(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料からのビームを光に変換する蛍光体と、前記蛍光体で変換された光を撮像素子に導く光学素子とを備えた分析装置であって、
前記試料を撮像した試料画像と、視野内に前記試料が存在しない状態で撮像された参照画像とを取得する画像取得部と、
前記参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタを適用し、前記試料画像と、前記画像フィルタが適用された前記参照画像とに基づいて出力画像を得る画像処理部とを含む、分析装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記画像処理部は、
前記試料画像から、前記画像フィルタが適用された前記参照画像を減算する処理を行うことで前記出力画像を得る、分析装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記画像フィルタはガウシアンフィルタである、分析装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項において、
前記画像取得部は、
前記分析装置の光学系の条件が変更された場合に前記参照画像を取得する、分析装置。
【請求項５】
試料からのビームを光に変換する蛍光体と、前記蛍光体で変換された光を撮像素子に導く光学素子とを備えた分析装置における画像処理方法であって、
前記試料を撮像した試料画像と、視野内に前記試料が存在しない状態で撮像された参照画像とを取得する画像取得工程と、
前記参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタを適用し、前記試料画像と、前記画像フィルタが適用された前記参照画像とに基づいて出力画像を得る画像処理工程とを含む、画像処理方法。
【請求項６】
試料からのビームを光に変換する蛍光体と、前記蛍光体で変換された光を撮像素子に導く光学素子とを備えた分析装置におけるビームの軸合わせ方法であって、
前記試料を撮像した試料画像と、視野内に前記試料が存在しない状態で撮像された参照画像とを取得する画像取得工程と、
前記参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタを適用し、前記試料画像と、前記画像フィルタが適用された前記参照画像とに基づいて出力画像を得る画像処理工程と、
前記出力画像を二次元フーリエ変換して得られた画像を用いて、前記試料に照射するビームの軸合わせを行う軸合わせ工程とを含む、ビームの軸合わせ方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、分析装置、画像処理方法及びビームの軸合わせ方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
透過型電子顕微鏡像をＣＣＤカメラ等のデジタルカメラを用いて取得する際には、試料を透過した電子線を蛍光体により光に変換し、この光を光学素子により撮像素子に導いて電子顕微鏡像を撮像する。しかし、蛍光体の発光ムラや光学素子の照射ムラが存在するために、電子顕微鏡像にはこれらによる照射ムラの影響が現れてしまう。この照射ムラの影響を除去するために、視野内に試料が存在しない状態で撮像された画像（蛍光体に電子線を均一に照射した際に得られる画像）を参照画像とし、電子顕微鏡像から参照画像を減算して最終画像を得る画像処理（ゲインノーマライズ処理）が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−３１１６４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の手法では、電子顕微鏡像から参照画像を減算する際に、参照画像に含まれるノイズ成分が足されてしまうため、処理後の画像には余分なノイズが含まれることになる。
【０００５】
