(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸方向の端部に開口が設けられた筒状部と、前記筒状部の端部に該筒状部を囲むように設けられた鍔部と、を有し加熱される反応容器の、前記開口を密閉する反応容器の密閉構造であって、
前記開口を塞ぐシールキャップと、
前記シールキャップと前記反応容器との間に、前記シールキャップおよび前記反応容器に直接接しない状態で設けられるアタッチメントと、
を有し、
前記筒状部の前記軸方向に垂直な方向を径方向としたとき、
前記反応容器の前記鍔部と前記アタッチメントとの間に、前記反応容器が前記アタッチメントに対して前記径方向に相対的に膨張可能となるように、当該鍔部と当該アタッチメントとの間の間隙を封止する第１のＯリングが配置され、
前記アタッチメントと前記シールキャップとの間に、前記反応容器が前記アタッチメントとともに前記シールキャップに対して前記軸方向に相対的に移動可能となるように、当該アタッチメントと当該シールキャップとの間の間隙を封止する第２のＯリングが配置される
反応容器の密閉構造。
【請求項２】
前記反応容器の前記筒状部を前記軸方向から見た形状は、角形であり、
前記第２のＯリングが接する前記アタッチメントの外周側の角部を前記軸方向から見た形状は、Ｒ形状である
請求項１に記載の反応容器の密閉構造。
【請求項３】
前記軸方向から見たときの、前記アタッチメントの外周側の角部の曲率半径は、前記筒状部の外周側の角部の曲率半径よりも大きい
請求項２に記載の反応容器の密閉構造。
【請求項４】
前記アタッチメントは、
前記鍔部に沿って前記開口を囲むように配置される前記第１のＯリングを介して、前記鍔部の前記開口側の面に接するアタッチメント板状部と、
前記アタッチメント板状部に前記鍔部の外周よりも外側で連結され、前記軸方向に沿って前記鍔部を囲むように設けられるアタッチメント側部と、
を有し、
前記シールキャップは、
前記アタッチメント側部を囲むように配置される前記第２のＯリングを介して、前記アタッチメント側部に接し、前記アタッチメント側部を囲むように設けられるシールキャップ側部と、
前記シールキャップ側部の前記開口側に連結され、前記開口を塞ぐように設けられるシールキャップ蓋部と、
を有する
請求項１〜３のいずれか１項に記載の反応容器の密閉構造。
【請求項５】
前記反応容器は、前記筒状部の前記軸方向に対向する両端に一対の前記開口を有し、
前記一対の開口に、一対の前記シールキャップが設けられ、
前記一対のシールキャップは、前記反応容器を挟んで移動せずに固定される請求項１〜４のいずれか１項に記載の反応容器の密閉構造。
【請求項６】
前記反応容器は、複数の前記筒状部を有し、
前記反応容器の平面視での形状は、Ｔ字または十字である請求項１〜５のいずれか１項に記載の反応容器の密閉構造。
【請求項７】
前記反応容器は、前記シールキャップおよび前記アタッチメントの材料よりも延性が低い材料からなる請求項１〜６のいずれか１項に記載の反応容器の密閉構造。
【請求項８】
前記反応容器は、石英、セラミックまたはカーボンのうちいずれかからなる請求項１〜７のいずれか１項に記載の反応容器の密閉構造。
【請求項９】
軸方向の端部に開口が設けられた筒状部と、前記筒状部の端部に該筒状部を囲むように設けられた鍔部と、を有し、加熱される反応容器と、
前記筒状部の前記開口を密閉する密閉構造と、
を備え、
前記密閉構造は、
前記開口を塞ぐシールキャップと、
前記シールキャップと前記反応容器との間に前記シールキャップおよび前記反応容器に直接接しない状態で設けられるアタッチメントと、
を有し、
前記筒状部の前記軸方向に垂直な方向を径方向としたとき、
前記反応容器の前記鍔部と前記アタッチメントとの間に、前記反応容器が前記アタッチメントに対して前記径方向に相対的に膨張可能となるように、当該鍔部と当該アタッチメントとの間の間隙を封止する第１のＯリングが配置され、
前記アタッチメントと前記シールキャップとの間に、前記反応容器が前記アタッチメントとともに前記シールキャップに対して前記軸方向に相対的に移動可能となるように、当該アタッチメントと当該シールキャップとの間の間隙を封止する第２のＯリングが配置される
基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反応容器の密閉構造、および基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板処理装置として、例えば、ＨＶＰＥ（Hydride Vapor Phase Epitaxy）装置などが知られている（例えば、特許文献１参照）。ＨＶＰＥ装置などの基板処理装置は、例えば、加熱される反応容器と、反応容器の開口を塞ぐシールキャップを有する密閉構造と、を有する。反応容器の開口は、密閉構造によって気密に封止される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−４４８１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
反応容器は、加熱されて熱膨張する。反応容器の密閉構造によっては、反応容器が熱膨張した際に、開口の封止性が低下したり、反応容器に応力が加わって反応容器が破損したりする可能性がある。
【０００５】
本発明の目的は、開口の封止性を確保しつつ、反応容器の破損を抑制した反応容器の密閉構造、および基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様によれば、
軸方向の端部に開口が設けられた筒状部を有し加熱される反応容器の前記開口を密閉する反応容器の密閉構造であって、
前記開口を塞ぐシールキャップと、
前記シールキャップと前記反応容器との間に、前記シールキャップおよび前記反応容器に直接接しない状態で設けられるアタッチメントと、
を有し、
前記筒状部の前記軸方向に垂直な方向を径方向としたとき、
前記反応容器と前記アタッチメントとの間の間隙が封止された状態で、前記反応容器が前記アタッチメントに対して前記軸方向および前記径方向のうちいずれか一方の方向に相対的に移動可能であり、
前記アタッチメントと前記シールキャップとの間の間隙が封止された状態で、前記反応容器が前記アタッチメントとともに前記シールキャップに対して前記軸方向および前記径方向のうち他方の方向に相対的に移動可能である反応容器の密閉構造が提供される。
【０００７】
本発明の他の態様によれば、
軸方向の端部に開口が設けられた筒状部を有し、加熱される反応容器と、
前記開口を塞ぐシールキャップと、前記シールキャップと前記反応容器との間に前記シールキャップおよび前記反応容器に直接接しない状態で設けられるアタッチメントと、を有する密閉構造と、
を有し、
前記筒状部の前記軸方向に垂直な方向を径方向としたとき、
前記反応容器と前記アタッチメントとの間の間隙が封止された状態で、前記反応容器が前記アタッチメントに対して前記軸方向および前記径方向のうちいずれか一方の方向に相対的に移動可能であり、
