(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体処理チャンバへのガス流を制御する方法であって、
流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を無効にすること；
前記流量比率コントローラを経由するガス流を開始すること；
上流の圧力が保存された上流の圧力値に達すると、前記流量比率コントローラのバルブを保存された位置に基づくプリセット位置まで動かすことであって、前記保存された位置及び前記保存された上流の圧力値は、前のプロセス実行中に保存され；
前記流量比率コントローラにおいて定常状態の出力フローが達成されたことを判断すること；及び
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にすること
を含む方法。
【請求項２】
流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を無効にすることの前に、前記流量比率コントローラの前記バルブを開始位置に設定すること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、現在のバルブ位置を保存すること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、現在の上流圧力値を保存すること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記流量比率コントローラを経由するガス流を開始する前に、前記流量比率コントローラの前記バルブを開始位置に設定すること；
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、現在のバルブ位置を保存すること；及び
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、現在の上流圧力値を保存すること
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
電子デバイス製造プロセスの各ステップに対して：
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を無効にすること：
前記流量比率コントローラを経由するガス流を開始する前に、前記流量比率コントローラの前記バルブを開始位置に設定すること；
前記流量比率コントローラを経由するガス流を開始すること；
上流の圧力が保存された上流の圧力値に達すると、前記流量比率コントローラの前記バルブを保存された位置に基づくプリセット位置まで動かすことであって、前記保存された位置及び前記保存された上流の圧力値は、前のプロセス実行中に保存され；
前記流量比率コントローラにおいて定常状態の出力フローが達成されたことを判断すること；
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にすること；
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、前記現在のバルブ位置を保存すること；及び
前記流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、前記現在の上流圧力値を保存すること
を反復することをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
複数の電子デバイス製造プロセス実行に対して前記反復することをさらに含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
コントローラ；
入力ガスライン；
前記入力ガスラインに結合され、前記入力ガスラインの上流ガス圧力を感知するように適合される圧力センサ；
前記入力ガスラインに結合された入力及び複数の出力を有するファンアウトマニフォールド；
各々の質量フローセンサが前記ファンアウトマニフォールドの複数の出力のうちの１つに動作可能に結合され、それぞれの出力を経由してガス流を感知するように適合されている、複数の質量フローセンサ；及び
各々のバルブが前記ファンアウトマニフォールドの複数の出力のうちの１つに動作可能に結合され、それぞれの出力を経由してガス流を制御するように適合されている、複数の調整可能なバルブ
を備える流量比率コントローラアセンブリであって、
