(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属線材からなる縦糸及び横糸が互いに交差するように製織された構造を有し、感光性樹脂膜形成のときに照射される紫外線の散乱が抑制可能なスクリーン印刷用金属メッシュ織物であって、
前記金属メッシュ織物の表面において形成されている、少なくとも１種類以上の紫外線吸収性を有する金属化合物粒子及びバインダーを含む紫外線吸収性膜を備え、
前記紫外線吸収性膜は金属化合物粒子のみに換算した平均厚さが５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、かつ前記スクリーン印刷用金属メッシュ織物を所定枚数以上重ねて波長３７５ｎｍの光の反射率がほぼ一定の値となるときに、当該波長３７５ｎｍの光の反射率が６％以下であることを特徴とするスクリーン印刷用金属メッシュ織物。
【請求項２】
前記紫外線吸収性を有する金属化合物粒子として、一価の銅化合物またはＡｇＩの粒子を含むことを特徴とする請求項１に記載のスクリーン印刷用金属メッシュ織物。
【請求項３】
前記金属線材は、前記縦糸及び前記横糸の線径が１６μm以下であり、前記スクリーン印刷用金属メッシュ織物における前記縦糸及び前記横糸のそれぞれの２５．４ｍｍあたりの本数が３００本以上であることを特徴とする請求項１または２に記載のスクリーン印刷用金属メッシュ織物。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか1つに記載されたスクリーン印刷用金属メッシュ織物を備えることを特徴とするスクリーン印刷用スクリーン版。
【請求項５】
画像形成用スクリーンとして請求項１から３のいずれか1つに記載されたスクリーン印刷用金属メッシュ織物を備えるとともに、合成繊維からなる織物構造体を該画像形成用スクリーンを枠に支持する支持体用スクリーンとしてさらに備えることを特徴とする請求項４に記載のスクリーン印刷用スクリーン版。
【請求項６】
前記スクリーン印刷用スクリーン版に形成されている、感光性樹脂膜であるパターンをさらに備え、当該パターンの最小のパターン幅または最小のパターンドット径が３０μｍ以下であることを特徴とする請求項４または５に記載のスクリーン印刷用スクリーン版。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スクリーン印刷を行う場合に用いる金属メッシュ織物およびスクリーン版に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来からスクリーン印刷が使用されているプリント回路、ＩＣ回路、各種ディスプレイ装置の電子部品基板の印刷、太陽電池電極印刷等をはじめとする印刷法における電子部品関係の用途は、近年ますます高精細化が望まれている。すなわち高精細なパターンを印刷する技術が必要とされている。
【０００３】
一般に、スクリーン印刷に用いられる版は、一定の張力を付与された状態で版枠に固定されたメッシュや多孔金属板をスクリーンとし、そのスクリーン面に感光性樹脂（エマルジョン）でメッシュ開口や金属板孔部の所定部分を閉塞することでインクやペーストの透過する領域、すなわち印刷パターンを形成している。
【０００４】
スクリーン印刷は、版のスクリーン面を被印刷面から一定距離（クリアランス）を隔てて平行に配置し、スキージによりインクやペーストをスクリーンの開口部に充填しながらスクリーンを一時的に被印刷面に押し付け、スクリーンの弾性変形を利用した復元力に基づいて直ちに離隔させる（版離れ）ことによって、インクやペーストを被印刷面に塗布することで行われる。この版離れ性は印刷品質に大きな影響を与える重要な因子であり、適切な版離れ性を確保する目的で、スクリーンには所定の張力が付与されている。
【０００５】
スクリーン印刷用の版のパターンは、一定の張力を付与された状態で版枠に固定された所定メッシュの画像形成部分に、例えば１〜１００μｍ程度の厚さの感光性樹脂膜を形成し、この表面に所望パターンのポジ型の画像フィルムやガラスマスクを重ねて紫外線照射する（露光）ことによりネガ型パターンを硬化させ、その後硬化していない所望パターン部の樹脂膜を洗浄除去する（現像）ことで形成している。
【０００６】
スクリーンとしては合成繊維メッシュ、金属繊維メッシュともに用いることができるが、高精細な印刷、すなわち細い又は微細なパターンをスクリーン印刷により形成するには、合成繊維では製造が難しい20μm以下の細い線材を、高密度で織ることのできる金属繊維を利用した金属繊維メッシュが適している。なお、金属繊維としてはステンレスが広く利用されている。
【０００７】
しかし、高精細印刷に適する金属繊維は合成繊維に比べて光が乱反射しやすいことから、感光剤を感光させる際の光の乱反射により、硬化させる必要のない領域の感光剤も硬化させてしまい、いわゆるハレーションと呼ばれる現象の影響がより大きい場合がある。すなわち、ポジ型パターンのエッジ部が乱反射の光により硬化してしまい、洗浄により樹脂膜をパターン通りに除去することができず、線幅が不安定になったり樹脂片が残留するなどの不都合を生ずることとなる。このような版を用いて印刷を行った場合、印刷パターンのライン幅などが所定より細くなったり断線したりする現象が生ずるなどの問題があるため、特に高精細なパターン形成では、光の乱反射を抑えることは極めて重要である。
【０００８】
光の乱反射を抑えるために、ステンレス等の金属細線を編んで形成したスクリーンの表面を、黒色クロムメッキや黒色ニッケルメッキ等の黒色処理や電着塗装による着色処理を行う方法が、特許文献１や特許文献２で提案されている。また、特許文献３にはオーステナイト系ステンレス鋼を母材とする金属メッシュ織物の表面に黒色クラッド層を形成することで、通常の軟質金属メッシュ織物のスクリーン印刷用版に比べて、反射率を低く抑えて感光樹脂の解像度を向上させることが記載されている。また特許文献４には表面がニッケルまたはニッケルを含む材料からなる金属メッシュと有機酸とを反応させる事により反射防止膜を形成する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平９−１２３６３１号公報
【特許文献２】特開２００７−９８９５３号公報
【特許文献３】特開２０１２−１４０７３５号公報
【特許文献４】特開２００７−３３４０５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記のようにスクリーンの表面にメッキやクラッド層を形成したりニッケル材料との反応を利用して光の乱反射を抑える方法では、以下のような問題がある。
【００１１】
すなわち、特許文献１や特許文献２の方法による着色処理や表面処理では大型のメッキ装置が必要とされたり、ロールトゥーロールによる連続生産が困難であったり、廃液処理などでの環境上の問題が有る。また特許文献３の方法では、マッフル炉などの加熱炉中にフッ素系ガスを導入したフッ化処理を、３００℃程度の高温で数時間行うなど製造工程が複雑となるなどの問題がある。すなわちいずれの方法においても大型の設備を必要としたり処理工程が煩雑となる等のため、品質の安定性の問題や生産性が劣ることによる製造コストの上昇などの問題がある。  
【００１２】
また特許文献４の方法では、金属メッシュを構成するニッケルとアクリルポリマー由来の有機酸塩により反射防止膜を形成する事から、対象とする金属メッシュはニッケルを構成成分とするものに限定されてしまうとの問題がある。さらにオーステナイト系ステンレスのようにニッケル含有量の少ない金属では、反射防止効果は十分とはいえず、ニッケルメッキなどの前処理が必要とされるなどの問題がある。
【００１３】
さらに、基材表面に金属メッキや電着塗装による着色処理を行う特許文献１や特許文献２の方法、および金属メッシュ表面に黒色クラッド層を形成する特許文献３や金属メッシュと有機酸による反射防止膜を形成する特許文献４のいずれにおいても、黒色に着色された金属メッシュ織物は視認性が著しく劣ることにより、例えば製版工程にてメッシュに張力を掛けて枠に固定する紗張り作業などで、メッシュが見えづらい事により不用意に折り曲げてしまう等、取扱性に難点がある。
【００１４】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、高精細のパターンを形成可能とするスクリーン印刷用の金属メッシュ織物に係る新規な技術を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
すなわち第１の発明は、金属線材からなる縦糸及び横糸が互いに交差するように製織された構造を有し、感光性樹脂膜形成のときに照射される紫外線の散乱が抑制可能なスクリーン印刷用金属メッシュ織物であって、前記金属メッシュ織物を構成する縦糸及び横糸の表面において形成されている、少なくとも１種類以上の紫外線吸収性を有する金属化合物粒子及びバインダーを含む紫外線吸収性膜を備え、前記紫外線吸収性膜の金属化合物粒子のみに換算した平均厚さが５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、かつ前記スクリーン印刷用金属メッシュ織物を所定枚数以上重ねて波長３７５ｎｍの光の反射率がほぼ一定の値となるときに、当該波長３７５ｎｍの光の反射率が６％以下であることを特徴とするスクリーン印刷用金属メッシュ織物である。
【００１６】
さらに第２の発明は、第１の発明において、前記金属化合物粒子として、少なくとも一価の銅化合物またはＡｇＩの粒子を含むことを特徴とするスクリーン印刷用金属メッシュ織物である。
【００１７】
さらに第３の発明は、前記第１または第２の発明において、前記金属線材は、その線径が１６μm以下であり、前記スクリーン印刷用金属メッシュ織物における前記縦糸及び横糸のそれぞれの２５．４ｍｍあたりの本数が３００本以上であることを特徴とするスクリーン印刷用金属メッシュ織物である。
【００１８】
さらに第４の発明は、前記第１から第３の発明のうちいずれか1つに記載されたスクリーン印刷用金属メッシュ織物を備えることを特徴とするスクリーン印刷用スクリーン版である。
【００１９】
さらに第５の発明は、前記第４の発明において、画像形成用スクリーンとして前記第１から第３の発明のうちいずれか1つに記載されたスクリーン印刷用金属メッシュ織物を備えるとともに、合成繊維からなる織物構造体を該画像形成用スクリーンを枠に支持する支持体用スクリーンとしてさらに備えることを特徴とするスクリーン印刷用スクリーン版である。
