(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板搬送装置のフォークを保護する保護カバーであって、
前記フォークを覆ったときに、前記フォークを外部から視認可能なカバー体と、
該保護カバーに取り付けられ、該保護カバーが前記フォークを覆ったときに、前記フォークの一対のフィンガーの各々に取り付けられた対向型の光検出器の光を遮光可能な遮光板と、を有する保護カバー。
【請求項２】
前記保護カバーは、透明である請求項１に記載の保護カバー。
【請求項３】
前記保護カバーは、樹脂材からなる請求項２に記載の保護カバー。
【請求項４】
前記保護カバーは、ポリカーボネート又はアクリルからなる請求項３に記載の保護カバー。
【請求項５】
前記遮光板は、前記保護カバーの内側の天井面及び／又は前面に取り付けられた請求項１乃至４のいずれか一項に記載の保護カバー。
【請求項６】
前記フォークが鉛直方向に複数重ねて配置されたときに、複数の前記フォークのうち、所定の位置に配置された前記フォークの前記光検出器の光のみを遮光可能なように、前記遮光板は遮光部と開口部とを有する枠状の形状を有する請求項１乃至５のいずれか一項に記載の保護カバー。
【請求項７】
前記カバー体の下端は、前記基板搬送装置のフォーク載置部の上面の形状に沿った形状部分を含む請求項１乃至６のいずれか一項に記載の基板搬送用フォーク保護カバー。
【請求項８】
前記カバー体の下端は、前記基板搬送装置のフォーク載置部の側面を覆う形状部分を含む請求項１乃至７のいずれか一項に記載のフォーク保護カバー。
【請求項９】
前記カバー体の外側の面には、前記カバー体を搬送するための取っ手が設けられた請求項１乃至８のいずれか一項に記載の保護カバー。
【請求項１０】
前記外側の面は上面である請求項９に記載の保護カバー。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載された保護カバーと、
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載された基板搬送装置と、
前記光検出器に接続され、前記光検出器の光が遮光されているときに、前記基板搬送装置を駆動させないインターロック制御を行う制御手段と、
前記基板を処理する処理容器と、を有する基板処理装置。
【請求項１２】
前記制御手段は、前記基板搬送装置のスタートスイッチがオフからオンに切り替えられたときに前記インターロック制御を行う請求項１１に記載の基板処理装置。
【請求項１３】
前記処理容器は、前記基板を加熱して熱処理する熱処理炉である請求項１１又は１２に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護カバー及びこれを用いた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、縦長の熱処理炉を有し、ウエハボートに複数枚のウエハを載置した状態で熱処理炉に収容し、ウエハを加熱する処理を行う縦型熱処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
かかる縦型熱処理装置では、ＦＯＵＰ（Front-Opening Unified Pod）内に収納されたウエハを、ウエハ搬送装置がフォーク上に載せてウエハボートに移送することにより、ウエハをウエハボート上に載置する。よって、縦型熱処理装置では、ウエハ搬送装置は、熱処理炉が設置されたウエハ搬送領域内に設けられ、ウエハの搬入及び搬出が容易となるように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−３０７０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上述の縦型熱処理装置においては、熱処理炉等の定期的なメインテナンスを必要とするが、メインテナンスの際には、ウエハ搬送装置のフォークは、汚れないように保護カバーで覆われた状態とされる場合が多い。
【０００６】
しかしながら、フォークを保護カバーで覆った場合、内部のフォークの様子が見えなくなるため、メインテナンス中に作業者が保護カバーに接触し、保護カバーとの衝突によりフォークが破損してしまう事故が発生する場合が多くあった。
【０００７】
また、メインテナンスが終了した際、フォークを保護カバーで覆ったまま基板搬送装置を含めた縦型熱処理装置全体を誤って動作させてしまい、誤動作によりフォークが破損する場合もあった。
