(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブル基材に対してスピンコート法により薄膜を形成する際に、当該フレキシブル基材を固定するために用いられる固定用ゴムシートであって、
第１面及びそれに対向する第２面を有する、フッ素ゴムからなる固定用ゴムシート本体を含み、
前記固定用ゴムシート本体の前記第１面の表面粗さＲａが１．５〜２．５μｍであることを特徴とする固定用ゴムシート。
【請求項２】
前記固定用ゴムシート本体の前記第１面のタック値が、１１０ｇｆ未満であることを特徴とする請求項１に記載の固定用ゴムシート。
【請求項３】
前記固定用ゴムシート本体の前記第２面の表面粗さＲａが、０．８μｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の固定用ゴムシート。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の固定用ゴムシートを製造する方法であって、
第１面及びそれに対向する第２面を有するフッ素ゴムシートを準備する工程と、
前記フッ素ゴムシートの第１面側に、当該第１面の表面粗さＲａが１．５〜２．５μｍとなるように表面処理を施す工程と
を含むことを特徴とする固定用ゴムシートの製造方法。
【請求項５】
前記フッ素ゴムシートの第１面のタック値が１１０ｇｆ未満となるように、前記フッ素ゴムシートの第１面側に表面処理を施すことを特徴とする請求項４に記載の固定用ゴムシートの製造方法。
【請求項６】
前記フッ素ゴムシートの第１面側に、フッ素含有有機化合物を含む表面処理剤による表面処理を施すことを特徴とする請求項４又は５に記載の固定用ゴムシートの製造方法。
【請求項７】
前記表面処理を施す工程は、前記フッ素ゴムシートの第１面側にＤＬＣ膜を形成する工程であることを特徴とする請求項４又は５に記載の固定用ゴムシートの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜３のいずれかに記載の固定用ゴムシートを製造する方法であって、
フッ素ゴムを含む未加硫ゴム配合物を、互いに対向する第１プレス板及び第２プレス板によりプレスしてシート状に成形し、当該シート状に成形されたゴム配合物を加硫してフッ素ゴムシートを形成する工程を含み、
前記第１プレス板及び前記第２プレス板の少なくとも一方における前記未加硫ゴム配合物に当接する面は、梨地加工が施された梨地加工面であることを特徴とする固定用ゴムシートの製造方法。
【請求項９】
前記第１プレス板及び前記第２プレス板の少なくとも一方における前記梨地加工面に当接することで梨地に形成された前記フッ素ゴムシートにおける梨地面側に、当該梨地面のタック値が１１０ｇｆ未満となるように表面処理を施す工程をさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の固定用ゴムシートの製造方法。
【請求項１０】
スピンコート装置を用い、フレキシブル基材上に薄膜を形成する成膜方法であって、
前記スピンコート装置の回転テーブル上に請求項１〜３のいずれかに記載の固定用ゴムシートを保持させ、当該固定用ゴムシートの第１面上に流体層を介在させて前記フレキシブル基材を固定することを特徴とする成膜方法。
【請求項１１】
前記流体層が、有機溶媒を含むことを特徴とする請求項１０に記載の成膜方法。
【請求項１２】
前記有機溶媒が、トルエンであることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の成膜方法。
【請求項１３】
前記固定用ゴムシートの大きさが、前記フレキシブル基材を物理的に包含可能な大きさであり、
前記フレキシブル基材は、前記固定用ゴムシートに物理的に包含されるようにして、前記固定用ゴムシートの第１面上に固定されることを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載の成膜方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スピンコート法によりフレキシブル基材に成膜する際に、当該フレキシブル基材を固定するために用いられる固定用ゴムシート及びその製造方法、並びに当該固定用ゴムシートを用いてフレキシブル基材上に成膜する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の複雑化及び多機能化の進行に伴い、回路規模が大きくなる一方、電子機器の小型化、薄型化及び軽量化の進行に伴い、電子機器内において電子部品等を実装するためのスペースの確保が困難になってきている。そのため、電子機器内の限られたスペースに実装された電子部品や回路等を電気的に接続するために、配線の形成されたフレキシブルプリント基板が用いられている。また、従来、ガラス基板等のリジッド基板を用いて作製されていた多層配線基板等においても、当該ガラス基板等に代わりフレキシブルプリント基板が用いられている（特許文献１参照）。
【０００３】
このようなフレキシブルプリント基板における配線や多層構造を形成する場合において、フレキシブル基材上に各層の構成材料を成膜するが、この成膜方法として、スピンコート法等が適用される。具体的には、スピンコート装置の回転テーブル上にガラス基板等のリジッド基板を吸着固定し、当該リジッド基板上にフレキシブル基材を粘着テープ等で固定し、フレキシブル基材上に各層の構成材料（樹脂材料、導体材料等）を滴下しながら所定の回転数（３０００〜６０００ｒｐｍ）にて回転させることで、フレキシブル基材上に薄膜を形成する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−１４９８７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したような方法でフレキシブル基材上に薄膜を形成する工程において、特に樹脂材料からなる薄膜を形成した後、当該薄膜を加熱して硬化させることがある。このとき、薄膜の形成されたフレキシブル基材をオーブン等の加熱装置に搬送するために、リジッド基板上に粘着テープ等で固定されたフレキシブル基材を剥離しなければならないが、フレキシブル基材を剥離するときに、その応力により薄膜が折れ曲がったり、シワが形成されてしまったりするという問題がある。
【０００６】
粘着テープ等を用いることなく、単にフレキシブル基材をリジッド基板上に載置するだけであれば、フレキシブル基材の剥離にかかる応力を低減することができ、剥離時に薄膜が折れ曲がってしまう等の問題を解決することはできるものの、その結果、高速で回転するフレキシブル基材が、遠心力によりリジッド基板から外れてしまうという問題が生じる。
【０００７】
そのため、スピンコート法でフレキシブル基材上に薄膜を形成するためには、高速に回転するフレキシブル基材が外れてしまわない程度にフレキシブル基材を保持・固定しなければならないが、その一方で、当該フレキシブル基材を剥離しやすいという要求をも満足する必要がある。
【０００８】
上記課題に鑑みて、本発明は、フレキシブル基材にスピンコート法により薄膜を形成する際の高速回転に耐え得る程度にフレキシブル基材を保持・固定可能である一方で、当該フレキシブル基材を容易に剥離することのできる固定用ゴムシート及びその製造方法、並びに当該固定用ゴムシートを用いてスピンコート法によりフレキシブル基材に薄膜を形成する成膜方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明は、フレキシブル基材に対してスピンコート法により薄膜を形成する際に、当該フレキシブル基材を固定するために用いられる固定用ゴムシートであって、第１面及びそれに対向する第２面を有する、フッ素ゴムからなる固定用ゴムシート本体を含み、前記固定用ゴムシート本体の前記第１面の表面粗さＲａが１．５〜２．５μｍであることを特徴とする固定用ゴムシートを提供する（発明１）。
【００１０】
上記発明（発明１）においては、前記固定用ゴムシート本体の前記第１面のタック値が、１１０ｇｆ未満であるのが好ましく（発明２）、前記固定用ゴムシート本体の前記第２面の表面粗さＲａが、０．８μｍ以下であるのが好ましい（発明３）。
