(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を加工するためのイオンビームを照射するイオンビーム照射手段と、前記試料を保持する試料ホルダと、前記イオンビームが照射される試料加工面の一部を遮蔽する遮蔽板と、前記試料を保持した前記試料ホルダと前記遮蔽板を保持する試料ステージを備え、
前記試料の前記遮蔽板に遮蔽されずに前記イオンビームが照射される前記試料加工面が前記イオンビームによって加工されることにより前記試料加工面と垂直な試料観察断面が形成される試料作製装置において、
前記イオンビームによってスパッタリングされるスパッタ面を有するターゲット材と、前記ターゲット材と加工後に前記試料ステージから取り外された前記試料ホルダを一体に保持するコーティング用保持体であって、前記ターゲット材の前記スパッタ面に前記試料の前記試料観察断面が対向して配置されるように前記試料ホルダと前記ターゲット材を保持するコーティング用保持体と、を設け、
前記コーティング用保持体は前記イオンビームの光軸上に前記スパッタ面が配置されるように前記試料ステージに取り外し可能に取り付けられることを特徴とする試料作製装置。
【請求項２】
前記コーティング用保持体は前記ターゲット材が嵌合する第一溝部によって前記ターゲット材を保持することを特徴とする請求項１記載の試料作製装置。
【請求項３】
前記コーティング用保持体は前記試料ホルダが嵌合する第二溝部によって前記試料ホルダを保持することを特徴とする請求項１乃至２記載の試料作製装置。
【請求項４】
前記遮蔽板は遮蔽板保持体に保持されると共に、前記試料ステージには前記遮蔽板保持体と前記コーティング用保持体を係止可能なガイドが設けられ、
前記遮蔽板保持体と前記コーティング用保持体は前記ガイドに係合する係合部を備えており、
前記遮蔽板保持体を前記ガイドから取り外して前記コーティング用保持体を前記ガイドに前記係合部が係合するように入れ替えた時、前記遮蔽板のエッジ部のあった位置に前記スパッタ面が配置されることを特徴とする請求項１乃至３記載の試料作製装置。
【請求項５】
前記試料加工面および前記スパッタ面を観察可能であり前記イオンビームの光軸と平行な光軸を有する観察手段を設け、
前記コーティング用保持体は前記観察手段の焦点を合わせるために前記イオンビームの光軸と垂直な面を有する板を前記スパッタ面近傍に備えたことを特徴とする請求項１乃至４記載の試料作製装置。
【請求項６】
前記板は前記コーティング用保持体の第一溝部に配置される先端部と前記コーティング保持手段の外側に配置される他端部を有し、前記先端部が前記第一溝部に対して挿脱可能にスライドすることを特徴とする請求項５記載の試料作製装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子顕微鏡等の試料等を作製する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子顕微鏡で試料の断面観察を行うために、試料の断面をエッチング（ミリング）により削る装置（クロスセクション・ポリシャ：イオンによる試料断面作製装置）が知られている。この装置は、遮蔽材を試料の上部に設け、エッチング時に遮蔽材が試料の所定の領域を遮蔽し、試料のエッチング部以外の領域がイオンビームの照射を受けることを防いで試料観察断面を作製する（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
図１に従来の試料作製装置を示す。試料作製装置１における真空チャンバ２には、イオンビーム照射手段であるイオン銃３と排気手段である真空ポンプ４と開閉可能な試料ステージ引出機構５が取り付けられている。
【０００４】
図１は試料ステージ引出機構が開いた状態を示しており、この試料ステージ引出機構５にはｙ軸と平行な軸周りに傾斜可能に構成された試料ステージ６が取り付けられている。試料ステージ６上には、ｘ軸およびｙ軸方向に移動可能であり、ｚ軸と平行な軸周りに回転可能に構成された試料位置調節機構７が配置されている。試料位置調節機構７には試料８を保持する試料ホルダ９が取り付けられる。