【００２０】
さらに第６の発明は、前記第４または第５の発明において、前記スクリーン印刷用スクリーン版に形成されている、感光性樹脂膜であるパターンをさらに備え、当該パターンの最小のパターン幅または最小のパターンドット径が３０μｍ以下であることを特徴とするスクリーン印刷用スクリーン版である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、高精細のパターンを印刷可能とするスクリーン印刷用金属メッシュ織物に係る新規な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本実施形態の紫外線散乱抑制可能なパターン印刷用の金属メッシュ織物の構成の概要を示す構成図である。
【図２】本実施形態の紫外線散乱抑制可能なパターン印刷用の金属メッシュ織物での感光性樹脂硬化の部分モデル図である。
【図３】従来の金属メッシュ織物での感光性樹脂硬化の部分モデル図である。
【図４】金属化合物粒子の紫外線吸収特性を示すグラフである。
【図５】スプレー法によりロールトゥロール方式で薄膜４を有する本実施形態の紫外線散乱抑制可能なパターン印刷用の金属メッシュ織物を製造する装置の概念図である。
【図６】浸漬法によりロールトゥロール方式で薄膜４を有する本実施形態の紫外線散乱抑制可能なパターン印刷用の金属メッシュ織物を製造する装置の概念図である。
【図７】コンビネーション版の一例の模式図である。
【図８】実施例において用いたガラスマスクのポジパターンを示す図である。
【図９】実施例１におけるパターンの幅が２０μｍのパターンの写真である。
【図１０】比較例１におけるパターンの幅が２０μｍのパターンの写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態の1つについて説明する。本実施形態は、感光性樹脂膜形成のときに照射される紫外線の散乱が抑制可能なスクリーン印刷用の金属メッシュ織物（以下単に「紫外線散乱抑制メッシュ」とも記載する）に関する。図１は、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１の構成の概要を示す構成図である。図１（ａ）は紫外線散乱抑制メッシュ１の平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ａ’矢印位置における紫外線散乱抑制メッシュ１の断面図である。
【００２４】
本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１は、金属線材からなる縦糸２と、金属線材からなる横糸３とを備え、これらが互いに交差するように製織されて成形されている（図１においては、図面上下方向の糸を縦糸２として示している。）。
【００２５】
本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１を構成する縦糸２および横糸３の表面には、紫外線吸収性膜４が形成されている。紫外線吸収性膜４は、少なくとも１種類以上の紫外線吸収性を有する金属化合物粒子及びバインダーを含み、その紫外線吸収性膜（以下、単に「薄膜」とも記載する。）４は金属化合物粒子のみに換算した平均厚さが５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であるのが好ましい。
【００２６】
なお、本明細書において、縦糸２及び横糸３の表面に薄膜が形成されている、とは、基材である金属メッシュ織物において露出している部分の少なくとも一部に薄膜４が形成されていればよく、縦糸と横糸が交差する部分についてまで薄膜４が形成されていることを要しない概念である。
【００２７】
そして、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１は、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１をある枚数以上重ねて波長３７５ｎｍの光の反射率がほぼ一定の値になった際の、当該波長３７５ｎｍの光の反射率が６％以下であることが好ましい。言い換えれば、紫外線散乱抑制メッシュ１を複数枚重ねていき、光を照射した場合の波長３７５ｎｍの光の反射率がほぼ変化しない状態となる枚数以上重ねられた状態における、波長３７５ｎｍの光の反射率が６％以下であるものが好ましい。なお、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１は、波長３７５ｎｍの光の反射率が変化しなくなるメッシュ織物の重畳枚数は、糸径、メッシュ数、オープニングエリア（開口率）等の条件によって変化し、糸径が１１〜２０μｍ、メッシュ数が２９０〜７３０、開口率が３９〜６３％であるときには、重ねる枚数が３枚以上で当該反射率がほぼ一定となる。そして、本実施形態においては、そのほぼ一定となるときの反射率が上述の通り６％以下であることが好ましい。ここで、メッシュ数とはメッシュ織物の縦糸又は横糸に平行な２５．４ｍｍ長さあたりの横糸又は縦糸の本数を意味し、特に指定が無い場合は縦横同じメッシュ数の織物を意味するが、縦糸及び横糸それぞれに対して決められる数値であるので異なっていても良い。また、オープニングエリアとはメッシュ織物を平面視した時の、メッシュ織物を構成する縦糸及び横糸の各１ピッチ内における開口部（糸の存在しない部分）の面積占有率をいい、使用した糸の糸径とメッシュ数とから得られる計算値である。
【００２８】
本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１をスクリーン印刷用スクリーン版（以下、単に「スクリーン版」とも記載する。）に対して所望のパターンを形成する処理について説明する。図２は、所望のパターンが形成された本実施形態に係るスクリーン版を形成する過程を示すモデル図である。図２（ａ）は、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１を用いてスクリーン版を構成したときの版の断面であって、メッシュの画像形成部分に感光性樹脂膜を形成し、その表面に所望のパターンのポジ型の画像フィルム（マスク）を重ねて紫外線照射を行って露光させ、ネガ型パターンを硬化させている際の紫外線の透過の仕方の概略を示している。図２（ｂ）は、図２（ａ）の露光処理後に、硬化していない所望パターン部の感光性樹脂膜を洗浄等で除去（現像）することにより得られたパターン（所定のパターンの感光性樹脂膜３１）が形成された、スクリーン版の断面図である。
【００２９】
スクリーン版における感光性樹脂膜の形成は、一定の張力を付与された金属メッシュ織物の画像形成部分に感光性樹脂を含む感光性乳剤の塗布・乾燥を繰り返して所定厚みの感光性樹脂膜を形成する直接法が広く用いられている。さらに、感光性樹脂からなるフィルムを金属メッシュ織物に転写することにより感光性樹脂膜を形成する直間法も、その簡便性や特徴を生かして使用されている。何れの方法でも所定厚さの感光性樹脂膜を形成後、その表面に所望パターンのポジパターンの画像フィルムやガラスマスクを重ねて紫外線照射することでネガ型パターンを硬化させた後、未硬化の樹脂膜部分を洗浄除去して所望のパターンを形成する。
【００３０】
図２（ａ）では、スクリーン版を構成する紫外線散乱抑制メッシュ１上に塗布等によって感光性樹脂４０の層（膜）が形成され、さらに表面に形成するスクリーン版のパターンに対応するマスクパターンを有するマスク２０が載せられている。マスク２０は、感光性樹脂を硬化させる部分に対応しているマスク２０の開口部であるネガパターン部２２と、感光性樹脂を除去する部分に対応している紫外線を透過しないポジパターン部２３とを有する。図２（ａ）においては、マスク２０側から矢印で示すように紫外線２４が照射されている状態を示している。
【００３１】
この図２（ａ）に示す状態では、樹脂を硬化させる部分についてはネガパターン部２２を通過する紫外線２４が樹脂内部まで透過し、感光性樹脂が硬化する。一方、樹脂を除去する部分（図２（ｂ）において樹脂が除去されて形成されるパターンの開口部３２に相当する部分）については、ポジパターン部２３によって紫外線が遮蔽され、感光性樹脂は硬化しないままとなる。
【００３２】
そして本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１を構成するスクリーン糸２１（縦糸２及び横糸３）の表面には紫外線吸収性を有する薄膜４が形成されているので、従来の金属メッシュ織物と比較して、露光用の光である紫外線の反射率が低い。このように紫外線の反射率が低いと、金属メッシュ織物１を構成する糸に当たって反射し周囲に紫外線が散乱することが抑制される。散乱した光は、図２（ａ）において反射光２５として示している。紫外線の散乱が抑制されることにより、ポジパターン部２３によって紫外線が遮蔽されている部分の感光性樹脂、つまり硬化させない範囲の感光性樹脂に近い位置でマスクを通過して入射した光が、糸によって反射して、硬化させない範囲の樹脂側に入ってしまうことが効果的に抑制される。これにより、もともとのマスクパターン通りに精度良く、金属メッシュ織物１に感光性樹脂によるパターンを形成することができ、高精細なスクリーン印刷用スクリーンを提供することができる。
【００３３】
一方、スクリーン糸３５の表面に紫外線吸収性を有する薄膜が形成されていない従来の金属メッシュ織物によるスクリーン版では、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１と比較して、反射率が大きく、高精細のパターンを形成することができない。図３は、従来の金属メッシュ織物３０に対して感光性樹脂４０の層を形成してマスク２０を重ね、紫外光２４を照射して樹脂を硬化させて感光性樹脂膜３１による所望のパターンを形成する過程を示す図である。図３（ａ）は図２（ａ）と同様に紫外光が照射されている状態のメッシュ織物の断面を示し、図３（ｂ）は図２（ｂ）と同様に硬化していない樹脂を洗浄して所望のパターンが形成された金属メッシュ織物の断面を示す。
【００３４】
