(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の装着面が設けられたフレームと、干渉計のビームを反射する鏡とを具備する露光ツールで使用するための干渉計モジュールであって、
前記干渉計のビームを照射する干渉計ヘッドと、
前記露光ツールの前記第１の装着面と協働して係合する第２の装着面と、
前記第２の装着面に対する前記干渉計ヘッドの向きを調節する調節手段とを具備し、
前記第１の装着面が前記第２の装着面と一緒にキネマティックマウントを形成するように構成されており、
前記干渉計ヘッドは、第１の干渉計ヘッドであり、
干渉計モジュールは、さらに、さらなるビームを照射するように配置された第２の干渉計ヘッドと、前記第２の装着面に対する前記第２の干渉計ヘッドの向きを調節する第２の調節手段とを具備し、前記さらなるビームが前記第１の干渉計ヘッドにより照射される前記干渉計のビームに対し垂直になるようになっており、
干渉計モジュールは、Ｌ字形であり、前記干渉計のビームと前記さらなるビームとを互いに垂直に照射するために、前記第１の干渉計ヘッド及び前記第２の干渉計ヘッドの各々が、前記Ｌ字形のモジュールの異なる脚に配置されている、干渉計モジュール。
【請求項２】
前記第１の装着面に対して前記干渉計モジュールの前記第２の装着面を解放可能にクランプする解放可能なクランプ手段をさらに具備する、請求項１に記載の干渉計モジュール。
【請求項３】
前記第２の装着面は、前記Ｌ字形のモジュールの角に配置されている、請求項１に記載の干渉計モジュール。
【請求項４】
前記調節手段は、複数の調節プレートを有し、前記複数の調節プレートは、前記第１、及び第２の干渉計ヘッドを前記異なる脚に調節可能に接続している、請求項１ないし３のいずれか1項に記載の干渉計モジュール。
【請求項５】
干渉計モジュールのプレアライメントのためのアライメントフレームであって、
前記干渉計モジュールは、
ビームを照射する干渉計ヘッドと、
アライメントフレームから離間された露光ツールの第１の装着面と協働して係合する第２の装着面とを有し、前記第１の装着面が前記第２の装着面と一緒にキネマティックマウントを形成するように構成されており、
前記アライメントフレームは、
前記第２の装着面と協働して係合し、前記第２の装着面と一緒にキネマティックマウントを形成するように構成されている第３の装着面と、
前記干渉計ヘッドによって照射されたビームの位置を感知するセンサとを具備し、前記センサは、前記センサに入射するビームを感知するビーム感知面を有し、
前記アライメントフレームは、前記干渉計モジュールと前記ビーム感知面との間に配置され、前記ビーム感知面に近接しているナイフエッジを具備し、前記ナイフエッジは、前記露光ツールに装着されたとき、前記干渉計モジュールがビームを照射する鏡に対して前記露光ツールの前記第１の装着面の所定の向きに対応する前記第３の装着面に対して所定の向きで配置されている、アライメントフレーム。
【請求項６】
前記第２の装着面が前記第３の装着面と係合したとき、前記センサが、前記センサに直接入射する前記照射されたビームを含むように配置されている、請求項５に記載のアライメントフレーム。
【請求項７】
前記センサは、前記第３の装着面に対して所定の位置に配置されている、請求項５に記載のアライメントフレーム。
【請求項８】
前記ビーム感知面の面積は、前記ビームの垂直な横断面の面積以上である請求項５に記載のアライメントフレーム。
【請求項９】
前記干渉計モジュールによって照射される少なくとも１つのさらなるビームの少なくとも１つのさらなるビームスポットの位置を感知するように構成され、前記センサから離間された少なくとも１つのさらなるセンサをさらに具備する請求項５に記載のアライメントフレーム。
【請求項１０】
ターゲット上に少なくとも１つの露光ビームを投影する投影光学系と、
前記投影光学系に対して前記ターゲットを移動させるように構成され、鏡が設けられたターゲットキャリアを有するターゲット位置決めシステムと、
実質的に所定の向きを有する第１の装着面と、
ツール内で前記ターゲットの変位を測定するように構成され、前記第１の装着面と協働して係合するように構成された第２の装着面を有し、前記第２の装着面がキネマティックボールを備え、前記第１の装着面が第２の装着面と一緒にキネマティックマウントを形成するように構成されている請求項１ないし４のいずれか１項に記載の干渉計モジュールとを具備する露光ツールであって、
前記ターゲット位置決めシステムは、測定された変位に基づいて前記ターゲットを移動させるように構成され、
露光ツール及び干渉計モジュールは、前記第２の装着面が前記第１の装着面に対してアライメントされるように、前記露光ツールの前記第１の装着面に前記干渉計モジュールの前記第２の装着面を解放可能に装着するように構成されている露光ツール。
【請求項１１】
前記第１の装着面に対して前記干渉計モジュールの前記第２の装着面を解放可能にクランプする解放可能なクランプ手段をさらに具備する請求項１０に記載の露光ツール。
【請求項１２】
前記解放可能なクランプ手段は、前記第１の装着面に対して前記第２の装着面を付勢するように構成された板ばねを有する、請求項１１に記載の露光ツール。
【請求項１３】
前記干渉計モジュールを受ける収容部を有し、
前記収容部は、前記第１の装着面を有する、請求項１０ないし１２のいずれか1項に記載の露光ツール。
【請求項１４】
前記収容部は、前記干渉計によって照射されるビームを通過させる通路が設けられた壁を有する請求項１３に記載の露光ツール。
【請求項１５】
第１の装着面が設けられたフレームと、干渉計のビームを反射する鏡とを具備する露光ツールで使用するためのＬ字形の干渉計モジュールをプレアライメントする方法であって、
前記干渉計モジュールは、前記干渉計のビームを照射する干渉計ヘッド及び前記干渉計のビームと垂直なビームを照射するさらなる干渉計ヘッドを有し、
前記干渉計ヘッド及び前記さらなる干渉計ヘッドの各々が、前記Ｌ字形のモジュールの異なる脚に配置されているとともに、前記干渉計のビームと前記さらなるビームとを互いに垂直に照射するために配置されており、
前記干渉計モジュールは、前記第１の装着面と協働して係合するように適合している第２の装着面に接続され、
この方法は、
前記露光ツールの外部で前記第２の装着面に対する前記干渉計モジュールの向きをアライメントする工程を具備し、前記第２の装着面に対する前記干渉計モジュールの向きは、前記鏡に対する前記第１の装着面の所定の向きに基づいてアライメントされ、前記干渉計モジュールの向きをアライメントする工程は、次のステップ（ａ）から（ｄ）を備え、
（ａ）前記第２の装着面と協働して係合する第３の装着面であって、前記第２の装着面と一緒にキネマティックマウントを形成するように適合されている第３の装着面と、前記干渉計ヘッドによって照射されたビームが所定の位置に照射されたか否かを感知するセンサとを有し、前記露光ツールから離間されたアライメントフレームを与えることと、
（ｂ）前記アライメントフレームの前記第３の装着面にある前記第２の装着面を前記干渉計モジュールに装着することと、
（ｃ）前記干渉計ヘッドによりビームを照射することと、
（ｄ）前記所定の位置に前記ビームを位置決めするために、前記第２の装着面に対する前記干渉計モジュールの向きを調節することとを含み、
前記さらなる干渉計のために前記（ａ）から（ｄ）のステップを実行することにより、鏡に対する前記第１の装着面の所定の向きに基づいて、前記露光ツールの外部で、前記第２の装着面に対する前記さらなる干渉計ヘッドの向きをアライメントし、
