(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学式ＫxＣｓyＷＯzで表わされるカリウム・セシウム・タングステンブロンズ固溶体粒子であって、
式中、ｘ＋ｙ≦０．６および２．９≦ ｚ ≦ ３であり、
走査電子顕微鏡法による測定で２００ ｎｍ未満の平均粒径を有し、及び
六方晶相を含む、ことを特徴とするカリウム・セシウム・タングステンブロンズ固溶体粒子。
【請求項２】
その最長半径が５ｎｍ〜１０μｍである粒子が個数で９０パーセントを超える請求項１に記載のタングステンブロンズ粒子。
【請求項３】
ｘが０．０５から０．５５であり、ｙが０．５５から０．０５である、請求項１に記載のタングステンブロンズ粒子。
【請求項４】
六方晶として存在する、請求項１に記載のタングステンブロンズ粒子。
【請求項５】
請求項１に記載のカリウム・セシウム・タングステンブロンズ固溶体粒子を調合するためのプロセスであって、適切なタングステン・ソースをカリウム塩およびセシウム塩と混ぜ合わせて粉末混合物を形成し、還元雰囲気下でプラズマトーチに粉末混合物を露出することを含む、プロセス。
【請求項６】
前記還元雰囲気が水素／希ガス混合物から成るシースガスによって供給される、請求項５に記載のプロセス。
【請求項７】
タングステン・ソースがタングステン酸、タングステン酸化物、タングステン地金、タングステン・ハライドおよびタングステン・アルコキシドから選択され、カリウム塩およびセシウム塩が炭酸塩、ハライド、アセテート、ホルマート、クエン酸塩または硝酸塩である、請求項５又は６に記載のプロセス。
【請求項８】
タングステン・ソースがモノタングステン酸アンモニウム、ヘキサタングステン酸アンモニウム、ドデカタングステン酸アンモニウム、パラタングステン酸アンモニウム（ＡＰＴ）、メタタングステン酸アンモニウムおよびこれらの水和物から選択される、請求項７に記載のプロセス。
【請求項９】
前記粉末混合物が１モルのタングステン基準で０．０５〜５モルのカリウムと、０．０５モル〜０．５モルのセシウムとを含む、請求項５又は６に記載のプロセス。
【請求項１０】
有機または無機の基材を含み、請求項１に記載のカリウム・セシウム・タングステンブロンズ固溶体粒子を組み入れた有機または無機の組成物であって、前記基材は、コーティング、プラスチック、インキ、接着剤、セラミック、ガラスまたはエナメルである、組成物。
【請求項１１】
前記基材が、近赤外線（ＮＩＲ）硬化性コーティング組成物である、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
板、シートまたはフィルムの形態のプラスチック組成物であり、前記基材は、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート、アクリロニトリルブタジエンスチレン、ポリフッ化ビニリデン、スチレン-アクリロニトリル、ポリアミド、ポリスチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、およびこれらの合金または混合物から選択される、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１３】
有機リン安定剤、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン、ヒンダードアミン系光安定剤、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾールから選択される添加剤、またはヒドロキシフェニルトリアジン紫外線吸収剤および更なる無機または有機のＮＩＲ吸収剤を更に含む、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１４】
近赤外線（ＮＩＲ）吸収剤および／または熱遮断添加剤としての請求項１に記載のカリウム・セシウム・タングステンブロンズ粒子の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２００９年７月７日に出願した米国仮特許出願番号第６１／２２３，５１９号の優先権を主張し、全体が参照文献として本願明細書に引用されるものとする。
【０００２】
本発明は、カリウム・セシウム・タングステンブロンズ粒子に関する。粒子は、たとえばナノ粒子である。粒子は、近赤外線（ＮＩＲ）吸収体および／または断熱添加剤として有効である。前記添加剤は、有機または無機の基板、たとえばプラスチック、コーティング、エナメル、インキ、接着剤、セラミックまたはガラスに使用される。添加剤は、たとえばプラズマトーチによって調合される。
【背景技術】
【０００３】
ＮＩＲ吸収がタングステン酸化物（ＷＯ3）の酸素分を減少させることによって達成できることが知られている。これは、酸化タングステンを昇温状態にて還元雰囲気に曝してマグネリ相亜酸化タングステン（ＷＯ3-x）を創成することによって達成される。ＮＩＲ吸収はまた、還元条件下でＷＯ3への陽イオン三元添加によって達成でき、タングステンブロンズ構造に導く。たとえば、カリウム・タングステンブロンズおよびセシウム・タングステンブロンズはそれぞれ良く知られている。
【０００４】
Ｊ. Ａｍ.  Ｃｅｒａｍ. Ｓｏｃ.９０［１２］、４０５９−４０６１（２００７）は酸化タングステンのナノ規模粒子を教示している。
【０００５】
米国特許出願公開第２００６／０１７８２５４号および米国特許出願公開第２００７／０１８７６５３号は、各セシウム・タングステンブロンズおよびカリウム・タングステンブロンズの粒子を開示している。
【０００６】
米国特許出願公開第２００５／０２７１５６６号は、タングステンを含むナノ粒子を開示している。
【０００７】
米国特許出願公開第２００８／０３０８７５５号は、Ｃｓ0-33ＷＯ3粒子を含むポリエステル系繊維を教示している。
【０００８】
米国特許出願公開第２００８／０１１６４２６号は、レーザ溶接のための軽い吸収性樹脂組成物を教示している。本願明細書において議論される米国特許および公開出願は、引用したものとする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００６／０１７８２５４号
【特許文献２】米国特許出願公開第２００７／０１８７６５３号
【特許文献３】米国特許出願公開第２００５／０２７１５６６号
【特許文献４】米国特許出願公開第２００８／０３０８７５５号
【特許文献５】米国特許出願公開第２００８／０１１６４２６号
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】Ｊ. Ａｍ.  Ｃｅｒａｍ. Ｓｏｃ.９０［１２］、４０５９−４０６１（２００７）
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１１】
ｘ＋ｙ≦１、且つ２≦ｚ≦３である、化学式ＫxＣｓyＷＯzのカリウム・セシウム・タングステンブロンズ固溶体粒子が開示されている。
【００１２】
また、有機または無機の基板を含み、その中にｘ＋ｙ≦１、且つ２≦ｚ≦３である、化学式ＫxＣｓyＷＯzのカリウム・セシウム・タングステンブロンズ固溶体粒子を取り入れた有機または無機の組成物が開示されている。
【００１３】
また、ｘ＋ｙ≦１、且つ２≦ｚ≦３である、化学式ＫxＣｓyＷＯzのカリウム・セシウム・タングステンブロンズ固溶体粒子の調合方法が開示されており、この方法は、適切なタングステン・ソースとカリウム塩およびセシウム塩を混ぜ合わせて粉末混合物を形成し、還元雰囲気の下で粉末混合物をプラズマトーチに曝すことを含む。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施例３〜７によって調合されるフィルムのＵＶ−ＶＩＳ ＮＩＲスペクトルである。
【図２】実施例３〜７によって調合されるフィルムのＵＶ−ＶＩＳ ＮＩＲスペクトルである。
【図３】実施例３〜７によって調合されるフィルムのＵＶ−ＶＩＳ ＮＩＲスペクトルである。
【図４】実施例３〜７によって調合されるフィルムのＵＶ−ＶＩＳ ＮＩＲスペクトルである。
【図５】実施例３〜７によって調合されるフィルムのＵＶ−ＶＩＳ ＮＩＲスペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本件カリウム・セシウム・タングステンブロンズ粒子は、固溶体挙動を呈する。すなわち、それらは均質であり、単一構造として存在する。元素分析は、誘導結合プラズマおよび原子吸光分析の組み合わせによって決定される。エネルギー分散型Ｘ線分光法による高分解能微量分析が、粉末X線回折（ＰＸＲＤ）解析と連動して使われ、生成された粒子が２つの分離したＫおよびＣｓブロンズ相よりむしろＫxＣｓyＷＯ3と示されるＫ/Ｃｓ固溶体からなる単相であると確認された。
【００１６】
ブロンズ粒子はたとえばミクロン規模、または、ナノ規模である。それらは、たとえば寸法が約５ｎｍから約１０μｍまでである。それらは、たとえば寸法が約２０ｎｍから約８００ｎｍであり、例えば寸法が約２０ｎｍから約３００ｎｍまで、または約２０ｎｍから約２００ｎｍまでである。これは、９０パーセント（数で）を超える粒子がこれらの範囲内であることを意味する。寸法は、粒子の最長半径を意味する。粒径は、走査型電子顕微鏡によって決定される。粒子が適切な基板に組み込まれるときに、３００  ｎｍ未満の粒径は濁度最小値の良好な透明度を達成するために所望される。
【００１７】
本件ブロンズはたとえば６方相としてまたは立方パイロクロア相として、または６方相と立方パイロクロア相との混合物として存在する。６方相の最も共通の空間群はＰ６3／ｍｃｍおよびＰ６3２２であり、その一方で、最も共通の立方パイロクロア相はＦｄ３ｍである。ｘの値は約０．０１〜約０．９９である、そして、ｙの値は約０．９９〜約０．１である。たとえば、ｘは約０．０５〜約０．９５である、そして、ｙは約０．９５〜約０．０５である。たとえば、ｘは約０．０５〜約０．６０である、そして、ｙは約０．６０〜約０．０５である。たとえば、ｘは約０．１〜約０．５０である、そして、ｙは約０．５０〜約０．１である。
【００１８】
ｘ＋ｙが約０．４未満であると、主要な相（＞ ９０重量％）として６方ブロンズ相が得られる。ｘ＋ｙが約０．４と０．６の間であると、前記粒子は６方相（六方晶）およびパイロクロア相の混合物から成る。ｘ ＋ ｙが約０．６を超えると、前記粒子は主にパイロクロア相として存在する。六方相粒子が特に興味深いのは、粒子径効果による低濁度と相まって、可視光の高透過率およびＮＩＲ照射の高吸収に起因する。可視光は、約３８０ｎｍから約７００ｎｍまでであると定義されている。ＮＩＲ照射は、約７００ｎｍから約３０００ｎｍまでであると定義されている。
【００１９】
ｚの値は、約２から３を包含する。たとえば、ｚは約２．９から３である。
【００２０】
パイロクロア粒子の形は、走査電子顕微鏡で見て球状である。
【００２１】
六方相カリウム・セシウム・タングステンブロンズの具体例は、Ｋ0.10Ｃｓ0.14ＷＯ3およびＫ0.24Ｃｓ0.15ＷＯ3である。６方相およびパイロクロア相ブロンズの混合物の例は、Ｋ0.17Ｃｓ0.29ＷＯ3およびＫ0.31Ｃｓ0.29ＷＯ3である。大部分パイロクロアブロンズの一例は、Ｋ0.20Ｃｓ0.46ＷＯ3である
【００２２】
本件ブロンズは、適切なタングステン・ソースおよび適切なカリウム塩および適切なセシウム塩の粉末混合物から調合される。
【００２３】
あるいは、本件ブロンズは、可溶性のタングステン、カリウムおよびセシウム先駆体の液体混合物から調合され得る。同様に、本件ブロンズは、反応の間、あるいはそれに先立ち、反応物が個々に供給され結合し得る、固体および液体の組み合わせから調合され得る。各成分の流加速度は、最終生産物の組成を決定する。
【００２４】
タングステン・ソースは、タングステン酸塩、酸化タングステン、タングステン地金、ハロゲン化タングステンおよびタングステン・アルコキシドから選択され得る。
【００２５】
タングステン・ソースの例は、タングステン酸、タングステン酸アンモニウム、タングステン酸ナトリウム、塩化タングステン、二塩化二酸化タングステンまたはタングステン・アルコキシドである。
【００２６】
タングステン・アルコキシドの例は、タングステン・イソプロポキシド、エトキシドおよび二塩化ジエトキシドである。アルコキシドは良く使われ、或いは、酸または塩基が先駆体を溶解もしくはコロイド状態（ゾル-ゲル化学）に保つために使われ得る。
【００２７】
適切なタングステン酸アンモニウムは、モノタングステン酸アンモニウム、ヘキサタングステン酸およびドデカタングステン酸のようなパラタングステン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウムおよびそれらの水和物を含む。具体例は、パラタングステン酸アンモニウム（ＡＰＴ）、（ＮＨ4）10Ｗ12Ｈ2Ｏ42・４Ｈ2Ｏである。ＡＰＴは、一般に酸化タングステンを生産する先駆体として使用され、たとえばＧｌｏｂａｌ Ｔｕｎｇｓｔｅｎ ａｎｄ Ｐｏｗｄｅｒｓ 社（以前はＯｓｒａｍ Ｓｙｌｖａｎｉａ）から入手可能である。
【００２８】
適切なカリウムおよびセシウム塩は、たとえば炭酸エステル、水素炭酸エステル、ハライド、アセテート、クエン酸塩、ホルマート、プロピオナート、オキザラート、水酸化物、硝酸エステル、硫酸エステルおよびクロレートである。いかなる無機または有機の塩も適切で、比較的低温度（＜ １０００℃）で分解する。前記塩は、無水塩でも水和塩でもよい。適切なハライドは、塩化カリウムおよび塩化セシウムである。
【００２９】
ＡＰＴ、ギ酸セシウムおよびクエン酸三カリウムの粉末混合物が特に適切である。粉末は物理的に混合され、粉末供給器によってプラズマトーチで生成されるホットプラズマ・ゾーンに共供給される。
【００３０】
本件ブロンズは、たとえば誘導プラズマトーチによって調合される。プラズマ反応器は公知で、たとえば米国特許第５，２００，５９５号に記載されている。本発明は、ＲＦ（高周波）誘導プラズマトーチを使用する。誘導プラズマトーチは、たとえばＴｅｋｎａ Ｐｌａｓｍａ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｉｎｃ., Ｓｈｅｒｂｒｏｏｋｅ, Ｑｕｅｂｅｃから入手可能である。
【００３１】
本件プラズマ反応器は、粉末噴射用に設計された射出プローブを備えている。粉末供給速度は、約１０〜約５０グラム／分である。粉末供給器は、たとえば流動床型供給器、振動型、円盤型または懸濁型供給器である。アルゴンは、担体ガスとして使用される。シースガスは、たとえば水素／ヘリウム／アルゴン混合物から成っている。水素／希ガス混合物は、シースガスとして適切である。水素／窒素ガス混合物もまた、適切である。シースガスの水素分は、標的であるブロンズ相の収益を最大化するために最適化され、その一方で、充分に酸化された相（ＷＯ3、Ｋ2ＷＯ4，Ｃｓ2ＷＯ4）または充分に還元したＷ0相の収益を最小化する。ほんの数パーセントのＷ0（約１〜６重量％）が生成物中に存在すると一般的に考えられている。シースガス成分は、Ａｒ／Ｈ2／Ｈｅ ＝ １００／ｘ／５  ｓｌｐｍ（毎分当たりの標準リットル）が好都合で、ｘは約０．２５〜約０．５  ｓｐｌｍである。プラズマホットゾーンにおいて到達される温度領域は、約５，０００〜約１０，０００Ｋの間である。アルゴンはクエンチガスとして使用され、結果として生じる粉末はバグフィルタにおいて捕集される。
【００３２】
粉末反応剤の滞留時間はおよそミリ秒で、たとえば約０．００５〜約０．５秒である。
トーチ電力は、約１５〜約２００ｋＷである。たとえば、トーチ電力は約６５ｋＷである。
【００３３】
ＲＦ以外の熱プラズマトーチ、たとえば直流アーク・プラズマトーチまたはマイクロ波放電プラズマが使用できる。
【００３４】
反応器圧力範囲は、約２００トル〜大気圧または約４００〜約７００トルである。
