(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関の排気通路に配置され、該内燃機関から排出される排ガスを浄化する排ガス浄化装置であって、
排ガス流入側の端部のみが開口した入側セルと、該入側セルに隣接し排ガス流出側の端部のみが開口した出側セルと、前記入側セルと前記出側セルとを仕切る多孔質の隔壁とを有するウォールフロー構造の基材と、
前記隔壁の内部細孔のうち相対的に細孔径が小さい小細孔に形成された第１触媒部と、
前記隔壁の内部細孔のうち相対的に細孔径が大きい大細孔に形成された第２触媒部と
を備え、
前記第１触媒部および前記第２触媒部はそれぞれ、担体と、該担体に担持されたＰｔ、ＰｄおよびＲｈのうちの少なくとも１種の貴金属とを含有し、
前記基材の体積１Ｌ当たりについて、前記第１触媒部における前記貴金属の含有量が、前記第２触媒部における前記貴金属の含有量よりも少なく、かつ、
前記第１触媒部における担体１ｇ当たりの前記貴金属の担持量が、前記第２触媒部における担体１ｇ当たりの前記貴金属の担持量よりも少ない、排ガス浄化装置。
【請求項２】
前記第１触媒部が形成された小細孔の平均細孔直径が１０μｍ以下であり、
前記第２触媒部が形成された大細孔の平均細孔直径が１０μｍを上回り且つ１００μｍ以下である、請求項１に記載の排ガス浄化装置。
【請求項３】
前記第１触媒部および前記第２触媒部は、いずれも前記貴金属としてＰｔおよびＲｈを含んでいる、請求項１または請求項２に記載の排ガス浄化装置。
【請求項４】
前記内燃機関は、ガソリンエンジンである、請求項１〜３の何れか一つに記載の排ガス浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排ガス浄化装置に関する。詳しくは、ガソリンエンジン等の内燃機関から排出される排ガスを浄化する排ガス浄化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、内燃機関から排出される排ガスには、炭素を主成分とする粒子状物質（ＰＭ：Ｐａｒｔｉｃｕｌａｔｅ  Ｍａｔｔｅｒ）、不燃成分からなるアッシュなどが含まれ、大気汚染の原因となることが知られている。そのため、粒子状物質の排出量については、排ガスに含まれる炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（ＣＯ）、窒素酸化物（ＮＯｘ）などの成分とともに年々規制が強化されている。そこで、これらの粒子状物質を排ガスから捕集して除去するための技術が提案されている。
【０００３】
例えば、上記粒子状物質を捕集するためのパティキュレートフィルタが内燃機関の排気通路内に設けられている。例えばガソリンエンジンは、ディーゼルエンジンよりは少ないものの一定量の粒子状物質を排ガスとともに排出するため、ガソリンパティキュレートフィルタ（Gasoline Particulate Filter：ＧＰＦ）が排気通路内に装着される場合がある。かかるパティキュレートフィルタとしては、基材が多孔質からなる多数のセルから構成され、多数のセルの入口と出口を交互に閉塞した、いわゆるウォールフロー型と呼ばれる構造のものが知られている（特許文献１、２）。ウォールフロー型パティキュレートフィルタでは、セル入口から流入した排ガスは、仕切られた多孔質のセル隔壁を通過し、セル出口へと排出される。そして、排ガスが多孔質のセル隔壁を通過する間に、粒子状物質が隔壁内部の細孔内に捕集される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−８２９１５号公報
【特許文献２】特開２００７−１８５５７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、近年ではさらなる浄化性能向上のために、上記パティキュレートフィルタに貴金属触媒を担持させることが検討されている。例えば特許文献１には、貴金属触媒としてのパラジウム（Ｐｄ）層を隔壁の内部に配置し、ロジウム（Ｒｈ）層を隔壁の表面に積層したフィルタ触媒が記載されている。また特許文献２には、貴金属触媒としての白金（Ｐｔ）層とロジウム（Ｒｈ）層とを隔壁内で分離担持させたフィルタ触媒が記載されている。
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１に開示された技術では、Ｒｈ層が隔壁の表面に形成されているので、排ガスの流路抵抗が上昇して圧力損失（以下、適宜圧損ともいう。）が大きくなる。その結果、エンジン出力が低下するおそれがある。また、上記特許文献２に開示された技術では、Ｐｔ層とＲｈ層とを隔壁内で分離担持させているので、圧損の上昇は抑制し得るものの、排ガスが先にＲｈ層に当たるため、Ｒｈの劣化が進行しやすい。そのため、浄化性能が低下するおそれがある。また、ＲｈおよびＰｔの使用効率が悪く、ＲｈおよびＰｔが多量に必要となるため、製品コストが割高になる。近年では、コスト等を削減する観点から、高価で貴重なＲｈおよびＰｔの使用量をなるべく低減することが求められている。
【０００７】
本発明は、かかる事案に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、ウォールフロー構造タイプのフィルタ触媒を備えた排ガス浄化装置において、貴金属の使用量の低減を図りつつ、排ガスの浄化性能を向上させることができる排ガス浄化装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る排ガス浄化装置は、内燃機関の排気通路に配置され、該内燃機関から排出される排ガスを浄化する排ガス浄化装置である。この装置は、排ガス流入側の端部のみが開口した入側セルと、該入側セルに隣接し排ガス流出側の端部のみが開口した出側セルと、前記入側セルと前記出側セルとを仕切る多孔質の隔壁とを有するウォールフロー構造の基材と、前記隔壁の内部細孔のうち相対的に細孔径が小さい小細孔に形成された第１触媒部と、前記隔壁の内部細孔のうち相対的に細孔径が大きい大細孔に形成された第２触媒部とを備える。前記第１触媒部および前記第２触媒部はそれぞれ、担体と、該担体に担持されたＰｔ、ＰｄおよびＲｈのうちの少なくとも１種の貴金属とを含有する。そして、前記基材の体積１Ｌ当たりについて、前記第１触媒部における前記貴金属の含有量が、前記第２触媒部における前記貴金属の含有量よりも少ない。
