(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジスト片を含むレジスト剥離液を貯留する液貯留部と、
前記液貯留部内の前記レジスト剥離液中の前記レジスト片を捕らえる補獲部と、
前記捕獲部で捕らえた前記レジスト片を加熱する加熱部と、
前記液貯留部内の前記レジスト剥離液を一方向に旋回させる攪拌部と、を備え、
前記捕獲部は、前記攪拌部により前記レジスト剥離液が旋回する方向に並ぶように前記液貯留部の内周面に複数設けられていることを特徴とするレジスト剥離液浄化装置。
【請求項２】
前記捕獲部は、前記液貯留部内に設けられた、網状の捕獲部材であることを特徴とする請求項１に記載のレジスト剥離液浄化装置。
【請求項３】
前記加熱部は、前記捕獲部に設けられることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のレジスト剥離液浄化装置。
【請求項４】
前記レジスト剥離液は、過酸化水素水を含有しており、
前記液貯留部内のレジスト剥離液に過酸化水素水を補充する補充部をさらに備えることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載のレジスト剥離液浄化装置。
【請求項５】
レジストを有する基板にレジスト剥離液を供給する液供給部と、
前記液供給部から供給され、前記基板から剥離されたレジスト片を含むレジスト剥離液を貯留する液貯留部と、
前記液貯留部内の前記レジスト剥離液中の前記レジスト片を捕らえる補獲部と、
前記捕獲部で捕らえた前記レジスト片を加熱する加熱部と、
前記液貯留部内の前記レジスト剥離液を一方向に旋回させる攪拌部と、を備え、
前記捕獲部は、前記攪拌部により前記レジスト剥離液が旋回する方向に並ぶように前記液貯留部の内周面に複数設けられていることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、レジスト剥離液浄化装置及び基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体や液晶パネルなどの製造工程では、ウェーハや液晶基板などの基板表面にレジスト剥離液を供給し、基板表面からレジスト膜を除去する基板処理装置が用いられている。この基板処理装置の中には、基板を水平状態で回転させて基板表面の略中央にレジスト剥離液を供給し、そのレジスト剥離液を遠心力によって基板表面に広げるスピン処理装置が開発されている。さらに、一度利用したレジスト剥離液を回収して再利用するスピン処理装置も開発されている。
【０００３】
通常、一度使用したレジスト剥離液には、基板表面から剥がれたレジスト片が混入するため、このレジスト剥離液を再利用するためには、使用後のレジスト剥離液からレジスト片を除去する必要がある。このため、レジスト剥離液を回収する回収流路中には、レジスト剥離液中のレジスト片を除去するフィルタが設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−９６０１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前述のフィルタにおいては、レジスト剥離液中のレジスト片によって目詰まりが生じることから、フィルタ交換や清掃などのメンテナンスが必須となっており、作業者の負担が増えている。このため、作業者の負担を軽減することが望まれている。
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、作業者の負担を軽減することができるレジスト剥離液浄化装置及び基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
実施形態に係るレジスト剥離液浄化装置は、
レジスト片を含むレジスト剥離液を貯留する液貯留部と、
前記液貯留部内の前記レジスト剥離液中の前記レジスト片を捕らえる補獲部と、
前記捕獲部で捕らえた前記レジスト片を加熱する加熱部と、
前記液貯留部内の前記レジスト剥離液を一方向に旋回させる攪拌部と、を備え、
前記捕獲部は、前記攪拌部により前記レジスト剥離液が旋回する方向に並ぶように前記液貯留部の内周面に複数設けられていることを特徴とする。
【０００８】
実施形態に係る基板処理装置は、
レジストを有する基板にレジスト剥離液を供給する液供給部と、
