(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼用レンズの主面の少なくとも１つの上に、
−  少なくとも１個のシラノール基又はシラノール基前駆体を含有するフッ素化化合物から選択される、２０００ｇ／ｍｏｌ以上の数平均モル質量の成分Ａを含む組成物を堆積させることにより得られる６〜１６ｎｍの物理的厚さの少なくとも１つの第１の疎水層と、
−  少なくとも１個のシラノール基又はシラノール前駆体を含有するフッ素化化合物から選択される、９００ｇ／ｍｏｌ以下の数平均モル質量の成分Ｂを含む組成物を堆積させることにより得られる３〜２０ｎｍの範囲の物理的厚さの少なくとも１つの第２の疎水層と、
−  金属フッ化物を含む２２〜５０ｎｍの物理的厚さの少なくとも１つの一時層と、
−  任意選択で、メタロイド酸化物、メタロイド水酸化物、金属の水酸化物及び金属の酸化物の少なくとも１つを含む一時層と、
をこの順に逐次堆積させることにより得られることを特徴とする、前側主面と後側主面とを含む縁取りに適した眼用レンズ。
【請求項２】
前記第２の疎水層の物理的厚さが３〜１０ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載の眼用レンズ。
【請求項３】
前記第２の疎水層の物理的厚さが５〜８ｎｍであることを特徴とする、請求項２に記載の眼用レンズ。
【請求項４】
前記第１の疎水層の物理的厚さが６〜１５ｎｍであり、且つ金属フッ化物を含む前記一時層の物理的厚さが２４〜４０ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項５】
前記第１の疎水層の物理的厚さが８〜１２ｎｍであり、且つ金属フッ化物を含む前記一時層の物理的厚さが２５〜３８ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜４の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項６】
前記第１の疎水層及び前記第２の疎水層の全厚さが１３ｎｍ以上であることを特徴とする、請求項１〜５の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項７】
金属フッ化物を含む前記一時層の厚さが４０ｎｍ以上である場合、前記第１の疎水層及び前記第２の疎水層の全厚さが１５ｎｍ以上であることを特徴とする、請求項１〜６の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項８】
前記金属フッ化物がフッ化マグネシウムであることを特徴とする、請求項１〜７の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項９】
金属フッ化物を含む一時層上に堆積されたメタロイド酸化物、メタロイド水酸化物、金属の水酸化物及び金属の酸化物の少なくとも１つを含む前記一時層を更に含むことと、メタロイド酸化物、メタロイド水酸化物、金属の水酸化物及び金属の酸化物の少なくとも１つを含む前記一時層が酸化マグネシウム層であることとを特徴とする、請求項１〜８の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項１０】
前記成分Ａが、２０００〜１００００ｇ／ｍｏｌの数平均モル質量を有することを特徴とする、請求項１〜９の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項１１】
前記成分Ｂが、３００〜８００ｇ／ｍｏｌの数平均モル質量を有することを特徴とする、請求項１〜１０の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項１２】
前記成分Ａの１つの鎖末端のみがシラノール基又はシラノール基前駆体を含むことを特徴とする、請求項１〜１１の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項１３】
前記成分Ｂの１つの鎖末端のみがシラノール基又はシラノール基前駆体を含むことを特徴とする、請求項１〜１２の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項１４】
前記成分Ａが、式：
【化１】
0006401184.tif 000006
（式中、
−  ＲFは、１〜１６個の炭素原子を含有する直線状又は分岐状のペルフルオロアルキル鎖基を表し、
−  Ｘは、水素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であり、
