(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを、エステル加水分解酵素であるリパーゼ存在下、ビニルベンゾエートと反応させて、下記式(R,Z-2) で示される光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び下記式(S,Z-1) で示される光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの混合物を得る工程と、
【化１】
0006379078.tif 000015
前記混合物を蒸留して、前記光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)を留出させ、残留物として前記光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)を得る工程と
を少なくとも含む、光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法。
【請求項２】
ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを、エステル加水分解酵素であるリパーゼ存在下、ビニルベンゾエートと反応させて、下記式(R,Z-2)で示される光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び下記式(S,Z-1)で示される光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの混合物を得る工程と、
【化２】
0006379078.tif 000016
前記混合物を蒸留して、前記光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)を留出させる工程と
を少なくとも含む、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法。
【請求項３】
請求項１に記載の光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法の各工程と、
得られた光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオシ−１２−ヘプタデセンを加水分解して（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを得る工程と、
前記（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの水酸基をメシル化（メタンスルホニル化）又はトシル化（パラトルエンスルホニル化）した後、アセトキシ化して下記式(S,Z-3)
【化３】
0006379078.tif 000017
で示される光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンを得る工程とを少なくとも含む光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法。
【請求項４】
請求項２に記載の光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法の各工程と、
得られた光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンをアセチル化して下記式(S,Z-3)
【化４】
0006379078.tif 000018
で示される光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンを得る工程とを少なくとも含む光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法。
【請求項５】
下記式(RS,Z-2)
【化５】
0006379078.tif 000019
で示される（Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、（Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法、並びにピスタチオの主要害虫であるピスタチオ  ツウィッグ  ボーラーのフェロモン成分等である光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ピスタチオ  ツウィッグ  ボーラー（Ｐｉｓｔａｃｈｉｏ  ｔｗｉｇ  ｂｏｒｅｒ：学名  Ｋａｒｍａｎｉａ ｐｉｓｔａｃｉｅｌｌａ）は、イラン、トルコ等のピスタチオの重要害虫であり、幼虫が樹幹を加害することから作物の収量の低下、品質の低下が大きな問題となっている。現在、ピスタチオ  ツウィッグ  ボーラーの防除は殺虫剤を用いているが、その効果は充分なものでは無く、環境及び人的な健康面からも、昆虫の性フェロモンを用いた交信撹乱や大量誘殺等の新たな害虫防除方法の開発が求められている。
【０００３】
ピスタチオ  ツウィッグ  ボーラーの性フェロモンは、２００６年、Ｒ．Ｇｒｉｅｓらによって光学活性な（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンであることが報告されており（特許文献１、非特許文献１）、また、立体異性体である（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンは誘引阻害効果を示すことが解っている（特許文献１、非特許文献１）。
【０００４】
また、Ｒ．Ｇｒｉｅｓらは、ピスタチオ  ツウィッグ  ボーラーの性フェロモンである（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法として、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ-１２-ヘプタデセンを、エステル加水分解酵素であるリパーゼ存在下、ビニルアセテートと反応し、得られる（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンをアセチル化する光学分割を用いた製造方法及び光学活性な（Ｓ）−プロピレンオキシドを用いる方法を報告している（特許文献１、非特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２００７／０７９５６３号（トルコ特許出願公表２００８０５１９５号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｒ．Ｇｒｉｅｓ  eｔ．ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｅｃｏｌ（２００６）３２：２６６７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、Ｒ．Ｇｒｉｅｓらの報告したこれまでの製造方法は、酵素触媒を用いたアセチル化反応より生成する（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンと（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの分離にシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いなければならないこと、一方、光学活性な（Ｓ）−プロピレンオキシドを用いる方法は（Ｓ）−プロピレンオキシドが高価で工業的スケールでの入手が困難なこと等の理由により、いずれの方法も工業的な大量製造方法として多くの問題点が有った。
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、従来の製造技術の問題点を解決し、ピスタチオ  ツウィッグ  ボーラーの性フェロモン等である（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの工業的な製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ-１２-ヘプタデセンから、光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの混合物を得ることにより、簡便な蒸留設備で容易に両化合物を分離出来る事を見いだし、本発明をなすに至ったものである。