【０００８】
そこで、本発明は、メインテナンス中及びメインテナンス後に、基板搬送装置のフォークの破損を確実に防止できる保護カバー及びこれを用いた基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る保護カバーは、基板搬送装置のフォークを保護する保護カバーであって、
前記フォークを覆ったときに、前記フォークを外部から視認可能なカバー体と、
該カバー体に取り付けられ、該保護カバーが前記フォークを覆ったときに、前記フォークの一対のフィンガーの各々に取り付けられた対向型の光検出器の光を遮光可能な遮光板と、を有する。
【００１０】
また、他の態様に係る基板処理装置は、前記保護カバーと、
前記基板搬送装置と、
前記光検出器に接続され、前記光検出器の光が遮光されているときに、前記基板搬送装置を駆動させないインターロック制御を行う制御手段と、
前記基板を処理する処理容器と、を有する基板処理装置。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、メインテナンス時に、基板搬送装置のフォークの破損を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の実施形態に係る基板処理装置の一例の概略構成図である。
【図２】本発明の実施形態に係る基板処理装置の一例の概略平面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板処理装置の一例の配置構成の概略斜視図である。
【図４】ウエハ搬送装置の一例の構成を示した斜視図である。
【図５】本発明の第１の実施形態に係る保護カバーの一例を示した図である。
【図６】本発明の第２の実施形態に係る保護カバーの一例を示した図である。
【図７】キャリアの一例の構成を示した図である。図７（ａ）は、キャリアの斜視図である。図７（ｂ）は、キャリアの底面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態の説明を行う。
【００１４】
〔基板処理装置〕
先ず、本発明の実施形態に係る基板搬送用フォークの保護カバーを適用可能な基板搬送装置を備えた本発明の実施形態に係る基板処理装置の構成例について説明する。図１に、本発明の実施形態に係る基板処理装置の一例の概略構成図を示す。また、図２に、本発明の実施形態に係る基板処理装置の一例の概略平面図を示す。さらに、図３に、本発明の実施形態に係る基板処理装置の一例の配置構成の概略斜視図を示す。なお、図２においては、説明のために、図１のロードポート１４の一方とＦＩＭＳポート２４とに、キャリアＣが載置されていない状態を示す。
【００１５】
なお、本発明の実施形態に係る保護カバーは、縦型熱処理装置以外の種々の基板処理装置に適用することができるが、理解の容易のために、本実施形態においては、具体的な基板処理装置の１つとして縦型熱処理装置を用いて実施した例を挙げて説明する。
【００１６】
図１に示されるように、基板処理装置２００は、装置の外装体を構成する筐体２に収容されて構成される。筐体２内には、被処理体である半導体ウエハＷ（以後、ウエハＷ）を収容した容器であるキャリアＣが装置に対して搬入、搬出されるキャリア搬送領域Ｓ１と、キャリアＣ内のウエハＷを搬送して後述する熱処理炉８０内に搬入するウエハ搬送領域Ｓ２とが形成されている。
【００１７】
ウエハＷを搬送する際には、ウエハＷの表面への異物の付着や自然酸化膜の形成を防止するために、ＦＯＵＰ（Ｆｒｏｎｔ−Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｕｎｉｆｉｅｄ  Ｐｏｄ）と呼ばれる基板収納容器に半導体ウエハが収容され、容器内の清浄度が所定のレベルに保持される。以後、基板収納容器を、キャリアＣと呼ぶこととする。
【００１８】
キャリア搬送領域Ｓ１とウエハ搬送領域Ｓ２とは、隔壁４により仕切られている。キャリア搬送領域Ｓ１は、大気雰囲気下にある領域であり、ウエハＷが収納されたキャリアＣを、基板処理装置２００内の後述する要素間で搬送する、外部から基板処理装置２００内に搬入する又は基板処理装置から外部へと搬出する領域である。一方、ウエハ搬送領域Ｓ２は、キャリアＣからウエハＷを取り出し、各種処理を施す領域であり、ウエハＷに酸化膜が形成されることを防ぐために、不活性ガス雰囲気、例えば窒素（Ｎ２）ガス雰囲気とされている。以後の説明では、キャリア搬送領域Ｓ１及びウエハ搬送領域Ｓ２の配列方向を前後方向（後述する第２の水平方向に対応）とし、キャリア搬送領域Ｓ１側を前方向、ウエハ搬送領域Ｓ２側を後方向とする。そして、この前後方向に垂直な水平方向を左右方向（後述する第１の水平方向に対応）とする。
