(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体（４０１）から、モジュール（１２２；５０１，５０４，５０７，５０９，５１８，５１９，５３１）を、前記支持体に対して垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、前記モジュールはリフトに先立って前記支持体によって支持されており、
該アセンブリは、本体（１１６）とトラック（１１０）とを備え、
前記本体には、第１及び第２のホイール又は第１及び第２の滑動装置（１１７，１１８）が設けられ、前記第１及び第２のホイールの両方、又は第１及び第２の滑動装置の両方が、前記本体の中央水平面（１３０）から垂直に延びており、
前記トラック（１１０）は、前記モジュール又は前記支持体に設けられ、かつ、前記モジュールと前記支持体との間に前記本体が挿入されたとき、前記本体の前記第１及び第２のホイール又は第１及び第２の滑動装置と接触し、前記モジュールと前記支持体との間で前記本体をガイドするように配置されており、
前記第１のホイール又は前記第１の滑動装置は、前記第２のホイール又は前記第２の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面からさらに延び、使用時に、前記第１のホイール又は前記第１の滑動装置、及び前記第２のホイール又は前記第２の滑動装置は、前記トラックと接触しており、
前記本体は、前記モジュールと前記支持体との間に挿入されるように構成され、前記本体の前記モジュールと前記支持体との間の挿入が、前記モジュールが、前記モジュールが前記支持体に支持されている第１の位置から、前記モジュールが前記支持体から離れた第２の位置へとリフトされることを引き起こすようになっており、
前記トラックは傾斜部（１１１；１１２）を備え、前記本体が前記トラックの前記傾斜部に沿って前進し、前記モジュールと前記支持体との間に挿入されるとき、前記モジュールが前記支持体からリフトされる、アセンブリ。
【請求項２】
前記トラックは、第１の傾斜部と第２の傾斜部を備え、前記トラックは、第１の水平な平坦部と第２の水平な平坦部とをさらに備え、前記第１の水平な平坦部は、前記第１の傾斜部と前記第２の傾斜部との間に配置されている、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
前記第１及び第２の滑動装置の各々は、それぞれの湾曲面又は山型部（スパイク部）の接点で前記トラックと接触するための湾曲面又は山型部（スパイク部）を有する、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項４】
前記第１のホイール又は前記第１の滑動装置は、前記第２のホイール又は前記第２の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面からさらに距離ｈ延び、前記第１のホイールの軸は、前記第２のホイールの軸から水平方向に距離Ｄに配置されており、又は前記第１の滑動装置の接点は、前記第２の滑動装置の接点から水平方向に距離Ｄに配置されており、
前記トラックは、第１及び第２の傾斜部を有し、前記第１の傾斜部は、前記第２の傾斜部と直接一致し、前記第１の傾斜部の開始部は、前記第２の傾斜部の開始部から水平方向に前記距離Ｄに、かつ、前記第２の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離ｈに配置されている、請求項１又は３に記載のアセンブリ。
【請求項５】
前記トラックは、さらに、第１の水平な平坦部及び第２の水平な平坦部を有し、
前記第１の水平な平坦部の開始部は、前記第２の水平な平坦部の開始部から水平方向に前記距離Ｄに、かつ、前記第２の水平な平坦部の開始部から垂直方向に前記距離ｈに配置され、
前記第１の水平な平坦部は、前記第１の傾斜部と前記第２の傾斜部との間に配置されている、請求項４に記載のアセンブリ。
【請求項６】
前記トラックは、さらに、前記第１の傾斜部の開始部に接続された第３の水平な平坦部を有する、請求項２又は５に記載のアセンブリ。
【請求項７】
前記第１の傾斜部は、前記第２の傾斜部に接続され、前記第１及び第２の傾斜部は、単一の傾斜部を一緒に形成している、請求項２又は４に記載のアセンブリ。
【請求項８】
前記第１及び第２の傾斜部の傾きは、１：５０〜１：２００の範囲にある、請求項２又は４ないし７のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項９】
前記第１のホイール又は前記第１の滑動装置及び前記第２のホイール又は前記第２の滑動装置は、前記本体の前記中央水平面から垂直下向き方向に延びている、請求項１ないし８のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項１０】
前記本体は、水平面を有し、前記水平面は、前記中央水平面に対して第１及び第２のホイール又は前記第１及び第２の滑動装置の反対側に配置されている、請求項１ないし９のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項１１】
前記本体には、さらに、前記モジュールと前記支持体との間に挿入されたときに前記本体をガイドする複数のガイドホイールが設けられており、前記複数のガイドホイールは、前記第１及び第２の滑動装置が設けられている側と前記本体の対向している側に設けられている、請求項１ないし１０のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項１２】
前記本体には、さらに、前記モジュールと前記支持体との間に挿入されたときに前記本体をガイドする複数のガイドホイールが設けられており、前記複数のガイドホイールは、前記モジュール又は前記支持体と接触するために設けられており、前記複数のガイドホイールは、前記モジュール又は前記支持体と接触するように設けられた前記複数のガイドホイールが前記水平面を共に規定するように設けられている、請求項１０に記載のアセンブリ。
【請求項１３】
さらに、前記モジュールを運ぶための移動可能なカートを具備し、前記移動可能なカートは、
前記モジュールをガイドし支持するためのガイドホイールと、
前記本体の前記ガイドホイールで前記カートの前記ガイドホイールをアライメントさせるために、前記移動可能なカートの前記ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節するための調節部と、を有する、請求項１１又は１２に記載のアセンブリ。
【請求項１４】
前記本体を前記支持体に解放可能に接続するためのコネクタをさらに具備する、請求項１ないし１３のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項１５】
パターニングビームを用いてターゲットを処理するためのリソグラフィシステムであって、該リソグラフィシステムは、
前記パターニングビームを与え、前記パターニングビームに対して前記ターゲットを移動させるための１組のモジュールと、前記１組のモジュールを支持するためのフレームとを具備し、
前記１組のモジュールは、モジュールを有し、前記モジュールは支持体によって支持され、支持体からリフト可能であり、
前記支持体は前記フレーム、前記フレームの一部、又は前記１組のモジュールのうちの他のモジュールの一部であることができ、
前記リソグラフィシステムは、本体（１１６）を、前記モジュールと前記支持体との間に挿入するように構成され、前記本体の前記モジュールと前記支持体との間の挿入が、前記モジュールが、前記モジュールが前記支持体に支持されている第１の位置から、前記モジュールが前記支持体から離れた第２の位置へとリフトされることを引き起こすようになっており、前記本体（１１６）は、第１及び第２のホイール又は第１及び第２の滑動装置（１１７，１１８）を備え、前記第１及び第２のホイールの両方、又は第１及び第２の滑動装置の両方は、前記本体の中央水平面（１３０）から垂直に延びており、前記第１のホイール又は前記第１の滑動装置は、前記第２のホイール又は前記第２の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面からさらに延び、
