(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷却ロールと、該冷却ロールの対向側に配置された熱負荷を伴う表面処理手段と、上記冷却ロールの近傍に配置された前フィードロール並びに後フィードロールを真空チャンバー内に備え、ロールツーロール方式により搬送されてくる長尺基板を、上記前フィードロールを介して上記冷却ロールの外周面に巻き付けると共に、巻き付けられた上記長尺基板の裏面側を上記冷却ロールで冷却しながら上記長尺基板の表面側に対し上記表面処理手段により表面処理する長尺基板の表面処理装置において、
上記冷却ロール外周面の長尺基板搬入部と搬出部間における上記長尺基板が巻き付けられない非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する上記前フィードロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記前フィードロールの中心軸に対し平行でかつ上記前フィードロールの外周面に接触する第一ガス封止ロールの外周面と、該第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記第一ガス封止ロールの中心軸に対し平行でかつ上記第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの外周面に接触する第二ガス封止ロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロール間を搬送される上記長尺基板面とで囲まれた領域により構成された閉止空間と、該閉止空間内に上記真空チャンバー外部からガスを供給するガス供給手段を備えることを特徴とする長尺基板の表面処理装置。
【請求項２】
上記表面処理が、真空成膜法による成膜処理であることを特徴とする請求項１に記載の長尺基板の表面処理装置。
【請求項３】
上記真空成膜法が、マグネトロンスパッタリング若しくはイオンビームスパッタリングであることを特徴とする請求項２に記載の長尺基板の表面処理装置。
【請求項４】
上記表面処理が、イオンビーム処理若しくはプラズマ処理であることを特徴とする請求項１に記載の長尺樹脂フィルムの表面処理装置。
【請求項５】
冷却ロールと、該冷却ロールの対向側に配置された熱負荷を伴う表面処理手段と、上記冷却ロールの近傍に配置された前フィードロール並びに後フィードロールを真空チャンバー内に備え、ロールツーロール方式により搬送されてくる長尺基板を、上記前フィードロールを介して上記冷却ロールの外周面に巻き付けると共に、巻き付けられた上記長尺基板の裏面側を上記冷却ロールで冷却しながら上記長尺基板の表面側に対し上記表面処理手段により表面処理する長尺基板の表面処理方法において、
上記冷却ロール外周面の長尺基板搬入部と搬出部間における上記長尺基板が巻き付けられない非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する上記前フィードロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記前フィードロールの中心軸に対し平行でかつ上記前フィードロールの外周面に接触する第一ガス封止ロールの外周面と、該第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記第一ガス封止ロールの中心軸に対し平行でかつ上記第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの外周面に接触する第二ガス封止ロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロール間を搬送される上記長尺基板面とで囲まれた領域により構成された閉止空間を形成し、該閉止空間内に上記真空チャンバー外部からガスを供給することを特徴とする長尺基板の表面処理方法。
【請求項６】
上記表面処理が、真空成膜法による成膜処理であることを特徴とする請求項５に記載の長尺基板の表面処理方法。
【請求項７】
上記真空成膜法が、マグネトロンスパッタリング若しくはイオンビームスパッタリングであることを特徴とする請求項６に記載の長尺基板の表面処理方法。
【請求項８】
上記表面処理が、イオンビーム処理若しくはプラズマ処理であることを特徴とする請求項５に記載の長尺基板の表面処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空チャンバー内においてロールツーロール方式で搬送される長尺樹脂フィルム等の長尺基板を冷却ロールの外周面に巻き付けた状態で熱負荷が伴うイオンビーム処理やスパッタリング成膜等の表面処理を行う表面処理装置と表面処理方法に係り、特に、冷却ロール外周面と長尺基板との間にガスを介在させて熱負荷に起因した長尺基板の皺発生を防止する長尺基板の表面処理装置と表面処理方法の改良に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネル、ノートパソコン、デジタルカメラ、携帯電話等には、フレキシブル配線基板が用いられている。フレキシブル配線基板は、耐熱性樹脂フィルムの片面若しくは両面に金属膜を成膜した金属膜付耐熱性樹脂フィルムから作製される。近年、フレキシブル配線基板に形成される配線パターンはますます微細化、高密度化しており、金属膜付耐熱性樹脂フィルム自体が皺等のない平滑なものであることがより一層重要になってきている。
【０００３】
この種の金属膜付耐熱性樹脂フィルムの製造方法としては、接着剤により金属箔を耐熱性樹脂フィルムに貼り付けて製造する方法（３層基板の製造方法と称される）、金属箔に耐熱性樹脂溶液をコーティングした後、乾燥させて製造する方法（キャスティング法と称される）、乾式めっき法（真空成膜法）若しくは乾式めっき法（真空成膜法）と湿式めっき法との組み合わせにより耐熱性樹脂フィルムに金属膜を成膜して製造する方法（メタライジング法と称される）等が従来から知られている。また、メタライジング法における上記乾式めっき法（真空成膜法）には、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームスパッタリング法等がある。
【０００４】
上記メタライジング法として、特許文献１では、ポリイミド絶縁層上にクロムをスパッタリングした後、銅をスパッタリングしてポリイミド絶縁層上に導体層を形成する方法が開示されている。また、特許文献２では、ポリイミドフィルム上に、銅ニッケル合金をターゲットとしてスパッタリングにより形成された第一の金属薄膜と、銅をターゲットとしてスパッタリングにより形成された第二の金属薄膜の順に積層して形成されたフレキシブル回路基板用材料が開示されている。尚、ポリイミドフィルムのような耐熱性樹脂フィルム（基板）に真空成膜を行うには、スパッタリングウェブコータを用いることが一般的である。
【０００５】
上述した真空成膜法において、一般にスパッタリング法は密着力に優れる反面、真空蒸着法に較べて耐熱性樹脂フィルムに与える熱負荷が大きいといわれている。そして、成膜の際に耐熱性樹脂フィルムに大きな熱負荷が掛かると、フィルムに皺が発生し易くなることも知られている。この皺の発生を防ぐため、金属膜付耐熱性樹脂フィルムの製造装置であるスパッタリングウェブコータでは冷却ロール（冷却機能を備えたキャンロール）を搭載し、これを回転駆動してその外周面に画定される搬送経路にロールツーロールで搬送される耐熱性樹脂フィルムを巻き付けることによってスパッタリング処理中の耐熱性樹脂フィルムをその裏面側から冷却する方式が採用されている。
【０００６】
例えば特許文献３には、スパッタリングウェブコータの一例である巻出巻取式（ロールツーロール方式）真空スパッタリング装置が開示されている。この巻出巻取式真空スパッタリング装置には上記キャンロールの役割を担うクーリングロールが具備されており、更にクーリングロールの少なくともフィルム搬入側若しくは搬出側に設けたサブロールによってフィルムをクーリングロールに密着する制御が行われている。
【０００７】
しかし、非特許文献１に記載されているように、キャンロールの外周面はミクロ的に見て平坦ではないため、冷却ロールとその外周面に密着して搬送されるフィルムとの間には真空空間を介して離間するギャップ部（間隙）が存在している。このため、スパッタリングや蒸着の際に生じるフィルムの熱は、実際にはフィルムからキャンロールに効率よく伝熱されているとはいえず、これがフィルム皺発生の原因となっていた。
【０００８】