【００１９】
なお、ウエハ搬送領域Ｓ２の天井部又は側壁部には、図示しないＨＥＰＡフィルタ（High Efficiency Particulate Air Filter）又はＵＬＰＡフィルタ（Ultra Low Penetration Air Filter）等のフィルタユニットが設けられ、これらのフィルタにより清浄化されたエアが供給される構成であっても良い。
【００２０】
隔壁４には、キャリア搬送領域Ｓ１とウエハ搬送領域Ｓ２との間でウエハＷを搬送するための搬送口６が設けられている。この搬送口６は、ＦＩＭＳ（Ｆｒｏｎｔ−Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｔａｎｄａｒｄ）規格に従ったドア機構８により開閉される。
【００２１】
キャリア搬送領域Ｓ１について説明する。キャリア搬送領域Ｓ１は、第１の搬送領域１０と、第１の搬送領域１０の後方側に位置する第２の搬送領域１２とから構成される。
【００２２】
図１に示すように、第１の搬送領域１０には、一例として上下２段かつ各段に左右２つ（図２参照）のロードポート１４が備えられている。ロードポート１４は、キャリアＣが基板処理装置２００に搬入されたときに、キャリアＣを受け入れる搬入用の載置台である。
【００２３】
ロードポート１４は、筐体２の壁が開放された箇所に設けられ、外部から基板処理装置２００へのアクセスが可能となっている。具体的には、本実施形態に係る基板処理装置２００の外部に設けられた図示しない搬送装置によって、ロードポート１４上へのキャリアＣの搬入載置と、ロードポート１４から外部へのキャリアＣの搬出が可能となっている。また、ロードポート１４は、例えば上下に２段存在するため、両方でのキャリアＣの搬入及び搬出が可能となっている。
【００２４】
また、第１の搬送領域１０の上下２段のロードポート１４の下段には、キャリアＣを保管できるようにするために、ストッカ１６が備えられていても良い。
【００２５】
図２に示すように、ロードポート１４のキャリアＣ載置面には、キャリアＣを位置決めする位置決めピン１８が、例えば３箇所に設けられている。また、ロードポート１４上にキャリアＣを載置した状態において、ロードポート１４は、前後方向に移動可能に構成されてもよい。
【００２６】
図７は、キャリアＣの一例の構成を示した図である。図７（ａ）は、キャリアＣの斜視図であり、図７（ｂ）は、キャリアＣの底面図である。ロードポート１４には、図７に示すように、供給ノズル２０ａと、排気ノズル２０ｂとが設けられていても良い。キャリアＣの底面には、吸気口２２ａ及び排気口２２ｂが設けられていることが一般的であり、ロードポート１４は、キャリアＣが載置されたときに、キャリアＣの吸気口２２ａに対応する位置に供給ノズル２０ａが、キャリアＣの排気口２２ｂに対応する位置に排気ノズル２０ｂが設けられるようにしても良い。このような供給ノズル２０ａ、排気ノズル２０ｂを設けることにより、キャリアＣがロードポート１４上に載置された際、キャリアＣの内部に不活性ガスを供給し、キャリアＣ内部の窒素置換を行うことができる。これにより、空間内が不活性ガスで満たされているものの、不活性ガスの供給が無い状態で搬送されてきたキャリアＣは、ロードポート１４に搬入された段階ですぐに不活性ガスの供給を再開することができる。
【００２７】
図１に示すように、第２の搬送領域１２の下部側には、上下方向に並んで２つのＦＩＭＳポート２４が配置されている。ＦＩＭＳポート２４は、キャリアＣ内のウエハＷを、ウエハ搬送領域Ｓ２内の後述する熱処理炉８０に対して搬入及び搬出する際に、キャリアＣを保持する保持台である。ＦＩＭＳポート２４は、前後方向に移動自在に構成されている。図２に示すように、ＦＩＭＳポート２４の載置面にも、ロードポート１４と同様に、キャリアＣを位置決めする位置決めピン１８が、３箇所に設けられている。
【００２８】
第２の搬送領域１２の上部側には、キャリアＣを保管するストッカ１６が設けられている。ストッカ１６は、２段以上（図１に示す例では３段）の棚により構成されており、各々の棚は、左右方向に２つ以上のキャリアＣを載置することができる。また、第２の搬送領域１２の下部側であって、キャリア載置台が配置されていない領域にも、ストッカ１６を配置する構成であっても良い。
