(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体の一方の表面上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面上に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
前記磁性層は、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含み、
前記バックコート層は、厚みが０．３０μｍ以下であり、かつ脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含み、
磁気テープの前記磁性層側の表面にて光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出される磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が４５原子％以上であり、かつ、
磁気テープの前記バックコート層側の表面にて光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が３５原子％以上である磁気テープ。
【請求項２】
前記磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が４５〜８０原子％の範囲である請求項１に記載の磁気テープ。
【請求項３】
前記磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が４５〜７０原子％の範囲である請求項１または２に記載の磁気テープ。
【請求項４】
前記バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が３５〜６０原子％の範囲である請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項５】
前記磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度との差分は、２０原子％以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項６】
前記磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度との差分は、８原子％以下である請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項７】
前記バックコート層に含まれる非磁性粉末は、カーボンブラックおよび非磁性無機酸化物粉末からなる群から選ばれる非磁性粉末である請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項８】
前記バックコート層に含まれる非磁性粉末は、カーボンブラックを少なくとも含む請求項７に記載の磁気テープ。
【請求項９】
前記磁性層と非磁性支持体との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する請求項１〜８のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項１０】
請求項９に記載の磁気テープの製造方法であって、
非磁性層形成工程、磁性層形成工程およびバックコート層形成工程を含み、
前記非磁性層形成工程は、
脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上、非磁性粉末、結合剤ならびに溶媒を含む非磁性層形成用組成物を非磁性支持体表面上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、
前記塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、
を含み、かつ、前記塗布工程と加熱乾燥工程との間に、前記塗布層を冷却する冷却工程を更に含み、
前記バックコート層形成工程は、
脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上、非磁性粉末、結合剤ならびに溶媒を含むバックコート層形成用組成物を非磁性支持体表面上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、
前記塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、
を含み、かつ、前記塗布工程と加熱乾燥工程との間に、前記塗布層を冷却する冷却工程を更に含む、前記磁気テープの製造方法。
【請求項１１】
前記バックコート層形成工程における前記冷却工程を、前記塗布層を−１０℃〜０℃の冷却雰囲気下に置くことにより行う請求項１０に記載の磁気テープの製造方法。
【請求項１２】
前記バックコート層形成用組成物に含まれる溶媒は、ケトン溶媒を含む請求項１０または１１に記載の磁気テープの製造方法。
【請求項１３】
前記非磁性層形成工程における前記冷却工程を、前記塗布層を−１０℃〜０℃の冷却雰囲気下に置くことにより行う請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の磁気テープの製造方法。
【請求項１４】
前記非磁性層形成用組成物に含まれる溶媒は、ケトン溶媒を含む請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の磁気テープの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気テープおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体にはテープ状のものとディスク状のものがあり、データバックアップ等のストレージ用途には、テープ状の磁気記録媒体、即ち磁気テープが主に用いられている。
【０００３】
磁気テープとして、特許文献１、２には、非磁性支持体の磁性層を有する面とは反対の面にバックコート層（特許文献１、２には、「バック層」と記載されている。）を有する磁気テープが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開昭６３−２４９９３２号公報
【特許文献２】特開平１−６０８１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気テープは、磁気テープカートリッジ内に、リールに巻き取られた状態で収容される。磁気テープカートリッジの１巻あたりの記録容量を高めるためには、磁気テープカートリッジ１巻に収められる磁気テープ全長を長くすべきであり、そのためには磁気テープを薄くする（以下、「薄型化」と記載する。）ことが求められる。
【０００６】
磁気テープの薄型化のための手段としては、バックコート層の厚みを薄くすることが挙げられる。バックコート層の厚みに関して、特許文献１には、バックコート層の厚みは２．５μｍ以下と記載されており（特許文献１の請求項１）、実施例でのバックコート層の厚みは２．０μｍである。また、特許文献２には、バックコート層の厚みは１．５μｍと記載されており（特許文献２の請求項１）、実施例でのバックコート層の厚みは１．０μｍである。しかるに、近年求められている更なる高記録容量化のためには、バックコート層を更に薄くすること（以下、「薄層化」と記載する。）が望ましい。
【０００７】
しかしながら、本発明者がバックコート層の薄層化について検討したところ、特に、バックコート層を厚み０．３０μｍ以下に薄層化した磁気テープでは、磁気テープをドライブにおいて走行させた後に、磁気テープのエッジ部分にダメージ（以下、「エッジダメージ」と記載する。）が発生する現象が顕著であることが判明した。この点について、更に説明すると、磁気テープへの信号の記録再生は、磁気テープカートリッジをドライブにセットし、磁気テープカートリッジ内の磁気テープを走行させて行われる。上記の通り、磁気テープは磁気テープカートリッジ内にリールに巻き取られた状態で収容されているため、走行中には、リールからの磁気テープの送り出し・巻き取りが行われる。この巻き取り時に巻き乱れが生じると、リールのフランジ等に磁気テープのエッジが当たり、エッジダメージが発生してしまう。このエッジダメージは、記録時のエラー増加や走行安定性の低下を引き起こし得る。したがって、巻き乱れを抑制（以下、「巻き取り性の良化」とも記載する。）してエッジダメージを低減することが求められる。
【０００８】
そこで本発明の目的は、厚み０．３０μｍ以下に薄層化されたバックコート層を有する磁気テープであって、エッジダメージの発生が抑制された磁気テープを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、以下の磁気テープ：
非磁性支持体の一方の表面上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面上に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
磁性層は、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含み、
バックコート層は、厚みが０．３０μｍ以下であり、かつ脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含み、
磁気テープの磁性層側の表面にて光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出される磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が４５原子％以上であり、かつ、
磁気テープのバックコート層側の表面にて光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が３５原子％以上である磁気テープ、
を見出すに至った。上記磁気テープでは、厚みが０．３０μｍに薄層化されたバックコート層を有するにもかかわらず、エッジダメージの発生の抑制が可能である。この点に関する本発明者による推察は、以下の通りである。
【００１０】
Ｘ線光電子分光分析は、一般にＥＳＣＡ（Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）またはＸＰＳ(X-ray Photoelectron Spectroscopy)とも呼ばれる分析法である。以下において、Ｘ線光電子分光分析を、ＥＳＣＡとも記載する。ＥＳＣＡは、測定対象試料表面にＸ線を照射すると光電子が放出されることを利用する分析法であり、測定対象試料の表層部の分析法として広く用いられている。ＥＳＣＡによれば、測定対象試料表面における分析により取得されるＸ線光電子分光スペクトルを用いて定性分析および定量分析を行うことができる。試料表面から分析位置までの深さ（以下、「検出深さ」とも記載する。）と光電子取り出し角（take-off angle）との間には、一般に次の式：検出深さ≒電子の平均自由行程×３×ｓｉｎθ、が成立する。式中、検出深さは、Ｘ線光電子分光スペクトルを構成する光電子の９５％が発生する深さであり、θは光電子取り出し角である。上記の式から、光電子取り出し角が小さいほど試料表面からの深さが浅い部分が分析でき、光電子取り出し角が大きいほど深い部分が分析できることがわかる。そして光電子取り出し角１０度でのＥＳＣＡによる分析では、通常、試料表面から深さ数ｎｍ程度のごく表層部が分析位置になる。したがって、磁気テープの磁性層側、バックコート層側の表面にてそれぞれ光電子取り出し角１０度で行われるＥＳＣＡによる分析によれば、磁性層側表面から深さ数ｎｍ程度のごく表層部およびバックコート層表面から深さ数ｎｍ程度のごく表層部の組成分析を行うことができる。