そこで、上記キャンロール外周面とフィルムとの間のギャップ部にキャンロール側からガスを導入し、ギャップ部の熱伝導率を真空に較べて高くする技術が提案されている。
【０００９】
そして、ギャップ部にキャンロール側からガスを導入する具体的な方法として、例えば特許文献４には、キャンロール外周面にガスの放出口となる多数の微細孔を設ける技術が開示され、特許文献５には、キャンロール外周面にガスの放出口となる溝を設ける技術が開示されている。また、キャンロール自体を多孔質体で構成し、その多孔質体自身の微細孔をガス放出口とする方法も知られている。
【００１０】
ところで、キャンロール外周面にガスの放出口となる微細孔や溝等を設ける方法において、キャンロールの外周面にフィルムが巻き付けられない領域（非ラップ領域）はフィルムが巻き付けられる領域（ラップ領域）に較べてガスの放出口における抵抗が低くなる。このため、キャンロールに供給されるガスの大半が、フィルムが巻き付けられない領域（非ラップ領域）のガス放出口から真空チャンバーの空間へ放出されてしまい、この結果、キャンロールの外周面とそこに巻き付けられているフィルムとの間のギャップ部に本来導入されるべき量のガスが供給されなくなって、上述した熱伝導率を高める効果が得られなくなることがあった。
【００１１】
この問題に対しては、キャンロールの外周面から出没するバルブをガス放出口に設け、このバルブをフィルム面で押さえつけることによってガス放出口を開放する方法（特許文献５）や、上記キャンロール外周面の内、フィルムが巻き付けられない領域（非ラップ領域）の近傍にカバー（ガス吹込フード）を取り付け、真空チャンバーの空間へ非ラップ領域からガスが放出されるのを防止してキャンロール外周面とフィルム表面とのギャップ部に良好にガスを導入させる方法（特許文献６参照）等が提案されている。
【００１２】
しかし、キャンロール外周面から出没するバルブをフィルム面で押さえつけてガス放出口を開放させる特許文献５の方法は、バルブの接触によりフィルム面に僅かなキズや凹みを生じさせる恐れがあり、高い品質が要求される電子機器を用途とするフレキシブル配線基板の製造に採用することは難しかった。
【００１３】
また、キャンロール外周面のフィルムが巻き付けられない領域（非ラップ領域）近傍にカバー（ガス吹込フード）を取り付ける特許文献６の方法は、後述するようにガス吹込フードのキャンロール側を上記非ラップ領域面に接近させて設ける必要があるため、ガス吹込フードとキャンロールの外周面が接触してキャンロールを傷付けてしまう恐れがあり、かつ、上記ガス吹込フードを非ラップ領域面から離して設置するとガス吹込フードとキャンロール外周面との隙間からガスが漏れ易くなる問題があり、特許文献５の方法と同様、採用することは困難であった。
【００１４】
更に、ガス吹込フードを設ける特許文献６の方法に代えて、キャンロール外周面と該外周面に搬入されるフィルムとの隙間部にガス放出ノズル先端から直接ガスを吹き込む方法が特許文献７に記載されている。しかし、この方法は、キャンロール近傍にガス放出ノズルを設置することが極めて困難で、かつ、高い真空度で成膜処理がなされる装置ではキャンロールと前フィードロールとの隙間からのガス漏れを防止することは困難であった。
【００１５】
また、特許文献８には、キャンロールに搬入される前のフィルム表面に水分を吹き付け、キャンロール外周面とフィルムとの間に水分蒸気を介在させてキャンロールの冷却効果を改善する方法が開示されている。しかし、フィルム両面に金属膜を成膜する場合においては金属膜が酸化されてしまう懸念が存在した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開平２−９８９９４号公報
【特許文献２】特開平６−９７６１６号公報
【特許文献３】特開昭６２−２４７０７３号公報
【特許文献４】国際公開２００５／００１１５７号パンフレット
【特許文献５】米国特許第３４１４０４８号明細書
【特許文献６】国際公開第２００２／０７０７７８号パンフレット
【特許文献７】特開平１−１５２２６２号公報
【特許文献８】特開平６−８８２３６号公報
【非特許文献】
【００１７】
【非特許文献１】“Vacuum Heat Transfer Models for Web Substrates: Review of Theory and Experimental Heat Transfer Data”, 2000 Society of Vacuum Coaters, 43rd Annual Technical Conference Proceeding, Denver, April 15-20, 2000, p.335
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明はこのような問題点に着目してなされたものであり、その課題とするところは、特許文献６のガス吹込フードに起因した問題および特許文献７のガス放出ノズルに起因した問題を解消し、ガス漏れ防止用のガス吹込フード等を設けることなく、キャンロール外周面と長尺基板（フィルム）間に容易にガスを導入することができる長尺基板の表面処理装置と表面処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記課題を解決するため、本発明者が鋭意研究を行った結果、冷却ロール（キャンロール）近傍に配置される前フィードロールと後フィードロールの隙間空間部にガス封止ロールを付設して閉止空間を形成することで、ガス漏れ防止用のガス吹込フード等を設けることなくキャンロール外周面と長尺基板（フィルム）間に容易にガスが導入される方法を見出すに至った。本発明はこのような技術的発見により完成されている。
【００２０】
すなわち、本発明に係る第１の発明は、
冷却ロールと、該冷却ロールの対向側に配置された熱負荷を伴う表面処理手段と、上記冷却ロールの近傍に配置された前フィードロール並びに後フィードロールを真空チャンバー内に備え、ロールツーロール方式により搬送されてくる長尺基板を、上記前フィードロールを介して上記冷却ロールの外周面に巻き付けると共に、巻き付けられた上記長尺基板の裏面側を上記冷却ロールで冷却しながら上記長尺基板の表面側に対し上記表面処理手段により表面処理する長尺基板の表面処理装置において、
上記冷却ロール外周面の長尺基板搬入部と搬出部間における上記長尺基板が巻き付けられない非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する上記前フィードロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記前フィードロールの中心軸に対し平行でかつ上記前フィードロールの外周面に接触する第一ガス封止ロールの外周面と、該第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記第一ガス封止ロールの中心軸に対し平行でかつ上記第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの外周面に接触する第二ガス封止ロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロール間を搬送される上記長尺基板面とで囲まれた領域により構成された閉止空間と、該閉止空間内に上記真空チャンバー外部からガスを供給するガス供給手段を備えることを特徴とする。
【００２２】
また、本発明に係る第２の発明は、
第１の発明に記載の長尺基板の表面処理装置において、
上記表面処理が、真空成膜法による成膜処理であることを特徴とし、
第３の発明は、
第２の発明に記載の長尺基板の表面処理装置において、
上記真空成膜法が、マグネトロンスパッタリング若しくはイオンビームスパッタリングであることを特徴とし、
第４の発明は、
第１の発明に記載の長尺基板の表面処理装置において、
上記表面処理が、イオンビーム処理若しくはプラズマ処理であることを特徴とするものである。
【００２３】
次に、本発明に係る第５の発明は、
冷却ロールと、該冷却ロールの対向側に配置された熱負荷を伴う表面処理手段と、上記冷却ロールの近傍に配置された前フィードロール並びに後フィードロールを真空チャンバー内に備え、ロールツーロール方式により搬送されてくる長尺基板を、上記前フィードロールを介して上記冷却ロールの外周面に巻き付けると共に、巻き付けられた上記長尺基板の裏面側を上記冷却ロールで冷却しながら上記長尺基板の表面側に対し上記表面処理手段により表面処理する長尺基板の表面処理方法において、
