(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板、
前記基板上に備えられる第１電極、
前記第１電極上の少なくとも一部領域に備えられる１つの補助電極、
前記補助電極上に備えられ、前記第１電極に接触しておらず、前記補助電極より大きい幅を有するオーバーハング（ｏｖｅｒｈａｎｇ）構造の絶縁層、および
前記第１電極および絶縁層上に備えられる第２電極を含み、
前記第１電極上に備えられる第２電極と前記絶縁層上に備えられる第２電極は互いに電気的に絶縁された形態の電極構造を含み、
前記絶縁層は、同一なエッチング液によるエッチング速度が前記補助電極より落ちる物質を含むことを特徴とする有機発光素子。
【請求項２】
前記第１電極上に備えられる第２電極と前記補助電極は、互いに電気的に絶縁された形態の構造であることを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項３】
前記第１電極上に備えられる第２電極と前記絶縁層は、互いに電気的に絶縁された形態の構造であることを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項４】
前記エッチング液は、フッ酸（ＨＦ）、リン酸（Ｈ３ＰＯ４）、ＢＯＥ（ｂｕｆｆｅｒｅｄ  ｏｘｉｄｅ  ｅｔｃｈａｎｔ）、ＢＨＦ（Ｂｕｆｆｅｒｅｄ  ＨＦ  ｓｏｌｕｔｉｏｎ）、過酸化水素系、ＣＨ３ＣＯＯＨ、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、およびフェリック（ｆｅｒｒｉｃ）系からなる群から選択された１種以上を含むことを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項５】
前記補助電極は、マグネシウム、カルシウム、ナトリウム、カリウム、チタニウム、インジウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、アルミニウム、銀、スズ、鉛、クロム、モリブデン、銅、およびこれらの合金からなる群から選択された１種以上を含むことを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項６】
前記絶縁層は、フォトレジスト物質、ポリイミド、ポリアクリル、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、アルカリ金属酸化物、およびアルカリ土類金属酸化物からなる群から選択された１種以上を含むことを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項７】
前記第１電極または第２電極は、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、ガリウム（Ｇａ）、セリウム（Ｃｅ）、カドミウム（Ｃｄ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ベリリウム（Ｂｅ）、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、バナジウム（Ｖ）、銅（Ｃｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、タングステン（Ｗ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、マンガン（Ｍｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、およびランタン（Ｌａ）のうちから選択された少なくとも１つの酸化物を含むことを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項８】
前記第１電極または第２電極は、マグネシウム、カルシウム、ナトリウム、カリウム、チタニウム、インジウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、アルミニウム、銀、白金、金、タングステン、タンタル、銅、スズ、鉛およびこれらの合金からなる群から選択された１種以上を含むことを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項９】
前記第１電極上において、前記補助電極が備えられる領域は非発光領域であり、前記補助電極が備えられていない領域は発光領域であることを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項１０】
前記発光領域内の第１電極上には有機物層がさらに備えられることを特徴とする、請求項９に記載の有機発光素子。
【請求項１１】
