(57)【要約】【課題】スループット処理速度及び空間的設置面積が改善されたスタンドアローン型の設備を提供する。【解決手段】磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を堆積するための設備は、潤滑剤塗膜を堆積対象の磁気ハードディスクを搬送するカセットが９０度回転させられる真空ロードロック及び真空アンロードロックとを備える。処理モジュールにおいて、複数の磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜が同時に堆積される。磁気ハードディスクを搬送する複数のカセットが、ロードロック及びアンロードロックに同時に配置される。磁気ハードディスクを搬送する複数のカセットが、真空ロードロックと潤滑剤塗膜を堆積するためのモジュールとの間のバッファ領域に同時に配置される。【選択図】図１
2010525500.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カセット内に装填可能な磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を堆積するための設備であって、
カセットを、（ａ）真空ロードロックと、（ｂ）真空アンロードロックと、（ｃ）磁気ハードディスクに蒸気潤滑剤を堆積するための真空処理モジュールと、を含む搬送路上で搬送するための手段を備え、
前記真空処理モジュールは、堆積した蒸気潤滑剤によって磁気ハードディスク上に潤滑剤塗膜を形成し、かつ、前記真空ロードロックと前記真空アンロードロックとの間に配置されており、
前記設備は、平面視で略Ｕ字状の形状を有し、平行な第一及び第二の脚部を備え、
前記第一及び第二の脚部は、該第一及び第二の脚部に対して直角の基部によって互いに接続され、
前記第一の脚部は、前記ロードロックを備え、
前記第二の脚部は、前記アンロードロックを備え、
前記基部は、前記処理モジュールを備え、
前記搬送路は、少なくとも一度カセットを略９０度回転させ、これによってカセットの長手軸を前記第一及び第二の脚部の一方の長手軸と一致した状態から、前記基部の長手方向と一致した状態へと回転させる、
ことを特徴とする設備。
【請求項２】
前記真空ロードロックまたは前記真空アンロードロックの少なくとも一方が、前記搬送路のカセットを９０度回転させる部分を構成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の設備。
【請求項３】
前記ロードロックは、該ロードロックの入口領域及び出口領域にそれぞれ配置された第一及び第二のバルブを備え、
前記アンロードロックは、該アンロードロックの入口領域及び出口領域にそれぞれ配置された第三及び第四のバルブを備え、
前記ロードロックは、前記第一及び第二のバルブの間で複数のカセットを同時に搭載可能であり、
前記アンロードロックは、前記第三及び第四のバルブの間で複数のカセットを同時に搭載可能である、
ことを特徴とする請求項２に記載の設備。
【請求項４】
前記搬送路は、複数のカセットに初めに装填された複数の磁気ハードディスクに同時に蒸気潤滑剤を堆積する複数の処理モジュールを備える、
ことを特徴とする請求項３に記載の設備。
【請求項５】
前記搬送路は、前記ロードロックの前記第二のバルブと第一の処理モジュールとの間に複数のバッファモジュールを備え、
前記複数のバッファモジュールは、複数のカセットを同時に搭載可能である、
ことを特徴とする請求項４に記載の設備。
【請求項６】
前記ロードロック及び前記アンロードロックの両方が、カセットを９０度回転させる、
ことを特徴とする請求項２に記載の設備。
【請求項７】
前記ロードロックが、カセットを９０度回転させる、
ことを特徴とする請求項２に記載の設備。
【請求項８】
前記アンロードロックが、カセットを９０度回転させる、
ことを特徴とする請求項２に記載の設備。
【請求項９】
前記ロードロックは、該ロードロックの入口領域及び出口領域にそれぞれ配置された第一及び第二のバルブを備え、
前記搬送路は、前記ロードロックの前記第二のバルブと前記処理モジュールとの間に複数のバッファモジュールをさらに備え、
前記複数のバッファモジュールは、複数のカセットを同時に搭載可能である、
ことを特徴とする請求項１に記載の設備。
【請求項１０】
前記搬送路は、複数のカセットに初めに装填された複数の磁気ハードディスクに同時に蒸気潤滑剤を堆積する複数の処理モジュールを備える、
ことを特徴とする請求項１に記載の設備。
【請求項１１】
カセット内に装填可能な磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を堆積するための設備であって、
カセットを、（ａ）真空ロードロックと、（ｂ）真空アンロードロックと、（ｃ）複数のカセットに装填された複数の磁気ハードディスクに略同時に蒸気潤滑剤を堆積する複数の真空処理モジュールと、を含む搬送路上で搬送するための手段を備え、
前記複数の処理モジュールは、堆積した蒸気潤滑剤によって磁気ハードディスク上に潤滑剤塗膜を形成し、かつ、前記ロードロックと前記アンロードロックとの間に配置されている、
ことを特徴とする設備。
【請求項１２】
カセット内に装填可能な磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を堆積するための設備であって、
