(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジアルキル−、ジアリール−、又はアルキルアリール−ジハロシランをグリニャールカップリング反応において高選択性で作製する方法であって、
押し出し流れ反応器（ＰＦＲ）、連続管型反応器（ＣＴＲ）、ピストン流れ反応器、及び直列で接続された２つ以上の連続撹拌槽型反応器（ＣＳＴＲ）の群から選択される１つの反応器を準備するステップ、
炭化水素溶媒流れを所定の流量で前記反応器に提供するステップ、
アルキル−又はアリールトリハロシラン流れを所定の流量で前記反応器に提供するステップ、
アルキル−又はアリールマグネシウムハライドを含むグリニャール試剤流れを所定の流量で前記反応器に提供するステップ、
前記溶媒流れ、アルキル−又はアリールトリハロシラン流れ、及びグリニャール試剤流れを一体化して、一体化された反応剤流れを形成させるステップであって、
前記一体化された反応剤流れ中の前記アルキル−又はアリールトリハロシラン：前記グリニャール試剤の質量比が、１．５：１以上であり、及び前記一体化された反応剤流れ中の前記溶媒：前記グリニャール試剤の質量比が３：１以上であるように、前記溶媒流れ、
アルキル−又はアリールトリハロシラン流れ、及び前記グリニャール試剤流れの流量が選択される、ステップ、
前記一体化された反応剤流れを１０℃〜８０℃の温度で反応させて、Ｒ２ＳｉＸ２、Ｒ３ＳｉＸ、及び塩を含む生成物混合物を形成し、そこでは、各Ｒがアルキル又はアリール基であるように独立に選択され、Ｘがハロゲン基であり、及び前記生成物混合物中のＲ２ＳｉＸ２：Ｒ３ＳｉＸの質量比が７：１超であるステップ、及び
所望により、前記生成物混合物を捕集するステップを含む、方法。
【請求項２】
前記反応器が、少なくとも１つの流体モジュールを含むＰＦＲである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記方法が、前記グリニャール反応の開始に先立って、前記反応器中のベースライン圧力低下を測定するステップ、
前記グリニャール反応の過程の間、前記反応器中の前記圧力低下をモニターするステップ、及び
前記グリニャール反応の過程の間、モニターされる前記反応器にわたる前記圧力低下を前記ベースライン圧力低下と比較して、前記圧力低下の変化を決定するステップであって、  前記圧力低下の変化が、前記反応器中で塊化及び沈降した又は前記反応器中で壁上に堆積した塩が前記反応器を詰まらせた程度に対する測定値を提供する、ステップを更に含む、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記方法が、前記グリニャール反応を停止するステップ、
前記反応器を詰まらせる塩を除去するステップ、及び
前記グリニャール反応を再開するステップを更に含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記反応器を詰まらせる前記塩を除去するステップが、
前記反応器の残部から前記反応器の前記詰まった部分を単離するステップ、
前記反応器の前記単離された部分に炭化水素溶媒をフラッシュして、アルキル−又はアリールトリハロシランを除去するステップ、
全ての塩が除去されるまで、前記反応器の前記単離された部分に水をフラッシュするステップ、
前記反応器の前記単離された部分にアルコールをフラッシュして、いかなる残存する水も除去するステップ、
前記反応器の前記単離された部分に前記炭化水素溶媒を再度フラッシュして、前記アルコールを前記単離された部分から追い出すステップ、及び
前記反応器の前記単離された部分と前記反応器の前記残部との間の接触を再建するステップを更に含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記一体化された反応剤流れは、前記一体化された反応剤流れが前記反応器中に滞留する平均時間が３０秒未満であるように、前記反応器の大きさに基づいて予め決められた流量を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記反応器中における前記一体化された反応剤流れの滞留時間が、２０秒未満である、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
溶媒：グリニャール試剤の質量比が５：１超である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記生成物混合物中のＲ２ＳｉＸ２：Ｒ３ＳｉＸの質量比が１２：１超である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記グリニャール試剤流れが、溶媒中に分散された前記グリニャール試剤を含む溶液であり、
前記溶液中に存在するグリニャール試剤の量が、
前記溶液の全重量基準で７５重量％未満である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記溶媒がトルエンであり、前記グリニャール試剤がフェニルマグネシウムクロリド（ＰｈＭｇＣｌ）であり、前記アルキル−又はアリールトリハロシランがメチルトリクロロシラン（ＭｅＳｉＣｌ３）であり、並びに形成される前記生成物混合物が、ＰｈＭｅＳｉＣｌ２、Ｐｈ２ＭｅＳｉＣｌ、及びＭｇＣｌ２を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、概して、ジハロシランを作製する方法及びその使用に関する。特に、本開示は、グリニャールカップリング反応においてジアルキル−、ジアリール−、又はアルキルアリールジハロシランを高選択性で作製することに関する。
【背景技術】
【０００２】
この項目での記述は、単に、本開示に関連する背景情報を提供しており、先行技術を構成し得ない。ジハロシランは、一般に、様々なシリコーン及びポリシラン化合物の工業的製造において前躯体又は試剤として使用される。例えば、フェニルメチルジクロロシラン（ＰｈＭｅＳｉＣｌ２）などのアルキルアリール−ジハロシランに対する需要は、毎日の生活で使用される様々な材料の製造での使用に対して着実に増加している。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