図３（ａ）に示すように、スクリーンメッシュの反射率が大きいと反射光２５である紫外光はポジパターン部２３の周縁部にまで及ぶことにより、周縁部の硬化させる必要のない感光性樹脂４０も部分的に硬化してしまう。このため次工程での洗浄除去にて、本来除去されるべき範囲の樹脂が硬化して当該作業により除去されず、周縁部が残ることなる。そうすると、感光性樹脂が除去されて形成される、スクリーン印刷のインクやペーストが透過する領域は所望のパターン幅より狭いものとなったり洗浄にて除去できないなどの不都合が生ずることとなる。特にインクやペーストを通すためのパターンの幅やドットの径がより小さいものである場合ほど、周縁部の樹脂の硬化の影響は大きくなり、印刷の精度が低下する。これに対して、本実施形態では、メッシュの糸での反射率が低いので、硬化させる必要の無い周縁部への紫外光の乱反射が少なく、余分な硬化が抑制されることで、ポジパターンにより忠実なパターン形成が可能となる。
【００３５】
以下、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１の構成、および本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１による作用効果について、詳細に説明する。
【００３６】
本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１においては、紫外線吸収性を有する金属化合物粒子、及びバインダーを含む薄膜４によって感光性樹脂膜をマスクパターンに応じて硬化させる際に紫外光が吸収され、結果的に紫外光の反射率が低減され、硬化させる必要のない感光性樹脂側への乱反射を効果的に抑制できる。
【００３７】
紫外線吸収性を有する金属化合物粒子としては、特に限定されないが、一価の銅化合物やＡｇＩなどのヨウ化物や、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｅ、Ｓｎ、Ｉｎなどの金属酸化物を用いればよい。
【００３８】
一価の銅化合物としては、例えば塩化物、酢酸化合物、硫化物、ヨウ化物、臭化物、過酸化物、酸化物、水酸化物、シアン化物、チオシアン酸塩などが好ましく、特にCuCl、Cu(CH3COO)、CuI、CuBr、Cu2Ｓ、Cu2O、CuOH、CuCN、およびCuSCNが好適である。
【００３９】
また、ヨウ化物としては、CuI、AgI、SbI3、IrI4、GeI2、GeI4、SnI2、SnI4、TlI、PtI2、PtI4、PdI2、BiI3、AuI、AuI3、FeI2、CoI2、NiI2、ZnI2、HgI、InI3などが好ましく、また金属酸化物としては、TiO2、ZnO、Fe2O3、Ce2O3、CeO2、SnO、SnO2、In2O3を用いる事が出来る。
【００４０】
図４に、紫外線吸収性を有する金属化合物の粉末における紫外線吸収特性を示す。スクリーン印刷版の感光性樹脂として最も広く使用されているジアゾ樹脂タイプでは、その極大吸光波長は３７５ｎｍの紫外域にあるが、図４の紫外線吸収特性から判るように、ＣｕＩ、ＣｕＣｌ、ＣｕＯ２やＣｕＢｒ等の一価の銅化合物及びＡｇＩはＵＶＡといわれる長波長側の紫外線までの広い吸収特性に優れる事により乱反射の抑制には特に好ましい。なお図４には参考のため、表面に紫外線吸収性を有する薄膜が形成されていない従来のステンレスメッシュを３枚重畳したときの紫外線吸収特性も示す。
【００４１】
ここで、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１においては、薄膜４中に含有される金属化合物のみで計算した膜の平均厚さ（以後、換算膜厚と表記する）が、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。換算膜厚が５０ｎｍ未満であると紫外光を十分に吸収できず、乱反射を効果的に抑制できない。また換算膜厚が５００ｎｍより厚くなっても反射率の低減効果はほぼ一定となるため５００ｎｍより厚くする必要が無いだけでなく、薄膜４の厚さ全体が厚くなりスクリーンメッシュの開口部が狭くなる事により、製版の際、硬化していない樹脂を洗浄して所望のパターンとするときに樹脂残りが生じたり、印刷時のペーストの吐出量が少なくなる等、好ましくない影響があることから５００ｎｍ以下が好ましい。
【００４２】
紫外線散乱抑制メッシュ１を構成する縦糸２及び横糸３の表面に形成された、バインダーと紫外線吸収性を有する金属化合物粒子とを含む薄膜４中における金属化合物粒子の割合は特に限定されず当業者が適宜設定できるが、１０質量％以上８０質量％以下が好ましい。この割合が１０質量％未満であると紫外光を十分に吸収する５０ｎｍ以上の換算膜厚を得るための薄膜の平均厚みが３０００ｎｍより大きくなる場合が有り、このときスクリーンメッシュの開口部が狭くなるために、製版の際、硬化していない樹脂を洗浄して所望のパターンとするときに樹脂残りが生じたり、印刷時のペーストの吐出量が少なくなる等、好ましくない影響があるためである。また８０質量％より大きくなると薄膜の平均厚さが１００ｎｍ未満となる場合が有り、バインダーの含有率が少ないためにスクリーンメッシュへの密着性が弱くなることから印刷時に剥離などが生じる可能性などの点で好ましくない。
【００４３】
すなわち紫外光の反射を十分抑制すると共に、スクリーンメッシュの開口部への影響を小さくし、かつバインダーとして十分な密着性を有するためには、換算膜厚が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、かつ薄膜４の平均厚さは１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下が好ましい。
【００４４】
なお、換算膜厚、薄膜の平均厚さは、薄膜中の金属化合物粒子の質量割合をｒ、金属化金属化合物粒子とバインダー成分等の薄膜に含まれる他の成分の密度をそれぞれｍ[g/cm3]、ｂ[g/cm3]と、薄膜の質量をＷ[g]と、縦糸及び横糸における薄膜が形成されている部分の表面積をＳ[cm2]とすると、換算膜厚および薄膜の平均厚さは以下の式により算出することができる。
換算膜厚：Ｗ×ｒ×10７/(ｍ×Ｓ)[nm]
薄膜の平均厚さ：Ｗ×（ｒ×ｂ＋（1-ｒ）×ｍ）×10７/（Ｓ×ｂ×ｍ）[nm]
【００４５】
また、換算膜厚および薄膜の平均厚さの算出における表面積Ｓは、紫外線散乱抑制メッシュの屈曲や縦糸と横糸との交点部の重なりなどは考慮せずにメッシュ数、糸径、縦糸および横糸の長さから計算される値である。
【００４６】
紫外線吸収性を有する金属化合物粒子の大きさは特に限定されないが、平均粒子径が５００ｎｍ以下である微粒子とすることが好ましい。平均粒子径が５００ｎｍを超えると、金属化合物粒子の基材である金属メッシュ織物への固着強度が弱くなるため、摩擦力などにより金属メッシュ織物から金属化合物粒子が剥離したり脱落しやすくなる。
【００４７】
また紫外線吸収性を有する金属化合物粒子の平均粒子径の下限値は、特に限定されないが、１ｎｍ以上とすることが好ましい。１ｎｍ以上であれば紫外線遮蔽効果をより安定して維持でき、さらに粒子の製造上、取扱上および化学的安定性の観点からも好ましい。なお本明細書において、平均粒子径とは体積平均粒子径をいう。
【００４８】
薄膜４に含まれるバインダーは、金属メッシュ織物を構成する縦糸２及び横糸３の表面に紫外線吸収性を有する金属化合物粒子を固定し、金属化合物粒子と共に薄膜４を形成できる限り特に限定されない。例えば合成樹脂である、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、メラミン尿素樹脂、塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フッ素樹脂、セルロース系樹脂等が使用できる。
【００４９】
本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１は、換算膜厚が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、かつ、当該紫外線散乱抑制メッシュ１をそれ以上重ねても波長３７５ｎｍの光を照射した場合の反射率がほぼ変化しない状態となる枚数で重ねられた状態における、３７５ｎｍの光の反射率が６％以下となる。本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１において、反射率がほぼ一定となって変化しなくなるときの重ねる枚数に影響を与える因子としては、糸径、メッシュ数、オープニングエリア（開口率）があり、例えば、糸径として１１〜２０μｍ、メッシュ数として２９０〜７３０、開口率として３９〜６３％であるときには、いずれの場合でも３枚以上重ねた状態において反射率は一定値を示す。本明細書における反射率は、特に記載がない限り、３枚以上重ねた状態での反射率を指す。 
【００５０】
なお、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１においては、例えば、糸径、メッシュ数、オープニングエリア、換算膜厚、および薄膜４に含まれる紫外線吸収性を有する金属化合物粒子の種類等を調整することで、反射率を６％以下とすることができる。
【００５１】
スクリーン印刷用の金属メッシュ織物として最も広く使用されている軟質ステンレスの場合には、波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は１４．４％（３枚重畳時）である。このような金属メッシュ織物では、硬化させる樹脂に隣接する硬化させる必要の無い範囲の感光性樹脂にまで紫外光が乱反射（ハレーション）して、マスクパターン通りの高精細なパターンを形成することが難しいので好ましくない。
【００５２】
一方、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１によれば、露光時の周縁部への紫外光の散乱をより確実に低減することができる。
【００５３】
紫外線散乱抑制メッシュ１において、これを所定枚数（例えば３枚）重ねた状態での波長３７５ｎｍの紫外光の反射率が６％以下となっていることが、従来技術と比較して好ましい理由について、より具体的に説明する。
【００５４】
メッシュを使ったスクリーン版にパターンを形成するための感光性樹脂としては、ジアゾ樹脂を架橋剤とするタイプ、スチリルピリジニウム（ＳＢＱ）を付加したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いるタイプ、そしてアクリロイル基、アクリルアミド基の重合架橋反応を利用するタイプが単独または組合わせて用いられている。この内もっとも広く使用されているジアゾ樹脂タイプでは、その極大吸光波長が３７５ｎｍの紫外域にあり、露光用光源としてメタルハライドランプや超高圧水銀灯が一般的に使用されている。また、ＳＢＱのタイプでは極大吸光波長が３４０ｎｍにあり、露光用光源として超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドの何れのタイプでも使用できる。
