(57)【要約】本発明は、Ａ）芳香族ポリカーボネートおよび／または芳香族ポリエステルカーボネート、Ｂ）Ｂ．１少なくとも一種類のビニルモノマー、０．１〜３０ｗｔ．％が、Ｂ．２ガラス転移温度１０℃未満であり、シリコーンゴム少なくとも５０ｗｔ．％を含有する一種類以上のグラフトベース、９９．９〜７０ｗｔ．％、上にある、第一グラフトポリマー、Ｃ）Ｃ．１少なくとも一種類のビニルモノマー、５〜９５ｗｔ．％が、Ｃ．２ガラス転移温度が１０℃未満であり、ＥＰＤＭゴム少なくとも５０ｗｔ．％を含有する一種類以上のグラフトベース、９５〜５ｗｔ．％、上にある、成分Ｂと異なる第二グラフトポリマー、Ｄ）ゴムフリーのビニル（コ）ポリマーおよび／またはポリアルキレンテレフタレート、並びにＥ）ポリマー添加剤、を含む充填耐衝撃性改良ポリカーボネート組成物であって、成分ＢとＣとが２０：８０〜８０：２０の範囲の比（Ｂ：Ｃ）で存在し、かつ、成分Ａ、１０〜９２重量部、成分ＢとＣとの合計、８〜９０重量部、成分Ｄ、０〜３５重量部、および成分Ｅ、０〜３０重量部を含む充填耐衝撃性改良ポリカーボネート組成物に関する。この組成物は、老化に対する良好な安定性を有し、かつ、高い低温強さおよび低光沢が認められる。本発明は、更に、この組成物の製造方法、および成形物体の製造におけるそれらの使用にも関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）  芳香族ポリカーボネートおよび／または芳香族ポリエステルカーボネート、
Ｂ）  Ｂ．１  少なくとも一種類のビニルモノマー、０．１〜３０ｗｔ．％が
Ｂ．２  ガラス転移温度が１０℃未満であり、シリコーンゴム少なくとも５０ｗｔ．％を含有する一種類以上のグラフトベース、９９．９〜７０ｗｔ．％
上にある、第一グラフトポリマー、
Ｃ）  Ｃ．１  少なくとも一種類のビニルモノマー、５〜９５ｗｔ．％が
Ｃ．２  ガラス転移温度が１０℃未満であり、ＥＰＤＭゴム少なくとも５０ｗｔ．％を含有する一種類以上のグラフトベース、９５〜５ｗｔ．％
上にある、成分Ｂと異なる第二グラフトポリマー、
Ｄ）  ゴムフリーのビニル（コ）ポリマーおよび／またはポリアルキレンテレフタレート、並びに
Ｅ）  ポリマー添加剤
を含む組成物であって、
成分ＢとＣとが２０：８０〜８０：２０の範囲の比（Ｂ：Ｃ）で存在し、かつ、
成分Ａ、１０〜９２重量部、
成分ＢとＣとの合計、８〜９０重量部、
成分Ｄ、０〜３５重量部、および
成分Ｅ、０〜３０重量部
を含む、組成物。
【請求項２】
成分ＢとＣとが３５：６５〜４５：５５の範囲の比（Ｂ：Ｃ）で存在する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
該グラフトベースＢ．２が、
シリコーンゴム、少なくとも５０ｗｔ．％、並びに、
ジエンゴム、ＥＰ（Ｄ）Ｍゴム、アクリレート、ポリウレタン、シリコーン、クロロプレンおよびエチレン／ビニルアセテートゴムからなる群から選択される一種類以上のゴム、５０ｗｔ．％以下
を含有する、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】
該グラフトベースＢ．２が、
シリコーンゴム、７０〜９８ｗｔ．％と、
アクリレートゴム、２〜３０ｗｔ．％と、
の混合物である、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
該グラフトベースＣ．２が、
ＥＰＤＭゴム、少なくとも５０ｗｔ．％、並びに、
ジエンゴム、シリコーンゴム、アクリレート、ポリウレタン、シリコーン、クロロプレンおよびエチレン／ビニルアセテートゴムからなる群から選択される一種類以上のゴム、５０ｗｔ．％以下
を含有する、請求項１〜４に記載の組成物。
【請求項６】
該グラフトベースＣ．２がＥＰＤＭゴムである、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
ポリマー添加剤として、防炎加工剤、防炎相乗剤、ドリップ防止剤、滑剤および離型剤、成核剤、安定剤、帯電防止剤、充填剤および強化剤、並びに着色剤および顔料からなる群から選択される少なくとも一種類の成分が存在する、請求項１〜６に記載の組成物。
【請求項８】
成形物体の製造における請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物の使用。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物を含む成形物体。
【請求項１０】
該成形物体が、自動車、鉄道車両、航空機もしくは船舶の部品であるか、または小型変圧器を含む電気装置のケーシング、情報の処理および伝達用のデバイスのケーシング、医療機器のケーシングもしくはカバー、マッサージ器具およびそのケーシング、子供用乗物玩具、平面組立壁パネル、セキュリティー機器のケーシング、断熱輸送コンテナ、衛生器具および浴室器具用の成形品、換気口を覆う格子、もしくは園芸用具用ケーシングであることを特徴とする、請求項９に記載の成形物体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低光沢および良好な低温強度が認められる、良好な耐老化安定性を有する耐衝撃性改良ポリカーボネート組成物および成形組成物、それらの製造方法並びに成形物体の製造におけるそれらの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリカーボネートおよび耐衝撃性改良剤であってＥＰＤＭゴム（例えばＡＥＳ）またはアクリレートゴム（ＡＳＡ）ベースの耐衝撃性改良剤を含む組成物は、対応するＰＣ／ＡＢＳ組成物と比較して、老化に対して安定であるが、それらは、一般的に、低温強度が不充分である。ポリカーボネートおよびシリコーンゴムまたはシリコーンリッチなシリコーン−アクリレートコンポジットゴムベースの耐衝撃性改良剤を含む組成物は、対応するＰＣ／ＡＢＳ組成物と比較して、老化に対して安定であり、かつ、一般的に、良好な低温強度も有するが、それらから製造される成形品は、高光沢外観が認められる。射出成形後のコンポーネントにラッカーを塗ることを避けるために、そのような組成物から製造されるコンポーネントは、しばしば低光沢表面を有することが必要とされる。
【０００３】
