(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射性物質を含む所定量の対象物の中から前記放射性物質を検出する放射性物質検出部と、前記対象物を載置する載置部と、前記対象物中における前記放射性物質の位置を特定する放射性物質位置特定部とを備え、
前記放射性物質検出部は、前記対象物を互いに異なる方向から撮像する少なくとも２つの第１および第２タルボ・ロー干渉計を備え、
前記載置部は、前記第１タルボ・ロー干渉計と前記第２タルボ・ロー干渉計との交差位置に配置され、
前記放射性物質位置特定部は、前記第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源側から第１方向に沿って前記載置部に載置された前記対象物を見た第１側面視における前記放射性物質の位置を特定する第１側面視位置特定部と、前記第２タルボ・ロー干渉計のＸ線源側から前記第１方向と交差する第２方向に沿って前記載置部に載置された前記対象物を見た第２側面視における前記放射性物質の位置を特定する第２側面視位置特定部とを備え、
前記第１側面視位置特定部は、前記第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射された状態で前記第１タルボ・ロー干渉計で検出されたタルボ像をフーリエ変換した合成波周波数スペクトルと、前記第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射されない状態で前記第１タルボ・ロー干渉計で検出された回折像から求めた回折像周波数とを得、前記合成波周波数スペクトルから前記回折像周波数を減算して源放射Ｘ線周波数スペクトルを求め、前記源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して得た変換タルボ像に基いて前記第１側面視位置を特定し、
前記第２側面視位置特定部は、前記第２タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射された状態で前記第２タルボ・ロー干渉計で検出されたタルボ像をフーリエ変換した合成波周波数スペクトルと、前記源放射Ｘ線が放射されない状態で前記第２タルボ・ロー干渉計で検出された回折像から求めた回折像周波数とを得、前記合成波周波数スペクトルから前記回折像周波数を減算して源放射Ｘ線周波数スペクトルを求め、前記源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して得た変換タルボ像に基いて前記第２側面視位置を特定することを特徴とする放射性物質除去装置。
【請求項２】
前記放射性物質検出部により検出された前記放射性物質を前記対象物の中から取り出す放射性物質取り出し部を、更に備え、
前記放射性物質取り出し部は、前記放射性物質を吸引する吸引口と、前記吸引口を可動させる可動部とを備え、
前記可動部は、前記吸引口を、前記第１方向と、前記第２方向と、前記第１方向及び前記第２方向に直交する第３方向とに、それぞれ可動させることを特徴とする請求項１記載の放射性物質除去装置。
【請求項３】
前記放射性物質取り出し部は、前記吸引口の先端側に、前記対象物を粉砕するための粉砕部を備えていることを特徴とする請求項２に記載の放射性物質除去装置。
【請求項４】
放射性物質を含む所定量の対象物の中から前記放射性物質を検出する少なくとも２つの第１および第２タルボ・ロー干渉計を有する放射性物質検出部と載置部と放射性物質位置特定部とを備え、前記載置部は、前記第１タルボ・ロー干渉計と前記第２タルボ・ロー干渉計との交差位置に配置され、前記放射性物質位置特定部は、前記第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源側から第１方向に沿って前記載置部に載置された前記対象物を見た第１側面視における前記放射性物質の位置を特定する第１側面視位置特定部と、前記第２タルボ・ロー干渉計のＸ線源側から前記第１方向と交差する第２方向に沿って前記載置部に載置された前記対象物を見た第２側面視における前記放射性物質の位置を特定する第２側面視位置特定部とを備えた放射性物質除去装置を用いて行う放射性物質除去方法であって、
前記第１側面視位置特定部に、前記第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射された状態で前記第１タルボ・ロー干渉計で検出されたタルボ像をフーリエ変換した合成波周波数スペクトルと、前記Ｘ線源からＸ線が放射されない状態で前記第１タルボ・ロー干渉計で検出された回折像から求めた回折像周波数とを取得させ、前記合成波周波数スペクトルから前記回折像周波数を減算して源放射Ｘ線周波数スペクトルを求めさせ、前記源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して得た変換タルボ像に基いて前記第１側面視位置を特定させ、
前記第２側面視位置特定部に、前記第２タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射された状態で前記第２タルボ・ロー干渉計で検出されたタルボ像をフーリエ変換した合成波周波数スペクトルと、前記第２タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射されない状態で前記第２タルボ・ロー干渉計で検出された回折像から求めた回折像周波数とを取得させ、前記合成波周波数スペクトルから前記回折像周波数を減算して源放射Ｘ線周波数スペクトルを求めさせ、前記源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して得た変換タルボ像に基いて前記第２側面視位置を特定させることを特徴とする放射性物質除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、対象物の中から放射性物質を除去する放射性物質除去装置及び放射性物質除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば表土に付着した放射性物質や草木に吸収された放射性物質を含む対象物を回収し、回収した対象物を、全て、放射性物質吸着装置に通す処理が、従来から行われている。例えば放射性物質に汚染された土壌をはぎ取って「溶離槽」に投入し、シュウ酸でセシウムを溶かして吸着材で回収する吸着システムを経ることにより、土壌は元の場所に戻せるレベルまで除染できるうえ、対象物の量も処理した容積の１〜４％まで減らせる。装置は、汚染された土壌のほか、下水場やごみの焼却灰から９７％のセシウムを取り除くことができる。
