(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを発するための照明光源と、照明レンズ群と、投影部と、測定対象物と、検知部と、屈折部と、リレーレンズ群と、光電検知器とを備え、これらが光ビームの伝送経路にこの順番で順次配置され、
前記光電検知器は、前記リレーレンズ群を発して前記測定対象物の表面の高さ及び傾きについての情報を運ぶ光ビームを電気信号に変換し、当該電気信号を演算部及び合焦レベリング制御部に渡すように設けられ、
前記演算部は、前記測定対象物の表面の高さ及び傾きを調整するために前記合焦レベリング制御部が前記測定対象物を支持するウェハステージを制御するように、受信した電気信号に基づいて前記合焦レベリング制御部のための制御信号を生成するように設けられ、
前記照明レンズ群、前記投影部、前記測定対象物及び前記検知部を順次通過した後に、前記照明光源が発した光ビームが複数のマークに対応する複数の非線形に配置されたサブビームとなるように、前記投影部は複数の非線形に配置された前記マークを定める投影スリットを備え、
前記屈折部は、複数のサブビームが前記屈折部を通過した後に複数の線形に配置された光スポットを形成するように配置され、
前記屈折部は反射鏡群、レンズ群及びプリズム群を備え、
前記反射鏡群はｎ−１組の反射鏡からなり、前記レンズ群はｎ個のレンズからなり、前記プリズム群はｎ−１個のプリズムからなり、
ここで、ｎは前記投影スリットにより定められる非線形に配置された前記マークの数に対応する
合焦レベリング装置。
【請求項２】
前記屈折部は平行平面板を更に含み、
前記屈折部に入射する複数のサブビームの中央のものは、前記レンズの対応するものを通過して前記平行平面板に入射し、
複数のサブビームの残りのものは、前記反射鏡の対応する組み、前記レンズ及び前記プリズムの対応するものを順次進み、中央のサブビームと一緒になって、前記リレーレンズ群に入射する
請求項１記載の合焦レベリング装置。
【請求項３】
光ビームを発するための照明光源と、照明レンズ群と、投影部と、測定対象物と、検知部と、屈折部と、リレーレンズ群と、光電検知器とを備え、これらが光ビームの伝送経路にこの順番で順次配置され、
前記光電検知器は、前記リレーレンズ群を発して前記測定対象物の表面の高さ及び傾きについての情報を運ぶ光ビームを電気信号に変換し、当該電気信号を演算部及び合焦レベリング制御部に渡すように設けられ、
前記演算部は、前記測定対象物の表面の高さ及び傾きを調整するために前記合焦レベリング制御部が前記測定対象物を支持するウェハステージを制御するように、受信した電気信号に基づいて前記合焦レベリング制御部のための制御信号を生成するように設けられ、
前記照明レンズ群、前記投影部、前記測定対象物及び前記検知部を順次通過した後に、前記照明光源が発した光ビームが複数のマークに対応する複数の非線形に配置されたサブビームとなるように、前記投影部は複数の非線形に配置された前記マークを定める投影スリットを備え、
前記屈折部は、複数のサブビームが前記屈折部を通過した後に複数の線形に配置された光スポットを形成するように配置され、
前記屈折部は、傾斜面がお互いに向き合うように配置された２つのウェッジ板を含み、
前記２つのウェッジ板のうちの第１のものは、複数のサブビームのうちの中央のもの及び下側のものが前記屈折部の２つのウェッジ板の第１のものに入射することに対応する位置に、第１の貫通孔の中央の部分及び下側の部分を定め、
前記２つのウェッジ板のうちの第２のものは、複数のサブビームのうちの中央のもの及び上側のものが前記屈折部の２つのウェッジ板の第２のものに入射することに対応する位置に、第２の貫通孔の中央の部分及び上側の部分を定める
合焦レベリング装置。
【請求項４】
前記屈折部が、複数のサブビームの中央のものが前記２つのウェッジ板のそれぞれの中央部分に定められた前記第１及び第２の貫通孔を通過して平行平面板に入射するように配置された前記平行平面板を更に備える
請求項３記載の合焦レベリング装置。
【請求項５】
前記投影スリットが少なくとも３つの非線形に配置された前記マークを定める
請求項１乃至４のいずれか１項記載の合焦レベリング装置。
【請求項６】
