(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェーハ処理装置に適用されるウェーハ回転装置であって、
収容空間を有するベースと、
前記収容空間に配置され、ウェーハを収容するのに用いられるキャリア装置と、
前記ベースの側面に配置された第一のシャフトギアと、
前記ベースの上部に組み立てられ、前記第一のシャフトギアと接続された電源ユニットと、
前記キャリア装置の下方に位置し、前記ウェーハの端部を支持するローラーと、
前記側面に配置され、前記ローラーに接続された第二のシャフトギアと、
前記第一のシャフトギアと前記第二のシャフトギアとの間に接続された駆動アセンブリであって、前記第一のシャフトギアおよび前記駆動アセンブリを回転可能にする電力が前記電源ユニットから供給されたときに、前記第二のシャフトギアが回転して前記ローラーを回転駆動させ、それによって前記ウェーハを回転させる、駆動アセンブリと、を備え、
前記ベースはさらに固定部を有しており、前記固定部は前記収容空間に配置され、複数の制限壁と各２つの隣接する制限壁間にある制限スロットとを備え、前記制限スロットは、前記制限壁の上面から凹設されて複数の床部を形成し、前記各床部は、前記収容空間および前記制限スロットと連結する複数の貫通孔を有し、前記キャリア装置の底部の両側は、前記制限スロットに配置されて前記床部と接触することで前記キャリア装置の移動を制限する、ことを特徴とするウェーハ回転装置。
【請求項２】
前記ローラーは、前記ローラーと前記ウェーハの端部との間の摩擦を増加させるために、前記ローラーの周りを被覆している被覆層を有する、請求項１に記載のウェーハ回転装置。
【請求項３】
前記被覆層の材料はゴムである、請求項２に記載のウェーハ回転装置。
【請求項４】
前記被覆層の材料はマープレンである、請求項２に記載のウェーハ回転装置。
【請求項５】
前記制限スロットは前記収容空間と連結される、請求項１に記載のウェーハ回転装置。
【請求項６】
前記各制限壁の上面の高さは前記ローラーの回転中心の高さよりも低い、請求項５に記載のウェーハ回転装置。
【請求項７】
前記駆動アセンブリはギアチェーンセットであり、前記ギアチェーンセットは複数のギアを備え、前記ギアは、前記第一のシャフトギアと前記第二のシャフトギアとの間に噛合している、請求項１に記載のウェーハ回転装置。
【請求項８】
前記駆動アセンブリはベルトであり、前記ベルトは前記第一のシャフトギアおよび前記第二のシャフトギアの周りを囲む、請求項１に記載のウェーハの回転装置。
【請求項９】
前記ベースは、さらに手持ち部を有しており、前記ベースは、前記手持ち部によって前記ウェーハ処理装置に可動式に配置される、請求項１に記載のウェーハ回転装置。
【請求項１０】
前記手持ち部は少なくとも１対の片持ち梁を有しており、前記片持ち梁は、それぞれ前記ベースの外側に向けて突出する、請求項９に記載のウェーハ回転装置。
【請求項１１】
前記手持ち部は、２つの第一のフレームと第二のフレームとを有しており、前記２つの第一のフレームは、それぞれ前記ベースの前記側面ともう一つの側面とに配置され、前記第二のフレームは、前記２つの第一のフレーム間で垂直に連結されている、請求項９に記載のウェーハ回転装置。
【請求項１２】
前記電源ユニットは、
前記第一のシャフトギアに接続されたモーターと、
前記モーターと電気的に接続され、前記モーターを駆動して前記第一のシャフトギアを回転駆動させる電源装置と、を備える、請求項１に記載のウェーハ回転装置。
【請求項１３】
前記ベースのもう一つの側面に配置され、前記もう一つの側面から前記収容空間に突出し、前記キャリア装置がぐらつくのを制限するために、前記キャリア装置の上部より上方に位置した制限ピラーをさらに備える、請求項１に記載のウェーハ回転装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は装置に関するものであり、より具体的には、ウェーハ処理装置に適用されるウェーハ回転装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