【０００３】
しかしながら、このような処理は、放射性物質を含まない部分まで、全て吸着システムに通しているので、作業効率が格段に悪い上、除染作業で出てくる対象物の量が、圧倒的に多い。現行では、表土の全てを５ｃｍ削って回収したり、下草を全て刈り取るようにして行われている為、膨大な量の対象物が生まれる。そして、それをそのまま順次、処理しているので、処理が間に合わず、中間貯蔵所がパンク状態になるおそれがある。
【０００４】
一方、近年、例えばタルボ・ロー干渉計を用いたＸ線撮像装置が広く実施されている。例えば特許文献１に、タルボ・ロー干渉計を用いた装置が開示されている。このようなＸ線撮像装置に用いられるタルボ・ロー干渉計は、通常のＸ線を放射可能なＸ線源、第０格子、第１格子、及び第２格子の３つの格子を用い、被写体によるＸ線の屈折をモアレ縞として可視化する。例えばＸ線源からＸ線が照射され、第０格子、被写体、第１格子、第２格子を通る。照射されたＸ線が第０格子を通ることにより、位相が揃い、位相の揃ったＸ線が被写体を通過する際に、被写体による位相の変化が発生する。そして、Ｘ線が第１格子、第２格子を通過する際に形成されるモアレ縞には、この位相変化が反映され、このようにして得られたモアレ縞を画像検出器で検出し、そのデータを演算処理することによって画像を生成する。
【０００５】
従って、このようなタルボ・ロー干渉計を用いて対象物を撮像することにより、対象物中の放射性物質を検出することが考えられ、対象物の中から放射性物質を除去できれば処理効率を向上できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１３−８５６３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、回収された放射性物質を含む対象物の塊を、Ｘ線源からＸ線（源放射Ｘ線）を放射すると、Ｘ線源から出て位相が揃っている源放射Ｘ線と、放射性物質から出た位相の揃っていないＸ線（物質放射Ｘ線）との区別がつかず、放射性物質の位置を、画像として検出し難い。又、撮影装置のＸ線源をＯＦＦにして、対象物の塊を撮影すると、放射性物質がＸ線源になり、放射性物質と画像検出器間に存在する非放射性物質の単なるＸ線画像が撮れるだけである。
【０００８】
本発明は、タルボ・ロー干渉計を用いて対象物の中から放射性物質の位置を特定して除去できる放射性物質除去装置及び放射性物質除去方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一態様に係る放射性物質除去装置は、放射性物質を含む所定量の対象物の中から前記放射性物質を検出する放射性物質検出部と、前記対象物を載置する載置部と、前記対象物中における前記放射性物質の位置を特定する放射性物質位置特定部とを備え、前記放射性物質検出部は、前記対象物を互いに異なる方向から撮像する少なくとも２つの第１および第２タルボ・ロー干渉計を備え、前記載置部は、前記第１タルボ・ロー干渉計と前記第２タルボ・ロー干渉計との交差位置に配置され、前記放射性物質位置特定部は、前記第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源側から第１方向に沿って前記載置部に載置された前記対象物を見た第１側面視における前記放射性物質の位置を特定する第１側面視位置特定部と、前記第２タルボ・ロー干渉計のＸ線源側から前記第１方向と交差する第２方向に沿って前記載置部に載置された前記対象物を見た第２側面視における前記放射性物質の位置を特定する第２側面視位置特定部とを備え、前記第１側面視位置特定部は、前記第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射された状態で前記第１タルボ・ロー干渉計で検出されたタルボ像をフーリエ変換した合成波周波数スペクトルと、前記第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射されない状態で前記第１タルボ・ロー干渉計で検出された回折像から求めた回折像周波数とを得、前記合成波周波数スペクトルから前記回折像周波数を減算して源放射Ｘ線周波数スペクトルを求め、前記源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して得た変換タルボ像に基いて前記第１側面視位置を特定し、前記第２側面視位置特定部は、前記第２タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射された状態で前記第２タルボ・ロー干渉計で検出されたタルボ像をフーリエ変換した合成波周波数スペクトルと、前記源放射Ｘ線が放射されない状態で前記第２タルボ・ロー干渉計で検出された回折像から求めた回折像周波数とを得、前記合成波周波数スペクトルから前記回折像周波数を減算して源放射Ｘ線周波数スペクトルを求め、前記源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して得た変換タルボ像に基いて前記第２側面視位置を特定することを特徴とする。
【００１０】
この構成によれば、第１側面視位置特定部によって放射性物質の第１側面視位置が特定される。詳しくは、第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射された状態で第１タルボ・ロー干渉計で検出されたタルボ像をフーリエ変換することによりＸ線源からのＸ線と放射性物質からのＸ線との合成波周波数スペクトルが得られる。そして、その得られた合成波周波数スペクトルから、Ｘ線源からＸ線が放射されない状態で検出された回折像から求めた回折像周波数を減算する。これにより、Ｘ線源からのＸ線と放射性物質からのＸ線との合成波周波数スペクトルから放射性物質からのＸ線の周波数を除去でき、Ｘ線源からＸ線のみによる周波数についての源放射Ｘ線周波数スペクトルが得られる。そして、その得られた源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換する。これにより、源放射Ｘ線のみによる変換タルボ像が得られる。従って、放射性物質はＸ線を放射していない物質とみなせ、変換タルボ像から放射性物質の第１側面視位置を検出できる。
