(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネマチック液晶化合物およびキラル剤を含み、重合された層である、ツイスト配向されたネマチック液晶層であり、
前記ネマチック液晶化合物は、その光軸が仮想の螺旋軸に沿ってねじれながら層を成して配向した螺旋形構造を有し、
前記ツイスト配向されたネマチック液晶層の厚さが、前記螺旋形構造で前記ネマチック液晶化合物が３６０度の回転を完成するために要求される距離であるピッチ未満であり、ねじれ角が５０度〜３００度の範囲内にある、前記ツイスト配向されたネマチック液晶層を含み、
前記ツイスト配向されたネマチック液晶層の厚さをＸ軸とし、該厚さに存在する液晶化合物の光軸と前記ツイスト配向されたネマチック液晶層の最下部(Ｘが０である位置)に存在する液晶化合物の光軸が成す角度をＹ軸として図示したグラフが、非線形グラフであり、
前記ツイスト配向されたネマチック液晶層は、下記数式１を満足する光学フィルム。
（数１）
Ｒ(６５０)/Ｒ(５５０)＞Ｒ(５５０)/Ｒ(５５０)＞Ｒ(４５０)/Ｒ(５５０)
数式１で、Ｒ(６５０)は、６５０ｎｍ波長の光に対する前記ツイスト配向されたネマチック液晶層の面上位相差であり、Ｒ(５５０)は、５５０ｎｍ波長の光に対する前記ツイスト配向されたネマチック液晶層の面上位相差であり、Ｒ(４５０)は、４５０ｎｍ波長の光に対する前記ツイスト配向されたネマチック液晶層の面上位相差である。
【請求項２】
前記Ｒ(６５０)/Ｒ(５５０)が１.０１〜１.１９の範囲内にあり、前記Ｒ(４５０)/Ｒ(５５０)が０.８１〜０.９９の範囲内にある請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記グラフは、傾斜が前記ツイスト配向されたネマチック液晶層の厚さの増加に沿って増加する部位を含む請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記ツイスト配向されたネマチック液晶層の５５０ｎｍの波長の光に対する面上位相差が、１１０ｎｍ〜２２０ｎｍの範囲内または２４０ｎｍ〜３５０ｎｍの範囲内にある請求項１から３のいずれか1項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記ツイスト配向されたネマチック液晶層は、厚さが０.１μｍ〜１０μｍの範囲内である請求項１から４のいずれか1項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記ツイスト配向されたネマチック液晶層の一面に形成される基材層をさらに含む請求項１から５のいずれか1項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか1項に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの一側に配置されている位相差フィルムと、
を含む光学積層体。
【請求項８】
位相差フィルムの遅相軸と前記光学フィルムの前記ツイスト配向されたネマチック液晶層で前記位相差フィルムと一番隣接して位置されたネマチック液晶化合物の光軸が成す角度が、５度〜９０度の範囲内にある請求項７に記載の光学積層体。
【請求項９】
偏光層をさらに含む請求項７に記載の光学積層体。
【請求項１０】
偏光層、位相差フィルム及び光学フィルムを順次含み、前記偏光層の光吸収軸と前記位相差フィルムの遅相軸が成す角度が、１０度〜２０度の範囲内にあり、前記位相差フィルムの遅相軸と前記光学フィルムの前記ツイスト配向されたネマチック液晶層で前記位相差フィルムと一番隣接して位置したネマチック液晶化合物の光軸が成す角度が、８度〜１６度の範囲内にある請求項７または８に記載の光学積層体。
【請求項１１】
偏光層、位相差フィルム及び光学フィルムを順次含み、前記位相差フィルムの遅相軸と偏光層の光吸収軸は垂直を成し、前記光学フィルムの前記ツイスト配向されたネマチック液晶層で前記位相差フィルムに一番近い液晶化合物の光軸が前記位相差フィルムの遅相軸と成す角度は、５０度〜７０度の範囲内にある請求項７に記載の光学積層体。
【請求項１２】
偏光層、位相差フィルム及び光学フィルムを順次含み、前記位相差フィルムの遅相軸と偏光層の光吸収軸は、同じ方向であり、前記光学フィルムの前記ツイスト配向されたネマチック液晶層で前記位相差フィルムに一番近い液晶化合物の光軸が前記位相差フィルムの遅相軸と成す角度は、１５度〜３５度の範囲内にある請求項７に記載の光学積層体。
【請求項１３】
前記ツイスト配向されたネマチック液晶層のねじれ角は、６０度〜８５度の範囲内にある請求項１２に記載の光学積層体。
【請求項１４】
ネマチック液晶化合物、キラル剤及び重合開始剤を含む液晶コーティング層に前記キラル剤のコーティング層の厚さによる濃度変化を誘導する段階と、
前記キラル剤の濃度変化が誘発された状態で前記ネマチック液晶化合物を重合させる段階と、
を含み、
前記濃度変化の誘導及び液晶化合物の重合段階は、紫外線Ａ領域の紫外線を４０℃〜８０℃の温度で、１０ｍＪ/ｃｍ２〜５００ｍＪ/ｃｍ２の光量で液晶コーティング層に照射する過程及び紫外線を０.５Ｊ/ｃｍ２〜１０Ｊ/ｃｍ２の光量でキラル剤の濃度変化がある液晶コーティング層に照射する過程を含む請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１５】