フェニルメチルジクロロシラン（ＰｈＭｅＳｉＣｌ２）の作製に一般に使用される方法の例は、ＰｈＭｇＣｌなどのグリニャール試剤とメチルトリクロロシランＭｅＳｉＣｌ３との連続撹拌槽型反応器（ＣＳＴＲ）中での反応である。この形の従来の方法は、グリニャール試剤と比較して高濃度のＭｅＳｉＣｌ３を使用することにより通常最適化される。この方法で、グリニャール試剤がＭｅＳｉＣｌ３と反応する可能性は、グリニャール試剤がＰｈＭｅＳｉＣｌ２生成物と反応して、副生成物としてジフェニルメチルクロロシラン（Ｐｈ２ＭｅＳｉＣｌ）を形成する可能性よりも大きい。典型的には、少なくとも３：１の質量比のＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌを反応剤として使用して、最大７：１質量比のＰｈＭｅＳｉＣｌ２：Ｐｈ２ＭｅＳｉＣｌが生成物として得られる。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、概して、ジアルキル−（diakyl-）、ジアリール−、又はアルキルアリール−ジハロシランをグリニャールカップリング反応において高選択性で作製する方法を含む。この方法は、押し出し流れ反応器（ＰＦＲ）、連続管型反応器（ＣＴＲ）、ピストン流れ反応器、又は直列で接続された１つ以上の連続撹拌槽型反応器（ＣＳＴＲ）を提供するステップ、炭化水素溶媒流れを所定の流量でＰＦＲに提供するステップ、アルキル−又はアリールトリハロシラン流れを所定の流量でＰＦＲに提供するステップ、アルキル−又はアリールマグネシウムハライドを含むグリニャール試剤流れを所定の流量でＰＦＲに提供するステップ、溶媒流れ、アルキル−又はアリールトリハロシラン流れ、及びグリニャール試剤流れを一体化して、一体化された反応剤流れを形成し、一体化された反応剤流れを１０℃〜８０℃の温度で反応させて、Ｒ２ＳｉＸ２、Ｒ３ＳｉＸ、及び塩を含む生成物混合物を形成し、そこでは、各Ｒがグリニャール試剤、アルキル−又はアリールトリハロシランから誘導されるアルキル又はアリール基であるように独立に選択され、Ｘがハロゲン基であり、及び生成物混合物中のＲ２ＳｉＸ２：Ｒ３ＳｉＸの質量比が７：１超であるステップ、及び所望により、前記生成物混合物を捕集するステップを含む。この方法では、溶媒流れ、アルキル−又はアリールトリハロシラン流れ、及びグリニャール試剤流れの流量は、一体化された反応剤流れ中のアルキル−又はアリールトリハロシラン：グリニャール試剤の質量比が少なくとも１．５：１であり、及び一体化された反応剤流れ中の溶媒：グリニャール試剤の質量比が少なくとも３：１であるように選択される。生成物混合物中のＲ２ＳｉＸ２：Ｒ３ＳｉＸの質量比は、１２：１超、あるいは１９：１超、あるいは２５：１超である。
【０００５】
本開示の１つの態様によれば、反応器は少なくとも１つの流体モジュールを含むＰＦＲであり、溶媒はトルエンであり、グリニャール試剤はフェニルマグネシウムクロリド（ＰｈＭｇＣｌ）であり、アルキル−又はアリールトリハロシランは、メチルトリクロロシラン（ＭｅＳｉＣｌ３）であり、並びに形成される生成物混合物はＰｈＭｅＳｉＣｌ２、Ｐｈ２ＭｅＳｉＣｌ、及びＭｇＣｌ２を含む。あるいは、ＰＦＲはＣｏｒｎｉｎｇ（登録商標）アドバンスド流れガラス反応器（商標）である。
【０００６】
本開示の別な態様によれば、この方法は、グリニャール反応の開始に先立って、反応器にわたるベースライン圧力低下を測定するステップ、グリニャール反応の過程の間反応器にわたる圧力低下をモニターするステップ、及びグリニャール反応の過程の間モニターされる反応器にわたる圧力低下をベースライン圧力低下と比較して、圧力低下の変化を決定するステップを更に含んでもよい。圧力低下の変化は、反応器中で塊化及び沈降した又は反応器中で壁上に堆積した塩が反応器を詰まらせた程度に対する測定値を提供する。反応器が詰まったときは、この方法は、また、前記グリニャール反応を停止するステップ、前記反応器を詰まらせる塩を除去するステップ、及び前記グリニャール反応を再開するステップを含んでもよい。反応器を詰まらせている塩を除去する１つの具体的な方法は、反応器の残りから反応器の詰まった部分を単離するステップ、反応器の単離された部分に炭化水素溶媒をフラッシュして、アルキル−又はアリールトリハロシランを除去するステップ、全ての塩が除去されるまで、反応器の単離された部分に水をフラッシュするステップ、反応器の単離された部分にアルコールをフラッシュして、いかなる残存する水も除去するステップ、反応器の単離された部分に炭化水素溶媒を再度フラッシュして、アルコールを追い出すステップ、及び反応器の単離された部分と反応器の残りとの間の接触を再確保するステップを含む。
【０００７】
グリニャール反応の過程の間、一体化された反応剤流れは、反応器中の一体化された反応剤流れに対する滞留時間が約３０秒未満、あるいは約２０秒未満であるように予め決められた流量を有する。滞留時間は、一体化された反応剤流れが反応器内に滞在する平均時間として定義される。反応器中の塩の塊化及び沈降の潜在性を低下させるためには、溶媒：グリニャール試剤の質量比は、５：１超、あるいは６：１超であるように選択され得る。加えて、グリニャール試剤流れは、溶媒中に分散されたグリニャール試剤を含む溶液であってもよく、そこでは、溶液中に存在するグリニャール試剤の量は溶液の全重量基準で７５重量％未満、あるいは５０重量％未満、あるいは２５重量％未満である。グリニャール溶液で使用される溶媒は、グリニャール反応で使用される炭化水素溶媒と同一でよく、又は炭化水素溶媒と相溶性又は混和性である溶媒であってもよい。
【０００８】
本開示の別な態様によれば、Ｒ２ＳｉＸ２及びＲ３ＳｉＸを含む生成物混合物は、本明細書で記述される方法に従って形成され、式中、Ｒはアルキル又はアリール基であるように独立に選択され、Ｘはハロゲン基であり、及び生成物混合物中のＲ２ＳｉＸ２：Ｒ３ＳｉＸの質量比は７：１超、あるいは１２：１超、あるいは１９：１超、あるいは２５：１超である。この生成物混合物はＰｈＭｅＳｉＣｌ２及びＰｈ２ＭｅＳｉＣｌの混合物であってもよい。生成物混合物中のフェニルメチルジクロロシランは単離又は捕集されてもよい。
【０００９】
更なる適用範囲は、本明細書に記載の説明によって明白となるであろう。詳細な説明及び特定の例は、単なる例示を目的とするものであり、本開示の範囲を限定することを意図するものではないことを理解するべきである。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本明細書に記載の図は例示のみを目的とし、いかなる方法においても本開示の範囲を限定することが意図されるものではない。
【００１１】
【図１】ＳＬＡＲ型流体モジュールを含む押し出し流れ反応器（ＰＦＲ）の略図である。
【図２】本開示の教示に従ったグリニャールカップリング反応の実施に使用される２つのＰＦＲ構成（Ｃ１及びＣ２）の略図である。
【図３】ＰＦＲで使用するためのＳＪＡＲ型、ＤＴＨ型、及びＤＴＲ型流体モジュールの略図である。
