(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１フィルタプレスと、該第１フィルタプレスの殿物排出口の下方に設置された第１レパルプ槽と、該第１レパルプ槽から１次処理スラリーの給送を受ける第２レパルプ槽と、該第２レパルプ槽から２次処理スラリーの給送を受ける第２フィルタプレスとからなり、
前記第１レパルプ槽は上面開口型であって、撹拌翼を備えた撹拌機とｐＨ調整剤の投入配管を備えており、
前記第２レパルプ槽は、密閉型であって、撹拌翼を備えた撹拌機、ｐＨ調整剤の投入配管、温度調節手段および温度測定器を備えている
ことを特徴とするレパルプ装置。
【請求項２】
前記第１フィルタプレスに入れられる始液が、マット塩素浸出電解採取プロセス中の脱鉄工程を出たスラリーである
ことを特徴とする請求項１記載のレパルプ装置。
【請求項３】
前記第１レパルプ槽のｐＨ調整剤の投入配管は、その出口が、スラリー液面下に位置する
ことを特徴とする請求項１または２記載のレパルプ装置。
【請求項４】
第１フィルタプレスで固液分離して殿物を得る第１工程と、
第１フィルタプレスで得られた殿物を、常温のレパルプ用液が入れられており上面が開口した第１レパルプ槽に投入して撹拌する第２工程と、
前記第１レパルプ槽で得られた１次処理スラリーを高温のレパルプ用液が入れられた密閉型の第２レパルプ槽に給送して撹拌する第３工程と、
前記第２レパルプ槽で得られた２次処理スラリーを２次フィルタプレスで固液分離する第４工程とからなる
ことを特徴とするレパルプ方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、脱鉄殿物のレパルプ装置及びレパルプ方法に関する。さらに詳しくは、マット塩素浸出電解採取（原語は、Matte Chlorine Leaching Electrowinning以下、ＭＣＬＥと略称することがある）プロセス中の脱鉄工程から得られる脱鉄殿物をレパルプして、含有されている溶解性ニッケルを回収する際の、レパルプ装置及びレパルプ方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＣＬＥプロセスでは、原料を塩素浸出し、鉄や亜鉛を除去し、ニッケルやコバルトを濃縮している。
鉄を除去する脱鉄工程は、原料中に含まれる鉄の大部分を除去する工程であるが、得られる脱鉄殿物中には溶解性ニッケルが多く含まれており、これをレパルプ（殿物をスラリー化する手法）して、溶解性ニッケルを液中に溶解することにより、脱鉄殿物中からニッケルを回収している。
【０００３】
図５に示すように、従来のレパルプ装置は、１次フィルタプレス１０と２次フィルタプレス２０との間にレパルプ槽１００を設置しており、次のように構成されている。
１次フィルタプレス１０の下部には、シュート１０４が備えられており、更にその下には、レパルプ槽１００が位置している。
１次フィルタプレス１０から得られる殿物（以下、１次殿物ということがある）は、フィルタプレス１０を開枠することにより下方に落下し、シュート１０４により集められて、レパルプ槽１００に投入される。また、レパルプ槽１００はシュート１０４からの殿物を受け入れるため、上面に大きな開口１０５が形成されている。
【０００４】
レパルプ槽１００には、あらかじめレパルプ用液体（例えば、工業用水、電解廃液など、前記の殿物からニッケルを回収できる液体）が準備され、温度もニッケル溶解に適した６０℃程度に昇温され、ｐＨも溶解性ニッケルが溶け出しやすい２程度に調整されている。ｐＨ調整は塩酸などのｐＨ調整剤の添加によって行われ、ｐＨ調整剤の投入配管１０６からレパルプ槽１００に添加される。投入配管１０６は、レパルプ槽１００の上方から内部に挿入されているが、この投入配管１０６の開口端はスラリーＳＬの液面上に位置している。