前記アタッチメントと前記シールキャップとの間の間隙が封止された状態で、前記反応容器が前記アタッチメントとともに前記シールキャップに対して前記軸方向および前記径方向のうち他方の方向に相対的に移動可能である基板処理装置が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、開口の封止性を確保しつつ、反応容器の破損を抑制した反応容器の密閉構造、および基板処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置を示す縦断面概略図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る反応容器の密閉構造を示す断面概略図である。
【図３】図２に示す密閉構造のＡ−Ａ’線断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係る反応容器の密閉構造を示す断面概略図である。
【図５】（ａ）は、本発明の第３実施形態に係る基板処理装置を示す縦断面概略図であり、（ｂ）は、本発明の第４実施形態に係る基板処理装置を示す縦断面概略図である。
【図６】（ａ）は、比較例１の反応容器の密閉構造を示す断面概略図であり、（ｂ）は、比較例２の反応容器の密閉構造を示す断面概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜発明者等の得た知見＞
まず、発明者等の得た知見について概略を説明する。図６（ａ）は、比較例１の反応容器の密閉構造を示す断面概略図であり、（ｂ）は、比較例２の反応容器の密閉構造を示す断面概略図である。
【００１１】
ここで、比較例として、二種類の密閉構造について考える。なお、反応容器１００は、加熱されるよう構成されており、軸方向および径方向に熱膨張する。また、反応容器１００の端部には、開口１１０が設けられており、開口１１０を塞ぐ密閉構造９２２，９２４は固定されているものとする。
【００１２】
比較例１の密閉構造９２２では、図６（ａ）に示されているように、反応容器１００の軸方向の端部には、反応容器側部１２０を囲むように鍔部１４０が設けられている。反応容器１００とシールキャップ９３２との間には、鍔部１４０に沿って開口１１０を囲むように、反応容器１００とシールキャップ９３２との間隙を封止するＯリング９３４が配置される。反応容器１００の鍔部１４０には、Ｏリング９３４を介して、シールキャップ９３２が接している。これにより、シールキャップ９３２は、開口１１０を塞いでいる。
【００１３】
比較例１の密閉構造９２２では、Ｏリング９３４が鍔部１４０に沿って鍔部１４０の幅内に入っていれば、反応容器１００の軸方向から見た形状が角形である場合であっても、開口１１０の封止性を確保することができる。
【００１４】
しかしながら、比較例１の密閉構造９２２では、反応容器１００が軸方向に熱膨張したとき、反応容器１００がＯリング９３４を介してシールキャップ９３２に当接しているため、反応容器１００が軸方向に滑ることができない。つまり、反応容器１００がシールキャップ９３２に対して軸方向に相対的に移動することができない。したがって、反応容器１００に応力が加わり、反応容器１００が破損する可能性がある。
【００１５】
特に、反応容器１００が石英からなり、シールキャップ９３２が金属からなる場合、反応容器１００の鍔部１４０における平坦性の精度が、シールキャップ９３２における平坦性の精度よりも低くなり易い。反応容器１００の鍔部１４０の平坦性が低いと、反応容器１００が軸方向に熱膨張したときに、反応容器１００が破損し易くなる可能性がある。
【００１６】
一方、比較例２の密閉構造９２４では、図６（ｂ）に示されているように、反応容器側部１２０の外側には、反応容器側部１２０を囲むように、反応容器１００とシールキャップ９４２とを封止するＯリング９４４が配置される。反応容器側部１２０には、Ｏリング９４４を介して、シールキャップ９４２の側部が接している。これにより、シールキャップ９４２は、開口１１０を塞いでいる。
【００１７】
比較例２の密閉構造９２４では、反応容器１００が軸方向に熱膨張したとき、反応容器１００はＯリング９４４と接しながら軸方向に滑ることができる。つまり、反応容器１００とシールキャップ９４２との間の間隙が封止された状態で、反応容器１００がシールキャップ９４２に対して軸方向に相対的に移動可能となる。したがって、反応容器１００に応力が加わることを抑制することができ、反応容器１００が破損することを抑制することができる。
【００１８】
しかしながら、比較例２の密閉構造９２４では、反応容器１００の軸方向から見た形状が角形である場合、Ｏリング９４４が反応容器側部１２０の外周側の角部に追従し難い。このため、Ｏリング９４４と反応容器側部１２０の外周側の角部との間に間隙があいてしまう可能性がある。したがって、開口１１０の封止性が低下する可能性がある。
【００１９】
このように、比較例１の密閉構造９２２および比較例２の密閉構造９２４では、開口１１０の封止性を確保しつつ、反応容器１００の破損を抑制することが困難となる可能性がある。本発明は、本発明者等が見出した上記知見に基づくものである。
【００２０】
＜本発明の第１実施形態＞
本発明の第１実施形態にかかる基板処理装置の概要について、図１を用いて説明する。図１は、本実施形態に係る基板処理装置を示す縦断面概略図である。
【００２１】
（基板処理装置）
図１に示されているように、本実施形態の基板処理装置（半導体製造装置）１０は、例えば、基板２０上にIII族窒化物結晶（例えば窒化ガリウム）をエピタキシャル成長させるためのＨＶＰＥ装置として構成されている。
【００２２】
基板処理装置１０は、基板２０を収容する反応容器１００を有している。反応容器１００は、筒状部を有している。本実施形態では、反応容器１００全体が一つの筒状部を構成している。以下、反応容器１００の軸方向とは、反応容器１００全体で構成する筒状部の軸方向のことをいい、反応容器１００の径方向とは、反応容器１００の軸方向に垂直な方向のことをいう。
【００２３】
反応容器１００の軸方向から見た形状は、角形である。具体的には、反応容器１００の軸方向から見た形状は、例えば四角形である。反応容器１００の形状が角形であることにより、反応容器１００を加工し易く、反応容器１００を安価に製造することができる。
【００２４】
反応容器１００は、後述する密閉構造２００を構成するシールキャップ４２０およびアタッチメント３２０の材料よりも延性が低い材料、言い換えれば、脆弱な材料からなる。具体的には、反応容器１００は、例えば、石英、セラミックまたはカーボンのうちいずれかからなる。
【００２５】
反応容器１００の径方向の外側には、反応容器１００を囲むように、加熱部としてのヒータ６３０が設けられている。ヒータ６３０は、反応容器１００内の、後述するガス生成器７１０ｄ内（の金属融液）および基板２０のそれぞれを所定温度に加熱するよう構成されている。ヒータ６３０は、例えば、ガス生成器７１０ｄ内を６００℃以上９００℃以下、基板２０を５００℃以上１２００℃以下に加熱することが可能である。なお、ヒータ６３０がガス生成器７１０ｄ内および基板２０を加熱することに伴って、反応容器１００も加熱される。このため、反応容器１００は、軸方向および径方向に熱膨張する可能性がある。
