(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定角度間隔で内方へ向けて突出する複数の突出磁極(2)を有する輪状ステータ(1)と、前記輪状ステータ(1)の両面に一体又は別体で設けられた輪状絶縁カバー(3)と、前記各突出磁極(2)に前記輪状絶縁カバー(3)を介して巻回されたステータ巻線(4)と、前記輪状絶縁カバー(3)の一部に形成され外方へ突出すると共に前記ステータ巻線(4)の端線(4a)をからげるための複数の端子ピン(5)を有する端子ピン保持部(6)と、前記端子ピン保持部(6)に形成され、たるみピン(9)を挿入するためのたるみピン挿入穴(7)と、を備え、
前記たるみピン(9)が前記たるみピン挿入穴(7)に挿入された状態で前記端線(4a)が前記端子ピン(5)にからげられた後に前記たるみピンが除去されることにより、前記端線(4a)にたるみ(4aA)が形成されるようにしたレゾルバステータ構造において、
前記端子ピン(5)と前記たるみピン挿入穴(7)との間に設けられた突起部(20)の先端面(20a)に前記端線(4a)が接触し、前記端子ピン(5)の端線(4a)にワニス(10)を塗布した際の前記ワニス(10)が前記端線(4a)を伝って前記たるみピン挿入穴(7)に入ることを防止する構成としたことを特徴とするレゾルバステータ構造。
【請求項２】
前記突起部(20)は、長手直線状に形成されていることを特徴とする請求項１記載のレゾルバステータ構造。
【請求項３】
前記突起部(20)は、複数の突部(20A)から構成されていることを特徴とする請求項１記載のレゾルバステータ構造。
【請求項４】
前記突起部(20)の前記先端面(20a)は、断面でみて、半円状、弧状、曲線状のうちの何れかの形状で構成されていることを特徴とする請求項１ないし３の何れかに記載のレゾルバステータ構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レゾルバステータ構造に関し、特に、端子ピンに塗布するワニスがステータ巻線の端線を経て、たるみピン挿入穴内に入り反対側に垂れることを防止するための新規な改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、用いられていたこの種のレゾルバステータ構造としては、例えば、特許文献１に開示された構成を挙げることができるが、その構造を図４及び図５に示すことができる。
すなわち、図４において符号１で示されるものは輪状ステータであり、この輪状ステータ１の内側には、所定角度間隔で内方へ向けて突出する複数の突出磁極２が形成されている。
【０００３】
前記輪状ステータ１の両面には、一体又は別体にて形成され前記突出磁極２も同時に覆うように形成された輪状絶縁カバー３が設けられ、前記各突出磁極２の外周には、前記輪状絶縁カバー３を介してステータ巻線４が巻回されている。
前記輪状絶縁カバー３の一部には、外方に向けて突出すると共に複数の端子ピン５を有する端子ピン保持部６が一体に形成されている。
【０００４】
前記端子ピン保持部６の前記端子ピンと前記突出磁極２との間には、複数のたるみピン挿入穴７が形成され、前記各たるみピン挿入穴７の周辺には、前記端子ピン保持部６の表面６ａから所定の高さだけ肉厚が厚く形成された肉厚部８が形成されている。
【０００５】
前記各突出磁極２の外周に巻回された前記ステータ巻線４の端線４ａは、前記たるみピン挿入穴７内に挿入されたたるみピン９の外周に接して曲折された後に前記各端子ピン５の外周にからげられて巻回されている。
その後、各たるみピン挿入穴７内の各たるみピン９を除去すると、前記各端線４ａにたるみ４ａＡが形成される。次に、各端子ピン５の外周に端線４ａを端子ピン５に固定するために塗布されたワニス１０の一部は、端線４ａを伝わってたるみピン挿入穴７内に流れると共に、前記表面６ａ上にも溜るが、肉厚部８が形成されているため、これを超えて前記たるみピン挿入穴７内に流れ込むことのないように構成されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−３１２０８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来のレゾルバステータ構造は、以上のように構成されていたため、次のような課題が存在していた。
すなわち、前述の図４及び図５の構成の場合、図５の断面図で示されるように、前記端子ピン５の外周６ａに塗布されたワニス１０のうち、下方に流れたワニス１０は前記表面６ａに溜まるが、一部のワニス１０は端線４ａの下方へ傾斜して張設されたたるみ４ａＡの下面に水滴のような状態で流れ、前記たるみピン挿入穴７内へ流れ込み、輪状ステータ１の図４で示す裏面側にワニスが垂れることになり、外見の低下と、輪状ステータ１の相手方への取付け時の障害となることもあった。
【０００８】
