(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試験のために、基板上に生物学的試料を調製するための装置であって、前記装置は、
基板把持部を含む基板アームと、
前記基板アームに接続され、開放位置と試料処理位置との間で前記基板アームを移動させるように構成されるアクチュエータと、
前記基板アームが前記試料処理位置にあるときに前記基板と向かい合って位置付けられる上面を有し、前記基板に対向するプラットフォームの表面に位置付けられる少なくとも１つの流体ポート、および基板に対向するプラットフォームの表面に位置付けられる少なくとも１つの真空ポートを含むプラットフォームと、
前記プラットフォームの上面に配置される２つまたは３つ以上のオフセットと、
前記少なくとも１つの流体ポートと流体連通する第１のポンプ、および前記少なくとも１つの真空ポートと流体連通する第２のポンプに接続された制御システムと
を備え、
前記基板が前記試料処理位置において前記オフセットの全てと接触すると、前記基板および前記プラットフォームの上面が略平行であり、少なくとも５０ミクロンの離間部を形成し、
前記制御システムは、前記装置の動作中に、
（ａ）前記基板と前記プラットフォームとの間の離間部を充填するために、前記第１のポンプを作動して、前記少なくとも１つの流体ポートから第１の量の流体を供給し、
（ｂ）前記第１の量の流体の部分を置換するために、前記第１のポンプを作動して、前記少なくとも１つの流体ポートから前記離間部内へ付加的な量の流体を供給し、
（ｃ）前記第２のポンプを作動して、前記少なくとも１つの真空ポートを通して前記離間部から前記第１の量の流体の部分を除去すること
によって、前記少なくとも１つの流体ポートと前記少なくとも１つの真空ポートとの間で流体を循環させるように構成され、
前記制御システムが、
前記第１のポンプおよび前記第２のポンプを作動して、複数の付加的な量の流体の供給と、流体の置換部分の除去とを交互に行ない、前記少なくとも１つの流体ポートと前記少なくとも１つの真空ポートとの間に流体の脈動流を発生させるように構成され、または、
前記第１のポンプおよび前記第２のポンプを作動して、前記付加的な量の流体の供給と、前記流体の置換部分の除去とを同時に行ない、前記少なくとも１つの流体ポートと前記少なくとも１つの真空ポートとの間に流体の連続的な流れを発生させるように構成される装置。
【請求項２】
前記複数の付加的な量の流体は、少なくとも２つの付加的な量の流体を含んでいる請求項１記載の装置。
【請求項３】
前記複数の付加的な量の流体は、少なくとも４つの付加的な量の流体を含んでいる請求項１記載の装置。
【請求項４】
前記制御システムが、前記第１のポンプを作動して、毎秒２０マイクロリットル以上の流速で、前記少なくとも１つの流体ポートから前記付加的な量の流体を供給するように構成される請求項１記載の装置。
【請求項５】
前記制御システムが、前記第１のポンプを作動して、毎秒２５０マイクロリットル以下の流速で、前記少なくとも１つの流体ポートから前記付加的な量の流体を供給するように構成される請求項１記載の装置。
【請求項６】
前記プラットフォームは、前記少なくとも１つの流体ポートが、前記少なくとも１つの真空ポートに対して３度以上の角度で上方に傾斜されるように配向される請求項１記載の装置。
【請求項７】
前記プラットフォームは、前記少なくとも１つの流体ポートが、前記少なくとも１つの真空ポートに対して２０度以上の角度で上方に傾斜されるように配向される請求項１記載の装置。
【請求項８】
前記基板把持部上に位置付けられる吸引ポートをさらに備え、前記吸引ポートは、吸引チューブを通して前記吸引ポートに吸引力を提供して、前記基板を前記基板把持部に固定するために、吸引源に接続可能である請求項１記載の装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの流体ポートは、第１染色剤ポートを含み、前記装置はさらに、第１染色剤リザーバと、前記第１染色剤ポートに接続される第１染色剤導管とを含み、動作中、第１染色剤を含む流体が前記第１染色剤ポートを通って前記第１染色剤リザーバから前記離間部内へと供給可能である請求項１記載の装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの流体ポートは、前記プラットフォームの表面上で前記第１染色剤ポートから離間される第２染色剤ポートを含み、前記装置はさらに、第２染色剤リザーバと、前記第２染色剤ポートに接続される第２染色剤導管とを含み、動作中、第２染色剤を含む流体が前記第２染色剤ポートを通って前記第２染色剤リザーバから前記離間部内へと供給可能である請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの流体ポートは、固定剤ポートを含み、前記装置はさらに、固定剤リザーバと、前記固定剤ポートに接続される固定剤導管とを含み、動作中、固定剤を含む流体が前記固定剤ポートを通って前記固定剤リザーバから前記離間部内へと供給可能である請求項１記載の装置。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの流体ポートは、洗浄剤ポートを含み、前記装置はさらに、洗浄剤リザーバと、前記洗浄剤ポートに接続される洗浄剤導管とを含み、動作中、洗浄剤流体が前記洗浄剤ポートを通って前記洗浄剤リザーバから前記離間部内へと供給可能である請求項１記載の装置。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの真空ポートに接続される廃棄物導管および廃棄物容器をさらに備える請求項１記載の装置。
【請求項１４】
動作中、前記少なくとも１つの流体ポートと前記少なくとも１つの真空ポートとの間に、負圧の通路が確立される請求項１記載の装置。
【請求項１５】
前記少なくとも１つの真空ポートは、複数の真空ポートを備える請求項１記載の装置。
【請求項１６】
前記少なくとも１つの流体ポートは、第１染色剤ポート、第２染色剤ポート、固定剤ポートおよび洗浄剤ポートを含み、動作中、前記装置は、ステップ（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を実施することによって、第１染色剤を含む流体、第２染色剤を含む流体、固定剤を含む流体、および洗浄剤流体を循環させ、前記第１染色剤ポート、前記第２染色剤ポート、前記固定剤ポートおよび前記洗浄剤ポートから、それぞれ、流体を供給するように構成される請求項１記載の装置。
【請求項１７】
凹部を有する支持ブロックをさらに備え、
前記プラットフォームは前記支持ブロックの前記凹部内に配置され、
前記基板は、前記離間部からの流体が前記凹部内に回収されるように、前記支持ブロックの上面に対して上昇される請求項１記載の装置。
【請求項１８】
前記基板アームが第１基板アームであり、前記基板把持部が第１基板把持部であり、前記装置はさらに、
第２基板把持部を含む第２基板アームと、
少なくとも２つの位置間で前記装置を移動させるように構成される移動機構とを備え、
前記少なくとも２つの位置のうちの１つ目には、基板移動装置から基板を取り出すために前記第１基板把持部が配置され、前記少なくとも２つの位置のうちの２つ目には、前記基板移動装置から基板を取り出すために前記第２基板把持部が配置される請求項１記載の装置。
【請求項１９】
前記移動機構が前記制御システムに接続され、前記制御システムは、前記装置の動作中、
基板が前記第２基板把持部に取り付けられ、前記第２基板アームが前記開放位置、前記試料処理位置、または前記開放位置と前記試料処理位置との間の中間位置にあるときに、前記第１基板把持部が前記基板移動装置から基板を取り出すように配置され、
基板が前記第１基板把持部に取り付けられ、前記第１基板アームが前記開放位置、前記試料処理位置、または前記開放位置と前記試料処理位置との間の中間位置にあるときに、前記第２基板把持部が前記基板移動装置から基板を取り出すように配置されるよう、
前記制御システムが前記移動機構を作動させるように構成される請求項１８記載の装置。
【請求項２０】
試験のために、基板上に生物学的試料を調製する方法であって、前記方法は、
（ａ）前記生物学的試料が表面に面し、前記基板および前記表面が略平行であり少なくとも５０ミクロンの離間部を形成するように、前記基板を前記表面に対して配置すること、
（ｂ）前記離間部を充填するのに充分な量で、前記基板と前記表面との間の前記離間部内に、第１の量の、（ｉ）第１固定剤溶液、（ｉｉ）第１染色剤溶液、（ｉｉｉ）第２染色剤溶液および（ｉｖ）第１洗浄剤溶液を順次供給すること、および
（ｃ）ステップ（ｂ）において溶液（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）および（ｉｖ）のそれぞれの前記第１の量を供給した後、かつ、ステップ（ｂ）において次の溶液（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）および（ｉｖ）を供給する前に、
付加的な量の溶液を前記離間部内に供給して前記第１の量の溶液の部分を置換し、
真空ポートを通して前記第１の量の溶液の部分を除去すること
を含み、
複数の付加的な量の溶液の供給と、溶液の置換部分の除去とを交互に行ない、前記離間部内に溶液の脈動流を発生させること、または、
前記付加的な量の溶液の供給と、前記溶液の置換部分の除去とを同時に行ない、前記離間部内に溶液の連続的な流れを発生させることをさらに含む方法。
【請求項２１】
前記複数の付加的な量の溶液は、少なくとも２つの付加的な量の溶液を含む請求項２０記載の方法。
【請求項２２】
前記複数の付加的な量の溶液は、少なくとも４つの付加的な量の溶液を含む請求項２０記載の方法。
【請求項２３】
毎秒２０マイクロリットル以上の流速で、前記付加的な量の溶液を前記離間部内へ供給することをさらに含む請求項２０記載の方法。
【請求項２４】
毎秒２５０マイクロリットル以下の流速で、前記付加的な量の溶液を前記離間部内へ供給することをさらに含む請求項２０記載の方法。
【請求項２５】
ステップ（ａ）、（ｂ）および（ｃ）が、６０秒未満の合計時間で実施される請求項２０記載の方法。
【請求項２６】
試験のために、基板上に生物学的試料を調製する方法であって、前記方法は、
（ａ）前記生物学的試料が表面に面し、前記基板および前記表面が略平行であり少なくとも５０ミクロンの離間部を形成するように、前記基板を前記表面に対して配置すること、
（ｂ）前記離間部を充填するのに充分な量で、前記離間部内に、第１の量の固定剤溶液を供給することと、
前記固定剤溶液の第１の量の部分を置換するために、付加的な量の前記固定剤溶液を前記離間部内に供給することと、
前記第１の量の固定剤溶液の置換部分を、真空ポートを通して除去することと
を含む固定段階を実施すること、
（ｃ）前記離間部を充填するのに充分な量で、前記離間部内に第１の量の第１染色剤溶液を供給することと、
前記第１染色剤溶液の第１の量の部分を置換するために、付加的な量の第１染色剤溶液を前記離間部内に供給することと、
前記第１染色剤溶液の置換部分を、前記真空ポートを通して除去することと
を含む第１染色段階を実施すること、
（ｄ）前記離間部を充填するのに充分な量で、前記離間部内に第１の量の第２染色剤溶液を供給することと、
前記第２染色剤溶液の第１の量の部分を置換するために、付加的な量の前記第２染色剤溶液を前記離間部内に供給することと、
前記第２染色剤溶液の置換部分を、前記真空ポートを通して除去することと
を含む第２染色段階を実施すること、および
（ｅ）前記離間部を充填するのに充分な量で、前記離間部内に第１の量の洗浄剤溶液を供給することと、
前記洗浄剤溶液の第１の量の部分を置換するために、付加的な量の前記洗浄剤溶液を前記離間部内に供給することと、
前記洗浄剤溶液の置換部分を、前記真空ポートを通して除去することと
を含む洗浄段階を実施すること
を含み、
ステップ（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）および（ｅ）の少なくとも１つにおいて、
複数の付加的な量の溶液の供給と、溶液の置換部分の除去とを交互に行ない、前記離間部内に溶液の脈動流を発生させること、または、
前記付加的な量の溶液の供給と、前記溶液の置換部分の除去とを同時に行ない、前記離間部内に溶液の連続的な流れを発生させることをさらに含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［関連出願の相互参照］
本願は、２０１３年４月５日に出願された米国仮特許出願第６１／８０９，１７９号明細書に対する優先権を主張し、その開示内容全体は、参照により本明細書に含まれている。
【０００２】
［技術分野］
本開示は、試験のために生物学的試料を調製する自動化されたシステムおよび方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
長年にわたって検査技師は、試験中の試料のコントラストを向上するために、例えばロマノフスキー染色において用いられる色素および染色剤などの色素および染色剤を、生物学的試料の調製に用いてきた。このような試験は通常、顕微鏡や、試料の像を捉える別の装置を利用し、また別の例においては、肉眼による視覚的な試験を利用する。試験のために試料を調製する、いくつかの異なるシステムおよび方法が公知である。例えば、特許文献１〜５は、試料処理中に基板を染色するための機器および方法に関する。これらの文献は、試験用の試料の染色および調製に関して、様々な詳細を説明する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第６，０９６，２７１号明細書
【特許文献２】米国特許第７，３１８，９１３号明細書
【特許文献３】米国特許第５，４１９，２７９号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２００８／０１０２００６号明細書
【特許文献５】米国特許出願公開第２００６／００７３０７４号明細書
【発明の概要】
【０００５】
本開示は、試験のために生物学的試料を調製する自動化されたシステムおよび方法に関する。試料としては、基板、例えば顕微鏡スライドまたはカバー片に塗布される、赤血球、白血球および血小板を含む血液サンプルが挙げられる。脊髄、尿、膣組織、上皮組織、腫瘍、精液、唾液および他の体液を含む生物学的サンプル由来の別の生物学的試料を調製するために、異なる実施形態も用いられ得る。本開示の付加的な態様は、試料を固定、染色、洗浄および撹拌するためのシステムおよび方法を含む。概して、本明細書に開示されるシステムおよび方法は、最小限の流体量を用いる、迅速、効率的、および高度に均一な試料処理を提供する。方法は、固定、染色および洗浄段階の１つまたは２つ以上の間または後に１つまたは複数の撹拌段階を含む、１つまたは２つ以上の固定、染色および洗浄段階を含んでいる。システムは、独立型の装置として実現されてもよいし、生物学的試料を調製および試験するためのより大きなシステムにおける構成要素として実現されてもよい。
【０００６】
概して、第１の態様において本開示は、試験のために、基板上に生物学的試料を調製するための装置を特徴とし、この装置は、（ａ）基板把持部を含む基板アーム、（ｂ）基板アームに接続され、開放位置と試料処理位置との間で基板アームを移動させるように構成される第１アクチュエータ、（ｃ）基板アーム上の基板把持部により把持される基板を撹拌するように配置および構成される第２アクチュエータ、（ｄ）基板アームが試料処理位置にあるときに基板と反対側に位置付けられる上面を有するプラットフォーム、および（ｅ）基板が基板処理位置においてオフセットの全てと接触するとき、基板およびプラットフォームの上面が略平行となって少なくとも約５０ミクロンの離間部を形成するように、プラットフォームの上面に配置される２つ以上のオフセット、を含んでいる。
【０００７】
装置の実施形態は、以下の特徴の任意の１つまたは２つ以上を、個別に、または組み合わせて含んでいてもよい。
【０００８】
第１および第２アクチュエータは、基板アームの移動、および基板アーム上の基板把持部により把持される基板の撹拌の、両方を行うように構成される同一のアクチュエータであってもよい。プラットフォームの上面の合計表面積は、基板の合計表面積より小さくてもよい。プラットフォームの上面の外縁には少なくとも３つ以上のオフセットがあってもよく、オフセットの先端は面を画定する。
【０００９】
基板把持部上には吸引ポートが位置付けられ、吸引ポートは、吸引チューブを通して吸引ポートに吸引力を提供し、それにより基板を基板把持部に保持するために、吸引源に接続され得る。装置は、プラットフォームの上面に位置付けられる第１染色剤ポートと、第１染色剤リザーバと、染色剤が第１染色剤リザーバから第１染色剤ポートおよび離間部内へと送り出されるような流体通路を提供するために、第１染色剤ポートに接続される第１染色剤導管とを含み得る。装置は、第１染色剤ポートの場所とは異なる場所でプラットフォームの上面に位置付けられる第２染色剤ポートと、第２染色剤リザーバと、第２染色剤導管とを含んでいてもよく、第１染色剤ポートおよび第２染色剤ポートはどちらも、基板が試料処理位置にあるときには、基板上の試料領域からは間隔をおいて上面に配置されており、第２染色剤導管は、染色剤が第２染色剤リザーバから第２染色剤ポートおよび離間部内へと送り出されるような流体通路を提供するために、第２染色剤ポートに接続される。
【００１０】
装置は、プラットフォームの上面に位置付けられる第１固定剤ポートと、固定剤リザーバと、固定剤が固定剤リザーバから第１固定剤ポートおよび離間部内へと送り出されるような流体通路を提供するために、第１固定剤ポートに接続される固定剤導管とを含んでいてもよい。装置は、プラットフォームの上面に位置付けられる第１洗浄剤ポートと、洗浄剤溶液リザーバと、洗浄流体が洗浄剤溶液リザーバから第１洗浄剤ポートおよび離間部内へと送り出されるような流体通路を提供するために、第１洗浄剤ポートに接続される洗浄剤チューブとを含んでいてもよい。
【００１１】
装置は、プラットフォームの上面に位置付けられる第１真空ポートと、第１廃棄物容器と、離間部または基板から流体を排出して流体を第１廃棄物容器内に置くよう負圧の通路を提供するために、第１真空ポートに接続される第１廃棄物導管とを含んでいてもよい。装置は、プラットフォームの上面に位置付けられる第２真空ポートと、離間部または基板から流体を排出して流体を第１廃棄物容器内に置くよう負圧の通路を提供するために、第２真空ポートに接続される第２廃棄物導管とを含んでいてもよい。第１真空ポートおよび第２真空ポートは、プラットフォームの上面の両端に位置付けられ得る。
【００１２】
