(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂、及び
一般式（１）
【化１】
0006407713.tif 000047
[式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ及び環Ｄは、同一又は異なって、
下記一般式（１Ｄ）、又は（１Ｅ）
【化２】
0006407713.tif 000048
[式中、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基を有していてもよいヘテロアリールチオ基、又はＮＲ２１Ｒ２２基を示す。
Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５及びＸ６は、同一又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を示す。
環Ａ１及び環Ａ２は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｒ２１及びＲ２２は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｒ２１とＲ２２とは、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成していてもよい。該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。
波線は、フタロシアニン骨格内のピロール環との結合手を示す。]
で表される環である。
Ｍは、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｐｂ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｍｎ、Ｓｎ、ＡｌＣｌ、ＡｌＯＨ、ＩｎＣｌ、ＦｅＣｌ、ＭｎＯＨ、ＳｉＣｌ２、ＳｎＣｌ２、ＧｅＣｌ２、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｓｉ（ＯＣＨ３）２、Ｓｉ（ＯＰｈ）２、Ｓｉ（ＯＳｉＣＨ３）２、Ｓｎ（ＯＨ）２、Ｇｅ（ＯＨ）２、ＶＯ、又はＴｉＯを示す（前記Ｐｈは、フェニル基を示す）。]
で表されるフタロシアニン化合物を含有するレーザー溶着用樹脂組成物。
【請求項２】
前記樹脂組成物は、可視光領域の光透過率が70％以上である、請求項１に記載のレーザー溶着用樹脂組成物。
【請求項３】
前記樹脂組成物は、750nm〜1200nmの近赤外領域に吸収極大を有する、請求項１又は２に記載のレーザー溶着用樹脂組成物。
【請求項４】
前記Ｍは、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｂ、ＭｎＯＨ、ＡｌＣｌ、ＦｅＣｌ、ＩｎＣｌ、ＳｎＣｌ２、ＶＯ又はＴｉＯである、請求項１〜３の何れか一項に記載のレーザー溶着用樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー溶着用樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
熱可塑性樹脂製の成形部材同士を接合する方法としては、例えば、レーザー光照射の局所加熱により、成形部材同士を溶着するレーザー溶着方法が知られている（特許文献１及び２）。
【０００３】
具体的には、該レーザー溶着方法は、まず、レーザー光透過性樹脂部材と、レーザー光吸収性樹脂部材とを重ね合わせ、レーザー光透過性樹脂部材側よりレーザー光を照射すると、レーザー光吸収性樹脂が発熱して溶解する。次に、溶解したレーザー光吸収性樹脂の周辺から、レーザー光透過性樹脂の側へ熱が伝達され、レーザー光透過性樹脂の側にも溶解が起こって、これらの樹脂部材の接合面が接合される。
【０００４】
上記溶着方法におけるレーザー光の光源としては、波長１０６４ｎｍのレーザー光を発振するネオジム：イットリウム・アルミニウム・ガーネットレーザー（以下、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーと称する。）、波長が８００〜１１００ｎｍである半導体レーザー等が主として使用される。このため、レーザー溶着用光吸収樹脂組成物としては、波長８００〜１１００ｎｍの近赤外線の波長を効率よく吸収する材料が用いられる。
【０００５】
従来から、レーザー溶着用近赤外線吸収材料としては、カーボンブラック等が用いられている。しかしながら、カーボンブラックの吸収特性は、可視域全体にわたって吸収するだけでなく、そのまま近赤外域にまで伸びていることが特徴であり、粒径等を変更したとしても近赤外域の吸収を保ちつつ、かつ可視域の吸収を低減させることは難しかった。このため、カーボンブラックを近赤外線吸収剤として用いた場合には、見た目の色調及び近赤外線吸収の大きさの両方を調整することは困難であった。
【０００６】
また、一般に、材料の近赤外線吸収量が大きいほど低出力で最大溶着強度に達するが、出力の増加に伴い、急激に溶着強度の低下が生じる。この溶着強度の低下は、発熱エネルギー量が過剰になり、樹脂が分解又は蒸発するために起こるものである。
【０００７】
これに対して、材料の持つ近赤外線吸収量が低くなると、最大溶着強度に達するのに要する出力は高くなるものの、出力の増加に伴う溶着強度の低下は緩和され、プロセス条件の幅が拡がり、材料の変更、添加量調整等により発熱量のコントロールが可能となる。
【０００８】
カーボンブラックは、その高い吸光係数のため、樹脂中に粒子として存在することに起因して発熱安定性に懸念があることから、発熱量の制御が困難である。そして、カーボンブラック粒子が分散されている樹脂は、接合面付近に発熱が集中して起こりやすく、異常な発熱のため接合部位において樹脂の分解、バリの発生等が見られやすい。さらに、カーボンブラックを低濃度で使用する場合は、カーボンブラックを均一に分散させることが難しい等の問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特表平09-510930号公報
【特許文献２】特開平11-170371号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、レーザー光の照射による溶着性に優れ、かつ溶着により得られた溶着体の溶着強度にも優れたレーザー溶着用樹脂組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者等は、上記課題に鑑みて、鋭意研究を行った。その結果、熱可塑性樹脂、及び特定のフタロシアニン化合物を含有するレーザー溶着用樹脂組成物が、本発明の上記課題を解決できることを見出した。
【００１２】
すなわち、本発明は、熱可塑性樹脂と、下記に示すフタロシアニン化合物とを含有するレーザー溶着用樹脂組成物を提供することにある。
項１．
熱可塑性樹脂、及び
一般式（１）
【００１３】
【化１】
0006407713.tif 000002
【００１４】
[式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ及び環Ｄは、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｍは、2個の水素原子、2個の1価金属原子、2価金属原子、3価若しくは4価の金属化合物を示す。]
で表されるフタロシアニン化合物を含有するレーザー溶着用樹脂組成物。
項２．
前記樹脂組成物は、可視光領域の光透過率が70％以上である、項１に記載のレーザー溶着用樹脂組成物。
項３．
前記樹脂組成物は、750nm〜1200nmの近赤外領域に吸収極大を有する、項１又は２に記載のレーザー溶着用樹脂組成物。
項４．
前記環Ａ、環Ｂ、環Ｃ及び環Ｄが、同一又は異なって、一般式（１Ａ）：
【００１５】
【化２】
0006407713.tif 000003
【００１６】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基を有していてもよいヘテロアリールチオ基又はＮＲ５Ｒ６基を示し、
或いは、Ｒ１及びＲ２、又はＲ３及びＲ４は、これらが結合するベンゼン環と共に、他のヘテロ原子を介し若しくは介することなく互いに結合して、５〜１０員環を形成していてもよい。さらに該５〜１０員環は置換基を有していてもよい。
Ｒ５及びＲ６は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｒ５とＲ６とは、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成していてもよい。該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。
波線は、フタロシアニン骨格内のピロール環との結合手を示す。]
で表される環である、項１〜３の何れか一項に記載のレーザー溶着用樹脂組成物。
項５．
前記環Ａ、環Ｂ、環Ｃ及び環Ｄは、
下記一般式（１Ｂ）、又は（１Ｃ）：
【００１７】
【化３】
0006407713.tif 000004
【００１８】
[式中、Ｒ７及びＲ１０は、同一又は異なって、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を示す。
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１及びＲ１２は、同一又は異なって、ハロゲン原子、ＯＲ１３基、ＳＲ１４基、又はＮＲ１５Ｒ１６基を示す。
Ｘ１及びＸ２は、同一又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を示す。
Ｒ１３及びＲ１４は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。
Ｒ１５及びＲ１６は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｒ１５とＲ１６とは、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成していてもよい。該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。
波線は、フタロシアニン骨格内のピロール環との結合手を示す。]
で表される環である、項１〜４の何れか一項に記載のレーザー溶着用樹脂組成物。
項６．
前記環Ａ、環Ｂ、環Ｃ及び環Ｄは、下記一般式（１Ｄ）、又は（１Ｅ）
【００１９】
【化４】
0006407713.tif 000005
【００２０】
[式中、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９及びＲ２０は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基を有していてもよいヘテロアリールチオ基、又はＮＲ２１Ｒ２２基を示す。
Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５及びＸ６は、同一又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を示す。
環Ａ１及び環Ａ２は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｒ２１及びＲ２２は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｒ２１とＲ２２とは、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成していてもよい。該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。
波線は、フタロシアニン骨格内のピロール環との結合手を示す。]
で表される環である、項１〜４の何れか一項に記載のレーザー溶着用樹脂組成物。
項７．
前記フタロシアニン化合物は、
一般式（１ａ）：
【００２１】
【化５】
0006407713.tif 000006
【００２２】
[式中、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７及びＲ３８は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基、ＯＲ３９基、ＳＲ４０基又はＮＲ４１Ｒ４２基を示す。
Ｒ３９及びＲ４０基は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、
Ｒ４１及びＲ４２基は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｒ４１とＲ４２とは、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成していてもよい。該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。
Ｍは、2個の水素原子、2個の1価金属原子、2価金属原子又は3価若しくは4価の金属化合物を示す。]
で表される化合物である、項１〜４の何れか一項に記載のレーザー溶着用樹脂組成物。
項８．
Ｍは、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｂ、ＭｎＯＨ、ＡｌＣｌ、ＦｅＣｌ、ＩｎＣｌ、ＳｎＣｌ２、ＶＯ又はＴｉＯである、項１〜７の何れか一項に記載のレーザー溶着用樹脂組成物。
【発明の効果】
【００２３】
本発明のレーザー溶着用樹脂組成物は、レーザー光の照射による溶着性に優れ、該溶着により得られた溶着体は、可視光透過率が高く、かつ溶着強度にも優れている。また、本発明のレーザー溶着用樹脂組成物は、レーザー溶着の際に用いるレーザー光波長に合わせて、該組成物中に含まれるフタロシアニン化合物を適宜選択することにより、レーザー溶着に必要なレーザー光吸収能を付与することが可能である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２５】
１．レーザー溶着用樹脂組成物
本発明のレーザー溶着用樹脂組成物は、熱可塑性樹脂、及び下記のフタロシアニン化合物を含有する。
【００２６】
１−１．フタロシアニン化合物
該フタロシアニン化合物としては、下記一般式（１）で表されるフタロシアニン化合物が挙げられる。
【００２７】
【化６】
0006407713.tif 000007
【００２８】
[式中、環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ及びＭは、前記に同じ。]
上記一般式（１）で表されるフタロシアニン化合物は、下記一般式（１−１）：
【００２９】
【化７】
0006407713.tif 000008
【００３０】
[式中、４つの環Ｅは、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｍは、前記に同じ。]
で表すこともできる。
【００３１】
上記一般式（１）又は（１−１）で表されるフタロシアニン化合物における環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ及び環Ｅとしては、同一又は異なって、一般式（１Ａ）：
【００３２】
【化８】
0006407713.tif 000009
【００３３】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及び波線は、前記に同じ。]
で表される環が挙げられる。
【００３４】
該一般式（１Ａ）で表される環を有するフタロシアニン化合物は、下記一般式（１−２）で表すこともできる。
【００３５】
【化９】
0006407713.tif 000010
【００３６】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＭは、前記に同じ。]
一般式（１−２）で表されるフタロシアニン化合物は、下記一般式（１−２−１）：
【００３７】
【化１０】
0006407713.tif 000011
【００３８】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＭは、前記に同じ。]
で表すこともできる。
【００３９】
上記一般式（１Ａ）で表される環のうち、Ｒ１及びＲ２、又はＲ３及びＲ４が、これらが結合するベンゼン環と共に他のヘテロ原子を介し若しくは介することなく互いに結合して５〜１０員環を形成するものとしては、具体的に、下記一般式（１Ｂ）、又は（１Ｃ）：
【００４０】
【化１１】
0006407713.tif 000012
【００４１】
[式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｘ１、Ｘ２及び波線は、前記に同じ。]
で表される環、
一般式（１Ｄ）、又は（１Ｅ）
【００４２】
【化１２】
0006407713.tif 000013
【００４３】
[式中、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、環Ａ１、環Ａ２及び波線は、前記に同じ。]
で表される環等が挙げられる。
【００４４】
上記一般式（１Ｂ）、又は（１Ｃ）で表される環を有するフタロシアニン化合物は、下記一般式（１−３）で表すこともできる。
【００４５】
【化１３】
0006407713.tif 000014
【００４６】
[式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｘ１及びＭは、前記に同じ。]
より詳細には、上記一般式（１−３）で表されるフタロシアニン化合物としては、下記（１−３ａ）〜（１−３ｄ）で表されるフタロシアニン化合物が挙げられる。
【００４７】
【化１４】
0006407713.tif 000015
【００４８】
[式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｘ１及びＭは、前記に同じ。]
該一般式（１Ｄ）、又は（１Ｅ）で表される環を有するフタロシアニン化合物は、下記一般式（１−４）で表すこともできる。
【００４９】
【化１５】
0006407713.tif 000016
【００５０】
[式中、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｘ３、Ｘ４、環Ａ１、環Ａ２及びＭは、前記に同じ。]
上記一般式（１−４）で表されるフタロシアニン化合物としては、例えば、下記（１−４ａ）〜（１−４ｄ）で表されるフタロシアニン化合物が挙げられる。
【００５１】
【化１６】
0006407713.tif 000017
【００５２】
（式中、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｘ３、Ｘ４、環Ａ１、環Ａ２及びＭは、前記に同じ。）