【００１１】
又、同様に、第２側面視位置特定部によって放射性物質の第２側面視位置が検出される。従って、第１側面視位置特定部による第１側面視位置と第２側面視位置特定部による第２側面視位置とから、例えば対象物における放射性物質の直交する３方向の位置を特定できる。
【００１２】
よって、対象物の中から放射性物質を検出除去でき、対象物から放射性物質を含まずに吸着システムを通すことが不要な非放射性物質を分離でき、対象物の処理作業の効率が向上する。
【００１３】
他の一態様では、前記放射性物質除去装置において、前記放射性物質検出部により検出された前記放射性物質を前記対象物の中から取り出す放射性物質取り出し部を、更に備え、前記放射性物質取り出し部は、前記放射性物質を吸引する吸引口と、前記吸引口を可動させる可動部とを備え、前記可動部は、前記吸引口を、前記第１方向と、前記第２方向と、前記第１方向及び前記第２方向に直交する第３方向とに、それぞれ可動させることを特徴とする。
【００１４】
この構成によれば、第１側面視位置特定部によって特定された第１側面視位置と、第２側面視位置特定部によって検出された第２側面視位置とに基いて、対象物の中から放射性物質を放射性物質取り出し部の吸引口で吸引でき、容易に確実に除去できる。
【００１５】
他の一態様では、前記放射性物質除去装置において、前記放射性物質取り出し部は、前記吸引口の先端側に、前記対象物を粉砕するための粉砕部を備えていることを特徴とする。
【００１６】
この構成によれば、吸引口の先端側に粉砕部を備えているため、例えば木の枝や丈の長い草木がその内部に放射性物質を吸収している場合でも、粉砕部で細かく粉砕して吸引口から吸引できる。従って、本放射性物質除去装置は、種々の放射性物質を吸引でき、適用範囲の広いものになる。
【００１７】
本発明の放射性物質除去方法は、放射性物質を含む所定量の対象物の中から前記放射性物質を検出する少なくとも２つの第１および第２タルボ・ロー干渉計を有する放射性物質検出部と放射性物質位置特定部とを備え、前記載置部は、前記第１タルボ・ロー干渉計と前記第２タルボ・ロー干渉計との交差位置に配置され、前記放射性物質位置特定部は、前記第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源側から第１方向に沿って前記載置部に載置された前記対象物を見た第１側面視における前記放射性物質の位置を特定する第１側面視位置特定部と、前記第２タルボ・ロー干渉計のＸ線源側から前記第１方向と交差する第２方向に沿って前記載置部に載置された前記対象物を見た第２側面視における前記放射性物質の位置を特定する第２側面視位置特定部とを備えた放射性物質除去装置を用いて行う放射性物質除去方法であって、前記第１側面視位置特定部に、前記第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射された状態で前記第１タルボ・ロー干渉計で検出されたタルボ像をフーリエ変換した合成波周波数スペクトルと、前記Ｘ線源からＸ線が放射されない状態で前記第１タルボ・ロー干渉計で検出された回折像から求めた回折像周波数とを取得させ、前記合成波周波数スペクトルから前記回折像周波数を減算して源放射Ｘ線周波数スペクトルを求めさせ、前記源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して得た変換タルボ像に基いて前記第１側面視位置を特定させ、前記第２側面視位置特定部に、前記第２タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射された状態で前記第２タルボ・ロー干渉計で検出されたタルボ像をフーリエ変換した合成波周波数スペクトルと、前記第２タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射されない状態で前記第２タルボ・ロー干渉計で検出された回折像から求めた回折像周波数とを取得させ、前記合成波周波数スペクトルから前記回折像周波数を減算して源放射Ｘ線周波数スペクトルを求めさせ、前記源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して得た変換タルボ像に基いて前記第２側面視位置を特定させることを特徴とする。
【００１８】
この構成によれば、第１タルボ・ロー干渉計のＸ線源からＸ線が放射された状態で第１タルボ・ロー干渉計で検出されたタルボ像をフーリエ変換することによりＸ線源からのＸ線と放射性物質からのＸ線との合成波周波数スペクトルが得られる。そして、その得られた合成波周波数スペクトルから、Ｘ線源からＸ線が放射されない状態で検出された回折像から求めた回折像周波数を減算する。これにより、Ｘ線源からのＸ線と放射性物質からのＸ線との合成波周波数スペクトルから放射性物質からのＸ線の周波数を除去でき、Ｘ線源からＸ線のみによる周波数についての源放射Ｘ線周波数スペクトルが得られる。そして、その得られた源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換する。これにより、Ｘ線源からのＸ線のみによる変換タルボ像が得られる。従って、放射性物質はＸ線を放射していない物質とみなせ、変換タルボ像から放射性物質の第１側面視位置を検出できる。
【００１９】
又、同様に、第２側面視位置特定部によって放射性物質の第２側面視位置が検出される。従って、第１側面視位置特定部による第１側面視位置と第２側面視位置特定部による第２側面視位置とから、例えば対象物における放射性物質の直交する３方向の位置を特定できる。
【００２０】
