(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸方向表皮形成装置用の制御システムにおいて、
セラミックハニカム部品が前記表皮形成装置の表皮形成チャンバを通過し得るように、相対的な動きを提供する少なくとも１つの駆動力と、
流動性のセメントを、前記表皮形成装置を通して前記セラミックハニカム部品の軸方向の外面上に押し遣る少なくとも１つの駆動力と、
前記流動性のセメントに対する駆動力を検出するための少なくとも１つの第１センサーと、
前記セラミックハニカム部品に対する駆動力を検出するための少なくとも１つの第２センサーと、
制御器であり、
前記表皮形成装置の表皮形成チャンバおよび前記セラミックハニカム部品に供給されている流動性のセメントに作用する前記少なくとも１つの駆動力を検出してなる前記少なくとも１つの前記第１センサーからの信号、または、
前記表皮形成装置の表皮形成チャンバを通過進行する前記セラミックハニカム部品の％移動量を検出してなる前記少なくとも１つの前記第２センサーからの信号、または、前記第１および第２センサー信号の両者、
を受け入れる制御器であって、前記制御器は、前記流動性のセメントに作用する前記少なくとも１つの駆動力である流動性のセメントの圧力、または、前記表皮形成チャンバを通過進行する前記セラミックハニカム部品に作用する前記少なくとも１つの駆動力を、前記第１センサーで検出された駆動力であるマニホルド圧力フィードバック（３２０）と前記第２センサーで検出された％移動量（３３０）と前記制御器に入力されたマニホルド圧力設定点（３１０）とに基づいて、結果として得られるであろう表皮形成されたセラミックハニカム部品における表皮欠陥を最小化すべく調整する際に、前記流動性のセメントに作用する前記少なくとも１つの駆動力の少なくとも１つの制御パラメータ（３５０）、および、前記セラミックハニカム部品に作用する前記少なくとも１つの駆動力の少なくとも１つの制御パラメータ（３４０）を、フィードバック制御および擬似フィードフォワード制御の組合せを用いて調整するように構成される、制御器と、
を備え、
前記流動性のセメントに作用する前記少なくとも１つの駆動力の少なくとも１つの制御パラメータ（３５０）が、前記流動性のセメントのタンク圧力設定点であり、前記セラミックハニカム部品に作用する前記少なくとも１つの駆動力の少なくとも１つの制御パラメータ（３４０）が前記セラミックハニカム部品の速度であることを特徴とする制御システム。
【請求項２】
マニホルド圧力のフィードバック、テールパイプ圧力のフィードバック、またはこれらの組合せの少なくともいずれかの信号をフィルタ処理するためのフィルタをさらに含む、ことを特徴とする請求項１に記載の制御システム。
【請求項３】
前記％移動量が、９０％より小さく、かつ４０％より大きい、ことを特徴とする請求項１または２に記載の制御システム。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本願は、２０１３年５月２９日付出願に関わる米国特許出願第６１／８２８３６３号明細書に対する優先権の利益を主張するものであり、この出願番号の出願の内容は、参照によってその全体が本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本明細書において言及するいずれの出版物または特許文献の全開示内容は、参照によって組み込まれる。
【０００３】
本願は、共通に所有され、かつ譲渡された同時係属中の２０１１年１１月２９日付出願に関わる「Ａｐｐａｒａｔｕｓ  Ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄ  Ｆｏｒ  Ｓｋｉｎｎｉｎｇ  Ａｒｔｉｃｌｅｓ」なる表題の米国仮特許出願第６１／５６４，３９５号明細書であって、現在では２０１１年３月１７日付出願に関わる米国特許出願第１３／４６３，１２５号明細書の特許出願に関係している。本明細書においては、この特許出願の内容に依拠しており、この特許出願の内容は、参照によってその全体が本願に組み込まれるが、本願はそれに対する優先権を主張するものではない。
【技術分野】
【０００４】
本開示は、高品質で欠陥のない表皮形成されたセラミック部品を実現するための軸方向表皮形成プロセスを制御する制御方法およびシステムに関する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