さらに、上記一般式（１−２−１）で表されるフタロシアニン化合物としては、好ましくは、下記（１ａ）で表されるフタロシアニン化合物も挙げられる。
【００５３】
【化１７】
0006407713.tif 000018
【００５４】
[式中、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、Ｒ２６、Ｒ２７、Ｒ２８、Ｒ２９、Ｒ３０、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、Ｒ３６、Ｒ３７、Ｒ３８及びＭは、前記に同じ。] 
一般式（１−２）で表されるフタロシアニン化合物としては、好ましくは、下記一般式（１−２−１）：
【００５５】
【化１８】
0006407713.tif 000019
【００５６】
（式中、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、及びＲ４６は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基、ＯＲ４７基、ＳＲ４８基又はＮＲ４９Ｒ５０基を示す。
Ｒ４７及びＲ４８は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。
Ｒ４９及びＲ５０は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｒ４９とＲ５０とは、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成してもよい。該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。
Ｍは、2個の水素原子、2個の1価金属原子、2価金属原子又は3価若しくは4価の金属化合物を示す。）
で表されるフタロシアニン化合物であり、
より好ましくは、下記一般式（１−２−２）：
【００５７】
【化１９】
0006407713.tif 000020
【００５８】
（式中、Ｒ５１及びＲ５４は、同一又は異なって、ＯＲ５５基、ＳＲ５６基又はＮＲ５７Ｒ５８基を示す。
Ｒ５２及びＲ５３は、同一又は異なって、ハロゲン原子、ＯＲ５９基、ＳＲ６０基又はＮＲ６１Ｒ６２基を示す。
Ｒ５５、Ｒ５６、Ｒ５９及びＲ６０は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。
Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ６１及びＲ６２は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示す。Ｒ５７とＲ５８、又はＲＲ６１とＲ６２は、同一又は異なって、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成してもよい。該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。
Ｍは、2個の水素原子、2個の1価金属原子、2価金属原子又は3価若しくは4価の金属化合物を示す。）で表されるフタロシアニン化合物であり、
さらにより好ましくは、下記一般式（１−２−３）：
【００５９】
【化２０】
0006407713.tif 000021
【００６０】
（式中、Ｘ５及びＸ６は、同一又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を示す。
Ｒ６３及びＲ６４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基又はＮＲ６９Ｒ７０基を示す。
Ｒ６５及びＲ６６は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基又はＮＲ６７Ｒ６８基を示す。
ｍ及びｎは、同一又は異なって、１〜５の整数を示す。
Ｒ６７、Ｒ６８、Ｒ６９及びＲ７０は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｒ６７とＲ６８、又はＲ６９とＲ７０とは、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子、若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成していてもよい。該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。
Ｍは、2個の水素原子、2個の1価金属原子、2価金属原子、3価若しくは4価の金属化合物を示す。
但し、Ｒ６３及びＲ６４は、次の（ｉ）又は（ｉｉ）の条件を満たす。
（ｉ）Ｘ５及びＸ６が各々酸素原子のとき、Ｒ６３及びＲ６４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいフェノキシ基、置換基を有していてもよいフェニルチオ基又はＮＲ６９Ｒ７０基を表し、
Ｒ６３及びＲ６４の少なくとも一方はＮＲ６９Ｒ７０基を表し、Ｒ６９及びＲ７０は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｒ６９とＲ７０とは、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子、若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成していてもよく、該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。
（ｉｉ）Ｘ５及びＸ６が各々硫黄原子のとき、Ｒ６３及びＲ６４は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよいフェニルチオ基又はＮＲ６８Ｒ６９基を表し、
Ｒ６３及びＲ６４の少なくとも一方は置換基を有していてもよいフェニルチオ基又はＮＲ６９Ｒ７０基を表し、Ｒ６９及びＲ７０は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいアリール基を示し、Ｒ６９とＲ７０とは、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子、若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成していてもよく、該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。）
で表されるフタロシアニン化合物である。
一般式（１−２−１）で表される化合物としては、下記一般式（１−２−４）：
【００６１】
【化２１】
0006407713.tif 000022
【００６２】
（式中、Ｒ７２及びＲ７３は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数２〜５のハロゲノアルコキシ基を示す。
Ｒ７１及びＲ７４は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、又は置換基を有していてもよいアルキルチオ基を示す。
Ｍは、2個の水素原子、2個の1価金属原子、2価金属原子、3価若しくは4価の金属化合物を示す。）
で表されるフタロシアニン化合物であってもよく、Ｒ７１、Ｒ７２、Ｒ７３、及びＲ７４で表される基としては、少なくとも1つが水素原子又はハロゲン原子であることが好ましい。
【００６３】
上記一般式（１−３）で表されるフタロシアニン化合物としては、好ましくは、下記一般式（１−３−１）：
【００６４】
【化２２】
0006407713.tif 000023
【００６５】
（式中、Ｘ７、Ｘ８及びＸ９は、同一又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を示す。
Ｒ７５は、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を示す。
Ｒ７６及びＲ７７は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。
Ｍは、2個の水素原子、2個の2価金属原子、3価若しくは4価の金属化合物を示す。）
で表されるフタロシアニン化合物である。
【００６６】
上記一般式（１−４）で表されるフタロシアニン化合物としては、好ましくは、下記一般式（１−４−１）：
【００６７】
【化２３】
0006407713.tif 000024
【００６８】
（式中、Ｘ１０及びＸ１１は、同一又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を示す。
Ｘ１２及びＸ１３は、同一又は異なって、酸素原子、硫黄原子又はＮＲ８０を示す。
Ｒ７８、Ｒ７９及びＲ８０は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示す。Ｒ７８とＲ８０、又はＲ７９とＲ８０とは、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環を形成していてもよい。該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。
環Ａ１及び環Ａ２は、同一又は異なって、置換基を有していてもよいアリール基を示す。
Ｍは、2個の水素原子、2個の2価金属原子、3価若しくは4価の金属化合物を示す。）
で表されるフタロシアニン化合物である。
【００６９】
フタロシアニン化合物の含有量は、熱可塑性樹脂１００質量部に対して、通常０．００００１〜０．２質量部であり、好ましくは０．０００１〜０．１質量部であり、より好ましくは、０．０００１〜０．０１質量部である。フタロシアニン化合物の含有量をこのような範囲で調整することで、レーザー溶着用樹脂組成物の成形部材同士の充分な溶着強度を得ることができる。
【００７０】
フタロシアニン化合物は、750nm〜1200nmの近赤外領域に吸収極大を有する。
【００７１】
本明細書において示される各基は、具体的には次の通りである。
【００７２】
「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素及び沃素が挙げられる。
【００７３】
「アルキル基」としては、例えば、炭素数１〜１２の直鎖又は炭素数３〜１２の分岐鎖状或いは炭素数３〜１２の環状アルキル基が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基（以下、ｔ−Ｂｕと称することもある）、ｎ−ペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、１−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、ｎ−へプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘキシル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、２，４−ジメチルヘキシル基、２，２，４−トリメチルペンチル基、ｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、４−エチルオクチル基、４−エチル−４，５−ジメチルヘキシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、１，３，５，７−テトラメチルオクチル基、４−ブチルオクチル基等を挙げることができる。好ましくは、炭素数１〜８の直鎖又は炭素数３〜８の分岐鎖状或いは炭素数３〜８の環状アルキル基であり、特に好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｔ−オクチル基である。
【００７４】
なお、本明細書において、「ｎ−」はnormal、「ｓ−」はsecondary(sec−)、「ｔ−」はtertiary(tert−)を意味する。
【００７５】
「アルコキシ基」としては、例えば、炭素数１〜１２の直鎖又は炭素数３〜１２の分岐鎖状、或いは炭素数３〜１２の環状アルキル基が酸素原子に結合した基が挙げられる。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ｔ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基等が挙げられる。特に炭素数１〜８の直鎖又は炭素数３〜８の分岐鎖状、或いは炭素数３〜８の環状のアルキル基が酸素原子に結合した基が好ましい。
【００７６】
「アルキルチオ基」としては、例えば、炭素数１〜１２の直鎖又は炭素数３〜１２の分岐鎖状、或いは炭素数３〜１２の環状アルキル基が硫黄原子に結合した基が挙げられる。具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、イソペンチルチオ基、ネオペンチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、２−エチルヘキシルチオ基、ｔ−オクチルチオ基、ｎ−ノニルチオ基、ｎ−デシルチオ基、ｎ−ウンデシルチオ基、ｎ−ドデシルチオ基等が挙げられる。特に炭素数１〜８の直鎖又は炭素数３〜８の分岐鎖状、或いは炭素数３〜８の環状のアルキル基が硫黄原子に結合した基が好ましい。
【００７７】
「アルコキシカルボニル基」としては、例えば、炭素数１〜６のアルコキシ基が置換したカルボニル基が挙げられる。具体的には、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基等を挙げることができる。
【００７８】
「アリール基」としては、例えば、単環、多環（例えば、２環又は３環）のアリール基が挙げられる。具体的には、フェニル基、ナフチル基、アントリル基等を挙げることができる。好ましくは、単環又は２環のアリール基であり、特に好ましくはフェニル基、ナフチル基である。
【００７９】
「アリールオキシ基」としては、例えば、単環、多環（例えば、２環又は３環）のアリール基が酸素原子に結合した基が挙げられる。具体的には、フェノキシ基、ナフトキシ基、アントリルオキシ基、フェナントレニルオキシ基、フルオレニルオキシ基、ピレニルオキシ基等が挙げられる。特に単環又は２環のアリール基が酸素原子に結合した基が好ましい。特に好ましくは、フェノキシ基、１−ナフトキシ基（１−ナフチルオキシ基）、２−ナフトキシ基（２−ナフチルオキシ基）である。
【００８０】
「アリールチオ基」としては、例えば、単環、多環（例えば、２環又は３環）のアリール基が硫黄原子に結合した基が挙げられる。具体的には、フェニルチオ基、ナフチルチオ基、アントリルチオ基、ピレニルチオ基等が挙げられる。特に単環又は２環のアリール基が硫黄原子に結合した基が好ましい。特に好ましくは、フェニルチオ基、ナフチルチオ基である。
【００８１】
「ヘテロアリール基」としては、例えば、単環、多環（例えば、２環又は３環）のヘテロアリール基が挙げられる。具体的には、ピリジル基、ピリミジン基、インドリル基、キノリン基、ベンズイミダゾール基、フラニル基、チエニル基、ベンゾフラン基、１，３，４−チアジアゾール基等が挙げられる。特に単環又は２環のヘテロアリール基が好ましい。
【００８２】
「ヘテロアリールオキシ基」としては、例えば、単環、多環（例えば、２環又は３環）のヘテロアリール基が酸素原子に結合した基が挙げられる。具体的には、ピリジル基、ピリミジン基、インドリル基、キノリン基、ベンズイミダゾール基、フラニル基、チエニル基、ベンゾフラン基、１，３，４−チアジアゾール基等が酸素原子に結合した基を挙げることができる。特に単環又は２環のヘテロアリール基が酸素原子に結合した基が好ましい。
【００８３】
「ヘテロアリールチオ基」としては、例えば、単環、多環（例えば、２環又は３環）のヘテロアリール基が硫黄原子に結合した基が挙げられる。具体的には、ピリジル基、ピリミジン基、インドリル基、キノリン基、ベンズイミダゾール基、フラニル基、チエニル基、ベンゾフラン基、１，３，４−チアジアゾール基等が硫黄原子に結合した基を挙げることができる。特に単環又は２環のヘテロアリール基が硫黄原子に結合した基が好ましい。
【００８４】
「ＮＲ５Ｒ６基」、「ＮＲ１５Ｒ１６基」、「ＮＲ２１Ｒ２２基」、「ＮＲ４１Ｒ４２基」、「ＮＲ４９Ｒ５０基」、「ＮＲ５７Ｒ５８基」、「ＮＲ６１Ｒ６２基」、「ＮＲ６７Ｒ６８基」及び「ＮＲ６９Ｒ７０基」における、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４９、Ｒ５０、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６７、Ｒ６８、Ｒ６９及びＲ７０で示される「アルキル基」としては、上述したアルキル基と同じものを挙げることができる。
【００８５】
また、Ｒ５及びＲ６、Ｒ１５及びＲ１６、Ｒ２１及びＲ２２、Ｒ４１及びＲ４２、Ｒ４９及びＲ５０、Ｒ５７及びＲ５８、Ｒ６１及びＲ６２、Ｒ６７及びＲ６８又はＲ６９及びＲ７０は、これらが結合する窒素原子と共に、他の窒素原子、酸素原子若しくは硫黄原子を介し又は介することなく互いに結合して５〜１０員の飽和又は不飽和複素環（以下、環状アミノ基と称する場合もある）を形成していてもよい。
【００８６】
該「５〜１０員の飽和又は不飽和複素環」としては、後述する環状アミノ基と同じ基等が挙げられ、例えば、１，２，３，４，５，６−ヘキサヒドロピリミジニル、ピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリノ、チオモルホリノ、ホモピペラジニル、ホモピペリジニル、６−アザビシクロ［３，２，１］オクチル、３−アザ−スピロ［５，５］ウンデシル、チアゾリジニル基等を例示できる。
【００８７】
また、「ＮＲ５Ｒ６基」、「ＮＲ１５Ｒ１６基」、「ＮＲ２１Ｒ２２基」、「ＮＲ４１Ｒ４２基」、「ＮＲ４９Ｒ５０基」、「ＮＲ５７Ｒ５８基」、「ＮＲ６１Ｒ６２基」、「ＮＲ６７Ｒ６８基」及び「ＮＲ６９Ｒ７０基」としては、例えば、２級又は３級のアミノ基が挙げられる。具体的には、ｎ−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｎ−ペンチルアミノ基、ｎ−ヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ｎ−ヘプチルアミノ基、ｎ−オクチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、フェニルアミノ基、１−ナフチルアミノ基、２−ナフチルアミノ基、ベンジルアミノ基、１−フェニルエチルアミノ基、２−フェニルエチルアミノ基、１−（ｐ−トリル）エチルアミノ基、α，α−ジメチルベンジルアミノ基、１−ナフチルエチルアミノ基、１，１−ジフェニルメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基（ジ−ｎ−ブチルアミノ基）、エチルブチルアミノ基、ジ（２−エチルヘキシル）アミノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、４−メチルピペラジノ基、モルホリノ基等を挙げることができる。好ましくは、炭素数１〜８の直鎖又は炭素数３〜８の分岐鎖状或いは炭素数３〜８の環状アルキル基が置換した、２級又は３級アミノ基、或いは、炭素数１〜３のアルキル基の水素原子の１つが単環又は２環のアリール基で置換されているアルキル基が置換した２級アミノ基であり、特に好ましくは、ｎ−ブチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ベンジルアミノ基、１−フェニルエチルアミノ基である。
