(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を出射する発光部と、
前記レーザ光の光軸に対して傾斜した面の再生像を生成するホログラムと、
前記ホログラムの再生像形成面に配置された受光部と、
前記受光部で受けた光の位置に基づき対象物の位置を計測する計測部と、
を備えたことを特徴とする位置計測装置。
【請求項２】
前記発光部は、ライン状の前記レーザ光を出射し、
前記受光部は、複数の画素を２次元配列したイメージセンサを有することを特徴とする請求項１記載の位置計測装置。
【請求項３】
前記レーザ光と前記対象物との相対的な位置を前記レーザ光のライン状に延びる方向と直交する方向に移動させる走査手段をさらに備えたことを特徴とする請求項２記載の位置計測装置。
【請求項４】
前記発光部は、点状の前記レーザ光を出射し、
前記受光部は、複数の画素を直線上に並べたラインセンサを有し、
前記発光部から出射された前記レーザ光を前記対象物に走査させるとともに、前記レーザ光の前記対象物での散乱光を前記ホログラムに対して一定の角度で入射して前記ラインセンサ上に結像させるよう光路を調整する可動ミラーをさらに備えたことを特徴とする請求項１記載の位置計測装置。
【請求項５】
前記ホログラムと、前記受光部と、の間に設けられ、前記ホログラムによる前記再生像を拡大するレンズをさらに備えたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の位置計測装置。
【請求項６】
前記ホログラムは、前記光軸に対して第１角度で傾斜した第１傾斜面を再生する第１領域と、前記光軸に対して前記第１角度とは異なる第２角度で傾斜した第２傾斜面を再生する第２領域と、有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の位置計測装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対象物の表面に照射したレーザ光の反射光及び散乱光を受けて、対象物の表面の位置を計測する位置計測装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、測定対象物の表面にレーザ光を照射して、反射光や散乱光をイメージセンサで受け、測定対象物の表面の位置を三角測量法によって演算する位置計測装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
図８は、三角測量法を用いた非接触式の位置計測装置を例示する模式図である。
図８に表したように、この位置計測装置は、測定対象物であるワークＷに向けてレーザ光ＬＳ１を出射する発光部１０と、レーザ光ＬＳ１の光軸とは非平行な光軸上に設けられた受光部３０と、が設けられる。また、発光部１０から出射されたレーザ光ＬＳ１を集束させる投光用レンズ１１と、ワークＷで反射及び散乱した光を受光部３０に結像させる受光用レンズ１２が設けられる。投光用レンズ１１、受光用レンズ１２及び受光部３０のそれぞれの配置及び角度は、シャインプルーフの法則に従って決定される。
【０００４】
この位置計測装置によってワークＷの位置を計測するには、発光部１０からワークＷに向けてレーザ光ＬＳ１を出射する。そして、このレーザ光ＬＳ１のワークＷでの反射光及び散乱光を受光部３０で取り込む。位置計測装置では、発光部１０と受光部３０との間に視差Ｄが設けられているため、受光部３０で取り込んだ位置情報Δｘ、焦点距離ｆ及び視差Ｄに基づき三角測量法を用いてワークＷの変位Ｌを求めることができる。
【０００５】
また、特許文献２には、ホログラムを用いた距離測定装置が開示されている。この距離測定装置では、光源から発生される光の光軸上に配される複数の点をそれぞれ別の点に結像するよう作用するホログラムが用いられる。この距離測定装置では、光源から測定対象物に光を照射し、測定対象物からの反射光をホログラムを介して光検出手段で検出する。そして、光検出手段で検出した光の結像位置に基づき、測定対象物の光軸上での距離を計測する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１３９３１１号公報