前記干渉計ヘッド及び前記さらなる干渉計ヘッドによって照射される前記ビームが互いに実質的に所定の角度で傾斜しているように、前記干渉計ヘッドと前記さらなる干渉計ヘッドとの向きが調節される、干渉計モジュールをプレアライメントする方法。
【請求項１６】
前記所定の角度は、９０度であり、及び／又は前記ビームと前記さらなるビームとが交差するようにアライメントすることを含む、請求項１５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光ツールで使用するための干渉計モジュールのアライメントに関する。
【従来技術】
【０００２】
鏡筒と、露光されるターゲットを保持し、鏡筒に対してターゲットを移動させるターゲットキャリアとを備えた露光ツールは、しばしば、露光ツール内でのターゲットの位置を正確に決定するための干渉計を有する。適切に動作するために、このような干渉計は、露光ツールの他の部品と、例えば、ターゲットキャリアにある鏡や鏡筒にある鏡とアライメントされなければならない。例えば、メンテナンスを行うために、又はツールをアップグレードするために、干渉計を交換するとき、交換する干渉計は、露光ツールに対して、特に、干渉計がビームを照射するツールの鏡に対してアライメントされていなければならない。このようなアライメント手順のために必要な時間は、干渉計の交換時に露光ツールのダウンタイムを増加させてしまう。
【発明の概要】
【０００３】
本発明の目的は、露光ツールの干渉計の交換時のダウンタイムを減少させる干渉計モジュール、方法及び露光ツールを提供することである。
【０００４】
第１の態様によれば、本発明は、露光ツールで使用するための干渉計モジュールをプレアライメントする方法を提供する。前記ツールは、第１の装着面が設けられたフレームと、干渉計のビームを反射する鏡とを具備し、前記モジュールは、干渉計のビームを照射する干渉計ヘッドを有し、前記モジュールは、前記第１の装着面と協働して係合する第２の装着面に接続され、この方法は、前記露光ツールの外部で前記第２の装着面に対する前記モジュールの向きをアライメントすることを具備し、前記第２の装着面に対する前記モジュールの向きは、前記鏡に対する前記第１の装着面の所定の向きに基づいてアライメントされる。このような所定の向きは、前記鏡に対する前記第１の装着面の角度に関する向きと位置に関する向きとの少なくとも一方を含むことができる。干渉計が露光ツールの外部でプレアライメントされるので、露光ツールにいったん装着されると、交換した干渉計をアライメントする必要がない。結果として、露光ツールのダウンタイムが大幅に減少される。代表的には、モジュールの第２の装着面は、３つの個々の装着面を有し、露光ツールの第１の装着面は、対応する数の個々の装着面を含む。
【０００５】
一実施の形態では、本方法は、さらに、前記アライメントされたモジュールを前記露光ツールに装着する工程を含む。代表的には、この方法は、交換モジュールが設けられたツールに装着された干渉計モジュールを交換するときに行われ、まず、交換モジュールがアライメントされ、このとき、他のモジュールがなお露光ツールに装着され、そして、交換モジュールがアライメントされた後、他のモジュールがツールから取り外され、アライメントされたモジュールがツールに装着される。そして、ツールが、ツールの交換モジュールをさらにアライメントすることなく、動作を継続することができる。
【０００６】
一実施の形態では、前記アライメントすることは、前記第２の装着面と協働して係合する第３の装着面と、前記干渉計ヘッドによって照射されたビームが所定の位置に照射されたか否かを感知するセンサとを有し、前記露光ツールから離間されたアライメントフレームを与えることを含み、前記アライメントすることは、前記アライメントフレームの前記第３の装着面にある前記第２の装着面を前記モジュールに装着することと、前記干渉計ヘッドによりビームを照射することと、前記所定の位置に前記ビームを位置決めするために、前記第２の装着面に対する前記モジュールの向きを調節することとを含む。
【０００７】
一実施の形態では、本方法は、前記モジュールが前記アライメントフレームに装着されたとき、前記ビームが前記センサに到達するのを部分的に遮断するように配置されたナイフエッジを使用することをさらに含み、前記調節する工程は、前記センサによって感知された前記ビームのエネルギが前記ビームの全ビームエネルギの所定の割合にほぼ等しいとき、前記ビームが前記所定の位置にあることを決定することを含む。前記所定の割合は、好ましくは、前記ビームの全ビームエネルギの５０％である。この方法は、ビームが所定の位置にあるか否かを正確に決定するために、フォトダイオードのような簡易な光センサの使用を可能にする。センサに対する、及び第３の装着面に対するナイフエッジの位置は、好ましくは、既知である。
【０００８】
一実施の形態では、前記干渉計は、測定ビームとして前記ビームを照射し、かつ、対応する基準ビームを照射するように構成された微分干渉計であり、前記アライメントフレームは、前記基準ビームの位置を感知するセンサを有し、本方法は、前記ビーム感知面によって感知された前記ビームのエネルギの合計が前記ビームの全ビームエネルギの所定の割合にほぼ等しいように、前記測定ビーム及び前記基準ビームが照射される方向に対する前記モジュールの向きを調節することを含む。この方法は、基準ビーム及び対応する測定ビームから形成された結合ビームの最大測定エネルギが最適化されるように、微分干渉計をアライメントすることを可能にする。
【０００９】
一実施の形態では、前記所定の割合は、ほぼ５０％である。
【００１０】
一実施の形態では、前記露光ツールの前記第１の装着面と、前記アライメントフレームの前記第３の装着面との少なくとも一方が、前記干渉計モジュールの前記第２の装着面と一緒にキネマティックマウントを形成するように構成されている。マウントは、自由度（自由運動の軸）及び物理的な制限が６であるとき、キネマティックであると言われる。例えば、干渉計モジュールには、３つのキネマティックボールが設けられることができ、露光ツールは、例えば、参照としてここに援用される国際公開第２０１０／０２１５４３号の図１０に示されるような、干渉計モジュールに面し、「円錐、溝及び平面」の第１の装着面が設けられたインタフェースプレート８１を有する。
【００１１】
一実施の形態では、前記モジュールは、前記ビームにほぼ垂直なさらなるビームを照射するように配置された干渉計ヘッドを有し、前記アライメントすることは、さらに、前記第１の装着面の所定の向きに基づいて前記露光ツールの外部で前記第２の装着面に対する前記さらなる干渉計ヘッドの向きをアライメントすることを含み、前記干渉計ヘッド及び前記さらなる干渉計ヘッドによって照射される前記ビームが互いに実質的に所定の角度で傾斜しているように、前記干渉計ヘッド及び前記さらなる干渉計ヘッドとの向きが調節される。
【００１２】
一実施の形態では、前記所定の角度は、９０度である。
【００１３】
一実施の形態では、前記アライメントすることは、前記ビームと前記さらなるビームとが交差するように、前記ビームと前記さらなるビームとをアライメントすることを含む。
【００１４】
第２の態様によれば、本発明は、露光ツールを提供し、この露光ツールは、ターゲット上に少なくとも１つの露光ビームを投影する投影光学系と、前記投影光学系に対して前記ターゲットを移動させるように構成されたターゲットキャリアを有するターゲット位置決めシステムとを具備し、前記ターゲットキャリアには、鏡と、実質的に所定の向きを有する第１の装着面と、前記ツール内で前記ターゲットの変位を測定するように構成された干渉計モジュールとが設けられ、前記干渉計モジュールは、前記第１の装着面と協働して係合するように構成された第２の装着面を有し、前記ターゲット位置決めシステムは、前記測定された変位に基づいて前記ターゲットを移動させるように構成され、前記露光ツール及び前記干渉計モジュールは、前記第２の装着面が前記第１の装着面に対してアライメントされるように、前記露光ツールの前記第１の装着面に前記干渉計モジュールの前記第２の装着面を解放可能に装着するように構成されている。
