(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）底部層（７）、上部層（８）、及び、前記底部層（７）と上部層（８）との間に位置する絶縁層（９）を含むサンドイッチ構造を有するウエハー（６）を提供する段階、
（ｂ）上部層（８）をエッチング除去して、マイクロキャリア（１９、２０）のボディ（１１）の外側壁（１２）を画定する段階、
（ｃ）ボディ（１１）の少なくとも上面（１４）上に第１の活性層（１３）を堆積する段階、
（ｄ）第１の活性層（１３）上に連続的なポリマー層（１６、２２）を適用する段階、
（ｅ）底部層（７）及び絶縁層（９）をエッチング除去する段階、
（ｆ）ポリマー層（１６、２２）を除去して、マイクロキャリア（１９、２０）を解放する段階、
を含むマイクロキャリア（１９、２０）の製造方法。
【請求項２】
段階（ｅ）が、底部層（７）を選択的にエッチングするための第１のエッチングによって、且つ、絶縁層（９）を選択的にエッチングするための第２のエッチングによって為される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１のエッチングが、エッチング浴を用いることによって為され、前記第２のエッチングが、ドライエッチングによって為される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ポリマー層（１６）が、ドライエッチングによって除去される、請求項１から３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
独特のマークが、マイクロキャリア（１９、２０）上に刻まれる、請求項１から４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記独特のマークが、符号（２、３）である、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記独特のマークが、段階（ｂ）と（ｃ）との間で、マイクロキャリア（１９、２０）上に刻まれる、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
底部層（７）及び／又は上部層（８）が単結晶シリコンを含む、請求項１から７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
絶縁層（９）が二酸化ケイ素を含む、請求項１から８の何れか一項に記載の方法。
【請求項１０】
ポリマー層（１６）がポリパラキシリレンを含む、請求項１から９の何れか一項に記載の方法。
【請求項１１】
ポリマー層は、サポート（２１）を、ウエハー（６）へ結合させる接着剤層（２２）である、請求項１、２及び５から９の何れか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記サポート（２１）が、シリコン、石英又はガラスで作製されたウエハーである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
第２の活性層（１７）が、マイクロキャリア（１９）のボディ（１１）の少なくとも底面（１８）上に堆積される、請求項１から１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記第２の活性層（１７）が、段階（ｅ）と（ｆ）との間で堆積される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
第１の活性層（１３）及び／又は第２の活性層（１７）が、光学特性若しくは磁気特性を有する材料、多結晶シリコン及び／又はポリテトラフルオロエチレン、又は、高屈折率を有する金属層を含む、請求項１から１４の何れか一項に記載の方法。
【請求項１６】
第１の活性層（１３）及び／又は第２の活性層（１７）が、酸化物、又は窒化物、又は金属層を含む、請求項１から１５の何れか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の活性層（１３）及び／又は前記第２の活性層（１７）が、二酸化ケイ素を含む、請求項１６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マイクロキャリアの製造方法、及びマイクロキャリアに関する。本発明は、研究所及び臨床検査室のための生物学的及び／又は化学的分析を実施するのに適した特定のマイクロキャリアに関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明の範疇内では、マイクロキャリア又は微小粒子は、典型的には最も大きな寸法が１００ｎｍから３００μｍまで、好ましくは１μｍから２００μｍまでである、微小のサイズの、任意のタイプの粒子、それぞれ任意のタイプのキャリアを指す。
