(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液と、酸基を有する樹脂と、第２の分散媒とを混合する工程を含み、
前記第１の分散媒が有機溶媒であり、
前記第２の分散媒が少なくとも水を含む樹脂組成物の製造方法であって、
前記樹脂組成物の固形分濃度を４質量％以下とする、樹脂組成物の製造方法。
【請求項２】
前記ジルコニウム元素を含む金属酸化物が、酸化ジルコニウムおよび酸化錫の複合体である請求項１に記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項３】
前記分散液の前記有機溶媒が、炭素原子数１〜３のアルコールである請求項１または２に記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項４】
前記酸基を有する樹脂が、酸基を有するアクリル樹脂である請求項１〜３のいずれか一項に記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項５】
前記酸基を有する樹脂が、前記酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂である請求項１〜４のいずれか一項に記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項６】
前記酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂が、前記酸基を有する樹脂およびアンモニアが溶解した溶液を混合して調製された請求項５に記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項７】
前記第２の分散媒が２０〜１００質量％の水を含む請求項１〜６のいずれか一項に記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項８】
前記樹脂組成物の２５℃におけるｐＨを７以上とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の樹脂組成物の製造方法。
【請求項９】
基材と樹脂層を有する積層材料の製造方法であって、
前記樹脂層を、請求項１〜８のいずれか一項に記載の樹脂組成物の製造方法で製造された樹脂組成物を塗布して形成する工程を含む、積層材料の製造方法。
【請求項１０】
前記樹脂組成物の単位面積あたりの塗布量が、２０ｃｍ3／ｍ2以下である請求項９に記載の積層材料の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂組成物の製造方法、樹脂組成物、積層材料の製造方法および積層材料に関するものである。詳しくは、樹脂組成物の製造方法、樹脂組成物、積層材料の製造方法および積層材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ジルコニウム化合物は、静電容量型入力装置に用いられる部材の材料などとして様々な分野で注目されている（特許文献１〜４参照）。
【０００３】
例えば、特許文献１には、（Ａ）カルボン酸当量が２００ｇ／ｍｏｌ以上１，４００ｇ／ｍｏｌ以下であるアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）多官能モノマー、（Ｄ）ジルコニウム化合物を含有するネガ型感光性樹脂組成物が記載されている。
【０００４】
特許文献２には、（Ａ）酸化ケイ素ゾル、酸化アルミニウムゾル、酸化アンチモンゾル、酸化ジルコニウムゾル、酸化チタンゾルおよび酸化錫ゾルから選ばれる無機酸化物ゾルの不揮発分を０．０１〜１０質量部、（Ｂ）式Ｒ1mＳｉ（ＯＲ2）n（式中、Ｒ1はフェニル基、アルコキシル基または炭素数１〜１８のアルキル基であり、Ｒ2は炭素数が１〜６のアルキル基であり、ｍは０〜２の整数であり、ｎは２〜４の整数であり、ｍ＋ｎ＝４である。）で表されるシリコン化合物またはその部分加水分解縮合物を０．０１〜１０質量部、（Ｃ）（Ｂ）成分のＯＲ2基と反応できる官能基を有する樹脂を０．０１〜１０質量部、および（Ｄ）水および有機溶媒の混合物を１０〜１００質量部とを含有し、必要に応じさらに（Ｅ）アミノ樹脂を０．０１〜１０質量部の割合で含有する汚れ防止処理剤が記載されている。
【０００５】
特許文献３および４には、酸化第二スズ粒子と酸化ジルコニウム粒子との複合体粒子を含有するコーティング組成物やゾルが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２０１１／１２９２１０  Ａ１号公報
【特許文献２】特開２００１−４０２５１号公報
【特許文献３】特開２００５−１５７５６号公報
【特許文献４】特開２００５−１５３２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ここで、ジルコニウム元素を含む金属酸化物粒子などの無機酸化物粒子を含む分散液では、ｐＨ（Ｐｏｗｅｒ  ｏｆ  Ｈｙｄｒｏｇｅｎ）値が変わるとゼータ電位が大きく変化する。
また、粒子の表面電位がゼロとなる等電点では静電的な反発力が消失するため、粒子の分散が不安定となり、粒子の凝集が生じやすく、粘度が不安定となる。粒子の分散が不安定な分散液を用いて塗布により製膜した場合、塗布後の膜の面状を観察すると、膜厚にムラが生じたり、白濁が見られたり、凝集異物をキッカケとしたハジキが見られたりする等の塗布面状の異常が起こることが多い。
本発明者が検討したところ、ジルコニウム元素を含む金属酸化物粒子の分散液と酸基を有する樹脂（水溶性樹脂）とを混合して樹脂組成物を製造すると、ジルコニウム元素を含む金属酸化物粒子の凝集や、それに伴う前述の塗布面状の異常が生じやすいことがわかった。ジルコニウム元素を含む金属酸化物粒子の表面は、一般に負に帯電しており、水に分散したジルコニウム元素を含む金属酸化物ゾルの等電点は酸性側にあるためと考えられる。
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、ジルコニウム元素を含む金属酸化物と酸基を有する樹脂とを含む樹脂組成物を塗布して得られる樹脂層の塗布面状を改善できる樹脂組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
特許文献２の請求項１には酸化ジルコニウムゾルの記載があるが、特許文献２には酸化ジルコニウムゾルを用いた実施例が存在しない。そのため、本発明者が特許文献２を読んでも、ジルコニウム元素を含む金属酸化物と酸基を有する樹脂とを含む樹脂組成物を塗布して得られる樹脂層の塗布面状を改善する方法は読み取ることができなかった。
【００１０】
上記課題を解決するために本発明者が鋭意検討したところ、第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液と、酸基を有する樹脂と、第２の分散媒とを混合する工程を含み、第１の分散媒が有機溶媒であり、第２の分散媒が少なくとも水を含む樹脂組成物の製造方法により、ジルコニウム元素を含む金属酸化物と酸基を有する樹脂とを含む樹脂組成物を塗布して得られる樹脂層の塗布面状を改善できる樹脂組成物を提供できることを見出すに至った。
【００１１】
なお、特許文献１の［００９５］では水を添加してポリシロキサン溶液（ｉ）を調製しているものの、水が全て留出する条件で調製しており、ジルコニウム元素を含む金属酸化物と酸基を有する樹脂とを含む樹脂組成物に積極的に水を添加しない方法であった。
【００１２】
上記課題を解決するための具体的な手段である本発明は以下のとおりである。
［１］  第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液と、酸基を有する樹脂と、第２の分散媒とを混合する工程を含み、
第１の分散媒が有機溶媒であり、
第２の分散媒が少なくとも水を含む樹脂組成物の製造方法。
［２］  ［１］に記載の樹脂組成物の製造方法は、ジルコニウム元素を含む金属酸化物が、酸化ジルコニウムおよび酸化錫の複合体であることが好ましい。
［３］  ［１］または［２］に記載の樹脂組成物の製造方法は、分散液の有機溶媒が、炭素原子数１〜３のアルコールであることが好ましい。
［４］  ［１］〜［３］のいずれか一つに記載の樹脂組成物の製造方法は、酸基を有する樹脂が、酸基を有するアクリル樹脂であることが好ましい。
［５］  ［１］〜［４］のいずれか一つに記載の樹脂組成物の製造方法は、酸基を有する樹脂が、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を有することが好ましい。
［６］  ［５］に記載の樹脂組成物の製造方法は、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂が、酸基を有する樹脂およびアンモニアが溶解した溶液を混合して調製されたことが好ましい。
［７］  ［１］〜［６］のいずれか一つに記載の樹脂組成物の製造方法は、第２の分散媒が２０〜１００質量％の水を含むことが好ましい。
［８］  ［１］〜［７］のいずれか一つに記載の樹脂組成物の製造方法により製造された樹脂組成物。
［９］  ［８］に記載の樹脂組成物は、樹脂組成物の２５℃におけるｐＨが、７以上であることが好ましい。
［１０］  ［８］または［９］に記載の樹脂組成物は、樹脂組成物の固形分濃度が、４質量％以下であることが好ましい。
［１１］  基材と樹脂層を有する積層材料の製造方法であって、
樹脂層を［８］〜［１０］のいずれか一つに記載の樹脂組成物を塗布して形成する工程を含む、積層材料の製造方法。
［１２］  ［１１］に記載の積層材料の製造方法は、樹脂組成物の単位面積あたりの塗布量が、２０ｃｍ3／ｍ2以下であることが好ましい。
［１３］  ［１１］または［１２］に記載の積層材料の製造方法により製造された積層材料。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、ジルコニウム元素を含む金属酸化物と酸基を有する樹脂とを含む樹脂組成物を塗布して得られる樹脂層の塗布面状を改善できる樹脂組成物を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１Ａ】静電容量型入力装置の構成の一例を示す断面概略図である。
【図１Ｂ】静電容量型入力装置の構成の他の一例を示す断面概略図である。
【図２】前面板の一例を示す説明図である。
【図３】透明電極パターンと、非パターン領域の関係の一例を示す説明図である。
【図４】開口部が形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図５】マスク層が形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図６】第一の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図７】第一および第二の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図８】第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素が形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図９】金属ナノワイヤー断面を示す説明図である。
【図１０】透明電極パターンの端部のテーパー形状の一例を示す説明図である。
【図１１】透明積層体の構成の一例を示す断面概略図である。
【図１２】本発明の積層材料の構成の一例を示す断面概略図である。
【図１３】静電容量型入力装置の構成の他の一例を示す上面図であり、パターン露光され、第一の透明樹脂層に覆われていない、引き回し配線の端末部（末端部分）を含む態様を示す。
【図１４】第一および第二の透明樹脂層を有する積層材料を、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上にラミネートにより積層し、露光等によって硬化する前の状態の一例を示す概略図である。
【図１５】第一の透明樹脂層と第二の透明樹脂層が硬化された所望のパターンの一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、樹脂組成物の製造方法、樹脂組成物、積層材料の製造方法および積層材料について説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様や具体例に限定されない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１６】
［樹脂組成物の製造方法］
本発明の樹脂組成物の製造方法は、第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液と、酸基を有する樹脂と、第２の分散媒とを混合する工程を含み、第１の分散媒が有機溶媒であり、第２の分散媒が少なくとも水を含む。
このような構成とすることで、ジルコニウム元素を含む金属酸化物と酸基を有する樹脂とを含む樹脂組成物を塗布して得られる樹脂層の塗布面状を改善できる。いかなる理論に拘泥するものでもないが、有機溶媒に分散したジルコニウム元素を含む金属酸化物と、酸基を有する樹脂を混合することで、分散が安定化した結果、塗布面状を改善するに至ったと考えられる。
以下、本発明の樹脂組成物の製造方法の好ましい態様について説明する。
【００１７】
＜混合工程＞
第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液と、酸基を有する樹脂と、第２の分散媒とを混合する工程について説明する。
【００１８】
（混合条件）
まず、混合工程の混合条件について説明する。
分散液、酸基を有する樹脂（粉体または溶液）、第２の分散媒および添加剤を添加する順番としては特に制限はないが、分散液、酸基を有する樹脂、第２の分散媒および添加剤の順番で添加することが好ましい。
混合する工程の温度は、５〜４０℃であることが好ましく、１０〜３０℃であることがより好ましく、１５〜２５℃であることが特に好ましい。
混合する工程の攪拌速度は、０〜１０００ｒｐｍ（ｒｏｕｎｄ  ｐｅｒ  ｍｉｎｕｔｅｓ）であることが好ましく、２０〜５００ｒｐｍであることがより好ましく、３０〜３００ｒｐｍであることが特に好ましい。
混合する工程の時間は、０．１〜４８時間であることが好ましく、０．２〜２４時間であることがより好ましく、０．３〜１２時間であることが特に好ましい。
次に、混合工程に用いられる樹脂組成物の材料について説明する。
【００１９】
（分散液）
第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液の固形分は、５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましく、３０〜３２質量％であることが特に好ましい。
【００２０】
−第１の分散媒−
本発明では、第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液に用いられる第１の分散媒は、有機溶媒である。
第１の分散媒として用いることができる有機溶媒としては特に制限はないが、水と混和性を有する有機溶媒であることが好ましい。水と混和性を有する有機溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。
さらに安定な分散系で塗布面状を改良するには、第１の分散媒として用いる有機溶媒が、炭素原子数１〜３のアルコールであることが好ましく、特にメタノールが好ましい。さらに、第１の分散媒として用いる有機溶媒が炭素原子数１〜３のアルコールであると、本発明の樹脂組成物を用いて樹脂層を形成するときに揮発しやすいために、他の層との層混合が生じにくくなる。
【００２１】
−ジルコニウム元素を含む金属酸化物−
本発明の樹脂組成物の製造方法では、第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液が、ジルコニウム元素を含む金属酸化物を含む。ジルコニウム元素を含む金属酸化物は、第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液において、コロイド粒子に相当する。本発明の樹脂組成物がジルコニウム元素を含む金属酸化物を含むことで、樹脂組成物の屈折率を制御することができる。
第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液に用いられるジルコニウム元素を含む金属酸化物は、酸化ジルコニウムの単体であっても、酸化ジルコニウムに他の化合物がドープされた複合体であってもよい。
第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液に用いられるジルコニウム元素を含む金属酸化物としては、酸化ジルコニウムまたは酸化ジルコニウムおよび酸化錫の複合体が好ましい。
【００２２】
第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、ジルコニウム元素を含む金属酸化物以外のコロイド粒子を含んでいてもよい。ジルコニウム元素を含む金属酸化物以外のコロイド粒子としては、酸化錫などの公知のコロイド粒子を挙げることができる。
