(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形状の基板を提供し、前記基板上に誘導膜を作る手順１と、
前記誘導膜にレーザー彫刻を施すことによって、前記誘導膜上に方向性の一致した複数の微小溝を形成する手順２と、
前記基板と前記誘導膜を洗浄し、レーザー彫刻によってできた粉塵を除去する手順３と、
後続の液晶セルの製造プロセスを実行する手順４と、からなる誘導膜の配向方法であって、
前記手順２中のレーザーは、レーザーユニットから発生し、
前記レーザーユニットは複数の密集配列されたレーザーヘッドを備え、前記レーザーヘッドはそれぞれレーザー光を発生させ、
複数の密集配列された前記レーザーヘッドは全て前記誘導膜に対して垂直であり、かつ、隣り合う二つの前記レーザーヘッドはどれも一定間隔で平行に配列されており、
さらに、複数の密集配列された前記レーザーヘッドの配列方向は前記基板の長辺に平行であって、
前記レーザーユニットと前記基板との相対移動方向は、前記基板の短辺に平行な方向から前記液晶セルの液晶に与えるプレチルト角の分だけずれた方向であって、
前記レーザーユニットは、前記基板の一方の長辺から他方の長辺まで直線的に前記基板を走査する
ことを特徴とする誘導膜の配向方法。
【請求項２】
請求項１に記載の誘導膜の配向方法において、
前記基板は、ＴＦＴ基板またはＣＦ基板である
ことを特徴とする誘導膜の配向方法。
【請求項３】
請求項１に記載の誘導膜の配向方法において、
前記誘導膜は、ポリイミド誘導膜である
ことを特徴とする誘導膜の配向方法。
【請求項４】
請求項１に記載の誘導膜の配向方法において、
前記手順１は、前記基板上に前記誘導膜の原液を塗布し、その原液が硬化することによって前記誘導膜が製造される
ことを特徴とする誘導膜の配向方法。
【請求項５】
請求項１に記載の誘導膜の配向方法において、
前記レーザーユニットは、制御端によって制御されるとともに、レーザーパラメータを調整し、前記レーザーパラメータには、レーザー出力パワー、持続時間、レーザーヘッドの移動方向、レーザーの出力方法が含まれる
ことを特徴とする誘導膜の配向方法。
【請求項６】
請求項５に記載の誘導膜の配向方法において、
種類の異なる前記誘導膜の特性と厚みを基に、前記レーザーパラメータが調整される
ことを特徴とする誘導膜の配向方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示の分野に関し、特に誘導膜の配向方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは主に、薄膜トランジスタアレイ基板と、カラーフィルタと、二つの基板の間に配置された液晶層と、から構成されており、その作動原理は、二枚のガラス基板上に駆動電圧を印加して液晶層の液晶分子の回転を制御することによって、バックライトユニットの光線が屈折して画面が生成される。
【０００３】
液晶分子の配列を比較的規則的にするため、アレイ基板とカラーフィルタ基板の液晶層に近い一側に、配向処理されたポリイミド誘導膜がそれぞれ設けられる。前記配向処理されたポリイミド誘導膜中の分枝鎖基と液晶分子間に作用する力は比較的強く、液晶分子に対する固定作用があるため、液晶分子をポリイミド誘導膜の表面の傾斜している極角の反対側に配向配列することができ、この極角は液晶分子のプレチルト角である。プレチルト角は液晶分子の配向を制御することができ、液晶層中に反傾部が生じるのを防ぎ、ある程度液晶層の透光率−電圧曲線に影響を与えることができ、適切なプレチルト角は闘値電圧を下げることができ、液晶の応答速度が速くなる。
【０００４】
液晶表示パネルの製造過程において、ポリイミド誘導膜の配向は重要な製造技術であり、前記配向技術によって液晶分子を特定の方向と角度に配列することができると同時に、前記配向技術の質は液晶表示パネルの視覚、反応速度、カラー性能等に影響を与える。
【０００５】
従来のポリイミド誘導膜の配向方法は、ラビング（Ｒｕｂｂｉｎｇ）がほとんどである。図１に示すように、前記の方法は主に、ラビングローラー１０を使って研磨することでガラス基板３０上にポリイミド誘導膜５０を形成し、前記ラビングローラー１０がポリイミド誘導膜５０に与える摩擦によって、前記ポリイミド誘導膜５０上に一定方向に配列された溝が形成され、ポリイミド誘導膜５０中の元々は無秩序に配列されていた分子が決まった均一の方向に配列され、それによって配向の目的が達成される。構造タイプの異なる液晶表示器に対しては、ラビングローラー１０の摩擦方向を変えることによってポリイミド誘導膜５０上にそれぞれ所定の傾斜角を形成する必要がある。
