(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
バナジウムを有する重質炭化水素供給原料を処理するための水素化処理触媒であって、無機酸化物粉末、三酸化モリブデン粉末および第ＶＩＩＩ族の金属粒子の共混練混合物を含む焼成粒子を含み、前記焼成粒子は、水銀圧入により測定して、前記焼成粒子の総細孔容積の少なくとも２３％は、５，０００Åを超える細孔径を有する前記焼成粒子の細孔内にあり、および前記焼成粒子の総細孔容積の７０％未満は、７０Åから２５０Åの範囲内の細孔径を有する前記焼成粒子の細孔内にあるような細孔構造を有し；
前記三酸化モリブデン粉末は、細分された粉化固体として、または懸濁液として細分された状態の粒子状三酸化モリブデンであり、前記粒子状三酸化モリブデンは、０．２から１５０μｍの最大寸法を有する粒径のものである、水素化処理触媒。
【請求項２】
請求項１に記載の水素化処理触媒であって、少なくとも５０パーセントの前記粒子状三酸化モリブデンは、２から１５μｍの範囲内の最大寸法を有する粒子である、水素化処理触媒。
【請求項３】
請求項１または２に記載の水素化処理触媒であって、前記焼成粒子は、ＭｏＯ３としてのモリブデンおよび前記焼成粒子の全重量に基づく重量パーセントで３重量パーセントから１０重量パーセントの範囲内のモリブデン分、ＮｉＯとしてのニッケルおよび前記焼成粒子の全重量に基づいて０．２重量パーセントから６重量パーセントの範囲内のニッケル分、ならびにＣｏＯとしてのコバルトおよび前記焼成粒子の全重量に基づく重量パーセントで０．２重量パーセントから６重量パーセントの範囲内のコバルト分を有する、水素化処理触媒。
【請求項４】
請求項１、２または３のいずれか一項に記載の水素化処理触媒であって、前記焼成粒子の表面積は、１５０ｍ２／ｇを超える、水素化処理触媒。
【請求項５】
請求項１、２、３または４のいずれか一項に記載の水素化処理触媒であって、前記共混練混合物は、実質的に三酸化モリブデン、酸化コバルト、酸化ニッケル、リン成分および無機酸化物材料からなる、水素化処理触媒。
【請求項６】
バナジウムを有する重質炭化水素供給原料を処理するための水素化処理触媒を作る方法であって、無機酸化物粉末、三酸化モリブデン粉末および第ＶＩＩＩ族の金属粒子を共混練して共混練混合物を形成するステップと、前記共混練混合物を粒子に成形するステップと、および焼成時間中、４８２℃（９００°Ｆ）から７８７．７℃（１４５０°Ｆ）の範囲内の焼成温度に制御された温度条件下で前記粒子を焼成して焼成粒子を提供するステップであり、水銀圧入により測定して、前記焼成粒子の総細孔容積の少なくとも２３％が、５，０００Åを超える細孔径を有する前記焼成粒子の細孔内にあり、および前記焼成粒子の総細孔容積の７０％未満が、７０Åから２５０Åの範囲内の細孔径を有する前記焼成粒子の細孔内にあるような細孔構造を有する焼成粒子を提供するステップとを含み；
前記共混練混合物を調製するための前記三酸化モリブデン粉末は、細分された粉化固体として、または懸濁液として細分された状態の粒子状三酸化モリブデンであり、前記粒子状三酸化モリブデンは、０．２から１５０μｍの最大寸法を有する粒径のものであり；および
共混練のステップが、共混練混合物が６以上９未満の範囲内に保たれたｐＨを有するように行われ；および
焼成粒子が、ＭｏＯ３としてのモリブデンおよび焼成粒子の全重量に基づいて、２重量パーセント（重量％）以上、１２重量％以下の範囲内にあるモリブデン分を有する、方法。
【請求項７】
０．１ｐｐｍｗから２５０ｐｐｍｗの範囲内のニッケル分、０．３ｐｐｍｗから２５０ｐｐｍｗの範囲内のバナジウム分および０．５重量％から８重量％の範囲内の硫黄分を有する重質炭化水素供給原料を、請求項１の触媒と接触させるステップを含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
優先権主張
本出願は、２０１２年４月２６日に出願された米国特許仮出願第６１／６３８，７１０号明細書に対する優先権を主張し、この全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、水素化処理触媒および重質炭化水素供給原料の処理のための水素化処理方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
原油の精製において、残留物を含む重質留分は触媒による水素化処理を行い、脱硫、脱窒、脱金属もしくはアスファルテン転換またはこれらの任意の組み合わせを通じて、硫黄、窒素、金属（例えば、ニッケルもしくはバナジウム、または両方）およびコンラドソン炭素などの成分を除去することがしばしばある。さまざまな種類の不均一水素化処理触媒を用い、触媒を高温・高圧条件下、水素存在下で供給原料と接触させることにより、このような反応を促進させる。
【０００４】
過去において、重質供給原料の水素化処理を改善するため、幾つかの水素化処理触媒が記述されてきた。これらには例えば、重質炭化水素の水素化処理のための新規の触媒を形成する廃触媒粒子の粉砕および混合について開示するＵ．Ｓ．６，０３０，９１５（ｄｅ  Ｂｏｅｒ）およびＵ．Ｓ．６，１２７，２９９（ｄｅ  Ｂｏｅｒら）が含まれる。
【０００５】
Ｕ．Ｓ．７，８２４，５４１（Ｂｈａｎ）には、留出供給原料の処理において低硫黄留出生成物の製造に特に有用な別の水素化処理触媒が開示されている。この触媒は、三酸化モリブデン、第ＶＩＩＩ族の金属化合物および無機酸化物材料の共混練混合物である。共混練混合物は焼成されている。触媒のモリブデン分は、酸化物として計算して１０．５から３３重量％の範囲内である。第ＶＩＩＩ族の金属成分がニッケルの場合、ニッケルは触媒中に酸化物として計算して３．８から１５．３重量％の範囲内で存在する。また、触媒は５０から１００オングストロームの特定の狭い範囲内の平均細孔径を有する。３５０オングストロームを超える細孔径を有するこのマクロ孔に含まれる総細孔容積は４．５パーセント未満であり、１０００オングストロームを超える細孔径を有するこのマクロ孔に含まれる総細孔容積は１パーセント未満である。
