(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
周方向に互いに距離を置いて配置された複数のティース部を有する環状の固定子コア、
上記複数のティース部のそれぞれに巻回される電線、及び
上記固定子コアの軸線方向について、上記複数のティース部のそれぞれの端部に設けられ、上記複数のティース部のそれぞれと、巻回された上記電線とを絶縁するインシュレータ
を備え、
上記軸線方向について、上記ティース部から離れた上記インシュレータの端面には、ワニス滴下工程において、上記電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる上方にのみ開口する窪み部が設けられている
回転電機の固定子。
【請求項２】
上記窪み部は、上記電線に滴下されるワニスの量と相関関係を持つ量のワニスを貯留可能な容積を有する
請求項１に記載の回転電機の固定子。
【請求項３】
周方向に互いに距離を置いて配置された複数のティース部を有する環状の固定子コア、
上記複数のティース部のそれぞれに巻回される電線、及び
上記固定子コアの軸線方向について、上記複数のティース部のそれぞれの端部に設けられ、上記複数のティース部のそれぞれと、巻回された上記電線とを絶縁するインシュレータ
を備え、
上記軸線方向について、上記ティース部から離れた上記インシュレータの端面には、ワニス滴下工程において、上記電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる窪み部が設けられており、
上記窪み部の内壁面には、上記軸線方向に沿って、上記ティース部から離れた上記インシュレータの端面から上記ティース部に向かって伸びる溝が形成されており、
上記溝は、上記軸線方向について上記ティース部に最も近い端部が、上記窪み部に貯留されるワニスの最少許容滴下量を示す位置に配置されている
回転電機の固定子。
【請求項４】
周方向に互いに距離を置いて配置された複数のティース部を有する環状の固定子コア、
上記複数のティース部のそれぞれに巻回される電線、及び
上記固定子コアの軸線方向について、上記複数のティース部のそれぞれの端部に設けられ、上記複数のティース部のそれぞれと、巻回された上記電線とを絶縁するインシュレータ
を備え、
上記軸線方向について、上記ティース部から離れた上記インシュレータの端面には、ワニス滴下工程において、上記電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる窪み部が設けられており、
上記軸線方向について上記ティース部に近い上記窪み部の底面には、上記ティース部から最も離れた上記インシュレータの端面に向かって伸びる突起が設けられており、
上記突起は、上記軸線方向について上記ティース部から最も離れた端部が、上記窪み部に貯留されるワニスの最少許容滴下量を示す位置に配置されている
回転電機の固定子。
【請求項５】
周方向に互いに距離を置いて配置された複数のティース部を有する環状の固定子コア、
上記複数のティース部のそれぞれに巻回される電線、及び
上記固定子コアの軸線方向について、上記複数のティース部のそれぞれの端部に設けられ、上記複数のティース部のそれぞれと、巻回された上記電線とを絶縁するインシュレータ
を備え、
上記軸線方向について、上記ティース部から離れた上記インシュレータの端面には、ワニス滴下工程において、上記電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる窪み部が設けられており、
上記窪み部の内壁面には、上記軸線方向に沿って、上記ティース部から離れた上記インシュレータの端面から上記ティース部に向かって伸びる、異なる長さの第１溝線及び第２溝線が形成されており、
上記第１溝線は、上記軸線方向について上記ティース部に最も近い端部が、上記窪み部に貯留されるワニスの最少許容滴下量を示す位置に設けられており、
上記第２溝線は、上記軸線方向について上記ティース部に最も近い端部が、上記窪み部に貯留されるワニスの最大許容滴下量を示す位置に設けられている
回転電機の固定子。
【請求項６】
周方向に互いに距離を置いて配置された複数のティース部を有する環状の固定子コア、
上記複数のティース部のそれぞれに巻回される電線、及び
上記固定子コアの軸線方向について、上記複数のティース部のそれぞれの端部に設けられ、上記複数のティース部のそれぞれと、巻回された上記電線とを絶縁するインシュレータ
を備え、
上記軸線方向について、上記ティース部から離れた上記インシュレータの端面には、ワニス滴下工程において、上記電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる窪み部が設けられており、
上記軸線方向について上記ティース部に近い上記窪み部の底面には、上記ティース部から最も離れた上記インシュレータの端面に向かって伸びる、異なる長さの第１突起部及び第２突起部が設けられており、
上記第１突起部は、上記軸線方向について上記ティース部から最も離れた端部が、上記窪み部に貯留されるワニスの最少許容滴下量を示す位置に設けられており、
上記第２突起部は、上記軸線方向について上記ティース部から最も離れた端部が、上記窪み部に貯留されるワニスの最大許容滴下量を示す位置に設けられている
回転電機の固定子。
【請求項７】
周方向に互いに距離を置いて配置された複数のティース部を有する環状の固定子コア、
上記複数のティース部のそれぞれに巻回される電線、及び
上記固定子コアの軸線方向について、上記複数のティース部のそれぞれの端部に設けられ、上記複数のティース部のそれぞれと、巻回された上記電線とを絶縁するインシュレータ
を備え、