集積回路デバイスの製造工程は、ウェーハ洗浄およびウェーハ無電解めっき工程を含む。ウェーハ洗浄工程は、ウェーハの表面に付着した有機化合物、金属性不純物、または粒子を除去するために行われ、それによって、これらの汚染物質が後続する工程に劇的な影響（例えば、ｐｎ接合において生じるリーク電流、少数キャリアの寿命の減少、ゲート酸化層の破壊電圧の減少、回路構造での短絡回路など）を及ぼすのを防止する。加えて、ウェーハ無電解めっき工程では、被めっき溶液中の（例えば、ニッケルまたは金の）金属イオンが自己触媒反応によって溶液から還元され、ウェーハの上に堆積し、その結果、ウェーハの表面に溶接性または耐酸化性のあるめっき層を有することが可能となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、ウェーハ洗浄装置では、ウェーハは、例えば、平坦な端部を有するウェーハであることも、ウェーハ洗浄装置の構成要素（例えば、カセット）によって遮蔽されることもあり、結果として、ウェーハは洗浄液に不均等に浸漬し、これによってウェーハの外観は悪くなり、ウェーハの歩留まりが悪化する。加えて、ウェーハ無電解めっき工程では、自己触媒反応中に生成される水素をウェーハの表面から迅速に取り除かなければ、使用するめっき液をウェーハの表面に十分に付着させることができず、めっき層が不均一となり、ウェーハの歩留まりが低下することになる。
【０００４】
本発明は、ウェーハの歩留まりを改善するために、ウェーハ洗浄およびウェーハ無電解めっき用の処理装置に適用することができるウェーハ回転装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
ウェーハ処理装置に適用されるウェーハ回転装置を提供する。ウェーハ回転装置は、ベース、キャリア装置、第一のシャフトギア、電源ユニット、ローラー、第二のシャフトギア、駆動アセンブリを含む。ベースは、収容空間を有する。キャリア装置は、収容空間に配置され、ウェーハの収容に用いられる。第一のシャフトギアは、ベースの側面に配置される。電源ユニットは、ベースの上部に組み立てられ、第一のシャフトギアは電源ユニットに接続される。ローラーは、キャリア装置の下方に位置し、ウェーハの端部を支持する。第二のシャフトギアは、ベースの側面に配置され、ローラーに接続される。駆動アセンブリは、第一のシャフトギアと第二のシャフトギアとの間に接続される。第一のシャフトギアおよび駆動アセンブリを回転可能にする電力が電源ユニットから供給されたときに、第二のシャフトギアが回転してローラーを回転駆動させ、それによってウェーハを回転させる。
【０００６】
本発明の一実施形態では、ローラーは、ローラーとウェーハの端部との間の摩擦を増加させるために、ローラーの周りを被覆している被覆層を有する。
【０００７】
本発明の一実施形態では、被覆層の材料はゴムである。
【０００８】
本発明の一実施形態では、被覆層の材料はマープレンである。
【０００９】
本発明の一実施形態では、ベースはさらに固定部を有する。固定部は収容空間に配置され、複数の制限壁と各２つの隣接する制限壁間にある制限スロットとを含み、制限スロットは収容空間と連結する。キャリア装置の底部の両側は、制限スロットに配置されてキャリア装置の移動を制限する。各制限壁の上面の高さは、ローラーの回転中心の高さよりも低い。
【００１０】
本発明の一実施形態では、ベースはさらに固定部を有する。固定部は収容空間に配置され、複数の制限壁と各２つの隣接する制限壁間にある制限スロットとを含む。制限スロットは、制限壁の上面から凹設されて複数の床部を形成する。各床部は、収容空間および制限スロットと連結する複数の貫通孔を有する。キャリア装置の底部の両側は、制限スロットに配置されて床部と接触することでキャリア装置の移動を制限する。各制限壁の上面の高さは、ローラーの回転中心の高さよりも低い。
【００１１】
本発明の一実施形態では、駆動アセンブリはギアチェーンセットである。ギアチェーンセットは複数のギアを含み、ギアは、第一のシャフトギアと第二のシャフトギアとの間に噛合している。
【００１２】
本発明の一実施形態では、駆動アセンブリはベルトである。ベルトは第一のシャフトギアおよび第二のシャフトギアの周りを囲む。
【００１３】
本発明の一実施形態では、ベースはさらに手持ち部を有する。ベースは、手持ち部によってウェーハ処理装置に可動式に配置される。
【００１４】
本発明の一実施形態では、手持ち部は少なくとも１対の片持ち梁を有しており、片持ち梁は、それぞれベースの外側に向けて突出する。
【００１５】
本発明の一実施形態では、手持ち部は、２つの第一のフレームと第二のフレームとを有する。２つの第一のフレームは、それぞれベースの側面ともう一つの側面とに配置され、第二のフレームは、２つの第一のフレーム間で垂直に連結されている。