−  Ｙは、水素原子又は１〜６個の炭素原子を含有する線状若しくは分岐状のアルキル基であり、
−  Ｚは、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であり、
−  Ｒ1は、加水分解性基であり、
−  Ｒ2は、水素原子又は不活性一価基であり、
−  ａ、ｂ、ｃ、及びｄは、０〜２００の整数であり、
−  ｅは、０又は１であり、
−  ｍ及びｎは、０〜２の整数であり、且つ
−  ｐは、１〜１０の整数であり、
−  ＲＦ、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｍ、ｎ、及びｐは、式（１）で示される化合物の数平均モル質量が２０００ｇ／ｍｏｌ以上になるように選択される）
で示される化合物を含むことを特徴とする、請求項１〜１３の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項１５】
前記第１の疎水層が、少なくとも４０ｗｔ％の成分Ａを含む組成物を堆積させることにより得られることを特徴とする、請求項１〜１４の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項１６】
前記第１の疎水層が、３５〜６０ｗｔ％の式（１）で示される化合物を含む組成物を堆積させることにより得られることを特徴とする、請求項１４に記載の眼用レンズ。
【請求項１７】
前記第１の疎水層及び前記第２の疎水層が蒸発により堆積されることを特徴とする、請求項１〜１６の何れか一項に記載の眼用レンズ。
【請求項１８】
少なくとも以下の工程、即ち、
１）請求項１〜１７の何れか一項に記載の眼用レンズを取得することと、
２）金属フッ化物を含む前記少なくとも１つの一時層と、メタロイド酸化物、メタロイド水酸化物、金属の酸化物及び金属の水酸化物の少なくとも１つを含む前記一時層と、を除去することと、
を実行することにより取得される眼用レンズであって、
取得した前記眼用レンズが１１７°以上の水との静的接触角を有する、眼用レンズ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防汚コーティングと防汚コーティング上に予め堆積された一時トップコートとを含む眼鏡用の眼用レンズに関する。この一時トップコートにより、このレンズは、縁取りしたり、除去後、従来の一時トップコートを含む眼用レンズから得られた眼用レンズと比較して改良された防汚性を有する眼用レンズを生成したりするのに適したものとなる。
【背景技術】
【０００２】
レンズは、前記レンズの２つの（凸及び凹）表面のジオメトリーを画成する一連の成形及び／又は表面仕上げ／研磨操作並びにその後の適切な表面処理から得られる。
【０００３】
配置されることが意図された眼鏡フレームに適したものとするのに必要な寸法がレンズに与えられるようにレンズの縁面又は外周を機械加工することである縁取り操作は、眼用レンズ上で行われる仕上げ工程の最後である。
【０００４】
縁取りは、一般的には、以上に規定されるような機械加工を行うダイヤモンド砥石及び／又は切断ヘッドを含むミルにより行われる。
【０００５】
この操作時、レンズは、軸方向に作用するブロッキング部材により保持される。
【０００６】
砥石に対するレンズの相対運動は、所望の形状を生成するように一般的にはディジタル方式で制御される。
【０００７】
明らかなように、この運動時、レンズをしっかりと保持することが必要不可欠である。
【０００８】
これを行うために、縁取り操作前にレンズがブロックされる。即ち、保持手段又はブロックがレンズの凸表面上に位置決めされる。
【０００９】
ブロッキングパッド、場合により、例えば両面感圧接着剤（ＰＳＡ）を含む自己接着パッドは、ブロックとレンズの凸表面及び／又は凹表面（好ましくは凸表面）との間に配置され、後者の場合については、本出願の残りの部分でより詳細に説明する。
【００１０】
こうして備えられたレンズは、上述の軸方向ブロッキング部材の１つ上に位置決めされ、次いで、第２の軸方向ブロッキング部材により、一般的にはエラストマーで作製されたストップを介してレンズの凹面上でチャックされる。機械加工時、接線トルクがレンズに加わるため、レンズを保持する系であれば、場合により、レンズがブロックに対して回転を起こす。
【００１１】
レンズが適正に保持されるかは、主に、保持パッドとレンズの凸表面との間の界面に良好な結合が存在するかに依存する。
【００１２】
「疎水及び／又は疎油コーティング」としても参照される防汚コーティングは、当技術分野で周知である。それは、一般的には、フルオロシラン又はフルオロシラザン、即ち、フッ素原子を含有するシラン又はシラザンから作製される。
