(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ投影露光装置の照明視野（１８）にわたる照明強度を予め定めるための照明強度補正デバイス（２４；３６）であって、
互いに並んで配置され、互いに平行に配置されたバー軸（２８）を有し、該バー軸（２８）に垂直な横断方向（ｘ）に沿って該バー軸（２８）に対して横断方向に互いに並んで列を作る方式で配置された複数のバー状の個々の絞り（２７）を含み、
前記個々の絞り（２７）は、前記照明視野（１８）の照明の強度補正を予め定めるために個々に変位ドライブ（２９）を用いて少なくともそれらのそれぞれのバー軸（２８）に沿って予め定められた強度補正変位位置内に変位可能であり、
前記個々の絞りの一部（２７FB）が、視野画定の個々の絞りとして、それらが、それらのバー軸（２８）に沿って（ｙ）完全に延びた延長位置と完全に後退した後退位置の間で前記照明視野（１８）が該バー軸（２８）に沿って有する該照明視野（１８）の視野広がり（１８y）よりも大きく変位可能であるように具現化され、
前記視野画定の個々の絞り（２７FB）の少なくとも一部が、前記横断方向（ｘ）に沿ってそれらがそれらのバー軸（２８）に対して横断方向（ｘ）に隣接する個々の絞り（２７）の配置平面（ｘｙ）内で個々に変位可能であるように具現化される、
ことを特徴とする照明強度補正デバイス（２４；３６）。
【請求項２】
照明される物体（１７ａ）が照明視野（１８）を通る物体変位方向（ｙ）に沿って変位可能であるためのリソグラフィ投影露光装置の該照明視野（１８）にわたる照明強度を予め定めるための照明強度補正デバイス（２４；３６）であって、
互いに並んで配置され、互いに平行に配置されたバー軸（２８）を有し、該バー軸（２８）に垂直な横断方向（ｘ）に沿って該バー軸（２８）に対して横断方向に互いに並んで列を作る方式で配置された複数のバー状の個々の絞り（２７）を含み、
前記個々の絞り（２７）は、前記照明視野（１８）の照明の強度補正を予め定めるために個々に変位ドライブ（２９）を用いて少なくともそれらのそれぞれのバー軸（２８）に沿って予め定められた強度補正変位位置内に変位可能であり、
前記個々の絞りの少なくとも一部（２７FB）が、視野画定の個々の絞りとして、それらが、それらのバー軸（２８）に沿って（ｙ）完全に延びた延長位置と完全に後退した後退位置の間で前記照明視野（１８）が該バー軸（２８）に沿って有する該照明視野（１８）の視野広がり（１８y）よりも大きく変位可能であるように具現化され、
前記視野画定の個々の絞りの前記バー軸（２８）及び前記延長位置と前記後退位置の間の該視野画定の個々の絞りの変位方向（４）が、前記物体変位方向（ｙ）と平行に延び、
前記視野画定の個々の絞り（２７FB）の少なくとも一部が、前記横断方向（ｘ）に沿ってそれらがそれらのバー軸（２８）に対して横断方向（ｘ）に隣接する個々の絞り（２７）の配置平面（ｘｙ）内で個々に変位可能であるように具現化される、
ことを特徴とする照明強度補正デバイス（２４；３６）。
【請求項３】
前記視野画定の個々の絞り（２７FB）を異なる強度補正変位位置の間で変位させるための強度補正変位アクチュエータの形態にある第１の段（３０）を含み、かつ
前記照明視野に影響を及ぼさない中立位置と視野画定位置との間で前記視野画定の個々の絞り（２７FB）を変位させるための視野画定変位アクチュエータの形態にある第２の段（３１）を含む、
前記視野画定の個々の絞り（２７FB）のための２段変位ドライブ（２９）を特徴とする請求項１又は請求項２に記載の補正デバイス。
【請求項４】
前記個々の絞り（２７）の端部（３７）が、前記照明視野（１８）の境界形状に適応化される方式で成形されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の補正デバイス。
【請求項５】
前記個々の絞り（２７）の少なくとも一部を冷却するための冷却ユニット（３４）を特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の補正デバイス。
【請求項６】
矩形照明視野に適応化されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の補正デバイス。
【請求項７】
リソグラフィ投影露光装置（１）の照明視野（１８）に向けて照明光（３）を案内するための照明光学ユニット（２６）であって、