【００２６】
反応容器１００の軸方向の端部には、開口１１０が設けられている。反応容器１００の開口１１０には、開口１１０を密閉する密閉構造（密閉部）２００が設けられている。密閉構造２００については、詳細を後述する。
【００２７】
本実施形態では、反応容器１００の軸方向に対向する両端に、一対の開口１１０ａ，１１０ｂが設けられている。一対の開口１１０ａ，１１０ｂには、一対の密閉構造２００ａ，２００ｂが設けられている。一対の密閉構造２００ａ，２００ｂ（に設けられた一対のシールキャップ４２０ａ，４２０ｂ）は、反応容器１００を挟んで移動せずに固定されている。これにより、処理時における反応容器１００の気密性が保たれる。なお、一対の密閉構造２００ａ，２００ｂのそれぞれは、非処理時には、開閉（着脱）可能に構成されている。例えば、非処理時に密閉構造２００ｂが開放された際に、基板２０を後述するサセプタ６１０に支持させたり、サセプタ６１０から基板２０を取り外したりすることができる。
【００２８】
一方の開口１１０ａに設けられた密閉構造２００ａ（のシールキャップ４２０ａ）には、第１ガス供給管７１０ａおよび第２ガス供給管７２０ａが貫通して設けられている。
【００２９】
第１ガス供給管７１０ａの反応容器１００の外側の部分には、上流方向から順に、反応ガスを供給する反応ガス供給源７１０ｂ、開閉弁としてのバルブ７１０ｃが設けられている。反応ガスは、例えば塩化水素（ＨＣｌ）ガスである。また、第１ガス供給管７１０ａの反応容器１００の内側の部分には、III族原料としての金属融液（例えばＧａ融液）が収容されるガス生成器（格納容器）７１０ｄが設けられている。反応ガスとしてのＨＣｌガスがガス生成器７１０ｄ内のＧａ融液と反応することで、反応容器１００内の基板２０に対して第１ガスとしてのＧａＣｌ３ガスが供給される。主に、第１ガス供給管７１０ａ、バルブ７１０ｃおよびガス生成器７１０ｄにより、第１ガス供給系が構成されている。
【００３０】
第２ガス供給管７２０ａには、上流方向から順に、第２ガスを供給する第２ガス供給源７２０ｂ、開閉弁としてのバルブ７２０ｃが設けられている。第２ガスは、例えばアンモニア（ＮＨ３）ガスである。主に、第２ガス供給管７２０ａ、バルブ７２０ｃにより、第２ガス供給系が構成されている。以上の第１ガス供給系および第２ガス供給系により、ガス供給系が構成されている。
【００３１】
反応容器１００内には、基板２０を支持する基板支持部としてのサセプタ６１０が設けられている。サセプタ６１０は、基板２０が第１ガス供給管７１０ａおよび第２ガス供給管７２０ａの先端と対向するように、基板２０を支持するよう構成されている。第１ガス供給系から供給されたIII族原料ガスであるＧａＣｌガスと、第２ガス供給系から供給されたＶ族原料ガスであるＮＨ３ガスとが基板２０上で合流し、基板２０上にてＧａＮの結晶が成長することになる。
【００３２】
サセプタ６１０には、サセプタ６１０を回転させる回転軸６１２が設けられている。回転軸６１２は、例えば、他方の開口１１０ｂに設けられた密閉構造２００ｂ（のシールキャップ４２０ｂ）を貫通するように設けられている。
【００３３】
他方の開口１１０ｂに設けられた密閉構造２００ｂ（のシールキャップ４２０ｂ）には、反応容器１００内の雰囲気を排気する排気管６２０ａが設けられている。排気管６２０ａには、排気装置としての真空ポンプ６２０ｂが設けられている。排気管６２０ａおよび真空ポンプ６２０ｂにより、排気系が構成されている。
【００３４】
（反応容器の密閉構造）
次に、図２および３を用い、本実施形態の反応容器１００の密閉構造２００について説明する。図２は、本実施形態に係る反応容器の密閉構造を示す断面概略図である。図３は、図２に示す密閉構造のＡ−Ａ’線断面図である。
【００３５】
上述した一対の密閉構造２００ａ，２００ｂのうち、少なくともいずれか一方の密閉構造２００が、以下のアタッチメント３２０およびシールキャップ４２０を有している。なお、一対の密閉構造２００ａ，２００ｂの両方が、アタッチメント３２０およびシールキャップ４２０を有していることが好ましい。本実施形態では、例えば、一対の密閉構造２００ａ，２００ｂの両方が、アタッチメント３２０およびシールキャップ４２０を有しているものとして説明する。
【００３６】
図２に示されているように、筒状の反応容器１００は、軸方向に沿った反応容器側部１２０を有している。反応容器１００の軸方向の端部には、反応容器側部１２０を囲むように鍔部１４０が設けられている。
【００３７】
鍔部１４０の外側（反応容器側部１２０と反対側）には、反応容器１００の鍔部１４０に直接接しない状態で、アタッチメント（継手部、取付部）３２０が設けられている。言い換えれば、アタッチメント３２０は、浮いた状態で設けられている。アタッチメント３２０は、耐熱性および耐食性を有する金属からなり、例えば、ＳＵＳ、ハステロイ（登録商標）、インコネル（登録商標）からなることが好ましい。
【００３８】
アタッチメント３２０の軸方向に沿った片側断面は、例えばＬ字状であり、アタッチメント３２０は、アタッチメント板状部３２２およびアタッチメント側部３２４を有している。アタッチメント板状部３２２の中心には中心開口（符号不図示）が設けられており、当該中心開口内には、例えばガス供給系または排気系が挿通可能となっている。
【００３９】
アタッチメント板状部３２２には、鍔部１４０の外周よりも外側で、アタッチメント側部３２４が連結されている。アタッチメント側部３２４は、軸方向に沿って鍔部１４０を囲むように設けられている。アタッチメント側部３２４の内周側と反応容器１００の鍔部１４０の外周側との間には、径方向に沿った間隙が設けられている。
【００４０】
アタッチメント側部３２４のアタッチメント板状部３２２と反対側には、押さえ板３４０が設けられている。押さえ板３４０は、ボルト３６０によって、アタッチメント側部３２４に固定されている。押さえ板３４０も、アタッチメント３２０と同様に、耐熱性および耐食性を有する金属からなり、例えば、ＳＵＳ、ハステロイ（登録商標）、インコネル（登録商標）からなることが好ましい。
【００４１】
押さえ板３４０の中心には中心開口（符号不図示）が設けられており、当該中心開口内に反応容器側部１２０が挿入されている。押さえ板３４０（の中心開口側の側面）と反応容器側部１２０との間には、径方向に沿った間隙が設けられている。
【００４２】
反応容器１００（の鍔部１４０）とアタッチメント３２０との間には、反応容器１００とアタッチメント３２０との間の間隙を封止する第１のＯリング（第１封止部材）３３０が配置される。第１のＯリング３３０は、鍔部１４０の開口１１０側の面に、鍔部１４０に沿って開口１１０を囲むように配置される。第１のＯリング３３０は、耐熱性および耐食性を有する樹脂からなり、例えば、テフロン（登録商標）、シリコーン、耐熱バイトン（登録商標）、カルレッツ（登録商標）からなることが好ましい。
【００４３】
一方、反応容器１００（の鍔部１４０）と押さえ板３４０との間には、緩衝材（パッキン）３５０が配置される。緩衝材３５０も、第１のＯリング３３０と同様に、耐熱性および耐食性を有する樹脂からなり、例えば、テフロン（登録商標）、シリコーン、耐熱バイトン（登録商標）、カルレッツ（登録商標）からなることが好ましい。