【００１６】
本発明の一実施形態では、電源ユニットは、モーターと電源装置とを含む。モーターは、第一のシャフトギアに接続される。電源装置はモーターと電気的に接続され、モーターを駆動して第一のシャフトギアを回転駆動させる。
【００１７】
本発明の一実施形態では、ウェーハ回転装置は、ベースのもう一つの側面に配置された制限ピラーをさらに含む。制限ピラーは、ベースのもう一つの側面から収容空間に突出し、キャリア装置がぐらつくのを制限するために、キャリア装置の上部より上方に位置する。
【００１８】
本発明の一実施形態では、ローラーの材料はポリアリールエーテルケトン（ＰＥＥＫ）である。
【発明の効果】
【００１９】
要するに、本発明のウェーハ回転装置では、ウェーハの端部がローラーによって支持され、従って、電源ユニットが、第一のシャフトギア、駆動アセンブリおよび第二のシャフトギアを回転駆動させると、ローラーはウェーハを回転駆動させる。それ故、ウェーハ洗浄装置またはウェーハ無電解めっき装置のいずれかに適用される本発明のウェーハ回転装置では、ウェーハの表面が洗浄液に均等に浸漬するようにでき、または、ウェーハの表面にガスが残らないようにすることができる。それによって、ウェーハの歩留まりを増大させることができる。
【００２０】
前述した内容ならびに本発明の他の特徴および利点をよりわかりやすくするために、以下では、添付の図面を参照しながらいくつかの実施形態を詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
添付の図面は、本発明をさらに理解する目的で提供され、本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を構成する。図面は、本発明の実施形態を例示し、詳細な説明とともに、本発明の原理を説明するために用いられる。
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態による、ウェーハ回転装置を例示している斜視図である。
【図２】キャリア装置が取り外された後の、図１に示すウェーハ回転装置の斜視図である。
【図３】図１に示すキャリア装置の斜視図である。
【図４】図１に示すベースおよびキャリア装置を組み立てた際のこれらの断面図である。
【図５】キャリア装置が取り外された後の、図１に示すウェーハ回転装置の別の斜視図である。
【図６】本発明の別の実施形態による、ウェーハ回転装置を例示している斜視図である。
【図７】図６に示すウェーハ回転装置を例示している左側面図である。
【図８】図６に示すベースの一部を例示している斜視図である。
【図９】図６に示すベースおよびキャリア装置を組み立てた際のこれらの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
図１は、本発明の一実施形態によるウェーハ回転装置を例示している斜視図である。図２は、キャリア装置が取り外された後の、図１に示すウェーハ回転装置の斜視図である。図３は、図１に示すキャリア装置の斜視図である。本実施形態では、ウェーハ回転装置１００は、ウェーハ洗浄またはウェーハ無電解めっき用の処理装置（不図示）に適用可能であり、処理装置によって処理されるウェーハ１２２の歩留まりを改善することができる。ウェーハ回転装置１００は、ベース１１０、キャリア装置１２０、第一のシャフトギア１３０、電源ユニット１４０、ローラー１５０、第二のシャフトギア１６０および駆動アセンブリ１７０を含む。ベース１１０は、収容空間１１０ａを有する。キャリア装置１２０は、収容空間１１０に配置され、ウェーハ１２２を収容するための複数のスロット１２０ａを有する。加えて、本実施形態のウェーハ１２２は、平坦な端部を有するウェーハであっても有しないウェーハであってもよいが、本実施形態では、平坦な端部を有するウェーハとして説明するものとする。
【００２４】
第一のシャフトギア１３０は、ベース１１０の側面１１０ｂ上に配置される。電源ユニット１４０は、ベース１１０の上部に組み立てられる。第一のシャフトギア１３０は、電源ユニット１４０に接続される。また、本実施形態の電源ユニット１４０は、モーター１４２および（例えば、バッテリーといった）電源装置１４４を含む。モーター１４２は、第一のシャフトギア１３０に接続され、電源装置１４４は、モーター１４２に電気的に接続され、モーター１４２を駆動して、第一のシャフトギア１３０を駆動させる。
