(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加工廃水が濾過手段によって濾過された清水を貯水するための貯水槽であって、
清水を貯水する貯水槽本体と、該貯水槽本体の底部に配設され該貯水槽本体内を上部室と下部室とに仕切るとともに一端部に流通口を備えた仕切り板と、該上部室に開口し清水を導入する導入口と、該下部室における該仕切り板に設けられた該流通口と反対側に開口する排出口と、該下部室に配設され該流通口から該下部室に流入された清水に紫外線を照射して殺菌および有機物を破壊する紫外線照射手段と、を具備し、
該紫外線照射手段は、該仕切り板に沿って一端側から他端側に亘って配設され一端が該貯水槽本体の側壁を通して開口する筒状の透明管と、該筒状の透明管に収容される紫外線照射ランプとから構成されており、
該導入口から該上部室に導入され該仕切り板に設けられた該流通口を通って該下部室に流入した清水が該透明管に沿って該紫外線照射ランプからの紫外線を照射されながら該排出口に向けて流れるようにした、
ことを特徴とする貯水槽。
【請求項２】
該仕切り板には、該紫外線照射ランプが照射する紫外線を該上部室に滞留する清水に作用せしめる透明板が配設されている、請求項１記載の貯水槽。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削装置等の加工装置に付設され、加工時に供給される加工水の廃水を処理する加工廃水処理装置における加工廃水が濾過手段によって濾過された清水を貯水するための貯水槽に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に配列された分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にＩＣ、ＬＳＩ等のデバイスを形成する。そして、半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々の半導体デバイスを製造している。また、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウエーハも分割予定ラインに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、電気機器に広く利用されている。
【０００３】
上述した半導体ウエーハや光デバイスウエーハ等の分割予定ラインに沿った切断は、通常、ダイサーと呼ばれる切削装置によって行われている。この切削装置は、半導体ウエーハ等の被加工物を保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削するための切削ブレードを備えた切削手段と、切削ブレードに加工水を供給する加工水供給手段を具備し、該加工水供給手段によって切削水を回転する切削ブレードに供給することにより切削ブレードを冷却するとともに、切削ブレードによる被加工物の切削部に加工水を供給しつつ切削作業を実施する。
【０００４】
上述したように切削時に供給された加工水にはシリコンや窒化ガリウム系化合物半導体を切削することによって発生する切削屑が混入される。この半導体素材からなる切削屑が混入された加工廃水は環境を汚染することから、加工廃水処理装置を用いて切削屑を除去した後に、再利用したりまたは廃棄している（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
上記加工廃水処理装置は、加工装置の加工の際に供給された加工水が加工によって生成された加工廃水を濾過して清水に精製する廃水濾過手段と、該廃水濾過手段によって精製された清水を貯水する貯水槽と、該貯水槽から送出された清水に紫外線を照射して殺菌および有機物を破壊する紫外線照射手段と、紫外線が照射された清水を純水に精製するイオン交換樹脂および精密フィルターを含む純水生成手段と、該純水生成手段によって精製された純水を上記加工装置の加工水供給手段に循環せしめるように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１９０１２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
而して、加工廃水処理装置は、構成要素が多く装置が大型化するという問題がある。