【０００６】
Ｕ．Ｓ．７，８２０，０３６（Ｂｈａｎ）に開示されているのは、重質炭化水素供給原料の水素化処理において有用な触媒であり、ここで触媒は、三酸化モリブデン、ニッケル化合物および無機酸化物材料を含む混合物の成形粒子を焼成することによって作られる焼成混合物を含む。触媒は、粒子状に成形し、焼成混合物を得る目的で焼成される混合物を形成するために、無機酸化物材料、三酸化モリブデンおよびニッケル化合物を混合することによって作られてもよい。方法は、重質炭化水素供給原料の水素化脱硫および水素化転換を行うものであり、この方法には、重質炭化水素供給原料のピッチ分の一部の転換および処理生成物のＰ値に反映している高い安定性を有する処理生成物を得ることが含まれてもよい。触媒は、混合物を形成するために無機酸化物材料、三酸化モリブデンおよびニッケル化合物を共混練するステップと、上記混合物を粒子状に成形するステップと、および上記粒子を焼成して、上記焼成混合物の総細孔容積の少なくとも７０％が、７０Åから１５０Åの範囲内の細孔径を有する上記焼成混合物の細孔内にあるような細孔径分布を有する焼成混合物を提供するステップとを含む方法によって作られる。
【０００７】
Ｕ．Ｓ．７，８７１，５１３（Ｂｈａｎ）に開示されているのは、重質炭化水素供給原料の水素化処理において有用な触媒である。この触媒は、三酸化モリブデン、ニッケル化合物および無機酸化物材料を含む混合物の成形粒子を焼成することによって作られる焼成混合物である。触媒のモリブデン分は、酸化物として計算して最大１８重量％までの範囲内である。触媒のニッケル分は、酸化物として計算して最大５．１重量％までの範囲内である。触媒の調製において用いられるモリブデン源は、細分された状態の三酸化モリブデンの形態である。
【０００８】
上述の触媒は良好な水素化処理活性を有することが示されてきたが、向上した触媒活性もしくは改善された安定性、もしくは両方を有する新たな、または改善された触媒組成物を見出す努力が続けられている。触媒活性の改良はすべて、所与の窒素分、硫黄分、アスファルテン分または金属分の生成物を、これらの成分で汚染された供給原料から得るために必要な反応装置温度が低減する結果になりうる。反応装置温度が低くなると省エネルギーになり、また、触媒の寿命が延びる。また、より経済的な触媒組成物の製造法を見出す努力が続けられている。
【０００９】
減圧塔底油や残油などの重質炭化水素供給原料は通常、より軽質の留出物やナフサ供給原料よりも、水素化処理して硫黄、窒素、金属および炭素などの成分を除去することがさらに難しい。より軽質の炭化水素供給原料を処理するために用いられる触媒とは異なる、特別に設計された触媒は、より重質の炭化水素供給原料をより経済的に処理するために必要とされうる。このように、重質炭化水素供給原料の水素化処理のための良好な特性を有する、新たな、または改善された触媒組成物を見出すことが引き続き必要とされている。
【００１０】
従って、良好な触媒活性および安定性を有し、経済的に製造することが可能な改善された水素化処理触媒を提供することが望ましい。特に望まれていることの１つは、重質炭化水素供給原料、特に硫黄および金属、例えば、ニッケルおよびバナジウムの濃度が例外的に高いような供給原料の水素化処理において特に有用な水素化処理触媒を提供することである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】米国特許第６，０３０，９１５号明細書
【特許文献２】米国特許第６，１２７，２９９号明細書
【特許文献３】米国特許第７，８２４，５４１号明細書
【特許文献４】米国特許第７，８２０，０３６号明細書
【特許文献５】米国特許第７，８７１，５１３号明細書
【発明の概要】
【００１２】
従って、このように提供されるのは重質炭化水素供給原料を処理するための水素化処理触媒である。触媒は、無機酸化物粉末、三酸化モリブデン粉末および第ＶＩＩＩ族の金属粒子を共混練することによって作られる共混練混合物を含み、次いで共混練混合物が粒子に成形され、前記粒子が焼成されて提供される焼成粒子を含む。焼成粒子は、水銀圧入により測定して、少なくとも２０％の総細孔容積が、５，０００Åを超える細孔径を有する細孔内に含まれ、この総細孔容積の７０％未満が、７０Åから２５０Åの範囲内の細孔径を有する細孔内に含まれるような細孔構造を有する。
【００１３】
水素化処理触媒は、無機酸化物粉末、三酸化モリブデン粉末および第ＶＩＩＩ族の金属粒子を共混練することによって作られ、共混練混合物を形成する。共混練混合物は、粒子に成形され、焼成時間中に４８２℃（９００°Ｆ）から７８７．７℃（１４５０°Ｆ）の範囲内の焼成温度に制御される温度条件下で焼成され、これによって水銀圧入により測定して、少なくとも２０％の総細孔容積が、５，０００Åを超える細孔径を有する細孔内に含まれ、この総細孔容積の７０％未満が、７０Åから２５０Åの範囲内の細孔径を有する細孔内に含まれるような細孔構造を有する焼成粒子を提供する。
【００１４】
水素化処理触媒は、重質炭化水素供給原料を処理するための方法、特に、相当な濃度のバナジウムを有するような供給原料を処理するための方法において用いることができる。この方法は、触媒を適した水素化処理条件下で金属および硫黄の汚染濃度を有する重質炭化水素供給原料と接触させて処理生成物を得るステップを含む。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の触媒Ａおよび比較の触媒Ｂについて、得られた生成物のＰ値を触媒上のバナジウム堆積量の関数としてプロットしたものである。