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の照明強度補正デバイス（２４；３６）、  を特徴とする照明光学ユニット（２６）。
【請求項８】
前記照明強度補正デバイス（２４；３６）は、照明光学ユニット（２６）の視野平面（１６）から２０ｍｍよりも大きくなく離間していることを特徴とする請求項７に記載の照明光学ユニット。
【請求項９】
請求項７又は請求項８に記載の照明光学ユニット（２６）と、
少なくとも区画的に照明視野と一致し、かつ結像される物体（１７）を配置することができる物体視野（１８）を像視野（２０）内に結像するための投影光学ユニット（１９）と、
を含むことを特徴とする照明系。
【請求項１０】
請求項９に記載の照明系と、
照明光（３）のための光源（２）と、
を含むことを特徴とする投影露光装置（１）。
【請求項１１】
結像される物体（１７）を個々の絞り（２７）のバー軸（２８）に沿って延びる物体変位方向（ｙ）に沿って変位させるための物体変位ドライブ（１７ｂ）を有する物体ホルダ（１７ａ）と、
結像される前記物体（１７）の構造（３２）がその上に結像されることになるウェーハ（２２）を前記物体変位方向と平行に延びる像変位方向（ｙ）に沿って変位させるためのウェーハ変位ドライブ（２２ｂ）を有するウェーハホルダ（２２ａ）と、
を特徴とする請求項１０に記載の投影露光装置（１）。
【請求項１２】
前記個々の絞り（２７）に対する前記変位ドライブ（２９）は、それが前記物体変位ドライブ（１７ｂ）の物体変位速度と同程度に高速である該個々の絞り（２７）の少なくとも一部の変位速度を可能にするように具現化されることを特徴とする請求項１１に記載の投影露光装置。
【請求項１３】
構造化構成要素を生成する方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に塗布されたウェーハ（２２）を与える段階と、
結像される構造を有する物体（１７）としてレチクルを与える段階と、
請求項１０から請求項１２のいずれか１項に記載の投影露光装置（１）を与える段階と、
前記投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（１７）の少なくとも一部を前記ウェーハ（２２）の前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
先行ドイツ特許出願ＤＥ  １０  ２０１２  ２０５  ８８６．９の内容が引用によって組み込まれるものとする。
【０００２】
本発明は、リソグラフィ投影露光装置の照明視野にわたる照明強度を予め定める又は指定するための照明強度補正デバイスに関する。本発明は、更に、そのような照明強度補正デバイスを含むリソグラフィ投影露光装置の照明視野に向けて照明光を案内するための照明光学ユニット、そのような照明光学ユニットを含む照明系、そのような照明系を含む投影露光装置、そのような投影露光装置を用いて微細又はナノ構造化構成要素を生成する方法、及びそのような生成方法によって構造化された構成要素に関する。
【背景技術】
【０００３】
ＷＯ  ２００９／０７４  ２１１  Ａ１は、照明視野内の均一な強度分布を投影露光中に変位した物体の変位方向に対して横断する横座標を用いて特定の許容誤差限界の範囲で設定することができる補正デバイスを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＤＥ  １０  ２０１２  ２０５  ８８６．９
【特許文献２】ＷＯ  ２００９／０７４  ２１１  Ａ１
【特許文献３】ＵＳ  ６  ８５９  ５１５  Ｂ２
【特許文献４】ＥＰ  １  ２２５  ４８１  Ａ
【特許文献５】ＥＰ  ０  ９５２  ４９１  Ａ２
【特許文献６】ＤＥ  １０  ２００８  ０１３  ２２９  Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、従来技術と比較して補正精度が改善された冒頭に示したタイプの照明強度補正デバイスを開発することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明により、上述の目的は、請求項１に指定する特徴を含む補正デバイス、及び請求項２に指定する特徴を含む補正デバイスを用いて達成される。個々の絞りは、バー又はスティックの形態を有する。
【０００７】
