(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マーキング対象物を保持し搬送させるワーク保持搬送部と、
前記マーキング対象物に向けて第１のスポット径でマーキングを行う第１マーキングユニットと、
前記マーキング対象物に向けて前記第１のスポット径とは異なる第２のスポット径でマーキングを行う第２マーキングユニットと、
前記マーキング対象物に設定した第１プリマーキングエリアに向けて前記第１マーキングユニットを用いてマーキングした第１プリマーキングパターン及び前記マーキング対象物に設定した第２プリマーキングエリアに向けて前記第２マーキングユニットを用いてマーキングした第２プリマーキングパターンを撮像するプリマーキングパターン撮像部と、
前記第１プリマーキングパターン及び前記第２プリマーキングパターンのマーキング位置を検出するプリマーキング位置検出部と、
前記第１プリマーキングパターン及び前記第２プリマーキングパターンのマーキング基準位置を登録するプリマーキング基準位置登録部と、
前記第１プリマーキングパターンのマーキング位置の検出結果と前記第１プリマーキングパターンのマーキング基準位置とを比較して当該第１プリマーキングパターンの位置ずれ量の補正計算を行う、第１マーキング位置ずれ補正計算部と、
前記第２プリマーキングパターンのマーキング位置の検出結果と前記第２プリマーキングパターンのマーキング基準位置とを比較して当該第２プリマーキングパターンの位置ずれ量の補正計算を行う、第２マーキング位置ずれ補正計算部を備えた、
マーキング装置。
【請求項２】
前記第１マーキングユニットは、前記第１マーキング位置ずれ補正計算部で得られた前記第１プリマーキングパターンの位置ずれ量の補正計算結果に基づいてマーキングを行い、
前記第２マーキングユニットは、前記第２マーキング位置ずれ補正計算部で得られた前記第２プリマーキングパターンの位置ずれ量の補正計算結果に基づいてマーキングを行う
ことを特徴とする、請求項１に記載のマーキング装置。
【請求項３】
前記第１マーキングユニット及び前記第２マーキングユニットが、レーザ方式のマーキングユニットであることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のマーキング装置。
【請求項４】
前記第１マーキングユニット及び前記第２マーキングユニットが、インクジェット方式のマーキングユニットであることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のマーキング装置。
【請求項５】
前記第１マーキングユニット及び前記第２マーキングユニットが、露光転写方式のマーキングユニットであることを特徴とする、請求項１又は請求項２に記載のマーキング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加工対象物に文字や図形、所定パターン等を、マーキング（或いは、パターニング、描画、単に加工とも言う）する、いわゆるマーキング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、レーザ光を２次元方向に走査し、半導体デバイスや液晶ディスプレイ用基板、電子部品などの被加工物上に文字や図形をマーキングするレーザマーキング装置が知られている（例えば、特許文献１）。レーザマーキング装置では、所定のスポット径に設定された状態で、１本のレーザ光を被加工物に照射してマーキングを行っている。
【０００３】
さらに、１台のレーザユニットから放射される１本のパルスレーザ光を、複数の光路に振り分けて加工を行うレーザ加工装置が提案されている（例えば、特許文献２）。
【０００４】
また、レーザ印字をする際にスポット径を小さく変更して、線幅が細くサイズの小さい微小印字が可能なレーザマーキング装置が提案されている（例えば、特許文献３）。
【０００５】