プラットフォームは、固定剤ポート、第１染色剤ポート、第２染色剤ポート、洗浄剤ポート、第１真空ポートおよび第２真空ポートを含み得る。装置はプラットフォームを支持するために配置されるブロックを含んでいてもよく、ブロックは、固定剤ポート、第１染色剤ポート、第２染色剤ポート、洗浄剤ポート、第１真空ポートおよび第２真空ポートを含み、ブロック上の各ポートは、プラットフォームに位置付けられるポートに対応する場所にある。
【００１３】
装置は、第１染色剤リザーバ、第２染色剤リザーバ、固定剤リザーバ、洗浄液リザーバ、廃棄物容器、ポンプ、ポンプおよびリザーバに接続されリザーバの任意の１つまたは２つ以上から流体を供給するために配置される複数の流体導管、および基板から廃棄物容器内へ流体を排出するための真空源を含んでいてもよい。装置は、基板が開放位置にあるときに、試料を横切って空気流を導くように配置される乾燥機を含んでいてもよい。
【００１４】
装置の実施形態は、必要に応じて、本明細書に開示される、他の特徴のいずれをも含んでいてもよく、任意の特徴の組み合わせを含んでいてもよい。
【００１５】
さらなる態様において、本開示は、試験のために、基板上に生物学的試料を調製する方法を特徴とし、この方法は、（ａ）生物学的試料が表面に面し、基板および表面が略平行であり少なくとも約１００ミクロンの離間部を形成するように、基板を表面に対して配置すること、（ｂ）（ｉ）第１固定剤溶液、（ｉｉ）第１染色剤溶液、（ｉｉｉ）第２染色剤溶液、および（ｉｖ）第１洗浄剤溶液を、試料および表面に接触するのに充分な量で、基板と表面との間の離間部内へ順次供給すること、および（ｃ）ステップ（ｂ）において溶液（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）および（ｉｖ）のそれぞれを供給した後、かつ、ステップ（ｂ）において次の溶液（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）および（ｉｖ）のそれぞれを供給する前に、少なくとも第１撹拌サイクルを実施することであって、第１撹拌サイクルは、第１撹拌サイクルの期間中、供給される溶液が試料に接触する間、基板と表面との間の距離を変更すること、および供給される溶液を離間部から除去し、試料との接触を除去することを含んでいる。
【００１６】
方法の実施形態は、以下の特徴の任意の１つまたは２つ以上を含んでいてもよい。
【００１７】
各順次供給ステップは、ステップ（ｂ）の溶液の１つを、少なくとも毎秒７０マイクロリットルの流速で３秒以下の間供給することを含み得る。第１撹拌サイクルは、少なくとも１０ミクロンだけ基板と表面との間の距離を増加させること、および少なくとも５ミクロンだけ基板と表面との間の距離を減少させることを含み得る。供給される溶液を除去することは、大気圧よりも低い、少なくとも平方インチあたり１ポンドの圧力を、離間部に対して少なくとも２秒間印加することを含み得る。
【００１８】
方法の実施形態は、必要に応じて、本明細書に開示される、他の特徴のいずれをも含んでいてもよく、任意の特徴の組み合わせを含んでいてもよい。
【００１９】
別の態様において、本開示は、試験のために、基板上に生物学的試料を調製する方法を特徴とし、この方法は、（ａ）生物学的試料が表面に面し、基板および表面が略平行であり少なくとも約５０ミクロンの離間部を形成するように、基板を表面に対して配置すること、（ｂ）試料および表面に接触するのに充分な量で、基板と表面との間の離間部内へ第１染色剤を供給すること、（ｃ）第１撹拌段階の期間中、第１染色剤が試料に接触する間、基板と表面との間の距離を変更することを含む、少なくとも第１撹拌段階を実施すること、および（ｄ）離間部および試料から第１染色剤を除去することを含んでいる。
【００２０】
方法の実施形態は、以下の特徴の任意の１つまたは２つ以上を含んでいてもよい。
【００２１】
供給ステップは、染色剤を、少なくとも毎秒７０マイクロリットルの流速で３秒以下の間供給することを含み得る。撹拌段階は、少なくとも１０ミクロンだけ基板と表面との間の距離を増加させること、および少なくとも５ミクロンだけ基板と表面との間の距離を減少させることを含み得る。染色剤を除去することは、少なくとも平方インチあたり１ポンドの真空力を、離間部中の第１染色剤に対して少なくとも２秒間印加することを含み得る。
【００２２】
方法は、試料および表面に接触するのに充分な量で、基板と表面との間の離間部内へ第２染色剤を供給すること、第２撹拌段階の期間中、第２染色剤が試料に接触する間、基板と表面との間の距離を変更することを含む、第２撹拌段階を実施すること、および、離間部および試料から第２染色剤を除去することを含み得る。
【００２３】
方法の実施形態は、必要に応じて、本明細書に開示される、他の特徴および／またはステップのいずれをも含んでいてもよく、それらの任意の組み合わせを含んでいてもよい。
【００２４】
さらなる態様において、本開示は、試験のために、基板上に生物学的試料を調製する方法を特徴とし、この方法は、（ａ）生物学的試料が表面に面し、基板が、表面と基板の少なくとも一部との間で、少なくとも約５０〜２５０ミクロン、例えば、５０、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、１００、１２５、１５０、１７５、２００、２２５または２５０ミクロンの離間部を形成するように配置されるように、基板を表面に対して配置すること、（ｂ）（ｉ）試料および表面に接触するのに充分な量で、基板と表面との間の離間部内へ固定剤を供給すること、（ｉｉ）第１撹拌段階の期間中、固定剤が試料に接触する間、基板と表面との間の距離を変更することを含む、少なくとも第１撹拌段階を実施すること、および（ｉｉｉ）離間部および試料から固定剤を除去すること、を含む固定段階を実施すること、（ｃ）（ｉ）試料および表面に接触するのに充分な量で、基板と表面との間の離間部内へ第１染色剤を供給すること、（ｉｉ）第２撹拌段階の期間中、第１染色剤が試料に接触する間、基板と表面との間の距離を変更することを含む、少なくとも第２撹拌段階を実施すること、および（ｉｉｉ）離間部および試料から第１染色剤を除去すること、を含む第１染色段階を実施すること、（ｄ）（ｉ）試料および表面に接触するのに充分な量で、基板と表面との間の離間部内へ第２染色剤を供給すること、（ｉｉ）第３撹拌段階の期間中、第２染色剤が試料に接触する間、基板と表面との間の距離を変更することを含む、少なくとも第３撹拌段階を実施すること、および（ｉｉｉ）離間部および試料から第２染色剤を除去すること、を含む第２染色段階を実施すること、および（ｅ）（ｉ）試料および表面に接触するのに充分な量で、基板と表面との間の離間部内へ第１洗浄剤を供給すること、（ｉｉ）第４撹拌段階の期間中、第１洗浄剤が試料に接触する間、基板と表面との間の距離を変更することを含む、少なくとも第４撹拌段階を実施すること、および（ｉｉｉ）離間部および試料から第１洗浄剤を除去すること、を含む第１洗浄段階を実施すること、を含んでいる。
【００２５】
方法の実施形態は、以下の特徴の任意の１つまたは２つ以上を含んでいてもよい。
【００２６】
方法は、第２洗浄段階を実施することを含んでいてもよく、第２洗浄段階は、（ｉ）試料および表面に接触するのに充分な量で、基板と表面との間の離間部内へ第２洗浄剤を供給すること、（ｉｉ）第５撹拌段階の期間中、第２洗浄剤が試料に接触する間、基板と表面との間の距離を変更することを含む、少なくとも第５撹拌段階を実施すること、および（ｉｉｉ）離間部および試料から第２洗浄剤を除去することを含み得る。方法はさらに、試料を横切って空気流を導くことにより、乾燥サイクルを実施することを含み得る。
【００２７】
組み合わされる方法ステップは、例えば、７０秒未満（例えば、６０秒未満）で実施可能である。いくつかの実施形態において方法は、６５０ミリリットル未満の固定剤、第１染色剤、第２染色剤および第１洗浄剤の流体の消費で可能となる。特定の実施形態において方法は、８５０ミリリットル未満の固定剤、第１染色剤、第２染色剤、第１洗浄剤および第２洗浄剤の流体の消費で可能となる。
【００２８】
方法の実施形態は、必要に応じて、本明細書に開示される、他の特徴および／またはステップのいずれをも含んでいてもよく、それらの任意の組み合わせを含んでいてもよい。
【００２９】
別の態様において、本開示は、サンプル試料を基板に塗布する塗布ステーション、本明細書に開示される任意の生物学的試料調製装置、および試料調製装置による調製後に生物学的試料を撮像する撮像ステーションを含む、自動化された試料試験システムを特徴とする。
【００３０】
自動化された試料試験の実施形態は、本明細書に開示される生物学的試料調製装置の特徴の任意の１つまたは２つ以上を含む、本明細書に開示される特徴の任意の１つまたは２つ以上を、必要に応じて含んでいてもよい。
【００３１】
さらなる態様において本開示は、試験のために、基板上に生物学的試料を調製する装置を特徴とし、この装置は、基板把持部を含む基板アームと、基板アームに接続され、開放位置と試料処理位置との間で基板アームを移動させるように構成されるアクチュエータと、基板アームが試料処理位置にあるときに基板と向かい合って位置付けられる上面を有し、基板と対向するプラットフォームの表面に位置付けられる少なくとも１つの流体ポート、および基板と対向するプラットフォームの表面に位置付けられる少なくとも１つの真空ポートを含むプラットフォームと、基板が基板処理位置においてオフセットの全てと接触するときに、基板およびプラットフォームの上面が略平行であり少なくとも約５０ミクロンの離間部を形成するように、プラットフォームの上面に配置される２つまたは３つ以上のオフセットとを特徴とする。装置は動作中、（ａ）基板とプラットフォームとの間の離間部を充填するために少なくとも１つの流体ポートから第１の量の流体を供給し、（ｂ）第１の量の流体の部分を置換するために、少なくとも１つの流体ポートから離間部内へ付加的な量の流体を供給し、（ｃ）少なくとも１つの真空ポートを通して離間部から第１の量の流体の部分を除去することによって、少なくとも１つの流体ポートと少なくとも１つの真空ポートとの間で流体を循環させるように構成される。
【００３２】
装置の実施形態は、以下の特徴の任意の１つまたは２つ以上を含んでいてもよい。
【００３３】
動作中、装置は、離間部から流体の部分を置換するために、少なくとも１つの流体ポートから離間部内へ複数の付加的な量の流体を供給し、流体の置換部分を少なくとも１つの真空ポートを通して除去するように構成され得る。装置は、付加的な量の流体を連続的に供給し、第１の量の流体の部分を除去するように構成され得る。装置は、少なくとも１つの流体ポートと少なくとも１つの真空ポートとの間に流体の脈動流を発生させるために、複数の付加的な量の流体の供給と、流体の置換部分の除去とを交互に行うように構成され得る。
【００３４】
複数の付加的な量の流体は、少なくとも２つの付加的な量の流体（例えば、少なくとも４つの付加的な量の流体）を含み得る。装置は、毎秒２０マイクロリットル以上の流速で、少なくとも１つの流体ポートから付加的な量の流体を供給するように構成され得る。装置は、毎秒２５０マイクロリットル以下の流速で、少なくとも１つの流体ポートから付加的な量の流体を供給するように構成され得る。プラットフォームは、少なくとも１つの流体ポートが、少なくとも１つの真空ポートに対して３度以上（例えば、２０度以上）の角度で上方に傾斜されるように配向され得る。
【００３５】
装置は、基板把持部に位置付けられる吸引ポートを含んでいてもよく、基板を基板把持部に固定するために、吸引ポートは、吸引チューブを通して吸引ポートに吸引力を与える、吸引源に接続可能である。少なくとも１つの流体ポートは、第１染色剤ポートを含んでいてもよく、装置は、動作中、第１染色剤を含む流体が第１染色剤ポートを通って第１染色剤リザーバから離間部内へと供給され得るように、第１染色剤リザーバと、第１染色剤ポートに接続される第１染色剤導管とを含み得る。少なくとも１つの流体ポートは、プラットフォームの表面上で第１染色剤ポートから離間部される第２染色剤ポートを含んでいてもよく、装置は、動作中、第２染色剤を含む流体が第２染色剤ポートを通って第２染色剤リザーバから離間部内へと供給され得るように、第２染色剤リザーバと、第２染色剤ポートに接続される第２染色剤導管とを含み得る。
【００３６】
少なくとも１つの流体ポートは、固定剤ポートを含んでいてもよく、装置は、動作中、固定剤を含む流体が固定剤ポートを通って固定剤リザーバから離間部内へと供給され得るように、固定剤リザーバと、固定剤ポートに接続される固定剤導管とを含み得る。少なくとも１つの流体剤ポートは、洗浄剤ポートを含んでいてもよく、装置は、動作中、洗浄剤流体が洗浄剤ポートを通って洗浄剤リザーバから離間部内へと供給され得るように、洗浄剤リザーバと、洗浄剤ポートに接続される洗浄剤導管とを含み得る。
【００３７】
装置は、少なくとも１つの真空ポートに接続される廃棄物導管および廃棄物容器を含んでいてもよい。動作中、少なくとも１つの流体ポートと少なくとも１つの真空ポートとの間に、負圧の通路が確立され得る。少なくとも１つの真空ポートは、複数の真空ポートを含んでいてもよい。
【００３８】
少なくとも１つの流体ポートは、第１染色剤ポート、第２染色剤ポート、固定剤ポートおよび洗浄剤ポートを含んでいてもよく、動作中、装置は、ステップ（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を実施することによって、第１染色剤を含む流体、第２染色剤を含む流体、固定剤を含む流体、および洗浄剤流体を循環させ、第１染色剤ポート、第２染色剤ポート、固定剤ポートおよび洗浄剤ポートから、それぞれ、流体を供給するように構成され得る。
【００３９】
装置は、凹部を有する支持ブロックを含んでいてもよく、プラットフォームは支持ブロックの凹部内に配置され、基板は、離間部からの流体が凹部内に回収されるように、支持ブロックの上面に対して上昇される。
【００４０】
基板アームは第１基板アーム、基板把持部は第１基板把持部であってもよく、装置は、第２基板把持部を特徴とする第２基板アームと、少なくとも２つの位置間で装置を移動させるように構成される移動機構とを含んでいてもよく、位置の１つ目には、基板移動装置から基板を取り出すために第１基板把持部が配置され、位置の２つ目には、基板移動装置から基板を取り出すために第２基板把持部が配置される。装置は、移動機構に接続される制御システムを含んでいてもよく、制御システムは、装置の動作中、基板が第２基板把持部に取り付けられ、第２基板アームが開放位置、試料処理位置、または開放位置と試料処理位置との間の中間位置にあるときに、第１基板把持部が基板移動装置から基板を取り出すように配置され、基板が第１基板把持部に取り付けられ、第１基板アームが開放位置、試料処理位置、または開放位置と試料処理位置との間の中間位置にある場合、第２基板把持部が基板移動装置から基板を取り出すように配置されるよう、移動機構を作動させるように構成される。
【００４１】
装置の実施形態は必要に応じて、異なる実施形態に関連して開示される特徴および態様を含む、本明細書に開示される他の特徴または態様のいずれかを含んでいてもよい。
【００４２】
別の態様において本開示は、試験のために、基板上に生物学的試料を調製する方法を特徴とし、この方法は、（ａ）生物学的試料が表面に対向し、基板および表面が略平行であり少なくとも約５０ミクロンの離間部を形成するように、基板を表面に対して配置すること、（ｂ）離間部を充填するのに充分な量で、基板と表面との間の離間部内に、（ｉ）第１固定剤溶液、（ｉｉ）第１染色剤溶液、（ｉｉｉ）第２染色剤溶液および（ｉｖ）第１洗浄剤溶液の第１の量を順次供給すること、および（ｃ）ステップ（ｂ）において溶液（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）および（ｉｖ）のそれぞれの第１の量を供給した後、かつ、ステップ（ｂ）において次の溶液（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）および（ｉｖ）のそれぞれを供給する前に、付加的な溶液量を離間部内に供給して第１溶液量の部分を置換し、真空ポートを通して第１溶液量の部分を除去すること、を含んでいる。
【００４３】
方法の実施形態は、以下の特徴の任意の１つまたは２つ以上を含んでいてもよい。
【００４４】
方法は、複数の付加的な溶液量を離間部内に供給して離間部の溶液の部分を置換し、溶液の置換部分を、真空ポートを通して除去することを含んでいてもよい。方法は、付加的な溶液量を連続的に供給し、第１溶液量の部分を、真空ポートを通して除去して、離間部内の溶液を循環させることを含み得る。方法は、複数の付加的な溶液量の供給と、溶液の置換部分の除去とを交互に行い、離間部内に溶液の脈動流を発生させることを含み得る。
【００４５】
複数の付加的な溶液量は、少なくとも２つの付加的な溶液量（例えば、少なくとも４つの付加的な溶液量）を含み得る。方法は、毎秒２０マイクロリットル以上の流速で、付加的な溶液量を離間部内へ供給することを含み得る。方法は、毎秒２５０マイクロリットル以下の流速で、付加的な溶液量を離間部内へ供給することを含み得る。ステップ（ａ）、（ｂ）および（ｃ）は、合計時間が６０秒未満で実施可能である。
【００４６】
方法の実施形態は、異なる実施形態に関連して開示されるステップおよび特徴を含む、本明細書に開示される他のステップまたは特徴のいずれかを、必要に応じて任意の組み合わせで含んでいてもよい。
【００４７】
さらなる態様において本開示は、試験のために、基板上に生物学的試料を調製する方法を特徴とし、この方法は、（ａ）生物学的試料が表面に対向し、基板および表面が略平行であり少なくとも約５０ミクロンの離間部を形成するように、基板を表面に対して配置すること；（ｂ）離間部を充填するのに充分な量で、離間部内に固定剤溶液の第１の量を供給することと、付加的な固定剤溶液の量を離間部内に供給して固定剤溶液の第１の量の部分を置換することと、および固定剤溶液の第１の量の置換部分を真空ポートを通して除去することとを含む固定段階を実施すること、（ｃ）離間部を充填するのに充分な量で、離間部内に第１染色剤溶液の第１の量を供給することと、付加的な第１染色剤溶液の量を離間部内に供給して第１染色剤溶液の第１の量の部分を置換することと、および第１染色剤溶液の第１の量の置換部分を真空ポートを通して除去することとを含む第１染色段階を実施すること、（ｄ）離間部を充填するのに充分な量で、離間部内に第２染色剤溶液の第１の量を供給することと、付加的な第２染色剤溶液の量を離間部内に供給して第２染色剤溶液の第１の量の部分を置換することと、および第２染色剤溶液の第１の量の置換部分を真空ポートを通して除去することとを含む第２染色段階を実施すること、および（ｅ）離間部を充填するのに充分な量で、離間部内に洗浄剤溶液の第１の量を供給することと、付加的な洗浄剤溶液の量を離間部内に供給して洗浄剤溶液の第１の量の部分を置換することと、および洗浄剤溶液の第１の量の置換部分を真空ポートを通して除去することとを含む洗浄段階を実施することを含んでいる。