本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、本発明のいくつかの態様によれば、照射ムラの影響を除去しつつ、処理後の画像に含まれるノイズを低減することが可能な分析装置等を提供することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る分析装置は、試料からのビームを光に変換する蛍光体と、前記蛍光体で変換された光を撮像素子に導く光学素子とを備えた分析装置であって、前記試料を撮像した試料画像と、視野内に前記試料が存在しない状態で撮像された参照画像とを取得する画像取得部と、前記参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタを適用し、前記試料画像と、前記画像フィルタが適用された前記参照画像とに基づいて出力画像を得る画像処理部とを含む。
【０００７】
本発明によれば、参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタを適用することで、参照画像における照射ムラの影響を損なうことなく参照画像に含まれるノイズ成分を低減することができ、これにより出力画像に含まれるノイズを低減することができる。
【０００８】
（２）本発明に係る分析装置では、前記画像処理部は、前記試料画像から、前記画像フィルタが適用された前記参照画像を減算する処理を行うことで前記出力画像を得てもよい。
【０００９】
本発明によれば、参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタを適用し、試料画像から画像フィルタ適用後の参照画像を減算する処理を行って出力画像を得ることで、照射ムラの影響を除去しつつ出力画像に含まれるノイズを低減することができる。
【００１０】
（３）本発明に係る分析装置では、前記画像フィルタはガウシアンフィルタであってもよい。
【００１１】
（４）本発明に係る分析装置では、前記画像取得部は、前記分析装置の光学系の条件が変更された場合に前記参照画像を取得してもよい。
【００１２】
本発明によれば、分析装置の光学系の条件が変更された場合に参照画像を取得することで、分析装置の光学系の条件に関わらず照射ムラの影響を精度良く除去することができる。
【００１３】
（５）本発明に係る画像処理方法は、試料からのビームを光に変換する蛍光体と、前記蛍光体で変換された光を撮像素子に導く光学素子とを備えた分析装置における画像処理方法であって、前記試料を撮像した試料画像と、視野内に前記試料が存在しない状態で撮像された参照画像とを取得する画像取得工程と、前記参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタを適用し、前記試料画像と、前記画像フィルタが適用された前記参照画像とに基づいて出力画像を得る画像処理工程とを含む。
【００１４】
本発明によれば、参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタを適用することで、参照画像における照射ムラの影響を損なうことなく参照画像に含まれるノイズ成分を低減することができ、出力画像に含まれるノイズを低減することができる。
【００１５】
（６）本発明に係るビームの軸合わせ方法は、試料からのビームを光に変換する蛍光体と、前記蛍光体で変換された光を撮像素子に導く光学素子とを備えた分析装置におけるビームの軸合わせ方法であって、前記試料を撮像した試料画像と、視野内に前記試料が存在しない状態で撮像された参照画像とを取得する画像取得工程と、前記参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタを適用し、前記試料画像と、前記画像フィルタが適用された前記参照画像とに基づいて出力画像を得る画像処理工程と、前記出力画像を二次元フーリエ変換して得られた画像を用いて、前記試料に照射するビームの軸合わせを行う軸合わせ工程とを含む。
【００１６】
本発明によれば、参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタを適用し、画像フィルタが適用された参照画像を用いて出力画像を得て、出力画像を二次元フーリエ変換して得られた画像を用いてビームの軸合わせを行うことで、容易且つ精度良くビームの軸合わせを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態に係る透過型電子顕微鏡（分析装置）の構成の一例を示す図である。
