(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素材を転移点より高い第１の温度まで加熱する加熱工程と、
前記光学素材を挟んで互いに対向する第１の成形型及び第２の成形型により前記光学素材を加圧する加圧工程と、
前記光学素材を、前記第１の成形型及び前記第２の成形型により所定の荷重で加圧しながら、ひずみ点より高く前記第１の温度より低い第２の温度まで冷却する第１の冷却工程と、
荷重開放時において前記光学素材の粘性変形よりも弾性変形が優先される速度として予め得られた速度以上の設定速度によって前記所定の荷重を開放する開放工程と、
前記光学素材を前記第２の温度より低い第３の温度まで冷却する第２の冷却工程と、
を含むことを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記開放工程において、前記所定の荷重を開放することによって、前記光学素材の周縁部の少なくとも一部を前記第１の成形型及び前記第２の成形型のうち少なくとも一方から離型させることを特徴とする請求項１記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記第１の成形型及び前記第２の成形型により形成される成形空間が、周縁部の厚さの５．９倍以上の最厚部を有する光学素子を成形し得るものであり、
前記開放工程において、前記所定の荷重の開放を０．１１秒以内に完了する速度で行う、
ことを特徴とする請求項１又は２記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記開放工程において、開放直前の前記所定の荷重が２４［Ｎ／ｍｍ２］以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記開放工程において、前記第１の成形型の中心軸と前記第２の成形型の中心軸とが０．７分〜１．５分の範囲で傾いていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
光学素材を転移点より高い第１の温度まで加熱する加熱工程と、
前記光学素材を挟んで互いに対向する第１の成形型及び第２の成形型により前記光学素材を加圧する加圧工程と、
前記光学素材を、前記第１の成形型及び前記第２の成形型により所定の荷重で加圧しながら、ひずみ点より高く前記第１の温度より低い第２の温度まで冷却する第１の冷却工程と、
荷重開放時において前記光学素材の弾性変形よりも粘性変形が優先される速度として予め得られた速度以下の設定速度によって前記所定の荷重を開放する開放工程と、
前記光学素材を前記第２の温度より低い第３の温度まで冷却する第２の冷却工程と、
を含むことを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項７】
前記開放工程において、前記光学素材の周縁部を前記第１の成形型及び前記第２の成形型から離型させずに前記所定の荷重を開放することを特徴とする請求項６記載の光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子を製造する光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学素材を加熱軟化させた状態で加圧し、冷却することで、光学素子を製造する光学素子の製造方法が知られている。
上記のような光学素子の製造方法において、光学素材を加圧する圧力を加圧側と減圧側とに連続的に変動させる圧力変動を冷却工程で１セット以上行うことで、離型時にクラック、割れ等の不具合や面精度の悪化を抑える手法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２０１５１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のように冷却工程において光学素材を加圧する圧力を加圧側と減圧側とに連続的に変動させた場合でも、離型促進が不十分な場合があった。
ところで、光学素材を型セットに収容した状態で加熱、加圧、冷却、又は離型等の工程を行う各ステージに順次搬送して各ステージで光学素材の加圧力を開放する場合などには、例えば冷却過程の意図しない段階で光学素材が離型することによって、型セットの成形型から光学素材への形状転写が十分に行えずに、光学素子の面精度が悪化し得る。