【００１５】
好ましくは、露光ツールには、ここに記載される方法に従ってアライメントされた干渉計モジュールが設けられる。
【００１６】
一実施の形態では、前記露光ツールは、さらに、前記第１の装着面に対して前記干渉計モジュールの前記第２の装着面を解放可能にクランプする解放可能なクランプ手段を有する。前記クランプ手段は、好ましくは、クイックリリースクランプ手段を有する。
【００１７】
一実施の形態では、前記解放可能なクランプ手段は、前記第１の装着面に対して前記第２の装着面を付勢するように構成された板ばねを有する。
【００１８】
一実施の形態では、前記露光ツールは、前記干渉計モジュールを受ける収容部を有し、前記収容部は、前記第１の装着面を有する。
【００１９】
一実施の形態では、前記収容部は、前記干渉計によって照射されるビームを通過させる通路が設けられた壁を有する。
【００２０】
一実施の形態では、前記第１の装着面は、前記第２の装着面と当接する３つの離間された平面状の当接面を有し、前記当接面の平面は、前記投影光学系に対して所定の間隔を有する位置で交差し、前記所定の間隔は、前記干渉計ヘッドによって照射されるビームの方向に沿った前記投影光学系に対する前記干渉計ヘッドの間隔よりも実質的に大きい。
【００２１】
一実施の形態では、前記第１の装着面は、前記当接面に平行に延びた溝を有する。
【００２２】
第３の態様によれば、本発明は、ここに記載される露光ツールで使用するための干渉計モジュールを提供し、前記干渉計モジュールは、ビームを照射する干渉計ヘッドと、前記露光ツールの前記第１の装着面と協働して係合する第２の装着面と、前記第２の装着面に対して前記干渉計ヘッドの向きを調節する調節手段とを具備する。
【００２３】
一実施の形態では、前記干渉計ヘッドは、第１の干渉計ヘッドであり、前記モジュールは、さらに、前記第１の干渉計ヘッドによって照射されるビームにほぼ垂直にビームを照射するように配置された第２の干渉計ヘッドと、前記第２の装着面に対する前記第２の干渉計ヘッドの向きを調節する第２の調節手段とを具備する。
【００２４】
一実施の形態では、前記干渉計モジュールは、ほぼＬ字形であり、前記第１の干渉計ヘッド及び前記第２の干渉計ヘッドの各々が、互いに向かってビームを照射するように、Ｌ字形のモジュールの異なる脚に配置されている。
【００２５】
一実施の形態では、前記第２の装着面は、Ｌ字形のモジュールの角に配置されている。
【００２６】
一実施の形態では、前記調節手段は、複数の調節プレートを有する。
【００２７】
第４の態様によれば、本発明は、干渉計モジュールをプレアライメントするアライメントフレームを提供し、前記モジュールは、ビームを照射する干渉計ヘッドと、アライメントフレームから離間された露光ツールの第１の装着面と協働して係合する第２の装着面とを有し、アライメントフレームは、前記第２の装着面と協働して係合する第３の装着面と、前記干渉計ヘッドによって照射されるビームの位置を感知するセンサとを有する。
【００２８】
一実施の形態では、前記第３の装着面は、前記第２の装着面と一緒にキネマティックマウントを形成するように構成されている。
【００２９】
一実施の形態では、前記第２の装着面が前記第３の装着面と係合したとき、前記センサが、前記センサに直接入射する前記照射されたビームを含むように配置されている。
【００３０】
一実施の形態では、前記センサは、前記第３の装着面に対して所定の位置に配置される。
【００３１】
一実施の形態では、前記センサは、前記センサに入射するビームを感知するビーム感知
面を有する。
【００３２】
一実施の形態では、前記アライメントフレームは、さらに、前記モジュールと前記ビーム感知面との間に配置され、前記ビーム感知面に近接しているナイフエッジを有する。
【００３３】
一実施の形態では、前記ビーム感知面の面積は、前記ビームの垂直な横断面の面積以上である。
【００３４】
一実施の形態では、前記アライメントフレームは、さらに、前記干渉計モジュールによって照射される少なくとも１つのさらなるビームの少なくとも１つのさらなるビームのスポットの位置を感知するように構成され、前記センサから離間された少なくとも１つのさらなるセンサを有する。
【００３５】
要約すると、本発明は、露光ツールで使用するための干渉計モジュールのアライメントに関する。アライメント方法は、ツールの外部で干渉計をツールに対してアライメントすることを有する。さらに、本発明は、デュアル干渉計モジュール、ここに記載されるアライメント方法でのアライメントフレームの使用、及びプレアライメントされている干渉計モジュールの第２の装着面と協働して係合する第１の装着面が設けられた露光ツールを提供する。
【００３６】
本明細書中に記載され図面に図示されるさまざまな態様並びに特徴が、可能なところに個別に適用されることができる。これらの個々の態様、特に、添付の従属請求項に規定される態様並びに特徴は、分割特許出願の対象とされることができる。
【００３７】
本発明が、添付図面に示される例示的な実施の形態に基づいて説明される。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明に係るリソグラフィシステムの概略的な側面図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本発明に係るリソグラフィシステムの概略的な側面図である。
【図１Ｃ】図１Ｃは、本発明に係るリソグラフィシステムのさらなる実施の形態の概略的な側面図である。
【図２Ａ】図２Ａは、本発明に係る微分干渉計モジュールの模式的な側面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本発明に係る微分干渉計モジュールの斜視図である。
【図３Ａ】図３Ａは、本発明に係る露光ツール及び干渉計モジュールの細部の概略的な斜視図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、本発明に係る露光ツール及び干渉計モジュールの細部の上面図である。
【図４Ａ】図４Ａは、本発明に係る２つの干渉計モジュールを有するリソグラフィシステムの上面図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、本発明に係る２つの干渉計モジュールを有するリソグラフィシステムの側面図である。
【図５Ａ】図５Ａは、本発明に係る、それらのそれぞれのデュアル干渉計モジュールとシングル干渉計ヘッドの斜視図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、図５Ａの干渉計ヘッド及び調節プレートの細部を示す図である。
【図６Ａ】図６Ａは、本発明に係る露光ツールの第１の装着面と第２の装着面との構成を示す図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、本発明に係る露光ツールの第１の装着面と第２の装着面との構成を示す図である。
【図６Ｃ】図６Ｃは、本発明に係る露光ツールの第１の装着面と第２の装着面との構成を示す図である。