前記リソグラフィシステムは、前記モジュール又は前記支持体に設けられ、前記モジュールと前記支持体との間に前記本体が挿入されたとき、前記本体の前記第１及び第２のホイール又は第１及び第２の滑動装置と接触し、前記モジュールと前記支持体との間で前記本体をガイドするように配置されたトラック（１１０）をさらに具備し、前記トラックは、前記本体が前記トラックの傾斜部に沿って前進し、前記モジュールと前記支持体との間に挿入されるとき、前記モジュールが前記支持体からリフトされることを引き起こす傾斜部（１１１；１１２）を備え、かつ、
前記モジュールは、リフトに先立って前記支持体によって支持されている、
リソグラフィシステム。
【請求項１６】
前記トラックは、第１の傾斜部と第２の傾斜部を備え、前記トラックは、第１の水平な平坦部と第２の水平な平坦部とをさらに備え、前記第１の水平な平坦部は、前記第１の傾斜部と前記第２の傾斜部との間に配置されている、請求項１５に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１７】
溝が、前記支持体又は前記モジュールに設けられ、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入中に前記本体をガイドするように配置され、前記トラックが前記溝に設けられる、請求項１５又は１６に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１８】
前記本体は、細長い形状を有し、溝が、細長い形状を有する、請求項１６又は１７に記載のリソグラフィシステム。
【請求項１９】
前記本体の挿入方向に前記モジュールの移動を制限するように配置された制限装置をさらに具備する、請求項１５ないし１８のいずれか１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項２０】
モジュールを交換するための方法であって、
ａ）請求項１ないし１４のいずれか１項に記載のアセンブリを設ける工程と、
ｂ）前記モジュールを運ぶために移動可能なカートを設ける工程と、
ｃ）前記モジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入して、これにより、前記支持体から前記モジュールをリフトさせる工程と、
ｄ）その支持体に対して前記モジュールを前記移動可能なカートに水平に移動させる工程と、を具備する方法。
【請求項２１】
前記アセンブリは、請求項１３に記載のアセンブリ、又は請求項１３に従属する請求項１４に記載のアセンブリであり、
工程ｄ）は、さらに、
ｄ１）前記移動可能なカートの前記ガイドホイールを前記本体の前記ガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカートの前記ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
ｄ２）その支持体に対して前記モジュールを前記移動可能なカートの前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
ｅ）他のモジュールを運ぶために前記移動可能なカート又は他の移動可能なカートを設ける工程を含み、前記他のモジュールは、前記移動可能なカート又は前記他の移動可能なカートに配置され、
ｆ）前記移動可能なカートに対して前記他のモジュールを前記本体に水平に移動させる工程と、
ｇ）前記他のモジュールと前記支持体との間の前記本体を取り外し、これにより前記支持体に前記他のモジュールを下げる工程とをさらに具備する、請求項２０又は２１に記載の方法。
【請求項２３】
工程ｆ）は、さらに、
ｆ１）前記移動可能なカート又は前記他の移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカート又は前記他の移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
ｆ２）前記移動可能なカート又は前記他の移動可能なカートに対して前記モジュールを前記本体の前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
請求項１ないし１４のいずれか１項に記載のアセンブリ、請求項１５ないし１９のいずれか１項に記載のリソグラフィシステム、又は請求項２０ないし２３のいずれか１項に記載の方法に使用される、モジュールをその支持体からリフトするための本体であって、
前記本体（１１６）は、第１及び第２のホイール又は第１及び第２の滑動装置（１１７，１１８）を備え、前記第１及び第２のホイールの両方、又は第１及び第２の滑動装置の両方は、前記本体の中央水平面（１３０）から垂直に延びており、前記第１のホイール又は前記第１の滑動装置は、前記第２のホイール又は前記第２の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面からさらに延びている、本体。
【請求項２５】
前記第１のホイール又は前記第１の滑動装置及び前記第２のホイール又は前記第２の滑動装置は、前記本体の前記中央水平面から垂直下向き方向に延びている、請求項２４に記載の本体。
【請求項２６】
本体が水平面を有し、前記水平面は、前記中央水平面に対して第１及び第２のホイール又は前記第１及び第２の滑動装置の反対側に配置されている、請求項２４又は２５に記載の本体。
【請求項２７】
本体に、さらに、前記モジュールと前記支持体との間に挿入されたときに前記本体をガイドする複数のガイドホイールが設けられており、前記ガイドホイールは、前記第１及び第２の滑動装置が設けられている側と前記本体の対向している側に設けられている、請求項２４ないし２６のいずれか１項に記載の本体。
【請求項２８】
本体に、さらに、前記モジュールと前記支持体との間に挿入されたときに前記本体をガイドする複数のガイドホイールが設けられており、前記複数のガイドホイールは、前記モジュール又は前記支持体と接触するために設けられており、前記複数のガイドホイールは、前記モジュール又は前記支持体と接触するように設けられた前記複数のガイドホイールが水平面を共に規定するように設けられている、請求項２４ないし２６のいずれか１項に記載の本体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリ及び方法、並びにこのような装置を有するリソグラフィシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
パターニングビームを用いてウェーハのようなターゲットを処理するためのリソグラフィシステムがこの分野で周知である。このようなシステムは、通常、パターニングビームを発生させてターゲット、即ちウェーハに投影するためのモジュールと、パターニングビームに対してターゲットを移動させるためのモジュールとを有する。
【０００３】
リソグラフィシステムの設置中、又はそのメンテナンス中、例えば、モジュールを交換するために、システムの残りの部分からモジュールを移動させる前にシステムのモジュールをリフトすることが必要とされうる。
【０００４】
リソグラフィシステムのモジュールが重いことがあるので、電気式又は空気式のクレーンのような装置が１以上のモジュールをリフトするために使用されることができる。このような装置は、リソグラフィシステム自体の内部に設けられるか、リソグラフィシステムの外部に設けられることができ、外部に設けられる場合には、リソグラフィシステムの近傍に設けられなければならない。
【０００５】
しかしながら、クレーンの動作は、リソグラフィシステムの内部のスペース、又は製造スペースを占有することとなり、そのどちらもリソグラフィ動作に望ましくない。さらに、クレーンなどの既知のリフトツールは、マシンのダウンタイムであるこのような処理時間が過度に長くなりうる。さらに、クレーンなどのリフトツールは、連続して取り扱ったりリフトされる物品との接続を取り外したりすることを必要としうる。これは、リフトされる必要のある高価かつ時に脆弱なモジュールの観点から望ましくないと考えられる。このような既知のツールはまた、ツールのリフト部分の取り外しを可能にするために、モジュールを連続してリフトする必要性があり、不利になりうる。
