(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物体の測定点の偏光状態を分析及び／または生成するためのデバイスであって、
−  入射光波から、所定の方向に直線偏光された光ビームを選択する、偏光子と、
−  前記光ビームによって通過される、第１の複屈折素子と、
−  前記第１の複屈折素子と同一であり、前記光ビームによって通過される、第２の複屈折素子であって、前記光ビームは次に、前記対象物体に向かって直接的または間接的に方向付けられて、反射ビームの形態で反射される、第２の複屈折素子と、
を備え、
１つ以上の光学素子から成る光学アセンブリが、前記第１の複屈折素子と前記第２の複屈折素子との間にある光路上に位置し、前記光学アセンブリが、
−  奇数の鏡、または
−  奇数の２分の１波長板、または
−  組み合わされた奇数の鏡及び２分の１波長板
から成ることを特徴とする、
前記デバイス。
【請求項２】
前記第１の複屈折素子及び／または前記第２の複屈折素子は、
−  回転移動可能な複屈折板、または
−  ネマチック液晶素子である、
請求項１に記載の前記デバイス。
【請求項３】
前記デバイスは、光ビームを発する、光源を備え、前記光源は、前記偏光子の上流にビームを発するのに好適である、
請求項１〜２のいずれか一項に記載の前記デバイス。
【請求項４】
前記第１の複屈折素子は、前記所定の方向と直交する第１の平面（Ｐ１）に延在する第１の面を備え、第２の平面（Ｐ２）に延在する鏡は、前記第１の平面（Ｐ１）に対して２０°〜８０°の角度αで交差し、
前記第２の複屈折素子は、前記所定の方向と直交する第３の平面（Ｐ３）に延在する第３の面を備え、前記第２及び第３の平面は、値がαに等しい角度α’の角度で交差する、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の前記デバイス。
【請求項５】
前記光学アセンブリは、偶数の複数の複屈折素子を備える、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の前記デバイス。
【請求項６】
前記デバイスは、前記反射ビームを電気信号に変換する、感光性センサをさらに備える、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の前記デバイス。
【請求項７】
対象物体の測定点の偏光状態を生成するための方法であって、
−  入射光波から、所定の方向に直線偏光された入射ビームを選択するステップ、
−  前記入射ビームを、第１の複屈折素子、次に第２の複屈折素子に連続して通過させるステップ、
−  前記入射ビームを、前記対象物体に向かって前記第２の複屈折素子の上流に直接的または間接的に方向付けるステップであって、前記入射ビームは次に、反射ビームを発する、方向付けるステップ、
を含み、
前記方法が、１つ以上の光学素子から成り、前記第１の複屈折素子と前記第２の複屈折素子との間にある前記入射ビームの光路上に位置する光学アセンブリの包含によって、前記第１の複屈折素子及び前記第２の複屈折素子の位相ドリフトを補償することに存するステップをさらに含み、
前記光学アセンブリは、
−  奇数の鏡、または
−  奇数の２分の１波長板、または
−  組み合わされた奇数の鏡及び２分の１波長板
から成ることを特徴とする、
方法。
【請求項８】
対象物体の測定点の偏光状態を分析するための方法であって、
−  前記対象物体から反射ビームを発し、それを第２の複屈折素子の下流に直接的または間接的に方向付けるステップ、
−  前記反射ビームを、前記第２の複屈折素子、次に第１の複屈折素子に連続して通過させるステップ、
−  前記反射ビームを電気信号に変換するステップ、
を含み、
前記第１の複屈折素子と前記第２の複屈折素子との間にある前記反射ビームの光路上の１つ以上の光学素子から成る光学アセンブリの包含によって、前記第１の複屈折素子及び前記第２の複屈折素子の位相ドリフトを補償することに存するステップをさらに含み、
前記光学アセンブリは、
−  奇数の鏡、または
−  奇数の２分の１波長板、または
−  組み合わされた奇数の鏡及び２分の１波長板
から成ることを特徴とする、