本発明の一つの態様では、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを、エステル加水分解酵素であるリパーゼ存在下、ビニルベンゾエートと反応させて、下記式(R,Z-2)で示される光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び下記式(S,Z-1)で示される光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの混合物を得る工程と、
【化１】
0006379078.tif 000002
前記混合物を蒸留して、前記光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)を留出させ、残留物として前記光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)を得る工程とを少なくとも含む、光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法を提供できる。
本発明の他の態様では、この光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾオキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法の各工程と、得られた光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾオシ−１２−ヘプタデセンを加水分解して（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを得る工程と、前記（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの水酸基をメシル化（メタンスルホニル化）又はトシル化（パラトルエンスルホニル化）した後、アセトキシ化して下記式(S,Z-3)
【化２】
0006379078.tif 000003
で示される光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンを得る工程とを少なくとも含む光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法を提供できる。
また、本発明の別の態様では、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを、エステル加水分解酵素であるリパーゼ存在下、ビニルベンゾエートと反応させて、上記式(R,Z-2)で示される光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び上記式(S,Z-1)で示される光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの混合物を得る工程と、前記混合物を蒸留して、前記光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)を留出させる工程とを少なくとも含む、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法を提供できる。
更に、本発明の別の態様では、この光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法の各工程と、得られた光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンをアセチル化して上記式(S,Z-3)で示される光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンを得る工程とを少なくとも含む光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの製造方法を提供できる。
また、本発明の他の態様では、下記式(RS,Z-2)
【化３】
0006379078.tif 000004
で示される（Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンを提供できる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ピスタチオ  ツウィッグ  ボーラーの性フェロモン等である（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンを工業的なスケールで、効率よく、簡便な装置で製造することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
下記式(R,Z-2)で示される光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び下記式(S,Z-1)で示される光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの混合物は、下記式(RS,Z-1)で示されるラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを有機溶媒中、エステル加水分解酵素であるリパーゼ存在下、ビニルベンゾエートと反応し（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンをベンゾイル化することにより製造される。
【００１１】
【化４】
0006379078.tif 000005
【００１２】
ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(RS,Z-1)は、例えば、国際公開第２００７／０７９５６３号（トルコ特許出願公表２００８０５１９５号公報）及びＲ．Ｇｒｉｅｓ  eｔ．ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｅｃｏｌ（２００６）３２：２６６７に記載された公知の方法により製造することができる。具体的には、（Ｚ）−１１−ヘキサデセナールとメチルマグネシウムハライドとを、テトラヒドロフランもしくはジエチルエーテル等のエーテル系溶媒中、反応させて、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを製造することができる。
【００１３】
この反応において、上記エステル加水分解酵素であるリパーゼとしては、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(RS,Z-1)中の（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを特異的にベンゾイル化する触媒活性を示す物であれば特に限定されないが、例えば、アスペルギルス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ）属、カンジダ（Ｃａｎｄｉｄａ）属、シュウドモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）属、ムコール（Ｍｕｃｏｒ）属等より選ばれる少なくとも一つに属する微生物より生産されるリパーゼが挙げられる。例えば、アスペルギルス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ）属としてはアスペルギルス・ニガー（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｉｇｅｒ）、カンジダ（Ｃａｎｄｉｄａ）属としてはカンジダ・アンタクティカ（Ｃａｎｄｉｄａ ａｎｔａｒｃｔｉｃａ），シュウドモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）属としてはシュードモナス・フルオレッセンス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｓ）等が挙げられる。特に、反応性の点からカンジダ・アンタクティカ（Ｃａｎｄｉｄａ ａｎｔａｒｃｔｉｃａ）由来のリパーゼが好ましい。また、上記リパーゼは、微生物、菌体、酵素又は酵素を合成樹脂や鉱物等の不溶性担体に固定化した固定化酵素を用いることができるが、安定性の点から、不溶性担体に固定化した固定化酵素が好ましい。好ましい市販品としては、カンジダ・アンタクティカ（Ｃａｎｄｉｄａ ａｎｔａｒｃｔｉｃａ）由来のリパーゼをアクリル樹脂に担持したＮｏｖｏｚｙｍ４３５（酵素ユニット：１０００ユニット／ｇ、Ｎｏｖｏｚｙｍｅｓ社製）が挙げられる。