【０００６】
本発明の目的は、好ましくは、前記不利な点の少なくとも１つをなくす、リソグラフィシステムのモジュールをリフトするための改良されたアセンブリを提供することである。
【発明の概要】
【０００７】
本発明の目的は、その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリを提供することによって達成され、このアセンブリは、  
第１及び第２のホイールが設けられた本体を具備し、前記ホイールの両方が、前記本体の中央水平面から垂直に延び、前記第１のホイールは、さらに、前記第２のホイールよりも前記本体の前記水平面からさらに延び、  
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、かつ、前記本体の前記第１及び第２のホイールと接触し、前記モジュールと前記支持体との間で前記本体をガイドするように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、  
前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされる。
【０００８】
前記本体は、前記トラックにわたって前進され、前記モジュールと前記支持体との間に挿入されたとき、前記本体は、傾斜部のために、水平方向と垂直方向との両方に進行される。本体と接触するリソグラフィシステムの（リフト可能な）モジュールもまた、かくして、垂直方向に進行されることができる。
【０００９】
一実施の形態では、前記第１のホイールは、前記第２のホイールよりも前記本体の前記中央水平面から垂直にさらに距離ｈ延び、また、前記第１のホイールの軸は、前記第２のホイールの軸から距離Ｄに水平方向に配置されている。
【００１０】
一実施の形態では、前記トラックは、第１の傾斜部と、第２の傾斜部とを有し、前記第１の傾斜部は、前記第２の傾斜部と直接一致し、前記第１の傾斜部の開始部は、前記第２のランプの開始部から水平方向に前記距離Ｄに、かつ、前記第２の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離ｈに配置されている。
【００１１】
前記第１及び第２のホイールは、第１及び第２の滑動装置に置き換えられることができることが理解されることができる。各滑動装置は、表面又は山型部（spike）のそれぞれの接点で前記トラックを接触させるための湾曲面又は山型部を有することができる。その場合、第１の滑動装置は、前記第２の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面から垂直にさらに距離ｈ延び、前記第１の滑動装置の接点が、前記第２の滑動装置の接点から距離Ｄに水平方向に配置されることができる。
【００１２】
一実施の形態では、前記本体は、水平面を有し、前記水平面は、前記中央水平面に対して前記第１及び第２のホイールの反対側に配置されている。
【００１３】
前記本体は、前記トラックにわたって前進され、前記モジュールと前記支持体との間に挿入されたとき、前記本体の前記水平面は、水平方向と垂直方向との両方に進行されることができるが、前記水平面は、水平なままであり、即ち、前記本体の水平面が回転されない。この効果は、第１及び第２の傾斜部の形状及び位置、水平面に対して前記第１及び第２のホイールの対応する位置によってもたらされる。前記本体と接触しているリソグラフィシステムのリフト可能なモジュールは、垂直方向に移動されることができ、一方、回転されない。
【００１４】
アセンブリの利点は、システムにあるとき、又はシステムの外部に、例えば、いわゆるファブスペースに収容されたとき、クレーン又はこのようなものと比較してより少ない空間を占めることができることである。これは、傾斜部の傾きに応じて、比較的制限された力で重いモジュールをリフトすることを可能にする。ユーザは、例えば、人間のユーザの場合には手動で、トラックに対して本体を押すことにより装置に力を加えることができる。このようにして、モジュールは、リフトされることができ、そうでなければ、メンテナンススタッフのような人間のユーザの場合に、アセンブリなしで容易に、かつ十分に制御されることができないか、されることが難しい。本体が迅速に挿入されることができるので、アセンブリは、モジュールの迅速な置換を可能にすることができる。これは、アセンブリが、リフトされるモジュールが移動可能なカートに移送されることを可能にする場合にそうである。
【００１５】
傾斜部の高さは、モジュールがリフトされることができる高さを規定している。このようにして、モジュールがリフトされる高さは、簡単なようにして正確に制御され、脆弱なシステム部分のダメージの危険を最小にすることができる。本発明によれば、前記第１及び第２の傾斜部の高さは、距離ｈに対応し、前記第１のホイールは、前記第２のホイールよりも前記本体の前記水平面から垂直方向にさらに前記距離ｈ延び、前記第１の傾斜部の開始部は、前記第２の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離ｈに配置されている。
【００１６】
距離Ｄは、前記本体の挿入方向に平行に、即ち、前記本体が前記モジュールと前記支持体との間に挿入される方向に規定されることができる。
【００１７】
「距離Ｄ」と称される全ての距離は等しく、一方、「距離ｈ」と称される全ての距離もまた等しいことが理解されることができる。
【００１８】
前記トラックは、前記リフト可能なモジュールの前記支持体に設けられることができる。その場合、前記本体は、前記リフト可能なモジュールと、前記支持体に設けられたトラックとの間に挿入されることができる。そして、前記水平面は、前記リフト可能なモジュールに接触し、一方、前記第１及び第２のホイールは、前記トラックと接触する。この構成は、通常の構成と称される。
【００１９】
しかしながら、前記トラックはまた、前記リフト可能なモジュールに設けられるか、特に、前記リフト可能なモジュールの下側に設けられることができる。その場合、前記本体は、前記トラックと前記支持体との間に挿入されることができる。そして、前記第１及び第２のホイールは、前記リフト可能なモジュールに設けられたトラックと接触し、一方、前記水平面は、前記支持体と接触する。この構成は、上下逆さまの構成と称される。
【００２０】
本発明によるアセンブリの一実施の形態では、前記第１のホイールの軸と前記第２のホイールの軸とは、互いに対して平行であるか、前記水平面に対して平行であるかの少なくとも一方であることができる。前記第１のホイールの軸及び前記第２のホイールの軸の各々は、前記本体の挿入方向に垂直に配置されることができる。
【００２１】
本発明によるアセンブリの一実施の形態では、前記本体には、さらに、ガイドホイールが設けられ、前記ガイドホイールは、好ましくは、前記水平面を規定している。
【００２２】
前記第１のホイール及び前記第２のホイールは、前記本体の一方の側から垂直に延びていることができる。前記ガイドホイールは、前記本体の対向している側に設けられることができる。前記ガイドホイールの軸は、前記第１のホイール及び前記第２のホイールの軸と平行に配置されることができる。
【００２３】
前記ガイドホイールは、ガイドホイールが前記モジュールと前記支持体との間に挿入されたとき、前記本体をガイドすることができる。前記ガイドホイールは、通常の構成で前記リフト可能なモジュールと接触するように配置されることができる。このようにして、水平方向の力がリフト可能なモジュールに加えられないかあまり加えられないことができる。水平移動がかくして防がれることができる。上下逆さまの構成では、前記ガイドホイールは、前記支持体と接触するように配置されることができる。
【００２４】
