(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
［Ａ］下記式（１）で表わされる構造部位および下記式（２）で表わされる構造部位を有する重合体、
［Ｂ］量子ドット、並びに
[Ｄ]重合性不飽和化合物
を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物。
【化１】
0006299546.tif 000007
（式（１）中、Ｘ１は、水素原子、または、炭素数１〜３の１価の直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基を示す。Ｘ２は、炭素数３〜３０の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基、あるいは、炭素数３〜３０の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。
式（２）中、Ｙ１は、水素原子、または、メチル基を示す。Ｙ２は、炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基あるいは炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。Ｙ３は、２価の有機基を示す。Ｙ４は、水素原子を示す。ｎは、０または１を示す。）
【請求項２】
前記式（２）で表される構造部位を与える単量体が、２-メタクリロイルオキシエチルコハク酸、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸であることを特徴とする請求項１記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
［Ｂ］量子ドットが、２族元素、１１族元素、１２族元素、１３族元素、１４族元素、１５族元素および１６族元素よりなる群から選ばれる少なくとも２種の元素を含む化合物からなることを特徴とする請求項１に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
［Ｂ］量子ドットが、Ｉｎを構成成分として含む化合物からなることを特徴とする請求項１または２に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
［Ｂ］量子ドットが、ＩｎＰ／ＺｎＳ化合物、ＣｕＩｎＳ２／ＺｎＳ化合物、ＡｇＩｎＳ２化合物、（ＺｎＳ／ＡｇＩｎＳ２）固溶体／ＺｎＳ化合物、ＺｎドープＡｇＩｎＳ２化合物およびＳｉ化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項６】
さらに、［Ｃ］重合開始剤を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項７】
[Ｃ］重合開始剤が、分子中に窒素原子を有さない重合開始剤であること特徴とする請求項６に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項８】
さらに、［Ｅ］酸化防止剤を含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項９】
［Ｅ］酸化防止剤が、ホスファイト系酸化防止剤であることを特徴とする請求項８に記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物を用いて形成されたことを特徴とする硬化膜。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物を用いて形成されたことを特徴とする波長変換フィルム。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物を用いて形成された発光層を有することを特徴とする発光素子。
【請求項１３】
発光素子の発光層の形成方法であって、
（１）請求項１〜９のいずれか１項に記載の硬化性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）工程（２）で放射線を照射された塗膜を現像する工程、および
（４）工程（３）で現像された塗膜を露光する工程
を有することを特徴とする発光層の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化性樹脂組成物、硬化膜、波長変換フィルム、発光素子および発光層の形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子を閉じ込めるために形成された極小さな粒（ドット）が、量子ドットと称され、近年注目を集めている。１粒の量子ドットの大きさは、直径数ナノメートルから数１０ナノメートルであり、約１万個の原子で構成されている。
【０００３】
量子ドットは、太陽電池パネルの半導体の薄膜の中に分散させると、エネルギー変換効率を大幅に向上させることができることから太陽電池への適用が検討されている（例えば、特許文献１を参照のこと。）。また、量子ドットのサイズを変える（バンドギャップを変える）ことで、発光する蛍光の色（発光波長）を変えること（波長変換）ができるため、バイオ研究における蛍光プローブ（非特許文献１を参照のこと。）や、波長変換材料としての表示素子への適用（特許文献２および特許文献３を参照のこと。）が検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２１６５６０号公報
【特許文献２】特開２００８−１１２１５４号公報
【特許文献３】特開２００９−２５１１２９号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】神隆、「半導体量子ドット、その合成法と生命科学への応用」、生産と技術、第６３巻、第２号、２０１１年、ｐ５８〜ｐ６５
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
非特許文献１や特許文献１の実施例に示されるように、代表的な量子ドットは、ＩＩ−Ｖ族の半導体のＣｄＳｅ（セレン化カドミウム）、ＣｄＴｅ（テルル化カドミウム）およびＰｂＳ等からなる半導体量子ドットである。
【０００７】
しかし、例えば、主成分である鉛（Ｐｂ）は、毒性への懸念が良く知られた材料である。また、カドミウム（Ｃｄ）とその化合物は、低濃度でも極めて強い毒性を示し、腎臓機能障害や発がん性が懸念される材料である。したがって、より安全な材料からなる量子ドットの形成が求められている。
【０００８】
また、量子ドットを太陽電池パネルや表示素子のディスプレイ等に適用しようとする場合、その蛍光発光を利用するため、粒子形態の量子ドットからなる膜や層の形成が求められる場合がある。すなわち、蛍光発光を示す、波長変換膜（波長変換フィルム）または発光層の形成が求められることがある。
【０００９】
粒子形態の量子ドットを用いた発光層の形成方法としては、例えば、特許文献１の実施例や特許文献２に示されるように、適当な基板上に、直接に、量子ドットからなる層を形成する方法が知られている。しかしながら、このような形成方法では、得られる発光層の安定性が乏しい。特に、量子ドットからなる層と基板との結着性に懸念がある。
【００１０】
そこで、粒子形態の量子ドットを樹脂材料中に混合または埋め込むことにより、層または膜を構成する方法が提案されている。しかしながら、量子ドットを用いて高い分散性を実現し、量子ドットとしての蛍光特性を保ちながら、樹脂とともに層や膜の形成を行う方法は十分な検討がなされていない。
【００１１】
そのため、量子ドットを樹脂材料とともに用い、高い分散性を実現して量子ドットの蛍光発光特性を低下させることなく、量子ドットの層または膜を形成する技術が求められている。そして、量子ドットを含み、耐光性等に優れた高信頼性の発光層または波長変換フィルムを形成する技術が求められている。特に、量子ドットとともに用いられ、量子ドットと樹脂とからなる発光層や波長変換フィルムの形成に好適となる樹脂材料が求められている。
【００１２】
その場合、樹脂材料は、特に、安全な材料からなる量子ドットとともに用いることができて、蛍光特性や信頼性に優れた発光層や波長変換フィルムの形成に好適となるものであることが望ましい。
【００１３】
加えて、量子ドットと樹脂材料からなる発光層や波長変換フィルムは、簡便な形成が可能で、高い生産性を有していることが好ましい。したがって、その量子ドットと樹脂材料とからなる発光層や波長変換フィルムの形成には、例えば、塗布等の簡便な形成方法を利用できることが好ましい。そして、その発光層や波長変換フィルムは、例えば、量子ドットと樹脂成分とを含む液状の樹脂組成物から、塗布等の方法を利用して形成できることが好ましい。
【００１４】
そのため、量子ドットと樹脂成分とを含んで調製され、塗布等の方法の利用により、発光層や波長変換フィルムを形成できる樹脂組成物が求められている。
【００１５】
そしてさらに、その樹脂組成物は、優れたパターニング性を有することが好ましい。すなわち、発光層や波長変換フィルムを形成する樹脂組成物は、パターニングが可能であって、例えば、発光表示素子等の発光素子の構成に用いることができることが好ましい。その場合、パターニングされた発光層や波長変換フィルムの形成には、例えば、フォトリソグラフィ法等の利用が可能であって、簡便に実現できることが好ましい。
【００１６】
そのため、フォトリソグラフィ法等の公知のパターニング方法を利用して、パターニングされた発光層や波長変換フィルムを簡便に形成することができる感放射線性の硬化性樹脂組成物が求められている。
【００１７】
本発明は、以上のような問題に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、量子ドットを含み、優れた蛍光特性を示す高信頼性の硬化膜を簡便に形成できる硬化性樹脂組成物を提供することである。
【００１８】
また、本発明の目的は、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物を用いて形成され、蛍光特性に優れた高信頼性の硬化膜を提供することにある。
【００１９】
また、本発明の目的は、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物を用いて形成され、蛍光特性に優れた高信頼性の波長変換フィルムを提供することにある。
【００２０】
また、本発明の目的は、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物を用いて形成された発光層を有する発光素子を提供することにある。
【００２１】
さらに、本発明の目的は、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物を用いた発光層の形成方法を提供することにある。
【００２２】
本発明の他の目的および利点は、以下の記載から明らかとなるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明の第１の態様は、
［Ａ］下記式（１）で表わされる構造部位および下記式（２）で表わされる構造部位を有する重合体、並びに
［Ｂ］量子ドット
を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物に関する。
【００２４】
【化１】
0006299546.tif 000002
（式（１）中、Ｘ１は、水素原子、または、炭素数１〜３の１価の直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基を示す。Ｘ２は、炭素数３〜３０の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基、あるいは、炭素数３〜３０の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。
式（２）中、Ｙ１は、水素原子、または、メチル基を示す。Ｙ２は、炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基あるいは炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。Ｙ３は、２価の有機基を示す。Ｙ４は、水素原子、炭素数１〜１２の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基あるいは炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。ｎは、０または１を示す。）
【００２５】
本発明の第１の態様において、［Ｂ］量子ドットが、２族元素、１１族元素、１２族元素、１３族元素、１４族元素、１５族元素および１６族元素よりなる群から選ばれる少なくとも２種の元素を含む化合物からなることが好ましい。
【００２６】
本発明の第１の態様において、［Ｂ］量子ドットが、Ｉｎを構成成分として含む化合物からなることが好ましい。
【００２７】
本発明の第１の態様において、［Ｂ］量子ドットが、ＩｎＰ／ＺｎＳ化合物、ＣｕＩｎＳ２／ＺｎＳ化合物、ＡｇＩｎＳ２化合物、（ＺｎＳ／ＡｇＩｎＳ２）固溶体／ＺｎＳ化合物、ＺｎドープＡｇＩｎＳ２化合物およびＳｉ化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【００２８】
本発明の第１の態様において、さらに、［Ｃ］重合開始剤を含有すること好ましい。
【００２９】
本発明の第１の態様において、さらに、［Ｃ］重合開始剤を含有し、［Ｃ］重合開始剤が、分子中に窒素原子を有さない重合開始剤であることが好ましい。
【００３０】
本発明の第１の態様において、さらに、［Ｄ］重合性不飽和化合物を含有することが好ましい。
【００３１】
本発明の第１の態様において、さらに、［Ｅ］酸化防止剤を含有することが好ましい。
【００３２】
本発明の第１の態様において、さらに、［Ｅ］酸化防止剤を含有し、［Ｅ］酸化防止剤が、ホスファイト系酸化防止剤であることが好ましい。
【００３３】
本発明の第２の態様は、本発明の第１の態様の硬化性樹脂組成物を用いて形成されたことを特徴とする硬化膜に関する。
【００３４】
本発明の第３の態様は、本発明の第１の態様の硬化性樹脂組成物を用いて形成されたことを特徴とする波長変換フィルムに関する。
【００３５】
本発明の第４の態様は、本発明の第１の態様の硬化性樹脂組成物を用いて形成された発光層を有することを特徴とする発光素子に関する。
【００３６】
本発明の第５の態様は、発光素子の発光層の形成方法であって、
（１）本発明の第１の態様の硬化性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程、
（２）工程（１）で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、
（３）工程（２）で放射線を照射された塗膜を現像する工程、および
（４）工程（３）で現像された塗膜を露光する工程
を有することを特徴とする発光層の形成方法に関する。
【発明の効果】
【００３７】
本発明の第１の態様によれば、量子ドットを含み、優れた蛍光特性を示す高信頼性の硬化膜を簡便に形成できる硬化性樹脂組成物が提供される。
【００３８】
また、本発明の第２の態様によれば、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物を用いて形成され、蛍光特性に優れた高信頼性の硬化膜が提供される。
【００３９】
また、本発明の第３の態様によれば、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物を用いて形成され、蛍光特性に優れた高信頼性の波長変換フィルムが提供される。
【００４０】
また、本発明の第４の態様によれば、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物を用いて形成された発光層を有する発光素子が提供される。
【００４１】
さらに、本発明の第５の態様によれば、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物を用いた発光層の形成方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の第２実施形態の硬化膜の形成における塗膜形成工程の一例を説明する基板の断面図である。
