での電磁放射の吸収を保証する。開示された方法の別の実施形態では、ヘテロ環式分子系は長手方向軸を持つ拡大非等軸形態を有する。ヘテロ環式分子系の長手方向軸の等方性または異方性のアラインメントを、同じ有機化合物のために受け取ってもよい。開示された方法のさらに別の実施形態では、
溶液の濃度、温度のレベル、湿度、および乾燥ステップの持続時間を、基板平面中のヘテロ環式分子系の長手方向軸のほぼ等方性のアラインメントを保証するように、選択してもよい。開示された方法のさらに別の実施形態では、溶液の濃度、温度のレベル、湿度、および乾燥ステップの持続時間を、基板平面中のヘテロ環式分子系の長手方向軸のほぼ異方性のアラインメントを保証するように、選択してもよい。開示された方法の一実施形態では、ヘテロ環式分子系は、分子系の平面に対して垂直をなす対称Ｃｋの軸を有し、ここでｎは３以上の数である。この方法の別の実施形態の中で、主に平面のヘテロ環式分子系は、ピラジンおよびイミダゾール・フラグメント、もしくはそのいずれかを有し、かつ表１に示す構造１〜４を含むリストの構造式を持つ。方法のさらに別の実施形態では、主に平面のヘテロ環式分子系は表２に示す拡大非等軸形態を有する。開示された方法の一実施形態では、ヘテロ環式分子系は、イミダゾールおよびベンズイミダゾール・サイクル、もしくはそのいずれかを含むオリゴマーであり、これらは水素結合を形成することができる。前記ヘテロ環式分子系は、表３に示す構造７〜１５を含むリストからの構造式を有するものであってもよく、ここで、ｎは１〜５の範囲内にある数である。まだ開示された方法の別の実施形態では、有機化合物は、１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾールの誘導体、２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体、および２，２’−ビ−１，３−ベンゾキサゾールの誘導体を含むリストから選択される。開示された方法のさらに別の実施形態では、有機化合物は表４に示す構造式を有する。開示された方法の別の実施形態では、非共有結合の化学結合は、単水素結合、双極子間相互作用、陽イオン−パイ相互作用、ファンデルワールス相互作用、配位結合、イオン結合、イオン双極子相互作用、多重水素結合、ヘテロ原子を介した相互作用、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選択される。方法のさらなる別の実施形態では、前記液体層は、水、水混和性溶媒、アルコールをベースとする溶媒、およびそれらの任意の組み合わせを、さらに含む。開示された方法の一実施形態では、好ましい溶媒は水である。方法のさらに別の実施形態では、乾燥は空気流の中で実行される。さらに別の実施形態では、溶媒の量は、流体力学的流動による液体層を適用するために必要な液体層粘性が与えられるように制御される。開示された方法のさらに別の実施形態では、液体層粘性は２Ｐａ・ｓ以下である。本発明の別の実施例では、方法は、基板上への適用に先立つ前処理ステップをさらに含む。開示された方法の一実施形態では、前処理は、基板の表面を親水性にするステップを含む。
開示された方法の別の実施形態では、前処理は平坦化層のさらなる適用を含む。開示された発明の一実施形態では、該方法は、Ｈ＋、Ｂａ２＋、Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋、Ｓｒ２＋、Ｌａ３＋、Ｚｎ２＋、Ｚｒ４＋、Ｃｅ３＋、Ｙ３＋、Ｙｂ３＋、Ｇｄ３＋、およびそれらの任意の組み合わせを含むリストから選択された陽イオンを有する任意の水溶性無機塩の溶液による後処理ステップを、さらに含む。開示された方法の一実施形態では、適用のステップおよび後処理のステップが同時におこなわれる。開示された方法の別の実施形態では、乾燥のステップおよび後処理のステップが同時におこなわれる。まだ開示された方法の別の実施形態では、後処理のステップは乾燥の後に実行される。開示された方法のさらに別の実施形態では、適用は等方性の溶液を用いておこなわれる。