(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
直管形状の誘電体の内面に導電体を密着させてなる電極を形成し、
一方向に延びる複数本の電極を或る間隔で平行に配置して、該各電極の導電体を端子に並列に接続してなる第一電極群と、
前記第一の電極群の各電極と直交する方向に延びる別の複数本の電極を或る間隔で平行に配置して、該各電極の導電体を別の端子に並列に接続してなる第二電極群と、
前記各電極群の各端子に交流電圧を印加するための電源装置と
内側を処理対象ガスの流路とする筒状のフレームとを備え、
前記フレーム内側のガス流路に、前記第一の電極群の各電極と、前記第二の電極群の各電極とを、格子状となるよう互いに接触させた状態で複数段に積層配置すると共に、該フレームの側壁に、前記各電極群の各電極の基端部は固定し、且つ該各電極群の各電極の先端部は長手方向に変位可能に保持させ、
前記フレーム内に、対をなす電極支持部材によって前記フレーム内側のガス流路に積層配置された各電極群の各電極をフレームの軸心方向の両側から挟んで、該各電極の撓み変形による変位を防止するための電極撓み変位防止機構を備えるようにした構成を有すること
を特徴とするガス処理装置。
【請求項２】
前記各電極群の各電極における前記フレーム内に配置されている部分に対してブロー清掃を行う清掃装置を備えるようにした
請求項１記載のガス処理装置。
【請求項３】
前記電源装置は、
電流現在値と、予め設定された電流設定値とを比較し、
電流現在値が、電流設定値に対し、予め設定された電流増加側の許容振れ範囲を超過すると、
電圧現在値が予め設定された電圧下限値よりも大きい場合は、電流現在値が電流設定値に一致するように、フィードバック制御手法により第一電極群と第二電極群に交流電圧を印加するときの電圧現在値を調整し、
電圧現在値が電圧下限値以下である場合は、電流現在値が電流設定値に一致するように、フィードバック制御によりパルス周波数を調整する電流値一定制御機能を有するものとした
請求項１又は２記載のガス処理装置。
【請求項４】
前記電源装置は、
電力現在値と、予め設定された電力設定値とを比較し、
電力現在値が、電力設定値に対し、予め設定された電力増加側の許容振れ範囲を超過すると、
電圧現在値が予め設定された電圧下限値よりも大きい場合は、電力現在値が電力設定値に一致するように、フィードバック制御手法により第一電極群と第二電極群に印加する交流電圧の制御波形を変更する処理を行い、
電圧現在値が電圧下限値以下である場合は、電力現在値が電力設定値に一致するように、フィードバック制御によりパルス周波数を調整する電力一定制御機能を有するものとした
請求項１又は２記載のガス処理装置。
【請求項５】
前記電源装置は、
電流現在値と、予め設定された電流設定値とを比較し、
電流現在値が、電流設定値に対し、予め設定された電流増加側の許容振れ範囲を超過するという条件が満たされると、
電圧現在値が予め設定された電圧下限値よりも大きい場合は、電流現在値が電流設定値に一致するように、フィードバック制御手法により第一電極群と第二電極群に交流電圧を印加するときの電圧現在値を調整し、
電圧現在値が電圧下限値以下である場合は、電流現在値が電流設定値に一致するように、フィードバック制御によりパルス周波数を調整する電流値一定制御機能と、
電流現在値が、電流設定値に対し、予め設定された電流減少側と電流増加側の許容振れ範囲内であり、且つ電力現在値が、電力設定値に対し、予め設定された電力増加側の許容振れ範囲を超過すると、
電圧現在値が予め設定された電圧下限値よりも大きい場合は、電力現在値が電力設定値に一致するように、フィードバック制御手法により第一電極群と第二電極群に印加する交流電圧の制御波形を変更する処理を行い、
電圧現在値が電圧下限値以下である場合は、電力現在値が電力設定値に一致するように、フィードバック制御によりパルス周波数を調整する電力一定制御機能とを有するものとした
請求項１又は２記載のガス処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマを用いて処理対象ガス中の臭気物質や環境汚染物質の分解や無害化の処理を行うガス処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
環境汚染物質や臭気物質を含むガスを排出する場合は、これらの物質を分解あるいは無害化するためのガス処理が必要とされる。
【０００３】
この種の環境汚染物質や臭気物質を含む処理対象ガスのガス処理を行う手法としては、近年、大気圧下で生成させるプラズマ放電を用いる処理方法が考えられている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００４】
プラズマを大気圧下で生成させる方式の一つとしては、誘電体バリア放電（Dielectric Barrier Discharge：ＤＢＤ）がある。これは、対となる導電体の一方又は双方を誘電体（絶縁体）で覆い、導電体同士に交流電圧を印加することにより、導電体と誘電体との隙間、あるいは、誘電体同士の隙間に、プラズマ放電を発生させるものである。
【０００５】
誘電体バリア放電方式によるプラズマ発生手段としては、たとえば、導電体を、誘電体となるセラミック管により被覆したものを経糸（縦糸）とし、被覆のない線状の導電体を緯糸（横糸）として、経糸と緯糸とを交互に上下に交差させて織り合せたファブリック構造（布地状の構造）としたものが従来提案されている。
【０００６】
更には、セラミック管に被覆された導電体同士を、経糸（縦糸）と緯糸（横糸）とし、この経糸と緯糸とを交互に上下に交差させて織り合せたファブリック構造としたプラズマ発生手段も従来提案されている。
【０００７】
又、セラミックとしては、石英、硼珪酸ガラスなどが例示されている。更に、セラミック管は、ガラス管とすることにより、熱的な可塑性で必要な形状に曲げることができるとされている（たとえば、特許文献２（図１、図８）参照）。
【０００８】
なお、誘電体バリア放電によるプラズマ放電は、電子温度が高くても、気体温度が低い、いわゆる低温プラズマである。そのため、誘電体バリア放電方式のプラズマ発生手段における導電体や誘電体の温度は、一般的には、常温より１０℃程度しか昇温しない。
【０００９】
ところで、前記特許文献２に示された誘電体バリア放電方式のプラズマ発生手段は、被処理物の表面改質を目的とするものである。そのために、この特許文献２に示された誘電体バリア放電のプラズマ発生手段は、処理対象ガスのガス処理、特に、化石燃料の燃焼炉や廃棄物の焼却炉等の燃焼設備より排出される燃焼排ガスを処理対象ガスとするガス処理に適用しようとする場合には、以下のような問題が生じてしまう。
【００１０】
すなわち、燃焼排ガスは、燃焼設備に通常備えられている活性炭や触媒等を用いたガス処理装置に導かれる時点でも２００℃程度の高温になっている。
【００１１】
そのために、このような燃焼排ガスの処理を行うガス処理装置には、その構成部材に常温から２００℃程度の高温までの温度変化に伴う熱膨張が生じても、支障が生じないことが必要とされる。
【００１２】
特に、誘電体同士の間で誘電体バリア放電のプラズマ放電を発生させる場合は、各誘電体同士の間隔を、ミリ単位で管理する必要があり、誘電体同士の間隔が広くなったり、不均一になったりすると、電気の流れやすいところに偏って誘電体バリア放電によるプラズマ放電が発生し、更には、ストリーマ放電が発生する虞もある。
【００１３】
しかし、前記特許文献２に示されたファブリック構造のプラズマ発生手段では、導電体を被覆して経糸と緯糸を形成するセラミック管は、いずれも上下方向に蛇行した形状とされていて、互いの上向きの凹部と下向きの凹部同士が接するように順次組み合わされている。そのため、経糸と緯糸を形成する各セラミック管に熱膨張が生じた場合は、各セラミック管の凹部の位置が該セラミック管の長手方向に変位するため、経糸と緯糸を形成する各セラミック管同士の接触個所が変位したり離れたりするため、プラズマ放電を発生させるために所望される隙間の寸法を管理することが困難である。
【００１４】
更に、常温から２００℃程度までの温度変化が生じる場合は、導電体と、該導電体を被覆するセラミック管に、線膨張係数の差に起因する変形量の差が生じ、導電体とセラミック管との相対位置も変化すると考えられるが、前記特許文献２には、その対策は何ら示されていない。
【００１５】
又、燃焼排ガスは、燃焼設備で燃焼させるものの性状の変化に応じて、ガス中の成分が変化することがある。更に、燃焼排ガスは、塩酸ガスや硫酸ガスのような腐食性ガスを含むことがある。
【００１６】
なお、前記特許文献２には、経糸と緯糸を織り合せたファブリック構造のプラズマ発生手段における経糸と緯糸を、双方ともセラミック管に被覆された導電体とする考えは示されている。又、セラミック管としてガラス管を用いる考えも示されている。したがって、腐食性ガスによる腐食を回避するための対応は可能であると考えらえる。
【００１７】
次いで、燃焼設備の規模が大きい場合は、燃焼排ガスの流量が多くなる。そのため、燃焼排ガスを流通させる排ガスダクトは、流路断面の縦横のサイズが、メートルオーダーとなることがある。この場合、ガス処理装置は、排ガスダクトの断面形状に合わせたものとする必要がある。
【００１８】
そのため、このような大型のガス処理装置に、前記特許文献２に示されたプラズマ発生手段を適用するためには、各導電体及びセラミック管の長手方向寸法を数メートルと長く設定する必要が生じる。
【００１９】
ところが、導電体やセラミック管は、長手方向寸法が長くなると、自重による撓み変形が無視できなくなる。このような撓み変形が生じた場合は、経糸と緯糸を形成している各セラミック管同士の相対位置に変化が生じてしまう。
【００２０】
