(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示パネルの製造方法であって、
第１基板基材に配列素子を製造して配列基板を形成するステップと、
前記配列基板の表示領域に第１配向層を設置するステップと、
第２基板基材にブラックマトリクスおよびカラーレジストを製造してカラーフィルム基板を形成するステップと、
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップと、
前記カラーフィルム基板の前記カラーフィルム平坦化層に第２配向層を設置するステップと、
前記配列基板と前記カラーフィルム基板を用いて液晶セルを製造し、前記液晶セル内に液晶分子を注入するステップと、および、
前記配列基板の非表示領域に駆動チップを設置して前記配列基板の第１変形領域に前記配列基板の凸起を形成するするステップとを含み、
前記配列基板の第１変形領域の位置と前記カラーフィルム基板の第２変形領域の位置はお互いに対応し、前記第１変形領域及び前記第２変形領域は、前記表示領域に設けられ、前記凹溝の高さと前記凸起の高さは略同一であることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記第１基板基材に配列素子を製造して配列基板を形成するステップ以降に、
前記配列基板上に配列平坦化層を設置するステップ、および
前記配列基板の表示領域の前記配列平坦化層に第１配向層を設置するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップは、
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置するステップ、および、
ハーフトーンマスク用いて、前記カラーフィルム平坦化層に対し図形化処理を行うことにより、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝が形成されるステップを含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップは、
図形化処理により、前記カラーフィルム基板上に第１カラーフィルム平坦化層を設置するステップ、および、
前記第１カラーフィルム平坦化層を設置する前記カラーフィルム基板上に第２カラーフィルム平坦化層を設置することで、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記第２カラーフィルム平坦化層の凹溝が形成されるステップを含み、
前記カラーフィルム基板の第２変形領域には前記第１カラーフィルム平坦化層が設置されていないことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項５】
液晶表示パネルの製造方法であって、
第１基板基材に配列素子を製造して配列基板を形成するステップと、
第２基板基材にブラックマトリクスおよびカラーレジストを製造してカラーフィルム基板を形成するステップと、
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップと、
前記配列基板と前記カラーフィルム基板を用いて液晶セルを製造し、前記液晶セル内に液晶分子を注入するステップと、および、
前記配列基板の非表示領域に駆動チップを設置し、前記配列基板の第１変形領域に前記配列基板の凸起を形成するステップとを含み、
前記配列基板の第１変形領域の位置と前記カラーフィルム基板の第２変形領域の位置はお互いに対応し、前記第１変形領域及び前記第２変形領域は、前記表示領域に設けられ、前記凹溝の高さと前記凸起の高さは略同一であることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記第１基板基材に配列素子を製造して配列基板を形成するステップ以降に、
前記配列基板の表示領域に第１配向層を設置するステップをさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項７】
前記第１基板基材に配列素子を製造して配列基板を形成するステップ以降に、
前記配列基板上に配列平坦化層を設置するステップ、および、
前記配列基板の表示領域の前記配列平坦化層に第１配向層を設置するステップをさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項８】
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップ以降に、
前記カラーフィルム基板の前記カラーフィルム平坦化層に第２配向層を設置するステップをさらに含むことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップは、
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置するステップ、および、
ハーフトーンマスクを用いて前記カラーフィルム平坦化層に対し図形化処理を行うことにより、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝が形成されるステップを含むことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップは、
図形化処理により、前記カラーフィルム基板上に第１カラーフィルム平坦化層を設置するステップ、および、