また、薄膜太陽電池のレーザスクライブ装置では、複層の機能膜から構成される加工対象物に対し、各層毎に所定パターンのレーザ加工が行われているが、下層と上層との位置的相関を維持するために、下層パターンのアライメントマークや加工パターンの位置を撮像し、下層パターンの変形や位置ずれ量を考慮し、位置補正して上層にレーザを照射する技術が提案されている（例えば、特許文献４）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００５−６６６１１号公報
【特許文献２】特開２００５−７４４７９号公報
【特許文献３】特開２００９−２８５６９３号公報
【特許文献４】特開２０１０−２１９１７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、所定のスポット径に設定された１台のマーキング装置を用いる場合、より微細なパターンを形成するには限界がある。つまり、微細なマーキングパターンに対応すべく、スポット径を小さく設定してしまうと、単位時間あたりに加工できる面積が減少してしまい、微細なパターン描画はできるが、加工時間がかかりすぎてしまう。
【０００８】
また、１つのレーザ光源から複数のレーザ光を複数の光路に振り分けてマーキングしても時間短縮にならず、１つのレーザ光源から照射されるスポット径を変更してマーキングしたとしても、時間短縮には限界がある。
【０００９】
さらに、複数のマーキングユニットを用い、マーキング位置を替えて重ね合わせマーキングを行う形態の場合、個々のマーキングユニットのアライメントが経時的に変化し、位置ずれや、重ね合わせ不良の要因となる。また、先にマーキングされたパターンの位置ずれが著しいと、後でマーキングするパターンが補正しきれず、所望の重ね合わせ精度が維持できなくなる。
【００１０】
そこで、本発明は、マーキング対象物に設定した加工範囲が広くても、短時間かつ高精細なパターニングが可能で、位置ずれや重ね合わせ不良の発生を防ぐ、マーキング装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
以上の課題を解決するために、本発明に係る形態は、
ワーク保持搬送部と、第１マーキングユニットと、第２マーキングユニットと、プリマーキングパターン撮像部と、プリマーキング位置検出部と、プリマーキング基準位置登録部と、第１マーキング位置ずれ補正計算部と、第２マーキング位置ずれ補正計算部を備えた、マーキング装置である。
【発明の効果】
【００１２】
マーキング対象物に設定した加工範囲が広くても、短時間かつ高精細なパターニングが可能で、位置ずれや重ね合わせ不良の発生を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】ワークに対して予め規定された各マーキングパターンと、各マーキングエリアと位置関係を示す平面図である。
【図２】本発明を具現化する形態の一例の全体構成を示す概略図である。
【図３】本発明を具現化する形態の一例における動作フローを示すステップ図である。
【図４】本発明を具現化する形態の別の一例の全体構成を示す概略図である。
【図５】ワークに対して予め規定された２分割したマーキングパターンと、各マーキングエリアと位置関係を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、本発明を実施するための具体的な形態について、図を用いながら説明する。
以下の説明では、マーキング対象物の一例として、矩形状の樹脂材料を例示する（以下、単にワークＷと呼ぶ）。なお、各図においては、直交座標系の３軸をＸ、Ｙ、Ｚとし、ＸＹ平面を水平面、Ｚ方向を鉛直方向とする。Ｘ方向は、矢印の方向をワーク搬送方向と表現する。Ｚ方向は、矢印の方向を上とし、その逆方向を下と表現する。
【００１５】
図１は、ワークに対して予め規定された各マーキングパターンと、各マーキングエリアと位置関係を示す平面図である。
図１には、ワークＷに対して予め規定されたマーキングパターンＰＴ、第１プリマーキングパターンＰＭ１及び第２プリマーキングパターンＰＭ２、並びに、破線で示すワークＷ上に規定された領域である第１プリマーキングエリアＰＲ１、第２プリマーキングエリアＰＲ２、第１プリマーキングパターンのマーキング基準位置ＰＦ１及び第２プリマーキングパターンのマーキング基準位置ＰＦ２の位置関係が、それぞれ示されている。なお、ここでは、１つのワークＷ上に、２つの同じマーキングパターンＰＴをマーキングする形態について示されている。また、この２つの同じマーキングパターンＰＴは、２つのマーキングパターンＰＴ１，ＰＴ２を重ね合わせマーキングすることで形成される。
