(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子中に、下記環構造αまたはβで表される部分構造を有する重合体を含有する偏光板用組成物。
【化１】
0006274673.tif 000040
環構造αおよびβにおいて、Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。＊部分は結合手であるか、水素原子、置換基または連結基が結合する部位である。
【請求項２】
前記重合体が、繰り返し単位の主鎖または側鎖に、下記一般式（１）または（２）で表される部分構造を有する請求項１に記載の偏光板用組成物。
【化２】
0006274673.tif 000041
一般式（１）および（２）において、Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｒ１ａは、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、窒素原子上の２つの水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキル基もしくはアリール基を有するスルホニル基を表す。Ｒ２ａはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ホルミル基、ヘテロ環基またはハロゲン原子を表す。Ｒ３ａおよびＲ４ａは各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａの各基はさらに置換基を有してよい。
ただし、一般式（１）では、Ｒ１ａ〜Ｒ４ａの少なくとも１つ、一般式（２）では、Ｒ２ａ〜Ｒ４ａの少なくとも１つが、結合手となって、主鎖または側鎖に組み込まれる。
【請求項３】
前記重合体の質量平均分子量が、１，０００以上である請求項１または２に記載の偏光板用組成物。
【請求項４】
前記重合体が、単独重合体または共重合体であって、かつポリ（メタ）アクリレート、置換ポリスチレン、ポリビニルアシレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリマレイミドまたはポリウレタンである請求項１〜３のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
【請求項５】
前記重合体が、下記一般式（Ｐａ）〜（Ｐｈ）のいずれかで表される繰り返し単位を有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
【化３】
0006274673.tif 000042
一般式（Ｐａ）〜（Ｐｈ）において、Ｗ１は、前記環構造αまたはβで表される部分構造における１価の基を表し、Ｗ２は、前記環構造αまたはβで表される部分構造における２価の基を表す。Ｒは水素原子またはメチル基を表す。Ｇは、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−＊、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−＊、−Ｃ（＝Ｏ）−＊またはフェニレン基を表す。ここで、＊側がＬと結合する結合手である。Ｌ、Ｌａ１、Ｌａ２、Ｌｂ１、Ｌｂ２、Ｌｃ１およびＬｃ２は各々独立に、単結合または２価の連結基を表す。Ｅ１〜Ｅ３は各々独立に２価の連結基を表す。
【請求項６】
前記Ｗ１が、前記環構造αまたはβで表される部分構造における１価の基であり、前記Ｗ２が、前記環構造βで表される部分構造における２価の基である請求項５に記載の偏光板用組成物。
【請求項７】
前記重合体が、下記一般式（Ｐａ１）で表される繰り返し単位を有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
【化４】
0006274673.tif 000043
一般式（Ｐａ１）において、Ｒ、ＧおよびＬは、前記一般式（Ｐａ）におけるＲ、ＧおよびＬと同義であり、Ｌ１、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａは、前記一般式（１）におけるＬ１、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａと同義である。
【請求項８】
前記Ｌが、＊−Ｌｄ−〔Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−または＊−Ｌｄ−〔−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−であって、Ｌｄは単結合または２価の連結基であり、ｎは０または１であり、＊側がＧまたは窒素原子と結合する結合手である請求項５または７に記載の偏光板用組成物。
【請求項９】
さらに樹脂を含有し、該樹脂１００質量部に対し、前記重合体の含有量が、０．０１〜４０質量部である請求項１〜８のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
【請求項１０】
セルロースアシレートまたはポリビニルアルコール系樹脂を含有する請求項１〜９のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
【請求項１１】
ポリビニルアルコール系樹脂、および二色性色素を含有する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
【請求項１２】
セルロースアシレートを含有する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の偏光板用組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１０および１２のいずれか１項に記載の偏光板用組成物からなる偏光板保護フィルム。
【請求項１４】
セルロースアシレートと、分子中に、下記環構造αまたはβで表される部分構造を有する重合体を含有するセルロースアシレートフィルム。
【化５】
0006274673.tif 000044
環構造αおよびβにおいて、Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。＊部分は結合手であるか、水素原子、置換基または連結基が結合する部位である。
【請求項１５】
前記セルロースアシレートフィルムが、２層以上の積層フィルムであって、２層の場合はいずれか一方のみに、３層以上の場合は、少なくとも一方の最表層に前記重合体を含む請求項１４に記載のセルロースアシレートフィルム。
【請求項１６】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の偏光板用組成物からなる偏光子。
【請求項１７】
請求項１３に記載の偏光板保護フィルム、または、請求項１４もしくは請求項１５に記載のセルロースアシレートフィルムを有する偏光板。
【請求項１８】
請求項１６に記載の偏光子を有する偏光板。
【請求項１９】
請求項１７または１８に記載の偏光板を具備した表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板用組成物、偏光板保護フィルム、セルロースアシレートフィルム、偏光子、偏光板および表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
少なくとも偏光子および偏光板保護フィルムからなる偏光板は、液晶表示装置の光学部材として使用され、種々の液晶表示装置に利用されている。
【０００３】
液晶表示装置は、ＴＶ用途等のように室内で使用する以外に、例えば、携帯デバイス等を中心に室外で使用される機会が増加している。このため、従来よりも高温高湿下での使用に耐えうる液晶表示装置の開発が求められている。
しかも、液晶表示装置は益々多様な用途で過酷な使用条件でも耐えることに対する要求が高まり、年々、従来よりも高いレベルの耐久性が求められるようになってきている。
また、近年、ＴＶ用途を中心に液晶表示装置の大型化・薄型化が進んでおり、これに伴って構成部材である偏光板保護フィルムを含めた偏光板も薄型化が必要とされている。
【０００４】
セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板保護フィルムでは、さらなる性能の向上や偏光板保護フィルムとしての特性や製造における様々な問題点の解決のために、特定の化合物をフィルム中に含有させることが知られている。
例えば、偏光子の耐久性を改善するために、偏光板保護フィルムにｐＫａが２〜７の有機酸を含有させる方法が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１１８１３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来のｐＫａが２〜７の有機酸によって、偏光子の耐久性が改善されたものの、最近の著しい技術進歩により、高温高湿下での偏光子の耐久性に対する要求は高まり、さらなる改善が必要であった。特に、本発明者らの検討では、特許文献１に記載されている化合物を用いると、高温高湿下での偏光子の劣化、特に長期経過における直交透過率変化が大きく、耐光密着性も不足していることがわかった。また、本発明者らの検討によれば、例えば、３層構造の偏光板保護フィルムの偏光子に最も近い層に特定の有機酸を含有させたとしても他の層に拡散してしまい、少量添加で、効率的に、偏光子の耐久性を改善することが困難であった。
従って、本発明は、少量添加で、長期に渡る高温高湿下での偏光子の耐久性を改善、維持向上させることができる偏光板用組成物、それにより得られた偏光板保護フィルム、セルロースアシレートフィルム、偏光子、偏光板および表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者が鋭意検討した結果、上記のように、偏光子もしくは、この偏光子にできるだけ近い位置に化合物を局在させること、さらには、経時で化合物が放出される手段の開発が重要であることがわかり、本発明を完成させるに至った。
【０００８】
すなわち、上記課題は、以下の手段により達成された。
＜１＞分子中に、下記環構造αまたはβで表される部分構造を有する重合体を含有する偏光板用組成物。
【０００９】
【化１】
0006274673.tif 000002
【００１０】
環構造αおよびβにおいて、Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。＊部分は結合手であるか、水素原子、置換基または連結基が結合する部位である。
＜２＞重合体が、繰り返し単位の主鎖または側鎖に、下記一般式（１）または（２）で表される部分構造を有する＜１＞に記載の偏光板用組成物。
【００１１】
【化２】
0006274673.tif 000003
【００１２】
一般式（１）および（２）において、Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｒ１ａは、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、窒素原子上の２つの水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキル基もしくはアリール基を有するスルホニル基を表す。Ｒ２ａはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ホルミル基、ヘテロ環基またはハロゲン原子を表す。Ｒ３ａおよびＲ４ａは各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａの各基はさらに置換基を有してよい。
ただし、一般式（１）では、Ｒ１ａ〜Ｒ４ａの少なくとも１つ、一般式（２）では、Ｒ２ａ〜Ｒ４ａの少なくとも１つが、結合手となって、主鎖または側鎖に組み込まれる。
＜３＞重合体の質量平均分子量が、１，０００以上である＜１＞または＜２＞に記載の偏光板用組成物。
＜４＞重合体が、単独重合体または共重合体であって、かつポリ（メタ）アクリレート、置換ポリスチレン、ポリビニルアシレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリマレイミドまたはポリウレタンである＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜５＞重合体が、下記一般式（Ｐａ）〜（Ｐｈ）のいずれかで表される繰り返し単位を有する＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
【００１３】
【化３】
0006274673.tif 000004
【００１４】
一般式（Ｐａ）〜（Ｐｈ）において、Ｗ１は、上記環構造αまたはβで表される部分構造における１価の基を表し、Ｗ２は、上記環構造αまたはβで表される部分構造における２価の基を表す。Ｒは水素原子またはメチル基を表す。Ｇは、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−＊、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−＊、−Ｃ（＝Ｏ）−＊またはフェニレン基を表す。ここで、＊側がＬと結合する結合手である。Ｌ、Ｌａ１、Ｌａ２、Ｌｂ１、Ｌｂ２、Ｌｃ１およびＬｃ２は各々独立に、単結合または２価の連結基を表す。Ｅ１〜Ｅ３は各々独立に２価の連結基を表す。
＜６＞Ｗ１が、上記環構造αまたはβで表される部分構造における１価の基であり、Ｗ２が、上記環構造βで表される部分構造における２価の基である＜５＞に記載の偏光板用組成物。
＜７＞重合体が、下記一般式（Ｐａ１）で表される繰り返し単位を有する＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
【００１５】
【化４】
0006274673.tif 000005
【００１６】
一般式（Ｐａ１）において、Ｒ、ＧおよびＬは、一般式（Ｐａ）におけるＲ、ＧおよびＬと同義であり、Ｌ１、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａは、一般式（１）におけるＬ１、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａと同義である。
＜８＞Ｌが、＊−Ｌｄ−〔Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−または＊−Ｌｄ−〔−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−であって、Ｌｄは単結合または２価の連結基であり、ｎは０または１であり、＊側がＧまたは窒素原子と結合する結合手である＜５＞または＜７＞に記載の偏光板用組成物。
＜９＞さらに樹脂を含有し、樹脂１００質量部に対し、重合体の含有量が、０．０１〜４０質量部である＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜１０＞セルロースアシレートまたはポリビニルアルコール系樹脂を含有する＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜１１＞ポリビニルアルコール系樹脂、および二色性色素を含有する＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜１２＞セルロースアシレートを含有する＜１＞〜＜１０＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物。
＜１３＞  ＜１＞〜＜１０＞および＜１２＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物からなる偏光板保護フィルム。
＜１４＞セルロースアシレートと、分子中に、下記環構造αまたはβで表される部分構造を有する重合体を含有するセルロースアシレートフィルム。
【００１７】
【化５】
0006274673.tif 000006
【００１８】
環構造αおよびβにおいて、Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。＊部分は結合手であるか、水素原子、置換基または連結基が結合する部位である。
＜１５＞セルロースアシレートフィルムが、２層以上の積層フィルムであって、２層の場合はいずれか一方のみに、３層以上の場合は、少なくとも一方の最表層に重合体を含む＜１４＞に記載のセルロースアシレートフィルム。
＜１６＞  ＜１＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の偏光板用組成物からなる偏光子。
＜１７＞  ＜１３＞に記載の偏光板保護フィルム、または、＜１４＞もしくは＜１５＞に記載のセルロースアシレートフィルムを有する偏光板。
＜１８＞  ＜１６＞に記載の偏光子を有する偏光板。
＜１９＞  ＜１７＞または＜１８＞に記載の偏光板を具備した表示装置。
【００１９】
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００２０】
ここで、本明細書において、特段に断らない限り、置換基を有することが可能な基（例えば、アルキル部位、アリール部位、ヘテロ環部位を有する基）は置換基を有してもよい。例えば、アルキル基は、置換基を有してもよいアルキル基、アリール基もしくは芳香族基は置換基を有してもよいアリール基もしくは芳香族基である。
また、同じ原子に少なくとも２つの置換基を有する場合には、これらの置換基が互いに結合して環を形成してもよく、また、隣接する結合原子が各々置換基を有する場合には、これらの置換基が互いに結合して環を形成してもよい。
さらに複数の同符号の基が存在する場合や、複数の繰り返しにより、結果として複数の同符合の基が存在する場合、これらは互いに同一であっても異なってもよい。
【００２１】
本明細書において、複数の置換基や連結基（以下、置換基等と言う。）を同時もしくは択一的に規定するときには、それぞれの置換基等は互いに同一でも異なっていてもよい。
なお、単に「置換基」、「置換基を有してもよい」などのように具体的な基が特定されていない場合は、特段の断りがない限り、置換基Ｓを参照する。同じく、具体的な基の場合も、特段の断りがない限り、置換基Ｓの対応する具体的な基を参照する。
【発明の効果】
【００２２】
本発明により、少量添加で、長期に渡る高温高湿下での偏光子の耐久性を改善、維持向上させることができる偏光板用組成物、それにより得られた偏光板保護フィルム、セルロースアシレートフィルム、偏光子、偏光板および表示装置を提供することが可能となった。
また、「高温高湿下」とは、特に限定されるものではないが、温度６０〜９０℃、相対湿度８５％以上の環境下を意味する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の液晶表示装置の内部構造を模式的に示した一例である。
【図２】本発明の別の液晶表示装置の内部構造を模式的に示した一例である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明について、実施の形態を挙げて詳細に説明する。
【００２５】
本発明の偏光板組成物は、偏光板に使用されるのであれば、または、偏光板を構成するものであれば、どのようなフィルム、層に用いても構わない。
このようなフィルム、層としては、例えば、偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層、さらには防眩層、クリアハードコート層、反射防止層、帯電防止層、防汚層等が挙げられる。
本発明では、本発明の偏光板組成物を偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層に用いるのが好ましく、特に積層構造の偏光板保護フィルムに用いるのが好ましい。
【００２６】
また、本発明では、以下に説明する重合体を含有するセルロースアシレートフィルムも好ましい態様である。
【００２７】
＜＜偏光板用組成物＞＞
本発明の偏光板用組成物は、以下に説明する特定の重合体（以下、本発明の重合体とも称す）を含有する。偏光板用組成物は、この特定の重合体に加え、樹脂を含有することが特に好ましい。さらに、必要により、各種添加剤を含有するのも好ましい。
最初に、本発明の重合体から順に説明する。
【００２８】
＜本発明の重合体＞
本発明の偏光板組成物は、分子中に、下記環構造αまたはβで表される部分構造（本明細書において、単に、環構造αまたはβと称することがある。）を有する重合体を含有する。
【００２９】
【化６】
0006274673.tif 000007
【００３０】
環構造αおよびβにおいて、Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。＊部分は結合手であるか、水素原子、置換基または連結基が結合する部位である。
【００３１】
Ｌ１におけるアルキレン基の炭素数は、１〜３が好ましく、１または２がより好ましく、１がさらに好ましい。例えば、メチレン、エチレン、プロピレンが挙げられる。
Ｌ１におけるアリーレン基の炭素数は６〜１２が好ましい。例えば、フェニレン、ナフチレンが挙げられる。
アルキレン基やアリーレン基は、置換基を有していてもよく、このような置換基としては、置換基Ｓで挙げられた基が挙げられる。
【００３２】
Ｌ１は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基が好ましく、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、メチレン基がより好ましく、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−がさらに好ましく、−Ｃ（＝Ｏ）−が特に好ましい。
【００３３】
＊部分は結合手であるか、水素原子、置換基または連結基が結合する部位である。
結合する置換基は、例えば置換基Ｓで挙げられた基が挙げられる。同じく、連結基は、置換基Ｓで挙げられた基から導かれる基、例えば、置換基Ｓで挙げられた基の結合もしくは、置換基Ｓで挙げられた基から水素原子を結合手に変更した基が挙げられる。具体的に例示すると、アルコキシ基、例えば、エトキシ基の場合、結合は「−Ｏ−」であり、水素原子を結合手に変更したものは、「−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−」となる。
【００３４】
環構造α、βは、本発明では、繰り返し単位中に組み込まれるのが好ましい。なかでも、主鎖もしくは側鎖に組み込まれるのが好ましく、主鎖に組み込まれる場合は、環構造α、βの各々において、少なくとも２つの＊部分を介して組み込まれ、側鎖に組み込まれる場合は、環構造α、βの各々において、１つの＊部分を介して、主鎖に対してペンダント状に組み込まれることが好ましい。
【００３５】
本発明の重合体は、分子中に、環構造αまたはβを有する個数は、５個以上有することが好ましく、６個以上がより好ましく、８個以上がさらに好ましく、１０個以上が特に好ましい。上限は、特に限定されるものではないが、１万個以下が現実的である。
【００３６】
本発明では、環構造αおよびβのうち、環構造αが好ましい。
また、環構造αの場合、重合体の側鎖に組み込まれるのが好ましく、環構造中の「＊Ｏ−」部分の＊部分で、重合体の側鎖に組み込まれるのがより好ましい。
一方、環構造βでは、重合体の主鎖および側鎖のいずれでも構わないが、重合体の側鎖に組み込まれるのがより好ましい。
【００３７】
本発明において、繰り返し単位の主鎖または側鎖に、下記一般式（１）または（２）で表される部分構造を有する重合体が好ましい。
【００３８】
【化７】
0006274673.tif 000008
【００３９】
一般式（１）および（２）において、Ｌ１は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−、アルキレン基またはアリーレン基を表す。Ｒ１ａは、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、窒素原子上の２つの水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキル基もしくはアリール基を有するスルホニル基（アルキルスルホニル基もしくはアリールスルホニル基、本発明において、アルキルもしくはアリールのスルホニル基とも称する）を表す。Ｒ２ａはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ホルミル基、ヘテロ環基またはハロゲン原子を表す。Ｒ３ａおよびＲ４ａは各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａの各基はさらに置換基を有してよい。
ただし、一般式（１）では、Ｒ１ａ〜Ｒ４ａの少なくとも１つ、一般式（２）では、Ｒ２ａ〜Ｒ４ａの少なくとも１つが、結合手となって、主鎖または側鎖に組み込まれる。
【００４０】
ここで、一般式（１）で表される部分構造は、環構造αに対応するものであり、一般式（２）で表される部分構造は、環構造βに対応するものである。
【００４１】
Ｌ１は、環構造αおよびβにおけるＬ１と同義であり、好ましい範囲も同じである。
【００４２】
〔Ｒ１ａ〕
以下に、Ｒ１ａを説明する。
Ｒ１ａは、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、窒素原子上の２つの水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シリル基またはアルキルもしくはアリールのスルホニル基を表す。
【００４３】
ヘテロ原子が置換したメチレン基は、ヘテロ原子とメチレン基の炭素原子が互いに結合してヘテロ環を形成したものも含む。
ヘテロ原子は、酸素原子、窒素原子、硫黄原子が挙げられ、これらが好ましく、酸素原子がより好ましい。
【００４４】
ヘテロ原子が置換したメチレン基は、下記一般式（ａ）または（ｂ）で表される基が好ましい。
【００４５】
【化８】
0006274673.tif 000009
【００４６】
一般式（ａ）および（ｂ）において、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒａ）−を表す。環Ａはヘテロ環を表す。Ｒａ１、Ｒａ２およびＲａは各々独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒｂ１は置換基を表す。Ｒｚはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表す。ｍは０以上の整数を表す。
【００４７】
Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒｂ１およびＲａにおける置換基としては、置換基Ｓで挙げられた基が挙げられる。Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒｂ１およびＲａは水素原子、アルキル基、アリール基が好ましく、水素原子、アルキル基がより好ましい。
【００４８】
Ｒｚにおけるアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基は、後述するＲ２ａにおけるアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基が挙げられ、Ｒ２ａにおけるこれらの好ましい範囲と同じである。