【００１１】
また、本発明は、上記発明（発明１〜３）に係る固定用ゴムシートを製造する方法であって、第１面及びそれに対向する第２面を有するフッ素ゴムシートを準備する工程と、前記フッ素ゴムシートの第１面側に、当該第１面の表面粗さＲａが１．５〜２．５μｍとなるように表面処理を施す工程とを含むことを特徴とする固定用ゴムシートの製造方法を提供する（発明４）。
【００１２】
上記発明（発明４）において、前記フッ素ゴムシートの第１面のタック値が１１０ｇｆ未満となるように、前記フッ素ゴムシートの第１面側に表面処理を施すのが好ましく（発明５）、かかる表面処理を施す工程は、フッ素含有有機化合物を含む表面処理剤による表面処理を施す工程であってもよいし（発明６）、前記フッ素ゴムシートの第１面側にＤＬＣ膜（ダイヤモンドライクカーボン膜）を形成する工程であってもよい（発明７）。
【００１３】
さらに、本発明は、上記発明（発明１〜３）に係る固定用ゴムシートを製造する方法であって、フッ素ゴムを含む未加硫ゴム配合物を、互いに対向する第１プレス板及び第２プレス板によりプレスしてシート状に成形し、当該シート状に成形されたゴム配合物を加硫してフッ素ゴムシートを形成する工程を含み、前記第１プレス板及び前記第２プレス板の少なくとも一方における前記未加硫ゴム配合物に当接する面は、梨地加工が施された面であることを特徴とする固定用ゴムシートの製造方法を提供する（発明８）。
【００１４】
上記発明（発明８）において、前記第１プレス板及び前記第２プレス板の少なくとも一方における前記梨地加工面に当接することで梨地に形成された前記フッ素ゴムシートにおける梨地面側に、当該梨地面のタック値が１１０ｇｆ未満となるように表面処理を施す工程をさらに含むのが好ましい（発明９）。
【００１５】
さらにまた、本発明は、スピンコート装置を用い、フレキシブル基材上に薄膜を形成する成膜方法であって、前記スピンコート装置の回転テーブル上に上記発明（発明１〜３）に係る固定用ゴムシートを保持させ、当該固定用ゴムシートの第１面上に流体層を介在させて前記フレキシブル基材を固定することを特徴とする成膜方法を提供する（発明１０）。
【００１６】
上記発明（発明１０）においては、前記流体層が、有機溶媒を含むのが好ましく（発明１１）、前記有機溶媒が、トルエンであるのが好ましく（発明１２）、前記固定用ゴムシートの大きさが、前記フレキシブル基材を物理的に包含可能な大きさであり、前記フレキシブル基材は、前記固定用ゴムシートに物理的に包含されるようにして、前記固定用ゴムシートの第１面上に固定されるのが好ましい（発明１３）。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、フレキシブル基材にスピンコート法により薄膜を形成する際の高速回転に耐え得る程度にフレキシブル基材を保持・固定可能である一方で、当該フレキシブル基材を容易に剥離することのできる固定用ゴムシート及びその製造方法、並びに当該固定用ゴムシートを用いてスピンコート法によりフレキシブル基材に薄膜を形成する成膜方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る固定用ゴムシートの概略構成を示す斜視図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態に係る固定用ゴムシートとフレキシブル基材との平面視における大きさの関係を示す平面図である。
【図３】図３は、本発明の一実施形態における成膜方法を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明の実施の形態について説明する。
［固定用ゴムシート］
本実施形態に係る固定用ゴムシート１は、フレキシブル基材に対してスピンコート法により薄膜を形成する際に、当該フレキシブル基材を固定するために用いられるものであって、第１面１１及び第１面１１に対向する第２面１２を有する、フッ素ゴムからなる固定用ゴムシート本体１０を備える（図１参照）。
【００２０】
固定用ゴムシート本体１０の第１面１１は、フレキシブル基材４（図３参照）と対向する面であって、その表面粗さＲａは１．５〜２．５μｍ、好ましくは１．９〜２．４μｍ、特に好ましくは２．２〜２．４μｍである。固定用ゴムシート本体１０の第１面１１の算術平均表面粗さＲａが上記範囲内であることで、スピンコート装置にて高速に回転しているときにはフレキシブル基材４が外れない程度に保持・固定可能である一方で、当該フレキシブル基材４を容易に剥離することができる。
【００２１】
なお、本実施形態において、算術平均表面粗さＲａは、例えば、表面粗さ測定装置（KEYENCE社製，形状解析レーザー顕微鏡ＶＫ−Ｘ１５０）を用いて測定され得る。
【００２２】
固定用ゴムシート本体１０の第１面１１のタック値は、１１０ｇｆ未満であるのが好ましく、１．０〜１１０ｇｆであるのがより好ましく、２．０〜５．０ｇｆであるのが特に好ましい。固定用ゴムシート本体１０の第１面１１のタック値が１１０ｇｆ以上であると、固定用ゴムシート１０からフレキシブル基材４を剥離するのが困難となるおそれがある。
【００２３】
なお、本実施形態における「タック値」は、以下の方法で測定され得る。
固定用ゴムシート本体１０をプローブタック試験装置（製品名：タッキング試験機ＴＡＣ−II，レスカ社製）に取り付け、固定用ゴムシート本体１０の第１面１１に対し１００ｇｆの荷重を印加しながら３秒間プローブ（ＳＵＳ製の円柱プローブ（直径：５．１ｍｍ））を接触させた後、プローブを第１面１１に対する垂直方向に６００ｍｍ／ｍｉｎの速度で剥離し、剥離するために要する力としてタック値（ｇｆ）が求められる。
【００２４】
固定用ゴムシート本体１０の第２面１２の算術平均表面粗さＲａは、０．８μｍ以下であるのが好ましく、０．１〜０．５μｍであるのがより好ましい。固定用ゴムシート本体１０の第２面１２は、ガラス基板等のリジッド基板２（図３参照）に当接する面であるが、当該算術平均粗さＲａが０．８μｍ以下であることで、タック値が１１０ｇｆ以上となり、ガラス基板等に対する優れた粘着性を示すことができるため、スピンコート装置にて高速に回転したときに、固定用ゴムシート１がガラス基板等のリジッド基板２から剥離してしまうのを抑制することができる。
【００２５】
固定用ゴムシート本体１０の第１面１１は、成形されたフッ素ゴムシートに対して粗面化処理されてなる面、又はフッ素ゴムシートの成形時に粗面化処理されてなる面である。当該粗面化処理としては、例えば、後述するフッ素ゴムシートの表面処理、フッ素ゴムシートの成形時における梨地加工処理等が挙げられるが、前者（表面処理）が好ましい。成形されたフッ素ゴムシートに対して表面処理が施されることで、固定用ゴムシート本体１０の第１面１１の算術平均表面粗さＲａが１．５〜２．５μｍとされ、かつ第１面１１のタック値が２．０〜５．０ｇｆ程度とされる。その結果、スピンコート装置にて高速に回転しているときにはフレキシブル基材４が外れない程度に保持・固定可能である一方で、当該フレキシブル基材４を容易に剥離することが可能な固定用ゴムシート１とすることができる。
【００２６】
固定用ゴムシート本体１０の第１面１１が、成形時にフッ素ゴムシートに対して梨地加工処理が施された面（梨地面）である場合、当該第１面１１（梨地面）に対し、上記表面処理剤による表面処理を施すのが好ましい。これにより、当該第１面１１（梨地面）の算術平均表面粗さＲａをさらに大きくすることができるため、スピンコート装置にて高速に回転しているときにはフレキシブル基材４が外れない程度に保持・固定可能であり、かつ当該フレキシブル基材４を容易に剥離することができる。
【００２７】
なお、固定用ゴムシート本体１０の第２面１２は、成形時にフッ素ゴムシートに対して鏡面加工処理がなされた面（鏡面）であるのが好ましい。第２面１２が鏡面であることで、第２面１２の算術平均粗さＲａを０．８μｍとし、タック値を大きく（１１０ｇｆ以上）することができる。その結果、高速に回転しているときに、ガラス基板等のリジッド基板に対して強い粘着性を示すことができる。
