(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶ内の作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
互いに対して０°±１０°の角度又は９０°±１０°の角度で配置された第１の反射面（１１０、２１０、．．．）と第２の反射面（１２０、２２０、．．．）とを有する少なくとも１つの偏光影響装置（１００、２００、．．．）、
を含み、
光学系の前記作動中に前記第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する光が、該第１の反射面と４５°±５°の角度を形成し、
前記偏光影響装置（１００、２００、．．．）は、光学系の前記作動中に前記第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する光の光伝播方向と平行に延びる回転軸の周りに回転可能であり、
前記偏光影響装置（１００、２００、．．．）は、前記光学系の作動中に、該偏光影響装置（１００、２００、．．．）が前記第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する非偏光を前記第２の反射面（１１０、２１０、．．．）から射出する直線偏光に変換するようにされており、
前記第１の反射面（１１０、２１０、．．．）と前記第２の反射面（１１０、２１０、．．．）との間の光路に沿って反射面は存在しない、
ことを特徴とする光学系。
【請求項２】
光学系の前記作動中に、前記第２の反射面（１２０、２２０）によって反射される光線が、前記第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する前記光の入力方向と平行である出力方向に反射されることを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
前記偏光影響装置（１００、２００、．．．）は、光学系の前記作動中に前記第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する非偏光を前記第２の反射面（１１０、２１０、．．．）から射出する直線偏光に変換することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学系。
【請求項４】
前記第２の反射面（５２０、６２０）に割り当てられ、光学系の前記作動中に関連する該第２の反射面（５２０、６２０）で反射された光を反射するミラー要素（５４０、６４０）を更に含むことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項５】
前記ミラー要素（５４０、６４０）は、少なくとも１つの傾斜軸の周りに傾斜可能な方式で配置されることを特徴とする請求項４に記載の光学系。
【請求項６】
前記第２の反射面（１２０、２２０、．．．）は、少なくとも１つの傾斜軸の周りに傾斜可能な方式で配置されることを特徴とする請求項１及び請求項３から請求項５のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項７】
複数の前記偏光影響装置は、アレイ（３００、４００、７００）を構成することを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項８】
前記アレイ（３００、４００、７００）において、２つの互いに垂直な空間方向の一方においてそれぞれ互いに隣接する前記反射面は、互いに平行に延びることを特徴とする請求項７に記載の光学系。
【請求項９】
前記第２の反射面（１２０、２２０、．．．）から射出する光を反射することができる複数の個々のミラー（４３１、４３２、４３３，．．．）を有するミラー装置（４３０）を更に含むことを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の光学系。
【請求項１０】
前記個々のミラー（４３１、４３２、４３３，．．．）は、互いに独立に調節可能であることを特徴とする請求項９に記載の光学系。
【請求項１１】
ＥＵＶ内の作動に向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスであって、
請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の光学系、