よって、対象物の中から放射性物質を除去でき、対象物から放射性物質を含有せずに吸着システムを通すことが不要な非放射性物質を分離でき、対象物の処理作業の効率が向上する。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の放射性物質除去装置及び放射性物質除去方法は、タルボ・ロー干渉計を用いて対象物の中から放射性物質の位置を特定して除去できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施の形態の放射性物質除去装置の概略の斜視図である。
【図２】図１の放射性物質除去装置の構成を示すブロック図である。
【図３】図１の放射性物質除去装置に用いられる第１および第２タルボ・ロー干渉計を模式的に表した概略図である。
【図４】第１および第２タルボ・ロー干渉計に用いられる第０格子の拡大斜視図である。
【図５】図１の放射性物質除去装置に用いられる放射性物質取り出し部の要部の側面図である。
【図６】図５のＶＩ−ＶＩ線断面図である。
【図７】第１タルボ・ロー干渉計（第２タルボ・ロー干渉計）の載置部に放射性物質が載置され、Ｘ線源からＸ線が放射された状態の説明図である。
【図８】図７の状態で、放射性物質からＸ線が放射されないとした場合の説明図である。
【図９】第１タルボ・ロー干渉計（第２タルボ・ロー干渉計）の載置部に放射性物質が載置され、Ｘ線源からＸ線が放射されない状態の説明図である。
【図１０】放射性物質除去装置を用いて対象物から放射性物質を除去する処理の流れを示す一例のフローチャートの一部である。
【図１１】放射性物質除去装置を用いて対象物から放射性物質を除去する処理の流れを示す一例のフローチャートの他の一部である。
【図１２】放射性物質除去装置を用いて対象物から放射性物質を除去する処理の流れを示す一例のフローチャートの更に他の一部である。
【図１３】図７の状態における画像検出器に検出されるタルボ像を模式的に表した図である。
【図１４】図９の状態における画像検出器に検出される回折像を模式的に表した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面に基づいて本発明の実施形態を詳細に説明する。各図において、同一符号を付した構成は、同一の構成であることを示し、その構成について、既に説明している内容については、その説明を省略する。
【００２４】
図１は、本発明の一実施の形態の放射性物質除去装置１の要部の斜視図、図２は、図１の放射性物質除去装置の構成を示すブロック図、図３は、図１の放射性物質除去装置に用いられる第１および第２タルボ・ロー干渉計を模式的に表した斜視図である。尚、第１方向をＸ１−Ｘ２方向とし、第１方向と直交する第２方向をＹ１−Ｙ２方向とし、又、第１方向及び第２方向に直交する第３方向をＺ１−Ｚ２方向として説明する。
【００２５】
この実施形態の放射性物質除去装置１は、図１〜図３に示すように、放射性物質除去装置本体と、放射性物質取り出し部４とを備えている。
【００２６】
放射性物質除去装置本体は、対象物を撮像する２つの第１および第２タルボ・ロー干渉計３ａ、３ｂを有する放射性物質検出部２と、対象物を載置する載置部６と、後述の第１および第２タルボ・ロー干渉計３ａ、３ｂそれぞれのＸ線源３１ａ、３１ｂに電源を供給するＸ線電源部１４と、後述の第１および第２タルボ・ロー干渉計３ａ、３ｂそれぞれの画像検出器３５ａ、３５ｂの検出動作を制御するカメラ制御部１５と、放射性物質検出部２の全体動作を制御する処理部１６と、Ｘ線電源部１４の給電動作を制御することによってＸ線源３１ａ、３１ｂにおけるＸ線の放射動作を制御するＸ線制御部１７とを備えている。
【００２７】
第１タルボ・ロー干渉計３ａは、Ｘ線を放射するＸ線源３１ａと、Ｘ線源３１ａから順にＸ１−Ｘ２方向（第１方向）に沿って配置された第０格子（Ｇ０格子）３２ａ、第１格子（Ｇ１格子）３３ａ、第２格子（Ｇ２格子）３４ａ及び画像検出器３５ａを備えている。
【００２８】
第０格子３２ａは、図４に示すように、Ｘ１−Ｘ２方向に所定の厚さ（深さ）Ｈを有してＹ１−Ｙ２方向（第２方向）に線状に延びる複数のＸ線吸収部３１２と、前記所定の厚さＨを有して前記Ｙ１−Ｙ２方向に線状に延びる複数のＸ線透過部３１１とを備えている。この実施形態では、シリコン素材に、Ｙ１−Ｙ２方向に線状に延びる複数の溝を形成し、それらの溝に、図示しない金属を埋設することによりＸ線吸収部３１２が形成されている。従って、これら複数のＸ線吸収部３１２と複数のＸ線透過部３１１とは、交互に平行に配設されている。このため、複数のＸ線吸収部３１２は、前記Ｙ１−Ｙ２方向と直交するＺ１−Ｚ２方向に所定の間隔を空けてそれぞれ配設されている。この間隔（ピッチ）Ｐは、本実施形態では、一定とされている。すなわち、複数のＸ線吸収部３１２は、前記Ｚ１−Ｚ２方向（第３方向）に等間隔Ｐでそれぞれ配設されている。
【００２９】
これら複数のＸ線吸収部３１２は、Ｘ線を吸収するように機能し、これらＸ線透過部３１１は、Ｘ線を透過するように機能する。Ｘ線吸収部３１２は、例えば仕様に応じて充分にＸ線を吸収することができるように、適宜な厚さＨとされている。Ｘ線は、一般的に透過性が高いので、この結果、Ｘ線吸収部３１２における幅Ｗに対する厚さＨの比（アスペクト比＝厚さ／幅）は、例えば、５以上の高アスペクト比とされている。Ｘ線吸収部３１２における幅Ｗは、前記Ｘ１−Ｘ２方向におけるＸ線吸収部３１２における長さであり、その厚さＨは、Ｘ１−Ｘ２方向におけるＸ線吸収部３１２の長さである。
【００３０】
次に、第１格子３３ａについて説明する。第１格子３３ａは、Ｘ線源３１ａから放射されたＸ線（以下、源放射Ｘ線）によってタルボ効果を生じる回折格子である。第１格子３３ａは、図示しないが、第０格子３２ａと同様に、Ｘ１−Ｘ２方向に所定の厚さ（深さ）を有してＹ１−Ｙ２方向に線状に延び交互に平行に配設される複数のＸ線吸収部と複数のＸ線透過部とを備えている。この第１格子３３ａは、タルボ効果を生じる条件を満たすように構成されており、Ｘ線源３１ａから放射された源放射Ｘ線の波長よりも充分に粗い格子、例えば、格子定数（回折格子の周期）が源放射Ｘ線の波長の約２０以上である位相型回折格子である。なお、第１格子３３ａは、振幅型回折格子であってもよい。
【００３１】
この第１格子３３ａは、第０格子３２ａと源放射Ｘ線の波長の整数倍の距離を隔てて平行に配置される。