【００８８】
該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環は１個以上の置換基を有していてもよい。上記硫黄原子は、酸化されていてもよい。当該環状アミノ基としては、後述するアルキル鎖、アリール環又はヘテロアリール環上に置換しうる基として挙げた環状アミノ基と、同じものを挙げることができる。
【００８９】
「ＮＲ５Ｒ６基」、「ＮＲ１５Ｒ１６基」、「ＮＲ２１Ｒ２２基」、「ＮＲ４１Ｒ４２基」、「ＮＲ４９Ｒ５０基」、「ＮＲ５７Ｒ５８基」、「ＮＲ６１Ｒ６２基」、「ＮＲ６７Ｒ６８基」及び「ＮＲ６９Ｒ７０基」における、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ４１、Ｒ４２、Ｒ４９、Ｒ５０、Ｒ５７、Ｒ５８、Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６７、Ｒ６８、Ｒ６９及びＲ７０で示される「アリール基」としては、上述したアリール基と同じものを挙げることができる。
【００９０】
該５〜１０員の飽和又は不飽和複素環に置換する１個以上の置換基としては、後述する置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリールチオ基の、アルキル鎖、アリール環又はヘテロアリール環上の置換基と同じ基が挙げられる。
【００９１】
環Ａ、環Ｂ、環Ｃ、環Ｄ及び環Ｅで示す置換基を有していてもよいアリール基における「置換基」としては、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリールオキシ基、置換基を有していてもよいヘテロアリールチオ基、ＮＲ５Ｒ６基が挙げられ、該置換基は１〜５個有していてもよい。或いは、
２つの上記置換基が結合するベンゼン環と共に、他のヘテロ原子を介し若しくは介することなく互いに結合して、５〜１０員環を形成していてもよい。さらに該５〜１０員環は置換基を有していてもよく、縮合環であってもよい。５〜１０員環の置換基は１〜３個有していてもよい。
【００９２】
上記２つの上記置換基、或いはＲ１及びＲ２、又はＲ３及びＲ４は、これらが結合するベンゼン環と共に、他のヘテロ原子を介し若しくは介することなく互いに結合して、５〜１０員環を形成していてもよい。
【００９３】
該「５〜１０員環」としては、例えば、単環、多環（例えば、２環又は３環）の飽和又は不飽和複素環基が挙げられる。具体的には、下記一般式（ｘ）で表される多環の複素環基、一般式（ｙ）で表される多環の複素環基等が挙げられる。
【００９４】
【化２４】
0006407713.tif 000025
【００９５】
中でも、該「５〜１０員環」としては、下記式（ｘ１）〜（ｘ１８）、（ｙ１）〜（ｙ４）で表される多環の複素環基等が好ましい。
【００９６】
【化２５】
0006407713.tif 000026
【００９７】
該５〜１０員環は、さらに置換基を有していてもよく、該置換基は、上述した環Ａ、環Ｂ、環Ｃ及び環Ｄで示す置換基を有していてもよいアリール基における置換基と同じ基である。
【００９８】
上記置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルキルチオ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、置換基を有していてもよいアリールチオ基、置換基を有していてもよいヘテロアリール基、置換基を有していてもよいヘテロアリールオキシ基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリールチオ基の、アルキル鎖、アリール環又はヘテロアリール環上の置換基（アルキル鎖、アリール環又はヘテロアリール環上に置換しうる基）としては、例えば、アルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、環状アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、ウレイド基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。該置換基（アルキル鎖、アリール環又はヘテロアリール環上に置換しうる基、以下、置換基Ａと称する）は、アルキル鎖、アリール環又はヘテロアリール環上に、１〜５個有していてもよい。以下、上記置換基Ａの詳細を説明する。
【００９９】
該置換基Ａにおける「アルキル基」、「アルコキシ基」、「アルキルチオ基」、「ハロゲン原子」及び「アルコキシカルボニル基」は、上述した環Ａ、環Ｂ、環Ｃ及び環Ｄで示す置換基を有していてもよいアリール基における「アルキル基」、「アルコキシ基」、「アルキルチオ基」、「ハロゲン原子」「アルコキシカルボニル基」と同じ基である。
【０１００】
「ハロアルキル基」としては、例えば、炭素数１〜６のハロアルキル基が挙げられる。具体的には、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロブチル基、ノナフルオロブチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等を挙げることができる。
【０１０１】
「ヒドロキシアルキル基」としては、例えば、炭素数１〜８のヒドロキシアルキル基が挙げられる。具体的には、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、５−ヒドロキシペンチル基、６−ヒドロキシヘキシル基、７−ヒドロキシヘプチル基、８−ヒドロキシオクチル基等を挙げることができる。
【０１０２】
「アルキルアミノ基」としては、例えば、炭素数１〜１２の直鎖又は炭素数３〜１２の分岐鎖状或いは炭素数３〜１２の環状アルキル基が置換したアミノ基が挙げられる。アルキルアミノ基のアルキル基として、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、１−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、ｎ−へプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘキシル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、２，４−ジメチルヘキシル基、２，２，４−トリメチルペンチル基、ｔ−オクチル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、４−エチルオクチル基、４−エチル−４，５−ジメチルヘキシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、１，３，５，７−テトラメチルオクチル基、４−ブチルオクチル基等を挙げることができる。
【０１０３】
「ジアルキルアミノ基」としては、例えば、同一又は異なって炭素数１〜１２の直鎖又は炭素数３〜１２の分岐鎖状或いは炭素数３〜１２の環状アルキル基が２つ置換したアミノ基が挙げられる。ジアルキルアミノ基のアルキル基として、具体的には、上記アルキルアミノ基のアルキル基として挙げたものと同じアルキル基を挙げることができる。
【０１０４】
「環状アミノ基」としては、例えば、窒素原子上の２個の置換基が窒素原子と共に環構造を形成し、Ｎ、Ｏ、Ｓのヘテロ原子を環構成原子として含んでいてもよい環状アミンが挙げられる。具体的には、ピロリジル基、ピペリジノ基、ピペラジノ基、モルホリノ基、チオモルホリノ基等を挙げることができる。環状アミノ基としては、５〜８員の環状アミノ基が望ましい。
【０１０５】
「アシル基」としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等を挙げることができる。
【０１０６】
「アルキルカルバモイル基」としては、−ＣＯＮ（Ｒ５）２で示されるものである。ここで、Ｒ５は、それぞれ同一又は異なって、それぞれ水素原子、炭素数１〜１２の直鎖又は炭素数３〜１２の分岐鎖状或いは炭素数３〜１２の環状アルキル基を示す。当該アルキル基としては、上記アルキルアミノ基のアルキル基として挙げたものと同じアルキル基を挙げることができる。具体的には、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、ジプロピルカルバモイル基等を挙げることができる。
【０１０７】
「アルキルスルホニル基」としては、例えば、炭素数１〜８のアルキル基が置換したスルホニル基が挙げられる。具体的には、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基等を挙げることができる。
【０１０８】
「アリールスルホニル基」としては、例えば、炭素数６〜１２のアリール基が置換したスルホニル基が挙げられる。具体的には、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等を挙げることができる。
【０１０９】
「アルコキシスルホニル基」としては、例えば、炭素数１〜８のアルコキシ基が置換したスルホニル基が挙げられる。具体的には、メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基、ブトキシスルホニル基等を挙げることができる。
【０１１０】
「アリールオキシスルホニル基」としては、例えば、炭素数６〜１２のアリールオキシ基が置換したスルホニル基が挙げられる。具体的には、フェノキシスルホニル基、ナフトキシスルホニル基等を挙げることができる。
【０１１１】
例えば、上記置換基を有していてもよいアルキル基が、「置換基を有するアルキル基」である場合、該基としては、具体的には、２−クロロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、ベンジル基、フェネチル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルエチル基、４−ヒドロキシブチル基、２−メトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、２−イソプロポキシエチル基、ブタン酸エチル基等を挙げることができる。
【０１１２】
上記置換基を有していてもよいアリール基が、「置換基を有するアリール基」である場合、該基としては、具体的には、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、４−ビフェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−メチルチオフェニル基、４−（トリフルオロメチル）フェニル基、４−フェノキシフェニル基、４−アセチルフェニル基、４−メトキシカルボニルフェニル基等を挙げることができる。
【０１１３】
上記置換基を有していてもよいヘテロアリール基が、「置換基を有するヘテロアリール基」である場合、該基としては、具体的には、２−メチルピリジル基、２−クロロピリジル基、６−フルオロベンゾチアゾール基、６−クロロベンゾチアゾール基、６−メチルベンゾチアゾール基、６−メトキシベンゾチアゾール基、５−メチル−１，３，４−チアジアゾール基、５−メチルチオ−１，３，４−チアジアゾール基、５−トリフルオロメチル−１，３，４−チアジアゾール基等を挙げることができる。
【０１１４】
上記置換基を有していてもよいアルコキシ基が、「置換基を有するアルコキシ基」である場合、該基としては、具体的には、３−クロロプロポキシ基、２−（ジエチルアミノ）エトキシ基、ベンジルオキシ基、１−フェニルエトキシ基、２−フェニル−２−プロポキシ基等を挙げることができる。
【０１１５】
上記置換基を有していてもよいアルキルチオ基が、「置換基を有するアルキルチオ基」である場合、該基としては、具体的には、２−（ジエチルアミノ）エチルチオ基、ベンジルチオ基、等を挙げることができる。
置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基が、「置換基を有するアルコキシカルボニル基」である場合、該基としては、具体的には、２−クロロエトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基等を挙げることができる。
【０１１６】
上記置換基を有していてもよいアリールオキシ基が、「置換基を有するアリールオキシ基」である場合、該基としては、具体的には、４−メトキシフェノキシ基、３−クロロフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、４−フルオロフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、４−フェノキシフェノキシ基等を挙げることができる。
【０１１７】
上記置換基を有していてもよいアリールチオ基が、「置換基を有するアリールチオ基」である場合、該基としては、具体的には、４−クロロフェニルチオ基、４−メチルフェニルチオ基、２−メチルフェニルチオ基、４−イソプロピルフェニルチオ基、４−ｔ−ブチルフェニルチオ基、４−メトキシフェニルチオ基等を挙げることができる。
【０１１８】
上記置換基を有していてもよいヘテロアリールオキシ基が、「置換基を有するヘテロアリールオキシ基」である場合、該基としては、具体的には、２−メチルピリジルオキシ基、２−クロロピリジルオキシ基、６−フルオロベンゾチアゾールオキシ基、６−クロロベンゾチアゾールオキシ基、６−メチルベンゾチアゾールオキシ基、６−メトキシベンゾチアゾールオキシ基、５−メチル−１，３，４−チアジアゾールオキシ基、５−メチルチオ−１，３，４−チアジアゾールオキシ基、５−トリフルオロメチル−１，３，４−チアジアゾールオキシ基等を挙げることができる。
【０１１９】
上記置換基を有していてもよいヘテロアリールチオ基が、「置換基を有するヘテロアリールチオ基」である場合、該基としては、具体的には、２−メチルピリジルチオ基、２−クロロピリジルチオ基、６−フルオロベンゾチアゾールチオ基、６−クロロベンゾチアゾールチオ基、６−メチルベンゾチアゾールチオ基、６−メトキシベンゾチアゾールチオ基、５−メチル−１，３，４−チアジアゾールチオ基、５−メチルチオ−１，３，４−チアジアゾールチオ基、５−トリフルオロメチル−１，３，４−チアジアゾールチオ基等を挙げることができる。
【０１２０】
環Ａ１及び環Ａ２で示されるアリール基としては、例えば、単環、多環（例えば、２環又は３環）の芳香族環が挙げられる。具体的には、ベンゼン（環）、ナフタレン（環）、アントラセン（環）、フェナントレン（環）等を挙げることができる。好ましくは、単環又は２環の芳香族環であり、より好ましくはベンゼン環又はナフタレン環であり、特に好ましくは、ベンゼン環である。なお、後述の通り、これらの芳香族環は、それぞれ置換基を有していてもよい。
【０１２１】
上述の環Ａ１及び環Ａ２で示されるアリール基の置換基としては、例えば、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、環状アミノ基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、ウレイド基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルカルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、シアノ基、ニトロ基等の上述した置換基Ａと同じ基が挙げられる。
【０１２２】
Ｍで示される２価の金属としては、例えば、周期律表第３族〜第１５族に属する金属原子が挙げられる。具体的には、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｐｂ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｍｎ、Ｓｎ、Ｐｂ等を挙げることができる。
【０１２３】
Ｍで示される３価若しくは４価の金属化合物としては、例えば、周期律表第３族〜第１５族に属する金属の、ハロゲン化物、水酸化物及び酸化物等が挙げられる。具体的には、ＡｌＣｌ、ＡｌＯＨ、ＩｎＣｌ、ＦｅＣｌ、ＭｎＯＨ、ＳｉＣｌ２、ＳｎＣｌ２、ＧｅＣｌ２、Ｓｉ（ＯＨ）２、Ｓｉ（ＯＣＨ３）２、Ｓｉ（ＯＰｈ）２、Ｓｉ（ＯＳｉＣＨ３）２、Ｓｎ（ＯＨ）２、Ｇｅ（ＯＨ）２、ＶＯ、ＴｉＯ等を挙げることができる。なお、上記Ｐｈは、フェニル基を示す。
【０１２４】
熱可塑性樹脂１００重量部に対するフタロシアニン化合物の含有量は、０．００００１〜０．２重量部程度が好ましく、０．０００１〜０．１重量部程度がより好ましく、０．０００１〜０．０１重量部程度がさらに好ましい。
【０１２５】
１−２．熱可塑性樹脂
本発明のレーザー溶着用樹脂組成物に使用する熱可塑性樹脂としては、特に限定はなく、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、低密度ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、１種単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１２６】
上記アクリル樹脂としては、特に限定はなく、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート等のアルキルアクリレート；メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート等のメタクリレートなどの重合体；該アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートから成る群より選ばれる少なくとも１種を主原料とし、必要に応じて、酢酸ビニル、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等から得られる共重合体などが挙げられる。また、特公昭５９−３６６４６号公報、特公昭６２−１９３０９号公報、特公昭６３−２０４５９号公報および特開昭６３−７７９６３号公報、特開２００６−１４６０２９号公報に記載されているような重合体を用いることができる。中でも、例えば、メチルメタクリレートを５０〜９９．９５モル％、及びアルキルアクリレート等の共重合可能な他の単量体を０．０５〜５０モル％の割合で用いて得られる共重合体が好ましい。これらは単独で又は混合して用いることができる。
