(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に液体を分注するための装置であって、
分注されるべき前記液体を貯蔵するためのリザーバと；
入口と出口とを含むフィルタであって、前記フィルタの入口は前記リザーバと流体連通する、フィルタと；
入口と出口とを含む投与ポンプであって、前記投与ポンプの入口は前記リザーバと流体連通し、前記液体の量を投与し、且つ、前記液体を圧送するように構成された前記投与ポンプと；
前記投与ポンプの出口と流体連通する分注ノズルであって、前記基板上に前記液体を分注するように構成された前記分注ノズルと；
入口と出口とを含む再循環ポンプであって、前記再循環ポンプの出口は、前記フィルタの入口と流体連通し、且つ、前記再循環ポンプの入口は、前記フィルタの出口と流体連通し、前記フィルタを介して前記液体を再循環させるように構成された再循環ポンプと；
を含む、装置。
【請求項２】
前記再循環ポンプは、蠕動ポンプである、請求項1に記載の装置。
【請求項３】
前記投与ポンプと前記分注ノズルとの間に配置された混合システムをさらに含む、請求項１に記載の装置であって、前記混合システムは：
溶媒供給と流体連通する溶媒供給入口と；
前記投与ポンプの出口と流体連通する処理液供給入口と；
前記溶媒供給入口と処理液供給入口と流体連通し、且つ、溶媒と処理液とを混合するように構成された、混合チャンバと；
前記混合チャンバと前記分注ノズルと流体連通し、且つ、前記分注ノズルに混合された溶媒と処理液とを供給するように構成された、出口と；
前記溶媒供給入口のためのフローバルブと；
前記処理液供給入口のためのフローバルブと；
を含み、
前記フローバルブは、前記混合チャンバに進入する前記溶媒と前記処理液との比率を調整するように構成される、装置。
【請求項４】
請求項１に記載の装置を使用して、基板上に液体を分注するための方法であって、当該方法は、
前記再循環ポンプを用いて前記フィルタを介して前記液体を再循環させることを含む、方法。
【請求項５】
前記装置は、前記投与ポンプと前記分注ノズルとの間に配置された混合システムをさらに含み、且つ、
溶媒供給と流体連通する溶媒供給入口と；
前記投与ポンプの出口と流体連通する処理液供給入口と；
前記溶媒供給入口と処理液供給入口と流体連通し、且つ、溶媒と処理液とを混合するように構成された、混合チャンバと；
前記混合チャンバと前記分注ノズルと流体連通し、且つ、前記分注ノズルに混合された溶媒と処理液とを供給するように構成された、出口と；
前記溶媒供給入口のためのフローバルブと；
前記処理液供給入口のためのフローバルブと；
を含む、請求項４に記載の方法であって、当該方法は、
前記フローバルブで、前記混合チャンバに進入する前記溶媒と前記処理液との比率を調整するステップ、
をさらに含む、方法。
【請求項６】
前記液体を再循環させるステップが絶えず行われる、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記液体を再循環させるステップが断続的に停止する、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
液体で前記投与ポンプをリロードするステップと；
前記基板上に前記分注ノズルを介して前記投与ポンプから前記液体を分注するステップと；
をさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
前記投与ポンプをリロードしながら、前記再循環ポンプを停止するステップ、
をさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１に記載の、基板上に液体を分注するための装置であって、
分注されるべき前記液体を貯蔵するためのリザーバと；
入口と出口とを含むフィルタであって、前記フィルタの入口は第１のバルブを介して前記リザーバと流体連通する、フィルタと；
入口と第１の出口と第２の出口とを含む投与ポンプであって、前記投与ポンプの入口は前記リザーバと流体連通し、且つ、前記投与ポンプの第２の出口は第２のバルブを介して前記フィルタの入口と流体連通し、前記液体の量を投与し、且つ、前記液体を圧送するように構成された前記投与ポンプと；
前記投与ポンプの第１の出口と流体連通する分注ノズルであって、前記基板上に前記液体を分注するように構成された前記分注ノズルと；
を含む、装置であって、前記投与ポンプは：
前記基板上に前記分注ノズルを介して前記液体を分注するように；及び
前記フィルタの入口における正圧を維持しながら、前記液体を濾過するため、前記フィルタに前記第２のバルブを介して前記投与ポンプから前記液体を流すように、且つ、前記液体を濾過しながら、前記投与ポンプをリロードするため、前記フィルタとトラップリザーバを介して前記リザーバから前記液体を流すように；
構成され；且つ、
前記投与ポンプから前記液体を流すこと、及び前記リザーバから前記液体を流すことは、交互に、及び分注あたり複数回、行われる、
装置。
【請求項１１】
前記投与ポンプと前記分注ノズルとの間に配置された混合システムをさらに含む、請求項１０に記載の装置であって、前記混合システムは：
溶媒供給と流体連通する溶媒供給入口と；
前記投与ポンプの出口と流体連通する処理液供給入口と；
前記溶媒供給入口と処理液供給入口と流体連通し、且つ、溶媒と処理液とを混合するように構成された、混合チャンバと；
前記混合チャンバと前記分注ノズルと流体連通し、且つ、前記分注ノズルに混合された溶媒と処理液とを供給するように構成された、出口と；
前記溶媒供給入口のためのフローバルブと；
前記処理液供給入口のためのフローバルブと；
を含み、
前記フローバルブは、前記混合チャンバに進入する前記溶媒と前記処理液との比率を調整するように構成される、装置。
【請求項１２】
請求項１０に記載の装置を使用する、基板上に液体を分注するための方法であって、当該方法は：
前記基板上に前記分注ノズルを介して前記液体を分注するステップと；及び
前記フィルタの入口における正圧を維持しながら、前記液体を濾過するため、前記フィルタに前記第２のバルブを介して前記投与ポンプから前記液体を流すように、且つ、前記液体を濾過しながら、前記投与ポンプをリロードするため、前記フィルタとトラップリザーバを介して前記リザーバから前記液体を流すステップと；
を含み、
前記投与ポンプから前記液体を流すこと、及び前記リザーバから前記液体を流すことは、交互に、及び分注あたり複数回、行われる、方法。
【請求項１３】
前記装置は、前記投与ポンプと前記分注ノズルとの間に配置された混合システムをさらに含み、且つ、
溶媒供給と流体連通する溶媒供給入口と；
前記投与ポンプの出口と流体連通する処理液供給入口と；
前記溶媒供給入口と処理液供給入口と流体連通し、且つ、溶媒と処理液とを混合するように構成された、混合チャンバと；
前記混合チャンバと前記分注ノズルと流体連通し、且つ、前記分注ノズルに混合された溶媒と処理液とを供給するように構成された、出口と；
前記溶媒供給入口のためのフローバルブと；
前記処理液供給入口のためのフローバルブと；
を含む、請求項１２に記載の方法であって、当該方法は、
前記フローバルブで、前記混合チャンバに進入する前記溶媒と前記処理液との比率を調整するステップ、