前記有機発光素子は照明用であることを特徴とする、請求項１に記載の有機発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は２０１３年９月３０日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２０１３−０１１６１９６号の出願日の利益を主張し、その内容の全ては本明細書に含まれる。
【０００２】
本出願は有機発光素子に関する。
【背景技術】
【０００３】
有機発光素子は、２つの反対電極とその間に存在する多層の半導体的性質を有する有機物の薄膜で構成されている。このような構成の有機発光素子は、有機物質を用いて電気エネルギーを光エネルギーに転換させる現象、すなわち有機発光現象を利用する。具体的には、陽極と陰極との間に有機物層を位置させた構造において、２つの電極の間に電圧を印加すれば、陽極からは正孔が、陰極からは電子が有機物層に注入される。注入された正孔と電子が結合した時にエキシトン（ｅｘｃｉｔｏｎ）が形成され、このエキシトンが再び基底状態に落ちる時に光が出るようになる。
【０００４】
前記のような有機発光素子においては、有機物層から生成された光が光透過性電極を介して放出し、有機発光素子は、通常、前面発光（ｔｏｐ  ｅｍｉｓｓｉｏｎ）、背面発光（ｂｏｔｔｏｍ  ｅｍｉｓｓｉｏｎ）および両面発光型に分類することができる。前面または背面発光型の場合は２つの電極のうち１つが光透過性電極でなければならず、両面発光型の場合は２つの電極が全て光透過性電極でなければならない。
【０００５】
前記のような有機発光素子に対しては多層構造を用いる場合に低電圧で駆動できるというコダック社の発表以来に多くの研究が集中してきており、最近では有機発光素子を用いた天然色ディスプレイが携帯電話に取り付けられて商用化されている。
【０００６】
また、最近の有機発光素子は従来の蛍光物質を用いる代わりに燐光物質の利用に対する研究が進められて効率の向上が急激になされており、近い未来には従来の照明を代替できるという予想も出てきている。
【０００７】
有機発光素子が照明として用いられるためには従来の天然色ディスプレイとは異なって高輝度で素子が駆動しなければならず、従来の照明のように一定した輝度を維持しなければならない。有機発光素子の輝度を十分に向上させるためには広い面積で発光がなされなければならず、このように広い面積で発光がなされるためには高い駆動電流を用いなければならない。また、広い面積で一定した輝度を維持するためには前記のような高電流が広い面積の素子に均一に注入されなければならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
当技術分野では、より簡単な工程によって製造できる有機発光素子に対する研究が必要である。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本出願の一実施状態は、
基板、
前記基板上に備えられる第１電極、
前記第１電極上の少なくとも一部領域に備えられる補助電極、
前記補助電極上に備えられ、前記補助電極より大きい幅を有するオーバーハング（ｏｖｅｒｈａｎｇ）構造の絶縁層、および
前記第１電極および絶縁層上に備えられる第２電極を含み、
前記第１電極上に備えられる第２電極と前記絶縁層上に備えられる第２電極は互いに電気的に短絡した形態の電極構造を含むことを特徴とする有機発光素子を提供する。
【発明の効果】
【００１０】
本出願の一実施状態による有機発光素子は、第１電極およびオーバーハング構造上に電気的に短絡した形態の第２電極を形成することにより、第２電極の製造工程時に従来に用いられていたパターン形成用マスクの使用を排除することができる。それにより、有機発光素子の製造工程費用を節減できるという特徴がある。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】従来の有機発光素子用の電極を示す図である。
【図２】従来の有機発光素子用の電極を示す図である。
【図３】本出願の一実施状態による有機発光素子用の電極を示す図である。
【図４】本出願の一実施状態による有機発光素子用の電極を示す図である。
【図５】本出願の一実施状態による有機発光素子用の電極を示す図である。
【図６】本出願の一実施状態によるオーバーハング構造の電子写真を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本出願について詳しく説明する。
【００１３】
一般的に、照明用の有機発光素子は、基板に透明電極、有機物層および金属電極が順次蒸着される構造を有する。前記有機発光素子の製造時、有機物層と金属電極の蒸着パターンの平面図上の面積が互いに異なるため、前記有機物層と金属電極の蒸着時には各々相異なるマスクを用いることになる。そのために蒸着工程の中間にマスクの取替えが必要であり、蒸着設備が複雑で生産性が高くなく、製造費用も高いという問題点がある。