本発明の樹脂組成物は、ジルコニウム元素を含む金属酸化物が、酸化ジルコニウムおよび酸化錫の複合体であることが好ましい。
酸化錫、ならびに、酸化ジルコニウムおよび酸化錫の複合体としては、特開２００５−１５７５６号公報の［００２７］〜［００７８］や、特開２００５−１５３２４号公報の［００２６］〜［００７３］に記載の材料を用いることができ、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
ジルコニウム元素を含む金属酸化物の粒子径（平均一次粒子径）に特に制限はないが、平均一次粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、３〜８０ｎｍがより好ましく、３〜２０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
本発明に用いることができるジルコニウム元素を含む金属酸化物としては、日産化学工業（株）製ナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｍ（酸化ジルコニウム・酸化錫含有無機粒子、すなわち酸化ジルコニウムおよび酸化錫の複合体）、日産化学工業（株）製ナノユースＺＲ−３０ＢＳ（イットリア含有の酸化ジルコニウム粒子）などを挙げることができる。
【００２３】
（酸基を有する樹脂）
本発明の樹脂組成物に用いることができる酸基を有する樹脂は、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択できる。また、酸基を有する樹脂には、本発明の樹脂組成物中において酸基が中和された塩の状態となった樹脂も含まれる。
酸基を有する樹脂は、１価の酸基（カルボキシル基など）を有する樹脂であることが好ましい。
酸基を有する樹脂は、アルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、線状有機高分子重合体であって、分子（好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子）中に少なくとも１つのアルカリ可溶性を促進する基（すなわち酸基：例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基など）を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。このうち、更に好ましくは、有機溶媒に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものである。酸基としては、カルボキシル基が好ましい。
【００２４】
アルカリ可溶性樹脂の製造には、例えば、公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めるようにすることもできる。
【００２５】
上記の線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマーが好ましい。例えば、特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号、特開昭４６−２１２１号公報や特公昭５６−４０８２４号公報の各公報に記載されているような、ポリ（メタ）アクリル酸、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、スチレン／マレイン酸等のマレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びにカルボキシアルキルセルロースおよびカルボキシアルキル澱粉等の側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等であり、更に側鎖に（メタ）アクリロイル基等の反応性官能基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。
【００２６】
これらの中では特に、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体やベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好適である。
この他、２−ヒドロキシエチルメタクリレートを共重合したもの等も有用なものとして挙げられる。このポリマーは任意の量で混合して用いることができる。
【００２７】
上記以外に、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクレート／メタクリル酸共重合体などが挙げられる。
【００２８】
アルカリ可溶性樹脂の具体的な構成単位については、特に（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他の単量体との共重合体が好適である。
【００２９】
（メタ）アクリル酸と共重合可能な他の単量体としては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。ここで、アルキル基及びアリール基の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。
アルキル（メタ）アクリレート及びアリール（メタ）アクリレートの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジルアクリレート、トリルアクリレート、ナフチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等を挙げることができる。
【００３０】
また、ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー、ＣＨ2＝ＣＲ1Ｒ2、ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）（ＣＯＯＲ3）〔ここで、Ｒ1は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ2は炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環を表し、Ｒ3は炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数６〜１２のアラルキル基を表す。〕等を挙げることができる。
【００３１】
これら共重合可能な他の単量体は、１種単独で或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。好ましい共重合可能な他の単量体は、ＣＨ2＝ＣＲ1Ｒ2、ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）（ＣＯＯＲ3）、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート及びスチレンから選択される少なくとも１種であり、特に好ましくは、ＣＨ2＝ＣＲ1Ｒ2及び／又はＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）（ＣＯＯＲ3）である。
【００３２】
この他に反応性官能基を有する（メタ）アクリル化合物、ケイヒ酸等に、この反応性官能基と反応可能な置換基を有する線状高分子を反応させて、エチレン不飽和二重結合をこの線状高分子に導入した樹脂が挙げられる。反応性官能基としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が例示でき、この反応性官能基と反応可能な置換基としては、イソシアネート基、アルデヒド基、エポキシ基等をあげることができる。
【００３３】
これらの中でも、本発明の樹脂組成物の製造方法は、酸基を有する樹脂が、酸基を有するアクリル樹脂であることが好ましい。なお、本明細書中、アクリル樹脂には、メタクリル樹脂とアクリル樹脂の両方が含まれ、同様に（メタ）アクリルにはメタクリルとアクリルが含まれる。
本発明の樹脂組成物に好ましく用いられる酸基を有する樹脂としては、（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸エステルの共重合樹脂を挙げることができる。その中でもメタクリル酸／メタクリル酸メチルの共重合樹脂、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／メタクリル酸エチル／メタクリル酸２−ヒドロキシエチルの共重合樹脂が好ましい。（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸エステルの共重合樹脂の組成比（モル比）が１０／９０〜１００／０であることが好ましく、１０／９０〜６０／４０であることがより好ましく、２０／８０〜５０／５０であることが特に好ましく、３０／７０〜５０／５０であることがより特に好ましい。
酸基を有する樹脂の重量平均分子量Ｍｗ（ｗｅｉｇｈｔ  ａｖｅｒａｇｅ  ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  ｗｅｉｇｈｔ）は、５０００〜１０００００であることが好ましく、８０００〜５００００であることがより好ましく、１００００〜４００００であることが特に好ましい。
なお、酸基を有する樹脂の重量平均分子量は以下の方法で測定した値を採用する。
ポリスチレンを内部標準物質とした、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定する。
【００３４】
さらに安定な分散系で塗布面状を改良する観点からは、本発明の樹脂組成物の製造方法は、酸基を有する樹脂が、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を有することが好ましい。すなわち、樹脂組成物は、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を含むことが好ましい。
酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂としては特に制限はない。酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂が、酸基を有するアクリル樹脂のアンモニウム塩であることが好ましい。
【００３５】
本発明の樹脂組成物の製造方法は、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂が、酸基を有する樹脂およびアンモニアが溶解した溶液を混合して調製されたことが好ましい。樹脂組成物の製造方法は、酸基を有する樹脂をアンモニア水溶液に溶解させ、前述の酸基の少なくとも一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を含む水系樹脂組成物を調製する工程を含むことがより好ましい。
本発明に用いることができる酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を調製するためのアンモニア水溶液の濃度としては特に制限はなく、目的のｐＨに応じて選択することができ、例えば後述の第２の分散媒に用いるアンモニア水溶液の濃度と同様のアンモニア水溶液を用いることができる。
【００３６】
（第２の分散媒）
本発明では、第２の分散媒が少なくとも水を含む。換言すると、第２の分散媒が水系溶媒であることが好ましい。水系溶媒としては、水もしくは炭素原子数１〜３のアルコールと水との混合溶媒が好ましい。樹脂組成物の製造方法の好ましい態様では、樹脂組成物の第２の分散媒が、水および炭素原子数１〜３のアルコールを含むことが好ましく、水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２〜１００／０の水または混合溶媒を含むことがより好ましい。水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率は、質量比で５９／４１〜１００／０の範囲が特に好ましく、６０／４０〜９７／３が本発明の樹脂組成物から形成される樹脂層の着色を改善する観点からより特に好ましく、６２／３８〜９５／５が本発明の樹脂組成物から形成される樹脂層の基板密着性を改善する観点からさらにより特に好ましく、６２／３８〜８５／１５が最も好ましい。
水、水及びメタノールの混合溶剤、水及びエタノールの混合溶剤が好ましく、乾燥及び塗布性の観点から水及びメタノールの混合溶剤が好ましい。
特に、本発明の樹脂組成物として、水及びメタノールの混合溶剤を用いる場合は、水／メタノールの質量比（質量％比率）が５８／４２〜１００／０であることが好ましく、５９／４１〜１００／０の範囲がより好ましく、６０／４０〜９７／３が特に好ましく、６２／３８〜９５／５がより特に好ましく、６２／３８〜８５／１５がさらにより特に好ましい。この水／炭素原子数１〜３のアルコール含有率が質量比で５８／４２の範囲よりもメタノールが少なければ本発明の樹脂組成物から形成される樹脂層が、溶解し難くなり、白濁し難くなり、好ましい。
上記範囲に制御することにより、本発明の樹脂組成物を用いて塗布により樹脂層を形成する場合に、他の樹脂層と層混合なく塗布と迅速な乾燥を実現できる。
また、さらに安定な分散系で塗布面状を改良するには、第２の分散媒が、アンモニウム塩（またはアンモニウム塩の前駆体であるアンモニアやアンモニウムイオン）をさらに含むことが好ましい。
第２の分散媒に用いるアンモニア水溶液の濃度としては特に制限はないが、アンモニア濃度が０．１〜２５質量％のアンモニア水溶液が好ましく、０．５〜１０質量％のアンモニア水溶液がより好ましく、１〜５質量％のアンモニア水溶液が特に好ましい。
本発明の樹脂組成物の製造方法は、第２の分散媒が２０〜１００質量％の水を含むことが好ましく、３０〜９０質量％の水を含むことがより好ましく、３０〜８０質量％の水を含むことが特に好ましい。
【００３７】
（添加剤）
樹脂組成物は、さらに添加剤を含んでいてもよい。樹脂組成物が、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を有し、バインダーポリマーと、光または熱重合性化合物と、光または熱重合開始剤とを含むことが好ましい。酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂のみがバインダーポリマーであってもよく、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂の他にさらに他のバインダーポリマーを併用してもよい。酸基を有するモノマーのアンモニウム塩が光または熱重合性化合物であってもよく、酸基を有するモノマーのアンモニウム塩の他にさらに光または熱重合性化合物を併用してもよい。
【００３８】
−酸基を有するモノマー−
樹脂組成物は、酸基を有するモノマーを含んでいてもよい。
酸基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸やその誘導体などのアクリルモノマーや、以下のモノマーを好ましく用いることができる。
例えば、３〜４官能のラジカル重合性モノマー（ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート骨格にカルボン酸基を導入したもの（酸価＝８０〜１２０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ）、５〜６官能のラジカル重合性モノマー（ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート骨格にカルボン酸基を導入したもの（酸価＝２５〜７０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ）等が挙げられる。具体的な名称は記載していないが、必要に応じ、２官能のアルカリ可溶性ラジカル重合性モノマーを用いてもよい。
その他、特開２００４−２３９９４２号公報の［００２５］〜［００３０］に記載の酸基を有するモノマーも好ましく用いることができ、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
これらの中でも、（メタ）アクリル酸やその誘導体などのアクリルモノマーをより好ましく用いることができる。なお、本明細書中、アクリルモノマーは、メタクリルモノマーとアクリルモノマーの両方が含まれる。
【００３９】
−重合性化合物−
樹脂組成物が、光重合性化合物または熱重合性化合物などの重合性化合物を含むことが、硬化させて膜の強度などを高める観点から好ましい。前述の酸基を有するモノマー以外の他の光重合性化合物を含むことがより好ましい。
樹脂組成物に用いられる重合性化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落００２３〜００２４に記載の重合性化合物を用いることができる。その中でも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレートを好ましく用いることができる。これらの重合性化合物は単独で用いてもよく、複数を含みあわせて用いてもよい。ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物を用いる場合、ペンタエリスリトールトリアクリレートの比率は質量比で０〜８０％であることが好ましく、１０〜６０％であることがより好ましい。
