(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸と、
前記回転軸の少なくとも一部を囲むメインケーシングであって、前記回転軸の軸線方向にて相互に離間した入口および出口を有するとともに、前記入口側の前記回転軸の部分を囲み且つ前記入口に連通する環状空間を有するメインケーシングと、
前記メインケーシングの内部に前記回転軸に固定された状態で配置された少なくとも一つのインペラと、
前記環状空間内に配置された前記回転軸の軸線方向に沿って延在する整流部材と、
前記整流部材に沿って設けられ、前記回転軸の軸線方向に沿って相互に離間した複数の噴射孔と、
前記環状空間内を延び、前記複数の噴射孔に供給される洗浄液が流動可能な流路と
を備えることを特徴とする遠心圧縮機。
【請求項２】
前記整流部材は、前記回転軸の周方向にて前記入口と反対側に配置されることを特徴とする請求項１に記載の遠心圧縮機。
【請求項３】
前記整流部材は、前記回転軸の半径方向に沿って延在する整流体を有し、
前記複数の噴射孔の少なくとも一部は前記整流体の表面に配置される
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の遠心圧縮機。
【請求項４】
前記整流体は、前記環状空間に配置された入口案内翼列の一部を構成していることを特徴とする請求項３に記載の遠心圧縮機。
【請求項５】
前記整流部材は、前記入口から前記整流体に向けて前記環状空間の流路断面積を徐々に縮小する翼体を有することを特徴とする請求項３又は４に記載の遠心圧縮機。
【請求項６】
前記複数の噴射孔の少なくとも一部は、前記回転軸の軸線方向に沿って一列に配置されることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の遠心圧縮機。
【請求項７】
前記複数の噴射孔の少なくとも一部は、前記回転軸の軸線方向に沿って千鳥状に配置されることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の遠心圧縮機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は遠心圧縮機に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、入口及び出口を有するメインケーシングと、メインケーシングの内部に回転可能に配置されたインペラと、を備えた遠心圧縮機が開示されている。かかる遠心圧縮機は、インペラを洗浄対象とし、洗浄液を供給する供給配管と、メインケーシングの入口側に設けられ、供給配管から供給された洗浄液をインペラ表面に噴射する洗浄液噴射ノズルと、を備えている。かかる遠心圧縮機によれば、インペラ表面に付着したダストが洗浄液によって洗い流されるものとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平８−３３８３９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１が開示する遠心圧縮機では、メインケーシングの入口付近に設けられた一つの洗浄液噴射ノズルから洗浄液が噴射されている。この場合、洗浄液噴射ノズルが一つしかなく、且つ、洗浄液噴射ノズルからインペラまでの距離が短いため、洗浄液噴射ノズルから噴射された洗浄液がインペラに到達するまでに十分に広がらない。このため、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡らず、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができない虞がある。
【０００５】
上述の事情に鑑みて、本発明の少なくとも一実施形態は、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる遠心圧縮機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明の少なくとも一実施形態に係る遠心圧縮機は、
回転軸と、
前記回転軸の少なくとも一部を囲むメインケーシングであって、前記回転軸の軸線方向にて相互に離間した入口および出口を有するとともに、前記入口側の前記回転軸の部分を囲み且つ前記入口に連通する環状空間を有するメインケーシングと、
