(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空インタラプタにおいて使用する接点組立体であって、
第１の導電材料の接点円板と、第２の導電材料のコイルとを備え、
前記コイルは、共通の中心軸に関して軸方向に向く複数の螺旋セクションを有し、各螺旋セクションは近位端部及び遠位端部を有し、さらに各螺旋セクションは、前記近位端部において前記第２の導電材料によって作製されたベースに結合され、前記遠位端部において前記接点円板に結合され、
前記接点組立体はさらに、前記コイル内で軸方向にセンタリングされ前記ベースから前記接点円板まで延びる接点支持体と、前記ベースに接合される支持円板を備え、
前記ベースは、前記支持円板と前記接点支持体の間に配置され、前記支持円板は、前記ベースを支持するとともに、電気抵抗率が高い材料で作成されることを特徴とする接点組立体。
【請求項２】
前記ベース及び前記螺旋セクションのそれぞれは、共通の部品から機械加工され、前記支持円板の材料はステンレス鋼であることを特徴とする、請求項１に記載の接点組立体。
【請求項３】
前記複数の螺旋セクションは、互いから径方向に１２０度オフセットした３つの螺旋アームを有し、前記支持円板は前記ベースにろう付けされることを特徴とする、請求項１に記載の接点組立体。
【請求項４】
前記螺旋セクションのそれぞれは、前記コイルの外周の少なくとも０．７周に延びることを特徴とする、請求項３に記載の接点組立体。
【請求項５】
凸部を有する導電シャフトをさらに備え、前記凸部は前記支持円板の孔と前記ベースのセンタリング孔を通って延在し、前記支持円板は前記ベースと前記導電シャフトの少なくとも一部との間に配置され、前記ベースは前記共通の中心軸に沿って配置されることを特徴とする、請求項１に記載の接点組立体。
【請求項６】
前記コイルの前記ベースと前記支持円板はそれぞれ、導電シャフトの凸部を受けるようなサイズの、前記共通軸に沿う孔を有することを特徴とする、請求項１に記載の接点組立体。
【請求項７】
前記ベースは、前記接点支持体を受けて軸方向にセンタリングするようなサイズの凹部を有する、請求項６に記載の接点組立体。
【請求項８】
前記複数の螺旋セクションの各遠位端部は前記接点円板にろう付けされることを特徴とする、請求項１に記載の接点組立体。
【請求項９】
前記接点組立体は、前記共通軸の方向において印加される少なくとも９０キログラムの力に耐えるように構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の接点組立体。
【請求項１０】
前記共通の中心軸の方向における前記ベースの最大厚は、前記共通の中心軸に直交する方向における、前記複数の螺旋セクションのそれぞれの最大厚よりも小さいことを特徴とする、請求項１に記載の接点組立体。
【請求項１１】
前記接点円板は、前記接点支持体を受けて軸方向にセンタリングするようなサイズの凹部を有することを特徴とする、請求項１に記載の接点組立体。
【請求項１２】
真空インタラプタであって、
真空チャンバと、
固定導電シャフトに取り付けられる、前記真空チャンバ内の第１の接点組立体と、
可動導電シャフトに取り付けられる、前記真空チャンバ内の第２の接点組立体を備え、
前記第１及び第２の接点組立体はそれぞれ、第１の導電材料の接点円板と、第２の導電材料のコイルとを備え、
前記コイルは、共通の中心軸に関して軸方向に向く複数の螺旋セクションを有し、各螺旋セクションは近位端部及び遠位端部を有し、さらに各螺旋セクションは、前記近位端部において前記第２の導電材料によって作製されたベースに結合され、前記遠位端部において前記接点円板に結合され、
前記第１及び第２の接点組立体はそれぞれ、前記コイル内で軸方向にセンタリングされ前記ベースから前記接点円板まで延びる接点支持体と、前記ベースに接合される支持円板をさらに備え、
