(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物であって、
このＣ３−Ｃ２５カルボン酸塩が、式−Ｏ２ＣＲ２ｃ（ここでＲ２ｃはヒドロカルビル基である）を有し、
ｉ）１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、１４２９±１５ｃｍ−１のνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、及び７００±５０ｃｍ−１の赤外吸光度ピークを有するＫＢｒペレット赤外スペクトルを有し、ここで、νａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークがνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの１１０ｃｍ−１の範囲内であり、かつ、１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの、７００±５０ｃｍ−１に位置する赤外吸光度ピークに対する赤外吸光度ピーク高さ比が、３：１以上であるか、
ｉｉ）１．３オングストローム〜４オングストロームのｒの範囲にわたり、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点を、単核クロム（ＩＩＩ）酢酸塩の理論的モデルの計算高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較した場合に、少なくとも０．６の適合度検定値Ｒ２を有し、ここで、
Ｒ２＝１−（ＳＳｅｒｒ／ＳＳｔｏｔ）、
【数１】
0006360436.tif 000053
及び
【数２】
0006360436.tif 000054
であり、ｒ（ｉｎｔ）は、適合度が計算されるｇ（ｒ）の初期ｒ値であり、ｒ（ｆｉｎ）は、適合度が計算されるｇ（ｒ）の最終ｒ値であり、
１．３オングストローム〜４．０オングストロームのｒの範囲にわたって、単核クロム（ＩＩＩ）酢酸塩の理論モデルの計算高エネルギーＸ線回折ｄ（ｒ）データ点が、以下の表のとおりであるか、
【表１】
0006360436.tif 000055
【表２】
0006360436.tif 000056
又は
ｉｉｉ）
１）式ＣｒＸ３Ｌｌを有するクロム（ＩＩＩ）前駆体であって、式中、各Ｘは、独立して、ハロゲン化物であり、各Ｌは、独立して、Ｃ２−Ｃ１０エーテル、Ｃ２−Ｃ１０チオエーテル、Ｃ２−Ｃ５ニトリル、Ｃ１−Ｃ３０アミン、若しくは、Ｃ３−Ｃ３０ホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせであり、ｌは、０〜７の範囲であるクロム（ＩＩＩ）前駆体、
２）１族又は２族金属Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩、及び
３）第１の溶媒、
を実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件下で、接触させることを含むプロセスによって生成され、ここで、実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件とは、水の量が１００重量ｐｐｍ以下であり、酸の量が１０００重量ｐｐｍ以下である条件を指す、
クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、
ｂ）以下の式Ｐ１を有するピロール化合物
【化１】
0006360436.tif 000057
（ここで、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐは、独立して、水素原子又はＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビル基である）、及び
ｃ）トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキル金属ジハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキ塩化物、又はこれらの任意の組み合わせを含む、金属ヒドロカルビル化合物、
を含む組成物。
【請求項２】
前記Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩が、プロピオン酸塩、酪酸塩、ペンタン酸塩、ヘキサン酸塩、ヘプタン酸塩、オクタン酸塩、ノナン酸塩、デカン酸塩、ウンデカン酸塩、ドデカン酸塩、トリデカン酸塩、テトラデカン酸塩、ペンタデカン酸塩、ヘキサデカン酸塩、ヘプタデカン酸塩、オクタデカン酸塩、又はこれらのいずれかの組み合わせを含む請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩が、２−エチルヘキサン酸塩を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記ピロール化合物が、式Ｐ５
【化２】
0006360436.tif 000058
を有し、
式中、Ｒ４２ｐ及びＲ４５ｐが、独立して、Ｃ１−Ｃ１８ヒドロカルビル基である請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記ピロール化合物が、２，５−ジメチルピロール、２−メチル−５−エチルピロール、２，５−ジエチルピロール、２，５−ジプロピルピロール、２，５−ジブチルピロール、２，４−ジメチルピロール、２，４−ジエチルピロール、２，４−ジプロピルピロール、２，４−ジブチルピロール、３，４−ジメチルピロール、３，４−ジエチルピロール、３，４−ジプロピルピロール、３，４−ジブチルピロール、２，３，４−トリメチルピロール、３−エチル−２，４−ジメチルピロール、２，３，５−トリメチルピロール；２，３，４，５−テトラメチルピロール、２，３，４，５−テトラエチルピロール、又はこれらのいずれかの組み合わせ、を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記ピロール化合物が、２，５−ジメチルピロールを含む請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記金属ヒドロカルビル化合物が、トリエチルアルミニウム及び塩化ジエチルアルミニウムを含む請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
さらにハロゲン含有化合物を含む請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記ハロゲン含有化合物が、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、族１３、族１４族、又は族１５族ハロゲン含有化合物を含む請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ハロゲン含有化合物が、３族金属ハロゲン化物、４族金属ハロゲン化物、５族金属ハロゲン化物、Ｃｒを除く６族金属ハロゲン化物、１３族金属ハロゲン化物、１４族金属ハロゲン化物、１５族金属ハロゲン化物、又はこれらのいずれかの組み合わせを含む請求項８に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ハロゲン含有化合物が、無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又はこれらのいずれかの組み合わせ、を含む請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記ハロゲン含有化合物が、Ｃ１−Ｃ１５ハロゲン化炭化水素を含む請求項８に記載の組成物。
【請求項１３】
前記クロムのアルミニウムに対するモル比が、１：１〜１：１００の範囲である請求項１に記載の組成物。
【請求項１４】
前記ピロール化合物のクロムに対するモル比が、０．３：１〜１０：１の範囲である請求項１に記載の組成物。
【請求項１５】
ａ）前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩のＣ３−Ｃ２５カルボン酸塩が、プロピオン酸塩、酪酸塩、ペンタン酸塩、ヘキサン酸塩、ヘプタン酸塩、オクタン酸塩、ノナン酸塩、デカン酸塩、ウンデカン酸塩、ドデカン酸塩、トリデカン酸塩、テトラデカン酸塩、ペンタデカン酸塩、ヘキサデカン酸塩、ヘプタデカン酸塩、オクタデカン酸塩、又はこれらのいずれかの組み合わせ、を含み、
ｂ）前記ピロール化合物が、２，５−ジメチルピロール、２−メチル−５−エチルピロール、２，５−ジエチルピロール、２，５−ジプロピルピロール、２，５−ジブチルピロール、２，４−ジメチルピロール、２，４−ジエチルピロール、２，４−ジプロピルピロール、２，４−ジブチルピロール、３，４−ジメチルピロール、３，４−ジエチルピロール、３，４−ジプロピルピロール、３，４−ジブチルピロール、２，３，４−トリメチルピロール３−エチル−２，４−ジメチルピロール、２，３，５−トリメチルピロール、２，３，４，５−テトラメチルピロール、２，３，４，５−テトラエチルピロール、又はこれらのいずれかの組み合わせ、を含み、
ｃ）前記クロムのアルミニウムに対するモル比が、１：５〜１：１７の範囲であり、及び
ｄ）前記ピロール化合物のクロムに対するモル比が、０．３：１〜２：１の範囲である、
請求項１に記載の組成物。
【請求項１６】
ａ）クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物であって、
このＣ３−Ｃ２５カルボン酸塩が、式−Ｏ２ＣＲ２ｃ（ここでＲ２ｃはヒドロカルビル基である）を有し、
ｉ）１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、１４２９±１５ｃｍ−１のνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、及び７００±５０ｃｍ−１の赤外吸光度ピークを有するＫＢｒペレット赤外スペクトルを有し、ここで、νａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークがνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの１１０ｃｍ−１の範囲内であり、かつ、１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの、７００±５０ｃｍ−１に位置する赤外吸光度ピークに対する赤外吸光度ピーク高さ比が、３：１以上であるか、
ｉｉ）１．３オングストローム〜４オングストロームのｒの範囲にわたり、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点を、単核クロム（ＩＩＩ）酢酸塩の理論的モデルの計算高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較した場合に、少なくとも０．６の適合度検定値、Ｒ２を有し、ここで、
Ｒ２＝１−（ＳＳｅｒｒ／ＳＳｔｏｔ）、
【数３】
0006360436.tif 000059
及び
【数４】
0006360436.tif 000060
であり、ｒ（ｉｎｔ）は、適合度が計算されるｇ（ｒ）の初期ｒ値であり、ｒ（ｆｉｎ）は、適合度が計算されるｇ（ｒ）の最終ｒ値であり、
１．３オングストローム〜４．０オングストロームのｒの範囲にわたって、単核クロム（ＩＩＩ）酢酸塩の理論モデルの計算高エネルギーＸ線回折ｄ（ｒ）データ点が、以下の表のとおりであるか、
【表３】
0006360436.tif 000061
【表４】
0006360436.tif 000062
又は
ｉｉｉ）
１）式ＣｒＸ３Ｌｌを有するクロム（ＩＩＩ）前駆体であって、式中、各Ｘは、独立して、ハロゲン化物であり、各Ｌは、独立して、Ｃ２−Ｃ１０エーテル、Ｃ２−Ｃ１０チオエーテル、Ｃ２−Ｃ５ニトリル、Ｃ１−Ｃ３０アミン、若しくは、Ｃ３−Ｃ３０ホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせであり、ｌは、０〜７の範囲であるクロム（ＩＩＩ）前駆体、
２）１族又は２族金属Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩、及び
３）第１の溶媒、
を実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件下で、接触させることを含むプロセスによって生成され、ここで、実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件とは、水の量が１００重量ｐｐｍ以下であり、酸の量が１０００重量ｐｐｍ以下である条件を指す、
クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、
ｂ）以下の式Ｐ１を有するピロール化合物
【化３】
0006360436.tif 000063
（ここで、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐは、独立して、水素原子又はＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビル基である）；及び
ｃ）トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキル金属ジハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキ塩化物、又はこれらの任意の組み合わせを含む、金属ヒドロカルビル化合物、
を接触させることを含む触媒系を調製するためのプロセス。
【請求項１７】
ａ）前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、ｂ）ピロール化合物、ｃ）金属ヒドロカルビル化合物、及びｄ）任意選択のハロゲン含有化合物、のうちの２種以上を、不飽和有機化合物の存在下で接触させる請求項１６に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記不飽和の有機化合物が、Ｃ２−Ｃ２０不飽和の脂肪族炭化水素、Ｃ６−Ｃ２０アレーン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、を含む請求項１７に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記不飽和有機化合物が、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、を含む請求項１７に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、前記ピロール化合物、及び前記金属ヒドロカルビル化合物を、同時に接触させる請求項１６に記載のプロセス。
【請求項２１】
前記クロムカルボン酸塩組成物又は前記クロムカルボン酸塩組成物及び前記ピロール化合物を含む組成物が、前記金属ヒドロカルビル化合物を含む組成物に加えられる請求項１６に記載のプロセス。
【請求項２２】
前記ピロール化合物及び前記金属ヒドロカルビル化合物を接触させ、ピロール／金属ヒドロカルビル化合物混合物を生成すること、及び前記ピロール化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物を、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物と接触させることを含む請求項１６に記載のプロセス。
【請求項２３】
前記触媒系が、前記ハロゲン含有化合物を含む組成物をさらに含む請求項１６に記載のプロセス。
【請求項２４】
前記触媒系が、ハロゲン含有化合物をさらに含み、前記ハロゲン含有化合物が、無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、ハロゲン化炭化水素、又はこれらのいずれかの組み合わせ、を含む請求項１６に記載のプロセス。
【請求項２５】
前記触媒系が、ハロゲン含有化合物をさらに含み、前記ハロゲン含有化合物が、金属ハロゲン化物を含む請求項１６に記載のプロセス。
【請求項２６】
前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物を前記金属ヒドロカルビル化合物と接触させる前に、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物を、前記ピロール化合物又は前記金属ハロゲン化物のうちの少なくとも１つと接触させることを含む請求項２５に記載のプロセス。
【請求項２７】
前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物を前記金属ヒドロカルビル化合物と接触させる前に、前記金属ヒドロカルビル化合物を、前記ピロール化合物又は前記金属ハロゲン化物のうちの少なくとも１つと接触させることを含む請求項２５に記載のプロセス。
【請求項２８】
前記触媒系が、ハロゲン含有化合物をさらに含み、前記ハロゲン含有化合物を含む組成物が、（ｉ）無機金属ハロゲン化物、（ｉｉ）ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、（ｉｉｉ）無機金属ハロゲン化物及び非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物、又は（ｉｖ）ヒドロカルビル金属ハロゲン化物及び非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物、を含む請求項１６に記載のプロセス。
【請求項２９】
前記ハロゲン含有化合物を含む前記組成物と接触させる前に、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、前記ピロール化合物、又は前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物及び前記ピロール化合物を含む組成物を、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物と接触させる請求項２８に記載のプロセス。
【請求項３０】
前記ピロール化合物又は前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物を前記ハロゲン含有化合物を含む前記組成物と接触させる前に、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物及び前記ピロール化合物を接触させる請求項２４に記載のプロセス。
【請求項３１】
（１）前記ピロール化合物、前記ハロゲン含有化合物を含む前記組成物、及び任意選択の前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物を接触させて混合物を生成し、（２）前記混合物を非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物と反応させる請求項２４に記載のプロセス。
【請求項３２】
（１）前記ピロール化合物、前記金属ヒドロカルビル化合物、及び任意選択の前記ハロゲン含有化合物を接触させて混合物を生成すること、及び（２）前記混合物を前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物と接触させることを含む請求項１６に記載のプロセス。
【請求項３３】
触媒系の存在下のオレフィンの三量体化プロセスであって、前記触媒系が、
１）クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物であって、
このＣ３−Ｃ２５カルボン酸塩が、式−Ｏ２ＣＲ２ｃ（ここでＲ２ｃはヒドロカルビル基である）を有し、
ｉ）１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、１４２９±１５ｃｍ−１のνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、及び７００±５０ｃｍ−１の赤外吸光度ピークを有するＫＢｒペレット赤外スペクトルを有し、ここで、νａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークがνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの１１０ｃｍ−１の範囲内であり、かつ、１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの、７００±５０ｃｍ−１に位置する赤外吸光度ピークに対する赤外吸光度ピーク高さ比が、３：１以上であるとして特徴付けられるか、
ｉｉ）１．３オングストローム〜４オングストロームのｒの範囲にわたり、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点を、単核クロム（ＩＩＩ）酢酸塩の理論的モデルの計算高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較した場合に、少なくとも０．６の適合度検定値、Ｒ２を有し、ここで、
Ｒ２＝１−（ＳＳｅｒｒ／ＳＳｔｏｔ）、
【数５】
0006360436.tif 000064
及び
【数６】
0006360436.tif 000065
であり、ｒ（ｉｎｔ）は、適合度が計算されるｇ（ｒ）の初期ｒ値であり、ｒ（ｆｉｎ）は、適合度が計算されるｇ（ｒ）の最終ｒ値であり、
１．３オングストローム〜４．０オングストロームのｒの範囲にわたって、単核クロム（ＩＩＩ）酢酸塩の理論モデルの計算高エネルギーＸ線回折ｄ（ｒ）データ点が、以下の表のとおりであるとして特徴付けられるか、
【表５】
0006360436.tif 000066
【表６】
0006360436.tif 000067
又は
ｉｉｉ）
（１）式ＣｒＸ３Ｌｌを有するクロム（ＩＩＩ）前駆体であって、式中、各Ｘは、独立して、ハロゲン化物であり、各Ｌは、独立して、Ｃ２−Ｃ１０エーテル、Ｃ２−Ｃ１０チオエーテル、Ｃ２−Ｃ５ニトリル、Ｃ１−Ｃ３０アミン、若しくは、Ｃ３−Ｃ３０ホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせであり、ｌは、０〜７の範囲であるクロム（ＩＩＩ）前駆体、
（２）１族又は２族金属Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩、及び
（３）第１の溶媒、
を実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件下で、接触させることを含むプロセスによって生成され、ここで、実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件とは、水の量が１００重量ｐｐｍ以下であり、酸の量が１０００重量ｐｐｍ以下である条件を指す、
クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、
２）以下の式Ｐ１を有するピロール化合物
【化４】
0006360436.tif 000068
（ここで、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐは、独立して、水素原子又はＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビル基である）；及び
３）トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキル金属ジハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキ塩化物、又はこれらの任意の組み合わせを含む、金属ヒドロカルビル化合物、
を含み、さらに、
エチレンを含むオレフィン、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、前記ピロール化合物、及び前記金属ヒドロカルビル化合物を接触させて、三量体化生成物を作ることを含むプロセス。
【請求項３４】
前記プロセスが、
ａ）前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、前記ピロール化合物、及び前記金属ヒドロカルビル化合物を接触させて、前記触媒系を形成させること、
ｂ）前記触媒系を前記オレフィンと接触させること、及び
ｃ）三量体化条件下でオレフィン三量体化生成物を形成すること、
を含む請求項３３に記載のプロセス。
【請求項３５】
前記オレフィンに接触させる前には、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物及び前記金属ヒドロカルビル化合物を接触させない請求項３３に記載のプロセス。
【請求項３６】
前記金属ヒドロカルビル化合物又は前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩を前記オレフィンに接触させる前には、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物及び前記金属ヒドロカルビル化合物を接触させない請求項３３に記載のプロセス。
【請求項３７】
前記オレフィンが、エチレン及び前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物を含み、前記金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時にエチレンに接触させる請求項３３に記載のプロセス。
【請求項３８】
前記オレフィンが、エチレンを含み、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物をエチレンと接触させる前に、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物を前記ピロール化合物に接触させて、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物／ピロール混合物を生成する請求項３３に記載のプロセス。
【請求項３９】
前記オレフィンが、エチレンを含み、前記金属ヒドロカルビル化合物を前記オレフィンと接触させる前に、前記金属ヒドロカルビル化合物を前記ピロール化合物と接触させて金属−ピロール混合物を生成する請求項３３に記載のプロセス。
【請求項４０】
前記触媒系が、前記ハロゲン含有化合物を含む組成物をさらに含む請求項３３に記載のプロセス。
【請求項４１】
前記ハロゲン含有化合物が、無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、ハロゲン化炭化水素、又はこれらのいずれかの組み合わせ、を含む請求項４０に記載のプロセス。
【請求項４２】
前記三量体化条件が、炭化水素溶媒の存在を含む請求項３３に記載のプロセス。
【請求項４３】
前記オレフィンが、エチレンを含み、前記三量体化条件が、２０ｐｓｉ〜２５００ｐｓｉの範囲のエチレン分圧を含む請求項３３に記載のプロセス。
【請求項４４】
前記三量体化条件が、ｉ）６０℃〜２００℃の範囲の温度、ｉｉ）２ｐｓｉ〜１００ｐｓｉの範囲の水素分圧、又は、ｉｉｉ）これらのいずれかの組み合わせ、のうちの少なくとも１種をさらに含む請求項４３に記載のプロセス。
【請求項４５】
前記触媒系が、反応器流出物を不活化剤で処理することにより、不活化される請求項３３に記載のプロセス。
【請求項４６】
前記不活化剤が、ｉ）アルコール、ｉｉ）アミン、又は、ｉｉｉ）これらのいずれかの組み合わせ、を含む請求項４５に記載のプロセス。
【請求項４７】
前記オレフィンが、エチレンを含み、前記三量体化生成物が、少なくとも９０重量パーセントの、分子当たり６炭素原子を有する三量体化生成物を含む請求項４５に記載のプロセス。
【請求項４８】
前記オレフィンが、エチレンを含み、前記分子当たり６炭素原子を有する三量体化生成物が、少なくとも９８．５重量パーセントの１−ヘキセンを含む請求項４５に記載のプロセス。
【請求項４９】
ａ）クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物であって、
このＣ３−Ｃ２５カルボン酸塩が、式−Ｏ２ＣＲ２ｃ（ここでＲ２ｃはヒドロカルビル基である）を有し、
１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、１４２９±１５ｃｍ−１のνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、及び７００±５０ｃｍ−１の赤外吸光度ピークを有するＫＢｒペレット赤外スペクトルを有し、ここで、νａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークがνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの１１０ｃｍ−１の範囲内であり、かつ、１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの、７００±５０ｃｍ−１に位置する赤外吸光度ピークに対する赤外吸光度ピーク高さ比が、３：１以上である、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、
ｂ）以下の式Ｐ１を有するピロール化合物
【化５】
0006360436.tif 000069
（ここで、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐは、独立して、水素原子又はＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビル基である）、及び
ｃ）トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキル金属ジハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキ塩化物、又はこれらの任意の組み合わせを含む、金属ヒドロカルビル化合物、
を含む組成物。
【請求項５０】
ａ）クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物であって、
このＣ３−Ｃ２５カルボン酸塩が、式−Ｏ２ＣＲ２ｃ（ここでＲ２ｃはヒドロカルビル基である）を有し、
１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、１４２９±１５ｃｍ−１のνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、及び７００±５０ｃｍ−１の赤外吸光度ピークを有するＫＢｒペレット赤外スペクトルを有し、ここで、νａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークがνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの１１０ｃｍ−１の範囲内であり、かつ、１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの、７００±５０ｃｍ−１に位置する赤外吸光度ピークに対する赤外吸光度ピーク高さ比が、３：１以上である、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、
ｂ）以下の式Ｐ１を有するピロール化合物
【化６】
0006360436.tif 000070
（ここで、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐは、独立して、水素原子又はＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビル基である）；及び
ｃ）トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキル金属ジハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキ塩化物、又はこれらの任意の組み合わせを含む、金属ヒドロカルビル化合物、
を接触させることを含む触媒系を調製するためのプロセス。
【請求項５１】
触媒系の存在下のオレフィンの三量体化プロセスであって、前記触媒系が、
１）クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物であって、
このＣ３−Ｃ２５カルボン酸塩が、式−Ｏ２ＣＲ２ｃ（ここでＲ２ｃはヒドロカルビル基である）を有し、
１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、１４２９±１５ｃｍ−１のνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピーク、及び７００±５０ｃｍ−１の赤外吸光度ピークを有するＫＢｒペレット赤外スペクトルを有し、ここで、νａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークがνｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの１１０ｃｍ−１の範囲内であり、かつ、１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの、７００±５０ｃｍ−１に位置する赤外吸光度ピークに対する赤外吸光度ピーク高さ比が、３：１以上であるとして特徴付けられる、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、
２）以下の式Ｐ１を有するピロール化合物
【化７】
0006360436.tif 000071
（ここで、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐは、独立して、水素原子又はＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビル基である）；及び
３）トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキル金属ジハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキ塩化物、又はこれらの任意の組み合わせを含む、金属ヒドロカルビル化合物、
を含み、
さらに、エチレンを含むオレフィン、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物、前記ピロール化合物、及び前記金属ヒドロカルビル化合物を接触させて、三量体化生成物を作ることを含むプロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、触媒系、触媒系を調製するための方法、及び三量体化生成物を調製するために同触媒系を使用するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
１−ヘキセンを製造するためのエチレンの三量体化は、このアルファオレフィンの選択的調製のための商業上重要なプロセスを構成であり、このプロセスは、通常はエチレンとのコモノマーとして、様々なポリオレフィン類を調製するために有用である。１つの広く用いられているエチレン三量体化触媒系は、カルボン酸クロム、ピロール化合物、及び金属アルキルを含む。例えば、１つのエチレン三量体化触媒系は、トリス（２−エチルヘキサノエート）クロム（ＩＩＩ）、２，５−ジメチルピロール、トリエチルアルミニウム、及び塩化ジエチルアルミニウムを含む。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
通常、活性触媒系を調製するための方法は、いずれも、エチレン三量体化触媒系に用いられるカルボン酸クロムに関して問題となる場合がある。商業的クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートの品質におけるバッチ間のばらつき、及び触媒系性能の付随する変動性は、エチレン三量体化触媒系の生産性及び選択性に大きな影響を及ぼす可能性がある。したがって、より高い効率及びコスト効果を与えることができる、新しい触媒系、この触媒系を調製するための新しい方法、並びに三量体化生成物を調製するために、この触媒系を使用するための新しい方法を発見及び開発することが有用であろう。一態様において、触媒系において高価な活性化剤の量を低減する、又はコストを低減するか、若しくはこの触媒系で使用されるクロム化合物を調製する効率を増大させ得る、新しい触媒系及びこの触媒系を調製するための方法が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本開示は、組成物、触媒系を製造するためのプロセス、及び／又は同触媒系を用いたオレフィン類を三量体化するためのプロセスを提供する。
【０００５】
一態様において、組成物は、υｓｙｍ（ＣＯ２）赤外ピークの１１０ｃｍ−１の範囲内でυａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸収ピークを有するＫＢｒペレット赤外スペクトルを有し、１５１６±１５ｃｍ−１のνａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸光度ピークの、７００±５０ｃｍ−１に位置する赤外吸光度ピークに対する赤外吸光度ピーク高さ比が、３：１以上であるものとして特徴付けることが可能であるＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物を含んでもよい。別の態様において、組成物は、１．３オングストローム〜４オングストロームのｒの範囲にわたり、前記クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点を、単核クロム（ＩＩＩ）酢酸塩の理論的モデルの計算高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較した場合に、少なくとも０．６の適合度検定値Ｒ２を有するものとして特徴付けることが可能であるＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物を含んでもよい。更に別の態様において、組成物は、実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件下で、１）式ＣｒＸ３Ｌｌ（式中、各Ｘは独立してハロゲン化物であり、各Ｌは独立してＣ２−Ｃ１０エーテル、Ｃ２−Ｃ１０チオエーテル、Ｃ２−Ｃ５ニトリル、Ｃ１−Ｃ３０アミン、又はＣ３−Ｃ３０ホスフィン、若しくはこれらの組み合わせであり、ｌは０〜７の範囲である）を有するクロム（ＩＩＩ）前駆体、２）１族又は２族金属Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸塩、及び３）カルボン酸クロム（ＩＩＩ）を形成するための第１の溶媒を接触させることを含むプロセスによって生成され得るＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物を含んでもよい。触媒系は、ピロール化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び必要に応じてハロゲン含有化合物を更に含むことが可能である。
【０００６】
一態様において、組成物は、触媒系として用いることが可能である。一態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び必要に応じてハロゲン含有化合物を接触させることを含んでもよい。一部の実施形態において、本触媒系を調製するためのプロセスは、不飽和有機化合物の存在下で、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び任意のハロゲン含有化合物の２以上を接触させることを更に含んでもよい。本実施形態において、この不飽和有機化合物は、Ｃ２−Ｃ２０脂肪族炭化水素オレフィン、Ｃ６−Ｃ２０アレーン、又はこれらの任意の組み合わせを含んでもよい。一部の実施形態において、本触媒系を調製するためのプロセスは、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を同時に接触させることを含んでもよい。他の実施形態において、本触媒系を調製するためのプロセスは、ピロール化合物をカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物に接触させる前に、ピロール化合物及び金属ヒドロカルビル化合物（これらの全て又は一部）を接触させて、ピロール／金属ヒドロカルビル化合物の混合物を生成することを含んでもよい。
【０００７】
触媒系がハロゲン含有化合物を含む実施形態において、このハロゲン含有化合物は、無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、ハロゲン化炭化水素、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。触媒系がハロゲン含有化合物を含む一部の実施形態において、このハロゲン含有化合物を含有している組成物は、（ｉ）無機金属ハロゲン化物、（ｉｉ）ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、（ｉｉｉ）無機金属ハロゲン化物と非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物との混合物、又は（ｉｖ）ヒドロカルビル金属ハロゲン化物と非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。触媒系が金属ハロゲン化物を含む一実施形態において、触媒系を調製するためのプロセスは、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物を金属ヒドロカルビル化合物に接触させる前に、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物を、ピロール化合物又は金属ハロゲン化物の少なくとも１つと接触させることを含むことが可能であり；あるいは、本方法は、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物を金属ヒドロカルビル化合物に接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物を、ピロール化合物又は金属ハロゲン化物の少なくとも１つに接触させることを含むことが可能であり；あるいは、本方法は、金属ハロゲン化物を含有している組成物を接触させる前に、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、若しくはカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及びピロール化合物を含む組成物を、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物と接触させることを含んでもよい。触媒系がハロゲン含有化合物を含む別の実施形態において、ハロゲン含有化合物を含有している組成物を接触させる前に、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、若しくはＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及びピロール化合物を含む組成物を、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物に接触させることが可能であり；あるいは、ピロール化合物又はＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物を、ハロゲン含有化合物を含有している組成物に接触させる前に、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及びピロール化合物を接触させる。触媒系がハロゲン含有化合物を含む実施形態において、本触媒系を調製するためのプロセスは、（１）ピロール化合物、ハロゲン含有化合物を含有している組成物、及び必要に応じて、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物を接触させて混合物を生成すること、及び（２）この混合物を非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物と接触させることを含んでもよい。触媒系がハロゲン含有化合物を含む実施形態では、本触媒系を調製するためのプロセスは、（１）ピロール化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び必要に応じてハロゲン含有化合物を接触させて、混合物を生成すること、並びに（２）この混合物をＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物に接触させることを含んでもよい。
【０００８】
別の態様において、触媒系は、オレフィンを三量体化するために用いることが可能である。Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び必要に応じてハロゲン含有化合物を含む触媒系を用いてオレフィンを三量体化するためのプロセスの一実施形態において、プロセスは、エチレンを含む又はエチレンから本質的になるオレフィン、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び必要に応じてハロゲン含有化合物を接触させて、三量体化生成物を製造することを含んでもよい。一実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、ａ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び必要に応じてハロゲン含有化合物を接触させて、触媒系を形成することと、ｂ）触媒系をオレフィンに接触させることと、ｃ）三量体化条件下でオレフィン三量体化生成物を生成することとを含んでもよい。別の実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、ａ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び必要に応じてハロゲン含有化合物を接触させて、触媒系を形成することと、ｂ）触媒系を、エチレンを含む、又はエチレンから本質的になるオレフィンと接触させることと、ｃ）オレフィンを接触させる前に、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させない三量体化条件下で；あるいは金属ヒドロカルビル化合物又はＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物のいずれかをオレフィンに接触させる前に、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させない三量体化条件下で；あるいはＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及び金属ヒドロカルビル化合物を実質的に同時にエチレンに接触させる三量体化条件下で、オレフィン三量体化生成物を生成することとを含んでもよい。オレフィンがエチレンを含む一実施形態において、この三量体化生成物は、２０ｐｓｉ〜２５００ｐｓｉの範囲のエチレン分圧を含む三量体化条件下で形成されることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】従来のトリス（２−エチルヘキサノエート）クロム（ＩＩＩ）［Ｃｒ（ＥＨ）３］ベースの触媒系のエチレンオリゴマー化触媒の性能における変化を図示する、得られた１−ヘキセンの生産性のパーセント差に対する２，５−ジメチルピロール（ＤＭＰ）の標準モルパーセントから得たモルパーセントＤＭＰのパーセント偏差のプロットを示す
【図２】トリエチルアルミニウム（ＴＥＡ）／塩化ジエチルアルミニウム（ＤＥＡＣ）モル比が１１：８で一定に保持された従来のトリス（２−エチルヘキサノエート）クロム（ＩＩＩ）［Ｃｒ（ＥＨ）３］ベースの触媒系のエチレンオリゴマー化触媒性能における変化を図示する、得られた１−ヘキセンの生産性のパーセント差に対する、ＴＥＡ／ＤＥＡＣの組み合わせについての標準モルパーセントから得たＴＥＡ及びＤＥＡＣの組み合わせのモルパーセントのパーセント偏差のプロットを示す。
【図３】本開示の単離した遷移金属カルボン酸塩（クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート）の写真である。
【図４】単離した市販の遷移金属カルボン酸塩（クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート）の写真である。
【図５】第１の市販のクロム（ＩＩＩ）２−エチレンヘキサノエート組成物のＩＲスペクトルを示す。
【図６】第１の市販のクロム（ＩＩＩ）２−エチレンヘキサノエート組成物のＩＲスペクトルの２０００ｃｍ−１〜１０００ｃｍ−１の拡大部分を示す。
【図７】第２の市販のクロム（ＩＩＩ）２−エチレンヘキサノエート組成物のＩＲスペクトルを示す。
【図８】第２の市販のクロム（ＩＩＩ）２−エチレンヘキサノエート組成物のＩＲスペクトルの２０００ｃｍ−１〜１０００ｃｍ−１の拡大部分を示す。
【図９】ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比が約３：１である、本明細書に開示の方法に従って生成されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのＩＲスペクトルを示す。
【図１０】ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比が約３：１である、本明細書に開示の方法に従って生成されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのＩＲスペクトルの２０００ｃｍ−１〜１０００ｃｍ−１の拡大部分を示す。
【図１１】ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比が約３．１：１である、本明細書に開示の方法に従って生成されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのＩＲスペクトルを示す。
【図１２】ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比が約３：１である、本明細書に開示の方法に従って生成されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのＩＲスペクトルの２０００ｃｍ−１〜１０００ｃｍ−１の拡大部分を示す。
【図１３】ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比が約３．３：１である、本明細書に開示の方法に従って生成されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのＩＲスペクトルを示す。
【図１４】ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比が約３．３：１である、本明細書に開示の方法に従って生成されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのＩＲスペクトルを示す。
【図１５】ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比が約３．３：１である、本明細書に開示の方法に従って生成された実質的にナトリウム無しのクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのＩＲスペクトルを示す。
【図１６】ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比が約３．３：１である、本明細書に開示の方法に従って生成された実質的にナトリウム無しのクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのＩＲスペクトルの２０００ｃｍ−１〜１０００ｃｍ−１の拡大部分を示す。
【図１７】ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比が約４：１である、本明細書に開示の方法に従って生成されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのＩＲスペクトルを示す。
【図１８】ＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比が約４：１である、本明細書に開示の方法に従って生成された実質的にナトリウム無しのクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートのＩＲスペクトルの２０００ｃｍ−１〜１０００ｃｍ−１の拡大部分を示す。
【図１９】本明細書に記載の手順により調製されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ測定点と、第１の市販のクロム（ＩＩＩ）２−エチレンヘキサノエート組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ測定点との比較を示す。
【図２０】本明細書に記載の手順により調製されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ測定点と、文献で報告されているクロム（ＩＩＩ）２−エチレンヘキサノエート組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ測定点との比較を示す。
【図２１】本明細書に記載の手順により調製されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ測定点と、最適化計算された理論上の単核酢酸クロム（ＩＩＩ）モデルの高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ測定点との比較を示す。
【図２２】市販のクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ測定点と、理論上の単核酢酸クロム（ＩＩＩ）モデルの最適化計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ測定点との比較を示す。
【図２３】文献で調製されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ測定点と、理論上の単核酢酸クロム（ＩＩＩ）モデルの最適化計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ測定点との比較を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本開示の様々な態様及び実施形態によれば、新しいカルボン酸塩クロム組成物、カルボン酸塩クロム組成物を調製する新しい方法、新しい触媒系、新しい触媒系を調製するための方法、並びにオレフィンオリゴマー化生成物を調製するための新しい触媒系の使用のための方法を提供する。一態様において、本明細書に記載され、様々な開示された実施形態に従って調製された新しい三量体化触媒系は、比較的少量のアルキルアルミニウム及び類似の活性化剤を使用すると同時に、良好な触媒系活性を達成することが可能である。
【００１１】
本開示の様々な態様及び実施形態によれば、１）ピロール及び金属アルキル化合物を結合させて混合物（この混合物は、触媒系成分を構成するこの接触工程で形成された金属ピロリドを含有し得る）を形成することを包含する触媒成分及び方法、２）実質的に無酸及び無水条件下で、非プロトン性配位性溶媒中で遷移金属前駆体及び１族又は２族金属カルボン酸塩を結合させて、遷移金属のカルボン酸塩組成物を提供する触媒成分及び方法、並びに３）これら初めの２つの触媒成分及び方法の組み合わせを包含する触媒成分及び方法（すなわち、これらは、ピロール及び金属アルキル化合物を結合させて金属ピロリドを含有し得る混合物を生成することと、非プロトン性配位性溶媒中で、遷移金属前駆体及び１族又は２族金属カルボン酸塩（これら両者が触媒系成分を構成する）を結合させて遷移金属カルボン酸塩組成物を提供することとを含む）を提供する。
【００１２】
本明細書で使用される用語をより明確に定義するために、以下の定義が提供される。特記ある場合を除き、以下の定義は本開示に適用可能である。用語が本開示で使用されているが、本明細書で具体的に定義されていない場合は、本明細書で適用されるいずれかのその他の開示又は定義と矛盾しない限り、若しくは定義が適用されるいずれかの請求項に不明確さを与える又はこれを使用不能にすることがない限りにおいて、ＩＵＰＡＣ  Ｃｏｍｐｅｎｄｉｕｍ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｒｍｉｎｏｌｏｇｙ、第２版（１９９７年）からの定義が適用され得る。参照により本明細書に組み込まれる任意の文献により提供されるいずれかの定義又は使用法が本明細書で提供される定義又は使用法と矛盾する場合には、本明細書で提供される定義又は使用法が優先する。
【００１３】
元素表の族は、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ａｎｄ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  Ｎｅｗｓ、６３（５）、２７、１９８５年において公表されたバージョンの元素周期表で指示されたナンバリング方式を使用して示されている。場合によっては、元素の族は、その族に割り当てられた一般的な名称、例えば１族元素についてはアルカリ金属、２族元素についてはアルカリ土類金属、３〜１２族の元素については遷移金属、１７族の元素についてはハロゲンを使用して示すことが可能である。
【００１４】
請求項の移行用語又は語句に関しては、「含む」、「含有する」、「有する」又は「特徴付けられる」と同義である移行用語「含む」は総称であるか、又はオープンエンド形式であり、追加的な記載されていない要素又は方法工程を除外するものではない。移行語句「からなる」は、請求項で特定されていないいずれかの要素、工程、又は成分を除外する。移行部分語句「本質的に、からなる」は、請求項の範囲を特定の材料又は工程並びに主張される発明の基本的及び新規な特性に大きな影響を及ぼすことがないものに限定する。「本質的に、からなる」の請求項は、「からなる」フォーマットにおいて記載されているクローズドクレームと、「含む」フォーマットにおいてドラフトされている完全にオープンなクレームの中間点を占める。別段の表示がない限り、化合物又は組成物を説明する場合、「本質的に、からなる」は、「含む」とは解釈されないが、用語が適用されている組成物又は方法を大きく変化させることがない物質を含有する記載の成分を説明することを意図するものである。例えば、物質Ａからなる原料は、記載された化合物又は組成物の商業的に生成された又は商業的に利用可能な試料中に典型的に存在する不純物を含有する可能性がある。請求項が異なる特徴及び／又は特徴の部類（例えば、特に可能なものとして、方法工程、原料の特徴、及び／又は生成物の特徴）を含むとき、この移行用語は、用いられる特徴の部類に対してのみの適用を含むか、これらから本質的になり、及びこれらからなり、異なる移行用語又は語句が請求項の範囲内の異なる特徴で用いられることが可能である。例えば、方法はいくつかの記載された工程（及びその他の記載されていない工程）を含んでもよいが、特定物からなる、あるいは特定の工程からなる触媒系調製物を用い、及び／又は記載された成分及びその他の記載されていない成分を含む触媒系を用いることが可能である。
【００１５】
本開示の範囲内で、「含む」又は等価表現の使用は、オープンエンド形式表現に対する代替実施形態として、語句「本質的に、からなる」、「からなる」、又は等価表現の使用を想定する。更に、本明細書における、「含む」又は等価表現の使用若しくは「本質的に、からなる」の使用は、それぞれオープンエンド形式の表現又は中間的表現の代わりとして、語句「からなる」、「構成される」、又は等価表現の使用を想定する。例えば、「含む」は、別段の表示がない限り、本明細書に提示された態様、特徴、及び／又は要素についての代替実施形態として、「本質的に、からなる」、「からなる」を包含することを理解するべきである。
【００１６】
用語「ａ」、「ａｎ」及び「ｔｈｅ」は、別途特に示されない限り、複数の選択肢（例えば、少なくとも１つ）を含むことを意図する。例えば、「ａ  ｃｈｒｏｍｉｕｍ  ｈａｌｉｄｅ  ｈｙｄｒａｔｅ」は、特記されない限り、１つのクロムハロゲン化物水和物、若しくは複数のクロムハロゲン化物水和物の混合又は組み合わせを包含することを意味する。
【００１７】
本開示において、用語、第１の、第２の、第３の等は、類似の要素の複数の要素を識別するために用いられ得る。例えば、プロセスは２以上の溶媒をプロセスの１つ以上の工程において用いる可能性があり、あるいは２つの異なる溶媒を混合して用いる可能性がある。この識別用語は、識別を提供する必要がある場合、本明細書に記載のあらゆる要素に適用され得る。識別用語の数又はアルファベットの優先順位は、別途特に示されない限り、本明細書に記載の方法又は化合物における要素の特定の順序又は優先順位を意味するものではないことを理解するべきである。
【００１８】
本開示において、プロセスは、複数の工程を有することが可能であり、又は多数の異なる要素を有する特徴（例えば、触媒系における成分又はオレフィン三量体化オリゴマー化プロセスにおける成分などの特徴）を含む可能性がある。この工程及び／又は要素は、必要に応じて、各プロセス工程及び／又は要素の名称を提供するために、系列ａ）、ｂ）、ｃ）等、ｉ）、ｉｉ）、ｉｉｉ）等、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）等、及び／又は（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）等（その他の名称系列等）を用いて名づけることが可能である。名称系列内の名称の数又はアルファベットの優先順位は、別途特に示されない限り、又はその他のプロセス工程、要素、及び／又は特徴における要素のために必要とされない限り、本明細書に記載のプロセスにおける工程、本明細書に記載の特徴、及び／又は特徴における要素の特定の順序又は優先順位を意味するものではないことを理解するべきである。更に、これら名称系列は、異なるプロセス工程及び／又は特徴における要素を識別するために提供され、必要に応じて、並びに名称系列が異なる特徴、異なるプロセス工程、及び／又は特徴の異なる要素を識別する限り、この説明の範囲内で用いられる特定の工程、要素、又は特徴について用いられた名称系列に無関係に用いられることが可能である。
【００１９】
化合物、溶液、溶媒、又は一般的条件を示す場合の用語「実質的に無水」とは、水の量が、化合物、溶液、又は溶媒の重量を基準として１００ｐｐｍ（重量で）以下であることを意味する。大気を示す場合の用語「実質的に乾燥」とは、大気の組成に無関係に、大気中の水の量が、重量で１００ｐｐｍ以下である大気を意味する。
【００２０】
用語「酸を含まない」とは、酸性又はプロトン性化合物又は物質の別個の添加がなく実行されるプロセスを指す。例えば、「酸を含まない」とは、「酸を含まない」と表記された反応又は溶液へのカルボン酸、鉱酸又は無機酸、アルコール、若しくはその他のプロトン性化合物又は物質の添加がなかったことを意味する。用語「酸を含まない」とは、「酸を含まない」状態が、反応又は反応溶液の調製の過程で添加された成分中に汚染物質として存在し得る又は副産物として発生し得る少量の酸の存在を更に反映することを可能にするために、［Ｈ３Ｏ］＋の０ｐｐｍ濃度又は酸性又はプロトン性供給源の０ｐｐｍ濃度を反映するよう意図するものではない。例えば、開示された方法によって調製された遷移金属カルボン酸塩及び遷移金属カルボン酸塩組成物は、このような化合物又は組成物の調製時に汚染物質又は副産物として発生し得る遊離カルボン酸、又はその他のプロトジェニック化合物の測定可能な量を含有することが可能である。化合物、溶液、溶媒、又は一般的条件を示す場合の用語「実質的に酸を含まない」とは、酸の量が、化合物、溶液、又は溶媒の重量を基準として１０００ｐｐｍ（重量で）以下であることを意味する。
【００２１】
本明細書で使用する場合、用語「室温」又は「周囲温度」とは、外部の加熱又は冷却源が反応容器に直接的に加えられない、１５℃〜３５℃の任意の温度を表す。したがって、用語「室温」及び「周囲温度」は、外部の加熱又は冷却源が反応容器に直接的に加えられない、１５℃〜３５℃の温度の個々の温度並びに任意の及び全ての範囲、部分範囲、及び部分範囲の組み合わせを包含する。
【００２２】
本明細書で使用する場合、用語「大気圧」とは、外部の圧力変更手段が用いられない地球の大気圧を表す。一般的に、極端な地球の高所で行われない限り、「大気圧」は、約１気圧（あるいは、約１４．７ｐｓｉ又は約１０１ｋＰａ）である。
【００２３】
本明細書で使用する場合、用語「非プロトン性」とは、所与の条件下で非プロトジェニックである溶媒を表す。したがって、「非プロトン性」化合物又は溶媒は、特定の条件下で、ブロンステッド酸として、強酸性又は弱酸性のいずれかで、プロトン供与体として作用することができない。例えば、アセトニトリルは、これがカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどの強塩基の存在下で脱プロトン化するにも関わらず、非プロトン性溶媒であり得る。
【００２４】
接触方法に関する場合、用語「同時に」、「同時接触させる」、「同時に接触させる」、及びこれらの派生語は、２以上の記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物を、共通の接合部、ポット、容器、又は反応器等に同時に流入させるによって接触させる接触方法を指す。接触方法に関する場合、用語「実質的に同時に」、「実質的に同時接触させる」、「実質的に同時に接触させる」、及びこれらの派生語は、２以上の記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物の接触の間に、接触プロセス中の一部の期間にわたって、２以上の記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物が、共通の接合部、ポット、容器、又は反応器等に同時に流れ込むように、２以上の記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物を接触させる接触方法を指す。用語「実質的に同時に」、「実質的に同時接触させる」、「実質的に同時に接触させる」、及びこれらの派生語は、２以上の記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物を、２以上の記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物のそれぞれの添加全体にわたって同時に接触させることを意味するものではないことに留意するべきである。用語「実質的に同時に」、「実質的に同時接触させる」、「実質的に同時に接触させる」、及びこれらの派生語は、記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物の１つの（又はその全てより少ない）流れが、その他のものよりも前に開始され得、及び／又は共通の接合部、ポット、容器、又は反応器への記載化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物の１つの（又はこれら全てより少ない）流れが、その他の記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物の前に、完了し、停止し、又は中止され得るというシナリオを含む。本明細書に記載のあらゆる実施形態又は態様において、用語「実質的に同時に」、「実質的に同時接触させる」、「実質的に同時に接触させる」、及びこれらの派生語は、「実質的に同時に」、「実質的に同時接触させる」、「実質的に同時に接触させる」、及びこれらの派生語の様々な程度のシナリオを示すために、同時に接触させることが可能である記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物のそれぞれの量を提供する用語の封入によって修正されることが可能である。例えば、記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物のそれぞれの少なくとも２０％、３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、７５％、８０％、８５％、９０％、９５％を「同時接触させる」又は「同時に接触させる」ことが可能である。一般的に、「同時接触させる」又は「同時に接触させる」ことが可能である記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物のパーセンテージは、重量基準（重量％）、体積基準（体積％）、又はモル基準（モル％）であり得る。別に特記されない限り、「実質的に同時に」、「実質的に同時接触させる」、「実質的に同時に接触させる」、及びこれらの派生語で表わされる記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物は、記載の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物のそれぞれの少なくとも５０％を「同時接触させる」又は「同時に接触させる」ことを意味するであろう。
【００２５】
接触方法又はプロセスに関して、「同時に」、「同時接触させる」、「同時に接触させる」、「実質的に同時接触させる」、「実質的に同時に接触させる」、及びこれらの派生語は、１以上の第１の材料（例えば、化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物）が、ポット、容器、又は反応器内に既に存在し、１以上のその他の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物がポット、容器、又は反応器に添加される場合のプロセス又は方法とは異なることに更に留意するべきである。この例では、ポット、容器、又は反応器内の第１の材料は、その他の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物並びにポット内の材料と一緒にはポット、容器、又は反応器に同時に流れ込まない。したがって、第１の材料及びその他の化合物、混合物、ストリーム、及び／又は組成物は、「同時接触させる」、「同時に接触させる」、「実質的に同時接触させる」、又は「実質的に同時に接触させる」と言うことはできない。
【００２６】
本明細書に開示の任意の特定の化合物について、提示される一般構造又は名称は、特記しない限り、置換基の特定の組から生じる全ての構造異性体、配座異性体、及び立体異性体を包含するよう意図する。したがって、化合物に対する一般的な言及は、明確に別途示されない限り、全ての構造異性体を含み、例えば、ペンタンに対する一般的な言及は、ｎ−ペンタン、２−メチル−ブタン、及び２，２−ジメチルプロパンを含み、一方ブチル基に対する一般的言及は、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソ−ブチル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基を含む。更に、一般構造又は名称への言及は、文脈により又は必要とするとき、全てのエナンチオマー、ジアステレオマー、及びエナンチオマー型又はラセミ体に関わらずその他の光学異性体、並びに立体異性体の混合物を包含する。提示されるいずれかの特定の式又は名称については、提示されるいずれかの一般式又は名称は、置換基の特定の組から生じ得る全ての配座異性体、位置異性体、及び立体異性体も包含する。
【００２７】
化学「基」は、その基が、基準化合物又は「親」化合物からどのように形式的に誘導されるかに従って、例えば、その基が実際にはこの方法で合成されていない場合であっても、その基を生成するために親化合物から形式上除去された水素原子の数によって表される。これら基は、置換基として若しくは金属原子に配位する又は結合するものとして用いることが可能である。例として、「アルキル基」は、アルカンから１つの水素原子を除去することによって形式上誘導され得、一方「アルキレン基」は、アルカンから２つの原子を除去することによって形式上誘導され得る。更に、より一般的な用語を使用して、親化合物（この例では、「アルカン基」としてみなされ得る）から任意の数（「１つ以上」）の水素原子を除去することによって形式上誘導され得る様々な基を包含することが可能であり、より一般的な用語は、「アルキル基」、「アルキレン基」、及び必要に応じてアルカンから除去された３つ又はそれ以上の水素原子を有する物質を包含する。全体にわたって、置換基、配位子、又はその他の化学的部分が特定の「基」を構成することが可能である本開示は、化学構造及び結合の周知のルールが、その基が記載されるように用いられる場合に従うことを意味する。基が「誘導される」、「由来する」、「形成される」として記載される場合、このような用語は、形式的感覚で使用され、特に明記しない限り、又は文脈上別段の解釈を必要としない限り、任意の特定の合成方法又は手順を反映することを意図していない。その他の識別子又は限定的な用語は、特定の置換基、特定の位置化学及び／又は立体化学の存在又は不在を示すように、若しくは分岐した基部構造又は骨格構造の存在又は不在を示すように用いられてもよい。
【００２８】
例えば、特定の基の置換類似体を指す場合に、基を指すのに使用される場合、用語「置換された」とは、その基における水素を形式上置き換える任意の非水素部分を表すよう意図し、非限定的であることを意図するものである。基又は基（複数）は、本明細書では「非置換の」とも呼ばれ、又は「無置換の」などの等価語で表わされることが可能であり、これは、非水素部分がその基内の水素を置き換えていない元の基を指す。「置換された」は非限定的であり、無機置換基又は有機置換基を含むことを意図している。
【００２９】
「カルボキシレート」とは、一般式［ＺＣ（＝Ｏ）Ｏ］−（式中、Ｚは任意のオルガニル基を表す）を有するアニオン性有機基である。
【００３０】
「ニトリル」とは、式Ｒ１Ｃ≡Ｎ（式中、Ｒ１は本明細書に提示されている）を有する有機化合物である。脂肪族ニトリルは、芳香族基を含有しないニトリルである。芳香族ニトリルは、芳香族基（例えば、ベンゾニトリル）を有するニトリルである。
【００３１】
「エーテル」とは、式Ｒ２−Ｏ−Ｒ３（式中Ｒ２及びＲ３は、本明細書に提示されている）を有する有機化合物である。脂肪族エーテルとは、芳香族基を有さないエーテルである。芳香族エーテルとは、芳香族基（エーテルの酸素原子を含有しているか又は含有していないいずれかの）を有するエーテルである。非環状エーテルとは、エーテル酸素原子が環内に含有されないエーテルである（しかし、Ｒ２及び／又はＲ３として又はその中で、脂肪族又は芳香族の環を有することが可能である）。環状エーテルは、エーテルの酸素原子が環（脂肪族環又は芳香族環のいずれか）内に組み込まれているエーテルである。脂肪族環状エーテルとは、エーテルの酸素原子が、脂肪族環内に組み込まれている環状エーテルである（例えば、特にテトラヒドロフラン、２，３−ジヒドロフラン、ピラン等）。芳香族環状エーテルとは、エーテルの酸素原子が、芳香族環又は芳香族環系内に組み込まれているエーテルである（例えば、特にフラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン等）。
【００３２】
「チオエーテル」とは、式Ｒ４−Ｓ−Ｒ５（式中、Ｒ４及びＲ５は本明細書に提示されている）を有する有機化合物である。脂肪族チオエーテルとは、芳香族基を有さないチオエーテルである。芳香族チオエーテルとは、芳香族基（チオエーテルの硫黄原子を含有しているか又は含有していないいずれかの）を有するエーテルである。非環状チオエーテルとは、チオエーテルの硫黄原子が環内に含有されないチオエーテルである（しかし、Ｒ４及び／又はＲ５として又はその中で、脂肪族又は芳香族の環を有することが可能である）。環状チオエーテルは、チオエーテルの硫黄原子が環（脂肪族環又は芳香族環のいずれか）内に組み込まれているチオエーテルである。脂肪族環状チオエーテルとは、チオエーテルの硫黄原子が、脂肪族環内に組み込まれている環状エーテルである（例えば、テトラヒドロチオフェン、チアンチオ等）。芳香族環状チオエーテルとは、チオエーテルの硫黄原子が、芳香族環又は芳香族環系内に組み込まれているエーテルである（例えば、特にチオフェン、ベンゾチオフェン等）。
【００３３】
「アミン」とは、式ＮＲ６Ｒ７Ｒ８、ＮＨＲ６Ｒ７、ＮＨ２Ｒ６、ＮＨ３（式中、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８は本明細書に提示されている）を有する有機化合物である。脂肪族アミンとは、芳香族基を有さないアミンである。芳香族アミンとは、芳香族基（アミンの窒素原子を含有しているか又は含有していないいずれかの）を有するアミンである。非環状アミンとは、アミンの窒素原子が環内に含有されていないアミンである（しかし、Ｒ６、Ｒ７、及び／又はＲ８として又はその中で、脂肪族又は芳香族の環を有することが可能である）。環状アミンとは、アミンの窒素原子が環（脂肪族環又は芳香族環のいずれか）内に組み込まれているアミンである。脂肪族環状アミンとは、アミンの窒素原子が脂肪族環内に組み込まれているアミンである（例えば、特にピロリジン、ピペラジン等）。芳香族環状アミンとは、アミンの窒素原子が芳香族環又は芳香族環系内に組み込まれているアミンである（例えば、ピリジン、ピロール、インドール等）。
【００３４】
「ホスフィン」とは、式ＰＲ９Ｒ１０Ｒ１１、ＰＨＲ９Ｒ１０、又はＰＨ２Ｒ９（式中、Ｒ９、Ｒ１０、及びＲ１１は本明細書に提示されている）を有する有機化合物である。脂肪族ホスフィンとは、芳香族基を有さないホスフィンである。芳香族ホスフィンとは、芳香族基（ホスフィンのリン原子を含有しているか又は含有していないいずれかの）を有するホスフィンである。非環状ホスフィンとは、ホスフィンのリン原子が環内に含有されていないホスフィンである（しかし、Ｒ９、Ｒ１０、及び／又はＲ１１として又はその中で、脂肪族又は芳香族の環を有することが可能である）。環状ホスフィンとは、ホスフィンのリン原子が環（脂肪族環又は芳香族環のいずれか）内に組み込まれているホスフィンである。脂肪族環状ホスフィンとは、ホスフィンのリン原子が脂肪族環内に組み込まれているホスフィンである（例えば、ホスフォレン、ホスフィナン等）。芳香族環状ホスフィンとは、ホスフィンのリン原子が芳香族環又は芳香族環系内に組み込まれているホスフィンである（例えば、ホスフォール等）。
【００３５】
「ホスファイト」とは、式Ｐ（ＯＲ１２）（ＯＲ１３）（ＯＲ１４）又はＰＨ（Ｏ）（ＯＲ１２）（ＯＲ１３）（式中、Ｒ１２、Ｒ１３、及びＲ１４は本明細書に提示されている）を有する有機化合物である。脂肪族ホスファイトとは、芳香族基を有さないホスファイトである。芳香族ホスファイトとは、芳香族基（ホスファイトのリン原子を含有しているか又は含有していないいずれか）を有するホスファイトである。非環状ホスファイトとは、ホスファイトのリン原子が環内に含有されていないホスファイトである（しかし、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として又はその中で、脂肪族又は芳香族の環を有することが可能である）。環状ホスファイトとは、ホスファイトのリン原子が環（脂肪族環又は芳香族環のいずれか）内に組み込まれているホスファイトである。脂肪族環状ホスファイトとは、ホスファイトのリン原子が脂肪族環内に組み込まれているホスファイトである。芳香族環状ホスファイトとは、ホスファイトのリン原子が芳香族環又は芳香族環系内に組み込まれているホスファイトである。
【００３６】
エーテル、チオエーテル、アミン、ホスフィン、又はホスファイトに関する場合、「非環状」と比較される用語「環状」は、ヘテロ原子Ｏ、Ｓ、Ｎ、又はＰのそれぞれが、環式構造内に包含されている化合物を指し、これは、エーテルＲ２−Ｏ−Ｒ３のＲ２及びＲ３基、チオエーテルＲ４−Ｓ−Ｒ５のＲ４及びＲ５基、アミンＮＲ６Ｒ７Ｒ８又はＮＨＲ６Ｒ７のＲ６、Ｒ７、及びＲ８の任意の組み合わせ、ホスフィンＰＲ９Ｒ１０Ｒ１１又はＰＨＲ９Ｒ１０のＲ９、Ｒ１０、及びＲ１１の任意の組み合わせ、又はホスファイトＰ（ＯＲ１２）（ＯＲ１３）（ＯＲ１４）又はＰＨ（Ｏ）（ＯＲ１２）（ＯＲ１３）のＲ１２、Ｒ１３、及びＲ１４の任意の組み合わせも包含する。例えば、「環状エーテル」は、非環状エーテル構造Ｒ２−Ｏ−Ｒ３の類似体であり、この中でＲ２及びＲ３は一般的に、Ｒ２及びＲ３のそれぞれから水素原子を除去し、Ｒ２とＲ３との間に結合を形成することによって、Ｒ２及びＲ３が互いに連結又は結合されていることを除けば（ここでは、エーテルの酸素を含有する環状構造を形成するために、水素原子が除去されている）、（非環状）エーテルＲ２−Ｏ−Ｒ３を記述する際に上記に定義された通りである。テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）は、ジエチルエーテル（ＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３）の各ＣＨ３基から水素原子を除去することによって、又はメチルｎ−プロピルエーテル（ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３）の各ＣＨ３から水素原子を除去することによって、続いて水素原子がそこから除去された２つの炭素を連結又は結合することによって、形式的に誘導され得るプロトタイプ環状エーテルである。同様に、環状エーテル２−メチルオキセタンは、エチルエーテルの１つのエチル基のＣＨ３基から水素原子を除去することによって、又はジエチルエーテル（ＣＨ３ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ３）のその他のエチル基のＣＨ２から水素原子を除去することによって、続いて水素原子がそこから除去された２つの炭素を形式的に連結することによって形式的に誘導されることが可能である。
【００３７】
用語「オルガニル基」は、ＩＵＰＡＣによって規定された定義に従って本明細書で使用され、その官能タイプに無関係に、炭素原子において１つの遊離原子価を有する有機置換基である。同様に、「オルガニレン基」とは、１つの炭素原子から２つの水素原子が除去されるか、又は２つの異なる炭素原子のそれぞれから１つの水素原子が除去されるかのいずれかで、有機化合物から２つの水素原子を除去することによって誘導される有機基を指す。「有機基」とは、有機化合物の炭素原子から１つ以上の水素原子を除去することによって形成される一般化された基を指す。したがって、「オルガニル基」、「オルガニレン基」、及び「有機基」は、有機官能基及び／又は炭素及び水素以外の原子を含有することが可能であり、すなわち、炭素及び水素に加えて、官能基及び／又は原子を含むことができる有機基である。例えば、炭素及び水素以外の原子の非限定的な例としては、特に、ハロゲン、酸素、硫黄、窒素、及びリンなどの元素が挙げられるが、これらに限定されない。官能基の非限定的な例としては、エーテル、アルデヒド、ケトン、エステル、スルフィド、アミン、及びホスフィン等が挙げられる。一態様において、「オルガニル基」、「オルガニレン基」、又は「有機基」を形成するために除去された水素原子は、官能基、例えば、特に可能なものとして、アシル基（−Ｃ（Ｏ）Ｒ）、ホルミル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＨ）、カルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＨ）、ヒドロカルボキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）、シアノ基（−Ｃ≡Ｎ）、カルバモイル基（−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２）、Ｎ−ヒドロカルビルカルバモイル基（−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ）、又はＮ，Ｎ’−ジヒドロカルビルカルバモイル基（−Ｃ（Ｏ）ＮＲ２）に属する炭素原子に結合することが可能である。別の態様において、「オルガニル基」、「オルガニレン基」、又は「有機基」を形成するために除去された水素原子は、例えば、特に、−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ３、及び−ＣＨ２ＮＲ２の官能基には属さず、これらから離れた炭素原子に結合することが可能である。「オルガニル基」、「オルガニレン基」、又は「有機基」は、環状又は非環状を含み、脂肪族であり得、又は芳香族であり得る。「オルガニル基」、「オルガニレン基」、又は「有機基」は、ヘテロ原子含有環、ヘテロ原子含有環系、ヘテロ芳香族環、及びヘテロ芳香族環系も包含することが可能である。「オルガニル基」、「オルガニレン基」、又は「有機基」は、特段に断りのない限り、直鎖又は分岐鎖であり得る。最終的に、「オルガニル基」、「オルガニレン基」、又は「有機基」の定義は、メンバーとして、それぞれ「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」、「炭化水素基」、並びにそれぞれ「アルキル基」、「アルキレン基」、及び「アルカン基」を含むことも留意される。
【００３８】
用語「不活性官能基からなるオルガニル基」とは、有機官能基及び／又は官能基中に存在する炭素及び水素以外の原子が、金属化合物と錯体を形成せずに、及び／又は本明細書で定義されているプロセス条件下で不活性であるこれら官能基及び／又は炭素及び水素以外の原子に限定されるオルガニル基を指す。したがって、「不活性官能基からなるオルガニル基」という用語又は用語の変形は、不活性官能基からなるオルガニル基内に存在することができる特定のオルガニル基を更に画定する。更に、用語「不活性官能基からなるオルガニル基」は、オルガニル基内の１つ以上の官能基の存在を指すことが可能である。「不活性官能基からなるオルガニル基」という用語又は用語の変形は、メンバーとしてヒドロカルビル基を含む。同様に、「不活性官能基からなるオルガニレン基」とは、不活性官能基からなる有機化合物の１つ又は２つの炭素原子から２つの水素原子を除去することによって形成された有機基を指し、「不活性官能基からなる有機基」とは、不活性官能基からなる有機化合物の１つ以上の炭素原子から１つ以上の水素原子を除去することによって形成された不活性官能基からなる一般化された有機基を指す。
【００３９】
本願の目的のために、「不活性官能基」は、不活性官能基を有する物質が関与し及び／又は金属錯体の金属化合物と錯体を形成しない本明細書に記載のプロセスを実質的に妨害しないヘテロ原子上の遊離原子価を有する基である。用語「金属化合物と錯体形成しない」とは、金属化合物と錯体形成することができたが、本明細書に記載の特定の分子において、配位子との位置的関係のために、金属化合物とは錯体形成しない可能性がある基を含むことができる。したがって、特定の官能基の不活性は、金属化合物と錯体形成するための官能基の固有の不能性に関連するのみならず、金属錯体中の官能基の位置にも関連する可能性がある。本明細書に記載のプロセスを実質的に妨害しない不活性官能基の非限定的例としては、ハロゲン化物（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、ニトロ、ヒドロカルボキシ基（例えば、アルコキシ、及び／又はアロキシ等）、及び／又はヒドロカルボスルフィジル基（例えば、ＲＳ−）等を挙げることができる。
【００４０】
本明細書及び請求項において使用される場合には常に、用語「炭化水素」は、炭素及び水素のみを含有する化合物を指す。炭化水素中の特定基の存在を示すために、その他の識別子が用いられることが可能である（例えば、ハロゲン化炭化水素は、炭化水素中の水素原子に等しい数を置換している１つ以上のハロゲン原子の存在を指示している）。用語「ヒドロカルビル基」は、ＩＵＰＡＣによって規定された定義に従って、本明細書で使用され、炭化水素からの水素原子を除去することによって形成される一価の基である（すなわち、炭素及び水素のみを含有する基）。ヒドロカルビル基の非限定的な例としては、エチル、フェニル、トリル、プロピル等が挙げられる。同様に、「ヒドロカルビレン基」とは、１つの炭素原子から２つの水素を除去するか、又は２つの異なる炭素原子のそれぞれから１つの水素を除去するかのいずれかで、炭化水素から２つの水素を除去することによって形成される基を指す。したがって、本明細書で使用される用語によると、「炭化水素基」とは、炭化水素から（必要に応じて、特定の基についての）１つ以上の水素原子を除去することによって形成される一般化された基を指す。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」、及び「炭化水素基」は、非環状又は環状基であり得、及び／又は直鎖又は分岐鎖であり得る。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」、及び「炭化水素基」としては、例として、メンバーとして特に、アリール、アリーレン、アレーン基、アルキル、アルキレン、アルカン基、シクルアルキル、シクロアルキレン、シクルアルカン基、アラルキル、アラルキレン、及びアラルカン基がそれぞれ挙げられる。
【００４１】
脂肪族化合物は、芳香族化合物を除外する、非環状又は環状、飽和又は不飽和の炭素化合物である。「脂肪族基」は、脂肪族化合物の炭素原子から（必要に応じて特定の基についての）１つ以上の水素原子を除去することによって形成される一般化された基である。脂肪族化合物及び脂肪族基は、有機官能基及び／又は炭素及び水素以外の原子を含有することが可能である。
【００４２】
本明細書及び請求項において使用する場合には常に、用語「アルカン」は、飽和炭化水素化合物を指す。アルカン中の特定な基の存在を示すために、その他の識別子を用いることも可能である（例えば、ハロゲン化アルカンは、アルカン中の水素原子数に等しい数を置換している１つ以上のハロゲン原子の存在を指示する）。用語「アルキル基」は、ＩＵＰＡＣにより規定された定義に従って本明細書で使用され、アルカンから水素原子を除去することによって形成される一価の基である。同様に、「アルキレン基」は、（１つの炭素原子から２つの水素原子を除去することによって、又は２つの異なる炭素原子から１つの水素原子を除去することによってのいずれかで）アルカンから２つの水素原子を除去することによって形成される基を指す。「アルカン基」は、アルカンから（必要に応じて、特定の基についての）１つ以上の水素原子を除去することによって形成される基を指す一般用語である。「アルキル基」、「アルキレン基」、及び「アルカン基」は、特段に断りのない限り、非環状又は環状基であり得、及び／又は直鎖又は分岐鎖であり得る。第１級、第２級、及び第３級アルキル基は、アルカンのそれぞれ第１級、第２級、第３級炭素原子から水素原子を除去することによって誘導される。ｎ−アルキル基は、直鎖アルカンの末端炭素原子から水素原子を除去することによって誘導される。基ＲＣＨ２（式中ＲはＨではない）、Ｒ２ＣＨ（式中ＲはＨではない）、及びＲ３Ｃ（式中ＲはＨではない）は、それぞれ第１級、第２級、及び第３級アルキル基である。
【００４３】
「シクロアルカン」は、例えば、シクロブタンなどの、側鎖の有無を問わず、飽和環状炭化水素である。１つ以上の環内二重結合又は１つの環内三重結合を有する飽和環状炭化水素は、それぞれシクロアルケン及びシクロアルキンと呼ばれる。１つのみ、２つのみ、３つのみ等の環内二重結合又は環内三重結合を有するシクロアルケン及びシクロアルキンは、シクロアルケン又はシクロアルキンの名称の中の「モノ」、「ジ」、「トリ」等の用語の使用により特定され得る。シクロアルケン及びシクロアルキンは、環内二重又は三重結合の位置を特定することが更に可能である。シクロアルカン中の特定な基の存在を示すために、その他の識別子を用いることが可能である（例えば、ハロゲン化シクロアルカンは、シクロアルカン中の水素原子数に等しい数を置換している１つ以上のハロゲン原子の存在を指示する）。
【００４４】
「シクロアルキル基」は、シクロアルカンの環炭素原子から水素原子を除去することによって誘導される一価の基である。例えば、１−メチルシクロプロピル基及び２−メチルシクロプロピル基は以下の通りに示される。
【化１】
0006360436.tif 000002
【化２】
0006360436.tif 000003
同様に、「シクロアルキレン基」とは、シクロアルカンの炭素原子（この少なくとも１つは環炭素である）から２つの水素原子を除去することによって誘導される基を指す。したがって、「シクロアルキレン基」は、又は２つの水素原子が同一の環炭素から形式上除去されているシクロアルカンから誘導された基、又は２つの水素原子が２つの異なる環炭素から形式上除去されているシクロアルカンから誘導された基の双方の基、並びに又は第１の水素原子が環炭素から形式上除去されており、第２の水素原子が環炭素ではない炭素原子から形式上除去されているシクロアルカンから誘導された基を含む。「シクロアルカン基」とは、シクロアルカンから１つ以上の水素原子を除去することによって（必要に応じて特定の基について除去され、その少なくとも１つは環炭素である）形成された一般化された基を指す。本明細書で提供される定義によると、一般的なシクロアルカン基（シクロアルキル基及びシクロアルキレン基を含む）は、シクロアルカンの環炭素原子に結合した０個、１個、又は複数個のヒドロカルビル置換基（例えば、メチルシクロプロピル基）を有するもので、炭化水素基のグループの一員であるものを含むことに留意するべきである。しかしながら、特定数のシクロアルカン環炭素原子を有するシクロアルカン基（例えば、シクロペンタン基又はシクロヘキサン基等）について言及する場合、規定された数のシクロアルカン環炭素原子を有するシクロアルカン基のベース名は、不飽和シクロアルカン基（シクロアルカン基の炭素原子上に位置するヒドロカルビル基を有さないものを含む）を指す。結果的に、特定の数の環炭素原子を有する置換シクロアルカン基（例えば、置換シクロペンタン又は置換シクロヘキサン等）とは、シクロアルカン環炭素に結合した１つ以上の置換基（特に、ハロゲン、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基等の置換基を含む）を有する対応の基を指す。特定の数のシクロアルカン環炭素原子を有する置換シクロアルカン基が炭化水素基のグループの一員である場合（又はシクロアルカン基の一般基の一員である場合）、特定の数のシクロアルカン環炭素原子を有する置換シクロアルカン基の各置換基は、ヒドロカルビル置換基に限定される。一般基、特定基、及び／又は炭化水素基の一員として用いることが可能な特定の数の環炭素原子を有する個々の置換シクロアルカン基（又はシクロアルカン基の一般基の一員）を容易に識別し、選択することは可能である。
【００４５】
用語「オレフィン」とは、本明細書及び請求項において使用する場合は常に、芳香族環又は芳香族環系の一部ではない、少なくとも１つの炭素−炭素二重結合を有する化合物を指す。用語「オレフィン」は、特に明記しない限り、芳香族環又は芳香族環系の一部ではない、少なくとも１つの炭素−炭素二重結合を有する、脂肪族及び芳香族、環状及び非環状、及び／又は直鎖又は分岐鎖の化合物を含む。用語「オレフィン」は、明確に示さない限り、それ自体で、ヘテロ原子の存在又は不在及び／又はその他の炭素−炭素二重結合の存在又は不在を指示するものではない。１つのみ、２つのみ、３つのみ等の炭素−炭素二重結合を有するオレフィンは、オレフィンの名称の中で、用語「モノ」、「ジ」、「トリ」等の使用により特定することが可能である。オレフィンは、炭素−炭素二重結合の位置によって更に特定することが可能である。
【００４６】
用語「アルケン」は、本明細書及び請求項において使用する場合は常に、少なくとも１つの非芳香族炭素−炭素二重結合を有する炭化水素オレフィンを指す。用語「アルケン」は、別途明確に述べない限り、少なくとも１つの非芳香族炭素−炭素二重結合を有する、脂肪族又は芳香族（化合物中に、芳香族置換基を有するアルケン）、環状又は非環状、及び／又は直鎖又は分岐鎖の化合物を含む。１つのみ、２つのみ、３つのみ等の炭素−炭素二重結合を有するアルケンは、その名称内の、用語「モノ」、「ジ」、「トリ」等の使用により特定されることが可能である。例えば、アルカモノエン、アルカジエン、アルカトリエンとは、それぞれ、１つのみの炭素−炭素二重結合を有する直鎖又は分岐鎖炭化水素オレフィン（一般式ＣｎＨ２ｎ）、２つのみの炭素−炭素二重結合を有する直鎖又は分岐鎖炭化水素オレフィン（一般式ＣｎＨ２ｎ−２）、及び３つのみの炭素−炭素二重結合を有する直鎖又は分岐鎖炭化水素オレフィン（一般式ＣｎＨ２ｎ−４）を指す。アルケンは、炭素−炭素二重結合の位置によって更に特定されることが可能である。アルケン中の特定な基の存在又は不在を示すために、その他の識別子を用いることが可能である。例えば、ハロアルケンとは、ハロゲン原子と置き換わる１つ以上の水素原子を有するアルケンを指す。
【００４７】
「アルケニル基」は、アルケンの任意の炭素原子からの水素原子の除去によって、アルケンから誘導される一価の基である。したがって、「アルケニル基」は、水素原子が、ｓｐ２ハイブリダイズされた（オレフィン性）炭素原子から形式上除去される基及び水素原子が任意のその他の炭素原子から形式上除去される基を含む。例として挙げると、特段に断りのない限り、プロペン−１−イル（−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３）、プロペン−２−イル［（ＣＨ３）Ｃ＝ＣＨ２］、及びプロペン−３−イル（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）基は、全て用語「アルケニル基」で包含される。同様に、「アルケニレン基」とは、２つの水素原子が１つの炭素原子から除去されるか、又は１つの水素原子が異なる炭素原子から除去されるかのいずれかで、アルケンから２つの水素原子を形式上除去することによって形成された基を指す。「アルケン基」とは、アルケンから（必要に応じて特定の基についての）１つ以上の水素原子を除去することによって形成された一般化された基を指す。水素原子が、炭素−炭素二重結合に関与する炭素原子から除去される場合、そこから水素原子が除去された炭素の位置化学、及び炭素−炭素二重結合の位置化学は、双方ともに特定され得る。アルケニル基は、複数のこのような多重結合を有することも可能である。アルケン基は、炭素−炭素二重結合の位置によって更に特定されることも可能である。アルケン基中の特定の基の存在又は不在を示すために、その他の識別子を用いることが可能である。例えば、ハロアルケン基は、ハロゲン原子で置き換えられた１つ以上の水素原子を有するアルケン基を指す。
【００４８】
用語「アルキン」は、少なくとも１つの非芳香族炭素−炭素三重結合を有する炭化水素化合物を指すために、本明細書及び請求項で使用される。用語「アルキン」は、別途明確に述べられない限り、少なくとも１つの非芳香族炭素−炭素三重結合を有する、脂肪族又は芳香族（化合物中に芳香族置換基を有するアルキン）、環状又は非環状、及び／又は直鎖又は分岐鎖の化合物を含む。１つのみ、２つのみ、３つのみ等の炭素−炭素三重結合を有するアルキンは、その名称内の用語「モノ」、「ジ」、「トリ」等の使用により特定されることが可能である。例えば、アルカモノイン、アルカジイン、アルカトリインとは、それぞれ、１つのみの炭素−炭素三重結合を有する直鎖又は分岐鎖炭化水素オレフィン（一般式ＣｎＨ２ｎ−６）、２つのみの炭素−炭素三重結合を有する直鎖又は分岐鎖炭化水素オレフィン（一般式ＣｎＨ２ｎ−２）、及び３つのみの炭素−炭素二重結合を有する直鎖又は分岐鎖炭化水素オレフィン（一般式ＣｎＨ２ｎ−１０）を指す。アルキンは、炭素−炭素三重結合の位置によって更に特定されることが可能である。アルキン中の特定な基の存在又は不在を示すために、その他の識別子を用いることが可能である。例えば、ハロアルキンとは、ハロゲン原子と置き換わる１つ以上の水素原子を有するアルキンを指す。
【００４９】
「アルキニル基」は、アルキンの任意の炭素原子からの水素原子の除去によって、アルキンから誘導される一価の基である。したがって、「アルキニル基」は、水素原子が、ｓｐハイブリダイズされた（アセチレン性）炭素原子から形式上除去される基及び水素原子が任意のその他の炭素原子から形式上除去される基を含む。例として挙げると、特段に断りのない限り、プロピン−１−イル（−Ｃ≡ＣＣＨ３）及びプロピン−１−イル［ＨＣ≡ＣＣＨ２−］基は、全て用語「アルキニル基」で包含される。同様に、「アルキニレン基」とは、可能であれば２つの水素原子が１つの炭素原子から除去されるか、又は１つの水素原子が異なる炭素原子から除去されるかのいずれかで、アルキンから２つの水素原子を形式上除去することによって形成された基を指す。「アルキン基」とは、アルキンから（必要に応じて特定の基についての）１つ以上の水素原子を除去することによって形成された一般化された基を指す。アルキニル基は、複数のこのような多重結合を有することも可能である。アルキン基は、炭素−炭素三重結合の位置によって更に特定されることも可能である。アルキン基中の特定の基の存在又は不在を示すために、その他の識別子を用いることが可能である。例えば、ハロアルキン基は、ハロゲン原子で置き換えられた１つ以上の水素原子を有するアルキン基を指す。