本発明は、以上のような課題を解決するためになされたもので、特に、端子ピンに塗布するワニスが端線を経て、たるみピン挿入穴内に入ることを防止するようにしたレゾルバステータ構造を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明によるレゾルバステータ構造は、所定角度間隔で内方へ向けて突出する複数の突出磁極を有する輪状ステータと、前記輪状ステータの両面に一体又は別体で設けられた輪状絶縁カバーと、前記各突出磁極に前記輪状絶縁カバーを介して巻回されたステータ巻線と、前記輪状絶縁カバーの一部に形成され外方へ突出すると共に前記ステータ巻線の端線をからげるための複数の端子ピンを有する端子ピン保持部と、前記端子ピン保持部に形成され、たるみピンを挿入するためのたるみピン挿入穴と、を備え、前記たるみピンが前記たるみピン挿入穴に挿入された状態で前記端線が前記端子ピンにからげられた後に前記たるみピンが除去されることにより、前記端線にたるみが形成されるようにしたレゾルバステータ構造において、前記端子ピンと前記たるみピン挿入穴との間に設けられた突起部の先端面に前記端線が接触し、前記端子ピンの端線にワニスを塗布した際の前記ワニスが前記端線を伝って前記たるみピン挿入穴に入ることを防止する構成であり、また、前記突起部は、長手直線状に形成されている構成であり、また、前記突起部は、複数の突部から構成されている構成であり、また、前記突起部の前記先端面は、断面でみて、半円状、弧状、曲線状のうちの何れかの形状からなる構成である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によるレゾルバステータ構造は、以上のように構成されているため、次のような効果を得ることができる。
すなわち、所定角度間隔で内方へ向けて突出する複数の突出磁極を有する輪状ステータと、前記輪状ステータの両面に一体又は別体で設けられた輪状絶縁カバーと、前記各突出磁極に前記輪状絶縁カバーを介して巻回されたステータ巻線と、前記輪状絶縁カバーの一部に形成され外方へ突出すると共に前記ステータ巻線の端線をからげるための複数の端子ピンを有する端子ピン保持部と、前記端子ピン保持部に形成され、たるみピンを挿入するためのたるみピン挿入穴と、を備え、前記たるみピンが前記たるみピン挿入穴に挿入された状態で前記端線が前記端子ピンにからげられた後に前記たるみピンが除去されることにより、前記端線にたるみが形成されるようにしたレゾルバステータ構造において、前記端子ピンと前記たるみピン挿入穴との間に設けられた突起部の先端面に前記端線が接触し、前記端子ピンの端線にワニスを塗布した際の前記ワニスが前記端線を伝って前記たるみピン挿入穴に入ることを防止する構成としたことにより、端線を流下してくる一部のワニスは、端線と突起部の接触部位で流れが止められ、端子ピンの表面上に落下し、たるみピン挿入穴へのワニスの浸入を防止できる。
また、前記突起部は、長手直線状に形成されていることにより、全ての端線に接触させることができる。
また、前記突起部は、複数の突部から構成されていることにより、各突部間をワニスが流れ、ワニスが溜まる量を増やすことができる。
また、前記突起部の前記先端面は、断面でみて、半円状、弧状、曲線状のうちの何れかの形状で構成されていることにより、端線が突起部の先端面に接触した場合における端線の損傷や断線等を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明によるレゾルバステータ構造を示す平面図である。
【図２】図１の他の形態を示す平面図である。
【図３】図２の要部の拡大断面図である。
【図４】従来のレゾルバステータ構造を示す平面図である。
【図５】図４の要部を示す拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明によるレゾルバステータ構造は、端子ピンに塗布するワニスがステータ巻線の端線を経て、たるみピン挿入穴内に入ることを防止することである。
【実施例】
【００１３】
以下、図面と共に本発明によるレゾルバステータ構造の好適な実施の形態について説明する。
尚、従来例と同一又は同等部分には、同一符号を付して説明する。
図１において、符号１で示されるものは、輪状ステータであり、この輪状ステータ１の内側には、所定角度間隔で内方へ向けて突出する複数の突出磁極２が形成されている。
【００１４】
前記輪状ステータ１の両面には、一体又は別体にて形成され前記突出磁極２も同時に覆うように形成された輪状絶縁カバー３が設けられ、前記各突出磁極２の外周には、前記輪状絶縁カバー３を介してステータ巻線４が巻回されている。
前記輪状絶縁カバー３の一部には、外方に向けて突出すると共に複数の端子ピン５を有する端子ピン保持部６が一体に形成されている。
【００１５】