【図２】本発明の第２実施形態の硬化膜の形成における放射線照射工程の一例を模式的に説明する断面図である。
【図３】本発明の第２実施形態の硬化膜の形成における現像工程の一例を説明する基板の断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態の硬化膜の形成における硬化工程の一例を説明する硬化膜および基板の断面図である。
【図５】本発明の第４実施形態の発光素子である発光表示素子の一例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ａ］下記式（１）で表わされる構造部位および下記式（２）で表わされる構造部位を有する重合体（以下、［Ａ］重合体または単に［Ａ］成分とも言う。）、並びに、［Ｂ］量子ドット（以下、単に［Ｂ］成分とも言う。）を含有してなる硬化性の樹脂組成物である。
【００４４】
【化２】
0006299546.tif 000003
（式（１）中、Ｘ１は、水素原子、または、炭素数１〜３の１価の直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基を示す。Ｘ２は、炭素数３〜３０の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基、あるいは、炭素数３〜３０の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。
式（２）中、Ｙ１は、水素原子、または、メチル基を示す。Ｙ２は、炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基あるいは炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。Ｙ３は、２価の有機基を示す。Ｙ４は、水素原子、炭素数１〜１２の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基あるいは炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。ｎは、０または１を示す。）
【００４５】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ａ］重合体を含有し、塗布等による簡便な膜や層の形成に好適な樹脂組成物となる。
【００４６】
そして、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ａ］成分とともに［Ｂ］成分の量子ドットを含有することで、［Ｂ］量子ドットの良好な分散状態を実現することができる。
【００４７】
量子ドットは、樹脂成分や溶剤等とともに用いられて組成物を構成する場合、組成物中で凝集する傾向があって、良好な分散状態の実現が難しい。量子ドットにおいて、凝集は、その蛍光特性を損なわせることになる。そのため、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物では、［Ｂ］量子ドットが良好な分散状態を示すように、樹脂成分である［Ａ］成分が選択されて含有されている。
【００４８】
その結果、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ｂ］量子ドットの良好な分散状態が実現された樹脂組成物を形成することができる。そして、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、塗布等の簡便な形成方法を利用して、［Ｂ］量子ドットが分散された層や膜を形成することができる。
【００４９】
また、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は感放射線性を有することができる。そのために、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ｃ］重合性開始剤（以下、単に［Ｃ］成分とも言う。）含有することが好ましく、さらに、［Ｄ］重合性不飽和化合物（以下、単に［Ｅ］成分とも言う。）を含有することが好ましい。そして、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、その感放射線性に基づき、例えば、フォトリソグラフィ法等を利用したパターニングが可能である。
【００５０】
尚、本発明において、露光に際して照射される「放射線」には、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線および荷電粒子線等が含まれる。
【００５１】
また、フォトリソグラフィ法には、加工や処理を受ける基板の表面に、所謂レジスト組成物を塗布してレジスト膜を形成する工程、光や電子線を照射して所定のレジストパターンを露光することによりレジストパターン潜像を形成する露光工程、必要に応じ加熱処理する工程、次いでこれを現像して所望の微細パターンを形成する現像工程、および、この微細パターンをマスクとして基板に対してエッチング等の加工を行う工程等が含まれる。
【００５２】
そして、本発明の硬化性樹脂組成物は、必要な場合にパターニングが施され、本発明の第２実施形態の硬化膜を形成する。本発明の第２実施形態の硬化膜は、樹脂中に［Ｂ］量子ドットが含まれて構成される。
【００５３】
そして、本発明の第２実施形態の硬化膜は、［Ｂ］量子ドットに基づく蛍光発光（波長変換）機能を有することができる。そのため、励起光と異なる波長の蛍光を発光する波長変換フィルムや発光層としての利用が可能である。
【００５４】
特に、本発明の第２実施形態の硬化膜は、本発明の第３施形態の波長変換フィルムの形成の他、発光層としての利用に好適であり、後述する本発明の第４実施形態の発光素子の構成に用いることができる。
【００５５】
以下、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物、本発明の第２実施形態の硬化膜、本発明の第３実施形態の波長変換フィルム、本発明の第４実施形態の発光素子、および、本発明の第５実施形態である、発光層の形成方法について説明する。
【００５６】
実施の形態１．
＜硬化性樹脂組成物＞
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、上述したように、［Ａ］成分および［Ｂ］量子ドットを必須の成分として含有する。
【００５７】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ａ］成分および［Ｂ］量子ドットを含有し、［Ｂ］量子ドットの良好な分散状態が実現された樹脂組成物を形成することができる。
【００５８】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、塗布等の方法を利用することにより、［Ｂ］量子ドットを含有して優れた蛍光発光（波長変換）機能（以下、単に、蛍光性または蛍光特性等とも言う。）を備えた本発明の第２実施形態の硬化膜を形成することができる。
【００５９】
また、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は感放射線性を有することができる。そのため、上述したように、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、さらに、［Ｃ］重合性開始剤を含有することが好ましく、またさらに、［Ｄ］重合性不飽和化合物を含有することが好ましい。
【００６０】
また、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ａ］成分および［Ｂ］量子ドット等とともに、［Ｅ］酸化防止剤を含有することができ、安定した蛍光特性を備えた本発明の第２実施形態の硬化膜を形成することができる。
【００６１】
そして、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない限り、上述するその他の任意成分を含有することができる。
【００６２】
以下で、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物の各含有成分についてより詳しく説明する。
【００６３】
〔［Ａ］重合体〕
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ａ］下記式（１）で表わされる構造部位（以下、単に、構造部位（１）とも言う。）および下記式（２）で表わされる構造部位（以下、単に、構造部位（２）とも言う。）を有する重合体を含有する。
【００６４】
【化３】
0006299546.tif 000004
（式（１）中、Ｘ１は、水素原子、または、炭素数１〜３の１価の直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基を示す。Ｘ２は、炭素数３〜３０の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基、あるいは、炭素数３〜３０の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。
式（２）中、Ｙ１は、水素原子、または、メチル基を示す。Ｙ２は、炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基あるいは炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。Ｙ３は、２価の有機基を示す。Ｙ４は、水素原子、炭素数１〜１２の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基あるいは炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を示す。ｎは、０または１を示す。）
【００６５】
上記式（１）のＸ１における、炭素数１〜３の１価の直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、１−プロピル基、２−プロピル基等を挙げることができる。そして、上記式（１）における好ましいＸ１としては、水素原子、メチル基が挙げられる。
【００６６】
上記式（１）のＸ２における、炭素数３〜３０の１価の直鎖状または分岐状の飽和若しくは不飽和炭化水素基としては、例えば、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、エイコシル基、ヘンイコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基、ペンタコシル基、ヘキサコシル基、ヘプタコシル基、オクタコシル基、ノナコシル基、トリアコンチル基等の炭素数３〜３０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基に由来する１価の炭化水素基等を挙げることができる。
【００６７】
上記式（１）のＸ２における、炭素数３〜３０の１価の直鎖状または分岐状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基としては、例えば、以下の基を挙げることができる。すなわち、そのような基としては、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、エイコシル基、ヘンイコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基、ペンタコシル基、ヘキサコシル基、ヘプタコシル基、オクタコシル基、ノナコシル基、トリアコンチル基等の、炭素数３〜３０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基に由来する１価の炭化水素基の１つ以上の水素原子が、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基を挙げることができる。
【００６８】
また、上記式（１）のＸ２における、炭素数３〜３０の１価の環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基としては、炭素数３〜３０の脂環式炭化水素および芳香族炭化水素に由来する基が挙げられる。
【００６９】
上述の脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロドデカン、ビシクロ［１．１．０］ブタン、ビシクロ［２．１．０］ペンタン、ビシクロ［２．２．０］ヘキサン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ビシクロ［２．２．２］オクタン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン等のシクロアルカン類等を挙げることができる。
【００７０】
また、上述の芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン等を挙げることができる。
【００７１】
上記式（１）で表わされる構造部位を与える好ましい単量体としては、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００７２】
上記式（１）で表わされる構造部位を与える単量体の市販品としては、
ライトエステル（登録商標）ＥＨ、同ＩＤ、同Ｌ、同Ｓ、同ＩＢ−Ｘ（以上、共栄社化学社製）；
ライトアクリレート（登録商標）Ｌ−Ａ、同Ｓ−Ａ、同ＩＢ−ＸＡ（以上、共栄社化学社製）；
サートマー（登録商標）ＳＲ２４２、同ＳＲ３１３、同ＳＲ３２４、同ＳＲ４２３、同ＳＲ４９３Ｄ、同ＳＲ２５７、同ＳＲ３３５、同ＳＲ３９５、同ＳＲ４４０、同ＳＲ４８９Ｄ、同ＳＲ５０６（以上、サートマー社製）；
ブレンマー（登録商標）  ＥＨＭＡ−２５、同ＬＭＡ、同ＳＬＭＡ、同ＰＭＡ、同ＣＭＡ、同ＳＭＡ、同ＬＡ、同ＣＡ、同ＳＡ（以上、日油社製）；
アクリエステル（登録商標）ＥＨ、同Ｌ、同Ｓ、同ＴＤ（以上、三菱レイヨン社製）；
ＭＡＤＡ、ＭＡＤＭＡ、ＥｔＡＤＡ、ＥＡＭＡ（Ｐ）（以上、大阪有機化学工業社製）；
等が挙げられる。
【００７３】
上記式（２）におけるＹ１は、水素原子、または、炭素数１〜３の１価の直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基を表し、炭素数１〜３の１価の直鎖状または分岐状の飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、１−プロピル基、２−プロピル基等を挙げることができる。そして、上記式（２）における好ましいＹ１としては、水素原子、メチル基が挙げられる。
【００７４】
上記式（２）のＹ２は、炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基あるいは炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子が置換基により置換された基を表す。
【００７５】
上記式（２）のＹ２における、炭素数１〜１２の２価の直鎖状または分岐状の飽和若しくは不飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基に由来する２価の炭化水素基等を挙げることができる。
【００７６】
上記式（２）のＹ２における、炭素数１〜１２の２価の環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基としては、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素および芳香族炭化水素に由来する基が挙げられる。
【００７７】
上述の脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロドデカン、ビシクロ［１．１．０］ブタン、ビシクロ［２．１．０］ペンタン、ビシクロ［２．２．０］ヘキサン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ビシクロ［２．２．２］オクタン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン等のシクロアルカン類等を挙げることができる。