【００５０】
本明細書及び請求項で使用する場合、用語「アルファオレフィン」とは、炭素原子の最長の連続性の鎖の第１と第２の炭素原子との間の二重結合を有するオレフィンを指す。用語「アルファオレフィン」は、別途明確に記述されない限り、直鎖及び分岐鎖アルファオレフィンを含む。分岐鎖アルファオレフィンの場合、分岐は、アルファオレフィンの二重結合に対して２−位（ビニリデン）及び／又は３−位若しくはそれより高位にあり得る。用語「ビニリデン」とは、アルファオレフィンの二重結合に対して２−位で分岐を有するアルファオレフィンを指すように、本明細書及び請求項で使用される。明示的に示されない限り、用語「アルファオレフィン」はそれ自体で、ヘテロ原子の存在又は不在及び／又はその他の炭素−炭素二重結合の存在又は不在を指示するものではない。用語「炭化水素アルファオレフィン」又は「アルファオレフィン炭化水素」とは、水素及び炭素のみを含有するアルファオレフィン化合物を指す。
【００５１】
本明細書で使用する場合、用語「直鎖アルファオレフィン」とは、第１と第２の炭素との間に二重結合を有する直鎖オレフィン化合物を指す。明示的に示されない限り、用語「ア直鎖アルファオレフィン」はそれ自体で、ヘテロ原子の存在又は不在及び／又はその他の炭素−炭素二重結合の存在又は不在を指示するものではない。用語「直鎖炭化水素アルファオレフィン」又は「直鎖アルファオレフィン炭化水素」とは、水素及び炭素のみを含有する直鎖アルファオレフィン化合物を指す。
【００５２】
本明細書及び請求項において使用する場合は常に、用語「ノーマルアルファオレフィン」とは、第１と第２の炭素との間に二重結合を有する直鎖炭化水素モノ−オレフィンを指す。「ノーマルアルファオレフィン」は、「直鎖アルファオレフィン」が、第１と第２の炭素原子との間に結合を有し、かつヘテロ原子及び／又は追加の二重結合を有する直鎖オレフィン化合物を含む可能性があるために、「直鎖アルファオレフィン」の類語ではない。
【００５３】
「複素環式化合物」とは、少なくとも２つの異なる元素を環のメンバー原子として有する環状化合物である。例えば、複素環式化合物は、炭素及び窒素を含有する環（例えば、テトラヒドロピロール及びピロール等）、炭素及び酸素を含有する環（例えば、テトラヒドロフラン及びフラン等）、又は炭素及び硫黄を含有する環（例えば、テトラヒドロチオフェン及びチオフェン等）を含んでもよい。複素環式化合物及び複素環式基は、脂肪族又は芳香族のいずれかであり得る。
【００５４】
「ヘテロシクリル基」は、複素環式化合物の複素環又は環系の炭素原子から水素を除去することによって形成される一価の基である。水素が複素環又は環系の炭素原子から除去されることを特定化することによって、「ヘテロシクリル基」は、水素原子が複素環又は環系のヘテロ原子から除去される「シクロヘテリル基」とは区別される。例えば、以下に示すピロリジン−２−イル基は、「ヘテロシクリル基」の一例であり、以下に示すピロリジン−１−イル基は、「シクロヘテリル基」の一例である。
【化３】
0006360436.tif 000004
ピロリジン−２−イル  「ヘテロシクリル基」
【化４】
0006360436.tif 000005
ピロリジン−１−イル  「シクロヘテリル基」
同様に、「ヘテロシクリレン基」又はより簡単に「ヘテロシクレン基」とは、複素環式化合物から２つの水素（その少なくとも１つが複素環又は環系の炭素から得られる）を除去することによって形成される基を指す。したがって、「ヘテロシクリレン基」においては、少なくとも１つの水素は、複素環又は環系の炭素原子から除去されており、もう一方の水素原子は、同一の複素環又は環系の炭素原子、異なる複素環又は環系の炭素原子、若しくは非環状の炭素原子を含む任意のその他の炭素原子から除去されることが可能である。「複素環式基」とは、複素環式化合物から１つ以上の水素（必要に応じて、特定の基についての水素であり、その少なくとも１つが複素環の炭素原子からのものである）を除去することによって形成される一般化された基を指す。
【００５５】
「シクロヘテリル基」は、本明細書で示したように、複素環式化合物の複素環又は環系のヘテロ原子から水素原子を除去することによって形成される一価の基である。水素原子が複素環又は環系のヘテロ原子から除去され、環炭素原子から除去されないことを特定化することによって、「シクロヘテリル基」は、水素原子が複素環又は環系の炭素原子から除去される「ヘテロシクリル基」から区別される。同様に、「シクロヘテリレン基」とは、複素環式化合物から２つの水素原子を除去すること（２つの水素の少なくとも１つが、複素環式化合物の複素環又は環系のヘテロ原子から除去され、もう一方の水素原子が、例えば複素環又は環系の炭素原子、別の複素環又は環系のヘテロ原子、若しくは非環状の原子（炭素又はヘテロ原子）を含む任意のその他の原子から除去され得る）によって形成される基を指す。「シクロヘテロ基」とは、複素環式化合物から１つ以上の水素（必要に応じて、特定の基についての水素であり、その少なくとも１つは、複素環又は環系のヘテロ原子からのものである）を除去することによって形成される一般化された基を指す。
【００５６】
芳香族化合物は、ヒュッケル（４ｎ＋２）の法則に従い、（４ｎ＋２）パイ電子（式中、ｎは１〜５の整数）を含有する周期的共役二重結合系を含有する化合物である。芳香族化合物は、アレーン（炭化水素芳香族化合物）及び「ヘタレーン」とも呼ばれる「ヘテロアレーン」（芳香族に特有の連続パイ電子系及びヒュッケルの法則（４ｎ＋２）と一致する多くの面外パイ電子を維持するような方法で、三価又は二価のヘテロ原子を用いる周期的共役二重結合系の１つ以上のメチン（−Ｃ＝）炭素原子の置換によってアレーンから形式上誘導されたヘテロ芳香族化合物）を含む。アレーン化合物及びヘテロアレーン化合物は、芳香族化合物のグループの相互排他的な一員であるが、アレーン基及びヘテロアレーン基の双方を有する化合物は、ヘテロアレーン化合物と一般的に考えられている。芳香族化合物、アレーン、及びヘテロアレーンは、特段に断りのない限り、単環式（例えば、ベンゼン、トルエン、フラン、ピリジン、メチルピリジン）又は多環式であり得る。多環式芳香族化合物、アレーン、及びヘテロアレーンは、特記されない限り、芳香族環が縮合することが可能な化合物（例えば、ナフタレン、ベンゾフラン、及びインドール）、芳香族基が分離され結合によって連結されている化合物（例えば、ビフェニル又は４−フェニルピリジン）、又は芳香族基が結合原子を含有する基によって連結されている化合物（例えば、ジフェニルメタン中の炭素−メチレン基；酸素−ジフェニルエーテル；窒素−トリフェニルアミン等の結合基）を含む。本明細書に開示されているように、用語「置換された」は、非水素部分が、化合物中の水素を形式上置換している芳香族基、アレーン、又はヘテロアレーンを説明するために使用することが可能であり、非限定的であることを意図している。
【００５７】
「芳香族基」とは、１つ以上の水素原子（必要に応じて、特定の基についての水素原子であり、その少なくとも１つが芳香族環炭素原子からのもの）を芳香族化合物から除去することによって形成される一般化された基を指す。一価の「芳香族基」については、除去された水素原子は、芳香族環炭素からのものでなければならない。芳香族化合物から複数の水素原子を除去することによって形成される「芳香族基」については、少なくとも１つの水素原子は、芳香族炭化水素環の炭素からのものでなくてはならない。更に、「芳香族基」は、芳香族環又は環系の同一の環から除去された水素原子を有することが可能である（例えば、フェン−１，４−イレン、ピリジン−２，３−イレン、ナフト−１，２−イレン、及びベンゾフラン−２，３−イレン）か、環系の２つの異なる環から除去された水素原子を有することが可能である（例えば、ナフト−１，８−イレン及びベンゾフラン−２，７−イレン）か、又は２つの隔離されている芳香族環又は環系から除去された水素原子を有することが可能である（例えば、ビス（フェン−４−イレン）メタン）。
【００５８】
アレーンは、側鎖を有するか又は有さない、芳香族炭化水素である（例えば、ベンゼン、と離縁、又はキシレン等）。「アリール基」は、アレーンの芳香族環炭素からの水素の形式上の除去から誘導される基である。アレーンは、単一の芳香族炭化水素環を含有することが可能であり（例えば、ベンゼン、又はトルエン）、縮合芳香族環を含有することが可能であり（例えば、ナフタレン又はアントラセン）若しくは非芳香族炭化水素基を含有することが可能である（例えば、ジフェニルメタン）ことに留意するべきである。「アリール基」の一例は、オルト−トリル（ｏ−トリル）であり、この構造をここに示す。
【化５】
0006360436.tif 000006
同様に、「アリーレン基」は、アレーンから２つの水素原子（その少なくとも１つは芳香族環炭素からのものである）を除去することによって形成される基を指す。「アレーン基」とは、アレーンから１つ以上の水素原子（必要に応じて特定の基についての水素原子であり、その少なくとも１つは芳香族環炭素からのものである）を除去することによって形成される一般化された基を指す。しかしながら、基が別個の異なるアレーン及びヘテロアレーン環又は環系を含有する場合（例えば、７−フェニルベンゾフラン中のフェニル及びベンゾフラン部分）、その分類は、そこから水素原子が除去される特定の環又は環系に依存し、すなわち、除去された水素が芳香族炭化水素環又は環系の炭素原子に由来する場合にはアレーン基であり、除去された水素原子がヘテロ芳香族環又は環系の炭素原子（例えば、６−フェニルベンゾフランのベンゾフラン基の２個又は７個の炭素原子）に由来する場合はヘテロアレーンである。本明細書に提供される定義により、一般的なアレーン基（アリール基及びアリーレン基を含む）は、芳香族炭化水素環又は環系の炭素原子上に位置する０、１個、又は複数個のヒドロカルビル置換基（例えば、トルエン基又はキシレン基等）を有し、炭化水素基のグループの一員であるもの含む。しかしながら、フェニル基（又はフェニレン基）及び／又はナフチル基（又はナフチレン基）とは、特定の非置換アレーン基（芳香族炭化水素環又は環系の炭素原子上に位置するヒドロカルビル基を有さないものを含む）を指す。結果的に、置換フェニル基又は置換ナフチル基とは、芳香族炭化水素環又は環系の炭素原子上に位置する１つ以上の置換基（ハロゲン、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基等を含む）を有する対応のアレーン基を指す。置換フェニル基及び／又は置換ナフチル基が、炭化水素基のグループの一員である場合（又はアレーン基の一般基の一員である場合）、各置換基は、ヒドロカルビル置換基に限定される。炭化水素基のグループの一員として（又はアレーン紀伊の一般基の一員として）用いることが可能である一般的置換フェニル及び／又は置換ナフチル基、特定の置換フェニル及び／又は置換ナフチル基、及び／又は個々の置換フェニル又は置換ナフチル基は、容易に識別し選択することが可能である。
【００５９】
ヘテロアレーンは、芳香族環又は芳香族環系内にヘテロ原子を有する、側鎖を有するか又は有さない芳香族化合物である（例えば、ピリジン、インドール、又はベンゾフラン等）。「ヘテロアリール基」は、「ヘテロシクリル基」の部類であり、ヘテロアレーン化合物のヘテロ芳香族環又は環系の炭素原子から水素を除去することによって形成される一価の基である。環炭素原子から水素原子を除去することを特定化することによって、「ヘテロアリール基」は、水素原子がヘテロ芳香族環又は環系のヘテロ原子から除去される「アリールヘテリル基」とは区別される。例えば、以下に示したインドール−２−イル基は、「ヘテロアリール基」の一例であり、以下に示したインドール−１−イル基は、「アリールヘテリル基」の一例である。
【化６】
0006360436.tif 000007
インドール−２−イル  「ヘテロアリール基」
【化７】
0006360436.tif 000008
インドール−１−イル  「アリールヘテリル基」
同様に、「ヘテロアリーレン基」とは、ヘテロアレーン化合物から２つの水素原子（その少なくとも１つは、ヘテロアレーン環又は環系の炭素原子からのものである）を除去することによって形成される基を指す。したがって、「ヘテロアリーレン基」においては、少なくとも１つの水素は、ヘテロアレーン環又は環系の炭素原子から除去され、もう一方の水素原子は、任意のその他の炭素原子（例えば、ヘテロアレーン環又は環系の炭素原子、若しくは非ヘテロアレーン環又は環系の原子を含む）から除去されることが可能である。「ヘテロアレーン基」とは、ヘテロアレーン化合物から１つ以上の水素原子（必要に応じて、特定の基についての水素原子であり、その少なくとも１つはヘテロアレーン環又は環系の炭素原子からのものである）を除去することによって形成される一般化された基を指す。水素原子がヘテロ芳香族環又は環系のヘテロ原子から除去される場合、若しくはヘテロ芳香族環又は環系の炭素原子あるいは芳香族炭化水素環又は環系の炭素原子から除去される場合、この基は、「アリールヘテリレン基」又は「アリールヘテロ基」として分類される。
【００６０】
「アリールヘテリル基」は、「シクロヘテリル基」の部類であり、示したように、ヘテロ芳香族環又は環系のヘテロ原子から水素を除去することによって形成される一価の基である。水素原子が、ヘテロ芳香族環又は環系のヘテロ原子から除去され、ヘテロ芳香族環又は環系の炭素原子からは除去されないことを特定化することによって、「アリールヘテリル基」は、水素原子がヘテロ芳香族環又は環系の炭素原子から除去される「ヘテロアリール基」とは区別される。同様に、「アリールヘテリレン基」とは、ヘテロアリール化合物から２つの水素を除去することによって形成される基を指し、２つの水素のうちの少なくとも１つは、ヘテロアリール化合物のヘテロ芳香族環又は環系のヘテロ原子から除去され、もう一方の水素原子は、ヘテロ芳香族化合物から、ヘテロ芳香族環又は環系の炭素原子、別のヘテロ芳香族環又は環系のヘテロ原子、又は非環原子（炭素又はヘテロ原子）を含む任意のその他の原子から除去されることが可能である。「アリールヘテロ基」とは、ヘテロアレーン化合物から１つ以上の水素原子（必要に応じて特定の基についての水素原子であり、その少なくとも１つは、ヘテロ芳香族環又は環系のヘテロ原子からのものである）を除去することによって形成される一般化された基を指す。
【００６１】
「アラルキル基」は、芳香族炭素原子において遊離原子価を有するアリール置換されたアルキル基（例えば、ベンジル基、又は２−フェニルエト−１−イル基等）である。同様に、「アラルキレン基」は、単一の非芳香族炭素原子において２つの遊離原子価を有する、又は２つの非芳香族炭素原子において遊離原子価を有するアリール置換されたアルキレン基であり、一方「アラルカン基」は、非芳香族炭素原子において１つ以上の遊離原子価を有する、一般化されたアリール置換のアルカン基である。「ヘテロアラルキル基」は、非ヘテロ芳香族環又は環系の炭素原子において遊離原子価を有するヘテロアリール置換されたアルキル基である。同様に、「ヘテロアラルキレン基」は、単一の非ヘテロ芳香族環又は環系の炭素原子において２つの遊離原子価を有する、又は２つのヘテロ芳香族環又は環系の炭素原子において遊離原子価を有するヘテロアリール置換されたアルキレン基であり、一方「ヘテロアラルカン基」は、非ヘテロ芳香族環又は環系の炭素原子において１つ以上の遊離原子価を有する一般化されたアリール置換のアルカン基である。
本明細書に提供された定義により、一般的アラルカン基は、アラルカン芳香族炭化水素環又は環系の炭素原子上に位置する０、１個、又は複数個のヒドロカルビル置換基を有し、炭化水素基のグループの一員であるものを含むことに留意するべきである。しかしながら、特定のアリール基を規定する特定のアラルカン基（例えば、ベンジル基又は２−フェニルエチル基中のフェニル基等）とは、特定の置換アラルカン基（アラルカン芳香族炭化水素環又は環系の炭素原子上位位置するヒドロカルビル基を有さないものを含む）を指す。結果的に、特定のアリール基を規定する置換アラルカン基とは、１つ以上の置換基（ハロゲン、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基等を含む）を有する対応のアラルカン基を指す。特定のアリール基を規定する置換アラルカン基が、炭化水素基のグループの一員である場合（又は、アラルカン基の一般基の一員である場合）、各置換基は、ヒドロカルビル置換基に限定される。炭化水素基のグループの一員として（又はアラルカン基の一般基の一員として）用いることができる特定のアリール基を規定する置換アラルカン基は、容易に識別し、選択することが可能である。
【００６２】
「ハロゲン化物」はその通常の意味を有し、したがって、ハロゲン化物の例としては、フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物が挙げられる。
【００６３】
「オルガノヘテリル基」は、炭素を含有する一価の基であり、したがってこれは有機物であるが、炭素以外の原子でそれらの遊離原子価を有するものである。したがって、オルガノヘテリル及びオルガニル基は、相補的かつ相互排他的である。オルガノヘテリル基は、環状又は非環状、及び／又は脂肪族又は法構造であることが可能であり、したがって、脂肪族「シクロヘテリル基」（例えば、ピロリジン−１−イル又はモルフォリン−１−イル等）、芳香族「アリ０ルヘテリル基」（例えば、ピロール−１−イル又はインドール−１−イル等）、及び非環状基（例えば、オルガニルチオ、トリヒドロカルビルシリル、アリールオキシ、又はアルコキシ等）を包含する。同様に、「オルガノヘテリレン基」は、２つの遊離原子価を有し、その少なくとも１つがヘテロ原子にある、炭素及び１つ以上のヘテロ原子を含有する二価の基である。「オルガノヘテロ基」は、アルガノヘテロ化合物からの１つ以上の遊離原子価（必要に応じて、特定の基についての原子価であり、その少なくとも１つはヘテロ原子にある）を有する、炭素及び少なくとも１つのヘテロ原子を有する一般化された基である。
【００６４】
化合物又は基が複数の部分を有する場合、これは、形式上、ＩＵＰＡＣによって明記されるような命名法の優先順位の最も高いもの（主基）を有するグループの一員である。例えば、４−フェニルピリジンは、ヘテロ芳香族化合物であり、４−（フェン−２−イレン）ピリジン−２−イル基は、命名法の優先順位の最も高い基が、それぞれピリジン基及びピリジン−２−イル基であるために、ヘテロ芳香族基である。
【００６５】
場合によっては、「環状基」について言及がなされることが可能である。特段に断りのない限り、「環状基」は、単素環基及び複素環基を含む環構造を有する、芳香族及び脂肪族基を含み、「シクロ」は、環構造を表すための名称で使用される接頭語である。
【００６６】
「オルガノアルミニウム化合物」は、アルミニウム−炭素結合を含有する任意の化合物である。したがって、オルガノアルミニウム化合物としては、トリアルキル−、ジアルキル−、又はモノアルキルアルミニウム化合物などのヒドロカルビルアルミニウム化合物：ヒドロカルビルアルモキサン化合物、並びに特にテトラキス（ｐ−トリル）アルミネート塩などのアルミニウム−オルガニル結合を含有するアルミネート化合物等が挙げられる。
【００６７】
用語「反応器流出物」、及びその派生語（例えば、オリゴマー化反応器流出物）は、一般的に、反応器から流出する全ての材料を指す。用語「反応器流出物」及びその派生語は、言及される反応器流出物の一部を限定するその他の記述子で前書きされることも可能である。例えば、用語「反応器流出物」は、反応器から流出する全ての材料（例えば、生成物及び溶媒又は希釈剤等）を指すが、用語「オレフィン反応器流出物」は、オレフィン（すなわち、単素−炭素）二重結合を含有する反応器の流出物を指す。
【００６８】
用語「オリゴマー化」及びその派生語は、２〜３０個のモノマー単位を含有する少なくとも７０重量％の生成物を含む生成物の混合物を生成するプロセスを指す。同様に「オリゴマー」は、２〜３０個のモノマー単位を含有する生成物であり、一方、「オリゴマー化生成物」は、「オリゴマー」及び「オリゴマー」ではない生成物を含む「オリゴマー化」プロセスによって製造される全ての生成物を含む（例えば、３０個以上のモノマー単位を含有する生成物）。「オリゴマー」又は「オリゴマー化生成物」中のモノマー単位は、同一である必要はないことに留意するべきである。例えば、エチレン及びプロピレンをモノマーとして使用する「オリゴマー化」プロセスの「オリゴマー」又は「オリゴマー化生成物」は、エチレン及び／又はプロピレン単位の双方を含有することが可能である。
【００６９】
用語「三量体化」、及びその派生語は、３個又は３個のみのモノマー単位を含有する少なくとも７０重量％の生成物を含有する生成物の混合物を生成するプロセスを指す。「三量体」は、３つ又は３つのみのモノマー単位を含有する生成物であり、一方「三量体化生成物」は、三量体と三量体ではない生成物（例えば、二量体、四量体、及び重合体など）を含む三量体化プロセスによって製造される全ての生成物を含む。一般的に、オレフィン三量体化は、モノマー単位におけるオレフィン結合の数及び三量体におけるオレフィン結合の数から考えると、オレフィン結合、すなわち、単素−炭素二重結合の数を２まで減少させる。「三量体」又は「三量体化生成物」におけるモノマー単位は、同一である必要はないことに留意するべきである。例えば、エチレン及びブテンをモノマーとして使用する「三量体化」プロセスの「三量体」は、エチレン及び／又はブテンモノマー単位を含有することが可能である。つまり、「三量体」は、Ｃ６、Ｃ８、Ｃ１０及びＣ１２生成物を含むであろう。単一の分子は、２つのモノマー単位を含有することが可能であることに留意するべきである。例えば、１，３−ブタジエン及び１，４−ペンタジエンなどのジエンは、１つの分子中に２つのモノマー単位を有する。
【００７０】
本開示の範囲内において、亜属は、複数の族の構成員であり得、例えば、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物亜族は、金属ヒドロカルビル化合物族の一員であり、金属ハロゲン化物族の一員であることが可能である。これは、亜属がその記述内の特定の属に属するかどうか（又は列挙内のどの属に亜属が属するか）の点での不確実性につながる可能性がある。しかしながら、本開示の範囲内において、特定の特徴が１つ以上の亜属をその属から除外しない限り、（亜属が列挙内の２以上の亜属の範囲内に入る可能性があっても）属は全てのその亜属を含む。遷移金属化合物を金属ヒドロカルビル化合物に接触させることを提供している記述は、金属ヒドロカルビル化合物属内の非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物及びヒドロカルビル金属ハロゲン化物を含み、一方、遷移金属化合物をハロゲン含有化合物に接触させる前に、遷移金属化合物を金属ヒドロカルビル化合物に接触させることを提供している記述は、記載の金属ヒドロカルビル化合物属内のヒドロカルビル金属ハロゲン化物亜属を除外する。この留意点は、複数の属、亜属、種、及び／又は亜種に入ることができる種、亜種、及び個々の化合物（又はその他の分類系）に等しく適用する。
【００７１】
一態様において、本開示は、ａ）遷移金属化合物、ｂ）窒素含有化合物、ｃ）金属ヒドロカルビル化合物、及びｄ）必要に応じて、ハロゲン含有化合物を含むか、又はこれらから本質的になる組成物を提供する。一実施形態において、本開示は、ａ）遷移金属化合物、ｂ）窒素含有化合物、及びｃ）金属ヒドロカルビル化合物；あるいは、ａ）遷移金属化合物、ｂ）窒素含有化合物、ｃ）金属ヒドロカルビル化合物、及びｄ）ハロゲン含有化合物を含むか、又はこれらから本質的になる組成物を提供する。一般的に、窒素含有化合物、遷移金属化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及びハロゲン含有化合物は、組成物の独立した成分である。組成物の独立した成分として、窒素含有化合物、遷移金属化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及びハロゲン含有化合物は、本明細書で個別に説明される。組成物を説明するために、態様及び実施形態において、これら個別の説明を、限定されずに用いることが可能である。
【００７２】
一態様において、組成物は、オレフィンをオリゴマー化するために用いることが可能であり、触媒系として説明することが可能である。一実施形態において、組成物は、オレフィンを三量体化するために用いることが可能であり、オレフィン三量体化触媒系として説明することが可能である。オリゴマー化され得る（あるいは、三量体化され得る）オレフィンは、本明細書で個別に説明される。一態様において、オリゴマー化されるオレフィンは、エチレンであるか、エチレンを含むか、又はエチレンから本質的になることが可能であり、触媒系は、エチレン三量体化触媒系として説明することが可能である。別の態様において、三量体化オレフィンは、エチレンであるか、エチレンを含むか、又はエチレンから本質的になることが可能であり、触媒系は、エチレン三量体化触媒系として説明することが可能である。
【００７３】
一態様において、遷移金属化合物は、無機遷移金属化合物であるか、無機遷移金属化合物を含むか、又は無機遷移金属化合物から本質的になることが可能である。一部の態様において、遷移金属化合物は、遷移金属カチオン及び無機アニオンを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の態様では、遷移金属化合物は、遷移金属カチオン及び有機化合物又は部分（例えば、カルボキシレート、アルコキシ度、又はβ−ジオネート等）から形式上誘導されたアニオンであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一般的に、遷移金属、並びに無機アニオン又は有機化合物又は部分から形式上誘導されたアニオンは、遷移金属化合物の独立した成分であり、本明細書で別個に説明される。遷移金属化合物は、本明細書に記載の遷移金属カチオン、及び本明細書に記載の無機アニオン又は本明細書に記載の有機化合物から誘導されたアニオンの任意の組み合わせを使用して説明することが可能である。
【００７４】
一態様において、本開示の三量体化触媒系で使用され得る遷移金属化合物は、４〜１１族の遷移金属化合物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、遷移金属化合物は、５〜１０族の遷移金属化合物；あるいは６族の遷移金属化合物；あるいは７族の遷移金属化合物；あるいは８族の遷移金属化合物；あるいは９族の遷移金属化合物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の実施形態において、遷移金属化合物は、バナジウム化合物、クロム化合物、モリブデン化合物、鉄化合物、コバルト化合物、ニッケル化合物、又は銅化合物；あるいはクロム化合物；あるいはモリブデン化合物；あるいは鉄化合物；あるいはコバルト化合物；あるいはニッケル化合物；あるいは銅化合物であるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。
【００７５】
別の態様において、遷移金属化合物の遷移金属（一般的な又は特定の）は、＋１〜＋６（１〜６と記載される場合もある）の酸化状態を有し得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物の遷移金属（一般的又は特定の）は、＋２又は＋３の酸化状態を有することが可能であり；あるいは遷移金属化合物の遷移金属は、＋３の酸化状態を有することが可能である。他の実施形態において、遷移金属化合物の遷移金属（一般的な又は特定の）は、＋１；あるいは＋２；あるいは＋３；あるいは＋４；あるいは＋５；あるいは＋６の酸化状態を有することが可能である。一部の命名法において、遷移金属化合物を意味する場合、遷移金属化合物中の遷移金属（一般的な又は特定の）の酸化状態は、遷移金属の後ろに括弧内の酸化状態のローマ数字を配置することによって示されることが可能であり、例えば、塩化クロム（ＩＩＩ）及び塩化クロム（ＩＩ）は、それぞれ＋３及び＋２の酸化状態におけるクロムの塩化化合物を表す。
【００７６】
一態様において、好適な無機アニオンとしては、ハロゲン化物、硫酸塩、亜硫酸塩、重硫酸塩、酸化物、硝酸塩、亜硝酸塩、水酸化物、及び塩素酸塩が挙げられるが、これらに限定されない。一部の実施形態において、無機アニオンは、ハロゲン化物、硫酸塩、又は硝酸塩であり得る。他の実施形態において、無機アニオンは、ハロゲン化物；あるいは硫酸塩；あるいは亜硫酸塩；あるいは重硫酸塩；あるいは酸化物；あるいは硝酸塩；あるいは亜硝酸塩；あるいは水酸化物；あるいは塩素酸塩であり得る。一態様において、ハロゲン化物はフッ化物、塩化物、臭化物、又はヨウ化物；あるいはフッ化物；あるいは塩化物；あるいは臭化物；あるいはヨウ化物であり得る。
【００７７】
一態様において、好適な無機遷移金属化合物（一般的な又は特定の）は、遷移金属ハロゲン化物、遷移金属硫酸塩、遷移金属亜硫酸塩、遷移金属重硫酸塩、遷移金属硝酸塩、遷移金属亜硝酸塩、遷移金属水酸化物、遷移金属塩素酸塩、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは遷移金属ハロゲン化物、遷移金属硫酸塩、又は遷移金属硝酸塩を含むか、又は本質的にこれからなってもよい。一部の実施形態において、遷移金属化合物（一般的な又は特定の）は、遷移金属ハロゲン化物；あるいは遷移金属硫酸塩；あるいは遷移金属亜硫酸塩；あるいは遷移金属重硫酸塩；あるいは遷移金属硝酸塩；あるいは遷移金属亜硝酸塩；あるいは遷移金属水酸化物；あるいは遷移金属塩素酸塩を含むか、本質的にこれからなってもよい。一実施形態において、遷移金属ハロゲン化物（一般的な又は特定の）は、遷移金属塩化物、遷移金属臭化物、又は遷移金属ヨウ化物；あるいは遷移金属塩化物；あるいは遷移金属臭化物；あるいは遷移金属ヨウ化物を含むか、本質的にこれからなってもよい。
【００７８】
一態様において、有機化合物から形式上誘導される好適なアニオンとしては、有機酸化物、カルボン酸塩、アミド、及びβ−ジオネート（例えば、アセチルアセトネート）を挙げることが可能であるが、これらに限定されない。一部の実施形態において、有機化合物から形式上誘導されるアニオンは、有機酸化物；あるいはカルボン酸塩；あるいはアミド；あるいはβ−ジオネートであるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。
【００７９】
一態様において、遷移金属化合物（一般的な又は特定の）は、遷移金属有機酸化物、遷移金属カルボキシレート、遷移金属アミド、遷移金属β−ジオネートを含むか、本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、遷移金属化合物（一般的な又は特定の）は、遷移金属カルボン酸塩又は遷移金属β−ジオネートを含むか、本質的にこれからなってもよい。一部の実施形態では、遷移金属化合物（一般的な又は特定の）は、遷移金属有機酸化物；あるいは遷移金属カルボン酸塩；あるいは遷移金属アミド；あるいは遷移金属β−ジオネートを含むか、本質的にこれからなってもよい。一実施形態において、遷移金属有機酸化物は、遷移金属ヒドロカルボキシド又は遷移金属置換ヒドロカルボキシド；あるいは遷移金属ヒドロカルボキシド、あるいは遷移金属置換ヒドロカルボキシドを含むか、本質的にこれからなってもよい。別の態様において、本明細書に記載の触媒系で用いられる遷移金属化合物は、記載の遷移金属化合物の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【００８０】
一実施形態において、任意の遷移金属有機酸化物（一般的な又は特定の）の有機酸化物は、Ｃ１−Ｃ２４の有機酸化物；あるいはＣ４−Ｃ１９の有機酸化物；あるいはＣ５−Ｃ１２の有機酸化物であるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。
【００８１】
一実施形態において、有機酸化物は、ヒドロカルボキシド又は置換ヒドロカルボキシド；あるいはヒドロカルボキシド；あるいは置換ヒドロカルボキシドであるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。一般的に、遷移金属ヒドロカルボキシド及び／又は遷移金属置換ヒドロカルボキシドで用いることが可能であるヒドロカルボキシド基及び／又は置換ヒドロカルボキシドは、遷移金属有機酸化物として使用可能な有機酸化物の同一の数の炭素原子を有することが可能である。
【００８２】
一実施形態において、遷移金属有機酸化物の各有機酸化物は、アルコキシド、置換アルコキシド、シクロアルコキシド、置換シクロアルコキシド、アロキシド、置換アロキシド、アラルコキシド、又は置換アラルコキシド；あるいはアルコキシド、シクロアルコキシド、アロキシド、又はアラルコキシド；あるいはアルコキシド又は置換アルコキシド；あるいはシクロアルコキシド又は置換シクロアルコキシド；あるいはアロキシド又は置換アロキシド；あるいはアラルコキシド又は置換アラルコキシドであるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。一部の実施形態において、遷移金属有機酸化物の各有機酸化物は、アルコキシド、シクロアルコキシド、アロキシド、又はアラルコキシドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、遷移金属有機酸化物の各有機酸化物は、アルコキシド；あるいは置換アルコキシド；あるいはシクロアルコキシド；あるいは置換シクロアルコキシド；あるいはアロキシド；あるいは置換アロキシド；あるいはアラルコキシド；あるいは置換アラルコキシドである。一般的に、アルコキシド、置換アルコキシド、シクロアルコキシド、置換シクロアルコキシド、アロキシド、置換アロキシド、アラルコキシド、及び／又は置換アラルコキシドは、その対応の有機酸化物基（又は置換ヒドロカルボキシド基）若しくはヒドロカルボキシド基と同一の数の炭素を有することが可能である。
【００８３】
一実施形態において、各有機酸化物は、独立して、Ｃ１−Ｃ２４のアルコキシド（置換又は非置換の）；あるいはＣ１−Ｃ２４のアルコキシド（置換又は非置換の）；あるいはＣ５−Ｃ１２のアルコキシド（置換又は非置換の）であり得る。一部の実施形態では、遷移金属ヒドロカルボキシド（一般的な又は特定の）の各アルコキシドは、独立して、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド、ペントキシド、へキソキシド、ヘプトキシド、オクトキシド、ノノキシド、デコキシド、ウンデコキシド、又はドデコキシド；あるいはブトキシド、ペントキシド、ヘキソキシド、ヘプトキシド、オクトキシド、ノノキシド、デコキシド、ウンデコキシド、又はドデコキシド；あるいはペントキシド、ヘキソキシド、ヘプタキシド、オクトキシド、ノノキシド、デコキシド、ウンデコキシド、又はドデコキシドであり得る。他の実施形態において、遷移金属ヒドロカルボキシド（一般的な又は特定の）の各アルコキシドは、独立して、メトキシド；エトキシド；プロポキシド；ブトキシド；あるいはペントキシド；あるいはヘキソキシド；あるいはヘプトキシド；あるいはオクトキシド；あるいはノノキシド；あるいはデコキシド；あるいはウンデコキシド；あるいはドデコキシドであり得る。一実施形態において、置換アルコキシドの各置換基は、独立して、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。置換基ハロゲン化物及びヒドロカルボキシ基は、独立して、本明細書で開示され、置換アルコキシド基を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【００８４】
一実施形態において、各有機酸化物は、独立して、Ｃ６−Ｃ２４のアリールオキシド（置換又は非置換の）；あるいはＣ６−Ｃ１９のアリールオキシド（置換又は非置換の）；あるいはＣ６−Ｃ１２のアリールオキシド（置換又は非置換の）であり得る。一部の実施形態において、遷移金属有機酸化物（一般的な又は特定の）の各有機酸化物は、独立して、フェノキシド又は置換フェノキシド；あるいはフェノキシド；あるいは置換フェノキシドであり得る。一実施形態では、各置換フェノキシドは、独立して、２−置換フェノキシド、４−置換フェノキシド、２，４−置換フェノキシド、２，６−置換フェノキシド、又は２，４，６−三置換フェノキシドであり得るか、あるいは２−置換フェノキシド又は４−置換フェノキシド；あるいは２，４−置換フェノキシド又は２，６−置換フェノキシド；あるいは２−置換フェノキシド；あるいは４−置換フェノキシド；あるいは２，４−置換フェノキシド；あるいは２，６−置換フェノキシド；あるいは２，４，６−三置換フェノキシドであり得る。置換フェノキシドに対して用いることができる置換基は、本明細書に独立して開示され、置換フェノキシド基を更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【００８５】
一態様において、遷移金属アミド（一般的な又は特定の）の各アミド基は、独立してＣ２−Ｃ２４のアミドであり得る。一部の実施形態において、遷移金属アミド（一般的な又は特定の）の各アミド基は、独立してＣ３−Ｃ１９であり得る。他の実施形態において、遷移金属アミド（一般的な又は特定の）の各アミド基は、独立してＣ４−Ｃ１２であり得る。
【００８６】
一態様において、遷移金属β−ジオネート（一般的な又は特定の）の各β−ジオネート基は、独立して、Ｃ５−Ｃ２４のβ−ジオネート基；あるいはＣ５−Ｃ１９のβ−ジオネート基；あるいはＣ５−Ｃ１２のβ−ジオネート基であり得る。一実施形態において、β−ジケトネートは、アセチルアセトネート（あるいは、２，４−ペンタンジオネート）、ヘキサフルオロアセチルアセトン（あるいは、１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ−２，４−ペンタンジオネート）、ベンゾイルアセトネート、又は１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジオネート；あるいはアセチルアセトネート；あるいはヘキサフルオロアセチルアセトン；あるいはベンゾイルアセトネート；あるいは１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジオネートであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【００８７】
一態様において、遷移金属カルボン酸塩（一般的な又は例えばカルボン酸クロムなどの特定の）の各カルボン酸塩（これはカルボキシレート基とも呼ばれることが可能である）は、独立して、Ｃ２−Ｃ２５のカルボン酸塩；あるいはＣ３−Ｃ２５のカルボン酸塩；あるいはＣ４−Ｃ２０のカルボン酸塩；あるいはＣ５−Ｃ１２のカルボン酸塩であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、カルボン酸塩は、１〜４個のカルボン酸塩部分；あるいは２〜４個のカルボン酸塩部分；あるいは２〜３個のカルボン酸塩部分を有することが可能である。一部の実施形態において、カルボン酸塩は、１個のみのカルボン酸塩部分；あるいは２個のみのカルボン酸部分；あるいは３個のみのカルボン酸部分；あるいは４個のみのカルボン酸部分を有することが可能である。
【００８８】
一態様において、カルボキシレート基は、一般式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有することが可能である。一般的に、ｒ及びＲ１ｃは、本明細書に独立して説明され、式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基は、本明細書に記載のｒ及びＲ１ｃの任意の組み合わせを用いて説明することが可能である。
【００８９】
一態様において、式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒは、１〜４、あるいは２〜４、あるいは２〜３の整数であり得る。一部の実施形態において、式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒは１；あるいは２；あるいは３；あるいは４であり得る。ｒが１の場合、式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基は、式−Ｏ２ＣｒＲ２ｃを有するモノカルボキシレート基に等しく、式−Ｏ２ＣｒＲ２ｃを有するモノカルボキシレート基についてのＲ２ｃの態様及び実施形態は、ｒが１の場合の式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基についてのＲ１ｃの態様又は実施形態として用いることが可能である。
【００９０】
ｒが１である一実施形態においては、Ｒ１ｃは、Ｃ１−Ｃ２４のオルガニル基；あるいはＣ２−Ｃ２４のオルガニル基；あるいはＣ３−Ｃ１９のオルガニル基；あるいはＣ４−Ｃ１１のオルガニル基であり得る。ｒが２である一実施形態においては、Ｒ１ｃは、結合又はＣ１−Ｃ２３のオガニレン基；あるいは結合；あるいはＣ１−Ｃ２３オルガニレン基；あるいはＣ３−Ｃ１８のオルガニレン基；あるいはＣ４−Ｃ１０のオルガニレン基であり得る。ｒが３である一実施形態においては、Ｒ１ｃは、Ｃ１−Ｃ２２の有機基；あるいはＣ２−Ｃ２２の有機基；あるいはＣ３−Ｃ１７の有機基；あるいはＣ４−Ｃ９の有機基であり得る。ｒが４である一実施形態においては、Ｒ１ｃは、Ｃ２−Ｃ２１の有機基；あるいはＣ３−Ｃ１６の有機基；あるいはＣ４−Ｃ８の有機基であり得る。
【００９１】
ｒが１である一実施形態において、Ｒ１ｃは、不活性官能基からなるＣ１−Ｃ２４のオルガニル基；あるいは不活性官能基からなるＣ２−Ｃ２４のオルガニル基；あるいは不活性官能基からなるＣ３−Ｃ１９のオルガニル基；あるいは不活性官能基からなるＣ４−Ｃ１１のオルガニル基であり得る。ｒが２である一実施形態においては、Ｒ１ｃは、結合又は不活性官能基からなるＣ１−Ｃ２３のオガニレン基；あるいは結合；あるいは不活性官能基からなるＣ１−Ｃ２３オルガニレン基；あるいは不活性官能基からなるＣ３−Ｃ１８のオルガニレン基；あるいは不活性官能基からなるＣ４−Ｃ１０のオルガニレン基であり得る。ｒが３である一実施形態において、Ｒ１ｃは、不活性官能基からなるＣ１−Ｃ２２の有機基；あるいは不活性官能基からなるＣ２−Ｃ２２の有機基；あるいは不活性官能基からなるＣ３−Ｃ１７の有機基；あるいは不活性官能基からなるＣ４−Ｃ９の有機基であり得る。ｒが４である一実施形態において、Ｒ１ｃは、不活性官能基からなるＣ２−Ｃ２１の有機基；あるいは不活性官能基からなるＣ３−Ｃ１６の有機基；あるいは不活性官能基からなるＣ４−Ｃ８の有機基であり得る。
【００９２】
ｒが１である一実施形態において、Ｒ１ｃは、ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルビル基；あるいは置換ヒドロカルビル基であり得る。一般的に、Ｒ１ｃとして用いることが可能であるヒドロカルビル基及び／又は置換ヒドロカルビル基は、Ｒ１ｃとして用いることが可能である任意のオルガニル基と同一の数の炭素原子を有することが可能である。ｒが２である一実施形態においては、Ｒ１ｃは、結合、ヒドロカルビレン基、又は置換ヒドロカルビレン基；あるいは結合又はヒドロカルビレン基；あるいは結合又は置換ヒドロカルビレン基；あるいは結合；あるいはヒドロカルビレン基；あるいは置換ヒドロカルビレン基であり得る。一般的に、Ｒ１ｃとして用いることが可能であるヒドロカルビレン基及び／又は置換ヒドロカルビレン基は、Ｒ１ｃとして用いることが可能である任意のオルガニレン基と同一の数の炭素原子を有することが可能である。ｒが３である一実施形態において、Ｒ１ｃは、炭化水素基又は置換炭化水素基；あるいは炭化水素基；あるいは置換炭化水素基であり得る。一般的に、Ｒ１ｃとして用いることが可能である炭化水素基及び／又は置換炭化水素基は、Ｒ１ｃとして用いることが可能である任意の有機基と同一の数の炭素原子を有することが可能である。ｒが４である一実施形態において、Ｒ１ｃは、炭化水素基又は置換炭化水素基；あるいは炭化水素基；あるいは置換炭化水素基であり得る。一般的に、Ｒ１ｃとして用いることが可能である炭化水素基及び／又は置換炭化水素基は、Ｒ１ｃとして用いることが可能である任意の有機基と同一の数の炭素原子を有することが可能である。一実施形態では、置換ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビレン基、及び／又は置換炭化水素基の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、及びヒドロカルボキシ基の置換（非水素置換又は非水素置換基とも呼ばれる）は、独立して本明細書で開示される。これら置換基は、Ｒ１ｃとして用いることが可能である任意の置換ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビレン基、及び／又は置換炭化水素基を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【００９３】
式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である一実施形態において、Ｒ１ｃは、アルカン基、置換アルカン基、アルケン基、置換アルケン基、シクロアルカン基、置換シクロアルカン基、シクロアルケン基、置換シクロアルケン基、アレーン基、置換アレーン基、アラルカン基、又は置換アラルカン基；あるいは、アルカン基、アルケン基、シクロアルカン基、シクロアルケン基、アレーン基、又はアラルカン基であり得る。一部の実施形態において、式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のＲ１ｃは、アルカン基又は置換アルカン基；あるいはアルケン基又は置換アルケン基であり得るか、あるいはシクロアルカン基又は置換シクロアルカン基；あるいはシクロアルケン基又は置換シクロアルケン基；あるいはアレーン基又は置換アレーン基；あるいはアラルカン基又は置換アラルカン基であり得る。他の実施形態において、式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のＲ１ｃは、アルカン基；あるいは置換アルカン基；あるいはアルケン基；あるいは置換アルケン基；あるいはシクロアルカン基；あるいは置換シクロアルカン基；あるいはシクロアルケン基；あるいは置換シクロアルケン基；あるいはアレーン基；あるいは置換アレーン基；あるいはアラルカン基；あるいは置換アラルカン基であり得る。一般的に、アルカン基、置換アルカン基、アルケン基、置換アルケン基、シクロアルカン基、置換シクロアルカン基、シクロアルケン基、置換シクロアルケン基、アレーン基、置換アレーン基、アラルカン基、又は置換アラルカン基は、式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃ（式中ｒは３及び／又は４である）を有するカルボキシレート基のＲ１ｃとして使用可能な有機基及び炭化水素基について記載されるものと同一の数の炭素原子を有することが可能である。
【００９４】
式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３である一態様において、Ｒ１ｃは、Ｃ１−Ｃ２２のアルカン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ２−Ｃ２２のアルカン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ３−Ｃ１７のアルカン基（置換及び／又は非置換の）、あるいはＣ４−Ｃ９のアルカン基（置換及び／又は非置換の）であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが４である一態様において、Ｒ１ｃは、Ｃ２−Ｃ２１のアルカン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ３−Ｃ１６のアルカン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ４−Ｃ８のアルカン基（置換及び／又は非置換の）であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である一部の実施形態において、Ｒ１ｃは、エタン基、プロパン基、ブタン基、ペンタン基、ヘキサン基、ヘプタン基、オクタン基、ノナン基、デカン基、ウンデカン基、ドデカン基、トリデカン基、テトラデカン基、ペンタデカン基、ヘキサデカン基、ヘプタデカン基、オクタデカン基、又はノナデカン基であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である他の実施形態において、Ｒ１ｃは、ペンタン基、ヘキサン基、ヘプタン基、又はオクタン基であり得る。一実施形態において、−Ｏ２ＣＲ２を有するカルボキシレートのＲ１ｃを用いることができるアルカン基（一般的な又は特定の）のいずれかは置換されることが可能である。一実施形態では、Ｒ１ｃとして使用可能な置換アルカン基（一般的な又は特定の）の各置換基は、独立して、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基であり得；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。ハロゲン化物置換基及びヒドロカルボキシ置換基は、本明細書に独立して開示され、Ｒ１ｃとして使用可能な置換アルカン基（一般的な又は特定の）を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【００９５】
式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３である一態様において、Ｒ１ｃは、Ｃ１−Ｃ２２のアルケン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ２−Ｃ２２のアルケン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ３−Ｃ１７のアルケン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ４−Ｃ９のアルケン基（置換及び／又は非置換の）であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが４である一態様において、Ｒ１ｃは、Ｃ２−Ｃ２１のアルケン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ３−Ｃ１６のアルケン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ４−Ｃ８のアルケン基（置換及び／又は非置換の）であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である他の実施形態において、Ｒ１ｃは、ブテン基、ペンテン基、ヘキセン基、ヘプテン基、又はオクテン基、ノネン基、デセン基、又はウンデセン基であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である他の実施形態において、Ｒ１ｃは、ブテン基、ペンテン基、ヘキセン基、ヘプテン基、又はオクテン基であり得る。一実施形態において、Ｒ１ｃとして使用可能な置換アルケン基の各置換基は、独立して、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。ハロゲン化物置換基及びヒドロカルボキシ置換基は、本明細書に独立して開示され、Ｒ１ｃとして使用可能な置換アルケン基を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【００９６】
式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である一態様において、Ｒ１ｃは、Ｃ３−Ｃ２１のシクロアルカン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ５−Ｃ１６のシクロアルカン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ５−Ｃ１０のシクロアルカン基（置換及び／又は非置換の）であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である一態様において、Ｒ１ｃは、シクロペンタン基、置換シクロペンタン基、シクロヘキサン基、置換シクロヘキサン基、シクロヘプタン基、又は置換シクロヘプタン基；あるいはシクロペンタン基、置換シクロペンタン基、シクロヘキサン基、又は置換シクロヘキサン基；あるいはシクロペンタン基又は置換シクロペンタン基；あるいはシクロヘキサン基又は置換シクロヘキサン基であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である一部の実施形態において、Ｒ１ｃは、シクロペンタン基、又はシクロヘキサン基であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である更に他の実施形態において、Ｒ１ｃは、シクロペンタン基；あるいは置換シクロペンタン基；あるいはシクロヘキサン基；あるいは置換シクロヘキサン基であり得る。一実施形態において、Ｒ１ｃとして使用可能な置換シクロアルカン基（一般的な又は特定の）の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。
【００９７】
式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である一態様において、Ｒ１ｃは、Ｃ３−Ｃ２１のシクロアルケン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ５−Ｃ１６のシクロアルケン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ５−Ｃ１０のシクロアルケン基（置換及び／又は非置換の）であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である一態様において、Ｒ１ｃは、シクロペンテン基、置換シクロペンテン基、シクロヘキセン基、置換シクロヘキセン基、シクロヘプテン基、又は置換シクロヘプテン基；あるいはシクロペンテン基、置換シクロペンテン基、シクロヘキセン基、又は置換シクロヘキセン基；あるいはシクロヘプテン基又は置換シクロヘプテン基、あるいはシクロヘキセン基又は置換シクロヘキセン基であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である一部の実施形態において、Ｒ１ｃは、シクロペンテン基、又はシクロヘキセン基であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である更に他の実施形態において、Ｒ１ｃは、シクロペンテン基；あるいは置換シクロペンテン基；あるいはシクロヘキセン基；あるいは置換シクロヘキセン基であり得る。一実施形態において、Ｒ１ｃとして使用可能な置換シクロアルケン基（一般的な又は特定の）の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。
【００９８】
式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である一態様において、Ｒ１ｃは、Ｃ６−Ｃ２１のベンゼン基（置換及び／又は非置換の）又はＣ１０−Ｃ２１のナフタレン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ６−Ｃ２１のベンゼン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ１０−Ｃ２１のナフタレン基（置換及び／又は非置換の）であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である別の態様において、Ｒ１ｃは、Ｃ６−Ｃ１６のベンゼン基（置換及び／又は非置換の）又はＣ１０−Ｃ１６のナフタレン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ６−Ｃ１６のベンゼン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ１０−Ｃ１６のナフタレン基（置換及び／又は非置換の）であり得る。式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である別の態様において、Ｒ１ｃは、Ｃ６−Ｃ１０のベンゼン基（置換及び／又は非置換の）であり得る。一実施形態において、Ｒ１ｃとして使用可能な置換ベンゼン基（一般的な又は特定の）又は置換ナフタレン基の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。
【００９９】
式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが３及び／又は４である一態様において、Ｒ１ｃは、Ｃ７−Ｃ２１のフェニルメタン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ７−Ｃ１６のフェニルメタン基（置換及び／又は非置換の）；あるいはＣ７−Ｃ１０のフェニルメタン基（置換及び／又は非置換の）であり得る。一実施形態において、Ｒ１ｃとして使用可能な置換フェニルメタン基（一般的な又は特定の）の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。
【０１００】
ハロゲン化物、ヒドロカルビル基置換、及びヒドロカルボキシ基置換（非水素置換又は非水素置換基とも呼ばれる）は、独立して本明細書で開示される。これら置換基は、本明細書に記載の式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のＲ１ｃとして使用可能な任意の置換炭化水素基（一般的な又は特定の）、置換アルカン基（一般的な又は特定の）、置換アルケン基（一般的な又は特定の）、置換シクロアルカン基（一般的な又は特定の）、置換シクロアルケン基（一般的な又は特定の）、置換アレーン基（一般的な又は特定の）、置換アラルカン基（一般的な又は特定の）を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【０１０１】
式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが２である一態様では、任意の一般的又は特定の有機基、不活性官能基からなる有機基、炭化水素基、アルカン基、置換アルカン基、アルケン基、置換アルケン基、シクロアルカン基、置換シクロアルカン基、シクロアルケン基、置換シクロアルケン基、アレーン基、置換アレーン基、アラルカン基、又は置換アラルカン基である式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のＲ１ｃは、有機（ｏｒｇａｎｉｃ）の−ｉｃ、炭化水素の−オン、一般的又は特異的なアルカン（アラルカンを含む）の−アン、一般的な又は特定のアルケン（シクロアルケンを含む）の−エ、又は一般的な又は特定のアレーンの−エンを接尾語−イレンで置き換えることによって呼称されることが可能である。例えば、ｒが２である場合、一般的な有機基及び炭化水素基は、それぞれオルガニレン基及びヒドロカルビレン基になり、一般的なアルカン及びシクロアルカン基は、それぞれアルキレン及びシクロアルキレンになり、特定のメタン基及びエタン基は、それぞれメチレン基及びエチレン基になり、一般的アルケン基はアルキニレン基になり、特定のエテン基はエテニレン基になり、一般的なアレーン基は、アリーレン基になり、並びに一般的なアラルカン基は、アラルキレン基になるであろう。同様に、式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のｒが１である一態様において、任意の一般的又は特定の有機基、不活性官能基からなる有機基、炭化水素基、アルカン基、置換アルカン基、アルケン基、置換アルケン基、シクロアルカン基、置換シクロアルカン基、シクロアルケン基、置換シクロアルケン基、アレーン基、置換アレーン基、アラルカン基、又は置換アラルカン基である式（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有するカルボキシレート基のＲ１ｃは、有機の−イック、炭化水素の−オン、一般的又は特異的なアルカン（アラルカンを含む）の−アン、一般的な又は特定のアルケン（シクロアルケンを含む）の−エ、又は一般的な又は特定のアレーン（ａｒｅｎｅ）の−エンを接尾語−イレンで置き換えることによって呼称されることが可能である。例えば、ｒが１である場合、一般的な有機基及び炭化水素基は、それぞれオルガニレン基及びヒドロカルビレン基になり、一般的なアルカン及びシクロアルカン基は、それぞれアルキル及びシクロアルキルになり、特定のメタン基及びエタン基は、それぞれメチレン基及びエチレン基になり、一般的アルケン基はアルケニル基になり、特定のエテン基はエテニル基になり、一般的なアレーン基は、アリール基になり、並びに一般的なアラルカン基は、アラルキル基になるであろう。その他の一般的又は特定の基へのこれら命名規則の拡張は、一般的な基から特定の基への間の一般名の変更（例えば、ベンゼン基のフェニレン基又はフェニル基への変更など）と共に、容易に明らかである。
【０１０２】
カルボン酸塩が複数のカルボン酸塩部分を有する非限定的な実施形態において、各カルボン酸塩は、独立して、シュウ酸塩、マロン酸塩（１，３−プロパンジオエート）、コハク酸塩（１，４−ブタンジオエート）、グルタル酸塩（１，５−ペンタンジオエート）、アジピン酸塩（１，６−ヘキサンジオエート）、ピメリン酸塩（１，７−ヘプタンジオエート）、スベリン酸塩（１，８−オクタンジオエート）、マレイン酸塩、フマル酸塩、アセチレンジカルボキシレート、フタル酸塩（１，２−ベンゼンジカルボキシレート）、イソフタル酸塩（１，３−ベンゼンジカルボキシレート）、テレフタル酸塩（１，４−ベンゼンジカルボン酸塩）、フェニレンジアセテート、クエン酸塩、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはマロン酸塩（１，３−プロパンジオエート）、コハク酸塩（１，４−ブタンジオエート）、グルタル酸塩（１，５−ペンタンジオエート）、アジピン酸塩（１，６−ヘキサンジオエート）、ピメリン酸塩（１，７−ヘプタンジオエート）、スベリン酸塩（１，８−オクタンジオエート）、マレイン酸塩、フマル酸塩、アセチレンジカルボキシレート、フタル酸塩（１，２−ベンゼンジカルボキシレート）、イソフタル酸塩（１，３−ベンゼンジカルボキシレート）、テレフタル酸塩（１，４−ベンゼンジカルボン酸塩）、フェニレンジアセテート、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはマロン酸塩（１，３−プロパンジオエート）、コハク酸塩（１，４−ブタンジオエート）、グルタル酸塩（１，５−ペンタンジオエート）、アジピン酸塩（１，６−ヘキサンジオエート）、ピメリン酸塩（１，７−ヘプタンジオエート）、スベリン酸塩（１，８−オクタンジオエート）、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはマレイン酸塩、フマル酸塩、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは、アセチレンジカルボキシレート；あるいはフタル酸塩（１，２−ベンゼンジカルボキシレート）、イソフタル酸塩（１，３−ベンゼンジカルボキシレート）、テレフタル酸塩（１，４−ベンゼンジカルボン酸塩）、又はこれらの組み合わせ；あるいはフェニレンジアセテートであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。カルボン酸塩が複数のカルボン酸塩部分を有する他の非限定的な実施形態において、各カルボン酸塩は、独立して、シュウ酸塩；あるいはマロン酸塩（１，３−プロパンジオエート）；あるいはコハク酸塩（１，４−ブタンジオエート）；あるいはグルタル酸塩（１，５−ペンタンジオエート）；あるいはアジピン酸塩（１，６−ヘキサンジオエート）；あるいはピメリン酸塩（１，７−ヘプタンジオエート）；あるいはスベリン酸塩（１，８−オクタンジオエート）；あるいはマレイン酸塩；あるいはフマル酸塩；あるいはアセチレンジカルボキシレート；あるいはフタル酸塩（１，２−ベンゼンジカルボキシレート）；あるいはイソフタル酸塩（１，３−ベンゼンジカルボキシレート）；あるいはテレフタル酸塩（１，４−ベンゼンジカルボン酸塩）；あるいはフェニレンジアセテート；あるいはクエン酸塩であるか、これらを含み、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０１０３】
一態様及びいずれかの実施形態において、カルボキシレート基は、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するモノカルボン酸塩であるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩の一実施形態において、Ｒ２ｃは、オルガニル基；あるいは不活性官能基からなるオルガニル基；あるいはヒドロカルビル基、又は置換ヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルビル基；あるいは置換ヒドロカルビル基であり得る。一般的にＲ２ｃ（オルガニル、不活性官能基からなるオルガニル、ヒドロカルビル、及び／又は置換ヒドロカルビルのいずれにせよ）は、Ｃ１−Ｃ２４の基；あるいはＣ２−Ｃ２４の基；あるいはＣ３−Ｃ１９の基；あるいはＣ４−Ｃ１１の基であり得る。一部の実施形態において、ヒドロカルビル基（置換又は非置換の）は、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、又はアラルキル基；あるいはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基；あるいはアルキル基、アリール基、又はアラルキル基；あるいはアルキル基又はアリール基；あるいはアルキル基；あるいはアルケニル基；あるいはシクロアルキル基；あるいはシクロアルケニル基；あるいはアリール基；あるいはアラルキル基であり得る。
【０１０４】
一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、シクロアルケニル基、置換シクロアルケニル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、又は置換アラルキル基；あるいはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、又はアラルキル基であり得る。いくつか実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、アルキル基又は置換アルキル基、；あるいはアルケニル基又は置換アルケニル基；あるいはシクロアルキル基又は置換シクロアルキル基；あるいはシクロアルケニル基又は置換シクロアルケニル基；あるいはアリール基又は置換アリール基；あるいはアラルキル基又は置換アラルキル基であり得る。他の実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、アルキル基；あるいは置換アルキル基；あるいはアルケニル基；あるいは置換アルケニル基；あるいはシクロアルキル基；あるいは置換シクロアルキル基；あるいはシクロアルケニル基；あるいは置換シクロアルケニル基；あるいはアリール基；あるいは置換アリール基；あるいはアラルキル基；あるいは置換アラルキル基であり得る。一般的に、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、シクロアルケニル基、置換シクロアルケニル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、又は置換アラルキル基は、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩内でＲ２ｃとして使用可能な有機基、不活性官能基からなる有機基、及び炭化水素基（置換又は非置換の）について記載されていものと、同一の数の炭素原子を有することが可能である。
【０１０５】
一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃとして使用可能なアルキル基（置換又は非置換の）は、Ｃ１−Ｃ２４のアルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ２−Ｃ２４のアルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ３−Ｃ１９のアルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ４−Ｃ１１のアルキル基（置換又は非置換の）であり得る。一部の実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、又はウンデシル基であり得る。一部の実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、ブチル基；あるいはペンチル基；あるいはヘキシル基；あるいはヘプチル基；あるいはオクチル基；あるいはノニル基；あるいはデシル基；あるいはウンデシル基であり得る。一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃとして使用可能なアルキル基（一般的な又は特定の）のいずれも、置換されることが可能である。一実施形態において、Ｒ２ｃとして使用可能な置換アルキル基（一般的な又は特定の）の各置換基は、独立して、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。ハロゲン化物置換基及びヒドロカルボキシ置換基は、本明細書で独立して開示され、Ｒ２ｃとして使用可能な置換アルキル基（一般的な又は特定の）を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【０１０６】
一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ペント−３−イル基、イソ−アミル基、ネオ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ヘキサン−２−イル基、ヘキサン−３−イル基、２−メチルペンタン−１−イル基、２−エチルブタン−１−イル基、２−メチルペンタン−２−イル基、２，３−ジメチルブタン−１−イル基、２，３−ジメチルブタン−２−イル基、ｎ−ヘプチル基、ヘプタン−２−イル基、ヘプタン−３−イル基、ヘプタン−４−イル基、２−メチルヘキサン−１−イル基、２−エチルペンタン−１−イル基、２−メチルヘキサン−２−イル基、２，３−ジメチルペンタン−１−イル基、２，３−ジメチルペンタン−２−イル基、２，３，３−トリメチルペンタン−１−イル基、２，３，３−トリメチルペンタン−２−イル基、ｎ−オクチル基、オクタン−２−イル基、オクタン−３−イル基、オクタン−４−イル基、２−メチルヘプタン−１−イル基、２−エチルヘキサン−１−イル基、２−メチルヘプタン−２−イル基、ｎ−ノニル基、ノナン−２−イル基、ノナン−３−イル基、ノナン−４−イル基、ノナン−５−イル基、ｎ−デシル基、デカン−２−イル基、デカン−３−イル基、デカン−４−イル基、デカン−５−イル基、又はｎ−ウンデシル基であり得る。他の実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、ｎ−プロピル基；あるいはイソプロピル基；あるいはｎ−ブチル基；あるいはｓｅｃ−ブチル基；あるいはイソ−ブチル基；あるいはｔ−ブチル基；あるいはｎ−ペンチル基；あるいはペント−３−イル基；あるいはイソ−アミル基；あるいはネオ−ペンチル基；あるいはｎ−ヘキシル基；あるいはヘキサン−２−イル基；あるいはヘキサン−３−イル基；あるいは２−メチルペンタン−１−イル基；あるいは２−エチルブタン−１−イル基；あるいは２−メチルペンタン−２−イル基；あるいは２，３−ジメチルブタン−１−イル基；あるいは２，３−ジメチルブタン−２−イル基；あるいはｎ−ヘプチル基；あるいはヘプタン−２−イル基；あるいはヘプタン−３−イル基；あるいはヘプタン−４−イル基；あるいは２−メチルヘキサン−１−イル基；あるいは２−エチルペンタン−１−イル基；あるいは２−メチルヘキサン−２−イル基；あるいは２，３−ジメチルペンタン−１−イル基；あるいは２，３−ジメチルペンタン−２−イル基；あるいは２，３，３−トリメチルペンタン−１−イル基；あるいは２，３，３−トリメチルペンタン−２−イル基；あるいはｎ−オクチル基；あるいはオクタン−２−イル基；あるいはオクタン−３−イル基；あるいはオクタン−４−イル基；あるいは２−メチルヘプタン−１−イル基；あるいは２−エチルヘキサン−１−イル基；あるいは２−メチルヘプタン−２−イル基；あるいはｎ−ノニル基；あるいはノナン−２−イル基；あるいはノナン−３−イル基；あるいはノナン−４−イル基；あるいはノナン−５−イル基；あるいはｎ−デシル基；あるいはデカン−２−イル基；あるいはデカン−３−イル基；あるいはデカン−４−イル基；あるいはデカン−５−イル基；あるいはｎ−ウンデシル基であり得る。一実施形態では、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃとして使用可能なアルキル基のいずれも置換されることが可能である。一実施形態において、Ｒ２ｃとして使用可能な置換アルキル基（一般的な又は特定の）の各置換基は、独立して、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物：あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。ハロゲン化物置換基及びヒドロカルボキシ置換基は、本明細書で独立して開示され、Ｒ２ｃとして使用可能な置換アルキル基（一般的な又は特定の）を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【０１０７】
一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃとして使用可能なアルケニル基（置換又は非置換の）は、Ｃ２−Ｃ２４のアルケニル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ３−Ｃ１９のアルケニル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ４−Ｃ１１のアルケニル基（置換又は非置換の）であり得る。一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、又はノナデセニル基；あるいは、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、又はウンデセニル基であり得る。一部の実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、エテニル基；あるいはプロペニル基；あるいはブテニル基；あるいはペンテニル基；あるいはヘキセニル基；あるいはヘプテニル基；あるいはオクテニル基；あるいはノネニル基；あるいはデセニル基；あるいはウンデセニル基であり得る。一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃとして使用可能なアルケニル基のいずれも置換されることが可能である。一実施形態において、Ｒ２ｃとして使用可能な置換アルケニル基（一般的な又は特定の）の各置換基は、独立して、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。ハロゲン化物置換基及びヒドロカルボキシ置換基は、本明細書で独立して開示され、Ｒ２ｃとして使用可能な置換アルケニル基（一般的な又は特定の）を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【０１０８】
一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃとして使用可能なシクロアルキル基（置換又は非置換の）は、Ｃ３−Ｃ２４のシクロアルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ３−Ｃ１９のシクロアルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ４−Ｃ１１のシクロアルキル基（置換又は非置換の）であり得る。一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、又は置換シクロヘキシル基であり得る。一部の実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、シクロペンチル基又は置換シクロペンチル基；あるいはシクロヘキシル基又は置換シクロヘキシル基であり得る。一部の実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基であり得る。他の実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、シクロペンチル基；あるいは置換シクロペンチル基；あるいはシクロヘキシル基；あるいは置換シクロヘキシル基であり得る。一実施形態において、Ｒ２ｃとして使用可能な置換シクロアルキル基（一般的な又は特定の）の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。
【０１０９】
一態様において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃとして使用可能なアリール基（置換又は非置換の）は、Ｃ６−Ｃ２４のアリール基（置換又は非置換の）；あるいはＣ６−Ｃ１９のアリール基（置換又は非置換の）；あるいはＣ６−Ｃ１１のアリール基（置換又は非置換の）であり得る。一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、フェニル基、置換フェニル基、ナフチル基、又は置換ナフチル基；あるいはフェニル基又は置換フェニル基；あるいはナフチル基又は置換ナフチル基であり得る。一部の実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、フェニル基又はナフチル基であり得る。他の実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、フェニル基；あるいは置換フェニル基；あるいはナフチル基；あるいは置換ナフチル基であり得る。一実施形態において、Ｒ２ｃ置換されたフェニル基は、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４―二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、又は２，４，６−三置換フェニル基であり得る。他の実施形態において、Ｒ２ｃ置換されたフェニル基は、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、又は２，６−二置換フェニル基；あるいは３−置換フェニル基又は３，５−二置換フェニル基；あるいは２−置換フェニル基又は４−置換フェニル基；あるいは２，４−二置換フェニル基又は２，６−二置換フェニル基；あるいは２−置換フェニル基；あるいは３−置換フェニル基；あるいは４−置換フェニル基；あるいは２，４−二置換フェニル基；あるいは２，６−二置換フェニル基；あるいは３，５−二置換フェニル基；あるいは２，４，６−三置換フェニル基であり得る。一実施形態において、Ｒ２ｃとして使用可能な置換アリール基（一般的な又は特定の）又は置換ナフチル基（一般的な又は特定の）の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。
【０１１０】
一態様において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃとして使用可能なアラルキル基（置換又は非置換の）は、Ｃ７−Ｃ２４のアラルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ７−Ｃ１９のアラルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ７−Ｃ１１のアラルキル基（置換又は非置換の）であり得る。一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、ベンジル基又は置換ベンジル基であり得る。一実施形態において、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するカルボン酸塩のＲ２ｃは、ベンジル基；あるいは置換ベンジル基であり得る。一実施形態では、Ｒ２ｃとして使用可能な置換アラルキル基（一般的な又は特定の）の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。
【０１１１】
ハロゲン化物、ヒドロカルビル置換基、及びヒドロカルボキシ置換基（非水素置換又は非水素置換基とも呼ばれる）は、本明細書で独立して開示される。これら置換基は、本明細書に記載の任意の置換ヒドロカルビル基（一般的な又は特定の）、置換アルキル基（一般的な又は特定の）、置換アルケニル基（一般的な又は特定の）、置換シクロアルキル基（一般的な又は特定の）、置換シクロアルケニル基（一般的な又は特定の）、置換アリール基（一般的な又は特定の）、置換アラルキル基を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【０１１２】
一実施形態において、置換Ｒ２ｃフェニル基は、トイル基、キシリル基、又はトリメチルフェニル基；あるいはトイル基；あるいはキシリル基；あるいはトリメチルフェニル基であり得る。一部の実施形態では、Ｒ２ｃトイル基は、オルト−トリル基、メタ−トイル基、又はパラ−トリル基；あるいはオルト−トリル基；あるいはメタ−トリル基、又はパラ−トイル基であり得る。一実施形態において、Ｒ２ｃキシリル基は、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、又は３，５−ジメチルフェニル基；あるいは２，４−ジメチルフェニル基又は２，６−ジメチルフェニル基；あるいは２，３−ジメチルフェニル基；あるいは２，４−ジメチルフェニル基；あるいは２，５−ジメチルフェニル基；あるいは２，６−ジメチルフェニル基；あるいは３，４−ジメチルフェニル基；あるいは３，５−ジメチルフェニル基であり得る。
【０１１３】
一態様において、遷移金属カルボン酸塩（一般的な又は特定の）の各モノカルボン酸塩は、独立して、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩、ペンタノエート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、デカノエート、ウンデセノエート、ドデカノエート、トリデカノエート、テトラデカノエート、ペンタデカノエート、ヘキサデカノエート、ヘプタデカノエート、オクタデカノエート、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはプロピオン酸塩、酪酸塩、ペンタノエート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、デカノエート、ウンデセノエート、ドデカノエート、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、遷移金属カルボン酸塩（一般的な又は特定の）の各モノカルボン酸塩は、独立して、酢酸塩、プロピオン酸塩、ｎ−酪酸塩、イソ酪酸塩、吉草酸塩（ｎ−ペンタノエート）、ｎｅｏ−ペンタノエート、カプロン酸塩（ｎ−ヘキサノエート）、ｎ−ヘプタノエート、カプリル酸塩（ｎ−オクタノエート）、２−エチルヘキサノエート、ｎ−ノナノエート、カプリン酸塩（ｎ−デカノエート）、ｎ−ウンデカノエート、ラウリン酸塩（ｎ−ドデカノエート）、ステアリン酸塩（ｎ−オクタデカノエート）、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはプロピオン酸塩、ｎ−酪酸塩、イソ酪酸塩、吉草酸塩（ｎ−ペンタノエート）、ネオ−ペンタノエート、カプロン酸塩（ｎ−ヘキサノエート）、ｎ−ヘプタノエート、カプリル酸塩（ｎ−オクタノエート）、２−エチルヘキサノエート、ｎ−ノナノエート、カプリン酸塩（ｎ−デカノエート）、ｎ−ウンデカノエート、ラウリン酸塩（ｎ−ドデカノエート）、ステアリン酸塩（ｎ−オクタデカノエート）、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは吉草酸塩（ｎ−ペンタノエート）、カプリル酸塩（ｎ−オクタノエート）、又は２−エチルヘキサイノエートであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、遷移金属カルボン酸塩（一般的な又は特定の）の各モノカルボン酸塩は、独立して、酢酸塩；あるいはプロピオン酸塩；あるいは酪酸塩；あるいはｎ−酪酸塩；あるいはイソ酪酸塩；あるいはペンタノエート；あるいは吉草酸塩（ｎ−ペンタノエート）；あるいはネオ−ペンタノエート；あるいはヘキサノエート；あるいはカプロン酸塩（ｎ−ヘキサノエート）；あるいはヘプタノエート；あるいはオクタノエート；あるいはカプリル酸塩（ｎ−オクタノエート）；あるいは２−エチルヘキサノエート；あるいはノナノエート；あるいはデカノエート；あるいはカプリン酸塩（ｎ−デカノエート）；あるいはウンデカノエート；あるいはドデカノエート；あるいはラウリン酸塩（ｎ−ドデカノエート）；あるいはトリデカノエート；あるいはテトラデカノエート；あるいはペンタデカノエート；あるいはヘキサデカノエート；あるいはヘプタデカノエート；あるいはオクタデカノエート；あるいはステアリン酸塩（ｎ−オクタデカノエート）であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０１１４】
一態様において、遷移金属カルボン酸塩（一般的な又は特定の）の各モノカルボン酸塩は、独立して、安息香酸塩、置換安息香酸塩、ナフトエ酸塩、又は置換ナフトエ酸塩であり、これらを含み、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、各カルボン酸塩は、安息香酸塩又は置換安息香酸塩；あるいはナフトエ酸塩又は置換ナフトエ酸塩であり、これらを含み、又は本質的にこれらからなってもよい。他の実施形態において、遷移金属カルボン酸塩（一般的な又は特定の）の各モノカルボン酸塩は、独立して、安息香酸塩又はナフトエ酸塩であり、これらを含み、又は本質的にこれらからなってもよい。更に他の実施形態において、遷移金属カルボン酸塩（一般的な又は特定の）の各モノカルボン酸塩は、独立して、安息香酸塩；あるいは置換安息香酸塩；あるいはナフトエ酸塩；あるいは置換ナフトエ酸塩であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、遷移金属カルボン酸塩（一般的な又は特定の）の各モノカルボン酸塩は、独立して、メチルベンゾエート、ジメチルベンゾエート、トリメチルベンゾエート、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはメチルベンゾエート；あるいはジメチルベンゾエート；あるいはトリメチルベンゾエートであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態では、メチルベンゾエートは、２−メチルベンゾエート、３−メチルベンゾエート、４−メチルベンゾエート、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは２−メチルベンゾエート、４−メチルベンゾエート、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは２−メチルベンゾエート；あるいは３−メチルベンゾエート；あるいは４−メチルベンゾエートであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、ジメチルベンゾエートは、２，３−ジメチルベンゾエート、２，４−ジメチルベンゾエート、２，５−ジメチルベンゾエート、２，６−ジメチルベンゾエート、３，４−ジメチルベンゾエート、３，５−ジメチルベンゾエート、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは２，４−ジメチルベンゾエート、２，６−ジメチルベンゾエート、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは２，３−ジメチルベンゾエート；あるいは２，４−ジメチルベンゾエート；あるいは２，５−ジメチルベンゾエート；あるいは２，６−ジメチルベンゾエート；あるいは３，４−ジメチルベンゾエート；あるいは３，５−ジメチルベンゾエートであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、トリメチルベンゾエートは、２，４，６−トリメチルベンゾエートであるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。一実施形態において、遷移金属カルボン酸塩（一般的な又は特定の）の各モノカルボン酸塩は、独立して、フェニル酢酸、置換フェニル酢酸、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはフェニル酢酸；あるいは置換フェニル酢酸であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０１１５】
一般的に、本明細書に記載の触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する方法で用いることが可能である遷移金属は、本明細書に記載の遷移金属カチオンの任意の組み合わせ、及び本明細書に記載の無機アニオン又は本明細書に記載の有機物由来のアニオンを含んでもよいか、本質的にこれらからなってもよい。いくつかの非限定的な例示の遷移金属化合物が本明細書に提供されている。提供された例示の遷移金属化合物は、本開示から想定され得る全ての遷移金属化合物を網羅するものではないことを理解されたい。
【０１１６】
一般的に、本明細書に記載の触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることが可能である遷移金属化合物は、本明細書に記載の遷移金属カチオンの任意の組み合わせ、及び本明細書に記載のアニオン（無機又は有機物由来のアニオン）含むことが可能であるか、本質的にこれらからなってもよい。触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることが可能であるいくつかの非限定的な遷移金属化合物が本明細書に提供されている。提供された例示の遷移金属化合物は、触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることが可能である全ての遷移金属化合物を網羅するものではないことを理解されたい。その他の遷移金属化合物は、本開示から容易に明らかである。
【０１１７】
本明細書に記載の触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることが可能である遷移金属化合物は、クロム化合物を含むことができ、又はクロム化合物からなり、若しくはクロム化合物から本質的になる。本態様において、クロム化合物は、０〜６のクロム酸化状態を有することが可能である。一部の実施形態では、クロム化合物中のクロムは、＋２又は＋３の酸化状態を有することが可能である（すなわち、クロム（ＩＩ）又はクロム（ＩＩＩ）化合物）。他の実施形態では、クロム化合物中のクロムは、＋２の酸化状態を有することが可能であり（すなわち、クロム（ＩＩ）化合物）；あるいは＋３の酸化状態を有することが可能である（すなわち、クロム（ＩＩＩ）化合物）。
【０１１８】
一実施形態において、本明細書に記載の触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることが可能であるクロム（ＩＩ）化合物は、硝酸クロム（ＩＩ）、硫酸クロム（ＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩ）、塩化クロム（ＩＩ）、臭化クロム（ＩＩ）、又はヨウ化クロム（ＩＩ）を含んでも、これらからなっても、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、本明細書に記載の触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることが可能であるクロム（ＩＩＩ）化合物は、硝酸クロム（ＩＩＩ）、硫酸クロム（ＩＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）、臭化クロム（ＩＩＩ）、又はヨウ化クロム（ＩＩＩ）を含んでも、これらからなっても、又は本質的にこれらからなってもよい。本明細書に記載の触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることが可能であるクロム化合物は、硝酸クロム（ＩＩ）；あるいは硫酸クロム（ＩＩ）；あるいはフッ化クロム（ＩＩ）；あるいは塩化クロム（ＩＩ）；あるいは臭化クロム（ＩＩ）；あるいはヨウ化クロム（ＩＩ）；あるいは硝酸クロム（ＩＩＩ）；あるいは硫酸クロム（ＩＩＩ）；あるいはフッ化クロム（ＩＩＩ）；あるいは塩化クロム（ＩＩＩ）；あるいは臭化クロム（ＩＩＩ）；あるいはヨウ化クロム（ＩＩＩ）を含んでも、これらからなっても、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０１１９】
一実施形態では、本明細書に記載の触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることが可能であるクロム化合物は、クロム（ＩＩ）有機酸化物、カルボン酸クロム（ＩＩ）、クロム（ＩＩ）β−ジオネート、クロム（ＩＩＩ）有機酸化物、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、又はクロム（ＩＩＩ）β−ジオネート；あるいはクロム（ＩＩ）有機酸化物又はクロム（ＩＩＩ）有機酸化物；あるいはカルボン酸クロム（ＩＩ）又はカルボン酸クロム（ＩＩＩ）；あるいはクロム（ＩＩ）β−ジオネート又はクロム（ＩＩＩ）β−ジオネート；あるいはクロム（ＩＩ）有機酸化物；あるいはカルボン酸クロム（ＩＩ）；あるいはクロム（ＩＩ）ベータ−ジオネート；あるいはクロム（ＩＩＩ）有機酸化物；あるいはカルボン酸クロム（ＩＩＩ）；あるいはクロム（ＩＩＩ）ベータ−ジオネートを含んでも、これらからなっても、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、いずれかのクロム（ＩＩ）又はクロム（ＩＩＩ）有機酸化物、β−ジオネート、及び／又はカルボン酸塩の有機酸化物、β−ジオエート、及び／又はカルボン酸塩は、有機酸化物、β−ジオネート、及び／又はカルボン酸塩について、本明細書で記載されているような任意の数の炭素原子を有することが可能である。
【０１２０】
カルボン酸クロムは、触媒系、触媒系を調製するためのプロセス、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）ためのプロセスで用いることが可能である、特に有用な遷移金属化合物であり得る。したがって、一態様において、本開示に係る触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法は、カルボン酸クロム（ＩＩ）又はカルボン酸クロム（ＩＩＩ）を含むか、本質的にこれらからなるか、又はこれらからなるカルボン酸クロム組成物、あるいはカルボン酸クロム（ＩＩ）、あるいはカルボン酸クロム（ＩＩＩ）を含むか、本質的にこれらからなるか、又はこれらからなるカルボン酸クロム組成物を用いることが可能である。カルボン酸塩は、本明細書に独立して記載され、触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることができるカルボン酸塩クロム（ＩＩ）及び／又はカルボン酸クロム（ＩＩＩ）を更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０１２１】
非限定的な実施形態において、触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることができるカルボン酸塩クロム（ＩＩＩ）組成物は、Ｃ３−Ｃ２５のモノカルボン酸クロム（ＩＩＩ）含むか、本質的にこれからなるか、又はこれからなってもよい。非限定的な実施形態において、触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることができるカルボン酸塩クロム（ＩＩＩ）組成物は、Ｃ３−Ｃ２５のモノカルボン酸クロム（ＩＩＩ）を含むか、本質的にこれからなるか、又はこれからなってもよい。
【０１２２】
非限定的な実施形態において、遷移金属化合物として使用可能なカルボン酸クロムは、本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるカルボン酸クロムであるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。
【０１２３】
非限定的な実施形態において、触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることができるカルボン酸塩クロム（ＩＩＩ）組成物は、プロピオン酸クロム（ＩＩＩ）、ｎ−酪酸クロム（ＩＩ）、イソ酪酸クロム（ＩＩＩ）、吉草酸（ｎ−ペンタノエート）クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）ｎｅｏ−ペンタノエート、カプロン酸（ｎ−ヘキサノエート）クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）ｎ−ヘプタノエート、カプリル酸（ｎ−オクタノエート）クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート、クロム（ＩＩＩ）ｎ−ノナノエート、カプリン酸（ｎ−デカノエート）クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）ｎ−ウンデカノエート、ラウリン酸（ｎ−ドデカノエート）クロム（ＩＩＩ）、ステアリン酸（ｎ−オクタデカノエート、又はこれらの組み合わせ；あるいは、吉草酸（ｎ−ペンタノエート）クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）ｎｅｏ−ペンタノエート、カプロン酸（ｎ−ヘキサノエート）クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）ｎ−ヘプタノエート、カプリル酸（ｎ−オクタノエート）クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート、クロム（ＩＩＩ）ｎ−ノナノエート、カプリン酸（ｎ−デカノエート）クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）ｎ−ウンデカノエート、ラウリン酸（ｎ−ドデカノエート）クロム（ＩＩＩ）、又はこれらの組み合わせ；あるいは吉草酸（ｎ−ペンタノエート）クロム（ＩＩＩ）、カプリル酸（ｎ−オクタノエート）クロム（ＩＩＩ）、又はクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。触媒系、触媒系を調製するための方法、及び／又はオレフィンをオリゴマー化する（又は三量体化する）方法で用いることができるその他のカルボン酸クロム組成物（クロム（ＩＩ）及び／又はクロム（ＩＩＩ））は、本開示から容易に明らかであり、十分に想定される。
【０１２４】