【図２】本発明の触媒Ａおよび比較の触媒Ｂについて、バナジウム除去活性を触媒上のバナジウム堆積量の関数としてプロットしたものである。
【図３】本発明の触媒Ａおよび比較の触媒Ｂについて、正規化した硫黄除去活性を触媒上に堆積したバナジウムの関数としてプロットしたものである。
【図４】本発明の触媒Ａおよび比較の触媒Ｂについて、マイクロカーボン残留物（ＭＣＲ）除去活性を触媒上に堆積したバナジウムの関数としてプロットしたものである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の触媒組成物は、重質炭化水素供給原料の水素化処理において特に有用である。本発明の触媒組成物の有益な性質の１つは、相当な濃度のバナジウムを有する重質炭化水素供給原料の処理に用いられる際の、この触媒組成物のバナジウム除去活性である。本発明の組成物は、他の比較例の組成物よりも高いバナジウム除去活性を示す。
【００１７】
本発明の触媒組成物の別の有益な特性は、重質炭化水素供給原料を水素化処理して、処理生成物のＰ値に反映している高い生成物安定性を有する処理生成物を得ることができる能力であり、さらに、触媒組成物は他にも、バナジウム含有供給原料の処理において使用時から触媒にバナジウムを担持させている場合に、他のバナジウム担持触媒の性能と比べてはるかに優れた生成物安定性（即ちＰ値）がもたらされる。この性質は、処理されつつある重質炭化水素供給原料が、除去する必要のある高いバナジウム分を有する場合に望ましい。
【００１８】
本発明の共混練および焼成された組成物の特有の物理的な特性が、この組成物の優れた触媒性能特性をもたらすと考えられている。特に、本発明の触媒組成物は、少なくとも２０％の総細孔容積が、５，０００Åを超える細孔径を有する細孔内に含まれるような細孔構造を有する焼成粒子を含む。さらに焼成粒子は、７０Åから２５０Åの範囲内の細孔径を有する細孔内に、この総細孔容積の７０％未満を有することができる。焼成粒子の細孔構造は、当業者に周知の標準的な水銀圧入法により測定されるものである。
【００１９】
本発明の触媒の焼成粒子における特有の細孔構造および定義が難しい他の特性は、組成物の焼成粒子が調製される方法を通じて、例えば、共混練、調製中の混練混合物のｐＨ制御および成形粒子の焼成温度の制御によって焼成粒子に与えられると考えられている。本発明の触媒組成物の改善された性能および活性の特質に寄与するのは、これらの特性である。これらの改善された性能特性として、例えば述べた通り、安定性、即ちＰ値が高い、処理された重質炭化水素供給原料を得ることができる能力、および組成物上へのバナジウムの堆積による悪い影響に対する高い耐性がある。
【００２０】
本発明の焼成粒子に必要な特徴の１つは、担持材料に水素添加金属を含浸させるなどの他の方法による代わりに、焼成粒子の個々の担持成分および水素添加金属成分を共混練することによって焼成粒子を調製する点である。出発原料を共混練して、焼成される粒子に成形される共混練混合物を調製する特定の方法は、他の組成物と比べて特有の特性を有する触媒組成物が得られることに寄与すると考えられている。さらに、本発明の組成物が調製される特定の工程条件は、特有の物理特性を有し、比較の共混練組成物よりも改善された触媒性能を示す共混練および焼成された粒子が得られるように制御されると認識されている。
【００２１】
本発明の方法の第１のステップには、触媒の出発原料を組み合わせて混合物を形成するステップが含まれる。出発原料は共混練されて共混練混合物が得られる。共混練混合物の調製において不可欠な出発原料には、乾燥粉末としてでも、または懸濁液もしくはスラリー中の粒子としてでもよい細分された粒子の形態が好ましい三酸化モリブデン、ならびにアルミナ、シリカおよびアルミナ−シリカからなる群から選択される無機酸化物材料などの無機酸化物材料が含まれる。また、第ＶＩＩＩ族の金属粒子は出発原料中に含まれ、共混練混合物を形成する。
【００２２】
第ＶＩＩＩ族の金属粒子は、ニッケル成分を好ましくは酸化ニッケルとして、もしくはコバルト成分を好ましくは酸化コバルトとして、または両方の第ＶＩＩＩ族の金属成分を含む。第ＶＩＩＩ族の金属粒子は、共混練混合物の形成において三酸化モリブデンおよび無機酸化物材料と組み合わせられる。従って、共混練混合物は、無機酸化物粉末、三酸化モリブデン粉末、および好ましくは粒子状の１つまたは複数の第ＶＩＩＩ族の金属成分の出発成分を含むか、実質的にこれらからなるか、またはこれらからなる。
【００２３】
ニッケル成分は、乾燥粉末としてでも、または懸濁液もしくはスラリー中の粒子としてでもよい細分された粒子の形態が好ましい酸化ニッケルから選択されてもよい。コバルト成分は、乾燥粉末として、または懸濁液もしくはスラリー中の粒子としてでもよい細分された粒子の形態が同様に好ましい酸化コバルトから選択されてもよく、またアルミナ、シリカおよびアルミナ−シリカからなる群から選択される無機酸化物材料などの無機酸化物材料でもよい。
【００２４】
共混練混合物中に含まれる三酸化モリブデンの量は、焼成粒子が約２重量パーセント（重量％）以上、約１２重量％以下の範囲内にあるモリブデン分を有するようなものであるべきであり、重量パーセントは実際の形態に関わらずＭｏＯ３としてのモリブデンおよび乾燥ベースの焼成粒子の全重量に基づく。焼成粒子は２．５重量％から１１重量％の範囲内のモリブデン分を有することが好ましく、さらに好ましくは、焼成粒子のモリブデン分は３重量％から１０重量％の範囲内である。
【００２５】
共混練混合物のニッケル分は、焼成粒子が約０．２重量％以上、約６重量％以下の範囲内にあるニッケル分を有するようなものであるべきであり、重量パーセントは実際の形態に関わらずＮｉＯとしてのニッケルおよび乾燥ベースの焼成粒子の全重量に基づく。焼成粒子は０．５重量％から５重量％の範囲内のニッケル分を有することが好ましく、さらに好ましくは、焼成粒子のニッケル分は０．８重量％から４重量％の範囲内である。