【００２５】
図４は、図１に示すベースおよびキャリア装置が組み立てられたときのそれらの断面図である。図１，図２および図４につき、ローラー１５０は、キャリア装置１２０の下方に位置し、ウェーハ１２２の端部を支持する。第二のシャフトギア１６０は、ベース１１０の側面１１０ｂ上に配置され、ローラー１５０に接続される。駆動アセンブリ１７０は、第一のシャフトギア１３０と第二のシャフトギア１６０との間に接続される。電源装置１４４が電力をモーター１４２に伝えると、モーター１４２は第一のシャフトギア１３０および駆動アセンブリ１７０を回転させることができ、第二のシャフトギアが回転し、それによってローラー１５０を回転中心１５０ａの周りに回転駆動させる。これによって、ウェーハ１２２は回転する。ウェーハ１２２が回転することにより、ウェーハ１２２の表面は、ウェーハ洗浄工程またはウェーハ無電解めっき工程のいずれかの間、洗浄液（不図示）に均等に浸漬され、または、ガス（例えば、水素）がウェーハ１２２の表面に残存することがなくなり、結果として、ウェーハ１２２は良好な外観または均一なめっき層を有することになるので、めっき処理を経たウェーハ１２２の歩留まりが改善する。このように、ウェーハ１２２の歩留まりが改善されることで後続の処理に要する時間が節約され、結果としてウェーハ１２２の製造コストが低減されることになる。
【００２６】
本発明のウェーハ回転装置１００を使用した場合と使用していない場合におけるウェーハ洗浄装置およびウェーハ無電解めっき装置において生じる違いを以下に説明する。
【００２７】
表１は、対照群と実験群との比較表である。表１において、対照群のデータは、本発明のウェーハ回転装置１００を使用しない場合のものであり、一方で、実験群のデータは、本発明のウェーハ回転装置１００を使用した場合のものである。表１によると、ウェーハ洗浄工程とウェーハ無電解めっき工程のいずれの工程においても、本発明のウェーハ回転装置１００を用いると、ウェーハの外観状態を良好にし、そのめっき層がウェーハの表面を覆うようにするとともに、ウェーハ１２２の歩留まりを９７％超とすることが可能となる。
【００２８】
【表１】
0006259857.tif 000002
【００２９】
図４につき、ローラー１５０とウェーハ１２２の端部との間の摩擦力を増大させてウェーハ１２２が確実に回転できるようにするために、本実施形態のローラー１５０は、ゴムからなる被覆層１５２を有してもよい。加えて、別の実施形態では、ローラー１５０の被覆層１５２の材料はマープレンである。さらに、本実施形態のローラー１５０の材料はポリアリールエーテルケトン（ＰＥＥＫ）であってもよい。それによって、ローラー１５０の高温および化学反応に対する耐性を増大させることができる。
【００３０】
図２および図４につき、ベース１１０はさらに固定部１１２を有する。固定部１１２は、収容空間１１０ａに配置され、複数の制限壁と各２つの隣接する制限壁１１２ａ間にある制限スロット１１２ｂとを含み、制限スロット１１２ｂは収容空間１１０ａと連結し、それによってウェーハ１１２が十分にウェーハ処理液に接触する。キャリア装置１２０の底部の両側は、制限スロット１１２ｂに配置されて、キャリア装置１２０の移動を制限する。それによって、キャリア装置１２０の移動が原因でウェーハ１２２がウェーハ処理液と十分に反応することができなくなる事態が防止される。本実施形態では、制限スロット１１２ｂの数は２つとして例示したが、他の実施形態では、制限スロット１１２ｂの数は、キャリア装置１２０の数に対応するように４つとしてもよいことに留意すべきである。ユーザーは、実際の要件に応じて、制限スロット１２２ｂの数およびキャリア装置１２０の数を調整することができる。
【００３１】
図５は、キャリア装置が取り外された後の、図１に示すウェーハ回転装置の別の斜視図である。図２，図４及び図５につき、本実施形態では、ウェーハ回転装置１００は、さらにベース１１０のもう一つの側面１１０ｃに配置された制限ピラー１８０を含む。制限ピラー１８０は、ベース１１０のもう一つの側面１１０ｃから収容空間１１０ａに突出し、キャリア装置１２０の上部より上方に位置する。具体的には、本実施形態における制限ピラー１８０はねじであってもよく、制限ピラー１８０の前端は、キャリア装置１２０が収容空間１１０ａに取り付けられた後に収容空間１１０ａにねじで締め付けられ、結果としてキャリア装置１２０がぐらつくのを抑制する。この方法により、キャリア装置１２０の移動が原因で、ウェーハ１２２がウェーハ処理液と十分に反応できなくなるという事態を防ぐことができる。