前記コントローラは、保存位置に基づいて前記バルブを所定の位置に設定するため、前記複数の調整可能なバルブに動作可能に結合され、前記バルブの各々の位置を制御するように適合されており、前記コントローラは、フィードバックモード及びフィードフォワードモードで前記流量比率コントローラアセンブリを動作するようにさらに適合されており、流量比率が設定点から変動したことが検出された場合、前記コントローラによって前記バルブが調整される比率設定点フィードバック制御を有効にすることによって、フィードバックモードに動作を切り換えられる、流量比率コントローラアセンブリ。
【請求項９】
前記コントローラは、前記圧力センサによって感知された前記上流ガス圧力を読み取る及び保存するようにさらに適合されている、請求項８に記載の流量比率コントローラアセンブリ。
【請求項１０】
前記コントローラは、定常状態ガス流が実現されるかどうかを判断するようにさらに適合されている、請求項８に記載の流量比率コントローラアセンブリ。
【請求項１１】
前記コントローラは：
前記流量比率コントローラアセンブリにおけるフィードバック制御を無効にし；
前記流量比率コントローラアセンブリを経由するガス流を開始し；
現在の上流の圧力値が保存された上流の圧力値に達すると、前記流量比率コントローラアセンブリの前記調整可能なバルブを保存された位置に基づくプリセット位置まで動かすことであって、前記保存された位置及び前記保存された上流の圧力値は、前のプロセス実行中に保存され；
流量比率コントローラアセンブリにおける定常状態の出力フローが実現されたことを判断し；及び
前記流量比率コントローラアセンブリにおける比率設定点フィードバック制御を有効にする
ようにさらに適合されている、請求項８に記載の流量比率コントローラアセンブリ。
【請求項１２】
前記コントローラは：
前記流量比率コントローラアセンブリにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、前記コントローラにおける現在のバルブ位置を保存するようにさらに適合されている、請求項１１に記載の流量比率コントローラアセンブリ。
【請求項１３】
前記コントローラは：
前記流量比率コントローラアセンブリにおける比率設定点フィードバック制御を有効にした後、現在の上流圧力値を保存するようにさらに適合されている、請求項１１に記載の流量比率コントローラアセンブリ。
【請求項１４】
一又は複数の処理チャンバのためのガス供給システムであって、前記システムは：
複数の質量フローコントローラを含むガス供給パネルと；
前記ガス供給パネルに結合された入力ガスラインを有する流量比率コントローラアセンブリであって、一又は複数の処理チャンバに結合されるように適合されている複数の出力ガスラインを含み、且つ、：
コントローラ；
前記入力ガスラインに結合され、前記入力ガスラインの上流ガス圧力を感知するように適合される圧力センサ；
前記入力ガスラインに結合された入力及び前記複数の出力ガスラインを有するファンアウトマニフォールド；
各々の質量フローセンサが前記ファンアウトマニフォールドの前記複数の出力ガスラインのうちの１つに動作可能に結合され、それぞれの出力ガスラインを経由してガス流を感知するように適合されている、複数の質量フローセンサ；及び
各々のバルブが前記ファンアウトマニフォールドの前記複数の出力ガスラインのうちの１つに動作可能に結合され、それぞれの出力ガスラインを経由してガス流を制御するように適合されている、複数の調整可能なバルブを含む、前記流量比率コントローラアセンブリと
を備え、
前記コントローラは、保存位置に基づいて前記バルブを所定の位置に設定するため、前記複数の調整可能なバルブに動作可能に結合され、前記バルブの各々の位置を制御するように適合されており、前記コントローラは、フィードバックモード及びフィードフォワードモードで前記流量比率コントローラアセンブリを動作するようにさらに適合されており、流量比率が設定点から変動したことが検出された場合、前記コントローラによって前記バルブが調整される比率設定点フィードバック制御を有効にすることによって、フィードバックモードに動作を切り換えられる、ガス供給システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願
本願は、２０１２年８月２１日に出願された「ＭＥＴＨＯＤＳ  ＡＮＤ  ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ  ＦＯＲ  ＥＮＨＡＮＣＥＤ  ＧＡＳ  ＦＬＯＷ  ＲＡＴＥ  ＣＯＮＴＲＯＬ」（代理人整理番号１６４３７ＵＳＡ／ＦＥＧ／ＳＹＮＸ／ＣＲＯＣＫＥＲ  Ｓ）と題する米国特許出願第１３／５９１，２１２号から優先権を主張し、あらゆる目的のためにその全体が参照により本明細書に組み込まれるものとする。
【０００２】
本開示は概して、電子デバイス製造のためのガス流量制御に関し、より具体的にはガス流量制御がより正確になるように強化するための方法及び装置を対象としている。