本発明によるアセンブリの一実施の形態では、前記トラックは、さらに、第１及び第２の水平な平坦部を有する。前記第１の平坦部の開始部は、前記第２の平坦部の開始部から水平方向に距離Ｄに、かつ、前記第２の平坦部の開始部から垂直方向に距離ｈに配置され、前記第１の平坦部は、前記第１の傾斜部と前記第２の傾斜部との間に配置されている。
【００２５】
第１及び第２の水平な平坦部を設ける利点は、これらが、リフト可能なモジュールをリフトした後にこれら平坦部上の休止位置に本体を置くことを可能にするということである。
【００２６】
本発明によるアセンブリによる一実施の形態では、前記トラックは、さらに、前記第１の傾斜部の開始部に接続された第３の水平な平坦部を有する。リフトが起こる前にリフト可能なモジュールと支持体との間に挿入されたとき、第３の水平な平坦部は、本体をガイドするか本体と接触することができる。
【００２７】
本発明によるアセンブリの一実施の形態では、前記第１の傾斜部は、前記第２の傾斜部に接続され、前記第１の傾斜部と前記第２の傾斜部とは、単一の傾斜部を一緒に形成している。前記第２の傾斜部の開始部は、前記第１の傾斜部の端部に接続されることができる。これは、前記第１及び第２の傾斜部を有する単一の傾斜部を形成する。
【００２８】
本発明によるアセンブリの一実施の形態では、前記第１のホイール及び前記第２のホイールは、前記本体の前記中央水平面から垂直上向き方向に延びている。
【００２９】
この実施の形態では、前記第１のホイール及び前記第２のホイールは、前記本体の下側から延びることができ、前記本体は、上に説明されるように、通常の構成で配置されることができる。
【００３０】
他の実施の形態では、前記第１及び第２のホイールは、前記本体の前記中央水平面から垂直上向き方向に延びている。前記第１のホイール及び前記第２のホイールは、前記本体の上側から延びることができ、前記本体は、上に説明されるように、上下逆さまの構成で配置されることができる。
【００３１】
本発明によるアセンブリの一実施の形態では、アセンブリは、さらに、前記モジュールを運ぶための移動可能なカートを有し、前記カートは、  
前記モジュールをガイドし支持するためのガイドホイールと、  
前記カートの前記ガイドホイールを前記本体の前記ガイドホイールとアライメントするために、前記ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節するためのアジャスタとを有する。
【００３２】
このような移動可能なカートを設ける利点は、支持体から離れたところにリフト可能なモジュールを移動させること可能にすることである。カートのガイドホイールが本体のガイドホイールとアライメントされてリフト可能なモジュールがリフトされたとき、リフトされた本体は、本体のガイドホイール及びカートのガイドホイールに沿ってカートに水平に移動されることができる。そして、モジュールを支持している移動可能なカートが移動されることができる。カートのガイドホイールの軸は、本体のガイドホイールと平行に配置されることができる。
【００３３】
本発明によるアセンブリの一実施の形態では、第１の傾斜部及び第２の傾斜部の傾きは、１：５０〜１：２００の範囲に、又は約１：１００である。このような傾きの第１の傾斜部及び第２の傾斜部を与える利点は、加えられる比較的小さな力で重いモジュールのリフトを可能にするということである。
【００３４】
本発明によるアセンブリの一実施の形態では、アセンブリは、さらに、前記本体を前記支持体に解放可能に接続するためのコネクタを有する。コネクタの利点は、モジュールがリフトされた後にこれらが本体が移動するのを防ぐことであることができる。これは、挿入後、トラックの下に本体が戻るのを防ぐことができる。
【００３５】
本発明の目的はまた、パターニングビームを用いてターゲットを処理するためのリソグラフィシステムを提供することによって達成され、リソグラフィシステムは、  
前記パターニングビームを与え、前記パターニングビームに対して前記ターゲットを移動させるための１組のモジュールを具備し、前記１組のモジュールは、リフト可能なモジュールを有し、  
前記１組のモジュールを支持するためのフレームと、  
前記リフト可能なモジュールを垂直方向にリフトするための請求１ないし９のいずれか１のアセンブリとを具備し、  
前記リフト可能なモジュールは、支持体によって支持され、前記支持体は、前記フレーム又は前記１組のモジュールの他方のモジュールであり、前記アセンブリの前記本体は、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に挿入されるように配置されることができる。
【００３６】
本発明によるリソグラフィシステムの一実施の形態では、溝が、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに設けられ、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入中に前記本体をガイドするように配置され、前記トラックは、前記溝に設けられている。
【００３７】
第１のホイール及び第２のホイールを有する本体は、平衡を保たれなくてもよく、即ち、水平領域に置かれたとき、一方の側に落ちることができる。溝を設ける利点は、溝が本体が落ちるのを防ぐか、溝が本体の直立向きを維持することである。さらに、溝は、本体が挿入されたときに本体をガイドすることができ、トラックに従う。
【００３８】
本発明によるリソグラフィシステムの一実施の形態では、リソグラフィシステムは、さらに、前記本体の挿入方向に前記モジュールの移動を制限するように配置された制限装置を有する。
【００３９】
前記本体と前記リフト可能なモジュールとの間に起こる摩擦のおかげで、本体が挿入されたときに水平方向の力がモジュールに加えられることができる。これらの力は、本体が挿入される方向に沿って本体を移動させる。制限装置は、このような移動を防ぐことができる。
【００４０】
本発明の目的はまた、その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトする方法を提供することによって達成され、この方法は、  
請求１０〜１３のいずれか１のリソグラフィシステムを設ける工程と、  
前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入する工程とを具備する。
【００４１】
本発明による方法の一実施の形態では、この方法は、さらに、  
好ましくは移動可能なカートに、その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを水平に移動させる工程を具備する。
【００４２】
本発明の他の態様によれば、リソグラフィシステムのモジュールを交換するための方法が提供され、この方法は、  
ａ）請求１８ないし２１のいずれか１のリソグラフィシステムを設ける工程と、  
ｂ）前記リフト可能なモジュールを運ぶために移動可能なカートを設ける工程と、  
ｃ）前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入して、これにより、前記支持体から前記モジュールをリフトさせる工程と、  
ｄ）その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートに水平に移動させる工程とを具備する。
【００４３】
一実施の形態では、工程ｄ）は、さらに、  
ｄ１）前記移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、  
ｄ２）その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートの前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む。
【００４４】
一実施の形態では、この方法は、さらに、  
ｅ）他のリフト可能なモジュールを運ぶために他の移動可能なカートを設ける工程を含み、他のリフト可能なモジュールは、他の移動可能なカートに配置され、  
ｆ）前記カートに対して前記他のリフト可能なモジュールを前記本体に水平に移動させる工程と、  