【００２９】
ストッカ１６の底面にも、ロードポート１４と同じように、前述した供給ノズル２０ａ及び排気ノズル２０ｂを設け、ストッカ１６上に載置されたキャリアＣの内部を不活性ガスに置換可能とする構成であっても良い。
【００３０】
第１の搬送領域１０と第２の搬送領域１２との間には、キャリアＣを、ロードポート１４とＦＩＭＳポート２４とストッカ１６との間で搬送するキャリア搬送機構３０が設けられている。
【００３１】
図２に示すように、キャリア搬送機構３０は、上下方向に伸びる第１のガイド部３２と、この第１のガイド部３２に接続され、左右方向（第１の水平方向）に伸びる第２のガイド部３４と、この第２のガイド部３４にガイドされながら左右方向に移動する移動部３６と、この移動部３６に設けられる、（多）関節アーム部３８（図２に示す例では１つの関節を有する２つのアーム部）と、を備えている。
【００３２】
また、図１に示すように、多関節アーム部３８の先端には、ハンド部４４が設けられている。ハンド部４４には、キャリアＣを位置きめするピン１８が、３箇所に設けられている。
【００３３】
前述したように、隔壁４には、キャリア搬送領域Ｓ１とウエハ搬送領域Ｓ２とを連通させるウエハＷの搬送口６が設けられている。搬送口６には、搬送口６をウエハ搬送領域Ｓ２側から塞ぐドア機構８が設けられている。ドア機構８には、蓋体開閉装置７の駆動機構が接続されており、駆動機構によりドア機構８は前後方向及び上下方向に移動自在に構成され、搬送口６が開閉される。
【００３４】
次に、ウエハ搬送領域Ｓ２について説明する。
【００３５】
ウエハ搬送領域Ｓ２には、下端が炉口として開口された縦型の熱処理炉８０が設けられている。熱処理炉８０は、ウエハＷを収容し、ウエハＷの熱処理を行うための処理容器８２である。この熱処理炉８０の下方側には、多数枚のウエハＷを棚状に保持するウエハボート５０が、保温筒５２を介して蓋体５４の上に載置されている。別の言い方をすると、蓋体５４は、ウエハボート５０の下方側に、ウエハボート５０と一体的に設けられている。
【００３６】
蓋体５４は、図３に示す昇降機構７０に支持されており、この昇降機構７０によりウエハボート５０が熱処理炉８０に対して搬入又は搬出される。
【００３７】
ウエハボート５０は、例えば、石英製であり、大口径例えば直径４５０ｍｍ又は３００ｍｍ等のウエハＷを、水平状態で上下方向に所定の間隔で搭載するように構成されている。一般的に、ウエハボート５０に収容されるウエハＷの枚数は、限定されないが、例えば５０〜１５０枚程度である。
【００３８】
ウエハボート５０と隔壁４の搬送口６との間には、ウエハ搬送装置６０が設けられている。図１乃至図３に示すように、ウエハ搬送装置６０は、ＦＩＭＳポート２４上に保持されたキャリアＣと、ウエハボート５０との間でウエハＷの移載を行うためのものである。
ウエハ搬送装置６０は、直方体状のガイド機構６３と、ガイド機構６３上に長手方向に沿って進退移動可能に設けられた移動体６２と、移動体６２を介して取り付けられた５枚のフォークとを有する。ガイド機構６３は、鉛直方向に延びる昇降機構６４に取り付けられ、昇降機構６４により鉛直方向への移動が可能であると共に、回転機構６６により回動可能に構成されている。
【００３９】
図２に示すように、ウエハ搬送装置６０のフォーク６１の先端の内側の側面には、対向型の一対の光検出器６５が設けられる。光検出器６５は、ウエハＷがウエハボート５０上に載置されているときに、ウエハＷがウエハボート５０から飛び出していないかを検出する等のために設けられる。光検出器６５は、発光素子と受光素子との組からなり、発光素子から光を発し、受光素子の方で光を受光する。発光素子と受光素子との間に、物（検出対象物）が存在しない場合には、受光素子の方で発光素子からの光を受光し、物が存在した場合には、発光素子からの光が遮蔽され、受光素子は光を受光することができなくなる。よって、ウエハＷがウエハボート５０に載置されている高さで、フォーク６１をウエハＷに接近させ、ウエハＷが飛び出していれば光が遮光され、飛び出していなければ光が遮蔽されないので、ウエハＷの飛び出しを検出することができる。本発明の実施形態に係る保護カバーでは、かかる光検出器６５を利用してフォーク６１を保護するが、この点についての詳細は後述する。