２０１１年１２月１２日出願の関連米国特許出願第１３／３２３，１９１号は、市販のカルボン酸クロム組成物とは異なる組成組立てを有するカルボン酸クロムを記載している。２０１１年１２月１２日出願の米国特許出願第１３／３２３，１９１号は、全ての目的で、参考として本明細書に組み込まれる。本明細書で参照される文献中で開示されているように、カルボン酸クロム（及びその他の遷移金属カルボン酸塩）は、複数のクロム原子を含有する１つ以上の構造を含むことが知られている。これらの化合物のいずれかは、本明細書に記載のオレフィンオリゴマー化（又は三量体化）プロセスで使用される触媒系に及ぼす影響を有する可能性がある。カルボン酸クロム組成物の組成組立てにおける違いは、カルボン酸クロム組成物を含有する触媒組成物を使用するオレフィンオリゴマー化（又は三量体化）プロセスに及ぼす影響を有する可能性があることが考えられる。一態様では（及び理論に限定するものではないが）、これら新しいカルボン酸クロム組成物は、かなりの量の単核遷移金属カルボン酸塩を含有することが可能であると考えられる。
【０１２５】
これら新しいカルボン酸クロム組成物は、オレフィンオリゴマー化（又は三量体化）プロセスにおける触媒系の性能に及ぼす影響を有することができることを予期せず発見した。例えば、市販のカルボン酸クロム組成物と、本明細書に記載の（及び２０１１年１２月１２日出願の米国特許出願第１３／３２３，１９１号に記載されている）新しいカルボン酸クロム組成物との間の相違は、最適な生成物選択性、生成物純度、及び／又は生産性を提供する触媒系成分比に及ぼす影響を有する可能性がある。カルボン酸塩組成物の組成組立てがオレフィンオリゴマー化（又は三量体化）プロセスに及ぼす影響を有することに関連する情報は、本明細書に提供されている。
【０１２６】
米国特許出願第１３／３２３，１９１号（２０１１年１２月１２日出願）（及び本開示）における単離された遷移金属カルボン酸塩組成物は、市販の金属カルボン酸塩組成物から単離された非晶質塊状物質よりも本質的に結晶性で現れることが可能である。例えば、約３．３のＣｒＣｌ３（ＴＨＦ）３に対するナトリウム２−エチルヘキサノエートのモル比を使用する（図３）本開示の単離されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートを単離された市販のクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート（図４）と比較されたい。しかしながら、いくつかの異なる結晶化法を試みた後にも、新しい遷移金属カルボン酸塩組成物は、従来のＸ線結晶解析法でそれらの構造の解明を可能にする結晶を形成することはない。結果的に、新しい遷移金属カルボン酸塩組成物は、複数のその他の解析技術の１つ又は組み合わせを用いて、既存する市販の遷移金属カルボン酸塩組成物から識別する必要がある。
【０１２７】
本明細書に記載のカルボン酸クロム組成物をその他のカルボン酸クロム組成物から識別するために用いることが可能である１つの技術は、赤外分光分析法であり得る。本明細書に記載のカルボン酸クロム組成物をその他のカルボン酸クロム組成物から識別するために用いることが可能である別の技術は、高エネルギーＸ線回折であり得る。赤外分光分析法及び高エネルギーＸ線回折に関連する特定の特徴は、本明細書に独立して記載され、本明細書に記載のカルボン酸クロム組成物を説明するために、これら特徴の１つ以上のいずれかを、個々に又は任意の組み合わせで用いることが可能である。
【０１２８】
カルボン酸クロム組成物の分光分析、特に赤外（ＩＲ）吸収分光分析法は、組成物に関する特性についての情報を提供することが可能である。カルボン酸塩組成物のＩＲスペクトルの諸態様は、Ｋ．Ｎａｋａｍｏｔｏ著、Ｉｎｆｒａｒｅｄ  ａｎｄ  Ｒａｍａｎ  Ｓｐｅｃｔｒａ  ｏｆ  Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  ａｎｄ  Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ、第４版、Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ、ニューヨーク市、１９８６年、２３１−２３３頁に提供されている。更に、Ｃａｎｎｏｎ及びＷｈｉｔｅ（Ｃａｎｎｏｎ，Ｒ．Ｄ及びＷｈｉｔｅ  Ｒ．Ｐ著、Ｐｒｏｇｒｅｓｓ  ｉｎ  Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ；第３６巻、１９８８年、１９５−２９８頁）並びにＤｅａｃｏｎ及びＰｈｉｌｉｐｓ（Ｇ．Ｂ．Ｄｅａｃｏｎ及びＲ．Ｉ．Ｐｈｉｌｌｉｐｓ著、Ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｒｅｖｉｅｗｓ、３３（１９８０年）、２２７−２５０頁）は、遷移金属とのカルボン酸アニオンの配位及び遷移金属カルボン酸塩のＩＲスペクトルの更なる情報を提供している。Ｖｌａｃｈｏｓら（Ａ．Ｖｌａｃｈｏｓ、Ｐｓｙｃｈａｒｉｓ、Ｃ．Ｐ。Ｒａｐｔｏｐｏｕｌａ、Ｎ．Ｌａｌｉｏｔｉ、Ｙ．Ｓａｎａｋｉｓ、Ｇ．Ｄｉａｍａｎｔｏｐｏｕｌｏｓ、Ｍ．Ｆａｒｄｉｓ、Ｍ．Ｋａｒａｙａｎｎｉ、Ｇ．Ｐａｓｐａｖａｓｓｉｌｉｏｕ、及びＡ．Ｔｅｒｚｉｓ著、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｉｍｉｃａ  Ａｃｔａ、３５７（２００４年）、３１６２−３１７２頁）（本明細書ではＶｌａｃｈｏｓと呼ぶ）は、三核クロム（ＩＩＩ）オキソカルボン酸塩についてのＩＲ情報を提供している。Ｃａｎｎｏｎ及びＷｈｉｔｅ、Ｄｅａｃｏｎ及びＰｈｉｌｌｉｐｓ、並びにＶｌａｃｈｏｓは、全ての目的に、それぞれが参考として本明細書に組み込まれる。
【０１２９】
これら文献は、理論に制約されるものではないが、カルボキシレート基の酸素原子が２つの遷移金属原子を架橋している遷移金属化合物についてのυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの位置が、カルボキシル基の酸素原子が、双方ともに同一の遷移金属原子に結合されているものとは異なることを示している。更に、理論に限定されるものではないが、カルボキシレート基の酸素原子が２つの遷移金属原子を架橋している遷移金属カルボン酸塩化合物のυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークとυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークとの間の分離と、カルボキシレート基の酸素原子が双方ともに同一の遷移金属原子に結合されているもののυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークとυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークとの間の分離は、識別可能な様式で異なる。特に、カルボキシレート基の酸素原子が同一の遷移金属原子に結合している遷移金属についてのυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの位置は、カルボキシレート基の酸素原子が、２つの遷移金属原子に架橋結合している遷移金属化合物についてのυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークよりも低い波数で出現する。更に、カルボキシレート基の酸素原子が同一の遷移金属原子に結合している遷移金属化合物のυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークとυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークとの間の分離は、カルボキシレート基の酸素原子が２つの遷移金属原子に架橋結合する遷移金属化合物のものよりも小さい。
【０１３０】
これら文献は、遷移金属カルボン酸塩組成物が、複数の遷移金属が単一の酸素原子に結合されている種を含有することも指摘している。存在し得るこのような種の１つは、理論に限定されるものではないが、Ｃａｎｎｏｎ及びＷｈｉｔｅで記載されているＭＯ３単位を有する三角架橋金属錯体であり、このＭＯ３単位（式中、Ｍは遷移金属）は、７５０ｃｍ−１〜５００ｃｍ−１の範囲のυａｓｙｍ（ＭＯ３）ＩＲピークを有する。クロム三角架橋錯体については、υｓｙｍ（ＣｒＯ３）ＩＲピークは、７５０ｃｍ−１〜６５０ｃｍ−１の周辺で出現する。
【０１３１】
図６及び図８は、２つの市販のクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート組成物のＩＲスペクトルの２０００ｃｍ−１〜１０００ｃｍ−１の部分を示す。これらＩＲスペクトルは、それぞれ１６１６±２０ｃｍ−１及び１５４９±１５ｃｍ−１におけるυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピーク並びに１４１９±１５ｃｍ−１におけるυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークを示している。図１０、図１２、図１４、及び図１６は、本明細書に記載の４つのクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエート組成物のＩＲスペクトルの２０００ｃｍ−１〜１０００ｃｍ−１の部分を示す。これらＩＲスペクトルのそれぞれは、１５１６±１５ｃｍ−１におけるυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピーク、１４２９±１５ｃｍ−１におけるυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピーク、及び（ピークが存在する場合でも）著しく弱まった１６１６±２０ｃｍ−１及び１５４９±１５ｃｍ−１におけるυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの存在を示している。これらＩＲスペクトルは、本明細書に記載のカルボン酸クロム組成物が、既存の市販のカルボン酸クロム組成物とは著しく異なることを示している。
【０１３２】
一実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、υｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１１０ｃｍ−１の範囲内にυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークを有することが可能である。一実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、υｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１０５ｃｍ−１の範囲内にυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークを有することが可能であり；あるいはυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１００ｃｍ−１の範囲内にυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークを有することが可能であり；あるいはυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの９５ｃｍ−１の範囲内にυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークを有することが可能であり；あるいはυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの９０ｃｍ−１の範囲内にυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークを有することが可能である。別の態様において、υｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１０５ｃｍ−１の範囲内の（又は本明細書に開示される任意のその他の範囲内の）υａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークは、遷移金属カルボン酸塩組成物の全てのυａｓｙｍ（ＣＯ２）ピークの最大吸収ピーク高さを有することが可能である。
【０１３３】
他の態様において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、０．５：１以上の；あるいは０．７５：１以上の；あるいは１：１以上の；あるいは１．２５：１以上の；あるいは１．５：１以上の；あるいは１．７５：１以上のυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークに対してυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１１０ｃｍ−１の範囲内の（又は本明細書に開示される任意のその他の範囲内の）υａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。別の態様において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、０．５：１〜１００：１の範囲の；あるいは０．７５：１〜８０：１以上の；あるいは１：１〜６０：１以上の；あるいは１．２５：１〜４０：１以上の；あるいは１．５：１〜３：１以上の；あるいは１．７５：１〜２０：１のυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークに対してυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１１０ｃｍ−１の範囲内の（又は本明細書に開示される任意のその他の範囲内の）υａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。
【０１３４】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、５：１以上の；あるいは６：１以上の；あるいは７：１以上の；あるいは８：１以上の；あるいは９：１以上の；あるいは１０：１以上の非クロム結合カルボン酸塩（ＣＯ２）ＩＲピークに対してυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１１０ｃｍ−１の範囲内の（又は本明細書に開示される任意のその他の範囲内の）υａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。他の非限定的な実施形態では、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、５：１〜１００：１の範囲の；あるいは６：１〜９０：１の範囲の；あるいは７：１〜８０：１の範囲の；あるいは８：１〜６０：１の範囲の；あるいは９：１〜５０：１の範囲の；あるいは１０：１〜４０：１の範囲の非クロム結合カルボン酸塩（ＣＯ２）ＩＲピークに対してυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１１０ｃｍ−１の範囲内の（又は本明細書に開示される任意のその他の範囲内の）υａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。
【０１３５】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、３．５：１以上の；あるいは３．７５：１以上の；あるいは４以上の；あるいは４．２５：１以上の；あるいは４．５：１以上の；あるいは４．７５：１以上の非クロム結合カルボン酸塩（ＣＯ２）ＩＲピークに対してυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１１０ｃｍ−１範囲内の（又は本明細書に開示される任意のその他の範囲内の）υａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。あるいは、他の非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、３．５：１〜１００：１の範囲の；あるいは３．７５：１〜９０：１の範囲の；あるいは４：１〜８０：１の範囲の；あるいは４．２５：１〜６０：１の範囲の；あるいは４．５：１〜５０：１の範囲の；あるいは４．７５：１〜４０：１の範囲の非クロム結合カルボン酸塩（ＣＯ２）ＩＲピークに対してυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１１０ｃｍ−１範囲内の（又は本明細書に開示される任意のその他の範囲内の）υａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。
【０１３６】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、０．９：１以下の；あるいは０．８５：１以上の；あるいは０．８：１以上の；あるいは０．７５：１以上の；あるいは０．７：１以上の；あるいは０．６５：１以上のυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１１０ｃｍ−１範囲内に（又は本明細書に開示される任意のその他の範囲内に）位置するυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さに対するυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１５０ｃｍ−１の外側に位置するυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。
【０１３７】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、１．５：１以上の；あるいは３：１以上の；あるいは５：１以上の；あるいは６：１以上の；あるいは７：１以上のυａｓｙｍ（ＣｒＯ３）ＩＲピークに対するυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１１０ｃｍ−１範囲内の（又は本明細書に開示される任意のその他の範囲内の）υａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。他の非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、１．５：１〜１００：１の範囲の；あるいは３：１〜９０：１の範囲の；あるいは５：１〜８０：１の範囲の；あるいは６：１〜６０：１の範囲の；あるいは７：１〜５０：１の範囲のυａｓｙｍ（ＣｒＯ３）ＩＲピークに対するυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークの１１０ｃｍ−１範囲内の（又は本明細書に開示される任意のその他の範囲内の）υａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。
【０１３８】
一実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、１５１６±１５ｃｍ−１においてυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークを有することが可能である。本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書の態様及び／又は実施形態に記載されているいずれかのプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）において、カルボン酸クロムに起因している最大吸収ＩＲピーク高さは、１５１６±１５ｃｍ−１におけるυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークであり得る。一部の実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、０．７５：１以上の；あるいは１：１以上の；あるいは１．２５：１以上の；あるいは１．５：１以上の；あるいは１．５５：１以上の；あるいは１．６：１以上の；あるいは１．６５：１以上の；あるいは１．７：１以上の；あるいは１．７５：１以上の１４２９±１５ｃｍ−１におけるＩＲピークに対する１５１６±１５ｃｍ−１におけるＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。他の実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、０．５：１〜１００：１の範囲の；あるいは０．７５：１〜８０：１の範囲の；あるいは１．１：１〜６０：１の範囲の；あるいは１．２５：１〜４０：１の範囲の；あるいは１．５：１〜３：１の範囲；あるいは１．７５：１〜２０：１の範囲の１４２９±１５ｃｍ−１におけるＩＲピークに対する１５１６±１５ｃｍ−１におけるＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。
【０１３９】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、１：１以上の；あるいは１．５：１以上の；あるいは２：１以上の；あるいは２．５：１以上の；あるいは３：１以上の１６１６±２０ｃｍ−１で位置するυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークに対する１５１６±１５ｃｍ−１で位置するυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲピーク高さ比を有することが可能である。一部の非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、１：１〜１００：１の範囲の；あるいは１．５：１〜８０：１の範囲の；あるいは２：１〜６０：１の範囲の；あるいは２．５：１〜５０：１の範囲の；あるいは３：１〜４０：１の範囲の１６１６±２０ｃｍ−１で位置するυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークに対する１５１６±１５ｃｍ−１で位置するυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲピーク高さ比を有することが可能である。
【０１４０】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、５：１以上の；あるいは６：１以上の；あるいは７：１以上の；あるいは８：１以上の；あるいは９：１以上の；あるいは１０：１以上の１６８５±２０ｃｍ−１で位置する非クロム（ＣＯ２）結合ＩＲピークに対する１５１６±１５ｃｍ−１で位置するυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲピーク高さ比を有することが可能である。他の非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、５：１〜１００：１の範囲の；あるいは６：１〜９０：１の範囲の；あるいは７：１〜８０：１の範囲の；あるいは８：１〜６０：１の範囲の；あるいは９：１〜５０：１の範囲の；あるいは１０：１〜４０：１の範囲の１６８５±２０ｃｍ−１で位置する非クロム（ＣＯ２）結合ＩＲピークに対する１５１６±１５ｃｍ−１で位置するυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲピーク高さ比を有することが可能である。
【０１４１】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、３．５：１以上の；あるいは３．７５：１以上の；あるいは４：１以上の；あるいは４．２５：１以上の；あるいは４．５：１以上の；あるいは４．７５：１以上の１６８５±２０ｃｍ−１で位置する非クロム（ＣＯ２）結合ＩＲピークに対する１４２９±１５ｃｍ−１で位置するυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲピーク高さ比を有することが可能である。他の非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、３．５：１〜１００：１の範囲の；あるいは３．７５：１〜９０：１の範囲の；あるいは４：１〜８０：１の範囲の；あるいは４．２５：１〜６０：１の範囲の；あるいは４．５：１〜５０：１の範囲の；あるいは４．７５：１〜４０：１の範囲の１６８５±２０ｃｍ−１で位置する非クロム（ＣＯ２）結合ＩＲピークに対する１４２９±１５ｃｍ−１で位置するυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲピーク高さ比を有することが可能である。
【０１４２】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、０．９：１以下の；あるいは０．７５：１以下の；あるいは０．７：１以下の；あるいは０．６５：１以下の１４２９±１５ｃｍ−１で位置するυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さに対する１６１６±２０ｃｍ−１で位置するυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。
【０１４３】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、１：１以下の；あるいは０．８：１以下の；あるいは０．６：１以下の；あるいは０．４：１以下の；あるいは０．３：１以下の；あるいは０．２５：１以下の；あるいは０．２：１以下の；あるいは０．１８：１以下の；あるいは０．１６：１以下の１４２９±１５ｃｍ−１で位置するυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さに対する６９５±２０ｃｍ−１で位置するＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。
【０１４４】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、１：１以下の；あるいは０．８：１以下の；あるいは０．６：１以下の；あるいは０．４：１以下の；あるいは０．３：１以下の；あるいは０．２５：１以下の；あるいは０．２：１以下の；あるいは０．１８：１以下の；あるいは０．１６：１以下の１４２９±１５ｃｍ−１で位置するυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さに対する６９５±２０ｃｍ−１で位置するＩＲピークのＩＲ吸収ピーク高さ比を有することが可能である。
【０１４５】
非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、１．５：１以上の；あるいは３：１以上の；あるいは５：１以上の；あるいは６：１以上の；あるいは７：１以上の７００±５０ｃｍ−１で位置するＩＲピークに対する１５１６±１５ｃｍ−１で位置するυａｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲピーク高さ比を有することが可能である。他の非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）は、１．５：１〜１００：１の範囲の；あるいは３：１〜９０：１の範囲の；あるいは５：１〜８０：１の範囲の；あるいは６：１〜６０：１の範囲の；あるいは７：１〜５０：１の範囲の７００±５０ｃｍ−１で位置するＩＲピークに対する１４２９±１５ｃｍ−１で位置するυｓｙｍ（ＣＯ２）ＩＲピークのＩＲピーク高さ比を有することが可能である。
【０１４６】
一実施形態において、これらＩＲピークに関連する特徴は、ＫＢｒ（ＫＢｒペレット）中に入れられたカルボン酸クロム組成物を赤外分析にかけることによって決定することが可能である。あるいは、カルボン酸クロム組成物がＫＢｒペレット中での分析に適切でない場合、遷移金属カルボン酸塩組成物を溶媒中又は必要なＩＲピーク領域においてＩＲ透過的である分散剤（例えば、ヌジュールなどの鉱油）中に配置することによって、ＩＲ分析を実行することが可能である。更に、ＩＲピーク高さ比の特徴は、未処理ピーク高さ又はベースライン補正されたピーク高さに基づくことが可能である。
【０１４７】
一般的に、Ｘ線結晶解析は、明確な結晶を形成する物質を特性化するために用いることが可能である。しかしながら、場合によっては、当業者が明確な結晶を形成すると信じる物質が従来のＸ線結晶解析に適切である結晶を形成しないこともある。例えば、市販のクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートは、従来のＸ線結晶解析に適切ではない非晶質塊状物質を形成する（図４を参照）。同様に、本明細書に記載の方法を使用して調製されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートは、非晶質塊状物質を形成する場合があり（図３を参照）、生成されたクロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノエートは、緑色の粘着性固体であって、結晶化の証拠が認められず、従来の結晶解析には不適切であった。これらの例のいくつかでは、高エネルギーＸ線回折を用いて、物質についての構造上の情報を提供することが可能である。これら物質についての高エネルギーＸ線回折データは、物質の構造を決定するために、及び／又はこの物質がその他の既知の物質に類似するか否かを決定するために、他の物質の高エネルギーＸ線回折データと、又は物質の理論モデルの計算された高エネルギー回折データと比較することが可能である。
【０１４８】
一部の実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物（一般的な又は特定の）又は本明細書に記載の任意のプロセスによって調製されるいずれかのカルボン酸クロム組成物は、カルボン酸クロム組成物中に存在するカルボン酸クロム分子の構造又は構造（複数）を決定するために、及び／又はカルボン酸クロム組成物中に存在すると考えられる物質の理論モデルの計算された高エネルギー回折データと比較するために、高エネルギーＸ線回折によって解析されることが可能である。例えば、「Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ａｎｄ  ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ  ｓｔｕｄｉｅｓ  ｏｆ  ｍｅｔａｌ（Ｃｒ、Ｚｎ及びＢｉ）ｃａｒｂｏｘｙｌａｔｅ  ｌｉｑｕｉｄｓ」、Ｒ．Ｔ．Ｈａｒｔ  Ｊｒ、Ｎ．Ａ．Ｅｃｋｅｒｔ、Ｊ．Ｋ．Ｎｇａｌａ、Ａ．Ｆ．Ｐｏｌｌｅｙ、Ｃ．Ｊ．Ｂｅｎｍｏｒｅ、Ａ．Ｃｌａｒｋ、Ｓ．Ｍａｃｈａ、Ｐｒｅｓｅｎｔａｔｉｏｎ  ＣＡＴＬ  ２０、第２３７回ＡＣＳ  Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｍｅｅｔｉｎｇ、ユタ州ソルトレイクシティー、２００９年３月２３日は、水性メタセシスプロセス及び置換プロセスで生成したカルボン酸クロム（ＩＩＩ）の高エネルギーＸ線回折のｇ（ｒ）データ点を、Ｍ．Ｅｓｈｅｌら著、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、２０００年、３９、１３７６頁及びＭ．Ｅｓｈｅｌら著、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ、２００２年、３２９、４５頁において提示されたデータから構成されたＣｒ３Ｏ（Ｏ２ＣＣＨ３）６、Ｃｒ８（ＯＨ）８（Ｏ２ＣＣＨ３）１２、及びＣｒ１２Ｏ（Ｏ２ＣＣＨ３）６のモデルの高エネルギーＸ線回折のｇ（ｒ）データ点と比較した。Ｈａｒｔ  Ｊｒら及びＭ．Ｅｓｈｅｌらの全体は、参考として本明細書に組み込まれる。
【０１４９】
理論に制限されるものではないが、本明細書に記載の又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたカルボン酸クロム組成物は相当量の単核カルボン酸クロムを含有することが可能であると考えられる。この仮説を試験するために、本明細書に記載の任意のクロム組成物又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点を、標準の単核カルボン酸クロムについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較することが可能である。多くの場合、単核カルボン酸クロムの純粋な及び／又は標準の試料は入手が困難である。これらの場合には、本明細書に記載の任意のクロム組成物又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点は、カルボン酸クロムの理論モデルの計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較することが可能である。単核カルボン酸クロムのモデルは、当業者に利用可能ないくつもの方法を用いて精製することができる。一例では、単核カルボン酸クロム（ＩＩＩ）は、立体配座検索を使用してのＰＭ３ジオメトリ最適化並びにＣｒ上の有効コアポテンシャル及びＨ、Ｃ、Ｏ上の６−３１ｇ××を備えるＬＡＣＶＰ基底関数によるＤＦＴ（密度汎関数）のＢ３ＬＹＰを利用する更なるジオメトリ最適化を介する初期ジオメトリを得ることによって、四重グランドスピン状態を有する高スピンＣｒ（ＩＩＩＩ）中心を想定する最適化で、Ｓｐａｒｔａｎ  ０８を使用することによって取得することが可能である。別の例では、単核カルボン酸塩クロムのモデルは、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）について本明細書で記載されたものに類似する発見的方法を使用して得ることが可能である。単核カルボン酸クロムについて計算される高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点は、当業者に利用可能な方法及び／又はプログラムを使用して計算することが可能である。例えば、関数のＰＤＦＦｉｔライブラリー及びＰＤＦｇｕｉ−バージョン１．０において実施されるようなルーチン（Ｃ．Ｌ．Ｆａｒｒｏｗ、Ｐ．Ｊｕｈａｓ、Ｊ．Ｗ．Ｌｉｕ、Ｄ．Ｂｒｙｎｄｉｎ、Ｅ．Ｓ．Ｂｏｚｉｎ、Ｊ．Ｂｌｏｃｈ、Ｔｈ．Ｐｒｏｆｆｅｎ及びＳ．Ｊ．Ｌ．Ｂｉｌｌｉｎｇｓ、ＰＤＦｆｉｔ２及びＰＤＦｇｕｉ：ｃｏｍｐｕｔｅｒ  ｐｒｏｇｒａｍｓ  ｆｏｒ  ｓｔｕｄｙｉｎｇ  ｎａｎｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ｉｎ  ｃｒｙｓｔａｌｓ、Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｏｎｄｅｎｓ．Ｍａｔｔｅｒ、１９、３３５２１９（２００７年））を用いて、単核カルボン酸クロムモデルについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点を計算するために用いることが可能であり、次いで、これが高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点に変換されることが可能である。
【０１５０】
本明細書に記載の任意のクロム組成物又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたカルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点の単核カルボン酸クロムの理論モデルの計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点に対する比較は、既知でありかつ当業者により使用される技術を用いて実行され得る。本明細書に記載の任意のクロム組成物又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたカルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点の単核カルボン酸クロムの理論モデルの計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点に対する比較のための１つの方法は、適合度検定を実行することである。適合度検定値Ｒ２が１に近づくにつれて、クロム組成物が相当量の単核カルボン酸クロムを含有する可能性が高まる。
【０１５１】
単核カルボン酸クロムの理論モデルの計算された高エネルギー回折ｇ（ｒ）データ点を使用して比較が実行される場合、比較が単核カルボン酸クロムの理論モデルで行われ、このようなものは単核カルボン酸クロムの実際の構造ではないために、適合度検定のＲ２値が非常に１に近いことを予想する必要はないことに留意するべきである。理論によって束縛されようとするものではないが、本明細書に記載のカルボン酸クロム組成物のいずれか又は本明細書に記載の任意のプロセスによって生成されたカルボン酸クロム組成物のいずれかは、純粋な単核カルボン酸クロムではあるが、単核カルボン酸クロムの理論モデルの構造と実際の純粋な単核カルボン酸クロムの構造との間に違いがあると考えられるために、適合度検定値Ｒ２が１である可能性は低い。これら構造間の違いは、測定される高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点において差異を生じる可能性がある。結果的に、適合度検定値Ｒ２は１であることはない。しかしながら、相当量の単核カルボン酸クロムを有するカルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点は、相当量の二核、三核、又はより多核のカルボン酸クロム種を有するカルボン酸クロム組成物よりも１に近い適合度検定値Ｒ２を有すると考えられるために、適合度検定値Ｒ２はなお価値を有する。
【０１５２】
カルボン酸クロムのカルボン酸塩中の炭素原子の数に応じて、単核カルボン酸クロムの理論モデルを調製することは不可能又は困難である場合がある。単核カルボン酸クロムの理論上の構造を検討することで、クロム原子、遷移金属とキレート化したカルボキシレート基の２つの酸素原子、カルボキシレート基の炭素原子及び酸素原子、並びにカルボキシレート基に結合した炭素原子は、これらがその他の原子からその距離を変更することができるいずれかの結合の周りの自由回転を有さないために、空間で相対的に固定されることが可能である。結果的に、カルボン酸クロムのカルボン酸の機能としてのこれら原子間のそれぞれの結合距離及び結合角度における大きな変化は存在する可能性がないことを予想することができる。更なるいずれかの置換基なしに、これら原子は酢酸クロムを形成することができる。したがって、一実施形態では、本明細書に記載のカルボン酸クロム組成物のいずれか又は本明細書に記載の任意のプロセスによって生成されたカルボン酸クロム組成物のいずれかは、単核酢酸クロムと比較することが可能である。本明細書に記載のカルボン酸クロム組成物のいずれか又は本明細書に記載の任意のプロセスによって生成されたカルボン酸クロム組成物のいずれかが、相当量の単核カルボン酸クロムを含有する場合、単核カルボン酸クロム組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点は、基準の酢酸クロムの高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点又は単核酢酸クロムの理論モデルの計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較することが可能である。理論に限定するものではないが、本明細書に記載のカルボン酸クロム組成物のいずれか又は本明細書に記載の任意のプロセスによって生成されたカルボン酸クロム組成物のいずれかの間の比較は、基準の酢酸クロムの高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点又は単核酢酸クロムの理論モデルの計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点に完全に類似することを予想することが可能である。特に、比較は、分子間相互作用からの寄与及びカルボキシレート（Ｃ＝Ｏ）の炭素原子に結合した炭素原子を超えるカルボキシレート基の非水素原子の寄与が小さいことが予想される４Åのｒ値までが適切であることが予想され得る。
【０１５３】
適合度検定値Ｒ２に関して、適合度検定値は、等式Ｒ２＝１−（ＳＳｅｒｒ／ＳＳｔｏｔ）を使用して計算することが可能である。等式Ｒ２＝１−（ＳＳｅｒｒ／ＳＳｔｏｔ）中で、ＳＳｅｒｒは、カルボン酸クロム組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と、ａ）実際の単核カルボン酸クロムについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点、又はｂ）単核カルボン酸クロムの理論モデルについての計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点のいずれかの間の平方残差の総和である。等式Ｒ２＝１−（ＳＳｅｒｒ／ＳＳｔｏｔ）中で、ＳＳｔｏｔは、カルボン酸クロム組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と、カルボン酸クロム組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点の平均との間の平方差の総和である。適合度検定値が適切な意味を有するようにするために、適切な数の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点を使用して、試験が実行されるべきである。本明細書では、適合度検定値が計算されるｒ値の範囲にわたって０．０１オングストロームで離間された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点を使用して計算することが可能である。典型的には、高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点は、１オングストロームの正確に１００分の１のｒ値にあり得る。更に、適合度検定値に有利な根拠を提供するために（及びｇ（ｒ）データ点の補間処理を回避するために）、カルボン酸クロム組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点、実際の単核カルボン酸クロムについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点、又は単核カルボン酸クロムの理論モデルについての計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点は、同一のｒ値に位置するべきである。
【０１５４】
一実施形態において、適合度検定値は、カルボン酸クロム組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点並びに実際の単核カルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点又は単核カルボン酸クロムの理論モデルについて計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点のｒ値の範囲にわたる適合度検定の適用に基づくことが可能である。一部の実施形態において、カルボン酸クロム組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点並びに実際の単核カルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点又は単核カルボン酸クロムの理論モデルについて計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点の比較のための適合度検定値の値の範囲についての最小ｒ値は、１．２オングストローム；あるいは１．２５オングストローム；あるいは１．３オングストローム；あるいは１．３５オングストローム；あるいは１．４オングストロームであり得る。一部の実施形態において、カルボン酸クロム組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点並びに実際の単核カルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点又は単核カルボン酸クロムの理論モデルについて計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点の比較のための適合度検定値の値の範囲についての最大ｒ値は、４オングストローム；あるいは３．９オングストーム；あるいは３．８オングストローム；あるいは３．７オングストローム；あるいは３．６オングストローム；あるいは３．５オングストローム；あるいは３．４オングストローム；あるいは３．３オングストローム；あるいは３．２オングストローム；あるいは３．１オングストローム；あるいは３．０オングストロームであり得る。一実施形態において、適合度検定値は、本明細書に記載の任意の最小ｒ値から本明細書に記載の任意の最大ｒ値まで及ぶｒ値の範囲にわたってのカルボン酸クロム組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点並びに実際の単核カルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点又は単核カルボン酸クロムの理論モデルについて計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点の比較のための適合度検定値の適用に基づくことが可能である。一部の非限定的な実施形態において、適合度検定値は、１．３オングストローム〜４オングストロームのｒ値の範囲にわたって、カルボン酸クロム組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点並びに実際の単核カルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点又は単核カルボン酸クロムの理論モデルについて計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点の比較のための適合度検定値の適用に基づくことが可能であり、あるいは、適合度検定値は、１．３オングストローム〜３．２オングストローム；あるいは１．３オングストローム〜３．２オングストローム；あるいは１．３オングストローム〜３．３オングストローム；あるいは１．３オングストローム〜３．４オングストローム；あるいは１．３オングストローム〜３．５オングストローム；あるいは１．３オングストローム〜３．６オングストローム；あるいは１．３オングストローム〜３．７オングストローム；あるいは１．３オングストローム〜３．８オングストローム、あるいは１．３オングストローム〜３．９オングストローム；あるいは１．３オングストローム〜４．０オングストロームのｒ値の範囲にわたる適合度検定の適用に基づく。
【０１５５】
これら範囲のｒ値は、任意のように見える場合がある。しかしながら、これら範囲の最大ｒ値の選択は、理論に限定されるものではないが、分子間寄与及びカルボキシレート（Ｃ＝Ｏ）炭素原子に結合した炭素原子を超える結合回転の影響が、カルボン酸クロムの理論モデルの計算されたＸ線回折を使用する場合を正確に説明できないという仮説に基づくことができる。したがって、モデル特性に対するこれらの難しさを排除するために、より長いｒ値を選択することが可能である。これら範囲のｒ値の下限は、理論に限定されるものではないが、より重要な及び／又はより有意義な原子間距離は、少なくとも１．２〜１．３オングストロームの平均原子間距離を有することが可能であるという仮説に基づくことができる。加えて、１．２オングストロームよりも短い結合距離のみが、散乱強度に１％未満で寄与し、データ処理及びモデル化において一般的に考慮されない炭素−水素結合である。したがって、より短いｒ値の下限は、最短の重要かつ有意義な原子間距離からの寄与を含むよう選択することが可能である。
【０１５６】
一実施形態において、適合度検定は、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物及び／又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と、基準の単核カルボン酸クロムについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点との間で実行することが可能である。別の実施形態において、適合度検定は、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物及び／又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と、単核カルボン酸クロムの理論モデルについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点との間で実行することが可能である。一実施形態において、適合度検定値Ｒ２は、本明細書に開示のいずれか範囲のｒにわたる高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点に基づくことが可能である。一実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物及び／又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と、基準の単核カルボン酸クロムについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点又は単核カルボン酸クロムの理論モデルについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）との間の適合度検定（本明細書に開示のいずれか範囲にわたる）のＲ２は、少なくとも０．５５；あるいは少なくとも０．６０；あるいは少なくとも０．６２５；あるいは少なくとも０．６５；あるいは少なくとも０．６７５；あるいは少なくとも０．７０；あるいは少なくとも０．７２５；あるいは少なくとも０．７５；あるいは少なくとも０．７７５；あるいは少なくとも０．８０；あるいは少なくとも０．８２５；あるいは少なくとも０．８５；あるいは少なくとも０．８７５；あるいは少なくとも０．９０であり得る。別の実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物及び／又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と、基準の単核カルボン酸クロムについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点又は単核カルボン酸クロムの理論モデルについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）との間の適合度検定（本明細書に開示のあらゆる範囲にわたる）のＲ２は、０．５５〜１の範囲；あるいは０．６０〜１の範囲；あるいは０．６２５〜１の範囲；あるいは０．６５〜１の範囲；あるいは０．６７５〜１の範囲；あるいは０．７０〜１の範囲；あるいは０．７２５〜１の範囲；あるいは０．７５〜１の範囲；あるいは０．７７５〜１の範囲；あるいは０．８０〜１の範囲；あるいは０．８２５〜１の範囲；あるいは０．８５〜１の範囲；あるいは０．８７５〜１の範囲；あるいは０．９０〜１の範囲であり得る。
【０１５７】
非限定的な実施形態において、適合度検定を使用して、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及び／又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点は、基準の単核カルボン酸クロム（ＩＩＩ）についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較することが可能である。別の非限定的な実施形態において、適合度検定を使用して、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及び／又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物について計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点は、単核カルボン酸クロム（ＩＩＩ）の理論モデルについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較することが可能である。他の非限定的な実施形態において、適合度検定を使用して、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及び／又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点は、基準の単核酢酸クロム（ＩＩＩ）について計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較することが可能である。別の非限定的な実施形態では、適合度検定を使用して、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及び／又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点は、単核酢酸クロム（ＩＩＩ）の理論モデルについての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較することが可能である。本明細書に記載の任意の実施形態又は態様において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及び／又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と、基準の単核カルボン酸クロム（ＩＩＩ）についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点、基準の単核酢酸クロム（ＩＩＩ）についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点、単核カルボン酸クロム（ＩＩＩ）の理論モデルについて計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点、又は基準の単核酢酸クロム（ＩＩＩ）について計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点との間の適合度（本明細書に開示の任意の範囲のｒにわたる）検定についての適合度検定値Ｒ２は、少なくとも０．５５；あるいは少なくとも０．６０；あるいは少なくとも０．６２５；あるいは少なくとも０．６５；あるいは少なくとも０．６７５；あるいは少なくとも０．７０；あるいは少なくとも０．７２５；あるいは少なくとも０．７５；あるいは少なくとも０．７７５；あるいは少なくとも０．８０；あるいは少なくとも０．８２５；あるいは少なくとも０．８５；あるいは少なくとも０．８７５；あるいは少なくとも０．９０であり得る。本明細書に記載の任意の実施形態又は態様において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物及び／又は本明細書に開示の任意のプロセスに従って調製されたいずれかのカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と、基準の単核カルボン酸クロム（ＩＩＩ）についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点、基準の単核酢酸クロム（ＩＩＩ）についての高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点、単核カルボン酸クロム（ＩＩＩ）の理論モデルについて計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点、又は基準の単核酢酸クロム（ＩＩＩ）について計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点との間の適合度（本明細書に開示の任意の範囲のｒにわたる）検定についての適合度検定値Ｒ２は、０．５５〜１の範囲；あるいは０．６０〜１の範囲；あるいは０．６２５〜１の範囲；あるいは０．６５〜１の範囲；あるいは０．６７５〜１の範囲；あるいは０．７０〜１の範囲；あるいは０．７２５〜１の範囲；あるいは０．７５〜１の範囲；あるいは０．７７５〜１の範囲；あるいは０．８０〜１の範囲；あるいは０．８２５〜１の範囲；あるいは０．８５〜１の範囲；あるいは０．８７５〜１の範囲；あるいは０．９０〜１の範囲であり得る。
【０１５８】
一部の非限定的な実施形態において、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物又は本明細書に記載の任意のプロセスによって生成されるいずれかのカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物は、本明細書に記載の任意の特性化実施形態、例えば、本明細書に開示の任意の赤外ピークの存在又は不在、本明細書に開示の任意の赤外ピーク高さ特徴、本明細書に記載の任意の赤外ピーク波長分離、本明細書に開示の任意の赤外ピーク高さ比、及び／又は本明細書に開示の任意の適合度Ｒ２検定値などを単独で、又は任意の組み合わせで使用して特性化されることが可能である。これら特性化要素のそれぞれは本明細書に開示されており、限定されないで、本開示のカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物を説明するために用いることが可能である。
【０１５９】
一実施形態において、カルボン酸クロム組成物は、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム組成物調製プロセスによって調製されるカルボン酸クロム組成物を含むか、これらから本質的になり、又はこれらからなることが可能である。一部の実施形態では、カルボン酸クロム組成物は、本明細書に記載の任意のカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物調製プロセスによって調製されるカルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物を含むことができ、これらから本質的になり、又はこれらからなることが可能である。
【０１６０】
様々な態様及び実施形態において、本明細書に記載の組成物（又は触媒系）は、窒素含有化合物を用いることが可能である。一般的に、窒素含有化合物は、窒素原子を有するあらゆる有機化合物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態では、窒素含有化合物は、アミン、アミド、ニトリル又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはアミン、あるいはアミド、あるいはニトリルであり得、これらを含み、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０１６１】
一実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミンは、非金属の金属含有化合物、あるいは金属アミンであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一態様において、窒素含有化合物として使用可能なアミン（金属又は非金属）は、ピロール化合物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、ピロール化合物は、非金属ピロール化合物、あるいは金属ピロールであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミドは、非金属アミド、あるいは金属アミドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０１６２】
窒素含有化合物として使用可能なアミンは、Ｃ１−Ｃ６０のアミン；あるいはＣ１−Ｃ４５のアミン；あるいはＣ１−Ｃ３０のアミン；あるいはＣ１−Ｃ２０のアミン；あるいはＣ１−Ｃ１５のアミンであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミンは、モノヒドロカルビルアミン、ジヒドロカルビルアミン、トリヒドロカルビルアミン、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはモノヒドロカルビルアミン、ジヒドロカルビルアミン、又はこれらの任意の組み合わせ、あるいはモノヒドロカルビルアミン；あるいはジヒドロカルビルアミン；あるいはトリヒドロカルビルアミンであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミンは、脂肪族アミン、芳香族アミン、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは脂肪族アミン；あるいは芳香族アミンであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミン（脂肪族又は芳香族）は、環状アミン、非環状アミン、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは環状アミン；あるいは非環状アミンであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミンは、式ＮＲ６Ｒ７Ｒ８、ＮＨＲ６Ｒ７、ＮＨ２Ｒ６、又はこれらの任意の組み合わせを有するアミンであるか、これらを含むか、又はこれらから本質的になることが可能であり、式中、Ｒ６、Ｒ７、及びＲ８は、独立して、ヒドロカルビル基である。他の実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミンは、式ＮＲ６Ｒ７Ｒ８を有するアミン；あるいは式ＮＨＲ６Ｒ７を有するアミン；あるいは式ＮＨ２Ｒ６を有するアミンであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。ヒドロカルビル基は、本開示内に概ね開示されている（例えば、特に式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するモノカルボキシレートについてのＲ２ｃの選択として及び／又はＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４の選択として、並びに置換基として）。本明細書に記載の（当業者により明示的に特定される又は暗黙のうちに認められるいずれかの）ヒドロカルビル基の態様及び実施形態は、窒素含有化合物として使用可能なＮ−ヒドロカルビルアミドを更に説明するために用いることができるヒドロカルビル基として限定されずに用いることが可能である。更に、これらヒドロカルビル基は、窒素含有化合物として使用可能なモノヒドロカルビルアミン、ジヒドロカルビルアミン、及び／又はトリヒドロカルビルアミンを更に説明するために用いることができるヒドロカルビル基として限定されずに用いることが可能である。更に、窒素含有化合物として使用可能な式ＮＲ６Ｒ７Ｒ８、ＮＨＲ６Ｒ７、ＮＨ２Ｒ６を有するアミンのＲ６、Ｒ７、及びＲ８として限定されずに用いることが可能である。
【０１６３】
モノヒドロカルビルアミン、ジヒドロカルビルアミン、トリヒドロカルビルアミン、式ＮＲ６Ｒ７Ｒ８を有するアミン、式ＮＨＲ６Ｒ７を有するアミン、式ＮＨ２Ｒ６を有するアミンは、触媒系を急冷し、非活性化し、及び／又は停止させるプロセスにおいて、有効な中性リガンドとして及び／又は有効な作用物質として本明細書で記載されている。これらアミンは、本明細書に記載の任意の組成物（又は触媒系）において窒素含有化合物として限定されずに用いることが可能である。いくつかの他の実施形態では、窒素含有化合物として使用可能なアミンは、アンモニアであるか、アンモニアを含むか、又はアンモニアから本質的になることが可能である。
【０１６４】
窒素含有化合物として使用可能なアミドは、Ｃ２−Ｃ３０のアミド；あるいはＣ２−Ｃ２５のアミド；あるいはＣ２−Ｃ１５のアミド；あるいはＣ２−Ｃ１０のアミドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミドは、Ｎ−ヒドロカルビルアミドであるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。一部の実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミドは、脂肪族アミド、芳香族アミド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは脂肪族アミド；あるいは芳香族アミドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミドは、環状アミド、非環状アミド；あるいは環状アミド；あるいは非環状アミドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミドは、式Ｒ１５Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２、Ｒ１５Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＲ１６、又はこれらの任意の組み合わせを有するアミン；あるいは式Ｒ１５Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２を有するアミド、あるいは式Ｒ１５Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＲ１６を有するアミドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。ヒドロカルビル基ヒドロカルビル基は、本開示内に概ね開示されている（例えば、特に式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するものカルボキシレートについてのＲ２ｃの選択として及び／又はＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４の選択として）。本明細書に記載の（当業者により明示的に特定される又は暗黙のうちに認められるいずれかの）ヒドロカルビル基の態様及び実施形態は、窒素含有化合物として使用可能なＮ−ヒドロカルビルアミドを更に説明するために用いることができるヒドロカルビル基として限定されずに用いることが可能である。更に、これらヒドロカルビル置換基は、窒素含有化合物として使用可能な式を更に説明するために用いることができるヒドロカルビル基として限定されずに用いることが可能である。更に、窒素含有化合物として使用可能な式Ｒ１５Ｃ（＝Ｏ）Ｒ１６を有するアミドのＲ１５及びＲ１６として限定されずに用いることが可能である。
【０１６５】
一実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミドは、アセトアミド、Ｎ−ヒドロカルビル−アセトアミド、Ｎ−メチル−ヒドロカルビルアミド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはＮ−ヒドロカルビルアセトアミド、Ｎ−メチル−ヒドロカルビルアミド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはアセトアミド；あるいはＮ−ヒドロカルビルアセトアミド；あるいはＮ−メチル−ヒドロカルビルアミドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なアミドは、アセトアミド、Ｎ−メチルプロパンアミド、Ｎ−メチルブタンアミド、Ｎ−メチルペンタンアミド、Ｎ−メチルヘキサンアミド、スクシンアミド、マレアミド、Ｎ−メチルベンズアミド、Ｎ−メチルトルアミド、Ｎ−メチルキシルアミド、イミダゾール−２−カルボンアミド、β−ラクタム、δ−ラクタム、ε−カプロラクタム、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはＮ−メチルプロパンアミド、Ｎ−メチルブタンアミド、Ｎ−メチルペンタンアミド、Ｎ−メチルヘキサンアミド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはスクシンアミド、マレアミド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはＮ−メチルベンズアミド、Ｎ−メチルトルアミド、Ｎ−メチルキシルアミド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはＮ−メチルプロパンアミド；あるいはＮ−メチルブタンアミド；あるいはＮ−メチルペンタンアミド；あるいはＮ−メチルヘキサンアミド；あるいはスクシンアミド；あるいはマレアミド；あるいはＮ−メチルベンズアミド；あるいはＮ−メチルトルアミド；あるいはＮ−メチルキシルアミド；あるいはイミダゾール−２−カルボンアミド；あるいはβ−ラクタム；あるいはδ−ラクタム；あるいはε−カプロラクタムであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０１６６】
窒素含有化合物として使用可能なニトリルは、Ｃ２−Ｃ２０ニトリル；あるいはＣ２−Ｃ１５ニトリル；あるいはＣ２−Ｃ１０ニトリル；あるいはＣ２−Ｃ５ニトリルであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なニトリルは、脂肪族ニトリル、芳香族ニトリル、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは脂肪族ニトリル；あるいは芳香族ニトリルであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なニトリルは、環状ニトリル又は非環状ニトリル；あるいは環状ニトリル；あるいは非環状ニトリルであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、窒素含有化合物として使用可能なニトリルは、式Ｒ１Ｃ≡Ｎを有するアミドであるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。
【０１６７】
ニトリルは、カルボン酸クロムを生成する上で用いられるクロム前駆体に対する有効な中性リガンドとして（又はニトリル配位化合物として）本明細書に開示されている。これらニトリル（一般的な又は特定の）は、窒素含有化合物として、限定されずに用いることが可能である。
【０１６８】
一態様において、窒素含有化合物は、ピロール化合物（アミンの特定のタイプ）であるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。一般的に、ピロール化合物は、ピロール環を含有する化合物であり、本明細書で用いるように、ピロール化合物としては、特段に断りのない限り、ピロール環を有するあらゆる化合物を含む。したがって、ピロール化合物としては、特段に断りのない限り、ピロール、インドール、テトラヒドロインドール、カルバゾール、及びこれらのあらゆる置換された類似体が挙げられる。一態様において、ピロール化合物は、金属ピロール化合物、非金属ピロール化合物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは非金属ピロール化合物；あるいは金属ピロール化合物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０１６９】
一態様において、ピロール化合物（金属又は非金属のいずれか）は、Ｃ４−Ｃ６０ピロール化合物；あるいはＣ４−Ｃ２０ピロール化合物；あるいはＣ４−Ｃ３０ピロール化合物；あるいはＣ４−Ｃ２０ピロール化合物；あるいはＣ４−Ｃ１５ピロール化合物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。ピロール化合物中の炭素の数の表示は、他に記載がなければ、ピロール化合物中のその他の元素（水素、炭素、及びピロール窒素より他の）の存在（例えば、金属ピロールの金属、ハロゲン化物、酸素、及びその他の窒素原子）を除外するものではないことに留意するべきである。
【０１７０】
一態様において、ピロール化合物は、構造Ｐ１を有することが可能である。
【化８】
0006360436.tif 000009
構造Ｐ１において、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐは、独立して、水素原子又は置換基であり得る。ピロール化合物が構造Ｐ１を有する実施形態では、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐは水素であり得、Ｒ２ｐは本明細書で記載されているいずれかの非水素置換基であり得；あるいはＲ２ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐは水素であり得、Ｒ３ｐは本明細書で記載されているいずれかの非水素置換基であり得る。ピロール化合物が構造Ｐ１を有する一実施形態では、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐは水素であり得、Ｒ２ｐ及びＲ５ｐは本明細書で記載されているいずれかの非水素置換基であり得；あるいはＲ２ｐ及びＲ５ｐは水素であり得、Ｒ３ｐ及びＲ４ｐは本明細書で記載されているいずれかの非水素置換基であり得；あるいはＲ２ｐ及びＲ４ｐは水素であり得、Ｒ３ｐ及びＲ５ｐは本明細書で記載されているいずれかの非水素置換基であり得る。ピロール化合物が構造Ｐ１を有する一実施形態では、Ｒ５ｐは水素であり得、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ及びＲ４ｐは本明細書で記載されているいずれかの非水素置換基であり得；あるいはＲ４ｐは水素であり得、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ及びＲ５ｐは本明細書で記載されているいずれかの非水素置換基であり得る。他の実施形態において、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐは、独立して、本明細書に記載の任意の非水素置換基であり得る。
【０１７１】
一実施形態では、中性リガンドとして使用可能なピロール化合物は、構造Ｐ２、構造Ｐ３、構造Ｐ４、構造Ｐ５、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは構造Ｐ２、構造Ｐ３、構造Ｐ４、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは構造Ｐ２；あるいは構造Ｐ３；あるいは構造Ｐ４；あるいは構造Ｐ５を有することが可能である。
【化９】
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【化１０】
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【化１１】
0006360436.tif 000012
【化１２】
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ピロール構造Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及びＰ５において、Ｒ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、及びＲ４５ｐは、独立して、本明細書に記載の任意の非水素置換基であり得る。
【０１７２】
一実施形態において、構造Ｐ１を有するピロール化合物のＲ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐとして使用可能な、又は構造Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４及び／又はＰ５を有するピロール化合物のＲ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、及びＲ４５ｐとして使用可能な各非水素置換基は、独立して、ハロゲン化物、オルガノキシ基、又はオルガニル基；あるいはハロゲン化物又はオルガノキシ基；あるいは、ハロゲン化物又はオルガニル基；あるいはオルガノキシ基又はオルガニル基；あるいはハロゲン化物；あるいはオルガノキシ基；あるいはオルガニル基であり得る。一実施形態において、構造Ｐ１を有するピロール化合物のＲ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐとして使用可能な、又は構造Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４及び／又はＰ５を有するピロール化合物のＲ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、及びＲ４５ｐとして使用可能な各非水素置換基は、独立して、ハロゲン化物、不活性官能基からなるオルガノキシ基、又は不活性官能基からなるオルガニル基；あるいはハロゲン化物又は不活性官能基からなるオルガノキシ基；あるいは、ハロゲン化物又は不活性官能基からなるオルガニル基；あるいは不活性官能基からなるオルガノキシ基又は不活性官能基からなるオルガニル基；あるいはハロゲン化物；あるいは不活性官能基からなるオルガノキシ基；あるいは不活性官能基からなるオルガニル基であり得る。一実施形態において、構造Ｐ１を有するピロール化合物のＲ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐとして使用可能な、又は構造Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４及び／又はＰ５を有するピロール化合物のＲ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、及びＲ４５ｐとして使用可能な各非水素置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルボキシ基、又はヒドロカルビル基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルボキシ基又はヒドロカルビル基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルボキシ基；あるいはヒドロカルビル基であり得る。
【０１７３】
本明細書に記載の一態様又はいずれかの実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各オルガニル基は、独立して、Ｃ１−Ｃ３０オルガニル基；あるいはＣ１−Ｃ１８オルガニル基；あるいはＣ１−Ｃ１０オルガニル基；あるいはＣ１−Ｃ５オルガニル基であり得る。本明細書に記載の一態様又はいずれかの実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各オルガノキシ基は、独立して、Ｃ１−Ｃ３０オルガノキシ基；あるいはＣ１−Ｃ１８オルガノキシ基；あるいはＣ１−Ｃ１０オルガノキシ基；あるいはＣ１−Ｃ５オルガノキシ基であり得る。本明細書に記載の一態様又はいずれかの実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な不活性官能基からなる各オルガニル基は、独立して、不活性官能基からなるオルガニル基Ｃ１−Ｃ３０オルガニル基；あるいは不活性官能基からなるＣ１−Ｃ１８オルガニル基；あるいは不活性官能基からなるＣ１−Ｃ１０オルガニル基；あるいは不活性官能基からなるＣ１−Ｃ５オルガニル基であり得る。本明細書に記載の一態様又はいずれかの実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な不活性官能基からなる各オルガノキシ基は、独立して、不活性官能基からなるオルガノキシ基Ｃ１−Ｃ３０オルガノキシ基；あるいは不活性官能基からなるＣ１−Ｃ１８オルガニル基；あるいは不活性官能基からなるＣ１−Ｃ１０オルガノキシ基；あるいは不活性官能基からなるＣ１−Ｃ５オルガノキシ基であり得る。本明細書に記載の一態様又はいずれかの実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各ヒドロカルビル基は、独立して、Ｃ１−Ｃ３０ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ１０ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ５ヒドロカルビル基であり得る。本明細書に記載の一態様又はいずれかの実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各ヒドロカルボキシ基は、独立して、Ｃ１−Ｃ３０ヒドロカルボキシ基；あるいはＣ１−Ｃ１８ヒドロカルボキシ基；あるいはＣ１−Ｃ１０ヒドロカルボキシ基；あるいはＣ１−Ｃ５ヒドロカルボキシ基であり得る。
【０１７４】
本明細書に記載の一態様又はいずれかの実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各ハロゲン化物は、独立して、フッ化物、塩化物、臭化物、又はヨウ化物であり得る。本明細書に記載の一態様又はいずれかの実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各ハロゲン化物は、独立して、フッ化物；あるいは塩化物；あるいは臭化物；あるいはヨウ化物であり得る。
【０１７５】
一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、又は置換アラルキル基；あるいはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基；あるいはアルキル基又は置換アルキル基；あるいはシクロアルキル基又は置換シクロアルキル基；あるいはアリール基又は置換アリール基；あるいはアラルキル基又は置換アラルキル基であり得る。他の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、アルキル基；あるいは置換アルキル基；あるいはシクロアルキル基；あるいは置換シクロアルキル基；あるいはアリール基；あるいは置換アリール基；あるいはアラルキル基；あるいは置換アラルキル基であり得る。一般的に、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能なアルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、芳香族基、置換芳香族基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、置換アラルキル基、及び／又はシリル基は、本明細書に開示の構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能なその対応のオルガニル基、不活性官能基からなるオルガニル基、又はヒドロカルビル基と同数の炭素を有することが可能である。
【０１７６】
一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能なアルキル基（置換又は非置換の）は、独立して、Ｃ１−Ｃ２０アルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ１−Ｃ１０アルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ１−Ｃ５アルキル基（置換又は非置換の）であり得る。一部の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、又はデシル基であり得る。一部の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各アルキル基は、独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、又はネオペンチル基；あるいはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、又はネオペンチル基；あるいはメチル基；あるいはエチル基；あるいはｎ−プロピル基；あるいはイソプロピル基；あるいはｔｅｒｔ−ブチル基；あるいはネオペンチル基であり得る。一実施形態において、これらのアルキル基のいずれかは、置換されて置換アルキル基を形成することが可能である。一実施形態において、置換アルキル基の各置換基は、独立して、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいはハロゲン化物；あるいはヒドロカルボキシ基であり得る。置換基ハロゲン化物及びヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示され、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な置換アルキル基を更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０１７７】
一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能なシクロアルキル基（置換又は非置換の）は、独立して、Ｃ４−Ｃ２０シクロアルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ４−Ｃ１５シクロアルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ４−Ｃ１０シクロアルキル基（置換又は非置換の）であり得る。一部の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、又は置換シクロヘキシル基であり得る。他の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、シクロペンチル基又は置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基又は置換シクロヘキシル基であり得る。更なる実施形態では、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、シクロペンチル基；あるいは置換シクロペンチル基；あるいはシクロヘキシル基；あるいは置換シクロヘキシル基であり得る。置換シクロアルキル基に用いることができる置換基は、独立して本明細書に開示され、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な置換シクロアルキル基を更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０１７８】
一部の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能なアリール基（置換又は非置換の）は、独立して、Ｃ６−Ｃ２０アリール基（置換又は非置換の）；あるいはＣ６−Ｃ１５アリール基（置換又は非置換の）；あるいはＣ６−Ｃ１０アリール基（置換又は非置換の）であり得る。一部の実施形態では、一部の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、フェニル基、置換フェニル基、ナフチル基、又は置換ナフチル基であり得る。他の実施形態では、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、フェニル基又は置換フェニル基；ナフチル基又は置換ナフチル基；あるいはフェニル基又はナフチル基；あるいは置換フェニル基又は置換ナフチル基であり得る。置換フェニル基又は置換ナフチル基に用いることができる置換基は、独立して本明細書に開示され、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な置換フェニル基又は置換ナフチル基を更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０１７９】
一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各置換フェニル基は、独立して、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、又は２，４，６−三置換フェニル基であり得る。他の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各置換フェニル基は、独立して、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、又は２，６−二置換フェニル基；あるいは３−置換フェニル基又は３，５−二置換フェニル基；２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、又は２，６−二置換フェニル基；あるいは２−置換フェニル基；あるいは３−置換フェニル基；あるいは４−置換フェニル基；あるいは２，４−二置換フェニル基；あるいは２，６−二置換フェニル基；あるいは３，５−二置換フェニル基；あるいはは２，４，６−三置換フェニル基であり得る。これら特定の置換フェニル基に用いることができる置換基は、独立して本明細書に開示され、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能なこれら置換フェニル基を更に説明するために非限定的に用いることが可能である。
【０１８０】
一部の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能なアラルキル基（置換又は非置換の）は、独立して、Ｃ７−Ｃ２０アラルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ７−Ｃ１５アラルキル基（置換又は非置換の）；あるいはＣ７−Ｃ１０アラルキル基（置換又は非置換の）であり得る。一部の実施形態では、一部の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、ベンジル基又は置換ベンジル基；あるいはベンジル基；あるいは置換ベンジル基であり得る。一実施形態において、ベンジル基は、２−置換ベンジル基、４−置換ベンジル基、２，４−置換ベンジル基、２，６−二置換ベンジル基、又は２，４，６−三置換ベンジル基；あるいは２−置換ベンジル基又は４−置換ベンジル基；あるいは２，４−置換ベンジル基又は２，６−二置換ベンジル基；あるいは２−置換ベンジル基；あるいは４−置換ベンジル基；あるいは２，４−置換ベンジル基；あるいは２，６−二置換ベンジル基；あるいは２，４，６−三置換ベンジル基であり得る。置換アラルキル基に用いることができる置換基は、独立して本明細書に開示され、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能なこれら置換アラルキル基を更に説明するために非限定的に用いることが可能である。
【０１８１】
一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、アルコキシ基、置換アルコキシ基、シクロアルコキシ基、置換シクロアルコキシ基、アロキシ基、置換アロキシ基、アラルコキシ基、又は置換アラルコキシ基；あるいはアルコキシ基、シクロアルコキシ基、アロキシ基、又はアラルコキシ基、又は置換アラルコキシ基；あるいはアルコキシ基又は置換アルコキシ基；あるいはシクロアルコキシ基又は置換シクロアルコキシ基；あるいはアロキシ基又は置換アロキシ基；あるいはアラルコキシ基又は置換アラルコキシ基であり得る。他の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、アルコキシ基；あるいは置換アルコキシ基；あるいはシクロアルコキシ基；あるいは置換シクロアルコキシ基；あるいはアロキシ基；あるいは置換アロキシ基；あるいはアラルコキシ基；あるいは置換アラルコキシ基であり得る。一般的に、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能なアルコキシ基、置換アルコキシ基、シクロアルコキシ基、置換シクロアルコキシ基、芳香族基、置換芳香族基、アロキシ基、置換アロキシ基、アラルコキシ基、及び／又は置換アラルコキシ基は、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能なオルガノキシ基、不活性官能基からなるオルガノキシ基、又はヒドロカルボキシ基と同数の炭素を有することが可能である。置換基は本明細書に独立して記載され、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な置換アルコキシ基、シクロアルコキシ基、置換シクロアルコキシ基、芳香族基、置換芳香族基、アロキシ基、置換アロキシ基、アラルコキシ基、及び／又は置換アラルコキシ基を更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０１８２】
一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、又はオクトキシ基；あるいはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、又はペントキシ基であり得る。一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、ｎ−ヘプトキシ基、ｎ−オクトキシ基；あるいはメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、又はネオペントキシ基であり得る。一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、メトキシ基；あるいはエトキシ基；ｎ−プロポキシ基；あるいはイソプロポキシ基；あるいはｎ−ブトキシ基；あるいはイソブトキシ基；あるいはｔｅｒｔ−ブトキシ基；あるいはｎ−ペントキシ基；あるいはネオペントキシ基；あるいはｎ−ヘキソキシ基；あるいはｎ−ヘプトキシ基；あるいはｎ−オクトキシ基であり得る。
【０１８３】
一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、シクロブトキシ基、置換シクロブトキシ基、シクロペントキシ基、置換シクロペントキシ基、シクロヘキソキシ基、置換シクロヘキソキシ基、シクロヘプトキシ基、置換シクロヘプトキシ基、シクロオクトキシ基、又は置換シクロオクトキシ基であり得る。一部の実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、シクロペントキシ基、置換シクロペントキシ基、シクロヘキソキシ基、又は置換シクロヘキソキシ基であり得る。構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、シクロブトキシ基又は置換シクロブトキシ基；あるいはシクロペントキシ基又は置換シクロペントキシ基；あるいはシクロヘキソキシ基又は置換シクロヘキソキシ基；あるいはシクロヘプトキシ基又は置換シクロヘプトキシ基；あるいはシクロオクトキシ基又は置換シクロオクトキシ基であり得る。更なる実施形態では、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、シクロペントキシ基；あるいは置換シクロペントキシ基；あるいはシクロヘキソキシ基；あるいは置換シクロヘキソキシ基であり得る。シクロアルコキシ基に用いることができる置換基は、本明細書に独立して開示され、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な置換シクロアルコキシ基を更に説明するために非限定的に用いることが可能である。
【０１８４】
一態様において、一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、フェノキシ基又は置換フェノキシ基；あるいはフェノキシ基であり得る。一実施形態では、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な置換フェノキシ基は、独立して、２−置換フェノキシ基、４−置換フェノキシ基、２，４−置換フェノキシ基、２，６−二置換フェノキシ基、又は２，４，６−三置換フェノキシ基；あるいは２−置換フェノキシ基又は４−置換フェノキシ基；あるいは２，４−置換フェノキシ基又は２，６−二置換フェノキシ基；あるいは２−置換フェノキシ基；あるいは４−置換フェノキシ基；あるいは２，４−置換フェノキシ基；あるいは２，６−二置換フェノキシ基；あるいは２，４，６−三置換フェノキシ基であり得る。置換シクロアルコキシ基に用いることができる置換基は、本明細書に独立して開示され、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な置換フェノキシ基を更に説明するために非限定的に用いることが可能である。
【０１８５】
一態様において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な各非水素置換基は、独立して、ベンゾキシ基又は置換ベンゾキシ基；あるいは置換ベンゾキシ基であり得る。一実施形態において、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な置換ベンゾキシ基は、独立して、２−置換ベンゾキシ基、４−置換ベンゾキシ基、２，４−置換ベンゾキシ基、２，６−二置換ベンゾキシ基、又は２，４，６−三置換ベンゾキシ基；あるいは２−置換ベンゾキシ基又は４−置換ベンゾキシ基；あるいは２，４−置換ベンゾキシ基又は２，６−二置換ベンゾキシ基；あるいは２−置換ベンゾキシ基；あるいは４−置換ベンゾキシ基；あるいは２，４−置換ベンゾキシ基；あるいは２，６−二置換ベンゾキシ基；あるいは２，４，６−三置換ベンゾキシ基であり得る。置換シクロアルコキシ基に用いることができる置換基は、本明細書に独立して開示され、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な置換ベンゾキシ基を更に説明するために非限定的に用いることが可能である。
【０１８６】
一般的な置換基は、本明細書に独立して記載されている。これら基は、構造Ｐ１を有するピロール化合物のＲ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、及びＲ５ｐとして使用可能な又は式Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物のＲ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、及びＲ４５ｐとして使用可能な置換非水素置換基を更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０１８７】
一態様において、ピロール化合物は、Ｒ２ｐ及びＲ５ｐオルガニル基（あるいは、不活性官能基からなる基；あるいはヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基）を含む構造Ｐ１を有することが可能であり、ここで、Ｒ２ｐ及びＲ５ｐの少なくとも１つは、ピロール環に結合した炭素原子が第二級炭素原子であるようにピロール環に結合されている（例えば、２−メチル−５−エチルピロールなど）か；あるいはＲ２ｐ及びＲ５ｐが、ピロール環に結合した炭素原子が第二級炭素原子であるようにピロール環に結合されている（例えば、２，５−ジエチルピロールなど）。別の態様において、ピロール化合物は、Ｒ４２ｐ及びＲ４５ｐがオルガニル基（あるいは、不活性官能基からなるオルガニル基；あるいはヒドロカルビル基（置換又は非置換の））である構造Ｐ５を有することが可能であり、Ｒ４２ｐ及びＲ４５ｐの少なくとも１つは、ピロール環に結合した炭素原子が第二級炭素原子であるようにピロール環に結合されているか；あるいはＲ４２ｐ及びＲ４５ｐが、ピロール環に結合した炭素原子が第二級炭素原子であるようにピロール環に結合されている。構造Ｐ１を有するピロール化合物のＲ２ｐ及びＲ５ｐとして使用可能な及び／又は構造Ｐ５を有するピロール化合物のＲ４２ｐ及びＲ４５ｐとして使用可能なオルガニル（あるいは、不活性官能基からなるオルガニル基；あるいはヒドロカルビル基（置換又は非置換の））は、本明細書に独立して記載されている。オルガニル基（あるいは、不活性官能基からなるオルガニル基；あるいはヒドロカルビル基（置換又は非置換の））は、ピロール環に結合する場合、ピロール環に結合した炭素原子が第二級炭素原子である基を提供し、これらは本開示から容易に明らかである。これらオルガニル基（あるいは、不活性官能基からなるオルガニル基；あるいはヒドロカルビル基（置換又は非置換の））は、少なくとも１つの（又は双方の）Ｒ２ｐ及びＲ５ｐオルガニル基（あるいは、不活性官能基からなるオルガニル基；あるいはヒドロカルビル基（置換又は非置換の））が、ピロール環に結合した炭素原子が第二級炭素原子である式Ｐ１を有するピロール化合物、及び／又は少なくとも１つの（又は双方の）Ｒ４２ｐ及びＲ４５ｐオルガニル基（あるいは、不活性官能基からなるオルガニル基；あるいはヒドロカルビル基（置換又は非置換の））が、ピロール環に結合した炭素原子が第二級炭素原子である式Ｐ５を有するピロール化合物を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。一部の非限定的な実施形態において、ピロール環に結合する場合、第２級炭素原子を提供することができる各基は、独立して、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、又はｎ−オクチル基；あるいはｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、又はｎ−オクチル基；あるいはエチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、又はｎ−ペンチル基；あるいはエチル基；あるいはｎ−プロピル基；あるいはｎ−ブチル基；あるいはｎ−ペンチル基；あるいはｎ−ヘキシル基；あるいはｎ−ヘプチル基；あるいはｎ−オクチル基であり得る。