更に、導電体及びセラミック管の全長が長い場合は、前記した温度変化に伴う熱膨張による導電体やセラミック管の長手方向寸法の変化が拡大してしまう。又、誘電体であるセラミック管には、熱応力により割れなどの損傷が発生する虞もある。
【００２１】
したがって、従来は、燃焼設備の燃焼排ガスのような腐食性ガスを含むガスや、高温ガスを処理対象ガスとする場合にも、誘電体バリア放電によるプラズマ放電を安定して発生させることが可能なガス処理装置は提案されていないというのが実状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２２】
【特許文献１】特開２００６−１８７７６６号公報
【特許文献２】特開２０１３−６５４３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
そこで、本発明は、処理対象ガスを電極間で発生させる誘電体バリア放電のプラズマ放電により処理することができ、更には、燃焼設備の燃焼排ガスを処理対象ガスとする場合であっても、誘電体バリア放電のプラズマ放電を安定して発生させることができるガス処理装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明は、前記課題を解決するために、請求項１に対応して、直管形状の誘電体の内面に導電体を密着させてなる電極を形成し、一方向に延びる複数本の電極を或る間隔で平行に配置して、該各電極の導電体を端子に並列に接続してなる第一電極群と、前記第一の電極群の各電極と直交する方向に延びる別の複数本の電極を或る間隔で平行に配置して、該各電極の導電体を別の端子に並列に接続してなる第二電極群と、前記各電極群の各端子に交流電圧を印加するための電源装置と内側を処理対象ガスの流路とする筒状のフレームとを備え、前記フレーム内側のガス流路に、前記第一の電極群の各電極と、前記第二の電極群の各電極とを、格子状となるよう互いに接触させた状態で複数段に積層配置すると共に、該フレームの側壁に、前記各電極群の各電極の基端部は固定し、且つ該各電極群の各電極の先端部は長手方向に変位可能に保持させ、前記フレーム内に、対をなす電極支持部材によって前記フレーム内側のガス流路に積層配置された各電極群の各電極をフレームの軸心方向の両側から挟んで、該各電極の撓み変形による変位を防止するための電極撓み変位防止機構を備えるようにした構成を有するガス処理装置とする。
【００２６】
更に、請求項２に対応して、前記請求項１に対応する構成において、前記各電極群の各電極における前記フレーム内に配置されている部分に対してブロー清掃を行う清掃装置を備えるようにした構成とする。
【００２７】
更に又、請求項３に対応して、前記請求項１又は２に対応する構成において、前記電源装置は、電流現在値と、予め設定された電流設定値とを比較し、電流現在値が、電流設定値に対し、予め設定された電流増加側の許容振れ範囲を超過すると、電圧現在値が予め設定された電圧下限値よりも大きい場合は、電流現在値が電流設定値に一致するように、フィードバック制御手法により第一電極群と第二電極群に交流電圧を印加するときの電圧現在値を調整し、電圧現在値が電圧下限値以下である場合は、電流現在値が電流設定値に一致するように、フィードバック制御によりパルス周波数を調整する電流値一定制御機能を有するものとした構成とする。
【００２８】
同様に、請求項４に対応して、前記請求項１又は２に対応する構成において、前記電源装置は、電力現在値と、予め設定された電力設定値とを比較し、電力現在値が、電力設定値に対し、予め設定された電力増加側の許容振れ範囲を超過すると、電圧現在値が予め設定された電圧下限値よりも大きい場合は、電力現在値が電力設定値に一致するように、フィードバック制御手法により第一電極群と第二電極群に印加する交流電圧の制御波形を変更する処理を行い、電圧現在値が電圧下限値以下である場合は、電力現在値が電力設定値に一致するように、フィードバック制御によりパルス周波数を調整する電力一定制御機能を有するものとした構成とする。
【００２９】
同様に、請求項５に対応して、前記請求項１又は２に対応する構成において、前記電源装置は、電流現在値と、予め設定された電流設定値とを比較し、電流現在値が、電流設定値に対し、予め設定された電流増加側の許容振れ範囲を超過するという条件が満たされると、電圧現在値が予め設定された電圧下限値よりも大きい場合は、電流現在値が電流設定値に一致するように、フィードバック制御手法により第一電極群と第二電極群に交流電圧を印加するときの電圧現在値を調整し、電圧現在値が電圧下限値以下である場合は、電流現在値が電流設定値に一致するように、フィードバック制御によりパルス周波数を調整する電流値一定制御機能と、電流現在値が、電流設定値に対し、予め設定された電流減少側と電流増加側の許容振れ範囲内であり、且つ電力現在値が、電力設定値に対し、予め設定された電力増加側の許容振れ範囲を超過すると、電圧現在値が予め設定された電圧下限値よりも大きい場合は、電力現在値が電力設定値に一致するように、フィードバック制御手法により第一電極群と第二電極群に印加する交流電圧の制御波形を変更する処理を行い、電圧現在値が電圧下限値以下である場合は、電力現在値が電力設定値に一致するように、フィードバック制御によりパルス周波数を調整する電力一定制御機能とを有するものとした構成とする。
【発明の効果】
【００３０】
本発明のガス処理装置によれば、以下のような優れた効果を発揮する。
（１）処理対象ガスは、フレーム内側のガス流路を流通させることにより、第一電極群の各電極と、第二電極群の各電極との接触個所の周囲で発生させる誘電体バリア放電のプラズマ放電により処理することができる。
（２）燃焼設備の燃焼排ガスを前記処理対象ガスとする場合であっても、誘電体バリア放電のプラズマ放電を安定して発生させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明のガス処理装置の実施の一形態を示す概略切断側面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ方向矢視図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ方向矢視拡大図である。
【図４】図１の装置における第一電極群の電極と第二電極群の電極が積層配置された部分を拡大して示す斜視図である。
【図５】図１の装置で用いる電極を拡大して示すもので、（ａ）は切断側面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ方向矢視図である。
【図６】本発明の実施の他の形態を示す概略切断側面図である。
【図７】本発明の実施の更に他の形態として、清掃装置の別の例を示すもので、（ａ）は概略切断側面図、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ方向矢視図である。
【図８】本発明の実施の更に他の形態として、電源装置にて行う電流値一定制御を示すフロー図である。
【図９】本発明の実施の更に他の形態として、電源装置にて行う電力一定制御を示すフロー図である。
【図１０】本発明の実施の更に他の形態として、電源装置にて電流値一定制御と電力一定制御を組み合わせて実施する場合の制御手順を示すフロー図である。
【図１１】（ａ）（ｂ）は本発明の実施の更に他の形態として、第一電極群と第二電極群の配置の別の例をそれぞれ示す概要図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明を実施するための形態を図面を参照して説明する。
【００３３】
図１乃至図５（ａ）（ｂ）は本発明のガス処理装置の実施の一形態を示すものである。
【００３４】
ここで、先ず、本発明のガス処理装置１で用いる電極２ａ，２ｂの基本構成について説明する。
【００３５】
電極２ａ，２ｂは、図５（ａ）（ｂ）に示すように、一方向に延びる直管形状の誘電体３と、誘電体３の内面に密着させて配置した導電体４とから構成されている。
【００３６】
誘電体３は、燃焼排ガスが有する高温に耐える耐熱性と、腐食性ガスによる腐食を防止する耐食性とを備えるために、石英管を使用することが好ましい。なお、誘電体３は、管壁にガス透過性がないセラミック管や、ガラス管を用いるようにしてもよい。
【００３７】
更に、誘電体３は、先端となる長手方向一端部を端壁材３ａにより閉塞した構成として、長手方向一端側から誘電体３の内部へのガスの侵入を防止している。
【００３８】
導電体４は、一方向に延びる直管形状における管壁の周方向の一個所に、長手方向の全長に亘るスリット５を設けた構成としてある。
【００３９】
又、導電体４は、誘電体３と同様の耐熱性を備え、耐食性を高めるという点から考えると、ステンレス製とすることが好ましい。このステンレス製の導電体４を製造する場合の手法としては、ステンレス管（ＳＵＳ管）を材料とし、ステンレス管の管壁における周方向の一個所を、長手方向の全長に亘り切り欠いて、スリット５を形成する手法が好適である。
【００４０】
なお、本発明のガス処理装置１において、電極２ａ，２ｂの導電体４の材質は、ステンレスに限定されるものではなく、耐熱性と耐食性を有し、且つ後述するように電極２ａと２ｂ間で誘電体バリア放電によるプラズマ放電を発生させることができれば、ステンレス以外の金属製や、非金属の導電材製の導電体４を用いるようにしてもよいことは勿論である。又、導電体４の製造手法は、前記した管からの製造手法に限定されるものでないことは勿論である。
【００４１】
導電体４は、初期形状から、スリット５の幅を狭めるよう付勢して外径が細くなるように弾性変形させた状態で、誘電体３の基端となる長手方向他端側の開口部から誘電体３の内側に挿入されている。これにより、導電体４は、誘電体３の内側で、弾性変形状態から拡径して初期形状に戻ろうとする復元力により、導電体４の外面全体が、誘電体３の内面に密着している。