【０００９】
上記排ガス浄化装置では、隔壁内において、小細孔（第１触媒部）における貴金属の含有量が、大細孔（第２触媒部）における貴金属の含有量よりも少ない。本発明者の知見によれば、細孔径が相対的に小さい小細孔は、隔壁内で複雑に入り組んだ経路（貫通していない迂回した経路）を形成しているため、排ガスが長く滞留する傾向がある。そのため、小細孔に形成された第１触媒部では、少量の貴金属でも排ガスが効率よく浄化される。これに対して、細孔径が相対的に大きい大細孔は、その独立した細孔もしくは細孔の繋がりによって隔壁を厚み方向に連通しているため、排ガスが円滑に通過する傾向がある。そのため、大細孔に形成された第２触媒部では、圧損を上昇させることなく、排ガスが速やかに浄化される。
【００１０】
本発明の構成によると、少量でも触媒活性が高い小細孔（第１触媒部）における貴金属の含有量を、大細孔（第２触媒部）における貴金属の含有量に比べて少なくする。このように、小細孔（第１触媒部）と大細孔（第２触媒部）とで貴金属の含有量に適度な差を設け、両者の触媒活性を適切に調整することにより、フィルタ全体での貴金属の使用量を減らしつつ、排ガスの浄化性能を効果的に向上させることができる。したがって、本発明によれば、低コストで、なおかつ浄化性能に優れた、高性能な排ガス浄化装置を提供することができる。
【００１１】
ここで開示される排ガス浄化装置の好ましい一態様では、前記第１触媒部における担体１ｇ当たりの前記貴金属の担持量が、前記第２触媒部における担体１ｇ当たりの前記貴金属の担持量よりも少ない。このように上記範囲の貴金属の担持量の差を設けることで、貴金属使用量の低減と浄化性能の向上とをより高度なレベルで両立させた最適な排ガス浄化装置が得られうる。
【００１２】
ここで開示される排ガス浄化装置の好ましい一態様では、前記第１触媒部が形成された小細孔の平均細孔直径が１０μｍ以下であり、前記第２触媒部が形成された大細孔の平均細孔直径が１０μｍを上回り且つ１００μｍ以下である。このような細孔直径を有する小細孔と大細孔とに貴金属を担持させることにより、隔壁内を通過する排ガスをより効率よく浄化することができる。
【００１３】
ここで開示される排ガス浄化装置の好ましい一態様では、前記第１触媒部および前記第２触媒部は、前記貴金属としてＰｔおよびＲｈを含んでいる。かかる構成によると、排ガス中の有害成分を一度に効率よく浄化することができ、排ガスの浄化性能をさらに向上させることができる。
【００１４】
ここで開示される排ガス浄化装置の好ましい一態様では、前記内燃機関は、ガソリンエンジンである。ガソリンエンジンでは、排ガスの温度が比較的高温であり、隔壁内にＰＭが堆積しにくい。そのため、内燃機関がガソリンエンジンである場合、上述した効果がより有効に発揮される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１は、一実施形態に係る排ガス浄化装置を模式的に示す図である。
【図２】図２は、一実施形態に係る排ガス浄化装置のフィルタを模式的に示す斜視図である。
【図３】図３は、一実施形態に係る排ガス浄化装置のフィルタ断面を模式的に示す断面図である。
【図４】図４は、図３のＩＶ領域を拡大した断面模式図である。
【図５】図５は、一実施形態に係る排ガス浄化装置のフィルタ断面を模式的に示す断面図である。
【図６】図６は、実施例１に係るフィルタ触媒の断面ＳＥＭ像である。
【図７】図７は、実施例１に係るフィルタ触媒のＣｅの分散状態を示すＥＰＭＡ観察像である。
【図８】図８は、実施例１に係るフィルタ触媒のＰｔの分散状態を示すＥＰＭＡ観察像である。
【図９】図９は、比較例１に係るフィルタ触媒の断面ＳＥＭ像である。
【図１０】図１０は、比較例１に係るフィルタ触媒のＣｅの分散状態を示すＥＰＭＡ観察像である。
【図１１】図１１は、比較例１に係るフィルタ触媒のＰｔの分散状態を示すＥＰＭＡ観察像である。
【図１２】図１２は、実施例１および比較例１の５０％浄化温度を示すグラフである。
【図１３】図１３は、実施例２および比較例２の５０％浄化温度を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の好適な実施形態を図面に基づいて説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事柄（例えばパティキュレートフィルタの自動車における配置に関するような一般的事項）は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。
【００１７】
＜第１実施形態＞
先ず、本発明の一実施形態に係る排ガス浄化装置の構成について図１を参照しつつ説明する。ここで開示される排ガス浄化装置１は、該内燃機関の排気系に設けられている。図１は、内燃機関２と、該内燃機関２の排気系に設けられた排ガス浄化装置１を模式的に示す図である。
【００１８】
本実施形態に係る内燃機関（エンジン）には、酸素と燃料ガスとを含む混合気が供給される。内燃機関は、この混合気を燃焼させ、燃焼エネルギーを力学的エネルギーに変換する。このときに燃焼された混合気は排ガスとなって排気系に排出される。図１に示す構成の内燃機関２は、自動車のガソリンエンジンを主体として構成されている。
【００１９】
上記エンジン２の排気系について説明する。上記エンジン２を排気系に連通させる排気ポート（図示せず）には、エキゾーストマニホールド３が接続されている。エキゾーストマニホールド３は、排ガスが流通する排気管４に接続されている。エキゾーストマニホールド３と排気管４とにより本実施形態の排気通路が形成されている。図中の矢印は排ガス流通方向を示している。
【００２０】
ここで開示される排ガス浄化装置１は、上記エンジン２の排気系に設けられている。この排ガス浄化装置１は、触媒部５とフィルタ部６とＥＣＵ７を備え、上記排出される排ガスに含まれる有害成分（例えば、一酸化炭素（ＣＯ）、炭化水素（ＨＣ）、窒素酸化物（ＮＯｘ））を浄化するとともに、排ガスに含まれる粒子状物質（ＰＭ）を捕集する。
