(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セキュリティ用紙用基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）において、一またはそれ以上の紙層（１１、１２；１５；１１＊、１２＊；１５＊）と、前記紙層（１１、１２；１５；１１＊、１２＊；１５＊）の少なくとも一つの面に適合するように作られているポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）とを具え、前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）が、前記基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）の、前記紙層（１１、１２；１５；１１＊、１２＊；１５＊）で覆われていない少なくとも一の領域においてほぼ透明で、前記基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）に、ほぼ透明な窓（Ｗ）であって、前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）で形成され、当該ポリマ層によって閉じられている窓を形成しており；
前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）の厚さ（Ｔ）が、前記窓（Ｗ）がある領域において、前記窓（Ｗ）がある領域の外側の前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）の厚さ（ｔ）より大きく、かつ前記基体の（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）上側表面（Ｉ）から下側表面（ＩＩ）まで延在しており；
前記窓（Ｗ）がある領域における前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）の厚さ（Ｔ）が、前記窓（Ｗ）の領域の外側における、前記紙層（１１、１２；１５；１１＊、１２＊；１５＊）の厚さと、前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）の厚さを加えた厚さとほぼ等しく、前記基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）がほぼ均一かつ一定の厚さ（Ｔ）であり；
前記基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）がさらに、前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）の前記窓の領域における少なくとも一方の表面上に配置された、マイクロ光学構造（３０；４０；５０；６０；７０）を具える；
事を特徴とする基体。
【請求項２】
請求項１に記載の基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）において、前記ポリマ層（２０；２０’；２０”）が、前記基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）の全領域に亘って延在していることを特徴とする基体。
【請求項３】
請求項１に記載の基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）において、前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）が、前記基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）の領域の一部にのみ延在していることを特徴とする基体。
【請求項４】