をさらに含む、方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の、基板上に液体を分注するための装置であって、
分注されるべき前記液体を貯蔵するためのリザーバと；
入口と出口とを含む投与ポンプであって、前記投与ポンプの入口は前記リザーバと流体連通し、前記液体の量を投与し、且つ、前記液体を圧送するように構成された前記投与ポンプと；
前記投与ポンプの出口と流体連通する分注ノズルであって、前記基板上に前記液体を分注するように構成された前記分注ノズルと；
前記リザーバと流体連通する入口と；
前記リザーバと流体連通する出口と；
再循環ポンプと；
フィルタと；
を含む再循環ループと；
を含み、
前記再循環ポンプとフィルタとは、前記リザーバにおける前記液体を継続的に濾過するように構成される、装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載の装置を使用して、基板上に液体を分注するための方法であって、当該方法は：
前記再循環ポンプと前記フィルタとを使用して、前記リザーバにおける前記液体を継続的に濾過するステップを含む、方法。
【請求項１６】
液体で前記投与ポンプをリロードするステップと；
前記基板上に前記分注ノズルを介して前記投与ポンプから前記液体を分注するステップと；
をさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
請求項１に記載の、基板上に液体を分注するための装置であって、
分注されるべき前記液体を貯蔵するためのリザーバと；
入口と出口とを含むフィルタであって、前記フィルタの入口は前記リザーバと流体連通する、フィルタと；
入口と第１の出口と第２の出口と通気ポートとを含む液体空状態（ＬＥ）リザーバであって、前記ＬＥリザーバ入口は、第１のバルブを介して前記フィルタの出口と流体連通し、前記通気ポートは、圧力に対して前記ＬＥリザーバを選択的に開放するための第２のバルブを含み、且つ、前記第２の出口は第３のバルブを介して前記リザーバと流体連通する、液体空状態（ＬＥ）リザーバと；
入口と第１のポンプ出口と第２のポンプ出口とを含む投与ポンプであって、前記ポンプの入口は、前記ＬＥリザーバ第１の出口と流体連通し、且つ、前記第２のポンプ出口は、第４のバルブを介して前記フィルタの入口と流体連通し、前記投与ポンプは、前記液体の量を投与し、且つ前記液体を圧送するように構成された、投与ポンプと；
前記第１のポンプ出口と流体連通する分注ノズルであって、前記基板上に前記液体を分注するように構成される、前記分注ノズルと；
を含む装置。
【請求項１８】
前記圧力は大気圧に実質的に等しい、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
前記投与ポンプと前記分注ノズルとの間に配置された混合システムをさらに含む、請求項１７に記載の装置であって、前記混合システムは：
溶媒供給と流体連通する溶媒供給入口と；
前記投与ポンプの出口と流体連通する処理液供給入口と；
前記溶媒供給入口と処理液供給入口と流体連通し、且つ、溶媒と処理液とを混合するように構成された、混合チャンバと；
前記混合チャンバと前記分注ノズルと流体連通し、且つ、前記分注ノズルに混合された溶媒と処理液とを供給するように構成された、出口と；
前記溶媒供給入口のためのフローバルブと；
前記処理液供給入口のためのフローバルブと；
を含み、
前記フローバルブは、前記混合チャンバに進入する溶媒と処理液との比率を調整するように構成される、装置。
【請求項２０】
前記圧力に対して前記ＬＥリザーバを選択的に開放すると、前記ＬＥリザーバからの液体が、前記投与ポンプに流れ、且つ、前記投与ポンプにリロードされる、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
請求項１７に記載の装置を使用して、基板上に液体を分注するための方法であって、当該方法は：
前記フィルタの入口における正圧を維持しながら、前記フィルタと第１のバルブを介して、前記リザーバからの液体を流すことにより、液体で前記ＬＥリザーバを満たすステップと；
前記フィルタの入口における正圧を維持しながら、前記液体を濾過するため、前記リザーバに、前記フィルタと、前記第１のバルブと、前記ＬＥリザーバと、前記第３のバルブを介して、前記第４のバルブを介して前記投与ポンプからの前記液体を流すステップと；
圧力に対して前記ＬＥリザーバにおける前記液体を露出するため、前記第２のバルブを開放し、且つ、前記投与ポンプをリロードするため、前記投与ポンプに前記ＬＥリザーバからの前記液体を流すステップと；
前記基板上に前記分注ノズルを介して前記投与ポンプからの前記液体を分注するステップと；
を含む、方法。
【請求項２２】
前記装置は、投与ポンプと分注ノズルとの間に配置された混合システムをさらに含み、且つ、
溶媒供給と流体連通する溶媒供給入口と；
前記投与ポンプの出口と流体連通する処理液供給入口と；
前記溶媒供給入口と処理液供給入口と流体連通し、且つ、溶媒と処理液とを混合するように構成された、混合チャンバと；
前記混合チャンバと前記分注ノズルと流体連通し、且つ、前記分注ノズルに混合された溶媒と処理液とを供給するように構成された、出口と；
前記溶媒供給入口のためのフローバルブと；
前記処理液供給入口のためのフローバルブと；
を含む、請求項２１に記載の方法であって、当該方法は、
前記フローバルブで、前記混合チャンバに進入する前記溶媒と前記処理液との比率を調整するステップ、
をさらに含む、方法。
【請求項２３】
前記フィルタ、前記第１のバルブ、及び前記ＬＥリザーバを介して、前記リザーバからの前記液体を流すことにより、前記液体で前記投与ポンプをリロードするステップをさらに含む、請求項２１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本開示は、ここに全体が参考として援用される米国仮出願番号６１／９９３８５６（発明の名称「フォトレジスト分注システムにおける増加した再循環及び濾過のための方法及び装置」、２０１４年５月１５日出願）からの優先権を主張する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスを製造するためのフォトリソグラフィ技術では、フォトレジスト液は、半導体ウエハ又は基板に塗布されて(applied)、所定の回路パターンに応じて露光されたレジスト膜を形成し、且つ、露光されたパターンは現像されて、それにより、レジスト膜において回路パターンが形成される。窒素ガス又は粒子（異物）の気泡がフォトレジスト液等の処理液内に混入するかもしれないという可能性がある。気泡又は粒子を含有する処理液がウエハに供給されると、塗布(application)の不均一性及び/又は欠陥が発生する可能性がある。したがって、ウエハに処理液を供給するための液体処理装置は、処理液内に混入した気泡や粒子を濾過するためのフィルタが設けられている。
【０００３】
いくつかの処理装置は、循環濾過タイプの液体供給システムを含む。このような液体供給システムは、
処理液を貯蔵するように構成された第１の容器と；
処理液を貯蔵するように構成された第２の容器と；
前記第１の容器及び前記第２の容器を接続する第１のパイプにおいて配置され、且つ、前記第１の容器に貯蔵された前記処理液を、前記第２の容器に送り込むように構成された、第１のポンプと；
前記第１のパイプ内に配置された第１のフィルタと；
