(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基材の面の少なくとも１つの上に少なくとも１つの日射吸収層と前記日射吸収層を囲む誘電体層とを含む層システムを含む太陽光制御グレージングであって、前記日射吸収層が、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層であり、前記日射吸収層がクロムを含有し、前記層システムが、前記基材と前記日射吸収層との間に、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、混合アルミニウム−ケイ素窒化物、オキシ窒化ケイ素およびオキシ窒化アルミニウムから選択される化合物をベースとした誘電体材料から製造される少なくとも１つの層と、前記日射吸収層の上に、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、混合アルミニウム−ケイ素窒化物、オキシ窒化ケイ素およびオキシ窒化アルミニウムから選択される化合物をベースとした誘電体材料から製造される少なくとも１つの層とを含むことを特徴とする、太陽光制御グレージング。
【請求項２】
少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした前記日射吸収金属層がまた、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｚｒ、ＴａおよびＣｒから選択される少なくとも１つの付加的な金属を含む、請求項１に記載のグレージング。
【請求項３】
少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした前記日射吸収金属層がＣｒを含む、請求項２に記載のグレージング。
【請求項４】
前記日射吸収金属層が５０重量％〜９０重量％のタングステン、およびニッケル／クロム重量比８０／２０〜５０／５０、優先的には８０／２０のニッケルおよびクロムを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項５】
少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした前記日射吸収金属層の幾何学的厚みが少なくとも２ｎｍ、優先的には少なくとも３ｎｍおよび３０ｎｍ以下、優先的には少なくとも３ｎｍおよび２５ｎｍ以下である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項６】
少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした前記金属層の幾何学的厚みが少なくとも５ｎｍおよび好ましくは少なくとも６ｎｍである、請求項５に記載のグレージング。
【請求項７】
前記基材と少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした前記日射吸収層との間の誘電体材料の層の光学厚みが少なくとも１０ｎｍおよび２００ｎｍ以下、優先的には少なくとも４０ｎｍおよび１８０ｎｍ以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項８】
少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした前記日射吸収層の上に配置される誘電体材料の前記層の光学厚みが少なくとも２０ｎｍおよび２００ｎｍ以下である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項９】
前記層システムが少なくとも２つの日射吸収層を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１０】
前記層システムが少なくとも１つの付加的な銀ベースの金属層を含み、１つまたは各々の銀ベースの層が誘電体コーティングによって囲まれる、請求項１〜９のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１１】
前記誘電体コーティングの少なくとも１つが少なくとも２つの誘電体層を含み、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした前記日射吸収金属層が、前記誘電体コーティングのこれらの２つの誘電体層の間に挿入される、請求項１０に記載のグレージング。
【請求項１２】
少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした前記日射吸収金属層を挟む２つの前記誘電体層が、窒化ケイ素またはアルミニウム窒化物をベースとしている、請求項１１に記載のグレージング。
【請求項１３】
前記付加的な銀ベースの金属層が、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした前記日射吸収金属層の直接に上におよび／または下に積層体として配置される、請求項１０に記載のグレージング。
【請求項１４】
前記付加的な銀ベースの金属層の厚みが少なくとも９ｎｍ、優先的には少なくとも１３ｎｍおよび２３ｎｍ以下、より優先的には少なくとも１５ｎｍおよび２２ｎｍ以下である、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１５】
前記日射吸収金属層の幾何学的厚みが０．５〜８ｎｍおよび好ましくは０．５〜５ｎｍである、請求項１０〜１４のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１６】
透過率の比色変化ΔＥ＊ＴＬが、前記グレージングが少なくとも６３０℃および６７０℃以下の温度に７分間供せられる時に８未満、優先的には５未満、より優先的には３未満である、請求項１〜１５のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１７】
ガラス側の反射の比色変化ΔＥ＊Ｒｇ、が、前記グレージングが少なくとも６３０℃および６７０℃以下の温度に７分間供せられる時に８未満、優先的には５未満、より優先的には３未満である、請求項１〜１６のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１８】
層側の反射の比色変化ΔＥ＊Ｒｌ、が、前記グレージングが少なくとも６３０℃および６７０℃以下の温度に７分間供せられる時に８未満、優先的には５未満、より優先的には３未満である、請求項１〜１７のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項１９】
厚み４ｍｍの透明ガラスからなる基材の光透過率が少なくとも２％に等しく、７５％以下であるように前記日射吸収金属層の厚みが選択される、請求項１〜１８のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項２０】
前記層側の反射が少なくとも１％および４０％以下であるように前記誘電体層の光学厚みが選択される、請求項１〜１９のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項２１】
基材側で測定された光反射が少なくとも２７％、好ましくは少なくとも３０％および有利には少なくとも３５％であることを特徴とする、請求項１〜２０のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項２２】
前記基材側で測定された前記光反射が、層システム側で測定された光反射よりも少なくとも２倍、好ましくは少なくとも２．５倍および有利には少なくとも３倍大きいことを特徴とする、請求項１〜２１のいずれか一項に記載のグレージング。
【請求項２３】
前記層システムが以下の連続：窒化ケイ素またはアルミニウム窒化物の層／日射吸収層／窒化ケイ素またはアルミニウム窒化物の層／浸潤層と異なった、Ｚｎ、Ｓｎ、ＴｉまたはＺｒ酸化物、またはそれらの混合物をベースとした介在透明酸化物の層／酸化亜鉛をベースとした浸潤層／付加的な銀ベースの金属層を含むことを特徴とする、請求項１２に記載のグレージング。
【請求項２４】
前記日射吸収金属層の幾何学的厚みが０．５〜８ｎｍおよび好ましくは０．５〜５ｎｍであることを特徴とする、請求項２３に記載のグレージング。
【請求項２５】