【００１３】
最高性能の防汚コーティングは、低表面エネルギー、典型的には１４ｍＪ／ｍ2以下、好ましくは１２ｍＪ／ｍ2以下の表面エネルギーを有する。
【００１４】
この低表面エネルギーの結果、レンズは、縁取り工程時、オフアクシスにスリップする恐れがある。
【００１５】
この技術的問題は、公知である。
【００１６】
それに対処するために、防汚コーティングの性質を保持しつつ縁取り時のスリップ防止を可能にする一時コーティング（又は一時トップコート）を堆積することが提案されてきた。
【００１７】
そのような技術は、欧州特許第１３９２６１３号明細書、国際公開第２００４／１１０９４６号パンフレット、及び国際公開第２００８／０５３０２０号パンフレット等の多くの特許の主題になっている。
【００１８】
トップコートが除去された後、疎水層の性質は、たとえ全体的に良好に保存されていたとしても、時には一時層の堆積前の層のものよりも悪くなる恐れがある。特定的には、接触角は、一時層の堆積前の疎水層のものと比較して数度小さくなる恐れがある。
【００１９】
更に、耐久性（コーティングが繰返し払拭の作用下でその疎水性をどれくらい長く維持するか）が影響を受ける恐れもある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
防汚コーティングと防汚コーティング上に予め堆積された一時トップコートとを含む眼鏡用の眼用レンズを提供することは、本発明の目的の１つである。この一時トップコートにより、このレンズは、縁取りしたり、除去後、疎水層と金属フッ化物トップコート等の従来のトップコートとを含む眼用レンズと比較して改良された防汚性を有する眼用レンズを生成したりするのに適したものとなる。
【００２１】
当然ながら、この改良は、トップコートの他の性質、即ち、縁取りしたり、特に単純レンズクリーニングクロスを利用して乾式払拭により及び／又は適切な溶媒（アルコール）の存在下で容易に除去したりするのに適した眼用レンズを作製する能力に悪影響を及ぼすことなく、達成されなければならない。本発明によれば、一時金属フッ化物トップコートの堆積前に２つの特定の疎水層を逐次堆積させることにより、且つこれらの疎水層及び一時トップコートの精密に画成された厚さを用いることにより、疎水層の接触角及び耐久性は、トップコートが除去された後、従来の疎水層及びトップコートを用いた先行技術の疎水レンズと比較して実質的に改良される。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
従って、本発明は、レンズの主面の少なくとも１つ上、好ましくは前側主面上に、
−  少なくとも１個のシラノール基又はシラノール基前駆体を含有する２０００ｇ／ｍｏｌ以上、好ましくは２０００〜１００００ｇ／ｍｏｌの数平均モル質量のフッ素化化合物、好ましくは過フッ素化化合物、更により好ましくは過フッ素化ポリエーテルから選択される第１の成分Ａを含む組成物を堆積させることにより得られる６〜１６ｎｍの物理的厚さの少なくとも１つの第１の疎水層と、
−  少なくとも１個のシラノール基又はその前駆体を含有する９００ｇ／ｍｏｌ以下の数平均モル質量のフッ素化化合物、好ましくは過フッ素化化合物から選択される第２の成分Ｂを含む組成物を堆積させることにより得られる３〜２０ｎｍの物理的厚さの少なくとも１つの第２の疎水層と、
−  金属フッ化物を含む２２〜５０ｎｍの物理的厚さの少なくとも１つの一時層と、
−  任意選択で、メタロイド又は金属の水酸化物又は酸化物を含む一時層と、
をこの順に逐次堆積させることにより得られる、前側主面と後側主面とを含む縁取りに適した眼用レンズからなる。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本出願では、一時コーティングとは、眼用レンズの縁取り後に除去／抜出されることが意図されたコーティングのことである。
【００２４】
基材の「後面」（一般的には凹後面）とは、物品が使用される時、着用者の眼に最も近い面であると理解される。反対に、基材の「前面」（一般的には凸前面）とは、物品が使用される時、着用者の眼から最も遠い面であると理解される。
【００２５】
本発明者らは、第１の疎水層及び金属フッ化物層の物理的厚さが防汚層の最終性能に最も影響を及ぼすパラメーターであることを観測した。
【００２６】
それにも拘らず、第２の疎水層に対して、３〜１０ｎｍ、より良好には５〜８ｎｍの厚さが特に推奨される。
【００２７】
単独又は組合せに拘らず、本発明に係る眼用レンズの好ましい特徴は、以下の通りであるが、これらに限定されるものではない。
