(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を動的に変化させて地盤中に注入する薬液注入工法であって、
複数の注入管を対象地盤に設置する工程と、
前記複数の注入管に対して薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を増減させて同時に注入を行う工程とを備え、
前記注入は、隣接する注入管の間では、一方の注入速度、注入流量又は注入圧力が最大のときに他方が最小となるような増減が逆位相となる注入制御が行われることを特徴とする薬液注入工法。
【請求項２】
薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を動的に変化させて地盤中に注入する薬液注入工法であって、
注入管を対象地盤に設置する工程と、
前記注入管に隣接して注水管を設置する工程と、
前記注水管に対しては、水の注水速度、注水流量又は注水圧力を増減させて注水を行い、前記注入管に対しては、薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を増減させて注入を行う工程とを備え、
前記注水管による注水は、隣接する前記注入管との間で増減が同位相となるように行われることを特徴とする薬液注入工法。
【請求項３】
薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を動的に変化させて地盤中に注入する薬液注入工法であって、
注入管を対象地盤に設置する工程と、
前記注入管に隣接して注水管を設置する工程と、
前記注水管に対して地下水圧が所定値以上の略一定となる注水を行う工程と、
前記注入管に対して薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を増減させて注入を行う工程とを備えていることを特徴とする薬液注入工法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薬液を地盤中に注入する薬液注入工法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に開示されているように、薬液の注入速度又は注入圧力を動的に変化させて地盤中に注入する薬液注入工法が知られている。この動的注入工法によれば、薬液の浸透範囲を広げることができるうえに、効率よく地盤改良を行うことができる。
【０００３】
一方、特許文献２−４に開示されているように、軟弱地盤に薬液を注入するに際して、対象地盤に一定の間隔で複数の注入管を設置し、複数箇所で同時に薬液を注入する方法が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３７３１１８９号公報
【特許文献２】特開２００９−１９３３２号公報
【特許文献３】特開２０１４−１０５５２２号公報
【特許文献４】特開２０１５−３４４２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、隣接して設置された複数の注入管によって同時に薬液を注入すると、地盤中に浸透して広がった薬液が重なり合う範囲が発生して、その重畳範囲では、地中圧力が増加しすぎて地盤を隆起させてしまうおそれがある。
【０００６】
そこで、本発明は、薬液の注入方法を制御することによって薬液の浸透状態を制御することが可能な薬液注入工法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するために、本発明の薬液注入工法は、薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を動的に変化させて地盤中に注入する薬液注入工法であって、複数の注入管を対象地盤に設置する工程と、前記複数の注入管に対して薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を増減させて注入を行う工程とを備え、前記注入は、隣接する注入管の間では増減が逆位相となるように行われることを特徴とする。
【０００８】