前記介在透明酸化物が、混合亜鉛−スズ酸化物または混合チタン−ジルコニウム酸化物であり、好ましくは少なくとも２０％のスズと１０％の亜鉛とを含有する混合亜鉛−スズ酸化物であることを特徴とする、請求項２３または２４に記載のグレージング。
【請求項２６】
自動車の艶出し要素として、建物のグレージング要素としてまたはオーブンドアなどの家電機器の艶出し要素としての、請求項１〜２５のいずれか一項に記載の太陽光制御グレージングの使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の分野は、薄い層のシステムを有するガラス基材からなる太陽光制御グレージングの分野であり、その少なくとも１つの薄い層は前記太陽光制御性質をもたらす。この機能層は、その役割が特に反射、透過率および色合い性質を制御することであると共にグレージングの性質の機械的または化学的損傷に対する保護である誘電体層と組み合わせられる。
【０００２】
より厳密には、本発明は、建物や自動車にも取り付けられることが意図されるグレージングに関する。これらの用途に応じて、特定の必要とされる性質は、後で説明されるように異なる場合がある。
【背景技術】
【０００３】
太陽光制御グレージングは、複数の機能性を有する。それらは特に、自動車の乗客室において、特に、透明なサンルーフを通過する日射に対して、または日射が十分に強い時にこの日射に晒される建物に対してオーバーヒートからの保護に関する。特定の実施形態に従って、オーバーヒートからのこの保護は、適切な光透過率を維持したまま得られる場合がある。
【０００４】
特に自動車のグレージングはまた、乗客室または建物からのエネルギー損失を避けることによって冬の温度調節条件を確立することに寄与しなければならない。したがって、グレージングは低放射性質を有しなくてはならない。それらは、乗客室または建物からのエネルギー放射線の放射を阻止する。
【０００５】
建物のグレージングの場合、それらはさらに、それらの色が特に反射において、実質的に変更されずに熱処理に耐えられることが必要とされる。目的は、色の差が現れずに、熱処理されたグレージングと熱処理されていないその他のものとを並置することができることである。
【０００６】
説明のその他の部分において、その基材が厚み４ｍｍの普通の透明な「フロート」ガラスから製造されるグレージングについて光学的性質が定義される。基材の選択は明らかに、これらの性質に影響を与える。普通の透明ガラスについて、層が無い場合、４ｍｍを通る光透過率は、ＣＩＥによって正規化されたＤ６５「昼光」イルミナントに一致する光源を使用してそして２°の立体角において測定されたとき、約９０％であり、反射は８％である。エネルギー測定は標準ＥＮ４１０に従って行なわれる。
【０００７】
用語「ガラス」は無機ガラスを意味すると理解される。これは、厚みが少なくとも０．５ｍｍ以上および２０．０ｍｍ以下、優先的には少なくとも１．５ｍｍ以上および１０．０ｍｍ以下であり、ガラス材料の必須成分の１つとしてケイ素を含むガラスを意味する。特定の用途について、厚みは例えば、１．５または１．６ｍｍ、または２または２．１ｍｍであってもよい。他の用途についてそれは、例えば、約４または６ｍｍである。透明または超透明な、または空間色または表面色のあるケイ素−ナトリウム−カルシウムガラスが好ましい。
【０００８】
層システムの存在は色の問題を生じる場合がある。グレージングが、透過率および反射の両方においてできる限り中性である色合いを呈し、したがって灰色の外観をもたらすことを建設会社は通常要求する。また、わずかに緑みまたは青みの色合いも可能である。機能層を囲む誘電体層の層システム、そして特に性質、屈折率および厚みは、特に、これらの色合いを制御するように選択される。
【０００９】
理論的には自動車のグレージングは、車により良い絶縁性、特に断熱を与えるために複数であってもよい。実際は、このような実施は例外的である。これらのグレージングの圧倒的に大部分は、一体式であるか、またはラミネートされるかどちらかである、単一グレージングからなる。これらの２つの場合において、低放射性を好適に示すために、層システムは、機械的または化学的ストレスから保護されていない面上に必ずある。したがって、当該システムは、これらのあり得る攻撃的因子に対する非常に良い耐性を有しなければならない。
【００１０】
実施において、損傷のリスクを抑えるために、層システムは特に、乗客室の方に向いたグレージングの面上にある。しかしながら、この位置においても、それらは非常に良い機械的強度をもたらさなければならない。
【００１１】
また、本発明による層システムはグレージングの製造に適していなければならない。車において使用される層システムは特に、ガラス板を製造する間、特に曲げの間、またはガラス板に強化された機械的性質を与えるために特に意図される強靭化の間の熱処理の主題である。本発明によって使用される層は、それらの性質を低下させずにこれらの処理に耐えなければならない。このタイプの処理は、約１０分間にわたって６００℃を超える温度を要求する。層は、これらの温度に供せられる時にそれらの性質を維持しなければならない。
【００１２】
高い光透過率を有するグレージングの利用の可能性を必要とする多くの用途において、機能層の選択は、それらが特に透明であることを要求する。最も一般的であるのは、非常に小さな厚みの１つまたは複数の金属層を選択することであり、例えば、１つまたは複数の銀層が、それらを保護して反射を最小にすると共に中性に調節する誘電体層の間に配置される。組立体として得られる層システムは、特別な保護層の存在下でも、特定のレベルの脆性、特に機械的脆性を有することによって制限される。
【００１３】
高い光透過率を必要とせず、そしてさらに任意選択により透過率が低いままでなければならないグレージングについて、層システムの選択はより広い多様性をもたらす。
【００１４】
先行技術は、様々な金属および特にＮｉＣｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、ＣｏＣｒ、Ａｌ、ＮｂまたはＺｒの窒化物またはオキシ窒化物の、日射吸収金属層または金属合金層を含むグレージングを提案する。これらの金属層が良い耐性、特に良い機械的強度を有することを可能にするために、比較的硬質であることが知られている誘電体層を提供することも提案されている。本技術分野において、最も一般的な層は、シリカ、ＳｉＯ２、窒化ケイ素、Ｓｉ３Ｎ４の層である。
【００１５】
先行の提案は、本発明によるグレージングの予想された使用の要件を少なくとも部分的に満たす。それにもかかわらず、特に耐熱性処理に関して改良がまだ必要とされている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明の目的は、特に、先行技術のこれらの不利な点を克服することである。
【００１７】
より厳密には、本発明の１つの目的は、その実施形態の少なくとも１つにおいて、基材側のその色合いおよび／または層側の透過率および／または反射の著しい変更が好ましくは無く、強靭化および／または曲げタイプの高温での熱処理を受けることができる層システムを備えたグレージングを提供することであり、熱処理されていないグレージングを、見る人が全体的な美的外観において有意な差を見つけることができずにその熱処理された形のものと並置できるようにすることである。
【００１８】
本発明の別の目的は、その実施形態の少なくとも１つにおいて、良い熱的、化学的および機械的安定度を有する層システムを備えたグレージングを提供することである。
【００１９】
本発明の目的はまた、その実施形態の少なくとも１つにおいて、別の基材によって外部環境から保護される必要が必ずしもなくてその層システムを外側の位置に置くことができるグレージングを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明は、ガラス基材の面の少なくとも１つの上に少なくとも１つの日射吸収層と前記日射吸収層を囲む誘電体層とを含む層システムを含む太陽光制御グレージングに関し、日射吸収層が、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層であり、層システムが、基材と日射吸収層との間に、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、混合アルミニウム−ケイ素窒化物、オキシ窒化ケイ素およびオキシ窒化アルミニウムから選択される化合物をベースとした誘電体材料から製造される少なくとも１つの層と、日射吸収層の上に、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、混合アルミニウム−ケイ素窒化物、オキシ窒化ケイ素およびオキシ窒化アルミニウムから選択される化合物をベースとした誘電体材料から製造される少なくとも１つの層とを含むことを特徴としている。