【０００８】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その技術課題は、廃水濾過手段によって精製された清水を貯水する貯水槽に清水に紫外線を照射して殺菌および有機物を破壊する紫外線照射手段の機能を持たせることにより、加工廃水処理装置の小型化を可能にした貯水槽を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記技術課題を解決するため、本発明によれば、加工廃水が濾過手段によって濾過された清水を貯水するための貯水槽であって、
清水を貯水する貯水槽本体と、該貯水槽本体の底部に配設され該貯水槽本体内を上部室と下部室とに仕切るとともに一端部に流通口を備えた仕切り板と、該上部室に開口し清水を導入する導入口と、該下部室における該仕切り板に設けられた該流通口と反対側に開口する排出口と、該下部室に配設され該流通口から該下部室に流入された清水に紫外線を照射して殺菌および有機物を破壊する紫外線照射手段と、を具備し、
該紫外線照射手段は、該仕切り板に沿って一端側から他端側に亘って配設され少なくとも一端が該貯水槽本体の側壁を通して開口する筒状の透明管と、該筒状の透明管に収容される紫外線照射ランプとから構成されており、
該導入口から該上部室に導入され該仕切り板に設けられた該流通口を通って該下部室に流入した清水が該透明管に沿って該紫外線照射ランプからの紫外線を照射されながら該排出口に向けて流れるようにした、
ことを特徴とする貯水槽が提供される。
【００１０】
上記仕切り板には、紫外線照射ランプが照射する紫外線を上部室に滞留する清水に作用せしめる透明板が配設されている。
【発明の効果】
【００１１】
本発明による加工廃水が濾過手段によって濾過された清水を貯水するための貯水槽は、清水を貯水する貯水槽本体と、該貯水槽本体の底部に配設され貯水槽本体内を上部室と下部室とに仕切るとともに一端部に流通口を備えた仕切り板と、上部室に開口し清水を導入する導入口と、下部室における仕切り板に設けられた流通口と反対側に開口する排出口と、下部室に配設され流通口から下部室に流入された清水に紫外線を照射して殺菌および有機物を破壊する紫外線照射手段とを具備し、紫外線照射手段は、仕切り板に沿って一端側から他端側に亘って配設され一端が貯水槽本体の側壁を通して開口する筒状の透明管と、該筒状の透明管に収容される紫外線照射ランプとから構成されており、導入口から上部室に導入され仕切り板に設けられた流通口を通って下部室に流入した清水が透明管に沿って紫外線照射ランプからの紫外線を照射されながら排出口に向けて流れるようにしたので、下部室に流入した清水には排出口に至る間に紫外線照射ランプからの紫外線が十分に照射されるため、十分に殺菌されるとともに含有する有機物が破壊せしめられる。このように、本発明による貯水槽は、清水を殺菌するとともに含有する有機物を破壊する機能を備えているので、紫外線照射手段を独立して配設する必要がないので、加工廃水処理装置の小型化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に従って構成された貯水槽を備えた加工廃水処理装置の斜視図。
【図２】本発明に従って構成された貯水槽の一部を破断して示す斜視図。
【図３】図２に示す貯水槽の要部断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明に従って構成された貯水槽の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１４】
図１には本発明に従って構成された貯水槽を備えた加工廃水処理装置の斜視図が示されている。
図１に示す加工廃水処理装置１は、切削装置などの加工装置から回収された加工廃水を収容する廃水タンク１１と、該廃水タンク１１に収容された加工廃水を送給する廃水送給ポンプ１２と、該廃水送給ポンプ１２によって送給された加工廃水を濾過して清水に精製するフィルターを備えた廃水濾過手段１３と、該廃水濾過手段１３によって加工廃水が濾過された清水を貯水するための貯水槽２を具備している。この貯水槽２については、後で詳細に説明する。
【００１５】
図１を参照して説明を続けると、加工廃水処理装置１は、貯水槽２に貯留された清水を送給する清水送給ポンプ１４と、該清水送給ポンプ１４によって送給された清水を純水に精製するイオン交換樹脂１５１および精密フィルター１５２を含む純水生成手段１５を具備しており、該純水生成手段１５によって精製された純水が加工装置の加工水供給手段１６に送られる。
【００１６】
次に、上記貯水槽２について、図２および図３を参照して説明する。
