(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜装置の鉛直方向の上側に配置され、前記成膜装置における基板の搬入及び搬出を行う搬送装置であって、
前記搬送装置は、
前記基板を保持する保持部と、
水平方向に沿って配置されて前記鉛直方向に移動可能なスライド板と、
前記鉛直方向に沿って延びるネジ軸と、前記ネジ軸に挿入されるとともに前記スライド板に取り付けられたナットと、を有し、前記スライド板を前記鉛直方向に移動させる１以上のボールネジと、
前記鉛直方向に沿って延びるシリンダ筒と、前記シリンダ筒の外周面に沿って摺動可能に配置された第１磁石を含み前記スライド板に取り付けられた摺動部と、前記シリンダ筒の筒内に挿入されるとともに上端部に第２磁石が固定され下端部に前記保持部が固定されたシリンダ軸と、をそれぞれ有する複数のリニア作動機構であって、前記スライド板の移動に伴う前記第１磁石の移動に追従して、前記第２磁石及び前記シリンダ軸が前記シリンダ筒の筒内を移動することにより、前記保持部を移動させる複数のリニア作動機構と、
を備え、
平面視において、前記複数のリニア作動機構と前記ボールネジとが前記スライド板の長手方向に沿って一直線上に配置されている、搬送装置。
【請求項２】
請求項１に記載の搬送装置であって、
前記複数のリニア作動機構は、前記平面視において、前記ボールネジの位置を中心として対称な位置に配置されている、搬送装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の搬送装置であって、さらに、
前記スライド板の前記長手方向の両側の端部を前記鉛直方向に沿って移動可能にガイドする一対のガイド機構を備える、搬送装置。
【請求項４】
請求項３に記載の搬送装置であって、さらに、
前記水平方向に沿った上面支持板及び底面支持板と、前記底面支持板及び前記上面支持板の間に設けられた前記鉛直方向に沿った第１側面支持板及び第２側面支持板と、を有する直方体骨組構造のフレームを備え、
前記ボールネジの前記ネジ軸は、前記ネジ軸の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、
前記リニア作動機構の前記シリンダ筒は、前記シリンダ筒の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、
前記第１側面支持板及び前記第２側面支持板の内側面に、それぞれ、前記ガイド機構が設けられている、搬送装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の搬送装置であって、
前記複数のリニア作動機構は第１リニア作動機構と第２リニア作動機構を有し、
前記第１リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向及び前記水平方向の変位を不可とする固定機構に取り付けられており、
前記第２リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向の変位を不可とするとともに、前記水平方向の変位を許容する水平スライド機構に取り付けられている、搬送装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の搬送装置であって、
前記保持部の上昇端位置において、前記保持部の長手方向の向きを固定するストッパを備える、搬送装置。
【請求項７】
請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の搬送装置であって、
前記複数のリニア作動機構のそれぞれは、前記シリンダ軸の外周面に沿って円環状に覆うように固定され、前記シリンダ筒の内周面に付着する粉塵を除去するためのスクレーパーを備える、搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、成膜装置における基板の搬入及び搬出を行う搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空状態に保持された成膜室において、原料ガスをプラズマ化することにより生成される金属イオンを、基板表面に吸着させて成膜するプラズマ成膜装置が知られている。例えば、特許文献１のプラズマ成膜装置では、成膜室の鉛直方向上側に真空予備室が設けられており、また、真空予備室と成膜室との間の基板の搬送を実行する搬送機構が真空予備室の鉛直方向上側に設けられている。搬送機構は、シリンダ筒とシリンダ軸と摺動部とを備えている。シリンダ軸は、鉛直方向に沿ったシリンダ筒の筒内に摺動可能に配置され、シリンダ軸の下端部は真空予備室に突出している。シリンダ軸の下端部には、成膜室と真空予備室とを連結する搬送口を封止するための弁体が設けられ、弁体の下面には、基板を保持する基板保持部が設けられている。なお、以下では、弁体及び基板保持部を、まとめて「保持部」とも呼ぶ。シリンダ軸の上端部には磁石が設けられている。摺動部は、シリンダ筒の外周において往復可能に嵌められた環状のスライダであり、摺動部の内周面に電磁石が設けられている。搬送機構は、摺動部の電磁石とシリンダ軸の磁石との間の磁力を利用して、シリンダ筒に沿った摺動部の往復摺動に伴って、シリンダ軸を往復運動させることにより、真空予備室と成膜室との間の基板の搬送を実行する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−２３７８８５号公報
【特許文献２】特開２０１３−２３７８８４号公報
【特許文献３】特開平１１−２３３４４号公報
【特許文献４】特開平１１−０２９８７１号公報
【特許文献５】特開平１０−２５３３５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の搬送装置では、摺動部を移動させる駆動機構の構成によっては、摺動部の移動時においてガタつき等の振動によって、滑らかな搬送動作ができず、動作不良が発生しやすい、という問題があることを見出した。また、ガタつき等の振動の発生は、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を招く、という問題を生じさせることを見出した。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現することが可能である。
