(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
指紋感知装置において、
感知素子のアレイであって、前記感知素子のそれぞれが、前記感知素子と前記指紋感知装置の表面に置かれた指との電磁結合を示す信号を提供するよう構成される、感知素子のアレイと、
前記感知素子のアレイを覆うよう配置される第一誘電層であって、前記第一誘電層は、前記第一誘電層の上面に複数の凹部を備え、前記凹部は、前記凹部の近接するもの同士の間の空間が４００μｍより少なく前記感知素子のアレイにわたって分布し、前記凹部のそれぞれは、前記指が置かれる前記指紋感知装置の前記表面に平行な平面に略円形の断面を有する、第一誘電層と、
前記第一誘電層の前記上面に配置される上部疎水性層であって、前記上部疎水性層が前記指紋感知装置の使用を通して消耗した時、疎水性材料が、前記疎水性材料を摩耗から保護する前記凹部に留まるよう、前記凹部の中および前記凹部の間に、前記指が置かれる前記感知装置の前記表面を提供する上部疎水性層と、を備える指紋感知装置。
【請求項２】
前記第一誘電層は、前記上部疎水性層よりも摩耗に耐性のある、請求項１に記載の指紋感知装置。
【請求項３】
前記上部疎水性層の厚さは、前記凹部のそれぞれの最大深さよりも小さい、請求項１または２に記載の指紋感知装置。
【請求項４】
前記凹部のそれぞれの深さは、少なくとも５μｍである、請求項１から３のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
【請求項５】
前記凹部のそれぞれは、前記第一誘電層を貫通することなく、前記第一誘電層を通って部分的に延在する、請求項１から４のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
【請求項６】
前記第一誘電層の厚さは、少なくとも５０μｍである、請求項１から５のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
【請求項７】
前記凹部は、前記感知素子の近接するものの間の境界線と整合して配置される、請求項１から６のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
【請求項８】
前記凹部のそれぞれの最小幅は少なくとも１０μｍである、請求項１から７のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
【請求項９】
前記上部疎水性層は、疎油性表面特性を付加的に有する、請求項１から８のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
【請求項１０】
前記第二誘電層の厚さは、１００ｎｍより少ない、請求項１から９のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
【請求項１１】
指紋感知装置を製造するための方法であって、
基板の上面に複数の感知素子を備える前記基板を提供する工程と、
前記基板の前記上面に前記感知素子を覆うための第一誘電層を提供する工程と、
前記第一誘電層に複数の凹部を形成する工程であって、前記凹部は、前記感知素子のアレイにわたって、前記凹部の近接したものの間の空間が４００μｍより少なくなるよう分布する工程と、
前記第一誘電層上の上部疎水性層を、前記凹部の中および前記凹部同士の間に提供する工程と、を備え、
前記凹部は、前記第一誘電層から材料を除去することによって形成される方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感知装置に関する。特に、本発明は、指紋を感知するための装置およびそのような装置の関連する保護被膜層に関する。
【背景技術】
【０００２】
本人確認のためのバイオメトリック装置、特に指紋感知装置の進歩により、装置がより小さく、より安価で、よりエネルギー効率がよくなったため、そのような装置の可能な用途が増えている。
【０００３】
特に、指紋感知は、（特に網膜走査等と比較して）小さな形状ファクタ、比較的有益なコスト／性能要素および高いユーザ受け入れのため、例えば家庭用電子機器にますます採用されている。
【０００４】
指紋感知素子および補助論理回路装置を提供するためのＣＭＯＳ技術をもとに作られる静電容量指紋感知装置は、そのような感知装置が、小さく、またエネルギー効率が良くされれつつ、高い精度で指紋を識別できるので、ますますポピュラーになっている。それによって、静電容量指紋センサは、携帯用コンピュータ、タブレットおよび携帯電話のような家庭用電子機器に有利に使用されている。
【０００５】