カセットを、（ａ）真空ロードロックと、（ｂ）真空アンロードロックと、（ｃ）磁気ハードディスクに蒸気潤滑剤を堆積するための真空処理モジュールと、を含む搬送路上で搬送するための手段を備え、
前記処理モジュールは、堆積した蒸気潤滑剤によって磁気ハードディスク上に潤滑剤塗膜を形成し、かつ、前記ロードロックと前記アンロードロックとの間に配置されており、
前記ロードロックは、該ロードロックの入口領域及び出口領域にそれぞれ配置された第一及び第二のバルブを備え、
前記アンロードロックは、該アンロードロックの入口領域及び出口領域にそれぞれ配置された第三及び第四のバルブを備え、
前記ロードロック及び前記アンロードロックの少なくとも一方は、前記バルブ間で複数のカセットを同時に搭載可能であり、
前記ロードロック及び前記アンロードロックの少なくとも一方は、カセットの長手軸を、該ロードロックの長手軸と一致する状態から、前記処理モジュールの長手軸と一致する状態へと回転させる、
ことを特徴とする設備。
【請求項１３】
前記ロードロック及び前記アンロードロックの両方が、前記バルブ間で複数のカセットを同時に搭載可能である、
ことを特徴とする請求項１２に記載の設備。
【請求項１４】
前記ロードロックが、前記第一及び第二のバルブ間で複数のカセットを同時に搭載可能である、
ことを特徴とする請求項１２に記載の設備。
【請求項１５】
前記アンロードロックが、前記第三及び第四のバルブ間で複数のカセットを同時に搭載可能である、
ことを特徴とする請求項１２に記載の設備。
【請求項１６】
前記搬送路が、さらに、前記ロードロックの出口領域と前記処理モジュールとの間にバッファ領域を備え、
前記バッファ領域が、複数のカセットを同時に配置可能である、
ことを特徴とする請求項１２に記載の設備。
【請求項１７】
カセット内に装填可能な磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を堆積するための設備であって、
カセットを、（ａ）真空ロードロックと、（ｂ）真空アンロードロックと、（ｃ）磁気ハードディスクに蒸気潤滑剤を堆積するための真空処理モジュールと、（ｄ）バッファ領域と、を含む搬送路上で搬送するための手段を備え、
前記処理モジュールは、堆積した蒸気潤滑剤によって磁気ハードディスク上に潤滑剤塗膜を形成し、かつ、前記ロードロックと前記アンロードロックとの間に配置されており、
前記ロードロックは、該ロードロックの入口領域及び出口領域にそれぞれ配置された第一及び第二のバルブを備え、
前記アンロードロックは、該アンロードロックの入口領域及び出口領域にそれぞれ配置された第三及び第四のバルブを備え、
前記バッファ領域は、前記ロードロックの出口領域と前記処理モジュールとの間に配置され、かつ、複数のカセットを同時に配置可能である、
ことを特徴とする設備。
【請求項１８】
前記バッファ領域は、二つ以下のカセットを同時に配置可能であり、
前記ロードロックは、該ロードロックの入口領域及び出口領域にそれぞれ配置された第一及び第二のバルブを備え、
前記アンロードロックは、該アンロードロックの入口領域及び出口領域にそれぞれ配置された第三及び第四のバルブを備え、
前記ロードロックは、前記第一及び第二のバルブの間で二つ以下のカセットを同時に搭載可能であり、
前記アンロードロックは、前記第三及び第四のバルブの間で二つ以下のカセットを同時に搭載可能であり、
前記真空ロードロック及び前記真空アンロードロックは、カセットを９０度回転させ、
前記設備は、二つ以下の磁気ハードディスクに同時に蒸気潤滑剤を堆積する二つ以下の処理モジュールを備える、
ことを特徴とする請求項１７に記載の設備。
【請求項１９】
前記設備は、平面視で略Ｕ字状の形状を有し、平行な第一及び第二の脚部を備え、
前記第一及び第二の脚部は、該第一及び第二の脚部に対して直角の基部によって互いに接続され、
前記第一の脚部は、前記ロードロックを備え、
前記第二の脚部は、前記アンロードロックを備え、
前記基部は、前記バッファ領域と二つの前記処理モジュールとを備え、
前記第一及び第二の脚部の間の空間と、該第一及び第二の脚部の長さとは、Ｕ字形状内に操作者領域を形成するのに十分であり、
前記操作者領域は、操作者に、（ａ）前記基部から離間した前記第一の脚部の端部の近傍において、磁気ハードディスクが装填されたカセットを運搬装置に搭載すること、及び（ｂ）前記基部から離間した前記第二の脚部の端部の近傍において、前記処理モジュールによって潤滑剤膜が塗膜された磁気ハードディスクが装填されたカセットを前記運搬装置から取り出すこと、を許容する、
ことを特徴とする請求項１８に記載の設備。
【請求項２０】
前記第一及び第二の脚部は、略同一の長さを有する、
ことを特徴とする請求項１９に記載の設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主に、磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を堆積するための設備に関し、より詳細には、蒸気から得られる潤滑剤塗膜を塗布すべき磁気ハードディスクを搬送するカセットが横断する搬送路を含む設備であって、かかる搬送路が９０度のターンテーブルを少なくとも一つ含んでいる設備に関する。また、本発明は、磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を堆積するための設備であって、真空状態で複数の磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を略同時に堆積するための手段を含む設備に関する。