(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出装置であって、
前記ワークに液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワークを載置するワークステージと、
前記ワークステージを介して、前記液滴吐出ヘッドに対し前記ワークを主走査方向に移動させるワーク移動機構と、
前記液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、
前記液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける吐出検査ユニットと、
前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを搭載すると共に、前記ワークステージと同一軌道上において前記主走査方向に前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを移動させるユニット移動機構と、
前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する吐出検査用撮像部と、
前記ワークに吐出された液滴による描画状態を撮像する描画検査用撮像部と、
前記ユニット移動機構、前記吐出検査用撮像部、及び前記液滴吐出ヘッドの動作を制御する制御部と、を有し、
前記ワークステージ、前記フラッシングユニット、及び前記吐出検査ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、
前記吐出検査用撮像部と前記描画検査用撮像部は、前記液滴吐出ヘッドを挟んで前記主走査方向に配置され、且つ、前記吐出検査用撮像部は前記フラッシングユニット側に配置され、前記描画検査用撮像部は前記ワークステージ側に配置され、
前記制御部は、前記吐出検査ユニットを前記吐出検査用撮像部の下方に移動させると共に、前記フラッシングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させた後、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを前記吐出検査用撮像部で撮像すると同時に、前記フラッシングユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行うように、前記ユニット移動機構、前記吐出検査用撮像部、及び前記液滴吐出ヘッドを制御することを特徴とする、液滴吐出装置。
【請求項２】
前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピングユニットと、
前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引する吸引ユニットと、をさらに有し、
前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、前記ユニット移動機構に搭載され、
前記フラッシングユニット、前記ワイピングユニット、前記吐出検査ユニット、及び前記吸引ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置されていることを特徴とする、請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記液滴吐出ヘッドを複数備えたキャリッジが、前記主走査方向に直交する副走査方向に複数設けられ、
前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、それぞれ前記キャリッジの数に合わせて、前記副走査方向に分割して設けられ、
前記キャリッジと前記分割されたワイピングユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、
前記キャリッジと前記分割された吸引ユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成されていることを特徴とする、請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記ユニット移動機構は、当該ユニット移動機構に搭載されたユニットを昇降させることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記機能液は、有機ＥＬ層に用いられる有機材料であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
液滴吐出装置を用いて、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出方法であって、
前記液滴吐出装置は、
前記ワークに液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワークを載置するワークステージと、
前記ワークステージを介して、前記液滴吐出ヘッドに対し前記ワークを主走査方向に移動させるワーク移動機構と、
前記液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、
前記液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける吐出検査ユニットと、
前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを搭載すると共に、前記ワークステージと同一軌道上において前記主走査方向に前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを移動させるユニット移動機構と、
前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する吐出検査用撮像部と、
前記ワークに吐出された液滴による描画状態を撮像する描画検査用撮像部と、を有し、
前記ワークステージ、前記フラッシングユニット、及び前記吐出検査ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、
前記吐出検査用撮像部と前記描画検査用撮像部は、前記液滴吐出ヘッドを挟んで前記主走査方向に配置され、且つ、前記吐出検査用撮像部は前記フラッシングユニット側に配置され、前記描画検査用撮像部は前記ワークステージ側に配置され、
前記液滴吐出方法は、
前記ワーク移動機構によって前記ワークを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該ワークに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して描画する第１の工程と、
その後、前記ユニット移動機構によって前記吐出検査ユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該吐出検査ユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を検査吐出する第２の工程と、
その後、前記ユニット移動機構によって前記吐出検査ユニットを前記吐出検査用撮像部の下方に移動させると共に、前記フラッシングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させた後、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを前記吐出検査用撮像部で撮像すると同時に、前記フラッシングユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行う第３の工程と、を有することを特徴とする、液滴吐出方法。
【請求項７】
前記液滴吐出装置は、
前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピングユニットと、
前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引する吸引ユニットと、をさらに有し、
前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、前記ユニット移動機構に搭載され、
前記フラッシングユニット、前記ワイピングユニット、前記吐出検査ユニット、及び前記吸引ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、
前記液滴吐出ヘッドをメンテナンスする際には、
前記ユニット移動機構によって前記吸引ユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該吸引ユニットによって前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引した後、
前記ユニット移動機構によって前記ワイピングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該ワイピングユニットによって前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭することを特徴とする、請求項６に記載の液滴吐出方法。
【請求項８】
前記液滴吐出ヘッドを複数備えたキャリッジが、前記主走査方向に直交する副走査方向に複数設けられ、
前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、それぞれ前記キャリッジの数に合わせて、前記副走査方向に分割して設けられ、
前記キャリッジと前記分割されたワイピングユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、
前記キャリッジと前記分割された吸引ユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、
前記ワイピングユニットによる払拭処理と前記吸引ユニットによる吸引処理は、前記キャリッジ毎に個別に行われることを特徴とする、請求項７に記載の液滴吐出方法。
【請求項９】
前記ユニット移動機構によって、当該ユニット移動機構に搭載されたユニットの高さを調整することを特徴とする、請求項６〜８のいずれか一項に記載の液滴吐出方法。
【請求項１０】
前記機能液は、有機ＥＬ層に用いられる有機材料であることを特徴とする、請求項６〜９のいずれか一項に記載の液滴吐出方法。
【請求項１１】
請求項６〜１０のいずれか一項に記載の液滴吐出方法を液滴吐出装置によって実行させるように、当該液滴吐出装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出装置、当該液滴吐出装置を用いた液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、機能液を使用してワークに描画を行う装置として、当該機能液を液滴にして吐出するインクジェット方式の液滴吐出装置が知られている。液滴吐出装置は、例えば有機ＥＬ装置、カラーフィルタ、液晶表示装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）等の電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）を製造する際など、広く用いられている。