前記第１の容器及び前記第２の容器を接続する第２のパイプと；
前記第２のパイプにおいて配置され、且つ、前記第２の容器に貯蔵された前記処理液を、前記第１の容器に送り込むように構成された、第２のポンプと；
を包含することができる。これらの液体供給システムのいくつかは、
処理液のバッファ容器と；
循環及び濾過装置であって、フィルタを使用してそれを濾過するため、前記バッファ容器からの前記処理液の一部を吸引し、次いで、前記バッファ容器に濾過された処理液を戻す、循環及び濾過装置と；
パイプであって、それを介して、前記処理液が前記バッファ容器又は前記循環装置から、フォトレジスト塗布(application)装置に送られる、パイプと；
を包含することができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
開示の概要
塗布(coating、コーティング)及び現像装置は、フォトレジスト液でウエハをコーティングし、及びその後ウエハを現像するために使用することができる。本明細書で説明されるシステム及び方法は、フォトレジストをプリントされたウエハ欠陥を低下させることができる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
基板上に液体を分注する(dispensing)ための例示的な装置は、
分注されるべき前記液体を貯蔵するためのリザーバと；
入口と出口とを含むフィルタであって、前記フィルタ入口は前記リザーバと流体連通する、フィルタと；
入口と出口とを含む投与(dosing)ポンプであって、前記投与ポンプ入口は前記リザーバと流体連通し、前記液体の量を投与し(dose)、且つ、前記液体を圧送する(pump)ように構成された、前記投与ポンプと；
前記投与ポンプ出口と流体連通する分注ノズルであって、前記基板上に前記液体を分注するように構成された前記分注ノズルと；
入口と出口とを含む再循環ポンプであって、前記再循環ポンプ出口は、前記フィルタ入口と流体連通し、且つ、前記再循環ポンプ入口は、前記フィルタの出口と流体連通し、前記フィルタを介して前記液体を再循環させるように構成された再循環ポンプと；
を含むことができる。
【０００６】
基板上に液体を分注するための別の例示的装置は、
分注されるべき前記液体を貯蔵するためのリザーバと；
入口と出口とを含むフィルタであって、前記フィルタ入口は第１のバルブを介して前記リザーバと流体連通する、フィルタと；
入口と第１の出口と第２の出口とを含む投与ポンプであって、前記投与ポンプ入口は前記リザーバと流体連通し、且つ、前記投与ポンプの第２の出口は第２のバルブを介して前記フィルタ入口と流体連通し、前記液体の量を投与し、且つ、前記液体を圧送するように構成された前記投与ポンプと；
前記投与ポンプの第１の出口と流体連通する分注ノズルであって、前記基板上に前記液体を分注するように構成された前記分注ノズルと；
を含むことができる。前記投与ポンプは：
前記基板上に前記分注ノズルを介して前記液体を分注するように；及び
前記フィルタ入口における正圧(a  ppositive  pressure)を維持しながら、前記液体を濾過するため、前記フィルタに前記第２のバルブを介して前記投与ポンプから前記液体を交互に流し、且つ、前記液体を濾過しながら、前記投与ポンプをリロードするため、前記フィルタとトラップリザーバ(trap  reservoir)を介して前記リザーバから前記液体を流すように；
構成される。前記液体は、分注(dispense)あたり複数回、前記投与ポンプから、及び前記リザーバから交互に流される。
【０００７】
基板上に液体を分注するための別の例示的装置は、
分注されるべき前記液体を貯蔵するためのリザーバと；
入口と出口とを含む投与ポンプであって、前記投与ポンプ入口は前記リザーバと流体連通し、前記液体の量を投与し、且つ、前記液体を圧送するように構成された前記投与ポンプと；
前記投与ポンプ出口と流体連通する分注ノズルであって、前記基板上に前記液体を分注するように構成された前記分注ノズルと；
再循環ポンプと；
を含むことができる。前記再循環ループは、
前記リザーバと流体連通する入口と；
前記リザーバと流体連通する出口と；
再循環ポンプと；
フィルタと；
を含むことができる。前記再循環ポンプとフィルタとは、前記リザーバにおける前記液体を継続的に濾過するように構成され得る。
【０００８】
基板上に液体を分注するための別の例示的装置は、
分注されるべき前記液体を貯蔵するためのリザーバと；
入口と出口とを含むフィルタであって、前記フィルタ入口は前記リザーバと流体連通する、フィルタと；
入口と第１の出口と第２の出口と通気ポート(vent  port)とを含む液体空状態（liquid  empty,  ＬＥ）リザーバであって、前記ＬＥリザーバ入口は、第１のバルブを介して前記フィルタ出口と流体連通し、前記通気ポートは、圧力に対して前記ＬＥリザーバを選択的に開放するための第２のバルブを含み、且つ、第２の出口は第３のバルブを介して前記リザーバと流体連通する、液体空状態（ＬＥ）リザーバと；
入口と第１のポンプ出口と第２のポンプ出口とを含む投与ポンプであって、前記ポンプ入口は、前記ＬＥリザーバ第１の出口と流体連通し、且つ、前記第２のポンプ出口は、第４のバルブを介して前記フィルタ入口と流体連通し、前記投与ポンプは、前記液体の量を投与し、且つ前記液体を圧送するように構成された、投与ポンプと；
前記第１のポンプ出口と流体連通する分注ノズルであって、前記基板上に前記液体を分注するように構成される、前記分注ノズルと；
を含むことができる。
【０００９】
液体を供給するための装置は、
液体を貯蔵するためのメインリザーバと；
前記メインリザーバと流体連通する第１の液体空状態（ＬＥ）リザーバと；
前記第１のＬＥリザーバと流体連通するフィルタと；
前記フィルタと流体連通する第２のＬＥリザーバと；
前記第１のＬＥリザーバと前記第２のＬＥリザーバとに結合され、且つ、前記メインリザーバからの前記液体で、前記第１のＬＥリザーバと第２のＬＥリザーバを交互に満たすように構成された、駆動システムであって、前記第１のＬＥリザーバと第２のＬＥリザーバを交互に満たすと、前記フィルタにより前記液体を濾過させる、駆動システムと；
を含むことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態に係る処理システムの概略斜視図である。
【図２】本発明の実施形態に係る処理システムの概略平面図である。
【図３Ａ】本発明の実施形態に係る液体処理装置の概略断面図である。
【図３Ｂ】本発明の実施形態に係る液体処理装置の概略断面図である。
【図４Ａ】本発明の実施形態に係る再循環ポンプを包含する液体処理装置の概略断面図である。
【図４Ｂ】本発明の実施形態に係る再循環ポンプを包含する液体処理装置の概略断面図である。
【図５Ａ】液体処理システムのサイクルのタイミング図である（先行技術）。
【図５Ｂ】本発明の実施形態に係る液処理システムのサイクルタイミング図である。
【図６】本発明の実施形態に係る圧力予算(budget)最大化処理のフローチャートである。
【図７Ａ】本発明の実施形態に係るポンプ液空状態のタンクを包含する液体処理装置の概略断面図である。
【図７Ｂ】本発明の実施形態に係るポンプ液空状態のタンクを包含する液体処理装置の概略断面図である。