【０００５】
レパルプ槽１００と２次フィルタプレス２０との間は給送配管１０７でつながれ、送液ポンプ１０３が介装されている。レパルプ槽１００内のスラリーレベルは、送液ポンプ１０３のオン／オフで制御されている。そのスラリーレベルの上限はレパルプ槽１００の上縁より低く、また、下限は給送配管１０７がつながれた抜出し口１０８より高くなっており、スラリーがレパルプ槽１００からオーバーフローすることを防止し、かつ給送配管１０７への空気流入による送液ポンプ１０３の損傷を防止しているのが一般的である。
【０００６】
レパルプ作業の工程は、つぎのとおりである。
（ステップ１）
１次フィルタプレス１０を開枠し、脱鉄殿物を排出してレパルプ槽１００に投入する。このレパルプ槽１００内でｐＨを２前後に維持した状態で１時間程度撹拌する。
(ステップ２)
つぎに、撹拌後得られるスラリーを送液ポンプ１０３で２次フィルタプレス２０に送液して、固液分離する。こうすることにより、レパルプによって液中に溶けだしたニッケルを回収し、２次フィルタプレス２０から得られる殿物（以下、２次殿物という場合がある）を系外に排出する。
【０００７】
上記従来のレパルプ方法によれば、最初から液温が適切なので溶解時間が早く、脱鉄殿物を入れてからｐＨ調整するので、ｐＨを早く合わせられる、などの利点がある。また、２次殿物中のニッケル残存量は１０〜２０ｇ／ｋｇと充分な回収率を示すため、従来より採用されていた。
【０００８】
ところが、上記工程のステップ１で、第１フィルタプレス１０を開枠すると、レパルプ槽１００の大きな開口１０５を通じて高温（約６０℃）の液体から蒸気が立ち登り、落下してくる１次殿物の一部を巻き込んでニッケルミストｍとなって吹き上げられ、建屋内に拡散するという現象が発生する。また、投入配管１０６から落下させられたｐＨ調整剤は、スラリーＳＬの表面に当って小さな飛沫ｓとして飛散し、ニッケルミストｍに混ざるという現象も発生することがあった。
【０００９】
上記のようなニッケルミストｍは、ｐＨが２程度の強酸性であり、建屋を構成する主要な構造材としての鉄骨には致命的な影響がでることはないが、工場建屋内のピンブレース（鉄骨を支えるために、鋼製丸棒をＸ字形に組んだもので、木造建築の筋交いに相当する部材）が腐食して破断し、交換や補修を余儀なくされるという問題点が生じていた。
【００１０】
ミスト発生にともなう上記の問題点に対応するため、簡単には吸引ダクトなどを設けて、ミストを捕捉して除去する方法があるが、この方法では、交換や補修に必要なコストに比べて大幅にコストが増大するので適用されず、ニッケルミストの問題は解消されないまま放置されてきた。
【００１１】
ミスト発生に関連する従来技術としては、特許文献１がある。この特許文献１には、水洗ブースの水槽内の循環水中に捕集された塗料ミストが分散し、循環水の流れの悪い個所に塗料スラッジとして集積してしまって、汚れや悪臭の原因になってしまうことと、ポンプで吸い込んで固液分離装置で処理しようとしても、塗料スラッジが循環水中に分散あるいは水槽に部分的に集積してしまって、塗料スラッジを十分に固液分離できないといった問題に対し、水槽の底板を延長して渦巻室・排水樋を形成し、渦巻室からの塗料ミストを含んだ循環水を排水樋から補助水槽に排出させ、補助水槽内で前記塗料ミストを塗料スラッジとして浮上または沈降させて分離してから、循環水を前記本水槽に戻す。同時に、浮上または沈降した塗料スラッジをポンプが吸い込み固液分離装置に送って処理する、という技術が記載されている。
【００１２】