【００３５】
本件ブロンズの調合において、プラズマ合成の間、若干のカリウムが消失する。ブロンズの最終的な化学量論組成には、出発割合より非常に少ないカリウムを含む。したがって、本件ブロンズ粒子に到達するために大過剰のカリウム塩が使用される。適切な出発割合は、１モルのタングステンに基づき約０．０５モル〜約５モルのカリウム、そして約０．０５モル〜約０．５モルのセシウムである。
【００３６】
カリウム・セシウム・タングステンブロンズ粒子に加えて、少量のＷおよびＷＯ3粒子が通常最終生産物に存在する。たとえば、最終生産物は９０重量％を超えるブロンズおよび１０重量％未満のＷおよびＷＯ3を含む。
【００３７】
本件ブロンズ粒子は、たとえばシラン処理によって、またはチオール、アミン、ホスフィン、ステアリン酸塩等の使用によって、表面において更に官能化され得る。
【００３８】
本件ブロンズ粒子は、熱遮断、光管理、熱管理、エネルギー管理または日照調整添加剤として、プラスチック、コーティング、インキ、接着剤、セラミックまたはガラスにおいて使用される。重要な応用は、レーザ溶接、セキュリティ機構（例えば銀行券の偽造防止印刷）、マーキング、トレーサおよび熱局在、熱伝達または熱遮断である。本件粒子は、ＮＩＲ硬化およびコーティングまたはインキの乾燥のために使用され得る。前記粒子はＮＩＲ硬化および接着剤の乾燥、オフセット印刷のＮＩＲ乾燥、紙コーティングのＮＩＲ乾燥、プラスチック予備成型またはインキ・トナーのＮＩＲ固定のために使用され得る。粒子は紙またはプラスチックのＮＩＲレーザマーキング、ガラスのＮＩＲレーザまたはＮＩＲ光学フィルタ、例えばプラズマ表示板または防護眼鏡のために使用され得る。前記粒子は、例えば温室やガラス窓（例えば透明シート、半透明シート、窓フィルム）のための熱管理用プラスチックにおけるＮＩＲ照射を吸収するために使用され得る。
【００３９】
本件混合カリウム・セシウム・タングステンブロンズ固溶体粒子は驚くべきことに、ＮＩＲ領域にて高吸収を維持すると共に、可視光領域で優れた透明度を示す。基板に組み込まれるときに、混合ブロンズ粒子は可視色上に低影響を及ぼすが、その一方で、迅速なＮＩＲ硬化および乾燥速度ならびに良好な熱遮蔽効果を達成する。
【００４０】
本件ブロンズ粒子は基板（基材）の重量に基づいて（コーティング、インキまたは接着剤の場合は固体に基づく）たとえば約０．０１〜約１５重量％のレベルで有機または無機の基板（基材）に組み込まれる。たとえば、本件粒子は有機または無機の基板重量に基づいて約０．０１〜約１０重量％または約０．０１から約５重量％のレベルで使用される。
【００４１】
有機基板（有機基材）は、たとえばプラスチック、コーティング、インキまたは接着剤である。
【００４２】
本発明のプラスチックは、たとえばフィルム、シート、繊維または成形物もしくは鋳造物の形態である。それらはたとえば建築用窓ガラス、建物や構造物の窓ガラス、自動車の窓ガラス、輸送用窓ガラス、または農業用フィルムおよび構造フィルムまたはガラスに貼りつけるフィルムに使用されるフィルムやシートである。材料は、固形シート、モノリシック・シート、対の隔壁シート、複数隔壁シート、平板シート、波形シート、フィルム、延伸、または、１軸または２軸延伸フィルム、積層フィルムまたはキャップストックフィルムであってもよい。
【００４３】
具体的応用は冬園およびベランダ建造物、建物の正面、天窓、プール・カバーおよび囲い、屋根構造、金庫室、歩道、シェルター、看板、内外装のデザイン素子、日よけ、窓、パノラマ屋根および温室、トンネルおよび低トンネルのような農業用カバーを含む。
【００４４】
本件プラスチック組成物は、色素性であるか半透明であるかまたは透明である。
【００４５】
本件プラスチック基板は、たとえば以下から選択される：
１.  モノオレフィンおよびジオレフィンの重合体、たとえばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペント−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、シクロアルケン重合体と同様、たとえばシクロペンテンまたはノルボルネンの、ポリエチレン（それは、任意に架橋できる）、たとえば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高比重および高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度および超高分子ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）（ＶＬＤＰＥ）、そして、（ＵＬＤＰＥ）。
【００４６】
ポリオレフィン、すなわち、前節において例証されるモノオレフィンの重合体、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは、下記の異なる方法、そして、特に次の方法によって調合できる：
ａ） ラジカル重合（通常高圧の下で、そして、昇温状態で）。
ｂ） 通常周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩＩ族の１つまたは２つ以上の金属を含む触媒を使用する触媒重合。これらの金属は、通常１または２つ以上の配位子、代表的に酸化物、ハライド、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび／またはπ‐あるいはσ‐同等のアリールを有する。これらの金属複合体は、遊離型であるか、または基板上、典型的には活性塩化マグネシウム、塩化チタン(III)、アルミナまたは酸化ケイ素上に固定され得る。これらの触媒は、重合媒体に可溶または不溶であってもよい。前記触媒は、重合のそれ自身によって使われ、または更なる活性剤が使われ、代表的に、金属アルキル、金属水素化物、ハロゲン化アルキル金属、金属アルキル酸化物、または金属アルキルオクサン、前記金属は周期律表のＩａ、ＩＩａおよび／またはＩＩＩａの元素である。活性剤は、更なるエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基によって簡便に修飾され得る。これらの触媒系は、通常、Ｐｈｉｌｌｉｐｓ, Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｏｉｌ Ｉｎｄｉａｎａ, Ｚｉｅｇｌｅｒ （−Ｎａｔｔａ）, ＴＮＺ （ＤｕＰｏｎｔ）、メタロセンまたは単一部位触媒（ＳＳＣ）と称される。
【００４７】
２.  １）で言及した重合体の混合物、たとえばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ/ＨＤＰＥ（ＰＰ／ＬＤＰＥ））および異なる型のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００４８】
３.  モノオレフィンとジオレフィンとの互いの共重合体およびまたは他のビニルモノマと共重合体、たとえばエチレン／プロピレン共重合体、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびこれらと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテ−１−エン共重合体、プロピレン／イソブチレン共重合体、エチレン／ブテ−１−エン共重合体、エチレン／ヘキセン共重合体、エチレン／メチルペンテン共重合体、エチレン／ヘプテン共重合体、エチレン／オクテン共重合体、エチレン／ビニルシクロヘキサン共重合体、エチレン／シクロオレフィン共重合体（例えばＣＯＣのようなエチレン／ノルボルネン）、１-オレフィンが原位置で生成されるエチレン／１−オレフィン共重合体； プロピレン／ブタジエン共重合体、イソブチレン／イソプレン共重合体、エチレン／ビニルシクロヘキサン共重合体、エチレン／アクリル酸アルキル共重合体、エチレン／アルキルメタクリレート共重合体、エチレン／ビニルアセテート共重合体かエチレン／アクリル酸共重合体およびそれらの塩（イオノマー）、同じくエチレンとプロピレン、及びヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのようなジエンとのターポリマー； そして、この種の共重合体のお互いと、上記１）において言及される重合体との混合物、たとえばポリプロピレン／エチレン−プロピレン共重合体、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート共重合体（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸共重合体（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ（ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ）そして、交互またはランダム・ポリアルキレン／一酸化炭素共重合体そして、これらと他の重合体、たとえばポリアミドとの混合物。
【００４９】
４.  水添変性（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンおよび澱粉の混合物を含む炭化水素樹脂（たとえばＣ5−Ｃ9）。単独重合体および１.） 〜 ４.）の共重合体は、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミアイソタクチックまたはアタクチックを含むいかなる立体構造をも有し； アタクチック重合体が好まれる。ステレオブロックポリマーもまた、含まれる。
【００５０】
５.  ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）。
【００５１】
６.  スチレン、α-メチルスチレン、ビニルトルエンの全ての異性体、特にｐ−ビニルトルエン、エチル・スチレンの全ての異性体、プロピル・スチレン、ビニル・ビフェニル、ビニル・ナフタレン、そして、ビニル・アントラセン、そして、それの混合物を含むビニル芳香族モノマーに由来する芳香族ホモポリマーおよび共重合体。同種重合体および共重合体は、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミアイソタクチックまたはアタクチックを含む任意の立体構造をも有し得るが アタクチック重合体が好まれる。ステレオブロックポリマーもまた、含まれる。
【００５２】
６ａ.  上述したビニル芳香族モノマーを含む共重合体およびエチレン、プロピレン、ジエン、ニトリル、酸、無水マレイン酸、マレイミド、ビニルアセテートおよび塩化ビニル、アクリル誘導体およびこれらの混合物、たとえばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチレン（インターポリマー）、スチレン／アルキル・メタクリル酸塩、スチレン/ブタジエン/アルキル・アクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキル・メタクリル酸塩、スチレン／無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／アクリル酸メチルから選択される共重合体；高衝撃強度のスチレン共重合体および他の重合体との混合物、たとえばポリアクリレート、ジエン重合体またはエチレン／プロピレン／ジエン・ターポリマー； そして、スチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレンまたはスチレン／エチレン／プロピレン／スチレンのようなスチレンのブロック共重合体。
【００５３】
６ｂ.  ６）で言及される重合体の水添物から誘導される水添芳香族ポリマー、特にポリビニルシクロヘキサン（ＰＶＣＨ）と称されしばしば水素化脱硫アタクチックポリスチレンによって調合されるポロシクロヘキシエチレン（ＰＣＨＥ）を含む。
【００５４】
６ｃ.  ６ａ）で言及される重合体の水添物から誘導される水添芳香族ポリマー。
【００５５】
単独重合体および共重合体は、シンジオタクチック、アイソタクチック、ヘミアイソタクチックまたはアタクチックを含む任意の立体構造を有し得るが、 アタクチック重合体が好まれる。ステレオブロックポリマーもまた、含まれる。
【００５６】
７.  スチレンまたは、α-メチルスチレン、たとえばポリブタジエン上のスチレン、ポリブタジエン-スチレン上のスチレンまたはポリブタジエンアクリロニトリル共重合体のようなビニル芳香族モノマーのグラフト共重合体； ポリブタジエン上のスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタクリロニトリル）;スチレン、アクリロニトリルおよびポリブタジエン上のメチルメタクリレート;ポリブタジエン上のスチレンおよび無水マレイン酸;スチレン、アクリロニトリル、および無水マレイン酸またはポリブタジエン上のマレイミド； ポリブタジエン上のスチレンおよびマレイミド;ポリブタジエン上のスチレンおよびアルキル・アクリレートまたはメタクリル酸エステル;エチレン／プロピレン／ジエン・ターポリマー上のスチレンおよびアクリロニトリル;６）で一覧を示す共重合体とのこれらの混合物と同様にスチレン、および、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリル酸エステル上のアクリロニトリル、アクリレート／ブタジエン共重合体上のスチレンおよびアクリロニトリル、たとえばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡまたはＡＥＳ重合体として知られている共重合体混合物。
【００５７】
８.  ポリクロロプレン、塩化ゴム、イソブチレン-イソプレン（ハロブチルゴム）の塩素化され臭素化された共重合体、塩素化されるかスルホン塩素化されたポリエチレン、エチレンおよび塩素化されたエチレンの共重合体、エピクロロヒドリン・ホモおよび共重合体、のようなハロゲン含有重合体特にハロゲン含有ビニル化合物、たとえばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデンの重合体、同様に塩化ビニル／ビニリデン塩化物、塩化ビニル／ビニル酢酸塩または塩化ビニリデン／ビニルアセテート共重合体のようなこれらの共重合体。
【００５８】
９.  ポリアクリレートおよびポリメタクリレートのようなα-β不飽和酸およびその誘導体に由来の重合体； アクリル酸ブチルによって衝撃改質したポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル。
【００５９】
１０.  ９）で言及した）モノマーの相互または他の不飽和モノマーとの共重合体、たとえばアクリロニトリル／ブタジエン共重合体、アクリロニトリル／アクリル酸アルキル共重合体、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルの共重合体またはアクリロニトリル／アルキルメタクリレート／ブタジエン・ターポリマー。
【００６０】
１１.  不飽和アルコールおよびアミンまたは、アシル誘導体またはそれらのアセタールに由来の重合体 、たとえばポリビニルアルコール、ポリビニルアセテート、ポリビニル・ステアラート、ポリビニル・ベンゾアート、ポリビニル・マレアート、ポリビニルブチラール、ポリアルキルフタラートまたはポリアルキルメラミン；１）で言及したされるオレフィンを有するそれらの共重合体と同様。
【００６１】
１２.  ポリアルキレン・グリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれらのビスグリシジルエーテルとの共重合体のような単独重合体および環状エーテルの共重合体。
【００６２】