【背景技術】
【０００３】
半導体処理は、流量の変動及びゆらぎに対して特に敏感になることがある。そのため、半導体処理チャンバ用のガス供給システムは、正確な速度と圧力で安定的なフローを試みている。先行技術のガス供給システムは、ガス供給を共有する複数注入点及び複数チャンバ構造における混合比精度、反復性、及び再現性を改善するため、フロー分割方法を使用している。フロー分割はまた、多数の用途でガス供給システムのコストを大幅に低減する。フロー分割デバイスは、単純なＹ形配管から、フィードバック流量比率コントローラ（ＦＲＣ）の出力チャネルを介して投入されるガスの相対流量を制御することを積極的に試みるリアルタイムＦＲＣまで多岐にわたる。しかしながら、新しい技術は、より小さな臨界寸法を実現し続けているため、流量制御の精度をより高めることが望ましい。そのため、ガス流量制御がより正確になるように強化することが必要になっている。
【発明の概要】
【０００４】
半導体処理チャンバへのガス流制御の方法に対して、発明的な方法及び装置が提供される。本方法は、流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を無効にすること；流量コントローラを経由するガス流を開始すること；上流の圧力が前のプロセス実行中に保存された上流の保存圧力値に達すると、前のプロセス実行中に保存された保存位置に基づいて流量比コントローラのバルブをプリセット位置まで動かすこと；定常状態流量比率コントローラの出力フローが達成されたことを判断すること；また、流量比率コントローラにおける比率設定点フィードバック制御を有効にすること、を含む。
【０００５】
幾つかの実施形態では、本発明は、流量コントローラアセンブリを提供する。本アセンブリは、入力ガスライン；入力ガスラインに結合され、入力ガスラインの上流ガス圧力を感知するように適合される圧力センサ；入力ガスラインに結合された入力及び複数の出力を有するファンアウトマニフォールド；各々の質量フローセンサがファンアウトマニフォールドの複数の出力のうちの１つに動作可能に結合され、それぞれの出力を経由してガス流を感知するように適合されている、複数の質量フローセンサ；並びに各々のバルブがファンアウトマニフォールドの複数の出力のうちの１つに動作可能に結合され、それぞれの出力を経由してガス流を制御するように適合されている、複数の調整可能なバルブを含む。本コントローラは、保存位置に基づいてバルブを所定の位置に設定するため、複数の調整可能なバルブに動作可能に結合され、バルブの各々の位置を制御するように適合されている。
【０００６】
さらに他の実施形態では、本発明は一又は複数の処理チャンバ用のガス供給システムを提供する。本システムは、複数の質量フローコントローラを含むガス供給パネル；ガス供給パネルに結合された入力ガスラインを有する流量比率コントローラアセンブリであって、一又は複数の処理チャンバに結合されるように適合されている複数の出力ガスラインを含む流量比率コントローラアセンブリを含む。本流量比率コントローラアセンブリは、コントローラ；入力ガスラインに結合され、入力ガスラインの上流ガス圧力を感知するように適合される圧力センサ；入力ガスラインに結合された入力及び複数の出力ガスラインを有するファンアウトマニフォールド；各々の質量フローセンサがファンアウトマニフォールドの複数の出力ガスラインのうちの１つに動作可能に結合され、それぞれの出力ガスラインを経由してガス流を感知するように適合されている、複数の質量フローセンサ；並びに各々のバルブがファンアウトマニフォールドの複数の出力のうちの１つに動作可能に結合され、それぞれの出力を経由してガス流を制御するように適合されている、複数の調整可能なバルブを含む。本コントローラは、保存位置に基づいてバルブを所定の位置に設定するため、複数の調整可能なバルブに動作可能に結合され、バルブの各々の位置を制御するように適合されている。
【０００７】
数多くの他の態様が提供される。本発明の他の特徴及び態様は、以下の詳細な説明、添付の特許請求の範囲、及び添付の図面からより詳細に明らかになる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の幾つかの実施形態による、例示的なガス供給システムを示す概略ブロック図である。
【図２】本発明の幾つかの実施形態による、例示的なフィードバック流量比率コントローラ（ＦＲＣ）を示す概略ブロック図である。
【図３】本発明の幾つかの実施形態による、ＦＲＣを使用する例示的なガスフロー制御の方法を示すフロー図である。
【図４】従来のＦＲＣによる経時的なガス流量と、本発明の幾つかの実施形態によるＦＲＣによる経時的なガス流量との、例示的な比較を示すグラフである。