【図４Ａ】ランＮｏ．１３で測定したＰＦＲ、構成Ｃ１の出口温度の時間の関数としてプロットしたグラフである。
【図４Ｂ】ランＮｏ．９で測定したＰＦＲ、構成Ｃ１の出口温度の時間の関数としてプロットしたグラフである。
【図５】ＰＦＲ構成Ｃ１を用いて様々な温度で得られる、ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ質量比の関数としてプロットしたＰｈＭｅＳｉＣｌ２の収率（重量％）のグラフである。
【図６】ＰＦＲ構成Ｃ２を用いて様々な温度で得られる、ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ質量比の関数としてプロットしたＰｈＭｅＳｉＣｌ２収率（重量％）のグラフである。
【図７】ＰＦＲ構成Ｃ１を用いて様々な温度で得られる、ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ質量比の関数としてプロットしたＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性のグラフである。
【図８】ＰＦＲ構成Ｃ２を用いて様々な温度で得られる、ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ質量比の関数としてプロットしたＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性のグラフである。
【図９】ＰＦＲ構成Ｃ１及びＣ２で１０℃で行われた実験ランから得られる、ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ質量比の関数としてプロットしたＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性のグラフである。
【図１０Ａ】ＰＦＲ構成Ｃ１で１０℃で行われた実験ランから得られる、ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ質量比の関数としてプロットしたＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性のグラフである。
【図１０Ｂ】ＰＦＲ構成Ｃ２で１０℃で行われた実験ランから得られる、ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ質量比の関数としてプロットしたＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性のグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
下記の説明は、本質的に単なる例示であり、いかなる意味でも本開示又はその用途若しくは利用方法を限定するものではない。説明を通して、対応する参照番号は、同様の部分又は対応する部分及び特徴を示すことを理解されたい。
【００１３】
本開示は、概して、グリニャールカップリング反応においてジアルキル−、ジアリール−、又はアルキルアリールジハロシランを高選択性で作製することに関する。より詳細には、アルキル−又はアリール−マグネシウムハライドを含むグリニャール試剤をアルキル−又はアリールトリハロシラン前躯体又は試剤と反応させて、Ｒ２Ｓ１Ｘ２及びＲ３ＳｉＸ（式中、各Ｒはアルキル又はアリール基であるように独立に選択され、及びＸはハロゲン基である）の生成物混合物を生成させて、Ｒ２ＳｉＸ２生成物を高選択性で形成する。高選択性は、アルキル−又はアリールトリハロシラン前躯体：グリニャール試剤の３：１質量比を使用する場合には、この反応で形成されるＲ２ＳｉＸ２生成物：Ｒ３ＳｉＸ生成物の質量比が７：１超、あるいは少なくとも約１２：１、あるいは少なくとも約１９：１、あるいは少なくとも約２５：１、あるいは、最大約９７：１であると定義され、及び約６：１の溶媒：グリニャール試剤希釈と共にアルキル−又はアリールトリハロシラン前躯体：グリニャール試剤の５：１質量比を使用する場合には、最大約１３０：１であると定義される。Ｒ２ＳｉＸ２生成物に対する高選択性は、押し出し流れ反応器（ＰＦＲ）、連続管型反応器（ＣＴＲ）、ピストン流れ反応器、又は直列に接続された１つ以上の連続撹拌槽型反応器、あるいはＣｏｒｎｉｎｇ（登録商標）アドバンスド流れガラス反応器などの押し出し流れ反応器などの反応器中で反応を行うことにより可能となる。グリニャール試剤はＲ２ＳｉＸ２ではなくアルキル−又はアリールトリハロシランと反応する可能性が高いために、Ｒ２ＳｉＸ２の選択性は、溶媒：グリニャール試剤の比が増加するに従い増加する。
【００１４】
この概念をより充分に説明するために、本発明は、グリニャール試剤としてのフェニルマグネシウムクロリド（ＰｈＭｇＣｌ）が、アルキル−トリハロシランとしてのメチルトリクロロシラン（ＭｅＳｉＣｌ３）と反応して、フェニルメチルジクロロシラン（ＰｈＭｅＳｉＣｌ２）及びジフェニルメチルクロロシラン（Ｐｈ２ＭｅＳｉＣｌ）の混合物を生成して、ＰｈＭｅＳｉＣｌ２が高選択性で形成されるという形で以下の開示では述べられる。当分野の専門家ならば、この概念が、グリニャール試剤としての他のアルキル−又はアリール−マグネシウムハライドと他のアルキル−又はアリールトリハロシラン試剤とを反応させて、対応するジアルキル−、ジアリール−、又はアルキルアリールジハロシランを形成することまで本開示の範囲を超えずに展開可能であるということを理解するであろう。グリニャール試剤のいくつかの例としては、エチルマグネシウムクロリド、シクロペンチルマグネシウムブロミド、メチルマグネシウムヨーディド、イソプロピルマグネシウムクロリド、ブチルマグネシウムクロリド、フェニルマグネシウムクロリド、３，４，５−トリフルオロフェニルマグネシウムブロミドが挙げられるが、それに限定されない。アルキル−又はアリールトリハロシランは、式ＲＳｉＸ３を有し、式中、Ｒが１〜約１０個の炭素原子、あるいは１〜約４個の炭素原子を有するアルキル基、又は約６〜約２４個の炭素原子、あるいは約６〜約１２個の炭素原子を有するアリール基であり、及びＸが塩素、臭素、又はヨウ素などのハロゲン原子である、当分野で既知の任意の分子であってもよい。アルキル−又はアリールトリハロシランのいくつかの例としては、メチルトリクロロシラン、エチルトリブロモシラン、及びフェニルトリクロロシランが挙げられるが、それに限定されない。
【００１５】