さらに、本発明は、磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を真空堆積するための設備であって、磁気ハードディスクを搬送する複数のカセットが、同時に真空ロードロック及び／またはアンロードロックに配置される設備に関する。さらにまた、本発明は、磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を真空堆積するための設備であって、磁気ハードディスクを搬送する複数のカセットが、真空ロードロックと、磁気ハードディスクに蒸気潤滑剤塗膜を真空堆積するためのモジュールとの間のバッファ領域に同時に配置される設備に関する。さらに加えて、本発明は、磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を堆積するための設備であって、上述した特徴を組み合わせた設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヒューズらの特許文献１（参照としてその内容を本明細書に取り込む）は、蒸気の（すなわち、ガスの）潤滑剤を、真空状態で磁気ハードディスクの磁気層に塗布することにより、潤滑剤膜を磁気ハードディスクに塗膜する設備を開示する。特許文献２によれば、潤滑剤は、ぺルフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）からなると好ましい。磁気ハードディスクは、ロードロックを介して真空環境へ搬入及びアンロードブロックを介して真空環境から搬出されるカセットに装填される。真空環境は、単一の処理チャンバを含み、この処理チャンバ内では、単一の磁気ハードディスクに蒸気潤滑剤が塗布される。一の処理インターバルで、磁気ハードディスクはその両面が塗膜される。単一の処理チャンバは、リフトブレードを備え、このリフトブレードは、磁気ハードディスクを、カセットから、潤滑剤蒸気にさらされる処理チャンバの一部へと持ち上げる。塗膜処理が完了した後、リフトブレードは、磁気ハードディスクを元のカセットへと戻す。単一の磁気ハードディスクに蒸気潤滑剤を塗布する単一の処理チャンバは、１２ステーション式のカルーセルスパッタリングツールの下流に位置する。所定のカセット内の全ての磁気ハードディスクに潤滑剤が塗膜された後、カセットがアンロードゲートを介してアンロードロックへと運ばれ、処理が完了する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第６１８３８３１号明細書
【特許文献２】米国特許第５７７６５７７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ヒューズらの特許文献１に開示された手段は、十分に機能するものであるが、改良の余地がある。ヒューズらの特許文献１に開示された設備のスループット処理速度及び空間的設置面積は、増減させることができる。さらに、場合によっては、磁気ハードディスクに潤滑剤膜を堆積するための設備は、磁気ハードディスクを完成させるための設備の残りの部分とは別のスタンドアローン型であることが望ましいこともある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は複数の観点からなされたものであり、いずれも、カセットに装填可能な時期ハードディスクに、潤滑剤塗膜を堆積するための設備に関する。この設備は、カセットを、真空ロードロックと真空アンロードロックとを含む搬送路上で搬送するための手段を備える。この搬送路は、また、真空ロードロックと真空アンロードロックとの間に配置され、磁気ハードディスクに蒸気潤滑剤を堆積する真空処理モジュールを含む。堆積した蒸気潤滑剤によって磁気ハードディスク上に潤滑剤塗膜が形成される。
【０００６】
本発明の一の観点によれば、搬送路は、少なくとも一回、好ましくは二回、カセットを略９０度回転させる。好ましくは、設備の占有面積を小さくできるようにするため、真空ロードロックと真空アンロードロックとの両方が、カセットを略９０度回転させる。なお、ロードロックまたはアンロードロックのいずれか一方のみがそのような構成を有するものであってもよいし、搬送路のどこかに回転手段を設けた構成であってもよい。
【０００７】
本発明の別の観点によれば、搬送路は、複数のカセットに初めに装填されていた複数の磁気ハードディスクに、蒸気潤滑剤を略同時に堆積する複数の処理モジュールを含む。複数の磁気ハードディスクに略同時に潤滑剤を堆積することにより、スループット処理速度が比較的高くなる。
【０００８】
本発明の更なる観点によれば、ロードロック及びアンロードロックの少なくとも一方が、入口領域と出口領域との間に複数のカセットを同時に配置可能に構成されている。好ましくは、スループット処理速度を向上させることができるように、ロードロック及びアンロードロックの両方が、入口領域と出口領域との間に複数のカセットを同時に配置可能に構成されている。なお、いずれか一方のみがそのような構成であっても差し支えないことは明らかである。
【０００９】
本発明の更に別の観点によれば、搬送路は、ロードロックの出口領域と、処理モジュールとの間にバッファ領域を備える。このバッファ領域には、複数のカセットを同時に配置可能である。バッファ領域に複数のカセットを同時に配置可能なので、スループット処理速度が向上する。
【００１０】
