(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜対象物の表面に形成され、ニッケルクロム酸化物を含む膜からなり、ＪＩＳ  Ｚ  ２８０１に準拠した方法で測定した抗菌活性値Ｒが、２．０以上であることを特徴とする抗菌膜。
【請求項２】
ニッケルクロム酸化物を含み、ＪＩＳ  Ｚ  ２８０１に準拠した方法で測定した抗菌活性値Ｒが、２．０以上であることを特徴とする抗菌剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抗菌膜及び抗菌剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
銀や銅等の抗菌作用（抗菌性）を有する金属を利用した抗菌材料が知られている。例えば、特許文献１には、銀成分を含有する抗菌性微粒子を分散させたハードコート層が、フィルム状の基材表面に形成された抗菌フィルムが示されている。この抗菌フィルムでは、ハードコート層の表面から露出した銀成分（抗菌性微粒子）が抗菌作用を発揮する。
【０００３】
また、特許文献２には、不織布等の布の表面に、スパッタリング法によって銀や銅等の金属層が形成された抗菌布が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−２０３９３５号公報
【特許文献２】特開２００１−２４８０６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
銀や銅等は優れた抗菌性を有するものの、酸化等によって抗菌性が失われ易く、持続性が低いという問題があった。
【０００６】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、持続性に優れる新規な抗菌膜及び抗菌剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、前記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、一般的に発熱素子材料や、めっき等の下地層等として用いられ、抗菌用途で用いられないニッケルクロム合金を、酸化することによって得られるニッケルクロム酸化物が、抗菌作用を発現し、かつその抗菌作用が持続的に発現することを見出し、本発明の完成に至った。
【０００８】
本発明に係る抗菌膜は、成膜対象物の表面に形成され、ニッケルクロム酸化物を含む膜からなることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明に係る抗菌剤は、ニッケルクロム酸化物を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、持続性に優れる新規な抗菌膜及び抗菌剤を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態に係る抗菌膜が成膜対象物である透明な基材フィルムの一方の面上に形成されてなる抗菌フィルムの模式的な断面図
【図２】直方体状の成膜対象物の複数の表面に亘って抗菌膜が形成されてなる抗菌材料を模式的に表した説明図
【図３】抗菌膜を部分的に露出させる開口部を有する保護層が、抗菌膜上に形成された状態を模式的に表した説明図（平面図）
【図４】抗菌領域と非抗菌領域とを含む抗菌膜を模式的に表した説明図（平面図）
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（抗菌剤）
本発明の抗菌剤は、ニッケル（Ｎｉ）とクロム（Ｃｒ）の合金であるニッケルクロム合金が、酸素で酸化されることによって得られるニッケルクロム酸化物を、抗菌物質として含むものからなる。
【００１３】
抗菌剤の形態としては、抗菌物質であるニッケルクロム酸化物が抗菌作用（抗菌性）を発揮できるものであれば特に制限はなく、例えば、後述する抗菌膜のような膜状であってもよいし、粉末状（微粒子状）であってもよい。また、抗菌剤としては、無機物質や有機物質等からなる粉末状（微粒子状）の芯材に、抗菌物質であるニッケルクロム酸化物を担持させたものとしてもよい。
【００１４】
粉末状の抗菌剤は、例えば、ハードコート層等の塗膜中に分散させて用いられる。なお、抗菌剤の好ましい形態としては、抗菌物質であるニッケルクロム酸化物を全面的に露出させ易く、持続的な抗菌性を発揮させ易い等の観点より、ニッケルクロム酸化物の膜状物（抗菌膜）であることが好ましい。以下、抗菌膜について詳細に説明する。
【００１５】
（抗菌膜）