【０１８８】
一態様において、ピロール化合物は、ピロール環の窒素原子に隣接するピロール環の１つ以上の炭素原子上に位置している水素原子と、ピロール環の窒素原子に隣接する水素原子を有する任意のピロール環炭素原子に隣接するピロール環炭素原子上に位置する嵩高い基を有することが可能であるか、あるいはピロール環の窒素原子に隣接する各ピロール環炭素原子上に位置している水素原子と、ピロール環の窒素原子に隣接する水素原子を有するピロール環炭素原子に隣接する各ピロール環炭素原子上に位置する嵩高い基を有することが可能である。一実施形態において、ピロール化合物は、Ｒ１４ｐが本明細書に記載の任意の嵩高い基であり得、Ｒ１２ｐ及びＲ１３ｐが本明細書に記載の任意の非水素置換基であり得る構造Ｐ２を有することが可能である。別の実施形態では、ピロール化合物は、Ｒ２４ｐが本明細書に記載の任意の嵩高い基であり得、Ｒ２２ｐが本明細書に記載の任意の非水素置換基であり得る構造Ｐ３を有することが可能である。更に別の実施形態において、ピロール化合物は、Ｒ３３ｐ及びＲ３４ｐが本明細書に記載の任意の嵩高い基であり得る構造Ｐ４を有することが可能である。
【０１８９】
一実施形態において、この嵩高い置換基は、ピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が、第三級又は第四級炭素原子である基、又はピロール環炭素原子に結合する炭素原子に隣接する基の炭素原子が、第三級又は第四級炭素原子である基；あるいはピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が第三級又は第四級炭素原子である基；あるいはピロール環炭素原子に結合する炭素原子に隣接する基の炭素原子が、第三級又は第四級炭素原子である基として説明することが可能である。一部の実施形態において、この嵩高い置換基は、ピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が、第三級炭素原子である基、又はピロール環炭素原子に結合する炭素原子に隣接する基の炭素原子が、第三級炭素原子である基；あるいはピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が第三級炭素原子である基；あるいはピロール環炭素原子に結合する炭素原子に隣接する基の炭素原子が、第三級炭素原子である基として説明することが可能である。他の実施形態において、この嵩高い置換基は、ピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が、第四級炭素原子である基、又はピロール環炭素原子に結合する炭素原子に隣接する基の炭素原子が、第四級炭素原子である基；あるいはピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が第四級炭素原子である基；あるいはピロール環炭素原子に結合する炭素原子に隣接する基の炭素原子が、第四級炭素原子である基として説明することが可能である。
【０１９０】
一実施形態において、この嵩高い置換基は、ピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が３〜４個の炭素原子であるもの又はピロール環に結合している炭素原子に隣接する基の炭素原子が３〜４個の炭素原子であるもの；あるいはピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が３〜４個の炭素原子であるもの；あるいはピロール環に結合している炭素原子に隣接する基の炭素原子が３〜４個の炭素原子であるものとして説明することが可能である。一部の実施形態において、この嵩高い置換基は、ピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が３個の炭素原子であるもの又はピロール環に結合している炭素原子に隣接する基の炭素原子が３個の炭素原子であるもの；あるいはピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が３個の炭素原子であるもの；あるいはピロール環に結合している炭素原子に隣接する基の炭素原子が３個の炭素原子であるものとして説明することが可能である。他の実施形態において、この嵩高い置換基は、ピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が４個の炭素原子であるもの又はピロール環に結合している炭素原子に隣接する基の炭素原子が４個の炭素原子であるもの；あるいはピロール環炭素原子に結合している基の炭素原子が４個の炭素原子であるもの；あるいはピロール環に結合している炭素原子に隣接する基の炭素原子が４個の炭素原子であるものとして説明することが可能である。
【０１９１】
例示的な目的で、構造Ｅ１を使用して、ピロール環に結合している炭素原子及びピロール環炭素原子に結合している炭素原子に隣接する炭素原子を図示する。
【化１３】
0006360436.tif 000014
構造Ｅ１を使用すると、ピロール環に結合する基のうち、１で示す炭素原子は、ピロール環炭素原子に結合する炭素原子を表し、一方、ピロール環に結合した基のうち、２で示す炭素原子は、ピロール環炭素原子に結合している炭素原子に隣接する炭素原子を表す。
【０１９２】
一実施形態において、各嵩高い置換基は、オルガニル基；あるいは不活性官能基からなるオルガニル基；ヒドロカルビル基又は置換ヒドロカルビル基；ヒドロカルビル基；又は置換ヒドロカルビル基であり得る。一般的に、嵩高いオルガニル基、不活性官能基からなる嵩高いオルガニル基、及び／又は嵩高いヒドロカルビル基（置換又は非置換の）は、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な一般的な非水素オルガニル基、不活性官能基からなるオルガニル基、又はヒドロカルビル基（置換又は非置換の）と同数の炭素原子を有することが可能である。一部の実施形態において、各々の嵩高い置換基は、独立して、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、又は置換アラルキル基；あるいはアルキル基又は置換アルキル基；あるいはシクロアルキル基又は置換シクロアルキル基；アリール基又は置換アリール基；あるいはアラルキル基又は置換アラルキル基；あるいはアルキル基；あるいは置換アルキル基；あるいはシクロアルキル基；あるいは置換シクロアルキル基；あるいはアリール基；あるいは置換アリール基；あるいはアラルキル基；あるいは置換アラルキル基であり得る。一般的に、嵩高いアルキル基（置換又は非置換の）、嵩高いシクロアルキル基（置換又は非置換の）、嵩高いアリール基（置換又は非置換の）、及び／又は嵩高いアラルキル基（置換又は非置換の）は、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物の非水素置換基として使用可能な一般的なアルキル基（置換又は非置換の）、シクロアルキル基（置換又は非置換の）、アリール基（置換又は非置換の）、及び／又はアラルキル基（置換又は非置換の）と同数の炭素原子を有することが可能である。
【０１９３】
一実施形態において、各々の嵩高い置換基は、独立して、プロパン−２−イル基、ブタン−２−イル基、２−メチルプロパン−１−イル基、２−メチルプロパン−２−イル基、ペンタン−２−イル基、ペンタン−３−イル基、２−メチルブタン−１−イル基、２−メチルブタン−２−イル基、３−メチルブタン−２−イル基、２，２−ジ、メチルプロパン−１−イル基、ヘキサン−２−イル基、ヘキサン−３−イル基、２−メチルペンタン−１−イル基、２−エチルブタン−１−イル基、２−メチルペンタン−２−イル基２，３−ジメチルブタン−１−イル基、２，３−ジメチルブタン−２−イル基、ヘプタン−２−イル基、ヘプタン−３−イル基、ヘプタン−４−イル基、２−メチルヘキサン−１−イル基、２−エチルペンタン−１−イル基、２−メチルヘキサン−２−イル基、２，３−ジメチルペンタン−１−イル基、２，３−ジメチルペンタン−２−イル基、２，３，３−トリメチルペンタン−１−イル基、２，３，３−トリメチルペンタン−２−イル基、オクタン−２−イル基、オクタン−３−イル基、オクタン４−イル基、２−メチルヘプタン−１−イル基、２−エチルヘキサン−１−イル基、２−メチルヘプタン−２−イル基、ノナン−２−イル基、ノナン−３−イル基、ノナン−４−イル基、ノナン−５−イル基、デカン−２−イル基、デカン−３−イル基、デカン−４−イル基、又はデカン５−イル基であり得る。一部の実施形態において、各々の嵩高い置換基は、独立して、プロパン−２−イル基、ブタン−２−イル基、２−メチルプロパン−１−イル基、２−メチルプロパン−２−イル基、ペンタン−２−イル基、ペンタン−３−イル基、２−メチルブタン−１−イル基、２−メチルブタン−２−イル基、３−メチルブタン−２−イル基、２，２−ジ、メチルプロパン−１−イル基；あるいはプロパン−２−イル基、２−メチルプロパン−２−イル基、又は２，２−ジメチルプロパン−１−イル基であり得る。他の実施形態では、各々の嵩高い置換基は、独立して、プロパン−２−イル基；あるいはブタン−２−イル基；あるいは２−メチルプロパン−１−イル基；あるいは２−メチルプロパン−２−イル基；あるいはペンタン−２−イル基；あるいはペンタン−３−イル基；あるいは２−メチルブタン−１−イル基；あるいは２−メチルブタン−２−イル基；あるいは３−メチルブタン−２−イル基；あるいは２，２−ジメチルプロパン−１−イル基であり得る。
【０１９４】
一実施形態において、各々の嵩高い置換基は、独立して、フェニル基又は置換フェニル基；あるいはフェニル基；あるいは置換フェニル基であり得る。一部の実施形態において、嵩高い置換基として使用可能な各々の置換フェニル基は、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、又は２，４，６−トリメチルフェニル基であり得る。他の実施形態において、嵩高い置換基として使用可能な各々の置換フェニル基は、２−メチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、又は２，４，６−トリメチルフェニル基であり得る。更に他の実施形態では、嵩高い置換基として使用可能な各々の置換フェニル基は、２−メチルフェニル基；あるいは３−メチルフェニル基；あるいは４−メチルフェニル基；あるいは２，３−ジメチルフェニル基；あるいは２，４−ジメチルフェニル基；あるいは２，５−ジメチルフェニル基；あるいは２，６−ジメチルフェニル基；あるいは３，４−ジメチルフェニル基；あるいは３，５−ジメチルフェニル基；あるいはは２，４，６−トリメチルフェニル基であり得る。
【０１９５】
一実施形態において、ピロール化合物は、２−置換ピロール、３−置換ピロール、２，５−二置換ピロール、２，４−二置換ピロール、３，４−二置換ピロール、２，３，５−三置換ピロール、２，３，４，５−四置換ピロール、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、ピロール化合物は、２−置換ピロール、３−置換ピロール、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは２，５−二置換ピロール、２，３，５−三置換ピロール、２，３，４，５−四置換ピロール、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは２，４−二置換ピロール、３，４−二置換ピロール、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の実施形態において、プロール化合物は、２−置換ピロール；あるいは３−置換ピロール；あるいは２，５−二置換ピロール；あるいは２，４−二置換ピロール；あるいは３，４−二置換ピロール；あるいは２，３，５−三置換ピロール；あるいは２，３，４，５−四置換ピロールであり得る。非水素置換基は、一般的に本明細書に記載されており、ピロール化合物として使用可能な置換ピロールを更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０１９６】
一実施形態において、ピロール化合物は、２−アルキルピロール、３−アルキルピロール、２，５−ジアルキルピロール、２，４−ジアルキルピロール、３，４−ジアルキルピロール、２，３，５−トリアルキルピロール、２，３，４，５−テトラアルキルピロール、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、ピロール化合物は、２−アルキルピロール、３−アルキルピロール、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは２，５−ジアルキルピロール、２，３，５−トリアルキルピロール、２，３，４，５−テトラアルキルピロール、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは２，４−ジアルキルピロール、３，４−ジアルキルピロール、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の実施形態では、ピロール化合物は、２−アルキルピロール；あるいは３−アルキルピロール；あるいは２，５−ジアルキルピロール；あるいは２，４−ジアルキルピロール；あるいは３，４−ジアルキルピロール；あるいは２，３，５−トリアルキルピロール；あるいは２，３，４，５−テトラアルキルピロールであり得る。非水素アルキル置換基として使用可能なアルキル置換基は、一般的に本明細書に記載されており、ピロール化合物として使用可能なアルキルピロールを更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０１９７】
一実施形態において、ピロール化合物は、２−アルコキシピロール、３−アルコキシピロール、２，３−ジアルコキシピロール、２，４−ジアルコキシピロール、２，５−ジアルコキシピロール、３，４−ジアルコキシピロール、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の実施形態において、ピロール化合物は、２−アルコキシピロール；あるいは３−アルコキシピロール；あるいは２，３−ジアルコキシピロール；あるいは２，４−ジアルコキシピロール；あるいは２，５−ジアルコキシピロール；あるいは３，４−ジアルコキシピロールであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。非水素アルキル置換基として使用可能なアルコキシ置換基は、一般的に本明細書に記載されており、ピロール化合物として使用可能なアルコキシピロールを更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０１９８】
一実施形態において、ピロール化合物は、２−メチルピロール、２−エチルピロール、２−プロピルピロール、２−ブチルピロール、３−メチルピロール、３−エチルピロール、３−プロピルピロール、３−ブチルピロール、２，５−ジメチルピロール、２−メチル−５−エチルピロール、２，５−ジエチルピロール、２，５−ジプロピルピロール、２，５−ジブチルピロール、２，４−ジメチルピロール、２，４−ジエチルピロール、２，４−ジプロピルピロール、２，４−ジブチルピロール、３，４−ジメチルピロール、３，４−ジエチルピロール、３，４−ジプロピルピロール、３，４−ジブチルピロール、２，３，４−トリメチルピロール、３−エチル−２，４−ジメチルピロール、２，３，５−トリメチルピロール、２，３，４，５−テトラメチルピロール、２，３，４，５−テトラエチルピロール、又はこれらの組み合わせ；あるいはピロール、２，５−ビス（トリフルオロメチル）ピロール、２，４−ビス（トリフルオロメチル）ピロール、又は３，４−ビス（トリフルオロメチル）ピロール、又はこれらの組み合わせ；あるいはピロール、２−メトキシピロール、２−エトキシピロール、２−プロポキシピロール、２−ブトキシピロール、３−メトキシピロール、３−エトキシピロール、３−プロポキシピロール、３−ブトキシピロール、２，５−ビス（メトキシ）ピロール、２，４−ビス（メトキシ）ピロール、３，４−ビス（メトキシピロール）、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０１９９】
一実施形態において、ピロール化合物は、２−メチル−５−エチルピロール、２，５−ジエチルピロール、２，５−ジ−ｎ−プロピルピロール、２，５−ジ−ｎ−ブチルピロール、２，５−ｎ−ペンチルピロール、２，５−ｎ−ヘキシルピロール、２，５――ジ−ｎ−ヘプチルピロール、２，５−ジ−ｎ−オクチルピロール、２，３，５−トリエチルピロール、２，３，５−トリ−ｎ−ブチルピロール、２，３，５−トリ−ｎ−ヘキシルピロール、２，３，４，５−テトラエチルピロール、２，３，４，５−テトラ−ｎ−ブチルピロール、２，３，４，５−テトラ−ｎ−ヘキシルピロール、又はこれらの組み合わせ；２，５−ジエチルピロール、２，５−ジ−ｎ−プロピルピロール、２，５−ジ−ｎ−ブチルピロール、２，５−ｎ−ペンチルピロール、２，５−ｎ−ヘキシルピロール、２，５―ジ−ｎ−ヘプチルピロール、２，５−ジ−ｎ−オクチルピロール又はこれらの組み合わせ；２，５−ジエチルピロール、２，５−ジ−ｎ−プロピルピロール、２，５−ジ−ｎ−ブチルピロール、２，５−ｎ−ペンチルピロール、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは２，３，５−トリエチルピロール、２，３，５−トリ−ｎ−ブチルピロール、２，３，５−トリ−ｎ−ヘキシルピロール、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは２，３，４，５−テトラエチルピロール、２，３，４，５−テトラ−ｎ−ブチルピロール、２，３，４，５−テトラ−ｎ−ヘキシルピロール、又はこれらの組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、ピロール化合物は、ピロール；あるいは２−メチルピロール；あるいは２−エチルピロール；あるいは２−プロピルピロール；あるいは２−ブチルピロール；あるいは３−メチルピロール；あるいは３−エチルピロール；あるいは３−プロピルピロール；あるいは３−ブチルピロール；あるいは２，５−ジメチルピロール；あるいは２−メチル−５−エチルピロール；あるいは２，５−ジエチルピロール；あるいは２，５−ジプロピルピロール；あるいは２，５−ジブチルピロール；あるいは２，５−ジ−ｎ−プロピルピロール；あるいは２，５−ジ−ｎ−ブチルピロール；あるいは２，５−ｎ−ペンチルピロール；あるいは２，５−ｎ−ヘキシルピロール；２，５−ジヘプチルピロール；あるいは２，５−ジオクチルピロール；あるいは２，４−ジメチルピロール；あるいは２，４−ジエチルピロール；あるいは２，４−ジプロピルピロール；あるいは２，４−ジブチルピロール；あるいは３，４−ジメチルピロール；あるいは３，４−ジエチルピロール；あるいは３，４−ジプロピルピロール；あるいは３，４−ジブチルピロール；あるいは２，３，４−トリメチルピロール；あるいは３−エチル−２，４−ジメチルピロール；あるいは２，３，５−トリメチルピロール；あるいは２，３，５−トリエチルピロール；あるいは２，３，５−トリ−ｎ−ブチルピロール；あるいは２，３，５−トリ−ｎ−ヘキシルピロール；あるいは２，３，４，５−テトラメチルピロール；あるいは２，３，４，５−テトラエチルピロール；あるいは２，３，４，５−テトラエチルピロール；あるいは２，３，４，５−テトラ−ｎ−ブチルピロール；あるいは２，３，４，５−テトラ−ｎ−ヘキシルピロール；あるいは２，５−ビス（トリフルオロメチル）ピロール；あるいは２，４−ビス（トリフルオロメチル）ピロール；あるいは３，４−ビス（トリフルオロメチル）ピロール；あるいは２−メトキシピロール；あるいは２−エトキシピロール；あるいは２−プロポキシピロール；あるいは２−ブトキシピロール；あるいは３−メトキシピロール；あるいは３−エトキシピロール；あるいは３−プロポキシピロール；あるいは３−ブトキシピロール；あるいは２，５−ビス（メトキシ）ピロール；あるいは２，４−ビス（メトキシ）ピロール；あるいは３，４−ビス（メトキシピロール）であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。更に他の実施形態では、ピロール化合物は、２，５−ビス（２’，２’，２’−トリフルオロエチル）ピロール；あるいは２，５−ビス（２’−メトキシメチル）ピロールであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２００】
非限定的な例において、ピロール化合物は、２−メチル−４−イソプロピルピロール、２−エチル−４−イソプロピルピロール、２−メチル−４−ｓｅｃ−ブチルピロール、２−エチル−４−ｓｅｃ−ブチルピロール、２−メチル−４−イソブチルピロール、２−エチル−４−イソブチルピロール、２−メチル−４−ｔ−ブチルピロール、２−エチル−４−ｔ−ブチルピロール、２−メチル−４−ネオ−ペンチルピロール、又は２−エチル−４−ネオペンチルピロールであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。いくつかの非限定的な例では、ピロール化合物は、２−メチル−４−イソプロピルピロール、２−エチル−４−イソプロピルピロール、２−メチル−４−ｔ−ブチルピロール、２−エチル−４−ｔ−ブチルピロール、２−メチル−４−ネオ−ペンチルピロール、又は２−エチル−４−ネオペンチルピロールであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の非限定的な例では、ピロール化合物は、２−メチル−４−イソプロピルピロール；あるいは２−エチル−４−イソプロピルピロール；あるいは２−メチル−４−ｓｅｃ−ブチルピロール；あるいは２−エチル−４−ｓｅｃ−ブチルピロール；あるいは２−メチル−４−イソブチルピロール；あるいは２−エチル−４−イソブチルピロール；あるいは２−メチル−４−ｔ−ブチルピロール、２−エチル−４−ｔ−ブチルピロール、２−メチル−４−ネオ−ペンチルピロール；あるいは２−エチル−４−ネオペンチルピロールであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。別の非限定的な例では、ピロール化合物は、３，４−ジイソプロピルピロール、３，４−ジ−ｓｅｃ−ブチルピロール、３，４−ジイソブチルピロール、３，４−ジ−ｔ−ブチルピロール、又は３，４−ジ−ネオ−ペンチルピロールであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。更に別の実施形態において、ピロール化合物は、３，４−ジイソプロピルピロール；あるいは３，４−ジ−ｓｅｃ−ブチルピロール；あるいは３，４−ジイソブチルピロール；あるいは３，４−ジ−ｔ−ブチルピロール；あるいは３，４−ジ−ネオ−ペンチルピロールであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２０１】
一態様によると、窒素含有化合物は、金属窒素含有化合物（例えば、金属アミン、金属ピロール、及び／又は金属アミド）であるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。一実施形態では、金属窒素含有化合物は、金属アミン、金属アミド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは金属アミン；あるいは金属アミドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、この金属窒素含有化合物は、金属ピロール化合物であるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。
【０２０２】
一実施形態において、金属窒素含有化合物の金属は、１族金属、２族金属、又は１３族金属；あるいは１族金属；あるいは２族金属；あるいは１３族金属であり得る。一部の実施形態では、金属窒素含有化合物の金属は、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、又はアルミニウム；あるいはリチウム、ナトリウム、又はカリウム；あるいはマグネシウム又はカルシウム；あるいはリチウム；あるいはナトリウム；あるいはカリウム；あるいはマグネシウム；あるいはカルシウム；あるいはアルミニウムであり得る。一態様において、１族、２族、又は１３族の金属窒素化合物の窒素含有化合物は、本明細書に開示の任意のアミン及び／又はアミド（一般的又は特定の）であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２０３】
一態様において、金属窒素含有化合物は、式ＭＣＮＲ６Ｒ７、ＭＤＮＨＲ６、又はこれらの組み合わせ；あるいはＭＣＮＲ６Ｒ７；あるいはＭＤＮＨＲ６を有する金属アミンであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一般的に、ＭＣ及びＭＤは、本明細書に開示の金属窒素含有化合物の任意の金属であり得、Ｒ６及びＲ７は、本明細書に開示の任意のアミンＲ６及びＲ７基であり得る。
【０２０４】
一態様において、金属窒素含有化合物は、式Ｒ１５Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２、Ｒ１５Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＲ１６、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはＲ１５Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＭＥ；あるいはＲ１５Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ１６ＭＦを有する金属アミドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一般的に、ＭＥ及びＭＦは、本明細書で開示されている金属窒素含有化合物の任意の金属であり得、Ｒ１５及びＲ１６は、本明細書に開示の任意のアミドＲ１５及びＲ１６基であり得る。
【０２０５】
一態様によると、ピロール化合物は、金属ピロリドであるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。金属ピロリドの金属成分及び金属ピロリドのピロール成分は、金属ピロリドの独立要素である。したがって、金属ピロリドは、本明細書に記載の金属成分及び本明細書に記載のピロールの任意の組み合わせを用いて説明することが可能である。一部の実施形態では、金属ピロリドは、本明細書に記載のピロール化合物と金属化合物を接触させる任意のプロセスによって製造される。
【０２０６】
一態様において、金属ピロリドは、１族、２族、又は１３族金属ピロリド；あるいは１族金属ピロリド；あるいは２族金属ピロリド；あるいは１３族金属ピロリドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態では、金属ピロリドは、リチウムピロリド、ナトリウムピロリド、カリウムピロリド、マグネシウムピロリド、カルシウムピロリド、又はアルミニウムピロリド；あるいはリチウムピロリド、ナトリウムピロリド、カリウムピロリド；あるいはマグネシウムピロリド、カルシウムピロリド；あるいはリチウムピロリド；あるいはナトリウムピロリド；あるいはカリウムピロリド；あるいはマグネシウムピロリド；あるいはカルシウムピロリド；あるいはアルミニウムピロリドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一態様において、一般的又は特定の１族、２族、又は１３族金属ピロリドのピロール成分は、本明細書に開示の任意のピロール化合物から誘導されたものであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２０７】
一実施形態において、金属ピロリドは、構造Ｐ１を有する任意のピロール化合物；あるいは構造Ｐ２、構造Ｐ３、構造Ｐ４、構造Ｐ５を有する任意のピロール化合物、又はこれらの組み合わせ；あるいは構造Ｐ２を有する任意のピロール化合物；あるいは構造Ｐ３を有する任意のピロール化合物；あるいは構造Ｐ４を有する任意のピロール化合物；あるいは構造Ｐ５を有する任意のピロール化合物の金属ピロリドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２０８】
一態様において、金属ピロリドは、構造ＭＰ１を有することが可能である。一実施形態では、金属ピロリドは、構造ＭＰ２、構造ＭＰ３、構造ＭＰ４、構造ＭＰ５、又はこれらの任意の組み合わせを有することが可能である。一部の実施形態において、金属ピロリドは、構造ＭＰ２；あるいは構造ＭＰ３；あるいは構造ＭＰ４；あるいは構造ＭＰ５、又はこれらの任意の組み合わせを有することが可能である。
【化１４】
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【化１５】
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【化１６】
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【化１７】
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【化１８】
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一般的に、構造ＭＰ１、ＭＰ２、ＭＰ３、ＭＰ４、及び／又はＭＰ５を有する金属ピロリドのＲ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、Ｒ５ｐ、Ｒ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、Ｒ４５ｐ、Ｍｐ、Ｒ１ｍｐ、及びｑは、独立して金属ピロリドの要素である。したがって、構造ＭＰ１、ＭＰ２、ＭＰ３、ＭＰ４、及び／又はＭＰ５を有する金属ピロリドは、本明細書に記載のＲ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、Ｒ５ｐ、Ｒ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、Ｒ４５ｐ、Ｍｐ、Ｒ１ｍｐ、及びｑの態様及び／又は実施形態の任意の組み合わせを用いて説明することが可能である。
【０２０９】
Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、Ｒ５ｐ、Ｒ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、及びＲ４５ｐは、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物のための非水素置換基として既に説明されている。これら非水素置換基は、構造ＭＰ１、ＭＰ２、ＭＰ３、ＭＰ４、及び／又はＭＰ５を有する金属ピロリドを更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【０２１０】
一態様において、Ｍｐは、１族、２族、又は１３族金属であり得、ｑは、金属の酸化状態である。一実施形態では、Ｍｐは、１族金属であり得、ｑは１（ｑ−１＝０）であり；あるいはＭｐは、２族金属であり得、ｑは２（ｑ−１＝１）であり；あるいはＭｐは、１３族金属であり得、ｑは３（ｑ−１＝２）である。一部の実施形態において、Ｍｐは、リチウムであり得、ｑは１であり、Ｍｐは、ナトリウムであり得、ｑは１であり、Ｍｐは、カリウムであり得、ｑは１であり、Ｍｐは、マグネシウムであり得、ｑは２であり、Ｍｐは、カルシウムであり得、ｑは２であり、又はＭｐは、アルミニウムであり得、ｑは３である。他の実施形態では、Ｍｐは、リチウムであり得、ｑは１であり；あるいはＭｐは、ナトリウムであり得、ｑは１であり；あるいはＭｐは、カリウムであり得、ｑは１であり；あるいはＭｐは、マグネシウムであり得、ｑは２であり；あるいはＭｐは、カルシウムであり得、ｑは２であり；あるいはＭｐは、アルミニウムであり得、ｑは３である。
【０２１１】
一態様において、（存在する場合）各Ｒ１ｍｐは、独立して、水素、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいは水素又はヒドロカルビル基；あるいは水素又はヒドロカルボキシ基；あるいはヒドロカルビル基；あるいはヒドロカルボキシ基；あるいは水素であり得る。一実施形態において、（存在する場合）各Ｒ１ｍｐとして使用可能な任意のヒドロカルビル基は、Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ１０ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ５ヒドロカルビル基であり得る。一実施形態では、（存在する場合）各Ｒ１ｍｐとして使用可能な任意のヒドロカルボキシ基は、Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルボキシ基；あるいはＣ１−Ｃ１０ヒドロカルボキシ基；あるいはＣ１−Ｃ５ヒドロカルボキシ基であり得る。
【０２１２】
一実施形態において、（存在するとき）各Ｒ１ｍｐは、独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基であり得る。一部の実施形態では、（存在するとき）各Ｒ１ｍｐは、独立して、アルキル基；あるいはシクロアルキル基；あるいはアリール基；あるいはアラルキル基であり得る。アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基は、独立して、ピロール化合物のための有効な非水素置換基は、本明細書に記載されている。これら非水素ピロールアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基置換基は、構造ＭＰ１、ＭＰ２、ＭＰ３、ＭＰ４、及び／又はＭＰ５を有する金属ピロリドのＲ１ｍｐアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及び／又はアラルキル基として、限定されずに用いることが可能である。
【０２１３】
一実施形態では、（存在するとき）各Ｒ１ｍｐは、独立して、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アロキシ基、又はアラルコキシ基であり得る。一部の実施形態では、（存在するとき）各Ｒ１ｍｐは、独立して、アルコキシ基；あるいはシクロアルコキシ基；あるいはアロキシ基；あるいはアラルコキシ基であり得る。アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アロキシ基、及びアラルコキシ基は、独立して、ピロール化合物のための有効な非水素置換基は、本明細書に記載されている。これら非水素ピロールアルコキシ基、シクロアルコキシ基、アロキシ基、及びアラルコキシ基置換基は、構造ＭＰ１、ＭＰ２、ＭＰ３、ＭＰ４、及び／又はＭＰ５を有する金属ピロリドのＲ１ｍｐアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及び／又はアラルキル基として、限定されずに用いることが可能である。
【０２１４】
非限定的な実施形態において、金属ピロリドは、２族ヒドリドピロリド、アル２族アルキルピロリド、又はこれらの組み合わせ；あるいは水素化２族ピロリド；又はアルキル２族ピロリドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の非限定的な実施形態において、金属ピロリドは、マグネシウムヒドリドピロリド、アルキルマグネシウムピロリド、カルシウムヒドリドピロリド、アルキルカルシウムピロリド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはマグネシウムヒドリドピロリド、アルキルマグネシウムピロリド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはカルシウムヒドリドピロリド、アルキルカルシウムピロリド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはマグネシウムヒドリド；あるいはアルキルマグネシウムピロリド；あるいはカルシウムヒドリドピロリド；あるいはアルキルカルシウムピロリドであり得る。アルキル基は、ピロール化合物のための有効な非水素置換基として本明細書に独立して記載されており、これら非水素ピロールアルキル基は、アルキル２族ピロリド、アルキルマグネシウムピロリド、及び／又はアルキルカルシウムピロリドを更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【０２１５】
非限定的な実施形態において、金属ピロリドは、３族ジヒドリドピロリド、３族ドロカルビルジヒドリドピロリド、３族ジヒドロカルビルピロリド、又はこれらの組み合わせ；あるいは３族ジヒドリドピロリド；あるいは３族ドロカルビルジヒドリドピロリド；あるいは３族ジヒドロカルビルピロリドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。ヒドロカルビル基は、ピロール化合物のための有効な非水素置換基として本明細書に独立して記載されており、これら非水素ピロールヒドロカルビル基は、３族ヒドロカルビルヒドリドピロリド及び／又は３族ジヒドロカルビルピロリドを更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【０２１６】
一態様において、金属ピロリドは、アルミニウムピロリドであるか、アルミニウムピロリドを含むか、又はアルミニウムピロリドから本質的になることが可能である。一実施形態では、アルミニウムピロリドは、構造ＡＰ１を有することが可能である。一部の実施形態では、アルミニウムピロリドは、構造ＡＰ２、構造ＡＰ３、構造ＡＰ４、構造ＡＰ５、又はこれらの任意の組み合わせを有することが可能である。他の実施形態では、アルミニウムピロリドは、構造ＡＰ２；あるいは構造ＡＰ３；あるいは構造ＡＰ４；あるいは構造ＡＰ５、又はこれらの任意の組み合わせを有することが可能である。
【化１９】
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【化２０】
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【化２１】
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【化２２】
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【化２３】
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一般的に、構造ＡＰ１、ＡＰ２、ＡＰ３、ＡＰ４、及び／又はＡＰ５を有するアルミニウムピロリドのＲ2ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、Ｒ５ｐ、Ｒ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、Ｒ４５ｐ、Ｒ１ａ、及びＲ２ａは、独立してアルミニウムピロリドの要素である。したがって、構造ＡＰ１、ＡＰ２、ＡＰ３、ＡＰ４、及び／又はＡＰ５を有するアルミニウムピロリドは、本明細書に記載のＲ2ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、Ｒ５ｐ、Ｒ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、Ｒ４５ｐ、Ｒ１ａ、及びＲ２ａの態様及び／又は実施形態の任意の組み合わせを用いて説明することが可能である。
【０２１７】
Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ、Ｒ５ｐ、Ｒ１２ｐ、Ｒ１３ｐ、Ｒ１４ｐ、Ｒ２２ｐ、Ｒ２４ｐ、Ｒ３３ｐ、Ｒ３４ｐ、Ｒ４２ｐ、及びＲ４５ｐは、構造Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、及び／又はＰ５を有するピロール化合物のための非水素置換基として既に説明されている。これら非水素置換基は、構造ＡＰ１、ＡＰ２、ＡＰ３、ＡＰ４、及び／又はＡＰ５を有するアルミニウムピロリドを更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【０２１８】
一態様において、Ｒ１ａ及びＲ２ａは、独立して水素又はヒドロカルビル基；あるいは水素；あるいはヒドロカルビル基であり得る。（存在する場合）Ｒ１ａ及びＲ２ａとして使用可能な任意のヒドロカルビル基は、Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ１０ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ５ヒドロカルビル基であり得る。一実施形態では、Ｒ１ａヒドロカルビル基及び／又は及びＲ２ａヒドロカルビル基は、独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基；あるいはアルキル基；あるいはシクロアルキル基；あるいはアリール基；あるいはアラルキル基であり得る。アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基は、独立して、ピロール化合物のための有効な非水素置換基は、本明細書に記載されている。これら非水素ピロールアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基置換基は、構造ＡＰ１、ＡＰ２、ＡＰ３、ＡＰ４、及び／又はＡＰ５を有するアルミニウムピロリドのＲ１ａ及びＲ２ａとして、限定されずに用いることが可能である。
【０２１９】
非限定的な実施形態において、金属ピロリドは、アルミニウムジヒドリドピロリド、アルキルアルミニウムジヒドリドピロリド、ジアルキルアルミニウムピロリド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはアルミニウムジヒドリドピロリド；あるいはアルキルアルミニウムヒドリドピロリド；あるいはジアルキルアルミニウムピロリドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一般的に、水素化アルキルアルミニウムピロリド及び／又はジアルキルアルミニウムピロリドのアルキル基は、構造ＡＰ１、ＡＰ２、ＡＰ３、ＡＰ４、及び／又はＡＰ５を有するアルミニウムピロリドに関して本明細書で開示されている任意のアルキル基であり得る。
【０２２０】
一態様において、金属ピロリドは、ジメチルアルミニウムピロリド、ジエチルアルミニウムピロリド、ジプロピルアルミニウムピロリド、ジブチルアルミニウムピロリド、ジヘキシルアルミニウムピロリド、ジオクチルアルミニウムピロリド、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、金属ピロリドは、ジメチルアルミニウムピロリド、ジエチルアルミニウムピロリド、ジ−ｎ−プロピルアルミニウムピロリド、ジ−ｎ−ブチルアルミニウムピロリド、ジ−イソブチルアルミニウムピロリド、ジ−ｎ−ヘキシルアルミニウムピロリド、ジ−ｎ−オクチルアルミニウムピロリド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはジエチルアルミニウムピロリド、ジ−ｎ−ブチルアルミニウムピロリド、又はジ−イソブチルアルミニウムピロリド；あるいはジメチルアルミニウムピロリド；あるいはジエチルアルミニウムピロリド；あるいはジ−ｎ−プロピルアルミニウムピロリド；あるいはジ−ｎ−ブチルアルミニウムピロリド；あるいはジ−イソブチルアルミニウムピロリド；ジ−ｎ−ヘキシルアルミニウムピロリド；あるいはジ−ｎ−オクチルアルミニウムピロリドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一般的に、これらジアルキルアルミニウムジヒドリドピロリドのピロリドは、本明細書に開示の任意のピロール化合物のピロリドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２２１】
一態様において、金属ピロリドは、本明細書に記載の金属ピロリドを製造するためのいずれかのプロセスによって製造される金属ピロリドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。金属ピロリドがアルミニウムピロリドであるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい一実施形態において、アルミニウムピロリドは、本明細書に記載のアルミニウムピロリドを製造するためのいずれかのプロセスによって製造されるアルミニウムピロリドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２２２】
一般的に、触媒系に使用可能な金属ヒドロカルビル化合物は、ヒドロカルビル基の炭素原子に結合した金属原子を有する金属化合物であり得る。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物は、いずれかのヘテロレプティック又はホモレプティック金属ヒドロカルビル化合物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態では、金属ヒドロカルビルは、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル、金属ヒドロカルビルハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル；あるいは金属ヒドロカルビルハロゲン化物であるか、これらを含むか、これらから本質的になるか、これらからなることが可能である。一般的に、任意の金属ヒドロカルビルハロゲン化物の各ハロゲン化物は、独立して、フッ化物、塩化物、臭化物、又はヨウ化物；あるいは塩化物、臭化物、又はヨウ化物；あるいはフッ化物；あるいは塩化物；あるいは臭化物；あるいはヨウ化物であり得る。一般的に、任意の金属ヒドロカルビル（非ハロゲン化物金属アルキル及び／又は金属アルキルハロゲン化物）の各ヒドロカルビル基は、Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ１０ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ５ヒドロカルビル基であり得る。
【０２２３】
一般的に、任意の金属ヒドロカルビル化合物の各ヒドロカルビルは、独立して、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基；あるいはアルキル基；あるいはシクロアルキル基；あるいはアリール基；あるいはアラルキル基であり得る。一部の実施形態では、金属ヒドロカルビルは、金属アルキルであり得、非ハロゲン化物金属アルキル、金属アルキルハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは非ハロゲン化物金属アルキル；あるいは金属アルキルヒドロカルビルハロゲン化物を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。
【０２２４】
一実施形態において、金属ヒドロカルビル（又はその他の金属ヒドロカルビルとして、金属アルキル）の金属は、１、２、１１、１２、１３、又は１４族の金属；あるいは１３族又は１４族の金属；あるいは１３族の金属を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなる。一部の実施形態では、金属ヒドロカルビル（非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル又は金属ヒドロカルビルハロゲン化物、若しくは非ハロゲン化物金属アルキル又は金属アルキルハロゲン化物）の金属は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビ時有無、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カドニウム、ホウ素、アルミニウム、又はスズ；あるいはリチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ホウ素、アルミニウム、又はスズ；あるいはリチウム、ナトリウム、又はカリウム；あるいはマグネシウム、カルシウム；あるいはリチウム；あるいはナトリウム；あるいはカリウム；あるいはマグネシウム；あるいはカルシウム；あるいは亜鉛；あるいはホウ素；あるいはアルミニウム；あるいはスズであり得る。
【０２２５】
一態様において、金属アルキルは、１族金属アルキル、水素化２族金属アルキル、２族金属アルキルハロゲン化物、２族金属ジアルキル、１２族金属ジアルキル、二水素化１３族金属アルキル、水素化１３族金属ジアルキル、１３族金属アルキルジハロゲン化物、１３族金属ジアルキルハロゲン化物、１３族金属トリアルキル、１４族金属ジアルキル、１４族金属ジアルキルジハロゲン化物、１４族金属テトラアルキル、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは１族金属アルキル、水素化２族金属アルキル、２族金属アルキルハロゲン化物、２族金属ジアルキル、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは二水素化１３族金属アルキル、水素化１３族金属ジアルキル、１３族金属アルキルジハロゲン化物、１３族金属ジアルキルハロゲン化物、１３族金属トリアルキル、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは１４族金属ジアルキル、１４族金属ジアルキルジハロゲン化物、１４族金属テトラアルキルを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一実施形態において、金属アルキルは、１族金属アルキル、水素化２族金属アルキル、２族金属ジアルキル、１２族金属ジアルキル、二水素化１３族金属アルキル、水素化１３族金属ジアルキル、１３族金属トリアルキル、１４族金属ジアルキル、１４族金属テトラアルキル、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは１族金属アルキル、水素化２族金属アルキル、２族金属ジアルキル、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは二水素化１３族金属アルキル、水素化１３族金属ジアルキル、１３族金属トリアルキル、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一部の実施形態において、金属アルキルは、１族金属アルキル、２族金属ジアルキル、１２族金属ジアルキル、１３族金属トリアルキル、１４族金属ジアルキル又は１４族金属テトラアルキル；あるいは１族金属アルキル又は２族金属ジアルキル；あるいは１４族金属ジアルキル又は１４族金属テトラアルキルを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。他の実施形態において、金属アルキルは、１３族金属アルキルジハロゲン化物、３族金属ジアルキルハロゲン化物、１３族金属トリアルキル、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。更に他の実施形態において、金属アルキルは、１族金属アルキル；あるいは水素化２族金属アルキル；あるいは２族金属アルキルハロゲン化物；あるいは２族金属ジアルキル；あるいは１２族金属ジアルキル；あるいは二水素化１３族金属アルキル；あるいは水素化１３族金属ジアルキル；あるいは１３族金属アルキルジハロゲン化物；あるいは１３族金属ジアルキルハロゲン化物；あるいは１３族金属トリアルキル；あるいは１４族金属ジアルキル；あるいは１４族金属ジアルキルジハロゲン化物；あるいは１４族金属テトラアルキルを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。
【０２２６】
ヒドロカルビル金属化合物は、ハロゲン原子を含有する化合物及びハロゲン原子を含有しない化合物を含むことに留意するべきである。ヒドロカルビル金属化合物がハロゲン原子を含有する場合、このヒドロカルビル化合物は、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物と呼ぶことができる。ヒドロカルビル金属化合物がハロゲン原子を含有しない場合、このヒドロカルビル化合物は、非ハロゲン化物ヒドロカルビル化合物と呼ぶことができる。
【０２２７】
ヒドロカルビル金属化合物がハロゲンを含有する場合（例えば、金属ヒドロカルビルハロゲン化物又は金属アルキルハロゲン化物）、このヒドロカルビル化合物は、ハロゲン含有化合物（本明細書で更に説明される）としても働くことが可能である。ヒドロカルビル金属化合物がハロゲンを含有する一部の実施形態（例えば、金属ヒドロカルビルハロゲン化物又は金属アルキルハロゲン化物）において、このヒドロカルビル金属化合物は、このハロゲン含有化合物の全て又は一部を表すことが可能であり；あるいはこのハロゲン含有化合物の一部を表すことが可能である。
【０２２８】
非限定的な実施形態において、金属アルキルは、リチウムアルキル、ナトリウムアルキル、マグネシウムジアルキル、亜鉛ジアルキル、ホウ素トリアルキル、アルミニウムトリアルキル、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはリチウムアルキル、ナトリウムアルキル、マグネシウムジアルキル、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。別の非限定的な実施形態において、金属アルキルは、リチウムアルキル；あるいはナトリウムアルキル；あるいはマグネシウムジアルキル；あるいは亜鉛ジアルキル；あるいはホウ素トリアルキル；あるいはアルミニウムトリアルキルを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。
【０２２９】
一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル（非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル又は金属ヒドロカルビルハロゲン化物、若しくは非ハロゲン化物金属アルキル又は金属アルキルハロゲン化物）は、リチウムヒドロカルビル、ナトリウムヒドロカルビル、マグネシウムヒドロカルビル、ホウ素ヒドロカルビル、亜鉛ヒドロカルビル、又はアルミニウムヒドロカルビルを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。他の実施形態において、金属ヒドロカルビル（非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル又は金属ヒドロカルビルハロゲン化物、若しくは非ハロゲン化物金属アルキル又は金属アルキルハロゲン化物）は、リチウムアルキル、ナトリウムアルキル、マグネシウムアルキル、ホウ素アルキル、亜鉛アルキル、アルミニウムアルキルを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル（非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル又は金属ヒドロカルビルハロゲン化物、若しくは非ハロゲン化物金属アルキル又は金属アルキルハロゲン化物）は、アルミニウムヒドロカルビルを含むか、本質的にこれからなるか、又はこれからなってもよい。一部の非限定的な実施形態において、このアルミニウムヒドロカルビルは、アルミニウムアルキルを含むか、本質的にこれからなるか、又はこれからなってもよい。
【０２３０】
一態様において、金属ヒドロカルビルは、トリヒドロカルビルアルミニウム化合物、ジヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物化合物、ヒドロカルビルアルミニウムジハロゲン化物化合物、ジヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物化合物、ヒドロカルビルアルミニウムジハロゲン化物化合物、ジヒドロカルビルアルミニウムヒドリド化合物、ヒドロカルビルアルミニウムジヒドリド化合物、ジヒドロカルビルアルミニウムヒドロカルボキシド化合物、ヒドロカルビルアルミニウムジヒドロカルボキシド化合物、ヒドロカルビルアルミニウムセスキハロゲン化物化合物、ヒドロカルビルアルミニウムセスキヒドロカルボキシド化合物、アルミノキサン、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリヒドロカルビルアルミニウム、ジヒドロカルビルヒドリドアルミニウム、ヒドロカルビルアルミニウムジヒドリド、ジヒドロカルビルアルミニウムアルコキシド、ヒドロカルビルアルミニウムジアルコキシド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリヒドロカルビルアルミニウム、ジヒドロカルビルアルミニウムヒドリド、ヒドロカルビルアルミニウムジヒドリド、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビルは、トリヒドロカルビルアルミニウム化合物、ジヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物化合物、ヒドロカルビルアルミニウムジハロゲン化物化合物、ヒドロカルビルアルミニウムセスキハロゲン化物化合物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリヒドロカルビルアルミニウム化合物、ジヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物化合物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリヒドロカルビルアルミニウム化合物；あるいはジヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物化合物；あるいはヒドロカルビルアルミニウムジハロゲン化物化合物；あるいはジヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物化合物；あるいはヒドロカルビルアルミニウムジハロゲン化物化合物；あるいはジヒドロカルビルアルミニウムヒドリド化合物；あるいはヒドロカルビルアルミニウムジヒドリド化合物；あるいはジヒドロカルビルアルミニウムヒドロカルボキシド化合物；あるいはヒドロカルビルアルミニウムジヒドロカルボキシド化合物；あるいはヒドロカルビルアルミニウムセスキハロゲン化物化合物；あるいはヒドロカルビルアルミニウムセスキヒドロカルボキシド化合物；あるいはアルミノノキサンを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。金属ヒドロカルビル、金属ヒドロカルビルハロゲン化物、及び／又は金属ヒドロカルビルヒドロカルボキシドに適用可能なヒドロカルビル基及びハロゲン化物は、好適な金属ヒドロカルビルを更に説明するために用いることが可能である。
【０２３１】
一般的に、ヒドロカルボキシド基を有するいずれかの金属ヒドロカルビルの各ヒドロカルボキシド基は、Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルボキシド基；あるいはＣ１−Ｃ１０ヒドロカルボキシド基；あるいはＣ１−Ｃ６ヒドロカルボキシド基であり得る。一実施形態では、各ヒドロカルボキシド基は、独立して、アルコキシド基、シクロアルコキシド基、アロキシド基、又はアラルコキシド基；あるいはアルコキシド基；あるいはシクロアルコキシド基；あるいはアロキシド基；あるいはアラルコキシド基であり得る。一般的に、アルコキシド基、シクロアルコキシド基、アロキシド基、及び／又はアラルコキシド基は、ヒドロカルボキシド基と同数の炭素原子を有することが可能である。
【０２３２】
金属ヒドロカルビル基が金属アルキルであるか、金属アルキルを含むか、又は金属アルキル本質的になる場合、本明細書に記載の任意の金属アルキル（例えば、アルキルアルミニウム化合物又はアルキルアルミニウムハロゲン化物など）の各アルキル基は、独立して、Ｃ１−Ｃ２０アルキル基；あるいはＣ１−Ｃ１０アルキル基；あるいはＣ１−Ｃ６アルキル基であり得る。一実施形態では、本明細書に記載の任意の金属アルキルの各アルキル基は、独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、又はオクチル基；あるいはメチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、又はオクチル基であり得る。一部の実施形態において、本明細書に記載の任意の金属アルキルの各アルキル基は、独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、又はｎ−オクチル基；あるいはメチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、又はイソブチル基；あるいはメチル基；あるいはエチル基；あるいはｎ−プロピル基；あるいはｎ−ブチル基；あるいはイソブチル基；あるいはｎ−ヘキシル基；あるいはｎ−オクチル基であり得る。
【０２３３】
一般的に、本明細書に記載のアルコキシド基を含むいずれかの金属アルキルの各アルコキシド基は、独立して、Ｃ１−Ｃ２０アルコキシド基；あるいはＣ１−Ｃ１０アルコキシド基；あるいはＣ１−Ｃ６アルコキシド基であり得る。一実施形態において、本明細書に記載のアルコキシド基を含むいずれかの金属アルキルの各アルコキシド基は、独立して、メトキシド基、エトキシド基、プロポキシド基、ブトキシド基、ペントキシド基、ヘキソキシド基、ヘプトキシド基、又はオクトキシド基；あるいはメトキシド基、エトキシド基、ブトキシド基、ヘキソキシド基、又はオクトキシド基であり得る。一部の実施形態では、本明細書に記載のアルコキシド基を含むいずれかの金属アルキルの各アルコキシド基は、独立して、メトキシド基、エトキシド基、ｎ−プロポキシド基、ｎ−ブトキシド基、イソブトキシド基、ｎ−ヘキソキシド基、又はｎ−オクトキシド基；あるいはメトキシド基、エトキシド基、ｎ−プロポキシド基、又はイソブトキシド基；あるいはメトキシド基；あるいはエトキシド基；あるいはｎ−プロポキシド基；あるいはｎ−ブトキシド基；あるいはイソブトキシド基；あるいはｎ−ヘキソキシド基；あるいはｎ−オクトキシド基であり得る。
【０２３４】
非限定的な実施形態において、金属アルキルは、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ-ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ジエチルマグネシウム、ジエチル亜鉛、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはメチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ-ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはメチルリチウム；あるいはエチルリチウム；あるいはｎ−ブチルリチウム；あるいはｓｅｃ-ブチルリチウム；あるいはｔｅｒｔ−ブチルリチウム；あるいはジエチルマグネシウム；あるいはジエチル亜鉛を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。
【０２３５】
本開示による一部の態様及び実施形態において、金属ヒドロカルビルは、非加水分解ヒドロカルビルアルミニウム化合物を含むか、本質的にこれからなるか、又はこれからなってもよい。一実施形態では、この非加水分解ヒドロカルビルアルミニウムは、トリヒドロカルビルアルミニウム化合物、ヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物、及び／又はヒドロカルビルアルミニウムアルコキシドであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２３６】
一態様において、金属アルキルは、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアアルミニウムハロゲン化物、アルキルアルミニウムジハロゲン化物、ジアルキルアンモニウムヒドリド、アルキルアルミニウムジヒドリド、ジアルキルアルミニウムアルコキシド、アルキルアルミニウムジアルコキシド、アルキルアルミニウムセスキハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキアルコキシド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリアルキルアルミニウム、ジアルキルアンモニウムヒドリド、アルキルアルミニウムジヒドリド、ジアルキルアルミニウムアルコキシド、アルキルアルミニウムジアルコキシド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリアルキルアルミニウム、ジアルキルアンモニウムヒドリド、アルキルアルミニウムジヒドリド、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリアルキルアルミニウム、ジアルキルアアルミニウムヒドリド、アルキルアルミニウムジヒドリド、アルキルアルミニウムセスキハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリアルキルアルミニウム、ジアルキルアアルミニウムハロゲン化物、アルキルアルミニウムジハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリアルキルアルミニウム、ジアルキルアアルミニウムハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリアルキルアルミニウム；あるいはジアルキルアアルミニウムハロゲン化物；あるいはアルキルアルミニウムジハロゲン化物；あるいはジアルキルアンモニウムヒドリド；あるいはアルキルアルミニウムジヒドリド；あるいはジアルキルアルミニウムアルコキシド；あるいはアルキルアルミニウムジアルコキシド；あるいはアルキルアルミニウムセスキハロゲン化物；あるいはアルキルアルミニウムセスキアルコキシドを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。アルキル基、アルコキシド基、及びハロゲン化物は、本明細書に開示されており、金属アルキルを更に説明するために用いることができる金属アルキル、金属アルキルハロゲン化物、及び／又は金属アルコキシドを更に説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０２３７】
非限定的な実施形態において、本明細書に開示の任意の態様又は実施形態において用いることができるトリアルミニウムは、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリ−イソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム、トリ−ｎ−オクチルアルミニウム、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリエチルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリ−イソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはトリメチルアルミニウム；あるいはトリエチルアルミニウム；あるいはトリプロピルアルミニウム；あるいはトリ−ｎ−ブチルアルミニウム；あるいはトリ−イソブチルアルミニウム；あるいはトリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム；あるいはトリ−ｎ−オクチルアルミニウムを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。非限定的な実施形態において、アルキルアルミニウムハロゲン化物は、塩化ジエチルアルミニウム、臭化ジエチルアルミニウム、ニ塩化エチルアルミニウム、セスキ塩化エチルアルミニウム、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは塩化ジエチルアルミニウム、ニ塩化エチルアルミニウム、セスキ塩化エチルアルミニウム、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは塩化ジエチルアルミニウム；あるいは臭化ジエチルアルミニウム；あるいはニ塩化エチルアルミニウム；あるいはセスキ塩化エチルアルミニウムを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。非限定的な実施形態において、金属アルキル化合物は、トリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）、トリエチルアルミニウム（ＴＥＡ）、二塩化エチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、ジエチルアルミニウムエトキシド、トリブチルアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム（ＤＥＡＣ）、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。
【０２３８】
一態様において、金属アルキル化合物は、トリアルキルアルミニウム化合物とアルキルアルミニウムハロゲン化物との混合物を含むか、本質的にこれからなるか、又はこれからなってもよい。この混合物のトリアルキルアルミニウム化合物は、本明細書に記載の任意のトリアルキルアルミニウム化合物を含むか、本質的にこれからなるか、又はこれからなってもよい。この混合物のアルキルアルミニウムハロゲン化物化合物は、本明細書に記載の任意のアルキルアルミニウム化合物を含むか、本質的にこれからなるか、又はこれからなってもよい。一部の実施形態では、トリアルキルアルミニウム化合物とアルキルアルミニウムハロゲン化物との混合物は、トリエチルアルミニウムと塩化ジエチルアルミニウムとの混合物、トリエチルアルミニウムと二塩化エチルアルミニウムとの混合物、又はトリエチルアルミニウムとセスキ塩化エチルアルミニウムとの混合物を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一実施形態では、三量体化触媒系の金属アルキル成分は、トリエチルアルミニウムと塩化ジエチルアルミニウムとの混合物を含むか、本質的にこれからなるか、又はこれからなってもよい。
【０２３９】
一態様において、金属ヒドロカルビルは、アルミノキサンを含むか、アルミノキサンから本質的になるか、又はアルミノキサンからなることが可能である。一実施形態において、このアルミノキサンは、式Iの反復単位を有することが可能である。
【化２４】
0006360436.tif 000025
一般的に、Ｒ’は、本明細書に開示の任意のヒドロカルビル基である。一部の実施形態では、Ｒ’は、アルキル基であり得る。アルキル基は、金属アルキルについて本明細書で一般的に開示され、これらアルキル基は、式I（式中Ｒ’はアルキル基であり得る）の反復単位を有するアルミノキサンを説明するために限定されずに用いることが可能である。一部の実施形態ではＲ’は直鎖又は分岐鎖アルキル基；あるいは直鎖アルキル基；あるいは分岐鎖アルキル基；あるいは直鎖及び分岐鎖アルキル基の混合物であり得る。一般的に、式Ｉのｎは、１を超えるか；あるいは２を超える。一実施形態において、ｎは、２〜１５に及ぶか；あるいは３〜１０に及ぶ。
【０２４０】
非限定的な実施形態において、アルミノキサンは、メチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン、改質型メチルアルミノキサン、ｎ−プロピルアルミノキサン、イソプロピルアルミノキサン、ｎ−ブチルアルミノキサン、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン、イソブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、１−ペンチルアルミノキサン、２−ペンチルアルミノキサン、３−ペンチルアルミノキサン、イソペンチルアルミノキサン、ネオペンチルアルミノキサン、又はこれらの組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一部の非限定的な実施形態において、アルミノキサンは、メチルアルミノキサン、改質型メチルアルミノキサン、イソブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。他の非限定的な実施形態において、アルミノキサンは、メチルアルミノキサン；あるいはエチルアルミノキサン；あるいは改質型メチルアルミノキサン；あるいはｎ−プロピルアルミノキサン；あるいはイソプロピルアルミノキサン；あるいはｎ−ブチルアルミノキサン；あるいはｓｅｃ−ブチルアルミノキサン；あるいはイソブチルアルミノキサン；あるいはｔ−ブチルアルミノキサン；あるいは１−ペンチルアルミノキサン；あるいは２−ペンチルアルミノキサン；あるいは３−ペンチルアルミノキサン；あるいはイソペンチルアルミノキサン；あるいはネオペンチルアルミノキサンを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。
【０２４１】
理論に束縛されようとするものではないが、ハロゲン含有化合物は、本明細書に記載の触媒系を使用する三量体化プロセスの生成物純度及び選択性を改善することが可能であると考えられる。本明細書で使用する場合、用語「ハロゲン含有」及び「ハロゲン化物含有」は、互換的に用いられる。一態様において、このハロゲン含有化合物は、金属ハロゲン化物、非金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは金属ハロゲン化物；あるいは非金属ハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態では、金属ハロゲン化物は、無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物；あるいは無機金属ハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル金属ハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。この態様において並びにいずれ騎亜の開示された実施形態において、ハロゲン含有化合物（金属ハロゲン化物又は非金属ハロゲン化物、及び／又は無機金属ハロゲン化物又はヒドロカルビルハロゲン化物）は、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族、１４族、又は１５族のハロゲン含有化合物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２４２】
一実施形態において、ハロゲン含有化合物は、３族金属ハロゲン化物、４族金属ハロゲン化物、５族金属ハロゲン化物、Ｃｒを除く６族金属ハロゲン化物、１３族金属ハロゲン化物、１４族金属ハロゲン化物、１５族金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは３族金属ハロゲン化物、４族金属ハロゲン化物、５族金属ハロゲン化物、Ｃｒを除く６族金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは１３族金属ハロゲン化物、１４族金属ハロゲン化物、１５族金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、ハロゲン含有化合物は、３族金属ハロゲン化物；あるいは４族金属ハロゲン化物；あるいは５族金属ハロゲン化物；あるいはＣｒを除く６族金属ハロゲン化物；あるいは１３族金属ハロゲン化物；あるいは１４族金属ハロゲン化物；あるいは１５族金属ハロゲン化物を含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。更に他の実施形態では、ハロゲン含有化合物は、ハロゲン化炭化水素を含むか、又はハロゲン化炭化水素から本質的になることが可能である。
【０２４３】
一般的に、族数（金属又は非金属）及びハロゲン（ハロゲン含有化合物の特徴など）は、ハロゲン含有化合物の独立した要素であり、本明細書に独立して記載されている。ハロゲン含有化合物は、本明細書に記載の族数（金属又は非金属）及びハロゲンの任意の組み合わせを使用して説明される。
【０２４４】
一実施形態において、非金属ハロゲン化物は、１３族非金属ハロゲン化物、１４族非金属ハロゲン化物、１５族非金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは１３族非金属ハロゲン化物；あるいは１４族非金属ハロゲン化物；あるいは１５族非金属ハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、非金属ハロゲン化物は、ホウ素ハロゲン化物、ケイ素ハロゲン化物、リンハロゲン化物、ハロゲン化炭化水素、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはホウ素ハロゲン化物；ケイ素ハロゲン化物；あるいはリンハロゲン化物、あるいはハロゲン化炭化水素であるか、これらを含むか、又はこれらからなる。一実施形態では、ホウ素ハロゲン化物化合物は、ホウ素トリハロゲン化物、ヒドロカルビルホウ素ジハロゲン化物、ジヒドロカルビルホウ素モノハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはホウ素トリハロゲン化物；あるいはヒドロカルビルホウ素ジハロゲン化物；あるいはジヒドロカルビルホウ素モノハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、ケイ素ハロゲン化物は、ケイ素テトラハロゲン化物、ヒドロカルビルケイ素トリハロゲン化物、ジヒドロカルビルケイ素ジハロゲン化物、トリヒドロカルビルケイ素モノハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはケイ素テトラハロゲン化物；あるいはヒドロカルビルケイ素トリハロゲン化物；あるいはジヒドロカルビルケイ素ジハロゲン化物；あるいはトリヒドロカルビルケイ素モノハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、リンハロゲン化物は、リンペンタハロゲン化物、リントリハロゲン化物、ヒドロカルビルリンジハロゲン化物、ジヒドロカルビルリンモノハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはリンペンタハロゲン化物、リントリハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはリンペンタハロゲン化物；あるいはリントリハロゲン化物；あるいはヒドロカルビルリンジハロゲン化物；あるいはジヒドロカルビルリンモノハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一般的に、ハロゲン化物（又はハロゲン）及びヒドロカルビル基（又はハロゲン化炭化水素の炭化水素）は、ハロゲン化化合物として使用可能なホウ素ハロゲン化物、ケイ素ハロゲン化物、リンハロゲン化物、又はハロゲン化炭化水素の独立した要素である。ハロゲン化物（又はハロゲン）及びヒドロカルビル基は、本明細書に独立して記載されており、ハロゲン含有化合物として使用可能なホウ素ハロゲン化物、ケイ素ハロゲン化物、リンハロゲン化物、ハロゲン化炭化水素を更に説明するために、任意の組み合わせで用いることが可能である。
【０２４５】
一実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能な金属ハロゲン化物化合物は、無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは無機金属ハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル金属ハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、金属ハロゲン化物は、３族金属ハロゲン化物、４族金属ハロゲン化物、５族金属ハロゲン化物、Ｃｒを除く６族金属ハロゲン化物、１３族金属ハロゲン化物、１４族金属ハロゲン化物、１５族金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは３族金属ハロゲン化物；４族金属ハロゲン化物；あるいは５族金属ハロゲン化物；あるいはＣｒを除く６族金属ハロゲン化物；あるいは１３族金属ハロゲン化物；あるいは１４族金属ハロゲン化物；あるいは１５族金属ハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能な金属ハロゲン化物化合物は、無機３族金属ハロゲン化物、無機４族金属ハロゲン化物、無機５族金属ハロゲン化物、Ｃｒを除く無機６族金属ハロゲン化物、無機１３族金属ハロゲン化物、無機１４族金属ハロゲン化物、無機１５族金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは無機３族金属ハロゲン化物；無機４族金属ハロゲン化物；あるいは無機５族金属ハロゲン化物；あるいはＣｒを除く無機６族金属ハロゲン化物；あるいは無機１３族金属ハロゲン化物；あるいは無機１４族金属ハロゲン化物；あるいは無機１５族金属ハロゲン化物を含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能な金属ハロゲン化物化合物は、ヒドロカルビル３族金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル４族金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル５族金属ハロゲン化物、Ｃｒを除くヒドロカルビル６族金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル１３族金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル１４族金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル１５族金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはヒドロカルビル３族金属ハロゲン化物；ヒドロカルビル４族金属ハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル５族金属ハロゲン化物；あるいはＣｒを除くヒドロカルビル６族金属ハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル１３族金属ハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル１４族金属ハロゲン化物；あるいはヒドロカルビル１５族金属ハロゲン化物を含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一般的に、無機金属ハロゲン化物のハロゲン化物（又はハロゲン）及びハロゲン化物（複数可（又はハロゲン）並びにヒドロカルビル金属ハロゲン化物のヒドロカルビル基は、ハロゲン含有化合物として使用可能な無機金属ハロゲン化物及び／又はヒドロカルビル金属ハロゲン化物の独立した要素である。ハロゲン化物（又はハロゲン）及びヒドロカルビル基は、本明細書に独立して記載されており、ハロゲン含有化合物として使用可能な無機金属ハロゲン化物及び／又はヒドロカルビル金属ハロゲン化物を更に説明するために、任意の組み合わせで用いることが可能である。
【０２４６】
ハロゲン含有化合物が、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物を含むかこれから本質的になる場合、このハロゲン含有化合物（すなわち、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物）は、ヒドロカルビル金属化合物としても働くことが可能である。ハロゲン含有化合物が、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物を含むか、又はこれから本質的になる一部の実施形態では、このハロゲン含有化合物（すなわち、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物）は、ヒドロカルビル金属化合物の全て又は一部；あるいはヒドロカルビル金属化合物の全て；あるいはヒドロカルビル金属化合物の一部を表すことが可能である。
【０２４７】
一態様又はいずれかの実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能ないずれかの一般的な又は特定の無機金属ハロゲン化物又はヒドロカルビル金属ハロゲン化物の金属は、スカンジウム、イットリウム、ランタン、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオビウム、モリブデン、タングステン、アルミニウム、ガリウム、ゲルマニウム、スズ、ヒ素、アンチモン、又はビスマス；あるいはスカンジウム、イットリウム、ランタン、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、モリブデン、タングステン、アルミニウム、ガリウム、ゲルマニウム、スズ、ヒ素、アンチモン、又はビスマスであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能ないずれかの一般的な又は特定の無機金属ハロゲン化物又はヒドロカルビル金属ハロゲン化物の金属は、スカンジウム、イットリウム、ランタン、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、モリブデン、タングステン；あるいはアルミニウム、ガリウム、ゲルマニウム、スズ、アンチモン、又はビスマスであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能ないずれかの一般的な又は特定の無機金属ハロゲン化物又はヒドロカルビル金属ハロゲン化物の金属は、スカンジウム、イットリウム、又はランタン；あるいはチタン、ジルコニウム、又はハフニウム；あるいはバナジウム、又はニオビウム；あるいはモリブデン又はタングステン；あるいはアルミニウム又はガリウム；あるいはゲルマニウム又はスズ；あるいはアンチモン、又はビスマスであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。更に他の実施形態において、いずれかの一般的な又は特定の無機金属ハロゲン化物又はヒドロカルビル金属ハロゲン化物の金属は、スカンジウム；あるいはイットリウム；あるいはランタン；あるいはチタン；あるいはジルコニウム；あるいはハフニウム；あるいはバナジウム；あるいはニオビウム；あるいはモリブデン；あるいはタングステン；あるいはアルミニウム；あるいはガリウム；あるいはゲルマニウム；あるいはスズ；あるいはヒ素；あるいはアンチモン；あるいはビスマスであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２４８】
一態様において、ハロゲン含有化合物（これが無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又は非金属ハロゲン化物であるかどうかに関わらず）の各ハロゲン（又はハロゲン化物）は、独立して、フッ化物、塩化物、臭化物、又はヨウ化物；あるいはフッ化物；あるいは塩化物；あるいは臭化物；あるいはヨウ化物であり得る。結果的に、ハロゲン含有化合物は、フッ素（又はフッ化物）含有化合物、塩素（又は塩化物）含有化合物、臭素（又は臭化物）含有化合物、又はヨウ素（ヨウ化物）含有化合物であり得る。一実施形態では、ハロゲン含有化合物は、フッ素（又はフッ化物）含有化合物；あるいは塩素（又は塩化物）含有化合物；あるいは臭素（又は臭化物）含有化合物；あるいはヨウ素（ヨウ化物）含有化合物であり得る。
【０２４９】
例示的な実施形態において、ハロゲン含有化合物は、いずれかの一般的な又は特定の無機金属フッ化物、ヒドロカルビル金属フッ化物、非金属フッ化物、無機金属塩化物、ヒドロカルビル金属塩化物、非金属塩化物、無機金属臭化物、ヒドロカルビル金属臭化物、非金属臭化物、無機金属ヨウ化物、ヒドロカルビル金属ヨウ化物、非金属ヨウ化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは無機金属フッ化物、無機金属塩化物、無機金属臭化物、無機金属ヨウ化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはヒドロカルビル金属フッ化物、ヒドロカルビル金属塩化物、ヒドロカルビル金属臭化物、ヒドロカルビル金属ヨウ化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは非金属フッ化物、非金属塩化物、非金属臭化物、非金属ヨウ化物、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、ハロゲン含有化合物は、いずれかの一般的又は特定の無機金属塩化物、ヒドロカルビル金属塩化物、非金属塩化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは無機金属塩化物；あるいはヒドロカルビル金属塩化物；あるいは非金属塩化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２５０】
一実施形態において、いずれかのヒドロカルビル金属ハロゲン化物（例えば、本明細書に開示のヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物又はヒドロカルビルスズハロゲン化物など）又はいずれかのヒドロカルビル非金属ハロゲン化物（例えば、本明細書に開示のヒドロカルビルホウ素ハロゲン化物、ヒドロカルビルケイ素ハロゲン化物、ヒドロカルビルリンハロゲン化物）のヒドロカルビル基は、Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ１０ヒドロカルビル基；あるいはＣ１−Ｃ６ヒドロカルビル基であり得る。ヒドロカルビル基（一般的な又は特定の）は、ピロール化合物についての置換基である実施形態Ｒ２ｃ、本明細書で記載されている様々な実施形態における置換基、他の実施形態及び実施形態における置換基として一般的に説明されている。これらヒドロカルビル基の記述（一般的及び特定の）は、ハロゲン含有化合物として使用可能なヒドロカルビル金属ハロゲン化物又はヒドロカルビル非金属ハロゲン化物を更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。ヒドロカルビル金属ハロゲン化物（例えば、本明細書で開示されているヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物又はヒドロカルビルスズハロゲン化物など）の、又はいずれかのヒドロカルビル非金属ハロゲン化物（例えば、本明細書に開示のヒドロカルビルホウ素ハロゲン化物、ヒドロカルビルケイ素ハロゲン化物、ヒドロカルビルリンハロゲン化物など）のいくつかの非限定的なヒドロカルビル基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基；あるいはアルキル基；あるいはシクロアルキル基；あるいはアリール基；あるいはアラルキル基であり得る。
【０２５１】
非限定的な例において、ハロゲン含有化合物として使用可能な金属ハロゲン化物は、三塩化スカンジウム、三塩化イットリウム、三塩化ランタン、四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩化ハフニウム、五塩化モリブデン、六塩化タングステン、塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、フッ化アルミニウム、三塩化ガリウム、四塩化ゲルマニウム、四塩化スズ、三塩化アンチモン、五塩化アンチモン、三塩化ビスマス、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一部の非限定的な実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能な金属ハロゲン化物は、三塩化スカンジウム、三塩化イットリウム、三塩化ランタン、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは四塩化チタン、四塩化ジルコニウム、四塩化ハフニウム、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは五塩化モリブデン、六塩化タングステン、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは塩化アルミニウム、三臭化アルミニウム、フッ化アルミニウム、三塩化ガリウム、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは四塩化ゲルマニウム、四塩化スズ、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは三塩化アンチモン、五塩化アンチモン、三塩化ビスマス、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。他の非限定的な実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能な金属ハロゲン化物は、三塩化スカンジウム；あるいは三塩化イットリウム；あるいは三塩化ランタン；あるいは四塩化チタン；あるいは四塩化ジルコニウム；あるいは四塩化ハフニウム；あるいは五塩化モリブデン；あるいは六塩化タングステン；あるいは塩化アルミニウム；あるいは三臭化アルミニウム；あるいはフッ化アルミニウム；あるいは三塩化ガリウム；あるいは四塩化ゲルマニウム；あるいは四塩化スズ；あるいは三塩化アンチモン；あるいは五塩化アンチモンあるいは三塩化ビスマスを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。
【０２５２】
非限定的な例において、ハロゲン含有化合物として使用可能なホウ素ハロゲン化物、ケイ素ハロゲン化物、又はリンハロゲン化物は、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、三塩化リン、三臭化リン、四塩化リン、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一部の非限定的な実施形態では、ハロゲン含有化合物は、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは三塩化リン、三臭化リン、四塩化リン、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。他の非限定的な実施形態において、ハロゲン含有化合物は、三塩化ホウ素；あるいは三臭化ホウ素；あるいは四塩化ケイ素；あるいは四臭化ケイ素；あるいは三塩化リン；あるいは三臭化リン；あるいは四塩化リンを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。
【０２５３】
一実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能なヒドロカルビル金属ハロゲン化物は、ヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物又はヒドロカルビルスズハロゲン化物；あるいはヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物；あるいはヒドロカルビルスズハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。別の例示的な実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能なヒドロカルビル金属ハロゲン化物は、ヒドロカルビルアルミニウムジハロゲン化物、ジヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物、ヒドロカルビルアルミニウムセスキハロゲン化物、ヒドロカルビルスズトリハロゲン化物、ジヒドロカルビルスズジハロゲン化物、トリヒドロカルビルスズハロゲン化物、又はこれらの組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。更に別の実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能なヒドロカルビル金属ハロゲン化物は、ヒドロカルビルアルミニウムジハロゲン化物、ジヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物、ヒドロカルビルアルミニウムセスキハロゲン化物、又はこれらの組み合わせ；あるいはヒドロカルビルスズトリハロゲン化物、ジヒドロカルビルスズジハロゲン化物、トリヒドロカルビルスズハロゲン化物、又はこれらの組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能なヒドロカルビル金属ハロゲン化物は、ヒドロカルビルアルミニウムジハロゲン化物；あるいはジヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物；あるいはヒドロカルビルアルミニウムセスキハロゲン化物；あるいはヒドロカルビルスズトリハロゲン化物；あるいはジヒドロカルビルスズジハロゲン化物；あるいはトリヒドロカルビルスズハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。ヒドロカルビル基は本明細書に既に記載されており、ハロゲン含有化合物として使用可能なヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物及び／又はヒドロカルビルスズハロゲン化物のヒドロカルビル基を説明するために限定されずに用いることが可能である。
【０２５４】