【００２１】
本発明の一般的な原理は、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとしている日射吸収金属層の存在に基づいており、前記層は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、混合アルミニウムケイ素酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、混合アルミニウム−ケイ素窒化物、オキシ窒化ケイ素、オキシ窒化アルミニウムおよび混合アルミニウム−ケイ素オキシ窒化物から選択される少なくとも１つの誘電体材料をベースとした少なくとも２つの層の間に置かれる。驚くべきことに、このような層システムは良い化学的、熱的および機械的耐久性を有することを本発明者は見出した。具体的には、少なくとも１つの誘電体材料をベースとした少なくとも２つの層の間に置かれた、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした日射吸収金属層は、太陽エネルギーの透過率の減少をもたらし、前記層は、その吸収性質をとりわけ熱処理の後にも維持する。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本説明において、用語「タングステンをベースとした」は、タングステンを少なくとも３０重量％、好ましくは少なくとも３５％および有利には少なくとも３７％または少なくとも４０％含む層を指す。日射吸収金属層中のニッケルの比率は、少なくとも９重量％、好ましくは少なくとも２０重量％および有利には少なくとも２５重量％、例えば３０重量％、３５重量％または４０重量％である。
【００２３】
日射吸収層について、用語「金属層」は、本質的に金属の性質を有する層を意味する。しかしながら、この層が任意選択によりほんの微量の窒素または酸素を含有することは除外されない。具体的には、この金属層を堆積する間の雰囲気は、高純度貴ガス、例えば１００％アルゴンからなってもよく、または雰囲気は、隣接する堆積領域から生じる少量の窒素または酸素を含有してもよい。吸収層を囲む誘電体層が窒化ケイ素である場合、吸収層を形成することが意図される金属ターゲットは、窒素が主にケイ素によって引きつけられるので、窒化ケイ素堆積領域と明確に分離せずに同じ堆積チャンバ内に配置されてもよい。この場合、周囲大気は比較的高いパーセンテージの窒素を含有してもよく、したがって、窒素が主にケイ素と化合する場合でも、吸収金属層は少量の窒素を含有してもよく、それによってその金属性質を失うことはない。吸収層を囲む誘電体層が酸化物またはオキシ窒化物である場合、堆積雰囲気中の隣接する堆積領域から生じる少量の酸素もまた、その中に存在してもよい。
【００２４】
また、用語「誘電体材料をベースとした層」は、少なくとも１つの他の元素をドープされ、最大で約１０重量％までこの他の元素を含有する層を意味し、これらの層は、前記誘電体材料からなる層と実際において異ならない誘電特性を有する。このように、例えば、層がケイ素窒化物または酸化物から製造されるとき、それは１０重量％までのアルミニウムを含有してもよい（例えば層が、１０重量％までのアルミニウムを含有するケイ素ターゲットを使用してカソードスパッタリング法によって堆積される）。また、本発明による誘電体層は、これらの同じ材料を含むかまたは本質的にからなるいくつかの個別層からなってもよい。また、誘電体層は、ＰＥＣＶＤ（プラズマ強化化学蒸着）として知られる公知の技術によって堆積されてもよい。
【００２５】
このように、本発明は、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとしている日射吸収金属層の選択に基づいた完全に新規な発明の方法に基づいている。
【００２６】
有利には、本発明によるグレージングは、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした日射吸収金属層がまた、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｚｒ、ＴａおよびＣｒから選択される付加的な金属を含むようなレージングである。
【００２７】
驚くべきことに、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｚｒ、ＴａおよびＣｒから選択される金属化合物を、ニッケルを合金されたタングステンをベースとした合金に添加することにより、その耐熱性および耐薬品性および機械的強度が改良される層システムを得ることができることを本発明者は見出した。
【００２８】
先行の形態の好ましい実施形態に従って、本発明によるグレージングは、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層がクロムを含むようなグレージングである。驚くべきことに、Ｃｒを、ニッケルを合金されたタングステンをベースとした合金に添加することにより、その耐熱性および耐薬品性および機械的強度が最も著しく改良される層システムを得ることができることを本発明者は見出した。
【００２９】
好ましい実施形態に従って、本発明によるグレージングは、日射吸収金属層が５０重量％〜９０重量％のタングステン、およびニッケル／クロム重量比１００／０〜５０／５０、優先的には８０／２０のニッケルおよびクロムを含むようなグレージングである。
【００３０】
驚くべきことに、このような合金の選択により、その耐熱性および耐薬品性および機械的強度が最も著しく改良される層システムを得ることができることを本発明者は見出した。また、驚くべきことに、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層が、自動車または建物のグレージングの層システムにおいてのその使用に最も必要とされる日射吸収性質を有することを本発明者は見出した。
【００３１】
好ましい実施形態に従って、本発明によるグレージングは、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層の幾何学的厚みが少なくとも２ｎｍ、優先的には少なくとも３ｎｍおよび３０ｎｍ以下、優先的には少なくとも３ｎｍおよび２５ｎｍ以下であるようなグレージングである。
【００３２】
驚くべきことに、このような厚みを有する、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層は、自動車または建物のグレージングの層システムにおいてまたはオーブンドアなどの家電機器の艶出し要素としてのその使用に最も必要とされる赤外吸収性質を有することを本発明者は見出した。
【００３３】
好ましくは、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層の幾何学的厚みが少なくとも５ｎｍおよび好ましくは少なくとも６ｎｍである。
【００３４】
有利な実施形態に従って、本発明によるグレージングは、基材と少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした日射吸収層との間の誘電体材料の層の光学厚みが少なくとも２ｎｍおよび２００ｎｍ以下、有利には少なくとも１０ｎｍおよび２００ｎｍ以下、優先的には少なくとも４０ｎｍおよび１８０ｎｍ以下であるようなグレージングである。
【００３５】
誘電体材料の層の光学厚みは、考察対象の層の幾何学的（物理的）厚みを、それを構成する材料の屈折率で乗じることによって得られる。
【００３６】
好ましい実施形態に従って、本発明によるグレージングは、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした日射吸収層の上に配置される誘電体材料の層の光学厚みが少なくとも２０ｎｍおよび２００ｎｍ以下であるようなグレージングである。
【００３７】
第１の好ましい実施形態に従って、日射吸収金属層は、層システムの基礎機能層である。この層システムの利点は、それが極めて簡単で非常に耐性があるということである。
【００３８】