【０００６】
（１）本発明の一形態によれば、成膜装置の鉛直方向の上側に配置され、前記成膜装置における基板の搬入及び搬出を行う搬送装置が提供される。この搬送装置は、前記基板を保持する保持部と；水平方向に沿って配置されて前記鉛直方向に移動可能なスライド板と；前記鉛直方向に沿って延びるネジ軸と、前記ネジ軸に挿入されるとともに前記スライド板に取り付けられたナットと、を有し、前記スライド板を前記鉛直方向に移動させる１以上のボールネジと；前記鉛直方向に沿って延びるシリンダ筒と、前記シリンダ筒の外周面に沿って摺動可能に配置された第１磁石を含み前記スライド板に取り付けられた摺動部と、前記シリンダ筒の筒内に挿入されるとともに上端部に第２磁石が固定され下端部に前記保持部が固定されたシリンダ軸と、をそれぞれ有する複数のリニア作動機構であって、前記スライド板の移動に伴う前記第１磁石の移動に追従して、前記第２磁石及び前記シリンダ軸が前記シリンダ筒の筒内を移動することにより、前記保持部を移動させる複数のリニア作動機構と；を備える。そして、平面視において、前記複数のリニア作動機構と前記ボールネジとが前記スライド板の長手方向に沿って一直線上に配置されている。
この形態の搬送装置によれば、平面視において、複数のリニア作動機構とボールネジとがスライド板の長手方向に沿って一直線上に配置されているので、スライド板が鉛直方向に移動する際に、ボールネジのナットが取り付けられたスライド板の部分と、摺動部が取り付けられたスライド板の部分とで、傾きが発生することを抑制することができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生を抑制して滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を抑制することができる。
【０００７】
（２）上記形態の搬送装置において、前記複数のリニア作動機構は、前記平面視において、前記ボールネジの位置を中心として対称な位置に配置されているとしてもよい。
この構成では、前記複数のリニア作動機構が、ボールネジの位置を中心として対称な位置に配置されているので、スライド板が鉛直方向に移動させる際に、ボールネジのナットが取り付けられたスライド板の部分と、摺動部が取り付けられたスライド板の部分とで、傾きが発生することをより効果的に抑制することができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生をより効果的に抑制して、シリンダ軸を滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大をより効果的に抑制することができる。
【０００８】
（３）上記形態の搬送装置において、前記スライド板の前記長手方向の両側の端部を前記鉛直方向に沿って移動可能にガイドする一対のガイド機構を備えるとしてもよい。
この場合には、スライド板の鉛直方向に沿った移動を一対のガイド機構によってガイドすることができるので、スライド板の傾きをさらに抑制して、スライド板を水平方向に沿った状態に保ちつつ、鉛直方向に沿って安定に移動させることができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生をさらに抑制して、シリンダ軸を滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大をさらに抑制することができる。
【０００９】
（４）上記形態の搬送装置において、前記水平方向に沿った上面支持板及び底面支持板と、前記底面支持板及び前記上面支持板の間に設けられた前記鉛直方向に沿った第１側面支持板及び第２側面支持板と、を有する直方体骨組構造のフレームを備え、前記ボールネジの前記ネジ軸は、前記ネジ軸の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、前記リニア作動機構の前記シリンダ筒は、前記シリンダ筒の上端部が前記上面支持板で支持されるとともに下端部が前記底面支持板で支持されることにより、前記鉛直方向に沿った状態で支持されており、前記第１側面支持板及び前記第２側面支持板の内側面に、それぞれ、前記ガイド機構が設けられているとしてもよい。
この場合には、直方体骨組構造のフレームによって、ボールネジのネジ軸およびリニア作動機構のシリンダ筒を鉛直方向に沿った状態で安定に支持することができるとともに、ガイド機構を鉛直方向に沿って安定な状態で支持することができる。これにより、スライド板の移動動作時においてガタつき等の振動による動作不良の発生をさらに抑制して、シリンダ軸を滑らかに移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大をさらに抑制することができる。
【００１０】
（５）上記形態の搬送装置において、前記複数のリニア作動機構は第１リニア作動機構と第２リニア作動機構を有し、前記第１リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向及び前記水平方向の変位を不可とする固定機構に取り付けられており、前記第２リニア作動機構の前記シリンダ軸の下端部は、前記保持部の前記シリンダ軸に対する前記鉛直方向の変位を不可とするとともに、前記水平方向の変位を許容する水平スライド機構に取り付けられているとしてもよい。
この場合には、例えば、保持部が温度変化に応じて水平方向に沿って伸縮したとしても、第２リニア機構駆動機構のシリンダ軸の下端部が取り付けられている水平スライド機構によって、シリンダ軸に対する保持部の水平方向の位置を変位させることができるので、各リニア作動機構のシリンダ軸の下端部の位置を変位させずに、各リニア作動機構のシリンダ軸を鉛直方向に沿った状態に保つことができる。これにより、シリンダ軸の傾きに起因するガタつき等の振動による動作不良の発生を抑制して滑らかにシリンダ軸を移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を抑制することができる。