一態様において、ハロゲン含有化合物として使用可能なヒドロカルビル金属ハロゲン化物は、アルキル金属ハロゲン化物であるか、これを含むか、又は本質的にこれからなってもよい。一実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能なアルキル金属ハロゲン化物は、アルキルアルミニウムハロゲン化物又はアルキルスズハロゲン化物；あるいはアルキルアルミニウムハロゲン化物；あるいはアルキルスズハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能なアルキルアルミニウムハロゲン化物は、塩化アルキルアルミニウム；あるいは臭化アルキルアルミニウム；あるいはヨウ化アルキルアルミニウムであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能なアルキルスズハロゲン化物は、塩化アルキルスズ；あるいは臭化アルキルスズ；あるいはヨウ化アルキルスズであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。別の実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能なアルキル金属ハロゲン化物は、アルキルアルミニウムジハロゲン化物、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキハロゲン化物、アルキルスズトリハロゲン化物、ジアルキルスズジハロゲン化物、トリアルキルスズハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。一部の実施形態では、ハロゲン含有化合物として使用可能なアルキル金属ハロゲン化物は、アルキルアルミニウムジハロゲン化物、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいはアルキルスズトリハロゲン化物、ジアルキルスズジハロゲン化物、トリアルキルスズハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の非限定的な実施形態では、ハロゲン含有化合物として使用可能なアルキル金属ハロゲン化物は、アルキルアルミニウムジハロゲン化物；あるいはジアルキルアルミニウムハロゲン化物；あるいはアルキルアルミニウムセスキハロゲン化物；あるいはアルキルスズトリハロゲン化物；あるいはジアルキルスズジハロゲン化物；あるいはトリアルキルスズハロゲン化物であるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。特定のアルキルアルミニウムハロゲン化物が本明細書に開示されており（例えば、有効なアルキルアルミニウム化合物）ハロゲン含有化合物として限定されずに用いることが可能である。
【０２５５】
非限定的な実施形態において、ハロゲン含有化合物は、三フッ化ホウ素、フッ化アルキルホウ素、三塩化ホウ素、塩化アルキルホウ素、三臭化ホウ素、臭化アルキルホウ素、三ヨウ化ホウ素、ヨウ化アルキルホウ素、四フッ化ケイ素、フッ化アルキルケイ素、四塩化ケイ素、塩化アルキルホウ素、四臭化ケイ素、臭化アルキルケイ素、四ヨウ化ケイ素、ヨウ化アルキルケイ素、フッ化（三フッ化又は四フッ化）リン、フッ化アルキルリン、塩化（三塩化又は四塩化）アルキルリン、三臭化（三臭化又は四臭化）リン、臭化アルキルリン、三ヨウ化（三ヨウ化又は四ヨウ化）リン、又はヨウ化アルキルリンであり得る。ハロゲン含有化合物は、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三ヨウ化ホウ素、四フッ化ケイ素、四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、四ヨウ化ケイ素、フッ化（三フッ化又は四フッ化）リン、塩化（三塩化又は四塩化）リン、三臭化（三臭化又は四臭化）リン、又は三ヨウ化（三ヨウ化又は四ヨウ化）リン；あるいは三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三ヨウ化ホウ素；あるいは四フッ化ケイ素、四塩化ケイ素、四臭化ケイ素、四ヨウ化ケイ素；あるいはフッ化（三フッ化又は四フッ化）リン、塩化（三塩化又は四塩化）リン、臭化（三臭化又は四臭化）リン、又はヨウ化（三ヨウ化又は四ヨウ化）リンであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。他の非限定的な実施形態において、ハロゲン含有化合物は、三フッ化ホウ素、フッ化アルキルホウ素、三塩化ホウ素、塩化アルキルホウ素、三臭化ホウ素、臭化アルキルホウ素、三ヨウ化ホウ素、又はヨウ化アルキルホウ素；あるいは四フッ化ケイ素、フッ化アルキルケイ素、四塩化ケイ素、塩化アルキルケイ素、四臭化ケイ素、臭化アルキルケイ素、四ヨウ化ケイ素、又はヨウ化アルキルケイ素；あるいはフッ化（三フッ化又は四フッ化）リン、フッ化アルキルリン、塩化（三塩化又は四塩化）リン、塩化アルキルリン、三臭化（三臭化又は四臭化）リン、臭化アルキルリン、三ヨウ化（三ヨウ化又は四ヨウ化）リン、又はヨウ化アルキルリン；あるいは、フッ化ホウ素又はフッ化アルキルホウ素；あるいは三塩化ホウ素又は塩化アルキルホウ素；あるいは三臭化ホウ素又は臭化アルキルホウ素；あるいは三ヨウ化ホウ素又はヨウ化アルキルホウ素；あるいは四フッ化ケイ素又はフッ化アルキルケイ素；あるいは三塩化ケイ素又は塩化アルキルケイ素；あるいは四臭化ケイ素又は臭化アルキルケイ素；あるいは四ヨウ化ケイ素又はヨウ化アルキルケイ素；あるいはフッ化（三フッ化又は四フッ化）リン又はフッ化アルキルリン；あるいは塩化（三塩化又は四塩化）リン又は塩化アルキルリン；あるいは三臭化（三臭化又は四臭化）リン又は臭化アルキルリン；あるいは三ヨウ化（三ヨウ化又は四ヨウ化）リン又はヨウ化アルキルリンであるか、これらを含むか、又は本質的にこれらからなってもよい。
【０２５６】
非限定的なアルキル金属ハロゲン化物の態様又はアルキル非金属ハロゲン化物の態様において、ハロゲン含有化合物として使用可能ないずれかのアルキル金属ハロゲン化物（一般的な又は特定の）又はアルキル非金属ハロゲン化物（一般的な又は特定の）の各アルキル基（複数が存在する場合）は、Ｃ１−Ｃ２０アルキル基；あるいはＣ１−Ｃ１０アルキル基；あるいはＣ１−Ｃ６アルキル基であり得る。一実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能ないずれかのアルキル金属ハロゲン化物（一般的な又は特定の）又はアルキル非金属ハロゲン化物（一般的な又は特定の）の各アルキル基（複数が存在する場合）は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、又はデシル基；あるいはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、又はヘキシル基であり得る。一部の実施形態では、ハロゲン含有化合物として使用可能ないずれかのアルキル金属ハロゲン化物（一般的な又は特定の）又はアルキル非金属ハロゲン化物（一般的な又は特定の）の各アルキル基（複数が存在する場合）は、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、又はｎ−オクチル基；あるいはメチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、又はｎ−ヘキシル基；あるいはメチル基；あるいはエチル基；あるいはプロピル基；あるいはｎ−ブチル基；あるいはイソブチル基；あるいはｓｅｃ−ブチル基；あるいはｔｅｒｔ−ブチル基；あるいはｎ−ヘキシル基であり得る。
【０２５７】
非限定的な実施形態において、アルキルシランハロゲン化物は、メチルトリクロ路シラン、ジメチルジクロロシラン、トリメチルクロ路シラン、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一部の非限定的な実施形態において、アルキルシランハロゲン化物は、メチルトリクロ路シラン；あるいはジメチルジクロロシラン；あるいはトリメチルクロロシランを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。
【０２５８】
ヒドロカルビル金属ハロゲン化物及びアルキル金属ハロゲン化物は、有効なヒドロカルビル金属化合物及び金属アルキルとして本明細書に記載されている。一実施形態では、これらヒドロカルビル金属ハロゲン化物及び／又はアルキル金属ハロゲン化物は、金属ハロゲン化物として限定されずに用いることが可能である。別の非限定的な実施形態において、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物は、トリチルヘキサクロロアンチモネートを含むか、本質的にこれからなるか、又はこれからなってもよい。
【０２５９】
一態様において、ハロゲン含有化合物は、Ｃ１−Ｃ１５有機ハロゲン化物；あるいはＣ１−Ｃ１０有機ハロゲン化物；あるいはＣ１−Ｃ８有機ハロゲン化物を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一実施形態では、ハロゲン含有化合物は、有機フッ化物、有機塩化物、有機臭化物、有機ヨウ化物を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一部の実施形態において、ハロゲン含有化合物として使用可能な有機ハロゲン化物は、有機塩化物；あるいは有機臭化物；あるいは有機ヨウ化物を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一般的に、この有機フッ化物、有機塩化物、有機臭化物、又は有機ヨウ化物は、本明細書に記載の任意の一般的な有機ハロゲン化物と同一の炭素数範囲を有することが可能である。
【０２６０】
一態様において、ハロゲン含有化合物は、Ｃ１−Ｃ１５ハロゲン化炭化水素；あるいはＣ１−Ｃ１０ハロゲン化炭化水素；あるいはＣ１−Ｃ８ハロゲン化炭化水素を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一実施形態では、ハロゲン含有化合物は、フッ素化炭化水素、塩素化炭化水素、臭素化炭化水素、ヨウ化炭化水素、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一部の実施形態において、ハロゲン含有化合物は、フッ素化炭化水素；あるいは塩素化炭化水素；あるいは臭素化炭化水素；あるいはヨウ化炭化水素を含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。一般的に、フッ素化炭化水素、塩素化炭化水素、臭素化炭化水素、及び／又はヨウ化炭化水素は、本明細書に記載の任意の一般的なハロゲン化炭化水素と同一の炭素数範囲を有することが可能である。
【０２６１】
非限定的な実施形態において、ハロゲン含有化合物は、四塩化炭素、四臭化炭素、クロロホルム、ブロモホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジヨードメタン、クロロメタン、ブロモメタン、ヨードメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロアセトン、ヘキサクロロアセトン、ヘキサクロロシクロヘキサン、１，３，５−トリクロロベンゼン、ヘキサクロロベンゼン、塩化トリチル、塩化ベンジル、臭化ベンジル、ヨウ化ベンジル、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ヨードベンゼン、ヘキサフルオロベンゼン、又はこれらの任意の組み合わせを含むか、これらから本質的になるか、又はこれらからなることが可能である。
【０２６２】
一態様において、触媒系は、１：１〜１：１５０；あるいは１：１〜１：１００の；あるいは１：２〜１：５０；あるいは１：５〜１：１５０；あるいは１：１１〜１：１００；あるいは１：２〜１：５０；あるいは１：５０〜１：４０；あるいは１：９〜１：２５に及ぶ金属ヒドロカルビル化合物の金属に対する遷移金属化合物の金属のモル比（遷移金属：ヒドロカルビル金属モル比とも呼ばれる）を有することが可能である。遷移金属化合物の金属及び／又は金属ヒドロカルビル化合物の金属に余り一般的ではない言及を用いる場合、遷移金属化合物の金属及び／又は金属ヒドロカルビル化合物の金属へのより特定の言及が、遷移金属：金属ヒドロカルビル金属モル比における遷移金属化合物の金属及び／又は金属ヒドロカルビル化合物の金属への一般的な言及に取って代わることが可能である。遷移金属化合物がクロム化合物（例えば、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物）であり、金属ヒドロカルビル化合物がアルキルアルミニウム化合物（例えば、トリエチルアルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム、又はこれらの混合物）である非限定的な実施形態では、触媒系は、１：１〜１：５０；あるいは１：１〜１：１００；あるいは１：２〜１：５０；あるいは１：５〜１：４０；あるいは１：９〜１：２５に及ぶ；あるいは１：２〜１：１８；あるいは１：５〜１：１７；あるいは１：８〜１：１６．５；あるいは１：９〜１：１６；あるいは１：９．５〜１：１５．５に及ぶクロム：アルミニウムモル比を有することが可能である。遷移金属化合物がクロム化合物（例えば、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物）であり、金属アルキルがアルキルアルミニウム化合物（例えば、トリエチルアルミニウム、塩化ジエチルアルミニウム、又はこれらの混合物）である別の非限定的な実施形態では、触媒系は、１：１〜１：５０；あるいは１：１〜１：１００；あるいは１：９〜１：２５；あるいは１：２〜１：１８；あるいは１：５〜１：１７；あるいは１：８〜１：１６．５；あるいは１：９〜１：１６；あるいは１：９．５〜１：１５．５に及ぶクロム：アルミニウムモル比を有することが可能である。
【０２６３】
一態様において、触媒系は、０．３：１〜１０：１；あるいは０．３：１〜７．５：１；あるいは０．３：１〜５：１に及ぶ遷移金属化合物の遷移金属に対する窒素含有化合物の窒素のモル比（窒素：遷移金属モル比とも呼ばれる）を有することが可能である。別の態様では、触媒系は、１：１〜４：１；あるいは１．５：１〜３．７：１；あるいは１．５：１〜２．５：１；あるいは２：１〜３．７：１；あるいは２．５：１〜３．５：１；あるいは２．９：１〜３．１：１に及ぶ窒素：遷移金属モル比を有することが可能である。更に別の態様においては、触媒系は、０．３：１〜４．０：１；あるいは０．３：１〜３：１；あるいは０．３：１〜２：１；あるいは０．３：１〜１．５：１；あるいは０．３：１〜１．３：１；あるいは０．３：１〜１．２：１；あるいは０．３：１〜０．９：１；あるいは０．３：１〜０．８：１に及ぶ窒素：遷移金属モル比を有することが可能である。窒素含有化合物及び／又は遷移金属含有化合物に余り一般的ではない言及を用いる場合、より特定の窒素含有化合物及び／又は遷移金属化合物の言及が、窒素：遷移金属モル比における窒素含有化合物及び／又は遷移金属化合物の一般的な言及に取って代わることが可能である。遷移金属化合物がクロム化合物（例えば、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物）であり、窒素含有化合物がピロール化合物（例えば、本明細書で開示されているピロール化合物では、非金属ピロール化合物、金属ピロール化合物、２，５−二置換ピロールなど）である非限定的な実施形態では、ピロール化合物の窒素：クロムモル比は、０．３：１〜１０：１；あるいは０．３：１〜７．５：１；あるいは０．３：１〜５：１；あるいは１：１〜４：１；あるいは１．５：１〜３．７：１；あるいは１．５：１〜２．５：１；あるいは２：１〜３．７：１；あるいは２．５：１〜３．５：１；あるいは２．９：１〜３．１：１；あるいは２．９：１〜３．１：１；あるいは０．３：１〜４．０：１；あるいは０．３：１〜３：１；あるいは０．３：１〜２：１；あるいは０．３：１〜１．５：１；あるいは０．３：１〜１．３：１；あるいは０．３：１〜１．２：１；あるいは０．３：１〜０．９：１；あるいは０．３：１〜０．８：１に及ぶことが可能である。
【０２６４】
オレフィン三量体化触媒系がハロゲン含有化合物（無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、及び／又は有機ハロゲン化物）を含む一態様においては、遷移金属化合物の遷移金属に対するハロゲン化物のモル比（ハロゲン化物：遷移金属モル比とも呼ばれる）は、少なくとも０．００１：１；あるいは少なくとも０．０５：１；あるいは少なくとも０．１：１；あるいは少なくとも０．２５：１；あるいは少なくとも０．５：１；あるいは少なくとも０．７５：１であり得る。オレフィン三量体化触媒系がハロゲン含有化合物（無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、及び／又は有機ハロゲン化物）を含む他の態様において、ハロゲン化物：遷移金属モル比は、１，０００：１以下；あるいは５００：１以下；あるいは２５０：１以下；あるいは１００：１以下；あるいは７５：１以下；あるいは５０：１以下；あるいは２５：１以下であり得る。一態様では、このハロゲン化物：遷移金属モル比は、本明細書に記載の任意の最小ハロゲン化物：遷移金属モル比から、本明細書に記載の任意の最大ハロゲン化物：遷移金属モル比まで及ぶことが可能である。一部の非限定的な実施形態では、このハロゲン化物：遷移金属モル比は、０．１：１〜１００：１に及ぶことができ；あるいは０．２５：１〜７５：１に及ぶことができ；あるいは０．５：１〜５０：１に及ぶことができ；あるいは０．７５：１〜２５：１に及ぶことができる。ハロゲン化物：遷移金属モル比についてのその他の範囲は、本開示から容易に明らかである。特定のハロゲン化物（例えば塩化物）及び／又は遷移金属化合物の遷移金属（例えば、クロム）が特定化される場合、この比は、特定化されたハロゲン化物及び／又は遷移金属に関して提供され得る（例えば、ハロゲン化物：クロムモル比、塩化物：遷移金属モル比、又は塩化物：クロムモル比など）。
【０２６５】
非限定的な実施形態において、触媒系は、ａ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）（このＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）は、プロピオネート、ブチレート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、デカノエート、ウンデカノエート、ドデカノエート、トリデカノエート、テトラデカノエート、ペンタデカノエート、ヘキサデカノエート、ヘプタデカノエート、オクタデカノエート、又はこれらの組み合わせを含み、このＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）は、ｉ）υｓｙｍ（ＣＯ２）赤外ピークの１１０ｃｍ−１以内のυaｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸収ピークを有するＫＢｒペレット赤外スペクトルを有し、及び３：１以上の７００±５０ｃｍ−１に位置する赤外吸収ピークに対する１５１６±１５ｃｍ−１におけるυａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外ピークの赤外吸収ピーク高さ比を有するものして特徴付けることが可能であり、ｉｉ）１．３オングストロームから４オングストロームのｒ範囲にわたって、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点を単核酢酸クロム（ＩＩＩ）の理論モデルの計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較する場合、少なくとも０．６の適合度検定値Ｒ２を有するものとして特徴付けることが可能であり、又はｉｉｉ）実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件下で、１）式ＣｒＸ３Ｌｌを有するクロム（ＩＩＩ）前駆体（式中、各Ｘは独立してハロゲン化物であり、各Ｌは独立して、Ｃ２−Ｃ１０エーテル、Ｃ２−Ｃ１０チオエーテル、Ｃ２−Ｃ５ニトリル、Ｃ１−Ｃ３０アミン、又はＣ３−Ｃ３０ホスフィン、又はこれらの任意の組み合わせであり、ｌは０〜７に及ぶ）と、２）１族又は２族金属Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレートと、３）第１の溶媒とを接触させて、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）を形成することを含むプロセスによって製造されることが可能である）と；ｂ）２，５−ジメチルピロール、２−メチル−５−エチルピロール、２，５−ジエチルピロール、２，５−ジプロピルピロール、２，５−ジブチルピロール、２，４−ジメチルピロール、２，４−ジエチルピロール、２，４−ジプロピルピロール、２，４−ジブチルピロール、３，４−ジメチルピロール、３，４−ジエチルピロール、３，４−ジプロピルピロール、３，４−ジブチルピロール、２，３，４−トリメチルピロール、３−エチル−２，４−ジメチルピロール、２，３，５−トリメチルピロール、２，３，４，５−テトラメチルピロール、２，３，４，５−テトラエチルピロール、又はこれらの任意の組み合わせを含むピロール化合物と；ｃ）トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキル金属ジハロゲン化物、セスキ塩化アルキルアルミニウム、又はこれらの任意の組み合わせを含む金属ヒドロカルビル化合物と、を含み；ｄ）アルミニウムに対するクロムのモル比が１：１〜１：１００に及び；並びにｅ）クロムに対するピロール化合物のモル比が０．３：１〜１０：１に及ぶことが可能である。別の非限定的な実施形態においては、触媒系は、ａ）Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）（このＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）は、プロピオネート、ブチレート、���キサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、デカノエート、ウンデカノエート、ドデカノエート、トリデカノエート、テトラデカノエート、ペンタデカノエート、ヘキサデカノエート、ヘプタデカノエート、オクタデカノエート、又はこれらの組み合わせを含み、このＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）は、ｉ）υｓｙｍ（ＣＯ２）赤外ピークの１１０ｃｍ−１以内のυａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外吸収ピークを有するＫＢｒペレット赤外スペクトルを有し、及び３：１以上の７００±５０ｃｍ−１に位置する赤外吸収ピークに対する１５１６±１５ｃｍ−１におけるυａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外ピークの赤外吸収ピーク高さ比を有するものして特徴付けることが可能であり、ｉｉ）１．３オングストロームから４オングストロームのｒ範囲にわたって、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点を単核酢酸クロム（ＩＩＩ）の理論モデルの計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データ点と比較する場合、少なくとも０．６の適合度検定値Ｒ２を有するものとして特徴付けることが可能であり、又はｉｉｉ）実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件下で、１）式ＣｒＸ３Ｌｌを有するクロム（ＩＩＩ）前駆体（式中、各Ｘは独立してハロゲン化物であり、各Ｌは独立して、Ｃ２−Ｃ１０エーテル、Ｃ２−Ｃ１０チオエーテル、Ｃ２−Ｃ５ニトリル、Ｃ１−Ｃ３０アミン、又はＣ３−Ｃ３０ホスフィン、又はこれらの任意の組み合わせであり、ｌは０〜７に及ぶ）と、２）１族又は２族金属Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレートと、３）第１の溶媒とを接触させて、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）を形成することを含むプロセスによって製造されることが可能である）と；ｂ）２，５−ジメチルピロール、２−メチル−５−エチルピロール、２，５−ジエチルピロール、２，５−ジプロピルピロール、２，５−ジブチルピロール、２，４−ジメチルピロール、２，４−ジエチルピロール、２，４−ジプロピルピロール、２，４−ジブチルピロール、３，４−ジメチルピロール、３，４−ジエチルピロール、３，４−ジプロピルピロール、３，４−ジブチルピロール、２，３，４−トリメチルピロール、３−エチル−２，４−ジメチルピロール、２，３，５−トリメチルピロール、２，３，４，５−テトラメチルピロール、２，３，４，５−テトラエチルピロール、又はこれらの任意の組み合わせを含むピロール化合物と；ｃ）トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキル金属ジハロゲン化物、セスキ塩化アルキルアルミニウム、又はこれらの任意の組み合わせを含む金属ヒドロカルビル化合物と、を含み；ｄ）アルミニウムに対するクロムのモル比が１：５〜１：１７に及び；並びにｅ）クロムに対するピロール化合物のモル比が０．３：１〜２：１に及ぶことが可能である。別の触媒系組成は、本開示から容易に明らかであり、想定される。
【０２６６】
一般的に触媒系は、活性触媒系を製造することができるいずれかの方法で調製することが可能である。一部の実施形態において、触媒系は、三量体化されるオレフィンとこの触媒系を接触させる前に調製することが可能である。他の実施形態において、触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、又は任意のハロゲン含有化合物）の少なくとも１つは、少なくとも１つのその他の触媒系成分が三量体化されるオレフィンと接触する前に、三量体化されるオレフィンと接触することが可能である。一般的に、触媒系の成分は、本明細書に独立して記載されており、触媒系を調製するためのプロセスを更に説明するために、限定されずに用いることが可能である。
【０２６７】
一態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、不飽和有機化合物の存在下で、ａ）遷移金属化合物（例えば、本明細書に記載のＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物など）と、ｂ）窒素含有化合物（例えば、本明細書に記載のピロール化合物など）と、ｃ）金属ヒドロカルビル化合物（例えば、比ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ）と、ｄ）任意のハロゲン含有化合物（例えば、本明細書に記載の無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、無機ハロゲン化物と非ハロゲン化物金属ヒドロカルビルとの組み合わせ、又はヒドロカルビル金属ハロゲン化物と非ハロゲン化物金属ヒドロカルビルとの組み合わせ、若しくは有機ハロゲン化物など）の２以上を接触させることを含んでもよい。一実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物を含む混合物）と窒素含有化合物（又は窒素含有化合物を含む混合物）を、不飽和有機化合物の存在下で接触させることが可能であり；あるいは遷移金属化合物（又は遷移金属化合物を含む混合物）と金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物を含む混合物）を不飽和有機化合物の存在下で接触させることが可能であり；あるいは遷移金属化合物（又は遷移金属化合物を含む混合物）と窒素含有化合物（又は窒素含有化合物を含む混合物）と金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物を含む混合物）と、を不飽和有機化合物の存在下で接触させることが可能である。一部の実施形態において、この不飽和有機化合物は、遷移金属化合物を含む組成物、窒素含有化合物を含む組成物、金属ヒドロカルビル化合物を含む組成物、ハロゲン含有化合物を含む組成物の成分、又はこれらの任意の組み合わせ；あるいは遷移金属化合物を含む組成物の成分、あるいは窒素含有化合物を含む組成物の成分；金属ヒドロカルビル化合物を含む組成物の成分；あるいはハロゲン含有化合物を含む組成物の成分であり得る。この不飽和有機化合物は、本明細書に独立して開示されており、この不飽和有機化合物のいずれかの態様又は実施形態は、不飽和有機化合物の存在下で触媒系の２以上の成分を接触させることを含むことができる触媒系を調製するためのプロセスを更に説明するために用いることが可能である。
【０２６８】
一態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、不飽和有機化合物の存在下で、少なくとも１つの触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、又は任意のハロゲン含有化合物）を、この触媒系の他の成分の少なくとも１つと接触させることが可能である方法で実行することができる。一態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、各触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、並びに使用する場合、任意のハロゲン含有化合物）と不飽和有機化合物を、実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時接触させることが可能である）；あるいは、不飽和有機化合物に各触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、並びに使用する場合、任意のハロゲン含有化合物）を実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）；あるいは不飽和有機化合物に各触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、並びに使用する場合、任意のハロゲン含有化合物）を実質的に同時に加えることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で実行することができる。更に別の態様においては、触媒系を調製するためのプロセスは、少なくとも１つの他の触媒系成分を不飽和有機化合物に接触させる前に、少なくとも１つの触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、又は任意のハロゲン含有化合物）を不飽和有機化合物に接触させることが可能である方法で実行することができる。
【０２６９】
遷移金属化合物と金属ヒドロカルビル化合物とを不飽和有機化合物の存在下で接触させる、遷移金属化合物とヒドロカルビル化合物とを接触させる前に、遷移金属化合物を不飽和有機化合物に接触させる、又は遷移金属化合物とヒドロカルビル化合物とを接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物を不飽和有機化合物に接触させる態様及び実施形態に関して、これら条件は、触媒系の調製プロセス中の触媒系成分の最初の接触及び触媒系成分のいずれかの後続の分離添加で実現可能である。
【０２７０】
遷移金属がＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物であり、窒素含有化合物がピロール化合物であり、金属ヒドロカルビル化合物がヒドロカルビルアルミニウム化合物（例えば、トリヒドロカルビルアルミニウム、ヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ）である非限定的な実施形態において、触媒系を調製するためのプロセスは、不飽和有機化合物の存在下で、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、及びヒドロカルビルアルミニウム化合物を、実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で；Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、ヒドロカルビルアルミニウム化合物、及び不飽和有機化合物を実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で；Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、及びヒドロカルビルアルミニウム化合物を、不飽和有機化合物に実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で；Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、及びヒドロカルビルアルミニウム化合物を、不飽和有機化合物に実質的に同時に加えることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で実行することが可能である。遷移金属がＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物であり、窒素含有化合物がピロール化合物であり、金属ヒドロカルビル化合物が非ハロゲン化物アルミニウムヒドロカルビル化合物（例えば、トリヒドロカルビルアルミニウムなど）であり、ハロゲン含有化合物が、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族、又１４は族の金属ハロゲン化物化合物、若しくは１３族、１４族、又は１５族の非金属ハロゲン化物である非限定的な実施形態において、触媒系を調製するためのプロセスは、不飽和有機化合物の存在下で、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、非ハロゲン化物アルミニウムヒドロカルビル化合物、及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で；Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、非ハロゲン化物アルミニウムヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物、及び不飽和有機化合物を実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で；Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、非ハロゲン化物アルミニウムヒドロカルビル化合物、及びハロゲン含有化合物を、不飽和有機化合物に実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で；Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物、ピロール化合物、非ハロゲン化物アルミニウムヒドロカルビル化合物、及びハロゲン含有化合物を、不飽和有機化合物に実質的に同時に加えることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で実行することが可能である。
【０２７１】
一態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、遷移金属化合物と金属ヒドロカルビル化合物を、不飽和有機化合物の存在下で接触させる方法で実行することが可能である。一実施形態において、触媒系を調製するためのプロセスは、不飽和有機化合物に接触させる前に、遷移金属化合物と金属ヒドロカルビル化合物を接触させない方法で；あるいは遷移金属化合物を不飽和有機化合物に接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物を不飽和有機化合物に接触させない方法で実行することが可能である。一部の実施形態では、触媒系を調製するためのプロセスは、遷移金属化合物とヒドロカルビル化合物とを接触させる前に、遷移金属化合物を不飽和有機化合物に接触させることが可能であり、金属ヒドロカルビル化合物を不飽和有機化合物に接触させることが可能である方法で実行することが可能である。
【０２７２】
不飽和有機化合物の存在下で遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物が互いに接触するこれら態様及び実施形態並びに任意のその他の適用可能な態様及び実施形態内で、遷移金属化合物（これを以前に不飽和有機化合物に接触させたかどうかに関わらず）は、ヒドロカルビル化合物（これを以前に不飽和有機化合物に接触させたかどうかに関わらず）に添加することが可能であり；あるいは金属ヒドロカルビル化合物（これを以前に不飽和有機化合物に接触させたかどうかに関わらず）は、遷移金属化合物（これを以前に不飽和有機化合物に接触させたかどうかに関わらず）に添加することが可能であり；あるいは遷移金属化合物（これを以前に不飽和有機化合物に接触させたかどうかに関わらず）及び金属ヒドロカルビル化合物（これを以前に不飽和有機化合物に接触させたかどうかに関わらず）は、実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）。他の実施形態では、触媒系を調製するためのプロセスは、不飽和有機化合物、遷移金属化合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で実行することが可能であり；あるいは、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、不飽和有機化合物に実質的に同時に接触させることが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で実行することが可能であり；あるいは遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、不飽和有機化合物に実質的に同時に添加することが可能である（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）方法で実行することが可能である。
【０２７３】
不飽和有機化合物の存在下で遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物が互いに接触するいずれかの態様又は実施形態において、遷移金属化合物と金属ヒドロカルビル化合物とを接触させる前に、遷移金属化合物を触媒系の任意のその他の成分に接触させることが可能であり；あるいは遷移金属化合物と金属ヒドロカルビル化合物とを接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物を触媒系の任意のその他の成分に接触させることが可能であり；あるいは遷移金属化合物と金属ヒドロカルビル化合物とを接触させる前に、（遷移金属化合物を含む混合物を生成するために）遷移金属化合物を触媒系の任意のその他の成分に接触させることが可能であり、（金属ヒドロカルビル化合物を含む混合物を生成するために）金属ヒドロカルビル化合物を触媒系の任意のその他の成分に接触させることが可能である。遷移金属化合物を含有する混合物及び遷移金属化合物を含む混合物を調製するための方法は、本明細書に記載されており、不飽和有機化合物の存在下で遷移金属化合物と金属ヒドロカルビル化合物とが互いに接触する特徴を含む触媒系を調製するいずれかのプロセスと一致するいずれかの方法で用いることが可能である。金属ヒドロカルビル化合物を含有する混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を含む混合物を調製するための方法は、本明細書に記載されており、三量体化されるオレフィンの存在下で遷移金属化合物と金属ヒドロカルビル化合物とが互いに接触する特徴を含む触媒系を調製するいずれかのプロセスと一致するいずれかの方法で用いることが可能である。
【０２７４】
一態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、触媒系の成分を実質的に同時に接触させる（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことを含む。一実施形態では、本触媒系の成分は、調製済みの触媒系に実質的に同時に接触させる（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことが可能である。非限定的な例において、触媒系を調製するためのプロセスは、ａ）遷移金属化合物（例えば、本明細書に記載のＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物など）、ｂ）窒素含有化合物（例えば、本明細書に記載のピロール化合物など）、及びｃ）金属ヒドロカルビル化合物（例えば、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ）を実質的同時に接触させる（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことを含んでもよい。別の非限定的な例において、触媒系を調製するためのプロセスは、ａ）遷移金属化合物（例えば、本明細書に記載のＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物など）、ｂ）窒素含有化合物（例えば、本明細書に記載のピロール化合物など）、ｃ）非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物（例えば、本明細書に記載のトリアルキルアルミニウムなど）、及びｄ）ハロゲン含有化合物（例えば、本明細書に記載の無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、無機ハロゲン化物及び非ハロゲン化物金属ヒドロカルビルの組み合わせ、又はヒドロカルビル金属ハロゲン化物及び非ハロゲン化物金属ヒドロカルビルの組み合わせ、若しくは有機ハロゲン化物など、）を実質的同時に接触させる（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことを含んでもよい。いくつかの実質的に同時に接触させる実施形態（あるいは同時に接触させる実施形態；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる実施形態）において、金属ヒドロカルビル化合物（例えば、残存する非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ）に実質的に同時に接触させる（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）前に、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部（あるいはその一部；あるいはその全て）を、遷移金属化合物及び／又は窒素含有化合物に接触させることが可能である。いくつかの実質的に同時に接触させる実施形態（あるいは同時に接触させる実施形態；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる実施形態）において、金属ヒドロカルビル化合物（例えば、残存する非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ）とハロゲン化物含有化合物（例えば、本明細書に記載の無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、無機ハロゲン化物及び非ハロゲン化物金属ヒドロカルビルの組み合わせ、又はヒドロカルビル金属ハロゲン化物及び非ハロゲン化物金属ヒドロカルビルの組み合わせなど、）を実質的に同時に接触させる（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）前に、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部（あるいはその一部；あるいはその全て）を、遷移金属化合物及び／又は窒素含有化合物に実質的に同時に接触させることが可能である。一般的に、これら実質的に同時に接触させるプロセス（あるいは同時に接触させるプロセス；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させるプロセス）は、触媒系を製造することが可能であり；あるいは触媒系を形成することができる条件下で触媒を製造することが可能である。
【０２７５】
いずれかの実質的に同時に接触させる実施形態（あるいは同時に接触させる実施形態；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる実施形態）において、触媒系の成分は、不飽和有機化合物の存在下で、触媒系の成分に、実質的に同時に接触させることが可能であり（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）。いくつかの実質的に同時に接触させる実施形態（あるいは同時に接触させる実施形態；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる実施形態）において、不飽和有機化合物は、触媒の成分に、実質的に同時に接触させる（あるいは同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）別個のストリームであり得る。他の実質的に同時に接触させる実施形態（あるいは同時に接触させる実施形態；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる実施形態）において、不飽和有機化合物は、触媒系の成分の１つとの混合物中に（又は触媒系の１つの成分を含む複数の混合物中に）含まれることが可能である。更に他の実質的に同時に接触させる実施形態（あるいは同時に接触させる実施形態；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる実施形態）において、本触媒系の成分は、不飽和有機化合物を含む、又は不飽和有機化合物から本質的になる組成物に、実質的に同時に接触させることが可能であり（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）。
【０２７６】
一態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、窒素含有化合物（例えば、本明細書に記載のピロール化合物など）、金属ヒドロカルビル化合物（例えば、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ）、及び（存在する場合）任意のハロゲン含有化合物（例えば、本明細書に記載の無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、無機ハロゲン化物及び非ハロゲン化物金属ヒドロカルビルの組み合わせ、又はヒドロカルビル金属ハロゲン化物及び非ハロゲン化物金属ヒドロカルビルの組み合わせ、若しくは有機ハロゲン化物など）を接触させて混合物を生成することと、この混合物を遷移金属化合物（例えば、本明細書に記載のＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物など）に接触させて、触媒系を製造することとを含んでもよい。一態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、ｉ）窒素含有化合物と金属ヒドロカルビル化合物とを接触させて、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物を生成することと、ｉｉ）遷移金属化合物を、この窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物に接触させて、触媒系を製造することと、を含むことが可能であり；あるいはｉ）窒素含有化合物と、金属ヒドロカルビル化合物と、ハロゲン含有化合物とを接触させて、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物を生成することと、ｉｉ）遷移金属化合物を、この窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物に接触させて、触媒系を製造することと、を含んでもよい。一部の実施形態において、触媒系を調製するためのプロセスは、ｉ）非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部（あるいは、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の一部；あるいは非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の全て）を、遷移金属化合物に接触させて、遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を生成することと、ｉｉ）この遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）に接触させて、触媒系を製造することと、を含んでもよい。他の実施形態において、触媒系を調製するためのプロセスは、ｉ）非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部（あるいは、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の一部；あるいは非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の全て）を、窒素含有化合物に接触させて、窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を生成することと、ｉｉ）この窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含入化合物）に接触させて、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）を形成して、触媒系を製造することと、を含んでもよい。更に別の実施形態において、触媒系を調製することは、ｉ）非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の一部を窒素含有化合物に接触させて、窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を生成することと、ｉｉ）この窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物）に接触させて、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）を形成することと、ｉｉｉ）金属ヒドロカルビル化合物の一部を遷移金属化合物に接触させて、遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を生成することと、ｉｖ）この遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）に接触させて、触媒系を製造することと、を含んでもよい。
【０２７７】
一実施形態において、この窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）を、遷移金属化合物に添加することが可能であり；あるいは遷移金属化合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）に添加することが可能であり；あるいは窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させることが可能であり（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）。別の実施形態において、この窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）を、遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物に添加することが可能であり；あるいは遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）に添加することが可能であり；あるいは窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）及び遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビルの混合物を、実質的に同時に接触させることが可能であり（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）。更に別の実施形態において、窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は、窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）を、遷移金属化合物に添加することが可能であり；あるいは遷移金属化合物を、窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は、窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）に添加することが可能であり；あるいは窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は、窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させることが可能であり（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）。他の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）を、遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物）に添加することが可能であり；あるいは遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）に添加することが可能であり；あるいは窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）及び遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を、実質的に同時に接触させることが可能であり（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）。更に他の実施形態において、窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）を、遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物に添加することが可能であり；あるいは遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を、窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）に添加することが可能であり；あるいは窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物の混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物の混合物）及び遷移金属化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物の混合物を、実質的に同時に接触させることが可能であり（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）。
【０２７８】
一態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、遷移金属化合物（例えば、本明細書に記載のＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物など）と、窒素含有化合物（例えば、本明細書に記載のピロール化合物など）を接触させて、遷移金属化合物／窒素含有化合物の混合物を生成することと、この遷移金属化合物／窒素含有化合物の混合物を、金属ヒドロカルビル化合物（例えば、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又はこれらの任意の組み合わせ）に接触させて、触媒系を製造することと、を含んでもよい。一実施形態において、遷移金属化合物及び窒素含有化合物は、遷移金属化合物が金属ヒドロカルビル化合物に接触する前に接触させることが可能である。別の態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、遷移金属化合物（例えば、本明細書に記載のＣ３−Ｃ２５カルボン酸クロム（ＩＩＩ）組成物など）と、窒素含有化合物（例えば、本明細書に記載のピロール化合物など）と、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物（例えば、トリアルキルアルミニウム化合物など）とを接触させて、遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化物ヒドロカルビル化合物の混合物を生成することと、この遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化物ヒドロカルビル化合物の混合物を、金属ヒドロカルビル化合物（例えば、非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又はこれらの混合物）に接触させて、触媒系を製造することと、を含んでもよい。一実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物の混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化物ヒドロカルビル化合物の混合物）を、金属ヒドロカルビル化合物に添加することが可能であり；あるいは金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物の混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化物ヒドロカルビル化合物の混合物）に添加することが可能であり；あるいは金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物／窒素含有化合物の混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化物ヒドロカルビル化合物の混合物）を、実質的に同時に接触させることが可能であり（あるいは、同時に接触させる；あるいは本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることが可能である）。
【０２７９】
一態様において、触媒系を調製するための方法は、化合物混合物を含む化合物／ハロゲンを含む、遷移金属化合物／窒素を形成するために、遷移金属化合物（例えば、とりわけ本明細書中に記載の、クロム（ＩＩＩ）、Ｃ３−Ｃ２５カルボン酸組成物）、窒素含有化合物（例えば、とりわけ本明細書中に記載の、ピロール化合物）、及びハロゲン含有化合物（例えば、とりわけ本明細書中に記載の、無機金属ハロゲン化物、ヒロドカルビル金属ハロゲン化物、無機ハロゲン化物及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビルの組み合わせ、又は、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビルの組み合わせ）を接触させること、並びに、触媒系を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物（例えば、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物又はそれらの任意の組み合わせ）と、化合物混合物を含む化合物／ハロゲンを含む遷移金属化合物／窒素を接触させることを含み得る。一実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、ハロゲン含有化合物は、金属ヒドロカルビル化合物へ遷移金属化合物を接触させる前に、接触させることができる。別の態様において、触媒系を調製するためのプロセスは、化合物混合物を含む、化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲンを含む、遷移金属化合物／窒素を形成するために、遷移金属化合物（例えば、とりわけ本明細書中に記載の、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物）、窒素含有化合物（例えば、とりわけ本明細書中に記載の、ピロール化合物）、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物（例えば、とりわけ本明細書中に記載の、トリアルキルアルミニウム化合物）、及びハロゲン含有化合物（例えば、無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、無機ハロゲン化物及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビル又は、ヒロドカルビル金属ハロゲン化物及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビルの組み合わせ）と接触させること、並びに、触媒系を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物（例えば、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物、又はそれらの任意の組み合わせ）と、化合物混合物を含む化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物とを接触させることとを含み得る。実施形態において、化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化物金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を含有する、遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物を、金属ヒドロカルビル化合物へ添加することができる、あるいは、遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は、遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ、金属ヒドロカルビル化合物を添加することができる、又は代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は戦記金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、前記金属ヒドロカルビル化合物と、実質的に同時に接触させることができる（あるいは、同時に接触させることができる；又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）。
【０２８０】
窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を求める任意の態様又は実施形態において、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）、金属ヒドロカルビル化合物、及びハロゲン含有化合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を生成するための任意のプロセス及び／又は、オレフィンを三量体化するための特定のプロセスに矛盾しない方法で、接触させることができる。非限定的な実施形態において、窒素含有化合物（又は、窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）、金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。別の非限定的な実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル／金属ヒドロカルビル化合物混合物）を、ハロゲン含有化合物へ加えることができる、あるいは、ハロゲン含有化合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル／金属ヒドロカルビル化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は、窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル／金属ヒドロカルビル化合物混合物）又はハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。さらに別の非限定的な実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル／ハロゲン含有化合物混合物）を、金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、金属ヒドロカルビル化合物を、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル／ハロゲン含有化合物混合物）及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。更なる非限定的な実施形態において、金属ヒドロカルビル／ハロゲン含有化合物混合物を、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル混合物）へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル混合物）を、金属ヒドロカルビル／ハロゲン含有化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル混合物）及び金属ヒドロカルビル／ハロゲン含有化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。
【０２８１】
遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を求める任意の態様又は実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物及びハロゲン含有化合物（又は、遷移金属化合物、窒素含有化合物、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物、及びハロゲン含有化合物混合物）を、遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を生成するための特定のプロセス、及び／又はオレフィンを三量体化するための特定のプロセスに矛盾しない任意の方法で接触させることができる。非限定的な実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。別の非限定的な実施形態において、遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル混合物、窒素含有化合物、及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる、又は代替的に、遷移金属化合物／非ハロゲン化ヒドロカルビル混合物、窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル混合物及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。さらに別の非限定的な実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）を、ハロゲン含有混合物へ加えることができる、代替的に、ハロゲン含有化合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。一部の非限定的な実施形態において、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、窒素含有化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物を、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。他の非限定的な実施形態において、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。一部の非限定的な実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物を、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。他の非限定的な実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる、代替的には、遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。
【０２８２】
遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を必要とする任意の態様又は実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を生成するための特定のプロセス及び／又はオレフィンを三量体化するための特定のプロセスに矛盾しない任意の方法で接触させることができる。非限定的な実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。別の非限定的な実施形態において、遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を窒素含有化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物を、遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。さらに別の非限定的な実施形態において、遷移金属化合物を窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる、代替的には、窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を、遷移金属化合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。さらなる非限定的な実施形態において、遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を、窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／非ハロゲン化ヒドロカルビル化合物混合物を、遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物及び窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。さらに別の非限定的な実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。
【０２８３】
窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル／金属ヒドロカルビル化合物混合物）を求める任意の態様又は実施形態において、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）及び金属ヒドロカルビル化合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル／金属ヒドロカルビル化合物混合物）を生成するための特定のプロセス、及び／又はオレフィンを三量体化するための特定のプロセスと矛盾しない方法で接触させることができる。非限定的な実施形態において、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる、代替的に、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）を、金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物を窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化ヒドロカルビル化合物混合物）へ加えることができる。
【０２８４】
窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル／ハロゲン含有化合物混合物）を求める任意の態様又は実施形態において、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）及びハロゲン含有化合物を、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化ヒドロカルビル／ハロゲン含有化合物混合物）を生成するための特定のプロセス、及び／又はオレフィンを三量体化するための特定のプロセスと矛盾しない方法で接触させることができる。非限定的な実施形態において、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）を、ハロゲン含有化合物へ加えることができる、代替的に、ハロゲン含有化合物を、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物（又は窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。
【０２８５】
遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を求める任意の態様又は実施形態において、戦記金属化合物及び窒素含有化合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を生成するための特定のプロセス及びオレフィンを三量体化するための特定のプロセスと矛盾しない方法で接触させることができる。非限定的な実施形態において、遷移金属化合物を窒素含有化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物を遷移金属化合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。
【０２８６】
遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を求める任意の対応又は実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）及びハロゲン含有化合物を、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を生成するための特定のプロセス及びオレフィンを三量体化するための特定のプロセスと矛盾しない方法で接触させることができる。非限定的な実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）を、ハロゲン含有化合物へ加えることができる、代替的に、ハロゲン含有化合物を、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物）及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。
【０２８７】
金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物を求める任意の態様又は実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物を、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物を生成するための特定のプロセス及び／又はオレフィンを三量体化するための特定のプロセスと矛盾しない方法で接触させることができる。非限定的な実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物をハロゲン含有化合物へ加えることができる、代替的に、ハロゲン含有化合物を金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。
【０２８８】
遷移金属化合物／非限定的な金属ヒドロカルビル化合物混合物を求める任意の態様又は実施形態において、遷移金属化合物及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を生成するための特定のプロセス及び／又はオレフィンを三量体化するための特定のプロセスと矛盾しない方法で接触させることができる。非限定的な実施形態において、遷移金属化合物を非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を遷移金属化合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。
【０２８９】
窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を求める任意の態様又は実施形態において、窒素含有化合物及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を、窒素含有化合物／非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物混合物を生成するための特定のプロセス及び／又はオレフィンの三量体化のための特定のプロセスと矛盾しない方法で接触させることができる。非限定的な実施形態において、窒素含有化合物を非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を窒素含有化合物へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物及び非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる。
【０２９０】
非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物を遷移金属化合物と接触させ、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の一部を窒素含有化合物と接触させる任意の態様又は実施形態において、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の部分の合計は、金属ヒドロカルビル化合物の非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の合計よりも少なくてもよい、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物の非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の全てとすることができる。非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の部分の合計が、総非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物よりも少ない任意の態様又は実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物とのさらなる接触は、残りの非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物及び、本明細書に記載の金属ヒドロカルビル化合物の任意の他の成分（例えば、とりわけ、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物）を含有することができる。
【０２９１】
一般的に、本明細書に記載の任意の触媒系成分又は触媒系成分混合物は、記載した成分を含むことができ、そのようなものとして、具体的に別段記載のない限り、触媒系を調製する特定のプロセスと一致している追加の成分を含有することができることが理解されるべきである。一実施形態において、本明細書に記載の任意の触媒系成分又は触媒系成分混合物は、触媒系成分又は触媒系成分混合物及び溶媒の記載した成分を含むことができ、そのようなものとして、具体的に別段記載のない限り、触媒系を調製する特定のプロセスの特徴と一致する追加の成分を含有することができる。一部の実施形態において、本明細書に記載の任意の触媒系成分又は触媒系成分混合物は、記載した要素及び溶媒から本質的になってもよい。他の実施形態において、本明細書に記載の任意の触媒系成分又は触媒系成分混合物は、記載した要素から本質的になってもよい。
【０２９２】
一部の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び／又は必要に応じてハロゲン含有化合物を、触媒の存在下で接触させることができる。一部の実施形態において、溶媒は、炭化水素溶媒又はハロゲン化炭化水素溶媒（少なくとも一部の、一部の、又は全ての任意のハロゲン化化合物を提供することができる）、代替的に、炭化水素溶媒、又は代替的に、ハロゲン化炭化水素溶媒であっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。実施形態において、溶媒は、不飽和ヒドロカルビル溶媒、不飽和ハロゲン化溶媒又は任意のそれらの組み合わせ、代替的に、飽和炭化水素溶媒、飽和ハロゲン化溶媒又は任意のそれらの組み合わせ、代替的に、不飽和炭化水素溶媒、不飽和ハロゲン化溶媒又は任意のそれらの組み合わせ、代替的に、不飽和炭化水素溶媒、又は代替的に、不飽和ハロゲン化溶媒であっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態において、不飽和炭化水素溶媒（ハロゲン化されている又はされていない）は、脂肪族又は芳香族、代替的に脂肪族、又は代替的に芳香族とすることができる。溶媒は本明細書中に記載され、触媒系を調製するための特定のプロセス又は、オレフィンを三量体化するための特定のプロセスの特性及び成分と一致している、本明細書に記載の任意の態様又は実施形態において利用することができる。
【０２９３】
一部の態様及び実施形態において、触媒系を調製するためのプロセスは、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を生成するために、遷移金属化合物（例えば、本明細書に記載のとりわけ、クロム（ＩＩＩ）カルボキシレートＣ３−Ｃ２５カルボキレート組成物）及び窒素含有化合物（例えば、本明細書に記載のとりわけ、ピロール化合物）を接触することを含むことができる。実施形態において、遷移金属化合物を含有する組成物及び／又は窒素含有化合物混合物を含有する組成物は、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物（例えば、とりわけ本明細書に記載の、トリアルキルアルミニウムなど）、ハロゲン含有化合物（例えば、とりわけ本明細書に記載の、無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビル金属ハロゲン化物及び／又は有機ハロゲン化物など）、及び／又は、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を生成するために、遷移金属化合物及び窒素含有化合物を接触させる場合、不飽和有機化合物を、さらに含むことができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物及び窒素含有化合物を、金属ヒドロカルビル化合物及び／又は必要に応じてハロゲン含有化合物と接触させる前に、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を生成することができる。他の実施形態において、遷移金属化合物及び窒素含有化合物を、ハロゲン含有化合物と接触させる前に、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を生成することができる。さらに他の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（残存金属ヒドロカルビル化合物及び／又は必要に応じてハロゲン含有化合物の存在の有無に関わらず）の成形前に、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部（代替的に、その一部、又は代替的にその全て）を、遷移金属化合物及び／又は窒素含有化合物と接触させることができる、又は代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物と接触させることができる。一実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部、一部又は全ての存在の有無に関わらず）を、不飽和有機化合物の存在下で形成することができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を生成する前に、不飽和有機化合物は、遷移金属化合物（非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部、一部、又は全ての存在の有無に関わらず）、又は窒素含有化合物（非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部、一部、又は全ての存在の有無に関わらず）の混合物であることができる（又は接触させることができる）。他の実施形態において、不飽和有機化合物は、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を生成する前に、不飽和有機化合物は、遷移金属化合物非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部、一部、又は全ての存在の有無に関わらず）及び窒素含有化合物非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部、一部、又は全ての存在の有無に関わらず）の混合物であることができる（又は接触させることができる）。さらに他の実施形態において、遷移金属化合物（非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部、一部、又は全ての存在の有無に関わらず）及び窒素含有化合物（非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部、一部、又は全ての存在の有無に関わらず）を、不飽和有機化合物（非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物の少なくとも一部、一部、又は全ての存在の有無に関わらず）を含むか、又は実質的にそれからなる組成物と、実質的に同時に接触させることができる。
【０２９４】
任意の遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物形成態様又は実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を生成するために、窒素含有化合物の窒素対遷移金属化合物の遷移金属の一定のモル比（一定の窒素：遷移金属モル比とも呼ばれる）で、窒素含有化合物（例えば、とりわけピロール化合物）及び遷移金属化合物（例えば、とりわけ本明細書に記載の、クロム（ＩＩＩ）カルボキシレートＣ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物）を、接触させることができる（接触法とは無関係）。遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を生成するために、窒素含有化合物の可変窒素対遷移金属化合物の遷移金属のモル比（可変窒素：遷移金属モル比とも呼ばれる）で、窒素含有化合物（例えば、とりわけピロール化合物）及び遷移金属化合物（例えば、とりわけ本明細書に記載のクロム（ＩＩＩ）カルボキシレートＣ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物）を、接触させることができる（接触法とは無関係）。
【０２９５】
可変窒素：遷移金属モル比実施形態において、可変窒素対遷移金属モル比は、おおよそ減少窒素：遷移金属モル比とすることができる、又は代替的に、減少窒素対遷移金属モル比とすることができる。いくつかの可変窒素：遷移金属モル比実施形態において、可変窒素：遷移金属モル比は、窒素含有化合物及び遷移金属化合物の添加開始時における初期窒素：可変金属モル比が、窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加終了時の終了窒素：遷移金属モル比よりも大きいものである。
【０２９６】
いくつかの可変窒素：遷移金属モル比実施形態において、可変窒素：遷移金属モル比は、窒素含有化合物及び遷移金属化合物の添加開始時における初期窒素：遷移金属モル比が、最終窒素含有化合物及び遷移金属化合物よりも大きく、かつ、窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加終了時における終了窒素：遷移金属モル比が、最終窒素含有化合物：遷移金属化合物モル比よりも小さいものとすることができる、又は代替的に、窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加開始時の初期窒素：遷移金属モル比が、最終窒素含有化合物：遷移金属化合物モル比の約２倍であり、かつ、窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加の終了時における終了窒素：遷移金属モル比が約０であるものとすることができる。他の可変窒素：遷移金属モル比実施形態において、窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加の前半についての可変窒素：遷移金属モル比が、最終窒素：遷移金属モル比よりも大きく、かつ、窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加の後半についての終了窒素：遷移金属モル比が、最終窒素：遷移金属化合物モル比よりも小さいものとすることができる、又は代替的に、窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加の前半についての初期窒素：遷移金属モル比が、最終窒素：遷移金属モル比の約２倍であり、かつ、窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加の後半についての終了窒素：遷移金属モル比が約０であるものとすることができる。
【０２９７】
一般的に、本明細書において、窒素：遷移金属モル比は、独立して記載され、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物の生成に関連する実施形態及び態様のさらなる説明（例えば、最終窒素：遷移金属モル比）をするための制限なく、使用することができる。窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加が、ある部分（例えば、半分）以上の添加である任意の実施形態において、窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加を行うことができ、窒素：遷移金属モル比が、窒素含有化合物及び遷移金属化合物添加の部分よりも大きい、平均窒素含有化合物：遷移金属化合物モル比である
【０２９８】
特定の遷移金属化合物及び／又は窒素含有化合物が記載されている場合、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物は、それぞれ記載の材料を使用して参照することができ、例えば、次に遷移金属化合物がクロム（ＩＩＩ）カルボキシレートＣ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物であり、窒素含有化合物がピロール化合物である場合、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物は、クロムカルボキシレート／ピロール混合物と呼ぶことができる。
【０２９９】
遷移金属化合物を金属ハロゲン化化合物と接触させる任意の態様又は実施形態において、金属ハロゲン化化合物と接触させる前に、遷移金属化合物（単一化合物又は遷移金属化合物を含有する混合物のいずれかとして）を、少なくとも一部の（代替的に、一部の、又は代替的に全ての）非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物と接触させることができる。窒素含有化合物と金属ハロゲン化化合物（単一化合物又は遷移金属化合物を含有する混合物のいずれかとして）とを接触させる態様又は実施形態において、金属ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物と接触させる前に、窒素含有化合物を、少なくとも一部の（代替的に、一部の、又は代替的に全ての）非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物と接触させることができる。遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を金属ハロゲン化化合物と接触させる別の態様又は実施形態において、金属ハロゲン化化合物と接触させる前に、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を、少なくとも一部の（代替的に、一部の、又は代替的に全ての）非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物と接触させることができる。遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を金属ハロゲン化化合物と接触させる別の態様又は実施形態において、金属ハロゲン化化合物と接触させる前に、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を、少なくとも一部の（代替的に、一部の、又は代替的に全ての）非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物と接触させることができる。
【０３００】
一部の態様において、遷移金属化合物を金属ヒドロカルビル化合物と接触させる前に、遷移金属化合物を１）窒素含有化合物又は２）ハロゲン含有化合物のうちの少なくとも一つと接触させることができる。実施形態において、遷移金属化合物を金属ヒドロカルビル化合物と接触させる前に、遷移金属化合物を窒素含有化合物と接触させることができる、代替的に、遷移金属化合物を金属ヒドロカルビル化合物と接触させる前に遷移金属化合物をハロゲン含有化合物と接触させることができる、代替的に、遷移金属化合物を金属ヒドロカルビル化合物と接触させる前に、遷移金属化合物を金属ハロゲン化物と接触させることができる、代替的に、遷移金属化合物を金属ヒドロカルビル化合物と接触させる前に、遷移金属化合物を窒素含有化合物及びハロゲン含有化合物と接触させることができる。別の態様において、金属ヒドロカルビル化合物を遷移金属化合物と接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物を、１）ピロール化合物又は２）ハロゲン含有化合物のうちの一つと接触させることができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物を遷移金属化合物と接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物を、窒素含有化合物と接触させることができる、代替的に、金属ヒドロカルビル化合物を遷移金属化合物と接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物をハロゲン含有化合物と接触させることができる、代替的に、金属ヒドロカルビル化合物を遷移金属化合物と接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物を金属ハロゲン化物と接触させることができる、代替的に、金属ヒドロカルビル金属化合物を遷移金属化合物と接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物を窒素含有化合物及びハロゲン含有化合物と接触させることができる。
【０３０１】
触媒系を調製するためのプロセスは、触媒系の成分として利用される化合物を接触させることに関して提示されてきたが、化合物のうちの任意の一つ以上を、化合物を含有する組成物が触媒系を調製する特定のプロセスの特徴と矛盾する材料を含まないことを実現する、化合物を含む組成物と置き換えることができることに留意すべきである。
【０３０２】
理論によって束縛されるものではないが、三量体化させるためにオレフィンと接触させる前に、不飽和有機化合物の存在は、触媒系を安定化させることができると考えられている。触媒系の調製が不飽和有機化合物を利用する場合、不飽和有機化合物のモル対遷移金属化合物中の遷移金属のモルのモル比（不飽和有機化合物対遷移金属モル比とも呼ばれる）は、少なくとも１：１、代替的に少なくとも５：１、代替的に少なくとも１０：１又は代替的に少なくとも２０：１である。不飽和有機化合物を触媒系の調製において利用する一部の実施形態において、不飽和有機化合物対遷移金属モル比は、最大１０，０００：１、代替的に最大６，０００：１、代替的に最大３，０００：１、代替的に最大１，５００：１、又は代替的に最大１，０００：１とすることができる。不飽和有機化合物を触媒系の調製にいて利用する態様において、不飽和有機化合物対遷移金属モル比は、本明細書に開示の任意の最小不飽和有機化合物対遷移金属モル比〜本明細書に開示の任意の最大不飽和有機化合物対遷移金属モル比の範囲とすることができる。不飽和有機化合物を触媒系の調製において利用する、一部の非限定的な実施形態において、不飽和有機化合物対遷移金属モル比は、１：１〜１０，０００：１の範囲、代替的には２０：１〜１０，０００：１の範囲、代替的には５：１〜６，０００：１の範囲、代替的には１０：１〜３０００：１の範囲、又は代替的には２０：１〜１，０００：１の範囲とすることができる。不飽和有機化合物対遷移金属モル比比率の他の範囲は、本開示から容易に明らかである。特定の不飽和有機化合物の属、種又は個体（例えば、芳香族炭化水素の種）、及び／又は遷移金属化合物の遷移金属の属、種又は個体（例えば、クロム）が指定されている場合、比は、指定された不飽和有機化合物及び指定された遷移金属に関して提供することができる（例えば、芳香族炭化水素：クロムのモル比）。
【０３０３】
触媒系成分（又は不飽和有機化合物−単独で又は一つ以上の触媒系成分と組み合わせて−及び触媒系成分）を、活性触媒系を提供するために十分な任意の条件下で接触させることができる。一態様において、触媒系成分（又は不飽和有機化合物−単独で又は一つ以上の触媒系成分と組み合わせて−及び触媒系成分）を、−５０℃及〜約１００℃の範囲、代替的に−２５℃〜約８０℃の範囲、代替的に−１０℃〜約７０℃の範囲、代替的に０℃〜６０℃の範囲、又は代替的に５℃〜３５℃の範囲の温度で接触させることができる。一態様において、触媒系成分（又は不飽和有機化合物−単独で又は一つ以上の触媒系成分と組み合わせて−及び触媒系成分）を、完全な接触を可能にすることができる任意の圧力で接触させることができる。一態様において、触媒系成分（又は不飽和有機化合物−単独で又は一つ以上の触媒系成分と組み合わせて−及び触媒系成分）を、液体形態の触媒系を維持することができる圧力で接触させることができる。一部の実施形態において、触媒系を不活性雰囲気下で調製することができる。一部の実施形態において、不活性雰囲気は、窒素又はアルゴン、代替的に窒素とすることができる。一部の実施形態において、不活性雰囲気は、５０ｐｐｍ（重量）未満の水、代替的に、２５０ｐｐｍ未満の水、代替的に、１００ｐｐｍ未満の水、代替的に７５ｐｐｍ未満の水、代替的に５０ｐｐｍ未満の水、代替的に２５ｐｐｍ未満の水、又は代替的に１０ｐｐｍ未満の水を有することができる。本明細書における議論に加えて、米国特許第６，１３３，４９５号、米国特許第７，３８４，８８６号は、それぞれ、全ての目的について、参照により本明細書中に組み込まれる。
【０３０４】