好ましくは、高いスループットと小さな占有面積を得るために、前記設備においては、バッファ領域には、二つ以下のカセットを同時に配置可能であり、ロードロックは、その入口領域と出口領域とにそれぞれ配置された第一及び第二のバルブを備え、アンロードロックは、その入口領域と出口領域とにそれぞれ配置された第三及び第四のバルブを備える。ロードロックは、二つのカセットを第一及び第二のバルブの間で同時に搭載可能であり、アンロードロックは、二つのカセットを第三及び第四のバルブの間で同時に搭載可能である。真空ロードロック及び真空アンロードロックは、カセットを、略９０度回転させる。設備は、さらに、二つの磁気ハードディスクに同時に蒸気潤滑剤を堆積する二つの処理モジュールを備える。
【００１１】
設備を平面視で略Ｕ字状に形成することにより、非常に小さな占有面積とすることができ、かかるＵ字形状は、平行で、略同一の長さを有する第一及び第二の脚部を備え、この第一及び第二の脚部は、第一及び第二の平行な脚部に直角な基部によって互いに接続される。第一及び第二の脚部は、それぞれ、ロードロック及びアンロードロックを備え、基部は、バッファ領域と二つの処理モジュールを備える。第一及び第二の脚部間の空間と、第一及び第二の脚部の長さは、Ｕ字形状内に操作者領域を形成するのに十分であり、この操作者領域は、操作者に、（ａ）メンテナンスのため、基部に配置された処理モジュールの近傍に到達すること、（ｂ）基部から離間した第一の脚部の端部の近傍において、磁気ハードディスクが装填されたカセットを運搬装置に搭載すること、（ｃ）基部から離間した第二の脚部の端部の近傍において、処理モジュールにおいて潤滑剤塗膜が堆積された磁気ハードディスクが装填されたカセットを運搬装置から取り出すこと、を許容する。
【００１２】
上述した本発明の目的、さらなる目的、特徴、及び利点は、添付の図面とともに下記の発明を実施するための形態を考慮することにより明らかになる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、スループット処理速度及び空間的設置面積が改善されたスタンドアローン型の設備が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の好適な実施形態に係るスタンドアローン型の設備であって、この設備内の搬送路を搬送されたカセット内の磁気ハードディスクに蒸気潤滑剤を堆積するための設備を示す図である。
【図２】図１の設備の平面図であって、ロードロック、アンロードロック、及びバッファモジュール上のカバーを外した状態を示す図である。
【図３】図２示す設備内のロードロック及びアンロードロックを示す斜視図である。
【図４】図３に示す構成の分解図である。
【図５】図３に示す構成の一部を示す斜視図である。
【図６】図５に示す構成の分解図である。
【図７】図２に示すバッファモジュールの一部を示す斜視図である。
【図８】図７に示す構成の分解図である。
【図９】図１及び図２に示す処理モジュールを示す斜視図である。
【図１０】図９に示す構成の分解図である。
【図１１】図９及び図１０に示す、いずれか一方の処理モジュールの搬送部を示す斜視図である。
【図１２】図１１に示す構成の分解図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１及び図２に示すように、独立の装置１００は、カセット１０２等のカセット内の磁気ハードディスクに潤滑剤塗膜を蒸気堆積するためのものであり、運搬装置１２６上に配置される。この運搬装置１２６は、カセット１０２を検出すると、カセット１０２を、設備１１０の平行な脚部のいずれか一方へと搬送する。キャビネット１０４は、運搬装置１２６用の制御部を収容し、設備１００の平坦性を確保するために高さを調整可能な足１０６と、キャビネット及び設備の移動を容易にするキャスタ１０８とを備える。
【００１６】
図２で平面視するように、設備１００は、略Ｕ字状の形状を有し、基部１１４によって互いに接続された平行な脚部１１０、１１２を備える。キャビネット１０４は、さらに、二つの平行な脚部１１６、１１８を備え、この脚部１１６、１１８は、脚部１１０、１１２、及び基部が固定された基部１２０によって互いに接続されている。基部１２０から離間した脚部１１８の端部において、キャビネット１０４は、基部１２０と平行に延伸する付属品１２２を備える。
【００１７】
脚部１１８から離間した付属品１２２の端部は、脚部１１６から離間しており、これにより、操作者が操作者領域１２４に入ることができるように開口が形成され、この操作者領域１２４は、キャビネット１０４の外壁によって画定される７２インチ×９６インチの四角形の占有面積を有する。操作者領域１２４にいる間、操作者は、設備１００内において潤滑剤膜の塗膜対象の磁気ハードディスクを含むカセットを、モータ駆動型のローラ式運搬装置１２６に搭載する。このローラ式運搬装置１２６は、設備１００と、基部１２０から離間した脚部１１６の端部との間で延伸する。同様に、モータ駆動型のローラ式運搬装置１２７が、設備１００と、基部１２０から離間した脚部１１８の端部との間で延伸する。本発明に好適な運搬装置は、米国ワシントン州ケントにあるＳｔｒａｔｕｓ  Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ  Ｃｏｒｐから入手可能である。操作者領域１２４にいる間、操作者は、基部１２０から離間した脚部１１６の端部において、カセットを運搬装置１２６の一部に搭載する。さらに、操作者は、操作者領域１２４にいる間、基部１２０から離間した脚部１１８の端部において、設備１００内で潤滑剤が蒸気塗膜された磁気ハードディスクを含むカセットを、運搬装置１２７から取り出す。