【００４８】
方法の実施形態は、異なる実施形態に関連して開示されるステップおよび特徴を含む、本明細書に開示されるステップおよび特徴のいずれかを、必要に応じて任意の組み合わせで含んでいてもよい。
【００４９】
特に記載されない限りは、本開示は例示を目的としていくつかの実施形態を特徴付ける。しかしながら、これらの実施形態のそれぞれに関連付けられる特徴、態様およびステップは、他の実施形態に関連付けられる特徴、態様およびステップと組み合わせられ得ることに留意されたい。本開示は、特定の実施形態に関連して開示される特徴、態様およびステップの特定の組み合わせに範囲を制限されず、このような特徴、態様およびステップは、開示全体にわたってより一般的に適用可能であると理解されるべきであって、付加的な特定の実施形態において要望に応じて組み合わせられ得る。
【００５０】
以下の出願のそれぞれの内容は全て、参照により本明細書に組み込まれる。２０１１年１１月９日に出願された米国特許出願第１３／２９３，０５０号明細書、２０１１年７月２１日に出願された米国仮特許出願第６１／５１０，１８０号明細書、および２０１０年１１月１０日に出願された米国仮特許出願第６１／４６０，７７５号明細書。
【００５１】
定義されない限りは、本明細書で用いられる全ての技術的用語および科学的用語は、本発明が属する技術の当業者によって共通して理解される意味と同一の意味を有する。本明細書に記載のものと同様または均等の方法および材料が、本発明の実践および検査において用いられ得るが、適切な方法および材料は以下に記載される。本明細書において言及した全ての特許出願、特許および他の参照文献は、参照によりその全体を組み込まれている。争いがある場合、定義を含む本明細書が考慮される。また、材料、方法および実施例は例示的なものであって、限定を意図するものではない。
【００５２】
本発明の他の特徴および利点は、詳細な説明、および請求項から明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】サンプル把持部２０Ａおよび２０Ｂの両方が開放位置にある、試験のために生物学的試料を調製する装置の一実施形態の斜視図である。
【図２】図１の装置の一部（基板アームおよびサンプル把持部が図示されていない）の別の斜視図である。
【図３Ａ】サンプル把持部２０Ａが開放位置にあり、サンプル把持部２０Ｂが閉鎖（試料処理）位置にある、図１の装置のさらなる斜視図である。
【図３Ｂ】図１の装置のインデックス機構の斜視図である。
【図４】複数の流体導管を用いた装置と流体リザーバとの間の接続を示す図１の装置の斜視図である。
【図５】自動化された基板移動装置および本明細書に記載の試料調製装置の一実施形態を含む試料試験システムの斜視図である。
【図６Ａ】試料把持部２０Ｂ、プラットフォーム６０Ｂおよびブロック８０Ｂを詳細に示す、図１の装置の一部の拡大斜視図である。
【図６Ｂ】図１の装置のボールジョイント機構の斜視図である。
【図６Ｃ】図６Ｂのボールジョイント機構の断面図である。
【図７Ａ】基板アームを開放位置から閉鎖（試料処理）位置まで移動させるための一連のステップを示すフローチャートである。
【図７Ｂ】本明細書に記載される試料調製装置の一実施形態の概略図である。
【図８Ａ】基板アームを開放位置から試料処理位置まで移動させるための代替的な一連のステップを示すフローチャートである。
【図８Ｂ】２つのアクチュエータを含む、試験のために生物学的試料を調製する装置の概略図である。
【図９】試料に固定剤を塗布するための一連のステップを示すフローチャートである。
【図１０】試料に染色剤を塗布するための一連のステップを示すフローチャートである。
【図１１Ａ】基板から余分な流体を除去するための一連のステップを示すフローチャートである。
【図１１Ｂ】基板から余分な流体を除去するための代替的な一連のステップを示すフローチャートである。
【図１２】試料を洗浄するための一連のステップを示すフローチャートである。
【図１３】試料を撹拌するための一連のステップを示すフローチャートである。
【図１４】試料を乾燥するための一連のステップを示すフローチャートである。
【図１５】より大きな試料試験システムにおいて用いられる試料調製装置の斜視図である。
【図１６】基板上に装着される試料を処理するための一連のステップを示すフローチャートである。
【図１７】図１６のフローチャートにおける、時間を関数とした消費流体の体積を示すグラフである。
【図１８Ａ】自動化された基板移動装置による基板アーム上への基板の配置を示す、図１の装置の斜視図である。
【図１８Ｂ】自動化された基板移動装置による基板アーム上への基板の配置を示す、図１の装置の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００５４】
様々な図における同様の参照符号は、同様の要素を示す。
【００５５】
本明細書には、自動化された生物学的試料処理のための方法およびシステムが開示される。本明細書に記載される自動化された試料処理方法およびシステムは、最小限の試薬量を用いながらも処理速度を向上させ、同時に、手動や他のシステムにより処理される試料に比べて、染色剤、固定剤および他の試薬に関連付けられる変動性を大幅に減少させる、高度に均一なサンプル調製を生成するといった利点を、手動および他の自動化された処理方法に対してもたらす。
【００５６】
従来の自動処理方法は通常、比較的高い処理スループットを有するかわりに、同時に大量の処理流体を消費するか、または比較的低い処理スループットを有するかわりに、流体量の消費を減少させる。多くの用途に関して、しかしながら、高いスループット動作および少ない流体消費が望ましい。高いスループットを維持することにより、試料は、後続の試験のために効率的に処理され得る。流体消費を少なく保つことにより、処理廃棄物の量は、要求される処理試薬の量と共に減少され、運用コストを低く保つ。本明細書に開示されるシステムおよび方法は、高度に均一および再現可能な結果を生じつつ、少量の処理流体（例えば、試料あたり１ｍＬ未満の流体）を用いた迅速な自動化された試料処理（例えば、単一の機器によって、１時間あたり１００を超える試料）を可能にする。
【００５７】
生物学的試料調製システムおよび方法
試料は試験される前に、試料中の特定の特徴の視覚的外観を強調させるために一連のステップにおいて調製される。図１は、試験のための生物学的試料を調製するため、または顕微鏡スライド、カバー片または他の透明な表面などの基板２上に撮像するための、装置または機器１の一実施形態を示す。機器１は、図１５に示し以下で説明されるシステム２０００などの、体液または細胞を含む他の生物学的サンプルを含む試料を調製および分析するための全体的なシステムに組み込まれ得る。機器１は、一般に、試料を取得する第１ステーション、試料を基板に塗布する第２ステーション、試料をそれぞれ固定および染色する第３ステーションおよび第４ステーション、試料を乾燥する第５ステーション、試料を撮像する第６ステーション、ならびに像および試料から取得されるデータを分析する第７ステーションを特徴とするシステムを含むか、このようなシステムの部分を形成し得る。機器１の特定の実施形態は、システム２０００と互換性を有し、機器１のいくつかの実施形態は、別の試料調製システムにおいて用いられてもよいし、および／または、独立型の装置として用いられてもよい。
【００５８】
機器１は、機器１の別の斜視図を示す図４に示されるような制御システム５を含むか、または制御システム５に接続し得る。制御システム５は、ハードドライブ、光学ドライブまたはメモリなどのコンピュータが読み取り可能な媒体に記憶されるソフトウェア指示を実行することができる中央処理ユニットをそれぞれ含む、１つまたは２つ以上のコンピュータを含み得る。付加的に制御システム５は、ソフトウェア指示を実行するための電気回路を含み得る。制御システム５は、機器１の動作を制御するためのユーザコマンドを受信するために、ユーザインターフェースを含み得る。コンピュータに記憶されるか、コンピュータに提供されるソフトウェアは、試料処理中に、機器１の構成部品、例えば流体ポンプおよび真空装置の動作を制御するプログラムを含み得る。例えばソフトウェアは、様々な固定剤、染色剤および洗浄剤を試料に塗布し、試料処理中にいくつかの撹拌ステップを実施するように機器１を導くための指示を含み得る。
【００５９】
また、ソフトウェアはデフォルト設定を含んでいてもよく、ユーザインターフェースはユーザがこれらのデフォルト設定を変更できるようにカスタマイズ機能を含んでいてもよい。例えば、ユーザインターフェースは、固定、染色および洗浄段階の速度、頻度または順番、ならびに撹拌パラメータ（以下にさらに記載）をユーザがカスタマイズできるようにするカスタマイズ機能を含み得る。制御システム５はまた、ネットワークプロトコル（Ａｐｐｌｅｔａｌｋ（登録商標）、ＩＰＸまたはＴＣＰ／ＩＰなど）を介して通信し得る。例えば、ネットワークプロトコルは、ケーブル（ツイストペアケーブルなど）、および／または、ＷｉＦｉなどの無線接続を用いてもよい。制御システムは、ネットワークプロトコルを用いて検査室情報システムに接続されてもよい。検査室情報システムは、機器１で処理される試料に関する情報を記憶するためのサーバおよび／またはデータベースを含み得る。例えば、データベースは、ヒトまたは試料のソースに関する情報（例えば、名前、誕生日（ＤＯＢ）、住所、試料が採取された時間、性別など）、試料の処理に関する情報（例えば、処理された日付＃＃／＃＃／＃＃＃＃、試料番号＃など）、試料から取得されたあらゆる像のコピー、および像を分析することにより得られたあらゆる結果のコピーを示すテーブルを含んでいてもよい。
【００６０】
図１を参照すると、機器１は、システムまたは検査室作業ステーション内の場所に装置を固定するために、支持体１１０Ａおよび１１０Ｂを含み得る。また機器１は、それぞれ基部でアクチュエータ３０Ａ、３０Ｂに接続される１つまたは２つ以上の基板アーム１０Ａおよび１０Ｂを含んでいる。基板アーム１０Ａ、１０Ｂの反対側の端部は、試料処理の間基板を受け取り保持するための、基板把持部２０Ａおよび２０Ｂを含んでいる。基板把持部２０Ａおよび２０Ｂはそれぞれ、機器１が全ての試料処理ステップ（後述する）を完了する間、基板２を受け取り保持する。基板は、顕微鏡スライド、カバー片、または試料処理中および試料処理後の顕微鏡試験において試料を保持するのに適した他の透明材料であってもよいし、それらを含んでいてもよい。図１の実施形態は、ガラスの顕微鏡スライドである基板２を示しており、基板２は生物学的試料３を含んでいる。吸引ポートを用いて、基板把持部２０Ａ、２０Ｂは試料処理の間、基板２を基板アーム１０Ａ、１０Ｂに保持し得る。吸引チューブ２３は吸引ポート２１Ａおよび２１Ｂ、ならびに２２Ａおよび２２Ｂ（ポート２１Ａおよび２２Ａは図１ではスライド２の裏側に配置されており、破線で示されていることに留意）を通して、基板把持部２０Ａおよび２０Ｂに吸引力を提供する。
【００６１】
図１〜３に示される機器１の実施形態は、デュアル基板機器であって、基板アーム１０Ａおよび１０Ｂのそれぞれで基板を保持および処理できる。他の実施形態は、単一の基板または３つ以上の基板を、順次または同時に処理するために提供される。さらに、図１〜６に示す実施形態は、基板２を基板アーム１０Ａおよび１０Ｂに取り付けるために吸引力を用いるが、代替的な実施形態は、試料処理中に基板２を基板アーム１０Ａおよび１０Ｂに取り付けるために、様々な種類のクランプ、フィンガまたは磁石（基板が磁化されている場合）を用い得る。
【００６２】
図５および図１８Ａ〜１８Ｂに示される実施形態では、機器１は自動化された基板移動装置１２０から、または個人から手動で試料３を担持する基板２を受け取る。一例として、基板移動装置１２０は、ステーション間（例えば、ステーション１２１からステーション１２２へ、ステーション１２３へ、ステーション１２４へ、およびステーション１２５へ）で基板を搬送する装置であり得る。図５は、第１ラベル読み取りステーション１２１、塗布ステーション１２２、機器１を含む染色ステーション１２３、カメラまたは撮像ステーション１２４、および第２ラベル読み取りステーション１２５を有するシステムを示す。第１ラベル読み取りステーション１２１は、特定の基板２およびその上の試料３を識別するために用いられる、バーコードおよび／または「フットプリント（footprint）」などの情報を基板２から読み取るように構成される。第２ラベル読み取りステーション１２５も同様に機能し、これが読み取る情報は、ステーション１２４で撮像される試料３が処理された基板と同一であることを確認するために用いられる。
【００６３】
基板移動装置１２０は、基板２を保持するための把持部１２７と、移動装置１２０が、基板２が移動装置１２０に装着されているかどうかを判定できるようにする登録回路またはソフトウェアとを含み得る。一実施形態において、基板移動装置１２０は、第１ステーション１２１から第２ステーション１２２へ基板２を移動させるために、液圧シリンダを含んでいてもよい。試料処理後、基板移動装置１２０は、処理された基板を染色ステーション１２３から除去し、基板２を後続の試験のために、顕微鏡またはステーション１２４などの別のステーションに搬送し得る。代替的には、試料処理の後、個人が手動で基板を機器１から除去してもよい。
【００６４】
基板が、装着のための開放位置から試料処理位置へ移動でき、また試料処理後に離脱のための開放位置へと戻ることができるように、基板アーム１０Ａおよび１０Ｂは軸周りで回転し得る。図７Ａは、開放位置から処理位置へと基板アームを移動させるための一連のステップを含むフローチャート５００を示す。フローチャート５００は、機器１の概略図を示す図７Ｂを参照して以下でさらに記載される。
【００６５】
図１の機器１は、２つの基板を受け取り試験するように構成されていることに留意されたい。以下の記載および図面においては、機器１の一方の構成要素のセット（例えば、基板把持部２０Ａ、アクチュエータ３０Ａ、基板アーム１０Ａなど）のみに言及する。しかしながら、一方の構成要素のセットに関して開示されるステップ、特徴および特質と同一のものが、機器１の他方の構成要素のセット（例えば、基板把持部２０Ｂ、アクチュエータ３０Ｂ、基板アーム１０Ｂなど）にも当てはまり得ることが理解されるべきである。ゆえに、本明細書における記載は明瞭さおよび簡潔さのために一方の構成要素のセットのみに焦点をおいているが、機器１などの試料試験のための機器は、それぞれが本明細書に記載される特徴のいくつかまたは全てを有する、２つまたは３つ以上の構成要素のセットを含み得ることが理解される。
【００６６】
図７Ａおよび７Ｂに戻ると、フローチャート５００の第１ステップ５０２において、基板移動装置１２０は基板２を基板把持部２０Ａに接触させて置く。ステップ５０４において、基板２は、「試料が上になった」または「開放した」位置で基板把持部上に配置される。次にステップ５０６において、アクチュエータ３０Ａは、基板アーム１０Ａを約１８０°（図７Ｂを参照）回転させて、基板２を、プラットフォーム６０Ａの真上で「試料が下になった」または「試料処理」または「閉鎖した」位置に配置し（ステップ５０８）、その結果基板２はステップ５１０では処置位置にある。
【００６７】
次にステップ５１２において、機器１は、リザーバ２１０Ａ、２１１Ａ、２１２Ａおよび２１３Ａから送り出される染色剤、洗浄流体および固定剤を含む適切な流体を、ポート４２Ａ、４３Ａ、４４Ａおよび４５Ａを通して試料３に接触させることにより、基板２上に配置される試料３を染色する。余分な流体は、ポート４０Ａおよび４１Ａを通して真空ポンピングすることによって試料３から除去され、廃棄物回収部２３０および２３１に回収される。
【００６８】
ステップ５１４では、試料３の染色に続いて、アクチュエータ３０Ａは基板アーム１０を約１８０°回転させて（ステップ５０６の回転と逆）、基板を「試料が上になった」位置へと戻す。最後にステップ５１６において、基板移動装置１２０は基板把持部２０Ａから処理された基板を除去する。他の開放または「試料が上になった」位置も用いることができ、オペレータまたは自動化された基板移動装置は、機器１に基板を装着または機器１から基板を離脱し得る。例えば、試料が上になった位置は、試料処理位置から１００°以上（例えば、１２０°以上、１３０°以上、１４０°以上）回転され得る。いくつかの実施形態において試料が上になった位置は、試料処理位置から１００°未満（例えば、９０°未満、８０°未満、７０°未満）で回転されてもよく、オペレータまたは基板移動装置は機器１に基板を装着または機器１から基板を離脱し得る。
【００６９】
アクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂは、アーム１０Ａおよび／または１０Ｂを移動させるために、電気モータ、空気圧、磁気系または他のハードウェア（例えば、ウォームギア）を含んでいてもよい。基板アーム１０Ａおよび１０Ｂが図１に示すような開放位置にある場合、把持部２０Ａおよび２０Ｂはそれぞれ基板２を受け取り得る。基板把持部２０Ａまたは２０Ｂに装着されると、アクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂはその後、撹拌ステップを含む固定剤、染色剤および洗浄剤溶液の塗布のために、アーム１０Ａおよび／または１０Ｂ、つまり基板２を、開放（「試料が上になった」）位置から処理位置（図３Ａのアーム１０Ｂに関して示されるような、「試料が下になった」）へと回転させ、処理後、離脱させるために開放位置へと戻すように回転させる。
【００７０】
図３Ａを参照すると、アクチュエータ３０Ｂは、図１に示す開放位置から「閉鎖」または処理位置へと基板を回転させている。図３Ａは、基板アーム１０Ｂ上の基板２が、図１に示すその装着位置から、基板２上の試料３がプラットフォーム６０Ｂの表面と略水平となる下方に向く位置へと、裏返されて約１８０°回転されていることを示す。図７Ａに関して記載されるように、図示される試料処理位置において基板２はプラットフォーム６０Ｂに近接して配置されているが、機器１は様々な固定剤、染色剤および洗浄剤をいくつかの処理段階を通して基板２上の試料３へと塗布し、これは以下でより詳細に記載される。処理位置から基板２を除去するために、アクチュエータ３０Ｂは、基板アーム１０Ｂを、図１（両方のアーム）および図３Ａ（アーム１０Ａのみが開放位置にある）に示される開放位置へと回転により戻す。
【００７１】