様々な態様及び実施形態において、触媒系の二つ以上の成分（例えば、クロム（ＩＩＩ）カルボキシレート組成物、ピロール化合物、金属ヒドロカルビル化合物及び必要に応じてハロゲン含有化合物）を、不飽和有機化合物の存在下で接触させることができる。一般的に、不飽和有機化合物中の不飽和は、脂肪族炭素−炭素二重結合、脂肪族炭素−炭素三重結合、及び／又は芳香族炭素−炭素二重結合の形態、代替的に、脂肪族炭素−炭素二重結合及び／又は脂肪族炭素−炭素三重結合、代替的に、脂肪族炭素−炭素二重結合及び／又は芳香族炭素−炭素二重結合、代替的に、脂肪族炭素−炭素三重結合、又は代替的に、芳香族炭素−炭素二重結合の形態とすることができる。一部の実施形態において、不飽和有機化合物は、Ｃ２−Ｃ７０不飽和有機化合物、代替的にＣ２−Ｃ４０不飽和有機化合物、代替的にＣ２−Ｃ２０不飽和有機化合物、又は代替的にＣ２−Ｃ１５不飽和有機化合物であっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の実施形態において、不飽和有機化合物は、Ｃ２−Ｃ７０不飽和炭化水素、代替的にＣ２−Ｃ４０不飽和炭化水素、代替的にＣ２−Ｃ２０不飽和炭化水素、又は代替的にＣ２−Ｃ１５不飽和炭化水素であっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０３０５】
一実施形態において、不飽和有機化合物は、不飽和炭化水素であっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一般的に、不飽和有機化合物として利用することができる不飽和有機化合物は、本明細書に記載の不飽和有機化合物と同じ炭素数を有することができる。一部の実施形態において、不飽和炭化水素（炭素数に関わらず）は、不飽和脂肪族炭化水素、アレーン（芳香族炭化水素）又はそれらの任意の組み合わせであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態において、不飽和炭化水素として利用することができる不飽和脂肪族炭化水素は、本明細書に記載の不飽和有機化合物と同じ炭素数を有することができる。一部の実施形態において、不飽和炭化水素として利用することができるアレーンは、Ｃ６−Ｃ７０アレーン、代替的にはＣ６−Ｃ４０アレーン、代替的にはＣ６−Ｃ２０アレーン、又は代替的にはＣ６−Ｃ１５アレーンであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０３０６】
一態様において、不飽和有機化合物として利用することができる不飽和脂肪酸炭化水素は、脂肪族炭化水素、脂肪族炭化水素ジオレフィン、脂肪族炭化水素トリオレフィン又は、四つ以上の炭素−炭素二重結合を有する脂肪族炭化水素オレフィン、代替的に、脂肪族炭化水素モノオレフィン、代替的に、脂肪族炭化水素ジオレフィン、代替的に、脂肪族炭化水素トリオレフィン、又は代替的に、四つ以上の炭素−炭素二重結合を有する脂肪族炭化水素オレフィンであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態において、不飽和脂肪族炭化水素は、三量体化されているオレフィンであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の実施形態において、不飽和脂肪族炭化水素は、三量体化されているオレフィンとは異なるオレフィンであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一実施形態において、不飽和脂肪族炭化水素は、オレフィン三量体化の生成物であっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の実施形態において、不飽和脂肪族炭化水素は、オレフィン三量体化の生成物とは異なるオレフィンであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一実施形態において、不飽和脂肪族炭化水素は、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセン、ウンデセン、ドデセン、トリデセン、テトラデセン、ペンタデセン、ヘキサデセン、ヘプタデセン、オクタデセン又はそれらの組み合わせ、代替的に、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセン又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に、エチレン、ブテン、ヘキセン、オクテン、デセン又はそれらの任意の組み合わせ、又は代替的に、デセン、ドデセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オクタデセン又はそれらの組み合わせであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の実施形態において、不飽和脂肪族炭化水素は、エチレン、代替的にプロピレン、代替的にブテン、代替的にペンテン、代替的にヘキセン、代替的にヘプタン、代替的にオクテン、代替的にデセン、代替的にドデセン、代替的にテトラデセン、代替的にヘキサデセン、代替的にオクタデセンであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０３０７】
一態様において、不飽和有機化合物として利用することができるアレーンは、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン又はそれらの任意の組み合わせであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一実施形態にいて、不飽和有機化合物として利用することができるアレーンは、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン又はそれらの任意の組み合わせであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態において、不飽和有機化合物として利用することができるアレーンは、ベンゼン、代替的にトルエン、代替的にキシレン、代替的にエチルベンゼン、代替的にイソプロピルベンゼン、代替的に１，３，５−トリメチルベンゼン又は代替的にヘキサメチルベンゼンであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０３０８】
一般的に、本明細書に記載の触媒系組成物を、三量体化生成物を生成するための食ベイ系を用いてオレフィンの三量体化をするためのプロセス内で利用することができる。一部の実施形態において、触媒系内を用いてオレフィンを三量体化するためのプロセスは、オレフィン三量体化生成物を生成するためにオレフィン及び触媒系を接触すること、代替的に、三量体化生成物を生成するためにオレフィン、遷移金属化合物、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触すること、又は代替的に、三量体化生成物を生成するために、オレフィン、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及び必要に応じてハロゲン含有化合物を接触することを含み得る。触媒系及びオレフィンを接触する前に、一部の実施形態において、触媒系組成物を調製することができる。他の実施形態において、少なくとも一つの他の触媒系成分とオレフィンとを接触させる前に、少なくとも一つの触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物又は必要に応じてハロゲン含有化合物）を、オレフィンと接触させることができる。他の実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスにおいて利用される触媒系を、触媒系成分についての特定の接触順序又は接触方法を利用して、調製することができる。さらに他の実施形態において、任意の特定の触媒系成分の比率は、本明細書に記載の任意の触媒系成分比率を有することができる。一部の実施形態において、三量体化生成物を、オレフィンを三量体化することができる条件（三量体化条件とも呼ばれる）下で、調製することができる。他の実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、さらに、三量体化生成物の特性により記載することができる。他の実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、追加のステップ（例えば、とりわけ、触媒系を調製するためのステップ又は触媒系成分及びオレフィンを接触させるステップ、触媒系不活性化ステップ、三量体化生成物又は三量体単離ステップ、及び／又は三量体化生成物又は三量体精製ステップ）を含むことができる。一般的に、他の特性の中で、オレフィン、触媒系組成物、又は触媒系の成分（例えば、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及び必要に応じてハロゲン含有化合物）、触媒系成分の比率、触媒系の調製又は触媒系成分とオレフィンとを接触させる方法、オレフィンを三量体化することができる条件、三量体化生成物の特性、及びオレフィンを三量体化するためのプロセスのさらなるステップは、オレフィンを三量体化するためのプロセスとは独立した特性である。これら及び他のオレフィン三量体化プロセスの特性は、本明細書中に独立的に記載され、オレフィンを三量体化するための特定のプロセスの特定の特性及び要素と一致する任意の組み合わせで利用することができる。
【０３０９】
一般的に、三量体化することができるオレフィンは、Ｃ２−Ｃ３０オレフィン、代替的に、Ｃ２−Ｃ１６オレフィン、又は代替的にＣ２−Ｃ１０オレフィンを含むか、又は本質的にそれらからなってもよい。実施形態において、オレフィンは、αオレフィン、代替的に線形αオレフィン、又は代替的に通常のαオレフィンであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一実施形態において、オレフィンは、エチレン、プロピレン、又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に、エチレン又は代替的にプロピレンを含むか、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０３１０】
オレフィンが、エチレンを含む又は本質的にエチレンからなる場合、オレフィン三量体化プロセスは、エチレン三量体化プロセスとすることができる。プロセスがエチレン三量体化プロセスである場合、三量体化生成物は、ヘキサンを含むことができる、又は代替的に１−ヘキセンを含むことができる。
【０３１１】
非限定的な、触媒系を用いたオレフィンの三量体化のためのプロセスは、１−ヘキサンを含有するオレフィン三量体化生成物を生成するために、エチレン及び触媒系を含有する（又は本質的にそれらからなる）オレフィンを接触させることを含み得る、代替的に、１−ヘキサンを含有する三量体化生成物を生成するために、エチレン、遷移金属化合物、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を含有する（又は本質的にそれらからなる）オレフィンを接触させることを含む、又は代替的に、１−ヘキサンを含有する三量体化生成物を製造するために、エチレン、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及び必要に応じてハロゲン含有化合物を含有する（又は本質的にそれらからなる）オレフィンを接触させることを含むことができる。一部の実施形態において、触媒系及びエチレン含有（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンを接触させる前に、触媒系組成物を調製することができる。他の実施形態において、少なくとも一つの他の触媒系成分を、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンと接触させる前に、少なくとも一つの触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、又は必要に応じてハロゲン含有化合物）を、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンと接触させることができる。他の実施形態において、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンを三量体化するためのプロセスにおいて利用される触媒系を、触媒系成分についての特定の接触順又は接触方法を利用して調製することができる。さらに他の実施形態において、任意の特定の触媒系成分の比率は、本明細書に記載の任意の触媒系成分の比率を有することができる。一部の実施形態において、１−ヘキサンを含有する三量体化生成物を、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンを三量体化することができる条件下で生成することができる。他の実施形態において、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１−ヘキサンを含有する三量体化生成物の特性によりさらに記載することができる。他の実施形態において、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンを三量体化するためのプロセスは、追加のステップ（例えば、とりわけ、触媒系を調製するステップ又は、触媒系成分を、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンと接触させるステップ、触媒系の不活性化ステップ、三量体（例えば、１−ヘキサン）を含有する三量体化生成物を単離するためのステップ、及び／又は、三量体（例えば、ヘキサン）を含有する三量体化生成物を精製するステップを含むことができる。一般的に、触媒系組成物、又は触媒系の成分（例えば、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及び必要に応じてハロゲン含有化合物）、触媒系成分の比率、触媒系を調製するための方法又は、触媒系成分を、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンと接触させる方法、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンを三量体化することができる条件、１−ヘキサンを含有する三量体化生成物の特性及び、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンを三量体化するためのさらなるステップ、とりわけ、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンを三量体化するためのプロセスの独立した特性である。これら及び他のオレフィン三量体化プロセスの特性は、独立して本明細書に記載され、エチレンを含有する（又は本質的にエチレンからなる）オレフィンを三量体化するための特定のプロセスの特定の特性及び要素と矛盾しない任意の組み合わせで利用することができる。
【０３１２】
オレフィンを三量体化するためのプロセスにおいて利用することができる触媒系の成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及び必要に応じてハロゲン含有化合物）は、それぞれ独立して、本明細書に記載されている。これらの独立的に記載された触媒系成分の態様及び実施形態を、オレフィンを三量体化するためのプロセスをさらに説明するために任意の組み合わせで利用することができる。非限定的な実施形態において、触媒系は、遷移金属化合物、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を含むことができ、前記遷移金属化合物は、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記窒素含有化合物は、ピロール化合物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記金属ヒドロカルビル化合物は、アルキルアルミニウム化合物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、触媒系は、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物を含むことができ、前記遷移金属化合物は、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記窒素含有化合物は、ピロール化合物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記金属ヒドロカルビル化合物は、非ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記ハロゲン含有化合物は、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族、１４族又は１５族金属ハロゲン化物である、それを含む又は本質的にそれからなってもよく、代替的に、前記遷移金属化合物は、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記窒素含有化合物は、ピロール化合物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記金属ヒドロカルビル化合物は、非ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記ハロゲン化化合物は、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族、１４族又は１５族無機金属ハロゲン化物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、代替的に、遷移金属化合物は、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記窒素含有化合物は、ピロール化合物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記金属ヒドロカルビル化合物は非ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよく、前記ハロゲン含有化合物は、アルキルアルミニウムハロゲン化物であっても、それを含んでも、又は本質的にそれからなってもよい。他の組み合わせ又は特定お遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及び必要に応じてハロゲン含有化合物は、本開示から容易に理解される。
【０３１３】
一般的に、特定のクロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物、ピロール化合物、非ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族、１４族又は１５族金属ハロゲン化物、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族、１４族又は１５族無機金属ハロゲン化物、触媒系内で利用することができるアルキルアルミニウムハロゲン化物は、それぞれ本明細書中で独立して記載されている。これらの、独立して記載された触媒系成分の態様及び実施形態を、オレフィンを三量体化するためのプロセスをさらに記載するために任意の組み合わせで利用することができる。
【０３１４】
非限定的な実施例において、オレフィンを三量体化するためのプロセスにおける触媒系において利用することができるクロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物は、実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件；ｉ）１１０ｃｍ−１υａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外線ピーク以内の、υａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外線吸収ピークを有するＫＢｒペレット赤外線スペクトルを有し、３：１以上の、１５１６±１５ｃｍ−１でのυｓｙｍ（ＣＯ２）赤外線吸収ピーク対７００±５０ｃｍ−１で配置された７００±５０ｃｍ−１に配置された赤外線ピークの、赤外線吸光度ピークの高さ比を有すると特徴付けられ、ｉｉ）１．３オングストローム〜４オングストロームのｒ範囲に渡り、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データポイントと、単核クロム（ＩＩＩ）アセテートの理論モデルの計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データポイントを比較した場合、少なくとも０．６のＲ２検定適合度を有すると特徴付けられ、又は、ｉｉｉ）１）式中、各Ｘは独立してハロゲン化物であり、各Ｌは独立してＣ２−Ｃ１０エーテル、Ｃ２−Ｃ１０チオエーテル、Ｃ２−Ｃ５ニトリル、Ｃ１−Ｃ３０アミン又はＣ３−Ｃ３０ホスフィン又はそれらの任意の組み合わせであり、ｌが０〜７の範囲である、式ＣｒＸ３Ｌｌを有するクロム（ＩＩＩ）前駆体、２）１族又は２族金属Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート、及び３）クロム（ＩＩＩ）を形成するための第一の溶媒；下で、接触することを含むプロセスにより生成され、代替的に、１１０ｃｍ−１のυｓｙｍ（ＣＯ２）赤外線ピーク以内のυｓｙｍ（ＣＯ２）赤外線吸光度ピークを有するＫＢｒペレット赤外線スペクトルを有し、３：１以上の１５１６±１４ｃｍ−１でのυａｓｙｍ（ＣＯ２）赤外線吸光度ピークに対する、７００±５０ｃｍ−１で配置された赤外線吸光度ピークの赤外線吸光度ピーク高さ比率を有すると特徴付けられ、代替的に、１．３オングストローム〜４オングストロームのｒ範囲に渡り、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物の高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データポイントと、単核クロム（ＩＩＩ）アセテートの理論モデルの計算された高エネルギーＸ線回折ｇ（ｒ）データポイントを比較した場合、少なくとも０．６のＲ２検定適合度を有すると特徴付けられる、又は代替的に、実質的に無水かつ実質的に酸を含まない条件：１）式中、各Ｘは独立してハロゲン化物であり、各Ｌは独立してＣ２−Ｃ１０エーテル、Ｃ２−Ｃ１０チオエーテル、Ｃ２−Ｃ５ニトリル、Ｃ１−Ｃ３０アミン又はＣ３−Ｃ３０ホスフィン又はそれらの任意の組み合わせであり、ｌは０〜７の範囲である、式ＣｒＸ３Ｌｌを有するクロム（ＩＩＩ）前駆体、２）１族又は２族金属Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート、及び３）クロム（ＩＩＩ）カルボキシレートを形成するための第一の溶媒；下で接触させることを含むプロセスにより生成される、ものであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の非限定的な実施形態において、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレートのＣ３−Ｃ２５カルボキシレートは、式中ｒは整数１〜４であり、Ｒ１ｃは炭化水素基又は置換炭化水素基である��（−Ｏ２Ｃ）ｒＲ１ｃを有することができ、又は、式中Ｒ２ｃがヒドロカルビル基であるか又は置換ヒドロカルビル基である式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有することができる。他の非限定的な実施形態において、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレートのＣ３−Ｃ２５カルボキシレートは、プロピオネート、ブチレート、ペンタノエート、ヘキサノエート、ヘプタノエート、オクタノエート、ノナノエート、デカノエート、ウンデカノエート、ドデカノエート、トリデカノエート、テトラデカノエート、ペンタデカノエート、ヘキサデカノエート、ヘプタデカノエート、オクタデカノエート、又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に２−エチルヘキサノエートであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。オレフィンを三量体化するためのプロセスにおける触媒系中の遷移金属化合物として利用することが可能な他の遷移金属化合物及びクロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレートは、本開示から容易に理解することができる。
【０３１５】
非限定的な実施例において、オレフィンを三量体化するためのプロセスにおける触媒系において利用することができるピロール化合物は、式Ｐ１を有することができ、
【化２５】
0006360436.tif 000026
式中、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ及びＲ５ｐは、独立して、水素原子又はＣ１−Ｃ３０オルガニル基である、代替的に、式Ｐ５を有し、
【化２６】
0006360436.tif 000027
式中、Ｒ４２ｐ及びＲ４ｐは、独立して、Ｃ１−Ｃ１８ヒドロカルビル基である、又は代替的に、式ＡＰ１を有し、
【化２７】
0006360436.tif 000028
式中、Ｒ２ｐ、Ｒ３ｐ、Ｒ４ｐ及びＲ５ｐは、独立して、水素原子、又はＣ１−Ｃ３０オルガニル基であり、Ｒ１ａ及びＲ２ａは、水素又はＣ１−Ｃ２０ヒドロカルビル基とすることができる。別の非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスにおける触媒系内で利用することができるピロール化合物は、２，５−ジメチルピロール、２−メチル−５−エチルピロール、２，５−ジエチルピロール、２，５−ジプロピルピロール、２，５−ジブチルピロール、２，４−ジメチルピロール、２，４−ジエチルピロール、２，４−ジプロピルピロール、２，４−ジブチルピロール、３，４−ジメチルピロール、３，４−ジエチルピロール、３，４−ジプロピルピロール、３，４−ジブチルピロール、２，３，４−トリメチルピロール、３−エチル−２，４−ジメチルピロール、２，３，５−トリメチルピロール、２，３，４，５−テトラメチルピロール、２，３，４，５−テトラエチルピロール又はそれらの任意の組み合わせ、又は代替的に、２，５−ジメチルピロールであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。オレフィンを三量体化するためのプロセスにおける触媒系中で、窒素含有化合物として利用することができる、他の窒素含有化合物及びピロール化合物は、本開示から容易に明らかである。
【０３１６】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスにおける触媒系で利用することができるアルキルアルミニウム化合物は、トリアルキルアルミニウム、アルキルアルミニウムハロゲン化物、又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキルアルミニウムジハロゲン化物、アルミニウムセスキ塩化物又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に、トリアルキルアルミニウム、代替的に、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、代替的にアルキルアルミニウムジハロゲン化物、又は代替的に、アルキルアルミニウムセスキハロゲン化物であっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の実施形態において、アルキルアルミニウム化合物は、トリアルキルアルミニウム、アルキルアルミニウム塩化物、又はそれらの組み合わせ、代替的に、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウム塩化物、アルキルアルミニウムジ塩化物、アルキルアルミニウムセスキ塩化物、又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に、アルキルアルミニウムジ塩化物、代替的に、アルキルアルミニウムセスキ塩化物、又は代替的に、トリエチルアルミニウム及びジエチルアルミニウム塩化物の混合物であっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。オレフィンを三量体化するためのプロセスにおける触媒系で金属ヒドロカルビル化合物として利用することができる、他の金属ヒドロカルビル化合物及びアルキルアルミニウム化合物は、本開示から容易に理解することができる。
【０３１７】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスにおける触媒系で利用することができる非ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物は、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキルアルミニウムジハロゲン化物、ジアルキルアルミニウムアルコキシド、アルキルアルミニウムジアルコキシド、又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウム水素化物、アルキルアルミニウムジ水素化物、又はそれらの任意の組み合わせ、又は代替的に、トリアルキルアルミニウムであっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスにおける触媒系で利用することができるハロゲン含有化合物は、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族又は１４族無機金属ハロゲン化物、ヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物、ハロゲン化炭化水素、又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族又は１４族無機金属ハロゲン化物、代替的に、ヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物、又は代替的に、ハロゲン化炭化水素であっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。非限定的な実施形態において、ハロゲン含有化合物を含有する組成物は、（ｉ）３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族又は１４族無機金属ハロゲン化物、（ｉｉ）ヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物（ｉｉｉ）３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族、又は１４族無機金属ハロゲン化物及び非ハロゲン化アルミニウムヒドロカルビル化合物の混合物、又は（ｉｖ）ヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物及び非ハロゲン化アルミニウムヒドロカルビル化合物の混合物、代替的に、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族又は１４族無機金属ハロゲン化物、代替的に、ヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物、代替的に、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族又は１４族無機金属ハロゲン化物及び非ハロゲン化アルミニウムヒドロカルビル化合物、又は代替的に、ヒドロカルビルアルミニウムハロゲン化物及び非ハロゲン化アルミニウムヒドロカルビル化合物の混合物であっても、それらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。オレフィンを三量体化するためのプロセスにおける触媒系で利用することができる他の非ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物、ハロゲン含有化合物、及びハロゲン含有化合物を含む組成物は、本開示から容易に理解できる。
【０３１８】
オレフィンを三量体化するためのプロセスにおいて利用することができる触媒系の成分の比率は、それぞれ独立して本明細書に記載されている。これらの、独立して記載されている触媒系成分比率は、オレフィンを三量体化するためのプロセスにおいて利用される触媒系をさらに記載するために任意の組み合わせで利用することができる。遷移金属化合物が、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物、金属ヒドロカルビル化合物がヒドロカルビルアルミニウム化合物である、それらを含む、本質的にそれらからなる、又はそれらからなってもよい、一部の非限定的な実施形態において、触媒系は、１：１〜１：１５０、代替的に、１：９〜１：２５、代替的に、１：２〜１：１８、又は代替的に１：５〜１：１７の範囲の、クロム：アルミニウムモル比（より一般的には、遷移金属：金属ヒドロカルビル金属モル比）を有することができる。遷移金属化合物が、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物である、それを含む、実質的にそれからなる、又はそれからなってもよい、一部の非限定的な実施形態において、窒素含有化合物は、ピロール化合物である、それを含む又は本質的にそれらからなってもよく、触媒系は、０．３：１〜１０：１、代替的に０．３：１〜５：１、代替的に１．５：１〜２．５：１、代替的に、２．５：１〜３．５：１、代替的に０．３：１〜１．２：１、代替的に０．３：１〜０．９：１、又は代替的に、０．３：１〜０．８：１の範囲のピロール化合物窒素：クロムモル比（又はより一般的には、窒素：遷移金属モル比）を有することができる。触媒系がハロゲン含有化合物を含み、遷移金属化合物がクロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物である、一部の非限定的な実施形態において、触媒系は、０．１：１〜１００：１、代替的に、０．５：１〜５０：１、又は代替的に０．７５：１〜２５：１の範囲のハロゲン化物：クロム比を有することができる。オレフィンを三量体化するためのプロセスにおいて利用される触媒系をさらに記載するために利用することができる他の比率に加えて、他のクロム：アルミニウムモル比、遷移金属：金属ヒドロカルビル金属モル比、ピロール化合物窒素：クロムモル比、及び、窒素：遷移金属モル比は、本開示から容易に理解できる。
【０３１９】
オレフィンを三量体化するためのプロセスにおいて利用することができる、三量体化されるオレフィンと接触させる前に、触媒系を調製するための方法は、本明細書中に独立して記載されており、オレフィンを三量体化するためのプロセスをさらに記載するために制限せず利用することができる。これらの触媒系調製プロセスを、オレフィンを三量体化するためのプロセスをさらに記載するために制限せずに利用することができる。遷移金属化合物が、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物である、それを含む又は本質的にそれらからなってもよく、窒素含有化合物がピロール化合物である、それを含む又は本質的にそれらからなってもよく、金属ヒドロカルビル化合物がアルキルアルミニウム化合物（例えば、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキルアルミニウムジハロゲン化物又はそれらの任意の組み合わせ）である、それを含む又はそれから実質的に形成され得、触媒系調製プロセスは不飽和有機化合物を利用し、オレフィンを三量体化するためのプロセス内の触媒系を調製するためのプロセスは、１）ピロール化合物／アルキルアルミニウム化合物混合物を生成するために、ピロール化合物をアルキルアルミニウムと接触させること、及び２）触媒系を形成するために不飽和有機化合物の存在下で、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物及びピロール化合物／アルキルアルミニウム化合物混合物を接触させること、代替的に、触媒系を形成するために、不飽和有機化合物の存在下で、実質的に同時に、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物、ピロール化合物及びアルキルアルミニウム化合物を接触させること、又は代替的に、１）ピロール−金属ヒドロカルビル化合物（例えば、構造ＡＰ１、ＡＰ２、ＡＰ３、ＡＰ４又はＡＰ５）を形成するために、ピロール化合物及び非ハロゲン化アルキルアルミニウム化合物を接触させること、２）クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール−金属ヒドロカルビル混合物を生成するために、不飽和有機化合物の存在下で、ピロール−金属ヒドロカルビル化合物をクロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物と接触させること、及び３）触媒系を形成するために、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール−金属ヒドロカルビル化合物混合物をアルキルアルミニウム化合物と接触させること、を含み得る。非限定的な実施形態において、前記遷移金属化合物は、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物である、それを含む又は本質的にそれらからなってもよく、前記窒素含有化合物は、ピロール化合物である、それを含む又は本質的にそれらからなってもよく、前記非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物は、アルキルアルミニウム化合物（例えば、トリアルキルアルミニウム）である、それを含む又は本質的にそれらからなってもよく、前記ハロゲン含有化合物は、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族又は１４族金属ハロゲン化化合物、又は、１３族、１４族、又は１５族非金属ハロゲン化物である、それを含む又は本質的にそれらからなってもよく、前記触媒系調製プロセスは、不飽和有機化合物を利用し、オレフィンを三量体化するためのプロセス内の触媒系を調製するためのプロセスは、不飽和有機化合物の存在下で、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物をアルキルアルミニウム化合物と接触させる前に、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物を少なくとも一つのピロール化合物又はハロゲン含有化合物と接触させることを含み得る、代替的に、１）クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール化合物／ハロゲン含有化合物混合物を生成するために、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物、ピロール化合物及びハロゲン含有化合物を接触させること、及び２）不飽和有機化合物の存在下で、アルキルアルミニウム化合物を、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール化合物／ハロゲン含有化合物混合物と接触させること、代替的に、不飽和有機化合物の存在下で、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物をアルキルアルミニウム化合物と接触させる前に、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物、ピロール化合物及びハロゲン含有化合物を接触させることを含み得、代替的に、アルキルアルミニウム化合物をクロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物と接触させる前に、アルキルアルミニウム化合物を少なくとも一つのピロール化合物又はハロゲン含有化合物と接触させることを含み、代替的に、１）ピロール化合物／アルキルアルミニウム化合物／ハロゲン含有化合物混合物を生成するために、アルキルアルミニウム化合物、ピロール化合物及びハロゲン含有化合物を接触させること、並びに２）不飽和有機化合物の存在下で、ピロール化合物／アルキルアルミニウム化合物／ハロゲン含有化合物混合物をクロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物と接触させること、又は代替的に、不飽和有機化合物の存在下で、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物をアルキルアルミニウム化合物と接触させる前に、アルキルアルミニウム化合物、ピロール化合物及びハロゲン含有化合物を接触させること、代替的に、１）ピロール含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物を生成するために、ピロール含有化合物及びハロゲン含有化合物を接触させること、２）クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物を生成するために、ピロール含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物をクロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物を接触させること、及び３）不飽和有機化合物の存在下で、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物をアルキルアルミニウム化合物と接触させること、代替的に、１）クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール含有化合物混合物を生成するために、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物及びピロール含有化合物を接触させること、及び２）不飽和有機化合物の存在下で、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール含有化合物混合物をアルキルアルミニウム化合物／ハロゲン含有化合物混合物を接触させること、代替的に、及び３）不飽和有機化合物の存在下で、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール含有化合物混合物を、アルキルアルミニウム化合物／ハロゲン含有化合物混合物を接触させること、又は代替的に、不飽和有機化合物の存在下で、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール含有化合物混合物を、アルミニウム化合物／ハロゲン含有化合物混合物と接触させる前に、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物／ピロール含有化合物混合物を生成することを含み得る。三量体化されるオレフィンと接触させる前に触媒系を調製する、オレフィンを三量体化するためのプロセス内で利用することができる、触媒系を調製するための他の方法及び、触媒系成分の接触順序は、本開示から容易に理解される。さらに、触媒系成分を、本明細書に記載の任意の触媒系成分比で組み合わせる又は接触させることができる。
【０３２０】
一態様において、少なくとも一つの触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物又は必要に応じてハロゲン含有化合物）を、三量体化されるオレフィンの存在下で、触媒系の少なくとも一つの他の成分と接触させることができる方法で、オレフィンを三量体化するためのプロセスを行うことができる。別の態様において、各触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び必要に応じてハロゲン含有化合物を利用する場合）及び三量体化されるオレフィンを、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に接触させる、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、代替的に、各触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び必要に応じてハロゲン含有化合物を利用する場合）を、三量体化される三量体化するオレフィンと実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に接触させる、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、又は代替的に、各触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び必要に応じてハロゲン含有化合物を利用する場合）を、三量体化される三量体化するオレフィンへ実質的に同時に添加する（代替的に、同時に接触させる、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる。さらに別の態様において、少なくとも一つの触媒系成分（遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物又は必要に応じてハロゲン含有化合物）を、少なくとも一つの他の触媒系成分を三量体化するべきオレフィンと接触させる前に、三量体化される三量体化するオレフィンと接触させることができる方法で、オレフィンを三量体化するためのプロセスを行うことができる。
【０３２１】
一態様において、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を不飽和有機化合物の存在下で接触させる方法で、オレフィンを三量体化するためのプロセスを行うことができる。一実施形態において、三量体化すべきオレフィンを接触させる前に、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させない方法で、オレフィンを三量体化するためのプロセスを行うことができる、代替的に、金属ヒドロカルビルを三量体化すべきオレフィンと接触させる前に、遷移金属化合物を三量体化すべきオレフィンと接触させない方法で行うことができる、又は代替的に、遷移金属化合物を三量体化すべきオレフィンと接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物を三量体化すべきオレフィンと接触させない方法で行うことができる。一部の実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスを、遷移金属化合物及びヒドロカルビル化合物を接触させる前に、遷移金属化合物を三量体化すべきオレフィンと接触させることができ、金属ヒドロカルビル化合物を三量体化すべきオレフィンと接触させることができる方法で、行うことができる。
【０３２２】
三量体化すべきオレフィンの存在下で、遷移金属錯体及び金属ヒドロカルビル化合物がお互いに接触するこれらの態様及び実施形態内において、任意の他の適用可能な態様及び実施形態、遷移金属化合物（それが事前に三量体化されるオレフィンと接触したかどうかに関わらず）を、金属ヒドロカルビル化合物（それが事前に三量体化されるオレフィンと接触したかどうかに関わらず）へ加えることができる、代替的に、金属ヒドロカルビル化合物（事前に三量体化されるオレフィンと接触したかどうかに関わらず）を遷移金属化合物（事前に三量体化されるオレフィンと接触したかどうかに関わらず）へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物（事前に三量体化されるオレフィンと接触したかどうかに関わらず）及び金属ヒドロカルビル化合物（事前に三量体化されるオレフィンと接触したかどうかに関わらず）を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に接触させる、又は代替的に本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）。他の実施形態において、三量体化すべきオレフィン、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に接触させる、又は代替的に本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）方法で、オレフィンを三量体化するためのプロセスを行うことができる、代替的に、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に三量体化すべきオレフィンと接触させることができる（代替的に同時に接触させる、又は代替的に本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）方法で行うことができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に接触させる、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）、三量体化すべきオレフィンへ加える方法で、行うことができる。
【０３２３】
遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物をオレフィンの存在下で接触させる態様及び実施形態に関して、前記遷移金属化合物及びヒドロカルビル化合物を接触させる前に、遷移金属をオレフィンへ反応させ、又は、遷移金属化合物及びヒドロカルビル化合物を接触させる前に、前記金属ヒドロカルビル化合物をオレフィンへ接触させ、これらの条件は、オレフィン三量体化中の、オレフィン及び／又は触媒系成分の最初の接触並びに、任意の後続のオレフィン及び／又は触媒系成分の別の追加について、行うことができる。しかしながら、オレフィンを三量体化するためのプロセスが、触媒系を回収及び再利用するためのステップを含む態様及び実施形態において、これらの特定のオレフィン三量体化接触特性は、必ずしも適用されない。その結果、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物をオレフィンの存在下で接触させる特性の下で操作するオレフィンの三量体化のためのプロセス、遷移金属化合物及びヒドロカルビル化合物を接触させる前に、遷移金属化合物をオレフィンと接触させる特性、又は、遷移金属化合物及びヒドロカルビル化合物を接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物をオレフィンと接触させる特性は、オレフィンを三量体化するためのプロセス内の全て又は一部の回収された触媒系の再利用の可能性を排除するものではない。
【０３２４】
オレフィンを三量体化するためのプロセスが、三量体化されるオレフィンの存在下で、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物をお互いに接触させる方法で行われる任意の態様又は実施形態において、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させる前に、遷移金属化合物を、（その遷移金属化合物を含有する混合物を生成するために）触媒系の任意の他の成分と接触させることができる、代替的に、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させる前に、金属ヒドロカルビル化合物を、（その金属ヒドロカルビル化合物を含有する混合物を生成するために）触媒系の任意の他の成分と接触させることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させる前に、遷移金属化合物を、（その遷移金属化合物を含有する混合物を生成するために）触媒系の任意の他の成分と接触させることができ、かつ、金属ヒドロカルビル化合物を、（その金属ヒドロカルビルを含有する混合物を生成するために）触媒系の任意の他の成分と接触させることができる。遷移金属化合物を含有する混合物及びその遷移金属を含有する混合物を調製するための方法は、触媒系及びこれらの混合物を調製するためのプロセス内に本明細書中で記載され、方法は、三量体化されるオレフィンの存在下で、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物をお互いに接触させる特性を含む、オレフィンを三量体化するための任意のプロセスの態様又は実施形態と矛盾しない任意の方法で利用することができる。金属ヒドロカルビル化合物を含有する混合物及び、その金属ヒドロカルビル化合物混合物を含有する混合物を調製するための方法は、触媒系を調製するためのプロセス内で本明細書中で記載され、これらの混合物及び方法を、三量体化されるオレフィンの存在下で、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させる特性を含む、オレフィンを三量体化させるための任意のプロセスの態様又は実施形態と矛盾しない方法で利用することができる。
【０３２５】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）、オレフィン及び遷移金属化合物を接触させることを含むことができる。一部の実施形態において、オレフィン、遷移金属化合物及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に接触させる、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージ同時に接触させる）ことができ、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に添加する（代替的に、同時に接触させる、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージ同時に接触させる）ことができる。一部の実施形態において、オレフィン及び遷移金属化合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ、実質的に同時に添加する（代替的に、同時に接触させる、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージ同時に接触させる）ことができる、代替的に、遷移金属化合物及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、オレフィンへ実質的に同時に添加する（代替的に、同時に接触させる、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージ同時に接触させる）ことができる、又は代替的に、オレフィン及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、遷移金属化合物へ、実質的に同時に添加する（代替的に、同時に接触させる、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージ同時に接触させる）ことができる。他の実施形態において、オレフィン及び遷移金属化合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）と、連続的に（任意の順序で）接触させることができる、又は代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を形成するために、オレフィン及び遷移金属化合物を連続的に（任意の順序で）添加することができる。
【０３２６】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１）窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物）を形成するために、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）をオレフィンと接触させること、及び、２）三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物）と接触させることを含むことができる。一実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物を、オレフィンへ加えることができる、代替的に、オレフィンを、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及びオレフィンを、実質的に同時に接触させることができる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物）へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物）を、遷移金属化合物へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物）を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、実質的に同時に（代替的に同時に、又は代替的に本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、他の選択肢中とりわけ、反応器又は溶媒へ加えることができる。
【０３２７】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１）遷移金属化合物／オレフィン混合物を接触させること、及び２）三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、遷移金属化合物／オレフィン混合物を接触させることを含み得る。一実施形態において、遷移金属化合物をオレフィンへ加えることができる、代替的に、オレフィンを遷移金属化合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物及びオレフィンを、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に接触させることができる、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に本明細書に記載の任意のパーセンテージで）加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／オレフィン混合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、遷移金属化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物（又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３２８】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）、オレフィン及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させることを含み得る。一部の実施形態において、オレフィン、金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一部の実施形態において、オレフィン及び金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる、代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、オレフィンへ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる、又は代替的に、オレフィン及び遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、金属ヒドロカルビル化合物へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。他の実施形態において、オレフィン及び金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）と連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、オレフィン及び金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ、連続的に（任意の順番で）加えることができる。
【０３２９】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１）遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物）を形成するために、遷移金属化合物／窒素含有化合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物）をオレフィンと接触させることを、及び２）三量体化生成物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物）と接触させることを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、オレフィンへ加えることができる、代替的に、オレフィンを、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は、遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及びオレフィンを、実質的に同時に接触させることができる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物）へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物）を、金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる。他の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物）を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３３０】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１）金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物をオレフィンと接触させること、及び２）三量体化生成物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）と接触させることを含み得る。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物をオレフィンへ加えることができる、又は代替的に、オレフィンを金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。他の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物（又は遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３３１】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、オレフィン及び遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を接触させることを含み得る。一部の実施形態において、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ、実質的に同時に（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）と連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。
【０３３２】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１）遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有混合物／オレフィン混合物）を形成するために、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、オレフィンと接触させること、及び２）三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物／オレフィン混合物）を、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物と接触させることを含み得る、又は代替的に、１）遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物／オレフィン混合物）を形成するために、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）をオレフィンと接触させること、及び２）三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物／オレフィン混合物）を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物と接触させることを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）をオレフィンへ加えることができる、代替的に、オレフィンを遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及びオレフィンを、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物／オレフィン混合物）を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物／オレフィン混合物）へ加えることができる。さらに他の実施形態において、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物／オレフィン混合物）と連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物／オレフィン混合物）へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物／オレフィン混合物）を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物を、遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物／オレフィン混合物）へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物／オレフィン混合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物／オレフィン混合物）及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３３３】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１）窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／オレフィン混合物、金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を接触させることを含み得る。一部の実施形態において、窒素含有化合物をオレフィンへ加えることができ、代替的に、オレフィンを窒素含有化合物へ加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物及びオレフィンを、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）、金属ヒドロカルビル化合物及び窒素含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、窒素含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。さらに他の実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び金属ヒドロカルビル化合物を、窒素含有化合物／オレフィン混合物と連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び金属ヒドロカルビル化合物を、窒素含有化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。
【０３３４】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１）金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）三量体化生成物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物及び遷移金属ヒドロカルビル化合物（又は遷移金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を接触させることを含み得る。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物をオレフィンへ加える、代替的に、オレフィンを、金属ヒドロカルビル化合物へ加える。他の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に接触させることができる（代替的に同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることができる）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。さらに他の実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び窒素含有化合物を、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物と連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、遷移金属化合物（（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び窒素含有化合物を、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、連続的に（任意の順番で）加えることができる。
【０３３５】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）と接触させることを含み得る。一実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを接触させることにより、代替的に、１）窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させること、代替的に、１）金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物を接触させること、又は代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物をオレフィンと接触させることにより、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成することができる。窒素含有化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書中に記載され、本方法内で制限なく利用することができる。金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書中に記載され、本方法内で制限なく利用することができる。一実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、窒素含有化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことにより、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることにより、形成することができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、金属ヒドロカルビル化合物を窒素含有化合物／オレフィン混合物へ加えることにより、又は代替的に、窒素含有化合物／オレフィン混合物を金属ヒドロカルビル化合物へ加えることにより形成することができる。他の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことにより、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることにより、形成することができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、窒素含有化合物を金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ加えることにより、又は代替的に、窒素含有化合物へ金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を加えることにより形成することができる。他の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることにより、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることにより、形成することができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ添加することによって、又は代替的に、オレフィンへ窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物を添加することにより、形成することができる。他の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、オレフィン及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることにより、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることにより、形成することができる。一実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に接触させることにより（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させることにより）、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることにより、形成することができる。
【０３３６】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物、窒素含有化合物、オレフィン、及び金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を接触させることを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物及びオレフィンを、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物、窒素含有化合物、及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物及びオレフィンを、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）と連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、遷移金属化合物、窒素含有化合物及びオレフィンを、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ、連続的に（任意の順番で）接触させることができる。
【０３３７】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１）遷移金属化合物／オレフィン混合物を生成するために、遷移金属化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）三量体化生成物を形成するために、遷移金属化合物／オレフィン混合物、金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物（又は遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を接触させることを含み得る。遷移金属化合物及びオレフィンを接触させる方法は、オレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書中に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）、窒素含有化合物及び遷移金属化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。他の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、遷移金属化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。さらに他の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び窒素含有化合物を、遷移金属化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び窒素含有化合物を、遷移金属化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。
【０３３８】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１）窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／オレフィン混合物、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を接触させることを含み得る。窒素含有化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書中に記載され、本方法において制限なして利用することができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物）、遷移金属化合物、及び窒素含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができ、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。他の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び遷移金属化合物を、窒素含有化合物／オレフィン混合物へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。さらに他の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有加賀応物混合物）及び遷移金属化合物を、窒素含有化合物／オレフィン混合物と、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び遷移ヒドロカルビル化合物を、窒素含有化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。
【０３３９】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物を、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）と接触させることを含み得る。一実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、遷移金属化合物、窒素含有化合物及びオレフィンを接触させることにより、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成することができる、代替的に、１）遷移金属化合物／オレフィン混合物を生成するために、遷移金属化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、遷移金属化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物を接触させることにより形成することができる、代替的に、１）窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために窒素含有化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を接触させることにより形成することができる、又は代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物をオレフィンと接触させることにより形成することができる。遷移金属化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。窒素含有化合物及びオレフィンの接触方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物を遷移金属化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物及び遷移金属化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）接触させることができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物を窒素含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物及び窒素含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）接触させることができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。さらに他の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）接触させることができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）を、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物を、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）へ加えることができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物（又は金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物）及び遷移金属／窒素含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）接触させることができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３４０】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物、オレフィン、及び遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を接触させることを含み得る。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物、オレフィン、及び遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）接触させることができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３４１】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、１）金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）三量体化生成物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を接触させることを含み得る。金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを接触するための方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物及び金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）接触させることができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３４２】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物、オレフィン、及び遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を接触させることを含み得る。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物、及びオレフィンを、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物、オレフィン、及び遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）接触させることができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３４３】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び遷移金属含有化合物／窒素含有化合物混合物を接触させることを含み得る。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを接触させることにより形成することができる、代替的に、１）金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及びハロゲン含有化合物を接触させることにより形成することができる、代替的に、１）ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させることにより形成することができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物及びオレフィンを接触させることにより形成することができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物、及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）接触させること、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることにより、形成することができる。金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で利用することができる。一実施形態において、ハロゲン含有化合物を、オレフィンへ加えることができ、代替的に、オレフィンをハロゲン含有化合物へ加えることができ、又は代替的に、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物を、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物及び金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３４４】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物、オレフィン及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物を接触させることを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物及びオレフィンを窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物及びオレフィンを、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物と連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及びオレフィンを、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。
【０３４５】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物、ハロゲン含有化合物、オレフィン、及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物を接触させることを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物と連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、遷移金属化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ連続的に（任意の順番で）接触させることができる。
【０３４６】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物を接触させることを含み得る。一実施形態において、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、遷移金属化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを接触させることにより形成することができる、代替的に、１）遷移金属化合物／オレフィン混合物を生成するために、遷移金属化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）遷移金属化合物／オレフィン混合物及びハロゲン含有化合物を接触させることにより形成することができる、代替的に、１）ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成するためにハロゲン含有化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させることにより形成することができる、又は代替的に、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物及びオレフィンを接触させることにより形成することができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、遷移金属化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることにより形成することができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。遷移金属化合物及びオレフィンを接触させる方法は、オレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で、制限なしで利用することができる。ハロゲン接触化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で、制限なしで利用することができる。一実施形態において、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物を、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物及び遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３４７】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物、窒素含有化合物、オレフィン及び金属ヒドロカルビル化合物混合物を接触させることを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物及びオレフィンを、金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物、窒素含有化合物、及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、及びオレフィンを、金属ヒドロカルビル化合物混合物と連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、遷移金属化合物、窒素含有化合物及びオレフィンを、金属ヒドロカルビル化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。
【０３４８】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物、窒素含有化合物、オレフィン及び金属ヒドロカルビル化合物混合物を接触させること、代替的に、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させること、又は代替的に、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／オレフィン混合物、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させることを含み得る。遷移金属化合物／オレフィン混合物を生成するために遷移金属化合物及びオレフィンを接触させる方法は、オレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内において本明細書に記載され、本方法の範囲内で、制限なしで利用することができる。窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために窒素含有化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で、制限なしで利用することができる。一実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）オレフィンへ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物、オレフィン及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、遷移金属化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、窒素含有化合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、遷移金属化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物を、金属ヒドロカルビル化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、窒素含有化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及び窒素含有化合物を、遷移金属化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、窒素含有化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、遷移金属化合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、窒素含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／オレフィン混合物、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３４９】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物、窒素含有化合物、ハロゲン含有化合物、オレフィン及び金属ヒドロカルビル化合物混合物を、接触させることを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物、窒素含有化合物、ハロゲン含有化合物、及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、金属ヒドロカルビル化合物へ連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、遷移金属化合物、窒素含有化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、金属ヒドロカルビル化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。
【０３５０】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／窒素含有化合物、ハロゲン含有化合物混合物、オレフィン及び金属ヒドロカルビル化合物混合物を、接触させることを含み得る、代替的に、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物、ハロゲン含有化合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させることを含み得る、代替的に、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させることを含み得る、又は代替的に、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させることを含み得る。遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で、制限なしで利用することができる。遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で、制限なしで利用することができる。遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成するための方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で、制限なしで利用することができる。
【０３５１】