上記軸線方向について、上記ティース部から離れた上記インシュレータの端面には、ワニス滴下工程において、上記電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる窪み部が設けられており、
上記窪み部は、上記軸線方向について上記ティース部に近い位置に設けられた第１窪みと、上記軸線方向について上記ティース部から最も離れた位置に設けられた第２窪みと、上記第１窪みと上記第２窪みとの間に設けられた第３窪みと、で形成されており、
上記固定子コアの径方向について、上記第３窪みの長さは、上記第１窪みの長さよりも長く設定されているとともに、上記第２窪みの長さよりも短く設定されており
上記第１窪みは、上記窪み部に滴下されるワニスの最少許容滴下量を貯留可能な容積を有しており、
上記第３窪みは、上記第１窪みから溢れたワニスを貯留可能であり、かつ、上記第１窪みに貯留されたワニスと合わせて、上記窪み部に滴下されるワニスの最大許容滴下量を貯留可能な容積を有している
回転電機の固定子。
【請求項８】
周方向に互いに距離を置いて配置された複数のティース部を有する環状の固定子コア、
上記複数のティース部のそれぞれに巻回される電線、及び
上記固定子コアの軸線方向について、上記複数のティース部のそれぞれの端部に設けられ、上記複数のティース部のそれぞれと、巻回された上記電線とを絶縁するインシュレータ
を備えた回転電機の固定子の製造方法であって、
上記軸線方向について、上記ティース部から離れた上記インシュレータの端面に、上記電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる上方にのみ開口する窪み部を予め形成しておく窪み形成工程と
それぞれの上記ティース部に関して、上記電線に対してワニスを滴下するとともに、上記窪み部に対してワニスを滴下するワニス滴下工程と、
それぞれの上記ティース部に関して、上記窪み部に滴下されたワニスの量が、許容滴下量の範囲内であるか否かを確認するワニス滴下量確認工程と、
すべての上記ティース部に関して、上記ワニス滴下量確認工程で、ワニスの滴下量が上記許容滴下量の範囲内である場合には、上記電線に滴下されたワニスを硬化させるワニス硬化工程と、
いずれかの上記ティース部に関して、上記ワニス滴下量確認工程で、ワニスの滴下量が上記許容滴下量の範囲外である場合には、該当するティース部に対してワニスの再滴下を行った後、すべてのティース部に関して、上記電線に滴下されたワニスを硬化させる再滴下後ワニス硬化工程と
を有する
回転電機の固定子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、固定子のティースに巻回された電線がワニス含浸処理されている回転電機の固定子、及び回転電機の固定子の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
回転電機では、一般的に、鉄心に絶縁材を挿入した後に電線処理が施された固定子の電線の保護及び固着のために、樹脂含浸処理が行われている。樹脂含浸処理としては、例えば、電線の自己融着化、モールド樹脂成型、ワニス含浸処理が挙げられ、用途、工程、及び電線の種類により使い分けられている。
【０００３】
ここで、樹脂含浸処理としてのワニス含浸処理には、例えば、滴下含浸処理、半浸漬回転処理、全含浸処理、真空含浸処理、刷塗り、流塗りなどが挙げられ、これらの工法は、回転電機の要求特性により使い分けられている。
【０００４】
ワニス含浸処理の一例である滴下含浸処理は、固定子の電線部の必要部分にワニスを滴下するものである。固定子に滴下したワニスは、毛細管現象に加え、自重により電線間を鉄心軸方向下部へと浸透後、硬化するものである。
【０００５】
滴下含浸処理では、必要部分に所望の量のワニスを滴下することができ、生産性に優れた樹脂含浸方法である。しかし、電線部への滴下量は微量となるため、確実に所望の量が滴下されているか否かを確認する必要がある。
【０００６】
滴下含浸処理においては、半透明の液体ワニスを電線に含浸させている。このため、目視で含浸状態を判別することは、困難である。目視で含浸状態を判別し易くするために、ワニスに着色することも考えられる。しかしながら、この場合には、着色材料の添加が必要になってしまい、コストが増加してしまうという問題があった。
【０００７】
そこで、電線にワニス含浸処理を行った後、固定子ティースと電線との間に交流電圧を印加したときに生じる誘電正接の値であるｔａｎδの値を測定し、ワニス含浸処理が正常に実行されたか否かを判断できるワニス含浸状態の判定方法が従来から知られている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に開示されたワニス含浸状態の判定方法では、測定したｔａｎδの値が、予め測定されている良品基準値以下であればワニス含浸処理が正常に実行されたと判断している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第４７０６５２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１に開示されているワニス含浸状態の判定方法では、固定子ティースと電線との間に交流電圧を印加する工程が不可欠である。これにより、ワニス含浸処理後の工数及び時間が増え、生産性が悪化してしまう。また、交流電圧を印加する試験用の設備が必要となり、設備費用が増加してしまうという問題もあった。
【００１０】
また、ワニス含浸処理が正常に実行されたか否かを判定する工程は、滴下したワニスを硬化したワニス含浸処理後に行われている。これにより、測定したｔａｎδの値が、良品基準値以上の場合、不良品は全て廃棄することになり、歩留まりが悪化してしまうという問題もあった。