【図２】処理部における処理の流れを示すフローチャートである。
【図３】（ａ）は本実施形態の透過型電子顕微鏡で取得された参照画像を示す図、（ｂ）はこの参照画像を二次元フーリエ変換して得られた画像を示す図である。
【図４】（ａ）は図３（ａ）に示す参照画像にガウシアンフィルタを適用して得られた画像を示す図、（ｂ）はこの画像を二次元フーリエ変換して得られた画像を示す図である。
【図５】（ａ）は本実施形態の透過型電子顕微鏡で取得された試料画像を示す図、（ｂ）はこの試料画像を二次元フーリエ変換して得られた画像を示す図である。
【図６】（ａ）は従来の手法により参照画像を用いてゲインノーマライズ処理を行って得られた画像を示す図、（ｂ）はこの画像を二次元フーリエ変換して得られた画像を示す図である。
【図７】（ａ）は本実施形態の手法によりフィルタ適用後の参照画像を用いてゲインノーマライズ処理を行って得られた出力画像を示す図、（ｂ）はこの出力画像を二次元フーリエ変換して得られた画像を示す図である。
【図８】（ａ）は図６（ａ）中の破線で示した領域を拡大した図、（ｂ）は図７（ａ）中の破線で示した領域を拡大した図、（ｃ）は（ａ）中の破線矢印に沿った強度プロファイルを示す図、（ｄ）は（ｂ）中の破線矢印に沿った強度プロファイルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の好適な実施形態について図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施形態は、特許請求の範囲に記載された本発明の内容を不当に限定するものではない。また以下で説明される構成の全てが本発明の必須構成要件であるとは限らない。
【００１９】
１．構成
図１は、本実施形態に係る透過型電子顕微鏡（分析装置）の構成の一例を示す図である。なお本実施形態の透過型電子顕微鏡は図１の構成要素（各部）の一部を省略した構成としてもよい。
【００２０】
図１に示すように、透過型電子顕微鏡１は、電子顕微鏡本体１０と、処理部１００と、操作部１１０と、表示部１２０と、記憶部１３０とを含む。
【００２１】
電子顕微鏡本体１０は、電子線源１１と、照射レンズ系１２と、偏向器１３と、対物レンズ１４と、中間レンズ１５と、投影レンズ１６と、蛍光体１７と、集光レンズ１８と、撮像素子１９と、試料ステージ２０と、偏向器制御装置３０とを含む。
【００２２】
電子線源１１は、電子線ＥＢを発生させる。電子線源１１は、陰極から放出された電子を陽極で加速し電子線ＥＢを放出する。電子線源１１としては、例えば、電子銃を用いることができる。
【００２３】
照射レンズ系１２は、電子線源１１の後段に配置されている。照射レンズ系１２は、複数の集束レンズ（図示省略）で構成されている。照射レンズ系１２は、試料Ｓに照射される電子線（入射電子線）の量を調整する。
【００２４】
偏向器１３は、照射レンズ系１２の後段に配置されている。偏向器１３は、複数の偏向コイルを有する。偏向器制御装置３０は、処理部１００からの制御信号に基づき、偏向器１３の複数の偏向コイルに流れる電流量を制御する。偏向器１３は、偏向器制御装置３０で各偏向コイルに流れる電流を制御することにより入射電子線を二次元的に偏向させる。これにより、試料Ｓに対する入射電子線の入射角度（試料に照射される電子線の傾斜方向及び傾斜角度）を変えることができるため、透過波の光路および散乱波の光路を変えることができる。偏向器１３により、入射電子線を対物レンズ１４の光軸に一致させるための軸合わせを行うことができる。
【００２５】
試料ステージ２０は、試料ホルダー（図示省略）を介して試料Ｓを保持する。試料ステージ２０は、試料ホルダーを移動および静止させることにより、試料Ｓの位置決めを行うことができる。試料ステージ２０は、ステージ制御装置（図示省略）によって制御され、試料Ｓを水平方向（電子線ＥＢの進行方向に対して直交する方向）や鉛直方向（電子線ＥＢの進行方向に沿う方向）に移動させることができる。
【００２６】