【００２８】
本実施形態に係る固定用ゴムシート１は、平面視略方形状を有するが、当該形状（平面視形状）は、特に限定されるものではなく、フレキシブル基材４の形状等に応じて適宜設定される。また、本実施形態に係る固定用ゴムシート１の厚さは、特に限定されないものの、好適には１〜１０ｍｍ程度である。当該厚さが厚くなりすぎると、スピンコート装置での高速回転時に固定用ゴムシート１の第１面１１の平行性が安定せず、フレキシブル基材４上に形成される薄膜の膜厚にバラツキが生じてしまうおそれがある。
【００２９】
本実施形態に係る固定用ゴムシート１の大きさは、第１面１１に保持・固定されるフレキシブル基材４よりも小さくなく、かつ後述するスピンコート装置の回転テーブル３及びリジッド基板２（図３参照）よりも大きくない限り、特に制限されないが、図２に示すように、第１面１１上に保持・固定されるフレキシブル基材４を物理的に包含可能な大きさであるのが好ましい。後述するように、フレキシブル基材４は、本実施形態に係る固定用ゴムシート１の第１面１１とフレキシブル基材４との間に流動層５を形成するように、当該固定用ゴムシート１に保持・固定されるが（図３参照）、フレキシブル基材４が固定用ゴムシート１に物理的に包含可能な大きさであることで、フレキシブル基材４が固定用ゴムシート１に強固に保持・固定される。
【００３０】
なお、本実施形態に係る固定用ゴムシート１において、第１面１１に上記表面処理剤による表面処理が施されている場合、当該第１面１１におけるフッ素含有率（％）は、炭素含有率を１００％としたときに５０〜２３０％程度である。当該フッ素含有率は、走査型顕微鏡及びエネルギー線分散型Ｘ線分析装置（例えば、製品名：ＪＳＭ−６５１０ＬＡ，ＪＥＤ−２３００，日本電子社製等）を用いて求められ得る。
【００３１】
［固定用ゴムシートの製造方法］
本実施形態に係る固定用ゴムシート１は、以下のようにして製造される。
まず、フッ素ゴムと、加硫剤と、共架橋剤とを含有するゴム配合物に加硫処理を施す。このとき、表面が鏡面加工された一対のプレス板により、又は表面が鏡面加工されたプレス板と梨地加工されたプレス板とによりゴム配合物の両面からプレスした状態で加硫し、第１面及び第２面が鏡面であるフッ素ゴムシート、又は第１面が梨地面であり、第２面が鏡面であるフッ素ゴムシートを作製する。
【００３２】
フッ素ゴムとしては、例えば、ビニリデンフルオライド／ヘキサフルオロプロピレン（ＶＤＦ／ＨＦＰ）系共重合体、ビニリデンフルオライド／ヘキサフルオロプロピレン／テトラフルオロエチレン（ＶＤＦ／ＨＦＰ／ＴＦＥ）系共重合体、ビニリデンフルオライド／パーフルオロアルキルビニルエーテル／テトラフルオロエチレン（ＶＤＦ／ＰＡＶＥ／ＴＦＥ）系共重合体、ビニリデンフルオライド／パーフルオロアルキルビニルエーテル／ヘキサフルオロプロピレン（ＶＤＦ／ＰＡＶＥ／ＨＦＰ）系共重合体、ビニリデンフルオライド／パーフルオロアルキルビニルエーテル／ヘキサフルオロプロピレン／テトラフルオロエチレン（ＶＤＦ／ＰＡＶＥ／ＨＦＰ／ＴＦＥ）系共重合体等が挙げられる。
【００３３】
かかるフッ素ゴムとしては、バイトン（登録商標）ＧＬＴ、ＧＬＴ−Ｓ、ＧＦＬＴ、ＧＦＬＴ−Ｓ、ＧＦ、ＧＦ−Ｓ、ＧＢＬ、ＧＢＬ−Ｓ（デュポン社製）等の市販品を用いることができる。
【００３４】
加硫剤としては、例えば、非硫黄加硫剤である有機化酸化物を用いることができる。有機化酸化物としては、例えば、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジクミルパーオキサイド、ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン等が挙げられる。
【００３５】
フッ素ゴム配合物における加硫剤の含有量は、フッ素ゴム１００質量部に対して、好ましくは０．５〜１０質量部、より好ましくは１〜８質量部、特に好ましくは１〜５質量部である。
【００３６】
共架橋剤（架橋助剤）としては、例えば、トリアリルイソシアヌレート（ＴＡＩＣ）、トリメタアリルイソシアヌレート（ＴＭＡＩＣ）、トリアリルシアヌレート、トリアリルトリメリレート、Ｎ，Ｎ’−ｍ−フェニレンジマレイミド、トリメチロールプロパントリメタクリレート等が挙げられる。
【００３７】
フッ素ゴム配合物における共架橋剤の含有量は、フッ素ゴム１００質量部に対して、好ましくは０．５〜１０質量部、より好ましくは１〜８質量部、特に好ましくは１〜５質量部である。
【００３８】
なお、ゴム配合物は、その他の成分として、導電性粒子（カーボンブラック、カーボンナノチューブ等）；酸化亜鉛、水酸化カルシウム、酸化マグネシウム等の受酸剤；各種の充填剤等を含有していてもよい。
【００３９】
ゴム配合物の加硫条件（加熱条件）としては、特に限定されるものではないが、例えば、１次加硫が１５０〜１８０℃で５〜２０分程度、２次加硫が１８０〜２５０℃で２〜６時間程度とされる。
【００４０】
このようにして作製されるフッ素ゴムシートの厚さは、特に限定されるものではないが、好ましくは１〜１０ｍｍ程度である。当該フッ素ゴムシート、すなわち固定用ゴムシート１の厚さが大きすぎると、スピンコート装置での高速回転時に固定用ゴムシート１の第１面１１の平行性が安定せず、フレキシブル基材４上に形成される薄膜の膜厚にバラツキが生じてしまうおそれがある。
【００４１】
上述のようにして得られたフッ素ゴムシート（第１面及び第２面がともに鏡面であるフッ素ゴムシート）の第１面に対して所定の表面処理を施す。これにより、第１面１１の算術平均表面粗さＲａが１．５〜２．５μｍである固定用ゴムシート１を製造することができる。
【００４２】
上記表面処理は、第１面１１の算術平均表面粗さＲａを１．５〜２．５μｍとすることができればよく、例えば、フッ素含有有機化合物（フッ素ゴム、フッ素樹脂、テフロン（登録商標）等）を含む表面処理剤を用いた表面処理により当該表面処理剤の塗膜（薄膜）を第１面１１に形成する処理、ＤＬＣ膜（ダイヤモンドライクカーボン膜）の成膜処理等が挙げられる。
【００４３】
フッ素含有有機化合物を含む表面処理剤としては、市販の表面処理剤を用いてもよく、例えば、モルティアコートＲ２３３０（住鉱潤滑剤社製）等を用いることができる。
【００４４】
また、フッ素含有有機化合物を含む表面処理剤として、下記式（Ｉ）で示されるフッ素含有化合物と、下記式（II）で示されるシランカップリング剤と、テトラエトキシシランと、アセトンと、塩酸とを含有するものを用いてもよい。
【００４５】
【化１】
0006276229.tif 000002
（上記式（Ｉ）中、Ｒ1はフルオロアルキル基を含有する基を表し、Ｒ2はアルキル基又はアルコキシアルキル基を表し、Ｒ3及びＲ4は各々独立して水素原子又は１価の有機基を表し、ｘは１〜１００の整数であり、ｙは０〜１００の整数である。）
【００４６】
【化２】
0006276229.tif 000003
（上記式（II）中、Ｒ5はアルキル基又はアルコキシアルキル基を表し、Ｒ6はアルキル基を表し、Ｒ7は前記ゴム基材を構成するゴム組成物のポリマー主鎖との反応性を有する有機官能基を表し、ｍは１〜３の整数であり、ｎは０〜３の整数である。）
【００４７】
上記式（Ｉ）において、Ｒ1で表されるフルオロアルキル基を含有する基としては、例えば、−ＣＦ3、−Ｃ2Ｆ5、−Ｃ3Ｆ7、−Ｃ6Ｆ13、−Ｃ7Ｆ15等の−ＣqＦ2q+1（ｑ＝１〜１０）で表されるフルオロアルキル基；オキシフルオロアルキレン基等を挙げることができ、これらのうち、下記式（III）で示されるオキシフルオロアルキレン基であるのが好ましい。
【００４８】
【化３】
0006276229.tif 000004
（上記式（III）中、ｐは０〜２の整数である。）
【００４９】
上記式（Ｉ）において、Ｒ2で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１〜２のアルキル基が挙げられ、Ｒ2で表されるアルコキシアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエチル基等の炭素数２〜４のアルコキシアルキル基が挙げられる。これらのうち、Ｒ2で表される基としては、アルキル基が好ましく、メチル基が特に好ましい。
