(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）１００重量部のバインダー樹脂および７０〜１３０重量部の球状有機ポリマービーズを含む樹脂組成物で第１の基体の一方の面をコーティングし、次いで乾燥させて、エンボス面を有する転写膜を製造する工程；
（ｂ）紫外線硬化性（ＵＶ−硬化性）樹脂で第２の基体の一方の面をコーティングし、前記転写膜の前記エンボス面が前記第２の基体の前記ＵＶ−硬化性樹脂被膜と接触している積層物を提供するように前記転写膜と前記第２の基体とを積層させる工程；並びに、
（ｃ）前記第２の基体が、エンボス拡散層を有するように、工程（ｂ）で得られた積層物を硬化させ、前記積層物から前記転写膜を取り外す工程；
を含み、
前記転写膜の前記エンボス面が１３０〜１５０°のセグメント角を有し；
前記転写膜を取り外す工程後のエンボス拡散層が１．４１〜１．５９の屈折率を有する、
光学シートを製造する方法。
【請求項２】
前記有機ポリマービーズの平均直径が５〜１２μｍである、請求項１に記載の光学シートを製造する方法。
【請求項３】
前記ＵＶ−硬化性樹脂被膜層のための前記ＵＶ−硬化性樹脂が、（メタ）アクリラート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリエステル（メタ）アクリラート樹脂、シリコーンウレタン（メタ）アクリラート樹脂、シリコーンポリエステル（メタ）アクリラート樹脂、フルオロウレタン（メタ）アクリラート樹脂、またはこれらの混合物を含む、請求項１に記載の光学シートを製造する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ポリマービーズの存在に起因するエンボス面を有する転写膜によって形成されたエンボス拡散層を含む高輝度光学シートを製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
我々の社会が情報化社会に変化して、技術が開発されるにつれて、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）はその用途を拡げてきた。近年、軽量で、薄型デザインでかつ低電力消費のＬＣＤについての要求が増大していた。
【０００３】
近年、バックライトユニット（ＢＬＵ）の光源のために発光ダイオード（ＬＥＤ）が、その高輝度および長寿命のせいで主として使用されている。しかし、エッジライトバックライトユニットについては、高コストおよび放熱の問題を解決するためにわずかな数のＬＥＤが使用されているだけである。さらに、二重輝度向上膜（ＤＢＥＦ）シートは製造コストを低減させるために、プリズム上の反射式偏光膜として使用されない傾向にあった。
【０００４】
その結果、光学膜としての使用に適する向上した輝度、並びにプリズムシートのパターンを隠すための高い拡散性を有する高性能光学シートについての要求が存在している。
【０００５】
韓国特許出願公開第２０１０−００４２３１０号は、半球状レンズの突出の形状および比率を調節することによって向上した輝度を有する高品質の輝度を有する光拡散膜を開示する。しかし、この光拡散膜は、その突出が偏光板と接触している場合には、その突出の振動摩擦のせいで界面スクラッチ並びに表面汚点（ｓｔａｉｎ）欠陥の起こりうるリスクを有する。
【０００６】
さらに、特開２０００−１９３８０５号は光拡散シートを開示し、これは球状ビーズを使用しないが均一な光の拡散を提供する。しかし、この光拡散シートは輝度、隠蔽力、視野角などの点で満足いかない光学特性を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】韓国特許出願公開第２０１０−００４２３１０号公報
【特許文献２】特開２０００−１９３８０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
よって、上記課題を解決することができる光学シートを製造する方法を提供する必要性が存在している。