【００５５】
ここで、上述の図４で判るように、ＳＢＱタイプの最大吸収波長である３４０ｎｍの波長における紫外線の反射率はジアゾ樹脂タイプの最大吸収波長３７５ｎｍの反射率と同等かそれより小さい。従って波長３７５ｎｍでの反射率を抑えることにより、最も汎用的に用いられているジアゾ樹脂タイプだけでなくＳＢＱタイプやこれらを組み合わせた種々の感光性樹脂タイプを用いる場合にも反射率を抑えられることが可能である。
【００５６】
そして本発明者は、換算膜厚を５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下とし、かつ紫外線散乱抑制メッシュ１を所定枚数（本実施形態では例えば３枚）以上重ねた状態での波長３７５ｎｍの紫外光の反射率を６％以下とすることにより、露光時の周縁部への紫外光の散乱をより確実に低減することができることを見出した。紫外線散乱抑制メッシュ１の反射率が６％より大きくなると、ネガ型画像フィルムの周縁部にまで紫外光が及ぶことにより周縁部の樹脂膜が硬化してしまい、次工程での洗浄除去にて硬化した周縁部の一部が残り、スクリーン版における正確なパターンの形成が出来なくなるので、６％以下が好ましい。  
【００５７】
本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１において、縦糸２と横糸３の構成や製織の態様は、縦糸２と横糸３とが互いに交差して製織された成形体を成している限り特に限定されず、例えば公知の方法により製造された金属メッシュ織物に薄膜４を形成させることで紫外線散乱抑制メッシュ１を得ることができる。
【００５８】
すなわち、紫外線散乱抑制メッシュ１における織組織について特に限定されず、平織りといわれる一般的な組織の他、綾織りや繻子織りなどの織り組織であったり、糸の絡み合い部分の形態を工夫したり、太さの異なる金属糸を交織したり、或いはそれらを適宜組み合わせたりしてもよい。例えば、太さの異なる繊維を交織することにより、オープニングエリアをあまり落とさず、しかも金属糸の絡み合い部分において繊維の屈曲が大きくなるので、印刷されるインクやペーストの厚みがより厚い厚め印刷を可能なものとすることもできる。
【００５９】
一方で、本実施形態においては、金属メッシュ織物を構成する材料によらずに、縦糸２及び横糸３の表面に薄膜４が形成されている構成とすることができるため、従来のスクリーン印刷用金属メッシュ織物よりも、さらに安定した高細線の印刷を可能とすることができる。
【００６０】
具体的には、換算膜厚が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり所定枚数（本実施形態では例えば３枚）以上重ねた状態での波長３７５ｎｍの紫外光の反射率が６％以下である本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１を最小の線幅またはドットの径が３０μｍ以下の高精細なパターン形成に用いる場合に、縦糸２および横糸３に係る金属線材の線径が１６μｍ以下であり、また縦・横のメッシュ数がそれぞれ３００以上であることが好ましい。より好ましくは、所定枚数（本実施形態では例えば３枚）以上重ねた状態での波長３７５ｎｍの紫外光の反射率が４％以下、さらにより好ましくは３％以下である。ここでメッシュ数とはメッシュ織物の縦糸又は横糸に平行な２５．４ｍｍ（１インチ）長さ当たりの縦糸又は横糸の本数を意味する。
【００６１】
これにより、薄膜４が形成されていない場合の反射率に比べて、換算膜厚の値などにもよるが８〜１２ポイント程度、紫外線反射率を低減することができ、最小の線幅またはドットの径が３０μｍ以下のような高細線のパターンにおいても断線やギザリの現象がより効果的に抑制された、高細線の印刷がより安定して可能となる。
【００６２】
以下、以上の構成を備えることにより、最小の線幅またはドットの径が３０μｍ以下のような高細線のパターンにおいても断線やギザリの現象がより効果的に抑制された、高細線の印刷がより安定して可能となる理由について詳細に説明する。
【００６３】
樹脂膜の周縁部の硬化に与える反射率の影響は、使用するスクリーンメッシュの糸径、メッシュ織物の縦糸又は横糸に平行な２５．４ｍｍ長さあたりの横糸又は縦糸の本数（メッシュ数）、樹脂膜の厚み、積算露光量などによってもその程度は変化する。
【００６４】
また、紫外光の反射によって硬化する必要の無い周縁部の硬化による影響は、スクリーン印刷時における印刷パターンの高精細さの程度や、インクやペーストの物性や印刷条件によっても変化するが、特に、印刷パターン最小の線幅またはドットの径（つまり、スクリーン版でのインクやペーストが通る部分の大きさ）が、３０μｍ以下であるような高精細なパターンである場合には、反射率の影響が一層顕著になる。
【００６５】
紫外光の反射が印刷パターンに与える影響としては、線幅が一様に細くなるということだけでなく、メッシュの存在する部分や特にメッシュの交点部に対応する部分に於いてインクやペーストの広がりが抑制されるため、ギザリと呼ばれるパターン端部がのこぎりの刃状となったり、かすれたり、断線したりなどの現象となる。これらの現象は、パターン幅が狭くなるほど飛躍的に顕著となる。
【００６６】
ここで、現在スクリーン印刷で一般的に対応できる最小のパターン線幅やパターンドット径は８０μｍ程度といわれており、スクリーンメッシュや乳剤の選定・設計、更には基材に対応したペースト特性を工夫すること等により、４０μｍ程度への印刷が可能となりつつある段階である。
【００６７】
最小の線幅またはドットの径が３０μｍ以下の高精細なパターンを印刷対象とする場合、使用する線材の径はパターン幅以下、好ましくはパターン幅の２/３倍以下、より好ましくは１/２倍以下である。しかしながら線径が細くなるほど線材の強度は弱くなることから、メッシュ織物としてスクリーン印刷を可能とする強度を有するためにはメッシュ数を多くすることが好ましい。
【００６８】
パターンを形成するインクやペーストはメッシュ織物の開口部分を通過して基材に転写される。メッシュ数と糸径とから算出されるオープニングエリアはメッシュ数に反比例する関係であるため、強度を維持するためにメッシュ数を増加するとオープニングエリアが小さくなり、ペーストの透過量も少なくなることで断線やギザリなどの現象を生じ易くなるとの二律背反的な関係となる。
【００６９】
高精細パターンの形成に使用される金属メッシュ織物の線材としては軟質のステンレスが広く使用されている。さらに一般的な軟質ステンレスに比べて弾性率の高い高強度ステンレスやタングステンを線材として製織したメッシュを用いれば線径を細くしてもメッシュ数の増加割合は低く抑えることが可能となるため高精細パターンの形成には一層好適である。最小の線幅またはドットの径が３０μｍ以下の高精細なパターンを形成するために用いるスクリーンとしては１６μｍ以下の細い線材を用いてメッシュ数３００以上の織物とするのが好ましい。
【００７０】
さらに２０μｍ以下の一層高精細なパターンを形成する場合には、線材としては１３μｍ以下でメッシュ数４００以上、さらに１５μｍ以下の超高精細なパターンの形成では線径１１μｍ以下の線材を５００メッシュ以上の高メッシュ数でのメッシュ織物とすることが好ましい。通常の軟質ステンレスを用いる事も出来るが、弾性率の高い高強度ステンレスやタングステンを用いればメッシュ数を著しく高くせずとも、すなわち開口率を維持してインクやペーストの吐出量を確保して高い解像性を得たうえで、一層耐久性に優れた高い寸法精度での繰り返し印刷を可能とするスクリーン印刷用メッシュ織物とすることが可能となる。
【００７１】
１６μｍ以下、特に１３μｍや１１μｍの極細い径の線材を高メッシュ数で製織できる材料は極めて限定されることとなり、この点においてヤング率が２５００Ｎ/ｍｍ２以上の高強度ステンレスやタングステンは一層好適な材料といえる。本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１は、金属メッシュ織物を構成する材料（金属線材）の種類が限定されず、縦糸２及び横糸３の表面に金属化合物粒子及びバインダーを含む薄膜４を形成することで、紫外線の散乱が抑制されたスクリーン印刷用の金属メッシュ織物として得ることができる。すなわち、本実施形態の係る技術により、紫外線の反射率が抑制され、最小の線幅またはドットの径が３０μｍ以下、さらには２０μｍ、１５μｍという超高精細なパターンの形成が可能となる。
【００７２】
（紫外線散乱抑制メッシュ１の製造方法）
続いて、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１の製造方法の一例について説明する。
【００７３】
本実施形態に係る金属化合物粒子及びバインダーからなる薄膜４は、例えば、金属化合物粒子及びバインダーを含む溶液を、縦糸と横糸との・BR>サ織によって得られる金属メッシュ織物に塗布・乾燥して形成することができる。金属化合物粒子およびバインダーは、この溶液（以後、薄膜用溶液と表記する）中の不揮発成分となる。
【００７４】
薄膜用溶液中の揮発成分としての溶媒に、不揮発成分としての金属化合物粒子及びバインダーが分散または溶解しているときの、薄膜用溶液全体に対する不揮発成分の割合は特に限定されず、薄膜用溶液の塗布方法などに応じて適宜変更可能である。また、後述する添加剤や顔料を含む場合も同様に適宜変更可能である。さらに、本実施形態における各成分の混合方法も特に限定されず、公知の方法によって行うことができる。
【００７５】