【０００５】
一方、試料ステージ６上の試料位置調節機構７と対向する位置に、ｙ軸方向に移動可能に構成されており、カセットが一定の位置に係止可能なガイド（図示せず）を設けたカセット位置調節機構１０が配置されている。このガイドに係合する係合部であるガイド溝を有しており、遮蔽板１１を保持する遮蔽板カセット１２（遮蔽板保持体）がカセット位置調節機構１０に取り付けられる。遮蔽板カセット１２には、遮蔽板支持部１３が遮蔽板カセットの支点１４を中心にｘ軸と平行な軸周りに傾斜可能に取り付けられている。この遮蔽板支持部１３の先端部には、遮蔽板１１が保持される。
【０００６】
また、試料ステージ引出機構５には、ｘ軸およびｙ軸方向に移動可能な光学顕微鏡位置調節機構１５が支点１６を中心にｘ軸と平行な軸周りに傾斜可能に取り付けられる。光学顕微鏡位置調節機構１５には光学顕微鏡１７が保持される。
【０００７】
このような構成の装置において、試料８の目的加工位置に試料観察断面を作製することがある。
【０００８】
試料観察断面を作製するために、まず、イオン銃３から発生するイオンビームＩＢの光軸ＯＩと光学顕微鏡の光軸ＯＬを試料ステージ引出機構５が閉じた際に一致させるための準備を行う。
【０００９】
遮蔽板支持部１３と光学顕微鏡１７をｚ軸方向に傾斜させて退避しておき、試料ステージ引出機構５を押し込んで真空チャンバ２を密閉状態にする。その後、真空チャンバ２を真空ポンプ４により排気し、試料８のイオンビームＩＢの光軸ＯＩに垂直な面である試料加工面１８にイオンビームＩＢを照射してイオンビーム痕１９をつける。イオンビーム痕１９をつけてから、真空チャンバ２を大気にし、試料ステージ引出機構５を開けて光学顕微鏡１７の光軸ＯＬをｚ軸と平行な位置まで傾斜させて観察し、イオンビーム痕１９の中心に光学顕微鏡１７の中心（光軸ＯＬ）を合わせる。
図２に光学顕微鏡から見たイオンビーム痕を示す。図２（ａ）のようにイオンビーム痕１９の中心が光学顕微鏡１７の観察窓２０の中心である光軸ＯＬとずれている場合、図２（ｂ）に示すように、光学顕微鏡１７を光学顕微鏡調節機構１５によって移動させ、イオンビーム痕１９の中心に光学顕微鏡１７の光軸ＯＬを合わせる。この準備によって、試料ステージ引出機構５を閉じた際に、イオンビームＩＢの光軸ＯＩと光学顕微鏡１７の光軸ＯＬが一致する。
【００１０】
次に、光学顕微鏡１７の光軸ＯＬと遮蔽板１１のエッジ部２１を合わせる。図３に光学顕微鏡の光軸に遮蔽板のエッジ部を合わせる様子を示す。遮蔽板支持部１３をｙ軸方向に傾斜させ、光学顕微鏡１７で遮蔽板１１のエッジ部２１を観察しながら、カセット位置調節機構１０によって遮蔽板１１の位置調整を行う。そして、図３（ｂ）に示すように、遮蔽板１１のエッジ部２１を光学顕微鏡１７の中心まで移動する。
【００１１】
遮蔽板１１を光学顕微鏡１７の中心にセットしたら、光学顕微鏡１７の観察窓２０に遮蔽板１１が入らないように、遮蔽板支持部１３をｚ軸方向に傾斜させて遮蔽板１１を退避させる。
【００１２】
そして、試料加工面１８を光学顕微鏡１７で観察しながら、試料位置調節機構により試料加工面１８の目的加工位置を光学顕微鏡１７の中心に配置する。光学顕微鏡１７の中心に目的加工位置を配置してから、再び遮蔽板支持部１３を傾斜させて試料加工面１８の一部を遮蔽板１１で遮蔽する。
【００１３】
このような準備を終えてから、光学顕微鏡１７をｚ軸方向に傾斜して退避させて試料ステージ引出機構５を真空チャンバ２に押込み、真空チャンバ２を密閉状態にする。
【００１４】
図４に試料作製装置の試料ステージ引出機構を閉じたものを示す。図４に示すように、試料ステージ引出機構５を閉じた際に、光学顕微鏡１７の中心に配置させた試料８の目的加工位置および遮蔽板１１のエッジ部２１がイオンビームＩＢの光軸ＯＩ上に位置する。
【００１５】