【００４４】
アタッチメント３２０および押さえ板３４０が鍔部１４０を挟むようにして固定され、第１のＯリング３３０および緩衝材３５０が圧縮される。これにより、反応容器１００およびアタッチメント３２０は一体化され、反応容器１００とアタッチメント３２０との間の間隙は気密に封止される。
【００４５】
アタッチメント３２０の反応容器側部１２０と反対側には、アタッチメント３２０に直接接しない状態で、シールキャップ（封止蓋、フランジ部）４２０が設けられている。シールキャップ４２０も、アタッチメント３２０と同様に、耐熱性および耐食性を有する金属からなり、例えば、ＳＵＳ、ハステロイ（登録商標）、インコネル（登録商標）からなることが好ましい。
【００４６】
シールキャップ４２０の軸方向に沿った片側断面は、例えばＬ字状であり、シールキャップ４２０は、シールキャップ側部４２４およびシールキャップ蓋部４２２を有している。シールキャップ側部４２４は、軸方向に沿ってアタッチメント側部３２４の外周を囲むように設けられている。シールキャップ側部４２４の開口１１０側の端部には、シールキャップ蓋部４２２が連結されている。シールキャップ蓋部４２２は、開口１１０を塞ぐように設けられている。シールキャップ蓋部４２２とアタッチメント板状部３２２との間には、軸方向に沿った間隙が設けられている。シールキャップ蓋部４２２には、例えばガス供給系または排気系が連結される。
【００４７】
アタッチメント３２０とシールキャップ４２０との間には、アタッチメント３２０とシールキャップ４２０との間の間隙を封止する第２のＯリング４３０（第２封止部材）が配置される。第２のＯリング４３０は、アタッチメント側部３２４の外周面に沿って、アタッチメント側部３２４を囲むように配置される。第２のＯリング４３０も、第１のＯリング３３０と同様に、耐熱性および耐食性を有する樹脂からなり、例えば、テフロン（登録商標）、シリコーン、耐熱バイトン（登録商標）、カルレッツ（登録商標）からなることが好ましい。
【００４８】
ここで、シールキャップ４２０は、例えば以下のようにして、第２のＯリング４３０を介してアタッチメント３２０に固定される。
【００４９】
シールキャップ側部４２４は、アタッチメント側部３２４側（の内周面）に設けられた縮径部４２４ａと、縮径部４２４ａのシールキャップ蓋部４２２と反対側に設けられ縮径部４２４ａよりも径方向に拡径された拡径部４２４ｂと、を有する。これにより、シールキャップ側部４２４の内周側には、アタッチメント側部３２４の外周に沿った段差が形成されている。
【００５０】
シールキャップ側部４２４のシールキャップ蓋部４２２と反対側には、カバー部４４０が嵌められている。カバー部４４０も、アタッチメント３２０と同様に、耐熱性および耐食性を有する金属からなり、例えば、ＳＵＳ、ハステロイ（登録商標）、インコネル（登録商標）からなることが好ましい。
【００５１】
カバー部４４０の軸方向に沿った片側断面は、例えばＬ字状であり、カバー部４４０は、カバー部側部４４２およびカバー部板状部４４４を有する。カバー部側部４４２は、シールキャップ側部４２４とアタッチメント側部３２４との間に、軸方向に沿ってアタッチメント側部３２４の外周を囲むように設けられている。カバー部側部４４２のシールキャップ蓋部４２２側の先端は、当該先端から先端と反対側に向けてアタッチメント側部３２４に近づくように傾斜した傾斜部４４２ａを有する。一方、カバー部側部４４２のシールキャップ蓋部４２２と反対側には、カバー部板状部４４４が連結されている。カバー部板状部４４４は、ボルト４６０によって、シールキャップ側部４２４に固定されている。
【００５２】
シールキャップ側部４２４の縮径部４２４ａおよび拡径部４２４ｂによって形成される段差と、カバー部側部４４２の傾斜部４４２ａと、により第２のＯリング４３０がアタッチメント側部３２４側に圧縮されながら押し付けられることによって、シールキャップ４２０およびアタッチメント３２０が封止される。このように、シールキャップ４２０とアタッチメント３２０とはボルトなどにより固定されていないため、反応容器１００に無理な負荷がかかることが抑制される。
【００５３】
次に、図３を用い、密閉構造２００の径方向に沿った断面について説明する。
【００５４】
図３に示されているように、上述のように、反応容器１００（の鍔部１４０）の軸方向から見た形状は、角形である。反応容器側部１２０および鍔部１４０の角部は、軸方向から見て、例えば直角であり、Ｒ形状（円弧形状）となっていない。反応容器１００が石英からなる場合では、反応容器側部１２０および鍔部１４０の角部をＲ形状となるように反応容器１００を加工することが難しいため、反応容器側部１２０および鍔部１４０の角部がＲ形状となっていない。
【００５５】
反応容器１００の鍔部１４０の外側とアタッチメント側部３２４の内周側との間には、径方向に沿った間隙が設けられている。アタッチメント側部３２４の内周側の角部の形状は、軸方向から見て、鍔部１４０の角部に沿った形状（直角）となっている。
【００５６】
一方、アタッチメント側部３２４の外周側の角部は、軸方向から見て、Ｒ形状となっている。アタッチメント３２０は金属からなるため、アタッチメント側部３２４の外周側の角部を容易にＲ形状とすることができる。アタッチメント側部３２４の外周側の角部の曲率半径は、例えば、軸方向から見て、反応容器側部１２０の外周側の曲率半径（および鍔部１４０の外周側の曲率半径）よりも大きい。これにより、第２のＯリング４３０をアタッチメント側部３２４の角部に追従し易くすることができる。
【００５７】
また、シールキャップ側部４２４の内周側の角部の曲率半径およびカバー部側部４４２の傾斜部４４２ａの角部の曲率半径は、例えば、軸方向から見て、アタッチメント側部３２４の外周側の角部の曲率半径と等しい。これにより、シールキャップ側部４２４（およびカバー部側部４４２）とアタッチメント側部３２４との間の間隙を一定の幅とすることができ、第２のＯリング４３０をシールキャップ側部４２４の内周側およびカバー部側部４４２の傾斜部４４２ａに追従し易くすることができる。
【００５８】
次に、上述のように構成された本実施形態の密閉構造２００において、反応容器１００が熱膨張した場合について説明する。
【００５９】
反応容器１００が軸方向に熱膨張したとき、反応容器１００は、アタッチメント３２０と一体化されているため、アタッチメント３２０とともに軸方向に移動しようとする。このとき、反応容器１００は、シールキャップ側部４２４が第２のＯリング４３０を介してアタッチメント側部３２４に接した状態で、アタッチメント３２０とともに軸方向に滑る（摺動する）ことができる。つまり、アタッチメント３２０とシールキャップ４２０との間の間隙が封止された状態で、反応容器１００がアタッチメント３２０とともにシールキャップ４２０に対して軸方向に相対的に移動することができる。なお、反応容器１００は、シールキャップ蓋部４２２とアタッチメント板状部３２２との間に軸方向に沿って設けられた間隙の分だけ、シールキャップ４２０に対して軸方向に相対的に移動することが許容される。これにより、反応容器１００が軸方向に熱膨張したときに、反応容器１００に応力が加わることを抑制することができ、反応容器１００に加わる応力を逃すことができる。したがって、反応容器１００が破損することを抑制することができる。