【００２１】
触媒部５は、排気ガス中に含まれる三元成分（ＮＯｘ、ＨＣ、ＣＯ）を浄化可能なものとして構成されており、上記エンジン２に連通する排気管４に設けられている。具体的には図１に示すように、排気管４の下流側に設けられている。触媒部５の種類は特に限定されない。触媒部５は、例えば、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｄ）等の貴金属が担持された触媒であってもよい。なお、フィルタ部６の下流側の排気管４に下流側触媒部をさらに配置してもよい。かかる触媒部５の具体的な構成は本発明を特徴付けるものではないため、ここでは詳細な説明は省略する。
【００２２】
フィルタ部６は、触媒部５の下流側に設けられている。フィルタ部６は、排ガス中に含まれる粒子状物質（以下、単に「ＰＭ」と称する）を捕集して除去可能なガソリンパティキュレートフィルタ（ＧＰＦ）を備えている。以下、本実施形態に係るパティキュレートフィルタを詳細に説明する。
【００２３】
図２は、パティキュレートフィルタ１００の斜視図である。図３は、パティキュレートフィルタ１００を軸方向に切断した断面の一部を拡大した模式図である。図２および図３に示すように、パティキュレートフィルタ１００は、ウォールフロー構造の基材１０と、第１触媒部２０（図４参照）と、第２触媒部３０（図４参照）とを備えている。以下、基材１０、第１触媒部２０、第２触媒部３０の順に説明する。
【００２４】
＜基材１０＞
基材１０としては、従来のこの種の用途に用いられる種々の素材及び形態のものが使用可能である。例えば、コージェライト、炭化ケイ素（ＳｉＣ）等のセラミックスまたは合金（ステンレス等）から形成された基材を好適に採用することができる。一例として外形が円筒形状（本実施形態）である基材が例示される。ただし、基材全体の外形については、円筒形に代えて、楕円筒形、多角筒形を採用してもよい。かかる基材１０は、排ガス流入側の端部のみが開口した入側セル１２と、該入側セル１２に隣接し排ガス流出側の端部のみが開口した出側セル１４と、入側セル１２と出側セル１４とを仕切る多孔質の隔壁１６とを有している。
【００２５】
＜入側セル１２および出側セル１４＞
入側セル１２は、排ガス流入側の端部のみが開口しており、出側セル１４は、入側セル１２に隣接し排ガス流出側の端部のみが開口している。この実施形態では、入側セル１２は、排ガス流出側の端部が封止部１２ａで目封じされており、出側セル１４は、排ガス流入側の端部が封止部１４ａで目封じされている。入側セル１２および出側セル１４は、フィルタ１００に供給される排ガスの流量や成分を考慮して適当な形状および大きさに設定するとよい。例えば入側セル１２および出側セル１４の形状は、正方形、平行四辺形、長方形、台形などの矩形、三角形、その他の多角形（例えば、六角形、八角形）、円形など種々の幾何学形状であってよい。
【００２６】
＜隔壁１６＞
隣接する入側セル１２と出側セル１４との間には、隔壁１６が形成されている。この隔壁１６によって入側セル１２と出側セル１４とが仕切られている。隔壁１６は、排ガスが通過可能な多孔質構造である。隔壁１６の気孔率としては特に限定されないが、概ね５０％〜７０％にすることが適当であり、好ましくは５５％〜６５％である。隔壁１６の気孔率が小さすぎると、圧力損失が増大してしまうことがあり、一方、隔壁１６の気孔率が大きすぎると、フィルタ１００の機械的強度が低下傾向になるため、好ましくない。隔壁１６の厚みとしては特に限定されないが、概ね２００μｍ〜８００μｍ程度であるとよい。このような隔壁の厚みの範囲内であると、ＰＭの捕集効率を損なうことなく圧損の上昇を抑制する効果が得られる。
【００２７】
図４は、図３のＩＶ領域を拡大した拡大模式図である。図４に示すように、隔壁１６は、相対的に細孔径が小さい小細孔１８ａと、相対的に細孔径が大きい大細孔１８ｂとを有している。この実施形態では、隔壁１６は、その独立した大細孔１８ｂ（もしくは多数の大細孔１８ｂの繋がり）によって隔壁１６の表面と裏面とが連通し得るように構成されている。また、隔壁１６は、大細孔１８ｂよりも小さい（典型的には隔壁１６を貫通していない）小細孔１８ａによって複雑に入り組んだ経路（貫通していない迂回した経路）が形成されている。小細孔１８ａの内部には、第１触媒部２０が形成されている、また、大細孔１８ｂの内部には、第２触媒部３０が形成されている。
【００２８】
＜第１触媒部＞
第１触媒部２０は、隔壁１６の内部細孔１８ａ、１８ｂのうち小細孔１８ａの壁表面に形成されている。細孔径が相対的に小さい小細孔１８ａは、隔壁１６内で複雑に入り組んだ経路を形成しているため、排ガスが長く滞留する傾向がある。そのため、小細孔１８ａに形成された第１触媒部２０では、少量の貴金属でも排ガスが効率よく浄化される。第１触媒部２０が形成された小細孔１８ａの細孔直径は、第２触媒部３０が形成された大細孔１８ｂの細孔直径よりも小さければよい。例えば、第１触媒部２０が形成された小細孔１８ａのガス吸着法もしくは電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：ＳＥＭ）での画像観察に基づく平均細孔直径は、概ね１０μｍ以下（例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下）であることが好ましく、８μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることが特に好ましい。このような小細孔１８ａの細孔直径の範囲内であると、小細孔１８ａに形成された第１触媒部２０によって排ガスを効率よく浄化することができる。第１触媒部２０によって浄化される有害成分としては特に限定されないが、例えばＨＣ、ＣＯおよびＮＯｘが例示される。
【００２９】
＜第２触媒部３０＞