樹脂組成物に用いられる光重合性化合物として、具体的には、下記構造式１で表される水溶性の重合性化合物、ペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製、不純物としてトリアクリレート約１０％含有）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３ＬＭ−Ｎ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート３７％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５５％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５７％）、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレート（カヤラッドＲＰ−１０４０  日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ−２３４９（東亜合成社製）などを挙げることができる。
樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、これらの中でも、積層材料のレチキュレーションを改善する観点からは、下記構造式１で表される水溶性の重合性化合物、ペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ３ＬＭ−Ｎ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート３７％）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとトリアクリレートの混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ−３Ｌ  新中村化学工業（株）製、トリアクリレート５５％）を好ましく用いることができる。
【化１】
0006345619.tif 000002
その他の樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、メタノールなどの炭素原子数１〜３のアルコールと水の混合溶媒にも溶解性を有することが、後述する金属酸化物粒子のアルコール分散液を本発明の樹脂組成物に併用する場合に好ましい。水もしくは炭素原子数１〜３のアルコールと水の混合溶媒に対して溶解性を有する重合性化合物としては、水酸基を有するモノマー、分子内にエチレンオキサイドやポリプロピレンオキサイド、及びリン酸基を有するモノマーが使用できる。炭素原子数１〜３のアルコールと水の混合溶媒にも溶解性を有する重合性化合物としては、カヤラッドＲＰ−１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ−２３４９（東亜合成社製）、重合性モノマー  Ａ−９３００（新中村化学工業（社）製）、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ（新中村化学工業（社）製）などが好ましい。なお、重合性化合物が炭素原子数１〜３のアルコールと水の混合溶媒にも溶解性を有するとは、アルコールと水の混合溶媒に０．１質量％以上溶解することを言う。
また、重合性化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分の全質量に対し、０〜２０質量％であることが好ましく、０〜１０質量％であることがより好ましく、０〜５質量％であることが更に好ましい。
【００４０】
−重合開始剤−
樹脂組成物に用いられる重合開始剤としては特に制限はないが、光または熱重合開始剤を用いることができ、光重合開始剤が好ましく、水もしくは炭素原子数１〜３のアルコールと水の混合溶媒に対して溶解性を有する光重合開始剤がより好ましい。重合開始剤としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９や、下記構造式２の開始剤が使用できる。
また、重合開始剤の含有量は、樹脂組成物の固形分の全質量に対し、０〜５質量％であることが好ましく、０〜１質量％であることがより好ましく、０〜０．５質量％であることが更に好ましい。
【化２】
0006345619.tif 000003
【００４１】
−金属酸化抑制剤−
樹脂組成物は、金属酸化抑制剤を含むことが好ましい。本発明の樹脂組成物を塗布して形成された樹脂層が金属酸化抑制剤を含有することにより、樹脂層を基材（基板、透明電極、金属配線部等）上に積層する際に、樹脂層と直接接する金属配線部を表面処理することが可能となる。上記表面処理による金属配線部の保護性は、樹脂層を除去した後にも有効であると考えられる。
金属酸化抑制剤としては、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物であることが好ましい。
また、金属酸化抑制剤としては、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、トリアゾ−ル環、テトラゾール環、チアジアゾール環、及び、それらと他の芳香環との縮合環よりなる群から選ばれた少なくとも一つの環であることが好ましく、上記窒素原子を含む芳香環が、イミダゾール環、又はイミダゾール環と他の芳香環との縮合環であることがより好ましい。
上記他の芳香環としては、単素環でも複素環でもよいが、単素環であることが好ましく、ベンゼン環又はナフタレン環であることがより好ましく、ベンゼン環であることが更に好ましい。
好ましい金属酸化抑制剤としては、イミダゾール、ベンズイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、及び、ベンゾトリアゾールが好ましく例示され、イミダゾール、ベンズイミダゾール及びベンゾトリアゾールがより好ましい。
また、金属酸化抑制剤の含有量は、樹脂組成物の固形分の全質量に対し、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜１０質量％であることがより好ましく、１〜５質量％であることが更に好ましい。
【００４２】
−他のバインダーポリマー−
樹脂組成物に用いられる酸基を有さない他のバインダーポリマーとしては特に制限はなく、後述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物に用いられるバインダーポリマーを用いることができる。
【００４３】
（混合比率）
本発明の樹脂組成物に対する、第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液、酸基を有する樹脂（粉体または溶液）、第２の分散媒の混合比率について説明する。
得られる本発明の樹脂組成物１００質量部に対する、第１の分散媒にジルコニウム元素を含む金属酸化物が分散した分散液の混合比率は０．１〜３０質量部であることが好ましく、１〜１５質量部であることがより好ましく、２〜１１質量部であることが特に好ましい。
得られる本発明の樹脂組成物１００質量部に対する、酸基を有する樹脂（粉体または溶液）の混合比率は０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．４５〜２５質量部であることがより好ましく、０．６〜２０質量部であることが特に好ましい。
得られる本発明の樹脂組成物１００質量部に対する、第２の分散媒の混合比率は４０〜９９．８質量部であることが好ましく、６０〜９９質量部であることがより好ましく、７０〜９８質量部であることが特に好ましい。
【００４４】
［樹脂組成物］
本発明の樹脂組成物は、本発明の樹脂組成物の製造方法により製造された樹脂組成物である。
本発明の樹脂組成物は、水系樹脂組成物であることが好ましい。水系樹脂組成物とは、水系溶媒に溶解することができる樹脂組成物のことを言う。
【００４５】
＜樹脂組成物の固形分濃度＞
本発明の樹脂組成物は、膜厚制御の観点から樹脂組成物の固形分濃度が４質量％以下であることが好ましく、１〜４質量％であることがより好ましく、１．５〜４質量％であることが特に好ましい。
【００４６】
＜樹脂組成物のジルコニウム元素を含む金属酸化物濃度＞
本発明の樹脂組成物には、使用する酸基を有する樹脂など他の成分の種類に応じて、任意の割合でジルコニウム元素を含む金属酸化物を含めることができるが、樹脂組成物の固形分に対して、ジルコニウム元素を含む金属酸化物は、４０〜９５質量％含まれることが好ましく、５５〜９５質量％含まれることがより好ましく、６２〜９０質量％含まれることが本発明の積層材料のベーク時の割れを改善する観点から特に好ましく、６２〜８０質量％含まれることがより特に好ましい。
【００４７】
＜樹脂組成物のｐＨ＞
本発明の樹脂組成物は、樹脂組成物の２５℃におけるｐＨが、７以上であることが好ましく、７．０以上１２．０以下であることがより好ましく、７．０〜１０．０であることが特に好ましく、７．０〜８．５であることがより特に好ましい。また、本発明の樹脂組成物は、塩基性であることが好ましい。例えば、酸基に対して過剰量のアンモニアを用い、酸基を有する樹脂を添加して、上記の好ましい範囲に樹脂組成物のｐＨを調整することができる。
【００４８】
［積層材料の製造方法］
本発明の積層材料の製造方法は、基材と樹脂層を有する積層材料の製造方法であって、樹脂層を、本発明の樹脂組成物を塗布して形成する工程を含む。
積層材料の製造方法は、基材と、第一の硬化性透明樹脂層と、第一の硬化性透明樹脂層に隣接して配置された第二の硬化性透明樹脂層とをこの順で有する積層材料の製造方法であって、第二の硬化性透明樹脂層を、本発明の樹脂組成物を塗布して形成する工程を含むことが好ましい。
【００４９】
積層材料の製造方法は、基材上に第一の透明樹脂層を形成する工程と、前述の第一の透明樹脂層の上に直接第二の透明樹脂層を形成する工程とを有し、前述の第一の透明樹脂層を形成する工程が、有機溶媒系樹脂組成物を前述の基材上に塗布する工程であり、前述の第二の透明樹脂層を形成する工程が本発明の樹脂組成物を塗布する工程であることがより好ましい。
このような好ましい構成とすることで、層分画が良好であり、かつ、高温高湿下で経時させた場合に水系樹脂組成物を用いて形成された透明樹脂層の吸湿による問題を抑制できる。有機溶媒系樹脂組成物によって得られた第一の透明樹脂層の上に、本発明の樹脂組成物を塗布することで、第一の透明樹脂層を硬化せずに第二の透明樹脂層を形成しても層混合が生じず、層分画が良好となる。さらに、本発明の樹脂組成物が酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を含む水系樹脂組成物である場合は、塗布膜を乾燥させるときに酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂から、水よりも沸点の低いアンモニアが乾燥工程で揮発しやすいため、酸基を生成（再生）して酸基を有する樹脂として第二の透明樹脂層に存在させることができる。そのため、高温高湿下で経時させて吸湿させた場合に第二の透明樹脂層を構成する酸基を有するモノマーまたは酸基を有する樹脂はすでに水に溶解しなくなっているため、積層材料が吸湿したときの問題も抑制することができる。
【００５０】
また、積層材料の製造方法は、第二の透明樹脂層の形成に用いられる本発明の樹脂組成物が、熱硬化性および光硬化性のうち少なくとも一方であることが好ましい。第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層がこのような硬化性透明樹脂層である場合、積層材料の製造方法によれば第一の透明樹脂層を積層した後に硬化させることなく第二の透明樹脂層を積層しても層分画が良好となって透明電極パターン視認性を改善することができるとともに、得られた積層材料（転写材料、好ましくは転写フィルム）から屈折率調整層（すなわち第一および第二の透明樹脂層）を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。
【００５１】
＜基材上に第一の透明樹脂層を形成する工程＞
積層材料の製造方法は、基材上に第一の透明樹脂層を形成する工程を有することが好ましく、前述の第一の透明樹脂層を形成する工程が、有機溶媒系樹脂組成物を前述の基材上に塗布する工程であることがより好ましい。
【００５２】
（基材）
積層材料の製造方法に用いられる基材としては特に制限はなく、ガラス、Ｓｉウェハ、紙、不織布、フィルムなどを挙げることができる。その中でも、基材としてはフィルムであることが好ましく、樹脂フィルムであることがより好ましい。
基材として用いられるフィルムとしては、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じない材料を用いることができる。このような基材の例として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
【００５３】
基材の厚みには、特に制限はなく、５〜２００μｍの範囲が一般的であり、取扱い易さ、汎用性などの点で、特に１０〜１５０μｍの範囲が好ましく、軽量化の観点から１０〜２０μｍの範囲がより好ましい。
また、基材は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
また、基材には、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
【００５４】
（有機溶媒系樹脂組成物）
有機溶媒系樹脂組成物とは、有機溶媒に溶解することができる樹脂組成物のことを言う。
有機溶媒としては、一般的な有機溶媒が使用できる。有機溶媒の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等を挙げることができる。
【００５５】
積層材料の製造方法は、第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物が、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含むことが好ましい。
【００５６】
−バインダーポリマー−
前述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーとしては任意のポリマー成分を特に制限なく用いることができるが、静電容量型入力装置の透明保護層として用いる観点から、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、アルカリ可溶性樹脂がより好ましく、アルカリ可溶性樹脂の中でも、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが好ましく用いられる。積層材料の製造方法は、第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーが、アクリル樹脂を含有することが好ましく、第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物に含まれるバインダーポリマーと後述の第二の透明樹脂層の形成に用いられる本発明の樹脂組成物に含まれる酸基を有する樹脂またはバインダーポリマーがいずれもアクリル樹脂を含有することが、第一の透明樹脂層と第二の透明樹脂層を転写する前および後の層間密着性を高める観点からより好ましい。第一の透明樹脂層の前述のバインダーポリマーの好ましい範囲を具体的に説明する。
【００５７】
前述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物に用いられ、有機溶媒に対して溶解性を有する樹脂（バインダー、ポリマーという言う）としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択でき、アルカリ可溶性樹脂が好ましく、前述のアルカリ可溶性樹脂としては、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００２５、特開２０１０−２３７５８９号公報の段落００３３〜００５２に記載のポリマーを用いることができる。
【００５８】
また第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物は、ポリマーラテックスを含んでいても良い。ここで言うポリマーラテックスとは、水不溶のポリマーの微粒子が水に分散したものである。ポリマーラテックスについては、例えば室井宗一著「高分子ラテックスの化学（高分子刊行会発行（昭和４８年））」に記載されている。
【００５９】
使用できるポリマー粒子としてはアクリル系、酢酸ビニル系、ゴム系（例えばスチレン−ブタジエン系、クロロプレン系）、オレフィン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリスチレン系などのポリマー、及びこれらの共重合体からなるポリマー粒子が好ましい。