請求項１に記載の光学フィルムまたは請求項７の記載の光学積層体を含むディスプレイ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、光学積層体及びディスプレイ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学的に異方性を示すフィルムは、多様な用途に使用することができる。このようなフィルムは、例えば、ＬＣＤ(Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ)の光特性を調節するか、光利用効率を改善するか、ＯＬＥＤ(Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｅｖｉｃｅ)などで反射防止と視認性を確保するための用途で使用することができる。また、前記のようなフィルムは、立体映像を生成するか、その立体映像の品質を改善するために使用することもできる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平８−３２１３８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、光学フィルム、光学積層体及びディスプレイ装置を提供する。本発明では、液晶層を含む光学フィルムで前記液晶層内の液晶化合物の配列形態を調節することで、単一層であると共に、いわゆる逆波長分散特性を有する光学フィルムを提供することを一つの主要な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、光学フィルムに関する。例示的な光学フィルムは、液晶層を含むことができる。前記液晶層は、ツイスト配向されたネマチック液晶化合物(Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ)を含み、前記液晶化合物は、前記のように配向された状態で重合されて液晶層を形成している。以下、本明細書では、ＴＮ型液晶化合物は、ＴＮと略称し、前記ＴＮを含む液晶層は、ＴＮ層と称することができる。
【０００６】
ＴＮは、ネマチック液晶化合物の光軸が仮想の螺旋軸に沿ってねじれながら層を成して配向した螺旋形構造を有する点で、いわゆるコレステリック配向された液晶層(ＣＬＣ：Ｃｈｏｌｅｓｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ)と類似であるが、前記液晶化合物のねじれ角が３６０度未満の点でＣＬＣとは異なる。前記用語「液晶化合物の光軸」は、液晶化合物の長軸方向を意味することができる。ＴＮのＣＬＣとの前記差によってＴＮ層の厚さはピッチ(ｐｉｔｃｈ)未満である。前記用語「ピッチ(ｐｉｔｃｈ)」は、ＴＮが３６０度の回転を完成するために要求される距離を意味する。
【０００７】
前記ＴＮの配向形態を説明するために、まず、ＣＬＣの配向形態に対して、図１を参照して説明する。
【０００８】
図１を参照すれば、ＣＬＣは、液晶化合物の光軸方向(図１のｎ)が螺旋軸(図１のＸ)に沿ってねじれながら層を成して配向した螺旋形の構造を有する。前記螺旋軸は、ＣＬＣにより定まる仮想の線である。ＣＬＣの構造において液晶化合物の光軸が３６０度の回転を完成するまでの距離(図１のＰ)を「ピッチ(ｐｉｔｃｈ)」と称する。
【０００９】
ＴＮの場合、配向形態は、前記ＣＬＣと類似であるが、液晶層の厚さが前記ピッチ(図１のＰ)未満であるので、液晶化合物の回転角度が３６０度未満である。
【００１０】
ＴＮ層において、ＴＮのねじれ角は、５０度〜３６０度の範囲内にあることができる。本発明で用語「ＴＮのねじれ角」は、ＴＮ層において一番下部に存在する液晶化合物の光軸とＴＮ層の一番上部に存在する液晶化合物の光軸が成す角度である。本発明で用語「ＴＮ層の上部または下部」は、相対的な位置関係を定めるための概念である。すなわち、ＴＮ層のいずれか一つの表面を下部と称する際に、その反対側の表面は上部で定義することができ、この時、下部で定義された表面は、必ずＴＮ層の適用時に下部にある必要はない。前記ねじれ角は、他の例示で、６０度以上、７０度以上または７５度以上である。前記ねじれ角は、また他の例示で、２９０度以下、２８０度以下、２７０度以下、２６０度以下、２５０度以下、２４０度以下、２３０度以下、２２０度以下、２１０度以下、２００度以下、１９０度以下、１８０度以下、１７０度以下、１６０度以下、１５０度以下、１４０度以下、１３０度以下、１２０度または１１０度以下である。
【００１１】
前記ねじれ角は、前記光学フィルムの適用用途に応じて適切に変更することができる。
【００１２】
本発明でＴＮ層は、目的とする効果の確保のためにその配向をさらに調節することができる。すなわち、ＴＮ層で螺旋軸に沿って回転する液晶化合物の回転角、すなわち、ＴＮ層の一番下部の液晶化合物の光軸に対する前記液晶化合物の光軸の角度の厚さによる変化は非線形的である。このような配向により後述する目的、すなわち、いわゆる逆波長分散特性を有する液晶層を形成することができる。
【００１３】
例えば、ＴＮ層の下部から上部方向への厚さ変化をＸ軸とし、該当厚さに存在する液晶化合物の光軸方向がＴＮ層の一番下部に存在する液晶化合物の光軸方向と成す角度をＹ軸として示したグラフは、非線形グラフである。図２を参照すれば、前記グラフが線形の場合(図２の２０１)、すなわち、液晶化合物の回転角の変化が一定に起きる場合には、目的とする効果が容易に確保されないこともある。これに対して、前記グラフが非線形の場合(例えば、図２の２０２)、すなわち、液晶化合物の回転角の変化が一定ではないように起きる場合には、目的とする効果が確保されることができる。このような非線形グラフ形態のＴＮ層は、製造過程でネマチック液晶化合物の回転力(ｔｗｉｓｔｉｎｇ ｐｏｗｄｅｒ)を厚さ別に相違に制御して製造することができ、これは後述のうに、キラル剤の濃度を調節して実行することができる。
【００１４】
目的とする物性をより効果的に達成するために、本発明のＴＮ層の前記グラフでは、グラフの傾斜がＴＮ層の厚さが増加することによって(すなわち、グラフのＸ軸の数値が増加することによって)一緒に増加する部位を含む非線形グラフで示すことができる。
【００１５】
本発明のＴＮ層は、前記のような特定の配向により、いわゆる逆波長分散特性(ｒｅｖｅｒｓｅ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ)を示す。本発明で逆波長分散特性は、下記数式１を満足する状態を意味することができる。
【００１６】
（数１）
Ｒ(６５０)/Ｒ(５５０)＞Ｒ(５５０)/Ｒ(５５０)＞Ｒ(４５０)/Ｒ(５５０)
【００１７】
数式１で、Ｒ(６５０)は、６５０ｎｍ波長の光に対する前記液晶層の面上位相差であり、Ｒ(５５０)は、５５０ｎｍ波長の光に対する前記液晶層の面上位相差であり、Ｒ(４５０)は、４５０ｎｍ波長の光に対する前記液晶層の面上位相差である。
【００１８】
前記各波長に対する面上位相差は、下記数式２により定まることができる。
【００１９】
（数２）
Ｒ(λ)＝ｄ×(Ｎｘ−Ｎｙ)
【００２０】
数式２で、Ｒ(λ)は、波長がλｎｍである光に対するＴＮ層の面上位相差であり、ｄは、ＴＮ層の厚さであり、Ｎｘは、ＴＮ層の遅相軸方向、すなわち、面上で一番高い屈折率を示す方向の波長がλｎｍである光に対する屈折率であり、Ｎｙは、ＴＮ層の進相軸方向、すなわち、面上で前記遅相軸と垂直する方向の波長がλｎｍである光に対する屈折率である。