を含むことを特徴とする照明デバイス。
【請求項１２】
照明デバイスが、複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーと複数の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーとを含み、
照明デバイスの前記作動中に前記視野ファセットで反射された光線のうちの少なくとも１つのビーム経路内に、該光線の偏光状態に影響を及ぼすための偏光影響装置のうちのそれぞれ１つが配置される、
ことを特徴とする請求項１１に記載の照明デバイス。
【請求項１３】
照明デバイスと投影レンズとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
前記照明デバイスは、請求項１１又は請求項１２に従って具現化される、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項１４】
前記照明デバイスに及び／又は光伝播方向に偏光影響装置（１００、２００、．．．）の下流の前記投影レンズに配置された全てのミラーに対して、それぞれの反射面が、投影露光装置の作動中に該反射面上に入射する光の方向に対して最大で２０°、好ましくは最大で１５°の角度で、又は９０°±１０°、好ましくは９０°±５°の角度でのいずれかで配置されることを特徴とする請求項１３に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項１５】
微細構造化構成要素をマイクロリソグラフィを用いて生成する方法であって、
感光材料から構成される層が少なくとも部分的に塗布された基板を与える段階と、
結像される構造を有するマスクを与える段階と、
請求項１３又は請求項１４に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスクの少なくとも一部を前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１６】
ＥＵＶ内の作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
互いに対して０°±１０°の角度又は９０°±１０°の角度で配置された第１の反射面（１１０、２１０、．．．）と第２の反射面（１２０、２２０、．．．）とを有する少なくとも１つの偏光影響装置（１００、２００、．．．）、
を含み、
光学系の前記作動中に前記第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する光が、該第１の反射面と４５°±５°の角度を形成し、
前記偏光影響装置（１００、２００、．．．）は、光学系の前記作動中に前記第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する光の光伝播方向と平行に延びる回転軸の周りに回転可能であり、
複数の前記偏光影響装置は、アレイ（３００、４００、７００）を構成する、
ことを特徴とする光学系。
【請求項１７】
ＥＵＶ内の作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
互いに対して０°±１０°の角度又は９０°±１０°の角度で配置された第１の反射面（１１０、２１０、．．．）と第２の反射面（１２０、２２０、．．．）とを有する少なくとも１つの偏光影響装置（１００、２００、．．．）、
を含み、
光学系の前記作動中に前記第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する光が、該第１の反射面と４５°±５°の角度を形成し、
前記偏光影響装置（１００、２００、．．．）は、光学系の前記作動中に前記第１の反射面（１１０、２１０、．．．）上に入射する光の光伝播方向と平行に延びる回転軸の周りに回転可能であり、
実質的に環状の幾何学形状の光学的有効面を有するミラー要素（５４０、６４０）をさらに含む、
ことを特徴とする光学系。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
〔関連出願への相互参照〕
本出願は、両方共に２０１２年４月１６日出願のドイツ特許出願ＤＥ  １０  ２０１２  ２０６  １５３．３及びＵＳ  ６１／６２４，４２９の優先権を主張するものである。これらの出願の内容は、これにより引用によって組み込まれる。