【００７８】
また、上述の芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン等を挙げることができる。
【００７９】
そして上述したように、上記式（２）のＹ２における、上記の炭素数１〜１２の２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基は、２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基であってもよい。
【００８０】
上記式（２）のＹ３における、２価の有機基としては、例えば、２価の脂肪族基および２価の芳香族基を挙げることができる。また、２価の有機基として、「芳香族基が直接または連結基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基」を挙げることも可能である。その場合の連結基としては、例えば、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、アルキレン基、および、−Ｃ（ＣＦ３）２−を挙げることができる。
【００８１】
上述の２価の脂肪族基としては、例えば、２価である、直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基を挙げることができる。その場合、直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基は、水素以外に酸素や窒素、硫黄および塩素等のヘテロ原子が炭素鎖に結合したものとすることができる。したがって、２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基は、２価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基であってもよい。
【００８２】
そして、上述の２価の直鎖状または分岐状の飽和若しくは不飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基に由来する２価の炭化水素基等を挙げることができる。
【００８３】
また、上述した２価の脂肪族基である、２価の環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基としては、脂環式炭化水素に由来する基が挙げられる。
【００８４】
そして、上述の脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロドデカン、ビシクロ［１．１．０］ブタン、ビシクロ［２．１．０］ペンタン、ビシクロ［２．２．０］ヘキサン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ビシクロ［２．２．２］オクタン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン等のシクロアルカン類等を挙げることができる。
【００８５】
上述の２価の芳香族基としては、例えば、芳香族炭化水素基、および、環構造に炭素以外の元素を含む複素芳香族基を挙げることができる。そして、２価の芳香族基は、単環式芳香族基であってもよく、縮合多環式芳香族基であってもよい。
【００８６】
上述の２価の芳香族基としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン等に由来する基が挙げられる。
【００８７】
そして、２価の芳香族基は、２価の芳香族基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基であってもよい。
【００８８】
上述の「芳香族基が直接または連結基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基」としては、例えば、ビフェニル、フェニルエーテル、ベンゾフェノン、ジフェニルスルホン、ジフェニルスルフィド等に由来する基が挙げられる。
【００８９】
そして、上記式（２）のｎが１である場合、上記式（２）で表わされる構造部位は、Ｙ３に２つのカルボキシル基が結合する構造を含むことがわかる。すなわち、上記式（２）のｎが１である場合、Ｙ３、およびＹ３にそれぞれ結合する２つのカルボキシル基は、ジカルボン酸構造を形成する。
【００９０】
その場合、Ｙ３、およびＹ３にそれぞれ結合する２つのカルボキシル基は、上述したように、例えば、脂肪族ジカルボン酸構造、および、芳香族ジカルボン酸構造を形成することができる。また、Ｙ３、およびＹ３にそれぞれ結合する２つのカルボキシル基は、「芳香族基が直接に、または、例えば、上述した連結基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基」を含むジカルボン酸構造を形成することもできる。
【００９１】
より具体的には、脂肪族ジカルボン酸構造として、例えば、マロン酸構造、コハク酸構造、グルタル酸構造、アジピン酸構造、ピメリン酸構造、スベリン酸構造、アゼライン酸構造、セバシン酸構造等の脂肪族飽和ジカルボン酸構造；マレイン酸構造、フマル酸構造、イタコン酸構造、メサコン酸構造、シトラコン酸構造等の脂肪族不飽和ジカルボン酸構造；ヘキサヒドロフタル酸構造、ヘキサヒドロイソフタル酸構造、ヘキサヒドロテレフタル酸構造、４−メチルシクロヘキサンジカルボン酸構造等の脂環式ジカルボン酸構造を形成することができる。
【００９２】
また、芳香族ジカルボン酸構造、または、「芳香族基が直接に、または、例えば、上述した連結基により相互に連結された非縮合多環式芳香族基」を含むジカルボン酸構造として、例えば、フタル酸構造、２，３−ベンゾフェノンジカルボン酸構造、３，４−ベンゾフェノンジカルボン酸構造、２，３−ジカルボキシフェニルフェニルエーテル構造、３，４−ジカルボキシフェニルフェニルエーテル構造、２，３−ビフェニルジカルボン酸構造、３，４−ビフェニルジカルボン酸構造、２，３−ジカルボキシフェニルフェニルスルホン構造、３，４−ジカルボキシフェニルフェニルスルホン構造、２，３−ジカルボキシフェニルフェニルスルフィド構造、３，４−ジカルボキシフェニルフェニルスルフィド構造、１，２−ナフタレンジカルボン酸構造、２，３−ナフタレンジカルボン酸構造、１，８−ナフタレンジカルボン酸構造、１，２−アントラセンジカルボン酸構造、２，３−アントラセンジカルボン酸構造、１，９−アントラセンジカルボン酸構造等のジカルボン酸構造を形成することができる。
【００９３】
上記式（２）のＹ４は、炭素数１〜１２の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基あるいは炭素数１〜１２の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子が置換基により置換された基を表す。
【００９４】
上記式（２）のＹ４における、炭素数１〜１２の１価の直鎖状または分岐状の飽和若しくは不飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基に由来する１価の炭化水素基等を挙げることができる。
【００９５】
上記式（２）のＹ４における、炭素数１〜１２の１価の環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基としては、炭素数３〜１２の脂環式炭化水素および芳香族炭化水素に由来する基が挙げられる。
【００９６】
上述の脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロデカン、シクロドデカン、ビシクロ［１．１．０］ブタン、ビシクロ［２．１．０］ペンタン、ビシクロ［２．２．０］ヘキサン、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン、ビシクロ［２．２．２］オクタン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デカン等のシクロアルカン類等を挙げることができる。
【００９７】
また、上述の芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン等を挙げることができる。
【００９８】
そして上述したように、上記式（２）のＹ４における、上記の炭素数１〜１２の１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基は、１価の直鎖状、分岐状または環状の飽和若しくは不飽和炭化水素基の１つ以上の水素原子がヒドロキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよいアルキル基、アラルキル基、またはアルコキシ基で置換された基であってもよい。
【００９９】
上記式（２）で表わされる構造部位の具体例としては、下記式（２−１）〜式（２−２）で表わされるものを挙げることができる。
【０１００】
【化４】
0006299546.tif 000005
【０１０１】
上記式（２）で表わされる構造部位を与える好ましい単量体としては、（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、２−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸等の（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【０１０２】
上記式（２）で表わされる構造部位を与える好ましい単量体の市販品としては、
ライトエステル（登録商標）ＨＯ−ＭＳ、同ＨＯ−ＨＨ（以上共栄社化学社製）；
ライトアクリレート（登録商標）ＨＯＡ−ＭＳ、同ＨＯＡ−ＨＨ、同ＨＯＡ−ＭＰＬ（以上共栄社化学社製）；
等が挙げられる。
【０１０３】
［Ａ］重合体における上記式（１）で表わされる構造部位と上記式（２）で表わされる構造部位との含有のモル比（（構造部位（１））／（構造部位（２）））の範囲は、（構造部位（１））／（構造部位（２））＝１／３〜５／１であることが好ましく、（構造部位（１））／（構造部位（２））＝３／５〜３／１であることがより好ましい。そして、［Ａ］重合体における構造部位（１）および構造部位（２）の含有量の合計は、［Ａ］重合体における全構造部位の合計を１００モル％とした場合に、５モル％〜１００モル％であることが好ましく、より好ましくは５モル％〜９５モル％、さらに好ましくは１０モル％〜９０モル％である。
【０１０４】
上述した含有のモル比で、構造部位（１）および構造部位（２）の含有量が全構造部位の合計の５モル％以上である場合に、［Ａ］重合体は、［Ｂ］量子ドットの良好な分散状態を実現する樹脂成分となることができる。
【０１０５】
以上で説明した［Ａ］重合体は、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物に含有されて、溶解または分散される。そして、塗布等の簡便な形成方法を利用して、［Ｂ］量子ドットを含む層や膜を得るための樹脂組成物を形成することができる。
【０１０６】
〔［Ｂ］量子ドット〕
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物の必須の成分である［Ｂ］量子ドットは、半導体材料を用いて構成された半導体量子ドットであることが好ましい。そして、［Ｂ］量子ドットは、ＣｄやＰｂを構成成分とせず、例えば、Ｉｎ（インジウム）やＳｉ（珪素）等を構成成分として構成された、安全な材料からなる量子ドットであることが好ましい。
【０１０７】
したがって、［Ｂ］量子ドットは、２族元素、１１族元素、１２族元素、１３族元素、１４族元素、１５族元素および１６族元素で示される元素の群から選ばれる少なくとも２種以上の元素を含む化合物からなる、量子ドットであることが好ましい。
【０１０８】
そして、より具体的には、人に対する安全性について懸念の大きい、例えば、ＰｂおよびＣｄ等の元素が除外され、Ｂｅ（ベリリウム）、Ｍｇ（マグネシウム）、Ｃａ（カルシウム）、Ｓｒ（ストロンチウム）、Ｂａ（バリウム）、Ｃｕ（銅）、Ａｇ（銀）、金（Ａｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、Ｂ（ホウ素）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｇａ（ガリウム）、Ｉｎ（インジウム）、Ｔｌ（タリウム）、Ｃ（炭素）、Ｓｉ（珪素）、Ｇｅ（ゲルマニウム）、Ｓｎ（錫）、Ｎ（窒素）、Ｐ（リン）、Ａｓ（ヒ素）、Ｓｂ（アンチモン）、Ｂｉ（ビスマス）、Ｏ（酸素）、Ｓ（硫黄）、Ｓｅ（セレン）、Ｔｅ（テルル）およびＰｏ（ポロニウム）群から選ばれる少なくとも２種以上の元素を含む化合物からなる、量子ドットであることが好ましい。
【０１０９】
このとき、［Ｂ］量子ドットが５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長領域に蛍光極大を有する化合物（ａ）および／または６００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域に蛍光極大を有する化合物（ｂ）からなることが好ましい。
【０１１０】
［Ｂ］量子ドットは、このような蛍光発光特性を有する化合物（ａ）および／または化合物（ｂ）からなることで、５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長領域、および／または、６００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域に蛍光極大を有することができる。その結果、［Ｂ］量子ドットを含有する本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、可視域の光を用いて画像の表示を行う発光素子の発光層の構成に好適な硬化膜を形成することができる。
【０１１１】
そしてさらに、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物に含有される［Ｂ］量子ドットが、Ｉｎを構成成分として含む化合物からなる量子ドットであることがより好ましい。またほかに、［Ｂ］量子ドットとしては、ＳｉまたはＳｉ化合物を挙げることができる。
【０１１２】
［Ｂ］量子ドットとして、ＳｉまたはＳｉ化合物のうち、Ｓｉが特に好ましい。
【０１１３】
［Ｂ］量子ドットの成分構成を上述のようにすることで、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、安全で、優れた蛍光特性を有する硬化膜を形成することができ、さらには、安全で、優れた蛍光特性を有する波長変換フィルムや発光素子の発光層を形成することができる。
【０１１４】
また、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物に含有される［Ｂ］量子ドットは、１種の化合物からなる均質構造型、および、２種以上の化合物からなるコアシェル構造型から選ばれる少なくとも一方の構造型の量子ドットであることが好ましい。
【０１１５】
コアシェル構造型の［Ｂ］量子ドットは、１つの種類の化合物でコア構造を形成し、別の化合物でコア構造の周囲を被覆して構成される。例えば、バンドギャップのより大きい半導体でコアの半導体を被覆することにより、光励起によって生成された励起子（電子−正孔対）はコア内に閉じ込められる。その結果、量子ドット表面での無輻射遷移の確率が減少し、発光の量子収率および［Ｂ］量子ドットの蛍光特性の安定性が向上する。
【０１１６】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物に含有される［Ｂ］量子ドットは、成分構成と構造を考慮した場合、コアシェル構造型量子ドットであるＩｎＰ／ＺｎＳ、ＣｕＩｎＳ２／ＺｎＳおよび（ＺｎＳ／ＡｇＩｎＳ２）固溶体／ＺｎＳ、並びに、均質構造型量子ドットであるＡｇＩｎＳ２およびＺｎドープＡｇＩｎＳ２よりなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【０１１７】