好ましくは、層システムは、少なくとも２つの日射吸収層を含む。この特性は、層システムの光学的および熱的性質を望ましいように適合させることをより容易に可能にする。有利には、これらの２つの日射吸収層は、例えば窒化ケイ素から製造される誘電体層によって分離される。特に適した構造は以下の通りである：
基材／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４。
【００３９】
第２の好ましい実施形態に従って本発明によるグレージングは、層システムが少なくとも１つの付加的な銀ベースの金属層を含み、１つまたは各々の銀ベースの層が誘電体コーティングによって囲まれるようにするグレージングである。この誘電体コーティングは、本発明の他の実施形態と関連して上に記載されたような材料から形成されてもよい。また、それは本技術分野に公知である任意の誘電体材料、例えばスズ酸亜鉛またはＺｎＯであってもよく、それはドープされてもされなくてもよい。
【００４０】
この第２の実施形態において、層システムの基礎機能層は、赤外線を反射する銀ベースの層であり、したがって、より高い光透過率そしてしたがって選択率の著しいゲインを同時に維持しながらより大きい太陽放射線の調整効率を可能にする。このタイプの層は一般的に、高温熱処理に対して不十分な耐性を示し、さらに、機械的および化学的観点から層システム組立体を脆くするので、付加的な銀ベースの層を加えることは驚くべきことである。一般的には、銀層の存在は、層システムを外側の環境と接触させて配置することを妨げ、付加的な基材を使用して層システムを保護することを必要とする。驚くべきことに、本発明はこれらの欠点を克服することができることを本発明者は発見した。
【００４１】
銀ベースの層と日射吸収層とを組み合わせることによって、第一に、同時に、銀ベースの層によって与えられる、赤外線反射性を、日射吸収性質と組み合わせて得ることができる。
【００４２】
この第２の実施形態の第１の好ましい形態に従って、誘電体コーティングの少なくとも１つが少なくとも２つの誘電体層を含み、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした日射吸収金属層が、この誘電体コーティングのこれらの２つの誘電体層の間に挿入される。この構成は赤外線吸収機能を日射吸収機能から有効に分離することを本発明者は見出したが、それは、日射吸収金属層の吸収機能を低下させずに、銀下の、および／または銀上の、しばしば浸潤層と称されるＺｎＯをベースとした層を例えば使用して、より低い放射率を得るために銀の結晶学的特質を改良することが望ましい時に特に、２つの機能を最適にすることをより容易に可能にする。さらに、この配列の仕方は、熱処理の間に日射吸収金属層をより良く保護し、その吸収機能を可能な限り多く、一体化して維持するようにする。
【００４３】
好ましくはガラス基材上に堆積されてそれと接触している、第１の誘電体コーティングの第１の誘電体層は、有利には少なくとも２０％のスズを含有する混合亜鉛−スズ酸化物の層であり、さらにより優先的には亜鉛−スズの比率が５０−５０重量％に近い混合亜鉛−スズ酸化物（Ｚｎ２ＳｎＯ４）の層である。この形態は、高温熱処理に対する耐性のために有利である。混合亜鉛−スズ酸化物は、熱処理、特に強靭化処理の高温においてガラス基材から移動するアルカリイオンに対するすぐれたバリアを形成する。それは、ガラス基材に対する良い接着性を有し、又、維持する。また、それは、例えば、ＳｉＯ２またはＡｌ２Ｏ３と比べた時に良い堆積率を有し、そしてそれは、例えば、高純度ＺｎＯまたは酸化ビスマスと比べた時に良い耐久性を示す。またそれは、例えば、ＴｉまたはＺｒ酸化物と比べた時に、積層体の熱処理の後にぼやけを生じる傾向がより少ないという点で、有利である場合がある。基材と直接に接触している、酸化物からなる層は、有利には厚みが少なくとも５ｎｍ、好ましくは少なくとも８ｎｍおよびより優先的には少なくとも１０ｎｍである。これらの最小厚みの値は、とりわけ、熱処理されていない製品の化学的耐久性を確実にすると共に、又、熱処理に対する耐性を確実にすることができる。
【００４４】
好ましくは、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした日射吸収金属層を挟む２つの前記誘電体層は、窒化ケイ素またはアルミニウム窒化物をベースとしている。これは、高温熱処理の間に日射吸収金属層の非常に良い保護を確実にする。
【００４５】
この実施形態の好ましいが限定的でない実施例は、以下のように概略的に示されてもよい：
Ｇ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＡＺＯ／Ｓｉ３Ｎ４／ＺｎＯ／Ａｇ／ＡＺＯ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４；
Ｇ／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＡＺＯ／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＡＺＯ／Ｄ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４；
Ｇ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＡＺＯ／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＡＺＯ／Ｄ／Ｓｉ３Ｎ４；
Ｇ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｂ／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｂ／Ｄ／ＴｉＮ（ｏｒＴｉＯ２）；
Ｇ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＡＺＯ／Ｄ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＡＺＯ／Ｄ／Ｓｉ３Ｎ４；
Ｇ／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＡＺＯ／Ｄ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／ＡＺＯ／Ｄ／Ｓｉ３Ｎ４；
Ｇ／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｂ／Ｄ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４／Ｄ／ＺｎＯ／Ａｇ／Ｂ／Ｄ／Ｓｉ３Ｎ４；
Ｇは基材、好ましくは普通のナトリウム−カルシウムガラス板を表わし；Ｂは、本技術分野に公知である、銀の酸化に対するバリアとして作用する層を表わし；ＡＺＯは、酸素をほとんどまたは全く有さないアルゴンをベースとした雰囲気中でスパッタされる（好ましくはアルミニウムをドープされた）酸化亜鉛のセラミック（カソード）ターゲットから堆積された、好ましくはアルミニウムをドープされた、酸化亜鉛をベースとしたバリア層を表わし；Ｄは、スズ酸亜鉛、ドープトまたはアンドープトＺｎＯ、またはこのタイプの層の積層のために適している、本技術分野で公知の別の材料、例えばＴｉＯ２、ＺｒＯ２またはそれらの混合物、またはＡｌＮなどの窒化物を特にベースとした、１つまたは複数の誘電体層を表わす。変形として、ＡＺＯは、形成される層システムの所望の性質に適している、本技術分野に公知である他のバリアと取り替えられてもよく、例えば、堆積される酸化物から形成されるセラミックターゲットから好ましくは得られる、ドープされないかまたはニオブまたはジルコニウムをドープされたＴｉ酸化物または高純度ＺｎＯと取り替えられてもよい。上に示された例は、具体的な例として日射吸収層としてＮｉＣｒＷを使用するが、ＮｉＣｒＷはまた、高純度金属の形態のまたは微量の窒素または酸素を有する、ＷＮｉまたはＷｎｉＶなどのニッケルを合金されたタングステンをベースとした別の材料と取り替えられてもよい。
【００４６】