【０００６】
上述の従来の摩擦配向方法の効果は主に、ラビング布の品質にかかっているため、ラビング布には比較的高い品質が求められるが、現在ラビング布の品質を効果的に管理制御する方法はなく、ラビング布上に付着した異物、ラビング布の長さ、弾性回復力、摩擦力等が溝方向の一致性に直接影響を与えるため、摩擦ムラ等の欠陥を発生しやすい。同時にラビングローラーによって平滑にすることはできないため、ポリイミド誘導膜に対する圧入量が効果的に制御されず、摩擦ムラが発生し、配向効果に影響を与える。
【０００７】
よって、前記の従来の配向方法を改良し、配向の安定性を向上させ、配向効果を改善することが求められている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、制御しやすく、従来の配向方法で存在していた摩擦ムラの問題をなくすことができるとともに、配向の安定性を向上させ、配向効果を改善できる、誘導膜の配向方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述の目的を達成するために、本発明は、以下の手順からなる誘導膜の配向方法を提供する。
【００１０】
手順１は、基板を提供し、前記基板上に誘導膜を作る。
【００１１】
手順２は、前記誘導膜にレーザー彫刻を施すことによって、前記誘導膜上に方向性の一致した複数の微小溝が形成される。
【００１２】
手順３は、前記基板と前記誘導膜を洗浄し、レーザー彫刻によってできた粉塵を除去する。
【００１３】
手順４は、後続の液晶セルの製造プロセスを実行する。
【００１４】
前記基板は、ＴＦＴ基板またはＣＦ基板である。
【００１５】
前記誘導膜は、ポリイミド誘導膜である。
【００１６】
前記手順１は、基板上に誘導膜の原液を塗布し、その原液が硬化することによって誘導膜が製造される。
【００１７】
前記手順２中のレーザーは、レーザーユニットから発生し、前記レーザーユニットは複数の密集配列されたレーザーヘッドを備え、各レーザーヘッドはレーザー光を発生させる。
【００１８】
前記複数の密集配列されたレーザーヘッドは全て、前記誘導膜に垂直であり、隣り合う二つの前記レーザーヘッドはどれも一定間隔で平行に配列している。
【００１９】
前記レーザーユニットは制御端によって制御されるとともに、レーザーパラメータを調整する。前記レーザーパラメータには、レーザー出力パワー、持続時間、レーザーヘッドの移動方向、レーザーの出力方法が含まれる。
【００２０】
種類の異なる前記誘導膜の特性と厚みを基に、前記レーザーパラメータは調整される。
【発明の効果】
【００２１】
本発明が提供する誘導膜の配向方法は、誘導膜にレーザー彫刻を施すことによって、誘導膜上に方向性の一致した複数の微小溝が形成され、制御しやすくできるとともに、従来の配向方法で存在していた摩擦ムラの問題をなくすことができ、配向の安定性を向上させ、配向効果を改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
以下に図と組み合わせて、本発明の具体的な実施方法を述べることによって、本発明の技術案及びその他の有利な効果を更に明らかにする。
【図１】従来の誘導膜の配向方法を示した図である。
【図２】本発明における誘導膜の配向方法の流れ図である。
【図３】本発明における誘導膜の配向方法の手順１を示した図である。
【図４】本発明における誘導膜の配向方法の手順２を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明が採用した技術手段及びその効果をさらに詳しく説明するため、以下に本発明の好ましい実施例及び図を添えて詳細する。
【００２４】
図２から図４を参照する。本発明による誘導膜の配向方法は、以下の手順からなる。
【００２５】
手順１は、図３に示すように、基板１を提供し、基板１上に誘導膜３を製造する。
【００２６】
具体的には、基板１はすでに配列製造プロセスを経たＴＦＴ基板またはＣＦ基板である。
【００２７】