【００４９】
環Ａは、５または６員環が好ましく、６員環がより好ましい。また、環Ａを構成する原子は、Ｚ以外は炭素原子が好ましく、環Ａは飽和環が好ましい。
環Ａの好ましい環としては、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン環が挙げられる。
【００５０】
ｍは０または１が好ましく、０がより好ましい。
Ｒａ１およびＲａ２は水素原子またはアルキル基が好ましく、水素原子がより好ましい。
Ｒａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基が好ましく、水素原子またはアルキル基がより好ましい。
Ｒｚはアルキル基またはアリール基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００５１】
一般式（ａ）または（ｂ）で表される基のうち一般式（ａ）で表される基が好ましい。
【００５２】
Ｒ１ａの電子求引性基が置換したエチレン基において、電子求引性基は、ハメット則のσｐ値が０以上である基が好ましい。σｐ値が正の置換基としては、フッ素（０．０６）、塩素（０．３０）、臭素（０．２７）、ヨウ素（０．３０）等のハロゲン原子、−ＣＨＯ（０．２２）、−ＣＯＣＨ３（０．５０）、−ＣＯＣ６Ｈ５（０．４６）、−ＣＯＮＨ２（０．３６）、−ＣＯＯ−（０．３０）、−ＣＯＯＨ（０．４１）、−ＣＯＯＣＨ３（０．３９）、−ＣＯＯＣ２Ｈ５（０．４５）等のカルボニルを有する基、−ＳＯＣＨ３（０．４９）、−ＳＯ２ＣＨ３（０．７２）、−ＳＯ２Ｃ６Ｈ５（０．６８）、−ＳＯ２ＣＦ３（０．９３）、−ＳＯ２ＮＨ２（０．５７）、−ＳＯ２ＯＣ６Ｈ５（０．２３）、−ＳＯ３−（０．０９）、−ＳＯ３Ｈ（０．５０）等のスルホニルもしくはスルフィニルを有する基、−ＣＮ（０．６６）、−ＮＯ２（０．７８）、−Ｎ（ＣＨ３）３＋（０．８２）、−Ｎ（ＣＦ３）２（０．５３）等の含窒素置換基、−ＣＣｌ３（０．４６）、−ＣＨ２Ｃｌ（０．１８）、−ＣＨＣｌ２（０．３２）、−ＣＦ３（０．５４）等のハロゲン原子置換アルキル基が挙げられる。ここで、カッコ内はσｐ値である。
ハメットのσｐ値は、例えば、Ｃ．Ｈａｒｓｃｈ他、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１６，１２０７（１９７３）、同，２０，３０４（１９７７）、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）などにも記載されている。
【００５３】
本発明では、ハメットのσｐ値は０．２０以上が好ましく、具体的には、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、水素原子の少なくとも一方がアルキルもしくはアリールで置換されたカルバモイル基（例えば、−ＣＯＮＨＣＨ３（０．３２））、チオアシル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基、水素原子の少なくとも一方がアルキルもしくはアリールで置換されたチオカルバモイル基（例えば、−ＣＳＮＨＣＨ３（０．３４））、水素原子の少なくとも一方がアルキルもしくはアリールで置換されたスルファモイル基（アルキルもしくはアリールのスルファモイル基とも称する。例えば、−ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）２（０．６５））、アルキルもしくはアリールのスルホニル基（例えば、−ＳＯ２ＣＨ３（０．７２））、アルキル基もしくはアリール基を有するスルフィニル基（例えば、−ＳＯＣＨ３（０．４９））、シアノ基、ニトロ基またはホスホノ基が挙げられる。
【００５４】
電子求引性基は、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルもしくはアリールのスルホニル基、シアノ基、ニトロ基、水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基、アルキルもしくはアリールのスルファモイル基が好ましい。
【００５５】
Ｒ１ａにおけるアシル基は、芳香族のアシル基でも脂肪族のアシル基でもよく、またホルミル基をも含み、炭素数は１〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましい。
アシル基としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、イソブチリル、ピバロイル、ラウロイル、ミリストイル、アクリロイル、メタクリロイル、ベンゾイル、ナフトイルが挙げられる。
アシル基のうち、分岐アルキル（好ましくはｔｅｒｔ−アルキルカルボニル基）のアシル基、例えば、ピバロイルなどや、オルト位に置換基を有するフェニルカルボニル基が好ましい。
【００５６】
Ｒ１ａにおける、窒素原子上の２つの水素原子の少なくとも一方がアルキル基、シクロアルキル基もしくはアリール基から独立して選択される基で置換されたカルバモイル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましい。
カルバモイル基としては、例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイルが挙げられる。
【００５７】
Ｒ１ａにおけるアルコキシカルボニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましい。分岐アルコキシカルボニル基が好ましく、ｔｅｒｔ−アルキルオキシカルボニル基がより好ましい。アルコキシカルボニル基は、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニル、ドデシルオキシカルボニルが挙げられる。
【００５８】
Ｒ１ａにおけるアリールオキシカルボニル基の炭素数は、７〜２０が好ましく、７〜１６がより好ましい。アリールオキシカルボニル基は、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニルが挙げられる。
なお、アリールオキシカルボニル基よりアルコキシカルボニル基の方が好ましい。
【００５９】
Ｒ１ａにおけるシリル基は、アルキル基またはアリール基が置換したシリル基が好ましく、シリル基の炭素数は３〜２０が好ましく、５〜１６がより好ましい。また、アルキル基の場合、少なくとも１つは、分岐アルキル基を有するものが好ましく、なかでも、ｔｅｒｔ−アルキル基が好ましい。また、ｓｅｃ−アルキル基の場合、２つ以上がｓｅｃ−アルキル基である場合が好ましい。
また、アリール基を少なくとも１つ有するシリル基も好ましい。
シリル基は、例えば、トリメチルシリル、ジメチル−ｔｅｒｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリル、ジメチルフェニルシリル、メチルジフェニルシリルが挙げられる。
【００６０】
Ｒ１ａにおけるアルキルもしくはアリールのスルホニル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましい。
スルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−オクチルスルホニル、フェニルスルホニルが挙げられる。
【００６１】
本発明では、Ｒ１ａは、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、上記のカルバモイル基、アルコキシカルボニル基またはシリル基が好ましく、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が置換したエチレン基、アシル基、アルコキシカルボニル基またはシリル基がより好ましく、ヘテロ原子が置換したメチレン基、電子求引性基が２位に置換したエチレン基、アシル基、アルコキシカルボニル基またはシリル基がさらに好ましい。
【００６２】
〔Ｒ２ａ〕
以下に、Ｒ２ａを説明する。
Ｒ２ａはアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ニトロ基、ホルミル基、ヘテロ環基またはハロゲン原子を表し、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基がより好ましい。
これらの各基は、置換基を有してもよく、このような置換基としては置換基Ｓで挙げられた基が挙げられる。
【００６３】
Ｒ２ａにおけるアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜８がさらに好ましい。
アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−オクタデシル、イソオクタデシルが挙げられる。また、置換アルキル基も好ましく用いられ、例えば、ベンジル、フェネチル、メトキシエチルが挙げられる。
【００６４】
Ｒ２ａにおけるアルケニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましく、２〜５がさらに好ましい。
アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、２−ペンテニル、オレイルが挙げられる。
【００６５】
Ｒ２ａにおけるシクロアルキル基の炭素数は、３〜２０が好ましく、５〜１０がより好ましく、５または６がさらに好ましい。
シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルが挙げられる。
【００６６】
Ｒ２ａにおけるシクロアルケニル基の炭素数は、５〜２０が好ましく、５〜１０がより好ましく、５または６がさらに好ましい。
シクロアルケニル基としては、例えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニルが挙げられる。
【００６７】
Ｒ２ａにおけるアリール基の炭素数は、６〜２０が好ましく、６〜１０がより好ましく、６〜８がさらに好ましい。
アリール基としては、例えば、フェニル、ナフチルが挙げられる。
【００６８】
Ｒ２ａにおけるヘテロ環基の炭素数は、０〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、２〜１０がさらに好ましく、２〜５が特に好ましい。
ヘテロ環基におけるヘテロ環としては、５員環または６員環のヘテロ環が好ましく、ヘテロ環は、置換基で置換されていてもよく、またベンゼン環や脂環、ヘテロ環で縮環していてもよい。ここで、置換基としては後述の置換基Ｓで挙げられた基が挙げられる。
ヘテロ環基におけるヘテロ環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が挙げられ、ヘテロ芳香環であっても芳香環でないヘテロ環であっても構わない。
ヘテロ環基のヘテロ環としては、例えば、チオフェン環、フラン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、トリアゾール環、ピロリジン環、ピロリン環、ピラゾリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環およびこれらにベンゼンが縮環した環（例えば、インドール環、ベンズイミダゾール環等）が挙げられる。
【００６９】
Ｒ２ａにおけるハロゲン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
Ｒ２ａは、後述する一般式（Ａ）で表される化合物のＲＡ５として例示する置換基を、いずれも好ましく用いることができる。
【００７０】
〔Ｒ３ａおよびＲ４ａ〕
以下に、Ｒ３ａおよびＲ４ａを説明する。
Ｒ３ａおよびＲ４ａは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基またはヘテロ環基を表し、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基が好ましく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基がより好ましい。
【００７１】
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基およびヘテロ環基は、Ｒ２ａにおけるアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基およびヘテロ環基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ｒ３ａおよびＲ４ａは、後述する一般式（Ａ）で表される化合物のＲＡ１およびＲＡ３として例示する置換基を、いずれも好ましく用いることができる。
【００７２】
本発明の重合体は、一般式（１）では、Ｒ１ａ〜Ｒ４ａの少なくとも１つ、一般式（２）では、Ｒ２ａ〜Ｒ４ａの少なくとも１つが、結合手となって、主鎖または側鎖に組み込まれる。
【００７３】
特に、一般式（１）で表される部分構造は、Ｒ１ａが結合手となって、重合体の側鎖に組み込まれるのが好ましい。この場合、Ｒ１ａで表される各基のうち、水素原子の１つを結合手に置き換えた基で組み込まれるのが好ましい。
より好ましくは、Ｒ１ａが結合する酸素原子（環構造αの「＊Ｏ−」の＊部分）に直接結合する結合が、＊−Ｃ（＝Ｏ）−、＊−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、＊−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒａ）−、＊−Ｓｉ（Ｒｘ１）（Ｒｘ２）−、＊−ＳＯ２−が好ましい。ここで、Ｒａは、一般式（ａ）および（ｂ）のＺが−Ｎ（Ｒａ）−である場合のＲａと同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｒｘ１およびＲｘ２は各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、置換基Ｓで挙げられたアルキル基、アリール基が好ましい。なお、＊部分は、Ｒ１ａが結合する酸素原子に直接結合する部分を示す。
Ｒ１ａが結合する酸素原子（環構造αの「＊Ｏ−」の＊部分）に直接結合する結合は、上記のうち、＊−Ｃ（＝Ｏ）−、＊−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−がなかでも好ましい。
【００７４】
本発明の重合体は、上記の環構造αもしくはβ、または、一般式（１）もしくは（２）で表される部分構造を有するのであれば、どのような構造の重合体であっても構わないが、ポリ（メタ）アクリレート、置換ポリスチレン、ポリビニルアシレート、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリマレイミドまたはポリウレタンであることが好ましい。このなかでも、ポリ（メタ）アクリレート、置換ポリスチレン、ポリビニルアシレート、ポリエステルが好ましく、ポリ（メタ）アクリレート、置換ポリスチレン、ポリビニルアシレートがより好ましい。
【００７５】
ここで、ポリ（メタ）アクリレートは、アクリル重合体およびメタクリル重合体の総称であり、１分子の重合体中にアクリル重合部分のみ、メタアクリル重合部分のみ、またはアクリル重合部分とメタクリル重合部分が混在するなどのいずれの重合体をも含む総称である。
ポリビニルアシレートとは、下記一般式Ｖ−１で表される繰り返し単位を含むポリマーを意味する。
【化９】
0006274673.tif 000010
一般式Ｖ−１中、ＲＶ１およびＲＶ２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはアルコキシカルボニル基を表し、ＲＶ３は水素原子またはアルキル基を表し、Ｘは上記の、環構造αまたはβを含む部分構造を表す。
ＲＶ１およびＲＶ２として採りうるアルキル基、アリール基としては、上記Ｒ２ａにおけるアルキル基、アリール基と同義であり、好ましい範囲も同じである。ＲＶ１およびＲＶ２として採りうるアルコキシカルボニル基としては、上記Ｒ１ａにおけるアルコキシカルボニル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。ＲＶ３として採りうるアルキル基としては、上記Ｒ２ａにおけるアルキル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
なお、ＲＶ１〜ＲＶ３は、置換基を有してもよく、このような置換基としては置換基Ｓで挙げられた基が挙げられる。
【００７６】
本発明の重合体は、これらのうち、下記一般式（Ｐａ）〜（Ｐｈ）のいずれかで表される繰り返し単位を有するものがさらに好ましい。
【００７７】
【化１０】
0006274673.tif 000011
【００７８】
一般式（Ｐａ）〜（Ｐｈ）において、Ｗ１は、上記環構造αまたはβで表される部分構造における１価の基を表し、Ｗ２は、上記環構造αまたはβで表される部分構造における２価の基を表す。Ｒは水素原子またはメチル基を表す。Ｇは、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−＊、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−＊、−Ｃ（＝Ｏ）−＊またはフェニレン基を表す。ここで、＊側がＬと結合する結合手である。Ｌ、Ｌａ１、Ｌａ２、Ｌｂ１、Ｌｂ２、Ｌｃ１およびＬｃ２は各々独立に、単結合または２価の連結基を表す。Ｅ１〜Ｅ３は各々独立に２価の連結基を表す。
【００７９】
Ｌ、Ｌａ１、Ｌａ２、Ｌｂ１、Ｌｂ２、Ｌｃ１およびＬｃ２における２価の連結基は、アルキレン基、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒａ）−、アリーレン基またはこれらが組み合わされた基が好ましい。ここで、Ｒａは、一般式（ａ）および（ｂ）のＺが−Ｎ（Ｒａ）−である場合のＲａと同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ｌは、上述した２価の連結基のなかでも、＊−Ｌｄ−〔Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−または＊−Ｌｄ−〔−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−を含む連結基が好ましく、＊−Ｌｄ−〔Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−または＊−Ｌｄ−〔−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−がより好ましい。ここで、Ｌｄは単結合または２価の連結基であり、ｎは０または１であり、＊側がＧまたは窒素原子と結合する結合手である。
【００８０】
アルキレン基、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｎ（Ｒａ）−、アリーレン基が組み合わされた基としては、例えば、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｎ（Ｒａ）−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒａ）−アルキレン−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｎ（Ｒａ）−ＳＯ２−、−ＳＯ２−Ｎ（Ｒａ）−、−アルキレン−Ｃ（＝Ｏ）−＊、−アルキレン−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊、−アルキレン−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−アルキレン−＊、−アルキレン−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−アルキレン−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−アルキレン−、−アルキレン−Ｏ−フェニレン−アルキレン−＊、−アルキレン−Ｎ（Ｒａ）−Ｃ＝Ｏ）−アルキレン−＊、−アルキレン−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−アルキレン−Ｃ（＝Ｏ）−＊、−アルキレン−Ｏ−フェニレン−Ｃ（＝Ｏ）−＊、−（アルキレン−Ｏ）ａｘ−Ｃ（＝Ｏ）−＊、−（アルキレン−Ｏ）ａｘ−アルキレン−Ｃ（＝Ｏ）−＊、−（アルキレン−Ｏ）ａｘ−アルキレン−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊が挙げられる。ここで、ａｘは１〜１０の数を表す。また、＊はＷ１またはＷ２と結合する部分を示す。
【００８１】
上記のアルキレン基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜４がさらに好ましい。
【００８２】
Ｅ１〜Ｅ３における２価の連結基は、通常のポリエステルやポリウレタンを合成する原料におけるジカルボン酸化合物、ジオール化合物、ジイソシアネート化合物から官能基（カルボキシ基、水酸基、イソシアネート基）部分を除去した部分である。例えば、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基や、これらが組み合わさった基、さらには、これらにヘテロ原子が介在する基、例えば、−アリーレン−Ｏ−アリーレン−、アリーレン−Ｓ−アリーレン−、−アリーレン−ＳＯ２−アリーレン−などが挙げられる。なお、ジイソシアネート化合物から得られる２価の基としては、３−イソシアナトメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネートから、イソシアネート基を除いた２価の基も好ましい。
【００８３】
Ｅ１〜Ｅ３における２価の連結基は、アルキレン基、アリーレン基がなかでも好ましい。
アルキレン基の炭素数は、２〜１０が好ましく、例えば、エチレン、プロピレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレンが挙げられる。アリーレン基の炭素数は、６〜２０が好ましく、例えば、フェニレン、ナフチレンが挙げられ、フェニレンが好ましい。
【００８４】
Ｌ、Ｌａ１、Ｌａ２、Ｌｂ１、Ｌｂ２、Ｌｃ１およびＬｃ２における２価の連結基や、Ｅ１〜Ｅ３における２価の連結基は、置換基を有してもよく、このような置換基としては置換基Ｓで挙げられた基が挙げられる。
【００８５】
本発明において、Ｗ１は、環構造αまたはβで表される部分構造における１価の基が好ましく、一般式（１）または（２）で表される部分構造における１価の基がより好ましい。Ｗ２は、前記環構造αまたはβで表される部分構造における２価の基が好ましく、環構造βで表される部分構造における２価の基がより好ましく、一般式（２）で表される部分構造における２価の基がさらに好ましい。
なお、上記環構造αで表される部分構造における１価の基とは、環構造αにおいて、＊が付与されている窒素原子、＊が付与されている炭素原子または＊が付与されている酸素原子が結合手となる基であって、本発明の重合体における側鎖部分の一部を構成する連結基を意味する。環構造βで表される部分構造における１価の基とは、環構造βにおいて、＊が付与されている窒素原子または＊が付与されている炭素原子が結合手となる基であって、本発明の重合体における側鎖部分の一部を構成する連結基を意味する。
一般式（１）または（２）で表される部分構造における１価の基とは、一般式（１）においてはＲ１ａ〜Ｒ４ａの１つが結合手となる基、一般式（２）においてはＲ２ａ〜Ｒ４ａの１つが結合手となる基であって、本発明の重合体における側鎖部分の一部を構成する基を意味する。
また、上記環構造αまたはβで表される部分構造における２価の基とは、環構造αまたはβ中において＊が付与されている窒素原子および＊が付与されている炭素原子から選択される２つの原子が結合手となる連結基であって、本発明の重合体における主鎖部分の一部を構成する連結基を意味する。
一般式（１）または（２）で表される部分構造における２価の基とは、一般式（１）においてはＲ２ａ〜Ｒ４ａのうちの２つが結合手となる基、一般式（２）においてはＲ２ａ〜Ｒ４ａのうちの２つが結合手となる基であって、本発明の重合体における主鎖部分の一部を構成する連結基を意味する。
【００８６】
本発明の重合体は、下記一般式（Ｐａ１）で表される繰り返し単位を有する重合体がなかでも好ましい。
【００８７】
【化１１】
0006274673.tif 000012
【００８８】
一般式（Ｐａ１）において、Ｒ、ＧおよびＬは、一般式（Ｐａ）におけるＲ、ＧおよびＬと同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｌ１、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａは、一般式（１）におけるＬ１、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａと同義であり、好ましい範囲も同じである。
【００８９】
ここで、Ｌは、一般式（Ｐａ）におけるＬの２価の連結基が好ましいが、なかでも、＊−Ｌｄ−〔Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−または＊−Ｌｄ−〔−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−を含む連結基が好ましく、＊−Ｌｄ−〔Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−または＊−Ｌｄ−〔−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）〕ｎ−がより好ましい。ここで、Ｌｄは単結合または２価の連結基であり、ｎは０または１であり、＊側がＧと結合する結合手である。
Ｌｄも、一般式（Ｐａ）におけるＬの２価の連結基で具体的に示した基が好ましい。
【００９０】
一般式（Ｐａ１）で表される繰り返し単位は、下記一般式（Ｐａ１−１）〜（Ｐａ１−９）のいずれかで表される繰り返し単位が好ましい。
【００９１】
【化１２】
0006274673.tif 000013
【００９２】
一般式（Ｐａ１−１）〜（Ｐａ１−９）において、Ｗ１ａは一般式（Ｐｘ）で表される基を表す。Ｒは一般式（Ｐａ１）におけるＲと同義であり、好ましい範囲も同じである。ｐは１〜３０の整数を表す。ｐは１〜２０の整数が好ましく、１〜８の整数がより好ましい。
一般式（Ｐｘ）において、Ｌ１、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａは、一般式（Ｐａ１）におけるＬ１、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ４ａと同義であり、好ましい範囲も同じである。
【００９３】
以下に、一般式（Ｐｘ）で表される基の具体例を示すが、これによって、本発明が限定されるものではない。なお、下記例において、Ｐｈはフェニルを表し、ｃＨｅｘはシクロヘキシルを表す。
【００９４】
【化１３】
0006274673.tif 000014
【００９５】