一方、Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とは、ＥＳＣＡによる定性分析により検出される全元素の合計（原子基準）１００原子％に対して、有機化合物のＣ−Ｈ結合を構成している炭素原子Ｃが占める割合である。上記磁気テープは、磁性層、バックコート層にそれぞれ、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含む。脂肪酸および脂肪酸アミドは、それぞれ磁気テープにおいて潤滑剤として機能することのできる成分である。これら成分の一種以上を、磁性層、バックコート層にそれぞれ含む磁気テープにおいて、磁性層側表面、バックコート層側表面にてそれぞれ光電子取り出し角１０度でのＥＳＣＡによる分析により得られるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度は、磁性層側、バックコート層のごく表層部における上記成分（脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上）の存在量の指標になるものであると、本発明者は考えている。詳しくは、次の通りである。ＥＳＣＡによる分析により得られるＸ線光電子分光スペクトル（横軸：結合エネルギー、縦軸：強度）の中で、Ｃ１ｓスペクトルは、炭素原子Ｃの１ｓ軌道のエネルギーピークに関する情報を含んでいる。かかるＣ１ｓスペクトルにおいて、結合エネルギー２８４．６ｅＶ付近に位置するピークが、Ｃ−Ｈピークである。このＣ−Ｈピークは、有機化合物のＣ−Ｈ結合の結合エネルギーに由来するピークである。脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含む磁性層およびバックコート層のごく表層部では、Ｃ−Ｈピークの主要構成成分が脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分であると本発明者は推察しており、そのため先に記載したように存在量の指標とすることができると本発明者は考えている。
本発明および本明細書では、磁性層側の表面にて、上記の光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度を、「磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度」と呼び、バックコート層側の表面にて、上記の光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度を、「バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度」と呼ぶ。
そして、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が４５原子％以上であり、かつバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が３５原子％以上である磁気テープは、バックコート層が厚み０．３０μｍ以下に薄層化されていても、エッジダメージの発生の抑制が可能であることが、本発明者の検討の結果、明らかとなった。この点について、本発明者は次のように考えている。バックコート層が厚み０．３０μｍ以下に薄層化されるとエッジダメージの発生が顕著となる理由は、推察にすぎないが、バックコート層の剛性が低下することにより巻き取り時に磁性層側表面とバックコート層側表面の接触不良が発生して巻きズレが生じるからではないかと、本発明者は考えている。これに対し、磁性層、バックコート層にそれぞれ脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含み、かつ磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度およびバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度がそれぞれ上記範囲内の磁気テープは、磁性層、バックコート層のごく表層部に、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上が従来の磁気テープよりも多量に存在すると考えられる。これにより、巻き取り時の磁性層側表面とバックコート層側表面との接触が良好となり、巻きズレの発生を抑制できる（巻き取り性の良化）のではないかと、本発明者は考えている。これに対し、例えば前述の特許文献１には、磁性層、バックコート層にそれぞれ脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含む磁気テープが実施例に開示されている。ただし、本発明者の検討によれば、上記成分を単に磁性層やバックコート層に含有させるのみでは、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度がそれぞれ上記範囲である磁気テープを得ることは困難であった。
以上が、上記磁気テープでは、厚みが０．３０μｍに薄層化されたバックコート層を有するにもかかわらず、エッジダメージの発生の抑制が可能な理由についての本発明者による推察である。ただし上記は推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
【００１１】
一態様では、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、４５〜８０原子％の範囲である。
【００１２】
一態様では、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、４５〜７０原子％の範囲である。
【００１３】
一態様では、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、３５〜６０原子％の範囲である。
【００１４】
一態様では、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度との差分は、２０原子％以下である。ここで「差分」とは、一方から他方を引いた値の絶対値をいうものとする。磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とは、どちらが大きくてもよく、同じでもよい。即ち、一態様では、「磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度＜バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度」であり、他の一態様では、「磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度＞バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度」であり、また他の一態様では、「磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度＝バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度」である。
【００１５】
一態様では、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度との差分は、８原子％以下である。
【００１６】
一態様では、バックコート層に含まれる非磁性粉末は、カーボンブラックおよび非磁性無機酸化物粉末からなる群から選ばれる非磁性粉末である。
【００１７】
一態様では、バックコート層に含まれる非磁性粉末は、カーボンブラックを少なくとも含む。
【００１８】
一態様では、上記磁気テープは、非磁性支持体表面上に直接磁性層を有する。また、一態様では、上記磁気テープは、非磁性支持体表面上に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を介して磁性層を有する。即ち、一態様では、上記磁気テープは、磁性層と非磁性支持体との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する。
本発明の一態様は、かかる磁気テープの製造方法であって、
非磁性層形成工程、磁性層形成工程およびバックコート層形成工程を含み、
非磁性層形成工程は、
脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上、非磁性粉末、結合剤ならびに溶媒を含む非磁性層形成用組成物を非磁性支持体表面上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、
上記塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、
を含み、かつ、上記塗布工程と加熱乾燥工程との間に、上記塗布層を冷却する冷却工程を更に含み、
バックコート層形成工程は、
脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上、非磁性粉末、結合剤ならびに溶媒を含むバックコート層形成用組成物を非磁性支持体表面上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、
上記塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、
を含み、かつ、上記塗布工程と加熱乾燥工程との間に、上記塗布層を冷却する冷却工程を更に含む磁気テープの製造方法、
に関する。
【００１９】
一態様では、バックコート層形成工程における冷却工程は、上記塗布層を−１０℃〜０℃の冷却雰囲気下に置くことにより行われる。
【００２０】
一態様では、バックコート層形成用組成物に含まれる溶媒は、ケトン溶媒を含む。
【００２１】
一態様では、非磁性層形成工程における冷却工程は、上記塗布層を−１０℃〜０℃の冷却雰囲気下に置くことにより行われる。
【００２２】
一態様では、非磁性層形成用組成物に含まれる溶媒は、ケトン溶媒を含む。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の一態様によれば、厚み０．３０μｍ以下のバックコート層を有し、かつエッジダメージの発生が抑制された磁気テープを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】磁気テープ製造工程の具体的態様の一例（工程概略図）を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明の磁気テープは、非磁性支持体の一方の表面上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面上に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、磁性層は、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含み、バックコート層は、厚みが０．３０μｍ以下であり、かつ脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含み、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が４５原子％以上であり、かつ、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が３５原子％以上である磁気テープである。
以下、上記磁気テープについて、更に詳細に説明する。
【００２６】
＜磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度＞