【００２１】
数式１で、Ｒ(４５０)/Ｒ(５５０)及びＲ(６５０)/Ｒ(５５０)の具体的な範囲は、特別に限定されない。一つの例示で、数式１で、Ｒ(４５０)/Ｒ(５５０)は、０.８１〜０.９９、０.８２〜０.９８、０.８３〜０.９７、０.８４〜０.９６、０.８５〜０.９５、０.８６〜０.９４、０.８７〜０.９３、０.８８〜０.９２または０.８９〜０.９１の範囲内にあることができる。また、Ｒ(６５０)/Ｒ(５５０)は、１.０１〜１.１９、１.０２〜１.１８、１.０３〜１.１７、１.０４〜１.１６、１.０５〜１.１５、１.０６〜１.１４、１.０７〜１.１３、１.０８〜１.１２または１.０９〜１.１１の範囲内にあることができる。このような範囲で目的とする逆波長分散特性が適切に確保されることができる。
【００２２】
光学フィルムのＴＮ層は、１/４または１/２波長の位相遅延特性を有することができる。本明細書で用語「ｎ波長の位相遅延特性」は、少なくとも一部の波長範囲内で、入射光をその入射光の波長のｎ倍ほど位相遅延させることができる特性を意味する。ＴＮ層が１/４波長の位相遅延特性を有する場合には、５５０ｎｍの波長の光に対する前記ＴＮ層の面上位相差が１１０ｎｍ〜２２０ｎｍまたは１４０ｎｍ〜１７０ｎｍ程度であることができる。また、前記ＴＮ層が１/２波長の位相遅延特性を有する場合、５５０ｎｍの波長の光に対する前記ＴＮ層の面上位相差は、２４０ｎｍ〜３５０ｎｍまたは２５０ｎｍ〜３４０ｎｍの範囲内にあることができる。
【００２３】
例示的な光学フィルムにおいて、ＴＮ層の前記螺旋軸は、ＴＮ層の厚さ方向と平行に形成されている。用語「ＴＮ層の厚さ方向」は、前記ＴＮ層の最下部と最上部を最短距離で連結する仮想の線と平行な方向を意味することができる。一つの例示で、前記光学フィルムが後述のように基材層をさらに含み、前記ＴＮ層が前記基材層の一面に形成されている場合には、前記ＴＮ層の厚さ方向は、前記ＴＮ層が形成されている基材層の面と垂直した方向に形成された仮想の線と平行な方向である。また、本明細書で角度を定義しながら垂直、平行、直交または水平などの用語を使用する場合、これは目的とする効果を損傷させない範囲での実質的な垂直、平行、直交または水平を意味することで、例えば、製造誤差(ｅｒｒｏｒ)または偏差(ｖａｒｉａｔｉｏｎ)などを考慮した誤差を含む。例えば、前記各々の場合は、約±１５度以内の誤差、約±１０度以内の誤差または約±５度以内の誤差を含むことができる。
【００２４】
ＴＮ層は、例えば、０.１μｍ〜１０μｍの範囲内の厚さを有することができる。前記厚さの他の下限は、０.５μｍ、１μｍまたは１.５μｍであり、他の上限は、９μｍ、８μｍ、７μｍ、６μｍ、５μｍまたは４μｍである。ＴＮ層の厚さを前記範囲で制御することで、光学的に位相差分散特性を調節することができる。
【００２５】
一つの例示で、ＴＮ層は、液晶高分子を含むことができる。例示的なＴＮ層の製造方法は、重合性液晶化合物及び重合性または比重合性であるキラル剤(ｃｈｉｒａｌ ａｇｅｎｔ)を含む組成物をコーティングし、前記キラル剤により液晶化合物の回転を誘導した状態で前記組成物を重合させて形成することができる。この場合、前記ＴＮ層は、重合された液晶高分子を含むことができる。
【００２６】
一つの例示的なＴＮ層は、下記化学式１で表示される化合物を重合された形態で含むことができる。
【００２７】
【化１】
0006379443.tif 000002
【００２８】
化学式１で、Ａは、単一結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ１〜Ｒ１０は、各々独立的に水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは下記化学式２の置換基である。また、Ｒ１〜Ｒ１０のうち少なくとも一つは、−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは下記化学式２の置換基であり、前記Ｑは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｐは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である。
【００２９】
【化２】
0006379443.tif 000003
【００３０】
化学式２で、Ｂは、単一結合、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ１１〜Ｒ１５は、各々独立的に水素、ハロゲン、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基または−Ｏ−Ｑ−Ｐである。また、Ｒ１１〜Ｒ１５のうち少なくとも一つは、−Ｏ−Ｑ−Ｐであり、前記Ｑは、アルキレン基またはアルキリデン基であり、Ｐは、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である。
【００３１】
化学式２で、Ｂの左側の「−」は、Ｂが化学式１のベンゼンに直接連結されることを意味する。
【００３２】
化学式１及び化学式１で用語「単一結合」は、ＡまたはＢで表示される部分に別途の原子が存在しない場合を意味する。例えば、化学式１で、Ａが単一結合の場合、Ａの両側のベンゼンが直接連結されてビフェニル(ｂｉｐｈｅｎｙｌ)構造を形成することができる。
【００３３】
化学式１及び化学式２で、ハロゲンでは、塩素、臭素またはヨウ素などを例示することができる。 
【００３４】
化学式１及び化学式２で、アルキル基では、炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８または炭素数１〜４の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基または炭素数３〜２０、炭素数３〜１６または炭素数４〜１２のシクロアルキル基を例示することができる。また、前記アルキル基は、任意的に一つ以上の置換基により置換されることができる。
【００３５】
