(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体の外装面上に設けられた接地端子と、
前記外装面上に設けられており、前記筐体の外部に配置された外部コンデンサを介して前記接地端子と接続される帰還端子と、
前記帰還端子と接続され、前記筐体内に配置された中継配線と、
を有するプロセッサと、
前記プロセッサに対して着脱可能なコネクタ部と、
処置具が挿入されるチャネルと、
前記チャネルに近接する位置の金属部材を前記コネクタ部と接続する帰還配線と、
を有するスコープと、
を備え、
前記コネクタ部が前記プロセッサに装着されると、前記帰還配線と前記中継配線とが接続され、これにより、前記金属部材が該帰還配線、該中継配線、前記帰還端子及び前記外部コンデンサを介して前記接地端子と接続される、
内視鏡システム。
【請求項２】
前記スコープは、可撓性を有する棒形状の挿入部であって、患者の管腔内に挿入されるものを有し、
前記金属部材は、前記挿入部内に配置され、該挿入部の長手方向に沿って長尺なチューブ形状を有する、
請求項１に記載の内視鏡システム。
【請求項３】
前記外部コンデンサは、前記接地端子及び前記帰還端子に着脱可能に接続される、
請求項１又は請求項２に記載の内視鏡システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、内視鏡システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
人の食道や腸などの管腔内にスコープを挿入し、管腔内を観察しながら処置を行う内視鏡システムが知られている。この種の内視鏡システムでは、鉗子やメス等の処置具をスコープ内に通し、スコープの先端部から突出させることにより、管腔内の患部の処置が行われる。使用する処置具としては、患部の切除や止血を行うための高周波処置具が知られている。
【０００３】
このような内視鏡システムとして、例えば、特許文献１に、高周波メスを使用する内視鏡システムが開示されている。高周波メスのような高周波処置具を使用する場合、高周波処置具で発生した電磁波によってスコープの金属部材内に誘導電流が流れる場合がある。この誘導電流は、被写体の撮影画像にノイズとして表れる。そのため、特許文献１に記載の内視鏡システムでは、誘導電流を逃がすために、スコープに帰還端子を設けている。この帰還端子を、例えば、プロセッサのアースに接続することにより、金属部材内に流れた電流がアースへ逃がされる。なお、金属部材内に流れる電流は高周波成分を有しているため、帰還端子とアースとの間には、通常、アースへの直接接続の代わりに高周波電流をアースへ逃がすためのコンデンサが配置される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−２０２６５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の電子内視鏡システムでは、スコープの外装面上に帰還端子が設けられている。そのため、使用済みのスコープを洗浄する場合や、スコープを搬送する場合に、スコープの管腔内への挿入部が帰還端子に接触する場合があった。挿入部は内部の配線等の保護のため、保護チューブで覆われている。この保護チューブには、挿入部が湾曲しやすいように、薄く形成された樹脂などの柔らかい材料が使用されている。そのため、挿入部が帰還端子に接触すると、保護チューブが損傷する虞があった。
【０００６】
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、スコープの損傷を抑制するのに好適な内視鏡システムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一実施形態に係る内視鏡システムは、筐体の外装面上に設けられた接地端子と、外装面上に設けられており、筐体の外部に配置された外部コンデンサを介して接地端子と接続される帰還端子と、帰還端子と接続され、筐体内に配置された中継配線と、を有するプロセッサと、プロセッサに対して着脱可能なコネクタ部と、処置具が挿入されるチャネルと、チャネルに近接する位置の金属部材をコネクタ部と接続する帰還配線と、を有するスコープとから構成される。この構成において、コネクタ部がプロセッサに装着されると、帰還配線と中継配線とが接続され、これにより、金属部材が帰還配線、中継配線、帰還端子及び外部コンデンサを介して接地端子と接続される。
【０００８】