【０００３】
例えば特許文献１には、機能液の液滴を吐出する機能液滴吐出ヘッドと、ワークを搭載するワークステージと、機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、機能液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける検査シートと、検査シートに検査吐出された着弾ドットを画像認識する認識カメラと、を備えた液滴吐出装置が開示されている。検査シートとフラッシングユニットは、ワークステージの移動軸上（主走査方向）において、当該ワークステージ側からこの順で設けられている。また、認識カメラは、機能液滴吐出ヘッドを挟んで主走査方向に一対に設けられている。
【０００４】
また、例えば特許文献２には、機能液の液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、基板を搬送する搬送テーブルと、液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシング回収台と、液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける被検出紙が配置された検査台と、被検出紙に吐出された液滴を撮像する描画検査カメラ装置と、被吐出媒体上の描画状態を検査する描画観測カメラ装置と、を備えたパターン形成装置（液滴吐出装置）が開示されている。検査台とフラッシング回収台は、搬送テーブルの移動軸上（主走査方向）において、当該搬送テーブル側からこの順で設けられている。また、描画検査カメラ装置と描画観測カメラ装置は、液滴吐出ヘッドを挟んで主走査方向に設けられ、且つ、描画検査カメラ装置は検査台側に配置され、描画観測カメラ装置は搬送テーブル側に設けられている。
【０００５】
また、例えば特許文献３には、ワークを主走査方向に移動させながら機能液滴吐出ヘッドを駆動してワークに描画を行なう描画エリアと、当該描画エリアからワークの移動方向に外れて配置され、機能液滴吐出ヘッドの吐出検査を行う検査エリアと、を備えた液滴吐出装置が開示されている。描画エリアには、上記機能液滴吐出ヘッドが設けられている。描画エリアと検査エリアの間には、機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットが主走査方向に移動自在に設けられている。検査エリアには、機能液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける検査シートを搭載したシートユニットと、検査シートへの検査吐出結果を画像認識する画像認識手段と、が設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−１９８０２８号公報
【特許文献２】特開２００９−９５７２５号公報
【特許文献３】特開２０１１−８８１０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１に記載された液滴吐出装置では、ワークに液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して描画した後、機能液滴吐出ヘッドの吐出性能の検査と、機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出とが行われる。そして、例えば機能液滴吐出ヘッドに対し検査シート側に設けられた認識カメラを用いる場合、先ず、検査シートを認識カメラの下方に移動させて、当該認識カメラを用いて、検査シートに検査吐出された着弾ドットを画像認識する。その後、フラッシングユニットを機能液滴吐出ヘッドの下方に移動させて、当該フラッシングユニットに対して機能液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行う。すなわち、機能液滴吐出ヘッドの吐出性能の検査と機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を同時に行うことができず、液滴吐出装置における処理時間が長くなり効率が悪い。
【０００８】
また、特許文献２に記載された液滴吐出装置においても、被検出紙を描画検査カメラ装置に移動させ、当該描画検査カメラ装置を用いて被検出紙に吐出された液滴を撮像した後、フラッシング回収台を液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該フラッシング回収台に対して液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行う必要がある。すなわち、上記した特許文献１と同様に、液滴吐出ヘッドの吐出性能の検査と液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を同時に行うことができず、液滴吐出装置における処理時間が長くなり効率が悪い。
【０００９】
さらに、特許文献３に記載された液滴吐出装置では、検査エリアが描画エリアとは別に設けられているので、例えば描画エリアにおいて機能液滴吐出ヘッドからワークへの描画と検査シートへの検査吐出とを行う場合に比べて、液滴吐出装置の占有面積が大きくなる。
【００１０】
以上のように、液滴吐出装置（パターン形成装置）のレイアウトには改善の余地がある。
【００１１】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、液滴吐出装置における処理効率を向上させつつ、当該液滴吐出装置の占有面積を小さくすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記の目的を達成するため、本発明は、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出装置であって、前記ワークに液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、前記ワークを載置するワークステージと、前記ワークステージを介して、前記液滴吐出ヘッドに対し前記ワークを主走査方向に移動させるワーク移動機構と、前記液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、前記液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける吐出検査ユニットと、前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを搭載すると共に、前記ワークステージと同一軌道上において前記主走査方向に前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを移動させるユニット移動機構と、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する吐出検査用撮像部と、前記ワークに吐出された液滴による描画状態を撮像する描画検査用撮像部と、前記ユニット移動機構、前記吐出検査用撮像部、及び前記液滴吐出ヘッドの動作を制御する制御部と、を有し、前記ワークステージ、前記フラッシングユニット、及び前記吐出検査ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、前記吐出検査用撮像部と前記描画検査用撮像部は、前記液滴吐出ヘッドを挟んで前記主走査方向に配置され、且つ、前記吐出検査用撮像部は前記フラッシングユニット側に配置され、前記描画検査用撮像部は前記ワークステージ側に配置され、前記制御部は、前記吐出検査ユニットを前記吐出検査用撮像部の下方に移動させると共に、前記フラッシングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させた後、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを前記吐出検査用撮像部で撮像すると同時に、前記フラッシングユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行うように、前記ユニット移動機構、前記吐出検査用撮像部、及び前記液滴吐出ヘッドを制御することを特徴としている。
【００１３】
本発明によれば、先ず、ワーク移動機構によってワークを液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該ワークに対して液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して描画する（第１の工程）。その後、ユニット移動機構によって吐出検査ユニットを液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該吐出検査ユニットに対して液滴吐出ヘッドから液滴を検査吐出する（第２の工程）。その後、ユニット移動機構によって吐出検査ユニットを吐出検査用撮像部の下方に移動させると共に、フラッシングユニットを液滴吐出ヘッドの下方に移動させた後、吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを吐出検査用撮像部で撮像すると共に、フラッシングユニットに対して液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行う（第３の工程）。かかる場合、第３の工程において、液滴吐出ヘッドの吐出性能の検査と液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を同時に行うことができる。したがって、液滴吐出装置における処理時間を短縮することができ、処理効率を向上させることができる。
【００１４】
しかも、第１の工程〜第３の工程は、液滴吐出装置において液滴吐出ヘッドが設けられた同一のエリアで行われるため、液滴吐出装置の占有面積を小さくすることができる。
【００１５】
前記液滴吐出装置は、前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピングユニットと、前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引する吸引ユニットと、をさらに有し、前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、前記ユニット移動機構に搭載され、前記フラッシングユニット、前記ワイピングユニット、前記吐出検査ユニット、及び前記吸引ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置されていてもよい。
【００１６】