前記投影スリットを間に挟む２つのプリズムを有するダブルプリズム群を更に備える
請求項１乃至４のいずれか１項記載の合焦レベリング装置。
【請求項７】
前記光電検知器は１つのＣＣＤリニアアレイである
請求項１乃至４のいずれか１項記載の合焦レベリング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトリソグラフィに関し、より具体的には、露光装置において、自動合焦レベリングのための屈折部を有する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在の投影露光システムは、典型的には、対象物の表面の高さ及び傾きを正確に測定するための自動合焦レベリングサブシステムを含む。図１は、従来の投影露光装置で用いられる、そのような合焦レベリングシステムの概略図である。図1に示すように、合焦レベリングシステムは、投影対物レンズ（projection objective）１９と、投影対物レンズ１９の光軸の両側に延びる光学測定経路とを含む。光学測定経路には、照明部、投影部、検知部、リレーレンズ群がこの順番で配置されている。照明部は、照明光源１、照明レンズ群２及び光ファイバ（図示せず）で構成される。光源１から発した光は、照明レンズ群２により集められ、光ファイバを介して投影部上に向けられ、そこで、測定システム全体に照明光を提供する。投影部は、投影スリット３、上流側投影レンズ群４、反射鏡群５及び下流側投影レンズ群６で構成される。照明部を発した光は、投影スリット３、上流側投影レンズ群４、反射鏡群５及び下流側投影レンズ群６を順次通過して、測定対象物７の表面上の露光領域に、測定対象の光スポットを形成する。検知部は、上流側検知レンズ群８、反射鏡群９及び下流側検知レンズ群１０で構成される。リレー部は検知部に関して下流側に配置され、リレー反射鏡１１、リレーレンズ群１２、検知器１３、合焦制御部１４及び演算部１５で構成される。リレー部中を進むときに、スポットを形成している光は、検知器１３で受光され、そこで、測定対象物の表面の位置及び傾きを示す光強度信号に変換される。
【０００３】
特許文献１は、実施の形態の1つで開示するように、１つの光学経路と複数の光スポットとを有する装置を提供し、当該装置では、必要とされる大きさの測定視野を得るために、複数の電荷結合装置（ＣＣＤ）が用いられる。このデザインは、複数のＣＣＤと、対応する画像キャプチャカード及びケーブルとを用いることが、高コストと、当該装置が採用される露光装置全体の設置面積の制限の増大とにつながる点で不利である。
【０００４】
特許文献２は、平行な複数の光ビームを屈折させるためのレンズを有する太陽エネルギー装置を開示する。この装置は、その応用例の観点で、本発明の主題とは異なる。特許文献２は、光ビームエネルギーを集中することに焦点を当てており、画像品質についての要求はない。逆に、本発明は、撮像位置の調整に応用されて、解像度、ゆがみ、焦点深度及び他の画像品質基準についての要求を有する。それゆえ、特許文献２と本発明との間には複数の本質的な違いがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許第５４１４５１５号明細書
【特許文献２】中国特許第１０１７１０２９１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、投影露光装置において、合焦レベリングサブシステムの新規な構造を提供することであり、そこでは、光学経路に屈折部が導入され、１つの光学経路と１つのＣＣＤリニアアレイとを用いて、大きな視野と複数点測定とに関するシステム要求を満足し、コスト及び設置面積の全体的な削減につながる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る合焦レベリング装置は、光ビームを発するための照明光源と、照明レンズ群と、投影部と、測定対象物と、検知部と、屈折部と、リレーレンズ群と、光電検知器とを含み、これらが光ビームの伝送経路にこの順番で順次配置される。光電検知器は、リレーレンズ群を発して測定対象物の表面の高さ及び傾きについての情報を運ぶ光ビームを電気信号に変換し、当該電気信号を演算部及び合焦レベリング制御部に渡すように設けられる。