請求項３に記載の基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）において、前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）が、ポリマ材料でできたストリップ又はパッチの形状であることを特徴とする基体。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓａ）において、前記ポリマ層（２０；２０’；２０＊）が、少なくとも第１及び第２の紙層（１１、１２；１１＊、１２＊）の間に挟まれており、窓（Ｗ）の領域において、基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓａ）の両表面（Ｉ、ＩＩ）の方向に突出する部分があることを特徴とする基体。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基体（Ｓ＊＊；Ｓｂ）において、前記ポリマ層（２０”；２０＊＊）が前記基体（Ｓ＊＊；Ｓｂ）の上側表面（Ｉ）に露出しており、この上側表面（Ｉ）に沿ってほぼ平坦な面があることを特徴とする基体。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の基体（Ｓ；Ｓａ；Ｓｂ）において、前記窓（Ｗ）の領域におけるマイクロ光学構造（３０；６０；７０）が、前記ポリマ層（２０；２０＊；２０＊＊）の前記面に直接的に予めエンボス加工されていることを特徴とする基体。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の基体（Ｓ＊）において、前記窓（Ｗ）の領域における前記マイクロ光学構造（４０）が、前記ポリマ層（２０’）の面に貼り付けられたフォイルエレメント（４５）の面に、予めエンボス加工されていることを特徴とする基体。
【請求項９】
請求項８に記載の基体（Ｓ＊）において、前記フォイルエレメント（４５）が、前記ポリマ層（２０’）の面にホットスタンプによって貼り付けられていることを特徴とする基体。
【請求項１０】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の基体（Ｓ＊＊）において、前記窓（Ｗ）の領域における前記マイクロ光学構造（５０）が、前記ポリマ層（２０”）の面に張り付けた材料の層（５５）がある面をエンボス加工することによって形成されていることを特徴とする基体。
【請求項１１】
請求項１０に記載の基体（Ｓ＊＊）において、前記材料の層（５５）が、印刷によって前記ポリマ層（２０”）の面に張り付けられていることを特徴とする基体。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）において、前記基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）と前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）のｍ窓（Ｗ）の領域における厚さ（Ｔ）が、１００μｍのオーダであることを特徴とする基体。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の基体（Ｓａ；Ｓｂ）において、前記ポリマ層（２０＊；２０＊＊）が、前記窓（Ｗ）の領域へ厚さが滑らかに移行していることを特徴とする基体。
【請求項１４】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）において、前記マイクロ光学構造（３０；４０；５０；６０；７０）がレンズ構造であることを特徴とする基体。
【請求項１５】
請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）を製造する方法において、
ａ）厚さ（Ｔ）が、前記窓形成部分（Ｗ）の外側の前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）の厚さ（ｔ）より大きい、少なくとも一の窓形成部分（Ｗ）を具える、少なくとも一のポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）を提供するステップと；
ｂ）前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）が、前記紙層（１１、１２；１５；１１＊、１２＊；１５＊）の少なくとも一つの面に接着するように形成されており、結果としての基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）がほぼ均一かつ一定の厚さ（Ｔ）である一またはそれ以上の紙層（１１、１２；１５；１１＊、１２＊；１５＊）を提供するステップと；
ｃ）マイクロ光学構造（３０；４０；５０；６０；７０）を、前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）の前記窓形成部分（Ｗ）の少なくとも一方の面に提供するステップと；