化学式１及び化学式２で、アルコキシ基では、炭素数１〜２０、炭素数１〜１６、炭素数１〜１２、炭素数１〜８または炭素数１〜４のアルコキシ基を例示することができる。前記アルコキシ基は、直鎖状、分枝鎖状または環状であることができる。また、前記アルコキシ基は、任意的に一つ以上の置換基により置換されることができる。
【００３６】
化学式１及び化学式２で、アルキレン基またはアルキリデン基では、炭素数１〜１２、炭素数４〜１０または炭素数６〜９のアルキレン基またはアルキリデン基を例示することができる。アルキレン基またはアルキリデン基は、直鎖状、分枝鎖状または環状であることができる。アルキレン基またはアルキリデン基は、任意的に一つ以上の置換基により置換されることができる。
【００３７】
化学式１及び化学式２で、アルケニル基では、炭素数２〜２０、炭素数２〜１６、炭素数２〜１２、炭素数２〜８または炭素数２〜４のアルケニル基を例示することができる。前記アルケニル基は、直鎖状、分枝鎖状または環状であることができる。また、前記アルケニル基は、任意的に一つ以上の置換基により置換されることができる。
【００３８】
前記アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルキレン基またはアルキリデン基に置換されることができる置換基では、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、エポキシ基、シアノ基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはアリール基などを例示することができるが、これに限定されるものではない。
【００３９】
化学式１及び２で、Ｐは、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であるか、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基であることができ、他の例示では、アクリロイルオキシであることができる。
【００４０】
化学式１及び化学式２で、少なくとも一つ以上存在することができる−Ｏ−Ｑ−Ｐまたは化学式２の残基は、例えば、Ｒ３、Ｒ８またはＲ１３の位置に存在することができ、例えば、１個または２個が存在することができる。また、前記化学式１の化合物または化学式２の残基で、Ｏ−Ｑ−Ｐまたは化学式２の残基以外の置換基は、例えば、水素、ハロゲン、炭素数１〜４の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基、炭素数４〜１２のシクロアルキル基、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基であることができ、好ましくは、塩素、炭素数１〜４の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基、炭素数４〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはシアノ基であることができる。
【００４１】
液晶層に含まれることができるキラル剤(ｃｈｉｒａｌ ａｇｅｎｔ)では、液晶性、例えば、ネマチック規則性を損傷させないで、目的とする回転を誘導することができるものであれば、特別に制限なしに使用することができる。液晶に回転を誘導するためのキラル剤は、分子構造中にキラリティー(ｃｈｉｒａｌｉｔｙ)を少なくとも含む必要がある。キラル剤では、例えば、１個または２個以上の不斉炭素(ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ｃａｒｂｏｎ)を有する化合物、キラルアミンまたはキラルスルフォキシドなどのようにヘテロ原子上に不斉点(ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ｐｏｉｎｔ)を有する化合物、あるいはクムレン(ｃｕｍｕｌｅｎｅ)やビナフトール(ｂｉｎａｐｈｔｈｏｌ)などの軸不斉を有する光学活性な部位(ａｘｉａｌｌｙ ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ、ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ａｃｔｉｖｅ ｓｉｔｅ)を有する化合物を例示することができる。キラル剤は、例えば、分子量が１,５００以下の低分子化合物である。例えば、キラル剤では、市販のキラルネマチック液晶、例えば、キラルドーパント液晶Ｓ−８１１(Ｍｅｒｃｋ社製)またはＬＣ７５６(ＢＡＳＦ社製)などを使用することができる。
【００４２】
一つの例示で、光学フィルムは、基材層をさらに含み、ＴＮ層が前記基材層の一面に形成されていることができる。
【００４３】
基材層では、ガラスまたは透明プラスチック基材層などのような透明基材層を使用することができる。プラスチック基材層では、ＤＡＣ(ｄｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ)またはＴＡＣ(ｔｒｉａｃｅｔｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ)基材層のようなセルロース基材層；ノルボルネン誘導体樹脂基材層などのＣＯＰ(ｃｙｃｌｏ ｏｌｅｆｉｎ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ)基材層；ＰＭＭＡ(ｐｏｌｙ(ｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ)基材層などのアクリル基材層；ＰＣ(ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ)基材層；ＰＥ(ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ)またはＰＰ(ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ)基材層などのようなオレフィン基材層；ＰＶＡ(ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ)基材層；ＰＥＳ(ｐｏｌｙ ｅｔｈｅｒ ｓｕｌｆｏｎｅ)基材層；ＰＥＥＫ(ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｅｔｈｅｒｋｅｔｏｎｅ)基材層；ＰＥＩ(ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ)基材層；ＰＥＮ(ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｎａｐｈｔｈａｔｌａｔｅ)基材層；ＰＥＴ(ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ)基材層などのようなポリエステル基材層；ＰＩ(ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ)基材層；ＰＳＦ(ｐｏｌｙｓｕｌｆｏｎｅ)基材層；ＰＡＲ(ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ)基材層またはフッ素樹脂基材層などを例示することができる。前記基材層は、例えば、シートまたはフィルム形状であることができる。