しかるに、この従来技術は、操業中のミスト発生に伴う問題を解決する技術であり、発生したミストを効果的に捕捉する技術ではあるが、特殊な構造（渦巻室・排水樋）を必要とし、ミストが混在する循環水からミストを除去する技術であり、そもそもミストが特定箇所に集積して発生する問題であるため、本発明の課題解消には適用困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開2000-325842号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は上記事情に鑑み、ニッケル回収率は低下させずに、腐食による影響を低減することが可能な、脱鉄殿物のレパルプ装置およびレパルプ方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明者らは、レパルプ工程を追加変更することによって、ミスト発生による腐食の問題点がかなり抑制されることを見出し、本発明を完成した。
【００１６】
第１発明のレパルプ装置は、第１フィルタプレスと、該第１フィルタプレスの殿物排出口の下方に設置された第１レパルプ槽と、該第１レパルプ槽から１次処理スラリーの給送を受ける第２レパルプ槽と、該第２レパルプ槽から２次処理スラリーの給送を受ける第２フィルタプレスとからなり、前記第１レパルプ槽は上面開口型であって、撹拌翼を備えた撹拌機とｐＨ調整剤の投入配管を備えており、前記第２レパルプ槽は、密閉型であって、撹拌翼を備えた撹拌機、ｐＨ調整剤の投入配管、温度調節手段および温度測定器を備えていることを特徴とする。
第２発明のレパルプ装置は、第１発明において、前記第１フィルタプレスに入れられる始液が、マット塩素浸出電解採取プロセス中の脱鉄工程を出たスラリーであることを特徴とする。
第３発明のレパルプ装置は、第１発明または第２発明において、前記第１レパルプ槽のｐＨ調整剤の投入配管は、その出口が、スラリー液面下に位置することを特徴とする。
第４発明のレパルプ方法は、第１フィルタプレスで固液分離して殿物を得る第１工程と、第１フィルタプレスで得られた殿物を、常温のレパルプ用液が入れられており上面が開口した第１レパルプ槽に投入して撹拌する第２工程と、前記第１レパルプ槽で得られた１次処理スラリーを高温のレパルプ用液が入れられた密閉型の第２レパルプ槽に給送して撹拌する第３工程と、前記第２レパルプ槽で得られた２次処理スラリーを２次フィルタプレスで固液分離する第４工程とからなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
第１発明のレパルプ装置によれば、第１フィルタプレスから殿物を第１レパルプ槽に投入したとき、槽内のレパルプ用液は常温のままなので蒸気は発生せず槽上面の開口からミストが飛散することはない。また、第１レパルプ槽で処理した１次スラリーを第２レパルプ槽で撹拌するときレパルプ用液は高温ではあっても槽自体が密閉構造なので、やはりミスト飛散は生じない。よって、建屋の腐食被害を低減できる。また、第２レパルプ槽ではｐＨ調整したうえで、ニッケル溶出に適した高温のレパルプ液中で撹拌できるので、ニッケル回収率を低下させることはない。
第２発明によれば、大規模プラントであるマット塩素浸出電解採取プロセスにおける脱鉄工程でのレパルプ操作に適用したので、ニッケル回収率を低下させずに腐食に影響を低減する効果の工業的価値は高いものとなる。
第３発明のレパルプ装置によれば、ｐＨ調整剤の投入配管の出口が、スラリー液面下にあることによって、投入されたｐＨ調整剤が落下して液面において飛び散ることがなくなるので、ミストが発生したとしても、ミスト中に直接混入するｐＨ調整剤を減少させることができる。
第４発明のレパルプ方法によれば、第１レパルプ工程で用いる第１レパルプ槽はレパルプ用液が低温であるので、蒸気発生に伴うミスト飛散が生じず、第２レパルプ工程で用いる第２レパルプ槽はレパルプ用液が高温であっても密閉型の槽を用いるので、外部へのミスト飛散は生じない。よって、建屋の腐食被害を低減できる。また、第２レパルプ槽ではｐＨ調整したうえで、ニッケル溶出に適した高温のレパルプ液中で撹拌できるので、ニッケル回収率を低下させることはない。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態に係るレパルプ装置の説明図である。