第２触媒部３０は、隔壁１６の内部細孔１８ａ、１８ｂのうち大細孔１８ｂの壁表面に形成されている。細孔径が相対的に大きい大細孔１８ｂは、その独立した大細孔１８ｂもしくは大細孔１８ｂの繋がりによって隔壁１６を厚み方向に連通しているため、排ガスが円滑に通過する傾向がある。そのため、大細孔１８ｂに形成された第２触媒部３０では、圧損を上昇させることなく排ガスが速やかに浄化される。第２触媒部３０が形成された大細孔１８ｂの細孔直径は、第１触媒部２０が形成された小細孔１８ａの細孔直径よりも大きければよい。例えば、第２触媒部３０が形成された大細孔１８ｂのガス吸着法もしくは電子顕微鏡（ＳＥＭ）での画像観察に基づく平均細孔直径は、概ね１０μｍを上回る（例えば１０μｍを超えかつ１００μｍ以下である）ことが好ましく、１５μｍ以上であることがより好ましく、２０μｍ以上であることが特に好ましい。このような大細孔１８ｂの細孔直径の範囲内であると、大細孔１８ｂに形成された第２触媒部３０によって排ガスを速やかに浄化することができる。第２触媒部３０によって浄化される有害成分としては特に限定されないが、例えばＨＣ、ＣＯおよびＮＯｘが例示される。
【００３０】
＜貴金属＞
第１触媒部２０および第２触媒部３０は、それぞれ担体（図示省略）と、該担体に担持された貴金属（図示省略）とを備えている。第１触媒部２０および第２触媒部３０は、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）およびロジウム（Ｒｈ）のうちの少なくとも１種の貴金属が含まれているとよい。
【００３１】
ここで、基材の体積１Ｌ当たりについて、第１触媒部２０における貴金属の含有量は、第２触媒部３０における貴金属の含有量よりも少ない。この実施形態では、基材の体積１Ｌ当たりについて、第１触媒部２０の成形量（コート量）と、第２触媒部３０の成形量（コート量）とが等しく、かつ、第１触媒部２０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量が、第２触媒部３０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量よりも少ない。つまり、基材の体積１Ｌ当たりについて、第１触媒部２０の成形量と第２触媒部３０の成形量とを同程度に揃えつつ、第１触媒部２０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量を、第２触媒部３０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量よりも少なくする。
【００３２】
第１触媒部２０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量としては、第２触媒部３０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量よりも小さければよい。例えば、第１触媒部２０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量Ｗ１と、第２触媒部３０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量Ｗ２との比（Ｗ１／Ｗ２）が、概ね０．６以下であることが適当であるが、０．５以下が好ましく、０．３以下が特に好ましい。
【００３３】
ここで開示される排ガス浄化装置では、少量でも触媒活性が高い小細孔１８ａ（第１触媒部２０）における貴金属の担持量を、大細孔１８ｂ（第２触媒部３０）における貴金属の担持量に比べて少なくする。このように、小細孔１８ａと大細孔１８ｂとで貴金属の含有量に適度な差を設け、両者の触媒活性を適切に調整することにより、フィルタ全体での貴金属の使用量を減らしつつ、排ガスの浄化性能を効果的に向上させることができる。したがって、本構成によれば、低コストで、なおかつ浄化性能に優れた、高性能な排ガス浄化装置を提供することができる。
【００３４】
ここで開示される排ガス浄化装置としては、上記担持量比（Ｗ１／Ｗ２）が、（Ｗ１／Ｗ２）≦０．６を満足するものが好ましく、（Ｗ１／Ｗ２）≦０．４を満足するものがさらに好ましく、（Ｗ１／Ｗ２）≦０．３を満足するものが特に好ましい。その一方、上記担持量比（Ｗ１／Ｗ２）が０．１を下回ると、第１触媒部２０の触媒活性が低下しすぎるため、所望の浄化性能が得られない場合がある。浄化性能向上の観点からは、０．１≦（Ｗ１／Ｗ２）（特には０．１５≦（Ｗ１／Ｗ２））を満足するものが好ましい。例えば、上記担持量比（Ｗ１／Ｗ２）が０．１以上０．５以下（特に０．１５以上０．２５以下）の第１触媒部２０および第２触媒部３０が、浄化性能の向上と低コスト化とを両立するという観点から適当である。
【００３５】
この実施形態では、第１触媒部２０および第２触媒部３０は、貴金属としてＰｔおよびＲｈを含んでいる。第１触媒部２０における担体１ｇ当たりのＰｔの担持量は、概ね０．００１ｇ〜０．０１ｇであることが適当であり、好ましくは０．００２ｇ〜０．００８ｇであり、特に好ましくは０．００３ｇ〜０．００５ｇである。第２触媒部３０における担体１ｇ当たりのＰｔの担持量は、概ね０．００５ｇ〜０．０５ｇであることが適当であり、好ましくは０．０１０ｇ〜０．０４ｇであり、特に好ましくは０．０１５ｇ〜０．０２５ｇである。また、第１触媒部２０における担体１ｇ当たりのＲｈの担持量は、概ね０．０００５ｇ〜０．００５ｇであることが適当であり、好ましくは０．０００８ｇ〜０．００４ｇであり、特に好ましくは０．００１ｇ〜０．００３ｇである。第２触媒部３０における担体１ｇ当たりのＲｈの担持量は、概ね０．００２５ｇ〜０．０２５ｇであることが適当であり、好ましくは０．００４ｇ〜０．０２ｇであり、特に好ましくは０．００５ｇ〜０．０１５ｇである。なお、第１触媒部２０および第２触媒部３０は、Ｒｈ、ＰｔおよびＰｄ以外の貴金属を含んでいてもよい。Ｒｈ、ＰｔおよびＰｄ以外の貴金属として、例えば、ルテニウム（Ｒｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、オスミウム（Ｏｓ）等を用いることができる。
【００３６】