先に記載したように、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度およびバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、ＥＳＣＡによる分析により求められる値である。分析を行う領域は、磁気テープの磁性層側表面、バックコート層側表面の任意の位置の３００μｍ×７００μｍの領域とする。ＥＳＣＡによるワイドスキャン測定（パスエネルギー：１６０ｅＶ、スキャン範囲：０〜１２００ｅＶ、エネルギー分解能：１ｅＶ／ｓｔｅｐ）により定性分析を行う。次いで、定性分析により検出された全元素のスペクトルをナロースキャン測定（パスエネルギー：１０ｅＶ、エネルギー分解能：０．１ｅＶ、スキャン範囲：測定するスペクトルの全体が入るように元素毎に設定。）により求める。こうして得られた各スペクトルにおけるピーク面積から、各元素の原子濃度（atomic concentration、単位：原子％）を算出する。ここでＣ１ｓスペクトルのピーク面積から炭素原子の原子濃度（Ｃ濃度）も算出される。
更に、Ｃ１ｓスペクトルを取得する（パスエネルギー：１０ｅＶ、スキャン範囲：２７６〜２９６ｅＶ、エネルギー分解能：０．１ｅＶ／ｓｔｅｐ）。取得したＣ１ｓスペクトルを、ガウス−ローレンツ複合関数（ガウス成分７０％、ローレンツ成分３０％）による非線形最小二乗法によってフィッティング処理し、Ｃ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈ結合のピークをピーク分離し、分離されたＣ−ＨピークのＣ１ｓスペクトルに占める割合（ピーク面積率）を算出する。算出されたＣ−Ｈピーク面積率を、上記のＣ濃度に掛けることにより、Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を算出する。
以上の処理を磁気テープの磁性層側表面の異なる位置において３回行い得られた値の算術平均を、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とする。また、以上の処理を磁気テープのバックコート層側表面の異なる位置において３回行い得られた値の算術平均を、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とする。以上の処理の具体的態様を、後述の実施例に示す。
なお詳細を後述するように、一態様では、バックコート層には非磁性粉末としてカーボンブラックが含まれる。カーボンブラックは炭素原子を含むが、上記の通り、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は有機化合物のＣ−Ｈ結合を構成している炭素原子Ｃが占める割合である。したがって、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度へのカーボンブラックに含まれる炭素原子の寄与はないと本発明者は推察している。
【００２７】
以上説明した磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を４５原子％以上に調整するための好ましい手段としては、詳細を後述するように非磁性層形成工程において冷却工程を実施することを挙げることができる。また、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を３５原子％以上に調整するための好ましい手段としては、詳細を後述するようにバックコート層形成工程において冷却工程を実施することを挙げることができる。
ただし本発明の磁気テープは、かかる冷却工程を経て製造されたものに限定されるものではない。
【００２８】
（磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度）
上記磁気テープの磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、４５原子％以上である。本発明者の検討によれば、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、４５原子％以上である限り、その値の大小は問わず、厚み０．３０μｍ以下のバックコート層を有する磁気テープにおけるエッジダメージ発生を抑制することが可能である。この点からは、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度の上限は限定されるものではない。一例として、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、例えば９５原子％以下、９０原子％以下、８５原子％以下、８０原子％以下、７５原子％以下、または７０原子％以下であることができる。また、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、例えば５０原子％以上、５５原子％以上、または６０原子％以上であることができる。
【００２９】
（バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度）
上記磁気テープのバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、３５原子％以上である。本発明者の検討によれば、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、３５原子％以上である限り、その値の大小は問わず、厚み０．３０μｍ以下のバックコート層を有する磁気テープにおけるエッジダメージ発生を抑制することが可能である。この点からは、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度の上限は限定されるものではない。一例として、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、例えば９５原子％以下、９０原子％以下、８５原子％以下、８０原子％以下、７５原子％以下、７０原子％以下、６５原子％以下、または６０原子％以下であることができる。また、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、例えば４０原子％以上、４５原子％以上、または５０原子％以上であることができる。
【００３０】
先に記載したように、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、どちらが大きくてもよく、同じでもよい。厚み０．３０μｍ以下のバックコート層を有する磁気テープにおけるエッジダメージ発生を更に抑制する観点からは、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度との差分は、２０原子％以下であることが好ましく、１５原子％以下であることがより好ましく、１０原子％以下であることが更に好ましく、８原子％以下であることがいっそう好ましく、５原子％以下であることがよりいっそう好ましい。差分がゼロ、即ち磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が同じ値であってもよい。
【００３１】
＜脂肪酸、脂肪酸アミド＞
上記磁気テープは、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を、磁性層およびバックコート層にそれぞれ含む。磁性層には、脂肪酸および脂肪酸アミドの一方のみが含まれていてもよく、両方が含まれていてもよい。同様にバックコート層にも、脂肪酸および脂肪酸アミドの一方のみが含まれていてもよく、両方が含まれていてもよい。先に記載したように、これら成分が磁性層およびバックコート層のごく表層部に多量に存在することが、厚み０．３０μｍ以下のバックコート層を有する磁気テープにおけるエッジダメージ発生を抑制することに寄与していると、本発明者は考えている。また、上記磁気テープは、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有することもできる。この非磁性層に、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上が含まれていてもよく、含まれていることが好ましい。
【００３２】
脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。なお脂肪酸は、金属塩等の塩の形態で磁性層に含まれていてもよい。
脂肪酸アミドとしては、各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
脂肪酸と脂肪酸の誘導体（アミドおよび後述のエステル等）については、脂肪酸誘導体の脂肪酸由来部位は、併用される脂肪酸と同様または類似の構造を有することが好ましい。例えば、一例として、脂肪酸としてステアリン酸を用いる場合にステアリン酸アミドやステアリン酸エステルを使用することは好ましい。
【００３３】
脂肪酸量は、磁性層形成用組成物における含有量として、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０.０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。なお磁性層形成用組成物に２種以上の異なる脂肪酸を添加する場合、含有量とは、それらの合計含有量をいうものとする。この点は、本明細書において、特記しない限り、他の成分の含有量についても同様とする。
【００３４】
磁性層形成用組成物中の脂肪酸アミド含有量は、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜３.０質量部であり、好ましくは  ０．１〜１．０質量部である。
【００３５】
一方、非磁性層形成用組成物中の脂肪酸含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば１．０〜１０．０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。また、非磁性層形成用組成物中の脂肪酸アミド含有量は、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜３．０質量部であり、好ましくは０．１〜１．０質量部である。
【００３６】
バックコート層形成用組成物における脂肪酸含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０.０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。
【００３７】
バックコート層形成用組成物中の脂肪酸アミド含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜３.０質量部であり、好ましくは  ０．１〜１．０質量部である。
【００３８】
＜脂肪酸エステル＞