特定の実施形態において、制御システム５は、インジケータアーム１０１Ａおよび１０１Ｂ（図１および３に示す）を検出する１つまたは２つ以上のセンサ１０５Ａおよび１０５Ｂを利用してアームの位置を検出し得る。センサ１０５Ａおよび１０５Ｂは、アームの有無を検出するために、例えば赤外線や他の様々な技術（レーザ、動作感知装置など）を利用する、例えば光電子センサなどの近接センサであってもよい。例えば、近接センサ１０５Ａまたは１０５Ｂは、検出領域を有していてもよく、センサは、基板アーム（例えば、アーム１０Ａおよび／またはアーム１０Ｂ）または基板把持部（例えば、把持部２０Ａおよび／または２０Ｂ）が検出領域内にあるか否かを判定し得る。制御システム５はセンサから情報を受け取り、基板アーム１０の位置を決定し得る。例えば、基板アーム１０Ｂ（図３Ａでは図示せず）が処理位置へと回転されると、インジケータアーム１０１Ｂの近位エッジの近接センサ１０５Ｂは、対象の基板把持部２０Ｂを感知し、基板アーム１０Ｂが試料処理位置まで回転されたことを制御システム５に知らせる。この位置においてインジケータ１０１Ｂの遠位端の近接センサ１０５Ｂは、対象（例えば、基板アームまたは基板把持部）を何も検出していないので、制御システム５に信号を送信しない。
【００７２】
基板アーム１０Ｂが開放位置（図１に示す）に回転されると、インジケータアーム１０１Ｂの遠位端の近接センサ１０５Ｂは、対象の基板把持部２０Ｂを感知し、基板アーム１０Ｂが開放位置まで回転されたことを制御システム５に知らせる。換言すれば、基板アーム１０Ｂがセンサ１０５Ｂから離れるように回転すると、センサは「非存在」信号を制御システム５に送信する。アーム１０Ｂが開放位置へと回転されると、アーム１０Ｂはセンサ１０５Ｂに近づき、センサは「存在」信号を制御システム５に送信し得る。代替的な構成において、センサは基板１０Ｂ上に装着されてもよく、インジケータアーム１０１Ｂの存在を検出し得る。いくつかの実施形態において、制御システム５は、アクチュエータ３０Ａおよび３０Ｂの位置を既知の開放位置および試料処理位置へと較正するため、および／または、アクチュエータ３０Ａおよび３０Ｂから受信した制御信号および／またはフィードバックに基づき、基板アーム１０Ａおよび１０Ｂの移動および位置をアクティブに監視するために用いられ得る。
【００７３】
図１の基板アーム１０Ａおよび１０Ｂに関する構造および回転軸は、本発明の他の実施形態において変更されてもよい。図８Ａは、基板アームを開放位置から処理位置へと移動させるための代替的な一連のステップを含むフローチャート６００を示す。フローチャート６００は、機器１の概略図を示す図８Ｂを参照して、以下でさらに記載される。
【００７４】
フローチャート６００のステップ６０２において、基板移動装置１２０は、「試料が上になった」向きで基板把持部２０Ａ上に基板２を置く。次にステップ６０４において、第１アクチュエータ３０Ａは、図８Ｂの面に垂直な面で基板２を約１８０°回転させるので、基板２はプラットフォーム６０Ａの上方で、「試料が上になった」位置に向けられたままである。ステップ６０６において、第２アクチュエータ３５Ａは、「試料が上になった」位置に向けられた基板２を受け取る。次にステップ６０８において、第２アクチュエータ３５Ａ（例えば、基板アーム１０Ａと基板把持部２０Ａとの間に配置される）は、基板２を「試料が下になった」向きへと回転させる。第２アクチュエータ３５Ａはまた、基板２をプラットフォーム６０Ａに向かって下方に移動させるので、基板２はオフセット７０Ａおよび７０Ｂと接触する。
【００７５】
次に、ステップ６１０において基板２が処理位置にある状態で、機器１は、フローチャート５００のステップ５１２に関して上述したように、染色剤、固定剤および洗浄剤溶液を塗布することによって基板２上の試料３を染色する。染色完了後、第２アクチュエータ３５Ａは基板を「試料が下になった」向きから「試料が上になった」向きへと回転させ（ステップ６１４）、その後第１アクチュエータ３０Ａは、基板が「試料が上になった」向きのままとなるように、基板２を約１８０°回転させる（例えば、ステップ６０６において用いられた回転とは逆の、図８Ｂの面と垂直な面において）。最後に、ステップ６１８において、基板移動装置１２０は処理された基板を基板把持部２０Ａから除去する。
【００７６】
一般に、機器１は試料処理のために、図１〜３に示すように１つまたは２つ以上（例えば、２つ、３つ、４つ、５つまたは６つ以上）のプラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂを含んでいてもよい。図２に示されるように、プラットフォーム６０Ａは、プラットフォームの上面を支持するための側面を含んでいてもよい。図１および３に示す遮蔽体１００は、プラットフォーム６０間で流体が跳ね散ることを防ぐために、プラットフォーム６０Ａとプラットフォーム６０Ｂとの間に配置され得る。いくつかの実施形態において遮蔽体１００は、プラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂの一方からの流体が他方のプラットフォームを汚染することを阻止する透明材料から形成されてもよい。特定の実施形態において遮蔽体１００は、半透明または不透明な材料から形成されてもよい。図１および３では、同図において遮蔽体１００の後方に配置される他の構成要素を示すことができるように、遮蔽体１００は透明材料から形成されたものとして示されている。遮蔽体１００は不透明材料から形成されたものとして示されてもよいが、その場合、プラットフォーム６０Ａおよびブロック８０Ａなどのいくつかの構成要素の部分は見えなくなる。
【００７７】
図３Ｂは、基板把持部２０Ａ、２０Ｂのそれぞれから試料処理のための位置へと基板２を提供するために、機器１を移動させるのに用いられ得るインデックス機構５０Ａを示す。インデックス機構５０Ａは、電気機械装置（例えば、電気モータにより動力付与されるラックアンドピニオン式のギヤセット）、リニアアクチュエータ（例えば、空気圧アクチュエータ、液圧アクチュエータまたは電磁アクチュエータ）などの多くの形式であってもよい。図示される実施形態において、インデックス機構５０Ａは２つの位置の間で機器１を線形に移動させるが、機器１上に含まれる多数のプラットフォーム、およびそれらの構成およびレイアウトに基づき、円形または半円形（例えば、弓型の通路を移動し得るインデックステーブル）などの、他の移動通路も可能である。図示されるように、インデックス機構５０Ａは、機器１の基部５０Ｃに取り付けられるギヤラック５０Ｂおよび基部５０Ｃに固定されている電気モータ５０Ｅに取り付けられるピニオンギヤ５０Ｄを含み得る。機器１は、１つまたは２つ以上の摺動装置５０Ｆを用いて基部５０Ｃに取り付けられ得るので、機器１は、インデックス機構５０Ａによって移動させられるときに滑らかに移動し得る。使用中、インデックス機構５０Ａは、機器１の複数の基板把持部２０Ａおよび／または２０Ｂが基板移動装置１２０から基板２を受け取るように、基板２上に配置されるサンプルが機器１によって調製されるように、また、調製されると、基板把持部２０Ａおよび／または２０Ｂが、調製されたサンプルを有する基板２をサンプル処理のために基板移動装置１２０へと提供し得るように、機器１を移動させ得る。
【００７８】
図示される実施形態のように２つのプラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂを有する機器に関しては、基板２は通常、交互に基板移動装置１２０へ、または基板移動装置１２０から提供される。いくつかの実施形態において、第１の基板２は、第１プラットフォーム６０Ａで処理されるように、基板移動装置１２０から第１基板把持部２０Ａに提供される一方、機器１は第１位置にある。第１の基板２が第１プラットフォーム６０Ａで処理される間、インデックス機構５０Ａは、第２基板把持部２０Ｂが基板移動装置１２０から第２プラットフォーム６０Ｂで処理される第２の基板を受け取り得るように、機器１を第２位置へと移動させ得る。第２の基板が第２プラットフォーム６０Ｂで処理される間、インデックス機構５０Ａは、基板移動装置１２０が第１基板把持部２０Ａから第１の基板２を除去し得るように、機器１を第１位置に戻すよう移動させ得る。基板２が第１把持プラットフォーム２０Ａから除去されると、次の基板が第１把持プラットフォーム２０Ａに提供され得る。この、交互に把持プラットフォームへ基板を提供する方法は、３つ以上（例えば、３つ、４つ、５つ、６つ以上）のプラットフォームに対して実施され得るので、さらなる評価のために調製される試料のスループットを増加させ得る。
【００７９】
プラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂは通常、試料処理の間に用いられる流体に対して比較的化学的に不活性であり、また適切な表面張力をもたらす１つまたは２つ以上の材料から形成される。プラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂを形成するために用いられ得る例示的な材料としては、ポリオキシメチレン（例えば、ＤｕＰｏｎｔ社製のＤｅｌｒｉｎ（登録商標））などのエンジニアリング熱可塑性プラスチック、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）（例えば、ＤｕＰｏｎｔ社製のＴｅｆｌｏｎ（登録商標））などの高分子量フルオロカーボン、基板２とプラットフォームとの間の空間に処理流体を均等に分配し、処理流体をとどめることを補助するように作用する適切な表面張力を示し、処理流体の適切な排出も可能にするように製造され、および／または、処理されるように定められた、アルミニウム、鋼およびチタンなどの金属が挙げられる。適切な材料の選択により、プラットフォームは、流体が分配される間の、流体内の気泡または空間の形成を有利に減少または最小化でき、また同時に、プラットフォームと基板２との間の離間部からの流体の漏出が減少または除去されるのに充分な表面張力を維持できる。
【００８０】
一般に、プラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂの表面積は、基板の操作および流体の運搬を目的として、要望に応じて選択され得る。プラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂの表面積などの要因は、選択される基板２の表面積にも影響を及ぼし得る。例えば、いくつかの実施形態において、プラットフォーム６０Ａの表面積（例えば、基板２に面するプラットフォーム６０Ａの表面積）は、プラットフォーム６０Ａに面する基板２の表面積よりもわずかに小さい。プラットフォーム６０Ａおよび基板２の、面している表面積の間の関係を維持することによって、表面間の領域からの流体漏出は減少または除去され得る。通常、例えば、基板２に面する基板６０Ａの表面積は、基板２の表面積よりも、２％以上（例えば、３％以上、５％以上、７％以上、１０％以上、１５％以上、２０％以上、２５％以上、３０％以上）小さい。
【００８１】
プラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂは、それぞれブロック８０Ａおよび８０Ｂに取り付けられ得る。ブロック８０Ａは、図２に示すように上面８５Ａを支持する側面８１Ａ〜８４Ａを含んでいる。ブロック８０Ａおよび８０Ｂは、金属、セラミックおよび／またはプラスチックを含む、プラットフォームに用いられる材料と同一または同様の材料で作製されてもよい。ゆえに、特に試料のロマノフスキー染色を実施する実施形態においては、Ｄｅｌｒｉｎ（登録商標）などの材料がブロック８０Ａおよび８０Ｂを形成するために用いられ得る。実施形態において用いられ得る別の材料としては、金属、およびＴｅｆｌｏｎ（登録商標）ブランドのポリテトラフルオロエチレンで被膜されたアルミニウム、鋼またはチタンが挙げられる。
【００８２】
いくつかの実施形態において、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂは、図１〜３に示すように上昇され得る。代替的には、特定の実施形態において、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂは、ブロック８０Ａおよび８０Ｂの上面それぞれと同一平面であってもよい。どちらの場合においても、機器１の特定の特徴、ならびに流体の表面張力およびプラットフォームまたはブロックの表面エネルギーは、余分な流体がプラットフォーム６０Ａ／６０Ｂおよび／またはブロック８０Ａ／８０Ｂを越えて流れることを防ぐ。
【００８３】
図１および２に示すように、プラットフォーム６０Ａは、プラットフォーム６０Ａおよび基板２の表面間に離間部をもたらし、基板２がプラットフォーム６０Ａに接触するのを防ぐために、オフセット７０Ａ〜７０Ｄを含み得る。プラットフォーム６０Ｂは対応するオフセットのセット７１Ａ〜７１Ｄを含み得る。オフセットは、スタンドオフ、ピン、釘、ロッド、ビーズ、壁、またはプラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂおよび基板２の表面の間に離間部をもたらす他の構造を含み得る。オフセット７０Ａ〜７０Ｄおよび７１Ａ〜７１Ｄは、プラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂならびに基板２の表面が、基板２がオフセットに接触するときに略平行のままであることを確実にする。これらの２つの表面を平行に維持する利点は、これら２つの表面の間に囲まれる体積が画定されるので、正確に制御され得るということである。２つの表面が略平行でなく、これら表面の間の角度が変化する場合には、これら表面の間の体積も変化して固定されず、正確に制御されない。また、このような２つの表面が略平行でないと、流体が均一に塗布されないおそれがある。
【００８４】
本明細書で用いられる場合、「略平行」という語は、２つの表面が完全に平行であるか、またはほぼ平行であることを意味するので、基板２がオフセットに接触するときの基板２の表面平坦性における欠陥は減少または除去される。例えば、基板の製造には細心の注意が払われるが、いくつかの基板は、ねじれおよび／または同一平面上でない角などの欠陥を有するおそれがある。本明細書に開示されるシステムおよび方法では、オフセットの使用により、必要であれば基板２の表面平坦性を改善し、工程において基板２をプラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂに対して略水平に配向することによって、これらの欠陥の補正を補助する。「略平行」という語は、２つの表面が完全に水平ではないがオフセットが全て同一の大きさまたは高さである状況も網羅するので、基板の表面の、少なくともオフセットとの接触点は、同一面にある。
【００８５】
図６Ａは、試料３を備える基板２（試料は図示せず）、基板把持部２０Ｂ、ブロック８０Ａ、８０Ｂ、プラットフォーム６０Ａ、６０Ｂ、オフセット７０Ａ〜７０Ｄおよび７１Ａ〜７１Ｄ、および基板２とプラットフォーム６０Ｂとの間の離間部９２を示す。離間部９２は、流体が、ポート４０Ｂ〜４５Ｂを含むプラットフォーム６０Ｂと、試料３を含む基板２との間を移動することを可能にする。最適な試料の固定、染色および洗浄に要求される離間部距離は、ポート４０Ｂ〜４５Ｂ（および／またはポート４０Ａ〜４５Ａ）から供給される流体の流速、ポート直径、処理中に塗布される流体の粘度、ならびに基板、離間部およびプラットフォームから流体を除去するために利用可能な吸引力に応じて変動する。
【００８６】
いくつかの実施形態において、例えば、プラットフォーム６０Ｂおよび基板２の表面の間に約１００〜２００ミクロンの離間部９２を提供するオフセットは、５００〜１，５００ミクロンの範囲の直径を有するポート４０Ｂ〜４５Ｂから、毎秒７０〜１４０マイクロリットルの範囲（例えば、毎秒９０、１１５または１２５マイクロリットル）の流速で流体を供給可能な実施形態において、赤血球を含む試料に対する固定、染色および洗浄を可能にする。一般に、離間部９２の大きさおよび高さは、特定の実施形態に関して約５０ミクロン〜１，０００ミクロンまで変動してもよく、このような実施形態は、試料処理中に流体を供給および除去しながら、離間部の流体からの表面張力に打ち勝つことが可能であるように定められる。また、特定の実施形態において、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂに位置付けられるポートの直径は、約１２５ミクロン〜５，０００ミクロンまで変動し得る。
【００８７】
図６Ｂおよび６Ｃは、基板把持部２０Ａをプラットフォーム６０Ａと平行になるように位置合わせするために用いられ得るボールジョイント機構２５を示す。ボールジョイント機構２５は、基板把持部２０Ａに堅固に固定されるボール部材２０Ａと、偏向エレメント２５Ｂ（例えば、バネ）と、基板アーム１０Ａに堅固に固定される下側ソケット２５Ｃと、上側ソケット２５Ｄと、下側ソケット２５Ｃに固定される（例えば、締め具を用いて）キャップ２５Ｅと、止めネジ２５Ｆとを含み得る。いくつかの実施形態において、機器１および基板把持部２０Ａおよび／または２０Ｂの製造および／または設定中、ボールジョイント機構２５は、公差スタックアップまたは組み立ての問題により存在するおそれのあるあらゆる位置ずれを補うように調整され得る。ボールジョイント機構２５を調整するために、いくつかの実施形態においては、止めネジ２５Ｆは緩められ、基板アーム１０Ａは閉鎖位置に移動させられる。止めネジ２５Ｆは緩められるので、基板把持部２０Ａは、基板２を把持しながら、基板２が接触オフセット７０に沿って配置されている間プラットフォーム６０Ａと略平行に位置することができる。代替的には、いくつかの実施形態において、プラットフォーム６０上のオフセットの数が減少されるか、または完全に除去されてもよく、試料処理のための所望の距離で離間部９２を設定するために、ボールジョイント機構２５と連動した機器１の設定または較正中、所望の離間部距離に対応する厚さを備えるシムが一時的に用いられてもよい。ボールジョイント機構２５は独立して移動でき、一方で緩められすぎず、機器１の他の構成要素に緩衝したり、損傷を引き起こしたりするほどは自由に移動できないように、ボールジョイント機構２５が緩められても、偏向エレメント２５Ｂは基板把持部２０Ａを基板アーム１０Ａに半固定し続けるために力を印加する。基板２がプラットフォーム６０Ａと略平行となるように基板２が閉鎖位置に堅く押圧されると、止めネジ２５Ｆはボールジョイント機構２５を固定するために締められ得る。図示されるように、締められると止めネジ２５Ｆは上側ソケット２５Ｄに下方向の力を印加するので、上側ソケット２５Ｄを介してボール部材２５Ａの上部に摩擦力を加える。下側ソケット２５Ｃはキャップ２５Ｅに固定されるので、止めネジ２５Ｆにより生じられる力は、下側ソケット２５Ｃがボール部材２５Ａの底側に摩擦力を加えてボール部材２５Ａを上側および下側ソケット２５Ｃ、２５Ｄ内に拘束するように、下側ソケット２５Ｃも上昇させる。ボール部材２５Ａに拘束されると、基板把持部２０Ａは基板アーム１０Ａに固定されるようになる。