開示された方法のさらに別の実施形態では、適用はリオトロピック液晶溶液を用いておこなわれる。開示された方法の一実施形態では、液体層はゲルから作られる。開示された方法の一実施形態では、適用は粘稠液相を用いておこなわれる。開示された発明のさらなる別の実施形態では、適用後の方法は、基板上の前記液体層上に適用されたアラインメント動作を、さらに含む。開示された方法の一実施形態では、析出および乾燥の技術的操作の一連の流れを２回以上繰り返し、液体層を用いて各々の結果として生ずる固体相を形成する。この液体層は、先のサイクルで使用されたものと同一または異なる有機化合物から作られ、またＵＶスペクトル範囲から、独立して選択された少なくとも一箇所の波長部分的範囲内での電磁放射の吸収を有する。開示された発明の一実施形態では、方法は、先のサイクルで使用したものとは異なる適用のステップの後または同時に、基板上の前記液層に対して適用される適用動作と、隣接する２つの層で屈折率（ｎｘ、ｎｙ、あるいはｎｚ）の少なくとも１つが異なる。
【００９０】
上記に開示されたものとして、本発明はさらに２，２’−ビベンズヘテロアゾールヘテロ環式化合物を提供する。本発明の一実施形態では、２，２’−ビベンズヘテロアゾールヘテロ環式化合物は表４に示す構造１６〜３４を含むリストからの構造式を持つ。
【００９１】
本発明の目的および利点は、以下に提供される実施例の詳細な説明および添付の請求の範を読むことによって、また図面を参照することによって、明らかになる。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】誘電率テンソルの主軸（Ａ、Ｂ、Ｃ）がｘｙｚフレームに対して任意に配向している一般的な場合の例を示す概念図。
【図２ａ】ポジティブＣプレートの自然座標フレームに関して特定の誘電率テンソルの主軸の配向を示す概念図。
【図２ｂ】ネガティブＣプレートの自然座標フレームに関して特定の誘電率テンソルの主軸の配向を示す概念図。
【図３】視角方向の定義を示す斜視図。
【図４】３つの結合基を持つ親水性かつ円板状のヘテロ環式分子系（Ｈｅｔ）を含む有機化合物を概略的に示すモデル。
【図５】対称Ｃ３の軸を有するフラットなヘテロ環式分子系を含む有機化合物を概略的に示すモデル。
【図６】長手方向軸を持つ拡大非等軸形態を呈するフラットなヘテロ環式分子系を含む有機化合物を概略的に示すモデル。
【図７ａ】構造１として表１に示されるヘテロ環式分子系によって形成されたフラットな非等軸粒子の一構造を示すモデル。
【図７ｂ】構造１として表１に示されるヘテロ環式分子系によって形成されたフラットな非等軸粒子の別の構造を示すモデル。
【図８】図５に示される構造式を持つ有機化合物によって形成されたフラットな非等軸粒子の可能な構造の一つを概略的に示すモデル。
【図９】図６に示される構造式を持つ有機化合物によって形成されたフラットな非等軸粒子の別の可能な構造を示すモデル。
【図１０】図６に示される構造式を持つ有機化合物によって形成されたフラットな非等軸粒子の別の可能な構造を概略的に示すさらなるモデル。
【図１１】構造５として表２に示されるヘテロ環式分子系によって形成されたフラットな非等軸粒子の構造を示すモデル。
【図１２】本発明による光学フィルムの屈折率スペクトル。
【図１３】ＮＭＲ１Ｈスペクトル（ブルカーアバンス３００機器、ｄ６−ジメチルスルホキシド）。
【図１４】付加的な粘着層および保護層とともに示す、基板上の光学フィルムの断面図。
【図１５】追加反射防止層を有する光学フィルムの断面図。
【図１６】追加反射層を有する光学フィルムの断面図。
【図１７】基板として拡散または鏡面反射体を有する光学フィルムの断面図。
【発明を実施するための形態】
【００９３】
図４は、概略的にフラットな円板状のヘテロ環式分子系および少なくとも３つの結合基を含む有機化合物の一実施形態を示す。表１に示す構造式１を持つヘテロ環式分子系を、そのような円板状のヘテロ環式分子系として使用することが可能である。結合基の位置を酸素イオン（Ｏ−）によって示す。