【０１２７】
上記ポリスチレン樹脂としては、特に限定はなく、例えば、スチレン系単量体（例えばスチレン、メチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ジメチルスチレン、パラメチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、ビニルトルエン、ビニルキシレンの単独重合体）、前記スチレンと他の単量体との共重合体（例えば、前記スチレン系単量体と、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、無水マレイン酸、ブタジエン等のビニル単量体との共重合体）等が挙げられる。中でも、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体、アクリロニトリルーメタクリル酸メチル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）樹脂、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂、アクリロニトリル−ＥＰＤＭ−スチレン樹脂等を用いることが好ましい。これらのポリスチレン樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１２８】
低密度ポリエチレン樹脂としては、特に限定はなく、例えば、高圧法低密度ポリエチレン樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン樹脂、低密度エチレン−α−オレフィン共重合体等が挙げられる。これらの低密度ポリエチレン樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１２９】
ポリプロピレン樹脂としては、特に限定はなく、例えば、プロピレン単独重合体（ホモポリプロピレン）、ホモポリプロピレン以外にプロピレン成分を７０重量％以上含む他のオレフィン成分とのプロピレンランダム共重合体（例えばプロピレン・エチレンランダム共重合体）、プロピレンブロック共重合体（プロピレン・エチレンランダム共重合体など）等が挙げられる。これらのポリプロピレン樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１３０】
ポリウレタン樹脂としては、特に限定はなく、例えば、分子中にウレタン結合（-ＮＨ-ＣＯＯ-）、尿素結合、ビュレット結合、アロファネート結合等を有する従来公知のポリウレタン樹脂等が挙げられる。これらのポリウレタン樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１３１】
ポリアミド樹脂としては、特に限定はなく、公知のポリアミド樹脂を用いることができる。例えば、ジアミンとジカルボン酸との縮合重合で得られるポリアミド６６、ポリアミド４６、ポリアミド６１０、ポリアミド６１２、ポリアミド６Ｔ（６Ｔは、ヘキサメチレンジアミンとテレフタル酸からなるポリアミド重合体）、ポリアミド６Ｉ（６Ｉは、ヘキサメチレンジアミンとイソフタル酸からなるポリアミド重合体）、ポリアミドＭＸＤ６（ＭＸＤ６は、メタキシリレンジアミンとアジピン酸からなるポリアミド重合体）、ポリアミド９Ｔ（９Ｔは、ノナンジアミンとテレフタル酸からなるポリアミド重合体）、ラクタムの開環重合で得られるポリアミド６、ポリアミド１２、ω−アミノカルボン酸の自己重縮合で得られるポリアミド１１からなる群より選ばれる少なくとも１種の単独重合体、及び／又はこれらの共重合体若しくはブレンド物等が挙げられる。これらのポリアミド樹脂は、単独で用いられてもよいし、又は２種類以上が併用されてもよい。
【０１３２】
ポリアセタール樹脂としては、特に限定はなく、例えば、ポリアセタール単独重合体、ホルムアルデヒドとトリオキサンとの共重合体等があげられる。これらのポリアセタール樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１３３】
ポリフェニレンスルフィド樹脂としては、特に限定はなく、例えば、ｐ−フェニレンスルフィド単位を基本的な繰返し単位とする重合体、このｐ−フェニレンスルフィド単位と共にｍ−フェニレンスルフィド単位、ｏ−フェニレンスルフィド単位、ｐ，ｐ’−ジフェニレンケトン−スルフィド単位、ｐ，ｐ’−ジフェニレンスルホン−スルフィド単位、ｐ，ｐ’−ビフェニレン−スルフィド単位、ｐ，ｐ’−ジフェニレンエーテル−スルフィド単位、ｐ，ｐ’−ジフェニレンメチレン−スルフィド単位、ｐ，ｐ’−ジフェニレンクメニル−スルフィド単位、各種ナフチル−スルフィド単位等の繰返し単位を含有する共重合体などが挙げられる。これらのポリフェニレンスルフィド樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１３４】
ポリエチレンテレフタレート樹脂としては、特に限定はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレートのホモポリマー；ポリエチレンテレフタレートポリマー構造の構成単位の一部を置き換えしたもの、例えば、テレフタル酸単位の一部をイソフタル酸単位に置き換えたもの等のポリエチレンテレフタレート系樹脂などが挙げられる。また、このようなポリエチレンテレフタレート系樹脂に対して、更にポリエチレンナフタレート等を添加したものでもよい。これらのポリエチレンテレフタレート樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１３５】
ポリブチレンテレフタレート樹脂としては、特に限定はなく、例えば、テレフタル酸と１，４−ブタンジオ−ルからなるポリブチレンテレフタレ−ト単独重合体やこれにナフタレンジカルボン酸、ジエチレングリコ−ル、１，４−シクロヘキサンジメタノ−ル等を共重合した共重合体などが挙げられる。これらのポリブチレンテレフタレート樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１３６】
ポリシクロオレフィン（ＣＯＰ）樹脂としては、特に限定はなく、例えば、ノルボルネンの重合体；ノルボルネンとオレフィンとの共重合体；シクロペンタジエン等の不飽和脂環式炭化水素の重合体などが挙げられる。これらのポリシクロオレフィン樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１３７】
ポリスルホン樹脂としては、特に限定はなく、スルホニル基（−ＳＯ2−）を複数含む分子構造を有する樹脂であればよい。例えば、スルホニル基以外にさらに分子中に複数のエーテル結合（−Ｏ−）を含むポリエーテルスルホン樹脂；スルホニル基以外にさらに分子中に複数の芳香族炭化水素を含むポリフェニルスルホン樹脂；スルホニル基以外にさらに分子中に複数のエーテル結合と複数の芳香族炭化水素とを含むポリエーテルポリフェニルスルホン樹脂などが挙げられる。これらのポリフェニレンスルフィド樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１３８】
フッ素樹脂としては、特に限定はなく、例えば、ポリフッ化エチレン、ポリ２フッ化エチレン、ポリ４フッ化エチレン、エチレン−２フッ化エチレン共重合体、エチレン−４フッ化エチレン共重合体、４フッ化エチレン−パーフルオロアルコキシエチレン共重合体等が挙げられる。これらのフッ素樹脂は、単独で使用してもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１３９】
上記熱可塑性樹脂は、中でも可視光透過率が高く、透明性の熱可塑性樹脂が好ましい。
【０１４０】
該熱可塑性樹脂は、可視光領域の光透過率が通常70％以上であり、好ましくは80％以上であり、より好ましくは90％以上である。
【０１４１】
上記熱可塑性樹脂として、より好ましくは、ポリスチレン樹脂、ポリメチルメタクリレート、シクロオレフィンポリマー、及びポリカーボネート等である。
【０１４２】
１−３．その他の成分
本発明のレーザー溶着用樹脂組成物は、熱可塑性樹脂及び上記フタロシアニン化合物を含む組成物であるが、前記熱可塑性樹脂及びフタロシアニン化合物以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、フタロシアニン化合物以外の吸収剤、着色剤、フィラー、エラストマー、安定剤、離型剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、防曇剤、滑剤、アンチブロッキング剤、可塑剤、分散剤、抗菌剤、重合開始剤等の種々の添加剤を含有していてもよい。
【０１４３】
これらの任意の添加剤を使用する場合、その使用量は、本発明の効果を阻害しない限り、通常使用されている範囲で使用すればよいが、熱可塑性樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．００５〜１００重量部程度、より好ましくは０．０１〜５０重量部程度で使用される。
【０１４４】
１−４．レーザー溶着用樹脂組成物の好ましい組合せ
本発明のレーザー溶着用樹脂組成物中に含まれる熱可塑性樹脂及びフタロシアニン化合物の組合せとしては、以下の熱可塑性樹脂及びフタロシアニン化合物の組合せ（Ａ）〜（Ｃ）であることが好ましい。
（Ａ）ポリスチレン樹脂、ポリメチルメタクリレート、シクロオレフィンポリマー、及びポリカーボネートよりなる群から選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂、
上述した一般式（１−２）で表されるフタロシアニン化合物、一般式（１−３）で表されるフタロシアニン化合物及び一般式（１−４）で表されるフタロシアニン化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種のフタロシアニン化合物
を含むレーザー溶着用樹脂組成物。
（Ｂ）ポリスチレン樹脂、ポリメチルメタクリレート、シクロオレフィンポリマー、及びポリカーボネートよりなる群から選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂、及び
一般式（１−３）で表されるフタロシアニン化合物
を含むレーザー溶着用樹脂組成物。
（Ｃ）ポリスチレン樹脂、ポリメチルメタクリレート、シクロオレフィンポリマー、及びポリカーボネートよりなる群から選ばれる少なくとも１種の熱可塑性樹脂、及び
一般式（１−４）で表されるフタロシアニン化合物
を含むレーザー溶着用樹脂組成物。
【０１４５】
２．フタロシアニン化合物の製造方法
フタロシアニン化合物は、公知の製造方法に従い製造することができ、例えば、WO2014/115692A1に記載の製造方法等を参考にして製造することができる。
【０１４６】
具体的には、フタロシアニン化合物は、下記反応式−１に示すとおり、フタロニトリル化合物（２−１）と、金属又は無機若しくは有機金属化合物とを、塩基の存在下に反応させることにより、製造することができる（該反応を工程４という場合もある）。
【０１４７】
【化２６】
0006407713.tif 000027
【０１４８】
（式中、環Ｅ及びＭは、前記に同じ。）
該フタロシアニン化合物の製造方法としては、具体的に、下記反応式−２、反応式−３、及び反応式−４に示す製造方法が挙げられる。
【０１４９】
【化２７】
0006407713.tif 000028
【０１５０】
[式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＭは、前記に同じ。]、
【０１５１】
【化２８】
0006407713.tif 000029
【０１５２】
[式中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｘ１及びＭは、前記に同じ。]、
【０１５３】
【化２９】
0006407713.tif 000030
【０１５４】
[式中、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｘ３、Ｘ４、環Ａ１、環Ａ２及びＭは、前記に同じ。]
上記化合物（２−１）〜（２−４）の製造方法については、下記「３．フタロニトリル及びその製造方法」において説明する。
【０１５５】
上記化合物（２−１）、（２−２）、（２−３）又は（２−４）と反応させる金属としては、例えば、周期律表第３族〜第１５族に属する金属が挙げられる。具体的には、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｔ、Ｐｂ等が挙げられる。
【０１５６】
無機金属化合物としては、例えば、上記金属の、ハロゲン化物、カルボン酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物、錯体等が挙げられる。具体的には、塩化銅(I)、塩化銅(II)、臭化銅(I)、臭化銅(II)、沃化銅、塩化ニッケル(II)、臭化ニッケル(II)、酢酸ニッケル(II)、塩化コバルト(II)、臭化コバルト(II)、酢酸コバルト(II)、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)、塩化亜鉛、臭化亜鉛、沃化亜鉛、酢酸亜鉛、塩化バナジウム(III)、オキシ三塩化バナジウム、塩化パラジウム(II)、酢酸パラジウム、塩化アルミニウム、塩化マンガン(II)、酢酸マンガン(II)、酢酸マンガン(III)、塩化マンガン、塩化鉛、酢酸鉛、塩化インジウム(III)、塩化チタン(III)、塩化チタン(IV)、塩化スズ(II)、塩化スズ(IV)、塩化ルテニウム(III)、塩化白金(II)、四塩化ケイ素、塩化ゲルマニウム等が挙げられる。
【０１５７】
有機金属化合物としては、例えば、上記金属のカルボニル化合物が挙げられる。具体的には、アセチルアセトンマンガン等が挙げられる。
【０１５８】
金属又は無機若しくは有機金属化合物の使用量は、化合物（２）１モルに対し、通常、０．２モル以上であればよく、好ましくは０．２５〜０．５モルである。
【０１５９】
塩基としては、例えば、金属アルコキシド、ジアザビシクロウンデセン、ジアザビシクロノネン等が挙げられる。
【０１６０】
金属アルコキシドとしては、例えば、ナトリウム又はカリウムの、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、ブトキシド、ペントキシド等が挙げられる。具体的には、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、カリウムイソプロポキシド、ナトリウム−ｔ−ブトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシド（以下、ｔＢｕＯＫ又はｔ−ＢｕＯＫと称することもある）等が挙げられる。好ましくは、カリウム−ｔ−ブトキシド又はジアザビシクロウンデセンである。
【０１６１】
塩基は、化合物（２−１）、（２−２）、（２−３）又は（２−４）１モルに対し、通常、１〜３モル程度、好ましくは１．２〜１．８モル程度使用される。
【０１６２】
また、上記化合物（２−１）、（２−２）、（２−３）又は（２−４）と、金属又は無機若しくは有機金属化合物との反応においては、必要に応じて、窒素源として、例えば、ホルムアミド、アンモニア、尿素等を配合してもよい。好ましくは、ホルムアミドである。
【０１６３】
窒素源は、化合物（２−１）、（２−２）、（２−３）又は（２−４）１モルに対し、例えば、１モル以上、好ましくは１〜３モル程度使用することができる。
【０１６４】
上記化合物（２−１）、（２−２）、（２−３）又は（２−４）と、金属又は無機若しくは有機金属化合物との反応は、通常、溶媒中で行われる。溶媒としては、該反応に対して不活性な溶媒である限り公知の溶媒を広く使用することができる。例えば、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、アルコール類、アミン類、アミド類、スルホキシド類、ニトリル類の他、ニトロベンゼン等が挙げられる。
【０１６５】
芳香族炭化水素類としては、具体的には、キシレン、メチルナフタレン等を挙げることができる。
【０１６６】
ハロゲン化炭化水素類としては、具体的には、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、クロロナフタレン、テトラクロロエチレン、トリクロロエチレン等を挙げることができる。
【０１６７】
エーテル類としては、具体的には、ジエチレングリコールジメチルエーテル等を挙げることができる。
【０１６８】
アルコール類としては、具体的には、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール（１−ヘキサノールと称することもある）、ｎ−アミルアルコール、シクロヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、１−オクタノール（ｎ−オクタノールと称することもある）、２−エチルヘキサノール、ベンジルアルコール、エタンジオール、プロピレングリコール、メトキシエタノール、エトキシエタノール、プロポキシエタノール、ブトキシエタノール、ジメチルアミノエタノール、ジエチルアミノエタノール等を挙げることができる。
【０１６９】
アミン類としては、具体的には、トリ−ｎ−ブチルアミン等を挙げることができる。
【０１７０】
アミド類としては、具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（以下、DMFと称することもある）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下、DMAと称することもある）、Ｎ−メチルピロリドン（以下、NMPと称することもある）、１，３−ジメチルイミダゾリジノン等を挙げることができる。
【０１７１】
スルホキシド類としては、具体的には、スルホラン、ジメチルスルホキシド（以下、DMSOと称することもある）等を挙げることができる。
【０１７２】
ニトリル類としては、ベンゾニトリル等を挙げることができる。
【０１７３】
これらの溶媒は、１種を単独で又は２種以上混合して使用される。好ましくは、ｎ−アミルアルコール、ｎ−ヘキサノール、１−ヘプタノール、１−オクタノールである。
【０１７４】