しかしながら、静電容量指紋感知構成は、概して、センサの静電容量感知素子と測定される指との間の混入物に敏感である。混入物は、例えば、空気からまたは人の指先の表面からの水分（例えば汗、ハンドローション等）のようなアンビエントから導入されうる。例えば、感知表面の残留指紋は、感知装置の精度を低下させうる。また最悪の場合、誤読を引き起こしうる。感知素子間の境界線を越えて広がるように位置する感知表面上の混入物は、例えば、近接する感知素子同士の結合につながり、ひいては感知装置の精度を低下させうる。
【０００６】
したがって、静電容量指紋感知装置の感知表面上の混入物の発生を減らすことが望ましい。
【０００７】
混入物の存在に対処するために、米国特許ＵＳ７０７１７０８は、疎水性および疎油性の表面を提供するための高分子材料またはセラミック原子層を備える保護層を有するチップ型センサを開示し、当該センサは静電容量指紋センサでありうる。保護層の目的は、潜在した指紋が表面に形成されることを防ぐことである。
【０００８】
しかしながら、洗浄容易な材料とも言われる疎水性および／または疎油性の材料は、概して、機械的摩耗および日常的な消耗に敏感である。摩耗作用の影響を受けて、材料は、物理的に除去されるかまたは洗浄容易な特性を失うが、これは、化学的に、表面のほんの少しの最初のナノメートルにのみよるものでありうる。このことは、そのような材料を指紋センサに利用する問題を課す。洗浄容易な特性はセンサの通常の使用で時間劣化するためである。これは特に、ユーザの指先がセンサ表面をスライドすることを要求されるスワイプセンサで問題となる。
【発明の概要】
【０００９】
指紋感知装置の上述の所望の特性、および従来技術の上述および他の欠点に鑑みて、本発明の目的は、例えば長期にわたるセンサの日常的な使用によるような過度の摩耗作用にさらされた後も“洗浄容易な”特性を維持する改善した指紋感知装置を提供することである。
【００１０】
したがって、本発明の第一の態様によれば、複数の感知素子であって、前記感知素子のそれぞれが前記感知素子と感知装置の表面に置かれた指との電磁結合を示す信号を提供するよう構成される複数の感知素子と、前記複数の感知素子を覆うよう配置される第一層であって、複数の凹部を備える第一層と、前記第一層を覆うよう配置される第二層であって、疎水性表面特性を有する第二層と、を備える前記感知装置が提供される。
【００１１】
さらに、感知素子のアレイであって、前記感知素子のそれぞれが前記感知素子と前記感知装置の表面に置かれた指との電磁結合を示す信号を提供するよう構成される感知素子のアレイと、前記感知素子のアレイを覆うよう配置される第一誘電層であって、前記第一誘電層は前記第一誘電層の上面に複数の凹部を備え、前記凹部は前記凹部の近接するもの同士の間の空間が４００μｍより少なく前記感知素子のアレイにわたって分布する第一誘電層と、前記第一誘電層の前記上面に配置される上部疎水性層であって、前記上部疎水性層が前記指紋感知装置の使用を通して消耗した時、疎水性材料が前記疎水性材料を摩耗から保護する前記凹部に留まるよう、前記凹部の中および前記凹部の間に、前記指が置かれる前記感知装置の前記表面を提供する上部疎水性層と、を備える指紋感知装置が提供される。
【００１２】
感知装置は、感知素子から信号を読み出すための、感知素子に接続される感知回路構成をさらに備えると理解すべきである。その感知回路構成は、感知装置の結果をさらに処理する外部装置に提供するための読み出し回路構成を備えうるか、または当該読み出し回路構成に接続されうる。
【００１３】
第一層の凹部は、第一層を貫通せずに第一層に形成されるが、それは、第一層の凹部が第一層に覆われる感知素子まで貫通して到達しないことを意味する。
【００１４】
疎水性表面特性は、ここでの文脈では、概ね水をはじく表面と理解すべきである。疎水性表面は、例えば、フッ素官能基をポリマまたはセラミック骨格構造に取り混ぜることによって、もしくは、例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のような、ポリマ主鎖にフッ素を本質的に含むポリマを第二層に利用することによって、達成しうる。第二層は感知装置の表面層であり、上塗りとも称されうる。
【００１５】