磁性層および詳細を後述する非磁性層の一方または両方には、脂肪酸エステルが含まれていてもよく、含まれなくてもよい。また、バックコート層に脂肪酸エステルが含まれていてもよく、含まれなくてもよい。脂肪酸エステルは、厚み０．３０μｍ以下のバックコート層を有する磁気テープにおけるエッジダメージ発生の抑制に対しては、影響を及ぼさない（または及ぼすとしてもわずかである）と本発明者は推察している。潤滑剤は、一般に流体潤滑剤と境界潤滑剤とに大別される。そして脂肪酸エステルは流体潤滑剤として機能し得る成分と言われるのに対し、脂肪酸および脂肪酸アミドは、境界潤滑剤として機能し得る成分と言われている。境界潤滑剤は、粉末（例えば強磁性粉末、非磁性粉末）の表面に吸着し強固な潤滑膜を形成することで接触摩擦を下げることのできる潤滑剤と考えられる。一方、流体潤滑剤は、それ自身が磁気テープの表面に液膜を形成し、この液膜の流動により摩擦を下げることのできる潤滑剤と考えられる。このように脂肪酸および脂肪酸アミドとは潤滑剤としての作用が異なると考えられることが、脂肪酸エステルが、脂肪酸および脂肪酸アミドとは、上記エッジダメージ発生の抑制に対して与える影響が異なる理由ではないかと、本発明者は考えている。脂肪酸エステルは、各種潤滑剤の中でも、一般に磁気テープの走行耐久性を向上することに寄与する潤滑剤と言われているため、例えば耐傷性向上のために磁性層、バックコート層、および詳細を後述する非磁性層のいずれか一層以上に脂肪酸エステルが含まれていてもよい。
【００３９】
脂肪酸エステルとしては、上記の各種脂肪酸のエステル、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル（ブチルステアレート）、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。
【００４０】
磁性層の脂肪酸エステル量は、磁性層形成用組成物における含有量として、強磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０.０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。
バックコート層の脂肪酸エステル量は、バックコート層形成用組成物における含有量として、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０.０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。
また、上記磁気テープが非磁性層を有する場合、非磁性層の脂肪酸エステル量は、非磁性層形成用組成物中の脂肪酸エステル含有量として、非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０．０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。
【００４１】
次に、上記磁気テープの磁性層、バックコート層等について、更に詳細に説明する。
【００４２】
＜磁性層＞
（強磁性粉末）
強磁性粉末としては、磁気テープ等の各種磁気記録媒体の磁性層において強磁性粉末として通常用いられる各種粉末を使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末としては、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末を用いることが好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは１０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００４３】
上記強磁性粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定する値とする。
強磁性粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして強磁性粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、強磁性粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。
本発明において、強磁性粉末、およびその他の粉末についての平均粒子サイズとは、特記しない限り、上記方法により求められる平均粒子サイズをいうものとする。後述の実施例に示す平均粒子サイズの測定は、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行った。
【００４４】
なお、粒子サイズ測定のために磁性層から強磁性粉末等の試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。
【００４５】
本発明において、強磁性粉末等の粉末を構成する粒子のサイズ（以下、「粒子サイズ」と言う）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚みまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。
【００４６】
また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚みまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、（最大長径／厚みまたは高さ）の算術平均である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。
【００４７】
なお、本発明および本明細書において、粉末とは、複数の粒子の集合を意味する。また、複数の粒子の集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、後述する結合剤や添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。粒子との語を、粉末を表すために用いることもある。
【００４８】
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることができる。強磁性六方晶フェライト粉末の平均粒子サイズ（平均板径）は、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１−２２５４１７号公報段落００１２〜００３０、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６、特開２０１２−２０４７２６号公報段落００１３〜００３０を参照できる。
【００４９】
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の平均粒子サイズ（平均長軸長）は、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３７〜０１４１、特開２００５−２５１３５１号公報段落０００９〜００２３を参照できる。
【００５０】
磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。上記充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。
【００５１】
（結合剤、硬化剤）
本発明の磁気テープは塗布型磁気テープであって、磁性層に、強磁性粉末とともに結合剤を含む。結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂などから単独または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、塩化ビニル系樹脂である。これらの樹脂は、バックコート層や後述する非磁性層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報段落００２８〜００３１を参照できる。また、上記結合剤として使用可能な樹脂とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤としては、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０〜８０．０質量部、塗膜強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で添加し使用することができる。
【００５２】
（添加剤）
磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、非磁性フィラー、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラック等を挙げることができる。また、非磁性フィラーとしては、研磨剤として機能することができる非磁性フィラー、磁性層表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性フィラー（例えば非磁性コロイド粒子等）が挙げられる。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して任意の量で使用することができる。
【００５３】
以上説明した磁性層は、非磁性支持体表面上に直接、または非磁性層を介して間接的に、設けることができる。非磁性層、非磁性支持体の詳細については、後述する。
【００５４】
＜非磁性層＞
次に非磁性層について説明する。本発明の磁気テープは、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を有することができる。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報段落０１４６〜０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０−２４１１３号公報段落００４０〜００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。
【００５５】
非磁性層に含まれ得る脂肪酸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステルについては、先に記載した通りである。また、  非磁性層の結合剤、添加剤、分散方法その他は、磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤量および種類、添加剤量および種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００５６】
非磁性層は、詳細を後述するように、非磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に塗布および乾燥させることにより形成することができる。非磁性層形成用組成物は、通常、溶媒を一種以上含む。溶媒としては、一般に磁気テープ等の各種塗布型磁気記録媒体製造のために使用される各種有機溶媒を挙げることができる。具体的には、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができる。中でも、塗布型磁気記録媒体に通常使用される結合剤の溶解性の観点からは非磁性層形成用組成物には、ケトン溶媒の一種以上が含まれることが好ましい。なお非磁性層形成用組成物における溶媒量は特に限定されるものではなく、通常の塗布型磁気記録媒体の非磁性層形成用組成物と同様にすることができる。
また、磁性層形成用組成物およびバックコート層形成用組成物に含まれ得る溶媒についても、上記記載を適用することができる。
【００５７】
＜バックコート層＞
本発明の磁気テープは、非磁性支持体の磁性層を有する表面とは反対の表面上にバックコート層を有する。バックコート層は、先に記載したように脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選択される成分の一種以上を含み、任意に脂肪酸エステルを含むことができる。更に、バックコート層は、これら成分とともに、非磁性粉末および結合剤を含み、任意に公知の添加剤を含むことができる。バックコート層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、バックコート層に関する公知技術を適用することができ、磁性層や非磁性層に関する公知技術を適用することもできる。
【００５８】