【００４０】
また、図１においては、熱処理炉８０は、石英製の円筒体状の処理容器８２を有し、その周囲には円筒状のヒータ８１が配置され、ヒータ８１の加熱により収容したウエハＷの熱処理が行われる。また、処理容器８２の下方には、シャッタ９０が設けられている。シャッタ９０は、ウエハボート５０が熱処理炉８０から搬出され、次のウエハボート５０が搬入されるまでの間、熱処理炉８０の下端に蓋をするための扉である。
【００４１】
図１乃至図３に示すように、基板処理装置２００の全体の制御を行う制御部１００が設けられる。制御部１００は、レシピに従い、レシピに示された種々の処理条件下で熱処理を行うべく、基板処理装置２００内の種々の機器の動作を制御する。また、制御部１００は、基板処理装置２００内に設けられた種々のセンサからの信号を受信することにより、ウエハＷの位置等を把握して、プロセスを進めるシーケンス制御を行う。更に、制御部１００は、基板処理装置２００内に設けられた種々の検出器で検出される物理的測定値等を受信することにより基板処理の状態を把握し、基板処理を適切に行うために必要なフィードバック制御等を行うようにしてもよい。
【００４２】
よって、制御部１００は、ＣＰＵ（Central Processing Unit、中央処理装置）、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等の演算手段及び記憶手段を備え、プログラムが記憶された記憶媒体からレシピの処理を行うプログラムをインストールし、レシピの処理を実行するようなマイクロコンピュータとして構成されてもよいし、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）のような電子回路として構成されてもよい。
【００４３】
次に、図４を用いて、本発明の実施形態に係る保護カバーの保護対象となるウエハ搬送装置６０についてより詳細に説明する。図４は、ウエハ搬送装置の一例の構成を示した斜視図である。
【００４４】
図４に示すように、ウエハ搬送装置６０は、フォーク６１の根元部分が移動体６２に取り付けられ、移動体６２がガイド機構６３上に設置された構成を有する。フォーク６１は、複数個備えられてよく、図４の例では、５個のフォーク６１が設けられている。フォーク６１は、ウエハＷを上面に載置可能な一対のフィンガー６１１、６１２を備えており、全体としてはＹ字形状の平面構成を有する平板として構成される。５個のフィンガー６１は、鉛直方向に所定間隔を有し、互いに重なるような平面形状及び平面配置で設けられている。５個のフォーク６１のうち、中段の上から３番目のフォーク６１の先端の内側側面には、対向型（光透過型）の光検出器６５が設けられる。光検出器６５の動作は、図１で説明した通りであり、一対の対向するフィンガー６１１、６１２間に、遮蔽物が存在するか否かを検出することができる。
【００４５】
かかるウエハ搬送装置６０は、熱処理炉８０等のメインテナンスの際には、フォーク６１の部分が保護カバーで覆われ、メインテナンス時に飛散する塵埃等から保護される。しかしながら、フォーク６１を保護カバーで覆うと、保護カバー内のフォーク６１の状態が分からず、作業者が保護カバーに衝突した際、保護課カバーの内面がフォーク６１に衝突し、フォーク６１を破損するという事故が起こることがあった。また、メインテナンス後、保護カバーをフォーク６１に被せたまま基板処理装置２００を起動してしまい、フォーク６１が移動した際に保護カバーに衝突してフォーク６１が破損してしまう場合もあった。
【００４６】
そこで、本発明の実施形態に係る保護カバーでは、このような問題点を解消する構成を有する。以下、本発明の実施形態に係る保護カバーについて説明する。
【００４７】
〔保護カバー〕
図５は、本発明の第１の実施形態に係る保護カバー１４０の一例を示した図である。保護カバー１４０は、カバー体１１０と、遮蔽板１２０と、取っ手１３０とを備える。
【００４８】
カバー体１１０は、フォーク６１を覆うカバー部材であり、外部からフォーク６１を視認可能な透過性を有する材料で構成される。カバー体１１０は、外部からフォーク６１の状態が視認可能な材料である限り、種々の材料を用いることができるが、例えば、透明な樹材料を用いてもよい。透明な樹脂材料としては、適切な材料を選択して用いることができるが、例えば、ポリカーボネート、アクリル等の材料を用いてもよい。これらの材料は、透明であるため、視認性に優れている。外部からフィンガー６１の存在を認識できれば、作業者は、メインテナンス時でも、フォーク６１に損傷を与えないように作業を行うことができ、メインテナンス時のフォーク６１の破損を抑制することができる。なお、図５において、カバー体１１０は透明であるため、図面上での外形が識別し難くなっているが、フレーム１１５により、カバー体１１０を構成する透明なプレートが支持された構成となっている。