【００８８】
通常、基板把持部２０Ａが止めネジ２５Ｆを用いて配置および拘束されると、ボールジョイント機構２５は通常の使用中に再び調整される必要がない。しかしながら、基板把持部２０Ａが位置ずれしており、それゆえボールジョイント機構２５が調整を必要とする場合（例えば、損傷、機器の修理、性能劣化または他の理由により）、止めネジ２５Ｆは緩められてもよく、基板把持部２０Ａにより把持される基板がプラットフォーム６０Ａと略平行となるように配置するように、基板把持部２０Ａは閉鎖位置へと移動されてもよく、その後止めネジ２５Ｆは、ボールジョイント機構２５を固定するために締められ得る。
【００８９】
一般に、アクチュエータ３０Ａおよび３０Ｂは、基板アーム１０Ａおよび／または１０Ｂの位置を調整して、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂならびに基板２の表面の間の離間部の程度を変更するように構成され得る。この離間部の変更は、各ポートに割り当てられる流体、流速、流体粘度およびプラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂからの排出力を調整することを可能にする実施形態において、より優れた柔軟性をもたらす。例えば、プラットフォーム６０Ａから加えられる流体が、５００ミクロン〜１，５００ミクロンの範囲のポート直径を有するポート４０Ａ〜４５Ａから毎秒７０マイクロリットルの流速で供給される場合、１００ミクロンの離間部９２は、充分な試料固定、染色および洗浄を提供し得る。代替的には、プラットフォーム６０Ａの表面と基板２との間の離間部９２の距離が約２００ミクロンである場合、試料処理には、毎秒１１５〜１４０マイクロリットルなど、ポート４０Ａ〜４５Ａから供給される流体にはより高い流速が用いられ得る。
【００９０】
上述のように、機器１は、試料処理の間に加えられる流体を供給および除去するために、一連のポートおよびチューブを含み得る。以下の記述においては、様々なポート、チューブ、およびプラットフォーム６０Ａに関連付けられる他の構成要素を記載するが、同様の考察はプラットフォーム６０Ｂおよびその構成要素にも適用される。図２は、図１に示す装置の拡大図を示す、プラットフォーム６０Ａ上のポート４０Ａ〜４５Ａおよびブロック８０Ａに接続されるチューブ５０Ａ〜５５Ａを詳細に示す。チューブ５２Ａ〜５５Ａは、１つまたは２つ以上の固定剤、染色剤および洗浄溶液を含む特定の流体を、プラットフォームを横切って、離間部内へ、および基板上へと供給する。
【００９１】
図２を参照すると、プラットフォーム６０Ａの上面は、チューブ５０Ａ〜５５Ａに接続される６つのポート４０Ａ〜４５Ａを含んでいる。流体は、チューブおよび基板２上のポートを通して１つまたは２つ以上のポンプにより駆動される。例えば図４に示すような、１つまたは２つ以上の流体リザーバ２１０Ａ〜２１３Ａ（第１染色剤リザーバ２１１Ａ、第２染色剤リザーバ２１２Ａ、固定剤リザーバ２１０Ａ、および洗浄溶液リザーバ２１３Ａなど）は、プラットフォーム６０Ａおよび基板２上へ流体を導き得る。図１〜３に示すポート４０Ａ〜４５Ａの直径は、５００ミクロン〜１，５００ミクロンの範囲であるが、特定の実施形態において直径はより小さくてもより大きくてもよい。いくつかの実施形態において、真空ポート４０Ａおよび４０Ｂの直径は、流体ポート４２Ａ〜４５Ａの直径の２倍を超える。
【００９２】
各ポート４０Ａ〜４５Ａは通常、特定の流体または真空源専用である。代替的には、２つ以上のポートが各流体または真空源に用いられてもよいし、様々な流体および真空源からの複数のチューブが、プラットフォーム６０Ａ上に位置付けられる単一のポートに接続されてもよい。例えば、いくつかの実施形態において、廃棄物除去には、プラットフォーム６０Ａ上の１つのポートのみが用いられてもよいが、より粘性の流体を用いるときには、単一のポートでは残余流体をプラットフォームから排出するのに充分な吸引力を提供しない場合がある。ゆえに特定の実施形態においては、示されるような余分な染色剤、固定剤および洗浄流体を、図２のポート４０Ａおよび４１Ａを用いて除去するために、プラットフォーム上の異なる位置に２つの吸引ポート（例えば、プラットフォームの各端部に１つの吸引ポート）を提供することが望ましい場合がある。流体からポートへの構成の可変性をさらに強調すると、特定の実施形態においては、プラットフォーム６０Ａ上の単一のポートは特定の染色剤専用であってもよいが、別の実施形態においては、試料処理中に染色剤を塗布するために複数のポートが用いられる。実際には、ポートの数、ポートの場所、ならびに各ポートおよび流体チューブに割り当てられる流体に関する様々な組み合わせが、本発明の異なる実施形態において用いられ得る。
【００９３】
ポート４０Ａ〜４５Ａは、基板２への流体運搬および基板２からの流体除去をもたらすために、一般には要望に応じてプラットフォーム６０Ａ上に配置され得る。通常、流体ポートはそれぞれ、試料が処理を受けているときには、ポートの開口部が基板２上の試料３に直接隣接したり真下に配置されたりしないようにプラットフォーム６０Ａ上に配置される。試料および染色剤の特定の組み合わせを用いて、例えば、染色剤が試料３の部分に直接隣接したり真下に位置づけられたりするポートから供給されると、その部分（ポートの近接）の細胞には試料の他の部分の細胞よりも多い量の染色剤が塗布され得る。結果として、より多くの量の染色剤を受けた細胞は、試料の像において暗く見え、この試料の細胞の非均一な染色は、試料の手動および自動の評価を完了し、像に基づく診断測定および分析結果にエラーを取りこむおそれがある。ゆえに、試料３に染色剤を運ぶ流体ポートは、染色結果を向上させるために、スライドの試料を含む領域から一定距離だけ離間部され得る。
【００９４】
また、互いに対向して位置づけられるポートの組、例えば複数のポートの組の使用も、染色の均一性を向上し得る。例えば、いくつかの実施形態においては、染色剤を試料３に運ぶために２つのポートが用いられる。２つのポートは、試料３の縁部から所定の距離だけ離間された位置（例えば、オフセット）でプラットフォーム６０Ａ上に位置づけられてもよく、プラットフォーム６０Ａ上の短辺に平行な方向で互いに対向して位置づけられる。２つの離間したポートから染色剤が供給されると、比較的均一な量の染色剤が試料３の異なる領域で細胞上に配置され、試料像において染色の均質性の向上が観察される。
【００９５】
同様に、一般にポート４０Ａ〜４５Ａは、１つまたは２つ以上の真空源を用いて基板２の表面から余分な流体を除去するために要望に応じて配置され得るが、いくつかの実施形態においては、流体除去に用いられるポートは、基板２上の試料３内の細胞の真下にあるプラットフォーム６０Ａの位置から一定距離だけ離間されている。このように廃棄物除去ポートを配置すること（すなわち、試料３の部分に直接対向しない）は、このようなポートが基板２から流体を排出するために作動されるときに、試料３の細胞が不注意で損傷したり流体除去ポート内に引き込まれたりする可能性を減らす。特定の実施形態においては、プラットフォーム６０Ａの長辺および短辺の長さの差により、廃棄物除去ポートは試料領域の縁部から離間され、プラットフォーム６０Ａの長辺に平行な方向に沿って互いに対して対向して配置される。
【００９６】
固定剤段階
流体チューブ５２Ａ〜５５Ａおよび５２Ｂ〜５５Ｂは、試料処理中に、プラットフォーム６０Ａおよび６０Ｂ、離間部９２、基板２および試料３に固定剤を運ぶために配置され得る。用いられ得る固定剤には、生物学的サンプルを腐敗から保護するために用いられる化学物質が含まれ、これらの固定剤は試料に生じる生物学的反応を遅らせ、試料の機械的強度および安定性を向上させ得る。メタノール、エタノール、イソプロパノール、ホルムアルデヒド、グルタルアルデヒド、ＥＤＴＡ、界面剤、金属塩、金属イオン、尿素、アミノ化合物を含む様々な固定剤が用いられるが、これらに限定されるわけではない。
【００９７】
図４を参照すると、１つまたは２つ以上の流体チューブ５２〜５５Ａは、プラットフォーム６０Ａ内部のポートおよびそれぞれの固定剤リザーバ２１０Ａに接続され得る。流体チューブはまた、チューブおよびプラットフォーム上に位置づけられるポートを通してリザーバから基板および試料上に固定剤を導くことが可能なポンプ２００Ａおよび／またはバルブへの接続部を含み得る。一例として、ポンプ２００Ａは、リザーバ２１０Ａからの固定剤を、チューブ５４Ａを通して、ブロック８０Ａを通して、ポート４４Ａの外に、プラットフォーム６０Ａ上へ、プラットフォーム６０Ａと基板２との間の離間部９２内へ、および試料３を含む基板２上へと導き得る。特定量の固定剤を基板２に塗布した後、真空源または他の吸引源２２０Ａおよび／または２２１Ａは、廃棄物チューブ５０Ａおよび５１Ａを通る１つまたは２つ以上のポート４０Ａおよび／または４１Ａを介して、プラットフォーム６０Ａ、離間部９２および基板２から廃棄物容器２３０Ａおよび／または２３１Ａ内へと残りの固定剤を排出し得る。
【００９８】
図９は、試料に固定剤を塗布する一連のステップを含むフローチャート７００を示す。ステップ７０２において、ポンプ（例えば、ポンプ２００Ａ）は固定剤（例えば、メタノール）をリザーバ（例えば、リザーバ２１０Ａ）から固定剤チューブ（例えば、チューブ５４Ａ）内へ導く。ステップ７０４において、固定剤はブロック８０Ａに取り付けられるポート４４Ａ内に導かれる。その後ステップ７０６において、固定剤はプラットフォーム６０Ａでポート４４Ａの外へと導かれる。ステップ７０８において、固定剤はポート４４Ａを出て基板２とプラットフォーム６０Ａとの間の離間部９２内へと導かれる。最後に、ステップ７１０において、基板２上の試料３は固定剤溶液により固定される。
【００９９】
いくつかの実施形態においてポンプ２００Ａは、毎秒７０マイクロリットルの流速で４秒間、チューブ５４Ａおよびポート４４Ａを通してプラットフォーム６０Ａ上および離間部９２内へメタノールを導く。真空源または他の吸引源２２０Ａおよび／または２２１Ａはその後ポート４０Ａおよび／または４１Ａならびに廃棄物チューブ５０Ａおよび／または５１Ａを用いて、離間部９２内および／またはプラットフォーム６０Ａおよび基板２上に存在する残りのメタノールを除去する（以下にさらに記載する）。次に、ポンプ２００Ａは再び、毎秒７０マイクロリットルの流速で４秒間、チューブ５４Ａおよびポート４４Ａを通してプラットフォーム６０Ａ上へとメタノールを導くことができ、第２流体排出工程が続く。この、固定および排出の工程は、固定を要する生物学的試料の種類によっては、同一または異なる固定剤を用いて再び繰り返されてもよい。さらに機器１は、各固定段階に対して頻度および流速を変更することが可能である。さらなる処理および評価のために、離間部９２に位置づけられる流体のあらゆる表面張力に打ち勝ち、試料３を固定するのに充分な他の流速も用いられ得る。固定段階の頻度および／または流速を調整することにより、機器１はいくつかの異なる固定剤を用いて様々な試料に対して最適な固定を達成し得る。異なる種類の試料に対する機器の指示は、制御ユニット５にハードウェア化されるか、あらかじめプログラムされてもよく、必要に応じてシステムオペレータにより選択され得る。
【０１００】
一般に、固定段階中には、幅広い種類の固定剤が試料に塗布され得る。例えば、８５％メタノールが固定剤として用いられてもよい。いくつかの染色剤に対しては、エチルアルコールまたはホルムアルデヒドベースの固定剤が用いられ得る。試料を調製するために用いられ得る付加的な固定製剤は、例えば、米国仮特許出願第６１／５０５，０１１号明細書に開示されており、その内容すべてが参照により本明細書に組み込まれる。
【０１０１】
染色段階
機器１は、１つまたは２つ以上の染色段階において、基板に固定される試料に１つまたは２つ以上の色素または染色剤を塗布するように構成されるチューブおよびポートも含んでいる。試料の染色は、顕微鏡または他の撮像装置の下で見られるか、または撮像されるときの、試料のコントラストを強める。ロマノフスキー染色剤および／または他の色素または染色剤が用いられてもよく、ヘマトキシリンおよびエオシン、フルオレセイン、抗体を用いるチアジン染色剤、核酸プローブ、および／または、金属塩およびイオンを含む。試料を調製するために用いられ得る付加的な染色製剤は、例えば、米国仮特許出願第６１／５０５，０１１号明細書に開示される。
【０１０２】
図１０は、試料に染色剤を塗布するための一連のステップを含むフローチャート８００である。ステップ８０２において、ポンプ（例えば、ポンプ２０１Ａ）は、リザーバ（例えば、リザーバ２１１Ａ）から、色素または染色剤を染色剤チューブ（例えば、チューブ５２Ａ）内に導く。ステップ８０４において、染色剤は、ブロック８０Ａに取り付けられるポート（例えば、ポート４２Ａ）内に導かれる。次にステップ８０６において、染色剤はプラットフォーム６０Ａのポート４２Ａから流出する。ステップ８０８において、染色剤は基板２とプラットフォーム６０Ａとの間の離間部９２に流入し、その後ステップ８１０において、基板２上の試料３を染色する。
【０１０３】
いくつかの実施形態においては、試料３に染色剤を塗布するために複数のチューブおよびポートが用いられてもよい。例えば、第２のポンプ（例えば、ポンプ２０２Ａ）は、チューブ５３Ａおよびポート４３Ａを通してリザーバ２１２Ａからプラットフォーム６０Ａ上に染色剤（例えば、リザーバ２１１Ａから供給される染色剤と同一の染色剤または異なる染色剤）を導き得る。特定の実施形態において、２つ以上の流体チューブは、共有の染色剤リザーバまたはポンプ、および／または、ポートを通してプラットフォーム上へ染色剤を導くために用いられるバルブへと接続してもよい。図２に戻ると、チューブ５２Ａは、フルオレセイン系色素などの赤色染色剤を、プラットフォーム、基板３、および試料２へと運び得る。チューブ５３Ａは、チアジン系色素などの青色染色剤を運び得る。図１〜６において、プラットフォーム６０Ａ上のポートの数、場所および大きさは、基板に固定される試料への染色剤の塗布を最適化するように選択される。他の染色剤が選択される場合、染色剤の粘度に応じて、異なる数、場所および大きさのポートが好ましい場合がある。
【０１０４】
ポート４０Ａ〜４５Ａ（および４０Ｂ〜４５Ｂ）はそれぞれ、流体を受け取るための入力チャネル、および流体を出力するための出力チャネルの両方を含み得る。いくつかの実施形態において、洗浄剤の出力チャネル４５Ａ、固定剤の出力チャネル４４Ａおよび染色剤ポート４２Ａ〜４３Ａは、プラットフォーム６０Ａの上面にあり、真空ポート４０Ａおよび４１Ａの入力チャネルは、プラットフォーム６０Ａの上面の反対側の端部にあってもよい。洗浄剤の出力チャネル４５Ａ、固定剤の出力チャネル４４Ａおよび染色剤ポート４２Ａ〜４３Ａは、ブロック８０Ａの同一側部側に置かれてもよく、真空ポート４０Ａおよび４１Ａの出力チャネルは、ブロック８０Ａの反対側の側部側に配置され得る。
【０１０５】
例として図２および１０を参照すると、制御システム５は、ステップ８０２においてポンプ（例えば、ポンプ２０１Ａ）に、染色剤リザーバから流体チューブ５２Ａ内へ染色剤（例えば、フルオレセイン系色素）を導くように指示する。ステップ８０４において、染色剤は流体チューブからポート４２Ａに入る。その後ステップ８０６において、染色剤は、５秒の間、毎秒１４０マイクロリットルの流速でポート４２Ａを離れ、ステップ８０８において、染色剤はプラットフォーム６０Ａと試料３を含む基板２との間の離間部９２内へ置かれる。ステップ８１０において、基板２上の試料は染色される。染色後、真空源または他の吸引源（例えば、ポンプ２２０および／または２２１）は次に、ポート４０Ａ〜４１Ａおよび廃棄物チューブ５０Ａ〜５１Ａを用いて、離間部９２、プラットフォーム６０Ａ上および基板３上に存在する残りの染色剤を排出してもよい。
【０１０６】
機器１は、第１染色段階に続いて、遅延後（例えば、５秒の遅延など、３秒〜１０秒の遅延）、これらの染色および排出段階を繰り返すようにプログラムされ得る。第２のポンプ２０２Ａは、制御システム５によって、チアジン系色素を、染色剤リザーバから流体チューブ５３Ａを通して、毎秒１４０マイクロリットルの流速でポート４３Ａから出し、例えば３秒といった時間でプラットフォーム６０Ａ上に導くように指示され得る。真空源または他の吸引源（例えば、ポンプ２２０Ａおよび／または２２１）は次に、ポート４０Ａ〜４１Ａおよび廃棄物チューブ５０Ａ〜５１Ａを用いて、離間部９２中、および／または、プラットフォーム６０Ａ上、および／または、基板２上に存在する残りのチアジン系色素を排出してもよい。固定段階と同様に、機器１は、各染色段階に対して頻度、遅延時間および流速を変更することが可能である。流速は例えば、毎秒７０〜１４０マイクロリットルの範囲であってもよく、流速は、離間部９２に位置付けられる流体に存在するあらゆる表面張力に打ち勝ち、望ましくは意図される評価のために試料を染色するのに充分であるという条件で、この範囲の外側限界よりも少ないか、または多くてもよい（例えば、毎秒１０〜５００マイクロリットル）。
【０１０７】
試料に塗布され得る例示的な染色剤としては、これらに限定されないが、ライトギムザ染色剤、ギムザ染色剤およびロマノフスキー染色剤が挙げられる。免疫細胞化学的試薬などの他の剤や、特性の細胞成分の他のマーカーなども試料に塗布されてもよい。
【０１０８】
廃棄流体の除去
上で言及したように、真空源または他の吸引源２２０および／または２２１は、固定段階および染色段階中またはその間に、基板２、離間部９２およびプラットフォーム６０Ａから残りの流体を排出し得る。図１を参照すると、１つまたは２つ以上の廃棄物チューブは、ブロック８０Ａの面８２Ａおよび８４Ａに接続され得る。廃棄物または真空チューブ５０Ａおよび５１Ａは、プラットフォーム６０Ａ、離間部９２および基板２からの流体および小さな粒子状物質を、廃棄物容器または機器１から分離した他の場所へと引き出すために用いられる。図２を参照すると、廃棄物チューブ５１Ａおよび５１Ｂは、廃棄物チューブの先端で、分離した真空源２２０および２２１、ならびに廃棄物容器２３０および２３１に接続され得る。代替的には、図４に示すように、２つ以上の廃棄物チューブが、単一の真空源および同一の廃棄物容器に接続されてもよい。廃棄物チューブ５０Ａおよび５０Ｂは、ピンチバルブ９０Ａおよび９０Ｂをそれぞれ通って延伸し得る。
【０１０９】