ＤＥ−ＯＳ  ２０３７４１９は、ポリカーボネートおよびゴム状アクリレートポリマー（例えば、アクリロニトリルおよびスチレンがアクリレートゴム上にあるグラフトポリマー（以下ＡＳＡという。））を含む成形組成物であって、対応するポリカーボネート／ＡＢＳ組成物と比較してヘアラインクラックの形成に対して改良された耐性および改良された耐候性を有する成形組成物を開示している。
【０００４】
ＵＳ  ４，５５０，１３８は、ポリカーボネート６０〜９７ｗｔ．％と、ゴム含量３０〜８０ｗｔ．％のＡＥＳグラフトコポリマー３〜４０ｗｔ．％と、を含む成形組成物であって、純粋なポリカーボネートと比較して改良された強度を有することが認められ、熱のもとでの寸法安定性が実質的に損なわれていない成形組成物を開示している。
【０００５】
ＥＰ−Ａ  ０３６９２０１は、ポリカーボネート、ポリシロキサンベースのグラフトコポリマー、およびジエンゴムベースのグラフトコポリマー（例えばＡＢＳ）を含む組成物を開示している。
【０００６】
ＷＯ−Ａ  ９８／００８９００は、芳香族ポリカーボネートと、アルキルアクリレート、スチレンおよび不飽和ニトリルベースのグラフトポリマーと、スチレンおよび不飽和ニトリルベースのコポリマーと、シロキサンネットワークゴム（シリコーン／アクリレートベース）と、アクリル酸またはメタクリル酸の少なくとも二種類の異種エステルのコポリマーと、要すれば別の成分と、を含む成形組成物を開示している。この成形組成物は、低温において強く、かつ、容易に流れる。生じる成形組成物の光沢には言及がない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、高い低温強度および低光沢が認められ、熱老化に対する高い安定性を有する成形組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
意外なことに、
Ａ）  芳香族ポリカーボネートおよび／または芳香族ポリエステルカーボネート、
Ｂ）  Ｂ．１  少なくとも一種類のビニルモノマー、０．１〜３０ｗｔ．％、好ましくは５〜２０ｗｔ．％が
Ｂ．２  ガラス転移温度が１０℃未満、好ましくは０℃未満、特に好ましくは−２０℃未満であり、シリコーンゴム少なくとも５０ｗｔ．％を含有する一種類以上のグラフトベース、９９．９〜７０ｗｔ．％、好ましくは９５〜８０ｗｔ．％
上にある、第一グラフトポリマー、
Ｃ）  Ｃ．１  少なくとも一種類のビニルモノマー、５〜９５ｗｔ．％、好ましくは２０〜９０ｗｔ．％が
Ｃ．２  ガラス転移温度が１０℃未満、好ましくは０℃未満、特に好ましくは−２０℃未満であり、ＥＰＤＭゴム少なくとも５０ｗｔ．％を含有する一種類以上のグラフトベース、９５〜５ｗｔ．％、好ましくは８０〜１０ｗｔ．％
上にある、成分Ｂと異なる第二グラフトポリマー、
Ｄ）  要すれば、ゴムフリーのビニル（コ）ポリマー（Ｄ．１）および／またはポリアルキレンテレフタレート（Ｄ．２）、並びに
Ｅ）  要すれば、ポリマー添加剤
を含む組成物であって、
成分Ａ、１０〜９２重量部、好ましくは３０〜８０重量部、特に好ましくは４０〜７５重量部、
成分ＢとＣとの合計、８〜９０重量部、好ましくは１０〜７０重量部、特に好ましくは１２〜３０重量部、
成分Ｄ、０〜３５重量部、好ましくは１〜３０重量部、特に好ましくは４〜２８重量部、および
成分Ｅ、０〜３０重量部、好ましくは０．１〜１０重量部、特に好ましくは０．１〜５重量部
を含み、
成分ＢとＣとが２０：８０〜８０：２０、好ましくは２５：７５〜７５：２５、特に好ましくは３５：６５〜４５：５５の範囲の比（Ｂ：Ｃ）で存在し、かつ、
この組成物中の成分Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ＋Ｅの重量部の合計が１００になるように本願における全重量部が規格化されている
組成物が所望の特性プロファイルを有することがわかった。
【０００９】
成分Ａ
本発明による成分Ａとして好適な芳香族ポリカーボネートおよび／または芳香族ポリエステルカーボネートは、文献で知られているかまたは文献で知られている方法によって製造される（芳香族ポリカーボネートの製造に関しては、例えば、Ｓｃｈｎｅｌｌ，“Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ”，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，１９６４年およびＤＥ−ＡＳ  １４９５６２６、ＤＥ−Ａ  ２２３２８７７、ＤＥ−Ａ  ２７０３３７６、ＤＥ−Ａ  ２７１４５４４、ＤＥ−Ａ  ３０００６１０、ＤＥ−Ａ  ３８３２３９６参照。芳香族ポリエステルカーボネートの製造に関しては、例えばＤＥ−Ａ  ３０７７９３４参照。）。
【００１０】
芳香族ポリカーボネートの製造は、例えば、ジフェノールと、炭酸ハロゲン化物、好ましくはホスゲン、および／または芳香族ジカルボン酸二ハロゲン化物、好ましくはベンゼンジカルボン酸二ハロゲン化物、とを、相界面法（ｐｈａｓｅ  ｂｏｕｎｄａｒｙ  ｐｒｏｃｅｓｓ）によって、要すれば連鎖停止剤、例えばモノフェノール、を使用し、かつ、要すれば三以上の官能性を有する分枝剤、例えばトリフェノールまたはテトラフェノール、を使用して反応させることによって行われる。ジフェノールを、例えばジフェニルカーボネートと反応させることによる溶融重合法による製造も更に可能である。
【００１１】
芳香族ポリカーボネートおよび／または芳香族ポリエステルカーボネートの製造に関するジフェノールは、好ましくは、式（Ｉ）
【化１】
2010516825.tif 000002
（式中、
Ａ  は、単結合、Ｃ１−〜Ｃ５−アルキレン、Ｃ２−〜Ｃ５−アルキリデン、Ｃ５−〜Ｃ６−シクロアルキリデン、−Ｏ−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、任意にヘテロ原子を含んでいてもよい別の芳香環が縮合していてもよいＣ６−〜Ｃ１２−アリーレン、または式（ＩＩ）もしくは（ＩＩＩ）
【化２】
2010516825.tif 000003
の基であり、
それぞれの置換基Ｂ  は、Ｃ１−〜Ｃ１２−アルキル、好ましくはメチル、ハロゲン、好ましくは塩素および／または臭素であり、
置換分ｘ  は、それぞれ互いに独立して、０、１または２であり、
ｐ  は、１または０であり、かつ