よって、プリズムシートのパターンを隠すための高い拡散性並びに向上した輝度を有する光学シートであって、ビーズを含まず、かつそれが偏光板と接触する場合であってさえ界面スクラッチおよび表面汚点欠陥のない光学シートを製造する方法を提供することが本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は、（ａ）１００重量部のバインダー樹脂および７０〜１３０重量部の球状有機ポリマービーズを含む樹脂組成物で第１の基体の一方の面をコーティングし、次いで乾燥させて、エンボス面を有する転写膜を製造する工程；（ｂ）紫外線硬化性（ＵＶ−硬化性）樹脂で第２の基体の一方の面をコーティングし、前記転写膜の前記エンボス面が前記第２の基体の前記ＵＶ−硬化性樹脂被膜と接触している積層物を提供するように前記転写膜と前記第２の基体とを積層させる工程；並びに、（ｃ）前記第２の基体が１．４１〜１．５９の屈折率を有するエンボス拡散層を有するように、工程（ｂ）で得られた積層物を硬化させ、前記積層物から前記転写膜を取り外す工程；を含む、光学シートを製造する方法を提供する。
【００１０】
前記転写膜のエンボス面は１３０〜１５０°のセグメント角を有する。
また、本発明は、本発明の方法に従って製造された、基体と、当該基体上に形成されかつ１．４１〜１．５９の屈折率を有するエンボス拡散層とを含む光学シートを提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の方法に従って製造された光学シートは、それがプリズムシートのパターンを隠すための高い拡散性並びに向上した輝度を有するので、ＬＣＤのＢＬＵのための光学シートとして有用である。さらに、それはビーズを含まず、それが偏光板と接触する場合であってさえ界面スクラッチおよび表面汚点を有しない。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明に従ったセグメント角を示すための概略図である。
【図２】図２は、本発明に従って製造された光学シートの断面概略図である。
【図３】図３は、本発明に従って製造された光学シートのエンボス拡散層の断面像（ａ）および表面像（ｂ）を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の光学シートを製造する方法は、（ａ）バインダー樹脂および球状有機ポリマービーズを含む樹脂組成物で第１の基体の一方の面をコーティングし、次いで乾燥させて、エンボス面を有する転写膜を製造する工程；（ｂ）ＵＶ−硬化性樹脂で第２の基体の一方の面をコーティングし、前記転写膜の前記エンボス面が前記第２の基体の前記ＵＶ−硬化性樹脂被膜と接触している積層物を提供するように前記転写膜と前記第２の基体とを積層させる工程；並びに、（ｃ）前記第２の基体がエンボス拡散層を有するように、工程（ｂ）で得られた積層物を硬化させ、前記積層物から前記転写膜を取り外す工程を含む。
【００１４】
言い換えれば、本発明の光学シートを製造する方法に従って、エンボス面を有する転写膜が、ＵＶ−硬化性樹脂被膜を有する基体と積層され、その基体のＵＶ−硬化性樹脂被膜が硬化され、そしてその転写膜が取り外され、それにより、その転写膜のエンボス面が基体のＵＶ−硬化性樹脂被膜層に転写される。この光学シートは基体上に形成されたエンボス拡散層を含むが、それはビーズおよびフィラーを含まない。
【００１５】
工程（ａ）：転写膜の製造
本発明の方法に従って、バインダー樹脂および球状有機ポリマービーズを含む樹脂組成物で第１の基体の一方の面をコーティングし、その後それを乾燥させることによって、エンボス面を有する転写膜が製造される。
【００１６】
このビーズを含む樹脂組成物は第１の基体の一方の面上にコーティングされるので、この第１の基体はエンボス面を有するであろうし、このエンボス面は１３０〜１５０°のセグメント角を有しうる。
【００１７】
エンボス面が離散した半球状突出、例えば、マイクロレンズを含む場合には、それぞれの突出の高さが容易に測定されうるように、この突出の境界は明確である。一方、エンボス面が被膜層の形態である場合には、この突出の境界は明確ではなく、これはそれぞれの突出の高さを測定するのを困難にする。よって、このセグメント角は本明細書においては、２つの隣り合う突出の先端とこれら突出間の底とによって形成される角であって、その底がその角の頂点である角として定義される。
【００１８】
本発明の図１は、本発明に従ったセグメント角を示すための概略図を示す。図１を参照して、バインダー樹脂およびビーズを含む被膜層（１２０）が第１の基体の一方の面上に形成され留場合に、セグメント角（θ）は突出の先端（Ａ、Ｃ）と、当該突出間の最も低い境界に位置する底（Ｂ）とを繋ぐ２本の線によって形成される角ＡＢＣ（θ）として定義される。