【特許文献２】特開平６−１８５９７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載される位置計測装置では、シャインプルーフの法則に基づきレンズの焦点距離の確保や、受光部への入射角などの制約を受けるため、光学的及び構造的に複雑になったり、装置の大型化を招いたりといった問題がある。また、特許文献２に記載される距離測定装置では、光軸上に沿った点を別の点に結像させるホログラムを用いているため、光検出手段、ホログラム及び測定対象物を直線的に配置する必要がある。このため、測定範囲が狭く、装置構成上の制約が多いとともに、測定対象物の広い範囲を測定するには多くの時間を要するという問題がある。
【０００８】
本発明の目的は、小型かつ簡単な構成で測定対象物の表面の位置を短時間で計測することができる位置計測装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の位置計測装置は、レーザ光を出射する発光部と、光軸に対して傾斜した面の再生像を生成するホログラムと、ホログラムの再生像形成面に配置された受光部と、受光部で受けた光の位置に基づき対象物の位置を計測する計測部と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
このような構成によれば、再生像として傾斜面を生成するホログラムを用いているため、測定対象物に照射されたレーザ光の反射光及び散乱光を、このホログラムを介して受光部で受けると、対象物のレーザ光が照射された位置と対応した傾斜面の像位置を検出することができる。計測部では、対象物の光軸上の位置と、受光部で検出した像位置との対応関係から、対象物の位置を求めることができる。
【００１１】
本発明の位置計測装置において、発光部は、ライン状のレーザ光を出射し、受光部は、複数の画素を２次元配列したイメージセンサを有していてもよい。このような構成によれば、対象物に照射されたライン状のレーザ光の反射光及び散乱光をホログラムを介してイメージセンサで受けることで、対象物のレーザ光の照射位置に沿った連続的な高さを計測することができる。
【００１２】
本発明の位置測定装置において、レーザ光と対象物との相対的な位置をレーザ光のライン状に延びる方向と直交する方向に移動させる走査手段をさらに備えていてもよい。このような構成によれば、対象物に照射されたライン状のレーザ光を走査手段によって走査することで、対象物のレーザ光の照射位置に沿った３次元形状を計測することができる。
【００１３】
本発明の位置計測装置において、発光部は、点状のレーザ光を出射し、受光部は、複数の画素を直線上に並べたラインセンサを有し、発光部から出射されたレーザ光を対象物に走査させるとともに、レーザ光の対象物での散乱光をホログラムに対して一定の角度で入射してラインセンサ上に結像させるよう光路を調整する可動ミラーをさらに備えていてもよい。このような構成によれば、可動ミラーによって点状のレーザ光を走査することで、対象物のレーザ光の照射位置に沿った連続的な高さを計測することができる。
【００１４】
本発明の位置計測装置において、ホログラムと、受光部と、のあいだに設けられ、ホログラムによる再生像を拡大するレンズをさらに備えていてもよい。このような構成によれば、対象物に照射されたレーザ光の反射光及び散乱光をホログラムを介して受光部で受ける際に、像位置の変化を拡大して捉えることができる。
【００１５】
本発明の位置計測装置において、ホログラムは、光軸に対して第１角度で傾斜した第１傾斜面を再生する第１領域と、光軸に対して第１角度とは異なる第２角度で傾斜した第２傾斜面を再生する第２領域と、有していても良い。
【００１６】
このような構成によれば、対象物に照射されたレーザ光の反射光及び散乱光をホログラムの第１領域を介して受光部で受ける場合と、第２領域を介して受光部で受ける場合とで、位置検出の範囲及び解像度を変更することができる。すなわち、第１角度及び第２角度が、光軸に対して平行に近づくほど位置検出の範囲は広がる。一方、第１角度及び第２角度が、光軸に対して直角に近づくほど位置検出の解像度は高くなる。したがって、ホログラムにおいてレーザ光の反射光及び散乱光を通過させる領域を、第１領域にするか、第２領域にするかによって、位置検出の範囲及び解像度を選択できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１実施形態に係る位置計測装置を例示する構成図である。