上記冷却ロール外周面の長尺基板搬入部と搬出部間における上記長尺基板が巻き付けられない非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する上記前フィードロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記前フィードロールの中心軸に対し平行でかつ上記前フィードロールの外周面に接触する第一ガス封止ロールの外周面と、該第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記第一ガス封止ロールの中心軸に対し平行でかつ上記第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの外周面に接触する第二ガス封止ロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロール間を搬送される上記長尺基板面とで囲まれた領域により構成された閉止空間を形成し、該閉止空間内に上記真空チャンバー外部からガスを供給することを特徴とする。
【００２５】
更に、本発明に係る第６の発明は、
第５の発明に記載の長尺基板の表面処理方法において、
上記表面処理が、真空成膜法による成膜処理であることを特徴とし、
第７の発明は、
第６の発明に記載の長尺基板の表面処理方法において、
上記真空成膜法が、マグネトロンスパッタリング若しくはイオンビームスパッタリングであることを特徴とし、
第８の発明は、
第５の発明に記載の長尺基板の表面処理方法において、
上記表面処理が、イオンビーム処理若しくはプラズマ処理であることを特徴とするものである
【発明の効果】
【００２６】
本発明に係る長尺基板の表面処理装置は、
冷却ロール外周面の長尺基板搬入部と搬出部間における長尺基板が巻き付けられない非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する前フィードロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記前フィードロールの中心軸に対し平行でかつ上記前フィードロールの外周面に接触する第一ガス封止ロールの外周面と、該第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記第一ガス封止ロールの中心軸に対し平行でかつ上記第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの外周面に接触する第二ガス封止ロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロール間を搬送される上記長尺基板面とで囲まれた領域により構成された閉止空間と、該閉止空間内に上記真空チャンバー外部からガスを供給するガス供給手段を備えることを特徴とし、
また、本発明に係る長尺基板の表面処理方法は、
冷却ロール外周面の長尺基板搬入部と搬出部間における長尺基板が巻き付けられない非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する前フィードロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記前フィードロールの中心軸に対し平行でかつ上記前フィードロールの外周面に接触する第一ガス封止ロールの外周面と、該第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの隙間空間部に設けられ上記第一ガス封止ロールの中心軸に対し平行でかつ上記第一ガス封止ロールと上記冷却ロールの外周面に接触する第二ガス封止ロールの外周面と、上記前フィードロールと上記冷却ロール間を搬送される上記長尺基板面とで囲まれた領域により構成された閉止空間を形成し、該閉止空間内に上記真空チャンバー外部からガスを供給することを特徴としている。
【００２７】
そして、本発明に係る長尺基板の表面処理装置と表面処理方法によれば、
従来の処理装置における構造に変更を加えることなく上記ガス封止ロールを付設するだけで、特許文献６に記載されたガス吹込フードとして機能しかつ冷却ロール表面を傷付けない閉止空間が形成されると共に、前フィードロール、ガス封止ロール、冷却ロール等の軸方向に向けて真空チャンバー外部から閉止空間内へガスを導入できるため、特許文献７に記載されたガス放出ノズルにおける設置上の問題を解消することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】特許文献６のカバー（ガス吹込フード）を付設した比較例１に係る表面処理装置の概略構成を示す説明図。
【図２】参考例１に係る表面処理装置の概略構成を示す説明図。
【図３】本発明の実施例２に係る表面処理装置の概略構成を示す説明図。
【図４】参考例１〜実施例２に係る表面処理装置と比較例１に係る表面処理装置のガス導入量とガス吹込エリア（閉止空間およびガス吹込フード）の圧力との関係を示すグラフ図。
【図５】参考例１〜実施例２に係る表面処理装置のガス吹込エリア（閉止空間）の圧力と摩擦係数との関係を示すグラフ図。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、実施の形態に係る表面処理装置について従来技術に係る表面処理装置と共に詳細に説明する。
【００３０】
（１）従来技術に係る表面処理装置
先ず、従来技術に係る表面処理装置の一例である長尺基板の真空成膜装置について説明する。尚、長尺基板には、一例として耐熱性樹脂フィルムを用いる場合について説明する。また、長尺基板に対して施される熱負荷の掛かる表面処理としてスパッタリング処理を例にとって説明する。
【００３１】
図１に示す耐熱性樹脂フィルムの成膜装置はスパッタリングウェブコータと称される装置であり、ロールツーロール方式で搬送される長尺状耐熱樹脂フィルムの表面に連続的に効率よく成膜処理を施す場合に用いられる。特に、特許文献７に記載されているように、キャンロール（冷却ロール）と長尺基板（フィルム）間にガスを吹き込んでキャンロール面とフィルム面のギャップ間にガスを介在させることにより熱伝導係数が向上し、これによりスパッタリング成膜処理で耐熱性樹脂フィルムが受ける熱負荷をキャンロールにより効率良く冷却でき、更に介在するガスにより摩擦係数も低減して皺の発生が抑制される。
【００３２】
具体的に説明すると、ロールツーロール方式で搬送される耐熱性樹脂フィルムの成膜装置（スパッタリングウェブコータ）は、図１に示すように真空チャンバー１０内に設けられており、巻き出しロール１１から巻き出された耐熱性樹脂フィルム１２に対して所定の成膜処理を行った後、巻き取りロール２４で巻き取るようになっている。これ等巻き出しロール１１から巻き取りロール２４までの搬送経路の途中にモータで回転駆動されるキャンロール１６が配置されており、このキャンロール１６の内部には真空チャンバー１０の外部で温調された冷媒が循環している。
【００３３】
真空チャンバー１０内では、スパッタリング成膜のため、到達圧力１０-4Ｐａ程度までの減圧と、その後のスパッタリングガスの導入による０.１〜１０Ｐａ程度の圧力調整が行われる。スパッタリングガスにはアルゴン等公知のガスが使用され、目的に応じて更に酸素等のガスが添加される。真空チャンバー１０の形状や材質は、このような減圧状態に耐え得るものであれば特に限定はなく、種々のものを使用することができる。上述したように真空チャンバー１０内を減圧してその状態を維持するため、真空チャンバー１０には図示しないドライポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオコイル等の種々の装置が具備されている。尚、図１中、符号１００は仕切り板を示している。
【００３４】
巻き出しロール１１からキャンロール１６までの搬送経路には、耐熱性樹脂フィルム１２を案内するフリーロール１３と、耐熱性樹脂フィルム１２の張力の測定を行う張力センサロール１４とがこの順で配置されている。また、張力センサロール１４から送り出されてキャンロール１６に向かう耐熱性樹脂フィルム１２は、キャンロール１６の近傍に設けられたモータ駆動の前フィードロール１５によってキャンロール１６の周速度に対する調整が行われ、これによりキャンロール１６の外周面に耐熱性樹脂フィルム１２を密着させることができる。
【００３５】
キャンロール１６から巻き取りロール２４までの搬送経路も、上記同様に、キャンロール１６の周速度に対する調整を行うモータ駆動の後フィードロール２１、耐熱性樹脂フィルム１２の張力の測定を行う張力センサロール２２、および耐熱性樹脂フィルム１２を案内するフリーロール２３がこの順に配置されている。