【図７Ａ】図７Ａは、本発明に係る露光ツールの第１の装着面の代替構成を示す図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、本発明に係る露光ツールの第１の装着面の代替構成を示す図である。
【図７Ｃ】図７Ｃは、本発明に係る露光ツールの第１の装着面の代替構成を示す図である。
【図８Ａ】図８Ａは、本発明に係る露光ツールに使用する干渉計をプレアライメントする方法のフローチャートである。
【図８Ｂ】図８Ｂは、本発明に係る露光ツールに使用する干渉計をプレアライメントする方法のフローチャートである。
【図９Ａ】図９Ａは、本発明に係る微分干渉計で使用されるようなビームスプリッタ及び結合ビームの受光の詳細を示す図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、図４Ａの微分干渉計を使用して得られる信号のグラフである。
【図９Ｃ】図９Ｃは、本発明に係る微分干渉計のさらなる実施の形態を使用して得られる信号のグラフである。
【図１０】図１０は、本発明に係るアライメントフレームを概略的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３９】
図１Ａは、本発明に係るリソグラフィシステム１を示す図である。このシステムは、フレーム４を有し、フレーム４には、光軸３７を備えた鏡筒３６が装着されている。鏡筒は、ターゲット７上に複数の露光小ビーム１０を投影するように構成されている。選択された露光小ビームのオン／オフを選択的に切り替えることによって、鏡筒の下のターゲットの露光面にパターンが形成されることができる。ターゲットは、ウェーハテーブル６上に載置され、ウェーハテーブルは、チャック６６上に載置され、チャックは、その上にチャック６６が載置されるステージ９によって鏡筒３６に対して移動可能である。図示される実施の形態では、チャック、ウェーハテーブル及びステージは、鏡筒３６に対してターゲット７を移動させるターゲットキャリアを形成している。
【００４０】
チャック６６は、システム内でターゲット７又はその露光面とほぼ同じレベル、即ち高さにあるほぼ平面状の面を備えた第１の鏡２１を有する。鏡筒は、鏡筒の突出端に近接しているほぼ平面状の面を備えた第２の鏡８１を有する。
【００４１】
このシステムは、さらに、キネマティックマウント６２、６３、６４によってフレーム４に装着されたモジュール式干渉計ヘッド６０、即ち微分干渉計モジュールを有する。モジュール式干渉計ヘッド６０は、第２の鏡８１に基準ビームＲｂを照射し、また、第１の鏡２１に関連する測定ビームＭｂを照射する。この図には示されないが、基準ビームは、３つの基準ビームを含み、また、測定ビームは、３つの測定ビームを含む。第１の鏡８１と第２の鏡２１との間の相対移動は、基準ビームとそれに関連する測定ビームとの間の干渉を評価することによって測定される。
【００４２】
３つの測定ビームＭｂと３つの基準ビームＲｂとは、レーザユニット３１から発信される。このレーザユニットは、コヒーレント光のビームを供給し、モジュール６０のビーム源の一部を形成する光ファイバ９２を介して干渉計ユニット６０に結合される。
【００４３】
図１Ｂは、図１Ａのリソグラフィシステム１を概略的に示す図である。このリソグラフィシステムは、真空ハウジング２を有する。真空ハウジング２の内部には、干渉計ヘッド６０とその接続、第１の鏡８１及び第２の鏡２１のみが示されるが、真空チャンバ２の内部には図１Ａのターゲットキャリアが同様に収容されていることが理解される。
【００４４】
レーザ３１からの光ファイバ９２は、真空フィードスルー９１を介して真空チャンバ２の壁を貫通している。測定ビームとこれらに関連する基準ビームとの間の干渉を表す信号が、干渉計モジュール６０から真空フィードスルー６１を貫通している信号線５４を介して真空チャンバ２の外部に伝送される。
【００４５】
図１Ｃは、図１Ａに示されるシステムと同様のリソグラフィシステムを概略的に示す図である。このシステムは、複数の荷電粒子小ビームを与える電子光学系３を有する荷電粒子ビームリソグラフィシステムである。投影光学系５は、ターゲット７の露光面上に荷電粒子小ビームを個々に集束させる複数の静電レンズを有する。投影光学系５は、フレーム４に対する投影光学系の向きと位置との少なくとも一方を調節するアクチュエータ６７を有する。このシステムは、さらに、ステージ１１の移動を制御するステージ制御ユニット９５に対する位置と変位との少なくとも一方の信号を与えるように構成された信号処理モジュール９４を有する。信号は、干渉計モジュール６０及びアライメントセンサ５７から真空フィードスルー６１、５９を貫通している信号線５４、５８を介して信号処理モジュール９４に伝送され、信号処理モジュールは、ステージ１１と投影光学系５との少なくとも一方を駆動させる信号を与える。ウェーハテーブル６の変位、従って投影光学系５に対して支持されたターゲット７の変位は、かくして継続的に監視され、補正される。
【００４６】
図示される実施の形態では、ウェーハテーブル６は、キネマティックマウント８を介して可動ステージ１１によって支持されており、ステージ９は、干渉計モジュール６０に向かう方向又は干渉計モジュール６０から離れる方向に、投影光学系５に対して移動されることができる。微分干渉計モジュール６０は、投影光学系にある鏡に向かって３つの基準ビームを照射し、ウェーハテーブルにある鏡に向かって３つの測定ビームを照射する。
【００４７】
図２Ａ並びに図２Ｂは、それぞれ、図１Ａの干渉計モジュールの正面図並びに斜視図である。干渉計モジュール６０は、フレームへのモジュールの装着時のモジュールの簡単かつ高精度なアライメントのためのキネマティックマウント６２、６３、６４を有する。干渉計モジュールは、３つの対応する基準ビームｒｂ１、ｒｂ２、ｒｂ３を照射し、かつ、モジュールに戻るその反射ビームを受光するための３つの孔７１、７２、７３を有する。干渉計モジュールは、さらに、３つの対応する測定ビームｍｂ１、ｍｂ２、ｍｂ３を照射し、かつ、モジュールに戻るその反射ビームを受光するための３つの孔７４、７５、７６を有する。基準ビームを照射するための孔７３は、測定ビームを照射するための孔７５から４ｍｍの間隔ｄ５のところに配置されている。孔７１と孔７２とは、間隔ｄ１だけ離間され、孔７２と孔７３とは、間隔ｄ２だけ離間され、孔７４と孔７５とは、間隔ｄ１に等しい間隔ｄ３だけ離間され、孔７５と孔７６とは、間隔ｄ２に等しい間隔ｄ４だけ離間されている。図示される実施の形態では、これら間隔ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５の中心から中心までの間隔は、それぞれ、１２ミリメートル、５ミリメートル、１２ミリメートル、５ミリメートル、４ミリメートルに等しい。図２Ｂでは、第１の基準ビームｒｂ１と第２の基準ビームｒｂ２とは、第１の平面に広がっており、第２の基準ビームｒｂ２と第３の基準ビームｒｂ３とは、第２の平面に広がっており、第２の平面は、第１の平面に対して９０度の角度α（図示されない）である。同様に、第１の測定ビームｍｂ１と第２の測定ビームｍｂ２とは、第３の平面に広がっており、第２の測定ビームｍｂ２と第３の測定ビームｍｂ３とは、第４の平面に広がっており、第３の平面は、第４の平面に対してほぼ同じ角度α（図示されない）である。
【００４８】
例えば、リソグラフィシステムのような露光ツールでの干渉計モジュールユニットの交換を容易にするために、本発明は、露光ツールを提供し、その露光ツールの細部が図３Ａに示される。このツール３００は、図１Ａ、図１Ｂ並びに図１Ｃに示されるリソグラフィシステムと同様に、投影光学系と、露光中に投影光学系に対してターゲットを移動させるターゲットキャリアとを有する。図３Ａは、ウェーハのようなターゲットを処理するこのような露光ツール３００の一実施の形態の細部を示す図である。