以上より、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物に含有される［Ｂ］量子ドットは、ＩｎＰ／ＺｎＳ化合物、ＣｕＩｎＳ２／ＺｎＳ化合物、ＡｇＩｎＳ２化合物、（ＺｎＳ／ＡｇＩｎＳ２）固溶体／ＺｎＳ化合物、ＺｎドープＡｇＩｎＳ２化合物およびＳｉ化合物の群から選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。
【０１１８】
以上で例示した［Ｂ］量子ドットにより、それを含有する本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、安全で、より優れた蛍光特性を有する硬化膜を形成し、さらには、より優れた蛍光特性の波長変換フィルムや発光素子の発光層を形成することができる。
【０１１９】
また、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物に含有される［Ｂ］量子ドットは、平均粒径が０．５ｎｍ〜２０ｎｍであることが好ましく、１．０ｎｍ〜１０ｎｍであることがより好ましい。平均粒径が０．５ｎｍ未満である場合には、［Ｂ］量子ドットを調製することが難しく、調製ができたとしても、［Ｂ］量子ドットの蛍光特性が不安定になる場合がある。［Ｂ］量子ドットの平均粒径が２０ｎｍを超える場合には、量子ドットの大きさによる量子閉じ込め効果が得られない場合があって、所望とする蛍光特性が得られず、望ましくない。
【０１２０】
また、［Ｂ］量子ドットの形状は特に限定されず、例えば、球状、棒状、円盤状、その他の形状であっても良い。量子ドットの粒径、形状、分散状態等の情報については、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により得ることができる。
【０１２１】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物に含有される［Ｂ］量子ドットを得る方法としては、配位性有機溶媒中で有機金属化合物を熱分解する公知の方法を利用することができる。また、コアシェル構造型の量子ドットは、反応により均質なコア構造を形成した後、反応系内に、コア表面にシェルを形成するための前駆体を添加し、シェル形成の後、反応を停止し、溶媒から分離することで得ることができる。尚、市販されているものを利用することも可能である。
【０１２２】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物における［Ｂ］量子ドットの含有量としては、上述した［Ａ］成分１００質量部に対して、好ましくは、０．１質量部〜１００質量部、より好ましくは０．２質量部〜５０質量部である。［Ｂ］量子ドットの含有量を上述の範囲とすることで、優れた蛍光特性を有する硬化膜を形成し、その結果、優れた蛍光特性の波長変換フィルムや発光素子の発光層を形成することができる。［Ｂ］量子ドットの含有量が、［Ａ］成分１００質量部に対して、０．１質量部より少ないと、形成される硬化膜において所望とする蛍光特性を得ることができず、波長変換フィルムや発光素子の発光層を形成することができない。また、［Ａ］成分１００質量部に対して、１００質量部より多いと、形成される硬化膜の安定性が損なわれ、安定な波長変換フィルムや発光素子の発光層を形成することができない。
【０１２３】
〔［Ｃ］重合開始剤〕
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、さらに［Ｃ］重合開始剤を含有することができる。本実施形態の［Ｃ］重合開始剤は、放射線に感応して重合性基を有する化合物の重合を開始しうる活性種を生じるものが好ましい。したがって、本実施形態の［Ｃ］重合開始剤は、感放射線性の重合開始剤、すなわち、感放射線性重合開始剤が好ましい。
【０１２４】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ｃ］重合開始剤を含有することで、感放射線性を高め、パターニング性を向上させることができる。そして、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、フォトリソグラフィ法等の公知のパターニング方法を利用して、パターニングされた発光層や波長変換フィルムを簡便に形成することができる。また、［Ｃ］重合開始剤は、後述する［Ｄ］重合性不飽和化合物とともに用いられ、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物に含有されることが好ましい。それによって、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、架橋反応性をより向上させることができ、この硬化性樹脂組成物から形成される本発明の第２実施形態の硬化膜の膜強度および基板との密着性をさらに高めことができる。
【０１２５】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物において、［Ｃ］重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル化合物、アセトフェノン化合物、ビイミダゾール化合物等が挙げられる。尚、［Ｃ］重合開始剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２６】
上記オキシムエステル化合物としては、例えば、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、１−〔９−エチル−６−ベンゾイル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−〔９−ｎ−ブチル−６−（２−エチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−エタン−１−オンオキシム−Ｏ−ベンゾエート、エタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロピラニルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−５−テトラヒドロフラニルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のＯ−アシルオキシム化合物等が挙げられる。
【０１２７】
上述した中で、オキシムエステル化合物としては、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチル−４−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）、エタノン−１−〔９−エチル−６−｛２−メチル−４−（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラニル）メトキシベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）が好ましい。
【０１２８】
上記アセトフェノン化合物としては、例えば、α−アミノケトン化合物挙げられる。
【０１２９】
上記α−アミノケトン化合物としては、例えば、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン等が挙げられる。
【０１３０】
上記アセトフェノン化合物としては、α−アミノケトン化合物が好ましく、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オンがより好ましい。
【０１３１】
上記ビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等が挙げられる。これらの中では、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましく、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールがより好ましい。
【０１３２】
［Ｃ］重合開始剤としては、市販品を使用してもよく、例えば、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア（登録商標）９０７）、２−（４−メチルベンジル）−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン（イルガキュア３７９）、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１）、エタノン−１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−１−（Ｏ−アセチルオキシム）（イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０２）（以上、ＢＡＳＦジャパン社製）等が挙げられる。
【０１３３】
さらに、［Ｃ］重合開始剤は、分子中に窒素原子を有さない重合開始剤であることが好ましい。このような構造を備えた［Ｃ］重合開始剤とすることで、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、蛍光特性のより優れた本発明の第２実施形態の硬化膜を形成することができる。
【０１３４】
このような分子中に窒素原子を有さない重合開始剤の具体例としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（イルガキュア（登録商標）６５１）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュア（登録商標）１８４）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（イルガキュア（登録商標）１１７３）、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（イルガキュア（登録商標）２９５９）、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（イルガキュア（登録商標）１２７）、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル（Ｄａｒｏｃｕｒ（登録商標）ＭＢＦ）、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド（ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）  ＴＰＯ）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（イルガキュア（登録商標）８１９）等が挙げられる。
【０１３５】
［Ｃ］重合開始剤の含有量としては、［Ａ］成分１００質量部に対して、０．１質量部〜４０質量部が好ましく、０．５質量部〜２０質量部がより好ましい。［Ｃ］重合開始剤の含有量を上記範囲とすることで、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、低露光量の場合でも良好なパターニング性を示し、また、十分な表面硬度および密着性を有する硬化膜を形成することができる。
【０１３６】
〔［Ｄ］重合性不飽和化合物〕
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、さらに［Ｄ］重合性不飽和化合物を含有することができる。本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物に含有される［Ｄ］重合性不飽和化合物は、重合性の不飽和構造を有する化合物である。本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物が［Ｄ］重合性不飽和化合物を含有することで架橋反応性を高めることができる。そして、この硬化性樹脂組成物から形成される本発明の第２実施形態の硬化膜の膜強度および基板との密着性を向上させることができる。その場合、［Ｄ］重合性不飽和化合物は、上述した［Ｃ］重合開始剤とともに用いられ、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物に含有されることが好ましい。
【０１３７】
このような［Ｄ］重合性不飽和化合物としては、重合性が良好であり、得られる硬化膜の強度が向上するという観点から、単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルが好ましい。
【０１３８】
上述した単官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルメタクリレート、（２−アクリロイルオキシエチル）（２−ヒドロキシプロピル）フタレート、（２−メタクリロイルオキシエチル）（２−ヒドロキシプロピル）フタレート、ω―カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート等が挙げられる。市販品としては、例えば、アロニックスＭ−１０１、同Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４、同Ｍ−５３００（以上、東亞合成社製）；ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（以上、日本化薬社製）；ビスコート１５８、同２３１１（以上、大阪有機化学工業社製）等が挙げられる。
【０１３９】
２官能（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート等が挙げられる。市販品としては、例えば、アロニックス（登録商標）Ｍ−２１０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（以上、東亞合成社製）；ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（以上、日本化薬社）；ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業社製）；ライトアクリレート（登録商標）１，９−ＮＤＡ（共栄社化学社製）等が挙げられる。
【０１４０】
３官能以上の（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ（２−アクリロイルオキシエチル）フォスフェート、トリ（２−メタクリロイルオキシエチル）フォスフェート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、コハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレートの他、直鎖アルキレン基および脂環式構造を有し、かつ２個以上のイソシアネート基を有する化合物と、分子内に１個以上の水酸基とを有し、かつ３個、４個または５個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物と反応させて得られる多官能ウレタンアクリレート系化合物等が挙げられる。市販品としては、例えば、アロニックス（登録商標）Ｍ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同ＴＯ−１４５０（以上、東亞合成社製）；ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０、同ＤＰＥＡ−１２（以上、日本化薬社）；ビスコート（登録商標）２９５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化学工業社製）；多官能ウレタンアクリレート系化合物を含有する市販品としては、ニューフロンティア（登録商標）Ｒ−１１５０（第一工業製薬社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬社製）等が挙げ
られる。
【０１４１】
これらの［Ｄ］重合性不飽和化合物のうち、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートや、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの混合物、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、コハク酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、コハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、多官能ウレタンアクリレート系化合物を含有する市販品等が好ましい。