抗菌膜は、成膜対象物の表面に形成され、ニッケルクロム酸化物を含む膜からなる。図１は、本発明の一実施形態に係る抗菌膜１が成膜対象物である透明な基材フィルム２の一方の面上に形成されてなる抗菌フィルム３の模式的な断面図である。
【００１６】
抗菌膜を構成するニッケルクロム酸化物は、ニッケルクロム合金が酸素で酸化されたものからなる。抗菌膜中に含まれるニッケル（Ｎｉ）とクロム（Ｃｒ）の成分比（質量比）は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、Ｎｉ：Ｃｒ＝７０：３０〜８５：１５が挙げられる。
【００１７】
抗菌膜中に含まれる酸素（酸素原子）の量は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はない。なお、後述するように、抗菌膜中に含まれる酸素量を適宜、調節すると、抗菌膜が透明化する。
【００１８】
抗菌膜中には、ニッケル、クロム、酸素以外に、本発明の目的を損なわない範囲で、他の成分が含まれてもよい。
【００１９】
抗菌膜の膜厚は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、２ｎｍ〜１００ｎｍの範囲に設定される。なお、抗菌膜の膜厚は、後述する方法によって測定される。
【００２０】
抗菌膜の形成方法（成膜方法）としては、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択される。抗菌膜の形成方法としては、例えば、真空蒸着法（電子線ビーム蒸着法、抵抗加熱蒸着法）、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、イオンアシスト法、レーザーアブレーション法等の物理的気相成長（ＰＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の化学的気相成長（ＣＶＤ）法等が挙げられる。これらの中でも、物理的気相成長（ＰＶＤ）法が好ましく、特に、スパッタリング法が好ましい。スパッタリング法としては、例えば、ニッケルクロム合金をターゲットとしつつ、アルゴン等の不活性ガスと共に反応性ガスとして酸素を使用した酸化反応性スパッタリングが挙げられる。
【００２１】
酸化反応性スパッタリングにおいて、スパッタリング装置のチャンバー内に供給される不活性ガス（Ａｒ）及び反応性ガス（Ｏ２）の混合ガス中におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）を適宜、調節することによって、抗菌膜中に含まれる酸素量を調節することができる。例えば、酸化反応性スパッタリングにおいて、前記混合比率を大きくすると、抗菌膜中の酸素量を多くできる傾向がある。
【００２２】
抗菌膜を、酸化反応性スパッタリングを利用して形成する場合、スパッタリング装置のチャンバー内に供給される不活性ガス（Ａｒ）及び反応性ガス（Ｏ２）の混合ガス中におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）の範囲は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、０．０５〜１．２０が好ましい。前記混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）がこのような範囲であると、抗菌作用を有する抗菌膜を確実に得ることができる。
【００２３】
抗菌膜が形成される成膜対象物としては、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はない。成膜対象物としては、例えば、樹脂、ゴム、ガラス、紙、繊維、布、不織布、金属等の様々な材料が挙げられる。成膜対象物としては、平坦な表面を有するものに限られず、表面が凹凸状のものであってもよい。抗菌膜は、それらの表面に対して追従するように形成される。
【００２４】
また、成膜対象物としては、図１に示されるような、フィルム状の基材（基材フィルム２）であってもよい。
【００２５】
前記基材に使用される樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリイミド樹脂（ＰＩ）、ポリエチレンナフタレート樹脂（ＰＥＮ）、ポリフェニレンサルファイド樹脂（ＰＰＳ）等が挙げられる。
【００２６】