【００４９】
干渉計モジュール３６０は、ツールの収容部３７０に収容されている。収容部３７０の第１の装着面３７１、３７２、３７３に対してそれぞれ干渉計３６０の第２の装着面３６１、３６２、３６３を押圧するように付勢される板ばね３７４、３７５が、収容部３７０中で適所にモジュール３６０を保持する。板ばね３７４、３７５は、収容部３７０中で適所に干渉計モジュール３６０を解放可能にクランプするために、クイックリリースクランプを形成している。これらばねが第１の装着面に対して第２の装着面を付勢するので、第１の装着面に対する第２の装着面の所定の向きが確実にされる。その第２の装着面に対する干渉計モジュールの向きが正確にプレアライメントされると、測定ビームｍｂと対応する基準ビームｒｂとは、モジュールが収容部中に挿入されるやいなや露光ツール（図示されない）のそれぞれの測定鏡及び基準鏡に対して正確にアライメントされる。
【００５０】
図３Ｂは、フレーム３０１に取着された収容部３７０の、及び、収容部３７０に設置されたモジュール３６０の上面図である。板ばね３７５は、第１の装着面３７１、３７３の第１の当接面３７１ａ、３７３ａに対して、Ｘ方向に干渉計モジュール３６０に力を加えるように構成されており、一方、板ばね３７４は、第１の装着面３７３の第２の当接面３７３ｂに対して、Ｘ方向に垂直なＹ方向にモジュールに力を加えるように構成されている。
【００５１】
板ばね３７４、３７５のそれぞれの第１の端部３７４ａ、３７５ａは、収容部３７０に固定して取着され、一方、これら板ばねのそれぞれの第２の端部３７４ｂ、３７５ｂは、ハンドル３９１又は３９２を動かすことによって、収容部３７０に対して干渉計モジュール３６０のそれぞれの第２の装着面３６１、３６２から離れるように移動可能である。これらハンドルは、板ばねのそれぞれの第２の端部３７４ｂ、３７５ｂに取着されている。どちらの板ばね３７４、３７５も対応する第２の装着面３７１又は３７２に対して第１の装着面３６１又は３６２を押圧しないとき、モジュールは、収容部３７０から容易に取り外されることができる。収容部３７０への干渉計モジュール３６０の挿入中、例えば、交換モジュールの挿入中、これら板ばね３７４、３７５は、モジュールの第２の装着面３６１、３６２、３６３から離間されて保持されている。モジュール３６０が収容部３７０中にいったん挿入されると、２つの板ばね３７１、３７２が、対応する第１の装着面に対して所定の向きに第２の装着面３６１、３６２、３６３をクランプするように解放される。
【００５２】
図４Ａ並びに図４Ｂは、本発明に係る露光ツール、即ちリソグラフィシステムの上面図並びに側面図である。ここに説明されるような第１及び第２の微分干渉計モジュール６０Ａ、６０Ｂは、投影光学系５に対するウェーハ７の変位を測定するように配置されている。投影光学系には、互いに対して９０度の角度で配置された２つの平面鏡８１Ａ、８１Ｂが設けられている。ウェーハ７は、同様に、互いに対して９０度の角度で配置された２つの平面鏡２１Ａ、２１Ｂを有するウェーハテーブル６によって支持されている。第１の微分干渉計モジュール６０Ａは、投影光学系の鏡８１Ａに３つの基準ビームｒｂ１、ｒｂ２、ｒｂ３を照射し、ウェーハテーブルの鏡２１Ａに３つの測定ビームを照射する。同様に、第２の微分干渉計モジュール６０Ｂは、投影光学系の鏡８１Ｂに基準ビームを照射し、ウェーハテーブルの鏡２１Ｂに測定ビームを照射する。
【００５３】
本発明に係る干渉計ヘッド６０ａ、６０ｂは、対応する鏡８１ａ、８１ｂに対してアライメントされることができるが、これらモジュールは、リソグラフィシステムの外部にあり、両干渉計もまた互いにアライメントされていることが望ましい。
【００５４】
図５Ａは、第１の脚５０２と第２の脚５０３とを備えたＬ字形のハウジング５０１を有する干渉計モジュール５００を示す図である。これら脚５０２、５０３は、角部５０４で互いに剛結されている。図示される実施の形態では、これら脚は、軽量な剛性材料で構成されているが、他の実施の形態では、これら脚は、実質的な中空構造として形成されることができ、例えば、剛性があり軽量構造を提供するハニカム構造体を含む。干渉計モジュールは、ここに記載されるような、第１の脚に取着される第１の干渉計ヘッド５１０と、ここに記載されるような、第２の脚に取着される第２の干渉計ヘッド５３０とを有する。第１及び第２の干渉計５１０、５３０は、それぞれ、調節プレート５２０、５２１、５２３と、調節プレート５４０、５４１、５４２とによって、脚５０２、５０３に調節可能に接続されている。モジュールが露光ツールの外部にあるとき、第１及び第２の干渉計ヘッド５１０、５３０は、これらが垂直にあるいは同じ高さにビームを照射することができるように互いにアライメントされることができるので、第１の干渉計ヘッドによって照射されるビームは、第２の干渉計ヘッドによって照射されるビームと交差することができる。露光ツールで使用するための２つの干渉計ヘッドの高精度なアライメントは、かくして、ツールへのアクセスを必要とすることなく達成される。
【００５５】
Ｌ字形のハウジング５０１のアーム５０２、５０３の先端の角部では、ハウジングは、露光ツールの第１の装着面と協働して係合するキネマティックボール５６１、５６２、５６３の形態で第２の装着面に設けられている（図６Ａないし図６Ｃ並びに図７Ａないし図７Ｃ参照）。同じ角部ｙにおいて、干渉計には、露光ツールの引張ばねマウントを収容するソケット５８１、５８２、５８３が設けられている。かくして、ばねマウントは、露光ツールの対応する第１の装着面に対してキネマティックボール５６１、５６２、５６３を押圧するために使用される。互いに押圧されたとき、キネマティックボール５６１、５６２、５６３と第１の装着面とは、所定の位置にあり、これにより、露光ツールの外部でプレアライメントされたモジュールは、露光ツール中に設置されることができ、その後、システムの残りの部分が直ちにアライメントされる。
【００５６】
図５Ｂは、図５Ａの干渉計ヘッド５１０と調節プレート５２０、５２１、５２２との細部を示す図である。干渉計ヘッドは、３つの測定ビームｍｂ１、ｍｂ２、ｍｂ３及び３つの対応する基準ビームｒｂ１、ｒｂ２、ｒｂ３を照射するように構成された微分干渉計ヘッドである。調節プレート５２２は、脚５０２に固定して取着されている。調節プレート５２２は、調節プレート５２０、５２１と一緒に調節手段を形成しており、互いに対するこれらプレートの向きが調節されることができる。
【００５７】
図６Ａは、溝５７１、５７２、５７３の形態である第１の装着面の底面を概略的に示す図である。基準ビームｒｂ１、ｒｂ２を照射する第１の干渉計ヘッド５１０と、基準ビームｒｂ１’、ｒｂ２’を照射する第２の干渉計ヘッド５３０とを有するデュアル干渉計モジュールも示される。干渉計モジュールのキネマティックボール５６１、５６２、５６３は、それぞれ、ストレート溝５７１、５７２、５７３と係合する。平坦な当接面を形成するこれら溝５７１、５７２、５７３は、互いに離間されており、それぞれ、側面５７１ａ、５７１ｂ、５７２ａ、５７２ｂ、５７３ａ、５７３ｂを有する。点Ｐは、例えば、モジュールが使用される露光ツールの投影レンズに取着された鏡に近い点である。これらキネマティックボール及び溝によって形成されたキネマティックマウントの熱中心は、点Ｐに近い。同様に、図６Ｂでは、溝５７３、５７２は、溝５７１に対してほぼ４５度の角度で配置されている。しかしながら、図６Ｃに見られることができるように、これら溝のこの向きは、Ｘ軸及びＹ軸に垂直なＺ軸を中心としたモジュールの回転を与える。結果として、モジュールの干渉計ヘッドによって測定されたビームの変位は、誤差を含むこととなる