【００４９】
また、ポリカーボネート、アクリル等の材料の透明樹脂材料は、材料自体が軽量であることに加えて、薄く成形することが可能であるため、非常に軽量にカバー体１１０を形成することができる。軽量であれば、保護カバー１４０をフォーク６１に被せる作業も容易に行うことができる。例えば、ポリカーボネートを材料としてカバー体１１０を構成した場合、保護カバー全体を６００ｇ以下に構成することも可能である。従来のセラミクス等の材料では、２〜３ｋｇの重量を有しており、取扱い自体も困難であったたが、本実施形態では、視認性に優れた軽量なカバー体１１０を用いることにより、これらの問題を解消する。
【００５０】
遮蔽板１２０は、光検出器６５の発光素子からの光を遮蔽するための板部材である。遮蔽板１２０は、カバー体１１０がフォーク６１をカバーするように載置されたときに、一対の光検出器６５の光路上に位置するように設けられる。遮蔽板１２０は、カバー体１１０の内面側に取り付けられて設けられてよく、例えば、カバー体１１０の上面１１１又は前面１１２の内面に取り付けられてもよいし、カバー体１１０の内側の上面１１１及び前面１１２の双方に取り付けられてもよい。カバー体１１０と一体的に構成されることにより、カバー体１１０でフォーク６１を覆ったときに、自動的に光検出器６５の光を遮蔽することができる。
【００５１】
光検出器６５の光を遮蔽することにより、基板処理装置２００は、フォーク６１に保護カバー１４０が被さった状態であることを検出できる。そして、光検出器６５の光が遮蔽されているときに、基板処理装置２００のスタートスイッチがオフからオンに切り替えられ、起動の動作がなされても、ウエハ搬送装置６０にはインターロックが掛かって起動しないような構成としておけば、誤動作によるフォーク６１の破損を防止することができる。
【００５２】
ウエハ搬送装置６０のインターロック制御は、制御部１００で行う。光検出器６５からの遮光状態を示す信号が制御部１００に送信され、制御部１００の方で、ウエハ搬送装置６０（又はフォーク６１のみでもよい）のインターロック制御を行うようにすれば、基板処理装置２００全体で誤動作を防止することができる。なお、光検出器６５は、上述のように、ウエハボート５０からのウエハＷの飛び出しを検出する検出器として用いられているが、制御部１００の方で両者を区別することが可能な条件設定を行えば、容易に両者を区別することができる。例えば、ウエハボート５０からのウエハＷの飛び出しを検出するタイミングは、基板処理装置２００は既に起動している動作中の状態である。一方、フォーク６１を保護するのは、メインテナンス作業を終了し、基板処理装置２００全体を起動するタイミングである。よって、基板処理装置２００が既にオンとなって動作中の場合に光検出器６５が遮蔽状態を検出したときには、ウエハＷのウエハボート５０からの飛び出しを検出したと認識できる。一方、基板処理装置２００がオフとなっており、これがオンに切り替わったときに光検出器６５が遮蔽状態を検出したときには、メインテナンス作業中に保護カバー１４０をフォーク６１に被せ、その状態が放置されていることを意味するので、基板処理装置２００又は少なくともウエハ搬送装置６０を起動させないインターロック制御を実行すればよい。
【００５３】
このように、本実施形態に係る保護カバー１４０によれば、既存の光検出器６５と制御部１００を用いて、容易にインターロック制御を行うことができる。なお、インターロックの条件は、プロセス、用途に応じて適宜適切に設定することができ、上述の例に限定されるものではない。
【００５４】
なお、遮蔽板１２０の材料は、光を遮蔽できれば種々の材料を利用することができ、用途に応じて適切な材料を適宜選択してよい。また、遮蔽板１２０は、光検出器６５が設けられているフォーク６１に対応して設けられれば十分であり、図５の例においては、光検出器６５が設置された中段のフォーク６１に対応する位置のみ遮蔽部１２１が設けられ、その上下には開口部１２２が形成された枠状の形状を有する。このように、遮蔽板１２０の形状は、光検出器６５の光を遮蔽するという機能を果たすことができれば、種々の形状を有してよい。