【００３６】
上記巻き出しロール１１および巻き取りロール２４では、パウダークラッチ等によるトルク制御によって耐熱性樹脂フィルム１２の張力バランスが保たれている。また、キャンロール１６の回転とこれに連動して回転するモータ駆動の前フィードロール１５、後フィードロール２１により、巻き出しロール１１から耐熱性樹脂フィルム１２が巻き出されて巻き取りロール２４に巻き取られるようになっている。
【００３７】
キャンロール１６近傍には、キャンロール１６の外周面上に画定される搬送経路［図１に示すようにキャンロール１６外周面の耐熱性樹脂フィルム１２搬入部と搬出部間における耐熱性樹脂フィルム１２が巻き付けられる領域（ラップ領域）で、図１中、角度Ａの範囲に該当する］に対向する位置に、成膜手段としてのマグネトロンスパッタリングカソード１７、１８、１９および２０が設けられている。尚、上記した角度Ａのことを耐熱性樹脂フィルム１２の抱き角と称することもある。
【００３８】
金属膜のスパッタリング成膜の場合は、図１に示すように板状のターゲットを使用することができるが、板状ターゲットを用いた場合、ターゲット上にノジュール（異物の成長）が発生することがある。これが問題になる場合は、ノジュールの発生がなく、ターゲットの使用効率も高い円筒形のロータリーターゲットを使用することが好ましい。
【００３９】
また、図１に示す耐熱性樹脂フィルム１２の成膜装置は、熱負荷の掛かる処理としてスパッタリング処理を想定したものであるためマグネトロンスパッタリングカソードが図示されているが、熱負荷の掛かる表面処理がＣＶＤ（化学蒸着）、蒸着処理等の他のものである場合は、板状ターゲットに代えて他の真空成膜手段が設けられる。
【００４０】
（２）従来技術に係るガス吹込方法
キャンロールとフィルム間の熱伝導係数を向上させかつ摩擦係数も低減させるガス吹込方法として、従来、図１に示す方法が採られていた。
【００４１】
すなわち、キャンロール１６外周面の耐熱性樹脂フィルム１２搬入部と搬出部間における耐熱性樹脂フィルム１２が巻き付けられない領域（非ラップ領域）面の対向側にガス吹込フード２５を組み込むと共に、真空チャンバー１０外部からガス導入管２６を介し上記ガス吹込フード２５内にガスを吹込む方法が採られていた。
【００４２】
ところで、キャンロール１６と耐熱性樹脂フィルム１２間に効率良くガスを導入すると共に周囲へのガス漏れが起こらないようにするには、上述したようにガス吹込フード２５のキャンロール１６側を該キャンロール１６の非ラップ領域面に近接させる必要があり、非ラップ領域面に接触することなく理想的には１００μｍ以下の隙間を設けることが望ましいとされていた。しかし、ガス吹込フード２５をキャンロール１６の非ラップ領域面に近接させた場合、現実的には、ガス吹込フード２５が非ラップ領域面に接触してキャンロール１６を傷付けてしまう可能性が高く、他方、これを回避するために非ラップ領域面から１００μｍを超える程度離して設置すると、ほとんどのガスがガス吹込フード２５とキャンロール１６の隙間から漏れてしまう問題が存在した。
【００４３】
（３）本発明と参考例に係る表面処理装置
上記ガス吹込フードに代えて閉止空間を形成するためのガス封止ロールが付設されている点と、上記閉止空間を形成している前フィードロール、ガス封止ロール、冷却ロール等の軸方向に向け真空チャンバー外部から閉止空間内へガスを導入する方法が採用されている点を除き、本発明と参考例に係る表面処理装置は従来技術に係る表面処理装置の構造と同一である。
【００４４】
（４）本発明と参考例に係るガス吹込方法
上記キャンロール（冷却ロール）と耐熱性樹脂フィルム（長尺基板）との間の熱伝導係数を向上させかつ摩擦係数も低減させる本発明と参考例に係るガス吹込方法は、前フィードロール、ガス封止ロール、冷却ロール等で形成される上述の閉止空間を介して吹込む方法が採用されている。
【００４５】
すなわち、本発明と参考例に係るガス吹込方法は、冷却ロール外周面の長尺基板搬入部と搬出部間における長尺基板が巻き付けられない非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する前フィードロールの外周面と、前フィードロールと後フィードロールの隙間空間部に設けられたガス封止ロールの外周面と、少なくとも前フィードロールと冷却ロール間を搬送される長尺基板面とで囲まれた領域により構成された閉止空間を形成し、該閉止空間内に真空チャンバー外部からガスを供給する方法が採用されている。
【００４６】
そして、上記閉止空間として図２および図３に示す構造体が例示される。
【００４７】
（4-1）図２に示す参考例に係る閉止空間
図２に示す参考例に係る閉止空間は、キャンロール（冷却ロール）５６外周面の非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する前フィードロール５５と後フィードロール６１の各外周面と、前フィードロール５５と後フィードロール６１の隙間空間部に設けられ各フィードロール５５、６１の中心軸に対し平行でかつフィードロール５５、６１に隣接したロールが当該フィードロール５５、６１外周面に接触する奇数本（図２では１本）のガス封止ロール６５外周面と、上記前フィードロール５５とキャンロール（冷却ロール）５６間並びにキャンロール（冷却ロール）５６と後フィードロール６１間を搬送される耐熱性樹脂フィルム（長尺基板）５２面とで囲まれた領域により構成されている。
【００４８】
そして、表面処理装置の基本構造に変更を加えることなく上記ガス封止ロール６５を付設するだけで図２に示す参考例に係る閉止空間が形成されるため、上記ガス吹込フードに起因した従来技術に係る弊害（キャンロール表面が傷付く問題）が解消される。
【００４９】
また、図２に示す上記閉止空間内に真空チャンバー外部からガスを供給する場合、ガス導入管６６の先端側を、前フィードロール５５、ガス封止ロール６５、キャンロール（冷却ロール）５６等の軸方向に向けて設置できる（すなわち、前フィードロール５５、ガス封止ロール６５、キャンロール５６等の中心軸と上記ガス導入管６６の先端方向が平行となるように配置できる）ため、特許文献７に記載されたガス放出ノズルにおける設置上の問題も解消することが可能となる。
【００５０】
尚、図２に示す上記閉止空間の両端側（すなわち、ガス封止ロール６５等の軸方向両端側）開放部については、図示外の板材により適宜閉止することが好ましい。
【００５１】
また、図２に示す参考例に係る表面処理装置においては１本のガス封止ロール６５が組み込まれているが、該ガス封止ロールが接するロールの回転方向が一致すれば本数を増やしてもよく、３本、５本等奇数本のガス封止ロールを組み込んでもよい。
【００５２】
更に、モータ駆動の前フィードロール５５と後フィードロール６１の周速度差は１％以下が好ましい。上記周速度差が１％を超えた場合、前フィードロール５５と後フィードロール６１間に設けられるガス封止ロール６５がスリップして耐熱性樹脂フィルム（長尺基板）５２面に傷を付けてしまう恐れがあるからである。
【００５３】
（4-2）図３に示す本発明の閉止空間
図３に示す本発明の閉止空間は、キャンロール（冷却ロール）３６外周面の非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する前フィードロール３５の外周面と、上記前フィードロール３５とキャンロール（冷却ロール）３６の隙間空間部に設けられ前フィードロール３５の中心軸に対し平行でかつ前フィードロール３５の外周面に接触する第一ガス封止ロール４５の外周面と、第一ガス封止ロール４５とキャンロール（冷却ロール）３６の隙間空間部に設けられ第一ガス封止ロール４５の中心軸に対し平行でかつ第一ガス封止ロール４５とキャンロール（冷却ロール）３６の外周面に接触する第二ガス封止ロール４６の外周面と、上記前フィードロール３５とキャンロール（冷却ロール）３６間を搬送される耐熱性樹脂フィルム（長尺基板）３２面とで囲まれた領域により構成されている。
【００５４】
そして、表面処理装置の基本構造に変更を加えることなく上記第一ガス封止ロール４５と第二ガス封止ロール４６を付設するだけで図３に示す閉止空間が形成されるため、図２に示す参考例に係る閉止空間と同様、上述したガス吹込フードに起因した従来技術の弊害（キャンロール表面が傷付く問題）を解消することが可能となる。
【００５５】