１３.  コモノマーとしてエチレンオキシドを含むポリオキシメチレンおよびそれらのポリオキシメチレンのようなポリアセタール； 熱可塑性ポリウレタン、アクリレートまたはＭＢＳによって変性したポリアセタール。
【００６３】
１４.  ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、そして、ポリフェニレンオキシドとスチレン重合体またはポリアミドとの混合物。
【００６４】
１５.  それらの先駆体と同じく、ヒドロキシル終端ポリエーテル、一方にポリエステルまたはポリブタジエン、他方に脂肪族または芳香族ポリイソシアネートに由来のポリウレタン。
【００６５】
１６.  ジアミンおよびジカルボン酸からおよび／またはアミノカルボン酸または対応するラクタムから由来のポリアミドおよびコポリアミド、たとえばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレン・ジアミンから出発の芳香族ポリアミドおよびアジピン酸； ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタルまたは／およびテレフタル酸から、そして、変性剤としてのエラストマーの有無にかかわらず調合されるポリアミド、たとえばポリ-２，４，４）−トリメチルヘキサメチレン・テレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド； 更に、上述したポリアミドとポリオレフィン、オレフィン共重合体、イオノマまたは化学的に結合した、またはグラフト化エラストマーとのブロック共重合体； または、ポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラエチレングリコール;同様にＥＰＤＭまたはＡＢＳによって変性したポリアミドまたはコポリアミド； および、処理（ＲＩＭポリアミド系）の間、凝縮したポリアミド。
【００６６】
１７.  ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダントインおよびポリベンゾイミダゾール。
【００６７】
１８.  ジカルボン酸およびジオールからおよび／またはヒドロキシカルボン酸または対応するラクトン、 たとえばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１,４−ジメチルシクロヘキサン・テレフタレート、ポリアルキレン・ナフタレート（ＰＡＮ）およびポリヒドロキシ安息香酸塩、同じくヒドロキシル終端ポリエーテルに由来するブロック・コポリエーテル・エステル；更に、ポリカーボネートまたはＭＢＳによって変性したポリエステルから由来する、ポリエステル。
【００６８】
１９.  ポリカーボネートおよびポリエステル炭酸エステル。
２０.  ポリケトン
２１.  ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテル・ケトン。
２２.  一方はアルデヒドに由来し、もう一方はフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂のようなフェノール、尿素およびメラミンに由来する架橋重合体。
【００６９】
２３.  乾燥および非乾燥アルキド樹脂。
２４.  多価アルコールを有する飽和および不飽和のジカルボン酸および架橋剤としてのビニル化合物、更には低引火性でそれのハロゲン含有変性体のコポリエステルに由来の不飽和ポリエステル樹脂。
【００７０】
２５.  置換されたアクリレート、たとえばエポキシアクリレート、ウレタン・アクリレートまたはポリエステル・アクリレートに由来した架橋性樹脂。
２６.  メラミン樹脂、ユリア樹脂、イソシアネート、イソシアヌレート、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂と架橋したアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリル酸樹脂。
２７.  脂肪族、脂環式、多環式または芳香族グリシジル化合物に由来の架橋エポキシ樹脂、例えばビスフェノールＡおよびビスフェノールＦのジグリシジルエーテル生成物、そして、これらは促進剤の有無にかかわらない無水物またはアミンのような慣習的硬化剤によって架橋される。
【００７１】
２８.  セルロース、ゴム、ゼラチンおよびその化学的に変性した類似の誘導体のような天然重合体、たとえばセルロースアセテート、プロピオン酸セルロースおよびセルロース・ブチラートまたはメチルセルロースのような；同じくロジンおよびそれらの誘導体。
【００７２】
２９.  上述した重合体の配合物（ポリブレンド体）、たとえばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ ６．６および、共重合体（ＰＡ／ＨＤＰＥ）ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００７３】
本件重合体組成物は、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアクリレート、ポリ塩化ビニルのようなハロゲン化ポリマー、ポリビニルブチラール、ポリオレフィン、芳香族ホモポリマーおよびビニル芳香族モノマーおよびそのアクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）のようなグラフト共重合体に由来する共重合体上のポリカーボネート、コーティング、共押出層を特に含む。本件組成物は、約５０％〜約１００重量％である主成分として、たとえばこれらの重合体を含む。
【００７４】
本件重合体組成物は、特にはポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、テレフタル酸ポリエチレン（ＰＥＴと同様にＰＥＴＧおよびＰＣＴＧ）、ＡＢＳ、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルブチラール・スチレンアクリロニトリルコポリマー（ＳＡＮ）、ポリアミド、ポリスチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリプロピレンおよびポリエチレンから選択され、混合物、合金および共重合体を含む。本発明の組成物は、好ましくは非可塑化される。本発明の組成物は、更にいかなる金属または金属性粒子も必要とせず、通常この種の成分を含まない。特別な関心があるのは、自動車または建築用窓ガラスのための板またはシートのような強固な透明組成物または、特に農業応用のための半透明または透明ポリオレフィン、ポリオレフィン共重合体フィルムである。
【００７５】
本件基板はまた、適切なバインダを含むコーティング処方または硬化コーティングであり得る。バインダは原則として、産業において慣習的であるいかなるバインダでもあり得て、たとえばのＵｌｌｍａｎｎ’s  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  、第５版、Ｖｏｌ. Ａ１８、ｐｐ. ３６８−４２６、ＶＣＨ、Ｗｅｉｎｈｅｉｍ １９９１に記載されている。一般に、それは熱可塑性または熱硬化性樹脂、主要には熱硬化性樹脂に基づく成膜バインダである。それの例は、アルキド、アクリル樹脂、ポリエステル、フェノール樹脂、メラミン、エポキシおよびポリウレタン樹脂およびこれらの混合物である。
【００７６】
バインダは低温硬化性または高温硬化性バインダであり得て、硬化触媒の添加が利便的で有り得る。バインダの硬化を加速する適切な触媒は、たとえば、Ｕｌｌｍａｎｎ’s  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、Ｖｏｌ. Ａ１８、ｐ.４６９、ＶＣＨ Ｖｅｒｌａｇｓｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ、Ｗｅｉｎｈｅｉｍ １９９１に記載されている。
【００７７】
好適性は、バインダが機能上のアクリル酸樹脂を含むコーティング組成物および架橋剤に与えられる。
【００７８】
具体的なバインダを含んでいるコーティング組成物の例は、以下の通りである
低温または高温架橋性アルキド、アクリレート、ポリエステル、エポキシまたはメラミン樹脂、または、この種の樹脂の混合物に基づく塗料、必要により硬化触媒の添加を伴う；
【００７９】
ヒドロキシル含有アクリレート、ポリエステルまたはポリエーテル樹脂および脂肪族または芳香族イソシアネート、イソシアヌレートまたはポリイソシアネートに基づく２成分ポリウレタン塗料 ;
【００８０】
チオール含有アクリレート、ポリエステルまたはポリエーテル樹脂および脂肪族または芳香族イソシアネート、イソシアヌレートまたはポリイソシアネートに基づく２成分ポリウレタン塗料；
【００８１】
所望によりメラミン樹脂の添加によって焼成の間、非ブロック化されるブロックイソシアネート、イソシアヌレートまたはポリイソシアネートに基づく１成分ポリウレタン塗料； 
【００８２】
脂肪族または芳香族ウレタンまたはポリウレタン、およびヒドロキシル含有アクリレート、ポリエステルまたはポリエーテル樹脂に基づく１成分ポリウレタン塗料；
【００８３】
脂肪族または芳香族ウレタン・アクリレートまたはウレタン構造範囲内の遊離アミノ基を有するポリウレタンアクリレートに基づく１成分ポリウレタン塗料およびメラミン樹脂またはポリエーテル樹脂、必要なら硬化触媒を伴う。
【００８４】
（ポリ）ケチミンおよび脂肪族または芳香族イソシアネート、イソシアヌレートまたはポリイソシアネートに基づく２成分塗料；
【００８５】
（ポリ）ケチミンおよび不飽和アクリル酸樹脂、または、ポリアセト酢酸樹脂またはメタクリルアミドグリコレートメチルエステルに基づく２成分塗料;
【００８６】
カルボキシルまたはアミノ含有ポリアクリレートおよびポリエトキシドに基づく２成分塗料；
【００８７】
１０.  無水物基を含むアクリル酸樹脂およびポリヒドロキシまたはポリアミノ成分に基づく２成分塗料；
１１.  アクリレート含有無水物およびポリエトキシドに基づく２成分塗料；
【００８８】
１２.  （ポリ）オクサゾリン、および無水物基または不飽和アクリル酸樹脂、または、脂肪族または芳香族イソシアネート、イソシアヌレートまたはポリイソシアネート含むアクリル酸樹脂に基づく２成分塗料;
１３.  不飽和ポリアクリレートおよびポリマロネートに基づく２成分塗料;
【００８９】
１４.  熱可塑性アクリル酸樹脂またはエーテル化メラミン樹脂と組み合った外部架橋アクリル酸樹脂に基づく熱可塑性ポリアクリレート塗料：
１５.  シロキサン変性またはフッ素変性アクリル酸樹脂に基づく塗料系；
【００９０】
１６.  架橋剤（酸触媒作用）としてのメラミン樹脂（例えばヘキサメトキシメチルメラミン）を有するマロネートブロックイソシアネートに基づく特にクリアコート用の塗料系；
１７.  オリゴマーウレタン・アクリレートおよび／またはアクリルアタクリルラテンに基づく紫外線硬化性系、所望により他のオリゴマーまたはモノマーと組み合わせる；
【００９１】
１８.  二段硬化系、まず熱、その後に紫外線または電子照射によって、またはその逆によって硬化し、その成分は光重合開始剤または電子ビームの存在で紫外線照射に反応する能力があるエチレン二重結合を含む。
【００９２】
シロキサンに基づくコーティング系もまた可能であり、例えば米国特許番号第６，２８８，１５０号、第６，３０６，５１２号、第４，３１５，０９１号または第６，２２８，９２１号に記載されている。
【００９３】
加えて、本発明のコーティング組成物は、好ましくは立体障害アミンタイプ、２−（２−ヒドロキシフェニル)−１,３,５−トリアジンおよび／または２ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールタイプの、例えば下記の光安定剤を含む。
【００９４】
このクラスの化合物の添加は、特別な技術的関心から２−レゾルシニル−４,６−ジフェニル−１,３,５−トリアジン、２−レゾルシニル−４,６−ビス（ビフェニリル）−１,３,５−トリアジンおよび／または２−ヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンズトリアゾールである。
【００９５】
コーティング組成物は、また、更なる成分を含むことができ、例としては、溶解剤、顔料、染料、可塑剤、安定剤、流動剤または揺変剤、乾燥触媒および／または均染剤である。可能な成分の例は、Ｕｌｌｍａｎｎ‘ｓＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第５版、Ｖｏｌ. Ａ１８、ｐｐ. ４２９−４７１、ＶＣＨ、Ｗｅｉｎｈｅｉｍ １９９１に記載されている。
【００９６】
可能な乾燥触媒または硬化触媒は、たとえば、遊離（有機）酸または塩基、熱処理または照射によって非ブロック化できる封止（有機）酸または塩基、および有機金属化合物、アミン、アミノ含有樹脂および／またはホスフィン類である。有機金属化合物の例は、金属カルボン酸エステル、特に金属Ｐｂ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｚｎ、ＺｒまたはＣｕの金属カルボン酸エステル、または、金属キレート、特に金属Ａｌ、Ｔｉ、ＺｒまたはＨｆの金属キレート、または有機スズ化合物のような有機金属化合物である。
【００９７】
金属カルボン酸エステルの例は、Ｐｂ、ＭｎまたはＺｎのステアリン酸塩、Ｃｏ、ＺｎまたはＣｕのオクチル酸塩、ＭｎおよびＣｏのナフテン酸塩または対応するリノール酸塩、樹脂酸塩またはタラート酸塩である。
【００９８】
金属キレートの例は、アセチルアセトン、エチルアセチルアセテート、サリチルアルデヒド、サリチルアルドキシム、ｏ−ヒドロキシアセトフェノンまたはエチルトリフルオロアセチルアセテートのアルミニウム、チタンまたはジルコニウムキレート、およびこれらの金属のアルコキシドである。
【００９９】
有機スズ化合物の例は、ジブチルスズオキシド、ジラウリン酸ジブチルスズまたはジブチルスズジオクトエートである。アミン類の例は、特に、三級アミン、たとえばトリブチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−エチルモルホリン、Ｎメチルモルホリンまたはジアザビシクロオクタン（トリエチレンジアミン）、ジアザビシクロウンデセン、ＤＢＮ（＝ １，５−ジアザビシクロ［４.３．０］ノン−５−エン）、およびこれらの塩である。更なる例は、第四級アンモニウム塩、たとえば塩化トリメチルベンジルアンモニウムである。
【０１００】
アミノ含有樹脂は、同時にバインダおよび硬化触媒である。その例は、アミノ含有アクリレート共重合体である。
【０１０１】
使用する硬化触媒はまた、ホスフィン、たとえばトリフェニルホスフィンであり得る。
【０１０２】
コーティング組成物はまた、照射硬化性コーティング組成物であり得る。この場合、前記バインダはエチレン系不飽和結合（プレポリマー）を含む単量体またはオリゴマー化合物を必須に含み、これらは付与後に光化学線照射によって硬化し、すなわち架橋、高分子量形に変換される。前記系が紫外線硬化性である場合には、一般に少なくとも１つの光重合開始剤を含む。対応する系は、前述の公表Ｕｌｌｍａｎｎ‘ｓＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第５版、Ｖｏｌ. Ａ１８、４５１〜４５３頁に記載されている。照射硬化性コーティング組成物において、添加剤はまた、立体障害アミンの添加なしで使用できる。
【０１０３】
本発明におけるコーティング組成物は、たとえば金属、木材、プラスチックまたはセラミック材料用のいかなる所望の基板にも適用できる。それらは、自動車の仕上げのトップコートとして好ましく使用される。トップコートが２層から成る場合、下層は着色され上層は非着色であり、前記の新規コーティング組成物は上層にも下層にも両層にも使用できるが、好ましくは上層に使用される。
