(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材、及び前記透明基材上に位置するコーティング層を含み、
前記コーティング層は、前記透明基材から、ＡｌドーピングされたＺｎ系酸化物を含むシード層、低放射層、ＺｎＳｎ系複合金属窒化物を含むバッファー層、及びＺｎＳｎ系複合金属酸化物を含む誘電体層を順次含む多層構造である低放射透明積層体。
【請求項２】
前記コーティング層は、前記低放射層の両面のうち少なくともいずれか一つに積層された低放射保護金属層を含む、請求項１に記載の低放射透明積層体。
【請求項３】
前記コーティング層は、前記誘電体層を最上部誘電体層として含み、前記透明基材と接する面に最下部誘電体層をさらに含む、請求項１に記載の低放射透明積層体。
【請求項４】
前記低放射層の放射率は０．０１〜０．３である、請求項１に記載の低放射透明積層体。
【請求項５】
前記低放射層は、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｔ、イオンドーピング金属酸化物、及びこれらの組み合わせを含む群から選ばれた少なくとも一つを含む、請求項１に記載の低放射透明積層体。
【請求項６】
前記低放射層の厚さが６ｎｍ〜２５ｎｍである、請求項１に記載の低放射透明積層体。
【請求項７】
前記低放射保護金属層は、可視光線領域の消衰係数が１．５〜３．５である、請求項２に記載の低放射透明積層体。
【請求項８】
前記低放射保護金属層は、Ｎｉ、Ｃｒ、ＮｉとＣｒの合金、Ｔｉおよびこれらの組み合わせを含む群から選ばれた少なくとも一つを含む、請求項２に記載の低放射透明積層体。
【請求項９】
前記低放射保護金属層の厚さが１ｎｍ〜５ｎｍである、請求項２に記載の低放射透明積層体。
【請求項１０】
前記バッファー層は、ＺｎＳｎＮx（ここで、１．５≦ｘ≦２．５である。）で表示される化合物を含む、請求項１に記載の低放射透明積層体。
【請求項１１】
透明基材、及び前記透明基材上に位置するコーティング層を含み、
前記コーティング層は、前記透明基材から低放射層、ＺｎＳｎ系複合金属窒化物を含み厚さが１ｎｍ〜１０ｎｍであるバッファー層、及びＺｎＳｎ系複合金属酸化物を含む誘電体層を順次含む多層構造である低放射透明積層体。
【請求項１２】
透明基材、及び前記透明基材上に位置するコーティング層を含み、
前記コーティング層は、前記透明基材から低放射層、ＺｎＳｎ系複合金属窒化物を含むバッファー層、及びＺｎＳｎ系複合金属酸化物を含み厚さが５ｎｍ〜６０ｎｍである誘電体層を順次含む多層構造である低放射透明積層体。
【請求項１３】
前記透明基材は、９０％〜１００％の可視光線透過率を有する透明基材である、請求項１に記載の低放射透明積層体。
【請求項１４】
前記透明基材は、ガラスまたは透明プラスチック基板である、請求項１に記載の低放射透明積層体。
【請求項１５】
透明基材、及び前記透明基材上に位置するコーティング層を含み、
前記コーティング層は、前記透明基材から低放射層、ＺｎＳｎ系複合金属窒化物を含む第１のバッファー層、及びＺｎＳｎ系複合金属酸化物を含む誘電体層、ＺｎＳｎ系複合金属窒化物を含む第２のバッファー層を順次含む多層構造である低放射透明積層体。
【請求項１６】
請求項１から１５のいずれか１項による低放射透明積層体を含む建築資材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低放射透明積層体及びこれを含む建築資材に関する。
【背景技術】
【０００２】
低放射ガラス（Ｌｏｗ―Ｅｍｉｓｓｉｖｉｔｙ  ｇｌａｓｓ、以下でｌｏｗ−ｅガラスという）は、銀（Ａｇ）のように赤外線領域での反射率が高い金属を含む低放射層が薄膜として蒸着されたガラスをいう。このような低放射ガラスは、夏は太陽輻射熱を反射させ、冬は室内暖房機で発生する赤外線を保存することによって建築物のエネルギー節減効果をもたらす機能性素材である。