【００３２】
加えて、本実施形態の各制限壁１１２ａの上面１１２ｃの高さは、ローラー１５０の回転中心１５０ａの高さよりも低い。それによって、ローラー１５０は、ウェーハ１２２が確実に回転駆動できるようにウェーハ１２２の端部によって支持される。
【００３３】
本実施形態の駆動アセンブリ１７０は、第一のシャフトギア１３０と噛合する第一のギア１７２、第二のシャフトギア１６０と噛合する第二のギア１７４、および第一のギア１７２と第二のギア１７４との間に噛合する第三のギア１７６を含む。このようにして、電源ユニット１４０のモーター１４２によって供給される動力は、ベース１１０の側面１１０ｂに伝えられ、動力伝達に必要とされる空間を縮小する。従って、ウェーハ回転装置１００は、柔軟な要素配置スペースを有する。別の実施形態では、駆動アセンブリ１７０は、第一のシャフトギア１３０および第二のシャフトギア１６０の周りを囲むベルトである。
【００３４】
図１，図２及び図５につき、ベース１１０はさらに手持ち部１１４を有する。ベース１１０は手持ち部１１４によってウェーハ処理装置に可動式に配置される。具体的には、本実施形態の手持ち部１１４は、複数の第一の片持ち梁１１４ａと複数の第二の片持ち梁１１４ｂとを含む。第一の片持ち梁１１４ａおよび第二の片持ち梁１１４ｂはそれぞれベース１１０の外側に向けて突出しており、第一の片持ち梁１１４ａの延在方向は、第二の片持ち梁１１４ｂの延在方向に平行ではない。キャリア装置１２０をベース１１０に取り付けた後、ユーザーは第一の片持ち梁１１４ａおよび第二の片持ち梁１１４ｂからなるアセンブリまたは第一の片持ち梁１１４ａおよび第二の片持ち梁１１４ｂからなるアセンブリを用いることによって、ウェーハ処理装置にウェーハ回転装置１００を吊り下げることもできる。それによって、ウェーハ１２２を処理した後、またはウェーハの処理中に異常が発生した場合、便利なことに、ユーザーはウェーハ処理装置からウェーハ回転装置１００を取り外すことができる。
【００３５】
図６は、本発明の別の実施形態によるウェーハ回転装置を例示している斜視図である。図７は、図６に示すウェーハ回転装置を例示している左側面図である。図６及び図７につき、本実施形態によるウェーハ回転装置２００は、図１に例示したウェーハ回転装置１００と類似しており、従って、同一の又は類似の符号は、同一の又は類似の構成要素を表し、以下では繰り返して説明をしない。本実施形態では、駆動アセンブリ２７０は、第一のギア２７２と第二のギア２７４とを含み、第二のシャフトギア１６０の数は２つである。一方で、（図９につき）ローラー１５０の数も２つの第二のシャフトギア１６０に対応して２つであり、２つの第二のシャフトギア１６０は、第二のギア２７４に噛合する。言い換えると、２つの駆動アセンブリ２２０を本実施形態のウェーハ回転装置２００に取り付けることにより、ウェーハ２２２および２２４を同時に回転させることができる。加えて、本実施形態の駆動アセンブリ２７０はベルトであってもよく、第一のシャフトギア１３０と２つの第二のシャフトギア１６０の周りを囲む。
【００３６】
図８は、図６に示した前記ベースの一部を例示する斜視図である。図９は、図６に示した前記ベースおよび前記キャリア装置を組み立てた際のこれらの断面図である。図６，図８及び図９につき、本実施形態では、ベース２１０は、収容空間２１０ａに配置された固定部２１２を含む。固定部２１２は、複数の制限壁２１２ａと各２つの隣接する制限壁２１２ａ間にある制限スロット２１２ｂおよび２１２ｃとを含む。制限スロット２１２ｂおよび２１２ｃは、制限壁２１２ａの上面から凹設されて、複数の床部２１２ｅを形成する。各床部２１２ｅは、収容空間２１０ａと制限スロット２１２ｂ及び２１２ｃと連結する複数の貫通孔２１２ｆを有する。キャリア装置２２０の底部の両側は、２つの制限スロット２１２ｂに配置され、または、キャリア装置２２０の底部の両側は、別の２つの制限スロット２１２ｃに配置され、２つのキャリア装置２２０は床部２１２ｅと接触することで、ウェーハ２２２および２２４の移動を制限する。従って、本実施形態のベース２１０の固定部２１２は、異なるサイズの２つのウェーハ２２２および２２４（例えば３インチのサイズを有するウェーハや４インチのサイズを有するウェーハ）を収容したキャリア装置２２０の移動を同時に制限することも、同じサイズの２つのウェーハ２２２および２２４を収容したキャリア装置２２０の移動を同時に制限することも可能である点で、図１に例示したベース１１０の固定部１１２とは異なる。