【００５０】
上記式（Ｉ）において、Ｒ3及びＲ4で表される有機基としては、例えば、下記式（ｉ）〜（ｖ）で示される基を挙げることができる。
【００５１】
【化４】
0006276229.tif 000005
【００５２】
上記式（Ｉ）において、トリアルコキシシリル基又はトリアルコキシアルコキシシリル基（−Ｓｉ(ＯＲ2)3）が結合する中間鎖（−ＣＨ2−ＣＨ−）の数ｘは、１〜１００であり、好ましくは１〜５０、より好ましくは１〜１０、特に好ましくは２〜５である。また、中間鎖（−ＣＨ2−ＣＲ3Ｒ4−）の数ｙは、０〜１００であり、好ましくは０〜５０、より好ましくは０〜１０である。
【００５３】
上記フッ素含有化合物として好適な化合物としては、下記式（IV）〜（VIII）で示される化合物を例示することができる。特に、下記式（IV）又は式（Ｖ）で示される化合物（上記式（Ｉ）においてｙ＝０である化合物）は、１分子中に占めるフッ素原子の割合が大きく、固定用ゴムシート１の第１面１１に高い効率でフッ素原子を存在させ得るため好ましい。
【００５４】
【化５】
0006276229.tif 000006
（式（IV）中、ｘ’は２又は３である。）
【００５５】
【化６】
0006276229.tif 000007
【００５６】
【化７】
0006276229.tif 000008
（式（Ｖ）及び式（VI）中、Ｒ1’は、−ＣＦ(ＣＦ3)ＯＣＦ2ＣＦ(ＣＦ3)ＯＣ3Ｆ7で表される基である。式（Ｖ）中、ｘａは１〜１００の整数である。式（VI）中、ｘｂは１〜１００の整数であり、ｙｂは１〜５００の整数である。）
【００５７】
【化８】
0006276229.tif 000009
（式（VII）中、ｘｃは１〜１０の整数であり、ｙｃは０〜１００の整数である。）
【００５８】
【化９】
0006276229.tif 000010
（式（VIII）中、ｘｄは１〜１０の整数であり、ｙｄは０〜１００の整数である。）
【００５９】
上記式（Ｉ）で示されるフッ素含有化合物は、下記式（Ｉａ）で示されるフッ素含有過酸化物の存在下に、下記式（Ｉｂ）で示される単量体と、下記式（Ｉｃ）で示される単量体とを重合させることにより得られる。なお、この反応性生物（フッ素含有化合物）中には、フルオロアルキル基を含有する基（Ｒ1）が片末端のみに導入されているオリゴマーが任意の割合で含まれていてもよい。
【００６０】
【化１０】
0006276229.tif 000011
（式（Ｉａ）〜（Ｉｃ）中、Ｒ1はフルオロアルキル基を含有する基を表し、Ｒ2はアルキル基又はアルコキシアルキル基を表し、Ｒ3及びＲ4は各々独立して水素原子又は１価の有機基を表す。）
【００６１】
上記表面処理剤におけるフッ素含有化合物の含有割合としては、特に限定されるものではないが、１．０〜１０．０質量％であるのが好ましく、１．５〜５．０質量％であるのがより好ましく、１．８〜３．０質量％であるのが特に好ましい。
【００６２】
上記表面処理剤に含まれるシランカップリング剤（上記式（II））において、「−Ｓｉ(ＯＲ5)mＲ63-m」で表される基は、少なくとも１個、好ましくは３個の加水分解性基（−ＯＲ5）を有する。これにより、上記式（II）で示されるシランカップリング剤は、複数の加水分解性基（−ＯＲ2）を有する、上記式（Ｉ）で示されるフッ素含有化合物と反応することができる。
【００６３】
上記式（II）において、「−Ｓｉ(ＯＲ5)mＲ63-m」で表される基としては、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等のトリアルコキシシリル基であるのが好ましい。
【００６４】
フッ素ゴム組成物のポリマー主鎖との反応性を有する有機官能基（−Ｒ7）としては、アミノ基、メルカプト基、ビニル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基、ウレイド基等が挙げられる。
【００６５】
上記表面処理剤において、シランカップリング剤の含有量としては、フッ素含有化合物の含有量の０．０１〜１０倍（質量基準）であるのが好ましく、０．１〜５倍（質量基準）であるのがより好ましく、０．５〜２倍（質量基準）であるのが特に好ましい。
【００６６】
なお、上記表面処理剤は、上記式（Ｉ）で示されるフッ素化合物と、テトラエトキシシランと、アセトンと、塩酸とを所定の溶剤に添加し、所定時間（１０〜３０分程度）攪拌してそれらの成分を表面処理剤用溶剤に溶解させることにより容易に調製され得る。
【００６７】
このような表面処理剤をフッ素ゴムシート（第１面及び第２面がともに鏡面であるフッ素ゴムシート）の第１面に塗布することで当該表面処理剤の塗膜を形成し、当該塗膜を加熱する。これにより、固定用ゴムシート本体１０の第１面１１を粗面化処理することができ、当該第１面１１の算術平均表面粗さＲａを１．５〜２．５μｍにすることができる。
【００６８】
フッ素ゴムシートの第１面に表面処理剤を塗布する方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、刷毛、ローラー、スプレー等を用いて塗布する方法等が挙げられる。
【００６９】
フッ素ゴムシートの第１面に形成された塗膜を加熱する方法としては、オーブンによる加熱、遠赤外線による加熱等が挙げられるが、特に制限されるものではない。加熱条件としては、例えば、９０〜１５０℃で１０分〜１時間程度、好ましくは１３０〜１５０℃で１０分〜１時間程度である。
【００７０】
フッ素ゴムシートの第１面にＤＬＣ膜（膜厚０．３〜２．０μｍ程度）を形成する方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法等が挙げられ、特に常温〜８０℃程度の処理温度でのプラズマＣＶＤ法が好適である。
【００７１】
なお、第１面が梨地面であるフッ素ゴムシートは、当該第１面（梨地面）の算術平均表面粗さＲａが１．５〜２．５μｍであり、そのまま本実施形態に係る固定用ゴムシート１として用いられ得るものであるが、当該第１面（梨地面）を上記表面処理剤にて表面処理するのが好ましい。当該第１面（梨地面）を上記表面処理剤にて表面処理することで、算術平均表面粗さＲａをさらに大きくすることができる。
【００７２】
［成膜方法］
本実施形態に係る固定用ゴムシート１を用いて、スピンコート法によりフレキシブル基材に薄膜を形成する方法（成膜方法）について説明する。図３は、本実施形態における成膜方法を示す概略構成図である。
【００７３】
図３に示すように、本実施形態に係る固定用ゴムシート１を上面に密着させたリジッド基板（ガラス基板、金属基板等）２を、スピンコート装置の回転テーブル３上に真空吸着、粘着テープ等により固定する。リジッド基板２は、本実施形態に係る固定用ゴムシート１を保持するためのものである。そのため、リジッド基板２の上面（固定用ゴムシート１の第２面１２が当接する面）は、固定用ゴムシート１の第２面１２が密着可能な程度に平坦性を有するのが好ましい。本実施形態に係る固定用ゴムシート１の第２面１２の算術平均表面粗さＲａが０．８μｍ以下であり、タック値が１１０ｇｆ以上であるため、固定用ゴムシート１は、スピンコート装置における回転に耐え得る程度にリジッド基板２の上面に密着する。
【００７４】
リジッド基板２の上面に固定用ゴムシート１を密着させる方法として、好ましくは、固定用ゴムシート１を上面に載置したリジッド基板２を真空チャンバ内に収容し、真空雰囲気下にて固定用ゴムシート１をリジッド基板２に密着させる。
【００７５】
次に、固定用ゴムシート１の第１面１１とフレキシブル基材４（樹脂フィルム基材、金属箔、ガラス／樹脂複合フィルム基材等）との間に流体層５を形成するようにして、フレキシブル基材４を固定用ゴムシート１の第１面１１上に載置し、固定する。具体的には、流体層５を構成する流体（液体）を固定用ゴムシート１の第１面１１上に供給し、当該流体にフレキシブル基材４を接触させるようにして、フレキシブル基材４を固定用ゴムシート１の第１面１１上に載置する。
【００７６】