合焦レベリング制御部が測定対象物の表面の高さ及び傾きを調整するために測定対象物を支持するウェハステージを制御するように、演算部は受信した電気信号に基づいて合焦レベリング制御部のための制御信号を生成するように設けられる。照明光源を発した光ビームが照明レンズ群、投影部、測定対象物及び検知部を順次通過した後に複数のマークに対応する複数の非線形に配置されたサブビームとなるように、投影部は複数の非線形に配置されたマークを定める投影スリットを含む。屈折部は、複数のサブビームが屈折部を通過した後に複数の線形に配置された光スポットを形成するように配置される。
【０００８】
好ましくは、投影スリットは、少なくとも３つの非線形に配置されたマークを定める。
好ましくは、投影部は、投影スリットを間にはさむ２つのプリズムを有するダブルプリズム群（double-prism group）を更に備える。
好ましくは、屈折部は反射鏡群、レンズ群及びプリズム群を備える。
好ましくは、反射鏡群はｎ−１組の反射鏡からなり、レンズ群はｎ個のレンズからなり、プリズム群はｎ−１個のプリズムからなる。ここで、ｎは投影スリットにより定められる非線形に配置されたマークの数に対応する。
【０００９】
好ましくは、屈折部は平行平面板（parallel-sided plate）を更に含み、そこでは、屈折部に入射した複数のサブビームの中央のものは、レンズの対応するものを通過して平行平面板に入射し、複数のサブビームの残りのものは、反射鏡の対応する組み、レンズ及びプリズムの対応するものを順次通過し、中央のサブビームと一緒になって、リレーレンズ群に入射する。
【００１０】
好ましくは、光電検知部は１つのＣＣＤリニアアレイである。
好ましくは、屈折部は傾斜面がお互いに向き合うように配置された２つのウェッジ板（wedge）を含む。
【００１１】
好ましくは、２つのウェッジ板のうちの第１のものは、複数のサブビームのうちの中央のもの及び下側のものが屈折部の第１のウェッジ板に入射することに対応する位置に、第１の貫通孔の中央の部分及び下側の部分を定め、２つのウェッジ板のうちの第２のものは、複数のサブビームのうちの中央のもの及び上側のものが屈折部の第２のウェッジ板に入射することに対応するに、第２の貫通孔の中央の部分及び上側の部分を定める。
【００１２】
好ましくは、屈折部は、複数のサブビームの中央のものが第１及び第２のウェッジ板のそれぞれの中央部分に定められた第１及び第２の貫通孔を通過し、平行平面板に入射するように配置された平行平面板を更に備える。
【００１３】
先行技術で共通して採用された２つの仕組み（scheme）、すなわち、多数の光学経路を有し、多数の測定対象の光スポットを生成し、そこでは、大きな測定視野に関する要求を満たすために、複数のＣＣＤリニアアレイが用いられる第１の仕組み、及び、１つの光学経路を有し、多数の測定対象の光スポットを生成し、そこでは、大きな測定視野を達成するために、１つのＣＣＤリニアアレイが用いられる第２の仕組み、とは異なり、本発明は、屈折部が光学経路に導入された、投影露光装置における合焦レベリングサブシステムの新規な構造を提供し、それにより、１つの光学経路及び１つのＣＣＤリニアアレイを用いて、大きな視野及び多点測定に関するシステム要求を満足して、コスト及び設置面積についての全体的な削減につなげる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の有利な効果及び主旨は、添付した図面を参照して考慮されたときに、次の詳細な説明から、よりよく理解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】投影露光装置の合焦レベリングシステムの概略図である。
【図２】本発明に係る屈折部を有する合焦レベリングシステムを概略的に示す図である。
【図３】本発明に係る反射鏡群を有する屈折部を備えた合焦レベリングシステムを概略的に示す図である。
【図４】本発明に係る反射鏡群を有する屈折部の部分投影図である。
【図５Ａ】本発明の実施の形態に従う、投影スリットを概略的に示す図である。
【図５Ｂ】本発明の実施の形態に従う、光ビームが屈折部を通過する前に、光スポットが形成される、画像平面（image plane）上の位置を示す図である。