前記メインケーシングの内部に前記回転軸に固定された状態で配置された少なくとも一つのインペラと、
前記環状空間内に配置された前記回転軸の軸線方向に沿って延在する整流部材と、
前記整流部材に沿って設けられ、前記回転軸の軸線方向に沿って相互に離間した複数の噴射孔と、
前記環状空間内を延び、前記複数の噴射孔に供給される洗浄液が流動可能な流路と
を備える。
【０００７】
上記（１）の構成によれば、以下に述べるように洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。
インペラの前端縁は、メインケーシング内の回転軸の周りの円環形状の開口、即ちインペラ入口を通じて、回転軸の軸線方向に沿って環状空間に臨んでいる。メインケーシングの入口に流入した流体は、環状空間内を回転軸の周方向に沿って流れた後、回転軸の半径方向に沿ってインペラ入口に向かうように流れる。そして、流体の流動方向は、インペラ入口近傍で半径方向から軸線方向へと徐々に変化し、流体は、軸線方向に沿ってインペラ入口に流入する。
このような流動方向の変化に対応して、流体の流れの幅方向も変化する。具体的には、流れの幅方向は、環状空間内で流体が回転軸の周方向又は半径方向に沿って流れているときには回転軸の軸線方向に一致し、インペラ入口に流入後に軸線方向に沿って流れているときには回転軸の半径方向に一致する。
なお、環状空間内に配置された整流部材は、流体の流動方向が回転軸の周方向から半径方向に変化するのを補助する役割を有する。
【０００８】
ここで、上記（１）の構成によれば、整流部材に沿って設けられた複数の噴射孔から洗浄液が噴射されるので、噴射直後の洗浄液は、環状空間内を周方向又は半径方向に沿って流れる流体によって輸送される。また、複数の噴射孔が回転軸の軸線方向に沿って相互に離間しているので、噴射直後の洗浄液は、回転軸の軸線方向、即ち流体の流れの幅方向にて分散させられる。
このように噴射直後の洗浄液が流れの幅方向に分散させられることで、流体の流動方向が回転軸の半径方向から軸線方向に変化した後、即ち流体がインペラ入口に流入した後も、洗浄液は流れの幅方向、即ち回転軸の半径方向に分散させられた状態を維持する。これにより洗浄液がインペラに到達したとき、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。
【０００９】
（２）幾つかの実施形態では、上記（１）の構成において、
前記整流部材は、前記回転軸の周方向にて前記入口と反対側に配置される。
上記（２）の構成によれば、整流部材が回転軸の周方向にて入口と反対側に配置されるので、噴射直後の洗浄液は、入口と反対側から回転軸の軸線方向、即ち、流体の流れの幅方向にて分散させられる。
また、複数の噴射孔が入口と反対側に配置される整流部材に沿って設けられるので、複数の噴射孔から噴射された洗浄液は、メインケーシングの入口側の内壁面に付着するのを抑制できる。これにより、インペラの洗浄に用いられない洗浄液の無駄を少なくすることができる。
【００１０】
（３）幾つかの実施形態では、上記（１）又は（２）の構成において、
前記整流部材は、前記回転軸の半径方向に沿って延在する整流体を有し、
前記複数の噴射孔の少なくとも一部は前記整流体の表面に配置される。
上記（３）の構成によれば、複数の噴射孔の少なくとも一部の噴射孔は回転軸の半径方向に沿って延在する整流体の表面に配置されるので、噴射直後の洗浄液は、整流体の表面に沿って流れる流体によって輸送される。また、複数の噴射孔が回転軸の軸線方向に沿って相互に離間しているので、噴射直後の洗浄液は、整流体の幅方向、即ち流体の流れの幅方向にて分散させられる。
【００１１】
（４）幾つかの実施形態では、上記（３）の構成において、
前記整流体は、前記環状空間に配置された入口案内翼列の一部を構成している。
上記（４）の構成によれば、整流体が環状空間に配置された入口案内翼列の一部を構成するので、噴射直後の洗浄液は、入口案内翼から回転軸の軸線方向、即ち、流体の流れの幅方向にて分散させられる。
【００１２】
（５）幾つかの実施形態では、上記（３）又は（４）の構成において、
前記整流部材は、前記入口から前記整流体に向けて前記環状空間の流路断面積を徐々に縮小する翼体を有する。