を具えることを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法において、前記マイクロ光学構造（３０；６０；７０）が、前記ポリマ層（２０；２０＊；２０＊＊）の前記窓形成部分（Ｗ）の前記面に直接予めエンボス加工されていることを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１５に記載の方法において、前記マイクロ光学構造（４）が、前記ポリマ層（２０’）の前記窓形成部分（Ｗ）の前記側部に張り付けたフォイルエレメント（４５）の面に予めエンボス加工されていることを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法において、前記フォイルエレメント（４５）を、前記ポリマ層（２０’）の前記窓形成部分（Ｗ）の面にホットスタンプによって貼り付けたことを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１５に記載の方法において、前記マイクロ光学構造（５０）が、前記ポリマ層（２０”）の面に張り付けた材料の層（５５）の面にエンボス加工によって形成されていることを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１５乃至１９のいずれか１項に記載の方法において、前記基体（Ｓ；Ｓ＊；Ｓ＊＊；Ｓａ；Ｓｂ）及び前記ポリマ層（２０；２０’；２０”；２０＊；２０＊＊）の前記窓形成部分（Ｗ）の厚さ（Ｔ）が、１００μｍのオーダであることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的に、セキュリティ用紙、特に紙幣など高いセキュリティが必要な用紙の基体、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高いセキュリティを必要とする印刷分野、特に紙幣の製造には様々な基体が用いられており、（ｉ）通常、綿繊維でできた紙基体、（ｉｉ）特定のポリマ材（二軸配向されたポリプロピレン、又は「ＢＯＰＰ」など）でできたプラスチック又はポリマ基体、並びに（ｉｉｉ）一つの基体媒体中で紙とポリマ材又は層を組み合わせたハイブリッド又は複合基体、がある。
【０００３】
ポリマ基体の特別な特徴は、例えば、１９８８年のオーストラリア記念１０ドル紙幣のように、基体の一部分に透明ウインドを形成した紙幣であり、このウインドは両面の白色不透明層が除かれて、ポリマ材料の透明部分が露出している。このウインド部分は、通常、エンボス、印刷、及び光学的可変デバイス（ＯＶＤｓ）などのフォイルエレメントといった特徴をウインドに形成又は適用して、セキュリティの強化に活用されている。
【０００４】
関連する紙の層に対応する開口が設けられていれば、同様のウインド構造を紙基体やハイブリッド基体に作ることができる。ハイブリッド基体の場合は、追加のポリマ層を利用して、そのウインドを閉じることができる。紙基体の場合は、ウインドを形成している開口（例えば、切り取りによって作る）は、通常、ウインドの上にラミネート加工されたあるいは製造工程で紙の中に埋め込んだ特別な材料層で閉じられていなければならない。このプロセスは、ぺーパーミルで、あるいはより有利には、ＷＯ２００８／１０４９０４Ａ１号、ＷＯ２００９／１１２９８９Ａ１号、ＷＯ２０１０／００１３１７Ａ１号に記載されている方法による印刷工程で実行できる。
【０００５】
紙ベースのウインド構造の潜在的な問題は、紙の層の開口が汚れやすく、基体の厚さにむら及び非均一性が生じて、次の処理装置を通るときの基体の処理及び搬送に影響することである。国際公開ＷＯ２００５／１１６３３５Ａ１号に解決法が提案されており、この方法は、開口を透明な充填剤で埋めることであるが、これは、フォイル材料を適用してウインドの領域を覆うった後に、更なる処理ステップが必要である。更に、透明な充填剤を開口中に適切に接着することが、このような解決法の課題である。
【０００６】
高セキュリティの印刷業界には、レンズ構造などの、マイクロ−光学構造を、下に設けて、マイクロ光構造に登録して、高度化した動的及び／又は光学的可変効果を作るようにした印刷パターンと組み合わせるという、更なる動向がある。このようなレンズ構造と印刷パターンの組み合わせの一例は、例えば、国際公開ＷＯ２００７／０２００４８Ａ２号に開示されている。この公報に述べられているように、動的及び／又は光学的可変効果は、マイクロ−光学構造と印刷パターン間の距離を最大にする、すなわち、基体材料の総厚を利用することによって改善され最適化される。
【０００７】
したがって、改良した基体と、その基体を製造する方法が求められている。
【発明の概要】
【０００８】