好ましくは、本発明の第２の実施形態のこの第１の形態に従って、層システムは、少なくとも１回、以下の連続した層を含む：「ケイ素またはアルミニウム窒化物またはそれらの混合物／日射吸収層／ケイ素またはアルミニウム窒化物またはそれらの混合物／介在透明酸化物／酸化亜鉛をベースとした浸潤層／付加的な銀ベースの金属層」。日射吸収層を保護する窒化物層とＺｎＯをベースとした浸潤層との間に介在透明酸化物層を挿入して浸潤層を使用することによって、この特定の連続した層が無い場合に熱処理の間に形成される傾向がある、高温熱処理を受けたコートされた基材の外観において不適切である斑の形成を大幅に低減するかまたは防ぐことができることが見出された。また、この介在透明酸化物層がなければ、表面の電気抵抗、そして従って放射率もまた、熱処理の後に有害に増加する傾向があるのに対して、この介在酸化物層の存在によって、放射率は、熱処理の後に少なくとも維持されるか、またはさらに有利に低減されることも見出された。介在透明酸化物層はＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２またはそれらの混合物をベースとした酸化物であってもよいが、浸潤層とは異なっている。好ましくは、介在透明酸化物層は、少なくとも２０％のスズと少なくとも１０％の亜鉛とを含有する混合亜鉛−スズ酸化物である。
【００４７】
この第２の実施形態の第２の好ましい形態に従って、付加的な銀ベースの金属層が、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした日射吸収金属層の直接に上におよび／または下に積層体として配置される。
【００４８】
驚くべきことに、日射吸収層の存在により、銀ベースの層が少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした日射吸収層と直接に接触している時に前記銀ベースの層の化学的劣化のリスクを低減できることを本発明者は見出した。
【００４９】
好ましくは、第２の実施形態のこの第２の形態に従って、本発明によるグレージングは、銀ベースの金属層が、それらがいくつかある場合、厚みが少なくとも９ｎｍ、優先的には少なくとも１３ｎｍおよび２３ｎｍ以下、より優先的には少なくとも１５ｎｍおよび２２ｎｍ以下であるようなグレージングである。
【００５０】
この実施形態に従って、日射吸収金属層は好ましくは、幾何学的厚みが０．５〜８ｎｍおよび有利には０．５〜５ｎｍである。
【００５１】
この実施形態に従って、この日射吸収層は、付加的な銀ベースの層の下または銀ベースの層の上のどちらに配置されてもよい。好ましくは、それは付加的な銀ベースの金属層の両側に配置され、各々の層は好ましくは、上に示された範囲内の厚み、すなわち好ましくは０．５〜５ｎｍの厚みを有する。これが、赤外線吸収層の両側の日射吸収量を広げるための最良の配置であることが見出された。
【００５２】
第１の実施形態の第１の好ましい実施に従って、本発明によるグレージングは、ガラス基材の面の少なくとも１つの上に、少なくとも：
・酸化ケイ素、酸化アルミニウム、混合アルミニウムケイ素酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、混合アルミニウム−ケイ素窒化物、オキシ窒化ケイ素、オキシ窒化アルミニウムおよび混合アルミニウム−ケイ素オキシ窒化物からなる群から、優先的には窒化ケイ素、窒化アルミニウムおよび混合アルミニウム−ケイ素窒化物から選択される少なくとも１つの化合物をベースとした誘電体材料から製造された層であって、誘電体材料の層の光学厚みが少なくとも１０ｎｍおよび２００ｎｍ以下、優先的には少なくとも４０ｎｍおよび１８０ｎｍ以下である層、
・日射吸収金属層であって、前記金属層が３０重量％〜９０重量％、好ましくは４０重量％〜９０重量％および有利には５０重量％〜９０重量％のタングステン、およびニッケル／クロム重量比１００／０〜５０／５０、優先的には８０／２０のニッケルおよびクロムを含み、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層の幾何学的厚みが少なくとも２ｎｍ、優先的には少なくとも３ｎｍ、および３０ｎｍ以下、優先的には少なくとも３ｎｍおよび２５ｎｍ以下である、日射吸収金属層、
・酸化ケイ素、酸化アルミニウム、混合アルミニウムケイ素酸化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、混合アルミニウム−ケイ素窒化物、オキシ窒化ケイ素、オキシ窒化アルミニウムおよび混合アルミニウム−ケイ素オキシ窒化物からなる群から、優先的には窒化ケイ素、窒化アルミニウムおよび混合アルミニウム−ケイ素窒化物から選択される少なくとも１つの化合物をベースとした誘電体材料から製造された層であって、誘電体材料の層の光学厚みが少なくとも２０ｎｍおよび２００ｎｍ以下である層、
を連続的に含む層システムを含むようなグレージングである。
【００５３】
第１の実施形態の第２の好ましい実施に従って、本発明によるグレージングは、ガラス基材の面の少なくとも１つの上に、少なくとも：
・酸化ケイ素、窒化ケイ素およびオキシ窒化ケイ素からなる群から選択される少なくとも１つの化合物をベースとし、誘電体材料の層の光学厚みが少なくとも１０ｎｍおよび２００ｎｍ以下、優先的には少なくとも４０ｎｍおよび１８０ｎｍ以下である、誘電体材料から製造された層、
・日射吸収金属層であって、前記金属層が３０重量％〜９０重量％、好ましくは４０重量％〜９０重量％および有利には５０重量％〜９０重量％のタングステン、およびニッケル／クロム重量比１００／０〜５０／５０、優先的には８０／２０のニッケルおよびクロムを含み、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層の幾何学的厚みが少なくとも２ｎｍ、優先的には少なくとも３ｎｍ、および３０ｎｍ以下、優先的には少なくとも３ｎｍおよび２５ｎｍ以下である日射吸収金属層、
・窒化ケイ素およびオキシ窒化ケイ素からなる群から選択される少なくとも１つの化合物をベースとした、光学厚みが少なくとも２０ｎｍおよび４００ｎｍ以下、好ましくは２０〜２００ｎｍである誘電体材料から製造された層、
を連続的に含む層システムを含むようなグレージングである。
【００５４】
第２の実施形態の第１の形態の好ましい実施に従って、層システムが、ｎ個の付加的な銀ベースの金属層（ｎ≧１）（各々の付加的な銀ベースの金属層は誘電体材料の層によって囲まれている）を含み、そして少なくとも１回、以下の連続した層：「ケイ素またはアルミニウム窒化物またはそれらの混合物／日射吸収層／ケイ素またはアルミニウム窒化物またはそれらの混合物／介在透明酸化物／酸化亜鉛をベースとした浸潤層／付加的な銀ベースの金属層」を含み、そこで付加的な銀ベースの金属層の幾何学的厚みが少なくとも８ｎｍであり、日射吸収層の幾何学的厚みが０．５〜８ｎｍである。それは、２つまたは３つ、またはさらに４つの銀ベースの金属層と、基材から出発して第１および第２の銀ベースの層の間に好ましくは置かれる、その特定の誘電体層によって囲まれた、日射吸収層とを有する層システムであってもよい。この特定の連続した層によって、この配列が考慮されない時に、そして特に、日射吸収層を保護する窒化物層とＺｎＯをベースとした浸潤層との間に介在透明酸化物層が存在していない時に熱処理の後に観察される有色の斑の形成を大幅に低減するかまたは防ぐことができることが発見された。この介在酸化物層の存在によって、表面の電気抵抗、そして従って放射率もまた、熱処理の後に有害に増加せずに、熱処理の後に少なくとも維持されるか、またはさらに有利に低減されることも見出された。
【００５５】
第２の実施形態の第２の形態の好ましい実施に従って、本発明によるグレージングは、ガラス基材の面の少なくとも１つの上に少なくとも：
・ケイ素および／またはアルミニウム窒化物またはオキシ窒化物からなる群から選択される少なくとも１つの化合物をベースとした誘電体材料から製造された層であって、誘電体材料の層の光学厚みが少なくとも１０ｎｍおよび２００ｎｍ以下、優先的には少なくとも４０ｎｍおよび１８０ｎｍ以下である層、
・日射吸収金属層であって、前記金属層が３０重量％〜９０重量％、好ましくは４０重量％〜９０重量％および有利には５０重量％〜９０重量％のタングステン、およびニッケル／クロム重量比１００／０〜５０／５０、優先的には８０／２０のニッケルおよびクロムを含み、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層の幾何学的厚みが少なくとも０．５ｎｍ、優先的には少なくとも１ｎｍ、および８ｎｍ以下、優先的には少なくとも１ｎｍおよび５ｎｍ以下である日射吸収金属層、
・幾何学的厚みが少なくとも９ｎｍ、優先的には少なくとも１３ｎｍ、および２２ｎｍ以下である付加的な銀ベースの金属層、