本発明は、感知装置の上部疎水性層が消耗されると、疎水性材料は、例えば指紋感知装置の表面をスワイプする指による消耗から疎水性材料を保護する凹部に留まるという認識にもとづく。それによって、凹部に留まる疎水性材料は、汗の滴のような混入物の連続膜が凹部に形成されるのを防ぐ。その代わりに、表面に位置する混入物は、凹部によって小さな部分に分割され、よって、連続膜が近接した感知素子の間の境界線を越えて形成されるリスクを減らし、ひいては近接した感知素子同士の結合の発生を防ぐ。もし混入物が感知構造の表面に存在すると、表面に接触する指の谷を混入物が埋めてしまうかまたは部分的に埋めてしまうリスクがあり、ひいては谷を見分けることが不可能になり、それによって感知装置の精度を下げうる。言い換えれば、指の谷に位置する混入物は、指が為すのと同じ結合を感知素子にもたらしうる。したがって指の谷に位置する混入物は、指の一部として、感知素子に見られうる。指の谷に位置する混入物は、このように、近接した指の尾根同士の“短絡”として作用しうる。凹部の中の疎水性材料は、混入物の連続膜の形成を防ぐよう作用するため、指の谷を埋めるのに十分な量の混入物が存在する、感知装置の表面部分の発生は減少する。したがって、近接した尾根間の、または尾根と谷との間の“短絡”のリスクは減少する。よって、本発明による感知装置は、最上疎水性被膜が消耗した後の汚れに低敏感である。それによって、より摩耗に耐性があり、上塗りが（部分的に）消耗した時の深刻な汚れの条件のもとでも動作しうる、より信頼できる感知装置が提供される。用途によって、凹部の特定のサイズ形状および配置は、例えば感知素子の構成によって異なりうる。
【００１６】
さらに、もし凹部が凹部にわたる混入物の動きを制限するよう配置されると、混入物は感知素子から装置の縁に向かって当該凹部によって離れるよう導かれうる。それによって、凹部は、最上層が消耗される前でも有利な効果を有しうる。
【００１７】
さらに、もし第二層の部分または全てが消耗しても、第一層がより耐久性があるよう、第一層は好ましくは、第二層に比べて、摩耗又は他の機械的消耗に対してより耐性をもつよう作られる。
【００１８】
本発明の一実施形態によれば、第二層の厚さは、有利には、凹部の最大深さより低くありうる。それによって、感知装置の表面、すなわち感知表面はまた、第一層の凹部に対応する凹部の形状のトポグラフィーを有する。結果として、混入物は、感知表面からより容易に離れるように導かれうるよう、例えば凹部に集まりうる。しかしながら、略平面の感知表面が提供されるよう、凹部の深さよりもかなり厚い第二層を提供することもまた可能である。
【００１９】
本発明の一実施形態では、凹部の深さは１−５０μｍの範囲にありうる。したがって、第一誘電層は、有利には、少なくとも５０μｍの厚さを有しうる。さらに、当該凹部のそれぞれは、有利には、凹部の上部疎水性層の部分を消耗からよりよく保護するために、少なくとも５μｍの深さでありうる。なお、例えば１μｍよりも深い凹部を形成するためには、材料を第一誘電層から除去することが必要でありうる。
【００２０】
本発明の一実施形態では、凹部は略円形でありうる。円形の凹部は、感知表面上の混入物の面積の大きすぎる連続膜の形成を防ぐための適切なパターンに、容易に形成することができる。しかしながら、凹部の形は原則として、正方形、楕円形、多角形またはフリーフォーム形状のような任意の形状でありうる。
【００２１】
本発明の一実施形態によれば、凹部は有利には、複数の長溝の形状で提供されうる。各溝は、少なくとも感知素子の辺に対応する距離に延在する。それによって、溝は、混入物の連続膜が形成され、近接した感知素子の間の一つ以上の境界線を越えてつながるのを防ぎうる。溝、トレンチまたは細長い凹部という文言は、ここでの文脈では同じ意味を有すると見なされうる。
【００２２】
本発明の一実施形態では、凹部は有利には、当該感知素子間の境界線と整合して配置されうる。凹部を溝またはトレンチの形状で、感知素子間の境界線と整合して位置づけることによって、境界線をまたぐ混入物の連続膜の発生が減少する。
【００２３】
本発明の一実施形態によれば、近接した凹部同士の距離は、有利には、４００μｍより少なくありうる。指の尾根は概しておよそ２００−４００μｍの範囲にあるため、二つの尾根の間に位置づけられる連続膜が少なくとも尾根の間の一か所で阻害されるように、近接した凹部同士の距離は二つの尾根の距離よりも少ないのが望ましい。
【００２４】
本発明の一実施形態では、凹部の最小幅は少なくとも１０μｍである。最小幅が少なくとも１０μｍであることは、凹部の幅が、上記から分かるように、もっとも狭い場所で１０μｍ以上であることを意味する。円形凹部については、直径は少なくとも１０μｍで、正方形または長方形の凹部については、最短の辺の長さが少なくとも１０μｍとなる。凹部の特定の最小幅は、混入物の連続膜の形成を防ぎうることを求められる。もし幅が小さすぎると、混入物は凹部を超えて連続膜となりうる。さらに、凹部の側壁は垂直であるか、または例えば浅いボール状の凹部が形成されるように、傾きうる。
【００２５】