−  第１の疎水層の好ましい物理的厚さは、６〜１５ｎｍであり、且つ金属フッ化物を含む層の物理的厚さは、２４〜４０ｎｍであり、
−  第１の疎水層の物理的厚さは、８〜１２ｎｍであり、且つ金属フッ化物を含む層の物理的厚さは、２５〜３８ｎｍであり、
−  第１の疎水層の物理的厚さは、６〜１５ｎｍであり、且つ金属フッ化物を含む前記層の物理的厚さは、２４〜４０ｎｍであり、
−  第１の疎水層の物理的厚さは、８〜１２ｎｍ、より良好には８〜１１ｎｍであり、第２の疎水層の物理的厚さは、５〜８ｎｍであり、且つ金属フッ化物を含む層の物理的厚さは、２５〜３８ｎｍ、より良好には２８〜３３ｎｍであり、
−  第１及び第２の疎水層の全厚さは、１３ｎｍ以上であり、
−  第１及び第２の疎水層の全厚さは、金属フッ化物を含む層の厚さが４０ｎｍ以上である場合、１５ｎｍ以上であり、及び
−  酸化マグネシウム層が金属フッ化物層上に堆積される。
【００２８】
化合物Ａ及びＢは、第１及び第２の層に疎水性を付与するように選択される。
【００２９】
疎水性を有すると記された層（即ち疎水層）は、水との静的接触角が９０°以上である表面を有する層であると理解される。
【００３０】
化合物Ａは、好ましくは１４ｍＪ／ｍ2以下、より良好には１２ｍＪ／ｍ2以下の表面エネルギーを有する第１の層を生成する化合物から選択される。
【００３１】
第１の疎水層は、好ましくは少なくとも４０ｗｔ％、より良好には５０ｗｔ％、より良好には少なくとも７０ｗｔ％、最適には少なくとも８０ｗｔ％の化合物Ａを含む組成物を堆積させることにより得られる。
【００３２】
表面エネルギーは、論文：“Ｅｓｔｉｍａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｓｕｒｆａｃｅ  ｆｏｒｃｅ  ｅｎｅｒｇｙ  ｏｆ  ｐｏｌｙｍｅｒｓ”Ｏｗｅｎｓ  Ｄ．Ｋ．、Ｗｅｎｄｔ  Ｒ．Ｇ．（１９６９）、Ｊ．ＡＰＰＬ−ＰＯＬＹＭ−ＳＣＩ、１３、１７４１−１７４７に記載のオーウェンズ・ウェント法を用いて計算される。
【００３３】
第１の疎水層の水との静的接触角は、好ましくは１００°超、より良好には１１０°超、更により良好には１１５°超である。
【００３４】
成分Ａは、少なくとも１個のシラノール基又はシラノール基前駆体を含む２０００ｇ／ｍｏｌ以上、好ましくは２０００〜１０，０００ｇ／ｍｏｌ、より良好には３０００〜６０００ｇ／ｍｏｌ、最適には３０００〜５０００ｇ／ｍｏｌの数平均モル質量のフッ素化化合物、好ましくは過フッ素化化合物から選択される。
【００３５】
一般的には、本出願では、成分Ａ及び成分Ｂの両方に関して、シラノール基の前駆体基は、互いに独立して、式−Ｓｉ（Ｘ）n（式中、ｎは、１〜３の様々な整数であり、且つ基Ｘは、独立して、ヒドロキシル基の前駆体基、即ち、加水分解性基を表す）で示される加水分解性基により表され得る。
【００３６】
好ましくは、Ｘは、アルコキシ基、ＮＨ2基、又は塩素原子、好ましくはエトキシ基又はメトキシ基である。
【００３７】
好ましくは、化合物Ａの１つの鎖末端のみは、シラノール基又はシラノール基前駆体を含む。
【００３８】
好ましくは、成分Ａは、式：
【化１】
0006401184.tif 000002
（式中、
−  ＲFは、１〜１６個の炭素原子を含有する直線状又は分岐状のペルフルオロアルキル鎖基を表し、
−  Ｘは、水素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であり、
−  Ｙは、水素原子又は１〜６個の炭素原子を含有する線状若しくは分岐状のアルキル基であり、
−  Ｚは、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であり、
−  Ｒ1は、加水分解性基であり、
−  Ｒ2は、水素原子又は不活性一価基であり、
−  ａ、ｂ、ｃ、及びｄは、０〜２００の整数であり、
−  ｅは、０又は１であり、
−  ｍ及びｎは、０〜２の整数であり、且つ
−  ｐは、１〜１０の整数であり、
−  Ｒｆ、ａ、ｂ、ｃ、ｅ、ｍ、ｎ、及びｐは、式（１）で示される化合物の平均モル質量が２０００以上になるように選択される）
で示される化合物から選択される少なくとも１種の化合物を含む。
【００３９】
好ましくは、第１の疎水層は、３５〜６０ｗｔ％の式（１）で示される化合物、より良好には４０〜５５ｗｔ％の式（１）で示される化合物を含む組成物を堆積させることにより得られる。
【００４０】
より良好には、成分（１）は、好ましくは式：
【化２】
0006401184.tif 000003
（式中、
−  Ｙは、水素原子又は１〜６個の炭素原子を含有するアルキル基であり、
−  Ｒ1は、加水分解性基であり、
−  ａは、１０〜５０の整数であり、