【０００３】
一般に、スパッターで蒸着したｌｏｗ―ｅガラスは、ソフトコーティングｌｏｗ―ｅガラスであって、ハードコーティングｌｏｗ―ｅガラスに比べて耐久性（ｅｘ．耐磨耗性、耐酸性）が劣るという問題により、複層断熱ガラスの製作においてコーティング面を外部に露出して使用できないという短所を有し、複層断熱ガラスの製作過程におけるコーティング面の損傷を容易に発生させ得るので、生産工程においても特別な注意が要求されている状況である。また、コーティングガラスの生産後、複層断熱ガラスの製作までの保管期間の制約などが、今後、ソフトコーティングｌｏｗ―ｅガラスにおいて解決しなければならない問題として残っている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の一具現例は、断熱性能及び光学性能を確保すると共に、耐久性が向上し、耐磨耗性及び耐スクラッチ性に優れた低放射透明積層体を提供する。
【０００５】
本発明の他の具現例は、前記低放射透明積層体を含む建築資材を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一具現例において、透明基材、及び前記透明基材上に位置するコーティング層を含み、前記コーティング層は、前記透明基材から低放射層、ＺｎＳｎ系複合金属窒化物を含むバッファー層、及び誘電体層を順次含む多層構造である低放射透明積層体を提供する。
【０００７】
前記コーティング層は、前記低放射層の両面のうち少なくともいずれか一つに積層された低放射保護金属層を含んでもよい。
【０００８】
前記コーティング層は、前記低放射層の前記透明基材側にＡｌドーピングされたＺｎ系酸化物を含むシード（ｓｅｅｄ）層を含んでもよい。
【０００９】
前記コーティング層は、前記誘電体層を最上部誘電体層として含み、前記透明基材と接する面に最下部誘電体層を含んでもよい。
【００１０】
前記低放射層は、放射率が約０．０１〜約０．３であってもよい。
【００１１】
前記低放射層は、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｔ、イオンドーピング金属酸化物、及びこれらの組み合わせを含む群から選ばれた少なくとも一つを含んでもよい。
【００１２】
前記低放射層の厚さは約６ｎｍ〜約２５ｎｍであってもよい。
【００１３】
前記低放射保護金属層は、可視光線領域の消衰係数が約１．５〜約３．５であってもよい。
【００１４】
前記低放射保護金属層は、Ｎｉ、Ｃｒ、ＮｉとＣｒの合金、Ｔｉ及びこれらの組み合わせを含む群から選ばれた少なくとも一つを含んでもよい。
【００１５】
前記低放射保護金属層の厚さは約１ｎｍ〜約５ｎｍであってもよい。
【００１６】
前記バッファー層は、ＺｎＳｎＮx（ここで、約１．５≦ｘ≦２．５である。）で表示される化合物を含んでもよい。
【００１７】
前記バッファー層の厚さは約１ｎｍ〜約１０ｎｍであってもよい。
【００１８】
前記誘電体層の厚さは約５ｎｍ〜約６０ｎｍであってもよい。
【００１９】
前記透明基材は、約９０％〜約１００％の可視光線透過率を有する透明基材であってもよい。
【００２０】
前記透明基材は、ガラスまたは透明プラスチック基板であってもよい。
【００２１】
前記コーティング層は、前記バッファー層を第１のバッファー層として含み、前記誘電体層の上部にＺｎＳｎ系複合金属窒化物を含む第２のバッファー層をさらに含んでもよい。
【００２２】
本発明の他の具現例において、前記低放射透明積層体を含む建築資材を提供する。
【発明の効果】
【００２３】