本発明の一実施形態によれば、凹部は、当該感知装置にわたって延在する連続溝の格子として提供されうる。当該溝は、当該感知素子間の境界線と整合される。感知素子間の境界線に対応する格子状の凹部パターンを形成することによって、近接した感知素子間のすべての境界線に確実に凹部が存在する。さらに、感知装置の感知素子は、概して規則的なアレイ構成で配置される。
【００２６】
本発明の一実施形態では、第二層は、有利には、疎油性層特性を有しうる。ありうる混入物が感知装置の感知表面に付着するのをできる限り防ぐことは有利である。したがって、感知表面を形成する最上層は、好ましくは、いくつかの異なる物質をはじくような表面特性を有しうる。疎油性表面はまた、撥油性表面とも称されうる。さらに、疎水性であり疎油性である表面は、オムニフォビックとも称されることもある。
【００２７】
本発明の一実施形態によれば、第二層の厚さは、好ましくは１００ｎｍより少ない。第二層の厚さは、感知表面上に位置する目的の場所と感知素子との結合に、逆比例的に関係する。したがって、より薄い第二層が、感知装置のより高い感度につながる。
【００２８】
本発明の一実施形態では、第一層は誘電層でありうる。さらに、感知素子は、当該感知素子と感知装置の表面に置かれる指との容量結合を示す信号を提供するよう構成される静電容量感知素子でありうる。
【００２９】
本発明の第二の態様によれば、感知装置を製造する方法であって、基板を提供することと、複数の感知素子を前記基板に形成することと、前記感知素子を覆う第一層を提供することと、前記第一層に複数の凹部を形成することと、前記第一層を覆う第二層を提供することであって、前記第二層は疎水性表面特性を有すること、を備える方法が提供される。
【００３０】
さらに、指紋感知装置を製造する方法であって、基板の上面に複数の感知素子を備える前記基板を提供することと、前記基板の前記上面に前記感知素子を覆うための第一誘電層を提供することと、前記第一誘電層に複数の凹部を形成することであって、前記凹部は前記感知素子のアレイにわたって前記凹部の近接したものの間の空間が４００μｍより少なくなるよう分布することと、前記第一層上の上部疎水性層を、前記凹部の中および前記凹部同士の間に提供することと、を備える方法が提供される。
【００３１】
凹部は、有利には、前記第一誘電層から材料を除去することで形成されうる。そのような材料の除去は、当業者に周知である、例えばエッチングまたはレーザアブレーションを用いるような任意の適切な方法を用いて実行されうる。第一誘電層からの材料の除去によって凹部を形成することは、凹部が第一誘電層の上面から少なくとも５μｍの深さである指紋感知装置を製造する際に特に有利である。
【００３２】
本発明のこの第二の態様の効果および特徴は、本発明の第一態様に関して上述したものと大部分は類似している。
【００３３】
本発明のさらなる特徴および利点は、付属の請求の範囲および以下の記載を考察すると明らかになる。当業者は、本発明の異なる特徴を組み合わせて以下に記載する以外の実施形態を、本発明の範囲を逸脱することなく、作り出しうることを認識する。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
本発明の、これらのおよび他の態様は、本発明の例示的な実施形態を示す添付の図面を参照して、ここでより詳細に説明する。
【図１】本発明の一実施形態による感知装置の模式図。
【図２ａ】本発明による感知装置の種々の実施形態の模式図。
【図２ｂ】本発明による感知装置の種々の実施形態の模式図。
【図２ｃ】本発明による感知装置の種々の実施形態の模式図。
【図２ｄ】本発明による感知装置の種々の実施形態の模式図。
【図３】本発明の一実施形態による方法の全体の工程の概要を示すフローチャート。
【図４】本発明の一実施形態による感知装置の模式図。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本詳細な説明では、本発明による感知装置の種々の実施形態が、主に、静電容量指紋感知装置を参照して説明される。なお、これは決して本発明の範囲を限定するものではなく、本発明はＲＦ感知装置のような他の型の感知装置に同様に応用可能である。
さらに、本発明の種々の実施形態は、スマートフォン、タブレットコンピュータ等のようなタッチスクリーンアプリケーションにも使われうる。
【００３６】
