(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
変更器、高周波源及びコントローラを含む、皮膚組織処理のためのシステムの作動方法であって、
前記コントローラが、皮膚表面上の第１及び第２の領域から、前記皮膚組織内の処理ゾーンの側面に沿ってそれぞれ延びる、離間された第１及び第２の皮膚組織部分の電導特性をそれぞれ変更する前記変更器を作動させるステップであり、前記第１及び第２の皮膚組織部分は前記変更器によって提供される、ステップと、
前記コントローラが、前記変更器を作動させるステップの後で、前記第１及び第２の皮膚組織部分を介して前記処理ゾーンに高周波エネルギーを提供する前記高周波源を作動させるステップと、
を含み、
前記コントローラは、前記第１及び第２の皮膚組織部分間に存在する皮膚組織部分に相対して前記第１及び第２の皮膚組織部分の前記高周波エネルギーに対する電気インピーダンスを減らして電導度を増やすように前記変更器を作動させ、
前記コントローラは、前記皮膚表面上の第１又は第２の領域と直接物理的に接触した１つ又は複数の高周波電極を用いて前記高周波エネルギーを提供するように前記高周波源を作動させる、方法。
【請求項２】
前記第１及び第２の皮膚組織部分が、縦軸を有した細長い円柱状又は板状の形状を有する細長い皮膚組織部分の対を含み、前記対の前記細長い皮膚組織部分の前記縦軸が、前記皮膚表面から前記処理ゾーンに向かう方向で互いに向かって集まる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記コントローラは、前記第１及び第２の皮膚組織部分を加熱するように前記変更器をさらに作動させる、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記コントローラは、皮膚組織を融除するように前記変更器をさらに作動させる、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記コントローラは、前記皮膚組織内に、電導性の流体で満たされる１つ又は複数の空洞を提供するように前記変更器をさらに作動させる、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記皮膚組織処理のためのシステムは加圧装置をさらに含み、当該方法は、前記コントローラが、体液で前記空洞を満たすために、前記皮膚組織と周囲の大気との間で、前記空洞のうち１つ又は複数の空洞にわたって差圧を適用する前記加圧装置を作動させるステップをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
皮膚組織処理のためのシステムであって、
皮膚表面の下の前記皮膚組織内の処理ゾーンに高周波エネルギーを提供して、前記処理ゾーンを加熱するための高周波源であり、１つ又は複数の高周波電極を有した高周波エネルギー源を含む、高周波源と、
前記皮膚表面上の第１及び第２の領域から、前記皮膚組織内の処理ゾーンの側面に沿ってそれぞれ延びる、離間された第１及び第２の皮膚組織部分の電導特性をそれぞれ変更するように構成される変更器と、
を含み、
前記変更器は、前記第１及び第２の皮膚組織部分間に存在する皮膚組織部分に相対して前記第１及び第２の皮膚組織部分の前記高周波エネルギーに対する電気インピーダンスを減らして電導度を増やすように構成され、さらに、
前記第１及び第２の皮膚組織部分は、減らされた電気インピーダンスを有する場合に、前記第１及び第２の皮膚組織部分を通って前記処理ゾーンまで前記高周波エネルギーをガイドし、
前記高周波電極は、使用中、前記皮膚表面上の第１及び第２の領域と直接物理的に接触するように配置され、さらに、前記変更器は、前記皮膚表面に関して前記第１及び第２の皮膚組織部分を提供するように構成される、システム。
【請求項８】
前記変更器が、縦軸を有した実質的に細長い円柱状又は板状の形状を有する前記第１及び第２の皮膚組織部分の対を形成するように、さらに、前記対の前記細長い皮膚組織部分の前記縦軸が、前記皮膚表面から前記処理ゾーンに向かう方向で互いに向かって集まるように構成される、請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記変更器が、前記第１及び第２の皮膚組織部分を提供するために、前記皮膚組織を照射及び加熱するように構成されるレーザを含む、請求項７又は８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記レーザが、皮膚組織を融除するように構成される、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記変更器が、前記第１及び第２の皮膚組織部分の中又は上に、１つ又は複数の流体を分配するように構成されるディスペンサーを含む、請求項７乃至１０のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項１２】
前記変更器が、前記皮膚組織内に１つ又は複数の空洞を提供するように構成され、体液で前記空洞を満たすために、前記皮膚組織と周囲の大気との間で、前記空洞のうち１つ又は複数の空洞にわたって差圧を適用するように構成される加圧装置を含む、請求項７乃至１１のいずれか一項に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、哺乳類組織、特にヒトの皮膚及び皮下組織の処理に関し、特に、皮膚の引き締め及び／又は皮膚の若返りのための高周波エネルギーによる加熱処理に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヒトの皮膚は、少量の組織傷害及び／又は小さな損傷、コラーゲンの変性及び／又は凝固、組織の焼灼及び／又は壊死を熱心に誘発するように、正常な体温をかなり超える温度まで熱心に加熱された場合に、若返らせることができるということが既知である。これは、損傷を受けた組織を修復することによって反応するよう体に催促し、所望の引き締まった且つ若返った皮膚を生じる。
【０００３】