第１触媒部２０および第２触媒部３０は、ＰｔおよびＲｈを担体に担持させることによって形成されている。Ｐｔを担持させるＰｔ担体としては、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、ジルコニア（ＺｒＯ２）、セリア（ＣｅＯ２）、シリカ（ＳｉＯ２）、マグネシア（ＭｇＯ）、酸化チタン（チタニア：ＴｉＯ２）等の金属酸化物、若しくはこれらの固溶体（例えばセリア−ジルコニア（ＣｅＯ２−ＺｒＯ２）複合酸化物）が挙げられる。中でもセリア−ジルコニア複合酸化物の使用が好ましい。これらの二種以上を併用してもよい。なお、上記Ｐｔ担体には、副成分として他の材料（典型的には無機酸化物）が添加されていてもよい。Ｐｔ担体に添加し得る物質としては、ランタン（Ｌａ）、イットリウム（Ｙ）等の希土類元素、カルシウムなどのアルカリ土類元素、その他遷移金属元素などが用いられ得る。上記の中でも、ランタン、イットリウム等の希土類元素は、触媒機能を阻害せずに高温における比表面積を向上できるため、安定化剤として好適に用いられる
【００３７】
上記Ｐｔ担体にＰｔを担持させる方法としては特に制限されない。例えばＰｔ塩（例えば硝酸塩）やＰｔ錯体（例えば、ジニトロジアミン錯体）を含有する水溶液に上記Ｐｔ担体を含浸させた後、乾燥させ、焼成することにより調製することができる。
【００３８】
Ｒｈを担持させるＲｈ担体としては、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、ジルコニア（ＺｒＯ２）、セリア（ＣｅＯ２）、シリカ（ＳｉＯ２）、マグネシア（ＭｇＯ）、酸化チタン（チタニア：ＴｉＯ２）等の金属酸化物、若しくはこれらの固溶体（例えばセリア−ジルコニア（ＣｅＯ２−ＺｒＯ２）複合酸化物）が挙げられる。中でもアルミナの使用が好ましい。これらの二種以上を併用してもよい。なお、上記Ｒｈ担体には、副成分として他の材料（典型的には無機酸化物）が添加されていてもよい。Ｒｈ担体に添加し得る物質としては、ランタン（Ｌａ）、イットリウム（Ｙ）等の希土類元素、カルシウムなどのアルカリ土類元素、その他遷移金属元素などが用いられ得る。上記の中でも、ランタン、イットリウム等の希土類元素は、触媒機能を阻害せずに高温における比表面積を向上できるため、安定化剤として好適に用いられる
【００３９】
上記Ｒｈ担体にＲｈを担持させる方法としては特に制限されない。例えばＲｈ塩（例えば硝酸塩）やＲｈ錯体（例えば、テトラアンミン錯体）を含有する水溶液に上記Ｒｈ担体を含浸させた後、乾燥させ、焼成することにより調製することができる。
【００４０】
第１触媒部２０および第２触媒部３０は、上述した貴金属（ここではＰｔ、Ｒｈ）および担体（ここではＰｔ担体、Ｒｈ担体）のほか、ＮＯｘ吸蔵能を有するＮＯｘ吸収材を含んでいてもよい。ＮＯｘ吸収材は、排ガスの空燃比が酸素過剰のリーン状態にある状態では排ガス中のＮＯｘを吸収し、空燃比がリッチ側に切り替えられると、吸収されていたＮＯｘを放出するＮＯｘ吸蔵能を有するものであればよい。かかるＮＯｘ吸収材としては、ＮＯｘに電子を供与し得る金属の一種または二種以上を含む塩基性材料を好ましく用いることができる。例えば、カリウム（Ｋ）、ナトリウム（Ｎａ）、セシウム（Ｃｓ）のようなアルカリ金属、バリウム（Ｂａ）、カルシウム（Ｃａ）のようなアルカリ土類金属、ランタノイドのような希土類および銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、イリジウム（Ｉｎ）等の金属が挙げられる。中でもバリウム化合物（例えば硫酸バリウム）は高いＮＯｘ吸蔵能を有しており、ここで開示される排ガス浄化装置に用いられるＮＯｘ吸収材として好適である。
【００４１】
また、第１触媒部２０および第２触媒部３０は、酸素吸蔵能を有するＯＳＣ（Oxygen Storage Capacity）材を含んでいてもよい。ＯＳＣ材は、排ガスの空燃比がリーンであるとき（即ち酸素過剰側の雰囲気）には排ガス中の酸素を吸蔵し、排ガスの空燃比がリッチであるとき（即ち燃料過剰側の雰囲気）には吸蔵されている酸素を放出するものであればよい。かかるＯＳＣ材としては、例えば、酸化セリウム（セリア：ＣｅＯ２）や該セリアを含む複合酸化物（例えば、セリア−ジルコニア複合酸化物（ＣｅＯ２−ＺｒＯ２複合酸化物）などが挙げられる。中でもＣｅＯ２−ＺｒＯ２複合酸化物は高い酸素吸蔵能を有しており、ここで開示される排ガス浄化装置に用いられるＯＳＣ材として好適である。
【００４２】
特に限定されるものではないが、第１触媒部２０および第２触媒部３０が貴金属および担体以外の触媒部形成成分（例えばＮＯｘ吸収材やＯＳＣ材や後述するバインダ）を含有する場合は、それら任意成分の合計含有割合を凡そ１０質量％以下とすることが好ましく、凡そ８質量％以下（例えば凡そ１〜５質量％）とすることが好ましい。
【００４３】
＜第１触媒部２０および第２触媒部３０の形成方法＞
第１触媒部２０および第２触媒部３０を形成するに際しては、第１触媒部２０と、第２触媒部３０とで異なるスラリーを基に形成するとよい。例えば、第１触媒部２０を形成するための第１スラリーと、第２触媒部３０を形成するための第２スラリーとを用意するとよい。
【００４４】
第１スラリーは、前記Ｐｔ担体にＰｔを担持してなる粉末と、前記Ｒｈ担体にＲｈを担持してなる粉末と、適当な溶媒（例えばイオン交換水）とを含んでいる。第１スラリーは、隔壁１６の小細孔１８ａに流入しやすいように、粘度および固形分率が適宜調整されているとよい。一方、第２スラリーは、前記Ｐｔ担体にＰｔを担持してなる粉末と、前記Ｒｈ担体にＲｈを担持してなる粉末と、適当な溶媒（例えばイオン交換水）とを含んでいる。第２スラリーは、隔壁１６の大細孔１８ｂに流入しやすいように、粘度および固形分率が適宜調整されているとよい。隔壁１６の内部に第１スラリーおよび第２スラリーを適当に密着させるため、第１スラリーおよび第２スラリーにはバインダを含有させてもよい。バインダとしては、例えばアルミナゾル、シリカゾル等の使用が好ましい。ここで、第１スラリーにおけるＰｔ担体１ｇ当たりのＰｔの担持量は、第２スラリーにおけるＰｔ担体１ｇ当たりのＰｔの担持量よりも少ない。また、第１スラリーにおけるＲｈ担体１ｇ当たりのＲｈの担持量は、第２スラリーにおけるＲｈ担体１ｇ当たりのＲｈの担持量よりも少ない。
【００４５】