いくつかの実施形態において、本開示は、高品質で欠陥のない表皮形成されたセラミック部品を実現する軸方向表皮形成プロセスを効率的に制御するための、擬似フィードフォワード拡張フィードバック制御の方法およびシステムを提供する。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１Ａおよび１Ｂは、それぞれ、典型的な表皮形成装置（１００）の模式的な縦断面図および水平断面図を示す。
【図２】図２Ａおよび２Ｂは、それぞれ、軸方向表皮形成プロセスの制御アーキテクチャの一実施形態の模式的な縦断面図、および軸方向表皮形成プロセスの制御アーキテクチャの別の実施形態の模式的な縦断面図を示す。
【図３】図２Ａおよび図２Ｂに示す実施形態用の多重入力多重出力制御器アーキテクチャ（３００）を示す。
【図４】図４Ａおよび４Ｂは、それぞれ、軸方向表皮形成プロセスの制御アーキテクチャの別の実施形態の模式的な縦断面図、および軸方向表皮形成プロセスの制御アーキテクチャのさらに別の実施形態の模式的な縦断面図を示す。
【図５】図４Ａおよび図４Ｂの実施形態用の多重入力多重出力制御器アーキテクチャ（５００）を示す。
【図６】開示される擬似フィードフォワード制御スキームの一部として用いられるモデルのサンプル検証結果のグラフを示しており、サイクルの終端におけるマニホルド圧力（６００）と、モデルの推定データ（６１０）とが示されている。
【図７】部品速度の関数としてのマニホルド圧力（ｐｓｉ）の実験結果のグラフであり、基準のまたは好ましい操作プロセスウィンドウ（７００）を表している。
【図８】図８Ａから８Ｃは、それぞれ、開示される制御方策を実施する前のプロセスの例、開示される制御方策を実施している場合のプロセスの例、および基準表皮速度を好ましく精密化した場合のプロセスの例を示す。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本開示の種々の実施形態を、もしあれば、図面を参照して詳細に記述する。種々の実施形態への言及は、本発明の範囲を制限するものではなく、本発明の範囲は、本明細書に添付する特許請求の範囲によってのみ制限される。さらに、本明細書に記述されるいかなる例も、制限的なものではなく、特許請求される本発明の多くの可能な実施形態のいくつかを記述するに過ぎない。
【０００８】
いくつかの実施形態において、開示される装置またはシステムと、セラミック部品の表皮形成装置の開示される使用方法とは、例えば以下のような例を含む１つ以上の有利な特徴または態様を提供する。任意の請求項に引用される特徴または態様は、一般的に、本発明のすべての面に適用可能である。任意の一請求項において引用される任意の単一または複数個の特徴または態様は、他の任意の１つまたは複数の請求項の、任意の他の引用される特徴または態様と組み合わせるまたは交換することが可能である。
【０００９】
「ユニパイプ（ｕｎｉｐｉｐｅ）」という用語は、まだ表皮形成されていないセラミック部品を受け入れるように構成される装置であって、さらに、セメント源から流動性のセメントを受け入れ、そのセメントを、ユニパイプ内部の未表皮形成部品の表面に供給して、表皮形成部品を製造するように構成される装置の中心構造のことを言う。
【００１０】
「テールパイプ（ｔａｉｌｐｉｐｅ）」という用語は、ユニパイプの外側の境界または出口部分であって、部品が表皮を支持している部分のことを言う。
【００１１】
「含む（ｉｎｃｌｕｄｅ／ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」または類似の用語は、「包含するが・・・に制限されない（ｅｎｃｏｍｐａｓｓｉｎｇ  ｂｕｔ  ｎｏｔ  ｌｉｍｉｔｅｄ  ｔｏ）」を意味する。すなわち、包含的であって排他的ではない。
【００１２】