前記液滴吐出ヘッドを複数備えたキャリッジが、前記主走査方向に直交する副走査方向に複数設けられ、前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、それぞれ前記キャリッジの数に合わせて、前記副走査方向に分割して設けられ、前記キャリッジと前記分割されたワイピングユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、前記キャリッジと前記分割された吸引ユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成されていてもよい。
【００１７】
前記ユニット移動機構は、当該ユニット移動機構に搭載されたユニットを昇降させてもよい。
【００１８】
前記機能液は、有機ＥＬ層に用いられる有機材料であってもよい。
【００１９】
別な観点による本発明は、液滴吐出装置を用いて、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出方法であって、前記液滴吐出装置は、前記ワークに液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、前記ワークを載置するワークステージと、前記ワークステージを介して、前記液滴吐出ヘッドに対し前記ワークを主走査方向に移動させるワーク移動機構と、前記液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、前記液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける吐出検査ユニットと、前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを搭載すると共に、前記ワークステージと同一軌道上において前記主走査方向に前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを移動させるユニット移動機構と、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する吐出検査用撮像部と、前記ワークに吐出された液滴による描画状態を撮像する描画検査用撮像部と、を有し、前記ワークステージ、前記フラッシングユニット、及び前記吐出検査ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、前記吐出検査用撮像部と前記描画検査用撮像部は、前記液滴吐出ヘッドを挟んで前記主走査方向に配置され、且つ、前記吐出検査用撮像部は前記フラッシングユニット側に配置され、前記描画検査用撮像部は前記ワークステージ側に配置され、前記液滴吐出方法は、前記ワーク移動機構によって前記ワークを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該ワークに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して描画する第１の工程と、その後、前記ユニット移動機構によって前記吐出検査ユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該吐出検査ユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を検査吐出する第２の工程と、その後、前記ユニット移動機構によって前記吐出検査ユニットを前記吐出検査用撮像部の下方に移動させると共に、前記フラッシングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させた後、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを前記吐出検査用撮像部で撮像すると同時に、前記フラッシングユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行う第３の工程と、を有することを特徴としている。
【００２０】
前記液滴吐出装置は、前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピングユニットと、前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引する吸引ユニットと、をさらに有し、前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、前記ユニット移動機構に搭載され、前記フラッシングユニット、前記ワイピングユニット、前記吐出検査ユニット、及び前記吸引ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、前記液滴吐出ヘッドをメンテナンスする際には、前記ユニット移動機構によって前記吸引ユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該吸引ユニットによって前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引した後、前記ユニット移動機構によって前記ワイピングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該ワイピングユニットによって前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭してもよい。
【００２１】
前記液滴吐出ヘッドを複数備えたキャリッジが、前記主走査方向に直交する副走査方向に複数設けられ、前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、それぞれ前記キャリッジの数に合わせて、前記副走査方向に分割して設けられ、前記キャリッジと前記分割されたワイピングユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、前記キャリッジと前記分割された吸引ユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、前記ワイピングユニットによる払拭処理と前記吸引ユニットによる吸引処理は、前記キャリッジ毎に個別に行われてもよい。
【００２２】
前記ユニット移動機構によって、当該ユニット移動機構に搭載されたユニットの高さを調整してもよい。
【００２３】
前記機能液は、有機ＥＬ層に用いられる有機材料であってもよい。
【００２４】
また別な観点による本発明によれば、前記液滴吐出方法を液滴吐出装置によって実行させるように、当該液滴吐出装置のコンピュータ上で動作するプログラムが提供される。
【００２５】
さらに別な観点による本発明によれば、前記プログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、液滴吐出装置における処理効率を向上させつつ、当該液滴吐出装置の占有面積を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】第１の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。
【図２】第１の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式平面図である。
【図３】第１の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。
【図４】第１の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。
【図５】第１の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。
【図６】従来の液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。
【図７】従来の液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。
【図８】従来の液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。
【図９】第２の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。
【図１０】第２の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式平面図である。
【図１１】第２の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。
【図１２】第２の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。
【図１３】従来の液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。
【図１４】他の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。
【図１５】液滴検査装置を備えた基板処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図１６】有機発光ダイオードの構成の概略を示す側面図である。
【図１７】有機発光ダイオードの隔壁の構成の概略を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下に示す実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
【００２９】
＜１．第１の実施の形態＞
先ず、本発明の第１の実施の形態に係る液滴吐出装置の構成について、図１及び図２を参照して説明する。図１は、液滴吐出装置１の構成の概略を示す模式側面図である。図２は、液滴吐出装置１の構成の概略を示す模式平面図である。なお、以下においては、ワークＷの主走査方向をＸ軸方向、主走査方向に直交する副走査方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する鉛直方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向回りの回動方向をθ方向とする。
【００３０】
液滴吐出装置１は、主走査方向（Ｘ軸方向）に延在して、ワークＷを主走査方向に移動させるＸ軸テーブル１０と、Ｘ軸テーブル１０を跨ぐように架け渡され、副走査方向（Ｙ軸方向）に延在する一対のＹ軸テーブル１１、１１とを有している。Ｘ軸テーブル１０の上面には、一対のＸ軸ガイドレール１２、１２がＸ軸向に延伸して設けられ、各Ｘ軸ガイドレール１２には、Ｘ軸リニアモータ（図示せず）が設けられている。各Ｙ軸テーブル１１の上面には、Ｙ軸ガイドレール１３がＹ軸方向に延伸して設けられ、当該Ｙ軸ガイドレール１３には、Ｙ軸リニアモータ（図示せず）が設けられている。
【００３１】