【００４２】
なお、誘電体３と導電体４については、常温から、処理対象ガスＧの最高温度までとして予め想定される本発明のガス処理装置の使用温度範囲（以下、単に、使用温度範囲と云う）の全域において、導電体４の外力を作用させない状態（初期形状）での外径が、誘電体３の内径よりも大きくなるように設定されている。
【００４３】
又、誘電体３の長手方向の内法寸法は、前記使用温度範囲の全域において、導電体４の全長よりも大きくなるように設定されている。これにより、誘電体３と、その内側に挿入した導電体４の長手方向他端同士を揃えた状態で、誘電体３の端壁材３ａの内面と導電体４の長手方向一端部との間には、或る隙間６が形成されるようにしてある。
【００４４】
以上の構成としてある電極２ａ，２ｂでは、誘電体３と導電体４に線膨張係数の差に起因して、前記使用温度範囲で両者の熱膨張による変形量に差が生じると、誘電体３の内面に対し、導電体４の外面が密着したまま摺動する。
【００４５】
したがって、前記使用温度範囲において、線膨張係数の差に起因して生じる誘電体３と導電体４の周方向に関する熱膨張の変形量の差は、導電体４のスリット５の幅が拡縮することで吸収される。又、誘電体３と導電体４の長手方向に関する熱膨張の変形量の差は、誘電体３の端壁材３ａの内面と、導電体４の長手方向一端部と間の隙間６が拡縮することで吸収される。
【００４６】
次に、電極２ａ，２ｂを用いた本発明のガス処理装置１の構成について説明する。
【００４７】
本発明のガス処理装置１は、図１乃至図４に示すように、電極２ａ，２ｂを複数本ずつ備えた第一電極群７及び第二電極群８と、各電極群７，８に接続した電源装置９と、内側を処理対象ガスＧのガス流路１１とし且つ各電極群７，８を設置する筒状のフレーム１０と、更に、フレーム１０のガス流路１１内に配置させる各電極群７と８の電極２ａ，２ｂの撓みによる変位を防止する電極撓み変位防止機構１２とから構成されている。
【００４８】
第一電極群７は、長手方向の一端側と他端側を揃えた複数本の電極２ａを、一つの平面内に或る間隔で平行に配列し、各電極２ａにおける長手方向他端部で誘電体３の開口部を通して露出されている導電体４を、電極２ａの配列方向に沿って延びる端子１３ａに、並列に接続した構成としてある。
【００４９】
第二電極群８は、長手方向の一端側と他端側を揃えた複数本の別の電極２ｂを、一つの平面内に或る間隔で平行に配列し、各電極２ｂの長手方向他端部で誘電体３の開口部を通して露出されている導電体４を、電極２ｂの配列方向に沿って延びる別の端子１３ｂに、並列に接続した構成としてある。
【００５０】
第一電極群７の端子１３ａと、第二電極群８の端子１３ｂは、交流電圧を印加するための電源装置９に接続されている。
【００５１】
第一電極群７の各電極２ａと、第二電極群８の各電極２ｂは、互いに直交する方向に向けた姿勢で、且つ各電極２ａと２ｂ同士が接するよう積層した状態で、フレーム１０のガス流路１１内に配置させる。
【００５２】
フレーム１０は、角筒形状としてある。このフレーム１０の二組の対向する側壁１４ａと１４ｃ、側壁１４ｂと１４ｄのうち、一方の組の側壁１４ａと１４ｃには、フレーム１０の軸心に沿う方向（以下単に、フレーム軸心方向と云う）の中間位置に、フレーム軸心方向に直角な方向に沿わせて、第一電極群７の各電極２ａの配置に対応する配置で、複数の電極取付孔１５が穿設されている。
【００５３】
フレーム１０の他方の組の側壁１４ｂと１４ｄには、フレーム軸心方向の中間位置であって各電極取付孔１５とは或る寸法ずれた位置に、フレーム軸心方向に直角な方向に沿わせて、第二電極群８の各電極２ｂの配置に対応する配置で、複数の電極取付孔１６が穿設されている。
【００５４】
側壁１４ａと１４ｃにおける各電極取付孔１５の中心位置と、側壁１４ｂと１４ｄにおける各電極取付孔１６の中心位置は、フレーム軸心方向に、各電極２ａ，２ｂを構成している誘電体３（図５（ａ）（ｂ）参照）の直径分ずらして配置してある。
【００５５】
側壁１４ａと１４ｃに設けた各電極取付孔１５には、側壁１４ａの外側から、第一電極群７の対応する配置の各電極２ａが挿通配置される。この際、各電極２ａは、その基端寄り個所（長手方向他端寄り個所）が、側壁１４ａの対応する電極取付孔１５の中（孔内）に位置し、各電極２ａの先端寄り個所（長手方向一端寄り個所）が、側壁１４ｃの対応する電極取付孔１５の中（孔内）に位置するようにしてある。
【００５６】
更に、側壁１４ａの各電極取付孔１５には、対応する各電極２ａの基端寄り個所が、その外周に取り付けた絶縁材製スリーブ１７を介して固定されている。
【００５７】
又、側壁１４ｃの各電極取付孔１５には、対応する各電極２ａの先端側が、各電極２ａの先端側に遊嵌した有底円筒状絶縁体１８を介して取り付けられている。この際、有底円筒状絶縁体１８の内底面と、対応する電極２ａの先端との間には、常温のときに、電極２ａの誘電体３の前記使用温度範囲で生じる熱膨張の変形量に対応する隙間が設けられている。
【００５８】
一方、側壁１４ｂと１４ｄに設けた各電極取付孔１６には、側壁１４ｂの外側から、第二電極群８の対応する配置の各電極２ｂが挿通配置される。この際、各電極２ｂは、その基端寄り個所（長手方向他端寄り個所）が、側壁１４ｂの対応する電極取付孔１６の中（孔内）に位置し、先端寄り個所（長手方向一端寄り個所）が、側壁１４ｄの対応する電極取付孔１６の中（孔内）に位置するようにしてある。
【００５９】
更に、側壁１４ｂの各電極取付孔１６には、対応する各電極２ｂの基端寄り個所が、その外周に取り付けた絶縁材製スリーブ１７を介して固定されている。
【００６０】
又、側壁１４ｄの各電極取付孔１６には、対応する各電極２ｂの先端側が、各電極２ｂの先端側に遊嵌した有底円筒状絶縁体１８を介して取り付けられている。この際、有底円筒状絶縁体１８の内底面と、対応する電極２ｂの先端との間には、常温のときに、電極２ｂの誘電体３の前記使用温度範囲で生じる熱膨張の変形量に対応する隙間が設けられている。
【００６１】
なお、絶縁材製スリーブ１７と、有底円筒状絶縁体１８の材質は、フレーム１０内側のガス流路１１を流通させる処理対象ガスＧの性状、ガス成分、温度に応じて所望される耐食性や耐熱性を備えた絶縁材であればよく、好適には、石英や雲母、あるいはフッ素樹脂（ポリテトラフルオロエチレン）を用いるようにすればよい。
【００６２】
又、各電極取付孔１５，１６と、対応する各絶縁材製スリーブ１７との間、各絶縁材製スリーブ１７と、その内側の電極２ａ，２ｂの誘電体３との間、及び、各電極取付孔１５，１６と、対応する有底円筒状絶縁体１８との間は、図示しないシール材によりシールして、フレーム１０内側のガス流路１１を流通させる処理対象ガスＧの漏れを防止するようにしてある。
【００６３】
これにより、フレーム１０内側のガス流路１１内には、フレーム軸心方向と垂直な面に沿って、第一電極群７の各電極２ａと、第二電極群８の各電極２ｂが、積層されて格子状に配置される。
【００６４】
更に、前述したように、側壁１４ａと１４ｃにおける各電極取付孔１５の中心位置と、側壁１４ｂと１４ｄにおける各電極取付孔１６の中心位置は、フレーム軸心方向に電極２ａ，２ｂの誘電体３（図５（ａ）（ｂ）参照）の直径分ずらした配置としてあるので、第一電極群７の各電極２ａと、第二電極群８の各電極２ｂは、交差部分で、誘電体３の外面同士が互いに接触する。
【００６５】
したがって、図４に概要を示すように、各電極２ａと２ｂの交差部分における接触個所１９の周囲には、各電極２ａの誘電体３（図５（ａ）（ｂ）参照）と、各電極２ｂの誘電体３（図５（ａ）（ｂ）参照）同士の間隔が誘電体バリア放電によるプラズマ放電に好適な数ミリメートルの隙間寸法となる領域が、図４にハッチングを付して示すように形成されて、この領域がプラズマ発生領域２０となる。又、各電極２ａと２ｂにより形成される各格子目の部分が、処理対象ガスＧのガス通路２１となる。したがって、フレーム１０内側のガス流路１１に導かれた処理対象ガスＧは、ガス通路２１を通過するときに、その近傍のプラズマ発生領域２０で発生させる誘電体バリア放電によるプラズマ放電による処理を受けるようにしてある。
【００６６】
処理対象ガスＧが燃焼設備の燃焼排ガスの場合は、フレーム１０内側のガス流路１１に配置されている各電極２ａ，２ｂが、この処理対象ガスＧの温度の影響を受ける。これにより、各電極２ａ，２ｂには、使用温度範囲での温度変化に伴って熱膨張が生じる。この際、各電極２ａ，２ｂの外形が誘電体３（図５（ａ）（ｂ））により直管形状となっているため、各電極２ａ，２ｂの熱膨張による変形は、主に誘電体３の長手方向の伸び変形となる。
【００６７】
なお、各電極２ａ，２ｂの熱膨張では、誘電体３の径寸法も大きくなるが、その変形量は、伸び変形に比して軽微である。
【００６８】
前記のようにして各電極２ａ，２ｂで生じる誘電体３の熱膨張による伸び変形は、フレーム１０の側壁１４ｃと１４ｄに取り付けられて、各電極２ａ，２ｂの先端側を保持している有底円筒状絶縁体１８の内側で、各電極２ａ，２ｂの誘電体３の先端部がスライドすることで吸収される。
【００６９】
したがって、前記のような燃焼排ガスを処理対象ガスＧとして処理する場合に、各電極２ａと２ｂに熱膨張が生じても、各電極２ａ，２ｂの位置は変化せず、それぞれの誘電体３の外面同士が摺動するのみである。このため、各電極２ａと２ｂ同士の接触状態は変化しないので、各電極２ａと２ｂ同士の接触個所１９の位置は変化せず、接触個所１９の周囲に形成されているプラズマ発生領域２０では、電極２ａと２ｂ同士の相対位置の変化が防止される。
【００７０】
電極撓み変位防止機構１２は、フレーム１０内に配置されている第一電極群７の各電極２ａ、及び、第二電極群８の各電極２ｂが、フレーム軸心方向に撓んで変位することを防止するためのものである。