図１は、感知装置１００の模式図である。感知装置１００は、基板１０３に配置された導電プレートの形状の複数の感知素子１０２と、感知素子１０２を覆うよう配置された第一層１０２とを備え、第一層１０４は複数の凹部１０６を有する。感知素子は、概して、約５０μｍの大きさの正方形である。当業者には既に認識されるように、感知素子の大きさは、それらが使われる特定の用途によって異なりうる。凹部の深さは約３−１０μｍであり、幅は約１０μｍである。さらに、第二層１０８が第一層１０４の上に配置される。第一層１０４は、感知表面１１０に置かれた対象物と各感知素子１０２との間に容量結合を提供する誘電材料である。第二層は、例えば、約１００ｎｍの厚さを有しうる。しかしながら、第二層は、例えば数十ミクロンまでのように、著しく厚くもありうる。最上層または被膜とも称されうる第二層１０８は、感知表面１１０から混入物をはじくために、少なくとも疎水性表面特性および、好ましくは、疎油性表面特性も有する。混入物は、例えば、ユーザの指または周囲の環境から来る汗、グリースまたはダートを備えうる。指紋感知装置１００はまた、感知表面１１０に置かれる対象物と各感知素子１０２との間の容量結合が決定でき外部装置またはアプリケーションによって読み出すことができるよう各感知素子１０２に接続されるための読み出し回路構成（図示せず）を備える。
【００３７】
図２ａは、凹部２０２が、規則的に分布する円形凹部２０２の形で提供される感知装置の模式図である。凹部はまた、ランダムまたは疑似ランダムに分布しうる。近接した凹部間の距離が特定の長さを超えない限り、凹部は、混入物の連続膜の形成を防ぐよう効果的に作用しうる。それによって、近接した感知素子間の短絡の発生を減らす。
【００３８】
図２ｂは、凹部２０４が、近接した感知素子１０２間の境界線と整合された長溝またはトレンチの形で提供される、感知装置の模式図である。
【００３９】
図２ｃは、凹部２０６が、近接した感知素子１０２間の境界線と整合されると共に感知素子１０２を横切るように配置される長溝またはトレンチの形で提供される、感知装置の模式図である。
【００４０】
図２ｄは、凹部２０８が、各感知素子の上部に３×３の規則的なアレイで配置される円形凹部の形で提供される、感知装置の模式図である。
【００４１】
当業者は、感知素子の境界線を超える混入物の連続膜の形成を防ぐための本発明の種々の実施形態の目的を達成しながら、凹部の構成の無限のバリエーションが使われうることを認識する。例えば、図示したパターンは、今度は凹部がピークとなって見えるように反転しうるか、または異なるパターンが種々の方法で組み合わせられうる。
【００４２】
図３は、本発明の一実施形態による感知装置を製造する方法の全体の工程の概要を示すフローチャートである。まず３０２では、図１をさらに参照するが、基板１０３が提供される。読み出し回路は既に基板１０３に形成されていると見なす。次の３０４では、感知素子１０２の適切な配置が形成される。感知素子１０２は、概して、導電金属プレートを備える。感知素子を形成するのに使われる金属層は、例えば、スパッタリングまたは蒸発によって堆積することができ、パターニングは概してフォトリソグラフィを用いて行われる。その後、誘電材料の形状の第一層１０４が、３０６で提供され、感知素子１０２を覆う。誘電層１０４には、凹部１０６が、例えば前述の構成のいずれかによって、３０８で形成される。凹部は、ウエットまたはドライエッチングによって形成されうる。最後の工程３１０では、第二層１０８が、疎水性被膜の形状で提供される。
【００４３】
図４は、第二層４０２が図１に示すものと比較して実質的により厚い、感知装置の断面の模式図である。より厚い第二層４０２を使用することにより、平面の感知表面を提供することができる。
【００４４】
製造方法において、基板はシリコン基板であり、従来の材料が使用されると想定される。したがって、金属の誘電層を堆積しパターニングする方法工程は、当業者にはすべて周知であり、したがって、より詳細に説明しない。
【００４５】
本発明はその特定の例示的実施形態を参照して説明したが、多くの異なる変更、修正などが、当業者には明らかである。また、システムの部分は、種々の方法で省略、交換、または配置されうるが、感知装置はなお本発明の機能性を実行することができる。
【００４６】
さらに、図面、明細書、および付属の請求の範囲を考察して、請求した発明を実践する中で、当業者は、開示した実施形態の変形を理解および実行することができる。請求の範囲では、“備える”という文言は他の要素または工程を除外するものではなく、不定冠詞“ａ”または“ａｎ”は、複数を除外するものではない。単に特定の方法が相互に従属する異なる請求項に記載されるというだけでは、それらの方法の組み合わせを有利に使えないことを示すことにならない。
また、本願は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
指紋感知装置において、
感知素子のアレイであって、前記感知素子のそれぞれが、前記感知素子と前記指紋感知装置の表面に置かれた指との電磁結合を示す信号を提供するよう構成される、感知素子のアレイと、