ｇ）前記他のリフト可能なモジュールと前記支持体との間の前記本体を取り外し、これにより前記支持体に前記モジュールを下げる工程とをさらに具備する。
【００４５】
一実施の形態では、工程ｆ）は、さらに、  
ｆ１）前記他の移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記他の移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、  
ｆ２）前記カートに対して前記リフト可能なモジュールを前記本体の前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む。
【００４６】
一実施の形態では、前記移動可能なカート及び前記他の移動可能なカートは、同じカートである。本発明による方法の実施の形態の効果及び利点は、上で説明されるようなアセンブリ及びリソグラフィシステムの実施の形態の効果及び利点に従うことができる。
【００４７】
本発明は、添付図面に示される代表的な実施の形態に基づいて説明される。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態によるアセンブリを概略的に示す図である。
【図２】図２は、本発明の他の実施の形態によるアセンブリを概略的に示す図である。
【図３】図３は、本発明の他の実施の形態によるアセンブリの本体を概略的に示す図である。
【図４】図４は、本発明の一実施の形態によるリソグラフィシステムの一部を概略的に示す図である。
【図５】図５は、本発明の一実施の形態によるリソグラフィシステムの一部を概略的に示す全体図である。
【発明を実施するための形態】
【００４９】
図１には、本発明の一実施の形態によるアセンブリが概略的に示される。トラック１１０は、第１の傾斜部１１１と、第２の傾斜部１１２とを有する。第１の傾斜部１１１は、第２の傾斜部１１２と直接一致し、これは、それらの方位、高さ（距離ｈ）及び長さｌ、及び傾きｈ／ｌが同じであることを示している。第１の傾斜部の開始部１１４は、第２の傾斜部の開始部１１５から垂直方向（即ち、ｚ−方向）に距離ｈに、かつ、水平方向（即ち、ｘ−方向）に距離Ｄに配置されている。
【００５０】
本体１１６は、第１のホイール１１７と、第２のホイール１１８とを有する。本体１１６は、中央水平面１３０を有する。本体は、水平面１１９を有することができ、水平面１１９は、本体の中央水平面１３０と平行に、かつ水平面１３０に対して第１のホイール１１７及び第２のホイール１１８の反対側に配置されている。第１のホイール１１７は、第２のホイール１１８よりも中央水平面１３０から垂直方向にさらに距離ｈ延びている。第１のホイールの軸１２０は、第２のホイールの軸１２１から水平方向に距離Ｄに配置されている。
【００５１】
第１のホイール及び第２のホイールに代わって、本体には、ローラー又は他の滑動装置が設けられることができ、それは、本体がトラック１１０に従うことを可能にし、一方、ローラー又は他の滑動装置は、トラック１１０と接触したままであり、水平面は回転移動なしで垂直に移動する。
【００５２】
（第１及び第２のホイールに代わる）第１及び第２の滑動装置の場合には、各滑動装置は、湾曲面又は山型部を有することができる。各湾曲面又は山型部は、それぞれの接点でトラック１１０と接触するように配置されている。ホイールを備えた実施の形態に従えば、第１の滑動装置は、第２の滑動装置よりも本体の中央水平面から垂直にさらに距離ｈ延びている。第１の滑動装置の接点は、第２の滑動装置の接点から水平方向に距離Ｄに配置されることができる。
【００５３】
第１及び第２のホイールを備えた実施の形態に適用可能な全ての特徴はまた、第１及び第２の滑動装置を備えた実施の形態に適用可能であることができる。
【００５４】
通常真空中で動作されるリソグラフィシステムでは、前記真空中の粒子の発生は、望ましくない。それ故、滑動装置の代わりにホイールを使用することの利点は、粒子の発生が少ないことである。確かに、滑動装置の場合には、滑動装置の材料とトラックの材料との摩耗は、真空中で粒子を発生しうる。
【００５５】
図１では、本体１１６は、明瞭化の理由からトラック１１０の上方に描かれているが、使用時には、第１のホイール及び第２のホイールは、トラック１１０に接触している。本体がトラックにわたって進行されたとき、本体は、回転なしで水平方向及び垂直方向の両方に進行する。これは、本体と接触するリフト可能なモジュール１２２が垂直方向に進行される、即ちリフトされることができることを示唆する。リフト可能なモジュールは、距離ｈだけリフトされることができる。
【００５６】
前記本体が前記モジュールとその支持体との間に挿入されたとき、リフト可能なモジュールが本体１１６によってリフトされるように配置されるモジュールとして説明されることができる。本体がモジュールとその支持体との間で取り外されたとき、リフト可能なモジュールが本体１１６によって下げられるように配置されることができることが理解されることができる。
【００５７】
図１は、いわゆる正常な構成での実施の形態を概略的に示す図である。しかしながら、図１もまた上下逆さまにされ、図１がいわゆる上下逆さまの構成の一実施の形態を概略的に示すことが理解されることができる。参照符号１２２は、支持体を示しており、トラック１１０は、リフト可能なモジュールの下側に設けられることができる。
【００５８】
本体にはガイドホイール１２３が設けられることができ、ガイドホイールは、水平面１１９を規定することができる。使用時には、ガイドホイールは、（通常の構成では）リフト可能なモジュール１２２、又は（上下逆さまの構成では）支持体と接触することができる。ガイドホイールの接触面（使用時にリフト可能なモジュール又は支持体と接触するガイドホイールの表面が、ガイドホイールの接触面と称されることができる）の接触面は、水平面１１９を一緒に規定することができる。
【００５９】
ガイドホイール１２３に代わって、本体にはまた、ガイドローラー又は他のガイド装置が設けられることができ、それは、（通常の構成では）本体１１６とリフト可能なモジュール１２２との間の、又は（上下逆さまの構成では）本体１１６と支持体との間の摩擦を減少させる。
【００６０】
第１及び第２のホイールの軸は、互いに平行に、水平面１１９に、又は中央水平面１３０に配置されることができる。前記軸は、本体の挿入方向に垂直に配置されることができる。同じものがガイドホイール１２３の軸に適用されることができる。
【００６１】
トラックは、さらに、第１の水平な平坦部１２４と、第２の水平な平坦部１２５とを有する。図１に見られることができるように、第１の平坦部１２４の開始部１２６は、第２の平坦部１２５の開始部１２７から水平方向に距離Ｄに、かつ第２の平坦部１２５の開始部１２７から垂直方向に距離ｈに配置され、第１の平坦部１２４は、第１の傾斜部１１１と第２の傾斜部１１２との間に配置されることができる。
【００６２】
トラックは、さらに、第３の水平な平坦部１２８を有することができ、第３の水平な平坦部は、第１の傾斜部の開始部１１４に接続される。
【００６３】
本発明によるアセンブリの一実施の形態では、第２の傾斜部１１２の開始部１１５は、第１の傾斜部１１１の終端部１２９に接続されることができる。第１の水平な平坦部１２４は、省略されることができる。その場合、第１の傾斜部及び第２の傾斜部は、単一の傾斜部を一緒に形成し、一方、第１の傾斜部及び第２の傾斜部の各々は、長さＤを有する。この単一の傾斜部は、高さ２ｈ及び傾斜部２Ｄを有し、傾きは２ｈ／２Ｄ＝ｈ／Ｄである。
【００６４】
第１の傾斜部及び第２の傾斜部の傾き（ｈ／l）は、１：５０〜１：２００の範囲に、又は約１：１００であることができる。距離ｈは、０．１〜１．０ｍｍ又は約０．５ｍｍの範囲にあることができる。
【００６５】
図２には、本発明の他の実施の形態によるアセンブリが概略的に示される。この実施の形態では、移動可能なカート２０１が設けられている。カート２０１は、モジュール１２２をガイドし支持するためのガイドホイール２０２を有することができる。移動可能なカートは、さらに、ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調整するためのアジャスタを有することができる。カート２０１には、ホイール２０４が設けられることができ、リフト可能なモジュールの支持体に向かって、及びその支持体からカートが移動されることを可能にする。