【００７１】
このため、電極撓み変位防止機構１２は、フレーム１０内に、積層配置された第一電極群７の各電極２ａと、第二電極群８の各電極２ｂをフレーム軸心方向の両側から挟むように配置した電極支持部材２２ａ，２２ｂを備えた構成としてある。
【００７２】
第一の電極支持部材２２ａは、第一電極群７の各電極２ａの長手方向と直交する方向に延びる部材であり、第一電極群７のすべての電極２ａに対し、各電極２ａの長手方向中間部における接触個所１９とは１８０度対向する位置の外面に接するように配置されている。この状態で、第一の電極支持部材２２ａは、その両端部が、フレーム１０の側壁１４ｂと１４ｄに固定されている。
【００７３】
又、第二の電極支持部材２２ｂは、第二電極群８の各電極２ｂの長手方向と直交する方向に延びる部材であり、第二電極群８のすべての電極２ｂに対し、各電極２ｂの長手方向中間部における接触個所１９とは１８０度対向する位置の外面に接するように配置されている。この状態で、第二の電極支持部材２２ｂは、その両端部が、フレーム１０の側壁１４ａと１４ｃに固定されている。
【００７４】
なお、各電極支持部材２２ａは、フレーム１０内側のガス流路における処理対象ガスＧの流通を阻害せず、且つフレーム軸心方向に沿う方向の剛性が高くなるようにするために、フレーム軸心方向に沿って所望の剛性を得るための或る幅寸法を有し、且つフレーム軸心方向と直交する方向には薄い扁平な平板形状としてある。
【００７５】
なお、図示しないが、第一の電極支持部材２２ａと第二の電極支持部材２２ｂは、各電極２ａ，２ｂの長手方向寸法や撓み易さに応じて、各電極２ａの長手方向の複数個所と、各電極２ｂの長手方向の複数個所に設けるようにしてもよいことは勿論である。
【００７６】
以上の構成としてある電極撓み変位防止機構１２によれば、図１、図２に示したように、フレーム軸心方向が上下方向となっている場合は、各電極２ａと２ｂの下側に設けてある電極支持部材２２ｂに、各電極２ａと２ｂを受けることで、各電極２ａ，２ｂが自重による撓み変形によって下方へ変位することを防止できるようにしてある。
【００７７】
又、後述するように、フレーム１０内側のガス流路１１に処理対象ガスＧを下方から上向きに流通させる際、更に、後述する清掃装置２３により、各電極２ａ，２ｂに対し下方からブロー清掃を行う際には、気流により各電極２ａと２ｂに対し上向きの力が作用する場合がある。この場合は、各電極２ａと２ｂの上側に設けてある電極支持部材２２ａにより、前記のような各電極２ａと２ｂに作用する上向きの力を受けることで、各電極２ａ，２ｂが上方へ向けて撓むよう変形して変位することを防止できるようにしてある。
【００７８】
したがって、電極撓み変位防止機構１２によって変位が防止される各電極２ａ，２ｂは、誘電体３（図５（ａ）（ｂ）参照）の直管形状が保持される。
【００７９】
更に、各電極支持部材２２ａ，２２ｂは、各電極２ａ，２ｂの外面に接しているのみであるため、前述した各電極２ａ，２ｂの前記使用温度範囲での温度変化に伴う熱膨張には何ら影響を与えることはない。
【００８０】
これにより、電極撓み変位防止機構１２を備えた構成によれば、フレーム１０内側のガス流路１１の流路断面のサイズが大きくて、ガス流路１１内に配置させる各電極２ａ，２ｂが長尺であっても、各電極２ａと２ｂ同士の接触個所１９の位置の変化を防止できるため、接触個所１９の周囲に形成されているプラズマ発生領域２０では、電極２ａと２ｂ同士の相対位置の変化を防止することができる。
【００８１】
ところで、燃焼設備の燃焼排ガスを処理対象ガスＧとして処理する場合は、燃焼設備での燃焼させたものの成分や燃焼状況に応じて、処理対象ガスＧに含まれるガス成分が、さまざまに変化する。そのため、処理対象ガスＧに含まれるガス成分によっては、ガス流路１１内にて、処理対象ガスＧを各電極２ａ，２ｂで形成したガス通路２１を通過させて、プラズマ発生領域２０で発生させる誘電体バリア放電のプラズマ放電による処理を行うと、各電極２ａ，２ｂに付着物が生成することがある。
【００８２】
この各電極２ａ，２ｂに付着した付着物が、各電極２ａ，２ｂの誘電体３（図５（ａ）（ｂ）参照）と同様の誘電作用を生じる場合は、この付着物が成長すると、あたかも各電極２ａと２ｂ同士の接触個所１９の位置の変化や、プラズマ発生領域２０における電極２ａと２ｂ同士の相対位置の変化が生じたかのように、プラズマ放電の発生に偏りが生じたり、プラズマ放電の発生自体が不安定になったりする虞がある。
【００８３】
そこで、本発明のガス処理装置１は、更に、各電極２ａ，２ｂの清掃装置２３を備えた構成とすることが望ましい。
【００８４】
清掃装置２３は、フレーム１０の軸心方向の片側、たとえば、図１、図２に示すように、フレーム１０の下側に接続するための清掃装置フレーム２４と、清掃装置フレーム２４の内側に配置して、各電極２ａ，２ｂに向けて清掃用ガス２６を噴射させるための噴射ノズル２５を備えた構成としてある。
【００８５】
清掃装置フレーム２４は、フレーム１０と同様の断面形状を有する角筒形状としてある。清掃装置フレーム２４の一組の対向する側壁２４ａと２４ｂの内壁面には、フレーム軸心方向と垂直な平面に沿って延びるよう配置した一対のガイドレール２７が相対向して設けられている。
【００８６】
各ガイドレール２７の上面には、各ガイドレール２７と直角な方向に延びるヘッダ管２８の長手方向両端部が、各ガイドレール２７の長手方向にスライド可能に支持されている。
【００８７】
ヘッダ管２８には、長手方向の複数個所に、噴射ノズル２５が、各電極２ａ，２ｂの設置個所の方向（上方）に向けた姿勢で取り付けられている。
【００８８】
ヘッダ管２８の長手方向中間部の一側面には、清掃装置フレーム２４の別の側壁２４ｃを貫通させて外部より清掃装置フレーム２４内へ水平方向に挿入させた清掃用ガス供給管２９の一端部（先端部）が接続されている。清掃用ガス供給管２９における清掃装置フレーム２４の外側に位置する他端部には、図示しない清掃用ガス供給装置が接続されているものとする。なお、清掃用ガス２６は、空気、窒素ガスやその他の不活性ガス、蒸気、その他のブロー清掃に一般に用いられるガスを、使用状況に応じて適宜選択して用いればよい。
【００８９】
更に、清掃装置フレーム２４の外部には、清掃用ガス供給管２９と一体にヘッダ管２８及び各噴射ノズル２５を、ガイドレール２７に沿わせて往復移動させるためのアクチュエータ等の駆動装置３０を備えた構成としてある。
【００９０】
以上の構成としてある清掃装置２３は、予め定めた或る期間ごと、あるいは、本発明のガス処理装置１の或る運転時間ごとに、図示しない清掃用ガス供給装置より清掃用ガス供給管２９を通して導かれる高圧の清掃用ガス２６を、ヘッダ管２８に供給して、各噴射ノズル２５より、各電極２ａ，２ｂに向けて噴射させる。更に、この各噴射ノズル２５からの清掃用ガス２６の噴射を行いながら、駆動装置３０により、清掃用ガス供給管２９を介してヘッダ管２８及び各噴射ノズル２５を、ガイドレール２７に沿わせて往復移動させる。これにより、各電極２ａ，２ｂにおけるフレーム１０内側のガス流路１１に配置されている部分が、各噴射ノズル２５より噴射された高圧の清掃用ガス２６によって、ブロー清掃される。
【００９１】
したがって、各電極２ａ，２ｂでは、表面に付着した付着物を、高圧の清掃用ガス２６により吹き飛ばして除去することができる。このため、処理対象ガスＧの誘電体バリア放電のプラズマ放電による処理を行う際に各電極２ａ，２ｂに付着物が付着するとしても、この付着物が成長することは防止される。よって、前記した如き誘電作用を生じる付着物の成長に起因する、プラズマ放電の発生に偏りが生じたり、プラズマ放電の発生自体が不安定になったりするといった不具合は、未然に防止される。
【００９２】
フレーム１０には、各電極２ａ，２ｂの取り付け個所の外側に、第一電極群７の端子１３ａと第二電極群８の端子１３ｂを覆うカバー３１が設けてある。
【００９３】
以上の構成としてある本発明のガス処理装置１を用いて、燃焼設備の燃焼排ガスを処理対象ガスＧとして処理する場合は、予め、フレーム１０の下側に設けた清掃装置２３の清掃装置フレーム２４の下端部を、燃焼設備の燃焼排ガスを導く排ガスダクトＸの下流側に接続しておく。又、フレーム１０の上端側は、処理後のガスを下流側の図示しない排出設備等へ送るための別の排ガスダクトＸ１に接続しておく。
【００９４】
このように、本発明のガス処理装置１を排ガスダクトＸ，Ｘ１に接続する場合は、図１及び図２に示すように、清掃装置２３の清掃装置フレーム２４の上端部と、排ガスダクトＸ１の上流側端部との間に、本発明のガス処理装置１を収納可能なチャンバ３２を設け、このチャンバ３２の内底面に、本発明のガス処理装置１を配置する構成としてもよい。この場合、本発明のガス処理装置１は、チャンバ３２内で、図示しない固定手段を用いて、処理対象ガスＧの流通方向には位置ずれが生じないように拘束し、それと直交する方向（図では水平方向）には、フレーム１０やカバー３１の熱膨張による変形を許容した状態で保持させるようにする。かかる構成によれば、本発明のガス処理装置１にて、フレーム１０やカバー３１に作用する熱応力を低減させることができる。このため、フレーム１０に支持された各電極２ａ，２ｂに作用する熱応力をより確実に緩和させることが可能になる。
【００９５】
この状態で、本発明のガス処理装置１では、電源装置９より、第一電極群７の端子１３ａと、第二電極群の端子１３ｂに交流電圧を印加する。これにより、フレーム１０内側のガス流路１１では、格子状に配置されている第一電極群７の各電極２ａと、第二電極群８の各電極２ｂとの接触個所１９の周囲のプラズマ発生領域２０にて、誘電体バリア放電によるプラズマ放電を発生させる。
【００９６】
その後、ガス流路１１に、排ガスダクトＸを通して導かれる燃焼排ガスを、処理対象ガスＧとして流通させるようにする。