本発明の重合体は、上記の環構造αもしくはβ、または、一般式（１）もしくは（２）で表される部分構造を有する繰り返し単位のみの単独重合体であっても、共重合体であっても構わない。
【００９６】
このような共重合部分を構成する繰り返し単位を得るための共重合モノマーとしては、本発明の重合体が、ポリ（メタ）アクリレート、置換ポリスチレン、ポリビニルアシレートまたはポリマレイミドである場合、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸アミド〔特に、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルスルホン酸〕、アクリロニトリル、ビニルスルホン酸、スチレン、ｐ−メチルスチレン、スチレンスルホン酸、スチレンカルボン酸、ビニルアルコール、酢酸ビニル、塩化ビニル、アリルアルコール、オレフィン（例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン）、ブタジエン、クロロプレンなどのエチレン性不飽和二重結合を有する化合物が挙げられる。なお、上記のうち酸基は、塩であっても構わない。このような塩としては、アルカリ金属塩、アンモニウムのようなオニウムイオンとの塩であっても構わないが、アルカリ金属塩が好ましく、カリウム塩、ナトリウム塩がより好ましい。
これらの共重合モノマーうち、酸基を有するモノマーが好ましく、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、スチレンカルボン酸、ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルスルホン酸がなかでも好ましく、（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
【００９７】
本発明の重合体がポリエステル、ポリカーボネートまたはポリウレタンである場合、共重合モノマーとしては、ジカルボン酸化合物、ジオール化合物、ヒドロキシカルボン酸化合物、ジイソシアネート化合物が好ましい。
このような化合物としては、下記一般式（ｃ１）〜（ｃ４）で表される。
【００９８】
【化１４】
0006274673.tif 000015
【００９９】
一般式（ｃ１）〜（ｃ４）において、Ｅ１〜Ｅ４は各々独立に２価の連結基を表す。
【０１００】
Ｅ１〜Ｅ３は一般式（Ｐｂ）、（Ｐｃ）、（Ｐｆ）および（Ｐｇ）におけるＥ１〜Ｅ３と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｅ４は、Ｅ１〜Ｅ３と同義であり、好ましい範囲も同じである。
【０１０１】
一般式（ｃ１）で表される化合物は、例えば、マロン酸、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸または１，４−シクロヘキサンジカルボン酸などの脂肪族ジカルボン酸、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，８−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸が挙げられる。
【０１０２】
一般式（ｃ２）で表される化合物は、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロ−ルペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、ピナコール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ビスフェノール化合物（例えば、ビスフェノールＡ、ＡＰ、ＡＦ、Ｂ、ＢＰ、Ｃ、Ｅ、ＦＧ、Ｍ、Ｓ、Ｐ、ＰＨ、ＴＭＧ、Ｚ）などが挙げられる。
【０１０３】
一般式（ｃ３）で表される化合物は、芳香族ジイソシアネート化合物としては、例えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネートの二量体、２，６−トリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシアネート、３，３’−ジメチルビフェニル−４，４’−ジイソシアネートが挙げられる。脂肪族ジイソシアネート化合物としては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネートが挙げられる。脂環族ジイソシアネート化合物としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、メチルシクロヘキサン−２，４−（もしくは２，６−）ジイソシアネート、１，３−（イソシアネートメチル）シクロヘキサンが挙げられる。これ以外に、１，３−ブチレングリコール１モルとトリレンジイソシアネート２モルとの付加体等のジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物も挙げられる。
【０１０４】
一般式（ｃ４）で表される化合物は、例えば、乳酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、ヒドロキシ酢酸、３−ヒドロキシ酪酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｐ−（２−ヒドロキシエトキシ）安息香酸、４−ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオン酸、２，２−ビス（２−ヒドロキシエチル）プロピオン酸、２，２−ビス（３−ヒドロキシプロピル）プロピオン酸、ビス（ヒドロキシメチル）酢酸、ビス（４−ヒドロキシフェニル）酢酸、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）酪酸、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン酸、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルグリシン、Ｎ，Ｎ―ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−カルボキシ−プロピオンアミドが挙げられる。
また、一般式（ｃ４）で表される化合物の環状ラクトンも好ましく、例えば、ε−カプロラクトン、δ−バレロラクトン、γ−ブチロラクトン、β−プロピオラクトンが挙げられる。
【０１０５】
なお、これらは、一般式（Ｐｂ）、（Ｐｃ）、（Ｐｆ）および（Ｐｇ）におけるＥ１〜Ｅ３を構成するものと同義であり、これらがそのまま適用される。
【０１０６】
本発明において、共重合成分（共重合モノマー）を含む場合、上記の環構造αもしくはβ、または、一般式（１）もしくは（２）で表される部分構造を有する繰り返し単位と共重合成分のモル比は、９９：１〜１：９９が好ましく、９５：５〜５：９５がより好ましい。
【０１０７】
本発明の重合体は、質量平均分子量が、１，０００以上であることが好ましく、１，０００〜１００，０００であることがより好ましく、２，０００〜１００，０００であることがさらに好ましく、３，０００〜５０，０００であることが特に好ましい。
【０１０８】
なお、本発明において、質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（例えば、東ソー株式会社製、商品名：ＨＬＣ−８０２０／カラム４本：東ソー株式会社製、商品名：ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ２０００）を用い、ポリスチレン換算して求めた値である。
【０１０９】
重合体の質量平均分子量が、高いほど、本発明の偏光板用組成物でフィルムに形成した場合、本発明の重合体を特定の層または表面側に局在させることが可能となる。この場合の質量平均分子量は、５，０００〜１００，０００が好ましい。
一方、本発明の重合体を偏光子（層）に含有させる場合は、偏光子の製造段階で、偏光子を構成する樹脂中に、本発明の偏光板用組成物を直接加えてもよいが、偏光子を作製した段階で、本発明の偏光板用組成物（好ましくはその溶液）を塗布して、偏光子中に本発明の重合体を拡散させるのが好ましい。この場合、本発明の重合体は、水溶性基、例えば、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基を有する構造（好ましくは、共重合成分で付与）を有するものが好ましく、また、質量平均分子量は１，０００〜２０，０００が好ましい。
【０１１０】
なお、本発明の重合体による作用効果の詳細なメカニズムは定かではないが、ヨウ素とポリビニルアルコールまたはそのアシル化もしくはケタール化体との錯体（ヨウ素ＰＶＡ錯体）の安定化に寄与していると推定される。
このため、本発明の重合体を偏光子（層）近傍に存在させることで、本発明の重合体が偏光子（層）中のヨウ素ＰＶＡ錯体を安定化させ、より効果的に偏光子耐久性改良効果に寄与すると推定される。本発明の重合体のうち、一般式（１）で表される部分構造を有する重合体は、例えば、経時によりこの部分構造を分子外に放出し、より効果的に長期に渡る耐久性を向上させることができると考えている。
本発明の重合体を偏光子（層）近傍に局在させる方法等は後述する。
少量添加で耐久性を良化できる理由は、上記の通り、本発明の重合体は偏光子（層）近傍に局在することにより、効率的に効果を発揮できるためと推定される。
また、長期に渡る耐久性が向上する理由は、本発明の重合体は偏光子（層）近傍に局在し、長期に渡り他層へ拡散することがないためと推定される。
さらに、このほかに、本発明の重合体が偏光子（層）近傍に高密度に存在する場合は、偏光子層への水の浸入や、偏光子層中のホウ酸やポリヨウ素錯体の他層への流出を抑制する効果もあると推定される。
【０１１１】
以下に、本発明の重合体の具体例を示すが、これによって、本発明が限定されるものではない。
なお、ａ／ｂはモル比である。
【０１１２】
【化１５】
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【０１１３】
【化１６】
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【０１１４】
【化１７】
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【０１１５】
【化１８】
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【０１１６】
【化１９】
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【０１１７】
【化２０】
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【０１１８】
【化２１】
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【化２２】
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【０１１９】
本発明の重合体の合成方法は、環構造α、βを含むモノマーを合成した後に、このモノマーを重合させることで重合体を得る方法、または、高分子反応を利用する方法がある。いずれも公知の合成方法を用いることができる。
【０１２０】
本発明の偏光板用組成物は、本発明の重合体以外に各種の素材を含んでいてもよい。
このうち、下記一般式（Ａ）で表される化合物を含有することが好ましい。
一般式（Ａ）で表される化合物と併用することで、本発明の効果がさらに高まる。これに加えて偏光子の光に対する耐久性も高まる。
【０１２１】
【化２３】
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【０１２２】
一般式（Ａ）において、ＲＡ１およびＲＡ３は各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基または芳香族基を表す。ここで、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基および芳香族基は置換基を有してもよい。ＲＡ５は、水素原子または置換基を表す。
【０１２３】
一般式（Ａ）で表される化合物は、環構造中の水素原子が、隣接する環構造中のカルボニルとエノール化や、ＲＡ１、ＲＡ３が水素原子の場合にイミド酸化した構造の互変異性体もしくはその塩を含む。
【０１２４】
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５におけるアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜５がさらに好ましく、１〜３が特に好ましく、なかでもメチルまたはエチルが好ましい。ただし、環構造を有する基が置換したアルキル基の場合、その炭素数は、７〜２０が好ましく、７〜１２がより好ましく、７〜１０がさらに好ましい。環構造を有するアルキル基における環構造は、芳香族環（芳香族複素環を含む）であっても脂肪族環であってもよいが、芳香族炭化水素環または脂肪族環であることが好ましい。環構造を有するアルキル基の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基が挙げられ、ベンジル基が特に好ましい。
【０１２５】
ＲＡ１およびＲＡ３におけるシクロアルキル基の炭素数は、３〜２０が好ましく、３〜１０がより好ましく、４〜８がさらに好ましく、５または６が特に好ましい。シクロアルキル基の具体例として、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロへキシルが挙げられ、シクロヘキシルが特に好ましい。
【０１２６】
ＲＡ１およびＲＡ３におけるアルケニル基の炭素数は、２〜２０が好ましく、２〜１０がより好ましく、２〜５がさらに好ましい。例えば、ビニル、アリルが挙げられる。
【０１２７】
ＲＡ１およびＲＡ３における芳香族基は、芳香族炭化水素基であっても芳香族複素環基であってもよいが、芳香族炭化水素基が好ましい。
芳香族炭化水素基の炭素数は、６〜２０が好ましく、６〜１６がより好ましく、６〜１２がさらに好ましい。芳香族炭化水素基としては、フェニル、ナフチルが好ましく、フェニルがより好ましい。
芳香族複素環基としては、５または６員環が好ましく、ベンゼン環やヘテロ環が縮環していてもよい。芳香族複素環基の複素環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が好ましく、炭素数は０〜２０が好ましく、１〜１６がより好ましく、３〜１２がさらに好ましい。このようなヘテロ環としては、例えば、ピロール環、チオフェン環、フラン環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、インドール環が挙げられる。
【０１２８】
ＲＡ５における置換基は、置換基Ｓで挙げられた基が挙げられるが、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シアノ基、水溶性基が好ましい。
ここで、水溶性基は、化合物の水への溶解性を高める基であり、アニオンまたはカチオンの基、もしくは解離してアニオン化できる基（例えば、ｐＫａが、１０以下が好ましい。）である。
このような基としては、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、リン酸基もしくはその塩、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、オニオ基（好ましくは、アンモニオ基）、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ２ＮＨ−ＳＯ２Ｒ：Ｒはアルキルもしくはアリールを示す。）、活性メチンもしくはメチレン構造を有する基が挙げられる。
【０１２９】
なお、ヒドロキシ基、メルカプト基、アミノ基、スルホンアミド基、アシルスルファモイル基、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基、活性メチンもしくはメチレン構造を有する基は塩の状態のものをも含む。
【０１３０】
ＲＡ５は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ホルミル基、アシル基が好ましい。
【０１３１】
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基である場合、これらが有してもよい置換基は、置換基Ｓで挙げられた基が挙げられ、なかでも、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シリル基、水溶性基が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、シリル基、水溶性基がより好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、アシル基、ヒドロキシ基、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、ボロン酸基もしくはその塩、カルバモイル基、スルファモイル基、オニオ基（好ましくは、第四級アンモニオ基を含むアンモニオ基）がさらに好ましい。
【０１３２】
一般式（Ａ）で表される化合物は、その使用目的にもよるが、好ましい範囲は、以下の２種類に大別される。
【０１３３】
第一の好ましい態様は、以下の置換基の組み合わせの化合物である。
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基または芳香族基であって、これらのアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基および芳香族基は置換基を有してもよく、好ましい置換基として、置換基Ｓで挙げられた基のうち、上記の水溶性基以外の置換基を有する化合物である。
上記の各基が有してもよい置換基は、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、芳香族基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アシル基、シリル基、ハロゲン原子がより好ましい。
【０１３４】
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５のいずれかが環構造を有する基が好ましく、環構造の数は１〜６が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜５がさらに好ましく、３〜５が特に好ましい。
このような環としては、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環が好ましく、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、ベンゼン環、ナフタレン環がより好ましく、シクロヘキサン環、ベンゼン環がさらに好ましい。
【０１３５】
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が、環状の基である場合、シクロアルキル基、アリール基が好ましく、ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が、環構造を有する基の場合、置換基として、置換基Ｓで挙げられた基のうち、シクロアルキル部分またはアリール部分を有する基が挙げられ、シクロアルキル基、アリール基を置換基として有する基が好ましく、特に、シクロアルキル置換アルキル基、アラルキル基が好ましく、ベンジル基が最も好ましい。
環状の基または環構造を有する基としては、なかでも、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基が好ましい。
【０１３６】
第一の態様の化合物の分子量は、２５０〜１２００が好ましく、３００〜８００がより好ましく、３５０〜６００が特に好ましい。
置換基の組み合わせ、分子量をこのような好ましい範囲にすることで、一般式（Ａ）で表される化合物が偏光板保護フィルムから揮散しにくくなって、偏光板保護フィルム中に保持することが可能となり、透明性の高いフィルムを得ることができる。
【０１３７】
第二の好ましい態様は、以下の置換基の組み合わせの化合物である。
この態様は、極性効果を利用するものであり、第一の態様とは逆に、拡散性も考慮するものである。
ＲＡ１およびＲＡ３が各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基または芳香族基であり、ＲＡ５が水素原子または置換基であって、かつ、１）ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５のいずれかが水溶性基もしくは水溶性基を含む基である化合物、２）分子量が１２８以上２５０未満である化合物、または／および、３）ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５のいずれか１つまたは２つが水素原子である化合物である。
【０１３８】
第二の態様の化合物の分子量は、１２８〜１２００が好ましく、１５０〜８００がより好ましい。
【０１３９】
以下に、一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。
また、特開２０１１−１１８１３５号公報、なかでも段落番号００３０〜００３３に記載の化合物、特開２０１１−１２６９６８号公報、なかでも段落番号００１７〜００２５に記載の化合物、国際公開第２０１４／０３４７０９号パンフレット、なかでも段落番号００２４〜００５０に記載の化合物、および特開２０１４−１９４５２９号公報、なかでも段落番号００１４〜００３７に記載の化合物も、本発明の重合体と組み合わせて使用することが好ましい。
下記に示すＰｈはフェニル基、ｃＨｅｘはシクロヘキシル、Ｂｕはブチル、ｃＣ５Ｈ１１はシクロペンチル、Ｃ６Ｈ４はフェニレンを表し、Ｃ６Ｈ４（ｐ−ＣＨ３）のような（  ）の基はフェニル基への置換基を表し、「ｐ−」は、ｐ位であることを示す。
また、＊は、結合手である。
【０１４０】
【化２４】
0006274673.tif 000025
【０１４１】
【化２５】
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【０１４２】
【化２６】
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【０１４３】
【化２７】
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【０１４４】
【化２８】
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【０１４５】
一般式（Ａ）で表される化合物は、尿素誘導体とマロン酸誘導体とを縮合させるバルビツール酸の合成法を用いて合成できることが知られている。窒素原子上に置換基を２つ有するバルビツール酸は、Ｎ，Ｎ’−二置換型尿素とマロン酸クロリドを加熱するか、マロン酸と無水酢酸などの活性化剤とを組み合わせて加熱することにより得られ、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，第６１巻，１０１５頁（１９３９年）、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５４巻，２４０９頁（２０１１年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４０巻，８０２９頁（１９９９年）、国際公開第２００７／１５００１１号パンフレットなどに記載の方法を好ましく用いることができる。
また、縮合に用いるマロン酸は、無置換のものでも置換基を有するものでもよく、ＲＡ５に相当する置換基を有するマロン酸を用いれば、バルビツール酸を構築することにより、一般式（Ａ）で表される化合物を合成することができる。また、無置換のマロン酸と尿素誘導体を縮合させると５位が無置換のバルビツール酸が得られるので、これを修飾することにより、一般式（Ａ）で表される化合物を合成してもよい。
【０１４６】
５位の修飾の方法としては、ハロゲン化アルキルなどとの求核置換反応やマイケル付加反応のような付加反応を用いることができる。また、アルデヒドやケトンと脱水縮合させてアルキリデンまたはアリーリデン化合物を生成させ、その後二重結合を還元する方法も好ましく用いることができる。例えば、亜鉛による還元方法がＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４４巻，２２０３頁（２００３年）に、接触還元による還元方法がＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４２巻，４１０３頁（２００１年）やＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，第１１９巻，１２８４９頁（１９９７年）に、ＮａＢＨ４による還元方法がＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，第２８巻，４１７３頁（１９８７年）などにそれぞれ記載されている。これらはいずれも、５位にアラルキル基を有する場合やシクロアルキル基を有する場合に好ましく用いることができる合成方法である。
なお、一般式（Ａ）で表される化合物の合成法は上記に限定されるものではない。
【０１４７】
本発明の偏光板用組成物は、本発明の重合体、および必要により併用される一般式（Ａ）で表される化合物を含有するものであるが、本発明は、さらに樹脂を含有することが特に好ましい。
本発明の重合体の含有量は、（本発明の偏光板用組成物中の、または、本発明の偏光板用組成物が添加される被添加物中の）樹脂１００質量部に対し、０．０１〜４０質量部が好ましい。
【０１４８】
本発明の重合体と一般式（Ａ）で表される化合物の含有量の比率は、本発明の重合体１００質量部に対し、一般式（Ａ）で表される化合物１〜１００００質量部が好ましい。
また、本発明の重合体と一般式（Ａ）で表される化合物の合計の含有量は、樹脂１００質量部に対し、０．０１〜４０質量部が好ましい。
なお、本発明の重合体を２種類以上併用していてもその合計が上記範囲であればよい。
【０１４９】
ここで、置換基Ｓについて説明する。
置換基Ｓは、以下の置換基を含むものである。
【０１５０】
〔置換基Ｓ〕