Ｒ５およびＲ６  は、それぞれのＸ１に関して個々に選択され、それぞれ互いに独立して、水素またはＣ１−〜Ｃ６−アルキル、好ましくは水素、メチルまたはエチルであり、
Ｘ１  は、炭素であり、かつ
ｍ  は、４〜７の整数、好ましくは４または５であり、
但し、少なくとも一つの原子Ｘ１において、Ｒ５およびＲ６は、同時にアルキルである。）
のジフェノールである。
【００１２】
好ましいジフェノールは、ヒドロキノン、レソルシノール、ジヒドロキシジフェノール、ビス−（ヒドロキシフェニル）−Ｃ１〜Ｃ５−アルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−Ｃ５〜Ｃ６−シクロアルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス−（ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホンおよびα，α−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピル−ベンゼン並びにそれらの環臭素化および／または塩素化誘導体である。
【００１３】
特に好ましいジフェノールは、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビスフェノールＡ、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニル−スルホンおよびそれらの二−および四−臭素化または−塩素化誘導体、例えば、２，２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパンまたは２，２−ビス−（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパンである。２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン（ビスフェノールＡ）が特に好ましい。ジフェノールは、単独で使用されても任意の望ましい混合物の形態で使用されてもよい。これらのジフェノールは、文献で知られているかまたは文献で知られている方法によって得られる。
【００１４】
熱可塑性芳香族ポリカーボネートの製造に好適な連鎖停止剤は、例えば、フェノール、ｐ−クロロフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノールまたは２，４，６−トリブロモフェノール、並びに長鎖アルキルフェノール、例えば４−［２−（２，４，４−トリメチルペンチル）］−フェノール、ＤＥ−Ａ  ２８４２００５による４−（１，３−テトラメチルブチル）−フェノール、またはアルキル置換基中に炭素原子を全部で８〜２０個有するモノアルキルフェノールもしくはジアルキルフェノール、例えば３，５−ジ−ｔｅｒｔ．−ブチルフェノール、ｐ−イソオクチルフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ．−オクチルフェノール、ｐ−ドデシルフェノールおよび２−（３，５−ジメチルヘプチル）−フェノールおよび４−（３，５−ジメチルヘプチル）−フェノールである。使用される連鎖停止剤の量は、特定の場合に使用されるジフェノールのモルの合計に対して、一般的に、０．５ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％である。
【００１５】
熱可塑性芳香族ポリカーボネートの平均重量平均分子量（Ｍｗ、例えば、ＧＰＣ、超遠心分離法または散乱光測定によって測定。）は、１０，０００〜２００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは１５，０００〜８０，０００ｇ／ｍｏｌ、特に好ましくは２４，０００〜３２，０００ｇ／ｍｏｌである。
【００１６】
熱可塑性芳香族ポリカーボネートは既知の方法で、好ましくは三以上の官能性を有する化合物、例えば三以上のフェノール基を有する化合物、使用されるジフェノールの合計に対して０．０５〜２．０ｍｏｌ％の組み込みによって分枝されうる。
【００１７】
ホモポリカーボネートとコポリカーボネートの両方が好適である。本発明による成分Ａとしてのコポリカーボネートの製造に関して、ヒドロキシアリールオキシ末端基を有するポリジオルガノシロキサン、使用されるジフェノールの総量に対して１〜２５ｗｔ．％、好ましくは２．５〜２５ｗｔ．％を更に使用してもよい。これらの化合物は既知（ＵＳ  ３４１９６３４）であり、文献で知られている方法によって製造されうる。ポリジオルガノシロキサンを含むコポリカーボネートの製造は、ＤＥ−Ａ  ３３３４７８２に記述されている。
【００１８】
ビスフェノールＡのホモポリカーボネートに加えて、好ましいポリカーボネートは、好ましいかまたは特に好ましいと言及されたジフェノール以外のジフェノール、特に２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ジフェノールのモルの合計に対して１５ｍｏｌ％以下を含むビスフェノールＡのコポリカーボネートである。
【００１９】
芳香族ポリエステルカーボネートの製造に関する芳香族ジカルボン酸二ハロゲン化物は、好ましくはイソフタル酸、テレフタル酸、ジフェニルエーテル４，４’−ジカルボン酸およびナフタレン−２，６−ジカルボン酸の二酸二塩化物である。
【００２０】
イソフタル酸の二酸二塩化物とテレフタル酸の二酸二塩化物との１：２０〜２０：１の比の混合物が特に好ましい。
【００２１】
ポリエステルカーボネートの製造において、炭酸ハロゲン化物、好ましくはホスゲンを更に二官能性酸誘導体として付随して使用する。
【００２２】
既に言及されたモノフェノールに加えて、芳香族ポリエステルカーボネートの製造に関する連鎖停止剤として、更に言及されたモノフェノールのクロロ炭酸エステルおよび芳香族モノカルボン酸の酸塩化物であって任意にＣ１−〜Ｃ２２−アルキル基によってまたはハロゲン原子によって置換されていてもよいもの、並びに脂肪族Ｃ２−〜Ｃ２２−モノカルボン酸塩化物も考慮に入る。
【００２３】
連鎖停止剤の量は、フェノール性連鎖停止剤の場合ジフェノールのモルに対して、モノカルボン酸塩化物連鎖停止剤の場合ジカルボン酸二塩化物のモルに対して、いずれの場合も０．１〜１０ｍｏｌ％である。
【００２４】