【０００２】
本発明は、マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系に関する。
【背景技術】
【０００３】
マイクロリソグラフィは、例えば、集積回路又はＬＣＤのような微細構造化構成要素を生成するのに使用される。マイクロリソグラフィ処理は、照明デバイスと投影レンズとを含むいわゆる投影露光装置において実施される。この場合に、照明デバイスを用いて照明されたマスク（＝レチクル）の像は、マスク構造を基板の感光コーティングに転写するために、感光層（フォトレジスト）で被覆されて投影レンズの像平面に配置された基板（例えば、シリコンウェーハ）上に投影レンズを用いて投影される。
【０００４】
ＥＵＶ範囲、すなわち、例えば、約１３ｎｍ又は約７ｎｍの波長に向けて設計された投影レンズでは、適切な光透過性屈折材料の利用可能性の欠如に起因して、結像処理のための光学構成要素としてミラーが使用される。
【０００５】
投影露光装置の作動中に、目標を定めた方式で結像コントラストを最適化するために瞳平面内及び／又はレチクル内の特定の偏光分布を照明デバイスに設定し、同じく投影露光装置の作動中に偏光分布に変更を加えることができるようにする必要性が存在する。
【０００６】
この場合に、特にＥＵＶ系において発生する１つの問題は、この目的で必要とされる反射に関連付けられた伝達率損失の増加であり、その結果、投影露光装置の性能特性が阻害される。
【０００７】
ＥＵＶ範囲に向けて設計された投影露光装置における偏光分布を変更することに関する従来技術に関して、単なる一例として、ＤＥ  １０  ２００８  ００２  ７４９  Ａ１、ＵＳ  ２００８／０１９２２２５  Ａ１、ＷＯ  ２００６／１１１３１９  Ａ２、及びＵＳ  ６，９９９，１７２  Ｂ２を参照されたい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】ＤＥ  １０  ２００８  ００２  ７４９  Ａ１
【特許文献２】ＵＳ  ２００８／０１９２２２５  Ａ１
【特許文献３】ＷＯ  ２００６／１１１３１９  Ａ２
【特許文献４】ＵＳ  ６，９９９，１７２  Ｂ２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、比較的低い伝達率損失と共に投影露光装置内の偏光分布の柔軟な設定を可能にする特にＥＵＶ内の作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この目的は、独立請求項の特徴によって達成される。
【００１１】
特にＥＵＶ内の作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の本発明による光学系は、互いに対して０°±１０°の角度又は９０°±１０°の角度で配置された第１の反射面と第２の反射面とを有する少なくとも１つの偏光影響装置を含み、光学系の作動中に第１の反射面上に入射する光は、第１の反射面と４５°±５°の角度を形成し、偏光影響装置は、光学系の作動中に第１の反射面上に入射する光の光伝播方向と平行に延びる回転軸の周りに回転可能である。
【００１２】
本発明は、特に、２つの反射面又はミラー要素を用いて最初は非偏光である入力光（特にＥＵＶ光）から直線偏光出力光を事前に発生させるという概念に基づいており、直線出力偏光の発生は、実質的にブリュースター角で発生する２回の反射を用いて得られる。１５ｎｍよりも小さいＥＵＶ波長での全ての適切な（層）材料の屈折率は値１に近いので、ＥＵＶ系におけるこのブリュースター角は、典型的に約４５°である。
【００１３】
この場合に、２つの反射面は、互いに実質的に平行又は互いに実質的に垂直のいずれかでオフセットされた方式で配置することができる。ブリュースター角で第１の反射面で発生する反射の故に、本発明による装置において第１の反射面から第２の反射面に通過する光は、既にほぼ完全にｓ偏光されており、その結果、第２の反射面での反射率は、非偏光照明の場合の反射率と比較して増大する。
【００１４】
本発明による偏光影響装置における直線出力偏光のこの有効な発生により、この装置から又はその第２の反射面から射出する光の偏光方向は、この装置が光学系の作動中に第１の反射面上に入射する光の光伝播方向と平行に延びる回転軸の周りに回転可能として構成されるという事実によって変更することができる。この手法は、それぞれの入力光線に沿って向けられた回転軸の周りの偏光影響装置の回転角βによる回転が、ブリュースター角又はブリュースター反射のための入射平面に関する装置の偏光決定幾何学形状も同じく回転角βだけ回転されるという理由で同じ回転角βによる出力偏光方向の回転ももたらすという考察に基づいている。