・第２の日射吸収金属層であって、前記金属層が３０重量％〜９０重量％、好ましくは４０重量％〜９０重量％および有利には５０重量％〜９０重量％のタングステン、およびニッケル／クロム重量比１００／０〜５０／５０、優先的には８０／２０のニッケルおよびクロムを含み、少なくともニッケルを合金されたタングステンをベースとした金属層の幾何学的厚みが少なくとも０．５ｎｍ、優先的には少なくとも１ｎｍ、および８ｎｍ以下、優先的には少なくとも１ｎｍおよび５ｎｍ以下である、第２の日射吸収金属層、
・光学厚みが少なくとも２０ｎｍおよび４００ｎｍ以下、好ましくは２０〜２００ｎｍであるケイ素窒化物またはオキシ窒化物をベースとした誘電体材料の層、を連続的に含む層システムを含むようなグレージングである。
【００５６】
４つの先行の実施に従って、他の付加的な層を基材に直接に、または外部保護層として、または層システムの積層体の内側に加えて、基礎層システムに付加的な性質および／または保護を与えるようにしてもよく、例えば、機械的または化学的攻撃因子に対する付加的な外部保護、基材から生じるアルカリに対するバリア、異なった光学的性質、金属層の電気的性質の改良、堆積率の改良、または任意の付加的な機能を与えてもよい。しかしながら、付加的な層は好ましくは、層システムが高温熱処理を受けることができなくならないように選択されなければならない。特に、有利には、これらの付加的な層は、熱処理の間に層システムの光学的性質の変更を生じないように、実質的な変更、特に構造変更を受けないことを確実にするよう注意する。
【００５７】
また、特に曲げ／強靭化タイプの熱処理は、光学的性質において、特に色合いにおいて顕著な変更を生じる場合がある。優先的には、それらが熱処理されるか否かにかかわらず、グレージングが事実上変化されない外観を有するようにこれらの変化は最小にされるのがよい。
【００５８】
慣例的に、比色変化の測定は、ＣＩＥＬＡＢ系の座標から行なわれる。比色変化はΔＥ＊と記載される式によって表わされ、この式は、式：
ΔＥ＊＝（ΔＬ＊２＋Δａ＊２＋Δｂ＊２）１／２
に相当し、式中、ΔＬ＊は、熱処理の前と後のグレージングの測色座標Ｌ＊の差を表わし、
Δａ＊は、熱処理の前と後のグレージングの測色座標ａ＊の差を表わし、
Δｂ＊は、熱処理の前と後のグレージングの測色座標ｂ＊の差を表わす。
【００５９】
より詳しくは、本発明によるグレージングの、透過率の比色変化ΔＥ＊ｔｒ：
ΔＥ＊ｔｒ＝（ΔＬ＊ｔｒ２＋Δａ＊ｔｒ２＋Δｂ＊ｔｒ２）１／２
は、前記グレージングが少なくとも６３０℃および６７０℃以下の温度に７分間供せられる時に８未満、優先的には５未満、より優先的には３未満である。
【００６０】
任意選択によりさらに、本発明によるグレージングの、ガラス側の反射の比色変化ΔＥ＊ｒｇ：
ΔＥ＊ｒｇ＝（ΔＬ＊ｒｇ２＋Δａ＊ｒｇ２＋Δｂ＊ｒｇ２）１／２
は、前記グレージングが少なくとも６３０℃および６７０℃以下の温度に７分間供せられる時に８未満、優先的には５未満、より優先的には３未満である。
【００６１】
任意選択により２つの先行の性質に加えて、本発明によるグレージングの、層側の反射の比色変化ΔＥ＊ｒｌ：
ΔＥ＊ｒｌ＝（ΔＬ＊ｒｌ２＋Δａ＊ｒｌ２＋Δｂ＊ｒｌ２）１／２
は、前記グレージングが少なくとも６３０℃および６７０℃以下の温度に７分間供せられる時に８未満、優先的には５未満、より優先的には３未満である。
【００６２】
特定の実施形態に従って、本発明によるグレージングは、厚み４ｍｍの透明ガラスからなる基材の光透過率が少なくとも２％に等しく、７５％以下であるように日射吸収金属層の厚みが選択される。自動車のサンルーフとして使用する場合、光透過率は好ましくは２％〜１０％、好ましくは６％〜８％である。建物においての用途の場合、光透過率は好ましくは１０％〜７０％、好ましくは１０％〜６０％、有利には１０％〜５０％そして有利に２０％〜４０％である。具体的には、日射吸収金属層は光およびエネルギーの透過率を決定し、それ故に、それは厚くなればなるほど、より多く吸収する。
【００６３】
特定の実施形態に従って、本発明によるグレージングは、層側の反射が少なくとも１％および４０％以下であるように誘電体層の光学厚みが選択される。誘電体層、特に上層は、特に、システムの反射を決定する。公知の方法で、高いおよび低い屈折率を有する層の交互配列によって、反射を制御することを可能にする。層の厚みもまた、決定要因である。前に示された厚みの限度内で、日射吸収金属層の上に配置された誘電体材料の層の厚みを増加させることによって、層側の反射の強度を低減する。
【００６４】
変形として、特に層側の反射で、低い光反射が望ましいとき、日射吸収金属層から形成される２つまたはさらに多くの機能層が好ましくは、以下の構造に従って、誘電体層をこれらの２つの層の間に有して配置される。例えば：主クレームに記載される誘電体層／日射吸収層／主クレームに記載される誘電体層／日射吸収層／主クレームに記載される誘電体層。日射吸収のための所望の全厚みは、２つに、またはさらに、使用される同数の吸収層に分割される。実例として、ここに好ましい具体的な構造：Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４／ＮｉＣｒＷ／Ｓｉ３Ｎ４がある。この構造は、非常に低い層側の光反射、例えばたった２％での製造を容易にする。
【００６５】
本発明の好ましい実施形態に従って、基材側で測定された光反射が少なくとも２７％、好ましくは少なくとも３０％および有利には少なくとも３５％である。この特性は、特に、グレージングの面の光沢のある外観によって、特定の分野の商業市場で非常に高く評価されている好ましい美的効果を得ることができる。
【００６６】
本発明によるグレージングの層システムは、特に、誘電体層の光学厚みを適切に調節して光学干渉効果を正確に制御することによって、この美的効果をより容易に得ることができる。１つの適切な手段は、基材と日射吸収層との間に置かれた、第１の誘電体層の光学厚みを低い値に制限することに存する。しかしながら、この第１の誘電体層の厚みは、特に、基材から生じる元素の移動のために、その性質を低下させずに層システムの高温熱処理を可能にするために十分でなければならないので、この解決には限界がある。別の好ましい手段は、日射吸収層の上に置かれた、第２の誘電体層に、特定の範囲内にある高い光学厚みを与えることに存する。好ましくは、日射吸収層の上に置かれた、第２の誘電体層の光学厚み（幾何学的厚みを材料の屈折率で乗じた値）は７０〜１７０ｎｍ、好ましくは８０〜１４０ｎｍおよび有利には１１０〜１３０ｎｍである。
【００６７】
好ましくは、基材側で測定された光反射は、層システム側で測定された光反射よりも少なくとも２倍、有利には少なくとも２．５倍および優先的には少なくとも３倍大きい。好ましくは、基材側で測定された光反射は、層システム側で測定された光反射よりも少なくとも１５％および有利には少なくとも２０％大きい。最良の太陽光制御効果を得るために、層が（外部から出発して）位置２に置かれると仮定すると、この特性によって、グレージングによって閉鎖されたスペースの内部からグレージングを通して見る時に同時にミラー効果を避けながら所望の好ましい美的効果を生み出すことを可能にする（基材側で測定された）外部反射を得ることができ、したがってグレージングを通しての光透過率と可視度とを改良する。所望の美的効果を得るための、高い外部反射と、低い内部反射とのこの組み合わせは、本発明のこの実施形態の本質的な特性である。室内から見られるミラー効果は、グレージングによって閉鎖された部屋からグレージングを通して正確な視野を得ることを妨げ、したがって回避される。第２の誘電体層の大きな厚みは基本条件である。
【００６８】
基材側と層システム側との間の光反射のこの差を得るための有利な実施形態に従って、日射吸収層の上に置かれた誘電体材料の層は、複数層にされ、２を超える高い屈折率を有する材料を含む。本発明の文脈において、高い屈折率を有するこの誘電体は、著しい構造変更を伴わずに熱処理に耐える材料である。このような材料の特定の例は、例えばジルコニウムまたはニオブをドープされた、酸化チタンであり、特に、各々４０％：６０％の比率の酸化チタンと酸化ジルコニウムとの混合物である。このような材料の別の例は、酸化ジルコニウムである。好ましくは、この高屈折率材料は、日射吸収層と層システムの最も外側の誘電体層との間に置かれる。
【００６９】
好ましくは、層システムは、混合チタン−ジルコニウム酸化物をベースとした薄い保護層で終わる。