芳香族ポリエステルカーボネートは、更にそれに組み込まれた芳香族ヒドロキシカルボン酸を含みうる。
【００２５】
芳香族ポリエステルカーボネートは、直鎖であっても既知の方法で分枝されていてもよい（この関連でＤＥ−Ａ  ２９４００２４およびＤＥ−Ａ  ３００７９３４参照。）。
【００２６】
分枝剤として、例えば三以上の官能性を有するカルボン酸塩化物、例えばトリメシン酸三塩化物、シアヌル酸三塩化物、３，３’−，４，４’−ベンゾフェノン−テトラカルボン酸四塩化物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸四塩化物またはピロメリット酸四塩化物、が０．０１〜１．０ｍｏｌ％（使用されるジカルボン酸二塩化物に対する。）の量で、または三以上の官能性を有するフェノール、例えばフロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプト−２−エン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタン、２，２−ビス［４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プロパン、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェノール、テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチル−ベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−プロパン、テトラ−（４−［４−ヒドロキシフェニル−イソ−プロピル］−フェノキシ）−メタン、１，４−ビス［４，４’−ジヒドロキシトリフェニル）−メチル］−ベンゼン、が使用されるジフェノールに対して０．０１〜１．０ｍｏｌ％の量で使用されうる。フェノール性分枝剤はジフェノールと反応容器に入れられ、酸塩化物分枝剤は酸二塩化物と共に導入されうる。
【００２７】
熱可塑性芳香族ポリエステルカーボネート中のカーボネート構造ユニットの含量は、所望のとおり変えられる。カーボネート基含量は、エステル基とカーボネート基との合計に対して、好ましくは１００ｍｏｌ％以下、特に８０ｍｏｌ％以下、特に好ましくは５０ｍｏｌ％以下である。芳香族ポリエステルカーボネート中に含まれるエステルとカーボネートの両方が重縮合生成物中にブロックの形態で存在してもランダムに分散されて存在してもよい。
【００２８】
芳香族ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネートの相対溶液粘度（ηｒｅｌ）は、１．１８〜１．４、好ましくは１．２０〜１．３２である（塩化メチレン溶液１００ｍｌ中のポリカーボネートまたはポリエステルカーボネート０．５ｇの溶液に対して２５℃において測定される。）。
【００２９】
熱可塑性芳香族ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネートは、単独で使用されても任意の所望の混合物で使用されてもよい。
【００３０】
成分Ｂ
成分Ｂは、
Ｂ．１  少なくとも一種類のビニルモノマー、０．１〜３０ｗｔ．％、好ましくは５〜２０ｗｔ．％が
Ｂ．２  ガラス転移温度が１０℃未満、好ましくは０℃未満、特に好ましくは−２０℃未満であり、少なくとも５０ｗｔ．％のシリコーンゴムを含有する一種類以上のグラフトベース、９９．９〜７０ｗｔ．％、好ましくは９５〜８０ｗｔ．％
上にある、第一グラフトポリマーを含有する。
【００３１】
グラフトベースＢ．２は、一般的に、０．０５〜１０μｍ、好ましくは０．０５〜５μｍ、特に好ましくは０．１〜１μｍの平均粒度（ｄ５０値）を有する。
【００３２】
モノマーＢ．１は、好ましくは、
Ｂ．１．１  （メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル（例えばメチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ．−ブチルアクリレート）からなる第一群および／または
Ｂ．１．２  ビニル芳香族化合物および／または環置換ビニル芳香族化合物（例えばスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン）および／またはビニルシアニド（不飽和ニトリル、例えばアクリロニトリルおよびメタクリロニトリル）および／または不飽和カルボン酸の誘導体（例えば無水物およびイミド）、例えばマレイン酸無水物およびＮ−フェニル−マレイミドからなる第二群
から選択されるビニルモノマーを含有する。
【００３３】
本発明の好ましい態様において、モノマーＢ．１の少なくとも５０ｗｔ．％は、第一群Ｂ．１．１から選択される。特に好ましい態様において、モノマーＢ．１は、メチルメタクリレートを、成分Ｂ．１に対して、少なくとも５０ｗｔ．％、好ましくは少なくとも８０ｗｔ．％、特に少なくとも９５ｗｔ．％含有する。
【００３４】
グラフトポリマーＢに好適なグラフトベースＢ．２は、好ましくは、シリコーンゴム、少なくとも５０ｗｔ．％、特に好ましくは７０〜１００ｗｔ．％、より特に好ましくは７０〜９８ｗｔ．％、並びにジエンゴム、ＥＰ（Ｄ）Ｍゴム（すなわち、エチレン／プロピレンおよび任意にジエンベースのゴム）、アクリレート、ポリウレタン、シリコーン、クロロプレンおよびエチレン／ビニルアセテートゴムからなる群から選択される一種類以上のゴム５０ｗｔ．％以下、特に好ましくは３０ｗｔ．％以下、より特に好ましくは２〜３０ｗｔ．％を含有する。
【００３５】
特に好ましいグラフトベースＢ．２は、シリコーンゴム、少なくとも５０ｗｔ．％、最も好ましくは７０〜９８ｗｔ．％と、アクリレートゴム、５０ｗｔ．％以下、最も好ましくは２〜３０ｗｔ．％との混合物であり、これらの二種類のゴムタイプは、それらの製造のために、相互浸透ネットワークを形成するかまたはコア−シェル構造の形態で存在する。
【００３６】
グラフトベースＢ．２のゲル含量は、特に好ましくは少なくとも３０ｗｔ．％、より特に好ましくは少なくとも４０ｗｔ．％である（トルエン中で測定される。）。
【００３７】
グラフトベースＢは、フリーラジカル重合によって、例えば、エマルジョン、サスペンション、溶液または塊状重合によって、好ましくはエマルジョンまたは塊状重合によって、特に好ましくはエマルジョン重合によって製造される。