【０００３】
本発明によると、マイクロキャリアとの用語は、マイクロキャリアの表面に結合した、又はそのバルクに含浸された一以上のリガンド又は機能ユニットを含んでいる、又は含むように適合された、機能化された又は機能化されるように適合された微小粒子を指す。大きなスペクトルの化学的及び生物学的分子は、マイクロキャリアへのリガンドとして付着され得る。マイクロキャリアは多面的な機能及び／又はリガンドを有し得る。本明細書で用いられるように、機能ユニットとの用語は、上記マイクロキャリアの表面を、修正し、取り付けられ、追加し、被覆する、又は、共有結合した若しくは非共有結合した、又はそのバルクに含浸された、任意の種を定義することを意味する。これらの機能は、ハイスループットスクリーニング技術及び診断において通常用いられる全ての機能を含む。
【０００４】
ドラッグデリバリー又はスクリーニング及びＤＮＡシークエンシングは一般的に非常に多量の化合物又は分子の分析を実施する段階を含む。これらの分析は典型的には、例えば、対象の化合物又は特定のターゲット分子に関して化学ライブラリーをスクリーニングする段階、又は分子間の対象とする化学的及び生物学的相互作用に関する試験段階を含む。それらの分析は、数千の個別の化学的及び／又は生物学的反応を実行することをしばしば要求する。
【０００５】
多数の実用上の問題が、このような多量の個別の反応の取扱いから生じる。最も重要な問題はおそらく、各々の個別の反応をラベル付して、追跡する必要性である。
【０００６】
反応の身元を追跡する一つの従来の方法は、マイクロタイタープレート（マイクロアレイ）に各反応を物理的に分けることによって達成される。しかしながら、マイクロタイタープレートの使用は、特に、用いられるマイクロタイタープレートのサイズに対する、そのためプレート上で実施され得る異なる反応の数に対する物理的な制限のようないくつかの不利な点を持ってくる。
【０００７】
マイクロアレイの使用における制限を考慮すると、それらは今や有利には、化学的及び／又は生物学的分析を実施するための機能性符号化微小粒子によって置き換えられる。各々の機能性符号化微小粒子は、その表面に結合した特定のリガンドを一意的に識別する符号を備えている。このような機能性符号化微小粒子の使用はランダム処理を可能にし、それは、数千の一意的機能性符号化微小粒子が全て混合されることがあり、且つ同時に分析を受けることがあることを意味する。機能性符号化微小粒子の例は、特許文献１において記載され、図１に示される。
【０００８】
特許文献２は、複数の機能性符号化微小粒子又はマイクロキャリア１がパックされ得る（図１）反応チャンバーとしての役割を果たす少なくともマイクロ流体チャネルを有する分析装置を記載する。マイクロ流体チャネルは、内部のマイクロキャリア１をブロックしつつ、化学的及び／又は生物学的試薬を含む液体溶液を流すことを可能にするフィルターとして作用する停止手段を備えている。上記マイクロ流体チャネルの幾何学的高さ、及び上記マイクロキャリア１の寸法は、上記マイクロキャリア１が典型的には各マイクロ流体チャネルの内部で単層配置にて配されて、上記マイクロキャリア１が互いに重なることを防止するように選択される。
【０００９】
それらの付着したリガンドと、流れている化学的及び／又は生物学的試薬との間での対象の好ましい反応を示すそれらの機能性符号化マイクロキャリア１は、その後、それらの符号を読み取らせることがあり、それによって好ましい反応を引き起こしたリガンドの身元へとつながる。
【００１０】
符号は、複数のトラバース穴２の独特なパターンを含み得、また、例えば（図１に示されるような）Ｌ字型のサイン３等の非対称方向マーク又は三角形を含み得る。この非対称方向マークは、マイクロキャリア１の上面４と底面５との間の区別を可能にする。
【００１１】
マイクロ流体チャネルとの用語は、微小サイズの断面を有する、つまり、典型的には約１μｍから約５００μｍまで、好ましくは約１０μｍから約２００μｍまでである最も小さい断面の寸法を有する、閉じられたチャネル、つまり流体のための細長い通路を指す。マイクロ流体チャネルは、必ずしも直線でない、流体がマイクロ流体チャネル内で向かう方向、つまり、好ましくは、層流領域を仮定すると流体の平均速度ベクトルに対応する方向に本質的に対応する縦方向を有する。
【００１２】
特許文献２に記載された分析装置によって、対象の反応の検出は、図２に示されるようなマイクロ流体チャネルに存在する各々の符号化マイクロキャリア１の蛍光強度の連続的読み出しに基づき得る。言い換えると、分析におけるターゲット分子の存在が所定の蛍光信号を引き起こすことになるであろう。しかしながら、所定の蛍光信号は、強い蛍光バックグラウンドの存在により、検出が非常に困難であり得る。