【０１４２】
上述した［Ｄ］重合性不飽和化合物は、単独で使用してもよいし２種以上を混合して使用してもよい。本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物における［Ｄ］重合性不飽和化合物の使用割合としては、［Ａ］成分１００質量部に対して、３０質量部〜２５０質量部が好ましく、５０質量部〜２００質量部がより好ましい。［Ｄ］重合性不飽和化合物の使用量が３０質量部〜２５０質量部の場合、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物の感度および得られる硬化膜の耐熱性がより良好となる。
【０１４３】
〔［Ｅ］酸化防止剤〕
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、さらに、［Ｅ］酸化防止剤を含有することができる。本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物が、［Ａ］成分や［Ｂ］成分等の必須の成分に加え、さらに［Ｅ］酸化防止剤を含有することで、それを用いて得られる本発明の第２実施形態の硬化膜の透過率および耐熱透明性を向上することできる。
【０１４４】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物の成分として好ましい［Ｅ］酸化防止剤としては、ホスファイト系酸化防止剤を挙げることができる。ホスファイト系酸化防止剤は、ホスファイト構造を有する化合物からなる。またその他に、［Ｅ］酸化防止剤としては、フェノール化合物、ヒンダードフェノール構造を有する化合物、ヒンダードアミン構造を有する化合物およびチオエーテル構造を有する化合物等を挙げることができる。
【０１４５】
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス［２，４−ビス（１，１−ジメチルエチル）−６−メチルフェニル］エチルエステル亜リン酸、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン、トリ（ｐ−トリル）ホスフィン、シクロヘキシルジフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン等を挙げることができる。市販品としては、例えば、アデカスタブ（登録商標）ＰＥＰ−３６、同ＰＥＰ−４Ｃ、同ＰＥＰ−８、同ＰＥＰ−８Ｆ、同ＰＥＰ−８Ｗ、同ＰＥＰ−１１Ｃ、同ＰＥＰ−２４Ｇ、同ＨＰ−１０、同２１１２、同２６０、アデカスタブ（登録商標）Ｐ、アデカスタブ（登録商標）ＱＬ、同５２２Ａ、同３２９Ｋ、同１１７８、同１５００、アデカスタブ（登録商標）Ｃ、同１３５Ａ、同３０１０、アデカスタブ（登録商標）ＴＰＰ、（以上、アデカ社製）、Ｉｒｇａｆｏｓ（登録商標）３８、Ｉｒｇａｆｏｓ（登録商標）１６８、Ｉｒｇａｆｏｓ（登録商標）Ｐ−ＥＰＱ（以上、いずれもＢＡＳＦジャパン社製）等を挙げることができる。
【０１４６】
これらのうち、特に下記式で示されるような芳香族を有するホスファイト系酸化防止剤が好ましい。
【０１４７】
【化５】
0006299546.tif 000006
【０１４８】
上記式中、ＲＡは、単結合または酸素原子を示す。ＲＢは、炭素数１から１２のアルキル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基を示す。ＲＣは炭素数１から３０の炭化水素基を示す。ｎは１から３の整数を示し、ｍは０から５の整数を示す。
【０１４９】
ＲＢとしては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等を挙げることができる。
ＲＣとしては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、１−メチルプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基、エイコシル基、ヘンイコシル基、ヘンイコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基、ペンタコシル基、ヘキサコシル基、ヘプタコシル基、オクタコシル基、ノナコシル基、トリアコンチル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等の炭素数１〜３０の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基に由来する炭化水素基を挙げることができる。
【０１５０】
上述したフェノール化合物としては、例えば、４−メトキシフェノール、４−エトキシフェノール等が挙げられる。
【０１５１】
上述したヒンダードフェノール構造を有する化合物としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド）］、３，３’，３’’，５’，５’’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール、４，６−ビス（ドデシルチオメチル）−ｏ−クレゾール、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］、ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、１，３，５−トリス［（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−キシリン）メチル］−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（４，６−ビス（オクチルチオ）−１，３，５−トリアジン−２−イルアミン）フェノール、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等が挙げられる。
【０１５２】
上述のヒンダードフェノール構造を有する化合物の市販品としては、例えば、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ−２０、同ＡＯ−３０、同ＡＯ−４０、同ＡＯ−５０、同ＡＯ−６０、同ＡＯ−７０、同ＡＯ−８０、同ＡＯ−３３０（以上、アデカ社製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）ＧＭ、同ＧＳ、同ＭＤＰ−Ｓ、同ＢＢＭ−Ｓ、同ＷＸ−Ｒ、同ＧＡ−８０（以上、住友化学社製）、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０、同１０３５、同１０７６、同１０９８、同１１３５、同１３３０、同１７２６、同１４２５ＷＬ、同１５２０Ｌ、同２４５、同２５９、同３１１４、同５６５、ＩＲＧＡＭＯＤ（登録商標）２９５（以上、ＢＡＳＦジャパン社製）、ヨシノックス（登録商標）ＢＨＴ、同ＢＢ、同２２４６Ｇ、同４２５、同２５０、同９３０、同ＳＳ、同ＴＴ、同９１７、同３１４（以上、エーピーアイコーポレーション社製）等が挙げられる。
【０１５３】
ヒンダードアミン構造を有する化合物の市販品としては、例えば、アデカスタブ（登録商標）ＬＡ−５２、同ＬＡ５７、同ＬＡ−６２、同ＬＡ−６７、同ＬＡ−６３Ｐ、同ＬＡ−６８ＬＤ、同ＬＡ−７７、同ＬＡ−８２、同ＬＡ−８７（以上、アデカ社製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）９Ａ（住友化学社製）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ（登録商標）１１９ＦＬ、同２０２０ＦＤＬ、同９４４ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）６２２ＬＤ、同１４４、同７６５、同７７０ＤＦ（以上、ＢＡＳＦジャパン社製）が挙げられる。
【０１５４】
チオエーテル構造を有する化合物の市販品としては、例えば、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ−４１２Ｓ、同ＡＯ−５０３（以上、アデカ社製）、ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）ＴＰＬ−Ｒ、同ＴＰＭ、同ＴＰＳ、同ＴＰ−Ｄ、同ＭＢ（以上、住友化学社製）、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）ＰＳ８００ＦＤ、同ＰＳ８０２ＦＤ（以上、ＢＡＳＦジャパン社製）、ＤＬＴＰ、ＤＳＴＰ、ＤＭＴＰ、ＤＴＴＰ（以上、エーピーアイコーポレーション社製）等が挙げられる。
【０１５５】
［Ｅ］酸化防止剤は、単独で使用してもよいし２種以上を混合して使用してもよい。本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物における［Ｅ］酸化防止剤の含有量としては、［Ａ］成分１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部〜１０質量部、より好ましくは０．２質量部〜５質量部である。［Ｅ］酸化防止剤の含有量を上記の範囲とすることで、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物から得られる本発明の第２実施形態の硬化膜の透過率および耐熱透明性をより向上させることできる。
【０１５６】
〔その他の任意成分〕
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ａ］成分および［Ｂ］量子ドットを必須の成分として含有するとともに、本発明の効果を損なわない限り、その他の任意成分を含有することができる。その他の任意成分としては、例えば、溶剤、硬化促進剤および熱酸発生剤等を挙げることができる。
【０１５７】
硬化促進剤は、本実施形態の硬化性樹脂組成物により形成される膜の硬化を促進する機能を果たす化合物である。
【０１５８】
熱酸発生剤は、熱をかけることによって樹脂を硬化させる際の触媒として作用する酸性活性物質を放出することができる化合物である。
【０１５９】
さらに、本実施形態の硬化性樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、界面活性剤、保存安定剤、接着助剤、耐熱性向上剤等のその他の任意成分を含有できる。これらの各任意成分は、単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
【０１６０】
〔硬化性樹脂組成物の調製方法〕
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物は、［Ａ］重合体および［Ｂ］量子ドットを均一に混合することによって調製される。また、含有させることが任意の［Ｃ］成分や［Ｄ］成分や［Ｅ］成分を含有させる場合、［Ａ］成分および［Ｂ］成分とともに、必要に応じて［Ｃ］成分や［Ｄ］成分や［Ｅ］成分を均一に混合することによって調製される。
【０１６１】
さらに、上述したその他の任意成分を必要に応じて選択し、それらを含有させる場合、［Ａ］成分および［Ｂ］成分等とともに、当該その他の任意の成分を均一に混合することによって調製される。
【０１６２】
そして、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物を調製するにあたり、分散液状態の硬化性樹脂組成物を調製するため、有機溶剤を用いることができる。
【０１６３】
有機溶剤の機能としては、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物の粘度等を調節して、例えば、基板等への塗布性を向上させることや、操作性や成形性を向上させること等が挙げられる。
【０１６４】
本実施形態の硬化性樹脂組成物に使用可能な有機溶剤としては、それ以外の含有成分を溶解または分散させるとともに、それ以外の含有成分と反応しないものを挙げることができる。このような有機溶剤としては、例えば、アルコール類、エーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート類、炭化水素類、ケトン類、エステル類等が挙げられる。
【０１６５】
これらの有機溶剤としては、
アルコール類として、例えば、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール等；
エーテル類として、例えば、テトラヒドロフランや、ジイソプロピルエーテル、ジｎ−ブチルエーテル、ジｎ−ペンチルエーテル、ジイソペンチルエーテル、ジｎ−ヘキシルエーテル等のジアルキルエーテル等；
ジエチレングリコールアルキルエーテル類として、例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等；
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、例えば、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等；
プロピレングリコールモノアルキルエーテル類として、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル等； 
プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類として、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート等；
プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート類として、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノブチルエーテルプロピオネート等； 
ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等；
エステル類として、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロチル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル等をそれぞれ挙げられる。
【０１６６】
量子ドットの分散性の観点から炭化水素溶剤が好ましい。炭化水素としては、芳香族炭化水素溶剤と脂肪族炭化水素溶剤が挙げられる。芳香族炭化水素溶剤としては、トルエン、エチルベンゼン、アミルベンゼン、イソプロピルベンゼン、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、ナフタレン、ジメチルナフタレン、シメン、テトラリン、ビフェニル、メシチレン等が挙げられる。脂肪族炭化水素系溶剤としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ｐ−メンタン、デカリン、イソオクタン、イソドデカン、シクロヘキセン、シクロペンタン、ジペンテン、アイソパーＥ、アイソパーＧ、アイソパーＨ、アイソパーＬ、アイソパーＭ（（株）小倉興産製）、テレピン油、デカヒドロナフタリン、リモネン、ベンジン、キョーワゾールＣ−８００、シェルゾール、アイソゾール、リグロイン（ゴードー工業（株）社製）等が挙げられる。
【０１６７】
これらの有機溶剤の中でも、溶解性が優れていること、各成分と非反応性であること、並びに塗膜形成の容易性の観点から、ジアルキルエーテル等のエーテル類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ケトン類およびエステル類が好ましく、特に、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、酢酸プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチルが好ましい。これらの有機溶剤は、単独でまたは混合して用いることができる。