また、別の本発明の薬液注入工法は、薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を動的に変化させて地盤中に注入する薬液注入工法であって、注入管を対象地盤に設置する工程と、前記注入管に隣接して注水管を設置する工程と、前記注水管に対しては、水の注水速度、注水流量又は注水圧力を増減させて注水を行い、前記注入管に対しては、薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を増減させて注入を行う工程とを備え、前記注水管による注水は、隣接する前記注入管との間で増減が同位相となるように行われることを特徴とする。
【０００９】
さらに、別の本発明の薬液注入工法は、薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を動的に変化させて地盤中に注入する薬液注入工法であって、注入管を対象地盤に設置する工程と、前記注入管に隣接して注水管を設置する工程と、前記注水管に対して地下水圧が所定値以上の略一定となる注水を行う工程と、前記注入管に対して薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を増減させて注入を行う工程とを備えていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
このように構成された本発明の薬液注入工法は、複数の注入管を対象地盤に設置して、それらの注入管に対しては、薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を増減させて注入を行う。
【００１１】
そして、注入は、隣接する注入管の間では増減が逆位相となるように行われる。すなわち、一方の注入管から注入される薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力が最大になる瞬間には、隣接する他方の注入管から注入される注入速度等が最小になる。
【００１２】
このため、隣接する注入管から同時に薬液を注入した際に、地盤中に浸透して広がった薬液が重なり合う範囲が発生しても、どちらかの注入速度等が上回ることになって、重畳範囲で過剰に地中圧力が増加するのを抑えることができる。
【００１３】
このように隣接する注入管の間では増減が逆位相となるよう薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を調整する注入方法とすることによって、薬液の浸透状態が制御され、意図せぬ地盤の隆起の発生を抑えることができる。
【００１４】
一方、薬液を注入する対象地盤に隣接して、建物の地下部やボックスカルバートなどの管路や地下トンネルなどの既存構造物が存在する場合に、逸脱した薬液がその周囲に浸透するのを防ぎたいことがある。
【００１５】
このような場合に、薬液の影響を及ぼしたくない既存構造物側に注入管に隣接して注水管を設置して、そこから地盤中に水を注水するとともに、注入管では注水管と増減が同位相となる注入方法にすることで、注入管による薬液の浸透範囲（浸透状態）が制御できて、意図せぬ範囲への薬液の逸脱を抑えることができる。
【００１６】
さらに、意図せぬ範囲への薬液の逸脱を抑える場合において、地下水圧を所定値以上、例えば限界注入速度試験によって得られる限界注入圧力以上の略一定にしても既存構造物等に弊害が生じない場合は、注水によって上昇させる地下水圧を静的なものにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施の形態の薬液注入工法の概念を説明するための説明図である。
【図２】薬液注入に使用される装置の構成を模式的に示した説明図である。
【図３】隣接する注入管のそれぞれの制御波形を示した説明図である。
【図４】実施例１の薬液注入工法の概念を説明するための説明図である。
【図５】隣接する注入管と注水管のそれぞれの制御波形を示した説明図である。
【図６】実施例２の薬液注入工法の概念を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。図１は、本実施の形態の薬液注入工法を説明するために、隣接して設置された注入管１Ａ，１Ｂの注入範囲ＬＡ，ＬＢを模式的に示した図である。
【００１９】
一方、図２は、本実施の形態の薬液注入工法に使用される装置の概略構成を示した図である。まず、図２を参照しながら、動的注入ポンプ２及びその周辺の構成について説明する。
【００２０】
