(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
前記基材に直接あるいは間接的に積層されるとともに、所定の閾値温度を跨ぐことにより、可逆的に可視化する示温材料が面状に配置され、かつ、前記示温材料の一部が可視化させる画像パターンに対応づけて不活性化されている特殊不可視材料層と、を備え、
前記閾値温度は、−２０℃〜５℃あるいは４０℃〜６０℃の範囲のいずれかの温度に設定されている、
偽変造防止媒体。
【請求項２】
前記示温材料は、複数の前記閾値温度を有する、
請求項１記載の偽変造防止媒体。
【請求項３】
基材と、前記基材に直接あるいは間接的に積層されるとともに、−２０℃〜５℃あるいは４０℃〜６０℃の範囲のいずれかの温度に設定された所定の閾値温度を跨ぐことにより、可逆的に可視化する示温材料が面状に配置された特殊不可視材料層と、を備えた記録媒体を用いて偽変造防止媒体を作成する偽変造防止媒体作成装置であって、
入力された不可視化対象の画像の画像データに基づいて、前記特殊不可視材料層に形成する特殊不可視画像に対応する不活性化対象画素位置を特定する画素特定部と、
前記特殊不可視材料層における前記不活性化対象画素位置にレーザ光を照射して不活性化させる不活性化部と、
を備えた偽変造防止媒体作成装置。
【請求項４】
前記画素特定部は、温度が前記閾値温度を跨いだ場合に、変色あるいは発色するのを禁止すべき画素の位置を前記不活性化対象画素位置として特定する、
請求項３記載の偽変造防止媒体作成装置。
【請求項５】
前記不活性化部は、ＹＡＧレーザ、ＹＶＯ４レーザ、半導体レーザ、ＣＯ２レーザのうち少なくともいずれか一つを用いて前記レーザ光を照射する、
請求項３又は請求項４記載の偽変造防止媒体作成装置。
【請求項６】
基材と、前記基材に直接あるいは間接的に積層されるとともに、−２０℃〜５℃あるいは４０℃〜６０℃の範囲のいずれかの温度に設定された所定の閾値温度を跨ぐことにより、可逆的に可視化する示温材料が面状に配置された特殊不可視材料層と、を備えた記録媒体を用いて偽変造防止媒体を作成する偽変造防止媒体作成装置で実行される偽変造防止媒体作成方法であって、
入力された不可視化対象の画像の画像データに基づいて、前記特殊不可視材料層に形成する特殊不可視画像に対応する不活性化対象画素位置を特定する過程と、
前記特殊不可視材料層における前記不活性化対象画素位置にレーザ光を照射して不活性化させる過程と、
を備えた偽変造防止媒体作成方法。
【請求項７】
前記不活性化対象画素位置を特定する過程においては、温度が前記閾値温度を跨いだ場合に、変色あるいは発色するのを禁止すべき画素の位置を前記不活性化対象画素位置として特定する、
請求項６記載の偽変造防止媒体作成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、偽変造防止媒体、偽変造防止媒体作成装置及び偽変造防止媒体作成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、蛍光材料等の通常状態では肉眼で視認できない特殊不可視材料により潜像画像を形成する場合、特に潜像画像をオンデマンドで形成する場合には、インクジェットや熱転写等で特殊不可視材料のインクを所望の箇所にパターニングする手法が一般的であった。
また特殊不可視材料としては、紫外光を吸収して可視光を発光する材料(以下、蛍光材料という)を用いることが多かった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−３４８１６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、潜像画像の形成方法として、レーザを用いて潜像画像を形成する方法が提案されている。