【００２６】
コバルトは必ずしも共混練混合物または焼成粒子に必要な成分ではないが、これらの組成物の好ましい成分である可能性がある。本発明の組成物の成分としてコバルトを含む本発明の実施形態において、共混練混合物のコバルト分は、焼成粒子が約０．２重量％以上、約６重量％以下の範囲内にあるコバルト分を有するようなものであることが望ましく、重量パーセントは実際の形態に関わらずＣｏＯとしてのコバルトおよび乾燥ベースの焼成粒子の全重量に基づく。焼成粒子は０．５重量％から５重量％の範囲内のコバルト分を有することが好ましく、さらに好ましくは、焼成粒子のコバルト分は０．８重量％から４重量％の範囲内である。
【００２７】
リンは本発明の触媒に必要な成分ではないが、本発明の触媒組成物がリン化合物をさらに含むことは好ましい実施形態である。水素化転換触媒組成物中のリンの濃度は、約０．０５以上、約６重量パーセント以下、または約０．０５重量パーセントから約５重量パーセントの範囲内であることができ、水素化転換触媒組成物の全重量に基づくＰ２Ｏ５としてのリン。しかし好ましくは、リンの濃度は０．１重量％から約２重量％の範囲内であり、最も好ましくは０．２から１．５重量％である。
【００２８】
共混練混合物に共混練された無機酸化物材料の量は、焼成粒子中に５０から９７重量％の範囲内の量の無機酸化物材料であるようなものであり、重量パーセントは焼成粒子の全重量に基づく。好ましくは、焼成粒子中の無機酸化物材料の量は５５から９６重量％の範囲内であり、最も好ましくは６０から９５重量％である。
【００２９】
成分の共混練および共混練混合物の形成は、バッチタイプまたは連続タイプいずれかのタンブラー、ステーショナリーシェルまたはトラフ、混練ミキサーおよびインパクトミキサーのような適した種類の固体−混合機の使用、ならびに固体および液体を混合するため、または押出可能なペースト状混合物を形成するためのバッチ式もしくは連続ミキサーのいずれかの適した種類のようなものの使用を含む当業者に周知の任意の方法または手段によって行われてもよいが、これらに限定されない。適した種類のバッチミキサーには、任意の適した種類の撹拌翼を備えたチェンジカンミキサー、ステーショナリー・タンクミキサー、ダブルアーム混練ミキサーが含まれるが、これらに限定されない。適した種類の連続ミキサーには、一軸または二軸スクリュー押出機、トラフミキサーおよびスクリューミキサーならびにパグミルが含まれるが、これらに限定されない。
【００３０】
共混練混合物の出発原料の混合は、共混練混合物を適切に均質化するのに必要な任意の適した時間だけ実施されてもよい。一般に、ブレンド時間は最長２時間まで、または３時間を超える範囲内であってもよい。通常、ブレンド時間は０．１時間から３時間の範囲内である。
【００３１】
共混練混合物のｐＨは注意深く制御され、これによって上述の通り必要な細孔構造を有する最終的な焼成粒子となるようにする。出発原料の混合または共混練の間に混練混合物のｐＨを特定の範囲内に維持することは、５０００Åを超える細孔径を有する細孔内に含まれるこの総細孔容積の比較的大きなパーセントを有する焼成粒子が与えられることに寄与しうる。通常、共混練混合物のｐＨは６を超えるべきである。好ましい実施形態において、共混練混合物のｐＨは、共混練のステップおよび共混練混合物の調製の間、６以上９未満の範囲内に保たれる。さらに好ましい実施形態において、共混練混合物のｐＨは６．５から８．５の範囲内に維持され、最も好ましくは６．５から８である。ｐＨは、アンモニウム塩または水酸化アンモニウムを共混練混合物に添加することによって調整されてもよい。
【００３２】
「共混練」という用語は本明細書において大まかに、少なくとも記載の出発原料が一緒に混合されて、このような混合物の個々の成分の好ましくは実質的に均一または均質な混合物の個々の成分の混合物を形成することを意味する。この用語は、既知の押出方法のいずれかによって押出粒子への押し出し、または成形を可能にする特性を示すペーストが得られるように、出発原料の混合を含むのに十分広いものとする。しかし、この用語はまた、出発原料の混合を包含するものとし、これにより、成形（ｍｏｌｄｉｎｇ）、打錠（ｔａｂｌｅｔｉｎｇ）、プレス、ペレタイジング、押出およびタンブリングを含む当業者に周知の方法のいずれか（ただし、これらに限定されない。）によって、好ましくは実質的に均質で、長球（ｓｐｈｅｒｏｉｄ）、丸剤（ｐｉｌｌ）もしくは錠剤（ｔａｂｌｅｔ）、円柱、不規則な押出成形品または単にゆるく結合した凝集体もしくは集合体などの成形粒子の塊にすることが可能な混合物を形成する。
【００３３】
既に述べたように、少なくとも触媒のモリブデン源の大部分は、主に三酸化モリブデンであり、触媒のニッケル源の大部分は、主に酸化ニッケルであり、コバルトが成分として用いられる場合、触媒のコバルト源の大部分は、主に酸化コバルトであることが本発明の方法の重要な態様である。触媒の出発原料の混合または共混練において、三酸化モリブデンは、懸濁液またはスラリー中において細粉化された固体または微粒子のいずれかとして細分された状態であることが好ましい。
【００３４】
触媒の製造において用いられる粒子状三酸化モリブデン（三酸化モリブデン粉末）の粒径は、０．５ｍｍ（５００ミクロン、μｍ）未満の最大寸法、好ましくは０．１５ｍｍ（１５０μｍ）未満の最大寸法を有することが最良であり、より好ましくは０．１ｍｍ（１００μｍ）未満、最も好ましくは０．０７５ｍｍ（７５μｍ）未満である。同様に触媒の出発原料の混合または共混練において、酸化ニッケルは、懸濁液またはスラリー中において細粉化された固体または微粒子のいずれかとして細分された状態であることが好ましい。
【００３５】