【００１１】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、生産性を悪化させることなく、ワニス含浸状態の確認をワニス硬化前に容易に行うことができるとともに、設備費用の増加及び歩留まりの悪化を抑制することができる回転電機の固定子、及び回転電機の固定子の製造方法を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この発明による回転電機の固定子は、周方向に互いに距離を置いて配置された複数のティース部を有する環状の固定子コア、複数のティース部のそれぞれに巻回される電線、及び固定子コアの軸線方向について、複数のティース部のそれぞれの端部に設けられ、複数のティース部のそれぞれと、巻回された電線とを絶縁するインシュレータを備え、軸線方向について、ティース部から離れたインシュレータの端面には、ワニス滴下工程において、電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる上方にのみ開口する窪み部が設けられている。
【００１３】
また、この発明による回転電機の固定子の製造方法は、周方向に互いに距離を置いて配置された複数のティース部を有する環状の固定子コア、複数のティース部のそれぞれに巻回される電線、及び固定子コアの軸線方向について、複数のティース部のそれぞれの端部に設けられ、複数のティース部のそれぞれと、巻回された電線とを絶縁するインシュレータを備えた回転電機の固定子の製造方法であって、軸線方向について、ティース部から離れたインシュレータの端面に、電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる上方にのみ開口する窪み部を予め形成しておく窪み形成工程とそれぞれのティース部に関して、電線に対してワニスを滴下するとともに、窪み部に対してワニスを滴下するワニス滴下工程と、それぞれのティース部に関して、窪み部に滴下されたワニスの量が、許容滴下量の範囲内であるか否かを確認するワニス滴下量確認工程と、すべてのティース部に関して、ワニス滴下量確認工程で、ワニスの滴下量が許容滴下量の範囲内である場合には、電線に滴下されたワニスを硬化させるワニス硬化工程と、いずれかのティース部に関して、ワニス滴下量確認工程で、ワニスの滴下量が許容滴下量の範囲外である場合には、該当するティース部に対してワニスの再滴下を行った後、すべてのティース部に関して、電線に滴下されたワニスを硬化させる再滴下後ワニス硬化工程とを有する。
【発明の効果】
【００１４】
この発明による回転電機の固定子、及び回転電機の固定子の製造方法によれば、１つのティース部に巻回された電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる窪み部を、ティース部と、ティース部に巻回される電線との間に介在されるインシュレータの軸線方向端部に予め設けている。これにより、窪み部にワニスが貯留されているか否かを確認するだけで、１つのティース部に巻回された電線に対して適切な量のワニスが滴下されたか否かを確認することができる。これにより、生産性を悪化させることなく、ワニス含浸状態の確認をワニス硬化前に容易に行うことができるとともに、設備費用の増加及び歩留まりの悪化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態１における回転電機の固定子を模式的に示す上面図である。
【図２】図１の固定子のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【図３】図１のインシュレータを示す斜視図である。
【図４】図３の窪み部をＩＶ−ＩＶ線に沿って見た状態を示す断面図である。
【図５】窪み部にワニスが貯留された状態を示す断面図である。
【図６】本発明の実施の形態２におけるインシュレータを示す斜視図である。
【図７】図６のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿って溝を見た状態を示す断面図である。
【図８】窪み部に貯留されたワニス量が、不足していない状態を示す断面図である。
【図９】窪み部に貯留されたワニス量が、不足している状態を示す断面図である。
【図１０】図６のインシュレータの変形例を示す斜視図である。
【図１１】図１０のＸＩ−ＸＩ線に沿って突起を見た状態を示す断面図である。
【図１２】本発明の実施の形態３におけるインシュレータを示す斜視図である。
【図１３】図１２のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線に沿って溝部を見た状態を示す断面図である。
【図１４】窪み部に貯留されたワニス量が、適量範囲内であることを示す断面図である。
【図１５】窪み部に貯留されたワニス量が、不足している状態を示す断面図である。
【図１６】窪み部に貯留されたワニス量が、過量である状態を示す断面図である。
【図１７】図１２のインシュレータの変形例を示す斜視図である。
【図１８】図１７のＸＶＩＩＩ−ＸＶＩＩＩ線に沿って突起を見た状態を示す断面図である。
【図１９】本実施の形態４におけるインシュレータを示す斜視図である。
【図２０】図１９の窪み部をＸＸ−ＸＸ線に沿って見た状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１における回転電機の固定子を模式的に示す上面図である。また、図２は、図１の固定子のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【００１７】
回転電機は、円環状の固定子１と、固定子１の内側に配置され、固定子１に対して回転される回転子（図示せず）とを有している。図１に示すように、固定子１は、円環状のヨーク部２ａの周方向について互いに間隔を置いて配置された複数のティース部２ｂを有する固定子コア２と、それぞれのティース部２ｂに巻回された電線３とティース部２ｂとを絶縁する絶縁材である複数のインシュレータ１０と、を有している。