【図２】図１のレパルプ装置の作用説明図である。
【図３】ＭＣＬＥプロセスの工程図である。
【図４】（Ａ）、（Ｂ）は本発明の他の実施形態に係るレパルプ槽の説明図である。
【図５】従来のレパルプ装置の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本実施形態に係るレパルプ装置およびレパルプ方法を図面に基づき説明する。
（レパルプ装置）
図１に示すように、本実施形態のレパルプ装置は、第１フィルタプレス１０と、この第１フィルタプレス１０の殿物排出口の下方に設置された第１レパルプ槽１と、この第１レパルプ槽１から１次処理スラリーの給送を受ける第２レパルプ槽２と、この第２レパルプ槽２から２次処理スラリーの給送を受ける第２フィルタプレス２０とからなる。
【００２０】
第１レパルプ槽１は上面開口型であって、槽本体の上面に大きな開口が形成されている。特許請求の範囲にいう「上面開口型」とは槽上面にミストが飛散しやすい大きな開口のある構造を意味する。
また、この開口５と第１フィルタプレス１０との間にはシュート４が設けられており、第１フィルタプレス１０を開枠すると、固液分離した殿物が第１レパルプ槽１の槽内に落下投入されるようになっている。
【００２１】
また、第１レパルプ槽１には撹拌翼１１を備えた撹拌機やｐＨ調整剤を投入する投入配管１２を備えている。なお、温度調節手段および温度測定器を備えるかどうかは任意である。第１レパルプ槽１と第２レパルプ槽２との間は給送配管６でつながれて、給送ポンプ３が介装されている。
【００２２】
第２レパルプ槽２は、密閉型であって、槽本体には非常に小さな開口しか存しない。特許請求の範囲にいう「密閉型」とは、多少の開口はあっても概ね閉塞されていて、ミストの飛散が生じない構造を意味する。本実施形態におけるそれらの開口は給送配管６の接続口であるが、小さなものであり、かつ適宜のシール材で閉止することも可能なので、第２レパルプ槽２は実質密閉型といってよい。そして、第２レパルプ槽２には撹拌翼１１を備えた撹拌機とｐＨ調整剤を投入する投入配管１２に加え、温度調節手段および温度測定器を備えている。また、第２レパルプ槽２と２次フィルタプレス２０との間は給送配管８でつながれ、給送ポンプ９が介装されている。
【００２３】
第１レパルプ槽１および第２レパルプ槽２に備えつける撹拌機は公知のものを、とくに制限なく用いることができる。また、温度測定器も公知のものをとくに制限なく用いることができる。
【００２４】
第２レパルプ槽２における温度を調整する温度調節手段に特に制限は無いが、高スラリー濃度での昇温となり、複雑な形状の設備を導入するとスラリーのスケーリングや閉塞といったトラブルが発生することがあるので、設備形状がシンプルな蒸気の直接吹き込み式が好ましい。また、このような温度調節手段であればスラリー液温の微調整も容易であるメリットがある。
【００２５】
第１レパルプ槽１および第２レパルプ槽２のｐＨを調整する方法に特に制限は無く、公知のｐＨ調整剤をレパルプ用液に混合させる方法を任意にとりうる。また、ｐＨ調整の観点から槽本体は、酸の添加とスラリーのｐＨに時間差が生じにくく、かつ必要な滞留時間を確保できる槽容量とすることが好ましい。
【００２６】
第１レパルプ槽１におけるｐＨ調整剤の投入配管１２は、外部から槽内に導入した状態で、その出口がスラリーＳＬの液面下とされる。スラリーＳＬの液面は投入と排出の度に上下に変動するので、スラリーＳＬが下限に降下した場合であっても、その下限レベルのスラリーＳＬの液面下となるよう投入配管１２の出口の上限位置が決められる。