【００１３】
光学層によってマイクロキャリアを被覆することは、分析の間に放出される蛍光を検出可能なレベルへ増加させることが知られている。例えば、図２は、特許文献３に記載される方法によって得られる、被覆されたマイクロキャリア１のバッチを示し、光学層はマイクロキャリア１の上に堆積される。
【００１４】
しかしながら、図２に示される生物学的分析の結果は、被覆されたマイクロキャリア１から放出された蛍光信号の異なるパターンを示す。特に、いくつかのマイクロキャリア１ａは、均一な且つ検出可能な蛍光信号を放出し、一方で他のマイクロキャリア１ｂは、部分的な又は非均一な蛍光信号を放出し、ほとんどの時間三日月の形状を有する（以後“シャドー効果”として呼ばれる）。さらに、いくつかのマイクロキャリアは、それらの表面上に光学層がないために、如何なる検出可能な蛍光を放出しない。
【００１５】
このような欠陥は、分析の間の正確な定量的情報の抽出を困難にさせる。
【００１６】
いくつかのマイクロキャリア１ｂ上の光学層の欠如、又は部分的な堆積は、特許文献３に含まれるプロセスに由来する。実際、このプロセスは、光学層の堆積の前及び間で、いくつかのマイクロキャリア１の間の部分的な又は完全な重なりを避けることができない。このような重なりは図３に示され、マイクロキャリア１の上面４の領域Ａは光学層によって被覆されることになるのに対して、他の一つのマイクロキャリア１’によって隠される上記マイクロキャリア１の上面４の領域Ｂは上記光学層によって被覆されないことになる。
【００１７】
さらに、特許文献３に記載されるプロセスの間、いくつかのマイクロキャリアはコーティングの前に裏返しになることがあるので、誤った表面上に被覆されることがある。
【００１８】
さらに、蛍光分析を実施する前に、部分的に被覆されたマイクロキャリア１ｂ又は被覆されていないマイクロキャリアを、よく被覆されたマイクロキャリア１ａから分離することは不可能である。実際、マイクロキャリア上の光学層の存在は、蛍光分析の間に放出される蛍光信号によってのみ区別可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１９】
【特許文献１】国際公開第００／６３６９５号
【特許文献２】国際公開第２０１０／０７２０１１号
【特許文献３】国際公開第２０１１／０４４７０８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
本発明は、上述の不利な点の全て又は一部を改善することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
この目的のために、本発明は、以下の段階を含むマイクロキャリアの製造方法を提案する：
（ａ）底部層、上部層、及び、上記底部層と上部層との間に位置する絶縁層を含むサンドイッチ構造を有するウエハーを提供する段階、
（ｂ）上部層をエッチング除去して、マイクロキャリアのボディの外側壁を画定する段階、
（ｃ）少なくともボディの上面上に第１の活性層を堆積する段階、
（ｄ）第１の活性層上に連続的なポリマー層を適用する段階、
（ｅ）底部層及び絶縁層をエッチング除去する段階、
（ｆ）ポリマー層を除去して、マイクロキャリアを解放する段階。
【００２２】
そのため、本発明による方法において、第１の活性層の堆積は、上述の裏返し、又は重なり現象を防ぐために、マイクロキャリアがウエハーにまだ結合したまま達成される。第１の活性層は、分析の間に上述の“シャドー効果”を避けるために、ボディの全上面の上に均一に堆積される。その結果、マイクロチャネルを通って流れるターゲット分子及びリガンドに関する正確な定量的情報のためのデータの完全性が保たれる。
【００２３】
また、マイクロキャリアはそれらの解放まで一緒に結合されているので、例えばターボポンプにおけるような、それらの作製のために用いられる設備の繊細な部分においてマイクロキャリアが分散することを避ける。
【００２４】
必要に応じて、第１の活性層の堆積の段階（ｃ）は、上述の段階（ａ）と（ｂ）との間に為される。変形では、段階（ａ）から（ｆ）は連続的に実施される。
【００２５】
実施形態によると、段階（ｅ）は、絶縁層を保ちつつ底部層を選択的に底部層をエッチングするための第１のエッチングによって、例えばエッチング浴を用いることによって、且つ、絶縁層をエッチングするための第２のエッチングによって、例えばドライエッチングによって為される。
【００２６】