前記液供給部から供給され、前記基板から剥離されたレジスト片を含むレジスト剥離液を貯留する液貯留部と、
前記液貯留部内の前記レジスト剥離液中の前記レジスト片を捕らえる補獲部と、
前記捕獲部で捕らえた前記レジスト片を加熱する加熱部と、
前記液貯留部内の前記レジスト剥離液を一方向に旋回させる攪拌部と、を備え、
前記捕獲部は、前記攪拌部により前記レジスト剥離液が旋回する方向に並ぶように前記液貯留部の内周面に複数設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の実施形態によれば、作業者の負担を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１の実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】第１の実施形態に係る液浄化部が備える液貯留部を示す断面図である。
【図３】第１の実施形態に係る液浄化部が備える液貯留部を示す平面図である。
【図４】第１の実施形態に係る液浄化部が備える液貯留部の変形例１を示す断面図である。
【図５】第１の実施形態に係る液浄化部が備える液貯留部の変形例２を示す断面図である。
【図６】第２の実施形態に係る液浄化部が備える液貯留部を示す断面図である。
【図７】第３の実施形態に係る基板処理装置の概略構成の一部を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（第１の実施形態）
第１の実施形態について図１乃至図５を参照して説明する。
【００１２】
図１に示すように、第１の実施形態に係る基板処理装置１は、レジスト剥離液により基板Ｗを処理する基板処理槽２と、その基板処理槽２にレジスト剥離液を供給する液供給部３と、基板処理槽２から排出されたレジスト剥離液を浄化するレジスト剥離液浄化装置として機能する液浄化部４と、各部を制御する制御部５とを備えている。
【００１３】
基板処理槽２は、槽内部に設けられたカップ２ａと、そのカップ２ａ内で基板Ｗを水平状態で支持するテーブル２ｂと、そのテーブル２ｂ上の基板Ｗの表面にレジスト剥離液を供給するノズル２ｃと、テーブル２ｂを水平面内で回転させる回転機構２ｄとを具備している。
【００１４】
カップ２ａは、円筒形状に形成されており、テーブル２ｂを周囲から囲んで内部に収容する。カップ２ａの周壁の上部は径方向の内側に向かって傾斜しており、テーブル２ｂ上の基板Ｗが露出するように開口している。このカップ２ａは、回転する基板Ｗの表面から流れ落ちたレジスト剥離液や飛散したレジスト剥離液を受け取る。
【００１５】
テーブル２ｂは、カップ２ａ内の中央付近に位置付けられ、水平面内で回転可能に設けられている。このテーブル２ｂは、ピンなどの支持部材２ｂ１を複数有しており、それらの支持部材２ｂ１により、ウェーハや液晶基板などの基板Ｗを挟み込むように支持する。この基板Ｗは表面にマスク用などのレジスト膜（レジスト層）を有している。
【００１６】
さらに、テーブル２ｂは、基板Ｗを加熱するホットプレートとして機能し、テーブル２ｂ上の基板Ｗの表面に供給されたレジスト剥離液（例えば、ＳＰＭ（硫酸及び過酸化水素水の混合液）など）を温める。加熱手段としては、ホットプレート以外にも、光を照射するランプや発熱するヒータ、電磁波を用いる電磁加熱器などを用いることが可能である。なお、レジスト剥離液がＳＰＭである場合には、加熱温度は例えば１８０℃である。これは、レジストの溶解を促進させるためにテーブル２ｂの基板Ｗ上のＳＰＭの温度を例えば１５０℃以上３２０℃以下とするためである。
【００１７】
ノズル２ｃは、テーブル２ｂ上の基板Ｗの表面に処理液を供給する。このノズル２ｃは、テーブル２ｂ上の基板Ｗの表面に沿って移動可能に設けられおり、そのテーブル２ｂ上の基板Ｗの表面略中央に対向する液供給位置と、その液供給位置から退避して基板Ｗの搬入や搬出を妨げない待機位置とに移動する。
【００１８】
回転機構２ｄは、テーブル２ｂの中心を回転軸としてテーブル２ｂを回転させる。この回転機構２ｄは、テーブル２ｂに連結された回転軸やその回転軸を回転させるモータなどを具備している。このモータは制御部５に電気的に接続されており、その駆動が制御部５により制御される。
【００１９】