【０００５】
本発明の目的は、光学素材の離型状態をコントロールすることができる光学素子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
１つの態様では、光学素子の製造方法は、光学素材を転移点より高い第１の温度まで加熱する加熱工程と、前記光学素材を挟んで互いに対向する第１の成形型及び第２の成形型により前記光学素材を加圧する加圧工程と、前記光学素材を、前記第１の成形型及び前記第２の成形型により所定の荷重で加圧しながら、ひずみ点より高く前記第１の温度より低い第２の温度まで冷却する第１の冷却工程と、荷重開放時において前記光学素材の粘性変形よりも弾性変形が優先される速度として予め得られた速度以上の設定速度によって前記所定の荷重を開放する開放工程と、前記光学素材を前記第２の温度より低い第３の温度まで冷却する第２の冷却工程と、を含む。
【０００７】
別の１つの態様では、光学素子の製造方法は、光学素材を転移点より高い第１の温度まで加熱する加熱工程と、前記光学素材を挟んで互いに対向する第１の成形型及び第２の成形型により前記光学素材を加圧する加圧工程と、前記光学素材を、前記第１の成形型及び前記第２の成形型により所定の荷重で加圧しながら、ひずみ点より高く前記第１の温度より低い第２の温度まで冷却する第１の冷却工程と、荷重開放時において前記光学素材の弾性変形よりも粘性変形が優先される速度として予め得られた速度以下の設定速度によって前記所定の荷重を開放する開放工程と、前記光学素材を前記第２の温度より低い第３の温度まで冷却する第２の冷却工程と、を含む。
【発明の効果】
【０００８】
前記態様によれば、光学素材の離型状態をコントロールすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る光学素子の製造方法を説明するための説明図である。
【図２】各条件における加圧力と加圧力開放時間との関係を示すグラフである。
【図３】各条件における離型成功率を示す表である。
【図４】光学素材の離型を説明するための説明図である。
【図５】本発明の第２実施形態に係る光学素子の製造方法を説明するための説明図である。
【図６】本発明の第３実施形態に係る光学素子の製造方法を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態に係る光学素子の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
〔第１実施形態〕
【００１１】
図１は、本発明の第１実施形態に係る光学素子の製造方法を説明するための説明図である。
図１に示す型セット１０は、光学素材１００を挟んで互いに対向する上型１１及び下型１２と、これら上型１１及び下型１２の周囲に配置される筒状の胴型１３とを含む。なお、上型１１及び下型１２は、第１の成形型及び第２の成形型の一例である。また、光学素材１００は例えばガラスであり、後述する各工程を経て製造される光学素子は例えばガラスレンズである。
【００１２】
上型１１には、凹形状の成形面１１ａが底面に形成されている。下型１２には、凹形状の成形面１２ａが上面に形成されている。そのため、本第１実施形態では、両凸形状の光学素子が製造される。但し、本第１実施形態における光学素子の形状は、周縁部１００ａ以外に最厚部１００ｂを有する他の形状、例えば片凸形状等であってもよい。
【００１３】
第１の当接部材２１は、上型１１の上面に当接可能に配置されている。また、第２の当接部材２２は、下型１２の底面に当接可能に配置されている。第１の当接部材２１は、加圧軸２３に連結され、この加圧軸２３の駆動によって上下動する。
【００１４】
第１の当接部材２１及び第２の当接部材２２は、例えば図示しないヒータを有し、熱伝導により上型１１及び下型１２ひいては成形素材１００を加熱又は冷却する。そのため、第１の当接部材２１及び第２の当接部材２２は、加熱手段又は冷却手段として機能する。なお、第１の当接部材２１及び第２の当接部材２２は、ヒータを有する部材と型セット１０との間に配置される熱伝導用の部材であってもよい。
【００１５】
加圧軸２３は、第１の当接部材２１を上下動させることで、光学素材１００を加圧する加圧手段、又は、光学素材１００の圧力を開放する開放手段として機能する。