流体層５を介さずに固定用ゴムシート１の第１面１１に直接フレキシブル基材４を載置してしまうと、それらの間に空気層（気泡）を挟み込みやすく、当該気泡が存在したままスピンコーティングすると、フレキシブル基材４が固定用ゴムシート１から外れやすく、またフレキシブル基材４上に形成される薄膜の膜厚にバラツキが生じやすい。本実施形態のように、流体層５を介して固定用ゴムシート１の第１面１１上にフレキシブル基材４を載置することで、固定用ゴムシート１の第１面１１とフレキシブル基材４との間に空気層（気泡）が挟み込まれるのを抑制することができ、フレキシブル基材４を保持・固定することができるとともに、実質的に均一な薄膜の形成が可能となる。
【００７７】
また、本実施形態に係る固定用ゴムシート１を用いずに、リジッド基板２上に流体層５を介してフレキシブル基材４を直接載置すると、スピンコート装置の回転テーブル２の回転により、フレキシブル基材４がリジッド基板２から外れてしまうおそれがある。
【００７８】
本実施形態においては、固定用ゴムシート１の第１面１の算術平均表面粗さＲａが１．５〜２．５μｍであり、当該固定用ゴムシート１の第１面１１上に流体層５を介してフレキシブル基材４が固定されることで、スピンコート時における高速回転に耐え得る程度（外れない程度）にフレキシブル基材４が保持・固定され、かつ固定用ゴムシート１からフレキシブル基材４を容易に剥離することができる。
【００７９】
流体層５を構成する流体（液体）としては、スピンコート法による薄膜形成に悪影響を及ぼさないものである限りにおいて特に制限されるものではないが、例えば、トルエン、イソプロパノール等の有機溶媒を用いるのが好ましい。
【００８０】
本実施形態においては、固定用ゴムシート１の第１面１１とフレキシブル基材４との間に流体層５を極めて薄い厚みで形成することで、フレキシブル基材４を固定用ゴムシート１に保持・固定することができる。よって、スピンコート時における高速回転により、固定用ゴムシート１からフレキシブル基材４が外れてしまうことを防止することができる。
【００８１】
このようにして固定用ゴムシート１の第１面１１上にフレキシブル基材４を保持・固定し、回転テーブル３を回転させながらフレキシブル基材４上に成膜材料を滴下する。これにより、フレキシブル基材４上に薄膜が形成される。このようにして薄膜が形成されたフレキシブル基材４を固定用ゴムシート１から剥離し、オーブン等で加熱処理を施すことで、薄膜が硬化する。本実施形態に係る固定用ゴムシート１においては、フレキシブル基材４を容易に剥離することができるため、フレキシブル基材１上に形成された薄膜が折れ曲がってしまったり、薄膜にシワが形成されてしまったりするのを防止することができる。また、フレキシブル基材４と固定用ゴムシート１の第１面１１との間に空気層（気泡）を挟み込み難いため、スピンコート装置での高速回転中にフレキシブル基材４が外れ難く、また実質的に均一な膜厚で成膜することができる。したがって、本実施形態における成膜方法によれば、スピンコート法によりフレキシブル基材４上に薄膜を多層に形成する場合であっても、当該多層薄膜を精度よく、かつ実質的に均一な膜厚で形成することができる。
【００８２】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属するすべての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【実施例】
【００８３】
以下、実施例等を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記の実施例等に何ら限定されるものではない。
【００８４】
［製造例１］フッ素ゴムシート１の製造
フッ素ゴム（ビニリデンフルオライド/ヘキサフルオロプロピレン系共重合体，製品名：ダイエルＧ−８０１，ダイキン社製）１００質量部、加硫剤１．５質量部、及び共架橋剤（製品名：ＴＡＩＣ，日本油脂社製）４質量部を８インチロールによって混練してフッ素ゴム配合物（未加硫ゴム）を調製した。
【００８５】
次に、この未加硫ゴムを、鏡面加工処理が施されている第１プレス板及び第２プレス板を用い、熱プレスによる加硫処理（１次加硫：１７０℃，１０分間；２次加硫：２００℃，４時間）を行い、フッ素ゴム（加硫ゴム）からなるフッ素ゴムシート１（厚さ：２ｍｍ）を作製した。
【００８６】
［製造例２］フッ素ゴムシート２の製造
第１プレス板として梨地加工処理が施されているものを用いた以外は、製造例１と同様にしてフッ素ゴムシート２（厚さ：２ｍｍ）を作製した。
【００８７】
［製造例３］フッ素ゴムシート３の製造
第１プレス板及び第２プレス板として梨地加工処理が施されているものを用いた以外は、製造例１と同様にしてフッ素ゴムシート３（厚さ：２ｍｍ）を作製した。
【００８８】
〔実施例１〕
（１）表面処理剤１の調製
上記式（IV）で示されるフッ素含有化合物０．１ｇ、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）０．２ｇ、上記式（II）で示されるメルカプト系シランカップリング剤（Ｒ5＝ＣＨ3，Ｒ7＝ＳＨ，ｍ＝３，ｎ＝３；Ｚ６０６２，東レダウコーニング社製）０．１ｇ及び０．１Ｎ塩酸０．００２ｇを、アセトン１０ｍＬに添加し、室温下にて１０分間攪拌することにより、表面処理剤１を調製した。
【００８９】
（２）フッ素ゴムシート１の表面処理
製造例１にて製造されたフッ素ゴムシート１の一方面に、上記表面処理剤１をスプレーコーティングし、１５０℃のオーブンで１０分間焼成して、固定用ゴムシートを製造した。
【００９０】
（３）算術平均表面粗さＲａ及びタック値の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面の算術平均表面粗さＲａを、表面粗さ測定装置（KEYENCE社製，形状解析レーザー顕微鏡ＶＫ−Ｘ１５０）を用いて測定したところ、当該表面粗さＲａは２．３９３μｍであった。
【００９１】
また、上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）及びその対向面（第２面）のタック値を以下のようにして測定した。
【００９２】
固定用ゴムシートをプローブタック試験装置（製品名：タッキング試験機ＴＡＣ−II，レスカ社製）に取り付け、固定用ゴムシートの第１面（第２面）に対し１００ｇｆの荷重を印加しながら３秒間プローブ（ＳＵＳ製の円柱プローブ（直径：５．１ｍｍ））を接触させた後、プローブを第１面（第２面）に対する垂直方向に６００ｍｍ／ｍｉｎの速度で剥離し、剥離するために要する力（タック値，ｇｆ）を測定した。固定用ゴムシートの第１面のタック値は３．２ｇｆであり、第２面のタック値は４０５．２ｇｆであった。なお、固定用ゴムシートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用ゴムシートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用ゴムシートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は４．９ｇｆであった。
【００９３】
（４）フッ素含有率の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）のフッ素含有率（％）を、走査型顕微鏡及びエネルギー線分散型Ｘ線分析装置（例えば、製品名：ＪＳＭ−６５１０ＬＡ，ＪＥＤ−２３００，日本電子社製等）を用いて求めた。固定用ゴムシートの第１面のフッ素含有率は、炭素含有率を１００％としたときに１１６％であった。
【００９４】
〔実施例２〕
（１）表面処理剤２の調製
上記式（IV）で示されるフッ素含有化合物０．０７５ｇ、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）０．１５ｇ、上記式（II）で示されるメルカプト系シランカップリング剤（Ｒ5＝ＣＨ3，Ｒ7＝ＳＨ，ｍ＝３，ｎ＝３；Ｚ６０６２，東レダウコーニング社製）０．０７５ｇ及び０．１Ｎ塩酸０．００２ｇを、アセトン１０ｍＬに添加し、室温下にて１０分間攪拌することにより、表面処理剤２を調製した。