また、図３に示す上記閉止空間内に真空チャンバー外部からガスを供給する場合、図２に示す参考例に係る閉止空間と同様、ガス導入管４７の先端側を、前フィードロール３５、第一ガス封止ロール４５、第二ガス封止ロール４６、キャンロール（冷却ロール）３６等の軸方向に向けて設置できる（すなわち、前フィードロール３５、第一ガス封止ロール４５、第二ガス封止ロール４６、キャンロール３６等の中心軸と上記ガス導入管４７の先端方向が平行となるように配置できる）ため、特許文献７に記載されたガス放出ノズルにおける設置上の問題も解消することが可能となる。
【００５６】
図３に示す上記閉止空間の両端側（すなわち、ガス封止ロール４５等の軸方向両端側）開放部については、図２に示す参考例に係る閉止空間と同様、図示外の板材により適宜閉止してガス漏れを防止することが好ましい。
【００５７】
また、図３に示す本発明の表面処理装置においては第一ガス封止ロール４５と第二ガス封止ロール４６の２本のガス封止ロールが組み込まれているが、該ガス封止ロールが接するロールの回転方向が一致すれば本数を増やしてもよく、４本、６本等偶数本のガス封止ロールを組み込んでもよい。但し、４本、６本等複数本のガス封止ロールを配置するためのスペースには限りがあり、かつ、ガス封止ロールの本数が増えてロール間の接触箇所が増加するにつれてガス漏れも起こり易くなるため、図３に示すように、第一ガス封止ロール４５と第二ガス封止ロール４６の２本のガス封止ロールで構成することが好ましい。
【００５８】
更に、モータ駆動の前フィードロール３５とキャンロール（冷却ロール）３６の周速度差は１％以下が好ましい。上記周速度差が１％を超えた場合、前フィードロール３５とキャンロール３６間に設けられる第一ガス封止ロール４５と第二ガス封止ロール４６がスリップして耐熱性樹脂フィルム（長尺基板）３２面に傷を付けてしまう恐れがあるからである。
【００５９】
尚、第一ガス封止ロール４５と第二ガス封止ロール４６が組み込まれる図３に示す閉止空間は、前フィードロール３５と後フィードロール４１が離れている場合や、前フィードロール３５と後フィードロール４１の周速度差が大きい場合等に好適である。
【００６０】
（4-3）ガス封止ロール
ガス封止ロールの外周面を金属製フィードロールやキャンロールに接触させることによりガス封止が行われるため、ガス封止ロールの外周面は金属製でなく樹脂製若しくはゴム製であることが好ましく、更に、これ等ガス封止ロールはマグネトロンスパッタリングカソードの近くに配置されることから、耐熱性に優れたフッ素ゴム製（商品名：バイトン）がより好ましい。尚、ガス封止ロールと耐熱性樹脂フィルム（長尺基板）間のスリップに起因して長尺基板に傷が発生することを防止するため、これ等間の摩擦係数は大気中で０.５〜１.５であることが望ましい。
【００６１】
また、ガス封止ロールは、駆動部を持たない従動ロールで構成され、フィルードロールやキャンロールとの接触圧のみでガス封止ロールが回転するように、回転メカロスの少ない軽量ロール、例えば、カーボン芯のゴムロールで構成することが望ましい。ゴムが変形する程の接触圧に設定する必要は無く、極端に言えば、完全に接触していなくてもよい。ガス封止ロールの目的は、２本のフィードロール間、あるいは、フィードロールとキャンロール間のガスコンダクタンスを大きくする（すなわちガス漏れを防止する）ことである。接触圧が高い場合、ガス封止ロールのスリップにより耐熱性樹脂フィルム（長尺基板）に傷が発生することがある。
【００６２】
（4-4）導入ガス
閉止空間内に導入するガスは、アルゴン、酸素、窒素、ヘリウム、水素、水蒸気等が挙げられる。尚、導入するガスをスパッタリング雰囲気のガスと同じ種類にすることでスパッタリング雰囲気内の汚染を防止することができ、熱伝導も比較的良好なアルゴンガスの適用が好ましい。
【００６３】
（５）長尺基板
長尺基板としては、金属箔や金属ストリップはもちろん樹脂フィルム等を用いることができ、樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムのような樹脂フィルムやポリイミドフィルムのような耐熱性樹脂フィルムが挙げられる。
【００６４】
長尺基板に耐熱性樹脂フィルムを用いると共に、本発明に係る表面処理装置（スパッタリングウェブコータ）を用いて金属膜をスパッタリング成膜すれば金属膜付耐熱性樹脂フィルムを製造することができる。具体的には、上述した表面処理装置（スパッタリングウェブコータ）を用いることにより、フィルム皺の不具合が無い金属膜付耐熱性樹脂フィルムをメタライジング法で得ることができる。
【００６５】
上記金属膜付耐熱性樹脂フィルムとしては、耐熱性樹脂フィルムの表面にＮｉ系合金等から成る膜とＣｕ膜が積層された構造体が例示される。このような構造を有する金属膜付耐熱性樹脂フィルムはサブトラクティブ法によりフレキシブル配線基板に加工される。ここで、サブトラクティブ法とは、レジストで覆われていない金属膜（例えば、上記Ｃｕ膜）をエッチングにより除去してフレキシブル配線基板を製造する方法である。上記Ｎｉ合金等から成る膜はシード層と呼ばれ、金属膜付耐熱性樹脂フィルムの電気絶縁性や耐マイグレーション性等の所望の特性によりその組成が選択される。そして、シード層には、Ｎｉ−Ｃｒ合金やインコネルやコンズタンタンやモネル等の各種公知の合金を用いることができる。
【００６６】
また、金属膜付耐熱性樹脂フィルムの金属膜（Ｃｕ膜）を更に厚くしたい場合、湿式めっき法を用いて金属膜を形成することがある。そして、電気めっき処理のみで金属膜を形成する場合と、一次めっきとして無電解めっき処理を行い、二次めっきとして電解めっき処理等の湿式めっき法を組み合わせて行う場合がある。湿式めっき処理は、常法による湿式めっき法の諸条件を採用すればよい。
【００６７】
また、上記金属膜付耐熱性樹脂フィルムに用いる耐熱性樹脂フィルムとしては、例えば、ポリイミド系フィルム、ポリアミド系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリテトラフルオロエチレン系フィルム、ポリフェニレンサルファイド系フィルム、ポリエチレンナフタレート系フィルムまたは液晶ポリマー系フィルムから選ばれる樹脂フィルムが挙げられ、金属膜付フレキシブル基板としての柔軟性、実用上必要な強度、配線材料として好適な電気絶縁性を有する点から好ましい。
【００６８】
尚、上記金属膜付耐熱性樹脂フィルムとして、耐熱性樹脂フィルムへＮｉ-Ｃｒ合金やＣｕ等の金属膜を積層した構造体を例示したが、上記金属膜のほか、目的に応じて酸化物膜、窒化物膜、炭化物膜等の成膜に本発明の成膜方法を用いることが可能である。
【００６９】
（６）長尺基板の表面処理装置
長尺基板の表面処理装置として真空成膜装置（スパッタリングウェブコータ）を中心に説明してきたが、本発明に係る長尺基板の表面処理装置には、減圧雰囲気下の真空チャンバー内においてスパッタリング等の真空成膜を施す処理以外に、イオンビーム処理やプラズマ処理等熱負荷の掛かる処理を施す場合も対象に含まれる。これ等イオンビーム処理やプラズマ処理により長尺基板表面が改質され、その際、長尺基板に熱負荷が掛かる。このような場合においても、本発明に係る表面処理装置を用いることが効果的であり、処理雰囲気に多量のガスを漏らすことなく熱負荷に起因した長尺基板の皺発生を抑制することができる。
【００７０】
尚、上記イオンビーム処理とは、強い磁場を印加した磁場ギャップでプラズマ放電を発生させ、プラズマ中の陽イオンを陽極による電解でイオンビームとして目的物（長尺基板）へ照射する処理である。このイオンビーム処理には、公知のイオンビーム源を用いることができる。また、プラズマ処理とは、公知のプラズマ処理方法、例えばアルゴンと酸素の混合ガスまたはアルゴンと窒素の混合ガスによる減圧雰囲気下において放電を行うことにより、酸素プラズマまたは窒素プラズマを発生させて長尺基板の表面を処理する方法のことである。
【００７１】
尚、プラズマ処理やイオンビーム処理とも減圧雰囲気下において行われる。
【実施例】
【００７２】
以下、本発明の実施例について参考例と比較例を挙げて具体的に説明する。
【００７３】
［参考例１］
図２に示す長尺基板の表面処理装置（真空成膜装置：スパッタリングウェブコータ）を用い、かつ、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２には、幅５００ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１２．５μｍの東レデュポン株式会社製の耐熱性ポリイミドフィルム「カプトン（登録商標）」を使用した。
【００７４】