本開示の１つの態様によれば、式１に示す化学反応は、溶媒中に溶解又は分散されたグリニャール試剤（ＰｈＭｇＣｌ）とトリクロロシラン（ＭｅＳｉＣｌ３）との間に起こって、ＰｈＭｅＳｉＣｌ２及びマグネシウム塩を生成するカップリング反応として記述することができる。マグネシウム塩及び溶媒は、マグネシウム塩が溶液から固体として沈澱するように選択される。あるいは、溶媒は芳香族炭化水素、あるいはトルエンであってもよく、及びマグネシウム塩は塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ２）である。式２に従って副生成物としてＰｈ２ＭｅＳｉＣｌの形成に至る副反応が、グリニャール試剤とＰｈＭｅＳｉＣｌ２生成物との間で起こる可能性がある。この形の化学反応は直列−並列反応として知られる。所望の生成物、この場合ＰｈＭｅＳｉＣｌ２の選択性を増加させるためには、本開示の方法に従って行われる反応が押し出し流れ反応器、連続管型反応器（ＣＴＲ）、ピストン流れ反応器、及び直列に接続された１つ以上の連続撹拌槽型反応器（ＣＳＴＲ）中で、あるいはＣｏｒｎｉｎｇ（登録商標）Ａｄｖａｎｃｅｄ流れ反応器（商標）中で起こるようにさせる。
【数１】
0006338651.tif 000002
【００１６】
ジアルキル−、ジアリール−、又はアルキルアリールジハロシランをグリニャールカップリング反応において高選択性で作製する方法は、概して、押し出し流れ反応器（ＰＦＲ）、連続管型反応器（ＣＴＲ）、ピストン流れ反応器、及び直列で接続された１つ以上の連続撹拌槽型反応器（ＣＳＴＲ）の群から選択される１つの反応器を提供するステップ、炭化水素溶媒流れを所定の流量で反応器に提供するステップ、アルキル−又はアリールトリハロシラン流れを所定の流量で反応器に提供するステップ、アルキル−又はアリールマグネシウムハライドを含むグリニャール試剤流れを所定の流量で反応器に提供するステップ、溶媒流れ、アルキル−又はアリールトリハロシラン流れ、及びグリニャール試剤流れを一体化して、一体化された反応剤流れを形成させ、一体化された反応剤流れを１０℃〜８０℃の温度で反応させて、Ｒ２ＳｉＸ２、Ｒ３ＳｉＸ、及び塩を含む生成物混合物を形成し、そこでは、各Ｒがアルキル又はアリール基であるように独立に選択され、Ｘがハロゲン基であり、及び生成物混合物中のＲ２ＳｉＸ２：Ｒ３ＳｉＸの質量比が７：１超であるステップ、及び所望によって生成物混合物を捕集するステップを含む。この方法では、溶媒流れ、アルキル−又はアリールトリハロシラン流れ、及びグリニャール試剤流れの流量は、一体化された反応剤流れ中のアルキル−又はアリールトリハロシラン：グリニャール試剤の質量比が１．５：１以上であり、及び一体化された反応剤流れ中の溶媒：グリニャール試剤の質量比が３：１以上であるように選択される。
【００１７】
炭化水素溶媒は、グリニャールカップリング反応を行うことができる任意の脂肪族又は芳香族溶媒であってもよい。炭化水素溶媒のいくつかの具体的な例としては名前をいくつか挙げると、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ｎ−ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、及びシクロヘプタンが挙げられるが、限定ではない。
【００１８】
押し出し流れ反応器（ＰＦＲ）では、１つ以上の流体試剤は、パイプ又は管状コンポーネントからポンプ送液される。化学反応は、試剤がＰＦＲを通って流れ又は移動するに従って進行する。この形の反応器中で、変化する反応速度は移動した距離に対して勾配を作り出す。言い換えれば、ＰＦＲへの入口で反応速度は通常極めて高いが、反応混合物のＰＦＲ中の流通と共に試剤の濃度が減少し、かつ生成物の濃度が増加するに従って、反応速度は遅くなるか又は減少し始める。図１を参照すると、１つ以上の流体モジュール１０を含むＰＦＲ  ５の例が示される。そのようなＰＦＲの具体的な例はＣｏｒｎｉｎｇ（登録商標）アドバンスド流れガラス反応器（商標）である。各流体モジュール１０は、反応１５に当てられた１つの流体層及び反応の間、熱交換によって温度制御を提供する伝熱流体２０の循環に当てられた２つの流体層（反応層１５の両側に位置する）を含む。反応層１５は、グリニャール反応の反応剤及び生成物が流体モジュール１０を出入りし得る少なくとも１つ入口１６及び少なくとも１つ出口１７を含む。同様に、伝熱層２０は、伝熱流体が流れることができる、少なくとも１つ入口及び出口２１を含む。
【００１９】
ここで図２を参照すると、ＰＦＲ  ５中の流体モジュール１０に対する２つの異なる構成（Ｃ１及びＣ２）が示される。これらの構成の各々は本開示の教示に従ってグリニャール反応を実施するのに使用される。当分野の専門家ならば、ＰＦＲ  ５中で異なる形又は設計の流体モジュール１０を使用するこれらの２つの構成（Ｃ１及びＣ２）が、この概念をより充分に説明するために本開示では使用されるということ、及び他の流体モジュール１０、並びに他の形の押し出し流れ反応器、連続管型反応器（ＣＴＲ）、ピストン流れ反応器、又は直列に接続された１つ以上の連続撹拌槽型反応器（ＣＳＴＲ）の使用が本開示の範囲内にあるように企図されているということを理解するであろう。
【００２０】
図２で示される２つのＰＦＲ反応器構成の間の主な差異は、使用される流体モジュール１０の数及び形である。構成Ｃ１では、５つの異なる流体モジュールが使用され、グリニャール試剤をアルキル−又はアリールトリハロシランと混合した後、１つの流体モジュールが使用される。比較として、構成Ｃ２は４つの異なる流体モジュール１０を使用し、グリニャール試剤をアルキル−又はアリールトリハロシランと混合した後、３つのモジュールが使用される。２つの異なるＰＦＲ構成（Ｃ１及びＣ２）で使用される異なる流体モジュール１０の各々は、Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）アドバンスド流れガラス反応器（商標）での使用のためにＣｏｒｎｉｎｇ  Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ（Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ）から市販されている。
【００２１】
ＰＦＲ  ５、連続管型反応器（ＣＴＲ）、ピストン流れ反応器、又は直列に接続された１つ以上の連続撹拌槽型反応器（ＣＳＴＲ）、あるいはＣｏｒｎｉｎｇ（登録商標）アドバンスド流れガラス反応器（商標）における反応のための滞留時間は、チャンネル、パイプ、又は管のサイズ、並びに反応器中の反応混合物の流量を含む多くの要素に依存する。約２０〜約３０秒の範囲の反応器中の滞留時間は、グリニャール試剤が反応時に完全に消費される状況に対応する。しかしながら、滞留時間のこの長さは、また、反応時に沈澱するマグネシウム塩の量により反応器の少なくとも部分的な詰まりに至ることもある。押し出し流れ反応器では、固体のマグネシウム塩が反応器の壁上に沈澱することがあり、定期的なクリーニング又は除去する必要がある。したがって、塩堆積物を頻繁に除去する必要性を低減するためにはより短い滞留時間が使用されてもよい。