このレーザを用いて潜像画像を形成する方法では、一面に塗布（積層）した蛍光材料を第１層とし、その上に紫外光を照射することによって紫外光を非透過性にするフォトクロミック材料を積層して第２層とした情報記録媒体に、所望のパターンに合わせて紫外光を照射することによって第２層を選択的に紫外非透過状態に変化させて特殊画像を形成している。
したがって、第２層である紫外光非透過層を剥がし、別のパターンを記録した紫外線非透過層を積層すれば、蛍光材料で記録した画像が改竄されてしまうという虞があった。
そこで、本発明は、特殊不可視材料を用いて記録された潜像画像の耐改竄性が向上する偽変造防止媒体、偽変造防止媒体作成装置及び偽変造防止媒体作成方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
実施形態の偽変造防止媒体は、基材と、基材に直接あるいは間接的に積層されるとともに、所定の閾値温度を跨ぐことにより、可逆的に可視化する示温材料が面状に配置され、かつ、前記示温材料の一部が可視化させる画像パターンに対応づけて不活性化されている特殊不可視材料層と、を備え、閾値温度は、−２０℃〜５℃あるいは４０℃〜６０℃の範囲のいずれかの温度に設定されている。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は、画像形成システムの概要構成図である。
【図２】図２は、記録媒体の概要断面図である。
【図３】図３は、特殊不可視材料として紫外線蛍光材料を用いた場合の特殊不可視材料層に対する不可視画像形成前後の状態説明図である。
【図４】図４は、実施形態の特殊不可視画像の形成処理の処理フローチャートである。
【図５】図５は、第１実施形態における不可視画像の潜像形成処理の処理フローチャートである。
【図６】図６は、第１実施形態における二値化画像と不活性化対象の画素の説明図である。
【図７】図７は、第２実施形態における不可視画像の潜像形成処理の処理フローチャートである。
【図８】図８は、第２実施形態における二値化画像と不活性化対象の画素の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
次に図面を参照して実施形態について説明する。
図１は、画像形成システムの概要構成図である。
画像形成システム１０は、偽変造防止媒体としての記録媒体１１に形成する画像に対応する元画像に画像処理を施す画像処理装置１２と、画像処理装置１２の画像処理結果に基づいて、記録媒体１１の特殊不可視画像形成部にレーザ光１３を照射して不可視画像を潜像として形成する不活性化処理を行うレーザ照射装置１４と、不可視画像形成時において所定位置に記録媒体１１を保持するステージ１５と、を備えている。
【０００８】
この場合において、レーザ照射装置１４は、画像処理装置１２の画像処理結果に基づいて、レーザ出射制御を行うレーザ制御部１４Ａと、レーザ制御部１４Ａの制御下で、レーザ光を出射するレーザ発振器１４Ｂと、を備えている。そして、レーザ照射装置１４は、所定の可視化処理を行う場合に、不可視状態を維持する画素部分に照射して特殊不可視材料の不活性化する不活性化処理を行う。
【０００９】
具体的には、特殊不可視材料として、紫外線あるいは赤外線の照射で蛍光を発する蛍光材料（紫外線蛍光材料あるいは赤外線蛍光材料）を用いる場合には、紫外線あるいは赤外線を照射しても発光させる必要の無い画素部分を不活性化させる。また、特殊不可視材料として、温度を上昇させることにより、無色状態（または白色状態）から変色あるいは有色状態に可逆的に移行する可逆性示温材料を用いる場合には、無色状態（または白色状態）を維持すべき画素部分を不活性化させる。
【００１０】
図２は、記録媒体の概要断面図である。
記録媒体１１は、紙製あるいはプラスチック製の基材を含み、通常印刷などにより各種情報が記録される通常記録媒体１１Ａを備えている。