また、キャンロール５６は、直径６００ｍｍ、幅７５０ｍｍのステンレス製で、ロール本体表面にハードクロムめっきが施されている。前フィードロール５５と後フィードロール６１は、直径１５０ｍｍ、幅７５０ｍｍのステンレス製で、ロール本体表面にハードクロムめっきが施されている。また、ガス封止ロール６５は、直径１２５ｍｍ、幅７５０ｍｍで、かつ、ロール表面がゴム製のものを使用した。尚、ゴムの材質はフッ素ゴム（登録商標「バイトン」）を使用した。
【００７５】
そして、図２に示す参考例１に係る表面処理装置の「閉止空間」は、キャンロール５６外周面の非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する前フィードロール５５と後フィードロール６１の各外周面と、前フィードロール５５と後フィードロール６１の隙間空間部に設けられた１本のガス封止ロール６５外周面と、上記前フィードロール５５とキャンロール５６間並びにキャンロール５６と後フィードロール６１間を搬送される長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２面とで囲まれた領域により構成されている。尚、図２中、符号１００は仕切り板を示している。また、キャンロール５６外周面の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２搬入部と搬出部間における長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２が巻き付けられない箇所の角度（非ラップ部）Ｂは約３０°であった。
【００７６】
また、上記「閉止空間」の両端側（すなわち、ガス封止ロール６５等の軸方向両端側）開放部については、約０．１ｍｍの隙間を開けた状態で板材（図示せず）により閉止されている。尚、加熱等による熱的歪みに起因して近接するキャンロール５６や前フィードロール５５等に上記板材が接触しても、接触箇所がロール軸方向端部側面のためロールに傷が付くことはない。
【００７７】
また、キャンロール５６や前フィードロール５５等の幅寸法（７５０ｍｍ）に較べ、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２の幅寸法（５００ｍｍ）が短いため、上記前フィードロール５５とキャンロール５６間並びにキャンロール５６と後フィードロール６１間を搬送される長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２の両端側において上記「閉止空間」に若干の隙間が形成されてしまう。しかし、この隙間は極めて僅かなため、「閉止空間」からのガス漏れは問題とならない。尚、下記構造（ガス導入管の先端側方向をキャンロール等の軸方向と平行となるように設置する構造）に代え、「閉止空間」の上記隙間にガス導入管の先端側を差し込んで「閉止空間」内にガスが導入される構造を選択してもよい。
【００７８】
そして、導入管の先端側方向が、前フィードロール５５、ガス封止ロール６５、キャンロール５６等の軸方向と平行となるように設置されたガス導入管６６から、上記「閉止空間」内にアルゴンガスを導入した。
【００７９】
尚、アルゴンガスが導入される「閉止空間」内の圧力は真空計（図示せず）により測定されており、「閉止空間」内の圧力とガス導入量には、図４のグラフ図に示す関係があり、ガス導入量を多くすれば１０００Ｐａまで圧力を上昇させることができた。また、「閉止空間」内の圧力と、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２とキャンロール５６間の摩擦係数には、図５のグラフ図に示す関係があった。
【００８０】
また、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２に成膜される金属膜はシード層であるＮｉ−Ｃｒ膜の上にＣｕ膜を成膜するものとし、かつ、マグネトロンスパッタターゲット５７にはＮｉ−Ｃｒターゲットを用い、マグネトロンスパッタターゲット５８、５９、６０にはＣｕターゲットを用い、更に、アルゴンガスを３００ｓｃｃｍ導入し、各カソードへの印加電力は１０ｋＷの電力制御で成膜を行った。
【００８１】
また、上記巻き出しロール５１と巻き取りロール６４の張力は１００Ｎとし、キャンロール５６は２０℃に冷却制御した。
【００８２】
そして、巻き出しロール５１に上記長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２をセットし、かつ、キャンロール５６を経由して長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２の先端部を巻き取りロール６４に取り付けた。
【００８３】
また、真空チャンバー５０を複数台のドライポンプにより５Ｐａまで排気した後、更に、複数台のターボ分子ポンプとクライオコイルを用いて３×１０-3Ｐａまで排気した。
【００８４】
そして、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２の搬送速度を３ｍ／分にした後、各マグネトロンスパッタカソード５７、５８、５９、６０にアルゴンガスを導入して電力を印加して、Ｎｉ−Ｃｒ膜のシード層とその上に成膜するＣｕ膜の成膜を開始した。
【００８５】
上記「閉止空間」内には、アルゴンガスを４００ｓｃｃｍ導入した。このときの「閉止空間」内の圧力は約７００Ｐａであった。
【００８６】
そして、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２の長さ４８０ｍが通過して時点で、各プラズマ反応室のプラズマと各マグネトロンスパッタカソードへの電力を停止し、それぞれのガス導入も停止した。
【００８７】
最後に、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２の搬送を停止し、かつ、各ポンプを停止してからベント（大気開放）し、巻き出しロール５１の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２終端部を外し、全ての長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２を巻き取りロール６４に巻き取ってから取り外した。
【００８８】
そして、成膜中におけるキャンロール５６上の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）表面の観察が可能な観察窓から、キャンロール５６へのガス導入を行っている４８０ｍまでのキャンロール５６上の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２を観察しところ、マグネトロンスパッタリングカソード５７、５８、５９、６０の成膜ゾーンを通過した成膜直後の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）進行方向と平行な方向に皺の原因となるキャンロール５６上での長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２の浮きが見られることは無かった。成膜が完了した後、巻き取りロール６４に巻き取られた長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２を大気中にて展開して皺の有無を確認したところ、キャンロールへのガス導入を行っていた０〜４８０ｍまでの間に皺は見つからなかった。
【００８９】
別途、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）５２に熱電対を貼り付けて、成膜中の温度上昇を測定し、その結果から、熱伝達係数を求めたところ、約１５０Ｗ／（ｍ2・Ｋ）であった。
【００９０】
［実施例２］
図３に示す長尺基板の表面処理装置（真空成膜装置：スパッタリングウェブコータ）を用い、かつ、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２には、幅５００ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１２．５μｍの東レデュポン株式会社製の耐熱性ポリイミドフィルム「カプトン（登録商標）」を使用した。
【００９１】