【図５Ｃ】本発明の実施の形態に従う、光ビームが屈折部を通過した後に、光スポットが形成される、画像平面上の位置を示す図である。
【図６Ａ】本発明の他の実施の形態に従う、投影スリットを概略的に示す図である。
【図６Ｂ】本発明の他の実施の形態に従う、光ビームが屈折部を通過する前に、光スポットが形成される、画像平面上の位置を示す図である。
【図６Ｃ】本発明の他の実施の形態に従う、光ビームが屈折部を通過した後に、光スポットが形成される、画像平面上の位置を示す図である。
【図７】図５Ｃ及び図６Ｃの光ビームにより光スポットが形成される、ＣＣＤリニアアレイ上の位置を示す図である。
【図８】本発明に係るウェッジ板群を有する屈折部を備えた合焦レベリング装置を概略的に示す図である。
【図９】本発明に係るウェッジ板群を有する屈折部の投影図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明のいくつかの特定の実施の形態について、添付した図面を参照して、以下に説明する。
【００１７】
（実施の形態１）
図２は、本発明に係る投影露光装置で用いるための、屈折部を有する合焦レベリング装置を概略的に示す。図示するように、当該装置は、照明光源１０１、照明レンズ群１０２、投影スリット１０３、ダブルプリズム群１０４、上流側投影レンズ群１０５、投影絞り１０６、下流側投影レンズ群１０７、投影反射鏡１０８、測定対象物１０９、上流側検知反射鏡１１０、上流側検知レンズ群１１１、検知絞り１１２、下流側検知レンズ群１１３、下流側検知反射鏡１１４、屈折部１１５、リレーレンズ群１１６、ＣＣＤリニアアレイ１１７、合焦制御部１１８及び演算部１１９を備える。照明光源１０１からの光ビームは、照明レンズ群１０２を通過して、ダブルプリズム群１０４の２つのプリズムの間に挟まれた投影スリット１０３に入射する。ダブルプリズム群１０４を発した後、複数のサブビームが生成され、当該サブビームは上流側投影レンズ群１０５、投影絞り１０６、下流側投影レンズ群１０７を進み、投影反射鏡１０８により反射されて、対象物１０９に到達する。対象物１０９は、次に、サブビームを上流側検知反射鏡１１０上に反射し、上流側検知反射鏡１１０は、今度は、サブビームを上流側検知レンズ群１１１に反射する。サブビームは上流側検知レンズ群１１１を進んだ後に、更に検知絞り１１２及び下流側検知レンズ群１１３を伝播し、下流側検知反射鏡１１４により反射されて屈折部１１５に入る。屈折部１１５を発するに際して、サブビームは１つの線形視野（single linear field of view）に分布された光スポットを形成し、更に、リレーレンズ群１１６を伝わり、ＣＣＤリニアアレイ１１７で受光され、そこで、光は光電変換されて、測定対象物の表面の高さ及び傾きに関する情報を示す信号になる。当該信号は、次に、合焦制御部１１８を通過して演算部１１９に到達し、そこで、信号は処理されて、対象物１０９が望ましい表面の高さ及び傾きに調整されるように、ウェハステージ１２０の制御を行う。
【００１８】
図３は、本発明の実施の形態１に従って構成される、投影露光装置の合焦レベリングサブシステムで用いるための屈折部を有する合焦レベリング装置を示す。当該装置は、ウェハ表面の正確で効率的な測定のために用いられる。図示するように、当該装置は、照明光源２０１、照明レンズ群２０２、投影スリット２０３、ダブルプリズム群２０４、上流側投影レンズ群２０５、投影絞り２０６、下流側投影レンズ群２０７、投影反射鏡２０８、測定対象物２０９、上流側検知反射鏡２１０、上流側検知レンズ群２１１、検知絞り２１２、下流側検知レンズ群２１３、下流側検知反射鏡２１４、屈折部の反射鏡群２１５、屈折部のレンズ群２１６、平行平面板２１７、屈折部のプリズム群２１８、リレーレンズ群２１９、ＣＣＤリニアアレイ２２０、合焦制御部２２１及び演算部２２２を備える。照明光源２０１からの光ビームは、照明レンズ群２０２を通過し、ダブルプリズム群２０４の２つのプリズムに挟まれた投影スリット２０３に入射する。ダブルプリズム群２０４を発した後、複数のサブビームが生成され、当該サブビームは、上流側投影レンズ群２０５、投影絞り２０６、下流側投影レンズ群２０７を進み、投影反射鏡２０８により反射されて、対象物２０９に到達する。