液供給部３は、常温（例えば２０〜３０℃）のレジスト剥離液を貯留する上端開口の液貯留部３ａと、その液貯留部３ａとノズル２ｃとを接続する供給管３ｂと、レジスト剥離液を戻す戻し配管３ｃと、レジスト剥離液の流動源となるポンプ３ｄと、パーティクルを除去するフィルタ３ｅと、供給管３ｂの開度を調整する調整弁（例えば、電磁弁など）３ｆとを備えている。ポンプ３ｄ及び調整弁３ｆは制御部５に電気的に接続されており、それらの駆動が制御部５により制御される。なお、レジスト剥離液がＳＰＭである場合には、必要に応じて、液貯留部３ａに硫酸や過酸化水素水を補充するようにしても良い。
【００２０】
液浄化部４は、基板処理槽２からレジスト剥離液を排出する回収管４ａと、その排出されたレジスト剥離液を貯留する上端開口の液貯留部４ｂと、その液貯留部４ｂ及び液供給部３の液貯留部３ａを接続する接続管４ｃと、レジスト剥離液の流動源となるポンプ４ｄと、接続管４ｃの開度を調整する調整弁（例えば、電磁弁など）４ｅと、レジスト剥離液を冷却する冷却部４ｆと、液貯留部４ｂに過酸化水素水を補充する補充部４ｇとを備えている。この補充部４ｇは、過酸化水素水を貯留する液貯留部４ｇ１と、その液貯留部４ｇ１及び液貯留部４ｂを接続する補充管４ｇ２と、その補充管４ｇ２の開度を調整する調整弁（例えば、電磁弁など）４ｇ３とを具備している。ポンプ４ｄ、調整弁４ｅ、冷却部４ｆ及び調整弁４ｇ３は制御部５に電気的に接続されており、それらの駆動が制御部５により制御される。
【００２１】
制御部５は、各部を集中的に制御するマイクロコンピュータと、基板処理に関する基板処理情報や各種プログラムなどを記憶する記憶部と（いずれも図示せず）を備えている。この制御部５は、基板処理情報や各種プログラムに基づいて基板処理槽２や液供給部３、液浄化部４などの各部を制御する。具体的には、基板Ｗを支持しているテーブル２ｂを回転機構２ｄにより回転させ、液供給部３によりノズル２ｃから回転中のテーブル２ｂ上の基板Ｗの表面にレジスト剥離液を供給し（剥離処理）、さらに、その剥離処理で使用したレジスト剥離液を液浄化部４により回収して浄化し、浄化したレジスト剥離液を再び剥離処理に用いるという液循環の制御を行う。
【００２２】
次に、前述の液貯留部４ｂについて図２及び図３を参照して説明する。
【００２３】
図２及び図３に示すように、液貯留部４ｂには、その液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液を攪拌する攪拌部１１と、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液中のレジスト片を捕らえる発熱体である複数の捕獲加熱部１２とが設けられている。なお、液貯留部４ｂは、例えば円筒形状に形成されている。
【００２４】
回収管４ａの液貯留部４ｂ側の一端は、液貯留部４ｂの底面側（下端側）にレジスト剥離液を供給するように液貯留部４ｂの底面付近まで伸びている。また、接続管４ｃの液貯留部４ｂ側の一端は、液貯留部４ｂの開口側（上端側）の側壁に接続されている。なお、液貯留部４ｂの底面側にレジスト剥離液を供給するためには、回収管４ａの液貯留部４ｂ側の一端を液貯留部４ｂの底面に接続するようにしても良い。
【００２５】
攪拌部１１は、プロペラなどの攪拌子１１ａ、回転軸１１ｂ及びモータ１１ｃにより構成されている。攪拌子１１ａは、回転軸１１ｂの先端に固定されており、例えば一方向に回転する。また、回転軸１１ｂは回転源となるモータ１１ｃに接続されており、そのモータ１１ｃは制御部５に電気的に接続されており、その駆動が制御部５により制御される。
【００２６】
各捕獲加熱部１２は、例えば矩形の板状に形成されており、攪拌子１１ａの回転を妨げず、さらに、攪拌子１１ａの回転方向、すなわち攪拌子１１ａによりレジスト剥離液が旋回する方向に並ぶように液貯留部４ｂの内周面に設けられている。図３では、一例として、捕獲加熱部１２は４５度毎に設けられており、攪拌子１１ａの回転方向と逆方向に所定角度（例えば、液貯留部４ｂの内周面に対して垂直状態から３０度）倒されている。なお、第１の実施形態では、複数の捕獲加熱部１２を設けているが、これに限るものではなく、例えば一つでも良く、その数は特に限定されるものではない。
【００２７】