本発明の主な目的は、セキュリティ用紙、特に紙幣の製造に用いる公知の基体の改良に関する。
【０００９】
本発明の更なる目的は、ウインドベースのマイクロ光学構造を組み入れるのに適した基体を提供することである。
【００１０】
これらの目的は、特許請求の範囲に規定した本発明によって達成される。
【００１１】
本発明の更なる有利な実施例は、従属請求項の主題に記載されており、以下に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
本発明のその他の特徴及び利点は、非限定的な実施例によって示され、添付図面に記載されている本発明の実施形態についての以下の詳細な説明を読むことでより明らかになる。
【図１】図１は、紙幣の形状のセキュリティ用紙を正面から見た図であり、本発明による基体を具えている。この図は、本発明の第１、第２及び第３実施例を示す。
【図２】図２は、本発明の第１実施例による、図１の紙幣のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図３】図３は、本発明の第２実施例による、図１の紙幣のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図４】図４は、本発明の第３実施例による、図１の紙幣のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【図５】図５は、本発明の第４実施例による紙幣の断面図である。
【図６】図６は、本発明の第５実施例による紙幣の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明は、紙幣製造用基体のアプリケーションについての特別なコンテキストで説明する。しかしながら、本発明の基体は、査証、パスポート、あるいは認証又は旅行書類などの様々なセキュリティ用紙の製造に使用することができる。本発明の基体は、従来、個人的シート又は連続ウエブの形状で提供されている、セキュリティ用紙の製造に使用されていたような印刷及び処理装置での処理に適した基体形状を取ることができることは自明である。本発明のコンテキストでは、「基体」の用語は、セキュリティ用紙の製造に使用されるような個別シート又は連続ウエブを含む、あらゆる形状のシートあるいはウエブ材料、並びに個別の紙幣といった、シートウエブ空作る個々の用紙の基体を意味する。
【００１４】
図１は、本発明に係る基体を具える紙幣の形での個別のセキュリティ用紙を示す。この分野では通常のことであるが、紙幣は個々のシートあるいは連続ウエブの連続部分の形で製造される。このシート又は部分は、マトリックス配列された個々の称号ポジションを担持しており、製造プロセスの最後にこれを処理（例えば、切断）して個別のセキュリティ用紙にする。従って、シート状又はウエブ状の対応する基体は、通常、図１に記載しているように、多重反復した紙幣基体を具える。
【００１５】
図１は、本発明の第１、第２及び第３の実施例の説明に使用され、符号Ｓ、Ｓ＊、及びＳ＊＊がついている基体は、それぞれの実施例を区別するためのものである。図１に示すように、基体Ｓ（Ｓ＊、Ｓ＊＊）は、少なくとも部分的に、窓部Ｗ、すなわち、実質的に透明な基体材料の部分を示している。図１は、一つの窓部のみを示しているが、所望の形状の複数の窓部を設けてもよい。
【００１６】
以下の説明を読むことによって明らかなように、窓部は第１の実施例のコンテキストでは符号２０、第２及び第３の実施例のコンテキストでは、それぞれ符号２０’と符号２０”を付したポリマ層によって閉じられている。このポリマ層は、二軸延伸ポリプロピレン（ＢＯＰＰ）などの、適切な実質的に透明なポリマ材料で作ることができる。ポリマ層は、更に、ポリマ材料でできた、単一均質層又は二またはそれ以上のポリマ材料層でできたラミネート、からなるものでもよい。
【００１７】
ポリマ層２０（２０’、２０”）は、図１に破線で示すように、基体Ｓ（Ｓ＊、Ｓ＊＊）のその領域の一部の上にのみ延在しており、セキュリティ用紙基体Ｓ（Ｓ＊、Ｓ＊＊）の幅に沿って延在するポリマ材でできたストリップを特定している。しかしながら、このポリマ層は、パッチ形状など、窓部分のその領域を少なくとも適切に覆うものであれば、他の形状であってもよい。本発明のコンテキストにおいては、ポリマ層２０（２０’、２０”）は、基体Ｓ（Ｓ＊、Ｓ＊＊）の全域にわたって延在させることができ、このことによって製造ステップを簡略化できる。
【００１８】