【００６６】
カート２０１がリフト可能なモジュールの近くに配置されたとき、ガイドホイール２０２の位置と向きとの少なくとも一方が、本体のガイドホイール１２３とそれらをアライメントさせるために調節されることができる。カート２０１及び本体１１６には、カート２０１を本体１１６に接続するためにドッキングインターフェース２０５が設けられることができる。リフト可能なモジュール１２２がリフトされた後、リフト可能なモジュールは、本体１１６及びカート２０１の両方のガイドホイールに沿ってカート２０１に移動されることができる。そして、モジュール１２２が移動されることができ、移動可能なカート２０１によって運ばれる。
【００６７】
図３は、本発明の他の実施の形態によるアセンブリの本体を概略的に示す図である。本体には、第１のホイール１１７と、第２のホイール１１８と、ガイドホイール１２３と、ドッキングインターフェース２０５との少なくとも１つが設けられることができる。本体は、細長い形状を有することができる。本体ＬＢの長さは、約９００ｍｍであることができ、本体ＨＢの高さは、約５０ｍｍであることができる。本体１１６には、本体と支持体との間の摩擦を減少させるためのスライド手段３０１が設けられることができる。
【００６８】
本発明によるアセンブリの一実施の形態では、アセンブリは、さらに、他の（即ち、第２の）本体及び他の（即ち、第２の）トラックを有する。（第１の）本体及び（第１の）トラックに関して説明されたことはまた、他の（即ち、第２の）本体及び他の（即ち、第２の）トラックにそれぞれ適用されることができる。リフト可能なモジュールは、かくして、好ましくは互いに間隔を空けられた２つの本体‐トラックの組み合わせによってリフトされることができる。
【００６９】
図４は、本発明の一実施の形態によるリソグラフィシステムの一部を概略的に示す図である。リソグラフィシステムは、パターニングビームを与え、パターニングビームに対してターゲットを移動させるための１組のモジュールを有することができる。これらのモジュールの少なくとも１つは、リフト可能なモジュールであることができる。リソグラフィシステムは、さらに、１組のモジュールを支持するためのフレームを有することができる。
【００７０】
図４では、リフト可能なモジュール１２２は、その支持体４０１によって支持される。支持体４０１は、フレーム又は他のモジュール（の一部）であることができる。支持体４０１には、溝４０２が設けられることができる。溝４０２の形状は、本体１１６の形状に対応していることができる。溝４０２及び本体１１６の各々は、細長い形状を有する。
【００７１】
トラック１１０は、支持体の溝４０２（図４には示されない）の内側に設けられることができる。しかしながら、溝４０２はまた、リフト可能なモジュール１２２に設けられることができ、一方、トラック１１０は支持体に設けられる。
【００７２】
図４の実施の形態では、２つの溝４０１が設けられており、アセンブリが２つの本体１１６と２つのトラック１１０とを有することができることを示している。２つの本体１１６は、例えば、ロッドによって、互いに接続されることができる。これは、本体１１６の同時の挿入を可能にする。
【００７３】
リフト可能なモジュール１２２がリフトされた後、本体を支持体に接続することが効果的であることができる。それ故、コネクタが設けられることができ、コネクタはボルト又はクランプを有することができる。
【００７４】
図５は、本発明の一実施の形態によるリソグラフィシステムの一部を概略的に示す全体図である。リソグラフィシステム５００は、メンテナンスの容易さを可能にするためにモジュール式であるように好ましくは設計される。主なサブシステムは、好ましくは、自蔵式で取り外し可能なモジュールで構成され、それらは、他のサブシステムへの外乱ができるだけ少ないようにしてリソグラフィ装置から取り外されることができる。これは、特に、真空チャンバに囲まれたリソグラフィ装置にとって効果的であり、マシンへのアクセスが制限される。従って、不完全なサブシステムが不必要に他のシステムを分離したり妨害したりせずに、迅速に取り外されて交換されることができる。
【００７５】
図５に示される実施の形態では、これらのモジュール式サブシステム（又はモジュール）は、  
ビーム源５０２と、ビームコリメート系５０３とを有することができる照明光学モジュール５０１と、  
５０６で一緒に示される開口アレイ及びコンデンサレンズアレイを有することができるアパーチャアレイ及びコンデンサレンズモジュール５０４と、  
小ビームブランカアレイ５０８を有することができるビームスイッチングモジュール５０７と、  
５１０で一緒に示されるビーム停止アレイと、ビーム偏向器アレイと、投影レンズアレイとを有することができる投影光学モジュール５０９と、  
比較的大きい位置決め誤差で比較的大きい距離に沿ってターゲット５３０を移動させるために配置されたロングストロークモジュール５１９と、  
比較的小さい位置決め誤差で比較的小さい距離に沿ってターゲット又はウェーハ５３０を移動させるために配置されたショートストロークモジュール５１８と、  
ウェーハテーブル５３２を支持するために配置されたチャックモジュール５３１とを有する。
【００７６】
モジュールは、フレームの内外に摺動するように設計されることができる。また、モジュール式サブシステムの組み合わせは、１つのモジュールを一緒に形成するように設計されることができ、一緒にフレームから内外に摺動することができる。
【００７７】
フレームは、アライメント内側サブフレーム５１３と、アライメント外側サブフレーム５１４と、メインフレーム５１５とを有することができる。メインフレーム５１５は、振動減衰マウント５１６を介してアライメントサブフレーム５１３、５１４を支持することができる。システムは、ベースプレート５２２に置かれることができ、フレーム部材５２３によって支持されることができる。ウェーハテーブル５３２は、ウェーハ５３０を支持することができ、一方、ウェーハテーブルがチャック５３１に装着される。チャック５３１は、ステージショートストローク５１８及びロングストローク５１９に配置されることができる。
【００７８】
ビーム源５０２は、パターニングビームを与えることができ、光ビーム、又は電子ビームのような荷電粒子ビームを有する。
【００７９】
ビーム源５０２からのパターニングビームは、コリメータレンズ系５０３によってコリメートされることができる。コリメートされたビームは、アパーチャアレイに衝突することができ、複数の小ビーム、例えば、少なくとも２つの小ビームを発生させるために、コリメートされたビームの一部を遮断することができる。しかしながら、本発明の実施の形態によるリソグラフィシステムは、非常に多くの小ビームを、好ましくは、１０，０００〜１，０００，０００の小ビームを発生させるために配置されることができる。
【００８０】
小ビームは、コンデンサレンズアレイ５０６を通過することができ、それは、ビームブランカアレイの平面で小ビームを合焦することができ、小ビームの１以上を偏向させるための複数のブランカを有する。
【００８１】
偏向された、及び偏向されない小ビームは、複数の開口を有することができるビーム停止アレイに到達することができる。小ビームブランカアレイ及びビーム停止アレイは、小ビームを遮断するか通過させるために一緒に動作することができる。小ビームブランカアレイが小ビームを偏向すれば、ビーム停止アレイの対応する開口を通過せず、代わって、遮断される。しかし、小ビームブランカアレイが小ビームを偏向しないとき、小ビームは、ビーム停止アレイの対する開口、及びビーム偏向器アレイ及び投影レンズアレイを通過する。
【００８２】
ビーム偏向器アレイは、ターゲット面を横切って小ビームを走査するために、偏向されていない小ビームのｚ方向にほぼ垂直な、ｘ方向と、ｙ方向との少なくとも一方（例えば、ターゲット面と平行な平面）に各小ビームの偏向を与えることができる。
【００８３】