底部層が単結晶シリコンを含む場合、エッチング浴は水酸化カリウム浴であり得る。加えて、絶縁層が二酸化ケイ素を含む場合、ドライエッチングが、ＣＨＦ３（フルオロホルム）のプラズマエッチングによって、又はＣＦ４のプラズマエッチングによって為され得る。
【００２７】
また、ポリマー層は、ドライエッチングによって除去され得る。例えば、ポリマー層がポリパラキシリレンを含む場合、それは、酸素プラズマによってエッチングされ得る。
【００２８】
さらに、独特のマーク、例えば符号が、例えば段階（ｂ）と（ｃ）との間で、マイクロキャリア上に刻まれ得る。
【００２９】
同一の独特のマークは、複数のマイクロキャリア、例えば同一のバッチに属している全てのマイクロキャリアに起因し得る。
【００３０】
そのため、分析の間、異なるタイプのマイクロキャリアが、同時に且つ一緒に混合されて用いられることがあり、各々のタイプはそれ自身の独特のマークを有し、一以上の特定のリガンドをサポートする。この場合、特定のマークが、分析の間に、各々のマイクロキャリアのタイプ、及びその付着したリガンドを識別することを可能にする。
【００３１】
独特のマークが第１の活性層の堆積（段階ｃ）の前に刻まれるとき、上記層の厚さ、及び上記独特のマークのサイズは、独特のマークが第１の活性層を通して読み取り可能であるように選択される。
【００３２】
加えて、底部層及び／又は上部層は単結晶シリコンを含み得、絶縁層は二酸化ケイ素を含み得、ポリマー層はポリパラキシリレンを含み得る。他の一つの実施形態によると、ポリマー層はサポートをウエハーに結合させる接着剤層である。
【００３３】
単結晶シリコン層は、選択的水酸化カリウム浴エッチング等の既知のエッチング法によって容易に且つ効率的にエッチングされ得る。
【００３４】
二酸化ケイ素を含む絶縁層は、エッチング浴を用いることによって底部層をエッチングしつつ、マイクロキャリアを保護することが可能である。
【００３５】
ポリパラキシリレン層は、解放前にマイクロキャリアを維持することが可能な高耐性層である。
【００３６】
ウエハーに結合したサポートの使用は、マイクロキャリアの製造の間に、ウエハーの取扱いを促進するための強化された機械特性を提供する。
【００３７】
本発明の実施形態によると、第２の活性層は、例えば段階（ｅ）と（ｆ）との間で、マイクロキャリアのボディの少なくとも底面上に堆積される。
【００３８】
このような方法によって製造されたマイクロキャリアは、二つの反対側の活性層を含み、それぞれボディの上面上の第１の活性層、及びボディの底面上の第２の活性層である。
【００３９】
第１の活性層及び／又は第２の活性層は、光学特性若しくは磁気特性を有する材料、多結晶シリコン及び／又はポリテトラフルオロエチレン、又は、高屈折率を有する金属層を含み得る。
【００４０】
光学特性を有する材料を用いることは、マイクロキャリアの対応する表面から放出される蛍光信号を実質的に増加させるであろう。磁気特性を有する材料は、例えば、所望の方向にマイクロキャリアを配向させるために用いられ得る。多結晶シリコンの使用は、上記表面上に被覆されることになる有効面積を増加させるために、ボディの対応する表面の空隙率を増加させる。最後に、ポリテトラフルオロエチレンが、マイクロキャリアと、分析の間にそれが置かれる表面との間の摩擦を減少させるために用いられ得る。
【００４１】
第１の活性層及び／又は第２の活性層は、酸化物若しくは窒化物、例えば二酸化ケイ素、又は金属層を含み得る。
【００４２】
二酸化ケイ素は、ボディの対応する表面を滑らかにするために、及び上記表面上の非特定の分子の滑りを増加させるために用いられ得る。従って、上記表面に結合した分子によって放出される特定の信号は強化され、一方で非特定の分子から放出される干渉する信号は大幅に低減される。
【００４３】
また、本発明は、本発明による方法によって得られるマイクロキャリアに関するものであり、第１の活性層によって覆われた上面、及び第２の活性層によって覆われた底面を有するボディを含む。
【００４４】
ボディの上面及び底面の両方が、光学特性を有する材料（光学層）を含む活性層によって覆われるとき、マイクロキャリアの配向がどんなでも、信頼性のある分析が実施され得る。
【００４５】
本発明はより良く理解されることができ、本発明の他の詳細、特徴及び優位点は、添付の図面を参照して非制限的な実施例によって為された以下の説明を読むことで現れる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】従来技術によるマイクロキャリアの上面斜視図を示す。
【図２】分析の間に観察される、従来技術によるマイクロキャリア上の蛍光発光を示す。
【図３】従来技術による製造方法における、光学層の堆積前のマイクロキャリアのバッチの上面斜視図を示す。