吸引を与えるための真空源または他の吸引源（例えば、真空ポンプ２２０および／または２２１）は、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂ、離間部９２および基板２から廃棄物容器２３０および２３１内に流体を引き出すために、廃棄物チューブ５０Ａ、５０Ｂ、５１Ａおよび５１Ｂの１つまたは２つ以上に接続されてもよい。廃棄物チューブ内に加えられる真空力は、基板２とプラットフォームとの間の離間部が１００〜２００ミクロンである場合に流体を除去するための充分な吸引力を提供するために、平方インチあたり（「ｐｓｉ」）−１〜−１０ポンドと同等であってもよい。一般に、本明細書において用いられる場合「負」圧とは、機器１内または機器１を取り囲む環境内の周囲圧力よりも小さい圧力のことをいう。例えば、いくつかの実施形態において、機器１を取り囲む環境は、約１気圧の周囲空気圧を有する。「負」圧は、この周囲空気圧よりも小さい圧力のことをいう（例えば、流体に加えられる−１ｐｓｉの圧力は、流体に働く周囲空気圧、１ｐｓｉよりも小さい圧力である）。−０．１ｐｓｉ〜−１４ｐｓｉまでの範囲（例えば、−６ｐｓｉ）や、それよりも大きい範囲の他の真空力は、離間部内に存在する流体のあらゆる表面張力に打ち勝ち、離間部中ならびに基板および試料上の全ての残りの流体を除去するのに充分であるという条件の下、用いられてもよい。また、離間部から流体を排出するために真空力を加える直前に、基板２の近位エッジを、試料処理位置から１５〜３５ミクロンの距離だけ上昇させてもよい。この、基板２とプラットフォーム６０との間の離間部の増加は、真空段階中の、離間部９２のあらゆる残りの流体の排出を向上し得る。
【０１１０】
いくつかの実施形態において、制御システム５は、試料処理中の流体除去の頻度および加えられる真空力を変更するように構成される。図１１Ａは、基板から余分な流体を除去するための一連のステップを特徴付けるフローチャート９００を示す。固定段階に続いて、例えば、制御システム５は、ステップ９０２においてピンチバルブ９０Ａおよび／または９０Ｃを開放でき、廃棄物チューブ（例えば、廃棄物チューブ５０Ａおよび５１Ａ）に−５ｐｓｉの真空量を５秒間与え得る。この期間の間、固定剤はポート４０Ａおよび４１Ａを通って離間部、基板およびプラットフォームから除去される（ステップ９０４）。流体はステップ９０６において廃棄物チューブを通って移動し、ステップ９０８において１つまたは２つ以上の廃棄物容器（例えば、容器２３０および／または２３１）内に置かれる。排出期間が終了すると、制御システム５は、ピンチバルブ９０Ａ、９０Ｃの１つまたは２つ以上に、ステップ９１０において廃棄物チューブ５０Ａおよび／または５１Ａを閉鎖するように指示してもよく、それにより真空２２０〜２２１によるさらなる排出を防ぐ。制御システム５は、各固定段階の後に、この流体除去ステップを繰り返すように機器１を指示し得る。
【０１１１】
図１１Ｂは、基板から余分な流体を除去するための代替的な一連のステップを特徴付けるフローチャート１０００を含む。フローチャート１０００における方法は、廃棄物チューブをシールするためにピンチバルブを用いない。代わりに、流体塗布段階の後、吸引源２２０および／または２２１はステップ１００２で初期化され、ステップ１００４でアクティブ状態に入る。吸引源は、廃棄物チューブ５０Ａおよび／または５１Ａに−３ｐｓｉの真空力を４秒間加え、ステップ１００６において、ポート４０Ａおよび４１Ａを通して離間部９２、基板２およびプラットフォーム６０Ａから流体を除去する。排出された流体はステップ１００８において廃棄物チューブ５０Ａおよび／または５１Ａを通って移動し、ステップ１０１０において１つまたは２つ以上の廃棄物容器２３０、２３１に置かれる。機器１はこの流体除去ステップを、各流体塗布段階の後に繰り返してもよい。流体除去ステップの頻度および流体除去ステップ中に加えられる圧力を変更することにより、機器１は生物学的試料の最適な固定、染色および洗浄を達成し得る。
【０１１２】
ピンチバルブ９０Ａ、９０Ｂ、９０Ｃおよび９０Ｄは、図１に示すように廃棄物チューブ５０Ａ、５０Ｂ、５１Ａおよび５１Ｂを閉鎖する。ピンチバルブ９０Ａ〜９０Ｄは、バルブ内に収容されるか、バルブの外部にあるアクチュエータを通して、機械的、電気的、液圧または空気圧で作動され得る。ピンチバルブ９０Ａ〜９０Ｄは、廃棄物チューブ５０Ａ、５０Ｂ、５１Ａおよび５１Ｂを通る流体の流れを妨げるために動作する。例えば、満杯の廃棄物容器２３０を機器１から交換するか、または空にする場合、廃棄物チューブに存在する残りの流体の漏出を防ぐためにピンチバルブ（９０Ａ〜９０Ｄ）を閉鎖することが望ましい場合がある。異なるバルブの種類や、クランプやストッパなどの他の機構も、廃棄物チューブ５０Ａ、５０Ｂ、５１Ａおよび５１Ｂを閉鎖するために機器１の実施形態と共に用いられ得る。
【０１１３】
洗浄段階
洗浄剤溶液は、１つまたは２つ以上の洗浄段階において、機器１を用いる試料処理中に塗布され得る。例えば、固定段階の間、染色段階の間、および／または、固定段階と染色段階との間に、基板２上の試料３、離間部９２およびプラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂから残りの、および／または、余分な流体を除去することが望ましい場合がある。本発明のシステムおよび方法に適合する洗浄剤溶液は、蒸留水、緩衝水溶液、有機溶媒、および緩衝を伴うかまたは伴わない、水性溶媒および有機溶媒の混合物を含む。試料を調製するために用いられ得る洗浄剤溶液の付加的な製剤は、例えば、米国仮特許出願第６１／５０５，０１１号明細書に開示される。
【０１１４】
図１２は、試料を洗浄するための一連のステップを特徴付けるフローチャート１１００を含む。ステップ１１０２において、ポンプ（例えば、ポンプ２０３Ａ）は、リザーバ（例えば、リザーバ２１３Ａ）から洗浄剤チューブ（例えば、洗浄剤チューブ５５Ａ）内に洗浄溶液を導く。ステップ１１０４において、洗浄溶液はブロック８０Ａに接続されるポート４５Ａに入る。ステップ１１０６において、洗浄溶液はポート４５Ａの出力チャネルを通ってプラットフォーム６０Ａ上に流れ、ステップ１１０８において、洗浄溶液は基板２とプラットフォーム６０Ａとの間の離間部９２に入る。ステップ１１１０において、試料３の洗浄が行われる。最後に、ステップ１１１２において、真空源２２０、２２１は離間部９２および基板２から洗浄溶液を除去するために廃棄物チューブ５０Ａおよび５１Ａの１つまたは２つ以上に吸引力を加え、洗浄溶液は廃棄物容器２３０および／または２３１に搬送される。
【０１１５】
いくつかの実施形態において、制御システム５は、例えば毎秒７０マイクロリットルの流速で、例えば５秒という期間の間洗浄溶液を加えるようにポンプ２０３Ａを指示し得る。固定段階と同様に、制御システム５は、各洗浄段階の継続時間および流速、ならびに洗浄段階の数を変更してもよい。また制御システム５は、試料処理中に、１つまたは２つ以上の洗浄段階の配置を調整してもよい。制御システム５は例えば、全ての固定段階の完了後に洗浄段階が一度起こり、全ての染色段階の完了後に第２洗浄段階が起こるように指示し得る。代替的には、洗浄段階は２つ以上の固定段階の間、または２つ以上の染色段階の間に挿入されてもよい。
【０１１６】
撹拌段階
特定の実施形態において試料処理は、固定、染色、および／または洗浄段階中に、固定剤、染色剤、および／または洗浄液を離間部９２、試料３を含む基板２およびプラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂを横切って分散させるために、１つまたは２つ以上の撹拌段階を含んでいてもよい。図１３は、試料を撹拌するための一連のステップを特徴付けるフローチャート１２００を含んでいる。図３Ａに示されるアクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂは、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂに対して基板２の位置を変更するために、精密な動作調整を提供し得る。
【０１１７】
制御システム５は、アクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂに撹拌段階を開始させるよう指示するための、ソフトウェアおよび／またはハードウェアを含み得る。アクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂは、制御システムからの撹拌開始命令のさいに、基板アーム２０Ａおよび／または２０Ｂを上下に移動させるように構成され得る。撹拌段階は、所定数の撹拌サイクルにわたって繰り返され得る。「撹拌サイクル」という語は、本明細書で用いられる場合、開始位置から上向き方向の動作であって、上向き方向とは反対の下向き方向への移動へと続く動作のことをいう。いくつかの実施形態において、１つまたは２つ以上の撹拌サイクルは、各サイクルの最後、または少なくともいくつかのサイクルの最後に、基板２を開始位置へと戻す。特定の実施形態において、基板２は、撹拌サイクルのいくつかまたは全ての終わりに開始位置に戻らないが、各サイクルはそれでも上向きの動作と、それに続く下向きの動作を含んでいる。アクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂは通常、制御システム５からアクチュエータへ停止命令が送信されるまでは、１つまたは２つ以上の撹拌サイクルにおいて基板２を移動させ続ける。撹拌段階は、基板２とプラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂの表面との間の離間部の大きさ（離間距離）を一時的に増加させ、その後基板を試料処理位置へと戻す。また、撹拌段階は、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂに対して角度のある位置と、試料処理位置との間で基板２を移す一連の動作を含み得る。プラットフォームと基板２との間の離間部に供給される流体の表面張力は、基板が撹拌段階注に試料処理位置から移動すると基板上の流体分子の再分配を引き起こし、試料を横切る流体分配を有利に改善し得る。
【０１１８】
撹拌段階中にプラットフォームに対して基板２を移動させるために、他の方法も用いられ得る。例えば、いくつかの実施形態において、オフセット７０Ａ〜Ｄおよび／または７１Ａ〜Ｄの１つまたは２つ以上の位置（例えば、オフセットが、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂの表面の上部に延伸している量）は、試料３を撹拌するために迅速に調整され得る。特定の実施形態において、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂの位置は、試料３の撹拌を引き起こすために調整され得る。例えば、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂは、試料３の撹拌を引き起こすために、交互に上下に移動させられ得る（例えば、上述の基板２の動作方向に応じて）。
【０１１９】
いくつかの実施形態において、基板アームが後述のように撓む材料で作られている場合、アクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂがオフセット７０Ａ〜Ｄおよび／または７１Ａ〜Ｄに向かって基板２を駆動する程度を変更することによって、試料３の撹拌がもたらされ得る。時間を関数とした基板アーム中の歪みの変動を検出することによって、基板２に加えられる撹拌の頻度を測定および調整するために、歪みゲージが用いられてもよい。
【０１２０】
図１３を参照すると、第１のステップ１２０２において、撹拌段階が開始される。ステップ１２０４において、制御システム５は、アクチュエータ３０Ａに撹拌サイクルを開始するように指示する。この指示に応じて、アクチュエータ３０Ａはステップ１２０６において基板２を上向きに回転させ、基板２とプラットフォーム６０Ａとの間の距離を増加させる。その後、ステップ１２０８において、アクチュエータ３０Ａは基板２をプラットフォーム６０Ａに向けて下向きに回転させ、基板とプラットフォーム６０Ａとの間の距離を減少させる。決定ステップ１２１０において、撹拌段階が継続されるべきである場合、制御はステップ１２０４へと戻り、アクチュエータ３０Ａによる基板２の回転が別の撹拌サイクルにおいて再び生じる。撹拌段階が終了されるべきである場合、制御はステップ１２１０からステップ１２１２へとうつり、基板２は撹拌が完了した状態で初期位置へと戻される。
【０１２１】
撹拌段階は、アクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂを通して加えられる１つまたは２つ以上の撹拌サイクルを含み得る。さらに撹拌段階は、固定段階、染色段階、および／または、洗浄段階のそれぞれの間で変動する頻度で、固定段階、染色段階、および／または、洗浄段階のそれぞれの間に、一度または複数回存在し得る。例えば、図３Ａを参照すると、アクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂは、基板２の近位エッジを、試料処理位置から３５ミクロンの距離だけ垂直方向に上昇させ、続いて基板２を試料処理位置に戻すことを３回、すなわち各固定、染色および洗浄段階の後に１度行ってもよい。アクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂは、各撹拌サイクルを２秒で完了してもよい（例えば、基板２の近位エッジを、試料処理位置から３５ミクロンの距離だけ垂直方向に上昇させるのに１秒、基板を試料処理位置に戻すのに１秒）。機器１は、各撹拌サイクルおよび／または段階に対して撹拌頻度および距離を変更するために、指示を実行することが可能である。例えば、撹拌段階は、基板２の近位エッジを試料処理位置から５ミクロンの距離だけ垂直方向に上昇させ、その後、基板を試料処理位置に戻すことを、毎秒１０〜２０回行うアクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂを含んでいてもよい。
【０１２２】
代替的な撹拌距離および頻度の組み合わせも用いられ得る。例えば、いくつかの実施形態において、撹拌距離は、５ミクロン以上である（例えば、１５ミクロン以上、２５ミクロン以上、５０ミクロン以上、１００ミクロン以上、１５０ミクロン以上、２００ミクロン以上、２５０ミクロン以上、３００ミクロン以上、５００ミクロン以上、７００ミクロン以上、１ｍｍ以上）。例えば、特定の実施形態において、撹拌距離は３５ミクロン〜３５０ミクロンである。
【０１２３】
いくつかの実施形態において、撹拌サイクルの頻度は、毎秒１サイクルまたは２サイクル以上である（例えば、毎秒２サイクル以上、毎秒３サイクル以上、毎秒４サイクル以上、毎秒５サイクル以上、毎秒７サイクル以上、毎秒１０サイクル以上）。
【０１２４】
付加的な撹拌技術も用いられ得る。例えば、いくつかの実施形態において、基板把持部２０Ａおよび／または２０Ｂは、図１および３に示されるアクチュエータ３０Ａおよび／または３０Ｂの回転軸に垂直な軸周りで基板を回転させるアクチュエータを含んでいてもよい。
【０１２５】
代替的には、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂは、固定、染色および洗浄段階中に１つまたは２つ以上のオフセット７０Ａ〜Ｄおよび／または７１Ａ〜Ｄを上昇または下降させるためのオフセット調整装置を備えられてもよい。オフセット調整装置を実装するために、プラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂは、プラットフォームの内部プレートに取り付けられるオフセットを含み得る。プレートの高さは、内部アクチュエータを用いて変更されてもよく、これはすなわちオフセットの高さを変更する。代替的には、基板２に対するオフセット７０Ａ〜Ｄおよび７１Ａ〜Ｄの位置は、アクチュエータにプラットフォーム６０Ａおよび／または６０Ｂ、またはブロック８０Ａおよび／または８０Ｂを移動させ、それにより撹拌段階中の離間距離を変更するように指示することによって変更され得る。制御システム５は、従来の染色および調製技術と比較して顕著に少ない流体体積を試料調製処理中に用いて、試料をより効率的に処理するために、流体サイクルの頻度、流速、オフセット高さ、離間距離、ならびに撹拌パラメータおよび頻度を調整し得る。
【０１２６】
いくつかの実施形態においては、試料処理位置の基板がプラットフォームから延伸する２つのオフセットに対してのみ接し、アクチュエータまたは他の動力エレメントが、スライドが４つのオフセット全てに対して接するまでスライドをさらにプラットフォームに向かって回転させ得るように、基板アームは撓む材料により作られてもよい。これら２つの位置の間で基板の位置を変更することにより、試料処理中の充分な撹拌が達成され得る。基板アームは、基板アーム中の歪みを監視するために歪みゲージを含んでいてもよく、これは制御システム５に、プラットフォームのオフセットに対する基板の位置を知らせるために用いられてもよい。また、制御システムは、基板の厚さの不完全性に応じた情報を含んでいてもよく、これは試料処理位置に基板を配置するとき、または撹拌段階中に、制御システムにより考慮されてもよい。
【０１２７】
特定の実施形態において、本明細書に開示される撹拌ステップのいくつかまたは全ては、プラットフォーム６０Ａ／６０Ｂおよび／またはオフセット７０Ａ〜Ｄ／７１Ａ〜Ｄに対して基板２を移動させることなく実施され得る。すなわち、基板２上の試料とプラットフォームとの間に導入された流体は、基板またはプラットフォームのいずれをも移動させることなく、例えば、プラットフォームおよび基板が互いに対して平行または略平行に保持された状態で撹拌または再び新鮮にされ得る。いくつかの実施形態において、新鮮な流体が基板上の可能な限り多くの試料細胞と接触することを確実にするために、流体は、本明細書に開示されるポンプ（例えば、ポンプ２００Ａ／Ｂ、および／または、２０１Ａ／Ｂ、および／または、２０２Ａ／Ｂ、および／または、２０３Ａ／Ｂ）を用いることによって撹拌または再び新鮮にされ、流体を閉鎖位置で基板２とプラットフォーム６０Ａ／６０Ｂとの間の隙間に導入し、その後再び隙間が埋められて、付加的な少量の流体、例えば最初に導入されている体積と同一かそれ以下の体積の流体を、プラットフォーム６０Ａ／６０Ｂの一端にある１つまたは２つ以上の流体入口または搬送ポートから隙間へと導入するので、最初の流体のいくらかまたは全ては、隙間から押し出され、新たな流体が代わりに隙間にある。この処理は複数回繰り返されてもよい（例えば、２回、３回、４回、５回または６回以上）。
【０１２８】