すなわち薄膜用溶液に含まれる溶媒は、その使用方法に応じて適宜選択することができ、特に限定されない。溶媒としてはたとえば、水、メタノール、エタノール、ジ−ｎ−プロピルエーテル、ｎ−ペンテン、ジブチルエーテル、ｎ−ヘキサン、ジエチルエーテル、ｎ−ヘプタン、ジイソブチルケトン、メチルシクロヘキサン、ジイソプロピルケトン、イソブチルクロリド、シクロヘキサン、エチルアミルケトン、酢酸イソブチル、ベンドニトリル、酢酸イソプロピル、メチルイソブチルケトン、酢酸アミル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ、ジエチルカルボネート、ジエチルケトン、エチルベンゼン、キシレン、ブチルカルビトール、トルエン、酢酸エチル、ダイアセトンアルコール、ベンゼン、クロロホルム、メチルエチルケトン、スチレン、エチルカルビトール、酢酸メチル、アノン、アニソール、セロソルブ、ジエチルアセトアミド、ジエチルカルボネート、ジオキサン、アセトン、メチルイソブチルカルビノール、ニトロベンゼン、アクリロニトリル、ジエチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ブタノール、シクロヘキサノール、アセトニトリル、プロピルアルコール、ベンジルアルコール、ブチレンカルボネート、ジメチルホルムアミド、エチレンカルボネート、メチルホルムアミドまたはこれらの混合物、例えば各種のシンナーなどを用いることができる。
【００７６】
ここで、薄膜用溶液の分散安定性を高めるために分散剤を用いてもよく、分散剤としては、例えば界面活性剤や高分子系分散剤を用いることができる。
【００７７】
界面活性剤としては、具体的には、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤や両性界面活性剤を使用できる。アニオン系界面活性剤としては、親水基としてカルボン酸、スルホン酸、あるいはリン酸構造を持つものとすることができる。また、カルボン酸系としては、例えば石鹸の主成分である脂肪酸塩やコール酸塩とすることができる。また、スルホン酸系としては合成洗剤に多く使われる直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムやラウリル硫酸ナトリウムなどが挙げられる。より具体的には、脂肪酸ソーダ石鹸、オレイン酸カリウム石鹸、アルキルエーテルカルボン酸塩などのカルボン酸塩、ラウリル硫酸ナトリウム、高級アルコール硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウムなどの硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルカンスルホン酸ナトリウム、芳香族スルホン酸ホルマリン縮合物のナトリウム塩などのスルホン酸塩、アルキルリン酸カリウム塩、ヘキサメタリン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸などがあげられる。これらは単独または複数を組み合わせて用いてもよい。
【００７８】
カチオン系界面活性剤としては、塩化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ドデシルジメチルベンジルアンモニウム、塩化アルキルトリメチルアンモニウム、塩化オクチルトリメチルアンモニウム、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、臭化アルキルトリメチルアンモニウム、臭化ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンザルコニウムなどの第４級アンモニウム円型。また、モノメチルアミン塩酸塩、ジメチルアミン塩酸塩、トリメチルアミン塩酸塩などのアルキルアミン塩型や塩化ブチルピリジニウムや塩化ドデシルピリジニウムなどのピリジン環を有する型などを単独または複数で組み合わせて用いても良い。
【００７９】
また、ノニオン系界面活性剤としては、アルキルフェノールエチレンオキシド付加物および高級アルコールエチレンオキシド付加物、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、脂肪酸エチレンオキシド付加物およびポリエチレングリコール脂肪酸エステル、高級アルキルアミンエチレンオキシド付加物および脂肪酸アミドエチレンオキシド付加物、ポリオキシエチレンアルキルアミンおよびポリオキシエチレン脂肪酸アミド、ポリプロピレングリコールエチレンオキシド付加物、非イオン界面活性剤グリセリンおよびペンタエリスリトールの脂肪酸エステル、ソルビトールおよびソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖の脂肪酸エステル、アルキルポリグリコシド脂肪酸、アルカノールアミドなどがあげられる。これらは単独または複数を組み合わせて用いてもよい。
【００８０】
また、両性界面活性剤としてはラウリルジメチルアミノ酢酸ベタインやドデシルアミノメチルジメチルスルホプロピルベタインなどのアルキルベタイン型や、コカミドプロピルベタインなどの脂肪酸アミドプロピルベタイン型や、ラウロイルグルタミン酸ナトリウムなどのアミノ酸型やラウリルジメチルアミンN-オキシドなどのアミンオキシド型などを用いても良い。
【００８１】
さらに、高分子系分散剤としては、ポリウレタンプレポリマー、スチレン・ポリカルボン酸共重合体、リグニンスルホン酸塩、カルボキシメチルセルロース、アクリル酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、アクリルアミド、ポリビニルピロリドン、カゼイン、ゼラチン、さらに、オリゴマーおよびプレポリマーとしては、不飽和ポリエステル、不飽和アクリル、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、シリコーンアクリレート、マレイミド、ポリエン／ポリチオールや、アルコキシオリゴマーなどを用いることができる。
【００８２】
本実施形態の薄膜用溶液には以上説明した構成の他に、必要に応じて更に添加剤、機能剤等を含んでも良い。添加剤、機能剤としては、増粘剤、粘性調整剤、安定剤、乾燥調整剤、可塑剤、乾燥剤、硬化剤、皮張り防止剤、平坦化剤、たれ防止剤、防カビ剤、抗菌剤、熱線吸収剤、潤滑剤、触媒、反射防止材料、有機系紫外線吸収剤などがあり、さらにこれらを適宜混合して使用してもよい。
【００８３】
本実施形態において、薄膜用溶液は公知の方法、例えば、スプレー法、浸漬法、ロールコーター法、バーコーター法、スピンコート法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、刷毛塗り法などの方法で金属メッシュ織物に塗布すればよい。その後、加熱乾燥、減圧乾燥や赤外線、遠赤外線、紫外線、電子線、γ線などの照射、あるいはこれらを適宜組み合わせることにより、溶媒を除去して紫外線散乱抑制メッシュ１を構成する縦糸２及び横糸３の表面に薄膜４を形成する事ができる。
【００８４】
スクリーン印刷では、ペーストが印刷パターンに対応したメッシュ織物の開口部を通過して基材に転写されることでパターンが形成される。ここでメッシュ織物を平面視したときの、メッシュを構成する縦糸及び横糸の各１ピッチ内における開口部（糸の存在しない部分）の面積占有割合はオープニングエリアと呼ばれ、メッシュ織物の重要な特性値のひとつとされている。
【００８５】
薄膜用溶液の塗布方法としては、紫外線散乱抑制メッシュ１のオープニングエリアを極力狭めることなく、縦糸２及び横糸３の表面に均一に薄膜４を形成する方法として、スプレー法が特に適している。スプレー法では薄膜用溶液をスプレーノズルから金属メッシュ織物に吹き付け塗布するため、金属メッシュ織物の開口部に薄膜用溶液が残留する事が無く、従ってメッシュ開口部の閉塞や膜厚邑が発生しづらく、均一な薄膜４の形成が可能である。スプレーによる吹きつけ塗布は金属メッシュ織物の表裏の両面から同時に行ってもよく、表面の吹きつけ塗布後裏面の吹き付け塗布を行い、その後乾燥して揮発成分を除去して薄膜４を形成してもよい。また表面に吹きつけ塗布・乾燥後、裏面に吹きつけ塗布・乾燥する事でも良い。さらに前記のような吹きつけ塗布・乾燥の工程を複数回繰り返して薄膜４を形成しても良い。
【００８６】
また浸漬法の場合でも、薄膜用溶液中に金属メッシュ織物を浸漬し、取り出した後にエアーブローなどを行う事でスプレー法と同様の均一な薄膜４の形成が可能となる。浸漬法においても塗布・乾燥の工程を複数回繰り返して薄膜４を形成する事でも良い。
【００８７】
このように、薄膜溶液を金属メッシュ織物に塗布・乾燥するという簡便な方法で、紫外線散乱抑制メッシュ１を構成する縦糸２及び横糸３の表面に紫外線吸収性を有する薄膜４を形成する事が出来る。
また、シート状に裁断された枚様状態の金属メッシュ織物に薄膜溶液の塗布・乾燥処理を行ってもよく、またロールトゥーロール方式にて連続的に塗布・乾燥処理を行う事もできる。
【００８８】
ここで、ロールトゥーロール方式はロール状に巻いた金属メッシュ織物を連続的に巻き出し、塗布・乾燥工程を通した後、得られた製造物（本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ）を連続的に巻き取るものである。連続生産となる事により低コストで安定生産が可能となり大量生産に適した製造方法である。特にスプレー法または浸漬法とエアーブローを組み合わせた塗布方法は金属メッシュ織物の開口部を閉塞することなく織物全面に均一な厚さの薄膜４を形成するのに適していることから、ロールトゥーロール方式での塗布・乾燥処理に用いる事により高品質で低コストの低反射率の紫外線散乱メッシュ１を得る事ができる。
【００８９】
図５にスプレー法を用いたロールトゥーロール方式での、紫外線吸収性を有する薄膜４を形成した紫外線散乱抑制メッシュ１を製造する装置の概念図の一例を示す。巻き出しロール５１から巻き出された金属メッシュ織物５２はガイドローラ５３を経て塗布部５４に搬送される。塗布部５４内のスプレーノズル５５には送液ポンプ５８を介して薄膜用溶液槽５９から薄膜用溶液が供給され、搬送された金属メッシュ織物５２にスプレーノズル５５から連続的に薄膜用溶液が塗布される。スプレーノズル５５の個数や配置方法は金属メッシュ織物５２のサイズやメッシュ数に応じて適宜決めればよい。薄膜用溶液が塗布された金属メッシュ織物は乾燥炉５６内で揮発成分を除去、乾燥することにより縦糸および横糸の表面に薄膜４が形成され、巻き取りロール５７により連続的に巻き取られる。乾燥炉５６の乾燥方式に特に制限は無く、電気ヒーターや熱風による加熱乾燥、減圧乾燥や赤外線、遠赤外線、紫外線、電子線、γ線などの照射、またはこれらの組み合わせにより揮発成分を除去・乾燥できれば良い。
【００９０】