。
【００５８】
図７Ａでは、これら溝５７１、５７２、５７３がある平面は、前記投影光学系Ｐに対して所定の間隔を有する所定の位置Ｃで交差し、所定の間隔は、干渉計ヘッドによって照射されるそれぞれのビームｒｂ１、ｒｂ２及びｒｂ１’、ｒｂ２’の方向に沿った投影光学系に対する干渉計ヘッド５１０、５３０の各々の間隔よりも実質的に大きい。結果として、図７Ａに示される第１の装着面５７１、５７２、５７３と第２の装着面５６１、５６２、５６３との構成は、干渉計モジュールの周りの回転を抑制する。溝５７１に対する溝５７２、５７２の方向の間の角度は、１２０度にほぼ等しい。
【００５９】
図７Ｂでは、上面で見たとき、溝がある平面は、キネマティックボール５６１とほぼ一致する点Ｃで交差する。この構成では、２つの溝５７１、５７２は、互いにほぼ平行であり、一方、他の溝５７３は、これに垂直である。この構成も、干渉計モジュールの回転を抑制する。
【００６０】
図７Ｃでは、キネマティックボールは、平坦な当接面５７４、５７５、５７６に接している。モジュールのキネマティックボール５６１、５６２、５６３がこれら当接面に対してクランプされると、モジュールの回転も同様に抑制される。
【００６１】
図８Ａは、第１の装着面が設けられたフレームと、干渉計のビームを反射する鏡とを有する露光ツールで使用するための干渉計モジュールをプレアライメントするための、本発明に係る方法のフローチャートを示している。モジュールは、干渉計のビームを照射する干渉計ヘッドを有する。モジュールは、第１の装着面と協働して係合する第２の装着面に接続されている。この方法は、ここに記載されるように、例えば、露光ツールの干渉計モジュールを使用して行われることができる。この方法は、露光ツールの外部で第２の装着面に対してモジュールの向きをアライメントする工程２００を有し、この工程では、第２の装着面に対するモジュールの向きが、鏡に対する第１の装着面の所定の向きに基づいてアライメントされる。好適には、この方法は、アライメントされたモジュールを露光ツールに装着するさらなる工程２１０を含むことができる。干渉計モジュールは、露光ツールの外部でアライメントされるので、露光ツールは、アライメント手順中、生産モードにとどまることができ、露光ツールのダウンタイムを減少させる。工程２１０の後、露光ツールは、露光目的のために、干渉計モジュールのさらなるアライメント又は較正なく直ちに使用されることができる。換言すれば、本発明は、露光ツールの動作中に露光ツールに対する交換用の干渉計モジュールをプレアライメントする方法を提供する。
【００６２】
図２Ｂは、本方法の一実施の形態を示す図であり、工程２００は、サブ工程２０１ないし２０５を含む。工程２０１において、アライメントフレームには、第２の装着面と協働する第３の装着面と、干渉計ヘッドによって照射されるビームの位置を感知するセンサとが設けられている。アライメントフレームは、露光ツールから離間された位置に設けられる。工程２０２において、干渉計モジュールは、アライメントフレームの第３の装着面にある第２の装着面に装着される。そして、アライメントフレームに対する第２の装着面の位置は、既知である。工程２０３において、ビームは、干渉計ヘッドによって照射される。工程２０４において、センサは、ビームが所定の位置に照射されたか否かを感知する。これは、例えば、このセンサに入射するビームのエネルギ又は強度を測定するセンサと、センサと干渉計ヘッドとの間に配置されたナイフエッジとを使用して行われることができる。ナイフエッジは、ビームが所定の位置に照射されたとき、ビームのほぼ５０％を遮断するように、第３の装着面に対して既知の位置に配置される。ビームが所定の位置にあるか否かを決定するために、干渉計ヘッドの向きは、まず、ビームがセンサに完全に入射するように調節され、これにより、センサがビームの全エネルギ又は強度を測定する。次に、干渉計ヘッドの向きが、全ビームエネルギ又は強度の５０％がセンサによって測定されるまでビームがナイフエッジによって部分的に遮断されるように調節される。これは、ビームが所定の位置にあり、かくして適切にアライメントされていることを示している。干渉計モジュールがさらに干渉計ヘッドを有する場合には、工程２０３、２０４は、同様に、さらなる干渉計ヘッドに対して行われる。好適には、モジュールがさらなる干渉計ヘッドを有するとき、工程２０５が行われることができ、工程２０５において、干渉計ヘッドとさらなる干渉計ヘッドとの少なくとも一方によって照射されたビームが互いにアライメントされる。例えば、モジュールが互いに９０度の意図した角度でビームを照射するように構成された２つの干渉計ヘッドを有するとき、干渉計ヘッドの向きは、これらが互いに９０度でビームを照射するか、２つの干渉計ヘッドの向きが、これらが交差するビームを照射するように配置されるように調節されることができるかの少なくとも一方であるように調節されることができる。モジュールがいったんアライメントされると、工程２１０において、モジュールが露光ツールに装着される。
【００６３】
図９Ａは、本発明に係る干渉計ヘッド１００の好ましい一実施の形態を詳細に示す図である。単一のコヒーレントビームｂが偏光ビームスプリッタ１０１に照射されて、このスプリッタが、ビームｂを偏光測定ビームＭｂと関連する偏光基準ビームＲｂとに分割する。偏光ビームスプリッタ１０１を通過した後、測定ビームＭｂが４分の１波長プレート１０３を通過する。そして、入射した測定ビームが第１の鏡２１によって反射されて、再び４分の１波長プレート１０３を通過する。続いて、反射された測定ビームが、偏光ビームスプリッタ１０１によって反射されて虹彩絞り１０４に向かう。
【００６４】
同様に、基準ビームＲｂを形成するコヒーレントビームの一部が、４分の１波長プレート１０３を介してプリズム１０２によって反射され、第２の鏡８１に入射する。そして、基準ビームＲｂが鏡８１によって反射されて、同じ４分の１波長プレート１０３を通過して、プリズム１０２で反射された後、偏光ビームスプリッタ１０１を介して虹彩絞り１０４に向かう。
【００６５】
従って、干渉計がアクティブであるとき、結合ビームＣｂが虹彩絞り１０４を通過する。非偏光ビームスプリッタ１０５は、結合ビームを２つに分割し、結合ビームが分割された２つの結合ビーム部分は、反射された基準ビームの一部と、反射された測定ビームの一部との両方を含む。そして、２つのビーム部分が、それぞれ、偏光ビームスプリッタ１０６、１０７によって分割される。偏光ビームスプリッタ１０６は、偏光ビームスプリッタ１０７に対して４５度回転されている。従って、４つの異なる結合ビーム部分が、それぞれ、平行な偏光と、垂直な偏光と、４５度の偏光と、１３５度の偏光とをもたらす。検出器１０８、１０９、１１０、１１１が、これら４つの結合ビーム部分の強度を、それぞれ、第１の信号ｓｉｇ１と、第２の信号ｓｉｇ２と、第３の信号ｓｉｇ３と、第４の信号ｓｉｇ４とに変換する。
【００６６】
図９Ｂは、ウェーハテーブル、即ちターゲットキャリアが投影光学系に対して一定の速度で移動されたときの信号ｓｉｇ１と信号ｓｉｇ２との差及び信号ｓｉｇ３と信号ｓｉｇ４との差を示すグラフである。このグラフは、ウェーハテーブルの変位、つまりウェーハテーブルの位置を決定するために使用される２つの正弦曲線１２１、１２２を示している。
【００６７】
単一の正弦曲線のみが利用可能であるとき、ピークレベルから比較的低いレベルへの強度の変化が生じたときの相対移動の方向を決定することは困難でありうる。なぜならば、