前記低放射透明積層体は、断熱性能及び光学的特性を確保すると共に、耐磨耗性及び耐スクラッチ性が向上し、ソフトｌｏｗ―ｅガラスの加工性能が向上する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一具現例に係る低放射透明積層体の概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、添付の図面を参考にして、本発明の実施例に対して本発明の属する技術分野で通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は、多様な異なる形態に具現することができ、ここで説明する実施例に限定されるものではない。
【００２６】
本発明を明確に説明するために、説明と関係のない部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似する構成要素に対しては、同一の参照符号を付することにする。
【００２７】
図面において、多くの層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して図示した。そして、図面において、説明の便宜上、一部の層及び領域の厚さを誇張して図示した。
【００２８】
以下では、基材の「上部（または下部）」または基材の「上（または下）」に任意の構成が形成されるとは、任意の構成が前記基材の上面（または下面）に接して形成されることを意味するだけでなく、前記基材と基材上に（または下に）形成された任意の構成との間に他の構成を含まないことに限定するわけではない。
【００２９】
以下、図１を参照して、本発明の一具現例に係る低放射透明積層体１００を説明する。
【００３０】
図１は、本発明の一具現例に係る透明基材１１０及びコーティング層１９０を含む低放射透明積層体１００の断面図である。前記コーティング層１９０は、前記透明基材１１０から、低放射層１４０、ＺｎＳｎ系複合金属窒化物を含むバッファー層１６０、及びＺｎＳｎ系複合金属酸化物を含む誘電体層１７０を順次含む多層構造である。
【００３１】
前記低放射透明積層体１００において、前記バッファー層１６０は、前記低放射層１４０と前記誘電体層１７０との間でバッファー層として作用し、前記誘電体層１７０の耐久性を向上させる。
【００３２】
前記コーティング層１９０は、太陽光のうち選択的に遠赤外線を反射させる低放射層１４０を基盤とする多層薄膜構造であって、放射率を低下させ、前記低放射透明積層体１００にＬｏｗ―ｅ（ｌｏｗ  ｅｍｉｓｓｉｖｉｔｙ）効果による断熱性能を付与する。前記低放射透明積層体１００は、前記のような構造を形成し、夏は太陽輻射熱を反射させ、冬は室内暖房機で発生する赤外線を保存することによって建築物のエネルギー節減効果をもたらす機能性素材である。
【００３３】
「放射率（Ｅｍｉｓｓｉｖｉｔｙ）」とは、物体が任意の特定波長を有するエネルギーを吸収、透過及び反射させる比率を意味する。すなわち、本明細書において、放射率は、赤外線波長領域にある赤外線エネルギーの吸収程度を示すものであって、具体的には、強い熱作用を示す約５μｍ〜約５０μｍの波長領域に該当する遠赤外線が印加されたとき、印加される赤外線エネルギーに対して吸収される赤外線エネルギーの比率を意味する。
【００３４】
キルヒホッフの法則によると、物質に吸収された赤外線エネルギーは、再び放射されて出るエネルギーと同一であるので、吸収率は放射率と同一である。
【００３５】
また、吸収されない赤外線エネルギーは、物質の表面で反射されるので、放射率は、赤外線エネルギー反射が高いほど低い値を有するようになる。これを数値的に示すと、（放射率＝１−赤外線反射率）の関係を有する。
【００３６】
このような放射率は、この分野で通常的に知られている多様な方法を通じて測定されてもよく、特別に制限されることはないが、例えば、ＫＳＬ２５１４規格によってフーリエ変換赤外線分光器（ＦＴ―ＩＲ）などの設備で測定されてもよい。