特定の実施形態において、試料は、すでに基板とプラットフォームとの間の隙間または離間部に供給されている流体を撹拌するのではなく、試料（例えば、基板２上の）およびプラットフォームを横切る流体の連続した流れまたは脈動流を用いて、および／または、試料およびプラットフォームを横切って移動する流体の繰り返される流れのサイクルを用いて、調製され得る。例えば、流体は、プラットフォームの一端に位置付けられる１つまたは２つ以上の流体入口または搬送ポートを通して、隙間または離間部へと供給され得る。同時または直後に、他方の端部（流入ポートに対して、および／または、プラットフォーム６０Ａ／Ｂの側）に位置付けられる１つまたは２つ以上の真空ポート（例えば、ポート２２０および／または２２１）または真空桶に、真空力が加えられ得る。同時に起こる供給および真空作用は、基板およびプラットフォームの試料領域を横切る流体の、連続した、または脈動の（律動的または非律動的な）流れを生じ得る。流体供給の流速と、真空源からの流体抜き取りの速度との適切なバランスを用いて、流体の流れは、試料の所望の固定、染色および／または洗浄を達成するために制御または変更され得る。
【０１２９】
様々な実装に対する供給流速は、毎秒約２０〜約２５０マイクロリットルの範囲まで及んでいてもよく、真空力は、約−１ｐｓｉ〜約−１０ｐｓｉの範囲まで及んでいてもよい。連続した流れの調製の代替として、流体供給および流体抜き取りのステップは、後続の流れのサイクル（例えば、２サイクル、３サイクル、４サイクル、５サイクル、６サイクル以上）を生じさせるために交互に配置されてもよく、それぞれ、試料を固定、染色または洗浄するために、流体供給および抜き取りステップを含んでいる。上記の実装を含む本明細書に開示される実施形態にいずれかにおいて、重力がプラットフォームを横切る流体の流れを補助するように、プラットフォーム６０Ａ／Ｂは、流体供給入口の端部から、プラットフォームの反対側の端部に位置付けられる真空ポートに向かって、わずかな下方向への傾斜を有していてもよい。傾斜は、約２、３、４または５度〜約４５度以上の範囲まで及んでいてもよく、例えば、約１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０または４５度である。
【０１３０】
乾燥段階
特定の実施形態において、制御システム５は、機器１に取り付けられる乾燥機４を用いて試料を乾燥し得る。図１４は、試料を乾燥するための一連のステップを特徴付けるフローチャート１３００を含んでいる。染色段階および他の段階（例えば、１つまたは２つ以上の洗浄段階）の完了が確認されている初期ステップ１３０２に続いて、ステップ１３０４において乾燥機４は、試料を横切って空気の流れを導く。乾燥処理はステップ１３０６においても、制御ユニットから乾燥を停止させる信号が受信されるまで継続する。信号が受信されると、乾燥機は試料を横切る空気の流れを停止し、乾燥段階はステップ１３０８で終了する。
【０１３１】
一般に、機器１は、試料３を乾燥させるために、空気の温度、流速、空気の流れが与えられる継続時間、試料処理中の段階を変更するように制御され得る。例えば、染色段階完了後、乾燥機４は、約華氏１２０度の空気の流れを、毎分１０リットルの速度で７秒間試料を横切るように導いてもよい。別の空気温度（例えば、華氏３００度までの周囲温度）、空気流速（例えば、毎分１リットル〜毎分１００リットル）、および空気流れの期間（例えば、数秒から数分）も用いられ得る。
【０１３２】
試料試験システム
機器１を含む、本明細書に開示される自動化された試料調製機器および装置は、一般に、その内容全体が参照により本明細書に組み込まれる、米国特許出願第２００９／０２６９７９９号明細書に開示されるような、より大きな試料試験システムと共に用いられてもよいし、および／または、その中に組み込まれてもよい。例えば、図１５は、試料試験システム２０００の１つの可能性のある実施形態を示す概略図を示す。システム２０００は、プラットフォーム２１００、受光装置２２００、コンピュータ２３００、塗布装置２４００、気体循環装置２５００、光源２６００、供給装置２８００、排出装置２９００、スライドラベラー３０００、およびスライドラベル読み取り装置３１００を含んでいる。前進器２１１０は、１つまたは２つ以上のスライドまたは基板２７００を受け取るように構成される。前進器２１１０は、プラットフォームの表面、例えば上面２１０１に取り付けられ得る。前進器２１１０は、ベルト状であってもよく、システムは、基板に装着された試料をプラットフォームの表面２１０１に沿って移動させるために、機械アーム、重力、磁力、流体力学、ギヤ、または他の移動技術を用いてもよい。
【０１３３】
プラットフォーム２１００は、スタックまたはラックから、またはスタックまたはラックへ、基板２７００（例えば、スライド）をそれぞれ供給および回収するために、供給器２１０２および回収器２１０６も含んでいてもよい。供給器２１０２は、試料を前進器２１１０上に押し出すために、供給器推進機構２１０３（ゴム引きホイールなど）を備えられてもよい。代替的には、基板２７００を把持し、基板を前進器上に直接配置するために、機械アームが用いられ得る。基板を供給器２１０１の外へ推進する代替的な機構としては、磁石や流体力学が用いられてもよい。供給器は、いくつのスライドが存在しているかを判定するためにセンサを含んでいてもよい。センサは、例えばいくつのスライドが存在しているかを判定するために、基板２７００の重さを測定し得る。回収器２１０６も、いくつのスライドが存在しているかを判定するためにセンサを含んでいてもよい。センサは、あらかじめ設定された数の試料が分析されるとコンピュータ２３００に知らせ、および／または、断続的に基板上に装着される試料の受け取りをコンピュータに知らせるように構成され得る。
【０１３４】
受光装置２２００は、顕微鏡（明視野顕微鏡など）、ビデオカメラ、スチルカメラ、または光を受ける他の光学装置であってもよい。標準の明視野顕微鏡を含む実施形態は、自動化されたステージ（例えば、基板移動装置２２０１）および自動化されたフォーカスも含み得る。いくつかの実施形態において、顕微鏡は、電動ステージおよびフォーカスモータ付属品に取り付けられ得る。顕微鏡は、異なる倍率のレンズがコンピュータ２３００の制御下で選択されることを可能にするための電動ノーズピースを有していてもよい。コンピュータ２３００が、光路において狭帯域のカラーフィルタを自動的に選択できるように、フィルタホイールが用いられ得る。ＬＥＤ照明がフィルタに置きかえられてもよく、ＬＥＤの使用は、フィルタホイールの回転に必要な時間と比べて、像取得時間を減少し得る。例えば、１６００×１２００ピクセルのファイアワイヤ（登録商標）（ＩＥＥＥ１３９４高性能シリアルバス）カメラが、狭帯域の像を取得するために用いられ得る。
【０１３５】
いくつかの実施形態において、受光装置２２００は、基板２７００から反射した光を受け、反射光により形成される１つまたは２つ以上の像を記憶する。代替的または付加的に、いくつかの実施形態において、基板上の試料からの蛍光発光は、受光装置２２００により検出され得る。
【０１３６】
特定の実施形態において、受光装置２２００は、基板上の試料の透過像を取得するように構成される。例えば、発光源２６００は、プラットフォームの下部に配置されてもよく、光がプラットフォーム２１００および基板２７００を通して受光装置２２００内に導いてもよい。
【０１３７】
受光装置２２００および図１５に示される任意の他の構成要素は、構成要素にエネルギーを与え、コンピュータ２３００から構成要素に指示を与え、および／または、構成要素がコンピュータ２３００に情報を送信することを可能にする、リンク（２０１１〜２０１４）を通してコンピュータ２３００に適合され得る。リンク２０１１〜２０１４は、有線リンクであってもよいし、無線リンクであってもよい。
【０１３８】
受光装置２２００は、Ｘ、ＹおよびＺ軸方向の動作が可能であってもよい（他の実施形態においては、電動ステージまたは基板移動装置２２０１がＸ、ＹおよびＺ動作を提供してもよい）。受光装置２２００は、コンピュータ２３００が受光装置２２００を適切な場所に配置することを可能にするために、パン、チルト、および／または移動アクチュエータを含み得る。受光装置２２００は、入射光をフォーカスするレンズ２２１０を含み得る。
【０１３９】
受光装置２２００は、白黒および／またはカラーの像を捉えるように選択され得る。いくつかの実施形態においては、像の取得に関連する処理時間を分担するために、２つ以上の受光装置が用いられ得る。例えば、低倍率の撮像ステーションの後に、高倍率の撮像ステーションが続いてもよい。同様にいくつかの実施形態においては、基板上または基板の特定の部分の細胞の全てまたはほとんどの、１つまたは２つ以上の像の捕捉および記憶を確実にするために、システム２０００、プラットフォーム２１００、コンピュータ２３００、および／または、受光装置２２００は、基板２７００を移動させるために基板移動装置２２０１を指示し得る。
【０１４０】
コンピュータ２３００は、ラップトップ、サーバ、ワークステーション、または任意の他の種類のコンピュータデバイスであってもよい。コンピュータは、ディスプレイ２３２０、インターフェース２３１０、および内部メモリおよび／またはディスクドライブを含み得る。コンピュータ２３００は、メモリや、コンピュータが読み取り可能な、光学ドライブなどの有形媒体に記憶されるソフトウェアも含み得る。ソフトウェアは、コンピュータに、受光装置２２００、塗布装置２４００、気体循環装置２５００、プラットフォーム２１００、前進器２１１０、光源２６００、供給器２４５０および／または２８００、試料調製機器１、またはこれらの構成要素の１つの中にあるか、１つに接続される任意の構成要素を作動させるための指示を含んでいてもよい。同様に、コンピュータは、これらの構成要素のいずれかから情報を受信するように配置される。
【０１４１】
例えば、ソフトウェアは、供給器２１０２からの基板の分散速度を制御してもよく、供給器２１０２はコンピュータに存在する基板の数を知らせ得る。また、コンピュータ２３００は、受光装置２２００により捉えられる像の分析の実施も担っていてもよい。分析処理を通して、コンピュータは、特定の血液体積中の特定の種類の細胞の数、例えば、赤血球、白血球および血小板数、ならびに、ヘモグロビン量、赤血球形態学、または白血球数差分などの、全血量の他の測定および誘導される構成要素を計算するために配置および制御され得る。像分析ソフトウェアは、各フィールドを分析し、赤血球数および白血球数の総数を計算し得る。特定の血液サンプル中のマイクロリットルあたりの合計数を計算するために、スライド上で計数された数は、希釈率およびサブサンプルの体積を乗じられ得る。数、形態学測定、およびスライドからの赤血球および白血球の像の結果は、ディスプレイ２３２０上に示され得る。
【０１４２】
いくつかの実施形態において、コンピュータ２３００は、モニタ上に表示される血球の像を用いて、数字データ、細胞集団ヒストグラム、散布図および細胞形態学の直接的な評価を表示するように構成される。細胞形態学を表示する能力は、システム２０００のユーザに、経験豊富な技術者または他の専門家による手動のレビューのための付加的なスライド作製を認可し得る、細胞形態学の異常の有無を素早く確立する能力を提供する。ソフトウェアは、受光装置から受信した像２３３１を表示するためにコンピュータに指示を与えてもよいし、ディスプレイ２３３０に、像の分析の結果２３３２（例えば、チャートやグラフで）を示させてもよい。同様に、コンピュータ２３００は、特定の血液体積中の特定の種類の細胞の数や、特定の血液体積中の損傷細胞、がん性細胞または溶解細胞の数を数えるように制御され得る。ソフトウェアはコンピュータが、分析処理を実施することを可能にする。コンピュータは分析中、１つまたは２つ以上の倍率を用いてもよい。
【０１４３】
１つの構成要素として示されているが、コンピュータ２３００は、複数のコンピュータを含んでいてもよく、第１コンピュータはシステム２０００の構成要素を制御するために用いられてもよく、第２コンピュータは受光装置２２００からの像を処理するために用いられてもよい。コンピュータが情報を共有できるように、様々なコンピュータが一緒にリンクされ得る。コンピュータ２３００は、コンピュータが他のコンピュータに情報を送受信することを可能にするために、ネットワークまたは検査室情報システムにも接続され得る。
【０１４４】
特定の実施形態において、塗布装置２４００は、シリンジ、手動またはモータ駆動のピペッタ、またはチューブを通してピペットチップに取り付けられるモータ制御のポンプを含み得る。塗布装置２４００は、制御された様態で基板２７００に試料を塗布する。塗布装置２４００を用いる特徴、特質および方法は、例えば、米国特許出願公開第２００９／０２６９７９９号明細書に開示される。試料は１つまたは２つ以上の血液成分、細胞、組織または他の生物学的成分を含み得る。
【０１４５】
試料が基板２７００に塗布されると、塗布される試料は、機器１を用いて処理される。機器１は、基板上の試料に１つまたは２つ以上の染色剤、固定剤および／または他の溶液を塗布するために、本明細書に記載されるように機能する。
【０１４６】
いくつかの実施形態においてシステム２０００は、細胞の接触していない列を塗布装置２４００の端から捨てることによって、基板２７００上に置かれる細胞間の最小限の重複を達成するように構成され得る。希釈液の粘度の増加または希釈の種類もしくは量は、塗布装置からの試料の流れの最終的な落ち着き位置の幅に影響し得る。列間の距離を選択して血液サンプル中の典型的な変動を考慮に入れることにより、全ての細胞が全てのサンプル中で計数され得る。
【０１４７】
図１５に示すように分離した装置であってもよいし、上述のように機器１に組み込まれてもよい気体循環装置２５００は、ファンを含んでいてもよいし、および／または、例えばコンプレッサやベローズなどの他の気体移動装置を含んでいてもよい。気体移動装置２５００は、コンピュータ２３００に直接接続されてもよいし、プラットフォーム２１００や塗布装置２４００などの別の構成要素を通して接続されてもよい。気体移動装置は、基板上の物質が乾燥する速度を制御するために、基板を横切って気体（いくつかの場合においては周囲空気）を押し出す。多すぎる空気を速すぎる速度で基板を横切って移動させる（すなわち、ファン速度が速すぎる）と、試料中の細胞は高速な乾燥により破裂し、基板を横切る空気が少なすぎ、速度が遅すぎる（すなわち、ファン速度が遅すぎる）と、細胞の乾燥が遅すぎて縮んで見える。
【０１４８】
コンピュータ２３００は、基板からの気体移動装置の距離、分析されている流体の種類、流れの幅、気体（例えば、空気）の温度、および流れの平均の厚さに基づき、一定期間で基板を横切って移動する空気の量（すなわち、毎秒立方フィートまたは立方センチメートルの空気）を選択および制御し得る。気体移動装置２５００は、装置が、気体が約１５〜２０秒の期間、３０°〜６０°（例えば、４５°）の角度で基板に当たるように配置され得る。いくつかの実施形態において、コンピュータ２３００は、乾燥処理が気体移動装置２５００の使用なしに生じることを可能にするために、システムの近くで湿度および温度設定を制御し得る。
【０１４９】
発光装置２６００およびその様々な構成要素は、例として、米国特許出願公開第２００９／０２６９７９９号明細書に記載される。様々な波長の光が発光装置２６００により生成でき、受光装置２２００により検出できる。例えば、４１５ｎｍなどの波長は、ＲＢＣ形態学およびヘモグロビン量を評価するために、ヘモグロビンのみの像を取得するのに有用である。６００ｎｍで発せられる光は、血小板および核に関して高いコントラストを示すのに有用であり得る。好塩基球、単球、リンパ球（全て青色の色合い）、好酸球（赤色）および好中球（中間色）の色彩を最もよく区別するために、他の波長が選択されてもよい。
【０１５０】
実施例
本開示は以下の実施例によりさらに説明されるが、これは請求の範囲に記される本発明の範囲を制限することは意図されていない。
【０１５１】
実施例１
図１６は、基板上に装着される試料を処理するめの一連の例示的なステップを示すフローチャート１４００である。フローチャート１４００のステップは、試験のための生物学的試料を調製するのに用いられ得る。この処理の記載は時には特定の範囲を有する特定のステップのことを指すか、および／または、特定の順次で生じるステップを開示するが、この記載は非制限的な例としてのみ意図されている。図１６を参照すると、機器１は、処理ステップ中に様々な機器の構成要素の動作を命令するために制御システム５に接続される。試料開始ステップにおいて、血液のアリコートからの赤血球、白血球および血小板を含む生物学的試料３は、ガラスの顕微鏡スライドで構成される基板２に塗布される。これは、同時係属の米国特許出願公開第２００８／０１０２００６号明細書に記載されるステーションの１つまたは２つ以上など、異なるステーションを用いて実施され得る。位置づけステップ１４０２において、試料３を含む基板２は、図１に示されるように基板アーム１０Ａの基板把持部２０Ａ上に位置づけられる。制御システム５は、吸引源２２２に基板把持部２０Ａから空気を排出するように指示する（ステップ１４０４）。吸引ポート２１および２２を通して加えられる吸引（ステップ１４０６）は、試料処理の間、基板２を基板把持部２０Ａに付着させる。制御システム５は、アクチュエータ３０Ａに、図１に示す開放位置から図３Ａに示す試料処理位置まで基板３を回転するように指示する（ステップ１４０８）。試料処理位置において、試料３はプラットフォーム６０Ａの表面に面する一方で、基板２は図２に示すオフセット７０Ａ〜Ｄに対して接する。オフセットは、基板２がプラットフォーム６０Ａの表面に接触することを防ぐ。この例示的な処理において、基板２の試料を含む表面とプラットフォーム６０Ａの表面との間の離間部９２は、約１００ミクロンである。
【０１５２】
固定段階（ステップ１４１２、図１０も参照）の間、ポンプはステップ１４１４において試料３に固定剤を塗布する。図２に示す流体チューブ５４Ａに接続されるポンプ２００Ａは、チューブ５４Ａを通して固定剤リザーバ２１０からポート４４Ａの外に、プラットフォーム６０Ａ上へ、試料３を含む基板２上へ、およびプラットフォーム６０Ａと基板２との間の離間部９２内へ、メタノールを含む固定剤を推進させる。ポンプ２００Ａは、毎秒７０リットルの流速で２秒の期間Ｔ１の間ポート４４Ａからメタノールを推進させるので、合計で１４０リットルのメタノールＶ１を、試料３を含む基板２上へ導く。
【０１５３】
次に、第１攪拌ステップ１４１６において、制御システム５は、試料処理位置から３５ミクロンの距離だけ垂直方向に基板２の近位エッジを上昇させるようアクチュエータ３０Ａを指示し（ステップ１４１８）、基板をその試料処理位置に戻すことによって、基板を攪拌する。機器１は、この攪拌ステップをさらに４回繰り返す。機器１は、図１７に示すように、５回の攪拌動作を約１０秒、Ｔ２で完了する。攪拌後、制御システムは、真空または排出ステップ１４２０を開始する。−５ｐｓｉの真空力が、１、５秒、Ｔ３の間加えられ、離間部内、プラットフォーム上、または基板上に存在する全ての残りのメタノールを、ポート４０Ａおよび４１Ａを介して排出する（ステップ１４２２）。排出されたメタノールは、廃棄物容器２３０および／または２３１に回収される。