【００３８】
グラフトモノマーがグラフト反応中にグラフトベース上に完全にグラフトする必要がないことが知られているので、本発明によるグラフトポリマーＢは、更にグラフトベースの存在下におけるグラフトモノマーの（共）重合によって得られ、かつ、更にワークアップ（ｗｏｒｋｉｎｇ  ｕｐ）中にも得られる生成物であると理解される。
【００３９】
Ｂ．２によるポリマーＢに好適なアクリレートゴムは、好ましくは、アクリル酸アルキルエステルと、要すれば別の重合性エチレン性不飽和モノマー、Ｂ．２に対して４０ｗｔ．％以下と、のポリマーである。好ましい重合性アクリル酸エステルとしては、Ｃ１−〜Ｃ８−アルキルエステル、例えばメチル、エチル、ブチル、ｎ−オクチルおよび２−エチルヘキシルエステル、ハロアルキルエステル、好ましくはハロ−Ｃ１〜Ｃ８−アルキルエステル、例えばクロロエチルアクリレート、並びにこれらのモノマーの混合物が挙げられる。
【００４０】
架橋に関して、一よりも多い重合性二重結合を有するモノマーが共重合されうる。架橋モノマーの好ましい例は、炭素原子を３〜８個有する不飽和モノカルボン酸と炭素原子を３〜１２個有する不飽和一価アルコールまたはＯＨ基２〜４個と炭素原子２〜２０個を有する飽和ポリオールとのエステル（例えばエチレングリコールジメタクリレート、アリルメタクリレート）；多価不飽和ヘテロ環化合物（例えばトリビニルおよびトリアリルシアヌレート）；多官能性ビニル化合物（例えばジ−およびトリ−ビニルベンゼン）；および更にトリアリルホスフェートおよびジアリルフタレートである。好ましい架橋モノマーは、アリルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジアリルフタレートおよび少なくとも三つのエチレン性不飽和基を有するヘテロ環化合物である。特に好ましい架橋モノマーは、環状モノマートリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、トリアクリロイルヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、トリアリルベンゼンである。架橋モノマーの量は、グラフトベースＢ．２に対して、好ましくは０．０２〜５ｗｔ．％、特に０．０５〜２ｗｔ．％である。少なくとも三つのエチレン性不飽和基を有する環状架橋モノマーの場合、グラフトベースＢ．２の１ｗｔ．％以下の量に制限することが有利である。
【００４１】
アクリル酸エステルに加えてグラフトベースＢ．２の製造に任意に使用されうる好ましい「別の」重合性エチレン性不飽和モノマーは、例えば、アクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、アクリルアミド、ビニルＣ１〜Ｃ６−アルキルエーテル、メチルメタクリレート、ブタジエンである。グラフトベースＢ．２として好ましいアクリレートゴムは、ゲル含量少なくとも６０ｗｔ．％のエマルジョンポリマーである。
【００４２】
Ｂ．２による別の好適なグラフトベースは、ＤＥ−ＯＳ  ３７０４６５７、ＤＥ−ＯＳ  ３７０４６５５、ＤＥ−ＯＳ  ３６３１５４０およびＤＥ−ＯＳ  ３６３１５３９に記述されているような、グラフト活性部位を有するシリコーンゴムである。
【００４３】
グラフトベースＢ．２のゲル含量は、２５℃において好適な溶媒中で決定される（Ｍ．Ｈｏｆｆｍａｎｎ，Ｈ．Ｋｒｏｅｍｅｒ，Ｒ．Ｋｕｈｎ，Ｐｏｌｙｍｅｒａｎａｌｙｔｉｋ  Ｉ  ｕｎｄ  ＩＩ，Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ−Ｖｅｒｌａｇ，シュトゥットガルト  １９７７年）。
【００４４】
平均粒度ｄ５０は、それぞれその上下に５０ｗｔ．％の粒子が存在する直径である。これは超遠心測定によって決定される（Ｗ．Ｓｃｈｏｌｔａｎ，Ｈ．Ｌａｎｇｅ，Ｋｏｌｌｏｉｄ．Ｚ．ｕｎｄ  Ｚ．Ｐｏｌｙｍｅｒｅ  ２５０（１９７２年），７８２〜７９６頁）。
【００４５】
成分Ｃ
成分Ｃは、成分Ｂと異なる第二グラフトポリマーであって、
Ｃ．１  少なくとも一種類のビニルモノマー、５〜９５ｗｔ．％、好ましくは３０〜９０ｗｔ．％が
Ｃ．２  ガラス転移温度が１０℃未満、好ましくは０℃未満、特に好ましくは−２０℃未満であり、ＥＰＤＭゴム少なくとも５０ｗｔ．％を含有する一種類以上のグラフトベース、９５〜５ｗｔ．％、好ましくは７０〜１０ｗｔ．％
上にあるグラフトポリマーを含有する。
【００４６】
グラフトベースＣ．２は、一般的に、０．０５〜１０μｍ、好ましくは０．１〜５μｍ、特に好ましくは０．２〜１μｍの平均粒度（ｄ５０値）を有する。
【００４７】
モノマーＣ．１は、好ましくは、
Ｃ．１．１  ビニル芳香族化合物および／または環置換ビニル芳香族化合物（例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン）および／または（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル（例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート）、５０〜９９重量部、並びに
Ｃ．１．２  ビニルシアニド（不飽和ニトリル、例えばアクリロニトリルおよびメタクリロニトリル）および／または（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル、例えばメチルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ．−ブチルアクリレート、および／または不飽和カルボン酸の誘導体（例えば無水物およびイミド）、例えばマレイン酸無水物およびＮ−フェニルマレイミド、１〜５０重量部
の混合物である。
【００４８】
好ましいモノマーＣ．１．１は、少なくとも一種類のモノマースチレン、α−メチルスチレンおよびメチルメタクリレートから選択され、好ましいモノマーＣ．１．２は、少なくとも一種類のモノマーアクリロニトリル、マレイン酸無水物およびメチルメタクリレートから選択される。特に好ましいモノマーは、Ｃ．１．１スチレンおよびＣ．１．２アクリロニトリルである。
【００４９】