【００１９】
第１の基体は透明プラスチックシートであることができ、好ましくはバインダー樹脂との良好な接着性を有する。
【００２０】
第１の基体に使用可能な透明プラスチックの代表例には、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリアクリラート（ＰＡＲ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタラート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリアリラート、ポリイミド、ポリカルボナート（ＰＣ）、セルローストリアセタート（ＴＡＣ）、およびセルロースアセタートプロピオナート（ＣＡＰ）；好ましくは、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）が挙げられる。
【００２１】
樹脂組成物は有機ポリマービーズを、バインダー樹脂の１００重量部を基準にして７０〜１３０重量部の量で含む。有機ポリマービーズおよびバインダー樹脂は溶媒と混合される。
【００２２】
ビーズの量が７０重量部未満である場合には、本発明の方法によって製造される光学シートの全光線透過率は増加するであろうが；その光学シートのヘイズは、その拡散性を損なう８５％未満になる場合がある。このような場合には、光学シートは劣った隠蔽力を有する場合がある。
【００２３】
一方、ビーズの量が１３０重量部を超える場合には、光学シートのヘイズが増大するであろうが；全光線透過率は８５％未満になる場合がある。このような場合には、光学シートは低減された輝度だけでなく、その表面上に汚点欠陥を有する場合がある。
【００２４】
バインダー樹脂が、良好な光透過率と共に高い透明性を有すること、およびコーティング操作における便利さのためにバインダー樹脂の粘度が容易に制御可能であることが好ましい。バインダー樹脂の代表例には、アクリルベース、ウレタンベース、エポキシベース、ビニルベース、ポリエステルベースおよびポリアミドベース樹脂が挙げられる。アクリルベース樹脂が、その良好な耐摩耗性、並びに適切な光屈折率を伴った光の優れた反射率および透過率のせいで、好ましい。アクリルベース樹脂の具体例には、１種類の繰り返し単位を有するホモポリマー、並びに２種類以上の繰り返し単位を有するコポリマーが挙げられ、この繰り返し単位はメチルメタクリル、メタクリルエチルアクリル、ブチルアクリル、アリールアクリル、ヘキシルアクリル、イソプロピルメタクリル、ベンジルアクリル、ビニルアクリル、２−メトキシアクリル、およびスチレンから選択される。アクリルベース樹脂は熱硬化性またはＵＶ硬化性であり得る。それは溶媒中でのその溶解性に応じて選択されうる。アクリルベース樹脂の分子量、ガラス転移温度（Ｔｇ）およびヒドロキシル基の程度を制御することにより、望ましいコーティングの能力、並びに被膜層の機械的特性および耐久性、並びに基体との接着性を達成することも可能である。
【００２５】
球状有機ポリマービーズは硬質アクリラート、ポリスチレン、ナイロン、軟質アクリラートもしくはシリコーンのような有機ポリマーから製造されうる。硬質アクリラートはその良好な耐溶解性のせいで容易に分散可能であるから、硬質アクリラートが好ましい。
【００２６】
ビーズの平均直径は０．１〜５０μｍ、好ましくは５〜１２μｍでありうる。平均直径が０．１μ未満である場合には、ビーズは樹脂組成物の被膜層内に埋込まれるであろう。このような場合には、表面上の突出した領域が充分でない場合があり、劣った隠蔽力を有する光学シートを生じさせる場合がある。一方、平均直径が５０μｍより大きい場合には、その光学シートはその表面上に汚点欠陥を有する場合があり、または光学シートの表面上の過剰な突出が下にその光学シートがある偏光板にスクラッチを引き起こしうる可能性が高い。
【００２７】
エンボス面を有する転写膜は、第１の基体の一方の面を６．０〜１２．０ｇ／ｍ２の量の樹脂組成物でコーティングし、その後それを乾燥させることにより製造されうる。
【００２８】