図１に示すように、マイクロ光学構造が窓Ｗの領域に形成されており、このマイクロ光学構造は、本発明の第１、第２、又は第３実施例のそれぞれのコンテキストにおいて、符号３０、４０、５０で示されている。このマイクロ光学構造３０（４０、５０）は、例えば、半円柱状又は半球状レンズエレメントなど個別のレンズを複数具える構造といった、好ましくはレンズ構造である。説明の目的で、マイクロ光学構造３０（４０、５０）は、本例では、図１において、水平方向にある複数の半円中状レンズエレメントからなるものとする。フレネルレンズ構造や、より複雑な構造体といった、その他のマイクロ光学構造であってもよい。本発明のコンテキストでは、「光学構造」の用語は、基体Ｓ（Ｓ＊、Ｓ＊＊）の表面内又は表面上にある非平坦面を意味するものと解され、これによって、問題となる非平坦面を見た時に外観に光学的変化が提供されるあるいは作られる。マイクロ光学構造３０（４０、５０）は、窓Ｗの領域の一部のみあるいは全体に延在しており、あるいは、マイクロ光学構造３０（４０、５０）を基体Ｓ（Ｓ＊、Ｓ＊＊）に形成する設計と方法によっては、窓Ｗの境界を超えて延在していてもよい。
【００１９】
図２を参照すると、本発明の第１実施例が記載されており、図１のＡ−Ａ線に沿って、基体Ｓと窓領域Ｗを通るセキュリティ用紙の断面が示されており、ポリマ層２０とマイクロ光学構造３０が見られる。図に示すように、ポリマ層２０は、窓形成部分Ｗと、窓Ｗの領域の外側にあるポリマ層２０より厚い厚さＴ（好ましくは１００μｍのオーダー）を示す。図２に更に示すように、第１及び第２の紙層１１、１２がポリマ層２０の各側に設けられており、この紙層１１、１２は窓Ｗの領域を覆っていない。換言すると、ポリマ層２０は、第１及び第２の紙層１１、１２に挟まれており、窓Ｗの領域において、基体Ｓの両側Ｉ、ＩＩの方向に突出する部分を示す。
【００２０】
図２に示すように、窓Ｗの領域にあるポリマ層２０の厚さＴは、窓Ｗの領域の外の紙層１１、１２とポリマ層２０を加えた厚さにほぼ等しい。このように、基体Ｓは、ほぼ均一かつ一定の厚さＴを示しており、マイクロ光学構造３０の厚さは考慮されていないと考えられる。
【００２１】
説明のために、窓Ｗの領域にあるマイクロ光学構造３０は、ポリマ層２０の面、すなわち基体Ｓの上面Ｉに合致する面に、直接、予めエンボス加工されている。換言すると、この第１実施例によれば、マイクロ光学構造３０は、ポリマ層２０と一体化した部分である。しかしながら、第２及び第３実施例の説明から明らかなように、マイクロ光学構造は、ポリマ層を直接エンボス加工すること以外の方法で形成するか、あるいは取り付けてもよい。
【００２２】
図３は、本発明の第２実施例による、図１のセキュリティの同じＡ−Ａ線に沿った断面を示す。区別するために、本例では、基体にＳ＊の符号をつけている。図３に示す第２実施例は、図２に示す第１実施例と、符号４０を付したマイクロ光学構造が、符号２０’を付したポリマ層の面に、好ましくは熱スタンプで張り付けた、フォイルエレメント４５の面に予めエンボス加工されている。
【００２３】
図４は、本発明の第３実施例による、図１のセキュリティ用紙のＡ−Ａ線に沿った断面を示す。この実施例は、ポリマ層２０”が、符号Ｓ＊＊で示す基体の一方の面（すなわち、本例では上面Ｉ）に露出しており、この面Ｉに沿ってほぼ平坦な面を示している点で、上述の実施例と異なる。紙層１５がポリマ層２０”の他方の側部に設けられており、窓Ｗの領域に突出部分が形成されている。図２及び３に示す実施例の紙層１２と同様に、紙層１５は、ポリマ層２０”の下面に設けられており、窓Ｗの領域をカバーしていない。
【００２４】
窓Ｗの領域のポリマ層２０”の厚さＴも、窓Ｗの領域の外側の紙層１５とポリマ層２０”を加えた厚さとほぼ等しく、この結果、基体Ｓ＊＊は、ほぼ均一で一定の厚さＴを示す。
【００２５】
この実施例において符号５０で示すマイクロ光学構造は、材料層５５（例えば、印刷層）の一面にエンボス加工によって形成されている。材料層は、ポリマ層２０”の面に、好ましくはエンボス加工の前に貼り付けておく。しかしながら、マイクロ光学構造５０は、ポリマ層２０”の一方の面（上側又は下面）に直接、予めエンボス加工する（第１実施例と同様に）、あるいはフォイルエレメントの一方の側部に予めエンボス加工するようにしてもよい。フォイルエレメントは、ポリマ層２０”の側部に、好ましくはホットスタンピングによって貼り付ける（第２実施例と同様）。
【００２６】
公知のポリマ基体のように、図３に示すポリマ層２０”の上（窓Ｗの領域を除く）に不透明層を更に設けることは有用である。
【００２７】
図２及び３の実施例の第１及び第２の紙層１１、１２及び、図４に示す実施例の紙層１５が、単一紙層、あるいは少なくとも一の紙層を具える複数層のラミネートでできていてもよい。