鏡筒に向かうウェーハテーブルの移動と鏡筒から離れるウェーハテーブルの移動との両方が比較的低い強度信号をもたらすからである。本発明によれば、移動の方向は、例えば、４５度だけ位相がずれたような、互いに位相がずれた２つの正弦波曲線を使用することによっていつでも決定されることができる。１つに代わって２つの曲線を使用することのさらなる効果は、測定がより正確に行われることができることである。例えば、曲線１２１に対してピークが測定されたとき、両側へのわずかな移動は、曲線の測定された強度信号に小さな変化をもたらす。しかしながら、同じわずかな移動が、曲線１２２の測定された強度信号に対しては大きな変化をもたらし、代わって変位を決定するために使用されることができる。
【００６８】
図９Ｃは、図４Ａに示される実施の形態と同様に、本発明に係る干渉計ヘッドを概略的に示す図である。しかしながら、１つのみに代わって３つのコヒーレント光のビームｂ１、ｂ２、ｂ３が、偏光ビームスプリッタ１０１に入射する。これは、第２の鏡８１に向かって照射される３つの基準ビームｒｂ１、ｒｂ２、ｒｂ３と、第１の鏡２１に向かって照射される３つの測定ビームとをもたらす。３つの基準ビーム及び関連する３つの測定ビームは、好ましくは、非同一平面上に、上述したようにビーム源から照射される。
【００６９】
３つの反射された基準ビーム及び関連する３つの反射した測定ビームは、虹彩絞り１０４を通過する３つの結合ビームへと結合され、上述したのと同様にして分割される。ビーム受光強度検出器１０８１、１０８２、１０８３は、それぞれ、結合ビームｃｂ１、ｃｂ２、ｃｂ３の各々の部分の干渉を検出する。検出器１０９１、１０９２、１０９３、１１０１、１１０２、１１０３、１１１１、１１１２、１１１３は、さまざまな偏光による結合ビーム部分に対して同様に機能し、全部で１２の検出信号をもたらす。これら検出信号から、２つの鏡８１、２１の相対変位及び回転の情報を提供するために６つの正弦曲線が与えられることができる。
【００７０】
図１０は、本発明に係るアライメントフレーム８００を概略的に示す図である。アライメントフレームは、露光ツールで使用するための干渉計モジュールのアライメントを行うのに適しているが、干渉計モジュールはこのツールの外部にある。この目的を達成するために、フレーム８００は、モジュールの第２の装着面８６１、８６２と協働して係合する第３の装着面８７１、８７２を有する。第３の装着面のうちの２つ及び第２の装着面のうちの２つのみが図示されるが、フレームは、代表的には、全部で３つのこのような第３の装着面を有し、また、モジュールは、代表的には、３つのこのような第２の装着面を有することが明らかである。モジュールは、第２の装着面８６１、８６２に対するモジュール８６０の位置と向きとの少なくとも一方を調節する調節手段８６５を有する。図１０に示されるように、モジュールがフレームに装着されたとき、光検出器の形態であるビームセンサ８０１に向かってビームｂを照射するようにスイッチが入れられる。ビームは、全てのビームのエネルギがセンサ８０１によって感知される位置から、ビームのエネルギのほぼ半分がセンサと干渉計モジュール８６０との間に配置されたナイフエッジ８０２によってセンサに到達するのを阻止する位置へと、センサ上を走査される。ナイフエッジ８０２は、ツールに装着されたとき、干渉計８６０が照射される鏡に対して露光ツールの第１の装着面の所定の向きに対応する第３の装着面８７１、８７２に対して所定の向きで配置されている。従って、ビームセンサ８０１がビームエネルギのほぼ５０％を検出したとき、ビームが所定の位置Ａでアライメントされることが決定される。
【００７１】
要約すると、本発明は、鏡筒と、ウェーハのようなターゲットを交換するための移動可能なターゲットキャリアと、微分干渉計モジュールとを具備するリソグラフィシステムに関し、干渉計モジュールは、第２の鏡に向かう３つの干渉ビームと、第１の鏡と第２の鏡との間の変位を決定するために第１の鏡に向かう３つの測定ビームとを照射するように構成されている。一実施の形態では、同じモジュールは、同様に、２つの垂直な軸線を中心とした相対的な回転を測定するように構成されている。
【００７２】
上述の説明は、好ましい実施の形態の動作を説明するために含まれ、本発明の範囲を限定するものではないことが理解されるである。上述の議論から、多くの変形例が、本発明の意図及び範囲に包含されることが当業者にとって明らかである。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項を、そのまま、付記しておく。
［１］  第１の装着面が設けられたフレームと、干渉計のビームを反射する鏡とを具備する露光ツールで使用するための干渉計モジュールをプレアライメントする方法であって、
前記モジュールは、前記干渉計のビームを照射する干渉計ヘッドを有し、
前記モジュールは、前記第１の装着面と協働して係合する第２の装着面に接続され、
この方法は、
前記露光ツールの外部で前記第２の装着面に対する前記モジュールの向きをアライメントする工程を具備し、前記第２の装着面に対する前記モジュールの向きは、前記鏡に対する前記第１の装着面の所定の向きに基づいてアライメントされる方法。
［２］  前記アライメントされたモジュールを前記露光ツールに装着する工程をさらに具備する［１］の方法。
［３］  前記アライメントする工程は、
前記第２の装着面と協働して係合する第３の装着面と、前記干渉計ヘッドによって照射されたビームが所定の位置に照射されたか否かを感知するセンサとを有し、前記露光ツールから離間されたアライメントフレームを与えることと、
前記アライメントフレームの前記第３の装着面にある前記第２の装着面を前記モジュールに装着することと、
前記干渉計ヘッドによりビームを照射することと、
前記所定の位置に前記ビームを位置決めするために、前記第２の装着面に対する前記モジュールの向きを調節することとを含む［１］又は［２］の方法。
［４］  前記モジュールが前記アライメントフレームに装着されたとき、前記ビームが前記センサに到達するのを部分的に遮断するように配置されたナイフエッジを使用することをさらに具備し、
前記調節する工程は、前記センサによって感知された前記ビームのエネルギが前記ビームの全ビームエネルギの所定の割合にほぼ等しいとき、前記ビームが前記所定の位置にあることを決定することを含む［３］の方法。
［５］  前記干渉計は、測定ビームとして前記ビームを照射し、かつ、対応する基準ビームを照射するように構成された微分干渉計であり、
前記アライメントフレームは、前記基準ビームの位置を感知するセンサを有し、
この方法は、ビーム感知面によって感知された前記ビームのエネルギの合計が前記ビームの全ビームエネルギの所定の割合にほぼ等しいように、前記測定ビーム及び前記基準ビームが照射される方向に対する前記モジュールの向きを調節することを含む［３］の方法。
［６］  前記所定の割合は、ほぼ５０％である［４］又は［５］の方法。
［７］  前記露光ツールの前記第１の装着面と、前記アライメントフレームの前記第３の装着面との少なくとも一方が、前記干渉計モジュールの前記第２の装着面と一緒にキネマティックマウントを形成するように構成されている［３］ないし［６］のいずれか１の方法。
［８］  前記モジュールは、さらに、前記ビームにほぼ垂直なさらなるビームを照射するように配置されたさらなる干渉計ヘッドを有し、
前記アライメントする工程は、さらに、
前記第１の装着面の所定の向きに基づいて前記露光ツールの外部で前記第２の装着面に対する前記さらなる干渉計ヘッドの向きをアライメントする工程を含み、