ポリマー粒子を構成するポリマー鎖相互間の結合力を強くすることが好ましい。ポリマー鎖相互間の結合力を強くする手段としては水素結合による相互作用を利用するものと共有結合を生成する方法が挙げられる。水素結合力を付与する手段としてはポリマー鎖に極性基を有するモノマーを共重合、もしくはグラフト重合して導入することが好ましい。極性基としてはカルボキシル基（アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸、部分エステル化マレイン酸等に含有される）、一級、二級及び三級アミノ基、アンモニウム塩基、スルホン酸基（スチレンスルホン酸）などが挙げられ、カルボキシル基、スルホン酸基が特に好ましい。
これらの極性基を有するモノマーの共重合比の好ましい範囲は、ポリマー１００質量％に対し５〜３５質量％であり、より好ましくは５〜２０質量％、更に好ましくは１５〜２０質量％の範囲内である。一方、共有結合を生成させる手段としては、水酸基、カルボキシル基、一級、二級アミノ基、アセトアセチル基、スルホン酸などに、エポキシ化合物、ブロックドイソシアネート、イソシアネ−ト、ビニルスルホン化合物、アルデヒド化合物、メチロール化合物、カルボン酸無水物などを反応させる方法が挙げられる。
これらの反応を利用したポリマーの中でもポリオール類とポリイソシアネ−ト化合物の反応で得られるポリウレタン誘導体が好ましく、鎖延長剤として多価アミンを併用するのがより好ましく、さらにポリマー鎖に上記極性基を導入してアイオノマー型にしたものが特に好ましい。
ポリマーの重量平均分子量は１万以上が好ましく、さらに好ましくは２万〜１０万である。本発明に好適なポリマーとしてエチレンとメタクリル酸の共重合体であるエチレンアイオノマー、ポリウレタンアイオノマーが挙げられる。
【００６０】
本発明に用いることができるポリマーラテックスは、乳化重合によって得られるものでもよいし、乳化によって得られるものであってもよい。これらポリマーラテックスの調製方法については、例えば「エマルジョン・ラテックスハンドブック」（エマルジョン・ラテックスハンドブック編集委員会編集、（株）大成社発行（昭和５０年））に記載されている。
本発明に用いることができるポリマーラテックスとしては、例えば、ポリエチレンアイオノマーの水性ディスパージョン（商品名：ケミパールＳ１２０  三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ１００  三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ１１１  三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ２００  三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ３００  三井化学（株）製。固形分３５％）、ケミパールＳ６５０  三井化学（株）製。固形分２７％）、ケミパールＳ７５Ｎ  三井化学（株）製。固形分２４％）や、ポリエーテル系ポリウレタンの水性ディスパージョン（商品名：ハイドランＷＬＳ−２０１  ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、ガラス転移温度−５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２０２  ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、ガラス転移温度−５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２２１  ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、ガラス転移温度−３０℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２１０  ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、ガラス転移温度−１５℃）（商品名：ハイドランＷＬＳ−２１３  ＤＩＣ（株）製。固形分３５％、ガラス転移温度−１５℃）（商品名：ハイドランＷＬＩ−６０２  ＤＩＣ（株）製。固形分３９．５％、ガラス転移温度−５０℃）（商品名：ハイドランＷＬＩ−６１１  ＤＩＣ（株）製。固形分３９．５％、ガラス転移温度−１５℃）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＡＴ−２１０  日本純薬製）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＥＴ−４１０  日本純薬製）、アクリル酸アルキルコポリマーアンモニウム（商品名：ジュリマーＡＴ−５１０  日本純薬製）、ポリアクリル酸（商品名：ジュリマーＡＣ−１０Ｌ  日本純薬製）をアンモニア中和し、乳化した物を挙げることができる。
【００６１】
−光重合性化合物−
有機溶媒系樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、特許第４０９８５５０号の段落００２３〜００２４に記載の光重合性化合物を用いることができる。その中でも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレートを好ましく用いることができる。これらの重合性化合物は単独で用いてもよく、複数を含みあわせて用いてもよい。ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物を用いる場合、ペンタエリスリトールトリアクリレートの比率は質量比で０〜８０％であることが好ましく、１０〜６０％であることがより好ましい。
有機溶媒系樹脂組成物に用いられる光重合性化合物としては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレートペンタエリスリトールテトラアクリレート混合物（ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ新中村化学工業（株）製）、ペンタエリスリトールエチレンオキサイド付加物のテトラアクリレート（カヤラッドＲＰ−１０４０  日本化薬（株）製）を好ましく用いることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６２】
−光重合開始剤−
前述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物が、前述の光重合性化合物および前述の光重合開始剤を含むことによって、第一の透明樹脂層及び前述の第二の透明樹脂層のパターンを形成しやすくすることができる。
有機溶媒系樹脂組成物に用いられる光重合開始剤としては、特開２０１１−９５７１６号公報に記載の段落００３１〜００４２に記載の光重合開始剤を用いることができる。例えば、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ製）の他、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦ製）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ製）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７、ＢＡＳＦ製）、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７、ＢＡＳＦ製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３６９、ＢＡＳＦ製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １１７３、ＢＡＳＦ製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４、ＢＡＳＦ製）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１、ＢＡＳＦ製）、オキシムエステル系の（商品名：Ｌｕｎａｒ  ６、ＤＫＳＨジャパン株式会社製などを好ましく用いることができる。
前述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物中、前述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物の固形分に対して、前述の光重合開始剤は、１質量％以上含まれることが好ましく、２質量％以上含まれることがより好ましい。前述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物中、前述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物の固形分に対して、前述の光重合開始剤は、１０質量％以下含まれることが好ましく、５質量％以下含まれることが透明積層体のパターニング性、基板密着性を改善する観点からより好ましい。
【００６３】
−金属酸化物粒子−
前述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、粒子（好ましくは金属酸化物粒子）を含んでいても含んでいなくてもよい。上述の範囲に前述の第一の透明樹脂層の屈折率を制御するために、使用するポリマーや重合性化合物の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができる。前述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物中、前述の第一の透明樹脂層の形成に用いられる有機溶媒系樹脂組成物の固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、０〜３５質量％含まれることが好ましく、０〜１０質量％含まれることがより好ましく、含まれないことが特に好ましい。
金属酸化物粒子は、透明性が高く、光透過性を有するため、高屈折率で、透明性に優れたポジ型感光性樹脂組成物が得られる。
前述の金属酸化物粒子は、第一の透明樹脂層または第二の透明樹脂層からこの粒子を除いた材料からなる組成物の屈折率より屈折率が高いものであることが好ましい。具体的には、第一の透明樹脂層または第二の透明樹脂層が、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上の粒子を含有することがより好ましく、屈折率が１．５５以上の粒子を含有することが更に好ましく、屈折率が１．７０以上の粒子を含有することが特に好ましく、１．９０以上の粒子を含有することが最も好ましい。本発明の樹脂組成物に用いられるジルコニウム元素を含む金属酸化物は屈折率が高いことが好ましく、好ましい範囲は上述の範囲と同様である。
ここで、４００〜７５０ｎｍの波長を有する光における屈折率が１．５０以上であるとは、上記範囲の波長を有する光における平均屈折率が１．５０以上であることを意味し、上記範囲の波長を有する全ての光における屈折率が１．５０以上であることを要しない。また、平均屈折率は、上記範囲の波長を有する各光に対する屈折率の測定値の総和を、測定点の数で割った値である。
【００６４】
なお、前述の金属酸化物粒子の金属には、Ｂ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｔｅ等の半金属も含まれるものとする。
光透過性で屈折率の高い金属酸化物粒子としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｎ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｔｅ等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム／スズ酸化物、アンチモン／スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましく、酸化チタンが最も好ましい。酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
【００６５】
第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層の透明性の観点から、前述の金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、３〜８０ｎｍが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子２００個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
【００６６】
また、前述の金属酸化物粒子は、１種単独で使用してよいし、２種以上を併用することもできる。
積層材料は、第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層が、ＺｒＯ2粒子、Ｎｂ2Ｏ5粒子およびＴｉＯ2粒子のうち少なくとも一方を有することが、前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層の屈折率の範囲に屈折率を制御する観点から好ましく、ＺｒＯ2粒子及びＮｂ2Ｏ5粒子がより好ましい。
前述の第一の硬化性透明樹脂層は、金属酸化物粒子を含んでいても含んでいなくてもよいが、金属酸化物粒子を含むことが、上述の範囲に前述の第一の硬化性透明樹脂層の屈折率を制御する観点から好ましい。前述の第一の硬化性透明樹脂層には、使用するポリマーや重合性化合物の種類に応じて、任意の割合で金属酸化物粒子を含めることができるが、前述の第一の硬化性透明樹脂層中、前述の第一の硬化性透明樹脂層の固形分に対して、前述の金属酸化物粒子は、４０〜９５質量％含まれることが好ましく、５０〜９０質量％含まれることがより好ましく、５５〜８５質量％含まれることが特に好ましい。
【００６７】
＜第二の透明樹脂層を形成する工程＞
第一の透明樹脂層の上に直接第二の透明樹脂層を形成する工程を有することが好ましい。
本発明の積層材料の製造方法は、本発明の樹脂組成物の単位面積あたりの塗布量が、２０ｃｍ3／ｍ2以下であることがベーク時割れを改善する観点から好ましく、１〜２０ｃｍ3／ｍ2であることがより好ましく、５〜１９ｃｍ3／ｍ2であることが特に好ましい。
前述の第二の透明樹脂層を形成する工程が、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を含む本発明の樹脂組成物を塗布する工程であることが好ましい。
【００６８】
＜アンモニアの揮発＞
さらに積層材料の製造方法は、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂から、アンモニアを揮発させることで、酸基を生成する工程を含むことが好ましい。前述の酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂から、アンモニアを揮発させることで、酸基を生成する工程が、塗布された本発明の樹脂組成物を加熱する工程であることが好ましい。
塗布され本発明の樹脂組成物を加熱する工程の詳細な条件の好ましい範囲について、以下に示す。
加熱・乾燥方法としては、加熱装置を備えた炉内を通過させる方法や、又、送風により実施することもできる。加熱・乾燥条件は、使用する有機溶媒等に応じて適宜設定すれば良く、４０〜１５０℃の温度に加熱する方法等が挙げられる。これらの条件の中でも、５０〜１２０℃の温度で加熱することが特に好ましく、６０〜１００℃の温度に加熱することが更に好ましい。加熱・乾燥後の組成物としては、含水率が５質量％以下とすることが好ましく、３質量％以下にすることがより好ましく、１質量％以下にすることが更に好ましい。
【００６９】
＜その他の工程＞
前述の基材上に前述の第一の透明樹脂層を形成する前に、さらに熱可塑性樹脂層を形成する工程を含んでいてもよい。
【００７０】
前述の熱可塑性樹脂層を形成する工程の後に、前述の熱可塑性樹脂層と前述の第一の透明樹脂層の間に中間層を形成する工程を含んでいてもよい。具体的に中間層を有する感光性材料を形成する場合には、基材上に、熱可塑性の有機高分子と共に添加剤を溶解した溶解液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を設けた後、この熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤に樹脂や添加剤を加えて調製した調製液（中間層用塗布液）を塗布し、乾燥させて中間層を積層し、この中間層上に更に、中間層を溶解しない溶剤を用いて調製した感光性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて感光性樹脂層を積層することによって、好適に作製することができる。
【００７１】