なぜなら、スラリーＳＬの撹拌状況にもよるが、投入配管１２の出口の位置が低すぎるとｐＨ調整剤の混合効率が悪くなる場合が多いので、前記上限を超えない条件下でなるべく高いレベルの方が好ましい。撹拌効果を考えると、ｐＨ調整剤はなるべく上方から入れた方が、よく撹拌されるからである。
一方、ｐＨ調整剤の投入配管１２の出口の下限位置は、抜き出し口６ｄレベル付近であるが、より高いことが最も好ましい。なぜなら、配管１２の出口が抜き出し口６ｄに近いと、ｐＨ調整剤がスラリーＳＬに混合する前に抜き出し口６ｄから外部に排出されるからである。
【００２７】
第２レパルプ槽２においても、図１に示すように、撹拌機の撹拌翼１１とｐＨ調整剤の投入配管１２が設けられている。投入配管１２の出口の、下限位置は、給送配管８の抜出し口８ｄレベル付近であるが、より高いことが最も好ましい点は第１レパルプ槽１の場合と同様である。
【００２８】
図４に基づき、ｐＨ調整剤の投入配管１２の他の例を説明する。
同図（Ａ）に示すように、屈曲した投入配管１２をレパルプ槽１、２の側壁を貫いて挿入し、その出口がスラリーＳＬの液面下にあるようにしてもよい。また同図（Ｂ）に示すように、投入配管１２をレパルプ槽１、２の底を貫いて上向きに設け、その出口がスラリーＳＬの液面下にあるようにしてもよい。上記いずれの場合も出口は抜出し口よりも高い位置とされる。
要するに、本発明において投入配管１２の出口はスラリーＳＬの液面の最下降面と抜出し口との間に設置されることのみが条件であり、配管の途中経路は任意である。
【００２９】
（レパルプ方法）
つぎに、本発明のレパルプ方法を図１に沿って詳細に説明する。
（第１工程）
１次フィルタプレス１０により始液を固液分離して殿物（以下、１次殿物ということがある）を得る。
【００３０】
（第２工程）
第１フィルタプレス１０を開枠することにより得られた殿物を下方に落下させ、シュート４により集めて、第１レパルプ槽１に投入する。
第１レパルプ槽１では、あらかじめレパルプ用液（例えば、工業用水、電解廃液など、前記の殿物からニッケルを回収できる液体）が注入されており、温度は常温、たとえば
３０℃〜４０℃、好ましくは約３５℃程度に保たれる。また、ｐＨは１〜３、好ましくは２程度に調整されている。この状態で、１時間程度撹拌する。
【００３１】
(第３工程)
次に、第１レパルプ槽１で撹拌して得られる１次処理スラリーを、密閉型の第２レパルプ槽２に送液する。第２レパルプ槽２では、レパルプ用液の温度は５５〜６５℃、好ましくは約６０℃程度まで上昇させ、１時間程度撹拌する。
温度が上昇するにつれて、１次処理スラリーからニッケルが溶出してくるので、ｐＨも変動するが、さらにｐＨ調整してｐＨを１〜２、好ましくは約２に維持する。この第２レパルプ槽２では１次処理スラリーを保持するだけでもよいが、第２レパルプ槽２でも撹拌したほうが、ｐＨ調整が容易になるので好ましい。
【００３２】
（第４工程）
つぎに、第２レパルプ槽２から得られる２次処理スラリーを２次フィルタプレス２０に送液して、固液分離し、レパルプによって液中に溶けだしたニッケルを回収し、２次フィルタプレス２０から得られる殿物（以下、２次殿物という場合がある）を系外に排出する。
【００３３】
図２に示すように、本発明のレパルプ装置および方法によれば、第１フィルタプレス１０から殿物を第１レパルプ槽１に投入したとき、槽内のレパルプ用液は常温なので蒸気は発生せず槽上面の開口からミストが飛散することはない。また、第１レパルプ槽１で処理した１次スラリーを第２レパルプ槽２で撹拌するときレパルプ用液は高温ではあっても槽自体が密閉構造なので、やはりミスト飛散は生じない。さらに、投入配管１２の出口がスラリーＳＬの液面下にあるので、塩酸等のｐＨ調整剤の飛沫が発散することもない。