【０１０４】
前記組成物は慣習的方法、たとえばブラッシング、吹付け、注入、浸漬または電気泳動によって基板に付与できる；Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓＥｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第５版、Ｖｏｌ. Ａ１８、ｐｐ. ４９１−５００を参照のこと。バインダ系に従い、コーティング組成物は室温にて、または加温によって硬化できる。前記コーティング組成物は、好ましくは５０〜１５０℃にて硬化し、粉末コーティング組成物またはコイルコーティング組成物の場合にはより高い温度での硬化となる。
【０１０５】
本発明によって得られるコーティング組成物は、光、酸素および熱の損傷効果に優れた耐性を有し、このように得られたコーティング組成物、たとえば塗料、の良好な耐光性および耐候性について特に言及する必要がある。
【０１０６】
コーティング組成物は、前記バインダが可溶である有機溶剤または混合溶剤を含むことができる。前記コーティング組成物は、他方で水溶液または水分散液物であり得るえる。媒体はまた、有機溶剤と水との混合物であり得る。前記コーティング組成物は、高固形分塗料であってもよく、または無溶剤無し（例えば粉末コーティング材料）であり得る。粉末コーティング材料は、たとえば、Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ ＣｈｅｍｉｓｔｒｙのＵｌｌｍａｎｎ’ｓ Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ、第５版、Ａ１８、４３８〜４４４頁に記載されている。粉末コーティング材料はまた、粉末スラリー（好ましくは水中の粉末の分散体）の形態形を有してもよい。
【０１０７】
顔料は、無機であるか、有機であるか金属的な顔料であり得る。コーティング組成物が、顔料を含まず、クリアコートとして使用され得る。
【０１０８】
本件基板材料はまた、無機重合体組成物または有機／無機重合体ハイブリッド系、例えばゾル−ゲル・コーティング組成物）であってもよい。例は、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｘｒ、Ａｌアルコキシドのような金属アルコキシドに基づく酸化金属系または樹脂＋金属アルコキシドの混合物に基づくハイブリッドコーティング組成物であり、このような系およびそれらの調合の例は米国特許出願公開第２００７０１８７６５３号または米国特許出願公開第２００６１７８２５４号において与えられ、当該出願は参照文献として本願明細書に取り込まれるものとする。
【０１０９】
インキは、たとえば印刷インキである。インキは、照射硬化性インキであってもよい。
本件照射硬化性可能なインキまたはコーティング組成物はまた、熱的に硬化し得る。コーティングおよびインキは、水性系または有機溶剤型系であってもよい。
【０１１０】
本件ブロンズ粒子は、照射硬化性インキまたはコーティング組成物において使用でき、ＮＩＲ硬化を誘発する。それらは、熱的ラジカル開始剤または紫外線光重合開始剤の有無にかかわらず、一緒に使用できる。それらは、透明塗料において、または高次の顔料、たとえば高次のＴｉＯ2）を含むコーティング組成物において適切である。それらは、紫外線、可視光またはＮＩＲ光が吸収されるかまたは顔料によって反射した著しく着色したコーティング組成物の硬化を誘発する。
【０１１１】
無機の基板は、たとえばガラスまたはセラミックである。
【０１１２】
本件ブロンズ粒子は、ガラス、セラミック、金属またはエナメル表面のレーザマーキングに、そして、伝導性の銀コーティング組成物を同温度耐性基板に適用するための添加剤として使用できる。
【０１１３】
ＫxＣｓyＷＯ3は、銀粉末、ホウ珪酸ガラスフリットおよび有機媒体を含む近赤外吸収ペースト組成物の添加剤として使用できる。上記は米国特許出願第２００９／００２９０５７号において教示され、参照文献として本願明細書に取り込まれるものとする。
【０１１４】
ＫxＣｓyＷＯ3は、複数のガラスフリット先駆体を含むマーク材料を適用することによって基板表面をレーザマークするための添加剤として使用できる。上記は米国特許第６，２３８，８４７号において開示され、参照文献として本願明細書に取り込まれるものとする。
【０１１５】
本発明の有機組成物はまた、様々な従来の添加剤、例えば下記に一覧を示す材料またはそれらの混合物の約０．０１〜約５重量％、好ましくは約０．０２５〜約２重量％、そして、特に約０．１〜約１重量％を任意に含むことができる。
１. 酸化防止剤
【０１１６】
１．１.  アルキル化モノフェノール、たとえば側鎖にて直線または分岐状の２，６-ジ-ｔｅｒｔ-ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６-ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−4−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４,６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、ノニルフェノールまたは、たとえば、２，６−ジ・ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルウンデス −１−イル)フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルヘプタデカ−１−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１−メチルトリデシ−１−イル)フェノールおよびこれらの混合物。
【０１１７】
１．２.  アルキルチオメチルフェノール、たとえば２，４−ジオクチルチオメチル−６−tert−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１１８】
１．３.  ハイドロキノンおよびアルキル化ハイドロキノン、たとえば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル・ステアラート、ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジパート。
【０１１９】
１．４.  トコフェロール、たとえばα-トコフェロール、β-トコフェロール、γ-トコフェロール、δ-トコフェロールおよびこれらの混合物（ビタミンＥ）。
【０１２０】
１．５.  ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、たとえば２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス(６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス−（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４’−ビス(２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【０１２１】
１．６.  アルキリデンビスフェノール、たとえば２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール)、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、  ２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［ ６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール ］、 ２，２’−メチレンビス［ ６−（α、α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール ］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、 ４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル‐５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［ ３，３−ビス（３−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル）ブチレート ］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル−フェニル)ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’tert−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタル酸塩、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−4-ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【０１２２】
１．７.  ベンジル化合物、たとえば３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３,５−ジメチルベンジルメルカプトアセタート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセタート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、１，３，５−トリ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２,４,６−トリメチルベンゼン、ジ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−メルカプト−酢酸イソオクチルエステル、ビス−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２,６−ジメチルベンジル）ジチオール・テレフタル酸塩、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２,６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−リン酸ジオクタデシルエステルおよび３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル-リン酸モノエチルエステル（カルシウム塩）。
【０１２３】
１．８.  ヒドロキシベンジル化マロネート、たとえばジオクタデシル−２,２−ビス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２（３−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２,２−ビス−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［ ４（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］ −２,２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【０１２４】
１．９.  芳香族ヒドロキシベンジル化合物、たとえば１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２,４,６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２,３,５,６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【０１２５】
１．１０.  トリアジン化合物、たとえば２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１,３,５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４,６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１,３,５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４,６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１,３,５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１,２,３−トリアジン、１，３，５−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２,６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１,３,５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ-フェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１,３,５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【０１２６】
１．１１.  ベンジルホスホン酸、たとえばジメチル−２,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシベンジルホスホン酸、ジエチル−３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸、ジオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸、ジオクタデシル−５−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホン酸、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【０１２７】
１．１２.  アシルアミノフェノール、たとえば４−ヒドロキシ−ラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカプト−６（３，５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリド）−ｓ−トリアジン、およびオクチル−Ｎ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバマート。
【０１２８】
１．１３.  β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステル、モノ-または多価アルコールを有する、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチル・グリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２,６,７−トリオキサビシクロ［２．２．２  ］オクタンを有する。
【０１２９】
１．１４.  β-（５−tert−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸のエステル、モノ-または多価アルコールを有する、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール（１，６−ヘキサンジオール）１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチル・グリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２,６,７−トリオキサビシクロ［ ２．２．２ ］オクタンを有する。