【００１４】
そこで、本発明者らは、より簡単な工程によって製造することができ、有機発光素子の電極に適用できる導電性パターンに対する研究を進めて本発明を完成するに至った。
【００１５】
本出願の一実施状態による有機発光素子は、基板、前記基板上に備えられる第１電極、前記第１電極上の少なくとも一部領域に備えられる補助電極、前記補助電極上に備えられ、前記補助電極より大きい幅を有するオーバーハング（ｏｖｅｒｈａｎｇ）構造の絶縁層、および前記第１電極および絶縁層上に備えられる第２電極を含み、前記第１電極上に備えられる第２電極と前記絶縁層上に備えられる第２電極は互いに電気的に短絡した形態の電極構造を含むことを特徴とする。
【００１６】
本出願において、前記第１電極上に備えられる第２電極と前記補助電極は互いに電気的に短絡した形態の構造であってもよく、前記第１電極上に備えられる第２電極と前記絶縁層は互いに電気的に短絡した形態の構造であってもよい。
【００１７】
すなわち、前記補助電極は第１電極上の全面でない一部分に備えられることができる。
【００１８】
本出願において、前記電気的に短絡した形態の構造とは、物理的に分離し、その構造的に互いに離隔して配置された形態を意味する。
【００１９】
従来には、電気的に短絡した構造を含む第２電極、すなわち、第２電極パターンを形成するためにパターン形成用マスクを用いた。しかし、本出願では、第１電極と第１電極上に形成されたオーバーハング構造の二重層上に第２電極を形成することにより、別途のパターン形成用マスクが必要でなく、第１電極上に形成される第２電極とオーバーハング構造の二重層上に形成される第２電極が互いに電気的に短絡した形態の電極構造を含む有機発光素子を製造することができる。
【００２０】
本出願において、前記補助電極より大きい幅を有するオーバーハング構造の絶縁層は、前記補助電極および絶縁層が同一なエッチング液によるエッチング速度が互いに異なる物質を含むことによって形成されることができる。すなわち、前記絶縁層は同一なエッチング液によるエッチング速度が補助電極より落ちる物質を含むことができる。
【００２１】
また、前記補助電極および絶縁層の形成時に用いられるエッチング液の種類を異にしてオーバーハング構造の絶縁層を形成することもできる。
【００２２】
前記エッチング液の具体的な例示としてはフッ酸（ＨＦ）、リン酸（Ｈ３ＰＯ４）、ＢＯＥ（ｂｕｆｆｅｒｅｄ  ｏｘｉｄｅ  ｅｔｃｈａｎｔ）、ＢＨＦ（Ｂｕｆｆｅｒｅｄ  ＨＦ  ｓｏｌｕｔｉｏｎ）、過酸化水素系、ＣＨ３ＣＯＯＨ、ＨＣｌ、ＨＮＯ３、フェリック（ｆｅｒｒｉｃ）系などが挙げられるが、これらのみに限定されるものではない。
【００２３】
特に、前記補助電極および絶縁層のエッチング工程時にエッチング時間、温度などを適切に調節することにより、最適化されたオーバーハング構造を形成することができる。本出願の一実施状態によるオーバーハング構造の写真を図６に示す。
【００２４】
本出願において、前記補助電極は第１電極の抵抗改善のためのものであり、前記補助電極は導電性シーラント（ｓｅａｌａｎｔ）および金属からなる群から選択された１種以上を蒸着工程または印刷工程を利用して形成することができる。より具体的には、前記補助電極はマグネシウム、カルシウム、ナトリウム、カリウム、チタニウム、インジウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、アルミニウム、銀、スズ、鉛、クロム、モリブデン、銅、これらの合金などを１種以上含むことができるが、これらのみに限定されるものではない。前記補助電極の厚さは５０ｎｍ〜５μｍであってもよいが、これに限定されるものではない。
【００２５】
前記絶縁層は当技術分野で周知の材料および方法を利用して形成されることができる。より具体的には、一般的なフォトレジスト物質、ポリイミド、ポリアクリル、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物などを用いて形成されることができるが、これらのみに限定されるものではない。前記絶縁層の厚さは１０ｎｍ〜１０μｍであってもよいが、これに限定されるものではない。
【００２６】
本出願において、前記基板は当技術分野で周知のものを制限なしで利用することができ、より具体的にはガラス基板、プラスチック基板などが挙げられるが、これらのみに限定されるものではない。
【００２７】