【図７Ｃ】本発明の実施形態に係るポンプ液空状態のタンクを包含する液体処理装置の概略断面図である。
【図７Ｄ】本発明の実施形態に係るポンプ液空状態のタンクを包含する液体処理装置の概略断面図である。
【図８】本発明の実施形態に係る液処理システムのサイクルタイミング図である。
【図９Ａ】本発明の実施形態に係るデュアルレジストタンクを含む液体処理装置の概略断面図である。
【図９Ｂ】本発明の実施形態に係るデュアルレジストタンクを含む液体処理装置の概略断面図である。
【図１０】本発明の実施形態に係るマイクロ分注ポンプシステムの概略断面図である。
【図１１】本発明の実施形態に係る、溶媒／レジスト混合システムの概略断面図である。
【図１２】本発明の実施形態に係る、混合チャンバの概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
いくつかの実施形態の詳細な説明
塗布(coating)及び現像装置は、フォトレジスト液でウエハをコーティングし、その後ウエハを現像するために使用することができる。本明細書で説明されるシステム及び方法は、（レジストの成分等の凝集を防止するために、）連続レジスト運動、及び高い濾過数（Ｆｎ）（ここで、Ｆｎは、フォトレジストがトラック上で濾過された（即ち、フィルタを介してプッシュされ、又はプルされた）回数の有効数である）を提供することにより、フォトレジストをプリントされたウエハ欠陥、例えばマイクロブリッジ形成欠陥に関連する欠陥など、を低下させることができる。
【００１２】
図１及び図２に示すように、塗布(coating)及び現像装置の一例は、
キャリアステーション１であって、それを介して、処理されるべき基板としての複数の（例えば、２５個の）ウエハＷを密封して収容することができる１つのキャリア１０がロードされ、及びアンロードされることができる、キャリアステーション１と；
キャリアステーション１から取り出されたウエハＷの上に、レジストをコーティングする処理、現像する処理、等を行うように構成することができる、処理部２と；
光にウエハＷの表面を曝露させるように構成することができる露光部４と；
処理部２と露光部４との間に接続されたインタフェース部３であって、ウエハＷをインタフェース部３と授受するように構成することができる、インタフェース部３と；
を包含することができる。
【００１３】
前記キャリアステーション１は、
その上に複数のキャリア１０が一列に配置されてよい、ステージ１１と、
前記ステージ１１から見て正面壁表面内に形成された開閉部１２と、
前記開閉部１２を介して前記キャリア１０からウエハＷを取り出すように構成することができる、デリバリ要素(delivery  element)Ａ１と、
を包含することができる。
【００１４】
前記インタフェース部３は、前後方向において、前記処理部２と前記露光部４との間に位置する、第１の搬送チャンバ３Ａ及び第２の搬送チャンバ３Ｂを含むことができる。第１の搬送チャンバ３Ａは、第１のウエハ搬送部３０Ａを含むことができ、第２の搬送チャンバ３Ｂは、第２のウエハ搬送部３０Ｂを含むことができる。
【００１５】
ハウジング２０に囲まれた前記処理部２は、前記キャリアステーション１の背面側に接続されてもよい。処理部２において、メイン搬送要素Ａ２及びＡ３は、正面から順に配置されてよい。前記メイン搬送要素Ａ２及びＡ３は、その中で、加熱及び冷却ユニットを複数の(multiple)レベルで積層することができる棚ユニットＵ１、Ｕ２、及びＵ３と、液処理ユニットＵ４及びＵ５との間でウエハＷを授受するように構成することができる。前記メイン搬送要素Ａ２及びＡ３は、隔壁２１で囲まれた空間内に配置することができ、前記隔壁２１は、
前記キャリアステーション１から見て前後方向に位置しり前記棚ユニットＵ１、Ｕ２、及びＵ３の側の表面部と；
以下に述べる右側(right)液処理ユニットＵ４、Ｕ５の側の表面部と；
左側表面を形成する裏面部と；
含むことができる。温度及び湿度を制御するユニット２２は、キャリアステーション１と処理部２との間、及び処理部２とインタフェース部３との間に配置され得る。温度及び湿度を制御する各ユニット２２は、それぞれのユニットにより使用される処理液の温度を調節するための装置と、温度及び湿度を調節するためのダクトと、を包含することができる。
【００１６】
前記棚ユニットＵ１、Ｕ２、及びＵ３はそれぞれ複数のレベルで(例えば１０レベルで)積層してもよい種々のユニットを包含することができる。前記種々のユニットは、前記液処理ユニットＵ４及びＵ５による処理の前及び／又は後に、処理を実行するように構成されてよい。例えば、前記ユニットは、ウエハＷを加熱する（ベークする）ための加熱ユニット（図示せず）及び／又はウエハＷを冷却するための冷却ユニット（図示せず）の総合体(a  synthesis)を包含することができる。図１に示すように、例えば、それに供給することによりウエハＷを処理するように構成された前記液処理ユニットＵ４及びＵ５は、
レジスト及び現像液を含有する薬液(chemical-liquid)容器１４を、反射防止膜でコーティングするための反射防止膜コーティングユニット（ＢＣＴ）２３と、
レジスト液でウエハＷをコーティングするためのコーティングユニット（ＣＯＴ）２４と、
そこに現像液を供給することにより、ウエハＷを現像するための現像ユニット（ＤＥＶ）２５と、
その他と、
を複数のレベル（例えば、５レベルで）積層することにより、形成することができる。前記コーティングユニット（ＣＯＴ）２４は、以下により詳細に記載されるように、液体処理装置５（又は４００、６００、又は８００）を包含することができる。
【００１７】
以上のように構成された前記コーティング及び現像装置を介するウエハ処理(processing)の一例は、以下のように進行することができる。先ず、ウエハＷを収容するキャリア１０がステージ１１上に載置されると、開閉部１２及びキャリア１０の蓋は開かれてよく、且つ、ウエハＷは、デリバリ要素Ａ１により取り出すことができる。その後、ウエハＷは、デリバリユニット（図示せず）を介して、棚ユニットＵ１の棚の１つであり得るメイン搬送要素Ａ２に送達することができる。前記ウエハＷは、コーティング処理の前処理であり得る、反射防止膜を形成する処理及び冷却処理に付すことができる。その後、ウエハＷは、コーティングユニット（ＣＯＴ）２４においてレジスト液でコーティングされてもよい。その後、ウエハＷは、メイン搬送要素Ａ２により、棚ユニットＵ１〜Ｕ３の棚の１つであり得る加熱ユニットに搬送されてよい。加熱ユニットにおいて、ウエハＷは加熱され（ベークされ）てよい。冷却した後、ウエハＷは、デリバリユニットを介して、インタフェース部３内にロードすることができる。インタフェース部３において、ウエハＷは、第１の搬送チャンバ３Ａのウエハ搬送部３０Ａ及び第２の搬送チャンバ３Ｂのウエハ搬送部３０Ｂにより、露光部４に搬送することができる。露光要素（図示せず）は、ウエハＷの表面に対向することができ、且つ、ウエハＷを露光することができる。露光された後、ウエハＷは逆の経路に沿ってメイン搬送要素Ａ２へ転送することができる。ウエハＷは現像ユニット（ＤＥＶ）２５により現像することができ、それにより、ウエハＷ上にパターンが形成される。その後、ウエハＷは、ステージ１１上に載置された元のキャリア１０に戻されてもよい。
【００１８】