前記第１カラーフィルム平坦化層の前記カラーフィルム基板上に第２カラーフィルム平坦化層を設置することにより、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記第２カラーフィルム平坦化層の凹溝が形成されるステップを含み、前記カラーフィルム基板の第２変形領域には、前記第１カラーフィルム平坦化層が設置されていないことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
液晶表示パネルの製造方法であって、
第１基板基材上に表示素子を製造して配列基板を形成するステップと、
前記配列基板上に配列平坦化層を設置し、図形化処理により前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップと、
第２基板基材上にブラックマトリクスおよびカラーレジストを製造してカラーフィルム基板を形成するステップと、
前記カラーフィルム基板にカラーフィルム平坦化層を設置するステップと、および、
前記配列基板と前記カラーフィルム基板を用いて液晶セルを製造し、前記液晶セル内に液晶分子注入するステップとを含み、
前記配列基板の非表示領域に駆動チップを設置して前記配列基板の第１変形領域に前記配列基板の凸起を形成し、前記第１変形領域は、前記表示領域に設けられ、前記凹溝の高さと前記凸起の高さは略同一であることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
前記配列基板上に配列平坦化層を設置し、図形化処理により前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップ以降に、
前記配列基板の表示領域の前記配列平坦化層上に第１配向層を設置するステップを更に含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置するステップ以降に、
前記カラーフィルム基板の前記カラーフィルム平坦化層上に第２配向層を設置するステップをさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
前記配列基板に配列平坦化層を設置し、図形化処理により、前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップは、
前記配列基板上に配列平坦化層を設置するステップ、および、
ハーフトーンマスクを用いて、前記配列平坦化層に対し図形化処理を行なうことにより、前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップを含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記配列基板上に配列平坦化層を設置し、図形化処理により、前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップは、
図形化処理により、前記配列基板上に第１配列平坦化層を設置するステップ、および、
前記第１配列平坦化層を設置した前記配列基板上に第２配列平坦化層を設置することにより、前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップを含み、
前記配列基板の第１変形領域には、前記第１配列平坦化層が設置されていないことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示分野に関し、特に液晶表示パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
テクノロジーの発展に伴い、スマートフォンとタブレットコンピュータの誕生により、中小サイズの液晶表示パネルの規格に対する要求が高められ、液晶表示パネルのフレームを狭く設計することが求められた。
【０００３】
フレームを狭く設計すると、液晶表示パネル周縁の無効表示領域を減少することができ、同一の表示面積において、液晶表示パネルのサイズがより小さくなる。同時に、液晶表示パネルの設計難度が大幅に大きくなり、例えば、駆動回路の空間利用率を極致まで高める必要があった。従来の中級または高級な液晶表示パネルの非駆動回路側におけるフレーム設計は１mm未満であった。駆動回路側のフレーム設計は約５mmであった。
【０００４】
しかし、前記の駆動回路側のフレームは、液晶表示パネルの有効表示領域（AA区）に近すぎるため、駆動チップに対してボンディング（bonding）操作を行う時に、有効表示区の基板ガラスは、局所の温度が高すぎて熱により膨張するため、液晶表示パネルの内側に突出している。このように、熱により膨張する領域の液晶セルの隙間が小さくなり、色むら（mura）等の不具合が生じやすい。
【０００５】
従って、従来技術に存在する問題を解決する液晶表示パネルの製造方法を提供する必要があった。 
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、従来の液晶表示パネルの製造方法での、駆動チップのボンディング操作による液晶セルの一部の隙間が小さくなり、色むらの不具合が発生しやすいという技術問題を解決するために、液晶セルの隙間のばらつきを回避することができる液晶表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記の問題を解決するために、本発明は、
第１基板基材に配列素子を製造して配列基板を形成するステップと、
前記配列基板の表示領域に第１配向層を設置するステップと、
第２基板基材にブラックマトリクスおよびカラーレジストを製造してカラーフィルム基板を形成するステップと、
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップと、
前記カラーフィルム基板の前記カラーフィルム平坦化層に第２配向層を設置するステップと、