【００１４】
リパーゼの使用量は、酵素活性を表す単位ユニット（Ｕ）により表すと、５０００ユニットから５００００ユニットが好ましく、反応速度及び酵素触媒の失活を考慮すると１００００ユニットから３００００ユニットが特に好ましい。
【００１５】
上記ベンゾイル化に用いられる有機溶媒としては、反応に悪影響を与えないものであれば特に限定されないが、例えば、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−メチル−２−ペンタノン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤が挙げられる。酵素触媒活性及び安定性の点から、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒が好ましく、ヘキサン、トルエン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテルが特に好ましい。
また、ベンゾイル化に用いられる有機溶媒の使用量は、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン１ｍｏｌに対して５００ｍｌから１２００ｍｌが好ましく、酵素触媒の安定性及び反応速度の点から７００ｍｌから１０００ｍｌが特に好ましい。
【００１６】
ビニルベンゾエートの使用量は、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン１ｍｏｌに対して、０．５当量から１．０当量が好ましく、反応性及び経済性の点から、０．６当量から０．８当量が特に好ましい。
【００１７】
ベンゾイル化の反応温度は、酵素触媒活性及び安定性が保たれる範囲内であれば特に限定されないが、例えば、２０℃から８０℃が好ましく、酵素触媒の活性及び安定性の点から４０℃から６０℃が特に好ましい。
ベンゾイル化の反応液のｐＨは、酵素触媒活性及び安定性が保たれる範囲内であれば特に限定されないが、例えば、ｐＨ５からｐＨ９が好ましく、酵素触媒の活性及び安定性の点からｐＨ６からｐＨ８が特に好ましい。また、反応液中のｐＨを制御するために、反応系内にリン酸緩衝液、酢酸緩衝液、ホウ酸緩衝液、塩化アンモニウム緩衝液等を用いることができる。
【００１８】
上記ベンゾイル化反応によって得られた反応液は、濾過、遠心分離等により酵素触媒を分離後、溶媒を減圧もしくは常圧下除去することで、光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の混合物を製造できる。
【００１９】
光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の混合物は、蒸留し、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)のみを留出し、光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)と分離する。
蒸留装置としては、回分式蒸留装置及び連続式蒸留装置等が挙げられる。また、充填物を有さない単蒸留装置で分離可能であるが、ラヒシリング、レッシンリング、ポールリング、マクマホンパッキン、スルーザーパッキン等の充填物を充填した精留装置を用いても良い。
蒸留を好ましくは加熱減圧下で行うが、圧力は、好ましくは０．０１３〜１．３３３ＫＰaであり、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S, Z-1)を好ましくは６９〜１９０℃で留出できる圧力である。
【００２０】
また、下記式(RS,Z-2)で示される（Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンは、光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)と下記式(S,Z-2)で示される光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンとの等量混合物である。光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)は、上記製造方法により製造することができ、一方、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-2)は、（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンのベンゾイル化を特異的に触媒するリパーゼを用いることで同様に製造することができる。
【００２１】
【化５】
0006379078.tif 000006
【００２２】
上記蒸留により得られた光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)は、公知の方法によりアセチル化し、ピスタチオ  ツウィッグ  ボーラーの性フェロモンであり、下記式(S,Z-3)に示される（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンを製造することができる。
【００２３】
【化６】
0006379078.tif 000007
【００２４】
光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)のアセチル化により（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-3)を得る方法としては、特に限定されず、例えば、塩基又は酸の存在下、アルコール化合物をアセチル化剤と反応させる方法が挙げられる。
アセチル化剤としては、ＣＨ３ＣＯＸ（式中、Ｘはハロゲン原子を表し、好ましくはＣｌ、Ｂｒ又はＩを表す。）で表される酢酸ハライド、無水酢酸、酢酸、酢酸エステル等が挙げられる。
塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジン等のアミン化合物、カリウムｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシド等の金属アルコキシドが挙げられ、単独でも複数種を併用しても良い。
酸としては、塩酸、硫酸等の鉱酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸、三フッ化ホウ素エーテラート、オルトチタン酸テトライソプロピル等のルイス酸、Ｄｏｗｅｘ  ５０、Ａｍｂｅｒｌｙｓｔ−１５等の陽イオン交換樹脂が挙げられ、単独でも複数種を併用しても良い。
【００２５】
光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)のアセチル化は、好ましくは、ピリジン又はトリエチルアミン等の塩基存在下、塩化アセチルと反応する方法、ピリジン又はトリエチルアミン等の塩基存在下、無水酢酸と反応する方法、硫酸又はパラトルエンスルホン酸等の酸触媒下、酢酸と脱水反応を行う方法、硫酸もしくはパラトルエンスルホン酸等の酸触媒下、又は、カリウムｔ−ブトキシドもしくはナトリウムメトキシド等の塩基触媒下、酢酸メチル又は酢酸エチル等の酢酸エステルとエステル交換反応を行う方法が挙げられる。反応性及び異性化を防止する点で、ピリジン又はトリエチルアミン等の塩基存在下、無水酢酸と反応する方法が更に好ましい。