第１の当接部材２１、第２の当接部材２２、及び加圧軸２３は、例えば成形室内に配置されるステージを構成する。成形室内には、１つ以上のステージが配置される。ステージが１つである場合には、上型１１が第１の当接部材２１に固定され、下型１２が第２の当接部材２２に固定され、上型１１と下型１２との間に光学素材１００が搬送されてもよい。
【００１６】
以下、第１実施形態に係る光学素子の製造方法について説明する。
図１（ａ）に示すように、型セット１０内に収容された光学素材１００は、第１の当接部材２１及び第２の当接部材２２から上型１１及び下型１２を介しての熱伝導などによって、転移点より高い第１の温度まで加熱され、軟化する（加熱工程）。
【００１７】
次に、光学素材１００は、加圧軸２３によって第１の当接部材２１が下降することで、上型１１及び下型１２により加圧される（加圧工程）。なお、加熱工程と加圧工程とは、互いに異なるステージ（第１の当接部材２１、第２の当接部材２２、及び加圧軸２３）において行われてもよいし、同一のステージにおいて行われてもよい。後述する他の工程も同様に、異なるステージにおいて行われてもよいし、２以上の工程が同一のステージにおいて行われてもよい。但し、後述する第１の冷却工程と離型工程とは同一のステージにおいて行われることが望ましい。
【００１８】
次に、光学素材１００は、上型１１及び下型１２により所定の荷重で加圧されながら、ひずみ点より高く上記の第１の温度より低い第２の温度まで冷却される（第１の冷却工程）。
【００１９】
次に、図１（ｂ）に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を上昇させることで、上記の第１の冷却工程において光学素材１００が加圧される所定の荷重が開放される（開放工程）。この開放工程では、荷重開放時において光学素材１００の粘性変形よりも弾性変形が優先される速度として予め得られた速度以上の設定速度によって所定の荷重が開放される。これにより、光学素材１００の周縁部１００ａの少なくとも一部（例えば周縁部１００ａの一部のみ又は全部）が上型１１及び下型１２のうち少なくとも一方から離型する。ここで、光学素材１００の周縁部１００ａは、光学的特性を発揮する部分（光学機能面）である光学素子の有効径よりも外側に位置する。なお、開放工程については詳しくは後述する。
【００２０】
次に、図１（ｃ）に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を下降させて上型１１の上面に当接させた状態で、光学素材１００が上記の第２の温度より低い第３の温度まで冷却される（第２の冷却工程）。なお、第３の温度は、ひずみ点以上であってもひずみ点未満であってもよい。
【００２１】
次に、図１（ｄ）に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を上昇させることで、光学素材１００の例えば全体が上型１１及び下型１２から離型する。このときに加圧軸２３が第１の当接部材２１を上昇させる速度は、上記の設定速度未満でよい。
【００２２】
次に、図１（ｅ）に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を下降させて上型１１に当接させ、荷重がかからない状態で、光学素材１００を更に冷却してもよい。
その後、製造された光学素子が型セット１０から取り出される。
【００２３】
ここで、上記の開放工程について説明する。
図２は、各条件における加圧力と加圧力開放時間との関係を示すグラフである。
図３は、各条件における離型成功率を示す表である。
【００２４】
図３に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を上昇させる速度は、上昇開始から０．２秒後において、条件１では１５［ｍｍ／ｓｅｃ］であり、条件２では３０［ｍｍ／ｓｅｃ］であり、条件３で９０［ｍｍ／ｓｅｃ］である。
【００２５】
また、図２及び図３に示すように、光学素材１００への加圧力の開放に要する時間は、条件１では０．２８［ｓｅｃ］であり、条件２では０．１５［ｓｅｃ］であり、条件３では０．１１［ｓｅｃ］である。
【００２６】
そして、図３に示すように、図１（ｂ）の開放工程における光学素材１００の周縁部１００ａの離型の成功率は、条件１では０［％］であり、条件２では４４［％］であり、条件３では１００［％］である。