前記配列基板と前記カラーフィルム基板を用いて液晶セルを製造し、前記液晶セル内に液晶分子を注入するステップと、および、
前記配列基板の非表示領域に駆動チップを設置して前記配列基板の第１変形領域に前記配列基板の凸起を形成するステップとを含み、
前記配列基板の第１変形領域の位置と前記カラーフィルム基板の第２変形領域の位置はお互いに対応し、前記凹溝の高さと前記凸起の高さは略同一であることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【０００８】
本発明の前記液晶表示パネルの製造方法において、前記第１基板基材に配列素子を製造して配列基板を形成するステップ以降に、
前記配列基板上に配列平坦化層を設置するステップ、および
前記配列基板の表示領域の記配列平坦化層に第１配向層を設置するステップをさらに含む。
【０００９】
本発明の前記液晶表示パネルの製造方法において、前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップは、
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置するステップ、および、
ハーフトーンマスク用いて、前記カラーフィルム平坦化層に対し図形化処理を行うことにより、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝が形成されるステップを含む。
【００１０】
本発明前記の液晶表示パネルの製造方法において、前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップは、
図形化処理により、前記カラーフィルム基板上に第１カラーフィルム平坦化層を設置するステップ、および、
前記第１カラーフィルム平坦化層を設置する前記カラーフィルム基板上に第２カラーフィルム平坦化層を設置することにより、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記第２カラーフィルム平坦化層の凹溝が形成されるステップを含み、
前記カラーフィルム基板の第２変形領域には前記第１カラーフィルム平坦化層が設置されていない。
【００１１】
本発明の実施形態は、さらに、
第１基板基材に配列素子を製造して配列基板を形成するステップと、
第２基板基材にブラックマトリクスおよびカラーレジストを製造してカラーフィルム基板を形成するステップと、
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップと、
前記配列基板と前記カラーフィルム基板を用いて液晶セルを製造し、前記液晶セル内に液晶分子注入するステップと、および、
前記配列基板の非表示領域に駆動チップ設置し、前記配列基板の第１変形領域に前記配列基板の凸起を形成するステップとを含み、
前記配列基板の第１変形領域の位置と前記カラーフィルム基板の第２変形領域の位置はお互いに対応し、前記凹溝の高さと前記凸起の高さは略同一であることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【００１２】
本発明の前記液晶表示パネルの製造方法において、前記第１基板基材に配列素子を製造して配列基板を形成するステップ以降に、
前記配列基板の表示領域に第１配向層を設置するステップをさらに含む。
【００１３】
本発明の前記液晶表示パネルの製造方法において、前記第１基板基材に配列素子を製造して配列基板を形成するステップ以降に、
前記配列基板上に配列平坦化層を設置するステップ、および、
前記配列基板の表示領域の前記配列平坦化層に第１配向層を設置するステップをさらに含む。
【００１４】
本発明の前記液晶表示パネルの製造方法において、前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップ以降に、
前記カラーフィルム基板の前記カラーフィルム平坦化層に第２配向層を設置するステップをさらに含む。
【００１５】
本発明の前記液晶表示パネルの製造方法において、前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップは、
前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置するステップ、および、
ハーフトーンマスクを用いて前記カラーフィルム平坦化層に対し図形化処理を行うことにより、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝が形成されるステップを含む。
【００１６】
本発明の前記液晶表示パネルの製造方法において、前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記カラーフィルム平坦化層の凹溝を設置するステップは、
図形化処理により、前記カラーフィルム基板上に第１カラーフィルム平坦化層を設置するステップ、および、
前記第１カラーフィルム平坦化層の前記カラーフィルム基板上に第２カラーフィルム平坦化層を設置することにより、前記カラーフィルム基板の第２変形領域に前記第２カラーフィルム平坦化層の凹溝が形成されるステップを含み、前記カラーフィルム基板の第２変形領域には、前記第１カラーフィルム平坦化層が設置されていない。
【００１７】
本発明の実施形態は、更に、
第１基板基材上に表示素子を製造して配列基板を形成するステップと、
前記配列基板上に配列平坦化層を設置し、図形化処理により前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップと、
第２基板基材上にブラックマトリクスおよびカラーレジストを製造してカラーフィルム基板を形成するステップと、