上記（５）の構成によれば、整流部材は、入口から整流体に向けて環状空間の流路断面積を徐々に縮小する翼体を有するので、入口から整流体に向けて流れる流体の圧力低下が抑制される。
【００１３】
（６）幾つかの実施形態では、上記（１）〜（５）の何れか一つにおいて、
前記複数の噴射孔の少なくとも一部は、前記回転軸の軸線方向に沿って一列に配置される。
上記（６）の構成によれば、複数の噴射孔の少なくとも一部の噴射孔は、回転軸の軸線方向に沿って一列に配置されるので、噴射直後の洗浄液は、環状空間内を周方向又は半径方向に沿って流れる流体に均一に分布される。このように噴射直後の洗浄液が流体に均一に分布されることで、噴射直後の洗浄液は、回転軸の軸線方向、即ち流体の流れの幅方向にて均一に分散させられる。
【００１４】
（７）幾つかの実施形態では、上記（１）〜（５）の何れか一つにおいて、
前記複数の噴射孔の少なくとも一部は、前記回転軸の軸線方向に沿って千鳥状に配置される。
上記（７）の構成によれば、複数の噴射孔の少なくとも一部の噴射孔は、回転軸の軸線方向に沿って千鳥状に配置されるので、噴射直後の洗浄液は、相互に干渉することなく、環状空間内を周方向又は半径方向に沿って流れる流体に均一且つ高密度に分布される。このように噴射直後の洗浄液が流体に均一且つ高密度に分布されることで、噴射直後の洗浄液は、回転軸の軸線方向、即ち流体の流れの幅方向にて均一に分散させられる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の少なくとも一実施形態によれば、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラの表面を全体的にむらなく十分に洗浄することできる遠心圧縮機が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態に係る遠心圧縮機の構成を概略的に示す縦断面図である。
【図２】一実施形態に係る遠心圧縮機を概略的に示す横断面図である。
【図３】一実施形態に係る遠心圧縮機を概略的に示す横断面図である。
【図４】図２に示した整流部材を概略的に示す断面図である。
【図５】図３に示した整流部材を概略的に示す断面図である。
【図６】整流部材からインペラに流れる洗浄液の流れを説明する図である。
【図７】一実施形態に係る整流部材を概略的に示す斜視図である。
【図８】一実施形態に係る整流部材を概略的に示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、添付図面を参照して本発明の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載されている又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本発明の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
また例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一の構成要素を「備える」、「具える」、「具備する」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態に係る遠心圧縮機１の構成を概略的に示す縦断面図であり、図２及び図３は、一実施形態に係る整流部材を概略的に示す横断面図である。
図１に示すように、本発明の実施形態に係る遠心圧縮機１は、一軸多段式の遠心圧縮機であり、回転軸３７、メインケーシング２、少なくとも一つのインペラ３、吸込ケーシング４１，４２、吐出ケーシング５１，５２、入口案内翼列６、整流部材７、洗浄液噴射装置８、及び、洗浄液供給装置９を備えている。
【００１９】
回転軸３７は、メインケーシング２を貫通して、回転可能に配置されている。具体的には、回転軸３７はメインケーシング２の両側にそれぞれ配置されたジャーナルベアリング２７Ａ，２７Ｂ及びスラストベアリング２８Ａ，２８Ｂによって回転可能に支持されている。
【００２０】
メインケーシング２は、回転軸３７の少なくとも一部を囲むメインケーシングであって、回転軸３７の軸線方向にて相互に離間した入口２１，２２及び出口２３，２４を有するとともに、一方の入口２１側の回転軸３７の部分を囲み且つ入口２１に連通する環状空間２０を有する。