処理の成功ために、標的組織ゾーン又は処理ゾーンは、適切に的をしぼられるべきであり、さらに、他の組織は残すべきである。皮膚の若返りに対する処理ゾーンは、一般的に、皮膚（表皮及び真皮）並びに皮下組織内にある。局部加熱に対して、ＵＳ７，９５５，２６２号は、高周波（ＲＦ）エネルギーを使用して組織を加熱することによって、皮膚の若返りの美的効果を得るために皮膚を処理するためのシステム及び方法を開示している。ＲＦ処理は、第一に、皮膚表面まで超音波波長の音響エネルギーを方向づけることに先行される。これは、超音波エネルギーの焦点体積（ｆｏｃａｌ  ｖｏｌｕｍｅ）での第１の組織の加熱を提供する。ＲＦエネルギーが、後に皮膚に適用され、さらに、ＲＦ電流は、超音波エネルギーによって予熱された焦点体積内にガイドされる。ＵＳ７，９５５，２６２号によると、このガイド効果は、組織温度に対するＲＦ伝導性の温度依存に基づき、さらに、加熱されることになる焦点体積を取り囲む組織及び処理ゾーンの残りの損傷を防ぐため、処理されるゾーンは、好ましくは、エネルギー源の適用に先立ち冷却されるべきであるということが信じられている。
【０００４】
しかし、超音波は、特に、生物学的組織にとって望ましくなく安全でないと考えられるキャビテーション気泡の生成によって、（低い圧力レベルでも）熱的にだけでなく機械的にも生物学的組織と相互作用する傾向がある。さらに、深く侵入する集束又は非集束超音波エネルギーの散乱は、組織の内側にホットスポットを生じる恐れがあり、これは、深刻な安全に関する懸念である。従って、予熱、それとともにＲＦ加熱の量、位置及び温度の制御、従って処理全体としての制御が、不適当又は少なくとも非常に複雑である。
ＷＯ２００８／０６８７４９号は、皮膚組織の処理のための方法及びシステムを開示している。このシステムは、皮膚の処理ゾーン内の複数のスポットを照射するように構成される光学システムを有し、さらに、これらのスポット内の複数の皮膚体積を、ほぼ壊死、壊死又は融除温度であり得る所望の温度まで加熱する。このシステムは、処理ゾーン内にＲＦ電流を生成するように構成されるＲＦシステムをさらに含む。ＲＦシステムは、加熱された前記スポットの皮膚体積の形成後に、ＲＦエネルギーが、加熱された皮膚体積の周り及び下の処理ゾーンを通ってガイドされるように、光学システムによって照射されることになる複数のスポットの反対側に且つ複数のスポットから離して配置される電極を有する。
ＵＳ２００７／０２３９０７５号は、脂肪組織の領域への超音波エネルギーの適用による脂肪組織の処理のための方法及び装置を開示している。一実施形態において、皮膚の隆起部及び根底にある脂肪組織が形成され、超音波エネルギーが、その隆起部における脂肪組織内に放射される。ＲＦ電場が、超音波エネルギーと共に脂肪組織の領域の内側に生成される。
ＷＯ２０１２／１０７８３０号は、表皮の領域を処理するためのシステムを開示しており、このシステムは、少なくとも１つのレーザエネルギー源、レーザビームを生成するための時間制御装置、及び、複数の複合パルスを含むレーザビームを導くように構成されるレーザエネルギー収束システムを含む。一実施形態において、レーザシステムは、ＲＦエネルギー処理システムと組み合わされて、皮膚のレーザ処理の効果と高周波処理の効果とを相乗的に組み合わせている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
皮膚組織治療を改善するために、付随の特許請求の範囲において規定される方法及びシステムがここで提供される。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
皮膚組織処理の方法、特に、美容の皮膚の引き締め及び皮膚の若返りのための方法は、皮膚表面の下の皮膚組織内の処理ゾーンを決定するステップ、皮膚表面に平行な方向に関して処理ゾーンの反対の側に存在する少なくとも２つの第１の皮膚組織部分の電導特性を変更するステップ、及び、前記変更するステップの後で、処理ゾーンを加熱するために、前記第１の皮膚組織部分を介して処理ゾーンに高周波エネルギーを提供するステップを含む。前記第１の皮膚組織部分を変更するステップは、前記第１の皮膚組織部分間に存在する第２の皮膚組織部分に相対して前記第１の皮膚組織部分の高周波エネルギーに対する電気インピーダンスを減らす、特に、電導度を増やすステップであって、減った電気インピーダンスを有する前記第１の皮膚組織部分が、実質的に皮膚表面から処理ゾーンまで皮膚組織内に延びるようなステップを含む。処理ゾーンに高周波エネルギーを提供するステップは、前記第１の皮膚組織部分のうち１つ又は複数の部分と直接物理的に接触した１つ又は複数の高周波電極を用いて高周波エネルギーを提供するステップを含む。
【０００７】
以下「低インピーダンス部分」とも呼ばれる第１の皮膚組織部分は、皮膚内の処理ゾーンまでの皮膚内へのチャネルを提供し、第１の皮膚組織部分を取り囲む変更されていない皮膚組織と比較して、高周波（ＲＦ）エネルギーの損失を減らした。周囲の組織に対して、効果的に増えたコンダクタンスにより、ＲＦエネルギーは、優先的に、前記低インピーダンス部分によって処理ゾーンまでガイドされ、さらに、第１の皮膚組織部分におけるＲＦエネルギーの散逸は、変更されていない皮膚組織と比較して減少させられる。これは、効果的なＲＦエネルギーの侵入深度を改善し、さらに、ＲＦエネルギーの適用の精度を改善するだけでなく、処理ゾーンにおける使用できるＲＦエネルギーを増やす。実質的に皮膚表面から処理ゾーンまで、又は、観点に応じて、処理ゾーンから上がって皮膚表面まで延びる低インピーダンス部分により、ＲＦエネルギー源と低インピーダンス部分との電気接点抵抗は減らされ、チャネル内へのＲＦエネルギーのカップリング（ｉｎｃｏｕｐｌｉｎｇ）を改善し、当該方法の有効性を改善する。
【０００８】
本発明による方法は、電極と１つ又は複数の前記皮膚組織部分との間の物理的な（及び電磁気の）経路長の減少によって、低インピーダンスの皮膚組織部分内へのＲＦエネルギーのカップリングを改善する。
低インピーダンス皮膚組織部分は、実質的に直線状であり得るが、そうある必要はない。
【０００９】