一対のＹ軸テーブル１１、１１には、キャリッジユニット２０と撮像ユニット３０が設けられている。Ｘ軸テーブル１０上には、ワークステージ４０と、フラッシングユニット５０と、吐出検査ユニット６０とが設けられている。ワークステージ４０、フラッシングユニット５０、及び吐出検査ユニット６０は、Ｘ軸方向にこの順で配置されている。Ｘ軸テーブル１０の外側（Ｙ軸負方向側）であって、一対のＹ軸テーブル１１、１１の間には、メンテナンスユニット８０が設けられている。以下、各ユニットについて詳述する。
【００３２】
キャリッジユニット２０は、Ｙ軸テーブル１１において、複数、例えば１０個設けられている。各キャリッジユニット２０は、キャリッジプレート２１と、キャリッジ回動機構２２と、キャリッジ２３と、液滴吐出ヘッド２４とを有している。
【００３３】
キャリッジプレート２１は、Ｙ軸ガイドレール１３に取り付けられ、当該Ｙ軸ガイドレール１３に設けられたＹ軸リニアモータによってＹ軸方向に移動自在になっている。なお、複数のキャリッジプレート２１を一体としてＹ軸方向に移動させることも可能である。
【００３４】
キャリッジプレート２１の下面の中央には、キャリッジ回動機構２２が設けられ、当該キャリッジ回動機構２２の下端部にキャリッジ２３が着脱自在に取り付けられている。キャリッジ２３は、キャリッジ回動機構２２によってθ方向に回動自在になっている。なお、ワークステージ４０には、キャリッジ２３を撮像するキャリッジアライメントカメラ（図示せず）が設けられている。そして、キャリッジアライメントカメラで撮像された画像に基づいて、キャリッジ回動機構２２により、キャリッジ２３のθ方向の位置が補正される。
【００３５】
キャリッジ２３の下面には、複数の液滴吐出ヘッド２４がＸ軸方向に並べて設けられている。本実施の形態では、例えばＸ軸方向に３個、Ｙ軸方向に２個、すなわち合計６個の液滴吐出ヘッド２４が設けられている。液滴吐出ヘッド２４の下面、すなわちノズル面には複数の吐出ノズル（図示せず）が形成され、当該吐出ノズルから機能液の液滴が吐出されるようになっている。
【００３６】
撮像ユニット３０は、吐出検査用撮像部としての吐出検査カメラ３１と、描画検査用撮像部としての描画検査カメラ３２を有している。吐出検査カメラ３１と描画検査カメラ３２は、キャリッジ２３（液滴吐出ヘッド２４）を挟んでＸ軸方向に対向して設けられている。吐出検査カメラ３１は、キャリッジ２３に対してＸ軸正方向側、すなわちフラッシングユニット５０側に配置されている。描画検査カメラ３２は、キャリッジ２３に対してＸ軸負方向側、すなわちワークステージ４０側に配置されている。
【００３７】
吐出検査カメラ３１は、吐出検査ユニット６０の後述する検査シート６２に検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する。吐出検査カメラ３１は、一対のＹ軸テーブル１１、１１のうち、Ｘ軸正方向側のＹ軸テーブル１１の側面に設けられたベース３３に支持されている。ベース３３には吐出検査カメラ３１を移動させる移動機構（図示せず）が設けられ、吐出検査カメラ３１はＹ軸方向に移動自在になっている。そして、吐出検査カメラ３１のＹ軸方向に移動する軌跡の直下に、吐出検査ユニット６０が案内された際、吐出検査カメラ３１は、Ｙ軸方向に移動することにより、吐出検査ユニット６０に配置された検査シート６２に着弾された液滴を撮影することができる。
【００３８】
描画検査カメラ３２は、ワークＷに吐出された液滴による描画状態を撮像する。描画検査カメラ３２は、一対のＹ軸テーブル１１、１１のうち、Ｘ軸負方向側のＹ軸テーブル１１の側面に設けられたベース３４に支持されている。ベース３４には描画検査カメラ３２を移動させる移動機構（図示せず）が設けられ、描画検査カメラ３２はＹ軸方向に移動自在になっている。そして、吐出検査カメラ３１のＹ軸方向に移動する軌跡の直下に、ワークステージ４０が案内された際、描画検査カメラ３２は、Ｙ軸方向に移動することにより、ワークステージ４０上のワークＷに吐出された液滴によるパターン等の描画状態を撮像する。
【００３９】
ワークステージ４０は、例えば真空吸着ステージであり、ワークＷを吸着して載置する。ワークステージ４０は、当該ワークステージ４０の下面側に設けられたステージ回動機構４１によって、θ方向に回動自在に支持されている。なお、Ｙ軸テーブル１１のＸ軸負方向側であって、ワークステージ４０の上方には、ワークステージ４０上のワークＷのアライメントマークを撮像するワークアライメントカメラ（図示せず）が設けられている。そして、ワークアライメントカメラで撮像された画像に基づいて、ステージ回動機構４１により、ワークステージ４０に載置されたワークＷのθ方向の位置が補正される。
【００４０】
ワークステージ４０とステージ回動機構４１は、ステージ回動機構４１の下面側に設けられた第１のＸ軸スライダ４２に支持されている。第１のＸ軸スライダ４２は、Ｘ軸ガイドレール１２に取り付けられ、当該Ｘ軸ガイドレール１２に設けられたＸ軸リニアモータによってＸ軸方向に移動自在になっている。そして、ワークステージ４０（ワークＷ）も、第１のＸ軸スライダ４２によってＸ軸ガイドレール１２に沿ってＸ軸方向に移動自在になっている。なお、本実施の形態では、第１のＸ軸スライダ４２とＸ軸ガイドレール１２（Ｘ軸リニアモータ）が、本発明におけるワーク移動機構を構成している。
【００４１】
フラッシングユニット５０は、液滴吐出ヘッド２４からの捨て吐出を受けるユニットである。フラッシングユニット５０には、複数、例えば１０個のフラッシング回収台５１がＹ軸方向に並べて設けられている。このフラッシング回収台５１の数は、キャリッジ２３の数と同じである。
【００４２】
フラッシング回収台５１は、その上面が開口し、フラッシング回収台５１が対応するキャリッジ２３の直下に案内された際に、キャリッジ２３の液滴吐出ヘッド２４から液滴が吐出され（フラッシングされ）、その液滴を受け止めて収容するようになっている。すなわち、ワークＷに液滴で描画する前にフラッシング動作され、そのフラッシングに基づく液滴をフラッシング回収台５１で回収する。
【００４３】
吐出検査ユニット６０は、液滴吐出ヘッド２４からの検査吐出を受けるユニットである。吐出検査ユニット６０には、Ｙ軸方向に延伸する検査台６１が設けられている。検査台６１の上面には、表面にフィルムコーティングが施された検査シート６２が配置されている。検査台６１に配置された検査シート６２は、検査台６１が液滴吐出ヘッド２４の直下に案内された際に、液滴吐出ヘッド２４から吐出された液滴が着弾されるようになっている。
【００４４】
フラッシングユニット５０と吐出検査ユニット６０は、第２のＸ軸スライダ７０に搭載されている。第２のＸ軸スライダ７０は、Ｘ軸ガイドレール１２に取り付けられ、当該Ｘ軸ガイドレール１２に設けられたＸ軸リニアモータによってＸ軸方向に移動自在になっている。そして、フラッシングユニット５０と吐出検査ユニット６０も、第２のＸ軸スライダ７０によってＸ軸ガイドレール１２に沿ってＸ軸方向に移動自在になっている。なお、本実施の形態では、第２のＸ軸スライダ７０とＸ軸ガイドレール１２（Ｘ軸リニアモータ）が、本発明におけるユニット移動機構を構成している。
【００４５】
メンテナンスユニット８０は、液滴吐出ヘッド２４のメンテナンスを行い、当該液滴吐出ヘッド２４の吐出不良を解消する。メンテナンスユニット８０は、ワイピングユニット９０と、吸引ユニット１００とを有している。ワイピングユニット９０と吸引ユニット１００は、Ｘ軸テーブル１０側からこの順でＹ軸方向に並べて配置されている。また、ワイピングユニット９０と吸引ユニット１００は、キャリッジ２３の下方に位置するように配置されている。
【００４６】
ワイピングユニット９０は、液滴吐出ヘッド２４において複数の吐出ノズルが形成されたノズル面を払拭するユニットである。ワイピングユニット９０は、払拭ローラ９１を有している。そして、キャリッジ２３がワイピングユニット９０の上方に案内された際に、払拭ローラ９１がキャリッジ２３の液滴吐出ヘッド２４のノズル面と接触して、当該ノズル面を払拭する。
【００４７】
吸引ユニット１００は、液滴吐出ヘッド２４から機能液を吸引するユニットである。吸引ユニット１００には、複数、例えば１０個の分割吸引ユニット１０１がＹ軸方向に並べて設けられている。この分割吸引ユニット１０１の数は、キャリッジ２３の数と同じである。各分割吸引ユニット１０１は、対応するキャリッジ２３の液滴吐出ヘッド２４を吸引して、当該液滴吐出ヘッド２４の吐出ノズルから機能液を強制的に排出させる。また、各分割吸引ユニット１０１は、液滴吐出装置１が休止状態であるとき、液滴吐出ヘッド２４のノズル面と密着して機能液の乾燥を抑制する。
【００４８】
以上の液滴吐出装置１には、制御部１５０が設けられている。制御部１５０は、例えばコンピュータであり、データ格納部（図示せず）を有している。データ格納部には、例えばワークＷに吐出される液滴を制御し、当該ワークＷに所定のパターンを描画するための描画データ（ビットマップデータ）などが格納されている。また、制御部１５０は、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、液滴吐出装置１における各種処理を制御するプログラムや、駆動系の動作を制御するプログラムなどが格納されている。
【００４９】
なお、前記データや前記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルデスク（ＭＯ）、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御部１５０にインストールされたものであってもよい。
【００５０】
次に、以上のように構成された液滴吐出装置１を用いて行われるワーク処理について説明する。以下の説明では、Ｘ軸テーブル１０上において、Ｙ軸テーブル１１よりＸ軸負方向側のエリアを搬入出エリアＡ１といい、一対のＹ軸テーブル１１、１１間のエリアを処理エリアＡ２といい、Ｙ軸テーブル１１よりＸ軸正方向側のエリアを待機エリアＡ３という。また、Ｘ軸テーブル１０のＹ軸負方向側であって、一対のＹ軸テーブル１１、１１間のエリアをメンテナンスエリアＡ４という。
【００５１】
先ず、搬入出エリアＡ１にワークステージ４０を配置し、搬送機構（図示せず）により液滴吐出装置１に搬入されたワークＷが当該ワークステージ４０に載置される。続いて、ワークアライメントカメラによってワークステージ４０上のワークＷのアライメントマークが撮像される。そして、当該撮像された画像に基づいて、ステージ回動機構４１により、ワークステージ４０に載置されたワークＷのθ方向の位置が補正され、ワークＷのアライメントが行われる（ステップＳ１）。
【００５２】
その後、第１のＸ軸スライダ４２によって、ワークステージ４０を搬入出エリアＡ１から処理エリアＡ２に移動させる。処理エリアＡ２では、液滴吐出ヘッド２４の下方に移動したワークＷに対して、当該液滴吐出ヘッド２４から液滴を吐出する。さらに、図３に示すようにワークＷの全面が液滴吐出ヘッド２４の下方を通過するように、ワークステージ４０をさらに待機エリアＡ３側に移動させる。そして、ワークＷをＸ軸方向に往復動させると共に、キャリッジユニット２０を適宜、Ｙ軸方向に移動させて、ワークＷに所定のパターンが描画される（ステップＳ２）。