これらの捕獲加熱部１２は、攪拌子１１ａの回転により旋回するレジスト剥離液中のレジスト片を捕獲する。さらに、各捕獲加熱部１２は、発熱する電熱線により形成されており、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液及び捕獲したレジスト片の両方（あるいは、どちらか一方）を加熱し、捕獲したレジスト片を溶かす。レジスト片は、レジスト剥離液（例えばＳＰＭ）の酸化力により二酸化炭素と水に分解される。つまり、二酸化炭素は蒸発するが、残った水はレジスト剥離液と混合されることになる。よって、レジスト片が溶解して固体状態ではなくなる。各捕獲加熱部１２は制御部５に電気的に接続されており、その駆動（発熱量など）が制御部５により制御される。なお、レジスト剥離液がＳＰＭである場合には、前述と同様に、加熱温度は例えば１８０℃である。
【００２８】
ここで、各捕獲加熱部１２としては、レジスト片を捕獲する各種の捕獲部材を用いることが可能である。このとき、全て同じ種類の捕獲部材を用いる必要はなく、異なる種類の捕獲部材を用いても良い。捕獲部材としては、例えば、網状や孔状のメッシュなどの濾過膜を用いることが可能である。さらに、帯状の部材を用いることが可能であり、一例として、液貯留部４ｂのレジスト剥離液中で漂う帯状の部材の一端を液貯留部４ｂの内面に固定する。この場合には、液貯留部４ｂ内の旋回流によって広がった帯状の部材にレジスト片が堰き止められて留まることになる。また、布状の部材を用いることも可能であり、一例として、布により袋を形成し、その端部を液貯留部４ｂの内面に固定する。この場合には、膨れた袋内にレジスト片が入り込んで留まることになる。なお、捕獲部材としては、粘着性又は電位の付与によってレジスト片を吸着する吸着部材を用いることも可能である。
【００２９】
次に、前述の液浄化部４の浄化動作について説明する。
【００３０】
まず、基板処理槽２では、液供給部３により供給されたレジスト剥離液がノズル２ｃから、回転するテーブル２ｂ上の基板Ｗの表面に与えられ、回転の遠心力によって基板Ｗの表面に広がる。これにより、レジスト剥離液による液膜が生成され、基板Ｗの表面からレジストが除去される。このとき、回転する基板Ｗの表面からレジスト剥離液は流れ落ち、あるいは、飛散してカップ２ａに受け取られる。このレジスト剥離液は、基板Ｗの表面から剥離されたレジスト片を含んでいる。
【００３１】
レジスト片を含むレジスト剥離液は、カップ２ａ内から排出されて回収管４ａを通り、液貯留部４ｂの底面付近に流れ込む。このとき、液貯留部４ｂ内の攪拌子１１ａが回転しているため、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液は一方向に旋回し、液貯留部４ｂ内には旋回流（渦）が生じる。レジスト剥離液中のレジスト片は自重により底面付近に留まりつつも、旋回流の遠心力によって液貯留部４ｂの外周面に向かって移動する。また、浮遊するレジスト片が存在する場合でも、そのレジスト片は旋回流の遠心力によって液貯留部４ｂの外周面に向かって移動する。
【００３２】
このようなレジスト片は、液貯留部４ｂの外周面に存在する各捕獲加熱部１２に引っ掛かって捕らえられ、その後も旋回流の流れ（流れの力）によって各捕獲加熱部１２により捕獲されたままとなる。浮遊するレジスト片も、旋回流に乗って液面まで到達する前に各捕獲加熱部１２によって確実に捕獲される。捕獲されたレジスト片は、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液が各捕獲加熱部１２により溶解温度以上に加熱されているため、レジスト剥離液に次第に溶けていく。
【００３３】
レジスト片が溶解した浄化済のレジスト剥離液は、液貯留部４ｂの開口側（上端側）に位置する接続管４ｃから排出される。その後、接続管４ｃを流れるレジスト剥離液は、冷却部４ｆにより常温程度（例えば、２０〜３０℃程度）に冷却され、液貯留部３ａ内に流れ込み、再びノズル２ｃに供給されて使用される。
【００３４】
この浄化動作中、液貯留部４ｂ内には過酸化水素水が補充部４ｇによって補充され、レジスト剥離液の過酸化水素濃度の低下が抑えられている。なお、過酸化水素水は、沸騰しない程度に加熱されてから補充されても良い。また、レジスト剥離液に混入しているレジスト片は各捕獲加熱部１２により捕獲され、レジスト剥離液は配管４ｃに排出される。レジスト片は各捕獲加熱部１２により捕獲されたままであり、その捕獲された時間が利用されて溶かされている。レジスト片が捕獲されて留まっている時間、すなわちレジスト片を滞留させる時間が溶かす時間であり、例えば十数分や数十分程度の時間となる。このようにレジスト片を溶かす時間を要するため、前述のように液貯留部４ｂ内に過酸化水素水を補充し、レジスト剥離液の過酸化水素濃度の低下を抑えることが望ましい。