【００１６】
図２は、本発明を具現化する形態の一例の全体構成を示す概略図である。
図２には、ワークＷに向けて予め規定された第１プリマーキングパターンＰＭ１及び第２プリマーキングパターンＰＭ２をマーキングし、それぞれのマーキング位置を撮像し、それぞれの位置ずれ補正を行ない、ワークＷに対して予め規定されたマーキングパターンＰＴの情報に基づいて、ワークＷに向けてレーザビームを照射することによりマーキングを行う様子が示されている。具体的には、ワークＷは、透明なＰＥＴ樹脂を基材とし、その基材の上に銅箔層が形成されたものが例示できる。このワークＷに対してレーザビームを照射することで、銅箔層が除去される。つまり、所定のパターンでレーザ照射された後に残った部分が、基材上の銅配線として機能する。
【００１７】
また、詳細は後述するが、マーキングパターンＰＴを重ね合わせマーキングするために、ワークＷを第１〜第３マーキング位置ＰＯ１〜ＰＯ３に移動させて、それぞれの位置でマーキングパターンＰＴ１，ＰＴ２をマーキングしている。そして、図２には、ワークＷが第２マーキング位置ＰＯ２にて静止している状態で、プリマーキング・撮像・マーキングされる様子が示されている。
【００１８】
本発明に係るマーキング装置１Ａは、ワークＷに対して、予め規定された第１マーキングパターンＰＴ１の情報に基づいて第１マーキングユニット３Ａを用いてレーザマーキングを行うと共に、予め規定された第２マーキングパターンＰＴ２の情報に基づいて第２マーキングユニット３Ｂを用いてレーザマーキングを行うものである。第１マーキングパターンＰＴ１の情報及び第２マーキングパターンＰＴ２の情報は、マーキングパターンＰＴの情報と、第１マーキングユニット３Ａ及び第２マーキングユニット３Ｂの各マーキングのスポット径などの情報に基づいて、予め生成されている。そして、第１マーキングパターンＰＴ１及び第２マーキングパターンＰＴ２を重ね合わせマーキングすることで、ワークＷ上には所望のマーキングパターンＰＴが形成される。つまり、第１マーキングパターンＰＴ１で除去加工されず、第２マーキングパターンＰＴ２でも除去加工がされなかった部分が、銅配線パターンとして基材上に残る。
【００１９】
本発明に係るマーキング装置１Ａは、ワーク保持搬送部２と、第１マーキングユニット３Ａと、第２マーキングユニット３Ｂと、プリマーキングパターン撮像部４と、プリマーキング位置検出部５と、プリマーキング基準位置登録部６と、第１マーキング位置ずれ補正計算部７Ａと、第２マーキング位置ずれ補正計算部７Ｂと、マーキングコントローラＭＣを備えて構成されている。
【００２０】
ワーク保持搬送部２は、ワークＷを保持し搬送させるものである。具体的には、ワーク保持搬送部２は、テーブル２０と、テーブル駆動部２５を備えて構成されている。
【００２１】
テーブル２０は、ワークＷと接する面（つまり、上面）が平坦あり、ワークＷと接する一部分に細孔や細溝が設けられている。そして、これら細孔や細溝は、切り替えバルブなどを介して、外部の負圧発生手段と接続されている。この負圧発生手段は、ワークＷが載置されたテーブル２０の細孔や細溝に負圧を発生させるためのものであり、真空ポンプやエジェクタなどが例示できる。テーブル２０は、この様な構成をしているため、マーキング対象物であるワークＷを、平坦な状態で保持することができる。なお、テーブル２０は、上述の細孔や細溝を備えた構造に限らず、多孔質材料を用いてワークＷを負圧吸引できる構成しても良い。
【００２２】
テーブル駆動部２５は、テーブル２０をＸ方向に移動させ静止させるものである。具体的には、テーブル駆動部２５は、電動アクチュエータ、空気圧シリンダや油圧シリンダを組み合わせたものが例示できる。より具体的には、テーブル駆動部２５は、Ｘ方向に延びるレールと、その上を所定の方向・速度で移動し所定の場所で静止するＸ軸スライダーとで構成されている。そして、Ｘ軸スライダーは、外部からの制御信号に基づいてモータの制御を行うことにより、或いは外部からの制御信号に基づいて圧力バルブを切り替えることにより、所定の場所（例えば、後述する第１〜第３マーキング位置ＰＯ１〜ＰＯ３など）に移動させ、静止させることができる。