また、キャンロール３６は、直径６００ｍｍ、幅７５０ｍｍのステンレス製で、ロール本体表面にハードクロムめっきが施されている。前フィードロール３５と後フィードロール４１は、直径１５０ｍｍ、幅７５０ｍｍのステンレス製で、ロール本体表面にハードクロムめっきが施されている。また、第一ガス封止ロール４５と第二ガス封止ロール４６は、それぞれ直径６０ｍｍ、幅７５０ｍｍで、かつ、ロール表面がゴム製のものを使用した。尚、ゴムの材質はフッ素ゴム（登録商標「バイトン」）を使用した。
【００９２】
そして、図３に示す実施例２に係る表面処理装置の「閉止空間」は、キャンロール３６外周面の非ラップ領域面と、該非ラップ領域面の対向側に位置する前フィードロール３５の外周面と、上記前フィードロール３５とキャンロール３６の隙間空間部に設けられ前フィードロール３５の中心軸に対し平行でかつ前フィードロール３５の外周面に接触する第一ガス封止ロール４５の外周面と、第一ガス封止ロール４５とキャンロール３６の隙間空間部に設けられ第一ガス封止ロール４５の中心軸に対し平行でかつ第一ガス封止ロール４５とキャンロール３６の外周面に接触する第二ガス封止ロール４６の外周面と、上記前フィードロール３５とキャンロール３６間を搬送される長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２面とで囲まれた領域により構成されている。尚、図３中、符号１００は仕切り板を示している。また、キャンロール３６外周面の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２搬入部と搬出部間における長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２が巻き付けられない箇所の角度（非ラップ部）Ｂは約３０°であった。
【００９３】
また、上記「閉止空間」の両端側（すなわち、第一ガス封止ロール４５等の軸方向両端側）開放部については、約０．１ｍｍの隙間を開けた状態で板材（図示せず）により閉止されている。尚、加熱等による熱的歪みに起因して近接するキャンロール３６や前フィードロール３５等に上記板材が接触しても、接触箇所がロール軸方向端部側面のためロールに傷が付くことはない。
【００９４】
また、キャンロール３６や前フィードロール３５等の幅寸法（７５０ｍｍ）に較べ、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２の幅寸法（５００ｍｍ）が短いため、前フィードロール３５とキャンロール３６間を搬送される長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２の両端側において上記「閉止空間」に若干の隙間が形成されてしまう。しかし、この隙間は極めて僅かなため、「閉止空間」からのガス漏れは問題とならない。
【００９５】
そして、導入管の先端側方向が、前フィードロール３５、第一ガス封止ロール４５、第二ガス封止ロール４６、キャンロール３６等の軸方向と平行となるように設置されたガス導入管４７から、上記「閉止空間」内にアルゴンガスを導入した。
【００９６】
尚、アルゴンガスが導入される「閉止空間」内の圧力は真空計（図示せず）により測定されており、「閉止空間」内の圧力とガス導入量には、図４のグラフ図に示す関係があり、ガス導入量を多くすれば１０００Ｐａまで圧力を上昇させることができた。また、「閉止空間」内の圧力と、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２とキャンロール３６間の摩擦係数には、図５のグラフ図に示す関係があった。
【００９７】
また、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２に成膜される金属膜はシード層であるＮｉ−Ｃｒ膜の上にＣｕ膜を成膜するものとし、かつ、マグネトロンスパッタターゲット３７にはＮｉ−Ｃｒターゲットを用い、マグネトロンスパッタターゲット３８、３９、４０にはＣｕターゲットを用い、更に、アルゴンガスを３００ｓｃｃｍ導入し、各カソードへの印加電力は１０ｋＷの電力制御で成膜を行った。
【００９８】
また、上記巻き出しロール３１と巻き取りロール４４の張力は１００Ｎとし、キャンロール３６は２０℃に冷却制御した。
【００９９】
そして、巻き出しロール３１に上記長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２をセットし、かつ、キャンロール３６を経由して長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２の先端部を巻き取りロール４４に取り付けた。
【０１００】
また、真空チャンバー３０を複数台のドライポンプにより５Ｐａまで排気した後、更に、複数台のターボ分子ポンプとクライオコイルを用いて３×１０-3Ｐａまで排気した。
【０１０１】
そして、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２の搬送速度を３ｍ／分にした後、各マグネトロンスパッタカソード３７、３８、３９、４０にアルゴンガスを導入して電力を印加して、Ｎｉ−Ｃｒ膜のシード層とその上に成膜するＣｕ膜の成膜を開始した。
【０１０２】
上記「閉止空間」内には、アルゴンガスを４００ｓｃｃｍ導入した。このときの「閉止空間」内の圧力は約７００Ｐａであった。
【０１０３】
そして、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２の長さ４８０ｍが通過して時点で、各プラズマ反応室のプラズマと各マグネトロンスパッタカソードへの電力を停止し、それぞれのガス導入も停止した。
【０１０４】
最後に、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２の搬送を停止し、かつ、各ポンプを停止してからベント（大気開放）し、巻き出しロール３１の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２終端部を外し、全ての長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２を巻き取りロール４４に巻き取ってから取り外した。
【０１０５】
そして、成膜中におけるキャンロール３６上の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）表面の観察が可能な観察窓から、キャンロール３６へのガス導入を行っている４８０ｍまでのキャンロール３６上の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２を観察したところ、マグネトロンスパッタリングカソード３７、３８、３９、４０の成膜ゾーンを通過した成膜直後の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）進行方向と平行な方向に皺の原因となるキャンロール３６上での長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２の浮きが見られることは無かった。成膜が完了した後、巻き取りロール４４に巻き取られた長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２を大気中にて展開して皺の有無を確認したところ、キャンロールへのガス導入を行っていた０〜４８０ｍまでの間に皺は見つからなかった。
【０１０６】
別途、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）３２に熱電対を貼り付けて、成膜中の温度上昇を測定し、その結果から、熱伝達係数を求めたところ、約１５０Ｗ／（ｍ2・Ｋ）であった。
【０１０７】
［比較例１］
図１に示す長尺基板の表面処理装置（真空成膜装置：スパッタリングウェブコータ）を用い、かつ、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２には、幅５００ｍｍ、長さ５００ｍ、厚さ１２．５μｍの東レデュポン株式会社製の耐熱性ポリイミドフィルム「カプトン（登録商標）」を使用した。
【０１０８】
また、キャンロール１６は、直径６００ｍｍ、幅７５０ｍｍのステンレス製で、ロール本体表面にハードクロムめっきが施されている。前フィードロール１５と後フィードロール２１は、直径１５０ｍｍ、幅７５０ｍｍのステンレス製で、ロール本体表面にハードクロムめっきが施されている。
【０１０９】