【００３２】
次に、第２格子３４ａについて説明する。第２格子３４ａは、第１格子３３ａから略タルボ距離だけ離れた位置に配置され、第１格子３３ａによって回折された、例えば源放射Ｘ線を回折する透過型の振幅型回折格子である。この第２格子３４ａも、第１格子３３ａと同様に、図示しないが、Ｘ１−Ｘ２方向に所定の厚さ（深さ）を有してＹ１−Ｙ２方向に線状に延び交互に平行に配設される複数のＸ線吸収部と複数のＸ線透過部とを備えている。
【００３３】
この第２格子３４ａは、位相型回折格子である第１格子３３ａと次の式１及び式２を満たすように配置されている。
ｌ＝λ／（ａ／（Ｌ１＋Ｌ２＋Ｌ３））      ・・・（式１）
Ｚ１＝（ｍ＋１／２）×（ｄ２／λ）      ・・・（式２）
ここで、ｌは、可干渉距離であり、λは、Ｘ線の波長（通常は中心波長）であり、ａは、回折格子の回折部材にほぼ直交する方向におけるＸ線源３１ａの開口径であり、Ｌ１は、Ｘ線源３１ａから第１格子３３ａまでの距離であり、Ｌ２は、第１格子３３ａから第２格子３４ａまでの距離であり、Ｌ３は、第２格子３４ａから画像検出器３５ａまでの距離であり、ｍは、整数であり、ｄは、回折部材の周期（回折格子の周期、格子定数、隣接する回折部材の中心間距離、前記ピッチＰ）である。
【００３４】
画像検出器３５ａは、例えば、Ｘ線のエネルギーを吸収して蛍光を発するシンチレータを含む薄膜層が受光面上に形成された二次元イメージセンサを備えるフラットパネルディテクタ（ＦＰＤ）や、入射フォトンを光電面で電子に変換し、この電子をマイクロチャネルプレートで倍増し、この倍増された電子群を蛍光体に衝突させて発光させるイメージインテンシファイア部と、イメージインテンシファイア部の出力光を撮像する二次元イメージセンサとを備えるイメージインテンシファイアカメラなどである。
【００３５】
尚、この実施形態では、Ｘ線源３１ａ、第０格子３２ａ、第１格子３３ａ、第２格子３４ａ及び画像検出器３５ａは、ケーシング３６に収納されている。
【００３６】
第２タルボ・ロー干渉計３ｂは、第１タルボ・ロー干渉計３ａと同様に、Ｘ線源３１ｂと、Ｘ線源３１ｂから順に、Ｘ１−Ｘ２方向と直交するＹ１−Ｙ２方向（第２方向）に沿って配置された第０格子３２ｂ、第１格子３３ｂ、第２格子３４ｂ及び画像検出器３５ｂを備えている。
【００３７】
これらのＸ線源３１ｂ、第０格子３２ｂ、第１格子３３ｂ、第２格子３４ｂ及び画像検出器３５ｂは、第１タルボ・ロー干渉計３ａのＸ線源３１ａ、第０格子３２ａ、第１格子３３ａ、第２格子３４ａ及び画像検出器３５ａそれぞれと同構成のものである。
【００３８】
このように形成された第２タルボ・ロー干渉計３ｂは、第２タルボ・ロー干渉計軸３０ｂ（図２に図示）が第１タルボ・ロー干渉計３ａの第０格子３２ａと第１格子３３ａとの間を通り、且つ、第１タルボ・ロー干渉計３ａの第１タルボ・ロー干渉計軸３０ａ（図２に図示）が第２タルボ・ロー干渉計３ｂの第０格子３２ｂと第１格子３３ｂとの間を直交（交差）するように配置されている。尚、第２タルボ・ロー干渉計軸３０ｂは、Ｘ線源３１ｂ、第０格子３２ｂ、第１格子３３ｂ、第２格子３４ｂ及び画像検出器３５ｂを通りＹ１−Ｙ２方向に平行な軸であり、第１タルボ・ロー干渉計軸３０ａは、第１タルボ・ロー干渉計３ａのＸ線源３１ａ、第０格子３２ａ、第１格子３３ａ、第２格子３４ａ及び画像検出器３５ａを通りＸ１−Ｘ２方向に平行な軸である。
【００３９】
尚、この実施形態では、第２タルボ・ロー干渉計３ｂのＸ線源３１ｂ、第０格子３２ｂ、第１格子３３ｂ、第２格子３４ｂ及び画像検出器３５ｂも、ケーシング３６に収納されている。
【００４０】
載置部６は、第１タルボ・ロー干渉計３ａの第０格子３２ａと第１格子３３ａとの間、且つ、第２タルボ・ロー干渉計３ｂの第０格子３２ｂと第１格子３３ｂとの間（交差する位置）に形成されている。従って、第１タルボ・ロー干渉計軸３０ａと第２タルボ・ロー干渉計軸３０ｂとは、載置部６で交差している。
【００４１】
この実施形態では、対象物Ｓ１は、収納容器１００に収納され、収納容器１００を介して載置部６に載置されるようになっている。尚、載置部６は、固定的に取り付けた収納容器部を備えたものとし、その収納容器部に対象物Ｓ１を収納することで対象物Ｓ１を載置するようにしてもよい。
【００４２】
処理部１６は、放射性物質除去装置１の各部を制御することによって放射性物質除去装置１全体の動作を制御する装置であり、例えば、マイクロプロセッサおよびその周辺回路を備えて構成され、機能的に、放射性物質位置特定部１６０、画像処理部１６１およびシステム制御部１６２を備えている。
【００４３】
放射性物質位置特定部１６０は、第１タルボ・ロー干渉計３ａのＸ線源３１ａ側からＸ２方向に載置部６に載置された対象物Ｓ１を見た第１側面視における放射性物質Ｓ２の位置を検出する第１側面視位置特定部１６０１と、第２タルボ・ロー干渉計３ｂのＸ線源３１ｂ側からＹ２方向に対象物Ｓ１を見た第２側面視における放射性物質Ｓ２の位置を特定する第２側面視位置特定部１６０２とを備えている。
【００４４】
第１側面視位置特定部１６０１は、Ｘ線源３１ａをＯＮした状態で、第１タルボ・ロー干渉計３ａの画像検出器３５ａで、例えば図１３（ａ）に示すタルボ像３５１を取得する。このタルボ像３５１は、第１タルボ・ロー干渉計３ａのＸ線源３１ａから放射された源放射Ｘ線と、載置部６に載置された対象物Ｓ１中の放射性物質Ｓ２から放射されるＸ線（以下、物質放射Ｘ線）とによる像である。
【００４５】
この図１３（ａ）に示す本実施形態のタルボ像３５１は、画像検出器３５ａで、放射性物質Ｓ２が図１３（ｃ）に示す非放射性物質の場合の画像Ｓ２ａと、後述の図１４（ａ）に示す画像を重ね合わせた画像になる。ただし、図１３（ａ）に示すタルボ像３５１は、画像検出器３５ａに設けられたセンサーのピッチが第２格子３４ｂに設けられたＧ２パターン３４１よりも大きい場合である。このＧ２パターン３４１は、第０格子３２ｂで波が揃ったＸ線源３１ａからの源放射Ｘ線が、対象物Ｓ１がない状態で第１格子３３ａに設けられたパターン（図示せず）を投影してできたパターンを、更に放射性物質Ｓ２から放射される物質放射Ｘ線で画像検出器３５ａに投影してできたパターンである。一方、画像検出器３５ａのセンサーピッチが第２格子３４ｂのＧ２パターン３４１よりも小さい場合は、図１３（ｂ）に示すようにタルボ像３５２は、図１３（ｃ）に示す上記非放射性物質の画像Ｓ２ａと、後述の図１４（ｂ）に示す画像とを重ね合わせた画像になる。