そして、真空ポンプ４によって真空チャンバ２の排気を行った後、排気は継続させつつ、イオンビームＩＢを照射し、遮蔽板１１に遮蔽されない部分の試料８がイオンビームＩＢによりエッチングされて、試料観察断面２２が作製される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開２００５−９１０９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
このような試料作製装置で試料観察断面の作製をした後に、試料観察断面に金属薄膜等を成膜することがある。従来例のような試料作製装置では、試料観察断面の作製後に、別個に設けられた蒸着装置によって試料観察断面に成膜していた。
【００１８】
そのため、試料の取り外しや、装置のセッティング等の時間と手間が掛り、作業者にとって大変な作業が生じていた。また、蒸着装置を別個に用意しなければならず、コスト的にも非常に負担が重かった。
【００１９】
本発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、その目的は、試料作製装置にターゲット材を配置することで、試料観察断面の作製（イオンミリング）と成膜（スパッタリング）が可能になる試料作製装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
上記目的を達成する本発明の試料作製装置は、試料を加工するためのイオンビームを照射するイオンビーム照射手段と、前記試料を保持する試料ホルダと、前記イオンビームが照射される試料加工面の一部を遮蔽する遮蔽板と、前記試料を保持した前記試料ホルダと前記遮蔽板を保持する試料ステージを備え、前記試料の前記遮蔽板に遮蔽されずに前記イオンビームが照射される前記試料加工面が前記イオンビームによって加工されることにより前記試料加工面と垂直な試料観察断面が形成される試料作製装置において、前記イオンビームによってスパッタリングされるスパッタ面を有するターゲット材と、前記ターゲット材と加工後に前記試料ステージから取り外された前記試料ホルダを一体に保持するコーティング用保持体であって、前記ターゲット材の前記スパッタ面に前記試料の前記試料観察断面が対向して配置されるように前記試料ホルダと前記ターゲット材を保持するコーティング用保持体と、を設け、前記コーティング用保持体は前記イオンビームの光軸上に前記スパッタ面が配置されるように前記試料ステージに取り外し可能に取り付けられることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、試料観察断面の作製（イオンミリング）と成膜（スパッタリング）の両方を行える試料作製装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】従来の試料作製装置を説明するために示したものである。
【図２】イオンビーム痕と光学顕微鏡の光軸の一例を示したものである。
【図３】遮蔽板と光学顕微鏡の光軸の一例を示したものである。
【図４】従来の試料作製装置を説明するために示したものである。
【図５】本発明の第一実施例のコーティングカセットの一例を示したものである。
【図６】本発明の第一実施例の試料を保持する試料ホルダの一例を示したものである。
【図７】本発明の第一実施例のコーティングカセットが試料ホルダを保持する様子を示したものである。
【図８】本発明の第一実施例の試料ホルダを保持したコーティングカセットを取り付けた試料作製装置の一例を示したものである。
【図９】本発明の第一実施例の遮蔽板カセットとコーティングカセットを示したものである。
【図１０】本発明の第一実施例の試料ホルダを保持したコーティングカセットを取り付けた試料作製装置の一例を示したものである。
【図１１】本発明の第二実施例の試料作製装置の一例を示したものである。
【図１２】本発明の第二実施例の試料作製装置の一例を示したものである。