対象物２０９は、次に、サブビームを上流側検知反射鏡２１０上に反射し、上流側検知反射鏡２１０は、今度は、サブビームを上流側検知レンズ群２１１に反射する。サブビームは上流側検知レンズ群２１１を進んだ後に、更に検知絞り２１２及び下流側検知レンズ群２１３を伝播し、下流側検知反射鏡２１４により反射されて反射鏡群２１５（すなわち、反射鏡２１５ａ〜２１５ｈ）に到達する。反射鏡群２１５を発した後、サブビームはレンズ群２１６（すなわち、レンズ２１６ａ〜２１６ｅのぞれぞれ）を進み、サブビームの中央のものは平行平面板２１７を通過し、残りの全て、サブビームの周辺のものはプリズム群２１８（すなわち、プリズム２１８ａ〜２１８ｄのぞれぞれ）を通過する。なお、プリズム群２１８では、マークＢは２１５ａ、２１５ｂ、２１６ａ、２１８ａに対応し、マークＡは２１５ｃ、２１５ｄ、２１６ｂ、２１８ｂに対応し、マークＤは２１５ｅ、２１５ｆ、２１６ｃ、２１８ｃに対応し、マークＥは２１５ｇ、２１５ｈ、２１６ｄ、２１８ｄに対応する。その後、中央のものを含む全てのサブビームは、リレーレンズ群２１９を伝わり、ＣＣＤリニアアレイ２２０で受光され、そこで、全てのサブビームは光電変換を施されて、測定対象物の表面の高さ及び傾きに関する情報になる。当該情報は、次に、対象物２０９が望ましい表面の高さ及び傾きに調整されるように、ウェハステージ２２３の制御を行うために、合焦制御部２２１により演算部２２２に伝えられる。サブビームは、この実施の形態では水平な方向で屈折部に入射するように示されているが、本発明は、実際の応用例では、そのような水平の入射に限定されない。反射鏡群２１５は、レンズ群２１６を通過した後に個々の画像を形成してプリズム群２１８によりリレーレンズ群２１９上に屈折される個々のサブビームを分離するように機能する。最後に、サブビームにより形成された画像は、ＣＣＤリニアアレイ２２０上に、直線的な配置（linear arrangement）で出現する。図４は複数の反射鏡を有する屈折部の部分投影図である。図に示すように、屈折部は反射鏡群２１５、レンズ群２１６、平行平面板２１７及びプリズム群２１８を含む。複数のサブビームは反射鏡群２１５により反射された後にレンズ群２１６に入射し、その中を進む。レンズ群２１６を発した後、サブビームの中央のものは平行平面板２１７中を伝わり、残りの４つの周辺のサブビームは全てプリズム群２１８を通過する。その後、周辺のサブビームは中央のサブビームと一緒にリレーレンズ群２１９を通過し、ＣＣＤリニアアレイ２２０により受光される。
【００１９】
図５Ａ、図６Ａは、投影スリットの２つの適切なレイアウトを示す。いずれの場合にも、スリットは、傾けられた配置のダブルプリズム群２０４の２つのプリズムの間に配置され、投影スリットのマークＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅは各図面で示される位置に配置される。図５Ｂ、図６Ｂは、用いられている投影スリットの各レイアウトにおいて、サブビームが屈折部を通過する前に、画像平面上に形成される空間的に分布された光スポットＡ’、Ｂ’、Ｃ’、Ｄ’、Ｅ’を示す。図５Ｃ、図６Ｃは、用いられている投影スリットの各レイアウトにおいて、サブビームが屈折部を通過した後に、画像平面上に形成される線形的に分布された光スポットＡ'’、Ｂ'’、Ｃ'’、Ｄ'’、Ｅ'’を示す。いずれの場合にも、サブビームは最終的にリレーレンズ群２１９を進み、ＣＣＤリニアアレイ２２０により受光され、そこで、視野での光スポットの平面分布が望ましい線形分布に変換される。
【００２０】
図７は、図５Ｃ及び図６Ｃで示した両方の場合において、ＣＣＤリニアアレイ上にサブビームにより形成される光スポットを示し、そこでは、光スポットは線形的に配置されたパターンＡ’’’、Ｂ’’’、Ｃ’’’、Ｄ’’’、Ｅ’’’として出現する。
【００２１】
（実施の形態２）
