(57)【要約】  当該発明は、シマーモードへともってこられたレーザー材料（１）を含むものである、レーザーデバイスに関係する。追加的なエネルギー（１６，２０）の制御可能な源（７，１７）は、レーザー材料（１）の望まれた部分のみにおいてレージング閾値が超過させられたものであるというように、レーザー材料（１）へエネルギーを供給すると共に、レーザービーム（１０）は、レーザーの表面の望まれた部分のみから放出されたものである。これのデバイスは、ちょうどレーザーの望まれた部分においてレーザービームを提供することを可能性のあるものにするが、それは、柔軟な及び局在化された出力を許容する。当該発明は、さらに、当該発明に従ったレーザーデバイスを含むものである、並びにさらにフォーカスのスポットにレーザービームのパルスをフォーカシングさせるものであるための及びターゲットの位置におけるフォーカスのスポットを位置決めするものであるための光学的なシステム（６）を含むものである、毛を取り除くものであるデバイスに関係するが、それにおいては、光学的なシステム（６）は、可動なレンズ又は複数の個々にアドレス可能なレンズを含む。
2010525556.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザービームを発生させることの方法であって、
−  レーザービームが放出可能なものであるところの表面を備えたレーザー材料、及びキャビティーミラーの間のレーザーキャビティーにおけるＱ−スイッチを有するものである、レーザーデバイスを提供すること；
−  前記レーザー材料へエネルギーを供給することによってシマーモードへと前記レーザー材料をもってくること；
−  前記レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレージング閾値が超過させられたものであると共に、レーザービームが前記された表面の望まれた部分のみから放出されたものであるというように、前記レーザー材料へ追加的なレーザー材料の吸収可能なエネルギーを供給すること
を含むものである、方法。
【請求項２】
レーザーデバイスであって、
−  キャビティーミラーを備えた、並びに、レーザービームが放出可能なものであるところの表面を有するものであるレーザー材料及びレーザーキャビティーにおいて位置決めされたＱ−スイッチを備えた、レーザーキャビティー；
−  シマーモードへと前記レーザー材料をもってくるための前記レーザー材料へエネルギーを供給することができるものの及びそれのために配置されたポンプ手段；
−  前記レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレージング閾値が超過させられたものであると共に、レーザービームが前記された表面の望まれた部分のみから放出されたものであるというように、前記レーザー材料へレーザー材料の吸収可能なエネルギーを供給するために配置された追加的なエネルギーの制御可能な源
を含むものである、レーザーデバイス。
【請求項３】
請求項２に記載のデバイスにおいて、
前記Ｑ−スイッチは、前記レーザービームが放出されたものであるためのものであるところの前記レーザー材料の前記された表面に反対の前記レーザー材料の側に位置決めされたものである、デバイス。
【請求項４】
請求項２に記載のデバイスにおいて、
前記追加的なエネルギーの源は、一つの又はより多いダイオード、パルス化されたレーザー又はフラッシュランプを含む、及び／又は、実質的に平行なビームにおいて又はフォーカシングさせられたビームにおいて前記追加的なエネルギーを供給するために配置されたものである、デバイス。
【請求項５】
請求項２に記載のデバイスにおいて、
前記追加的なエネルギーの源は、前記レーザー材料の側に又は前記放出されたレーザービームに関して前記レーザー材料の後部の表面に位置決めされたものである、デバイス。
【請求項６】
請求項２に記載のデバイスにおいて、
前記追加的なエネルギーの源は、それが、複数の独立にアドレス可能な放射源、又は別個のシャッターを備えた一つの若しくはより多い放射源、又は放射源及び制御可能なビームガイディングデバイスを含むということにおいて制御可能なものである、デバイス。
【請求項７】
毛を取り除くものであるデバイスであって、
−  レーザービームパルスを提供するために配置されたレーザー源；
−  フォーカスのスポットに前記レーザービームパルスをフォーカシングさせるものであるための及びターゲットの位置において前記フォーカスのスポットを位置決めするものであるための光学的なシステム；
：を含むものである、毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記レーザー源は、請求項２〜６のいずれか一つに従ったレーザーデバイスを含むと共に、好ましくは
前記光学的なシステムは、可動なレンズ又は複数の個々にアドレス可能なレンズを含む、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項８】
請求項７に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記レーザー源は、予め決められたパルス時間でレーザービームパルスを提供するために配置されたものであると共に、
前記フォーカスのスポットの寸法及び前記発生させられたレーザービームパルスのパワーは、前記フォーカスのスポットにおいて、前記レーザービームパルスが、それの予め決められたパルス時間における毛の組織についてのレーザーに誘導された光学的な破損（ＬＩＯＢ）の閾値より上にあるものであるところのパワーの密度を有するというようなものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項９】
請求項７に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記光学的なシステムは、最も少ないときで０．２、好ましくは最も少ないときで０．４、より好ましくは最も少ないときで０．６の開口を有する、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１０】
請求項７に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
複数の可動なレンズ、好ましくはレンズアレイとして配置されたもの、を含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１１】
請求項７に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
前記可動なレンズへ、特定のものにおいて前記レンズアレイへ、揺動すること、往復運動すること、又は振動することの動きを分与するために配置されたものであるところの、レンズムーバー、特定のものにおいてアレイムーバー、を含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１２】
請求項７に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
それぞれ、前記可動なレンズ又はレンズアレイへ回転させることの動きを分与するために配置されたものであるところの、レンズムーバー又はアレイムーバーを含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１３】
請求項７に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
さらに光学的な検出デバイス、特定してはヒトの皮膚における皮下の部分、より特定しては毛、をイメージングするためのもの、を含むものである、毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記検出デバイスは、検出されたものであるための対象から戻るところの放射を検出するために配置された光検出器を含む、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１４】
請求項１３に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記光検出器は、前記レーザーデバイスの前記レーザー材料を通過してきたものであるところの戻るものである放射を検出するために配置された及び位置決めされたものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１５】
請求項１３に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記光検出器は、光検出器、及び／又は、望まれた戻るものである放射を選択すると共に求められたものではない背景の放射を外にフィルター処理することに役に立つところの、ピンホール、及び／又は、前記光検出器へと前記戻るものである放射をイメージングするところのイメージングレンズを含む、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１６】
請求項１４に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
前記光検出器へ前記反射させられた放射を、特定のものにおいては一度と比べてより多いものだけ前記レーザーデバイスの前記レーザー材料を通じて、ガイドするためのミラーデバイスを含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１７】
請求項１６に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記ミラーデバイスは、最も少ないときで一つの偏光ビームスプリッターを含む、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１８】
請求項１３に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
さらに、毛の認識デバイスを含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１９】
請求項１３に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記光学的な検出デバイスは、前記光検出器の前方に位置決め可能なものであるところのシャッターを含む、毛を取り除くものであるデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の分野
当該発明は、レーザーパルスを発生させるものであるための方法及びデバイスに関係する。
【０００２】
当該発明は、また、このような方法及び／又はデバイスを使用することで毛を取り除くものであるデバイスに関係する。
【背景技術】
【０００３】
発明の背景
レーザーパルスを発生させることの方法は、良好に知られたものである。非常に一般的に、それらは、刺激された放出が起こることがあるというように、適切な材料においてポピュレーションの反転をもってくること、及びさらに、レーザーキャビティーにおいてミラーの間に発生させられた放射を反射させることによって強度を増加させることからなるものである。このようなレーザーは、また、ポンピングされた及びパルス化されたレーザーであることがあるが、それらは、放射の非常に短い及び非常に強烈なパルスを発生させることができるものである。
【０００４】
レーザー及び上に述べられたようにレーザービームを発生させることの方式の不都合は、それが、ビームに関してはむしろ柔軟性を欠くものであるというものである。事実上、それは、最も多いときでも可変なパワー、繰り返しの頻度、及び／又は周波数と共に、そこにある又はそうではないものである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
発明の目的
本発明の目的であるものは、増加させられた柔軟性、特定のものにおいてはビームの性質に関してのもの、を備えたレーザービームを発生させるものであるための方法及びデバイスを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
発明の概要
当該発明の上記の目的は、第一の態様において、レーザービームが放出可能なものであるところの表面を備えたレーザー材料、及びキャビティーミラーの間のレーザーキャビティーにおけるＱ−スイッチを有するものである、レーザーデバイスを提供すること、レーザー材料へエネルギーを供給することによってシマーモードへとレーザー材料をもってくること、レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレージング閾値が超過させられたものであると共に、レーザービームが前記された表面の望まれた部分のみから放出されたものであるというように、レーザー材料へ追加的なレーザー材料の吸収可能なエネルギーを供給することを含むものである、レーザービームを発生させることの方法で、達成されたものである。当該発明は、レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレーザービームの発生を許容する。これは、それが、様々な望まれた位置におけるビームの発生を許容するので、柔軟性を増加させる。これは、このような効果が、位置に依存性のものになされたものであるとすれば、順番に様々なその後の効果を許容する。最も単純な例は、もちろん、レーザービームのエネルギーが、位置に依存して放出された又は供給されたものであるためのものであるところのものであるが、それの場合には、先行の技術のデバイスが、例．位置決めするものであるミラー又は同様のものの形態における追加的な及び可動な部分を要求するであろう。本発明の使用のさらなる例は、以下に与えられたものであることになる。別の利点は、レーザー材料の部分のみ、即ち、全部のレーザー材料と比べてより少ない部分が、レーザーパルスを発生させるために使用されたものであるということである。さらには、レーザービームの発生が、分配されたものであるので、全体的なレーザー材料にわたるレージングに対して比較された、レーザー材料内における同じ位置についての二つのパルスの間における平均の時間は、増加させられたものである。よって、ポンピングの強度は、より低いものであることがあると共に、材料における温度制御は、より簡単なものになされたものであると共に、レーザー材料の耐用寿命は、増加させられたものであることがある。
【０００７】
レーザー材料、しばしば、しかし必ずではないものである、レーザー結晶は、好ましくは実質的に連続的に、エネルギー、例．レーザー材料によって吸収可能なものであるところのエネルギー、を供給することによって励起されたものであることがある。一般には、それは、そして、基底状態へ逆戻りに蛍光を発することになる。より多いエネルギーが、供給されたものであるとすれば、あるものは、シマー閾値が到達されたものであるまで、より多い及びより多い励起（並びに蛍光）であることになるが、Ｑ−スイッチがなおもそれに入射する放射の過剰に多いものを吸収するので、まだレーザーの出力がないとはいえ、それにおいては増幅された自発的な放出が起こることになる。その後、体積の一部分が、十分なエネルギーと共に提供されたものであるとすれば、後に続くものである現象は、起こることになる。最初に、追加的なエネルギーは、レーザー材料によって吸収されたものであると共に、増加させられた自発的な放出は、反転準位が、レーザーの閾値より上に上昇させられたものであるという理由で、達成されたものである。そして、発生させられた強度は、最も少ないときでレーザーの材料のそれの部分に対応するものであるＱ−スイッチの部分において、高い吸収の状態から低い吸収の状態まで切り替わることになるというようなものである。これは、発生させられた放射が、今、今まで増加するものである強度で後方に及び前方に反射させられたものであることになると共に、シマーモードにおいて蓄積されたものであったところのエネルギーを解放するものであるので、レーザーの機能が起こることを可能とする。結果は、短いものであるがしかし高いパワーのレーザーパルスであることになる。それの後で、ポンピングは、再度、シマー状態へレーザー材料の関連性のある部分をもってくることになると共に工程は、十分なサイクルにまできたものである。上に記載されたような受動的なＱ−スイッチは、特定のものにおいては、飽和可能な吸収体のＱ−スイッチである。
【０００８】
好ましくは、Ｑ−スイッチは、レーザービームが放出されたものであるためのものであるところのレーザー材料の表面の反対に位置決めされたものである。これは、シマーモードにおいて放出された放射の使用を許容する。
【０００９】
上記において、“対応するものである”は、究極的には放出されたレーザービームの経路にあるものであるところのレーザー材料の部分に関係するが、それは、レーザービームのエネルギーの一部分を供給する。
【００１０】
スタートにおいて、増幅された自発的な放出が、全ての方向において起こるが、しかし、Ｑ−スイッチ、又はレーザー材料の側部の面が、それの放射の大部分を停止させることを留意すること。スイッチングの閾値が、超過させられたものであるとすれば、そのときのみ、レージングは、スタートすることがある。これは、追加的に励起された体積に最も近いＱ−スイッチの部分についての場合であることになる。これは、自動的に、ビームの幅を限定する。ここでの一般的な所見は、供給された追加的なエネルギーが、レーザーの波長を有することを必要とするものではないということであると共に、そのよういに、レーザーの工程それ自体と干渉するものではない。
【００１１】
ある者は、それの部分のみが、レーザーモードにもってこられたものであるので、レーザー材料内におけるレーザーの発生の上記のことを考えることがある。
【００１２】
実施形態において、追加的なレーザー材料の吸収可能なエネルギーは、レーザー材料の複数の望まれた部分においてレージング閾値が超過させられたものであるというように、レーザー材料へ供給されたものであると共に、レーザービームは、前記された表面の前記された複数の望まれた部分から放出されたものである。ここにおいて、複数の部分は、好ましくは、このような実施形態が排除されたものであること無しに、レーザービームを放出することができるところのレーザーデバイスの表面と比べてより小さいものであるところの合計の断面の面積を有するが、しかし、より後のものは、単に、合計のレーザー材料について十分なレーザーの動作ということになる。
【００１３】