【００２３】
第１マーキングユニット３Ａは、ワークＷに向けて第１のスポット径でマーキングを行うものである。具体的には、第１マーキングユニット３Ａは、予め規定された第１マーキングパターンＰＴ１のマーキング情報に基づいて、ワークＷ上に規定された領域である第１マーキングエリアＭＲ１内の所定位置に対して、所定の文字や図形、所定パターン等をマーキングするものである。また、第１マーキングユニット３Ａは、予め規定された第１プリマーキングパターンＰＭ１のマーキング情報に基づいて、ワーク上に規定された領域である第１プリマーキングエリアＰＲ１内の所定位置に対して、所定の文字や図形、所定パターン等の第１プリマーキングパターンＰＭ１をマーキングするものでもある。
【００２４】
より具体的には、第１マーキングユニット３Ａは、レーザ方式の場合、レーザダイオードやレーザ発振器と呼ばれるレーザ光源部と、ガルバノミラーユニットと呼ばれるビームスキャナ部とを備えて構成されている。レーザ光源部は、外部からの制御信号に基づいてレーザ光線をパルス照射又は連続照射するものである。ビームスキャナ部は、外部からの制御信号に基づいて、ガルバノミラーの角度を変更制御するものである。なお、第１マーキングユニット３Ａは、上記構成の他、結像レンズと、Ｚ軸スキャナ又はＦθレンズと呼ばれるマーキング加工面でのビームスポットの焦点位置ズレを補正する機構を備えた構成としておく。また、第１マーキングユニット３Ａは、必要に応じて、レーザ光源部とビームスキャナ部との間に、ビームエキスパンダやアッテネータなどを備えた構成としても良い。このとき、第１マーキングユニット３Ａは、装置フレーム（図示せず）等を介してワークＷと対向配置させている。
【００２５】
なお、第１マーキングユニット３Ａは、第１のスポット径（例えば、後述する第２のスポット径よりも大きい）で、ワークＷに対して、第１マーキングパターンＰＴ１と第１プリマーキングパターンＰＭ１をマーキングするように設定されている。
【００２６】
第２マーキングユニット３Ｂは、ワークＷに向けて第１のスポット径とは異なる第２のスポット径（ここでは、第１のスポット径よりも小さい）でマーキングを行うものである。つまり、第１マーキングユニット３Ａは、大面積のマーキング領域をより短い時間内でマーキングするのに対し、第２マーキングユニット３Ｂは、第１マーキングユニット３Ｂでマーキングできなかった微小なパターンを緻密にマーキングするものである。
【００２７】
具体的には、第２マーキングユニット３Ｂは、予め規定された第２マーキングパターンＰＴ２の情報に基づいて、ワークＷ上に規定された領域である第２マーキングエリアＭＲ２内の所定位置に対して、所定の文字や図形、所定パターン等をマーキングするものである。また、第２マーキングユニット３Ｂは、予め規定された第２プリマーキングパターンＰＭ２のマーキング情報に基づいて、ワーク上に規定された領域である第２プリマーキングエリアＰＲ２内の所定位置に対して、所定の文字や図形、所定パターン等の第２プリマーキングパターンＰＭ２をマーキングするものでもある。
【００２８】
なお、第２マーキングユニット３Ｂは、第１マーキングユニット３Ａと基本的な構成は、スポット径に関する構成（例えば、レーザ発振器の出力・発信周波数・照射パルスの周波数、ビームエキスパンダーのレンズ位置・曲率・口径、ガルバノミラーの大きさ、Ｆθレンズの位置・曲率・口径、結像レンズの位置・曲率など）以外は同じであるため詳細な説明を省略する。
【００２９】
また、上述では、第１のスポット径を大きく、第２のスポット径を小さく設定する形態を例示したが、逆の状態に設定しても良い。
【００３０】
プリマーキングパターン撮像部４は、第１プリマーキングパターンＰＭ１及び第２プリマーキングパターンＰＭ２を撮像するもである。具体的には、プリマーキングパターン撮像部４は、撮像カメラ４１と、レンズ（図示せず）と、観察用照明（図示せず）とを備えて構成されている。また、プリマーキングパターン撮像部４は、ワークＷ上に規定された領域である第１プリマーキングエリアＰＲ１及び第２プリマーキングエリアＰＲ２、並びに、その周辺部の画像を撮像するように構成されている。そして、この撮像カメラ４１は、撮像した画像に対応した映像信号や映像データを外部機器へ出力することができる。