【００１５】
例えば、傾斜した光線の発生による（かつ複数（少なくとも３つ）の反射による）予め決められた入力偏光に対する幾何学的偏光回転の実現とは対照的に、本発明では、望ましい偏光分布を設定するのに非偏光を使用することができる。更に、本発明による構成では、より少数の必要反射面に起因して伝達率損失を有意に低減することができる。
【００１６】
一実施形態によれば、光学系の作動中に、第２の反射面によって反射される光線は、第１の反射面上に入射する光の入力方向と平行である出力方向に反射される。
【００１７】
更に別の態様によれば、本発明はまた、第１の反射面と第２の反射面とを有する少なくとも１つの偏光影響装置であって、光学系の作動中に第２の反射面で反射された光が第１の反射面上に入射する光の入力方向と平行に反射される上記少なくとも１つの偏光影響装置を含む特にＥＵＶ内の作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系に関し、光学系の作動中に、光は、ΘBが光学系の作動波長での第１の反射面に対するブリュースター角を表す場合にΘ＝ΘB±５°の入射角で第１の反射面上に入射し、偏光影響装置は、光学系の作動中に第１の反射面上に入射する光の光伝播方向と平行に延びる回転軸の周りに回転可能である。
【００１８】
一実施形態によれば、偏光影響装置は、光学系の作動中に第１の反射面上に入射する非偏光を第２の反射面から射出する直線偏光に変換する。
【００１９】
一実施形態によれば、光学系は、各第２の反射面にそれぞれ割り当てられて光学系の作動中に関連する第２の反射面で反射された光を反射するミラー要素を更に含む。このミラー要素は、特に少なくとも１つの傾斜軸の周りに傾斜可能な方式で配置することができる。更に、ミラー要素は、実質的に環状の幾何学形状の光学的有効面を有することができる。
【００２０】
更に別の実施形態において、それぞれの偏光影響光学装置の第２の反射面は、少なくとも１つの傾斜軸の周りに傾斜可能な方式で配置することもできる。
【００２１】
一実施形態によれば、光学系は、本発明による複数の偏光影響装置から構成されたアレイを含み、複数の対応する偏光影響装置は、２つの好ましくは互いに垂直な空間方向に互いにそれぞれ隣接する。この場合に、特に、このアレイにおいて、２つの互いに垂直な空間方向の一方に互いにそれぞれ隣接する反射面は、互いに平行に延びることができる。
【００２２】
そのようなアレイを使用することにより、本発明による概念では、偏光分布の柔軟な設定（以下では「偏光成形」とも表す）と瞳平面での強度分布の柔軟な設定（以下では「瞳成形」とも表す）との両方を実現することが可能であり、本発明により、これは、特に、２回の反射のみを用いて、従って、相応に低い強度損失（かつ同じく構造空間の対応する節約）のみを伴って事前に達成することができる。
【００２３】
一実施形態によれば、光学系は、第２の反射面から射出する光を反射することができる複数の個々のミラーを有するミラー装置を上述の目的で更に含むことができる。これらの個々のミラーは、特に、柔軟な方式で上述の瞳成形を実現するために互いに独立して調節可能とすることができる。
【００２４】
更に別の態様によれば、本発明は、ＥＵＶ内の作動に向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスに関し、照明デバイスは、上述の特徴を有する光学系を含む。
【００２５】
一実施形態によれば、照明デバイスは、複数の視野ファセットを有する視野ファセットミラーと複数の瞳ファセットを有する瞳ファセットミラーとを含み、照明デバイスの作動中に視野ファセットで反射された光線のビーム経路において、その光線の偏光状態に影響を及ぼすために偏光影響装置のうちのそれぞれ１つが配置される。
【００２６】
本発明は、更に、上記に解説した特徴を有する光学系を含む照明デバイスと投影レンズとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置に関し、かつ微細構造化構成要素をマイクロリソグラフィを用いて生成する方法に関する。