【００１８】
基部１２０から離間した脚部１１６の端部において、カセット１０２が運搬装置１２６の一部に搭載された後、運搬装置１２６は、カセット１０２を、ソレノイド作動式の開いたゲートバルブ１３０を介してロードロック１３２の入口端内へと搬送する。ロードロック１３２は、第一及び第二の区域１３４、１３６を備え、この区域１３４、１３６は、ゲートバルブを介することなく互いに接続されている。従って、両区域内の圧力は、同一に維持される。区域１３４、１３６は、それぞれ、モータ駆動型のローラ式運搬装置を含む。ゲートバルブ１３０が開いた状態で、カセット１０２が区域１３４、１３６内に装填されている間、ロードロック１３２の出口端に配置されたソレノイド作動式式ゲートバルブ１３７は、閉じている。区域１３４、１３６は、それぞれ、単一のカセット１０２のみを搭載するのに適した長さを有し、従って、ロードロック１３２には、二つのカセットが同時に配置される。ロードロック１３２に二つのカセット１０２が同時に搭載された後、ゲートバルブ１３０が閉じる。そして、ロードロック１３２に設けられた真空ポンプ１３８が、ロードロック１３２内の圧力を、大気圧から、カセット１０２をバッファモジュール１４０へと搬送するのに適した圧力へと減圧する。
【００１９】
ロードロック１３２の区域１３６は、モータ駆動型のローラ式運搬装置を備えた９０度回転可能なターンテーブルを備える。このターンテーブルは、Ｓｔｒａｔｕｓ  Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ  Ｃｏｒｐから入手可能である。区域１３６内のターンテーブルは、区域１３６内に搭載されたカセット１０２の長手軸を９０度回転させる。すなわち、ターンテーブルは、カセット１０２の長手軸を、脚部１１０の長手方向と一致した状態から、基部１１４の長手方向と一致した状態へと回転させる。区域１３６内のターンテーブルの運搬装置は、ゲートバルブ１３０が開いた状態で、二つのカセット１０２がロードロック１３２内の運搬装置１２６に搭載されている間、区域１３４の運搬装置と長手方向において位置合わせされる。
【００２０】
運搬装置１２６が第一及び第二のカセット１０２をそれぞれ区域１３４、１３６内に搬送し、ゲートバルブ１３０、１３７が閉じてポンプ１３８がロードロック１３２を減圧した後、区域１３６内のターンテーブルは、第一の方向へと９０度回転する。ロードロック１３２内で適切な圧力が得られ、また区域１３６内にあるカセット１０２が９０度回転させられた後、ゲートバルブ１３７が開き、区域１３６内の運搬装置配置１２６の一部が、区域１３６内に配置されたカセット１０２をゲートバルブ１３７を介して搬送する。そして、区域１３６内のターンテーブルは、第二の方向（第一の方向と反対の方向）に９０度回転し、これにより、区域１３６内の運搬装置の長手方向が、再び区域１３４内の運搬装置の長手方向と一致するようになる。次に、区域１３４内に配置されたカセット１０２が、区域１３４、１３６内の運搬装置によって区域１３６内へ搬送される。区域１３６内のターンテーブルが、第一の方向へ９０度回転し、当初区域１３４内に配置されていたカセットの長手軸が、基部１１４の長手軸と一致するように回転させられる。区域１３６内の運搬装置は、次に、当初区域１３４内に配置されていたカセット１０２を、ゲートバルブ１３７を介して長手方向に移動させる。ゲートバルブ１３０の開動作に連動して、ゲートバルブ１３７が閉じ、ターンテーブルが第二の方向に９０度回転する。ゲート１３０が開いた状態で、かつ、ゲート１３７が閉じた状態で、二つの新たなカセット１０２がロードロック１３２に搭載され、上述した動作が繰り返される。
【００２１】
ゲートバルブ１３７を通過した二つのカセット１０２は、真空のバッファモジュール１４０内へと搬送される。このバッファモジュール１４０は、互いに接続された同一の構成を有する区域１４２、１４４を有し、この区域１４２、１４４は、一列に配置されている。区域１４２、１４４は、ゲートバルブを介することなく互いに接続されており、従って同一の真空圧が両区域内で維持される。区域１４２、１４４は、それぞれ、ソレノイド作動式のラフバルブを有し、このラフバルブは、バッファモジュール１４０内を所望の真空圧にする真空ポンプと接続されており、かかる真空圧下で、カセット１０２内の磁気ハードディスクに蒸気潤滑剤を塗膜することが可能となる。また、区域１４２、１４４は、それぞれ、モータ駆動型のローラ式運搬装置を備える。ゲートバルブ１３７が開いた状態で、ロードロック１３２内に配置されていたカセット１０２が、ロードロック１３２及びバッファモジュール１４０の運搬装置によってバッファモジュール１４０内へと搬送される間、バッファモジュール１４０の出口端にあるソレノイド作動式ゲートバルブ１４６は閉じている。区域１４２、１４４は、それぞれ、単一のカセット１０２を配置するのに適した長さを有し、従って、二つのカセット１０２が同時にバッファモジュール１４０内に配置される。運搬装置１２６により、第一のカセット１０２が区域１４２内に、第二のカセット１０２が区域１４４内に配置されるように二つのカセット１０２がバッファモジュール１４０内に搬送された後、ゲートバルブ１３７が閉じる。処理モジュール１５０がバッファモジュール１４０内のカセット１０２から磁気ハードディスクを受け取ることが可能になると、ゲートバルブ１４６が開き、バッファモジュール１４０及び処理モジュール１５０の運搬装置によって二つのカセット１０２が処理モジュール１５０内に搬送される。