【００３１】
なお、第１プリマーキングパターンＰＭ１は、後述するプリマーキング基準位置登録部６に登録された、第１プリマーキングパターンのマーキング基準位置ＰＦ１を目標にマーキングされるものである。また、第２プリマーキングパターンＰＭ２は、後述するプリマーキング基準位置登録部６に登録された、第２プリマーキングパターンのマーキング基準位置ＰＦ２を目標にマーキングされるものである。
【００３２】
プリマーキング位置検出部５は、第１プリマーキングパターンＰＭ１及び第２プリマーキングパターンＰＭ２のマーキング位置を検出するものである。具体的には、プリマーキング位置検出部５は、画像処理部ＩＭの一部により構成することができる。画像処理部ＩＭは、コンピュータと画像処理ボードを組み合わせたものや画像処理ユニットと呼ばれるハードウェアと、その実行プログラム（つまり、ソフトウェア）により構成されている。画像処理部ＩＭは、画像入力部ＶＩを備え、この画像入力部ＶＩは、プリマーキングパターン撮像部４の撮像カメラ４１と接続されており、この撮像カメラ４１から出力された画像に対応した映像信号やデータを入力することができる。そして、プリマーキング位置検出部５では、画像入力部ＶＩに入力された映像信号やデータに基づいて、第１プリマーキングパターンＰＭ１及び第２プリマーキングパターンＰＭ２のマーキング位置を検出する処理が行われる。
【００３３】
プリマーキング基準位置登録部６は、第１プリマーキングパターンＰＭ１及び第２プリマーキングパターンＰＭ２のマーキング基準位置を登録するものである。具体的には、プリマーキング基準位置登録部６は、上述の画像処理部ＩＭのメモリー部により構成することができる。この画像処理部ＩＭのメモリー部としては、フラッシュメモリーやＥＥＰＲＯＭ等の半導体記録媒体の他、ハードディスク等の磁気記録媒体などを例示することができる。
【００３４】
第１マーキング位置ずれ補正計算部７Ａは、第１プリマーキングパターンＰＭ１のマーキング位置の検出結果と、第１プリマーキングパターンのマーキング基準位置ＰＦ１とを比較して、第１プリマーキングパターンＰＭ１の位置ずれ量の補正計算を行うものである。具体的には、第１マーキング位置ずれ補正計算部７Ａは、上述の画像処理部ＩＭの一部により構成することができる。
【００３５】
第２マーキング位置ずれ補正計算部７Ｂは、第２プリマーキングパターンＰＭ２のマーキング位置の検出結果と、第２プリマーキングパターンのマーキング基準位置ＰＦ２とを比較して、第２プリマーキングパターンＰＭ２の位置ずれ量の補正計算を行うものである。具体的には、第２マーキング位置ずれ補正計算部７Ｂは、上述の画像処理部ＩＭの一部により構成することができる。
【００３６】
マーキングコントローラＭＣは、第１マーキングユニット３Ａ及び第２マーキングユニット３Ｂと接続されており、これらのユニットに対してマーキング指令を行うものである。具体的には、ワーク保持搬送部２で搬送されるテーブル２０の位置情報（つまり、ワークＷの位置情報）に基づいて、ワークＷ上の所定の位置にマーキングが行われるよう、指令を行っている。より具体的には、マーキングコントローラＭＣは、第１マーキング位置ずれ補正計算部７Ａ及び第２マーキング位置ずれ補正計算部７Ｂと接続されており、これら補正計算部７Ａ，７Ｂで計算した位置ずれ補正量を加減して、第１マーキングユニット３Ａ及び第２マーキングユニット３Ｂに対してマーキング位置の指令を行っている。
【００３７】
なお、上述の第１マーキングパターンＰＴ１及び第２マーキングパターンＰＴ２は、マーキングコントローラＭＣ本体又はこれに接続された情報記録媒体（メモリーやハードディスクなど）に登録しておく。或いは、マーキングコントローラＭＣと接続された他のコンピュータ等の本体又はこれに接続された情報記録媒体（メモリーやハードディスクなど）に登録しておき、適宜マーキングコントローラＭＣにデータを送信しても良い。