別の態様において、皮膚組織処理のための、特に、先に概説した当該方法の１つ又は複数の態様を行うためのシステムがここで提供される。当該システムは、皮膚表面の下にある皮膚組織内の処理ゾーンに高周波エネルギーを提供して、前記処理ゾーンを加熱するための高周波源を含み、該高周波源は、１つ又は複数の高周波電極を有した高周波（ＲＦ）エネルギー源を含む。当該システムは、少なくとも２つの第１の皮膚組織部分の電導特性を変更するように構成される変更器（ｍｏｄｉｆｉｅｒ）をさらに含む。変更器は、前記第１の皮膚組織部分間に存在する第２の皮膚組織部分に相対して前記少なくとも２つの第１の皮膚組織部分の高周波エネルギーに対する電気インピーダンスを減らす、特に、電導度を増やすように構成され、ここで、第１の皮膚組織部分は、皮膚表面に平行な方向に関して処理ゾーンの反対の側に存在し、さらに、実質的に皮膚表面から処理ゾーンに向かって皮膚組織内に延びる。１つ又は複数の高周波電極は、前記減らされた電気インピーダンスを有する場合に、前記第１の皮膚組織部分を通って処理ゾーンまで高周波エネルギーをガイドするように構成される。高周波電極は、第１のパターンにおいて皮膚表面と接触するように配置され、さらに、変更器は、第２のパターンにおいて皮膚表面に関して前記第１の皮膚組織部分を提供するように構成され、さらに、第１及び第２のパターンは、実質的に同じであり、さらに、高周波電極は、使用中、第１の皮膚組織部分と直接物理的に接触するように構成される。有利に、電導度を局部的に増やすための装置が、皮膚組織を加熱するように、及び／又は、皮膚組織内に流体で満たされる空洞を提供するように構成される。
本発明によるシステムは、ＲＦ電極と低インピーダンスの皮膚組織部分との密な接触を提供することを促進し、少なくとも第１及び第２のパターンの一部は実質的に同じであり得る。
最も密な接触は、前記１つ又は複数の皮膚組織部分との直接の物理的接触である。電気接点は、例えば、導電性クリーム及び／又はジェル等のインピーダンスが一致する流体の使用によって改善することができる。有利な実施形態において、複数のＲＦ電極が、それぞれ、別の低インピーダンスの皮膚組織部分と密に接触して使用される。電極は、全面的又は部分的に、変更器が皮膚組織と相互作用する皮膚表面の位置を取り囲む及び／又は前記皮膚表面の位置と重なってもよい。
【００１０】
請求項２に記載の方法、同様に、請求項９に記載のシステムは、ＲＦエネルギーに対する最も少ない抵抗の経路が、互いに最も近い第１の皮膚組織部分の部分間に延びているため、処理ゾーン内へのＲＦエネルギーのガイドを促進する。皮膚組織内で互いに向かって延びる実質的に直線状のチャネルの場合、そのような低い抵抗の経路は、チャネルのそれぞれの先端間に延びる。１つ又は複数の曲線状のチャネル、及び／又は、延びる軸に沿って変化する幅を有する場合、１つ又は両方のチャネルの長手方向に沿って、先端以外の１つ又は複数の部分にて小さな分離を提供することもできる。
【００１１】
請求項３に記載の方法は、その導電性を上げる傾向がある皮膚組織の加熱の正の相関を利用する。皮膚組織の局部加熱は、種々の信頼できる技術によって実現することができる。当該方法のさらなる利益は、皮膚組織の加熱が、非侵襲的且つ一過性であり得、永久の効果を残さないということである。別の実施形態において、加熱は熱的傷害を引き起こすことができ、これも、皮膚の若返りを誘発するために有益であり得る。
【００１２】
請求項１０のシステムは、１つ又は複数の皮膚組織部分の加熱に対する正確な制御を促進して、その電気インピーダンスを減らす。レーザビームは、充分に証明された技術を用いて、確実に方向づける、焦点に集める、出力制御する、輝度制御する及び／又は変えること等ができる。異なる効果を伴った、異なる波長、電力等を放つ数多くのレーザが市販されている。特に、約１から１０マイクロメートルの赤外線スペクトルにおける赤外線（ＩＲ）放射波長は、哺乳類、特にヒトの皮膚組織内への侵入深度と吸収との有用な組み合わせを示す。複数の波長の組み合わせを使用して、例えば、皮膚組織内のサイズ及び／又は位置に関して等、皮膚組織における特定の電気インピーダンスの変化を提供してもよい。
【００１３】
請求項４に記載の方法、同様に、請求項１１に記載のシステムは、皮膚組織を融除することによって、融除されたゾーンと隣接して、加熱された皮膚組織の層が提供され、この層は、比較的高い導電性を有する一方、燃やされた組織又は融除されたゾーンは、影響を受けない組織と比較して比較的非常に低い導電性を有するという効果から利益を得る。従って、低インピーダンスのゾーンは明確であり、さらに、ＲＦエネルギーを、燃やされたか又は融除されたゾーンから離して方向づけ、且つ、周囲の組織内により効果的にガイドすることができる。
【００１４】
請求項５に記載の方法、同様に、請求項１２に記載のシステムは、流体で満たされる空洞と周囲の組織との間に大きなインピーダンスの差を提供することを促進する。１つ又は複数の前記空洞は、例えば、中空針、注射器等の物理的なアプリケーターを用いた注入による等、適したディスペンサーによる、及び／又は、力強い流体ジェットの形状で流体を直接分配することによる流体自体の適用によって形成することができる。
【００１５】
一態様において、組織を燃やす及び／又は融除することによって、空洞を皮膚組織において作製することができる。
【００１６】
流体は、例えば水、塩水等、外部の供給源から提供することができ、及び／又は、例えば間質液、リンパ液及び／又は血液等、処理される対象の体液を含んでもよい。後者の方法は、体液で少なくとも部分的に満たされる空いた空洞を提供するために組織の一部分を燃やすか又は融除するステップと効率的に組み合わせてもよく、ここで、空洞と隣接する加熱された皮膚組織のコンダクタンスは、燃やす及び／若しくは融除するステップと同時に並びに／又はそのすぐ後に、且つ、体液で空洞を満たす間に活用され、組織が冷めるに従い、高い導電性部分の役割を引き継ぐ。
【００１７】
そのような空洞を１つ又は複数の体液で満たすことは、例えば、１つ又は複数の空洞に対して陰圧又は吸引を適用する、及び／又は、１つ又は複数の空洞に隣接する組織に対して陽圧を適用することによって等、皮膚組織と周囲の大気との間の前記空洞のうち１つ又は複数の空洞にわたって差圧を適用することによって補助されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】低インピーダンスの部分を提供することのない皮膚組織のＲＦ加熱を示した図である。
【図２Ａ】本開示による皮膚組織のＲＦ加熱の一実施形態を示した図である。
【図２Ｂ】本開示による皮膚組織のＲＦ加熱の一実施形態を示した図である。
【図３Ａ】本開示による皮膚組織のＲＦ加熱に対する電気的等価の概要を示した図である。
【図３Ｂ】本開示による皮膚組織のＲＦ加熱に対する電気的等価の概要を示した図である。