【００２７】
本第１実施形態では、図１（ｂ）の開放工程における設定速度は、条件３の速度である。これにより、詳しくは後述するが、荷重開放時において光学素材１００の粘性変形よりも弾性変形が優先され、離型が行われる。ここで、粘性変形よりも弾性変形が優先される速度として予め得られる速度は、離型成功率が９０％以上の速度を一例として挙げることができ、上記の設定速度は、上記の予め得られる速度以上の速度、例えば図２及び図３の条件３のように離型成功率１００％の速度（９０［ｍｍ／ｓｅｃ］）とすることができる。
【００２８】
なお、上型１１及び下型１２により形成される図１に示す成形空間Ｓが、周縁部１００ａの厚さの５．９倍以上の最厚部１００ｂを有する光学素材１００（光学素子）を成形し得るものである場合に、開放工程において、所定の荷重の開放を０．１１秒以内に完了する速度で行うことが後述する反発力を高め離型を促進する観点から好ましい。
【００２９】
また、開放工程において、設定速度による開放直前の上記の所定の荷重が２４［Ｎ／ｍｍ２］以上であることが後述する反発力を高め離型を促進する観点から好ましい。
【００３０】
また、開放工程において、加圧軸２３を傾けることなどによって上型１１の中心軸と下型１２の中心軸とが０．７分〜１．５分の範囲で傾いていることが離型を促進する観点から好ましい。
【００３１】
図４は、光学素材１００の離型を説明するための説明図である。
なお、図４の上型１１及び下型１２の成形面１１ａ，１２ａの形状は、図１に示すものとはわずかに異なるが、凹形状であることは同様である。
【００３２】
図４（ａ）に示すように、凸形状（例えば両凸形状）を有する光学素材１００は、冷却過程において、表面の曲率が小さくなるように収縮する。そして、光学素材１００の収縮力が上型１１及び下型１２との密着力に勝って、上型１１及び下型１２の成形面１１ａ，１２ａより曲率が小さくなれば離型する。なお、図４（ａ）において、矢印Ｄ１，Ｄ２は、光学素材１００が上型１１及び下型１２から受ける力である。
【００３３】
光学素材１００が粘性流動する領域にあるなら、加圧によって成形面１１ａ，１２ａへの密着が維持され、冷えて弾性が強くなってきても、高圧がかかっていれば光学素材１００の表面の曲率が弾性変形によって成形面１１ａ，１２ａよりも小さくなるのを防ぐことができる。
【００３４】
光学素材１００は、高圧状態から急に圧力が抜かれると、弾性ひずみが一気に開放されて、図４（ｂ１）に示すように、光学素材１００は縮み上がる方向に変形し（矢印Ｄ１１〜Ｄ１４）、離型する。このときの光学素材１００は、体積一定のまま、上型１１と下型１２との間隔を広げ、表面の曲率が小さくなるように反発変形する。なお、離型するためには、上述のように光学素材１００の収縮力が上型１１及び下型１２との密着力に勝る必要はある。
【００３５】
ここで、光学素材１００は粘性も有しているため、圧力開放がゆっくりなら粘性流動（変形）できる。そのため、圧力開放がゆっくりだと、粘性流動によって、図４（ｂ２）に示すように、離型せずに上型１１と下型１２との間隔を広げる反発変形が起こるようになり（矢印Ｄ２１，Ｄ２２）、離型しない。これは、光学素材１００は、表面の曲率が小さくなるように変形しなくても（離型しなくても）、周縁部の自由面が縮径するように粘性流動して体積を一定に保てるためである。
【００３６】
次に、本第１実施形態のように周縁部１００ａとは異なる部分に最厚部１００ｂを有する光学素材１００において、図１（ｂ）の開放工程において周縁部１００ａを離型させる理由について説明する。
【００３７】
光学素材１００は、圧力をかけられ、離型しないまま温度が冷えていくと最厚部１００ｂが大きく収縮していくので、圧力開放時に、曲率が小さくなって上型１１と下型１２との間隔を広げる反発力が発生しなくなる。そのため、光学素材１００は、離型せずに温度が冷えていくと徐々に離型しなくなる。
【００３８】
したがって、最厚部１００ｂの反発力が発生できるうちに、上述のように高圧状態から急に圧力を抜いて光学素材１００の弾性ひずみを一気に開放し光学素材１００を離型させることで、ひずみを開放させておき、その後の再加圧で新たに反発力を発生させ、最厚部１００ｂの反発力を保った状態で低温（例えばひずみ点）まで冷やせるようになる。
【００３９】