本出願において、前記第１電極は透明導電酸化物を含むことができる。前記透明導電酸化物は、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、ガリウム（Ｇａ）、セリウム（Ｃｅ）、カドミウム（Ｃｄ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ベリリウム（Ｂｅ）、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、バナジウム（Ｖ）、銅（Ｃｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、タングステン（Ｗ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、マンガン（Ｍｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、およびランタン（Ｌａ）のうちから選択された少なくとも１つの酸化物であってもよい。
【００２８】
また、前記第１電極は、マグネシウム、カルシウム、ナトリウム、カリウム、チタニウム、インジウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、アルミニウム、銀、白金、金、タングステン、タンタル、銅、スズ、鉛、これらの合金などを１種以上含むことができる。
【００２９】
前記第１電極は、スパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）法、電子−ビーム蒸着法（Ｅ−ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）、熱蒸着法（Ｔｈｅｒｍａｌ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）、レーザ分子ビーム蒸着法（Ｌａｓｅｒ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｅａｍ  Ｅｐｉｔａｘｙ、Ｌ−ＭＢＥ）、およびパルスレーザ蒸着法（Ｐｕｌｓｅｄ  Ｌａｓｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＬＤ）のうちから選択されたいずれか１つの物理気相蒸着法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＶＤ）；熱化学気相蒸着法（Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、プラズマ化学気相蒸着法（Ｐｌａｓｍａ−Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＥＣＶＤ）、光化学気相蒸着法（Ｌｉｇｈｔ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、レーザ化学気相蒸着法（Ｌａｓｅｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、金属−有機化学気相蒸着法（Ｍｅｔａｌ−Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＭＯＣＶＤ）、および水素化物気相蒸着法（Ｈｙｄｒｉｄｅ  Ｖａｐｏｒ  Ｐｈａｓｅ  Ｅｐｉｔａｘｙ、ＨＶＰＥ）のうちから選択されたいずれか１つの化学気相蒸着法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）；または原子層蒸着法（Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＡＬＤ）を利用して形成することができる。
【００３０】
本出願において、前記第２電極は透明導電酸化物を含むことができる。前記透明導電酸化物は、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、ガリウム（Ｇａ）、セリウム（Ｃｅ）、カドミウム（Ｃｄ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ベリリウム（Ｂｅ）、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、バナジウム（Ｖ）、銅（Ｃｕ）、イリジウム（Ｉｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、ルテニウム（Ｒｕ）、タングステン（Ｗ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、マンガン（Ｍｎ）、アルミニウム（Ａｌ）、およびランタン（Ｌａ）のうちから選択された少なくとも１つの酸化物であってもよい。
【００３１】
また、前記第２電極は、マグネシウム、カルシウム、ナトリウム、カリウム、チタニウム、インジウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、アルミニウム、銀、白金、金、タングステン、タンタル、銅、スズ、鉛、これらの合金などを１種以上含むことができる。
【００３２】