図１及び図２のコーティング及び現像装置は、一例としてのみ提供される。以下に説明されるシステム及び方法は、図示されたコーティング及び現像装置、又はいくつかの実施形態における異なる構成を有するコーティング及び現像装置に適用することができる。
【００１９】
図３Ａ〜３Ｂは、液体処理装置５を示す。同様の液体処理装置は、米国特許公開番号２０１４／０１７４４７５（発明の名称「液体処理装置、液体処理方法、及び液体処理のための貯蔵媒体」。その全体が参照により本明細書に組み込まれる。）に詳細に記載される。
【００２０】
例示的液体処理装置５は、
処理液としてのレジスト液Ｌを収容するように構成することができる処理液容器６０と；
被処理基板としてのウエハにレジスト液Ｌを吐出する（供給する）ように構成することができる吐出ノズル７と；
前記処理液容器６０と前記吐出ノズル７を接続することができる供給導管５１と；
前記供給導管５１内に配置され、且つ、前記吐出ノズル７から吐出された前記レジスト液Ｌの供給を制御するように構成することができる供給制御バルブ５７と；
前記供給導管５１内に配置され、且つ、前記処理液容器６０から導かれた前記レジスト液Ｌを一時的に格納するように構成することができるバッファタンク６１と；
前記供給導管５１内に配置され、且つ、前記レジスト液Ｌを濾過するように構成することができるフィルタ５２と；
前記フィルタ５２の二次側に前記供給導管５１内に配置することができるポンプ７０と；
前記フィルタ５２二次側と前記ポンプ７０の一次側との間の接続部の上、前記供給管路５１の上に配置することができるトラップ(trap)タンク５３と；
前記ポンプ７０の吐出側と前記フィルタ５２の一次側とを接続することができる戻り(return)導管５５と；
前記フィルタ５２と前記トラップタンク５３に接続されたドレイン(drain)導管５６であって、それを通して前記レジスト液Ｌに発生した気泡を排出することができる、ドレイン導管５６と；
前記ポンプ７０と前記フィルタ５２との間の接続部分、前記ポンプ７０と前記吐出ノズル７との間の接続部分、及び前記ポンプ７０と前記戻り導管５５との間の接続部分にそれぞれ配置されてもよい第１〜第３のオンオフ(on-off)バルブＶ１〜Ｖ３と；
を包含することができる。前記装置５は、ポンプ７０、及び第１の、第２の、及び第３のオンオフ(on-off)バルブＶ１〜Ｖ３を制御するように構成することができる制御ユニット（図示せず）によって制御されてもよい。
【００２１】
ガス供給管５８は、窒素（Ｎ２）ガスのような不活性ガスのガス供給源６２に、及び処理液容器６０の上部に接続されてもよい。ガス供給管５８は、電空レギュレータＲ（例えば、圧力を変化させ、且つ、調節することができる圧力調整装置）を包含してもよい。電空レギュレータＲは、
制御部（図示せず）からの制御信号により動作されてもよい比例ソレノイドなどの操作(operation)ユニットと、
ソレノイドの動作によって開閉することができるバルブ機構と、
を包含することがでる。電空レギュレータＲは、バルブ機構を開閉することにより圧力を調整するように構成することができる。バッファタンク６１の上方部分に滞留したガスは、バッファタンク６１の上方部分に接続されたガス供給導管５８の部分によって大気に開放することができる。
【００２２】
電磁オンオフバルブＶ１１〜Ｖ１６などのバルブは、導管５１、５５、５６、及び５８に沿って配置されてもよい。例えば、バルブＶ１１は、電空レギュレータＲと処理液容器６０との間に配置されてもよい。バルブＶ１２は、処理液容器６０とバッファタンク６１との間に配置されてもよい。バルブＶ１３及びＶ１４は、バッファタンク６１とフィルタ５２との間に配置されてもよい。ドレイン導管５６は、バルブＶ１５とＶ１６を装備することができる。バルブＶ１１〜Ｖ１６及び電空レギュレータＲは、制御ユニット（図示せず）からの制御信号によって制御されてもよい。
【００２３】
バッファタンク６１は、上限液レベルセンサ６１ａと下限液レベルセンサ６１ｂとを含んでいてもよく、収容されたレジスト液Ｌのそれぞれ所定の液面位置（それぞれ、完全に満たされた位置及び補充を必要とする位置）を監視するように、且つ、収容されたレジスト液Ｌの残量を検出するように構成されていてもよい。レジスト液Ｌが処理液容器６０からバッファタンク６１に供給されながら、レジスト液Ｌの液面位置が上限液レベルセンサ６１ａによって検出されるとき、オンオフ(on-off)バルブＶ１１及びＶ１２は閉じられ、それにより、処理液容器６０からバッファタンク６１へのレジスト液Ｌの供給は停止される。他方、レジスト液Ｌの液面位置が下限液レベルセンサ６１ｂによって検出されるとき、オンオフ(on-off)バルブＶ１１及びＶ１２は開放され(opened)、それにより、処理液容器６０からバッファタンク６１へのレジスト液Ｌの供給は開始される。
【００２４】
同様の液体処理装置のための詳細な動作手順の例は、米国特許公開番号２０１４／０１７４４７５に記載される。液体処理装置５の基本的な動作は、以下のように要約することができる。ガス供給源６２からのガスは、処理液容器６０の圧力を維持する(pressurize)ことができ、レジスト液Ｌがバッファタンク６１に供給されるようにする。バッファタンク６１が十分にいっぱいになると、ポンプ７０は、バッファタンク６１からのレジスト液Ｌを、フィルタ５２を介し、トラップタンク５３を介し、且つ、供給制御バルブ５７内へ(out  into)と圧送する(pump)ことができる。供給制御バルブ５７は、基板上に堆積させる(deposition)ための吐出ノズル７にレジスト液Ｌを供給することができる。ノズル７及び／又は供給制御バルブ５７の内部からレジスト液Ｌが乾燥してしまうのを防止するために、堆積後、過剰のレジスト液Ｌを、供給制御バルブ５７及びノズル７からバッファタンク６１に、ポンプ７０によりポンプバックする(pumped  back)ことができる。
【００２５】
図３Ａ及び図３Ｂは、ポンプ７０が、リターン(return)（図３Ａ）及びリロード(reload)（図３Ｂ）においてフィルタ５２を介してレジスト液Ｌを循環させることができるプロセスを図示する。リターンにおいて(堆積後)、ポンプ７０は、レジスト液Ｌを、フィルタ５２を介し、且つ、オープンバルブＶ３を介してバックバッファタンク６１内に、プッシュバック(push  back)ことができる。バルブＶ１３は、レジスト液Ｌがフィルタ５２を通過するのを確保するために、リターン時に閉じることができる。リロードにおいて（堆積前）、ポンプ７０は、バックバッファタンク６１からレジスト液Ｌを、オープンバルブＶ３を介し、フィルタ５２を介し、且つ、オープンバルブＶ１を介して、供給制御バルブ５７及びノズル７まで引き抜く(pull  out)ことができる。バルブＶ１４は、レジスト液Ｌがフィルタ５２を通過するのを確保するために、リロード時に閉じることができる。この操作を行うことにより、液体処理装置５は、各堆積(deposition)につき２回、フィルタ５２を介してレジスト液Ｌを循環させることができる。以下に詳細に説明したように、液体処理装置５は、異なる動作をするように、例えば、各堆積につき２回以上フィルタ５２を介してレジスト液Ｌを循環させるように、制御ユニット（例えば、プロセッサ、メモリなどを備えたコンピュータ）より制御されてもよい。
【００２６】