前記ベースは、前記支持円板と前記接点支持体の間に配置され、前記支持円板は、前記ベースを支持するとともに、電気抵抗率が高い材料で作成されることを特徴とする真空インタラプタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高電圧回路遮断器、スイッチギア、及び他の電気機器等の高電圧電気スイッチに関するものであり、より詳細には、接点がセラミックボトル等の絶縁性環境密閉体内に配置される電気スイッチに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の接点の場合、１０キロアンペア（ｋＡ）を超える電流では蒸気アークが抑圧される傾向があり、その結果、接点の局所的な劣化及び蒸気アークの消滅不良をもたらす可能性がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の一目的は、従来の接点における欠点を克服する、真空インタラプタにおいて使用する接点組立体を提供することである。本発明に係る接点組立体の一態様によれば、蒸気アークは非破壊拡散モードに維持され、アークが真空雰囲気に迅速に消弧することができるようになっている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の一つの態様によれば、真空インタラプタにおいて使用する接点組立体が提供される。接点組立体は、第１の導電材料の接点円板と、第２の導電材料のコイルとを備え、該コイルは、共通の中心軸に関して軸方向に向く複数の螺旋セクションを有し、各螺旋セクションは近位端部及び遠位端部を有し、さらに各螺旋セクションは、該近位端部において該第２の導電材料によって作製されたベースに結合され、該遠位端部において該接点円板に結合される。接点組立体はさらに、該コイル内で軸方向にセンタリングされ該ベースから該接点円板まで延びる接点支持体を備える。
【０００５】
本発明の別の態様によれば、真空インタラプタが提供される。真空インタラプタは、真空チャンバと、固定導電シャフトに取り付けられる、該真空チャンバ内の第１の接点組立体と、可動導電シャフトに取り付けられる、該真空チャンバ内の第２の接点組立体とを備える。該第１および第２の接点組立体はそれぞれ、第１の導電材料の接点円板と、第２の導電材料のコイルとを備える。該コイルは共通の中心軸に関して軸方向に向く複数の螺旋セクションを有し、各螺旋セクションは近位端部及び遠位端部を有し、さらに各螺旋セクションは、該近位端部において該第２の導電材料によって作製されたベースに結合され、該遠位端部において該接点円板に結合される。該第１及び第２の接点組立体はそれぞれ、該コイル内で軸方向にセンタリングされ該ベースから該接点円板まで延びる接点支持体をさらに備える。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１Ａ】本発明の実施の形態に係る真空インタラプタ組立体の閉位置における概略断面図である。
【図１Ｂ】本発明の実施の形態に係る真空インタラプタ組立体の開位置における概略断面図である。
【図２】図１の真空インタラプタ組立体の可動導体組立体の概略側面図である。
【図３】図２の可動導体組立体の概略的な側面斜視図である。
【図４】図２の可動導体組立体の概略的な側面断面図である。
【図５】図４の側面断面図の一部の拡大図である。
【図６Ａ】軸方向磁場（ＡＭＦ）コイル用の素形材の側面断面図である。
【図６Ｂ】軸方向磁場コイル用の素形材の側面斜視図である。
【図７Ａ】軸方向磁場コイルの正面端面図である。
【図７Ｂ】図７Ａの軸方向磁場コイルの側面図である。
【図７Ｃ】図７Ａの軸方向磁場コイルの背面端面図である。
【図７Ｄ】図７Ｂの軸方向磁場コイルの側面断面図である。
【図８Ａ】図７Ａの軸方向磁場コイルの概略的な側面斜視図である。
【図８Ｂ】図７Ａの軸方向磁場コイルの概略的な側面斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下の詳細な説明では、添付の図面を参照する。異なる図中の同じ参照符号は、同じ又は同様の要素を同定する場合がある。
【０００８】
真空インタラプタにおいて使用する接点組立体が提供される。１実施態様においては、２つの接点組立体を１組として真空チャンバ内に設けることができる。各接点組立体は、軸方向磁場（ＡＭＦ、Ａｘｉａｌ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｆｉｅｌｄ）を発生させ、接点組立体間にアークを拡散することができる。各接点組立体は第１の導電材料の接点円板と、コイルと、接点支持体とを備えることができる。コイルは、第２の導電材料によって作製することができ、共通の中心軸に関して軸方向に向く複数の螺旋セクションを有する。螺旋セクションのそれぞれは、近位端部及び遠位端部を有することができ、螺旋セクションのそれぞれは、近位端部において第２の導電材料によって作製されたベースに結合され、遠位端部において接点円板に結合されるようになっている。接点支持体は、コイル内側で軸方向にセンタリングすることができ、ベースから接点円板まで延びて螺旋セクションの間隔を維持することができる。