【００９７】
これにより、ガス流路１１に供給された処理対象ガスＧは、ガス流路１１内に格子状に配置された各電極２ａ，２ｂによって形成されたガス通路２１を通過するときに、その近傍のプラズマ発生領域２０で発生しているプラズマ放電により処理されて、処理対象ガスＧ中の臭気物質や環境汚染物質の分解や無害化の処理が行われる。
【００９８】
この際、処理対象ガスＧの温度の影響により、各電極２ａ，２ｂの温度が上昇しても、各電極２ａ，２ｂに熱膨張によって生じる変形は、ほぼ長手方向の伸び変形に限られる。このため、直管形状の誘電体３の外面同士を接触させている電極２ａと２ｂでは、接触個所１９の位置の変化が防止されると共に、接触個所１９の周囲に形成されているプラズマ発生領域２０では、電極２ａと２ｂ同士の相対位置の変化が防止される。
【００９９】
以上により、本発明のガス処理装置１によれば、誘電体バリア放電のプラズマ放電を発生させる各電極２ａと２ｂ同士の相対位置を管理することができて、誘電体バリア放電のプラズマ放電を均一に且つ安定して発生させることができる。
【０１００】
更に、フレーム１０内側のガス流路１１に、電極撓み変位防止機構１２を備える構成では、各電極２ａ，２ｂのガス流路１１に配置された部分に、自重、あるいは、処理対象ガスＧの気流や、ブロー清掃時の気流のような外力によって撓む変形が生じることを防止できる。このため、電極撓み変位防止機構１２を備えた構成の本発明のガス処理装置１は、フレーム１０のガス流路１１の断面形状が大きくなって、ガス流路１１に配置される各電極２ａ，２ｂが長尺となる場合にも、各電極２ａ，２ｂが前記のような撓み変形により変位する虞を解消できる。したがって、この場合は、燃焼設備の燃焼排ガスのような多量の処理対象ガスＧの処理が必要とされる場合に、フレーム１０のガス流路１１の断面形状を拡大しても、プラズマ発生領域２０における各電極２ａと２ｂ同士の相対位置を容易に管理することができて、誘電体バリア放電のプラズマ放電の均一化、安定化を図ることができる。
【０１０１】
又、本発明のガス処理装置１は、清掃装置２３を備えた構成とすることにより、処理対象ガスＧのプラズマ放電による処理の際に電極２ａ，２ｂに付着物が生じても、この付着物をブロー清掃により除去することができる。このため、清掃装置２３を備えた本発明のガス処理装置１は、プラズマ放電による処理の際に前記のような電極２ａ，２ｂに対する付着物を生じるガス成分を含むことも想定される燃焼設備の燃焼排ガスを処理対象ガスＧとする場合にも、電極２ａ，２ｂに付着した付着物の成長を未然に防止することで、あたかも各電極２ａと２ｂ同士の接触個所１９の位置の変化や、プラズマ発生領域２０における電極２ａと２ｂ同士の相対位置の変化が生じたかのように、プラズマ放電の発生に偏りが生じたり、プラズマ放電の発生自体が不安定になったりすることを防止できる。よって、この場合も、誘電体バリア放電のプラズマ放電の均一化、安定化を図ることができる。
【０１０２】
次に、図６は本発明の実施の他の形態として、図１乃至図５（ａ）（ｂ）の実施の形態の変形例を示すものである。
【０１０３】
本実施の形態のガス処理装置１は、図１乃至図５（ａ）（ｂ）に示したと同様の構成において、電極撓み変位防止機構１２における各電極支持部材２２ａ，２２ｂを、矩形の平板形状とした構成に代えて、各電極支持部材２２ａ，２２ｂを、電極２ａ，２ｂに接する側の端縁における各電極２ａ，２ｂの配置と対応する複数個所に、各電極２ａ，２ｂの外面に沿う半円形状の電極嵌合用切欠き３３を設けてなる構成としたものである。
【０１０４】
これにより、各電極支持部材２２ａ，２２ｂでは、各電極嵌合用切欠き３３の内側に、対応する各電極２ａ，２ｂを受けることができる。このため、各電極２ａ，２ｂは、各電極支持部材２２ａ，２２ｂにより、フレーム軸心方向への撓み変形による変位に加えて、各電極２ａ，２ｂが配列されている方向への撓み変形による変位も拘束されるようになる。
【０１０５】
したがって、本実施の形態のガス処理装置１は、フレーム軸心方向を、図６に示す如く、水平方向に向けた姿勢や、その他任意の角度姿勢に配置して使用することが可能になる。
【０１０６】
更に、図６に示すように、電極撓み変位防止機構１２は、各電極支持部材２２ａ，２２ｂを、対応する電極２ａ，２ｂに押し付ける方向に付勢するための付勢手段３４を備えた構成としてもよい。
【０１０７】
付勢手段３４は、たとえば、図６に示すような収縮方向の弾性力を発揮するばねを用いるようにすればよい。
【０１０８】
なお、図示してないが、付勢手段３４としては、各電極支持部材２２ａ，２２ｂを、対応する電極２ａ，２ｂに押し付ける方向に付勢することができれば、伸長方向に弾性力を発揮するばねを用いるようにしてもよい。又、ばねの形式は、板ばね、皿ばね、空気ばねのようなガス圧を利用したばね、その他、コイルばね以外の任意のばねを採用してもよい。更には、付勢手段は、弾性変形させた部材の復元力を利用したり、アクチュエータを用いるようにしてもよい。
【０１０９】
その他の構成は図１乃至図５（ａ）（ｂ）に示したものと同様であり、同一のものには同一の符号が付してある。
【０１１０】
本実施の形態のガス処理装置１によっても、図１乃至図５（ａ）（ｂ）に示したガス処理装置１と同様に使用して、同様の効果を得ることができる。
【０１１１】
次いで、図７（ａ）（ｂ）は本発明の実施の更に他の形態として、清掃装置の別の例を示すものである。
【０１１２】
本実施の形態のガス処理装置１における清掃装置２３ａは、図１乃至図５（ａ）（ｂ）の実施の形態における清掃装置２３と同様の清掃装置フレーム２４を備え、清掃装置フレーム２４内に、ヘッダ管２８と共にガイドレール２７に沿って移動させる形式に代えて、噴射ノズル２５を定置旋回式として備えた構成とする。
【０１１３】
この定置旋回式の清掃装置２３ａは、清掃装置フレーム２４の内側に、清掃装置フレーム２４の断面の中央を通る位置でフレーム軸心方向と垂直な平面に沿って延びるよう配置したヘッダ管２８を備える。
【０１１４】
ヘッダ管２８には、清掃装置フレーム２４内における長手方向の複数個所に、噴射ノズル２５が、各電極２ａ，２ｂの設置個所の方向（上方）に向けた姿勢で取り付けられている。
【０１１５】
ヘッダ管２８は、清掃装置フレーム２４の対応する配置の側壁２４ｃを貫通させて外部配置させた清掃用ガス供給管２９の先端部に接続されている。
【０１１６】
更に、清掃装置フレーム２４の外部には、清掃用ガス供給管２９と一体にヘッダ管２８及び各噴射ノズル２５を、図７（ｂ）に示すような角度範囲で往復回動させるための図示しない駆動装置を備えた構成としてある。
【０１１７】
その他の構成は図１乃至図５（ａ）（ｂ）に示したものと同様であり、同一のものには同一の符号が付してある。
【０１１８】
以上の構成としてある本実施の形態のガス処理装置１の清掃装置２３ａは、予め定めた或る期間ごと、あるいは、本発明のガス処理装置１の或る運転時間ごとに、図示しない清掃用ガス供給装置より清掃用ガス供給管２９を通して導かれる高圧の清掃用ガス２６を、ヘッダ管２８に供給して、各噴射ノズル２５より噴射させる。更に、この各噴射ノズル２５からの清掃用ガス２６の噴射を行いながら、図示しない駆動装置により、清掃用ガス供給管２９を介してヘッダ管２８及び各噴射ノズル２５を、図７（ｂ）に示すように往復回動させる。これにより、各電極２ａ，２ｂにおけるフレーム１０内側のガス流路１１に配置されている部分が、各噴射ノズル２５より噴射された高圧の清掃用ガス２６によって、ブロー清掃される。
【０１１９】
したがって、清掃装置２３ａによっても、図１乃至図５（ａ）（ｂ）の実施の形態における清掃装置２３と同様の効果を得ることができる。
【０１２０】
ところで、前述したように、燃焼設備の燃焼排ガスを処理対象ガスＧとして処理する場合は、プラズマ発生領域２０に供給される処理対象ガスＧの性状が変化することがある。
【０１２１】
この処理対象ガスＧの性状の変化の一つは、温度の変化である。本発明者等は、実験の結果、プラズマ発生領域２０に存在する処理対象ガスＧの温度が上昇すると、本発明のガス処理装置１の運転中に、電源装置９により第一電極群７と第二電極群８に一定の電圧（交流電圧）を印加していても、電流値が上昇する現象が生じるという知見を得ている。
【０１２２】
又、処理対象ガスＧの別の性状の変化は、処理対象ガスＧに含まれるガス成分の変化である。これは、燃焼設備で燃焼させたものの成分や燃焼状況に応じて、燃焼時に生じるガス成分が変化することに起因している。本発明者等は、実験の結果、プラズマ発生領域２０に或る特定のガス成分を含む処理対象ガスＧが存在している場合は、前記と同様に、電源装置９による一定の電圧（交流電圧）の印加時に、電流値の上昇現象が生じるという知見を得ている。
【０１２３】
そこで、本発明のガス処理装置１において誘電体バリア放電によるプラズマ放電を安定して発生させるためには、前記のような電源装置９における電流値の上昇の現象が生じても、電源装置９の消費電力が、本発明のガス処理装置１を適用する施設の電源容量を超えないようにする必要がある。この点に鑑みて、電源装置９は、図８に示す如き電流値一定制御、又は、図９に示す如き電力一定制御、あるいは、図１０に示す如き電流値一定制御と電力一定制御を組み合わせた制御を行う機能を備えたものとすることが望ましい。
【０１２４】
図８は、本発明の実施の更に他の形態として、図１乃至図５（ａ）（ｂ）の実施の形態と同様の構成における電源装置９で行う電流値一定制御を示すものである。
【０１２５】
電流値一定制御を行う場合は、電源装置９に対し、予め、電流値の上限値として所望される電流設定値Ａｓと、この電流設定値Ａｓを基準とする電流減少側の許容振れ範囲ａ、及び、電流増加側の許容振れ範囲ｂを設定しておくようにする。又、電源装置９には、第一電極群７と第二電極群８に印加する交流電圧についての電圧上限値Ｖｈと電圧下限値Ｖｌ、及び、パルス周波数上限値Ｈｈとパルス周波数下限値Ｈｌも設定しておくようにする。