【００２７】
一実施形態によれば、照明デバイスと及び／又は光伝播方向に偏光影響装置の下流の投影レンズとに配置された全てのミラーに対して、それぞれの反射面は、投影露光装置の作動中に当該反射面上に入射する光の方向に対して最大で２０°、好ましくは最大で１５°の角度、又は９０°±１０°、好ましくは９０°±５°の角度のいずれかで配置される。言い換えれば、照明デバイスと及び／又は光伝播方向に偏光影響装置の下流の投影レンズとにおいて、かすめ入射（それぞれの反射面に対して入射光の最大で２０°、好ましくは最大で１５°の角度）又は実質的な法線入射（すなわち、それぞれの反射面に対して９０°±１０°、より好ましくは９０°±５°の角度）のいずれかで作動されるようなミラーのみが設けられる。この構成は、関連の角度で発生する反射に対する偏光状態が少なくともほとんど変更されない方式で維持される（かつ例えばいわゆるｓ−ｐ分離による有意な影響を受けない）という利点を有する。本出願の関連では、例えば、「９０°±１０°の角度で」とい文言は、「８０°から１００°までの範囲の角度で」等であるとして理解されるものとする。
【００２８】
本発明の更に別の構成は、本明細書及び従属請求項から集めることができる。本発明を添付図面に示す例示的実施形態に基づいて以下により詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の根底にある原理を解説するための概略図である。
【図２】本発明の異なる実施形態を解説するための概略図である。
【図３】本発明の異なる実施形態を解説するための概略図である。
【図４】本発明の異なる実施形態を解説するための概略図である。
【図５】本発明の異なる実施形態を解説するための概略図である。
【図６】本発明の異なる実施形態を解説するための概略図である。
【図７】本発明の異なる実施形態を解説するための概略図である。
【図８】ＥＵＶ内の作動に向けて設計された投影露光装置の照明デバイスにおける本発明の１つの可能な実現を解説するための概略図である。
【図９ａ】本発明の更に別の可能な実施形態を解説するための概略図である。
【図９ｂ】本発明の更に別の可能な実施形態を解説するための概略図である。
【図１０】ＥＵＶ内の作動に向けて設計された投影露光装置の１つの基本的に可能な構成の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
図１０は、ＥＵＶ内の作動に向けて設計され、本発明を実現することができる例示的投影露光装置の概略図を示している。図１０により、投影露光装置９７５内の照明デバイス９８０は、視野ファセットミラー９８１（ファセット９８２を有する）と瞳ファセットミラー９８３（ファセット９８４を有する）とを含む。プラズマ光源９８６とコレクターミラー９８７とを含む光源ユニット９８５からの光は、視野ファセットミラー９８１上に向けられる。瞳ファセットミラー９８３の下流の光路内には、第１のテレスコープミラー９８８と第２のテレスコープミラー９８９とが配置される。光路内で下流には、偏向ミラー９９０が配置され、この偏向ミラーは、その上に入射する放射線を６つのミラーＭ１〜Ｍ６を含む投影レンズ９９５の物体平面ＯＰの物体視野９９１上に向ける。物体視野９９１の場所には、反射性の構造担持マスクＭが配置され、このマスクは、投影レンズ９９５（６つのミラーＭ１〜Ｍ６を有する）を用いて像平面ＩＰに結像される。
【００３１】
この照明デバイス９８０において、例えば、図８を参照して以下に説明するように、本発明による偏光影響光学装置を用いて偏光分布の柔軟な設定（「偏光成形」とも呼ぶ）及び瞳平面内での強度分布の柔軟な設定（「瞳成形」）がここで達成される。以下では、図１を参照して、この点に関して最初に本発明の根底にある原理を例示する。
【００３２】
図１により、非偏光は、４５°のブリュースター角ΘBに対応する入射角で第１の反射面１１０上に入射し、この非偏光は、この面から第１の反射面１１０に対して９０°の角度の向きに配置された第２の反射面１２０の方向に反射される。ＥＵＶにおける屈折率は、１という値に近いので、このブリュースター角は、典型的に約４５°である。ＥＵＶでの反射面に対して使用することができる１つの適切なＨＲ層材料は、例えば、ＭｏＳｉ（すなわち、シリコン基板上のモリブデン層）である。
【００３３】
この図及びそれ以降の図では、第１の反射面１１０上に入射する入力光の非偏光状態は、関連の光線に対して両方の偏光方向が示されるという事実によって象徴される。