【０００９】
図１Ａは閉位置の真空インタラプタ組立体１０を示す概略断面図を提示し、図１Ｂは開位置の真空インタラプタ組立体１０を示す概略断面図を提示している。図１Ａ及び図１Ｂをまとめて参照すると、真空インタラプタ組立体１０は、絶縁本体２０と、固定導体組立体３０と、可動導体組立体４０と、アークシールド５０とを備える。
【００１０】
絶縁本体２０は、全体として細長いボアを画定し、固定導体組立体３０及び可動導体組立体４０が本体２０のボアを軸方向に貫通する。絶縁本体２０は概して、例えば、セラミックチューブ２２（ともに接合／シールされた複数のチューブセグメントを含むことができる）を含むことができる。セラミックチューブ２２には、そのいずれかの端部にフランジ２４、２６を有する。フランジ２４／２６は、セラミックチューブ２２のそれぞれの端部に接合／シールすることができる。
【００１１】
フランジ２４は、固定導体組立体３０のシャフト３２を貫通させる開口を有することができる。シャフト３２は、フランジ２４に対して固定することができ、フランジ２４とシャフト３２との接合面を、気密シールを用いて確実に締める（secure）ことができる。フランジ２６は、可動導体組立体４０の導電シャフト４２を貫通させる開口を有することができる。シャフト４２は、フランジ２６に対して軸方向に移動することができる。ベローズ６０を設けて、気密シールを維持しながら、シャフト４２がフランジ２６の開口を通って移動するのを可能にすることができる。セラミックチューブ２２、フランジ２４、フランジ２６、シャフト３２、及び／又はシャフト４２の接合面にある気密シールにより、絶縁本体２０内に真空チャンバ２８を形成することが可能になる。
【００１２】
図１Ａ及び図１Ｂに示すように、固定導体組立体３０及び可動導体組立体４０（電極組立体とも称する）のそれぞれは、接点組立体１００（例えば、接点組立体１００−１及び１００−２）を備えることができる。可動導体組立体４０は、ベローズ６０を用いて閉位置（図１Ａ）と開位置（図１Ｂ）との間で移動することができ、絶縁本体２０内の真空密閉体をシール状態に維持するのに役立つ。シャフト３２及びシャフト４２のそれぞれは、銅等の導電材料によって形成することができ、外側から供給される電流が、それぞれの接点組立体１００へ又はそれぞれの接点組立体１００からシャフト３２／４２を通過することができるようになっている。
【００１３】
動作の際、真空インタラプタ組立体１０が閉位置（図１Ａ）にある場合は、接点組立体１００−１及び１００−２は、真空雰囲気において（例えば、真空チャンバ２８内で）結合され、シャフト３２又は４２を通して導かれる電流が接点組立体１００−１及び１００−２を通ってシャフト４２又は３２のうちの他方に流れる。閉位置から開位置（図１Ｂ）に移動すると、接点組立体１００−１及び１００−２は分離し、接点組立体１００−１及び１００−２の蒸発物質から、スイッチング電流によって生じる金属蒸気アークを形成することができる。
【００１４】
一般に、電流が設計限界に達すると、蒸気アークは、接点組立体１００−１及び１００−２を侵食する可能性がある。従来の接点の場合、１０キロアンペア（ｋＡ）を超える電流では、蒸気アークは抑圧される傾向にあり、その結果、接点の局所的な劣化及び蒸気アークの消滅不良をもたらす可能性がある。蒸気アークの抑圧の程度は、（特に）接点組立体の幾何形状によって決まり得る。例えば、接点組立体の幾何形状は、蒸気アークの挙動に影響を与える磁場を発生させることができる。
【００１５】