ビーム偏向器アレイは、投影レンズアレイを通過することができ、ウェーハ５３０に投影されることができる。投影レンズアレイは、好ましくは、（特定の電気光学レイアウトによって決まる）２５ないし５００倍のオーダの縮小を与える。小ビームは、ウェーハの表面に衝突することができる。リソグラフィ用途のために、ウェーハには、通常、荷電粒子感応層、即ちレジスト層が設けられている。
【００８４】
リソグラフィシステムは、真空環境で少なくとも部分的に動作することができる。真空は、パターニングビームによってイオン化されることができビーム源に引きつけられるようになり、マシンの構成要素に堆積されることができパターニングビーム又は小ビームを分散される粒子を取り除くことが望ましい。真空環境を維持するために、リソグラフィシステムは、真空チャンバ５２０を有することができ、１又は複数の金属遮蔽層５２１を有することができる。ビーム源、鏡筒及び移動可能なチャックのようなリソグラフィシステムの主要要素の全てが、好ましくは、真空チャンバ内に収容される。
【００８５】
各モジュール式サブシステムは、多数の電気的信号、光信号、その動作のための電力を必要としうる。真空チャンバ５２０の内側のモジュール式サブシステムは、好ましくは、チャンバの外部に位置されたプロセッサユニット５２４からこれらの信号を受信することができる。
【００８６】
図５の実施の形態では、例として、トラック１１０（トラックは図５に示されない）を備えた溝４０２は、フレームに設けられるか、特に、メインフレーム５１５に設けられている。この場合、リフト可能なモジュールは、ロングストロークモジュール１１９であることができる。このモジュールをリフトするために、本体１１６は、フレームとリフト可能なモジュールとの間に挿入されるか、特に、上に説明されるように、溝４０２に挿入されることができる。この場合、アセンブリは、その通常の構成に設けられることができる。
【００８７】
さらに、図５には、他の例として、トラック１１０（トラックは図５に示されない）を備えた溝４０２は、照明光学モジュール５０１に設けられており、それは、この場合、リフト可能なモジュールであることができる。本体１１６が溝４０２に挿入されたとき、モジュール５０１がリフトされることができる。この場合、アセンブリは、その上下逆さまの構成に設けられることができる。
【００８８】
上ではまた、この方法は、その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするとして説明され、この文献に説明される実施の形態のいずれかによるリソグラフィシステムを与える工程と、リフト可能なモジュールと支持体との間に本体を挿入する工程とを具備する。この方法は、さらに、好ましくは移動可能なカートに、その支持体に対してリフト可能なものを水平に移動させる工程を具備することができる。
【００８９】
本発明の実施形態はまた、その支持体にリフト可能なモジュールを配置するために使用されることができることが理解されることができる。モジュールと支持体との間に本体を挿入することに代わって、本体は取り除かれることができ、支持体に下げられるか支持体に配置される。
【００９０】
さらに、本発明の他の態様によれば、リソグラフィシステムのモジュールは、その支持体から第１のリフト可能なモジュールを取り外して（以下の工程ａ〜ｄ）、支持体に第２のリフト可能なモジュールを配置する（以下の工程ｅ〜ｇ）ことによって交換されることができる。
【００９１】
リソグラフィシステムのモジュールを交換する方法は、  
ａ）この文献に説明されるような実施の形態によるリソグラフィシステムを設ける工程と、  
ｂ）この文献に説明されるような移動可能なカートを設ける工程と、  
ｃ）リフト可能なモジュールと支持体との間に支持体を挿入して、支持体からモジュールをリフトする工程と、  
ｄ）その支持体に対してリフト可能なモジュールを移動可能なカートに水平に移動させる工程とによって説明されることができる。
【００９２】
本体がガイドホイール１２３を有することができるので、移動可能なカートがガイドホイール２０２を有することができ、方法は、カートのガイドホイールを本体のガイドホイールとアライメントするために、移動可能なガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することを有することができる。この場合、リフト可能なモジュールは、その支持体に対して移動可能なカートのガイドホイールに水平に移動されることができる。
【００９３】
モジュールの取り外しの後に、他のリフト可能なモジュールは、  
ｅ）他のリフト可能なモジュールを運ぶために他の移動可能なカートを設ける工程を具備し、前記他のリフト可能なモジュールは、前記他の移動可能なカートに配置され、
ｆ）前記本体に前記他の移動可能なカートに対して水平に前記他のリフト可能なモジュールを移動させる工程と、
ｇ）前記他のリフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を取り外して、これにより、前記支持体に前記モジュールを下げる工程とを具備する。
【００９４】
前記本体がガイドホイール１２３を有することができるので、移動可能なカートはまた、ガイドホイール２０２を有することができ、この方法は、前記他の移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントするために、前記他の移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することを含むことができる。その場合、リフト可能なモジュールは、カートに対して本体のガイドホイールに水平に移動されることができる。
【００９５】
他の移動可能なカートに代わって、工程ｂ）で設けられるのと同じカートが使用されることができる。従って、移動可能なカート及び他の移動可能なカートが同じカートであることができる。
【００９６】
ターゲットをパターニングするために電子ビームを使用するリソグラフィシステムの説明された実施の形態もまた、準用し、ターゲットをパターニングするためにビームを使用するリソグラフィシステムに適用されることができることが理解されることができる。
【００９７】
上の説明は、好ましい実施の形態の動作を示すために含まれ、本発明の範囲を限定することを意図していないことが理解されるべきである。上の説明から、多くの変形が、本発明の意図及び範囲に包含されることが当業者に明らかである。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項を、そのまま、付記しておく。
［１］  その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第１及び第２のホイールが設けられた本体を具備し、前記ホイールの両方が、前記本体の中央水平面から垂直に延び、前記第１のホイールは、さらに、前記第２のホイールよりも前記本体の前記水平面からさらに延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、かつ、前記本体の前記第１及び第２のホイールと接触し、前記モジュールと前記支持体との間で前記本体をガイドするように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされるアセンブリ。
［２］  前記第１のホイールは、前記第２のホイールよりも前記本体の前記中央水平面からさらに距離ｈ延び、前記第１のホイールの軸は、前記第２のホイールの軸から水平方向に距離Ｄに配置されている［１］のアセンブリ。
［３］  前記トラックは、第１及び第２の傾斜部を有し、前記第１の傾斜部は、前記第２の傾斜部と直接一致し、前記第１の傾斜部の開始部は、前記第２の開始部から水平方向に前記距離Ｄに、かつ、前記第２の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離ｈに配置されている［２］のアセンブリ。
［４］  前記本体は、水平面を有し、前記水平面は、前記中央水平面に対して第１及び第２のホイールの反対側に配置されている［１］ないし［３］のいずれか１のアセンブリ。