なお、特に離型開始点である周縁部１００ａの上面又は底面に平坦部がある両凸形状では、光学素材１００の表面が上型１１及び下型１２の成形面１１ａ，１２ａよりも曲率が小さくなる自然収縮作用が平坦部において得られないため、離型が困難である。
【００４０】
以上説明した本第１実施形態では、光学素子の製造方法は、加熱工程と、加圧工程と、第１の冷却工程と、開放工程と、第２の冷却工程と、を含む。加熱工程では、光学素材１００が転移点より高い第１の温度まで加熱される。加圧工程では、光学素材１００を挟んで互いに対向する上型１１及び下型１２（第１の成形型及び第２の成形型の一例）により光学素材１００が加圧される。第１の冷却工程では、光学素材１００は、上型１１及び下型１２により所定の荷重で加圧されながら、ひずみ点より高く第１の温度より低い第２の温度まで冷却される。開放工程では、荷重開放時において光学素材１００の粘性変形よりも弾性変形が優先される速度として予め得られた速度以上の設定速度によって上記の所定の荷重が開放される。第２の冷却工程では、光学素材１００が第２の温度より低い第３の温度まで冷却される。
【００４１】
そのため、開放工程において光学素材１００の弾性ひずみが一気に開放されて、図４（ｂ１）に示すように光学素材１００は縮み上がる方向に変形し（矢印Ｄ１１〜Ｄ１４）、光学素材１００の収縮力が上型１１及び下型１２との密着力に勝り、例えば周縁部１００ａにおいて、離型する。
【００４２】
よって、本第１実施形態によれば、光学素材１００の離型状態をコントロールし、簡単に光学素材１００の離型を促進することができる。
【００４３】
また、本第１実施形態では、開放工程において、上記の所定の荷重を開放することによって、光学素材１００の周縁部１００ａの少なくとも一部が上型１１及び下型１２のうち少なくとも一方から離型する。そのため、周縁部１００ａにおいて光学素材１００を離型させることで、最厚部１００ｂの反発力を保った状態で低温まで冷やしても光学素材１００の全体を上型１１及び下型１２から容易に離型させることができる。したがって、光学素材１００の離型をより一層促進することができる。
【００４４】
また、本第１実施形態では、上型１１及び下型１２により形成される成形空間Ｓが、周縁部１００ａの厚さの５．９倍以上の最厚部１００ｂを有する光学素材１００（光学素子）を成形し得るものであり、開放工程において、上記の所定の荷重の開放を０．１１秒以内に完了する速度で行う。そのため、光学素材１００の弾性ひずみを一気に開放し、光学素材１００の離型をより一層促進することができる。
【００４５】
また、本第１実施形態では、開放工程において、開放直前の所定の荷重が２４［Ｎ／ｍｍ２］以上である。そのため、光学素材１００の反発力を高めた状態で光学素材１００の圧力を開放することができる。したがって、光学素材１００の離型をより一層促進することができる。
【００４６】
また、本第１実施形態では、開放工程において、上型１１の中心軸と下型１２の中心軸とが０．７分〜１．５分の範囲で傾いている場合、光学素材１００の周縁部１００ａにおける離型の作用を強めることができる。したがって、光学素材１００の離型をより一層促進することができる。
【００４７】
〔第２実施形態〕
本第２実施形態では、開放工程において、光学素材１００の周縁部１００ａのみを離型させるのではなく、光学素材１００の全体を離型させる例について説明する。また、本第２実施形態では、第１実施形態と重複する事項については適宜説明を省略し、相違する事項を中心に説明する。
【００４８】
図５は、本発明の第２実施形態に係る光学素子の製造方法を説明するための説明図である。
図５（ａ）に示すように、型セット１０内に収容された光学素材１００は、上述のように、加熱工程及び加圧工程が行われた後、上型１１及び下型１２により所定の荷重で加圧されながら、ひずみ点より高く加熱工程の第１の温度より低い第２の温度まで冷却される（第１の冷却工程）。
【００４９】
次に、図５（ｂ）に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を上昇させることで、上記の第１の冷却工程において光学素材１００が加圧される所定の荷重が開放される（開放工程）。この開放工程では、荷重開放時において光学素材１００の粘性変形よりも弾性変形が優先される速度として予め得られた速度以上の設定速度（例えば図３の条件３の９０［ｍｍ／ｓｅｃ］）によって所定の荷重が開放される。これにより、光学素材１００の例えば全体が上型１１及び下型１２のうち少なくとも一方から離型する。