方法。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の分析及び／または生成デバイスを備える、医療装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概して、対象物体の測定点の偏光状態を分析及び／または生成するためのデバイスに関する。
【０００２】
より具体的には、本発明は、医療分野に適用される分析及び／または生成に関する。
【背景技術】
【０００３】
当該技術分野において、対象物体の測定点の偏光状態を分析及び／または生成するためのデバイスは既知であり、
本デバイスは、
−  入射光波から、所定の方向に直線偏光された光ビームを選択するのに好適な偏光子と、
−  該光ビームによって通過されるのに好適な第１の複屈折素子と、
−  第１の素子と同一であり、該光ビームによって通過されるのに好適な第２の複屈折素子であって、該光ビームは次に、該物体に向かって直接的または間接的に方向付けられて、反射した放射の形態で反射されるよう意図される、第２の複屈折素子と、
を備える。
【０００４】
光ビームによって通過されるのに好適な第１及び第２の複屈折素子は、その環境条件に敏感である。例えば、第１及び第２の素子は温度に敏感な可能性があり、その結果、分析及び／または生成デバイスが使用される度に繰り返しの較正手順を必要とする。これらの較正手順の目的は、第１及び第２の複屈折素子のうちの一方の温度ドリフトの影響を補正することである。
【０００５】
より一般的には、第１及び第２の素子が環境的な条件に敏感であるため、位相ドリフトが第１及び第２の複屈折素子で発生することがあり、それはその後、このドリフトを補償するために、時間のかかる較正手順の実行を要する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
この文脈において、本明細書に提起される問題は、このデバイスの較正に費やされる時間を低減する、偏光状態を分析及び／または生成するためのデバイスを提案することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によって提案される解決策は、第１の素子と第２の素子との間にある光路上に位置する、１つ以上の光学素子から成る光学アセンブリであって、
−  奇数の鏡、または
−  奇数の２分の１波長板、または
−  組み合わされた奇数の鏡もしくは２分の１波長板
から成る、光学アセンブリに関する。
【０００８】
本発明の一実施形態では、第１の素子及び／または第２の素子は、
−  回転移動可能な複屈折板、または
−  ネマチック液晶素子
である。
【０００９】
本発明の別の実施形態では、本デバイスは、光ビームを発するのに好適な光源をさらに備え、該光源は、偏光子の上流にビームを発するのに好適である。
【００１０】
本発明の別の実施形態では、
−  第１の素子は、該所定の方向と直交する第１の平面に延在する第１の面を備え、第２の平面に延在する該鏡は、その第１の平面に対して２０°〜８０°の角度αで交差し、
−  第２の素子は、該所定の方向と直交する第３の平面に延在する第３の面を備え、第２及び第３の平面は、値がαに等しい角度α’の角度で交差する。
【００１１】
一実施形態では、光学アセンブリは、偶数の複数の複屈折素子を備える。
【００１２】
一実施形態によると、本デバイスは、反射ビームを電気信号に変換するのに好適な感光性センサをさらに備える。
【００１３】
本発明の第２の目的によると、別の狙いは、対象物体の測定点の偏光状態を生成するための方法であって、
−  入射光波から、所定の方向に直線偏光された入射ビームを選択するステップ、
−  該入射ビームを、第１の複屈折素子、次に第２の複屈折素子に連続して通過させるステップ、
−  そのビームを、該物体に向かって第２の複屈折素子の上流に直接的または間接的に方向付けるステップであって、該ビームは次に、反射ビームを発する、方向付けるステップ、
を含む、方法である。
【００１４】
本方法は、１つ以上の光学素子から成り、該第１の素子と第２の素子との間にあるビームの光路上に位置する光学アセンブリの包含によって、該第１及び第２の素子の位相ドリフトを補償することに存するステップをさらに含み、該光学アセンブリは、