前記カラーフィルム基板にカラーフィルム平坦化層を設置するステップと、および、
前記配列基板と前記カラーフィルム基板を用いて液晶セルを製造し、前記液晶セル内に液晶分子注入するステップとを含み、
前記配列基板の非表示領域に駆動チップを設置して前記配列基板の第１変形領域に前記配列基板の凸起を形成し、前記凹溝の高さと前記凸起の高さは略同一であることを特徴とする液晶表示パネルの製造方法を提供する。
【００１８】
本発明の前記液晶表示パネルの製造方法において、前記配列基板上に配列平坦化層を設置し、図形化処理により前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップ以降に、
前記配列基板の表示領域の前記配列平坦化層上に第１配向層を設置するステップを更に含む。
【００１９】
本発明の前記の液晶表示パネルの製造方法において、前記カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置するステップ以降に、
前記カラーフィルム基板の前記カラーフィルム平坦化層上に第２配向層を設置するステップをさらに含む。
【００２０】
本発明の前記液晶表示パネルの製造方法において、前記配列基板に配列平坦化層を設置し、図形化処理により、前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップは、
前記配列基板上に配列平坦化層を設置するステップ、および、
ハーフトーンマスクを用いて、前記配列平坦化層に対し図形化処理を行なうことにより、前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップを含む。
【００２１】
本発明の前記液晶表示パネルの製造方法において、前記配列基板上に配列平坦化層を設置し、図形化処理により前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップは、
図形化処理により、前記配列基板上に第１配列平坦化層を設置するステップ、および、
前記第１配列平坦化層を設置した前記配列基板上に第２配列平坦化層を設置することにより、前記配列基板の第１変形領域上の前記配列平坦化層に凹溝が形成されるステップを含み、前記配列基板の第１変形領域には、前記第１配列平坦化層が設置されていない。
【００２２】
従来の液晶表示パネルの製造方法に比較すると、本発明の液晶表示パネルの製造方法は、カラーフィルム基板のカラーフィルム平坦化層または配列基板の配列平坦化層により、由于駆動チップのボンディングによる配列基板の凸起対して平坦化を行ない、液晶セルの隙間のばらつきを回避し、従来の液晶表示パネルの製造方法では、駆動チップのボンディング操作による液晶セルの一部の隙間が小さくなり、色むら等の不具合が発生しやすいという技術課題を解決した。
【００２３】
以下、前記の内容を分かりやすくするために、本発明の好ましい実施形態を図面を参照しながら詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１の好ましい実施形態のフロチャートである。
【図２】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１の好ましい実施形態のステップS１０５後の構造概略図である。
【図３】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１の好ましい実施形態のステップS１０３のフロチャート１である。
【図４Ａ】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１の好ましい実施形態のステップS１０３１A後のカラーフィルム基板の構造概略図である。
【図４Ｂ】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１の好ましい実施形態のステップS１０３２A後のカラーフィルム基板の構造概略図である。
【図５】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１の好ましい実施形態のステップS１０３のフロチャート２である。
【図６】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１の好ましい実施形態のステップS１０３２B後のカラーフィルム基板の構造概略図である。；
【図７】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２の好ましい実施形態のフロチャートである。
【図８】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２の好ましい実施形態のステップS７０６後の構造概略図である。
【図９】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２の好ましい実施形態のステップS７０２のフロチャート１である。
【図１０Ａ】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２の好ましい実施形態のステップS７０２１A後のカラーフィルム基板の構造概略図である。；
【図１０Ｂ】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２の好ましい実施形態のステップS７０２２A後のカラーフィルム基板の構造概略図である。；
【図１１】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２の好ましい実施形態のステップS７０２のフロチャート２である。