【００７０】
本発明によるグレージングは、層および特にそれらの厚みの調節によってそれらの性質を適合させることにより様々な用途がある。
【００７１】
本発明によるグレージングは二重グレージングの一部を形成してもよく、この場合、層システムは２枚のガラス板の間のスペースに置かれてもよく、それは損傷、特に機械的損傷のリスクを抑える。それにもかかわらず、本発明によるグレージングのために提案される層システムの著しい特徴のうちの２つは、それらの機械的強度とそれらの耐薬品性である。層システムに付加的な銀ベースの金属層がないかまたは付加的な銀ベースの金属層があるが酸化物がない実施形態において、この耐性または強度は、それらが他の保護が全くなく露出した層システムに使用されてもよいような耐性または強度である。後者の場合、グレージングは同様に単一のガラス板から構成されてもよく、層システムはこのガラス板の一方の面上に適用される。また、それは２枚以上のガラス板を含む合わせグレージングであってもよく、ガラス板は、この技術分野の従来技術による熱可塑性材料の介在板によって接続される。
【００７２】
単一グレージングに関するこれらの用途において、層システムは環境から保護されない。合わせグレージングの場合においても、層は、表面の放射率に作用することによってエネルギーの透過率を制御するのにそれらが役割を果たすことができるように、外面上にあってもよい。
【００７３】
有利な機能性がグレージングの低放射性質であるとき、層システムは好ましくは、車または建物の内側に向いた面上に配置される。この配置は、長波長の赤外線の最大反射をもたらし、乗客室または建物の内部の熱を維持する。車について、この配置は、乗客室の方に向いた面上の層に相当する。この配置において、特に固定グレージング（サンルーフ、後部ウインドウ等）のための応力が比較的制限される時に層システムはより耐久性がある。
【００７４】
したがって、本発明によるグレージングは、自動車の艶出し要素：サンルーフ、フロントガラス、サイドウインドウ、後部ウインドウ（層システムは好ましくは乗客室に向いた面上にある）および建物のグレージング要素としてその用途がある。
【００７５】
より詳しくは、本発明によるグレージングは、自動車のサンルーフとしてその用途がある。
【００７６】
具体的には、自動車製造業者は、太陽光に対して保護するためにルーフにカーテン（覆い）を置くことを避ける解決策を模索している。このカーテンが無ければ重量削減（約６ｋｇ）につながり、したがって燃料消費の低減をもたらし、放出されるＣＯ２を減らすことになる。全くカーテンがなければ、何を差し置いても、熱的快適性は、乗客のために確実にされなければならず、すなわち夏に過熱が無く、冬に低温壁を感じることがない。電気自動車において、車の乗客室を暖めるために使用され得るサーマル・エンジンから来る熱がなく、体熱は内部に絶対に維持されなければならない（サンルーフを通しての損失がない）。
【００７７】
また、本発明によるグレージングは、オーブンドアなどの家電機器の艶出し要素としてその用途があり、そこでそれはまた、所望の美的効果を提供してもよい。それは、この特定のタイプの用途による様々な化学的および／または機械的攻撃因子に対する十分な耐性を示す。
【００７８】
既に何度か先に示したように、本発明によるグレージングはまた、明らかに、建物の艶出し要素としてその用途がある。この用途の場合、グレージングは二重または三重グレージングを形成してもよく、層システムは、多重グレージングの内側の閉鎖されたスペースの方に向いて配置される。また、グレージングは、その層システムが基材を接続する熱可塑性樹脂系接着剤材料、一般的にはＰＶＢと接触していてもよい合わせグレージングを形成してもよい。しかしながら、本発明によるグレージングは特に、それが単一グレージングであるか合わせグレージングであるかにかかわらず、また任意選択により多重グレージングであるが、層システムが外側の環境の方に向いている時に有用である。
【００７９】
言うまでもなく、ガラス基材は、日射をさらに吸収するか、または光透過率が低い私的なスペースを形成して、車の乗客室、または建物内のオフィスを外から隠すために例えば灰色、青色または緑色ガラスなどのバルク−ティンテッドガラスであってもよい。
【００８０】
付加的な銀ベースの金属層を含有する様々な実施形態の変形として、本発明はまた、単一の銀ベースの金属層だけでなく２つ、またはさらに３つ、またはさらに４つの銀ベースの金属層の導入を含める。この場合、日射吸収金属層は、いくつかの、または各々の銀ベースの層に密接して（両側にまたは一方の側にまたは他方の側に）配置されてもよい。好ましくは、日射吸収金属層は、基材から出発する第１の銀ベースの金属層の両側に配置される。ケイ素および／またはアルミニウム窒化物またはオキシ窒化物をベースとした誘電体層は好ましくは、単一機能層を有する実施例の繰り返しにより各々の銀ベースの金属層の間に配置される。
【実施例】
【００８１】
本発明によるグレージングの実施例と、比較例（「Ｒ」）とが、以下の表Ｉに示される。光学的性質は、その基材が厚み４ｍｍの普通の透明な「フロート」ガラスから製造されるグレージングについて、単一ガラスとして定義される。層は、ガラスから出発して、左から右に順になっている。およその厚みがｎｍ単位で表わされる。
【００８２】
表ＩおよびＩａ：本発明によるグレージングの実施例および本発明によるグレージングと先行技術のグレージングの性能の比較例、コーティングは厚み４ｍｍの透明ガラス上に堆積される。光透過率（ＴＬ）および層側の光の反射（Ｒｌ）およびガラス側の光の反射（Ｒｇ）もまた、特定の実施例について（％単位で）示される。
【００８３】
【表１】
0006339110.tif 000002
【００８４】
【表２】
0006339110.tif 000003
【００８５】
【表３】
0006339110.tif 000004
【００８６】
日射吸収金属層、付加的な銀ベースの金属層および誘電体層が、このタイプの技術の通常の条件下でカソードスパッタリング技術によって適用される。変形として、誘電体層が、ＰＥＣＶＤ（プラズマ強化化学蒸着）として知られる公知の技術によって適用される。
【００８７】
窒化ケイ素誘電体層は、全圧４ミリトール（０．５３Ｐａ）のアルゴン（３０〜７０％）と窒素（７０〜３０％）との混合物からなる雰囲気中の金属ターゲットから製造される。ニッケル−クロム（８０／２０ニッケル／クロム）−タングステン（ＮｉＣｒＷ合金中に５０重量％のＮｉＣｒおよび５０％のＷ）層が、アルゴンだけの雰囲気中の金属カソードから堆積される。変形として、このＮｉＣｒＷ金属合金の堆積雰囲気は、隣接する堆積領域から生じる少量の窒素または酸素を含む。結果として、形成されたＮｉＣｒＷ層は、その本質的に金属の性質を維持したまま、少量の窒素または酸素を含有する。得られた性質は同様である。酸化ケイ素誘電体層は、アルゴンと酸素とを含有する雰囲気中のケイ素をベースとしたターゲットから出発して製造される。
【００８８】
層側または基材側の光透過率ＴＬおよび光反射は、イルミナントＤ６５、２°を使用して試料上で測定される。ＣＩＥ測色座標Ｌ＊、ａ＊およびｂ＊もまた、イルミナントＤ６５、１０°を使用して熱処理の前と後で測定される。測定が行なわれる角度は８°である。
【００８９】
試料は、７分３０秒にわたって６７０℃に保つことを含む熱処理に供せられる。透過率と反射の変化ΔＥ＊もまた、表に示される。実施例において、ＳｉＮという表記は、化学式を表わさない窒化ケイ素を示し、得られた生成物が必ずしも正確に化学量論ではないが、示された堆積条件下で得られ、化学量論生成物の範囲にある生成物であると理解される。ＳｉＯｘという表記は、化学式を表わさない酸化ケイ素を示し、得られた生成物が必ずしも正確に化学量論ではないが、示された堆積条件下で得られ、化学量論生成物の範囲にある生成物であると理解される。ＳｉＮまたはＳｉＯｘ層は、ターゲットから生じるアルミニウムを最大で約１０重量％まで含有してもよい。本発明による誘電体層はさらに、上記の材料を含むかまたは本質的にからなる複数の個別層からなってもよい。
【００９０】
銀層のない本発明によるグレージングの機械的強度および耐薬品性は、クラスＢコーティングについて標準ＥＮ１０９６−２において定義された試験を良好に合格することを特徴としている。さらに、本発明によるグレージングはまた、以下の試験の要件を満たす：
■  好ましくは少なくとも１０日間、標準ＩＳＯ９２２７−２００６による塩噴霧試験（ＮＳＳ：中性塩噴霧）、