【００３５】
このような浄化動作によれば、各捕獲加熱部１２によりレジスト剥離液中のレジスト片を捕獲して溶かし、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液からレジスト片を無くすことが可能となる。また、液貯留部４ｂに過酸化水素水を補充するによってレジスト剥離液の酸化力を補い、その酸化力によってレジスト片を溶かすことを促進することができる。このように、レジスト剥離液中のレジスト片をフィルタで取り除く場合に比べ、フィルタの目詰まりが生じることが無くなる。これにより、フィルタ交換や清掃などのメンテナンスを不要とすることが可能となるので、作業者の負担を軽減することができる。
【００３６】
また、攪拌部１１により液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液を一方向に旋回して液貯留部４ｂ内に旋回流を生じさせることによって、レジスト剥離液中のレジスト片を旋回流の遠心力により液貯留部４ｂの外周面に向かって移動させ、その液貯留部４ｂの外周面に存在する各捕獲加熱部１２により捕獲することができる。したがって、液貯留部４ｂ内でレジスト片を確実に捕獲することが可能となり、レジスト剥離液中のレジスト片を確実に溶かすことができる。
【００３７】
また、各捕獲加熱部１２により捕獲されたレジスト片は、その後も旋回流の流れ（流れの力）によってその捕獲位置に留まって溶けていくことになる。さらに、各捕獲加熱部１２は、旋回流の流れ方向と逆方向に所定角度倒れているため、旋回流の流れ方向と同じ方向に所定角度倒れている場合に比べ、一度捕獲したレジスト片を旋回流によって逃がすようなことを抑止することができる。したがって、液貯留部４ｂ内でレジスト片を捕獲し続けることが可能となり、レジスト剥離液中のレジスト片を確実に溶かすことができる。
【００３８】
また、レジスト片を含むレジスト剥離液が液貯留部４ｂの底面付近に供給されるため、浮遊するレジスト片が存在しても、さらに、レジスト片が旋回流によって舞い上がるような動きをしても、そのレジスト片が旋回流に乗って液面まで到達する前に各捕獲加熱部１２によってレジスト片を捕獲することが可能となり、液貯留部４ｂの開口側（上端側）に位置する接続管４ｃから流れ出ることを抑えることができる。このように液貯留部４ｂ内でレジスト片を確実に捕獲することが可能となるので、レジスト剥離液中のレジスト片を確実に溶かすことができる。
【００３９】
以上説明したように、第１の実施形態によれば、液浄化部４において液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液中のレジスト片を各捕獲加熱部１２により捕らえ、さらに、それらの捕獲加熱部１２により液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液を加熱し、捕らえたレジスト片を溶かすことによって、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液からレジスト片を無くすことが可能となる。このため、レジスト剥離液中のレジスト片をフィルタで取り除く場合に比べ、フィルタの目詰まりが生じることが無くなる。これにより、フィルタ交換や清掃などのメンテナンスを不要とすることが可能となるので、作業者の負担を軽減することができる。
【００４０】
（変形例１及び変形例２）
前述の液貯留部４ｂの変形例１及び変形例２について図４及び図５を参照して説明する。なお、前述では、各捕獲加熱部１２がそれぞれヒータとして機能するが、変形例１及び変形例２では、各捕獲加熱部１２に替えて、液貯留部４ｂ中のレジスト片を捕獲する複数の捕獲部１２ａが設けられており、一つのヒータ（加熱部）１２ｂ又は１２ｃが設けられている。
【００４１】
詳述すると、変形例１においては、図４に示すように、液貯留部４ｂ中のレジスト片を捕獲する複数の捕獲部１２ａが、前述の捕獲加熱部１２と同様に（図３参照）、液貯留部４ｂの内周面に沿って設けられている。また、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液を加熱するヒータ１２ｂが液貯留部４ｂ外に設けられている。このヒータ１２ｂは円環状に形成されており、その環内に液貯留部４ｂを収容し、液貯留部４ｂと共にその内部のレジスト剥離液を加熱する。ヒータ１２ｂは制御部５に電気的に接続されており、その駆動が制御部５により制御される。