【図４Ａ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｂ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｃ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｄ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｅ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｆ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｇ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｈ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｉ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｊ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｋ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｌ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｎ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｍ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｏ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｐ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｑ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図４Ｒ】図４乃至４Ｒは、異なるパラメータを用いた及び従来技術と比較した本開示による皮膚組織のＲＦ加熱のシミュレーションの結果を例示した図である。
【図５】本開示による皮膚組織のＲＦ処理のためのシステムを例示した図である。
【図６】本開示による皮膚組織のＲＦ処理のためのシステムの一実施形態の詳細を例示した図である。
【図７】本開示による皮膚組織のＲＦ処理のためのシステムの別の実施形態の詳細を例示した図である。
【図８】皮膚組織内に流体で満たされる空洞を提供する方法を例示した図である。
【図９】本開示による皮膚組織のＲＦ処理のためのシステムの別の実施形態のさらなる詳細を例示した図である。
【図１０Ａ】ＲＦ電極に対する異なる適した形状を示した図である。
【図１０Ｂ】ＲＦ電極に対する異なる適した形状を示した図である。
【図１０Ｃ】ＲＦ電極に対する異なる適した形状を示した図である。
【図１０Ｄ】ＲＦ電極に対する異なる適した形状を示した図である。
【図１０Ｅ】ＲＦ電極に対する異なる適した形状を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
図面において、同じ特徴は、同じ参照番号を用いて同定されてもよいということに留意されたい。図面は概略的であり、必ずしも共通の尺度を持っているというわけではないということ、及び、本発明を理解するために必要とされない詳細は省いたかもしれないということにさらに留意されたい。「上方」、「下方」、「下」、「上」等という用語は、図面において方向を定められた実施形態に関する。さらに、少なくとも実質的に同じか、又は、少なくとも実質的に同じ機能を行う要素は、同じ数字によって示されている。
【００２３】
図１は、皮膚組織１のＲＦ処理を概略的に示しており、皮膚組織１は、皮膚表面３、並びに、皮膚層の表皮１Ａ（角質層１Ｂを含む）、真皮１Ｃ及び皮下組織１Ｄを有する。処理は、ＲＦ源７に接続されたＲＦ電極５を含む処理システムを使用する。電極５は、互いからいくらか離れた距離にて皮膚表面３と接触して置かれている。電極５にＲＦ信号を適用することによって、ＲＦ電流が、２つの電極５間の皮膚を通って流れることになり、さらに、ＲＦエネルギーが、処理ゾーン９内の皮膚組織１に提供されることになる。結果として、２つの電極間の処理ゾーン９が加熱される。そのような様式で、真皮層１Ｃ内の組織が、６０℃から８０℃までの温度に加熱される場合に、真皮内のコラーゲンは収縮する。結果として生じる効果は、皮膚の引き締め、皺の減少、並びに、細かな線及び皮膚のたるみの減少である。結果として生じる新たなコラーゲンの合成は、皮膚の若返りももたらし得る。ＲＦエネルギーは、ＲＦ電極間の最も少ない抵抗の経路に沿って分布される。従って、この方法で処理することができる皮膚組織ゾーン９は、皮膚内にはほとんど延びず、皮膚組織内への侵入深度は、制御又は選択するのが、それが可能であっても、完全に困難である。
【００２４】
図２Ａ及び２Ｂは、著しい改善の実施形態を示している。図１とは異なり、図２Ａ及び２Ｂにおいては、２つの第１の皮膚組織部分１１が、皮膚表面３と平行の方向に関して処理ゾーン９の反対の側に存在しており、第１の皮膚組織部分１１間の皮膚組織相対して高周波エネルギーに対する電気インピーダンスが減っている。示されている第１の皮膚組織部分１１は、縦軸Ａを有した実質的に直線状の細長い形状、例えば、図の面から出る方向に関して円柱又は板状の形状を有しており、さらに、皮膚表面３から処理ゾーン９まで皮膚組織１内に延びている。図２Ａにおいて、示されている一対の低インピーダンスの第１の皮膚組織部分９の縦軸Ａは、実質的に互いに平行に、皮膚１内に延びており、ここでは、皮膚表面３に対して実質的に垂直である。図２Ｂにおいて、低インピーダンスの第１の皮膚組織部分９は、皮膚表面３に対する垂直線ｎに対して角度θにて、皮膚組織１内に斜めに延びているため、対の細長い皮膚組織部分の縦軸Ａは、皮膚表面３から処理ゾーン９に向かう方向に、集中点の角度αにて互いに向かって集まる。
【００２５】