【００３８】
［マーキング動作フロー］
図３は、本発明を具現化する形態の一例における動作フローを示すステップ図である。図３には、本発明に係るマーキング装置１Ａを用いて、ワークＷにマーキングを行う様子が、ステップ毎に示されている。つまり、図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）の順で各動作が行われる。
【００３９】
図３（ａ）には、ワークＷが第１マーキング位置ＰＯ１にある状態で、予め規定された第１プリマーキングパターンＰＭ１のマーキング情報に基づいて、ワーク上に規定された領域である第１プリマーキングエリアＰＲ１内の所定位置に対して、第１マーキングユニット３Ａから、第１プリマーキングパターンＰＭ１が照射され、その直後に、当該第１プリマーキングエリアＰＲ１にマーキングされた第１プリマーキングパターンＰＭ１の位置を、プリマーキングパターン撮像部４で撮像している様子が示されている。
【００４０】
図３（ｂ）には、ワークＷが第１マーキング位置ＰＯ１にある状態で、予め規定された第１マーキングパターンＰＴ１のマーキング情報に基づいて、ワークＷ上に規定された領域である第１マーキングエリアＭＲ１内の所定位置に対して、第１マーキングユニット３Ａを用いてマーキングが行われている様子が示されている。このとき、マーキングユニット３Ａは、第１マーキング位置ずれ補正計算部７Ａで計算された上述の位置ずれ補正計算の結果に基づいて、予め規定された位置にマーキングを行う。
【００４１】
図３（ｃ）には、ワークＷが第２マーキング位置ＰＯ２にある状態で、予め規定された第１プリマーキングパターンＰＭ１のマーキング情報に基づいて、ワーク上に規定された領域である第１プリマーキングエリアＰＲ１内の所定位置に対して、第１マーキングユニット３Ａから、第１プリマーキングパターンＰＭ１が照射され、同時に、予め規定された第２プリマーキングパターンＰＭ２のマーキング情報に基づいて、ワーク上に規定された領域である第２プリマーキングエリアＰＲ２内の所定位置に対して、、第２マーキングユニット３Ｂら、第２プリマーキングパターンＰＭ２が照射され、その直後に、当該第１プリマーキングエリアＰＲ１にマーキングされた第１プリマーキングパターンＰＭ１の位置と、当該第２プリマーキングエリアＰＲ２にマーキングされた第２プリマーキングパターンＰＭ２の位置とを、プリマーキングパターン撮像部４で撮像している様子が示されている。
【００４２】
図３（ｄ）には、ワークＷが第２マーキング位置ＰＯ２にある状態で、予め規定された第１マーキングパターンＰＴ１のマーキング情報に基づいて、ワークＷ上に規定された領域である第１マーキングエリアＭＲ１内の所定位置に対して、第１マーキングユニット３Ａを用いてマーキングが行われており、同時に、予め規定された第２マーキングパターンＰＴ２のマーキング情報に基づいて、ワークＷ上に規定された領域である第２マーキングエリアＭＲ２内の所定位置に対して、第２マーキングユニット３Ｂを用いてマーキングが行われている様子が示されている。このとき、マーキングユニット３Ａは、第１マーキング位置ずれ補正計算部７Ａで計算された上述の位置ずれ補正計算の結果に基づいて、予め規定された位置にマーキングを行う。さらに、マーキングユニット３Ｂは、第２マーキング位置ずれ補正計算部７Ｂで計算された上述の位置ずれ補正計算の結果に基づいて、予め規定された位置にマーキングを行う。
【００４３】
なお、図３（ｃ）（ｄ）に示す第２マーキング位置における撮像及びマーキングの様子は、図２に示した状態に対応している。
【００４４】
図３（ｅ）には、ワークＷが第３マーキング位置ＰＯ３にある状態で、予め規定された第２プリマーキングパターンＰＭ２のマーキング情報に基づいて、ワーク上に規定された領域である第２プリマーキングエリアＰＲ２内の所定位置に対して、、第２マーキングユニット３Ｂら、第２プリマーキングパターンＰＭ２が照射され、その直後に、当該第２プリマーキングエリアＰＲ２にマーキングされた第２プリマーキングパターンＰＭ２の位置を、プリマーキングパターン撮像部４で撮像している様子が示されている。
【００４５】