【００２６】
上記塩基存在下、塩化アセチル又は無水酢酸と反応するアセチル化方法において、塩化アセチル又は無水酢酸の使用量は、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン１ｍｏｌに対して、１．０当量から３．０当量が好ましく、反応性及び経済性の点から１．５当量から２．０当量が特に好ましい。また、塩基の使用量は、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン１ｍｏｌに対して、１．０当量から５．０当量が好ましく、反応性及び経済性の点から１．５当量から２．０当量が特に好ましい。
【００２７】
上記酸触媒下、酢酸と脱水反応を行うアセチル化方法において、酢酸の使用量は、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン１ｍｏｌに対して、１．０当量から１０．０当量が好ましく、反応性及び経済性の点から２．０当量から５．０当量が特に好ましい。また、酸触媒の使用量は、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン１ｍｏｌに対して、０．０１当量から１．０当量が好ましく、反応性及び経済性の点から０．０１当量から０．５当量が特に好ましい。
【００２８】
上記酸触媒下又は塩基触媒下、酢酸エステルとエステル交換反応を行うアセチル化方法において、酢酸エステルの使用量は、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン１ｍｏｌに対して、１．０当量から１０．０当量が好ましく、反応性及び経済性の点から２．０当量から５．０当量が特に好ましい。また、酸又は塩基触媒の使用量は、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン１ｍｏｌに対して、０．０１当量から１．０当量が好ましく、反応性及び経済性の点から０．０１当量から０．５当量が特に好ましい。
【００２９】
上記アセチル化に用いられる溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶剤，ヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒が挙げられ、反応性の点からハロゲン系溶媒、エーテル系溶媒、ニトリル系溶媒が特に好ましい。
上記アセチル化に用いられる溶媒の使用量としては、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン１ｍｏｌに対して、０ｇから３０００ｇが好ましく、反応性及び経済性の点から、５００ｇから１５００ｇが特に好ましい。
上記アセチル化の反応温度は、０℃から１００℃が好ましく、反応性及び収率の点から、２５℃から８０℃が特に好ましい。
【００３０】
得られた光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の光学純度は、Ｃｙｃｌｏｓｉｌ-β（アジレントテクノロジー社）等のキラルカラムを用いたガスクロマトグラフィー分析により決定することができる。
上記蒸留により得られた光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)の光学純度は、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の塩基、及びメタノール、エタノール等のアルコール存在下で加水分解し、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-1)を製造し、続いて上記公知の方法によりアセチル化し、得られた光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンをＣｙｃｌｏｓｉｌ-β（アジレントテクノロジー社）等のキラルカラムを用いたガスクロマトグラフィー分析することで決定することができる。
【００３１】
光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の混合物のうち、光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)をアセチル化して光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-3)を製造することができることは上述の通りである。一方、光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)からも、公知の方法により立体配置を反転し光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-3)を製造することができる。
例えば、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)を、好ましくは、塩酸、硫酸、トリフロロ酢酸、パラトルエンスルホン酸等の酸又は水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基の存在下で加水分解して（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを製造し、得られた（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの水酸基をメシル化（メタンスルホニル化）又はトシル化（パラトルエンスルホニル化）した後、アセトキシ化剤と反応させてアセトキシ化する。アセトキシ化剤としては、ＣＨ３ＣＯ２Ｙ（式中、Ｙは金属原子を表し、好ましくはＮａ、Ｋ又はＬｉを表す。）で表される酢酸金属塩が挙げられる。
具体例としては、まず、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)を水酸化ナトリウム、炭酸カリウム等の塩基、及びメタノール、エタノール等のアルコール存在下反応し、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを製造する。次に、この（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンを、例えばピリジン又はトリエチルアミン等の塩基存在下、塩化メタンスルホニル又は塩化パラトルエンスルホニル等と反応後、アセトキシ化剤（好ましくは酢酸ナトリウム及び酢酸カリウム等の酢酸金属塩）と反応させピスタチオ  ツウィッグ  ボーラーの性フェロモンである（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-3)を製造することができる。
【００３２】
上記立体反転より得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-3)の光学純度が、求める光学純度に比べ低い場合、アルカリ加水分解して（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)とし、再度、微生物より生産されるエステル加水分解酵素であるリパーゼを用いて、ビニルベンゾエートと反応させた後光学分割して光学純度を向上することができる。
【実施例】
【００３３】
以下に、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
実施例１
［光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の製造］
撹拌機、冷却コンデンサー及び温度計を取り付けた反応器に、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（２５４．５ｇ：１.０モル）、ビニルベンゾエート（１４８．２ｇ：１．０モル：１.０当量）、ｎ−ヘキサン（８５０.０ｍｌ，５６１．０ｇ）、Ｎｏｖｏｚｙｍ４３５（３０.０ｇ：３００００ユニット、Ｎｏｖｏｚｙｍｅｓ社製）を添加し、５０℃にて撹拌した。反応はガスクロマトグラフィー（ＤＢ−５：アジレントテクノロジー社、長さ３０ｍ×内径０.２５ｍｍ×膜厚０.２５μｍ、１５０℃から１０℃／分で３００℃まで昇温）にて追跡し、反応の停止を確認した。反応停止後、反応液は濾過し酵素触媒を除去、３質量％炭酸水素ナトリウム水溶液（２５０.０ｇ）で洗浄後、減圧下で溶媒を除去すると、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの混合物である反応濃縮液（３５７.５ｇ）が得られた。