置換基Ｓとしては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘプチル、１−エチルペンチル、２−エチルヘキシル、ベンジル、２−エトキシエチル、１−カルボキシメチル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、ビニル、アリル、オレイル等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エチニル、２−プロピニル、２−ブチニル、フェニルエチニル等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３〜２０で、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２０で、例えば、フェニル、１−ナフチル、４−メトキシフェニル、２−クロロフェニル、３−メチルフェニル等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０〜２０のヘテロ環基で、環構成ヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子が好ましく、５員環または６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、この環は飽和環、不飽和環、芳香環であってもよく、例えば、２−ピリジル、４−ピリジル、２−イミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、２−チアゾリル、２−オキサゾリル等）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０で、例えば、フェノキシ、１−ナフチルオキシ、３−メチルフェノキシ、４−メトキシフェノキシ等）、
【０１５１】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、ベンジルチオ等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０で、例えば、フェニルチオ、１−ナフチルチオ、３−メチルフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ等）、ホルミル基、アシル基（アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチル、ピバロイル、アクリロイル、メタクロリイル、ベンゾイル、ニコチノイル等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エトキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０で、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等）、アミノ基（アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、アニリノ、１−ピロリジニル、ピペリジノ、モルホニル等）、アルキルもしくはアリールのスルホンアミド基（好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホンアミド、Ｎ−フェニルスルホンアミド等）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０で、−ＳＯ２ＮＨ２またはアルキルもしくはアリールのスルファモイル基が好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、カルバモイル基〔好ましくは炭素数１〜２０で、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ２またはアルキルもしくはアリールのカルバモイル基が好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等〕、
【０１５２】
アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルアミノ、アクリロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ニコチンアミド等）、チオアシル基、アルコキシチオカルボニル基、アリールオキシチオカルボニル基、チオカルバモイル基〔これらの好ましい範囲および具体例は、対応するアシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基のＣ（＝Ｏ）部分を（Ｃ＝Ｓ）に置き換えたのみ異なるものが挙げられる〕、シリル基（炭素数３〜２０が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはアリールオキシが置換したシリル基がより好ましく、トリアルキルシリル基、トリアルコキシシリル基がさらに好ましく、例えば、トリメチルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリメトキシシリル、トリエトキシシリル等）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アシルスルファモイル基（アルキルカルボニルスルファモイル基、アルケニルカルボニルスルファモイル基、アリールカルボニルスルファモイル基、ヘテロ環カルボニルスルファモイル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチルスルファモイル、ピバロイルスルファモイル、アクリロイルスルファモイル、メタクリロイルスルファモイル、ベンゾイルスルファモイル、ニコチノイルスルファモイル等）、アルキルもしくはアリールのスルホニルスルファモイル基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メチルスルホニルスルファモイル、エチルスルホニルスルファモイル、フェニルスルホニルスルファモイル、トリルスルホニルスルファモイル等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基もしくはそのアニオン、メルカプト基もしくはそのアニオン、スルホ基もしくはその塩、カルボキシ基もしくはその塩、リン酸基もしくはその塩、ボロン酸基もしくはその塩、ボロン酸エステル基、オニオ基（例えば、スルホニウム塩のスルホニオ基、アンモニウム塩のアンモニオ基、ヨードニウム塩のヨードニオ基、ホスホニウム塩のホスホニオ基）が挙げられる。
【０１５３】
これらの置換基はさらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては上記置換基Ｓで挙げられた基が挙げられる。
例えば、アルキル基にアリール基が置換したアラルキル基（例えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル）、アルキル基にアルコキシカルボニル基やシアノ基が置換した基（例えば、ベンゾイルメチル）、アルキル基にフッ素原子が置換したトリフルオロメチルのようなパーフルオロアルキル基、アリール基に上記の置換基Ｓで挙げられた基が置換した置換アリール基などが挙げられる。また、活性メチンもしくは活性メチレン構造を有する基（電子求引性基が置換したアルキル基、電子求引性基にメチンもしくはメチレンが結合した部分を有する基または電子求引性基に挟まれたメチンもしくはメチレン部を有する基）も好ましく挙げられる。
【０１５４】
＜樹脂＞
本発明の偏光板用組成物は、偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層に使用するのが好ましい。
偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層は、樹脂成分から構成されており、本発明の偏光板用組成物は樹脂成分を含むことが好ましい。
樹脂成分は、本発明の偏光板用組成物を使用する目的、用途によって異なる。
例えば、偏光板保護フィルムでは疎水性樹脂が、接着剤層では樹脂成分からなる水溶性接着剤が、偏光子ではポリビニルアルコール系樹脂（ポリビニルアルコール、アシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコール等で、ＰＶＡとも称す。）が使用される。
本発明の偏光板用組成物に含まれる樹脂成分は、セルロースアシレート樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステルカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアクリレート系樹脂やポリメタクリレート系樹脂のようなアクリル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリビニルアルコールまたはアシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコールを含むポリビニルアルコール系樹脂が好ましく、セルロースアシレート樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂がさらに好ましい。
【０１５５】
以下、本発明の偏光板用組成物を、好ましく使用される偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層別に、説明する。なお、偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層は、本発明の偏光板用組成物で形成もしくは製造されるか、または本発明の偏光板用組成物からなるものである。従って、以下に説明する偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層は、本発明の偏光板用組成物（偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層の各組成物）と置き換えることができる。
【０１５６】
［［偏光板保護フィルム］］
偏光板保護フィルムは単層の形態であっても、複数の層の積層体の形態のいずれの形態でもよい。
偏光板保護フィルムが２層以上の積層体である場合は、２層構造または３層構造が好ましく、３層構造がより好ましい。３層構造の場合は、１層のコア層（すなわち、最も厚い層であり、以下、基層とも言う。）と、コア層を挟むスキン層Ａおよびスキン層Ｂとを有することが好ましい。本発明では、スキン層Ｂ／コア層／スキン層Ａの３層構造が好ましい。スキン層Ａは、偏光板保護フィルムが溶液製膜で製造される際に、金属支持体と接する層であり、スキン層Ｂは金属支持体とは逆側の空気界面の層である。なお、スキン層Ａとスキン層Ｂを総称してスキン層（または表層）とも言う。
【０１５７】
本発明においては、本発明の偏光板用組成物で形成する偏光板保護フィルムは、２層以上の積層体である場合に、高温高湿下での偏光子の耐久性、さらには偏光子の光に対する耐久性を、少量で効果的に、発現させることができる。
偏光板保護フィルムは、偏光子に貼り合わせられることから、積層構造の偏光板保護フィルムの場合、偏光子に近い層（２層である場合、いずれか一方の層）のみを本発明の偏光板用組成物で形成することで、本発明の重合体を局在させることが可能となる。
本発明では、さらに少量で効果を発現させるためには、３層以上の積層構造が好ましく、偏光板保護フィルムの最表層、特に偏光子に近い層（上記のスキン層Ａ）のみを本発明の偏光板用組成物で形成することが好ましい。これにより、最表層に本発明の重合体を含有させることが可能となる。
特に、偏光板保護フィルムが、セルロースアシレートフィルムの場合、高温高湿下での偏光子の耐久性、さらには偏光子の光に対する耐久性を、効果的に向上させることができる。
【０１５８】
偏光板保護フィルムの樹脂は、セルロースエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステルカーボネート系樹樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアクリレート系樹脂やポリメタクリレート系樹脂のようなアクリル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、オレフィンマレイミド系樹脂やグルタルイミド系樹脂などのイミド系樹脂を挙げることができ、これらを単独または混合して用いることができる。上記樹脂のなかでも、分子の配向による複屈折、および、光弾性係数の比較的小さい、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、イミド系樹脂が好ましく、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂がより好ましく、セルロースエステル系樹脂、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂がさらに好ましく、セルロースエステル系樹脂が特に好ましい。
【０１５９】
偏光板保護フィルム中の本発明の重合体の含有量または組成物中への添加量は、特に限定されないが、偏光板保護フィルムを構成する樹脂、または、積層構造の場合は適用する層を構成する樹脂１００質量部に対して、０．０１〜４０質量部が好ましく、０．０１〜３０質量部がより好ましく、０．１〜３０質量部が特に好ましい。このような含有量とすることで、本発明の効果である高温高湿下での偏光子の耐久性が優れたものとなる。また、フィルムの着色抑制が十分に発現でき、さらにフィルムの透明性も維持される。
また、本発明の重合体を２種類以上含有させる場合も、また一般式（Ａ）で表される化合物と併用する場合も、その合計量が、上記の範囲内であることが好ましい。
【０１６０】
以下に、ポリアクリレート系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂およびセルロースエステル系樹脂であるセルロースアシレート樹脂（単にセルロースアシレートともいう）を説明する。
【０１６１】
［アクリル系樹脂］
本明細書では、「アクリル系樹脂」には、アクリル系樹脂だけでなく、メタクリル系樹脂をも包含するものである。従って、以降、「アクリル系樹脂」を「（メタ）アクリル系樹脂」とも記載する。
本発明の偏光板保護フィルムは、（メタ）アクリル系樹脂を主成分として含むことが好ましい態様の一つである。
ここで、主成分とは、偏光板保護フィルムに含有される成分のうち、最も含有質量比が大きい成分を指す。偏光板保護フィルム中の（メタ）アクリル系樹脂の含有率は、１０〜９９．９９質量％が好ましく、２０〜９９．９９質量％がより好ましく、３０〜９９．９９質量％がさらに好ましい。
【０１６２】
（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル系単量体を重合して得られるが、（メタ）アクリル系単量体以外の単量体から得られる構造単位を含んでいてもよい。（メタ）アクリル系樹脂は、なかでも、紫外線吸収性単量体と（メタ）アクリル系単量体を含む単量体組成物を重合して得られるものが好ましい。
紫外線吸収性単量体は、ベンゾフェノン系紫外線吸収性単量体、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性単量体が好ましく、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収性単量体がより好ましい。
紫外線吸収性単量体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６３】
上記（メタ）アクリル系単量体としては、本発明の効果を損なわない範囲内で、任意の適切な（メタ）アクリル系単量体を採用し得る。例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。好ましくは、（メタ）アクリル酸の炭素数１〜６のアルキルエステルであり、より好ましくは、メタクリル酸メチルである。
（メタ）アクリル系単量体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１６４】
上記（メタ）アクリル系樹脂として、高い耐熱性、高い透明性、高い機械的強度を有する点で、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。
【０１６５】
ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報、特開２００６−１７１４６４号公報などに記載の、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂を製造する際の単量体組成物中に、さらに上記紫外線吸収性単量体が含まれている単量体組成物から製造される（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。
【０１６６】
（メタ）アクリル系樹脂の質量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１，０００以上２，０００，０００以下であり、より好ましくは５，０００以上１，０００，０００以下であり、さらに好ましくは１０，０００以上１，０００，０００以下である。
【０１６７】
［シクロオレフィン系樹脂］
本発明の偏光板保護フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を主成分として含むことが好ましい態様の一つである。偏光板保護フィルム中のシクロオレフィン系樹脂の含有量は、１０〜９９．９９質量％が好ましく、２０〜９９．９９質量％がより好ましく、３０〜９９．９９質量％がさらに好ましい。
シクロオレフィン系樹脂は、少なくとも１つの極性基を有するシクロオレフィン系樹脂が好ましく、偏光板保護フィルムにした場合、一定の透湿度を示すものが好ましい。
シクロオレフィン系樹脂に少なくとも１つの極性基を有することにより、ジクロロメタン等の有機溶剤への溶解性が向上し、溶液製膜を行うことが可能になる。溶液製膜は溶融製膜に比べて低い温度で製膜できるため、添加剤の分解や揮散が起きにくく好ましい。
極性基としては、例えば、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数２〜１０のアルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アミノ基、アシル基、炭素数１〜１０のアルコキシシリル基、スルホニル含有基、およびカルボキシ基など挙げられる。これらの極性基は、具体的には、アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキシ等が挙げられ、アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ、プロピオニルオキシ等のアルキルカルボニルオキシ基、およびベンゾイルオキシ等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル等が挙げられ、アリーロキシカルボニル基としては、例えばフェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル、フルオレニルオキシカルボニル、ビフェニリルオキシカルボニル等が挙げられ、トリオルガノシロキシ基としては、例えばトリメチルシロキシ、トリエチルシロキシ等が挙げられ、トリオルガノシリル基としては、トリメチルシリル、トリエチルシリル等が挙げられ、アミノ基としては、第１級アミノ基が挙げられ、アルコキシシリル基としては、例えばトリメトキシシリル、トリエトキシシリル等が挙げられる。
これらの中でも、アルコキシカルボニル基が好ましく、メトキシカルボニル基がより好ましい。
【０１６８】
シクロオレフィン系樹脂は、下記一般式（ＲＣ）で表される樹脂が好ましい。
【０１６９】
【化２９】
0006274673.tif 000030
【０１７０】
一般式（ＲＣ）において、ｔは０または１を表し、ｕは０または１以上の整数を表す。ＬＬはビニレン基またはエチレン基を表し、ＲＣ１〜ＲＣ４は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜３０の炭化水素基または極性基を表し、炭化水素基は、酸素原子、窒素原子、イオウ原子またはケイ素原子を有する連結基を介して結合していてもよい。ここで、ＲＣ１とＲＣ２またはＲＣ３とＲＣ４の２つが互いに結合して２価の炭化水素基を形成してもよく、炭素環またはヘテロ環を形成してもよい。複数のＬＬ、ＲＣ１、ＲＣ２、ＲＣ３およびＲＣ４の各々は同一であっても異なっていてもよい。ＲＣ１〜ＲＣ４の少なくとも１つは極性基であると溶液製膜適性向上の観点で好ましい。
【０１７１】
ｕは０〜２の整数が好ましく、０または１がより好ましい。
【０１７２】
ＲＣ１〜ＲＣ４におけるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子および臭素原子が挙げられる。
ＲＣ１〜ＲＣ４における炭素数１〜３０の炭化水素基は、例えば、メチル、エチル、プロピル等のアルキル基、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基、ビニル、アリル、プロペニル等のアルケニル基、フェニル、ビフェニル、ナフチル、アントラセニル等のアリール基等が挙げられる。これらの炭化水素基は置換されていてもよく、置換基としては例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、フェニルスルホニル基等が挙げられる。
【０１７３】
また、上記炭化水素基は直接環構造に結合していてもよく、あるいは連結基（ｌｉｎｋａｇｅ）を介して結合していてもよい。連結基としては、例えば、−（ＣＨ２）ｍｍ−（ｍｍは１〜１０の整数）で表されるアルキレン基等の炭素数１〜１０の２価の炭化水素基、酸素原子、窒素原子、イオウ原子またはケイ素を含む連結基が挙げられる。酸素原子、窒素原子、イオウ原子またはケイ素を含む連結基の具体例としては、カルボニル基［−Ｃ（＝Ｏ）−］、カルボニルオキシ基［−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−］、オキシカルボニル基［−ＯＣ（＝Ｏ）−］、スルホニル基［−ＳＯ２−］、エーテル結合［−Ｏ−］、チオエーテル結合［−Ｓ−］、イミノ基［−ＮＨ−］、アミド結合［−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−，−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−］、シロキサン結合［−ＯＳｉ（ＲＣＡ）２−（式中、ＲＣＡはメチル、エチル等のアルキル基）］、およびこれらの基が２種以上連結されてなる基などが挙げられる。
【０１７４】
ＲＣ１とＲＣ２またはＲＣ３とＲＣ４の２つが互いに結合して２価の炭化水素基、炭素環またはヘテロ環を形成してもよいが、形成していない方が好ましい。なお、形成される炭素環またはヘテロ環は、単環構造であっても多環構造であってもよく、炭素環やヘテロ環は芳香環であっても非芳香環であってもよいが、非芳香環の方が好ましい。
【０１７５】
シクロオレフィン系樹脂の合成法については、特開２００１−１１４８３６号公報の段落番号００３９〜００６８を参考に合成することができる。
【０１７６】
シクロオレフィン系樹脂は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で測定したガラス転移温度（Ｔｇ）が、７０℃以上が好ましく、より好ましくは９０℃〜１８５℃であり、さらに好ましくは１００〜１６５℃であり、特に１２０〜１６０℃が好ましい。
【０１７７】
シクロオレフィン系樹脂の質量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは８，０００〜２００，０００である。
シクロオレフィン系樹脂の飽和吸水率は１質量％以下が好ましく、より好ましくは０．８質量％以下である。
【０１７８】
シクロオレフィン系樹脂は、クロロホルム中、３０℃で測定される固有粘度（ηｉｎｈ）が、０．１〜１．５ｄｌ／ｇが好ましく、さらに好ましくは０．４〜１．２ｄｌ／ｇである。また、１３５℃のデカリン中で測定される極限粘度［η］が、０．０１〜２０ｄｌ／ｇが好ましく、より好ましくは０．０３〜１０ｄｌ／ｇ、さらに好ましくは０．０５〜５ｄｌ／ｇである。ＡＳＴＭ  Ｄ１２３８に準じて２６０℃、荷重２．１６ｋｇで測定した溶融流れ指数（ＭＦＲ）は、０．１〜２００ｇ／１０分が好ましく、より好ましくは１〜１００ｇ／１０分、さらに好ましく５〜５０ｇ／１０分である。
【０１７９】
さらに、シクロオレフィン系樹脂の軟化点は、サーマルメカニカルアナライザー（ＴＭＡ）で測定した軟化点において、３０℃以上が好ましく、好ましくは７０℃以上、さらに好ましくは８０〜２６０℃である。
【０１８０】
また、シクロオレフィン系樹脂は、水添重合体の水素添加率としては、６０ＭＨｚ、１Ｈ−ＮＭＲで測定した値が、５０％以上が好ましく、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以上である。水素添加率が高いほど、得られるシクロオレフィン系樹脂フィルムは、熱や光に対する安定性が優れたものとなる。また、水添重合体中に含まれるゲル含有量は５質量％以下が好ましく、さらに好ましくは１質量％以下である。
【０１８１】
シクロオレフィン系樹脂は、非晶性または低結晶性であることが好ましく、Ｘ線回折法によって測定される結晶化度が、２０％以下が好ましく、より好ましくは１０％以下、さらに好ましくは２％以下である。
【０１８２】
［ポリエステル系樹脂］
ポリエステル系樹脂は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレン−２，６−ナフタレート等を用いることができ、他の共重合成分を含んでいてもよい。
本発明の偏光板保護フィルムは、ポリエステル系樹脂を主成分として含むことが好ましい態様の一つであり、偏光板保護フィルム中のポリエステル系樹脂の含有量は、１０〜９９．９９質量％が好ましく、３０〜９９．９９質量％がより好ましく、７０〜９９．９９質量％がさらに好ましい。
【０１８３】
ポリエステル系樹脂は、透明性が高く、熱的、機械的特性に優れ、延伸加工によるレタデーションの制御が可能である。
なかでも、ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなレタデーションが得られる点で好ましい。
【０１８４】
ポリエステル系樹脂は、常法により、エステル交換反応やジカルボン酸とジオールの重縮合反応によって合成することができる。
【０１８５】
ポリエステルフィルムは、一般的なポリエステルフィルムの製造方法に従って製造することができる。例えば、ポリエステル樹脂を溶融し、シート状に押出し成形された無配向ポリエステルをガラス転移温度以上の温度において、ロールの速度差を利用して縦方向に延伸した後、テンターにより横方向に延伸し、熱処理を施す方法が挙げられる。
ポリエステルフィルムは、一軸延伸フィルムであっても、二軸延伸フィルムであっても構わない。
【０１８６】
ポリエステルフィルムの製膜において、縦延伸温度、横延伸温度は８０〜１３０℃が好ましく、特に好ましくは９０〜１２０℃である。縦延伸倍率は１．０〜３．５倍が好ましく、特に好ましくは１．０倍〜３．０倍である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、特に好ましくは３．０〜５．５倍である。レタデーションを上記範囲に制御するためには、縦延伸倍率と横延伸倍率の比率を制御することが好ましい。縦横の延伸倍率の差が小さすぎるとレタデーションを高くすることが難しくなり好ましくない。また、延伸温度を低く設定することもレタデーションを高くする上では好ましい対応である。続く熱処理においては、処理温度は１００〜２５０℃が好ましく、特に好ましくは１８０〜２４５℃である。
【０１８７】