【０１２６】
この状態で、電源装置９は、先ず、電流現在値Ａｐが、電流設定値Ａｓに対し電流減少側の許容振れ範囲ａ以内、又は、電流増加側の許容振れ範囲ｂ以内であるという条件（Ａｓ−ａ≦Ａｐ≦Ａｓ＋ｂ）を満たすか、否かを判断する（ステップＳａ１）。
【０１２７】
ステップＳａ１の判定により、電流現在値Ａｐが、条件（Ａｓ−ａ≦Ａｐ≦Ａｓ＋ｂ）を満たすと判断される場合は、電源装置９は、その時点での運転状態を維持して、予め設定されている或るサンプリング周期で、ステップＳａ１による判定処理を繰り返す。
【０１２８】
一方、ステップＳａ１にて、電流現在値Ａｐが、条件（Ａｓ−ａ≦Ａｐ≦Ａｓ＋ｂ）を満たしていないと判断されるようになると、電源装置９は、ステップＳａ２に進み、電流現在値Ａｐが、電流設定値Ａｓを基準とした電流増加側の許容振れ範囲ｂを超過するという条件（Ａｐ＞Ａｓ＋ｂ）を満たすか否かを判断する。
【０１２９】
ステップＳａ２の判定により、電流現在値Ａｐが、条件（Ａｐ＞Ａｓ＋ｂ）を満たすと判断される場合は、電流現在値Ａｐを引き下げる処理が必要になる。
【０１３０】
そこで、電源装置９は、ステップＳａ３に進み、電圧現在値Ｖｐが、電圧下限値Ｖｌよりも大きいという条件（Ｖｐ＞Ｖｌ）を満たすか否かを判断する。ステップＳａ３の判定により、電圧現在値Ｖｐが、条件（Ｖｐ＞Ｖｌ）を満たすと判断される場合は、電圧現在値Ｖｐから、電圧下限値Ｖｌまでの範囲内での電圧の引き下げが可能である。
【０１３１】
そのため、電源装置９は、ステップＳａ３で条件（Ｖｐ＞Ｖｌ）が満たされると判断されると、ステップＳａ４に進み、電流現在値Ａｐを、目標値となる電流設定値Ａｓに一致させるように、フィードバック制御手法としてのＰＩＤ制御手法を用いて電圧現在値Ｖｐを引き下げる電圧ＰＩＤ調整の処理を行う。この電圧ＰＩＤ調整の処理による電圧の引き下げを行った後は、電源装置９は、ステップＳａ１に戻って運転を継続する。これにより、電源装置９では、第一電極群７と第二電極群８に交流電圧を印加するときの電圧現在値Ｖｐが引き下げられるため、電源装置９の電流値が電流設定値Ａｓの電流増加側の許容振れ範囲ｂを超えて上昇することが防止される。
【０１３２】
一方、ステップＳａ３の判定により、電圧現在値Ｖｐが、条件（Ｖｐ＞Ｖｌ）を満たさないと判断された場合は、電圧現在値Ｖｐからの電圧の引き下げは不可である。この場合、電源装置９は、第一電極群７と第二電極群８に印加する交流電圧のパルス周波数の調整を開始するためにステップＳａ５に進む。
【０１３３】
ステップＳａ５では、その時点での交流電圧のパルス周波数制御値Ｈｍが、パルス周波数下限値Ｈｌよりも大きいという条件（Ｈｍ＞Ｈｌ）を満たすか否かを判断する。ステップＳａ５の判定により、パルス周波数制御値Ｈｍが、条件（Ｈｍ＞Ｈｌ）を満たすと判断される場合は、パルス周波数制御値Ｈｍを、パルス周波数下限値Ｈｌまでの範囲内で引き下げることが可能である。
【０１３４】
そのため、電源装置９は、ステップＳａ５で条件（Ｈｍ＞Ｈｌ）が満たされると判断されると、ステップＳａ６に進み、電流現在値Ａｐを、目標値となる電流設定値Ａｓに一致させるように、ＰＩＤ制御手法を用いてパルス周波数制御値Ｈｍを引き下げる周波数ＰＩＤ調整の処理を行う。この周波数ＰＩＤ調整の処理によるパルス周波数制御値Ｈｍの引き下げを行った後は、電源装置９は、ステップＳａ１に戻って運転を継続する。これにより、電源装置９では、第一電極群７と第二電極群８に交流電圧を印加するときのパルス周波数が引き下げられ、プラズマ放電に必要な電流値の平均値が引き下げられるため、電源装置９の電流値が電流設定値Ａｓの電流増加側の許容振れ範囲ｂを超えて上昇することが防止される。
【０１３５】
なお、ステップＳａ５の判定により、パルス周波数制御値Ｈｍが、条件（Ｈｍ＞Ｈｌ）を満たさないと判断された場合は、パルス周波数制御値Ｈｍの更なる引き下げを行うと、誘電体バリア放電によるプラズマ放電を安定して発生させることが困難になってしまう。そこで、電源装置９では、ステップＳａ７に進み、制御を停止すると共に、警報を発報するようにしてある。
【０１３６】
以上の処理により、前述したように、プラズマ発生領域２０に存在する処理対象ガスＧの温度上昇や、プラズマ発生領域２０に或る特定のガス成分を含む処理対象ガスＧが存在することに起因して電流値が上昇する現象に対しては、電圧現在値Ｖｐの引き下げ、又は、パルス周波数制御値Ｈｍの引き下げにより対応することができる。
【０１３７】
この状態で、プラズマ発生領域２０における処理対象ガスＧの温度上昇や、或る特定のガス成分の存在といった電流値の上昇の要因となっていた現象が改善あるいは解消されると、前述の処理により電流値の上昇を抑制するために調整した後の電圧現在値Ｖｐやパルス周波数制御値Ｈｍでは、電流値が電流設定値Ａｓより大幅に低下する虞がある。したがって、電源装置９で行う電流値一定制御では、電源装置９より第一電極群７と第二電極群８に交流電圧を印加する際、電流現在値Ａｐに前記のような電流設定値Ａｓからの低下が生じた場合には、その低下を回復させる。
【０１３８】
この点に鑑みて、電源装置９は、ステップＳａ２の判定により、電流現在値Ａｐが、条件（Ａｐ＞Ａｓ＋ｂ）を満たさないと判断される場合は、電流現在値Ａｐが、電流設定値Ａｓを基準とした電流減少側の許容振れ範囲ａよりも低下した条件（Ａｓ−ａ＞Ａｐ）であることから、ステップＳａ８に進み、電流現在値Ａｐを引き上げる処理を開始する。
【０１３９】
ステップＳａ８では、その時点での交流電圧のパルス周波数制御値Ｈｍが、パルス周波数上限値Ｈｈ以下という条件（Ｈｍ≦Ｈｈ）を満たすか否かを判断する。ステップＳａ８の判定により、パルス周波数制御値Ｈｍが、条件（Ｈｍ≦Ｈｈ）を満たすと判断される場合は、パルス周波数制御値Ｈｍを、パルス周波数上限値Ｈｈまでの範囲内で引き上げることが可能である。
【０１４０】
そのため、電源装置９は、ステップＳａ８で条件（Ｈｍ≦Ｈｈ）が満たされると判断されるとステップＳａ６に進み、電流現在値Ａｐを、目標値となる電流設定値Ａｓに一致させるように、ＰＩＤ制御手法を用いてパルス周波数制御値Ｈｍを引き上げる周波数ＰＩＤ調整の処理を行う。
【０１４１】
なお、このステップＳａ６で行う周波数ＰＩＤ調整の処理は、ステップＳａ８の判定処理に基づいて行う場合はパルス周波数制御値Ｈｍを引き上げ、一方、前述のステップＳａ５の判定処理に基づいて行う場合はパルス周波数制御値Ｈｍを引き下げる処理として説明したが、両者は処理開始時の条件が相違しているのみで、電流現在値Ａｐを、目標値となる電流設定値Ａｓに一致させるように、ＰＩＤ制御手法に基づいてパルス周波数制御値Ｈｍを調整するという処理の実質は同一である。
【０１４２】
ステップＳａ６による周波数ＰＩＤ調整の処理によるパルス周波数制御値Ｈｍの引き上げを行った後は、電源装置９は、ステップＳａ１に戻って運転を継続する。これにより、電源装置９では、第一電極群７と第二電極群８に交流電圧を印加するときのパルス周波数が引き上げられ、プラズマ放電に必要な電流値の平均値が引き上げられるため、電流値の過度な低下は解消される。
【０１４３】
一方、ステップＳａ８の判定により、パルス周波数制御値Ｈｍが、条件（Ｈｍ≦Ｈｈ）を満たさないと判断された場合は、パルス周波数制御値Ｈｍの更なる引き上げは不可である。そこで、電源装置９では、ステップＳａ９に進む。
【０１４４】
ステップＳａ９では、電源装置９は、電圧現在値Ｖｐが、電圧上限値Ｖｈよりも小さいという条件（Ｖｐ＜Ｖｈ）を満たすか否かを判断する。ステップＳａ９の判定により、電圧現在値Ｖｐが、条件（Ｖｐ＜Ｖｈ）を満たすと判断される場合は、電圧現在値Ｖｐから、電圧上限値Ｖｈまでの範囲内での電圧の引き上げが可能である。
【０１４５】
そのため、電源装置９は、ステップＳａ９で条件（Ｖｐ＜Ｖｈ）が満たされると判断されると、ステップＳａ４に進み、電流現在値Ａｐを、目標値となる電流設定値Ａｓに一致させるように、ＰＩＤ制御手法を用いて電圧現在値Ｖｐを引き上げる電圧ＰＩＤ調整の処理を行う。
【０１４６】
なお、このステップＳａ４で行う電圧ＰＩＤ調整の処理は、ステップＳａ９の判定処理に基づいて行う場合は電圧現在値Ｖｐを引き上げ、一方、前述のステップＳａ３の判定処理に基づいて行う場合は電圧現在値Ｖｐを引き下げる処理として説明したが、両者は処理開始時の条件が相違しているのみで、電流現在値Ａｐを、目標値となる電流設定値Ａｓに一致させるように、ＰＩＤ制御手法に基づいて電圧現在値Ｖｐを調整するという処理の実質は同一である。
【０１４７】
この電圧ＰＩＤ調整の処理による電圧の引き上げを行った後は、電源装置９は、ステップＳａ１に戻って運転を継続する。これにより、電源装置９では、第一電極群７と第二電極群８に交流電圧を印加するときの電圧現在値Ｖｐが引き上げられるため、電流値の過度な低下は解消される。
【０１４８】
一方、ステップＳａ９の判定により、電圧現在値Ｖｐが、条件（Ｖｐ＜Ｖｈ）を満たさないと判断された場合は、電圧現在値Ｖｐからの電圧の引き上げは不可である。この場合、電源装置９は、特に処理を行わずに、ステップＳａ１に戻って運転を継続する。
【０１４９】
図９は、本発明の実施の更に他の形態として、図１乃至図５（ａ）（ｂ）の実施の形態と同様の構成における電源装置９で行う電力一定制御を示すものである。
【０１５０】
電力一定制御を行う場合は、電源装置９に対し、予め、消費電力の上限として所望される電力設定値Ｋｓと、この電力設定値Ｋｓを基準とする電力減少側の許容振れ範囲ｃ、及び、電力増加側の許容振れ範囲ｄを設定しておくようにする。又、電源装置９には、交流電圧についての電圧下限値Ｖｌ、及び、パルス周波数上限値Ｈｈとパルス周波数下限値Ｈｌも設定しておくようにする。
【０１５１】