得られた反応濃縮液中の（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの生成比を１Ｈ―ＮＭＲを用いて確認すると、生成比は５０.１対４９.９であった。
得られた反応濃縮液は、充填物を有しない単蒸留装置により（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンのみを留出して分離した。この結果、（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン［ｂｐ１１７-１１９℃（０.１３ＫＰａ），１１７.８ｇ，０．４６モル，収率：４６.３％］が得られた。また、蒸留残渣として、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン［１７４.６ｇ，０.４９モル，収率：４８.７％］が得られた。
得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンは、１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル、１３Ｃ−核磁気共鳴スペクトル、マススペクトル、ＩＲスペクトルより構造を確認した。
得られた留分及び残渣のガスクロマトグラフィー組成を表１に示す。
【００３４】
（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)のスペクトルデータ
（核磁気共鳴スペクトル）１Ｈ-ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０.８９（３Ｈ，ｔ），１.１８（３Ｈ，ｄ），１．２２−１．５０（２０Ｈ，ｍ），１．５３（１Ｈ，ｄ），１．９８−２．０６（４Ｈ，ｍ），３．７８（１Ｈ，ｔｑ），５．３４（２Ｈ，ｄｔ），１３Ｃ-ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１３．９７，２２．３２，２３．４４，２５．７５，２６．８９，２７．１７，２９．２７，２９．５１，２９．５５，２９．５９，２９．６３，２９．７４
（マススペクトル）ＥＩ（７０ｅＶ）：ｍ/ｚ２５４（Ｍ+），２３６（Ｍ+−Ｈ２Ｏ），１９４，１８０，１６６，１５２，１３８，１２４，１１０，９６，８２，６４，５５，４１
（赤外吸収スペクトル）（液膜法）：ν（ｃｍ−１）７２２，９３３，１０６７，１１１５，１３７５，１４６５，２８５３，２９２５，２９５８，３００５，３３２８
【００３５】
（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)のスペクトルデータ
（核磁気共鳴スペクトル）１Ｈ-ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．９０（３Ｈ，ｔ），１．２４−１．３６（２１Ｈ，ｍ），１．５６−１．６５（１Ｈ，ｍ），１．７０−１．７９（１Ｈ，ｍ），１．９９−２．０５（４Ｈ，ｍ），５．１６（１Ｈ，ｔｑ），５．３４（２Ｈ，ｄｔ），４．４３（２Ｈ，ｄｄ），７．５４（１Ｈ，ｄｄ），８．０３（２Ｈ，ｄ），１３Ｃ-ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１３．９９，２０．０６，２２．３２，２５．４２，２６．９０，２７．１７，２９．２６，２９．４７，２９．５０，２９．５２，２９．７４，３１．９５，３６．０４，７１．７２，１２８．２４，１２９．４９，１２９．８２，１２９．８６，１３０．９３，１３２．６４，１６６．１９
（マススペクトル）ＥＩ（７０ｅＶ)：ｍ/ｚ２３６（Ｍ＋−ＰｈＣＯ２Ｈ），１９４，１７３，１５２，１２３，１０５，８２，５５
（赤外吸収スペクトル）（液膜法）：ν（ｃｍ−１）７１１，１０２６，１０７０，１１１０，１３１４，１３５５，１３７８，１４５１，１５８５，１６０３，１７１７，２８５４，２９２６
【００３６】
【表１】
0006379078.tif 000008
【００３７】
実施例２
［（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-3)の製造］
撹拌機、冷却コンデンサー及び温度計を取り付けた反応器に、実施例１で得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（１１７.８ｇ、０.４６モル）、無水酢酸（７０.４ｇ，０.６９モル，１.５当量）、ピリジン（７２.８ｇ、０.９２モル，２.０当量）、塩化メチレン（５００.０ｇ）を添加し３５℃で撹拌した。反応はガスクロマトグラフィー（ＤＢ−５：アジレントテクノロジー社、長さ３０ｍ×内径０.２５ｍｍ×膜厚０.２５μｍ、１５０℃から１０℃／分で３００℃まで昇温）にて追跡し反応完結後、反応液は水（５００.０ｇ）で反応を停止し、ジエチルエーテル（５００.０ｇ）で抽出した。
得られた有機層は、１０質量％塩化水素水（５００.０ｇ）、３質量％炭酸水素ナトリウム水溶液（５００.０ｇ）で洗浄し、減圧下で溶媒を除去し、残渣を減圧下で蒸留し、（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン［ｂｐ１２２-１２４℃（０.１３ＫＰａ），１３２.８ｇ，０．４５モル，収率：９７.４％］が得られた。
得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンは、１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル、１３Ｃ−核磁気共鳴スペクトル、マススペクトル、ＩＲスペクトルより構造を確認し、キラルカラムによるガスクロマトグラフィー（Ｃｙｃｌｏｓｉｌ-β：アジレントテクノロジー社、長さ３０ｍ×内径０.２５ｍｍ×膜厚０.２５μｍ、１００℃５分保持から５℃／分で２００℃まで昇温）測定から、光学純度ｅｅ＝１００.０％であった。
なお、実施例１で得られた光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンの光学活性を確認するために、加水分解後、アセチル化することで、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンを製造した。キラルカラムによるガスクロマトグラフィー（Ｃｙｃｌｏｓｉｌ-β：アジレントテクノロジー社、長さ３０ｍ×内径０.２５ｍｍ×膜厚０.２５μｍ，１００℃５分保持から５℃／分で２００℃まで昇温）測定から、光学純度ｅｅ＝８８.６％であった。
【００３８】
（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-3)のスペクトルデータ
（核磁気共鳴スペクトル）１Ｈ-ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．８９（３Ｈ，ｔ），１．１９（３Ｈ，ｄ），１．２４−１．６２（２０Ｈ，ｍ），１．９９−２．０４（７Ｈ，ｍ），４．８８（１Ｈ，ｔｑ），５．３４（２Ｈ，ｄｔ），１３Ｃ-ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１３．９７，１９．２９，２１．３５，２２．３２，２５．３８，２６．８９，２７．１６，２９．２５，２９．４３，２９．４８，２９．５０，２９．６２，２９．７３，３１．９４，３５．９０，７１．０４，１２９．８２，１２９．８４，１７０．７５
（マススペクトル）ＥＩ（７０ｅＶ）：ｍ/ｚ２８１（Ｍ＋−ＣＨ３），２３６（Ｍ＋−ＣＨ３ＣＯ２Ｈ），１９４，１８０，１６６，１５２，１３８，１２４，１１０，９６，８２，６７，４３