【００１１】
そして、記録媒体１１は、通常記録媒体１１Ａの面（図２では、上面）に特殊不可視材料が、塗布、積層、印刷あるいは練り込みにより面状に配置された特殊不可視材料層１１Ｂが通常記録媒体１１Ａ上に積層されている。
【００１２】
図３は、特殊不可視材料として紫外線蛍光材料を用いた場合の特殊不可視材料層に対する不可視画像形成前後の状態説明図である。
図３（ａ）は、特殊不可視材料層に対する不可視画像形成前の状態説明図である。
図３（ａ）の上方の図に示すように、紫外線の非照射状態においては、通常記録媒体１１Ａに印刷等により記録された通常画像２１が視認可能となっている。
【００１３】
この状態において、図３（ａ）の下方の図に示すように、紫外線の照射状態においては、通常画像２１に加えて、特殊不可視材料層１１Ｂ全体が蛍光を発する状態となっている。具体的には、図３（ａ）の場合には、長方形状の領域全体が蛍光を発する状態となっている。
その後、再び紫外線の照射を止めれば、再び図３（ａ）の上方の図に示す状態に戻る。
【００１４】
図３（ｂ）は、特殊不可視材料層に対する不可視画像形成後の状態説明図である。
図３（ｂ）の上方の図に示すように、紫外線の非照射状態においては、図３（ａ）の場合と同様に、通常記録媒体１１Ａに印刷等により記録された通常画像２１が視認可能となっている。
【００１５】
これに対し、図３（ｂ）の下方の図に示すように、紫外線の照射状態においては、通常画像２１に加えて、特殊不可視材料層１１Ｂのうち、レーザにより不活性化がなされた画素（図３（ｂ）中、黒色表示画素）においては、蛍光が発せられず、その他の部分のみが蛍光を発することとなるため、蛍光潜像が可視画像となる。
【００１６】
その後、再び紫外線の照射を止めれば、再び図３（ｂ）の上方の図に示す状態に戻る。
したがって、実施形態によれば、特殊不可視材料層１１Ｂ自体に不可視画像を形成しているため、特殊不可視材料を用いて記録された潜像画像の耐改竄性が向上する。
【００１７】
［１］第１実施形態
次により具体的な第１実施形態について説明する。
本第１実施形態は、特殊不可視材料として、紫外線あるいは赤外線の照射で蛍光を発する蛍光材料（紫外線蛍光材料あるいは赤外線蛍光材料）を用いる場合の実施形態である。
【００１８】
特殊不可視画像の形成処理においては、所望の画像を二値化して二値化画像データを生成し、この二値化画像データに基づいて、あらかじめ通常記録媒体１１Ａ上に積層された特殊不可視材料層１１Ｂの不活性化を行うべき画素部分にレーザ光を照射して、特殊不可視材料を不活性化する。
これにより、所望の画像を記録媒体上で特殊画像として記録することが可能となる。
【００１９】
以下、具体的に説明する。
第１実施形態において、画像パターン形成に用いるレーザとして、ＹＡＧレーザ、ＹＶＯ４レーザ、半導体レーザ、ＣＯ２レーザなどが好ましい。ここで、ＹＡＧレーザ、ＹＶＯ４レーザ、半導体レーザ、ＣＯ２レーザの基本波に加え、ＹＡＧレーザ、ＹＶＯ４レーザ、半導体レーザの高調波を記録媒体１１と蛍光材料の吸収波長に応じて適用可能である。
【００２０】
また、第１実施形態において、特殊画像を形成する特殊不可視材料としての蛍光材料（蛍光潜像形成材料）としては、例えば特開昭５０−６４１０号公報、特開昭６１−６５２２６号公報、特開昭６４−２２９８７号公報、特開昭６４−６０６７１号公報、特開平１−１６８９１１号公報、特開２００３−８９７６１号公報、特開２００６−２５５９２５号公報等に記載されている無機蛍光体を、適宜選択して用いることができる。
【００２１】
無機蛍光体化合物としては、Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７：Ｓｎ４＋、Ｓｒ４Ａｌ１４Ｏ２５：Ｅｕ２＋、
ＢＡＭｇＡｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ２＋、ＳｒＧＡ２Ｓ４：ＣＥ３＋、ＣＡＧＡ２Ｓ４：ＣＥ３＋、
（ＢＡ、Ｓｒ）（Ｍｇ、Ｍｎ）Ａｌ１０Ｏ１７：Ｅｕ２＋、
（Ｓｒ、ＣＡ、ＢＡ、Ｍｇ）１０（ＰＯ４）６Ｃｌ２：Ｅｕ２＋、
ＢＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８：Ｅｕ２＋、Ｓｒ５（ＰＯ４）３Ｃｌ：Ｅｕ２＋、
Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７：Ｅｕ２＋、Ｓｒ（Ｈ２ＰＯ４）２：Ｅｕ２＋、
（ＢＡＭｇ）Ａｌ１６Ｏ２７：Ｅｕ２＋，Ｍｎ２＋、Ｓｒ４Ａｌ１４Ｏ２５：Ｅｕ２＋、
（Ｓｒ、ＢＡ）Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８：Ｅｕ２＋、（ＢＡ、Ｍｇ）２ＳｉＯ４：Ｅｕ２＋、
Ｙ２ＳｉＯ５：ＣＥ３＋，ＴＢ３＋、Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７−Ｓｒ２Ｂ２Ｏ５：Ｅｕ２＋、
（ＢＡ、ＣＡ、Ｍｇ）５（ＰＯ４）３Ｃｌ：Ｅｕ２＋、
Ｓｒ２Ｓｉ３Ｏ８−２ＳｒＣｌ２：Ｅｕ２＋、
Ｚｒ２ＳｉＯ４，ＭｇＡｌ１１Ｏ１９：ＣＥ３＋，ＴＢ３＋、
ＣＡ２Ｙ８（ＳｉＯ４）６Ｏ２：ＴＢ３＋、（ＧＦ−１２）Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：ＴＢ３＋、
ＬＡ３ＧＡ５ＳｉＯ１４：ＴＢ３＋、Ｙ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ３＋、
（ＢＡ、Ｍｇ）２ＳｉＯ４：Ｅｕ３＋、
（ＢＡ、Ｍｇ）Ａｌ１６Ｏ２７：Ｅｕ３＋、
（ＢＡ、ＣＡ、Ｍｇ）５（ＰＯ４）３Ｃｌ：Ｅｕ３＋、
ＹＶＯ４：Ｅｕ３＋、ＣＡＳ：Ｅｕ３＋、
ＹＡｌＯ３：Ｅｕ３＋、ＣＡ２Ｙ８（ＳｉＯ４）６Ｏ２：Ｅｕ３＋、
ＬｉＹ９（ＳｉＯ４）６Ｏ２：Ｅｕ３＋、ＹＶＯ４：Ｅｕ３＋Ｂｉ２＋、Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｅｕ３＋、ＣＡＳ：Ｅｕ３＋Ｃｌ−、（ＣＡＭｇ）３（ＰＯ４）２：Ｓｎ２＋等を一例として挙げることができる。
【００２２】
また、有機蛍光体としては、特開２００５−１５５６４公報、特開２００６−７７１９１公報、特開２００６−３４８１８０公報、特開２００８−１１５２２５公報、特開２０１２−６１７９４公報等に記載の有機蛍光体、およびマジックルミノペイント、ルミライトカラー、ロイヒマーカー（いずれもシンロイヒ社製）等を適宜選択して用いることができる。
【００２３】
次に第１実施形態の動作を説明する。
図４は、実施形態の特殊不可視画像の形成処理の処理フローチャートである。
まずオペレータは、所望の画像を画像処理装置１２に入力する（ステップＳ１１）。
【００２４】
これにより、画像処理装置１２は、入力された画像をグレースケール化したグレースケール化画像データ（例えば、２５６階調白黒画像）を生成する（ステップＳ１２）。
さらに画像処理装置１２は、グレースケール化画像データを二値化した二値化画像データを生成し、レーザ照射装置１４のレーザ制御部１４Ａに出力する（ステップＳ１３）。
【００２５】
これによりレーザ制御部１４Ａは、二値化画像に対応する二値化画像データが表す黒い画素部分に合わせて、レーザ発振器１４Ｂから発振したレーザ光を記録媒体１１の通常記録媒体１１Ａ上に積層された特殊不可視材料層１１Ｂに照射して不可視画像の潜像を形成する（ステップＳ１４）。
【００２６】
図５は、第１実施形態における不可視画像の潜像形成処理の処理フローチャートである。
図６は、第１実施形態における二値化画像と不活性化対象の画素の説明図である。