この状態で、電源装置９は、先ず、電力現在値Ｋｐが、電力設定値Ｋｓに対し電力減少側の許容振れ範囲ｃ以内、又は、電力増加側の許容振れ範囲ｄ以内であるという条件（Ｋｓ−ｃ≦Ｋｐ≦Ｋｓ＋ｄ）を満たすか、否かを判断する（ステップＳｂ１）。
【０１５２】
ステップＳｂ１の判定により、電力現在値Ｋｐが、条件（Ｋｓ−ｃ≦Ｋｐ≦Ｋｓ＋ｄ）を満たすと判断される場合は、電源装置９は、その時点での運転状態を維持して、予め設定されている或るサンプリング周期で、ステップＳｂ１による判定処理を繰り返す。
【０１５３】
一方、ステップＳｂ１にて、電力現在値Ｋｐが、条件（Ｋｓ−ｃ≦Ｋｐ≦Ｋｓ＋ｄ）を満たしていないと判断されるようになると、電源装置９は、ステップＳｂ２に進み、電力現在値Ｋｐが、電力設定値Ｋｓを基準とした電力増加側の許容振れ範囲ｄを超過するという条件（Ｋｐ＞Ｋｓ＋ｄ）を満たすか否かを判断する。
【０１５４】
ステップＳｂ２の判定により、電力現在値Ｋｐが、条件（Ｋｐ＞Ｋｓ＋ｄ）を満たすと判断される場合は、電力現在値Ｋｐを引き下げる処理が必要になる。
【０１５５】
そこで、電源装置９は、ステップＳｂ３に進み、電圧現在値Ｖｐが、電圧下限値Ｖｌよりも大きいという条件（Ｖｐ＞Ｖｌ）を満たすか否かを判断する。ステップＳｂ３の判定により、電圧現在値Ｖｐが、条件（Ｖｐ＞Ｖｌ）を満たすと判断される場合は、電圧現在値Ｖｐから、電圧下限値Ｖｌまでの範囲内での電圧の引き下げが可能である。
【０１５６】
そのため、電源装置９は、ステップＳｂ３で条件（Ｖｐ＞Ｖｌ）が満たされると判断されると、ステップＳｂ４に進み、電力現在値Ｋｐを、目標値となる電力設定値Ｋｓに一致させるように、フィードバック制御手法としてのＰＩＤ制御手法を用いて、第一電極群７と第二電極群８に印加する交流電圧の制御波形を変更する制御波形ＰＩＤ調整の処理を行う。この制御波形ＰＩＤ調整の処理による制御波形の変更を行った後は、電源装置９は、ステップＳｂ１に戻って運転を継続する。これにより、電源装置９では、第一電極群７と第二電極群８に交流電圧を印加するときの電流及び電圧の低下により、電源装置９の消費電力が過度に上昇することが防止される。
【０１５７】
一方、ステップＳｂ３の判定により、電圧現在値Ｖｐが、条件（Ｖｐ＞Ｖｌ）を満たさないと判断された場合は、電圧現在値Ｖｐからの電圧の引き下げは不可である。この場合、電源装置９は、第一電極群７と第二電極群８に印加する交流電圧のパルス周波数の調整を開始するためにステップＳｂ５に進む。
【０１５８】
ステップＳｂ５では、その時点での交流電圧のパルス周波数制御値Ｈｍが、パルス周波数下限値Ｈｌよりも大きいという条件（Ｈｍ＞Ｈｌ）を満たすか否かを判断する。ステップＳａ５の判定により、パルス周波数制御値Ｈｍが、条件（Ｈｍ＞Ｈｌ）を満たすと判断される場合は、パルス周波数制御値Ｈｍを、パルス周波数下限値Ｈｌまでの範囲内で引き下げることが可能である。
【０１５９】
そのため、電源装置９は、ステップＳｂ５で条件（Ｈｍ＞Ｈｌ）が満たされると判断されると、ステップＳｂ６に進み、電力現在値Ｋｐを、目標値となる電力設定値Ｋｓに一致させるように、ＰＩＤ制御手法を用いてパルス周波数制御値Ｈｍを引き下げる周波数ＰＩＤ調整の処理を行う。この周波数ＰＩＤ調整の処理によるパルス周波数制御値Ｈｍの引き下げを行った後は、電源装置９は、ステップＳｂ１に戻って運転を継続する。これにより、電源装置９では、第一電極群７と第二電極群８に交流電圧を印加するときのパルス周波数が引き下げられ、プラズマ放電に必要な電流値の平均値が引き下げられるため、電源装置９の消費電力の低下が図られる。
【０１６０】
なお、ステップＳｂ５の判定により、パルス周波数制御値Ｈｍが、条件（Ｈｍ＞Ｈｌ）を満たさないと判断された場合は、パルス周波数制御値Ｈｍの更なる引き下げを行うと、誘電体バリア放電によるプラズマ放電を安定して発生させることが困難になってしまう。そこで、電源装置９では、ステップＳｂ７に進み、制御を停止すると共に、警報を発報するようにしてある。
【０１６１】
以上の処理により、前述したように、プラズマ発生領域２０に存在する処理対象ガスＧの温度上昇や、プラズマ発生領域２０に或る特定のガス成分を含む処理対象ガスＧが存在することに起因して電流値が上昇する現象に対しては、制御波形の変更、又は、パルス周波数制御値Ｈｍの引き下げにより、電源装置９における消費電力の一定化を図ることで対応することができる。
【０１６２】
この状態で、プラズマ発生領域２０における処理対象ガスＧの温度上昇や、或る特定のガス成分の存在といった電流値の上昇の要因となっている現象が改善あるいは解消されると、前述の処理により電流値の上昇を抑制するために調整した後の制御波形やパルス周波数制御値Ｈｍでは、電源装置９の消費電力が電力設定値Ｋｓより大幅に低下する虞がある。したがって、電源装置９で行う電力一定制御では、電源装置９より第一電極群７と第二電極群８に交流電圧を印加するときの電力現在値Ｋｐに前記のような電力設定値Ｋｓからの低下が生じた場合は、その低下を回復させる。
【０１６３】
この点に鑑みて、電源装置９は、ステップＳｂ２の判定により、電力現在値Ｋｐが、条件（Ｋｐ＞Ｋｓ＋ｄ）を満たさないと判断される場合は、電力現在値Ｋｐが、電力設定値Ｋｓを基準とした電力減少側の許容振れ範囲ｃよりも低下した条件（Ｋｓ−ｃ＞Ｋｐ）であることから、ステップＳｂ８に進み、電力現在値Ｋｐを引き上げる処理を開始する。
【０１６４】
ステップＳｂ８では、その時点での交流電圧のパルス周波数制御値Ｈｍが、パルス周波数上限値Ｈｈ以下という条件（Ｈｍ≦Ｈｈ）を満たすか否かを判断する。ステップＳａ８の判定により、パルス周波数制御値Ｈｍが、条件（Ｈｍ≦Ｈｈ）を満たすと判断される場合は、パルス周波数制御値Ｈｍを、パルス周波数上限値Ｈｈまでの範囲内で引き上げることが可能である。
【０１６５】
そのため、電源装置９は、ステップＳｂ８で条件（Ｈｍ≦Ｈｈ）が満たされると判断されるとステップＳｂ６に進み、電力現在値Ｋｐを、目標値となる電力設定値Ｋｓに一致させるように、ＰＩＤ制御手法を用いてパルス周波数制御値Ｈｍを引き上げる周波数ＰＩＤ調整の処理を行う。
【０１６６】
なお、このステップＳｂ６で行う周波数ＰＩＤ調整の処理は、ステップＳｂ８の判定処理に基づいて行う場合はパルス周波数制御値Ｈｍを引き上げ、一方、前述のステップＳｂ５の判定処理に基づいて行う場合はパルス周波数制御値Ｈｍを引き下げる処理として説明したが、両者は処理開始時の条件が相違しているのみで、電力現在値Ｋｐを、目標値となる電力設定値Ｋｓに一致させるように、ＰＩＤ制御手法に基づいてパルス周波数制御値Ｈｍを調整するという処理の実質は同一である。
【０１６７】
ステップＳｂ６による周波数ＰＩＤ調整の処理によるパルス周波数制御値Ｈｍの引き上げを行った後は、電源装置９は、ステップＳｂ１に戻って運転を継続する。これにより、電源装置９では、第一電極群７と第二電極群８に交流電圧を印加するときのパルス周波数が引き上げられ、プラズマ放電に必要な電流値の平均値が引き上げられるため、電力現在値Ｋｐの過度な低下は解消される。
【０１６８】
一方、ステップＳｂ８の判定により、パルス周波数制御値Ｈｍが、条件（Ｈｍ≦Ｈｈ）を満たさないと判断された場合は、パルス周波数制御値Ｈｍの更なる引き上げは不可である。
【０１６９】
そこで、この場合は、電源装置９は、ステップＳｂ４に進み、電力現在値Ｋｐを、目標値となる電力設定値Ｋｓに一致させるように、ＰＩＤ制御手法を用いて、第一電極群７と第二電極群８に印加する交流電圧の制御波形を変更する制御波形ＰＩＤ調整の処理を行う。
【０１７０】
なお、このステップＳｂ４で行う制御波形ＰＩＤ調整の処理は、ステップＳｂ８の判定処理に基づいて行う場合は電力現在値Ｋｐの引き上げを目的としており、一方、前述のステップＳｂ３の判定処理に基づいて行う場合は電力現在値Ｋｐの引き下げを目的としているが、両者は処理開始時の条件が相違しているのみで、電力現在値Ｋｐを、目標値となる電力設定値Ｋｓに一致させるように、ＰＩＤ制御手法に基づいて制御波形を調整するという処理の実質は同一である。
【０１７１】
この制御波形ＰＩＤ調整の処理による制御波形の変更を行った後は、電源装置９は、ステップＳｂ１に戻って運転を継続する。これにより、電源装置９では、第一電極群７と第二電極群８に交流電圧を印加するときの電流及び電圧の向上により、電源装置９の消費電力の低下状態からの回復が図られる。
【０１７２】
図１０は、本発明の実施の更に他の形態として、図１乃至図５（ａ）（ｂ）の実施の形態と同様の構成における電源装置９にて、図８に示した電流値一定制御と図９に示した電力一定制御とを組み合わせた処理を実施する場合を示すものである。
【０１７３】
図１０において、破線ＳＡで囲んだ部分は、図８の電流値一定制御に対応する処理であり、図８と同一の処理ステップには同一の符号が付してある。又、破線ＳＢで囲んだ部分は、図９の電力一定制御に対応する処理であり、図９と同一の処理ステップには、同一の符号が付してある。
【０１７４】
本実施の形態の処理を実施する場合は、電源装置９に対し、予め、図８で説明したと同様の電流設定値Ａｓと、その電流減少側の許容振れ範囲ａと電流増加側の許容振れ範囲ｂ、電圧上限値Ｖｈと電圧下限値Ｖｌ、パルス周波数上限値Ｈｈとパルス周波数下限値Ｈｌ、及び、図９で説明したと同様の電力設定値Ｋｓと、その電力減少側の許容振れ範囲ｃと電力増加側の許容振れ範囲ｄを設定しておくようにする。
【０１７５】
この状態で、電源装置９は、先ず、電流現在値Ａｐが、電流設定値Ａｓを基準とした電流増加側の許容振れ範囲ｂを超過するという条件（Ａｐ＞Ａｓ＋ｂ）を満たすか否かを判断する（ステップＳｃ１）。
【０１７６】
ステップＳｃ１の判定により、電流現在値Ａｐが、条件（Ａｐ＞Ａｓ＋ｂ）を満たすと判断される場合は、電源装置９は、図８に示した電流値一定制御におけるステップＳａ３からステップＳａ７までの処理を実施する。