ヘテロ環式分子系は、その平面に対して垂直に向いている第三次対称軸を有する。所定のヘテロ環式分子系は、ヘテロ原子として働く窒素陽イオン（Ｎ＋）を含んでいる。その結
果、電気双極子（Ｏ−−Ｎ＋）はヘテロ環式分子系の平面内で形成され、それは系に親水性をもたらす。有機化合物の溶液を調製する過程で、ヘテロ環式分子系および結合基は、隣接したヘテロ環式分子系の結合基間の非共有化学結合によりフラットな非等軸粒子（動的粒子）を形成する。基板上へ反応混合物を適用中に、これらのフラットな非等軸粒子の一定部分は、弱い非共有結合が壊れるために破壊される。この破壊は、反応混合物の粘性を縮小し、流体力学的流動によるその配向を促進する。非等軸粒子の平面は、ヘテロ環式分子系の親水性により基板平面と平行に配向され、それらの効果的なホメオトロピック配向が生み出される。その後、非等軸粒子内の破壊された非共有化学結合が回復する。
【００９４】
図５は、フラットなヘテロ環式分子系を含む有機化合物の一実施形態を概略的に示すもので、該系はヘテロ環式分子系の平面に対して垂直に向いている対称Ｃ３の軸を有する。ヘテロ環式分子系は、２つのタイプの結合基を含む。Ａ１、Ａ２、およびＡ３として示される結合基は、水素結合（Ｈ結合）を形成することが可能であり、かつ水素受容体として機能を果たすことが可能である。他の結合基（Ｄ１Ｈ、Ｄ２Ｈ、およびＤ３Ｈ）はさらに水素結合（Ｈ結合）を形成することができ、水素供与体として作用する。有機化合物の溶液を調製する過程で、ヘテロ環式分子系および結合基は、隣接したヘテロ環式分子系の結合基間のＨ結合によりフラットな非等軸粒子（動的粒子）を形成する。
【００９５】
図６は、長手方向軸（ａ−ａ）を持つ拡大非等軸形態を呈するフラットなヘテロ環式分子系を含む有機化合物の一実施形態を概略的に示す。ヘテロ環式分子系は、２つのタイプの結合基を含む。Ａ１、Ａ２、Ａ３、およびＡ４として示される結合基は、水素結合（Ｈ結合）を形成することが可能であり、かつ水素受容体として作用する。他の結合基（Ｄ１Ｈ、Ｄ２Ｈ、Ｄ３Ｈ、およびＤ４Ｈ）はまた、水素結合（Ｈ結合）を形成するのに有能で、水素供与体として作用する。有機化合物の溶液を調製する過程で、ヘテロ環式分子系および結合基は、隣接したヘテロ環式分子系の結合基間のＨ結合によりフラットな非等軸粒子（動的粒子）を形成する。
【００９６】
図７ａおよび７ｂは、フラットな非等軸粒子（ポリマー粒子）のいくつかの可能な構造を概略的に示す。開示された発明のこの実施例では、非共有結合は、１つのヘテロ環式分子系の陽イオン（Ｎ＋）と隣接ヘテロ環式分子系の陰イオン（Ｏ−）との間で、形成される（図７ａを参照）。結合基がカルボキシ基によって表わされる場合、Ｈ結合は、１つのカルボキシ基の水酸基ＯＨと別の基の酸素イオンとの間で形成される（図７ｂを参照）。非等軸粒子の大きさは、好ましくは１ミクロン以下である。
【００９７】
図８は、図５に示される構造式を持つ有機化合物によって形成されたフラットな非等軸粒子（ポリマー粒子）の可能な構造の一つを概略的に示す。開示された発明のこの実施例では、フラットな非等軸粒子はＨ結合に続くことにより形成される。すなわち、Ａ１−Ｈ−Ｄ３、Ａ２−Ｈ−Ｄ１、およびＡ３−Ｈ−Ｄ２である。図９は、図６に示される構造式を持つ有機化合物によって形成されたフラットな非等軸粒子（ポリマー粒子）の別の可能な構造を概略的に示す。これらのフラットな非等軸粒子の特徴は、隣接した平面ヘテロ環式分子系の長手方向軸のほぼ垂直に配向していることである。図１０は、図６に示される構造式を持つ有機化合物によって形成されたフラットな非等軸粒子（ポリマー粒子）のさらに別の可能な構造を概略的に示す。これらのフラットな非等軸粒子の特徴は、隣接した平面ヘテロ環式分子系の長手方向軸のほぼ平行配向である。開示された発明のこの実施例では、フラットな非等軸粒子はＨ結合に続くことにより形成される。すなわち、Ａ１−Ｈ−Ｄ２、Ａ２−Ｈ−Ｄ１、Ａ３−Ｈ−Ｄ４、およびＡ４−Ｈ−Ｄ３である。
【００９８】
本発明の別の実施形態では、光学フィルムは、構造５として表２に示されるヘテロ環式分子系を含む有機化合物に基づくもので、そのような構造は細長いリボン状の構成を示すとともに親水性を有し、また結合基として２つの末端カルボキシル基を持っている。有機