図３（ｆ）には、ワークＷが第３マーキング位置ＰＯ３にある状態で、予め規定された第２マーキングパターンＰＴ２のマーキング情報に基づいて、ワークＷ上に規定された領域である第２マーキングエリアＭＲ２内の所定位置に対して、第２マーキングユニット３Ｂを用いてマーキングが行われている様子が示されている。このとき、マーキングユニット３Ｂは、第２マーキング位置ずれ補正計算部７Ｂで計算された上述の位置ずれ補正計算の結果に基づいて、予め規定された位置にマーキングを行う。
【００４６】
この様な構成をしているため、本発明に係るマーキング装置１Ａは、第１マーキングユニットと第２マーキングユニットとを用いてワークＷに対してマーキングする際、予め位置ずれ量を補正してからマーキングを行うことができる。その結果、マーキング対象物に設定した加工範囲が広くても、短時間かつ高精細なパターニングが可能で、位置ずれや重ね合わせ不良の発生を防ぐことができる。
【００４７】
［他の形態］
本発明を具現化する上で、上述の形態に限定されず、以下に示す形態であっても良い。本発明に係るマーキング装置１Ｂは、上述したマーキング装置１Ａの変形例であり、マーキングコントローラＭＣを備えていない構成をしている。
【００４８】
図４は、本発明を具現化する形態の一例の全体構成を示す概略図である。図４には、マーキング装置１Ｂの全体構成が示されている。
【００４９】
第１マーキングユニット３Ａは、マーキングコントローラＭＣを用いずに、第１マーキング位置ずれ補正計算部７Ａで得られた第１プリマーキングパターンＰＭ１の位置ずれ量の補正計算結果に基づいてマーキングを行う構成をしている。具体的には、画像処理部ＩＭのデータ出力部ＤＯ１を介して、第１プリマーキングパターンＰＭ１の位置ずれ量の補正計算結果のやりとりが行われる。
【００５０】
第２マーキングユニット３Ｂは、マーキングコントローラＭＣを用いずに、第２マーキング位置ずれ補正計算部７Ｂで得られた第２プリマーキングパターンＰＭ２の位置ずれ量の補正計算結果に基づいてマーキングを行う構成をしている。具体的には、画像処理部ＩＭのデータ出力部ＤＯ２を介して、第２プリマーキングパターンＰＭ２の位置ずれ量の補正計算結果のやりとりが行われる。
【００５１】
なお、この形態の場合、第１マーキングパターンＰＴ１は、第１マーキングユニット３Ａに予め登録しておき、第２マーキングパターンＰＴ２は、第２マーキングユニット３Ｂに予め登録しておく。或いは、第１マーキングパターンＰＴ１及び第２マーキングパターンＰＴ２は、第１マーキングユニット３Ａ及び第２マーキングユニット３Ｂに接続された、情報記録媒体（メモリーやハードディスクなど）や他のコンピュータ等に登録しておいても良い。
【００５２】
この様な構成をしているため、本発明に係るマーキング装置１Ｂは、第１マーキングユニット３Ａと第２マーキングユニット３Ｂとを用いてワークＷに対してマーキングする際、予め位置ずれ量を補正してからマーキングを行うことができる。そのため、マーキング対象物に設定した加工範囲が広くても、短時間かつ高精細なパターニングが可能で、位置ずれや重ね合わせ不良の発生を防ぐことができる。
【００５３】
［バリエーション形態］
なお、上述では、図１に示す様な、一枚のワークＷ上に２つの同じマーキングパターンＰＴ１をマーキング形成する形態について説明したが、これに限定されず、１枚のワークＷ上に１つのマーキングパターンを２分割したマーキングパターンＰＴ−１，ＰＴ−２を予め規定し、それぞれを上述の第１マーキングユニット３Ａ及び第２マーキングユニット３Ｂを用いて、マーキングする形態であっても良い。
【００５４】
図５は、ワークに対して予め規定された２分割したマーキングパターンと、各マーキングエリアと位置関係を示す平面図である。図５には、ワークＷに対して予め規定されたマーキングパターンＰＴ−１，ＰＴ−２、第１プリマーキングパターンＰＭ１及び第２プリマーキングパターンＰＭ２、並びに、破線で示すワークＷ上に規定された領域である第１プリマーキングエリアＰＲ１、第２プリマーキングエリアＰＲ２、第１プリマーキングパターンのマーキング基準位置ＰＦ１及び第２プリマーキングパターンのマーキング基準位置ＰＦ２の位置関係が、それぞれ示されている。