【００４６】
そして、第１側面視位置特定部１６０１は、このタルボ像をフーリエ変換して合成波周波数スペクトルを取得する。
【００４７】
又、第１側面視位置特定部１６０１は、源放射Ｘ線が放射されない状態、即ち、Ｘ線源３１ａをＯＦＦした状態で、第１タルボ・ロー干渉計３ａの画像検出器３５ａで、例えば図１４（ａ）に示す回折像３５３を取得する。この回折像３５３は、載置部６に載置された対象物Ｓ１中の放射性物質Ｓ２から放射される物質放射Ｘ線による像である。
【００４８】
この実施形態の回折像３５３は、図１４（ａ）に示すように、画像検出器３５ａで、第２格子３４ｂのＧ２パターンが放射性物質Ｓ２に最も近い部分（この図１４（ａ）では中心部）程、明るく映る。ただし、Ｇ２パターン３４１が画像検出器３５ａのセンサーのピッチよりも細かいので、実際は、Ｇ２パターンがマスクになり、光量が略１／２に落ちた、中心がやや明るい全面が光った画像になる。又、この図１４（ａ）に示す回折像３５３は、画像検出器３５ａのセンサーのピッチがＧ２パターン３４１よりも大きい場合の画像であり、画像検出器３５ａのセンサーのピッチがＧ２パターン３４１よりも小さい場合は、図１４（ｂ）に示すように、回折像３５４は、中心部が明るい、Ｇ２パターン３４１が表れた画像になる。
【００４９】
そして、第１側面視位置特定部１６０１は、この回折像から、予め回折像の位置と回折像周波数とを関連付けて記録したルックアップテーブル１６０３におけるその回折像と関連付けられた周波数を抽出することにより、物質放射Ｘ線の周波数を取得する。
【００５０】
そして、第１側面視位置特定部１６０１は、上記合成波周波数スペクトルから、回折像周波数を減算して源放射Ｘ線周波数スペクトルを得る。この源放射Ｘ線周波数スペクトルタは、物質放射Ｘ線が放射されないで源放射Ｘ線のみによって第１タルボ・ロー干渉計３ａの画像検出器３５ａに検出される放射性物質Ｓ２（この場合の放射性物質は非放射性物質に置き換えられたものになる）の周波数についてのデータである。
【００５１】
又、第１側面視位置特定部１６０１は、源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して変換タルボ像を得る。この変換タルボ像は、放射性物質Ｓ２がＸ線を放射していないとみなして得られる像である。そして、その得た変換Ｘ線タルボ像を公知のタルボ処理から第１側面視位置を求めることにより第１側面視位置を特定する。
【００５２】
第２側面視位置特定部１６０２は、第１側面視位置特定部１６０１と同様にして第２側面視における放射性物質Ｓ２の位置を検出する。
【００５３】
詳しくは、第２側面視位置特定部１６０２は、Ｘ線源３１ａをＯＮした状態で、第２タルボ・ロー干渉計３ｂの画像検出器３５ｂによってタルボ像を取得する。そして、このタルボ像をフーリエ変換して合成波周波数スペクトルを取得する。
【００５４】
又、第２側面視位置特定部１６０２は、源放射Ｘ線が放射されない状態、即ち、Ｘ線源３１ａをＯＦＦした状態で、第２タルボ・ロー干渉計３ｂの画像検出器３５ｂによって、回折像を取得する。この回折像から、予め回折像の位置と回折像周波数とを関連付けて記録したルックアップテーブル１６０３におけるその回折像と関連付けられた周波数を抽出することにより、物質放射Ｘ線の周波数を取得する。
【００５５】
そして、第２側面視位置特定部１６０２は、上記合成波周波数スペクトルから、回折像周波数を減算して源放射Ｘ線周波数スペクトルを得る。
【００５６】
又、第２側面視位置特定部１６０２は、源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して変換タルボ像を得る。そして、その得た変換Ｘ線タルボ像を公知のタルボ処理から第１側面視位置を求めることにより第１側面視位置を特定する。
【００５７】
システム制御部１６２は、Ｘ線制御部１７との間で制御信号を送受信することによってＸ線電源部１４を介してＸ線源３１ａ、３１ｂにおける源放射Ｘ線の放射動作を制御すると共に、カメラ制御部１５との間で制御信号を送受信することによって画像検出器３５ａ、３５ｂの撮像動作を制御するシステム制御部１６２の制御によって、源放射Ｘ線が被写体である対象物Ｓ１に向けて照射され、これによって生じた像が画像検出器３５ａ、３５ｂによって撮像され、画像信号がカメラ制御部１５を介して処理部１６に入力される。
【００５８】
又、システム制御部１６２は、第１側面視位置特定部１６０１と第２側面視位置特定部１６０２とにより特定された第１側面視位置及び第２側面視位置に基いて、後述の放射性物質取り出し部４における第１駆動モータ４３４〜第３駆動モータ４３６を制御する。
【００５９】
画像処理部１６１は、画像検出器３５ａ、３５ｂによって検出された画像信号を処理し、対象物Ｓ１の画像を生成する。
【００６０】
次に、放射性物質取り出し部４について説明する。放射性物質取り出し部４は、図１に示すように放射性物質を貯留する貯留部４１と、貯留部４１に放射性物質を搬送する搬送路４２と、搬送路の先端部を可動させる可動部４３とを備えている。
【００６１】
貯留部４１は、放射性物質を貯留する貯留層４１１と、貯留層４１１に放射性物質を引き込む吸引部４１２とを備えている。吸引部４１２は、図示しないモータを備え、モータの作動によって貯留層４１１の内部が負圧になるように形成されている。
【００６２】
搬送路４２は、この実施形態では、貯留層４１１から収納容器１００まで延ばされたパイプ管４４の内部に形成されている。このパイプ管４４は、収納容器１００から可動部４４まで延ばされた第１パイプ４５と、第１パイプ４５に連結され可動部４３から貯留層４１１まで延ばされ湾曲状に変形し得る第２パイプ４６とを備えている。
【００６３】
第１パイプ４５は、この実施形態では、全体が変形し難いように形成されており、略鉛直状に配置された鉛直部４５１と、鉛直部４５１と直角に屈曲されて略水平状に配置された水平部４５２とを備えている。
【００６４】