よって、建屋の腐食被害を低減できる。また、第２レパルプ槽２ではｐＨ調整したうえで、ニッケル溶出に適した高温のレパルプ液中で撹拌できるので、ニッケル回収率を低下させることはない。
【００３４】
本発明のレパルプ方法による効果をさらに説明する。
（１）漏れミストに対する効果
本発明のレパルプ方法を実施する前に大気中のニッケル量を測定したところ、0.038mg/m3であった。また、市販のｐＨ試験紙を棒の先に固定し、第１フィルタプレス１０の開枠中に第１レパルプ槽１の上方に保持して、簡易的なｐＨ測定をしたところ、ｐＨは１〜３程度であった。
これに対し、本発明のレパルプ方法を実施した後で大気中のニッケル量を測定したところ、0.020mg/m3であった。また、上記同様の簡易的なｐＨ測定をしたところ、ｐＨは３〜５程度であった。更に、第１、第２発明の装置に加え第３発明（投入配管１２の出口がスラリーＳＬの液面以下となる構成）を適用して、上記同様の簡易的なｐＨ測定をしたところ、ｐＨは６以上となった。
【００３５】
上記のように、大気中のニッケル濃度が0.038mg/m3から0.020mg/m3まで低下したことから、設備腐食の主要因である塩素濃度も比例して減少するため、設備の腐食速度は半減されるものと考えられる。この考察は、簡易的なｐＨ測定でミストのｐＨ値が中性に向けて上昇していることによっても裏付けられている。この結果から、本発明のレパルプ装置およびレパルプ方法を適用すれば、装置から漏れ出すニッケルミストの量を大幅に低減し、建屋部材の寿命を延ばすことが可能である。
【００３６】
（２）設備コスト
第２レパルプ槽２は、蒸気の立ち上りさえ抑制できるように密閉型に構成すればよいので、撹拌翼１１を備えたり、ｐＨ調整剤の投入配管１２を設けたりするものの、それほど高価な追加設備は要しないので、設備コストを低く抑えることができる。
【００３７】
（３）ニッケル回収率に対する効果
ニッケル回収率は、第２レパルプ槽２を増設することで、同時に殿物の滞留時間を確保する効果を併せ持つため、従来法と遜色のないニッケル回収率を得ることができる。
【００３８】
本発明のレパルプ装置およびレパルプ方法は、ＭＣＬＥプロセス中の脱鉄工程に好適に適用可能である。図３に基づき、ＭＣＬＥプロセスを説明する。
ＭＣＬＥプロセスでは、原料のニッケル硫化物として、ニッケルマットとニッケル・コバルト混合硫化物（ＭＳ：ミックスサルファイド）の２種類が用いられる。ニッケルマットは、硫鉄ニッケル鉱を熔錬することで得られる。また、ニッケル・コバルト混合硫化物は、低品位ラテライト鉱を硫酸浸出し、浸出液中のニッケルとコバルトを硫化物として回収することで得られる。
【００３９】
まず、ニッケルマットを粉砕工程において粉砕した後、後述の電解廃液と混合してマットスラリーとし、セメンテーション工程に供給する。セメンテーション工程には塩素浸出工程で得られた浸出液が供給されており、この浸出液（銅濃度30〜60g/L）中に含まれる銅イオンがニッケルマット中のニッケルメタルと置換反応を起こして、硫化銅として析出する。そして、析出した硫化銅をその他の残分とともにセメンテーション残渣として分離し、塩素浸出工程に供給する。
【００４０】
セメンテーション工程の終液中にはコバルトや鉄などが含まれているため、脱鉄工程で塩素ガスを吹き込んで酸化しつつ、同時に炭酸ニッケルを添加して中和する、いわゆる酸化中和法により、これらの元素および銅、鉛、ヒ素などの微量不純物を水酸化物として除去する。不純物を除去した液は純粋な塩化ニッケル溶液であり、電解給液として電解工程に送る。電解工程においては、電解採取により、電解液に含まれるニッケルを電気ニッケルとして回収する。電解工程で発生した塩素ガスは塩素浸出工程および浄液工程に繰り返して再利用する。電解工程から排出された電解廃液は粉砕工程および浄液工程に送られる。