誘導膜３は、ポリイミド誘導膜であって、前記ポリイミド誘導膜の主要成分は、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ，ＰＩ）であることが好ましい。誘導膜３の製造プロセスは、まず、基板１上に誘導膜の原液を塗布し、硬化プロセスによって誘導膜の原液を硬化することで、最終的に誘導膜３が形成される。
【００２８】
手順２は、図４に示すように、誘導膜３にレーザー彫刻を施すことによって、誘導膜３上に方向性の一致した複数の微小溝３１が形成される。
【００２９】
手順２において、誘導膜３にレーザー彫刻を施すレーザーは、レーザーユニット５から発生し、レーザーユニット５は複数の密集配列されたレーザーヘッド５１を備え、各レーザーヘッド５１はレーザー光を発生させることによって、誘導膜３にレーザー彫刻を施す。
【００３０】
さらに、前記複数の密集配列されたレーザーヘッド５１は全て、誘導膜３に対して垂直であり、隣り合う二つのレーザーヘッド５１はどれも一定間隔で平行に配列されているため、レーザー彫刻によって誘導膜３上に形成された複数の微小溝３１は、方向の一致性を備えるとともに、隣り合う二つの微小溝３１間の間隔が均一であるため、液晶分子の規則的な配列に有用である。
【００３１】
重要な点として、レーザーユニット５は、制御端７によって制御される。制御端７は、レーザー出力パワー、持続時間、レーザーヘッド５１の移動方向、レーザーの出力方法（連続波またはパルス波）等の各レーザーパラメータを制御、調節することができる。前記レーザーパラメータを制御することによって複数の微小溝３１の方向、深さ等の特徴を精密かつ正確に制御することができるとともに、複数の微小溝３１の特徴を一致させることができる。それによって、前記レーザー彫刻によって誘導膜３を配向させる方法は、制御しやすくなると共に、安定性が比較的高くなり、従来の配向方法で存在していた摩擦ムラの問題をなくすことができ、配向効果を高めることができる。
【００３２】
また、種類の異なる誘導膜３の厚みの違い、特性の違い、薄膜トランジスタ液晶表示器の構造の違い等の要因を基に、制御端７を制御することによって、レーザーパラメータを調整することができ、レーザー彫刻によって誘導膜３上に形成された方向性の一致した複数の微小溝３１は、異なる配向要求を満たすことができるため、前記の方法は、調整しやすく適用しやすいという特徴を備える。
【００３３】
手順３は、基板１と誘導膜３を洗浄し、レーザー彫刻によってできた粉塵を除去する。
【００３４】
前記手順３において、レーザー彫刻によってできた粉塵をすぐに除去することによって、粉塵による表示不均一現象を防ぐことができる。
【００３５】
手順４は、後続の液晶滴下（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌｉｎｇ，ＯＤＦ）、  対組等の液晶セルの製造プロセスを実行する。
【００３６】
上述の誘導膜の配向方法は、ねじれネマティック（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ，ＴＮ）構造、広視野角（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ，ＦＦＳ）構造、平面スイッチング（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ，ＩＰＳ）構造の薄膜トランジスタ液晶表示器に適用することができる。
【００３７】
要約すると、本発明が提供する誘導膜の配向方法は、誘導膜にレーザー彫刻を施すことによって、誘導膜上に方向性の一致した複数の微小溝が形成されることで配向が施され、制御しやすくできるとともに、従来の配向方法で存在していた摩擦ムラの問題をなくすことができ、配向の安定性を向上させ、配向効果を改善することができる。
【００３８】
上述は、本領域の一般の技術者からすると、本発明の技術案と技術構想に基づいてその他の各種対応する変化や変形を作り出すことができるため、変化や変形は全て本発明の特許請求範囲に属するものとする。
【符号の説明】
【００３９】
１    基板
３    誘導膜
５    レーザーユニット
７    制御端
１０  ラビングローラー
３０  ガラス基板
３１  微小溝
５０  ポリイミド誘導膜  
５１  レーザーヘッド
【図１】
0006360964.tif 000002
【図２】
0006360964.tif 000003
【図３】
0006360964.tif 000004
【図４】
0006360964.tif 000005