触媒の製造において用いられる粒子状酸化ニッケルの粒径は、酸化ニッケルを触媒の他の出発原料と混合または共混練するとき、０．５ｍｍ（５００ミクロン、μｍ）未満の最大寸法、好ましくは０．１５ｍｍ（１５０μｍ）未満の最大寸法を有することが最良であり、より好ましくは０．１ｍｍ（１００μｍ）未満、最も好ましくは０．０７５ｍｍ（７５μｍ）未満である。
【００３６】
触媒の調製において酸化コバルトが用いられるとき、酸化コバルトは、懸濁液またはスラリー中において細粉化された固体または微粒子のいずれかとして細分された状態であることが好ましい。触媒の製造において用いられる粒子状酸化コバルトの粒径は、０．５ｍｍ（５００ミクロン、μｍ）未満の最大寸法、好ましくは０．１５ｍｍ（１５０μｍ）未満の最大寸法を有することが最良であり、より好ましくは０．１ｍｍ（１００μｍ）未満、最も好ましくは０．０７５ｍｍ（７５μｍ）未満である。
【００３７】
確実なこととして知られているわけではないが、本発明の触媒の製造において用いられる三酸化モリブデンは、実質的に可能な限り小さい粒子の形態であることが本発明に有利であると考えられている。従って、このように、触媒の製造において用いられる三酸化モリブデン粒子のサイズに下限を設けるのは望ましくない。しかし、触媒の製造において用いられる三酸化モリブデンの粒径は一般に、サイズに０．２ミクロンを上回る下限を有することになるものと理解される。従って、本発明の触媒の製造における混合物の形成において用いられる三酸化モリブデンの粒径は、好ましくは０．２から１５０μｍの範囲内であり、より好ましくは０．３から１００μｍ、最も好ましくは０．５から７５μｍである。通常、三酸化モリブデンの粒径分布は、乾燥粉末か懸濁液か、またはこれ以外かに関わらず、少なくとも５０パーセントの粒子が２から１５μｍの範囲内の最大寸法を有するようになる。
【００３８】
本発明の組成物の不可欠な態様は、組成物が適正な細孔構造を有することである。これは、焼成粒子の総細孔容積の相当な部分またはパーセンテージが、５，０００Åを超える細孔径を有するマクロ孔内に含まれるべきであり、また、触媒の総細孔容積の最も多くの部分またはパーセンテージが、７０Åから２５０Åの範囲内の細孔径を有するメソ孔内に含まれるべきであることを意味する。
【００３９】
焼成粒子の細孔構造は、含浸など一部の他の方法の利用とは対照的に、共混練の方法の利用を含む焼成粒子の調製方法によって制御または操作される。また、制御された焼成条件を利用して、必要な細孔構造を備えた焼成粒子が得られる。加えて、混練混合物のｐＨは、望ましい細孔構造を備えた焼成粒子が得られるようにさらに制御することができる。
【００４０】
焼成粒子は、少なくとも２０％の総細孔容積が、この焼成粒子の５，０００Åを超える直径を有する細孔内に含まれるような細孔構造を有することが好ましい。焼成粒子の総細孔容積の少なくとも２２％は、５，０００Åを超える直径を有する細孔内に含まれることがさらに好ましく、最も好ましくは、焼成粒子の総細孔容積の少なくとも２３％は、５，０００Åを超える直径の細孔内に含まれる。
【００４１】
焼成粒子のメソ孔内に含まれる細孔容積に関しては、焼成粒子の総細孔容積の７０％未満は、７０Åから２５０Åの範囲内の直径を有する細孔内に含まれることが好ましい。メソ孔の細孔容積は、焼成粒子の総細孔容積の６８％未満であることがさらに好ましい。しかし、焼成粒子の総細孔容積の６５％未満は、７０Åから２５０Åの範囲内の直径を有する細孔内に含まれることが最も好ましい。
【００４２】
また、焼成粒子の総表面積も本発明の触媒組成物の重要な物理的特質となりうる。焼成粒子は、１５０ｍ２／ｇを超える表面積を有するべきであるが、好ましくは表面積は２００ｍ２／ｇを超えることができ、より好ましくは２２５ｍ２／ｇを超えることができ、最も好ましくは２５０ｍ２／ｇを超えることができる。
【００４３】
焼成粒子の前述の細孔構造は、高硫黄濃度および高金属濃度を有する重質炭化水素供給原料、特に、高濃度のバナジウムを伴う重質炭化水素供給原料の水素化処理が関係する応用において用いられるとき、焼成粒子の特に良好な触媒性能特性に著しく寄与するものと考えられる。
【００４４】
出発原料は、適切に混合されて形状化粒子または成形粒子に成形された後、混合物または成形粒子内に含まれるある量の水または揮発性物質を除去するために、乾燥のステップが有利に利用されてもよい。過剰な水または揮発性物質を除去するために、成形粒子の乾燥を任意の適した温度で実施してもよいが、好ましくは、乾燥温度は約７５℃から２５０℃の範囲内となる。粒子を乾燥させるための時間は、焼成のステップの前に、粒子の揮発性物質分を望ましい量だけ低減させるのに必要な任意の適した時間である。
【００４５】
乾燥または未乾燥粒子は、空気などの酸素含有流体の存在下で、所望の焼成の程度を達成するのに適した温度で焼成される。一般に焼成温度は、４８２℃（９００°Ｆ）から７８７．７℃（１４５０°Ｆ）の範囲内である。粒子が焼成される温度条件は、最終的な焼成混合物の細孔構造の制御にとって重要になる可能性がある。成形粒子中に三酸化モリブデンが存在しているため、必要な細孔構造を有する焼成混合物となるのに必要な焼成温度は、無機酸化物材料、特に三酸化モリブデンを含まない無機酸化物材料を含む他の組成物を焼成するのに必要な典型的な温度よりも高い。しかし、どのような場合でも、成形粒子が焼成されて最終的に焼成された粒子が得られる温度は、本明細書に詳細に記載されている細孔構造特性を有する最終的に焼成された粒子が得られるように制御される。好ましい焼成温度は５１０℃（９５０°Ｆ）から７３０℃（１３４６°Ｆ）の範囲内であり、最も好ましくは５４０℃（１００４°Ｆ）から７０５℃（１３０１°Ｆ）である。
【００４６】
焼成粒子は、高レベルのピッチ、有機金属、例えば、ニッケル化合物およびバナジウム化合物ならびに硫黄を有する重質供給原料の流れの水素化処理において使用するための高安定性の水素化処理触媒として特に有用である。焼成粒子は、バナジウムの堆積の影響に対して耐性が高いため、特に高濃度のバナジウムを有する重質炭化水素供給原料の処理において特に有用である。