その他の積層材料の製造方法は、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００９４〜００９８に記載の感光性転写材料の作製方法を採用することができ、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
【００７２】
［積層材料］
本発明の積層材料は、本発明の積層材料の製造方法により製造された積層材料である。
積層材料は、基材と、第一の透明樹脂層と、前述の第一の透明樹脂層に隣接して配置された第二の透明樹脂層とをこの順で有し、前述の第一の透明樹脂層は、有機溶媒系樹脂組成物を前述の基材の上に塗布することにより製膜されてなり、前述の第二の透明樹脂層は、本発明の樹脂組成物を前述の第一の透明樹脂層の上に塗布することにより製膜されてなることが好ましい。
積層材料は、転写材料であることが好ましく、転写フィルムであることがより好ましい。
【００７３】
透明電極パターン（好ましくはＩｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）と前述の第二の透明樹脂層との屈折率差、ならびに、前述の第二の透明樹脂層と前述の第一の透明樹脂層との屈折率差を小さくすることにより、光反射が低減して透明電極パターンが見えにくくなり、透明電極パターン視認性を改善することができる。また、第一の透明樹脂層を積層した後に第一の透明樹脂層を硬化させることなく第二の透明樹脂層を積層しても、層分画が良好となって、上記のメカニズムで透明電極パターン視認性を改善することができるとともに、積層材料から屈折率調整層（すなわち第一および第二の透明樹脂層）を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。なお、第一および第二の透明樹脂層の層分画が悪いと、上記のメカニズムによる屈折率調整の効果が不十分となりやすく、透明電極パターン視認性の改善が不十分となりやすい。
【００７４】
以下、積層材料の好ましい態様について説明する。
なお、積層材料は、静電容量型入力装置の透明絶縁層用または透明保護層用であることが好ましい。より詳しくは、積層材料は、透明電極パターンの上に、フォトリソ方式により、屈折率調整層およびオーバーコート層（透明保護層）の積層パターンを形成するための転写材料として好ましく用いることができる。
【００７５】
＜第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層＞
第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層は、熱硬化性であっても、光硬化性であっても、熱硬化性かつ光硬化性であってもよい。その中でも、第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層は少なくとも熱硬化性であることが、転写後に熱硬化して膜の信頼性を付与できる観点から好ましく、熱硬化性かつ光硬化性であることが、転写後に光硬化して製膜しやすく、かつ、製膜後に熱硬化して膜の信頼性を付与できる観点からより好ましい。
なお、本明細書中では説明の都合上、積層材料の第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層を透明電極パターン上に転写し、これらの層を光硬化した後にこれらの層が光硬化性を失った場合において、これらの層が熱硬化性を有するか否かによらずそれぞれ引き続き第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層と呼ぶ。さらに、これらの層を光硬化した後、熱硬化を行う場合もあるが、その場合もこれらの層が硬化性を有するか否かによらずそれぞれ引き続き第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層と呼ぶ。同様に、積層材料の第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層を透明電極パターン上に転写し、これらの層を熱硬化した後にこれらの層が熱硬化性を失った場合において、これらの層が光硬化性を有するか否かによらずそれぞれ引き続き第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層と呼ぶ。
【００７６】
積層材料は、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
積層材料がネガ型材料である場合、第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層には、金属酸化物粒子、バインダー樹脂（好ましくはアルカリ可溶性樹脂）、光重合性化合物、重合開始剤を含むことが好ましい。さらに、添加剤などが用いられるがこれに限られない。
積層材料は、第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層が、それぞれ独立にバインダー、重合性化合物および光重合開始剤を含むことが好ましい。
【００７７】
積層材料は、第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層が透明樹脂層であることが好ましい。
第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層の屈折率を制御する方法としては特に制限はないが、所望の屈折率の透明樹脂層を単独で用いたり、金属粒子や金属酸化物粒子などの粒子を添加した透明樹脂層を用いたり、また金属塩と高分子の複合体を用いることができる。
【００７８】
さらに、前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層には、添加剤を用いてもよい。前述の添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。
【００７９】
以上、積層材料がネガ型材料である場合を中心に説明したが、積層材料は、ポジ型材料であってもよい。積層材料がポジ型材料である場合、前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層に、例えば特開２００５−２２１７２６号公報に記載の材料などが用いられるが、これに限られない。
【００８０】
＜第一の透明樹脂層の構成＞
積層材料は、前述の第一の透明樹脂層の二重結合消費率が１０％以下であることが、転写後の第一の透明樹脂層にフォトリソグラフィ適性を付与できる観点から、好ましい。第一の透明樹脂層に用いられる有機溶媒系樹脂組成物を塗布し、乾燥した後に、露光せずに前述の本発明の樹脂組成物を塗布することで、このような範囲に第一の透明樹脂層の二重結合消費率を制御することができる。なお、特開２０１４−１０８５４１号公報の転写材料では、第一の透明樹脂層の二重結合消費率が１０％を超える。
【００８１】
積層材料は、前述の第一の透明樹脂層の屈折率が、１．５〜１．５３であることが好ましく、１．５〜１．５２であることがより好ましく、１．５１〜１．５２であることが特に好ましい。
【００８２】
積層材料は、前述の第一の透明樹脂層の層厚が、第一の透明樹脂層を用いて静電容量型入力装置の透明保護層を形成するときに十分な表面保護能を発揮させる観点から、１μｍ以上であることが好ましく、１〜１５μｍであることがより好ましく、２〜１２μｍであることが特に好ましく、３〜１０μｍであることがより特に好ましい。
【００８３】
＜第二の透明樹脂層の構成＞
積層材料は、前述の第一の透明樹脂層に隣接して配置される第二の透明樹脂層を有することが好ましい。
積層材料は、前述の第二の透明樹脂層の屈折率が前述の第一の透明樹脂層の屈折率よりも高いことがより好ましい。前述の第二の透明樹脂層の屈折率が１．６０以上であることが好ましい。
一方、前述の第二の透明樹脂層の屈折率は、透明電極の屈折率によって調整する必要があり、値の上限値としては特に制限はないが、２．１以下であることが好ましく、１．７８以下であることがより好ましく、１．７４以下であってもよい。
特に、透明電極の屈折率が、Ｉｎ及びＺｎの酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ；ＩＺＯ）の場合の様に２．０を超える場合においては、第二の透明樹脂層の屈折率は、１．７以上１．８５以下であることが好ましい。
【００８４】
積層材料は、前述の第二の透明樹脂層の膜厚が、５００ｎｍ以下であることが好ましく、１１０ｎｍ以下であることがより好ましい。前述の第二の透明樹脂層の膜厚が２０ｎｍ以上であることが好ましい。前述の第二の透明樹脂層の膜厚が５５〜１００ｎｍであることが特に好ましく、６０〜１００ｎｍであることがより特に好ましく、７０〜１００ｎｍであることがさらにより特に好ましい。
【００８５】
〔熱可塑性樹脂層〕
積層材料は、前述の基材と前述の第一の透明樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を設けることもできる。前述の熱可塑性樹脂層を有する転写材料を用いて、第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層を転写して透明積層体を形成すると、転写して形成した各要素に気泡が発生し難くなり、画像表示装置に画像ムラなどが発生し難くなり、優れた表示特性を得ることができる。
前述の熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性であることが好ましい。熱可塑性樹脂層は、下地表面の凹凸（既に形成されている画像などによる凹凸等も含む。）を吸収することができるようにクッション材としての役割を担うものであり、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有していることが好ましい。
【００８６】
熱可塑性樹脂層は、特開平５−７２７２４号公報に記載の有機高分子物質を成分として含む態様が好ましく、ヴィカー（Ｖｉｃａｔ）法〔具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法〕による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれる少なくとも１種を含む態様が特に好ましい。
【００８７】
具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニルまたはそのケン化物等とのエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステルまたはそのケン化物との共重合体、ポリ塩化ビニルや塩化ビニルと酢酸ビニルまたはそのケン化物等との塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロン等のポリアミド樹脂などの有機高分子が挙げられる。
【００８８】
熱可塑性樹脂層の層厚は、３〜３０μｍが好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚が３μｍ未満の場合には、ラミネート時の追随性が不十分で、下地表面の凹凸を完全に吸収できないことがある。また、層厚が３０μｍを超える場合には、基材への熱可塑性樹脂層の形成時の乾燥（溶剤除去）に負荷がかかったり、熱可塑性樹脂層の現像に時間を要したりし、プロセス適性を悪化させることがある。前述の熱可塑性樹脂層の層厚としては、４〜２５μｍが更に好ましく、５〜２０μｍが特に好ましい。
【００８９】
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性の有機高分子を含む調製液を塗布等して形成することができ、塗布等の際に用いる調製液は溶媒を用いて調製できる。溶媒には、熱可塑性樹脂層を構成する高分子成分を溶解し得るものであれば特に制限なく、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ−プロパノール、２−プロパノール等が挙げられる。
【００９０】
（熱可塑性樹脂層および光硬化性樹脂層の粘度）
前述の熱可塑性樹脂層の１００℃で測定した粘度が１０００〜１００００Ｐａ・ｓｅｃの領域にあり、光硬化性樹脂層の１００℃で測定した粘度が２０００〜５００００Ｐａ・ｓｅｃの領域にあることが好ましい。
【００９１】
〔中間層〕
積層材料は、前述の熱可塑性樹脂層と前述の第一の透明樹脂層との間に中間層を設けることもできる。中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている。
【００９２】
〔保護フィルム〕
積層材料は、前述の第二の透明樹脂層の表面に保護フィルム（以下、「保護剥離層」とも言う。）などを更に設けることが好ましい。
【００９３】
前述の保護フィルムとしては、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００８３〜００８７および００９３に記載の保護フィルムを適宜使用することができる。
【００９４】
図１２に、本発明の積層材料の好ましい構成の一例を示す。図１２は、基材２６、第一の透明樹脂層７、本発明の樹脂組成物を塗布して形成された樹脂層１２（第二の透明樹脂層１２）および保護剥離層（保護フィルム）２９がこの順で互いに隣接して積層された、本発明の積層材料３０の概略図である。
【００９５】
［透明積層体］
透明積層体は、透明電極パターンと、この透明電極パターンに隣接して配置された第二の透明樹脂層と、この第二の透明樹脂層に隣接して配置された第一の透明樹脂層とを有することが好ましい。前述の第二の透明樹脂層の屈折率が前述の第一の透明樹脂層の屈折率よりも高いことが好ましい。前述の第二の透明樹脂層の屈折率が１．６以上であることが好ましい。
このような構成とすることにより、透明電極パターンが視認される問題を解決することができ、パターニング性が良好となる。
さらに透明積層体は、基板密着性が良好であることが好ましい。
【００９６】
＜透明積層体の構成＞
透明積層体は、前述の透明電極パターンの前述の第二の透明樹脂層が形成された側と反対側に、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜をさらに有することが、透明電極パターンの視認性をより改善する観点から、好ましい。なお、本明細書中、特に断りがなく「透明膜」と記載する場合は、上記の「屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜」を指す。
透明積層体は、前述の屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜の前述の透明電極パターンが形成された側と反対側に、透明基板をさらに有することが好ましい。
【００９７】
図１１に透明積層体の構成の１例を示す。
図１１では、透明基板１、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜１１を有し、さらに透明電極パターン４、第二の透明樹脂層１２および第一の透明樹脂層７がこの順に積層された領域２１を面内に有する。また、図１１では、前述の透明積層体は、上記領域に加えて、透明基板１、および異なる屈折率を有する少なくとも２種の透明膜を含む多層膜１１がこの順に積層された領域（図１１の構成では、第二の透明樹脂層１２と第一の透明樹脂層７がこの順に積層された領域２２（すなわち、透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２））を含むことが示されている。
換言すれば、前述の透明電極パターン付き基板は、透明基板１、異なる屈折率を有する少なくとも２種の透明膜を含む多層膜１１、透明電極パターン４、第二の透明樹脂層１２および第一の透明樹脂層７がこの順に積層された領域２１を面内方向に含む。
面内方向とは、透明積層体の透明基板と平行な面に対して略平行方向を意味する。したがって、透明電極パターン４、第二の透明樹脂層１２および第一の透明樹脂層７がこの順に積層された領域を面内に含むとは、透明電極パターン４、第二の透明樹脂層１２および第一の透明樹脂層７がこの順に積層された領域の、透明積層体の透明基板と平行な面への正射影が、透明積層体の透明基板と平行な面内に存在することを意味する。
ここで透明積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、透明電極パターンは行方向と列方向の略直交する２つの方向にそれぞれ第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンとして設けられることがある（例えば、図３参照）。例えば図３の構成では、透明積層体における透明電極パターンは、第二の透明電極パターン４であっても、第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａであってもよい。言い換えると、以下の透明積層体の説明では、透明電極パターンの符号を「４」で代表して表すことがあるが、透明積層体における透明電極パターンは、静電容量型入力装置における第二の透明電極パターン４への使用に限定されず、例えば第一の透明電極パターン３のパッド部分３ａとして使用してもよい。
【００９８】