【００１８】
ここで、絶縁材としては、インシュレータ１０の代わりに、ティース部２ｂと電線３とを絶縁する絶縁紙が配置されていてもよい。絶縁材は、回転電機の種類及び用途に応じて使い分けられており、インシュレータ、絶縁紙、またはこれらの組み合わせで構成される。
【００１９】
図２に示すように、固定子コア２は、磁性体（例えば鉄）が複数枚積層されて構成されている。なお、固定子コア２は、磁性体を積層することに限らず、一体成型されていてもよい。
【００２０】
図１に示すように、ティース部２ｂは、ヨーク部２ａから固定子コア２の径方向内側に突出している。また、図１及び図２に示すように、電線３は、ティース部２ｂを巻軸として巻回されている。
【００２１】
本実施の形態１では、図１に示すように、インシュレータ１０のそれぞれは、固定子コア２の軸線方向について、ティース部２ｂのそれぞれの両端部に設けられている。図３は、図１のインシュレータ１０を示す斜視図である。
【００２２】
図３に示すように、インシュレータ１０のそれぞれは、第１フランジ部１１と、第２フランジ部１２と、第１フランジ部１１及び第２フランジ部１２の間を繋ぐコイル受け部１３とを有している。即ち、第１フランジ部１１と、第２フランジ部１２と、コイル受け部１３とは、断面略Ｕ字型になっている。
【００２３】
図２及び図３に示すように、コイル受け部１３は、断面略矩形の板になっており、ティース部２ｂと当接した状態で配置されている。なお、ティース部２ｂと当接していないコイル受け部１３の面には、電線３を誘導する溝が、電線３の巻方向に沿って設けられていてもよい。
【００２４】
第１フランジ部１１は、固定子コア２の径方向外側に配置されている。また、第１フランジ部１１は、固定子コア２の軸線方向について、ティース部２ｂから離れるように突出して設けられている。
【００２５】
第２フランジ部１２は、固定子コア２の径方向内側に配置されている。また、第２フランジ部１２は、固定子コア２の軸線方向についてティース部２ｂから離れるように突出して設けられている。
【００２６】
これにより、ティース部２ｂに巻回された電線３の配置は、径方向外側であるヨーク部２ａ側（外周側）では、第１フランジ部１１により規制され、径方向内側であるティース部２ｂの先端側（内周側）では、第２フランジ部１２により規制される。
【００２７】
インシュレータ１０は、一般的にプラスチックからなる場合が多く、金型を用いた成形により製造されている。
【００２８】
ここで、本実施の形態１における第１フランジ部１１の端面１１ａには、ティース部２ｂ及び電線３にワニス含浸処理を行うときに、ワニスが滴下されたか否かを確認する窪み部２０が設けられている。即ち、窪み部２０は、電線に滴下されるワニスの量の適否を判断するために滴下されるワニスの受け皿となる部分に相当する。
【００２９】
また、窪み部２０は、固定子コア２の軸線方向に沿って、第１フランジ部１１の端面１１ａからティース部２ｂに向かって延びている。窪み部２０は、ワニス含浸処理において、１つのティース部２ｂに巻回された電線３に滴下するワニスの量と相関関係を持つ所望の量のワニスを貯留可能な容積を有する穴になっている。
【００３０】
図４は、図３の窪み部２０をＩＶ−ＩＶ線に沿って見た状態を示す断面図である。図４に示すように、窪み部２０は、断面矩形の穴になっている。窪み部２０は、インシュレータ１０の製造工程において、同時に形成される。具体的には、窪み部２０に対応する凸部を金型に設けておくだけでよい。なお、窪み部２０の形成は、成形されたインシュレータ１０に後加工を施すことで行ってもよい。
【００３１】
次に、固定子１を製造する際に行われるワニス含浸処理で実行されるワニス滴下工程について説明する。なお、ワニス滴下工程を行う前に、軸線方向について、ティース部２ｂから離れたインシュレータ１０の端面には、予め窪み部２０が形成されている（窪み形成工程）。
【００３２】
ワニス滴下工程では、先ず、固定子コア２の軸線方向が、鉛直方向に向くように、固定子１を配置する。このとき、１つのティース部２ｂに巻回された電線３の上方に、ワニスを滴下するワニス滴下装置がくるように配置する。なお、固定子１は、ワニス滴下装置から窪み部２０及び電線３にワニスが滴下可能であれば、固定子コア２の軸線方向が、鉛直方向に対して傾いた状態で配置されていてもよい。
【００３３】
ここで、滴下するワニスは、熱硬化型であり、例えば、ポリエステル系ワニス、エポキシ系ワニス、エポキシポリエステル系ワニスなどが挙げられる。その粘度は、必要とする作業性に応じて、適宜希釈して用いる場合もある。
【００３４】
次に、１つのティース部２ｂに対応するインシュレータ１０の窪み部２０に、予め設定された所望の量のワニスを滴下する。ここで、窪み部２０に滴下するワニスの滴下量は、１つのティース部２ｂに巻回された電線３に滴下するワニスの量と相関関係を持っていれば、任意に設定してよく、１つのティース部２ｂに巻回された電線３に滴下するワニスの量よりも少ない量でよい。
【００３５】
窪み部２０にワニスを滴下した後、１つのティース部２ｂに巻回された電線３に対して、予め設定された所望の量のワニスをワニス滴下装置から滴下する。
【００３６】
１つのティース部２ｂに巻回された電線３へのワニスの滴下が完了すると、固定子１を回転させ、次の１つのティース部２ｂに巻回された電線３へのワニスの滴下を開始する。この動作をティース部２ｂの個数回繰り返し、ワニス滴下工程が完了する。なお、１つのティース部２ｂに巻回された電線３から次の１つのティース部２ｂに巻回された電線３へワニスを滴下するとき、固定子１を回転させるのではなく、ワニスを滴下する機構部側（ワニス滴下装置側）を固定子１に対して移動させてもよい。