【００１１】
（６）上記形態の搬送装置において、前記保持部の上昇端位置において、前記保持部の長手方向の向きを固定するストッパを備えるようにしてもよい。
この場合には、上昇端位置における保持部の位置精度を向上させることができ、保持部によって基板を安定に保持させることができる。
【００１２】
（７）上記形態の搬送装置において、前記シリンダ軸の外周面に沿って円環状に覆うように固定され、前記シリンダ筒の内周面に付着する粉塵を除去するためのスクレーパーを備えるようにしてもよい。
この場合には、シリンダ軸が移動する際に、シリンダ筒の内周面に付着した粉塵を除去することができるので、粉塵に起因するガタツキを抑制して滑らかにシリンダ軸を移動させることができる。また、保持する基板の振動による基板の落下や動作音の増大を抑制することができる。
【００１３】
なお、本発明は、種々の態様で実現することが可能である。例えば、搬送装置や、搬送装置を備える成膜装置等の形態で実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態としてのプラズマ成膜装置の構成を示す概略図である。
【図２】搬送装置の構成を示す説明図である。
【図３】第１リニア作動機構の摺動部の部分の断面を拡大して示す概略図である。
【図４】成膜室に基板を搬送した状態の搬送装置を示す説明図である。
【図５】水平スライド機構で構成された弁体支持部の一例を拡大して示す概略図である。
【図６】一対の弁体回転ストッパの一方の弁体回転ストッパを弁体ストッパ側から側面視した概略図である。
【図７】比較例としての搬送装置を示す概略図である。
【図８】比較例の搬送装置のスライド板を平面視した状態で示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１は、本発明の一実施形態としてのプラズマ成膜装置１０の構成を示す概略図である。なお、図１には、互いに直交する３つの方向ｘ，ｙ，ｚが図示されている。ｙ方向は鉛直下向き方向を示し、ｘ方向及びｚ方向は水平方向を示している。図２以降の図に描かれた方向ｘ，ｙ，ｚも同様である。
【００１６】
このプラズマ成膜装置１０は、いわゆるプラズマＣＶＤ法（plasma CVD; plasma-enhanced chemical vapor deposition）によって成膜対象である基板ＷＰの表面全体に炭素薄膜を形成する。基板ＷＰとしては、燃料電池に用いられるセパレータプレートが例示される。なお、成膜される炭素薄膜の構造としては、アモルファス構造や、グラファイト構造であるものとしても良く、他の種類の構造であるものとしても良い。なお、プラズマ成膜装置１０は、基板ＷＰに炭素薄膜を形成するものに限定されるものではなく、炭素薄膜以外の他の種類の薄膜を、基板ＷＰの外表面に成膜するものとしても良い。例えば、プラズマ成膜装置１０は、金や、白金、タンタルなどの金属元素の薄膜を成膜するものとしても良い。また、基板ＷＰとしては、燃料電池に用いられるセパレータプレートに限定されるものではなく、他の用途に用いられる種々の基板であっても良い。
【００１７】
プラズマ成膜装置１０は、成膜室２０と、真空予備室３０と、搬送装置４０と、を備える。真空予備室３０は成膜室２０に対して鉛直方向（ｙ方向）の上側に配置され、搬送装置４０は真空予備室３０に対して鉛直方向の上側に配置されている。但し、搬送装置４０のうち、真空予備室３０と成膜室２０との間で基板ＷＰを実際に搬送する構造の部分（図１には不図示)は、真空予備室３０の内部３１に配置されている。
【００１８】
このプラズマ成膜装置１０では、概ね、以下に示すように基板ＷＰに対する成膜処理が実行される。まず、真空予備室３０の基板導入口３２を密閉する導入蓋３３を開き、真空予備室３０の内部３１に基板ＷＰが不図示の基板導入装置によって導入され、搬送装置４０の後述する保持部で保持された後、導入蓋３３を閉じて、不図示の真空ポンプによって真空予備室３０の内部３１が真空化される。一方、成膜室２０は、別の真空ポンプによって真空状態に維持されている。そして、真空予備室３０と成膜室２０とを連通する連通孔２１を成膜室２０側で封止するゲートバルブ２２が開いて、真空状態の成膜室２０と真空予備室３０とが連通されると、搬送装置４０によって、基板ＷＰが成膜室２０の内部２３へ搬入されるとともに、後述するように搬送装置４０の保持部によって連通孔２１が真空予備室３０側で封止される。成膜室２０は、真空ポンプ、プラズマ発生装置、原料ガス供給装置、排ガス処理装置、等の成膜のための不図示の装置を備えている。成膜室２０では、搬入された基板ＷＰに対する成膜処理が実行される。そして、成膜処理後の基板ＷＰは、搬送装置４０によって成膜室２０から真空予備室３０へ搬出され、ゲートバルブ２２を閉じて成膜室２０が密閉された後、真空予備室３０の真空状態が開放され、導入蓋３３を開いて、基板導入装置によって真空予備室３０から導出される。以上のように、プラズマ成膜装置１０では、基板ＷＰに成膜処理が実行される。なお、プラズマ成膜装置１０のこのような動作については、上記先行技術文献１（特開２０１３−２３７８８５号公報）に記載されており、その開示内容は参照により組み込まれる。
【００１９】
図２（Ａ）は搬送装置４０を正面視した状態を示し、図２（Ｂ）はスライド板４００を平面視した状態を示している。
【００２０】
搬送装置４０は、直方体骨組構造フレーム１００と、ボールネジ２００と、一対のリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂと、スライド板４００と、保持部５００と、ボールネジ駆動部６００と、一対のリニアガイド７００Ａ，７００Ｂと、を備える。
【００２１】