【００２２】
アルキル−又はアリールトリハロシラン流れ及びグリニャール試剤流れの流量は、反応器中の一体化された反応剤流れに対する滞留時間が約３０秒未満、あるいは約２０秒未満であるように予め決めることができる。滞留時間は、一体化された反応剤流れが反応器内に滞在する平均の時間として定義される。流量は、所望の滞留時間及び反応器の体積に基づいて予め決められてもよい。例えば、構成Ｃ１では、全反応器体積が約８ｍＬで４．８秒の滞留時間が１分当たり１００ｍＬの流量で達成される。構成Ｃ２では、全反応器体積が約２６ｍＬで１５．６秒のより長い滞留時間が１分当たり１００ｍＬの流量で達成される。
【００２３】
グリニャールカップリング反応は、塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ２）などの金属塩を副生成物として生成する。反応器中の狭いチャンネルによって、反応器はＭｇＣｌ２塩の形成により詰まる可能性が存在する。本開示の１つの態様によれば、反応器系をクリーニングする可能な方法は、反応器を水でフラッシュして、堆積した塩を溶解することである。しかしながら、この場合には、アルキル−又はアリールトリハロシラン試剤が加水分解に対して鋭敏であることによって、反応器系は、グリニャールカップリング反応を行うのに先立って乾燥されなければならない。
【００２４】
３：１のＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ比を用いて実験をＰＦＲ  ５中３５℃で２分間の長い滞留時間を行って、グリニャール試剤の全てが反応し、及び最大量の塩化マグネシウム塩を形成して、反応器を少なくとも一部詰めるということが確認された。圧力低下は、０．７ＭＰａ（１００ｐｓｉｇ）以上であることが測定され、及びランの間増加し続けて、塩が蓄積しつつあり、及び流れを制限し始めていることが示された。反応器での圧力低下が少なくとも５０％、あるいは１００％以上、あるいは１５０％以上増加する場合には、反応器は、クリーニングされなければならない。グリニャール試剤（例えば、ＰｈＭｇＣｌ）及びアルキル−又はアリールトリハロシラン（例えば、ＭｅＳｉＣｌ３）の流れを直ちに止め、炭化水素溶媒（例えば、トルエン）の流れのみを反応器中で続ける。ガスクロマトグラフィを用いて反応器中にフラッシュされる溶媒の試料を分析して、存在するＭｅＳｉＣｌ３の量を測定する。ＭｅＳｉＣｌ３の量が約０．１％未満と測定されたならば、反応器を水で数分間フラッシュして、堆積したマグネシウム塩の全部を溶解及び除去する。
【００２５】
水をＰＦＲ系の流体モジュール中に流したならば、蠕動ポンプを用いて、イソプロパノール（ＩＰＡ）などのアルコールを流体モジュール中にポンプで送って、反応器壁上のいかなる残存する水も除去する。次いで、流体モジュールを炭化水素溶媒によりフラッシュし、及びガスクロマトグラフィを使用して、炭化水素溶媒を分析して、溶媒のみが反応器中に存在する（例えば、残存する水又はＩＰＡは無い）ということを確認する。次いで、流体モジュールをＰＦＲ系の残りにより再構成し、及びライン中に溶媒をフラッシュする。ベースライン圧力低下曲線を再測定して、反応器がもはや詰まっていないということを確認する。
【００２６】
本開示の別な態様によれば、塩が反応器のガラス壁上に塊化し、及び沈降又は堆積するのを防止するために、高流量が使用される。例えば、１００ｍＬ／分以上の流量を使用して、反応器が約２６ｍＬ以下の全体積を有するときには、マグネシウム塩は、反応器中で塊化及び沈降せず、又は反応器の壁上で堆積しないことを確認することができる。加えて、高流量は良好な混合を可能とし、反応に対する選択性の結果を改善するのみならず、溶液中で塩を懸濁し、及び塩の塊化及び析出の防止を助ける。あるいは、所望のラン回数を完結した後、ＰＦＲがクリーニングされるならば、低流量が使用されてもよい。２６ｍＬ以下の体積を有するＰＦＲでの使用に許容し得る低流量としては、約１０ｍＬ／分〜９９ｍＬ／分の範囲、あるいは約２５〜９９ｍＬ／分の間、あるいは約５０〜９９ｍＬ／分の間、及びあるいは約７５〜９９ｍＬ／分の間の流量が挙げられる。当分野の専門家ならば、より大きな体積を含む反応器に対して上述の高及び低流量を拡張する方法は判るであろう。
【００２７】
本開示の更なる別な態様によれば、反応器中でのマグネシウム塩の塊化及び析出又は反応器壁上での堆積の重大性は、使用される溶媒：ＰｈＭｇＣｌの比の増加又は低い温度での反応の実施により低減可能である。６：１以上の溶媒：ＰｈＭｇＣｌ比は、反応時に形成されるマグネシウム塩の濃度を希釈し、それによって反応器の詰まりのリスクを低減する。反応の温度は、同一の反応器を用いるいくつかの実験で様々であった。８０℃の反応温度では、反応器は、第１の少数のラン時に反応器中で殆ど瞬時に詰まることが観察された。しかしながら、１０℃の反応温度では、４回のラン後でも実質的に詰まりは反応器中で観察されなかった。これは、マグネシウム塩がグリニャールカップリング反応で生成される速度が反応温度に極めて依存的であり、熱交換器流体の温度により決定付けられるということを意味する。
【００２８】
Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）アドバンスド流れガラス反応器（商標）などのＰＦＲ５から詰まりを除去する方法は、ＰＦＲ及びライン中に炭化水素溶媒をフラッシュするステップ、ＰＦＲから詰まった流体モジュールを単離するステップ、詰まった流体モジュール中に溶媒をフラッシュして、アルキル−又はアリールトリハロシランを除去するステップ、全てのマグネシウム塩を除去するまで、流体モジュール中に水をフラッシュするステップ、流体モジュール中にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）をフラッシュして、残存する水を除去するステップ、流体モジュール中に炭化水素溶媒をフラッシュして、系からＩＰＡを再度パージするステップ、及び流体モジュールとＰＦＲの残りとの接触を再構築するステップから構成される。
【００２９】