第１触媒部２０および第２触媒部３０を形成するに際しては、まず、第１スラリーを隔壁１６の内部にコートする。第１スラリーを隔壁１６の内部にコートする方法は特に限定されない。例えば、隔壁１６を第１スラリーに所定時間浸漬した後、取り出すとよい。また、隔壁１６を第１スラリーから取り出した後、吸引して（あるいはガスを吹き付けて）余分な第１スラリーを取り除くとよい。ここで細孔径が相対的に小さい小細孔１８ａは、毛管現象の吸い込みによって第１スラリーが流入しやすい。そのため、隔壁１６を第１スラリーに浸漬すると、隔壁１６の小細孔１８ａに第１スラリーが優先的に流入する。また、細孔径が相対的に小さい小細孔１８ａは、毛管現象によって第１スラリーが流出しにくい。そのため、隔壁１６を第１スラリーから取り出した後、吸引する（あるいはガスを吹き付ける）と、大細孔１８ｂに充填された第１スラリーが優先的に取り除かれる。つまり、上記方法によると、小細孔１８ａは第１スラリーで満たされやすく、大細孔１８ｂは第１スラリーで満たされにくい。そのため、第１スラリーを小細孔１８ａに優先的に充填することができる。第１スラリーを小細孔１８ａに充填したら、次いで乾燥・焼成するとよい。これにより、小細孔１８ａの壁表面に第１触媒部２０が形成される。
【００４６】
次いで、第２スラリーを隔壁１６の内部に吸引コートする。第２スラリーを隔壁１６の内部にコートする方法は特に限定されない。例えば、隔壁１６を第２スラリーに所定時間浸漬した後、取り出すとよい。ここで、第２スラリーは、隔壁１６の大細孔１８ｂに流入しやすいように、粘度および固形分率が適宜調整されている。また、隔壁１６の小細孔１８ａは、第１触媒部２０により既にコートされている。そのため、隔壁１６を第２スラリーに浸漬すると、隔壁１６の大細孔１８ｂに第２スラリーが優先的に流入する。このようにして第２スラリーを大細孔１８ｂに充填したら、次いで乾燥・焼成するとよい。これにより、大細孔１８ｂの壁表面に第２触媒部３０が形成される。このようにして、小細孔１８ａと大細孔１８ｂとに、異なる触媒部２０、３０を形成することができる。
【００４７】
このパティキュレートフィルタ１００は、図３に示すように、基材１０の入側セル１２から排ガスが流入する。入側セル１２から流入した排ガスは、多孔質の隔壁１６を通過して出側セル１４に到達する。図３においては、入側セル１２から流入した排ガスが隔壁１６を通過して出側セル１４に到達するルートを矢印で示している。このとき、隔壁１６は多孔質構造を有しているので、排ガスがこの隔壁１６を通過する間に、粒子状物質（ＰＭ）が隔壁１６の表面や隔壁１６の内部の細孔内に捕集される。また、図４に示すように、隔壁１６の内部には、第１触媒部２０および第２触媒部３０が設けられているので、排ガスが隔壁１６の内部を通過する間に、排ガス中の有害成分が浄化される。その際、小細孔１８ａに形成された第１触媒部２０では、排ガスが長く滞留するため、少量の貴金属でも排ガスが効率よく浄化される。また、大細孔１８ｂに形成された第２触媒部３０では、排ガスが円滑に通過するため、圧損を上昇させることなく排ガスが速やかに浄化される。隔壁１６を通過して出側セル１４に到達した排ガスは、排ガス流出側の開口からフィルタ１００の外部へと排出される。
【００４８】
＜第２実施形態＞
図５は、第２実施形態に係る隔壁１６の断面を示す模式図である。この実施形態では、第１触媒部２０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量と、第２触媒部３０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量とが等しく、かつ、基材の体積１Ｌ当たりについて、第１触媒部２０の成形量（コート量）が、第２触媒部３０の成形量（コート量）よりも小さい。つまり、第１触媒部２０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量と、第２触媒部３０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量とを同程度に揃えつつ、基材の体積１Ｌ当たりについて、第１触媒部２０の成形量を、第２触媒部３０の成形量よりも小さくする。
【００４９】
基材の体積１Ｌ当たりについて、第１触媒部２０の成形量は、第２触媒部３０の成形量よりも小さければよい。例えば、基材の体積１Ｌ当たりについて、第１触媒部２０の成形量Ｃ１と、第２触媒部３０の成形量Ｃ２の比（Ｃ１／Ｃ２）が、概ね０．７以下であることが適当であるが、０．６以下が好ましく、０．５以下（例えば０．４５以下）が特に好ましい。
【００５０】
ここで開示される排ガス浄化装置では、少量でも触媒活性が高い小細孔１８ａに形成された第１触媒部２０の成形量（ひいては貴金属の含有量）を、大細孔１８ｂに形成された第２触媒部３０の成形量（ひいては貴金属の含有量）に比べて少なくする。このように、小細孔１８ａ（第１触媒部２０）と大細孔１８ｂ（第２触媒部３０）とで貴金属の含有量に適度な差を設け、両者の触媒活性を適切に調整することにより、フィルタ全体での貴金属の使用量を減らしつつ、排ガスの浄化性能を効果的に向上させることができる。したがって、本構成によれば、低コストで、なおかつ浄化性能に優れた、高性能な排ガス浄化装置を提供することができる。
【００５１】
ここで開示される排ガス浄化装置としては、上記成形量（コート量）比（Ｃ１／Ｃ２）が、（Ｃ１／Ｃ２）≦０．７を満足するものが好ましく、（Ｃ１／Ｃ２）≦０．６を満足するものがさらに好ましく、（Ｃ１／Ｃ２）≦０．５を満足するものが特に好ましい。その一方、上記成形量比（Ｃ１／Ｃ２）が０．２を下回ると、第１触媒部２０の触媒活性が低下しすぎるため、所望の浄化性能が得られない場合がある。浄化性能向上の観点からは、０．２≦（Ｃ１／Ｃ２）（特には０．３≦（Ｃ１／Ｃ２））を満足するものが好ましい。例えば、上記成形量比（Ｃ１／Ｃ２）が０．２以上０．５以下（特に０．３以上０．４５以下）の第１触媒部２０および第２触媒部３０が、浄化性能の向上と低コスト化とを両立するという観点から適当である。
【００５２】
具体的には、第１触媒部２０の成形量は、基材の体積１Ｌ当たり、概ね１０ｇ〜５０ｇにすることが適当であり、好ましくは２０ｇ〜４０ｇである。また、第２触媒部３０の成形量は、基材の体積１Ｌ当たり、概ね５０ｇ〜１００ｇにすることが適当であり、好ましくは６０ｇ〜８０ｇである。このような第１触媒部２０および第２触媒部３０の成形量の範囲内であると、排ガスの浄化性能をより良く向上させることができる。