【図１２】本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２の好ましい実施形態のステップS７０２２B後のカラーフィルム基板の構造概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、各図を参照しながら本発明の実施可能な特定実施例について説明する。本発明において方向を表す用語、例えば、「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」、「内」、「外」、「側面」等は、図面における方向を示すだけである。よって、使用する方向用語は、本発明を説明及び理解するためのものであり、本発明を限定するものではない。
【００２６】
各図において、構造が相似している単位は同一の符号で表す。
図１及び図２に示すように、図１は本発明の液晶表示パネルの製造方法の第１好ましい実施形態のフロチャートであり、図２は本発明の液晶表示パネルの製造方法の第１好ましい実施形態のステップS１０５後の構造概略図である。本好ましい実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、ステップS１０１と、ステップS１０２と、ステップS１０３と、ステップS１０４と、ステップS１０５を含む。
【００２７】
ステップS１０１において、第１基板基材上に配列素子を製造して配列基板を形成する。
【００２８】
ステップS１０２において、第２基板基材上にブラックマトリクスおよびカラーレジストを製造してカラーフィルム基板を形成する。
【００２９】
ステップS１０３において、カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置し、カラーフィルム基板の第２変形領域にカラーフィルム平坦化層の凹溝を設置する。
【００３０】
ステップS１０４において、配列基板とカラーフィルム基板を用いて液晶セルを製造し、液晶セル内に液晶分子を注入する。
【００３１】
ステップS１０５において、前記配列基板の非表示領域に駆動チップを設置して配列基板の第１変形領域に配列基板の凸起を形成する。
【００３２】
以下、本好ましい実施形態の液晶表示パネルの製造方法の各ステップのフローにについて具体的に説明する。
ステップS１０１において、第１基板基材上に配列素子を製造し、該配列素子は、データ線、走査線、薄膜トランジスタおよび画素電極等であればよい。第１基板基材上に複数の金属層および絶縁層を沈積し、多数回の図形化処理により、第１基板基材上に前記配列素子を製造することで、配列基板１１を形成する。
【００３３】
好ましくは、配列基板１１の表示領域に配列平坦化層１３をさらに設置し、その後配列基板１１の配列平坦化層１３上に第１配向層１４を設置することで、液晶層の液晶分子がプレチルト角を生成させ、液晶表示パネルの反応速度を改善することができる。その後、ステップS１０２になる。
【００３４】
ステップS１０２において、第２基板基材上にブラックマトリクスおよびカラーレジストを製造する。第２基板基材上にブラックマトリクス層およびカラーレジスト層を沈積し、多数回の図形化処理により、第２基板基材上にブラックマトリクス１６およびカラーレジスト(図示せず)を製造することで、カラーフィルム基板１５を形成する。その後、ステップS１０３になる。
【００３５】
ステップS１０３において、ステップS１０２において形成されたカラーフィルム基板１５上にカラーフィルム平坦化層１７を設置し、該カラーフィルム基板１５の第２変形領域１１３にカラーフィルム平坦化層１７の凹溝を設置する。該カラーフィルム平坦化層１７の凹溝の高さは、約２μｍである。
好ましくは、カラーフィルム基板１５のカラーフィルム平坦化層１７上に第２配向層１８をさらに設置することで、液晶層の液晶分子がプレチルト角を生成させ、液晶表示パネルの反応速度を改善することができる。その後、ステップS１０４になる。
【００３６】
ステップS１０４において、ステップS１０１において形成された配列基板１１およびステップS１０３において形成したカラーフィルム基板１５に対しセル組立て処理を行うことにより液晶セルを製造し、液晶セル内に液晶分子１９を注入する。その後、ステップS１０５になる。
【００３７】
ステップS１０５において、配列基板１１は、図像を表示するための表示区および他の部品を設置するための非表示区１１１を含む。ここで、配列基板１１の非表示領域１１１に駆動チップ１２を設置し、即ち、配列基板１１の非表示領域１１１で駆動チップ１２に対しボンディング操作を行うことにより、該駆動チップ１２に近づいている表示領域の配列基板１１が第１変形領域１１２において凸起を形成する。配列基板１１の第１変形領域１１２の位置とカラーフィルム基板１５の第２変形領域１１３の位置はお互いに対応し、凹溝の高さと凸起の高さは略同一である。
【００３８】
図２に示すように、配列基板１１の凸起の位置において対応する液晶セルの厚さと他の領域の液晶セルの厚さは一致するため、配列基板１１上の凸起は、液晶セルの隙間のばらつきを発生せず、色むらの不具合を回避する。
【００３９】
本好ましい実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、ステップS１０５において終了する。
本好ましい実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、カラーフィルム基板上に、配列基板上の凸起と対応する凹溝を設置するため、配列基板上の凸起がもたらす不具合の影響を回避する。
【００４０】