【００９５】
（２）フッ素ゴムシート１の表面処理
製造例１にて製造されたフッ素ゴムシート１の一方面に、実施例１と同様にして上記表面処理剤２による表面処理を施し、固定用ゴムシートを製造した。
【００９６】
（３）算術平均表面粗さＲａ及びタック値の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面の算術平均表面粗さＲａ、上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）及びその対向面（第２面）のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは２．２４５μｍ、第１面のタック値は２．１ｇｆ、第２面のタック値は４０４．８ｇｆであった。なお、固定用ゴムシートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用ゴムシートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用ゴムシートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は４．０ｇｆであった。
【００９７】
（４）フッ素含有率の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）のフッ素含有率（％）を、走査型顕微鏡及びエネルギー線分散型Ｘ線分析装置（例えば、製品名：ＪＳＭ−６５１０ＬＡ，ＪＥＤ−２３００，日本電子社製等）を用いて求めた。固定用ゴムシートの第１面のフッ素含有率は、炭素含有率を１００％としたときに１００％であった。
【００９８】
〔実施例３〕
（１）表面処理剤３の調製
上記式（IV）で示されるフッ素含有化合物０．０５ｇ、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）０．１ｇ、上記式（II）で示されるメルカプト系シランカップリング剤（Ｒ5＝ＣＨ3，Ｒ7＝ＳＨ，ｍ＝３，ｎ＝３；Ｚ６０６２，東レダウコーニング社製）０．０５ｇ及び０．１Ｎ塩酸０．００２ｇを、アセトン１０ｍＬに添加し、室温下にて１０分間攪拌することにより、表面処理剤３を調製した。
【００９９】
（２）フッ素ゴムシート１の表面処理
製造例１にて製造されたフッ素ゴムシート１の一方面に、実施例１と同様にして上記表面処理剤３による表面処理を施し、固定用ゴムシートを製造した。
【０１００】
（３）算術平均表面粗さＲａ及びタック値の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面の算術平均表面粗さＲａ、上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）及びその対向面（第２面）のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは２．０９４μｍ、第１面のタック値は２．９ｇｆ、第２面のタック値は４４５．４ｇｆであった。なお、固定用ゴムシートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用ゴムシートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用ゴムシートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は３．５ｇｆであった。
【０１０１】
（４）フッ素含有率の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）のフッ素含有率（％）を、走査型顕微鏡及びエネルギー線分散型Ｘ線分析装置（例えば、製品名：ＪＳＭ−６５１０ＬＡ，ＪＥＤ−２３００，日本電子社製等）を用いて求めた。固定用ゴムシートの第１面のフッ素含有率は、炭素含有率を１００％としたときに１５８％であった。
【０１０２】
〔実施例４〕
（１）表面処理剤４の調製
上記式（IV）で示されるフッ素含有化合物０．２ｇ、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）０．４ｇ、上記式（II）で示されるメルカプト系シランカップリング剤（Ｒ5＝ＣＨ3，Ｒ7＝ＳＨ，ｍ＝３，ｎ＝３；Ｚ６０６２，東レダウコーニング社製）０．２ｇ及び０．１Ｎ塩酸０．００２ｇを、アセトン１０ｍＬに添加し、室温下にて１０分間攪拌することにより、表面処理剤４を調製した。
【０１０３】
（２）フッ素ゴムシート１の表面処理
製造例１にて製造されたフッ素ゴムシート１の一方面に、実施例１と同様にして上記表面処理剤４による表面処理を施し、固定用ゴムシートを製造した。
【０１０４】
（３）算術平均表面粗さＲａ及びタック値の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面の算術平均表面粗さＲａ、上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）及びその対向面（第２面）のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは２．０２０μｍ、第１面のタック値は２．１ｇｆ、第２面のタック値は４０１．９ｇｆであった。なお、固定用ゴムシートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用ゴムシートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用ゴムシートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は３．３ｇｆであった。
【０１０５】
（４）フッ素含有率の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）のフッ素含有率（％）を、走査型顕微鏡及びエネルギー線分散型Ｘ線分析装置（例えば、製品名：ＪＳＭ−６５１０ＬＡ，ＪＥＤ−２３００，日本電子社製等）を用いて求めた。固定用ゴムシートの第１面のフッ素含有率は、炭素含有率を１００％としたときに５５％であった。
【０１０６】
〔実施例５〕
（１）表面処理剤５の調製
上記式（IV）で示されるフッ素含有化合物０．０２５ｇ、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）０．０５ｇ、上記式（II）で示されるメルカプト系シランカップリング剤（Ｒ5＝ＣＨ3，Ｒ7＝ＳＨ，ｍ＝３，ｎ＝３；Ｚ６０６２，東レダウコーニング社製）０．０２５ｇ及び０．１Ｎ塩酸０．００２ｇを、アセトン１０ｍＬに添加し、室温下にて１０分間攪拌することにより、表面処理剤５を調製した。
【０１０７】
（２）フッ素ゴムシート１の表面処理
製造例１にて製造されたフッ素ゴムシート１の一方面に、実施例１と同様にして上記表面処理剤５による表面処理を施し、固定用ゴムシートを製造した。
【０１０８】
（３）算術平均表面粗さＲａ及びタック値の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面の算術平均表面粗さＲａ、上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）及びその対向面（第２面）のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは１．９０３μｍ、第１面のタック値は３．２ｇｆ、第２面のタック値は３８９．２ｇｆであった。なお、固定用ゴムシートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用ゴムシートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用ゴムシートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は３．２ｇｆであった。
【０１０９】