透明積層体は、前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域を含むことが好ましい。本明細書中、非パターン領域とは、透明電極パターン４が形成されていない領域を意味する。
図１１には、透明積層体が非パターン領域２２を含む態様が示されている。
透明積層体は、前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２の少なくとも一部に、前述の透明基板、前述の透明膜および前述の第二の透明樹脂層がこの順に積層された領域を面内に含むことが好ましい。
透明積層体は、前述の透明基板、前述の透明膜および前述の第二の透明樹脂層がこの順に積層された領域において、前述の透明膜および前述の第二の透明樹脂層が互いに隣接していることが好ましい。
但し、前述の非パターン領域２２のその他の領域には、本発明の趣旨に反しない限りにおいてその他の部材を任意の位置に配置してもよく、例えば透明積層体を後述する静電容量型入力装置に用いる場合、図１Ａにおけるマスク層２や、絶縁層５や導電性要素６などを積層することができる。
【００９９】
透明積層体は、前述の透明基板および透明膜が互いに隣接していることが好ましい。
図１１には、前述の透明基板１の上に隣接して前述の透明膜１１が積層している態様が示されている。
但し、本発明の趣旨に反しない限りにおいて、前述の透明基板および前述の透明膜の間に、第三の透明膜が積層されていてもよい。例えば、前述の透明基板および前述の透明膜の間に、屈折率１．５〜１．５２の第三の透明膜（図１１には不図示）を含むことが好ましい。
【０１００】
透明積層体は前述の透明膜の厚みが５５〜１１０ｎｍであることが好ましく、６０〜１１０ｎｍであることがより好ましく、７０〜９０ｎｍであることが特に好ましい。
ここで、前述の透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。前述の透明膜が２層以上の積層構造である場合、前述の透明膜の膜厚とは、全層の合計膜厚を意味する。
【０１０１】
透明積層体は、前述の透明膜および前述の透明電極パターンが互いに隣接していることが好ましい。
図１１には、前述の透明膜１１の一部の領域上に隣接して前述の透明電極パターン４が積層している態様が示されている。
図１１に示すように、前述の透明電極パターン４の端部は、その形状に特に制限はないがテーパー形状を有していてもよく、例えば、前述の透明基板側の面の方が、前述の透明基板と反対側の面よりも広いようなテーパー形状を有していてもよい。
ここで、前述の透明電極パターンの端部がテーパー形状であるときの透明電極パターンの端部の角度（以下、テーパー角とも言う）は、３０°以下であることが好ましく、０．１〜１５°であることがより好ましく、０．５〜５°であることが特に好ましい。
本明細書中におけるテーパー角の測定方法は、前述の透明電極パターンの端部の顕微鏡写真を撮影し、その顕微鏡写真のテーパー部分を三角形に近似し、テーパー角を直接測定して求めることができる。
図１０に透明電極パターンの端部がテーパー形状である場合の一例を示す。図１０におけるテーパー部分を近似した三角形は、底面が８００ｎｍであり、高さ（底面と略平行な上底部分における膜厚）が４０ｎｍであり、このときのテーパー角αは約３°である。テーパー部分を近似した三角形の底面は、１０〜３０００ｎｍであることが好ましく、１００〜１５００ｎｍであることがより好ましく、３００〜１０００ｎｍであることが特に好ましい。
なお、テーパー部分を近似した三角形の高さの好ましい範囲は、透明電極パターンの膜厚の好ましい範囲と同様である。
【０１０２】
透明積層体は、前述の透明電極パターンおよび前述の第二の透明樹脂層が互いに隣接している領域を含むことが好ましい。
図１１には、前述の透明電極パターン、前述の第二の透明樹脂層および第一の透明樹脂層がこの順に積層された領域２１において、前述の透明電極パターン、前述の第二の透明樹脂層および第一の透明樹脂層が互いに隣接している態様が示されている。
【０１０３】
また、透明積層体は、前述の透明膜および前述の第二の透明樹脂層によって、前述の透明電極パターンおよび前述の透明電極パターンが形成されていない非パターン領域２２の両方が連続して直接または他の層を介して被覆されたことが好ましい。
ここで、「連続して」とは、前述の透明膜および前述の第二の透明樹脂層がパターン膜ではなく、連続膜であることを意味する。すなわち、前述の透明膜および前述の第二の透明樹脂層は、開口部を有していないことが、透明電極パターンを視認されにくくする観点から好ましい。
また、前述の透明膜および前述の第二の透明樹脂層によって、前述の透明電極パターンおよび前述の非パターン領域２２が、他の層を介して被覆されるよりも、直接被覆されることが好ましい。他の層を介して被覆される場合における「他の層」としては、後述する静電容量型入力装置に含まれる絶縁層５や、後述する静電容量型入力装置のように透明電極パターンが２層以上含まれる場合は２層目の透明電極パターンなどを挙げることができる。
図１１には、前述の第二の透明樹脂層１２が積層している態様が示されている。前述の第二の透明樹脂層１２は、前述の透明膜１１上の透明電極パターン４が積層していない領域と、透明電極パターン４が積層している領域との上にまたがって積層している。すなわち、前述の第二の透明樹脂層１２は、前述の透明膜１１と隣接しており、さらに、前述の第二の透明樹脂層１２は、透明電極パターン４と隣接している。
また、透明電極パターン４の端部がテーパー形状である場合は、テーパー形状に沿って（テーパー角と同じ傾きで）前述の第二の透明樹脂層１２が積層していることが好ましい。
【０１０４】
図１１では、前述の第二の透明樹脂層１２の前述の透明電極パターンが形成された表面とは反対側の表面上に、第一の透明樹脂層７が積層された態様が示されている。
【０１０５】
＜透明積層体の材料＞
（透明基板）
透明積層体は、前述の透明基板が屈折率１．５〜１．５５のガラス基板であることが好ましい。前述の透明基板の屈折率は、１．５〜１．５２であることが特に好ましい。
前述の透明基板は、ガラス基板等の透光性基板で構成されており、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、前述の透明基板としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができる。
【０１０６】
（透明電極パターン）
前述の透明電極パターンの屈折率は１．７５〜２．１であることが好ましい。
前述の透明電極パターンの材料は特に制限されることはなく、公知の材料を用いることができる。例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ2等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０〜２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とする場合には、電気的抵抗を低減することもできる。また、前述の第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、前述の導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落００１４〜００１６等を参考にすることができる。その中でも、前述の透明電極パターンは、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
透明積層体は、前述の透明電極パターンが屈折率１．７５〜２．１のＩＴＯ膜であることが好ましい。
【０１０７】
（第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層）
透明積層体に含まれる第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層の好ましい範囲は、積層材料における前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層の好ましい範囲と同様である。
【０１０８】
（透明膜）
透明積層体は、前述の透明膜の屈折率が１．６〜１．７８であり、１．６５〜１．７４であることが好ましい。ここで、前述の透明膜は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよい。前述の透明膜が２層以上の積層構造である場合、前述の透明膜の屈折率とは、全層の屈折率を意味する。
このような屈折率の範囲を満たす限りにおいて、前述の透明膜の材料は特に制限されない。
【０１０９】
前述の透明膜の材料の好ましい範囲と屈折率などの物性の好ましい範囲は、前述の第二の透明樹脂層のそれらの好ましい範囲と同様である。
透明積層体は、前述の透明膜と前述の第二の透明樹脂層が、同一材料によって構成されたことが光学的均質性の観点から好ましい。
【０１１０】
透明積層体は、前述の透明膜が透明樹脂膜であることが好ましい。
透明樹脂膜に用いられる金属酸化物粒子や樹脂（バインダー）やその他の添加剤としては本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限は無く、積層材料における前述の第二の透明樹脂層に用いられる樹脂やその他の添加剤を好ましく用いることができる。
透明積層体は、前述の透明膜が無機膜であってもよい。無機膜に用いられる材料としては、積層材料における前述の第二の透明樹脂層に用いられる材料を好ましく用いることができる。
【０１１１】
（第三の透明膜）
前述の第三の透明膜の屈折率は、１．５〜１．５５であることが前述の透明基板の屈折率に近付けて、透明電極パターンの視認性を改善する観点から好ましく、１．５〜１．５２であることがより好ましい。
【０１１２】
［透明積層体の製造方法］
透明積層体の製造方法は、透明電極パターン上に、積層材料の前述の第二の透明樹脂層および前述の第一の透明樹脂層をこの順で積層する工程を含むことが好ましい。
このような構成により、透明積層体の第二の透明樹脂層および前述の第一の透明樹脂層を一括して転写することができ、透明電極パターンが視認される問題がない透明積層体を容易に、生産性良く製造することができる。
なお、透明積層体の製造方法における前述の第二の透明樹脂層は、前述の透明電極パターン上と、前述の非パターン領域では前述の透明膜上に直接、または、他の層を介して、製膜される。
【０１１３】
（透明基板の表面処理）
また、後の転写工程におけるラミネートによる各層の密着性を高めるために、予め透明基板（前面板）の非接触面に表面処理を施すことができる。前述の表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理（シランカップリング処理）を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン）０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネータの基板予備加熱でも反応を促進できる。
【０１１４】
（透明電極パターンの製膜）
前述の透明電極パターンは、後述する静電容量型入力装置の説明における、第一の透明電極パターン３、第二の透明電極パターン４および別の導電性要素６の形成方法などを用いて、透明基板上または前述の屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜上に製膜することができ、感光性フィルムを用いる方法が好ましい。
【０１１５】
（第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層の製膜）
前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を形成する方法は、積層材料から前述の保護フィルムを除去する保護フィルム除去工程と、前述の保護フィルムが除去された積層材料の前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を透明電極パターン上に転写する転写工程と、透明電極パターン上に転写された第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を露光する露光工程と、露光された第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を現像する現像工程と、を有する方法が挙げられる。
【０１１６】
−転写工程−
前述の転写工程は、前述の保護フィルムが除去された積層材料の前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を透明電極パターン上に転写する工程である。
この際、積層材料の前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を透明電極パターンにラミネート後、基材（仮支持体）を取り除く工程を含む方法が好ましい。
前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層の基材表面への転写（貼り合わせ）は、前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を透明電極パターン表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
【０１１７】
−露光工程、現像工程、およびその他の工程−
前述の露光工程、現像工程、およびその他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落００３５〜００５１に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
【０１１８】
前述の露光工程は、透明電極パターン上に転写された前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を露光する工程である。
具体的には、前述の透明電極パターン上に形成された前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層の上方に所定のマスクを配置し、その後このマスク、基材を介してマスク上方から前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を露光する方法が挙げられる。
ここで、前述の露光の光源としては、前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を硬化しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ2程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2程度である。
【０１１９】
前述の現像工程は、露光された光硬化性樹脂層を現像する工程である。
本発明では、前述の現像工程は、パターン露光された前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を現像液によってパターン現像する狭義の意味の現像工程である。
前述の現像は、現像液を用いて行うことができる。前述の現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は光硬化性樹脂層が溶解型の現像挙動をする現像液が好ましく、例えば、ｐＫａ（ｐｏｗｅｒ  ｏｆ  Ｋａ）＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましい。一方、前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層自体はパターンを形成しない場合の現像液は前述の非アルカリ現像型着色組成物層を溶解しない型の現像挙動をする現像液が好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましい。現像液には、更に水と混和性を有する有機溶媒を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。有機溶媒の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、前述の現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【０１２０】
前述の現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等のいずれでもよい。ここで、前述のシャワー現像について説明すると、露光後の前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、熱可塑性樹脂層や中間層を設けた場合には、現像の前に光硬化性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【０１２１】
前述の静電容量型入力装置の製造方法は、ポスト露光工程、ポストベーク工程等、その他の工程を有していてもよい。前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層が、熱硬化性である場合は、ポストベーク工程を行うことが好ましい。