本発明の一実施形態によれば、例えば、スコープが、コネクタ部を介してプロセッサに接続されると、スコープ内の金属部材は、帰還配線、中継配線、コンデンサを介して接地される。そのため、スコープには、コネクタ部とは別に、金属部材を設置するための配線を接続する端子を設ける必要がなくなる。これにより、スコープが端子と接触して損傷することを抑制できる。
【０００９】
また、本発明の一実施形態において、スコープは、例えば、可撓性を有する棒形状の挿入部であって、患者の管腔内に挿入されるものを有する。この場合、金属部材は、挿入部内に配置され、挿入部の長手方向に沿って長尺なチューブ形状を有する。
【００１０】
また、本発明の一実施形態において、外部コンデンサは、例えば、接地端子及び帰還端子に着脱可能に接続される。
【００１１】
このような構成によれば、使用する高周波処置具や高周波電源に応じて、使用するコンデンサを容易に交換することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の実施形態によれば、スコープの損傷を抑制するのに好適な内視鏡システムが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態にかかる内視鏡システムの構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態に係る内視鏡システムについて、図面を参照しながら説明する。
【００１５】
図１は、本実施形態の内視鏡システム１の構成図である。内視鏡システム１は、プロセッサ１００、スコープ２００、モニタ３００、高周波処置具４００、高周波電源５００を有している。
【００１６】
スコープ２００は、患者の管腔内に挿入される挿入部２１、術者によって操作される操作部２３、操作部２３から延びるユニバーサルチューブ２５、プロセッサ１００に着脱可能に接続されるコネクタ部２７を有している。また、スコープ２００内には、コネクタ部２７から挿入部２１の先端部２１ａまで伸び、被写体に照射される照射光を導光するライトガイドが配置されている。図１では、ライトガイドの図示は省略されている。
【００１７】
プロセッサ１００は、内視鏡システム１の動作を制御するための各種電子回路、被写体を照明する照明光を放射する光源ユニット、術者による操作を受け付ける操作パネルを有している。なお、図１では、これらの電子回路、光源ユニット、操作パネルの図示は省略されている。操作パネルは、内視鏡システム１の動作に関するパラメータを変更するために使用される。光源ユニットから放射された照明光は、コネクタ部２７を介してスコープ２００に入射される。プロセッサ１００からスコープ２００に入射された照明光は、ライトガイド内を導光されて挿入部２１の先端部２１ａから放射され、被写体に照射される。
【００１８】
スコープ２００の挿入部２１は、長尺な棒形状を有しており、その先端部２１ａは、操作部２３に対する操作に応じて湾曲する。挿入部２１の先端部２１ａ以外の箇所は可撓性を有している。また、挿入部２１は、内部の配線や構造を保護し、且つ、内部への液体や汚れの侵入を防止するため、表面が保護チューブ２１ｂで被覆されている。保護チューブ２１ｂは、挿入部２１の可撓性が損なわれないように、薄く形成された樹脂などの柔らかい材料で形成されている。術者は、挿入部２１を湾曲させながら患者の管腔内へ挿入する。挿入部２１の先端部２１ａには、管腔内の被写体を撮像するための撮像素子（不図示）が設けられている。撮像素子によって撮像された被写体の撮像信号は、コネクタ部２７を介して、プロセッサ１００に入力される。
【００１９】
プロセッサ１００は、スコープ２００から入力された被写体の撮像信号に対して所定の信号処理を施し、映像信号を生成する。この映像信号がモニタ３００に出力されることにより、モニタ３００には、被写体の撮影画像が表示される。
【００２０】
スコープ２００は、各種処置具が挿通される処置具チャネル２９を有している。処置具チャネル２９は、挿入部２１内に配置され、一端は操作部２３付近に設けられ、他端は挿入部２１の先端部２１ａに設けられている。術者は、操作部２３側から処置具を処置具チャネル２９に挿入し、挿入部２１の先端部２１ａから突出させる。これにより、術者は、モニタ３００に表示される撮影画像を見ながら処置具を操作し、管腔内の患部の処置を行うことができる。
【００２１】
処置具チャネル２９に挿通される処置具には、例えば、高周波処置具４００が使用される。高周波処置具４００は、高周波電流を供給する高周波電源５００と接続されている。高周波処置具４００は、高周波電流が供給されることによって通電され、患部の切開や凝固などの処置を行うために使用される。
【００２２】