（４）フッ素含有率の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）のフッ素含有率（％）を、走査型顕微鏡及びエネルギー線分散型Ｘ線分析装置（例えば、製品名：ＪＳＭ−６５１０ＬＡ，ＪＥＤ−２３００，日本電子社製等）を用いて求めた。固定用ゴムシートの第１面のフッ素含有率は、炭素含有率を１００％としたときに２２９％であった。
【０１１０】
〔実施例６〕
（１）算術平均表面粗さＲａ及びタック値の測定
製造例２にて製造されたフッ素ゴムシート２を固定用ゴムシートとし、当該固定用ゴムシートにおける梨地処理面（第１面）の算術平均表面粗さＲａ、固定用ゴムシートにおける梨地処理面（第１面）及びその対向面（第２面）のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは１．９８０μｍ、第１面のタック値は１０２．１ｇｆ、第２面のタック値は２７７．９ｇｆであった。なお、固定用ゴムシートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用ゴムシートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用ゴムシートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は７０．８ｇｆであった。
【０１１１】
（２）フッ素含有率の測定
上記固定用ゴムシートにおける梨地処理面（第１面）のフッ素含有率（％）を、走査型顕微鏡及びエネルギー線分散型Ｘ線分析装置（例えば、製品名：ＪＳＭ−６５１０ＬＡ，ＪＥＤ−２３００，日本電子社製等）を用いて求めた。固定用ゴムシートの第１面のフッ素含有率は、炭素含有率を１００％としたときに２８３％であった。
【０１１２】
〔実施例７〕
（１）フッ素ゴムシート２の表面処理
製造例２にて製造されたフッ素ゴムシート２の梨地処理面に、実施例１と同様にして上記表面処理剤１による表面処理を施し、固定用ゴムシートを製造した。
【０１１３】
（２）算術平均表面粗さＲａ及びタック値の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面の算術平均表面粗さＲａ、上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）及びその対向面（第２面）のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは２．３２０μｍ、第１面のタック値は３．４ｇｆ、第２面のタック値は２９９．０ｇｆであった。なお、固定用ゴムシートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用ゴムシートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用ゴムシートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は３．２ｇｆであった。
【０１１４】
（３）フッ素含有率の測定
上記固定用ゴムシートにおける表面処理面（第１面）のフッ素含有率（％）を、走査型顕微鏡及びエネルギー線分散型Ｘ線分析装置（例えば、製品名：ＪＳＭ−６５１０ＬＡ，ＪＥＤ−２３００，日本電子社製等）を用いて求めた。固定用ゴムシートの第１面のフッ素含有率は、炭素含有率を１００％としたときに９３％であった。
【０１１５】
〔実施例８〕
（１）算術平均表面粗さＲａ及びタック値の測定
製造例３にて製造されたフッ素ゴムシート３を固定用ゴムシートとし、当該固定用ゴムシートにおける一方面（第１面）の算術平均表面粗さＲａ、固定用ゴムシートにおける一方面（第１面）及びその対向面（第２面）のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは１．９８０μｍ、第１面及び第２面のタック値は１０２．１ｇｆであった。なお、固定用ゴムシートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用ゴムシートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用ゴムシートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は７０．８ｇｆであった。
【０１１６】
（２）フッ素含有率の測定
上記固定用ゴムシートにおける梨地処理面（第１面）のフッ素含有率（％）を、走査型顕微鏡及びエネルギー線分散型Ｘ線分析装置（例えば、製品名：ＪＳＭ−６５１０ＬＡ，ＪＥＤ−２３００，日本電子社製等）を用いて求めた。固定用ゴムシートの第１面のフッ素含有率は、炭素含有率を１００％としたときに２８３％であった。
【０１１７】
〔実施例９〕
（１）フッ素ゴムシート１のＤＬＣ成膜処理
製造例１にて製造されたフッ素ゴムシート１の第１面に、ＣＶＤ法によりＤＬＣ薄膜を形成したものを準備した（ジニアスコートＦ，日本アイティーエフ社製）。
【０１１８】
（２）算術平均表面粗さＲａ及びタック値の測定
上記固定用ゴムシートにおけるＤＬＣ成膜処理面（第１面）の算術平均表面粗さＲａ、上記固定用ゴムシートにおけるＤＬＣ成膜処理面（第１面）及びその対向面（第２面）のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは１．９１９μｍ、第１面のタック値は２．４ｇｆ、第２面のタック値は２４９．６ｇｆであった。なお、固定用ゴムシートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用ゴムシートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用ゴムシートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は３．０ｇｆであった。
【０１１９】
〔比較例１〕
（１）算術平均表面粗さＲａ及びタック値の測定
フッ素ゴムシート１を固定用ゴムシートとし、当該固定用ゴムシートにおける第１面の算術平均表面粗さＲａ、固定用ゴムシートにおける第１面及びその対向面である第２面のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは０．３７８μｍ、第１面及び第２面のタック値は４２８．４ｇｆであった。なお、固定用ゴムシートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用ゴムシートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用ゴムシートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は３１６．６ｇｆであった。
【０１２０】
（２）フッ素含有率の測定
上記固定用ゴムシートにおける梨地処理面（第１面）のフッ素含有率（％）を、走査型顕微鏡及びエネルギー線分散型Ｘ線分析装置（例えば、製品名：ＪＳＭ−６５１０ＬＡ，ＪＥＤ−２３００，日本電子社製等）を用いて求めた。固定用ゴムシートの第１面のフッ素含有率は、炭素含有率を１００％としたときに２８３％であった。
【０１２１】
〔比較例２〕
フレキシブルプリント基板を搬送するために用いられる、富士フイルム社製のプロリーダー（製品名）を固定用シートとし、当該固定用シートにおける一方面（フレキシブルプリント基板の載置面，第１面）の算術平均表面粗さＲａ、当該一方面（第１面）及びその裏面（第２面）のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは０．４５４μｍ、第１面及び第２面のタック値は２６．２ｇｆであった。なお、固定用シートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用シートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用シートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は７２．４ｇｆであった。