本実施形態に係るメインケーシング２は、入口２１，２２及び出口２３，２４をそれぞれ二箇所ずつ有する。
入口２１，２２及び出口２３，２４は、回転軸３７に沿って配列され、図１において、左側から順に、入口２１、出口２３、出口２４及び入口２２が配置されている。隣り合う入口２１と出口２３が対をなし、隣り合う入口２２と出口が対をなす。出口２３と入口２２が図示しない配管によって相互に接続される。
【００２１】
メインケーシング２の内部には、少なくとも一つのインペラ３として、インペラ３１〜３３及びインペラ３４〜３６が回転軸に固定された状態で配置されている。
インペラ３１〜３３及びインペラ３４〜３６の各々は、回転軸３７に対し同心上に固定されている。具体的には、インペラ３１〜３３は、入口２１と出口２３との間を延びる回転軸３７の部分に直列に固定され、インペラ３４〜３６は、入口２２と出口２４との間を延びる回転軸３７の部分に直列に固定されている。
【００２２】
インペラ３１〜３３及びインペラ３４〜３６の各々は、メインケーシング２の内部に流路Ｒを形成している。メインケーシング２の内部には、インペラ３１〜３３及びインペラ３４〜３６の流路を直列に接続する静止流路として、ディフューザ２５，２６が設けられている。
【００２３】
吸込ケーシング４１，４２は、入口２１，２２に接続され、入口２１，２２から軸線方向、例えば下方に離隔した位置に吸込口４１Ａ，４２Ａを有する。吸込ケーシング４１，４２は、吸込口４１Ａ，４２Ａから入口２１，２２に向けて徐々に縮径され、吸込口４１Ａ，４２Ａから入口２１，２２に向けて流路断面積が徐々に減少する。本実施形態では、吸込ケーシング４１，４２は、吸込口４１Ａ，４２Ａ側の流路断面形状が円形形状となり入口２１，２２側の流路断面形状が矩形形状となるように、吸込口４１Ａ，４２Ａ側から入口２１，２２側に向けてその流路断面形状が円形形状から矩形形状に徐々に変形する。また、本実施形態では、吸込ケーシング４１の内部に軸線方向に延びる隔壁４１Ｂ（図２及び図３参照）を有し、吸込ケーシング４１の内部が二つに区切られている。
【００２４】
吐出ケーシング５１，５２は、出口２３，２４に接続され、出口２３，２４から軸線方向、例えば下方に離隔した位置に吐出口５１Ａ，５２Ａを有する。
【００２５】
図２及び図３に示すように、本実施形態に係る入口案内翼列６は、メインケーシング２の軸線方向入口側に配置され、入口案内翼列６を構成する入口案内翼（ＩＧＶ（Ｉｎｌｅｔ  Ｇｕｉｄｅ  Ｖａｎｅ））６１は、それぞれ回転軸３７の半径方向に沿って配置される。これにより、入口２１から吸い込まれた流体は、入口案内翼列６の間を通り回転軸３７の軸線方向に沿って流れ、流体の半径方向の流れは軸線方向の流れとなり、インペラ３に供給される。
【００２６】
本実施形態では、入口案内翼列６は、入口２１の中心と軸線Ｏを通る面を境に左右対称に配置され、入口案内翼６１は、入口２１側から遠ざかるにつれて徐々に粗となるように配置される。
【００２７】
整流部材７は、環状空間何配置された軸線方向に沿って延在して配置される。本実施形態に係る整流部材７は、回転軸３７の軸線方向に所定の翼幅（スパン）Ａ（図７及び図８参照）を有している。
【００２８】
遠心圧縮機１では、回転軸３７を回転させることにより、圧縮対象の流体が吸込口４１Ａから吸込ケーシング４１内に流入する。圧縮対象の流体は、入口２１を経て、回転するインペラ３１〜３３から吸込ケーシング４１の流路Ｒ及びディフューザ２５を通過し、一旦メインケーシング２の外に吐出される。
【００２９】
吐出ケーシング５５１から吐出された流体は、例えば図示しない冷却装置により冷却された後、吸込口４２Ａから吸込ケーシング４２内に流入する。流入した流体は、入口２２を経て、回転するインペラ３４〜３６の流路Ｒ及びディフューザ２６を通過して圧縮される。この後、圧縮された流体は、出口２４及び吐出ケーシング５２を通過して、メインケーシングの外に吐出される。
【００３０】
洗浄液噴射装置８は、洗浄液供給管８１、複数の噴射孔８２、及び流路８３を備える。
洗浄液供給管８１は、複数の噴射孔８２に洗浄液を供給するためのものである。複数の噴射孔８２は、整流部材７に沿って設けられ、回転軸３７の軸線方向に沿って相互に離間している。流路８３は、環状空間内を延び、複数の噴射孔８２に供給される洗浄液が流動可能である。流路８３は、洗浄液供給管８１から供給された洗浄液を複数の噴射孔８２に供給するものであれば、整流部材７の内部に設けてもよいし（図４及び図５参照）、整流部材の外表面に沿って設けられるものでもよい。