【００６０】
特に、反応容器１００が石英からなり、アタッチメント３２０が金属からなる場合、反応容器１００の鍔部１４０における平坦性の精度が、アタッチメント板状部３２２における平坦性の精度よりも低くなり易い。このような場合であっても、反応容器１００が軸方向に熱膨張したときに、反応容器１００がアタッチメント３２０とともに軸方向に移動することによって、反応容器１００に局所的に応力がかかることを抑制することができる。
【００６１】
なお、反応容器１００が径方向に熱膨張したときにおいても、反応容器１００は、アタッチメント板状部３２２が第１のＯリング３３０を介して鍔部１４０に接した状態で、径方向に滑る（摺動する）ことができる。つまり、反応容器１００とアタッチメント３２０との間の間隙が封止された状態で、反応容器１００がアタッチメント３２０に対して径方向に相対的に移動することができる。なお、反応容器１００は、アタッチメント側部３２４の内周側と反応容器１００の鍔部１４０の外周側との間に径方向に沿って設けられた間隙、および押さえ板３４０と反応容器側部１２０との間に径方向に沿って設けられた間隙の少なくともいずれかの短い方の分だけ、アタッチメント３２０（および押さえ板３４０）に対して径方向に相対的に移動することが許容される。これにより、反応容器１００が径方向に熱膨張したときにおいても、反応容器１００に応力が加わることを抑制することができ、反応容器１００に加わる応力を逃すことができる。したがって、反応容器１００が破損することを抑制することができる。
【００６２】
なお、反応容器１００が石英からなり、アタッチメント３２０およびシールキャップ４２０が金属からなる場合、アタッチメント３２０およびシールキャップ４２０の熱膨張係数は、反応容器１００の熱膨張係数よりも大きい。このため、反応容器１００が加熱されたとき、アタッチメント３２０およびシールキャップ４２０も、熱伝導により加熱されて、反応容器１００よりも大きく熱膨張することがある。このような場合であっても、反応容器１００が熱膨張した場合と同様の原理により、反応容器１００とアタッチメント３２０との間の間隙が封止された状態で、アタッチメント３２０が反応容器１００に対して径方向に相対的に移動することができ、アタッチメント３２０とシールキャップ４２０との間の間隙が封止された状態で、シールキャップ４２０が反応容器１００およびアタッチメント３２０に対して軸方向に相対的に移動することができる。
【００６３】
（３）本実施形態にかかる効果
本実施形態によれば、以下に示す１つまたは複数の効果を奏する。
【００６４】
（ａ）本実施形態によれば、反応容器１００が熱膨張したとき、反応容器１００が密閉構造２００によって封止された状態で、反応容器１００の移動が許容される。具体的には、反応容器１００とアタッチメント３２０との間の間隙が封止された状態で、反応容器１００がアタッチメント３２０に対して径方向に相対的に移動可能である。また、アタッチメント３２０とシールキャップ４２０との間の間隙が封止された状態で、反応容器１００がアタッチメント３２０とともにシールキャップ４２０に対して軸方向に相対的に移動可能である。これにより、反応容器１００が熱膨張したときに、反応容器１００に応力が加わることを抑制することができ、反応容器１００に加わる応力を逃すことができる。したがって、開口１１０の封止性を確保しつつ、反応容器１００の破損を抑制することができる。
【００６５】
例えば、アタッチメント３２０とシールキャップ４２０との間には、反応容器１００がアタッチメント３２０とともに軸方向に滑ることができるように、アタッチメント３２０とシールキャップ４２０との間の間隙を封止する第２のＯリング４３０が配置される。これにより、アタッチメント３２０とシールキャップ４２０との間の間隙が封止された状態で、反応容器１００がアタッチメント３２０とともにシールキャップ４２０に対して軸方向に相対的に移動することができる。
【００６６】
また、例えば、反応容器１００とアタッチメント３２０との間には、反応容器１００が径方向に滑ることができるように、反応容器１００とアタッチメント３２０との間の間隙を封止する第１のＯリング３３０が配置される。これにより、反応容器１００とアタッチメント３２０との間の間隙が封止された状態で、反応容器１００がアタッチメント３２０に対して径方向に相対的に移動することができる。
【００６７】
（ｂ）本実施形態によれば、一対のシールキャップ４２０ａ，４２０ｂが反応容器１００を挟んで移動せずに固定されている場合であっても、反応容器１００に応力が加わることを抑制し、反応容器１００が破損することを抑制することができる。
【００６８】
というのも、一対のシールキャップ４２０ａ，４２０ｂが反応容器１００を挟んで移動せずに固定されている場合、一対のシールキャップ４２０ａ，４２０ｂが固定された範囲内で、反応容器１００の少なくとも軸方向の移動が規制される。このため、反応容器１００が熱膨張した際に、反応容器１００に応力がかかり易い。
【００６９】
そこで、本実施形態によれば、一対の開口１１０ａ，１１０ｂのうち少なくとも一方に、本実施形態のアタッチメント３２０およびシールキャップ４２０を有する密閉構造２００を設けている。これにより、反応容器１００が軸方向に熱膨張した際に、開口１１０の封止性を維持した状態で、密閉構造２００内で反応容器１００の軸方向の移動を許容することができる。したがって、一対のシールキャップ４２０ａ，４２０ｂが反応容器１００を挟んで移動せずに固定されている場合であっても、反応容器１００に応力が加わることを抑制し、反応容器１００が破損することを抑制することができる。
【００７０】
（ｃ）本実施形態では、反応容器１００が延性の低い材料からなる場合であっても、反応容器１００に応力が加わることを抑制し、反応容器１００が破損することを抑制することができる。
【００７１】
というのも、反応容器１００がこのような延性の低い材料からなる場合、反応容器１００が熱膨張することによって、反応容器１００に応力が加わると、反応容器１００が破損し易くなる。
【００７２】
そこで、本実施形態によれば、開口１１０にアタッチメント３２０およびシールキャップ４２０を有する密閉構造２００を設けることによって、開口１１０の封止性を確保しつつ、反応容器１００の熱膨張を許容することができる。これにより、反応容器１００が延性の低い材料からなる場合であっても、反応容器１００に応力が加わることを抑制し、反応容器１００が破損することを抑制することができる。
【００７３】
（ｄ）本実施形態によれば、反応容器１００の軸方向から見た形状が角形であっても、開口１１０の封止性を安定的に確保することができる。
【００７４】