本開示の実施形態の記述に用いられる、例えば、組成物中の原料の量、濃度、容積、プロセス温度、プロセス時間、生産量、流量、圧力、粘度、および類似の値、並びにそれらの範囲を修飾する「約（ａｂｏｕｔ）」という用語は、次のような要因によって生じ得る数値的な量の変動のことを言う。すなわち、例えば、材料、組成物、混合物、濃縮物、または使用調合品の調製のために用いる通常の測定および取り扱いの手順によって、これらの手順における不注意の誤謬によって、その方法を実施するのに用いられる製造、発生源、あるいは当初材料または原料の純度における違いによって、および類似の考慮事項によって、生じ得る変動である。「約」という用語は、また、特定の初期濃度または混合比を含む組成物または調合品の時効によって異なる量、および、特定の初期濃度または混合比を含む組成物または調合品の混合または処理によって異なる量を包含する。
【００１３】
実施形態における「から実質的になる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ  ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ  ｏｆ）」という用語は、例えば、
本明細書に記載する、表皮形成製品の作製に用いられる制御システムおよび装置、
および、
本明細書に記載する、開示される制御システムおよび装置を用いて表皮形成製品を作製する方法、
のことを言うことができる。
【００１４】
本開示の、表皮形成製品を作製する装置、表皮形成製品を作製する方法、結果として得られる表皮形成製品、組成物、または調合品は、請求項に列挙される構成要素またはステップに加えて、さらに別の構成要素またはステップを含むことができる。この場合、この別の構成要素またはステップは、本開示の組成物、製品、装置、または作製および使用方法の基本的かつ新規の特性に実質的に影響を及ぼさないものであって、例えば、特定の組成物、特定の添加物または原料、特定の薬剤、特定の表面修飾剤または湿潤剤または調整剤、あるいは、類似の構造、材料、または選択されたプロセス変数などである。
【００１５】
本明細書において使用する名詞は、そうでない旨特定されない限り、少なくとも１つ、すなわち１つ以上の名詞の対象を意味する。
【００１６】
当業者には周知の略語が用いられる（例えば、時間（ｈｏｕｒまたはｈｏｕｒｓ）に対して「ｈ」または「ｈｒ」、グラムに対して「ｇ」または「ｇｍ」、ミリリットルに対して「ｍＬ」、室温（ｒｏｏｍ  ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）に対して「ｒｔ」、ナノメートルに対して「ｎｍ」などの略語である）。
【００１７】
構成要素、原料、添加物、時間、温度、圧力、および類似の態様項目、およびそれらの範囲について開示される特定のかつ好ましい値は、単に例示用であって、他の規定値、または規定された範囲内の他の値を排除するものではない。本開示の装置および方法は、本明細書に記述する、任意の値、あるいは、その値、特定の値、さらに特定の値、および好ましい値の任意の組合せを含むことができる。
【００１８】
コーニング社（Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ）は、重荷重車両に用いられる排気ガス後処理浄化用の基板およびフィルタ製品であって、環境規制を満たす浄化用の基板およびフィルタ製品を製造している。この重荷重用基板およびフィルタの製造における一ステップとして、セメントベースの表皮または外壁を、基板およびフィルタの軸方向の外周面上に塗布する工程がある。表皮を塗布するこのステップのいくつかの利点として、例えば、表皮が製品の美的外観価値を高めること、表皮が、取り扱いのための製品の強度を付加すること、および、表皮が、等方性強度のような顧客が規定する特殊な重要属性のいくつかに適合する製品の形成に寄与することが含まれる。基板およびフィルタ上への表皮の塗布はこれらの製品の製造における重要な段階である。
【００１９】
これまで、フィードフォワード制御およびフィードバック制御の組合せシステムについて記述されてきた。例えば、「ｂｌｏｇ．ｏｐｔｉｃｏｎｔｒｏｌｓ．ｃｏｍ／ａｒｃｈｉｖｅｓ／２９７」におけるオンラインの「Ａ  Ｔｕｔｏｒｉａｌ  ｏｎ  Ｆｅｅｄｆｏｒｗａｒｄ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｎｏｔｅｓ」を参照されたい。また、２０１３年５月１４日にＬｕｏらに対して発行された「Ａｃｔｉｖｅ  ｃａｎｃｅｌｌａｔｉｏｎ  ａｎｄ  ｖｉｂｒａｔｉｏｎ  ｉｓｏｌａｔｉｏｎ  ｗｉｔｈ  ｆｅｅｄｂａｃｋ  ａｎｄ  ｆｅｅｄ  ｆｏｒｗａｒｄ  ｃｏｎｔｒｏｌ  ｆｏｒ  ａｎ  ａｉｒｃｒａｆｔ  ｅｎｇｉｎｅ  ｍｏｕｎｔ」なる表題の米国特許第８，４３９，２９９号明細書は、エンジンの振動がエンジン組み込み構造、例えば、航空機の翼または胴体構造に伝播するのを防止するために、エンジン組み込み部の近傍に取り付けられるアクティブ振動機構を備えたエンジン組み込み構造を説明している。エンジンおよび／または翼／胴体構造には、さらにセンサーが設けられる。このセンサーは、アクティブ振動機構が、感知されたデータに応答して、エンジンから翼／胴体への振動の伝達性を最小化するように、アクティブ振動機構に制御信号を提供するためのものである。