【０１５４】
固定段階に続いて、制御システム５は第１染色段階を開始する（ステップ１４２４）。その際に、制御システム５は、試料を染色するように機器１を導く（ステップ１４２６）。図２および図１１のフローチャートを参照すると、流体チューブ５２Ａに接続されるポンプ２０１は、染色剤リザーバ２１１Ａからポート４２Ａの外に、プラットフォーム６０Ａ上へ、試料３を含む基板２上へ、およびプラットフォーム６０Ａと基板２との間の離間部９２内へ、フルオレセイン系色素を推進させる。ポンプ２０１は、毎秒７０マイクロリットルの流速で２秒間、Ｔ４の間フルオレセイン系色素を、ポート４２Ａを通して供給し、それにより１４０マイクロリットルの色素Ｖ２を基板上に導く。
【０１５５】
試料３にフルオレセイン系色素を塗布した後、機器１は、ステップ１４３０において基板２の近位エッジを試料処理位置から３５ミクロンの距離だけ垂直方向に上昇させ、その後基板を試料処理位置に戻すようにアクチュエータ３０Ａを導くことによって、第２攪拌ステップ１４２８を実施する。制御システム５は、機器１に、この攪拌ステップをさらに２回繰り返させて、図１７に示すように、約６秒の期間Ｔ５にわたって３回の攪拌を完了する。
【０１５６】
次に、ステップ１４３２において第２の真空または排出段階が開始される。ポート４０Ａおよび／または４１Ａ、および廃棄物チューブ５０Ａおよび５１Ａを介して、離間部９２内またはプラットフォームおよび基板上に存在する全ての残りのフルオレセイン系色素を排出するために、−５ｐｓｉの真空力が３秒間加えられた。排出されたフルオレセイン系色素は、廃棄物容器２３０Ａおよび／または２３１Ａに回収される。
【０１５７】
試料をフルオレセイン系色素により染色した後、機器１は、チアジン系色素を用いてステップ１４３６において第２染色段階を開始する。流体チューブ５３Ａに接続されるポンプ２０２は、ポート４３Ａを通して染色剤リザーバから、プラットフォーム６０Ａ上へ、基板２上へ、およびプラットフォーム６０Ａと基板２との間の離間部９２内へ、チアジン系色素を推進させる（ステップ１４３８）。機器１は、毎秒７０マイクロリットルの流速で２秒間、Ｔ７の間ポート４３Ａを通してチアジン系色素を供給し、それにより合計で１４０マイクロリットルのチアジン系色素、Ｖ３を、基板上に導く。
【０１５８】
試料３に染色剤を塗布した後、機器１は、ステップ１４４０において試料処置位置から３５ミクロンの距離だけ基板２の近位エッジを上昇させ（ステップ１４４２）、その後試料３を含む基板をその試料処理位置へと戻すことにより、第３撹拌ステップを開始する。機器１は、この撹拌ステップをさらに３回繰り返す。機器は約８秒、Ｔ８の期間にわたって４回の撹拌動作を完了する。
【０１５９】
第３の真空または排出段階がその後開始される。ステップ１４４６において撹拌後、ポート４０Ａおよび／または４１Ａ、および廃棄物チューブ５０Ａおよび５１Ａを介して、離間部中またはプラットフォーム６０Ａおよび基板２上に存在する残りのチアジン系色素を排出するために、−５ｐｓｉの真空力が２秒間加えられる。排出されたチアジン系色素は、廃棄物容器２３０Ａおよび／または２３１Ａに回収される。
【０１６０】
機器１はその後、２つの洗浄−撹拌−真空段階のシーケンスを実施する。第１の段階のシーケンスは、制御システム５が機器１に第１洗浄段階を開始するように指示すると開始される。蒸留水の洗浄溶液を含むリザーバ２１３Ａは、ポンプ２０３および流体チューブ５５Ａに接続される。ポンプ２０３は、ステップ１４５０において試料３を洗浄するために、ポート４５Ａ内、離間部９２内、およびプラットフォーム６０Ａおよび基板２上に流れ込む洗浄チューブ５５Ａを通して蒸留水を導く。代替的にいくつかの実施形態においては、洗浄流体は流体ポート４２Ａ〜４５Ａの２つ以上を通して導かれる。ポンプ２０３は、毎秒７０マイクロリットルの流速で、２秒、Ｔ１０の間ポート４５Ａから蒸留水を導くので、合計で１４０マイクロリットル、Ｖ４の水を、試料を含む基板上へ導く。
【０１６１】
次に、制御システム５はステップ１４５２において第４撹拌段階を開始し、試料処理位置から３５ミクロンの距離だけ基板２の近位エッジを垂直方向に上昇させ、基板をその試料処理位置へと戻すようにアクチュエータ３０Ａを導く（ステップ１４５４）。制御システム５は、この撹拌段階を繰り返し、２つの撹拌を約４秒、Ｔ１１で完了するように機器１を導いてもよい。
【０１６２】
その後、ステップ１４５６において真空または排出段階が開始される。ステップ１４５８において、５．５秒、Ｔ１２の間加えられる−５ｐｓｉの真空力は、撹拌後、ポート４０Ａおよび／または４１Ａ、および廃棄物チューブ５０Ａおよび５１Ａを介して、離間部９２内またはプラットフォーム６０Ａおよび基板２上に存在する残りの蒸留水を排出する。
【０１６３】
その後、ステップ１４６０において、制御システム５は、第２洗浄段階を開始させることにより、第２の洗浄−撹拌−真空段階のシーケンスを開始するように機器１を導く。第２洗浄段階（ステップ１４６０、１４６２）、第５撹拌段階（ステップ１４６４、１４６６）、および第５真空段階（ステップ１４６８、１４７０）は、第１の洗浄−撹拌−真空段階に関して上述した方法と同一の方法で実施される。第２の洗浄−撹拌−真空段階の間、洗浄流体の量、Ｖ５、および処理時間Ｔ１３、Ｔ１４およびＴ１５は、概して、第１の洗浄−撹拌−真空段階のシーケンスと同一である。
【０１６４】
試料が固定され、フルオレセイン系色素およびチアジン系色素により染色され、洗浄された後、機器１は、ステップ１４７２において乾燥段階を開始する。乾燥器４は、試料を横切って、毎秒１０リットルの流速で８秒間、Ｔ１６の間、約１２０度の空気流を導く（ステップ１４７４）。
【０１６５】
これらのステップの完了後、基板２はステップ１４７６においてその最初の位置へと戻される。このステップにおいてアクチュエータ３０Ａは、図１に示す試料処理位置から解放位置へと基板２を回転させる。基板２はその後、基板移動装置によって除去され、新たな試料を処理するために新たな基板が位置付けられ得る。
【０１６６】
実施例２
図１に関して上述された処理ステップは、本発明の他の実施形態において以下のように調整されてもよい。なお、以下の例示的な処理ステップにおいては、米国仮特許出願第６１／５０５，０１１号明細書に開示される固定剤、染色剤および洗浄溶液の製剤が用いられ得る。
【０１６７】
第１固定段階（ステップ１４１２、図１０も参照）の間、ポンプは、ステップ１４１４において試料３に固定剤溶液を付加する。図２に示される流体チューブ５４Ａに接続されるポンプ２００Ａは、チューブ５４Ａを通してポート４４Ａの外、プラットフォーム６０Ａ上、基板２上、およびプラットフォーム６０Ａと基板２との間の離間部９２内へ、固定剤リザーバ２１０からメタノールを含む固定剤溶液を推進させる。ポンプ２００Ａは、毎秒１１５マイクロリットルの流速で２秒間、Ｔ１の間固定剤溶液を推進させるので、合計で２３０マイクロリットルの固定剤溶液、Ｖ１を、基板２上へ導く。
【０１６８】
次に、第１撹拌ステップ１４１６において制御システム５は、試料処置位置から３５ミクロンの距離だけ基板２の近位エッジを垂直方向に上昇させ、試料をその試料処理位置へと戻すようにアクチュエータ３０Ａを導く（ステップ１４１８）ことによって基板を撹拌する。機器１は、この撹拌ステップをさらに５回繰り返す。機器１は、約１２秒で６回の撹拌動作を完了する。撹拌後、制御システムは真空ステップ１４２０を開始する。−５ｐｓｉの真空力が、１．５秒、Ｔ３の間加えられ、ポート４０Ａおよび／または４１Ａ、および廃棄物チューブ５０Ａおよび５１Ａを介して、離間部内、プラットフォーム上、または基板上に存在する全ての残りの固定剤溶液を排出する（ステップ１４２２）。排出された固定剤溶液は、廃棄物容器２３０および／または２３１に回収される。
【０１６９】
その後、第２撹拌ステップを含む第２固定段階において、上述の第１固定段階のステップおよび第１撹拌ステップが繰り返される。
【０１７０】
固定段階に続いて、制御システム５は第１染色段階を開始する（ステップ１４２４）。その際、制御システム５は、試料を染色するように機器１を導く（ステップ１４２６）。図２および図１１のフローチャートを参照すると、流体チューブ５２Ａに接続されるポンプ２０１は、エオシンＹを含む第１染色剤溶液を、染色剤リザーバ２１１Ａから、ポート４２Ａの外、プラットフォーム６０Ａ上、試料３を含む基板２上、およびプラットフォーム６０Ａと基板２との間の離間部９２内に推進させる。ポンプ２０１は、毎秒１１５マイクロリットルの流速で２秒間、Ｔ４の間、第１染色剤溶液を、ポート４２Ａを通して供給するので、２３０マイクロリットルの第１染色剤溶液、Ｖ２を、基板上に導く。
【０１７１】
試料３に第１染色剤溶液を付加した後、機器１は、ステップ１４３０において、試料処置位置から３５ミクロンの距離だけ基板２の近位エッジを垂直方向に上昇させ、その後試料をその試料処理位置へと戻すようにアクチュエータ３０Ａを導くことによって、第２撹拌ステップ１４２８を実施する。制御システム５は、機器１に、この撹拌ステップをさらに２回実施させ、図１７に示すように約６秒間、Ｔ５で３回の撹拌を完了させる。
【０１７２】
次に、ステップ１４３２において第２真空段階が開始される。ステップ１４３４において３秒間、Ｔ６の間加えられる−５ｐｓｉの真空力は、ポート４０Ａおよび／または４１Ａ、および廃棄物チューブ５０Ａおよび５１Ａを介して、離間部９２内またはプラットフォームおよび基板上に存在する全ての残りの第１染色剤溶液を排出する。排出された第１染色剤溶液は、廃棄物容器２３０Ａおよび／または２３１Ａに回収される。
【０１７３】
エオシンＹを含む第１染色剤溶液による試料の染色後、機器１は、アズールＢおよびメチレンブルーを含む第２染色剤溶液を用いて、ステップ１４３６において第２染色段階を開始する。流体チューブ５３Ａに接続されるポンプ２０２は、染色剤リザーバからポート４３Ａを通して、プラットフォーム６０Ａ上、基板２上、およびプラットフォーム６０Ａと基板２との間の離間部９２内に、第２染色剤溶液を推進させる（ステップ１４３８）。機器１は、毎秒１１５マイクロリットルの流速で２秒間、Ｔ７の間ポート４３Ａを通して第２染色剤溶液を供給するので、合計で２３０マイクロリットルの第２位染色剤溶液、Ｖ３を、基板上に導く。
【０１７４】
染色剤を試料３に付加した後、機器１は、ステップ１４４０において、試料処置位置から３５ミクロンの距離だけ基板２の近位エッジを垂直方向に上昇させ（ステップ１４４２）、その後試料３をその試料処理位置へと戻すようにアクチュエータ３０Ａを導くことによって、第３撹拌段階をステップ１４４０において開始する。機器１は、この撹拌ステップをさらに２回繰り返す。機器は、約６秒間、Ｔ８で、３回の撹拌動作を完了する。
【０１７５】
第３真空ステップ１４４４はその後開始される。離間部内またはプラットフォーム６０Ａおよび基板２上に存在する残りの第２染色剤溶液を、ステップ１４４６において、撹拌後、ポート４０Ａおよび／または４１Ａ、および廃棄物チューブ５０Ａおよび５１Ａを介して排出するために、−６ｐｓｉの真空力が２秒間、Ｔ９の間加えられる。排出された第２染色剤溶液は、廃棄物容器２３０Ａおよび／または２３１Ａに回収される。
【０１７６】
機器１はその後、２つの洗浄−撹拌−真空段階のシーケンスを実施する。第１の段階のシーケンスは、制御システム５が機器１に第１洗浄段階を開始するように指示すると、ステップ１４４８で開始される。洗浄溶液を含むリザーバ２１３Ａは、ポンプ２０３および流体チューブ５５Ａに接続される。ポンプ２０３は、ステップ１４５０において試料３を洗浄するために、ポート４５Ａ内、離間部９２内、およびプラットフォーム６０Ａおよび基板２上に流れ込む洗浄チューブ５５Ａを通して洗浄溶液を導く。代替的にいくつかの実施形態においては、洗浄流体は流体ポート４２Ａ〜４５Ａの２つ以上を通して導かれる。ポンプ２０３は、毎秒１１５マイクロリットルの流速で、２秒、Ｔ１０の間ポート４５Ａの外に洗浄溶液を導くので、合計で２３０マイクロリットル、Ｖ４の水を、基板上へ導く。
【０１７７】
次に、制御システム５はステップ１４５２において第４撹拌段階を開始し、試料処置位置から３５ミクロンの距離だけ基板２の近位エッジを垂直方向に上昇させ、試料をその試料処理位置へと戻すようにアクチュエータ３０Ａを導く（ステップ１４５４）。制御システム５は、この撹拌段階をさらに３回繰り返し、４つの撹拌を約８秒、Ｔ１１で完了するように機器１を導いてもよい。
【０１７８】
その後、ステップ１４５６において真空段階が開始される。ステップ１４５８において、５．５秒、Ｔ１２の間加えられる５ｐｓｉの真空力は、撹拌後、ポート４０Ａおよび／または４１Ａ、および廃棄物チューブ５０Ａおよび５１Ａを介して、離間部９２内またはプラットフォーム６０Ａおよび基板２上に存在する残りの洗浄溶液を排出する。
【０１７９】
その後、ステップ１４６０において、制御システム５は、第２洗浄段階を開始させることにより、第２の洗浄−撹拌−真空段階のシーケンスを開始するように機器１を導く。第２洗浄段階（ステップ１４６０、１４６２）、約１２秒で完了する６回の撹拌を含む第５撹拌段階、および第５真空段階（ステップ１４６８、１４７０）は、第１の洗浄−撹拌−真空段階に関して上述した方法と同一の方法で実施される。第２の洗浄−撹拌−真空段階の間の、洗浄流体の量、Ｖ５、および処理時間Ｔ１３、Ｔ１４およびＴ１５は、概して、第１の洗浄−撹拌−真空段階のシーケンスと同一である。また、真空段階の直前に、アクチュエータ３０Ａは、試料処理位置から１５〜３５ミクロンの距離だけ基板２の近位エッジを上昇させる。この、基板２とプラットフォーム６０との間の増加された離間部は、最後の真空段階中の、離間部９２内の全ての残りの流体の排出を改善する。
【０１８０】
試料が固定され、エオシンＹを含む第１染色剤溶液およびアズールＢおよびメチレンブルーを含む第２染色剤溶液により染色され、洗浄された後、機器１は、ステップ１４７２において乾燥段階を開始する。乾燥器４は、試料を横切って、毎秒１０リットルの流速で８秒間、Ｔ１６の間、約１２０度の空気流を導く（ステップ１４７４）。
【０１８１】
これらのステップの完了後、基板２はステップ１４７６においてその最初の位置へと戻される。このステップにおいてアクチュエータ３０Ａは、図７に示す試料処理位置から解放位置へと基板２を回転させる。基板２はその後、基板移動装置によって除去され、新たな試料を処理するために新たな基板が位置付けられ得る。
【０１８２】
上述の例示的な試料処理ステップに示されるように、本明細書に開示されるシステムおよび方法は、自動および手動の試料調製技術を含む従来の試料処理方法と比較して、より少ない試薬を消費することにより、より効率的な試料処理をもたらす。実施例２を参照すると、機器１は、例示的な処理ステップ中に試料を固定、染色および洗浄するために消費した試薬は、１．５ミリリットル未満であった（例えば、４８０マイクロリットルの固定剤溶液＋２３０マイクロリットルの第１染色剤溶液＋２３０マイクロリットルの第２染色剤溶液＋４６０マイクロリットルの洗浄溶液＝１，３８０マイクロリットルの試薬）。いくつかの実施形態では、試料処理中に、１，３８０マイクロリットルよりも多いか、または少ない流体が用いられてもよい。例えば、試料の処理に用いられる流体量は、約１，１５０マイクロリットル（例えば、洗浄段階の１つを除外することにより）であってもよいし、１，０００マイクロリットルより少なくてもよい（例えば、さらに固定段階の１つを除外することにより）。
【０１８３】
実施例１に関して図１７を参照すると、機器１は、例示的な処理ステップ中に試料を固定、染色および洗浄するために、１ミリリットルよりも少ない試薬を消費した（例えば、１４０マイクロリットルのメタノール固定剤＋１４０マイクロリットルのフルオレセイン系色素＋１４０マイクロリットルのチアジン系色素＋２８０マイクロリットルの洗浄溶液＝７００マイクロリットルの試薬）。いくつかの実施形態においては、試料処理中に、７００マイクロリットルよりも多いか、または少ない流体が用いられてもよい。例えば、試料の処理に用いられる流体量は、約５６０マイクロリットルであってもよい（例えば、洗浄段階の１つを除外することにより）。
【０１８４】
一般に、消費される合計流体量は、５００マイクロリットル以上であり（例えば、５２０マイクロリットル以上、５４０マイクロリットル以上、５６０マイクロリットル以上、５８０マイクロリットル以上、６００マイクロリットル以上、６５０マイクロリットル以上、７００マイクロリットル以上、７５０マイクロリットル以上）、および／または、２ｍＬ以下であり得る（例えば、１．５ｍＬ以下、１．４ｍＬ以下、１．３ｍＬ以下、１．２ｍＬ以下、１．１ｍＬ以下、１．０ｍＬ以下、９００マイクロリットル以下）。
【０１８５】
図１７および実施例１を参照すると、試料調製処理は、１分をわずかに超えて完了される（例えば、固定段階中に経過する１３．５秒＋フルオレセイン系色素段階中に経過する１１秒＋チアジン系色素段階中に経過する１２秒＋洗浄段階中に経過する２３秒＋乾燥段階中に経過する８秒＝６７．５秒の合計経過時間）。特定の実施形態では、試料調製は、例えば図２のように、６７．５秒より長くてもよいし、または短くてもよい。例えば、試料調製は、１８０秒未満で完了可能である（例えば、１５０秒以下、１２０秒以下、９０秒以下、８０秒以下、７０秒以下、６０秒以下、５０秒以下、４０秒以下）。
【０１８６】
さらに、上述の例示的な処理は、単一の試料に対する処理時間を記載しているが、複数の基板を処理するためのシステムおよび方法（例えば、２つの基板を処理するように構成される図１の機器１、および／または、３つ以上の基板を処理するように構成されるシステム）は、１時間につき１００を超える試料を処理することが可能である（例えば、１時間につき６０〜１２０の試料）。本明細書に開示されるシステムおよび方法を検査室設定において用いると、試料あたりに基づくスループットがより高速となる一方で、流体（例えば、固定剤、染色剤および洗浄流体）の消費は、従来の自動システムおよび手動の試料処理技術と比較して減少される。
【０１８７】
他の実施形態
本発明は詳細な説明と併せて記載されてきたが、上述の記載は例示を意図されており、添付の特許請求の範囲により定められる本開示の範囲を制限することは意図されていない。他の態様、利点および変更も、以下の特許請求の範囲内にある。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８Ａ】
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【図１８Ｂ】
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