【０１３０】
１．１５.  β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステル、モノ−または多価アルコールを有する、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチル・グリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２,６,７−トリオキサビシクロ［ ２．２．２ ］オクタンを有する。
【０１３１】
１．１６.  ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルー４−ヒドロキシフェニル酢酸のエステル、モノ−または多価アルコールを有する例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール（１，９−ノナンジオール）エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチル・グリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２,６,７−トリオキサビシクロ［ ２．２．２ ］オクタンを有する。
【０１３２】
１．１７.  β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えばＮ,Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ,Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ,Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヒドラジド、Ｎ,Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（Ｎａｕｇａｒｄ（登録商標） ＸＬ−１、Ｕｎｉｒｏｙａｌによって供給）。
【０１３３】
１．１８.  アスコルビン酸（ビタミンC）
【０１３４】
１．１９.  アミノ酸化防止剤、たとえばＮ,Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ’−ビス（1-エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ,Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）‐Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンサルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ,Ｎ’−ジメチル−Ｎ,Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、たとえばｐ,ｐ’−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−テトラメチル−４,４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス[（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアナイド、ビス［ ４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル]アミン、tert−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化tert−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチル−ジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化tert−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロー３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノサイアジン、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノサイアジンの混合物、、モノ−およびジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチル−フェノサイアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノサイアジン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−テトラフェニル−１,４−ジアミノ−２−エン、Ｎ,Ｎ−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−ピペリド− ４−イル−ヘキサメチレンジアミン、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリド−４−イル）−セバシン酸塩、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン− ４−ｏｎｅ  ２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−ｏｌ。
【０１３５】
２. 紫外線吸収剤および光安定剤
２．１.  ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール誘導体、たとえば周知の市販のヒドロキシフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール誘導体およびベンゾトリアゾール誘導体は米国特許番号第３，００４，８９６号、第３，０５５，８９６号； 第３，０７２，５８５； 第３，０７４，９１０； 第３，１８９，６１５； 第３，２１８，３３２号； 第３，２３０，１９４号； 第４，１２７，５８６号； 第４，２２６，７６３号； 第４，２７５，００４号； 第４，２７８，５８９号； 第４，３１５，８４８号； 第４，３４７，１８０号； 第４，３８３，８６３号； 第４，６７５，３５２号；第 ４，６８１，９０５号、第４，８５３，４７１号； 第５，２６８，４５０号； 第５，２７８，３１４号； 第５，２８０，１２４号； 第５，３１９，０９１号； 第５，４１０，０７１； 第５，４３６，３４９号； 第５，５１６，９１４号； 第５，５５４，７６０号； 第５，５６３，２４２号； 第５，５７４，１６６号； 第５，６０７，９８７号、第５，９７７，２１９号及び第６，１６６，２１８号に開示されており、 その中には下記が記載されている：２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−−２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｓｅｃ−ブチル−５−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５ −ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ビス−α−クミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−（ω−ヒドロキシ−オクタ−（エチレンオキシ）カルボニル−エチル）−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ドデシル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニル）エチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ドデシル化２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ) −カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−（２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス（４−ｔ−オクチル（６−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−オクチル−５−クミフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−フルオロ−２−（２−ヒドロキシ−３,５−ジ−α−クミフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３,５−ジ−α−クミフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル)−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−オクチルフェニル)−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、メチル３−（５−トリフルオロメチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロケイヒ酸５−ブチルスルフォニル−２−（２−ヒドロキシ−３−α−クミル−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３−クミル−５−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−トリフルオロメチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−α−クミフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−ブチルスルフォニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、および５−フェニルスルフォニル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール。
【０１３６】
２．２.  ２−ヒドロキシベンゾフェノン、たとえば４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクチルオキシ、４−デシルオキシ、4-ドデシルオキシ、４−ベンジルオキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−ヒドロキシ−４,４’−ジメトキシ誘導体。
【０１３７】
２．３.  置換または非置換の安息香酸のエステル、たとえば４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリチラート、サリチル酸フェニル、オクチルフェニル・サリチラート、ジベンゾイル・レソルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レソルシノール、ベンゾイル・レソルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、ヘキサデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、オクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、２−メチル−４,６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート。
【０１３８】
２．４.  アクリレートおよびマロネート、たとえばα−シアノ−β,β−ジフェニルアクリル酸エチルエステルまたはイソオクチルエステル、α−カルボメトキシケイ皮酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステルまたはブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシケイ皮酸メチルエステル、Ｎ−β−カルボメトキシ-β−シアノビニル）−２−メチル−インドリン、ＳａｎｄｕｖｏｒＴＭ ＰＲ２５、ジメチルｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ＃ ７４４３−２５−６）、およびＳａｎｄｕｖｏｒＴＭ ＰＲ３１、ジ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）ｐ−メトキシベンジリデンマロネート（ＣＡＳ ＃１４７７８３−６９−５）。
【０１３９】
２．５.  ニッケル化合物、たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールアミン、ニッケルジブチルジチオカルバマト、モノアルキルエステルのニッケル塩のような付加配位子の有無にかかわらない、１：１または１：２錯体のような２，２’−チオ−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチル−ブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えばメチルまたはエチルエステル、４−ヒドロキシ−３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスホン酸、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのケトキシムのニッケル錯体、付加配位子の有無にかかわらず、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体。
【０１４０】