【００５３】
その後、図４に示すようにワークステージ４０を待機エリアＡ３から搬入出エリアＡ１に移動させる。このワークステージ４０の移動中、描画検査カメラ３２を適宜、Ｙ軸方向に移動させて、当該描画検査カメラ３２によりワークステージ４０上のワークＷの全面、すなわちワークＷに吐出された液滴によるパターンの描画状態を撮像する。撮像された画像は制御部１５０に出力され、制御部１５０では、撮像された画像に基づいて、描画状態の不良、例えば膜ムラ等が検査される。この検査結果において、描画状態が不良と判定された場合、例えば液滴吐出ヘッド２４からの液滴の吐出などがフィードバック制御される（ステップＳ３）。
【００５４】
ワークステージ４０が搬入出エリアＡ１に移動すると、描画処理が終了したワークＷが液滴吐出装置１から搬出される。続いて、次のワークＷが液滴吐出装置１に搬入され、上述したステップＳ１のワークＷのアライメントが行われる（ステップＳ４）。
【００５５】
このようにステップＳ３における描画状態の検査とステップＳ４におけるワークＷの搬入出が行われている間、図４に示すようにワークステージ４０の移動と共に、第２のＸ軸スライダ７０によって、フラッシングユニット５０と吐出検査ユニット６０を待機エリアＡ３から処理エリアＡ２に移動させる。処理エリアＡ２では、吐出検査ユニット６０の検査シート６２を液滴吐出ヘッド２４の下方に配置し、当該検査シート６２に対して液滴吐出ヘッド２４から液滴を検査吐出する（ステップＳ５）。
【００５６】
その後、図５に示すようにフラッシングユニット５０と吐出検査ユニット６０をＸ軸正方向側に移動させて、吐出検査ユニット６０の検査シート６２を吐出検査カメラ３１の下方に配置すると共に、フラッシングユニット５０のフラッシング回収台５１を液滴吐出ヘッド２４の下方に配置する。
【００５７】
そして、吐出検査カメラ３１を適宜、Ｙ軸方向に移動させて、当該吐出検査カメラ３１により検査シート６２に検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する。撮像された画像は制御部１５０に出力され、制御部１５０では、撮像された画像に基づき、液滴吐出ヘッド２４における吐出ノズルの吐出不良が検査される。この検査結果において、例えば液滴のノズル抜けと飛行曲がりの吐出不良と判定された場合、メンテナンスユニット８０によって液滴吐出ヘッド２４のメンテナンスを行われ、具体的には吸引ユニット１００による吸引処理とワイピングユニット９０による払拭処理が行われる。また、例えば液滴の着弾ドットの径や位置が不良と判定された場合、ビットマップデータが補正され、液滴吐出ヘッド２４からの液滴の吐出がフィードバック制御される。
【００５８】
また、このように吐出検査カメラ３１よる撮像処理と制御部１５０による吐出不良検査が行われている際に、フラッシング回収台５１に対して液滴吐出ヘッド２４から液滴の捨て吐出が行われる（ステップＳ６）。
【００５９】
以上のように各ワークＷに対してステップＳ１〜Ｓ６が行われ、一連のワーク処理が終了する。
【００６０】
また、このようなステップＳ１〜Ｓ６のワークＷの通常処理に加えて、適宜、メンテナンスユニット８０による液滴吐出ヘッド２４のメンテナンスが行われる。
【００６１】
液滴吐出ヘッド２４のメンテナンスを行う際には、キャリッジユニット２０を処理エリアＡ２からメンテナンスエリアＡ４に移動させる。メンテナンスエリアＡ４では、先ず、各液滴吐出ヘッド２４を吸引ユニット１００の分割吸引ユニット１０１の上方にそれぞれ配置し、分割吸引ユニット１０１によって液滴吐出ヘッド２４から機能液を吸引する。
【００６２】
その後、キャリッジユニット２０をＹ軸正方向側に移動させて、液滴吐出ヘッド２４をワイピングユニット９０の払拭ローラ９１の上方に配置する。そして、キャリッジユニット２０を移動させながら、払拭ローラ９１を液滴吐出ヘッド２４のノズル面に接触させて、当該ノズル面を払拭する。
【００６３】
その後、吸引ユニット１００による吸引処理とワイピングユニット９０による払拭処理が終了したキャリッジユニット２０は、メンテナンスエリアＡ４から処理エリアＡ２に移動されて、液滴吐出ヘッド２４のメンテナンスが終了する。
【００６４】
以上の第１の実施の形態によれば、ステップＳ５において、検査シート６２に対して液滴吐出ヘッド２４から液滴を検査吐出した後、ステップＳ６において、検査シート６２に検査吐出された液滴の着弾ドットを吐出検査カメラ３１で撮像すると共に、フラッシング回収台５１に対して液滴吐出ヘッド２４から液滴の捨て吐出を行う。すなわち、ステップＳ６において、液滴吐出ヘッド２４の吐出性能の検査と液滴吐出ヘッド２４からの捨て吐出を同時に行うことができるので、液滴吐出装置１における処理時間を短縮することができ、処理効率を向上させることができる。
【００６５】
この点、図６及び図７に示すように、上述した従来の液滴吐出装置５００（例えば特許文献１、２）では、フラッシングユニット５０と吐出検査ユニット６０のＸ軸方向の配置が本実施の形態と反対であり、すなわち吐出検査ユニット６０がフラッシングユニット５０に対してワークステージ４０側（Ｘ軸負方向側）に配置されている。かかる場合、図６に示すように吐出検査カメラ３１で検査シート６２に検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像した後、図７に示すようにフラッシングユニット５０と吐出検査ユニット６０をＸ軸負方向に移動させ、フラッシング回収台５１に対して液滴吐出ヘッド２４から液滴の捨て吐出を行う。すなわち、従来の液滴吐出装置５００では、液滴吐出ヘッド２４の吐出性能の検査と液滴吐出ヘッド２４からの捨て吐出を同時に行うことができない。したがって、本実施の形態の効果を享受できない。
【００６６】
また、液滴吐出ヘッド２４の吐出性能の検査と液滴吐出ヘッド２４からの捨て吐出を同時に行うため、図８に示す液滴吐出装置６００のように、吐出検査カメラ３１と描画検査カメラ３２のＸ軸方向の配置を本実施の形態と反対にすることも考えられる。すなわち、液滴吐出装置６００では、描画検査カメラ３２を吐出検査カメラ３１よりＸ軸正方向側に配置する。しかしながら、かかる場合、ワークステージ４０上のワークＷが描画検査カメラ３２の下方を完全に通過させる必要があるため、当該ワークステージ４０のストロークが本実施の形態より長くなる。したがって、本実施の形態によれば、液滴吐出装置１の占有面積を小さくすることができる。
【００６７】
＜２．第２の実施の形態＞
次に、本発明の第２の実施の形態に係る液滴吐出装置の構成について、図９及び図１０を参照して説明する。なお、上記第１の実施の形態に係る液滴吐出装置１と同じ構成については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
【００６８】
上記第１の実施の形態の液滴吐出装置１では、ワイピングユニット９０と吸引ユニット１００はＸ軸テーブル１０の外側（Ｙ軸負方向側）に設けられていたが、これらワイピングユニット９０と吸引ユニット１００は、フラッシングユニット５０と吐出検査ユニット６０と共にＸ軸テーブル１０上に配置され、第２のＸ軸スライダ７０に搭載される。具体的には、第２のＸ軸スライダ７０上において、フラッシングユニット５０、ワイピングユニット９０、吐出検査ユニット６０、及び吸引ユニット１００は、ワークステージ４０側からＸ軸方向にこの順で配置されている。
【００６９】
ワイピングユニット９０には、複数、例えば１０個の払拭ローラ９１がＹ軸方向に並べて設けられている。この払拭ローラ９１の数は、キャリッジ２３の数と同じである。なお、ワイピングユニット９０において１個の払拭ローラ９１を設け、当該払拭ローラ９１をＹ軸方向に移動自在に構成してもよい。本第２の実施の形態では、上記第１の実施の形態のようにキャリッジユニット２０をワイピングユニット９０に対してＹ軸方向に移動させることができないため、払拭ローラ９１を複数設ける、あるいは払拭ローラ９１を移動自在に構成する。
【００７０】
かかる場合、液滴吐出ヘッド２４のメンテナンスを行う際には、先ず、図１１に示すように第２のＸ軸スライダ７０によって、吸引ユニット１００を液滴吐出ヘッド２４の下方に移動させる。そして、吸引ユニット１００の分割吸引ユニット１０１によって液滴吐出ヘッド２４から機能液を吸引する。
【００７１】
その後、図１２に示すようにワイピングユニット９０を液滴吐出ヘッド２４の下方に移動させる。そして、ワイピングユニット９０の払拭ローラ９１を液滴吐出ヘッド２４のノズル面に接触させて、当該ノズル面を払拭する。
【００７２】
以上の第２の実施の形態においても、上記第１の実施の形態と同様の効果を享受できる。加えて、液滴吐出装置１において、上記第１の実施の形態のメンテナンスエリアＡ４を省略できるので、当該液滴吐出装置１の占有面積をさらに小さくすることができる。
【００７３】
ここで、上述した特許文献１には、図１３に示す液滴吐出装置７００において、ワイピングユニット９０と吸引ユニット１００をＸ軸テーブル１０上に設けることが開示されている。しかしながら、Ｘ軸テーブル１０上において、吐出検査ユニット６０、吸引ユニット１００、フラッシングユニット５０、及びワイピングユニット９０は、ワークステージ４０側からＸ軸方向にこの順で配置されている。すなわち、図６及び図７に示した液滴吐出装置５００と同様に、フラッシングユニット５０と吐出検査ユニット６０の配置が、本実施の形態と反対である。そうすると、上述した問題と同様に、液滴吐出ヘッド２４の吐出性能の検査と液滴吐出ヘッド２４からの捨て吐出を同時に行うことができず、本実施の形態の効果を享受できない。
【００７４】
また、かかる場合でも、図８に示した液滴吐出装置６００と同様に、吐出検査カメラ３１と描画検査カメラ３２のＸ軸方向の配置を本実施の形態と反対にすることが考えられるが、上述した問題と同様に、ワークステージ４０のストロークが本実施の形態より長くなる。
【００７５】
＜３．その他の実施の形態＞
以上の第２の実施の形態の液滴吐出装置１では、その専有面積を小さくした分、キャリッジ２３を交換する際のスペースを確保するのが困難となる場合がある。そこで、図１４に示すように吸引ユニット１００を用いてキャリッジ２３を交換してもよい。具体的には、使用済みのキャリッジ２３を載置した吸引ユニット１００を処理エリアＡ２から待機エリアＡ３まで移動させ、待機エリアＡ３において、使用済みのキャリッジ２３を使用前のキャリッジ２３と交換する。そして、使用前のキャリッジ２３を載置した吸引ユニット１００を待機エリアＡ３から処理エリアＡ２まで移動させ、使用前のキャリッジ２３をキャリッジ回動機構２２に取り付ける。こうしてキャリッジ２３を適切に交換することができる。
【００７６】
しかも、図１３に示した従来の液滴吐出装置７００では、第２のＸ軸スライダ７０上において、吸引ユニット１００がフラッシングユニット５０及びワイピングユニット９０のＸ軸負方向側に配置されているのに対し、本実施の形態では、吸引ユニット１００は最もＸ軸正方向側に配置されている。そうすると、吸引ユニット１００が処理エリアＡ２と待機エリアＡ３（キャリッジ２３の交換位置）との間で移動する際の、第２のＸ軸スライダ７０のストロークは本実施の形態の方が短くなる。したがって、本実施の形態によれば、液滴吐出装置１の占有面積をさらに小さくすることができる。