ポリエステル系樹脂の数平均分子量は５，０００以上が好ましく、６，０００以上がより好ましく、１０，０００以上がさらに好ましい。また、ガラス転移温度は特に限定されないが、２０〜９０℃が好ましく、３０〜８０℃がより好ましい。なお、ポリエチレンテレフタレート樹脂の固有粘度は０．６２ｄｌ／ｇである。
【０１８８】
［セルロースアシレート］
本発明において、セルロースアシレートフィルムの主成分となるセルロースアシレートは、１種を用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。例えば、セルロースアシレートは、アシル置換基としてアセチル基のみからなるセルロースアセテートであっても、複数の異なったアシル置換基を有するセルロースアシレートを用いてもよく、異なったセルロースアシレートの混合物であってもよい。
【０１８９】
本発明で使用されるセルロースアシレートの原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、いずれの原料セルロースから得られるセルロースでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。原料セルロースは、例えば、丸澤、宇田著，「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」，日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。
【０１９０】
本発明では、セルロースアシレートのアシル基は、１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が同一のセルロース中に置換されていてもよい。本発明で使用されるセルロースアシレートは、炭素数２以上のアシル基を置換基として有することが好ましい。炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族のアシル基でも芳香族のアシル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基あるいは芳香族カルボニル基、芳香族アルキルカルボニル基などであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、イソブタノイル、ｔｅｒｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが挙げられる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔｅｒｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどがより好ましく、さらに好ましくはアセチル、プロピオニル、ブタノイルである。
【０１９１】
本発明で使用されるセルロースアシレートは、炭素数２〜４のアシル基を置換基として有することが好ましい。２種類以上のアシル基を用いるときは、そのうち１種類がアセチルであることが好ましく、その他に用いる炭素数２〜４のアシル基としてはプロピオニルまたはブチリルが好ましい。これらのセルロースアシレートを用いることにより溶解性の好ましい溶液が作製でき、特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低く、ろ過性のよい溶液の作製が可能となる。
【０１９２】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離のヒドロキシ基を有している。セルロースアシレートは、これらのヒドロキシ基の一部または全部をアシル基によりアシル化した重合体（ポリマー）である。
アシル置換度は、２位、３位および６位に位置するセルロースのヒドロキシ基のアシル化の度合いを示すものであり、全てのグルコース単位の２位、３位および６位のヒドロキシ基がいずれもアシル化された場合、総アシル置換度は３であり、例えば、全てのグルコース単位で、６位のみが全てアシル化された場合、総アシル置換度は１である。同様に、全グルコースの全ヒドロキシ基において、各々のグルコース単位で、６位か、２位のいずれか一方の全てがアシル化された場合も、総アシル置換度は１である。
すなわち、グルコース分子中の全ヒドロキシ基が全てアシル化された場合を３として、アシル化の度合いを示すものである。
アシル置換度の測定方法の詳細については、手塚他，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ．Ｒｅｓ．，２７３，８３−９１（１９９５）に記載の方法やＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法に準じて測定することができる。
【０１９３】
本発明で使用するセルロースアシレートの総アシル置換度をＡとすると、Ａは、１．５以上３．０以下（１．５≦Ａ≦３．０）が好ましく、２．００〜２．９７がより好ましく、２．５０以上２．９７未満がさらに好ましく、２．７０〜２．９５が特に好ましい。
【０１９４】
また、セルロースアシレートのアシル基としてアセチル基のみを用いたセルロースアセテートにおいては、総アセチル置換度をＢとすると、Ｂは、２．０以上３以下（２．０≦Ｂ≦３．０）が好ましく、２．０〜２．９７がより好ましく、２．５以上２．９７未満がさらに好ましく、２．５５以上２．９７未満がなかでも好ましく、２，６０〜２．９６が特に好ましく、２．７０〜２．９５が最も好ましい。
なお、本発明の重合体は、総アシル置換度であるＡが２．００を超えたセルロースアシレートに対して、特に効果が発現される。
【０１９５】
本発明の偏光板保護フィルムのセルロースアシレートフィルムが積層体（複層構成）である場合、セルロースアシレートフィルムは、各層中におけるセルロースアシレートのアシル基置換度は均一であっても、アシル基置換度やアシル基の異なる複数のセルロースアシレートを一つの層に混在させてもよい。
【０１９６】
セルロースのアシル化において、アシル化剤として、酸無水物や酸クロライドを用いた場合、反応溶媒である有機溶媒として、メチレンクロライドや有機酸、例えば、酢酸等が使用される。
【０１９７】
触媒としては、アシル化剤が酸無水物である場合には、硫酸のようなプロトン性触媒が好ましく用いられ、アシル化剤が酸クロライド（例えば、ＣＨ３ＣＨ２ＣＯＣｌ）である場合には、塩基性化合物が用いられる。
【０１９８】
最も一般的なセルロースの混合脂肪酸エステルの工業的合成方法は、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する脂肪酸（酢酸、プロピオン酸、吉草酸等）またはそれらの酸無水物を含む混合有機酸成分でアシル化する方法である。
【０１９９】
セルロースアシレートは、例えば、特開平１０−４５８０４号公報に記載されている方法により合成できる。
【０２００】
本発明の偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムは、全固形分中、セルロースアシレートを５〜９９質量％含むことが透湿度の観点から好ましく、２０〜９９質量％含むことがより好ましく、５０〜９５質量％含むことが特に好ましい。
【０２０１】
［添加剤］
本発明の偏光板保護フィルム中、本発明の重合体とともに、特にセルロースアシレートフィルム中には、レタデーション調整剤（レタデーション発現剤およびレタデーション低減剤）や、可塑剤として、重縮合エステル化合物（ポリマー）、多価アルコールの多価エステル、フタル酸エステル、リン酸エステル、糖エステルなど、さらには、紫外線吸収剤、ラジカル捕獲剤、劣化防止剤（酸化防止剤）、剥離促進剤、硬度向上剤、マット剤などの添加剤を加えることもできる。
なお、本明細書では、化合物群を標記するのに、例えば、リン酸エステル系化合物のように、「系」を組み込んで記載することがあるが、これは、上記の場合、リン酸エステル化合物と同じ意味である。
【０２０２】
レタデーション低減剤、レタデーション発現剤、可塑剤、多価アルコールエステル系や重縮合エステル系を含めた疎水化剤、炭水化合物誘導体系可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、マット剤は、特開２０１３−２８７８２号公報の段落番号００６１〜０１２６、国際公開第２０１４／０３４７０９号パンフレットの段落番号００６６〜０２１６に記載の化合物や素材が好ましく、その含有量も含めた記載内容全てが、本明細書の一部として好ましく取り込まれる。
【０２０３】
また、硬度向上剤は、アミド、ウレタン、ウレイド結合を複数有する化合物が好ましく、国際公開第２０１４／１３３０４１号パンフレットに記載の一般式（Ｉ）または一般式（Ａ−１００）で表される化合物、および特開２０１３−１２７０５８号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。本明細書では、国際公開第２０１４／１３３０４１号パンフレットの段落番号００６５〜０２５６および特開２０１３−１２７０５８号公報の段落番号００９４〜０１１６を好ましく取り込むことができる。
【０２０４】
（ラジカル捕捉剤）
偏光板保護フィルムには、ラジカル捕捉剤を含むことが好ましい。ラジカル捕捉剤として、ＨＡＬＳ類、レダクトン類が好ましく用いられる。
ＨＡＬＳ類は、特に、２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン環を有する化合物が好ましく、ピペリジンの１位が、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、オキシラジカル基（−Ｏ・）、アシルオキシ基、アシル基であるものが好ましく、４位は水素原子、ヒドロキシ基、アシルオキシ基、置換基を有してもよいアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基であるものがより好ましい。また分子中に２〜５個の２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン環を有するものも好ましい。
このような化合物としては、例えば、Ｓｕｎｌｉｚｅｒ  ＨＡ−６２２（商品名、株式会社ソート製）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ  ２０２０ＦＤＬ、ＴＩＮＵＶＩＮ  ７７０ＤＦ、ＴＩＮＵＶＩＮ  １５２、ＴＩＮＵＶＩＮ  １２３、ＦＬＡＭＥＳＴＡＢ  ＮＯＲ  １１６  ＦＦ〔商品名、いずれもＢＡＳＦ社（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社）製〕、サイアソーブＵＶ−３３４６、サイアソーブＵＶ−３５２９（商品名、いずれもサンケミカル株式会社製）が挙げられる。
【０２０５】
レダクトン類としては、特開平６−２７５９９号公報の段落番号００１４〜００３４に例示の化合物、特開平６−１１０１６３号公報の段落番号００１２〜００２０に例示の化合物、特開平８−１１４８９９号公報の段落番号００２２〜００３１に例示の化合物を挙げることができる。
また、アスコルビン酸、エリソルビン酸の油溶化誘導体は、本発明において好ましく用いることができ、ステアリン酸Ｌ−アスコルビルエステル、テトライソパルミチン酸Ｌ−アスコルビルエステル、パルミチン酸Ｌ−アスコルビルエステル、パルミチン酸エリソルビルエステル、テトライソパルミチン酸エリソルビルエステルなどが挙げられる。なかでも、アスコルビン酸骨格を有するものが好ましく、Ｌ−アスコルビン酸のミリスチン酸エステル、パルミチン酸エステル、ステアリン酸エステルが特に好ましい。
偏光板保護フィルム中のラジカル捕捉剤の含有量は、偏光板保護フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、０．００１〜２．０質量部が好ましく、０．０１〜１．０質量部がより好ましい。
【０２０６】
（劣化防止剤）
偏光板保護フィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。また、紫外線吸収剤も劣化防止剤の１つである。これらの劣化防止剤などは、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号、特開２００６−２５１７４６号の各公報に記載されているものが好ましい。
【０２０７】
上記のラジカル補足剤も劣化防止作用を示すが、アミン類も劣化防止剤として知られており、例えば特開平５−１９４７８９号公報の段落番号０００９〜００８０に記載の化合物や、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリイソオクチルアミン、トリス（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルドデシルアミンなどの脂肪族アミンが挙げられる。
また、２個以上のアミノ基を有する多価アミン類を用いることも好ましく、多価アミンとしては、第一級または第二級のアミノ基を２個以上有しているものが好ましい。２個以上のアミノ基を有する化合物としては、含窒素ヘテロ環化合物（ピラゾリジン環、ピペラジン環などを有する化合物）、ポリアミン系化合物（鎖状もしくは環状のポリアミンで、例えば、ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（アミノエチル）−１，３−プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”−ペンタキス（２−ヒドロキシプロピル）ジエチレントリアミン、ポリエチレンイミン、変性ポリエチレンイミン、シクラムを基本骨格して含む化合物）等が挙げられる。
偏光板保護フィルム中の劣化防止剤の含有量は、質量ベースで１ｐｐｍ〜１０％が好ましく、１ｐｐｍ〜５．０％がより好ましく、１０ｐｐｍ〜１．０％がさらに好ましい。
【０２０８】
（剥離促進剤）
偏光板保護フィルムは公知の剥離促進剤を添加してもよい。
剥離促進剤は、有機酸、多価カルボン酸誘導体、界面活性剤またはキレート剤が好ましい。例えば、特開２００６−４５４９７号公報の段落番号００４８〜００８１に記載の化合物、特開２００２−３２２２９４号公報の段落番号００７７〜００８６に記載の化合物、特開２０１２−７２３４８号公報の段落番号００３０〜００５６に記載の化合物、国際公開第２０１４／０３４７０９号パンフレットの段落番０２０６〜０２１６に記載の化合物等を、好ましく用いることができる。偏光板保護フィルム中の剥離促進剤の含有量は、質量ベースで１ｐｐｍ〜５．０％が好ましく、１ｐｐｍ〜２．０％がより好ましい。
【０２０９】
以下、偏光板保護フィルムの好ましい物性を、セルロースアシレートフィルムを代表として説明するが、セルロースアシレートのみに限定されるものではない。
【０２１０】
〔弾性率（引張り弾性率）〕
セルロースアシレートフィルムは実用上十分な弾性率（引張り弾性率）を示す。弾性率の範囲は特に限定されないが、製造適性およびハンドリング性という観点から１．０〜７．０ＧＰａが好ましく、２．０〜６．５ＧＰａがより好ましい。本発明の重合体は、セルロースアシレートフィルム中に添加されることにより、セルロースアシレートフィルムを疎水化することで弾性率を向上させる作用があり、その点も本発明における利点である。
【０２１１】
（光弾性係数）
セルロースアシレートフィルムの光弾性係数の絶対値は、好ましくは８．０×１０−１２ｍ２／Ｎ以下、より好ましくは６×１０−１２ｍ２／Ｎ以下、さらに好ましくは５×１０−１２ｍ２／Ｎ以下である。セルロースアシレートフィルムの光弾性係数を小さくすることにより、セルロースアシレートフィルムを偏光板保護フィルムとして液晶表示装置に組み込んだ際に、高温高湿下におけるムラ発生を抑制できる。光弾性係数は、特に断らない限り、以下の方法により測定し算出するものとする。
光弾性率の下限値は特に限定されないが、０．１×１０−１２ｍ２／Ｎ以上が実際的である。
【０２１２】
セルロースアシレートフィルムを３．５ｃｍ×１２ｃｍに切り出し、荷重なし、２５０ｇ、５００ｇ、１０００ｇ、１５００ｇのそれぞれの荷重におけるレタデーション（Ｒｅ）をエリプソメーター（例えば、Ｍ１５０［商品名］、日本分光（株））で測定し、応力に対するＲｅ変化の直線の傾きから光弾性係数を算出する。
【０２１３】
（含水率）
セルロースアシレートフィルムの含水率は一定温湿度における平衡含水率を測定することにより評価することができる。平衡含水率は上記温湿度に２４時間放置した後に、平衡に達した試料の水分量をカールフィッシャー法で測定し、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出したものである。
セルロースアシレートフィルムの２５℃相対湿度８０％における含水率は５質量％以下が好ましく、４質量％以下がさらに好ましく、３質量％未満がより好ましい。セルロースアシレートフィルムの含水率を小さくすることにより、セルロースアシレートフィルムを含む光学フィルムを偏光板保護フィルムとして液晶表示装置に組み込んだ際に、高温高湿下における液晶表示装置の表示ムラの発生を抑制することができる。含水率の下限値は特に限定されないが、０．１質量％以上であることが実際的である。
【０２１４】
（透湿度）
セルロースアシレートフィルムの透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じ、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量を測定し、試料面積１ｍ２あたりの２４時間に通過する水蒸気の質量に換算することにより評価することができる。
セルロースアシレートフィルムの透湿度は、５００〜２０００ｇ／ｍ２・ｄａｙが好ましく、９００〜１３００ｇ／ｍ２・ｄａｙがより好ましい。
【０２１５】
（ヘイズ）
セルロースアシレートフィルムのヘイズは、１％以下が好ましく、０．７％以下がより好ましく、０．５％以下が特に好ましい。ヘイズを上記上限値以下とすることにより、セルロースアシレートフィルムの透明性がより高くなり、光学フィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。ヘイズは、特に断らない限り、下記方法により測定し算出するものとする。ヘイズの下限値は特に限定されないが、０．００１％以上が実際的である。
セルロースアシレートフィルム４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、相対湿度６０％の環境下で、ヘイズメーター（例えば、ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に従って測定する。
【０２１６】
（膜厚）
セルロースアシレートフィルムの平均膜厚は、１０〜１００μｍが好ましく、１５〜８０μｍがより好ましく、１５〜７０μｍがさらに好ましい。１５μｍ以上とすることにより、ウェブ状のフィルムを作製する際のハンドリング性が向上する点から好ましい。また、７０μｍ以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性を維持しやすい。
また、セルロースアシレートフィルムが３層以上の積層構造を有する場合、コア層の膜厚は３〜７０μｍが好ましく、５〜６０μｍがより好ましく、スキン層Ａおよびスキン層Ｂの膜厚は、ともに０．５〜２０μｍがより好ましく、０．５〜１０μｍが特に好ましく、０．５〜５μｍが最も好ましい。
【０２１７】
（幅）
セルロースアシレートフィルムの幅は７００〜３０００ｍｍが好ましく、１０００〜２８００ｍｍがより好ましく、１３００〜２５００ｍｍが特に好ましい。
【０２１８】
［偏光板保護フィルムの製造方法］
偏光板保護フィルムの製造方法、特にセルロースアシレートフィルムの製造方法は、特に限定されるものではないが、溶融製膜法または溶液製膜法により製造することが好ましい。溶液製膜法（ソルベントキャスト法）による製造がより好ましい。ソルベントキャスト法を利用したセルロースアシレートフィルムの製造例については、米国特許第２，３３６，３１０号、同第２，３６７，６０３号、同第２，４９２，０７８号、同第２，４９２，９７７号、同第２，４９２，９７８号、同第２，６０７，７０４号、同第２，７３９，０６９号および同第２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号および同第７３６８９２号の各明細書、ならびに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号および同６２−１１５０３５号等の各公報を参考にすることができる。また、セルロースアシレートフィルムは、延伸処理を施されていてもよい。延伸処理の方法および条件については、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号等の各公報を参考にすることができる。
【０２１９】
（流延方法）
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるが、いずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも、従来知られているセルロースアシレート溶液を流延製膜する種々の方法で実施することができ、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することにより、それぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。
【０２２０】
・共流延
偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムの形成においては共流延法、逐次流延法、塗布法などの積層流延法を用いることが好ましく、特に同時共流延法を用いることが、安定製造および生産コスト低減の観点から特に好ましい。
共流延法および逐次流延法により製造する場合には、先ず、各層用の偏光板保護フィルムに使用する樹脂および本発明の重合体を含む組成物の溶液（ドープ）を調製する。
共流延法（重層同時流延）は、流延用支持体（バンドまたはドラム）の上に、各層（３層あるいはそれ以上でも良い）各々の流延用ドープを別のスリットなどから同時に押出す流延用ギーサからドープを押出して、各層同時に流延し、適当な時期に支持体から剥ぎ取って、乾燥しフィルムを成形する流延法である。
共流延法において局在させる方法としては、特に限定されないが、例えば、本発明の重合体を局在させる層を形成するためのドープに本発明の重合体を含むドープを用い、これ以外の層を形成するためのドープに本発明の重合体を含まないドープを用いる方法が挙げられる。
【０２２１】
・逐次流延法
逐次流延法は、流延用支持体の上に先ず第１層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して、流延し、乾燥あるいは乾燥することなく、その上に第２層用の流延用ドープを流延用ギーサから押出して流延する要領で、必要なら第３層以上まで逐次ドープを流延・積層して、適当な時期に支持体から剥ぎ取って乾燥し、偏光板保護フィルムを成形する流延法である。塗布法は、一般的には、コア層を溶液製膜法によりフィルム状に成形し、表層に塗布する塗布液を調製し、適当な塗布機を用いて、コア層の片面ずつまたは両面同時に塗布液を塗布・乾燥して積層構造の偏光板保護フィルムを成形する方法である。
逐次流延法において局在させる方法としては、特に限定されないが、例えば、本発明の重合体を含まないコア層を溶液製膜法によりフィルム状に成形した後に、本発明の重合体を含む塗布液を調製し、コア層の片面に塗布乾燥して積層構造の偏光板保護フィルムを成形する方法が挙げられる。この場合、本発明の重合体を含む塗布液は本発明の偏光板用組成物の溶液となる。
【０２２２】
偏光板保護フィルムを製造するのに使用される、エンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよい）が用いられる。使用される加圧ダイは、金属支持体の上方に１基または２基以上の設置でもよい。好ましくは１基または２基である。２基以上設置する場合には、流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合に分けてもよく、複数の精密定量ギアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるドープ（樹脂溶液）の温度は−１０〜５５℃が好ましく、より好ましくは２５〜５０℃である。その場合、工程のすべての溶液温度が同一でもよく、または工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。
また、上記金属支持体の材質については特に制限はないが、ＳＵＳ製（例えば、ＳＵＳ３１６）が好ましい。
【０２２３】
（剥離）
偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムの製造方法では、上記ドープ膜を金属支持体から剥ぎ取る工程を含むことが好ましい。偏光板保護フィルムの製造方法における剥離の方法については特に制限はなく、前述の剥離促進剤の添加など公知の方法を用いた場合に剥離性を改善することができる。
【０２２４】
（延伸処理）
偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムの製造方法では、機械物性の調整や位相差の付与などを目的として製膜された偏光板保護フィルムを延伸する工程を含むことができる。偏光板保護フィルムの延伸方向は偏光板保護フィルム搬送方向（ＭＤ方向）と搬送方向に直交する方向（ＴＤ方向）のいずれでも好ましいが、偏光板保護フィルム搬送方向に直交する方向（ＴＤ方向）が、後に続く偏光板保護フィルムを用いた偏光板加工プロセスの観点から特に好ましい。
【０２２５】
ＴＤ方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。ＭＤ方向の延伸の場合、例えば、偏光板保護フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、偏光板保護フィルムの剥ぎ取り速度よりも偏光板保護フィルムの巻き取り速度の方を速くすると偏光板保護フィルムは延伸される。ＴＤ方向の延伸の場合、偏光板保護フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによっても偏光板保護フィルムを延伸できる。偏光板保護フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
【０２２６】
偏光板保護フィルムを偏光子の保護膜として使用する場合には、偏光板を斜めから見たときの光漏れを抑制するため、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの面内の遅相軸を平行に配置する必要がある。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、上記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状の偏光板保護フィルムからなる保護膜を連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護膜の面内遅相軸は、偏光板保護フィルムの幅方向に平行であることが必要となる。従ってＴＤ方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。
【０２２７】