【００４４】
前記基材層には、必要に応じて低反射処理、反射防止処理、眩しさ防止処理及び/または高解像度防眩処理などのような多様な表面処理が行われていてもよい。
【００４５】
また、光学フィルムは、配向層をさらに含むことができる。用語「配向層」は、液晶層が形成される過程で整列均一性を改善または提供するか、液晶の導波器の整列を生成する表面整列特性を示す層を意味することができる。配向層は、例えば、パターン化されている複数の溝領域を提供する樹脂膜、光配向層またはラビング処理されているポリイミドなどのようなラビング処理膜などであることができる。配向層１０２は、例えば、光学フィルムが、図３に示したような基材層１０１を含む場合には、前記基材層１０１の表面、例えば、基材層１０１とＴＮ層１０３との間に形成されることができる。場合によっては、別途の配向層を形成せずに、基材層を単純にラビングまたは延伸するか、その表面に親水性を付与することで基材層に配向性を付与する方式を使用することもできる。例えば、基材層が前記範囲の濡れ角を有する場合、配向層がなくても前記基材層は、ＴＮの配向を目的とする範囲で制御することができる特性を示すことができる。
【００４６】
また、本発明は、前記のような光学フィルムを製造する方法に関する。前記製造方法は、例えば、ネマチック液晶化合物、キラル剤及び重合開始剤を含む液晶コーティング層に前記キラル剤のコーティング層の厚さによる濃度変化を誘導する段階と、前記キラル剤の濃度変化が誘発された状態で前記ネマチック液晶化合物を重合させる段階と、を含むことができる。
【００４７】
前記液晶コーティング層は、ネマチック液晶化合物、例えば、前記化学式１の化合物とキラル剤を重合開始剤とともに含むコーティング液(ＴＮ組成物)をコーティングして形成することができる。
【００４８】
ＴＮ組成物は、通常、一つ以上の溶媒を含むコーティング組成物の一部であることができる。コーティング組成物は、例えば、分散剤、酸化防止剤及びオゾン発生防止剤などの追加成分を任意に含むことができる。さらに、コーティング組成物は、所望によって、紫外線、赤外線または可視光線を吸収するために多様な染料及び顔料を含むことができる。一部の場合に、増粘剤及び充填剤のような粘度改質剤を添加することが適切であることができる。
【００４９】
ＴＮ組成物は、各種液体コーティング方法により適用されることができる。一部の具現様態で、コーティング後に、ＴＮ組成物は、ＴＮ層に重合されるか、または転換される。このような転換は、溶媒の蒸発、ＴＮ物質を整列するための加熱；ＴＮ組成物の架橋；または、例えば、化学線(ａｃｔｉｎｉｃ)照射のような熱の印加；紫外線、可視光線または赤外線などの光の照射及び電子ビームの照射、またはこれらの組み合わせまたは類似な技術を使用したＴＮ組成物の硬化を含んだ多様な技術により達成されることができる。
【００５０】
一つの例示で、前記ＴＮ組成物は、前記化学式１の化合物、重合開始剤及びキラル剤を含むことができる。
【００５１】
重合開始剤では、例えば、熱または光によりラジカルを生成するラジカル開始剤を使用することができる。このようなラジカル開始剤は、ネマチック液晶化合物の重合または架橋を開始させるためのもので、前記化合物との相溶性に問題がない限り、この分野で公知された一般的な成分を適切に選択して使用することができる。ラジカル開始剤では、例えば、２−メチル−１−[４−(メチルチオ)フェニル]−２−(４−モルホリニル)−１−プロパノン(２−ｍｅｔｈｙｌ−１−[４−(ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ)ｐｈｅｎｙｌ]−２−(４−ｍｏｒｐｈｏｌｉｎｙｌ)−１−ｐｒｏｐａｎｏｎｅ)、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン(２−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙ−１、２−ｄｉｐｈｅｎｙｌｅｔｈａｎ−１−ｏｎｅ)、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(１−ｈｙｄｒｏｘｙ−ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ−ｐｈｅｎｙｌ−ｋｅｔｏｎｅ)、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート塩(Ｔｒｉａｒｙｌ ｓｕｌｆｏｎｉｕｍ ｈｅｘａｆｌｕｏｒｏａｎｔｉｍｏｎａｔｅ ｓａｌｔｓ)及びジフェニル(２、４、６−トリメチルベンゾイル)−ホスフィンオキシド(ｄｉｐｈｅｎｙｌ(２、４、６−ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｏｙｌ)−ｐｈｏｓｐｈｉｎｅｏｘｉｄｅ)などから選択される１種または２種以上を使用することができるが、これに限定されるものではない。ＴＮ組成物は、前記ラジカル開始剤を液状化合物１００重量部に対して、０.１重量部〜１０重量部の割合で含むことができる。ラジカル開始剤の含量を前記のように調節することで、液晶化合物の効果的な重合及び架橋を誘導し、重合及び架橋後に残存開始剤による物性低下を防止することができる。本明細書において単位重量部は、特定しない限り、各成分の重量の割合を意味することができる。
【００５２】