【図１３】本発明の第二実施例の試料ホルダと試料ホルダを保持した試料ホルダカセットの一例を示したものである。
【図１４】本発明の第二実施例のコーティングカセットの一例を示したものである。
【図１５】本発明の第二実施例のコーティングカセットが試料ホルダを保持する様子を示したものである。
【図１６】本発明の第二実施例の試料ホルダを保持した試料ホルダカセットとコーティングカセットを示したものである。
【図１７】本発明の第二実施例の試料ホルダを保持したコーティングカセットを取り付けた試料作成装置の一例を示したものである。
【図１８】本発明の第二実施例の試料ホルダを保持したコーティングカセットを取り付けた試料作成装置の一例を示したものである。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を用いて本発明の実施例の形態について説明する。ただし、既に示した装置  
【００２４】
と同一ないし類似の構成要素には同一の番号を付しその詳細な説明は省略する。
【００２５】
本発明の第一実施例は、試料作製装置１は従来例と同一で、試料観察断面２２とターゲット材のイオンビーム照射されるスパッタ面が対向する向きに配置されるように試料８とターゲット材を保持するコーティングカセット（コーティング用保持体）を新たに設ける。
【００２６】
図５にコーティングカセットを示す。図５（ａ）は正面図、図５（ｂ）は側面図、図５（ｃ）は上面図である。
【００２７】
図５（ａ）に示すように、コーティングカセット２３は、ターゲット材２４のイオンビーム照射されるスパッタ面２５とイオンビームＩＢの光軸ＯＩの間の角度θ１が５°程度となるようにしてターゲット材２４を保持している。図５（ｃ）に示すように、コーティングカセット２３には、ターゲット材係止部である第一溝部２６と試料ホルダ係止部である第二溝部２７とカセット位置調節機構１０のガイドに係合する係合部であるガイド溝２８が設けられている。
【００２８】
ターゲット材２４は第一溝部２６と嵌合して保持されており、試料ホルダ９は第二溝部２７と嵌合して保持される。さらに、コーティングカセット２３には、第一溝部２６に挿脱可能であり、光学顕微鏡１７の焦点を合わせるために光軸ＯＬに垂直な面を有する板２９がターゲット材２４のスパッタ面２５のイオンビームＩＢが照射される位置の近傍に設けられている。
【００２９】
板２９は第一溝部の内側に位置する光軸ＯＬに垂直な面を有する先端部２９Ａと第一溝部およびコーティングカセットの外側に位置する他端部２９Ｂで構成されており、他端部２９Ｂを抜差しすることで先端部２９Ａを第一溝部２６に挿脱可能にスライドさせることができる。
【００３０】
この板２９により、光学顕微鏡１７の光軸ＯＬに対して傾きを持ち焦点が合わせづらいスパッタ面２５のイオンビームＩＢが照射される位置と同じ高さに光学顕微鏡１７の焦点を合わせることができる。板２９で光学顕微鏡１７の焦点を合わせた後にスパッタ面２５のイオンビームＩＢが照射される位置と光軸ＯＬを合わせる。
【００３１】
このようなコーティングホルダ２３の第二溝部２７に、試料観察断面２２を作製した試料ホルダ９を嵌合させる。
【００３２】
図６に試料観察断面作製後の試料を保持する試料ホルダを示す。図６（ａ）は正面図、図６（ｂ）は側面図、図６（ｃ）は上面図である。
【００３３】
図６（ｂ）に示すように、試料ホルダ９は、ホルダ上段部３０とホルダ中段部３１とホルダ下段部３２により構成されている。また、図６（ｃ）に示すようにホルダ上段部３０はコの字型の凹みを有しており、コの字型の上段部３０に囲まれたホルダ中段部３１上にバネ３３が配置されている。さらに、バネ３３には試料台３４と試料台３４に裁置された試料８が保持されている。
【００３４】
試料台３４の裁置面に試料８が接着材等により接着されており、試料観察断面２２がホルダ上段部３０のコの字型の壁が無い方向を向くように配置する。このとき、試料８と試料台３４を押し込むようにしてバネ３３を圧縮した状態のまま試料台３４の両側からネジ３５によって固定する。さらに、試料８の試料加工面１８はホルダ上段部３０と同じ高さとなる。