【図５】従来のＦＲＣの上流での経時的なガス圧力と、本発明の幾つかの実施形態によるＦＲＣの上流での経時的なガス圧力との、例示的な比較を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明は、処理チャンバへのガス流を制御するため、改善された方法及び装置を提供する。特に、本発明は、フローのゆらぎを最小限に抑えて所望のガス量を提供する、処理チャンバへの流量を明らかにするための整定時間を低減する。ガス流制御を改善する先行技術の方法は、流量比率コントローラを経由する定常状態フローの実現を試みることはない。本発明による整定時間の低減により、過渡的なフローは取り除かれるか最小限に抑えられ、チャンバへのガス供給がより正確に画定され、一時的な滞留時間が大幅に減少するため、プロセス制御の強化が可能になる。
【００１０】
フィードバックに基づく制御単独では、内在的な限界がある。制御された変数に偏差が発生するまで、是正措置は行われない。そのため、擾乱又は設定点が変化する間にも制御された変数が設定点から逸脱しないような、完全な制御は理論的に不可能である。フィードバック制御は、既知の（例えば、予測可能な）あるいは測定可能な擾乱の影響を補償する予測的な措置を提供することはできない。プロセス方策が厳密な公差を要求する場合には、フィードバック制御はプロセスに対して十分でないことがある。重大な又は反復的なゆらぎが発生する場合には、プロセスは長い時間過渡的な状態で動作し、十分に速く所望の定常状態を得ることができない。
【００１１】
本発明は、適切な時点で、従来の流量比率設定点フィードバックコントローラの使用から、前のプロセス実行に基づく所定の位置への流量コントローラのバルブ開口部の直接設定に切り換えるため、前のプロセス実行からフィードフォワード情報を使用する。
【００１２】
本発明はまた、本発明の方法を実装する２つの異なるモードを実行しうる新規の流量比率コントローラ（ＦＲＣ）を含む。フィードバックモードでは、特定の設定点に基づいて所望の流量比率を実現するため、ＦＲＣバルブは感知された流れに基づいてコントローラによって連続的に調整される。フィードフォワードモードでは、ＦＲＣバルブは前のプロセス実行中に決定された以前保存された位置に設定される。したがって、幾つかの実施形態では、本発明の新規のＦＲＣは、（１）フィードバックモード（例えば、フィードバックデータに基づいてバルブの位置を繰り返し調整すること）での動作を促進する質量フローセンサ、並びに（２）フィードフォワードモード（例えば、フィードフォワードデータに基づいて最終位置にバルブを設定すること）での動作を促進するため、前のプロセス実行からバルブの位置を検出して保存するためのバルブ位置センサ及びメモリを含むことがある。加えて、新規のＦＲＣは、（１）所望の流量比率を実現しうる位置を探し出すため、互いに対して調整可能であり、（２）以前保存された位置に基づいて絶対的な位置に設定可能な、複数のバルブを含んでもよい。
【００１３】
図１を参照すると、本発明による例示的なガス供給システム１００が図解されている。システム１００は、複数の質量フローコントローラ（ＭＦＣ）（表示は３つのみ）を含むガス供給パネル１０２を含む。ＭＦＣ１０４は、本発明の新規の流量比率コントローラ（ＦＲＣ）と流体連通している。処理中に実行されるプロセス方策に応じて、ＭＦＣからＦＲＣアセンブリ１０６に供給される異なるガスの数は変動する。ＦＲＣアセンブリ１０６は、出力ラインのマニフォールドを介して、一又は複数の処理チャンバ１０８、１１０に結合される。幾つかの実施形態では、処理チャンバ１０８、１１０は、処理チャンバ１０８、１１０内の複数のゾーンでガスを受け取るように適合されてもよく、したがって、マニフォールドは単一の処理チャンバ１０８、１１０に供給する複数のラインを含むことがある。図１には示していないが、システム１００の様々なコンポーネントは、コントローラ、センサ、メーター、及び／又は中央制御システムへの結合部を含むことがある。他の多数の質量フローコントローラ、ゾーン、チャンバなどが用いられることもある。
【００１４】
図２は本発明の幾つかの実施形態による、例示的なフィードバック流量比率コントローラ（ＦＲＣ）の詳細を図解している。ＦＲＣアセンブリ１０６は、コントローラ２０４のプログラム制御の下で動作するＦＲＣ２０２を含む。ライン圧力センサ２０６は、ガス供給パネル１０２のＭＦＣ１０４によってもたらされるガスの上流ライン圧Ｐｕｐの読取値を提供する。入力ラインＱｉｎは、ＦＲＣ２０２内の複数の質量フローセンサ（ＭＦＳ）２０８、２１０、２１２、２１４の間でガス流を分割するため、ＦＲＣ２０２内のファンアウトマニフォールドに供給される。分割されたガスラインの各ブランチは、各プロセスライン又は脚部を介して、コントローラ２０４の制御の下、調整可能なバルブ２１６、２１８、２２０、２２２にそれぞれつながる。調整可能なバルブ２１６、２１８、２２０、２２２の出力Ｑ１からＱ４は、処理チャンバ１０８，１１０の注入口に結合されてもよい。