というのも、反応容器１００の軸方向から見た形状が角形である場合では、上述の比較例２のように、Ｏリングが角形の反応容器側部１２０の外周に直接接するように配置されると、Ｏリングが反応容器側部１２０の外周側の角部に追従し難くなる可能性がある。このため、Ｏリングと反応容器側部１２０の外周側の角部との間に間隙があいてしまう可能性がある。したがって、開口１１０の封止性が低下する可能性がある。
【００７５】
そこで、本実施形態によれば、反応容器１００を径方向に滑ることができるようにするための第１のＯリング３３０が、反応容器１００の鍔部１４０に沿って配置される。第１のＯリング３３０が鍔部１４０に沿って鍔部１４０の幅内に入っていれば、反応容器１００の軸方向から見た形状が角形である場合であっても、反応容器１００とアタッチメント３２０との間の封止性を確保することができる。また、反応容器１００を軸方向に滑ることができるようにするための第２のＯリング４３０が、角形の反応容器側部１２０の外周に直接接することがないように、アタッチメント３２０とシールキャップ４２０との間に配置される。これにより、第２のＯリング４３０が反応容器側部１２０の外周側の角部に追従し難くなる状態を回避することができ、アタッチメント３２０とシールキャップ４２０との間の封止性を確保することができる。また、例えばアタッチメント側部３２４の角部をＲ形状とすることにより、第２のＯリング４３０をアタッチメント側部３２４の角部に追従し易くすることができる。このようにして、反応容器１００の軸方向から見た形状が角形であっても、開口１１０の封止性を安定的に確保することができる。
【００７６】
＜本発明の第２実施形態＞
次に、本発明の第２実施形態について説明する。図４は、本実施形態に係る反応容器の密閉構造を示す断面概略図である。
【００７７】
本実施形態は、シールキャップおよびアタッチメントのそれぞれによって反応容器の移動を許容する方向が第１実施形態と異なる。以下では、第１の実施形態と同様の部分は記載を省略し、主に第１の実施形態と異なる部分について説明する。
【００７８】
図４に示されているように、本実施形態では、反応容器１００の軸方向の端部には、鍔部が設けられていない。また、本実施形態の反応容器１００の軸方向から見た形状は角形ではなく、少なくとも反応容器側部１２０の角部は、円弧状となっている。具体的には、反応容器１００の軸方向から見た形状は、例えば円形である。
【００７９】
本実施形態の密閉構造２０２において、反応容器側部１２０の外側には、反応容器側部１２０に直接接しない状態で、アタッチメント３２０が設けられている。
【００８０】
アタッチメント３７０の軸方向に沿った片側断面は、例えばＬ字状であり、アタッチメント３７０は、アタッチメント鍔部３７２およびアタッチメント側部３７４を有する。アタッチメント側部３７４は、軸方向に沿って反応容器１００を囲むように設けられている。アタッチメント側部３７４の軸方向の端部には、アタッチメント側部３７４を囲むようにアタッチメント鍔部３７２が設けられている。
【００８１】
反応容器１００とアタッチメント３２０との間には、反応容器１００とアタッチメント３２０との間の間隙を封止する第１のＯリング３８０が配置される。第１のＯリング３８０は、反応容器側部１２０の外周面に沿って、反応容器側部１２０を囲むように配置される。
【００８２】
アタッチメント３７０の外側（反応容器１００と反対側）には、アタッチメント３７０に直接接しない状態で、シールキャップ４７０が設けられている。
【００８３】
アタッチメント３７０とシールキャップ４７０との間には、アタッチメント３７０とシールキャップ４７０との間の間隙を封止する第２のＯリング４８０が配置される。第２のＯリング４８０は、アタッチメント鍔部３７２の開口１１０側の面に、アタッチメント鍔部３７２に沿って開口１１０を囲むように配置される。
【００８４】
本実施形態によれば、アタッチメント３７０およびシールキャップ４７０のそれぞれによって反応容器１００の移動を許容する方向が第１実施形態と異なる場合であっても、上述の第１実施形態と同様の効果を奏する。
【００８５】
すなわち、反応容器１００とアタッチメント３７０との間の間隙が封止された状態で、反応容器１００がアタッチメント３７０に対して軸方向に相対的に移動可能である。また、アタッチメント３７０とシールキャップ４７０との間の間隙が封止された状態で、反応容器１００がアタッチメント３７０とともにシールキャップ４７０に対して径方向に相対的に移動可能である。これにより、反応容器１００が熱膨張したときに、反応容器１００に応力が加わることを抑制することができる。したがって、開口１１０の封止性を確保しつつ、反応容器１００の破損を抑制することができる。
【００８６】
なお、本実施形態では、反応容器１００が軸方向に滑ることができるようにするための第１のＯリング３８０が、反応容器側部１２０の外周に直接接するように配置される。したがって、本実施形態は、第１のＯリング３８０が反応容器側部１２０の外周に追従することができるように、少なくとも反応容器側部１２０の角部が円弧状となっていることが好ましい。
【００８７】
一方で、反応容器１００の軸方向から見た形状が角形である場合には、Ｏリングが角形の反応容器側部の外周に直接接することを回避するために、第１実施形態の密閉構造２００を適用することが好ましい。
【００８８】
＜本発明の第３実施形態＞
次に、本発明の第３実施形態について説明する。図５（ａ）は、本実施形態に係る基板処理装置を示す縦断面概略図である。なお、図５（ａ）は鉛直方向から見た図である。
【００８９】
本実施形態は、反応容器の構成が第１実施形態と異なる。以下では、第１の実施形態と同様の部分は記載を省略し、主に第１の実施形態と異なる部分について説明する。
【００９０】
図５（ａ）に示されているように、反応容器１０２は、例えば、３つの筒状部１８０ｃ〜１８０ｅを有する。反応容器１０２の平面視での形状は、例えば、Ｔ字である。筒状部１８０ｃ，１８０ｄは、同一の軸方向に沿って（平行に）配置され、Ｔ字の横画部を形成している。筒状部１８０ｃ，１８０ｄの軸方向に対向する両端には、一対の開口１１０ｃ，１１０ｄが設けられている。一方で、筒状部１８０ｅは、筒状部１８０ｃ，１８０ｄに垂直な方向に沿って配置され、Ｔ字の縦画部を形成している。筒状部１８０ｅの軸方向の端部には、開口１１０ｅが設けられている。
【００９１】
一対の開口１１０ｃ，１１０ｄには、一対の密閉構造２００ｃ，２００ｄが設けられている。一対の密閉構造２００ｃ，２００ｄに設けられた一対のシールキャップは、反応容器１０２を挟んで移動せずに固定されている。一対の密閉構造２００ｃ，２００ｄのうち、少なくともいずれか一方の密閉構造が、第１実施形態と同様のアタッチメントおよびシールキャップを有している。本実施形態では、例えば、一対の密閉構造２００ｃ，２００ｄの両方が、第１実施形態と同様のアタッチメントおよびシールキャップを有している。また、開口１１０ｅにも密閉構造２００ｅが設けられており、本実施形態では、例えば、密閉構造２００ｅも、第１実施形態と同様のアタッチメントおよびシールキャップを有している。
【００９２】