【００２０】
いくつかの実施形態において、この軸方向表皮形成装置は、例えば、次の各項を有するマニホルドを含むことができる。すなわち、
チャンバ、１つ以上のチャンネル、またはその両者であって、流動性セメント源を受け入れ、受け入れた流動性セメントを、表皮形成チャンバ内に受け入れられた最初の製品の横方向表面の少なくとも一部分を取り囲む内部の表皮形成領域または表皮形成チャンバに導き、その受け入れられた製品の横方向表面にセメントの表皮を形成するチャンバ、１つ以上のチャンネル、またはその両者と、
前記受け入れられた製品を表皮形成チャンバの中に、かつそれを通して制御可能に押し込むための駆動力源と、
結果として得られる表皮形成製品を受け入れて支持するための支持部材と、
を含むマニホルドである。例えば、前記の共同所有に関わる米国特許出願第１３／４６３，１２５号明細書を参照されたい。
【００２１】
いくつかの実施形態において、本開示は、例えば、均等な表皮特性を有するセラミック部品を、軸方向表皮形成装置において作製するための制御システムを提供する。この制御システムは、
セラミックのハニカム部品が表皮形成装置の表皮形成チャンバを通過し得るように、相対的な動きを提供する少なくとも１つの駆動力、すなわち、モータおよび押し込み機／プランジャーの組合せ体と、
流動性のセメントを、表皮形成装置を通してセラミックのハニカム部品の軸方向の外面上に押し遣る少なくとも１つの駆動力と、
流動性のセメントに対する駆動力を検出するための少なくとも１つの第１センサー（３２０）と、
セラミック部品に対する駆動力を検出するための少なくとも１つの第２センサー（３３０）と、
制御器と、
を含み、この制御器は、
流動性のセメントに対する駆動力を検出するための少なくとも１つの第１センサーからの信号、または、
セラミック部品に対する駆動力を検出するための少なくとも１つの第２センサーからの信号、または、第１および第２センサー信号の両者、
を受け入れて、セメント源の圧力設定点（３１０）を、少なくとも１つの第１センサー、少なくとも１つの第２センサー、またはその両者からの受信信号に基づいて制御し、かつ、この制御器は、制御パラメータ（３４０および３５０）を、フィードバック制御および擬似フィードフォワード制御の組合せを用いて調整するように構成される。
【００２２】
制御パラメータは、例えば、部品の速度、タンク圧力の設定点、またはこれらの組合せの少なくともいずれかから選択できる。
【００２３】
いくつかの実施形態において、この制御システムは、例えば、マニホルド圧力のフィードバック、テールパイプ圧力のフィードバック、またはこれらの組合せの少なくともいずれかの信号をフィルタ処理するためのフィルタを、さらに含むことができる。
【００２４】
いくつかの実施形態において、本開示は、本明細書に開示する軸方向表皮形成装置におけるセラミック部品のバッチ表皮形成の制御方法を提供する。この方法は、
表皮形成装置の表皮形成チャンバおよびセラミックのハニカム部品に供給されている流動性セメント源に作用する少なくとも１つの駆動力（３２０）（例えば、目標マニホルド圧力、単一点マニホルド圧力、またはフィルタ処理されたマニホルド圧力）を感知するステップと、
装置の表皮形成チャンバを通過進行するセラミックのハニカム部品の百分率（％）移動量（３３０）を感知するステップと、
流動性セメント源に作用する少なくとも１つの駆動力（３５０）（例えば、機械的力または圧力）、または、表皮形成チャンバを通過進行する部品に作用する少なくとも１つの駆動力（３４０）を、感知された駆動力と感知された％移動量とに基づいて、結果として得られる表皮形成されたセラミック部品における表皮欠陥を最小化するように調整するステップと、