［５］  前記本体には、さらに、ガイドホイールが設けられている［１］ないし［４］のいずれか１のアセンブリ。
［６］  前記ガイドホイールは、好ましくは、前記水平面を規定している［４］又は［５］のアセンブリ。
［７］  前記トラックは、さらに、第１及び第２の水平な平坦部を有し、
前記第１の平坦部の開始部は、前記第２の平坦部の開始部から水平方向に前記距離Ｄに、かつ、前記第２の平坦部の開始部から垂直方向に前記距離ｈに配置され、
前記第１の平坦部は、前記第１の傾斜部と前記第２の傾斜部との間に配置されている［３］ないし［６］のいずれか１のアセンブリ。
［８］  前記トラックは、さらに、前記第１の傾斜部の開始部に接続された第３の水平な平坦部を有する［７］のアセンブリ。
［９］  前記第１の傾斜部は、前記第２の傾斜部に接続され、前記第１及び第２の傾斜部は、単一の傾斜部を一緒に形成している［３］ないし［６］のいずれか１のアセンブリ。
［１０］  前記第１のホイール及び前記第２のホイールは、前記本体の前記中央水平面から垂直下向き方向に延びている［１］ないし［９］のいずれか１のアセンブリ。
［１１］  さらに、前記モジュールを運ぶための移動可能なカートを具備し、前記カートは、
前記モジュールをガイドし支持するためのガイドホイールと、
前記本体の前記ガイドホイールで前記カートの前記ガイドホイールをアライメントさせるために、前記ガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節するためのアジャ開始部を有する［５］ないし［１０］のいずれか１のアセンブリ。
［１２］  前記第１の傾斜部の傾きは、１：５０〜１：２００の範囲にあるか、約１：１００である［３］ないし［１１］のいずれか１のアセンブリ。
［１３］  前記本体を前記支持体に解放可能に接続するためのコネクタをさらに具備する［１］ないし［１２］のいずれか１のアセンブリ。
［１４］  その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするためのアセンブリであって、
第１及び第２の滑動装置が設けられた本体を具備し、前記滑動装置の両方は、前記本体の前記中央水平面から垂直に延び、前記第１の滑動装置は、前記第２の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面からさらに垂直に延び、
前記モジュール又は前記支持体に設けられ、前記本体の前記第１及び第２の滑動装置と接触するように配置されたトラックを具備し、前記トラックは、傾斜部を有し、前記モジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入により、前記モジュールが前記支持体からリフトされるアセンブリ。
［１５］  前記第１及び第２の滑動装置の各々は、それぞれの接点で前記トラックと接触するための湾曲面又は山型部を有する［１４］のアセンブリ。
［１６］  前記第１の滑動装置は、前記第２の滑動装置よりも前記本体の前記中央水平面から垂直にさらに距離ｈ延び、前記第１の滑動装置の接点は、前記第２の滑動装置の接点から水平方向に距離Ｄに配置されている［１５］のアセンブリ。
［１７］  前記トラックは、第１及び第２の傾斜部を有し、前記第１の傾斜部は、前記第２の傾斜部で直接一致し、前記第１の傾斜部の開始部は、前記第２の傾斜部の開始部から水平方向に前記距離Ｄに、かつ、前記第２の傾斜部の開始部から垂直方向に前記距離ｈに配置されている［１６］のアセンブリ。
［１８］  パターニングビームを用いてターゲットを処理するためのリソグラフィシステムであって、リソグラフィシステムは、
前記パターニングビームを与え、前記パターニングビームに対して前記ターゲットを移動させるための１組のモジュールを具備し、前記１組のモジュールは、リフト可能なモジュールを有し、
前記１組のモジュールを支持するためのフレームと、
前記リフト可能なモジュールを垂直方向にリフトするための［１］ないし［１７］のいずれか１のアセンブリとを具備し、
前記リフト可能なモジュールは、支持体によって支持され、
前記支持体は、前記フレームか前記１組の他方のモジュールであり、
前記アセンブリのトラックは、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに配置され、前記アセンブリの前記本体は、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に挿入されるように配置されているリソグラフィシステム。
［１９］  溝は、前記支持体又は前記リフト可能なモジュールに設けられ、前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間への前記本体の挿入中に前記本体をガイドするように配置され、前記トラックが前記溝に設けられる［１８］のリソグラフィシステム。
［２０］  前記本体は、細長い形状を有し、前記溝は、細長い形状を有する［１９］のリソグラフィシステム。
［２１］  前記本体の挿入方向に前記モジュールの移動を制限するように配置された制限装置をさらに具備する［１８］ないし［２０］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［２２］  その支持体からリソグラフィシステムのモジュールを垂直方向にリフトするための方法であって、
［１８］ないし［２１］のいずれか１のリソグラフィシステムを設ける工程と、
前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入する工程とを具備する方法。
［２３］  好ましくは移動可能なカートに、その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを水平に移動させる工程をさらに具備する［２２］の方法。
［２４］  リソグラフィシステムのモジュールを交換するための方法であって、
ａ）［１８］ないし［２１］のいずれか１のリソグラフィシステムを設ける工程と、
ｂ）前記リフト可能なモジュールを運ぶために移動可能なカートを設ける工程と、
ｃ）前記リフト可能なモジュールと前記支持体との間に前記本体を挿入して、これにより、前記支持体から前記モジュールをリフトさせる工程と、
ｄ）その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートに水平に移動させる工程とを具備する方法。
［２５］  工程ｄ）は、さらに、
ｄ１）前記移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
ｄ２）その支持体に対して前記リフト可能なモジュールを前記移動可能なカートの前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む［２４］の方法。
［２６］ｅ）他のリフト可能なモジュールを運ぶために他の移動可能なカートを設ける工程を含み、他のリフト可能なモジュールは、他の移動可能なカートに配置され、
ｆ）前記カートに対して前記他のリフト可能なモジュールを前記本体に水平に移動させる工程と、
ｇ）前記他のリフト可能なモジュールと前記支持体との間の前記本体を取り外し、これにより前記支持体に前記モジュールを下げる工程とをさらに具備する［２４］又は［２５］の方法。
［２７］  工程ｆ）は、さらに、
ｆ１）前記他の移動可能なカートのガイドホイールを前記本体のガイドホイールとアライメントさせるために、前記他の移動可能なカートのガイドホイールの位置と向きとの少なくとも一方を調節することと、
ｆ２）前記カートに対して前記リフト可能なモジュールを前記本体の前記ガイドホイールに水平に移動させることとを含む［２６］の方法。
［２８］  前記移動可能なカート及び前記他の移動可能なカートは、同じカートである［２６］又は［２７］の方法。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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