前記第２電極は、スパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）法、電子−ビーム蒸着法（Ｅ−ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）、熱蒸着法（Ｔｈｅｒｍａｌ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）、レーザ分子ビーム蒸着法（Ｌａｓｅｒ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｅａｍ  Ｅｐｉｔａｘｙ、Ｌ−ＭＢＥ）、およびパルスレーザ蒸着法（Ｐｕｌｓｅｄ  Ｌａｓｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＬＤ）のうちから選択されたいずれか１つの物理気相蒸着法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＶＤ）；熱化学気相蒸着法（Ｔｈｅｒｍａｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、プラズマ化学気相蒸着法（Ｐｌａｓｍａ−Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＰＥＣＶＤ）、光化学気相蒸着法（Ｌｉｇｈｔ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、レーザ化学気相蒸着法（Ｌａｓｅｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、金属−有機化学気相蒸着法（Ｍｅｔａｌ−Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＭＯＣＶＤ）、および水素化物気相蒸着法（Ｈｙｄｒｉｄｅ  Ｖａｐｏｒ  Ｐｈａｓｅ  Ｅｐｉｔａｘｙ、ＨＶＰＥ）のうちから選択されたいずれか１つの化学気相蒸着法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）；または原子層蒸着法（Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、ＡＬＤ）を利用して形成することができる。
【００３３】
前記第２電極の厚さは５０ｎｍ〜５μｍであってもよいが、これに限定されるものではない。
【００３４】
本出願において、前記第１電極上において、前記補助電極が備えられる領域は非発光領域であり、前記補助電極が備えられていない領域は発光領域であってもよい。この時、前記発光領域内の第１電極上には有機物層がさらに備えられることができる。すなわち、前記発光領域には、第１電極、有機物層および第２電極が順次備えられることができる。
【００３５】
前記有機物層の具体的な物質、形成方法は特に制限されるものではなく、当技術分野で周知の物質および形成方法を用いることができる。
【００３６】
前記有機物層は、様々な高分子素材を用いて、蒸着法、または溶媒工程（ｓｏｌｖｅｎｔ  ｐｒｏｃｅｓｓ）、例えば、スピンコーティング、ディップコーティング、ドクターブレード、スクリーン印刷、インクジェット印刷または熱転写法などの方法によってさらに少ない数の層に製造することができる。
【００３７】
前記有機物層は発光層を含み、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層および電子注入層のうちから選択された１つ以上を含む積層構造であってもよい。
【００３８】
前記正孔注入層を形成できる物質としては、通常、有機物層への正孔注入が円滑になるように仕事関数の大きい物質が好ましい。本出願で使用できる正孔注入物質の具体的な例としてはバナジウム、クロム、銅、亜鉛、金のような金属またはこれらの合金；亜鉛酸化物、インジウム酸化物、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような金属酸化物；ＺｎＯ：ＡｌまたはＳｎＯ２：Ｓｂのような金属と酸化物の組み合わせ；ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ［３，４−（エチレン−１，２−ジオキシ）チオフェン］（ＰＥＤＴ）、ポリピロールおよびポリアニリンのような導電性高分子などが挙げられるが、これらのみに限定されるものではない。
【００３９】
前記電子注入層を形成できる物質としては、通常、有機物層への電子注入が容易になるように仕事関数の小さい物質が好ましい。電子注入物質の具体的な例としてはマグネシウム、カルシウム、ナトリウム、カリウム、チタニウム、インジウム、イットリウム、リチウム、ガドリニウム、アルミニウム、銀、スズおよび鉛のような金属またはこれらの合金；ＬｉＦ／ＡｌまたはＬｉＯ２／Ａｌのような多層構造の物質などがあり、正孔注入電極物質と同一な物質を用いることもできるが、これらのみに限定されるものではない。