流動性セメント源に作用する少なくとも１つの駆動力の少なくとも１つの制御パラメータ（３４０および３５０のいずれかまたは両者）、または、部品に作用する少なくとも１つの駆動力の少なくとも１つの制御パラメータを、擬似フィードバックおよびフィードフォワード制御の組合せに基づいて調整するステップと、
を含む。
【００２５】
いくつかの実施形態においては、流動性セメントに作用する少なくとも１つの駆動力を調整する前記ステップが、流動性セメントの圧力を調整するステップを含む。
【００２６】
いくつかの実施形態においては、流動性セメントに作用する少なくとも１つの駆動力が、目標マニホルド圧力、単一点マニホルド圧力、フィルタ処理されたマニホルド圧力、単一点テールパイプ圧力、フィルタ処理されたテールパイプ圧力、またはこれらの組合せの少なくともいずれかから構成される基準圧力を含む。
【００２７】
軸方向表皮形成装置は、割り出し方式の押し込み払い出しシーケンスによって、バッチ式またはステップ式の表皮形成を遂行できる。
【００２８】
いくつかの実施形態においては、％移動量を、例えば、約９０％より小さく、かつ約４０％より大きくすることができる。
【００２９】
いくつかの実施形態においては、ＰｔｈｒｅｓｈｏｌｄとＰｓｅｔ  ｐｏｉｎｔ  ｍａｎｉｆｏｌｄとの比を、例えば、約０．８より小さく、かつ約０．５より大きくすることができる。
【００３０】
いくつかの実施形態において、この方法は、マニホルド圧力のフィードバック、テールパイプ圧力のフィードバック、またはこれらの組合せの少なくともいずれかの信号をデジタルフィルタによってフィルタ処理するステップをさらに含むことができる。
【００３１】
いくつかの実施形態においては、前記の軸方向表皮形成装置におけるセラミック部品のバッチ表皮形成の制御方法が、例えば次のステップ、すなわち、
装置の表皮形成チャンバを通過進行する部品の基準速度を決定する（すなわち感知する）ステップと、
流動性セメントに対する基準圧力を決定する（すなわち感知する）ステップと、
表皮形成プロセスにおいて各部品に対する表皮形成プロセスを開始する正確な時間（すなわち適当な瞬間または時間間隔）を決定するステップと、
通過進行する部品の基準速度、流動性セメントに作用する基準圧力、表皮形成を開始する正確な時間、またはこれらの組合せの少なくともいずれかを調整するステップと、
を含むことができる。
【００３２】
いくつかの実施形態においては、表皮形成プロセスにおいて各部品に対する表皮形成プロセスを開始する正確な時間（すなわち適当な瞬間または時間間隔）を決定するステップが、例えば、
ＰｍａｎｉｆｏｌｄまたはＰｔａｉｌｐｉｐｅがＰｔｈｒｅｓｈｏｌｄより大きければ、「表皮形成プロセスを開始する」が、その場合、「表皮形成プロセスを開始する」は、装置内において部品を動かし、かつ、セメント源に対する圧力を増大することを含む、
ステップを含むことができる。
【００３３】
いくつかの実施形態において、本開示は、最終的な表皮品質に影響を及ぼす重要なプロセス変数を制御するために、軸方向表皮形成プロセスからのリアルタイムのフィードバックを用いるフィードバック制御スキームを提供する。
【００３４】
いくつかの実施形態において、本開示は、所要の製品品質を実現する表皮形成プロセスを通過する基準部品速度を決定する方法を提供する。
【００３５】
いくつかの実施形態において、本開示は、バッチ処理モードにおいて、各製品に対する表皮形成プロセスを何時正確に開始するべきかを決定する方法を提供する。
【００３６】
いくつかの実施形態において、開示される方法は、高い材料利用率を実現し、かつ、欠陥を低減するように部品に表皮形成するために、装置においてセラミック部品に適正な量の流動性セメント材料を供給する。
【００３７】
いくつかの実施形態において、本開示は、表皮形成材料の変動に対処するために、フィードフォワード制御スキームを提供する。これは、表皮形成材料の変動が最終的な表皮の品質と重要なプロセスパラメータとに及ぼす影響を記述するモデルを含む。
【００３８】
いくつかの実施形態において、本開示は、割り出し押し込みプロセスによる軸方向表皮形成の間の、均等かつ繰り返し可能なセメント圧力および部品速度のパターンを得る方法を提供する。
【００３９】