【００２２】
処理モジュール１５０は、区域１５２、１５４を備え、この区域１５２、１５４は、一列に配置されて互いに接続されており、同一の構成を有する。区域１５２、１５４は、互いに接続されている。区域１５２、１５４は、ソレノイド作動式ゲートバルブ１５５を介して互いに接続されており、従って、区域１５２における磁気ハードディスクの処理は、区域１５４における磁気ハードディスクの処理に何ら影響を及ぼさず、その逆も成立する。区域１５２、１５４内のそれぞれにおいて適切な真空圧を維持するようにするため、区域１５２、１５４は、それぞれ、別個の真空ポンプ１５７を備え、各真空ポンプ１５７は、バルブを介さずに、各区域内のチャンバと直接的に接続されている。
【００２３】
各区域１５２、１５４は、それぞれ、モータ駆動型のローラ式運搬装置を備える。ゲートバルブ１４６が開いた状態で、バッファモジュール１４０及び処理モジュール１５０の運搬装置が第一及び第二のカセットをそれぞれ区域１５２と区域１５４とに搬送している間、処理モジュール１５０の出口端に配置されたソレノイド作動式ゲートバルブ１５６は閉じている。区域１５２、１５４は、それぞれ、二つのカセット１０２を同時に配置するのに適した長さを有する。磁気ハードディスクに塗膜を形成する間、二つのカセット１０２は、処理モジュール１５０においては同時に配置されるが、区域１５２または区域１５４のいずれか一方に２つのカセット１０２が同時に配置されることはない。二つのカセット１０２が処理モジュール１５０に搭載され、これにより第一のカセットが区域１５２に配置され、第二のカセットが区域１５４に配置された後、ゲートバルブ１４６、１５６が閉じる。
【００２４】
区域１５２、１５４は、それぞれ、搬送部１５８と、処理部１６０とを備える。各搬送部１５８は、（１）特定の区域１５２または１５４を介してカセットを搬送するモータ駆動型の運搬装置と、（２）特定の区域のカセット内の磁気ハードディスクをそれぞれ別個に当該特定の区域内の処理部１６０まで持ち上げるソレノイド作動式リフトブレードと、を備える。各処理部１６０は、特許文献１の開示に従った構成を有するが、好ましくは、発明の名称が「選択的に開閉するシャッタを含む蒸気流路を介して磁気ハードディスクに蒸気潤滑剤を塗布する装置及び方法」である、２００７年３月２９日に出願されたピーターソンらの米国特許出願第１１／６９３０３９号の開示に従って構成される。この文献の内容を参照として本明細書に取り込む。
【００２５】
区域１５２及び１５４内のリフトブレードが、それぞれ別個に区域１５２、１５４内のカセットから磁気ハードディスクを処理部１６０まで持ち上げ、磁気ハードディスクが処理部１６０内に配置・固定された後、区域１５２及び１５４の両処理部１６０が駆動され、蒸気潤滑剤膜を、区域１５２及び１５４の二つの処理部内に配置された磁気ハードディスクに塗膜する。その結果、潤滑剤膜が、同時に、または実質的に同時に、区域１５２及び１５４の両処理部１６０内まで持ち上げられた二つの別個の磁気ハードディスクに塗膜される。
【００２６】
磁気ハードディスクが特定の区域１５２または１５４の処理部１６０において処理された後、当該特定の区域内のリフトブレードは、処理が施された磁気ハードディスクをカセットに戻す。そして、当該特定の区域内の運搬装置が、カセットを、当該特定の区域の搬送部１５８まで搬送し、これによってカセット内の次の磁気ハードディスクが当該特定の区域のリフトブレードの上に配置される。この次の磁気ハードディスクは、カセットから当該特定の区域の処理部１６０内に持ち上げられ、特定のカセット内の全ての磁気ハードディスクに潤滑剤膜が塗膜されるまで処理が繰り返される。
【００２７】
両区域１５２及び１５４のカセット内の全ての磁気ハードディスクに潤滑剤膜が塗膜された後、区域１５２及び１５４内のカセットの前部、すなわち先端が、閉じたゲートバルブ１５５、１５６の隣に移動させられる。このとき、バッファモジュール１４０と処理モジュール１５０との間のゲートバルブ１４６は閉じている。そして、ゲートバルブ１５５、１５６が開き、区域１５４内の運搬装置が区域１５４内で処理されたカセットをアンロードロック１６２の区域１６１に搬送し、区域１５２及び１５４の両運搬装置が、区域１５２内で処理されたカセットを区域１５４に搬送する。区域１５４で処理されたカセットは、アンロードロック１６２の区域１６１を迅速に移動し、区域１５２で処理されたカセットは、区域１５２において処理された磁気ハードディスクを区域１５４において処理することなく、区域１５４からアンロードロック１６２の区域１６１へと迅速に移動する。
【００２８】
区域１５２で処理されたカセットがアンロードロック１６２の区域１６１へ移動した後、ゲートバルブ１５６が閉じ、ゲートバルブ１４６が開き、ゲートバルブ１５５は開いた状態を維持する。そして、モジュール１４０及び１５０の運搬装置が、バッファモジュール１４０内でアイドリングされた二つのカセットを処理モジュール１５０へ搬送し、処理が繰り返される。
【００２９】
アンロードロック１６２は、ロードロック１３２と基本的に同一の構成を有するが、アンロードロック１６２内のターンテーブル及びバルブが、ロードロック１３２のものとは逆に動作する点が異なる。すなわち、アンロードロック１６２は、区域１６１と同様に、９０度回転するターンテーブルを備えた区域１６３を有する。ソレノイド作動式出口ゲートバルブ１６６が、設備１００の基部１１４から離間した区域１６３の端部に設けられる。