特定のものにおいては、シマーモードへとレーザー材料をもってくることのステップは、供給されたエネルギーの入力のパワーを制御することによって制御されたものである。これは、レージングモードへと偶然に行くことから、又はシマーモードの外に届くことから、レーザー材料を予防する。これの制御ステップは、シマーモードにおいて放出された放射を測定することによって成し遂げられたものであることがある。これは、それぞれ、シマー閾値及びレーザー閾値における値を限定することに対応するものである値の間に存するためになされたものであることがある。
【００１４】
シマーモードへとレーザー材料をもってくることのステップは、ポンプ手段、特定のものにおいては光学的なポンプ、の使用と共に行われたものであることがあるが、それは、適切な波長及びパワーの放射を放出するものである、一つの又はより多い光源、特定のものにおいては（レーザー）ダイオード又はポンプレーザー、を含むことがある。ポンピングは、ポピュレーションの反転のいくつかの準位を達成する為に原子、分子など、の励起させることを指すと共に、それ自体は、当技術において十分に知られたものである。ポンピングは、電気の流れを供給することによるもの又は化学的な反応によるものというような適切な光学的なエネルギーを供給することと比べて他の方式で行われたものであることができるであろう。
【００１５】
追加的なエネルギーを供給することのステップは、レーザー材料の望まれた部分においてフォーカシングさせられたものであるところの放射の、ビーム、好ましくは一つの又はより多いパルス、を提供することを含むことがある。これは、フォーカシングさせることが、望まれた一を制御するので、原則として、レーザー材料の外側のどこからでもされたものであることがあるが、しかし、好ましくは、生じさせられたものであるためのレーザービームに関して、レーザー材料の側部の表面から提供されたものである。エネルギーのこのような提供は、レンズというような、フォーカシングさせるものである素子との組み合わせで、パルス化されたダイオード、フラッシュランプ、などのものというようなパルス化された光源と共に行われたものであることがある。フォーカスを目指すことは、アドレス可能なミラー及びそのようなものによって成し遂げられたものであることがある。
【００１６】
あるいは又は加えて、レーザービームが放出されたものであるためのものであるところのレーザー材料の表面に関して又はそれの反対に、側部の表面から、レーザー材料へ追加的なエネルギーの最も少ないときで一つのパルスを方向付けることは、可能性のあることである。これの追加的なエネルギーは、フォーカシングされたものであることを必要とするものではないが、それは、それが、より少ない光学部品などものものを要求するという理由で、好都合なものである。例は、再度、パルス化されたダイオード、パルス化されたレーザー、及びそのようなものである。ここでは、パルスは、レーザー材料によって多数の回数で増幅されたものであるが、そのように、パルスは、弱いものであることができると共に、事実上、シマー準位からレーザー閾値を超えるところまで反転準位を増加させることに十分に強いものであることのみを必要とする。追加的なエネルギーは、好ましくは、レーザー材料の望まれた断面の部分を交差させるところの実質的に平行なビームにおいて供給されたものであるが、しかし、必ずではないものである。レーザー材料の意図されたレーザービームの出力の面は、簡単に決定されたものであると共に、しばしば、Ｑ−スイッチが位置決めされたものであるところの側である。これは、しばしば、レーザーキャビティーの高い反射率の側の反対の側を含む。他の言葉では、追加的なエネルギーは、今、高い反射率のミラーの側における入力である。しかし、これの高い反射率は、レーザーの波長を、及び必ずではないものであるが追加的なエネルギーを、保持する。
【００１７】
追加的なエネルギーを位置決めするために、即ち、レーザー材料による出力としての発生させられたレーザーパルスの、望まれた出力の位置、又は複数の位置、を選択するために、追加的なエネルギーの源は、制御可能なものである、他の言葉では、追加的なエネルギーは、制御可能に提供されたものである。例については、源は、ダイオードのマトリックスというような、複数の個々に制御可能な副次的な源を含む。あるいは、源は、レーザー材料において追加的なエネルギーを位置決めするための、旋回可能なミラー、及び自由選択でレンズ、又はフォーカシングミラーというようなビームを位置決めするものであるデバイスを備えた源を含むことができるであろう。
【００１８】
当該発明は、また、媒体における対象、特定のものにおいは皮膚における毛、を検出するものであるための光学的な検出方法に関係するが、方法は、好ましくは当該発明の上記の態様に従った方法で、シマーモードへともってこられたものであるところのレーザー材料の手段による光学的なシマー放射を提供すること、及び光学的な検出器で戻るものである放射を検出すること、を含むものであるが、それにおいては、前記された戻るものである放射は、シマーモードにおいてレーザー材料を通じてガイドされたものであると共にそれによって増幅されたものである。ここにおいては、シマー放射の、及び特定のものにおいは戻るものである放射がレーザー材料において増幅されたものであることになるという事実の、良好な使用は、なされたものである。他の波長を有するものである、外部の源からの、他の背景の放射は、増幅されたものであるのではないことになる。今、単純なシリコンフォトダイオードの使用は、なされたものであることがあるが、それは、例．アバランシェフォトダイオードと比べて、これらが過剰に使用されたものでることがあるとはいえ、より少ない複雑なものであると共により安いものである。
【００１９】
レーザー材料を通じて放射をガイドすることのステップは、より好ましくはミラー、プリズム、又はビームスプリッターの手段によって、一度と比べてより多くレーザー材料を通じて進むために放射を再方向付けすることのステップを含む。これは、追加的に、戻るものである放射を、及び、背景の放射を比べてより多いものを、強調する。ビームスプリッターは、さらに、検出器に向かって選択された放射をガイドするために使用されたものであることがある。
【００２０】
実施形態において、方法は、光学的なシマー放射を偏光させることのステップを含む。特に、検出ステップは、戻るものである放射に関して交差偏波させられたものであるところの放射を拒絶することを含む。いっそうより多く特に、偏光は、円形の偏光、又は最も少ないときで１：１及び１：２の間における軸の比を備えた楕円の偏光、である。偏光させられた光の使用は、皮膚の表面で反射させられた放射及び、例．皮下の毛で散乱されたものであるところの放射の間で見分けることを許容する。さらには、円形に、又は過剰に極度に楕円形にではない、偏光させられた光は、ＥＰ０６１２５９１５．６に記載されたように、光学的な検出においていっそうより有用なものである。
【００２１】
好都合な方法は、さらに、最も少ないときで一つのレーザービームが最も少ないときで一つの毛の位置へ放出されたものであるというように、最も少ないときで一つの毛の位置を検出すること、及び、レーザー材料において最も少ないときで一つの位置において追加的なエネルギーを提供することを含む。これは、それらの利点を組み合わせることによって、シマーモードにおいてレーザー材料を使用するところの上に記載された検出方法、及び、またシマーモードにおいてレーザー材料を使用するところの当該発明の第一の態様の方法、の非常に得策な組み合わせである。
【００２２】
当該発明は、特定のものおいては、キャビティーミラーを備えた、並びに、レーザービームが放出可能なものであるところの表面を有するものであるレーザー材料及びレーザーキャビティーに位置決めされたＱ−スイッチを備えた、レーザーキャビティー、シマーモードへとレーザー材料をもってくるためにレーザー材料へエネルギーを供給するできるものであると共にそうするために配置されたポンプ手段、並びに、レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレージング閾値が超過させられたものであると共にレーザービームが前記された表面の望まれた部分のみから放出されたものであるというように、レーザー材料の吸収可能なエネルギーをレーザー材料に供給するために配置された、追加的なエネルギーの制御可能な源を含むものである、レーザーデバイスに関係する。このようなデバイスは、特定のものにおいては、当該発明に従った方法を行うことに適切なものであると共に、最も少ないときで上にすでに述べられた利点を提供する。従って、好都合な実施形態は、可能性のあるところでは、上記の方法の記載の対応するものである部分を読者に参照させることで、手短にのみ議論されたものであることになる。
【００２３】
ここにおいては、“制御可能な光源”は、レーザー材料の制御された部分において、光を、即ち、必ずではないが可視の光学的な放射を、放出するために配置されたものであるところの光源である。これは、固定されたもの又はオン−オフのみであることができるであろう、又は、位置に関して可変なものであることができるであろう。
【００２４】
特定のものにおいて、Ｑ−スイッチは、高度に吸収性の状態から高度に透過性の状態まで行くことができるものである、飽和可能な吸収体というような、受動的なＱ−スイッチであることがある。Ｑ−スイッチは、好ましくは、意図されたレーザービームの出力の方向から離れて面するところのレーザー材料の側に位置決めされたものである。これの方式において、シマー放射は、レーザーの出力で処置されたものであるための対象を照明することというような、望まれた目的に使用されたものであることがある。
【００２５】
ポンプ手段は、電気的な場又は同様のものを通じてエネルギーを追加するものである、電気的なポンプというような、いずれの適切なタイプのものであることがある。都合良くは、ポンプ手段は、これが、ポンピングにわたる簡単な及び汎用の制御を許容するので、光学的なポンプを含む。光学的なポンプは、レーザーダイオードというような、一つの又はより多いダイオード、相対的に低いパワーを有することがあるところのポンピングレーザー、及びそのようなものを含むことがある。波長及びパワーは、レーザー材料が、シマー閾値より上の、しかし、レーザー閾値より下の、適切なポピュレーションの分配へポンピングされたものであるというようなものであることがある。
【００２６】
類似して、追加的なエネルギーの源は、レーザーダイオードというような、一つの又はより多いダイオード、相対的に低いパルスエネルギーを備えた、パルス化されたレーザー、フラッシュランプ、及びそのようなものを含むことがある。追加的なエネルギーの源は、好ましくは、実質的に平行なビームにおいて又はフォーカシングさせられたビームにおいてエネルギーを供給するために配置されたものである。
【００２７】
追加的なエネルギーの源は、レーザー材料の側に、即ち、レーザービームの経路と交差させるものではない側に、位置決めされたものであることがある。それの場合には、源は、レーザー材料の断面のエリアと比べてより小さいビームにおいてか又は好ましくはフォーカシングさせられたビームにおいてかのいずれかで、追加的なエネルギーを供給するものであることがある。源は、また、レーザー材料の、前方の表面又は、都合良くは後方の表面、即ち、レーザー材料によってレーザー放射の出力に対して実質的に垂直なものであるところの表面、を通じて追加的なエネルギーを供給することがある。
【００２８】
追加的なエネルギーの源は、それが、（レーザー）ダイオードのマトリックスというような、複数の独立にアドレス可能な放射源、又は、別個のシャッター又は同様のものを備えた一つの若しくはより多い放射源、を含むという点で、制御可能なものであることがある。提供されたものが、放射源及び、制御可能なミラー又はミラーのセット、及び／又は、一つの又はより多いレンズというような、制御可能なビームをガイドするものであるデバイスであることは、また可能性のあることである。
【００２９】
上に記載されたような当該発明に従った方法及びデバイスの用途は、非常に多くのものであることができる。
【００３０】
第一の例として、レーザーパルスデバイスの柔軟な及び速いアドレッシングは、可能性のあることである。事例については、光学的なファイバーの束が、提供されたものであるとすれば、追加的な放射の一つの又はより多い関連させられた源を対応してアドレスすることによって束の一つの又はより多い選択されたファイバーを通じてレーザーパルスを送ることは、可能性のあるものになる。これは、光学的なコンピューターにおいて情報を伝達すること又は計算を行うことにおいて価値のあることを立証することがある。
【００３１】
第二の例は、本発明の別の態様との関連において、下に詳しく述べられたものであることになる。
【００３２】
これの態様は、レーザービームパルスを提供するために配置されたレーザー源、フォーカスのスポットにレーザービームパルスをフォーカシングさせるものであるための及びターゲットの位置においてフォーカスのスポットを位置決めするものであるための光学的なシステムを含むものである、レーザーに基礎が置かれた毛を取り除くものであるデバイスに関係するが、それにおいては、レーザー源は、当該発明に従ったレーザーデバイスを含む。これのデバイスは、望まれた場所、これの場合には特定のものにおいては毛、へのレーザーパルスの供給することを制御する為に局在化されたビームの発生を使用することがある。
【００３３】
好ましくは、光学的なシステムは、可動なレンズ、又は、必ずではないが可動なものであるところの複数の個々にアドレス可能なレンズ、を含む。これは、位置決めすることに対する柔軟性を追加する。
【００３４】
特定のものにおいては、レーザー源は、予め決められたパルスの時間を備えたレーザービームパルスを提供するために配置されたものであると共に、フォーカスのスポットの寸法及び発生させられたレーザービームパルスのパワーは、フォーカスのスポットにおいて、レーザービームパルスが、それの予め決められたパルスの時間の間における毛の組織についてのレーザーに誘起された光学的な破損（ＬＩＯＢ）の閾値より上にあるものであるところのパワー密度を有するというようなものである。
【００３５】
これのデバイスは、それが、よりコンパクトなもの及びより効率的なものに保たれたものであることがあるという、ＷＯ２００５／０１１５１０に開示されたものというような知られたデバイスにわたる、利点を提示する。特には、光学的なシステムは、ＬＩＯＢについて非常に小さいフォーカス及び高いＮＡの組み合わせが要求されたものであるので、はるかにより小さいものに保たれたものであることがある。これは、要求された光学的な質を保証するために大きいレンズを要する。一方の方面において、光学的なシステムの後のビームマニピュレーター（時々、ポスト対物系のスキャニング呼ばれた）として可動なミラーを備えたデバイスは、それの望ましい高い開口数（ＮＡ）及び関連させられた急速に収束するものであるビームのおかげで、レーザービームをフォーカシングさせるための光学的なシステムと干渉するものであるミラーを欠点としてもつ。他方の方面において、マニピュレーターミラーが、光学的なシステムの前に位置決めされたものである（又はプレ対物系のスキャニング）ところの構成を備えた他のデバイスは、このような高い開口数で非常に限定されたものである視野のおかげで、非常に大きい直径のレンズを必要とする。例については、約２０ｍｍのスキャンされた（即ち、取り扱われた）ものであるためのエリアについて、レンズは、例示的な適切なＮＡについて直径において約２００ｍｍであることを必要とするであろう。本発明に従ったデバイスは、望まれたスキャンのエリアにわたってレーザービームパルスを分配することによって、当該発明の第一の態様に記載されたレーザーデバイスの手段によって、及び、可動なレンズ又は複数の個々にアドレス可能なレンズを提供することによって、これの問題を克服する。
【００３６】
可動なレンズは、スキャンのエリアにわたって動かされたものであることがある。ターゲットの位置にフォーカシングさせられたものであるためのレーザービームについての適切な位置において、レーザービームパルスは、提供されたものである。それのレーザービームが、レーザー材料の表面のエリアの制御可能な部分のみを通過するという理由で、可動なレンズを通じてのみ行くために、及びこのようにビームの部分がレンズを迂回することを予防するために、ビームを限定することは、簡単なことである。
【００３７】
複数の個々にアドレス可能なレンズの場合には、望まれた単数のレンズ又は複数のレンズは、レーザービーム（パルス）でアドレスされた、即ち、それが供給された、ものである。これの場合には、レンズは、追加的な柔軟性が、それらがそうであるとき達成されたものであるとはいえ、可動なものであることを必要とするものではない。
【００３８】
当該発明に従ったデバイス及び方法の特別な利点は、シマーモードにおけるレーザー材料の使用に関係する。シマーモードにおけるレーザー材料が、すでに、高いポピュレーションの反転を有するという理由で、到達させられたものであるためのレーザー閾値について追加的に必要とされたエネルギーは、非常に小さいものであると共に、良好に定義された及び短いパルスにおいて与えられたものであることができる。これは、レーザーのタイミングにわたる、及びよってまた可動なレンズを通じて放出されたようなレーザービームパルスの精密な位置にわたる、緊密な及び正確な制御を許容する。他の言葉では、レンズは、十分に正確な位置の制御を有する為に停止さえられたものであることを必要とするものではない。これは、そのときはるかにより多い時間が、図２に可視のものであるように、必要とされたものであるという理由で、トリガーパルスのみで基底状態からレーザーモードまでもってこられたものであるところのレーザー材料に対する対照にあるものである。レーザーパルスの現実のスタートについての関連させられた不確定性は、これの時間的な、及びこのように空間的な、確度を減少させる。
【００３９】
好ましくは、追加的なエネルギーの供給を通じた、望まれたレーザービームパルスの発生及びフォーカスのスポットの位置決めすることが、結合させられたものであるというように、レーザーデバイス及び光学的なシステムを制御するところの制御ユニットは、提供されたものである。他の言葉では、制御ユニットは、レーザービームパルスが、レーザー材料における適切な位置で発生させられたものであること、及び、光学的なシステムが、望まれたターゲットの位置における結果として生じるものであるフォーカスのスポットを位置決めするために配置されたものであること、を保証するために配置されたものである。複数の固定されたレンズが使用されたものである場合には、これの位置決めすることは、追加的なエネルギーを供給するものであるための位置が、もちろんまた、最終的なフォーカスのスポットの位置における影響を有するとはいえ、能動的な動きであるものではない。レーザー材料における位置及び光学的なシステムにおける一つの又はより多いレンズの位置の間における知られた関係は、実験的な試行錯誤が、また満足な結果に至ることができるであろうとはいえ、これの制御において有用なものである。