本発明により、個々の絞りのうちの一部が視野画定の個々の絞りとして具現化される場合に、従来技術において照明強度補正デバイスに加えて使用されていた別個の視野画定絞りの必要性が回避されることが認識された。一方で照明強度補正デバイスと、この場合もはや必要ではない視野画定絞りとは、今や照明視野の視野平面の近くで構造空間に関して競合することがなくなる。この場合に、照明強度補正デバイスは、照明視野上での照明角度に可能な限り最大限依存しない補正効果を示すことができるように、相応にこの視野平面の近くまで移動することができる。完全に延びた延長位置と完全に後退した後退位置の間における視野画定の個々の絞りの変位機能は、例えば、８ｍｍよりも大きく、１０ｍｍよりも大きく、１２ｍｍよりも大きく、又は他に１５ｍｍよりも大きいとすることができる。このようにして変位可能な視野画定の個々の絞りを用いて、これらの個々の絞りは、個々の絞りのバー軸に対して横断する横寸法において照明視野を画定することができる。
【０００８】
照明強度補正デバイスの代替の実施形態において、全ての個々の絞りは、そのバー軸に沿って完全に延びた延長位置と完全に後退した後退位置の間で照明視野がバー軸に沿って有する照明視野の視野広がりよりも大きく変位可能であるような視野画定の個々の絞りとして具現化される。
【０００９】
請求項２に記載の物体変位方向と平行な視野画定の個々の絞りのバー軸に沿ったこれらの個々の絞りの変位は、視野画定の個々の絞りの間の照明視野領域が視野画定の個々の絞りの変位の場合に影響を受けないままに留まる構成を可能にする。視野画定の個々の絞りは、物体変位方向に対して垂直なこれらの個々の絞りの座標を僅かにでも変化させず、すなわち、正確に１つの視野高さで照明視野に作用する。
【００１０】
個々の絞りは、それらを１つの同じ側から照明視野内に導入することができるように具現化することができる。
【００１１】
請求項３に記載の２段変位ドライブは、一方で強度補正の目的で高い位置決め精度で移動可能であり、他方で視野画定の目的で大きい変位進行を伴って変位可能である変位ドライブの必要性を回避する。一方の「高い位置精度」の要件と他方の「大きい変位進行」とは、変位ドライブの２つの段の間で配分される。この場合に、第１の段は、２５μｍよりも良く、１０μｍよりも良く、又は更に５μｍよりも良い位置精度を有することができる。第２の段の位置精度は重要ではないが、当然ながら、第２の段の位置許容誤差を第１の段の可能な調節進行によって補償することができるような大きさを有する。
【００１２】
請求項４に記載の横変位ドライブは、バー軸に対して横断する寸法における視野画定の個々の絞りによる視野画定の可変適応化を可能にする。この場合に、視野画定の個々の絞りは、個々の絞りのバー軸に対して横断する異なる視野広がりを有する照明視野の境界を厳密に定めることができる。そのような横変位ドライブは、特に、上述したように２段変位ドライブの第２の段と一体的に具現化することができる。
【００１３】
請求項５に記載の個々の絞りの適応化は、特に精密な照明強度の事前定義を可能にする。個々の絞りの末端縁は、例えば、バー軸に対して４５°の角度で傾斜して先細になる方式で具現化することができる。個々の絞りの末端縁は、弓形方式に具現化することができる。
【００１４】
請求項６に記載の冷却ユニットは、特に視野画定の個々の絞り上での高い熱負荷に耐えることを可能にする。冷却ユニットは、水冷却として具現化することができる。
【００１５】
請求項７に記載の照明強度補正デバイス及び弓形照明視野に適応化された代替の補正デバイスは、ＥＵＶ投影露光装置において通例の照明視野形状に適応化される。
【００１６】
請求項８に記載の照明光学ユニットの利点は、補正デバイスを参照して上述したものに対応する。
【００１７】
請求項９に記載の補正デバイスは、照明方向に依存しない照明強度事前定義効果に関して特に精密である。照明強度補正デバイスが配置される補正平面と照明光学ユニットの視野平面との間の距離は、１０ｍｍよりも大きくなく、又は他に８ｍｍよりも大きくないとすることができる。
【００１８】
請求項１０に記載の照明系の利点及び請求項１１に記載の投影露光装置の利点は、補正デバイス及び照明光学ユニットを参照して上述したものに対応する。投影露光装置の光源は、ＥＵＶ光源とすることができる。補正デバイスの利点は、ここで特に良好に現れる。
【００１９】