これらの溶媒の使用量は、使用する化合物の種類等によって適宜設定すればよいが、化合物（２−１）、（２−２）、（２−３）又は（２−４）１重量部に対し、通常、１〜１００重量部程度、好ましくは２〜３０重量部程度使用される。
【０１７５】
該反応は、通常、９０〜２４０℃、好ましくは、１１０〜２００℃、更に好ましくは、１２０〜１７０℃で行われる。
【０１７６】
反応時間は、原料化合物の種類及び反応温度等により異なり、一概には言えないが、通常、１〜２４時間程度である。
【０１７７】
上記反応により得られた化合物は、通常の分離手段により反応系内より分離され、さらに、精製することができる。当該分離及び精製手段としては、公知の分離及び精製手段を広く使用でき、例えば、再結晶法、溶媒抽出法、カラムクロマトグラフィー、ゲルクロマトグラフィー、プレパラティブクロマトグラフィー等が挙げられるが、晶析、ろ過、洗浄、乾燥等の従来公知の方法によっても、効率よくかつ高純度で、フタロシアニン化合物を得ることができる。
【０１７８】
３．フタロニトリル及びその製造方法
上記一般式（２−１）〜（２−４）で表されるフタロニトリル化合物は、市販品を使用することができ、市販品がない場合は、例えば、ＷＯ２０１４／１１５６９２Ａ１等に記載の製造方法を参考に製造することができる。
【０１７９】
３−１．フタロニトリル化合物（２−３）の製造
具体的に、一般式（２−３）で表されるフタロニトリル化合物は、例えば、次の反応式−５及び反応式−６に示す方法により製造することができる。
【０１８０】
【化３０】
0006407713.tif 000031
【０１８１】
（式中、Ｒ８、Ｒ９、及びＸ１は、前記に同じ）
上記反応式−５に示したとおり、まず、化合物（５）に、化合物（ａ）を反応させて、化合物（４−３）を製造する（工程１）。次いで、工程１で得られた化合物（４−３）に、化合物（６）を反応させ、さらに非プロトン性極性溶媒を加えることにより、化合物（３−３）に変換する（工程２）。さらに、得られた化合物（３−３）に、化合物（ｂ）を反応させて、化合物（２−３’）を製造することができる（工程３−１）。
【０１８２】
（工程１）
化合物（４−３）は、通常、溶媒中で、塩基の存在下に、化合物（５）と化合物（ａ）を反応させることにより製造される。例えば、特開平０１−０４５４７４号公報、特開平０８−１２０１８６号公報に開示される公知の方法を用いることができるが、より詳細には、下記のとおりである。
【０１８３】
化合物（ａ）としては、アルコール類、フェノール類、ナフトール類、チオール類、チオフェノール類、アミン（１級アミン又は２級アミン）等が挙げられる。具体的には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、シクロヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、２−エチルヘキサノール、ｔ−オクタノール、フェノール、２−メチルフェノール（ｏ−クレゾール）、３−メチルフェノール、４−メチルフェノール、２，３−ジメチルフェノール、２，４−ジメチルフェノール、２，５−ジメチルフェノール、２，６−ジメチルフェノール、２，３，５−トリメチルフェノール、２，３，６−トリメチルフェノール、２，４，５−トリメチルフェノール、２，４，６−トリメチルフェノール、２−エチルフェノール、３−エチルフェノール、４−エチルフェノール、２，３−ジエチルフェノール、２，４−ジエチルフェノール、２，５−ジエチルフェノール、２，６−ジエチルフェノール、２，３，５−トリエチルフェノール、２，３，６−トリエチルフェノール、２，４，５−トリエチルフェノール、２，４，６−トリエチルフェノール、２−ｎ−プロピルフェノール、３−ｎ−プロピルフェノール、４−ｎ−プロピルフェノール、２，３−ジ−ｎ−プロピルフェノール、２，４−ジ−ｎ−プロピルフェノール、２，５−ジ−ｎ−プロピルフェノール、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェノール、２，３，５−トリ−ｎ−プロピルフェノール、２，３，６−トリ−ｎ−プロピルフェノール、２，４，５−トリ−ｎ−プロピルフェノール、２，４，６−トリ−ｎ−プロピルフェノール、２−イソプロピルフェノール、３−イソプロピルフェノール、４−イソプロピルフェノール、２，３−ジイソプロピルフェノール、２，４−ジイソプロピルフェノール、２，５−ジイソプロピルフェノール、２，６−ジイソプロピルフェノール、２，３，５−トリイソプロピルフェノール、２，３，６−トリイソプロピルフェノール、２，４，５−トリイソプロピルフェノール、２，４，６−トリイソプロピルフェノール、２−ｎ−ブチルフェノール、３−ｎ−ブチルフェノール、４−ｎ−ブチルフェノール、２，３−ジ−ｎ−ブチルフェノール、２，４−ジ−ｎ−ブチルフェノール、２，５−ジ−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｎ−ブチルフェノール、２，３，５−トリ−ｎ−ブチルフェノール、２，３，６−トリ−ｎ−ブチルフェノール、２，４，５−トリ−ｎ−ブチルフェノール、２，４，６−トリ−ｎ−ブチルフェノール、２−ｓ−ブチルフェノール、３−ｓ−ブチルフェノール、４−ｓ−ブチルフェノール、２−イソブチルフェノール、３−イソブチルフェノール、４−イソブチルフェノール、２−ｔ−ブチルフェノール、３−ｔ−ブチルフェノール、４−ｔ−ブチルフェノール、２，３−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，３，５−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，３，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，４，５−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、
２−ｎ−ペンチルフェノール、３−ｎ−ペンチルフェノール、４−ｎ−ペンチルフェノール、２−ｔ−アミルフェノール、３−ｔ−アミルフェノール、４−ｔ−アミルフェノール、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノール、２−ｎ−ヘキシルフェノール、３−ｎ−ヘキシルフェノール、４−ｎ−ヘキシルフェノール、４−シクロヘキシルフェノール、２−ｎ−ヘプチルフェノール、３−ｎ−ヘプチルフェノール、４−ｎ−ヘプチルフェノール、２−ｎ−オクチルフェノール、３−ｎ−オクチルフェノール、４−ｎ−オクチルフェノール、２−（２−エチルヘキシル）フェノール、３−（２−エチルヘキシル）フェノール、４−（２−エチルヘキシル）フェノール、２−ｔ−オクチルフェノール、３−ｔ−オクチルフェノール、４−ｔ−オクチルフェノール、２−ｎ−ノニルフェノール、３−ｎ−ノニルフェノール、４−ｎ−ノニルフェノール、２−ｎ−デシルフェノール、３−ｎ−デシルフェノール、４−ｎ−デシルフェノール、２−ｎ−ウンデシルフェノール、３−ｎ−ウンデシルフェノール、４−ｎ−ウンデシルフェノール、２−ｎ−ドデシルフェノール、３−ｎ−ドデシルフェノール、４−ｎ−ドデシルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、４−ｔ−ブチル−２，６−ジイソプロピルフェノール、４−ｓ−ブチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、４−ドデシルクレゾール、２−（ジメチルアミノ）フェノール、３−（ジメチルアミノ）フェノール、４−（ジメチルアミノ）フェノール、２−（ジエチルアミノ）フェノール、３−（ジエチルアミノ）フェノール、４−（ジエチルアミノ）フェノール、２−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）フェノール、３−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）フェノール、４−（ジ−ｎ−ブチルアミノ）フェノール、１−（４−ヒドロキシフェニル）ピペラジン、８−ヒドロキシジュロリジン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、２−フルオロフェノール、３−フルオロフェノール、４−フルオロフェノール、５−フルオロフェノール、６−フルオロフェノール、２，３−ジフルオロフェノール、２，４−ジフルオロフェノール、２，５−ジフルオロフェノール、２，６−ジフルオロフェノール、２，３，５−トリフルオロフェノール、２，３，６−トリフルオロフェノール、２，４，５−トリフルオロフェノール、２，４，６−トリフルオロフェノール、２−トリフルオロメチルフェノール、３−トリフルオロメチルフェノール、４−トリフルオロメチルフェノール、２−クロロフェノール、３−クロロフェノール、４−クロロフェノール、５−クロロフェノール、６−クロロフェノール、２，３−ジクロロフェノール、２，４−ジクロロフェノール、２，５−ジクロロフェノール、２，６−ジクロロフェノール、２，３，５−クロロフェノール、２，３，６−トリクロロフェノール、２，４，５−トリクロロフェノール、２，４，６−トリクロロフェノール、２−ニトロフェノール、３−ニトロフェノール、４−ニトロフェノール、５−ニトロフェノール、６−ニトロフェノール、２，３−ジニトロフェノール、２，４−ジニトロフェノール、２，５−ジニトロフェノール、
２，６−ジニトロフェノール、２−シアノフェノール、３−シアノフェノール、４−シアノフェノール、５−シアノフェノール、６−シアノフェノール、１−ナフトール（α−ナフトール）、２−ナフトール（β−ナフトール）、４−メトキシ−１−ナフトール、５−メトキシ−１−ナフトール、５−ジメチルアミノ−１−ナフトール、６−ジメチルアミノ−１−ナフトール、６−シアノ−２−ナフトール、４−ニトロ−１−ナフトール、メタンチオール、エタンチオール、プロパンチオール、２−プロパンチオール、ｎ−ブタンチオール、イソブチルメルカプタン、ｓ−ブチルメルカプタン、ｔ−ブタンチオール、ｎ−ペンタンチオール、ｎ−ヘキサンチオール、シクロヘキサンチオール、ｎ−ヘプタンチオール、ｎ−オクタンチオール、ｔ−オクタンチオール、ベンゼンチオール、２−トルエンチオール、３−トルエンチオール、４−トルエンチオール、２，３−ジメチルベンゼンチオール、２，４−ジメチルベンゼンチオール、２，５−ジメチルベンゼンチオール、３，４−ジメチルベンゼンチオール、３，５−ジメチルベンゼンチオール、２，３，４−トリメチルベンゼンチオール、２，３，５−トリメチルベンゼンチオール、２，３，６−トリメチルベンゼンチオール、２，４，５−トリメチルベンゼンチオール、２，４，６−トリメチルベンゼンチオール（２，４，６−トリメチルチオフェノール）、２−エチルベンゼンチオール、３−エチルベンゼンチオール、４−エチルベンゼンチオール、２，４，６−トリエチルベンゼンチオール、２−ｎ−プロピルベンゼンチオール、３−ｎ−プロピルベンゼンチオール、４−ｎ−プロピルベンゼンチオール、２−イソプロピルベンゼンチオール、３−イソプロピルベンゼンチオール、４−イソプロピルベンゼンチオール、２−ｎ−ブチルベンゼンチオール、３−ｎ−ブチルベンゼンチオール、４−ｎ−ブチルベンゼンチオール、２−ｔ−ブチルベンゼンチオール、３−ｔ−ブチルベンゼンチオール、４−ｔ−ブチルベンゼンチオール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルベンゼンチオール、２−ｎ−ペンチルベンゼンチオール、３−ｎ−ペンチルベンゼンチオール、４−ｎ−ペンチルベンゼンチオール、２−ｔ−アミルベンゼンチオール、３−ｔ−アミルベンゼンチオール、４−ｔ−アミルベンゼンチオール、４−ｎ−ヘキシルベンゼンチオール、５−ｔ−ブチル−２−メチルベンゼンチオール２−フルオロベンゼンチオール、３−フルオロベンゼンチオール、４−フルオロベンゼンチオール、２，３−ジフルオロベンゼンチオール、２，４−ジフルオロベンゼンチオール、２，５−ジフルオロベンゼンチオール、３，４−ジフルオロベンゼンチオール、３，５−ジフルオロベンゼンチオール、２，３，４−トリフルオロベンゼンチオール、２，３，５−トリフルオロベンゼンチオール、２，３，６−トリフルオロベンゼンチオール、２，４，５−トリフルオロベンゼンチオール、２，４，６−トリフルオロベンゼンチオール、２−クロロベンゼンチオール、３−クロロベンゼンチオール、４−クロロベンゼンチオール、２，３−ジクロロベンゼンチオール、２，４−ジクロロベンゼンチオール、２，５−ジクロロベンゼンチオール、３，４−ジクロロベンゼンチオール、３，５−��クロロベンゼンチオール、２，３，４−トリクロロベンゼンチオール、２，３，５−トリクロロベンゼンチオール、２，３，６−トリクロロベンゼンチオール、２，４，５−トリクロロベンゼンチオール、２，４，６−トリクロロベンゼンチオール、２−ブロモベンゼンチオール、３−ブロモベンゼンチオール、４−ブロモベンゼンチオール、２−メトキシベンゼンチオール、３−メトキシベンゼンチオール、４−メトキシベンゼンチオール、３，４−ジメトキシベンゼンチオール、２−（メチルチオ）ベンゼンチオール、３−（メチルチオ）ベンゼンチオール、４−（メチルチオ）ベンゼンチオール、１−ナフタレンチオール、２−ナフタレンチオールが挙げられる。また、２−メルカプト−５−メトキシベンゾチアゾール、５−ヒドロキシインドール、５−ヒドロキシ−２−メチルベンゾフラン、８−メルカプトキノリン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン（ｎ−Ｂｕ−ＮＨ２と称することもある）、イソブチルアミン、ｓ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｔ−オクチルアミン、２−エチルヘキシルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、Ｎ−エチルメチルアミン、Ｎ−メチルプロピルアミン、Ｎ−メチルイソブチルアミン、Ｎ−エチルプロピルアミン、Ｎ−エチルイソプロピルアミン、Ｎ−エチルブチルアミン、Ｎ−ｔ−ブチルエチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−ｓ−ブチルアミン、ジ−ｔ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジ−ｎ−ヘプチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｔ−オクチルアミン、ジ−ｎ−ノニルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン、ジ−ｎ−ウンデシルアミン、ジ−ｎ−ドデシルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、アニリン、２−フルオロアニリン、３−フルオロアニリン、４−フルオロアニリン、２−クロロアニリン、３−クロロアニリン、４−クロロアニリン、２，４−ジクロロアニリン、３，５−ジクロロアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，４−フェニレンジアミン、ｏ−トルイジン、ｍ−トルイジン、ｐ−トルイジン、２，６−ジメチルアニリン、３，５−ジメチルアニリン、４−エチルアニリン、４−ｔ−ブチルアニリン、ｐ−アニシジン、４−メチルチオアニリン、４−（トリフルオロメチル）アニリン、４−フェノキシアニリン、４’−アミノアセトフェノン、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン、１−アミノアントラセン、２−アミノアントラセン、Ｎ−メチルアニリン、ジフェニルアミン、２−メチル−４−アミノピリジン、２−クロロ−４−アミノピリジン、６−フルオロ−２−アミノベンゾチアゾール、２−アミノ−６−クロロベンゾチアゾール、２−アミノ−６−メチルベンゾチアゾール、２−アミノ−６−メトキシベンゾチアゾール、２−アミノ−１，３，４−チアジアゾール、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、１−メチルピペラジン、チオモルホリン、��ンジルアミン、２−フルオロベンジルアミン、３−フルオロベンジルアミン、４−フルオロベンジルアミン、２−クロロベンジルアミン、３−クロロベンジルアミン、４−クロロベンジルアミン、２，４−ジクロロベンジルアミン、４−（トリフルオロメチル）ベンジルアミン、４−ジメチルアミノベンジルアミン、１−フェニルエチルアミン、２−フェニルエチルアミン、１−（２，４−ジクロロフェニル）エチルアミン、１−（ｐ−トリル）エチルアミン、４−（アミノメチル）安息香酸メチル、α，α−ジメチルベンジルアミン、１，１−ジフェニルメチルアミン、Ｎ−メチルベンジルアミン、Ｎ−エチルベンジルアミン、ジベンジルアミン、Ｎ−メチル−１−ナフチルメチルアミン、Ｎ−メチル−２−フェニルエチルアミン等を使用することもできる。好ましくは、２，４，６−トリメチルフェノール、フェノール、２−メチルフェノール、１−ナフトール、２−ナフトール、２，４，６−トリメチルベンゼンチオール、４−ｔ−オクチルフェノールである。
【０１８４】
化合物（ａ）の使用量は、通常、化合物（５）に対して、０．９〜２当量、好ましくは０．９〜１．５当量、より好ましくは０．９５〜１．１当量程度である。
【０１８５】
本反応で使用する塩基としては、例えば、アルカリ性物質等が挙げられる。具体的には、フッ化カリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等を挙げることができる。これらの塩基は、１種単独で又は２種以上を混合して使用される。好ましくは、フッ化カリウム、炭酸カリウムである。
【０１８６】
このような塩基の使用量は、使用する塩基の種類及びその使用量に応じて適宜設定されるものであるが、通常、化合物（５）に対して、０．９〜３当量、好ましくは１〜２当量、より好ましくは１〜１．３当量程度とすればよい。
【０１８７】
本反応に使用される溶媒としては、該反応に対して不活性な溶媒である限り、公知の溶媒を広く使用することができるが、アセトン、アセトニトリル、DMA、DMF、メチルエチルケトン（以下、MEKと称することもある）等を用いるのが望ましい。
【０１８８】
これらの溶媒の使用量は、使用する塩基の種類等によって適宜設定すればよいが、通常、化合物（５）１重量部に対して、１〜５０重量部程度、好ましくは１〜２０重量部程度、より好ましくは１．５〜１５重量部程度使用すればよい。
【０１８９】
本反応は、通常、−１０〜４０℃、好ましくは、−５〜１５℃で行われる。
【０１９０】
反応時間は、使用する塩基の種類、反応温度等により異なり、一概には言えないが、通常１〜１２時間程度で該反応は完結する。
【０１９１】