前述の液体処理装置５の例において、濾過は、分注ポンプに連結される。この装置（arrangement）は、濾過(filtration)を製造使用の間、又はダミーディスペンス使用の間、ポンプサイクルの抑揚(cadence)に保持されるようにすることができる（ここで、ノズル内に置いて流体が停滞し、且つ、乾燥することを避けるため、基板の提供(present)なしに、流体がノズルから分注される）。この装置(arrangement）は、フィルタを交換する際に、所望のシステム全体のＦｎに到達するのに必要な始動ポンプサイクルの特定の数が存在し得ることを指示することができる。この装置(arrangement）のさらなる結果として、高精度分注ポンプは、フィルタ膜を介してプル又はプッシュすることに伴う圧力損失（ΔＰ）を克服するため、高い駆動圧力を作成できるようにする必要があるかもしれない。
【００２７】
上記液体処理装置５の例では、システムにおける体積(volume)の一部がＦｎ＝０で(即ち、未濾過)フィルタ内へ供給することができるので、Ｆｎは、５〜１０の間の漸近的応答を有することができる。
【００２８】
さらに、上記液体処理装置５の例における濾過は、濾過媒体に、正の（リターンステップ）圧力及び負の（リロードステップ）圧力の両方を適用することにより行うことができる。いくつかの液体処理装置５実施形態において、正圧のみが望ましい。（例えば、高い濾過品質を提供するため、及び／又は、フィルタ媒体を介した流量が、臨界閾値未満にΔＰを維持するのに十分ではない、大きな負圧を避けるため、である。臨界閾値は、キャビテーション又は液体のガス抜けの可能性をもたらし、及びしたがって、フィルタの下流の液体において気泡が形成する可能性をもたらす。）
【００２９】
図４Ａ〜４Ｂは、本発明の実施形態に係る再循環ポンプを包含する液体処理装置４００を示す。液体処理装置４００は、図３に関して上述した液体処理装置５と同様であるが、但し、さらにポンプ４１０を含む。例えば、ポンプ４１０は、フォトレジスト分注システム５に導入することができる。ここで、ポンプ４１０の入口は、フィルタ５２の出口から取得され、ポンプ４１０の出口は、フィルタ５２の入口にフィードバックされる。ポンプ４１０は、蠕動ポンプ、例えば又は、流体と接触している可動部のないポンプの他の何らかの種類（例えば、ダイヤフラムのペア、又はダイヤフラムとバルブ）、であり得る。ポンプ４１０は、システム内でレジスト材料の連続的な循環及び濾過(filtering)を提供するために、連続的に動作させることができる。分注ポンプのリロードの場合、ポンプ４１０はオンのままであるか、又は一時的にオフにすることができる。液体処理装置４００は、本質的に連続的正圧（pushing,押圧）濾過を有していてもよい。したがって、液体処理装置４００は、ポンプ４１０なしのシステムよりも大幅に高速で所望のＦｎに到達する可能性があり、且つ、ポンプ４１０なしのシステムの漸近Ｆｎ挙動に限定されるものではない。
【００３０】
図５Ａ〜５Ｂは、液体処理システムのサイクルのタイミング図である。液体処理システム５は、例えば、図示されたサイクルのいずれかに従って動作するため、制御ユニット（例えば、プロセッサ、メモリ、等を含むコンピュータ）により制御することができる。図５Ａは、１つのリターン(return)ステップ５２０と１つのリロード(reload)ステップ５３０とを有するポンプサイクル５００を示し、図３Ａ及び３Ｂに関して上で説明した動作と同様である。ポンプ７０は、容量Ｖｐｕｍｐを有することができる。レジストはウエハに圧送する(pumped)ことができ（５１０）、Ｖｄｉｓｐの体積（分注された体積）がシステムを出ていくようにする。ポンプ７０は、ウエハに圧送されなかった過剰のレジストを戻すことができ、フィルタ５２を介してある体積のレジストＶｐｕｍｐ−Ｖｄｉｓｐを通過させる。次に、ポンプ７０は、ステップ５３０においてレジストをリロードすることができ、及びそれにより、再びフィルタ５２を介してある体積のレジストＶｐｕｍｐを通過させる。１分注(dispense)当たりの総濾過量は、従って、２＊Ｖｐｕｍｐ−Ｖｄｉｓｐである。
【００３１】
図５Ｂはポンプサイクル５５０を示し。ここで、分注サイクルにおけるデッドスペース（すなわち、ノズル７が基板上にレジストを堆積する間の、ポンプ７０とフィルタ５２の休止時間(down  time)）を、フィルタ５２を介して流体を循環させるのに使用することができる。これは、装置５の場合の漸近Ｆｎに到達するまでの時間要件を減少させる試みにおいて、１ポンプサイクル当たり１つのリターンステップ／１つのリロードステップという原理（製造又はダミーディスペンスの両方について）を破る可能性がある。ポンプサイクルにおけるデッドタイムの間、追加のリターン／リロードステップを追加してよい（いずれの複数のステップ５２５／５３５が可能ではあるが、例えば、同一のポンプシーケンス内で、１ポンプサイクル５５０当たり２つのリターンステップ５２５と２つのリロードステップ５３５である）。これは、図５Ａのポンプサイクル５００よりも高い濾過速度を必要とするかもしれない。濾過速度要件を弱めるため、それでもポンプサイクル当たりのフィルタ５２を介して体積をより多くプッシュするため、ポンプ体積全体のパーセンテージである固定されたリターン／リロード体積が、図６に関して以下に記載されたように選択することができる。（例えば、必要とされるリターン／リロード組み合わせの数で割られた総ポンプ体積よりも大きい、ある体積を選択することができる（２つのリターン／リロード組み合わせの場合、ポンプ体積の＞５０％、３つのリターン／リロード組み合わせの場合、ポンプ体積の＞３３．３％、等。））。全ての組合せは等価であると仮定されるならば、これは、いずれか１つの組合せの場合、最小体積要件を設定することができる。同様に、装置５は、１つの組合せにおいて、全容量をリターン／リロードすることができ、且つ、濾過速度要件をバランスしながら、ポンプサイクル当たりの増加した濾過体積の類似の利益を得るためには、第２の組合せ、又はそのいずれの組合せにおいて、部分的なポンプ体積リターン／リロードステップを行うことができるだけである。図５Ｂの例示的なポンプサイクル５５０は、２つのリターンステップ５２５（各ステップは、レジスト０．７＊Ｖｐｕｍｐの体積を濾過する）と、２つのリロードステップ５３５（各ステップは、レジスト０．７＊Ｖｐｕｍｐ＋Ｖｄｉｓｐの体積を濾過する）とを包含する。堆積(deposit)のための総濾過量は、２．８＊Ｖｐｕｍｐ＋Ｖｄｉｓｐである。
【００３２】
図６は、本発明の実施形態に係る圧力予算(budget)最大化処理を示す。動作を最適化するために、ポンプ体積全体のパーセンテージである固定されたリターン／リロード体積を選択するために、フィルタ５２を横切る圧力低下を測定することができる。フィルタ５２を横切る圧力低下は、ポンプ７０のリロード及びリターンの間に測定することができる（５７０）。圧力低下は、フィルタ５２の両側における圧力を検出することにより測定することができる。入口圧力は、フィルタ５２とＶ１３との間のライン５１に置かれた圧力変換器又は他のセンサＰ１を使用して決定され、不活性ガス供給源６２において圧力計から算出され、又は、バッファタンク６１が通気されていることが知られている場合、０に設定することができる。出口圧力は、フィルタ５２とポンプ７０との間のライン５１に置かれた圧力変換器又は他のセンサＰ２を使用して決定され、リロード及びリターン操作に必要とされるポンプ７０パワーから算出され、又は、ポンプ７０内の真空又は油圧ライン内部における圧力変換器から算出される。リターン体積は、レジストをリロード及びリターンするために利用可能である、圧力設定点及び分注(dispenses)間のサイクルタイムを達成することに基づいて算出することができる（５８０）。（例えば、制御ユニットのメモリにおける）ポンプ７０設定は、１サイクル当たり一定のリターン／リロード体積を維持するように調整されてもよい（５９０）。例えば、これらのポンプ７０設定は、リロード速度(speed)、リターン速度、及び／又は１サイクルあたりリロード／リターン操作の数を包含することができる。流体がフィルタを通過するので、このプロセス５６０を繰り返すことができる。