例えば、図４及び図５に示す例では、整流部材７の内部に液溜まり８３１が設けられ、液溜まり８３１から複数の噴射孔８２に供給するものとする。
また、噴射孔８２は、整流部材７の片側に配置してもよいが、図４及び図５に示す例のように、整流部剤７の両側に配置してもよい。
【００３１】
洗浄液噴射装置８には洗浄液供給装置９から洗浄液が供給される。
洗浄液噴射装置８では、遠心圧縮機１を稼働した状態で間欠的に洗浄液供給装置９から洗浄液噴射装置８に洗浄液を供給する。洗浄液噴射装置８に供給された洗浄液は、整流部材７で整流される流体に噴射され、分散されて、流入した流体とともにインペラ３１〜３３の表面に到達する。インペラ３１〜３３の表面に到達した洗浄液は、インペラ３１〜３３の表面に付着したダストを洗い落として、インペラ３１〜３３の表面を洗浄する。
【００３２】
この構成によれば、以下に述べるように洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３1から３３の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。
インペラ３１の前端縁３１ａは、メインケーシング２内の回転軸３７の周りの円環形状の開口、即ちインペラ入口２９を通じて、回転軸３７の軸線方向に沿って環状空間２０に臨んでいる。図６に示すように、メインケーシング２の入口２１に流入した流体は、環状空間２０内を回転軸３７の周方向に沿って流れた後、回転軸３７の半径方向に沿ってインペラ入口２９に向かうように流れる。そして、流体の流動方向は、インペラ入口２９の近傍で半径方向から軸線方向へと徐々に変化し、流体は、軸線方向に沿ってインペラ入口２９に流入する。
このような流動方向の変化に対応して、流体の流れの幅方向も変化する。具体的には、流れの幅方向は、環状空間２０内で流体が回転軸３７の周方向又は半径方向に沿って流れているときには回転軸３７の軸線方向に一致し、インペラ入口２９に流入後に軸線方向に沿って流れているときには回転軸３７の半径方向に一致する。
なお、環状空間内に配置された整流部材７は、流体の流動方向が回転軸の周方向から半径方向に変化するのを補助する役割を有する。
【００３３】
ここで、この構成によれば、整流部材７に沿って設けられた複数の噴射孔８２から洗浄液が噴射されるので、噴射直後の洗浄液は、環状空間内を周方向又は半径方向に沿って流れる流体によって輸送される。また、複数の噴射孔８２が回転軸３７の軸線方向に沿って相互に離間しているので、噴射直後の洗浄液は、回転軸３７の軸線方向、即ち流体の流れの幅方向にて分散させられる。
このように噴射直後の洗浄液が流れの幅方向に分散させられることで、流体の流動方向が回転軸３７の半径方向から軸線方向に変化した後、即ち流体がインペラ入口２９に流入した後も、洗浄液は流れの幅方向、即ち回転軸３７の半径方向に分散させられた状態を維持する。これにより洗浄液がインペラ３１に到達したとき、洗浄液が流路幅の全域に渡って均一に行き渡り、インペラ３１の表面を全体的にむらなく十分に洗浄することができる。
【００３４】
また、図２及び図３に示すように、幾つかの実施形態では、整流部材７は、回転軸３７の周方向にて入口２１と反対側に配置される。
この構成によれば、整流部材７が回転軸３７の周方向にて入口２１と反対側に配置されるので、噴射直後の洗浄液は、入口２１と反対側から回転軸３７の軸線方向、即ち、流体の流れの幅方向にて分散させられる。
また、複数の噴射孔８２が入口２１と反対側に配置される整流部材７に沿って設けられるので、複数の噴射孔８２から噴射された洗浄液は、メインケーシング２の入口側の内壁面に付着するのを抑制できる。これにより、インペラ３１〜３３の洗浄に用いられない洗浄液の無駄を少なくすることができる。
【００３５】
本実施形態では、入口２１がメインケーシング２の下面に入口２１が設けられ、整流部材７が周方向にて入口２１と反対側となる重力方向上方に配置されるので、洗浄液が重力方向に噴射される。これにより、洗浄液に小さな圧力を付与すれば、洗浄液噴射装置８（噴射孔８２）から洗浄液を噴射することができる。
【００３６】