キラル剤では、例えば、上述の種類の化合物を使用することができる。ＴＮ組成物は、キラル剤を液晶化合物１００重量部に対して、０.１重量部〜１０重量部の割合で含むことができる。キラル剤の含量を前記のように調節することで、効果的なキラル剤の濃度勾配誘導及び液晶化合物の重合を誘導することができる。
【００５３】
ＴＮ組成物は、必要に応じて溶媒をさらに含むことができる。溶媒では、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１,２−ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなどのアルコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ類；ジエチレングリコールジメチルエーテル(ＤＥＧＤＭＥ)、ジプロピレングリコールジメチルエーテル(ＤＰＧＤＭＥ)などのエーテル類などを挙げることができる。また、前記溶媒の含量は、特別に限定されず、コーティング効率や乾燥効率などを考慮して適切に選択することができる。
【００５４】
また、前記ＴＮ組成物は、界面活性剤をさらに含むことができる。前記界面活性剤は、液晶表面に分布して表面を均一にすると共に、液晶配向を安定化させてＴＮ層の形成後にフィルム表面を滑らかに維持することができるようにし、その結果、外観品質を向上させることができる。
【００５５】
界面活性剤では、例えば、フルオルカーボン系列の界面活性剤及び／またはシリコーン系列の界面活性剤を使用することができる。フルオルカーボン系列の界面活性剤では、３Ｍ社製であるフルオラド(Ｆｌｕｏｒａｄ)ＦＣ４４３０ＴＭ、フルオラドＦＣ４４３２ＴＭ、フルオラドＦＣ４４３４ＴＭとＤｕｐｏｎｔ社製であるゾニル(Ｚｏｎｙｌ)などを使用することができ、シリコーン系列の界面活性剤では、ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製であるＢＹＫＴＭなどを使用することができる。界面活性剤の含量は、特別に限定されず、コーティング効率や乾燥効率などを考慮して適切に選択することができる。
【００５６】
ＴＮ組成物を塗布して液晶コーティング層を形成した後、例えば、キラル剤の濃度勾配を誘導した状態で、液晶化合物を重合させてＴＮ層を形成することができる。
【００５７】
一つの例示で、ＴＮ層の形成は、ＴＮ組成物の塗布層に相対的に弱い紫外線を照射し、キラル剤の濃度勾配を形成し、濃度勾配が形成されている塗布層に相対的に強い紫外線を照射し、組成物の成分を重合させることを含むことができる。
【００５８】
ＴＮ組成物の塗布層に相対的に弱い強度の紫外線を所定温度で照射する場合、塗布層内でキラル剤の濃度勾配、すなわち、塗布層内で所定方向に沿ってキラル剤の濃度の変化を誘導することができる。一つの例示で、前記キラル剤の濃度勾配は、塗布層の厚さ方向に沿って形成されていてもよい。キラル剤の濃度勾配を形成した紫外線の照射は、例えば、４０℃〜８０℃、５０℃〜７０℃または約６０℃前後の温度範囲で行われることができる。 また、前記濃度勾配の形成のための紫外線の照射は、Ａ領域の波長の紫外線を約１０ｍＪ/ｃｍ２〜５００ｍＪ/ｃｍ２の光量で照射して行われることができる。より効果的な濃度勾配の形成のために前記光量は、約５０ｍＪ/ｃｍ２〜４００ｍＪ/ｃｍ２、約５０ｍＪ/ｃｍ２〜３００ｍＪ/ｃｍ２、約５０ｍＪ/ｃｍ２〜２００ｍＪ/ｃｍ２、約５０ｍＪ/ｃｍ２〜１５０ｍＪ/ｃｍ２または約７５ｍＪ/ｃｍ２〜１２５ｍＪ/ｃｍ２程度に調節されることができる。
【００５９】
濃度勾配を形成した後、組成物の成分を重合させるに十分な量の紫外線を照射してＴＮ層を形成することができる。前記紫外線の照射によって塗布層は、形成されたキラル剤の濃度勾配によって液晶が異なるピッチを有する状態に固定され、ＴＮ領域が形成されることができる。前記強い紫外線の照射の条件は、組成物の成分の重合が十分に進行される程度に行われる限り、特別に限定されない。１つの例示で、前記紫外線の照射は、約０.５Ｊ／ｃｍ２〜１０Ｊ／ｃｍ２の光量で照射して行われることができる. この時、照射される紫外線の波長は、重合が十分に進行される程度に行われる限り、特別に限定されず、例えば、紫外線Ａ〜Ｖ領域の光が照射されることができる。
【００６０】
１つの例示で、前記ＴＮ組成物の塗布層は、適切な基材層上に形成されることができる。
【００６１】
一つの例示で、前記ＴＮ組成物の塗布層は、基材層に形成された配向層上に形成されることができる。
【００６２】
前記配向層は、例えば、基材層にポリイミドなどの高分子膜を形成してラビング処理するか、光配向性化合物をコーティングし、直線偏光の照射などを通じて配向処理する方式、またはナノインプリンティング方式などのようなインプリンティング方式で形成することができる。
【００６３】
前記のようなＴＮ層を含む光学フィルムは、その自体としてまたは他の要素と組み合わせて多様な用途に適用されることができる。
【００６４】
本発明は、前記光学フィルム及び他の要素を含む光学積層体に関する。
【００６５】
このような光学積層体は、例えば、ＬＣＤやＯＬＥＤなどに適用されるか、立体映像の具現またはその品質の改善に適用されることができる。
【００６６】
一つの例示で、前記光学積層体は、前記他の要素として位相差フィルムを含むことができる。位相差フィルムでは、特別な制限なしに用途に応じて多様な要素を選択することができる。位相差フィルムでは、例えば、いわゆるＨＷＰ(Ｈａｌｆ Ｗａｖｅ Ｐｌａｔｅ)またはＱＷＰ(Ｑｕａｒｔｅｒ Ｗａｖｅ Ｐｌａｔｅ)などで公知されたＡプレートを使用することができる。前記位相差フィルムは、延伸などによって位相差が付与された高分子フィルムであるか、あるいは液晶フィルムであることができる。
【００６７】
光学積層体が前記光学フィルムと位相差フィルムを含む場合に、前記光学フィルムのＴＮ層の液晶の光軸と位相差フィルムの遅相軸は、適用用途に応じて多様に設定されることができる。
【００６８】
例えば、前記積層体で位相差フィルムの遅相軸とＴＮ層で前記位相差フィルムと一番隣接して位置されたネマチック液晶化合物の光軸が成す角度は、約５度〜９０度または約１０度〜７０度の範囲内にある。
【００６９】
一つの例示で、前記光学積層体は、偏光層をさらに含むことができる。
【００７０】
このような光学積層体は、例えば、図４に示したように、偏光層４０１、位相差フィルム４０２及び光学フィルム４０３を順次に含むことができる。