【００４０】
一般的なものにおいては、ＬＩＯＢは、フォーカスのスポットにおけるレーザービームのパワー密度が、特定の媒体の特性であるところの閾値を超過するとき、媒体において起こる。閾値より下で、特定の媒体は、レーザービームの特定の波長について相対的に低い線形の吸収の性質を有する。閾値より上に、媒体は、波長についての強く非線形の吸収の性質を有するが、それらは、例．多光子吸収のおかげで、媒体のイオン化及びプラズマの形成の結果である。ＬＩＯＢの現象は、キャビテーション及び衝撃波の発生というような、ある数の機械的な効果に帰着するが、それらは、ＬＩＯＢの現象の位置を囲むものである位置において媒体（毛の組織）を損傷させる。ＬＩＯＢの現象は、また、文書ＷＯ２００５／０１１５１０に述べられてきたものであるが、それは、シェービングデバイスに関係する。
【００４１】
ＬＩＯＢ、及び本発明に従ったデバイスの使用が、皮膚のタイプ又は毛のタイプに依存性のものであるのではないことは、留意されたことである。ＬＩＯＢは、非線形の吸収に頼ると共に、皮膚のタイプ及び毛のタイプに独立なものである。事実上、本デバイスは、色黒い皮膚、色黒い毛、及び無色の産毛の毛でさえもそれらのみならず色白の皮膚について使用されたものであることがある。
【００４２】
毛の組織及び皮膚の組織は、おおよそ５００ｎｍ及び２０００ｎｍの間における波長について透明な及び半透明なものである。散乱することのみならず組織の線形の吸収は、ＬＩＯＢについて可能性のあるものであるために十分に低いものである。特に、レーザービームの波長は、８００ｎｍ及び１４００ｎｍの間に、より特定のものにおいて１０００及び１１００ｎｍの間に、あるものである。これの範囲内における波長については、線形の吸収の性質及び散乱することの性質は、発生させられたレーザービームのエネルギーの最大の部分が、囲むものである組織において（散乱させられた）エネルギーの非常に小さい部分のみが吸収されたものである一方で、レーザービームのフォーカスのスポットにおいてＬＩＯＢの現象を引き起こすために使用されたものであるというように、最小にあるものである。
【００４３】
ＬＩＯＢに関係するものであるさらなる詳細は、上に述べられた文書の導入の部分に見出されたものであることがある。パワー密度の閾値がパルスの時間に依存性のものであることを述べることは、ここでは十分であることである。例については、１０ｎｓのパルスの時間について、閾値は、文献におけるいくつかの参照が、約２×１０１０Ｗ／ｃｍ２というような、これの場合におけるより低い値を開示するとはいえ、約８×１０１１Ｗ／ｃｍ２である。このような値は、低いエネルギーのレーザーでさえも容易に得られたものであることがある。ピコ秒又はフェムト秒のオーダーにおけるものというような、より短いパルスの時間が、ＷＯ００／６２７００において要求されたような１ｍｓの最小のパルスの時間とは反対に、また有効なものであることに留意すること。レーザーが、固定された又は予め決められたパルスの時間を有することを必要とするものではないことにもまた留意すること。可変なパルスの時間は、また可能性のあるものである。
【００４４】
要求されたパワー密度が、達成されたものであるための結果の点で定義されたものであることは、留意されたことである、特定のものにおいてはレーザービーム及びフォーカシングシステムは、ＬＩＯＢの閾値より上にあるものであるところのフォーカスのスポットにおけるパワー密度を発生させるべきである。しかしながら、理論によってか又は実験によってかのいずれかで得られたものであるところの、前記された閾値の知識と共に、熟練した者は、要求されたパワー密度を達成する為にレーザーパルス及び光学的なシステムを容易に選択することになる。
【００４５】
本発明が、そこではコンパクトさにおけるゲインが非常に際立ったものであるので、高い開口数の光学的なシステムが使用されたものであるとき好都合なものであることは、ここで注目されたことである。ＬＩＯＢを使用するところのレーザーの毛の取り除きのデバイスにおいて高い開口数のレンズを使用することは、それが、ターゲットのエリアを囲むものである皮膚により安全なものであるので、好都合なことである。高い開口数は、フォーカスのスポットの外側にあるものが、損傷させられたものである組織の低減された危険度であるというように、フォーカスのスポットの外側におけるレーザービームの素早い収束及び発散を保証する。特定の実施形態においては、光学的なシステムは、最も少ないときで０．２、好ましくは最も少ないときで０．４、より好ましくは最も少ないときで０．６の開口数を有する。開口数についてのこのような値は、重なるものである皮膚の層、特定のものにおいては表皮、についての安全性に関係する。特定のものにおいては表皮が、メラニンというような多数の発色団を含有するので、表皮における残余の線形の吸収は、無視できるものであるのではない。よって、このような層における、フルエンス、又はエネルギー密度、を十分に低いものに保つことは、好都合なことである。これは、即ち、収束の大きい角度を備えた、よって光学的なシステムの大きい開口数を備えた、強くフォーカシングさせられたレーザービームを提供することによって達成されたものであることがある。そして、レーザービームは、許容可能な範囲内での表皮におけるフルエンスを保つために十分に大きいエリアをカバーする。
【００４６】
上記のものにおいて、可動なレンズ、又は複数の個々にアドレス可能なレンズは、それの可能性が、下に述べられた特徴の各々に包含されたことを考慮されたものであるが、フォーカシング素子として及びフォーカスのスポットを位置決めするものであるためのビームマニピュレーターとしての両方の、二重の機能を有する。しかしながら、フォーカシングのための可動なレンズ及びマニピュレーティングのための別のレンズ若しくはミラーシステム又は同様のものを提供することによってこれらの機能を分割することは、また可能性のあることである。このような実施形態においては、光学的なシステムは、フォーカシングシステム及びビームマニピュレーティングシステムを含む。これらの実施形態は、下に与えられたものであることになる。
【００４７】
特別な実施形態において、デバイスは、好ましくはレンズアレイとして配置された、複数の可動なレンズを含む。これは、より素早いスキャン、及びまた実質的に同じ時間で一つのレーザービームパルスと比べてより多いものを提供すること、を許容する。
【００４８】
実施形態において、デバイスは、可動なレンズ、特定のものにおいてはレンズアレイ、へ揺動するものである、往復運動するものである、又は振動するものである動きを分与するために配置されたものであるところの、レンズムーバー、特定のものにおいてはアレイムーバー、を含む。有用なアレイは、線形のアレイ、スタッガードアレイ、又は同様のものであることができるであろう。例．レンズの複数の相互にシフトさせられた行、を含むものである、スタッガードアレイは、スキャニング又は同様のことが起こるとき、スポットがはずされたものであることを必要とするものではないというように、レンズの行が、他の行のレンズ間のスペースをカバーするという利点を有する。レンズ（アレイ）ムーバーは、いずれの機械的なムーバーの手段又はアクチュエーターのものであることがあるが、適切なタイプは、例．電気機械的な及び圧電性のアクチュエーターであるものである。
【００４９】
別の実施形態において、デバイスは、それぞれ、回転するものである動きを分与するために配置されたものであるところのレンズムーバー若しくはアレイムーバー又は可動なレンズ若しくはレンズアレイを含む。有用なアレイは、好ましくは、穴というような、レンズの無い中央を備えた、円形のアレイであることができるであろう。
【００５０】
実施形態においては、レーザービームを放出することができるものであるところの、レーザー材料、又は最も少ないときでレーザーデバイスの部分は、最も少ないときでスキャニングエリアに等しい、大きさ、又は断面のエリア、を有するべきである。他の言葉では、例．振動するものであるアレイの例において、前記された大きさは、最も少ないときでレンズアレイパルスの大きさプラス振動するものである動きの振幅の二倍であるべきである。類似の考慮は、他のレンズアレイの実施形態について保持する。レーザー材料、例．レーザー結晶、の形状は、矩形の又は円形のロッドというような、類似して適合させられたものである。
【００５１】
当該発明は、また、別の態様において、光学的な検出デバイスに、特にヒトの皮膚の皮下の部分、より特定しては毛、をイメージングすることに、関係する。このようなデバイスは、知られたものである。このようなデバイスでの問題は、皮膚の下から、特定のものにおいては皮下の毛の部分又は同様のものから、戻るものである信号が、相対的に弱いものであると共に、特には、一方の方面において、皮膚に入射する、又はそれの表面によって反射させられた、及び他方の方面において皮下の毛の部分から戻るものである、放射の間における比が、非常に高いものであるということである。これの比を低減する為には、表面の反射及び他の背景の放射からの皮下の信号を“フィルター処理する”ためにピンホールを使用することは、提案されてきたものであるが、しかし、これは、またさらに、絶対的な皮下の信号を低減する。なおも、アバランシェフォトダイオードというような、複雑な及び高価な検出器は、十分な感度のために要求されたものである。十分な信号の強さを得るために入射する放射の強度を単純に増加させることが、例．安全性の規制に負うものであるが、皮膚を照射するものであるとき、しばしば許容されたものであるのではないことに留意すること。
【００５２】
本発明の目的は、改善された感度及び／又は選択性を備えた光学的な検出デバイスを提供するということである。
【００５３】
上記の目的は、特にヒトの皮膚の皮下の部分、より特定しては毛、をイメージングするために、光学的な検出デバイスで達成されたものであるが、デバイスは、キャビティーミラーを備えた、並びに、放射が放出されたものであるためのものであるところの表面を有するものであるレーザー材料及びレーザーキャビティーにおいて位置決めされたＱ−スイッチを備えた、レーザーキャビティー、シマーモードへとレーザー材料をもってくるためにレーザー材料へエネルギーを供給することができるものである及びそうするために配置された、ポンプ手段、並びに、検出されたものであるための対象から戻るところの放出された放射を検出するために配置された、光検出器を含むものである。シマーモードにおけるものであるところのレーザー材料を使用することによって、皮膚の照明として役に立つところの連続的な波の光学的な出力は、達成されたものである。とりわけ、皮下の毛の部分又は同様のものからの、戻るところの放射は、イメージを形成するために検出されたものであることがある。
【００５４】
都合良くは、光検出器は、レーザー材料を通過してきたものであるところの戻るものである放射を検出するために配置された及び位置決めされたものである。他の言葉では、光検出器は、それが、これの放射が、使用の間におけるシマーモードにあるものであるところの、レーザー材料を通じて進んでしまった後で、戻るものである放射を検出することになるというような位置を有する。戻るものである放射は、レーザー材料において増幅されたものであるが、それは、しばしば異なる波長を有するところの、他の背景の放射のものではない、戻るものである放出された放射の増幅のみを与える。検出器の適切な位置は、レーザー材料の光放出の側の反対のものであることができるであろうが、それは、非常に単純な解決手段である。いくつかの放射をガイドするものである手段の使用を通じて、異なって光検出器を位置決めすることは、また可能性のあることである。
【００５５】
増幅の理由のために、光学的な検出器は、単純なものに保たれたものであることがあると共に、光電子増倍管又はアバランシェ・フォトダイオードというような他のタイプのものが排除されたものであるのではないとはいえ、好ましくは、単純なシリコン・フォトダイオードというような光検出器を含む。これの態様は、当該発明の他の態様との関連において記載されたような全ての好都合な特徴と組み合わせられたものであることがある。例については、ポンプ手段は、一つの又はより多い（レーザー）ダイオード及びそのようなものというような、光学的なポンプであることがある。
【００５６】
当該発明に従ったレーザーデバイスが、また、当該発明に従った光学的な検出デバイスを含むが、より後のものは、このように、レーザーに基礎が置かれた毛の取り除きのデバイスとの又は一般的なレーザーデバイスとさえもその組み合わせで使用されたものであることなく、構成成分としての及び独立型のデバイスとしての発明の価値の両方を有するものであることがあることに留意すること。また、当該発明に従ったいずれのレーザーデバイスのもの及びいずれの光学的な検出デバイスのものの特定の実施形態は、望まれたように組み合わせられたものであることがある。このような組み合わせられた場合において、組み合わせられたものであるためのデバイスのレーザーキャビティー及びレーザー材料について、複雑さを低減するために、好都合なことであることになる。他の言葉では、当該発明のレーザーデバイスが、当該発明の光学的な検出デバイスを含むとすれば、レーザー材料及びレーザーキャビティー並びにそのようなものは、これが、必要なものであるのではないとはいえ、都合良くは、両方のデバイスによって共有されたものである。
【００５７】
都合良くは、光学的な検出器は、視野、及び／又は、光検出器へと戻るものである放射をイメージングするところのイメージングレンズを限定することによって、望まれた放射を選択すると共に求められたものではない背景の放射を外にフィルター処理するために役に立つところのピンホールを含む。絶対的な信号の強さは、今、より高いものであるが、それは、信号対雑音比、及び一般的なものにおいて信号の検出、を改善する。検出デバイスの使用が、皮膚における毛の皮下の部分を検出することに限定されたものであるのではないが、しかし、信号が、例．散乱するものから、及び特定のものにおいては別の媒体内における対象で、決定されたものであるためのものであるところの他の状況において適用されたものであることができるであろうということに留意すること。
【００５８】
都合良くは、光学的な検出デバイスは、それが、異なる、好ましくは平行な、経路に沿ってレーザー材料を通じて戻るものである放射を再方向付けすることができるものであるというように配置された、ミラーデバイスを含む。これは、さらに、信号の強さを改善する。検出器、ピンホールなどのものの位置は、それに応じて適合させられたものであることがある。
【００５９】
光学的な検出デバイスは、実施形態において、特定のものにおいてはレーザー材料を通じて一度と比べてより多いもので、光検出器へ反射させられた放射をガイドするためのミラーデバイスを含む。ミラーデバイスは、例．一つの又はより多い平面のミラーを含むことができるであろう。しかしながら、好都合な実施形態においては、ミラーデバイスは、最も少ないときで一つの偏光ビームスプリッターを含む。これは、戻るものである放射における偏光の二つのタイプを見分けることを許容する。大きい利点は、皮膚の表面における反射が、皮下の毛の部分において、散乱すること又は他の戻ることの機構を有するところの放射の偏光における異なる効果を有することである。よって、このような偏光ビームスプリッターを提供することによって、ある者は、さらに、望まれた放射、即ち、皮下の毛の部分から戻るもの、及び、皮膚の表面で反射させられたものというような、求められたものではない放射の間における比を改善することができるものである。
【００６０】
実施形態において、光学的な検出デバイスは、さらに、レーザー材料及びフォーカシングレンズの間にＦａｒａｄａｙ回転子及び四分の一ラムダプレートを含む。四分の一ラムダプレートの使用は、円形に偏光させられた光の発生を許容する。それに対して、線形の偏光子は、放出されたレーザー放射が、（十分に）線形に偏光させられたものであるのではないとすれば、包含されたものであることがある。円形に偏光させられた光の使用の利点は、例．同時係属するものである欧州特許出願ＥＰ０６１２５９１５．６に記載されてきたものである。
【００６１】
特定のものにおいては、光学的な検出デバイスは、検出器から光学的な信号を処理するところの、及び、適切にプログラムされたものであるところの、ＣＰＵというような、毛の認識のデバイスを含む。このようなプログラミング（ソフトウェア）は、それ自体は、当技術において知られたものである。
【００６２】
さらなる好都合な実施形態において、光学的な検出デバイスは、本発明に従ったレーザーデバイスの部分である。そして、レーザーデバイス、特定のものにおいては毛を処置するものであるためのデバイスは、都合良くは、レーザーパルスを提供するためのところを決定する為には、本検出デバイスからの検出された信号を使用することができる。当該発明の第一の態様において述べられた全ての特別な特徴は、また、このような実施形態の部分であることがある。一つの例として、それに限定されたものである追加的な特徴無しに、述べられたものは、レーザー材料及びミラーの間における、好ましくは意図されたレーザービームの側から離れて面するものであるミラーにおける、ミラー及びＱ−スイッチを備えたレーザーキャビティーの提供であることがある。これは、Ｑ−スイッチが、特定のものにおいては、スタートパルスからのものというような、それに入射する増加させられた放射によって、透明な状態へ切り替えられたときレーザービームの発生を許容する一方で、シマーモードにおける連続的な放出を使用することを許容する。ここにおいて、デバイスは、一つのものにおける検出及び“シューティング”デバイスになる。
【００６３】
得策な実施形態において、検出デバイスは、検出器の前方に位置決め可能なものであるところのシャッターを含む。これのシャッターは、都合良くは、デバイスがレーザーパルスを提供するとき検出器への光学的な経路を遮断するための、制御デバイスによって制御可能なものである。このような場合には、増加させられた感度の散乱された放射は、さもなければ、検出器を損傷させるかもしれない。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】図１は、非常に一般的に、様々な発明の特徴を示すところのデバイスを描く。
【図２】図２は、線図で、当該発明の方法におけるある数のステップを示す。
【図３】図３は、線図で、当該発明に従ったデバイスの断面の図を示す。
【図４】図４は、線図で、当該発明に従った別のデバイスの断面の図を示す。