請求項１２に記載の走査投影露光装置の場合に、補正デバイスの利点は、特に良好に現れる。
【００２０】
請求項１３に記載の変位ドライブは、それに加えて補正デバイスに同時走行走査絞りの機能を与えることを可能にし、そのために同時走行走査絞りはまた、補正デバイスによって置換することができ、これは、それに加えて構造空間に関する競合から離れて、照明光学ユニットの視野平面の直近に補正デバイスを配置することを可能にする。
【００２１】
請求項１４に記載の方法の利点及び特許請求１５に記載の微細又はナノ構造化構成要素の利点は、上述したものに対応する。
【００２２】
図面を参照して本発明の例示的実施形態を以下により詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】マイクロリソグラフィのための投影露光装置を照明光学ユニットに関して示す略子午断面図である。
【図２】レチクル平面又は物体平面の領域内の図１からの抜粋拡大図である。
【図３】図２の視線方向ＩＩＩから見た「矩形視野」実施形態における投影露光装置の補正デバイスの図である。
【図４】図１に記載の投影露光装置の照明光学ユニットの「矩形視野」実施形態における視野ファセットミラーのファセット配置の図である。
【図５】図１に記載の投影露光装置の照明光学ユニットの瞳ファセットミラーのファセット配置の図である。
【図６】「弓形視野」実施形態における補正デバイスの変形を示す図３と類似の図である。
【図７】「弓形視野」実施形態における視野ファセットミラーの更に別の実施形態のファセット配置を示す図４と類似の図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
マイクロリソグラフィのための投影露光装置１は、微細又はナノ構造化された電子半導体構成要素を生成するように機能する。光源２は、例えば、５ｎｍと３０ｎｍの間の波長領域にある照明に使用されるＥＵＶ放射線を放出する。光源２は、ＧＤＰＰ光源（ガス放電生成プラズマ）又はＬＰＰ光源（レーザ生成プラズマ）とすることができる。シンクロトロンを利用した放射線源を光源２に対して使用することができる。当業者は、このタイプの光源に関する情報を例えばＵＳ  ６  ８５９  ５１５  Ｂ２に見出すことができるであろう。結像光ビーム３の形態にあるＥＵＶ照明光又はＥＵＶ照明放射線は、投影露光装置１内での照明及び結像に使用される。光源２の下流では、結像光ビーム３は、例えば、従来技術で公知である多シェル構成を有する入れ子コレクターとするか又はこれに代えて楕円体形状コレクターとすることができる光源２の背後にこの場合に配置されたコレクター４を最初に通過する。対応するコレクターは、ＥＰ  １  ２２５  ４８１  Ａから公知である。コレクター４の下流では、ＥＵＶ照明光３は、望ましくない放射線又は粒子部分から結像光ビーム３を分離するために使用することができる中間焦点面５を最初に通過する。中間焦点面５を通った後に、結像光ビーム３は、最初に視野ファセットミラー６上に入射する。
【００２５】
位置関係の説明を容易にするために、図面内には各場合に直交広域ｘｙｚ座標系を示している。図１では、ｘ軸は、作図面と垂直に作図面から飛び出すように延びている。ｙ軸は、図１の右に向けて延びている。ｚ軸は、図１の上方に延びている。
【００２６】
投影露光装置１の個々の光学構成要素の場合の位置関係の説明を容易にするために、以下の図では各場合に直交局所ｘｙｚ座標系又は直交局所ｘｙ座標系を更に使用する。別途記載しない限り、それぞれの局所ｘｙ座標は、光学構成要素のそれぞれの主配置平面、例えば、反射平面を張る。広域ｘｙｚ座標系のｘ軸と、局所ｘｙｚ座標系又は局所ｘｙ座標系のｘ軸とは互いに平行に延びている。局所ｘｙｚ座標系又は局所ｘｙ座標系のそれぞれのｙ軸は、広域ｘｙｚ座標系のｙ軸に対して、それぞれの光学構成要素のｘ軸の周りの傾斜角に対応する角度を有する。
【００２７】
図４は、一例として、「矩形視野」実施形態における視野ファセットミラー６の視野ファセット７のファセット配置を示している。視野ファセット７は矩形であり、各々が同じｘ／ｙアスペクト比を有する。ｘ／ｙアスペクト比は、例えば、１２／５、２５／４、１０４／８、２０／１、又は３０／１とすることができる。
【００２８】