【００２８】
上述した実施例に示すように、本発明の基体の効果は、基体が、特に窓の領域においてほぼ均一かつ一定の厚さであり、これによって、汚れの問題を防ぐことができるというものである。更に、窓Ｗの領域におけるポリマ層２０（２０’、２０”）は、実質的に均一かつ平坦な領域を形成しており、マイクロ光学構造３０（４０、５０）の光学的効果を高める。ポリマ層２０（２０’、２０”）の窓形成部分は、光学構造３０（４０、５０）が配置されている面の反対側の基体Ｓ（Ｓ＊、Ｓ＊＊）の面にパターンを印刷する適切な支持体を提供する点で特に有利であり、これによって、基体Ｓ（Ｓ＊、Ｓ＊＊）の上面Ｉから窓Ｗを見た時に、様々な最適光学的効果を生む。
【００２９】
図５及び６は、本発明の更なる実施例を、符号２０＊、２０＊＊を付したポリマ層の厚さが、窓Ｗの領域になだらかに移行すること、すなわち、窓Ｗを形成しているポリマ層２０＊、２０＊＊の厚い領域と、窓Ｗの領域の外側のポリマ層２０＊、２０＊＊の薄い領域間のなだらかな移行を強調して示す。図５の紙層１１＊、１２＊と、図６の紙層１５＊は、同様に、窓Ｗの領域に向かって、厚さが徐々に減少している。
【００３０】
図５、６に示すマイクロ光学構造６０、７０は、図２に示すマイクロ光学構造３０と同じである。これらのマイクロ光学構造６０、７０は、図３及び４の代替例にあるように形成することができる。
【００３１】
基体の製造に関して、この方法は：
ａ）窓形成部分の外側のポリマ層の厚さより厚い少なくとも一の窓形成部を具えるポリマ層を提供するステップと；
ｂ）一またはそれ以上の紙層を提供するステップであって、ポリマ層がこの紙層の少なくとも一の面に接着するようにできており、結果物である基体がほぼ均一かつ一定の厚さを示す、ステップと；
ｃ）ポリマ層の窓形成部分の少なくとも一方の側部にマイクロ光学構造を提供するステップと；
を具える。
【００３２】
この分野で公知の技術を用いて、紙層の上へのポリマ層の結合及び接着を確実にすることができる。
【００３３】
上述の実施例に、特許請求の範囲で規定した発明の範囲から外れることなく、様々な変形及び／又は改良を行うことができる。特に、上記に述べたように、本発明は特定の期待形状に限定されるものではなく、個別のシート又は連続ウエブの形で製造することが好ましい。
【００３４】
使用した符号のリスト
Ｓ      基体、例えば、セキュリティ又はセキュリティシート（第１実施例）
Ｓ＊    基体、例えば、セキュリティ又はセキュリティシート（第２実施例）
Ｓ＊＊    基体、例えば、セキュリティ又はセキュリティシート（第３実施例）
Ｓａ    基体、例えば、セキュリティ又はセキュリティシート（第４実施例）
Ｓｂ    基体、例えば、セキュリティ又はセキュリティシート（第５実施例）
Ｗ      ポリマ層２０、２０’、２０”の窓／窓形成部
Ｉ      基体Ｓ、Ｓ＊、Ｓ＊＊の第１（上側）面
ＩＩ    基体Ｓ、Ｓ＊、Ｓ＊＊の第２（下側）面
１１    第１（上側）紙層（第１及び第２実施例）
１２    第２（下側）紙層（第１及び第２実施例）
１１＊    第１（上側）紙層（第４実施例）
１２＊    第２（下側）紙層（第４実施例）
１５    （下側）紙層（第３実施例）
１５＊    （上側）紙層（第３実施例）
２０    ポリマ層（第１実施例）
２０’  ポリマ層（第２実施例）
２０”  ポリマ層（第３実施例）
２０＊    ポリマ層（第４実施例）
２０＊＊  ポリマ層（第５実施例）
３０    マイクロ光学構造、例えば、ポリマ層の窓形成部Ｗに予めエンボス加工したレンズ構造（第１実施例）
４０    マイクロ光学構造、例えば、レンズ構造（第２実施例）
４５    予めエンボス加工したマイクロ光学構造４０を担持するフォイルエレメント
５０    マイクロ光学構造、例えば、レンズ構造（第３実施例）
５５    ポリマ層２０”の窓形成部Ｗに貼付し、次いでエンボス加工した、マイクロ光学構造を形成する層（例えば、印刷層）
６０    マイクロ光学構造、例えば、レンズ構造（第３実施例）
７０    マイクロ光学構造、例えば、レンズ構造（第４実施例）
Ｔ      基体Ｓ、Ｓ＊、Ｓ＊＊とポリマ層２０、２０’、２０”の窓形成部Ｗの厚さ
ｔ      窓形成部Ｗの外のポリマ層２０、２０’、２０”の厚さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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