コーティングの量が６．０ｇ／ｍ２未満である場合には、被膜層の表面上の突出は充分に突き出ていない場合がある。このような場合には、セグメント角が小さく、より低い輝度の光学シートを生じさせる場合がある。一方、コーティングの量が１２．０ｇ／ｍ２より多い場合には、光学シートの光透過率が悪化する場合がある。よって、光学シートがＬＣＤのＢＬＵにおいて使用される場合には、高い輝度を提供することができない場合がある。
【００２９】
転写膜のエンボス面が剥離剤で処理される場合には、それは後の工程において積層物から容易に取り外されうる。剥離剤は当該技術分野において既知の既存の剥離剤、例えば、シリコーン剥離剤であることができる。
【００３０】
工程（ｂ）：積層物の形成
次いで、第２の基体の一方の面がＵＶ−硬化性樹脂でコーティングされ、その後、転写膜のエンボス面が第２の基体のＵＶ−硬化性樹脂被膜と接触するように、工程（ａ）において製造された転写膜とＵＶ−硬化性樹脂被膜層との積層が行われる。
【００３１】
第２の基体は透明プラスチックシートであることができ、好ましくはＵＶ−硬化性樹脂との良好な接着性、その裏面に入射した光の９０％以上の透過率、および輝度変動を妨げるための滑らかな表面を有しうる。
【００３２】
第２の基体のために使用可能な透明プラスチックの代表例は、第１の基体について挙げたものと同じであることができ、好ましくはポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）でありうる。
【００３３】
第２の基体の厚さは１０〜３００μｍであり得る。厚さが１０μｍ未満である場合には、その基体を取り扱うのが不便な場合がありうる。厚さが３００μｍを超える場合には、それは薄型ＬＣＤモジュールを製造する余裕がない。
【００３４】
ＵＶ−硬化性樹脂の代表例には、ポリエステルベース樹脂、エポキシベース樹脂、および（メタ）アクリラート樹脂、例えば、ポリエステル（メタ）アクリラート、エポキシ（メタ）アクリラート、ウレタン（メタ）アクリラートなどが挙げられる。特に、（メタ）アクリラート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリエステル（メタ）アクリラート樹脂、シリコーンウレタン（メタ）アクリラート樹脂、シリコーンポリエステル（メタ）アクリラート樹脂、およびフルオロウレタン（メタ）アクリラート樹脂が光学シートの良好な光学特性のために好ましい。
【００３５】
ポリアクリラートおよび／もしくはポリメタクリラート（以降、ポリ（メタ）アクリラート）、またはモノアクリラートおよび／もしくはモノメタクリラート（以降、モノ（メタ）アクリラート）、並びに光重合開始剤からＵＶ−硬化性樹脂が製造されうる。
【００３６】
ＵＶ−硬化性樹脂被膜層の厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１５μｍでありうる。その厚さが１μｍより薄い場合には、積層物の形状を維持するのが困難になる場合があり、またはモアレパターンおよび劣った外観のような欠陥を生じさせる場合がある。厚さが５０μｍより厚い場合には、突出と基体との間の辺縁層が厚く、結果的に、その耐熱性および耐湿性のせいで変動するパターンを生じさせる場合がある。
【００３７】
０．１〜５０μｍの直径を有する無機粒子、例えば、シリカまたは有機粒子、例えば、アクリル架橋粒子から選択されるフィラー、並びにバインダー樹脂を含む組成物で第２の基体をコーティングし、次いで被膜層を乾燥させることによって、第２の基体の他方の面上にアンチブロッキング層が形成されうる。
【００３８】
アンチブロッキング層は、この基体の静電気によるダストまたは外来物質でのこの層の汚染を防ぐ帯電防止剤をさらに含むことができる。
【００３９】
工程（ｃ）：拡散層の形成
最後に、工程（ｂ）で得られた積層物が硬化され、次いで転写膜がそこから取り外され、それにより第２の基体の一方の面上にエンボス拡散層を提供する。図３はエンボス拡散層の断面像（ａ）および表面像（ｂ）を示す写真を表す。
【００４０】
エンボス拡散層は１．４１〜１．５９の屈折率を有することができる。この屈折率が１．４１より小さい場合には、拡散層の光拡散率が悪化する場合があり、それにより光学シートの隠蔽力が低下する場合がある。この屈折率が１．５９を超える場合には、拡散層の全光線透過率が低下する場合があり、それにより光学シートの輝度が低下する場合がある。
【００４１】
転写膜のエンボス面が拡散層に移されるので、この拡散層はビーズもしくはフィラーを含まないにもかかわらず、高い輝度を有する。