ＲＦ信号が電極５に適用される場合、ＲＦエネルギーは、低インピーダンスの部分１１を通って、及び、それらの間に存在する皮膚組織を通って流れることになり、その結果加熱される。減ったインピーダンスのため、及び、オームの法則によると、ＲＦエネルギーは、優先的に、より高いインピーダンスを有する皮膚部分を通ってではなく、低インピーダンス部分１１を通って流れることになる。従って、ＲＦエネルギーは、皮膚組織１内に比較的深く侵入することになるため、皮膚１内に深く延びるか、又は、皮膚１内の深くで局在化される処理ゾーン９は、第１の皮膚組織部分１１を適切に形成することによって効果的且つ制御可能に処理することができる。
【００２６】
図２Ｂの実施形態においては、一点に集まる第１の皮膚組織部分１１のため、最も少ないインピーダンスを有する経路が、低いインピーダンスの皮膚組織部分１１の終点間に形成される。従って、ＲＦエネルギーは、主に、その深さの皮膚組織１を通って流れ、皮膚組織１内の深くで局在化された処理ゾーン９を形成する。
【００２７】
いかなる特定の理論にも束縛されることなく、さらに、ここで提供されている方法の作用原理の一般的な理解のために、図２Ｂ、３Ａ及び３Ｂを参考にした以下のことが考慮されたい。ＲＦエネルギーは、導電性のネットワークを通って移動する電気信号として処理することができ、同時に複数の導電路を提供し、各電導路ｉは、その独自の抵抗Ｒｉを有する。図３Ａを参照されたい。簡素化された二重層構成が、さらなる例証目的のために図３Ｂにおいて示されている。
【００２８】
ＲＦ加熱は、主に、組織が最も高い電流の流れ及び抵抗を有する位置にて発生する。特に、局部的に生成された熱Ｑｉは、以下の式、
（式１）  Ｑ∝Ｉ２Ｒ
のように、局部的に堆積された電力に等しく、さらに、局部電気抵抗Ｒ（直列回路）が掛けられた局部電流Ｉの２乗に比例している。電流は、以下の式、
（式２）  Ｉ＝Ｖ／Ｒ
のように、電位Ｖ及び抵抗に依存しているため、生成される熱は、以下の式、
（式３）  Ｑ∝Ｖ２／Ｒ
として表すことができる。
【００２９】
これは、組織の抵抗を変更することによって、確かに電流の流れをガイドし、その結果、加熱を局在化することができるということを示しているということに留意されたい。本開示において、組織は、局部的に加熱され、及び／又は、流体で満たされて、深い皮膚の領域内に電流をガイドし、皮膚内へのＲＦエネルギーのより深い侵入を可能にしている。
【００３０】
図３Ｂにおいて、電流Ｉ１及びＩ２はそれぞれ、皮膚表面層の抵抗器Ｒ１によって、並びに、処理ゾーン９のいずれか一方の側にある低インピーダンスの第１の皮膚組織部分１１の抵抗器Ｒ２、及び、処理ゾーン９の抵抗器Ｒ３によってそれぞれ決定される。各経路部分ｉの抵抗Ｒｉ及び局部温度の変化ΔＴｉは、その長さｌｉ、その特定のコンダクタンスσｉ及びその断面積Ａｉによって決定される。ＲＦ電流により生成される熱Ｑ３のため、（長さｌ３を有する）Ｒ３での局部温度の変化ΔＴ３は、以下の関係、
（式４）  ΔＴ３∝Ｑ３／ｌ３Ａ３
に従う。これは、式（１）を使用して、以下の式、
（式５）  ΔＴ３∝Ｉ３２Ｒ３／ｌ３Ａ３
として書き直すことができる。Ｉ３＝Ｖ／（Ｒ２＋Ｒ３＋Ｒ２）及びＲｉ＝ｌｉ／（σｉＡｉ）のため、深度に依存する温度変化は、以下の式、
（式６）  ΔＴ３（ｄ）＝σ３／｛（２σ３ｄ／σ２ｃｏｓθ）−（２ｄｔａｎθ）＋ｌ１｝２
として表すことができる。
【００３１】
ヒトの皮膚組織は、一般的に、電導性である、１ＭＨｚのＲＦ周波数に対して、異なるタイプのヒト組織の導電度Ｃが、表１において、（Ｓａｄｉｃｋ  ａｎｄ  Ｍａｋｉｎｏ、Ｌａｓｅｒｓ  ｉｎ  Ｓｕｒｇｅｒｙ  ａｎｄ  Ｍｅｄｉｃｉｎｅ  ３４：９１−９７（２００４）から）Ｓｍ−１の単位で与えられている。
【００３２】
【表１】
0006285417.tif 000002
【００３３】
さらに、皮膚のコンダクタンスの熱係数は、おおよそ２％℃−１になる（Ｓａｄｉｃｋ  ａｎｄ  Ｍａｒｋｉｎｏ、前掲書中）ため、組織温度を上げることによって、組織の電気抵抗が下がる。
【００３４】
異なるパラメータ構成の詳細な数値シミュレーションの結果が、図４Ａ〜４Ｒにおいて示されており、誘電加熱のようなさらなる効果も考慮に入れられている。図４Ａ〜４Ｃは、図１の状況のシミュレーションを示しており、図４Ｄ〜４Ｆは、概して、図２Ａの状況に対応しており、さらに、図４Ｇ〜４Ｉは、概して、図２Ｂの状況に対応している。図４Ｊ〜４Ｌは、それぞれ４Ａ、４Ｄ，４Ｇ／４Ｂ、４Ｅ、４Ｈ／４Ｃ、４Ｆ、４Ｉの結果の比較を示している。図４Ｍ〜４Ｎは、異なる作動パラメータを用いた図４Ｇ〜４Ｉの状況を示しており、さらに、図４Ｐ及び４Ｑは，図４Ｍ〜４Ｎの結果の比較を示している。図４Ｒは、図４Ｍの状況の上面図である。
【００３５】
シミュレーションにおいて、皮膚表面温度は、適した冷却によって３４℃の正常なヒトの皮膚温度にて維持され、さらに、第１の皮膚組織部分１１が、皮膚組織の柱状構造を７０℃まで加熱することによって用意される。この温度も一定に維持した。第１の皮膚組織部分１１は、概して、約１ｍｍの縦軸Ａに沿った長さを有して円柱状であり、且つ、皮膚内に角度θにて延びている。図４Ｃ、４Ｆ及び４Ｉの場合、ＲＦ電極は、第１の皮膚組織部分のように同じサイズを有しており、どちらも、約１ｍｍ又は１．４ｍｍ皮膚表面３にて離れている。ＲＦ周波数は１ＭＨｚであり、それは、５０Ｖ二乗平均（ｒｍｓ）の信号振幅に対して任意に決定された値であり、図４Ｎにおいては１５０Ｖｒｍｓを使用した。５０Ｖｒｍｓは、１秒のＲＦ作動後の約０．１Ｗの散逸した熱の量に一致する。いくつかの処理に対して、好みのＲＦ周波数は異なり得るということに留意されたい。シミュレーションにおいて、角質層をよく水和させたということをさらに仮定した。
【００３６】
表１の値に従って、及び、使用したＲＦ周波数にて実質的に一定の抵抗を仮定して、
σ３＝σ（Ｔ＝３５℃）≒０．２５
σ２＝σ（Ｔ＝７０℃）≒０．５０
が生じる。さらに、皮膚表面３上のＲＦ電極間の距離ｌｉは、５ｍｍであるようにとられ、第１の皮膚組織部分１１の局部的分離に等しい。
【００３７】