【００３０】
動作の際、区域１５４内で処理されたカセットが、ゲートバルブ１５６を介して区域１５４から区域１６１へと受け渡され、区域１６１のターンテーブルによって第一の方向へ９０度回転させられ、区域１６３へ搬送された後、区域１６１内のターンテーブルは、第二の反対方向へ９０度回転し、区域１５２で処理されたカセットが、ゲート１５６を介して区域１６１のターンテーブルに搬送される。そして、ゲートバルブ１５６が閉じ、区域１６１内のターンテーブルが第一の方向へ９０度回転し、区域１６１及び１６３のカセットが一列に並べられ、その長手方向が脚部１１２と同一の方向に一致させられる。そして、ゲートバルブ１６６が開き、アンロードロック１６２内のカセットが、キャビネットの脚部１１８の運搬装置へと搬送される。操作者は、運搬装置１２７からカセットを取り除き、そしてカセットから処理済みの磁気ハードディスクを取り出した後、カセットが再利用される。
【００３１】
次に、図３〜６を参照して説明する。図３及び４は、それぞれ、ロードロック１３２の斜視図及び分解斜視図である。図５及び６は、それぞれ、ロードロック１３２の区域１３６の斜視図及び分解斜視図である。区域１３４、１３６は、それぞれ、金属製の、立方形のハウジング２０２、２０４を備える。ハウジング２０２の床は、搬送路（図示せず）を備え、この搬送路は、ソレノイド作動式高真空バルブ２０５によって選択的に高真空ターボポンプ１３８に接続されている。バルブ２０５は、ハウジング２０２の天井に設けられた圧力センサ２０７によって制御される。
【００３２】
ハウジング２０２は、一組の平行な壁２０５（一方のみ図示）を備え、この壁２０５には、位置合わせされた開口２０６（一方のみ図示）が形成されており、この開口２０６をカセット１０２が通過する。一方、ハウジング２０４は、互いに直角に直交する壁２０８、２１０を備え、この壁２０８、２１０は、カセットが通過する開口２１２。２１４をそれぞれ備える。開口２１８を含むスペーサ２１６が、ハウジング２０２、２０４の互いに平行かつ隣接する壁２０５、２０８の間で当該両方の壁に当接するように配置される。開口２０６、２１２、及び２１８は、互いに位置合わせされており、かつ、ゲートバルブ１３０が開いたときにカセットが開口２２０を介してモータ駆動型のローラ式運搬装置２２２によってハウジング２０４内に搬送されるように、開口２２０と位置合わせされている。ローラ式運搬装置２２２は、ハウジング２０２に設けられたモータ２２５によって駆動される。開口２２０は、シャッタ（図示せず）を開口２２０に対して上下動させるステム２２２内のソレノイド（図示せず）によって選択的に開閉させられる。ゲートバルブ１３７は、ゲートバルブ１３０と同一の構成を有し、ハウジング２０４の壁２１０に設けられた開口２１４と位置合わせされた開口２２４を有する。
【００３３】
ハウジング２０４の床は、ハウジング２０４に設けられたモータ２２８によって垂直軸を中心に９０度時計方向及び反時計方向に回転するターンテーブル２２６を備える。ターンテーブル２２６には、モータ２２８によって駆動されるローラ式運搬装置２３０が設けられている。クラッチ手段（図示せず）により、モータ２２８は、ターンテーブル２２６とローラ式運搬装置２３０とを相互に独占的な時間で駆動することができる。かかる動作は、ハウジング２０４内のカセット１０２が、相互に独占的な時間において長手方向に搬送されたり回転させられるため、必要である。モータ２２８とクラッチとは、ハウジング２０４の天井に設けられた位置センサ２３２によって制御される。
【００３４】
次に、図７及び８を参照して説明する。図７は、バッファモジュール１４０の区域１４２の斜視図であり、図８は、その分解斜視図である。バッファモジュール１４０の区域１４２及び１４４は、同一の構成を有するので、区域１４２のみについて説明する。
【００３５】
区域１４２は、金属製の、立方形のハウジング３０２を備え、ハウジング３０２の床は、搬送路３０４を備え、この搬送路３０４は、ラフバルブ３０６に接続されており、ひいては低速真空ポンプ（図示せず）に選択的に接続されている。ラフバルブ３０６は、ソレノイド３０８によって選択的に開閉されるシャッタ（図示せず）を備える。バルブ３０６のシャッタは、基本的に、開いたままの状態を維持し、ハウジング３０２の内部は、真空状態に維持される。バルブ３０６のシャッタは、区域１４２のメンテナンスの際に閉じられる。
【００３６】
ハウジング３０２は、互いに平行な壁３１０、３１２を備え、この壁３１０、３１２には、それぞれ、互いに位置合わせされた開口３１４、３１６が形成され、この開口３１４、３１６をカセットが通過する。パネル３１８は、ローラ式運搬装置３２０と、この運搬装置を駆動するモータ３２２とを備える。パネル３１８は、壁３１０と壁３１２との間で直角に配置された壁３２２に固定される。パネル３１８は、四角形の開口３２４を覆うように壁３２２に取り付けられ、これにより、運搬装置３２０と、この運搬装置３２０を保持してパネル３１８に取り付けられたチャネル３２６とがハウジング３０２の内部に固定的に配置される。
【００３７】
ハウジング３０２は、また、壁３２２と平行な壁３２８を備える。壁３２８は、円形のポート開口３３０を備え、このポート開口３３０は、通常円形の板３３２に覆われている。板３３２をポート開口３３０から取り外すことにより、このポート開口３３０を介してハウジング３０２内の部材をメンテナンスすることができる。ハウジング３０２の天板には、ローラ式運搬装置３２０を駆動するモータ３２２を制御するための位置センサ３３４が設けられる。