対物レンズ１４は、偏向器１３の後段に配置されている。対物レンズ１４は、試料Ｓを透過した電子線を結像させる。中間レンズ１５は、対物レンズ１４の後段に配置されている。投影レンズ１６は、中間レンズ１５の後段に配置されている。中間レンズ１５及び投
影レンズ１６は、試料Ｓを透過した電子線ＥＢを蛍光体１７に導く。例えば、中間レンズ１５及び投影レンズ１６は、対物レンズ１４の像面もしくは後焦点面（回折図形が形成される面）を投影して蛍光体１７上に結像する。
【００２７】
蛍光体１７、集光レンズ１８及び撮像素子１９は、投影レンズ１６の後段に配置されている。蛍光体１７は、試料Ｓを透過した電子線ＥＢ（試料からのビーム）を光に変換する。蛍光体１７で変換された光は、集光レンズ１８（光学素子）で集光された後、撮像素子１９に入射される。撮像素子１９は、蛍光体１７に結像された透過電子顕微鏡像を検出するＣＣＤイメージセンサ等の二次元イメージセンサである。撮像素子１９で検出された透過電子顕微鏡像の像情報は、処理部１００に出力される。
【００２８】
操作部１１０は、ユーザが操作情報を入力するためのものであり、入力された操作情報を処理部１００に出力する。操作部１１０の機能は、キーボード、マウス、ボタン、タッチパネルなどのハードウェアにより実現することができる。
【００２９】
表示部１２０は、処理部１００によって生成された画像を表示するものであり、その機能は、ＬＣＤ、ＣＲＴなどにより実現できる。
【００３０】
記憶部１３０は、処理部１００の各部としてコンピュータを機能させるためのプログラムや各種データを記憶するとともに、処理部１００のワーク領域として機能し、その機能はハードディスク、ＲＡＭなどにより実現できる。
【００３１】
処理部１００は、偏向器制御装置３０やステージ制御装置等を制御する処理や、電子顕微鏡像を取得する処理、画像処理等を行う。処理部１００の機能は、各種プロセッサ（ＣＰＵ、ＤＳＰ等）などのハードウェアや、プログラムにより実現できる。処理部１００は、画像取得部１０２、画像処理部１０４を含む。
【００３２】
画像取得部１０２は、撮像素子１９から出力された像情報に基づき透過電子顕微鏡像を取得する。画像取得部１０２は、試料Ｓを撮像した試料画像（視野内に試料が存在する状態で撮像された画像）と、視野内に試料が存在しない状態で撮像された参照画像を取得する。取得された試料画像と参照画像は記憶部１３０に記憶される。参照画像が新たに取得された場合には、新たに取得された参照画像によって記憶部１３０に記憶された参照画像が更新される。また、画像取得部１０２は、操作部１１０からの操作情報（参照画像の取得を指示する操作）に基づいて参照画像を取得（更新）してもよいし、透過型電子顕微鏡１の光学系の条件（例えば、加速電圧、倍率、レンズの励磁条件等）が変更された場合に参照画像を取得してもよい。
【００３３】
画像処理部１０４は、参照画像に対して空間周波数の高い成分を低減させる画像フィルタ（ローパスフィルタ、例えば、ガウシアンフィルタ）を適用し、試料画像から、画像フィルタが適用された参照画像を減算する処理（ゲインノーマライズ処理）を行って出力画像を生成する。また、画像処理部１０４は、出力画像を二次元フーリエ変換する処理を行ってもよい。
【００３４】
また、処理部１００は、操作部１１０からの操作情報に基づき制御信号を生成し、生成した制御信号を偏向器制御装置３０に出力して、偏向器１３の複数の偏向コイルに流れる電流量を制御する。
【００３５】
２．本実施形態の手法
次に本実施形態の手法について図面を用いて説明する。
【００３６】
図２は、処理部１００における処理の流れを示すフローチャートである。まず、画像取得部１０２は、視野内に試料Ｓが存在しない状態で（すなわち、真空領域において蛍光体１７に電子線が略均一に照射される条件で）撮像された参照画像を取得する（ステップＳ１０）。この参照画像を以下Ａとする。次に、画像取得部１０２は、試料Ｓを撮像した試料画像を取得する（ステップＳ１２）。この試料画像を以下Ｂとする。
【００３７】
次に、画像処理部１０４は、参照画像Ａに対してローパスフィルタを適用する（ステップＳ１４）。ここでは、ローパスフィルタとして、半値幅が４ピクセルのガウシアンフィルタを用いる。フィルタ適用後の参照画像を以下Ａ’とする。
【００３８】