また、成膜対象物としては、三次元的な立体形状物であってもよい。図２は、直方体状の成膜対象物２１の複数の表面に亘って抗菌膜１１が形成されてなる抗菌材料３１を模式的に表した説明図である。図２に示されるように、抗菌膜１１は、直方体状の成膜対象物２１の表面を覆うように形成されてもよい。なお、立体形状物としては、球面等の曲面を備えるものであってもよく、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はない。
【００２７】
抗菌膜は、成膜対象物の表面に対し、直接、形成してもよいし、下地層等の他の層を介して形成してもよい。なお、抗菌膜は、ニッケルクロム酸化物を含むため、成膜対象物によっては、成膜対象物に対する密着性に優れる。例えば、成膜対象物が、ＰＥＴ等の樹脂や金属等からなる場合、抗菌膜は、密着性に優れ、成膜対象物に対して直接、形成することができる。
【００２８】
成膜対象物に対する抗菌膜の形成範囲は、特に制限されるものではなく、適宜、設定される。例えば、抗菌膜は、成膜対象物の全面に形成されてもよいし、部分的に形成されてもよい。
【００２９】
抗菌膜は、抗菌性（抗菌作用）を発揮するために、通常は、成膜対象物の最表面に形成される。なお、抗菌膜を部分的に露出させる開口部を有する保護層を、抗菌膜上に形成してもよい。図３は、抗菌膜１２を部分的に露出させる開口部４を有する保護層４１が、抗菌膜１２上に形成された状態を模式的に表した説明図（平面図）である。保護層４１としては、例えば、公知の透明な樹脂製おハードコート層が用いられる。図３に示されるように、本発明の目的を損なわない限り、抗菌膜１２上に、保護層４１等の他の層が形成されてもよい。
【００３０】
また、抗菌膜としては、抗菌作用を有する領域（抗菌領域）と、抗菌作用を示さない領域（非抗菌領域）とを１つの膜（抗菌膜）中に含むものであってもよい。その際、抗菌領域は、最表面に形成されたニッケルクロム酸化物膜からなり、非抗菌領域は、最表面に形成されたニッケルクロム膜からなる。
【００３１】
図４は、抗菌領域１３Ａ，１３Ａと非抗菌領域５Ｂ，５Ｂとを含む抗菌膜１３を模式的に表した説明図（平面図）である。抗菌膜１３は、抗菌領域１３Ａと非抗菌領域５Ｂとが交互に並ぶように形成されている。抗菌領域１３Ａ及び非抗菌領域５Ｂは、一体的に形成されている。抗菌膜１３は、例えば、以下に示される方法により、形成することができる。
【００３２】
抗菌膜１３を、酸化反応性スパッタリングを利用して形成する場合、例えば、スパッタリング装置のチャンバー内に不活性ガス（Ａｒ）のみを供給して（つまり、Ｏ２量／Ａｒ量＝０）、所定の成膜対象物の表面上に、ニッケルクロム膜を形成する。そして、そのニッケルクロム膜のうち、非抗菌領域５Ｂ，５Ｂとする部分のみに所定のマスキングを施し、その状態で、スパッタリング装置のチャンバー内に供給される不活性ガス（Ａｒ）及び反応性ガス（Ｏ２）の混合ガス中におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）の範囲を、例えば、０．１０〜１．２０の範囲に設定することによって、ニッケルクロム膜上に、ニッケルクロム酸化物からなる抗菌領域１３Ａ，１３Ａを形成する。このようにして、抗菌膜１３を形成することができる。
【００３３】
（透明抗菌膜）
抗菌膜は、ニッケルクロム酸化物中に含まれる酸素量を調節することによって、透明性（光透過性）を調節することができる。抗菌膜は、ニッケルクロム酸化物中に含まれる酸素量が所定範囲であると、透明性（光透過性）に優れる。本明細書において、透明性（光透過性）に優れた抗菌膜を特に、「透明抗菌膜」と称する場合がある。透明抗菌膜の全光線透過率（％）は、少なくとも７０．０％以上であり、好ましくは７５．０％以上であり、より好ましくは８０．０％以上である。なお、透明抗菌膜の全光線透過率（％）は、後述する方法によって測定される。
【００３４】
透明抗菌膜の膜厚は、透明抗菌膜の全光線透過率（％）が上記範囲となれば、特に制限はないが、例えば、２ｎｍ〜１０ｎｍの範囲に設定される。
【００３５】
透明抗菌膜を、酸化反応性スパッタリングを利用して形成する場合、スパッタリング装置のチャンバー内に供給される不活性ガス（Ａｒ）及び反応性ガス（Ｏ２）の混合ガス中におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）の範囲は、好ましくは０．１０〜１．２０であり、より好ましくは０．２０〜１．１０であり、更に好ましくは０．３０〜１．１０である。前記混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）がこのような範囲であると、優れた透明性を有すると共に、持続的な抗菌性を有する透明抗菌膜が得られる。