ＴＤ方向の延伸は５〜１００％の延伸が好ましく、より好ましくは５〜８０％の延伸、特に好ましくは５〜４０％の延伸である。なお、未延伸とは延伸が０％であることを意味する。延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行ってもよく、残留溶剤量＝（残存揮発分質量／加熱処理後フィルム質量）×１００％が０．０５〜５０％で好ましく延伸することができる。残留溶剤量が０．０５〜５％の状態で５〜８０％延伸を行うことが特に好ましい。
【０２２８】
（乾燥）
偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムの製造方法では、偏光板保護フィルムを乾燥する工程と、乾燥後の偏光板保護フィルムをガラス転移温度（Ｔｇ）−１０℃以上の温度で延伸する工程とを含むことが、レタデーション発現性の観点から好ましい。
【０２２９】
金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には、金属支持体（ドラムまたはベルト）の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラムまたはベルトの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をベルトやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラムまたはベルトを加熱し表面温度をコントロールする裏面液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度は、ドープに用いられている溶媒の沸点以下であれば何℃でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶媒の内の最も沸点の低い溶媒の沸点より１〜１０℃低い温度に設定することが好ましい。なお流延ドープを冷却して乾燥することなく剥ぎ取る場合はこの限りではない。
【０２３０】
偏光板保護フィルムの厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。
【０２３１】
以上のようにして得られた、偏光板保護フィルムの長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。
【０２３２】
大画面用液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いる場合は、例えば、フィルム幅を１４７０ｍｍ以上に成形するのが好ましい。また、本発明の偏光板保護フィルムには、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様のフィルムのみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様のフィルムも含まれる。後者の態様の偏光板保護フィルムは、その状態で保管・搬送等され、実際に液晶表示装置に組み込む際や偏光子等と貼り合わされる際に、所望の大きさに切断されて用いられる。また、同様に長尺状に作製されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子等と、長尺状のまま貼り合わされた後に、実際に液晶表示装置に組み込む際に、所望の大きさに切断されて用いられる。ロール状に巻き上げられた光学補償フィルムの一態様としては、ロール長が２５００ｍ以上のロール状に巻き上げられた態様が挙げられる。
【０２３３】
＜＜機能性層＞＞
本発明の偏光板保護フィルムにおいて、偏光板保護フィルム上に所望により目的に応じた機能性層を設けることができる。機能性層としては、ハードコート層、反射防止層、光散乱層、防汚層、帯電防止層等が挙げられ、これらは一層で複数の機能を兼ねていていてもよい。
一例として、ハードコート層は、偏光板保護フィルムに硬度や耐傷性を付与するための層である。例えば、本発明の重合体を含む偏光板保護フィルムにハードコート層を設ける場合、塗布組成物を本発明の重合体を含む層上に塗布し、硬化させてハードコート層を設けてもよいし、また、本発明の重合体を含む層と反対側に塗布し、硬化させてハードコート層を設けてもよい。いずれの場合も偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムと密着性の高いハードコート層を形成することができる。ハードコート層にフィラーや添加剤を加えることで、機械的、電気的、光学的などの物理的な性能や撥水・撥油性などの化学的な性能をハードコート層自体に付与することもできる。ハードコート層の厚みは０．１〜６μｍが好ましく、３〜６μｍがさらに好ましい。このような範囲の薄いハードコート層を有することで、脆性やカール抑制などの物性改善、軽量化および製造コスト低減がなされたハードコート層を含む偏光板保護フィルムになる。
【０２３４】
ハードコート層は、硬化性組成物を硬化することで形成するのが好ましい。硬化性組成物は液状の塗布組成物として調製されるのが好ましい。塗布組成物の一例は、マトリックス形成バインダー用モノマーまたはオリゴマー、ポリマー類および有機溶媒を含有する。この塗布組成物を塗布後に硬化することでハードコート層を形成することができる。硬化には、架橋反応、または重合反応を利用することができる。
【０２３５】
［［偏光子］］
［樹脂］
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましく用いられる。本発明における偏光子は、ポリビニルアルコール樹脂を主成分とするものであり、通常は、偏光子の８０質量％以上を占める。ポリビニルアルコールは通常、ポリ酢酸ビニルをケン化したものであるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のように酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホ基、カルボキシ基、オキシアルキレン基等を含有する変性ポリビニルアルコール系樹脂も用いることができる。
本発明では、ポリビニルアルコールまたはアシル化もしくはケタール化されたポリビニルアルコールが好ましい。
【０２３６】
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から８０〜１００ｍｏｌ％が好ましく、９０〜１００ｍｏｌ％が特に好ましい。また、ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は特に限定されないが、１，０００〜１０，０００が好ましく、１，５００〜５，０００が特に好ましい。
【０２３７】
延伸前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの弾性率は、好ましくは、ヤング率で表すと０．１ＭＰａ以上５００ＭＰａ以下で、さらに好ましくは１ＭＰａ以上１００ＭＰａ以下である。
このような範囲とすることで、延伸後のシワ発生抑制効果に優れ、十分な強度を有するポリビニルアルコール系樹脂フィルムを製造することができる。
【０２３８】
延伸前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの厚みは、特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、１μｍ〜１ｍｍが好ましく、２０〜２００μｍが特に好ましい。また、延伸後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムの膜厚は２〜１００μｍが好ましく、光モレ改良のためには７〜２５μｍが好ましい。この厚さによって、偏光子のフィルムの厚さが定められる。
【０２３９】
偏光子中の本発明の重合体の含有量もしくは組成物中への添加量は特に限定されないが、偏光子を構成する樹脂１００質量部に対して、０．０１〜４０質量部が好ましく、０．０１〜３０質量部がより好ましく、０．０１〜２０質量部が特に好ましい。
また、本発明の重合体を２種類以上含有させる場合も、また一般式（Ａ）で表される化合物と併用する場合も、その合計量が、上記の範囲内であることが好ましい。
【０２４０】
＜＜二色性色素＞＞
本発明の偏光子は、二色性色素を含む。ここで、二色性色素とは、本明細書中、方向により吸光度の異なる色素のことを言い、ヨウ素イオン、ジアゾ系色素、キノン系色素、その他公知の二色性染料などが含まれる。二色性色素としては、Ｉ３−やＩ５−などのポリヨウ素イオンもしくは二色性染料を好ましく使用することができる。
本発明ではポリヨウ素イオンが特に好ましく使用される。ポリヨウ素イオンは、永田良編，「偏光板の応用」，ＣＭＣ出版や工業材料，第２８巻，第７号，ｐ．３９〜ｐ．４５に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液および／またはホウ酸水溶液にポリビニルアルコールを浸漬し、ポリビニルアルコールに吸着・配向した状態で生成することができる。
【０２４１】
二色性色素の含有量としては、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、０．１〜５０質量部が好ましく、０．５〜２０質量部がより好ましく、１．０〜１５質量部がさらに好ましい。
【０２４２】
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール系樹脂、二色性色素、および本発明の重合体の他に、必要に応じて、可塑剤、界面活性剤を添加してもよい。
【０２４３】
＜偏光子の製造方法＞
本発明の偏光子の製造方法は、ポリビニルアルコール系樹脂溶液（本発明の重合体を含有させてもよい。この場合、ポリビニルアルコール系樹脂溶液は本発明の偏光板用組成物の溶液となる）をフィルム状に製膜する工程と、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸する工程と、二色性色素により延伸後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを染色する工程とを含む。
【０２４４】
本発明の偏光子の製造方法としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂をフィルム化した後、ヨウ素を導入して偏光子を構成することが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの製造は、特開２００７−８６７４８号公報の段落番号０２１３〜０２３７に記載の方法、特許第３３４２５１６号公報、特開平０９−３２８５９３号公報、特開２００１−３０２８１７号公報、特開２００２−１４４４０１号公報等を参考にして行うことができる。また、本発明の重合体をポリビニルアルコール系樹脂に添加するタイミングについても特に制限はない。
【０２４５】
ポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜する工程では、水に対して攪拌しながらポリビニルアルコール系樹脂を添加し、ポリビニルアルコール系樹脂を水または有機溶媒に溶解した原液を調製することが好ましい。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、好ましくは５〜２０質量％である。また、得られたスリラーを脱水し、含水率４０％程度のポリビニルアルコール系樹脂ウェットケーキを一度調製してもよい。さらにその後添加剤を加える場合は、例えば、ポリビニルアルコールのウェットケーキを溶解槽に入れ、可塑剤、水を加え、槽底から水蒸気を吹き込みながら攪拌する方法が好ましい。内部樹脂温度は５０〜１５０℃に加温することが好ましく、系内を加圧してもよい。
なお、本発明の重合体が水溶性もしくは準水溶性（水溶性、準水溶性については、接着剤層の説明部分に記載）である場合、偏光子中に本発明の重合体をこの工程で加えること（ポリビニルアルコール系樹脂溶液として本発明の偏光板用組成物の溶液を用いること）が、偏光子中に本発明の重合体を効果的に導入する観点から好ましい。また、本発明の重合体の添加はポリビニルアルコールのウェットケーキを溶解槽に入れた後で、槽底から水蒸気を吹き込みながら攪拌する方法が好ましい。
【０２４６】
本発明では、上記で調製したポリビニルアルコール系樹脂溶液原液を流延して製膜する方法が好ましく用いられる。流延の方法としては、特に制限はないが、加熱したポリビニルアルコール系樹脂溶液原液を二軸押し出し機に供給し、ギアポンプにより排出手段（好ましくはダイ、より好ましくはＴ型スリットダイ）から支持体上に流涎して製膜することが好ましい。また、ダイからの排出される樹脂溶液の温度については特に制限はない。
【０２４７】
支持体としては、キャストドラムが好ましく、ドラムの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その中でも、キャストドラムの直径は２０００〜５０００ｍｍが好ましく、２５００〜４５００ｍｍがより好ましく、３０００〜３５００ｍｍが特に好ましい。
キャストドラムの幅は２〜６ｍが好ましく、３〜５ｍがより好ましく、４〜５ｍが特に好ましい。
【０２４８】
キャストドラムの回転速度は２〜２０ｍ／分が好ましく、４〜１２ｍ／分がより好ましく、５〜１０ｍ／分が特に好ましい。
キャストドラムの表面温度は４０〜１４０℃が好ましく、６０〜１２０℃がより好ましく、８０〜１００℃であることが特に好ましい。
Ｔ型スリットダイ出口の樹脂温度は４０〜１４０℃が好ましく、６０〜１２０℃がより好ましく、８０〜１００℃が特に好ましい。
【０２４９】
その後、得られたロールの裏面と表面とを乾燥ロールに交互に通過させながら乾燥を行うことが好ましい。乾燥ロールの直径、幅、回転速度、表面温度については、特に制限はない。その中でも、キャストドラムの直径は２００〜４５０ｍｍが好ましく、２５０〜４００ｍｍがより好ましく、３００〜３５０ｍｍが特に好ましい。
【０２５０】
また、得られたフィルムの長さについても特に制限はなく、２０００ｍ以上、好ましくは４０００ｍ以上の長尺のフィルムとすることができる。フィルムの幅についても、特に制限はないが、２〜６ｍが好ましく、３〜５ｍがより好ましい。
【０２５１】
ポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜した後、フィルムを延伸する。延伸は、米国特許第２，４５４，５１５号明細書などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開２００２−８６５５４号公報に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は２倍〜１２倍であり、さらに好ましくは３倍〜１０倍である。また、延伸倍率と原反厚さと偏光子厚さの関係を、特開２００２−０４０２５６号公報に記載されている（偏光板保護フィルム貼合後の偏光子膜厚／原反膜厚）×（全延伸倍率）＞０．１７としたり、最終浴を出た時の偏光子の幅と偏光板保護フィルム貼合時の偏光子幅の関係を、特開２００２−０４０２４７号公報に記載されている０．８０≦（偏光板保護フィルム貼合時の偏光子幅／最終浴を出た時の偏光子の幅）≦０．９５としたりすることによって、延伸を好ましく行うことができる。
【０２５２】
延伸後、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素により染色する。染色は、気相または液相吸着により行われる。液相で行う場合の例として、二色性色素としてヨウ素を用いる場合には、ヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液に偏光子用ポリマーフィルムを浸漬させて行われる。ヨウ素は０．１〜２０ｇ／ｌ、ヨウ化カリウムは１〜２００ｇ／ｌ、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は１〜２００が好ましい。染色時間は１０〜５０００秒が好ましく、液温度は５〜６０℃が好ましい。染色工程は、延伸工程の前後いずれに置いてもよいが、適度に膜が膨潤され延伸が容易になることから、延伸工程前に液相で染色することが特に好ましい。
【０２５３】
また、染色は、特開２００２−８６５５４号公報に記載の方法を用いることができる。染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素または染料溶液の塗布もしくは噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開２００２−２９００２５号公報に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度、浴中の延伸倍率、および浴中の浴液を攪拌させながら染色させる方法を用いてもよい。
なお、特許第３１４５７４７号公報に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加してもよい。
【０２５４】
その他の工程として、膨潤工程、硬膜工程、乾燥工程を行ってもよい。これらの工程は、特開２０１１−２３７５８０号公報の段落番号００３９〜００５０に記載されており、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【０２５５】
本発明では、以下の工程で、本発明の重合体を含む偏光子を製造することが好ましい。
（１）ポリビニルアルコール系樹脂溶液をフィルム状に製膜する工程と、
（２）ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを延伸する工程と、
（３）二色性色素により延伸後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを染色する工程と、
（４）ホウ酸により染色後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムを架橋する工程と、
（５）本発明の重合体を含有する溶液（重合体含有溶液ともいう。また本発明の偏光板用組成物に相当）を塗布し、乾燥する工程と、
を含む。
【０２５６】
上記（５）の重合体含有溶液を塗布する工程は、（４）で偏光子を作製した後、偏光子の一方の面に偏光板保護フィルムを接着剤で貼り合わせた後に行うのが好ましい。
また、重合体含有溶液の溶媒は、本発明の重合体が溶解する溶媒が好ましく、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メタノール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などが挙げられる。これらの有機溶媒は、混合して使用しても構わない。
【０２５７】
さらに、本発明では、本発明の重合体を含有する接着剤（本発明の偏光板用組成物に相当）を用いて、偏光子と偏光板保護フィルムを貼り合せること、または本発明の重合体を含有する接着剤を用いて、偏光子と基板（液晶セル）を貼り合せることで、偏光板を製造することも好ましい。これによって、貼り合せた層にも本発明の重合体を含ませることが可能となり、本発明の重合体が偏光子（層）と接触することができる。
【０２５８】
［［接着剤層］］
本発明の偏光板と偏光板保護フィルム、偏光子等の各構成部材の積層方法としては、接着剤層を使用することが好ましい。接着剤層の特性によって異なるが、接着剤層が粘着性を持つ場合はそのまま貼り合わせて使うことができる。なお、その際に鹸化処理など接着性を向上させる工程を含めてもよい。
【０２５９】
［接着剤層に用いられる樹脂］
接着剤層に用いられる樹脂としては、本発明の重合体との相溶性を有し、貼り合わせるための機能を有する樹脂であれば特に限定されない。接着剤層として接着の形態にも限定されず、粘性を有する粘着剤を用いてもよく、乾燥や反応により接着性を発現する接着剤でもよい。本発明において、接着剤層とは、接着剤の他に粘着剤も併せて意味するものとする。
本発明における接着剤層は、樹脂を主成分とするものであり、通常は、接着剤層の６０質量％以上を占める。好ましくは接着剤層の７０質量％以上を占める。
【０２６０】
接着剤層中の本発明の重合体の含有量もしくは組成物中への添加量は特に限定されないが、接着剤層を構成する樹脂１００質量部に対して、０．０１〜４０質量部が好ましく、０．０１〜３０質量部がより好ましく、０．０１〜２０質量部が特に好ましい。
また、本発明の重合体を２種類以上含有させる場合や、一般式（Ａ）で表される化合物と併用する場合も、その合計量が、上記の範囲内であることが好ましい。
【０２６１】
接着剤層は、例えば、接着剤を所定の割合で含有する塗布液（本発明の偏光板用組成物の液に相当）を偏光板保護フィルムおよび偏光子の少なくとも一方の表面に塗布し、乾燥することで形成される。塗布液の調製方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。本発明の重合体を添加して塗布液を調製可能な液としては、例えば、市販の溶液または分散液を用いてもよく、市販の溶液または分散液にさらに溶剤を添加して用いてもよく、固形分を各種溶剤に溶解または分散して用いてもよい。
【０２６２】
接着剤は、目的に応じて任意の適切な性質、形態および接着機構を有する接着剤が用いられ得る。具体的には、接着剤として、例えば、水溶性接着剤、紫外線硬化型接着剤、エマルジョン型接着剤、ラテックス型接着剤、マスチック接着剤、複層接着剤、ペースト状接着剤、発泡型接着剤、およびサポーテッドフィルム接着剤、熱可塑型接着剤、熱溶融型接着剤、熱固化接着剤、ホットメルト接着剤、熱活性接着剤、ヒートシール接着剤、熱硬化型接着剤、コンタクト型接着剤、感圧性接着剤、重合型接着剤、溶剤型接着剤、溶剤活性接着剤等が挙げられ、水溶性接着剤および紫外線硬化型接着剤が好ましい。特に、本発明の偏光板において偏光子隣接層が接着剤から形成された接着剤層の場合、これらの中でも、透明性、接着性、作業性、製品の品質および経済性に優れる水溶性接着剤が好ましく用いられる。
【０２６３】
（Ａ）水溶性接着剤
水溶性接着剤は、例えば、水に可溶な天然高分子および合成高分子の少なくとも一方を含有してもよい。天然高分子としては、例えば、たんぱく質や澱粉等が挙げられる。合成高分子としては、例えば、レゾール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレンオキシド、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系樹脂を含有する水溶性接着剤が好ましく用いられる。特に、本発明の偏光板では、偏光子隣接層がポリビニルアルコール系樹脂を含有する水溶性接着剤を含むことが、偏光子との接着性に極めて優れ、かつ、偏光板保護フィルムとの接着性にも優れる観点から好ましい。
【０２６４】
また、接着剤としては接着の形態にも限定されず、接着剤が粘性を有する粘着剤を用いてもよく、乾燥や反応により接着性を発現する接着剤でもよい。
粘着剤としては、任意の適切な粘着剤が採用され得る。具体的には、例えば、溶剤型粘着剤、非水系エマルジョン型粘着剤、水系粘着剤、ホットメルト粘着剤等が挙げられる。特に、接着剤層が粘着剤から形成される場合、これらの中でも、アクリル系ポリマーをベースポリマーとする溶剤型粘着剤が好ましく用いられる。これは、偏光子および偏光板保護フィルムに対して適度な粘着特性（例えば、ぬれ性、凝集性および接着性）を示し、かつ、光学透明性、耐候性および耐熱性に優れるからである。
【０２６５】
（金属化合物コロイド）
水溶性接着剤には、金属化合物を含んでいてもよい。特に、ポリビニルアルコール系樹脂等を含有する水溶性接着剤は、さらに、金属化合物コロイドを含んでいることが、高湿下での偏光子耐久性を改善する観点から好ましい。これは、偏光子と偏光板保護フィルムとの界面で生じる局所的な凹凸欠陥である「クニック」の発生を防止可能となり、偏光板を高湿下で耐久性試験を行ったときに偏光子へ環境湿度由来の水分が流入することを防ぐことにつながるためである。
【０２６６】
金属化合物コロイドは、例えば、金属化合物微粒子が分散媒中に分散しているものであってもよく、微粒子の同種電荷の相互反発に起因して静電的に安定化し、永続的に安定性を有するものであってもよい。金属化合物を形成する微粒子の平均粒子径は、特に制限されないが、好ましくは、１〜１００ｎｍの範囲であり、より好ましくは、１〜５０ｎｍの範囲であり、２〜４０ｎｍの範囲が特に好ましい。これは、微粒子を接着剤層中に均一に分散させ、接着性を確保しながら、より好適にクニックの発生を防止でき、偏光子耐久性を改善することができるからである。
【０２６７】
金属化合物としては、任意の適切な化合物を採用し得る。金属化合物としては、例えば、アルミナ、シリカ、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、炭酸亜鉛、炭酸バリウム、リン酸カルシウム等の金属塩、セライト、タルク、クレイ、カオリン等の鉱物等が挙げられる。これらの中でも、好ましくは、アルミナである。
【０２６８】
金属化合物（好ましくは、金属化合物コロイド）を配合する場合、その配合量は、接着剤層を構成する樹脂（接着剤）に対し、４０質量％以下が好ましく、１〜３０質量％がより好ましい。
【０２６９】
（その他の添加剤）
本発明における接着剤層には、上記の他、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、他の化合物を配合してもよい。
例えば、接着剤層とフィルム層または偏光子層との密着性を向上させるため、ホウ酸などの架橋剤が挙げられる。ホウ酸の場合、接着剤層中に含有させることで、ポリマー中のヒドロキシル基の結合と架橋構造を形成するため、密着性が向上することが知られている。
本発明の重合体は、さらにこのようなホウ酸とポリマー中のヒドロキシ基の結合を促進する効果を有する。セルロースアシレート系偏光板保護フィルムのように、表面がけん化処理によりヒドロキシ基を多数有する偏光板保護フィルムの場合、本発明の重合体を接着剤層に添加することにより、接着剤層と偏光子層間、および接着剤層と偏光板保護フィルム間のホウ酸架橋が促進され、密着性をより向上させることができる。
なお、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂など、フィルム表面にヒドロキシ基を含有しない様態であっても、同様にけん化処理等によりヒドロキシ基を有するフィルムに変更させることができるため、同様の効果が得られる。
上記のような架橋剤と本発明の重合体は、ヒドロキシ基を多数有するポリマーであるポリビニルアルコールやセルロースアシレート樹脂との組み合わせが特に好ましい。
ホウ酸を配合する場合、その配合量は、本発明の重合体に対し、１〜１０００質量％が好ましく、１０〜１００質量％がより好ましい。
【０２７０】
その他の添加剤としては、例えば、連鎖移動剤、増感剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤などが挙げられる。これらの添加剤を配合する場合、その配合量は、接着剤層を構成する樹脂（接着剤）に対し、４０質量％以下が好ましく、０．１〜３０質量％がより好ましい。
【０２７１】
これらの接着剤層に用いる樹脂の材料やそれらの取扱いに関する事項ついては、特開２０１２−０１４１４８号公報の段落番号００６９〜０１３８や、特開２００９−２４４８００号公報の段落番号００１３〜００２０、特開２０１０−２３０８０６号公報の段落番号００３９〜００８６、特開２００９−１３９６５８号公報の段落番号０１１４〜０１１９等の記載を参照することができる。