【図４】本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。
【図５】本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。
【図６】本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。
【図７】本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。
【図８】本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。
【図９】本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。
【図１０】本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。
【図１１】本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。
【図１２】本発明の実施形態によるマイクロキャリアの製造方法の連続的な段階を示す。
【図１３】本発明の他の一つの実施形態を示す。
【図１４】本発明の他の一つの実施形態を示す。
【図１５】本発明の他の一つの実施形態を示す。
【図１６】本発明の他の一つの実施形態を示す。
【図１７】本発明の他の一つの実施形態を示す。
【図１８】分析の間に観察される、本発明によるマイクロキャリア上の蛍光発光を示す。
【発明を実施するための形態】
【００４７】
本発明によるマイクロキャリアの製造方法は、図６から１７を参照して説明されるであろう。この方法は以下の連続的な段階を含む。
【００４８】
図４に示される第１の段階は、底部層７、上部層８、及び、上記底部層７と上部層８との間に位置する絶縁層９を含むサンドイッチ構造を有するウエハー６を提供する段階にある。
【００４９】
例えば、上記ウエハー６は、１００ｍｍの直径、３８０μｍの厚さの底部層７、１μｍの厚さの絶縁層９及び１０μｍの厚さの上部層８を有するＳＯＩ（シリコンオンインシュレータ―）ウエハーである。上部層８及び底部層７は単結晶シリコンで作製され、絶縁層９は二酸化ケイ素で作製される。
【００５０】
図５に示される第２段階は、上部層８の上へ感光性レジスト層１０を適用する段階にある。マイクロキャリアの表面レイアウトを画定するために、感光性レジスト層１０は、クロム／ガラスマスク等のマスク（図示されない）を通してＵＶ光が照射される。マイクロキャリアレイアウトに対応するマスクにおけるオープンパターンは、空間選択的なＵＶ照射を提供する。光開始剤は反応し、レジスト層１０の重合を開始し、レジストは空間選択的に照射される。その後、特定の化学が、暴露されていないレジスト及び反応していないレジストを除去するために用いられる。硬化したレジストの残りのパターンは、マイクロキャリアの外径形状を画定する。
【００５１】
本明細書での好ましい実施形態では、硬化したレジストの残りのパターンは、図１に示される穴２及び３と同様の、マイクロキャリアのボディ１１における一連の通り穴から成るバイナリ―符号等の符号をさらに画定する。
【００５２】
感光性レジスト１０は、ポジティブフォトレジスト、又はネガティブフォトレジストであり得る。ポジティブレジストに関する一実施例は、Ｓｈｉｐｌｅｙ  Ｃｏｍｐａｎｙによって供給されるＭＩＣＲＯＰＯＳＩＴ  Ｓ  １８０５  ＰＨＯＴＯ  ＲＥＳＩＳＴであり、ネガティブフォトレジストに関する一実施例は、Ｇｅｒｓｔｅｌｔｅｃ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓによって供給されるようなＧＭ１０４０  ＳＵ−８  ＰＨＯＴＯ  ＥＰＯＸＹである。感光性レジスト層１０は、スプレーコーティング、又は好ましくはスピンコーティング等の従来技術において既知の異なる技術によってウエハー６上に適用され得る。
【００５３】
図６に示される第３の段階は、上部層８をエッチング除去して、マイクロキャリアのボディ１１の外側壁１２を画定することにある。これは、ＤＲＩＥ（Ｄｅｅｐ  Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｉｏｎ  Ｅｔｃｈｉｎｇ）に基づく深掘りシリコンエッチングに関するボッシュプロセス等の、深掘り反応性シリコンエッチング（ＤＲＩＥ）によって実施され得る。
【００５４】