【００３４】
第１の反射面１１０においてブリュースター角で発生する反射に起因して、ｓ偏光が可能な最大限度まで反射され、それに対してｐ偏光は、可能な最大限度まで透過されるか又は材料に吸収される。それに応じて、第１の反射面１１０から第２の反射面１２０に通過する光は、図１に作図面において向きを示すかなり小さ目の双方向矢印（ｐ偏光を象徴している）に示すように、事前にほぼ完全にｓ偏光状態にある。第２の反射面１２０では、同じく図１に示すように以前からまだ残っている可能性があるｐ偏光の残存部分もこの第２の反射面１２０から最終的に射出する光に排除されるように、ブリュースター角で新しい反射がここでもまた発生する。
【００３５】
本発明による装置１００における強度損失に関して、これは、第１の反射面１１０での反射に場合に、装置上に入射する非偏光の強度に対して約５０％の強度損失が発生するが、第２の反射面１２０での反射率は、非偏光照明の場合の反射率と比較して増加することを意味する。
【００３６】
図１の具体的であるが本発明がそれに限定されることのない例において、第１の反射面１１０と第２の反射面１２０は、両方共に１つの同じ光学要素１００上に具現化され、この光学要素１００は、上述の幾何学形状又は言及した反射角を実現するために、図１に断面で例示し、作図平面の中に（すなわち、図示の座標系のｙ方向に）続き、かつ反射面１１０、１２０を形成するためにＥＵＶ放射線（ＨＲコーティング）に対して高い反射性を有する対応するコーティングが設けられた楔形状を有する。
【００３７】
反射面１１０及び１２０から構成される偏光影響光学装置１００は、光学系の作動中に第１の反射面上に入射する光の光伝播方向と平行に延びる回転軸の周りに回転可能である。図１には、光ビーム（回転軸に沿って進む重心光線を有する）が装置又は光学要素１００上に入射する場合に対して選択された回転軸「Ａ」を示している。それとは対照的に、第１の反射面上にのみ入射する光線の場合に、回転軸は、好ましくは、この光線に正確に沿って配置される。
【００３８】
この回転可能構成は、ブリュースター角に関する装置１００の偏光決定幾何学形状、特にブリュースター反射に対する入射平面も同じく回転されるので、それぞれの入力光線に沿って向けられた回転軸の周りの偏光影響光学装置１００の回転角βの回転が出力偏光方向の同じ回転角βの回転ももたらすという考察に基づいている。
【００３９】
図２は、図１を参照して上述した原理が同じく使用されるが、望ましい直線出力偏光方向を有する光が、装置上に入射する非偏光と同じ方向（すなわち、プロットす座標系の正のｚ方向）に、すなわち、「疑似透過」であるかのように伝播する光学装置２００を示している。この目的のために、図１とは対照的に、反射面２１０、２２０は、互いに垂直にではなく平行に配置される。図２の装置２００でもまた、入力光線に沿って向けられた回転軸Ａの周りの装置２００全体の回転角βの回転は、出力偏光方向の同じ回転角βの回転をもたらす。更に、第２の反射面２２０から射出する光線は、回転軸Ａの周りの円弧上を移動し、各回転角βにおける出力偏光方向は、それぞれ回転軸Ａに関してタンジェンシャルに延びる。
【００４０】
図３により、反射面３１０ａ、３２０ａ、３１０ｂ、３２０ｂ、３１０ｃ、３２０ｃ，．．．からなる複数の個々の装置３００ａ、３００ｂ、３００ｃ，．．．からなり、特に行列方式で構成することができる光学装置３００を設けることができる。この場合に、従来、例えば、照明デバイスにおいて異なる照明設定を柔軟に生成するのに使用されているＭＭＡ（＝「マイクロミラーアレイ」）の形態にあるミラー装置とは対照的に、図３に記載の本発明による反射面３１０ａ、３２０ａ、３１０ｂ、３２０ｂ、３１０ｃ、３２０ｃ，．．．は、実際により大きい「マクロ的な」寸法、例えば、１〜１０ｃｍの範囲の桁の寸法を有することができる。図３に示す装置は、更に別の構成において、それぞれの第２の反射面３２０ａ、３２０ｂ、３２０ｃ，．．．を傾斜可能に設計し、第２の反射面３２０ａ、３２０ｂ、３２０ｃ，．．．でそれぞれ反射される光線を設定された傾斜角に依存して瞳平面内の望ましい位置上に向け、予め定められた強度分布又は望ましい照明設定に対応する照明スポットをこの位置に生成することにより、「瞳成形」を可能にすることができる。
【００４１】