【０１２２】
尚、パターニング露光や全面露光は、基材（仮支持体）を剥離してから行ってもよいし、基材を剥離する前に露光し、その後、基材を剥離してもよい。マスクを介した露光でも良いし、レーザー等を用いたデジタル露光でも良い。
【０１２３】
（透明膜の製膜）
透明積層体が、前述の透明電極パターンの前述の第二の透明樹脂層が形成された側と反対側に、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜をさらに有する場合、前述の透明膜は、前述の透明電極パターンの上に直接、または、前述の第三の透明膜などの他の層を介して、製膜されることが好ましい。
前述の透明膜の製膜方法としては特に制限はないが、転写またはスパッタによって製膜することが好ましい。
その中でも、透明積層体は、前述の透明膜が、基材上に形成された透明硬化性樹脂膜を、前述の透明基板上に転写して製膜されてなることが好ましく、転写後に硬化して製膜されてなることがより好ましい。転写および硬化の方法としては、後述する静電容量型入力装置の説明における感光性フィルムを用い、透明積層体の製造方法における前述の第一の透明樹脂層および前述の第二の透明樹脂層を転写する方法と同様に転写、露光、現像およびその他の工程を行う方法を挙げることができる。その場合は、感光性フィルム中の光硬化性樹脂層に前述の金属酸化物粒子を分散させることで、上述の範囲に前述の透明膜の屈折率を調整することが好ましい。
【０１２４】
一方、前述の透明膜が無機膜である場合は、スパッタによって形成されてなることが好ましい。すなわち、透明積層体は、前述の透明膜が、スパッタによって形成されてなることも好ましい。
スパッタの方法としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報および特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている方法を好ましく用いることができる。
【０１２５】
（第三の透明膜の製膜）
前述の第三の透明膜の製膜方法は、透明基板上に屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜を製膜する方法と同様である。
【０１２６】
透明積層体の製造方法は、第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層を同時に硬化する工程を含むことが好ましく、同時にパターン硬化する工程を含むことがより好ましい。積層材料は、第一の透明樹脂層を積層した後に、第一の透明樹脂層を硬化させることなく、第二の透明樹脂層を積層されることが好ましい。このようにして得られた積層材料から転写された第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層は、同時に硬化することができる。これにより、積層材料から第一および第二の透明樹脂層を透明電極パターン上に転写した後で、フォトリソグラフィによって所望のパターンに現像できる。
透明積層体の製造方法は、第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層を同時に硬化する工程の後に、第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層の未硬化部分（光硬化の場合は、未露光部分のみ、または、露光部分のみ）を現像して、取り除く工程を含むことがより好ましい。
【０１２７】
［静電容量型入力装置］
静電容量型入力装置は、積層材料を用いて、透明電極パターンを含む基板上に積層材料の前述の第二の透明樹脂層および前述の第一の透明樹脂層をこの順で積層することにより作製されてなること、あるいは、透明積層体を有することが好ましい。
静電容量型入力装置は、積層材料から第二の透明樹脂層と前述の第二の透明樹脂層に隣接して配置された第一の透明樹脂層とを、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上に転写して作製されてなることが好ましい。
静電容量型入力装置は、積層材料から転写された第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層を同時に硬化されてなることが好ましく、第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層を同時にパターン硬化されてなることがより好ましい。なお、積層材料から転写された第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層を同時に硬化する際、積層材料から保護フィルムを剥離しないことが好ましい。
静電容量型入力装置は、積層材料から転写され、同時にパターン硬化されてなる第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層の未硬化部分を現像し、取り除かれてなることがより好ましい。なお、積層材料から転写された第一の透明樹脂層および第二の透明樹脂層を同時に硬化した後、現像する前に積層材料から保護フィルムを剥離することが好ましい。静電容量型入力装置は、引き回し配線の端末部で、ポリイミドフィルム上に形成されたフレキシブル配線と接続する必要があるため、第一の透明樹脂層（および第二の透明樹脂層）に覆われていないことが好ましい。
その態様を図１３に示した。図１３は透明電極パターンの引き回し配線（別の導電性要素６）と引き回し配線の端末部３１を含む、以下の構成の静電容量型入力装置を示した。
引き回し配線の端末部３１上の第一の透明樹脂層（および第二の透明樹脂層）が未硬化部（未露光部）となっているため、現像で除去され、引き回し配線の端末部３１が露出している。
具体的な露光、現像の態様を図１４および図１５に示した。図１４は、第一および第二の透明樹脂層を有する積層材料３０を、静電容量型入力装置の透明電極パターンの上にラミネートにより積層し、露光等によって硬化する前の状態を示す。フォトリソグラフィを利用する場合、すなわち露光により硬化する場合は、図１５に示した形状の第一の透明樹脂層と第二の透明樹脂層の硬化部（露光部）３３を、マスクを用いてパターン露光および未露光部の現像をすることにより、得ることができる。具体的には、図１５では、第一の透明樹脂層と第二の透明樹脂層の未硬化部として引き回し配線の端末部に対応する開口部３４と、静電容量型入力装置の枠部の輪郭の外側にはみ出していた第一および第二の透明樹脂層を有する積層材料の端部とが取り除かれた、引き回し配線の端末部（取出配線部）を覆わないための第一および第二の透明樹脂層の硬化部（所望のパターン）が得られる。
これにより、ポリイミドフィルム上に作製されたフレキシブル配線を、引き回し配線の端末部３１に直接つなぐことができ、これにより、センサーの信号を電気回路に送ることが可能になる。
静電容量型入力装置は、透明電極パターンと、この透明電極パターンに隣接して配置された第二の透明樹脂層と、この第二の透明樹脂層に隣接して配置された第一の透明樹脂層とを有し、前述の第二の透明樹脂層の屈折率が前述の第一の透明樹脂層の屈折率よりも高く、前述の第二の透明樹脂層の屈折率が１．６以上である、透明積層体を有することが好ましい。
以下、静電容量型入力装置の好ましい態様の詳細を説明する。
【０１２８】
静電容量型入力装置は、前面板（透明積層体における前述の透明基板に相当する）と、前述の前面板の非接触面側に少なくとも下記（３）〜（５）、（７）および（８）の要素を有し、透明積層体を有することが好ましい。
（３）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン；
（４）前述の第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前述の第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン；
（５）前述の第一の透明電極パターンと前述の第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層；
（７）  前述の（３）〜（５）の要素の全てまたは一部を覆うように形成された第二の透明樹脂層；
（８）  前述の（７）の要素を覆うように隣接して形成された第一の透明樹脂層。
ここで、前述の（７）第二の透明樹脂層が、透明積層体における前述の第二の透明樹脂層に相当する。また、前述の（８）第一の透明樹脂層が、透明積層体における前述の第一の透明樹脂層に相当する。なお、前述の第一の透明樹脂層は、通常公知の静電容量型入力装置におけるいわゆる透明保護層であることが好ましい。
【０１２９】
静電容量型入力装置は、前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであっても、透明電極パターンでなくてもよいが、透明電極パターンであることが好ましい。
静電容量型入力装置は、さらに、（６）前述の第一の透明電極パターンおよび前述の第二の電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続される、前述の第一の透明電極パターンおよび前述の第二の電極パターンとは別の導電性要素を有していてもよい。
ここで、前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、前述の（６）別の導電性要素を有さない場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンが、透明積層体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、前述の（６）別の導電性要素を有さない場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンおよび前述の（４）第二の電極パターンのうち少なくとも一つが、透明積層体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンでなく、前述の（６）別の導電性要素を有する場合は、前述の（３）第一の透明電極パターンおよび前述の（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、透明積層体における透明電極パターンに相当する。
前述の（４）第二の電極パターンが透明電極パターンであり、前述の（６）別の導電性要素を有する場合は、前述の（３）第一の透明電極パターン、前述の（４）第二の電極パターンおよび前述の（６）別の導電性要素のうち少なくとも一つが、透明積層体における透明電極パターンに相当する。
【０１３０】
静電容量型入力装置は、さらに（２）透明膜を、前述の（３）第一の透明電極パターンと前述の前面板の間、前述の（４）第二の電極パターンと前述の前面板の間、または、前述の（６）別の導電性要素と前述の前面板の間に有することが好ましい。ここで、前述の（２）透明膜が、透明積層体における、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜に相当することが、透明電極パターンの視認性をより改善する観点から好ましい。
【０１３１】
静電容量型入力装置は、さらに必要に応じて（１）マスク層および／または加飾層を有することが好ましい。前述のマスク層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に黒色の額縁として、透明電極パターンの引き回し配線を接触側から視認できないようにしたり、加飾をしたりするためにも設けられる。前述の加飾層は、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に額縁として加飾のために設けられ、例えば白色の加飾層を設けることが好ましい。
前述の（１）マスク層および／または加飾層は、前述の（２）透明膜と前述の前面板の間、前述の（３）第一の透明電極パターンと前述の前面板の間、前述の（４）第二の透明電極パターンと前述の前面板の間、または、前述の（６）別の導電性要素と前述の前面板の間に有することが好ましい。前述の（１）マスク層および／または加飾層は、前述の前面板に隣接して設けられることがより好ましい。
【０１３２】
静電容量型入力装置は、このような様々な部材を含む場合であっても、透明電極パターンに隣接して配置された前述の第二の透明樹脂層と、前述の第二の透明樹脂層に隣接して配置された前述の第一の透明樹脂層を含むことによって、透明電極パターンを目立たなくすることができ、透明電極パターンの視認性の問題を改善することができる。さらに、上述のとおり、前述の屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜と前述の第二の透明樹脂層を用いて、透明電極パターンを挟みこむ構成とすることによって、より透明電極パターンの視認性の問題を改善することができる。
【０１３３】
＜静電容量型入力装置の構成＞
まず、静電容量型入力装置の好ましい構成について、装置を構成する各部材の製造方法とあわせて説明する。図１Ａは、静電容量型入力装置の好ましい構成を示す断面図である。図１Ａにおいて静電容量型入力装置１０は、透明基板（前面板）１と、マスク層２と、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜１１と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６と、第二の透明樹脂層１２と、第一の透明樹脂層７と、から構成されている態様が示されている。
また、後述する図３におけるＸ−Ｘ’断面を表した図１Ｂも同様に、静電容量型入力装置の好ましい構成を示す断面図である。図１Ｂにおいて静電容量型入力装置１０は、透明基板（前面板）１と、屈折率が１．６〜１．７８であり膜厚が５５〜１１０ｎｍの透明膜１１と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、第二の透明樹脂層１２と、第一の透明樹脂層７と、から構成されている態様が示されている。
【０１３４】
透明基板（前面板）１は、透明積層体における透明電極パターンの材料として挙げた材料を用いることができる。また、図１Ａにおいて、前面板１の各要素が設けられている側を非接触面側と称する。静電容量型入力装置１０においては、前面板１の接触面（非接触面の反対の面）に指などを接触などさせて入力が行われる。
【０１３５】
また、前面板１の非接触面上にはマスク層２が設けられている。マスク層２は、タッチパネル前面板の非接触面側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにするために形成される。
静電容量型入力装置１０には、図２に示すように、前面板１の一部の領域（図２においては入力面以外の領域）を覆うようにマスク層２が設けられている。更に、前面板１には、図２に示すように一部に開口部８を設けることができる。開口部８には、押圧式のメカニカルなスイッチを設置することができる。
【０１３６】
前面板１の接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン３と、第一の透明電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン４と、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４を電気的に絶縁する絶縁層５とが形成されている。前述の第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する導電性要素６とは、透明積層体における透明電極パターンの材料として挙げたものを用いることができ、ＩＴＯ膜であることが好ましい。
【０１３７】
また、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、前面板１の非接触面およびマスク層２の前面板１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図１Ａにおいては、第二の透明電極パターンが、前面板１の非接触面およびマスク層２の前面板１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置されている図が示されている。
このように、一定の厚みが必要なマスク層と前面板裏面とにまたがって感光性フィルムをラミネートする場合でも、後述する特定の層構成を有する感光性フィルムを用いることで真空ラミネータなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程でマスク部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。
【０１３８】