【０１６８】
上記した有機溶剤に加え、さらに必要に応じて、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。
【０１６９】
本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物における有機溶剤の含有量は、粘度等も考慮して適宜決めることができる。すなわち、本実施形態の硬化性樹脂組成物の固形分濃度（硬化性樹脂組成物溶液中に占める溶剤成分以外の成分）は、使用目的や所望の膜厚等に応じて任意に設定することができるが、好ましくは５質量％〜５０質量％、より好ましくは１０質量％〜４０質量％、さらに好ましくは１５質量％〜３５質量％である。
【０１７０】
このようにして調製された本実施形態の硬化性樹脂組成物は、液状である場合、孔径０．５μｍ程度のミリポアフィルタ等を用いて濾過した後に、本実施形態の硬化膜の形成に使用することが好ましい。
【０１７１】
実施の形態２．
＜硬化膜＞
本発明の第２実施形態の硬化膜は、基板上に、上述した本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物を塗布し、必要な場合にパターニングをした後、加熱硬化して形成される。以下で、本発明の第２実施形態の硬化膜およびその形成方法について説明する。
【０１７２】
本発明の第２実施形態の硬化膜を形成するその形成方法では、基板上に硬化膜が形成されるように、少なくとも下記の工程（１）〜工程（４）を下記の順で含むことが好ましい。
【０１７３】
（１）本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する塗膜形成工程。
（２）工程（１）で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する放射線照射工程。
（３）工程（２）で放射線を照射された塗膜を現像する現像工程。
（４）工程（３）で現像された塗膜を露光する硬化工程。
【０１７４】
そして、図１〜図４は、本発明の第２実施形態の硬化膜の形成方法の一例を説明する図である。
【０１７５】
図１は、本発明の第２実施形態の硬化膜の形成における塗膜形成工程の一例を説明する基板の断面図である。
【０１７６】
図２は、本発明の第２実施形態の硬化膜の形成における放射線照射工程の一例を模式的に説明する断面図である。
【０１７７】
図３は、本発明の第２実施形態の硬化膜の形成における現像工程の一例を説明する基板の断面図である。
【０１７８】
図４は、本発明の第２実施形態の硬化膜の形成における硬化工程の一例を説明する硬化膜および基板の断面図である。
【０１７９】
以下、上述の工程（１）（塗膜形成工程）〜工程（４）（硬化工程）についてそれぞれ説明する。
【０１８０】
［工程（１）］
本発明の第２実施形態の硬化膜の、形成方法の工程（１）である、塗膜形成工程では、図１に例示するように、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物の塗膜１を基板２上に形成する。
【０１８１】
塗膜１を形成する基板２には、ガラス、石英、シリコン、または、樹脂（例えば、ポリイミド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリエステル、環状オレフィンの開環重合体およびその水素添加物等）等からなる基板を用いることができる。また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の前処理を施しておくこともできる。
【０１８２】
基板２において、一方の面に、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物が塗布された後、プレベークを行い、その硬化性樹脂組成物に含有される有機溶剤等の成分が蒸発し、塗膜１の形成が行われる。
【０１８３】
本工程における本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法またはスピンナ法と称されることもある。）、スリット塗布法（スリットダイ塗布法）、バー塗布法、インクジェット塗布法等の適宜の方法が採用できる。これらのうち、均一な厚みの膜を形成できる点から、スピンコート法またはスリット塗布法が好ましい。
【０１８４】
上述のプレベークの条件は、硬化性樹脂組成物を構成する各成分の種類、配合割合等によって異なるが、７０℃〜１２０℃の温度で行うのが好ましく、時間は、ホットプレートやオーブン等の加熱装置によって異なるが、おおよそ１分間〜１５分間程度である。
【０１８５】
［工程（２）］
次いで、本発明の第２実施形態の硬化膜の、形成方法の工程（２）である、放射線照射工程では、図２に例示するように、工程（１）で基板２上に形成された塗膜１の少なくとも一部に放射線４を照射する。このとき、塗膜１の一部にのみ、放射線４ａを照射するには、例えば、所望の形状の形成に対応するパターンのフォトマスク３を介して行う。このフォトマスク３を用いることにより、照射された放射線４の一部がフォトマスクを透過し、その一部の放射線４ａが、塗膜１に照射される。
【０１８６】
照射に使用される放射線４としては、可視光線、紫外線、遠紫外線等が挙げられる。このうち波長が２００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましく、３６５ｎｍの紫外線を含む放射線がより好ましい。
【０１８７】
放射線４の照射量（露光量）は、放射線４の波長３６５ｎｍにおける強度を照度計（ＯＡＩ  ｍｏｄｅｌ  ３５６、Ｏｐｔｉｃａｌ  Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ  Ｉｎｃ．製）により測定した値として、１０Ｊ／ｍ２〜１００００Ｊ／ｍ２とすることができ、１００Ｊ／ｍ２〜５０００Ｊ／ｍ２が好ましく、２００Ｊ／ｍ２〜３０００Ｊ／ｍ２がより好ましい。
【０１８８】
［工程（３）］
次に、本発明の第２実施形態の硬化膜の、形成方法の工程（３）である、現像工程では、図３に例示するように、放射線照射後の図２の塗膜１を現像して不要な部分を除去し、所定の形状にパターニングされた塗膜１ａを得る。
【０１８９】
現像に使用される現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア等の無機アルカリや、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の４級アンモニウム塩や、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等のアルカリ性化合物の水溶液が使用できる。上述のアルカリ性化合物の水溶液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒を適当量添加して使用することもできる。さらに、界面活性剤をそれのみで、または、上述の水溶性有機溶媒の添加とともに、適当量添加して使用することもできる。
【０１９０】
現像方法は、液盛り法、ディッピング法、シャワー法、スプレー法等のいずれでもよく、現像時間は、常温で５秒間〜３００秒間とすることができ、好ましくは常温で１０秒間〜１８０秒間程度である。現像処理に続いて、例えば、流水洗浄を３０秒間〜９０秒間行った後、圧縮空気や圧縮窒素で風乾することによって、所望のパターンが得られる。
【０１９１】
［工程（４）］
次に、本発明の第２実施形態の硬化膜の、形成方法の工程（４）である、硬化工程では、図３に例示されたパターニングされた塗膜１ａを、露光装置を用いた露光によって硬化（ポスト露光とも言う。）する。これにより、図４に例示するように、基板２上に形成された、本発明の第２実施形態の一例である硬化膜５が得られる。硬化膜５は、上述したように、所望の形状となるようにパターニングされている。
【０１９２】
本発明の第２実施形態の一例である硬化膜５の形成には、上述した本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物を用いており、本工程では、その塗膜の一部に放射線を照射する。具体的には、工程（１）で形成され、工程（２）および工程（３）でパターニングされた塗膜に対し、所定の放射線を照射する。このときに用いられる放射線としては、例えば、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等が挙げられる。
【０１９３】
上述の紫外線としては、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等が挙げられる。遠紫外線としては、例えば、ＫｒＦエキシマレーザー光等が挙げられる。Ｘ線としては、例えば、シンクロトロン放射線等が挙げられる。荷電粒子線としては、例えば、電子線等が挙げられる。これらの放射線のうち、紫外線の使用が好ましく、紫外線の中でもｇ線、ｈ線およびｉ線のうちの少なくとも一方を含む放射線がより好ましい。放射線の露光量としては、０．１Ｊ／ｍ２〜３００００Ｊ／ｍ２が好ましい。
【０１９４】
以上の工程（１）〜工程（４）を含む硬化膜の形成方法によって形成された本発明の第２実施形態の硬化膜は、樹脂中に［Ｂ］量子ドットを含んで構成され、［Ｂ］量子ドットに基づく蛍光発光（波長変換）機能を有する。そのため、励起光と異なる波長の蛍光を発光する本発明の第３実施形態の波長変換フィルムとして用いることができる。
【０１９５】
また、本発明の第２実施形態の硬化膜を発光層として用い、本発明の第４実施形態の発光素子を提供することも可能である。その場合、本発明の第４実施形態の発光素子が有する発光層は、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物を用い、上述した本発明の第２実施形態の硬化膜を形成するその形成方法に従って、同様に形成することができる。そして、本発明の第４実施形態の発光素子の発光層は、［Ｂ］量子ドットに基づく蛍光発光（波長変換）機能を有する。
【０１９６】
特に、本発明の第２実施形態の硬化膜は、後述するように、発光素子の例である発光表示素子の発光層としての利用に好適であり、発光表示素子の構成に用いることができる。
【０１９７】
そのため、本発明の第２実施形態の硬化膜は光の利用効率を高めることができるように、それを構成する樹脂において、厚さ０．１ｍｍでの全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ７１０５）が、好ましくは７５％〜９５％であり、より好ましくは７８％〜９５％であり、さらに好ましくは８０％〜９５％である。全光線透過率がこのような範囲であれば、得られる硬化膜は優れた光利用効率の波長変換フィルムや発光素子の発光層を構成することができる。
【０１９８】
実施の形態３．
＜波長変換フィルム＞
上述したように、本発明の第２実施形態の硬化膜は、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物の［Ａ］重合体をベースとする樹脂中に［Ｂ］量子ドットを含んで構成される。そして、本発明の第２実施形態の硬化膜は、含有される［Ｂ］量子ドットに基づく蛍光発光（波長変換）機能を有する。そのため、本発明の第２実施形態の硬化膜は、励起光と異なる波長の蛍光を発光する本発明の第３実施形態の波長変換フィルムとして用いることができる。
【０１９９】
したがって、本発明の第３実施形態の波長変換フィルムは、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物を用い、上述した本発明の第２実施形態の硬化膜を形成するその形成方法に従って形成することができる。そして、本発明の第３実施形態の波長変換フィルムは、［Ｂ］量子ドットに基づく蛍光発光（波長変換）機能を有する。
【０２００】
本発明の第３実施形態の波長変換フィルムは、例えば、カラー液晶表示パネルとともに用いて、カラー液晶表示素子を提供することができる。その場合、例えば、本発明の第３実施形態の波長変換フィルムを公知のカラー液晶表示パネル上に配置するなどし、高色純度のカラー表示が可能なカラー液晶表示素子を提供することができる。すなわち、本発明の第３実施形態の波長変換フィルムは、カラー液晶表示パネルが元来有する表示の色純度を向上させるために使用することができ、表示の色の純度をより向上させたカラー液晶表示素子を提供することができる。
【０２０１】
実施の形態４．
＜発光素子およびその発光層の形成＞
本発明においては、上述した本発明の第２実施形態の硬化膜を用い、波長変換フィルムや発光層として使用することにより、照明装置や発光表示素子等の発光素子を提供することができる。
【０２０２】
すなわち、本発明の第４実施形態の発光素子は、本発明の第２実施形態の硬化膜を波長変換フィルムや発光層として使用するものであって、例えば、発光表示素子等を構成することができる。そして、本発明の第４実施形態の一例である発光表示素子は、例えば、上述した本発明の第２実施形態の硬化膜を発光層として有する波長変換基板を用いて構成することができる。本発明の第４実施形態の発光素子において、その発光層の形成は、本発明の第５実施形態の発光層の形成方法に従って行うことができる。
【０２０３】
図５は、本発明の第４実施形態の発光素子である発光表示素子の一例を模式的に示す断面図である。
【０２０４】
本発明の第４実施形態の一例である発光表示素子１００は、基板１２上に発光層１３（１３ａ、１３ｂ、１３ｃ）とブラックマトリクス１４とを設けて構成された波長変換基板１１と、波長変換基板１１上に接着剤層１５を介して貼り合わされた光源基板１８とを有する。
【０２０５】
基板１２は、ガラス、石英、または、透明樹脂（例えば、透明ポリイミド、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム等）等からなる。
【０２０６】
波長変換基板１１の発光層１３は、上述した本発明の第２実施形態の硬化膜を利用するものである。すなわち、発光層１３は、上述した本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物を用い、パターニングして形成される。
【０２０７】
本発明の第５実施形態である、発光層の形成方法については、その発光層が本発明の第２実施形態の硬化膜を利用するものであることから、上述した本発明の第２実施形態の硬化膜を形成するその形成方法と同様となる。すなわち、基板１２上に本発明の第２実施形態の硬化膜が形成され、それらが発光層１３となって発光表示素子１００の波長変換基板１１を構成する。したがって、発光層１３の形成方法は、上述したのと同様の下記工程（１）〜工程（４）をこの順で含むことが好ましい。
【０２０８】
（１）本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する塗膜形成工程。
（２）工程（１）で形成した塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する放射線照射工程。
（３）工程（２）で放射線を照射された塗膜を現像する現像工程。
（４）工程（３）で現像された塗膜を露光する硬化工程。
【０２０９】
そして、発光層１３を形成するための（１）工程〜（４）工程のそれぞれは、本発明の第２実施形態の硬化膜の形成において、図１〜図４を用いて説明したとおりである。したがって、その詳細は省略するが、図４において示される所望の形状となるようにパターニングされた硬化膜５が、図５の波長変換基板１１の発光層１３となる。
【０２１０】
波長変換基板１１は、発光層１３のそれぞれが、含有する量子ドットを用い、光源基板１８の励起光源１７からの励起光を波長変換し、所望とする波長の蛍光を発光する。
【０２１１】
そして、波長変換基板１１では、発光層１３の発光層１３ａと発光層１３ｂと発光層１３ｃとが、それぞれ、異なる量子ドットを含んで構成され、異なる蛍光を発光することができる。
【０２１２】
例えば、波長変換基板１１は、発光層１３ａが励起光を赤色の光に変換し、発光層１３ｂが励起光を緑色の光に変換し、発光層１３ｃが励起光を青色の光に変換するように構成することができる。
【０２１３】
その場合、発光層１３ａ、１３ｂ、１３ｃは、それぞれが所望とする蛍光特性を有するように、含有する量子ドットの選択がなされる。そのため、波長変換基板１１の発光層１３ａ、１３ｂ、１３ｃの形成においては、異なる発光特性の量子ドットを含む、例えば、３種の第１実施形態の硬化性樹脂組成物が準備される。