（赤外吸収スペクトル）（液膜法）：ν（ｃｍ−１）７２２，９５１，１０２０，１３７１，１４６５，１７３９，２８５４，２９２６，３００４
【００３９】
実施例３
［光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の製造］
ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（２５４．５ｇ：１.０モル）、ビニルベンゾエート（８８.９ｇ：０.６モル：０.６当量）、ｎ−ヘキサン（８５０.０ｍｌ，５６１．０ｇ）、Ｎｏｖｏｚｙｍ４３５（３０.０ｇ：３００００ユニット、Ｎｏｖｏｚｙｍｅｓ社製）を用い、実施例１と同様に製造を行った。
得られた反応濃縮液（３３６．７ｇ）中の（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン、及び（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの生成比を１Ｈ―ＮＭＲを用いて確認すると、生成比は５０.０対５０.０であった。
得られた反応濃縮液は、充填物を有しない単蒸留装置により（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンのみを留出して分離した。この結果、（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン［１２２.１ｇ，０．４８モル，収率：４８.０％］が得られた。また、蒸留残渣として、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン［１６９．２ｇ，０.４７モル，収率：４７.２％］が得られた。
得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンは、１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル、１３Ｃ−核磁気共鳴スペクトル、マススペクトル、ＩＲスペクトルより構造を確認した。
得られた留分及び残渣のガスクロマトグラフィー組成を表２に示す。
【００４０】
【表２】
0006379078.tif 000009
【００４１】
実施例４
［（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-3)の製造］
実施例３で得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（１２２.１ｇ，０．４８モル）を用いて、実施例２と同様に（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの製造を行った。この結果、（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン［１３６．６ｇ，０．４６モル，収率：９６.０％］が得られた。
得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンは、１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル、１３Ｃ−核磁気共鳴スペクトル、マススペクトル、ＩＲスペクトルより構造を確認し、キラルカラムによるガスクロマトグラフィー（Ｃｙｃｌｏｓｉｌ-β：アジレントテクノロジー社、長さ３０ｍ×内径０.２５ｍｍ×膜厚０.２５μｍ，１００℃５分保持から５℃／分で２００℃まで昇温）測定から、光学純度ｅｅ＝１００.０％であった。
なお、実施例３で得られた光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンの光学活性を確認するために、加水分解後、アセチル化することで、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンを製造した。キラルカラムによるガスクロマトグラフィー（Ｃｙｃｌｏｓｉｌ-β：アジレントテクノロジー社、長さ３０ｍ×内径０.２５ｍｍ×膜厚０.２５μｍ，１００℃５分保持から５℃／分で２００℃まで昇温）測定から、光学純度ｅｅ＝９０．８％であった。
【００４２】
実施例５
［光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の製造］
ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（２５４．５ｇ：１.０モル）、ビニルベンゾエート（８８.９ｇ：０.６モル：０.６当量）、ｎ−ヘキサン（８５０.０ｍｌ，５６１．０ｇ）、Ｎｏｖｏｚｙｍ４３５（１０.０ｇ：１００００ユニット、Ｎｏｖｏｚｙｍｅｓ社製）を用い、実施例１と同様に製造を行った。
得られた反応濃縮液（３２５．８ｇ）中の（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの生成比を１Ｈ―ＮＭＲを用いて確認すると、生成比は５０.０対５０.０であった。
得られた反応濃縮液は、充填物を有さない単蒸留装置により（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンのみを留出して分離した。この結果、（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン［１２０．４ｇ，０．４７モル，収率：４７.３％］が得られた。また、蒸留残渣として、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン［１７１．８ｇ，０.４８モル，収率：４７.９％］が得られた。
得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンは、１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル、１３Ｃ−核磁気共鳴スペクトル、マススペクトル、ＩＲスペクトルより構造を確認した。
得られた留分及び残渣のガスクロマトグラフィー組成を表３に示す。
【００４３】
【表３】
0006379078.tif 000010
【００４４】
実施例６
［（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-3)の製造］
実施例５で得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（１２０．４ｇ，０．４７モル）を用いて、実施例２と同様に（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの製造を行った。この結果、（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン［１３２．３ｇ，０．４６モル，収率：９５.０％］が得られた。
得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンは、１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル、１３Ｃ−核磁気共鳴スペクトル、マススペクトル、ＩＲスペクトルより構造を確認し、キラルカラムによるガスクロマトグラフィー（Ｃｙｃｌｏｓｉｌ-β，長さ３０ｍ×内径０.２５ｍｍ×膜厚０.２５μｍ，１００℃５分保持から５℃／分で２００℃まで昇温）測定から光学純度ｅｅ＝１００.０％であった。
なお、実施例５で得られた光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセンの光学活性を確認するために、加水分解後、アセチル化することで、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンを製造した。キラルカラムによるガスクロマトグラフィー（Ｃｙｃｌｏｓｉｌ-β：アジレントテクノロジー社、長さ３０ｍ×内径０.２５ｍｍ×膜厚０.２５μｍ，１００℃５分保持から５℃／分で２００℃まで昇温）測定から、光学純度ｅｅ＝９０．０％であった。
【００４５】
実施例７