また、キャンロール１６外周面における耐熱性樹脂フィルム１２が巻き付けられない非ラップ領域面の対向側に組み込まれたガス吹込フード２５はステンレスで構成され、非ラップ領域面側の開放部（開口部）はキャンロール１６の外周面に沿った形状に加工されており、かつ、上記開放部（開口部）の大きさは１００ｍｍ×６００ｍｍであると共に、ガス吹込フード２５とキャンロール１６間の隙間は約０．１ｍｍに設定されている。
【０１１０】
また、実施例および参考例と同様、ガス動入管２６を介してアルゴンガスが導入されるガス吹込フード２５内の圧力は真空計（図示せず）により測定されており、ガス吹込フード２５内の圧力とガス導入量には図４のグラフ図に示す関係があり、図４のグラフ図から確認されるようにガス導入量を多くしても２００Ｐａまで圧力を上昇させることはできなかった。このことから、ガス吹込フード２５内に導入されたガスが上記開放部（開口部）とキャンロール１６の隙間から漏れていることが推測され、耐熱性樹脂フィルム１２とキャンロール１６間における摩擦係数の低減はほとんど期待できない。尚、図１中、符号１００は仕切り板を示している。また、キャンロール１６外周面における耐熱性樹脂フィルム１２搬入部と搬出部間における耐熱性樹脂フィルム１２が巻き付けられない箇所の角度（非ラップ部）Ｂは、実施例および参考例と同様、約３０°であった。
【０１１１】
次に、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２に成膜される金属膜は、実施例および参考例と同様、シード層であるＮｉ−Ｃｒ膜の上にＣｕ膜を成膜するものとし、かつ、マグネトロンスパッタターゲット１７にはＮｉ−Ｃｒターゲットを用い、マグネトロンスパッタターゲット１８、１９、２０にはＣｕターゲットを用い、更に、アルゴンガスを３００ｓｃｃｍ導入し、各カソードへの印加電力は１０ｋＷの電力制御で成膜を行った。
【０１１２】
また、上記巻き出しロール１１と巻き取りロール２４の張力は１００Ｎとし、キャンロール１６は２０℃に冷却制御した。
【０１１３】
そして、巻き出しロール１１に上記長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２をセットし、かつ、キャンロール１６を経由して長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２の先端部を巻き取りロール１４に取り付けた。
【０１１４】
また、真空チャンバー１０を複数台のドライポンプにより５Ｐａまで排気した後、更に、複数台のターボ分子ポンプとクライオコイルを用いて３×１０-3Ｐａまで排気した。
【０１１５】
そして、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２の搬送速度を３ｍ／分にした後、各マグネトロンスパッタカソード１７、１８、１９、２０にアルゴンガスを導入して電力を印加して、Ｎｉ−Ｃｒ膜のシード層とその上に成膜するＣｕ膜の成膜を開始した。
【０１１６】
上記ガス吹込フード２５内には、アルゴンガスを４００ｓｃｃｍ導入した。このときのガス吹込フード２５内の圧力は約１５０Ｐａであった。
【０１１７】
そして、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２の長さ４８０ｍが通過して時点で、各プラズマ反応室のプラズマと各マグネトロンスパッタカソードへの電力を停止し、それぞれのガス導入も停止した。
【０１１８】
最後に、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２の搬送を停止し、かつ、各ポンプを停止してからベント（大気開放）し、巻き出しロール１１の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２終端部を外し、全ての長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２を巻き取りロール２４に巻き取ってから取り外した。
【０１１９】
そして、成膜中におけるキャンロール１６上の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）表面の観察が可能な観察窓から、キャンロール１６へのガス導入を行っている４８０ｍまでのキャンロール１６上の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２を観察したところ、マグネトロンスパッタリングカソード１７、１８、１９、２０の成膜ゾーンを通過した成膜直後の長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）進行方向と平行な方向に皺の原因となるキャンロール１６上での長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２の浮きが発生していた。成膜が完了した後、巻き取りロール１４に巻き取られた長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２を大気中にて展開して皺の有無を確認したところ、キャンロールへのガス導入を行っていた０〜４８０ｍまでの間に皺が見つかった。
【０１２０】
別途、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２に熱電対を貼り付けて、成膜中の温度上昇を測定し、その結果から熱伝達係数を求めたところ約２０Ｗ／（ｍ2・Ｋ）であった。
【０１２１】
これは、長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）１２とキャンロール１６のギャップ間に殆どガスが入り込まず、ガス導入の効果が得られなかったためと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０１２２】
本発明に係る長尺基板の表面処理装置と表面処理方法によれば、特許文献６に記載されたガス吹込フードとして機能しかつ冷却ロール表面を傷付けない閉止空間が形成されると共に、特許文献７に記載されたガス放出ノズルにおける設置上の問題も解消されるため、液晶テレビ、携帯電話等のフレキシブル配線基板に用いられる銅張積層樹脂フィルム（金属膜付耐熱性樹脂フィルム）の製造装置並びに製造方法として適用される産業上の利用可能性を有している。
【符号の説明】
【０１２３】
１０  真空チャンバー
１１  巻き出しロール
１２  長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）
１３  フリーロール
１４  張力センサロール
１５  前フィードロール
１６  キャンロール（冷却ロール）
１７  マグネトロンスパッタリングカソード
１８  マグネトロンスパッタリングカソード
１９  マグネトロンスパッタリングカソード
２０  マグネトロンスパッタリングカソード
２１  後フィードロール
２２  張力センサロール
２３  フリーロール
２４  巻き取りロール
２５  ガス吹込フード（カバー）
２６  ガス導入管
３０  真空チャンバー
３１  巻き出しロール
３２  長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）
３３  フリーロール
３４  張力センサロール
３５  前フィードロール
３６  キャンロール（冷却ロール）
３７  マグネトロンスパッタリングカソード
３８  マグネトロンスパッタリングカソード
３９  マグネトロンスパッタリングカソード
４０  マグネトロンスパッタリングカソード
４１  後フィードロール
４２  張力センサロール
４３  フリーロール
４４  巻き取りロール
４５  第一ガス封止ロール
４６  第二ガス封止ロール
４７  ガス導入管
５０  真空チャンバー
５１  巻き出しロール
５２  長尺基板（耐熱性樹脂フィルム）
５３  フリーロール
５４  張力センサロール
５５  前フィードロール
５６  キャンロール（冷却ロール）
５７  マグネトロンスパッタリングカソード
５８  マグネトロンスパッタリングカソード
５９  マグネトロンスパッタリングカソード
６０  マグネトロンスパッタリングカソード
６１  後フィードロール
６２  張力センサロール
６３  フリーロール
６４  巻き取りロール
６５  ガス封止ロール
６６  ガス導入管
１００  仕切り板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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