直方体骨組構造フレーム１００は、真空予備室３０の上蓋３４上に固定されたｘｚ平面に平行な底面支持板１２０と、ｙｚ平面に平行な第１側面部分１３１及びｙｘ平面に平行な第２側面部分１３２でそれぞれＬ字状に構成された第１側面支持板１３０Ａ及び第２側面支持板１３０Ｂと、第１側面支持板１３０Ａ及び第２側面支持板１３０Ｂの上端に固定されたｘｚ平面に平行な上面支持板１４０と、を備える。直方体骨組構造フレーム１００は、底面支持板１２０と、第１側面支持板１３０Ａ及び第２側面支持板１３０Ｂと、上面支持板１４０とがボルト等により互いに固定されることによって、隣り合う面同士のなす角度が直角で、対向する面同士が平行となるように構成されている。なお、直方体骨組構造フレーム１００は、ボールネジ２００、リニア作動機構３００Ａ，３００Ｂ、及び、リニアガイド７００Ａ，７００Ｂを粉塵等から保護するための防塵カバー（不図示）で覆われることが好ましい。
【００２２】
ボールネジ２００は、ネジ軸２１０と、ネジ軸２１０に嵌められたナット２２０と、を備える。ネジ軸２１０は、その上端部が上部サポート２３０を介して上面支持板１４０に固定され、その下端部が下部サポート２４０を介して底面支持板１２０の上面側に設けられた台座部１１２に固定されている。上部サポート２３０及び下部サポート２４０は、それぞれ、軸受けを有しており、ネジ軸２１０を回転可能に支持している。ボールネジ２００は、直方体骨組構造フレーム１００によって、ネジ軸２１０の中心軸線ＣＹ０が鉛直方向（ｙ方向）に沿った状態で支持されている。
【００２３】
ネジ軸２１０の下端部は、台座部１１２の内部スペースに配置されたボールネジ駆動部６００に連結されており、ネジ軸２１０は、ボールネジ駆動部６００が出力する動力（回転力）に応じて回転する。なお、ボールネジ駆動部６００の構造に特に制限はなく、モーターの回転力を直接ネジ軸２１０に伝達する構造や、モーターの回転力をギアやベルト等を介して間接的にネジ軸２１０に伝達する構造等の種々の構造を採用することができる。
【００２４】
ネジ軸２１０に嵌められているナット２２０は、ｘｚ平面（「水平面」とも呼ぶ）に平行で長手方向がｘ方向に沿った略矩形状のスライド板４００の上面に取り付けられており、ネジ軸２１０の回転に応じて鉛直方向に沿って移動する。これにより、ボールネジ２００は、ナット２２０が取り付けられたスライド板４００をネジ軸２１０の回転に伴って鉛直方向に沿って移動させることができる。
【００２５】
一対のリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂ（以下、「第１リニア作動機構３００Ａ」及び「第２リニア作動機構３００Ｂ」とも呼ぶ）は、それぞれ、シリンダ筒３１０と、シリンダ筒３１０の筒内に挿入されたシリンダ軸３２０と、シリンダ筒３１０の外周面に沿って摺動可能に設けられた摺動部３３０と、を備える。
【００２６】
第１リニア作動機構３００Ａは、シリンダ筒３１０の上端部をシリンダガイド３４０によって上面支持板１４０に固定し、シリンダ筒３１０の下端部をフランジ３５０によって台座部１１２に固定することにより、直方体骨組構造フレーム１００によって、シリンダ筒３１０の中心軸線ＣＹ１ａが鉛直方向に沿った状態で支持されている。第２リニア作動機構３００Ｂも、同様に、シリンダ筒３１０の中心軸線ＣＹ１ｂが鉛直方向（ｙ方向）に沿った状態で支持されている。リニア作動機構３００Ａ，３００Ｂの摺動部３３０は、ぞれぞれ、スライド板４００の上面に取り付けられており、後述するように、スライド板４００の上下動に応じて、それぞれのシリンダ筒３１０に沿って摺動し、それぞれのシリンダ軸３２０を上下動させる。
【００２７】
図２（Ｂ）に示すように、ボールネジ２００と一対のリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂとは、スライド板４００を鉛直方向上側から平面視した場合において、スライド板４００の長手方向（ｘ方向）に沿った直線ＣＸ上に並ぶように一直線上に配置されている。また、本実施形態では、一対のリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂは、ボールネジ２００を中心として対称な位置に配置されている。
【００２８】
図２（Ａ）に示すように、リニア作動機構３００Ａ，３００Ｂのシリンダ軸３２０の下端部は、それぞれ、台座部１１２、底面支持板１２０及び真空予備室３０の上蓋３４の内部の貫通孔を介して真空予備室３０の内部３１に突出しており、保持部５００に取り付けられている。
【００２９】
保持部５００は、弁体５１０と、弁体支持部５２０Ａ，５２０Ｂと、基板ＷＰを保持する複数の基板保持部５３０と、を備える。弁体支持部５２０Ａ，５２０Ｂは、弁体５１０の上部に固定されている。第１の弁体支持部５２０Ａには、第１リニア作動機構３００Ａのシリンダ軸３２０の下端部が取り付けられており、第２の弁体支持部５２０Ｂには、第２リニア作動機構３００Ｂのシリンダ軸３２０の下端部が取り付けられている。複数の基板保持部５３０は、弁体５１０の下面に設けられており、下端部に有するフック５３２によって、基板ＷＰを吊り下げて保持する。本実施形態では、２つの基板保持部５３０が設けられている。また、弁体５１０の下部には、位置決めピン５１２及びＯリング５１４が設けられている。なお、弁体支持部５２０Ａ，５２０Ｂの構成については後述する。
【００３０】
図３は、第１リニア作動機構３００Ａの摺動部３３０の部分の断面を拡大して示す概略図である。摺動部３３０は、スライド板４００に固定された円筒状のカバー３３２と、カバー３３２の内周面に固定され、シリンダ筒３１０の外周面に沿って摺動可能に配置された円環状の第１磁石３３４と、を備える。第１磁石３３４には、鉛直方向（ｙ方向）に沿って磁化された永久磁石が用いられている。図３の例では、鉛直方向の上側がＳ極で下側がＮ極となっている。また、図３の例では、鉛直方向に沿って１列の第１磁石３３４が設けられている。
【００３１】
シリンダ筒３１０の筒内に挿入されたシリンダ軸３２０の上端部には、シリンダ軸３２０の外周面に沿って固定された円環状の第２磁石３３６が設けられている。第２磁石３３６は、１列の第１磁石３３４に対応させて１列の第２磁石が設けられている。なお、第２磁石３３６は、後述する第１磁石３３４との間で働く磁力による第１磁石３３４の移動に対する追従性を高めるために、第１磁石３３４と同様に鉛直方向に沿って磁化された２つの永久磁石３３６ａ，３３６ｂを異極性同士が接触するように組み合わせて構成されている。
【００３２】