【００１５】
コントローラ２０４は、調整可能なバルブ２１６、２１８、２２０、２２２の各々の位置にバルブを設定し、調整可能なバルブ２１６、２１８、２２０、２２２の各々の現在の位置を読み取る（及び保存する）ように適合される。コントローラはまた、ＭＦＳ２０８、２１０、２１２、２１４の各々の流量の値及びライン圧力センサ２０６のＰｕｐを読み取り、保存するように適合される。幾つかの実施形態では、コントローラはＦＲＣ２０２から分離された別個のコンピュータとして具現化されてもよく、幾つかの実施形態では、コントローラ２０４はＦＲＣ２０２に統合又は組み込まれてもよい。他の多数のＭＦＳ、値、出力などが用いられることもある。任意の好適なＭＦＳ及び／又は調整可能なバルブが使用されてもよい。
【００１６】
図３は、本発明の幾つかの実施形態による、ＦＲＣアセンブリ１０６を使用する、ガス流制御の例示的な反復方法を示すフロー図である。最初に、プロセス方策のステップが実行され、定常状態流が実現されるとＰｕｐ及びバルブ位置の値が保存され、保存された情報はその後のプロセスの実行にフィードフォワードされる。フィードフォワードされた情報は、Ｐｕｐが達成されるとＦＲＣバルブ位置を設定するように使用される。このように、ＦＲＣアセンブリ１０６は、正しい定常状態バルブ位置を探すため、各新しいプロセス実行のフィードバック方法の使用を回避する。
【００１７】
以下の実施例の方法３００は個別のステップの結果として記載されているが、本発明はそのように限定されないことに留意されたい。以下に記載するステップは、本発明の理解を促進するための例示を目的としているにすぎない。任意の数の追加のステップが含まれること、幾つかのステップは省略又は結合されること、以下のステップの任意の部分がサブステップに分割されることがある。加えて、ステップが提示される具体的な順序は本発明の理解を単に促進するためのもので、これらのステップ、又は任意の組み合わせ又はサブステップは任意の実現可能な順序で実施されることがある。
【００１８】
方法３００は、初期のプロセス実行の現在のステップに対してガス流が開始されるステップ３０２から開始される。ＦＲＣアセンブリ１０６は、フィードバックを使用して設定点比率を実現するバルブ位置を明らかにするようにアセンブリ１０６が適合されている、比率設定点モードが有効な状態で動作するように設定されている。ＦＲＣアセンブリ１０６は、ＦＲＣアセンブリ１０６の定常状態フローが現在のプロセスステップに対して実現されるまで、ステップ３０４でバルブ２１６、２１８，２２０、２２２を調整し続ける。ステップ３０６では、定常状態フローにおけるＦＲＣ２０２のバルブ位置は、現在の処理ステップに対するＰｕｐと共に、コントローラ２０４によって読み取られ保存される。ステップ３０８では、方法３００は、初期のプロセス実行に追加のプロセスステップがあるかどうかを判断する。追加のプロセスステップがある場合には、処理の流れは、初期のプロセス実行の次のステップが始まる（例えば、現在のステップになる）ステップ３１０に進み、上述のステップは次のプロセスステップに対して反復される。初期のプロセス実行が完了すると、処理の流れは次のプロセス実行が始まるステップ３１２に進む。
【００１９】
多数の従来のステップ（例えば、排気、パージング、ポンプダウン）と共に、ステップ３１２の次のプロセス実行の開始は、処理された基板をチャンバから取り出すこと、及び新しい基板のチャンバへ投入することを含む。チャンバ内で基板が交換されると、チャンバは処理再開の準備が整い、方法３００はステップ３１４へ進む。ステップ３１４では、比率設定点フィードバック動作モード（比率設定点モード）が有効でない状態で、現在の処理ステップに対するガス流が開始される。すなわち、バルブ２１６、２１８、２２０、２２２は調整されない。幾つかの実施形態では、バルブ２１６、２１８、２２０、２２２は好適な開始位置に設定される。開始位置は、所望のＰｕｐが実現されるよう、あるいはそうでない場合にはガス流のゆらぎが最小限になるように選択されてもよい。例えば、幾つかの実施形態では、最初に閉じられているバルブ２１６、２１８，２２０、２２２はすべて、（例えば、同一又は同様なバルブ位置などの所定の位置に）開放されてもよい。しかしながら、ラインの長さ、屈曲、プロセスラインの全体容量は変化するため、他の実施形態では、より長いライン長、より多くの屈曲及び／又はより大きな全体容量を有するプロセスラインに対するバルブは、最初及び／又はそれ以降は開放されてもよい。概して、プロセス性能は、バルブ２１６、２１８、２２０、２２２に対して所望の開始位置を決定するために使用されてもよい。