化合物の溶液では、そのような分子系は、図１１に示す構成を有する等軸粒子を形成する。
有機化合物の溶液を、例えば押出しによって、基板上適用する場合、前記等軸粒子と、従って結合基とがコーティング方向（Ｏｘ）に沿って配向される。図７は、一実施形態を概略的に示すもので、ここで等軸粒子はＨ結合を形成することができる結合基を有する直鎖からなる。ヘテロ環式分子系が親水性であることから、それらの平面は基板に対して平行に配向される（ｘＯｙ平面）。この実施形態による光学フィルムは異方性であり、また、その屈折率は３つの軸に沿って実質的に異なる。すなわち、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ。
【００９９】
本発明をよりいっそう容易に理解するために、以下の実施例について言及するが、該実施例は本発明を説明することを意図したものであり、範囲を限定することを意図するものではない。
実施例１
第一の実施例は、トリカルボキシ−５，１１，１７−トリメチルビス［３，１］ベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］［３，１］ベンズイミダゾール−５，１１，１７−トリイウム臭化物の混合物の合成を説明する。
【０１００】
【化１４】
2010500397.tif 000023
Ａ．  １Ｈ−ベンゾイミダゾール−６−カルボキシル酸の合成
３、４−ジアミノベンゾイン酸（２０ｇ、０．１３ｍｏｌ）を、冷やしながらギ酸（１２０ｍｌ）に懸濁した。その後、塩酸（１２ｍｌ）を加えた。得られた反応生成物を室温で２４時間アジテートした。反応混合物をガラス繊維フィルターでろ過した。その後、ろ過ケークを水（４００ｍｌ）に溶かした。ｐＨをアンモニア溶液で２．０に調節して反応生成物を一晩アジテートした。得られた懸濁液をろ過した。濾液のｐＨをアンモニア溶液で３．０に調節した。また、反応生成物を２時間アジテートした。沈殿物をろ過し、〜１００°Ｃで乾燥させた。Ｈ１ＮＭＲ（ブルカーアバンス（Ｂｒｕｃｋｅｒ  Ａｖａｎｃｅ）−３００、ＤＭＳＯ−ｄ６、δ、ｐｐｍ）：７．６９５（ｄ、Ｈ、ＣＨＡｒ（７））；７．８７７（ｄｄ、Ｈ、ＣＨＡｒ（６））；８．２５（ｄ、Ｈ、ＣＨＡｒ（４））；８．４４（ｓ、Ｈ、（ｓ，Ｈ、ＣＨＡｒ（２））；１２．８２（ｓ，２Ｈ、ＮＨ、ＣＯＯＨ）。収量１１．３ｇ（５４％）．
Ｂ．  ２−ブロモ−１−メチル−１Ｈ−ベンゾイミダゾール−５（６）−カルボン酸の合成
メタノール（２００ｍｌ）中に臭素（６４ｍｌ、１．２５ｍｏｌ）を含む溶液を、メタノール（２７０ｍｌ）中に１Ｈベンズイミダゾール−６−カルボン酸（２０ｇ、０．１２ｍｏｌ）を含む懸濁液に、冷やしながら投入した。反応生成物を室温で３日間アジテートした。その溶液体積をロータリー・エバポレータ上で１２０ｍｌまで減少させた後、得られた濃縮物をアセトン（１．７ｌ）に加えて一晩アジテートした。沈殿物をろ過し、アセトンで濯ぎ、さらに乾燥させた。Ｈ１ＮＭＲ（ブルカーアバンス（Ｂｒｕｃｋｅｒ  Ａｖａｎｃｅ）−３００、ＤＭＳＯ−ｄ６、δ、ｐｐｍ）：３．９４（ｓ、３Ｈ、ＣＨ３）；
７．９９５（ｄ、Ｈ、ＣＨＡｒ（７））；８．１４（ｄｄ、Ｈ、ＣＨＡｒ（６））；８．３９（ｄ、Ｈ、ＣＨＡｒ（４））；９．７９（ｓ、Ｈ、ＣＯＯＨ）。収量２０．５ｇ（６５％）。
Ｃ．  ５，１１，１７−トリメチルビス［３，１］ベンズイミドアゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール−５，１１，１７−トリイウム臭化物の合成
２−ブロモ−１−メチル−１Ｈ−ベンズイミダゾール−５（６）−カルボン酸（２０ｇ、０．０８ｍｏｌ）をＮ−メチルピロリドン（１００ｍｌ）に投入した。反応生成物を１５０〜１５５℃で６時間アジテートした。自己冷却の後、それをクロロホルム（２ｌ）に添加し、２時間撹拌した。沈殿物をろ過した。ろ過ケークをろ過し、クロロホルム（７００ｍｌ）に懸濁し、ろ過し、さらにクロロホルムで濯いだ。生成物を〜９０℃で乾燥した。Ｈ１ＮＭＲ（ブルカーアバンス（Ｂｒｕｃｋｅｒ  Ａｖａｎｃｅ）−３００、ＤＭＳＯ−ｄ６、δ、ｐｐｍ）：４．１２（ｓ、３Ｈ、ＣＨ３）；４．１４（ｓ、３Ｈ、ＣＨ３）；４．１６（ｓ、３Ｈ、ＣＨ３）；４．１８；（Ｓ、３Ｈ、ＣＨ３）；８．１０５（ｍ、６Ｈ、３＊ＣＨＡｒＣＨＡｒ）；８．４８５；（ｍ、３Ｈ、３＊ＣＨＡｒ）；９．９０（ｓ、Ｈ、ＣＯＯＨＡｒ）；９．７０５（ｍ、３Ｈ、ＣＯＯＨ）。生成物を〜９０℃で乾燥した。収量１８．８ｇ（９０％）。