上記反応により得られた化合物は、通常の分離手段により反応系内より分離され、さらに、精製することができる。当該分離及び精製手段としては、例えば、上記「２．フタロシアニン化合物の製造方法」で挙げた手段を適用することができる。
【０１９２】
（工程２）
化合物（３−３）は、通常、塩基の存在下に、第一の溶媒中、化合物（４−３）と化合物（６）とを反応させた後、さらに、第一の溶媒とは異なる第二の溶媒を加えることにより製造される。
【０１９３】
化合物（６）は、以下の一般式（６）：
【０１９４】
【化３１】
0006407713.tif 000032
【０１９５】
（式中、Ｘ１は、酸素原子又は硫黄原子を示す。）
で表される化合物である。つまり、化合物（６）は、２−アミノフェノール又は２−アミノチオフェノールである。
【０１９６】
化合物（６）の使用量は、通常、化合物（４−３）に対して、０．８〜１．５当量、好ましくは０．９〜１．３当量、より好ましくは０．９５〜１．２当量程度である。
【０１９７】
本反応で使用する塩基としては、公知の無機塩基及び有機塩基を使用できる。
【０１９８】
無機塩基としては、例えば、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属水素化物、アルカリフッ化物等が挙げられる。また、有機塩基としては、例えば、アミン等が挙げられる。
【０１９９】
アルカリ金属炭酸塩としては、具体的には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等を挙げることができる。
【０２００】
アルカリ金属水酸化物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙げることができる。
【０２０１】
アルカリ金属水素化物としては、具体的には、水素化ナトリウム、水素化カリウム等を挙げることができる。
【０２０２】
アルカリフッ化物としては、具体的には、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム等を挙げることができる。
【０２０３】
アミンとしては、具体的には、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等を挙げることができる。
【０２０４】
これらの塩基は、１種単独で又は２種以上を混合して使用される。好ましくは、トリエチルアミン、炭酸カリウムである。
【０２０５】
このような塩基の使用量は、使用する化合物の種類及びその使用量に応じて適宜設定されるものであるが、通常、化合物（４−３）に対して、１〜１０当量、好ましくは１〜８当量、より好ましくは１．２〜３．５当量程度とすればよい。
【０２０６】
本反応に使用される第一の溶媒としては、該反応に対して不活性な非プロトン性溶媒を広く使用することができる。例えば、アセトニトリル、アセトン、THF、ジオキサン等を使用することができる。好ましくは、アセトニトリルである。これらの溶媒は、１種単独で又は２種以上を混合して使用される。
【０２０７】
上記第一の溶媒の使用量は、使用する化合物の種類等によって適宜設定すればよいが、通常、化合物（４−３）１重量部に対して、０．５〜５０重量部程度、好ましくは１〜３０重量部程度、より好ましくは１〜２０重量部程度使用すればよい。
【０２０８】
本反応に使用される第二の溶媒としては、該反応に対して不活性な非プロトン性溶媒であって、第一の溶媒とは異なる溶媒を広く使用することができる。例えば、DMSO、DMF、DMA、NMP、スルホラン等を使用することができる。好ましくは、DMAである。これらの溶媒は、１種単独で又は２種以上を混合して使用される。第二の溶媒は、前記化合物（６）の消失を確認した後で添加することが好ましい。
【０２０９】
上記第二の溶媒の使用量は、使用する化合物の種類等によって適宜設定すればよいが、通常、化合物（４−３）１重量部に対して、０．５〜５０重量部程度、好ましくは１〜３０重量部程度、より好ましくは１〜２０重量部程度使用すればよい。
【０２１０】
本反応は、通常、２０〜１００℃程度、好ましくは、４０〜８５℃で行われる。
【０２１１】
反応時間は、使用する化合物の種類、反応温度等により異なり、一概には言えないが、第一の溶媒での反応時間は、０．１〜２時間程度、第二の溶媒を添加した後の反応時間は０．４〜１０時間程度であり、工程２全体としては、通常、０．５〜１２時間程度で該反応は完結する。
【０２１２】
上記反応により得られた化合物は、通常の分離手段により反応系内より分離され、さらに、精製することができる。当該分離及び精製手段としては、例えば、上記「２．フタロシアニン化合物の製造方法」で挙げた手段を適用することができる。
【０２１３】
（工程３）
化合物（２−３’）は、通常、塩基の存在下に、溶媒中、化合物（３−３）と化合物（ｂ）とを反応させることにより製造される。
【０２１４】
化合物（ｂ）としては、フェノール類、ナフトール類、チオフェノール類等が挙げられる。具体的には、上記化合物（ａ）として挙げた化合物と同じ化合物を挙げることができる。
【０２１５】
化合物（ｂ）の使用量は、通常、化合物（３−３）に対して、１〜２．５当量、好ましくは１．１〜２当量、より好ましくは１．２〜１．６当量程度である。
【０２１６】
本反応で使用する塩基としては、公知の無機塩基及び有機塩基を使用できる。例えば、上記（工程２）で挙げた塩基と同じものを使用することができる。
【０２１７】
上記塩基の使用量は、使用する化合物の種類及びその使用量に応じて適宜設定されるものであるが、通常、化合物（３−３）に対して、１〜１０当量、好ましくは１〜８当量、より好ましくは１．２〜３．５当量程度とすればよい。
【０２１８】
本反応に使用される溶媒としては、該反応に対して不活性な公知の非プロトン性極性溶媒を広く使用することができる。例えば、DMA、DMSO等を挙げることができる。
【０２１９】
上記溶媒の使用量は、使用する化合物の種類等によって適宜設定すればよいが、通常、化合物（３−３）１重量部に対して、０．５〜５０重量部程度、好ましくは１〜３０重量部程度、より好ましくは１〜２０重量部程度使用すればよい。
【０２２０】
本反応は、通常、２０〜１２０℃程度、好ましくは、４０〜９０℃で行われる。
【０２２１】
反応時間は、使用する化合物の種類、反応温度等により異なり、一概には言えないが、通常０．５〜１０時間程度で該反応は完結する。
【０２２２】
上記反応により得られた化合物は、通常の分離手段により反応系内より分離され、さらに、精製することができる。当該分離及び精製手段としては、例えば、上記「２．フタロシアニン化合物の製造方法」で挙げた手段を適用することができる。
【０２２３】
さらに、上記反応により得られた、フタロシアニン化合物を製造するための中間体化合物（２−３’）は、例えば、次の反応式−６に示す方法により、中間体化合物（２−３）に変換することもできる（該反応を工程３−２という場合もある）。
【０２２４】
【化３２】
0006407713.tif 000033
【０２２５】
（式中、Ｘ１、Ｒ８及びＲ９は、前記に同じ。Ｒ７は置換基を有していてもよいアルキル基を示し、Ｙは脱離基を示す。）
化合物（２−３）は、通常、塩基の存在下に、溶媒中、化合物（２−３’）と化合物（ｃ）とを反応させることにより製造される。
【０２２６】
化合物（ｃ）におけるＹの脱離基としては、例えば、ハロゲン原子、ｐ−トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等が挙げられる。
【０２２７】
ハロゲン原子としては、塩素、臭素、沃素が挙げられる。
【０２２８】
化合物（ｃ）としては、具体的には、ベンジルクロリド、ブロモメタン、ブロモエタン、１−ブロモプロパン、２−ブロモプロパン、１−ブロモブタン、２−ブロモブタン、１−ブロモ−２−メチルプロパン、ｔ−ブチルブロミド、１−ブロモペンタン（以下、ｎ−アミルブロマイド又はn-AmylBrと称することもある）、１−ブロモ−２−メチルブタン、１−ブロモ−３−メチルブタン、２−ブロモ−２−メチルブタン、ブロモシクロペンタン、１−ブロモヘキサン、２−ブロモヘキサン、３−ブロモヘキサン、１−ブロモ−４−メチルペンタン、１−ブロモ−２−エチルブタン、ブロモシクロヘキサン、１−ブロモヘプタン、２−ブロモヘプタン、３−ブロモヘプタン、１−ブロモオクタン、２−ブロモオクタン、３−ブロモオクタン、４−ブロモオクタン、１−ブロモ−２−エチルヘキサン、１−ブロモノナン、１−ブロモデカン、１−ブロモウンデカン、１−ブロモドデカン、２−フェニルエチルブロミド、３−フェニルプロピルブロミド、４−フェニルブチルブロミド、５−フェニルペンチルブロミド、１−ブロモ−２−メトキシエタン、１−ブロモ−３−メトキシプロパン、３−（２−メトキシエトキシ）プロピルブロミド、２−（２−ブロモエチル）−１，３−ジオキソラン、４−ブロモ−１−ブタノール、５−ブロモ−１−ペンタノール、６−ブロモ−１−ヘキサノール、７−ブロモ−１−ヘプタノール、８−ブロモ−１−オクタノール、９−ブロモ−１−ノナノール、１０−ブロモ−１−デカノール、１１−ブロモ−１−ウンデカノール、１２−ブロモ−１−ドデカノール、ヨードメタン、ヨードエタン、１−ヨードプロパン、２−ヨードプロパン、１−ヨードブタン、２−ヨードブタン、１−ヨード−２−メチルプロパン、ｔ−ブチルヨージド、１−ヨードペンタン、２−ヨードペンタン、３−ヨードペンタン、１−ヨード−３−メチルブタン、１−ヨード−２−メチルブタン、１−ヨードヘキサン、２−ヨードヘキサン、３−ヨードヘキサン、ヨードシクロヘキサン、１−ヨードヘプタン、１−ヨードオクタン、１−ヨードノナン、１−ヨードデカン、１−ヨードウンデカン、１−ヨードドデカン、メチルトリフラート、エチルトリフラート、プロピルトリフラート、ブチルトリフラート、ペンチルトリフラート、ヘキシルトリフラート、ヘプチルトリフラート、オクチルトリフラート、２−エチルヘキシルトリフラート、ノニルトリフラート、デシルトリフラート、ウンデシルトリフラート、ドデシルトリフラート、２，２，２−トリフルオロエチルトリフラート、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸プロピル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ペンチル、ｐ−トルエンスルホン酸−２−メチルブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル、ｐ−トルエンスルホン酸シクロヘキシル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘプチル、ｐ−トルエンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエンスルホン酸−２−エチルヘキシル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘプチル、ｐ−トルエンスルホン酸デシル、ｐ−トルエンスルホン酸ウンデシル、ｐ−トルエンスルホン酸ドデシル、ｐ−トルエンスルホン酸−２−クロロエチル、ｐ−トルエンスルホン酸−２，２，２−ト���フルオロエチル、ｐ−トルエンスルホン酸−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、ｐ−トルエンスルホン酸−２−メトキシエチル、ｐ−トルエンスルホン酸−２−メチルブチル、ｐ−トルエンスルホン酸フェネチル、メタンスルホン酸メチル、メタンスルホン酸エチル、メタンスルホン酸プロピル、メタンスルホン酸ブチル、メタンスルホン酸ペンチル、メタンスルホン酸ヘキシル、メタンスルホン酸シクロヘキシル、メタンスルホン酸ヘプチル、メタンスルホン酸オクチル、メタンスルホン酸−２−エチルヘキシル、メタンスルホン酸ノニル、メタンスルホン酸デシル、メタンスルホン酸ウンデシル、メタンスルホン酸ドデシル、メタンスルホン酸−２，２，２−トリフルオロエチル、メタンスルホン酸−２−メトキシエチル、メタンスルホン酸−２−クロロエチル、メタンスルホン酸−２−イソプロポキシエチル等を挙げることができる。
【０２２９】
化合物（ｃ）の使用量は、通常、化合物（２−３’）に対して、０．９〜３当量、好ましくは１〜２当量、より好ましくは１．２〜１．８当量程度である。
【０２３０】
本反応で使用する塩基としては、公知の無機塩基及び有機塩基を使用できる。例えば、上記（工程２）で挙げた塩基と同じものを使用することができる。
【０２３１】
上記塩基の使用量は、使用する化合物の種類及びその使用量に応じて適宜設定されるものであるが、通常、化合物（２−３’）に対して、１〜１０当量、好ましくは１〜５当量、より好ましくは１．２〜２．５当量程度とすればよい。
【０２３２】
本反応に使用される溶媒としては、該反応に対して不活性な公知の非プロトン性極性溶媒を広く使用することができる。例えば、DMF、DMA、DMSO等を挙げることができる。
【０２３３】
上記溶媒の使用量は、使用する化合物の種類等によって適宜設定すればよいが、通常、化合物（２−３’）１重量部に対して、０．５〜５０重量部程度、好ましくは１〜３０重量部程度、より好ましくは１〜２０重量部程度使用すればよい。
【０２３４】
本反応は、通常、５０〜１４０℃程度、好ましくは、６０〜１２０℃で行われる。
【０２３５】
反応時間は、使用する化合物の種類、反応温度等により異なり、一概には言えないが、通常１〜６時間程度で該反応は完結する。
【０２３６】
上記反応により得られた化合物は、通常の分離手段により反応系内より分離され、さらに、精製することができる。当該分離及び精製手段としては、例えば、上記「２．フタロシアニン化合物の製造方法」で挙げた手段を適用することができる。
【０２３７】
３−２．フタロニトリル化合物（２−４）の製造
フタロニトリル化合物（２−４）は、例えば、次の反応式−７に示す方法により製造することができる。
【０２３８】
【化３３】
0006407713.tif 000034
【０２３９】
（式中、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｘ３、Ｘ４、環Ａ１及び環Ａ２は、前記に同じ）
上記反応式−７に示したとおり、まず、化合物（５）（テトラフルオロフタロニトリル）に、化合物（ａ−２）を反応させて、化合物（４−４）を製造する（工程１）。次いで、工程１で得られた化合物（４−４）に、化合物（６−２）を反応させることにより、化合物（３−４）に変換する（工程２）。さらに、得られた化合物（３−４）に、化合物（ｂ−２）を反応させて、化合物（２−４）を製造することができる（工程３）。
【０２４０】
（工程１）
化合物（４−４）は、通常、溶媒中で、塩基の存在下に、化合物（５）と化合物（ａ−２）を反応させることにより製造される。例えば、特開平０１−０４５４７４号公報、特開平０８−１２０１８６号公報に開示される公知の方法を用いることができるが、より詳細には、下記のとおりである。
【０２４１】
化合物（ａ−２）の使用量は、通常、化合物（５）に対して、０．９〜２当量、好ましくは０．９〜１．５当量、より好ましくは０．９５〜１．１当量程度である。
【０２４２】
本反応で使用する塩基としては、例えば、アルカリ性物質等が挙げられる。具体的には、フッ化カリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等を挙げることができる。これらの塩基は、１種単独で又は２種以上を混合して使用される。好ましくは、フッ化カリウム、炭酸カリウムである。
【０２４３】
このような塩基の使用量は、使用する塩基の種類及びその使用量に応じて適宜設定されるものであるが、通常、化合物（５）に対して、０．９〜３当量、好ましくは１〜２当量、より好ましくは１〜１．３当量程度とすればよい。
【０２４４】
本反応に使用される溶媒としては、該反応に対して不活性な溶媒である限り、公知の溶媒を広く使用することができるが、アセトン、アセトニトリル、DMA、DMF、メチルエチルケトン（以下、MEKと称することもある）等を用いるのが望ましい。
【０２４５】
これらの溶媒の使用量は、使用する塩基の種類等によって適宜設定すればよいが、通常、化合物（５）１重量部に対して、１〜５０重量部程度、好ましくは１〜２０重量部程度、より好ましくは１．５〜１５重量部程度使用すればよい。
【０２４６】
本反応は、通常、−１０〜４０℃、好ましくは、−５〜１５℃で行われる。
【０２４７】
反応時間は、使用する塩基の種類、反応温度等により異なり、一概には言えないが、通常１〜１２時間程度で該反応は完結する。
【０２４８】
上記反応により得られた化合物は、通常の分離手段により反応系内より分離され、さらに、精製することができる。当該分離及び精製手段としては、例えば、上記「２．フタロシアニン化合物の製造方法」で挙げた手段を適用することができる。
【０２４９】
（工程２）
化合物（３−４）は、通常、溶媒中、塩基の存在下に、化合物（４−４）と化合物（６−２）とを反応させることにより製造される。
【０２５０】
化合物（６−２）としては、ビフェノール類、ビナフトール類、ビアントラセノール類等が挙げられる。具体的には、２，２’−ビフェノール、１，１’−ビ−２−ナフトール（２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフチル）、３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ビフェノール、５，５’，６，６’，７，７’，８，８’−オクタヒドロ−１，１’−ビ−２−ナフトール、３，３’，５，５’−テトラメチル−２，２’−ジヒドロキシビフェニル、等を挙げることができる。好ましくは、２，２’−ビフェノール、３，３’，５，５’−テトラメチル−２，２’−ジヒドロキシビフェニル、及び２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフチルからなる群から選ばれた少なくとも１種である。
【０２５１】
化合物（６−２）の使用量は、通常、化合物（４−４）に対して、０．８〜２当量、好ましくは０．９〜１．８当量、より好ましくは０．９５〜１．５当量程度である。
【０２５２】
本反応で使用する塩基としては、例えば、アルカリ性物質等が挙げられる。具体的には、フッ化カリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等を挙げることができる。好ましくは、フッ化カリウム、炭酸カリウムである。
【０２５３】
このような塩基の使用量は、使用する化合物の種類及びその使用量に応じて適宜設定されるものであるが、通常、化合物（４−４）に対して、１〜１０当量、好ましくは１〜８当量、より好ましくは１．２〜３．５当量程度とすればよい。
【０２５４】
本反応に使用される溶媒としては、該反応に対して不活性な溶媒である限り、公知の溶媒を広く使用することができるが、アセトン、アセトニトリル、DMSO、DMA、DMF、MEK等を用いるのが望ましい。