【００５３】
以下、本発明に関する試験例を説明するが、本発明を以下の試験例に示すものに限定することを意図したものではない。
【００５４】
＜実施例１＞
実施例１では、基材の体積１Ｌ当たりについて、第１触媒部２０の成形量と第２触媒部３０の成形量とを同程度に揃えつつ、第１触媒部２０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量が、第２触媒部３０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量よりも小さいフィルタ触媒を作製した。ここでは貴金属として、ＰｔおよびＲｈを使用した。また、Ｐｔを担持するＰｔ担体としてセリア−ジルコニア複合酸化物を使用し、Ｒｈを担持するＲｈ担体としてＬａ安定化アルミナを使用した。
【００５５】
具体的には、Ｐｔ担体としてのセリア−ジルコニア複合酸化物を用意し、貴金属触媒溶液としてジニトロジアミンＰｔ溶液に含浸させた後、蒸発乾固してＰｔを担持したＰｔ／セリア−ジルコニア複合酸化物担体粉末を調製した。上記Ｐｔ担体（セリア−ジルコニア複合酸化物）１ｇ当たりのＰｔの担持量は凡そ０．００４ｇとした。また、Ｒｈ担体としてのＬａ安定化アルミナを用意し、貴金属触媒溶液として硝酸Ｒｈ溶液に含浸させた後、蒸発乾固してＲｈを担持したＲｈ／アルミナ担体粉末を調製した。上記Ｒｈ担体（アルミナ）１ｇ当たりのＲｈの担持量は凡そ０．００１１ｇとした。上記Ｐｔ／セリア−ジルコニア複合酸化物担体粉末と、上記Ｒｈ／アルミナ担体粉末と、アルミナバインダと、イオン交換水とを混合して第１触媒部形成用スラリーを調製した。第１触媒部形成用スラリーは、隔壁の小細孔１８ａに流入しやすいように、粘度および固形分率を適宜調整した。次いで、この第１触媒部形成用スラリーにコージェライト製のウォールフロー型基材（直径１０３ｍｍ、全長１０５ｍｍ）を浸漬し、余分なスラリーを吹き払った後、乾燥・焼成することにより、隔壁１６の小細孔１８ａの内部に第１触媒部２０を形成した。第１触媒部２０の成形量（コート量）は、基材１Ｌ当たり５０ｇとした。
【００５６】
次いで、第２触媒部形成用スラリーを上述した第１触媒部形成用スラリーと同様の手順で作製した。ただし、上記Ｐｔ担体（セリア−ジルコニア複合酸化物）１ｇ当たりのＰｔの担持量は凡そ０．０２ｇ（第１触媒部の５倍）とし、上記Ｒｈ担体（アルミナ）１ｇ当たりのＲｈの担持量は凡そ０．００５５ｇ（第１触媒部の５倍）とした。また、第２触媒部形成用スラリーは、隔壁の大細孔１８ｂに流入しやすいように、粘度および固形分率を適宜調整した。そして、第２触媒部形成用スラリーに上記ウォールフロー型基材を浸漬し、余分なスラリーを吹き払った後、乾燥・焼成することにより、隔壁１６の大細孔１８ｂの内部に第２触媒部３０を形成した。第２触媒部３０の成形量（コート量）は、基材１Ｌ当たり５０ｇとした。このようにして、隔壁内部に第１触媒部２０および第２触媒部３０が形成されたフィルタ触媒を作製した。なお、基材の体積１Ｌ当たりについて、フィルタ触媒全体でのＰｔの含有量は０．６ｇ／Ｌ、Ｒｈの含有量は０．１５ｇ／Ｌ、Ｐｔ担体の含有量は５０ｇ／Ｌ、Ｒｈ担体の含有量は４５ｇ／Ｌ、バインダの含有量は５ｇ／Ｌとなる。
【００５７】
＜比較例１＞
また、比較のために、比較例１に係る触媒部形成用スラリーを上述した第１触媒部形成用スラリーと同様の手順で作製した。ただし、上記Ｐｔ担体（セリア−ジルコニア複合酸化物）１ｇ当たりのＰｔの担持量は凡そ０．０１２ｇとし、上記Ｒｈ担体（アルミナ）１ｇ当たりのＲｈの担持量は凡そ０．０３３ｇとした。また、このスラリーは、隔壁の小細孔１８ａおよび大細孔１８ｂの双方に流入しやすいように、粘度および固形分率を適宜調整した。そして、該スラリーにウォールフロー型基材を浸漬し、余分なスラリーを吹き払った後、乾燥・焼成することにより、隔壁１６の小細孔１８ａおよび大細孔１８ｂの内部に触媒部を形成した。触媒部の成形量（コート量）は、基材１Ｌ当たり１００ｇとした。なお、基材の体積１Ｌ当たりについて、フィルタ触媒全体でのＰｔ、Ｒｈ、Ｐｔ担体、Ｒｈ担体およびバインダの含有量は実施例１と同じである。
【００５８】
上記得られた実施例１および比較例１に係るフィルタ触媒の断面ＳＥＭ像を観察した。実施例１の結果を図６、比較例１の結果を図９に示す。また、電子線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）を用いてＣｅ（ひいてはＰｔ担体）の分散状態を観察した。実施例１の結果を図７、比較例１の結果を図１０に示す。さらに、ＥＰＭＡを用いてＰｔの分散状態を観察した。実施例１の結果を図８、比較例１の結果を図１１に示す。
【００５９】
図６〜図８に示すように、ＥＰＭＡを用いたＣｅおよびＰｔのマッピングの比較から、実施例１のフィルタ触媒では、Ｃｅ濃度が高い細孔（Ｐｔ担体が多く存在している細孔）において、Ｐｔ濃度が高い部位と、Ｐｔ濃度が低い部位とが共存していることが確認された。また、Ｐｔ濃度が高い部位は隔壁の大細孔１８ｂに主に形成され、Ｐｔ濃度が低い部位は隔壁の小細孔１８ａに主に形成されていることが確認された。これに対し、図９〜図１１に示すように、比較例１のフィルタ触媒は、Ｃｅ濃度が高い細孔（すなわちＰｔ担体が多く存在している細孔）のすべてに同濃度のＰｔが一様に担持されており、小細孔１８ａと大細孔１８ｂの区別なく、同濃度のＰｔが担持されていることが確認された。
【００６０】
上記実施例１および比較例１のフィルタ触媒について、１００℃〜６００℃（昇温速度２０℃／分）の昇温時におけるＨＣガスの浄化率を連続的に測定し、５０％浄化温度（温度特性）を測定した。ここで５０％浄化温度とは、ＨＣガスの浄化率が５０％に達したときの触媒入口のガス温度である。結果を図１２に示す。図１２は、実施例１および比較例１の５０％浄化温度（温度特性）を示すグラフである。
【００６１】