実施例２
第二の実施例では、ビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール−トリスルホン酸の混合物の合成を説明する。
【０１０１】
【化１５】
2010500397.tif 000024
Ａ．ビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾールの合成
２−クロロ−１Ｈベンゾイミダゾール（４ｇ、０．０２６ｍｏｌ）を２００〜２２０℃まで加熱し、３０分アジテートした（塩化水素の発生が停止するまで）。ニトロベンゼンを反応生成物へ添加し、アジテートしながら２５分間にわたり沸騰させた。〜８０℃に自冷させた後、それをろ過し、アセトンで濯いだ。ろ過ケークを〜１００℃で乾燥させた。収量２．１ｇ（７０％）。
Ｂ．  ビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール−トリスルホン酸の混合物の合成
ビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール（２．０ｇ、０．００６ｍｏｌ）を２０％発煙硫酸（２０ｍｌ）に投入して一晩アジテートした。その反応生成物を水（２８．２ｍｌ）で希釈した後、沈殿物をろ過し、濃塩酸、１，４−ジオキサン、およびアセトンで濯いだ。生成物をデシケーター内で乾燥させた。収量１．３２ｇ（４０％）。
実施例３（Ａ０５６）
次の実施例では、ヘテロ環式化合物の溶液からの光学フィルムの調製について説明する
。
【０１０２】
実施例１で得たトリカルボキシ−５，１１，１７−トリメチルビス［３，１］ベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”，２”：５，６］［１，３，５］トリアジノ［１，２−ａ］［３，１］ベンズイミダゾール−５，１１，１７−トリイウム臭化物の混合物７．５ｇを４２．５ｇの脱イオン水に溶解し、固相全体が分解されるまで２０℃で撹拌し、その後、２１．３ｇの５％ＺｎＣｌ２溶液および２８．７ｇの脱イオン水を加え、混合物を周囲条件下で１時間撹拌した。
【０１０３】
ソーダ石灰ＬＣＤ品質スライドガラスをコーティング用に準備するために、１０％ＮａＯＨ溶液中で３０分処理し、脱イオン水で濯ぎ、コンプレッサの助けを借りて空気流中で乾燥させた。コーティングに先立って、試料をイソプロピルアルコールで濯いだ。得られた溶液を温度２０℃および相対湿度６５％でマイヤー棒（Ｍａｙｅｒ  ｒｏｄ）＃２．５によりガラスプレート上に塗布した。このフィルムを穏やかな空気流中で同一湿度および温度で乾燥させた。
【０１０４】
得られたフィルムの屈折率スペクトルを図１２に示す。得られたフィルムは平面内で光学的等方であり、垂直方向で高い遅延を示す。
実施例４
この実施例では、構造式（ＩＶ）によって表わされる２，２’−ビベンズヘテロアゾールヘテロ環式化合物の合成について説明する。
【０１０５】
１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾール−５，５’−ジカルボン酸（１）