【００７７】
なお、かかる場合、吸引ユニット１００上のキャリッジ２３が他の部材と干渉するのを回避するため、第２のＸ軸スライダ７０は昇降機構（図示せず）によって昇降自在に構成されていてもよい。
【００７８】
以上の第２の実施の形態の液滴吐出装置１では、吸引ユニット１００には複数の分割吸引ユニット１０１が設けられ、ワイピングユニット９０には複数の払拭ローラ９１が設けられており、すなわち吸引ユニット１００とワイピングユニット９０は、それぞれキャリッジ２３の数に合わせて分割されている。これら複数の分割吸引ユニット１０１と複数の払拭ローラ９１は、それぞれ個別にＸ軸方向に移動自在に構成されていてもよい。かかる場合、分割吸引ユニット１０１による液滴吐出ヘッド２４の吸引処理と、払拭ローラ９１による液滴吐出ヘッド２４の払拭処理とが個別に行われる。そうすると、例えば一のキャリッジ２３における液滴吐出ヘッド２４の吸引処理が終了して、他のキャリッジ２３における液滴吐出ヘッド２４の吸引処理が終了していない場合でも、当該他のキャリッジ２３に対する吸引処理を待つ必要がなく、一のキャリッジ２３に対する払拭処理を別途行うことができる。したがって、液滴吐出装置１における処理効率をさらに向上させることができる。
【００７９】
なお、かかる場合、複数のキャリッジ２３が個別にＸ軸方向に移動自在に構成されていてもよく、あるいは複数の払拭ローラ９１、複数の分割吸引ユニット１０１、及び複数のキャリッジ２３がそれぞれ個別にＸ軸方向に移動自在に構成されていてもよい。
【００８０】
＜４．液滴吐出装置の適用例＞
次に、以上のように構成された液滴吐出装置１の適用例について説明する。図１５は、液滴吐出装置１を備えた基板処理システム２００の構成の概略を示す説明図である。基板処理システム２００では、有機発光ダイオードの有機ＥＬ層が形成される。
【００８１】
先ず、有機発光ダイオードの構成の概略及びその製造方法について説明する。図１６は、有機発光ダイオード３００の構成の概略を示す側面図である。図１６に示すように有機発光ダイオード３００は、ワークＷとしてのガラス基板Ｇ上で、陽極（アノード）３１０及び陰極（カソード）３２０の間に有機ＥＬ層３３０を挟んだ構造を有している。有機ＥＬ層３３０は、陽極３１０側から順に、正孔注入層３３１、正孔輸送層３３２、発光層３３３、電子輸送層３３４及び電子注入層３３５が積層されて形成されている。
【００８２】
有機発光ダイオード３００を製造するに際しては、先ず、ガラス基板Ｇ上に陽極３１０が形成される。陽極３１０は、たとえば蒸着法を用いて形成される。なお、陽極３１０には、たとえばＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）からなる透明電極が用いられる。
【００８３】
その後、陽極３１０上に、図１７に示すように隔壁３４０が形成される。隔壁３４０は、例えばフォトリソグラフィー処理やエッチング処理等を行うことによって所定のパターンにパターニングされる。そして隔壁３４０には、スリット状の開口部３４１が行方向（Ｘ軸方向）と列方向（Ｙ軸方向）に複数並べて形成されている。この開口部３４１の内部において、後述するように有機ＥＬ層３３０と陰極３２０が積層されて画素が形成される。なお、隔壁３４０には、例えば感光性ポリイミド樹脂が用いられる。
【００８４】
その後、隔壁３４０の開口部３４１内において、陽極３１０上に有機ＥＬ層３３０が形成される。具体的には、陽極３１０上に正孔注入層３３１が形成され、正孔注入層３３１上に正孔輸送層３３２が形成され、正孔輸送層３３２上に発光層３３３が形成され、発光層３３３上に電子輸送層３３４が形成され、電子輸送層３３４上に電子注入層３３５が形成される。
【００８５】
本実施の形態では、正孔注入層３３１、正孔輸送層３３２及び発光層３３３は、それぞれ基板処理システム２００において形成される。すなわち、基板処理システム２００では、インクジェット方式による有機材料の塗布処理、有機材料の減圧乾燥処理、有機材料の焼成処理が順次行われて、これら正孔注入層３３１、正孔輸送層３３２及び発光層３３３が形成される。
【００８６】
また電子輸送層３３４と電子注入層３３５は、それぞれ例えば蒸着法を用いて形成される。
【００８７】
その後、電子注入層３３５上に陰極３２０が形成される。陰極３２０は、例えば蒸着法を用いて形成される。なお、陰極３２０には、例えばアルミニウムが用いられる。
【００８８】
このようにして製造された有機発光ダイオード３００では、陽極３１０と陰極３２０との間に電圧を印可することによって、正孔注入層３３１で注入された所定数量の正孔が正孔輸送層３３２を介して発光層３３３に輸送され、また電子注入層３３５で注入された所定数量の電子が電子輸送層３３４を介して発光層３３３に輸送される。そして、発光層３３３内で正孔と電子が再結合して励起状態の分子を形成し、当該発光層３３３が発光する。
【００８９】
次に、図１５に示した基板処理システム２００について説明する。なお、基板処理システム２００で処理されるガラス基板Ｇ上には予め陽極３１０と隔壁３４０が形成されており、当該基板処理システム２００では正孔注入層３３１、正孔輸送層３３２及び発光層３３３が形成される。
【００９０】
基板処理システム２００は、複数のガラス基板Ｇをカセット単位で外部から基板処理システム２００に搬入し、カセットＣから処理前のガラス基板Ｇを取り出す搬入ステーション２０１と、ガラス基板Ｇに対して所定の処理を施す複数の処理装置を備えた処理ステーション２０２と、処理後のガラス基板ＧをカセットＣ内に収納し、複数のガラス基板Ｇをカセット単位で基板処理システム２００から外部に搬出する搬出ステーション２０３とを一体に接続した構成を有している。搬入ステーション２０１、処理ステーション２０２、搬出ステーション２０３は、Ｘ軸方向にこの順で並べて配置されている。
【００９１】
搬入ステーション２０１には、カセット載置台２１０が設けられている。カセット載置台２１０は、複数のカセットＣをＹ軸方向に一列に載置自在になっている。すなわち、搬入ステーション２０１は、複数のガラス基板Ｇを保有可能に構成されている。
【００９２】
搬入ステーション２０１には、Ｙ軸方向に延伸する搬送路２１１上を移動可能な基板搬送体２１２が設けられている。基板搬送体２１２は、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、カセットＣと処理ステーション２０２との間でガラス基板Ｇを搬送できる。なお、基板搬送体２１２は、例えばガラス基板Ｇを吸着保持して搬送する。
【００９３】
処理ステーション２０２には、正孔注入層３３１を形成する正孔注入層形成部２２０と、正孔輸送層３３２を形成する正孔輸送層形成部２２１と、発光層３３３を形成する発光層形成部２２２とが、搬入ステーション２０１側からＸ軸方向にこの順で並べて配置されている。
【００９４】
正孔注入層形成部２２０には、第１の基板搬送領域２３０と、第２の基板搬送領域２３１と、第３の基板搬送領域２３２とが、搬入ステーション２０１側からＸ軸方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域２３０、２３１、２３２はＸ軸方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域２３０、２３１、２３２にはガラス基板Ｇを搬送する基板搬送装置（図示せず）が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域２３０、２３１、２３２に隣接して設けられる各装置にガラス基板Ｇを搬送できる。
【００９５】
搬入ステーション２０１と第１の基板搬送領域２３０との間には、ガラス基板Ｇを受け渡すためのトランジション装置２３３が設けられている。同様に第１の基板搬送領域２３０と第２の基板搬送領域２３１との間、及び第２の基板搬送領域２３１と第３の基板搬送領域２３２との間にも、それぞれトランジション装置２３４、２３５が設けられている。
【００９６】
第１の基板搬送領域２３０のＹ軸方向正方向側には、ガラス基板Ｇ（陽極３１０）上に正孔注入層３３１を形成するための有機材料を塗布する塗布装置２４０が設けられている。塗布装置２４０は、液滴吐出装置１と同様の構成を有し、塗布装置２４０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ上の所定の位置、すなわち隔壁３４０の開口部３４１の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、正孔注入層３３１を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。
【００９７】
第１の基板搬送領域２３０のＹ軸方向負方向側には、複数のガラス基板Ｇを一時的に収容するバッファ装置２４１が設けられている。
【００９８】
第２の基板搬送領域２３１のＹ軸方向正方向側とＹ軸方向負方向側には、塗布装置２４０で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置２４２が複数積層されて、全部で例えば５つ設けられている。減圧乾燥装置２４２は、例えばターボ分子ポンプ（図示せず）を有し、当該ターボ分子ポンプによって内部雰囲気を例えば１Ｐａ以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。
【００９９】
第３の基板搬送領域２３２のＹ軸方向正方向側には、減圧乾燥装置２４２で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置２４３が複数、例えば２０段に積層されて設けられている。熱処理装置２４３は、その内部にガラス基板Ｇを載置する熱板（図示せず）を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。
【０１００】
第３の基板搬送領域２３２のＹ軸方向負方向側には、熱処理装置２４３で熱処理されたガラス基板Ｇを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置２４４が複数設けられている。
【０１０１】
なお、正孔注入層形成部２２０において、これら塗布装置２４０、バッファ装置２４１、減圧乾燥装置２４２、熱処理装置２４３及び温度調節装置２４４の数や配置は、任意に選択できる。
【０１０２】
正孔輸送層形成部２２１には、第１の基板搬送領域２５０と、第２の基板搬送領域２５１と、第３の基板搬送領域２５２とが、正孔注入層形成部２２０側からＸ軸方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域２５０、２５１、２５２はＸ軸方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域２５０、２５１、２５２には、ガラス基板Ｇを搬送する基板搬送装置（図示せず）が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域２５０、２５１、２５２に隣接して設けられる各装置にガラス基板Ｇを搬送できる。