【００５５】
保護カバー１４０のカバー体１１０の上面１１１には、取っ手１３０が設けられている。取っ手１３０は、保護カバー１４０を手で運ぶことを容易にするための手段であり、必要に応じて設けられてよい。取っ手１３０は、カバー体１１０の外面の任意の位置に設けることができるが、容易に持ち運ぶ観点から、カバー体１１０の外側の上面１１１に設けてもよい。
【００５６】
カバー体１１０の下端部１１３の形状は、カバー体１１０及びフォーク６１が載置されるガイド機構６３の上面の形状に適合するように、ガイド機構６３の上面に沿った形状部分を含んでもよい。カバー体１１０の長手方向の正面及び背面の下端部１１３の形状は、ガイド機構６３の形状に沿っており、効率良くフォーク６１を覆って保護できる形状となっている。このように、カバー体１１０の下端部１１３の形状は、ウエハ搬送装置６０のカバー体１１０が載置される領域の上面の形状に沿った形状部分を有してもよい。
【００５７】
カバー体１１０の下端部１１３の形状は、カバー体１１０及びフォーク６１が載置されるガイド機構６３の側面を覆う形状部分を含んでもよい。図５に示すように、カバー体１１０の側面部は、ガイド機構６３の側面部を覆い、塵埃のフォーク６１への付着を確実に防止できる構成となっている。このように、カバー体１１０の下端部１１３の形状は、ガイド機構６３の側面を覆う形状部分を有してもよい。
【００５８】
このように、本発明の第１の実施形態に係る保護カバー１４０及びこれを用いた基板処理装置２００によれば、メインテナンス中の作業及びメインテナンス後の誤動作によるフォーク６１の破損を確実に防止することができる。
【００５９】
図６は、本発明の第２の実施形態に係る保護カバー１４０ａの一例を示した図である。図６に示すように、第２の実施形態に係る保護カバー１４０ａは、ウエハ搬送装置６０ａのフォーク６１ａの横幅が広くなったことに伴い、カバー体１１０ａの形状の横幅が広くなった点で第１の実施形態に係る保護カバー１４０と異なっている。また、遮蔽板１２０ａの形状が、遮蔽部１２１ａが小さくなり、開口部１２２ａが大きくなった点で、第１の実施形態に係る保護カバー１４０と異なっている。
【００６０】
しかしながら、第２の実施形態に係る保護カバー１４０ａは、細かな形状の相違点以外は、第１の実施形態に係る保護カバー１４０と基本構成において同様であり、同様の効果を得ることができる。例えば、遮蔽板１２０は、カバー体１１０ａの上面１１１ａ及び／又は前面１１２ａの内面に取り付けられる。また、カバー体１１０ａを構成する透明なプレートは、フレーム１１６ａに支持されてよい。更に、必要に応じて、カバー体１１０ａの前面１１２ａ及び背面の下端部１１３ａはガイド機構６３ａの上面に沿うように構成されてよく、カバー体１１０ａの側面の下端部１１３ａは、ガイド機構６３ａの側面を覆ってよい。また、カバー体１１０ａの上面１１１ａの外部には、取っ手１３０が必要に応じて設けられてよい。
【００６１】
このように、保護カバー１４０ａの形状は、ウエハ搬送装置６０ａのフォーク６１ａの形状に合わせて、種々変更することができる。
【００６２】
以上、本発明の好ましい実施形態について詳説したが、本発明は、上述した実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、上述した実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
【符号の説明】
【００６３】
６０、６０ａ    ウエハ搬送装置
６１、６１ａ    フォーク
６１１、６１２    フィンガー
６２    移動体
６３    ガイド機構
６４    昇降機構
６５    光検出器
８０    熱処理炉
１００    制御部
１１０    カバー体
１１１、１１１ａ    上面
１１２、１１２ａ    前面
１１５、１１５ａ    フレーム
１２０、１２０ａ    遮蔽板
１２１、１２１ａ    遮蔽部
１２２、１２２ａ    開口部
１３０    取っ手
１４０、１４０ａ    保護カバー
２００    基板処理装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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