【００４７】
焼成粒子は、必要ではないが、当業者に周知の何らかの方法によって使用前に硫化または活性化させてもよい。一般に焼成粒子は、炭化水素供給原料の水素化処理において使用される際、反応装置容器によって画定されるような反応区域内に含まれ、ここで炭化水素供給原料は、処理された炭化水素生成物を得るのに適した水素化処理反応条件下、焼成粒子と接触させる。
【００４８】
本発明の方法の好ましい炭化水素供給原料は、重質炭化水素供給原料である。重質炭化水素供給原料は、常圧塔軽油、常圧塔底油、減圧塔軽油および減圧塔底油または残油など、沸騰温度が高い石油留分のいずれかから誘導されてもよい。ＡＳＴＭ  Ｄ−１１６０に記載の試験手順を用いることにより求められる３００℃（５７２°Ｆ）を超える５％留出点、即ちＴ（５）の沸騰温度を有すると一般に定義される重質炭化水素供給原料を水素化処理することが、本発明の方法の特に有用な態様である。さらに本発明は、３１５℃（５９９°Ｆ）を超えるＴ（５）、さらには３４０℃（６４４°Ｆ）を超えるＴ（５）を有する重質炭化水素供給原料の水素化処理を特に対象とする。
【００４９】
重質炭化水素供給原料は、５３８℃（１０００°Ｆ）を上回る沸騰温度を有する重質炭化水素をさらに含んでもよい。これらのより重質の炭化水素は本明細書においてピッチと呼び、既に述べたように、本発明の触媒または方法の特別な特徴の１つは、重質炭化水素供給原料のピッチ分の水素化転換において本発明の触媒または方法が特に効果的であるということが認められる。重質炭化水素供給原料は、わずか１０体積パーセントのピッチまたは９０体積パーセントものピッチを含んでもよいが、一般に、重質炭化水素供給原料中に含まれるピッチの量は２０から８０体積パーセントの範囲内である。また、さらに一般的には、重質炭化水素供給原料中のピッチ分は３０から７５体積パーセントの範囲内である。
【００５０】
重質炭化水素供給原料はさらに、大幅に高い硫黄分を含んでもよい。本発明の特別な特徴の１つは、重質炭化水素供給原料の脱硫、およびピッチ炭化水素よりも低い沸騰温度を有する、より軽質の炭化水素へのピッチの転換の両方が行われることである。重質炭化水素供給原料の硫黄分は主として、含硫黄有機化合物の形態であり、これには例えば、メルカプタン、置換もしくは非置換チオフェン、複素環式化合物または他のどのような種類の含硫黄化合物を含んでもよい。
【００５１】
本発明の特徴は、１重量パーセントを超える硫黄分など、大幅に高い硫黄分を有する重質供給原料の脱硫が行われることであり、これによって、１重量パーセント未満の硫黄分など、低減した硫黄分を有する処理された炭化水素生成物が得られる。本明細書において、重質炭化水素供給原料または処理された炭化水素生成物のいずれかの硫黄分を参照するとき、重量パーセントは試験法ＡＳＴＭ  Ｄ−４２９４を用いることにより求められる。本発明の方法は、２重量パーセントを超える硫黄分を有する重質炭化水素供給原料の処理において特に有用であり、このような重質炭化水素供給原料では、硫黄分は２から８重量パーセントの範囲内でもよい。
【００５２】
本発明の触媒および方法は、３重量パーセントまたは４重量パーセントさえも超え、３から７重量パーセントの範囲内または４から６．５重量パーセントの範囲内でさえある特に高い硫黄分を有する重質炭化水素供給原料の処理において特に有用である。
【００５３】
本発明の方法では、重質炭化水素供給原料の水素化処理において本発明の触媒を利用し、脱硫と、マイクロカーボン残留物の転換と、バナジウムおよびニッケルの除去が同時に行われる。この方法において重質炭化水素供給原料を、適した水素化脱硫および水素化転換工程条件下、本発明の触媒と接触させ、処理された炭化水素生成物が得られる。処理された炭化水素生成物は、１重量パーセント未満の硫黄分など、重質炭化水素供給原料の硫黄分を下回る低減した硫黄分を有するべきである。しかし、本発明の方法は、供給量に対して用いられる触媒の量に基づいて０．５重量パーセント未満、さらには０．４重量パーセント未満の低減した硫黄分を有する処理された炭化水素生成物を提供するために、重質炭化水素供給原料を効果的に脱硫する能力を有してもよいということが認められる。
【００５４】
また、本発明の触媒組成物は、重質炭化水素供給原料の水素化転換も行って、特に高いＰ値を有する生成物を得る。Ｐ値（解膠値（ｐｅｐｔｉｚａｔｉｏｎ  ｖａｌｕｅ））は、炭化水素混合物中に含まれるアスファルテンの凝集傾向の指標である数値である。Ｐ値の測定は、Ｊ．Ｊ．Ｈｅｉｔｈａｕｓによる「Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ａｎｄ  Ｓｉｇｎｉｆｉｃａｎｃｅ  ｏｆ  Ａｓｐｈａｌｔｅｎｅ  Ｐｅｐｔｉｚａｔｉｏｎ」、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ  ｏｆ  Ｐｅｔｒｏｌｅｕｍ、第４８巻、第４５８号、１９６２年２月、ｐ．４５−５３（この刊行物は、参照により本明細書に組み込まれる。）において記載された方法である。
【００５５】
炭化水素混合物において高いＰ値は、この混合物が安定であることを示し、炭化水素混合物において低いＰ値は、炭化水素混合物中に含まれるアスファルテンがより沈殿しやすいという傾向があるので、この混合物が安定でないことを示す。比較的高いＰ値を有する重質炭化水素供給原料の水素化処理から生成物が得られるということは、本発明の触媒組成物の利点の１つである。
【００５６】