本実施形態によれば、接点組立体１００は、（例えば、軸方向磁場により）蒸気アークを非破壊拡散モードに維持するとともにアークを真空雰囲気に迅速に消弧させる軸方向磁場を発生させることができる。本明細書に更に記載するように、接点組立体１００は、多アーム螺旋コイル構造を有し、高電流印加の際、接点組立体間に軸方向磁場を発生させることができる。接点組立体１００を備える真空インタラプタ１０は、高電流短絡（例えば、１０ｋＡ超）の場合に良好に機能することができる。そのような高電流状況用の機器としては、回路遮断器、接地装置、スイッチギア又は他の高電圧機器を挙げることができる。
【００１６】
図２は可動導体組立体４０の概略側面図であり、図３は可動導体組立体４０の分解斜視図である。図４は図２の断面Ａ−Ａに沿った可動導体組立体４０の側面断面図であり、図５は図４の側面断面図の部分Ｂの拡大図である。図６Ａは軸方向磁場コイル１２０用の素形材２００の側面断面図であり、図６Ｂは素形材２００の斜視図である。図７Ａ〜図８Ｂは、機械加工後の軸方向磁場コイル１２０の様々な図を提示している。詳細には、図７Ａは軸方向磁場コイル１２０の正面端面図であり、図７Ｂは軸方向磁場コイル１２０の側面図であり、図７Ｃは軸方向磁場コイル１２０の背面端面図であり、図７Ｄは軸方向磁場コイル１２０の側面断面図である。図８Ａ及び図８Ｂは軸方向磁場コイル１２０の様々な側面斜視図である。図２〜図８Ｂには示していないが、固定導体組立体３０は可動導体組立体４０と同様に構成することができる。
【００１７】
図２〜図５をまとめて参照すると、接点組立体１００は、シャフト４２の端部に装着することができる。接点組立体１００は、接点円板１１０と、軸方向磁場コイル１２０と、接点支持体１３０と、支持円板１４０とを備えることができる。本明細書に更に記載するように、接点円板１１０と、軸方向磁場コイル１２０と、接点支持体１３０と、支持円板１４０とは、複数のろう付けリング／ろう付け円板を用いるろう付けプロセスによって、ともに接合して接点組立体１００を形成することができる。接点円板１１０と、軸方向磁場コイル１２０と、接点支持体１３０と、支持円板１４０とは、全体として、共通軸４４に沿って互い及びシャフト４２と軸方向に位置合わせすることができる。
【００１８】
接点円板１１０は、真空インタラプタ組立体１０が閉位置にある場合に別の接点（例えば、接点組立体１００−１にある接点）に接触する導電円板を含むことができる。接点円板１１０は、可動導体組立体４０が閉位置から開位置に移動する際のアーク発生による金属蒸発を最小限に抑える導電材料を含むことができる。１つの実施態様において、接点円板１１０は、銅（Ｃｕ）／クロム（Ｃｒ）合金によって作製することができる。
【００１９】
図２〜図５及び図７Ａ〜図８Ｄをまとめて参照すると、軸方向磁場コイル１２０は銅等の導電材料の複数の螺旋セクション１２２を有することができる。１つの実施態様において、添付の図（例えば、図５）に示すように、軸方向磁場コイル１２０は、ベース１２４において結合する３つの螺旋セクション１２２−１、１２２−２及び１２２−３を有することができる。各螺旋セクション１２２の近位端部はベース１２４と一体にすることができ、遠位端部はテーパー状にして接触領域１２３（図７Ａ）を形成することができる。各螺旋セクション１２２は共通軸４４を共有することができる（例えば、共通軸４４に関して軸方向に向くことができる）。各接触領域１２３は各他の螺旋セクション１２２の接触領域と同一平面にあることができ、最終的には接点円板１１０に固定（例えば、ろう付け）することができる。図示の形態では、３つの螺旋セクション１２２は、互いから径方向に１２０度オフセットしており、互いに絡み合ってコイルを形成する。１つの実施態様において、各螺旋セクション１２２（例えば、ベース１２４における近位端部から反対側の遠位端部に及ぶ）は、軸方向磁場コイル１２０全周のおおよそ０．７周に相当する。結果として、軸方向磁場コイル１２０は合計２．１周（０．７×３）することが効果的である。他の実施態様においては、各螺旋セクションは、１周よりも大きい量に相当しても小さい量に相当してもよいし、及び／又はより多くの螺旋セクション１２２を設けてもよいことが理解されるべきである。
【００２０】