【００４２】
変形例２においては、図５に示すように、液貯留部４ｂ中のレジスト片を捕獲する捕獲部１２ａが、前述の変形例１と同様に、液貯留部４ｂの内周面に沿って設けられている。また、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液を加熱するヒータ１２ｃが液貯留部４ｂ内に設けられている。このヒータ１２ｃは例えば電熱線により形成されており、その電熱線は回収管４ａを巻くようにコイル状に設けられている。ヒータ１２ｃは制御部５に電気的に接続されており、その駆動が制御部５により制御される。
【００４３】
なお、変形例１及び変形例２では、複数の捕獲部１２ａを設けているが、これに限るものではなく、例えば一つでも良く、その数は特に限定されるものではない。また、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液中のレジスト片を溶かす加熱部としては、前述の発熱するヒータ以外にも、光を照射するランプや電磁波を用いる電磁加熱器などを用いることが可能である。
【００４４】
また、第１の実施形態、変形例１及び変形例２において、接続管４ｃの途中に、液貯留部４ｂにレジスト剥離液を戻す循環配管を設けても良い。この場合には、基板Ｗを処理していない時（待機時）、レジスト剥離液を循環させながらレジスト片を溶かしても良い。つまり、基板Ｗを処理するときの剥離作用（溶解も含む）時間よりもゆっくり時間をかけてレジスト片を溶かしても良い。
【００４５】
（第２の実施形態）
第２の実施形態について図６を参照して説明する。なお、第２の実施形態では、第１の実施形態との相違点（液浄化部が備える液貯留部の内部構造）について説明し、その他の説明は省略する。
【００４６】
図６に示すように、第２の実施形態では、液貯留部４ｂ中のレジスト片を捕獲する捕獲部１２ｄが例えば円板状に形成されており、液貯留部４ｂ内で水平状態とされて所定間隔で積層するように設けられている。さらに、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液を加熱するヒータ１２ｅが液貯留部４ｂの底面付近に設けられている。このヒータ１２ｅは例えば電熱線によりコイル状に形成されている。ヒータ１２ｅは制御部５に電気的に接続されており、その駆動が制御部５により制御される。
【００４７】
また、回収管４ａの液貯留部４ｂ側の一端は、液貯留部４ｂの底面側（下端側）にレジスト剥離液を供給するように液貯留部４ｂの底面側の側壁に接続されている。さらに、接続管４ｃの液貯留部４ｂ側の一端は、液貯留部４ｂの上端の開口から液貯留部４ｂの内部に挿入されている。
【００４８】
この液浄化部４の浄化動作では、基板処理槽２での剥離処理は第１の実施形態と同様であり、その剥離処理後、レジスト片を含むレジスト剥離液がカップ２ａ内から排出されて回収管４ａを通り、液貯留部４ｂの底面付近に流れ込む。このとき、レジスト剥離液中のレジスト片は自重により底面付近に留まりつつも、レジスト剥離液の流れによって底面付近から上に向けて移動する。また、浮遊するレジスト片が存在する場合でも、そのレジスト片はレジスト剥離液の流れによって上に向けて移動する。
【００４９】
このようなレジスト片は、液面まで到達する前に、液貯留部４ｂ内で所定間隔で積層する各捕獲部１２ｄに引っ掛かって捕獲される。この捕獲されたレジスト片は、レジスト剥離液がヒータ１２ｅにより溶解温度以上に加熱されているため、溶解温度以上のレジスト剥離液に次第に溶けていく。その後、レジスト片が溶解した浄化済のレジスト剥離液は、液貯留部４ｂの上端の開口につながる接続管４ｃから排出される。なお、その後のレジスト剥離液の冷却や循環、また、過酸化水素水の補充などは第１の実施形態と同様である。
【００５０】
このような浄化動作によれば、各捕獲部１２ｄによりレジスト剥離液中のレジスト片を捕獲し、ヒータ１２ｅによりレジスト剥離液を加熱し、捕獲したレジスト片を溶かすことによって、液貯留部４ｂ内のレジスト剥離液から無くすことが可能となる。このため、レジスト剥離液中のレジスト片をフィルタで取り除く場合に比べ、フィルタの目詰まりが生じることが無くなる。これにより、フィルタ交換や清掃などのメンテナンスを不要とすることが可能となるので、作業者の負担を軽減することができる。