【００３７】
このような強い熱作用を示す遠赤外線に対する吸収率、すなわち、放射率は、断熱性能の程度を測定するにおいて非常に重要な意味を示すことができる。
【００３８】
前記低放射透明積層体１００は、ガラスなどの透明基材１１０に上述したコーティング層１９０を形成することによって、可視光線領域では所定の透過特性を維持させながら放射率を低下させ、優れた断熱効果を提供できるエネルギー節約型機能性建築資材として使用可能である。
【００３９】
前記低放射層１４０は、低い放射率を有し得る電気伝導性材料、例えば、金属で形成された層であって、すなわち、低い面抵抗を有し、それによって低い放射率を有する。例えば、前記低放射層１４０の放射率は、約０．０１〜約０．３、具体的には約０．０１〜約０．２、より具体的には約０．０１〜約０．１、さらに具体的には約０．０１〜約０．０８であってもよい。前記低放射層１４０が前記範囲の放射率を有する場合、低放射透明積層体１００の断熱効果及び可視光透過率を同時に考慮した場合適切であり得る。前記のような放射率を有する前記低放射層１４０は、薄膜で構成した材料の面抵抗が約０．７８Ω／ｓｑ〜約６．４２Ω／ｓｑであってもよい。
【００４０】
前記低放射層１４０は、太陽輻射線を選択的に透過及び反射させる機能を行う。前記低放射層１４０は、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｐｔ、イオンドーピング金属酸化物及びこれらの組み合わせを含む群から選ばれた少なくとも一つを含んでもよく、これに制限されることはない。前記イオンドーピング金属酸化物は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、フッ素ドーピングされたスズ酸化物（ＦＴＯ）、Ａｌドーピングされた亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ）などを含む。一具現例において、前記低放射層１４０は銀（Ａｇ）であってもよく、これによって、前記低放射透明積層体１００は、高い電気伝導度、可視光線領域での低い吸収率、優れた耐久性などを具現することができる。
【００４１】
前記低放射層１４０の厚さは、例えば、約６ｎｍ〜約２５ｎｍであってもよい。前記範囲の厚さを有する低放射層１４０は、低い放射率及び高い可視光線透過率を同時に具現するのに適している。
【００４２】
前記ＺｎＳｎ系複合金属窒化物を含むバッファー層１６０は、前記低放射層１４０と前記ＺｎＳｎ系複合金属酸化物を含む誘電体層１７０との間に介在し、前記誘電体層１７０に含まれる酸化物の酸素の影響から前記低放射層１４０を保護する保護膜として作用し、金属と誘電体層との間の界面を安定化させる作用をする。
【００４３】
また、前記低放射透明積層体１００は、上述したように、前記低放射層１４０の上部に前記誘電体層１７０を蒸着する前に前記バッファー層１６０を適用したものであって、前記バッファー層１６０の上部に積層される前記誘電体層１７０の耐磨耗性を向上させることができる。
【００４４】
前記バッファー層１６０に含まれるＺｎＳｎ系複合金属窒化物と前記誘電体層１７０に含まれるＺｎＳｎ系複合金属酸化物は、同一のＺｎＳｎ系複合金属を使用することによって上述したように作用し、前記低放射層１４０及び前記誘電体層１７０を保護することができる。
【００４５】
一具現例において、前記バッファー層１６０は、ＺｎＳｎＮx（ここで、１．５≦ｘ≦２．５である。）で表示される化合物を含んでもよい。
【００４６】
前記バッファー層１６０の厚さは、例えば、約１ｎｍ〜約１０ｎｍであってもよい。ＺｎＳｎＮxのようなＺｎＳｎ系複合金属窒化物の吸収係数が他の誘電体層に比べて高いので、 前記バッファー層１６０の厚さが１０ｎｍ以上に厚くなると、透過率が低下するという問題があり得る。