【００４０】
前記発光層を形成できる物質としては、正孔輸送層と電子輸送層から正孔と電子の輸送を各々受けて結合させることによって可視光線領域の光を出せる物質として、蛍光や燐光に対する量子効率の良い物質が好ましい。具体的な例としては８−ヒドロキシ−キノリンアルミニウム錯体（Ａｌｑ３）；カルバゾール系の化合物；二量体化スチリル（ｄｉｍｅｒｉｚｅｄ  ｓｔｙｒｙｌ）化合物；ＢＡｌｑ；１０−ヒドロキシベンゾキノリン−金属化合物；ベンゾオキサゾール、ベンズチアゾールおよびベンズイミダゾール系の化合物；ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）（ＰＰＶ）系の高分子；スピロ（ｓｐｉｒｏ）化合物；ポリフルオレン、ルブレン；燐光ホストＣＢＰ［［４，４’−ｂｉｓ（９−ｃａｒｂａｚｏｌｙｌ）ｂｉｐｈｅｎｙｌ］；などが挙げられるが、これらのみに限定されるものではない。
【００４１】
また、前記発光物質は、蛍光または燐光特性を向上させるために燐光ドーパントまたは蛍光ドーパントをさらに含むことができる。前記燐光ドーパントの具体的な例としては、ｉｒ（ｐｐｙ）（３）（ｆａｃ  ｔｒｉｓ（２−ｐｈｅｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ）ｉｒｉｄｉｕｍ）またはＦ２Ｉｒｐｉｃ［ｉｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ）ｂｉｓ（４，６−ｄｉ−ｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ−ｐｙｒｉｄｉｎａｔｏ−Ｎ，Ｃ２）ｐｉｃｏｌｉｎａｔｅ］などが挙げられる。蛍光ドーパントとしては当技術分野で周知のものを用いることができる。
【００４２】
前記電子輸送層を形成できる物質としては、電子注入層から電子の注入を円滑に受けて発光層に移せる物質として、電子に対する移動性の大きい物質が好ましい。具体的な例としては８−ヒドロキシキノリンのＡｌ錯体；Ａｌｑ３を含む錯体；有機ラジカル化合物；ヒドロキシフラボン−金属錯体などが挙げられるが、これらのみに限定されるものではない。
【００４３】
本出願の一実施状態による有機発光素子は照明用の有機発光素子により好ましく適用されることができるが、これのみに限定されるものではない。
【００４４】
従来の有機発光素子用の電極を図１および２に示し、本出願の一実施状態による有機発光素子用の電極を図３〜５に示す。
【００４５】
図３〜５の結果のように、本出願の一実施状態による有機発光素子は、基板１０、前記基板１０上に備えられるアノード電極２０、前記アノード電極２０上に備えられる補助電極３０、前記補助電極３０上に備えられ、前記補助電極３０より大きい幅を有するオーバーハング（ｏｖｅｒｈａｎｇ）構造の絶縁層４０、および前記アノード電極２０および絶縁層４０上に備えられるカソード電極５０を含み、前記アノード電極２０上に備えられるカソード電極５０と前記絶縁層４０上に備えられるカソード電極５０は互いに電気的に短絡した形態の電極構造を含むことを特徴とする。
【００４６】
有機発光素子の製造時に伴う蒸着工程には、シャドーマスクとして金属材質のマスクが用いられる。より具体的には、有機物の蒸着工程時には１個以上のシャドーマスクが用いられ、第２電極の蒸着工程時には１個のシャドーマスクが用いられる。
【００４７】
しかし、本出願の一実施状態による積層体の製造時には、金属シャドーマスクが不要となってマスクの製造費用を節減できるだけでなく、マスクを周期的に洗浄し取替えなければならない管理費用を節減できるという特徴がある。また、有機物パターニング技術などを組み入れてマスクが必要ない蒸着工程の構成が可能である。また、蒸着設備においてマスクの除去が可能である場合、設備搬送部を単純化させることができる。特に、設備大きさ、ガラス大きさなどが大型化するほど、前述したような単純化による費用節減の効果が大幅に増加することができる。
【００４８】
前述したように、本出願の一実施状態による有機発光素子は、第１電極およびオーバーハング構造上に電気的に短絡した形態の第２電極を形成することにより、第２電極の製造工程時に従来に用いられていたパターン形成用マスクの使用を排除することができる。それにより、有機発光素子の製造工程費用を節減できるという特徴がある。
【符号の説明】
【００４９】
１０  ・・・基板
２０  ・・・アノード電極
３０  ・・・補助電極
４０  ・・・絶縁層
５０  ・・・カソード電極
【図１】
0006302552.tif 000002
【図２】
0006302552.tif 000003
【図３】
0006302552.tif 000004
【図４】
0006302552.tif 000005
【図５】
0006302552.tif 000006
【図６】
0006302552.tif 000007