［（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン(R,Z-2)から（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-3)の製造］
撹拌機、冷却コンデンサー及び温度計を取り付けた反応器に、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ベンゾイルオキシ−１２−ヘプタデセン（１４８．２５ｇ：０．５モル）、メタノール（３００．０ｇ）を添加し、３５℃にて撹拌した。これに、１０質量％水酸化ナトリウム水溶液（５００．０ｇ）を３５〜４５℃にて滴下した。滴下後、４０〜４５℃にて３時間撹拌、反応液は、室温まで冷却しジエチルエーテル（３００．０ｇ）で抽出し、有機層は５質量％塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、減圧下で溶媒を除去した。残渣を減圧下で蒸留し、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン［ｂｐ１１５−１１８℃（０．１３ＫＰa），１２４．９ｇ，０．４９モル，収率：９８．０％］が得られた。
【００４６】
（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンのスペクトルデータ
（核磁気共鳴スペクトル）１Ｈ-ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０.８８（３Ｈ，ｔ），１.１８（３Ｈ，ｄ），１．２０−１．４９（２０Ｈ，ｍ），１．５０（１Ｈ，ｄ），１．９８−２．０９（4Ｈ，ｍ），３．７２（１Ｈ，ｔｑ），５．３４（２Ｈ，ｄｔ），１３Ｃ-ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１３．９８，２２．３４，２３．４６，２５．７３，２６．８９，２７．１７，２９．２９，２９．５１，２９．５４，２９．５９，２９．６４，２９．７４
（マススペクトル）ＥＩ（７０ｅＶ)：ｍ/ｚ２５４（Ｍ+），２３６（Ｍ+−Ｈ２Ｏ），１９４，１８０，１６６，１５２，１３８，１２４，１１０，９６，８２，６４，５５，４１
（赤外吸収スペクトル）(液膜法)：ν（ｃｍ−１）７２５，９３５，１０６４，１１１８，１３７４，１４６６，２８５２，２９２５，２９５８，３００７，３３２８
【００４７】
続いて、撹拌機、冷却コンデンサー及び温度計を取り付けた反応器に、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（１２４．９ｇ，０．４９モル）、トリエチルアミン（６０．７ｇ，０．６０モル）、ジクロロメタン（６００．０ｇ）を添加し、これに塩化メタンスルホニル（６３．０ｇ，０．５５モル）を０〜５℃にて滴下した。滴下後、０〜５℃にて２時間撹拌し、５質量％炭酸水素ナトリウム水溶液（２５０．０ｇ）を添加し反応を停止、ジエチルエーテル（５００．０ｇ）で抽出した。得られた有機層は０．５質量％塩化水素水（３００．０ｇ）、５質量％炭酸水素ナトリウム水溶液（２５０．０ｇ）、５質量％塩化ナトリウム水溶液（２５０．０ｇ）で洗浄後、減圧下で溶媒を除去すると、反応濃縮液（１６３．５ｇ）が得られた。得られた反応濃縮液は、１Ｈ−ＮＭＲにて（２Ｒ，１２Ｚ）−２−メタンスルホニルオキシ−１２−ヘプタデセンの生成を確認し精製せずにそのまま次の反応へ用いた。
【００４８】
（２Ｒ，１２Ｚ）−２−メタンスルホニルオキシ−１２−ヘプタデセンのスペクトルデータ
（核磁気共鳴スペクトル）１Ｈ-ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０.９０（３Ｈ，ｔ），１．２２−１．３０（１８Ｈ，ｍ），１．４０（３Ｈ，ｄ），１．５９（１Ｈ，ｄｔ），１．７０（１Ｈ，ｄｔ）１．９９−２．０３（4Ｈ，ｍ），２．９９（３Ｈ，ｓ），４．７９（１Ｈ，ｔｑ），５．３２（２Ｈ，ｄｔ）
【００４９】
次に、撹拌機、冷却コンデンサー及び温度計を取り付けた反応器に、（２Ｒ，１２Ｚ）−２−メタンスルホニルオキシ−１２−ヘプタデセン（１６３．５ｇ）、酢酸カリウム（７８．５ｇ，０．８モル）、ジメチルアセトアミド（５００．０ｇ）を添加し、６０℃にて２０時間撹拌した。反応液は冷却後、水（３００．０ｇ）で反応を停止、ジエチルエーテル（３５０．０ｇ）で抽出した。有機層は５質量％塩化ナトリウム水溶液（２５０．０ｇ）で洗浄後、減圧下で溶媒を除去し、残渣を減圧下で蒸留し、（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン［ｂｐ１１９−１２２℃（０．１３ＫＰa），１３５．８ｇ，０．４６モル，収率：９３．５％］が得られた。
得られた（２Ｓ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンのキラルカラムによるガスクロマトグラフィー（Ｃｙｃｌｏｓｉｌ-β：アジレントテクノロジー社、長さ３０ｍ×内径０.２５ｍｍ×膜厚０.２５μｍ，１００℃５分保持から５℃／分で２００℃まで昇温）測定から、光学純度ｅｅ＝９１．３％であった。
【００５０】
比較例１
［光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の製造］
撹拌機、冷却コンデンサー及び温度計を取り付けた反応器に、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（２５．４ｇ：０．１モル）、ビニルアセテート（８．６ｇ：０．１モル：１.０当量）、ｎ−ヘキサン（８５．０ｇ）、Ｎｏｖｏｚｙｍ４３５（３．０ｇ：３０００ユニット、Ｎｏｖｏｚｙｍｅｓ社製）を添加し、５０℃にて撹拌した。反応はガスクロマトグラフィー（ＤＢ−５，長さ３０ｍ×内径０.２５ｍｍ×膜厚０.２５．μｍ，１５０℃から１０℃／分で３００℃まで昇温）にて追跡し、反応の停止を確認した。反応停止後、反応液は濾過し酵素触媒を除去、３質量％炭酸水素ナトリウム水溶液（２５．０ｇ）で洗浄後、減圧下で溶媒を除去すると、反応濃縮液（３２．４ｇ）が得られた。
得られた反応濃縮液中の（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの生成比を１Ｈ―ＮＭＲを用いて確認すると、生成比は５６．３対４３．７であった。
得られた反応濃縮液は、充填物を有さない単蒸留装置により（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンと（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの分離を行った。得られた留分のガスクロマトグラフィー組成を表４に示す。
【００５１】
【表４】
0006379078.tif 000011
【００５２】
（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンのスペクトルデータ
（核磁気共鳴スペクトル）１Ｈ-ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．８９（３Ｈ，ｔ），１．１９（３Ｈ，ｄ），１．２４−１．６２（２０Ｈ，ｍ），１．９９−２．０４（７Ｈ，ｍ），４．８８（１Ｈ，ｔｑ），５．３４（２Ｈ，ｄｔ），１３Ｃ-ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１３．９７，１９．２９，２１．３５，２２．３２，２５．３８，２６．８９，２７．１６，２９．２５，２９．４３，２９．４８，２９．５０，２９．６２，２９．７３，３１．９４，３５．９０，７１．０４，１２９．８２，１２９．８４，１７０．７５
（マススペクトル）ＥＩ（７０ｅＶ）：ｍ/ｚ２８１（Ｍ＋−ＣＨ３），２３６（Ｍ＋−ＣＨ３ＣＯ２Ｈ），１９４，１８０，１６６，１５２，１３８，１２４，１１０，９６，８２，６７，４３
（赤外吸収スペクトル）（液膜法）：ν（ｃｍ−１）７２２，９５１，１０２０，１３７１，１４６５，１７３９，２８５４，２９２６，３００４
【００５３】
比較例２