−  奇数の鏡、または
−  奇数の２分の１波長板、または
−  組み合わされた奇数の鏡もしくは２分の１波長板
から成る。
【００１５】
本発明の第３の目的によると、別の狙いは、対象物体の測定点の偏光状態を分析するための方法であって、
−  該物体から反射ビームを発し、それを第２の複屈折素子の下流に直接的または間接的に方向付けるステップ、
−  該反射ビームを、第２の複屈折素子、次に第１の複屈折素子に連続して通過させるステップ、
−  反射ビームを電気信号に変換するステップ、
を含む、方法である。
【００１６】
本方法は、該第１の素子と第２の素子との間にあるビームの光路上の１つ以上の光学素子から成る光学アセンブリの包含によって、該第１及び第２の素子の位相ドリフトを補償することに存するステップをさらに含み、該光学アセンブリは、
−  奇数の鏡、または
−  奇数の２分の１波長板、または
−  組み合わされた奇数の鏡もしくは２分の１波長板
から成る。
【００１７】
他の特徴及び利点はまた、示唆的及び非限定的な様式で、添付の図面への参照とともに本明細書において下記に付与される説明から明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】光学アセンブリが１つの鏡から成る、偏光状態を生成するための例示的なデバイスの理論図を示す。
【図２】光学アセンブリが１つの鏡から成る、偏光状態を分析するための例示的なデバイスの理論図を示す。
【図３】光学アセンブリが１つの２分の１波長板から成る、偏光状態分析及び／または生成するための例示的なデバイスの理論図を示す。
【図４】光学アセンブリが３つの２分の１波長板から成る、偏光状態を分析及び／または生成するための例示的なデバイスの理論図を示す。
【図５】光学アセンブリが３つの鏡から成る、偏光状態を分析及び／または生成するための例示的なデバイスの理論図を示す。
【図６】角度配向θ、ψ１、及びψ２が参照される、先行技術による偏光状態を分析及び／または生成するための例示的なデバイスの理論図を示す。
【図７】提案される構造を２回使用する、偏光状態の完全な分析及び／または生成のための例示的なデバイスの理論図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
理論的正当性
図を参照すると、対象物体の測定点の偏光状態を分析するためのデバイスの場合、物体の各ピクセルから発生する光のストークスベクトルにアクセスすることによって、対象物体から発生する光の偏光を測定することが可能である。これは、機械的素子を必要とせず、ビデオ速度に近い取得速度を可能にするという利点を提供する回転移動可能な４分の１波長板またはネマチック液晶素子などの、複屈折素子の使用によって行われる。
【００２０】
偏光状態を分析するための構成では、種々の光学素子を通過した後の、感光性センサＳ’’’に対する偏光子から発生する光の偏光状態は、入来するストークスベクトルＳを用いたシステム全体のミュラー行列の生成（偏光状態を分析するためのデバイスを構成する光学素子のミュラー行列の生成）によって説明される。
【００２１】
したがって、種々の光学素子を通過した後の入射光波から発生する光ビームの偏光は、そのミュラー行列の生成によって説明され、その結果、関係：
Ｓ’’’＝Ｍｐ（θ）．ＭＲ（δ２，ψ２）．ＭＲ（δ１，ψ１）．Ｓ
をもたらす。ＭＲ（δ１，ψ１）及びＭＲ（δ２，ψ２）は、第１及び第２の複屈折素子のミュラー行列であり、ＭＰ（θ）は、偏光子のミュラー行列である。ψ１、ψ１は、水平軸に対する第１及び第２の複屈折素子の高速軸（ｒａｐｉｄ  ａｘｅｓ）の配向である。θは、線形偏光子の配向に対応する。δ１、δ２は、電圧Ｖ１及びＶ２を印加することによって得られる位相シフトである。これらの位相シフトは、望ましい。位相ドリフトがこれらの位相シフトに加算され、これらの位相ドリフトは補正される必要があるものである。
【００２２】
Ｓ’’’は、通常４つの構成要素Ｉ’’’、Ｑ’’’、Ｕ’’’、及びＶ’’’を有する。これらは、測定されるストークスベクトルの構成要素に対応し、特に、強度Ｉ’’’は、感光性センサによって測定される強度に対応する。
（Ｉ’’’，Ｑ’’’，Ｕ’’’，Ｖ’’’）＝（ｓ０，ｓ１，ｓ２，ｓ３）