【０２７２】
接着剤層の厚みは、使用目的や接着力等に応じて、適宜、設定され得る。具体的には、接着剤層に粘着剤を用いる場合、接着剤層の厚みは、好ましくは、０．１〜５０μｍの範囲であり、より好ましくは、０．５〜２０μｍの範囲であり、さらに好ましくは、１〜１５μｍの範囲であり、特に好ましくは、５〜１０μｍの範囲である。
接着剤層に接着剤を用いる場合、接着剤層の厚みは、好ましくは、１０〜５００ｎｍの範囲であり、より好ましくは、１０〜４００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは、２０〜３５０ｎｍの範囲である。
【０２７３】
（Ｂ）紫外線硬化型接着剤
本発明の偏光板における接着剤層としては、紫外線硬化型接着剤層も好ましく用いることができる。紫外線硬化型接着剤を用いることにより、偏光板保護フィルムと偏光子とを高い接着強度で接着することができる。本明細書中、紫外線硬化型接着剤層とは、紫外線硬化型接着剤が紫外線により硬化されてなる層のことをいう。
【０２７４】
（紫外線硬化型接着剤の組成）
紫外線硬化型接着剤としては、その硬化の様式により分類すると、ラジカル重合型接着剤、カチオン重合型接着剤などが挙げられ、接着剤成分の化学種により分類すると、アクリル樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤などが挙げられる。本発明においては、これらのいずれを用いてもよく、また、これらの２種以上の混合物を用いてもよいが、取り扱いの容易さ、得られる接着強度などの観点から、カチオン重合型のエポキシ樹脂系接着剤が好適に用いられる。エポキシ樹脂とは、分子内に平均２個以上のエポキシ基を有し、エポキシ基を伴う重合反応により硬化する化合物またはポリマーをいい、この分野での慣例に従い、モノマーであってもエポキシ樹脂と称する。
【０２７５】
紫外線硬化型接着剤に含有されるエポキシ樹脂としては、耐候性、屈折率およびカチオン重合性などの観点から、分子内に芳香環を含まないエポキシ樹脂が好適に用いられる。分子内に芳香環を含まないエポキシ樹脂としては、水素化エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。
【０２７６】
水素化エポキシ樹脂は、芳香族エポキシ樹脂を触媒の存在下、加圧下で選択的に核水素化反応を行うことにより得ることができる。芳香族エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェールＦのジグリシジルエーテルおよびビスフェノールＳのジグリシジルエーテルなどのビスフェノール型エポキシ樹脂；フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂およびヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ樹脂などのノボラック型のエポキシ樹脂；テトラヒドロキシフェニルメタンのグリシジルエーテル、テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテルおよびエポキシ化ポリビニルフェノールなどの多官能型のエポキシ樹脂などが挙げられる。なかでも、水素化エポキシ樹脂として、水素化されたビスフェノールＡのグリシジルエーテルを用いることが好ましい。
【０２７７】
脂肪族エポキシ樹脂としては、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルを挙げることができる。より具体的には、１，４−ブタンジオールのジグリシジルエーテル；１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル；グリセリンのトリグリシジルエーテル；トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル；ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル；プロピレングリコールのジグリシジルエーテル；および、エチレングリコール、プロピレングリコールまたはグリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド等）を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。
【０２７８】
エポキシ樹脂としては、水素化エポキシ樹脂がより好ましい。
本発明において、エポキシ樹脂は、１種のみを単独で使用してもよいし、あるいは２種以上を併用してもよい。
【０２７９】
本発明で使用するエポキシ樹脂のエポキシ当量は、通常、３０〜３，０００ｇ／当量、好ましくは５０〜１，５００ｇ／当量の範囲内である。エポキシ当量が３０ｇ／当量を上回ると、硬化後の接着剤層の可撓性が良好となり、接着強度が良好となる。一方、３，０００ｇ／当量以下であれば、接着剤に含有される他の成分との相溶性が良好となる。
【０２８０】
本発明においては、上記のように、エポキシ樹脂の硬化反応としてカチオン重合が好ましく用いられる。そのためには、紫外線硬化型接着剤は、光カチオン重合開始剤を含むことが好ましい。光カチオン重合開始剤は、紫外線の照射によって、カチオン種またはルイス酸を発生し、エポキシ基の重合反応を開始させる。いずれのタイプのカチオン重合開始剤を用いてもよいが、潜在性が付与されていることが、作業性の観点から好ましい。
【０２８１】
光カチオン重合開始剤を用い、紫外線の照射により接着剤の硬化を行なう方法は、常温での硬化が可能となり、偏光子の耐熱性あるいは膨張による歪を考慮する必要が減少し、また、偏光板保護フィルムと偏光子とを良好に接着できる点において有利である。また、光カチオン重合開始剤は、光で触媒的に作用するため、これをエポキシ樹脂に混合しても、接着剤は保存安定性および作業性に優れる。
【０２８２】
光カチオン重合開始剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩、および鉄−アレン錯体などを挙げることができる。
【０２８３】
カチオン重合開始剤は、それぞれ単独で使用してもよいし、あるいは２種以上を混合して使用してもよい。これらのなかでも、特に芳香族スルホニウム塩は、３００ｎｍ以上の波長領域でも紫外線吸収特性を有することから、硬化性に優れ、良好な機械的強度および接着強度を有する硬化物を与えることができるため、好ましく用いられる。
【０２８４】
光カチオン重合開始剤の配合量は、エポキシ樹脂１００質量部に対して、通常０．５〜１００重量部であり、好ましくは１〜５０質量部である。光カチオン重合開始剤の配合量をこの範囲とすることで、十分に硬化し、機械的強度または接着強度が保たれる。また、光カチオン重合開始剤の配合量が、エポキシ樹脂１００質量部に対して、１００質量部以下であれば、硬化物中のイオン性物質が増加し難いため硬化物の吸湿性が高くなり過ぎず、偏光板の耐久性能が低下し難い。
【０２８５】
光カチオン重合開始剤を用いる場合、紫外線硬化型接着剤は、必要に応じて、さらに光増感剤を含有することができる。光増感剤を使用することで、カチオン重合の反応性が向上し、硬化物の機械的強度および接着強度を向上させることができる。光増感剤としては、例えば、カルボニル化合物、有機硫黄化合物、過硫化物、レドックス系化合物、アゾおよびジアゾ化合物、ハロゲン化合物ならびに光還元性色素などが挙げられる。光増感剤は、それぞれ単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。光増感剤は、紫外線硬化型接着剤１００質量部に対して、０．１〜２０質量部の範囲内で含有されることが好ましい。
【０２８６】
紫外線硬化型接着剤は、オキセタン類やポリオール類など、カチオン重合を促進させる化合物をさらに含有してもよい。
【０２８７】
紫外線硬化型接着剤は、本発明の効果を損なわない限り、その他の添加剤、例えば、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、増感剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤などを含有することができる。イオントラップ剤としては、例えば、粉末状のビスマス系、アンチモン系、マグネシウム系、アルミニウム系、カルシウム系、チタン系などの無機化合物およびこれらの混合物が挙げられる。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤などが挙げられる。
【０２８８】
接着剤層に、本発明の重合体を使用する場合、偏光板保護フィルムの樹脂がセルロースアシレートであって、かつ水溶性接着剤（なかでもポリビニルアルコール系樹脂）を使用するときは、本発明の重合体は水溶性の化合物が好ましい。
これは、偏光子（層）に本発明の重合体が拡散しやすいためであり、本発明において優れた効果が得られる。
一方、偏光板保護フィルムの樹脂が、アクリル系樹脂やシクロオレフィン系樹脂のような天然物を素材としない合成樹脂であって、紫外線硬化型接着剤を使用する場合は、本発明の重合体は準水溶性の化合物が好ましい。
なお、水溶性の化合物は、水への溶解度が、２５℃で水１００ｍｌに０．１ｇ以上溶解することが好ましい。準水溶性の化合物は、水への溶解度が、２５℃で水１００ｍｌに０．０１ｇ以上溶解することが好ましい。
【０２８９】
（偏光子と接着剤層の積層方法）
偏光子と接着剤層の積層方法は、偏光子と接着剤層を積層する工程を含む。
本発明の重合体の添加時期は、製品となった時点で含有されていれば特に限定されない。
【０２９０】
偏光子に接着剤層を積層させる方法は特に限定されないが、製造の制御や効率の観点では塗布による積層を好ましく用いることができる。
塗布方法としても、任意の適切な方法が採用され得る。塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、ディップコート法、バーコート法等が挙げられる。
ここで、本発明の偏光板用組成物を用いて接着層を形成する方法としては、接着剤の組成物中に、本発明の重合体を追加して用い、通常の接着剤層の形成方法に従って作成する方法が挙げられる。
【０２９１】
＜＜偏光板＞＞
本発明の偏光板は、偏光子と偏光板保護フィルムとを少なくとも有する。本発明の偏光板は、偏光子と偏光子の片面または両面に本発明の偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムを有することが好ましい。また、本発明において、偏光板は、本発明の偏光板用組成物を含んで形成されるもので、偏光板保護フィルム、偏光子、接着剤層の少なくともいずれかの層中に本発明の重合体を含有もしくは添加されている。
【０２９２】
本発明の偏光板保護フィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の透過軸と本発明の偏光板保護フィルムの遅相軸が実質的に直交、平行または４５°となるように貼り合せることが好ましい。本発明の液晶表示装置において、偏光板の透過軸と本発明の偏光板保護フィルムの遅相軸が実質的に直交であることが好ましい。ここで、実質的に直交であるとは、本発明の偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とが９０°±１０°の角度で交わっていることを意味し、９０°±５°の角度で交わっていることが好ましく、９０°±１°の角度で交わっていることがより好ましい。上記範囲とすることで、偏光板クロスニコル下での光抜けをより低減することができる。遅相軸の測定は、公知の種々の方法で測定することができ、例えば、複屈折計（ＫＯＢＲＡ  ＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて行うことができる。
【０２９３】
本発明の偏光板は、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ以上や３９００ｍ以上の態様）の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、偏光板の幅は１４７０ｍｍ以上とすることが好ましい。本発明の偏光板の具体的な構成については、特に制限はなく公知の構成を採用できるが、例えば、特開２００８−２６２１６１号公報の図６に記載の構成を採用することができる。
【０２９４】
＜＜表示装置＞＞
本発明は偏光子を利用する表示装置用途として好ましく用いられる。
この様な表示装置として液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置の反射防止用途等が挙げられる。
液晶表示装置を例として説明すると、本発明の液晶表示装置は、液晶セルと本発明の偏光板とを少なくとも有する。本発明の液晶表示装置において、偏光板、後述する第一偏光板および第二偏光板を有する場合には、少なくとも一方が、本発明の偏光板であるＩＰＳ、ＯＣＢまたはＶＡモードの液晶表示装置であることが好ましい。
本発明の液晶表示装置は、好ましくは、液晶セルと、液晶セルの両側に積層され、液晶セル側とは反対側の面に偏光板保護フィルムを具備する偏光板とを有している。すなわち、本発明の液晶表示装置は、第一偏光板、液晶セルおよび第二偏光板を有し、偏光板それぞれと液晶セルとで挟持される偏光板面と反対面に本発明の偏光板保護フィルムを具備しているのが好ましい。このような構成を有する液晶表示装置は、表示ムラの抑制に優れ、高い表示性能を発揮する。
また、本発明の液晶表示装置は、好ましくは、視認側に配置された偏光板が視認側の偏光板保護フィルム表面上にハードコート層を有する偏光板保護フィルム、特にセルロースアシレートフィルムを有している。このような構成を有する液晶表示装置は、表示ムラの抑制に優れた高い表示性能に加えて、優れた耐擦傷性と光耐久性を発揮する。
【０２９５】
本発明の液晶表示装置として、典型的な液晶表示装置の内部構成を図１および図２に示した。図１には、セルロースアシレートフィルムからなる本発明の偏光板保護フィルム３１ａおよび３１ｂが偏光子３２の両表面に配置された偏光板２１Ａおよび２１Ｂを有する液晶表示装置が図示されている。また、図２には、視認側に配置された偏光板２１Ｂが偏光子３２の視認側表面にセルロースアシレートフィルム３１１ａを介してハードコート層３１１ｂを有する偏光板保護フィルム３１ａ’を具備する液晶表示装置が図示されている。
なお、図１および図２に、本発明の液晶表示装置の一例についての構成を示したが、本発明の液晶表示装置の具体的な構成としては特に制限はなく公知の構成を採用できる。また、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に記載の構成も好ましく採用することができる。
【実施例】
【０２９６】
以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明するが、これにより本発明が限定して解釈されるものではない。
以下の合成例、実施例において、質量平均分子量は以下の方法で測定した。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製、商品名：ＨＬＣ−８０２０／カラム４本：東ソー株式会社製、商品名：ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ２０００）を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）溶媒を用い、ポリスチレン換算の質量平均分子量（Ｍｗ）を求めた。
【０２９７】
〔本発明の重合体の合成〕
本発明の重合体を以下のようにして合成した。
代表的な重合体の合成例を以下に示す。
【０２９８】
（例示の重合体Ｐ−１０１の合成）
下記合成スキームで例示の重合体Ｐ−１０１を合成した。
【０２９９】
【化３０】
0006274673.tif 000031
【０３００】
ｐ−クロロメチルスチレン（１）を出発物質として、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  ６０，１１４０７−１１４１４（２００４）に記載の方法により、ｐ−アミノメチルスチレン（２）を合成した。
ｐ−アミノメチルスチレン（２）７．５ｇ（５７ｍｍｏｌ）、シアン酸カリウム１２．０ｇ（１００ｍｍｏｌ）、メタノール１５０ｍＬをフラスコに入れ、酢酸７．８ｍＬを添加した後に、５０℃で５時間加熱撹拌した。その後、０℃まで冷却した後に、水を２００ｍＬ添加し、析出した固体を吸引ろ取し、冷却したメタノール水（メタノール／水＝１／
３）でかけ洗いした。結晶を乾燥することにより中間体のウレア体（３）を８．０ｇ得た。収率８０％であった。
中間体のウレア体（３）７．８ｇ（４４ｍｍｏｌ）、メチルマロン酸ジエチル８．５ｇ（４９ｍｍｏｌ）、２０％ＮａＯＣ２Ｈ５／エタノール溶液３０ｇ（８７ｍｍｏｌ）、エタノール１５０ｍＬをフラスコに入れ、窒素気流下、３時間加熱還流した。その後、減圧下、エタノールを約１００ｍＬ留去した後に、０℃まで冷却し、水を２００ｍＬ添加した。さらに、１Ｎ塩酸を添加して酸性にすることで生成物を析出させた。析出した固体を吸引ろ取し、水でかけ洗いした。結晶を乾燥することによりモノマー（Ｍ−１０１）を９．５ｇ得た。収率８２％であった。
モノマー（Ｍ−１０１）１ｇ、ラジカル開始剤Ｖ−６０１（和光純薬工業（株）製）０．３５７ｇ、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）５ｍＬを５０ｍＬのナスフラスコに入れ、十分に窒素置換した後に、窒素雰囲気下、８０℃で４時間加熱還流させることで、モノマー（Ｍ−１０１）を重合させた。反応混合物を室温に冷却した後、メタノール１００ｍＬにゆっくりと添加して再沈操作を行い、得られた固体を吸引ろ取し、乾燥することにより例示の重合体Ｐ−１０１を０．８ｇ得た。収率８０％であった。質量平均分子量（Ｍｗ）は３，０００であった。
【０３０１】
（例示の重合体Ｐ−２１５の合成）
下記合成スキームで例示の重合体Ｐ−２１５を合成した。
【０３０２】
【化３１】
0006274673.tif 000032
【０３０３】
ヒドロキシエチルアクリレート（４）から常法によりクロロ炭酸エステル体（５）を合成した。
なお、化合物（６）は、国際公開第２０１４／０３４７０９号パンフレットに記載の方法により合成した。
【０３０４】
化合物（６）６．２ｇ（１８．０ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン３．７６ｍＬ（２１．６ｍｍｏｌ）とＴＨＦ５０ｍＬをフラスコに入れ、５℃に冷却し、ここにクロロ炭酸エステル体（５）４．７ｇ（１９．８ｍｍｏｌ）を１０分間かけて滴下した。滴下後、４０℃で２時間攪拌した。その後、溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒  酢酸エチル／ヘキサン）により精製することで、モノマーＭ−２１５（２種類の混合物）を４．２ｇ得た。
モノマー（Ｍ−２１５）（２種類の混合物）１．２ｇ、ラジカル開始剤Ｖ−６０１（和光純薬工業（株）製）１５ｍｇ、ＭＥＫ１１ｍＬを５０ｍＬのナスフラスコに入れ、十分に窒素置換した後に、窒素雰囲気下、８０℃で４時間加熱還流させることで、モノマー（Ｍ−２１５）を重合させた。反応混合物を室温に冷却した後に、メタノール５０ｍＬにゆっくりと添加して再沈操作を行い、得られた固体を吸引ろ取し、乾燥することにより例示の重合体Ｐ−２１５（共重合体）を０．６ｇ得た。収率５０％であった。質量平均分子量
（Ｍｗ）は１２，０００であった。
【０３０５】
実施例１
以下のようにして、本発明の重合体を含有する本発明の偏光板用組成物をセルロースアシレートフィルムに塗布して作製した偏光板保護フィルムを用いて、偏光板を作製し、偏光子の耐久性を評価した。
１．偏光板Ｎｏ．Ｈ１０１の作製
１）セルロースアセテートの調製
触媒として硫酸（セルロース１００質量部に対し７．８質量部）を使用し、酢酸を添加して４０℃でセルロースのアセチル化反応を行った。またアセチル化後に４０℃で熟成を行った。さらにこのセルロースアセテートの低分子量成分をアセトンで洗浄し除去した。得られたセルロースアシレートは、総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０であった。
【０３０６】
２）偏光板保護フィルムＮｏ．１０１の作製
（セルロースアセテート溶液の調製と流延）
上記のようにして調製したセルロースアシレートと下記溶媒とを下記組成比でミキシングタンクに投入し、攪拌してセルロースアシレートを溶解し、セルロースアセテート溶液１０１を調製した。
【０３０７】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液１０１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                              ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３０８】
セルロースアセテート溶液１０１を、バンド流延機を用いて流延し、１００℃で残留溶媒含量４０％まで乾燥した後、フィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムを、さらに１４０℃の雰囲気温度で２０分乾燥させた。こうして得られたセルロースアシレートフィルムの膜厚は４０μｍであった。
【０３０９】
（重合体溶液１の調製と塗布）
下記重合体とセルロースアセテートを下記濃度となるように、溶媒（酢酸メチル：メチルエチルケトン：プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート、質量比５４：４５：１）に添加した。セルロースアセテートを溶解させるため、混合物を−７０℃に冷却し、重合体溶液（本発明の偏光板用組成物の溶液）１を調製した。
【０３１０】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
重合体溶液１中の成分濃度
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・セルロースアセテート（アセチル基置換度：２．８１）  ２．５質量％
・重合体Ｐ−２０１  重合体の繰り返し単位の濃度    ０．３ｍｍｏｌ／Ｌ
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３１１】
上記重合体溶液１を上記セルロースアシレートフィルムの一方の表面にワイヤバーコータ＃８で塗布し、６０℃で１２０秒間乾燥させ、本発明の偏光板保護フィルム（セルロースアシレートフィルム）Ｎｏ．１０１を作製した。膜厚は４２μｍであった。
【０３１２】
３）偏光板保護フィルムＮｏ．１０１の鹸化処理
偏光板保護フィルムＮｏ．１０１を、２．３モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５モル／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、偏光板保護フィルムＮｏ．１０１の表面の鹸化処理を行った。
【０３１３】
４）偏光板Ｎｏ．１０１の作製
鹸化処理した偏光板保護フィルムＮｏ．１０１を、接着剤を用いてポリビニルアルコール系偏光子と貼合した。この際、偏光板保護フィルムにおける重合体溶液１を塗布した面を偏光子と貼合した。偏光子の反対側表面（偏光板保護フィルムＮｏ．１０１を貼合していない表面）に、同様の鹸化処理を行ったフジタック（登録商標）ＴＤ８０（富士フイルム株式会社製）を貼合して、本発明の偏光板Ｎｏ．Ｈ１０１を作製した。この際、偏光子の透過軸と作製した偏光板保護フィルムもしくはセルロースアシレートフィルムの幅方向とが平行になるように配置した。
【０３１４】
２．偏光板Ｎｏ．Ｈ１０２〜Ｈ１０５およびＨｃ１１、Ｈｃ１２の作製
偏光板Ｎｏ．Ｈ１０１の作製において、重合体Ｐ−２０１を下記表１に示す例示重合体等に変更して調製した各重合体溶液を用いた以外は偏光板保護フィルムＮｏ．１０１と同様にして、偏光板保護フィルムＮｏ．１０２〜１０５、ｃ１１、ｃ１２をそれぞれ作製した。また、偏光板Ｎｏ．Ｈ１０１の作製において、偏光板保護フィルムＮｏ．１０１に代えて偏光板保護フィルムＮｏ．１０２〜１０５、ｃ１１、ｃ１２を用いたこと以外は偏光板Ｎｏ．Ｈ１０１の作製と同様にして、本発明の偏光板Ｎｏ．Ｈ１０２〜Ｈ１０５および比較の偏光板Ｈｃ１１、Ｈｃ１２を作製した。
使用した重合体および添加剤Ａを下記に示す。
【０３１５】
【化３２】
0006274673.tif 000033
【０３１６】
３．耐久性の評価
偏光板の耐久性試験は作製した各偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けたサンプルを作製して次のように行った。
作製した偏光板それぞれにつき、ガラスの上に作製した偏光板を、偏光板保護フィルムが空気界面側になるように、貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を、２つ作製した。単板直交透過率測定では、このサンプルの偏光板保護フィルムを光源に向けて、測定装置にセットして測定した。２つのサンプルの直交透過率をそれぞれ測定し、その平均値を偏光板の直交透過率とした。偏光板の直交透過率は、日本分光（株）製、自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０を用いて波長３８０〜７８０ｎｍの範囲で測定した。直交透過率は、劣化の度合いが他の波長より顕著に出る波長４１０ｎｍにおける測定値を採用した。
また、各サンプルを６０℃、相対湿度９５％の環境下で３３６時間保存した後（耐久性試験後）に、波長４１０ｎｍの直交透過率を経時保存前（耐久性試験前）と同様の方法で測定した。耐久性試験前後の直交透過率の変化量を求め、これを偏光板の偏光子耐久性として下記基準で評価した。
なお、耐久性試験前後の直交透過率の測定は、それぞれ、２５℃で相対湿度６０％の環境下で行った。
ここで、直交透過率の変化量は下記式で算出されたものである。
【０３１７】
直交透過率の変化量（％）＝［耐久性試験後の直交透過率（％）−耐久性試験前の直交透過率（％）］
【０３１８】
Ａ＋：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．２％未満
Ａ  ：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．２％以上０．４％未満
Ｂ  ：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．４％以上１．０％未満
Ｃ  ：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が１．０％以上
【０３１９】
耐久性試験はＡランク以上であることが実用上望ましい。
得られた結果を、下記表１にまとめて示す。
【０３２０】
【表１】
0006274673.tif 000034
【０３２１】
表１より、本発明の重合体を含有する本発明の偏光板用組成物を用いて偏光板保護フィルムを作製すると、偏光板の耐久性（偏光子耐久性）、特に経時変化（高温高湿下）における耐久性が改善される。このような効果は、従来の化合物では得られないことがわかる。
【０３２２】