グラフトポリマーＣに好適なグラフトベースＣ．２は、ＥＰＤＭゴム（すなわち、エチレン／プロピレンおよびジエンベースのゴム）、好ましくは少なくとも５０ｗｔ．％、特に好ましくは少なくとも８０ｗｔ．％並びにジエンゴム、シリコーンゴム、アクリレート、ポリウレタン、シリコーン、クロロプレンおよびエチレン／ビニルアセテートゴムからなる群から選択される一種類以上のゴム、５０ｗｔ．％以下、特に好ましくは２０ｗｔ．％以下を含有する。
【００５０】
特に好ましいグラフトベースＣ．２は、純粋なＥＰＤＭゴム、すなわち、エチレン／プロピレンおよびジエンベースのゴムであって、ジエンが好ましくは５−エチリデン−２−ノルボルネンであるゴムを含有する。
【００５１】
グラフトベースＣ．２のゲル含量は、好ましくは少なくとも３０ｗｔ．％、特に好ましくは少なくとも４０ｗｔ．％である（トルエン中で測定。）。
【００５２】
グラフトコポリマーＣは、フリーラジカル重合によって、例えばエマルジョン、サスペンション、溶液または塊状重合によって、好ましくは、エマルジョンまたは塊状重合によって製造される。
【００５３】
グラフトモノマーは、グラフト反応中に必ずしも完全にグラフトベース上にグラフトされなければならないわけではないことが知られているので、本発明によるグラフトポリマーＣもまたグラフトベースの存在下におけるグラフトモノマーの（共）重合によって得られ、更にワークアップ中にも得られる生成物であることが理解されている。
【００５４】
グラフトベースＣ．２のゲル含量は、２５℃において好適な溶媒中で決定される（Ｍ．Ｈｏｆｆｍａｎｎ，Ｈ．Ｋｒｏｅｍｅｒ，Ｒ．Ｋｕｈｎ，Ｐｏｌｙｍｅｒａｎａｌｙｔｉｋ  Ｉ  ｕｎｄ  ＩＩ，Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ−Ｖｅｒｌａｇ，シュトゥットガルト  １９７７年）。
【００５５】
平均粒度ｄ５０は、それぞれその上下に５０ｗｔ．％の粒子が存在する直径である。これは超遠心測定によって決定されうる（Ｗ．Ｓｃｈｏｌｔａｎ，Ｈ．Ｌａｎｇｅ，Ｋｏｌｌｏｉｄ，Ｚ．ｕｎｄ  Ｚ．Ｐｏｌｙｍｅｒｅ  ２５０（１９７２年），７８２〜１７９６頁）。
【００５６】
成分Ｄ
成分Ｄは、一種類以上の熱可塑性ビニル（コ）ポリマーＤ．１および／またはポリアルキレンテレフタレートＤ．２を含有する。
【００５７】
好適なビニル（コ）ポリマーＤ．１は、ビニル芳香族化合物、ビニルシアニド（不飽和ニトリル）、（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル、不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸の誘導体（例えば無水物およびイミド）の群からの少なくとも一種類のモノマーのポリマーである。
Ｄ．１．１  ビニル芳香族化合物および／または環置換ビニル芳香族化合物（例えばスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン）および／または（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル（例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート）、５０〜９９重量部、好ましくは６０〜８０重量部と
Ｄ．１．２  ビニルシアニド（不飽和ニトリル）、例えばアクリロニトリルおよびメタクリロニトリル、および／または（メタ）アクリル酸（Ｃ１〜Ｃ８）−アルキルエステル、例えばメチルメタクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ．−ブチルアクリレート、および／または不飽和カルボン酸、例えばマレイン酸、および／または不飽和カルボン酸の誘導体、例えば無水物およびイミド（例えばマレイン酸無水物およびＮ−フェニルマレイミド）、１〜５０重量部、好ましくは２０〜４０重量部と
の（コ）ポリマーが特に好適である。
【００５８】
ビニル（コ）ポリマーＤ．１は、樹脂状、熱可塑性かつゴムフリーである。Ｄ．１．１スチレンとＤ．１．２アクリロニトリルとのコポリマーが特に好ましい。
【００５９】
Ｄ．１による（コ）ポリマーは既知であり、フリーラジカル重合によって、特にエマルジョン、サスペンション、溶液または塊状重合によって製造されうる。これらの（コ）ポリマーは、好ましくは、平均分子量Ｍｗ（重量平均、光散乱または沈降によって決定される。）１５，０００〜２００，０００を有する。
【００６０】
成分Ｄ．２のポリアルキレンテレフタレートは、芳香族ジカルボン酸またはそれらの反応性誘導体、例えばジメチルエステルもしくは無水物、と、脂肪族、脂環式または芳香脂肪族ジオールとの反応生成物並びにそのような反応生成物の混合物である。
【００６１】
好ましいポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸基、ジカルボン酸成分に対して少なくとも８０ｗｔ．％、好ましくは少なくとも９０ｗｔ．％と、エチレングリコールおよび／または１，４−ブタンジオール基、ジオール成分に対して少なくとも８０ｗｔ．％、好ましくは少なくとも９０ｍｏｌ％とを含む。
【００６２】
テレフタル酸を含むだけでなく、好ましいポリアルキレンテレフタレートは、炭素原子を８〜１４個有する別の芳香族もしくは脂環式ジカルボン酸または炭素原子を４〜１２個有する脂肪族ジカルボン酸の基、例えば、フタル酸、イソフタル酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、シクロヘキサン二酢酸の基、を２０ｍｏｌ％以下、好ましくは１０ｍｏｌ％以下含みうる。
【００６３】
エチレングリコールまたは１，４−ブタンジオール基を含むだけでなく、好ましいポリアルキレンテレフタレートは、炭素原子を３〜１２個有する別の脂肪族ジオールまたは炭素原子を６〜２１個有する脂環式ジオール、例えば１，３−プロパンジオール、２−エチル−１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、シクロヘキサン−１，４−ジメタノール、３−エチル−２，４−ペンタンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２，５−ヘキサンジオール、１，４−ジ−（β−ヒドロキシエトキシ）−ベンゼン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）−プロパン、２，４−ジヒドロキシ−１，１，３，３−テトラメチル−シクロブタン、２，２−ビス−（４−β−ヒドロキシエトキシ−フェニル）−プロパンおよび２，２−ビス−（４−ヒドロキシプロポキシフェニル）−プロパンの基、を２０ｍｏｌ％以下、好ましくは１０ｍｏｌ％以下含みうる（ＤＥ−Ａ  ２４０７６７４、２４０７７７６、２７１５９３２）。