【００４２】
転写膜のエンボス面が拡散層に転写されるので、転写膜のエンボス面のセグメント角を１３０〜１５０°の範囲に制御するのが、光学シートに良好な光学特性を与えるのに重要である。
【００４３】
セグメント角が１３０°未満の場合には、拡散層上に形成される突出が、約５０％の突出率の実質的に半球形状を有する場合がある。このような場合には、光がエンボス面を通って直進する能力が低減されうる。さらに、エンボス拡散相と外側との界面での全光反射率が増大する場合があり、それにより（光リサイクルの効率の増大を伴う）光学シートの輝度の望ましくない低下をもたらす場合がある。セグメント角が１５０°を超える場合には、拡散層上に形成された突出を透過する光の拡散が低下する場合があり、これは光学シートの隠蔽力を望ましくなく悪化させる場合がある。
【００４４】
図２は本発明の方法に従って製造された光学シートの概略断面図を示す。図２を参照すると、本発明の方法に従って製造された光学シートは、第２の基体（２００）の一方の面上に形成されたエンボス拡散層（２１０）、および第２の基体（２００）の他方の面上のアンチブロッキング層（２２０）を含むことができる。また、それはアンチブロッキング層（２２０）においてフィラー（２３０）を含むことができる。
【００４５】
言い換えれば、本発明の方法に従って、第２の基体の一方の面上に形成され、ビーズもしくはフィラーを含まないエンボス拡散層を有する光学シートは、エンボス面を有する転写膜を製造し、この転写膜をＵＶ−硬化性樹脂被膜を有する第２の基体と積層し、ＵＶ−硬化性樹脂被膜層を硬化させ、そして転写膜を積層物から取り外し、それにより転写膜のエンボス面が第２の基体のＵＶ−硬化性樹脂被膜層上に転写されることを含む方法によって製造されうる。この製造された光学シートは好ましくは８５％以上のヘイズ、および８５％以上の全光線透過率を有する。
【００４６】
本発明は実施例および比較例においてさらに記載されそして説明されるが、しかし、これらは本発明の範囲を限定することを意図していない。
【実施例】
【００４７】
実施例および比較例に従って製造された光学シートの特性、例えば、ＵＶ−硬化性樹脂被膜層の屈折率、並びに光学シートのヘイズ（％）、全光線透過率（Ｔｔ）（％）、輝度（％）、隠蔽力、界面スクラッチおよび外観は以下のように評価された。
【００４８】
１．ＵＶ−硬化性樹脂被膜層（エンボス拡散層）の屈折率
この屈折率は従来の方法によって測定された。
【００４９】
２．ヘイズ（％）および全光線透過率（％）
概して、光学シートのヘイズおよび全光線透過率は以下のように測定されうる：
ヘイズ（％）＝拡散透過率（ＤＴ）／全透過率（ＴＴ）
全透過率（ＴＴ）＝平行透過率（ＰＴ）＋拡散透過率（ＤＴ）
全光線透過率（％）＝全透過率（ＴＴ）／全入射光
ヘイズおよび全光線透過率はヘイズメータＮＤＨ−２０００（電子工業株式会社、日本国）によって測定された。
【００５０】
３．隠蔽力
光学シートの隠蔽力は、５点等級システムによって評価された。２枚のプリズムシートがクロスするように（Ｖ、Ｈ）導光板上に積層されて、ドットパターンを有しており、上部シートの様々なＨｚ値でサンプルが準備された。隠蔽力は、明るいラインスポットの可視性に応じて、市販の製品について適用可能な等級２から明るいラインもしくはドットの完全な遮蔽を示す等級５で評価された。
【００５１】
４．輝度（ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ）
隠蔽力の評価に使用されたのと同じバックライトユニット構造を用いて、光学シートの視認角が評価された。光受け取る部分が水平方向に−８５°から＋８５°まで５°刻みで回転させられながら、視認角を測定するために輝度（ｌｕｍｉｎａｎｃｅ）カロリメーターＢＭ７（トプコン；Ｔｏｐｃｏｎ）が使用された。０°で、すなわち、光受け取り部分がバックライトユニットに対して垂直である場合に測定された値は、そのサンプルの輝度と称された。プリズム（例えば、比較例９において使用された転写膜）上に一般的に使用される従来の光学シートは輝度の評価のための参照としての役割を果たした。この参照の輝度と同じかまたはそれより良好な輝度が満足できるものと判断された。
【００５２】
５．界面スクラッチ