以下の説明においては、二値化画像データに対応する二値化した画像の黒い画素４０１の階調＝０、白い画素４０２の階調＝１とする。
【００２７】
レーザ制御部１４Ａは、二値化画像データが入力されると（ステップＳ２１）、レーザ制御部１４Ａは、図６に示す二値化画像における階調＝０の黒い画素４０１の位置情報を取得する（ステップＳ２２）。
【００２８】
次にレーザ制御部１４Ａは、階調＝０の黒い画素４０１の全てにレーザの照射が終了したか否かを判別する（ステップＳ２３）。
この場合には、いまだレーザの照射は行っていないので（ステップＳ２３；Ｎｏ）、レーザ制御部１４Ａは、レーザ発振器１４Ｂを制御してレーザ走査を行い、当該走査位置に対応する階調＝０の黒い画素４０１に対するレーザ照射を行う（ステップＳ２４）。これにより、黒い画素４０１に対応する特殊不可視材料４１１は、不活性化される。これに対し、白い画素４０２に対応する特殊不可視材料４１２は、活性化された状態のままとなり、全体として二値化画像データに対応する画像の潜像形成がなされる。すなわち、二値化画像４０における階調＝０の画素が紫外光を照射した際に発光しない画素として記録されることとなる。
【００２９】
続いてレーザ制御部１４Ａは、照射箇所（走査位置）を移動し（ステップＳ２５）、処理を再びステップＳ２３に移行する。
以下、同様にして、ステップＳ２３の判別において、階調＝０の黒い画素４０１の全てにレーザの照射が終了していないと判別される（ステップＳ２３；Ｎｏ）期間は、ステップＳ２３〜ステップＳ２５の処理を繰り返す。
【００３０】
そして、ステップＳ２３の判別において、階調＝０の黒い画素４０１の全てにレーザの照射が終了した場合には（ステップＳ２３；Ｙｅｓ）、不活性化処理を終了する。
これらの結果、第１実施形態の記録媒体１１によれば、通常の室内灯下では不可視な画像が、紫外光（電磁波）照射時に発光パターンとして観察される。
以上の説明のように、第１実施形態によれば、蛍光体化合物を含む特殊不可視材料層１１Ｂ自体に不可視画像を形成しているため、特殊不可視材料を用いて記録された潜像画像の耐改竄性が向上する。
【００３１】
［２］第２実施形態
上記第１実施形態においては、特殊不可視材料として、蛍光材料を用いていたが、本第２実施形態は、特殊不可視材料として、閾値温度により無色または白色と有色を可逆的に変化する示温材料を用いた場合の実施形態である。
【００３２】
この場合において、レーザを照射して不活性化させる画素としては、無色又は白色の画素（階調＝１）とする方が、温度変化により変色あるいは発色する画素（階調＝０）とする場合よりも、特殊不可視画像（潜像）の存在が露見しにくく、さらに、特殊不可視画像（潜像）の形成位置の特定を困難とすることができる。
【００３３】
示温材料は、固相反応、熱分解、脱水、電子供与体受容体の電子授受、結晶構造の変化などを利用して温度変化と共に色変化する材料であるが、これらのうち、固相反応あるいは電子供与体受容体の電子授受を利用した示温材料が好ましい。
特に電子供与体受容体の電子授受を利用した示温材料としては、以下のような条件を満たす可逆材と、示温特性制御剤と、を含有する示温材料が挙げられる。
【００３４】
可逆材は、電子受容性化合物と組成系の一部または全部の可逆的な結晶質−非晶質転移、または２つの相分離状態もしくは相分離状態−非相分離状態の変化を発現させる材料が挙げられる。
【００３５】
また、示温特性制御材は、室温で固体であり、電子受容性化合物または可逆材もしくは電子受容性化合物および可逆材と少なくともその一部が相溶する示温特性制御剤であって、示温特性制御剤の結晶質−非晶質転移または相分離状態−非相分離状態により組成系の結晶質−非晶質転移または相分離状態−非相分離状態速度を変化させる示温特性制御剤で、相分離後、電子供与性化合物と電子受容性化合物の相互作用を阻害しない材料が挙げられる。
【００３６】