スライド板４００の鉛直方向に沿った移動（図中矢印で示す）に伴って摺動部３３０が移動すると、第１磁石３３４と第２磁石３３６との間で働く磁力（引力および斥力）によって第１磁石３３４の移動に追従して第２磁石３３６がシリンダ筒３１０内を摺動して移動し、シリンダ軸３２０が鉛直方向に沿って移動する。なお、図示及び説明を省略するが、第２リニア作動機構３００Ｂにおいても同様である。従って、リニア作動機構３００Ａ，３００Ｂは、スライド板４００に取り付けられたそれぞれの摺動部３３０の鉛直方向に沿った摺動に伴って、真空予備室３０の内部３１に突出するシリンダ軸３２０の部分（図２（Ａ）参照）の長さを変化させることができる。なお、第１磁石３３４と第２磁石３３６の構成は例示であり、これ以外の種々の構成を採用可能である。また、２つの磁石３３４，３３６の少なくとも一方を電磁石としても良い。
【００３３】
なお、シリンダ軸３２０の外周面には、シリンダ筒３１０の内周面に付着する粉塵を除去するための円環状のスクレーパー３３７が、上下２か所に設けられている。また、カバー３３２の内周面にも、シリンダ筒３１０の外周面に付着する粉塵を除去するための円環状のスクレーパー３３８が、上下２か所に設けられている。
【００３４】
図４は、成膜室２０に基板ＷＰを搬送した状態の搬送装置４０を示す説明図である。スライド板４００を、台座部１１２上に設けられた下端位置決め部１１４で規定される下端位置までスライドさせると、上述したように、リニア作動機構３００Ａ，３００Ｂのそれぞれのシリンダ軸３２０を鉛直方向下向きに移動させることができる。これにより、シリンダ軸３２０に取り付けられた保持部５００を、真空予備室３０の内部３１において、鉛直方向下側の成膜室２０の上蓋２４に弁体５１０が接触するまで移動させることができる。そして、保持部５００の基板保持部５３０で保持された基板ＷＰを、真空予備室３０と成膜室２０との間の連通孔２１を介して、成膜室２０の内部２３へ搬入することができる。この際、保持部５００の弁体５１０の下面には、位置決めピン５１２及びＯリング５１４が設けられており、位置決めピン５１２が連通孔２１の外側の位置決め孔２６に嵌合され、Ｏリング５１４が成膜室２０の上蓋２４に密接して連通孔２１の外周を覆うことにより、成膜室２０の内部２３を真空予備室３０に対して封止し、成膜室２０内を真空状態に保つことができる。
【００３５】
また、スライド板４００を下端位置（図４）から鉛直上方向にスライドさせることにより、リニア作動機構３００Ａ，３００Ｂのそれぞれのシリンダ軸３２０を鉛直上方向に移動させることができ、図２に示すように、保持部５００を上昇端位置まで移動させることができる。これにより、保持部５００の基板保持部５３０で保持された基板ＷＰを、真空予備室３０と成膜室２０との間の連通孔２１を介して、成膜室２０の内部２３から真空予備室３０の内部３１へ搬出することができる。なお、上昇端位置は、真空予備室３０の上蓋３４の下面側（内部３１の側）の中央の位置に設けられた弁体ストッパ５５０と、弁体ストッパ５５０の両側に設けられた一対の弁体回転ストッパ５６０Ａ，５６０Ｂで規定される。なお、弁体回転ストッパ５６０Ａ，５６０Ｂの構成については後述する。
【００３６】
図２，図４に示すように、一対のリニアガイド７００Ａ，７００Ｂのうち、右側のリニアガイド７００Ａは第１側面支持板１３０Ａの第１側面部分１３１に設けられ、左側のリニアガイド７００Ｂは第２側面支持板１３０Ｂの第１側面部分１３１に設けられている。リニアガイド７００Ａ，７００Ｂは、鉛直方向（ｙ方向）に沿って延びるリニアレール７１０と、リニアレール７１０上をスライドするリニアブロック７２０と、を備える。リニアガイド７００Ａ，７００Ｂは、それぞれ、リニアレール７１０上をリニアブロック７２０がスライドすることで、それぞれのリニアブロック７２０に取り付けられたスライド板４００がリニアレールの方向（鉛直方向）に沿って移動する直線運動をガイドするガイド機構である。これにより、スライド板４００は、ボールネジ２００によって鉛直方向に沿って移動する際に、左右一対のリニアガイド７００Ａ，７００Ｂによって、ｘｚ平面（水平面）に沿った水平状態を維持しつつ、鉛直方向に沿った滑らかな移動（直線運動）となるようにガイドされる。
【００３７】
第１リニア作動機構３００Ａのシリンダ軸３２０が取り付けられた弁体支持部５２０Ａは、シリンダ軸３２０に対する保持部５００のｘ，ｚ方向（水平方向）及びｙ方向（鉛直方向）の変位を不可とするように、シリンダ軸３２０の下端部を固定する固定機構で構成されている。固定機構の構造としては、シリンダ軸３２０の下端を固定可能であれば、その構造に制限はない。これに対して、第２リニア作動機構３００Ｂのシリンダ軸３２０が取り付けられた弁体支持部５２０Ｂ（図２，４）は、以下で説明するように、シリンダ軸３２０に対する保持部５００のｙ方向（鉛直方向）の変位を不可とするとともに、ｘ方向（水平方向）の変位を許容する機構（以下、「水平スライド機構」とも呼ぶ）で構成されている。
【００３８】
図５は、水平スライド機構で構成された弁体支持部５２０Ｂ（図２，４）の一例を拡大して示す概略図である。図５（Ａ）は弁体支持部５２０Ｂをｘｙ平面に沿ったシリンダ軸３２０の中心軸線ＣＹＬを含む面で切った断面を示しており、図５（Ｂ）は、弁体支持部５２０Ｂに取り付けられたシリンダ軸３２０の部分を抜き出して示している。図５（Ａ）に示すように、弁体支持部５２０Ｂには、シリンダ軸３２０の外径よりも大きい内径のシリンダ軸挿入溝５２１がｙ方向（鉛直方向）に沿って設けられており、シリンダ軸挿入溝５２１の外側の弁体支持部５２０Ｂの部分には、ｘ方向（水平方向）に沿って係合棒５２３が挿入される係合孔５２２ａ，５２２ｂが設けられている。また、図５（Ｂ）に示すように、シリンダ軸３２０にもｘ方向に沿って貫通し、係合棒５２３が挿入される係合孔３２１が設けられている。図５（Ａ）に示すように、係合棒５２３は、弁体支持部５２０Ｂのｘ方向左側の係合孔５２２ａ、シリンダ軸３２０の係合孔３２１、弁体支持部５２０Ｂのｘ方向右側の係合孔５２２ｂの順に挿入され、固定ピン５２４によって係合孔５２２ａ，５２２ｂから抜け落ちないように弁体支持部５２０Ｂに固定される。
【００３９】