−  ｍは、０〜２の整数であり、且つ
−  ｐは、１〜１０の整数である）
で示される化合物から選択される。
【００４１】
特に好ましい成分Ａは、ダイキン工業株式会社製のＯｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）又は同社製のＡＥＳ４を含む。
【００４２】
成分Ｂは、少なくとも１個のシラノール基又はその前駆体を含む９００以下、好ましくは３００〜８００、より良好には４００〜６００の数平均モル質量のフッ素化化合物、好ましくは過フッ素化化合物から選択される。
【００４３】
シリカ（ＳｉＯ2）表面上に５ｎｍの単層の形態で堆積させた場合、成分Ｂは、一般的には、得られる表面エネルギーが１６ｍＪ／ｍ2以下、より良好には１５ｍＪ／ｍ2以下、更により良好には１４ｍＪ／ｍ2以下である層を生成する。
【００４４】
成分Ｂは、一般的には、成分Ａよりも疎水性が低い。即ち、成分Ａから得られた単層の水との静的接触角は、成分Ｂから得られた単層のものよりも小さい。
【００４５】
好ましくは、化合物Ｂの１つの鎖末端のみは、シラノール基又はシラノール基前駆体を含む。
【００４６】
好ましい成分Ｂは、式
ＣＦ3−（ＣＦ2）7−ＣＨ2−ＣＨ2−Ｓｉ（ＮＨ2）3
で示されるシラザン化合物を含む。
【００４７】
この化合物は、Ｏｐｔｒｏｎ社からＯＦ１１０（商標）という商品名で入手可能である。
【００４８】
他の使用可能な成分Ｂは、同社製の化合物ＯＦ２１０（商標）である。
【００４９】
第１及び第２の疎水層は、ディップ塗布、スピン塗布、スプレー塗布、蒸発などの任意の周知の技術により形成され得る。好ましくは、疎水層は、真空蒸発により形成される。好ましくは、一時層もまた、真空蒸発により形成される。
【００５０】
これらの堆積操作では、成分Ａ及びＢは、そのまま使用され得るか、適切な溶媒で希釈され得るか、更には繊維状又は多孔性の材料中に組み込まれ得る。
【００５１】
成分Ａ及びＢの希釈に好適な溶媒の中では、フルオロ修飾脂肪族炭化水素（例えば、ペルフルオロヘプタン及びペルフルオロオクタン）、フルオロ修飾芳香族炭化水素（例えば、キシレンヘキサフルオリド及びベンゼントリフルオリド）、フルオロ修飾エーテル（例えば、メチルペルフルオロブチルエーテル及びペルフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）、フルオロ修飾アルキルアミン（例えば、ペルフルオロトリブチルアミン及びペルフルオロトリペンチルアミン）、炭化水素（例えば、石油ベンゼン、ミネラルスピリット、トルエン、及びキシレン）、並びにケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、及びメチルイソブチルケトン）が挙げられ得る。
【００５２】
一時層は、金属フッ化物又は金属フッ化物の混合物を含む層である。
【００５３】
金属フッ化物の例としては、フッ化マグネシウムＭｇＦ2、フッ化ランタンＬａＦ3、フッ化アルミニウムＡｌＦ3、又はフッ化セリウムＣｅＦ3が挙げられ得る。好ましくはフッ化マグネシウムが使用されるであろう。
【００５４】
上述したように、金属フッ化物の第１の層の厚さは、２２〜５０ｎｍ、より良好には２４〜４０ｎｍ、更により良好には２５〜３８ｎｍの範囲である。
【００５５】
任意選択の金属酸化物及び／又は金属水酸化物の層は、本発明に係るレンズ上に堆積され得る。
【００５６】
ＭｇＯ層は、
−  １〜３ｎｍの粒子サイズを有するＭｇＯ顆粒（参照：ＣＥＲＡＣ製のＭ−１１３１）、
−  ３〜６ｎｍの粒子サイズを有するＭｇＯ顆粒（参照：ＵＭＩＣＯＲＥ製のＭ−２０１３）、及び
−  ＭｇＯ粒子（参照：ＵＭＩＣＯＲＥにより販売されている０４８１２６３）、
の蒸発から生成され得る。
【００５７】
ＡＬＤＲＩＣＨ製のＭｇ（ＯＨ）2が堆積され得る。
【００５８】
金属酸化物及び／又はメタロイド水酸化物若しくは金属水酸化物の層は、一般的には厚さが薄く、一般的には１０ｎｍ未満、好ましくは１〜５ｎｍの厚さである。
【００５９】
本発明の好ましい一実施形態では、眼用レンズは、基材の主表面と本発明に係る層との間に挟置された反射防止コーティングを含み、第１の疎水層は、反射防止コーティングの外表面上に直接堆積される。この場合も、好ましくは、反射防止コーティングの外表面は、酸化ケイ素層、好ましくはＳｉＯ2層又はＳｉＯ2含有層の外表面である。
【００６０】