【００４１】
塩素浸出工程にはセメンテーション残渣およびニッケル・コバルト混合硫化物からなるスラリーが供給される。塩素浸出工程では、浸出槽に吹き込まれる塩素ガスの酸化力によって、スラリー中の固形物に含まれる金属が実質的に全て液中に浸出される。塩素浸出工程から排出されたスラリーは浸出液と浸出残渣とに固液分離される。金属が浸出された浸出液は、セメンテーション工程に繰り返して供給される。一方、マットに含まれていた硫黄はほとんど浸出されず、その大部分が浸出残渣として分離される。
【００４２】
上記ＭＣＬＥプロセスに本発明を適用した場合、第１フィルタプレス１０に投入される原料は、脱鉄工程を出たスラリーとなるが、これを前記第１工程から第４工程に通せば、前記スラリーからニッケルを回収することができ、ニッケル回収率を低下させずに、腐食による影響を低減することができる。このため、本発明は工業的価値が極めて大きい。
【００４３】
（実施例）
以下、実施例および比較例によって、本発明をさらに詳細に説明する。
共通の条件は次の通り。
始液                ：ＭＣＬＥプロセルにおける脱鉄工程から排出されたスラリー（塩化ニッケル溶液に、不純物残渣として水酸化第２鉄をはじめ、砒素やマンガンなどの沈殿物が含まれている）
始液組成などの例    ：固体分  ５〜１０ｇ／Ｌ
：固体中  Ｆｅ量  ０．５ｇ／殿物重量ｇ
：液体中  Ｎｉ量  １６０〜２００ｇ／Ｌ
：        Ｃｏ量  ５〜１０ｇ／Ｌ
：液性    ｐＨ  １〜２
第１レパルプ槽１    ：形状          円柱型
：サイズ        １０ｍ３
第２レパルプ槽２    ：形状          円柱型
：サイズ        １５ｍ３
ニッケル回収率      ：６５〜９０％（[１次殿物Ｎｉ品位−２次殿物Ｎｉ品位]÷[１次殿物Ｎｉ品位]）
残渣中のニッケル量  ：（測定方法：蛍光Ｘ線分析装置）
簡易的ｐＨ測定      ：市販のｐＨ試験紙を棒の先に貼り付け、第１フィルタプレス１０の中央部上方２０〜３０ｃｍに保持した。
保持期間は、第１フィルタプレス１０の開枠開始から終了まで。
【実施例１】
【００４４】
本発明を適用し、図１に示すレパルプ装置を使用し、温度は第２レパルプ槽２で昇温してレパルプ操業したところ、大気中ニッケル濃度は０．０２０ｍｇ／ｍ３であった。ニッケル回収率は７３〜８９％だった。
また、簡易的ｐＨ測定の結果、ｐＨは４程度だった。
【実施例２】
【００４５】
更に本発明の第３発明（投入配管１２の出口がスラリーＳＬの液面以下となる構成）を適用し、第１レパルプ槽１に添加するｐＨ調整剤を、スラリ液面下から供給してレパルプ操業したところ、大気中のニッケル濃度は０．０１５ｍｇ／ｍ３であった。ニッケル回収率は７３〜８９％だった。
また、簡易的ｐＨ測定の結果、ｐＨは７程度だった。
【００４６】
［比較例１］
本発明を適用せず、図５に示す従来型装置を使用し、温度はレパルプ槽１００で昇温して操業したところ、大気中ニッケル濃度は０．０３８ｍｇ／ｍ３であった。ニッケル回収率は、６５〜９０％だった。
また、簡易的ｐＨ測定の結果、ｐＨは２程度だった。
【符号の説明】
【００４７】
１  第１レパルプ槽
２  第２レパルプ槽
３  送液ポンプ
４  シュート
６ｄ  抜出し口
８ｄ  抜出し口
１０  第１フィルタプレス
１１  撹拌翼
１２  投入配管
２０  第２フィルタプレス
ＳＬ  スラリー
【図１】
0006418143.tif 000002
【図２】
0006418143.tif 000003
【図３】
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【図４】
0006418143.tif 000005
【図５】
0006418143.tif 000006