図２〜５に示すように、ベース１２４は、ろう付け円板１２６を用いて支持円板１４０に接合（例えば、ろう付け）することができる。支持円板１４０は、全体として、軸方向磁場コイル１２０から発生する軸方向磁場に影響を与えないステンレス鋼等の電気抵抗率が高い丈夫な材料によって作製することができる。ろう付け円板１２６は、銅、又は軸方向磁場コイル１２０の材料を接点支持円板１４０にろう付けするのに好適な別の材料によって作製することができる。ろう付け円板１２８を用いて、螺旋セクション１２２の遠位端部（すなわち、ベース１２４とは反対側の端部）を接点円板１１０に接合することができる。ろう付け円板１２８は、銅、又は軸方向磁場コイル１２０及び接点円板１１０の材料をろう付けするのに好適な別の材料によって作製することができる。
【００２１】
接点支持体１３０は、軸方向磁場コイル１２０に軸方向支持を与えるように円筒形とすることができる。接点支持体１３０は、軸方向磁場コイル１２０の中心部内に配置することができ、全体として、接点支持体１３０の軸方向長さによって軸方向磁場コイル１２０の圧縮が阻止されるようなサイズとすることができる。より詳細には、接点支持体１３０をベース１２４と接点円板１１０の間に挿入し、螺旋セクション１２２の所望の形状（例えば、ピッチ／ギャップ）を維持する。１つの実施態様においては、接点支持体１３０は、（例えば、接点組立体１００−２が真空インタラプタ組立体１０内で閉位置に移動した場合）２００ポンド（９０ｋｇ）までの圧縮力に耐えるように構成されている。接点支持体１３０は、全体として、軸方向磁場コイル１２０から発生する軸方向磁場に影響を与えない硬質材料によって作製することができる。１つの実施態様において、接点支持体１３０は、いくつかのグレードのステンレス鋼等の６Ｅ−０７オームメートルよりも大きい電気抵抗率を有する材料によって作製することができる。
【００２２】
接点支持体１３０の一方の端部は、ろう付け円板１３２を用いて、ベース１２４に接合（例えば、ろう付け）することができる。ろう付け円板１３２は、銀合金、又は軸方向磁場コイル１２０の材料を接点支持体１３０にろう付けするのに好適な別の材料によって作製することができる。ろう付け円板１３４を用いて、接点支持体１３０の反対側の端部を接点円板１１０に接合することができる。ろう付け円板１３４は、銀合金、又は接点支持体１３０及び接点円板１１０の材料をろう付けするのに好適な別の材料によって作製することができる。図５に示すように、ろう付けリング１３６は、ベース１２４と接点支持体１３０との接合面において、シャフト４２のセンタリング用の凸部１４２上に配置することができる。
【００２３】
図６Ａ及び図６Ｂをまとめて参照すると、素形材２００は、一体となったベース１２４を有する円筒体２０２を有することができる。本発明の実施態様によれば、螺旋セクション１２２は、素形材２００の中実の円筒体２０２壁及びベース１２４から機械加工することができる。素形材２００は、特定の高さ（Ｈ）、壁厚（Ｔ）、及びベース厚（Ｂ）、並びに外周が、螺旋セクション１２２がシャフト４２に／シャフト４２から電流を導くのに必要とされる領域を提供するようなサイズとすることができる。１つの実施態様によれば、共通軸４４の方向における最大ベース厚Ｂは、共通の中心軸に対して直交する方向では最大壁厚Ｔ（螺旋セクション１２２のそれぞれの対応する厚さ）よりも小さくすることができる。
【００２４】
図６Ａに示すように、ベース１２４は、センタリング孔２０４及び凹部２０６を有することができる。センタリング孔２０４は、（最終的に組み立てられた）接点組立体１００をシャフト４２に装着する場合、センタリング用の凸部１４２を受けることができる。凹部２０６は、接点支持体１３０が最終的に軸方向磁場コイル１２０内に組み立てられる場合接点支持体１３０を受けてセンタリングすることができる。
【００２５】
図示のように、例えば、図７Ｃでは、螺旋セクション１２２のそれぞれは、軸方向磁場コイル１２０の外周の回りに対称的に分布させることができる。そのため、図７Ａ〜図８Ｂに示す３つの螺旋セクション構成に関して、螺旋セクション１２２のそれぞれの始点すなわち切り口は、互いから径方向に１２０度オフセットすることができる。
【００２６】