【０１７７】
これにより、電源装置９では、プラズマ発生領域２０に存在する処理対象ガスＧの温度上昇や、プラズマ発生領域２０に或る特定のガス成分を含む処理対象ガスＧが存在することに起因して電流値が上昇する現象に対しては、ステップＳａ４の電圧ＰＩＤ調整の処理による電圧現在値Ｖｐの引き下げ、又は、ステップＳａ６の周波数ＰＩＤ調整の処理によるパルス周波数制御値Ｈｍの引き下げにより対応することができる。その後は、電源装置９は、ステップＳｃ１に戻って運転を継続する。
【０１７８】
又、ステップＳａ４の電圧ＰＩＤ調整の処理、及び、ステップＳａ６の周波数ＰＩＤ調整の処理のいずれも行えない場合は、電源装置９は、ステップＳａ７にて、制御を停止すると共に、警報を発報するようにしてある。
【０１７９】
一方、ステップＳｃ１の判定により、電流現在値Ａｐが、条件（Ａｐ＞Ａｓ＋ｂ）を満たしていないと判断される場合は、電源装置９は、ステップＳｃ２に進み、電流現在値Ａｐが、電流設定値Ａｓを基準とした電流減少側の許容振れ範囲ａよりも低下したという条件（Ａｓ−ａ＞Ａｐ）を満たすか否かを判断する。
【０１８０】
ステップＳｃ２の判定により、電流現在値Ａｐが、条件（Ａｓ−ａ＞Ａｐ）を満たすと判断される場合は、図８の電流値一定制御におけるステップＳａ２の判定条件が満たされない場合と同様に、前述のステップＳａ４やステップＳａ６の処理の後で、電流値の上昇要因であった現象が改善あるいは解消されて、電流現在値Ａｐが電流設定値Ａｓより低下した状況であると考えられる。
【０１８１】
そのため、電源装置９は、ステップＳｃ２で条件（Ａｓ−ａ＞Ａｐ）が満たされると判断される場合は、ステップＳｃ３に進み、電力現在値Ｋｐが、電力設定値Ｋｓを基準とした電力減少側の許容振れ範囲ｃよりも低下した条件（Ｋｓ−ｃ＞Ｋｐ）が満たされるか否かを判断し、この条件が満たされる場合は、図８に示したステップＳａ８以降の処理を開始する。
【０１８２】
これにより、ステップＳａ６の周波数ＰＩＤ調整の処理によるパルス周波数制御値Ｈｍの引き上げ、又は、ステップＳａ４の電圧ＰＩＤ調整の処理による電圧現在値Ｖｐの引き上げにより、電流現在値Ａｐの電流設定値Ａｓを目標とした回復を図ることができる。
【０１８３】
なお、電源装置９は、ステップＳｃ３の判定により、条件（Ｋｓ−ｃ＞Ｋｐ）が満たされないと判断される場合は、ステップＳｃ１に戻って運転を継続する。
【０１８４】
電流現在値Ａｐが、前述のステップＳｃ１の判定の条件（Ａｐ＞Ａｓ＋ｂ）が満たされないと判断された条件の下で、更に、ステップＳｃ２の判定により、電流現在値Ａｐが、条件（Ａｓ−ａ＞Ａｐ）も満たしていないと判断されるのは、図８のステップＳａ１における条件（Ａｓ−ａ≦Ａｐ≦Ａｓ＋ｂ）が満たされる場合と同じである。よって、この場合は、電源装置９は、電流値一定制御ではなく、図９に示したと同様の電力一定制御を開始する。
【０１８５】
この電力一定制御では、図９で説明したと同様に、プラズマ発生領域２０に存在する処理対象ガスＧの温度上昇や、プラズマ発生領域２０に或る特定のガス成分を含む処理対象ガスＧが存在することに起因して電流値が上昇する現象に対しては、制御波形の変更、又は、パルス周波数制御値Ｈｍの引き下げにより、電源装置９における消費電力の一定化を図ることで対応することができる。
【０１８６】
又、前記制御波形の変更、又は、パルス周波数制御値Ｈｍの引き下げの処理の後で、電流値の上昇要因であった現象が改善あるいは解消されて、電流現在値Ａｐが電流設定値Ａｓより低下した場合は、パルス周波数制御値Ｈｍの引き上げ、又は、制御波形の変更により、電力現在値Ｋｐの電力設定値Ｋｓを目標とした回復を図ることができる。
【０１８７】
したがって、電源装置９に、図８に示した如き電流値一定制御の機能、又は、図９に示した如き電力一定制御の機能、又は、図１０に示した電流値一定制御と電力一定制御を組み合わせた処理を実施する機能を備えた本発明のガス処理装置１によれば、燃焼設備の燃焼排ガスを処理対象ガスＧとして処理する場合に、処理対象ガスＧの性状の変化に伴って、電源装置９における電流値の上昇の現象が生じても、電源装置９の消費電力が過度に上昇することを防止できて、誘電体バリア放電によるプラズマ放電を安定して発生させることができる。
【０１８８】
なお、前記各実施の形態では、本発明のガス処理装置１を、フレーム１０に、第一電極群７と第二電極群８とを、互いの電極２ａと２ｂ同士を接触させて２段に積層配置して取り付けた構成のものとして示したが、図１１（ａ）に概要を示すように、フレーム１０に、前記と同様に２段に積層配置した第一電極群７と第二電極群８とからなる組を、フレーム軸心方向に或る間隔で複数組（図では２組の場合が示してある）設けた構成としてもよい。
【０１８９】
更に、本発明のガス処理装置１は、図１１（ｂ）に概要を示すように、フレーム１０に、第一電極群７と第二電極群８とを、互いの電極２ａと２ｂ同士を接触させた状態で、２段よりも多い複数段（図では４段の場合を示してある）で積層配置して取り付けた構成としてもよい。
【０１９０】
なお、図１１（ａ）（ｂ）では、フレーム１０の内側以外の構成、及び、電極撓み変位防止機構１２の記載は省略してある。
【０１９１】
又、本発明は、前記実施の形態にのみ限定されるものではなく、各図における隣接する電極２ａ同士、電極２ｂ同士の間隔、それによって形成されるガス通路２１の開口サイズは、図示するための便宜上のものであり、実際の寸法を反映したものではない。
【０１９２】
第一電極群７と第二電極群８における電極２ａ，２ｂの数は、フレーム１０のガス流路１１の断面のサイズに応じて任意に設定してよい。
【０１９３】
又、ガス流路１１の断面が矩形の場合は、電極２ａと電極２ｂの長手方向寸法や配列数が異なっていてもよい。
【０１９４】
第一電極群７の各電極２ａを並列に接続できれば、端子１３ａの形状は自在に設定してよい。同様に、第二電極群８の各電極２ｂを並列に接続できれば、端子１３ｂの形状は自在に設定してよい。
【０１９５】
本発明のガス処理装置１は、誘電体バリア放電のプラズマ放電により脱臭処理や無害化処理を望む成分を含むガスであれば、たとえば、鋳造や鍛造などの加熱を伴う工程から排出されるガスなど、燃焼設備の燃焼排ガス以外の任意の処理対象ガスＧの処理に適用してよい。又、本発明のガス処理装置１は、温度についても、高温に限らず、常温など、任意の温度の処理対象ガスＧの処理に適用してよい。
【０１９６】
清掃装置２３，２３ａでは、ヘッダ管２８に設ける噴射ノズル２５の数を自在に変更してよい。更に、清掃装置２３における駆動装置３０は、ヘッダ管２８及び噴射ノズル２５を、ガイドレール２７の長手方向に沿わせて往復移動させることができれば、図示した以外のいかなる形式の駆動装置を採用してもよい。
【０１９７】
処理対象ガスＧのガス成分が、誘電体バリア放電によるプラズマ放電で処理しても、各電極２ａ，２ｂに誘電作用を生じる付着物を発生させる虞のないガス成分である場合は、清掃装置２３，２３ａは省略してもよい。
【０１９８】
又、処理対象ガスＧの温度が、常温付近であって、処理対象ガスＧの処理を行う際にフレーム１０やカバー３１に生じる熱膨張がわずかである場合は、フレーム１０を、清掃装置フレーム２４や、処理対象ガスＧを流通させるダクトに直接接続するようにしてもよい。
【０１９９】
図１乃至図５（ａ）（ｂ）の実施の形態において、電極撓み変位防止機構１２に、図６の実施の形態における付勢手段３４を備えた構成としてもよい。
【０２００】
図８に示した電流値一定制御、図９に示した電力一定制御、図１０に示した電流値一定制御と電力一定制御の組み合わせの処理において、ステップＳａ４における電圧（電圧現在値Ｖｐ）の調整、ステップＳａ６及びステップＳｂ６におけるパルス周波数制御値Ｈｍの調整、ステップＳｂ４における制御波形の調整の際に用いるフィードバック制御手法としては、ＰＩＤ制御手法を用いることが好ましいが、ＰＩＤ制御手法以外の任意のフィードバック制御手法を用いるようにしてもよい。
【０２０１】
図１０では、先ず、電流値一定制御の開始条件を満たすか否かを判定し、その条件が満たされない場合に、電力一定制御の開始条件を満たすか否かの判定を行うという処理手順を示したが、先に電力一定制御の開始条件を満たすか否かの判定を行い、その条件が満たされない場合に、電流値一定制御の開始条件を満たすか否かの判定を行う処理手順を実施してもよい。
【０２０２】
その他本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々変更を加え得ることは勿論である。
【符号の説明】
【０２０３】
１  ガス処理装置
２ａ，２ｂ電極
３  誘電体
４  導電体
７  第一電極群
８  第二電極群
９  電源装置
１０  フレーム
１１  ガス流路
１２  電極撓み変位防止機構
１３ａ，１３ｂ  端子
２２ａ，２２ｂ  電極支持部材
２３，２３ａ  清掃装置
Ｇ  処理対象ガス
【図１】
0006258807.tif 000002
【図２】
0006258807.tif 000003
【図３】
0006258807.tif 000004
【図４】
0006258807.tif 000005
【図５】
0006258807.tif 000006
【図６】
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【図７】
0006258807.tif 000008
【図８】
0006258807.tif 000009
【図９】
0006258807.tif 000010
【図１０】
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【図１１】
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