図４により、反射面４１０ａ、４２０ａ、４１０ｂ、４２０ｂ、４１０ｃ、４２０ｃ，．．．から構成される図３と類似に構成された配置４００は、偏光影響光学装置４００を用いた偏光成形と、ミラー装置４３０を用いた例えば照明デバイスの瞳平面内での瞳設定、すなわち、望ましい強度分布の設定とを実施するために、複数の個々のミラー４３１、４３２、４３３，．．．から構成される更に別のミラー装置４３０と組み合わせることができる。図４から分るように、この場合に、第２の反射面４２０ａ、４２０ｂ、４２０ｃ，．．．によって反射された光線の各々は、ミラー装置４３０のそれぞれの個々のミラー４３１、４３２、４３３，．．．上に向けられ、かつこのミラー装置４３０により、関連の個々のミラー４３１、４３２、４３３，．．．の傾斜角に基づいて、瞳平面内の望ましい場所上に向けられる。
【００４２】
以下では、図５を参照して更に別の実施形態の説明を与えるが、これは、望ましい直線出力偏光方向を有し、かつ第２の反射面５２０によって反射された光が、装置５００の第１の反射面５１０上に入射する非偏光に対して反対の方向に伝播する限り、「偏光成形」装置５００に関して基本的に図１を参照して記述した原理に基づくものである。更に別のミラー要素５４０は、図４と同様に、例えばその後の「瞳成形」の目的で、この光を第１及び第２の反射面から構成される装置５００から「分離」するように機能する。この目的のために、ミラー要素５４０は、実質的に環状（球面シェル形状）の幾何学形状を有することができる。
【００４３】
図５の例示的実施形態において、第２の反射面５２０によって反射された光の分離（すなわち、元のビーム経路からの「反射分離」）を実現するために、２つの反射面５１０、５２０は、第２の反射面５２０で反射された光線が、第１の反射面５１０上に入射する光線の正反対の方向に反射して戻されないように、互いに対して９０°とは異なる（一般的に数度だけ）角度（すなわち、α≠９０°、例えば、α＝９４°）で配置される。その結果、図５により、第２の反射面５２０で反射された光線は、偏光影響光学装置上に入射非偏光線と同じ方向（すなわち、図示の座標系の負のｚ方向）にミラー要素５４０を通して向けることができる。
【００４４】
図５ａの図の下側部分及び図５ｂにも示すように、図５の偏光影響光学装置５００の場合にも、入力光線に沿って向けられた回転軸Ａの周りの装置５００の回転角βの回転は、出力偏光方向の同じ回転角βの回転をもたらし、この場合に、第２の反射面５２０から射出する光線は、ミラー要素５４０での反射の後に回転軸Ａの周りの円弧上を移動し、各回転角βにおける出力偏光方向は、それぞれ回転軸Ａに関してタンジェンシャルに延びる。
【００４５】
図６に示すように、ミラー要素６４０も傾斜可能であるように設計することができ、従って、この場合に、ミラー要素６４０でそれぞれ反射される光線を瞳平面内の望ましい位置の上に向け、そこに望ましい照明設定に対応する照明スポットを生成することにより、「瞳成形」のために使用することができる。
【００４６】
更に別の実施形態において、図３に示す装置３００から始めて第１の反射面３１０ａ、３１０ｂ、３１０ｃ，．．．又は第２の反射面３１０ａ、３１０ｂ、３１０ｃ，．．．を傾斜可能方式で構成することにより、瞳成形も実現することができる。そのような構成は、例えば、図５及び図６を参照して記述した実施形態と比較して、例えば、瞳平面のうちで比較的小さい直径を有する円によって境界が定められた領域のみを照明することが意図されたいわゆる「低シグマ照明設定」を設定する場合に、瞳の中心の領域内の場所を対応する偏光で照明することができるという利点を有する。
【００４７】
更に、図５を参照して上述した実施形態から、図７に示すように複数の対応する個々の装置７００ａ、７００ｂ、７００ｃ，．．．から構成される（特に行列タイプの）偏光影響光学装置７００を図３と同じく構成することが可能である。
【００４８】
図８は、ＥＵＶ内の作動に向けて設計された投影露光装置の照明デバイスにおける本発明の１つの可能な実現を解説するための概略図を示している。
【００４９】