より具体的には、電子供与性化合物としては、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリ−ンラクトン、クリスタルバイオレットカルビノ−ル、マラカイトグリーンカルビノール、Ｎ−（２，３−ジクロロフェニル）ロイコオ−ラミン、Ｎ−ベンゾイルオ−ラミン、ロ−ダミンＢラクタム、Ｎ−アセチルオ−ラミン、Ｎ−フェニルオ−ラミン、２−（フェニルイミノエタンジリデン）−３，３−ジメチルインドリン、Ｎ−３，３−トリメチルインドリノベンゾスピロピラン、８’−メトキシ−Ｎ−３，３−トリメチルインドリノベンゾスピロピラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−クロロフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−メトキシフルオラン、３−ジエチルアミノ−６−ベンジルオキシフルオラン、１，２−ベンツ−６−ジエチルアミノフルオラン、３，６−ジ−ｐ−トルイジノ−４，５−ジメチルフルオラン−フェニルヒドラジド−γ−ラクタム、３−アミノ−５−メチルフルオラン等が例示される。これらは１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００３７】
また、電子受容性化合物としては、フェノ−ル類、フェノ−ル金属塩類、カルボン酸金属塩類、スルホン酸、スルホン酸塩、リン酸類、リン酸金属塩類、酸性リン酸エステル、酸性リン酸エステル金属塩類、亜リン酸類、亜リン酸金属塩類等の酸性化合物があげられる。これらは１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００３８】
また、可逆材は、ステロイド骨格等の化合物があげられ、具体的には、コレステロ−ル、ステグマステロ−ル、プレグネノロン、メチルアンドロステンジオ−ル、エストラジオ−ルベンゾエ−ト、エピアンドロステン、ステノロン、β−シトステロ−ル、プレグネノロンアセテ−ト、β−コレスタロ−ル等があげられる。これらは１種または２種以上を混合して用いることができる。
【００３９】
また、示温特性制御剤には、芳香族アルコ−ル類であって少なくとも１つのフェノ−ル系水酸基を有する化合物、芳香族アルコール類、少なくとも１つのベンゾイル基を持つ化合物、芳香族エーテル化合物、また感熱紙で使用されている増感剤等が用いられる。
【００４０】
具体的には芳香族アルコ−ル類であって少なくとも１つのフェノ−ル系水酸基を有する化合物はｐ−ヒドロキシフェネチルアルコ−ル、２−ヒドロキシベンジルアルコ−ル、バニリルアルコ−ルであり、芳香族アルコール類はピペロニルアルコール、ベンゾイン、ベンズヒドロール、トリフェニルメタノール、ベンジン酸メチル、ＤＬ−マンデル酸ベンジルであり、少なくとも１つのベンゾイル基を持つ化合物はベンジル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルフェニルケトン、２−ベンゾイル安息香酸メチルであり芳香族エーテル化合物はベンジル２−ナフチルエーテル、１−ベンジロキシ−２−メトキシ−４−（１−プロペニル）ベンゼンであり、増感剤は４−ベンジルビフェニル、ｍ−ターフェニル、４−ベンゾインビフェニールに効果があることが知られている。
【００４１】
また、これらの示温材料は単独で用いても良いし、マイクロカプセルにして用いても良い。あるいは樹脂バインダーに分散させて用いても良く、分散させる樹脂としては示温材料のマイクロカプセル化、バインダー樹脂等への分散等があげられる。
【００４２】