【図５】図５は、線図で、当該発明に従った検出デバイスを示す。
【図６】図６は、線図で、図５に示された検出デバイスの代替の実施形態の断面の図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００６５】
図面の手短な記載
当該発明のこれらの及び他の態様は、以後に記載された実施形態から明白なものであると共にそれらに対する参照と共に解明されたものであることになる。
【００６６】
図面において：
図１は、非常に一般的に、様々な発明の特徴を示すところのデバイスを描く；
図２は、線図で、当該発明の方法におけるある数のステップを示す；
図３は、線図で、当該発明に従ったデバイスの断面の図を示す；
図４は、線図で、当該発明に従った別のデバイスの断面の図を示す；
図５は、線図で、当該発明に従った検出デバイスを示す；及び
図６は、線図で、図５に示された検出デバイスの代替の実施形態の断面の図を示す。
【００６７】
好適な実施形態の詳細な記載
図１は、非常に一般的に、様々な発明の特徴を示すところのデバイスを描く。
【００６８】
ここにおいて、１は、第一のキャビティーミラー２及び第二のキャビティーミラー３によって範囲を定められたレーザーキャビティーにおける、レーザー材料の一片を表記する。Ｑ−スイッチは、４によって、及び５で自由選択の偏光ビームスプリッターが、指し示されたものである。フォーカシングレンズ６は、また、自由選択のものである。
【００６９】
ダイオードレンズ８を備えた第一のダイオード７は、ビーム９を放出するが、それは、フォーカスの点１２を有するものであるフォーカシングされたビーム１１へ整形されたものであるところの、レーザー材料１におけるレーザービーム１０を形成する。
【００７０】
ポンプダイオード１４及びレンズ１５を備えた、光学的なポンプは、１３によって指し示されたものであると共に、ポンプビーム１６を放出する。
【００７１】
ダイオードレンズ１８を備えたダイオード１７は、レーザービーム２２を引き起こすものである、ダイオードビームのフォーカスのスポット２１にフォーカシングされたものであるところのビーム１９を放出する。
【００７２】
レーザー材料は、望まれた波長を備えたレーザーの動作に適切ないずれの材料のものであることがある。このような波長は、例．光学的な範囲、即ち、紫外の、可視の、又は赤外のものにおけるどこにでもあるもの、であることがある。シェービングの目的のためには、望ましい波長は、およそ８００−２０００、特には約１０００及び１１００ｎｍの間におけるもの、である。レーザー材料は、結晶という、又はまた気体若しくは流体を備えた容器という、ような、ロッドの形態にあるものであることがある。有用なレーザー材料の例は、１０６４ｎｍで放出するものである、ＹＡＧであることができるであろう。
【００７３】
キャビティーミラー２及び３は、ビームプロフィールをフィットさせるところの形状を備えた、いずれの適切なレーザーミラーのものであることがある。
【００７４】
Ｑ−スイッチ４は、例．上に述べられたＹＡＧ−レーザーについての、Ｃｒ４＋：ＹＡＧというような、飽和可能な吸収体であることがある。このような飽和可能な吸収体は、吸収が実際にゼロまで減少するところの、閾値が到達されたものであるまで、入射する放射の大きい部分を吸収すると共に、レーザーの動作は、スタートすることができる。
【００７５】
偏光ビームスプリッター５は、下にさらに議論されたものであるために、特には検出のためのデバイスを使用するものであるとき、特別な目的の役に立つところの、自由選択の部分である。
【００７６】
光学的なポンプ１３は、シマーモードへとより後のものをもってくるための、レーザー材料１によって吸収可能な、十分なエネルギーを放出するところの、ダイオード１４を含む。それに対して、ダイオード１４は、コリメーティング光学部品１５が自由選択で提供されたものであると共に、ポンプビーム１６を放出する。ポンプビームの波長及びエネルギーは、レーザー材料１の吸収特性及びシマー閾値に依存するが、しかし、必要なものであるとすればいくつかの実験の後に、熟練した者によって容易に選択されたものであることがある。ダイオード１４についての代替品は、ポンピングレーザー、ランプなどであることができるであろう。“光学的なポンプ”が、いずれの適切な波長のものの及び特にレーザーの波長に対するものではないポンプ放射に関係することに留意すること。
【００７７】
ここでの重要な所見は、レーザー材料１１が、ポンピングされたシマー状態において、真のレーザーンではないものであるけれども、弱いｃｗビームを放出するということである。Ｑ−スイッチを有するところの最も知られたレーザーデバイスにおいて、前記されたスイッチは、低いパワーの“雑音”を予防するために、デバイスの出力の端に位置決めされたものである。しかしながら、本発明は、それが、キャビティーミラー、フィルター、ハウジング、又は同様のものが、余分な制約を追加するであろうとすれば、レーザー材料（又はレーザーデバイス）の完全な出力の表面にわたって放出されたものであるところの照明手段として役に立つという点で、良好な使用にこれの低いパワーのｃｗ放射を置く。それに対して、Ｑ−スイッチは、意図された出力の面の反対に位置決めされたものである。シマーモードのｃｗ放射の使用は、図５及び６との関連において解明されたものであることになる。
【００７８】
ダイオードレンズ８を備えた、ダイオード７は、レーザー材料１によって吸収可能なものであるところの放射の、実質的に平行な、又は最も少ないときで狭い、ビーム９を放出するために配置されたものである。このようなビーム９が、吸収されたものであるとき、レーザー材料における対応するものである体積は、レーザー閾値より上に励起されたものであることになると共に、ＡＳＥ（増幅された自発的な放出）を示すことになるが、それは、ダッシュされた体積において、それの透過性の状態において吸収体を飽和させると共に局在化されたレーザーの動作におけるレーザーの動作をスタートさせることになる。局在化されたレーザーの動作が、得られたものであるためのものであるところを決定する為には、ダイオード７は、変位可能なものであることがある、又は、それのビーム９は、望まれたスポットに入射するものであるためにマニピュレートされたものであることができるであろう。これは、さらにより下で解明されたものであることになる。
【００７９】
代替品としては、ダイオードレンズ１８を備えたダイオード１７は、フォーカスのスポット２１にレンズ２０によってフォーカシングされたものであるところのビーム１９を放出することができるであろう。フォーカスのスポット２１、及びもしかすると、レーザー材料１の体積の囲むものである部分は、上に記載されたものに類似の方式において、レーザー閾値より上に励起されたものであると共に、短いダッシュで部分的に指し示された体積においてレーザービームを提供する、ことがある。このように、側部からの照明は、また可能性のあるものである。フォーカスされたものではないビームでさえも、それの強度が十分に高いものであるとき、レーザーの動作を提供することができるであろう。
【００８０】
このように生じさせられたレーザービーム１０は、第二のキャビティーミラー３で放出されたものであることがあると共に、良好な使用、例．対象を照明すること又はアブレーションすること、に置かれたものであることがある。レンズ６は、自由選択のものであると共に、例．精度のオペレーションについてのものというような、増加させられた及びより局在化されたレーザーの動作についてのフォーカシングされた、高い強度のレーザービームを提供することに役に立つものであることができるであろう。例は、導入の部分においてすでに議論されたような、レーザーに誘起させられた光学的な破損の現象（ＬＩＯＢ）の発生であることができるであろう。
【００８１】
図２は、左から右まで、三つの異なる分量、合計のポンプ強度、即ち、レーザー材料に入射する放射、（関連性のあるエネルギー準位の）反転準位、及び出力のパワーについて、線図で、当該発明の方法におけるある数のステップを示す。三つの線図は、各々、明確なピークを示すが、それらのピークは、実質的に時間内に一致する。
【００８２】
ポンプ強度は、例．図１の光学的なポンプ１３を備えた、多かれ少なかれ一定のポンピングを反映する。基本的な強度は、しばしば、むしろ低いものである。これの一定のポンピングの効果は、それが、増加させられた反転準位を備えた、しかし、まだレーザーの動作が起こるというような反転準位を備えたものはない、シマーモードへレーザー材料の分子又は同様のものをもってくるというものである。中央における線図において、これは、シマーの閾値より上の、しかし、レーザーの閾値より下まで、ポンピングの影響の下で、増加するところの反転準位によって指し示されたものである。ポンプ強度のピークの時間における反転準位は、急速にレーザーの閾値より上まで増加すると共に、放出されたものであるためのレーザーパルスを引き起こすものである、レーザーの動作は、突然に始まる。そしてまた、反転準位は、刺激された放出のおかげで、ゼロまで落ちる。それの後に、連続するものであるポンプ強度は、反転及びレーザーの閾値の間にまで反転準位を再増加させる。
【００８３】
結果として生じるものである出力のパワーは、線図において右へ示されたものである。最初に、あるものは、いずれの出力も無い又はほとんどないものである。そして、シマーの閾値が到達されたものであるとき、低い準位の平坦部によって指し示された、連続的な波の出力は、得られたものである。ポンプ強度のピークの時間に、レーザーパルスは、非常に多いより高い出力の水準で発生させられたものである。レーザーパルスの後に、ゼロの反転準位は、ゼロの（又は低い）出力を引き起こすと共に、サイクルは、再度始まることができる。
【００８４】
図３は、線図で、当該発明に従ったデバイスの断面の図を示す。ここにおいて、全ての図におけるもののように、類似の部分は、によって同じ参照数字によって表記されたものである。
【００８５】
レーザーデバイスは、なおも、キャビティーミラー２及び３の間にレーザー材料１及びＱ−スイッチ４を含む。３０は、旋回軸の点３１及び３２を備えた、ビーム偏向ミラーを表記すると共に、３２は、スキャニングレンズである。光学的なポンプは、ここに示されたものであるのではない。
【００８６】
フォーカスレンズ６’を備えた、レンズアレイ３５は、アレイムーバー３６で可動なものである。
【００８７】
ビーム偏向ミラー３０は、レーザー材料１に（示されたものではない）入射のビームのねらいを定めることことに役に立つと共に、旋回軸３１のまわりに旋回可能なものである。平行に入射するものであるところのビームを提供する為には、スキャニングレンズは、提供されたものである。好ましくは、旋回軸３１は、スキャニングレンズ３２のフォーカスの点にあるものである。これの配置で、単一の源は、なおもレーザー材料１のあらゆる部分にアドレスすることができるところの、単一のビームを提供することができる。
【００８８】
ここに示されたデバイスにおいて、レンズアレイ３５は、自由選択のものであると共に、毛又は同様のものをカットするためのＬＩＯＢについてのものというような、フォーカスのスポットを提供するために使用されたものであることができるであろう。単一の可動なレンズが、十分であることができるであろうとはいえ、多数のもののレンズは、アドレスすることのスピードを改善すると共に、また、同じ時間における一つと比べてより多いレーザービームパルスの提供を許容する。別の非常に重要な利点は、大きい数の小さいレンズが、はるかにより簡単に、高い開口数（ＮＡ）を備えた光学的なシステムを提供することができるということである。このような高いＮＡは、フォーカシングされたレーザービームが使用されたものであるとき、そしてフォーカスのスポットが、ビームの方向において限定されたものであるので、より安全なものである。視野は、検出するものであるとき及びパルスの供給するものであるときの両方で、レンズの大きさに対して比較されたとき限定されたものである。しかしながら、可動なレンズ、及び好ましくは可動なレンズのアレイ、を使用するものであるとき、これは、補償されたものであることがある。
【００８９】
実際においては、最も少ないときで約０．３、好ましくは最も少ないときで約０．６、のＮＡは、（ヒトの）皮膚の組織における毛の安全なＬＩＯＢに基礎が置かれたカッティングを行うことに適切なものである。他の目的のために、いくつかの他のＮＡは、得策なものであることができるであろう。
【００９０】
さらには、レンズアレイ３５は、圧電性の又は電気機械的なアクチュエーター、マイクロ・モーター、及びそのようなものというような、いずれの機械的なデバイスのものであることがあるところの、アレイムーバー３６の手段によって、さらに、発生させられたビームをガイドするための対応するものである正しい位置の中へと動かされたものであることができる。レンズアレイ３５は、例．ｙ方向において又はｚ方向に対して垂直な平面におけるいずれの他の方式においても動かされたものであることがある。ここに示されたものではない制御ユニットによるアレイムーバー３６の制御は、ビーム偏向ミラーの制御へ結合させられたものであることがある。レンズアレイ３５の位置決めすることは、レーザービームパルスの望まれた位置に最も近いものであるところのフォーカスレンズ６’が、位置へ動かされたものであるというような方式でされたものであることがある。
【００９１】
図４は、線図で、当該発明に従った別のデバイスの断面の図を示す。
【００９２】
ここにおいては、４０は、ダイオード４１，４２を備えた、ダイオードアレイである。ビームスプリッターは、５によって表記されたものである。ダイオード４１，４２は、個々にアドレス可能なものであると共に、これの場合にはダイオード４２をそうするように、各々ビーム４５を提供することがある。ダイオードアレイ４０は、また、いっそうより正確な及び汎用のものにレーザー材料のアドレスすることをなす為に、可動なものになされたものであることができるであろう。ダイオードアレイは、ダイオードがアドレスされたものであるところの方式に従ったレーザービームパルスのパターンを発生させるために使用されたものであることがある。多数の使用は、想像可能なもの、例．材料を加工すること及びそのようなものにおけるもの、である。
【００９３】
ビーム４５は、幅ｄのレーザービームパルスを発生させるが、それは、しかしながら、ダイオードビーム４５の幅に等しいものであることを必要とするものではない。図４において、隣接するものであるフォーカスレンズ６’’が、また、部分的に照明されたものである一方で、放出されたレーザービームパルスは、フォーカスレンズ６’にアドレスするものである。原則として、これは、三つのフォーカスの点に至るであろう。個々の光学的なファイバーにアドレスすることというような、いくつかの場合には、これは、望ましいものであるのではない。しかしながら、特には、類似の様式で毛をカットすること又は皮膚を取り扱うことというような、ＬＩＯＢの現象を使用することの場合には、フォーカスレンズ６’’が、完全に“充填された”ものであるのではないという事実は、これらの追加的なフォーカスの点における合計の強度が、レンズ６’と関連させられた主要なフォーカスの点におけるものと比べて（はるかに）より少ないものであることを意味する。よって、ＬＩＯＢは、起こるのではないことになると共に、損傷は、されたものであることを必要とするものではない。このような場合には、レーザーパルスビームの幅は、レンズ６’，６’’の直径と比べてより大きいものであることがある。あるいは、ビームに関するレンズ６’，６’’のアドレスすることは、極度に正確なものであることを必要とするものではない。さらには、いずれの実際的な状況においても、あるものは、レンズ間のスペースであることになるが、それは、次にはまた、固有の安全性のゾーンを形成する。適切なレンズ間のデッド・スペースは、例．レンズ及びダイオード（又は他の光源）の数、レンズの直径に、及び、要求された安全性の水準に、依存することがある。例については、レンズのデッド・スペースは、レンズの数及びダイオードの数の比倍のレンズの半径に等しいものにとられたものであることができるであろう。あるものがレンズであるのと同じくらい多数のダイオードの場合においては、要求されたデッド・スペースは、（最も少ないときで）一つのレンズの半径であることができるであろう。類似の計算は、全ての状況についてなされたものであることがある。
【００９４】
また示されたものは、いずれの追加的な特徴も無しに、ビームスプリッター５である。このようなビームスプリッターは、図５及び６との関連において下に説明されたものであることになるのように、検出の目的について使用されたものであることがある。
【００９５】
図５は、線図で、当該発明に従った検出デバイスを示す。
【００９６】
それは、これの場合には二つの、ビームスプリッターの表面５０−１及び５０−２を備えた、偏光ビームスプリッター５を含む。さらには、検出システム６０は、ピンホール６２及びレンズ６３の後部におけるシリコン光検出器６１を含む。皮膚７０における毛７１から戻るものである放射は、ビーム７５へと形成されたものである。
【００９７】
自由選択のアドレッシングダイオード７を備えた、検出デバイスにおいて、ポンプダイオード１４は、シマーモードへとレーザー材料をもってくるために使用されたものであるが、それにおいては、それは、ｃｗの放射を放出する。これの放射は、好ましくは最初の偏光状態を有するものである、皮膚７０に入ることができる。これの放射は、皮膚の様々な部分によって、最も少ないときにおいてそれの表面によるものはないが、しかしまた毛７１によって、反射させられた及び散乱させられたものである。これの毛からの放射は、偏光依存性のものであるところの確率で戻る。偏光に独立な、いずれの場合にも、いくらかの放射は、フォーカスレンズ６を通じてレーザー材料１まで戻ることになる。レーザー材料１が、シマーモードにおけるものであるので、それは、ビーム７５において、入ってくるものである放射を増幅することになる。これのビームは、界面５０−１及び５０−２で最も少ないときで部分的に反射させられたものであると共に、再度レーザー材料１を通過するが、それによってそれは、再度増幅されたものである。検出器デバイスが、また、例．単一の界面５０−１のみが提供されたものであるであろうとき、レーザー材料の右へ提供されたものであることができるであろうことに留意すること。あるいは、界面５０−１、５０−２、…のより入り組んだパターン及び／又は追加的なミラーは、いそうより多い増幅を備えた経路を作り出すために、提供されたものであることができるであろう。
【００９８】