【００３７】
次に、ワニス硬化工程に移動する前に実行されるワニスの含浸状態の確認方法について説明する。図５は、窪み部２０にワニスが貯留された状態を示す断面図である。ワニス滴下工程完了後、ワニス硬化工程に移る前に、作業員は、全ての窪み部２０に対して適切な量のワニスが充填されているか否かを目視で確認する（ワニス滴下量確認工程）。
【００３８】
なお、ワニス滴下量確認工程は、必ずしも作業員が行う必要はなく、例えば、ビジョンセンサを用いて、全ての窪み部２０に対して適切な量のワニスが充填されているか否かを確認してもよい。
【００３９】
図５に示すように、窪み部２０に対して適切な量のワニスが充填されていた場合、作業員は、電線３にワニスが確実に滴下されていると判断できる。これにより、作業員は、次の工程であるワニス硬化工程の作業に移行できる。
【００４０】
一方、適切な量のワニスが充填されていない窪み部２０があった場合、作業員は、適切な量のワニスが充填されていない窪み部２０に対応する電線３に対して、ワニスが完全に滴下されていないと判断できる。これにより、作業員は、該当する電線３に対して、再度、ワニス滴下を行う。これにより、確実に全ての電線３に対して適切な量のワニスを滴下させることができる。その後、作業員は、ワニス滴下工程が完了したことを確認すると、次の工程であるワニス硬化工程の作業に移行できる（再滴下後ワニス硬化工程）。
【００４１】
このような本実施の形態１における回転電機の固定子では、ティース部に巻回される電線とティース部との間に設けられたインシュレータが、所望の量のワニスを貯留可能な窪み部を有している。窪み部は、ティース部及び電線に滴下するワニスの量と、相関関係を持ったワニスの量を貯留可能な穴になっている。
【００４２】
そして、ワニス滴下工程時に、電線とともに窪み部にも滴下を行なった後、窪み部に適切な量のワニスが充填されているか否かを確認する。この結果、各ティース部の電線に適切な量のワニスが確実に滴下されたか否かを、ワニス硬化工程前に、目視により容易に確認することができる。
【００４３】
即ち、窪み部を備えることで、ワニスが各ティース部に巻回された電線に確実に滴下されたか否かを確認する別工程を設けることなく、ワニス硬化工程前に、適切な量のワニスが滴下されたか否かを容易に目視確認することができる。この結果、従来技術で問題となっていた生産性の悪化を防止することができる。
【００４４】
また、適切な量のワニスが滴下されたか否かによる良否判断を行った後に、良品と判断されたもののみワニスを硬化し、不良品と判断されたものは、ワニスを硬化する前に、再度、滴下処理を行うことができる。この結果、ワニス硬化後にワニス滴下不足の不良品が発見され、廃棄せざるを得ない状況が発生することを未然に防止することができる。これにより、製品の歩留まりを向上させることができるとともに、不良品の廃棄に掛かる費用を抑制することができる。
【００４５】
また、窪み部は、インシュレータの製造工程において、同時に形成しておくことができる。従って、ワニスが各ティース部に巻回された電線に確実に滴下されたか否かを確認する試験用の設備を別途設ける必要がない。これにより、コストの低減化を図ることができる。
【００４６】
実施の形態２．
本実施の形態２では、窪み部２０に滴下されたワニスが適切な量であるか否かを、目視で容易に判断できる構成について説明する。
【００４７】
本実施の形態２における窪み部２０は、内壁面に、固定子コア２の軸線方向に沿った溝３０が設けられている。図６は、本発明の実施の形態２におけるインシュレータ１０を示す斜視図である。また、図７は、図６のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿って溝３０を見た状態を示す断面図である。
【００４８】
図６及び図７に示すように、窪み部２０の内壁面には、固定子コア２の軸線方向に沿って形成された１つの溝３０が設けられている。溝３０の長さは、窪み部２０に滴下され、貯留されたワニスの上面が、固定子コア２の軸線方向について、ティース部２ｂ側の溝３０の端部、即ち、溝３０の下端部と一致したとき、最少許容滴下量になる長さに設定されている。
【００４９】
溝３０は、先の実施の形態１と同様に、インシュレータ１０の製造工程において、窪み部２０と共に形成することができる。具体的には、窪み部２０及び溝３０に対応する凹部を金型に設けておくだけでよい。なお、窪み部２０及び溝３０の形成は、成形されたインシュレータ１０に後加工を施すことで行ってもよい。
【００５０】
その他の構成は、先の実施の形態１と同様である。また、ワニス滴下工程についても、先の実施の形態１と同様である。
【００５１】
次に、ワニス滴下工程後のワニスの含浸状態の確認方法について説明する。図８は、窪み部２０に貯留されたワニス量が、不足していない状態を示す断面図である。また、図９は、窪み部２０に貯留されたワニス量が、不足している状態を示す断面図である。
【００５２】
先の実施の形態１と同様に、ワニス滴下工程が完了した後、ワニス硬化工程に移動する前に、作業員は、窪み部２０にワニスが充填されているか否かを目視確認する。図８に示すように、窪み部２０に貯留されたワニスの上面が、軸線方向について溝３０の下端部よりも上方に達している場合、作業員は、ワニスの滴下量が不足していないと判断できる。これにより、作業員は、次の工程であるワニス硬化工程の作業に移行できる。
【００５３】
一方、図９に示すように、窪み部２０に貯留されたワニスの上面が、軸線方向について溝３０の下端部に達していない場合、作業員は、ワニスの滴下量が不足していると判断できる。これにより、作業員は、該当する電線３に再度ワニス滴下処理を行うとともに、ワニス滴下装置の滴下量の調整を実施する。これにより、確実に全てのティース部２ｂに巻回された電線３に対して、不足なくワニスの滴下を行うことができる。