ボッシュプロセスは、文献“Ｊ．Ｋ．  Ｂｈａｒｄｗａｊ，  Ｈ．  Ａｓｈｒａｆ，  Ｐｒｏｃ．  ＳＰＩＥ，  ２６３９，  ２２４  （１９９５）；  Ａ．  Ｓｃｈｉｌｐ，  Ｍ．  Ｈａｕｓｎｅｒ，  Ｍ．  Ｐｕｅｃｈ，  Ｎ．  Ｌａｕｎａｙ，Ｈ．  Ｋａｒａｇｏｅｚｏｇｌｕ，  Ｆ．  Ｌａｅｒｍｅｒ，  Ａｄｖａｎｃｅｄ  ｅｔｃｈ  ｔｏｏｌ  ｆｏｒ  ｈｉｇｈ  ｅｔｃｈ  ｒａｔｅ  ｄｅｅｐ  ｒｅａｃｔｉｖｅ  ｉｏｎ  ｅｔｃｈｉｎｇ  ｉｎ  ｓｉｌｉｃｏｎ  ｍｉｃｒｏｍａｃｈｉｎｉｎｇ  ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｅｎｖｉｒｏｎｍｅｎｔ，  Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  ＭＳＴ  ２００１，  Ｄｕｓｓｅｌｄｏｒｆ”において開示される。深掘り反応性イオンエッチングは、文献“Ｍａｄｏｕ  ＭＪ，  ２００２，  Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ  ｏｆ  ｍｉｃｒｏｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ，  ＣＲＣ  Ｐｒｅｓｓ”において開示される。
【００５５】
図７に示される第４の段階において、感光性レジスト１０は、湿式化学浴において除去される。そのため、それは、マイクロキャリアの設計に従ってパターニングされた一連のボディ１１を画定するきれいな単結晶シリコン層のままである。
【００５６】
図８に示される第５の段階は、ボディ１１の上面１４上に第１の活性層１３を堆積する段階にある。また、堆積の間、第１の活性層１３は、外側壁１２の間に形成されるリセス１５の底に堆積される。
【００５７】
第１の活性層１３は、二酸化ケイ素を含む酸化物層等の、光学特性を有する層である。第１の層１３の厚さは、赤い蛍光ラベルと動作するとき、およそ９０ｎｍと１２０ｎｍとの間である。窒化物等の任意の他の誘電材料、又は金属層もまた用いられ得る。
【００５８】
ＰＥＣＶＤ（プラズマ強化化学気相堆積）、蒸着、又はスパッタリング（Ｍａｄｏｕ  ＭＪ，  ２００２，  Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ  ｏｆ  ｍｉｃｒｏｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ，  ＣＲＣ  Ｐｒｅｓｓ）等の異なるタイプの酸化物堆積法が用いられ得る。ＰＥＣＶＤ技術からの二酸化ケイ素の堆積に関して、ジクロロシラン又はシラン及び酸素等のガスの混合物が、典型的には数百ミリＴｏｒｒから数Ｔｏｒｒまでの圧力で用いられ得る。二酸化ケイ素の堆積は、室温から３００℃までの範囲に含まれる温度によって実施される。
【００５９】
図９に示される第６の段階は、第１の活性層１３の上に、ポリマー層１６、例えば、Ｂｒｅｗｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｍｉｃｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ社及びＡｌｌｒｅｓｉｓｔ社によってそれぞれ提供される、ＰｒｏＴＥＫ、ＡＺ  ＰＣ  ５２０Ｄ又はＳＸ  ＡＲ−ＰＣ  ５０００／４０の参照下で知られる材料で作製される層、又はポリパラキシリレン層を適用する段階にある。上記ポリマー層１６の厚さは、１μｍから１００μｍまでの間であり得る。このポリマー層は、例えば化学気相堆積（ＣＶＤ）によって、又はスピンコーティングによって適用される。図１０に示される第７の段階は、底部層７及び絶縁層９をエッチング除去する段階にある。
【００６０】
底部層７のエッチング除去は、底部層７の大部分をグラインディングすること、及び、ＳＯＩウエハーを水酸化カリウム浴内へディッピングすることにある浴エッチングによって底部層７の残りをエッチングすることによって実施される。その後、絶縁層９は、ＣＨＦ３（フルオロホルム）のプラズマエッチングによって、又はＣＦ４のプラズマエッチングによって、完全にエッチング除去される。絶縁層のエッチング速度は制御される。２層のマイクロキャリアを製造するために、本発明の第１実施形態による方法は、マイクロキャリアのボディ１１の底面１８上へ第２の活性層１７を堆積することにある、図１１に示される第８の段階を含む。また、二酸化ケイ素を含む酸化物層等の第２の活性層１７は、光学特性を有する。第２の層１７の厚さは、赤い蛍光ラベルと動作するとき、およそ９０ｎｍと１２０ｎｍとの間である。窒化物等の任意の他の誘電材料、又は金属層もまた、用いられ得る。
【００６１】
第２の活性層１７は、第１の活性層１３の堆積に関して用いられた同一の方法によって堆積され得る。
【００６２】