【００６４】
ポリアルキレンテレフタレートは、比較的少量の三価もしくは四価アルコールまたは三−もしくは四−塩基性カルボン酸の組み込みによって分枝されてもよい（例えば、ＤＥ−Ａ  １９００２７０およびＵＳ−ＰＳ  ３６９２７４４による。）。好ましい分枝剤の例は、トリメシン酸、トリメリット酸、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパンおよびペンタエリトリトールである。
【００６５】
専らテレフタル酸およびその反応性誘導体（例えばそのジアルキルエステル）とエチレングリコールおよび／または１，４−ブタンジオールとのみからつくられたポリアルキレンテレフタレート並びにそのようなポリアルキレンテレフタレートの混合物が特に好ましい。
【００６６】
ポリアルキレンテレフタレートの混合物は、ポリエチレンテレフタレート１〜５０ｗｔ．％、好ましくは１〜３０ｗｔ．％と、ポリブチレンテレフタレート５０〜９９ｗｔ．％、好ましくは７０〜９９ｗｔ．％とを含む。
【００６７】
好ましく使用されるポリアルキレンテレフタレートの固有粘度は、一般的に、０．４〜１．５ｄｌ／ｇ、好ましくは０．５〜１．２ｄｌ／ｇである（２５℃においてフェノール／ｏ−ジクロロベンゼン（１：１重量部）中でＵｂｂｅｌｏｈｄｅ粘度計において測定される。）。
【００６８】
ポリアルキレンテレフタレートは既知の方法で製造されうる（例えば、Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ，第ＶＩＩＩ巻，６９５頁以降，Ｃａｒｌ−Ｈａｎｓｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ，ミュンヘン  １９７３年参照。）。
【００６９】
成分Ｅ
この組成物は、更に市販のポリマー添加剤、例えば防炎加工剤、防炎相乗剤、ドリップ防止剤（例えばフッ素化ポリオフィン、シリコーンおよびアラミド繊維の物質クラスの化合物）、滑剤および離型剤（例えばペンタエリトリトールテトラステアレート）、成核剤、安定剤、帯電防止剤（例えば導電性カーボンブラック、カーボンファイバー、カーボンナノチューブ並びに有機帯電防止剤、例えばポリアルキレンエーテル、アルキルスルホネートまたはポリアミド含有ポリマー）、充填剤および強化剤（例えばガラス繊維またはカーボンファイバー、マイカ、カオリン、タルク、ＣａＣＯ３およびガラスフレーク）並びに着色剤および顔料を含みうる。
【００７０】
防炎加工剤として、好ましく使用されるリン含有防炎加工剤、特にモノマーおよびオリゴマーリン酸エステルおよびホスホン酸エステル、ホスホネートアミンおよびホスファゼンの群から選択される、がある。更に、これらの群の一つのまたは多数から選択される数種類の成分の混合物を防炎加工剤として使用することも可能である。本明細書中で特に言及していない別のハロゲンフリーのリン化合物を、更に、単独で使用しても他のハロゲンフリーのリン化合物との任意の所望の組み合わせで使用してもよい。好適なリン化合物の例は、トリブチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレシルホスフェート、ジフェニルクレシルホスフェート、ジフェニルオクチルホスフェート、ジフェニル−２−エチルクレシルホスフェート、トリ−（イソプロピルフェニル）ホスフェート、レソルシノール架橋ジ−またはオリゴ−ホスフェートおよびビスフェノールＡ架橋ジ−またはオリゴ−ホスフェートである。ビスフェノールＡから誘導されるオリゴマーリン酸エステルの使用が特に好ましい。防炎加工剤として好適なリン化合物は既知（例えば、ＥＰ−Ａ  ０３６３６０８、ＥＰ−Ａ  ０６４０６５５参照。）であるかまたは既知の方法によって同様に製造されうる（例えば、Ｕｌｌｍａｎｎｓ  Ｅｎｚｙｋｌｏｐａｅｄｉｅ  ｄｅｒ  ｔｅｃｈｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ，第１８巻，３０１頁以降１９７９年；Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，Ｍｅｔｈｏｄｅｎ  ｄｅｒ  ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ，第１２／１巻，４３頁；Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ第６巻，１７７頁。）。
【００７１】
成形組成物および成形物体の製造
本発明による熱可塑性成形組成物は、それぞれの成分を既知の方法で混合し、この混合物を温度２００℃〜３００℃において常套のデバイス、例えば内部ニーダー、押出機および二軸スクリュー、中で溶融配合し、溶融押出することによって製造される。
【００７２】
個々の成分の混合は、既知の方法で連続してまたは同時に、約２０℃（室温）においてまたは高温において行われうる。
【００７３】
本発明は、更に、成形組成物の製造方法および成形物体の製造における成形組成物の使用にも関する。
【００７４】
本発明による成形組成物は、あらゆる種類の成形物体の製造において使用されうる。成形物体は、例えば、射出成形、押出およびブロー成形法によって製造されうる。別の加工形態は、予め製造されたシートまたはフィルムから深絞り成形することによる成形物体の製造である。
【００７５】
そのような成形物体の例は、フィルム、プロファイル、あらゆる種類のケーシング部品、例えば屋内電気器具、例えばジュース絞り器、コーヒーマシーン、ミキサー用のケーシング部品；オフィス用品、例えばモニタ、フラットスクリーン、ノートパソコン、プリンタ、コピー機用のケーシング部品；シート、チューブ、電気設備用コンジット、ウィンドウ、ドアおよび建設部門用の別のプロファイル（内装仕上げ材および外装）並びに電気および電子部品、例えばスイッチ、プラグおよびソケット、および更に市販の乗物用の、特に自動車分野用の車体部品および屋内部品である。