以下、カラーフィルム基板上に、凹溝を有するカラーフィルム平坦化層を設置するフローを具体的に説明する。図３に示すように、図３は本発明の液晶表示パネルの製造方法の第１好ましい実施形態のステップS１０３のフロチャート１である。該ステップS１０３は、ステップS１０３１A及びステップS１０３２Aを含む。
【００４１】
ステップS１０３１Aにおいて、マスクを用いて図形化処理により、カラーフィルム基板１５上に第１カラーフィルム平坦化層１７１を設置する。カラーフィルム基板１５の第２変形領域１１３には、第１カラーフィルム平坦化層１７１を設置しない。図４Aに示すように、図４Aは本発明の液晶表示パネルの製造方法の第１好ましい実施形態のステップS１０３１A後のカラーフィルム基板の構造概略図である。
【００４２】
ステップS１０３２Aにおいて、第１カラーフィルム平坦化層１７１を設置したカラーフィルム基板１５上に第２カラーフィルム平坦化層１７２を設置するが、ステップS１０４１Aにおいて、カラーフィルム基板１５の第２変形領域１１３には第１カラーフィルム平坦化層１７１を設置しないため、第２カラーフィルム平坦化層１７２を沈積する際に、そのままカラーフィルム基板１５の第２変形領域１１３に第２カラーフィルム平坦化層１７２の凹溝が形成される。該第２カラーフィルム平坦化層１７２の凹溝が、ステップS１０３でのカラーフィルム平坦化層１７の凹溝である。具体的に、図４Bに示すように、図４Bは、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１好ましい実施形態のステップS１０３２A後のカラーフィルム基板の構造概略図である。
【００４３】
以下、カラーフィルム基板上に、凹溝を有するカラーフィルム平坦化層を設置する他のフローについて具体的に説明する。図５に示したように、図５は本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１好ましい実施形態のステップS１０３のフロチャート２である。該ステップS１０３は、S１０３１B及びS１０３２Bを含む。
【００４４】
ステップS１０３１Bにおいて、カラーフィルム基板１５上にカラーフィルム平坦化層１７を設置する。
ステップS１０３２Bにおいて、ハーフトーンマスクを用いてカラーフィルム平坦化層１７に対し図形化処理を行うことにより、カラーフィルム基板１５の第２変形領域１１３にカラーフィルム平坦化層１７の凹溝が形成される。具体的に、図６に示すように、図６は本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第１好ましい実施形態のステップS１０３２B後のカラーフィルム基板の構造概略図である。
【００４５】
本好ましい実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、カラーフィルム基板のカラーフィルム平坦化層により、駆動チップのボンディングによる配列基板の凸起に対し平坦化を行い、液晶セルの隙間のばらつきを回避する。
【００４６】
図７と図８に示すように、図７は本発明の液晶表示パネルの製造方法の第２好ましい実施形態のフロチャートであり、図８は本発明の液晶表示パネルの製造方法の第２好ましい実施形態のステップS７０６後の構造概略図である。本好ましい実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、ステップS７０１、ステップS７０２、ステップS７０３、ステップS７０４、ステップS７０５、ステップS７０６を含む。
【００４７】
ステップS７０１において、第１基板基材上に表示素子を製造して配列基板を形成する。
【００４８】
ステップS７０２において、配列基板上に配列平坦化層を設置し、図形化処理により配列基板の第１変形領域上の配列平坦化層に凹溝が形成される。
【００４９】
ステップS７０３において、第２基板基材上にブラックマトリクスおよびカラーレジストを製造してカラーフィルム基板を形成する。
【００５０】
ステップS７０４において、カラーフィルム基板上にカラーフィルム平坦化層を設置する。
【００５１】
ステップS７０５において、配列基板とカラーフィルム基板を用いて液晶セルを製造し、液晶セル内に液晶分子を注入する。
【００５２】
ステップS７０６において、配列基板の非表示領域に駆動チップを設置することで、配列基板の第１変形領域に配列基板の凸起を形成する。凹溝の高さと凸起の高さは、略同一である。
【００５３】
以下、本好ましい実施形態の液晶表示パネルの製造方法の各ステップのフローについて具体的に説明する。
ステップS７０１において、第１基板基材上に配列素子を製造し、該配列素子はデータ線、走査線、薄膜トランジスタおよび画素電極等であればよい。第１基板基材上に複数の金属層および絶縁層を沈積し、多数回の図形化処理によって、第１基板基材上に製造前記配列素子を製造して配列基板２１を形成する。その後、ステップS７０２になる。
【００５４】
ステップS７０２において、配列基板２１上に配列平坦化層２３を設置し、図形化処理により配列基板２１の第１変形領域２１２の配列平坦化層２３に凹溝が形成される。
【００５５】
好ましくは、配列基板２１の配列平坦化層２３上に第１配向層２４を設置することで、液晶層の液晶分子がプレチルト角を生成させ、液晶表示パネルの反応速度を改善することができる。その後、ステップS７０３になる。
【００５６】
ステップS７０３おいて、第２基板基材上にブラックマトリクスおよびカラーレジストを製造する。第２基板基材にブラックマトリクス層およびカラーレジスト層を沈積し、多数回の図形化処理により、第２基板基材上にブラックマトリクス２６およびカラーレジスト(図示せず)を製造することで、カラーフィルム基板２５を形成する。その後、ステップS７０４になる。
【００５７】
ステップS７０４において、ステップS７０３において形成されたカラーフィルム基板２５上にカラーフィルム平坦化層２７を設置する。