【００３７】
加えて、収容空間２１０ａと連結している貫通孔２１２ｆと制限スロット２１２ｂおよび２１２ｃは、ウェーハ２２２および２２４がウェーハ処理液に十分に接触するのを容易にすることができる。加えて、本実施形態の各制限壁２１２ａの上面２１２ｄの高さは、ローラー１５０の回転中心１５０ａの高さよりも低い。それによって、ローラー１５０は、ウェーハ２２２および２２４の端部によって支持され、結果としてウェーハ２２２および２２４を確実に回転駆動させることができる。
【００３８】
図６及び図７につき、本実施形態のベース２１０は、さらに手持ち部２１４を含む。手持ち部２１４は、２つの第一のフレーム２１４ａと第二のフレーム２１４ｂとを含む。２つの第一のフレーム２１４ａは、それぞれベース２１０の側面２１０ｂともう一つの側面２１０ｃとに配置され、第二のフレーム２１４ｂは、２つの第一のフレーム２１４ａ間で垂直に連結されている。それによって、便利なことに、ユーザーは、ウェーハ回転装置２００をウェーハ処理装置に置くことも吊り下げることもできる。
【００３９】
要するに、本発明では、ウェーハは、シャフトギア、駆動アセンブリ、およびローラーによって回転され、その結果、ウェーハの表面の外観を良好にすること、または、ウェーハの表面にガスが残存しないようにすることができる。それによって、ウェーハの歩留まりが改善され、後続する工程にかかる時間を節約することができ、結果としてウェーハの製造コストを低減させることができる。さらに、ローラーが被覆層を有し、被覆層がゴムまたはマープレンからなる場合、ローラーとウェーハ端部との間の摩擦力が増加し、ウェーハを円滑に回転させることができる。加えて、ベースが固定部を有する場合、キャリア装置の移動を防止することができ、ウェーハがウェーハ処理液と反応できなくなるリスクが軽減される。さらに、ベースが手持ち部を有する場合、ユーザーは、ウェーハ回転装置をウェーハ処理装置の内外に移動させることができる。
【００４０】
以上、実施形態を参照しながら本発明について説明してきたが、本明細書に記載の実施形態には、本発明の精神から逸脱しない限り様々な修正を加えることができることが当業者には理解されるであろう。従って、本発明の範囲は、上述した詳細な説明ではなく、添付の特許請求の範囲によって画定される。
【産業上の利用可能性】
【００４１】
本発明によるウェーハ回転装置は、ウェーハの歩留まりを改善させるために、ウェーハ洗浄およびウェーハ無電解めっき用の処理装置に適用される。
【符号の説明】
【００４２】
１００  ウェーハ回転装置
１１０  ベース
１１０ａ  収容空間
１１０ｂ  側面
１１０ｃ  もう一つの側面
１１２  固定部
１１２ａ  制限壁
１１２ｂ  制限スロット
１１２ｃ  上面
１１４  手持ち部
１１４ａ  第一の片持ち梁
１１４ｂ  第二の片持ち梁
１２０  キャリア装置
１２０ａ  スロット
１２２  ウェーハ
１３０  第一のシャフトギア
１４０  電源ユニット
１４２  モーター
１４４  電源装置
１５０  ローラー
１５０ａ  回転中心
１５２  被覆層
１６０  第二のシャフトギア
１７０  駆動アセンブリ
１７２  第一のギア
１７４  第二のギア
１７６  第三のギア
１８０  制限ピラー
２００  ウェーハ回転装置
２１０  ベース
２１０ａ  収容空間
２１０ｂ  側面
２１０ｃ  もう一つの側面
２１２  固定部
２１２ａ  制限壁
２１２ｂ  制限スロット
２１２ｃ  制限スロット
２１２ｄ  上面
２１２ｅ  床部
２１２ｆ  貫通孔
２１４  手持ち部
２１４ａ  第一のフレーム
２１４ｂ  第二のフレーム
２２０  キャリア装置
２２２  ウェーハ
２２４  ウェーハ
２７０  駆動装置
２７２  第一のギア
２７４  第二のギア
【図１】
0006259857.tif 000003
【図２】
0006259857.tif 000004
【図３】
0006259857.tif 000005
【図４】
0006259857.tif 000006
【図５】
0006259857.tif 000007
【図６】
0006259857.tif 000008
【図７】
0006259857.tif 000009
【図８】
0006259857.tif 000010
【図９】
0006259857.tif 000011