【００３５】
ホルダ下段部３２には、試料加工中もしくは試料加工後にイオンビームＩＢによって試料ホルダ９がスパッタリングされて試料８にリデポすることを防ぐために、ホルダ下段部３２に、イオンビーム貫通孔３６が設けられている。
【００３６】
図７にコーティングカセット２３が試料ホルダ９を保持する様子を示す。図７に示すように、試料ホルダ９を試料加工面１８がイオンビーム照射される向き（ｚ方向）と逆向き（−ｚ方向）になるように反転させ、コーティングカセット２３の第二溝部２７に試料ホルダ上段部３０を嵌合させる。
【００３７】
ここで、試料観察断面２２の向き（ｙ方向）は、ターゲット材２４のスパッタ面２５（−ｙ方向）と対向した状態で保持される。
【００３８】
また、試料観察断面２２の垂直方向上にはスパッタ面２５の少なくとも一部が重なるように配置されている。さらに、コーティングカセット２３に設けられた第一溝部２６と第二溝部２７をつなぐ穴によって、ターゲット材２４のスパッタ面２５と試料観察断面２２の間は遮られていない。
【００３９】
このようなコーティングカセット２３を用いて、試料観察断面２２の作製後に試料観察断面２２にスパッタ蒸着を行うことがある。
【００４０】
図８に第一実施例のコーティングカセットを取り付けた試料作製装置を示す。スパッタ蒸着を行うために、まず、従来例で示したように、試料作製装置１によって試料観察断面２２を作製してから、試料ステージ引出機構５を真空チャンバ２より引き出す。引き出した試料ステージ６上の試料位置調節機構７から試料ホルダ９を外し、試料ホルダ９をコーティングカセット２３の第二溝部２７に嵌合させる。
【００４１】
次に、遮蔽板カセット１２（遮蔽板保持体）をカセット位置調節機構１０から取り外し、カセット位置調節機構１０のガイドにコーティングカセット２３のガイド溝２８を係合させてコーティングカセット２３を取り付ける。
【００４２】
図９に遮蔽板カセットとコーティングカセットを示す。図９（ａ）は遮蔽板カセットの上面図、図９（ｂ）はコーティングカセットの上面図である。図９(ａ)に示す遮蔽板カセット１２のガイド溝３７から遮蔽板１１のエッジ部２１までの長さＤ１と、図９（ｂ）に示すコーティングカセット２３のガイド溝２８からターゲット材２４のスパッタ面２５までの長さＤ２が略等しい。このため、イオンビーム照射をして試料観察断面２２の作製を行った後にカセット位置調節機構１０を動かさないまま遮蔽板カセット１２とコーティングカセット２３を入れ替えることで、イオンビームＩＢの光軸ＯＩ上（光学顕微鏡の光軸ＯＬ上）にターゲット材２４のスパッタ面２５が配置される。
【００４３】
なお、ターゲット材２４のスパッタ面２５にイオンビームＩＢの光軸ＯＩを改めて調整する際には、遮蔽板位置を合わせる手順と同じように、光学顕微鏡１７の光軸ＯＬがｚ軸と平行になるように光学顕微鏡１７を傾斜させ、光学顕微鏡１７を観察しながら、光学顕微鏡１７の光軸ＯＬにスパッタ面２５を合わせる。このとき、板２９を使用することで目的のターゲット材２４に対して光学顕微鏡１７の焦点が容易に合わせられる。
【００４４】
このように、コーティングカセット２３に試料ホルダ９を保持させてから、カセット位置調節機構１０にコーティングカセット２３を取り付け、試料ステージ引出機構５を押し込んで真空チャンバ２を密閉状態にする。
【００４５】
図１０に第一実施例のコーティングカセットを取り付けた試料作製装置を示す。真空チャンバ２を密閉状態にした後、真空ポンプ４によって真空チャンバ２の排気を行い、目的の真空度となったところで、排気は継続しつつ、イオンビームＩＢをターゲット材２４のスパッタ面２５に照射し、スパッタ面２５からスパッタされた粒子が飛散して、スパッタ面２５と対向して配置されている試料観察断面２２にターゲット材２４からスパッタされた粒子が蒸着することにより、試料観察断面２２に成膜される。
【００４６】