図４Ａ〜４Ｃにおいては、予熱された第１の皮膚組織部分は用意されず、全ての効果は、皮膚上に置かれたＲＦ電極からのＲＦ電界によるものである（図１を参照）。ＲＦ電極は、１００マイクロメートル直径（図４Ａ）、３００マイクロメートル直径（図４Ｂ）又は５００マイクロメートル直径（図４Ｃ）の皮膚表面に円形の接触部分を提供するようシミュレートされる。図４Ｄ〜４Ｆにおいては、図４Ａ〜４Ｃのように、それぞれ直径１００、３００及び５００マイクロメートルを有した、皮膚表面に対して実質的に垂直に皮膚組織内に延びる、予熱された第１の皮膚組織部分が用意される。図４Ｇ〜４Ｉにおいては、図４Ａ〜４Ｃのように、それぞれ直径１００、３００及び５００マイクロメートルを有した、２５°（図４Ｇ）又は４５°（図４Ｈ〜４Ｉ）の斜角にて皮膚組織内に延びる、予熱された第１の皮膚組織部分が用意される。図４Ｇ〜４Ｉにおいて、考慮中の第１の皮膚組織部分１１の対を含む面に対する予熱された第１の皮膚組織部分１１の斜角θは、パラメータθ＝２５°（図４Ｇ）及びθ＝４５°（図４Ｈ、４Ｉ）として使用される。ここで、角度θは、どちらの加熱された皮膚組織の柱状構造に対しても実質的に同じであるが、これは必要とされず、異なる角度を提供することができ、皮膚表面に対して実質的に垂直に延びる１つの第１の皮膚部分、及び、皮膚表面に対して鋭角に、垂直な第１の皮膚部分に向かって延びる１つ又は複数の第１の皮膚部分を有することを含んでもよい。１つの第１の皮膚部分は、複数の第１の皮膚組織部分によって取り囲まれてもよく、さらに、１つの極性のＲＦ電極への接続のための共通の柱として、反対の極性にてＲＦ電極に接続されている周囲の部分に関して、使用されてもよい。
【００３８】
図４Ａ〜４Ｉ及び４Ｍ〜４Ｎは、最初の温度を超えて異なる量の度の加熱にわたった、等しい温度間隔によって分けられている等温線を示している。図４Ａにおいて、目盛りは、３．４０から１１．８８度の加熱におよび、図４Ｂにおいて、目盛りは、３．４０から１０．６６度の加熱におよび、図４Ｃにおいて、目盛りは、３．４０から８．３４度の加熱におよび、図４Ｄにおいて、目盛りは、３．４０から７．２７３度の加熱におよび、図４Ｅにおいて、目盛りは、３．４０から７．１３６度の加熱におよび、図４Ｆにおいて、目盛りは、３．４０から７．２９度の加熱におよび、図４Ｇにおいて、目盛りは、３．４０から７．８１度の加熱におよび、図４Ｈにおいて、目盛りは、３．４０から７．２８５度の加熱におよび、図４Ｉにおいて、目盛りは、３．４０から６．９２７度の加熱におよび、図４Ｍにおいて、目盛りは、３．４０から７．００度の加熱におよび、図４Ｎにおいて、目盛りは、３．４０から８．６９４度の加熱におよぶ。図４Ｒは、０から−２．７５０ｘ１０５Ｗ／ｍ２の範囲で等しく分割された等しい熱流速の輪郭を同様に示している。
【００３９】
図４Ｊは、図４Ｊにおいてそれぞれ文字で示されている図４Ａ、４Ｄ、４Ｇのシミュレーション結果に対する、皮膚内への電極５間の中央にある面における皮膚組織の組織温度変化の深さ依存性を示している。同様に、図４Ｋは、図４Ｂ、４Ｅ及び４Ｈに関し、さらに、図４Ｌは、図４Ｃ、４Ｆ及び４Ｉに関する。
【００４０】
図４Ａ〜４Ｌは、前に予想し且つ示したように、インピーダンスが減った局在化された皮膚組織部分、特に、７０℃にて予熱された組織の柱状構造を使用して、ＲＦエネルギーをガイドする、且つ、柱状構造間の表面下の組織、及び、斜めの柱状構造に対する柱状構造の末端間の組織を加熱することができるということを明確に示している。皮膚内へのＲＦ加熱の侵入深度は有意に増加される。この表面下のＲＦ加熱（図４Ｄ〜４Ｉ）は、従来のＲＦ電極のみの構成（図４Ａ〜４Ｃ）よりも大きい組織体積の処理を可能にする。侵入深度及び局在化は、斜角θ、その結果、集中点の角度αを選択することによって制御可能である。他の制御パラメータは、第１の皮膚組織部分１１の直径、及び、例えば、ＲＦ信号のｒｍｓ値によって決定されるＲＦ電力である。例えば、図４Ｍ〜４Ｑは、ＲＦエネルギーのｒｍｓ値を３倍上げるが、全ての他のパラメータを等しく保つことによって、ＲＦエネルギー堆積の０．０５秒後、皮膚組織内のピーク温度が、５０Ｖｒｍｓにて約４℃から、１５０Ｖｒｍｓにて約１８℃まで上がり（図４Ｐ）、さらに、皮膚表面下約５００マイクロメートルの深さでの第１の皮膚組織部分間の温度は、レベルオフする代わりに、有意に上昇し続ける（図４Ｑ：考慮される位置は図内に示されている）ということを示している。
【００４１】
図４Ｒは、皮膚表面上の図４Ｍの加熱の空間範囲を示しており、確かに温度は、主に、柱状構造１１間に位置する皮膚組織において上がっているということを示している。図４Ａ〜４Ｉ及び４Ｍ〜４Ｎと同様に、図４Ｒは、０から−２．７５０ｘ１０５Ｗ／ｍ２の範囲で等しく分割された等しい熱流速の輪郭を示している。
【００４２】
皮膚へのＲＦエネルギーの適用によって、低インダクタンスの皮膚組織部分の温度も上昇するということに留意されたい。これも、皮膚処理に対して適切に利用することができる。
【００４３】
いくつかの処理に対して、好みのＲＦ周波数は１ＭＨｚとは異なり得る。
【００４４】
より大きな直径の第１の皮膚部分は、より小さな直径よりも良くＲＦエネルギーをガイドするとわかる。互いに隣接して複数の低インピーダンスの部分を提供して、（例えば、概して直線状の方向に）アレイを形成することによって、電極間のＲＦ加熱のガイドが改善される。そのようなアレイがないと、ＲＦエネルギーの散逸は、より大きな体積の組織にわたって分布される。
【００４５】
シミュレートされた構成において、第１の皮膚組織柱状構造の上の皮膚表面上に置かれたＲＦ電極によって生じる熱流速は、例えば、皮膚表面の下の皮膚内の処理ゾーンをより良く局在化するために、そう所望される場合、表面冷却によって容易に取り除くことができる。
【００４６】
加熱された皮膚組織部分を使用する代わりに、高いコンダクタンスの液体で満たされる融除された部分が使用され、その結果はさらに優れたガイドになるということが予想される（以下も参照）。
【００４７】
上記の３次元形状と同様に、例えば、一定の距離にて互いに隣接して延びる板状の第１の皮膚組織部分等、実質的に２次元の形状に対して、角度θ＝ｃａ３０°（α＝ｃａ．１２０°）に対しては、実質的に均一の温度上昇特性を発見することができる一方、角度θ＞ｃａ３０°（又は逆にα＜ｃａ．１２０°）に対しては、加熱は、主に、皮膚内の深い所で発生し、３次元の場合に対して示されているように、皮膚表面３に向かって勾配は減少するということが推定されてきた。
【００４８】
図５は、ユーザインターフェース１９を含むコントローラ１７に接続された処理ヘッド１５を含む処理システム１３を示している。コントローラ１７は、処理ヘッド１５に無線で接続されてもよく、さらに、例えばメモリを用いて、及び／又は、機械可読プログラム記憶媒体等の外部のデータ源を使用することによってプログラム可能であってもよい。処理ヘッド１５は、ハンドヘルドの装置であってもよい。ここで、コントローラは、例えば電池等の電力源を含むが、別の電力源、幹線接続等が提供されてもよい。