【０２１４】
そして、その３種の第１実施形態の硬化性樹脂組成物をそれぞれ用いて、上述した工程（１）〜工程（４）を含む発光層１３の形成方法を繰り返して、発光層１３ａ、発光層１３ｂおよび発光層１３ｃを順次形成する。そして、基板１２上に発光層１３を形成して、波長変換基板１１を得る。
【０２１５】
波長変換基板１１の発光層１３の厚さは、１００ｎｍ〜１００μｍ程度が好ましく、１μｍ〜１００μｍがより好ましい。その厚さが１００ｎｍ未満であると、励起光を十分吸収することができず、光変換効率が低下するために発光表示素子の輝度が十分に確保できないといった問題が生じる。さらに、励起光の吸収を高め、発光表示素子の輝度を十分に確保するためには、膜厚として、１μｍ以上とすることが好ましい。
【０２１６】
基板１２上の各発光層１３の間には、ブラックマトリクス１４が配置されている。ブラックマトリクス１４は、公知の遮光性の材料を用い、公知の方法に従ってパターニングして形成することができる。尚、ブラックマトリクス１４は、波長変換基板１１において、必須の構成要素ではなく、波長変換基板１１は、ブラックマトリクス１４を設けない構成とすることも可能である。
【０２１７】
接着剤層１５は、後述する波長の紫外光または青色光を透過する公知の接着剤を用いて形成される。尚、接着剤層１５は、図５に示すように、基板１２上に発光層１３ａ、１３ｂ、１３ｃの全面を被覆するように設ける必要はなく、波長変換基板１１の周囲のみに設けることも可能である。
【０２１８】
光源基板１８は、基板１６と、基板１６の波長変換基板１１の側に配置された光源１７とを備えている。光源１７からはそれぞれ、励起光として紫外光または青色光が出射される。
【０２１９】
光源１７としては、公知の構造の紫外発光有機ＥＬ素子および青色発光有機ＥＬ素子等の使用が可能であり、特に限定されるものではなく、公知の材料、公知の製造方法で作製することが可能である。ここで、紫外光としては、主発光ピークが３６０ｎｍ〜４３５ｎｍの発光が好ましく、青色光としては、主発光ピークが４３５ｎｍ〜４８０ｎｍの発光が好ましい。光源１７は、それぞれの出射光が対向する発光層１３を照射するように、指向性を有していることが望ましい。
【０２２０】
本発明の第４実施形態の一例である発光表示素子１００は、光源１７の１つである光源１７ａからの励起光を、対向する波長変換基板１１の発光層１３ａの量子ドットにより波長変換する。同様に、光源１７ｂからの励起光を、対向する波長変換基板１１の発光層１３ｂの量子ドットにより波長変換し、また、光源１７ｃからの励起光を、対向する波長変換基板１１の発光層１３ｃの量子ドットにより波長変換する。このようにして、光源１７からの励起光が、それぞれ所望とする波長の可視光に変換されて表示に用いられている。
【０２２１】
尚、波長変換基板１１においては、後述するように、発光層１３ｃにおいて励起光を青色光に変換する。このとき、波長変換基板１１は、発光層１３ｃに代えて、樹脂中に光散乱粒子を分散して構成された光散乱層を用いることも可能である。こうすることで、励起光が青色光である場合、その励起光を波長変換することなく、そのままの波長特性で使用することができる。
【０２２２】
発光表示素子１００の波長変換基板１１は、上述したように、それぞれ量子ドットと樹脂とからなる発光層１３ａと発光層１３ｂと発光層１３ｃとが、基板１２の上にパターニングされて設けられたものである。発光層１３ａ、１３ｂ、１３ｃは、量子ドットを含む、本発明の第１実施形態の硬化性樹脂組成物からそれぞれ形成される。
【０２２３】
発光表示素子１００においては、発光層１３ａの設けられた部分が、赤色表示を行うサブ画素を構成する。すなわち、波長変換基板１１の発光層１３ａは、光源基板１８の対向する光源１７ａからの励起光を赤色に変換する。また、発光層１３ｂの設けられた部分が、緑色表示を行うサブ画素を構成する。すなわち、発光層１３ｂは、光源基板１８の対向する光源１７ｂからの励起光を緑色に変換する。また、発光層１３ｃの設けられた部分が、青色表示を行うサブ画素を構成する。すなわち、発光層１３ｃは、光源基板１８の対向する光源１７ｃからの励起光を青色に変換する。
【０２２４】
そして、発光表示素子１００は、発光層１３ａを備えたサブ画素、発光層１３ｂを備えたサブ画素および発光層１３ｃを備えたサブ画素の３種により、画像を構成する最小単位となる１つの画素を構成する。
【０２２５】
以上の構成を有する本発明の第４実施形態の一例である発光表示素子１００は、発光層１３ａを備えたサブ画素、発光層１３ｂを備えたサブ画素および発光層１３ｃを備えたサブ画素毎に、赤色、緑色または青色の光の発光が制御される。そして、３種のサブ画素からなる１つの画素毎に、赤色、緑色および青色の光の発光が制御され、フルカラーの表示が行われる。
【０２２６】
尚、本発明の第４実施形態の一例である発光表示素子１００においては、発光層１３と基板１２との間に、カラーフィルタを設けることが可能である。すなわち、発光層１３ａと基板１２との間に赤色のカラーフィルタを設け、発光層１３ｂと基板１２との間に緑色のカラーフィルタを設け、発光層１３ｃと基板１２との間に赤色のカラーフィルタを設けることができる。
【０２２７】
本発明の第４実施形態の一例である発光表示素子１００は、カラーフィルタを設けることにより、表示の色の純度を高めることができる。ここで、カラーフィルタとしては、液晶表示素子用等として公知のものを公知の方法で形成して用いることができる。
【実施例】
【０２２８】
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。
【０２２９】
＜［Ａ］重合体（［Ａ］成分）＞
本実施例においては、上述した［Ａ］重合体の例として、重合体（Ａ−１）、重合体（Ａ−２）、重合体（Ａ−３）、重合体（Ａ−４）および重合体（Ａ−５）を用いた。以下に、重合体（Ａ−１）〜重合体（Ａ−５）の合成例を示す。
【０２３０】
合成例１
［重合体（Ａ−１）の合成］
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を仕込んで窒素置換した。８０℃に加熱して、同温度で、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０質量部、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸３０質量部、ベンジルメタクリレート１０質量部、２−エチルヘキシルメタクリレート６０質量部および２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）６質量部の混合溶液を２時間かけて滴下し、この温度を保持して１時間重合した。その後、反応溶液の温度を９０℃に昇温させ、さらに１時間重合することにより、重合体（Ａ−１）を得た。重合体（Ａ−１）は、重合体溶液（固形分濃度＝３３質量％）の状態で得られ、Ｍｗ＝１１０００、Ｍｎ＝６１００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８０であった。これを重合体（Ａ−１）溶液とする。
【０２３１】
合成例２
［重合体（Ａ−２）の合成］
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を仕込んで窒素置換した。８０℃に加熱して、同温度で、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０質量部、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸３５質量部、２−エチルヘキシルメタクリレート６５質量部および２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）６質量部の混合溶液を２時間かけて滴下し、この温度を保持して１時間重合した。その後、反応溶液の温度を９０℃に昇温させ、さらに１時間重合することにより、重合体（Ａ−２）を得た。重合体（Ａ−２）は、重合体溶液（固形分濃度＝３３質量％）の状態で得られ、Ｍｗ＝１１３００、Ｍｎ＝６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８８であった。これを重合体（Ａ−２）溶液とする。
【０２３２】
合成例３
［重合体（Ａ−３）の合成］
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を仕込んで窒素置換した。８０℃に加熱して、同温度で、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０質量部、２−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸４０質量部、ベンジルメタクリレート２０重量部、ラウリルメタクリレート４０質量部および２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）６質量部の混合溶液を２時間かけて滴下し、この温度を保持して１時間重合した。その後、反応溶液の温度を９０℃に昇温させ、さらに１時間重合することにより、重合体（Ａ−３）を得た。重合体（Ａ−３）は、重合体溶液（固形分濃度＝３３質量％）の状態で得られ、Ｍｗ＝１１１００、Ｍｎ＝６０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８５であった。これを重合体（Ａ−３）溶液とする。
【０２３３】
合成例４
［重合体（Ａ−４）の合成］
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を仕込んで窒素置換した。８０℃に加熱して、同温度で、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０質量部、２−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸４０質量部、ステアリルメタクリレート６０質量部および２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）６質量部の混合溶液を２時間かけて滴下し、この温度を保持して１時間重合した。その後、反応溶液の温度を９０℃に昇温させ、さらに１時間重合することにより、重合体（Ａ−４）を得た。重合体（Ａ−４）は、重合体溶液（固形分濃度＝３３質量％）の状態で得られ、Ｍｗ＝１２１００、Ｍｎ＝６５００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８６であった。これを重合体（Ａ−４）溶液とする。
【０２３４】
合成例５
［重合体（Ａ−５）の合成］
冷却管と攪拌機を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を仕込んで窒素置換した。８０℃に加熱して、同温度で、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０質量部、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸４０質量部、２−エチルヘキシルメタクリレート３０重量部、イソボルニルメタクリレート３０質量部および２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）６質量部の混合溶液を２時間かけて滴下し、この温度を保持して１時間重合した。その後、反応溶液の温度を９０℃に昇温させ、さらに１時間重合することにより、重合体（Ａ−４）を得た。重合体（Ａ−４）は、重合体溶液（固形分濃度＝３３質量％）の状態で得られ、Ｍｗ＝１１１００、Ｍｎ＝６１００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８２であった。これを重合体（Ａ−５）溶液とする。
【０２３５】
＜［Ｂ］量子ドット（［Ｂ］成分）＞
本実施例で用いた量子ドットを次に示す。
量子ドットＡ：ＩｎＰ／ＺｎＳコアシェル型量子ドット
量子ドットＢ：ＩｎＣｕＳ２／ＺｎＳコアシェル型量子ドット
量子ドットＣ：Ｓｉ量子ドット
【０２３６】
そして、下記実施例で用いた量子ドットＡ：ＩｎＰ／ＺｎＳコアシェル型量子ドット、量子ドットＢ：ＩｎＣｕＳ２／ＺｎＳコアシェル型量子ドット、量子ドットＣ：Ｓｉ量子ドットは、一般的に知られている方法で合成することができる。
【０２３７】
例えば、量子ドットＡ：ＩｎＰ／ＺｎＳコアシェル型量子ドットに関しては技術文献「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ．  ２００７，  １２９，  １５４３２−１５４３３」に、量子ドットＢ：ＩｎＣｕＳ２／ＺｎＳコアシェル型量子ドットに関しては技術文献「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ．  ２００９，  １３１，  ５６９１−５６９７」および技術文献「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ．  ２００９，  ２１，  ２４２２−２４２９」に、量子ドットＣ：Ｓｉ量子ドットに関しては技術文献「Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ．  ２０１０，  １３２，  ２４８−２５３」に記載されている方法を参照して合成することができる。
【０２３８】
以上の［Ａ］重合体（［Ａ］成分）および［Ｂ］量子ドットを用い、さらに、［Ｃ］重合開始剤（［Ｃ］成分）、［Ｄ］重合性不飽和化合物（［Ｄ］成分）を用いて、実施例の硬化性樹脂組成物を調製した。次いで、それらを用いて実施例の硬化膜を形成し、硬化膜の評価を行った。
【０２３９】
実施例１
［硬化性樹脂組成物（β−I）の調製］
重合体（Ａ−１）溶液９０質量部にメチルシクロヘキサン４０質量部を加えて溶解させた後、量子ドットＡを１０質量部混合して均一な溶液を作製し、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦジャパン社製  イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１）１０質量部、１，９−ノナンジオールジアクリレート７０質量部を混合し、硬化性樹脂組成物（β−Ｉ）を調製した。
【０２４０】
実施例２
［硬化性樹脂組成物（β−ＩＩ）の調製］
重合体（Ａ−２）溶液９０質量部にエチルシクロヘキサン４０質量部を加えて溶解させた後、量子ドットＢを１０質量部混合して均一な溶液を作製し、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦジャパン社製  イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１）１０質量部、１，１０−デカンジオールジアクリレート６０質量部を混合し、硬化性樹脂組成物（β−ＩＩ）を調製した。
【０２４１】
実施例３
［硬化性樹脂組成物（β−ＩＩＩ）の調製］
重合体（Ａ−３）溶液９０質量部にｐ−メンタン４０質量部を加えて溶解させた後、量子ドットＣを１０質量部混合して均一な溶液を作製し、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルフォリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン社製  イルガキュア（登録商標）３７９）１０質量部、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート３０質量部を混合し、硬化性樹脂組成物（β−ＩＩＩ）を調製した。
【０２４２】
実施例４
［硬化性樹脂組成物（β−ＩＶ）の調製］
重合体（Ａ−４）溶液９０質量部にピナン４０質量部を加えて溶解させた後、量子ドットＡを１０質量部混合して均一な溶液を作製し、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（ＢＡＳＦジャパン社製  イルガキュア（登録商標）８１９）１０質量部、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト５質量部、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート３０質量部を混合し、硬化性樹脂組成物（β−ＩＶ）を調製した。