【図２】ホログラムの製造方法を例示する模式図である。
【図３】位置計測方法を説明する模式図であり、（ａ）は計測の状態を表す図、（ｂ）は受光信号の例を示す図である。
【図４】イメージセンサを用いた装置構成の例を示す模式図である。
【図５】ラインセンサを用いた装置構成の例を示す模式図である。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は、第２実施形態に係る位置計測装置を例示する構成図である。
【図７】第３実施形態に係る位置計測装置を例示する構成図である。
【図８】三角測量法を用いた非接触式の位置計測装置を例示する模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。
【００１９】
〔第１実施形態〕
図１は、第１実施形態に係る位置計測装置を例示する構成図である。
図１に表したように、本実施形態に係る位置計測装置１は、発光部１０と、ホログラム２０と、受光部３０と、計測部４０とを備える。位置計測装置１は、対象物であるワークＷにレーザ光ＬＳ１を照射して、ワークＷの表面で反射及び散乱した光（以下、検出光ＬＳ２と言う。）を受けることで、レーザ光ＬＳ１が照射されたワークＷの表面の位置を非接触で計測する装置である。
【００２０】
発光部１０は、レーザ光ＬＳ１を出射するレーザ光源を有する。発光部１０は、計測の際にワークＷに向けてレーザ光ＬＳ１を出射する。
【００２１】
ホログラム２０は、発光部１０から出射されるレーザ光ＬＳ１の光軸ｃを遮らない位置に配置される。このホログラム２０は、レーザ光ＬＳ１の光軸ｃに対して傾斜した面（傾斜面）を再生像として生成するものである。すなわち、ホログラム２０に再生照明光を照射すると、ホログラム２０の再生像形成面Ｆ１には所定の傾斜面の像が現れる。
【００２２】
受光部３０は、複数の画素を２次元配列したイメージセンサや、１次元配列したラインセンサを有する。イメージセンサ及びラインセンサとしては、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）やＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）などが用いられる。受光部３０は、ホログラム２０の再生像形成面Ｆ１に配置される。
【００２３】
ホログラム２０は、ワークＷ側である第１面２０ａと、ワークＷとは反対側の第２面２０ｂとを有する。本実施形態において、受光部３０は、ホログラム２０の第２面２０ｂ側に配置される。これにより、受光部３０は、ホログラム２０を透過した光によって形成される像（再生像）の光を検出する。
【００２４】
計測部４０は、受光部３０で受けた光の位置に基づき、ワークＷの位置を計測する。ワークＷの位置とは、レーザ光ＬＳ１の光軸ｃに沿った位置（高さ）のことである。レーザ光ＬＳ１の光軸ｃ上におけるワークＷの表面の位置によって、ワークＷの表面で反射及び散乱した検出光ＬＳ２のホログラム２０への入射位置が異なる。つまり、ワークＷと発光部１０との距離が近い場合と遠い場合とで、ワークＷの表面で反射及び散乱した検出光ＬＳ２によるホログラム２０の再生像の位置が異なる。したがって、計測部４０は、ワークＷの位置（高さ）と、受光部３０で受けた光の位置との間の対応関係に基づき、受光部３０で受けた光の位置から、ワークＷの位置（高さ）を取得する。
【００２５】
このように、傾斜面を再生像とするホログラム２０を介して検出光ＬＳ２を受光することで、ワークＷのレーザ光ＬＳ１が照射された位置と対応する傾斜面の像の位置（像位置）を受光部３０で検出することができる。本実施形態の構成では、レーザ光ＬＳ１のワークＷへの照射位置（反射光及び拡散光の発生位置）をホログラム２０の再生照明光の発光位置と見なすことができる。したがって、ホログラム２０の再生像形成面Ｆ１には、レーザ光ＬＳ１のワークＷ上の照射位置から再生照明光が入射した場合と同様な像が現れる。この像は、点状のレーザ光ＬＳ１の場合には照射位置に対応した傾斜面の点状の像として現れ、ライン状のレーザ光ＬＳ１の場合には照射位置に対応した傾斜面のライン状の像として現れる。像として現れる位置は、光軸ｃ上のワークＷの位置（高さ）と対応した傾斜面の位置と等しい。この特性を利用して、計測部４０は、受光部３０で受けた光の位置に基づき、ワークＷの光軸ｃ上の位置（高さ）を求めることができる。