図６に浸漬法とエアーブローを組み合わせ、紫外線吸収性を有する薄膜４を形成した紫外線散乱抑制メッシュ１を製造する装置の概念図の一例を示す。巻き出しロール６１から巻き出された金属メッシュ織物６２はガイドローラ６３を経て薄膜用溶液が入った浸漬槽６４内を浸漬・通過し、その後、吹き付け部６６内のエアーノズル６７によりエアーコンプレッサー７０から供給された空気が金属メッシュ織物６２に吹き付けられ、連続的に過剰付着分の溶液が除去される。ここで、必要に応じて浸漬槽６４を通過後、ニップローラ６５にて過剰に付着した溶液を除去してから吹き付け部６６に導入する事でもよい。また、ニップローラではなくシゴキブレードで過剰付着の溶液を除去することでもよい。ニップローラやシゴキブレードは金属メッシュ織物を破損したり傷つけないような材質や配置を選択すればよい。ここで、エアーノズル６７の個数や配置方法、及び乾燥工程については前述のスプレーノズルを用いる場合と同様である。溶液が塗布された金属メッシュ織物は乾燥炉６８内で揮発成分を除去、乾燥することにより薄膜４が形成され、巻き取りロール６９により連続的に巻き取られる。乾燥炉６８の乾燥方式に特に制限は無く、電気ヒーターや熱風による加熱乾燥、減圧乾燥や赤外線、遠赤外線、紫外線、電子線、γ線などの照射、またはこれらの組み合わせにより揮発成分を除去・乾燥できれば良いことはスプレー法の場合と同様である。
【００９１】
ロールトゥーロール方式で金属メッシュ織物に紫外線吸収性を有する薄膜４を形成して紫外線散乱抑制メッシュ１とする場合、得られる紫外線散乱抑制メッシュ１に巻き皺が発生したり不均一な薄膜厚みにならないよう、巻き出しロールや巻取りロールの間に金属メッシュ織物の幅方向に張力をかける機構や巻取り方向の張力を均一にする機構などは適宜導入すればよい。またスプレー法で塗布部５４に送る前段階や浸漬法で薄膜溶液が入った槽６４内を通過する前に、金属メッシュ織物を洗浄処理したり、例えばブラスト処理などの前処理を行う事で、薄膜４の縦糸及び横糸に対する密着力を向上させたりしてもよい。
【００９２】
本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１は、スクリーン印刷用スクリーン版において用いることができる。
【００９３】
その１例として、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュ１を用いたスクリーン印刷用のコンビネーションスクリーン版について説明する。
【００９４】
スクリーン印刷に用いられる版は、合成繊維のメッシュや金属繊維のメッシュに張力を掛けて樹脂や金属製の枠に接着固定した、枠内部のスクリーンとなる部分が単一の素材からなる「全面張りスクリーン版」と、枠に接着される周辺部の合成繊維のメッシュと、版の中央部に形成される実際に画像形成に用いられる画像形成部となる金属メッシュ等で構成される複数の素材とを含んで構成される「コンビネーションスクリーン版」とが使用されている。コンビネーションスクリーン版における合成繊維スクリーンは、一般に、支持体スクリーンと呼ばれる。一例としてのコンビネーションスクリーン版１００の概略図を図７に示す。
【００９５】
図７のコンビネーションスクリーン版１００は、画像形成用スクリーン１０２と、枠１０１に固定される支持体用スクリーン１０３と、を備える。枠１０１は、スクリーン版を保持する保持枠である。画像形成用スクリーン１０２は、コンビネーションスクリーン版１００の内、実際に画像を形成するパターンが形成される部分のスクリーンであり、本実施形態では紫外線散乱抑制メッシュ１である。支持体用スクリーン１０３は、枠１０１に固定され、画像形成用スクリーン１０２を支持する、画像形成用スクリーン１０２の周囲のスクリーンであり、上述のように合成繊維等の材料で形成されるスクリーンである。
【００９６】
高精細な印刷、すなわち細い又は微細なパターンをスクリーン印刷にて形成するには、合成繊維では製造が難しい２０μｍ以下の細い線材を高密度で織ることのできる金属繊維メッシュが適している。一方で、このような金属繊維メッシュは製造コストが高く、全面張り版としての使用はコスト的にも不利となるため、画像形成に用いられる部分に金属メッシュ織物を用いたコンビネーションスクリーン版として使用されることが多い。
【００９７】
コンビネーションスクリーン版１００においては、印刷時のクリアランスによる伸びを支持体スクリーンに負担させるため、支持体用スクリーン１０３には、弾性の高い、すなわちヤング率の低い素材であるナイロンやポリエステルからなる織物構造体を使用し、画像形成部には画像パターンの変形が少なくなるようヤング率の高い素材として金属繊維からなる織物構造体やメタルマスク等が一般に使用されている。
【００９８】
（コンビネーションスクリーン版の作成方法）
次に本実施形態における紫外線散乱抑制メッシュ１を用いたコンビネーションスクリーン版１００の代表的な作製方法について以下に記述する。
【００９９】
第１の作製方法は、接着後の張力低下分を考慮した高めの張力で支持体用スクリーン１０３を枠１０１に紗張りした後、所定寸法の画像形成用スクリーン１０２（本実施形態では、紫外線散乱抑制メッシュ１）を支持体用スクリーン１０３の所定位置に接着し、その後支持体用スクリーン１０３のうち画像形成用スクリーン１０２に対応する部分を切断除去するものであり、従来の多くのコンビネーションスクリーン版はこの方法で作成されている。
【０１００】
また第２の作製方法として、あらかじめ中央部を繰り抜いた支持体用スクリーン１０３に画像形成用スクリーン１０２を接着した一体スクリーンを用い、全面張り版と呼ばれる単一の合成繊維スクリーンからなるスクリーン版と同様の方法によりコンビネーションスクリーン版１００を作製することもできる。
【０１０１】
さらに第３の作製方法として、支持体用スクリーン１０３を紗張り機上にて軽く張力を掛けた仮の紗張り状態（第１ステップ）とし、所定寸法の画像形成用スクリーン１０２を支持体用スクリーン１０３の所定位置に接着し、その後画像形成用スクリーン部にある支持体用スクリーンを切断除去する。さらに紗張り機に所定の張力をかけて（第２ステップ）支持体用スクリーン１０３を枠１０１に接着するとの２ステップで張力をかける方法や、第４の作製方法として、支持体スクリーン１０３と画像形成用スクリーン１０２との両方にほぼ同一の所定張力を掛けた状態で接着し、その後不要部分を切断除去するなどの方法がある。
【０１０２】
いずれにしろ、上述した作製方法に限定されるものではなく、コンビネーションスクリーン版を作製するのに適したいかなる冶具や設備、方法を用いてもよい。支持体用スクリーン１０３としてはポリエステルやナイロンが広く用いられているが、画像形成用スクリーン１０２としてヤング率が２５００Ｎ/ｍｍ２以上の高強度ステンレスやタングステンのように高弾性率・高強度の金属素材を用いる場合には、支持体用スクリーン１０３にもポリエステルやナイロンに比べて高弾性率・高強度の合成繊維を用いることで、より一層優れた耐久性や高い位置精度の印刷が可能となる。
【０１０３】
高弾性率・高強度の合成繊維としては、例えば、アラミド、ポリアリレート、超高分子量ポリエチレン、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリパラフェニレンベンゾビスチアゾール（ＰＢＴ）、ポリパラフェニレンベンゾビスイミダゾール（ＰＢＩ）、炭素繊維、その他液晶ポリマーや、上記材質を主成分とした２種以上の素材、例えば芯鞘型複合繊維などがある。
【０１０４】
このような高弾性率・高強度の合成繊維を支持体用スクリーン１０３とし、高強度ステンレスやタングステンの金属メッシュを画像形成用スクリーン１０２とした組合わせによるコンビネーションスクリーン版１００の作製では、あらかじめ中央部を繰り抜いた支持体用スクリーン１０３に画像形成用スクリーン１０２を接着した一体スクリーンを用いて全面張り版と同様の方法により作製するのが、画像形成用スクリーン１０２面内の張力分布が均一になり易く、高位置精度で高耐久性の版を作製するのに特に適している。
【０１０５】
（スクリーン版に感光性樹脂によってパターンを形成する方法について）
枠に張られたメッシュ織物（スクリーンメッシュ）に感光性樹脂膜によるパターンを形成する方法には、直接感光液を塗布して感光性樹脂膜を形成する方法（直接法）、あらかじめプラスチックフィルム上に形成された感光性樹脂膜をスクリーン上に転写する方法（直間法）、プラスチックフィルム上にコートされた感光性樹脂に、焼付け・現像作業を行い、フィルム上に形成したパターンをスクリーン上に転写する方法（間接法）がある。本実施形態では紫外線散乱抑制メッシュ１上に形成された感光性樹脂膜にポジのパターンを形成したガラスマスクやフィルムを密着し、紫外線照射により硬化させてパターンを形成することから、直接法や直間法が好ましい。
【０１０６】
直接法における感光液の塗布方法は、バケット塗布、スピナー塗布、フローコーターなどの方法があるが、最も一般的にはバケット法が用いられている。バケット法では垂直に保持されたスクリーンメッシュに感光液を入れたバケットのドクター部を押し当て、バケットをスクリーンに接触させながら下部から上部へと移動させながら一定量の感光液をスクリーン上に塗布し乾燥させる。この塗布・乾燥工程を繰り返すことにより所定厚さの感光性樹脂膜を形成する。
【０１０７】
感光性樹脂膜の厚さは印刷物の所要厚さにより適宜設定されるが、本実施形態に係るスクリーン版において最小の線幅またはドットの径が３０μｍ以下の高精細なパターンを形成する場合、感光性樹脂膜の厚さは３０μｍ以下程度に薄いほうが好ましい。特にスクリーンメッシュの反射率は、感光性樹脂膜の厚さが薄いほどパターン形成への影響が大きいので、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュを用いて、感光性樹脂膜の厚さを２０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下、更に好ましくは１０μｍ以下とするのがよい。そのような厚みにすることで極めて解像性に優れたパターンを形成することが出来る。ただし、感光性樹脂膜の厚さが５μｍ未満、特に３μｍ未満になるとメッシュの交点部が印刷パターンの痕跡として残り、印刷パターンの厚みむらとなったり、繰り返し印刷時に感光性樹脂膜に亀裂が生ずるなどの不都合が起こり易くなるので３μｍ以上が好ましく、より好ましくは５μｍ以上である。
【０１０８】