図１２に示すように、比較例１のフィルタ触媒は、ＨＣの５０％浄化温度が３９０℃を超えていた。これに対し、実施例１のフィルタ触媒は、フィルタ全体で比較例１と同量の貴金属を用いているにも関わらず、ＨＣの５０％浄化温度がより低く、より触媒活性に優れるものとなった。実施例１では、隔壁内の小細孔（第１触媒部）と大細孔（第２触媒部）とで担体１ｇ当たりの貴金属の担持量（ひいては貴金属の含有量）に適度な差を設け、両者の触媒活性を適切に調整することにより、排ガスの浄化性能を効果的に向上させることができたものと推測される。この結果から、隔壁内の小細孔の貴金属の含有量を大細孔の貴金属の含有量よりも小さくすることで、触媒性能が向上し得ることが確認された。
【００６２】
＜実施例２＞
実施例２では、担体１ｇ当たりについて、第１触媒部２０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量と、第２触媒部３０における担体１ｇ当たりの貴金属の担持量とを同程度に揃えつつ、第１触媒部２０の成形量が、第２触媒部３０の成形量よりも小さいフィルタ触媒を作製した。
【００６３】
具体的には、Ｐｔ担体としてのセリア−ジルコニア複合酸化物を用意し、貴金属触媒溶液としてジニトロジアミンＰｔ溶液に含浸させた後、蒸発乾固してＰｔを担持したＰｔ／セリア−ジルコニア複合酸化物担体粉末を調製した。上記Ｐｔ担体（セリア−ジルコニア複合酸化物）１ｇ当たりのＰｔの担持量は凡そ０．０１２ｇとした。また、Ｒｈ担体としてのＬａ安定化アルミナを用意し、貴金属触媒溶液として硝酸Ｒｈ溶液に含浸させた後、蒸発乾固してＲｈを担持したＲｈ／アルミナ担体粉末を調製した。上記Ｒｈ担体（アルミナ）１ｇ当たりのＲｈの担持量は凡そ０．０３３ｇとした。上記Ｐｔ／セリア−ジルコニア複合酸化物担体粉末と、上記Ｒｈ／アルミナ担体粉末と、アルミナバインダと、イオン交換水とを混合して第１触媒部形成用スラリーを調製した。第１触媒部形成用スラリーは、隔壁の小細孔１８ａに流入しやすいように、粘度および固形分率を適宜調整した。次いで、この第１触媒部形成用スラリーにコージェライト製のウォールフロー型基材（直径１０３ｍｍ、全長１０５ｍｍ）を浸漬し、余分なスラリーを吹き払った後、乾燥・焼成することにより、隔壁１６の小細孔１８ａの内部に第１触媒部２０を形成した。第１触媒部２０の成形量（コート量）は、基材１Ｌ当たり３０ｇとした。
【００６４】
次いで、第２触媒部形成用スラリーを上述した第１触媒部形成用スラリーと同様の手順で作製した。ただし、第２触媒部形成用スラリーは、隔壁の大細孔１８ｂに流入しやすいように、粘度および固形分率を適宜調整した。そして、第２触媒部形成用スラリーにコージェライト製のウォールフロー型基材（直径１０３ｍｍ、全長１０５ｍｍ）を再度浸漬し、余分なスラリーを吹き払った後、乾燥・焼成することにより、隔壁１６の大細孔１８ｂの内部に第２触媒部３０を形成した。第２触媒部３０の成形量（コート量）は、基材１Ｌ当たり７０ｇとした。なお、基材の体積１Ｌ当たりについて、フィルタ触媒全体でのＰｔの含有量は０．６ｇ／Ｌ、Ｒｈの含有量は０．１５ｇ／Ｌ、Ｐｔ担体の含有量は５０ｇ／Ｌ、Ｒｈ担体の含有量は４５ｇ／Ｌ、バインダの含有量は５ｇ／Ｌとなる。
【００６５】
＜比較例２＞
また、比較のために、比較例２に係る触媒部形成用スラリーを上述した第１触媒部形成用スラリーと同様の手順で作製した。ただし、このスラリーは、隔壁の小細孔１８ａおよび大細孔１８ｂの双方に流入しやすいように、粘度および固形分率を適宜調整した。該スラリーにコージェライト製のウォールフロー型基材（直径１０３ｍｍ、全長１０５ｍｍ）を浸漬し、余分なスラリーを吹き払った後、乾燥・焼成することにより、隔壁１６の小細孔１８ａおよび大細孔１８ｂの内部に触媒部を形成した。触媒部の成形量（コート量）は、基材１Ｌ当たり１００ｇとした。なお、基材の体積１Ｌ当たりについて、フィルタ触媒全体でのＰｔ、Ｒｈ、Ｐｔ担体、Ｒｈ担体およびバインダの含有量は実施例２と同じである。
【００６６】
上記実施例２および比較例２のフィルタ触媒について、１００℃〜６００℃（昇温速度２０℃／分）の昇温時におけるＨＣガスの浄化率を連続的に測定し、５０％浄化温度（温度特性）を測定した。結果を図１３に示す。図１３は、実施例２および比較例２の５０％浄化温度（温度特性）を示すグラフである。
【００６７】
図１３に示すように、比較例２のフィルタ触媒は、ＨＣの５０％浄化温度が３９０℃を超えていた。これに対し、実施例２のフィルタ触媒は、フィルタ全体で比較例２と同量の貴金属を用いているにも関わらず、ＨＣの５０％浄化温度がより低く、より触媒活性に優れるものとなった。実施例２では、隔壁内の小細孔（第１触媒部）と大細孔（第２触媒部）とで成形量（ひいては貴金属の含有量）に適度な差を設け、両者の触媒活性を適切に調整することにより、排ガスの浄化性能を効果的に向上させることができたものと推測される。この結果から、隔壁内の小細孔の第１触媒部の成形量を大細孔の第２触媒部の成形量よりも小さくすることで、触媒性能が向上し得ることが確認された。
【００６８】
以上、パティキュレートフィルタ１００ならびに該パティキュレートフィルタ１００を備えた排ガス浄化装置１について種々の改変例を例示したが、パティキュレートフィルタ１００ならびに排ガス浄化装置１の構造は、上述した何れの実施形態にも限定されない。
排ガス浄化装置１の各部材、部位の形状や構造についても変更してもよい。図１に示した例では、フィルタ部の上流側に触媒部を設けているが、触媒部は省略しても構わない。この排ガス浄化装置１は、例えば、ガソリンエンジンなど、排気温度が比較的高い排ガス中の有害成分を浄化する装置として特に好適である。ただし、本発明に係る排ガス浄化装置１は、ガソリンエンジンの排ガス中の有害成分を浄化する用途に限らず、他のエンジン（例えばディーゼルエンジン）から排出された排ガス中の有害成分を浄化する種々の用途にて用いることができる。
【符号の説明】
【００６９】
１      排ガス浄化装置
２      内燃機関
１０    基材
１２    入側セル
１４    出側セル
１６    隔壁
１８ａ  小細孔
１８ｂ  大細孔
２０    第１触媒部
３０    第２触媒部
１００  パティキュレートフィルタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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