図２および図３に示す貯水槽２は、清水を貯水する貯水槽本体３と、該貯水槽本体３の底部に配設され該貯水槽本体内を上部室３aと下部室３bとに仕切るとともに一端部に流通口４０を備えた仕切り板４と、下部室３bに配設され流通口４０から下部室３bに流入された清水に紫外線を照射して殺菌および有機物を破壊する紫外線照射手段５を具備している。貯水槽本体３は、図示の実施形態においては底壁３１と上壁３２と互いに対向する側壁３３，３４および３５，３６とによって直方体状に形成されている。このように形成された貯水槽本体３の上壁３２に上部室３aに開口し清水を導入する導入口３２１が設けられ、上記仕切り板４に設けられた流通口４０と反対側の側壁３６に下部室３bに開口する搬出口３６１が設けられている。
【００１７】
上記仕切り板４は、図示の実施形態においては中央部において屈曲した第１の仕切り部４１と第２の仕切り部４２とからなっており、第１の仕切り部４１が水平に配設され、第２の仕切り部４２の側辺が貯水槽本体３を形成する底壁３１と側壁３３との隅部に位置付けられる。このように形成された仕切り板４の第１の仕切り部４１の一端部に流通口４０が形成されているとともに、中央部には透明板４４が配設されている。
【００１８】
上記紫外線照射手段５は、図３に示すように仕切り板４に沿って一端側（側壁３５側）から他端側（側壁３６側）に亘って配設された透明管５１と、該透明管５１に収容される紫外線照射ランプ５２によって構成されている。透明管５１は、図示の実施形態においては一端（側壁３５側）が貯水槽本体３の側壁３５を通して開口する開口５１１が設けられており、他端（側壁３６側）が閉塞されている。この透明管５１は、紫外線照射ランプ５２を挿入することができるように、少なくとも一方の端が開口されていればよく、従って両端が開口されていてもよい。なお、紫外線照射ランプ５２は、波長が１８５nm乃至２５４nmの紫外線を照射する。このように紫外線照射ランプ５２から照射される波長が１８５nmの紫外線で有機物を破壊し、波長が２５４nmの紫外線で殺菌する。
【００１９】
図示の実施形態における貯水槽２は以上のように構成されており、以下その作用について説明する。
上記廃水濾過手段１３によって加工廃水が濾過された清水は、貯水槽２の導入口３２１から上部室３aに導入される。上部室３aに導入された清水は、仕切り板４に形成された流通口４０を通って下部室３bに流入する。一方、紫外線照射手段５を構成する紫外線照射ランプ５２が作動することにより、波長が１８５nm乃至２５４nmの紫外線を透明管５１を通して下部室３bに流入した清水に照射する。このように、導入口３２１から上部室３aに導入され仕切り板４に形成された流通口４０を通って下部室３bに流入した清水は、透明管５１に沿って紫外線照射ランプ５２からの紫外線を照射されながら排出口３６１に向けて流れる。この結果、仕切り板４に形成された流通口４０を通って下部室３bに流入した清水は、流通口４０と反対側に開口する排出口３６１に至る間に紫外線照射ランプ５２からの紫外線が十分に照射されるため、十分に殺菌されるとともに含有する有機物が破壊せしめられる。このようにして、十分に殺菌されるとともに含有する有機物が破壊せしめられた清水は、図１に示すように清水送給ポンプ１４の作動によって排出口３６１から排出され、純水生成手段１５のイオン交換樹脂１５１および精密フィルター１５２によって純水に生成されて加工装置の加工水供給手段１６に循環せしめられる。
【００２０】
上述した実施形態においては、上記仕切り板４には透明板４４が配設されているので、紫外線照射ランプ５２から照射される紫外線は、透明板４４を通して上部室３aに滞留する清水に作用するので、清水の予備的な殺菌および含有する有機物の予備的破壊が行われる。
なお、図示の実施形態においては、仕切り板４に透明板４４を配設した例を示したが、仕切り板自体をアクリル樹脂等からなる透明板によって形成してもよい。
【符号の説明】
【００２１】
１：加工廃水処理装置
１１：廃水タンク
１２：廃水水送給ポンプ
１３：廃水濾過手段
１４：清水送給ポンプ
１５：純水生成手段
１６：加工水供給手段
２：貯水槽
３：貯水槽本体
３a：上部室
３b：下部室
４：仕切り板
４０：流通口
４４：透明板
５：紫外線照射手段
５１：透明管
５２：紫外線照射ランプ
【図１】
0006360441.tif 000002
【図２】
0006360441.tif 000003
【図３】
0006360441.tif 000004