また、図２及び図３に示すように、幾つかの実施形態では、整流部材７は、回転軸３７の半径方向に沿って延在する整流体７１を有し、複数の噴射孔８２の少なくとも一部の噴射孔８２１は整流体７１の表面に配置される。
この構成によれば、複数の噴射孔８２の少なくとも一部の噴射孔８２１は回転軸３７の半径方向に沿って延在する整流体７１の表面に配置されるので、噴射直後の洗浄液は、整流体７１の表面に沿って流れる流体によって輸送される。また、複数の噴射孔３２１が回転軸３７の軸線方向に沿って相互に離間しているので、噴射直後の洗浄液は、整流体７１の幅方向、即ち流体の流れの幅方向にて分散させられる。
【００３７】
また、図２に示すように、幾つかの実施形態では、整流体７１１は、環状空間に配置された入口案内翼列６の一部を構成している。
この構成によれば、整流体７１１が環状空間に配置された入口案内翼列６の一部を構成するので、噴射直後の洗浄液は、入口案内翼６１から回転軸３７の軸線方向、即ち、流体の流れの幅方向にて分散させられる。
【００３８】
また、図２に示すように、幾つかの実施形態では、整流部材７は、入口２１から整流体７１に向けて環状空間の流路断面積を徐々に縮小する翼体７２を有する。
この構成によれば、整流部材７は、入口２１から整流体７１に向けて環状空間の流路断面積を徐々に縮小する翼体７２を有するので、入口２１から整流体７１に向けて流れる流体の圧力低下が抑制される。
【００３９】
図７は、一実施形態に係る整流部材を概略的に示す斜視図である。
図７に示すように、幾つかの実施形態では、複数の噴射孔８２の少なくとも一部８２３は、回転軸３７の軸線方向に沿って一列に配置される。
この構成によれば、複数の噴射孔８２の少なくとも一部の噴射孔８２３は、回転軸３７の軸線方向に沿って一列に配置されるので、噴射直後の洗浄液は、環状空間内を周方向又は半径方向に沿って流れる流体に均一に分布される。このように噴射直後の洗浄液が流体に均一に分布されることで、噴射直後の洗浄液は、回転軸３７の軸線方向、即ち流体の流れの幅方向にて均一に分散させられる。
【００４０】
図８は、一実施形態に係る整流部材を概略的に示す斜視図である。
図８に示すように、幾つかの実施形態では、複数の噴射孔８２の少なくとも一部の噴射孔８２４は、回転軸３７の軸線方向に沿って千鳥状に配置される。
この構成によれば、複数の噴射孔８２の少なくとも一部の噴射孔８２４は、回転軸３７の軸線方向に沿って千鳥状に配置されるので、噴射直後の洗浄液は、相互に干渉することなく、環状空間内を周方向又は半径方向に沿って流れる流体に均一且つ高密度に分布される。このように噴射直後の洗浄液が流体に均一且つ高密度に分布されることで、噴射直後の洗浄液は、回転軸３７の軸線方向、即ち流体の流れの幅方向にて均一に分散させられる。
【００４１】
本発明は上述した実施形態に限定されることはなく、上述した実施形態に変形を加えた形態や、これらの形態を適宜組み合わせた形態も含まれる。
【符号の説明】
【００４２】
１    遠心圧縮機
２    メインケーシング
２０    環状空間
２１，２２    入口
２３，２４    出口
２５，２６    ディフューザ
２７Ａ，２７Ｂ    ジャーナルベアリング
２８Ａ，２８Ｂ    スラストベアリング
２９    インペラ入口
３，３１〜３６    インペラ
３１ａ    前端縁
３７    回転軸
４１，４２    吸込ケーシング
４１Ａ，４２Ａ    吸込口
４１Ｂ    隔壁
５１，５２    吐出ケーシング
５１Ａ，５２Ａ    吐出口
６    入口案内翼列
６１    入口案内翼
７    整流部材
７１，７１１    整流体
７２    翼体
８    洗浄液噴射装置
８１    パイプ
８２，８２１，８２２，８２３，８２４    噴射孔
９    洗浄液供給装置
Ｏ    軸線
Ｒ    流路
【図１】
0006367660.tif 000002
【図２】
0006367660.tif 000003
【図３】
0006367660.tif 000004
【図４】
0006367660.tif 000005
【図５】
0006367660.tif 000006
【図６】
0006367660.tif 000007
【図７】
0006367660.tif 000008
【図８】
0006367660.tif 000009