薬液を注入するための準備工程として、ボーリングマシン４を利用して地盤Ｇに注入管１が設置される。ここで、注入管１が削孔用ロッドを兼ねている場合は、注入管１の頭部にボーリングマシン４のスイベルヘッド１１が接続されて、対象地盤Ｇ２まで打ち込まれた注入管１は、そのまま薬液注入に使用される。
【００２１】
これに対して、専用の削孔用ロッド（図示せず）を使用する場合は、最初にボーリングマシン４のスイベルヘッド１１に削孔用ロッドを接続し、削孔終了後に削孔用ロッドを注入管１と入れ替えて、薬液注入を行うことになる。
【００２２】
スイベルヘッド１１には、薬液の注入速度、注入流量又は注入圧力を時間の経過に伴って増減させるという薬液の注入方法が実施可能な動的注入ポンプ２が接続される。すなわち、この動的注入ポンプ２は、経時的に注入速度、注入流量又は注入圧力を変化させる動的注入が可能なポンプである。
【００２３】
動的注入ポンプ２は、電動モータを駆動部とする注入ポンプ２１と、ファンクションジェネレータとなる波形発生装置２２と、流量・圧力測定装置２３とによって主に構成される。
【００２４】
注入ポンプ２１は、電動モータの回転数を任意に変更することで、吐出流量（注入流量）を変更することができる。ここで、吐出流量を薬液の圧送に使用される配管の断面積で除した値が注入速度となる。
【００２５】
このため、電動モータの回転数を下げると、それに伴って注入速度が低下することになる。他方、電動モータの回転数を上げると、それに伴って注入速度が増加することになる。
【００２６】
また、波形発生装置２２は、例えばSIN波（正弦波）などの制御波形を造成する装置である。波形発生装置２２では、波形の周波数ｆ及び振幅を調整することができる。ここで、振幅は、最大流量と最小流量との差（最大注入速度と最小注入速度との差、最大注入圧力と最小注入圧力との差）となる。
【００２７】
さらに、流量・圧力測定装置２３は、注入管１によって対象地盤Ｇ２に注入される薬液の流量及び注入圧力を測定する装置である。この流量・圧力測定装置２３で測定される流量値（L/min）から、対象地盤Ｇ２に注入された薬液の注入流量（注入速度）を把握することができる。
【００２８】
また、流量・圧力測定装置２３で測定される圧力値(kPa)から、地中圧力を推定することができる。例えば、流量・圧力測定装置２３で測定される圧力値が上昇しているときには、対象地盤Ｇ２中の地中圧力も同じく上昇しているものと推定することができる。
【００２９】
動的注入ポンプ２によって注入する薬液には、水ガラス系溶液型薬液、ベントナイト、超微粒子セメントを含有する高濃度微粒グラウト、粗粒分が混合されたモルタル系グラウトなどの、既知の薬液注入工法に使用される様々な種類の薬液が使用できる。
【００３０】
また、注入される薬液には、その種類によって、二液を混合した直後に圧送させるもの、一液の状態のままで圧送させるものなどがある。図２では、二液（Ａ液、Ｂ液）を混合した直後に圧送する構成について説明する。
【００３１】
動的注入ポンプ２には、薬液ミキサ３が接続される。この薬液ミキサ３の中で、二液（Ａ液、Ｂ液）が混合される。すなわち、硬化材置き場３１から搬送された硬化材（Ｂ液の原料）と、貯水槽３２から送水された水と、貯液槽３３から送られた溶液（Ａ液）とを、薬液ミキサ３内で混合する。
【００３２】
硬化材置き場３１には、運搬車両３１１などによって現場に運ばれてきた硬化材が、適宜補給される。また、貯水槽３２に溜められた水は、送水ポンプ３２１によって薬液ミキサ３に供給される。
【００３３】
さらに、貯液槽３３には、タンクローリ３３３などによって搬送されてきた溶液が貯留され、送液ポンプ３３１によって薬液ミキサ３に供給される。ここで、薬液ミキサ３に供給される溶液の量は、流量計３３２によって管理される。
【００３４】
次に、本実施の形態の薬液注入工法の工程及びその作用について、図面を参照しながら説明する。
【００３５】
まず、ボーリングマシン４を使って、図１に示すように、注入管１Ａ，１Ｂを対象地盤Ｇ２の所定の深度まで打ち込む。この図で例示する地盤Ｇでは、地表から表層地盤Ｇ１、対象地盤Ｇ２、深層地盤Ｇ３が順に積層されている。
【００３６】
本実施の形態の薬液注入工法では、対象地盤Ｇ２に薬液を注入して地盤改良を行う。この図では、隣接する２本の注入管１Ａ，１Ｂのみ図示しているが、実際には、面的な広がりをもって多数の注入管１，・・・が対象地盤Ｇ２に設置されることになる。