【００３３】
例えば、
９０％の濾過効率、
２００ｋＰａの圧力予算(budget)、
４：１のリターン／分注比、
フィルタ５２を横切る圧力降下と流量との間の線形関係、
（フィルタを横切るΔＰ）／（流量）により定義される流れ抵抗ＦＲ＝１０ｋＰａ／（ｃｃ／ｍｉｎ）、
分注と分注との間に許されたサイクルタイムＣＴ  １分、
６ｃｃ最大ポンプ体積、
１ｃｃ分注体積、及び
濾過のために使用することができるサイクルの小数部(fraction)ＣＦ  ０．７５、
と仮定すると、圧力予算は、以下のようにして最大にすることができる。濾過された体積ＶＦは、リターン体積＋リロード体積と等しくすることができる。濾過圧力降下ＦＰは、（ＦＲ＊ＶＦ）／（ＣＦ＊ＣＴ）に等しくすることができる。図３Ａ及び３Ｂの液体処理装置５にこれを適用すると、圧力予算を最大化することなしに、
ＶＦ＝４＋５＝９ｃｃ、及び
９＊１０／（０．７５＊１）＝１２０ｋＰａ
を示すことができる。従って、前記２００ｋＰａの圧力予算の４０％が未使用である。圧力予算は、（例えば、より小さい容積３．５ｃｃを４回、濾過するためのサイクルにおけるデッドスペースを利用することにより）ＶＦ＝３．５＊４＋１＝１５ｃｃと設定することにより最大化することができる。よって、ＦＰ＝１５＊１０／（０．７５＊１）＝２００ｋＰａ。
【００３４】
図７Ａ〜７Ｄは、本発明の実施形態に係るポンプ液体空状態（ＬＥ）タンク６１０を包含する液体処理装置６００を示す。この実施形態は、先に説明した実施形態のトラップタンク５３を、大気に通気することができるポンプＬＥタンク６１０に変更することにより、及び前記ポンプＬＥタンク６１０からのフィルタ媒体を閉じるためバルブＶ６０を追加することにより、リロード動作においてフィルタ５２膜を介してレジストをプルすること(pulling)（負圧濾過）を回避できる。これは、ゼロ圧力「高速」(fast)リロードを可能にする。バルブＶ６０によりポンプ７０から切り離されたフィルタ５２を、及び大気に通気されたポンプＬＥタンク６１０を、リロードし、それにより、本質的にゼロ圧力、すなわち、リロード中に作成された無視できる程度の負圧、において分注ポンプリロードを可能にすることにより、ゼロ圧力「高速」リロードは達成することができる。これは、（選択された濾過速度に応じて）装置６００の場合、漸近Ｆｎに到達するまでの時間要件を減少させることができ、同様に、装置６００をほぼ完全にすべてのプッシュ、すなわち、正圧濾過システム、にシフトする。
【００３５】
図８は、本発明の実施形態に係る液処理システムのサイクルタイミング図７００である。ステップ(step)１（リターンステップ）において、ポンプＬＥタンク６１０は、レジストをプッシュする(pushing)ことによってはじめのうちは補充することができる。これは図７Ａに示される（LE  Refill）。一旦充填したら、ステップ２において、残留するポンプ７０内容は、フィルタ５２を介してそれらをプッシュする(pushing)ことにより、ボトルに向けてプッシュバックすることができる。これは図７Ｂに示される。ステップ３において、ポンプ７０は、ポンプＬＥタンク６１０からリロードすることができる（ゼロ圧力「高速」リロード）。これは図７Ｃに示される。ステップ４において、レジスト材料は、ノズル７を介して基板に分注することができる。ステップ５において、短い負圧リロードステップは、基板に分注された体積を補償するために行われてもよい。これは図７Ｄに示される。ステップ１〜３は、高いＦｎを維持するために繰り返すことができる。ゼロ圧力「高速」リロードステップは、何の濾過を行わないとするならば、上述した実施形態と同等の、ポンプサイクル当たりの濾過体積を得るためには、少なくとも２つの再循環リターンステップ、少なくとも２つの再循環ゼロ圧力「高速」リロードステップ、及び少なくとも１つの負圧体積分注された(dispensed)リロードステップを、ポンプサイクル毎に行ってもよい。ポンプサイクルにおけるいずれのデッドタイムに応じて、且つ、高速リロードが確実に満たすべき分注ポンプのためのいくらかの時間を必要とするかもしれないならば、追加のリターン/リロードサイクルを達成すること（例えば、同一のポンプシーケンス内でポンプサイクル当たり、２つの再循環リターンステップ、２つの再循環ゼロ圧力「高速」リロードステップ、及び１つの負圧体積分注リロードステップ）は、より高い濾過速度が選択されることを必要とするかもしれない。
【００３６】
図９Ａ〜９Ｂは、本発明の実施形態に係るデュアルレジストタンク６１及び８６１を包含する液体処理装置８００を示す。この実施形態において、第２の濾過ステップを、液体処理装置８００に加えてもよい。具体的には、第２のフィルタ８５２により行われたプレポンプカート(pre-pump  cart)濾過ステップが、装置８００によって達成可能なＦｎを大幅に増加させることができる。この第２の濾過ステップを実施可能にするため、第２のボトルフィードＬＥタンク８６１、第２のフィルタ８５２、及びバルブＶ８０〜Ｖ８５（及び制御ユニとのための制御ロジック及び／又はソフトウェア）を支持することを、追加してもよい。タンク６１及び８６１は、タンク導管８５０を介して互いに結合されてもよい。タンク６１及び８６１は、（例えば流体ドライバとしてＮ２ガスで）交互に、連続的に充填する／空状態にする(emptied)ことができる。空状態のＬＥタンク６１、８６１は、大気に対してその通気口(vent)を開くことができ、満タンの(full)ＬＥは、追加された第２のフィルタ８５２を介して、且つ、空状態の(empty)ＬＥタンク６１、８６１内に、満タンＬＥタンク６１、８６１からのレジストをプッシュするため、それに供給されたＮ２を有し得る。一旦空状態のＬＥタンク６１、８６１が満タンになると、制御ユニットは、今度は満タンになったＬＥタンク６１、８６１が、第２のフィルタ８５２を介して、レジストをプッシュするのを可能にするため、且つ、今度は空状態になったＬＥタンク６１、８６１に戻る(back)のを可能にするため、必要なバルブを切り替えることができる。図９Ａは、タンク８６１が満タンなった状態における装置８００を示し、図９Ｂは、タンク６１が満タンなった状態における装置８００を示す。ポンプ７０は、リロードする必要がある場合、その時さらに(more)満タンであるＬＥタンク６１、８６１からプルすることができる。第２のフィルタ８５２を介して流体を循環することにより、はるかに高いＦｎが達成されてもよい。この装置８００は、デュアルＬＥタンク６１、８６１及び第２のフィルタ８５２装置(arrangement)からの持続的陽圧（プッシュ(pushing））濾過を本質的に有してよく、高いＦｎを達成することができ、且つ、漸近Ｆｎ挙動に限定され得ない。