【０２５５】
上記溶媒の使用量は、使用する化合物の種類等によって適宜設定すればよいが、通常、化合物（４−４）１重量部に対して、０．５〜５０重量部程度、好ましくは１〜３０重量部程度、より好ましくは１〜２０重量部程度使用すればよい。
【０２５６】
本反応は、通常、２０〜１００℃程度、好ましくは、２０〜８５℃で行われる。
【０２５７】
反応時間は、使用する化合物の種類、反応温度等により異なり、一概には言えないが、通常、０．５〜１２時間程度で該反応は完結する。
【０２５８】
上記反応により得られた化合物は、通常の分離手段により反応系内より分離され、さらに、精製することができる。当該分離及び精製手段としては、例えば、上記「２．フタロシアニン化合物の製造方法」で挙げた手段を適用することができる。
【０２５９】
（工程３）
化合物（２−４）は、通常、塩基の存在下に、溶媒中、化合物（３−４）と化合物（ｂ−２）とを反応させることにより製造される。
【０２６０】
化合物（ｂ−２）としては、アルコール類、フェノール類、ナフトール類、チオール類、チオフェノール類、アミン（１級アミン又は２級アミン）等が挙げられる。具体的には、上記化合物（ａ）として挙げた化合物と同じ化合物を挙げることができる。
【０２６１】
化合物（ｂ−２）の使用量は、通常、化合物（３−４）に対して、１〜５当量、好ましくは１〜３．５当量、より好ましくは１．０５〜３当量程度である。
【０２６２】
本反応で使用する塩基としては、公知の無機塩基及び有機塩基を使用できる。
【０２６３】
無機塩基としては、例えば、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属水素化物等が挙げられる。また、有機塩基としては、例えば、アミン等が挙げられる。
【０２６４】
アルカリ金属炭酸塩としては、具体的には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等を挙げることができる。
【０２６５】
アルカリ金属水酸化物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を挙げることができる。
【０２６６】
アルカリ金属水素化物としては、具体的には、水素化ナトリウム、水素化カリウム等を挙げることができる。
【０２６７】
アミンとしては、具体的には、トリエチルアミン（以下、Ｅｔ３Ｎと称することもある）、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン等を挙げることができる。
【０２６８】
これらの塩基は、１種単独で又は２種以上を混合して使用される。好ましくは、トリエチルアミン、炭酸カリウムである。
【０２６９】
上記塩基の使用量は、使用する化合物の種類及びその使用量に応じて適宜設定されるものであるが、通常、化合物（３−４）に対して、１〜１０当量、好ましくは１〜８当量、より好ましくは１．１〜３．５当量程度とすればよい。
【０２７０】
本反応に使用される溶媒としては、該反応に対して不活性な公知の非プロトン性極性溶媒を広く使用することができる。例えば、上記（工程１）で挙げた溶媒と同じものを使用することができるが、アセトニトリル、DMA又はDMFを用いるのが望ましい。
【０２７１】
上記溶媒の使用量は、使用する化合物の種類等によって適宜設定すればよいが、通常、化合物（３−４）１重量部に対して、０．５〜５０重量部程度、好ましくは０．５〜３０重量部程度、より好ましくは０．８〜２０重量部程度使用すればよい。
【０２７２】
本反応は、通常、２０〜１２０℃程度、好ましくは、４０〜９０℃で行われる。
【０２７３】
反応時間は、使用する化合物の種類、反応温度等により異なり、一概には言えないが、通常、０．５〜２０時間程度で該反応は完結する。
【０２７４】
上記反応により得られた化合物は、通常の分離手段により反応系内より分離され、さらに、精製することができる。当該分離及び精製手段としては、例えば、上記「２．フタロシアニン化合物の製造方法」で挙げた手段を適用することができる。
【０２７５】
さらに、上記反応により得られた、フタロシアニン化合物を製造するための中間体化合物（２−４’）（上記化合物（２−４）において、Ｒ１８がＮＲ８１Ｒ８２であって、且つ、前記Ｒ８２が水素原子である化合物）は、例えば、次の反応式−８に示す方法により、中間体化合物（２−４”）に変換することもできる。
【０２７６】
【化３４】
0006407713.tif 000035
【０２７７】
（式中、Ｒ１７、Ｒ８１、Ｘ３、Ｘ４、環Ａ１及び環Ａ２は、前記に同じ。式中、Ｒ８３は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を示し、Ｙは脱離基を示す。）
化合物（２−４”）は、通常、塩基の存在下に、溶媒中、化合物（２−４’）と化合物（ｃ−２）とを反応させることにより製造される。
【０２７８】
化合物（ｃ−２）におけるＲ８３の、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基としては、それぞれ、上記環Ａ、環Ｂ、環Ｃ及び環Ｄで示した、置換基を有していてもよいアリール基におけるアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基と同じ基を挙げることができる。
【０２７９】
化合物（ｃ−２）におけるＹの脱離基としては、例えば、ハロゲン原子、ｐ−トルエンスルホニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基等が挙げられる。
【０２８０】
ハロゲン原子としては、塩素、臭素、沃素が挙げられる。
【０２８１】
化合物（ｃ−２）としては、具体的には、ベンジルクロリド、ブロモメタン、ブロモエタン、１−ブロモプロパン、２−ブロモプロパン、１−ブロモブタン（以下、n−BuBrと称することもある）、２−ブロモブタン、１−ブロモ−２−メチルプロパン、ｔ−ブチルブロミド、１−ブロモペンタン、１−ブロモ−２−メチルブタン、１−ブロモ−３−メチルブタン、２−ブロモ−２−メチルブタン、ブロモシクロペンタン、１−ブロモヘキサン、２−ブロモヘキサン、３−ブロモヘキサン、１−ブロモ−４−メチルペンタン、１−ブロモ−２−エチルブタン、ブロモシクロヘキサン、１−ブロモヘプタン、２−ブロモヘプタン、３−ブロモヘプタン、１−ブロモオクタン、２−ブロモオクタン、３−ブロモオクタン、４−ブロモオクタン、１−ブロモ−２−エチルヘキサン、１−ブロモノナン、１−ブロモデカン、１−ブロモウンデカン、１−ブロモドデカン、２−フェニルエチルブロミド、３−フェニルプロピルブロミド、４−フェニルブチルブロミド、５−フェニルペンチルブロミド、１−ブロモ−２−メトキシエタン、１−ブロモ−３−メトキシプロパン、３−（２−メトキシエトキシ）プロピルブロミド、２−（２−ブロモエチル）−１，３−ジオキソラン、４−ブロモ−１−ブタノール、５−ブロモ−１−ペンタノール、６−ブロモ−１−ヘキサノール、７−ブロモ−１−ヘプタノール、８−ブロモ−１−オクタノール、９−ブロモ−１−ノナノール、１０−ブロモ−１−デカノール、１１−ブロモ−１−ウンデカノール、１２−ブロモ−１−ドデカノール、ヨードメタン、ヨードエタン、１−ヨードプロパン、２−ヨードプロパン、１−ヨードブタン、２−ヨードブタン、１−ヨード−２−メチルプロパン、ｔ−ブチルヨージド、１−ヨードペンタン、２−ヨードペンタン、３−ヨードペンタン、１−ヨード−３−メチルブタン、１−ヨード−２−メチルブタン、１−ヨードヘキサン、２−ヨードヘキサン、３−ヨードヘキサン、ヨードシクロヘキサン、１−ヨードヘプタン、１−ヨードオクタン、１−ヨードノナン、１−ヨードデカン、１−ヨードウンデカン、１−ヨードドデカン、メチルトリフラート、エチルトリフラート、プロピルトリフラート、ブチルトリフラート、ペンチルトリフラート、ヘキシルトリフラート、ヘプチルトリフラート、オクチルトリフラート、２−エチルヘキシルトリフラート、ノニルトリフラート、デシルトリフラート、ウンデシルトリフラート、ドデシルトリフラート、２，２，２−トリフルオロエチルトリフラート、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸プロピル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ペンチル、ｐ−トルエンスルホン酸−２−メチルブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル、ｐ−トルエンスルホン酸シクロヘキシル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘプチル、ｐ−トルエンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエンスルホン酸−２−エチルヘキシル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘプチル、ｐ−トルエンスルホン酸デシル、ｐ−トルエンスルホン酸ウンデシル、ｐ−トルエンスルホン酸ドデシル、ｐ−トルエンスルホン酸−２−クロロエチル、ｐ−トルエンスルホン酸−２，２，２−トリフルオロエチル、ｐ���トルエンスルホン酸−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、ｐ−トルエンスルホン酸−２−メトキシエチル、ｐ−トルエンスルホン酸−２−メチルブチル、ｐ−トルエンスルホン酸フェネチル、メタンスルホン酸メチル、メタンスルホン酸エチル、メタンスルホン酸プロピル、メタンスルホン酸ブチル、メタンスルホン酸ペンチル、メタンスルホン酸ヘキシル、メタンスルホン酸シクロヘキシル、メタンスルホン酸ヘプチル、メタンスルホン酸オクチル、メタンスルホン酸−２−エチルヘキシル、メタンスルホン酸ノニル、メタンスルホン酸デシル、メタンスルホン酸ウンデシル、メタンスルホン酸ドデシル、メタンスルホン酸−２，２，２−トリフルオロエチル、メタンスルホン酸−２−メトキシエチル、メタンスルホン酸−２−クロロエチル、メタンスルホン酸−２−イソプロポキシエチル等を挙げることができる。
【０２８２】
化合物（ｃ−２）の使用量は、通常、化合物（２−４’）に対して、０．９〜３当量、好ましくは１〜２．５当量、より好ましくは１．２〜２当量程度である。
【０２８３】
本反応で使用する塩基としては、公知の無機塩基及び有機塩基を使用できる。例えば、上記（工程２）で挙げた塩基と同じものを使用することができる。
【０２８４】
上記塩基の使用量は、使用する化合物の種類及びその使用量に応じて適宜設定されるものであるが、通常、化合物（２−４’）に対して、１〜１０当量、好ましくは１〜５当量、より好ましくは１．２〜２．５当量程度とすればよい。
【０２８５】
本反応に使用される溶媒としては、該反応に対して不活性な公知の非プロトン性極性溶媒を広く使用することができる。例えば、DMF、DMA、DMSO等を挙げることができる。
【０２８６】
上記溶媒の使用量は、使用する化合物の種類等によって適宜設定すればよいが、通常、化合物（２−４’）１重量部に対して、０．５〜５０重量部程度、好ましくは１〜３０重量部程度、より好ましくは１〜２０重量部程度使用すればよい。
【０２８７】
本反応は、通常、５０〜１４０℃程度、好ましくは、６０〜１２０℃で行われる。反応時間は、使用する化合物の種類、反応温度等により異なり、一概には言えないが、通常１〜１２時間程度で該反応は完結する。
【０２８８】
上記反応により得られた化合物は、通常の分離手段により反応系内より分離され、さらに、精製することができる。当該分離及び精製手段としては、例えば、上記「２．フタロシアニン化合物の製造方法」で挙げた手段を適用することができる。
【０２８９】
４．レーザー溶着用樹脂組成物の製造方法
本発明のレーザー溶着用樹脂組成物の製造方法としては、特に制限はなく、例えば、次の方法が例示できる：
（ａ）熱可塑性樹脂（粉末、顆粒、フレーク又はペレット）と、上記フタロシアニン化合物及び必要に応じて前記の添加剤を、慣用の混合機を用いて混合してドライブレンドタイプの熱可塑性樹脂樹脂組成物を製造する方法、
（ｂ）このドライブレンドタイプの熱可塑性樹脂組成物を、慣用の混練り機、例えば一軸、二軸の押し出し機等を用いて、所望の温度で溶融混練し、押し出されたストランドを冷却し、次いで冷却されたストランドをカッティングしてペレットタイプの熱可塑性樹脂組成物を製造する方法、
（ｃ）フタロシアニン化合物の含有量が高いマスターバッチペレットタイプの熱可塑性樹脂組成物を製造する方法。
【０２９０】
本発明の熱可塑性樹脂組成物におけるフタロシアニン化合物の配合量、及び配合割合は、前記「１−１．フタロシアニン化合物」におけるフタロシアニン化合物の含有量、及び含有割合と同じである。
【０２９１】
また、各成分を予め混合することなく、又はその一部のみを予め混合し、フィーダーを用いて押出機に供給して溶融混練し、本発明の熱可塑性樹脂組成物を調製することもできる。
【０２９２】
本発明のレーザー溶着用樹脂組成物は、そのまま成形に供してもよいが、フタロシアニン化合物を熱可塑性樹脂と共に溶融、混練後にペレット化してフタロシアニン化合物濃度の高いマスターバッチとし、このマスターバッチを更に該熱可塑性樹脂で希釈、溶融、混練、成形してもよい。
【０２９３】
なお、本発明のレーザー溶着用樹脂組成物は、ガラス繊維等の繊維状の強化充填材を添加してもよく、添加する場合には、押出機のシリンダー途中のサイドフィーダーから供給することができる。
【０２９４】
溶融混練時の加熱温度は、熱可塑性樹脂が溶融する温度であれば特に制限なく、例えば、２２０〜３５０℃の範囲から適宜選択することができる。
【０２９５】
５．樹脂成形体
本発明のレーザー溶着用樹脂組成物から樹脂成形体を製造することができる。該樹脂成形体は、可視光透過率が７０％以上のものを得ることができる。好ましくは７５％以上であり、より好ましくは８０％以上である。
【０２９６】
本発明に係る光吸収樹脂成形体を工業的に応用する場合、当該レーザー光吸収樹脂成形体の色調は着色剤によって様々に調整することが可能なものとする観点から、可視光透過率は高いものが好ましい。
【０２９７】
前記光吸収樹脂成形体の形状は、必要に応じて任意の形状に成形でき、平面状、曲面状の他、より複雑な形状にも成形することができる。また、光吸収樹脂成形体の厚さは、フィルム状、板状等に任意に調整でき、一旦形成した成形体を後加工によって任意の複雑な形状に成形することもできる。
【０２９８】
６．樹脂成形体の製造方法
樹脂成形体の製造方法は、特に限定はなく、熱可塑性樹脂組成物において一般に採用されている成形方法を任意に採用できる。例えば、（１）熱可塑性樹脂、及びフタロシアニン化合物を混合し、次いで溶融混練した後に、成形する方法、（２）熱可塑性樹脂、フタロシアニン化合物、及び重合開始剤を型枠の中で重合させ、成形する方法等が挙げられる。成形法としては、特に制限はなく、例えば、射出成形法（ガス射出成形も含む）、超高速射出成形法、射出圧縮成形法（プレスインジェクション）、二色成形法、ガスアシスト等の中空成形法、断熱金型を使用した成形法、急速加熱金型を使用した成形法、発泡成形（超臨界流体も含む）、インサート成形、ＩＭＣ（インモールドコーティング成形）成形法、押出成形法、中空成形、カレンダー成形法、シート成形法、フィルム成形法、熱成形法、回転成形法、積層成形法、プレス成形法、ブロー成形法等の公知の成形方法が挙げられ、中でも射出成形が好ましい。
【０２９９】
樹脂成形体を製造する際の装置としては、単軸押出機、２軸押出機、バンバリーミキサー、ロール練機、ニーダー、ブラベンダープラストグラフなどの公知の溶融混練装置が挙げられる。
【０３００】
７．レーザー溶着
本発明のレーザー溶着用樹脂組成物を用いてレーザー溶着を行うことができる。レーザー溶着は、レーザー照射により樹脂部材同士を溶着接合するもので、通常、接合したい部材の一方が光透過性樹脂部材（透過性部材）で、もう一方がレーザー光を吸収して熱を発生する光吸収樹脂部材（吸収性部材）で構成されており、重ね合わせた両部材に、透過性部材側からレーザー照射を行うと、吸収性部材が溶解し、溶解した吸収性部材周辺から透過性部材の側へ熱が伝達されて透過性部材の溶解が起こり、接合がなされる。
【０３０１】
レーザー溶着に用いられるレーザー光としては、近赤外レーザー光であれば特に制限はなく、ガラス：ネオジム3+レーザー、ＹＡＧ：ネオジム3+レーザー、ルビーレーザー、ヘリウム−ネオンレーザー、クリプトンレーザー、アルゴンレーザー、Ｈ2レーザー、Ｎ2レーザー、半導体レーザー等のレーザー光を挙げることができる。より好ましいレーザーとしては、ＹＡＧ：ネオジム3+レーザーである。
【０３０２】
レーザー光の波長は、溶着される部材により異なるため一概に決定できないが、１，０６０ｎｍ以下であることが好ましい。波長が１，０６０ｎｍを超えると、部材の接合面を互いに溶融させることが困難となる。
【０３０３】
また、レーザー光の出力は、５〜３０Ｗであることが好ましい。レーザー光の出力が５Ｗ未満では、出力が低く部材の接合面を互いに溶融させることが困難となり、３０Ｗを超えると、出力が過剰となり部材が蒸発したり、変質するという問題が生じるようになる。
【０３０４】
８．レーザー溶着体
レーザー溶着された溶着体の形状、大きさ、厚み等は任意であり、溶着体の用途としては、自動車等の輸送機器用部品、電気電子機器部品、産業機械用部品、その他民生用部品等に特に好適である。
【実施例】
【０３０５】
以下に実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明する。但し、本発明は実施例の態様に限定されない。各合成例の化合物は、以下の装置により測定した。
＜ＧＣＭＳ＞
（株）島津製作所製ガスクロマトグラフ質量分析装置ＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０Ｐｌｕｓ（ＥＩ法）
＜ＬＣＭＳ＞
（株）島津製作所高速液体クロマトグラフ質量分析計ＬＣＭＳ−２０１０ＥＶ（ＥＳＩ法）
＜ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦＭＳ＞
ＢｒｕｋｅｒＤａｌｔｏｎｉｃｓ社製質量分析装置ＡｕｔｏｆｌｅｘＩＩ
＜波長(λmax)、モル吸光係数(ε)＞
日本分光（株）製分光光度計Ｖ−５７０
測定には、８．０×１０−６〜１１×１０−６ｍｏｌ／Ｌのクロロホルム溶液を調製し、光路長１ｃｍの石英セルを用いた。
＜１Ｈ−ＮＭＲ＞
日本電子（株）製Ｌａｍｂｄａ３００（３００ＭＨｚ）
【０３０６】
合成例１：化合物１（式：１−４−１ａの化合物）の製造
【０３０７】
【化３５】
0006407713.tif 000036
【０３０８】
（工程１）化合物（４−４−１ａ）の調製