【００３７】
ここで図示した注入管１Ａ，１Ｂは、互いに最も近い距離にある注入管どうしとなる。ここで、模式的に注入範囲を示すと、左側の注入管１Ａの注入範囲ＬＡと右側の注入管１Ｂの注入範囲ＬＢとは、一部が重なり合って重畳部Ｍが発生する。
【００３８】
この重畳部Ｍには、左側の注入管１Ａと右側の注入管１Ｂとの両方から薬液が浸透してくることになる。仮に、両方の注入管１Ａ，１Ｂから同じ注入圧力で薬液が同時に浸透してきたとすると、重畳部Ｍ周辺の薬液の注入圧力（又は浸透量）が過剰になって、上方の表層地盤Ｇ１が隆起するおそれがある。
【００３９】
そこで、地盤Ｇの隆起を防ぐために、隣接する注入管１Ａ，１Ｂから同時に薬液を注入するに際して、以下のような注入方法を採用する。まず、図３の上図を参照しながら、動的注入方法について説明する。
【００４０】
注入管１Ａからは、経時的に注入速度を増減させた注入が行われる。ここで、薬液の圧送に使用される配管の断面積が一定であれば、注入速度の変化は注入流量（L/min）の変化と同じになる。
【００４１】
このため、「注入速度で管理する」と「注入流量（吐出流量）で管理する」とは、同義とすることができる。このため注入速度は、流量・圧力測定装置２３の測定値によって管理することができる。
【００４２】
平均注入速度Ｓ０は、注入ポンプ２１の回転数を変更することによって、調整することができる。また、注入速度の増減は、波形発生装置２２によって調整することができる。
【００４３】
ここでは、最大注入速度Ｓ１と最小注入速度Ｓ２との差分を振幅とした正弦波を、制御波形としている。また、波形発生装置２２によって、周波数ｆ（波長λ）の設定も行われる。
【００４４】
一方、図３の下図に示した注入管１Ｂについても、平均注入速度Ｓ０は注入管１Ａと同じにする。また、注入管１Ｂの最大注入速度Ｓ１、最小注入速度Ｓ２及び周波数ｆ（波長λ）についても、注入管１Ａと同じにする。
【００４５】
そして、隣接する注入管１Ａ，１Ｂの間で、制御波形の位相をずらす。詳細には、注入管１Ａの位相に対して、注入管１Ｂの位相を逆位相にする。
【００４６】
要するに、図３に示すように、注入管１Ａの注入速度が最大注入速度Ｓ１となる時刻ｔ１に、注入管１Ｂの注入速度が最小注入速度Ｓ２となるように相互の位相をずらす。
【００４７】
この結果、重畳部Ｍにおいては、注入管１Ａからの薬液の注入圧力が高まるときには、注入管１Ｂからの注入圧力が低くなって、地中圧力の過剰な増加を抑えることができる。
【００４８】
このように構成された本実施の形態の薬液注入工法は、複数の注入管１Ａ，１Ｂを対象地盤Ｇ２に設置して、それらの注入管１Ａ，１Ｂに対しては、薬液の注入速度（注入流量又は注入圧力）を増減させて注入を行う。
【００４９】
そして、注入は、隣接する注入管１Ａ，１Ｂの間では増減が逆位相となるように行われる。すなわち、一方の注入管１Ａから注入される薬液の注入速度が最大になる瞬間（最大注入速度Ｓ１）には、隣接する他方の注入管１Ｂから注入される注入速度が最小（最小注入速度Ｓ２）になる。
【００５０】
このため、隣接する注入管１Ａ，１Ｂから同時に薬液を注入した際に、地盤中に浸透して広がった薬液が重なり合う重畳部Ｍが発生しても、どちらかの注入速度が上回ることになって、重畳部Ｍ及びその周辺に過剰に薬液が注入されることを抑えることができる。
【００５１】
このように隣接する注入管１Ａ，１Ｂの間では増減が逆位相となるよう薬液の注入速度を調整する注入方法とすることによって、薬液の浸透状態が制御され、意図せぬ地盤Ｇの隆起の発生を抑えることができる。
【００５２】
そして、隣接する注入管１Ａ，１Ｂに対して同時に薬液を注入することができれば、短時間で広い範囲に薬液を注入することができるようになるので、施工効率に優れている。
【実施例１】
【００５３】
以下、前記実施の形態で説明した薬液注入工法とは別の形態の実施例１について、図４，５を参照しながら説明する。なお、前記実施の形態で説明した内容と同一乃至均等な部分の説明については、同一用語又は同一符号を用いて説明する。
【００５４】
前記実施の形態では、隣接する注入管１Ａ，１Ｂの間の地中圧力が高まり過ぎるのを防ぐための注入方法について説明したが、本実施例１では、薬液を浸透させたくない領域がある場合の薬液注入工法について説明する。
【００５５】