さらに、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュを用い、感光性樹脂膜の厚さを２０μｍ以下等とするなど上記のとおり制御するとともに、形成された感光性樹脂膜の表面平滑性も高精細な印刷をさらにより安定して達成するために制御されていることが好ましい。具体的には、感光性樹脂膜表面の粗さとして算術平均粗さＲａを１μｍ以下とすることが好ましく、０．５μｍ以下がより好ましく、０．３μｍ以下がさらにより好ましい。特に１５μｍ以下の極めて高精細なパターンの印刷を達成するには、感光性樹脂膜表面の算術平均粗さＲａは０．３μｍ以下とするのが好ましい。
【０１０９】
感光性樹脂膜が形成されたスクリーンメッシュは露光機にセットされ、ポジのパターンを形成したガラスマスクやフィルムマスクを圧着法や真空法を用いて密着し、紫外線照射により硬化させ(露光)、紫外線の当たらなかった部分の感光膜を現像液で溶解除去（現像）してパターンを形成する。
【０１１０】
感光性樹脂膜の基材となる感光性樹脂にはジアゾ樹脂を架橋剤とするタイプ、スチリルピリジニウム（ＳＢＱ）を付加したポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を用いるタイプ、そしてアクリロイル基、アクリルアミド基の重合架橋反応を利用するタイプが単独または組合わせて用いられている。この内もっとも広く使用されているジアゾ樹脂タイプでは、その極大吸光波長が３７５ｎｍの紫外域にあり、露光用光源としてメタルハライドランプや超高圧水銀灯が一般的に使用されている。また、ＳＢＱのタイプでは極大吸光波長が３４０ｎｍにあり、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドの何れのタイプでも使用できる。
【０１１１】
高精細なパターンを形成するには極大吸光波長の乱反射を抑制することが重要であり、露光用の光を感光性樹脂膜に対して９０度の角度で照射することが望ましく、またスクリーンメッシュの反射率を低減することが極めて効果的である。
【０１１２】
以上説明した本実施形態の金属メッシュ織物１およびスクリーン版の効果を説明する。
【０１１３】
本実施形態によれば、例えば、金属化合物粒子及びバインダーを含む溶液を金属メッシュ織物に塗布し乾燥することにより、縦糸及び横糸の表面に金属化合物粒子及びバインダーを含む薄膜を形成できる。当該薄膜は塗布・乾燥等の簡便な工程により形成可能であり、金属メッシュの材質によらずまた金属化合物粒子及びバインダーの種類や組成を適宜組み合わせる事により目的にあった薄膜の形成が可能である。薄膜に含有される金属化合物がＣｕＩやＡｇＩのような一価の銅化合物やヨウ化物である場合、長波長側の紫外光の吸収率が高いために、特に解像性に優れたスクリーン印刷用金属メッシュ織物とする事が出来、さらに金属メッシュ織物の色を例えば灰色等の色とすることができるので、従来の黒色メッキや黒色電着塗装により得られるメッシュより取り扱い性に優れる。
【０１１４】
また、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュは、例えばスプレー法または浸漬法を用いたロールトゥーロール方式で溶液を塗布後に連続的に乾燥して薄膜を形成することにより製造できるため、極めて生産性に優れた低コストで安定した品質のスクリーン印刷用金属メッシュ織物を得る事が出来る。
【０１１５】
さらに、本実施形態では、紫外線散乱抑制メッシュを構成する縦糸及び横糸の表面に、紫外線吸収性を有する金属化合物粒子の換算膜厚の平均値が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の薄膜が形成されているので、金属メッシュ織物を所定枚数（本実施形態では例えば３枚）以上重ねた状態において、波長３７５ｎｍの光の反射率は６％以下である。本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュを用いたスクリーン版にパターンを形成するには感光性樹脂膜に紫外光を照射してマスクパターンに応じて硬化させるが、薄膜の吸収効果により、ネガパターン部に入射した紫外光の反射が抑制され、マスクパターンにより忠実な印刷パターンを形成することが可能となる。
【０１１６】
さらにまた、本実施形態の紫外線散乱抑制メッシュを構成する金属線材において、その線径を１６μｍ以下、メッシュ織物のメッシュ数を３００以上とすることで、紫外線吸収性を有する薄膜による紫外光の反射抑制効果との相乗効果により、最小の線幅またはドットの径が３０μｍ以下、特に２０μｍや１５μｍといった従来の材料では形成が困難であった印刷パターンを有する印刷版の作製が可能となる。さらに通常の軟質ステンレス材より高強度の材料である高強度ステンレスやタングステンを用いれば、高精細のパターンを繰り返し印刷しても印刷精度の経時的変化が一層少ない再現性の良い印刷が行えるスクリーン版を提供することができる。
【実施例】
【０１１７】
次に、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【０１１８】
（実施例１）  
（ＣｕＩ分散液の作製）
紫外線吸収性を有する金属化合物としてＣｕＩ（ヨウ化銅）を用い、その粒子はビーズミルを用いてエタノール中でヨウ化銅（日本化学産業株式会社製）の粉砕を行うことにより得た。このとき粉砕されたＣｕＩの凝集防止のため分散剤としてＣｕＩに対して２０質量％のポリビニルピロリドン（SIGMA-ALDRICH製）を添加した。得られた分散液中のＣｕＩの平均粒子径は１００ｎｍであった。分散液におけるＣｕＩの濃度は５質量％にエタノールで調整した。
【０１１９】
（薄膜用溶液の作成）
バインダーとして市販のアクリルウレタン樹脂塗料（大橋化学工業株式会社製、商品名オーフレックス）を用い、これにＣｕＩの分散液を混合して薄膜用溶液とした。具体的には、合成樹脂塗料用シンナー（大橋化学工業株式会社製、No7400）６８部に樹脂主剤（オーフレックスＮｏ8127）１．６部、硬化剤（オーフレックスＥ-70）０．４部を混合し十分に溶解した。その後、得られた混合液にＣｕＩ分散液を３０部加えてよく攪拌し、薄膜用溶液とした。ここで調整された薄膜溶液中の不揮発成分としては、金属化合物としてのＣｕＩが１．５質量％、分散剤であるポリビニルピロリドンが０．３質量％、樹脂主剤と硬化剤中の樹脂膜形成成分が１．２質量％となっている。
【０１２０】
（金属メッシュ織物への薄膜の形成）
（ａ）糸径１６μｍ、（ｂ）糸径１９μｍ、（ａ）（ｂ）ともメッシュ数５００の軟質ステンレスメッシュ（株式会社ＮＢＣメタルメッシュ製、Ｍ１０）を３００ｍｍ×３００ｍｍの大きさで切り出し、充分に脱脂洗浄を行なった後、精密に重量を計量した。その後スタンドに垂直に固定し、表面及び裏面ともハンドスプレーによりメッシュ面全体に均一に薄膜用溶液を吐出・塗布し、続いて乾燥機により揮発成分の除去を行った。乾燥機にて揮発成分を除去した後の塗布前後の重量差から塗布量を求め、所定の塗布量が得られるまで塗布および乾燥操作を繰り返した。ここで薄膜の厚さ（薄膜の平均厚み）及び換算膜厚は、得られた塗布量からメッシュを構成する縦糸及び横糸の本数及び糸径から計算される表面積を用いて以下のような計算式にて算出し、それぞれ換算膜厚（ａ）１９３ｎｍ、（ｂ）２０４ｎｍ、薄膜厚さ（ａ）１１０６ｎｍ，（ｂ）１１６９ｎｍであった。すなわち、薄膜用溶液中の薄膜を形成する不揮発成分中における金属化合物粒子の質量割合をｒとすると、金属化合物粒子以外の不揮発成分（バインダー成分等と呼ぶ）の質量割合は（１−ｒ）となる。また金属化合物粒子とバインダー成分等の密度をそれぞれｍ[g/cm3]、ｂ[g/cm3]と表し、塗布前後の重量差からの塗布量をＷ[g]とし、塗布面積のメッシュ数及び糸径から計算される表面積をＳ[cm2]とすると、換算膜厚はＷ×ｒ×10７/(ｍ×Ｓ)[nm]、薄膜の厚さはＷ×（ｒ×ｂ＋（1-ｒ）×ｍ）×10７/（Ｓ×ｂ×ｍ）[nm]で計算される。ここで表面積Ｓは、メッシュの屈曲や縦糸と横糸との交点部の重なりなどは考慮せず、３００ｍｍ×３００ｍｍの大きさにある糸の本数と使用した糸の糸径、及び糸の長さ（縦糸、横糸とも３００ｍｍ）に基づく計算値を用いた。
【０１２１】
（コンビネーション版の作成）
薄膜を形成した金属メッシュ織物を用いてコンビネーション版を作製した。まず、得られた金属メッシュ織物を、縦糸方向に対して２３°の角度を持って２４０ｍｍ×２４０ｍｍの正方形に切り出し、画像形成用スクリーンメッシュとした。また、ポリエステル製のＵＸ２３０Ｔ（株式会社ＮＢＣメッシュテック製）を、その一辺を縦糸方向に対して平行として５００ｍｍ×５００ｍｍの正方形に切り出して支持体用スクリーンとした。画像形成用および支持体用の２枚の正方形メッシュの対応する辺を平行として中心部を重ね、画像形成用スクリーンメッシュの周縁部を、接着部幅を各１０ｍｍとして接着剤にて支持体用スクリーンに接着した。その後接着部の内側で画像形成用スクリーンと重なる部分の支持体用メッシュを切り離してコンビネーションスクリーン版用の一体スクリーンを得た。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率（金属メッシュ織物を３枚重ねた状態での反射率。以下の反射率も同様。）は２．２％であった。
【０１２２】
枠部として、アルミ製枠体（外形寸法：320mm×320mm、内形寸法：290mm×290mm、厚さ20mm、肉厚1.5mmの中空構造）を用い、枠体の１辺と上述のコンビネーションスクリーン版用の一体スクリーンにおける支持体用スクリーンの縦糸方向とが平行となるよう配置し、定法により紗張りした。ここで、画像形成用スクリーン部の中央部での張力は、テンションゲージSTG-75B（サン技研社製）を用いた測定で１．２ｍｍであった。
【０１２３】
コンビネーションスクリーン版用の一体スクリーンを紗張りした枠体をバケットタイプのコーティングマシンに垂直に取り付けてコンビネーションスクリーン版を得た。そしてこのコンビネーションスクリーン版にジアゾ系の感光性乳剤（株式会社ＮＢＣメッシュテック製、商品名Ｖ１乳剤）をバケット法による塗布・乾燥を１０回繰り返すことにより、１０μｍ厚さの感光性樹脂膜を形成した。
【０１２４】