他の好ましい実施形態では、光学物品は、反射防止コーティングの下に耐摩耗及び／又は耐引掻きコーティング、並びに任意選択で耐摩耗及び／又は耐引掻きコーティングと基材との間に耐衝撃プライマーコーティングを含む。本出願では、「光透明基材」という表現は、この基材が裸であるか、防汚コーティング以外の１つ以上の従来の機能コーティングで被覆されているかに拘らず、眼光学の分野で従来から使用されている任意の基材を包含する。コーティング又は層の外表面が参照される場合に意味するのは、基材の主表面から最も離れたコーティング又は層の表面である。一般的には、本発明に係る光学物品の基材は、任意の基材であり得るが、好ましくは、例えば熱可塑性又は熱硬化性の有機ガラスで作製された基材である。
【００６１】
基材に好適な熱可塑性物質に関しては、（メタ）アクリル（コ）ポリマー、特にポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、チオ（メタ）アクリル（コ）ポリマー、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリウレタン（ＰＵ）、ポリチオウレタン、ポリオール（アリルカーボネート）（コ）ポリマー、熱可塑性エチレン／ビニルアセテートコポリマー、ポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又はポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエピスルフィド、ポリエポキシド、ポリカーボネート／ポリエステルコポリマー、環状オレフィンコポリマー、例えばエチレン／ノルボルネン又はエチレン／シクロペンタジエンコポリマー、及びそれらのブレンドが挙げられ得る。
【００６２】
「（コ）ポリマー」という用語は、コポリマー又はポリマーを意味するものと理解される。「（メタ）アクリレート」という用語は、アクリレート又はメタクリレートを意味するものと理解される。
【００６３】
本発明に係る好ましい基材に関しては、アルキルメタクリレート、特にＣ1〜Ｃ4アルキルメタクリレート、例えばメチルメタクリレート及びエチルメタクリレート、ポリエトキシル化芳香族メタクリレート、例えばポリエトキシル化ビスフェノールジメタクリレート、アリル誘導体、例えば線状又は分岐状の脂肪族又は芳香族のポリオールアリルカーボネート、チオメタクリレート、エピスルフィド、並びにポリチオール／ポリイソシアネート前駆体混合物（ポリチオウレタンを得るため）を重合することにより得られる基材が挙げられ得る。
【００６４】
「ポリカーボネート（ＰＣ）」という用語は、本発明との関連では、ホモポリカーボネート及びコポリカーボネート及び配列コポリカーボネートの何れをも意味すると理解される。ポリカーボネートは、例えば、ＬＥＸＡＮ（登録商標）という商品名でＧＥＮＥＲＡＬ  ＥＬＥＣＴＲＩＣ  ＣＯＭＰＡＮＹから、ＰＡＮＬＩＴＥ（登録商標）という商品名で帝人株式会社から、ＢＡＹＢＬＥＮＤ（登録商標）という商品名でＢＡＹＥＲから、ＭＡＫＲＯＬＯＮ（登録商標）という商品名でＭＯＢＡＹ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  Ｃｏｒｐ．から、及びＣＡＬＩＢＲＥ（登録商標）という商品名でＤＯＷ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  Ｃｏ．から市販されている。
【００６５】
眼用レンズを縁取りした後、一時トップコート並びに任意選択のメタロイド又は金属の水酸化物及び／又は酸化物の一時層は、任意の適切な手段により、例えば、液体媒体中で及び／又は機械的作用により、好ましくは、単純レンズクリーニングクロスを利用して乾式払拭することにより及び／又は適切な溶媒（アルコール）の存在下で、除去され得る。
【００６６】
本発明はまた、金属フッ化物層と、存在する場合には、メタロイド又は金属の水酸化物及び／又は酸化物を含む層と、を除去した後に得られる眼用レンズに関する。このレンズは、好ましくは、１１７°以上の水との静的接触角を有する。
【００６７】
以下の実施例は、本発明を例示するものであり、これらに限定されるものではない。実施例では、特に指定がない限り、パーセント及び割合はすべて、重量基準で表される。厚さ、特に疎水層の厚さは、物理的厚さである。
【実施例】
【００６８】
Ｂａｌｚｅｒｓ社製のＢＡＫ７６０真空堆積機で堆積を行った。前記機械は、イオン銃、電子銃、及び抵抗加熱式熱蒸発器を備えている。
【００６９】
眼用レンズは、−２．００ディオプターの度数及び２．１ｍｍの中心厚さを有するＯｒｍａ（登録商標）レンズであった。
【００７０】
各眼用レンズは、欧州特許第６１４９５７号明細書の実施例３に記載されるような耐摩耗コーティングと、ＺｒＯ2／ＳｉＯ2／ＺｒＯ2／ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）／ＳｉＯ2多層反射防止コーティングと、を含んでいた。