【００５１】
以上説明したように、第２の実施形態によれば、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。すなわち、フィルタ交換や清掃などのメンテナンスを不要とすることが可能となるので、作業者の負担を軽減することができる。
【００５２】
なお、前述の第２の実施形態においては、複数の捕獲部１２ｄを設けているが、これに限るものではなく、例えば一つでも良く、その数は特に限定されるものではない。また、各捕獲部１２ｄの網目や孔のサイズ（濾過サイズ）を同じにしても良く、また、それらのサイズを異ならせても良く、例えば、図６中の下から上に徐々に小さくするようにしても良い。
【００５３】
（第３の実施形態）
第３の実施形態について図７を参照して説明する。なお、第３の実施形態では、第１の実施形態との相違点（液浄化部が備える液貯留部の配置）について説明し、その他の説明は省略する。
【００５４】
図７に示すように、第３の実施形態では、液貯留部４ｂがカップ２ａ内でその底面に固定されて設けられている。この液貯留部４ｂは上端開口の円環状の槽であり、回転機構２ｄの回転軸２ｄ１は液貯留部４ｂの環内を通過している。また、攪拌部１１の回転軸１１ｂは中空管により形成されており、この中空管は、貯留部４ｂの中央に位置する筒状の内周壁が中空管の内部に位置するように設けられている。なお、図７ではモータ１１ｃが図示されていないが、テーブル２ｂや攪拌子１１ａの回転を妨げない位置に設けられている。
【００５５】
ここで、攪拌子１１ａの回転速度はテーブル２ｂの回転速度よりも遅く設定されている。このため、テーブル２ｂ及び攪拌子１１ａのそれぞれの回転速度は異なっているが、これに限るものではなく、同じであっても良く、例えば、攪拌子１１ａの回転速度にテーブル２ｂの回転速度を合わせても良い。加えて、テーブル２ｂ及び攪拌子１１ａのそれぞれの回転方向は同じでも異なっていても良い。また、モータ１１ｃ以外にも、例えば、回転機構２ｄによる回転力をギアなどの伝達部材により回転軸１１ｂに伝達し、攪拌子１１ａを回転させることも可能である。
【００５６】
前述の液貯留部４ｂは、テーブル２ｂ上の基板Ｗの表面から流れ落ちるレジスト剥離液を円環状の開口から直接収容する。これにより、第１又は第２の実施形態に係る回収管４ａが不要となるため、回収管４ａが存在する場合に比べ、回収管４ａの詰まりによる循環不良を抑止することができる。
【００５７】
なお、回収管４ａは、レジスト片を含むレジスト剥離液が流れる管であるため、循環経路の他の部分に比べて詰まりが発生しやすい部分となっている。当然、回収管４ａの口径を大きくすれば、詰まりの発生を抑えることは可能であるが、設置スペースや他の機構などの関係から回収管４ａの口径を大きくすることが難しい場合がある。
【００５８】
以上説明したように、第３の実施形態によれば、第１の実施形態と同様の効果を得ることができる。すなわち、フィルタ交換や清掃などのメンテナンスを不要とすることが可能となるので、作業者の負担を軽減することができる。さらに、第１又は第２の実施形態に比べ、回収管４ａの詰まりによる循環不良を抑止することができる。
【００５９】
（他の実施形態）
前述の第１乃至第３の実施形態においては、液浄化部４をスピン処理による枚葉式の基板処理装置１に適用しているが、これに限るものではなく、例えばバッチ式の基板処理装置など、各種の基板処理装置に適用することが可能である。
【００６０】
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００６１】
１      基板処理装置
２ｃ    ノズル
４      液浄化部
４ｂ    液貯留部
４ｇ    補充部
１２    捕獲加熱部
１２ａ  捕獲部
１２ｂ  ヒータ
１２ｃ  ヒータ
１２ｄ  捕獲部
１２ｅ  ヒータ
Ｗ      基板
【図１】
0006426388.tif 000002
【図２】
0006426388.tif 000003
【図３】
0006426388.tif 000004
【図４】
0006426388.tif 000005
【図５】
0006426388.tif 000006
【図６】
0006426388.tif 000007
【図７】
0006426388.tif 000008