２．６.  立体障害アミン安定剤、たとえば４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、１−アリール−４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル)セバシン酸塩、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシナート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバシン酸塩、ビス（１−オクチルオキシ−２,２,６,６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバシン酸塩、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル） ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２,２,６,６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンおよびコハク酸の凝縮物、Ｎ,Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２,６−ジクロロ−１,３,５−トリアジンの線状または環式凝縮物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロ三酢酸鉄、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１,２,３,４−ブテン−テトラカルボン酸塩、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン)、４−ベンゾイル−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル)−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３,５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７,７,９,９−テトラメチル−１,３,８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２,４−ジオーネ、ビス（１−オクチルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジル）セバシン酸塩、ビス（１−オクチルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジル）スクシナート、Ｎ,Ｎ’−ビス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−モルホリノ−２,６−ジクロロ−１,３,５−トリアジンの線状または環式凝縮物、2-クロロ-４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１,３,５−トリアジン、および１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの凝縮物、２−クロロ−４,６−ｄｉ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１,２,２,６,６−ペンタメチルピペリジル)−１,３,５−トリアジンおよび１，２−ビス−３−アミノプロピルアミノ）エタンの凝縮物、８−アセチル−３−ドデシル-７,７,９,９−テトラメチル−１,３,８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２,４−ジオーネ、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２,５−ジオーネ、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２,５−ジオーネ、４−ヘキサデシルオキシ−および４−ステアリルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ,Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−シクロヘキシルアミノ−２,６−ジクロロ−１,３,５−トリアジンの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ)エタンおよび２，４，６−トリクロロ−１,３,５−トリアジンの縮合物同じく４−ブチルアミノ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ Ｒｅｇ. Ｎｏ. ［１３６５０４−９６−６］ ）;Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル)−ｎ−ドデシルスクシンイミド（Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル)−ｎ−ドデシルスクシンイミド）２−ウンデシル−７,７,９,９−テトラメチル−１−オクサ−３,８−ジアザ−４−オクソ−スピロ［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オクサ−３,８−ジアザ−４−オクソスピロ［４，５］デカンおよびエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ,Ｎ’−ビス−フォミル−Ｎ,Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシ−メチレン・マロン酸の１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィン共重合体と２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンまたは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物。
【０１４１】
前記立体障害アミンはまた、米国特許第５，９８０，７８３号に記載されている化合物のうちの１つであってもよく、その関連した部分は成分Ｉ−ａ）、Ｉ−ｂ）、Ｉ−ｃ）、Ｉ−ｄ）、Ｉ−ｅ）、Ｉ−ｆ）、Ｉ−ｇ）、Ｉ−ｈ）、Ｉ−ｉ）、Ｉ−ｊ）、Ｉ−ｋ） またはＩ−ｌ）の化合物、特に、前記米国特許第５，９８０，７８３号の６４〜７２欄に記載された光安定剤１−ａ−１、１−ａ−２、１−ｂ−１、１−ｃ−１、１−ｃ−２、１−ｄ−１、１−ｄ−２、１−ｄ−３、１−ｅ−１、１−ｆ−１、１−ｇ−１、１−ｇ−２または１−ｋ−１を参照して取り入られる。
【０１４２】
前記立体障害アミンは、また、米国特許番号第６，０４６，３０４号および第６，２９７，２９９号に記載されている化合物のうちの１つであって、いずれもが本願明細書に引用したものとするか、たとえば請求項１０または３８、または実施例１−１２の化合物もしくは明細書中のＤ−１〜Ｄ−５であり得る。
【０１４３】
２．７.  ヒドロキシ置換されたアルコキシ基によってＮ−原子に置換される立体障害アミン、たとえば１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヘキサデカノイルオキシ−２,２,６,６−テトラ−メチルピペリジン、１−オキシル−４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジンのｔ−アミルアルコールからの炭素ラジカルとの反応生成物、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラ−メチルピペリジン、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクソ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバシン酸塩、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アジパート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシナート、ビス（１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン−４−イル）グルタル酸エステルおよび２，４−ｂｉｓ｛Ｎ−［１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−ヒドロキシ−２,２,６,６−テトラ−メチルピペリジン−４−イル］−N−ブチルアミノ｝−６−（２−ヒドロキシエチルアミノ）−ｓ−トリアジンのような化合物。
【０１４４】
２．８.  オキサミド、たとえば４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５,５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５,５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ,Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド−２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エトキサニリドおよびその２−エトキシ−２’−エチル−５,４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ二置換オキサニリドの混合物。
【０１４５】
２．９.  トリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン、たとえば周知の市販のトリス−アリール−ｏ−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジンおよびトリアジンは、米国特許番号第３，８４３，３７１号; 第４，６１９，９５６号; 第４，７４０，５４２号; 第５，０９６，４８９号; 第５，１０６，８９１号; 第５，２９８，０６７号; 第５，３００，４１４号; 第５，３５４，７９４号; 第５，４６１，１５１号; 第５，４７６，９３７号; 第５，４８９，５０３号; 第５，５４３，５１８号; 第５，５５６，９７３号; 第５，５９７，８５４号; 第５，６８１，９５５号; 第５，７２６，３０９号; 第５，７３６，５９７号; 第５，９４２，６２６号; 第５，９５９，００８号; 第５，９９８，１１６号; 第６，０１３，７０４号; 第６，０６０，５４３号; 第６，２４２，５９８号および第６，２５５，４８３号に開示され、または例として以下のものが列挙される：４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル)−２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、ＣｙａｓｏｒｂＴＭ １１６４（Ｃｙｔｅｃ社）、 ４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル)−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシェニル)−６−（４−クロロフェニル)−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル)−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（２，４−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ブロモフェニル)−ｓ−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−６−（４−クロロフェニル)−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジヒドロキシェニル)−６−（２，４−ジメチルフェニル)−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（４−ビフェニル)−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチル−オキシカルボニルエチリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４−［２−ヒドロキシ−４−（３−ｓｅｃ−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ｓｅｃ−アミルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ｎ−ブチルオキシフェニル)−６−（２，４−ジ−ｎ−ブチルオキシフェニル)−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ノニルオキシ*−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−５−α−クミルフェニル]−ｓ−トリアジン（*は、オクチルオキシ、ノニルオキシおよびデシルオキシ基の混合物を示す）、メチレンビス−｛２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン｝、メチレンは、３：５，５：５および３：３位置において５：４：１の比でダイマー混合物に架橋し、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−イソオクチルオキシカルボニルイソプロピリデンオキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチル−フェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−５−α−クミルフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（２，４，６−トリメチルフェニル）−４,６−ビス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン、 ２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ｓｅｃ−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル］−ｓ−トリアジン４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）フェニル)−ｓ−トリアジンおよびの４，６−ビス−（２，４−ジメチル−フェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−フェニル)−ｓ−トリアジンの混合物、TｉｎｕｖｉｎＴＭ ４００（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社）４，６−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−２−（２−ヒドロキシ−４−（３−（２−エチルヘキシルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−フェニル)−ｓ−トリアジン、および４，６−ジフェニル−２−（４−ヘキシルオキシ−２−ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン。
【０１４６】
３.  金属不活性化剤、たとえばＮ,Ｎ’−ジフェニルオクサミド、Ｎ−サリチラール−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ,Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ,Ｎ’−ビス(３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１,２,４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイル・ジヒドラジド、セバコイル・ビスフェニルヒドラジドＮ,Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ,Ｎ’‐ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ,Ｎ’‐ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１４７】