【００５４】
このような本実施の形態２における回転電機の固定子でも、先の実施の形態１と同様に、生産性を悪化させることなく、ワニス含浸状態の確認をワニス硬化前に容易に行うことができるとともに、設備費用の増加及び歩留まりの悪化を抑制することができるという効果を得ることができる。
【００５５】
また、本実施の形態２におけるインシュレータに設けられた窪み部には、滴下されるワニスの量が不足しているか否かを目視で容易に判断できるように、溝が設けられている。これにより、ワニス滴下装置から滴下されるワニスの滴下量が、不足しているか否かを、目視で容易に確認することができる。この結果、ワニス硬化工程に移行する前に、確実に全てのティース部に巻回された電線にワニスを不足なく滴下した状態を確保することができる。また、ワニス滴下装置の滴下量の再調整の要否を容易に判断できる。
【００５６】
なお、上記実施の形態２では、窪み部２０の内壁面に、１つの溝を設けているが、これに限るものではない。図１０は、図６のインシュレータ１０の変形例を示す斜視図である。また、図１１は、図１０のＸＩ−ＸＩ線に沿って突起を見た状態を示す断面図である。
【００５７】
図１０及び図１１に示すように、窪み部２０の底面から、固定子コア２の軸線方向に沿ってティース部２ｂから離れるように突出する突起３１が設けられていてもよい。このとき、ワニスの含浸状態の確認方法は、窪み部２０に充填されたワニスの上面が、固定子コア２の軸線方向について、ティース部２ｂから最も離れた突起３１の端部、即ち、突起３１の上端部に達していない場合、ワニスの滴下量が不足していると判断できる。
【００５８】
ここで、突起３１は、溝３０と同様に、インシュレータ１０の製造工程において、窪み部２０と共に形成することができる。具体的には、窪み部２０に対応する凹部と、突起３１に対応する凸部とを金型に設けておくだけでよい。なお、窪み部２０及び突起３１の形成は、成形されたインシュレータ１０に後加工を施すことで行ってもよい。
【００５９】
このような、図１０及び図１１に示すインシュレータ１０でも、上記実施の形態２と同様の効果を得ることができる。
【００６０】
実施の形態３．
先の実施の形態２では、１つの溝３０を窪み部２０の内壁面に設け、不足なくワニスが滴下されたか否かを確認している。しかし、先の実施の形態２では、ワニスが設定量よりも多く滴下されたか否かを判断することはできない。ワニスが設定量よりも多く滴下されている場合、ワニスが無駄に消費され、コストの増加に繋がってしまう恐れがある。
【００６１】
そこで、本実施の形態３では、窪み部２０の内壁面に、固定子コア２の軸線方向に沿った長さの異なる２つの溝３２を設けている。図１２は、本発明の実施の形態３におけるインシュレータ１０を示す斜視図である。また、図１３は、図１２のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線に沿って溝部３２を見た状態を示す断面図である。
【００６２】
図１２及び図１３に示すように、窪み部２０の内壁面には、固定子コア２の軸線方向に沿って長さの異なる２つの溝３２が設けられている。溝３２は、ワニスの最少許容滴下量の位置を示す第１溝線３２ａと、ワニスの最大許容滴下量の位置を示す第２溝線３２ｂとを有している。
【００６３】
第１溝線３２ａは、先の実施の形態２の溝３０と同様の役割を果たす溝である。従って、第１溝線３２ａの長さは、窪み部２０に滴下され、貯留されたワニスの上面が、固定子コア２の軸線方向について、ティース部２ｂ側の第１溝線３２ａの端部、即ち、第１溝線３２ａの下端部と一致したとき、最少許容滴下量になる長さに設定されている。
【００６４】
第２溝線３２ｂの長さは、窪み部２０に滴下され、貯留されたワニスの上面が、固定子コア２の軸線方向について、ティース部２ｂ側の第２溝線３２ｂの端部、即ち、第２溝線３２ｂの下端部と一致したとき、最大許容滴下量になる長さに設定されている。従って、貯留されたワニスの上面が、第２溝線３２ｂの下端部よりも上方に来ている場合、ワニスの滴下量が過量であることがわかる。
【００６５】
ここで、固定子コア２の軸線方向について、第１溝線３２ａの下端部の位置は、第２溝線３２ｂの下端部の位置よりもティース部２ｂに近い位置に配置されている。
【００６６】
溝３２は、先の実施の形態２と同様に、インシュレータ１０の製造工程において、窪み部２０と共に形成することができる。具体的には、窪み部２０及び溝３２に対応する凹部を金型に設けておくだけでよい。なお、窪み部２０及び溝３２の形成は、成形されたインシュレータ１０に後加工を施すことで行ってもよい。
【００６７】
その他の構成は、先の実施の形態１と同様である。また、ワニス滴下工程についても、先の実施の形態１と同様である。
【００６８】
次に、ワニス滴下工程後のワニスの含浸状態の確認方法について説明する。図１４は、窪み部２０に貯留されたワニス量が、適量範囲内であることを示す断面図である。また、図１５は、窪み部２０に貯留されたワニス量が、不足している状態を示す断面図である。さらに、図１６は、窪み部２０に貯留されたワニス量が、過量である状態を示す断面図である。
【００６９】
先の実施の形態１と同様に、ワニス滴下工程が完了した後、ワニス硬化工程に移動する前に、作業員は、窪み部２０にワニスが充填されているか否かを確認する。図１４に示すように、窪み部２０に貯留されたワニスが、第１溝線３２ａの下端部よりも上方で、かつ、第２溝線３２ｂの下端部よりも下方にある場合、作業員は、ワニスの滴下量が適量範囲内であると判断できる。これにより、作業員は、次の工程であるワニス硬化工程の作業に移行できる。
【００７０】