【０１０３】
なお、第３の基板搬送領域２５２には後述する熱処理装置２６３及び温度調節装置２６４が隣接されて設けられており、これら各装置２６３、２６４の内部は低酸素且つ低露点雰囲気に維持される。このため、第３の基板搬送領域２５２においても、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。以下の説明において、低酸素雰囲気とは大気よりも酸素濃度が低い雰囲気、例えば酸素濃度が１０ｐｐｍ以下の雰囲気をいい、また低露点雰囲気とは大気よりも露点温度が低い雰囲気、例えば露点温度が−１０℃以下の雰囲気をいう。そして、かかる低酸素且つ低露点雰囲気として、例えば窒素ガス等の不活性ガスが用いられる。
【０１０４】
正孔注入層形成部２２０と第１の基板搬送領域２５０との間、及び第１の基板搬送領域２５０と第２の基板搬送領域２５１との間には、それぞれガラス基板Ｇを受け渡すためのトランジション装置２５３、２５４が設けられている。第２の基板搬送領域２５１と第３の基板搬送領域２５２の間には、ガラス基板Ｇを一時的に収容可能なロードロック装置２５５が設けられている。ロードロック装置２５５は、内部雰囲気を切り替え可能、すなわち大気雰囲気と低酸素且つ低露点雰囲気に切り替え可能に構成されている。
【０１０５】
第１の基板搬送領域２５０のＹ軸方向正方向側には、ガラス基板Ｇ（正孔注入層３３１）上に正孔輸送層３３２を形成するための有機材料を塗布する、液滴吐出装置としての塗布装置２６０が設けられている。塗布装置２６０は、液滴吐出装置１と同様の構成を有し、塗布装置２６０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ上の所定の位置、すなわち隔壁３４０の開口部３４１の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、正孔輸送層３３２を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。
【０１０６】
第１の基板搬送領域２５０のＹ軸方向負方向側には、複数のガラス基板Ｇを一時的に収容するバッファ装置２６１が設けられている。
【０１０７】
第２の基板搬送領域２５１のＹ軸方向正方向側とＹ軸方向負方向側には、塗布装置２６０で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置２６２が複数積層されて、全部で例えば５つ設けられている。減圧乾燥装置２６２は、例えばターボ分子ポンプ（図示せず）を有し、その内部雰囲気を例えば１Ｐａ以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。
【０１０８】
第３の基板搬送領域２５２のＹ軸方向正方向側には、減圧乾燥装置２６２で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置２６３が複数、例えば２０段に積層されて設けられている。熱処理装置２６３は、その内部にガラス基板Ｇを載置する熱板（図示せず）を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。また、熱処理装置２６３の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
【０１０９】
第３の基板搬送領域２５２のＹ軸方向負方向側には、熱処理装置２６３で熱処理されたガラス基板Ｇを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置２６４が複数設けられている。温度調節装置２６４の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
【０１１０】
なお、正孔輸送層形成部２２１において、これら塗布装置２６０、バッファ装置２６１、減圧乾燥装置２６２、熱処理装置２６３及び温度調節装置２６４の数や配置は、任意に選択できる。
【０１１１】
発光層形成部２２２には、第１の基板搬送領域２７０と、第２の基板搬送領域２７１と、第３の基板搬送領域２７２とが、正孔輸送層形成部２２１側からＸ軸方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域２７０、２７１、２７２はＸ軸方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域２７０、２７１、２７２には、ガラス基板Ｇを搬送する基板搬送装置（図示せず）が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域２７０、２７１、２７２に隣接して設けられる各装置にガラス基板Ｇを搬送できる。
【０１１２】
なお、第３の基板搬送領域２７２には後述する熱処理装置２８３及び温度調節装置２８４が隣接されて設けられており、これら各装置２８３、２８４の内部は低酸素且つ低露点雰囲気に維持される。このため、第３の基板搬送領域２７２においても、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
【０１１３】
正孔輸送層形成部２２１と第１の基板搬送領域２７０との間、及び第１の基板搬送領域２７０と第２の基板搬送領域２７１との間には、それぞれガラス基板Ｇを受け渡すためのトランジション装置２７３、２７４が設けられている。第２の基板搬送領域２７１と第３の基板搬送領域２７２の間、及び第３の基板搬送領域２７２と搬出ステーション２０３との間には、それぞれガラス基板Ｇを一時的に収容可能なロードロック装置２７５、２７６が設けられている。ロードロック装置２７５、２７６は、内部雰囲気を切り替え可能、すなわち大気雰囲気と低酸素且つ低露点雰囲気に切り替え可能に構成されている。
【０１１４】
第１の基板搬送領域２７０のＹ軸方向正方向側には、ガラス基板Ｇ（正孔輸送層３３２）上に発光層３３３を形成するための有機材料を塗布する、液滴吐出装置としての塗布装置２８０が例えば２つ設けられている。塗布装置２８０は、液滴吐出装置１と同様の構成を有し、塗布装置２８０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ上の所定の位置、すなわち隔壁３４０の開口部３４１の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、発光層３３３を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。
【０１１５】
第１の基板搬送領域２７０のＹ軸方向負方向側には、複数のガラス基板Ｇを一時的に収容するバッファ装置２８１が設けられている。
【０１１６】
第２の基板搬送領域２７１のＹ軸方向正方向側とＹ軸方向負方向側には、塗布装置２８０で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置２８２が複数積層されて、全部で例えば５つ設けられている。減圧乾燥装置２８２は、例えばターボ分子ポンプ（図示せず）を有し、その内部雰囲気を例えば１Ｐａ以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。
【０１１７】
第３の基板搬送領域２７２のＹ軸方向正方向側には、減圧乾燥装置２８２で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置２８３が複数、例えば２０段に積層されて設けられている。熱処理装置２８３は、その内部にガラス基板Ｇを載置する熱板（図示せず）を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。また、熱処理装置２８３の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
【０１１８】
第３の基板搬送領域２７２のＹ軸方向負方向側には、熱処理装置２８３で熱処理されたガラス基板Ｇを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置２８４が複数設けられている。温度調節装置２８４の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
【０１１９】
なお、発光層形成部２２２において、これら塗布装置２８０、バッファ装置２８１、減圧乾燥装置２８２、熱処理装置２８３及び温度調節装置２８４の数や配置は、任意に選択できる。
【０１２０】
搬出ステーション２０３には、カセット載置台２９０が設けられている。カセット載置台２９０は、複数のカセットＣをＹ軸方向に一列に載置自在になっている。すなわち、搬出ステーション２０３は、複数のガラス基板Ｇを保有可能に構成されている。
【０１２１】
搬出ステーション２０３には、Ｙ軸方向に延伸する搬送路２９１上を移動可能な基板搬送体２９２が設けられている。基板搬送体２９２は、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、カセットＣと処理ステーション２０２との間でガラス基板Ｇを搬送できる。なお、基板搬送体２９２は、例えばガラス基板Ｇを吸着保持して搬送する。
【０１２２】
また、搬出ステーション２０３の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されているのが好ましい。
【０１２３】
以上の基板処理システム２００には、上述した制御部１５０が設けられている。したがって、塗布装置２４０、２６０、２８０は、制御部１５０によって制御される。但し、この制御部１５０のプログラム格納部（図示せず）には、塗布装置２４０、２６０、２８０を制御するためのプログラムに加えて、基板処理システム２００におけるガラス基板Ｇの処理を制御するプログラムも格納されている。
【０１２４】
次に、以上のように構成された基板処理システム２００を用いて行われるガラス基板Ｇの処理方法について説明する。
【０１２５】
先ず、複数のガラス基板Ｇを収容したカセットＣが、搬入ステーション２０１に搬入され、カセット載置台２１０上に載置される。その後、基板搬送体２１２によって、カセット載置台２１０上のカセットＣからガラス基板Ｇが順次取り出される。
【０１２６】
カセットＣから取り出されたガラス基板Ｇは、基板搬送体２１２によって正孔注入層形成部２２０のトランジション装置２３３に搬送され、さらに第１の基板搬送領域２３０を介して塗布装置２４０に搬送される。そして塗布装置２４０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ（陽極３１０）上の所定の位置、すなわち隔壁３４０の開口部３４１の内部に、正孔注入層３３１用の有機材料が塗布される。この塗布装置２４０における処理は、上述したステップＳ１〜Ｓ６と同様の処理である。
【０１２７】