■  好ましくは少なくとも１０日間、標準ＥＮ１０３６−２００８による空調室試験、および
■  好ましくは少なくとも１０日間、標準ＩＳＯ６２７０−１：１９９８によるクリーブランド試験、
■  標準ＥＮ１０９６−２による耐酸性試験（ＳＯ２）、
■  以下に説明されるＡＷＲＴ試験（自動湿潤摩擦試験）：綿布で覆われたピストンを、評価される層と接触させ、その表面の上で前後に動かす。ピストンには、３３Ｎの力を１７ｍｍの直径を有するフィンガーに加えるように重量がかかる。コートされた表面の上で綿を摩擦することによって、特定のサイクル数の後に層に損傷を与える（除去する）。試験を用いて、層が変色して（層の部分的な除去）引っ掻きがそこに見える限界を画定する。試験は、試料上の様々な別個の位置で、１０、５０、１００、２５０、５００および１０００サイクル実施される。変色または引掻きが試料上に見えるかどうかを確認するために、試料は人工空の下で観察される。ＡＷＲＴの結果は、劣化が全くないかまたは非常に少ししかないサイクル数を示す（一様な人工空下で試料から８０ｃｍの距離で裸眼に見えない）、
■  好ましくは少なくとも１０００サイクルについて、標準ＡＳＴＭ  Ｄ２４８６−００（試験方法「Ａ」）による乾燥ブラシ試験（ＤＢＴ）、
これは、任意選択の熱処理の前と後に測定される。
【００９１】
表ＩＩ：以下の実施例は、日射吸収金属合金中のＮｉＣｒおよびＷの他の比率で実施された。先行の実施例については、アルファベット（「Ｒ」）を有する実施例番号は比較例であり、このアルファベットのない番号は、本発明による実施例である。３つの耐薬品性試験についての結果（可はＯＫ；不合格はＫＯ、そして申し分ないはＳ）もまた示される：空調室（ＣＣ）、クリーブランド試験（Ｃｌｅｖ）および塩水噴霧（ＳＳ）。
【００９２】
以下の同じ構造を使用した：２５ｎｍのＳｉＮ／機能層／５５ｎｍのＳｉＮ（ＳｉＮは、出発ケイ素ターゲットを導電性にするために任意選択によりアルミニウムをドープされたＳｉ３Ｎ４を意味する）。様々な層が、先行の実施例の場合と同じ方法で堆積される。機能層の構造は以下の表ＩＩに示される。Ｗに対するＮｉＣｒのパーセンテージは重量基準で示される。これらの実施例の光透過率は約７％であり、日射透過率は約２０％である。
【００９３】
【表４】
0006339110.tif 000005
【００９４】
表ＩＩＩ：以下の表ＩＩＩに再現された、ガラス基材上に堆積された層システムの実施例は、本発明によるグレージングを形成する日射吸収金属層から各々形成された２つの機能層を有する構造物を示す。表記法は表ＩＩの場合と同じである。
【００９５】
【表５】
0006339110.tif 000006
【００９６】
適度な限度内の、誘電体層の厚みの変化は、熱処理の間の色合いの変更、または耐久性に著しく影響を与えないが、もちろん、それは出発点の美的外観（そして特に色合い）を変える。
【００９７】
表ＩＶ：以下の表ＩＶに再現された、ガラス基材上に堆積された層システムの実施例２６〜３３は、より詳しくは、基材側の光反射が高く、特に、層システム側の光反射よりも高い本発明の実施形態に関する。日射吸収金属層は、５０％のニッケル−クロム（８０−２０％）と５０％のタングステンとを含む合金である。表記法は表Ｉの場合と同じである。括弧内の数字は、様々な層についてのｎｍ単位の物理的厚みである。性質（光透過率および反射について％単位）は、熱処理後の一体式グレージングにおいて示される。「ＴＺＯ」という名称は、５０％のＴｉＯ２と５０％のＺｒＯ２とを含む混合酸化物を表わす。
【００９８】
【表６】
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【００９９】
以下の表Ｖａは、２つの付加的な銀ベースの金属層を有する実施例を示し、日射吸収層は、基材と第１の銀ベースの層との間に配置された第１の誘電体コーティング内にある。様々な層が、表Ｉの実施例の場合と同じ条件下で堆積される。性質は同じ方法で測定され、表Ｖｂに示される。また、表Ｖａの実施例は、表Ｉの実施例について記載された熱処理と同じ熱処理を受け、性質の変化は、同じ方法で、ΔＥ＊で、透過率ΔＥ＊Ｔｌ（またはΔＥ＊ｔｒ）、または層側の反射（ΔＥ＊Ｒｌ）、またはガラス基材側反射（ΔＥ＊Ｒｇ）のどれかで示される。さらに、座標Ｌ＊、ａ＊、ｂ＊およびＹ（全光透過率または全光反射のどちらかを表わす）もまた、透過率（ＴＬ）、ガラス基材側反射（Ｒｇ）としておよび層システム側反射（Ｒｌ）として、そしてまた全光透過率の変化（ΔＴＬ）、およびガラス基材側（ΔＲｇ）および層システム側（ΔＲｌ）全反射の変化として示される。ＺＳＯ５という名称は、スズ酸亜鉛Ｚｎ２ＳｎＯ４のスピネル構造を形成する、５２重量％の亜鉛と４８重量％のスズとを含有する亜鉛−スズ合金のカソードから形成される混合亜鉛−スズ酸化物を表わす。用語「ＡＺＯ」は、中性またはわずかに酸化性の雰囲気下で、堆積される酸化物によって形成されるセラミックカソードから、カソードスパッタリングによって得られた、アルミニウムをドープされた酸化亜鉛を指す。変形として、ＡＺＯは、形成される層システムの所望の性質に適している、本技術分野に公知である他のバリアと取り替えられてもよく、例えば、堆積される酸化物から形成されるセラミックターゲットから好ましくは得られるＴｉ酸化物（ドープされないかまたはニオブまたはジルコニウムをドープされる）または高純度ＺｎＯと取り替えられてもよい。Ｂは、本技術分野に公知である、銀の酸化に対するバリアとして作用する層を表わす。Ｄは、スズ酸亜鉛、ドープトまたはアンドープトＺｎＯ、またはこのタイプの層の積層のために適している、本技術分野で公知の別の材料、例えばＡｌＮなどの窒化物を特にベースとした、１つまたは複数の誘電体層を表わす。Ｍは、ＺｎＯをベースとした浸潤層を表わし、それはドープされないかまたはアルミニウムをドープされる。ＩＲは、赤外線を反射する機能層を表わす。ＡＢＳは日射吸収層を表わす。
【０１００】
表ＶＩａに示された実施例は、同じ方法で、表Ｖａの場合のように２つの付加的な銀ベースの金属層を有する実施例であるが、今回の日射吸収層は、第１の銀ベースの層と第２の銀ベースの層との間に配置された第２の誘電体コーティング内にある。得られた性質は、表Ｖｂの場合と同じ方法で表ＶＩｂに示される。ＴＺＯ６５という名称は、ＴＺＯ（５０／５０）と異なった、３５％のジルコニウムおよび６５％のチタンを有する混合チタン−ジルコニウム酸化物を意味する。
【０１０１】
以下の表ＶＩＩａは、３つの付加的な銀ベースの金属層を有する実施例を示し、日射吸収層は、基材と第１の銀ベースの層との間に配置された第１の誘電体コーティング内にある。相当する性質は、表ＶＩＩｂにおいて、熱処理されていない厚み６ｍｍの透明ガラス基材について、単一ガラスとして示される。日射透過率の値（ｇ）もまた示される。
【０１０２】
また、以下の表ＶＩＩＩａは、３つの付加的な銀ベースの金属層を有する実施例を示し、今回の日射吸収層は、第１の銀ベースの層と第２の銀ベースの層との間に配置された第２の誘電体コーティング内にある。相当する性質は表ＶＩＩＩｂにおいて、熱処理されていない厚み６ｍｍの透明ガラス基材について、単一ガラスとして示される。日射透過率の値（ｇ）もまた示される。
【０１０３】
言うまでもなく、本発明は、記載された実施例に限定されない。
【０１０４】
【表７】
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【０１０５】
【表８】
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【０１０６】
【表９】
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【０１０７】
【表１０】
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【０１０８】
【表１１】
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【０１０９】
【表１２】
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【０１１０】
【表１３】
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【０１１１】
【表１４】
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