バックコート層の非磁性粉末については、非磁性層の非磁性粉末に関する上記記載を参照できる。バックコート層の非磁性粉末としては、カーボンブラックと、カーボンブラック以外の非磁性粉末と、のいずれか一方または両方を使用することができる。カーボンブラックを用いるか、カーボンブラックとカーボンブラック以外の非磁性粉末とを併用することが好ましい。カーボンブラック以外の非磁性粉末としては、非磁性無機粉末を挙げることができる。具体例としては、α−酸化鉄等の酸化鉄、二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、α−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ３、ＣａＣＯ３、ＢａＣＯ３、ＳｒＣＯ３、ＢａＳＯ４、炭化珪素、炭化チタン等の非磁性無機粉末を挙げることができる。好ましい非磁性無機粉末は、非磁性無機酸化物粉末であり、より好ましくはα−酸化鉄、酸化チタンであり、更に好ましくはα−酸化鉄である。
【００５９】
カーボンブラック以外の非磁性粉末の形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでもよい。これら非磁性粉末の平均粒子サイズは、０．００５〜２．００μｍの範囲であることが好ましく、０．０１〜０．２０μｍの範囲であることが更に好ましい。また、非磁性粉末のＢＥＴ（Brunauer-Emmett-Teller）法による比表面積（ＢＥＴ比表面積）は、１〜１００ｍ２／ｇの範囲であることが好ましく、より好ましくは５〜７０ｍ２／ｇ、更に好ましくは１０〜６５ｍ２／ｇの範囲である。一方、カーボンブラックの平均粒子サイズは、例えば５〜８０ｎｍの範囲であり、好ましくは１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍの範囲である。バックコート層における非磁性粉末の含有量（充填率）については、非磁性層の非磁性粉末に関する前述の記載を参照できる。また、非磁性粉末全量１００．０質量部に対するカーボンブラック含有量は、例えば１０．０〜１００．０質量部の範囲とすることができる。非磁性粉末全量をカーボンブラックとしてもよい。また、非磁性粉末全量を、カーボンブラック以外の非磁性粉末としてもよい。
【００６０】
＜非磁性支持体＞
次に、非磁性支持体について説明する。非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。
【００６１】
＜各層の厚み、磁気テープ総厚＞
本発明の磁気テープにおける非磁性支持体および各層の厚みについては、非磁性支持体の厚みが、好ましくは３．００〜４．５０μｍである。磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化することができるが、一般には０．０１μｍ〜０．１５μｍであり、高密度記録化の観点から、好ましくは０．０２μｍ〜０．１２μｍであり、更に好ましくは０．０３μｍ〜０．１０μｍである。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【００６２】
非磁性層の厚みは、例えば０．１０〜１．５０μｍであり、０．１０〜１．００μｍであることが好ましい。なお、本発明の磁気テープが非磁性層を有する場合、非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。
【００６３】
バックコート層の厚みは、０．３０μｍ以下であり、０．１０〜０．３０μｍであることが好ましい。
【００６４】
磁気テープについては、記録容量向上の観点から、磁気テープカートリッジ１巻あたりの記録容量を高めるために磁気テープを薄型化することが望まれている。この点から、本発明の磁気テープの総厚は、６．００μｍ以下であることが好ましい。一方、磁気テープの取り扱いの容易性（ハンドリング性）等の観点からは、磁気テープの総厚は１．００μｍ以上であることが好ましい。
【００６５】
なお磁気テープの各層および非磁性支持体の厚み、ならびに総厚は、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡による断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。
【００６６】
＜製造工程＞
（各層形成用組成物の調製）
磁性層、バックコート層、または非磁性層を形成するための組成物（塗布液）は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒については、先に記載した通りである。各層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる強磁性粉末、非磁性粉末、脂肪酸、脂肪酸アミド、結合剤、および任意に添加される各種添加剤、溶媒などすべての原料は、どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、磁性層形成用組成物の調製においては、研磨剤と強磁性粉末とを別分散することができ、別分散することが好ましい。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、各層形成用組成物を分散させるためには、ガラスビーズやその他のビーズを用いることができる。このような分散ビーズとしては、高比重の分散ビーズであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散ビーズの粒径と充填率は最適化して用いることができる。分散機は公知のものを使用することができる。
【００６７】
（塗布工程、冷却工程、加熱乾燥工程）
磁性層は、磁性層形成用組成物を、非磁性層上に直接、または非磁性層形成用組成物と逐次または同時に重層塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０−２３１８４３号公報段落００６６を参照できる。
【００６８】
好ましい一態様では、本発明の磁気テープは、逐次重層塗布により製造することができる。逐次重層塗布による製造工程は、好ましくは次のように行うことができる。非磁性層を、非磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て形成する。そして形成された非磁性層上に磁性層形成用組成物を塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て、磁性層を形成する。
【００６９】
かかる逐次重層塗布による製造方法において、非磁性層形成工程を、塗布工程において脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含む非磁性層形成用組成物を用いて行い、かつ塗布工程と加熱乾燥工程との間に、塗布層を冷却する冷却工程を行うことは、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を少なくとも磁性層に含む磁気テープにおいて、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を４５原子％以上に調整するために好ましい。これは、理由は明らかではないが、加熱乾燥工程前に非磁性層形成用組成物の塗布層を冷却することにより、加熱乾燥工程における溶媒揮発時に上記成分（脂肪酸、脂肪酸アミド）が非磁性層表面に移行しやすくなるためではないかと、本発明者は推察している。ただし推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
【００７０】
また、磁性層形成工程では、強磁性粉末、結合剤および溶媒を含む磁性層形成用組成物を非磁性層上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程を行い、形成された塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を行うことができる。なお本発明の磁気テープは、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を少なくとも磁性層に含む。かかる磁気テープを製造するために、磁性層形成用組成物が、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含むことが好ましい。ただし、磁性層形成用組成物に脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含むことは必須ではない。非磁性層形成用組成物に含まれていたこれら成分が非磁性層表面に移行した後に、この非磁性層上に磁性層形成用組成物を塗布して磁性層を形成することにより、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含む磁性層を形成することができると考えられるためである。
【００７１】
一方、バックコート層は、非磁性支持体の磁性層が形成された（または形成される）表面とは反対の表面上に形成される。好ましくは、バックコート層は、バックコート層形成用組成物を非磁性支持体表面上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て形成することができる。
【００７２】
上記のバックコート層形成のための塗布工程を、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含むバックコート層形成用組成物を用いて行い、かつ塗布工程と加熱乾燥工程との間に、塗布層を冷却する冷却工程を行うことは、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含むバックコート層を有する磁気テープにおいて、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を３５原子％以上に調整するために好ましい。これも、理由は明らかではないが、加熱乾燥工程前にバックコート層形成用組成物の塗布層を冷却することにより、加熱乾燥工程における溶媒揮発時に上記成分（脂肪酸、脂肪酸アミド）がバックコート層表面に移行しやすくなるためではないかと、本発明者は推察している。ただし、これも推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
【００７３】
即ち、本発明の一態様は、本発明の磁気テープの製造方法であって、
非磁性層形成工程、磁性層形成工程およびバックコート層形成工程を含み、
非磁性層形成工程は、
脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上、非磁性粉末、結合剤ならびに溶媒を含む非磁性層形成用組成物を非磁性支持体表面上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、
上記塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、
を含み、かつ、上記塗布工程と加熱乾燥工程との間に、上記塗布層を冷却する冷却工程を更に含み、
バックコート層形成工程は、
脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上、非磁性粉末、結合剤ならびに溶媒を含むバックコート層形成用組成物を非磁性支持体表面上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、
上記塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、
を含み、かつ、上記塗布工程と加熱乾燥工程との間に、上記塗布層を冷却する冷却工程を更に含む磁気テープの製造方法、