図３を用いて第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４について説明する。図３は、本発明における第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。図３に示すように、第一の透明電極パターン３は、パッド部分３ａが接続部分３ｂを介して第一の方向に延在して形成されている。また、第二の透明電極パターン４は、第一の透明電極パターン３と絶縁層５によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する方向（図３における第二の方向）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の透明電極パターン３を形成する場合、前述のパッド部分３ａと接続部分３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３ｂのみを作製して、パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）する場合、図３に示すように接続部分３ｂの一部とパッド部分３ａの一部とが連結され、且つ、絶縁層５によって第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。
また、図３における第一の透明電極パターン３や第二の透明電極パターン４や後述する導電性要素６が形成されていない領域が、透明積層体における非パターン領域２２に相当する。
【０１３９】
図１Ａにおいて、マスク層２の前面板１とは逆側の面側には導電性要素６が設置されている。導電性要素６は、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４とは別の要素である。
図１Ａにおいては、導電性要素６が第二の透明電極パターン４に接続されている図が示されている。
【０１４０】
また、図１Ａにおいては、各構成要素の全てを覆うように第一の透明樹脂層７が設置されている。第一の透明樹脂層７は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層５と第一の透明樹脂層７とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層５を構成する材料としては、透明積層体における第一または第二の透明樹脂層の材料として挙げたものを好ましく用いることができる。
【０１４１】
＜静電容量型入力装置の製造方法＞
静電容量型入力装置を製造する過程で形成される態様例として、図４〜８の態様を挙げることができる。図４は、開口部８が形成された前面板１の一例を示す上面図である。図５は、マスク層２が形成された前面板の一例を示す上面図である。図６は、第一の透明電極パターン３が形成された前面板の一例を示す上面図である。図７は、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４が形成された前面板の一例を示す上面図である。図８は、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素６が形成された前面板の一例を示す上面図である。これらは、以下の説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。
【０１４２】
静電容量型入力装置の製造方法において、前述の第二の透明樹脂層１２および前述の第一の透明樹脂層７を形成する場合、積層材料を用いて、各要素が任意に形成された前述の前面板１の表面に前述の第二の透明樹脂層および前述の第一の透明樹脂層を転写することで形成することができる。
【０１４３】
静電容量型入力装置の製造方法においては、マスク層２と、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６の少なくとも一要素が、基材と光硬化性樹脂層とをこの順で有する前述の感光性フィルムを用いて形成されることが好ましい。
積層材料や前述の感光性フィルムを用いて前述の各要素を形成すると、開口部を有する基板（前面板）でも開口部からレジスト成分のモレがなく、特に前面板の境界線直上まで遮光パターンを形成する必要のあるマスク層において、ガラス端からのレジスト成分のはみ出し（モレ）がないため前面板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層化および軽量化されたタッチパネルを製造することができる。
積層材料や前述の感光性フィルムを用いて前述の各要素を形成する方法については、特開２０１４−１７８９２２号公報の［０２２１］〜［０２５５］に記載の方法を採用することができ、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０１４４】
［画像表示装置］
画像表示装置は、静電容量型入力装置を備えることが好ましい。
静電容量型入力装置、およびこの静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ２００９  Ｆｏｒｕｍ  Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
【実施例】
【０１４５】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
【０１４６】
［実施例１〜１８および比較例１〜３］
下記表１または表２に記載の処方である実施例１〜１８および比較例１〜３の樹脂組成物を調製した。
具体的には、容器としてＳＵＳポッドを用いて、下記表１または表２に記載の分散液、酸基を有する樹脂（粉体または溶液）、第２の分散媒および添加剤を、それぞれ下記表１または表２の組成となるように、分散液、酸基を有する樹脂、第２の分散媒および添加剤の順番で添加し、２５℃で１５０ｒｐｍで１時間かけて攪拌し、混合した。
各実施例および比較例の樹脂組成物の２５℃におけるｐＨを、以下の方法で測定し、得られた結果を下記表２に記載した。
予め中性リン酸塩ｐＨ標準液（ｐＨ６．８６）、フタル酸塩ｐＨ標準液（ｐＨ４．０１）、ほう酸塩ｐＨ標準液（ｐＨ９．１８）で校正を行ったｐＨ測定器（東亜ＤＫＫ  ＭＭ−６０Ｒ）を用い、電極浸漬３０分後に測定を実施した。
各実施例および比較例の樹脂組成物に用いた材料は、以下の方法で入手または調製した。なお、表中のＩＰＡはｉｓｏプロパノールの略称である。
ＯＺ−Ｓ３０Ｍ：ナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｍ；日産化学工業（株）製、酸化ジルコニウム・酸化錫含有無機粒子（酸化ジルコニウムおよび酸化錫の複合体であり、表１には「ＺｒＯ2、酸化錫」と記載）、粒子径（平均一次粒子径）７ｎｍのメタノール分散液、固形分３０．５質量％。
分散液Ａ：ナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｍをロータリーエバポレーターにて微減圧下（約１００ｋＰａ）にてエタノールを少しずつ加えながら、メタノールを留去することにより、メタノールゾルをエタノールで置換した、変性された酸化ジルコニウム・酸化錫含有無機粒子のエタノール分散液を得た。この酸化ジルコニウム・酸化錫含有無機粒子のエタノール分散液は、固形分の濃度が３１．３質量％であった。
分散液Ｂ：ナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｍをロータリーエバポレーターにて微減圧下（約１００ｋＰａ）にてｉｓｏプロパノールを少しずつ加えながら、メタノールを留去することにより、メタノールゾルをｉｓｏプロパノールで置換した、変性された酸化ジルコニウム・酸化錫含有無機粒子のｉｓｏプロパノール分散液を得た。この酸化ジルコニウム・酸化錫含有無機粒子のｉｓｏプロパノールは、固形分の濃度が３１．５質量％であった。
ＺＲ−３０ＢＳ：ナノユースＺＲ−３０ＢＳ；日産化学工業（株）製、イットリア含有の酸化ジルコニウム粒子、粒子径（平均一次粒子径）６３ｎｍの水分散液、固形分３０．５質量％。
Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ａ：メタクリル酸／メタクリル酸メチルの共重合樹脂（Ｍｗ：１５０００、組成比（モル比）＝４０／６０）。
Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｂ：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／メタクリル酸エチル／メタクリル酸２−ヒドロキシエチル（Ｍｗ：３００００、組成比（モル比）＝３０／２０／２０／３０）。
Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｃ：メタクリル酸／メタクリル酸メチルの共重合樹脂（Ｍｗ：１５０００、組成比（モル比）＝４０／６０、不揮発分５％）のアンモニア水溶液（ｐＨ＝９．０）。Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｃは酸基を有する樹脂であるメタクリル酸／メタクリル酸メチルの共重合樹脂は、ｐＨ＝９．０となるまでアンモニア水溶液と混合されて酸基が中和され、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を含む溶液として調製された。
Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｄ：メタクリル酸／メタクリル酸メチルの共重合樹脂（Ｍｗ：１５０００、組成比（モル比）＝４０／６０、不揮発分５％）のアンモニア水溶液（ｐＨ＝１０．０）。Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｄは酸基を有する樹脂であるメタクリル酸／メタクリル酸メチルの共重合樹脂は、ｐＨ＝１０．０となるまでアンモニア水溶液と混合されて酸基が中和され、酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を含む溶液として調製された。
ベンゾトリアゾールおよびベンゾイミダゾール：金属酸化抑制剤。
Ｉ−１：水溶性光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９、ＢＡＳＦジャパン（株））。
Ａ−１：重合性化合物カヤラッドＲＰ−１０４０（日本化薬社製）。
Ａ−２：重合性化合物アロニックスＴＯ−２３４９（東亜合成社製）。
【０１４７】
［積層材料の作製と評価］
＜積層材料の作製＞
厚さ７５μｍ、幅２３０ｍｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、速度１３ｍ／分で仮支持体を搬送しながら、各実施例および比較例の樹脂組成物を下記表２に記載の単位面積あたりの塗布量で塗布し、乾燥させて樹脂層を形成した得られた積層体を、各実施例および比較例の積層材料とした。
【０１４８】
＜塗布面状＞
各実施例および比較例の積層材料について、塗布面の状態を、目視にて検査を行った。検査結果を、以下の評価基準にしたがって評価した。
（評価基準）
Ａ：欠陥が目視では観察されず、品質としては問題ない。
Ｂ：ハジキと思われる円形もしくは楕円状の欠陥、スジ状の欠陥、または、白濁が若干ある。
Ｃ：ハジキと思われる円形もしくは楕円状の欠陥、スジ状の欠陥、または、白濁が見られる。
得られた評価結果を下記表２に記載した。
【０１４９】
＜ベーク時割れ＞
得られた各実施例および比較例の積層材料を１３０℃３０分で、オーブンでベークをし、ベーク時の割れが生じるかに関する樹脂層（塗布膜）の膜面状態を、目視にて検査を行った。検査結果を、以下の評価基準にしたがって評価した。
（評価基準）
ＡＡ：  ベークによって樹脂層の膜面状態に大きな変化が見られなかった。
Ａ：  ベ−クによって樹脂層の膜面に、目視では明確な割れは観察できないものの、膜面がやや白っぽくなった。
Ｂ：ベークによって樹脂層の膜面に割れが発生した。
得られた評価結果を下記表２に記載した。
【０１５０】
【表１】
0006345619.tif 000004
【０１５１】
【表２】
0006345619.tif 000005
【０１５２】
上記表２より、本発明の樹脂組成物によれば、ジルコニウム元素を含む金属酸化物と酸基を有する樹脂とを含む樹脂組成物を塗布して得られる樹脂層の塗布面状を改善できることがわかった。
一方、比較例１および２より、ジルコニウム元素を含む金属酸化物を含む分散液の第１の分散媒として水を用いた樹脂組成物は、塗布面状が悪いことがわかった。そのため、特開２０１３−１７８４号公報においてジルコニウム元素を含む金属酸化物を含む分散液の第１の分散媒として水のみを有する態様（有機溶媒を含まない態様）も比較例１および２と同様に塗布面状が悪いと予想される。
比較例３より、第２の分散媒として有機溶媒を用いた樹脂組成物は、塗布面状が悪いことがわかった。そのため、ＷＯ２０１１／１２９２１０や特開２０１４−２１３３０５号公報や特開２００４−３２３６３４号公報や、特開２０１３−１７８４号公報に記載の樹脂組成物に水を含まない態様（有機溶媒のみ）も比較例３と同様に塗布面状が悪いと予想される。
なお、特開２０１３−１７８４号公報にはジルコニウム元素を含む金属酸化物の分散媒として水系かアルコール（有機溶媒）かいずれか一方を選択する旨が記載されており、有機溶媒と水を同時に混合することについては検討がない。
さらに、本発明の樹脂組成物の好ましい態様によれば、樹脂組成物を用いて得られた樹脂材料のベーク時割れも改善できていた。
【産業上の利用可能性】
【０１５３】
本発明の樹脂組成物は、ジルコニウム元素を含む金属酸化物と酸基を有する樹脂とを含む樹脂組成物を塗布して得られる樹脂層の塗布面状を改善できる。そのため、本発明によれば、塗布面状が良好なジルコニウム元素を含む金属酸化物を含む樹脂層を有する転写材料を提供することができる。さらに、本発明の樹脂組成物はジルコニウム元素を含む金属酸化物と酸基を有する樹脂とを含む水系樹脂組成物として調製することができるため、本発明の樹脂組成物を塗布して得られる樹脂層と、既存のジルコニウム元素を含む金属酸化物などの粒子を含む有機溶媒系の分散液を塗布して得られる樹脂層を積層することで、樹脂層どうしの層分画が良好な積層材料または転写材料を得ることができる。すなわち、層分画が良好であって、各層の屈折率が調整された２層以上の樹脂層を一度に転写できる転写材料を得ることができる。
本発明の積層材料は、樹脂層がジルコニウム元素を含む金属酸化物を含むために屈折率が高く、本発明の積層材料を転写材料として用いて静電容量型入力装置の透明電極パターンの上に転写することで、透明電極パターンを見えにくくする屈折率調整層を形成した透明積層体を製造することができる。その結果、本発明の積層材料を用いることで、透明電極パターンが見えにくい静電容量型入力装置や、透明電極パターンが見えにくい静電容量型入力装置を備えた画像表示装置を提供できる。
さらに、本発明の好ましい態様によれば、本発明の樹脂組成物がアンモニウム塩（またはアンモニウム塩の前駆体であるアンモニアやアンモニウムイオン）を含む材料を用いて調製された場合に酸基の一部がアンモニウム塩を形成した樹脂を含むことができ、その場合は塗布された本発明の樹脂組成物を加熱してアンモニアを揮発させることで、酸基を生成（再生）して酸基を有する樹脂として樹脂層に存在させることができる。その場合、積層材料を高温高湿下で経時させて吸湿させた場合に樹脂層を構成する酸基を有する樹脂はすでに水に溶解しなくなっているため、高温高湿下で経時させた場合に水系樹脂組成物を用いて形成された樹脂層が吸湿したときの問題も抑制することができる。
【符号の説明】
【０１５４】
１    透明基板（前面板）
２    マスク層
３    透明電極パターン（第一の透明電極パターン）
３ａ  パッド部分
３ｂ  接続部分
４    透明電極パターン（第二の透明電極パターン）
５    絶縁層
６    別の導電性要素
７    第一の透明樹脂層（オーバーコート層または透明保護層の機能を有することが好ましい）
８    開口部
１０  静電容量型入力装置
１１  透明膜
１２  樹脂層（第二の透明樹脂層。屈折率調整層。透明絶縁層の機能を有してもよい）
１３  透明積層体
２１  透明電極パターンと第二の透明樹脂層と第一の透明樹脂層がこの順に積層された領域
２２  非パターン領域
α    テーパー角
２６  基材（仮支持体）
２９  保護剥離層（保護フィルム）
３０  積層材料
３１  引き回し配線の端末部
３３  第一の透明樹脂層と第二の透明樹脂層の硬化部
３４  引き回し配線の末端部に対応する開口部（第一の透明樹脂層と第二の透明樹脂層の未硬化部）
【図１Ａ】
0006345619.tif 000006
【図１Ｂ】
0006345619.tif 000007
【図２】
0006345619.tif 000008
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
0006345619.tif 000012
【図７】
0006345619.tif 000013
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
0006345619.tif 000018
【図１３】
0006345619.tif 000019
【図１４】
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【図１５】
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