無水メタノール（１００ｍｌ）中の３，４−ジアミノベンゾイン酸（１．０ｇ、６．６ｎｍｏｌ）の懸濁液に対して、Ｏ−メチル−１，１，１−トリクロロアセトイミダートを添加した（０．４ｍＬ、０．５７ｇ、３．２ｍｍｏｌ）。反応混合物を周囲条件下で４８時間撹拌した。結果として得られる黄色固形物をろ過して取り出し、恒量になるまで真空中で乾燥した。収量０．４３ｇ（４１％）。さらに精製するために、１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾール−５，５’−ジカルボン酸を、０．８５ｇ／３７ｍＬの比でジメチルスルホキシドに溶解し、得られた溶液に対して水をゆっくり加えた（５ｍＬ）。混合物を３０分間撹拌した。生じた固形物をろ過して取り出し、エタノール（２ｘ３０ｍＬ）で洗い、恒量になるまで真空中で乾燥した。ＮＭＲ１Ｈスペクトル（ブルカーアバンス（Ｂｒｕｃｋｅｒ  Ａｖａｎｃｅ）６００機器、溶媒ｄ６−ジメチルスルホキシド；δ、ｐｐｍ；Ｊ、Ｈｚ）：７．７４ｄ．ｄ（２Ｈｂ、３Ｊｂａ＝７．５）、７．９３ｄ（２Ｈａ、３Ｊａｂ＝７．５）、８．２８ｄ（２ＨＸ）。１２．８９ｂｒ．ｓ（２ＮＨおよび２ＣＯＯＨ）（１３．９４ｂｒ．ｓ（２ＮＨおよび２ＣＯＯＨ））。質量スペクトル（ＭＡＬＤＩポジティブモード（ウルトラフレックス（Ｕｉｔｒａｆｌｅｘ）ＴＯＦ／ＴＯＦ
ブルカー・ダルトニクス社製（Ｂｒｕｋｅｒ  Ｄａｌｔｏｎｉｃｓ）機器）：３２２（１００％）［Ｍ＋・］、３０４（４５％）［Ｍ＋・−Ｈ２Ｏ］、２７７（５０％）［Ｍ＋・−ＣＯ２Ｈ］。
【０１０６】
ジメチル１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾール−５，５’−ジカルボン酸塩（２）
メチル３，４−ジアミノベンゾエート（３．３ｇ、１９．９ｍｍｏｌ）を無水ＭｅＯＨ（１００ｍＬ）に溶かした。結果として得られた溶液に対して、Ｏ−メチル−１，１，１−トリクロロアセトイミデート（１．７５ｇ、１．２５ｍＬ、９．９ｍｍｏｌ）を添加した。反応混合物を周囲条件下で４８ｈ間撹拌した。形成された沈殿物をメタノール（２×２０ｍＬ）でろ過して取り出し、恒量になるまで真空中で乾燥した。収量１．０ｇ（２８％）。
【０１０７】
１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾール−５，５’−ジスルホン酸（４）
三ツ口フラスコに３，４-ジアミノベンゼンスルホン酸（８．０ｇ、４２．５  ｍｍｏ
ｌ）および無水ＭｅＯＨ（０．８５Ｌ）を投入した。Ｏ−メチル−１，１，１−トリクロロアセトイミダートを添加した（２．８ｍＬ、３．７４ｇ、２１．２ｍｍｏｌ）。結果として得られる懸濁液を周囲条件下で２４時間撹拌した。この後、追加量の０−メチル−１，１，１−トリクロロアセトイミダートを添加し（１．４ｍＬ、１．８７ｇ、１０．５ｍｍｏｌ）、次に反応混合物を周囲条件下で７２時間撹拌し、５０℃で３時間加熱し、さらにトリエチルアミン（１４ｍＬ、９．４ｇ、９３．５ｍｍｏｌ）を添加した。この温度で撹拌を１８時間続けた。次に、反応混合物を３０℃に冷やし、沈殿物が形成されるまで、その溶液に乾燥ＨＣｌの集中的な流れを通過させた。懸濁液を４０℃でろ過して取り出し、沈殿物をＭｅＯＨ（４×１５０ｍＬ、各回、懸濁液を１０〜１５分間撹拌）およびＭｅＯＨ−ＨＣｌ３．５％溶液（１００ｍｌ、１時間撹拌）で洗った。生成物である１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾール−５，５’−ジスルホン酸は、黄白色または無色で、重さ３．５ｇ、収量４２％であった。それは塩として自らの塩酸塩を含むものであってもよい。ＮＭＲ１Ｈスペクトル（ブルカーアバンス（Ｂｒｕｃｋｅｒ  Ａｖａｎｃｅ）３００機器、溶媒ｄ６−ジメチルスルホキシド；δ、ｐｐｍ；Ｊ、Ｈｚ）：５．２７ｂｒ．ｓ（Ｈ２ＯおよびＮＨの代わりに−ＳＯ３Ｈ）７．７３ｍ（２Ｈａ、２Ｈｂ）、８．０１ｂｒ．ｓ（２Ｈｘ）、ＮＭＲ１３Ｃ｛１Ｈ｝スペクトラム（ブルカーアバンス（Ｂｒｕｃｋｅｒ  Ａｖａｎｃｅ）３００機器、溶媒ｄ６−ジメチルスルホキシド；δ、ｐｐｍ）：１１３．００、１１５．４１、１２３．２７、１３６．４４、１３７．６０、１４２．２４、１４５．３４。
【０１０８】
直接スルホン化反応を介した１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾール−５−スルホン酸（３ａ）、１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾール−４−スルホン酸（３ｂ）、１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾール−５，５’−ジスルホン酸（４）の混合