【０２４３】
実施例５
［硬化性樹脂組成物（β−Ｖ）の調製］
重合体（Ａ−５）溶液９０質量部にメチルシクロヘキサン４０質量部を加えて溶解させた後、量子ドットＡを１０質量部混合して均一な溶液を作製し、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン社製  イルガキュア（登録商標）６５１）２５質量部、トリスノニルフェニルホスファイト２質量部、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート３０質量部を混合し、硬化性樹脂組成物（β−Ｖ）を調製した。
【０２４４】
実施例６
［硬化性樹脂組成物（β−ＶＩ）の調製］
重合体（Ａ−５）溶液９０質量部にメチルシクロヘキサン４０質量部を加えて溶解させた後、量子ドットＡを１０質量部混合して均一な溶液を作製し、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦジャパン社製  イルガキュア（登録商標）１８４）２５質量部、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート３０質量部、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］２質量部を混合し、硬化性樹脂組成物（β−ＶＩ）を調製した。
【０２４５】
実施例７
［硬化性樹脂組成物（β−Ｉ）を用いた硬化膜の形成］
無アルカリガラス基板上に、実施例１で調製した硬化性樹脂組成物（β−Ｉ）をスピンナにより塗布した後、８０℃のホットプレート上で２分間プレベークすることにより塗膜を形成した。
【０２４６】
次に、所定のパターンを備えたフォトマスクを介し、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量７００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行いた。次いで、０．０４質量％の水酸化カリウム水溶液にて２３℃、６０秒間現像を行った。
次に、得られたパターンに、高圧水銀ランプを用いて露光量１００００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、所定の形状にパターニングされた硬化膜を形成した。
【０２４７】
次に、パターニングされた硬化膜の端部分を光学顕微鏡で観察し、現像残渣がなく、パターンの直線部分が直線状に形成されている場合にパターニング性良好と判断した。
その結果、硬化性樹脂組成物（β−Ｉ）を用い、パターニングして形成された硬化膜のパターニング性は良好であった。
【０２４８】
実施例８
［硬化性樹脂組成物（β−ＩＩ）を用いた硬化膜の形成］
無アルカリガラス基板上に、実施例２で調製した硬化性樹脂組成物（β−ＩＩ）をスピンナにより塗布した後、８０℃のホットプレート上で２分間プレベークすることにより塗膜を形成した。
【０２４９】
次に、所定のパターンを備えたフォトマスクを介し、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量１０００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、０．０４質量％の水酸化カリウム水溶液にて２３℃、６０秒間現像を行った。
次に、得られたパターンに、高圧水銀ランプを用いて露光量１００００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、所定の形状にパターニングされた硬化膜を形成した。
【０２５０】
次に、パターニングされた硬化膜の端部分を光学顕微鏡で観察し、現像残渣がなく、パターンの直線部分が直線状に形成されている場合にパターニング性良好と判断した。
その結果、硬化性樹脂組成物（β−ＩＩ）を用い、パターニングして形成された硬化膜のパターニング性は良好であった。
【０２５１】
実施例９
［硬化性樹脂組成物（β−ＩＩＩ）を用いた硬化膜の形成］
無アルカリガラス基板上に、実施例３で調製した硬化性樹脂組成物（β−ＩＩＩ）をスピンナにより塗布した後、８０℃のホットプレート上で２分間プレベークすることにより塗膜を形成した。
【０２５２】
次に、所定のパターンを備えたフォトマスクを介し、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量８００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、０．０４質量％の水酸化カリウム水溶液にて２３℃、６０秒間現像を行った。
次に、得られたパターンに、高圧水銀ランプを用いて露光量１００００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、所定の形状にパターニングされた硬化膜を形成した。
【０２５３】
次に、パターニングされた硬化膜の端部分を光学顕微鏡で観察し、現像残渣がなく、パターンの直線部分が直線状に形成されている場合にパターニング性良好と判断した。
その結果、硬化性樹脂組成物（β−ＩＩＩ）を用い、パターニングして形成された硬化膜のパターニング性は良好であった。
【０２５４】
実施例１０
［硬化性樹脂組成物（β−ＩＶ）を用いた硬化膜の形成］
無アルカリガラス基板上に、実施例３で調製した硬化性樹脂組成物（β−ＩＶ）をスピンナにより塗布した後、８０℃のホットプレート上で２分間プレベークすることにより塗膜を形成した。
【０２５５】
次に、所定のパターンを備えたフォトマスクを介し、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量８００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、０．０４質量％の水酸化カリウム水溶液にて２３℃、６０秒間現像を行った。
次に、得られたパターンに、高圧水銀ランプを用いて露光量１００００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、所定の形状にパターニングされた硬化膜を形成した。
【０２５６】
次に、パターニングされた硬化膜の端部分を光学顕微鏡で観察し、現像残渣がなく、パターンの直線部分が直線状に形成されている場合にパターニング性良好と判断した。
その結果、硬化性樹脂組成物（β−ＩＶ）を用い、パターニングして形成された硬化膜のパターニング性は良好であった。
【０２５７】
実施例１１
［硬化性樹脂組成物（β−Ｖ）を用いた硬化膜の形成］
無アルカリガラス基板上に、実施例３で調製した硬化性樹脂組成物（β−Ｖ）をスピンナにより塗布した後、８０℃のホットプレート上で２分間プレベークすることにより塗膜を形成した。
【０２５８】
次に、所定のパターンを備えたフォトマスクを介し、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量８００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、０．０４質量％の水酸化カリウム水溶液にて２３℃、６０秒間現像を行った。
次に、得られたパターンに、高圧水銀ランプを用いて露光量１００００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、所定の形状にパターニングされた硬化膜を形成した。
【０２５９】
次に、パターニングされた硬化膜の端部分を光学顕微鏡で観察し、現像残渣がなく、パターンの直線部分が直線状に形成されている場合にパターニング性良好と判断した。
その結果、硬化性樹脂組成物（β−Ｖ）を用い、パターニングして形成された硬化膜のパターニング性は良好であった。
【０２６０】
実施例１２
［硬化性樹脂組成物（β−ＶＩ）を用いた硬化膜の形成］
無アルカリガラス基板上に、実施例３で調製した硬化性樹脂組成物（β−ＶＩ）をスピンナにより塗布した後、８０℃のホットプレート上で２分間プレベークすることにより塗膜を形成した。
【０２６１】
次に、所定のパターンを備えたフォトマスクを介し、得られた塗膜に高圧水銀ランプを用いて露光量８００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、０．０４質量％の水酸化カリウム水溶液にて２３℃、６０秒間現像を行った。
次に、得られたパターンに、高圧水銀ランプを用いて露光量１００００Ｊ／ｍ２として放射線照射を行い、所定の形状にパターニングされた硬化膜を形成した。
【０２６２】
次に、パターニングされた硬化膜の端部分を光学顕微鏡で観察し、現像残渣がなく、パターンの直線部分が直線状に形成されている場合にパターニング性良好と判断した。
その結果、硬化性樹脂組成物（β−ＶＩ）を用い、パターニングして形成された硬化膜のパターニング性は良好であった。
【０２６３】
実施例１３
［硬化収縮性の評価］
実施例７の形成方法による硬化膜について、さらに１００００Ｊ／ｍ２の露光処理を行い、この露光前後での膜厚を触針式膜厚測定機（アルファステップＩＱ、ＫＬＡテンコール社）で測定した。そして、残膜率（処理後膜厚／処理前膜厚×１００）を算出し、この残膜率を硬化収縮性とした。残膜率は９９％であり、硬化収縮性は良好と判断した。
【０２６４】
同様に実施例８の形成方法による硬化膜について、さらに１００００Ｊ／ｍ２の露光処理を行い、この露光前後での膜厚を触針式膜厚測定機（アルファステップＩＱ、ＫＬＡテンコール社）で測定した。そして、残膜率（処理後膜厚／処理前膜厚×１００）を算出し、この残膜率を硬化収縮性とした。残膜率は９９％であり、硬化収縮性は良好と判断した。
【０２６５】
同様に実施例９の形成方法による硬化膜について、さらに１００００Ｊ／ｍ２の露光処理を行い、この露光前後での膜厚を触針式膜厚測定機（アルファステップＩＱ、ＫＬＡテンコール社）で測定した。そして、残膜率（処理後膜厚／処理前膜厚×１００）を算出し、この残膜率を硬化収縮性とした。残膜率は９９％であり、硬化収縮性は良好と判断した。
【０２６６】
同様に実施例１０の形成方法による硬化膜について、さらに１００００Ｊ／ｍ２の露光処理を行い、この露光前後での膜厚を触針式膜厚測定機（アルファステップＩＱ、ＫＬＡテンコール社）で測定した。そして、残膜率（処理後膜厚／処理前膜厚×１００）を算出し、この残膜率を硬化収縮性とした。残膜率は９９％であり、硬化収縮性は良好と判断した。
【０２６７】
同様に実施例１１の形成方法による硬化膜について、さらに１００００Ｊ／ｍ２の露光処理を行い、この露光前後での膜厚を触針式膜厚測定機（アルファステップＩＱ、ＫＬＡテンコール社）で測定した。そして、残膜率（処理後膜厚／処理前膜厚×１００）を算出し、この残膜率を硬化収縮性とした。残膜率は９９％であり、硬化収縮性は良好と判断した。
【０２６８】
同様に実施例１２の形成方法による硬化膜について、さらに１００００Ｊ／ｍ２の露光処理を行い、この露光前後での膜厚を触針式膜厚測定機（アルファステップＩＱ、ＫＬＡテンコール社）で測定した。そして、残膜率（処理後膜厚／処理前膜厚×１００）を算出し、この残膜率を硬化収縮性とした。残膜率は９９％であり、硬化収縮性は良好と判断した。
【０２６９】
実施例１４
［耐光性の評価］
実施例７の形成方法による硬化膜について、さらに、ＵＶ照射装置（ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＪＳ０１、ウシオ社）を用いて、１３０ｍＷの照度で８０００００Ｊ／ｍ２の紫外光を照射して、照射後の膜減り量を調べた。膜減り量は２％以下であり、耐光性は良好と判断した。
【０２７０】
同様に、実施例８の形成方法による硬化膜について、さらに、ＵＶ照射装置（ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＪＳ０１、ウシオ社）を用いて、１３０ｍＷの照度で８０００００Ｊ／ｍ２の紫外光を照射して、照射後の膜減り量を調べた。膜減り量は２％以下であり、耐光性は良好と判断した。
【０２７１】
同様に、実施例９の形成方法による硬化膜について、さらに、ＵＶ照射装置（ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＪＳ０１、ウシオ社）を用いて、１３０ｍＷの照度で８０００００Ｊ／ｍ２の紫外光を照射して、照射後の膜減り量を調べた。膜減り量は２％以下であり、耐光性は良好と判断した。
【０２７２】
同様に、実施例１０の形成方法による硬化膜について、さらに、ＵＶ照射装置（ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＪＳ０１、ウシオ社）を用いて、１３０ｍＷの照度で８０００００Ｊ／ｍ２の紫外光を照射して、照射後の膜減り量を調べた。膜減り量は２％以下であり、耐光性は良好と判断した。
【０２７３】
同様に、実施例１１の形成方法による硬化膜について、さらに、ＵＶ照射装置（ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＪＳ０１、ウシオ社）を用いて、１３０ｍＷの照度で８０００００Ｊ／ｍ２の紫外光を照射して、照射後の膜減り量を調べた。膜減り量は２％以下であり、耐光性は良好と判断した。
【０２７４】
同様に、実施例１２の形成方法による硬化膜について、さらに、ＵＶ照射装置（ＵＶＸ−０２５１６Ｓ１ＪＳ０１、ウシオ社）を用いて、１３０ｍＷの照度で８０００００Ｊ／ｍ２の紫外光を照射して、照射後の膜減り量を調べた。膜減り量は２％以下であり、耐光性は良好と判断した。
【０２７５】
実施例１５
［蛍光特性の評価］
実施例７の形成方法による硬化膜について、さらに、絶対ＰＬ量子収率測定装置（Ｃ１１３４７−０１、浜松ホトニクス社）を用いて、２５℃における蛍光量子収率を調べた。蛍光量子収率は３８％であり、蛍光特性は良好と判断した。
【０２７６】
同様に、実施例８の形成方法による硬化膜について、さらに、絶対ＰＬ量子収率測定装置（Ｃ１１３４７−０１、浜松ホトニクス社）を用いて、２５℃における蛍光量子収率を調べた。蛍光量子収率は３４％であり、蛍光特性は良好と判断した。
【０２７７】
同様に、実施例９の形成方法による硬化膜について、さらに、絶対ＰＬ量子収率測定装置（Ｃ１１３４７−０１、浜松ホトニクス社）を用いて、２５℃における蛍光量子収率を調べた。蛍光量子収率は３０％であり、蛍光特性は良好と判断した。
【０２７８】
同様に、実施例１０の形成方法による硬化膜について、さらに、絶対ＰＬ量子収率測定装置（Ｃ１１３４７−０１、浜松ホトニクス社）を用いて、２５℃における蛍光量子収率を調べた。蛍光量子収率は４３％であり、蛍光特性は良好と判断した。
【０２７９】
同様に、実施例１１の形成方法による硬化膜について、さらに、絶対ＰＬ量子収率測定装置（Ｃ１１３４７−０１、浜松ホトニクス社）を用いて、２５℃における蛍光量子収率を調べた。蛍光量子収率は４７％であり、蛍光特性は良好と判断した。
【０２８０】
同様に、実施例１２の形成方法による硬化膜について、さらに、絶対ＰＬ量子収率測定装置（Ｃ１１３４７−０１、浜松ホトニクス社）を用いて、２５℃における蛍光量子収率を調べた。蛍光量子収率は４５％であり、蛍光特性は良好と判断した。
【産業上の利用可能性】
【０２８１】
本発明の硬化性樹脂組成物を用いて形成された硬化膜は、耐光性等の信頼性に優れ、また、パターニングも容易であり、波長変換層または波長変換フィルムとして、表示素子やそれを用いた電子機器の他、ＬＥＤおよび太陽電池の分野でも利用することができる。
【符号の説明】
【０２８２】
１、１ａ    塗膜
２、１２、１６    基板
３    フォトマスク
４、４ａ    放射線
５    硬化膜
１１    波長変換基板
１３、１３ａ、１３ｂ、１３ｃ    発光層
１４    ブラックマトリクス
１５    接着剤層
１７、１７ａ、１７ｂ、１７ｃ    光源
１８    光源基板
１００    発光表示素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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