であることが分かるであろう。
【００２３】
Ｓは、４つの構成要素Ｉ、Ｑ、Ｕ、及びＶを有する。物体に由来する強度Ｉは：
Ｉ（δ１，δ２，ψ１，ψ２，θ）＝ｓ０＋ｆ（δ１，δ２，ψ１，ψ２，θ）．ｓ１＋ｇ（δ１，δ２，ψ１，ψ２，θ）．ｓ２
＋ｈ（δ１，δ２，ψ１，ψ２，θ）．ｓ３
（Ｉ）
の形式で表される。
【００２４】
物体から発生する波のストークスパラメータは、偏光状態を分析するためのデバイスを特徴付ける位相シフト及び配向、すなわち、パラメータδ１、δ２、ψ１、ψ２、及びθを選択することによって得ることができる。実践では、配向ψ１、ψ２、及びθは、偏光状態を分析するためのデバイスに由来する強度の調節を最大にするように選択される。
【００２５】
したがって、提案される解決策は、第１の複屈折素子と第２の複屈折素子との間に、
−  奇数の鏡、または
−  奇数の２分の１波長板、または
−  組み合わされた奇数の鏡もしくは２分の１波長板、
から成る光学アセンブリを位置付けることによる。
【００２６】
そのように構築されると、光学アセンブリは、以下の形式：
【数１】
0006285547.tif 000002
を有するミュラー行列を有する。
【００２７】
入射光波から発生する光ビームの偏光は、光学アセンブリをさらに備える種々の光学素子を通過した後、そのミュラー行列の生成によって説明し、その結果、関係：
Ｓ’’’＝ＭＰ（θ）．ＭＲ（δ２，ψ２）．ＭＩ．ＭＲ（δ１，ψ１）Ｓ
をもたらす。
【００２８】
次に、分析デバイスの強度の調節を最大にするようにψ１、ψ２、及びθを選択することが適切である。
【００２９】
一例として、関係（Ｉ）から開始し、配向θ＝π／２、ψ１＝π／８、及びψ２＝３π／８を選択することによって、測定される強度は：
Ｉ（δ１，δ２，ψ１，ψ２，θ）＝１／４．（２．ｓ０−ｓ１−ｓ２＋（−ｓ１＋ｓ２）．ｃｏｓ（δ１−δ２）＋√２．ｓ３．ｓｉｎ（δ１−δ２））
によって求められる。
【００３０】
この場合、温度がＴ０からＴ１に変化すると、δ１は、Δ１だけ屈折し、δ２は、Δ２だけ屈折する。第１及び第２の複屈折素子は同一であるため、Δ１＝Δ２であると考えられる。
【００３１】
したがって、上述のような第１の素子と第２の素子との間にある光路上の光学アセンブリの配置は、表現Ｉ（δ１，δ２，ψ１，ψ２，θ）内の表現（δ１−δ２）を明らかにすることを有利に可能にし、それは、この表現からドリフトΔ１及びΔ２を排除し、したがってそれらを決定するために設計される特定の較正手順を排除することを可能にする。第１の素子の（例えば、温度の変動に起因する）位相ドリフトは、第２の素子の位相ドリフトによって補償される（δ１＋Δ１−δ２−Δ２＝δ１−δ２）。
【００３２】
例示的な実施形態の説明
図１〜５を参照すると、これらの図は、入射光波を発するのに好適な光源Ｓ、及び対象物体の測定点の偏光状態を分析及び／または生成するためのデバイス１ａ、１ｂであって、
−  入射光波から、所定の方向に直線偏光された入射光ビームＦｉを選択するのに好適な偏光子２、
−  該入射光ビームＦｉによって、かつ対象物体によって反射される反射ビームＦｒによって通過されるのに好適な第１の複屈折素子３、
−  第１の素子３と同一であり、該入射光ビームＦｉによって、かつ反射光ビームＦｒによって通過されるのに好適な第２の複屈折素子４であって、該入射光ビームＦｉは、該物体に向かって直接的または間接的に方向付けられて、該反射光ビームＦｒの形態で反射されるよう意図される、第２の複屈折板素子４、
−  反射光ビームＦｒを電気信号に変換するのに好適な感光性センサ５、
を備える、デバイス１ａ、１ｂを示す。
【００３３】
対象物体から反射される反射光ビームＦｒから偏光情報を計算する手段も存在する。
【００３４】
本明細書においてこれ以降、入射光ビームＦｉは、光源から対象物体までの全経路にわたって「入射ビームＦｉ」と称され、対象物体からセンサ５までの全経路にわたって「反射ビームＦｒ」と称される。
【００３５】
光源Ｓは、所定の方向に直線偏光された入射光ビームＦｉを発するよう意図される。この光源Ｓは、例えば、半導体レーザーまたはハロゲンランプ型の広帯域光源から成り得る。
【００３６】
従来、光ビームを発するのに好適なこの光源Ｓは、その上流の偏光子２と関連している。