【００３６】
透明抗菌膜は、透明な成膜対象物のみならず、不透明な成膜対象物に形成されてもよい。
【００３７】
透明抗菌膜のｂ値は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、好ましくは２．５以下であり、より好ましくは２．０以下であり、更に好ましくは１．５以下である。なお、ｂ値とは、抗菌膜の色調を評価するための指標であり、黄色−青系の色相を表す。このｂ値が高くなると、透明抗菌膜の黄色味が増加することになる。つまり、ｂ値が、上記のような範囲であると、透明抗菌膜の黄色味が抑制され、透明抗菌膜の無色透明性が確保される。ｂ値は、後述する方法によって測定される。
【００３８】
なお、透明抗菌膜は、ニッケルクロム酸化物中に含まれる酸素量を調節することによって、透明性（光透過性）のみならず、非導電性にも優れるものとなる。このような透明抗菌膜の表面抵抗（Ω／□）は、好ましくは１．０×１０１０（Ω／□）以上であり、より好ましくは、３．０×１０１１（Ω／□）以上である。特に、透明抗菌膜を、酸化反応性スパッタリングを利用して形成する場合、前記混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）が、０．２０以上、より好ましくは０．３０以上であると、透明抗菌膜は、優れた絶縁性を有する。
【００３９】
また、透明抗菌膜としては、光透過性に優れる領域（光透過領域）と、光透過性が抑制された領域（光透過抑制領域）とを１つの膜（抗菌膜）中に含むものであってもよい。
【００４０】
このような透明抗菌膜を、酸化反応性スパッタリングを利用して形成する場合、例えば、スパッタリング装置のチャンバー内に供給される不活性ガス（Ａｒ）及び反応性ガス（Ｏ２）の混合ガス中におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）の範囲を、例えば、０．１０〜１．２０の範囲に設定することによって、所定の成膜対象物の表面上に、透明なニッケルクロム酸化物膜を形成する。そして、そのニッケルクロム酸化物膜のうち、光透過領域とする部分のみに、所定のマスキングを施し、その状態でスパッタリング装置のチャンバー内に不活性ガス（Ａｒ）のみを供給して（つまり、Ｏ２量／Ａｒ量＝０）、マスキングされていない残りのニッケルクロム酸化物膜の表面上に、ニッケルクロム膜を形成して光透過抑制領域とする。このようにして、１つの膜中に、光透過領域と、光透過抑制領域とを含む透明抗菌膜を形成することができる。
【００４１】
なお、前記光透過領域は、非導電性領域となっており、前記光透過抑制領域は、導電性領域となっている。
【００４２】
以上のような本発明の抗菌膜は、持続的な抗菌性に優れる。また、本発明の抗菌膜は、抗菌物質として、ニッケルクロム酸化物を使用するため、銀等の従来の高価な抗菌物質と比べて、コスト的にも優れている。
【００４３】
特に、透明抗菌膜は、持続的な抗菌性に優れると共に、更に、光透過性、及び非導電性にも優れている。透明抗菌膜は、光透過性に優れているため、その下側に配されている成膜対象物の表面（色、文字、図形等の各種情報）を、透明抗菌膜越しに容易に視認することができる。また、透明抗菌膜は、非導電性にも優れているため、電気的なショートやノイズの発生を防止したい箇所での使用に好適である。
【００４４】
なお、本発明における抗菌膜の抗菌性（抗菌作用）、及び抗菌作用の持続性の評価は、後述する方法によって行われる。
【００４５】
本発明の抗菌膜は、医療機器、生活住設関係、家電、液晶モニタ等の表示装置、窓ガラス等の様々な技術分野で利用することが可能である。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。なお、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【００４７】
なお、以下に示される実施例、及び比較例では、ロール・トウ・ロール方式のマグネトロンスパッタリング装置を用いて、基材フィルム上に抗菌膜を成膜した。また、スパッタリング装置の各チャンバー内に供給されるガス（例えば、アルゴンガス、酸素ガス）の流量は、所定のマスフローコントローラを用いて適宜、調節した。抗菌膜中に含まれる酸素量は、以下に示されるようにスパッタリング成膜時の酸素ガス導入量で調整した。
【００４８】
〔実施例１〕
透明なＰＥＴフィルム（厚み：１００μｍ）の一方の面上に、スパッタリング（酸化反応性スパッタリング）により、以下に示される成膜条件に基づいて、ニッケルクロム酸化物からなる抗菌膜を形成し、抗菌フィルムを得た。