温度計を取り付けた１００mlの４つ口反応器に、テトラフルオロフタロニトリル（化合物（５））６．０ｇ（３０mmol）、フッ化カリウム２１ｇ（３６mmol，１．２eq.）及びアセトニトリル５０mlを仕込み、撹拌下、５℃に冷却した。ここに、β−ナフトール（化合物（ａ−２ａ））４．３ｇ （３０mmol、１．０eq.）を滴下した。滴下終了後、混合物を５℃以下で１時間反応させた後、室温まで昇温し、２時間反応させた。反応終了後、反応混合物を水に放出し、析出固体を濾過して取り出した。得られた粗生成物を、イソプロパノールでよく洗い、乾燥させて、化合物（４−４−１ａ）６．７ｇを、白色固体として得た（収率６９％）。
GC-MS  m/z＝324（Ｍ＋）
【０３０９】
（工程２）化合物（３−４−１ａ）の調製
冷却管及び温度計を取り付けた５０mlの４つ口反応器に、化合物（４−４−１ａ）３．２ｇ（１０mmol）、フッ化カリウム１．４ｇ（２４mmol、２．４eq.）及びMEK２０mlを仕込み、６０℃に昇温した。ここに、２，２’−ビフェノール（化合物（ｂ−１））１．９ｇ（１０mmol、１．０eq.）を、MEK５mlに溶解させた溶液を滴下した。滴下終了後、同温度で５時間反応させた。反応終了後、反応混合物を水に放出し、析出固体を濾過して取り出した。得られた固体をメタノールでよく洗い、乾燥させて、化合物（３−１）３．４ｇを得た（収率７２．３％）。
LC-MS  m/z＝470（Ｍ＋）
【０３１０】
（工程３）化合物（２−４−１ａ）の合成
冷却管及び温度計を取り付けた２５mlの４つ口反応器に、化合物（３−４−１ａ）３．３ｇ（７mmol）、トリエチルアミン１．４ｇ（１４mmol、２．０eq.）、DMA４mlを仕込み、室温で撹拌した。ここに、ジメチルアミン（化合物（ｂ−２ａ））０．４１ｇ（９．１mmol、１．３eq.）を滴下した。混合物を７０℃に昇温し、１時間反応させた。反応終了後、反応混合物を水に放出し、析出固体を濾過して取り出した。得られた粗生成物をメタノールでよく洗い、化合物（２−４−１ａ）３．２ｇ得た（収率９３％）。
LC-MS  m/z＝496（［Ｍ＋Ｈ］＋）
1H-NMR (CDCl3, δin ppm): 2.93(s, 6H), 6.61-6.64(dd, 1H), 7.01-7.02(d, 1H), 7.12-7.50(m, 10H), 7.65-7.67(d, 1H), 7.82-7.86(m, 2H)
【０３１１】
（工程４）化合物（１−４−１ａ）の合成
冷却管及び温度計を取り付けた２５mlの４つ口反応器に、化合物（２−４−１ａ）２．３ｇ（４mmol）、CuCl ０．１３ｇ（１．３mmol、０．３３eq.）ｎ−ヘキサノール（１−ヘキサノール）８ml 及びジアザビシクロウンデセン ０．９ｇ（６mmol、１．５eq.）を仕込み、１５０℃で７時間反応させた。反応終了後、８０℃に冷却した反応混合物に、トルエン２mlを加えた。その後、反応混合物を、MeOH５０mlに放出し、固体を析出させた。濾過して固体を取り出し、メタノールで洗浄した。１００℃で乾燥して、粗生成物を１．７ｇ得た。得られた固体をトルエン３４mlに溶かし、活性白土８．５ｇ、シリカゲル８．５ｇを加えて攪拌し、不溶物をろ別して濃縮した。得られた固形物をメタノールでよく洗い、１２０℃で乾燥して、化合物（１−４−１ａ）０．９ｇを得た（収率４５％）。MALDI TOF-MS  m/z＝2044（Ｍ＋）
λmax=807nm   ε=147000 l/mol・cm（クロロホルム）
【０３１２】
合成例２：化合物２（式：１−４−１ｂの化合物）の製造
【０３１３】
【化３６】
0006407713.tif 000037
【０３１４】
（工程３）化合物（２−４−１ｂ）の合成
合成例１の化合物（２−４−１ａ）の合成において、ジエチルアミン（化合物（ｂ−２ａ））を、２−エチルヘキシルアミン（化合物（ｂ−２ｂ））に代えた以外は、同様にして、化合物（２−４−１ｂ）を得た（収率８８．６％）。
LC-MS  m/z＝580（［Ｍ＋Ｈ］＋）
1H-NMR (CDCl3, δin ppm): 0.72-0.79(m, 6H), 1.06-1.26(m, 8H), 1.46-1.57(m, 1H), 3.53-3.57(m, 2H), 4.70-4.73(t, 1H), 6.41-6.44(dd, 1H), 7.06-7.13(m, 2H), 7.22-7.51(m, 9H), 7.66-7.68(m, 1H), 7.81-7.87(m, 2H)
【０３１５】
（工程４）化合物（１−４−１ｂ）の合成
合成例１化合物（１−４−１ａ）の合成において、化合物（２−４−１ａ）を、化合物（２−４−１ｂ）に代えた以外は、同様にして、化合物（１−４−１ｂ）を得た（収率４７．５％）。
MALDI TOF-MS  m/z＝2384（Ｍ＋）
λmax=911nm   ε=165000 l/mol・cm（クロロホルム）
【０３１６】
合成例３：化合物３（式：１−４−１ｃの化合物）の製造
【０３１７】
【化３７】
0006407713.tif 000038
【０３１８】
（工程３）化合物（２−４−１ｃ）の合成
実施例１の化合物（２−４−１ａ）の合成において、ジメチルアミン（化合物（ｂ−２ａ））を、１−フェニルエチルアミン（化合物（ｂ−２ｃ））に代えた以外は、同様にして、化合物（２−４−１ｃ）を得た（収率８２．０％）。
LC-MS  m/z＝572（［Ｍ＋Ｈ］＋）
1H-NMR (CDCl3, δin ppm): 1.19-1.21(d, 1H), 1.47-1.49(d, 3H), 5.06-5.09(d, 1H), 5.43-5.48(m, 1H), 6.30-6.33(d, 1H), 7.02-7.07(m, 2H), 7.20-7.52(m, 13H), 7.63-7.66(m, 1H), 7.83-7.87(m, 2H)
【０３１９】
（工程４）化合物（１−４−１ｃ）の合成
実施例１（４）化合物（１−１）の合成において、化合物（２−４−１ａ）を、化合物（２−４−１ｃ）に代えた以外は、同様にして、化合物（１−４−１ｃ）を得た（収率６３．０％）。
MALDI TOF-MS  m/z＝2352（Ｍ＋）
λmax=880nm   ε=166000 l/mol・cm（クロロホルム）
【０３２０】
合成例４：化合物４（式：１−４−１ｄの化合物）の製造
【０３２１】
【化３８】
0006407713.tif 000039
【０３２２】
（工程１）化合物（４−４−１ｂ）の合成
合成例１の化合物（４−４−１ａ）の合成において、β−ナフトール（化合物（ａ−２ａ））を、α−ナフトール（化合物（ａ−２ｂ））に代えた以外は、同様にして、化合物（４−４−１ｂ）を得た（収率８８．０％）。
GC-MS  m/z＝324（Ｍ＋）
【０３２３】
（工程２）化合物（３−４−１ｂ）の調製
合成例１の化合物（３−４−１ａ）の合成において、化合物（４−４−１ａ）を、化合物（４−４−４−１ｂ）に代えた以外は、同様にして、化合物（３−４−１ｂ）を得た（収率８４．６％）。
LC-MS  m/z＝580（［Ｍ＋Ｈ］＋）
【０３２４】
（工程３）化合物（２−４−１ｄ）の合成
合成例１の化合物（２−４−１ａ）の合成において、化合物（３−４−１ａ）を、化合物（３−４−１ｂ）に代え、ｎ−ブチルアミン（化合物（ｂ−２ａ））を、２−エチルヘキシルアミン（化合物（ｂ−２ｂ））に代えた以外は、同様にして、化合物（２−４−１ｄ）を得た（収率７９．４％）。
LC-MS  m/z＝580（［Ｍ＋Ｈ］＋）
1H-NMR (CDCl3, δin ppm): 0.71-0.78(m, 6H), 1.07-1.22(m, 8H), 1.38-1.42(m, 1H), 3.50-3.53(t, 2H), 4.67-4.70(t, 1H), 6.61-6.63(d, 1H), 7.16-7.65(m, 12H), 7.86-7.90(m, 1H), 8.37-8.40(m, 1H)
【０３２５】
（工程４）化合物（１−４−１ｄ）の合成
合成例１の化合物（１−４−１ａ）の合成において、化合物（２−４−１ａ）を、化合物（２−４−１ｄ）に代えた以外は、同様にして、化合物（１−４−１ｄ）を得た（収率２６．４％）。
MALDI TOF-MS  m/z＝2384（Ｍ＋）
λmax=910nm   ε=168000 l/mol・cm（クロロホルム）
【０３２６】
合成例５：化合物５（式：１−３−１ａの化合物）の製造
【０３２７】
【化３９】
0006407713.tif 000040
【０３２８】
（工程１）化合物（４−３−１ａ）の調製
温度計を取り付けた１００mlの４つ口反応器に、テトラフルオロフタロニトリル（化合物（５））６．０ｇ（３０mmol）、フッ化カリウム１５ｇ（１．２eq.）及びアセトニトリル２０mlを仕込み、撹拌下、０℃に冷却した。ここに、β−ナフトール（化合物（ａ−２ａ））４．３ｇ（１．０eq.）を少しずつ投入した。投入終了後、混合物を５℃以下で1時間反応させた後、２０℃まで昇温し、２０〜２５℃で２時間反応させた。反応終了後、反応混合物を水に放出し、析出固体を濾過して取り出した。得られた粗製物をメタノールでよく洗い、化合物（４−３−１ａ）６．７gを、白色固体として得た（収率６９％）。
GCMS  ｍ／ｚ＝３２４（Ｍ＋）
【０３２９】
（工程２）化合物（３−３−１ａ）の調製
冷却管及び温度計を取り付けた１００ｍｌの４つ口反応器に、化合物（４−３−１ａ）６．５ｇ（２０mmol、１．０eq.）、炭酸カリウム６．９ｇ（５０mmol、２．５eq.）及びアセトニトリル３０mlを仕込み、撹拌した。ここに、２−アミノチオフェノール（化合物（６−１ａ）） ２．５ｇ（２０mmol、１．０eq.）を滴下し、７５℃に昇温して、３０分反応させた。ここに、DMA３０mlを加え、さらに1時間反応した。反応終了後、反応混合物を水に放出し、析出固体を濾過して取り出した。得られた固体をメタノールでよく洗った後、乾燥させて、化合物（３−３−１ａ）５．０ｇを、オレンジ固体として得た（収率６１％）。
LCMS  ｍ／ｚ＝４０８（（Ｍ−Ｈ）−）
【０３３０】
（工程３）化合物（２−３−１ａ）の合成
冷却管及び温度計を取り付けた２００mlの４つ口反応器に、化合物（３−３−１ａ）２４．５ｇ（６０mmol、１．０eq.）、炭酸カリウム １６．６ｇ（１２０mmol、２．０eq.）、DMSO３５ml及び４−tert−オクチルフェノール（化合物（ｂ−１ａ））１７．９ｇ（８４mmol、１．４eq.）を仕込み、８０℃で２時間反応させた。反応終了後、反応混合物を水に放出し、析出固体を濾過して取り出した。粗製物をメタノール／アセトン １／２でよく洗い、目的物２６．１ｇをオレンジ固体として得た（収率７３％）。
LCMS  ｍ／ｚ＝５９４（（Ｍ−Ｈ）−）  
１Ｈ−ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３：δ  ｐｐｍ）７．８０−７．６４（ｍ，３Ｈ）、７．４９−７．３８（ｍ，２Ｈ）、７．１６（ｄ，２Ｈ）、７．０６（ｔ，１Ｈ）、６．９４−６．７６（ｍ，４Ｈ）、６．６６（ｄ，１Ｈ）、６．５２（ｍ，３Ｈ）、１．６８（ｓ，２Ｈ）１．２９（ｓ，６Ｈ）、０．７２（ｓ，９Ｈ）
【０３３１】
（工程４）化合物（１−３−１ａ）の合成
冷却管及び温度計を取り付けた１００mlの４つ口反応器に、化合物（２−３−１ａ）を ９．５ｇ（１６mmol、１．０eq. ）、ｎ−ヘキサノール３２ml及びジアザビシクロウンデセン３．４ｇ（２２mmol、１．４eq.）を仕込み、８０℃に昇温した。ここにCuCl ０．５２ｇ（５．３mmol、０．３３eq. ）を加えた。反応液を１４０℃に昇温し、１８時間反応させた。反応終了後、反応混合物を室温に冷まし、トルエン３０mlを加えた。反応混合物をMeOH２００mlに放出し、固体を析出させた。濾過して固体を取り出し、固体をメタノールで洗浄した。１００℃で乾燥して粗精製物を１５ｇ得た。得られた固体をトルエン１５０mlに溶かし、活性白土３０ｇ、シリカゲル４５ｇを加えて攪拌し、不溶物を濾別して濃縮しメタノールで固体をよく洗った。１３０℃で乾燥して、目的物３．０ｇを、黒色固体として得た（収率３１％）。
λmax  １０１４nm   ε  １１３０００  クロロホルム
ESI-TOFMS  ｍ／ｚ＝２４４４．８（Ｍ＋）
【０３３２】
合成例６：化合物６（式：１−３−１ｂの化合物）の製造
【０３３３】
【化４０】
0006407713.tif 000041
【０３３４】
（工程３−１）化合物（２−３−１ｂ）の合成
合成例５の化合物（２−３−１ａ）の合成において、化合物（ｂ−１ａ）を２−メチルフェノールに代えた以外は同様にして、化合物（１−３−１ｂ）を得た（収率７３％）。
LCMS  ｍ／ｚ＝４９６（（Ｍ−Ｈ）−）
【０３３５】
（工程３−２）化合物（２−３−１ｂ’）の合成
冷却管及び温度計を取り付けた１００mlの４つ口反応器に、化合物（２−３−１ｂ）１７ｇ（３５mmol、１．０eq.）、炭酸カリウム１０ｇ（７０mmol、２．０eq.）、DMSO５０mL及びｎ−アミルブロマイド７．９ｇ（５３mmol、１．５eq.）を仕込み、７０℃で２時間反応させた。反応終了後、反応混合物を水に放出し、析出固体を濾過して取り出した。得られた粗生成物をエタノールでよく洗って、化合物（２−７）１７．８ｇを、黄色固体として得た（収率９０％）。
LCMS  ｍ／ｚ＝５６８（（Ｍ＋Ｈ）＋）
【０３３６】
（工程４）化合物（１−３−１ｂ）の合成
合成例４の化合物（１−４−１ｄ）の合成において、化合物（２−４−１ｄ）を化合物（２−３−１ｂ’）に代えた以外は同様にして、化合物（１−３−１ｂ）を得た（収率３９％）。
λmax  ９５６nm   ε  １１００００  クロロホルム
MALDI TOF-MS  ｍ／ｚ＝２３３５（Ｍ＋）
【０３３７】
合成例７：化合物７（式：１−３−１ｃの化合物）の製造
【０３３８】
【化４１】
0006407713.tif 000042
【０３３９】
（工程４）化合物（１−３−１ｃ）の合成
合成例４の化合物（１−４−１ｄ）の合成において、化合物（２−４−１ｄ）を化合物（２−３−１ｃ）に代えた以外は同様にして、化合物（１−３−１ｃ）を得た（収率５６％）。
λmax  ９９０nm   ε  ９８０００  クロロホルム
ESI-TOFMS  ｍ／ｚ＝２４７１．８（Ｍ＋）
【０３４０】
[レーザー光吸収性樹脂成形品の製造]
製造例１
レーザー光透過性板状樹脂成形品A
表１に記載した熱可塑性樹脂１００重量部、及び各フタロシアニン化合物０．１重量部を混合し、フタロシアニン化合物の量が１０００ｐｐｍとなるように配合した。これに二軸押出機（東洋精機製作所製ラボプラストミルマイクロ）を用いて、２００〜３５０℃で溶融混練し、紐状に押し出した。得られた紐状のレーザー光吸収性樹脂組成物を冷却後切断し、ペレット状のマスターバッチを得た。次いで、マスターバッチと熱可塑性樹脂とをそれぞれ混合し、二軸押出機を用いて２００〜３５０℃で溶融混練して同様にペレット状の樹脂組成物を得た。このペレット状樹脂組成物を熱プレス機（アズワン製熱プレス機AH-4015）を用い、シリンダー温度２００〜３５０℃で成形し、厚さ１ｍｍのレーザー光吸収性板状樹脂成形品Aを得た。
【０３４１】
尚、フタロシアニン化合物の添加量は、照射するレーザー波長における成形品の近赤外線透過率が約７０％となるように調製した。
【０３４２】
製造例２
レーザー光透過性板状樹脂成形品B
前記と同様の手順で、フタロシアニン化合物を添加していないペレットを作製し、このペレットを用いて射出成形しレーザー光透過性板状樹脂成形品Bを得た。
【０３４３】
[レーザー溶着試験]
実施例１〜１１
樹脂成形品Aの上に樹脂成形品Bを重ね合わせ、樹脂成形品Bの側から重ね合わせ部に、レーザー波長808、840、910、940、又は1064nm、レーザー走査速度1〜10mm/sec、レーザー出力10、20、30、40、50Wの中で最適な条件を選択し、レーザー光を照射した。
【０３４４】
比較例１〜５
樹脂成形品Bの上に樹脂成形品Bを重ね合わせ、重ね合わせ部に、レーザー波長808、840、910、940、1064nmのレーザー光をそれぞれ照射した。
【０３４５】
[近赤外線透過率の測定方法]
実施例１〜１１の樹脂成形品Ａの溶着部において、紫外可視近赤外分光光度計（日本分光社製V-570）を用いて808、840、910、940、1064nm での近赤外線透過率を測定した。その結果を表１に示す。
【０３４６】
[可視光透過率の測定方法]
実施例１〜１１の樹脂成形品Aの溶着部及び比較例１の樹脂成形品Bにおいて、紫外可視近赤外分光光度計（日本分光社製V-570）を用いてJIS R3106に準拠し、380〜780nmの可視光透過率を測定した。その結果を表１に示す。
【０３４７】
[溶着強度]
実施例１〜１１において、レーザー照射した後の樹脂成形品Aと樹脂成形品Bの先端をそれぞれ掴み、溶着度合いを判定した。また、比較例１において、レーザー照射した後の樹脂成形品Bと樹脂成形品Bの先端をそれぞれ掴み、溶着度合いを判定した。その結果を表２に示す。
○：充分に溶着している。
×：溶着しない。
【０３４８】
表１に、実施例１〜１１及び比較例１〜５でにおいて使用したフタロシアニン化合物１〜化合物７の種類、熱可塑性樹脂の種類、近赤外線透過率（％）及び可視透過率（％）を示す。表２に、実施例１〜１１及び比較例１〜５でにおいて使用したフタロシアニン化合物１〜化合物７の種類、照射したレーザー光波長（ｎｍ）、及び溶着強度を示す。
【０３４９】
なお、表１及び表２中、フタロシアニン化合物及び熱可塑性樹脂の種類の略記は以下のとおりである。
【０３５０】
＜フタロシアニン化合物＞
【０３５１】
【化４２】
0006407713.tif 000043
【０３５２】
0006407713.tif 000044
【０３５３】
＜熱可塑性樹脂＞
PS：ポリスチレン（商品名：CR-4500；メーカー：DIC）
PMAA：ポリメチルメタクリレート（商品名：パラペットHR-L；メーカー：クラレ）
COP：シクロオレフィンポリマー（商品名：ZEONEX E48R；メーカー：日本ゼオン）
PC：ポリカーボネート（商品名：ユーピロンH-4000；メーカー：三菱エンジニアリングプラスチックス）
【０３５４】
【表１】
0006407713.tif 000045
【０３５５】
【表２】
0006407713.tif 000046
【０３５６】
[評価結果]
表１及び表２の結果から、本発明のレーザー溶着用樹脂組成物は、レーザー溶着の際に用いるレーザー光波長に合わせて、該組成物中に含まれるフタロシアニン化合物を適宜選択することにより、レーザー溶着に必要なレーザー光吸収能を付与することが可能であることがわかった。また、本発明のレーザー溶着用樹脂組成物から得られた樹脂成形体は、可視光透過率も高い数値を維持でき、即ち、樹脂成形体は着色が殆ど認められず、元々の樹脂の色調を維持することが可能であった。
【産業上の利用可能性】
【０３５７】
本発明のレーザー溶着用樹脂組成物は、レーザーによる溶着性に優れ、溶着により得られた溶着体の溶着強度にも優れる。