【００５０】
次に、図５（ｃ）に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を下降させて上型１１の上面に当接させ例えば荷重をかけない状態で、光学素材１００が上記の第２の温度より低い第３の温度まで冷却される（第２の冷却工程）。なお、本第２実施形態における第３の温度は、ひずみ点未満である。
【００５１】
その後、製造された光学素子が型セット１０から取り出される。
以上説明した本第２実施形態では、上述の第１実施形態と同様に、開放工程では、荷重開放時において光学素材１００の粘性変形よりも弾性変形が優先される速度として予め得られた速度以上の設定速度によって上記の所定の荷重が開放される。そのため、開放工程において光学素材１００の弾性ひずみが一気に開放されて、光学素材１００の収縮力が上型１１及び下型１２との密着力に勝り、例えば全体において、光学素材１００が離型する。よって、本第２実施形態によっても、光学素材１００の離型状態をコントロールし、簡単に光学素材１００の離型を促進することができる。
【００５２】
また、本第２実施形態では、開放工程において、所定の荷重を開放することによって、光学素材１００の全体を上型１１及び下型１２のうち少なくとも一方から離型させる。そのため、全体離型を行うまで光学素材１００に上型１１及び下型１２の成形面１１ａ，１２ａからの形状転写を十分に行い、面精度が悪化するのを防ぐことができる。
【００５３】
〔第３実施形態〕
本第３実施形態では、開放工程において光学素材１００の周縁部１００ａを上型３１及び下型３２から離型させずに所定の荷重を開放する点、並びに、光学素材１００が両凹形状である点において第１実施形態と主に相違する。そのため、本第３実施形態では、第１実施形態と重複する事項については適宜説明を省略し、相違する事項を中心に説明する。
【００５４】
図６は、本発明の第３実施形態に係る光学素子の製造方法を説明するための説明図である。
図６に示す型セット３０は、光学素材１００を挟んで互いに対向する上型３１及び下型３２と、これらの周囲に配置される筒状の胴型３３とを含む。なお、上型３１及び下型３２は、第１の成形型及び第２の成形型の一例である。また、光学素材１００は例えばガラスであり、後述する各工程を経て製造される光学素子は例えばガラスレンズである。
【００５５】
上型３１には、凸形状の成形面３１ａが底面に形成されている。下型３２には、凸形状の成形面３２ａが上面に形成されている。そのため、本第３実施形態では、周縁部１００ａが最厚部１００ｂとなる両凹形状の光学素子が製造される。但し、本第３実施形態における光学素子の形状は、周縁部１００ａ以外に最薄部を有する他の形状、例えば片凹形状やメニスカス形状等であってもよい。
【００５６】
図６（ａ）に示すように、型セット３０内に収容された光学素材１００は、第１の当接部材２１及び第２の当接部材２２から上型３１及び下型３２を介しての熱伝導などによって、転移点より高い第１の温度まで加熱され、軟化する（加熱工程）。
【００５７】
次に、光学素材１００は、加圧軸２３によって第１の当接部材２１が下降することで、上型３１及び下型３２により加圧される（加圧工程）。
次に、光学素材１００は、上型３１及び下型３２により所定の荷重で加圧されながら、ひずみ点より高く上記の第１の温度より低い第２の温度まで冷却される（第１の冷却工程）。
【００５８】
次に、図６（ｂ）に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を上昇させることで、上記の第１の冷却工程において光学素材１００が加圧される所定の荷重が開放される（開放工程）。この開放工程では、荷重開放時において光学素材１００の弾性変形よりも粘性変形が優先される速度として予め得られた速度以下の設定速度によって所定の荷重が開放される。これにより、光学素材１００の周縁部１００ａを上型３１及び下型３２から離型させずに所定の荷重を開放することができる。
【００５９】
本第３実施形態では、弾性変形よりも粘性変形が優先される速度として予め得られる速度は、離型成功率が１０％以下の速度を一例として挙げることができ、上記の設定速度は、上記の予め得られる速度以下の速度、例えば図２及び図３の条件１のように離型成功率０％の速度（１５［ｍｍ／ｓｅｃ］）とすることができる。