視野ファセット７は、視野ファセットミラー６の反射面を予め定め、かつ各々が６つから８つの視野ファセット群８ａ、８ｂを有する４つの列の群にされる。視野ファセット群８ａは、各々が７つの視野ファセット７を有する。２つの中心視野ファセット列の２つの追加の辺縁視野ファセット群８ｂは、各場合に４つの視野ファセット７を有する。視野ファセットミラー６のファセット配置は、２つの中心ファセット列の間、及び３番目のファセット行と４番目のファセット行の間に内部で視野ファセットミラー６がコレクター４の保持スポークによって遮蔽された間隙空間９を有する。光源２としてＬＰＰ光源が使用される場合に、コレクター４に隣接して配置されて図面には例示していない錫小滴発生器の結果として、対応する遮蔽が同じく生じる可能性がある。
【００２９】
視野ファセットミラー６での反射の後に、個々の視野ファセット７に割り当てられた結像光部分ビームに分割された結像ビーム光３は、瞳ファセットミラー１０上に入射する。全体結像光ビーム３のそれぞれの結像光部分ビームは、それぞれの結像光チャネルに沿って案内される。
【００３０】
図５は、瞳ファセットミラー１０の丸形瞳ファセット１１の例示的なファセット配置を示している。瞳ファセット１１は、中心の周りに互いに内外に置かれたファセットリングで配置される。入射を受け、かつ視野ファセット７のうちの１つと瞳ファセット１１のうちの１つとを含むそれぞれのファセット対が、それに関連付けられたＥＵＶ照明光３の結像光部分ビームに対する結像光チャネルを予め定めるように、瞳ファセット１１は、視野ファセット７のうちの１つによって反射されるＥＵＶ照明光３の各結像光部分ビームに割り当てられる。視野ファセット７への瞳ファセット１１のチャネル毎の割り当ては、投影露光装置１の望ましい照明に依存して行われる。
【００３１】
瞳ファセットミラー１０（図１）及び３つのＥＵＶミラー１２、１３、１４から構成される下流の伝達光学ユニット１５により、視野ファセット７は、投影露光装置１の物体平面１６に結像される。ＥＵＶミラー１４は、かすめ入射のためのミラー（かすめ入射ミラー）として具現化される。物体平面１６内にはレチクル１７が配置され、このレチクル１７のうちで下流にある投影露光装置１の投影光学ユニット１９の物体視野１８と一致する照明領域が、ＥＵＶ照明光３で照明される。照明領域を照明視野とも表している。物体視野１８は、投影露光装置１の照明光学ユニットの具体的な実施形態に依存して矩形又は弓形である。結像光チャネルは、物体視野１８内で重ね合わされる。ＥＵＶ照明光３は、レチクル１７から反射される。レチクル１７は、略示する物体変位ドライブ１７ｂを用いた駆動方式で変位方向ｙに沿って変位可能な物体ホルダ１７ａによって保持される。
【００３２】
投影光学ユニット１９は、物体平面１６の物体視野１８を像平面２１の像視野２０に結像する。この像平面２１内には、投影露光装置１を用いた投影露光中に露光される感光層を担持するウェーハ２２が配置される。ウェーハ２２、すなわち、上部に結像が行われる基板は、同じく略示するウェーハ変位ドライブ２２ｂを用いて変位方向ｙに沿って物体ホルダ１７ａの変位と同期して変位可能なウェーハホルダ又は基板ホルダ２２ａによって保持される。投影露光中に、レチクル１７とウェーハ２２の両方は、ｙ方向に同期方式で走査される。投影露光装置１は、スキャナとして具現化される。走査方向ｙは、物体変位方向である。
【００３３】
補正平面２３には、下記でより詳細に説明する照明強度補正デバイス２４が配置される。補正平面２３は、物体平面１６から２０ｍｍよりも大きく分離されず、例えば、６ｍｍ、８ｍｍ、１０ｍｍ、又は１６ｍｍだけ分離される。ＵＮＩＣＯＭとも表す補正デバイス２４は、取りわけ、走査積分され、すなわち、ｙ方向に積分され、物体視野１８にわたる照明光の強度分布を事前定義又は設定するように機能する。補正デバイス２４は、制御ユニット２５によって駆動される。視野補正デバイスの例は、ＷＯ  ２００９／０７４  ２１１  Ａ１、ＥＰ  ０  ９５２  ４９１  Ａ２、及びＤＥ  １０  ２００８  ０１３  ２２９  Ａ１から公知である。
【００３４】
視野ファセットミラー６、瞳ファセットミラー１０、伝達光学ユニット１５のミラー１２から１４、及び補正デバイス２４は、投影露光装置１の照明光学ユニット２６の一部である。投影光学ユニット１９と共に、照明光学ユニット２６は、投影露光装置１の照明系を形成する。
【００３５】
図２及び図３は、補正デバイス２４をより詳細に示している。図２は、図１に対して正確な縮尺のものではなく、いくつかの更なる詳細内容を有する図１と比較して拡大した図である。図３は、照明光３のビームで照明される相応に矩形の境界を有する物体視野１８の平面図を照明強度補正デバイス２４の詳細内容及び更なる詳細内容と共に示している。