【００５５】
この場合、マーキングパターンＰＴ−１は、第１マーキングユニット３Ａにより第１マーキングパターンＰＴ−１１を、第２マーキングユニット３Ｂにより第２マーキングパターンＰＴ−１２を、それぞれ重ね合わせマーキングすることで形成される。一方、マーキングパターンＰＴ−２は、第１マーキングユニット３Ａにより第１マーキングパターンＰＴ−２１を、第２マーキングユニット３Ｂにより第２マーキングパターンＰＴ−２２を、それぞれ重ね合わせマーキングすることで形成される。
【００５６】
なお、上述の様にＸ方向に２分割した構成に限らず、Ｙ方向に複数の第１マーキングユニット及び第２マーキングユニットを備えた構成とし、広い範囲のマーキングパターンを各々のマーキングユニットを用いて、分割マーキングする形態としても良い。
【００５７】
また、上述では、マーキングの一例として、表面に銅箔層が形成された矩形状のＰＥＴ樹脂材料（ワークＷ）に対して、不要部分を除去加工する形態を例示して説明した。しかし、本発明を具現化する上では、被加工物は上述以外の例えば金属や紙など、他の材料であっても良い。また、上述の除去加工に限らず、レーザ光により変色や変質をさせる加工形態であっても良い。さらに、マーキング対象物は、矩形状に限定されず、円形や他の形状であっても良いし、長尺シートを間欠送りしながらマーキングする形態であっても良い。或いは、長尺シートを連続送りしながらマーキングする形態であっても良い。
【００５８】
なお、上述では、ワーク保持搬送部２は、ワークＷを負圧吸引により保持するテーブル２０及びテーブル駆動部を備えた構成を例示した。しかし、これに限定されず、他の構成により具現化しても良い。例えば、静電チャックと呼ばれる機構を用いた構成としても良い。そうすることで、ワークＷが大気圧中でハンドリングされる形態のみならず、真空チャンバー中でもハンドリングされる形態であっても、本発明を適用することが得きる。
【００５９】
なお、ワークＷが変形しやすい材料・厚みであれば、ワークＷをテーブル２０の様に上面が平坦なもので保持することが好ましい。しかし、ワークＷが変形しにくい材料・厚みであれば、ワーク保持搬送部２は、ワークＷの下面を密着保持する形態に限定されず、グリップフィーダと呼ばれる機構を用いて、ワークＷの端部（例えば、四隅）を把持しつつ、ワークＷＸ方向へ搬送する構成としても良い。このとき、ワークＷが自重でたわまないように、適宜ワークＷの外側に向けて張力がはたらく様にしておくことが好ましい。
【００６０】
なお、上述では、第１マーキングユニット３Ａ及び第２マーキングユニット３Ｂとして、レーザ方式のマーキングユニットを例示して説明した。しかし、本発明を具現化する上では、インクジェット方式や、露光転写方式などマーキングユニットを備えて構成しても良い。
【符号の説明】
【００６１】
１Ａ    マーキング装置
１Ｂ    マーキング装置
２    ワーク保持搬送部
３Ａ  第１マーキングユニット
３Ｂ  第２マーキングユニット
４    プリマーキングパターン撮像部
５    プリマーキング位置検出部
６    プリマーキング基準位置登録部
７Ａ  第１マーキング位置ずれ補正計算部
７Ｂ  第２マーキング位置ずれ補正計算部
４１    撮像カメラ
ＰＴ    マーキングパターン
ＰＴ１  第１マーキングパターン
ＰＴ２  第２マーキングパターン
ＭＲ１  第１マーキングエリア
ＭＲ２  第２マーキングエリア
ＰＦ１  第１プリマーキングパターンのマーキング基準位置
ＰＦ２  第２プリマーキングパターンのマーキング基準位置
ＰＭ１  第１プリマーキングパターン
ＰＭ２  第２プリマーキングパターン
ＰＲ１  第１プリマーキングエリア
ＰＲ２  第２プリマーキングエリア
ＭＣ    マーキングコントローラ
ＩＭ    画像処理ユニット
ＶＩ    画像入力部
ＰＯ１  第１マーキング位置
ＰＯ２  第２マーキング位置
ＰＯ３  第３マーキング位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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