４.  亜リン酸エステルおよびホスホニト、たとえばトリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニールジアルキルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトール・ジホスホン酸エステル、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトール・ジホスホン酸エステル、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール・ジホスホン酸エステル、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトール・ジホスホン酸エステル、ジイソデシルオキシペンタエリスリトール・ジホスホン酸エステル、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトール・ジホスホン酸エステル、ビス（２，４，６−トリス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)ペンタエリスリトール・ジホスホン酸エステル、トリステアリル・ソルビトール・トリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル） ４，４’−ビフェニレン・ジホスホン酸エステル、６−イソオクチルオキシ−２,４,８,１０−ｔｅｔｒａ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジベンゾ［ｄ,ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、６−フルオロ−２,４,８,１０−ｔｅｔｒａ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ,ｇ］［１，３，２］ジオクサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチル亜リン酸エステル、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチル亜リン酸エステル、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−ｔｅｔｒａ−ｔｅｒｔ−ブチル−１,１’-ビフェニル−２,２’−ジイル）ホスファイト]、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−ｔｅｔｒａ−ｔｅｒｔ−ブチル−１,１’-ビフェニル−２,２’−ジ−イル）ホスファイト。
【０１４８】
特に好まれるのは以下の亜リン酸エステルである：
【０１４９】
トリ（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)亜リン酸エステル（ＩｒｇａｆｏｓＴＭ １６８（Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社））（トリス（ノニルフェニル）亜リン酸エステル）
【０１５０】
【化１】
0006317880.tif 000002
【０１５１】
【化２】
0006317880.tif 000003
【０１５２】
５.  ヒドロキシルアミン、たとえば例Ｎ,Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジアウリルヒドロキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジヘキサ−デシルヒドロキシルアミン、Ｎ,Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、および水添獣脂アミン由来のＮ,Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【０１５３】
６.  ニトロン、たとえば Ｎ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリドシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、Ｎ−メチル-−α−ヘプタデシルニトロン、および水添獣脂アミン由来のＮ,Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されるニトロン。
【０１５４】
７.  アミンオキシド、たとえば米国特許番号第５，８４４，０２９号および第５，８８０，１９１号に開示されているようなアミンオキシド誘導体、ジデシル・メチルアミンオキシド、トリデシル・アミンオキシド、トリドデシルアミンオキシドおよびトリヘキサデシル・アミンオキシド。
【０１５５】
８.  ベンゾフラノンおよびインドリノン、たとえば、米国特許番号第４，３２５，８６３号、第４，３３８，２４４号、第５，１７５，３１２号、第５，２１６，０５２号、第５，２５２，６４３号、第５，３６９，１５９号、第５，３５６，９６６号、第５，３６７，００８号、第５，４２８，１７７号または第５，４２８，１６２号に開示されたもの、または、３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５,７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２‐ｏｎｅ、５,７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−ｏｎｅ、３，３’−ビス［５,７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−(４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル)ベンゾフラン−２‐ｏｎｅ]５,７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２‐ｏｎｅ、３−（４−アセトキシ−３,５−ジメチルフェニル）−５,７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−ｏｎｅ、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイロキシフェニル)−５,７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−ｏｎｅ、３−（３，４−ジメチルフェニル)−５,７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−ｏｎｅ、３−（２−アセチル−５−イソオクチルフェニル)−５−イソオクチルベンゾフラン−２−ｏｎｅ、および３−（２，３−ジメチルフェニル)−５,７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ベンゾフラン−２−ｏｎｅ。
【０１５６】
９.  チオ相乗剤、たとえばチオジプロピオン酸ジラウリルまたはジステアリルチオジプロピオート。
【０１５７】
１０.  過酸化物スカベンジャー、たとえばβ-チオジプロピオン酸のエステル、たとえばラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシル・エステル、メルカプトベンゾイミダゾールまたは、2-メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバマト、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリトール、テトラキス（β-ドデシルメルカプト)プロピオナート。
【０１５８】
１１.  ポリアミド安定剤、たとえばヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩および二価マンガンの塩。
１２.  塩基性補助安定剤、たとえばメラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、アルカリ金属塩、および高級脂肪酸のアルカリ土類金属塩、たとえばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびカリウム・パルミタート、ピロカテコラートアンチモンまたは亜鉛ピロカテコラート。
【０１５９】
１３.  造核剤、たとえば
滑石のような無機物質、酸化チタンまたは酸化マグネシウムのような金属酸化物、燐酸塩、炭酸エステルまたは好ましくはアルカリ土類金属； モノ−または多カルボン酸のような有機化合物およびそれらの塩、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、琥珀酸ナトリウムまたはベンゾアート；イオン共重合体（イオノマー）のような高分子化合物。
【０１６０】
１４.  充填剤および補強剤、例えば炭酸カルシウム、珪酸塩、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物カーボンブラック、グラファイト、木粉、および他の天然物の粉や繊維、合成繊維。
【０１６１】
１５.  分散剤、ポリエチレンオキシド・ワックスまたは鉱油類。
【０１６２】
１６.  他の添加剤、例えば可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、染料、蛍光増白剤、レオロジ-添加剤、触媒、流れ制御剤、スリップ剤、架橋剤、架橋ブースタ、ハロゲンスカベンジャ、煙阻害剤、難燃処理剤、帯電防止剤、置換または非置換のビスベンジリデン・ソルビトールのような清浄化剤、２，２’−ｐ−フェニレン−ビス（３，１−ベンゾキサジン−４−ｏｎｅ）、ＣｙａｓｏｒｂＴＭ ３６３８（ＣＡＳ＃ １８６００−５９−４）のようなベンゾオキサジノン紫外線吸収剤および発泡剤。
【０１６３】
特に、更なる添加剤は、有機燐安定剤、ヒンダードフェノール酸化防止剤、ヒドロキシルアミン、ヒンダードアミンおよびヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、または、ヒドロキシフェニルトリアジン紫外線吸収剤から選択される。
【０１６４】
ブロンズ粒子は周知の技術、たとえば当業者によって知られている標準分散技術によってコーティングまたはインキまたは接着剤組成物に取り込まれ得る。本件ブロンズ粒子は、混合器を使用している標準の添加剤混合技術、混錬器または押出機によってプラスチック基板、コーティング、インキまたは接着剤に取り込まれ得る。
【０１６５】
本発明のブロンズおよび任意の更なる添加剤は、プラスチック、コーティング、インキまたは接着剤基板に個々に添加され、または互いに混ぜ合わされる。所望により、個々の成分は、基板への取込みの前にたとえば乾式混合、圧縮または溶融物内で互いに混ぜ合わせられる。
【０１６６】
本発明のブロンズ粒子および任意の更なる添加剤の取込みは、粉末の乾式混合、またはたとえば不活性溶媒、水または油のような溶液、分散物、懸濁液の湿潤混合の形で、周知の方法によって実行される。本発明の添加剤は、たとえば、成形の前か後にまたは、溶剤または懸濁液／分散剤の次の蒸発の有無にかかわらず、溶けたかまたは分散性の添加剤または添加剤混物を基板に付与することによって取り入れられる。それらは、例えば乾燥混合物、粉末、溶液、分散物、懸濁液または溶融物として処理装置（例えば押出機、密閉式混合機、その他）に、直接添加できる。
【０１６７】
取込みは、撹拌機を備えているいかなる加熱可能な容器例えば混錬器、混合機または撹拌槽のような閉じた装置にもおいても実行できる。取込みは、好ましくは押出機においてまたは混錬器において実行される。不活性雰囲気または酸素の存在において処理が行われるかどうかは、重要でない。
【０１６８】
本件添加剤のプラスチックの基板に対する添加は、プラスチックが溶かされ、添加剤と混ぜ合わされる全ての慣習的混合機において実行できる。適切な機械は当業者にとって知られている。それらは、主にミキサー、混錬器および押出機である。
【０１６９】
処理は、押出、共混錬、引抜き、圧縮成形、シート押出、熱成形、射出成形、回転成形、キャスティングまたは重合を含む。工程は、好ましくは溶融処理の間、添加剤の導入によって押し出し機において実行される。
【０１７０】
特に好適な処理機械は単一スクリュー押出機であり、対抗回転または共回転式双晶-スクリュー押出機、回転成形装置、遊星歯車装置押出機、環押出機または共混錬器である。また、真空が適用できる少なくとも１つのガス除去コンパートメントを備えている処理機械を使用可能である。
【０１７１】
適切な押出機および混錬器については記載があり、たとえば、Ｈａｎｄｂｕｃｈ ｄｅｒ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅｘｔｒｕｓｉｏｎ, Ｖｏｌ. １ Ｇｒｕｎｄｌａｇｅｎ, Ｅｄｉｔｏｒｓ Ｆ. Ｈｅｎｓｅｎ, Ｗ. Ｋｎａｐｐｅ, Ｈ. Ｐｏｔｅｎｔｅ, １９８９, ｐｐ. ３−７, ＩＳＢＮ： ３−４４６−１４３３９−４ （Ｖｏｌ. ２ Ｅｘｔｒｕｓｉｏｎｓａｎｌａｇｅｎ １９８６, ＩＳＢＮ ３−４４６−１４３２９−７）である。
【０１７２】
たとえば、スクリュー長はスクリュー直径の１〜６０倍、好ましくスクリュー直径の３５〜４８倍分である。スクリューの回転速度は、好ましくは１０〜６００毎分回転数（ｒｐｍ）、特に大いに好ましくは２５〜３００ｒｐｍである。
【０１７３】
最大流量は、スクリュー直径、回転速度および推進力に依存している。本発明の方法は、また、言及したパラメータを変化させるかまたは投与量を伝達する計量機を使用して、最大処理能力未満のレベルで実行できる。複数の成分が添加される場合、これらは使用前に混合されるかまたは個々に添加される。
【０１７４】
本発明のブロンズ粒子ならびに任意の更なる添加剤は重合体に対してたとえば約１重量％〜約４０重量％、好ましくは約２重量％〜約２０重量％の濃度の成分を含むマスターバッチ（「濃縮物」）の形でプラスチックの基板に添加されることができる。重合体は、添加剤が最後に添加される基板と必ずしも同一である必要はない。この種の作業において、前記重合体は粉末、粒剤、水溶液、懸濁液、または、格子の形で使用できる。
【０１７５】
取込みは、成形作業に先立って、あるいは作業の間に行われ、または、溶剤の次の蒸発の有無にかかわらず、溶かした化合物または分散した化合物をプラスチック基板に付与することによって行うことができる。可塑性基板への本発明の添加剤の取り込みの更なる可能性は、対応するモノマーの重合の前、間、または直後にそれらを添加するか、架橋に先立って添加することである。この文脈において、本発明の添加剤は被包性の形（たとえばワックス、油または重合体）または他の形で添加できる。
【０１７６】
本発明の添加剤を含んでいる材料は、押出物や共押出物、成形物、回転成形物、射出成形体、中空成形品、フィルム、シート、テープ、モノフィラメント、繊維、不織布、プロフィル、接着剤またはパテまたは表面コーティング組成物の生産のために使用できる。
【０１７７】
本発明の別の実施形態おいて、更なるジチオレン金属錯体が使用され得る。これらの金属複合体は、例えばＷＯ 第２００８／０８６９３１号において開示されている。
【０１７８】
他の無機ＮＩＲ吸収体も使用され、たとえばランタン六硼化ランタノイド、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）またはアンチモン酸化スズ（ＡＴＯ））である。他の適切な無機ＩＲ吸収体は、酸化物、水酸化物、スルフィド、硫酸エステルおよび銅、ビスマス、鉄、ニッケル、スズ、亜鉛、マンガン、ジルコニウム、タングステン、ランタンまたはアンチモンのような金属の燐酸塩を含む。他の例は、ＡＴＯまたはＩＴＯ被覆雲母を含む。
【０１７９】
更なる実施形態において、本発明はまた、本件ブロンズ粒子のキノン−ジインモニウム塩、アミニウム塩、シアニンスクアライン、クロコネイン、フタロシアニンのようなポリメチンから選択される有機ＮＩＲ吸収体との共同使用に関し、これらの金属複合体は、例えばＷＯ第 ２００８０８３９１８号に開示され、ナフタロシアニンおよびクアテリレン−ビスイミドに関する。更なるＮＩＲ吸収体も、トリフェニルホスホロチオアートを含む。
【０１８０】
以下の例は、本発明の特定の実施例を記載する。これらの実施例は、本発明の権利範囲を限定するものではない。本件開示において、部および百分率は重量表示であり、他の示唆の無い限り、温度は摂氏の度数を記載する。
【実施例】
【０１８１】
実施例１  プラズマ合成および特性測定
パラタングステン酸アンモニウム、（ＮＨ4）10Ｗ12Ｈ2Ｏ42・４Ｈ2Ｏ、炭酸カリウムおよび酢酸セシウム粉末を物理的に一緒に混合する。粉末混合物は、標準の粉末供給器によってアルゴン担体ガスに伴出される。シースガスは、Ａｒ／Ｈ2／Ｈｅ ＝ １００／ｘ／５ ｓｌｐｍ（毎分の基準リットル）からなり、式中ｘは０．２５〜０．５ｓｌｐｍの間である。流動化された粉末混合物は、１０〜５０ｇ／分の供給速度でＴｅｋｎａプラズマ反応器へ供給される。ＰＬ−５０誘導プラズマトーチが、６５ｋＷでプラズマ源として使われる。