に関する。
【００７４】
以下、上記製造方法の具体的態様を、図１に基づき説明する。ただし本発明は、下記具体的態様に限定されるものではない。
【００７５】
図１は、非磁性支持体の一方の表面上に非磁性層と磁性層とをこの順に有し、他方の表面上にバックコート層を有する磁気テープを製造する工程の具体的態様を示す工程概略図である。図１に示す態様では、非磁性支持体（長尺フィルム）を、送り出し部から送り出し巻き取り部で巻き取る操作を連続的に行い、かつ図１に示されている各部または各ゾーンにおいて塗布、乾燥、配向等の各種処理を行うことにより、走行する非磁性支持体上の一方の表面上に非磁性層および磁性層を逐次重層塗布により形成し、他方の表面上にバックコート層を形成することができる。冷却ゾーンを含む点以外は、磁気テープ等の塗布型磁気記録媒体の製造のために通常行われる製造工程と同様にすることができる。
【００７６】
送り出し部から送り出された非磁性支持体表面上には、第一の塗布部において、非磁性層形成用組成物の塗布が行われる（非磁性層形成用組成物の塗布工程）。
【００７７】
上記塗布工程後、冷却ゾーンにおいて、塗布工程で形成された非磁性層形成用組成物の塗布層が冷却される（非磁性層形成用組成物塗布後の冷却工程）。例えば、上記塗布層を形成した非磁性支持体を冷却雰囲気中に通過させることにより、冷却工程を行うことができる。冷却雰囲気の雰囲気温度は、好ましくは−１０℃〜０℃の範囲とすることができ、より好ましくは−５℃〜０℃の範囲とすることができる。冷却工程を行う時間（例えば、塗布層の任意の部分が冷却ゾーンに搬入されてから搬出されるまでの時間；以下において、「滞在時間」ともいう。）は特に限定されるものではないが、長くするほど磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が上昇する傾向があるため、４５原子％以上の磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が実現できるように必要に応じて予備実験を行うなどして調整することが好ましい。なお冷却工程では、冷却した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。
【００７８】
上記冷却ゾーンの後、第一の加熱処理ゾーンでは、冷却工程後の塗布層を加熱することにより、塗布層を乾燥させる（加熱乾燥工程）。加熱乾燥処理は、冷却工程後の塗布層を有する非磁性支持体を加熱雰囲気中に通過させることにより行うことができる。ここでの加熱雰囲気の雰囲気温度は、例えば６０〜１４０℃程度であるが、溶媒を揮発させて塗布層を乾燥させることができる温度とすればよく、上記範囲に限定されるものではない。また任意に、加熱した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。以上の点は、後述する第二加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程および第三の加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程についても、同様である。
【００７９】
次に、第二の塗布部において、第一の加熱処理ゾーンにて加熱乾燥工程を行い形成された非磁性層表面上に、磁性層形成用組成物が塗布される（磁性層形成用組成物の塗布工程）。
【００８０】
その後、磁性層形成用組成物の塗布層が湿潤状態にあるうちに、配向ゾーンにおいて塗布層中の強磁性粉末の配向処理が行われる。配向処理については、特開２０１０−２３１８４３号公報段落００６７を参照できる。
【００８１】
配向処理後の塗布層は、第二の加熱処理ゾーンにおいて加熱乾燥工程に付される。
【００８２】
次いで、第三の塗布部において、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が形成された面とは反対側の表面上に、バックコート層形成用組成物が塗布されて塗布層が形成される（バックコート層形成用組成物の塗布工程）。
【００８３】
上記塗布工程後、冷却ゾーンにおいて、塗布工程で形成されたバックコート層形成用組成物の塗布層が冷却される（バックコート層形成用組成物塗布後の冷却工程）。例えば、上記塗布層を形成した非磁性支持体を冷却雰囲気中に通過させることにより、冷却工程を行うことができる。冷却雰囲気の雰囲気温度は、好ましくは−１０℃〜０℃の範囲とすることができ、より好ましくは−５℃〜０℃の範囲とすることができる。冷却工程を行う時間（滞在時間）は特に限定されるものではないが、長くするほどバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が上昇する傾向があるため、３５原子％以上のバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が実現できるように必要に応じて予備実験を行うなどして調整することが好ましい。なおここでの冷却工程でも、冷却した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。
【００８４】
その後、第三の加熱処理ゾーンにおいて、上記冷却工程後の塗布層を加熱処理し乾燥させる。
【００８５】
以上により、非磁性支持体の一方の表面上に非磁性層および磁性層をこの順に有し、他方の表面上にバックコート層を有する磁気テープを得ることができる。得られた磁気テープは、巻き取り部に巻き取られた後に、任意に各種後処理（カレンダー処理等の各種表面処理等）に付されてもよい。これらの後処理については、磁気テープ等の塗布型磁気記録媒体の製造に関する公知技術を何ら制限なく適用することができる。また、通常、任意に各種後処理を行った後に行われる裁断工程については、例えば特開２０１０−２３１８４３号公報段落００６９を参照できる。
【００８６】
以上説明した本発明の磁気テープは、厚み０．３０μｍ以下のバックコート層を有す磁気テープであって、エッジダメージの発生の少ない磁気テープであることができる。なお近年、高速記録化が指向されており、これに伴いドライブ走行中の磁気テープの走行速度（搬送速度とも呼ばれる。）の高速化が進んでいる。一般に、かかる高速化が進むほど巻き乱れが生じやすくなる傾向があるため、エッジダメージが発生しやすい傾向がある。これに対し、本発明の磁気テープによれば、先に記載したように、エッジダメージの発生を抑制することができる。したがって、本発明の磁気テープは、高速記録化にも対応し得る磁気テープである。一例として、例えば走行速度は、３ｍ／秒以上であることができ、好ましくは５ｍ／秒以上、例えば５〜２０ｍ／秒であることができる。ただしこの範囲に限定されず、本発明の磁気テープは様々な走行速度で走行させ、信号を記録再生するために好適に用いることができる。
【実施例】
【００８７】
以下に、本発明を実施例に基づき説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。なお、以下に記載の「部」、「％」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量％」を示す。
【００８８】
以下に記載の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、下記測定条件により測定されるポリスチレン換算による値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー製）：
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー製、７．８ｍｍＩＤ(内径)×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
【００８９】
［実施例１〜１７、比較例１〜１６］
１．アルミナ（研磨剤）分散物の調製
アルファ化率約６５％、ＢＥＴ比表面積２０ｍ２／ｇのアルミナ粉末（住友化学社製ＨＩＴ−８０）１００．０部に対し、３．０部の２，３−ジヒドロキシナフタレン（東京化成製）、極性基としてＳＯ３Ｎａ基を有するポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡（登録商標）製ＵＲ−４８００（極性基量：８０ｍｅｑ／ｋｇ））の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの混合溶媒）を３１．３部、溶媒としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（質量比）の混合溶液５７０．０部を混合し、ジルコニアビーズ存在下で、ペイントシェーカーにより５時間分散させた。分散後、メッシュにより分散液とビーズとを分け、アルミナ分散物を得た。
【００９０】
２．磁性層形成用組成物処方
（磁性液）
強磁性粉末                                                  １００．０部
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末または強磁性金属粉末（表５参照）
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂                               １４．０部
重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ
シクロヘキサノン                                            １５０．０部
メチルエチルケトン                                          １５０．０部
（研磨剤液）
上記１．で調製したアルミナ分散物                                ６．０部
（シリカゾル）
コロイダルシリカ（平均粒子サイズ１２０ｎｍ）                    ２．０部
メチルエチルケトン                                              １．４部
（その他成分）
ステアリン酸                                                    表５参照
ステアリン酸アミド                                              表５参照
ブチルステアレート                                              表５参照
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート（登録商標））２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン                                            ２００．０部
メチルエチルケトン                                          ２００．０部
【００９１】
表５中、ＢａＦｅは平均粒子サイズ（平均板径）２１ｎｍの強磁性六方晶バリウムフェライト粉末、ＭＰは平均粒子サイズ（平均長軸長）３０ｎｍの強磁性金属粉末である。
【００９２】
３．非磁性層形成用組成物処方
非磁性無機粉末：α−酸化鉄                                  １００．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：０．１５μｍ
平均針状比：7
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ
カーボンブラック                                              ２０．０部