一実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物、ハロゲン含有化合物、及びオレフィンを接触させることにより、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成することができる、代替的に、窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物及びオレフィンを接触させること及び、２）窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物／オレフィン混合物及びハロゲン含有化合物を接触させることにより形成することができる、代替的に、１）ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを接触させること、及び２）窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物を接触させることにより形成することができる、又は代替的に、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物を接触させることにより形成することができる。一実施形態において、窒素含有化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、窒素含有化合物／オレフィン混合物をハロゲン含有化合物へ加えることにより形成することができる、代替的に、ハロゲン含有化合物を、窒素含有化合物／オレフィン混合物へ加えることにより形成することがきる、又は代替的に、窒素含有化合物／オレフィン混合物及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）こと（例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加える）により、形成することができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、窒素含有化合物へ加えることにより形成することができる、代替的に、窒素含有化合物を、ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物へ加えることにより形成することができる、又は代替的に、ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）こと（例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加える）により、形成することができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物を、オレフィンへ加えることにより形成することができる、代替的に、オレフィンを窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物へ加えることにより形成することができる、又は代替的に、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物及びオレフィンを、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）こと（例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加える）により、形成することができる。窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。
【０３５２】
一実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）、金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）オレフィンへ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物、オレフィン及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）ハロゲン含有化合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物及びハロゲン含有化合物を、金属ヒドロカルビル化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、ハロゲン含有化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物を、遷移金属化合物／窒素が入化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物／オレフィン混合物、ハロゲン含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び窒素が入化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物、遷移金属化合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３５３】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物、ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させることを含み得る、代替的に、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物、窒素含有化合物／オレフィン混合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させることを含み得る、又は代替的に、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を接触させることを含み得る。ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。遷移金属化合物／オレフィン混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。
【０３５４】
一実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物及びハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物、ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物及び窒素含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及び窒素含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物、窒素含有化合物／オレフィン混合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、遷移金属化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及び窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物／ハロゲンが入化合物混合物を、金属ヒドロカルビル化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、代替的に、遷移金属化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、又は代替的に、金属ヒドロカルビル化合物及び窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物を、遷移金属化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。他の実施形態において、遷移金属化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３５５】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、オレフィン及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る。一部の実施形態において、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及びオレフィンを遷移金属化合物へ加えることができる、又は代替的に、窒素が入化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、遷移金属化合物へ連続的に（任意の順番で）接触させることができる、又は代替的に、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、遷移金属化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。
【０３５６】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物、オレフィン及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る、代替的に、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／オレフィン混合物、金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る、又は代替的に、三量体化生成物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る。窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成するために、窒素含有化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを接触させる方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。一実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）オレフィンへ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物、オレフィン及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、窒素含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物／オレフィン混合物、金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、金属ヒソロカルビル化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物を、遷移金属化合物へ連続的に（任意の順序で）加えることができる、代替的に、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、窒素含有化合物へ連続的に（任意の順序で）加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び窒素含有化合物を、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順序で）加えることができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３５７】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物、オレフィン及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る。一部の実施形態において、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、遷移金属化合打つ窒素含有化合物へ加えることができる、又は代替的に、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、遷移金属化合物と連続的に（任意の順序で）接触させることができる、又は代替的に、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、遷移金属化合物へ連続的に（任意の順序で）加えることができる。
【０３５８】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物、オレフィン及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る、代替的に、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物、ハロゲン含有化合物、遷移金属化合物を接触させることを含み得る、代替的に、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物、金属ヒドロカルビル化合物、及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る、又は代替的に、三量体化生成物を生成するために、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物、及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る。窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。
【０３５９】
一実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物及びオレフィンを、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）オレフィンへ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及びオレフィンを実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物、オレフィン及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）ハロゲン含有化合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及びハロゲン含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及びハロゲン含有化合物を、遷移金属化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、ハロゲン含有化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及びハロゲン含有化合物を、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物、ハロゲン含有化合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物、金属ヒドロカルビル化合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び窒素含有化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び窒素含有化合物を、遷移金属化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、代替的に、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、窒素含有化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び窒素含有化合物を、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。他の実施形態において、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物、窒素含有化合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３６０】
非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物、ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る、代替的に、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る、又は代替的に、三量体化生成物を生成するために、窒素含有化合物／オレフィン混合物、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物、及び遷移金属化合物を接触させることを含み得る。ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触方法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触方法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。窒素含有化合物／オレフィン混合物を生成する方法は、他のオレフィン及び触媒系成分接触方法の範囲内で本明細書に記載され、本方法の範囲内で制限なしで利用することができる。
【０３６１】
一実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物及びハロゲン含有化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、窒素が入化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及びハロゲン含有化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物、ハロゲン含有化合物／オレフィン混合物、及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物及び金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物へ加えることができる。一部の実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物及び金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、遷移金属化合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物及び遷移金属化合物を、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物を、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物へ連続的に（任意の順番で）加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物、金属ヒドロカルビル化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。一実施形態において、窒素含有化合物／オレフィン混合物及び金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物へ加えることができる、代替的に、窒素含有化合物／オレフィン混合物及び遷移金属化合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物へ加えることができる、又は代替的に、遷移金属化合物及び金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）窒素含有化合物／オレフィン混合物へ加えることができる。他の実施形態において、窒素含有化合物／オレフィン混合物、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物、及び遷移金属化合物を、実質的に同時に接触させる（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に接触させる）ことができる、例えば、他の選択肢の中でとりわけ、反応器又は溶媒へ、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる。
【０３６２】
別の非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するプロセスは、三量体化生成物を生成するために、独立して、及び実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを接触させることを含み得る。一部の実施形態において、オレフィンを三量体化するプロセスは、独立して及び実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、三両たちか生成物を生成するための反応器中へ導入することを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びオレフィンを、連続的に反応器中へ導入することができる。
【０３６３】
さらに別の非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物、窒素含有化合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を、独立して、及び実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）オレフィンと接触させることを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物及び金属ヒドロカルビル化合物を、独立して、及び実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）オレフィンを含有する反応器へ導入することができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、及び金属ヒドロカルビル化合物を、連続的に反応器中へ導入することができる。
【０３６４】
別の非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、独立して、及び実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）接触させることを含み得る。一部の実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、独立して、及び実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）反応器中へ導入することを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、ハロゲン含有化合物及びオレフィンを、連続的に反応器中へ導入することができる。
【０３６５】
さらに別の非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、三量体化生成物を生成するために、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物を、独立して、及び実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）オレフィンと接触させることを含み得る。一部の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物を、独立して、及び実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）オレフィンを含有する反応器へ導入することができる。一部の実施形態において、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物を、反応器へ連続的に導入することができる。
【０３６６】
オレフィンを三量体化するためプロセスの様々な態様及び実施形態は、遷移金属化合物／ハロゲン含有化合物混合物、金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物、窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物、遷移金属化合物／窒素含有化合物混合物、遷移金属化合物／窒素含有化合物／ハロゲン含有化合物混合物、窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物混合物、及び／又は窒素含有化合物／金属ヒドロカルビル化合物／ハロゲン含有化合物混合物を利用することができる。混合物を調製する方法は、触媒系及びこれらの混合物を調製するためのプロセスの範囲内で本明細書に記載され、方法は、オレフィンを三量体化するための任意のプロセスに矛盾しない方法で利用することができる。
【０３６７】
一実施形態において、他の触媒系成分を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる、触媒系成分、触媒系成分混合物、触媒系成分／オレフィン混合物、又は触媒系成分混合物／オレフィン混合物はまた、溶媒を含むことができる。そのような例において、他の触媒系成分を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる、触媒系成分、触媒系成分混合物、触媒系成分／オレフィン混合物又は触媒系成分混合物／オレフィン混合物は、他の触媒系成分を、実質的に同時に（代替的に、同時に、又は代替的に、本明細書に記載の任意のパーセンテージで同時に）加えることができる、触媒系成分、触媒系成分混合物、触媒系成分／オレフィン混合物又は触媒系成分混合物／オレフィン混合物及び溶媒を含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０３６８】
一般的に、本明細書に記載の任意のオレフィン三量体化成分又はオレフィン三量体化成分混合物は、オレフィン三量体化成分又はオレフィン三量体化成分混合物の記載した要素を含み得、そのように、別段の記載がない限り、オレフィンを三量体化するための特定のプロセスと矛盾しない追加の成分を含み得る。一実施形態において、本明細書に記載の任意のオレフィン三量体化成分又はオレフィン三量体化成分混合物は、オレフィン三量体化成分又はオレフィン三量体化成分混合物及び、オリゴマー化溶媒の記載された記載した要素を含み得、そのように、別段の記載がない限り、オレフィンを三量体化するための特定のプロセスの特性と矛盾しない追加の成分を含み得る。一部の実施形態において、本明細書に記載の任意のオレフィン三量体化成分又はオレフィン三量体化成分混合物は、オレフィン三量体化成分又はオレフィン三量体化成分混合物及びオリゴマー化溶媒から実質的になってもよい。他の実施形態において、本明細書に記載の任意のオレフィン三量体化成分又はオレフィン三量体化成分混合物は、記載の要素から実質的になってもよい。
【０３６９】
オレフィンを三量体化するための非限定的なプロセス実施形態において、オレフィンは、エチレン（それによってプロセスは、エチレンを三量体化するためのプロセス又はエチレン三量体化プロセスとなり得る）であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよく、遷移金属化合物は、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物であり得、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい、窒素含有化合物は、ピロール化合物であり得、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい、金属ヒドロカルビル化合物は、アルキルアルミニウム化合物であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよく、必要に応じてハロゲン含有化合物は、アルキルアルミニウムハロゲン化物又は、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族、１４族又は１５族無機ハロゲン化物であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい。オレフィンを三量体化するための、別の非限定的なプロセスの実施形態において、オレフィンは、エチレン（それによってプロセスは、エチレンを三量体化するためのプロセス又はエチレン三量体化プロセスとなり得る）であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよく、遷移金属化合物は、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物であり得、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい、窒素含有化合物は、ピロール化合物であり得、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい、金属ヒドロカルビル化合物は、アルキルアルミニウム化合物（例えば、トリアルキルアルミニウム、アルキルアルミニウムジハロゲン化物、ジアルキルアルミニウムジハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキハロゲン化物、又はそれらの任意の組み合わせ）であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい。さらに別のオレフィンを三量体化するための非限定的なプロセス実施形態において、オレフィンは、エチレン（それによってプロセスは、エチレンを三量体化するためのプロセス又はエチレン三量体化プロセスとなり得る）であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよく、遷移金属化合物は、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよく、窒素含有化合物は、ピロール化合物であり得、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい、金属ヒドロカルビル化合物は、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物（例えば、トリアルキルアルミニウム）であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよく、ハロゲン含有化合物は、３族、４族、５族、Ｃｒを除く６族、１３族、若しくは１４族金属ハロゲン化化合物、又は１３族、１４族若しくは１５族無機ハロゲン化物であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい。別のオレフィンを三量体化するための非限定的なプロセス実施形態において、オレフィンは、エチレン（それによってプロセスは、エチレンを三量体化するためのプロセス又はエチレン三量体化プロセスとなり得る）であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよく、遷移金属化合物は、クロム（ＩＩＩ）Ｃ３−Ｃ２５カルボキシレート組成物であり得、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい、窒素含有化合物は、ピロール化合物であり得、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい、金属ヒドロカルビル化合物は、非ハロゲン化金属ヒドロカルビル化合物（例えば、トリアルキルアルミニウム）であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよく、ハロゲン含有化合物は、アルキルアルミニウムハロゲン化物（例えば、アルキルアルミニウムジハロゲン化物、ジアルキルアルミニウムハロゲン化物、アルキルアルミニウムセスキハロゲン化物、又はそれらの任意の組み合わせ）であり得る、含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい。本開示は、他のオレフィン、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物及びハロゲン含有化合物を開示することに注意されたい。これらの、独立して開示されたオレフィン、遷移金属化合物、窒素含有化合物、金属ヒドロカルビル化合物、及びハロゲン含有化合物は、本開示内の実施形態及び態様から容易に理解され、オレフィンを三量体化するための他の意図した方法と任意に組み合わせて利用することができる。
【０３７０】
オレフィンを三量体化するためのプロセスを、溶液、スラリー及び／若しくはガス相反応技術を用いて、並びに／又は従来の機器及び接触プロセスを用いて、本明細書に記載の触媒系を利用して行うことができる。オレフィンと触媒系の接触は、当技術分野で公知の任意の方法によって行うことができる。一つの従来の方法は、三量体化プロセスを通して有機溶媒中に分散された触媒系を維持するために、有機溶媒中に触媒系を分散させること、及び／又は、混合物をかき混ぜる若しくは攪拌することである。他の既知の接触法を使用することもできる。
【０３７１】
一態様において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、有機媒体を利用し得る。有機媒体を利用する態様において、触媒系は、有機溶媒中に、可溶性（代替的に、部分的に可溶性、又は代替的に不溶性）であり得る。他の態様において、液体三量体化生成物は、有機媒体中において、混和性（代替的に、部分的に混和性、又は代替的に非混和性）であり得る。さらに別の態様において、固体三量体化生成物は、有機媒体中において、可溶性（代替的に、部分的に可溶性、又は代替的に不溶性）であり得る。
【０３７２】
非限定的な態様において、連続供給オートクレーブ反応器は、適切な攪拌機構又は攪拌方法（例えば、他の選択肢の中でとりわけ、機械的スターラー及び／又は不活性ガス散布など）及び／又は、三量体化温度を制御するための方法（例えば、他の選択肢の中でとりわけ、内部熱伝達コイル及び／又は外部熱交換ジャケット）を有する。別の非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するプロセスは、機械的攪拌（例えば、他の選択肢の中でとりわけ、循環ポンプ）を有するループ反応器により行うことができる、及び／又は、三量体化温度を制御するための方法を、利用することができる（例えば、他の選択肢の中で、とりわけ内部熱伝達コイル、及び／又は外部熱交換ジャケット）。別の非限定的な実施形態において、オレフィンを三量体化するためのプロセスを、三量体化を制御するための方法（例えば、他の選択肢の中でとりわけ、外部の熱交換ジャケット）を有する封止されたフロー条件の下で、及び／又は、分散された触媒系がフロー条件を作成することが可能及び／又は乱流状態を維持する条件を利用することにより維持することのできる条件を利用して、管状反応中で行うことができる。
【０３７３】
一態様において、有機媒体は、炭化水素又はハロゲン化炭化水素、代替的に、炭化水素又は代替的に、ハロゲン化炭化水素であり得る、それらを含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態において、有機溶媒（炭化水素及び／又はハロゲン化炭化水素）は、非オレフィン、又は代替的にオレフィンであり得る。他の実施形態において、有機媒体（炭化水素及び／又はハロゲン化炭化水素）は、脂肪族炭化水素、脂肪族ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化芳香族炭化水素又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に、脂肪族炭化水素、脂肪族ハロゲン化炭化水素、又はそれらの任意の組み合わせ、代替的に、脂肪族炭化水素、代替的に、脂肪族ハロゲン化炭化水素、代替的に芳香族炭化水素、又は代替的にハロゲン化芳香族炭化水素であり得る、それらを含み得る、又は本質的にそれらからなってもよい。一実施形態において、脂肪族有機媒体（炭化水素又はハロゲン化炭化水素）は、オレフィン又は非オレフィン、代替的に、オレフィン、又は代替的に非オレフィンであり得る。一実施形態において、芳香族有機媒体（芳香族炭化水素、又はハロゲン化芳香族炭化水素）は、オレフィン（例えば、スチレン）又は非オレフィン、代替的に、オレフィン、又は代替的に非オレフィンであり得る。一実施形態において、芳香族有機媒体（芳香族炭化水素又はハロゲン化芳香族炭化水素）は、オレフィン（例えば、スチレン）又は非オレフィン、代替的にオレフィン、又は代替的に非オレフィンであり得る。脂肪族炭化水素及び／又はハロゲン化脂肪族炭化水素は
独立して、本明細書に記載の様々な態様及び実施形態についての可能性のある溶媒として本明細書に開示されている。これらの脂肪族炭化水素溶媒及び／又はハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒を、有機媒体として制限なしで利用することができる。芳香族炭化水素及び／又はハロゲン化芳香族炭化水素は、本明細書に開示の様々な態様及び実施形態についての可能性のある溶媒として、及び／又は、触媒系の調製において利用することができる可能性のある不飽和有機化合物として、独立的に本明細書に開示されている。これらの芳香族炭化水素及び／又はハロゲン化芳香族化合物を、有機媒体として制限なしで利用することができる。触媒系の調製において利用することができる可能性のある不飽和有機化合物として、及び／又は、三量体化することができるオレフィンとして、オレフィン化合物は本明細書中に開示されている。これらの不飽和有機化合物及び／又は三量体化することができるオレフィンを、有機媒体として制限なしで利用することができる。任意の一般的な又は特定の脂肪族炭化水素溶媒及び／又はハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒、不飽和有機化合物、及び／又は三量体化可能なオレフィンを、有機媒体として利用する場合、一般的な又は特定の化合物を溶媒、不飽和有機化合物として開示したこと、又は、三量体可能は、利用される化合物が、有機媒体に起因するもの以外の任意の機能を有することを意味するものではない。
【０３７４】
三量体化生成物は、三量体化生成物を形成することが可能な条件下で生成することができる。三量体化生成物を生成することが可能な条件は、触媒系に接触するオレフィン三量体化プロセスにおいてオレフィン又は種々の成分を接触させる条件と異なる（又は同じ）可能性がある。一実施形態において、三量体化生成物を形成することが可能な条件は、三量体化温度、三量体化圧力、オレフィン分圧、三量体化触媒系濃度、及び／又は三量体化反応時間を、独立して又は任意の組み合わせでのいずれかで含み得る。別の態様において、オレフィンを三量体化するためのプロセスは、独立して又は任意の組み合わせでのいずれかで、オレフィン変換率、触媒系生産性、三量体選択性、三量体化生成物内の特定の各文の純度及び／又は形成されたポリマーの量により特徴付けることができる。
【０３７５】
一態様において、三量体生成物を生成することができる条件は、少なくとも−２０℃、代替的に、少なくとも０℃、代替的に、少なくとも２０℃、代替的に、少なくとも４０℃、代替的に、少なくとも６０℃、代替的に、少なくとも８０℃の三量体化温度を含み得る。一部の実施形態において、三量体化生成物を生成することが可能な条件は、−２０℃〜２５０℃、代替的に、−１０℃〜２５０℃、代替的に、０℃〜２２５℃、代替的に、２０℃〜２００℃、代替的に、４０℃〜２００℃、代替的に、６０℃〜１８０℃、又は代替的に、８０℃〜１６０℃の範囲の三量体化温度を含み得る。
【０３７６】
一態様において、三量体化生成物を生成することが可能な条件は、三量体化圧力を含み得る。一実施形態において、三量体化生成物を生成することが可能な条件は、大気圧〜３５００ｐｓｉｇ（２４．１ｍＰａ）、代替的に、大気圧〜３０００ｐｓｉｇ（２０．７ｍＰａ）、代替的に、大気圧〜２０００ｐｓｉｇ（１３．８ｍＰａ）、代替的に、大気圧〜１６００ｐｓｉｇ（６．９ｍＰａ）又は代替的に、約大気圧〜１０００ｐｓｉｇ（１１．０ｍＰａ）の範囲の三量体化圧力を含み得る。別の態様において、三量体化圧力は、２５ｐｓｉｇ（３４５ｋＰａ）〜３５００ｐｓｉｇ（２４．１ｍＰａ）、５０ｐｓｉｇ（３４５ｋＰａ）〜３０００ｐｓｉｇ（２０．７ｍＰａ）、代替的に、５０ｐｓｉｇ（３４５ｋＰａ）〜２５００ｐｓｉｇ（１７．２ｍＰａ）、代替的に、１００ｐｓｉｇ（６８９ｋＰａ）〜２０００ｐｓｉｇ（１３．８ｍＰａ）、代替的に、２００ｐｓｉｇ（１．４ｍＰａ）〜１６００ｐｓｉｇ（６．９ｍＰａ）、又は代替的に、３００ｐｓｉｇ（２．１ｍＰａ）〜１０００ｐｓｉｇ（６．９ｍＰａ）の範囲であり得る。オレフィンが、三量体化生成物を生成することができる温度で気体であり得る場合、三量体化生成物を生成することができる条件は、２０ｐｓｉ（１３８ｋＰａ）〜３０００ｐｓｉ（２０．７ｍＰａ）、代替的に、５０ｐｓｉ（３４５ｋＰａ）〜２５００ｐｓｉ（１７．２ｍＰａ）、代替的に、１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）〜２０００ｐｓｉ（１３．８ｍＰａ）、代替的に、２００ｐｓｉ（１．４ｍＰａ）〜１６００ｐｓｉ（１１．０ｍＰａ）、又は代替的に、３００ｐｓｉ（２．１ｍＰａ）〜１０００ｐｓｉ（６．９ｍＰａ）の範囲のオレフィン分圧であり得る。
【０３７７】
一態様において、三量体化生成物を生成することが可能な条件は、触媒系濃度を含み得る。一実施形態において、触媒系濃度は、三量体化溶媒のリットル当たり、少なくとも１×１０−７モル遷移金属（例えば、クロム）、代替的には、三量体化溶媒のリットル当たり、少なくとも１×１０−６モル遷移金属、三量体化溶媒のリットル当たり、少なくとも１×１０−５モル遷移金属でありえる。一部の実施形態において、触媒系濃度は、三量体化溶媒のリットル当たり、１×１０−７〜０．２モル遷移金属、代替的に、三量体化溶媒のリットル当たり、１×１０−６〜０．２モル遷移金属、又は代替的に、三量体化溶媒のリットル当たり、１×１０−５〜０．０５モル遷移金属の範囲であり得る。
【０３７８】
一態様において、三量体化生成物を形成することができる１つの条件が、三量体化反応時間であってもよい。特定の実施形態において、三量体化反応時間は、少なくとも５分；あるいは、少なくとも１０分；あるいは、少なくとも１５分であってよい。一部の実施形態では、三量体化反応時間は、５分〜１２０分の範囲；あるいは、１０分〜９０分の範囲；あるいは、１５分〜６０分の範囲であってよい。一部の態様では、三量体化プロセスは、連続ループ反応器中で実行してもよい。このような場合では、バッチ反応器又はプラグ流連続反応器と異なり、一部の分子が反応器中に滞留できる時間は、ほかの分子が反応器中に滞留する時間とは大きく異なる場合がある。このような場合には、本明細書で開示される三量体化反応時間は、平均反応時間を意味する。
【０３７９】
一態様において、三量体化の間、水素が存在する。理論に制限されるものではないが、水素の存在により、三量体化を加速し、触媒系の活性を高め、触媒系の生産性を高める、及び／又は三量体化の間に形成されるポリマーの量を減らすことができると考えられている。特定の実施形態において、水素分圧は、２ｐｓｉ（１３．８ｋＰａ）〜２００ｐｓｉ（１．４ｍＰａ）の範囲；あるいは、５ｐｓｉ（３４．５ｋＰａ）〜１５０ｐｓｉ（１．０ｍＰａ）の範囲；あるいは、１０ｐｓｉ（６８．９ｋＰａ）〜１００ｐｓｉ（６８９ｋＰａ）の範囲であってよい。
【０３８０】
一態様において、オレフィンの三量体化プロセスは、三量体化生成物への転化（オレフィン転化とも呼ばれる）されるオレフィンの量を特徴としてもよい。特定の実施形態において、オレフィン転化は、少なくとも２０ｗｔ．％；あるいは、３０ｗｔ．％；あるいは、４０ｗｔ．％であってよい。一部の実施形態では、オレフィン転化は、２０ｗｔ．％〜９０ｗｔ．％の範囲；あるいは、３０ｗｔ．％〜８０ｗｔ．％の範囲；あるいは、４０ｗｔ．％〜７５ｗｔ．％の範囲であってよい。
【０３８１】
一態様において、オレフィンの三量体化プロセスは、触媒系の生産性を特徴としてもよい。通常、触媒系の生産性は、用いられる触媒系の量のうちの、遷移金属化合物中の遷移金属のｇ当たり生産される三量体のグラムを意味する（本明細書では、遷移金属当たりの三量体ｇと呼ぶ）。一部の実施形態では、触媒系の生産性は、グラム遷移金属当たり、少なくとも１０，０００グラム三量体；あるいは、グラム遷移金属当たり少なくとも１５，０００グラム三量体；あるいは、少なくとも２０，０００ｇ三量体；あるいは、ｇ遷移金属当たり少なくとも２５，０００ｇ三量体であってよい。他の実施形態では、触媒系の生産性は、ｇ遷移金属当たり１０，０００〜５００，０００ｇ三量体の範囲；あるいは、ｇ遷移金属当たり１５，０００〜４００，０００ｇ三量体の範囲；あるいは、ｇ遷移金属当たり２０，０００〜３００，０００ｇ三量体の範囲；あるいは、ｇ遷移金属当たり２５，０００〜２５０，０００ｇ三量体の範囲であってよい。オレフィンがエチレンで、遷移金属化合物が、クロム化合物の場合、この転化は、ｇＣｒ当たりのｇＣ６として表すことができる。
【０３８２】
一態様において、オレフィンの三量体化プロセスは、３つの、及び、３つのみのオレフィン単位を含む生成物に対する選択性（三量体選択性と呼ぶ）を特徴としてもよい。通常、三量体選択性は、全三量体化プロセス生成物当たり生成される三量体の量をｗｔ．％を単位にして表される。三量体化選択性は、用いられる三量体化溶媒（用いる場合）に依存する場合があることに留意されたい。三量体化されているオレフィンよりも低速であったとしても、三量体化されるオレフィンが三量体化溶媒として用いられる場合（例えば、三量体化エチレンを用いた１−ヘキセンの場合）、オレフィン三量体化プロセスにおいて、三量体選択性が、非オレフィン溶媒が用いられる場合よりも低くなる場合がある。これらの例では、三量体選択性は、少なくとも７０ｗｔ．％；あるいは、少なくとも７５ｗｔ．％；あるいは、少なくとも８０ｗｔ．％；あるいは、少なくとも８５ｗｔ．％；あるいは、少なくとも９０ｗｔ．％であってよい。他の類似の例では、三量体選択性は、７０ｗｔ．％〜９９．８ｗｔ．％の範囲；あるいは、７５ｗｔ．％〜９９．５ｗｔ．％の範囲；あるいは、８０ｗｔ．％〜９９ｗｔ．％の範囲；あるいは、８５ｗｔ．％〜９８ｗｔ．％の範囲であってよい。特定の実施形態において、非オレフィン三量体化溶媒が用いられる場合、三量体選択性は、少なくとも８０ｗｔ．％；あるいは、少なくとも８５ｗｔ．％；あるいは、少なくとも８７．５ｗｔ．％；あるいは、少なくとも９０ｗｔ．％であってよい。一部の実施形態では、非オレフィン三量体化溶媒が用いられる場合、三量体選択性は、８０ｗｔ．％〜９９．８ｗｔ．％の範囲；あるいは、８５ｗｔ．％〜９９．５ｗｔ．％の範囲；あるいは、８７．５ｗｔ．％〜９９ｗｔ．％の範囲；あるいは、９０ｗｔ．％〜９８ｗｔ．％の範囲であってよい。
【０３８３】
別の態様では、オレフィンの三量体化プロセスは、三量体化生成物の特定の比率の特定の生成物の量（純度とも呼ぶ）を特徴としてもよい。特定の実施形態において、オレフィンがエチレンを含むか、又は本質的にエチレンからなる場合、６炭素原子を有する三量体化生成物は、少なくとも９８ｗｔ．％の１−ヘキセン；あるいは、少なくとも９８．２５ｗｔ．％の１−ヘキセン；あるいは、少なくとも９８．５ｗｔ．％の１−ヘキセン；あるいは、少なくとも９８．７５ｗｔ．％の１−ヘキセン；あるいは、少なくとも９９ｗｔ．％の１−ヘキセン；あるいは、少なくとも９９．２５ｗｔ．％の１−ヘキセンを含んでよい。別の実施形態では、オレフィンがエチレンを含むか、又は本質的にエチレンからなる場合、６炭素原子を有する三量体化生成物は、９８ｗｔ．％〜９９．９５ｗｔ．％１−ヘキセン；あるいは、９８．２５ｗｔ．％〜９９．９５ｗｔ．％１−ヘキセン；あるいは、９８．５ｗｔ．％〜９９．９ｗｔ．％１−ヘキセン；あるいは、９８．７５ｗｔ．％〜９９．９ｗｔ．％１−ヘキセン；あるいは、９９ｗｔ．％〜９９．８５ｗｔ．％１−ヘキセン；あるいは、１−ヘキセン；あるいは、少なくとも９９．２５ｗｔ．％〜９９．８５ｗｔ．％１−ヘキセンを含んでよい。
【０３８４】
別の態様では、オレフィンの三量体化プロセスは、三量体化生成物中のポリマー量を特徴としてもよい。通常、ポリマー量は、三量体化生成物の重量パーセントとして報告できる。特定の実施形態において、オレフィンの三量体化プロセスは、１ｗｔ．％未満のポリマー；あるいは、０．７５ｗｔ．％未満のポリマー；あるいは、０．５ｗｔ．％未満のポリマー；あるいは、０．４ｗｔ．％未満のポリマー；あるいは、０．３ｗｔ．％未満のポリマー；あるいは、０．２ｗｔ．％未満のポリマー；あるいは、０．１ｗｔ．％未満のポリマーを生成してもよい。
【０３８５】
十分な量の三量体が形成される場合、有機溶媒を含む反応器流出物の、三量体化生成物（三量体、非三量体生成物、ポリマー、及び有機溶媒を含む）、及び触媒系は、触媒系を反応停止させ、不活化させ、及び／又は無効化する処理を行うことができる。特定の実施形態において、触媒系は、三量体及び／又は有機溶媒を反応器流出物から分離する前に、反応停止させ、不活化させ、及び／又は無効化する処理を行うことができる。通常、触媒系は、反応停止させ、不活化させ、及び／又は無効化し、（１）望ましくない固形物の生成を抑制する（例えば、ポリマー）及び／又は（２）三量体化生成物分離プロセス中の異性化による生成物の純度低下を抑えることができる。本明細書での考察に加えて、米国特許第５，６８９，０２８号、米国特許出願公開第２００４／０２３６１６３Ａ１号、同２０１０／０１１３８５１Ａ１号、及び１９９９年１２月２９日出願の米国特許出願第０９／４７３６８８号は、触媒系を反応停止させ、不活化させ、及び／又は無効化するプロセスに関するさらなる考察を提供する。米国特許第５，６８９，０２８号、米国特許出願公開第２００４／０２３６１６３Ａ１号、同２０１０／０１１３８５１Ａ１号、及び１９９９年１２月２９日出願の米国特許出願第０９／４７３６８８号は、あらゆる目的において、それぞれ参照によりその全体が組み込まれる。
【０３８６】
一態様において、触媒系は、反応器流出物にアルコールを添加することにより不活化、及び／又は無効化できる。特定の実施形態において、１００：１までの；あるいは、５０：１までの；あるいは、２５：１までの；あるいは、１０：１までの；あるいは、５：１までの金属ヒドロカルビル化合物（ハロゲン含有化合物として表すことができる金属ヒドロカルビル化合物を含む）の金属に対するアルコールのモル比（アルコール／金属モル比とも呼ぶ）で、反応器流出物にアルコールを添加できる。特定の実施形態において、アルコールは、０．０１：１〜１００：１；あるいは、０．１：１〜５０：１の範囲；あるいは、０．５：１〜２５：１の範囲；あるいは、０．７５：１〜５：１の範囲；あるいは、１：１〜４：１；あるいは、２：１〜３：１の範囲のアルコール／金属モル比で反応器流出物に添加できる。触媒系を不活化、及び／又は無効化するために用いることができるアルコールは、本明細書で開示されている。これらの別に開示されるアルコールは、触媒系を不活化、及び／又は無効化する方法をさらに特徴付けるために用いることができるが、これらに限定されるものではない。
【０３８７】
別の態様では、触媒系は、アミンを含む反応停止剤；あるいは、アミン及びアルコールの組み合わせを添加することにより反応を停止できる。通常、反応停止剤は、触媒系を不活化できる任意の量を添加できる。特定の実施形態において、アミン（反応停止剤が、アミンを含むのか、又はアミンとアルコールを含むのかに関わらず）は、１００：１まで；あるいは、５０：１まで；あるいは、２５：１まで；あるいは、１０：１まで；あるいは、５：１までの金属ヒドロカルビル化合物（ハロゲン含有化合物として表すことができる金属ヒドロカルビル化合物を含む）の金属に対するアミンのモル比（アミン／金属モル比とも呼ぶ）で、反応器流出物に加えることができる。特定の実施形態において、アミン（反応停止剤が、アミンを含むのか、又はアミンとアルコールを含むのかに関わらず）は、０．０１：１〜１００：１；あるいは、０．１：１〜５０：１の範囲；あるいは、０．５：１〜２５：１の範囲；あるいは、０．７５：１〜５：１の範囲のアミン／金属モル比で反応器流出物に添加できる。反応停止剤がアミンとアルコールを含む場合は、アルコールは、１００：１まで；あるいは、５０：１まで；あるいは、２５：１まで；あるいは、１０：１まで；あるいは、５：１までのアルコール／金属モル比で反応器流出物に添加できる。別の実施形態では、反応停止剤がアミンとアルコールを含む場合、アルコールは、０．０１：１〜１００：１の範囲；あるいは、０．１：１〜５０：１の範囲；あるいは、０．５：１〜２５：１の範囲；あるいは、０．７５：１〜５：１の範囲；あるいは、１：１〜４：１の範囲；あるいは、２：１〜３：１の範囲のアルコール／金属モル比で反応器流出物に添加できる。反応停止剤として用いることができるアミンとアルコールは、別に、本明細書で開示される。これらの別に開示されるアミンとアルコールは、触媒系の反応停止方法をさらに特徴付けるために用いることができるが、これらに限定されない。
【０３８８】
さらに別の態様では、触媒系は、１）反応器流出物（三量体化生成物（三量体、非三量体生成物、ポリマー、及び有機溶媒を含む）を不活性化剤と接触させ、触媒系を少なくとも部分的に不活化すること、２）反応器流出物を、少なくとも部分的に不活化された触媒が実質的に欠けていてもよい三量体及び有機溶媒を含む１つ又は複数の流れ、及び部分的に不活化された触媒を含む第２の流れに分けること、ならびに３）第２の流れを反応停止剤に接触させること、を含むプロセスで不活化、及び／又は無効化できる。不活性化剤を反応器流出物と接触させるステップを行って、反応器流出物からの分離中の、触媒系の触媒活性を低下させる、及び／又は三量体を異性化する触媒系の活性を低下させることができる。第２の流れを反応停止させるステップを行って、部分的不活化触媒系自然発火性を減らすか、又は除去できる。特定の実施形態において、不活性化剤は、０．７５：１〜１．２５：１の範囲；あるいは、０．９：１〜１．２：１の範囲；あるいは、約１：１の、金属ヒドロカルビル化合物（ハロゲン含有化合物として表すことができる金属ヒドロカルビル化合物を含む）の金属に対する不活性化剤の当量比（不活性化剤／金属モル当量比とも呼ぶ）で反応器流出物と接触させてもよい。特定の実施形態において、反応停止剤は、２５：１まで；あるいは、１０：１まで；あるいは、５：１までの、金属ヒドロカルビル化合物（ハロゲン含有化合物として表すことができる金属ヒドロカルビル化合物を含む）の金属に対する反応停止剤の当量比（反応停止剤／金属モル当量比とも呼ぶ）で、部分的不活化触媒を含む第２の流れと接触させてもよい。一部の実施形態では、反応停止剤は、０．５〜２５：１の範囲；あるいは、０．５：１〜１０：１の範囲；あるいは、０．５：１〜５：１の範囲；あるいは、０．５：１〜３：１の範囲；あるいは、０．５：１〜１．５：１の範囲；あるいは、０．７：１〜１．２：１の範囲；あるいは、０．８：１〜１．１：１の範囲；あるいは、約１：１の反応停止剤／金属モル当量比で、部分的不活化触媒を含む第２の流れと接触させてもよい。特定の実施形態において、不活性化剤及び反応停止剤は、独立して、アルコール、及びアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、アルコール；あるいは、アミンであっても、含んでも、又は本質的にこれらからなってもよい。不活性化剤として用いることができるアミン及びアルコール、ならびに、反応停止剤として用いることができるアルコールは、本明細書で別に開示される。これらの別に開示されるアミン及びアルコールは、触媒系の反応停止方法をさらに特徴付けるために用いることができるが、これらに限定されない。
【０３８９】
通常、触媒系を反応停止、不活化、及び／又は無効化するプロセスで用いることができるアルコールは、反応器流出物の流れ（又は部分的不活化触媒系を含む第２の流れ）に可溶のいずれのアルコールであってもよい。本明細書で使われる用語の「アルコール」は、モノアルコール、ジオール、及びポリオールを含む。アルコールは、沸点、分子量により、又はオレフィン及び／又は三量体生成物と共沸できないことにより選択できる。本発明の一部の実施形態では、アルコールは、反応器流出物中の三量体生成物とは異なる沸点であってもよい。非限定的な実施形態において、アルコールは、Ｃ４−Ｃ３０アルコール；あるいは、Ｃ４−Ｃ２０アルコール；あるいは、Ｃ４−Ｃ１２アルコールであっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０３９０】
別の非限定的な実施形態において、アルコールは、モノオール、ジオール、若しくはポリオール、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、モノオール；あるいは、ジオール；あるいは、ポリオール、を含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。通常、モノオール、ジオール、又はポリオールは、一般アルコールに対する本明細書の記載と同じ数の炭素原子であってもよい。特定の実施形態において、モノオールは、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ウンデカノール、又はドデカノール、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の実施形態では、モノオールは、１−ヘキサノール、２−ヘキサノール、３−ヘキサノール、２−エチル−ヘキサノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、４−ヘプタノール、２−メチル−３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、３−オクタノール、４−オクタノール、７−メチル−２−デカノール、１−デカノール、２−デカノール、３−デカノール、４−デカノール、５−デカノール、２−エチル−１−デカノール、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、モノオールは、２−エチル−１−ヘキサノールであっても、これを含んでも、又は本質的にこれからなってもよい。特定の実施形態において、ジオールは、エチレングリコール、プロピレングリコール、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、エチレングリコール；あるいは、プロピレングリコールであっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、ポリオールは、グリセリンであっても、これを含んでも、又は本質的にこれからなってもよい。
【０３９１】
通常、触媒系を反応停止、不活化、及び／又は無効化するプロセスで用いることができるアミンは、いずれのアミンであっても、これを含んでも、又は本質的にこれからなってもよい。本明細書で使われる用語の「アミン」は、モノアミン、ジアミン、及びポリアミンを含む。一部の実施形態では、アミンは、脂肪族アミン、芳香族アミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、脂肪族アミン；あるいは、芳香族アミン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。アミンは、沸点、分子量により、又はオレフィン及び／又は三量体生成物と共沸できないことにより選択してもよい。本発明の一部の実施形態では、アミンは、反応器流出物中の三量体生成物とは異なる沸点であってもよい。非限定的な実施形態において、アミンは、Ｃ２−Ｃ４０アミン；あるいは、Ｃ４−Ｃ３０アミン；あるいは、Ｃ４−Ｃ２０アミン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０３９２】
一態様において、触媒系を反応停止、不活化、及び／又は無効化するプロセスで用いることができるアミンは、脂肪族アミン、芳香族アミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、脂肪族アミン；あるいは、芳香族アミン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、アミン（脂肪族又は芳香族）は、環式又は非環式；あるいは、環式；あるいは、非環式であってもよい。特定の実施形態において、アミン（脂肪族又は芳香族、環式又は非環式）は、モノヒドロカルビルアミン、ジヒドロカルビルアミン、トリヒドロカルビルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、モノヒドロカルビルアミン、ジヒドロカルビルアミン、これらのいずれかの組み合わせ；あるいは、モノヒドロカルビルアミン；あるいは、ジヒドロカルビルアミン；あるいは、トリヒドロカルビルアミン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。ヒドロカルビル基は、本開示の中で一般的に開示されている（例えば、他の位置の中でも特に、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するモノカルボン酸塩のＲ２ｃ用の選択として、及び／又はＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４用の選択として）。これらのヒドロカルビル基は、触媒系を反応停止、不活化、及び／又は無効化するプロセスで用いることができるモノヒドロカルビルアミン、ジヒドロカルビルアミン、及び／又はトリヒドロカルビルアミンをさらに特徴付けるために用いることができるヒドロカルビル基として使用できるが、これらに限定されない。
【０３９３】
特定の実施形態において、触媒系を反応停止、不活化、及び／又は無効化するプロセスで用いることができる脂肪族アミンは、エチルアミン、イソプロピルアミン、シクロヘキシルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピロリジン、ピペリジン、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、エチルアミン、イソプロピルアミン、シクロヘキシルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ピロリジン、ピペリジン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ピロリジン、ピペリジン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、エチルアミン；あるいは、イソプロピルアミン；あるいは、シクロヘキシルアミン；あるいは、ジエチルアミン；あるいは、ジイソプロピルアミン；あるいは、ジブチルアミン；あるいは、ジシクロヘキシルアミン；あるいは、ピロリジン；あるいは、ピペリジン；あるいは、トリエチルアミン；あるいは、トリイソプロピルアミン；あるいは、トリブチルアミン；あるいは、ピロリジン；あるいは、ピペリジン；あるいは、モルホリン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、触媒系を反応停止、不活化、及び／又は無効化するプロセスで用いることができる芳香族アミンは、アニリン、トリルアミン、キシリルアミン、ベンジルアミン、ナフチルアミン、ジフェニルアミン、ジトリルアミン、ジベンジルアミン、ビス（トリメチルシリル）アミン、ピリジン、ジメチルピリジン、イミダゾール、インドリン、インドール、キノリン、ピロール、ピラゾール、２，５−ジメチルピロール、３，４−ジメチルピロール、３，４−ジクロロピロール、２，３，４，５−テトラクロロピロール、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、アニリン、トリルアミン、キシリルアミン、ベンジルアミン、ナフチルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジフェニルアミン、ジトリルアミン、ジベンジルアミン、ビス（トリメチルシリル）アミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ピリジン、ジメチルピリジン、イミダゾール、インドリン、インドール、キノリン、ピラゾール、ピロール、２，５−ジメチルピロール、３，４−ジメチルピロール、３，４−ジクロロピロール、２，３，４，５−テトラクロロピロール、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ピリジン、ジメチルピリジン、イミダゾール、インドリン、インドール、キノリン、ピロール、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、アニリン；あるいは、トリルアミン；あるいは、キシリルアミン；あるいは、ベンジルアミン；あるいは、ナフチルアミン；あるいは、ジフェニルアミン；あるいは、ジトリルアミン；あるいは、ジベンジルアミン；あるいは、ビス（トリメチルシリル）アミン；あるいは、ピリジン；あるいは、ジメチルピリジン；あるいは、イミダゾール；あるいは、インドリン；あるいは、インドール；あるいは、キノリン；あるいは、ピラゾール；あるいは、ピロール；あるいは、２，５−ジメチルピロール；あるいは、３，４−ジメチルピロール；あるいは、３，４−ジクロロピロール；あるいは、２，３，４，５−テトラクロロピロール、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０３９４】
三量体生成物は、有機溶媒、三量体化生成物（三量体、非三量体生成物、ポリマー、及び有機溶媒を含む）、ならびに、いずれかの使い勝手の良いプロセスにより反応停止され、不活化され、及び／又は無効化された触媒系を含む反応器流出物から分離できる。非限定的な実施形態において、１つ又は複数の蒸留塔を用いた蒸留が利用できる。米国特許第５，７５０，８１６号、同７，１５７，６１２号、同７，４７６，７７５号、米国特許出願公開第２００４／０２３６１６３Ａｌ号、及び同２０１０−０１１３８５１号は、反応器流出物から三量体を分離するのに用いることができるプロセスを提供する。米国特許第５，７５０，８１６号、同７，１５７，６１２号、同７，４７６，７７５号、米国特許出願公開第２００４／０２３６１６３Ａｌ号、及び同２０１０−０１１３８５１号は、それぞれ、あらゆる目的において、参照によりその全体が組み込まれる。
【０３９５】
一態様において、本開示は、クロムカルボン酸塩組成物の合成方法を提供する。一態様において、開示合成法は、クロム酢酸塩又は他のカルボン酸塩錯体のカルボン酸との反応の必要性をなくする。特に、本開示は、所望のクロムカルボン酸塩組成物への合成経路を含み、その経路では、１族又は２族カルボン酸塩及びクロム前駆体が溶媒中で混合される。一態様において、限定されないが、本開示の方法は、式１に従ってクロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩を生成するのに使用できる。
【化２８】
0006360436.tif 000029
特定の実施形態において、このプロセスは、副産物（例えば、式１で示される塩化ナトリウム）、ができる場合があるが、これは、所望のクロムカルボン酸塩（例えば、式１に示すクロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩）から分離できる。
【０３９６】
一態様において、本開示は、クロムカルボン酸塩組成物を提供する。特定の実施形態において、クロムカルボン酸塩組成物は、本明細書記載のクロムカルボン酸塩組成物を生ずるいずれのプロセスの生成物であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の実施形態では、クロムカルボン酸塩組成物は、特定の分光学的特徴を有するものとして記載できる。一部の実施形態では、クロムカルボン酸塩組成物は、特定の赤外スペクトル特性を有することができる。他の実施形態では、クロムカルボン酸塩組成物は、特定の高エネルギーＸ線回折スペクトル特性を有することができる。さらに他の実施形態では、クロムカルボン酸塩組成物は、金属カルボン酸塩の理論的モデルの計算高エネルギーＸ線回折スペクトルとの比較に都合のよい高エネルギーＸ線回折スペクトルを有することができる。
【０３９７】
一態様において、本開示は、クロムカルボン酸塩組成物を調製するためのプロセスを記載し、このプロセスは、１）クロム前駆体、２）１族又は２族金属カルボン酸塩、及び３）溶媒、を接触させ、クロムカルボン酸塩を形成することを含む。特定の実施形態において、クロムカルボン酸塩は、クロムカルボン酸塩を形成できる条件下で形成できる。一部の実施形態では、クロム、１族又は２族金属カルボン酸塩、及び溶媒は、特定の接触条件化で接触させることができる。一部の実施形態では、クロムカルボン酸塩を含む溶液が形成できる。通常、クロムカルボン酸塩組成物を調製するためのプロセス（例えば、特に、単離及び／又は精製ステップ又は方法）の他の特徴の中でも、クロム前駆体、１族又は２族金属カルボン酸塩、溶媒、接触ステップ、接触条件、及びクロムカルボン酸塩を形成できる条件は、クロムカルボン酸塩組成物を生成するプロセスのうちの独立した要素である。本明細書記載のクロム前駆体、本明細書記載の１族又は２族金属カルボン酸塩、本明細書記載の溶媒、本明細書記載の接触ステップ、本明細書記載の接触条件、本明細書記載のクロムカルボン酸塩を形成できる条件、及び本明細書記載のクロムカルボン酸塩組成物の調製プロセス（例えば、特に、単離及び／又は精製ステップ又は方法）の他の特徴、のどの本明細書に記載の態様及び／又は実施形態も、クロムカルボン酸塩組成物を生成するプロセスをさらに特徴付けるために使用できる。
【０３９８】
非制限的な態様において、クロムカルボン酸塩（又は、クロムカルボン酸塩組成物）は、特定の特性を有することができる。これらの特性は、独立して、本明細で書記載され、また、クロムカルボン酸塩組成物の調製プロセスにより生成される生成物をさらに特徴付けるために使用できる。
【０３９９】
一態様において、本開示は、クロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩組成物を調製するためのプロセスを記載し、このプロセスは、１）クロム（ＩＩＩ）前駆体、２）１族又は２族金属カルボン酸塩、及び３）溶媒を接触させ、クロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩を形成することを含む。特定の実施形態において、クロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩は、クロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩を形成できる条件下で形成できる。一部の実施形態では、クロム（ＩＩＩ）前駆体、１族又は２族金属カルボン酸塩、及び溶媒は、特定の接触条件下で接触させることができる。一部の実施形態では、クロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩を含む溶液が形成できる。クロムカルボン酸塩を含む溶液が形成できる。通常、クロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩組成物を調製するためのプロセス（例えば、特に、単離及び／又は精製ステップ又は方法）の他の特徴の中でも、クロム（ＩＩＩ）前駆体、１族又は２族金属カルボン酸塩、溶媒、接触ステップ、接触条件、及びクロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩を形成できる条件は、クロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩組成物を生成するプロセスのうちの独立した要素である。本明細書記載のクロム（ＩＩＩ）前駆体、本明細書記載の１族又は２族金属カルボン酸塩、本明細書記載の溶媒、本明細書記載の接触ステップ、本明細書記載の接触条件、本明細書記載のクロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩を形成できる条件、及び本明細書記載のクロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩組成物の調製プロセス（例えば、特に、単離及び／又は精製ステップ又は方法）の他の特徴、のどの態様又はいずれの実施形態も、クロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩組成物を生成するプロセスをさらに特徴付けるために使用できる。
【０４００】
非制限的な態様において、クロムカルボン酸塩（又は、クロムカルボン酸塩組成物）は、特定の特性を有することができる。これらの特性は、独立して、本明細で書記載され、また、クロム（ＩＩＩ）カルボン酸塩組成物の調製プロセスをさらに特徴付けるために使用できる。
【０４０１】
本開示の一態様において、クロムカルボン酸塩組成物を生成する方法は、クロム前駆体を使用する。通常、クロム前駆体は、中性、陽イオン又は陰イオンであってよい遷移金属錯体を含む。クロム錯体が中性の場合は、クロム錯体は、遷移金属前駆体である。クロム錯体が陽イオンの場合は、クロム前駆体は、適切な数のクロム錯体及び陰イオン種を含み、中性のクロム前駆体を与える。クロム錯体が陰イオンの場合は、クロム前駆体は、適切な数のクロム錯体及び陽イオン種を含み、中性のクロム前駆体を与える。
【０４０２】
クロム前駆体及び／又はクロム錯体は、最小限度に、クロムを含む。特定の実施形態において、クロム前駆体及び／又はクロム錯体は、クロム及び陰イオンリガンドを含むか、本質的にそれらからなるか、又はそれらからなる。別の実施形態では、クロム前駆体及び／又はクロム錯体は、クロム及び中性リガンドを含んでも、本質的にそれらからなっても、又はそれらからなってもよい。特定の実施形態において、クロム前駆体は、陰イオンクロム錯体を；あるいは、陽イオンクロム錯体を含むことができる。他の実施形態では、クロム前駆体は、陽イオンクロム錯体及び少なくとも１つの陰イオン種；あるいは、陰イオンクロム錯体及び少なくとも１つの陽イオン種を含んでも、本質的にそれらからなっても、又はそれらからなってもよい。特定の実施形態において、クロム錯体（陰イオン、陽イオン、又は中性）は、クロム、陰イオンリガンド、及び中性リガンドを含んでも、本質的にそれらからなっても、又はそれらからなってもよい。一部の実施形態では、クロム錯体（陰イオン、陽イオン、又は中性）は、少なくとも１つのクロム及び少なくとも１つの陰イオンリガンド；あるいは、少なくとも１つのクロム及び少なくとも１つの中性リガンド；あるいは、少なくとも１つのクロム、少なくとも１つの陰イオンリガンド、及び少なくとも１つの中性リガンド、を含んでも、本質的にそれらからなっても、又はそれらからなってもよい。
【０４０３】
一態様において、クロム前駆体は、式［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２を有することができる。通常、クロム前駆体中で、クロムは、酸化状態ｘを有することができ、ｙ１はｘの酸化状態のクロム原子の数を表し、Ｘは電荷ｙの陰イオンリガンドを表し、ｘ１は電荷ｙの陰イオンリガンドの数を表し、Ｌは中性リガンドを表し、ｌは中性リガンドの数を表し、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌは電荷ｍのクロム錯体を表し、ｑは電荷ｍのクロム錯体の数を表し、Ｃは電荷ｃの陽イオン種を表し、ｍ１は電荷ｃの陽イオン種の数を表し、Ａは電荷ａの陰イオン種を表し、さらに、ｍ２は電荷ａの陰イオン種の数を表す。クロム原子の酸化状態ｘ、酸化状態ｘのクロム原子の数（ｙ１）、電荷ｙの陰イオンリガンド（Ｘ）、電荷ｙの陰イオンリガンドの数（ｘ１）、中性リガンド（Ｌ）、中性リガンドの数（ｌ）、クロム錯体（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）の電荷（ｍ）、クロム錯体（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）の数（ｑ）、電荷ｃの陽イオン種（Ｃ）、電荷ｃのイオン種の数（ｍ１）、電荷ａの陰イオン種（Ａ）、及び電荷ａの陰イオン種の数（ｍ２）は、独立して本明細書で記載される。これらの独立した記載は、いずれかの適合する方法で、及び／又は組み合わせて使用して、式［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２を有するクロム前駆体をさらに特徴付けできる。ｘ（クロム原子の酸化状態）、ｙ１（酸化状態ｘのクロム原子の数）、ｙ（陰イオンリガンドＸの電荷）、ｘ１（電荷ｙの陰イオンリガンドの数）、ｌ（中性リガンドＬの数）、ｍ（クロム錯体Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌの電荷）、ｑ（クロム錯体Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌの数）、ｃ（陽イオン種Ｃの電荷）、ｍ１（陽イオン種Ｃの数）、ａ（陰イオン種Ａの電荷）、及びｍ２（陰イオン種Ａの数）の特定の値に応じて、他の実行可能なクロム前駆体用の一般式が存在可能である。これらの他のクロム前駆体の式は、本明細書中で提供され、いずれかの適用可能な本明細書記載の態様及び／又は実施形態でクロム前駆体として使用可能である。
【０４０４】
特定の実施形態において、クロム前駆体は、式、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、ＣｒＸｘＬｌ、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、Ｃｒｙ１Ｘｘ１、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、又はＣｒＸｘを有することができる。一部の実施形態では、クロム前駆体は、式、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、又はＣｒＸｘＬｌ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、Ｃｒｙ１Ｘｘ１、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、又はＣｒＸｘ；あるいは、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、又はＣｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ；あるいは、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、又はＣｒＸｘＬｌ；あるいは、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、Ｃｒｙ１Ｘｘ１、あるいは、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍｌ［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、又はＣｒＸｘを有することができる。他の実施形態では、クロム前駆体は、式、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（ＣＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、又はＣｒｙ１Ｘｘ１；あるいは、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、ＣｒＸｘＬｌ、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、又はＣｒＸｘを有することができる。また別の実施形態では、クロム前駆体は、式、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２；あるいは、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１；あるいは、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２；あるいは、［（ＣｒＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２；あるいは、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ；あるいは、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２；あるいは、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１；あるいは、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２；あるいは、ＣｒＸｘＬｌ；あるいは、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２；あるいは、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１；あるいは、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２；あるいは、Ｃｒｙ１Ｘｘ１；あるいは、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２；あるいは、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１；あるいは、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２；あるいは、ＣｒＸｘを有することができる。
【０４０５】
通常、クロム前駆体のクロム酸化状態ｎは、クロムが取り得るいずれかの正の酸化状態を有することができる。一態様において、クロム前駆体のクロムは、１〜６の酸化状態を有することができる。一部の実施形態では、クロム前駆体のクロムは、２又は３；あるいは、２；あるいは、３の酸化状態を有することができる。クロム酸化状態は、クロムの記号に続く括弧内のローマ数字として示すことができる（例えば、酸化状態３のクロムは、クロム（ＩＩＩ）により示すことができる）ことに留意されたい。一部の非限定的な実施形態において、クロム前駆体のクロムは、クロム（ＩＩ）又はクロム（ＩＩＩ）；あるいは、クロム（ＩＩ）；あるいは、クロム（ＩＩＩ）を含んでも、本質的にそれらからなっても、又はそれらからなってもよい。
【０４０６】
クロム前駆体（又はクロム錯体）中のクロム原子の数ｙ１は、クロム原子の酸化状態、陰イオンリガンドの電荷、陰イオンリガンドの数、陰イオンリガンドの電荷、及びクロム錯体の電荷、の関数である。通常、クロム前駆体（又はクロム錯体）中のクロム原子の数ｙ１は、１〜３の範囲；あるいは、１；あるいは、２；あるいは、３の整数であってよい。
【０４０７】
クロム前駆体のクロム錯体が陰イオン又は陽イオンの場合（例えば、本明細書記載のｍ≠０の中でも特に、式、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍｌ、［（ＣｒＸｘＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、及び／又は［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２を有する場合）、酸化状態ｘのクロム原子の数（ｙ１）、電荷ｙの陰イオンリガンド（Ｘ）の数、及び陰イオン又は陽イオンクロム錯体の電荷は、式：ｍ＝（ｙ×ｘ１）＋（ｘ×ｙ１）で関係付けることができる。クロム前駆体のクロム錯体が中性の場合（例えば、ｍ＝０の中でも特に、式、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ、ＣｒＸｘＬｌ、Ｃｒｙ１Ｘｘ１、及び／又はＣｒＸｘを有する場合）、酸化状態ｘのクロム原子の数（ｙ１）及び電荷ｙの陰イオンリガンド（Ｘ）の数は、式：ｘ×ｙ１＝｜ｙ×ｘ１｜で関係付けることができる。一部の実施形態では、クロム前駆体のクロム錯体が中性の場合（例えば、ｍ＝０の中でも特に、式、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ、ＣｒＸｘＬｌ、Ｃｒｙ１Ｘｘ１、及び／又はＣｒＸｘを有する場合）、クロム原子の数ｙ１は、関係式：ｙ１＝｜ｙ｜／（ｘと｜ｙ｜との最大公約数）により、クロム酸化状態（ｘ）及び陰イオンリガンド（Ｘ）の電荷（ｙ）に関係付けることができる。
【０４０８】
一態様において、各陰イオンリガンドＸは、独立して、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、硫酸塩、亜硫酸塩、重硫酸塩、リン酸塩、塩素酸塩、シアノ、シアン酸塩、チオシアン酸塩、又はイソチオシアン酸塩、であってよい。特定の実施形態において、各陰イオンリガンドは、独立して、ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩；あるいは、ハロゲン化物又は硝酸塩であってよい。一部の実施形態では、陰イオンリガンドＸは、ハロゲン化物；あるいは、硝酸塩；あるいは、亜硝酸塩；あるいは、硫酸塩；あるいは、亜硫酸塩；あるいは、重硫酸塩；あるいは、リン酸塩；あるいは、塩素酸塩；あるいは、シアノ；あるいは、シアン酸塩；あるいは、チオシアン酸塩；あるいは、イソチオシアン酸塩であってよい。特定の実施形態において、各ハロゲン化物は、独立して、フッ化物、塩化物、臭化物、又はヨウ化物；あるいは、フッ化物；あるいは、塩化物；あるいは、臭化物；あるいは、ヨウ化物であってよい。特定の実施形態において、各ハロゲン酸塩は、独立して、フッ素酸塩、塩素酸塩、臭素酸塩、又はヨウ素酸塩；あるいは、フッ素酸塩；あるいは、塩素酸塩；あるいは、臭素酸塩；あるいは、ヨウ素酸塩であってよい。さらなる実施形態では、クロム前駆体は、これらのリガンドのいずれかの組み合わせを含むことができる。一部の実施形態では、各陰イオンリガンドは、独立して、単一陰イオンリガンドであってもよい。
【０４０９】
通常、クロム前駆体（一般的、又は特定の）が少なくとも１つの陰イオンリガンドを含む場合、各陰イオンリガンドＸの電荷ｙは、独立して、−１〜−３の範囲の整数であってよい。特定の実施形態において、各陰イオンリガンドの電荷ｙは、独立して、−１又は−２；あるいは、−１；あるいは、−２；あるいは、−３であってよい。特定の実施形態において、各陰イオンリガンドＸは、−１の電荷ｙの単一陰イオンリガンドであってもよい。通常、陰イオンリガンドＸの電荷ｙは、陰イオンリガンドの本来の性質から自明である。例えば、ハロゲン化物、硝酸塩、亜硝酸塩、重硫酸塩、ハロゲン酸塩、シアノ、シアン酸塩、チオシアン酸塩、及びイソチオシアン酸塩は、−１の電荷ｙ、硫酸塩及び亜硫酸塩は、−２の電荷ｙ、及びリン酸塩は、−３の電荷ｙを有する。
【０４１０】
クロム前駆体（クロム錯体）中の陰イオンリガンドの数ｘ１は、クロム原子の数、クロム原子の酸化状態、陰イオンリガンドの電荷ｙ、及びクロム錯体の電荷、の関数である。通常、クロム前駆体（又はクロム錯体）中の陰イオンリガンドの数ｘ１は、整数０〜７；あるいは、０〜６；あるいは、０〜５；あるいは、０〜４；あるいは、０〜３；あるいは、１〜７；あるいは、１〜６；あるいは、１〜５；あるいは、１〜４；あるいは、１〜３；あるいは、２〜５；あるいは、２〜４；あるいは、２〜３；あるいは、３〜７であってよい。一部の実施形態では、クロム前駆体（又はクロム錯体）中の陰イオンリガンドの数ｘ１は、０；あるいは、１；あるいは、２；あるいは、３；あるいは、４；あるいは、５、あるいは、６；あるいは、７であってよい。
【０４１１】
クロム前駆体のクロム錯体が陰イオン又は陽イオンの場合（例えば、ｍ≠０の中でも特に、式、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＬｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、［（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１［Ａａ］ｍ２、［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ｃｃ］ｍ１、及び／又は［（ＣｒＸｘ）ｍ］ｑ［Ａａ］ｍ２を有する場合）、酸化状態ｘのクロム原子の数（ｙ１）、電荷ｙの陰イオンリガンド（Ａ）の数、及び陰イオン又は陽イオンクロム錯体の電荷は、式：ｍ＝（ｙ×ｘ１）＋（ｘ×ｙ１）により関係付けることができる。クロム前駆体のクロム錯体が中性の場合（例えば、ｍ＝０の中でも特に、式Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ、ＣｒＸｘＬｌ、Ｃｒｙ１Ｘｘ１、及び／又はＣｒＸｘを有する場合）、酸化状態ｘのクロム原子の数（ｙ１）及び電荷ｙの陰イオンリガンド（Ｘ）の数は、式：ｘ×ｙ１＝｜ｙ×ｘ１｜で関係付けることができる。一部の実施形態では、クロム前駆体のクロム錯体が中性の場合（例えば、ｍ＝０の中でも特に、式Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ、ＣｒＸｘＬｌ、Ｃｒｙ１Ｘｘ１、及び／又はＣｒＸｘを有する場合）、陰イオンリガンドの数ｘ１は、クロム酸化状態（ｘ）及び陰イオンリガンド（Ｘ）、その電荷（ｙ）は、関係式：ｘ１＝ｘ／（ｘと｜ｙ｜との最大公約数）で関係付けることができる。
【０４１２】
一態様において、クロム前駆体用各中性リガンド（一般的、又は特定の）は、独立して、安定な又は単離可能なクロム錯体を形成できるいずれかの中性リガンド；あるいは、安定な又は単離可能なクロム錯体を形成できる中性リガンドのいずれの組み合わせであっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。適切な中性リガンドは、クロム原子に配位できる少なくとも１つの配位原子を含むσ供与性化合物を含む。特定の実施形態において、中性リガンドの配位原子は、限定されないが、酸素、窒素、硫黄、リン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、酸素、窒素、硫黄、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、酸素、窒素、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、酸素、硫黄、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、酸素；あるいは、窒素；あるいは、硫黄；あるいは、リンを含むことができる。特段に断りのない限り、配位化合物は、未置換であっても、置換されていてもよい。置換基は、独立して、本明細書で記載され、本明細書記載のいずれかのクロム前駆体及び／又はクロム錯体で用いることができる置換中性リガンドとして特徴付けるために使用できるが、これらに限定されない。
【０４１３】
一態様において、各中性リガンドは、独立して、非環式ヘテロ原子化合物、又はヘテロ環式化合物；あるいは、非環式ヘテロ原子化合物；あるいは、ヘテロ環式化合物、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、各中性リガンド（環式又は非環式）は、独立して、脂肪族ヘテロ原子化合物又はヘテロアレーン；あるいは、脂肪族ヘテロ原子化合物；あるいは、ヘテロアレーン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。各中性リガンド（環式又は非環式、及び／又は脂肪族又は芳香族）用の適切なヘテロ原子は、本明細書で記載され、これを使用して、中性リガンドとして用いることができるヘテロ原子化合物をさらに特徴付けることができるが、これらに限定されない。
【０４１４】
特定の実施形態において、各中性リガンドは、独立して、脂肪族非環式ヘテロ環式化合物（ａｌｉｐｈａｔｉｃ  ａｃｙｃｌｉｃ  ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄ）、置換脂肪族非環式ヘテロ環式化合物、脂肪族ヘテロ環式化合物、置換脂肪族ヘテロ環式化合物、ヘテロアレーン、又は置換ヘテロアレーン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態では、各中性リガンドは、独立して、脂肪族非環式ヘテロ環式化合物又は置換脂肪族非環式ヘテロ環式化合物；あるいは、脂肪族ヘテロ環式化合物又は置換脂肪族ヘテロ環式化合物；あるいは、ヘテロアレーン又は置換ヘテロアレーン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の実施形態では、各中性リガンドは、独立して、脂肪族非環式ヘテロ環式化合物、脂肪族ヘテロ環式化合物、又はヘテロアレーン；あるいは、脂肪族非環式ヘテロ環式化合物；あるいは、脂肪族ヘテロ環式化合物；あるいは、ヘテロアレーン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかの脂肪族非環式ヘテロ環式化合物（置換又は未置換）は、Ｃ２−Ｃ６０脂肪族非環式ヘテロ環式化合物；あるいは、Ｃ２−Ｃ４５脂肪族非環式ヘテロ環式化合物；あるいは、Ｃ２−Ｃ３０脂肪族非環式ヘテロ環式化合物；あるいは、Ｃ２−Ｃ２０脂肪族非環式ヘテロ環式化合物；あるいは、Ｃ２−Ｃ１０脂肪族非環式ヘテロ環式化合物；あるいは、Ｃ２−Ｃ５脂肪族非環式ヘテロ環式化合物、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかの脂肪族ヘテロ環式化合物（置換又は未置換）は、Ｃ３−Ｃ６０脂肪族ヘテロ環式化合物；あるいは、Ｃ３−Ｃ４５脂肪族ヘテロ環式化合物；あるいは、Ｃ３−Ｃ３０脂肪族ヘテロ環式化合物；あるいは、Ｃ３−Ｃ２０脂肪族ヘテロ環式化合物；あるいは、Ｃ３−Ｃ１５脂肪族ヘテロ環式化合物；あるいは、Ｃ３−Ｃ１０脂肪族ヘテロ環式化合物、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、中性リガンドとして用いることができるいずれかのヘテロアレーン化合物（置換又は未置換）は、Ｃ４−Ｃ６０ヘテロアレーン；あるいは、Ｃ４−Ｃ４５ヘテロアレーン；あるいは、Ｃ４−Ｃ３０ヘテロアレーン；あるいは、Ｃ４−Ｃ２０ヘテロアレーン；あるいは、Ｃ４−Ｃ１５ヘテロアレーン；あるいは、Ｃ４−Ｃ１０ヘテロアレーン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。置換配位化合物用の置換基は、本明細書で開示され、中性リガンドとして使用可能な置換脂肪族非環式ヘテロ環式化合物、置換脂肪族ヘテロ環式化合物、及び／又は置換ヘテロアレーンを特徴付けるのに使用できる。
【０４１５】
特定の実施形態において、各中性リガンドは、独立して、限定されないが、エーテル、チオエーテル、ニトリル、アミン、ホスフィン、ホスファイト又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、エーテル；あるいは、チオエーテル；あるいは、ニトリル；あるいは、アミン；あるいは、ホスフィン；あるいは、ホスファイトであってよい。一部の実施形態では、各中性リガンドは、独立して、限定されないが、非環式エーテル、置換非環式エーテル、環式エーテル、置換環式エーテル、非環式チオエーテル、置換非環式チオエーテル、環式チオエーテル、置換環式チオエーテル、脂肪族ニトリル、置換脂肪族ニトリル、芳香族ニトリル、置換芳香族ニトリル、環状アミン、置換環状アミン、環状アミン、置換環状アミン、非環式ホスフィン、置換非環式ホスフィン、環式ホスフィン、置換環式ホスフィン、非環式ホスファイト、置換非環式ホスファイト、環式ホスファイト、置換環式ホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、非環式エーテル、置換非環式エーテル、非環式チオエーテル、置換非環式チオエーテル、脂肪族ニトリル、置換脂肪族ニトリル、環状アミン、置換環状アミン、非環式ホスフィン、置換非環式ホスフィン、非環式ホスファイト、置換非環式ホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、環式エーテル、置換環式エーテル、環式チオエーテル、置換環式チオエーテル、環状アミン、置換環状アミン、環式ホスフィン、置換環式ホスフィン、環式ホスファイト、置換環式ホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、非環式エーテル、置換非環式エーテル、環式エーテル、又は置換環式エーテル；あるいは、非環式チオエーテル、置換非環式チオエーテル、環式チオエーテル、又は置換環式チオエーテル；あるいは、脂肪族ニトリル、置換脂肪族ニトリル、芳香族ニトリル、又は置換芳香族ニトリル；あるいは、環状アミン、置換環状アミン、環状アミン、又は置換環状アミン；あるいは、非環式ホスフィン、置換非環式ホスフィン、環式ホスフィン、又は置換環式ホスフィン；あるいは、非環式ホスファイト、置換非環式ホスファイト、環式ホスファイト、又は置換環式ホスファイトであってよい。他の実施形態では、各中性リガンドは、独立して、限定されないが、非環式エーテル、環式エーテル、非環式チオエーテル、環式チオエーテル、脂肪族ニトリル、芳香族ニトリル、環状アミン、環状アミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、非環式エーテル又は置換非環式エーテル；あるいは、環式エーテル又は置換環式エーテル；あるいは、非環式チオエーテル又は置換非環式チオエーテル；あるいは、環式チオエーテル又は置換環式チオエーテル；あるいは、脂肪族ニトリル又は置換脂肪族ニトリル；あるいは、芳香族ニトリル又は置換芳香族ニトリル；あるいは、環状アミン又は置換環状アミン；あるいは、環状アミン又は置換環状アミン；あるいは、非環式ホスフィン又は置換非環式ホスフィン；あるいは、環式ホスフィン又は置換環式ホスフィン；あるいは、非環式ホスファイト又は置換非環式ホスファイト；あるいは、環式ホスファイト又は置換環式ホスファイト；あるいは、非環式エーテル；あるいは、環式エーテル；あるいは、非環式チオエーテル；あるいは、環式チオエーテル；あるいは、脂肪族ニトリル；あるいは、芳香族ニトリル；あるいは、環状アミン；あるいは、環状アミン；あるいは、非環式ホスフィン；あるいは、環式ホスフィン；あるいは、非環式ホスファイト；あるいは、環式ホスファイトであってよい。特定の実施形態において、環式エーテル（置換又は未置換）、環式チオエーテル（置換又は未置換）、環状アミン（置換又は未置換）、環式ホスフィン（置換又は未置換）、及び／又は環式ホスファイト（置換又は未置換）は、脂肪族又は芳香族；あるいは、脂肪族；あるいは、芳香族であってよい。置換基（非水素置換基（ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｏｒ  ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｇｒｏｕｐ）とも呼ばれる）は、独立して、本明細書で開示され、中性リガンドとして用いることができる置換エーテル（非環式、環式、脂肪族又は芳香族）、置換チオエーテル（非環式、環式、脂肪族又は芳香族）、置換ニトリル（脂肪族又は芳香族）、置換アミン（非環式、環式、脂肪族又は芳香族）、置換ホスフィン（非環式、環式、脂肪族又は芳香族）、及び／又は置換ホスファイト（非環式、環式、脂肪族又は芳香族）をさらに特徴付けることができるが、これらに限定されない。
【０４１６】
特定の実施形態において、中性リガンドとして用いられるニトリルは、式Ｒ１Ｃ＝Ｎを有することができる。特定の実施形態において、中性リガンドとして用いられるエーテルは、式Ｒ２−Ｏ−Ｒ３を有することができる。特定の実施形態において、中性リガンドとして用いられるチオエーテルは式Ｒ４−Ｓ−Ｒ５を有することができる。特定の実施形態において、中性リガンドとして用いられるアミンは、式ＮＲ６Ｒ７Ｒ８、ＮＨＲ６Ｒ７、又はＮＨ２Ｒ６；あるいは、ＮＲ６Ｒ７Ｒ８；あるいは、ＮＨＲ６Ｒ７；あるいは、ＮＨ２Ｒ６を有することができる。特定の実施形態において、中性リガンドとして用いられるホスフィンは、式ＰＲ９Ｒ１０Ｒ１１、ＰＨＲ９Ｒ１０、又はＰＨ２Ｒ９；あるいは、ＰＲ９Ｒ１０Ｒ１１；あるいは、ＰＨＲ９Ｒ１０；あるいは、ＰＨ２Ｒ９を有することができる。特定の実施形態において、配位化合物として用いられるホスファイトは、式Ｐ（ＯＲ１２）（ＯＲ１３）（ＯＲ１４）、又はＰＨ（Ｏ）（ＯＲ１２）（ＯＲ１３）；あるいは、Ｐ（ＯＲ１２）（ＯＲ１３）（ＯＲ１４）；あるいは、ＰＨ（Ｏ）（ＯＲ１２）（ＯＲ１３）を有することができる。特定の実施形態において、各Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４は、独立して、Ｃ１−Ｃ２０オルガニル基；あるいは、Ｃ１−Ｃ１０オルガニル基；あるいは、Ｃ１−Ｃ２０オルガニル基であってよい。一部の実施形態では、各Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒｕ、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４は、独立して、Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル基又はＣ１−Ｃ２０置換ヒドロカルビル基；あるいは、Ｃ１−Ｃ２０ヒドロカルビル基；あるいは、Ｃ１−Ｃ２０置換ヒドロカルビル基であってよい。他の実施形態では、各Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４は、独立して、Ｃ１−Ｃ１０ヒドロカルビル基又はＣ１−Ｃ１０置換ヒドロカルビル基；あるいは、Ｃ１−Ｃ１０ヒドロカルビル基；あるいは、Ｃ１−Ｃ１０置換ヒドロカルビル基であってよい。さらに他の実施形態では、各Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４は、独立して、Ｃ１−Ｃ５ヒドロカルビル基又はＣ１−Ｃ５置換ヒドロカルビル基；あるいは、Ｃ１−Ｃ５ヒドロカルビル基；あるいは、Ｃ１−Ｃ５置換ヒドロカルビル基であってよい。
【０４１７】