【００３７】
図１０は、本発明の実施形態に係るマイクロ分注ポンプシステム９００を示す。このシステム９００は、実際のポンプの駆動圧要件から分注ポイント（即ち、分注ノズル）まで、フィルタを介して化学物質(chemical)をプッシュ又はプルするための駆動圧要件を分離することができ、それは、別々の特殊用途のポンプをこれら２つの目的に専用化することによってである。高圧濾過の要件をなくすことにより、分注ポンプ９２０は、分注ポイント（例えば、ノズル７）のより近くに位置してよい。前記分注ポイントは、ヘッド圧のビルドアップ及びポンプストローク／分注フロー遅延時間を排除し、且つ、分注ポンプ９２０とノズル７との間の配管距離が常に同じであり得るので、より一貫性のある「カップからカップまでの(cup-to-cup)」分注マッチングを確実にする。分注ポイント真後ろに位置した高精度なマイクロポンプ９２０は、はるかに低い圧力ポンプの仕様を可能にし、及び従って、はるかに優れた流量、及び開始・停止制御、をもたらす。追加された流量と体積制御はまた、ノズル７チップ直径選択のためのより多くの柔軟性（例えば、さらに小さな内径ノズルチップを選択する能力）を可能にすることができ、コーティング欠陥、例えば分注末端のドリップ又はノズル７チップに付いて離れない乾燥したフォトレジストなど、の可能性を低減することができる。追加されたポンプ／分注制御は、可変流量分注を可能にすることができる。レジスト濾過は、連続ループにおいてポンプＬＥタンク６１０からフィルタ５２を介してレジストを駆動する、濾過駆動ポンプ９７０（例えば、蠕動ポンプなど）を使用する、持続的に循環する正圧（プッシュ(pushing)）濾過ループ９１０により提供することができる。このシステム９００は、連続循環にキンする高Ｆｎに到達する可能性があり、且つ、連続循環は、分注システム全体を圧力下に配置することができ、リロード中にプルする(pulling)負のヘッド圧から、マイクロポンプ９２０を緩和する（例えば、リロードは本質的にゼロ有効圧力リロードであってよく、これはポンプ９２０の寿命を延長する）。
【００３８】
図１１は、本発明の実施形態に係る、溶媒／レジスト混合システムを示す。この混合システム１０００は、上述した実施形態のいずれにおいても、ノズル７に供給導管５１内に配置することができる。混合システム１０００は、基板上に適用する前に、溶媒での希釈を介して、様々な用途(applications)において、単一濃度のレジストを使用できるようにするため、ノズル７における使用溶媒／レジスト混合のポイントを提供することができる。参考のために、フォトレジストは、最終的な厚さ(thickness)の範囲対象に合わせた特定の粘度で、ボトルで販売されてよく、且つ、多くの場合、フォトレジストの価格は粘度に依存しない（即ち、濃縮レジストの費用は、希釈レジストと同じである）。混合システム１０００は、効率性を提供することができ、処理装置が、処理タイプ間で容易に切り替わることを可能にすることができる。混合システム１０００は、
インライン(inline)混合チャンバ１０１０、
前記混合チャンバ１０１０への溶媒供給システム１０２０、
前記混合チャンバ１０１０へのフォトレジスト供給システム１０３０、及び
前記混合チャンバ１０１０から分注ポイント（即ち、分注ノズル７）までのパス、
を包含することができる。混合チャンバ１０１０を出ていく前に、溶媒とフォトレジストの完全な混合が生じるように、混合チャンバ１０１０は構成することができる。
【００３９】
図１２は、本発明の実施形態に係る、混合チャンバ１０１０を示す。混合チャンバ１０１０は、２つの入口、溶媒供給システム（１０２０）の入口（１０２５）及びフォトレジスト供給システム（１０３０）の入口（１０３５）、を包含することができる。各入口１０２５、１０３５は、それぞれ電気機械式フローバルブ１０２６、１０３６を包含することができる。これらのフローバルブを使用する溶媒とレジストのフローを変化させると、溶媒に対するレジストの比率を決定することができる。フローバルブは、処理装置の制御ユニット又は別々のコントローラ（例えば、プロセッサ、メモリ、等を含むコンピュータ）により制御することができる。混合チャンバ１０１０はまた、選択された比率で溶媒とレジストを混合することができるミキサ１０４０を包含することができる。前記ミキサ１０４０は、例えば、流れ分割又は半径方向混合を介して化学物質を混合するスタティックミキサーであってもよい。他の実施形態において、ミキサ１０４０は、保持タンクとスターラ（例えば、ＰＴＦＥコーティングしたマグネチックスターラ）を含むことができる。一旦混合後、希釈されたレジストは、ミキサ１０４０から出ていき、基板に堆積させるためのノズル７に進入する。
【００４０】
様々な実施形態を説明したが、それらは限定ではなく例として提示されていることが理解されるべきである。形態及び詳細における様々な変更が、精神及び範囲から逸脱することなくなされ得ることが、当業者には明らかであろう。実際には、上記説明を読んだ後、代替的な実施形態を実装する方法が関連技術の当業者には明らかであろう。
【００４１】
また、機能性及び利点を強調表示する任意の数値は、例示目的のみのために提示されていることを理解すべきです。開示された方法論及びシステムは、それぞれ、それらが示される以外の方法で利用することができるように十分に柔軟で構成可能です。
【００４２】
用語「少なくとも１つ」は、多くの場合、明細書、特許請求の範囲及び図面において使用することができるが、用語「a」、「an」、「the」、「said」等は、明細書、特許請求の範囲及び図面中で「少なくとも１つの」又は「前記少なくとも１つの」を意味する。
【００４３】
最後に、表現「のための手段」又は「のためのステップ」を含むクレームのみが３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．１１２（ｆ）において解釈されることが出願人の意図である。表現「のための手段」又は「のためのステップ」を明示的に副内クレームは、３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．１１２（ｆ）において解釈されるべきではない。
【符号の説明】
【００４４】
７  分注ノズル；ノズル１
５１０  レジストをウエハに圧送する(pump)ステップ
５２０、５２５  リターン(return)ステップ
５３０、５３５  リロード(reload)ステップ
５７０  ポンプのリロード及びリターンの間に測定されたフィルタを横切る圧力低下
５８０  圧力設定点、及び分注と分注との間のサイクルタイムを達成することに基づき、算出されたリターン体積であって、化学物質(chemical)をリロード及びリターンするため、利用可能なリターン体積。
５９０  サイクル当たりのリターン／リロード体積を維持するように調整された、ポンプソフトウェア設定（リロード速度、リターン速度、及び１サイクルあたりのリロード／リターン操作の数）。
６１０  ポンプＬＥタンク
９１０  ループは、継続的に流体を再循環させる。
９７０  濾過駆動ポンプ
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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