一方、図１５に示すように、窪み部２０に貯留されたワニスが、軸線方向について第１溝線３２ａの下端部に達していない場合、作業員は、ワニスの滴下量が不足していると判断できる。これにより、作業員は、該当する電線３に、再度、ワニス滴下処理を行うとともに、ワニス滴下装置の滴下量の調整を実施する。これにより、確実に全てのティース部２ｂに巻回された電線３に不足なくワニスの滴下を行うことができる。
【００７１】
一方、図１６に示すように、窪み部２０に貯留されたワニスが、軸線方向について第２溝線３２ｂの下端部よりも上方に達している場合、作業員は、ワニスの滴下量が過量であると判断できる。これにより、作業員は、ワニスの再滴下を行うことなく次の工程であるワニス硬化工程に移行できる一方で、今後の滴下処理を適切に行うために、ワニス滴下装置の滴下量の調整を実施することができる。以上により、ワニスの滴下量の過不足を調整可能になっている。
【００７２】
このような本実施の形態３における回転電機の固定子でも、先の実施の形態１と同様に、生産性を悪化させることなく、ワニス含浸状態の確認をワニス硬化前に容易に行うことができるとともに、設備費用の増加及び歩留まりの悪化を抑制することができるという効果を得ることができる。
【００７３】
また、本実施の形態３におけるインシュレータに設けられた窪み部には、滴下されるワニスの量の最少許容滴下量と最大許容滴下量とを示す溝が設けられている。これにより、ワニス滴下装置から滴下されるワニスの滴下量が、適量範囲内であるか否かを、目視で容易に確認することができる。これにより、ワニスの無駄な滴下を防ぐことができ、コストの低減化に繋げることができる。
【００７４】
なお、上記実施の形態３では、窪み部２０の内壁面に、２つの溝３２を設けているが、これに限るものではない。図１７は、図１２のインシュレータ１０の変形例を示す斜視図である。また、図１８は、図１７のＸＶＩＩＩ−ＸＶＩＩＩ線に沿って突起を見た状態を示す断面図である。
【００７５】
図１７及び図１８に示すように、窪み部２０の底面から、固定子コア２の軸線方向に沿って２つの突起３３が設けられていてもよい。突起３３は、ワニスの最少許容滴下量の位置を示す第１突起部３３ａと、ワニスの最大許容滴下量の位置を示す第２突起部３３ｂとを有している。
【００７６】
このとき、ワニスの含浸状態の確認方法では、窪み部２０に充填されたワニスの上面が、固定子コア２の軸線方向について、ティース部２ｂから最も離れた第１突起部３３ａの端部、即ち、第１突起部３３ａの上端部に達していない場合、ワニスの滴下量が不足していると判断できる。
【００７７】
一方、窪み部２０に充填されたワニスの上面が、固定子コア２の軸線方向について、ティース部２ｂから最も離れた第２突起部３３ｂの端部、即ち、第２突起部３３ｂの上端部よりも上方に達している場合、ワニスの滴下量が過量であると判断できる。
【００７８】
ここで、固定子コア２の軸線方向について、第１突起部３３ａの上端部の位置は、第２突起部３３ｂ上端部の位置よりもティース部２ｂに近い位置に配置されている。
【００７９】
突起３３は、突起３１と同様に、インシュレータ１０の製造工程において、窪み部２０と共に形成することができる。具体的には、窪み部２０に対応する凹部と、突起３３に対応する凸部とを金型に設けておくだけでよい。なお、窪み部２０及び突起３３の形成は、成形されたインシュレータ１０に後加工を施すことで行ってもよい。
【００８０】
このような、図１７及び図１８に示すインシュレータ１０でも、上記実施の形態３と同様の効果を得ることができる。
【００８１】
実施の形態４．
先の実施の形態２、３では、窪み部２０が１つの断面矩形の穴になっており、溝や突起を設けることで、滴下量の目視確認を容易化する場合について説明した。これに対して、本実施の形態４では、窪み部２０の断面形状が、階段状の穴になっており、溝や突起を設けることなく、滴下量の目視確認を容易化する場合について説明する。
【００８２】
図１９は、本実施の形態４におけるインシュレータ１０を示す斜視図である。また、図２０は、図１９の窪み部２０をＸＸ−ＸＸ線に沿って見た状態を示す断面図である。図１９及び図２０に示すように、窪み部２０は、固定子コア２の軸線方向について、ティース部２ｂに最も近い第１窪み２０ａと、ティース部２ｂから最も離れた第２窪み２０ｂと、第１面２０ａと第２面２０ｂとの間に配置された第３窪み２０ｃとを有している。
【００８３】
また、固定子コア２の径方向について、第１窪み２０ａの長さよりも第３窪み２０ｃの長さ、第３窪み２０ｃの長さよりも第２窪み２０ｂの長さの方が長くなっている。従って、第１窪み２０ａ、第３窪み２０ｃ、及び第２窪み２０ｂの断面形状は、階段状になっている。
【００８４】
第１窪み２０ａは、滴下されるワニスの最少許容滴下量を貯留可能な容積を有する穴になっている。第３窪み２０ｃは、第１窪み２０ａから溢れたワニスを貯留可能になっており、第３窪み２０ｃ内にワニスが充填されたとき、ワニスの最大許容滴下量になる容積を有する穴になっている。第２窪み２０ｂは、第１窪み２０ａ及び第３窪み２０ｃから溢れたワニスを貯留可能な容積を有する穴になっている。
【００８５】
窪み部２０は、インシュレータ１０の製造工程において、第１窪み２０ａ、第２窪み２０ｂ、及び第３窪み２０ｃに対応する階段状の凸部を有する金型を用いて形成することができる。
【００８６】
その他の構成は、先の実施の形態１と同様である。また、ワニス滴下工程についても、先の実施の形態１と同様である。
【００８７】
次に、ワニス滴下工程後のワニスの含浸状態の確認方法について説明する。先の実施の形態２、３と同様に、ワニス滴下工程が完了した後、ワニス硬化工程に移動する前に、作業員は、窪み部２０にワニスが充填されているか否かを確認する。
【００８８】
このとき、窪み部２０に貯留されたワニスが、第３窪み２０ｃの範囲内である場合、作業員は、ワニスの滴下量が適量範囲内であると判断できる。これにより、作業員は、次の工程であるワニス硬化工程の作業に移行できる。