【００４７】
前記誘電体層１７０は、屈折率が約１．５〜約２．３であるＺｎＳｎ系複合金属酸化物を含んでもよく、屈折率の値によって、透過率、反射率、透過及び反射色相を所望の目標水準に具現するように前記誘電体層１７０の厚さを調節することができる。
【００４８】
前記誘電体層１７０の厚さは、例えば、約５ｎｍ〜約６０ｎｍであってもよい。誘電体層の厚さは、全体の多層薄膜の光学性能（透過率、反射率、色指数）を目標性能に合わせて具現するために、構成される位置及び物質によって多様に調節することができ、前記厚さ範囲を有する前記誘電体層１７０を含むことによって、誘電体層１７０による光学性能を効果的に制御することができ、また、生産速度の面でも好ましい。
【００４９】
また、前記誘電体層１７０は、消衰係数が０に近い物質で構成されてもよいが、消衰係数が０より大きいことは、入射光が光吸収金属層に到逹する前に誘電体層で吸収されることを意味し、これは、透明な視野確保を阻害する要因となるので好ましくない。したがって、誘電体層１７０の消衰係数は、可視光線領域（約３８０ｎｍ〜約７８０ｎｍの波長範囲）で約０．１未満であってもよい。
【００５０】
一般に、低放射層１４０として使用される金属は酸化されやすいので、前記誘電体層１７０は、前記低放射層１４０の酸化防止膜として作用することができ、また、このような誘電体層１７０は可視光透過率を増加させる役割もする。
【００５１】
前記誘電体層１７０は、ＺｎＳｎ系複合金属酸化物の他に、追加的に多様な金属酸化物、金属窒化物などを含んでもよい。
【００５２】
前記誘電体層１７０の材料と物性を適宜調節し、前記低放射透明積層体１００の光学性能を調節することができる。また、前記誘電体層１７０は、２層以上の複数の層で構成されてもよい。
【００５３】
前記コーティング層１９０は、前記各層の間に公知の物質からなる層をさらに含んでもよい。例えば、前記低放射透明積層体１００は、前記低放射層１４０の両面のうち少なくともいずれか一つに積層された低放射保護金属層を含んでもよい。
【００５４】
前記低放射保護金属層１５０は、光吸収性能に優れた金属からなって太陽光の透過率を調節する機能をし、前記低放射保護金属層１５０の材料、厚さなどを調節することによって、前記低放射透明積層体１００が具現する色相を調節することができる。
【００５５】
一具現例において、前記低放射保護金属層１５０は、可視光線領域での消衰係数（ｅｘｔｉｎｃｔｉｏｎ  ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）が約１．５〜約３．５であってもよい。前記消衰係数は、素材の物質固有の特性である光学定数から導出される値であって、前記光学定数は、数式としてはｎ−ｉｋと表記される。このとき、実数部分であるｎは屈折率で、虚数部分であるｋは消衰係数（減光係数、吸光係数、消光係数などとも命名されている。）である。消衰係数は波長（λ）の関数であり、金属の場合、消衰係数が０より大きいことが一般的である。消衰係数ｋは、吸収係数αとα＝（４πｋ）／λの関係を有し、吸収係数αは、光が通過する媒質の厚さがｄであるとき、Ｉ＝Ｉ0ｅｘｐ（−αｄ）の関係で、媒質による光の吸収によって通過した光の強さ（Ｉ）が、入射した光の強さ（Ｉ0）に比べて減少するようになる。
【００５６】
前記低放射保護金属層１５０は、前記範囲の可視光線領域の消衰係数を有する金属を使用して可視光線の一定部分を吸収し、前記低放射透明積層体１００が所定の色相を有するようにする。
【００５７】
例えば、前記低放射保護金属層１５０は、Ｎｉ、Ｃｒ、ＮｉとＣｒの合金、Ｔｉ及びこれらの組み合わせを含む群から選ばれた少なくとも一つを含んでもよく、これに制限されることはない。
【００５８】