上記構造によって、シリンダ軸３２０は、係合棒５２３によって、ｙ方向（鉛直方向）に対しては移動できないように固定（拘束）される。これに対して、シリンダ軸３２０を挿入したシリンダ軸挿入溝５２１の内径はシリンダ軸３２０の外径よりも大きく、ｘ方向（水平方向）に沿って隙間が設けられているので、シリンダ軸３２０は、弁体５１０に対して係合棒５２３に沿ってｘ方向（水平方向）に移動（スライド）できる。
【００４０】
ここで、弁体５１０は、真空予備室３０内の温度の変動に応じて体積変動が発生しやすく、これに伴って発生するｘ方向（水平方向）の寸法変動によって、以下の問題が発生する可能性がある。第２リニア作動機構３００Ｂのシリンダ軸３２０および第１リニア作動機構３００Ａのシリンダ軸３２０の両方が固定機構の弁体支持部で固定された構造とした場合、弁体５１０のｘ方向の寸法の変動に伴って、シリンダ軸３２０の下端部が寸法変動の方向に引っ張られて、シリンダ軸３２０が鉛直方向（ｙ方向）に沿った状態から傾くことになる。シリンダ軸３２０が鉛直方向に沿った状態から傾いた場合、シリンダ筒３１０に対してシリンダ軸３２０が傾いた状態となるので、シリンダ軸３２０の上下動時においてガタつき等の振動が発生し、滑らかな移動動作が困難となる可能性がある。
【００４１】
これに対して、図５に示したように、弁体支持部５２０Ｂでは、弁体５１０のｘ方向の寸法が変動しても、シリンダ軸３２０の下端部は係合棒５２３に沿ってｘ方向（水平方向）にスライドすることができるので、シリンダ軸３２０はｙ方向（鉛直方向）に沿った状態を維持することができ、滑らかな移動動作を維持することができる。なお、シリンダ軸挿入溝５２１の内径寸法は、弁体５１０の温度変化によるｘ方向の寸法変動を吸収できる大きさとされる。但し、温度変動等に基因するシリンダ軸３２０の傾きが問題とならない場合には、弁体支持部５２０Ｂに水平スライド機構を設けなくても良い。
【００４２】
図６は、一対の弁体回転ストッパ５６０Ａ，５６０Ｂ（図２，図４）の一方の弁体回転ストッパ５６０Ｂを弁体ストッパ５５０側から側面視した概略図である。なお、図６は、真空予備室３０の上蓋３４および保持部５００の弁体５１０を概略断面（ハッチング）で示し、説明上不要な部材は省略して示している。この弁体回転ストッパ５６０Ｂは、弁体支持部５２０Ｂを挟持して固定する固定ガイド５６２を有している。図示は省略するが、他方の弁体回転ストッパ５６０Ａも、一方の弁体回転ストッパ５６０Ｂと同様である。２つの弁体回転ストッパ５６０Ａ，５６０Ｂが弁体５１０の弁体支持部５２０Ａ，５２０Ｂを固定することにより、保持部５００の上昇端位置における、弁体５１０の位置、特に、長手方向の向きをｘ方向に沿うように固定することができる（図２）。
【００４３】
以上説明した構造を有する搬送装置４０は、ボールネジ２００によるスライド板４００を一対のリニアガイド７００Ａ，７００Ｂによるガイドによって水平状態を維持しつつ鉛直方向に沿って移動させ、これに伴って、一対のリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂを動作させることによって、保持部５００の基板保持部５３０で保持された基板ＷＰの成膜室２０への搬入および成膜室２０からの搬出を行うことができる。
【００４４】
図７は、比較例としての搬送装置４０Ｒを示す概略図である。図７（Ａ）は図２（Ａ）に対応する正面図であり、図７（Ｂ）は図７（Ａ）の左側面図である。また、図８は、搬送装置４０Ｒのスライド板４００Ｒを平面視した状態で示す概略図である。比較例の搬送装置４０Ｒは、ボールネジ２００と、リニア作動機構３００と、一対のサポート機構８００Ａ，８００Ｂと、保持部５００と、ボールネジ駆動部６００と、を備えている。
【００４５】
リニア作動機構３００は、シリンダ筒３１０の下端部が支持台３７０を介して真空予備室３０の上蓋３４の上面に設置されており、上端部がシリンダガイド３４０を介して連結板１７０に固定されている。リニア作動機構３００のシリンダ筒３１０は、連結板１７０及び上部シリンダガイド３４０と上蓋３４及び支持台３７０とによって、その中心軸ＣＹ１が鉛直方向に沿った状態となるように支持されている。
【００４６】
ボールネジ２００は、図７（Ｂ），図８に示すように、リニア作動機構３００に対してｚ方向にずれた位置で、ネジ軸２１０の下端部が下部サポート２４０を介してボールネジ支持板１６０に固定され、ネジ軸２１０の上端部が上部サポート２３０を介して連結板１７０に固定されている。ボールネジ２００のネジ軸２１０は、連結板１７０及び上部サポート２３０とボールネジ支持板１６０及び下部サポート２４０とによって、その中心軸線ＣＹ０が鉛直方向に沿った状態となるように支持されている。
【００４７】
一対のサポート機構８００Ａ，８００Ｂのうち、第１のサポート機構８００Ａは、サポートバー８１０の下端部が真空予備室３０の上蓋３４の上面にフランジ８３０を介して設置されており、サポートバー８１０の上端部が連結板１７０に固定されている。第２のサポート機構８００Ｂも、同様である。サポート機構８００Ａ，８００Ｂは、それぞれのサポートバー８１０が連結板１７０と上蓋３４及びフランジ８３０とによって、それぞれの中心軸線ＣＹ２ａ，ＣＹ２ｂが鉛直方向（ｙ方向）に沿った状態となるように支持されている。
【００４８】
ボールネジ２００のナット２２０、リニア作動機構３００の摺動部３３０、及び、サポート機構８００Ａ，８００Ｂの滑り軸受け８２０は、スライド板４００Ｒに取り付けられている。ボールネジ２００のネジ軸２１０の回転に伴ってナット２２０が鉛直方向に移動し、これに伴ってスライド板４００Ｒが移動する。この際、スライド板４００Ｒに取り付けられた滑り軸受け８２０が、サポートバー８１０を滑って移動することにより、スライド板４００Ｒの鉛直方向に沿った移動がサポートされる。
【００４９】