【００３７】
偏光子２は、光源の下流に位置し、その結果、それは入射光波から直線偏光された光ビームを選択することができる。それは次に、入射光波によって通過されるのに好適である。
【００３８】
１つ以上の光学素子から成る光学アセンブリ６は、第１の素子３と第２の素子４との間にある光路上に位置し、
−  奇数の鏡７、または
−  奇数の２分の１波長板８、または
−  組み合わされた奇数の鏡７もしくは２分の１波長板８
から成る。
【００３９】
図１〜５において、第１の複屈折素子３は、光ビームの光路上の偏光子２と光学アセンブリ６との間に配置される。第２の複屈折素子４は、光学アセンブリ６と光源Ｓとの間に配置される。
【００４０】
本発明の一実施形態では、第１の複屈折素子３は、回転移動可能な複屈折板である。好ましくは、複屈折板は、遅延板である。第１の複屈折素子３はまた、ネマチック液晶素子であってもよい。
【００４１】
本発明の一実施形態では、第２の複屈折素子４は、回転移動可能な複屈折板である。好ましくは、複屈折板は、遅延板である。第２の複屈折素子４はまた、ネマチック液晶素子であってもよい。
【００４２】
第１及び第２の複屈折素子３、４は、いずれも遅延板であるか、またはいずれもネマチック液晶遅延ユニットである。
【００４３】
第１及び第２の複屈折素子３、４は、遅延ユニットを定義する。好ましくは、それらは、液晶遅延ユニットである。これらの第１及び第２の複屈折素子３、４の各々は、例えば、回転などの機械的動作をデバイスに要することなく入射ビームの偏光状態を修正することを可能にする。ストークスパラメータの概算は、より正確でより高速である。これらの第１及び第２の複屈折素子の制御変数パラメータは、遅延δである。この遅延δは、制御盤を介してコンピュータを使用して調整される実効電圧値によって制御される。
【００４４】
一実施形態では、光学アセンブリ６は、偶数の複数の複屈折素子を備える。複屈折素子の各対に関して、該対の第１の部分は、
【数２】
0006285547.tif 000003
により求められるミュラー行列を有する光学アセンブリの上流に位置し、この対の第２の部分は、同じミュラー行列ＭＩを有するこの光学アセンブリ６の下流に位置する。
【００４５】
好ましくは、分析１ａ及び／または生成１ｂデバイスは、正確に２つの複屈折素子３、４を備える。２つの複屈折素子３、４の使用は、遅延δｉの数及び値にかかわらず、偏光測定行列Ｐ（δｉ，ψ，θ）が不適切な（Ｉｉ＝Ｐ（δｉ，ψ，θ）．Ｓ）であるという事実により正当化される。
【００４６】
図１は、偏光状態生成構成において、入射光波が、偏光子２を通過し、該偏光子２は、所定の方向に直線偏光された入射ビームＦｉを選択することを示す。
【００４７】
入射ビームＦｉは、第１の複屈折素子３を通って連続して通過して、第２の素子４と第１の素子３との間にある光路上に位置する鏡７から成る光学アセンブリ６によって反射される。入射ビームＦｉは次に、第２の複屈折素子４を通過する。
【００４８】
図２は、偏光状態分析構成において、反射ビームが、第２の複屈折素子４を連続して通過した後、第２の素子４と第１の素子３との間にある光路上に位置する鏡７から成る光学アセンブリ６によって反射され、第１の複屈折素子３を通過し、該第１の複屈折素子３の後に偏光子２が続くことを示す。次に、結果として得られる光強度が、対象物体によって反射される放射を電気信号に変換するのに好適な感光性センサによって測定される。
【００４９】
対象物体によって反射されたビームは、第２の複屈折素子４を連続して通過した後、ミュラー行列ＭＩを有し、また鏡７によって定義される、光学アセンブリ６に向かって方向付けられ、次に第１の複屈折素子３を通過した後に偏光子２が続く、光路を有することが分かる。光路の末端において、感光性センサ５は、反射ビームＦｒをアナログ電気信号に変換することができる。この信号は次に、対象物体の測定点の偏光状態を分析するために、増幅された後にアナログ−デジタル変換器によってデジタル化され、偏光情報計算手段によって処理される。
【００５０】
有利なことに、分析及び／または生成デバイス１ａ、１ｂは、入射光波を規定の波長に集中させるために、単色フィルタ９を備えることができる。
【００５１】