次に、画像処理部１０４は、試料画像Ｂからフィルタ適用後の参照画像Ａ’を減算する処理を行う（ステップＳ１６）。具体的には、次式に従いゲインノーマライズ処理を行って出力画像Ｃを得る。
【００３９】
【数１】
0006419605.tif 000002
ここで、Ａ’ｍｅａｎは、参照画像Ａ’の平均カウント数（輝度値）であり、Ｂｍｅａｎは、試料画像Ｂの平均カウント数である。また、最終項のＢｍｅａｎは、ゲインノーマライズ処理前後で画像の平均カウント数を一致させるために加えている。
【００４０】
図３（ａ）は、本実施形態の透過型電子顕微鏡１で取得された参照画像Ａを示す図であり、図３（ｂ）は、図３（ａ）に示す参照画像Ａを二次元フーリエ変換して得られた画像を示す図である。また、図４（ａ）は、図３（ａ）に示す参照画像Ａに半値幅４ピクセルのガウシアンフィルタを適用して得られた画像Ａ’を示す図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示す画像Ａ’を二次元フーリエ変換して得られた画像を示す図である。
【００４１】
図３（ａ）に示す参照画像Ａでは、斜め縦方向に延びる縞模様が確認できるが、これは、蛍光体１７の塗布ムラに起因する発光ムラの影響が現れたものである。また、参照画像Ａでは、画像中央部分と四隅部分とで輝度値が異なっているが、これは、集光レンズ１８の周辺光量低下による影響が現れたものである。
【００４２】
図４（ａ）に示すフィルタ適用後の参照画像Ａ’を見ると、蛍光体１７の発光ムラや集光レンズ１８の周辺光量低下による影響が失われていないことが分かる。これは、多くの場合、照射ムラの影響が低空間周波数領域にしか現れないことによる。すなわち、参照画像Ａにローパスフィルタを適用することで、参照画像Ａにおける照射ムラの影響を損なうことなく参照画像Ａに含まれるノイズ成分を低減することができる。
【００４３】
図５（ａ）は、本実施形態の透過型電子顕微鏡１で取得された試料画像Ｂを示す図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）に示す試料画像Ｂを二次元フーリエ変換して得られた画像を示す図である。図５（ａ）に示す試料画像Ｂでは、試料構造に重畳して、図３（ａ）に示す参照画像Ａや図４（ａ）に示す画像Ａ’で見られた照射ムラの影響が現れていることが確認できる。
【００４４】
図６（ａ）は、従来の手法により、参照画像Ａを用いてゲインノーマライズ処理（試料画像Ｂから参照画像Ａを減算する処理）を行って得られた画像を示す図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）に示す画像を二次元フーリエ変換して得られた画像を示す図である。
【００４５】
図６（ａ）に示す画像では、図５（ａ）に示す試料画像Ｂにおいて顕著に現れていた照
射ムラの影響が除去されていることが確認できる。しかしながら、図６（ｂ）に示す二次元フーリエ変換画像を図５（ｂ）に示す二次元フーリエ変換画像と比較すると、信号の高空間周波数成分がノイズに埋もれて目立ち難くなっていることが分かる。
【００４６】
図７（ａ）は、本実施形態の手法により、フィルタ適用後の参照画像Ａ’を用いてゲインノーマライズ処理（試料画像Ｂからフィルタ適用後の参照画像Ａ’を減算する処理）を行って得られた出力画像Ｃを示す図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示す出力画像Ｃを二次元フーリエ変換して得られた画像を示す図である。
【００４７】
図７（ａ）に示す出力画像Ｃでは、図６（ａ）に示す画像と同様に照射ムラの影響が除去されているが、図６（ａ）に示す画像と比較して像コントラスト若干良くなっていることが分かる。また、図７（ｂ）に示す二次元フーリエ変換画像を図６（ｂ）に示す二次元フーリエ変換画像と比較すると、図７（ｂ）に示す二次元フーリエ変換画像の方が高空間周波数まで信号が現れていることが分かる。
【００４８】
図８（ａ）は、図６（ａ）中の破線で示した領域を拡大した図であり、図８（ｂ）は、図７（ａ）中の破線で示した領域を拡大した図（出力画像Ｃの一部拡大図）である。また、図８（ｃ）は、図８（ａ）中の破線矢印に沿った強度プロファイル（ラインプロファイル）を示す図であり、図８（ｄ）は、図８（ｂ）中の破線矢印に沿った強度プロファイルを示す図である。