平均粒子サイズ：２０ｎｍ  
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂                              １８．０部
重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ
ステアリン酸                                                    表５参照
ステアリン酸アミド                                              表５参照
ブチルステアレート                                              表５参照
シクロヘキサノン                                            ３００．０部
メチルエチルケトン                                          ３００．０部
【００９３】
４．バックコート層形成用組成物処方
非磁性無機粉末：α−酸化鉄                                      表５参照
平均粒子サイズ（平均長軸長）：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ
カーボンブラック                                                表５参照
平均粒子サイズ２０ｎｍ
塩化ビニル共重合体                                            １３．０部
スルホン酸塩基含有ポリウレタン樹脂                              ６．０部
フェニルホスホン酸                                              ３．０部
ステアリン酸                                                    表５参照
ステアリン酸アミド                                              表５参照
ブチルステアレート                                              表５参照
シクロヘキサノン                                            １５５．０部
メチルエチルケトン                                          １５５．０部
ポリイソシアネート                                              ５．０部
シクロヘキサノン                                            ２００．０部
【００９４】
５．各層形成用組成物の調製
磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。上記磁性液を、各成分をバッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散（ビーズ分散）することにより調製した。分散ビーズとしては、ビーズ径０．５ｍｍΦのジルコニアビーズを使用した。上記サンドミルを用いて、調製した磁性液および上記研磨剤液を他の成分（シリカゾル、その他成分および仕上げ添加溶媒）と混合し５分間ビーズ分散した後、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ、３００Ｗ）で０．５分間処理（超音波分散）を行った。その後、０．５μｍの平均孔径を有するフィルターを用いてろ過を行い磁性層形成用組成物を調製した。
非磁性層形成用組成物を、以下の方法により調製した。ステアリン酸、シクロヘキサン、メチルエチルケトンを除いた各成分を、バッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散して分散液を得た。分散ビーズとしては、ビーズ径０．５ｍｍΦのジルコニアビーズを使用した。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディソルバーで攪拌した。こうして得られた分散液を０．５μｍの平均孔径を有するフィルターを用いてろ過し非磁性層形成用組成物を調製した。
バックコート層形成用組成物を、以下の方法により調製した。ポリイソシアネート、シクロヘキサノンを除いた各成分をオープンニーダにより混練および希釈した後、横型ビーズミル分散機により、ビーズ径１ｍｍΦのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パス滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディソルバーで攪拌した。こうして得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いてろ過しバックコート層形成用組成物を調製した。
【００９５】
６．磁気テープの作製
図１に示す具体的態様により磁気テープを作製した。詳しくは、次の通りとした。  
表５に示す厚みのポリエチレンナフタレート製支持体（非磁性支持体）を送り出し部から送りだし、一方の表面上に、第一の塗布部において乾燥後の厚みが表５に示す厚みになるように上記５．で調製した非磁性層形成用組成物を塗布して塗布層を形成した。形成した塗布層が湿潤状態にあるうちに雰囲気温度０℃に調整した冷却ゾーンに表５に示す滞在時間で通過させて冷却工程を行い、その後に雰囲気温度１００℃の第一の加熱処理ゾーンを通過させ加熱乾燥工程を行い非磁性層を形成した。
その後、第二の塗布部において乾燥後の厚みが表５に示す厚みになるように上記５．で調製した磁性層形成用組成物を非磁性層表面上に塗布し塗布層を形成した。この塗布層が湿潤状態（未乾状態）にあるうちに配向ゾーンにおいて磁場強度０．３Ｔの磁場を、磁性層形成用組成物の塗布層表面に対し垂直方向に印加し垂直配向処理を行った後、第二の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させた。
その後、第三の塗布部において、上記ポリエチレンナフタレート製支持体（非磁性支持体）の非磁性層および磁性層を形成した表面とは反対の表面上に、乾燥後の厚みが表５に示す厚みになるように上記５．で調製したバックコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成した。形成した塗布層が湿潤状態にあるうちに雰囲気温度０℃に調整した冷却ゾーンに表５に示す滞在時間で通過させて冷却工程を行い、その後に第三の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて上記塗布層を乾燥させた。
その後、金属ロールのみから構成されるカレンダで、速度８０ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ、温度１００℃でカレンダ処理（表面平滑化処理）を行った後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間熱処理を行った。熱処理後１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットし、磁気テープを得た。
表５中、非磁性層形成用組成物塗布後冷却ゾーン滞在時間の欄に「未実施」と記載されている比較例では、上記冷却ゾーンを含まない製造工程により磁気テープを作製した。表５中、バックコート層形成用組成物塗布後冷却ゾーン滞在時間の欄に「未実施」と記載されている比較例では、上記冷却ゾーンを含まない製造工程により磁気テープを作製した。
【００９６】
作製した磁気テープの各層および非磁性支持体の厚み、ならびに総厚を、以下の方法により求めた。形成した各層の厚みが表５に示す厚みであることが確認された。  
磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビームにより露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡による断面観察を行う。断面観察において厚み方向の２箇所において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めた。
【００９７】
［評価方法］
１．磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度
以下の方法により、実施例、比較例の磁気テープの磁性層側表面（測定領域：３００μｍ×７００μｍ）においてＥＳＣＡ装置を用いてＸ線光電子分光分析を行い、分析結果から磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を算出した。算出された値を、表５に示す。
また、以下の方法により、実施例、比較例の磁気テープのバックコート層側表面（測定領域：３００μｍ×７００μｍ）においてＥＳＣＡ装置を用いてＸ線光電子分光分析を行い、分析結果からバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を算出した。算出された値を、表５に示す。
【００９８】
（分析および算出方法）
下記（１）〜（３）の測定は、いずれも表１に示す測定条件にて行った。
【００９９】
【表１】
0006300762.tif 000002
【０１００】
（１）ワイドスキャン測定
磁気テープの磁性層側表面、バックコート層側表面において、それぞれＥＳＣＡ装置によりワイドスキャン測定（測定条件：表２参照）を行い検出された元素の種類を調べた（定性分析）。
【０１０１】
【表２】
0006300762.tif 000003
【０１０２】
（２）ナロースキャン測定
上記（１）で検出された全元素について、ナロースキャン測定（測定条件：表３参照）を行った。装置付属のデータ処理用ソフトウエア（Ｖｉｓｉｏｎ２．２．６）を用いて、各元素のピーク面積から検出された各元素の原子濃度（単位：原子％）を算出した。ここでＣ濃度も算出した。
【０１０３】
【表３】
0006300762.tif 000004
【０１０４】
（３）Ｃ１ｓスペクトルの取得
表４に記載の測定条件にてＣ１ｓスペクトルを取得した。取得したＣ１ｓスペクトルについて、装置付属のデータ処理用ソフトウエア（Ｖｉｓｉｏｎ２．２．６）を用いて試料帯電によるシフト（物理シフト）の補正を行った後、同ソフトウエアを用いてＣ１ｓスペクトルのフィッティング処理（ピーク分離）を実施した。ピーク分離にはガウス−ローレンツ複合関数（ガウス成分７０％、ローレンツ成分３０％）を用い、非線形最小二乗法によりＣ１ｓスペクトルのフィッティングを行い、Ｃ１ｓスペクトルに占めるＣ−Ｈピークの割合（ピーク面積率）を算出した。算出されたＣ−Ｈピーク面積率を、上記（２）で求めたＣ濃度に掛けることにより、Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を算出した。
【０１０５】
【表４】
0006300762.tif 000005
【０１０６】
以上の処理を磁気テープの磁性層側表面の異なる位置において３回行い得られた値の算術平均を、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とした。
また、以上の処理を磁気テープのバックコート層側表面の異なる位置において３回行い得られた値の算術平均を、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とした。
算出された値を、表５に示す。