【００７１】
前記のような構造で、前記偏光層４０１の光吸収軸と前記位相差フィルム４０２の遅相軸が成す角度は、１０度〜２０度の範囲内にあることができる。また、前記位相差フィルム４０２の遅相軸と前記光学フィルム４０３のＴＮ層で前記位相差フィルムと一番隣接して位置したネマチック液晶化合物の光軸が成す角度は、８度〜１６度の範囲内にあることができる。前記のような構造で、ＴＮ層のねじれ角が３６度〜５０度の範囲内にあることができる。このような構造の光学積層体は、多様な用途に適用されることができ、例えば、ＯＬＥＤの反射防止用偏光板などで使用されることができる。
【００７２】
他の例示で、前記光学積層体は、図５に示したように、順次配置された偏光層４０１、前記光学フィルム４０３及び前記位相差フィルム４０２を含むことができる。
【００７３】
このような関係では、前記偏光層４０１の光吸収軸と前記位相差フィルム４０２の遅相軸はお互いに垂直であるか水平であることができる。
【００７４】
前記位相差フィルム４０２の遅相軸と偏光層４０１の光吸収軸が垂直する場合には、前記光学フィルム４０３のＴＮ層で前記位相差フィルムに一番近い液晶化合物の光軸が前記位相差フィルム４０２の遅相軸と成す角度は、約５０度〜約７０度または約５５度〜約６７度の範囲内にあることができる。また、このような場合に、ＴＮ層のねじれ度は、約１０度〜約３０度の範囲内にあることができる。
【００７５】
また、前記位相差フィルム４０２の遅相軸と偏光層４０１の光吸収軸が水平した場合には、前記光学フィルム４０３のＴＮ層で前記位相差フィルムに一番近い液晶化合物の光軸が前記位相差フィルム４０２の遅相軸と成す角度は、約１５度〜約３５度または約１７度〜約３２度の範囲内にあることができる。また、このような場合に、ＴＮ層のねじれ角は、約６０度〜約８５度の範囲内にあることができる。このような構造の光学積層体は、多様な用途に適用されることができ、例えば、ＯＬＥＤの反射防止用偏光板などで使用されることができる。
【００７６】
他の例示で、前記光学積層体は、前記他の要素として偏光層を含むことができる。このような場合に、偏光層では、吸収型偏光層または反射型偏光層が適用されることができる。前記使用できる吸収型または反射型偏光層の種類は、特別に限定されない。例えば、吸収型偏光層では、公知のＰＶＡ(ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ)フィルム系列の偏光層が使用可能であり、反射型偏光層では、ＬＬＣ(Ｌｙｏｔｒｏｐｈｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ)またはＣＬＣ(Ｃｈｏｌｅｓｔｅｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ)で製造されたものや、いわゆるＤＢＥＦ(Ｄｕａｌ Ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ Ｆｉｌｍ)またはＷＧＰ(Ｗｉｒｅ Ｇｒｉｄ Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ)で公知されているフィルムを使用することができる。
【００７７】
図６は、例示的な光学積層体の断面図として、偏光層６０１と、その偏光層６０１の一面に配置された前記光学フィルム６０２と、を含む場合を示している。前記偏光層６０１は、上述のように反射型または吸収型偏光層であることができる。
【００７８】
このように偏光層を含む場合に、光学フィルムで前記ＴＮ層で前記偏光層と一番近い液晶化合物の光軸と前記偏光層の光吸収軸または光反射軸が成す角度は、５度〜１５度の範囲内であるか、９５度〜１０５度の範囲内にあることができる。また、前記ＴＮ層のねじれ角が８０度〜１００度の範囲内にあってもよい。
【００７９】
他の例示で、前記光学積層体は、吸収型偏光層と反射型偏光層を同時に含むことができる。図７は、前記光学積層体の例示的な構造として、吸収型偏光層６０１１、反射型偏光層６０２２及び前記光学フィルム６０２が順次配置された場合を示している。図７に示した構造と異なり、吸収型偏光層６０１１が反射型偏光層６０２２に比べて光学フィルム６０２に隣接して配置されてもよい。
【００８０】
前記のような場合に、吸収型偏光層の光吸収軸と反射型偏光板の光反射軸は、お互いに平行である。このような場合に、ＴＮ層で前記吸収型または反射型偏光層と一番近い液晶化合物の光軸と前記偏光層の光吸収軸または光反射軸が成す角度は、５度〜１５度の範囲内であるか、９５度〜１０５度の範囲内にあることができる。また、前記ＴＮ層のねじれ角度が８０度〜１００度の範囲内にあってもよい。
【００８１】
このような構造の光学積層体は、例えば、ＯＬＥＤまたは反射型ＬＣＤでの反射防止フィルムや、ＬＣＤでの輝度向上フィルムに利用されることができる。
【００８２】
前記のような光学積層体は、本発明の光学フィルムと前記偏光層または位相差フィルムなどを粘着剤または接着剤を使用して積層するか、あるいは上述のＴＮ組成物を直接前記偏光層または位相差フィルムなどにコーティングしてコーティング層を形成した後に重合させて製造してもよい。
【００８３】
また、本発明は、ディスプレイ装置に関する。例示的なディスプレイ装置は、前記光学フィルムまたは光学積層体を含むことができる。
【００８４】
光学積層体を含む前記ディスプレイ装置の具体的な種類は、特別に限定されない。前記装置は、例えば、ＬＣＤまたはＯＬＥＤなどであることができる。
【００８５】
ディスプレイ装置において、前記光学フィルムまたは光学積層体の配置形態は、特別に限定されず、例えば、公知の形態を採用することができる。例えば、このような装置で、前記光学フィルムまたは光学積層体が光特性を変更するか、反射防止効果のために適用される場合に、前記ディスプレイ装置の前面またはＯＬＥＤの反射電極層などと隣接して配置されることができる。また、ＬＣＤなどにおいて、輝度向上フィルムに適用される場合には、前記光学フィルムまたは光学積層体は、ディスプレイパネルと光源の間に位置してもよい。
【発明の効果】
【００８６】