以下の特定の実施形態は、本開示の教示に従った使用を例証するために提供されており、本開示の範囲を限定するよう解釈されるべきではない。本開示を考慮すれば、開示される具体的な実施形態において、本発明の趣旨又は範囲から逸脱することなく若しくはそれらを超えることなく多くの変更がなされ、それでも同様の又は類似する結果を得ることができることを当業者は理解されよう。当業者であれば、本明細書に報告される任意の特性が、日常的に測定され、かつ複数の異なる方法によって得られ得る特性を表すことを更に理解する。このような１つの方法及び他の方法を示す本明細書に記載の方法は、本開示の範囲を超えることなく利用することができる。
【００３０】
例１−ＰＦＲ系選択及び操作
【００３１】
Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）アドバンスド流れガラス反応器（商標）などのＰＦＲ系は、異なる反応器構成を可能とさせる異なる流体モジュール（プレート）を組み込んだモジュール反応器設計である。この構成を変化することは、混合パラメーター、滞留時間、フィード個所、及び伝熱を変える。塩が詰まる可能性によって、第１のＰＦＲは、注入点から離れた狭いキャビティの無い真っ直ぐなスルーチャンネルを含む、反応を起こすための単一の流体モジュール（ＳＬＡＲ形又は設計、図１を参照）を含む。このＰＦＲ構成はまた図２中で構成Ｃ１として示される。トルエンは第１のプレート（Ｍ０２−Ｏ１）に入り、ＭｅＳｉＣｌ３は第２〜最終のプレート（Ｍ０２−Ｏ４）に導入され、次いでグリニャール試剤は最終のプレート（Ｍ０２−Ｏ５）に導入される。第１の組の流体モジュール又はプレートに対する温度制御浴又は伝熱流体を止め、及び反応器が所望の反応温度に接近するように、最後の２つに伴う温度制御浴を変える。構成Ｃ１は、１００ｍＬ／分流量で４．８秒の滞留時間を生じる。
【００３２】
第２のＰＦＲ構成Ｃ２を使用して、反応に対して長い滞留時間を得る。詰まりの可能性の増加及び混合の劣化を伴わずに、流量を減少することはできないので、滞留を増加させる選択される方法は、より多くの流体プレート又はモジュールを追加することである。第２のＰＦＲ構成Ｃ２は、反応剤を低温（すなわち、塩がこの低い温度ではさほどの量を形成しない）で一緒に混合するための２つのプレート（ＳＪＡＲ型及びＤＴＨ型）、次いで温度制御及び滞留時間の増加のために第３及び第４のプレート（両方ともＤＴＲ型）を含む。ＳＪＡＲ型又はＤＴＨ型として本明細書に記述のプレートの形又は設計は、Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ（Ｃｏｒｎｉｎｇ、ＮｅｗＹｏｒｋ）から市販されている流体モジュールを指し、その一般的な形状は図３に示される。トルエン及びＭｅＳｉＣｌ３は第１のプレート（Ｍ０２−Ｏ４）中に導入され、次いでグリニャール試剤は適切な混合のために第２プレート（Ｍ０２−Ｏ２）中に導入され、これらの２つのプレートは１０℃で運転される。次いで、反応剤は滞留時間を得るために最後の２つのプレート（Ｍ０２−Ｏ１及びＭ０１−Ｏ１）に入り、及びこれらのプレートに対する温度は所望の温度に合わせて浴温度の制御により様々である。この構成Ｃ２を図２Ｂに示す。構成Ｃ２は、１００ｍＬ／分の流量で１５．６秒の滞留時間を生じる。
【００３３】
可能な場合には、３１６ＳＳ  Ｓｗａｇｅｌｏｋ圧縮管継手及び配管を用いて材料間の接続は行われ、マニホールドのＰＦＲへの接続にはテフロン配管が使用される。他方、流体モジュールは、特別な管継手を必要とする。流体モジュールそれ自身はガラスであるが、ＤｕＰｏｎｔ  Ｋａｌｒｅｚ（商標）Ｏ−リングは、３１６ＳＳとガラスとの間のシール表面を提供する。ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）材料が接続で使用される。反応器セットアップに対する典型的な配管のサイズは０．３ｃｍ（１／８”）の外径配管である。
【００３４】
ＰＦＲ系に対する試剤の供給をＴｅｌｅｄｙｎｅ  Ｉｓｃｏ  １０００Ｄ容積式シリンジポンプにより行った。ポンプはＰＴＦＥシールによるＮｉｔｒｏｎｉｃ  ５０合金（３１６ＳＳに類似）で構成されている。ポンプの耐圧は１．７ＭＰａ（２５０ｐｓｉｇ）であり、これはＣｏｒｎｉｎｇアドバンスド流れガラス反応器（商標）の限界である。１つはトルエン用、１つはＭｅＳｉＣｌ３用、及び１つはグリニャール試剤用の３台の１０００ｍＬ  Ｔｅｌｅｄｙｎｅ  Ｉｓｃｏポンプを使用した。
【００３５】
Ｔｈｅｒｍｏ−Ｆｉｓｈｅｒ  Ｎｅｓｌａｂ  ＮＴＥ−７再循環浴を用いて、ＰＦＲ系の温度を維持した。浴で使用される流体は、Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  ２００流体（登録商標）１０ｍｍ２／秒（１０センチストークス）粘度であった。浴を特定の温度に設定し、次いでこの温度を維持するように自動調整した。温度制御を流体モジュール間の様々な個所に配置された熱電対からＣａｍｉｌｅ  ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ系により提供し、データを１０秒毎に収集した。ガラスは効率的な熱導体ではないが、大きな表面積がＣｏｒｎｉｎｇ反応器に優れた伝熱能力を与える。著しい温度上昇は反応時に認められない。ポンプの集積化圧力センサー並びに系中に配置された様々な圧力計により圧力をモニターした。
【００３６】
例２−実験ランの実施及びサンプリング
【００３７】
構成Ｃ１又はＣ２に相当する例１で説明したＰＦＲ  ５を用いた合計２５の実験ランを表１に示したように行った。各実験ラン時、反応混合物の試料を捕集し、分析した。ＰＦＲ構成Ｃ１を用いてランＮｏ  １〜１８を行い、及びＰＦＲ構成Ｃ２を用いてランＮｏ  １９〜２５を行った。構成Ｃ１を用いて流量を１００ｍＬ／分から３０ｍＬ／分に低下することにより、１６秒の滞留時間（ランＮｏ  １０〜１２）を得た。第１の浴温度を一貫して１０℃で保つとき、構成Ｃ２に対する温度は、第２の浴温度に対応する。反応器構成の各々で、マグネシウム塩の堆積が反応器のクリーニングを必要とする前に、単一温度で少なくとも約４回のパスを実験ランで行った。
【００３８】
【表１】
0006338651.tif 000003
【００３９】
各実験ラン（Ｎｏ．１〜２５）では、無水トルエンをＦｉｓｃｈｅｒからの４Ｌ容器及びＳｉｇｍａ  Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｏｍｐａｎｙからの１８Ｌ  Ｐｕｒｅ−Ｐａｃ（商標）ボンベにより供給した。ＭｅＳｉＣｌ３をボンベから供給し、及びグリニャール試剤をガロン容器により供給した。０．６ｃｍ（１／４”）テフロン配管を用いてトルエン及びグリニャール試剤容器を窒素ブランケット下でポンプの中に装填した。ＭｅＳｉＣｌ３ボンベ及びトルエンボンベを連続装填のためにポンプに直接に接続した。