このような装置では、試料観察断面作製と試料の成膜の両方の作業を行うことが可能であり、遮蔽板カセット１１とコーティングカセット２３を入れ替えて取り付けることにより、手軽に試料観察断面の作製とスパッタ蒸着による成膜が可能となっている。
【００４７】
図１１に第二実施例を示す。図１１で示す第二実施例では、第一実施例と試料ホルダ、コーティングカセット（コーティング用保持体）が異なり、その他は同様の試料作製装置３８である。また、第二実施例では遮蔽板カセット、試料位置調節機構は不要である。
【００４８】
試料作製装置３８に取り付ける試料ホルダ３９は試料ホルダ本体４０と板バネ４１により試料８を把持している。さらに、試料ホルダ本体４０には遮蔽板４２が保持される。
【００４９】
このような装置で試料８に試料観察断面２２を作製することがある。まず、試料８の目的加工位置と遮蔽板４２の相対位置を別個に設けた光学顕微鏡（図示せず）により調節する。その後、試料ホルダ３９を保持した試料ホルダカセット４３をカセット位置調節機構１０のガイドにガイド溝を合わせて取り付ける。
【００５０】
次に、従来例でも示したように、イオンビームＩＢの光軸ＯＩと光学顕微鏡１７の光軸ＯＬを一致させる。第二実施例では試料８が装置に取り付けられた後に移動しないため、一度イオンビームＩＢの光軸ＯＩと光学顕微鏡１７の光軸ＯＬを合わせるとその後の調節は不要である。また、試料８と遮蔽板４２の相対位置は予め調節してあるため、光学顕微鏡１７の光軸ＯＬに遮蔽板４２のエッジ部４４をカセット位置調節機構１０により移動して合わせることにより、試料観察断面作製の準備が完了する。
【００５１】
図１２に第二実施例の試料ステージ引出機構を押し込んだ試料作製装置を示す。試料作製装置３８の試料観察断面作製の準備ができたら、試料ステージ引出機構５を押し込んで真空チャンバ２を密閉状態とする。密閉した真空チャンバ２を真空ポンプ４により排気を行い、目的の真空度になったら排気を維持しつつ、イオンビームＩＢを照射し、遮蔽板４２に遮蔽されない部分の試料８がイオンビームＩＢによりエッチングされて、試料観察断面２２が作製される。
【００５２】
図１３に第二実施例の試料ホルダを示す。図１３（ａ）は第二実施例の試料ホルダの正面図、図１３（ｂ）は側面図、図１３（ｃ）は上面図である。試料ホルダ３９は、コの字型の試料ホルダ本体４０に板バネ４１を備え、板バネ４１により試料８を試料ホルダ本体４０の上壁に押し当てるようにして把持する。また、試料ホルダ３９は遮蔽板４２を試料ホルダ本体４０の上壁内面と遮蔽板４２の下面が水平となるように固定する。さらに、試料ホルダカセット４３は試料ホルダ本体と嵌合する溝４５とカセット位置調整機構１０のガイドと係合するガイド溝４６を備えており、溝４５に試料ホルダ３９を嵌合して保持しておき、カセット位置調節機構１０のガイドにガイド溝４６を係合させて試料作製装置３８に取り付ける。
【００５３】
図１４に第二実施例のコーティングカセットを示す。図１４（ａ）は第二実施例のコーティングカセットの正面図、図１４（ｂ）は側面図、図１４（ｃ）は上面図である。
【００５４】
コーティングカセット４７は、ターゲット材２４のイオンビーム照射されるスパッタ面２５とイオンビームＩＢの光軸ＯＩの間の角度θ２が５°程度となるようにしてターゲット材２４を保持している。図１４（ｃ）に示すように、コーティングカセット４７には、ターゲット材係止部である第一溝部４８と試料ホルダ係止部である第二溝部４９とカセット位置調節機構１０のガイドに係合するガイド溝５０が設けられている。ターゲット材２４は第一溝部４８と嵌合して保持され、試料ホルダ３９は試料ホルダ本体４０が第二溝部４９と嵌合して保持される。
【００５５】
図１５に第二実施例のコーティングカセットが試料ホルダを保持する様子を示す。コーティングカセット４７は、試料加工面１８にイオンビーム照射される向き（ｚ方向）のまま試料ホルダ本体４０を第二溝部４９に嵌合して試料ホルダ３９を保持している。
【００５６】