本発明は、液晶層内の液晶化合物の配向状態を制御することで、単一層であると共に薄い厚さでも前記液晶層がいわゆる逆波長分散特性を示すようにする。このような液晶層を含む光学フィルムは、ＬＣＤ(Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｄｉｓｐｌａｙ)またはＯＬＥＤ(Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｅｖｉｃｅ)などのディスプレイ装置で光変調特性を示すか、光利用効率を改善することができる光学素子または立体映像の具現及びその品質の改善のための素子などの多様な用途で使用されることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】図１は、液晶化合物の配向を説明するための概念図である。
【図２】図２は、液晶化合物の配向を説明するための概念的なグラフである。
【図３】図３は、光学フィルムの例示的な断面図である。
【図４】図４は、光学積層体の多様な構造を示した断面図である。
【図５】図５は、光学積層体の多様な構造を示した断面図である。
【図６】図６は、光学積層体の多様な構造を示した断面図である。
【図７】図７は、光学積層体の多様な構造を示した断面図である。
【図８】図８は、実施例及び比較例の波長分散特性を比較した図である。
【発明を実施するための形態】
【００８８】
以下、実施例及び比較例を通じて前記光学フィルムを具体的に説明するが、前記フィルムは下記提示された実施例に限定されるものではない。
【００８９】
製造例：液晶組成物の製造
次のような方式で液晶組成物を製造した。通常的にＣＬＣ(Ｃｈｏｒｅｓｔｅｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ)の製造に適用されるもので公知されたＭｅｒｃｋ社のＲＭ(Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｍｅｓｏｇｅｎ)であるＲＭ１２３０(キラル剤(ｃｈｉｒａｌ ｄｏｐａｎｔ)不込み組成)とＲＭ１２３１(キラル剤(ｃｈｉｒａｌ ｄｏｐａｎｔ)含み組成)を１：１の重量の割合で混合し、これをトルエンとシクロヘキサノンの混合溶媒(混合重量の割合＝７：３(トルエン：シクロヘキサノン))に、固形分が約４０重量％になるように混合した。次いで、ラジカル開始剤として最大吸収波長が２８０ｎｍ〜３２０ｎｍの範囲内にある光重合開始剤(Ｉｒｇａｃｕｒｅ ９０７)をＲＭの固形分の３重量％の割合で配合し、また、最大吸収波長が３６０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内にある光重合開始剤(Ｄａｒｏｃｕｒｅ ＴＰＯ)をＲＭの固形分の０.４重量％の割合で配合した。その後、約６０℃の温度で１時間程度加熱した後、充分に冷やして均一な溶液を製造した。
【００９０】
実施例１
ＰＥＴ(ｐｏｌｙ(ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔａｌａｔｅ))フィルムの一表面に公知のラビング配向膜を形成した後、前記配向膜上に前記製造された液晶組成物をワイヤバーＮｏ.６を使用してコーティングし、１００℃で約２分間乾燥させた。その後、紫外線照射装備(ＴＬＫ４０Ｗ/１０Ｒ、Ｐｈｉｌｉｐｓ社製)を使用して前記コーティング層に、約６０℃の温度で３５０ｎｍ〜４００ｎｍ範囲の波長を有する紫外線を、約１００ｍＪ/ｃｍ２の光量で照射し、キラル剤の濃度勾配を誘導した。その後、濃度勾配が誘導されたコーティング層に、紫外線照射装備(Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ、４００Ｗ)でＲＭの重合が充分に行われるように強い紫外線を１ｍＪ/ｃｍ２以上の光量で照射し、厚さが約３μｍ程度であるＴＮ層を形成した。光学偏光顕微鏡(Ｌｅｉｃａ社製)で確認した結果、前記ＴＮ層のねじれ角は、約９０度で、図２の２０２と同一な非線形特性を示した。
【００９１】
比較例１
紫外線照射装備(ＴＬＫ４０Ｗ/１０Ｒ、Ｐｈｉｌｉｐｓ社製)を使用し、前記コーティング層に約６０℃の温度で３５０ｎｍ〜４００ｎｍ範囲の波長を有する紫外線を、約１００ｍＪ/ｃｍ２の光量で照射する過程を省略し、すぐコーティング層に紫外線照射装備(Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ、４００Ｗ)でＲＭの重合が充分に行われるように強い紫外線を１ｍＪ/ｃｍ２以上の光量で照射し、厚さが約３μｍ程度である液晶層を形成したこと以外は、実施例１と同一に液晶層を形成した。光学偏光顕微鏡(Ｌｅｉｃａ社製)で確認した結果、前記ＴＮ層のねじれ角は、約９０度で、図２の２０１と同一な線形特性を示した。
【００９２】
物性評価
実施例及び比較例で各々製造された液晶フィルムの液晶層に対して、Ａｘｏｓｃａｎ(Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製)装備を使用して波長分散特性を確認し、その結果を図８に示した。図８のように、実施例と比較例の光学フィルムは、同一なねじれ角を有するが、キラル剤の濃度勾配誘導を通じて非線形グラフ特性を示す実施例１は、いわゆる逆波長分散特性が具現されるが、比較例１の光学フィルムは、正波長特性が具現されていることを確認した。図８で実施例の結果は、Ｒ(６５０)/Ｒ(５５０)が１より大きい場合である。また、このように実施例１の光学フィルムは、逆波長分散特性を通じて１/４波長板または１/２波長板などが要求される多様な用途に適用されて優秀な特性を発揮することができることを確認した。
【符号の説明】
【００９３】
１０１：基材層
１０２：配向層
１０３：ＴＮ層
２０１：線形グラフ
２０２：非線形グラフ
４０１、６０１：偏光層
４０２：位相差フィルム
４０３、６０２：光学フィルム
６０１１：吸収型偏光層
６０２２：反射型偏光層
【図１】
0006379443.tif 000004
【図２】
0006379443.tif 000005
【図３】
0006379443.tif 000006
【図４】
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【図５】
0006379443.tif 000008
【図６】
0006379443.tif 000009
【図７】
0006379443.tif 000010
【図８】
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