【０１８２】
プラズマ高温ゾーンにおける代表的な到達温度領域は、華氏約５，０００〜約１０，０００である。反応剤蒸気はクエンチガスによって冷やされ、その結果得られる粉末はバグフィルタに捕集される。
【０１８３】
下記の表は、モル、生成物の元素組成および値Ｍ（Ｋ ＋ Ｃｓ）によって出発先駆体比を表示する。元素分析は、誘導結合プラズマおよび原子吸光分析によって決定される。結晶相の確認および量的組成は、粉末Ｘ線回折（ＰＸＲＤ）によって決定される。カリウムはプラズマ合成の間に消失する、したがって、出発割合用には大過剰量が使用される。０．４未満のＭ値について、６角形のブロンズ相が観察される。０．４および０．６の間では、サンプルは６角形およびパイロクロア相の混合物から成る。０．６を超えるＭ値では、サンプルは大部分のパイロクロア相を含む。
【０１８４】
【表１】
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【０１８５】
サンプルＫ0.24Ｃｓ0.15ＷＯ3（Ｍ ＝ ０．３９）は、走査電子顕微鏡法による測定で２００ ｎｍ未満の平均粒径を有し、ほとんど完全な六方晶で存在する。粒径は、粒子の最大半径である。高分解能分散Ｘ線分光測定（ＥＤＸ）により、ＫとＣｓと２つに分離したブロンズ相よりむしろＫ／Ｃｓ固溶液体からなる単一であることを確証する。ＥＤＸの線走査を単一六方晶に実施する。元素Ｗ、Ｋ及びＣｓは、結晶およびその下の炭素支持体フィルムを横切る線走査に沿った距離の関数として分析される。ＥＤＸは、Ｗ、Ｋ及びＣｓがこの結晶に存在し、各元素の相対的な量が表中で報告される元素分析と良く対応することを確認する。下の炭素支持体フィルム中のＷ、Ｋ及びＣｓについて零Ｘ線カウントが観察される。
【０１８６】
サンプルＫ0.24Ｃｓ0.15ＷＯ3（Ｍ ＝ ０．３９）は、Ｒｉｅｔｖｅｌｄ精密化手順によって分析され、実験的ＰＸＲＤパターンはＰ６3２２構造に基づいた固溶液ＫxＣｓyＷＯ3の構造モデルから創られるシミュレートパターンに対して適合し、Ｃｓ原子は２ｂ部位に配置され、Ｋ原子は４ｅ部位に配置されている。実験的および特徴パラメータの精密化後、ＫおよびＣｓの部位占有率は、原子座標および温度パラメータに沿って精密化される。実験的パターンおよびシミュレートパターン間の優れた適合は、６．２２のＲｗｐ値によって示される。ＣｓおよびＫの精密化した部位占有率に基づいて、我々の固溶液の算出組成は、実験的に決定された元素分析に非常に近いＫ0.24Ｃｓ0.13ＷＯ3である。サンプルの全体的な組成は、９３．６重量 ％ Ｋ0.24Ｃｓ0.13ＷＯ3、３．２４重量 ％ Ｃｓ0.5ＷＯ3（Ｆｄ３ｍ構造）および３．１５重量 ％ Ｗ（Ｉｍ３ｍ構造）であると決定される。
【０１８７】
ＥＤＸ微量分析により、たとえばＭ ＝ ０．６６サンプルで固溶液挙動もまたより高いドーパント水準で維持されることが確認される。混合したＭ ＝ ０．３９ Ｋ／Ｃｓブロンズは、紫外線／ＮＩＲ分光測定で特徴づけられ、ＰＶＣ箔（厚さ０．３３〜０．３５ｎｍ）でカリウム・タングステンブロンズおよびセシウム・タングステンブロンズと比較して、０．５重量％の濃度である。混合ブロンズは、１５００ｎｍでの最大吸光度を表示して、可視域の低吸収を有する。吸光度は、１５００ｎｍで２．６７であり６００ｎｍで０．３３である。可視着色の低衝撃はまた、下記で示される色データから観察される。
【０１８８】
【表２】
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【０１８９】
Ｌ*値（明るさ）は、本件混合ブロンズよりも、ＫおよびＣｓブロンズが明確に暗いことを呈示する。Ｃ*値（彩度）は、本件混合ブロンズがＫおよびＣｓブロンズより光輝であることを示す。ｈ*値（色相）は、色角であって、本件ブロンズが僅かに黄緑色であることを示す。Ｋブロンズは明確に青緑色で、Ｃｓブロンズは明確に緑色である。コントラスト値は、本件混合ブロンズがＫおよびＣｓブロンズより透明であることを呈示する。
【０１９０】
実施例２  赤外線硬化性白色コイルコーティング組成物
【０１９１】
【表３】
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【０１９２】
硬化性ポリエステル塗料配合が調合される。水準は、重量部で示す。練り顔料は、予混合のための分散機による標準工程および標準分散器での１時間の付加粉砕によって調合される。処方は、次いで降下される。コーティング組成物は、スリット塗工機を使用して予め用意した白色アルミニウムパネルの上へ付与され、約８０ミクロンの湿潤膜厚を提供する。ＴｉＯ2を有する処方およびＴｉＯ2とＮＩＲ吸収体の混合物が検査される。４５重量パーセントのＴｉＯ2を有する処方が参照として使用される。ＮＩＲ吸収体は、粉砕ステップにおいて直接的に、代わりに樹脂の無い顔料ペーストを経て添加される。６台のＡｄｐｈｏｓ高焼ＮＩＲ発生器によって硬化が行われる。ＮＩＲ吸収体の添加は、硬化時間を低減させる。これによって、ベルト速度を増加し、処理能力を増加するかまたはランプ出力を減少させ、エネルギー使用を低減させる。
【０１９３】
硬化のベルト速度は、硬化したコーティングの、１００回のメチルエチルケトン二重摩擦に対する安定性によって決定される。
【０１９４】
結果は、次の通りである。水準は、固体に基づく重量パーセントで示す。
【０１９５】
【表４】
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【０１９６】
ＮＩＲ吸収体のより高い装填が高速ベルト速度を齎すことが分かる。本件混合ブロンズは、ＣＩＥ−Ｌａｂ色空間範囲内で、ΔＥ値に対する低衝撃で高速ベルト速度を齎すという点で、優れている。
【０１９７】
実施例３  ポリエチレンテレフタレートフィルム押出
低温破砕したＥａｓｔａｒ ６７６３（Ｅａｓｔｍａｎ,ＰＥＴ−Ｇ）フィルムを、６５℃／５０ｍｂａｒの減圧乾燥器において窒素の微風流れで８時間乾燥する。重合体粉末の３９４４ｇを、６．００ｇのＩＲＧＡＮＯＸ Ｂ ５６１、４０．００ｇのＴＩＮＵＶＩＮ １５７７および１０．００ｇの６相構造混合ブロンズ、Ｋ0.24Ｃｓ0.15ＷＯ3（Ｍ ＝ ０．３９）と窒素の下でＨｅｎｓｃｈｅｌ高速混合機ＭＴＩ／Ｍ２０ ＦＵ内にて３分間混ぜ合わせる。前記混合物は、次いで２６０℃最高温度でＢｅｒｓｔｏｒｆｆ ＺＥ ２５ｘ３２Ｄ双晶スクリュー押出機にて合成する。
【０１９８】
得られるペレットは 真空乾燥器内で６５℃にて４時間乾燥される。０．１５ｍｍのフィルムサンプルを可熱プレス上で無圧力２６０℃にて３分間、次いで、１７０バールで１分間プレス成型する。前記サンプルは、良く磨かれた金属板への粘着を防ぐためにテフロン（登録商標）フィルムの間で加圧される。これらのフィルムから、ＵＶ−ＶＩＳ ＮＩＲスペクトルは、参照としての空気から１ｎｍのサンプリング間隔で２５０〜１８００ｎｍまで、ＩＳＲ３１００（Ｕｌｂｒｉｃｈｔ球）を有する島津ＵＶ−３１０１ＰＣに記録される。
スペクトルは図１で示される。
【０１９９】
実施例４  ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）  
全実施例のために、ＰＶＢは可塑化される：ＰＶＢ（Ｂｕｔｖａｒ Ｂ７２Ａ Ｓｏｌｕｔｉａ製）は、真空乾燥器内で８０℃にて８時間、減圧下で乾燥する。全液体がＰＶＢによって吸収されるまで、５３６．０ｇのＰＶＢをＨｅｎｓｃｈｅｌ Ｈｉｇｈ ＳｐｅｅｄミキサーＭＴＩ／Ｍ３混合物内の２６４．０ｇのＳｏｌｕｓｏｌｖ ２０７５（Ｓｏｌｕｔｉａ）と６分間混ぜ合わせる。この可塑化されたＰＶＢの４１．９３７ｇは、０．０４２ｇの６角形構造の混合ブロンズ、Ｋ0.24Ｃｓ0.15ＷＯ3（Ｍ ＝ ０．３９）およびＢｒａｂｅｎｄｅｒ ＰＬ ２０００内の０．０４２ｇのＴＩＮＵＶＩＮ ３２６と窒素下で９０℃にて混ぜ合わせられる。得られた混合物は、次いで１ｍｍの銘板を供与するために１７０バールの圧力で１００℃にて３分間テフロン（登録商標）スペーサを有するホットプレスＳｕｔｅｒ ＬＰ ３２２上で加圧成型される。
【０２００】
結果として生ずる銘板から、ＵＶ−ＶＩＳ ＮＩＲスペクトルは、参照としての空気から１ｎｍのサンプリング間隔で２５０〜１８００ｎｍまで、ＩＳＲ３１００（Ｕｌｂｒｉｃｈｔ球）を有する島津ＵＶ−３１０１ＰＣに記録される。
スペクトルは図２で示される。
【０２０１】
実施例５  ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）
全サンプル用に、６３．５％のＥｖｉｐｏｌ ＳＨ ７０２０（Ｉｎｅｏｓ Ｖｉｎｙｌ）、３３．５％ ＤＩＤＰ Ｊａｙｆｌｅｘ（Ｅｘｘｏｎ Ｍｏｂｉｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）、１．５ ％ Ｄｒａｐｅｘ ３９ （Ｃｈｅｍｔｕｒａ） Ｍａｒｋ ＢＺ ５６１を含む可撓性のＰＶＣが使われる。この可撓性ＰＶＣの９９．８０ｇは、０．３００ｇＴＩＮＵＶＩＮ ３２９、０．２００ｇ６角形構造混合ブロンズ、Ｋ0.24Ｃｓ0.15ＷＯ3（Ｍ ＝ ０．３９）と混ぜ合わせられる。この混合物を、次いでＳｃｈｗａｂｅｎｔｈａｎ Ｄ−１  ２本ロールミルで１６０℃にて８分間、および２５ｒｐｍで１：１．２の摩擦によって混連する。結果として生じるフィルムは、０．４５ｍｍの厚さを有する。
【０２０２】
結果として生ずるフィルムから、ＵＶ−ＶＩＳ ＮＩＲスペクトルは、参照としての空気から１ｎｍのサンプリング間隔で２５０〜１８００ｎｍまで、ＩＳＲ３１００（Ｕｌｂｒｉｃｈｔ球）を有する島津ＵＶ−３１０１ＰＣに記録される。
スペクトルは図３で示される。
【０２０３】
実施例６  ポリカーボネート・フィルム押出し
低温粉砕ポリカーボネート（Ｍａｋｒｏｌｏｎ ３１０８（Ｂａｙｅｒ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ））を、わずかな窒素流れを有する減圧下で、減圧乾燥器中で１２０℃にて８時間乾燥する。前記粉末２８４０ｇは、Ｈｅｎｓｃｈｅｌ高速混合機ＭＴＩ／Ｍ２０ ＦＵ 内において.２．４０ｇのＩＲＧＡＦＯＳ １６８、７．５ｇの６角形構造の混合ブロンズＫ0.24Ｃｓ0.15ＷＯ3（Ｍ ＝ ０．３９）および1５０．０ｇのＴＩＮＵＶＩＮ ３６０と８０℃にて３分間窒素の下で混ぜ合わされる。粉末混合物は、２８０℃にてＢｅｒｓｔｏｆｆ ＺＥ ２５×３２Ｄ上で二回合成する。前記ペレットは、１２０℃にて４時間、熱風乾燥機において乾燥し次いで、２８０℃の最高温度にてコリンＣＲ−１３６／３５０シート押し出しライン上で１００ミクロン厚さのキャストフィルムを生産するために用いる。
【０２０４】
その結果得られるフィルムから、ＵＶ−ＶＩＳ−ＮＩＲスペクトルが空気を参照として１ｎｍのサンプリング間隔で２５０〜1８００ｎｍのＩＳＲ３１００（Ｕｌｂｒｉｃｈｔ球）が島津ＵＶ−３１０１ＰＣに記録される。
【０２０５】
スペクトルは、図４で示される。
【０２０６】
実施例７  ポリエチレン・フィルム
６角形構造の混合ブロンズ、Ｋ0.24Ｃｓ0.15ＷＯ3（Ｍ ＝ ０．３９）、３．７５ｇは、１４９６．２５ｇのＬＤＰＥ粉末に添加され(ＲｉｂｌｅｎｅＴＭＦＦ２９ 、Ｐｏｌｉｍｅｒｉ Ｅｕｒｏｐａ, Ｉｔａｌｙ；密度：０．９２１ｇ/ｃｍ3; ＭＦＩ：０．６（１９０度Ｃ,２．１６Ｋｇ））、そして、ターボ混合した。前記混合物は、ＯＭＣＴＭ実験室規模二軸押し出し機において２００℃の最高温度で押し出される。こうして得られる粒剤は、ＦｏｒｍａｃＴＭの実験室規模ブロー押し出し機において２１０℃の最高温度の気温で厚さ約１５０ミクロンのフィルムに吹きつけられる。
【０２０７】
その結果得られるフィルムから、ＵＶ−ＶＩＳ ＮＩＲスペクトルが空気を参照として１ｎｍのサンプリング間隔で２５０〜1８００ｎｍのＩＳＲ３１００（Ｕｌｂｒｉｃｈｔ球）の島津ＵＶ−３１０１ＰＣに記録される。
スペクトルは、図５で示される。
【０２０８】
実施例８  レーザ溶接
本件混合ブロンズ赤外線吸収剤は、射出成形機によって５００ｐｐｍ濃度で厚さ２ｍｍのポリカーボネート・シートに組み入れられる。その結果得られる透明シートは、２５０ワットＮｄ：ＹＡＧレーザで１ｍｍポリカーボネート・シートと共に溶接される。
【０２０９】
表面は、２０ｍｍ／秒の速度で、レーザ光線によって走査される。
【０２１０】
その結果得られる接合は優れた接続を有し、高度に透明であり、いかなる局所的塑性変形も示さず、溶接の間、気泡を放出しない。機械的応力から接合線の破損が誘導されることは無い。
【０２１１】
実施例９  レーザマーキング用白色グラビア・インキ
固体上の本件混合ブロンズに０．１重量パーセントを含んで酸化チタン系白インキが調合される。インキは、５５重量パーセントのニスおよび４５重量パーセントのＴｉＯ2を含む。ニスは、ビニルアセテートと７．５ｍｇＫＯＨ／ｇの酸価、１７０，０００の分子量、および約４３℃のＴｇのクロトン酸との固体共重合体２０部を酢酸プロピル８０部と混ぜることによって調合される。
【０２１２】
インキは標準のＫ２バーで白色包装板紙に付与されて、乾燥される。１平方ｃｍの板紙にレーザ照射を行う（充填材６０、１５００ｍｍ、２０Ｋｈｚ）。撮像面積の光学濃度は、背景白色度と共に測定される。良好な複写濃度が観察され、ＣＩＥ白色度は高いままである。
【０２１３】
実施例１０  偽造防止印刷
赤外線照射吸収オフセット・インキは、本件Ｋ／Ｃｓタングステンブロンズ材料固体上の５重量パーセントを含んで調合される。インキは、３本ロールミルで調合され、１０重量パーセントの高粘着度ニス（ＣＡＳ ６８４５８−３５−５、アルキド樹脂）、８４重量パーセントの市販のオフセットワニス、および１重量パーセントの乾燥剤（ＣＡＳ １３６−５２−７準拠、コバルトビス（２−ヘキサン酸エチル）およびオレイン酸、ＣＡＳ １１２−８０−１）を含む。インキは、紙幣用紙にオフセット印刷設備によって印刷される。印刷は、視覚的にほとんど無色だが、赤外線視覚器（カットフィルタ７１５ナノメートル）を使用している赤外線範囲において、明確に見える。印刷は、溶剤、酸、塩基、過酸化水素、亜硫酸ナトリウム、沸騰水等に対して優れた耐光性および非常に良好な耐性を呈する。
【０２１４】
実施例１１  水性接着剤の乾燥
６角形構造、Ｋ0.24Ｃｓ0.15ＷＯ3の本件混合ブロンズの０．１、０．２、および０．５重量パーセントによって約６７．６重量パーセントの水分量を有するポリビニルアセテート水性接着剤が変性される。ブロンズの良好な分散のために、０．２重量パーセントの高分子量アクリル・ブロックコポリマー分散剤（Ｃｉｂａ製ＥＦＫＡ ４５８５）が使用される。接着剤は、ＤＳ ２００分散器内の添加剤と混ぜ合わせられる。
【０２１５】
接着剤は１００ミクロンの湿潤膜厚で、白いワニスペーパー基板に適用され、そして、ＮＩＲ発光器の下の多重パスでの重量減少が追跡される（ＨＢ６電球、７０％電力、ウエブ距離３００ｍｍ、ウエブ速度５メートル／分）。照射に際して、本件混合ブロンズにより変性接着剤が非変性接着剤より速く乾燥できる。
【０２１６】
【表５】
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【０２１７】
更なるテスト・セットアップにおいて、Ｍｅｔｔｌｅｒ ＨＧ ６３水分分析器によって乾燥するときに、時間経過に伴う接着剤の重量減少が追跡される。本件混合ブロンズ製添加変性接着剤は、およそ１００秒後に一定の乾燥重量に到達する。非変性接着剤は、１５０秒後で乾く。
【０２１８】
【表６】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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