感光性樹脂膜を形成したコンビネーションスクリーン版及び図８に示すポジパターンを形成したガラスマスクを露光機（株式会社プロテック製、型式ＳＰ−１０００ＦＬ）にセットし、圧着法によりコンビネーションスクリーン版の感光性樹脂膜にガラスマスクを密着した。ポジパターンの形成部分は１５０ｍｍ×１５０ｍｍとし、この範囲を直交する２辺となるＸ方向、Ｙ方向それぞれ等間隔に３×３で９分割した。そして、分割された各々の領域にパターンの線幅が１０μｍから５０μｍのポジパターンを有する図８に示すガラスマスクを配置した。このコンビネーションスクリーン版に対してメタルハライドランプを光源として７．２ｍＷ／ｃｍ２のパワーにて適正露光量となる１００秒の露光を行った。その後４０℃の温水中にて洗浄することで、未硬化の感光膜を溶解除去しパターンを形成したコンビネーションスクリーン版とした。
【０１２５】
なお、図８のガラスマスクのパターンは、図８の下段右のパターンが最も線幅（印刷する線の幅）の小さいパターン幅１０μｍであり、下段中がパターン幅１５μｍ、下段左がパターン幅２０μｍ、中段右のパターンがパターン幅２５μｍ、中段中がパターン幅３０μｍ、中段左がパターン幅３５μｍ、上段右のパターンがパターン幅４０μｍ、上段中がパターン幅４５μｍ、上段左が最も線幅の大きいパターン幅５０μｍのパターンである。
【０１２６】
（実施例２）
実施例１において画像形成用スクリーンに用いたステンレスメッシュの表面に形成した薄膜を、スプレーによる塗布量をコントロールする事により、換算膜厚として（ａ）４８ｎｍ、（ｂ）４８５ｎｍとした以外は実施例１と同様にしてコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光での反射率は（ａ）５．４％、（ｂ）２．２％であった。
【０１２７】
（実施例３）
実施例１において、薄膜用溶液の作成時にＣｕＩ分散液の量を（ａ）６０部、（ｂ）１５部とすることで、薄膜用溶液の不揮発成分中におけるＣｕＩの量を（ａ）２倍、（ｂ）１/２倍とした。それぞれの薄膜用溶液を用いて、画像形成用スクリーンのステンレスメッシュの表面に形成する薄膜は、スプレーによる塗布量をコントロールする事により換算膜厚として（ａ）２０８ｎｍ、（ｂ）１９５ｎｍとした以外は実施例１と同様にしてコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光での反射率は（ａ）２．１％、（ｂ）２．３％であった。
【０１２８】
（実施例４）
実施例１において、薄膜用溶液の不揮発成分中におけるＣｕＩの代わりにジェットミルで乾式粉砕を行った（ａ）Ｃｕ２Ｏ（酸化第一銅、和光純薬工業株式会社製）（ｂ）ＡｇＩ（ヨウ化銀、和光純薬工業株式会社製）を用いた以外は実施例１と同様にしてコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、（ａ）Ｃｕ２Ｏ、（ｂ）ＡｇＩの平均粒子径はそれぞれ２３８ｎｍ、４７６ｎｍであり、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光での反射率は（ａ）３．５％，（ｂ）２．０％であった。
【０１２９】
（実施例５）
実施例１において、ジアゾ系の感光性乳剤（株式会社ＮＢＣメッシュテック製、商品名Ｖ１乳剤）の塗布・乾燥を２０回繰り返すことにより、感光性樹脂膜の厚さを２０μｍとして、露光時間を２２０秒とした以外は実施例１と同様にしてコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍでの紫外光での反射率は２．２％であった。
【０１３０】
(実施例６)
実施例１において画像形成用スクリーンとして用いたステンレススクリーンを、（ａ）糸径１３μｍ、７３０メッシュのステンレススクリーン（（株）ＮＢＣメタルメッシュ製、Ｍ１３）、及び（ｂ）糸径１６メッシュ、３２５メッシュの高強度ステンレススクリーン（（株）ＮＢＣメタルメッシュ製、Ｍ３０）を用いた以外は実施例１と同様にしてコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍでの紫外光での反射率は（ａ）２．３％、（ｂ）２．１％であった。
【０１３１】
（実施例７）
実施例１において画像形成用スクリーンとして用いたステンレススクリーンを、（ａ）糸径１１μｍ、５２０メッシュのタングステンスクリーン（（株）ＮＢＣメタルメッシュ製、Ｍ４０）、及び（ｂ）糸径１３メッシュ、４５０メッシュのタングステンスクリーン（（株）ＮＢＣメタルメッシュ製、Ｍ４０）を用いた以外は実施例１と同様にしてコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍでの紫外光での反射率は（ａ）２．３％、（ｂ）２．２％であった。
【０１３２】
（比較例１）
実施例１における画像形成用スクリーンに用いたステンレススクリーンにおいて、本実施形態にて説明した薄膜形成の処理を行わないものを用いた以外は、実施例１と同じ仕様のコンビネーションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光の反射率は１４．４％であった。
【０１３３】
（比較例２）
実施例１において画像形成用スクリーンに用いたステンレスメッシュの表面に形成した薄膜を、スプレーによる塗布量をコントロールする事により、換算膜厚として（ａ）３５ｎｍ、（ｂ）７２１ｎｍとした以外は実施例１と同様にしてコンビネ・BR>[ションスクリーン版を作製した。ここで、画像形成用スクリーンの波長３７５ｎｍの紫外光での反射率は（ａ）６．３％、（ｂ）２．１％であった。
【０１３４】
（反射率の測定）
反射率は分光光度計（日本分光株式会社製、型式Ｖ−６７０）を用いて測定した。メッシュ織物は縦糸・横糸のある実体部と、印刷時にインクが透過する空隙部とから構成されており、光束を投射しても空隙部では光が透過してしまうため、同じ材質のメッシュでも種類により反射率が異なることとなる。そこでメッシュを複数枚重ねてその反射率を測定してゆき、その値が一定値を示す時の反射率を用いた。糸径、メッシュ数、オープニングエリア（開口率）等について異なる実施例、比較例について何れの場合でも３枚以上のメッシュを重ねた状態で反射率がほぼ一定となったので、３枚のメッシュを重ねたもので反射率を測定した。
【０１３５】
（解像性の評価方法）
実施例１〜７及び比較例１〜２において、座標計測機（株式会社ソキア製、ＰＣＭ−１３００）を用い、版のパターン部を拡大して目視観察により評価した。前記の図８に示した１０〜５０μｍのパターン幅のマスクを用いてパターンを形成した場合に、乳剤（感光性樹脂）残りのないパターン幅を解像可能とし、９分割した全区分（９パターン）においての解像状態から、下記の規準により５段階の評価ランクを付与した。
【０１３６】
評価ランクＡＡＡ＝９区分全てで１５μｍ解像可能、ＡＡ＝９区分全てで２０μｍ解像可能、Ａ＝９区分全てで３０μｍかつ５区分以上で２０μｍ解像可能、Ｂ＝５区分以上で３０μ解像可能、Ｃ＝３０μmの解像が４区分以下でのみ可能。
【０１３７】
ここで代表的な解像可能例として、図９に実施例１においてパターンの幅が２０μｍの場合を示し、また乳剤がパターン部に残る例として、図１０に比較例１においてパターンの幅が２０μｍの場合を示した。図９および図１０において、多数の上下に延びるラインが、感光膜によってメッシュ織物に形成されたパターンの一部である。実施例の図９に示す画像では、上下のライン状のパターン以外には、感光性樹脂が残っていないことが分かる。一方、比較例の図１０に示す画像では、上下のライン状のパターンの間に、感光性樹脂が残っていることが分かる。紫外光の周囲への散乱によって、硬化させる必要の無い樹脂まで硬化してしまい、図１０の画像に示すようにライン状のパターン以外にも樹脂が残っている。
【０１３８】
実施例１〜７及び比較例１〜２における画像形成部および支持体部に用いたスクリーンの種類、画像形成部の換算膜厚および薄膜厚さ、反射率の値とともに、解像性の評価結果を表１に示した。十分に高精細パターンといえるためには、３０μｍ以下の線幅やドット径がパターン形成部のほぼ全面で確実に解像できることが必要であるので、評価ランクとしてＡランク以上が必要である。
【０１３９】
【表１】
0006290732.tif 000002
【０１４０】
換算膜厚が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である実施例１から７のいずれにおいても、波長３７５ｎｍの光の反射率は６％以下であり、いずれも９分割した全区分（全９パターン）において３０μｍの解像が可能であった。実施例３では換算膜厚がほぼ同じ２００ｎｍではあるが、薄膜厚さが小さい３ａが３ｂに比べて解像性の評価が高いのはメッシュのオープニングエリアが大きいためと考えられる。ヤング率が４０００Ｎ/ｍｍ２レベルの高強度材料であるタングステン糸を用いた、糸径が細い１１μｍの実施例７ａや１３μｍである実施例７ｂでは反射率が３％未満であり、９分割した全区分において１５μｍの解像が可能であった。これに対して薄膜の形成が無い比較例１では反射率が１４．４％と高いために、９分割の区分中の３区分のみにて３０μｍが解像可能であるにとどまっている。また、換算膜厚が３５ｎｍである比較例２ａでは反射率は６．３％であり、９分割の区分中の７区分のみにて３０μｍが解像可能であった。さらに、換算膜厚を７２１ｎｍと実施例２ｂより厚くした比較例２ｂでは反射率は２．１％と低いにもかかわらず、９分割の区分中の７区分のみにて３０μｍの解像が可能であるにとどまった。これは薄膜の厚さが４０００ｎｍ以上と厚く、メッシュのオープニングエリアに悪い影響が出たためと考えられる。
【符号の説明】
【０１４１】
１：金属メッシュ織物
２：縦糸
３：横糸
４：薄膜
20：マスク
21：スクリーン糸（縦糸３および横糸４）
22：ネガパターン部
23：ポジパターン部
24：紫外光
25：反射光
31：硬化してパターンを形成した感光性樹脂膜
32：版断面モデルの開口部
35：従来技術によるスクリーン糸
51,61：巻き出しロール
52,62：金属メッシュ織物
53,63：ガイドローラ
54：塗布部
55：スプレーノズル
56,68：乾燥炉
57,69：巻取りロール
58：送液ポンプ
59：薄膜用溶液槽
64：浸漬槽
65：ニップローラ
66：吹き付け部
67：エアーノズル
70：エアーコンプレッサー
100：コンビネーションスクリーン版
101：枠
102：画像形成用スクリーン
103：支持体用スクリーン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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