前記低放射保護金属層１５０の厚さは、例えば、約１ｎｍ〜約５ｎｍであってもよい。前記低放射透明積層体１００は、前記厚さ範囲の低放射保護金属層１５０を含むことによって、低放射保護層としての役割を行いながら、所定の透過率及び反射率を有するように調節することができる。
【００５９】
前記透明基材１１０は、可視光線透過率が高い透明基材であってもよく、例えば、約９０％〜約１００％の可視光線透過率を有するガラスまたは透明プラスチック基板であってもよい。前記透明基材１１０としては、例えば、建築用に使用されるガラスが制限なく使用されてもよく、前記透明基材１１０の厚さは、使用目的に応じて、例えば、約２ｍｍ〜約１２ｍｍであってもよい。
【００６０】
上述したように、前記コーティング層１９０は、上述した層の他にも、必要に応じて、例えば、使用目的に合った光学スペクトルを具現するために追加的な層をさらに含む多層構造であってもよい。
【００６１】
一具現例において、前記コーティング層１９０は、前記低放射層１４０の前記透明基材１１０側にＡｌドーピングされたＺｎ系酸化物を含むシード層１３０を含んでもよい。前記シード層１３０の上部に前記低放射層１４０を蒸着して形成することによって、前記低放射層１４０の融着を促進することができる。
【００６２】
他の具現例において、前記コーティング層１９０は、前記誘電体層１７０を最上部誘電体層として含み、前記透明基材１１０と接する面に最下部誘電体層１２０をさらに含んでもよい。前記最下部誘電体層１２０に対する詳細な説明は、上述した誘電体層１７０に対する説明と同一である。
【００６３】
前記低放射透明積層体１００の前記コーティング層１９０の各層は、公知の方法によって前記透明基材１１０の上部に順次積層して製造されてもよい。前記各層は、例えば、蒸着方法によって積層されてもよく、前記蒸着方法は、特別に制限されず、公知の方法であってもよい。例えば、前記各層は、マグネトロンスパッター蒸着器を用いて蒸着してもよい。
【００６４】
前記低放射透明積層体１００は、蒸着方法で形成されたソフトｌｏｗ―ｅガラスで形成され、多様な光特性制御が可能であり、優れた断熱性能を確保できると同時に、特に、前記最上部誘電体層１７０の耐久性に優れ、ソフトｌｏｗ―ｅガラスの耐久性問題を改善したものである。
【００６５】
他の具現例において、前記コーティング層１９０は、前記バッファー層１６０を第１のバッファー層として含み、前記誘電体層１７０の上部にＺｎＳｎ系複合金属窒化物を含む第２のバッファー層（図示せず）をさらに含んでもよい。このようにバッファー層を２層以上含むことによって、前記誘電体層１７０の耐久性をさらに向上させることができる。
【００６６】
本発明の更に他の具現例において、前記低放射透明積層体１００を含む建築資材を提供する。前記建築資材は、前記低放射透明積層体１００を適用することによって、ｌｏｗ―ｅ効果による優れた断熱性能及び光特性を確保すると共に、上述したように優れた耐久性を有し、その結果、耐熱性能が向上する。前記建築資材は、例えば、耐風圧性能を向上させるために熱処理加工されたものであってもよく、高層ビル用建築資材として使用されてもよい。
【００６７】
以下では、本発明の実施例及び比較例を記載する。下記の実施例は、本発明の一実施例に過ぎなく、本発明が下記の実施例に限定されることはない。
【００６８】
（実施例）
【００６９】
（実施例１）
マグネトロン（Ｃ―Ｍａｇ）スパッタリング蒸着器（Ｓｅｌｃｏｓ、Ｃｅｔｕｓ―Ｓ）を使用し、下記の表１に示した組成及び厚さを有する多層構造の低放射コーティング層が形成された低放射透明積層体を製造した。
【００７０】