【００４０】
グリニャール試剤を使用に先立って試験して、使用される試剤溶液の特性を同定した。試験は、試剤の試料をメタノールによりクエンチして、グリニャール試剤をベンゼンに変換し、次いでガスクロマトグラフィ（ＧＣ）を用いて試料を分析することからなる。次いで、別の試料をテトラエトキシシランを用いてこの試料中のベンゼンの量をクエンチした試料と比較するＧＣにより試験した。ベンゼン重量％の差は、試料中のグリニャール試剤の濃度に相当する。第１のグリニャール試料はグリニャール溶液の全重量基準で２０．１重量％のグリニャール試剤（残りの重量％は主としてジエチルエーテルである）を含有し、及び第２のグリニャール試料は２３．４重量％のグリニャール試剤を含有していた。
【００４１】
各実験ランから採取した試料を窒素ブランケット下、空気を含まない環境で取り扱い、次いで遠心分離して、液相を固相から分離した。液体部分をガスクロマトグラフィ（ＧＣ）により分析した。プロットしたデータは、常に、実験ランから採取される最後の試料、通常、系がこの時点で定常状態に達したという仮定の下で４番目の試料（いくつかのランは３つの試料を含むのみであった）であった。この試料は常に採取と同一の日にＧＣにかけて、試料の完全性を確保した。
【００４２】
グリニャールカップリング反応は高発熱的であり、約１３８．９℃の断熱的な発熱を伴う。しかしながら、Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）アドバンスド流れガラス反応器（商標）は、大きな表面積が伝熱に利用可能であることにより極めて高い伝熱能力を有する。図４Ａ及び４Ｂを参照すると、グリニャール試剤が系の中に導入された後反応器の出口温度により示されるように、ランＮｏ  １３（図４Ａ）及び９（図４Ｂ）に対してＰＦＲ中の反応時反応の開始後、小さい温度変化のみが測定可能である。各実験ランでは、流体モジュールで使用される伝熱流体（例えば、浴温度）を所望の温度で設定することにより、反応温度を所望の温度に維持した。所望の温度は、異なる実験ランに対して表１中で示すように約１０℃〜約８０℃の範囲であった。
【００４３】
３つの試剤フィード流れ：溶媒（例えば、トルエン）、ＭｅＳｉＣｌ３、及びグリニャール試剤（例えば、ＰｈＭｇＣｌ）に対する流量を調整して、溶媒：グリニャール試剤及びＭｅＳｉＣｌ３：グリニャール試剤の所望の質量比を得る。トルエン：ＰｈＭｇＣｌの質量比は塩の塊化及びＰＦＲの詰まりのリスクを低減するために少なくとも３：１に維持され、あるいはこの質量比は少なくとも５：１、あるいは少なくとも６：１に維持される。ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌの質量比は、５：１（ランＮｏ  １７〜１８）、３：１（ランＮｏ  １、５、９〜１０、１２〜１３、１９、２３）、２：１（ランＮｏ  ２、６、１１、１４、２０、２４）、１．５：１（ランＮｏ  ３、７、１５、２１、２５）、及び１：１（ランＮｏ  ４、８、１６、２２）と実験ランで様々であった。
【００４４】
グリニャール試剤は、通常所定の量の溶媒と予備混合して、ＰＦＲの中に移すのを助ける点でグリニャール試剤溶液であると考えられてよい。グリニャール溶液で使用される溶媒は、グリニャール反応で使用される炭化水素溶媒と同一であってもよく、炭化水素溶媒と相溶性又は混和性である溶媒であってもよい。グリニャール溶液の形成に使用される溶媒のいくつかの具体的な例としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテルなどのジアルキルエーテル、クロロベンゼン（ＰｈＣｌ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）メチルｎ−プロピルエーテル（ＭＰＥ）テトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、２，３−ジヒドロフラン（ＤＨＦ）、フラン、ベンゼン、２−メチルテトラヒドロフラン（２−ＭｅＴＨＦ）、及びシクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）が挙げられる。前躯体溶液中のグリニャール試剤の量は、溶液の全重量基準で約７５重量％未満、あるいは約５０重量％未満、あるいは約２５重量％未満である。例えば、ランＮｏ．１９では、トルエン、ＭｅＳｉＣｌ３、及びグリニャール溶液（２３．４重量％  ＰｈＭｇＣｌ）の流量を４０．５５６ｍＬ／分、２２．３１９ｍＬ／分、及び３７．１２５ｍＬ／分に保持して、１００ｍＬ／分の全流量をもたらし、トルエン：ＰｈＭｇＣｌの質量比を６：１に維持し、及びＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌの質量比を３：１で維持した。
【００４５】
各実験ランで反応温度を約１０℃〜８０℃の範囲内である所望の温度に維持した。８０℃で行われた試行（ランＮｏ．１２）は、反応器の塩の塊化によるクリーニングに先立つ反応器へのパスを３回しか完結しなかったという結果であった。８０℃以上の高い温度は、塩のＰＦＲ系中での極めて急速な形成を引き起こす。
【００４６】
溶媒、例えばトルエンをＰＦＲに異なる流量でフラッシュすることにより、ベースライン差圧低下（ΔＰ）が使用に先立って各ＰＦＲに対して生じる。結果としてＰＦＲの詰まりを生じることもある、塩形成が反応時に起こる潜在性が存在するので、反応の過程の間のΔＰの測定を使用して、測定されるベースラインデータに対して比較することができる。この比較は、ＰＦＲが詰まっている程度について現時点での見積もりを提供する。表２及び３にＰＦＲ構成Ｃ１及びＣ２に対して得られたベースライン差圧低下がそれぞれ提供される。構成Ｃ２における圧力低下は、ＰＦＲの構築で使用される１つ少ない流体モジュール１０が存在するが（図２を参照）、構成Ｃ１における圧力低下よりも大きいことが示される。
【００４７】
【表２】
0006338651.tif 000004
【００４８】
【表３】
0006338651.tif 000005
【００４９】
本明細書で使用されるＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性は、式３で示すようにＰｈＭｅＳｉＣｌ２：Ｐｈ２ＭｅＳｉＣｌの質量比として定義される。ＰＦＲを出る反応生成物混合物中に存在するＰｈＭｅＳｉＣｌ２及びＰｈ２ＭｅＳｉＣｌの収率（例えば、重量％）は、ガスクロマトグラフィ（ＧＣ）を用いて測定される。より詳しくは、生成物の各々に伴うガスクロマトグラフィ中のピーク下の面積に対応する応答要素を掛け、次いで正規化を行う。