【００２０】
ガスが流れ、バルブが開始位置にあると、方法３００はＰｕｐがモニタされるステップ３１６に移行する。ＦＲＣアセンブリ１０６は、この時点ではフィードフォワードモードで動作しているとみなされてもよい。Ｐｕｐが、現在の実行の現在のステップに対応する前のプロセス実行中（例えば、初期のプロセス実行中又はそれ以降ではあるが現在よりも前のプロセス実行中）に保存された定常状態のＰｕｐ値に達すると、バルブ２１６、２１８，２２０、２２２は、前のプロセス実行中に定常状態フローが実現されたときに保存されたバルブ位置まで移動される。すなわち、バルブ位置は、前の実行から現在の実行までフィードフォワードされる。ステップ３１８では、コントローラ２０４は、ＭＦＳ２０８、２１０、２１２、２１４を使用して、現在の実行の現在のステップに対して定常状態ＦＲＣ出力フローがいつ実現されるかを決定する。定常状態フローが実現されると、ステップ３２０でＦＲＣアセンブリ１０６は、流量比率が設定点から変動したことが検出された場合、コントローラによってバルブが調整される比率設定点フィードバック制御を有効にすることによって、フィードバック動作モード（比率設定点モード）に切り換えられる。ステップ３２２では、現在のＦＲＣバルブ位置及び現在のプロセスステップに対するＰｕｐの値は、その後のプロセス実行で使用しうるよう保存される。
【００２１】
ステップ３２４では、方法３００は、現在のプロセス実行に追加のプロセスステップがあるかどうかを判断する。追加のプロセスステップがある場合には、処理の流れは、現在のプロセス実行の次のステップが始まる（例えば、現在のステップになる）ステップ３２６に進み、ステップ３１４から３２４は次のプロセスステップに対して反復される。現在のプロセス実行が完了すると、処理の流れは次のプロセス実行が始まるステップ３１２に戻る。
【００２２】
ここで図４を参照すると、従来のＦＲＣによる経時的なガス流量（プロット４０２）と、本発明の幾つかの実施形態によるＦＲＣアセンブリによる経時的なガス流量（プロット４０４）との、例示的な比較を示すグラフ４００が提示されている。従来のＦＲＣによる経時的なガス流量のプロット４０２は、一過性のスパイクとプロット４０２の水平部分によって示される定常状態フローへの段階的な移行を含む。これとは対照的に、本発明の幾つかの実施形態によるＦＲＣアセンブリによる経時的なガス流量（プロット４０４）は、ゼロのガス流からプロット４０４の水平部分で示される定常状態のガス流まできわめて速く（例えば、ほぼ垂直に）移行するステップ関数のように見える。幾つかの実施形態では、本発明のＦＲＣアセンブリにより、定常状態流量は、約５０％速く、場合によっては、約７５％速く、また場合によっては約１００％速く、達成されることがある。
【００２３】
図５は、従来のフィードバックＦＲＣと本発明の幾つかの実施形態によるＦＲＣアセンブリとの間の上流ガス圧力応答の比較における、同様の比較的高い精度の制御を示している。図５は、従来のＦＲＣの上流での経時的なガス圧力（プロット５０２）と、本発明の幾つかの実施形態によるＦＲＣの上流での経時的なガス圧力（プロット５０４）との、例示的な比較を図解するグラフ５００である。流量プロット４０２、４０４と同様に、上流圧力プロット５０２、５０４は、本発明の幾つかの実施形態によるＦＲＣによって実現される高い精度を示している。従来のＦＲＣによる経時的な上流ガス圧力（プロット５０２）は、一過性のスパイクとプロット５０２の水平部分によって示される定常状態圧力への段階的な移行を含む。これとは対照的に、本発明の幾つかの実施形態によるＦＲＣアセンブリによる経時的な上流ガス圧力（プロット５０４）は、ゼロのガス流からプロット５０４の水平部分で示される定常状態圧力まできわめて速く（例えば、比較的垂直に）移行するステップ関数のように見える。幾つかの実施形態では、本発明のＦＲＣアセンブリにより、定常状態圧力は、約５０％速く、場合によっては、約７５％速く、また場合によっては約１００％速く、達成されることがある。
【００２４】
したがって、本発明は、その例示的な実施形態に関連して開示されたが、他の実施形態が、以下の特許請求の範囲によって定義される、本発明の範囲に含まれうると理解されたい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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