【００７６】
特に、本発明による成形組成物は、例えば更に以下の成形物体または成形品の製造にも使用されうる。鉄道車両、船舶、航空機、バスおよび別の自動車用の屋内付属品、小型変圧器を含む電気装置のケーシング、情報の処理および伝達用デバイスのケーシング、医療機器のケーシングおよびカバー、マッサージ器具およびそのケーシング、子供用乗物玩具、平面組立壁パネル（ｆｌａｔ  ｐｒｅｆａｂｒｉｃａｔｅｄ  ｗａｌｌ  ｐａｎｅｌｓ）、セキュリティー機器のケーシング、断熱輸送コンテナ、衛生器具および浴室器具用の成形品、換気口を覆う格子、および園芸用具用ケーシング。
【００７７】
以下の実施例は、本発明を更に説明するのに役立つ。
【実施例】
【００７８】
成分Ａ
重量平均分子量Ｍｗ２７，５００ｇ／ｍｏｌ（ＧＰＣによって決定される。）のビスフェノールＡベースの直鎖ポリカーボネート。
【００７９】
成分Ｂ１
シリコーンゴム９２ｗｔ．％およびブチルアクリレートゴム８ｗｔ．％からなるグラフトベース８９ｗｔ．％とその上のポリメチルメタクリレート１１ｗｔ．％とからなるグラフトポリマー。
【００８０】
成分Ｂ２（比較）
シリコーンゴム４６ｗｔ．％およびブチルアクリレートゴム５４ｗｔ．％のグラフトベース７２ｗｔ．％とその上のスチレン−アクリロニトリルコポリマー２８ｗｔ．％とからなるグラフトポリマー。
【００８１】
成分Ｂ３（比較）
シリコーンゴム１１ｗｔ．％およびブチルアクリレートゴム８９ｗｔ．％からなるグラフトベース８３ｗｔ．％とその上のポリメチルメタクリレート１７ｗｔ．％とからなるグラフトポリマー。
【００８２】
成分Ｃ１
ＥＰＤＭゴムからなるグラフトベース７０ｗｔ．％とその上のアクリロニトリルおよびスチレン３０ｗｔ．％とからなり、ジエンが５−エチリデン−２−ノルボルネンであるグラフトポリマー。このグラフトベースの平均粒度（ｄ５０）は約２５０ｎｍである。
【００８３】
成分Ｃ２（比較）
ブチルアクリレートゴムのグラフトベース７５％とその上のポリメチルメタクリレート２５％とからなるグラフトポリマー。
【００８４】
成分Ｃ３（比較）
ブチルアクリレートゴムのグラフトベース６１ｗｔ．％とその上のアクリロニトリルおよびスチレン３９ｗｔ．％とからなるグラフトポリマー。
【００８５】
成分Ｃ４（比較）
アクリロニトリル２７ｗｔ．％とスチレン７３ｗｔ．％との混合物、ＡＢＳポリマーに対して４３ｗｔ．％の、粒状架橋ポリブタジエンゴム（平均粒径ｄ５０＝０．３５μｍ）、ＡＢＳポリマーに対して５７ｗｔ．％の存在下におけるエマルジョン重合によって製造されるＡＢＳポリマー。
【００８６】
成分Ｄ
スチレン／アクリロニトリル重量比７２：２８かつ固有粘度０．５５ｄｌ／ｇ（ジメチルホルムアミド中２０℃において測定。）のスチレン／アクリロニトリルコポリマー。
【００８７】
成分Ｅ
Ｅ１：滑剤／離型剤としてのペンタエリトリトールテトラステアレート
Ｅ２：Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ製のホスファイト安定剤、Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）Ｂ  ９００
Ｅ３：フランスのシュレーヌのＣａｂｏｔ  Ｅｕｒｏｐａ  Ｇ．Ｉ．Ｅ．製のＢｌａｃｋ  Ｐｅａｒｌｓ  ８００
【００８８】
成形組成物の製造および試験
表１に列挙される材料を、溶融温度２６０℃において二軸押出機（ＺＳＫ−２５）（Ｗｅｒｎｅｒ  ｕｎｄ  Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ）中で速度２２５ｒｐｍかつ処理量２５ｋｇ／時間において配合し、次にグラニュール化する。完成グラニュールを射出成形マシーンにおいて対応する試験片に加工する（溶融温度２６０℃、金型温度８０℃、流頭速度２４０ｍｍ／秒）。
【００８９】
以下の方法を使用して試験片の特性を決定する。
【００９０】
プラスチック表面の光沢を、サイズ６０ｍｍ×４０ｍｍ×２ｍｍの試験片においてＤＩＮ  ６７５３０に従って測定角（以下、照射角ともいう。）２０°において評価する。
【００９１】
パンクチャー試験をＩＳＯ  ６６０３−２に従って温度−３０℃において行う。この試験において、合計１０個の試験片の破壊パターンを、非分裂破壊（ｎｏｎ−ｓｐｌｉｎｔｅｒｉｎｇ  ｆａｉｌｕｒｅ）が多くの場合（少なくとも８０％）、すなわち試験片１０個のうち少なくとも８個、に起こるかについて評価する。
【００９２】
熱老化に関して、ＤＩＮ  ＩＥＣ  ６０２１６−１に従って、試験片を１００℃において５００時間貯蔵した。次に、ＩＳＯ  ６６０３−２に従って、温度−３０℃においてこの試験片にパンクチャー試験を行った。
【００９３】
2010516825.tif 000004
【００９４】
これらの実施例は、表面光沢の望ましい減少がＢ１とＣ１の組み合わせでのみ−かつ更に限定された濃度範囲内でのみ−達成されうることを示している。
【００９５】
実施例１〜５および比較例６〜９から、Ｂ１対Ｃ１の比で２０：８０〜８０：２０の範囲内で光沢の減少が起こることが明らかである。
【００９６】
実施例２および比較例１１および１２から明らかであるように、光沢の減少は、Ｂ２やＢ３ではなく、特定のシリコーン／アクリレート変性剤Ｂ１を使用して初めて達成される。Ｂ１とポリブタジエン（Ｃ４、比較例１３）またはアクリレート（Ｃ２およびＣ３、比較例１４および１５）ベースの耐衝撃性改良剤との組み合わせは、本発明の目的を達成しない。Ｃ１とポリブタジエン（Ｃ４、比較例１６）ベースの耐衝撃性改良剤との組み合わせもまた所望の特性の組み合わせを達成しない。
【００９７】
Ｂ１とＣ１とを使用する場合、特定の量のＳＡＮ（成分Ｄ）も更に超えてはならない。同じ比のＡ：Ｂ：Ｃで、Ｄの濃度を５．０２（実施例５）から２３．６２（実施例２）を経て４０（比較例１０）まで増加させた。表から明らかなように、実施例２および５の場合のみ、この順番で表面光沢の減少が達成された。
【国際調査報告】
2010516825.tif 000005
2010516825.tif 000006
2010516825.tif 000007
2010516825.tif 000008
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