図４は、本実施例１の薬液注入工法が適用される地盤Ｇ周辺の状態を模式的に示した図である。薬液注入が行われる対象地盤Ｇ２の周辺には、建物ＢＬの地下部が既存構造物として存在している。
【００５６】
この図では、建物ＢＬの地下部を既存構造物としたが、これに限定されるものではなく、ボックスカルバートなどの管路や地下トンネルなどが既存構造物であってもよい。
【００５７】
この既存構造物である建物ＢＬは、例えば薬液注入よって地盤改良を行いたい敷地とは別の敷地に立てられており、対象地盤Ｇ２に注入された薬液が逸脱して浸透していくのを極力避ける必要がある。
【００５８】
このような場合に、注入管１と建物ＢＬとの間に、注水管５を設置する。この注水管５は、対象地盤Ｇ２に水を注入するための管材であるが、注入管１と同様にして対象地盤Ｇ２に設置することができる。
【００５９】
図４では、模式的に注入管１の注入範囲ＬＣと注水管５の注水範囲ＰＷとを示している。この注入範囲ＬＣ及び注水範囲ＰＷは、注入の途中段階の状態であり、この段階では注入範囲ＬＣと注水範囲ＰＷとの間に重なり合う領域は発生していない。
【００６０】
この注水管５による注水は、薬液の浸透を妨げるために行われる。すなわち、注水管５の注水によって地下水圧が高められると、それ以上の注入圧力（地中圧力）に達しなければ薬液は浸透できなくなるので、薬液を浸透させたくない範囲（薬液注入範囲外）に薬液の注入に合わせて注水することで、薬液の浸透範囲を制御することができる。
【００６１】
本実施例１では、建物ＢＬに近接した位置に注水管５を打ち込み、注水管５から注水された水によって建物ＢＬ周辺の地下水圧を高めて、建物ＢＬ周辺には逸脱した薬液が浸透していかないように制御する。
【００６２】
ここで、注水管５の注水によって地盤Ｇの地下水圧を上昇させたときに、建物ＢＬの例えば地下室などに漏水が発生するおそれがある場合には、そのような影響を可能な限り抑える必要がある。
【００６３】
そこで、図５の下図に示すように、注水管５からは、経時的に注水速度を増減させた注水を行うことで、建物ＢＬ周辺の地下水圧の上昇を必要最小限に抑制する。
【００６４】
この図に示した平均注水速度Ｗ０は、注入ポンプ２１の回転数を変更することによって調整する。また、波形発生装置２２によって、最大注水速度Ｗ１と最小注水速度Ｗ２との差分を振幅とする正弦波となるように、注水速度を増減させる。さらに、波形発生装置２２によって、増減させる注水の周波数ｆ（波長λ）の設定も行う。
【００６５】
本実施例１の薬液注入工法では、図５に示すように、注入管１による薬液の注入と同時に、注水管５による水の注水を行う。この注水管５による注水は、注入管１による注入と同位相となるように行われる。
【００６６】
注水管５による注水で地下水圧が上昇すると、その地盤は薬液が浸透しにくい状態となるが、建物ＢＬの地下室やトンネル等への漏水リスクの増加、地表面の湿潤化及び注水箇所近傍の地盤内での目詰まりの発生等の弊害が生じることがある。
【００６７】
このような弊害の発生を防ぐために、注水管５による注水の注水速度、注水流量又は注水圧力を増減させることで、地下水圧の上昇を必要最小限に抑えることができる。
【００６８】
詳細には、図５に示すように、注入管１の注入速度が最大注入速度Ｓ１となる時刻ｔ２に、注水管５の注水速度が最大注水速度Ｗ１となるように相互の位相を一致させる。
【００６９】
この結果、注水管５周辺では、注入管１からの薬液の注入圧力が高まるときには、注水管５からの注水による地下水圧も高くなって、逸脱してきた薬液が建物ＢＬ側に浸透していくのを抑えることができる。
【００７０】
これに対して、注入管１からの薬液の注入圧力が低くなるときには、注水管５からの注水による地下水圧も低くすることで、地下水圧の上昇を必要最小限に抑えることができる。
【００７１】
このように構成された本実施例１の薬液注入工法は、薬液を注入する対象地盤Ｇ２に隣接して既存構造物（建物ＢＬ）が存在する場合に、逸脱した薬液がその周囲に浸透するのを防ぐことができる。
【００７２】
すなわち、薬液の影響を及ぼしたくない建物ＢＬ側に注入管１に隣接して注水管５を設置して、そこから地盤改良を行いたくない地盤中に水を注水するとともに、注入管１では注水管５と増減が同位相となる注入方法で薬液の注入を行う。
【００７３】
この結果、注入管１による薬液の浸透範囲（浸透状態）が制御できて、意図せぬ範囲（薬液注入範囲外となる建物ＢＬ周辺）への薬液の逸脱を抑えることができる。