【００３８】
次に、図９〜１２を参照して説明する。図９及び１０は、それぞれ、処理モジュール１５０の斜視図及び部分分解斜視図である。図１１及び１２は、それぞれ、処理モジュール１５０の区域１５２、１５４のいずれか一方の搬送部１５８の斜視図及び部分分解斜視図である。区域１５２、１５４は基本的に同一の構成を有するので、区域１５２のみについて説明する。
【００３９】
区域１５２は、金属製のハウジング４０２を備え、このハウジング４０２は、二つの平行な壁４０４（一方のみ図示）を含む平行六面体形状に形成されている。壁４０４は、それぞれ、互いに位置合わせされた開口４０６を備え、この開口４０６を、カセット１０２が通過する。平行な壁４０４は、壁４０８（一方のみ図示）に対して直角であり、この壁４０８は、壁４０４の間で延伸して長手方向に一列に配置された二つのカセットよりもわずかに長い。区域１５２の開口４０６は、区域１５４の対応する開口と、図４に示すゲートバルブ１３０と同一のソレノイド作動式ゲートバルブ１５５の開口とに位置合わせされている。ゲートバルブ１５５は、区域１５２の隣接面４０４と、区域１５４の隣接面４０４との間に設けられ、従ってバルブ１５５の両面が区域１５２及び１５４の隣接面４０４と当接する。
【００４０】
ハウジング４０２の床面及び天板４１０は、互いに位置合わせされた長尺のスロット４１２を有し、このスロット４１２は、それぞれ、壁４０４（ハウジング４０２の床面と、この床面のスロットとは図示せず）に対して平行な長手軸を有する。ハウジング４０２の床面のスロットは、リフトブレードアセンブリ４１６に設けられたソレノイド作動式リフトブレード４１４が、床面のスロットを介して延伸し、処理部１６０へと搬送されたハウジング４０２内のカセットから磁気ハードディスクを持ち上げることを許容するサイズ、位置を有して配置される。天板４１０のスロット４１２は、ブレード４１４によって搬送部１５８内のカセットから持ち上げられた磁気ハードディスクが、処理部１６０へと搬送されることを許容するサイズ、位置を有して配置される。
【００４１】
モータ駆動型のローラ式運搬装置４１８は、壁４０４の間でハウジング４０２を介してカセットを前進させ、カセットを、開口４０６を介して移動させる。このため、運搬装置４１８は、壁４０４の間のハウジング４０２の長さ方向にわたって延伸する。運搬装置４１８は、長手方向において位置合わせされた連続する二つの部分を有し、板３１８に運搬装置３２０が設けられているのと同一の手法で、板４２０に設けられている。運搬装置４１８の二つの部分は、板４２０に設けられたモータ４２２によってそれぞれ独立に駆動される。
【００４２】
ハウジング４０２の天板に固定された処理部１６０は、塗膜チャンバ４２４と、この塗膜チャンバ４２４と反対方向の外面に設けられた蒸気源４２６、４２８とを備える。蒸気源４２６、４２８は、スロット４１２を介して、ブレード４１４によって塗膜チャンバ４２４内に持ち上げられた磁気ハードディスクの対向する平行な面に同時に蒸気潤滑剤を供給する。処理部１６０は、センサを備え、このセンサは、磁気ハードディスクに適切な量の蒸気潤滑剤が供給されたと判別すると信号を出力する。この信号に基づいて、ソレノイドが作動し、リフトブレード４１４が駆動され、これによってリフトブレードが下降して処理済の磁気ハードディスクが塗膜チャンバ４２４から取り出される。典型的には、別個の磁気ハードディスクが同時に区域１５２及び１５４の塗膜チャンバに配置されるので、二つの磁気ハードディスクの合計四つの面に潤滑剤が同時に塗布される。
【００４３】
以上、本発明の特定の実施形態について図示して説明したが、上記実施形態は、添付の特許請求の範囲によって定まる本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で変更・応用可能であることは明らかである。例えば、設備１００は、常にＵ字状である必要はなく、また、二つのカセットを同時に搬送する能力のあるロードロック、アンロードロック、バッファモジュール、及び処理モジュールを備えていなくてもよい。しかしながら、設備がＵ字状で、同時に二つのカセットを搬送するロードロック、アンロードロック、バッファモジュール、及び処理モジュールを備えていることが、設置面積を小さくして高いスループット処理速度を得るには最適である。
【符号の説明】
【００４４】
１００    設備
１１０    脚部
１１２    脚部
１１４    基部
１３２    ロードロック
１５０    処理モジュール
１６２    アンロードロック
【図１】
2010525500.tif 000003
【図２】
2010525500.tif 000004
【図３】
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【図４】
2010525500.tif 000006
【図５】
2010525500.tif 000007
【図６】
2010525500.tif 000008
【図７】
2010525500.tif 000009
【図８】
2010525500.tif 000010
【図９】
2010525500.tif 000011
【図１０】
2010525500.tif 000012
【図１１】
2010525500.tif 000013
【図１２】
2010525500.tif 000014
【国際調査報告】
2010525500.tif 000015