高周波処置具４００は、高周波メスなどのモノポーラタイプと、高周波鉗子などのバイポーラタイプに大別される。図１に示される高周波処置具４００は、モノポーラタイプの高周波処置具４００である。モノポーラタイプの高周波処置具４００を使用する場合、患者の外皮に患者対極板４１が貼り付けられる。患者対極板４１は、高周波電源５００と接続されている。高周波処置具４００が患者の管腔内の体組織に触れると、高周波処置具４００に供給されている電流が、患者の体を介して患者対極板４１に流れる。このように高周波電流が流れることにより、ジュール熱が発生し、患部の処置を行うことができる。
【００２３】
次に、バイポーラタイプの高周波処置具４００として、例えば、高周波鉗子を使用する場合について説明する。高周波鉗子は、患部を挟む２つの挟持部を有している。この２つの挟持部はそれぞれ、独立して高周波電源５００と接続されている。高周波鉗子に高周波電流が供給されている状態で２つの挟持部によって患部が挟まれると、２つの挟持部の一方から他方へ、患部を介して高周波電流が流れる。これにより、挟持部によって挟まれた患部の処置を行うことができる。なお、バイポーラタイプの高周波処置具４００を使用する場合は、患者対極板４１は使用されない。
【００２４】
高周波処置具４００として、モノポーラタイプとバイポーラタイプの何れのタイプを使用する場合においても、高周波電流によって高周波処置具４００がジュール熱を発生するという点で共通する。高周波処置具４００がジュール熱を発生すると、高周波処置具４００から電磁ノイズが発生する場合がある。この電磁ノイズは、撮像素子及びそれに接続される配線、電子回路や、スコープ２００の挿入部２１に使用される金属部材２１ｃなどのうち、処置具チャネル２９に近接するものに誘導電流を発生させる可能性がある。撮像素子及びそれに接続される配線、電子回路に誘導電流が発生すると、被写体の撮影画像にノイズが発生する虞がある。また、スコープ２００の挿入部２１に使用される金属部材２１ｃに誘導電流が発生すると、術者がその金属部材２１ｃに接触した時に、感電してしまう虞がある。そのため、挿入部２１は、電気を通さない保護チューブ２１ｂで被覆され、術者が金属部材２１ｃに直接触れないように構成されている。更に、術者が感電してしまうことをより確実に防止するため、金属部材２１ｃは、プロセッサ１００を介して接地されている。詳しくは、金属部材２１ｃは、プロセッサ１００のフレームグラウンドＦＧに接続されている。フレームグラウンドＦＧは、例えば、プロセッサ１００の筐体やシャーシ等の内、金属によって形成された部材である。
【００２５】
次に、本実施形態における、挿入部２１の金属部材２１ｃを接地する構成について説明する。金属部材２１ｃは、挿入部２１の長手方向に沿って長尺なチューブ形状を有している。金属部材２１ｃは、ライトガイドや処置具チャネル２９を覆うように配置されており、これらを保護している。また、この金属部材２１ｃには、例えば、金属製のスパイラルチューブが使用される。金属製のスパイラルチューブは、薄い金属板をコイル状に形成したものであり、可撓性を有している。そのため、金属部材２１ｃを挿入部２１内に配置したとしても、挿入部２１に可撓性を持たせることができる。金属部材２１ｃは、操作部２３内に設けられた板状の金属基材２３ｃと接続されている。金属基材２３ｃは、操作部２３における湾曲操作ノブ（不図示）等の支持に用いられる。金属基材２３ｃと金属部材２１ｃとは互いに電気的に接続されており、互いに通電可能である。
【００２６】
金属基材２３ｃとコネクタ部２７は、帰還配線３１で接続されている。帰還配線３１は、スコープ２００の操作部２３内からユニバーサルチューブ２５内に亘って配置されており、金属部材２１ｃに発生した誘導電流をフレームグランドＦＧに逃がすために使用される。スコープ２００がプロセッサ１００に接続されると、帰還配線３１は、コネクタ部２７を介して、プロセッサ１００内の中継配線３３に接続される。スコープ２００がプロセッサ１００に接続された状態において、中継配線３３は、帰還配線３１とプロセッサ１００の外装面上に設けられた帰還端子３５とを接続する。
【００２７】
プロセッサ１００の外側には、内部にコンデンサを備えるコンデンサボックス３７が配置されている。コンデンサボックス３７からは、２つの配線３７ａ、３７ｂが伸びており、２つの配線３７ａ、３７ｂはそれぞれ、コンデンサボックス３７内でコンデンサの両端に接続される。また、コンデンサボックス３７から延びた２つの配線３７ａ、３７ｂはそれぞれ、プロセッサ１００の外装面に設けられた帰還端子３５及び接地端子３９に着脱可能に接続される。接地端子３９は、プロセッサ１００のフレームグラウンドＦＧに接続されている。
【００２８】