【００３６】
補正デバイス２４は、互いに並んで配置された複数のバー状又はスティック状の個々の絞り２７を有する。図２及び図３に記載の実施形態において、例えば、ｘ方向に４ｍｍのそれぞれの幅を有する１５個の個々の絞り２７を存在させることができる。異なる個数の個々の絞り２７、例えば、１５個よりも多く、２０個よりも多く、又は２５個よりも多い個々の絞り２７も可能である。個々の絞り２７は、ｘ方向に異なる幅、例えば、４ｍｍよりも小さく、特に１ｍｍ、２ｍｍ、３ｍｍの幅、又は４ｍｍよりも大きく、特に５ｍｍの幅を有することができる。これらの個々の絞り２７は、互いに直接に隣接するか又は図３に示すようにｘ方向に部分的に重なり合うこともある。部分的な重複の場合に、隣接する個々の絞り２７は、物体平面６と平行である可能な限り互いに密接する平面に位置する。図３には、１つ置きの個々の絞り２７を破線で例示している。実線で示す個々の絞り２７は、ｘｙ平面と平行な第１の平面に配置され、破線で示す個々の絞りは、この場合にも同じくｘｙ平面と平行な密接する第２の平面に配置される。
【００３７】
バー状の個々の絞り２７のバー軸２８、すなわち、中心長手軸は、ｙ方向に沿って互いに平行に延びている。個々の絞り２７は、バー軸２８に対して横断する、すなわち、ｘ方向に沿って互いに並んで列を作る方式で配置される。
【００３８】
個々の絞り２７は、そのそれぞれのバー軸２８に沿ってそれぞれ２段変位ドライブ２９を用いて変位可能である。図３には、個々の絞り２７のうちの１つに対する変位ドライブ２９を略示している。変位ドライブ２９の第１の段は、強度補正変位アクチュエータ３０の形態に具現化される。強度補正変位アクチュエータ３０は、それぞれの個々の絞り２７を図３に個々の絞り２７IKにおけるいくつかのものを示す異なる強度補正変位位置の間で変位させるように機能する。それぞれの強度補正変位位置への変位は、照明視野１８の照明の走査積分強度補正を個々に予め定めるように機能する。
【００３９】
異なる強度補正変位位置は、それぞれの個々の絞り２７が、ｙ方向に照明視野１８内、すなわち、照明視野１８と一致する照明光３のビーム内にどれ程深く導入されるかにおいて異なる。
【００４０】
全ての個々の絞り２７は、ＥＵＶ照明光３内に１つの同じ側から挿入される。
【００４１】
制御ユニット２５を用いて、個々の絞り２７を互いに独立してｙ方向に予め指定された位置に設定することができる。視野高さ、すなわち、レチクル１７上の物体点が物体視野１８を通過するｘ位置に基づいて、この物体点のｙ方向の走査距離、従って、この物体点が受け入れる全結像光ビーム３のこのｘ位置で重ね合わされる結像光部分ビームの積分強度が、それぞれの個々の絞り２７IKのｙ位置によって指定される。このようにして、レチクル１７を照明する結像光部分ビーム３の強度の予め指定された分布は、個々の絞り２７IKのｙ位置の事前定義によって達成することができる。
【００４２】
ｙ方向に沿った強度補正変位アクチュエータ３０の変位精度は、照明視野１８の約８ｍｍのｙ広がりと比較して非常に高く、例えば、１０μｍよりも細かい、例えば、５μｍの範囲又は更にそれよりも細かい精度に達することができる。
【００４３】
強度補正変位アクチュエータ３０は、圧電作動原理、静電作動原理、電磁作動原理、磁歪作動原理、又は熱電作動原理を有するリニアアクチュエータとして具現化することができる。
【００４４】
照明強度補正デバイス２４の個々の絞り２７の少なくとも一部のものは、視野画定の個々の絞り２７FBとして具現化される。この視野画定の個々の絞り２７FBは、そのそれぞれのバー軸２８に沿って完全に延びた延長位置と完全に後退した後退位置の間で、走査方向ｙに測定した場合の照明視野１８の視野広がり１８yよりも大きく変位可能である。図３には、視野画定の個々の絞り２７FBの変位機能をそれぞれの延長位置にある図の左端に向けて示す２つの個々の絞り２７と、図の右端に向けて示す２つの個々の絞り２７とに例示している。この変位機能は、視野画定変位アクチュエータ３１の形態にある変位ドライブ２９の第２の段によって達成される。従って、視野画定変位アクチュエータ３１は、視野画定の個々の絞り２７FBを照明視野１８に影響を及ぼさない中立位置、すなわち、例えば、完全に後退した後退位置と、視野画定位置、すなわち、例えば、完全に延びた延長位置との間で変位させるように機能する。