【００４９】
図６は、図５の処理システムにおいて使用するための処理ヘッド１５の詳細を示しており、皮膚部分１と接触したＲＦ電極５を含んでいる。この処理ヘッドは、レーザビーム２１を提供するレーザ２０を含み、レーザビーム２１は、適したオプティクス、ここでは、ビームスプリッタ２３、集束システム２５及びビームステアリングオプティクス２７で制御される。シャッター、変調器、偏光子、フィルタ等のようなさらなる光学素子を提供してもよい。図６において、レーザビーム２１は、多くの（ここでは２つの）ビームレット２１Ａ、２１Ｂに分けられ、各ビームレットは、皮膚組織を照射し且つそれを高めの温度まで加熱して、低いインダクタンスを有する第１の皮膚組織部分を提供するように方向づけられる。単一のビーム及び／又は複数のレーザの使用も、例えば、複数の皮膚組織部分を後に加熱するために、可能である。高めの温度は、一過性の加熱を提供するために比較的低くてもよい。好ましくは、高めの温度は、例えば、上記の７０℃といった約６０〜８０℃の間等、比較的高く、及び／又は、レーザは、ＲＦ加熱に対する補助において皮膚を刺激し且つ若返り工程を呼び起こすように皮膚部分を融除するために使用される。ここで、ビームレット２１Ａ、２１Ｂは、ＲＦ電極５を通り抜け、予熱された皮膚組織部分１１と電極５との最適なオーバーラップを提供して、ＲＦエネルギーと予熱された皮膚組織部分１１とのカップリングを改善する。これは、適した開口部をＲＦ電極５に提供することによって、及び／又は、例えば、（例えば約１．５マイクロメートルまでの波長等）近赤外線放射に対するインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、又は、（例えば１０マイクロメートルまでの波長等）遠赤外線レーザに対するゲルマニウム等、レーザ放射を通す導電部分を電極５に提供することによって実現することができる。
【００５０】
１つ又は複数のレーザビームは、１つの位置にて固定されている及び／又は照射に使用される必要はないが、レーザビームの位置及び／又は角度は、例えば、ピエゾ搭載オプティクス、音響オプティクス、電気オプティクス、ステッピングモータ等、手動及び／又は機械で調整可能なオプティクス等の適したオプティクスを用いて調整し、異なる光学エネルギー分布を提供する、並びに／又は、板状の加熱された若しくは融除された形状、及び／若しくは、より複雑な照射特性を同時及び／又は後に画定することができるということに留意されたい。
【００５１】
図７は、図６のものと類似の処理ヘッド１５の詳細を示している。しかしここでは、処理ヘッド１５は、ＲＦ電極５´までの流体導管３１と接続された、流体に対するディスペンサー２９を含み、ＲＦ電極５´は、レーザビーム２１と皮膚１とＲＦ電極５´との相互作用ゾーンにて又はその付近で皮膚１に流体を提供するように構成されるということが異なる。特別に形成された電極を使用する代わりに、ディスペンサーからの直接の分配も使用してよい。流体は、液体、ジェル、クリーム等であってもよく、さらに、ＲＦ電極間の電気接点及び／又はインピーダンス整合を改善するため、皮膚感覚を落ち着かせるため、皮膚を冷却するか又はむしろ加熱するため、皮膚の空洞を満たすため等に使用してもよい。
【００５２】
先に提示したように、皮膚組織を融除し、皮膚内に１つ又は複数の小さな空洞を生成することによって、若返り工程を呼び起こすことができるということがわかった。図８は、皮膚において表皮及び真皮を通って（図８、Ａ）及び皮下組織内に（図８、Ｂ）生成された空洞は、体液を用いて体によって流体で満たされるようになり得る（図８、Ｃ）ということを示している。結果は、流体で満たされた柱状構造の長さで延びる、皮膚内の非常に導電性の部分であり、それは、皮膚表面まで延び得る（図８、Ｄ）。往々にして、体は、空洞が満たされた後も流体を生成し続け、皮膚組織の上に流体層を提供して、近くのＲＦ電極と流体で満たされた柱状構造との優れた電気接点を可能にすることになる。そのような空洞は、レーザアブレーションによって、穴をあけることによって、及び／又は、別の技術を用いて切除することによって生成することができる。レーザ切除は、互いに密に隣接した多数の非常に狭い空洞の生成を可能にし、処理される対象に対する不快感を減らし、さらに、第１の皮膚組織部分１１に対して大きな面積（断面積）を提供している。流体で満たされる空洞を生成する別の適した方法は、皮膚組織内への注射針の挿入、並びに、針の引抜き、及び、針によって提供される空洞の液体による充填である（図示せず）。
【００５３】
図９は、真空ドーム３３を含む処理ヘッドの別の実施形態の詳細を示しており、真空ドーム３３は、ＲＦ電極を取り囲み且つポンプ３４に接続可能であり、皮膚組織内に生成された空洞内に体液を吸引するように、外側の大気に関して減らされた圧力を有して、予熱された皮膚組織部分１１の周りに低圧の体積３５を提供している。真空ドーム又は他の類似の差圧装置は、処理システムの一部をおそらく形成する独立型装置として使用してもよいが、処理ヘッドの一部である必要はない。さらに、又或いは、陽圧を空洞の周りに適用し、液体を空洞内に押し込んでもよい。
【００５４】
図１０Ａ〜１０Ｅは、皮膚表面上の低インピーダンスの皮膚組織部分１１の形状に関して考慮される、低インピーダンスの組織部分１１とＲＦ電流との密な接触を促進するＲＦ電極５に対する異なる形状、すなわち、皮膚組織部分を取り囲む長方形又は丸い電極５（図１０Ａ、１０Ｂ）、複数の窓を有する十字線型のＲＦ電極、（長方形の）馬蹄形電極５、又は、細長い低インピーダンスの皮膚組織部分に隣接した細長い電極５を示している。
【００５５】
当該方法の基本原理は、皮膚組織の局部コンダクタンスを上げることによって、ＲＦエネルギーが処理ゾーンまでガイドされるということが可能になるということである。これは、局部ゾーン内の組織温度又は組成を変え、減ったインピーダンスを得ることによって達成することができる。例は、例えば、柱、板、及び／若しくは、より複雑なゾーンをもたらすこれらの形状の組み合わせ、直線又は角度のついたゾーン、平行な端又は円錐形／先細りのゾーン等、予め規定された形状の同時の組織加熱又は熱分解である。後に、ＲＦエネルギーは、そのように用意された皮膚組織ゾーンを介して適用されることになる。