【数２】
0006338651.tif 000006
【００５０】
様々な実験ランで得られるＰｈＭｅＳｉＣｌ２の収率（重量％）をＰＦＲ構成Ｃ１に対しては図５に、及びＰＦＲ構成Ｃ２に対しては図６に示す。ＰＦＲ構成Ｃ１を用いて行われたランの各々では、ＰｈＭｅＳｉＣｌ２の収率は約１１％〜１５％の範囲であった（図５を参照）。より低い温度（例えば、約１０℃）及び約１．５：１〜３：１のＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌの質量比に対して行われるラン（図５を参照）に対して、より高収率が得られる。ＰＦＲ構成Ｃ２を用いて行われた実験ランの各々では、ＰｈＭｅＳｉＣｌ２の収率は、約１１％〜１３％の範囲であった（図６を参照）。
【００５１】
様々な実験ランからＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性に対して得られた結果は、ＰＦＲ構成Ｃ１に対して表４及び図７に及びＰＦＲ構成２に対して表５及び図８に提供される。これらの表及び図に示されるデータは、反応がこの時点で定常状態に達したという前提で、各実験条件で反応器の最終のパスから採取される試料から得られる。ＰＦＲ構成Ｃ１（表４、図７）又はＣ２（表５、図８）のいずれかで行われる反応において、ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌの質量比が増加するに従って、ＰｈＭｅＳｉＣｌ２の選択性も増加することが観察される。加えて、ＰＦＲ構成２を用いて行われるランでは（表５、図８を参照）、温度が増加するに従ってＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性が増加する傾向も観察される。ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌの質量比が１．５：１以上である場合には、ＰＦＲ構成Ｃ１又はＣ２のいずれかの使用は、従来の方法を用いて得られる７：１比よりも実質的に大きいＰｈＭｅＳｉＣｌ２の選択性を生じる（図７又は８を参照）。
【００５２】
【表４】
0006338651.tif 000007
【００５３】
【表５】
0006338651.tif 000008
【００５４】
ここで図９を参照すると、ＰＦＲ構成Ｃ１及びＣ２において１０℃で行われた実験ランから得られるＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性が、ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ質量比の関数としてプロットされている。反応がＰＦＲ構成Ｃ２で起こるＰＦＲ構成Ｃ１と比較して増加した滞留時間は、ＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性の増加を生じる。
【００５５】
ＰｈＭｅＳｉＣｌ２選択性に加えて、反応におけるＰｈＭｅＳｉＣｌ２及び／又はＰｈ２  ＭｅＳｉＣｌの形成に対するモル％選択性も式４に従って求めることができる。Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）アドバンスド流れガラス反応器（商標）をＰＦＲ５として用いて行われた実験ランに対してはモル％選択性の計算は様々な反応温度の間で一貫し、極めて僅かな変動を示す。１０℃の温度で行われる反応に対して計算されたモル％選択性を、ＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ比の関数として図１０（Ａ及びＢ）にプロットする。３：１のＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ比では、反応器は、ＰｈＭｅＳｉＣｌ２のほぼ９０％選択性及びＰｈ２ＭｅＳｉＣｌの１％選択性を達成する。ＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ比が増加すると、ＰｈＭｅＳｉＣｌ２及びＰｈ２ＭｅＳｉＣｌのモル選択性は、平坦化し始め、ＰｈＭｇＣｌが希薄になるにつれて反応が最大効率に達していることを示す。
【数３】
0006338651.tif 000009
【００５６】
加えて、ＰｈＭｇＣｌ％転化率も式５に従って計算することができる。ＰｈＭｇＣｌ％転化率を、Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）アドバンスド流れガラス反応器（商標）５を用いて行われた実験ランの各々に対して計算し、表６及び７に要約する。様々な温度及びＰＦＲ構成Ｃ１系で行われた反応に対するＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ比で得られた結果を表６に要約する。様々な温度及びＰＦＲ構成Ｃ２系で行われた反応に対するＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌ比で得られた結果を表７に要約する。表６及び７の両方で表にした結果は、グリニャール試剤の全てがＭｅＳｉＣｌ３：ＰｈＭｇＣｌの１：１比及び短い４．８秒滞留時間でも反応したことを確認する。しかしながら、この計算に伴う誤差は約±２０％であるということが特記される。
【数４】
0006338651.tif 000010
【００５７】
【表６】
0006338651.tif 000011
【００５８】
【表７】
0006338651.tif 000012
【００５９】
前述の本発明の様々な形態の説明は、例証及び説明のために提示されている。包括的であるようにも、本発明を開示される正確な形態に限定するようにも意図されない。上記の教示を鑑みて、数々の修正又は変更が可能である。論じられる形態は、本発明の原理及びその実際の用途の最善の例証を提供するよう選択及び記載されており、それにより当業者は、本発明を様々な形態で、且つ企図される特定の用途に適した様々な修正を伴って利用することが可能となる。そのような修正及び変更の全ては、それらが公正に、法律的に、且つ公平に権利を与えられた広さに従って解釈された場合、添付の特許請求の範囲により決定される本発明の範囲内に含まれる。
【図１】
0006338651.tif 000013
【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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