【００４５】
図３は、変位ドライブ２９を示す視野画定の個々の絞り２７FBにおいて、完全に延びた（すなわち、照明視野１８内に導入された）延長位置にある末端側周縁ＲＫの位置を実線を用いて示し、完全に後退した（すなわち、照明視野１８から退去した）後退位置にある末端側周縁ＲＫの位置を一点鎖線を用いて示している。
【００４６】
実際には、視野画定変位アクチュエータ３１は、例えば、視野画定の個々の絞り２７FBを後退位置と延長位置の間で１０ｍｍ又は１５ｍｍだけ変位させることを可能にする。
【００４７】
視野画定変位アクチュエータ３１は、強度補正変位アクチュエータ３０のものと同等の作動原理を用いて構成することができ、その違いは、達成することができる最大進行がより大きいことであり、又は強度補正変位アクチュエータ３０の作動原理とは異なる作動原理を用いて具現化することができる。視野画定変位アクチュエータ３１に対して可能なこのタイプの更に別の作動原理は、ネジ駆動、例えば、ボールネジ駆動、ローラネジ駆動、特にローラ再循環によるローラネジ駆動、又は遊星ローラネジ駆動、液圧シリンダ、空圧シリンダ、又は電気力学作動原理を有するリニアモータである。
【００４８】
視野画定変位アクチュエータ３１は、視野画定の個々の絞り２７FBをバー軸２８に沿って変位させるためのｙ変位専用アクチュエータとして具現化することができる。これに代えて、視野画定変位アクチュエータ３１は、関連付けられた視野画定の個々の絞り２７FBが、そのバー軸２８に対して横断する、すなわち、ｘ方向にも変位可能であるようなｘ変位アクチュエータとして具現化することができる。この場合に、最大ｘ変位距離は、視野画定の個々の絞り２７FBのｘ幅の２分の１、すなわち、例えば、２ｍｍとすることができる。これに加えて、ｘ変位アクチュエータとしての視野画定変位アクチュエータ３１のそのような実施形態は、特に補正デバイス２４の個々の絞り２７が上述したようにｘ方向に重なり合う場合に使用することができる。この場合に、隣接する個々の絞り２７FBの重複は、最大ｘ変位距離と少なくとも同じ大きさのものである。視野画定の個々の絞り２７FBはまた、既に上述したように、物体平面１６と平行な少なくとも２つ、又は他に２つよりも多い可能な限り密接する平面隣接に配置することができる。
【００４９】
代替の実施形態において、変位ドライブ２９のｘ変位アクチュエータは、ｘ視野画定変位アクチュエータ３１とは別個のアクチュエータとして具現化することができる。
【００５０】
図３は、照明視野１８の端から端まで走査変位中（図３の矢印Ｓを参照されたい）のレチクル１７を更に例示している。レチクル１７は、ｘｙアレイ方式で格子状に互いに並んで配置された原像３２、すなわち、物体平面１６内のレチクル１７上にウェーハ２２上の予め指定された結像区画を照明するために照明される領域又は区画を有する。図３に示す走査段階中に照明される原像３２を実線で例示している。図３では、同じく原像として表し、かつ与えられた照明作動中に照明することを意図しないウェーハ区画に関連付けられた物体視野区画３２を一点鎖線で例示している。
【００５１】
視野画定の個々の絞り２７FBは、照明される原像３２にｘ方向に隣接する原像３２を遮蔽する。
【００５２】
これに加えて、図３は、走査中にレチクル１７と同時に走査方向に変位し、かつ破線で示すレチクル１７の隣接する原像３２を遮蔽するｙ走査絞り３３によってｙ方向に隣接するウェーハ区画を保護するｙ走査絞り３３も例示している。
【００５３】
補正デバイス２４の代替の実施形態において、個々の絞り２７IKに対する変位ドライブ２９は、物体変位ドライブ１７ｂの物体変位速度と同程度に高速である個々の絞り２７IKの走査方向の変位速度を可能にするように具現化される。この場合に、強度補正の個々の絞り２７IKは、ｙ走査絞りの機能を実施することができる。強度補正の個々の絞り２７IKは、走査作動中の走査経路の区画中に、照明される原像３２にｙ方向に隣接する原像３２を遮蔽する。この遮蔽中に、上述の強度補正の個々の絞り２７IKは、図３に示すように、その強度補正変位位置に達するまでレチクル１７と同期して同時に移動する。その後に、強度補正の個々の絞り２７IKは、照明される原像３２が照明視野１８の端から端まで完全に走査し終わるまで、この強度補正変位位置に留まる。
【００５４】