＜成膜条件＞
ターゲット：ＮｉＣｒ（Ｎｉ８０ｗｔ％、Ｃｒ２０ｗｔ％、住友金属鉱山株式会社製）
成膜圧力：０．４Ｐａ
ＤＣパワー：４Ｗ／ｃｍ２
不活性ガス（Ａｒ）及び反応性ガス（Ｏ２）の混合ガス中におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）：０．１３
Ｏ２量：１０ｓｃｃｍ
Ａｒ量：８０ｓｃｃｍ
【００４９】
実施例１の抗菌フィルムから、直径約５０ｍｍの円形状に試験片を切り出し、その試験片における抗菌膜の膜厚を、蛍光Ｘ線分析装置（リガク社製、ＺＳＸ−１００ｅ）を用いて測定した。実施例１における抗菌膜の厚みは、３．０ｎｍであった。なお、後述するその他の実施例及び比較例における膜厚についても、実施例１と同様の方法で測定した。
【００５０】
〔実施例２〕
実施例１の成膜条件におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）を、０．３３に替えたこと（Ｏ２量：２０ｓｃｃｍ、Ａｒ量：６０ｓｃｃｍ）以外は、実施例１と同様にして、抗菌フィルムを得た。抗菌膜の膜厚は、２．９ｎｍであった。
【００５１】
〔実施例３〕
実施例１の成膜条件におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）を、０．５０に替えたこと（Ｏ２量：３０ｓｃｃｍ、Ａｒ量：６０ｓｃｃｍ）以外は、実施例１と同様にして、抗菌フィルムを得た。抗菌膜の膜厚は、２．９ｎｍであった。
【００５２】
〔実施例４〕
実施例１の成膜条件におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）を、０．６７に替えたこと（Ｏ２量：４０ｓｃｃｍ、Ａｒ量：６０ｓｃｃｍ）以外は、実施例１と同様にして、抗菌フィルムを得た。抗菌膜の膜厚は、３．０ｎｍであった。
【００５３】
〔実施例５〕
実施例１の成膜条件におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）を、０．８３に替えたこと（Ｏ２量：５０ｓｃｃｍ、Ａｒ量：６０ｓｃｃｍ）以外は、実施例１と同様にして、抗菌フィルムを得た。抗菌膜の膜厚は、３．１ｎｍであった。
【００５４】
〔実施例６〕
実施例１の成膜条件におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）を、１．００に替えたこと（Ｏ２量：６０ｓｃｃｍ、Ａｒ量：６０ｓｃｃｍ）以外は、実施例１と同様にして、抗菌フィルムを得た。抗菌膜の膜厚は、３．１ｎｍであった。
【００５５】
〔比較例１〕
実施例１の成膜条件におけるＯ２の混合比率（Ｏ２量／Ａｒ量）を、０に替えたこと（Ｏ２量：０ｓｃｃｍ、Ａｒ量：６０ｓｃｃｍ）以外は、実施例１と同様にして、透明なＰＥＴフィルムの一方の面上に、スパッタリングにより、ニッケルクロムからなる膜（ニッケルクロム膜）を形成し、ニッケルクロム膜付きフィルムを得た。ニッケルクロム膜の膜厚は、３．０ｎｍであった。
【００５６】
〔比較例２〕
透明なＰＥＴフィルム（厚み：１００μｍ）の一方の面上に、スパッタリングにより、以下に示される成膜条件に基づいて、ステンレス鋼（ＳＵＳ）からなる抗菌膜（ＳＵＳ膜）を形成し、抗菌フィルムを得た。抗菌膜の膜厚は、５０．０ｎｍであった。
＜成膜条件＞
ターゲット：ＳＵＳターゲット（日本冶金工業株式会社製）
成膜圧力：０．４Ｐａ
ＤＣパワー：４Ｗ／ｃｍ２
【００５７】
〔比較例３〕
透明なＰＥＴフィルム（厚み：１００μｍ）の一方の面上に、スパッタリングにより、以下に示される成膜条件に基づいて、銅からなる抗菌膜を形成し、抗菌フィルムを得た。抗菌膜の膜厚は、５０．０ｎｍであった。
＜成膜条件＞
ターゲット：Ｃｕターゲット（三菱伸銅株式会社製）
成膜圧力：０．４Ｐａ
ＤＣパワー：４Ｗ／ｃｍ２
【００５８】
〔評価１：抗菌性〕
実施例１〜６の抗菌膜における抗菌性を以下に示される方法で評価しまた。また、比較例２，３の抗菌膜についても、同様に抗菌性を評価した。
【００５９】
各実施例及び各比較例で得られた抗菌フィルムからそれぞれ試験片（サイズ：５ｃｍ角）を切り出し、その試験片を用いて、ＪＩＳ  Ｚ  ２８０１に準拠して、抗菌活性値Ｒを測定した。対象菌種は、大腸菌及び黄色ブドウ球菌である。
【００６０】
抗菌活性値Ｒは、下記式（１）で求められる。なお、抗菌活性値Ｒが、２．０以上であれば、抗菌性（抗菌効果）があると認められる。
Ｒ＝ｌｏｇ［（Ｂ／Ａ）−ｌｏｇ（Ｃ／Ａ）］＝［ｌｏｇ（Ｂ／Ｃ）］・・・・・（１）