例えば、一方の開口１１０ｃに設けられた密閉構造２００ｃのシールキャップには、反応容器１０２内に基板を搬入する搬入口（不図示）が設けられている。他方の開口１１０ｄに設けられた密閉構造２００ｄのシールキャップには、反応容器１０２内から基板を搬出する搬出口（不図示）が設けられている。これにより、反応容器１０２内にＴ字の横画方向に沿って、複数の基板を順次搬入し搬出することができる。
【００９３】
また、例えば、開口１１０ｅに設けられた密閉構造２００ｅのシールキャップには、ガス供給系（不図示）が設けられている。また、開口１１０ｃ，１１０ｄに設けられた密閉構造２００ｃ，２００ｄの少なくともいずれか一方のシールキャップには、排気系（不図示）が設けられている。
【００９４】
本実施形態によれば、反応容器１０２の平面視での形状は、Ｔ字である。Ｔ字の横画部の両端を密閉する一対の密閉構造２００ｃ，２００ｄのうち、少なくともいずれか一方の密閉構造が、第１実施形態と同様のアタッチメントおよびシールキャップを有している。これにより、反応容器１０２が熱膨張したとき、開口１１０ｃ〜１１０ｅのそれぞれの封止性を維持した状態で、反応容器１０２が筒状部１８０ｃ，１８０ｄの軸方向および径方向に移動することが許容される。これにより、反応容器１０２が熱膨張したときに、反応容器１００に応力が加わることを抑制することができる。したがって、本実施形態のように複数の筒状部１８０ｃ〜１８０ｅのそれぞれに開口１１０ｃ〜１１０ｅが設けられている場合においても、開口１１０ｃ〜１１０ｅの封止性を確保しつつ、反応容器１０２の破損を抑制することができる。
【００９５】
＜本発明の第４実施形態＞
次に、本発明の第４実施形態について説明する。図５（ｂ）は、本実施形態に係る基板処理装置を示す縦断面概略図である。なお、図５（ｂ）は鉛直方向から見た図である。
【００９６】
本実施形態は、反応容器の構成が第３実施形態と異なる。以下では、第３の実施形態と同様の部分は記載を省略し、主に第３の実施形態と異なる部分について説明する。
【００９７】
図５（ｂ）に示されているように、反応容器１０４は、例えば、４つの筒状部１８０ｆ〜１８０ｉを有する。反応容器１０４の平面視での形状は、例えば、十字である。筒状部１８０ｆ，１８０ｇの軸方向に対向する両端には、一対の開口１１０ｆ，１１０ｇが設けられている。また、筒状部１８０ｈ，１８０ｉの軸方向に対向する両端には、一対の開口１１０ｈ，１１０ｉが設けられている。
【００９８】
一対の開口１１０ｆ，１１０ｇには、一対の密閉構造２００ｆ，２００ｇが設けられている。一対の密閉構造２００ｆ，２００ｇに設けられた一対のシールキャップは、反応容器１０４を挟んで移動せずに固定されている。一対の密閉構造２００ｆ，２００ｇのうち、少なくともいずれか一方の密閉構造が、第１実施形態と同様のアタッチメントおよびシールキャップを有している。本実施形態では、例えば、一対の密閉構造２００ｆ，２００ｇの両方が、第１実施形態と同様のアタッチメントおよびシールキャップを有している。
【００９９】
一対の開口１１０ｆ，１１０ｇと同様に、一対の開口１１０ｈ，１１０ｉには、一対の密閉構造２００ｈ，２００ｉが設けられている。一対の密閉構造２００ｈ，２００ｉに設けられた一対のシールキャップは、反応容器１０４を挟んで移動せずに固定されている。一対の密閉構造２００ｈ，２００ｉのうち、少なくともいずれか一方の密閉構造が、第１実施形態と同様のアタッチメントおよびシールキャップを有している。本実施形態では、例えば、一対の密閉構造２００ｈ，２００ｉの両方が、第１実施形態と同様のアタッチメントおよびシールキャップを有している。
【０１００】
例えば、開口１１０ｆに設けられた密閉構造２００ｆのシールキャップには、基板の搬入口（不図示）が設けられている。開口１１０ｇに設けられた密閉構造２００ｇのシールキャップには、基板の搬出口（不図示）が設けられている。
【０１０１】
また、例えば、開口１１０ｈに設けられた密閉構造２００ｈのシールキャップには、ガス供給系（不図示）が設けられている。一方、開口１１０ｉに設けられた密閉構造２００ｉのシールキャップには、排気系（不図示）が設けられている。
【０１０２】
本実施形態においても、上述の第３実施形態と同様の効果を奏する。
【０１０３】
（本発明の他の実施形態）
以上、本発明の一実施形態を具体的に説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【０１０４】
上述の実施形態では、軸方向に対向する一対の密閉構造２００ａ、２００ｂの両方がアタッチメント３２０およびシールキャップ４２０を有する場合について説明したが、上述のように、軸方向に対向する一対の密閉構造のうち少なくとも一方の密閉構造のみがアタッチメントおよびシールキャップを有していれば良い。この場合、他方の密閉構造は、例えば、上述の比較例１の密閉構造と同様に構成されていればよい。
【０１０５】
上述の第３実施形態および第４実施形態では、それぞれ、筒状部が３つ、４つ設けられている場合について説明したが、筒状部は、５つまたは６つ設けられていても良い。この場合でも、反応容器の平面視での形状がＴ字または十字となっていることが好ましい。
【０１０６】
＜本発明の好ましい態様＞
以下に、本発明の好ましい態様について付記する。
【０１０７】
［付記１］
本発明の一態様によれば、
軸方向の端部に開口が設けられた筒状部を有し加熱される反応容器の前記開口を密閉する反応容器の密閉構造であって、
前記開口を塞ぐシールキャップと、
前記シールキャップと前記反応容器との間に、前記シールキャップおよび前記反応容器に直接接しない状態で設けられるアタッチメントと、
を有し、
前記筒状部の前記軸方向に垂直な方向を径方向としたとき、
前記反応容器と前記アタッチメントとの間の間隙が封止された状態で、前記反応容器が前記アタッチメントに対して前記軸方向および前記径方向のうちいずれか一方の方向に相対的に移動可能であり、
前記アタッチメントと前記シールキャップとの間の間隙が封止された状態で、前記反応容器が前記アタッチメントとともに前記シールキャップに対して前記軸方向および前記径方向のうち他方の方向に相対的に移動可能である反応容器の密閉構造が提供される。
【０１０８】
［付記２］
付記２の反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記反応容器と前記アタッチメントとの間には、前記反応容器が前記軸方向および前記径方向のうちいずれか一方の方向に相対的に移動可能となるように、前記反応容器と前記アタッチメントとの間の間隙を封止する第１のＯリングが配置され、
前記アタッチメントと前記シールキャップとの間には、前記反応容器が前記アタッチメントとともに前記軸方向および前記径方向のうち他方の方向に相対的に移動可能となるように、前記アタッチメントと前記シールキャップとの間の間隙を封止する第２のＯリングが配置される。
【０１０９】
［付記３］
付記２の反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記反応容器の前記筒状部の前記軸方向から見た形状は、角形である。
【０１１０】
［付記４］
付記３の反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記第１のＯリングは、前記反応容器と前記アタッチメントとの間に、前記反応容器が前記径方向に相対的に移動可能となるように配置され、