【００４９】
図８（ａ）と図８（ａ）の画像を比較すると、図８（ｂ）に示す画像の方がザラつきが少なく像質が良いことが分かる。また、図８（ｃ）と図８（ｄ）のラインプロファイルを比較しても、図８（ｄ）の方がノイズが少ないことが分かる。ノイズを定量的に評価するために、図６（ａ）に示す画像と図７（ａ）に示す出力画像Ｃの分散を算出すると、それぞれ2.81×106counts2と2.02×106counts2であり、本実施形態の手法ではノイズが凡そ３０％低減することが分かる。
【００５０】
このように、本実施形態によれば、ローパスフィルタを適用した参照画像Ａ’を用いてゲインノーマライズ処理を行うことで、照射ムラの影響を除去しつつ出力画像に含まれるノイズを低減することができる。
【００５１】
なお、加速電圧、倍率、レンズの励磁条件等の光学系の条件が変更されると、試料画像に現れる照射ムラの影響が変化する場合があるため、これら光学系の条件が変更される度に参照画像を取得（ゲインノーマライズ処理に用いる参照画像を更新）することが望ましい。このようにすると、透過型電子顕微鏡１の光学系の条件に関わらず照射ムラの影響を精度良く除去することができる。
【００５２】
また、本実施形態の透過型電子顕微鏡１では、出力画像Ｃを二次元フーリエ変換して得られる画像（図７（ｂ）に示す画像）を用いて電子線の軸合わせを行うように構成している。すなわち、画像処理部１０４は、出力画像Ｃを二次元フーリエ変換したフーリエ変換像をリアルタイムに生成して表示部１２０に出力し、ユーザは、表示部１２０に表示されるフーリエ変換像を見ながら、操作部１１０を操作して偏向器１３を制御する（偏向器１３の複数の偏向コイルに流れる電流量を変化させる）ことで軸合わせを行う。軸合わせが適切でない場合には、生成されるフーリエ変換像の中心部の高輝度領域の形状は非正円形状（例えば、楕円形状）となり、軸合わせが適切である場合には、生成されるフーリエ変換像の中心部の高輝度領域の形状は正円形状となる。ユーザは、表示部１２０に表示されるフーリエ変換像の中心部の高輝度領域の形状が正円に近づくように偏向器１３を制御する操作を行うことで軸合わせを行うことができる。
【００５３】
上述したように、本実施形態の手法により生成されるフーリエ変換像は高空間周波数まで信号が現れるため、ユーザは、フーリエ変換像の中心部の高輝度領域の形状を容易に把握することができ、精度の良い軸合わせを行うことができる。なお、軸合わせを自動で行うように構成してもよい。この場合、処理部１００は、リアルタイムに生成したフーリエ変換像を解析し、フーリエ変換像の中心部の高輝度領域の形状が正円に近づくように偏向器１３を制御する。
【００５４】
３．変形例
なお、本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【００５５】
例えば、上記実施形態では、本発明を透過型電子顕微鏡に適用した場合について説明したが、本発明は、試料にビーム（荷電粒子線やＸ線）を照射し、試料からのビームを蛍光体により光に変換し、蛍光体で変換された光を光学素子により撮像素子に導く構成を有する他の分析装置に適用することができる。
【符号の説明】
【００５６】
１  透過型電子顕微鏡（分析装置）、１０  電子顕微鏡本体、１１  電子線源、１２  照射レンズ系、１３  偏向器、１４  対物レンズ、１５  中間レンズ、１６  投影レンズ、１７  蛍光体、１８  集光レンズ（光学素子）、１９  撮像素子、２０  試料ステージ、３０  偏向器制御装置、１００  処理部、１０２  画像取得部、１０４  画像処理部、１１０  操作部、１２０  表示部、１３０  記憶部、ＥＢ  電子線、Ｓ  試料
【図１】
0006419605.tif 000003
【図２】
0006419605.tif 000004
【図３】
0006419605.tif 000005
【図４】
0006419605.tif 000006
【図５】
0006419605.tif 000007
【図６】
0006419605.tif 000008
【図７】
0006419605.tif 000009
【図８】
0006419605.tif 000010