本発明の焼成粒子（触媒）は、水素の存在ならびに高い全圧および温度を含んでもよい適した水素化処理条件下で、触媒を重質炭化水素供給原料と接触させる任意の適した反応装置システムの一部として用いられてもよい。このような適した反応システムには、固定触媒床システム、沸騰触媒床システム、スラリー触媒システムおよび流動触媒床システムを含むことができる。好ましい反応装置システムは、重質炭化水素供給原料を反応装置容器内に導入するための供給ノズルなどの反応装置供給入口手段および反応装置排出物または処理された炭化水素生成物を反応装置容器から取り出すための排出出口ノズルなどの反応装置排出出口手段を備えた反応装置容器内に含まれる本発明の触媒の固定床を含むものである。
【００５７】
本発明の方法は一般に、２２９８ｋＰａ（３００ｐｓｉｇ）から２０，６８４ｋＰａ（３０００ｐｓｉｇ）、好ましくは１０，３４２ｋＰａ（１５００ｐｓｉｇ）から１７，２３７ｋＰａ（２５００ｐｓｉｇ）、より好ましくは１２，４１１ｋＰａ（１８００ｐｓｉｇ）から１５，５１３ｋＰａ（２２５０ｐｓｉｇ）の範囲内の水素化処理（水素化転換および水素化脱硫）反応圧力で運転する。
【００５８】
水素化処理反応温度は一般に、３４０℃（６４４°Ｆ）から４８０℃（８９６°Ｆ）の範囲内であり、好ましくは３６０℃（６８０°Ｆ）から４５５℃（８５１°Ｆ）、最も好ましくは３８０℃（７１６°Ｆ）から４２５℃（７９７°Ｆ）である。
【００５９】
重質炭化水素供給原料が本発明の方法の反応区域に投入される流量は一般に、０．０１時間−１から５時間−１の範囲内の液空間速度（ＬＨＳＶ）を与えるようなものである。本明細書において用いられる「液空間速度」という用語は、重質炭化水素供給原料が本発明の方法の反応区域に投入される時間あたり体積での速度を、重質炭化水素供給原料が投入される反応区域内に含まれる触媒の体積で割った数値比を意味する。好ましいＬＨＳＶは、０，０５時間−１から４時間−１の範囲内であり、より好ましくは０．１時間−１から３時間−１、最も好ましくは０．２時間−１から３時間−１である。
【００６０】
水素は、重質炭化水素供給原料と共に本発明の方法の反応区域に投入するのが好ましい。この場合、水素は水素処理ガスと呼ばれることがある。水素処理ガスの比率は、反応区域に投入される重質炭化水素供給原料の量に対する水素の量であり、一般に最大１７８１ｍ３／ｍ３（１０，０００ＳＣＦ／ｂｂｌ）までの範囲内である。水素処理ガスの比率は、８９ｍ３／ｍ３（５００ＳＣＦ／ｂｂｌ）から１７８１ｍ３／ｍ３（１０，０００ＳＣＦ／ｂｂｌ）の範囲内であることが好ましく、より好ましくは１７８ｍ３／ｍ３（１，０００ＳＣＦ／ｂｂｌ）から１６０２ｍ３／ｍ３（９，０００ＳＣＦ／ｂｂｌ）、最も好ましくは３５６ｍ３／ｍ３（２，０００ＳＣＦ／ｂｂｌ）から１４２５ｍ３／ｍ３（８，０００ＳＣＦ／ｂｂｌ）である。
【００６１】
以下の実施例は、本発明をさらに例示するために提示されるが、これらは本発明の範囲を制限するものと解釈されるべきではない。
【実施例】
【００６２】
［実施例１］
この実施例１では、触媒Ａおよび触媒Ｂの調製を説明する。
【００６３】
触媒Ａ（本発明の触媒）
触媒Ａは、まず重量で２１００部のアルミナ、重量で６４４．１８部の脱イオン水に加熱して溶解させた重量で１３９．２部の硝酸ニッケル（Ｎｉ（ＮＯ３）２）６Ｈ２Ｏおよび重量で９００部の粉砕した再生Ｃｏ／Ｍｏ／Ｐ水素化処理触媒を混練ミキサー内で重量で６４．５部の６９．９％濃硝酸と共に組み合わせることによって調製した。混合中に重量で合計３２２２．９部の水をこれらの成分に加えた。これらの成分を約３０分間混合した。６０部の市販の押出助剤および１３３．６部の水酸化アンモニウム（２９．２％アンモニア）を混練混合物に加え、混練混合物をさらに５分間混合した。混合物は７．０のｐＨおよび６１．６重量パーセントのＬＯＩを有していた。次いで、混合物を１．３ｍｍのダイを用いて押し出し、１．３の押出粒子に成形した。次いで、押出粒子を１２５℃の温度で空気中で数時間の間乾燥した。
【００６４】
乾燥した押出粒子のアリコート部分を空気中でそれぞれ２時間、７０４℃（１３０°Ｆ）の温度で焼成した。最終的な焼成混合物は、１重量パーセントのニッケル金属（ＮｉＯとして１．２重量％）、１．２重量パーセントのコバルト金属（ＣｏＯとして１．４重量％）および４．１％のモリブデン金属（ＭｏＯ３として６．１重量％）ならびに８８．１重量パーセントのアルミナおよび０．７％の五酸化リンを含んでいた。
【００６５】
以下の表１は、焼成触媒のある特定の特性を示している。表１に示した細孔の特性から分かるように、５，０００オングストローム（Å）を超える細孔径を有するマクロ孔内に含まれる総細孔容積のパーセントは、２０％パーセントを超え、７０から２５０Åの細孔径は最大でも７０％である。
【００６６】
触媒Ｂ（比較の触媒）
アルミナ粉末７０％および粉砕した市販の触媒の微粉３０％を含む混合物を調製した。混合物を１％硝酸水溶液中で３５分間混練し、１．３の三葉シリンダ内に押し出し、１００℃（２１２°Ｆ）で３時間乾燥し、６７７℃で２時間焼成した。触媒Ｂと表している得られた触媒の分析により、表１に示した特性を有することが分かった。
【００６７】
【表１】
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５，０００オングストロームを超える細孔径を有する細孔内に含まれる触媒Ａの総細孔容積のパーセントは、２０％を相当な量上回ることを述べておく。触媒Ａの細孔構造は、この総細孔容積の少なくとも２２％が、５，０００Åを超える直径を有する細孔内に含まれ、２３％をも超える触媒Ａの総細孔容積が、５０００Åを超える直径を有する細孔内に含まれるようなものである。一方、５０００Åを超える直径を有する細孔内に含まれる触媒Ｂの総細孔容積のパーセントは２０％を大幅に下回る。７０％を大幅に下回る触媒Ａの総細孔容積が、７０から２５０Åの範囲内の直径の細孔内に含まれることをさらに述べておく。
【００６８】