拡散層と偏光板との間の空間が狭められる場合に引き起こされうる界面スクラッチが、透明偏光子と拡散層との間の界面でのスクラッチの程度としてヘイドンサーフェスプロパティテスタータイプ１４ＦＷ（シント（Ｓｈｉｎｔｏ）サイエンティフィック）によって評価された。スクラッチの程度は１Ｈｚの速度、４０ｍｍの振幅、および２００ｇの負荷の条件下での動きの数の関数として測定された。界面が１０回の動きの後でダメージを受けなかった場合には、それは満足できると判断された。
【００５３】
６．外観
ウェットアウト（ｗｅｔ−ｏｕｔ）、フローステイン（ｆｌｏｗ  ｓｔａｉｎ）、ランピング（ｌｕｍｐｉｎｇ）、ストライプ、フローマーク（ｆｌｏｗ  ｍａｒｋ）およびステイン（ｓｔａｉｎ）のような欠陥を検査するために、光学シートの外観が肉眼で観察された。
【００５４】
一方、光学顕微鏡モデルＶＫ−９７００Ｋ（キーエンスコーポレーション）によって表面の写真（５０＊１５０ｘ）が撮られ、並びにこの写真に基づいてＶＫアナライザーＳ／Ｗ（キーエンスコーポレーション）によってセグメント角が測定された。２０個の隣り合う突出の先端の間にラインが引かれ、そして２つの隣り合う突出の先端とその突出の間の底とによって形成される角度が測定された。この角度の平均がセグメント角として採用された。
【００５５】
実施例１
１００重量部の１０μｍの平均直径を有する硬質アクリラートビーズと、１００重量部のアクリルバインダー樹脂（Ａ８１１、ＡｅＫｙｕｎｇ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ）とが、メチルエチルケトンおよびトルエン（２：１重量比）の混合溶媒と混合されて、３０％固形分濃度を生じさせた。得られた分散物は、高性能モーターを備えたミキサー中で、１，０００ｒｐｍで１時間にわたって攪拌されて、ビーズが完全に樹脂中に分散された樹脂組成物を得た。この樹脂組成物がワイヤバーＮｏ．１２を用いて、厚さ１８８μｍを有するポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）膜（ＳＨ４０、ＳＫＣ）上にコーティングされた。溶媒が１２０秒間にわたって対流オーブン内で１００℃で蒸発させられ、厚さ１０μｍの樹脂組成物被膜層を有し、かつ１３３°のセグメント角を有する転写膜を生じさせた。この転写膜は光学シートの製造の最終工程におけるＵＶ−硬化した樹脂層からそれを容易に取り外すために剥離処理にかけられた。
【００５６】
次いで、固相において１．４９の屈折率を有する未硬化のＵＶ−硬化性樹脂（Ｍ１１０  ＳＫＣハースディスプレイフィルムカンパニーリミテッド）が１１０μｍの厚さを有するＰＥＴ膜上に適用された。転写膜のエンボス面がＵＶ−硬化性樹脂被膜層上に転写されるように、転写膜のエンボス面がＵＶ−硬化性樹脂被膜層と接触するように、得られた膜が転写膜に積層された。次いで、ＵＶ−硬化性被膜層が硬化させられるように、積層物がＵＶ放射線に露光された。最終的に、転写膜は積層物から取り外されて、ＰＥＴ膜の一方の面上に形成されたエンボス拡散層を有する光学シートを得た。
【００５７】
実施例２
１００重量部の前記バインダー樹脂を基準にして１１０重量部の５．５μｍの平均直径を有する硬質アクリラートビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返され、その結果、１３５°のセグメント角を有する転写膜が製造された。
【００５８】
実施例３
１００重量部の前記バインダー樹脂を基準にして１２０重量部の５．５μｍの平均直径を有する硬質アクリラートビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返され、その結果、１４５°のセグメント角を有する転写膜が製造された。
【００５９】
実施例４
１００重量部の前記バインダー樹脂を基準にして１１０重量部の１１．５μｍの平均直径を有する硬質アクリラートビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返され、その結果、１３５°のセグメント角を有する転写膜が製造された。
【００６０】
実施例５
１００重量部の前記バインダー樹脂を基準にして１１５重量部の１１．５μｍの平均直径を有する硬質アクリラートビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返され、その結果、１４５°のセグメント角を有する転写膜が製造された。