【００７４】
また、注水管５による注水の注水速度、注水流量又は注水圧力を増減させることで、地下水圧の上昇が必要最小限に抑えられて、建物ＢＬの地下室やトンネル等への漏水などの弊害の発生を防ぐことができる。
【００７５】
なお、実施例１のこの他の構成及び作用効果については、前記実施の形態又は他の実施例と略同様であるため説明を省略する。
【実施例２】
【００７６】
以下、前記実施の形態及び実施例１で説明した薬液注入工法とは別の形態の実施例２について、図６を参照しながら説明する。なお、前記実施の形態又は実施例１で説明した内容と同一乃至均等な部分の説明については、同一用語又は同一符号を用いて説明する。
【００７７】
前記実施例１では、薬液を浸透させたくない領域がある場合の薬液注入工法について説明したが、本実施例２においても、薬液を浸透させたくない領域がある場合の薬液注入工法について説明する。
【００７８】
すなわち、前記実施例１では、注水管５から経時的に注水速度を増減させた注水を行う場合について説明したが、本実施例２では、注水管５からの注水速度が一定となる静的な注水を行うことで、地下水圧を所定値以上の略一定値とする場合について説明する。
【００７９】
この地下水圧を所定値以上とする際の所定値は、例えば限界注入速度試験によって得られる限界注入圧力に設定することができる。限界注入速度試験とは、地盤Ｇに水注入を行う原位置試験の結果から限界注入速度を求める試験である。
【００８０】
限界注入速度とは、薬液注入工法においてこの値以下とすれば充分に改良効果が得られるといわれる値をいう。そこで地下水圧を、この限界注入速度に対応する限界注入圧力以上に上昇させておく。
【００８１】
要するに図６に示したように、注水管５の注水によって上昇させる地下水圧を、限界注入圧力ＰＣの値となるように一定にしておく。一方、注入管１から経時的に注入速度を増減させた薬液の注入をすると、時間ｔの経過ととも注入圧力ＰＡは上昇していく。
【００８２】
このような場合においても、薬液による改良効果を確保するために、注入圧力ＰＡは限界注入圧力ＰＣを超えないように制御されるため、限界注入圧力ＰＣ以上の地下水圧が存在する建物ＢＬの周囲には薬液は浸透していかない。
【００８３】
こうした所定値以上の略一定となる静的な注水は、注水管５による注水に起因した地下水圧の上昇で、建物ＢＬの地下室やトンネル等への漏水などの弊害が生じない場合に実施することができる。
【００８４】
このように、意図せぬ範囲への薬液の逸脱を抑える場合において、地下水圧を所定値以上、例えば限界注入速度試験によって得られる限界注入圧力以上の略一定にしても既存構造物等に弊害が生じない場合は、注水管５による注水によって上昇させる地下水圧を静的なものにすることができる。
【００８５】
なお、実施例２のこの他の構成及び作用効果については、前記実施の形態又は他の実施例と略同様であるため説明を省略する。
【００８６】
以上、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳述してきたが、具体的な構成は、この実施の形態及び実施例に限らず、本発明の要旨を逸脱しない程度の設計的変更は、本発明に含まれる。
【００８７】
例えば、前記実施の形態及び実施例では、注入速度で注入管理を行う場合について説明したが、これに限定されるものではなく、注入圧力によっても同様に注入管理を行うことができる。すなわち、注入速度と注入圧力は比例関係にあるため、いずれの数値であっても、同様に管理することができる。
【００８８】
また、前記実施の形態及び実施例では、注入速度を正弦波で増減させる場合について説明したが、これに限定されるものではなく、矩形波形、鋸刃波形など様々な波形を制御波形とすることができる。
【符号の説明】
【００８９】
１，１Ａ，１Ｂ  注入管
５              注水管
Ｇ              地盤
Ｇ２            対象地盤
【図１】
0006405289.tif 000002
【図２】
0006405289.tif 000003
【図３】
0006405289.tif 000004
【図４】
0006405289.tif 000005
【図５】
0006405289.tif 000006
【図６】
0006405289.tif 000007