【００６０】
ここで、弾性変形よりも粘性変形が優先される速度としては、光学素材１００が粘性流動によって、上述の図４（ｂ２）に示すように、離型せずに上型１１と下型１２との間隔を広げる反発変形（矢印Ｄ２１，Ｄ２２）が起こる速度である。
【００６１】
なお、開放工程において光学素材１００を離型させないようにするためには、開放直前の所定の荷重が第１実施形態のように２４［Ｎ／ｍｍ２］以上であると離型を促進しうるため、２４［Ｎ／ｍｍ２］未満としてもよい。
【００６２】
また、開放工程において、第１実施の形態のように上型３１の中心軸と下型３２の中心軸とが０．７分〜１．５分の範囲で傾いている場合にも離型を促進しうるため、傾きをなくすか或いは小さくしてもよい。
【００６３】
次に、図６（ｃ）に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を下降させ上型３１の上面に当接させた状態で、光学素材１００が上記の第２の温度より低い第３の温度まで冷却される（第２の冷却工程）。なお、第３の温度は、ひずみ点以上であってもひずみ点未満であってもよい。
【００６４】
次に、図６（ｄ）に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を上昇させることで、光学素材１００の例えば全体が上型３１及び下型３２から離型する。このときに加圧軸２３が第１の当接部材２１を上昇させる速度は、離型を行うことができれば、第１実施形態及び第２実施形態で述べた設定速度、すなわち粘性変形よりも弾性変形が優先される速度として予め得られる速度以上の速度である必要はない。
【００６５】
次に、図６（ｅ）に示すように、加圧軸２３が第１の当接部材２１を下降させて上型３１に当接させ、荷重がかからない状態で、光学素材１００を更に冷却してもよい。
その後、製造された光学素子が型セット１０から取り出される。
【００６６】
以上説明した本第３実施形態では、光学素子の製造方法は、加熱工程と、加圧工程と、第１の冷却工程と、開放工程と、第２の冷却工程と、を含む。加熱工程では、光学素材１００が転移点より高い第１の温度まで加熱される。加圧工程では、光学素材１００を挟んで互いに対向する上型３１及び下型３２（第１の成形型及び第２の成形型の一例）により光学素材１００が加圧される。第１の冷却工程では、光学素材１００は、上型３１及び下型３２により所定の荷重で加圧されながら、ひずみ点より高く第１の温度より低い第２の温度まで冷却される。開放工程では、荷重開放時において光学素材１００の弾性変形よりも粘性変形が優先される速度として予め得られた速度以下の設定速度によって上記の所定の荷重が開放される。第２の冷却工程では、光学素材１００が第２の温度より低い第３の温度まで冷却される。
【００６７】
そのため、開放工程において、光学素材１００は、圧力開放がゆっくりであることによって粘性流動し、図４（ｂ２）に示すように、上型１１と下型１２との間隔を広げる反発変形が起こるようになり（矢印Ｄ２１，Ｄ２２）、離型しづらくすることができる。
【００６８】
よって、本第３実施形態によれば、光学素材の離型状態をコントロールし、意図しない光学素材１００の離型を防ぐことができる。
【００６９】
また、本第３実施形態では、開放工程において、光学素材１００の周縁部１００ａを上型３１及び下型３２から離型させずに所定の荷重を開放する。そのため、意図しない光学素材１００の離型を防ぐことができる。
【符号の説明】
【００７０】
１０      型セット
１１      上型
１１ａ      成形面
１２      下型
１２ａ      成形面
１３      胴型
２１      第１の当接部材
２２      第２の当接部材
２３      加圧軸
３０      型セット
３１      上型
３１ａ      成形面
３２      下型
３２ａ      成形面
３３      胴型
１００      光学素材
１００ａ      周縁部
１００ｂ      最厚部
Ｓ      成形空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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