ここで、試料観察断面２２の向き（−ｙ方向）はターゲット材２４のスパッタ面２５の向き（ｙ方向）と対向した状態で保持される。
【００５７】
図１６に第二実施例のコーティングカセットと試料ホルダカセットに保持される試料ホルダを示す。図１６（ａ）は試料ホルダを保持した試料ホルダカセットの上面図、図１６（ｂ）は第二実施例のコーティングカセットの上面図である。図１６(ａ)に示す試料ホルダ３９を保持した試料ホルダカセット４３のガイド溝４６から遮蔽板４２のエッジ部４４までの長さＤ３と、図１６（ｂ）に示すコーティングカセット４７のガイド溝５０からターゲット材２４までの長さＤ４が略等しい。このため、イオンビーム照射をして試料観察断面２２の作製を行った後にカセット位置調節機構１０を動かさないまま試料ホルダカセット４３とコーティングカセット４７を入れ替えることで、イオンビームＩＢの光軸ＯＩ上（光学顕微鏡の光軸ＯＬ上）にターゲット材２４のスパッタ面２５が配置される。
【００５８】
このような試料作製装置３８において、試料観察断面２２にスパッタ蒸着を行うことがある。
【００５９】
図１７に第二実施例のコーティングカセットを取り付けた試料作製装置を示す。試料観察断面２２にスパッタ蒸着を行うには、まず、試料観察断面２２を作製後に試料作製装置３８から試料ホルダカセット４３を取り外し、取り外した試料ホルダカセット４３より試料ホルダ３９を取り出し、取り出した試料ホルダ３９をコーティングカセット４７の第二溝部４９に嵌合して保持する。このコーティングカセット４７をカセット位置調整機構１０のガイドにガイド溝５０を係合させて取り付ける。このとき、コーティングカセット４７に保持されるターゲット材２４は光学顕微鏡１７の光軸ＯＬ上に位置する（すなわちイオンビームＩＢの光軸ＯＩ上に位置する）。
【００６０】
図１８に第二実施例のコーティングカセットを取り付けて試料引出機構を押し込んだ試料作製装置を示す。第一実施例と同様に、試料ステージ引出機構５を真空チャンバ２に押し込み、真空ポンプ４によって排気を行い、目的の真空度になったら排気を維持しつつ、イオンビームＩＢをターゲット材２４のスパッタ面２５に照射し、スパッタ面２５からスパッタされた粒子が飛散して、スパッタ面２５と対向して配置されている試料観察断面２２にターゲット材２４からスパッタされた粒子が蒸着することにより、試料観察断面２２に成膜される。
【００６１】
このような試料作製装置では、試料観察断面２２を作成してからスパッタを行うまでに光学顕微鏡による光軸の調整が不要となり、容易に試料観察断面２２にスパッタができる。
【符号の説明】
【００６２】
１…試料作成装置、２…真空チャンバ、３…イオン銃、４…真空ポンプ、５…試料ステージ引出機構、６…試料ステージ、７…試料位置調節機構、８…試料、９…試料ホルダ、１０…カセット位置調節機構、１１…遮蔽板、１２…遮蔽板カセット、１３…遮蔽板支持部、１４…支点、１５…光学顕微鏡位置調節機構、１６…支点、１７…光学顕微鏡、１８…試料加工面、１９…イオンビーム痕、２０…観察窓、２１…エッジ部、２２…試料観察断面、２３…コーティングカセット、２４…ターゲット材、２５…スパッタ面、２６…第一溝部、２７…第二溝部、２８…ガイド溝、２９…板、２９Ａ…先端部、２９Ｂ…他端部、３０…上段部、３１…中段部、３２…下段部、３３…バネ、３４…試料台、３５…ネジ、３６…イオンビーム貫通孔、３７…ガイド溝、３８…試料作成装置、３９…試料ホルダ、４０…試料ホルダ本体、４１…板バネ、４２…遮蔽板、４３…試料ホルダカセット、４４…エッジ部、４５…溝、４６…ガイド溝、４７…コーティングカセット、４８…第一溝部、４９…第二溝部、５０…ガイド溝、ＩＢ…イオンビーム、ＯＩ…イオンビーム光軸、ＯＬ…光学顕微鏡光軸、θ１…角度、θ２…角度
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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