環式エーテル、チオエーテル、アミン、ホスフィン、及びホスファイトに関して本明細書記載のように、式Ｒ２−Ｏ−Ｒ３、を有するエーテルのＲ２及びＲ３、式Ｒ４−Ｓ−Ｒ３のＲ４及びＲ５、式ＮＲ６Ｒ７Ｒ８又はＮＨＲ６Ｒ７を有するアミンのＲ６、Ｒ７、及びＲ８のうちのいずれか２つ、式ＰＲ９Ｒ１０Ｒ１１又はＰＨＲ９Ｒ１０を有するホスフィンのＲ９、Ｒ１０、及びＲ１１のうちのいずれか２つ、及び／又は式Ｐ（ＯＲ１２）（ＯＲ１３）（ＯＲ１４）又はＰＨ（Ｏ）（ＯＲ１２）（ＯＲ１３）を有するホスファイトのＲ１２、Ｒ１３、及びＲ１４のうちのいずれか２つは、連結されて、エーテル酸素原子、チオエーテル硫黄原子、アミン窒素原子、ホスフィンリン原子、又はホスファイトリン原子を含む環を形成し、それぞれ、環式エーテル、チオエーテル、アミン、ホスフィン、又はホスファイトを形成できることに留意されたい。
【０４１８】
特定の実施形態において、各Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４は、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、又は置換アラルキル基；あるいは、アルキル基又は置換アルキル基；あるいは、シクロアルキル基又は置換シクロアルキル基；あるいは、アリール基又は置換アリール基；あるいは、アラルキル基、又は置換アラルキル基；あるいは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基；あるいは、アルキル基；あるいは、置換アルキル基、あるいは、シクロアルキル基；あるいは、置換シクロアルキル基；あるいは、アリール基；あるいは、置換アリール基；あるいは、アラルキル基；あるいは、置換アラルキル基であってよい。通常、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、及び置換アラルキル基であってよい。これらは、独立して、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４として用いられ、オルガニル基又はヒドロカルビル基の構成要素として同じ数の炭素原子を持ってもよい。
【０４１９】
特定の実施形態において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いることができるアルキル基（置換又は未置換）は、Ｃ１−Ｃ２０アルキル基（置換又は未置換）；あるいは、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基（置換又は未置換）；あるいは、Ｃ１−Ｃ５アルキル基（置換又は未置換）であってよい。一部の実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いられる各アルキル基は、独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、又はノナデシル基；あるいは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、又はデシル基であってよい。他の実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いられる各アルキル基は、独立して、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、又はネオペンチル基；あるいは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、又はネオペンチル基；あるいは、メチル基；あるいは、エチル基；あるいは、ｎ−プロピル基；あるいは、イソプロピル基；あるいは、ｔｅｒｔ−ブチル基；あるいは、ネオペンチル基であってよい。特定の実施形態において、置換アルキル基の各置換基は、独立して、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいは、ハロゲン化物；あるいは、ヒドロカルボキシ基であってよい。
【０４２０】
特定の実施形態において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いられるシクロアルキル基（置換又は未置換）は、Ｃ４−Ｃ２０シクロアルキル基（置換又は未置換）；あるいは、Ｃ４−Ｃ１５シクロアルキル基（置換又は未置換）；あるいは、Ｃ４−Ｃ１０シクロアルキル基（置換又は未置換）であってよい。一部の実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いられる各基は、独立して、シクロブチル基、置換シクロブチル基、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、置換シクロヘプチル基、シクロオクチル基、又は置換シクロオクチル基；あるいは、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、又は置換シクロヘキシル基であってよい。他の実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いられる各基は、独立して、シクロブチル基又は置換シクロブチル基；あるいは、シクロペンチル基又は置換シクロペンチル基；あるいは、シクロヘキシル基又は置換シクロヘキシル基；あるいは、シクロヘプチル基又は置換シクロヘプチル基；あるいは、シクロオクチル基、又は置換シクロオクチル基；あるいは、シクロペンチル基；あるいは、置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基；あるいは、置換シクロヘキシル基であってよい。特定の実施形態において、置換シクロアルキル基の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいは、ハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいは、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいは、ヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいは、ハロゲン化物；あるいは、ヒドロカルビル基；あるいは、ヒドロカルボキシ基であってよい。
【０４２１】
特定の実施形態において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いることができるアリール基（置換又は未置換）は、Ｃ６−Ｃ２０アリール基（置換又は未置換）；あるいは、Ｃ６−Ｃ１５アリール基（置換又は未置換）；あるいは、Ｃ６−Ｃ１０アリール基（置換又は未置換）であってよい。一部の実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いられる各基は、独立して、フェニル基、置換フェニル基、ナフチル基、又は置換ナフチル基；あるいは、フェニル基又は置換フェニル基；あるいは、ナフチル基又は置換ナフチル基；あるいは、フェニル基又はナフチル基；あるいは、置換フェニル基又は置換ナフチル基であってよい。特定の実施形態において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いることができる各置換フェニル基は、独立して、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、又は２，４，６−三置換フェニル基であってよい。他の実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いることができる各置換フェニル基は、独立して、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、又は２，６−二置換フェニル基；あるいは、３−置換フェニル基又は３，５−二置換フェニル基；あるいは、２−置換フェニル基又は４−置換フェニル基；あるいは、２，４−二置換フェニル基又は２，６−二置換フェニル基；あるいは、２−置換フェニル基；あるいは、３−置換フェニル基；あるいは、４−置換フェニル基；あるいは、２，４−二置換フェニル基；あるいは、２，６−二置換フェニル基；あるいは、３，５−二置換フェニル基；あるいは、２，４，６−三置換フェニル基であってよい。特定の実施形態において、置換アリール基の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいは、ハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいは、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいは、ヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいは、ハロゲン化物；あるいは、ヒドロカルビル基；あるいは、ヒドロカルボキシ基であってよい。
【０４２２】
一部の実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いることができるアラルキル基（置換又は未置換）は、Ｃ７−Ｃ２０アラルキル基（置換又は未置換）；あるいは、Ｃ７−Ｃ１５アラルキル基（置換又は未置換）；あるいは、Ｃ７−Ｃ１０アラルキル基（置換又は未置換）であってよい。一部の実施形態では、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ’、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４として用いることができる各基は、独立して、ベンジル基又は置換ベンジル基；あるいは、ベンジル基、あるいは、置換ベンジル基であってよい。特定の実施形態において、置換アラルキル基の各置換基は、独立して、ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、又はヒドロカルボキシ基；あるいは、ハロゲン化物又はヒドロカルビル基；あるいは、ハロゲン化物又はヒドロカルボキシ基；あるいは、ヒドロカルビル基又はヒドロカルボキシ基；あるいは、ハロゲン化物；あるいは、ヒドロカルビル基；あるいは、ヒドロカルボキシ基であってよい。
【０４２３】
ハロゲン化物、ヒドロカルビル基、及びヒドロカルボキシ基置換基（非水素置換基（ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｏｒ  ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｇｒｏｕｐ）とも呼ばれる）は、別に、本明細書で開示される。これらの置換基は、本明細書記載のいずれかの置換Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、及び／又はＲ１４基をされに特徴付けるのに使用できるが、これらに限定されない。
【０４２４】
特定の実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の中性リガンドとして用いることができる各エーテル及び／又は非環式エーテル（置換又は未置換）は、独立して、Ｃ２−Ｃ４０エーテル及び／又は非環式エーテル；あるいは、Ｃ２−Ｃ３０エーテル及び／又は非環式エーテル；あるいは、Ｃ２−Ｃ２０エーテル及び／又は非環式エーテル；あるいは、Ｃ２−Ｃ１５エーテル及び／又は非環式エーテル；あるいは、Ｃ２−Ｃ１０エーテル及び／又は非環式エーテル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の中性リガンドとして用いることができる各環式エーテル（置換又は未置換、及び／又は脂肪族又は芳香族）は、独立して、Ｃ３−Ｃ４０環式エーテル；あるいは、Ｃ４−Ｃ３０環式エーテル；あるいは、Ｃ４−Ｃ２０環式エーテル；あるいは、Ｃ４−Ｃ１５環式エーテル；あるいは、Ｃ４−Ｃ１０環式エーテル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４２５】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジヒドロカルビルエーテル又は置換ジヒドロカルビルエーテル；あるいは、ジヒドロカルビルエーテル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。ヒドロカルビル基（置換又は未置換）は、通常、本開示内で開示される（例えば、他の位置の中でも特に、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するモノカルボン酸塩のＲ２ｃのための選択として、及び／又はＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４のための選択として）。これらのヒドロカルビル基（置換又は未置換）は、中性リガンドとして用いられるジヒドロカルビルエーテル（置換又は未置換）のヒドロカルビル基として使用できるが、これらに限定されない。
【０４２６】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、メチルブチルエーテル、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジメチルエーテル；あるいは、ジエチルエーテル；あるいは、ジプロピルエーテル；あるいは、ジブチルエーテル；あるいは、メチルエチルエーテル；あるいは、メチルプロピルエーテル；あるいは、メチルブチルエーテル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジフェニルエーテル、置換ジフェニルエーテル、ジトリルエーテル、置換ジトリルエーテル、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジフェニルエーテル、ジトリルエーテル、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジフェニルエーテル；あるいは、置換ジフェニルエーテル；あるいは、ジトリルエーテル；あるいは、置換ジトリルエーテル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４２７】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、２，３−ジヒドロフラン、置換２，３−ジヒドロフラン、２，５−ジヒドロフラン、置換２，５−ジヒドロフラン、又はこれらの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロフラン、２，３−ジヒドロフラン、２，５−ジヒドロフラン、又はこれらの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロフラン；あるいは、置換テトラヒドロフラン；２，３−ジヒドロフラン；あるいは、置換２，３−ジヒドロフラン；あるいは、２，５−ジヒドロフラン；あるいは、置換２，５−ジヒドロフラン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロフラン、２−置換テトラヒドロフラン、３−置換テトラヒドロフラン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロフラン；あるいは、２−置換テトラヒドロフラン；あるいは、３−置換テトラヒドロフラン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。さらなる非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロフラン、２−アルキル置換テトラヒドロフラン、３−アルキル置換テトラヒドロフラン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロフラン；あるいは、２−アルキル置換テトラヒドロフラン；あるいは、３−アルキル置換テトラヒドロフラン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４２８】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、フラン、置換フラン、ベンゾフラン、置換ベンゾフラン、イソベンゾフラン、置換イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、置換ジベンゾフラン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、フラン；あるいは、置換フラン；あるいは、ベンゾフラン；あるいは、置換ベンゾフラン；あるいは、イソベンゾフラン；あるいは、置換イソベンゾフラン；あるいは、ジベンゾフラン；あるいは、置換ジベンゾフラン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４２９】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、置換テトラヒドロピラン、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、置換３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、置換３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、２Ｈ−ピラン、置換２Ｈ−ピラン、４Ｈ−ピラン、置換４Ｈ−ピラン、１，３−ジオキサン、置換１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、置換１，４−ジオキサン、モルホリン、置換モルホリン、Ｎ−置換モルホリン、置換Ｎ−置換モルホリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、２Ｈ−ピラン、４Ｈ−ピラン、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、モルホリン、Ｎ−置換モルホリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。さらなる非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロピラン；あるいは、置換テトラヒドロピラン；あるいは、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン；あるいは、置換３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン；あるいは、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン；あるいは、置換３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン：あるいは、２Ｈ−ピラン；あるいは、置換２Ｈ−ピラン；あるいは、４Ｈ−ピラン；あるいは、置換４Ｈ−ピラン；あるいは、１，３−ジオキサン；あるいは、置換１，３−ジオキサン；あるいは、１，４−ジオキサン；あるいは、置換１，４−ジオキサン；あるいは、モルホリン；あるいは、置換モルホリン；あるいは、Ｎ−置換モルホリン；あるいは、置換Ｎ−置換モルホリンであっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４３０】
一般置換基（非水素置換基（ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｏｒ  ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｇｒｏｕｐ）とも呼ばれる）は、本明細書で別に開示される。これらの置換基は、中性リガンドとして使用可能ないずれかの置換エーテル、置換非環式エーテル、置換環式エーテル（脂肪族又は芳香族）、置換ジフェニルエーテル、置換ジトリルエーテル、置換テトラヒドロフラン、アルキル置換テトラヒドロフラン、置換フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、置換テトラヒドロピラン、置換３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、置換３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、置換４Ｈ−ピラン、置換１，３−ジオキサン、置換１，４−ジオキサン、置換モルホリン、Ｎ−ヒドロカルビルモルホリン、及び／又は置換Ｎ−ヒドロカルビルモルホリンをさらに特徴付けるのに使用できるが、これらに限定されない。
【０４３１】
特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかのチオエーテル及び／又は非環式チオエーテル（置換又は未置換）は、Ｃ２−Ｃ４０チオエーテル及び／又は非環式チオエーテル；あるいは、Ｃ２−Ｃ３０チオエーテル及び／又は非環式チオエーテル；あるいは、Ｃ２−Ｃ２０チオエーテル及び／又は非環式チオエーテル；あるいは、Ｃ２−Ｃ１５チオエーテル及び／又は非環式チオエーテル；あるいは、Ｃ２−Ｃ１０チオエーテル及び／又は非環式チオエーテル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかの環式チオエーテル（置換又は未置換、及び／又は脂肪族又は芳香族）は、Ｃ３−Ｃ４０環式チオエーテル；あるいは、Ｃ４−Ｃ３０環式チオエーテル；あるいは、Ｃ４−Ｃ２０環式チオエーテル；あるいは、Ｃ４−Ｃ１５環式チオエーテル；あるいは、Ｃ４−Ｃ１０環式チオエーテル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４３２】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジヒドロカルビルチオエーテル又は置換ジヒドロカルビルチオエーテル；あるいは、ジヒドロカルビルチオエーテル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。ヒドロカルビル基（置換又は未置換）は、通常、本開示内で開示される（例えば、他の位置の中でも特に、式−Ｏ２ＣＲ２Ｃを有するモノカルボン酸塩のＲ２ｃのための選択として、及び／又はＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４のための選択として）。これらのヒドロカルビル置換基（置換又は未置換）は、中性リガンドとして使用可能なジヒドロカルビルチオエーテル（置換又は未置換）のヒドロカルビル基として用いることができるが、これらに限定されない。
【０４３３】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジメチルチオエーテル、ジエチルチオエーテル、ジプロピルチオエーテル、ジブチルチオエーテル、メチルエチルチオエーテル、メチルプロピルチオエーテル、メチルブチルチオエーテル、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジメチルチオエーテル；あるいは、ジエチルチオエーテル；あるいは、ジプロピルチオエーテル；あるいは、ジブチルチオエーテル；あるいは、メチルエチルチオエーテル；あるいは、メチルプロピルチオエーテル；あるいは、メチルブチルチオエーテル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジフェニルチオエーテル、置換ジフェニルチオエーテル、ジトリルチオエーテル、置換ジトリルチオエーテル、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジフェニルチオエーテル、ジトリルチオエーテル、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジフェニルチオエーテル；あるいは、置換ジフェニルチオエーテル；あるいは、ジトリルチオエーテル；あるいは、置換ジトリルチオエーテル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４３４】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、チオフェン、置換チオフェン、ベンゾチオフェン、置換ベンゾチオフェン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、チオフェン、ベンゾチオフェン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、チオフェン；あるいは、置換チオフェン；あるいは、ベンゾチオフェン；あるいは、置換ベンゾチオフェン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４３５】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロチオフェン、置換テトラヒドロチオフェン、チアン、置換チアン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロチオフェン、チアン、又はこれらの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロチオフェン；あるいは、置換テトラヒドロチオフェン；あるいは、チアン；あるいは、置換チアン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４３６】
一般置換基（非水素置換基（ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｏｒ  ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｇｒｏｕｐ）とも呼ばれる）は、本明細書で別に開示される。これらの置換基は、中性リガンドとして使われるいずれかの置換チオエーテル、置換非環式チオエーテル、置換環式チオエーテル、置換ジフェニルチオールエーテル、置換ジトリルチオエーテル、置換チオフェン、及び／又は置換ベンゾチオフェンをさらに特徴付けるために用いることができるが、これらに限定されない。
【０４３７】
特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかのニトリル（置換又は未置換）は、Ｃ２−Ｃ２０脂肪族ニトリル；あるいは、Ｃ２−Ｃ１５脂肪族ニトリル；あるいは、Ｃ２−Ｃ１０脂肪族ニトリル；あるいは、Ｃ２−Ｃ５脂肪族ニトリル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかのニトリル（置換又は未置換）は、Ｃ６−Ｃ２０芳香族ニトリル；あるいは、Ｃ６−Ｃ１５芳香族ニトリル；あるいは、Ｃ６−Ｃ１０芳香族ニトリル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４３８】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ヒドロカルビルニトリル又は置換ヒドロカルビルニトリル；あるいは、ヒドロカルビルニトリル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。ヒドロカルビル基（置換又は未置換）は、通常、本開示内で開示される（例えば、他の位置の中でも特に、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するモノカルボン酸塩のＲ２ｃのための選択として、及び／又はＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４のための選択として）。これらのヒドロカルビル置換基（置換又は未置換）は、中性リガンドとして使用可能なヒドロカルビルニトリル（置換又は未置換）のヒドロカルビル基として用いることができるが、これらに限定されない。
【０４３９】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、アセトニトリル；あるいは、プロピオニトリル；あるいは、ブチロニトリル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４４０】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ベンゾニトリル、置換ベンゾニトリル、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ベンゾニトリル；あるいは、置換ベンゾニトリル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ベンゾニトリル、２−置換ベンゾニトリル、３−置換ベンゾニトリル、４−置換ベンゾニトリル、２，４−置換ベンゾニトリル、３，５−二置換、２，４，６−三置換ベンゾニトリル、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、２−置換ベンゾニトリル、４−置換ベンゾニトリル、２，４−置換ベンゾニトリル、２，４，６−三置換ベンゾニトリル、又はこれらのいずれかの組み合わせあるいは、２−置換ベンゾニトリル；あるいは、３−置換ベンゾニトリル；あるいは、４−置換ベンゾニトリル；あるいは、２，４−置換ベンゾニトリル；あるいは、３，５−二置換；あるいは、２，４，６−三置換ベンゾニトリル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。また他の実施形態では、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ベンゾニトリル、２−アルキルベンゾニトリル、３−アルキルベンゾニトリル、４−メチルベンゾニトリル、２，４−アルキルベンゾニトリル、３，５−ジアルキル、２，４，６−トリアルキルベンゾニトリル、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、２−アルキルベンゾニトリル、４−アルキルベンゾニトリル、２，４−アルキルベンゾニトリル、２，４，６−トリアルキルベンゾニトリル、又はこれらのいずれかの組み合わせあるいは、２−アルキルベンゾニトリル；あるいは、３−アルキルベンゾニトリル；あるいは、４−アルキルベンゾニトリル；あるいは、２，４−アルキルベンゾニトリル；あるいは、３，５−ジアルキル；あるいは、２，４，６−トリアルキルベンゾニトリル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４４１】
一般置換基（非水素置換基（ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｏｒ  ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｇｒｏｕｐ）とも呼ばれる）は、本明細書で別に開示される。これらの置換基は、中性リガンドとして使用可能ないずれかの置換脂肪族ニトリル、置換芳香族ニトリル、置換ベンゾニトリル、及び／又はアルキル置換ベンゾニトリルをさらに特徴付けるために用いることができるが、これらに限定されない。
【０４４２】
特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかのアミン及び／又は環状アミン（置換又は未置換）は、Ｃ１−Ｃ６０アミン及び／又は環状アミン；あるいは、Ｃ１−Ｃ４５アミン及び／又は環状アミン；あるいは、Ｃ１−Ｃ３０アミン及び／又は環状アミン；あるいは、Ｃ１−Ｃ２０アミン及び／又は環状アミン；あるいは、Ｃ１−Ｃ１５アミン及び／又は環状アミン；あるいは、Ｃ１−Ｃ１０アミン及び／又は環状アミン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかの環状アミン（置換又は未置換、及び／又は脂肪族又は芳香族）は、Ｃ３−Ｃ６０環状アミン；あるいは、Ｃ３−Ｃ４５環状アミン；あるいは、Ｃ３−Ｃ３０環状アミン；あるいは、Ｃ４−Ｃ２０環状アミン；あるいは、Ｃ４−Ｃ１５環状アミン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４４３】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ヒドロカルビルアミン、置換ヒドロカルビルアミン、ジヒドロカルビルアミン、置換ジヒドロカルビルアミン、トリヒドロカルビルアミン、置換トリヒドロカルビルアミン、又はこれらの組み合わせ；ヒドロカルビルアミン、ジヒドロカルビルアミン、トリヒドロカルビルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ヒドロカルビルアミン又は置換ヒドロカルビルアミン；あるいは、ジヒドロカルビルアミン又は置換ジヒドロカルビルアミン；あるいは、トリヒドロカルビルアミン又は置換トリヒドロカルビルアミン；あるいは、ヒドロカルビルアミン；あるいは、置換ヒドロカルビルアミン；あるいは、ジヒドロカルビルアミン；あるいは、置換ジヒドロカルビルアミン；あるいは、トリヒドロカルビルアミン；あるいは、置換トリヒドロカルビルアミン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。ヒドロカルビル基（置換又は未置換）は、通常、本開示内で開示される（例えば、他の位置の中でも特に、式−Ｏ２ＣＲ２Ｃを有するモノカルボン酸塩のＲ２ｃのための選択として、及び／又はＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４のための選択として）。これらのヒドロカルビル置換基（置換又は未置換）は、中性リガンドとして使用可能なヒドロカルビルアミン（置換又は未置換）、ジヒドロカルビルアミン（置換又は未置換）、トリヒドロカルビルアミン（置換又は未置換）のヒドロカルビル基として用いることができるが、これらに限定されない。
【０４４４】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。また別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、メチルアミン；あるいは、エチルアミン；あるいは、プロピルアミン；あるいは、ブチルアミン；あるいは、ジメチルアミン；あるいは、ジエチルアミン；あるいは、ジプロピルアミン；あるいは、ジブチルアミン；あるいは、トリメチルアミン；あるいは、トリエチルアミン；あるいは、トリプロピルアミン；あるいは、トリブチルアミン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４４５】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、アニリン、置換アニリン、Ｎ−ヒドロカルビルアニリン、置換Ｎ−ヒドロカルビルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジヒドロカルビルアニリン、置換Ｎ、Ｎ−ジヒドロカルビルアニリン、ジフェニルアミン、ジ（置換フェニル）アミン、Ｎ−ヒドロカルビルジフェニルアミン、Ｎ−ヒドロカルビルジ（置換フェニル）アミン、トリフェニルアミン、置換トリフェニルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、アニリン、置換アニリン、Ｎ−ヒドロカルビルアニリン、置換Ｎ−ヒドロカルビルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジヒドロカルビルアニリン、置換Ｎ、Ｎ−ジヒドロカルビルアニリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジフェニルアミン、ジ（置換フェニル）アミン、Ｎ−ヒドロカルビルジフェニルアミン、Ｎ−ヒドロカルビルジ（置換フェニル）アミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、トリフェニルアミン、置換トリフェニルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。また別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、アニリン；あるいは、置換アニリン；あるいは、Ｎ−ヒドロカルビルアニリン；あるいは、置換Ｎ−ヒドロカルビルアニリン；あるいは、Ｎ、Ｎ−ジヒドロカルビルアニリン；あるいは、置換Ｎ、Ｎ−ジヒドロカルビルアニリン；あるいは、ジフェニルアミン；あるいは、ジ（置換フェニル）アミン；あるいは、Ｎ−ヒドロカルビルジフェニルアミン；あるいは、Ｎ−ヒドロカルビルジ（置換フェニル）アミン；あるいは、トリフェニルアミン；あるいは、置換トリフェニルアミン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、アニリン、トリルアミン、キシリルアミン、ジフェニルアミン、ジトリルアミン、トリフェニルアミン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の非限定的な実施形態において、各配位化合物は、アニリン；あるいは、トリルアミン；あるいは、キシリルアミン；あるいは、ジフェニルアミン；あるいは、ジトリルアミン；あるいは、トリフェニルアミン、であってもよい。
【０４４６】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ピロール、置換ピロール、インドール、置換インドール、ピリジン、置換ピリジン、キノリン、置換キノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ピロール、置換ピロール、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、インドール、置換インドール、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ピリジン、置換ピリジン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、キノリン、置換キノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ピロール、インドール、ピリジン、キノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。また別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ピロール；あるいは、置換ピロール；あるいは、インドール；あるいは、置換インドール；あるいは、ピリジン；あるいは、置換ピリジン；あるいは、キノリン；あるいは、置換キノリン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４４７】
一般置換基（非水素置換基（ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｏｒ  ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｇｒｏｕｐ）とも呼ばれる）は、独立して、本明細書で開示される。これらの置換基は、中性リガンドとして使用可能ないずれかの置換アミン、置換環状アミン、置換環状アミン、Ｎ−ヒドロカルビルアニリン（置換又は未置換）、Ｎ、Ｎ−ジヒドロカルビルアニリン（置換又は未置換）、置換ジフェニルアミン、置換トリフェニルアミン、置換ピロール、置換インドール、置換ピリジン、及び／又は置換キノリンをさらに特徴づけるために用いることができるが、これらに限定されない。
【０４４８】
一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の中性リガンドは、独立して、ピロール化合物であっても、これを含んでも、又は本質的にこれからなってもよい。ピロール化合物は、本明細書記載の触媒系の成分として、本明細書で記載される。これらのピロール化合物は、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の中性リガンドとして使用できるが、これらに限定されない。
【０４４９】
特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかのホスフィン及び／又は非環式ホスフィン（置換又は未置換）は、Ｃ３−Ｃ６０ホスフィン及び／又は非環式ホスフィン；あるいは、Ｃ３−Ｃ４５ホスフィン及び／又は非環式ホスフィン；あるいは、Ｃ３−Ｃ３０ホスフィン及び／又は非環式ホスフィン；あるいは、Ｃ３−Ｃ２０ホスフィン及び／又は非環式ホスフィン；あるいは、Ｃ３−Ｃ１０ホスフィン及び／又は非環式ホスフィン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかの環式ホスフィン（置換又は未置換、及び／又は脂肪族又は芳香族）は、Ｃ４−Ｃ６０環式ホスフィン；あるいは、Ｃ４−Ｃ４５環式ホスフィン；あるいは、Ｃ４−Ｃ３０環式ホスフィン；あるいは、Ｃ４−Ｃ２０環式ホスフィン；あるいは、Ｃ４−Ｃ１５環式ホスフィン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４５０】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ヒドロカルビルホスフィン、置換ヒドロカルビルホスフィン、ジヒドロカルビルホスフィン、置換ジヒドロカルビルホスフィン、トリヒドロカルビルホスフィン、置換トリヒドロカルビルホスフィン、これらのいずれかの組み合わせ；ヒドロカルビルホスフィン、ジヒドロカルビルホスフィン、トリヒドロカルビルホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ヒドロカルビルホスフィン又は置換ヒドロカルビルホスフィン；あるいは、ジヒドロカルビルホスフィン又は置換ジヒドロカルビルホスフィン；あるいは、トリヒドロカルビルホスフィン又は置換トリヒドロカルビルホスフィン；あるいは、ヒドロカルビルホスフィン；あるいは、置換ヒドロカルビルホスフィン；あるいは、ジヒドロカルビルホスフィン；あるいは、置換ジヒドロカルビルホスフィン；あるいは、トリヒドロカルビルホスフィン；あるいは、置換トリヒドロカルビルホスフィン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。ヒドロカルビル基（置換又は未置換）は、通常、本開示内で開示される（例えば、他の位置の中でも特に、式−Ｏ２ＣＲ２Ｃを有するモノカルボン酸塩のＲ２ｃのための選択として、及び／又はＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４のための選択として）。これらのヒドロカルビル置換基（置換又は未置換）は、中性リガンドとして使用可能なヒドロカルビルホスフィン（置換又は未置換）、ジヒドロカルビルホスフィン（置換又は未置換）、及び／又はトリヒドロカルビルホスフィン（置換又は未置換）のヒドロカルビル基として用いることができるが、これらに限定されない。
【０４５１】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、トリメチルホスフィン；あるいは、トリエチルホスフィン；あるいは、トリプロピルホスフィン；あるいは、トリブチルホスフィン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４５２】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、フェニルホスフィン、置換フェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、ジ（置換フェニル）ホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ（トリ置換フェニルホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、フェニルホスフィン、置換フェニルホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジフェニルホスフィン、ジ（置換フェニル）ホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、あるいは、トリフェニルホスフィン、トリ（トリ置換フェニル）ホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、フェニルホスフィン；あるいは、置換フェニルホスフィン；あるいは、ジフェニルホスフィン；あるいは、ジ（置換フェニル）ホスフィン；あるいは、トリフェニルホスフィン；あるいは、トリ（置換フェニル）ホスフィン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４５３】
一般置換基（非水素置換基（ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｏｒ  ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｇｒｏｕｐ）とも呼ばれる）は、本明細書で別に開示される。これらの置換基は、中性リガンドとして使用可能ないずれかの置換ホスフィン、置換非環式ホスフィン、置換環式ホスフィン（非環式又は環式）、置換フェニルホスフィン、ジ（置換フェニル）ホスフィン、及び／又はトリ（置換フェニル）ホスフィンをさらに特徴付けるために用いることができるが、これらに限定されない。
【０４５４】
一部の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、フェニルホスフィン、トリルホスフィン、ジフェニルホスフィン、ジトリルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、フェニルホスフィン；あるいは、ジフェニルホスフィン；あるいは、トリフェニルホスフィン；あるいは、トリルホスフィン；あるいは、ジトリルホスフィン；あるいは、トリトリルホスフィン；あるいは、メチルジフェニルホスフィン；あるいは、ジメチルフェニルホスフィン；あるいは、エチル−ジフェニルホスフィン；あるいは、ジエチルフェニルホスフィン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４５５】
特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかのホスファイト及び／又は非環式ホスファイト（置換又は未置換）は、Ｃ３−Ｃ６０ホスファイト及び／又は非環式ホスファイト；あるいは、Ｃ３−Ｃ４５ホスファイト及び／又は非環式ホスファイト；あるいは、Ｃ３−Ｃ３０ホスファイト及び／又は非環式ホスファイト；あるいは、Ｃ３−Ｃ２０ホスファイト及び／又は非環式ホスファイト；あるいは、Ｃ３−Ｃ１０ホスファイト及び／又は非環式ホスファイト、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、中性リガンドとして使用可能ないずれかの環式ホスファイト（置換又は未置換、及び／又は脂肪族又は芳香族）は、Ｃ３−Ｃ６０環式ホスファイト；あるいは、Ｃ４−Ｃ４５環式ホスファイト；あるいは、Ｃ４−Ｃ３０環式ホスファイト；あるいは、Ｃ４−Ｃ２０環式ホスファイト；あるいは、Ｃ４−Ｃ１５環式ホスファイト、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４５６】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジヒドロカルビルホスファイト、置換ジヒドロカルビルホスファイト、トリヒドロカルビルホスファイト、置換トリヒドロカルビルホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジヒドロカルビルホスファイト、トリヒドロカルビルホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ；ジヒドロカルビルホスファイト又は置換ジヒドロカルビルホスファイト；あるいは、トリヒドロカルビルホスファイト又は置換トリヒドロカルビルホスファイト；あるいは、ジヒドロカルビルホスファイト；あるいは、置換ジヒドロカルビルホスファイト；あるいは、トリヒドロカルビルホスファイト；あるいは、置換トリヒドロカルビルホスファイト、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。ヒドロカルビル基（置換又は未置換）は、通常、本開示内で開示される（例えば、他の位置の中でも特に、式−Ｏ２ＣＲ２ｃを有するモノカルボン酸塩のＲ２ｃのための選択として、及び／又はＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、又はＲ１４のための選択として）。これらのヒドロカルビル置換基（置換又は未置換）は、中性リガンドとして使用可能なジヒドロカルビルホスファイト（置換又は未置換）及び／又はトリヒドロカルビルホスファイト（置換又は未置換）のヒドロカルビル基として用いることができるが、これらに限定されない。
【０４５７】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリプロピルホスファイト、トリブチルホスファイト、メチルジフェニルホスファイト、ジメチルフェニルホスファイト、エチルジフェニルホスファイト、ジエチルフェニルホスファイト、ジフェニルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジトリルホスファイト、トリトリルホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリプロピルホスファイト、トリブチルホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４５８】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジフェニルホスファイト、ジ（置換フェニル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリ（置換フェニル）ホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジフェニルホスファイト、トリフェニルホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジフェニルホスファイト；あるいは、ジ（置換フェニル）ホスファイト；あるいは、トリフェニルホスファイト；あるいは、トリ（置換フェニル）ホスファイト、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４５９】
一般置換基（非水素置換基（ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｏｒ  ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｇｒｏｕｐ）とも呼ばれる）は、本明細書で別に開示される。これらの置換基は、中性リガンドとして使用可能ないずれかの置換ホスファイト、置換非環式ホスファイト、及び／又は置換環式ホスファイト、ジ（置換フェニル）ホスファイト、及び／又はトリ（置換フェニル）ホスファイトをさらに特徴付けるために用いることができるが、これらに限定されない。
【０４６０】
別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、メチルジフェニルホスファイト、ジメチルフェニルホスファイト、エチルジフェニルホスファイト、ジエチルフェニルホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ジフェニルホスファイト、トリフェニルホスファイト、ジトリルホスファイト、トリトリルホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、トリフェニルホスファイト、トリトリルホスファイト、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。また別の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、ジメチルフェニルホスファイト；あるいは、エチルジフェニルホスファイト；あるいは、ジエチルフェニルホスファイト；あるいは、ジフェニルホスファイト；あるいは、トリフェニルホスファイト；あるいは、ジトリルホスファイト；あるいは、トリトリルホスファイト、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４６１】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、置換又は未置換アゼチジン、オキセタン、チエタン、ジオキセタン、ジチエタン、テトラヒドロピロール、ジヒドロピロール、ピロール、インドール、イソインドール、テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、テトラヒドロチオフェン、ジヒドロチオフェン、チオフェン、ベンゾチオフェン、イソベンゾチオフェン、イミダゾリジン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、ジオキソラン、ジチオラン、トリアゾール、ジチアゾール、ピペリジン、ピリジン、テトラヒドロピラン、ジヒドロピラン、ピラン、チアン、ピペラジン、ジアジン、オキサジン、チアジン、ジチアン、ジオキサン、ダイオキシン、トリアジン、トリアジナン、トリオキサン、オキセピン、アゼピン、チエピン、ジアゼピン、モルホリン、キノリン、テトラヒドロキノン、ビシクロ［３．３．１］テトラシロキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換アゼチジン、オキセタン、チエタン、ジオキセタン、ジチエタン、テトラヒドロピロール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、イミダゾリジン、オキサゾリジン、オキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、ジオキソラン、ジチオラン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、ピラン、チアン、ピペラジン、オキサジン、チアジン、ジチアン、ジオキサン、ダイオキシン、トリアジナン、トリオキサン、アゼピン、チエピン、ジアゼピン、モルホリン、１，２−チアゾール、ビシクロ［３．３．１］テトラシロキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換テトラヒドロピロール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、オキサゾリジン、チアゾリジン、ジオキソラン、ジチオラン、ジチアゾール、ピペリジン、テトラヒドロピラン、ピラン、チアン、ピペラジン、ジチアン、ジオキサン、ダイオキシン、トリオキサン、モルホリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、ジオキソラン、ジチオラン、テトラヒドロピラン、ピラン、チアン、ジチアン、ジオキサン、ダイオキシン、トリオキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、トリオキサン；又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換ピロール、フラン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、トリアゾール、ピリジン、ジアジン、トリアジン、キノリン、又はこれらの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換ピロール、フラン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、ピリジン、ジアジン、トリアジン、又はこれらの組み合わせ；あるいは、フラン、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、ピリジン、ジアジン、トリアジン、又はこれらの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４６２】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、アゼチジン、オキセタン、チエタン、ジオキセタン、ジチエタン、テトラヒドロピロール、ジヒドロピロール、ピロール、インドール、イソインドール、テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、テトラヒドロチオフェン、ジヒドロチオフェン、チオフェン、ベンゾチオフェン、イソベンゾチオフェン、イミダゾリジン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、ジオキソラン、ジチオラン、トリアゾール、ジチアゾール、ピペリジン、ピリジン、テトラヒドロピラン、ジヒドロピラン、ピラン、チアン、ピペラジン、ジアジン、オキサジン、チアジン、ジチアン、ジオキサン、ダイオキシン、トリアジン、トリアジナン、トリオキサン、オキセピン、アゼピン、チエピン、ジアゼピン、モルホリン、キノリン、テトラヒドロキノン、ビシクロ［３．３．１］テトラシロキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、アゼチジン、オキセタン、チエタン、ジオキセタン、ジチエタン、テトラヒドロピロール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、イミダゾリジン、オキサゾリジン、オキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、ジオキソラン、ジチオラン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、ピラン、チアン、ピペラジン、オキサジン、チアジン、ジチアン、ジオキサン、ダイオキシン、トリアジナン、トリオキサン、アゼピン、チエピン、ジアゼピン、モルホリン、１，２−チアゾール、ビシクロ［３．３．１］テトラシロキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロピロール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、オキサゾリジン、チアゾリジン、ジオキソラン、ジチオラン、ジチアゾール、ピペリジン、テトラヒドロピラン、ピラン、チアン、ピペラジン、ジチアン、ジオキサン、ダイオキシン、トリオキサン、モルホリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロチオフェン、ジオキソラン、ジチオラン、テトラヒドロピラン、ピラン、チアン、ジチアン、ジオキサン、ダイオキシン、トリオキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、トリオキサン；又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、ピロール、フラン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、トリアゾール、ピリジン、ジアジン、トリアジン、キノリン、又はこれらの組み合わせ；あるいは、ピロール、フラン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、ピリジン、ジアジン、トリアジン、又はこれらの組み合わせ；あるいは、フラン、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、ピリジン、ジアジン、トリアジン、又はこれらの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４６３】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、置換又は未置換アゼチジン、テトラヒドロピロール、ジヒドロピロール、ピロール、インドール、イソインドール、イミダゾリジン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、イソチアゾール、トリアゾール、ベンゾトリアゾール、ジチアゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ジアジン、オキサジン、チアジン、トリアジン、アゼピン、ジアゼピン、モルホリン、キノリン、テトラヒドロイソキノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換テトラヒドロピロール、ピロール、インドール、イソインドール、イミダゾリジン、イミダゾール、オキサゾリジン、オキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ジアジン、トリアジン、モルホリン、キノリン、テトラヒドロイソキノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換テトラヒドロピロール、ピロール、イソインドール、イミダゾール、オキサゾリジン、オキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ジアジン、トリアジン、モルホリン、キノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換テトラヒドロピロール、ピロール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ジアジン、トリアジン、モルホリン、キノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換テトラヒドロピロール、ピロール、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、キノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピリジン、ジアジン、トリアジン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態では、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、アゼチジン、テトラヒドロピロール、ジヒドロピロール、ピロール、インドール、イソインドール、イミダゾリジン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、イソチアゾール、トリアゾール、ベンゾトリアゾール、ジチアゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ジアジン、オキサジン、チアジン、トリアジン、アゼピン、ジアゼピン、モルホリン、キノリン、テトラヒドロイソキノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロピロール、ピロール、インドール、イソインドール、イミダゾリジン、イミダゾール、オキサゾリジン、オキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ジアジン、トリアジン、モルホリン、キノリン、テトラヒドロイソキノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロピロール、ピロール、イソインドール、イミダゾール、オキサゾリジン、オキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ジアジン、トリアジン、モルホリン、キノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロピロール、ピロール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピペリジン、ピリジン、ピペラジン、ジアジン、トリアジン、モルホリン、キノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロピロール、ピロール、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、キノリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、ピリジン、ジアジン、トリアジン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４６４】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各性リガンドは、独立して、置換又は未置換オキセタン、ジオキセタン、テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、オキサゾリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、ジオキソラン、テトラヒドロピラン、ジヒドロピラン、ピラン、オキサジン、ジオキサン、ダイオキシン、トリオキサン、オキセピン、モルホリン、又はビシクロ［３．３．１］テトラシロキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換オキセタン、ジオキセタン、テトラヒドロフラン、フラン、イソベンゾフラン、オキサゾリジン、オキサゾール、ジオキソラン、テトラヒドロピラン、ピラン、ジオキサン、ダイオキシン、トリオキサン、モルホリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換テトラヒドロフラン、オキサゾール、ジオキソラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、ダイオキシン、トリオキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換テトラヒドロフラン、ジオキソラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、トリオキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態では、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、オキセタン、ジオキセタン、テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、オキサゾリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、ジオキソラン、テトラヒドロピラン、ジヒドロピラン、ピラン、オキサジン、ジオキサン、ダイオキシン、トリオキサン、オキセピン、モルホリン、又はビシクロ［３．３．１］テトラシロキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、オキセタン、ジオキセタン、テトラヒドロ−フラン、フラン、イソベンゾフラン、オキサゾリジン、オキサゾール、ジオキソラン、テトラヒドロピラン、ピラン、ジオキサン、ダイオキシン、トリオキサン、モルホリン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロフラン、オキサゾール、ジオキソラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、ダイオキシン、トリオキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、トリオキサン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４６５】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、置換又は未置換チエタン、ジチエタン、テトラヒドロチオフェン、ジヒドロチオフェン、チオフェン、ベンゾチオフェン、イソベンゾチオフェン、チアゾリジン、チアゾール、イソチアゾール、ジチオラン、ジチアゾール、チアン、チアジン、ジチアン、チエピン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換チエタン、ジチエタン、テトラヒドロチオフェン、チオフェン、イソベンゾチオフェン、チアゾリジン、チアゾール、ジチオラン、チアン、ジチアン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、置換又は未置換テトラヒドロチオフェン、ジチオラン、チアン、ジチアン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態では、各配位化合物は、独立して、置換又は未置換チエタン、ジチエタン、テトラヒドロチオフェン、ジヒドロチオフェン、チオフェン、ベンゾチオフェン、イソベンゾチオフェン、チアゾリジン、チアゾール、イソチアゾール、ジチオラン、ジチアゾール、チアン、チアジン、ジチアン、チエピン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、チエタン、ジチエタン、テトラヒドロチオフェン、チオフェン、イソベンゾチオフェン、チアゾリジン、チアゾール、ジチオラン、チアン、ジチアン、又はこれらのいずれかの組み合わせ；あるいは、テトラヒドロチオフェン、ジチオラン、チアン、ジチアン、又はこれらのいずれかの組み合わせ、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４６６】
一部の実施形態では、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、アゼチジン；あるいは、オキセタン；あるいは、チエタン；あるいは、ジオキセタン；あるいは、ジチエタン；あるいは、テトラヒドロピロール；あるいは、ジヒドロピロール、あるいは、ピロール；あるいは、インドール；あるいは、イソインドール；あるいは、テトラヒドロフラン；あるいは、ジヒドロピロール；あるいは、フラン；あるいは、ベンゾフラン；あるいは、イソベンゾフラン；あるいは、テトラヒドロチオフェン；あるいは、ジヒドロチオフェン；あるいは、チオフェン；あるいは、ベンゾチオフェン；あるいは、イソベンゾチオフェン；あるいは、イミダゾリジン；あるいは、ピラゾール；あるいは、イミダゾール；あるいは、オキサゾリジン；あるいは、オキサゾール；あるいは、イソオキサゾール；あるいは、チアゾリジン；あるいは、チアゾール；あるいは、ベンゾチアゾール；あるいは、イソチアゾール；あるいは、ジオキソラン；あるいは、ジチオラン；あるいは、トリアゾール；あるいは、ジチアゾール；あるいは、ピペリジン；あるいは、ピリジン；あるいは、テトラヒドロピラン；あるいは、ジヒドロピラン；あるいは、ピラン；あるいは、チアン；あるいは、ピペラジン；あるいは、ジアジン；あるいは、オキサジン；あるいは、チアジン；あるいは、ジチアン；あるいは、ジオキサン；あるいは、ダイオキシン；あるいは、トリアジン；あるいは、トリアジナン；あるいは、トリオキサン；あるいは、オキセピン；あるいは、アゼピン；あるいは、チエピン；あるいは、ジアゼピン；あるいは、モルホリン；あるいは、キノリン；あるいは、テトラヒドロキノン；あるいは、ビシクロ［３．３．１］テトラシロキサン、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４６７】
本開示の一態様において、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、フラン、メチルテトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、テトラヒドロピラン、２，３−ジヒドロピラン、１，３−ジオキサン、１，４−ジオキサン、モルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、ベンゾニトリル、ピリジン、アンモニア（ＮＨ３）、メチルアミン（ＮＨ２Ｍｅ）、エチルアミン（ＮＨ２Ｅｔ）、ジメチルアミン（ＮＨＭｅ２）、ジエチルアミン（ＮＨＥｔ２）、トリメチルアミン（ＮＭｅ３）、トリエチルアミン（ＮＥｔ３）、トリメチルホスフィン（ＰＭｅ３）、トリエチルホスフィン（ＰＥｔ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（Ｐ（ｎ−Ｂｕ）３）、トリメチルホスファイト（Ｐ（ＯＭｅ）３）、トリエチルホスファイト（Ｐ（ＯＥｔ）３）、トリ−ｎ−ブチルホスファイト（Ｐ（Ｏ−ｎ−Ｂｕ）３）、メチルイソシアニド、ｎ−ブチルイソシアニド、フェニルイソシアニド、ＳＭｅ２、チオフェン、又はテトラヒドロチオフェン（ＴＨＴ）、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態では、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、アセトニトリル、ピリジン、アンモニア（ＮＨ３）、トリメチルアミン（ＮＭｅ３）、トリエチルアミン（ＮＥｔ３）、トリメチルホスフィン（ＰＭｅ３）、トリエチルホスフィン（ＰＥｔ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、ＳＭｅ２、又はテトラヒドロチオフェン（ＴＨＴ）；あるいは、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、又は１，４−ジオキサン；あるいは、アンモニア（ＮＨ３）、トリメチルアミン（ＮＭｅ３）、又はトリエチルアミン（ＮＥｔ３）；あるいは、トリメチルホスフィン（ＰＭｅ３）、トリエチルホスフィン（ＰＥｔ３）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の実施形態では、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ピリジン、アンモニア、トリメチルアミン、トリメチルホスフィン、又はトリフェニル−ホスフィン；あるいは、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ピリジン、トリメチルアミン、トリメチルホスフィン、又はトリフェニルホスフィン；あるいは、テトラヒドロフラン又はアセトニトリル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。さらに他の実施形態では、各配位化合物は、独立して、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）；あるいは、テトラヒドロピラン；あるいは、１，４−ジオキサン；あるいは、アセトニトリル；あるいは、ピリジン；あるいは、アンモニア（ＮＨ３）；あるいは、トリメチルアミン（ＮＭｅ３）；あるいは、トリエチルアミン（ＮＥｔ３）；あるいは、トリメチルホスフィン（ＰＭｅ３）；あるいは、トリエチルホスフィン（ＰＥｔ３）；あるいは、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）；あるいは、ＳＭｅ２；あるいは、テトラヒドロチオフェン（ＴＨＴ）、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。さらに別の実施形態では、本明細書記載のいずれかのクロム錯体（一般的又は特定の）又はクロム前駆体（一般的又は特定の）の各中性リガンドは、独立して、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ピリジン、アンモニア、トリメチルアミン、トリメチルホスフィン、又はトリフェニル−ホスフィン；あるいは、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ピリジン、トリメチルアミン、トリメチルホスフィン、又はトリフェニルホスフィン；あるいは、テトラヒドロフラン又はアセトニトリル、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４６８】
一般置換基（非水素置換基（ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｏｒ  ｎｏｎ−ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｓｕｂｓｔｉｔｕｅｎｔ  ｇｒｏｕｐ）とも呼ばれる）は、本明細書で別に開示される。これらの置換基は、中性リガンドとして使用可能ないずれかのアゼチジン、オキセタン、チエタン、ジオキセタン、ジチエタン、テトラヒドロピロール、ジヒドロピロール、ピロール、インドール、イソインドール、テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、テトラヒドロ−チオフェン、ジヒドロチオフェン、チオフェン、ベンゾチオフェン、イソベンゾチオフェン、イミダゾリジン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾリジン、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾリジン、チアゾール、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、ジオキソラン、ジチオラン、トリアゾール、ジチアゾール、ピペリジン、ピリジン、テトラヒドロピラン、ジヒドロピラン、ピラン、チアン、ピペラジン、ジアジン、オキサジン、チアジン、ジチアン、ジオキサン、ダイオキシン、トリアジン、トリアジナン、トリオキサン、オキセピン、アゼピン、チエピン、ジアゼピン、モルホリン、キノリン、テトラヒドロキノン、ビシクロ［３．３．１］テトラシロキサン、オキセタン、及び／又はジオキセタンをさらに特徴付けるために用いることができるが、これらに限定されない。
【０４６９】
一態様において、クロム錯体は、中性のクロム錯体（ｍ＝０で、この場合、クロム錯体は、クロム前駆体である）、陽イオンクロム錯体（ｍは、正の数）、又は陰イオンクロム錯体（ｍは、負の数）；あるいは、中性のクロム錯体；あるいは、陽イオンクロム錯体；あるいは、陰イオンクロム錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。特定の実施形態において、陽イオンクロム錯体の電荷ｍは、１〜４；あるいは、１；あるいは、２；あるいは、３；あるいは、４であってよい。特定の実施形態において、陰イオンクロム錯体の電荷ｍは、−１〜−４；あるいは、−１；あるいは、−２；あるいは、−３；あるいは、−４であってよい。
【０４７０】
クロム錯体は、本明細書では、クロム前駆体の成分として（あるいは、クロム前駆体として）記載されている。これらの記載の内で、クロム錯体は、式、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌ、）ｍ、（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＬｌ）ｍ、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ、ＣｒＸｘＬｌ、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ、（ＣｒＸｘ１）ｍ、Ｃｒｙ１Ｘｘ１、又はＣｒＸｘ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＬｌ）ｍ、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ、又は（ＣｒＸｘ１）ｍ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ、又は（ＣｒＬｌ）ｍ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ又は（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ又は（ＣｒＸｘ１）ｍ；あるいは、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ、ＣｒＸｘＬｌ、Ｃｒｙ１Ｘｘ１、又はＣｒＸｘ；あるいは、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ、又はＣｒＸｘ１Ｌｌ；あるいは、Ｃｒｙ１Ｘｘ１又はＣｒＸｘ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ；あるいは、（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ；あるいは、（ＣｒＬｌ）ｍ；あるいは、Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ：あるいは、ＣｒＸｘ１Ｌｌ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ；あるいは、（ＣｒＸｘ１）ｍ；あるいは、Ｃｒｙ１Ｘｘ１；あるいは、ＣｒＸｘ、を有することができる。通常、クロムの酸化状態（ｘ）、クロムの数（ｙ１）、陰イオンリガンド（Ｘ）、陰イオンリガンドの電荷（ｙ）、陰イオンリガンドの数（ｘ１）、中性リガンド（Ｌ）、中性リガンドの数（ｌ）、及びクロム錯体の電荷は、前に本明細書で記載し、また、クロム錯体は、本明細書記載のクロム錯体の特徴に適合する別に記載された要素のあらゆる矛盾のない組み合わせを利用して特徴付けできる。
【０４７１】
一態様において、クロム前駆体中に存在可能なクロム錯体の数（ｑ）は、１〜３；あるいは、２〜３の範囲であってよい。一部の実施形態では、クロム前駆体中に存在可能なクロム錯体の数（ｑ）は、１；あるいは、２；あるいは、３であってよい。
【０４７２】
非限定的な実施形態において、クロム錯体は、中性のクロム錯体、陽イオンクロム錯体、又は陰イオンクロム錯体；あるいは、中性のクロム錯体；あるいは、陽イオンクロム錯体；あるいは、陰イオンクロム錯体、一部の非限定的な実施形態において、クロム錯体は、中性のクロム（ＩＩ）錯体、陽イオンクロム（ＩＩ）錯体、陰イオンクロム（ＩＩ）錯体、中性のクロム（ＩＩＩ）錯体、陽イオンクロム（ＩＩＩ）錯体、又は陰イオンクロム（ＩＩＩ）錯体；中性のクロム（ＩＩ）錯体、陽イオンクロム（ＩＩ）錯体、又は陰イオンクロム（ＩＩ）錯体；あるいは、中性のクロム（ＩＩＩ）錯体、陽イオンクロム（ＩＩＩ）錯体、又は陰イオンクロム（ＩＩＩ）錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の非限定的な実施形態において、クロム錯体は、中性のクロム（ＩＩ）錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩ）錯体；あるいは、陰イオンクロム（ＩＩ）錯体；あるいは、中性のクロム（ＩＩＩ）錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）錯体；あるいは、陰イオンクロム（ＩＩＩ）錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４７３】
ある態様及びいずれかの実施形態では、中性のクロム錯体（この場合は、クロム錯体が、クロム前駆体となる）は、式、Ｃｒｙ１ＸＸ１Ｌｌ、ＣｒＸｘＬｌ、Ｃｒｙ１Ｘｘ１、又はＣｒＸｘ；あるいは、Ｃｒｙ１ＸＸ１Ｌｌ、又はＣｒＸｘＬｌ；あるいは、Ｃｒｙ１Ｘｘ１又はＣｒＸｘ；あるいは、Ｃｒｙ１ＸＸ１Ｌｌ；あるいは、ＣｒＸｘＬｌ、；あるいは、Ｃｒｙ１Ｘｘ１；あるいは、ＣｒＸｘを有することができる。通常、中性のクロム錯体は、本明細書記載のクロム酸化状態（ｘ）、本明細書記載のクロム原子数（ｙ１）、本明細書記載の陰イオンリガンド（Ｘ）、本明細書記載の陰イオンリガンド電荷（ｙ）、本明細書記載の陰イオンリガンド数（ｘ１）、本明細書記載の中性リガンド（Ｌ）、及び本明細書記載の中性リガンド数（ｌ）のいずれかの矛盾のない組み合わせを用いて記載できる。
【０４７４】
非限定的な実施形態において、中性のクロム錯体は、中性のクロムハロゲン化物、中性のクロムハロゲン化物ヒドロカルビルニトリル錯体、中性のクロムハロゲン化物トリヒドロカルビルアミン錯体、中性のクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルエーテル錯体、中性のクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルスルフィド錯体、又は中性のクロムハロゲン化物トリヒドロカルビルホスフィン錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の非限定的な実施形態において、中性のクロム錯体は、中性のクロムハロゲン化物トリヒドロカルビルアミン錯体、中性のクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルエーテル錯体、又は中性のクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルスルフィド錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の非限定的な実施形態において、中性のクロム錯体は、中性のクロムハロゲン化物アンモニア錯体、中性のクロムハロゲン化物テトラヒドロフラン錯体、又は中性のクロムハロゲン化物テトラヒドロチオフェン錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。さらに他の非限定的な実施形態において、中性のクロム錯体は、中性のクロムハロゲン化物；あるいは、中性のクロムハロゲン化物アンモニア錯体；あるいは、中性のクロムハロゲン化物ヒドロカルビルニトリル錯体；あるいは、中性のクロムハロゲン化物トリヒドロカルビルアミン錯体；あるいは、中性のクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルエーテル錯体；あるいは、中性のクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルスルフィド錯体；あるいは、中性のクロムハロゲン化物テトラヒドロフラン錯体；あるいは、中性のクロムハロゲン化物テトラヒドロチオフェン錯体；あるいは、中性のクロムハロゲン化物トリヒドロカルビルホスフィン錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。通常、これらの中性のクロム錯体の非制限的実施形態の個別の要素は、本明細書で別に記載され、また、いずれかの矛盾のない組み合わせで使用して、中性のクロム錯体をさらに特徴付けることができる。
【０４７５】
中性のクロム錯体を特徴付けるのに使用できるクロム酸化状態は、本明細書で別に記載され、本明細書で開示のいずれかの態様又はいずれかの実施形態で使用できるいずれかの組み合わせで中性のクロム錯体をさらに特徴付けるのに用いることができる。非限定的な実施形態において、本明細書で開示のいずれかの態様又はいずれかの実施形態で使用できる中性のクロム錯体は、本明細書記載のいずれかの陰イオンリガンド及び本明細書記載のいずれかの中性リガンドを有する中性のクロム（ＩＩ）錯体又は中性のクロム（ＩＩＩ）錯体；あるいは、本明細書記載のいずれかの陰イオンリガンド及び本明細書記載のいずれかの中性リガンドを有する中性のクロム（ＩＩ）錯体；あるいは、本明細書記載のいずれかの陰イオンリガンド及び本明細書記載のいずれかの中性リガンドを有する中性のクロム（ＩＩＩ）錯体、を含むことができる。非限定的な実施形態において、中性の遷移金属錯体は、中性のクロム（ＩＩ）錯体又は中性のクロム（ＩＩＩ）錯体；あるいは、中性のクロム（ＩＩ）錯体；あるいは、中性のクロム（ＩＩＩ）錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４７６】
非限定的な実施形態において、本明細書で記載のいずれかの態様又はいずれかの実施形態で使用できるクロム錯体は、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物ヒドロカルビルニトリル錯体、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物トリヒドロカルビルアミン錯体、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物ジヒドロカルビルエーテル錯体、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物ジヒドロカルビルスルフィド錯体、又は中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物トリヒドロカルビルホスフィン錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。さらに他の非限定的な実施形態において、本明細書で開示のいずれかの態様又はいずれかの実施形態で使用できる中性のクロム錯体は、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物；あるいは、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物テトラヒドロフラン錯体；あるいは、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物ヒドロカルビルニトリル錯体；あるいは、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物トリヒドロカルビルアミン錯体；あるいは、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物ジヒドロカルビルエーテル錯体；あるいは、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物ジヒドロカルビルスルフィド錯体；あるいは、中性のクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物トリヒドロカルビルホスフィン錯体、を含むことができる。他の一般的又は特定の中性の式ＭＢＬｌを有するクロム錯体は、本開示の態様及び実施形態を用いて特徴付けることができる。これらの一般的及び特定の中性のクロム錯体は、容易に明らかであり、意図されているものである。
【０４７７】
一態様において、陽イオンクロム錯体（ｍが正の整数の場合のクロム錯体）は、式、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＬｌ）ｍ、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ、又は（ＣｒＸｘ１）ｍ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＬｌ）ｍ、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ、又は（ＣｒＸｘ１）ｍ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ、又は（ＣｒＬｌ）ｍ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ又は（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ又は（ＣｒＸｘ１）ｍ；あるいは、（Ｃｒｙ１ＸＸ１Ｌｌ）ｍ；あるいは、（ＣｒＸｘｌＬｌ）ｍ；あるいは、（ＣｒＬｌ）ｍ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ；あるいは、（ＣｒＸｘ１）ｍを有することができる。通常、陽イオンクロム錯体は、本明細書記載のクロムの酸化状態（ｘ）、本明細書記載のクロム原子数（ｙ１）、本明細書記載の陰イオンリガンド（Ｘ）、本明細書記載の陰イオンリガンドの電荷（ｙ）、本明細書記載の陰イオンリガンドの数（ｘ１）、本明細書記載の中性リガンド（Ｌ）、及び本明細書記載の中性リガンドの数（ｌ）、ならびに、本明細書記載の陽イオンクロム錯体の正の電荷（ｍ）のいずれかの矛盾のない組み合わせを用いて特徴付けることができる。
【０４７８】
非限定的な実施形態において、陽イオンクロム錯体は、陽イオンクロムハロゲン化物、陽イオンクロムハロゲン化物トリヒドロカルビルアミン錯体、陽イオンクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルエーテル錯体、又は陽イオンクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルスルフィド錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の非限定的な実施形態において、陽イオンクロム錯体は、陽イオンクロムハロゲン化物トリヒドロカルビルアミン錯体、陽イオンクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルエーテル錯体、又は陽イオンクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルスルフィド錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の非限定的な実施形態において、陽イオンクロム錯体は、陽イオンクロムハロゲン化物アンモニア錯体、陽イオンクロムハロゲン化物テトラヒドロフラン錯体、又は陽イオンクロムハロゲン化物テトラヒドロチオフェン錯体、さらに他の非限定的な実施形態において、陽イオンクロム錯体は、陽イオンクロムハロゲン化物錯体；あるいは、陽イオンクロムハロゲン化物アンモニア錯体；あるいは、陽イオンクロムハロゲン化物トリヒドロカルビルアミン錯体；あるいは、陽イオンクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルエーテル錯体；あるいは、陽イオンクロムハロゲン化物ジヒドロカルビルスルフィド錯体；あるいは、陽イオンクロムハロゲン化物テトラヒドロフラン錯体；あるいは、陽イオンクロムハロゲン化物テトラヒドロチオフェン錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。通常、これらの陽イオンクロム錯体の非制限的実施形態の個別の要素は、本明細書で別に記載され、陽イオンクロム錯体をさらに特徴付けるために、いずれかの矛盾のない組み合わせで使用することができる。
【０４７９】
陽イオンクロム錯体を特徴付けるために使用できるクロム酸化状態は、本明細書で記載され、また、本明細書で開示のいずれかの態様又はいずれかの実施形態で使用できる陽イオンクロム錯体をさらに特徴付けるために、いずれかの組み合わせで用いることができる。非限定的な実施形態において、陽イオンクロムは、本明細書記載のいずれかの陰イオンリガンド及び本明細書記載のいずれかの中性リガンドを有する陽イオンクロム（ＩＩ）錯体又は陽イオンクロム（ＩＩＩ）錯体；あるいは、本明細書記載のいずれかの陰イオンリガンド及び本明細書記載のいずれかの中性リガンドを有する陽イオンクロム（ＩＩ）錯体；あるいは、本明細書記載のいずれかの陰イオンリガンド及び本明細書記載のいずれかの中性リガンドを有する陽イオンクロム（ＩＩＩ）錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の実施形態では、本明細書記載のいずれかの陰イオンリガンド及び本明細書記載のいずれかの中性リガンドは、陽イオンクロム（ＩＩ）錯体又は陽イオンクロム（ＩＩＩ）錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩ）錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）錯体をさらに特徴付けるために使用することができる。非限定的な実施形態において、陽イオンクロム錯体は、陽イオンクロム（ＩＩ）錯体又は陽イオンクロム（ＩＩＩ）錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩ）錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。
【０４８０】
非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかの態様又はいずれかの実施形態で使用できるクロム錯体は、陽イオンクロム（ＩＩＩ）トリヒドロカルビルアミン錯体、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ジヒドロカルビルエーテル錯体、又は陽イオンクロム（ＩＩＩ）ジヒドロカルビルスルフィド錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）トリヒドロカルビルアミン錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ジヒドロカルビルエーテル錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ジヒドロカルビルスルフィド錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。一部の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかの態様又はいずれかの実施形態で使用できるクロム錯体は、陽イオンクロム（ＩＩＩ）アンモニア錯体、陽イオンクロム（ＩＩＩ）テトラヒドロフラン錯体、又は陽イオンクロム（ＩＩＩ）テトラヒドロチオフェン錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）アンモニア錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）テトラヒドロフラン錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）テトラヒドロチオフェン錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかの態様又はいずれかの実施形態で使用できるクロム錯体は、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物トリヒドロカルビルアミン錯体、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物ジヒドロカルビルエーテル錯体、又は陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物ジヒドロカルビルスルフィド錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物トリヒドロカルビルアミン錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物ジヒドロカルビルエーテル錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物ジヒドロカルビルスルフィド錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。また他の非限定的な実施形態において、本明細書記載のいずれかの態様又はいずれかの実施形態で使用できるクロム錯体は、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物アンモニア錯体、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物テトラヒドロフラン錯体、又は陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物テトラヒドロチオフェン錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物アンモニア錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物テトラヒドロフラン錯体；あるいは、陽イオンクロム（ＩＩＩ）ハロゲン化物テトラヒドロチオフェン錯体、であっても、これらを含んでも、又は本質的にそれらからなってもよい。他の一般的又は特定の式ＭＢＬｌを有する陽イオンクロム錯体は、本開示の態様及び実施形態を用いて特徴付けることができる。これらの一般的及び特定の陽イオンクロム錯体は、容易に明らかになるものであり、意図されているものである。
【０４８１】
一態様において、陰イオンクロム錯体（ｍが負の整数である場合のクロム錯体）は、式、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＬｌ）ｍ、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１）ｍ、又は（ＣｒＸｘ１）ｍ；あるいは、（Ｃｒｙ１Ｘｘ１Ｌｌ）ｍ、（ＣｒＸｘ１Ｌｌ）ｍ