例えば、バインダー樹脂としては、ポリエチレン類、塩素化ポリエチレン類、エチレン・酢酸ビニル共重合物、エチレン・アクリル酸・無水マレイン酸共重合物等のエチレン共重合物、ポリブタジエン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリプロピレン類、ポリイソブチレン類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリ酢酸ビニル類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリビニルブチラール類、フッ素樹脂類、アクリル樹脂類、メタクリル樹脂類、アクリロニトリル共重合体類、ポリスチレン、ハロゲン化ポリスチレン、スチレンメタクリル酸共重合体類等のスチレン共重合体類、アセタール樹脂類、ナイロン６６等のポリアミド類、ポリカーボネート類、セルロース系樹脂類、フェノール樹脂類、ユリア樹脂類、エポキシ樹脂類、ポリウレタン樹脂類、ジアリールフタレート樹脂類、シリコーン樹脂類、ポリイミドアミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリメチルペンテン類、ポリエーテルイミド類、ポリビニルカルバゾール類、非晶質系ポリオレフィン等の樹脂があげられる。これらは１種または２種以上を混合して用いることができる。このような特徴を持つ材料の例としては、メタモカラー(パイロット製)やサーマルカラー(記録素材総合研究所製)などがある。
【００４３】
また、これら示温材料の変色閾値の温度は−３０℃から７０℃が好ましく、より好ましくは−２０℃から５℃または４０℃から６０℃である。
これは、閾値温度が−３０℃よりも低い場合にはその環境を作るのに簡易な装置ではなく大がかりな装置が必要になってしまう、偽変造防止媒体を構成する他材料が劣化するなどの弊害を生じるからである。
【００４４】
また、７０℃以上でも同様に、偽変造防止媒体を構成する他材料が劣化、変形、変質を起こす可能性があるため、好ましくないからである。
さらに、偽変造防止機能を隠蔽するためには、通常の生活温度領域に変色閾値温度がない方が好ましいため、５℃から４０℃を除く温度領域でかつ、容易に実現し易い温度帯とした。さらには、複数の変色閾値温度を持ち、温度によって３色以上の色に変色する材料を用いることも可能である。
【００４５】
次に第２実施形態の動作を説明する。
本第２実施形態においても、図４に示した特殊不可視画像の形成処理については、第１実施形態と同様であるが、不可視画像の潜像形成処理が異なるので以下、不可視画像の潜像形成処理について説明する。
【００４６】
図７は、第２実施形態における不可視画像の潜像形成処理の処理フローチャートである。
図８は、第２実施形態における二値化画像と不活性化対象の画素の説明図である。
以下の説明においては、二値化画像データに対応する二値化した画像の黒い画素６０１の階調＝０、白い画素６０２の階調＝１とする。
【００４７】
レーザ制御部１４Ａは、二値化画像データが入力されると（ステップＳ３１）、レーザ制御部１４Ａは、図７に示す二値化画像６０における階調＝１の白い画素６０２の位置情報を取得する（ステップＳ３２）。
【００４８】
次にレーザ制御部１４Ａは、階調＝１の白い画素６０２の全てにレーザの照射が終了したか否かを判別する（ステップＳ３３）。
この場合には、いまだレーザの照射は行っていないので（ステップＳ３３；Ｎｏ）、レーザ制御部１４Ａは、レーザ発振器１４Ｂを制御してレーザ走査を行い、当該走査位置に対応する階調＝１の白い画素６０２に対するレーザ照射を行う（ステップＳ３４）。これにより、白い画素６０２に対応する特殊不可視材料６１２は、不活性化される。
【００４９】
これに対し、黒い画素６０１に対応する特殊不可視材料６１１は、活性化された状態のままとなり、全体として二値化画像データに対応する二値化画像６０の潜像形成がなされる。すなわち、二値化画像６０における階調＝１の画素が温度を上昇させた場合でも、変色しない画素、あるいは、発色しない画素として記録されることとなる。