触媒Ａの調製において、共混練混合物は６から９の範囲内のｐＨを有していたが、一方で、触媒Ｂの調製において用いられた共混練混合物のｐＨはこの範囲外であり、ｐＨ６を大幅に下回った。加えて、比較の触媒Ｂの材料にはコバルト成分がなかった。触媒Ｂは、１５０ｍ２／ｇを超える表面を有する触媒Ａと比べて、１５０ｍ２／ｇ未満の非常に小さい表面積を有することをさらに述べておく。触媒Ａの表面積は、２００ｍ２／ｇおよび２２５ｍ２／ｇでさえも超え、さらに２５０ｍ２／ｇさえも超える。
【００６９】
［実施例２］
この実施例２では、実施例１において説明した触媒の試験に用いられる方法の１つを説明する。
【００７０】
この方法は、特定の硫黄濃度および低減された金属分を有する生成物を得るために、相当程度の硫黄、ピッチ（１０００°Ｆを超える沸点の材料）および金属（バナジウムおよびニッケル）の濃度を有する供給原料を処理するものである。反応装置温度は、数種類の温度、７００°Ｆ、７２５°Ｆ、７４２°Ｆおよび７５２°Ｆで運転した。
【００７１】
触媒Ａを内径１．５８７５ｃｍ（５／８インチ）×１２７ｃｍ（５０インチ）のステンレス鋼チューブ反応装置に入れた。チューブ反応装置には、触媒床内に同軸で挿入された０．６３５ｃｍ（１／４インチ）のサーモウェル内に配置された熱電対が備えられ、反応装置チューブは、長さ１３２ｃｍ（５２インチ）の５つの区域（各区域が熱電対からの信号に基づいて別々に制御されている。）の炉内に保持された。
【００７２】
触媒床は、反応装置温度を１００°Ｆ／時間の速度で４００°Ｆまで徐々に上昇させながら、周囲圧力で５体積％のＨ２Ｓおよび９５体積％のＨ２のガス混合物を１．５ＬＨＳＶの速度で反応装置に供給することによって活性化した。触媒床を４００°Ｆの温度で２時間保ち、次いで温度を１００°Ｆ／時間の速度で６００°Ｆの温度まで徐々に上昇させ、ここで１時間保持し、続いて再び７５°Ｆ／時間の速度で７００°Ｆの温度まで温度を徐々に上昇させ、ここで２時間保持し、この後、触媒床の温度を周囲温度まで冷却した。次いで触媒床を純粋な水素を用いて１０００ｐｓｉｇで加圧し、触媒床の温度を１００°Ｆ／時間の速度で４００°Ｆまで徐々に上昇させた。次に、反応装置の温度を４００°Ｆで１時間保持しながら、反応装置に供給原料を投入した。次いで触媒床温度を５０°Ｆ／時間の速度で７００°Ｆまで徐々に上昇させ、この時点から運転を開始した。
【００７３】
反応装置に投入した供給原料は中東の常圧蒸留残油であった。ＡＳＴＭ法Ｄ７１６９により求めた供給原料の蒸留特性を表２に示した。表３は供給原料のある特定の他の特性を示している。
【００７４】
【表２】
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【００７５】
【表３】
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供給原料を水素ガスと共に反応装置に投入した。反応装置を１９００ｐｓｉｇの圧力に保ち、供給原料を液空間速度（ＬＨＳＶ）が１時間−１になる速度で反応装置に投入し、水素を４，０００ＳＣＦ／ｂｂｌの速度で投入した。反応装置の初期温度は３７１℃（７００°Ｆ）に設定した。
【００７６】
この方法は、相当な硫黄分、金属分およびピッチ分を有する供給原料を処理するものであり、低減したレベルの硫黄、ピッチおよび金属を有する生成物を得て、生成物の液体は安定していた。反応装置温度は、液体生成物の安定性を確認するために変化させた。
【００７７】
本発明のある特定の特徴および利益を説明するために図１を示す。図１は、本発明の触媒Ａおよび比較の触媒Ｂについて、得られた生成物のＰ値を触媒上のバナジウム堆積量の関数として例示的にプロットしたものである。図１に示されているデータから分かるように、本発明の触媒Ａは、Ｐ値に反映している安定性を有する生成物を得るものであり、この安定性は、比較の触媒Ｂを用いることにより得られる生成物の安定性よりも著しく高い。また、両方の触媒を用いて得られた生成物のＰ値は、触媒上に堆積させたバナジウム量の増加に伴って減少するものの、あらゆるレベルのバナジウム堆積量において、本発明の触媒Ａは引き続き、比較の触媒Ｂよりも生成物の安定性がはるかに高い。
【００７８】
図２は、本発明の触媒Ａおよび比較の触媒Ｂについて、触媒上のバナジウム堆積量の関数としてバナジウム除去活性を示すプロットを表したものである。図２から見て分かる通り、本発明の触媒Ａと比較の触媒Ｂとの間のバナジウム除去活性の差は、各触媒上のバナジウムの堆積量が増加するにつれて大きくなる。言い換えれば、一次関数の性質を持つ比較の触媒Ｂの傾き（バナジウム除去活性の変化量を触媒上のバナジウム堆積パーセントの変化量で割ったものと定義される。）は、本発明の触媒Ａのこのような傾きよりも大きい。従って先行技術の触媒は、触媒上に堆積したバナジウムの量が増加するにつれて、本発明の触媒よりも高い率でバナジウム除去活性が失われる。
【００７９】
図３は、本発明の触媒Ａおよび比較の触媒Ｂについて、規格化した硫黄除去活性を触媒上に堆積したバナジウムの関数として例示的にプロットしたものである。図３から見て分かる通り、所与のあらゆるレベルの触媒上のバナジウム堆積量において、本発明の触媒Ａの規格化した硫黄除去活性は、比較の触媒Ｂの硫黄除去活性に近いか、または比較の触媒Ｂの硫黄除去活性よりもわずかに優れている。
【００８０】
図４は、本発明の触媒Ａおよび比較の触媒Ｂについて、マイクロカーボン残留物（ＭＣＲ）除去活性を触媒上に堆積したバナジウムの関数として例示的にプロットしたものである。触媒上に堆積した所与の量のバナジウムに対して、本発明の触媒ＡのＭＣＲ除去活性は、比較の触媒ＢのＭＣＲ除去活性を少しずつ上回っている。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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