【００２６】
本実施形態に係る位置計測装置１では、傾斜面を再生像とするホログラム２０を用いてワークＷの位置を計測するため、シャインプルーフの法則に基づきレンズを配置する構成に比べて装置の小型化を達成することができる。また、傾斜面を再生像とするホログラム２０を利用するため、傾斜面に対応した領域を計測領域にすることができ、広い範囲を短時間で計測することができる。
【００２７】
次に、ホログラム２０の製造方法について説明する。
図２は、ホログラムの製造方法を例示する模式図である。
本実施形態に係る位置計測装置１で適用されるホログラム２０を製造するには、ホログラム２０となる記録媒体２００に対向して傾斜面Ｓを有する物体ＯＢを配置する。次に、物体ＯＢに物体光となるレーザ光ＬＳ１０を照射するとともに、記録媒体２００に参照光となるレーザ光ＬＳ２０を照射する。これにより、物体ＯＢの傾斜面Ｓで反射したレーザ光ＬＳ１０と、参照光となるレーザ光ＬＳ２０とが干渉する。この干渉による干渉縞を記録媒体２００で記録する。これにより、ホログラム２０が製造される。なお、ホログラム２０は、上記以外の方法、例えば、コンピュータを用いてデジタル的に作成することも可能である。
【００２８】
次に、本実施形態に係る位置計測装置１を用いたワークＷの位置計測方法について説明する。
図３は、位置計測方法を説明する模式図であり、（ａ）には位置計測装置１による計測の状態が表され、（ｂ）には受光信号の例が表される。なお、ここでは、受光部３０としてイメージセンサを用いる場合を例とする。
【００２９】
先ず、図３（ａ）に表したように、本実施形態に係る位置計測装置１を用意し、レーザ光ＬＳ１の光軸ｃ上にワークＷを配置する。次に、ワークＷの表面に発光部１０からレーザ光ＬＳ１を照射する。ここで、レーザ光ＬＳ１は、点状であっても、ライン状であってもよい。点状のレーザ光ＬＳ１の場合には、ワークＷとレーザ光ＬＳ１との相対位置を変化させる。これにより、レーザ光ＬＳ１の照射位置を走査することができる。
【００３０】
ワークＷの表面にレーザ光ＬＳ１を照射した状態で、ワークＷの表面でレーザ光ＬＳ１が反射及び散乱した検出光ＬＳ２をホログラム２０を介して受光部３０で取り込む。ホログラム２０への検出光ＬＳ２の入射位置によってホログラム２０を透過したあとの光の位置が変わり、受光部３０で検出される。具体的には、レーザ光ＬＳ１が照射されるワークＷの表面の光軸ｃに沿った位置の変化が、ホログラム２０の再生像の傾斜面に沿った位置の変化に変換される。
【００３１】
次に、受光部３０で取り込んだ光の位置に基づき、計測部４０によってワークＷの位置（高さ）を求める。受光部３０によって取り込んだ光の位置（傾斜面の位置）は、ワークＷの光軸ｃ上の位置と対応する。計測部４０は、この対応関係からワークＷの位置を求める。
【００３２】
図３（ａ）に示すワークＷの例では、半円筒型の表面を計測面としている。ここで、半円筒の幅方向をＸ方向、半円筒の延びる方向をＹ方向、半円筒の表面の高さ方向をＺ方向とする。点状のレーザ光ＬＳ１の場合、Ｘ方向にレーザ光ＬＳ１を走査する。ライン状のレーザ光ＬＳ１の場合、Ｘ方向に延びるライン状のレーザ光ＬＳ１を照射する。
【００３３】
ワークＷの表面に照射されたレーザ光ＬＳ１が反射及び散乱した検出光ＬＳ２をホログラム２０を介して受光部３０で取り込むと、イメージセンサの第１方向にワークＷのＸ方向の像位置が現れ、第１方向と直交する第２方向にワークＷのＺ方向の像位置が現れる。
【００３４】
図３（ｂ）には、イメージセンサで受光した信号の例が表される。この信号がワークＷにレーザ光ＬＳ１が照射された位置での高さを表している。イメージセンサで受光する信号は、ホログラム２０の再生像における傾斜面を介して検出光ＬＳ２の座標を変換した信号である。このようなイメージセンサの受光位置に基づき、ワークＷのレーザ光ＬＳ１が照射された位置での断面相当の形状が得られることになる。
【００３５】
次に、具体的な装置構成の例について説明する。
図４は、イメージセンサを用いた装置構成の例を示す模式図である。