前記感知素子のアレイを覆うよう配置される第一誘電層であって、前記第一誘電層は、前記第一誘電層の上面に複数の凹部を備え、前記凹部は、前記凹部の近接するもの同士の間の空間が４００μｍより少なく前記感知素子のアレイにわたって分布する、第一誘電層と、
前記第一誘電層の前記上面に配置される上部疎水性層であって、前記上部疎水性層が前記指紋感知装置の使用を通して消耗した時、疎水性材料が、前記疎水性材料を摩耗から保護する前記凹部に留まるよう、前記凹部の中および前記凹部の間に、前記指が置かれる前記感知装置の前記表面を提供する上部疎水性層と、を備える指紋感知装置。
（態様２）
前記第一誘電層は、前記上部疎水性層よりも摩耗に耐性のある、態様１に記載の指紋感知装置。
（態様３）
前記上部疎水性層の厚さは、前記凹部のそれぞれの最大深さよりも小さい、態様１または２に記載の指紋感知装置。
（態様４）
前記凹部のそれぞれの深さは、少なくとも５μｍである、態様１から３のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
（態様５）
前記凹部のそれぞれは、前記第一誘電層を貫通することなく、前記第一誘電層を通って部分的に延在する、態様１から４のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
（態様６）
前記第一誘電層の厚さは、少なくとも５０μｍである、態様１から５のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
（態様７）
前記凹部のそれぞれは、前記指が置かれる前記指紋感知装置の前記表面に平行な平面に略円形の断面を有する、態様１から６のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
（態様８）
前記凹部は、複数の長溝の形状で提供され、各長溝は、少なくとも前記感知素子の一つの辺に対応する距離に延在する、態様１から６のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
（態様９）
前記凹部は、前記感知素子の近接するものの間の境界線と整合して配置される、態様１から８のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
（態様１０）
前記凹部は、前記指紋感知装置にわたって延在する連続溝の格子として提供され、前記溝は、前記感知素子間の境界線と整合されている、態様９に記載の指紋感知装置。
（態様１１）
前記凹部のそれぞれの最小幅は少なくとも１０μｍである、態様１から１０のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
（態様１２）
前記上部疎水性層は、疎油性表面特性を付加的に有する、態様１から１１のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
（態様１３）
前記第二誘電層の厚さは、１００ｎｍより少ない、態様１から１２のいずれか一項に記載の指紋感知装置。
（態様１４）
指紋感知装置を製造するための方法であって、
基板の上面に複数の感知素子を備える前記基板を提供する工程と、
前記基板の前記上面に前記感知素子を覆うための第一誘電層を提供する工程と、
前記第一誘電層に複数の凹部を形成する工程であって、前記凹部は、前記感知素子のアレイにわたって、前記凹部の近接したものの間の空間が４００μｍより少なくなるよう分布する工程と、
前記第一誘電層上の上部疎水性層を、前記凹部の中および前記凹部同士の間に提供する工程と、を備える方法。
（態様１５）
前記凹部は、前記第一誘電層から材料を除去することによって形成される、態様１４に記載の方法。
【図１】
0006403767.tif 000002
【図２ａ】
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【図２ｂ】
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【図２ｃ】
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【図２ｄ】
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【図３】
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【図４】
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