以上説明した比較例の搬送装置４０Ｒでは、以下で説明する不具合がある。図８に示すように、リニア作動機構３００のシリンダ筒３１０に対して、ボールネジ２００のネジ軸２１０の配置位置が、ｚ方向にずれた配置（「オフセット配置」とも呼ぶ）となっている。このため、ボールネジ２００のナット２２０及びリニア作動機構３００の摺動部３３０が取り付けられたスライド板４００Ｒが、ナット２２０の移動に応じて、図７（Ｂ）の矢印Ｙ４００Ｒに示すように、ｚ方向（水平方向）に対して傾斜する事象が発生し易い。例えば、スライド板４００Ｒが上昇する場合には、ナット２２０側が高く摺動部３３０側が低く傾斜し、スライド板４００Ｒが下降する場合には、ナット２２０側が低く摺動部３３０側が高く傾斜する。このようにスライド板４００Ｒが傾斜した場合、リニア作動機構３００の摺動部３３０のシリンダ筒３１０に沿った摺動時にガタつき等の振動が発生し、滑らかな動作が困難となる場合がある。なお、ガタつき等の振動は装置の動作音の増大を招く場合もある。
【００５０】
また、サポート機構８００Ａ，８００Ｂのサポートバー８１０は、実質的には、その下端のみがフランジ８３０を介して真空予備室３０の上蓋３４上で固定されて鉛直方向に沿った状態となるように支持されているだけである。このため、第１のサポート機構８００Ａのサポートバー８１０及び第２のサポート機構８００Ｂのサポートバー８１０に、それぞれ、図７（Ａ）の矢印ＸＺ８００Ａ，ＸＺ８００Ｂに示すように、ｘ方向及びｚ方向に対して傾きが発生し、鉛直方向に沿った平行度が確保できない場合等が発生する。このため、滑り軸受け８２０の滑らかな動きが抑制されて、スライド板４００Ｒの動作にガタつき等の振動が発生し、滑らかな動作が困難となる場合がある。
【００５１】
また、リニア作動機構３００のシリンダ筒３１０も、実質的には、その下端のみが支持台３７０を介して真空予備室３０の上蓋３４上で固定されて鉛直方向に沿った状態となるように支持されているだけである。このため、リニア作動機構３００のシリンダ筒３１０に、図７（Ａ）の矢印ＸＺ３００に示すように、ｘ方向及びｚ方向に対して傾きが発生し、鉛直方向に沿った平行度が確保できない場合等が発生する。このため、摺動部３３０のシリンダ筒３１０に沿った摺動によるスライド板４００の上下動動作にガタつき等の振動が発生し、滑らかな動作が困難となる場合もある。
【００５２】
また、保持部５００の長手方向（ｘ方向）の中心位置でリニア作動機構３００のシリンダ軸３２０によって保持部５００を支持しているため、保持部５００の位置（特に、長手方向の向き）にバラツキが発生し易い。特に、上昇端位置（図７（Ａ））における保持部５００の位置にバラツキが発生した場合には、基板を基板保持部に保持させることができずに落下させてしまう場合等の不具合が発生する。また、リニア作動機構３００によって保持部５００を上昇あるいは降下させる際に、保持部５００にシリンダ軸３２０を中心とした回転振動が発生し易くなり、この振動によって基板が真空予備室３０の壁面等に接触し、基板が落下する可能性もある。
【００５３】
これに対して、実施形態の搬送装置４０（図２〜図４）では、上述したように、ボールネジ２００及び一対のリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂを、鉛直方向上側から平面視した場合においてスライド板４００の長手方向（ｘ方向）に沿って一直線上に並ぶように配置している。より具体的には、ボールネジ２００を中心として一対のリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂをスライド板４００の長手方向（ｘ方向）に沿った対称な位置に配置している。これにより、スライド板４００の鉛直方向（ｙ方向）に沿った移動時における傾斜を抑制することができ、スライド板４００の移動時におけるガタつき等の振動を抑制し、滑らかな動作とすることができる。
【００５４】
また、直方体骨組構造フレーム１００の上面支持板１４０及び底面支持板１２０（台座１１２を含む）でボールネジ２００及びリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂを支持することにより、ボールネジ２００のネジ軸２１０及びリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂのシリンダ筒３１０を、鉛直方向に沿った状態および互いに平行な状態で安定に設置することができる。これにより、スライド板４００の移動時におけるガタつき等の振動を抑制して滑らかな動作とすることができる。
【００５５】
また、直方体骨組構造フレーム１００の両側の側面部に設けたリニアガイド７００Ａ，７００Ｂにより、スライド板４００を鉛直方向に沿って移動させる場合において、スライド板４００のｘｚ平面に沿った水平状態を容易に維持することができる。これにより、スライド板４００がｘ方向およびｚ方向に対して傾斜して、リニア作動機構３００Ａ，３００Ｂの摺動部３３０がシリンダ筒３１０に沿って摺動する際にガタつき等の振動が発生することを抑制し、滑らかな動作とすることができる。
【００５６】
また、シリンダ筒３１０に付着した粉塵をスクレーパー３３７，３３８によって除去することにより、摺動部３３０Ａ，３３０Ｂの摺動動作及びこれに伴うシリンダ軸３２０の移動動作におけるガタつき等の振動の発生を抑制し、滑らかな動作とすることができる。
【００５７】
また、スライド機構で構成した弁体支持部５２０Ｂによって、弁体５１０のｘ方向の寸法が変動しても、第２リニア作動機構３００Ｂのシリンダ軸３２０の下端部を係合棒５２３に沿ってｘ方向（水平方向）にスライドさせることができるので、シリンダ軸３２０はｙ方向（鉛直方向）に沿った状態を維持することができ、ガタつき等の振動の発生を抑制して、滑らかな移動動作を維持することができる。
【００５８】
また、上記したように、ガタつき等の振動の発生を抑制すれば、装置の動作音の増大を抑制することもできる。保持部５００の基板保持部５３０で保持した基板ＷＰの落下を抑制することができる。
【００５９】
また、中心に配置されたボールネジ２００に対してｘ方向に沿って左右対称な位置に配置されたリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂのシリンダ軸３２０で保持部５００の弁体５１０を保持しているので、弁体５１０の水平方向での回転の自由度を抑制することができる。これにより、保持部５００の基板保持部５３０で保持した基板ＷＰが真空予備室３０内で壁面等に接触して落下することを抑制することができる。
【００６０】