実施例２
以下のようにして、本発明の重合体を含有する本発明の偏光板用組成物からなる単層の偏光板保護フィルムを用いて、偏光板を作製し、偏光子の耐久性を評価した。
【０３２３】
１．偏光板Ｎｏ．Ｈ２０１の作製
１）セルロースアセテートの調製
実施例１と同様にして、総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０のセルロースアシレートを調製した。
【０３２４】
２）偏光板保護フィルムＮｏ．２０１の作製
下記成分を下記組成比でミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液（本発明の偏光板用組成物の溶液）２０１を調製した。
【０３２５】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液２０１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・添加剤Ｅ−１                                          ８．０質量部
・紫外線吸収剤（ＵＶ−１）                              ３．０質量部
・例示の重合体Ｐ−２０４                                ４．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                              ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３２６】
【化３３】
0006274673.tif 000035
【０３２７】
セルロースアセテート溶液２０１を、バンド流延機を用いて流延し、１００℃で残留溶媒含量４０％まで乾燥した後、フィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムを、さらに１４０℃の雰囲気温度で２０分乾燥させた。こうして本発明の偏光板用組成物からなる本発明の偏光板保護フィルムＮｏ．２０１を作製した。偏光板保護フィルム（セルロースアシレートフィルム）Ｎｏ．２０１の膜厚は２５μｍであった。
【０３２８】
３）偏光板Ｎｏ．Ｈ２０１の作製
（ａ）偏光板保護フィルムの鹸化処理
上記で作製した偏光板保護フィルムＮｏ．２０１を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
【０３２９】
（ｂ）偏光板の作製
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
鹸化処理した偏光板保護フィルムＮｏ．２０１を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）も同様の鹸化処理を行った。次いで、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理した偏光板保護フィルムＮｏ．２０１が貼り付けてある側とは反対側の偏光子の面に、鹸化処理済みの上記市販のセルローストリアセテートフィルムを貼り付けた。
この際、偏光子の透過軸と作製した偏光板保護フィルムＮｏ．２０１もしくは市販のセルロースアシレートフィルムの幅方向とが平行になるように配置した。
このようにして、本発明の偏光板Ｎｏ．Ｈ２０１を作製した。
【０３３０】
２．偏光板Ｎｏ．Ｈ２０２〜Ｈ２０８およびＨｃ２１、Ｈｃ２２の作製
偏光板Ｎｏ．Ｈ２０１の作製において、重合体Ｐ−２０４を下記表２に示す例示重合体等に変更し、さらに下記添加剤を変更して調製した各セルロースアセテート溶液を用いて表２に示す厚みに設定したこと以外は偏光板保護フィルムＮｏ．１０１と同様にして、偏光板保護フィルムＮｏ．２０２〜２０８およびＨｃ２１、ｃ２２をそれぞれ作製した。また、偏光板Ｎｏ．Ｈ２０１の作製において、偏光板保護フィルムＮｏ．２０１に代えて偏光板保護フィルムＮｏ．２０２〜２０８およびＨｃ２１、ｃ２２を用いたこと以外は偏光板Ｎｏ．Ｈ２０１と同様にして、本発明の偏光板Ｎｏ．Ｈ２０２〜Ｈ２０８および比較の偏光板Ｎｏ．Ｈｃ２１、Ｈｃ２２を作製した。
【０３３１】
３．偏光板Ｎｏ．Ｈ２０９の作製
１）アクリル樹脂ペレットの作製
撹拌装置、温度センサー、冷却管、窒素導入管を備えた３０Ｌ反応釜に、７０００ｇのメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、１０００ｇの２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２０００ｇの２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、１００００ｇのトルエンを仕込み、これに窒素を通じつつ１０５℃まで昇温し、還流したところで、開始剤として１０．０ｇのターシャリーアミルパーオキシイソノナノエート（アルケマ吉富製、商品名：ルパゾール５７０）を添加すると同時に、２０．０ｇの開始剤と１００ｇのトルエンからなる溶液を４時間かけて滴下しながら、還流下（約１０５〜１１０℃）で溶液重合を行った。これをさらに４時間かけて熟成（約１０５〜１１０℃）を行った。
【０３３２】
得られた重合体溶液に、１０ｇのリン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（堺化学製、商品名：Ｐｈｏｓｌｅｘ  Ａ−１８）を加え、還流下（約９０〜１１０℃）で５時間、環化縮合反応を行った。次いで、このようにして得られた重合体溶液を、バレル温度２６０℃、回転数１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個、フォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出機（Φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時間の処理速度で導入し、押出機内でさらに環化縮合反応と脱揮を行い、押出すことにより、透明なラクトン環含有アクリル系樹脂ペレットを得た（Ｍｗ＝２００，０００）。
【０３３３】
得られたラクトン環含有アクリル系樹脂ペレットのラクトン環化率は９７．０％であった。
【０３３４】
上記アクリル系樹脂ペレット１００質量部に対して、例示の重合体Ｐ−２１４を４質量部加え、２軸混練機にて２３０℃で混合し、樹脂ペレット（本発明の偏光板用組成物）Ｎｏ．２０９を作製した。
【０３３５】
２）偏光板保護フィルムＮｏ．２０９の作製
得られた樹脂ペレットＮｏ．２０９を、８００Ｐａ（６Ｔｏｒｒ）、１００℃で１２時間乾燥させ、これを単軸の押出機にてダイス温度２９０℃でＴダイから押出した。こうして本発明の偏光板用組成物からなる、厚み４０μｍの本発明の偏光板保護フィルム（アクリレートフィルム）Ｎｏ．２０９を作製した。
【０３３６】
３）偏光板Ｎｏ．Ｈ２０９の作製
上記で得られた偏光板保護フィルムＮｏ．２０９と偏光板Ｎｏ．Ｈ２０１の作製において得た偏光子とを、紫外線硬化型樹脂を用いて貼り合わせた。ついで、偏光板保護フィルムＮｏ．２０９が貼り付けてある側とは反対側の偏光子の面に、鹸化処理済みの市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）をポリビニルアルコール系接着剤を用いて、貼り付けた。
この際、偏光子の透過軸と作製した偏光板保護フィルムＮｏ．２０９もしくは市販のセルロースアシレートフィルムの幅方向とが平行になるように配置した。
こうして、本発明の偏光板Ｎｏ．Ｈ２０９を作製した。
【０３３７】
使用した重合体と添加剤を下記に示す。
【０３３８】
【化３４】
0006274673.tif 000036
【０３３９】
４．耐久性の評価
上記のようにして作製した各偏光板の耐久性を、以下のようにして評価した。
【０３４０】
保存条件（耐久性試験条件）を、６０℃、相対湿度９５％の環境下で３３６時間から６０℃、相対湿度９５％の環境下で５００時間に変更したこと以外は、実施例１の「耐久性の評価」と同様にして、波長４１０ｎｍにおける偏光子の耐久性試験前後での直交透過率の変化量を求めた。この変化量により、各偏光板の耐久性を下記基準で評価した。
【０３４１】
６０℃で相対湿度９５％の環境下で５００時間
Ａ＋：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．１５％未満
Ａ  ：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．１５％以上０．２％未満
Ｂ  ：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．２％以上０．４％未満
Ｃ  ：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．４％以上
【０３４２】
耐久性試験はＡランク以上であることが実用上望ましい。
【０３４３】
５．ハードコート層付き光学フィルム
１）ハードコート層付き光学フィルムの作製
下記表に記載の各成分を混合した後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液（溶液）を調製した。
【０３４４】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
ハードコート層溶液の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
モノマー  ペンタエリスリトールトリアクリレート／
ペンタエリスリトールテトラアクリレート（混合質量比３／２）
５３．５質量部
光（紫外線）重合開始剤  Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）      １．５質量部
酢酸エチル                                              ４５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３４５】
上記製造した各偏光板保護フィルムの空気側表面上に、上記ハードコート層用塗布液を、マイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布した。６０℃で１５０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層（厚み６μｍ）を形成した。
このようにして、各偏光板保護フィルムの空気側表面上に、ハードコート層を形成し、ハードコート層付き偏光板保護フィルムをそれぞれ作製した。
【０３４６】
２）耐光密着性の評価
以下のようにして耐光密着性を評価した。
まず、上記で作製した各ハードコート層付き偏光板保護フィルムに対して、（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５で、６０℃、相対湿度５０％の環境下に９６時間光を照射した。
次にハードコート層付き偏光板保護フィルムのそれぞれを、温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。ハードコート層を有する側の表面に、ハードコート層付き偏光板保護フィルム１ｃｍ角に対してカッターナイフで碁盤目状に各々１ｍｍ間隔で、縦１１本、横１１本の切り込みを入れて、１ｍｍ角の正方形の升目を合計１００個刻み、その面に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ）を貼りつけた。３０分経時した後に、垂直方向にテープを素早く引き剥がし、剥がれた升目の数を数えて、下記３段階の基準で評価した。同じ密着評価を３回行って平均をとった。結果を下記表１に示す。
【０３４７】
評価基準
Ａ  ：１００升において剥がれが２０升以下であった。
Ｂ  ：１００升において２１〜３０升の剥がれが認められた。
Ｃ  ：１００升において３１升以上の剥がれが認められた。
【０３４８】
得られた結果を、下記表２にまとめて示す。
【０３４９】
【表２】
0006274673.tif 000037
【０３５０】
表２より、本発明の重合体を含有する本発明の偏光板用組成物からなる偏光板保護フィルムを作製すると、偏光板の耐久性、特に経時変化における耐久性が改善される。また、本発明の重合体と一般式（Ａ）で表される低分子の添加剤を併用した本発明の偏光板用組成物を用いて偏光板保護フィルムを作製すると、偏光板の耐久性をさらに良化できる。
また、本発明の重合体を含有する本発明の偏光板用組成物からなる偏光板保護フィルムは、耐光密着性に関して、従来の化合物（添加剤Ａ）に対して著しく改善され、偏光板の耐久性との両立が可能となる。
【０３５１】
実施例３
以下のようにして、本発明の偏光板用組成物を用いていずれかの層の組成を変更した３層構造の偏光板保護フィルムを用いて、偏光板を作製し、偏光子の耐久性を評価した。
【０３５２】
１．偏光板Ｎｏ．Ｈ３０１の作製
１）偏光板保護フィルムＮｏ．３０１の作製
＜支持体面表層用ドープ３０１液の調製＞
（セルロースアシレート溶液の調製）
下記成分を下記組成比でミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液１を調製した。
【０３５３】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・総アセチル置換度（Ｂ）２．８７、重合度３７０のセルロースアセテート
１００．０質量部
・上記添加剤Ｅ−１                                      ８．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４０２．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                              ６０．０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３５４】
（マット剤溶液１の調製）
下記成分を下記組成比で分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液１を調製した。
【０３５５】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製）                            ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                      ７５．０質量部
・メタノール（第２溶媒）                              １２．７質量部
・セルロースアシレート溶液１                          １０．３質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３５６】
（重合体溶液２の調製）
下記成分を下記組成比でミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、重合体溶液２を調製した。
【０３５７】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
重合体溶液２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・例示の重合体Ｐ−２１４                              ２０．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                      ６７．２質量部
・メタノール（第２溶媒）                              １０．０質量部
・セルロースアシレート溶液１                          １２．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０３５８】
上記マット剤溶液１の１．３質量部と、重合体溶液２の９．０質量部をそれぞれろ過後にインラインミキサーを用いて混合し、さらにセルロースアシレート溶液１を８９．７質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、支持体面側表層用ドープ（本発明の偏光板用組成物の溶液）３０１液を調製した。
【０３５９】
＜基層用ドープ３０２液の調製＞
セルロースアシレート溶液１を基層用ドープ３０２液として用いた。
【０３６０】
＜空気面側表層用ドープ３０３液の調製＞
上記マット剤溶液１の１．３質量部とセルロースアシレート溶液１を９８．７質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、空気面側表層用ドープ３０３液を調製した。
【０３６１】
（流延）
上記の支持体面側表層用ドープ３０１液、基層用ドープ３０２液、空気側表層用ドープ３０３液を支持体上にこの順に積層して流延した。得られたウェブをバンドから剥離した。剥離したフィルム中に残存する揮発分はフィルムの固形分に対して４０質量％であった。剥離したフィルムを、クリップを外して１３５℃で２０分間乾燥させ、基層が３２μｍ、支持体面側表層および空気面側表層がそれぞれ４μｍになるように、本発明の偏光板保護フィルム（セルロースアシレートフィルム）Ｎｏ．３０１を作製した。各層の組成および膜厚を下記表３に示した。
【０３６２】
２）偏光板Ｎｏ．３０１の作製
（ａ）偏光板保護フィルムの鹸化処理
上記で作製した偏光板保護フィルムＮｏ．３０１を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
【０３６３】
（ｂ）偏光板の作製
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
鹸化処理した偏光板保護フィルムＮｏ．３０１を、その支持体面側表層（支持体面）で、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製）も同様の鹸化処理を行った。次いで、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、鹸化処理した偏光板保護フィルムＮｏ．３０１が貼り付けてある側とは反対側の偏光子の面に、鹸化処理済みの上記市販のセルローストリアセテートフィルムを貼り付けた。
この際、偏光子の透過軸と作製した偏光板保護フィルムＮｏ．３０１もしくは市販のセルロースアシレートフィルムの幅方向とが平行になるように配置した。
このようにして、本発明の偏光板Ｎｏ．Ｈ３０１を作製した。
【０３６４】
２．偏光板Ｎｏ．Ｈ３０２〜Ｈ３０５およびＨｃ３１の作製
偏光板Ｎｏ．Ｈ３０１の作製において、重合体Ｐ−２０４を下記表３に示す上記例示重合体に変更し、さらに添加量を表３に示す添加量となるように調整した支持体面側表層用ドープ、基層用ドープを用いた以外は偏光板保護フィルムＮｏ．３０１と同様にして、偏光板保護フィルムＮｏ．３０２〜３０５およびｃ３１を作製した。また、偏光板Ｎｏ．Ｈ３０１の作製において、偏光板保護フィルムＮｏ．３０１に代えて偏光板保護フィルムＮｏ．３０２〜３０５およびｃ３１を用いたこと以外は偏光板Ｎｏ．Ｈ３０１と同様にして、本発明の偏光板Ｎｏ．Ｈ３０２〜Ｈ３０５および比較の偏光板Ｎｏ．Ｈｃ３１を作製した。
【０３６５】
３．耐久性の評価
上記のようにして作製した各偏光板の耐久性を、以下のようにして評価した。
【０３６６】
保存条件を、６０℃、相対湿度９５％の環境下で３３６時間から８０℃、相対湿度９０％の環境下で７２時間に変更したこと以外は、実施例１の「耐久性の評価」と同様にして、波長４１０ｎｍにおける偏光子の耐久性試験前後での直交透過率の変化量を求めた。この変化量により、各偏光板の耐久性を下記基準で評価した。
なお、ガラスの上に作製した偏光板を貼り付ける際、偏光板保護フィルムが空気界面側になるように、貼り付けた。
【０３６７】
８０℃で相対湿度９０％の環境下で７２時間
Ａ＋：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．２％未満
Ａ  ：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．２％以上０．３％未満
Ｂ  ：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．３％以上０．４％未満
Ｃ  ：耐久性試験前後の直交透過率の変化量が０．４％以上
【０３６８】
本評価による耐久性試験はＢランク以上であることが実用上望ましい。
【０３６９】
得られた結果を、下記表３にまとめて示す。
【０３７０】
【表３】
0006274673.tif 000038
【０３７１】
上記表３の結果から、本発明の偏光板用組成物を用いて作製した本発明の偏光板保護フィルムを有する偏光板は、高温高湿経時による偏光子耐久性に優れていることがわかった。
【０３７２】
実施例４
以下のようにして、偏光子（偏光子層）に重合体を組み込んだ偏光板を作製し、偏光子の耐久性を評価した。
【０３７３】
１．偏光板Ｎｏ．Ｈ４０１〜Ｈ４０８の作製
１）偏光子の作製
原反フィルムとして、ポリビニルアルコールフィルム（クラレ製ＶＦ−ＰＳ７５００；厚さ７５μｍ）を用いた。このポリビニルアルコールフィルムに、下記の順番にて、下記各工程を施した。
【０３７４】
（膨潤工程）
膨潤浴の処理液としては、純水を用いた。上記ポリビニルアルコールフィルムを膨潤浴に搬送し、３０℃に調整した純水中に１分間浸漬して膨潤させつつ、２．２倍に延伸した。
【０３７５】
（染色工程）
染色浴の処理液としては、ヨウ素０．０４５質量％およびヨウ化カリウム０．３１５質量％を含むヨウ素染色溶液を用いた。上記膨潤処理されたポリビニルアルコールフィルムを染色浴に搬送し、３０℃に調整したヨウ素染色溶液に、３０秒間浸漬しながら、元長に対して延伸倍率３．３倍になるように延伸して、染色した。
【０３７６】
（架橋工程）
架橋浴の処理液としては、ホウ酸を３質量％、ヨウ化カリウムを３質量％含有する混合水溶液（１）を用いた。上記処理されたポリビニルアルコールフィルムを架橋浴に搬送し、３０℃に調整した混合水溶液（１）に、３０秒間浸漬しながら、元長に対して延伸倍率３．６倍になるように延伸した。これにより、ポリビニルアルコールフィルムの水酸基同士がホウ酸により架橋された。
【０３７７】
（延伸工程）
延伸浴の処理液としては、ホウ酸を４質量％、ヨウ化カリウムを５質量％含有する混合水溶液（２）を用いた。上記処理されたポリビニルアルコールフィルムを延伸浴に搬送し、６０℃に調整した混合水溶液（２）に、６０秒間浸漬しながら、元長に対して延伸倍率６．０倍になるように延伸した。
【０３７８】
（洗浄工程）
洗浄浴の処理液としては、ヨウ化カリウムを３質量％含有する水溶液を用いた。上記処理されたポリビニルアルコールフィルムを洗浄浴に搬送し、３０℃に調整した上記水溶液に、１０秒間浸漬した。
【０３７９】
（乾燥工程）
次いで、上記で処理されたポリビニルアルコールフィルムを水切りし、テンションをかけた状態で６０℃のオーブンで４分間乾燥して、偏光子を得た。
【０３８０】
２）偏光板保護フィルムの貼り付け
富士フイルム製セルロースアセテートフィルム（商品名フジタックＴＤ８０ＵＦ）を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、セルロースアセテートフィルムの表面を鹸化処理した。
鹸化処理したセルロースアセテートフィルムを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記にて作製した偏光子層の片側の表面に偏光板保護フィルムとして貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と市販のセルロースアシレートフィルムの幅方向とが平行になるように配置した。
【０３８１】
２）偏光子層への重合体の組み込み
下記に示す重合体（Ｐ−１０１、１０６、１１２、１１４、２０４、２１１、２１９および２２０）それぞれを、溶媒（ＭＥＫ、メタノールまたはＴＨＦのいずれか）に溶解し、各重合体の繰り返し単位が０．１７ｍｏｌ／Ｌの濃度となるように調整した重合体溶液（本発明の偏光板用組成物の溶液）を調製した。この重合体溶液を偏光子層の偏光板保護フィルムを貼付した面と反対側の表面に、塗布量が２６ｍｌ／ｍ２となるようにバーコーターで塗布し、８０℃で９０秒間乾燥させた。
このようにして、偏光子層の少なくとも表面または表面を含む表層領域に各重合体を浸み込ませて含有させた本発明の偏光板Ｎｏ．Ｈ４０１〜Ｈ４０８をそれぞれ作製した。
【０３８２】
２．偏光板Ｎｏ．Ｈｃ４１の作製
偏光板Ｎｏ．Ｈ４０１の作製において、上記２）の偏光子層への重合体の浸み込み処理（重合体溶液の塗布、乾燥処理）を行わなかった以外は、偏光板Ｎｏ．Ｈ４０１の作製と同様にして、比較の偏光板Ｎｏ．Ｈｃ４１を作製した。
【０３８３】
【化３５】
0006274673.tif 000039
【０３８４】
３．耐久性の評価
上記のようにして作製した各偏光板の耐久性を、以下のようにして評価した。
【０３８５】
作製した各偏光板Ｎｏ．Ｈ４０１〜Ｈ４０８における、重合体溶液を塗布、乾燥した表面を、粘着剤（綜研化学社製、ＳＫ−２０５７）を介して、ガラス板に貼り付けることにより、偏光板試料（約５ｃｍ×５ｃｍ）をそれぞれ作製した。
一方、比較の偏光板Ｎｏ．Ｈｃ４１における、重合体溶液を塗布していない面（偏光板保護フィルムを貼付した面と反対側の表面）を、同様にして、粘着剤を介してガラス板に貼り付けて、比較の偏光板試料をそれぞれ作製した。
このようにして作製した各偏光板試料の透過率を、上記自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０を用いて３８０〜７８０ｎｍの範囲で１０回測定した。得られた１０回の測定値の平均値を、実施例１と同様にして、波長４１０ｎｍにおける透過率（直交透過率（耐久性試験前））として、求めた。
その後、６０℃で相対湿度９０％の環境下で各偏光板試料を５００時間保存した後に、同様の方法で、１０回の測定値の平均値を、波長４１０ｎｍにおける直交透過率（耐久性試験後）として、測定した。
なお、耐久性試験前後の直交透過率の測定は、それぞれ、２５℃で相対湿度６０％の環境下で行った。
耐久性試験前後の直交透過率の変化量を実施例１で示した式により求め、これを偏光板耐久性として評価した。
【０３８６】
本発明の偏光板Ｎｏ．Ｈ４０１〜Ｈ４０８は、いずれも、本発明の重合体を浸み込ませていない比較の偏光板Ｎｏ．Ｈｃ４１に対して、波長４１０ｎｍでの直交透過率変化量が少なく、偏光子の耐久性に優れていることがわかる。
【０３８７】
実施例１〜４の結果から、本発明の偏光板用組成物を使用することで、以上に示したような優れた性能の偏光板が作製できる。この偏光板を用いることにより、優れた性能を有する液晶表示装置を作製できる。
【符号の説明】
【０３８８】
２１Ａ、２１Ｂ  偏光板
２２  カラーフィルタ基板
２３  液晶層（液晶セル）
２４  アレイ基板
２５  導光板
２６  光源
３１ａ、３１ａ’、３１ｂ  偏光板保護フィルム
３１１ａ  偏光板保護フィルム
３１１ｂ  ハードコート層
３２  偏光子
Ｒ  偏光方向
【図１】
0006274673.tif 000045
【図２】
0006274673.tif 000046