前記干渉計ヘッド及び前記さらなる干渉計ヘッドによって照射される前記ビームが互いに実質的に所定の角度で傾斜しているように、前記干渉計ヘッドと前記さらなる干渉計ヘッドとの向きが調節される［１］ないし［７］のいずれか１の方法。
［９］  前記所定の角度は、９０度である［８］の方法。
［１０］  前記アライメントする工程は、前記ビームと前記さらなるビームとが交差するように、前記ビームと前記さらなるビームとをアライメントすることを含む［８］又は［９］の方法。
［１１］  ［１］ないし［１０］のいずれか１の方法で使用するための干渉計モジュールであって、
ビームを照射する干渉計ヘッドと、
前記露光ツールの前記第１の装着面と協働して係合する第２の装着面と、
前記第２の装着面に対する前記干渉計ヘッドの向きを調節する調節手段とを具備する干渉計モジュール。
［１２］  前記干渉計ヘッドは、第１の干渉計ヘッドであり、
前記モジュールは、さらに、前記第１の干渉計ヘッドによって照射されるビームにほぼ垂直なビームを照射するように配置された第２の干渉計ヘッドと、前記第２の装着面に対する前記第２の干渉計ヘッドの向きを調節する第２の調節手段とを具備する［１１］の干渉計モジュール。
［１３］  前記干渉計モジュールは、ほぼＬ字形であり、
前記第１の干渉計ヘッド及び前記第２の干渉計ヘッドの各々が、互いに向かってビームを照射するように、前記Ｌ字形のモジュールの異なる脚に配置されている［１２］の干渉計モジュール。
［１４］  前記第２の装着面は、前記Ｌ字形のモジュールの角に配置されている［１３］の干渉計モジュール。
［１５］  前記調節手段は、複数の調節プレートを有する［１１］ないし［１４］のいずれか１の干渉計モジュール。
［１６］  干渉計モジュールのプレアライメントのために［１］ないし［１０］の方法で使用するアライメントフレームであって、
前記モジュールは、
ビームを照射する干渉計ヘッドと、
アライメントフレームから離間された露光ツールの第１の装着面と協働して係合する第２の装着面とを有し、
アライメントフレームは、
前記第２の装着面と協働して係合する第３の装着面と、
前記干渉計ヘッドによって照射されたビームの位置を感知するセンサとを具備するアライメントフレーム。
［１７］  前記第３の装着面は、前記第２の装着面と一緒にキネマティックマウントを形成するように構成されている［１６］のアライメントフレーム。
［１８］  前記第２の装着面が前記第３の装着面と係合したとき、前記センサが、前記センサに直接入射する前記照射されたビームを含むように配置されている［１６］又は［１７］のアライメントフレーム。
［１９］  前記センサは、前記第３の装着面に対して所定の位置に配置されている［１６］ないし［１８］のいずれか１のアライメントフレーム。
［２０］  前記センサは、前記センサに入射するビームを感知するビーム感知面を有する［１６］ないし［１９］のいずれか１のアライメントフレーム。
［２１］  前記モジュールと前記ビーム感知面との間に配置され、前記ビーム感知面に近接しているナイフエッジをさらに具備する［２０］のアライメントフレーム。
［２２］  前記ビーム感知面の面積は、前記ビームの垂直な横断面の面積以上である［２０］又は［２１］のアライメントフレーム。
［２３］  前記干渉計モジュールによって照射される少なくとも１つのさらなるビームの少なくとも１つのさらなるビームスポットの位置を感知するように構成され、前記センサから離間された少なくとも１つのさらなるセンサをさらに具備する［１６］ないし［２２］のいずれか１のアライメントフレーム。
［２４］  ターゲット上に少なくとも１つの露光ビームを投影する投影光学系と、
前記投影光学系に対して前記ターゲットを移動させるように構成され、鏡が設けられたターゲットキャリアを有するターゲット位置決めシステムと、
実質的に所定の向きを有する第１の装着面と、
前記ツール内で前記ターゲットの変位を測定するように構成され、前記第１の装着面と協働して係合するように構成された第２の装着面を有する［１１］ないし［１５］のいずれか１の干渉計モジュールとを具備する露光ツールであって、
前記ターゲット位置決めシステムは、測定された変位に基づいて前記ターゲットを移動させるように構成され、
露光ツール及び干渉計モジュールは、前記第２の装着面が前記第１の装着面に対してアライメントされるように、前記露光ツールの前記第１の装着面に前記干渉計モジュールの前記第２の装着面を解放可能に装着するように構成されている露光ツール。
［２５］  前記第１の装着面に対して前記干渉計モジュールの前記第２の装着面を解放可能にクランプする解放可能なクランプ手段をさらに具備する［２４］の露光ツール。
［２６］  前記クランプ手段は、クイックリリースクランプ手段である［２５］の露光ツール。
［２７］  前記解放可能なクランプ手段は、前記第１の装着面に対して前記第２の装着面を付勢するように構成された板ばねを有する［２５］又は［２６］の露光ツール。
［２８］  前記干渉計モジュールを受ける収容部を有し、
前記収容部は、前記第１の装着面を有する［２４］ないし［２７］のいずれか１の露光ツール。
［２９］  前記収容部は、前記干渉計によって照射されるビームを通過させる通路が設けられた壁を有する［２８］の露光ツール。
［３０］  前記第１の装着面は、前記第２の装着面と当接する３つの離間された平面状の当接面を有し、前記当接面の平面は、前記投影光学系に対して所定の間隔を有する位置で交差し、前記所定の間隔は、前記干渉計ヘッドによって照射されるビームの方向に沿った前記投影光学系に対する前記干渉計ヘッドの間隔よりも実質的に大きい［２４］ないし［２９］のいずれか１の露光ツール。
［３１］  前記第１の装着面は、前記当接面に平行に延びた溝を有する［３０］の露光ツール。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００７３】
【特許文献１】国際公開第２０１０／０２１５４３号
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
0006339262.tif 000003
【図１Ｃ】
0006339262.tif 000004
【図２Ａ】
0006339262.tif 000005
【図２Ｂ】
0006339262.tif 000006
【図３Ａ】
0006339262.tif 000007
【図３Ｂ】
0006339262.tif 000008
【図４Ａ】
0006339262.tif 000009
【図４Ｂ】
0006339262.tif 000010
【図５Ａ】
0006339262.tif 000011
【図５Ｂ】
0006339262.tif 000012
【図６Ａ】
0006339262.tif 000013
【図６Ｂ】
0006339262.tif 000014
【図６Ｃ】
0006339262.tif 000015
【図７Ａ】
0006339262.tif 000016
【図７Ｂ】
0006339262.tif 000017
【図７Ｃ】
0006339262.tif 000018
【図８Ａ】
0006339262.tif 000019
【図８Ｂ】
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【図９Ａ】
0006339262.tif 000021
【図９Ｂ】
0006339262.tif 000022
【図９Ｃ】
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【図１０】
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