また、保持部５００の上昇端位置において、弁体回転ストッパ５６０Ａ，５６０Ｂによって保持部５００の弁体５１０の水平方向に沿った長手方向の向きをｘ方向に沿った方向となるように規制することができる。また、保持部５００の基板保持部５３０の位置精度を向上させることができ、基板保持部５３０によって安定に基板ＷＰを保持させることができる。
【００６１】
本発明は、上述の実施形態や実施例、変形例に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態、実施例、変形例中の技術的特徴は、上述の課題の一部または全部を解決するために、或いは、上述の効果の一部または全部を達成するために、適宜、差し替えや組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。
【００６２】
（１）上記実施形態の搬送装置４０では、１つのボールネジ２００と、ボールネジ２００を中心として対称配置された一対のリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂを備える構成を例に説明したが、これに限定されるものではない。例えば、１つのボールネジと一対のリニア作動機構を１組の機構として、複数組の機構を備える構成としてもよい。また、１つのリニア作動機構と１つのボールネジとを１組の機構として、複数組の機構を備える構成としてもよい。但し、搬送装置４０としては、１つ以上のボールネジ２００と、複数のリニア作動機構３００とを備え、これらを、平面視においてスライド板４００の長手方向に沿って一直線上に配置することが好ましい。
【００６３】
（２）上記実施形態では、ボールネジ２００のネジ軸２１０をボールネジ駆動部６００で回転させる場合を例に説明したが、ナット２２０をボールネジ駆動部によって回転させる構成としてもよい。
【００６４】
（３）上記実施形態では、摺動部３３０には１列の第１磁石３３４が設けられ、シリンダ軸３２０には１列の第１磁石３３４に対応する１列の第２磁石３３６が設けられている場合を例に説明したが、複数列の第１磁石３３４及び第２磁石３３６が鉛直方向（ｙ方向）に沿って設けられている構成としてもよい。
【００６５】
（４）上記実施形態では、シリンダ筒３１０に付着した粉塵をスクレーパー３３７，３３８によって除去することにより、摺動部３３０Ａ，３３０Ｂの摺動動作及びこれに伴うシリンダ軸３２０の移動動作におけるガタつき等の振動の発生を抑制する構成としたが、これに限定されるものではない。例えば、シリンダ筒３１０に粉塵が付着しない場合、あるいは、付着する粉塵の量が非常に少ない場合等のように、付着する粉塵がガタつき等の振動の発生に影響しないような場合には、スクレーパー３３７，３３８を省略することも可能である。
【００６６】
（５）上記実施形態では、直方体骨組構造フレーム１００の第１側面支持板１３０Ａ及び第２側面支持板１３０Ｂの内側面に、それぞれ、スライド板４００を鉛直方向に沿って移動可能にガイドするガイド機構としてのリニアガイド７００Ａ，７００Ｂを備える場合を例に説明した。しかしながら、リニアガイド７００Ａ，７００Ｂを省略することも可能である。
【００６７】
（６）上記実施形態では、直方体骨組構造フレーム１００によって、ボールネジ２００のネジ軸２１０及びリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂのそれぞれのシリンダ筒３１０が鉛直方向に沿って支持される構成として説明している。しかしながら、これに限定されるものではなく、ボールネジ２００のネジ軸２１０及びリニア作動機構３００Ａ，３００Ｂのそれぞれのシリンダ筒３１０が鉛直方向に沿って支持される構造であれば、どのような構造であってもよい。
【００６８】
（７）上記実施形態では、成膜室２０と真空予備室３０とを備えるプラズマ成膜装置１０において、真空予備室３０の鉛直方向の上側に搬送装置４０を備える場合を例に説明した。しかしながら、これに限定されるものではなく、例えば、成膜室と真空予備室に分かれていない構成の成膜装置であって良い。すなわち、本発明の搬送装置は、種々の構成の成膜装置の鉛直方向の上側に配置する搬送装置として適用することができる。
【符号の説明】
【００６９】
１０…プラズマ成膜装置
２０…成膜室
２１…連通孔
２２…ゲートバルブ
２３…内部
２４…上蓋
２６…位置決め孔
３０…真空予備室
３１…内部
３２…基板導入口
３３…導入蓋
３４…上蓋
４０…搬送装置
４０Ｒ…搬送装置
１００…直方体骨組構造フレーム
１１２…台座部
１２０…底面支持板
１３０Ａ，１３０Ｂ…側面支持板
１３１，１３２…側面部分
１４０…上面支持板
１６０…ボールネジ支持板
１７０…連結板
２００…ボールネジ
２１０…ネジ軸
２２０…ナット
２３０…上部サポート
２４０…下部サポート
３００…リニア作動機構
３００Ａ，３００Ｂ…リニア作動機構
３１０…シリンダ筒
３２０…シリンダ軸
３２１…係合孔
３３０…摺動部
３３２…カバー
３３４…第１磁石
３３６…第２磁石
３３６ａ，３３６ｂ…永久磁石
３３７，３３８…スクレーパー
３４０…シリンダガイド
３５０…フランジ
３７０…支持台
４００…スライド板
５００…保持部
５１０…弁体
５１２…位置決めピン
５１４…Ｏリング
５２０Ａ，５２０Ｂ…弁体支持部
５３０…基板保持部
５２１…シリンダ軸挿入溝
５２２…係合孔
５２３…係合棒
５２４…固定ピン
５５０…弁体ストッパ
５６０Ａ，５６０Ｂ…弁体回転ストッパ
５７０…弁体固定部
６００…ボールネジ駆動部
７００Ａ，７００Ｂ…リニアガイド
７１０…リニアレール
７２０…リニアブロック
８００Ａ，８００Ｂ…サポート機構
８１０…サポートバー
８２０…滑り軸受け
【図１】
0006360010.tif 000002
【図２】
0006360010.tif 000003
【図３】
0006360010.tif 000004
【図４】
0006360010.tif 000005
【図５】
0006360010.tif 000006
【図６】
0006360010.tif 000007
【図７】
0006360010.tif 000008
【図８】
0006360010.tif 000009