前記第２のＯリングは、前記アタッチメントと前記シールキャップとの間に、前記反応容器が前記アタッチメントとともに前記軸方向に相対的に移動可能となるように配置される。
【０１１１】
［付記５］
付記２乃至４のいずれかの反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記反応容器の前記筒状部は、
前記軸方向に沿った反応容器側部と、
前記筒状部の前記端部に前記反応容器側部を囲むように設けられた鍔部と、
を有し、
前記アタッチメントは、
前記鍔部に沿って前記開口を囲むように配置される前記第１のＯリングを介して、前記鍔部の前記開口側の面に接するアタッチメント板状部と、
前記アタッチメント板状部に前記鍔部の外周よりも外側で連結され、前記軸方向に沿って前記鍔部を囲むように設けられるアタッチメント側部と、
を有し、
前記シールキャップは、
前記アタッチメント側部を囲むように配置される前記第２のＯリングを介して、前記アタッチメント側部に接し、前記アタッチメント側部を囲むように設けられたシールキャップ側部と、
前記シールキャップ側部の前記開口側に連結され、前記開口を塞ぐように設けられたシールキャップ蓋部と、
を有する。
【０１１２】
［付記６］
付記５の反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記アタッチメント側部の外周側の角部の曲率半径は、前記反応容器側部の外周側の角部の曲率半径よりも大きい。
【０１１３】
［付記７］
付記５又は６の反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記反応容器の前記鍔部の外周側と前記アタッチメント側部の内周側との間には、前記径方向に沿った間隙が設けられる。
【０１１４】
［付記８］
付記５乃至７のいずれかの反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記シールキャップ蓋部と前記アタッチメント板状部との間には、前記軸方向に沿った間隙が設けられる。
【０１１５】
［付記９］
付記５乃至８のいずれかの反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
緩衝材を介して前記鍔部の前記第１のＯリングと反対側の面に接する押さえ板を有し、
前記アタッチメントおよび前記押さえ板が前記鍔部を挟むようにして固定され、前記第１のＯリングが圧縮されることによって、前記反応容器および前記アタッチメントが封止される。
【０１１６】
［付記１０］
付記９の反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記反応容器側部と前記押さえ板との間には、前記径方向に沿った間隙が設けられる。
【０１１７】
［付記１１］
付記１乃至１０のいずれかの反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記反応容器は、前記筒状部の前記軸方向に対向する両端に一対の前記開口を有し、
前記一対の開口に、一対の前記シールキャップが設けられ、
前記一対のシールキャップは、前記反応容器を挟んで移動せずに固定される。
【０１１８】
［付記１２］
付記１１の反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記一対のシールキャップの一方には、前記反応容器内にガスを供給するガス供給系が設けられ、
前記一対のシールキャップの他方には、前記反応容器内を排気する排気系が設けられる。
【０１１９】
［付記１３］
付記１１の反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記一対のシールキャップの一方には、前記反応容器内に基板を搬入する搬入口が設けられ、
前記一対のシールキャップの他方には、前記反応容器内から基板を搬出する搬出口が設けられる。
【０１２０】
［付記１４］
付記１乃至１３のいずれかの反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記反応容器は、複数の前記筒状部を有し、
前記反応容器の平面視での形状は、Ｔ字または十字である。
【０１２１】
［付記１５］
付記１乃至１４のいずれかの反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記反応容器は、前記シールキャップおよび前記アタッチメントの材料よりも延性が低い材料からなる。
【０１２２】
［付記１６］
付記１乃至１５のいずれかの反応容器の密閉構造であって、好ましくは、
前記反応容器は、石英、セラミックまたはカーボンのうちいずれかからなる。
【０１２３】
［付記１７］
本発明の他の態様によれば、
軸方向の端部に開口が設けられた筒状部を有し、加熱される反応容器と、
前記開口を塞ぐシールキャップと、前記シールキャップと前記反応容器との間に前記シールキャップおよび前記反応容器に直接接しない状態で設けられるアタッチメントと、を有する密閉構造と、
を有し、
前記筒状部の前記軸方向に垂直な方向を径方向としたとき、
前記反応容器と前記アタッチメントとの間の間隙が封止された状態で、前記反応容器が前記アタッチメントに対して前記軸方向および前記径方向のうちいずれか一方の方向に相対的に移動可能であり、
前記アタッチメントと前記シールキャップとの間の間隙が封止された状態で、前記反応容器が前記アタッチメントとともに前記シールキャップに対して前記軸方向および前記径方向のうち他方の方向に相対的に移動可能である基板処理装置が提供される。
【符号の説明】
【０１２４】
１０  基板処理装置
２０  基板
１００，１０２，１０４  反応容器
１１０，１１０ａ〜１１０ｉ  開口
１２０  反応容器側部
１４０  鍔部
１８０ｃ〜１８０ｉ  筒状部
２００，２００ａ〜２００ｉ，２０２  密閉構造
３２０，３７０  アタッチメント
３２２，３７２  アタッチメント板状部
３２４，３７４  アタッチメント側部
３３０，３８０  第１のＯリング
３４０  押さえ板
３５０  緩衝材
３６０  ボルト
４２０，４２０ａ，４２０ｂ，４７０  シールキャップ
４２２  シールキャップ蓋部
４２４  シールキャップ側部
４２４ａ  縮径部
４２４ｂ  拡径部
４３０，４８０  第２のＯリング
４４０  カバー部
４４２  カバー部側部
４４２ａ  傾斜部
４４４  カバー部板状部
４６０  ボルト
６１０  サセプタ
６１２  回転軸
６２０ａ  排気管
６２０ｂ  真空ポンプ
６３０  ヒータ
７１０ａ  第１ガス供給管
７１０ｂ  反応ガス供給源
７１０ｃ  バルブ
７１０ｄ  ガス生成器
７２０ａ  第２ガス供給管
７２０ｂ  第２ガス供給源
７２０ｃ  バルブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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