【００５６】
第１の皮膚組織部分のうち光熱融解されたか又は融除された組織のサイズ、例えば直径は、好ましくは、約１マイクロメートル以上であり、好ましくは、５０〜８００マイクロメートルである。ただ加熱しただけのゾーンは、さらに大きくてもよい。レーザにより加熱された皮膚組織に対して、組織の吸水係数は、好ましくは、＞１ｃｍ−１であるべきである。約０．１マイクロメートルから約２０マイクロメートルの範囲の光波長を使用して、低インピーダンスの皮膚組織部分を生じることができる。
【００５７】
光熱融解された病変の生成に関する皮膚処理適用システムにおいて、好ましくは、約１．２から３マイクロメートルの範囲の波長を有し、約５０ｍｓ未満のパルス幅を有した、好ましくは、約０．１から４０ｍｓの範囲のパルス長を有した、約１Ｊ／ｃｍ２よりも多い、好ましくは約１０から６０Ｊ／ｃｍ２の流速量を有した、約１マイクロメートル以上の波長での集束パルスレーザを使用してもよい。
【００５８】
加熱に対して適したレーザ及び波長は、約１．３から１．５マイクロメートルの波長の固体レーザであってもよく、加熱される皮膚部分の形状に応じて、約２００〜２５０マイクロメートル直径又は幅の典型的な大きさを有する加熱された皮膚組織部分及び／又は病変を生成するように集束される。しかし、集束点のサイズの直径は、それより小さくても大きくてもよい。適したレーザは、１パルスあたり９〜１１ｍＪ及び７．５〜１０ｍｓのパルスにされてもよく、約２０〜３５Ｊ／ｃｍ２の流速量を生じ、さらに、約３００マイクロメートルの皮膚組織内への侵入深度を有してもよい。
【００５９】
融除を受ける病変の生成に対する適したレーザ及び波長は、約２．５〜１１マイクロメートルの波長の固体レーザ及び／又はガスレーザであってもよい。例えば、２．９マイクロメートルの波長Ｅｒ：ＹＡＧは、約１００マイクロメートル直径のスポットサイズに集束され、１パルスあたり９〜１１ｍＪ及び２．５〜５ｍｓのパルスにされる。又は、１０．６マイクロメートル波長のＣＯ２レーザは、約１２０〜２００マイクロメートル直径のスポットサイズに集束され、１パルスあたり５０〜８０ｍＪ及び０．２〜３ｍｓのパルスにされ、さらに、ヒトの皮膚組織内への約５００〜７５０マイクロメートルの侵入深度を有する。５．３マイクロメートルの波長のパルスＣＯレーザも使用することができる。
【００６０】
皮膚のアブレーションは、例えば、Ｎｄ：ＹＡＧ又はＹｂ：ＹＡＧハイパワーダイオードレーザ等、フェムト秒の範囲のハイパワー短パルス長レーザによって提供することもできる。適した波長、エネルギー及び／又は加熱若しくは融除効果を提供するさらなる光学装置及び技術を適切に利用してもよい。
【００６１】
本明細書に開示される処理方法及びシステムは、家庭環境において使用することができるが、美容サロンにおける、おそらく美容医学環境における美容処理に対する専門家による使用に非常に適してもいる。
【００６２】
開示された実施形態に対する他の変化は、請求された発明を実行する際に、図面、明細書、及び付随の特許請求の範囲の調査から当業者により理解及びもたらすことができる。特許請求の範囲において、「含む」という用語は、他の要素又はステップを除外せず、不定冠詞はその複数形を除外しない。１つのプロセッサ又は他のユニットは、特許請求の範囲内に列挙されたいくつかの項目の機能を満たすことができる。特定の手段が互いに異なる従属項において記載されているという単なる事実は、これらの手段の組合せを役立つよう使用することができないと示しているわけではない。コンピュータプログラムは、他のハードウェアと共に若しくはその一部として供給される、光記憶媒体又は固体記憶媒体等、適したメディア上に記憶／分布することができるが、インターネット又は他の有線若しくは無線の通信システムを介して等、他の形状で分布することもできる。特許請求の範囲におけるいかなる参照番号も、その範囲を限定するとして解釈されるべきではない。特定の実施形態に関連して考察される要素及び態様は、付随の特許請求の範囲内で、異なる実施形態の要素及び態様と適切に組み合わせることができる。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図４Ｅ】
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【図４Ｆ】
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【図４Ｇ】
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【図４Ｈ】
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【図４Ｉ】
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【図４Ｊ】
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【図４Ｋ】
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【図４Ｌ】
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【図４Ｍ】
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【図４Ｎ】
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【図４Ｐ】
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【図４Ｑ】
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【図４Ｒ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１０Ｃ】
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【図１０Ｄ】
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【図１０Ｅ】
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