図４に示す装置構成において、本実施形態に係る位置計測装置１の発光部１０、ホログラム２０及び受光部３０は、測定ヘッド１００内に収納される。発光部１０からはライン状のレーザ光ＬＳ１がワークＷに向けて出射される。ホログラム２０は、測定ヘッド１００内においてワークＷ側に配置され、受光部３０のイメージセンサは、測定ヘッド１００内においてホログラム２０のワークＷとは反対側に配置される。
【００３６】
この装置構成では、発光部１０からライン状のレーザ光ＬＳ１をワークＷに照射し、その反射及び散乱した検出光ＬＳ２をホログラム２０を介して受光部３０のイメージセンサで取り込む。これにより、ワークＷの表面のライン状のレーザ光ＬＳ１が照射された位置（高さ）の変化を、イメージセンサで２次元的に検出することができる。
【００３７】
ここで、図４に示す装置構成は、測定ヘッド１００とワークＷとの相対的な位置を変化させる走査手段（図示せず）を備えていてもよい。走査手段は、レーザ光ＬＳ１のライン方向と直交する方向に測定ヘッド１００とワークＷとの相対位置を変化させる。ライン状のレーザ光ＬＳ１をワークＷに照射してイメージセンサで高さを検出し、順次、測定ヘッド１００とワークＷとの相対的な位置を走査手段で変化させることで、ワークＷの表面の３次元形状を得ることができる。
【００３８】
図５は、ラインセンサを用いた装置構成の例を示す模式図である。
図５に示す装置構成において、本実施形態に係る位置計測装置１の発光部１０、ホログラム２０及び受光部３０は、測定ヘッド１００内に収納される。受光部３０は、ラインセンサを有する。また、測定ヘッド１００には、回転しながら光の反射方向を変化させるガルバノミラー５０が設けられる。
【００３９】
この装置構成では、発光部１０から点状のレーザ光ＬＳ１を出射する。点状のレーザ光ＬＳ１は、ガルバノミラー５０で反射してワークＷの表面に照射される。ガルバノミラー５０の回転によってレーザ光ＬＳ１の反射方向が変化するため、点状のレーザ光ＬＳ１をワークＷの表面に沿った一方向に移動（走査）させることができる。
【００４０】
このレーザ光ＬＳ１がワークＷの表面で反射及び散乱した検出光ＬＳ２は、ガルバノミラー５０で反射してホログラム２０に向かう。ガルバノミラー５０の回転によってレーザ光ＬＳ１のワークＷへの照射位置が変化するとともに、その照射位置の変化と連動してガルバノミラー５０での検出光ＬＳ２の反射角度も変化する。これにより、ガルバノミラー５０からホログラム２０へ向かう検出光ＬＳ２の方向は、レーザ光ＬＳ１のワークＷへの照射位置の高さが一定であれば常に同じ点となる。一方、レーザ光ＬＳ１のワークＷへの照射位置の高さが変わると、ホログラム２０へ向かう検出光ＬＳ２の位置は、高さの軸に対応した一軸方向に沿って変化する。
【００４１】
ホログラム２０に入射した検出光ＬＳ２は、ホログラム２０を通過して受光部３０のラインセンサの所定の位置で取り込まれる。この装置構成では、ワークＷの高さの変化がラインセンサの受光位置に反映される。したがって、ラインセンサで取り込んだ光の位置に基づき、点状のレーザ光ＬＳ１が走査されたワークＷの位置における高さを求めることができる。
【００４２】
なお、図５に示す装置構成においても、測定ヘッド１００とワークＷとの相対的な位置を変化させる走査手段（図示せず）を備えていてもよい。走査手段は、レーザ光ＬＳ１の走査方向と直交する方向に測定ヘッド１００とワークＷとの相対位置を変化させる。ガルバノミラー５０の回転によって点状のレーザ光ＬＳ１をワークＷに照射してラインセンサで高さを検出し、順次、測定ヘッド１００とワークＷとの相対的な位置を走査手段で変化させる。これにより、ワークＷの表面の３次元形状を得ることができる。
【００４３】
〔第２実施形態〕
次に、第２実施形態に係る位置計測装置について説明する。
図６（ａ）及び（ｂ）は、第２実施形態に係る位置計測装置を例示する構成図である。
図６（ａ）及び（ｂ）に表したように、本実施形態に係る位置計測装置１Ｂは、ホログラム２１の構成において第１実施形態に係る位置計測装置１と相違する。また、位置計測装置１Ｂは、ホログラム２１の駆動機構６０を備える。これら以外の構成は位置計測装置１と同様である。
【００４４】