【００５８】
好ましくは、カラーフィルム基板２５のカラーフィルム平坦化層２７に、さらに、第２配向層２８を設置することで、液晶層の液晶分子がプレチルト角を生成させ、液晶表示パネルの反応速度を改善することができる。その後、ステップS７０５になる。
【００５９】
ステップS７０５において、ステップS７０２において形成された配列基板２１およびステップS７０４において形成されたカラーフィルム基板２５に対しセル組立て処理を行うことで、液晶セルを製造し、液晶セル内に液晶分子２９を注入する。その後、ステップS７０６になる。
【００６０】
ステップS７０６おいて、配列基板２１は、表示図像を表示するための表示区および他の部品を設置するための非表示区２１１を含む。ここで、配列基板２１の非表示領域２１１に駆動チップ２２設置し、即ち配列基板２１の非表示領域２１１において駆動チップ２２に対しボンディング操作を行うことで、該駆動チップ２２に近づいている表示領域の配列基板２１が第１変形領域２１２において凸起を形成する。該凸起の高さとステップS７０２における配列平坦化層２３の凹溝の高さは略同一である。
【００６１】
図８に示すように、配列基板２１の凸起の位置において対応する液晶セルの厚さと他の領域の液晶セルの厚さは一致するため、配列基板２１上の凸起は、液晶セルの隙間のばらつきを発生させず、色むらの不具合を回避する。
【００６２】
本好ましい実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、ステップS７０６において終了する。
本好ましい実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、配列基板上に配列基板上の凸起を平坦化処理可能な配列平坦化層を設置することで、配列基板上の凸起がもたらす不具合の影響を回避する。
【００６３】
以下、配列基板上に配列平坦化層を設置するフローについて具体的に説明する。図９に示すように、図９は本発明の液晶表示パネルの製造方法の第２好ましい実施形態のステップS７０２のフロチャート１である。該ステップS７０２は、ステップS７０２１A及びステップS７０２２Aを含む。
【００６４】
ステップS７０２１Aにおいて、マスクを用いて図形化処理により、配列基板２１上に第１配列平坦化層２３１を設置し、配列基板２１の第１変形領域２１２には第１配列平坦化層２３１を設置しない。具体的に、図１０Aに示したように、図１０Aは、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２好ましい実施形態のステップS７０２１A後の配列基板の構造概略図である。
【００６５】
ステップS７０２２Aにおいて、第１配列平坦化層２３１を設置した配列基板２１上に、第２配列平坦化層２３２を設置するが、ステップS７０２１Aにおいて、配列基板２１の第１変形領域２１２には第１配列平坦化層２３１を設置していないため、第２配列平坦化層２３２を沈積する際に、配列基板２１の第１変形領域２１２上の第２配列平坦化層２３２に凹溝が形成される。該第２配列平坦化層２３２の凹溝がステップS７０２における配列平坦化層２３の凹溝である。具体的に、図１０Bに示すように、図１０Bは本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２好ましい実施形態のステップS７０２２A後の配列基板の構造概略図である。
【００６６】
以下、配列基板上に配列平坦化層を設置する他のフローについて具体的に説明する。図１１に示すように、図１１は本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２好ましい実施形態のステップS７０２のフロチャート２である。該ステップS７０２はステップS７０２１B及びステップS７０２２Bを含む。
【００６７】
ステップS７０２１Bにおいて、配列基板２１上に配列平坦化層２３を設置する。
【００６８】
ステップS７０２２Bにおいて、ハーフトーンマスクを用いて配列平坦化層２３に対し図形化処理を行うことにより、配列基板２１の第１変形領域２１２上の配列平坦化層２３に凹溝が形成される。具体的に、図１２に示すように、図１２は、本発明に係る液晶表示パネルの製造方法の第２好ましい実施形態のステップS７０２２B後の配列基板の構造概略図である。
【００６９】
本好ましい実施形態の液晶表示パネルの製造方法は、配列基板の配列平坦化層により、駆動チップのボンディングによる配列基板の凸起に対し平坦化を行い、液晶セルの隙間のばらつきを回避する。
【００７０】
本発明に係る液晶表示パネルの製造方法は、カラーフィルム基板のカラーフィルム平坦化層または配列基板の配列平坦化層により、駆動チップのボンディングによる配列基板の凸起に対し平坦化を行い、液晶セルの隙間のばらつきを回避し、従来の液晶表示パネルの製造方法での駆動チップのボンディング操作による液晶セルの一部の隙間が小さくなり、色むら等の不具合が発生しやすいという技術課題を解決した
【００７１】
上記により、本発明は好ましい実施例により開示されたが、上記の好ましい実施例は本発明を限定するものでなく、本発明の趣旨及び範囲を脱出しない限り、当業者であれば、様々な変更及び修飾を加えることができるため、本発明の保護範囲は、特許請求の範囲に基づくものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１】
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【図１２】
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