スコープ２００及びコンデンサボックス３７がプロセッサ１００に接続されると、挿入部２１の金属部材２１ｃは、操作部２３の金属基材２３ｃ、帰還配線３１、中継配線３３、コンデンサボックス３７を介してフレームグラウンドＦＧに接続される。コンデンサボックス３７内のコンデンサは、通常、電流の交流成分を通す特性を有する。そのため、金属部材２１ｃを、コンデンサボックス３７を介して接地する（金属部材２１ｃを、フレームグランドＦＧにＡＣ結合する）ことにより、金属部材２１ｃに発生した高周波の誘導電流を効率的にフレームグランドＦＧへ逃がすことができる。
【００２９】
なお、誘導電流をフレームグランドＦＧへ逃がすためのコンデンサの最適な容量やコンデンサボックス３７の電気回路構成は、誘導電流の周波数に応じて異なる。そのため、使用する高周波処置具４００や高周波電源５００に応じて、プロセッサ１００に接続するコンデンサボックス３７を交換することにより、より確実に誘導電流をフレームグランドＦＧへ逃がすことができる。また、本実施形態では、コンデンサボックス３７は、プロセッサ１００（帰還端子３５、接地端子３９）に対して着脱可能であるため、コンデンサボックス３７の交換が容易である。
【００３０】
本実施形態では、帰還配線３１はスコープ２００内に配置されており、コネクタ部２７を介してプロセッサ１００に接続される。そのため、従来技術とは異なり、本実施形態のスコープ２００には、コネクタ部２７とは別に帰還端子を設ける必要がない。これにより、スコープ２００の外装から帰還端子による突起を減らすことできる。スコープ２００の外装から突起が減ることにより、例えば、スコープ２００を洗浄する際や搬送する際に、挿入部２１が突起と接触することを抑制することができる。挿入部２１は、柔らかい材料で形成された保護チューブ２１ｂで被覆されている。そのため、挿入部２１と突起との接触を抑制することにより、柔らかい保護チューブ２１ｂが突起との接触により損傷してしまうことを抑制することができる。
【００３１】
また、従来技術では、スコープには、コネクタ部と帰還端子とが別々に設けられていた。そのため、スコープを使用可能な状態とするためには、コネクタ部のプロセッサへの接続操作と、帰還端子への配線の接続操作を別々に行う必要があった。これに対し、本実施形態では、帰還配線３１のプロセッサ１００（中継配線３３）との接続部分が、コネクタ部２７に配置されている。そのため、コネクタ部２７のプロセッサ１００への接続操作を行うことによって、帰還配線３１が中継配線３３に接続される。従って、本実施形態では、スコープ２００を使用可能とするための操作が容易であると共に、帰還配線３１を接地し忘れてしまうことを防止できる。
【００３２】
なお、図１に示される構成では、帰還配線３１は、スコープ２００のコネクタ部２７から操作部２３に亘って配置されているが、本発明はこの構成に限定されない。例えば、帰還配線３１は、挿入部２１の金属部材２１ｃに接続されてもよい。これにより、金属基材２３ｃと金属部材２１ｃとが接続されていなくても、確実に誘導電流をフレームグランドＦＧに流すことができる。
【００３３】
また、挿入部２１で使用される金属部材は、コイル状の金属部材２１ｃに限定されない。挿入部２１は、例えば、金属部材２１ｃを被覆するように配置され、チューブ状に形成された金属メッシュを有していてもよい。この金属メッシュは、挿入部２１の内部から外部へ放射される電磁ノイズ、及び、挿入部２１の外部から内部へ入り込む電磁ノイズを遮蔽するために使用される。この場合、金属メッシュ、又は、金属メッシュと金属部材２１ｃの両方が、金属基材２３ｃに接続される。
【００３４】
また、コンデンサボックス３７は、処置具として高周波処置具４００を使用する場合に、プロセッサ１００に接続される。そのため、高周波電流を供給する必要のない処置具を使用する場合、コンデンサボックス３７はプロセッサ１００から取り外されてもよい。
【００３５】
以上が本発明の例示的な実施形態の説明である。本発明の実施形態は、上記に説明したものに限定されず、本発明の技術的思想の範囲において様々な変形が可能である。例えば明細書中に例示的に明示される実施形態等又は自明な実施形態等を適宜組み合わせた内容も本発明の実施形態に含まれる。
【符号の説明】
【００３６】
１    内視鏡システム
２１  挿入部
２１ａ  先端部
２１ｂ  保護チューブ
２１ｃ  金属部材
２３  操作部
２３ｃ  金属基材
２５  ユニバーサルチューブ
２７  コネクタ部
２９  処置具チャネル
３１  帰還配線
３３  中継配線
３５  帰還端子
３７  コンデンサボックス
３７ａ、３７ｂ  配線
３９  接地端子
４１  患者対極板
１００  プロセッサ
２００  スコープ
３００  モニタ
４００  高周波処置具
５００  高周波電源
【図１】
0006356656.tif 000002