一方、塗布装置２４０での塗布処理が終了したガラス基板Ｇは、第１の基板搬送領域２３０を介してトランジション装置２３４に搬送され、さらに第２の基板搬送領域２３１を介して減圧乾燥装置２４２に搬送される。そして減圧乾燥装置２４２では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板Ｇ上に塗布された有機材料が乾燥される。
【０１２８】
次にガラス基板Ｇは、第２の基板搬送領域２３１を介してトランジション装置２３５に搬送され、さらに第３の基板搬送領域２３２を介して熱処理装置２４３に搬送される。そして熱処理装置２４３では、熱板上に載置されたガラス基板Ｇが所定の温度、例えば２８０℃に加熱され、当該ガラス基板Ｇの有機材料が焼成される。
【０１２９】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２３２を介して温度調節装置２４４に搬送される。そして温度調節装置２４４では、ガラス基板Ｇが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板Ｇ（陽極３１０）上に正孔注入層３３１が形成される。
【０１３０】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２３２を介して正孔輸送層形成部２２１のトランジション装置２５３に搬送され、さらに第１の基板搬送領域２５０を介して塗布装置２６０に搬送される。そして塗布装置２６０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ（正孔注入層３３１）上に、正孔輸送層３３２用の有機材料が塗布される。この塗布装置２６０における処理は、上述したステップＳ１〜Ｓ６と同様の処理である。
【０１３１】
次にガラス基板Ｇは、第１の基板搬送領域２５０を介してトランジション装置２５４に搬送され、さらに第２の基板搬送領域２５１を介して減圧乾燥装置２６２に搬送される。そして減圧乾燥装置２６２では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板Ｇ上に塗布された有機材料が乾燥される。
【０１３２】
次にガラス基板Ｇは、第２の基板搬送領域２５１を介してロードロック装置２５５に搬送される。ロードロック装置２５５にガラス基板Ｇが搬入されると、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に切り替えられる。その後、ロードロック装置２５５の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された第３の基板搬送領域２５２の内部とが連通させられる。
【０１３３】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２５２を介して熱処理装置２６３に搬送される。この熱処理装置２６３の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして熱処理装置２６３では、熱板上に載置されたガラス基板Ｇが所定の温度、例えば２００℃に加熱され、当該ガラス基板Ｇの有機材料が焼成される。
【０１３４】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２５２を介して温度調節装置２６４に搬送される。この温度調節装置２６４の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして温度調節装置２６４では、ガラス基板Ｇが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板Ｇ（正孔注入層３３１）上に正孔輸送層３３２が形成される。
【０１３５】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２５２を介して発光層形成部２２２のトランジション装置２７３に搬送され、さらに第１の基板搬送領域２７０を介して塗布装置２８０に搬送される。そして塗布装置２８０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ（正孔輸送層３３２）上に、発光層３３３用の有機材料が塗布される。この塗布装置２８０における処理は、上述したステップＳ１〜Ｓ６と同様の処理である。
【０１３６】
次にガラス基板Ｇは、第１の基板搬送領域２７０を介してトランジション装置２７４に搬送され、さらに第２の基板搬送領域２７１を介して減圧乾燥装置２８２に搬送される。そして減圧乾燥装置２８２では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板Ｇ上に塗布された有機材料が乾燥される。
【０１３７】
次にガラス基板Ｇは、第２の基板搬送領域２７１を介してロードロック装置２７５に搬送される。ロードロック装置２７５にガラス基板Ｇが搬入されると、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に切り替えられる。その後、ロードロック装置２７５の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された第３の基板搬送領域２７２の内部とが連通させられる。
【０１３８】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２７２を介して熱処理装置２８３に搬送される。この熱処理装置２８３の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして熱処理装置２８３では、熱板上に載置されたガラス基板Ｇが所定の温度、例えば２６０℃に加熱され、当該ガラス基板Ｇの有機材料が焼成される。
【０１３９】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２７２を介して温度調節装置２８４に搬送される。この温度調節装置２８４の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして温度調節装置２８４では、ガラス基板Ｇが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板Ｇ（正孔輸送層３３２）上に発光層３３３が形成される。
【０１４０】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２７２を介してロードロック装置２７６に搬送される。このロードロック装置２７６の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして、ロードロック装置２７６の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された搬出ステーション２０３の内部とが連通させられる。
【０１４１】
次にガラス基板Ｇは、搬出ステーション２０３の基板搬送体２９２によってカセット載置台２９０上の所定のカセットＣに搬送される。こうして、基板処理システム２００における一連のガラス基板Ｇの処理が終了する。
【０１４２】
以上の実施の形態においても、上述した第１の実施の形態と第２の実施の形態と同様の効果を享受できる。
【０１４３】
なお、以上の実施の形態の基板処理システム２００のレイアウトは、図１５に示したレイアウトに限定されず、任意に設定できる。
【０１４４】
また、以上の実施の形態の基板処理システム２００では、正孔注入層３３１、正孔輸送層３３２及び発光層３３３を形成したが、同様に有機発光ダイオード３００の他の電子輸送層３３４と電子注入層３３５も形成するようにしてもよい。すなわち、電子輸送層３３４と電子注入層３３５に用いられる有機材料に応じて、当該電子輸送層３３４と電子注入層３３５は、それぞれインクジェット方式による有機材料の塗布処理、有機材料の減圧乾燥処理、有機材料の焼成処理を行ってガラス基板Ｇ上に形成される。そして、これら電子輸送層３３４と電子注入層３３５の塗布処理においても、液滴吐出装置１を用いてもよい。
【０１４５】
また、液滴吐出装置１の適用例として、有機発光ダイオード３００の有機ＥＬ層３３０を形成する基板処理システム２００を説明したが、液滴吐出装置１の適用例はこれに限定されない。例えばカラーフィルタ、液晶表示装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）等の電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）を製造する際にも液滴吐出装置１を適用してもよい。また、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成、及び光拡散体形成等を製造する際にも液滴吐出装置１を適用してもよい。
【０１４６】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【０１４７】
１      液滴吐出装置
１０    Ｘ軸テーブル
１１    Ｙ軸テーブル
１２    Ｘ軸ガイドレール
１３    Ｙ軸ガイドレール
２０    キャリッジユニット
２３    キャリッジ
２４    液滴吐出ヘッド
３０    撮像ユニット
３１    吐出検査カメラ
３２    描画検査カメラ
４０    ワークステージ
４２    第１のＸ軸スライダ
５０    フラッシングユニット
５１    フラッシング回収台
６０    吐出検査ユニット
６２    検査シート
７０    第２のＸ軸スライダ
８０    メンテナンスユニット
９０    ワイピングユニット
９１    払拭ローラ
１００  吸引ユニット
１０１  分割吸引ユニット
１５０  制御部
２００  基板処理システム
２４０、２６０、２８０  塗布装置
３００  有機発光ダイオード
３３０  有機ＥＬ層
３３１  正孔注入層
３３２  正孔輸送層
３３３  発光層
３３４  電子輸送層
３３５  電子注入層
Ｇ      ガラス基板
Ｗ      ワーク
【図１】
0006338507.tif 000002
【図２】
0006338507.tif 000003
【図３】
0006338507.tif 000004
【図４】
0006338507.tif 000005
【図５】
0006338507.tif 000006
【図６】
0006338507.tif 000007
【図７】
0006338507.tif 000008
【図８】
0006338507.tif 000009
【図９】
0006338507.tif 000010
【図１０】
0006338507.tif 000011
【図１１】
0006338507.tif 000012
【図１２】
0006338507.tif 000013
【図１３】
0006338507.tif 000014
【図１４】
0006338507.tif 000015
【図１５】
0006338507.tif 000016
【図１６】
0006338507.tif 000017
【図１７】
0006338507.tif 000018