【００６１】
実施例６
８μｍの平均直径を有する硬質アクリラートビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返され、その結果、１４０°のセグメント角を有する転写膜が製造された。
【００６２】
比較例１
４．５μｍの平均直径を有する硬質アクリラートビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返され、その結果、１５５°のセグメント角を有する転写膜が製造された。
【００６３】
比較例２
１２．５μｍの平均直径を有する硬質アクリラートビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返され、その結果、１２５°のセグメント角を有する転写膜が製造された。
【００６４】
比較例３
４．５μｍの平均直径を有する硬質アクリラートビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返され、その結果、１２５°のセグメント角を有する転写膜が製造された。
【００６５】
比較例４
１２．５μｍの平均直径を有する硬質アクリラートビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返され、その結果、１６０°のセグメント角を有する転写膜が製造された。
【００６６】
比較例５
固相において１．４０の屈折率を有する未硬化のＵＶ−硬化性樹脂（Ｍ２０５  ＳＫＣハースディスプレイフィルムカンパニーリミテッド）が使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返された。
【００６７】
比較例６
固相において１．６０の屈折率を有する未硬化のＵＶ−硬化性樹脂（Ｍ３０１  ＳＫＣハースディスプレイフィルムカンパニーリミテッド）が使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返された。
【００６８】
比較例７
１００重量部のバインダー樹脂を基準にして６５重量部のビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返された。
【００６９】
比較例８
１００重量部のバインダー樹脂を基準にして１３５重量部のビーズが使用されたことを除いて、実施例１の手順が繰り返された。
【００７０】
比較例９
実施例１において製造された転写膜が光学シートとして使用された。
【００７１】
【表１】
0006355185.tif 000002
Ａ＊ビーズの重量部（％）
Ｂ＊＝ビーズの直径（μｍ）
Ｃ＊＝セグメント角（°）
屈折率＝ＵＶ−硬化性樹脂の屈折率
ＢＲＴ＝輝度
【００７２】
実施例１〜６に示されるように、本発明に従って製造された光学シートは少なくとも８５％のヘイズ、少なくとも８５％の全光線透過率、および少なくとも１００％の輝度を、良好な外観、隠蔽力と共に示し、かつ界面スクラッチがなかった。
【００７３】
比較例１〜４に示されるように、セグメント角が１３０〜１５０°の範囲にない場合には、輝度は悪化し、かつ欠陥のある外観が観察された。比較例５および６に示されるように、ＵＶ−硬化性樹脂被膜層の屈折率が１．４１〜１．５９の範囲にない場合には、望ましくない輝度、ヘイズおよび全光線透過率が観察された。
【００７４】
さらに、比較例７および８に示されるように、１００重量部のバインダー樹脂を基準にして使用されたビーズの量が７０〜１３０重量部の範囲にない場合には、光学シートの隠蔽力が悪化し、かつ界面スクラッチが観察された。
【００７５】
従来のコーティング方法（比較例９）によって製造された光学シートと比較して、本発明の方法に従って製造された実施例１〜６の光学シートは界面スクラッチに対する優れた耐性に加えて、向上した輝度を示した。
【符号の説明】
【００７６】
Ａ、Ｃ  先端
Ｂ  底
θ  セグメント角
１１０  第１の基体
１２０  被膜層
２００  第２の基体
２１０  エンボス拡散相
２２０  アンチブロッキング層
２３０  フィラー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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