【００５０】
続いてレーザ制御部１４Ａは、照射箇所（走査位置）を移動し（ステップＳ３５）、処理を再びステップＳ３３に移行する。
以下、同様にして、ステップＳ３３の判別において、階調＝１の白い画素６０２の全てにレーザの照射が終了していないと判別される（ステップＳ３３；Ｎｏ）期間は、ステップＳ３３〜ステップＳ３５の処理を繰り返す。
【００５１】
そして、ステップＳ３３の判別において、階調＝１の白い画素６０２の全てにレーザの照射が終了した場合には（ステップＳ３３；Ｙｅｓ）、不活性化処理を終了する。
これらの結果、第２実施形態の記録媒体１１によれば、通常の室内灯下では不可視な画像が、所定の閾値温度を跨いだときに変色あるいは発色することにより画像が可視化し、観察される。
【００５２】
以上の説明のように、第２実施形態によっても示温材料を含む特殊不可視材料層１１Ｂ自体に不可視画像を形成しているため、特殊不可視材料を用いて記録された潜像画像の耐改竄性が向上する。
【００５３】
［３］実施形態の変形例
以上の説明においては、特殊不可視材料として、蛍光体化合物を用いる場合には、蛍光発光を行わせない画素（黒画素）を不活性化させ、示温材料を用いる場合には、発色前の状態を維持する画素（無色画素あるいは白色画素）を不活性化させていたが、逆の画素を不活性化させるように構成することも可能である。
【００５４】
以上の各実施形態においては、１種類の特殊不可視材料を用いる構成としていたが、特殊不可視材料である紫外蛍光材、赤外蛍光材、示温材などを適宜複数選択し、組み合わせて利用することも可能である。
【００５５】
また、不活性化に用いるレーザの数や照射条件（波長、パワー、照射時間等）を変更することは上述した実施形態の構成のみに限定されず、必要に応じて変更可能である。また、特殊不可視材料で形成される画像に階調を持たせることも可能であり、その際はその階調数に合わせて画像処理装置１２における画像処理を変更可能である。
【００５６】
また、不活性化に用いるレーザとしては、記録媒体の吸収波長と特殊不可視材料の吸収波長に差がある波長を用いるようにするのがより好ましいので、適宜選択することが可能である。
【００５７】
また、レーザ光の波長についても、録媒体の吸収波長と特殊不可視材料の吸収波長に差がある波長を用いるようにするのがより好ましい。しがって、例えば、基本波、第２高調波、第３高調波、第４高調波の中の二つの波長を選択し、一つの波長が通常記録媒体１１ＡＡの吸収帯域かつ特殊不可視材料層１１Ｂの非吸収帯域、他方の波長が通常記録媒体１１ＡＡの非吸収帯域かつ特殊不可視材料層１１Ｂの吸収帯域であるレーザを選択するのが最も好ましい。なお、第５高調波以上を考慮していないのは、エネルギーが急激に減衰するので影響が小さいからである。
【００５８】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００５９】
１０    画像形成システム
１１    記録媒体
１１Ａ  通常記録媒体
１１Ｂ  特殊不可視材料層
１２    画像処理装置
１３    レーザ光
１４    レーザ照射装置
１４Ａ  レーザ制御部
１４Ｂ  レーザ発振器
１５    ステージ
２１    通常画像
４０    二値化画像
６０    二値化画像
４０１  黒い画素（不活性化対象画素）
４０２  白い画素
４１１  特殊不可視材料（不活性化対象）
４１２  特殊不可視材料
６０１  黒い画素
６０２  白い画素（不活性化対象画素）
６１１  特殊不可視材料
６１２  特殊不可視材料（不活性化対象）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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