走査方向Ｓに下流の原像３２を遮蔽するために、図３には例示していない更に別のｙ走査絞りを設けることができ、この場合、この下流のｙ走査絞りもまた、物体変位ドライブ１７ｂの物体変位速度と同程度に高速に移動する。
【００５５】
実際に設定されるｘ方向の照明幅に基づいて、視野画定の個々の絞り２７FBとして機能する個々の絞り２７が選択される。これらの視野画定の個々の絞り２７FBは、制御ユニット２５を用いてｘ方向とｙ方向の両方の正しい視野画定位置にもたらされる。次いで、視野画定の個々の絞り２７FBの間にある個々の絞り２７は、必要とされる強度補正変位位置に制御ユニット２５によってもたらされ、又はこれに代えて、ｙ走査絞り３３の機能をこれに加えて実施するために、上述したように、照明すべきではない原像と共に最初に同時に走査される。
【００５６】
少なくとも視野画定の個々の絞り２７FBは、冷却ユニット３４を有することができる。冷却ユニット３４は、例えば、水冷却又はペルチェ冷却を含むことができる。この目的で、視野画定の個々の絞り２７FBは、非常に良い熱伝導率を有する材料から生成することができる。水冷却又はあらゆる他の流れている流体による冷却の場合に、個々の絞りに対して、熱媒体流体供給源から冷却ユニット３４に供給される放熱熱媒体流体が通って流れる通過チャネルを設けることができる。
【００５７】
図７は、視野ファセットミラー６の更に別の実施形態である「弓形視野」を示している。図４に記載の視野ファセットミラー６を参照して上述したものに対応する構成要素は同じ参照番号を伴い、これらに対しては、図４に記載の視野ファセットミラー６の構成要素とは異なる場合に限って以下に説明する。
【００５８】
図７に記載の視野ファセットミラー６は、湾曲した視野ファセット７を有する視野ファセット配置を有する。これらの視野ファセット７は、各々が複数の視野ファセット群８を有する合計で５つの列に配置される。視野ファセット配置は、視野ファセットミラーの担持板３５の円形境界内に書き込まれる。
【００５９】
図７に記載の実施形態の視野ファセット７の全ては、同じ面積と、図４に記載の実施形態の視野ファセット７のｘ／ｙアスペクト比に対応する同じｘ方向の幅とｙ方向の高さの比とを有する。
【００６０】
図６は、図３と類似の図に、照明強度補正デバイスの更に別の実施形態３６を閲覧者の視線方向がｚ方向に沿って向けられた平面図で前と同じく略示している。
【００６１】
補正デバイス３６は、湾曲した照明視野１８、すなわち、弓形視野に対する実施形態に関わるものである。そのような弓形視野は、原理的に従来技術から既に一般に知られているように、図７に記載の視野ファセットミラー６を用いて生成することができる。
【００６２】
図１から図３を参照して上述したものに対応する補正デバイス３６の構成要素は同じ参照番号を伴い、これらに対しては再度詳細に解説することはしない。補正デバイス３６は、ここでもまた、強度補正の個々の絞り２７IK及び視野画定の個々の絞り２７FBを有する。
【００６３】
補正デバイス３６の個々の絞り２７の端部３７、すなわち、末端縁は、照明視野１８の弓形境界形状に適応化される。末端縁３７は、この弓形境界形状に適応化された方式で傾斜して先細になるように具現化される。それぞれの強度補正の個々の絞り２７IKのｘ位置に基づいて、末端縁は、例えば、バー軸に対して３０°、４０°、４５°、５０°、又は６０°の角度で傾斜して先細になる方式で成形することができる。これに代えて又はこれに加えて、末端縁３７はまた、弓形照明視野１８に適応化される方式で弓形に湾曲したものとして具現化することができる。
【００６４】
投影露光中に、最初に、レチクル１７と、照明光３に対して感光性を有するコーティングを担持するウェーハ２２とが与えられる。次いで、レチクル１７の区画、すなわち、照明される原像３２が、投影露光装置１を用いてウェーハ２２上に投影される。最後に、照明光３によって露光されたウェーハ２２上の感光層が現像される。微細又はナノ構造化構成要素、例えば、半導体チップは、このようにして生成される。
【符号の説明】
【００６５】
２４  照明強度補正デバイス
２８  バー軸
３０  強度補正変位アクチュエータ
３１  視野画定変位アクチュエータ
３２  原像
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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