【００７１】
以下に記載の一般的手順では、Ｏｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）（供給業者：ダイキン工業株式会社）の層を反射防止コーティングの最終シリカ層上に直接堆積させ、次いで、ＯＦ２１０（商標）（供給業者：Ｏｐｔｒｏｎ）の層を堆積させ、次いで、二次真空（＜１０-3ｍｂａｒ）下でＭｇＦ2及びＭｇＯの層を堆積させた。
【００７２】
１．第１の疎水層（ＤＳＸ（商標）コート）の堆積
銅ボート中に配置されたＤＳＸ（商標）を抵抗加熱により蒸発させた。０．３３ｎｍ／ｓ未満の堆積速度で堆積を行った。
【００７３】
２．第２の疎水層（ＯＦ２１０（商標））の堆積
電子銃を用いた蒸発により、この層を堆積させた。
【００７４】
Ｏｐｔｒｏｎにより供給されたＯＦ２１０（商標）で含浸されたスチールウールを含有する銅ボートを使用した。ＯＦ２１０（商標）ボートを坩堝のキャビティー内に配置した。このボート上にＳａｔｉｓ社から入手した有孔カバーを配置した。電子束により加熱されたカバー自体により、熱伝導を介して銅ボートを加熱した。こうして形成された「オーブン」内の温度をＯＦ２１０が蒸発するまで上昇させた。
【００７５】
堆積速度は、０．２ｎｍ／ｓ未満であった。
【００７６】
３．ＭｇＦ2層及びＭｇＯ層の堆積：
これらの材料を電子銃により蒸発させた。
【００７７】
３．１−ＭｇＦ2層の堆積：
蒸発材料は、ＭＥＲＣＫにより販売されている１〜２．５ｎｍの粒子サイズの式ＭｇＦ2で示される化合物であった。ＭｇＦ2に関しては、堆積速度を約０．７５ｎｍ／ｓに調整した。
【００７８】
３．２−次いでＭｇＯを蒸発によりＭｇＦ2層上に直接堆積させた。
電子銃を用いて２ｎｍの厚さのＭｇＯ層をＭｇＦ2層上に直接真空蒸発させた（ＵＭＩＣＯＲＥ製のＭｇＯペレット（参照０４８１２６３）から）。
【００７９】
Ｏｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）、ＯＦ２１０（商標）、及びＭｇＦ2の厚さを変化させて（ＭｇＯの厚さを２ｎｍで一定に維持する）、以上に記載されるような一般的プロセスを用いてレンズを作製した。
【００８０】
本発明に係るものとは異なる厚さを有する比較例に対応するレンズもまた、作製し、先行技術の例として、第２の疎水層無し（ＯＦ２１０（商標）無し）のレンズを作製した。
【００８１】
次いで、これらのレンズをデブロッキング試験、トップコート除去試験、及び接触角測定試験に付した。
【００８２】
得られた結果はすべて、表２にまとめて列挙されている。
【００８３】
堆積層の厚さの測定
蒸発デバイス中にプログラムされた厚さの値は、実際に堆積されたものとは異なっていた。従って、疎水単層、金属フッ化物単層、及びメタロイド又は金属の水酸化物又は酸化物の単層に必要とされる物理的厚さを堆積すべく適用する必要のある蒸発条件を決定した。エリプソメーターを用いて厚さを測定した。
【００８４】
Ｗｏｏｌｌａｍ  ＶＢ−４００  ＶＡＳＥ分光エリプソメーターを用いる技術
この技術は、疎水層に関して説明されるが、薄い厚さ、好ましくは２５〜３０ｎｍ以下、より良好には（＜約１０〜１５ｎｍ）の厚さの任意の層に適用される。イオンプレクリーニング（ＩＰＣ）処理（６０秒間１Ａ−１００Ｖ）が施されたシリコンディスク上に疎水単層を堆積させた。シリコンディスク上に堆積された厚さを測定した。疎水層の屈折率は、約１．３６であった。層は、２ｎｍの天然ＳｉＯ2酸化物上に堆積されたと仮定された。また、波長λに対する層の屈折率にコーシーモデル：ｎ＝ａ＋ｂ／λ＋ｃ／λ2を使用した。典型的には、疎水フッ素化層では、ａ＝１．３６、ｂ＝０．００３、及びｃ＝０。この方法は、次いで、３００〜８００ｎｍの７５°入射でΨ及びΔを測定して、ｔａｎ（Ψ）及びｃｏｓ（Δ）を用いて理論シミュレーションとサンプルの実際の測定との間で良好な当てはめ（曲線の最良の重なり）が得られるように値（入射角及び層の厚さ）を計算により調整することであった。調整時に得られた角度の値が７５°近傍（７５°±０．５°）であった場合、厚さ測定を確認した。
【００８５】
この方法を用いて他の層、特にＭｇＯ層の厚さを測定するために、ａの値を対象の材料に対応する値（当技術分野で公知）に置き換えなければならない。
【００８６】
より厚い層、特にＭｇＦ2層に関しては、Ｗｏｏｌａｍ  ＶＢ−４００  ＶＡＳＥエリプソメーターを用いて従来の厚さ測定を行った（３つの入射角：６５°、７０°、及び７５°で測定）。
【００８７】