【０１２２】
〔比較例３〕
粘着シリコーンシートを固定用シートとし、当該固定用シートにおける一方面（第１面）の算術平均表面粗さＲａ、当該一方面（第１面）及びその裏面（第２面）のタック値を、実施例１と同様にして測定した。算術平均表面粗さＲａは０．６２２μｍ、第１面及び第２面のタック値は１０５．５ｇｆであった。なお、固定用シートの第１面にトルエンを滴下する工程、当該トルエンにＰＥＴフィルムを当接させることで固定用シートにＰＥＴフィルムを保持・固定させる工程、及びＰＥＴフィルムを剥離する工程の一連の工程を１２回繰り返し行い、その後固定用シートの第１面のタック値を測定した。第１面のタック値は１４５．６ｇｆであった。
【０１２３】
〔試験例１〕
実施例１の固定用ゴムシートをガラス基板（厚さ：０．７ｍｍ）上に載置し、当該ガラス基板及び固定用ゴムシートを密封容器内に収容し、当該容器内を真空状態にして、ガラス基板に固定用ゴムシートを密着させた。そして、当該ガラス基板をスピンコート装置の回転テーブル上に両面テープで固定し、固定用ゴムシート上に適量のトルエンを滴下し、トルエンにＰＥＴフィルム（製品名：酸化インジウムスズコートＰＥＴ，シグマアルドリッチ社製）を接触させるようにしてＰＥＴフィルムを固定用ゴムシート上に載置し、ＰＥＴフィルムと固定用ゴムシートの第１面との間に流体層を形成することで、ＰＥＴフィルムを固定用ゴムシート上に保持・固定した。
【０１２４】
次に、回転テーブルを所定の回転数で回転させながら、ＰＥＴフィルム上に成膜材料を滴下し、薄膜を形成した。そして、回転中にＰＥＴフィルムが固定用ゴムシートから外れてしまうか否か、ＰＥＴフィルムと固定用ゴムシートとの間に気泡が挟み込まれるか否かについて目視で評価した。また、固定用ゴムシート上にトルエンを滴下し、ＰＥＴフィルムを保持・固定し、スピンコーティングする工程を繰り返し（３０回）行い、固定用ゴムシートの有機溶媒に対する耐久性を評価した。実施例２〜９及び比較例１の固定用ゴムシート、並びに比較例２〜３の固定用シートについても、実施例１と同様にして評価した。結果を表１に示す。
【０１２５】
【表１】
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【０１２６】
表１において、スピンコート耐久性の評価は、ＰＥＴフィルムが固定用ゴムシートから外れなかったものを「○」、１０回に１回程度の頻度で外れてしまったものを「△」、毎回外れてしまったものを「×」とした。繰り返し耐久性の評価は、固定用ゴムシートが変質しなかったものを「○」、３０回の繰り返し処理で固定用ゴムシートが変質したものを「△」、２０回の繰り返し処理で固定用ゴムシートが変質したものを「×」とした。気泡の有無の評価は、ＰＥＴフィルムと固定用ゴムシートとの間に気泡が存在しなかったものを「○」、わずかに（１０個程度）気泡が存在したものを「△」、多くの気泡が存在したものを「×」とした。
【０１２７】
表１に示すように、実施例１〜９の固定用ゴムシートは、スピンコート耐久性及び繰り返し耐久性が良好であり、フレキシブル基材の固定用ゴムシートとして好適であることが確認された。特に、実施例１〜５の固定用ゴムシート（フッ素含有有機化合物を含む表面処理剤にて第１面を表面処理したもの）においては、フレキシブル基材との間に気泡を挟みこむこともなく、より好適であることが確認された。また、実施例９の固定用ゴムシート（第１面にＤＬＣ膜が形成されているもの）においても、フレキシブル基材との間に気泡を挟みこむこともなく、より好適であることが確認された。実施例６〜８の固定用ゴムシートは、第１面に梨地加工処理が施されていることから、フレキシブル基材との間に空隙を作り易く、気泡を挟み込んでしまったものと思われる。また、実施例６〜８の固定用ゴムシートは、第１面に梨地加工処理が施されていることで、フレキシブル基材との接触面積が小さいため、高速回転になるほどにフレキシブル基材が外れやすい傾向が見受けられたが、実施例７のようにフッ素系表面処理剤にて表面処理することで、フレキシブル基材との粘着性を向上させることができるものと考えられる。
【０１２８】
一方、比較例２及び３の固定用シートは、スピンコート耐久性に関して実施例１〜８と大差のない結果を示したものの、繰り返し耐久性に難があることが確認された。具体的には、比較例２においては、固定用シートに含まれるアルミナが第１面に析出し、表面の平坦性が悪化してしまった。比較例３においては、第１面側が変質して凹凸が形成されてしまい、表面の平坦性が悪化してしまった。そのため、比較例２及び３の固定用シートでは、複数回の繰り返し使用により、第１面の平坦性が悪化し、薄膜形成に悪影響を及ぼすものと推認される。
【０１２９】
また、実施例１〜８の固定用ゴムシートは、流体層（トルエン層）に曝された後であっても、第１面のタック値に変化はないが、比較例２及び３の固定用シートは、流体層（トルエン層）に曝されることで、第１面のタック値が増大してしまうことが確認された。そのため、実施例１〜８の固定用ゴムシートにおいては、複数回繰り返して使用しても、フレキシブル基材の剥離容易性を維持することができる一方、比較例２及び３の固定用シートにおいては、複数回の繰り返し使用により、フレキシブル基材の剥離がより困難になるものと推認される。
【０１３０】
なお、実施例１〜９及び比較例１〜３の固定用ゴムシートにおいて、いずれも、フレキシブル基材と固定用ゴムシートとの間に形成した流体層（トルエン層）は、スピンコート装置による高速回転時に揮発してしまっていた。
【０１３１】
〔試験例２〕
実施例１〜７及び実施例９、並びに比較例１〜３の固定用ゴムシートの第１面上にトルエンを滴下し、トルエンにＰＥＴフィルム（製品名：ルミラー，東レ社製）を接触させるようにしてＰＥＴフィルムを固定用ゴムシート上に載置した後、ＰＥＴフィルムと固定用ゴムシートの第１面との間に形成したトルエンからなる流体層を揮発させた。そして、当該固定用ゴムシートからのＰＥＴフィルムの剥離容易性につき、５名のパネラーによる官能評価試験を行った。
【０１３２】
官能評価試験の結果、実施例１〜７及び実施例９の固定用ゴムシートにおいては、５名のパネラーともに、相対的にＰＥＴフィルムを剥がし易いという結果になり、一方、比較例１の固定用ゴムシート及び比較例２，３の固定用シートにおいては、５名のパネラーともに、相対的にＰＥＴフィルムを剥がし難いという結果になった。特に、第１面のタック値が１１０ｇｆ以上である比較例１の固定用ゴムシートにおいては、ＰＥＴフィルムを剥がし難い結果となった。
【０１３３】
上記試験例２の結果から、固定用ゴムシートの第１面の算術平均表面粗さＲａが１．５〜２．５μｍの範囲内であって、第１面のタック値が１１０ｇｆ未満であれば、フレキシブル基材を剥がし易くなることが明らかとなった。
【０１３４】
試験例１において確認されたように、フレキシブル基材と固定用ゴムシートとの間に形成した流体層（トルエン層）は、スピンコート装置による高速回転時に揮発する。そのため、フレキシブル基材が容易に剥離されるか否かは、固定用ゴムシートの第１面の表面状態によると考えられる。その点、実施例１〜８の固定用ゴムシートのように、算術平均表面粗さＲａが１．５〜２．５μｍの範囲内であって、タック値が１１０ｇｆ未満であるという表面状態が、フレキシブル基材の剥離容易性に影響を与えたものと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０１３５】
本発明は、フィルム基板等のフレキシブル基材にスピンコート法により薄膜を形成する技術分野において有用である。
【符号の説明】
【０１３６】
１…固定用ゴムシート
１０…固定用ゴムシート本体
１１…第１面
１２…第２面
２…リジッド基板
３…回転テーブル
４…フレキシブル基材
５…流体層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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