［光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の製造］
撹拌機、冷却コンデンサー及び温度計を取り付けた反応器に、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（２５．４ｇ：０．１モル）、ビニルアセテート（５．２ｇ：０．０６モル：０．６当量）、ｎ−ヘキサン（８５．０ｇ）、Ｎｏｖｏｚｙｍ４３５（３．０ｇ：３０００ユニット、Ｎｏｖｏｚｙｍｅｓ社製）を用い、比較例１と同様に製造を行った。
得られた反応濃縮液（２８．７ｇ）中の（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの生成比を１Ｈ―ＮＭＲを用いて確認すると、生成比は４７．２対５２．８であった。
得られた反応濃縮液は、充填物を有さない単蒸留装置により（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンと（２Ｒ，１２Ｚ）−２−アセトキシ−１２−ヘプタデセンの分離を行った。得られた留分のガスクロマトグラフィー組成を表５に示す。
【００５４】
【表５】
0006379078.tif 000012
【００５５】
比較例３
［光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ブタノイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の製造］
撹拌機、冷却コンデンサー及び温度計を取り付けた反応器に、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（２５．４ｇ：０．１モル）、ビニルブチレート（６．８ｇ：０．０６モル：０．６当量）、ｎ−ヘキサン（８５．０ｇ）、Ｎｏｖｏｚｙｍ４３５（３．０ｇ：３０００ユニット、Ｎｏｖｏｚｙｍｅｓ社製）を用い、比較例１と同様に製造を行った。
得られた反応濃縮液（２９．８ｇ）中の（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ブタノイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの生成比を１Ｈ―ＮＭＲを用いて確認すると、生成比は４５．３対５４．７であった。
得られた（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ブタノイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンは、１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル、１３Ｃ−核磁気共鳴スペクトル、マススペクトル、ＩＲスペクトルより構造を確認した。
得られた反応濃縮液は、充填物を有さない単蒸留装置により（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンと（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ブタノイルオキシ−１２−ヘプタデセンの分離を行った。得られた留分のガスクロマトグラフィー組成を表６に示す。
【００５６】
（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ブタノイルオキシ−１２−ヘプタデセンのスペクトルデータ
（核磁気共鳴スペクトル）１Ｈ-ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．８９（３Ｈ，ｔ），０．９４（３Ｈ，ｔ），１．１９（３Ｈ，ｄ），１．２４−１．５９（２０Ｈ，ｍ），１．６４（２Ｈ，ｔｑ），１．９８−２．０５（４Ｈ，ｍ），２．２５（２Ｈ，ｔ），４．８９（１Ｈ，ｔｑ），５．３４（２Ｈ，ｄｔ），１３Ｃ-ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１３．６２，１３．９７，１８．５５，１９．９９，２２．３１，２５．３９，２６．８９，２７．１６，２９．２６，２９．４２，２９．５１，２９．５５，２９．７４，３１．９４，３５．９４，３６．６１，７０．６９，１２９．８２，１２９．８４，１７３．３５
（マススペクトル）ＥＩ（７０ｅＶ)：ｍ/ｚ３０９（Ｍ＋−ＣＨ３），２３６（Ｍ＋−Ｃ３Ｈ７ＣＯ２Ｈ），１９４，１７９，１５２，１２４，９６，７１，５５
（赤外吸収スペクトル）（液膜法）：ν（ｃｍ−１）７２１，９４９，１０４３，１０９０，１１２７，１１８５，１２５６，１３７８，１４６４，１７３３，２８５５，２９２６，３００３
【００５７】
【表６】
0006379078.tif 000013
【００５８】
比較例４
［光学活性（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヘキサノイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び光学活性（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン(S,Z-1)の製造］
撹拌機、冷却コンデンサー及び温度計を取り付けた反応器に、ラセミ体（２ＲＳ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセン（２５．４ｇ：０．１モル）、ビニルヘキサネート（８．５ｇ：０．０６モル：０．６当量）、ｎ−ヘキサン（８５．０ｇ）、Ｎｏｖｏｚｙｍ４３５（３．０ｇ：３０００ユニット、Ｎｏｖｏｚｙｍｅｓ社製）を用い、比較例１と同様に製造を行った。
得られた反応濃縮液（３２．５ｇ）中の（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヘキサノイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンの生成比を１Ｈ―ＮＭＲを用いて確認すると、生成比は４７．１対５２．９であった。
得られた（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヘキサノイルオキシ−１２−ヘプタデセン及び（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンは、１Ｈ−核磁気共鳴スペクトル、１３Ｃ−核磁気共鳴スペクトル、マススペクトル、ＩＲスペクトルより構造を確認した。
得られた反応濃縮液は、充填物を有さない単蒸留装置により（２Ｓ，１２Ｚ）−２−ヒドロキシ−１２−ヘプタデセンと（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヘキサノイルオキシ−１２−ヘプタデセンの分離を行った。得られた留分のガスクロマトグラフィー組成を表７に示す。
【００５９】
（２Ｒ，１２Ｚ）−２−ヘキサノイルオキシ−１２−ヘプタデセンのスペクトルデータ
（核磁気共鳴スペクトル）１Ｈ-ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．８９（６Ｈ，ｔ），１．１９（３Ｈ，ｄ），１．２２−１．４９（２３Ｈ，ｍ），１．５２−１．６５（３Ｈ，ｍ），１．９８−２．０５（４Ｈ，ｍ），２．２５（２Ｈ，ｔ），４．８９（１Ｈ，ｔｑ），５．３４（２Ｈ，ｄｔ），１３Ｃ-ＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１３．８９，１３．９７，１９．９９，２２．３２，２４．７７，２６．８９，２７．１６，２９．２６，２９．４３，２９．４９，２９．５１，２９．７４，３１．２９，３１．９４，３４．７０，３５．９４，７０．６９，１２９．８２，１２９．８４，１７３．５３
（マススペクトル）ＥＩ（７０ｅＶ)：ｍ/ｚ３３７（Ｍ＋−ＣＨ３），２３６（Ｍ＋−Ｃ５Ｈ１１ＣＯ２Ｈ），１９４，１８０，１６６，１３８，１１７，９９，８１，５５
（赤外吸収スペクトル）（液膜法）：ν（ｃｍ−１）７２３，１０９８，１１２７，１１７７，１２４６，１３７７，１４６５，１７３３，２８５５，２９２６，２９５６
【００６０】
【表７】
0006379078.tif 000014