鉛直部４５１は、図５に示すように下端側の先端部に、吸引口４５１１と、粉砕部４５１２とを備えている。粉砕部４５１２は、放射性物質Ｓ２を含む対象物を粉砕するためのもので、この実施形態では、粉砕部４５１２は、吸引口４５１１の先端側に、鉛直部４５１に回転自在に取り付けられた２つの回転刃からなる。
【００６５】
可動部４３は、図５、図６に示すように支柱４３１と、支柱４３１に移動可能に保持された移動部材４３２と、移動部材４３２に移動可能に保持され第１パイプ４５の水平部４５２を固定的に保持したパイプ保持部４３３とを備えている。
【００６６】
支柱４３１は、Ｘ１−Ｘ２方向に間隔を隔てて互いに対向配置された第１支柱４３１１及び第２支柱４３１２と、第１案内軸４３１３及び第２案内軸４３１４と、第１駆動軸４３１５とを備えている。
【００６７】
第１案内軸４３１３は、Ｚ１−Ｚ２方向に延され、第１支柱４３１１に固定的に保持されている。
【００６８】
第２案内軸４３１４は、第１案内軸４３１３と平行に配置され、第２支柱４３１２に固定的に保持されている。
【００６９】
第１駆動軸４３１５は、外周に雄ネジ４３１５ａを備えている。そして、この第１駆動軸４３１５は、Ｚ１−Ｚ２方向に延され、第２支柱４３１２に回転自在に保持されている。又、この第１駆動軸４３１５は、支柱４３１に取り付けられた第１駆動モータ４３４（図５に図示）に接続され、第１駆動モータ４３４の作動に伴って回転するようになっている。
【００７０】
移動部材４３２は、この実施形態では、四角筒状の枠体４３２１と、枠体４３２１の内側に配置された第２駆動軸４３２２及び第３駆動軸４３２３とを備えている。
【００７１】
枠体４３２１は、第１案内軸４３１３と第２案内軸４３１４とがそれぞれ、摺動可能に嵌挿され、且つ、第１駆動軸３３１５と螺合された状態で、第１支柱４３１１と第２支柱４３１２との間に、回転不能に配置されている。そして、第１駆動モータ４３４の作動に伴う第１駆動軸４３１５の回転によって、枠体４３２１は、第１案内軸４３１３と第２案内軸４３１４とに案内されてＺ１−Ｚ２方向に移動し得るようになっている。
【００７２】
第２駆動軸４３２２は、外周に雄ネジ４３２２ａを備えている。この第２駆動軸４３２２は、Ｙ１−Ｙ２方向に沿って延ばされ、枠体４３２１に回転自在に且つＸ１−Ｘ２方向移動可能に保持されている。又、第２駆動軸４３２２は、枠体４３２１に取り付けられた第２駆動モータ４３５に接続されており、第２駆動モータ４３５の作動によって回転するようになっている。
【００７３】
第３駆動軸４３２３は、第２駆動軸４３２２と略同構成を採っており、外周に雄ネジ４３２３ａを備えている。そして、この第３駆動軸４３２３は、Ｘ１−Ｘ２方向に沿って延ばされ、枠体４３２１に回転自在に且つＹ１−Ｙ２方向移動可能に保持されている。又、第３駆動軸４３２２は、枠体４３２１に取り付けられた第３駆動モータ４３６に接続されており、第３駆動モータ４３６の作動によって回転するようになっている。
【００７４】
パイプ保持部４３３は、第２駆動軸４３２２と第３駆動軸４３２３とのそれぞれに螺合されており、第２駆動モータ４３５の作動による第２駆動軸４３２２の回転に伴い第２駆動軸４３２２に沿ってＹ１−Ｙ２方向に移動し、第３駆動モータ４３６の作動による第３駆動軸４３２３の回転に伴い第３駆動軸４３２３に沿ってＸ１−Ｘ２方向に移動する。
【００７５】
次に、本実施形態の放射性物質除去装置１を用いて放射性物質Ｓ２を除去する方法について説明する。対象物Ｓ１が収納された収納容器１００が載置部６に載置されることによって、被写体としての対象物Ｓ１が第１タルボ・ロー干渉計３ａの第０格子３２ａと第１格子３３ａとの間、且つ、第２タルボ・ロー干渉計３ｂの第０格子３２ｂと第１格子３３ｂとの間に配置される。
【００７６】
この状態で、放射性物質除去装置１のユーザ（オペレータ）によって図略の操作部から対象物Ｓ１の撮像が指示されると、処理部１６のシステム制御部１６２は、第１タルボ・ロー干渉計３ａのＸ線源３１ａから源放射Ｘ線を対象物Ｓ１に向けて照射すべくＸ線制御部１７に制御信号を出力する。この制御信号によってＸ線制御部１７は、Ｘ線電源部１４にＸ線源３１ａへ給電させ、Ｘ線源３１ａは、源放射Ｘ線を放射して対象物Ｓ１に向けて源放射Ｘ線を照射する（図１０、ステップＳ１）。
【００７７】
照射された源放射Ｘ線は、第０格子３２ａ及び対象物Ｓ１を介して第１格子３３ａを通過し、第１格子３３ａによって回折される。
【００７８】
又、その際、対象物Ｓ１に含まれた放射性物質Ｓ２から物質放射Ｘ線が放射され、第１格子３３ａによって回折される。
【００７９】
従って、第１タルボ・ロー干渉計３ａの画像検出器３５ａには、図１３（ａ）（又は図１３（ｂ））に示すように源放射Ｘ線と物質放射Ｘ線との合成波によるタルボ像が検出される（図１０、ステップＳ２）。
【００８０】
第１側面視位置特定部１６０１は、検出されたタルボ像をフーリエ変換して源放射Ｘ線と物質放射Ｘ線との合成波の合成波周波数スペクトルを取得する（図１０、ステップＳ３）。
【００８１】
又、所定時間後、処理部１６のシステム制御部１６２は、第１タルボ・ロー干渉計３ａのＸ線源３１ａをＯＦＦにし、源放射Ｘ線が照射されない状態にする。この状態では、図９に示すように、放射性物質Ｓ２から物質放射Ｘ線のみが放射されて第１格子３３ａによって回折され、第１タルボ・ロー干渉計３ａの画像検出器３５ａには、図１４（ａ）（又は図１４（ｂ））に示すように物質放射Ｘ線による回折像が検出される（図１０、ステップＳ４）。
【００８２】
ここで、物質放射Ｘ線は、図９に示すように、振幅が一定で位相が不揃いの固有振動数を持った波である。一方、源放射Ｘ線は、図７に示すように振幅が一定で位相が不揃いの状態で、第０格子３２ａを通過することで、振幅が一定且つ位相が一定の波になるが、放射性物質Ｓ２を通過する際に、物質放射Ｘ線と合わさって振幅が不揃い且つ位相が不揃いの合成波になる。従って、上述のように、第１タルボ・ロー干渉計３ａの画像検出器３５ａには、源放射Ｘ線と物質放射Ｘ線との合成波によるタルボ像が検出される。
【００８３】
第１側面視位置特定部１６０１は、ステップＳ４で検出された回折像と関連付けられてルックアップテーブル１６０３に記録された周波数を抽出することにより、物質放射Ｘ線の物質放射Ｘ線周波数を求める（図１１、ステップＳ５）。