まず、６ｍｍ厚の透明ガラス基材上にＺｎＳｎＯx最下部誘電体層を酸素／アルゴン（酸素５０体積％、アルゴン５０体積％）雰囲気下で６ｎｍの厚さで蒸着した。続いて、ＺｎＡｌＯxシード層を酸素／アルゴン（酸素２５体積％、アルゴン７５体積％）雰囲気下で３ｎｍの厚さで蒸着した。前記シード層の上部にＡｇ低放射層とＮｉＣｒ低放射保護金属層をアルゴン１００体積％雰囲気下でそれぞれ１９ｎｍ、１．５ｎｍの厚さで蒸着した後、ＺｎＳｎＮxバッファー層を窒素／アルゴン（窒素８３体積％、アルゴン１７体積％）雰囲気下で１０ｎｍの厚さで蒸着した。最後に、ＺｎＳｎＯx最上部誘電体層を前記ＺｎＳｎＯx層の蒸着条件と同一の条件で６２ｎｍの厚さで蒸着し、実施例１の低放射ガラスを蒸着した。
【００７１】
（実施例２）
最上部にＺｎＳｎＮx層１０ｎｍを追加的に適用したことを除いては、実施例１と同一の条件で低放射透明積層体を蒸着した。
【００７２】
（比較例１）
多層構造のコーティング層からＺｎＳｎＮx層を除外したことを除いては、実施例１と同一の条件で低放射透明積層体を製作した。
【００７３】
（比較例２）
多層構造のコーティング層においてＺｎＳｎＮx層の代わりにＳｉＡｌＮx層を窒素／アルゴン（窒素２０体積％、アルゴン８０体積％）雰囲気下で１０ｎｍの厚さで蒸着した点を除いては、実施例１と同一の条件で低放射透明積層体を製作した。
【００７４】
（比較例３）
多層構造のコーティング層においてＺｎＳｎＮx層の代わりにＳｉＡｌＮx層を蒸着したことを除いては、実施例２と同一の条件で低放射透明積層体を製作した。
【００７５】
【表１】
0006261140.tif 000002
【００７６】
（評価）
実施例１〜２及び比較例１〜３で製作された低放射透明積層体に対して、下記のような方法で耐磨耗性テストを行った。
【００７７】
テーバー摩耗試験機（Ｔａｂｅｒ  Ａｂｒａｓｅｒ、Ｅｒｉｃｈｓｅｎ社、５１３５  Ｒｏｔａｒｙ  Ｐｌａｔｆｏｒｍ  ａｂｒａｓｅｒモデル）を用いて耐磨耗性テストを進行した。摩耗ホイールの錘の荷重は０．５Ｋｇで、Ｅｒｉｃｈｓｅｎ社製の摩耗布（ＤＩＮ  ６８８６１基準）を錘に装着してコーティング層のコーティング面上に載せた。この状態で摩耗ホイールを５００回回転させた。耐磨耗性テストが完了した後、試料のコーティング面の表面に形成された摩耗スクラッチの状態を肉眼で観察し、スクラッチの幅を深さ測定機（ｄｅｐｔｈ  ｐｒｏｆｉｌｅｒ、Ｂｒｕｋｅｒ社、Ｄｅｋｔａｋ  ＸＴモデル）及び光学顕微鏡（×５０、×１００、×２００、×５００、×１０００）で観察した後、その結果を下記の表２に記載した。下記の表２に示している個数は、スクラッチのうち肉眼で区分可能な最小サイズである５０μｍ以上の幅を有するものをチェックすることによって得られた。
【００７８】
【表２】
0006261140.tif 000003
【００７９】
表２において、ＺｎＳｎＮx層をＺｎＳｎＯx層に対するバッファー層として使用した実施例１―２の場合、 ＺｎＳｎＮｘ層をＺｎＳｎＯx層に対するバッファー層として使用していない比較例１に比べてＺｎＳｎＯx層の耐磨耗性が増加することが分かる。また、強化工程時に起こり得る金属層の酸化を防止するためにＳｉＡｌＮx層をバッファー層として適用した比較例２の場合、バッファー層を使用していない場合に比べてＺｎＳｎＯx層の耐磨耗性が低下することが分かる。
【００８０】
前記結果から、ＮｉＣｒ層上にＺｎＳｎＯx層を蒸着する前に、バッファー層としてＺｎＳｎＮx層を適用すると、上部に載せられるＺｎＳｎＯx層の耐磨耗性を向上させ得ることを確認することができる。
【符号の説明】
【００８１】
１００、２００：低放射透明積層体、１１０、２１０：透明基材、１４０、２４０：低放射層、１５０、２５０：低放射保護金属層、１６０、２６０：バッファー層、２２０：最下部誘電体層、２３０：シード層、２７０：最上部誘電体層、１９０、２９０：コーティング層
【図１】
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