各螺旋セクション（螺旋アームとも称する）１２２の長さは、部分的には、高さＨ（図７Ｂ、すなわち、素形材２００の高さに等しい）、螺旋セクション１２２の各切り口のピッチＰ（図７Ｄ）、各螺旋セクション１２２の各切り口及び断面領域１２５の幅Ｗ（図７Ｄ）等の相関する幾何形状要件によって決めることができる。高さＨは、真空チャンバ２８内の空間要件によって制限される場合がある。ピッチＰは、各螺旋セクション１２２間の必要な断面領域及び幅Ｗによって制限される場合がある。各切り口の幅Ｗは、各螺旋セクション１２２を通る電流を絶縁する空隙をもたらすのに十分であるべきである。本発明の１つの実施態様によれば、幅Ｗは共通軸４４に沿って（すなわち、共通軸４４に対して平行に）測定することができ、螺旋セクション１２２の断面領域は、電流要件／電圧要件によって及びシャフト４２の断面領域に関して規定することができる。
【００２７】
１つの例において、各螺旋セクション１２２の高さＨを０．６インチ（１．５ｃｍ）、ピッチＰを０．８６、幅Ｗを０．０７インチ（０．１７ｃｍ）、断面を０．０４４１平方インチ（０．２８平方ｃｍ）とすると、軸方向磁場コイル１２０のベース１２４から各螺旋セクションの遠位端部まで、軸方向磁場コイル１２０全周の約０．７周に相当する螺旋アーム１２２を提供することができる。結果として、軸方向磁場コイル１２０の３つの螺旋セクション１２２は、合計２．１周（すなわち０．７×３）を呈することが効果的である。他の実施態様において、他の値のＨ、Ｐ、及びＷを用いることができることが理解されるべきである。
【００２８】
他の実施態様によれば、任意の形態の複数の螺旋セクション１２２を用いて、２よりも大きい合計周数（すなわち巻き数）を呈することができる。例えば、少なくとも１．０周する２つの螺旋セクション又は少なくとも０．５周する４つの螺旋セクションを用いることができる。概して、複数の螺旋セクションは、軸方向磁場コイル１２０の外周の回りに対称的（例えば、各螺旋セクションが同じ径方向オフセット及びピッチを有する）に分布することができる。
【００２９】
本発明の一実施態様によれば、真空インタラプタにおいて使用する接点組立体は、第１の導電材料（すなわち、Ｃｕ／Ｃｒ合金）の接点円板と、コイルと、接点支持体とを備えることができる。コイルは、第２の導電材料（すなわち、Ｃｕ）によって作製され、共通軸を共有する複数の螺旋セクションを有する。螺旋セクションのそれぞれは、近位端部及び遠位端部を有し、螺旋セクションのそれぞれが、近位端部において第２の導電材料によって作製されたベースに結合され、遠位端部において接点円板に結合されるようになっている。接点支持体は、コイル内で軸方向にセンタリングされ、ベースから接点円板まで延びる。
【００３０】
別の実施態様によれば、同一の接点組立体（例えば、接点組立体１００−１及び１００−２）を、真空チャンバ（例えば、真空チャンバ２８）内の固定導電シャフト（例えば、シャフト３２）と可動導電シャフト（例えば、シャフト４２）に装着することができる。
【００３１】
例示的な実施態様の上述の記載は、例及び説明を提供するものであり、網羅的であることも、本明細書に記載の実施形態を開示の厳密な形態に限定することも意図していない。上記の教示に鑑みて変更及び変形を為し得るか、又は実施形態の実施から変更形態及び変形形態を得ることができる。例えば、本明細書に記載の実施態様は、中電圧機器又は低電圧機器等の他の装置に関して用いることもできる。
【００３２】
本発明を上記で詳細に記載したが、当業者には、本発明の趣旨から逸脱することなく本発明を変更することができることが明らかであることが明確に理解される。本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、本発明に対して形状、設計、又は構成の種々の変更を行うことができる。従って、上述の説明は、限定ではなく例示とみなされるものであり、本発明の真の範囲は添付の特許請求の範囲において規定されるものである。
【００３３】
本願の説明に用いられている要素、動作、又は指示は、本発明にとって決定的又は本質的であると明示的に記載されていない限り、本発明にとって決定的又は本質的とみなされるべきではない。また、本明細書で用いるとき、数量を限定しない語句は、１つ又は複数の項目を含むことが意図されている。さらに、「に基づき」という句は、別様に明示的に述べられていない限り、「に少なくとも一部基づき」を意味することが意図されている。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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