Ｒ：抗菌活性値
Ａ：無加工試験片の接種直後の平均生菌数（個）
Ｂ：無加工試験片の２４時間後の平均生菌数（個）
Ｃ：抗菌加工試験片の２４時間後の平均生菌数（個）
【００６１】
なお、上記式（１）中のＡの平均生菌数（個）については、通常の方法で測定し、また上記式（１）中のＢ及びＣの平均生菌数（個）についても、以下に示される通常の方法で測定した。試験片をシャーレ内に入れ、その試験片の表面に１／５００普通ブイヨン培地で調製した菌液を滴下し、その菌液に所定のフィルムを密着するように被せた状態で、３５℃で２４時間培養した。そして、その試験片上の菌液について、生菌数（２４時間後の平均生菌数）を測定した。
【００６２】
実施例１〜６及び比較例２，３の抗菌フィルムの抗菌性の評価結果は、表１に示した。
【００６３】
〔評価２：抗菌作用の持続性〕
各実施例を代表して実施例２で得られた抗菌フィルムについては、以下に示されるヒートサイクル試験を行った後に、上述したＪＩＳ  Ｚ  ２８０１に準拠した方法により、抗菌活性値Ｒを測定した。評価結果は、表１に示した。
【００６４】
（ヒートサイクル試験）
ヒートサイクル試験（熱衝撃試験）は、低温側保持温度：−２０℃、低温側保持時間：２時間、高温側保持温度：７０℃、高温側保持時間：２時間、昇温時間：１時間、降温時間：１時間の条件の下、低温保持、昇温、高温保持、降温を１サイクル６時間として、合計１００時間行った。試験は常温から開始し、常温から昇温１時間、高温保持２時間及び降温１時間（合計４時間）を行ってから、１サイクル目を開始した。なお、ヒートサイクル試験としては、常温から降温１時間、低温保持２時間及び昇温１時間を行ってから、高温保持、降温、低温保持、昇温を１サイクル６時間として、行ってもよい。
【００６５】
【表１】
0006379402.tif 000002
【００６６】
表１に示されるように、各実施例におけるニッケルクロム酸化物からなる抗菌膜は、比較例２のＳＵＳ膜からなる抗菌膜及び比較例３のＣｕ膜からなる抗菌膜と同等以上の抗菌性を備えていることが確かめられた。また、ヒートサイクル試験後の実施例２の抗菌膜についても、十分な抗菌性を備えていることが確かめられた。なお、ニッケルクロム膜について、同様の抗菌性評価を行ったところ、各実施例における抗菌膜のような抗菌性は認められなかった。
【００６７】
〔評価３：全光線透過率〕
上記実施例１〜６及び比較例１で得られた抗菌フィルム等から試験片（サイズ：５ｃｍ角）を切り出し、その試験片を用いて全光線透過率（％）を測定した。全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６に準拠し、ヘーズメーター（ＨＺ−２、スガ試験機株式会社製）を用いて測定した。結果は、表２に示した。
【００６８】
〔評価４：ｂ値〕
上記実施例１〜６及び比較例１で得られた抗菌フィルム等から試験片（サイズ：５ｃｍ角）を切り出し、その試験片を用いてｂ値を測定した。ｂ値は、ＪＩＳ  Ｚ８７２９に準拠し、カラーメーター（Ｃｏｌｏｕｒ  ｃｕｔｅ  ｉ、スガ試験機株式会社製）を用いて測定した。結果は、表２に示した。
【００６９】
〔評価４：表面抵抗〕
上記実施例１〜６及び比較例１で得られた抗菌フィルム等から試験片（サイズ：５ｃｍ角）を切り出し、その試験片を用いて、ＭＣＣ−Ｂ法（三菱化学法）に準拠しつつ表面抵抗値（Ω／□）を測定した。測定装置としては、Ｈｉｒｅｓｔａ−ＵＰ  ＭＣＰ−ＨＴ４５０（三菱化学株式会社製）を用いた。測定装置のプローブ（電極）を、試験片の抗菌膜（比較例１の場合は、ニッケルクロム膜）の表面に押し当て、その表面を流れる電流値（温度条件：２０℃）を測定し、その電流値から表面抵抗値（Ω／□）を求めた。結果は、表２に示した。
【００７０】
【表２】
0006379402.tif 000003
【００７１】
表２に示されるように、実施例１〜６の抗菌膜については、全光線透過率（％）が７０．０％以上であり、透明性に優れるものであった。特に、実施例２〜６の抗菌膜は、表面抵抗値（Ω／□）が１．０×１０１０（Ω／□）以上であり、非導電性に優れるものであった。
【符号の説明】
【００７２】
１，１１，１２，１３…抗菌膜、２…基材フィルム（成膜対象物）、３…抗菌フィルム（抗菌材料）、４…開口部、４１…保護層、１３Ａ…抗菌領域、５Ｂ…非抗菌領域
【図１】
0006379402.tif 000004
【図２】
0006379402.tif 000005
【図３】
0006379402.tif 000006
【図４】
0006379402.tif 000007