【００８９】
一方、窪み部２０に貯留されたワニスが、第１窪み２０ａの範囲内である場合、作業員は、ワニスの滴下量が不足していると判断できる。これにより、作業員は、該当する電線３に、再度、ワニス滴下処理を行うとともに、ワニス滴下装置の滴下量の調整を実施する。これにより、確実に全ての電線３に不足なくワニスの滴下を行うことができる。
【００９０】
一方、窪み部２０に貯留されたワニスが、第２窪み２０ｂの範囲内である場合、作業員は、ワニスの滴下量が過量であると判断できる。これにより、作業員は、ワニスの再滴下を行うことなく次の工程であるワニス硬化工程に移行できる一方で、今後の滴下処理を適切に行うために、ワニス滴下装置の滴下量の調整を実施することができる。以上により、ワニスの滴下量の過不足を調整可能になっている。
【００９１】
このような本実施の形態４における回転電機の固定子でも、先の実施の形態２、３と同様に、生産性を悪化させることなく、ワニス含浸状態の確認をワニス硬化前に容易に行うことができるとともに、設備費用の増加及び歩留まりの悪化を抑制することができるという効果を得ることができる。また、先の実施の形態３と同様に、ワニスの無駄な滴下を防ぐことができ、コストの増加を抑制することができるという効果を得ることができる。
【００９２】
なお、上記実施の形態１〜４では、ワニスの含浸状態の確認を、全てのティース部２ｂに巻回された３への滴下が完了した後に行っているが、１つのティース部２ｂに巻回された３への滴下が完了した後にワニスの含浸状態の確認を行ってもよい。
【００９３】
また、上記実施の形態１〜４では、ワニス滴下工程において、窪み部２０にワニスを滴下した後、電線３にワニスを滴下しているが、電線３にワニスを滴下した後、窪み部２０にワニスを滴下してもよい。
【００９４】
また、上記実施の形態１〜４では、窪み部２０の形状は、１つの断面矩形の穴、あるいは階段状の形状を備えた断面矩形の穴になっているが、これに限るものではない。例えば、窪み部２０の形状は、円柱、円錐、球形の穴になっていてもよい。
【００９５】
また、上記実施の形態２、３では、溝３０、３２及び突起３１、３３の形状は、全て固定子コア２の軸線方向に沿って設けられているが、曲線形状や半円中、四角柱状でもよい。
【００９６】
また、上記実施の形態４では、窪み部２０の断面形状が、階段状になっているが、第１窪み２０ａから溢れたワニスを第３窪み２０ｃが貯留し、第３窪み２０ｃから溢れたワニスを第２窪み２０ｂが貯留可能な形状であれば、特に限定されない。
【００９７】
さらに、上記実施の形態２〜４では、溝３２、突起３３、及び窪み部２０の形状を、最少許容滴下量及び最大許容滴下量に対応する２つとしているが、これに限るものではなく、ワニス滴下量や装置性能、固定子の大きさから自由に設定できる。
【００９８】
また、上記実施の形態１〜４では、電線に滴下されるワニスの量と、対応する窪み部に滴下されるワニスの量とが相関関係を持つ場合について説明したが、本願発明は、相関関係を持つ場合に限定されるものではない。例えば、窪み部に対する滴下量の相関性は判断せず、滴下の有無だけを判断し、滴下がなされていない場合には、ワニス滴下装置が異常であると判断し、対応する電線への再滴下処理を、ワニス硬化前に実施することも可能である。このような滴下の有無のみを判断する場合には、ワニスが１滴もない状態を、許容滴下量の範囲外であるとして判断することとなる。
【００９９】
また、上記実施の形態１〜４では、軸線方向について、第１フランジ部１１及び第２フランジ部１２の固定子コア２側の端部の位置が、コイル受け部１３の固定子コア２側の端部の位置と一致しているインシュレータ１０を例示している。しかしながら、これに限るものではなく、インシュレータ１０を固定子コア２に取り付けたとき、第１フランジ部１１、第２フランジ部１２、及びコイル受け部１３と、固定子コア２とが接する部分が、軸線方向について一致する位置にあればよい。従って、軸線方向について、第１フランジ部１１、第２フランジ部１２の固定子コア２側の端部の位置が、コイル受け部１３の固定子コア２側の端部の位置よりも固定子コア２の中心部に近い位置にあってもよい。
【符号の説明】
【０１００】
１  固定子、２  固定子コア、２ｂ  ティース部、３  電線、１０  インシュレータ、１１ａ  第１フランジ部の端面（インシュレータの端面）、２０  窪み部、２０ａ  第１窪み、２０ｂ  第２窪み、２０ｃ  第３窪み、３０  溝、３１  突起、３２ａ  第１溝線、３２ｂ  第２溝線、３３ａ  第１突起部、３３ｂ  第２突起部。
【図１】
0006270754.tif 000002
【図２】
0006270754.tif 000003
【図３】
0006270754.tif 000004
【図４】
0006270754.tif 000005
【図５】
0006270754.tif 000006
【図６】
0006270754.tif 000007
【図７】
0006270754.tif 000008
【図８】
0006270754.tif 000009
【図９】
0006270754.tif 000010
【図１０】
0006270754.tif 000011
【図１１】
0006270754.tif 000012
【図１２】
0006270754.tif 000013
【図１３】
0006270754.tif 000014
【図１４】
0006270754.tif 000015
【図１５】
0006270754.tif 000016
【図１６】
0006270754.tif 000017
【図１７】
0006270754.tif 000018
【図１８】
0006270754.tif 000019
【図１９】
0006270754.tif 000020
【図２０】
0006270754.tif 000021