いずれの場合においても、増幅された放射７５は、そして、レンズ６３、ピンホール６２を通過すると共に、光検出器６１に入射するものである。ピンホール６２が、背景の放射の大きいフラクションを拒絶すると共に、戻るものである放射が、増幅されたものであるので；信号対雑音比は、改善されたものである。欧州特許出願ＥＰ０６１２５９１５．６において記載されてきたものであるような、及び、図６との関連においてさらに解明されたものであることになるところの、皮膚に入射する放射の偏光の望ましい状態の使用がなされたものであるとすれば、これは、さらに改善されたものであることがある。このように得られた検出デバイスは、相対的に大きい深さまで、及び、良好な感度で、毛、又は皮膚というような材料において埋められた他の構造、を検出することの良好な能力を示す。
【００９９】
バイアスが、シマーモードからのｃｗの放射のおかげで、光検出器６１によって測定されたものであることになることに留意すること。しかしながら、測定された信号からこれのバイアスを減ずることは、簡単なことであることになる。事実上、これのバイアスは、良好な使用に置かれたものであることになる。デバイスは、一般的に、シマーモードが、例．反転準位に関して、一定なものに保たれたものであるというように、光検出器からのバイアス信号で、ポンプダイオード１４というような、光学的なポンプを制御するために配置されたものであることがある。それは、測定の確度を増加させる。
【０１００】
デバイスが、さらに、アドレッシング（又はパルス）ダイオード７を含むとき、デバイスは、レーザー処置デバイスであることになると共に、例．ＬＩＯＢ又は同様のものを伴って、毛をカットする為には、また望まれた位置でレーザーパルスを提供するために使用されたものであることがある。それに対して、一度毛の位置が、検出されてきたものであると、レーザーパルスは、ダイオード７を有することによって発生させられたものであると共に、最も少ないときで望まれた場所で、シマーモードからレーザーモードまでレーザー材料１をもってくるための追加的なエネルギーを供給することがある。これの望まれた場所は、検出された毛の位置の手段によって決定された及びアドレスされたものであることがある。そして、レーザーパルスは、検出された毛の位置に到達すると共に、それをカットする。レーザーパルスの反射させられた部分に対して検出器を保護する為には、レーザーパルスが、例．ピンホール６２を閉じることによって、発生させられたものであるとき、検出器システム６０を遮断するところの、シャッターは、中に築かれたものであることがある。
【０１０１】
図５のデバイスは、シェービングのために皮膚にわたって動かされたものであることがある。そして、デバイスは、毛を検出することがある。フォーカスレンズ６は、可動なものであることがあるが、しかし、またレンズのアレイであることができるであろうが、それは、デバイスが動かされたものである一方で、皮膚をスキャンする為には、その上、例．往復運動するものであるように又は回転するものであるように、動かされたものであることができるであろう。
【０１０２】
可動な又はそうではない、アドレッシングダイオード７の代わりに、デバイスは、また、例．可動なミラー３０及びスキャニングレンズ３２を備えた、図３に類似のセットアップを含むことができるであろう。
【０１０３】
図６は、線図で、図５に示された検出デバイスの代替の実施形態の断面の図を示す。
【０１０４】
これの実施形態は、四分の一波長板８０及びＦａｒａｄａｙ回転子８１を介した、二つの追加的な部分を含む。
【０１０５】
Ｆａｒａｄａｙ回転子は、回転子を通じた進行の方向に依存するものであるが時計周りに又は反時計回りに４５°にわたって線形に偏光させられた光の方向を回転させる。四分の一波長板８０は、円形に偏光ささせられた放射へＦａｒａｄａｙ回転子による出力として線形の偏光を変換すると共に、逆もまた同じである。ＥＰ０６１２５９１５．６に記載されたように、これは、皮下の毛から戻るものである放射についての感度をさらに増加させることが有用なものである。これの方式において、組織によって送達された交差偏波させられた後方散乱された光は、波長板を通過することの後に、入射する光と平行に有効に偏光させられたものであることになる。逆の方向にＦａｒａｄａｙ回転子を通過することによって、光は、レーザーキャビティーから発するものである光と比較されたものであるが、有効に交差偏波させられたものであることになると共に、よって、検出システム６０によって検出されたものであるための偏光ビームスプリッター５によって分離されたものであることになる。いずれの場合においても、これの検出デバイスは、それが、円形に偏光させられた光を放出すると共に検出するために配置されたものであると共に当該発明に従った検出デバイスを含む、即ち、シマーモードにおけるレーザー材料を使用するものである光増幅器を含むように、非常に良好な感度を示す。
【０１０６】
デバイスが、追加的にレーザーの閾値より上のレーザー材料１を励起するものであるための放射源を含むとすれば、図６のデバイスは、また、図５との関連において記載されたものに類似の、レーザー処置デバイスであることができるであろう。再度、レーザー処置デバイスは、毛が検出されてきたものであるところの位置にレーザーパルスを提供するために配置されたものであることができるであろう。
【０１０７】
図３−６に示されたデバイスは、皮下で毛を検出すること及び／又はカットすること及びそのようなものに使用されたものであることがあると共に、そして、検出デバイス及び／又はレーザー処置デバイス、特定のものにおいては毛の検出及び／又は処置デバイス、と呼ばれたものであることがある。都合良くは、これらのデバイスは、そのとき、検出デバイスによって作られたイメージから毛を検出すると共に認識するために配置されたものであるところの、毛の認識デバイスを含む。例については、毛を認識するための、デバイスに含まれた制御ユニットにおける、適切なソフトウェア又は同様のものは、当技術において知られたものである。さらには、毛をカットするものであるためのレーザー処置デバイスは、このような検出の特徴を含むものであることができるであろう。ＬＩＯＢに基礎が置かれたデバイスは、また、毛をカットすることができるであろう。それに対して、適切な数のパルスダイオードをアドレスすることによって、又は、レーザー材料の適切なエリアにわたって、なされたものであることがあるもののように、放出されたレーザーパルスにおいて伴われたレーザー材料の体積の大きさを制御するために配置された制御デバイスというような、パルスエネルギー制御デバイスは、包含されたものであることができるであろう。
【０１０８】
本発明は、ある数の例示的な実施形態に対する参照と共に記載されてきたものである。範囲は、しかしながら、それらに限定されたものであるとするべきではないものであるが、しかし、添付された請求項の手段によってむしろ決定されたものであるべきである。
【図１】
2010525556.tif 000003
【図２】
2010525556.tif 000004
【図３】
2010525556.tif 000005
【図４】
2010525556.tif 000006
【図５】
2010525556.tif 000007
【図６】
2010525556.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成21年9月30日(2009.9.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
発明の概要
当該発明の上記の目的は、第一の態様において、レーザービームが放出可能なものであるところの表面を備えたレーザー材料、及びキャビティーミラーの間のレーザーキャビティーにおける飽和可能な吸収体を含むものであるＱ−スイッチを有するものである、レーザーデバイスを提供すること、前記されたレーザー材料が、増幅された自発的な放出が、前記レーザーデバイスのレーザー出力の無いものでｃｗ放射モードにおいて起こることになるところのシマー閾値及び前記されたＱ−スイッチが、前記レーザーデバイスのレーザーパルスの出力が起こることを可能とするものである高い吸収の状態から低い吸収の状態へ切り替わることになるところのレーザー閾値を有すること；ポンプ手段によって前記されたシマー閾値より上の及び前記されたレーザー閾値より下のレーザー材料へエネルギーを供給することによってシマーモードへとレーザー材料をもってくること；全体的なレーザー材料と比べてより少ない、レーザー材料の望まれた可変の部分のみにおいて前記レーザー閾値が超過させられたものであると共に、レーザービームが前記された表面の望まれた可変の部分のみから放出されたものであるというように、追加的なエネルギーの制御可能な源の手段によってレーザー材料へ追加的なレーザー材料の吸収可能なエネルギーを供給することを含むものである、レーザービームを発生させることの方法で、達成されたものである。当該発明は、レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレーザービームの発生を許容する。これは、それが、様々な望まれた位置におけるビームの発生を許容するので、柔軟性を増加させる。これは、このような効果が、位置に依存性のものになされたものであるとすれば、順番に様々なその後の効果を許容する。最も単純な例は、もちろん、レーザービームのエネルギーが、位置に依存して放出された又は供給されたものであるためのものであるところのものであるが、それの場合には、先行の技術のデバイスが、例．位置決めするものであるミラー又は同様のものの形態における追加的な及び可動な部分を要求するであろう。本発明の使用のさらなる例は、以下に与えられたものであることになる。別の利点は、レーザー材料の部分のみ、即ち、全部のレーザー材料と比べてより少ない部分が、レーザーパルスを発生させるために使用されたものであるということである。さらには、レーザービームの発生が、分配されたものであるので、全体的なレーザー材料にわたるレージングに対して比較された、レーザー材料内における同じ位置についての二つのパルスの間における平均の時間は、増加させられたものである。よって、ポンピングの強度は、より低いものであることがあると共に、材料における温度制御は、より簡単なものになされたものであると共に、レーザー材料の耐用寿命は、増加させられたものであることがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
当該発明は、特定のものおいては、キャビティーミラーを備えた、並びに、レーザービームが放出可能なものであるところの表面を有するものであるレーザー材料及びレーザーキャビティーに位置決めされた飽和可能な吸収体を含むものであるＱ−スイッチを備えた、レーザーキャビティー、前記されたレーザー材料が、増幅された自発的な放出が、前記レーザーデバイスのレーザー出力の無いものでｃｗ放射モードにおいて起こることになるところのシマー閾値及び前記されたＱ−スイッチが、前記レーザーデバイスのレーザーパルスの出力が起こることを可能とするものである高い吸収の状態から低い吸収の状態へ切り替わることになるところのレーザー閾値を有すること；ポンプ手段によって前記されたシマー閾値より上の及び前記されたレーザー閾値より下のシマーモードへとレーザー材料をもってくるためにレーザー材料へエネルギーを供給するできるものであると共にそうするために配置されたポンプ手段；並びに、全体的なレーザー材料と比べてより少ない、レーザー材料の望まれた可変の部分のみにおいて前記レーザー閾値が超過させられたものであると共にレーザービームが前記された表面の望まれた可変の部分のみから放出されたものであるというように、レーザー材料の吸収可能なエネルギーをレーザー材料に供給するために配置された、追加的なエネルギーの制御可能な源を含むものである、レーザーデバイスに関係する。このようなデバイスは、特定のものにおいては、当該発明に従った方法を行うことに適切なものであると共に、最も少ないときで上にすでに述べられた利点を提供する。従って、好都合な実施形態は、可能性のあるところでは、上記の方法の記載の対応するものである部分を読者に参照させることで、手短にのみ議論されたものであることになる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
好ましくは、光学的なシステムは、可動なレンズ、又は、前記レーザーデバイスによって個々にアドレス可能なものであるところの及び必ずではないが可動なものであるところの複数のレンズ、を含む。これは、位置決めすることに対する柔軟性を追加する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
発明の目的
本発明の目的であるものは、増加させられた柔軟性、特定のものにおいてはビームの性質に関してのもの、を備えたレーザービームを発生させるものであるための方法及びデバイスを提供することである。
発明の概要
当該発明の上記の目的は、第一の態様において、レーザービームが放出可能なものであるところの表面を備えたレーザー材料、及びキャビティーミラーの間のレーザーキャビティーにおけるＱ−スイッチを有するものである、レーザーデバイスを提供すること、レーザー材料へエネルギーを供給することによってシマーモードへとレーザー材料をもってくること、レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレージング閾値が超過させられたものであると共に、レーザービームが前記された表面の望まれた部分のみから放出されたものであるというように、レーザー材料へ追加的なレーザー材料の吸収可能なエネルギーを提供することを含むものである、レーザービームを発生させることの方法で、達成されたものである。当該発明は、レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレーザービームの発生を許容する。これは、それが、様々な望まれた位置におけるビームの発生を許容するので、柔軟性を増加させる。これは、このような効果が、位置に依存性のものになされたものであるとすれば、順番に様々なその後の効果を許容する。最も単純な例は、もちろん、レーザービームのエネルギーが、位置に依存して放出された又は供給されたものであるためのものであるところのものであるが、それの場合には、先行の技術のデバイスが、例．位置決めするものであるミラー又は同様のものの形態における追加的な及び可動な部分を要求するであろう。本発明の使用のさらなる例は、以下に与えられたものであることになる。別の利点は、レーザー材料の部分のみ、即ち、全部のレーザー材料と比べてより少ない部分が、レーザーパルスを発生させるために使用されたものであるということである。さらには、レーザービームの発生が、分配されたものであるので、全体的なレーザー材料にわたるレージングに対して比較された、レーザー材料内における同じ位置についての二つのパルスの間における平均の時間は、増加させられたものである。よって、ポンピングの強度は、より低いものであることがあると共に、材料における温度制御は、より簡単なものになされたものであると共に、レーザー材料の耐用寿命は、増加させられたものであることがある。
レーザー材料、しばしば、しかし必ずではないものである、レーザー結晶は、好ましくは実質的に連続的に、エネルギー、例．レーザー材料によって吸収可能なものであるところのエネルギー、を供給することによって励起されたものであることがある。一般には、それは、そして、基底状態へ逆戻りに蛍光を発することになる。より多いエネルギーが、供給されたものであるとすれば、あるものは、シマー閾値が到達されたものであるまで、より多い及びより多い励起（並びに蛍光）であることになるが、Ｑ−スイッチがなおもそれに入射する放射の過剰に多いものを吸収するので、まだレーザーの出力がないとはいえ、それにおいては増幅された自発的な放出が起こることになる。その後、体積の一部分が、十分なエネルギーと共に提供されたものであるとすれば、後に続くものである現象は、起こることになる。最初に、追加的なエネルギーは、レーザー材料によって吸収されたものであると共に、増加させられた自発的な放出は、反転準位が、レーザーの閾値より上に上昇させられたものであるという理由で、達成されたものである。そして、発生させられた強度は、最も少ないときでレーザーの材料のそれの部分に対応するものであるＱ−スイッチの部分において、高い吸収の状態から低い吸収の状態まで切り替わることになるというようなものである。これは、発生させられた放射が、今、今まで増加するものである強度で後方に及び前方に反射させられたものであることになると共に、シマーモードにおいて蓄積されたものであったところのエネルギーを解放するものであるので、レーザーの機能が起こることを可能とする。結果は、短いものであるがしかし高いパワーのレーザーパルスであることになる。それの後で、ポンピングは、再度、シマー状態へレーザー材料の関連性のある部分をもってくることになると共に工程は、十分なサイクルにまできたものである。上に記載されたような受動的なＱ−スイッチは、特定のものにおいては、飽和可能な吸収体のＱ−スイッチである。
好ましくは、Ｑ−スイッチは、レーザービームが放出されたものであるためのものであるところのレーザー材料の表面の反対に位置決めされたものである。これは、シマーモードにおいて放出された放射の使用を許容する。
上記において、“対応するものである”は、究極的には放出されたレーザービームの経路にあるものであるところのレーザー材料の部分に関係するが、それは、レーザービームのエネルギーの一部分を供給する。
スタートにおいて、増幅された自発的な放出が、全ての方向において起こるが、しかし、Ｑ−スイッチ、又はレーザー材料の側部の面が、それの放射の大部分を停止させることを留意すること。スイッチングの閾値が、超過させられたものであるとすれば、そのときのみ、レージングは、スタートすることがある。これは、追加的に励起された体積に最も近いＱ−スイッチの部分についての場合であることになる。これは、自動的に、ビームの幅を限定する。ここでの一般的な所見は、供給された追加的なエネルギーが、レーザーの波長を有することを必要とするものではないということであると共に、そのよういに、レーザーの工程それ自体と干渉するものではない。
ある者は、それの部分のみが、レーザーモードにもってこられたものであるので、レーザー材料内におけるレーザーの発生の上記のことを考えることがある。
実施形態において、追加的なレーザー材料の吸収可能なエネルギーは、レーザー材料の複数の望まれた部分においてレージング閾値が超過させられたものであるというように、レーザー材料へ供給されたものであると共に、レーザービームは、前記された表面の前記された複数の望まれた部分から放出されたものである。ここにおいて、複数の部分は、好ましくは、このような実施形態が排除されたものであること無しに、レーザービームを放出することができるところのレーザーデバイスの表面と比べてより小さいものであるところの合計の断面の面積を有するが、しかし、より後のものは、単に、合計のレーザー材料について十分なレーザーの動作ということになる。