【００８４】
そして、第１側面視位置特定部１６０１は、合成波周波数スペクトルから物質放射Ｘ線周波数を減算することにより、源放射Ｘ線のみによる源放射Ｘ線周波数スペクトルを求める（図１１、ステップＳ６）。これにより、図８に示すように、図７の状態における放射線物質から物質放射Ｘ線が放射されていない状態、即ち、放射線物質を非放射性物質に置き換えた状態にでき、第０格子３２ａを通過して振幅一定且つ位相一定の源放射Ｘ線が放射性物質Ｓ２を通過する際に振幅一定で位相が不揃いになった状態と同等の状態にできる。
【００８５】
又、第１側面視位置特定部１６０１は、源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して変換タルボ像を取得する（図１１、ステップＳ７）。そして、変換タルボ像からタルボ・ロー干渉計における公知の画像処理技術を用いて放射性物質Ｓ２の第１側面視位置を特定する（図１１、ステップＳ８）。
【００８６】
又、処理部１６のシステム制御部１６２は、第２タルボ・ロー干渉計３ｂについて、上述の第１タルボ・ロー干渉計３ａと同様の処理を、並行して行う。
【００８７】
詳しくは、処理部１６のシステム制御部１６２は、第２タルボ・ロー干渉計３ｂのＸ線源３１ｂから対象物Ｓ１に向けて源放射Ｘ線を照射させる（図１０、ステップＳ９）。
【００８８】
照射された源放射Ｘ線と物質放射Ｘ線との合成波によるタルボ像が検出される（図１０、ステップＳ１０）。
【００８９】
そして、第２側面視位置特定部１６０２は、検出されたタルボ像をフーリエ変換して源放射Ｘ線と物質放射Ｘ線との合成波の合成波周波数スペクトルを取得する（図１０、ステップＳ１１）。
【００９０】
又、所定時間後、処理部１６のシステム制御部１６２は、第２タルボ・ロー干渉計３ｂのＸ線源３１ｂをＯＦＦにして源放射Ｘ線が照射されない状態にし、第２タルボ・ロー干渉計３ｂの画像検出器３５ｂで、物質放射Ｘ線による回折像を検出する（図１０、ステップＳ１２）。
【００９１】
又、第２側面視位置特定部１６０２は、この検出された回折像から、その回折像と関連付けられてルックアップテーブル１６０３に記録された周波数を抽出することにより、物質放射Ｘ線の物質放射Ｘ線周波数を求める（図１１、ステップＳ１３）。
【００９２】
そして、第２側面視位置特定部１６０２は、合成波周波数スペクトルから物質放射Ｘ線周波数を減算することにより、源放射Ｘ線のみによる源放射Ｘ線周波数スペクトルを求める（図１１、ステップＳ１４）。
【００９３】
又、第２側面視位置特定部１６０２は、源放射Ｘ線周波数スペクトルを逆フーリエ変換して変換タルボ像を得（図１１、ステップＳ１５）、変換タルボ像からタルボ・ロー干渉計における公知の画像処理技術を用いて放射性物質Ｓ２の第１側面視位置を特定する（図１１、ステップＳ１６）。
【００９４】
又、処理部１６は、第１側面視位置特定部１６０１により特定した放射性物質Ｓ２の第１側面視位置と、第２側面視位置特定部１６０２により特定した放射性物質Ｓ２の第２側面視位置とに基いて、互いに直交するＸ１−Ｘ２方向、Ｙ１−Ｙ２方向及びＺ１−Ｚ２方向の直交する３方向の位置を求める（図１１、ステップＳ１７）。
【００９５】
そして、処理部１６のシステム制御部１６２は、求めた３方向の位置情報に基づいて、放射性物質取り出し部４の第１駆動モータ４３４〜第３駆動モータ４３６を作動させ、放射性物質取り出し部４の吸引口４５１１を求めた互いに直交する３方向の位置に配置させる（図１２、ステップＳ１８）。
【００９６】
その後、処理部１６のシステム制御部１６２は、吸引部４１２を作動させ、吸引口４５１１から求めた位置にある放射性物質Ｓ２を吸引する（図１２、ステップＳ１９）。その吸引に際して、粉砕部４５１２が放射性物質Ｓ２を含む対象物を粉砕するため、例えば木の枝や丈の長い草木が放射性物質Ｓ２を吸収している場合でも、粉砕部で細かく粉砕して吸引口から吸引できる。従って、本放射性物質除去装置１は、種々の対象物を吸引でき、適用範囲の広いものになる。以上の処理が検出した複数の放射性物質の位置について行われる。
【００９７】
尚、上記実施形態では、処理部１６が放射性物質取り出し部４を操作したが、この形態のものに限らず、適宜変更できる。例えば放射性物質除去装置１のユーザ（オペレータ）が放射性物質取り出し部４を操作してもよい。
【００９８】
又、その際、処理部１６が第１側面視位置を特定した放射性物質を表示画面に着色するとともに、第２側面視位置を特定した放射性物質を表示画面に着色し、ユーザ（オペレータ）がその表示画面を見ながら放射性物質取り出し部４の吸引口４５１１の位置を操作してもよい。
【００９９】
又、上記実施形態では、第１タルボ・ロー干渉計３ａと第２タルボ・ロー干渉計３ｂとの２つを用いたが、３つ以上のタルボ・ロー干渉計を用いてもよく、適宜変更できる。
【符号の説明】
【０１００】
１  放射性物質除去装置
２  放射性物質検出部
４  放射性物質取り出し部
３ａ  第１タルボ・ロー干渉計
３ｂ  第２タルボ・ロー干渉計
６  載置部
３１ａ、３１ｂ  Ｘ線源
３２ａ、３２ｂ  第０格子
３３ａ、３３ｂ  第１格子
３４ａ、３４ｂ  第２格子
３５ａ、３５ｂ  画像検出器
１６０１  第１側面視位置特定部
１６０２  第２側面視位置特定部
４５１１  吸引口
４５１２  粉砕部
【図１】
0006394543.tif 000002
【図２】
0006394543.tif 000003
【図３】
0006394543.tif 000004
【図４】
0006394543.tif 000005
【図５】
0006394543.tif 000006
【図６】
0006394543.tif 000007
【図７】
0006394543.tif 000008
【図８】
0006394543.tif 000009
【図９】
0006394543.tif 000010
【図１０】
0006394543.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
0006394543.tif 000013
【図１３】
0006394543.tif 000014
【図１４】
0006394543.tif 000015