図８には、照明デバイスの光源ユニットのうちのコレクターミラー８８７のみを示しており、図１０と同様に、このミラーから照明光が視野ファセットミラー８８１（ファセット８８２を有する）を通して瞳ファセットミラー８８３（ファセット８８４を有する）上に入射する。上述したように、光伝播方向に本発明による偏光影響光学装置を用いた偏光成形の上流では、ＥＵＶ光は非偏光状態にある（少なくとも可能な最大限度まで）。視野ファセットミラー８８１の上流の光路において、図８に記載の反射面８１０、８２０から構成される本発明による装置を用いて偏光設定が行われる。特に、視野ファセットミラー８８１の各個々のファセット８８２の上流に反射面８１０、８２０から構成される対応する（「二重ミラー」）装置８００を設けることができ、この場合に、これらの装置の各々は、本発明による偏光設定に向けて、それぞれ入射する光線に沿って延びる回転軸の周りに回転可能な方式で構成される。更に別の実施形態において、照明デバイスの具体的な設計に基づいて、光伝播方向に視野ファセットミラー８８１と瞳ファセットミラー８８３の間に又は他に光伝播方向に瞳ファセットミラー８８３の下流にも、反射面８１０、８２０から構成される装置又は対応する個々の装置のアレイ又は行列状配置を設けることができる。
【００５０】
更に、照明デバイス内で光伝播方向に本発明による偏光影響光学装置に続く更に別の光学構成要素又はミラーの配置は、好ましくは、本発明による偏光成形の下流の光路内にかすめ入射（例えば、入射光線とそれぞれのミラーの反射面の間の１５°よりも小さく、特に１０°よりも小さい角度）又は法線入射（例えば、入射光線とそれぞれのミラーの反射面の間の少なくとも８０°、特に９０°の角度）で作動されるミラーしか配置されないように構成される。この方法で達成することができることは、本発明による偏光影響光学装置を用いて設定された偏光を維持し、更に別の光学構成要素又はミラーにおいて発生する反射率が、設定された偏光方向に可能な限り依存しないようにすることである。
【００５１】
図９ａ〜図９ｂは、更に別の可能な本発明の実施形態を解説するための概略図を示している。図９ａ〜図９ｂに示す装置は、図２の実施形態と同様に互いに平行に配置された２つの反射面９１０、９２０を含む。しかし、図２とは異なり、２つの反射面９１０、９２０は、入力光線に沿って向けられた回転軸「Ａ」の周り（すなわち、図示の座標系のｚ方向に沿って向けられた回転軸の周り、図９ｂを参照されたい）だけではなく、作図面に対して垂直な追加の回転軸の周り（すなわち、図示の座標系のｙ方向に沿って向けられた回転軸の周り、図９ａを参照されたい）にも回転可能である。この追加の回転軸及びそれによって得られる追加の自由度の結果として、２つの反射面９１０、９２０の位置又は向きは、特に、反射面９１０、９２０での反射が実質的にブリュースター角で発生する図９ｂの位置と、反射面９１０、９２０での反射がブリュースター角と比較して比較的小さい入射角、例えば、５°と３０°の間の入射角（それぞれの反射面上の表面法線に対して定められる）で発生する図９ａの位置との間で修正することができる。
【００５２】
後者の位置（図９ａに示す）では、反射装置の幾何学形状における偏光に関して「好ましい方向」の欠如に起因して（すなわち、反射装置が入射光の偏光に対して感度を持たないという事実に起因して）、第２の反射面９２０から射出する光は、依然として実質的に非偏光である。更に、反射面９１０、９２０をｙ方向に沿う回転軸の周りに回転させることにより、偏光度（「ＤＯＰ」）を実質的にＤＯＰ＝０とＤＯＰ＝１という極値の間で調節することができる。更に、入力光線に沿って向けられた回転軸「Ａ」の周りの装置９００全体の回転角βの回転は、図２及びそれ以降の図を参照して上記に既に解説したように、同じ回転角βによる出力偏光方向の回転をもたらす。
【００５３】
本発明を特定の実施形態に基づいて記述したが、当業者には、例えば個々の実施形態の特徴の組合せ及び／又は交換によって多くの変形及び代替実施形態が明らかである。従って、そのような変形及び代替実施形態が本発明によって同時に包含され、本発明の範囲が添付の特許請求の範囲及びその均等物の意味の範囲内でのみ限定されることは当業者には言うまでもない。
【符号の説明】
【００５４】
１００  偏光影響光学装置
１１０  第１の反射面
１２０  第２の反射面
Ａ  回転軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９ａ）】
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【図９ｂ）】
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【図１０】
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