特定のものにおいては、シマーモードへとレーザー材料をもってくることのステップは、供給されたエネルギーの入力のパワーを制御することによって制御されたものである。これは、レージングモードへと偶然に行くことから、又はシマーモードの外に届くことから、レーザー材料を予防する。これの制御ステップは、シマーモードにおいて放出された放射を測定することによって成し遂げられたものであることがある。これは、それぞれ、シマー閾値及びレーザー閾値における値を限定することに対応するものである値の間に存するためになされたものであることがある。
シマーモードへとレーザー材料をもってくることのステップは、ポンプ手段、特定のものにおいては光学的なポンプ、の使用と共に行われたものであることがあるが、それは、適切な波長及びパワーの放射を放出するものである、一つの又はより多い光源、特定のものにおいては（レーザー）ダイオード又はポンプレーザー、を含むことがある。ポンピングは、ポピュレーションの反転のいくつかの準位を達成する為に原子、分子など、の励起させることを指すと共に、それ自体は、当技術において十分に知られたものである。ポンピングは、電気の流れを供給することによるもの又は化学的な反応によるものというような適切な光学的なエネルギーを供給することと比べて他の方式で行われたものであることができるであろう。
追加的なエネルギーを供給することのステップは、レーザー材料の望まれた部分においてフォーカシングさせられたものであるところの放射の、ビーム、好ましくは一つの又はより多いパルス、を提供することを含むことがある。これは、フォーカシングさせることが、望まれた一を制御するので、原則として、レーザー材料の外側のどこからでもされたものであることがあるが、しかし、好ましくは、生じさせられたものであるためのレーザービームに関して、レーザー材料の側部の表面から提供されたものである。エネルギーのこのような提供は、レンズというような、フォーカシングさせるものである素子との組み合わせで、パルス化されたダイオード、フラッシュランプ、などのものというようなパルス化された光源と共に行われたものであることがある。フォーカスを目指すことは、アドレス可能なミラー及びそのようなものによって成し遂げられたものであることがある。
あるいは又は加えて、レーザービームが放出されたものであるためのものであるところのレーザー材料の表面に関して又はそれの反対に、側部の表面から、レーザー材料へ追加的なエネルギーの最も少ないときで一つのパルスを方向付けることは、可能性のあることである。これの追加的なエネルギーは、フォーカシングされたものであることを必要とするものではないが、それは、それが、より少ない光学部品などものものを要求するという理由で、好都合なものである。例は、再度、パルス化されたダイオード、パルス化されたレーザー、及びそのようなものである。ここでは、パルスは、レーザー材料によって多数の回数で増幅されたものであるが、そのように、パルスは、弱いものであることができると共に、事実上、シマー準位からレーザー閾値を超えるところまで反転準位を増加させることに十分に強いものであることのみを必要とする。追加的なエネルギーは、好ましくは、レーザー材料の望まれた断面の部分を交差させるところの実質的に平行なビームにおいて供給されたものであるが、しかし、必ずではないものである。レーザー材料の意図されたレーザービームの出力の面は、簡単に決定されたものであると共に、しばしば、Ｑ−スイッチが位置決めされたものであるところの側である。これは、しばしば、レーザーキャビティーの高い反射率の側の反対の側を含む。他の言葉では、追加的なエネルギーは、今、高い反射率のミラーの側における入力である。しかし、これの高い反射率は、レーザーの波長を、及び必ずではないものであるが追加的なエネルギーを、保持する。
追加的なエネルギーを位置決めするために、即ち、レーザー材料による出力としての発生させられたレーザーパルスの、望まれた出力の位置、又は複数の位置、を選択するために、追加的なエネルギーの源は、制御可能なものである、他の言葉では、追加的なエネルギーは、制御可能に提供されたものである。例については、源は、ダイオードのマトリックスというような、複数の個々に制御可能な副次的な源を含む。あるいは、源は、レーザー材料において追加的なエネルギーを位置決めするための、旋回可能なミラー、及び自由選択でレンズ、又はフォーカシングミラーというようなビームを位置決めするものであるデバイスを備えた源を含むことができるであろう。
当該発明は、また、媒体における対象、特定のものにおいは皮膚における毛、を検出するものであるための光学的な検出方法に関係するが、方法は、好ましくは当該発明の上記の態様に従った方法で、シマーモードへともってこられたものであるところのレーザー材料の手段による光学的なシマー放射を提供すること、及び光学的な検出器で戻るものである放射を検出すること、を含むものであるが、それにおいては、前記された戻るものである放射は、シマーモードにおいてレーザー材料を通じてガイドされたものであると共にそれによって増幅されたものである。ここにおいては、シマー放射の、及び特定のものにおいは戻るものである放射がレーザー材料において増幅されたものであることになるという事実の、良好な使用は、なされたものである。他の波長を有するものである、外部の源からの、他の背景の放射は、増幅されたものであるのではないことになる。今、単純なシリコンフォトダイオードの使用は、なされたものであることがあるが、それは、例．アバランシェフォトダイオードと比べて、これらが過剰に使用されたものでることがあるとはいえ、より少ない複雑なものであると共により安いものである。
レーザー材料を通じて放射をガイドすることのステップは、より好ましくはミラー、プリズム、又はビームスプリッターの手段によって、一度と比べてより多くレーザー材料を通じて進むために放射を再方向付けすることのステップを含む。これは、追加的に、戻るものである放射を、及び、背景の放射を比べてより多いものを、強調する。ビームスプリッターは、さらに、検出器に向かって選択された放射をガイドするために使用されたものであることがある。
実施形態において、方法は、光学的なシマー放射を偏光させることのステップを含む。特に、検出ステップは、戻るものである放射に関して交差偏波させられたものであるところの放射を拒絶することを含む。いっそうより多く特に、偏光は、円形の偏光、又は最も少ないときで１：１及び１：２の間における軸の比を備えた楕円の偏光、である。偏光させられた光の使用は、皮膚の表面で反射させられた放射及び、例．皮下の毛で散乱されたものであるところの放射の間で見分けることを許容する。さらには、円形に、又は過剰に極度に楕円形にではない、偏光させられた光は、ＥＰ０６１２５９１５．６に記載されたように、光学的な検出においていっそうより有用なものである。
好都合な方法は、さらに、最も少ないときで一つのレーザービームが最も少ないときで一つの毛の位置へ放出されたものであるというように、最も少ないときで一つの毛の位置を検出すること、及び、レーザー材料において最も少ないときで一つの位置において追加的なエネルギーを提供することを含む。これは、それらの利点を組み合わせることによって、シマーモードにおいてレーザー材料を使用するところの上に記載された検出方法、及び、またシマーモードにおいてレーザー材料を使用するところの当該発明の第一の態様の方法、の非常に得策な組み合わせである。
当該発明は、特定のものおいては、キャビティーミラーを備えた、並びに、レーザービームが放出可能なものであるところの表面を有するものであるレーザー材料及びレーザーキャビティーに位置決めされたＱ−スイッチを備えた、レーザーキャビティー、シマーモードへとレーザー材料をもってくるためにレーザー材料へエネルギーを供給するできるものであると共にそうするために配置されたポンプ手段、並びに、レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレージング閾値が超過させられたものであると共にレーザービームが前記された表面の望まれた部分のみから放出されたものであるというように、レーザー材料の吸収可能なエネルギーをレーザー材料に供給するために配置された、追加的なエネルギーの制御可能な源を含むものである、レーザーデバイスに関係する。このようなデバイスは、特定のものにおいては、当該発明に従った方法を行うことに適切なものであると共に、最も少ないときで上にすでに述べられた利点を提供する。従って、好都合な実施形態は、可能性のあるところでは、上記の方法の記載の対応するものである部分を読者に参照させることで、手短にのみ議論されたものであることになる。
ここにおいては、“制御可能な光源”は、レーザー材料の制御された部分において、光を、即ち、必ずではないが可視の光学的な放射を、放出するために配置されたものであるところの光源である。これは、固定されたもの又はオン−オフのみであることができるであろう、又は、位置に関して可変なものであることができるであろう。
特定のものにおいて、Ｑ−スイッチは、高度に吸収性の状態から高度に透過性の状態まで行くことができるものである、飽和可能な吸収体というような、受動的なＱ−スイッチであることがある。Ｑ−スイッチは、好ましくは、意図されたレーザービームの出力の方向から離れて面するところのレーザー材料の側に位置決めされたものである。これの方式において、シマー放射は、レーザーの出力で処置されたものであるための対象を照明することというような、望まれた目的に使用されたものであることがある。
ポンプ手段は、電気的な場又は同様のものを通じてエネルギーを追加するものである、電気的なポンプというような、いずれの適切なタイプのものであることがある。都合良くは、ポンプ手段は、これが、ポンピングにわたる簡単な及び汎用の制御を許容するので、光学的なポンプを含む。光学的なポンプは、レーザーダイオードというような、一つの又はより多いダイオード、相対的に低いパワーを有することがあるところのポンピングレーザー、及びそのようなものを含むことがある。波長及びパワーは、レーザー材料が、シマー閾値より上の、しかし、レーザー閾値より下の、適切なポピュレーションの分配へポンピングされたものであるというようなものであることがある。
類似して、追加的なエネルギーの源は、レーザーダイオードというような、一つの又はより多いダイオード、相対的に低いパルスエネルギーを備えた、パルス化されたレーザー、フラッシュランプ、及びそのようなものを含むことがある。追加的なエネルギーの源は、好ましくは、実質的に平行なビームにおいて又はフォーカシングさせられたビームにおいてエネルギーを供給するために配置されたものである。
追加的なエネルギーの源は、レーザー材料の側に、即ち、レーザービームの経路と交差させるものではない側に、位置決めされたものであることがある。それの場合には、源は、レーザー材料の断面のエリアと比べてより小さいビームにおいてか又は好ましくはフォーカシングさせられたビームにおいてかのいずれかで、追加的なエネルギーを供給するものであることがある。源は、また、レーザー材料の、前方の表面又は、都合良くは後方の表面、即ち、レーザー材料によってレーザー放射の出力に対して実質的に垂直なものであるところの表面、を通じて追加的なエネルギーを供給することがある。
追加的なエネルギーの源は、それが、（レーザー）ダイオードのマトリックスというような、複数の独立にアドレス可能な放射源、又は、別個のシャッター又は同様のものを備えた一つの若しくはより多い放射源、を含むという点で、制御可能なものであることがある。提供されたものが、放射源及び、制御可能なミラー又はミラーのセット、及び／又は、一つの又はより多いレンズというような、制御可能なビームをガイドするものであるデバイスであることは、また可能性のあることである。
上に記載されたような当該発明に従った方法及びデバイスの用途は、非常に多くのものであることができる。
第一の例として、レーザーパルスデバイスの柔軟な及び速いアドレッシングは、可能性のあることである。事例については、光学的なファイバーの束が、提供されたものであるとすれば、追加的な放射の一つの又はより多い関連させられた源を対応してアドレスすることによって束の一つの又はより多い選択されたファイバーを通じてレーザーパルスを送ることは、可能性のあるものになる。これは、光学的なコンピューターにおいて情報を伝達すること又は計算を行うことにおいて価値のあることを立証することがある。
第二の例は、本発明の別の態様との関連において、下に詳しく述べられたものであることになる。
これの態様は、レーザービームパルスを提供するために配置されたレーザー源、フォーカスのスポットにレーザービームパルスをフォーカシングさせるものであるための及びターゲットの位置においてフォーカスのスポットを位置決めするものであるための光学的なシステムを含むものである、レーザーに基礎が置かれた毛を取り除くものであるデバイスに関係するが、それにおいては、レーザー源は、当該発明に従ったレーザーデバイスを含む。これのデバイスは、望まれた場所、これの場合には特定のものにおいては毛、へのレーザーパルスの供給することを制御する為に局在化されたビームの発生を使用することがある。
好ましくは、光学的なシステムは、可動なレンズ、又は、必ずではないが可動なものであるところの複数の個々にアドレス可能なレンズ、を含む。これは、位置決めすることに対する柔軟性を追加する。
特定のものにおいては、レーザー源は、予め決められたパルスの時間を備えたレーザービームパルスを提供するために配置されたものであると共に、フォーカスのスポットの寸法及び発生させられたレーザービームパルスのパワーは、フォーカスのスポットにおいて、レーザービームパルスが、それの予め決められたパルスの時間の間における毛の組織についてのレーザーに誘起された光学的な破損（ＬＩＯＢ）の閾値より上にあるものであるところのパワー密度を有するというようなものである。
これのデバイスは、それが、よりコンパクトなもの及びより効率的なものに保たれたものであることがあるという、ＷＯ２００５／０１１５１０に開示されたものというような知られたデバイスにわたる、利点を提示する。特には、光学的なシステムは、ＬＩＯＢについて非常に小さいフォーカス及び高いＮＡの組み合わせが要求されたものであるので、はるかにより小さいものに保たれたものであることがある。これは、要求された光学的な質を保証するために大きいレンズを要する。一方の方面において、光学的なシステムの後のビームマニピュレーター（時々、ポスト対物系のスキャニング呼ばれた）として可動なミラーを備えたデバイスは、それの望ましい高い開口数（ＮＡ）及び関連させられた急速に収束するものであるビームのおかげで、レーザービームをフォーカシングさせるための光学的なシステムと干渉するものであるミラーを欠点としてもつ。他方の方面において、マニピュレーターミラーが、光学的なシステムの前に位置決めされたものである（又はプレ対物系のスキャニング）ところの構成を備えた他のデバイスは、このような高い開口数で非常に限定されたものである視野のおかげで、非常に大きい直径のレンズを必要とする。例については、約２０ｍｍのスキャンされた（即ち、取り扱われた）ものであるためのエリアについて、レンズは、例示的な適切なＮＡについて直径において約２００ｍｍであることを必要とするであろう。本発明に従ったデバイスは、望まれたスキャンのエリアにわたってレーザービームパルスを分配することによって、当該発明の第一の態様に記載されたレーザーデバイスの手段によって、及び、可動なレンズ又は複数の個々にアドレス可能なレンズを提供することによって、これの問題を克服する。
可動なレンズは、スキャンのエリアにわたって動かされたものであることがある。ターゲットの位置にフォーカシングさせられたものであるためのレーザービームについての適切な位置において、レーザービームパルスは、提供されたものである。それのレーザービームが、レーザー材料の表面のエリアの制御可能な部分のみを通過するという理由で、可動なレンズを通じてのみ行くために、及びこのようにビームの部分がレンズを迂回することを予防するために、ビームを限定することは、簡単なことである。
複数の個々にアドレス可能なレンズの場合には、望まれた単数のレンズ又は複数のレンズは、レーザービーム（パルス）でアドレスされた、即ち、それが供給された、ものである。これの場合には、レンズは、追加的な柔軟性が、それらがそうであるとき達成されたものであるとはいえ、可動なものであることを必要とするものではない。
当該発明に従ったデバイス及び方法の特別な利点は、シマーモードにおけるレーザー材料の使用に関係する。シマーモードにおけるレーザー材料が、すでに、高いポピュレーションの反転を有するという理由で、到達させられたものであるためのレーザー閾値について追加的に必要とされたエネルギーは、非常に小さいものであると共に、良好に定義された及び短いパルスにおいて与えられたものであることができる。これは、レーザーのタイミングにわたる、及びよってまた可動なレンズを通じて放出されたようなレーザービームパルスの精密な位置にわたる、緊密な及び正確な制御を許容する。他の言葉では、レンズは、十分に正確な位置の制御を有する為に停止さえられたものであることを必要とするものではない。これは、そのときはるかにより多い時間が、図２に可視のものであるように、必要とされたものであるという理由で、トリガーパルスのみで基底状態からレーザーモードまでもってこられたものであるところのレーザー材料に対する対照にあるものである。レーザーパルスの現実のスタートについての関連させられた不確定性は、これの時間的な、及びこのように空間的な、確度を減少させる。
好ましくは、追加的なエネルギーの供給を通じた、望まれたレーザービームパルスの発生及びフォーカスのスポットの位置決めすることが、結合させられたものであるというように、レーザーデバイス及び光学的なシステムを制御するところの制御ユニットは、提供されたものである。他の言葉では、制御ユニットは、レーザービームパルスが、レーザー材料における適切な位置で発生させられたものであること、及び、光学的なシステムが、望まれたターゲットの位置における結果として生じるものであるフォーカスのスポットを位置決めするために配置されたものであること、を保証するために配置されたものである。複数の固定されたレンズが使用されたものである場合には、これの位置決めすることは、追加的なエネルギーを供給するものであるための位置が、もちろんまた、最終的なフォーカスのスポットの位置における影響を有するとはいえ、能動的な動きであるものではない。レーザー材料における位置及び光学的なシステムにおける一つの又はより多いレンズの位置の間における知られた関係は、実験的な試行錯誤が、また満足な結果に至ることができるであろうとはいえ、これの制御において有用なものである。