ビベンズイミダゾール（０．５０ｇ、２．１  ｍｍｏｌ）を発煙硫酸２０％に挿入した。結果として得られた溶液を３０℃で２時間撹拌した後、氷（５ｇ）に注ぎ、分離した白色沈殿物を遠心により取り出し、塩化水素の３６％水溶液を添加（５ｍＬ）することで、即座に溶液が生じた。この溶液を濃縮して初期容量の１／２とし、水（５ｍＬ）で希釈し、結果として得られた不均質混合物を＋１０℃まで冷やし、沈殿物をろ過して取り出し、遠心により水（５ｍＬ）で洗い、得られた無色の固形物を真空中で乾燥することで、収量０．０７ｇを得た。混合物は１０％ＨＣｌに可溶である。ＮＭＲ１Ｈスペクトル（ブルカーアバンス（Ｂｒｕｃｋｅｒ  Ａｖａｎｃｅ）３００機器、ｄ６−ジメチルスルホキシド）、図１３を参照。
実施例５
この実施例は、トリエチルアミンの存在下で１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾール−５，５’−ジカルボン酸の水溶液から光学フィルムを調製することを説明する。１Ｈ、１’Ｈ−２，２’−ビベンズイミダゾール−５，５’−ジカルボン酸を実施例４の記載通りに合成する。棒１．５ＨＳを用いてハンド・コーティングをおこなった。２０〜２５％溶液を用いて厚膜（１〜３μｍ）を得た。そのような厚さは、より高い粘性の溶液から得ることができる。図１１は、フラットな非等軸粒子（ポリマー粒子）の可能な構造を概略的に示す。開示された発明のこの実施例では、二種類のＨ結合が形成された。すなわち、１）１つのヘテロ環式分子系の陽イオン（Ｎ＋）と隣接したヘテロ環式分子系の陰イオン（Ｏ−）との間、ならびに２）隣接したヘテロ環式分子系の酸素の２つの原子間で、形成された。
実施例６
ビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”,２”：５，６］［１，３，５］トリ
アジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール−トリカルボン酸の混合物の合成を説明する。
【０１０９】
【化１６】
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Ｄ．メチル２−オキソ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−６−カルボン酸塩の合成
メチル３，４−ジアミノベンゾエート二塩酸塩（２０ｇ、０．０８ｍｏｌ）を尿素（６．５４ｇ、０．１１ｍｏｌ）と混合した。反応混合物を〜１５０℃で７時間加熱した。冷やした後に粉体を水（４００ｍｌ）に懸濁し、最後のものｐＨを塩酸で０．４５に合わせた。沈殿物をろ過し、さらに水および塩酸（ｐＨ＝１．５）で濯いだ。得られたろ過ケークを〜１００℃で乾燥させた。収量１５．７ｇ（９７％）。
Ｅ．メチル２−クロロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−６−カルボン酸塩の合成
メチル２−オキソ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−６−カルボン酸塩（４３ｇ、０．２２ｍｏｌ）をオキシ塩化リン（２８６ｍｌ）に投入した。沸騰反応生成物を介して乾燥塩化水素を１２時間泡立てた。冷やした後、反応生成物を氷および水（２ｋｇ）の混合物に注いだ。沈殿物をろ過して取り出した。ろ過物を水（１．２５ｌ）およびアンモニア溶液（〜８００ｍｌ）で希釈した。その後、ｐＨをアンモニア溶液で５．６に合わせた。沈殿物をろ過し、水で濯いだ。収量３９．５ｇ（８４％）。
Ｆ．トリメチルビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”,２”：５，６］［１，
３，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール−トリカルボン酸塩の合成