その後、ポリマー層１６は、例えば酸素プラズマによって、図１２ａに示されるように、２層のマイクロキャリア１９を分離して、解放するために、エッチング除去される。エッチング速度は制御される。このような方法によって得られたマイクロキャリア１９は各々、その上面１４上の第１の活性層１３、及びその底面１８上の第２の活性層１７を有するボディ１１を含む。各々の活性層１３、１７は、ボディ１１の対応する表面１４、１８を均一に、且つ連続的に覆う。
【００６３】
図１３から１７は、本発明による方法の他の一つの実施形態を示す。
【００６４】
この実施形態では、図８に示されるウエハー６は、同一の５つの段階によって得られる。
【００６５】
その後、第６の段階において（図１３）、サポート２１は、接着剤２２の層によって覆われる。サポート２１は例えばシリコン、石英又はガラスで作製されるウエハーであり、約３００μｍから７００μｍまでの厚さを有する。接着剤は例えば、ＷａｆｅｒＢＯＮＤ  ＨＴ１０．１０又はＣＲ２００と呼ばれる樹脂であり、Ｂｒｅｗｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ社によって提供される。接着剤層２２の厚さは約１０μｍから１００μｍであり、好ましくは約５０μｍである。
【００６６】
図１４に示される第７の段階では、サポート２１は、第１の活性層１３に接触して付着する接着剤層２２を通してウエハー６に結合される。このような結合は、好ましくはウエハー６、サポート２１及び接着剤層２２を圧縮し加熱することによって為される。
【００６７】
変形では、接着剤層２２は、第１の活性層１３上に直接適用され、サポート２１は、接着剤層２２の上へ適用される。
【００６８】
図１５に示される第８の段階は、底部層７及び絶縁層９をエッチング除去することにある。このエッチング段階は、図１０において実施されるものと同様である。
【００６９】
その後、第２の活性層１７が、マイクロキャリアのボディ１１の底面１８上へ堆積され得る（図１６）。
【００７０】
その後、サポート２１は、接着剤層２２を除去することによって、ウエハー６から分離される。このような除去は、接着剤層２２を加熱することによって、又は溶媒を用いることによって為され得る。そのため、２層のマイクロキャリア１９は、図１７に示されるように、分離され、解放される。
【００７１】
サポート２１は、マイクロキャリアの製造の間の、ウエハー６の取扱いを促進するために、強化された機械特性を提供する。
【００７２】
図１３に示されるように、分析の間、各マイクロキャリア１９の機能化された表面は、上述の“シャドー効果”が避けられるように、均一な蛍光信号を放出することになる。そのため、このようなマイクロキャリア１９の使用は、分析の間の正確な定量的情報を提供する。
【００７３】
２層のマイクロキャリア１９の使用は、分析の間にマイクロキャリアの配向を制御することが困難であるときに便利である。
【００７４】
逆に、マイクロキャリアの配向が制御され得る場合、ボディ１１の上面１４のみが活性層１３によって覆われ得る。
【００７５】
この目的のために、本発明による方法の他の一つの実施形態は、図１０に示される第７の段階の後にポリマー層１６を直接エッチングすること、又は、図１５に示される段階によって（ａｖｅｃ）直接（ウエハー６からサポート２１を分離するために）接着剤層２２を除去することを提案する。
【００７６】
図１２ｂに示されるようなこの実施形態では、活性層１３を一つだけ有するマイクロキャリア２０が解放される。この実施形態は、あまり複雑でない方法を含み、あまり高価でないマイクロキャリア２０の製造を可能にする。
【００７７】
各実施形態において、解放されたマイクロキャリア１９、２０は、分析における使用まで、液体容器又は器において懸濁液にて保存され得る。各マイクロキャリア１９、２０は好ましくは、ディスクの形状に成形され、１μｍと２００μｍとの間、例えば４０μｍの直径を有する。
【００７８】
本発明の他の実施形態は、本明細書の考察、及び本明細書で開示される発明の実施から当業者に明らかになるであろう。明細書及び実施例は単に例示的なものとして考えられ、本発明の真の範疇及び精神は以下の特許請求の範囲によって示されることが意図される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２ａ】
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【図１２ｂ】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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