一般的なものにおいては、ＬＩＯＢは、フォーカスのスポットにおけるレーザービームのパワー密度が、特定の媒体の特性であるところの閾値を超過するとき、媒体において起こる。閾値より下で、特定の媒体は、レーザービームの特定の波長について相対的に低い線形の吸収の性質を有する。閾値より上に、媒体は、波長についての強く非線形の吸収の性質を有するが、それらは、例．多光子吸収のおかげで、媒体のイオン化及びプラズマの形成の結果である。ＬＩＯＢの現象は、キャビテーション及び衝撃波の発生というような、ある数の機械的な効果に帰着するが、それらは、ＬＩＯＢの現象の位置を囲むものである位置において媒体（毛の組織）を損傷させる。ＬＩＯＢの現象は、また、文書ＷＯ２００５／０１１５１０に述べられてきたものであるが、それは、シェービングデバイスに関係する。
ＬＩＯＢ、及び本発明に従ったデバイスの使用が、皮膚のタイプ又は毛のタイプに依存性のものであるのではないことは、留意されたことである。ＬＩＯＢは、非線形の吸収に頼ると共に、皮膚のタイプ及び毛のタイプに独立なものである。事実上、本デバイスは、色黒い皮膚、色黒い毛、及び無色の産毛の毛でさえもそれらのみならず色白の皮膚について使用されたものであることがある。
毛の組織及び皮膚の組織は、おおよそ５００ｎｍ及び２０００ｎｍの間における波長について透明な及び半透明なものである。散乱することのみならず組織の線形の吸収は、ＬＩＯＢについて可能性のあるものであるために十分に低いものである。特に、レーザービームの波長は、８００ｎｍ及び１４００ｎｍの間に、より特定のものにおいて１０００及び１１００ｎｍの間に、あるものである。これの範囲内における波長については、線形の吸収の性質及び散乱することの性質は、発生させられたレーザービームのエネルギーの最大の部分が、囲むものである組織において（散乱させられた）エネルギーの非常に小さい部分のみが吸収されたものである一方で、レーザービームのフォーカスのスポットにおいてＬＩＯＢの現象を引き起こすために使用されたものであるというように、最小にあるものである。
ＬＩＯＢに関係するものであるさらなる詳細は、上に述べられた文書の導入の部分に見出されたものであることがある。パワー密度の閾値がパルスの時間に依存性のものであることを述べることは、ここでは十分であることである。例については、１０ｎｓのパルスの時間について、閾値は、文献におけるいくつかの参照が、約２×１０１０Ｗ／ｃｍ２というような、これの場合におけるより低い値を開示するとはいえ、約８×１０１１Ｗ／ｃｍ２である。このような値は、低いエネルギーのレーザーでさえも容易に得られたものであることがある。ピコ秒又はフェムト秒のオーダーにおけるものというような、より短いパルスの時間が、ＷＯ００／６２７００において要求されたような１ｍｓの最小のパルスの時間とは反対に、また有効なものであることに留意すること。レーザーが、固定された又は予め決められたパルスの時間を有することを必要とするものではないことにもまた留意すること。可変なパルスの時間は、また可能性のあるものである。
要求されたパワー密度が、達成されたものであるための結果の点で定義されたものであることは、留意されたことである、特定のものにおいてはレーザービーム及びフォーカシングシステムは、ＬＩＯＢの閾値より上にあるものであるところのフォーカスのスポットにおけるパワー密度を発生させるべきである。しかしながら、理論によってか又は実験によってかのいずれかで得られたものであるところの、前記された閾値の知識と共に、熟練した者は、要求されたパワー密度を達成する為にレーザーパルス及び光学的なシステムを容易に選択することになる。
本発明が、そこではコンパクトさにおけるゲインが非常に際立ったものであるので、高い開口数の光学的なシステムが使用されたものであるとき好都合なものであることは、ここで注目されたことである。ＬＩＯＢを使用するところのレーザーの毛の取り除きのデバイスにおいて高い開口数のレンズを使用することは、それが、ターゲットのエリアを囲むものである皮膚により安全なものであるので、好都合なことである。高い開口数は、フォーカスのスポットの外側にあるものが、損傷させられたものである組織の低減された危険度であるというように、フォーカスのスポットの外側におけるレーザービームの素早い収束及び発散を保証する。特定の実施形態においては、光学的なシステムは、最も少ないときで０．２、好ましくは最も少ないときで０．４、より好ましくは最も少ないときで０．６の開口数を有する。開口数についてのこのような値は、重なるものである皮膚の層、特定のものにおいては表皮、についての安全性に関係する。特定のものにおいては表皮が、メラニンというような多数の発色団を含有するので、表皮における残余の線形の吸収は、無視できるものであるのではない。よって、このような層における、フルエンス、又はエネルギー密度、を十分に低いものに保つことは、好都合なことである。これは、即ち、収束の大きい角度を備えた、よって光学的なシステムの大きい開口数を備えた、強くフォーカシングさせられたレーザービームを提供することによって達成されたものであることがある。そして、レーザービームは、許容可能な範囲内での表皮におけるフルエンスを保つために十分に大きいエリアをカバーする。
上記のものにおいて、可動なレンズ、又は複数の個々にアドレス可能なレンズは、それの可能性が、下に述べられた特徴の各々に包含されたことを考慮されたものであるが、フォーカシング素子として及びフォーカスのスポットを位置決めするものであるためのビームマニピュレーターとしての両方の、二重の機能を有する。しかしながら、フォーカシングのための可動なレンズ及びマニピュレーティングのための別のレンズ若しくはミラーシステム又は同様のものを提供することによってこれらの機能を分割することは、また可能性のあることである。このような実施形態においては、光学的なシステムは、フォーカシングシステム及びビームマニピュレーティングシステムを含む。これらの実施形態は、下に与えられたものであることになる。
特別な実施形態において、デバイスは、好ましくはレンズアレイとして配置された、複数の可動なレンズを含む。これは、より素早いスキャン、及びまた実質的に同じ時間で一つのレーザービームパルスと比べてより多いものを提供すること、を許容する。
実施形態において、デバイスは、可動なレンズ、特定のものにおいてはレンズアレイ、へ揺動するものである、往復運動するものである、又は振動するものである動きを分与するために配置されたものであるところの、レンズムーバー、特定のものにおいてはアレイムーバー、を含む。有用なアレイは、線形のアレイ、スタッガードアレイ、又は同様のものであることができるであろう。例．レンズの複数の相互にシフトさせられた行、を含むものである、スタッガードアレイは、スキャニング又は同様のことが起こるとき、スポットがはずされたものであることを必要とするものではないというように、レンズの行が、他の行のレンズ間のスペースをカバーするという利点を有する。レンズ（アレイ）ムーバーは、いずれの機械的なムーバーの手段又はアクチュエーターのものであることがあるが、適切なタイプは、例．電気機械的な及び圧電性のアクチュエーターであるものである。
別の実施形態において、デバイスは、それぞれ、回転するものである動きを分与するために配置されたものであるところのレンズムーバー若しくはアレイムーバー又は可動なレンズ若しくはレンズアレイを含む。有用なアレイは、好ましくは、穴というような、レンズの無い中央を備えた、円形のアレイであることができるであろう。
実施形態においては、レーザービームを放出することができるものであるところの、レーザー材料、又は最も少ないときでレーザーデバイスの部分は、最も少ないときでスキャニングエリアに等しい、大きさ、又は断面のエリア、を有するべきである。他の言葉では、例．振動するものであるアレイの例において、前記された大きさは、最も少ないときでレンズアレイパルスの大きさプラス振動するものである動きの振幅の二倍であるべきである。類似の考慮は、他のレンズアレイの実施形態について保持する。レーザー材料、例．レーザー結晶、の形状は、矩形の又は円形のロッドというような、類似して適合させられたものである。
当該発明は、また、別の態様において、光学的な検出デバイスに、特にヒトの皮膚の皮下の部分、より特定しては毛、をイメージングすることに、関係する。このようなデバイスは、知られたものである。このようなデバイスでの問題は、皮膚の下から、特定のものにおいては皮下の毛の部分又は同様のものから、戻るものである信号が、相対的に弱いものであると共に、特には、一方の方面において、皮膚に入射する、又はそれの表面によって反射させられた、及び他方の方面において皮下の毛の部分から戻るものである、放射の間における比が、非常に高いものであるということである。これの比を低減する為には、表面の反射及び他の背景の放射からの皮下の信号を“フィルター処理する”ためにピンホールを使用することは、提案されてきたものであるが、しかし、これは、またさらに、絶対的な皮下の信号を低減する。なおも、アバランシェフォトダイオードというような、複雑な及び高価な検出器は、十分な感度のために要求されたものである。十分な信号の強さを得るために入射する放射の強度を単純に増加させることが、例．安全性の規制に負うものであるが、皮膚を照射するものであるとき、しばしば許容されたものであるのではないことに留意すること。
本発明の目的は、改善された感度及び／又は選択性を備えた光学的な検出デバイスを提供するということである。
上記の目的は、特にヒトの皮膚の皮下の部分、より特定しては毛、をイメージングするために、光学的な検出デバイスで達成されたものであるが、デバイスは、キャビティーミラーを備えた、並びに、放射が放出されたものであるためのものであるところの表面を有するものであるレーザー材料及びレーザーキャビティーにおいて位置決めされたＱ−スイッチを備えた、レーザーキャビティー、シマーモードへとレーザー材料をもってくるためにレーザー材料へエネルギーを供給することができるものである及びそうするために配置された、ポンプ手段、並びに、検出されたものであるための対象から戻るところの放出された放射を検出するために配置された、光検出器を含むものである。シマーモードにおけるものであるところのレーザー材料を使用することによって、皮膚の照明として役に立つところの連続的な波の光学的な出力は、達成されたものである。とりわけ、皮下の毛の部分又は同様のものからの、戻るところの放射は、イメージを形成するために検出されたものであることがある。
都合良くは、光検出器は、レーザー材料を通過してきたものであるところの戻るものである放射を検出するために配置された及び位置決めされたものである。他の言葉では、光検出器は、それが、これの放射が、使用の間におけるシマーモードにあるものであるところの、レーザー材料を通じて進んでしまった後で、戻るものである放射を検出することになるというような位置を有する。戻るものである放射は、レーザー材料において増幅されたものであるが、それは、しばしば異なる波長を有するところの、他の背景の放射のものではない、戻るものである放出された放射の増幅のみを与える。検出器の適切な位置は、レーザー材料の光放出の側の反対のものであることができるであろうが、それは、非常に単純な解決手段である。いくつかの放射をガイドするものである手段の使用を通じて、異なって光検出器を位置決めすることは、また可能性のあることである。
増幅の理由のために、光学的な検出器は、単純なものに保たれたものであることがあると共に、光電子増倍管又はアバランシェ・フォトダイオードというような他のタイプのものが排除されたものであるのではないとはいえ、好ましくは、単純なシリコン・フォトダイオードというような光検出器を含む。これの態様は、当該発明の他の態様との関連において記載されたような全ての好都合な特徴と組み合わせられたものであることがある。例については、ポンプ手段は、一つの又はより多い（レーザー）ダイオード及びそのようなものというような、光学的なポンプであることがある。
当該発明に従ったレーザーデバイスが、また、当該発明に従った光学的な検出デバイスを含むが、より後のものは、このように、レーザーに基礎が置かれた毛の取り除きのデバイスとの又は一般的なレーザーデバイスとさえもその組み合わせで使用されたものであることなく、構成成分としての及び独立型のデバイスとしての発明の価値の両方を有するものであることがあることに留意すること。また、当該発明に従ったいずれのレーザーデバイスのもの及びいずれの光学的な検出デバイスのものの特定の実施形態は、望まれたように組み合わせられたものであることがある。このような組み合わせられた場合において、組み合わせられたものであるためのデバイスのレーザーキャビティー及びレーザー材料について、複雑さを低減するために、好都合なことであることになる。他の言葉では、当該発明のレーザーデバイスが、当該発明の光学的な検出デバイスを含むとすれば、レーザー材料及びレーザーキャビティー並びにそのようなものは、これが、必要なものであるのではないとはいえ、都合良くは、両方のデバイスによって共有されたものである。
都合良くは、光学的な検出器は、視野、及び／又は、光検出器へと戻るものである放射をイメージングするところのイメージングレンズを限定することによって、望まれた放射を選択すると共に求められたものではない背景の放射を外にフィルター処理するために役に立つところのピンホールを含む。絶対的な信号の強さは、今、より高いものであるが、それは、信号対雑音比、及び一般的なものにおいて信号の検出、を改善する。検出デバイスの使用が、皮膚における毛の皮下の部分を検出することに限定されたものであるのではないが、しかし、信号が、例．散乱するものから、及び特定のものにおいては別の媒体内における対象で、決定されたものであるためのものであるところの他の状況において適用されたものであることができるであろうということに留意すること。
都合良くは、光学的な検出デバイスは、それが、異なる、好ましくは平行な、経路に沿ってレーザー材料を通じて戻るものである放射を再方向付けすることができるものであるというように配置された、ミラーデバイスを含む。これは、さらに、信号の強さを改善する。検出器、ピンホールなどのものの位置は、それに応じて適合させられたものであることがある。
光学的な検出デバイスは、実施形態において、特定のものにおいてはレーザー材料を通じて一度と比べてより多いもので、光検出器へ反射させられた放射をガイドするためのミラーデバイスを含む。ミラーデバイスは、例．一つの又はより多い平面のミラーを含むことができるであろう。しかしながら、好都合な実施形態においては、ミラーデバイスは、最も少ないときで一つの偏光ビームスプリッターを含む。これは、戻るものである放射における偏光の二つのタイプを見分けることを許容する。大きい利点は、皮膚の表面における反射が、皮下の毛の部分において、散乱すること又は他の戻ることの機構を有するところの放射の偏光における異なる効果を有することである。よって、このような偏光ビームスプリッターを提供することによって、ある者は、さらに、望まれた放射、即ち、皮下の毛の部分から戻るもの、及び、皮膚の表面で反射させられたものというような、求められたものではない放射の間における比を改善することができるものである。
実施形態において、光学的な検出デバイスは、さらに、レーザー材料及びフォーカシングレンズの間にＦａｒａｄａｙ回転子及び四分の一ラムダプレートを含む。四分の一ラムダプレートの使用は、円形に偏光させられた光の発生を許容する。それに対して、線形の偏光子は、放出されたレーザー放射が、（十分に）線形に偏光させられたものであるのではないとすれば、包含されたものであることがある。円形に偏光させられた光の使用の利点は、例．同時係属するものである欧州特許出願ＥＰ０６１２５９１５．６に記載されてきたものである。
特定のものにおいては、光学的な検出デバイスは、検出器から光学的な信号を処理するところの、及び、適切にプログラムされたものであるところの、ＣＰＵというような、毛の認識のデバイスを含む。このようなプログラミング（ソフトウェア）は、それ自体は、当技術において知られたものである。
さらなる好都合な実施形態において、光学的な検出デバイスは、本発明に従ったレーザーデバイスの部分である。そして、レーザーデバイス、特定のものにおいては毛を処置するものであるためのデバイスは、都合良くは、レーザーパルスを提供するためのところを決定する為には、本検出デバイスからの検出された信号を使用することができる。当該発明の第一の態様において述べられた全ての特別な特徴は、また、このような実施形態の部分であることがある。一つの例として、それに限定されたものである追加的な特徴無しに、述べられたものは、レーザー材料及びミラーの間における、好ましくは意図されたレーザービームの側から離れて面するものであるミラーにおける、ミラー及びＱ−スイッチを備えたレーザーキャビティーの提供であることがある。これは、Ｑ−スイッチが、特定のものにおいては、スタートパルスからのものというような、それに入射する増加させられた放射によって、透明な状態へ切り替えられたときレーザービームの発生を許容する一方で、シマーモードにおける連続的な放出を使用することを許容する。ここにおいて、デバイスは、一つのものにおける検出及び“シューティング”デバイスになる。
得策な実施形態において、検出デバイスは、検出器の前方に位置決め可能なものであるところのシャッターを含む。これのシャッターは、都合良くは、デバイスがレーザーパルスを提供するとき検出器への光学的な経路を遮断するための、制御デバイスによって制御可能なものである。このような場合には、増加させられた感度の散乱された放射は、さもなければ、検出器を損傷させるかもしれない。
図面の手短な記載
当該発明のこれらの及び他の態様は、以後に記載された実施形態から明白なものであると共にそれらに対する参照と共に解明されたものであることになる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７７】