図８は、本発明の実施の形態２に従って構成された、投影露光装置の合焦レベリングサブシステムで用いるための、ウェッジ板群を有する屈折部を備えた合焦レベリング装置の概略図である。当該装置は、ウェハ表面の位置の正確で効率的な測定のために用いられる。図示するように、当該装置は、照明光源３０１、照明レンズ群３０２、投影スリット３０３、ダブルプリズム群３０４、上流側投影レンズ群３０５、投影絞り３０６、下流側投影レンズ群３０７、投影反射鏡３０８、測定対象物３０９、上流側検知反射鏡３１０、上流側検知レンズ群３１１、検知絞り３１２、下流側検知レンズ群３１３、下流側検知反射鏡３１４、屈折部のウェッジ板群３１５、平行平面板３１６、リレーレンズ群３１７、ＣＣＤリニアアレイ３１８、合焦制御部３１９及び演算部３２０を備える。照明光源３０１からの光ビームは、照明レンズ群３０２を通過し、ダブルプリズム群３０４の２つのプリズムに挟まれた投影スリット３０３に入射する。ダブルプリズム群３０４を発した後、複数のサブビームが生成され、当該サブビームは、上流側投影レンズ群３０５、投影絞り３０６、下流側投影レンズ群３０７を進み、投影反射鏡３０８により反射されて、対象物３０９に到達する。対象物３０９は、続いて、サブビームを上流側検知反射鏡３１０上に反射し、上流側検知反射鏡３１０は、今度は、サブビームを上流側検知レンズ群３１１に反射する。サブビームは上流側検知レンズ群３１１中を進んだ後、更に検知絞り３１２及び下流側検知レンズ群３１３を伝播し、下流側検知反射鏡３１４により反射されてウェッジ板群３１５に入る。ウェッジ板群３１５を発した後、サブビームの中央のものは平行平面板３１６中を通過し、サブビームの残りの、周辺のものと一緒になって、リレーレンズ群３１７を伝わり、ＣＣＤリニアアレイ３１８で受光され、そこで、サブビームは光電変換を施されて、測定対象物の表面の高さ及び傾きに関する情報となる。当該情報は、次に、望ましい表面の高さ及び傾きに対象物３０９が調整されるように、ウェハステージ３２１の制御を行うために、合焦制御部３１９により演算部３２０に伝えられる。
【００２２】
図９は、ウェッジ板群を有する屈折部の概略図である。図示するように、屈折部は平行平面板３１６とウェッジ板群３１５とを含む。ウェッジ板群３１５は鋭利な角部が対向して配置された２つのウェッジ板で構成される。サブビームは下流側検知反射鏡３１４により反射された後に、２つのウェッジ板３１５により１つの画像平面上に映し出される。２つのウェッジ板では、鋭利な角部がマークＢ及びマークＤの向き（すなわち、上向き）と同じ方向を向くようにウェッジ板３１５ａが配置され、ウェッジ板３１５ｂの鋭利な角部はマークＡ及びマークＥの向き（すなわち、下向き）と同じ方向に向けられる。ウェッジ板群は、δ=α (n-1)nとして与えられる角度でサブビームを偏向する。ここでは、ｎはウェッジ板の屈折率であり、αは鋭利な角部の５°よりも小さい角度である。サブビームはできるだけ９０°に近いことが望まれる角度で上流側ウェッジ板３１５ａの表面に入射し、最終的に、リレーレンズ群３１７によりＣＣＤリニアアレイ３１８上に映し出される。ウェッジ板３１５ａは前述した下側の２つのサブビームの入射に対応する位置に２つの孔を定め、一方、ウェッジ板３１５ｂはウェッジ板３１５ａにより偏向された、上側の２つのサブビームの入射に対応する位置に２つの孔を定める。加えて、ウェッジ板３１５ａ、３１５ｂのそれぞれは、サブビームの中央のものの入射に対応する孔を定める。これらの孔はすべて、サブビームが通過する間に、サブビームを偏向しない貫通孔である。更に、サブビームがウェッジ板群３１５を通過した後に、光スポットの平面分布が望ましい分布に変換されるように、平行平面板３１６は中央のサブビームの光学経路の違いを補償するように配置され、サブビームは次にリレーレンズ群３１７を伝わり、最終的にＣＣＤリニアアレイ３２０により受光される。
【００２３】
本発明のせいぜいいくつかの好ましい実施の形態がここでは開示され、それらは、本発明を多少なりとも限定するというよりも、むしろ、例示するためだけに提示される。本発明の概念に照らして、当業者による論理的な分析、推論、限られた実験の結果であるいかなる他の技術的仕組みも、本発明の範囲に入ると考えられる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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