前記端子ピン保持部６の前記端子ピン５と前記突出磁極２との間には、複数のたるみピン挿入穴７が形成され、前記各たるみピン挿入穴7と前記端子ピン５との間には、長手板形状の突起部２０が前記端子ピン保持部６と一体又は別体にて設けられている。
尚、図１における肉厚部８については、従来例の構成であるため、ここではその説明は省略する。
【００１６】
前記突起部２０の長手方向Ａは、前記各端子ピン５の配列方向Ｂ及び前記各たるみピン９の配列方向Ｃに対して平行な関係に設定されており、前記突起部２０の長手方向Ａに沿う両端部２０ｂ，２０ｃは、前記端子ピン保持部６の周縁に立設して形成されている壁６ｂに当接又は一体に接続されている。
前記突起部２０の上部である先端面２０ａは、図３の先端面２０ａと同様に、断面でみて半円状、弧状、曲線状のうちの何れかの形状で形成されている。
【００１７】
前記各突出磁極２の外周に巻回された前記ステータ巻線４の端線４ａは、前記たるみピン挿入穴７内に挿入されたたるみピン９の外周に接して曲折された後に前記各端子ピン５の外周にからげられて巻回されている。
その後、各たるみピン挿入穴７内の各たるみピン９を除去すると、前記各端線４ａにたるみ４ａＡが形成され、各端子ピン５の外周には、この端線４ａを固定するためのワニス１０が図３のように塗布されている。
【００１８】
前記各端子ピン５の外周にからげられた前記端線４ａを保護ならびに端子ピン５に固定するための前記ワニス１０は、端子ピン５の外周の塗布された後に、前記端子ピン保持部６の表面６ａに流れ落ちると共に、その一部のワニス１０は端子ピン５と突出磁極２間に傾斜して張設された端線４ａに沿って流れるが、図３のように、突起部２０と端線４ａとが接触する接触部位２１で前記ワニス１０の流れが止められて前記突起部２０を伝って前記表面６ａ上に流下し、前記たるみピン挿入穴７内への流入を防止することができる。
【００１９】
前記突起部２０は、図１のように一枚の長手直線状に構成されているが、図１のより長手板状の構成に限ることなく、図２に示されるように、前記長手方向Ａに沿って複数の突部２０Ａを所定の間隔で、前記表面６ａ上にこれと一体又は別体にて形成した場合も、各端線４ａが各突部２０Ａの先端面２０ａに接触し、前述の突起部２０と同様の作用効果を得ることができる。尚、図２における前記肉厚部８は前述の図１及び図４、図５の構成と同一であるため、同一符号を付し、その説明は省略する。
【００２０】
前述の本発明によるレゾルバステータ構造の要旨とするところは、以下の通りである。
すなわち、所定角度間隔で内方へ向けて突出する複数の突出磁極２を有する輪状ステータ１と、前記輪状ステータ１の両面に一体又は別体で設けられた輪状絶縁カバー３と、前記各突出磁極２に前記輪状絶縁カバー３を介して巻回されたステータ巻線４と、前記輪状絶縁カバー３の一部に形成され外方へ突出すると共に前記ステータ巻線４の端線４ａをからげるための複数の端子ピン５を有する端子ピン保持部６と、前記端子ピン保持部６に形成され、たるみピン９を挿入するためのたるみピン挿入穴７と、を備え、前記たるみピン９が前記たるみピン挿入穴７に挿入された状態で前記端線４ａが前記端子ピン５にからげられた後に前記たるみピンが除去されることにより、前記端線４ａにたるみ4ａＡが形成されるようにしたレゾルバステータ構造において、前記端子ピン５と前記たるみピン挿入穴７との間に設けられた突起部２０の先端面２０ａに前記端線４ａが接触し、前記端子ピン５の端線４ａにワニス１０を塗布した際の前記ワニス１０が前記端線４ａを伝って前記たるみピン挿入穴７に入ることを防止する構成としたことを特徴とするレゾルバステータ構造であり、また、前記突起部２０は、長手直線状に形成されていることを特徴とするレゾルバステータ構造であり、また、前記突起部２０は、複数の突部２０Ａから構成されていることを特徴とするレゾルバステータ構造であり、また、前記突起部２０の前記先端面２０ａは、断面でみて、半円状、弧状、曲線状のうちの何れかの形状で構成されていることを特徴とするレゾルバステータ構造である。
【産業上の利用可能性】
【００２１】
本発明によるレゾルバステータ構造は、端子ピンに塗布するワニスがステータ巻線の端線を経て、たるみピン挿入穴内に入ることを防止することにより、完成後のステータ構造の外見を向上させ、相手方への取付けを確実とすることができる。
【符号の説明】
【００２２】
１輪状ステータ
２    突出磁極
３    輪状絶縁カバー
４    ステータ巻線
４ａ    端線
４ａＡ    たるみ
５    端子ピン
６    端子ピン保持部
６ａ    表面
６ｂ    壁
７    たるみピン挿入穴
８    肉厚部
９    たるみピン
２０    突起部
２０ａ    先端面
２０ｂ，２０ｃ    端部
２０Ａ    突部
２１    接触部位
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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