位置計測装置１Ｂで用いられるホログラム２１は、として、第１領域２１１と、第２領域２１２とを有する。第１領域２１１は、レーザ光ＬＳ１の光軸ｃに対して第１角度で傾斜した第１傾斜面を再生像として再生する領域である。第２領域２１２は、レーザ光ＬＳ１の光軸ｃに対して第１角度とは異なる第２角度で傾斜した第２傾斜面を再生像として再生する領域である。すなわち、ホログラム２１は、互いに角度の異なる傾斜面を再生像として再生する複数の領域を備えている。
【００４５】
このようなホログラム２１を用いた位置計測装置１ＢにおいてワークＷの表面の位置を計測するには、ワークＷに照射したレーザ光ＬＳ１による検出光ＬＳ２を、第１領域２１１及び第２領域２１２のうち予め選択した方を介して受光部３０で取り込む。
【００４６】
第１領域２１１を介して検出光ＬＳ２を受光部３０で取り込む場合と、第２領域２１２を介して検出光ＬＳ２を受光部３０で取り込む場合とでは、ホログラム２１による再生像の傾斜面の角度が異なるため、位置検出の範囲及び解像度が異なる。
【００４７】
すなわち、再生像における傾斜面の角度がレーザ光ＬＳ１の光軸ｃに対して平行に近づくほど位置検出の範囲は広がる。一方、再生像における傾斜面の角度がレーザ光ＬＳ１の光軸ｃに対して直角に近づくほど位置検出の解像度は高くなる。したがって、ホログラム２１において検出光ＬＳ２を通過させる領域を、第１領域２１１にするか、第２領域２１２にするかによって、ワークＷの位置検出の範囲及び解像度を選択できるようになる。
【００４８】
位置計測装置１Ｂでは、駆動機構６０によってホログラム２１の位置を変更することができる。例えば、先ず、図６（ａ）に示すように、ホログラム２１の第１領域２１１を用いてワークＷの位置を計測した後、駆動機構６０によってホログラム２１の位置を移動させる。そして、図６（ｂ）に示すように、第２領域２１２を用いてワークＷの位置を計測する。これにより、ワークＷの位置の計測範囲及び解像度を切り替えることができる。
【００４９】
なお、本実施形態では、ホログラム２１に第１領域２１１及び第２領域２１２の２つの領域が設けられた例を説明したが、互いに角度の異なる傾斜面を再生像とする３つ以上の領域が設けられていてもよい。
【００５０】
〔第３実施形態〕
次に、第３実施形態に係る位置計測装置について説明する。
図７は、第３実施形態に係る位置計測装置を例示する構成図である。
図７に表したように、本実施形態に係る位置計測装置１Ｃは、ホログラム２０と受光部３０との間にレンズ７０を備えている。その他の構成は、第１実施形態に係る位置計測装置１と同様である。
【００５１】
レンズ７０は、ホログラム２０による再生像を拡大する特性を有する。このようなレンズ７０を設けることで、ワークＷの位置を計測する際、ワークＷの位置の変化に伴うホログラム２０の像位置の変化を拡大して受光部３０で捉えることができる。これにより、ワークＷの位置の微小な高さ変化を高い精度で検出することが可能になる。
【００５２】
以上説明したように、実施形態に係る位置計測装置１，１Ｂ及び１Ｃによれば、小型かつ簡単な構成で測定対象物の表面の位置を短時間で計測することが可能になる。
【００５３】
なお、上記に本実施形態およびその適用例を説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例えば、前述の各実施形態またはその適用例に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含有される。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明は、アーム式位置計測装置や、測定ヘッド１００がＸＹＺ軸のそれぞれに沿って直線的に移動する画像測定装置にも好適に利用できる。
【符号の説明】
【００５５】
１，１Ｂ，１Ｃ…位置計測装置
１０…発光部
２０，２１…ホログラム
３０…受光部
４０…計測部
５０…ガルバノミラー
６０…駆動機構
７０…レンズ
１００…測定ヘッド
２００…記録媒体
２１１…第１領域
２１２…第２領域
Ｆ１…再生像形成面
ＬＳ１…レーザ光
ＬＳ２…検出光
Ｗ…ワーク
ｃ…光軸
【図１】
0006392044.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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