メチル２−クロロ−１Ｈ−ベンズミダゾール−６−カルボン酸塩（３８ｇ、０．１８ｍｏｌ）を１８５〜１９０℃で１０時間加熱した。収量３０．３ｇ（９６％）。
Ｇ．ビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”,２”：５，６］［１，３，５］ト
リアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾールトリカルボン酸の合成
トリメチルビスベンズイミダゾ［１’，２’：３，４；１”,２”：５，６］［１，３
，５］トリアジノ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール−トリカルボン酸塩（３０ｇ、０．０６ｍｏｌ）を水酸化カリウムの５％溶液（２５０ｍｌ）に投入し、１．５時間沸騰させた。冷やした後、得られた溶液をろ過し、塩化水素溶液で中性にした。次に、溶液のｐＨを塩酸で１．２５に合わせた。沈殿物をろ過し、水で濯ぎ、〜１００℃で乾燥させた。質量スペクトル（ウルトラフレックス（Ｕｉｔｒａｆｌｅｘ）ＴＯＦ／ＴＯＦ（ブルカー・ダルトニクス社（Ｂｒｕｋｅｒ  Ｄａｌｔｏｎｉｃｓ）ドイツ  ブレーメン（Ｂｒｅｍｅｎ，  Ｇｅｒｍａｎｙ）所在））：Ｍ／Ｚ＝４８０（ＦＷ＝４８０．３９）。収量２６．３ｇ（９５％）
実施例７
図１４は、基板１上で形成された光学フィルムの断面図を示す。フィルムは有機質層２、粘着剤層３、および保護材４を含む。
実施例８
上記の光学フィルムを、基板上に形成された追加反射防止層５を有するＬＣＤ前面に適用する（図１５）。例えば、二酸化ケイ素ＳｉＯ２の反射防止層は、ＬＣＤ前面から反射された光の一部を３０％減少させた。
実施例９
電気光学装置またはＬＣＤ前面に上記の光学フィルムを適用したまま、追加反射層６を
基板上に形成することができる（図１６）。反射層は、例えば、アルミニウム膜を堆積させることによって得ることも可能である。
実施例１０
光学フィルム２は、基板（図１７）としての機能を果たす拡散または鏡面反射体６に適用される。反射体層６を平坦化層７（オプション）で覆うことも可能である。
平坦化層は、ポリウレタン、アクリルポリマー、あるいは他の平坦化材料で作製してもよい。有機層を、実施例３に記述された方法を用いて作る。粘着剤層３および保護材４を光学フィルム上に適用する。
実施例１１
この実施例では、反射体層６は半透明である。有機質層２は、基板（図１７）としての機能を果たす拡散または鏡面反射体６の上に適用される。反射体層６を平坦化層７（オプション）で覆うことも可能である。ポリウレタンまたはアクリルポリマーまたは他の材料を用いて、この平坦化層を作製してもよい。
【図１】
2010500397.tif 000062
【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2010500397.tif 000068
【図７ａ】
2010500397.tif 000069
【図７ｂ】
2010500397.tif 000070
【図８】
2010500397.tif 000071
【図９】
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【図１０】
2010500397.tif 000073
【図１１】
2010500397.tif 000074
【図１２】
2010500397.tif 000075
【図１３】
2010500397.tif 000076
【図１４】
2010500397.tif 000077
【図１５】
2010500397.tif 000078
【図１６】
2010500397.tif 000079
【図１７】
2010500397.tif 000080
【国際調査報告】
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2010500397.tif 000082
2010500397.tif 000083
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