【０１０７】
２．Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度に対する脂肪酸および脂肪酸アミドの寄与の確認
（１）実施例１と同様の方法で磁気テープ（サンプルテープ）を２つ作製した。一方のサンプルテープは上記ＥＳＣＡ装置による測定後、もう一方のサンプルテープは未測定の状態で、溶媒抽出を行った（溶媒：メタノール）。
抽出により得られた溶液中の脂肪酸、脂肪酸アミドおよび脂肪酸エステル量をガスクロマトグラフ分析により定量したところ、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）は、２つのサンプルテープで定量値の違いはほぼ見られなかった。一方、脂肪酸エステル（ブチルステアレート）は、測定後のサンプルテープでの定量値は、未測定のサンプルテープでの定量値と比べて大幅に低い値であった。これは、脂肪酸エステルが、ＥＳＣＡ装置において測定中に測定対象試料が配置される真空チャンバーにおいて揮発してしまうためと考えられる。
以上の結果から、ＥＳＣＡによる分析により求められる磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度には、脂肪酸エステルは影響を及ぼさないと判断することができる。
（２）バックコート層形成用組成物に含まれる成分の中で、溶媒およびポリイソシアネート（加熱処理により他の成分と架橋）を除く有機化合物は、ステアリン酸、ステアリン酸アミド、ブチルステアレート、塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸である。これら成分の中で、ブチルステアレートは、前述の通り、上記（１）の結果から、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度には影響を及ぼさないと判断することができる。
次に、以下の方法により、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度への塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸の影響を確認した。
実施例１で用いた塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸について、上記と同様の方法によりＣ１ｓスペクトルを取得し、取得したスペクトルについて先に記載した処理により結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークおよびＣ−Ｈピークをそれぞれピーク分離した。分離した各ピークがＣ１ｓスペクトルに占める割合（ピーク面積率）を算出し、結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークとＣ−Ｈピークとのピーク面積比を算出した。
次いで、実施例１の磁気テープのバックコート層側表面での測定で取得したＣ１ｓスペクトルにおいて、先に記載した処理により結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークをピーク分離した。塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸は、Ｃ１ｓスペクトルにおいて、結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークを有するのに対し、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）は、上記位置にピークを有さない。したがって、実施例１の磁気テープのバックコート層側表面での測定で取得したＣ１ｓスペクトルにおける結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークは、塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸に由来すると判断することができる。そこで、このピークを利用し、上記で算出したピーク面積比から、実施例１の磁気テープのバックコート層側表面での測定で取得したＣ１ｓスペクトルのＣ−Ｈピークにおける塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸の寄与分を算出したところわずか１０％程度であった。この結果から、実施例１の磁気テープのバックコート層側表面での測定で取得したＣ１ｓスペクトルのＣ−Ｈピークの多く（９０％程度）が、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）に由来すると判断することができる。
以上の結果から、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が、脂肪酸および脂肪酸アミドの存在量の指標になり得ることが実証された。
（３）磁性層形成用組成物に含まれる成分、および非磁性層形成用組成物に含まれ磁気テープにおいて非磁性層から磁性層へ移行し磁性層中に存在し得る成分の中で、溶媒およびポリイソシアネート（加熱処理やカレンダ処理による加熱により他の成分と架橋）を除く有機化合物は、ステアリン酸、ステアリン酸アミド、ブチルステアレート、２，３−ジヒドロキシナフタレン、ポリウレタン樹脂である。これら成分の中で、ブチルステアレートは、上述の通り、上記（１）の結果から、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度には影響を及ぼさないと判断することができる。
次に、以下の方法により、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度への２，３−ジヒドロキシナフタレンおよびポリウレタン樹脂の影響を確認した。
実施例１で用いた２，３−ジヒドロキシナフタレンおよびポリウレタン樹脂について、上記と同様の方法によりＣ１ｓスペクトルを取得し、取得したスペクトルについて先に記載した処理により結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークおよびＣ−Ｈピークをそれぞれピーク分離した。分離した各ピークがＣ１ｓスペクトルに占める割合（ピーク面積率）を算出し、結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークとＣ−Ｈピークとのピーク面積比を算出した。
次いで、実施例１の磁気テープの磁性層側表面での測定で取得したＣ１ｓスペクトルにおいて、先に記載した処理により結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークをピーク分離した。２，３−ジヒドロキシナフタレンおよびポリウレタン樹脂は、Ｃ１ｓスペクトルにおいて、結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークを有するのに対し、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）は、上記位置にピークを有さない。したがって、実施例１の磁気テープの磁性層側表面での測定で取得したＣ１ｓスペクトルにおける結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークは、２，３−ジヒドロキシナフタレンおよびポリウレタン樹脂に由来すると判断することができる。そこで、このピークを利用し、上記で算出したピーク面積比から、実施例１の磁気テープの磁性層側表面での測定で取得したＣ１ｓスペクトルのＣ−Ｈピークにおける２，３−ジヒドロキシナフタレンおよびポリウレタン樹脂の寄与分を算出したところわずか１０％程度であった。この結果から、実施例１の磁気テープの磁性層側表面での測定で取得したＣ１ｓスペクトルのＣ−Ｈピークの多く（９０％程度）が、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）に由来すると判断することができる。
以上の結果から、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が、脂肪酸および脂肪酸アミドの存在量の指標になり得ることが実証された。
【０１０８】
３．エッジダメージの評価
実施例、比較例の各磁気テープ（磁気テープ全長５００ｍ）を収容した磁気テープカートリッジを、ＩＢＭ社製ＬＴＯ−Ｇ５（Linear Tape-Open Generation 6）ドライブにセットし、磁気テープを、テンション０．６Ｎ、走行速度５ｍ／秒で１５００往復走行させた。
上記走行後の磁気テープカートリッジを、リファレンスドライブ（ＩＢＭ社製ＬＴＯ−Ｇ５ドライブ）にセットし、磁気テープを走行させて記録再生を行った。走行中の再生信号を外部ＡＤ（Analog/Digital）変換装置に取り込み、磁気テープの一方のエッジに最も近いトラックおよび他方のエッジに最も近いトラックでそれぞれ、再生信号振幅が平均（各トラックでの測定値の平均）に対して７０％以上低下した信号をミッシングパルスとして、その発生頻度（発生回数）を磁気テープ全長で除して、磁気テープの単位長さ当たり（１ｍ当たり）のミッシングパルス発生頻度（以下、「ミッシングパルス個数」と記載する。）として求めた。
エッジダメージが重度に発生しているほど、上記方法で求められるミッシングパルス個数は増加する。したがって、上記方法で求められるミッシングパルス個数は、エッジダメージの指標となる。ミッシングパルス個数が１０．０個／ｍ以下であれば、エッジダメージの発生が実用上十分なレベルまで抑制されていると判断することができる。なおエッジダメージが発生する位置は一定ではないため、本評価では、一方のエッジに最も近いトラックでの測定結果と、他方のエッジに最も近いトラックでの測定結果の中で、より大きい測定結果をミッシングパルス個数として採用し、表５に示した。
【０１０９】
以上の結果を、表５に示す。
【０１１０】
【表５】
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【０１１１】
表５に示す結果から、以下の点が確認できる。
（１）バックコート層厚みが０．３０μｍを超える比較例１〜８の磁気テープでは、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が４５原子％未満かつバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が３５原子％未満でも、ミッシングパルス個数は１０．０個／ｍ以下であった。即ち、バックコート層厚みが０．３０μｍを超える磁気テープは、エッジダメージの発生と磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度およびバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度との間には、相関は見られなかった。
（２）これに対し、実施例１〜１７と比較例９〜１６との対比から、バックコート層厚みが０．３０μｍ以下の磁気テープは、磁性層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が４５原子％以上かつバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が３５原子％以上であることにより、エッジダメージの発生を抑制できることが確認できる。
【産業上の利用可能性】
【０１１２】
本発明は、バックアップテープ等の磁気テープの技術分野において有用である。
【図１】
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