図１及び２は、光学アセンブリ６が鏡７から成る解決策を示す。したがって、第１及び第２の素子３、４の位相ドリフトの補償の原理は、πラジアンのグローバルな位相シフトを導入する１つ以上の光学素子を、第１及び第２の複屈折素子３、４の間で光路上に導入することである。このπラジアンの位相シフトは、第２の複屈折素子４の位相ドリフトによって第１の複屈折素子３の位相ドリフトを補償する効果がある。
【００５２】
図３及び４は、光学アセンブリ６が２分の１波長板から成る解決策を示す。取られる光路は、入射及び反射ビームが２分の１波長板を通過するという点が異なる。図３及び４に見られる通り、偏光状態の分析及び／または生成の原理は同じであるが、光路に付与される配向は異なる。鏡７の使用は、光学アセンブリ６の両側で、すなわち、入力及び出力において、光路の角度配向に影響を及ぼすであろう。反対に、２分の１波長板の使用は、光学アセンブリ６の両側で、すなわち、入力及び出力において、光路の角度配向を修正しない。例えば、その使用位置において２分の１波長板を通過するビームは、光学アセンブリ６の入力から、また光学アセンブリ６の出力後に直線的な軌道を有するであろう。
【００５３】
これらの条件では、２分の１波長板の使用（図３及び４）は、スペクトル帯が狭い場合、直線的な構成に好適であり、一方、鏡７の使用（図１、２、及び５）は、多スペクトル構成または広帯域測定に特に好適である。
【００５４】
図３に描写される実施形態では、光学アセンブリ６は、２分の１波長板から成る。
【００５５】
図４に描写される実施形態では、光学アセンブリ６は、３つの連続した２分の１波長板から成る。それらは、互いに向かい合っている。
【００５６】
ここでは、第１の複屈折素子と第２の複屈折素子との間の奇数の２分の１波長板は、πラジアンのグローバルな位相シフトを導入することが狙いであるため、不可欠である。
【００５７】
図１及び２に示される実施形態によると、第１の素子３は、該所定の方向と直交する第１の平面（Ｐ１）に延在する第１の面１１を備え、該鏡７は、その第１の平面（Ｐ１）に対して、２０〜８０°の角度αでずらされた第２の平面（Ｐ２）に延在する。第２の素子４は、該所定の方向と直交する第３の平面（Ｐ３）に延在する第３の面１２を備え、第２及び第３の平面（Ｐ２、Ｐ３）は、値がαに等しい角度α’でずらされている。
【００５８】
図５に示される実施形態では、光学アセンブリ６が３つの鏡７から成る、偏光状態を分析及び／または生成するためのデバイス１ａ、１ｂが描写されている。より具体的には、鏡７は、光ビームが、第１の鏡７ａ、次に第２の鏡７ｂ、また次に第３の鏡７ｃによって連続して反射されるように配向される。奇数の鏡により、ミュラー行列ＭＩは、所望の形態のものである。複数の鏡７の使用は、鏡７間の角度を変動させること、ならびに光学アセンブリを分析及び／または生成デバイスが組み込まれる機械の筐体に適用することを可能にする。
【００５９】
図７に示される実施形態では、４つの複屈折素子３、４、１３、１４が使用される、分析及び／または生成デバイス１ａ、１ｂが描写されている。
【００６０】
より具体的には、第３の複屈折素子１３は、光ビームの光路上で第２の複屈折素子４と向かい合っている。光ビームは次に、第２の鏡１７に向かって直接的または間接的に方向付けられて、反射されるよう意図される。その結果、光ビームは、（少なくとも）２回反射される。第２の鏡１７に面することで、第２の鏡１７によって反射される光ビームの光路上に、第４の複屈折素子１４が配置される。この構成は、偏光を測定するための器具の最適な調節を保証する。偏光子２は、デバイス１ａ、１ｂが対象物体の測定点の偏光状態を分析するよう意図されるか、または対象物体の測定点の偏光状態を生成するよう意図されるかに応じて、第１の複屈折素子３の上流または第４の複屈折素子１４の下流に配置され得る。
【図１】
0006285547.tif 000004
【図２】
0006285547.tif 000005
【図３】
0006285547.tif 000006
【図４】
0006285547.tif 000007
【図５】
0006285547.tif 000008
【図６】
0006285547.tif 000009
【図７】
0006285547.tif 000010