コーシーパラメーター及び厚さを変化させることにより調整を行った。計算の出発点は、ａ（材料に依存する）、ｂ＝０．００３、及びｃ＝０、並びに厚さの評価値であった（典型的にはＭｇＦ2ではａ＝１．３８）。
【００８８】
デブロッキング（又は縁取り）試験
この試験では、眼用レンズが縁取り試験に首尾よく合格する能力をスコア付けすることが可能である。
【００８９】
試験の説明：
１）パッドをブロックの中心に配置して、３Ｍ（両面接着剤）接着パッド（直径２４ｍｍの３Ｍ／Ｅｓｓｉｌｏｒパッド、参照ＧＡＭ２００）をミリングブロック（直径２４ｍｍのブロック、参照ＧＡＭ２０２）に接着結合させ、
２）接着剤に触れないように注意しながら、保護フィルムをパッドから除去し、
３）ブロック＋パッドアセンブリを試験レンズの凸表面の中心に接着結合させ、そして
４）レンズをフリップした。パッドの外周上に連続接着のリングが得られなければならない。このリングの存在により、レンズへのパッドの効果的結合を保証した。
【００９０】
次いで、一定数の作用を適用した。
【００９１】
【表１】
0006401184.tif 000004
【００９２】
作用は、漸進的であり、且つ常にこの順に行われなければならない。
【００９３】
種々の作用を行い、且つもしあれば「０．２５ポイント」の引き算を行った後、最終スコアが得られる。
【００９４】
参照として、縁取りを容易にするためのトップコートを含む市販のＣｒｉｚａｌ（登録商標）Ａｌｉｚｅ（登録商標）Ｅｓｓｉｌｏｒレンズでは、以上の試験で５／５のスコアが得られる。
【００９５】
スコアが得られたら、結果をグループ化して以下のように再分類する。
５：＋＋＋
４〜５未満：＋＋
３〜４未満：＋
２〜３未満：−
２未満：Ｘ（不合格）
【００９６】
トップコートの除去の容易性の試験：
１（非常に困難）〜５（容易）のスコア。
【００９７】
トップコートを有するレンズの縁面を一方の手の親指と人差し指の間に保持し、他方の手の親指で圧力を加えながら、乾燥Ｓｅｌｗｉｔｈ（商標）クロスでレンズの表面を払拭した。（１回の払拭は、ワンパスに対応する）。
【００９８】
各パス後、レンズの反射色をネオン灯下で目視検査した。
【００９９】
緑色の反射は、トップコートが除去されたことを示唆した。
【０１００】
反射に青色が残っている間は、トップコートが依然として存在したか、又は部分的に存在した。
【０１０１】
トップコートの除去に必要なパスの数を記録して、最初のスコアを与えた。
１：非常に困難（５パス以上）
２：４パス
３：３パス（Ｃｒｉｚａｌ（登録商標）Ａｌｉｚｅ（登録商標）システムよりも困難）
４：２パス（Ａｚｕｒよりも少し困難）
５：１パス（市販のＣｒｉｚａｌ（登録商標）Ａｌｉｚｅ（登録商標）レンズはこのレベルに対応する）
【０１０２】
次いで、新しい分類を適用した（カテゴリーに従って）。
除去の容易性
５：＋＋＋
４〜５未満：＋＋
３〜４未満：＋
３未満：Ｘ（不合格）
【０１０３】
水との静的接触角の測定
一時層（ＭｇＦ2／ＭｇＯ）の除去後、水との静的接触角を測定した。
【０１０４】
処理の疎水性能の評価を目的として、フラットな又は湾曲したガラスの表面上に堆積された水ドロップレットの接触角の画像の自動取得及び解析により、測定を行った。
【０１０５】
Ｗｉｎｄｏｗｓ（登録商標）ＰＣに接続されたＫｒｕｓｓ  ＤＳＡ１００（液滴形状解析システム）装置で測定を行った。
【０１０６】
形成されたドロップレットの体積は、４マイクロリットルであった。
【０１０７】
水の伝導率は、２５℃で０．３μＳ〜１μＳに含まれていた。
【０１０８】
部屋の温度は、２３±５℃に維持された。
【０１０９】
結果は、以下の表２に示される。
【０１１０】
【表２】
0006401184.tif 000005
【０１１１】
本発明に係る実施例は、デブロッキング試験で＋のスコア、及び除去の容易性試験で＋〜＋＋のスコアを得ることが可能であった一方、それと同時に、一時層の除去後に測定される水との静的接触角が少なくとも１１７°であった。
【０１１２】
この接触角値は、比較例５及び６でＯｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）層を用いて得られた接触角と比較して実質的な改良を表す。
【０１１３】
比較例３に関して、１８．９ｎｍのＭｇＦ2厚さでは、デブロッキング試験で不合格となり、且つＭｇＦ2の層の厚さを５２．５ｎｍに増加させると（比較例４）、驚くべきことに、所要の接着レベル及び所要の耐払拭性の両方が得られなくなることが、注目に値するであろう。後者の性質は、最終ユーザーに非常に重要である。
【０１１４】
本発明の効果は、特定のＯｐｔｏｏｌ  ＤＳＸ（商標）、ＯＦ２１０（商標）、及びＭｇＦ2の厚さ値で得られることは明らかであろう。