ここでの重要な所見は、レーザー材料１１が、ポンピングされたシマー状態において、真のレーザービームではないものであるけれども、弱いｃｗビームを放出するということである。Ｑ−スイッチを有するところの最も知られたレーザーデバイスにおいて、前記されたスイッチは、低いパワーの“雑音”を予防するために、デバイスの出力の端に位置決めされたものである。しかしながら、本発明は、それが、キャビティーミラー、フィルター、ハウジング、又は同様のものが、余分な制約を追加するであろうとすれば、レーザー材料（又はレーザーデバイス）の完全な出力の表面にわたって放出されたものであるところの照明手段として役に立つという点で、良好な使用にこれの低いパワーのｃｗ放射を置く。それに対して、Ｑ−スイッチは、意図された出力の面の反対に位置決めされたものである。シマーモードのｃｗ放射の使用は、図５及び６との関連において解明されたものであることになる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０８】
本発明は、ある数の例示的な実施形態に対する参照と共に記載されてきたものである。範囲は、しかしながら、それらに限定されたものであるとするべきではないものであるが、しかし、添付された請求項の手段によってむしろ決定されたものであるべきである。
［付記］
付記（１）：
レーザービームを発生させることの方法であって、
−  レーザービームが放出可能なものであるところの表面を備えたレーザー材料、及びキャビティーミラーの間のレーザーキャビティーにおけるＱ−スイッチを有するものである、レーザーデバイスを提供すること；
−  前記レーザー材料へエネルギーを供給することによってシマーモードへと前記レーザー材料をもってくること；
−  前記レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレージング閾値が超過させられたものであると共に、レーザービームが前記された表面の望まれた部分のみから放出されたものであるというように、前記レーザー材料へ追加的なレーザー材料の吸収可能なエネルギーを供給すること
を含むものである、方法。
付記（２）：
レーザーデバイスであって、
−  キャビティーミラーを備えた、並びに、レーザービームが放出可能なものであるところの表面を有するものであるレーザー材料及びレーザーキャビティーにおいて位置決めされたＱ−スイッチを備えた、レーザーキャビティー；
−  シマーモードへと前記レーザー材料をもってくるための前記レーザー材料へエネルギーを供給することができるものの及びそれのために配置されたポンプ手段；
−  前記レーザー材料の望まれた部分のみにおいてレージング閾値が超過させられたものであると共に、レーザービームが前記された表面の望まれた部分のみから放出されたものであるというように、前記レーザー材料へレーザー材料の吸収可能なエネルギーを供給するために配置された追加的なエネルギーの制御可能な源
を含むものである、レーザーデバイス。
付記（３）：
付記（２）に記載のデバイスにおいて、
前記Ｑ−スイッチは、前記レーザービームが放出されたものであるためのものであるところの前記レーザー材料の前記された表面に反対の前記レーザー材料の側に位置決めされたものである、デバイス。
付記（４）：
付記（２）に記載のデバイスにおいて、
前記追加的なエネルギーの源は、一つの又はより多いダイオード、パルス化されたレーザー又はフラッシュランプを含む、及び／又は、実質的に平行なビームにおいて又はフォーカシングさせられたビームにおいて前記追加的なエネルギーを供給するために配置されたものである、デバイス。
付記（５）：
付記（２）に記載のデバイスにおいて、
前記追加的なエネルギーの源は、前記レーザー材料の側に又は前記放出されたレーザービームに関して前記レーザー材料の後部の表面に位置決めされたものである、デバイス。
付記（６）：
付記（２）に記載のデバイスにおいて、
前記追加的なエネルギーの源は、それが、複数の独立にアドレス可能な放射源、又は別個のシャッターを備えた一つの若しくはより多い放射源、又は放射源及び制御可能なビームガイディングデバイスを含むということにおいて制御可能なものである、デバイス。
付記（７）：
毛を取り除くものであるデバイスであって、
−  レーザービームパルスを提供するために配置されたレーザー源；
−  フォーカスのスポットに前記レーザービームパルスをフォーカシングさせるものであるための及びターゲットの位置において前記フォーカスのスポットを位置決めするものであるための光学的なシステム；
：を含むものである、毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記レーザー源は、付記（２）〜（６）のいずれか一つに従ったレーザーデバイスを含むと共に、好ましくは
前記光学的なシステムは、可動なレンズ又は複数の個々にアドレス可能なレンズを含む、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（８）：
付記（７）に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記レーザー源は、予め決められたパルス時間でレーザービームパルスを提供するために配置されたものであると共に、
前記フォーカスのスポットの寸法及び前記発生させられたレーザービームパルスのパワーは、前記フォーカスのスポットにおいて、前記レーザービームパルスが、それの予め決められたパルス時間における毛の組織についてのレーザーに誘導された光学的な破損（ＬＩＯＢ）の閾値より上にあるものであるところのパワーの密度を有するというようなものである、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（９）：
付記（７）に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記光学的なシステムは、最も少ないときで０．２、好ましくは最も少ないときで０．４、より好ましくは最も少ないときで０．６の開口を有する、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（１０）：
付記（７）に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
複数の可動なレンズ、好ましくはレンズアレイとして配置されたもの、を含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（１１）：
付記（７）に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
前記可動なレンズへ、特定のものにおいて前記レンズアレイへ、揺動すること、往復運動すること、又は振動することの動きを分与するために配置されたものであるところの、レンズムーバー、特定のものにおいてアレイムーバー、を含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（１２）：
付記（７）に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
それぞれ、前記可動なレンズ又はレンズアレイへ回転させることの動きを分与するために配置されたものであるところの、レンズムーバー又はアレイムーバーを含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（１３）：
付記（７）に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
さらに光学的な検出デバイス、特定してはヒトの皮膚における皮下の部分、より特定しては毛、をイメージングするためのもの、を含むものである、毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記検出デバイスは、検出されたものであるための対象から戻るところの放射を検出するために配置された光検出器を含む、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（１４）：
付記（１３）に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記光検出器は、前記レーザーデバイスの前記レーザー材料を通過してきたものであるところの戻るものである放射を検出するために配置された及び位置決めされたものである、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（１５）：
付記（１３）に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記光検出器は、光検出器、及び／又は、望まれた戻るものである放射を選択すると共に求められたものではない背景の放射を外にフィルター処理することに役に立つところの、ピンホール、及び／又は、前記光検出器へと前記戻るものである放射をイメージングするところのイメージングレンズを含む、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（１６）：
付記（１４）に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
前記光検出器へ前記反射させられた放射を、特定のものにおいては一度と比べてより多いものだけ前記レーザーデバイスの前記レーザー材料を通じて、ガイドするためのミラーデバイスを含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（１７）：
付記（１６）に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記ミラーデバイスは、最も少ないときで一つの偏光ビームスプリッターを含む、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（１８）：
付記（１３）に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
さらに、毛の認識デバイスを含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
付記（１９）：
付記（１３）に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記光学的な検出デバイスは、前記光検出器の前方に位置決め可能なものであるところのシャッターを含む、毛を取り除くものであるデバイス。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザービームを発生させることの方法であって、
−  レーザービームが放出可能なものであるところの表面を備えたレーザー材料、及びキャビティーミラーの間のレーザーキャビティーにおける飽和可能な吸収体を含むものであるＱ−スイッチを有するものである、レーザーデバイスを提供すること、前記されたレーザー材料が、増幅された自発的な放出が、前記レーザーデバイスのレーザー出力の無いものでｃｗ放射モードにおいて起こることになるところのシマー閾値及び前記されたＱ−スイッチが、前記レーザーデバイスのレーザーパルスの出力が起こることを可能とするものである高い吸収の状態から低い吸収の状態へ切り替わることになるところのレーザー閾値を有すること；
−  ポンプ手段によって前記されたシマー閾値より上の及び前記されたレーザー閾値より下の前記レーザー材料へエネルギーを供給することによってシマーモードへと前記レーザー材料をもってくること；
−  全体的なレーザー材料と比べてより少ない、前記レーザー材料の望まれた可変の部分のみにおいて前記レーザー閾値が超過させられたものであると共に、レーザービームが前記された表面の望まれた可変の部分のみから放出されたものであるというように、追加的なエネルギーの制御可能な源の手段によって前記レーザー材料へ追加的なレーザー材料の吸収可能なエネルギーを供給すること
を含むものである、方法。
【請求項２】
レーザーデバイスであって、
−  キャビティーミラーを備えた、並びに、レーザービームが放出可能なものであるところの表面を有するものであるレーザー材料及びレーザーキャビティーにおいて位置決めされた飽和可能な吸収体を含むものであるＱ−スイッチを備えた、レーザーキャビティー、前記されたレーザー材料が、増幅された自発的な放出が、前記レーザーデバイスのレーザー出力の無いものでｃｗ放射モードにおいて起こることになるところのシマー閾値及び前記されたＱ−スイッチが、前記レーザーデバイスのレーザーパルスの出力が起こることを可能とするものである高い吸収の状態から低い吸収の状態へ切り替わることになるところのレーザー閾値を有すること；
−  ポンプ手段によって前記されたシマー閾値より上の及び前記されたレーザー閾値より下のシマーモードへと前記レーザー材料をもってくるための前記レーザー材料へエネルギーを供給することができるものの及びそれのために配置されたポンプ手段；
−  全体的なレーザー材料と比べてより少ない、前記レーザー材料の望まれた可変の部分のみにおいて前記レーザー閾値が超過させられたものであると共に、レーザービームが前記された表面の望まれた可変の部分のみから放出されたものであるというように、前記レーザー材料へレーザー材料の吸収可能なエネルギーを供給するために配置された追加的なエネルギーの制御可能な源
を含むものである、レーザーデバイス。
【請求項３】
請求項２に記載のデバイスにおいて、
前記Ｑ−スイッチは、前記レーザービームが放出されたものであるためのものであるところの前記レーザー材料の前記された表面に反対の前記レーザー材料の側に位置決めされたものである、デバイス。
【請求項４】
請求項２に記載のデバイスにおいて、
前記追加的なエネルギーの源は、一つの又はより多いダイオード、パルス化されたレーザー又はフラッシュランプを含む、及び／又は、実質的に平行なビームにおいて又はフォーカシングさせられたビームにおいて前記追加的なエネルギーを供給するために配置されたものである、デバイス。
【請求項５】
請求項２に記載のデバイスにおいて、
前記追加的なエネルギーの源は、前記レーザー材料の側に又は前記放出されたレーザービームに関して前記レーザー材料の後部の表面に位置決めされたものである、デバイス。
【請求項６】
請求項２に記載のデバイスにおいて、
前記追加的なエネルギーの源は、それが、複数の独立にアドレス可能な放射源、又は別個のシャッターを備えた一つの若しくはより多い放射源、又は放射源及び制御可能なビームガイディングデバイスを含むということにおいて制御可能なものである、デバイス。
【請求項７】
毛を取り除くものであるデバイスであって、
−  レーザービームパルスを提供するために配置されたレーザー源；
−  フォーカスのスポットに前記レーザービームパルスをフォーカシングさせるものであるための及びターゲットの位置において前記フォーカスのスポットを位置決めするものであるための光学的なシステム；
：を含むものである、毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記レーザー源は、請求項２〜６のいずれか一つに従ったレーザーデバイスを含むと共に、好ましくは
前記光学的なシステムは、可動なレンズ又は前記レーザーデバイスによって個々にアドレス可能なものであるところの複数のレンズを含む、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項８】
請求項７に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記レーザー源は、予め決められたパルス時間でレーザービームパルスを提供するために配置されたものであると共に、
前記フォーカスのスポットの寸法及び前記発生させられたレーザービームパルスのパワーは、前記フォーカスのスポットにおいて、前記レーザービームパルスが、それの予め決められたパルス時間における毛の組織についてのレーザーに誘導された光学的な破損（ＬＩＯＢ）の閾値より上にあるものであるところのパワーの密度を有するというようなものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項９】
請求項７に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記光学的なシステムは、最も少ないときで０．２、好ましくは最も少ないときで０．４、より好ましくは最も少ないときで０．６の開口を有する、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１０】
請求項７に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
複数の可動なレンズ、好ましくはレンズアレイとして配置されたもの、を含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１１】
請求項７に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
さらに光学的な検出デバイス、特定してはヒトの皮膚における皮下の部分、より特定しては毛、をイメージングするためのもの、を含むものである、毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記検出デバイスは、検出されたものであるための対象から戻るところの放射を検出するために配置された光検出器を含む、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１２】
請求項１１に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記光検出器は、前記レーザーデバイスの前記レーザー材料を通過してきたものであるところの戻るものである放射を検出するために配置された及び位置決めされたものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１３】
請求項１２に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
前記光検出器へ前記反射させられた放射を、特定のものにおいては一度と比べてより多いものだけ前記レーザーデバイスの前記レーザー材料を通じて、ガイドするためのミラーデバイスを含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１４】
請求項１３に記載の毛を取り除くものであるデバイスにおいて、
前記ミラーデバイスは、最も少ないときで一つの偏光ビームスプリッターを含む、毛を取り除くものであるデバイス。
【請求項１５】
請求項１１に記載の毛を取り除くものであるデバイスであって、
さらに、毛の認識デバイスを含むものである、毛を取り除くものであるデバイス。
【国際調査報告】
2010525556.tif 000009
2010525556.tif 000010
2010525556.tif 000011