いくつかの実施形態において、開示される軸方向表皮形成プロセスは、材料利用問題に対処して、使用率または使用可能製品の収率を４０％より多く増大し、これによって大幅なコスト節減がもたらされる。しかし、効率的な制御スキームは、最終的な表皮形成部品上の欠陥を低減することによって、また、表皮上に塗布される材料の量を浪費しないことによって、所要の材料利用率を実現できることが望ましい。塗布される表皮形成材料の量は、高い材料利用率の実現における重要な項目である。
【００４０】
いくつかの実施形態において、本開示は、高い材料利用率を実現する軸方向表皮形成プロセスのための効率的な制御に関する解決策を提供する。この方法は、最終的な表皮の品質と重要なプロセスパラメータとを相関させるようにモデル化するプロセスの基本事項および第１原理を使用する。この理解は、続いて重要なプロセスパラメータを制御するフィードバック方策の設計に適用される。擬似フィードフォワード制御スキームが、重要なプロセスパラメータに影響を及ぼす表皮形成材料関連の変化のいくつかに対処するように拡張される。
【００４１】
いくつかの実施形態において、開示される方法は、例えば、流動性セメントの圧力、装置を通過する部品の速度などのような一次的なプロセスパラメータを、製品の最終的な表皮品質に相関付けることができる。開示される方法は、表皮品質に影響を及ぼす重要なプロセスパラメータを制御するために、軸方向表皮形成プロセスからのリアルタイムのフィードバックを利用する。本開示の一特徴は、表皮形成プロセスを通過する部品の基準速度の決定である。軸方向表皮形成プロセスを通過する部品の移動速度と、圧力および速度の関係とは、最終的に表皮形成された製品における欠陥の低減に重要な役割を演じる。この方法は、また、各製品に対する表皮形成プロセスを何時開始するべきかを決定する。この方法は、さらに、部品に表皮形成して、高い材料利用率を実現し、かつ、表皮品質の欠陥を低減するための適正な材料量を提供する。本開示の別の特徴は、表皮形成材料の変動に対処する能力である。この変動には、フィードバック制御スキームと連携させた擬似フィードフォワードスキームを組み込むことによって対処する。
【００４２】
いくつかの実施形態において、開示されるシステムおよび方法は少なくとも次のような利点を有する。すなわち、
最終的な表皮形成製品における欠陥の低減、
プロセスからのリアルタイムのフィードバックを利用する軸方向表皮形成プロセスの効率的な制御、
適正な圧力−速度関係の提供、
材料利用率の増大、
低品質不良品（すなわち部品）の廃棄物をもたらす最終的な表皮形成部品における欠陥の低減、
部品の表皮形成に使用する適正量の材料の供給、
表皮形成材料の変動に対する補償、
このシステムおよび方法は、表皮形成材料における変動、例えば、流量、粘度および圧力の変動に対して、擬似フィードフォワード制御スキームによって自動的にまたは手動で調整できること、
プロセスステップの省略、
効率的な制御プロセスが最終的な表皮形成部品における欠陥の低減をもたらし、修理または仕上げのステップを省略すること、
欠陥の低減は労働力に関わるコストの節減をもたらすこと、
プロセスを容易に他の生産ラインに転用できること、
この方法は、軸方向表皮形成プロセスを採用する生産ラインに適用可能であること、および、
このプロセスは、既存の制御方法と共に作動して、有益性の向上をもたらし得ること、
などの利点である。
【００４３】
図を参照すると、図１Ａおよび１Ｂは、それぞれ、典型的な表皮形成装置（１００）の模式的な断面図を示す。表皮セメント（１０２）が、供給管（１０４）を通して、決定された圧力設定点に維持される圧力タンク（１０６）から円筒形の管（１０３）（ユニパイプとしても知られる）の中に供給される。ユニパイプ（１０３）を通して部品（１１０）を押し出すために押し込み機（１０８）が用いられ、押し込み機（１０８）は電気駆動される。マニホルド（１１２）が２つの目的のために用いられる。その目的の１つは、ユニパイプを一時的に保持することであり、第２の目的は、表皮セメントをユニパイプ内部の回りに均等に分布させて、垂直軸（１１１）を有する表皮形成される捕捉部品（１１０）の外面に対して、均等な流れの先端を確保することである。図１Ａは垂直断面図（図１ＢのＡ−Ａによる）であり、図１Ｂは水平断面図（図１ＡのＢ−Ｂによる）である。
【００４４】
図２Ａおよび２Ｂは、軸方向表皮形成プロセスの制御アーキテクチャの実施形態の模式な断面図である。図２Ａは、制御器（３００）と、マニホルド圧力設定点（３１０）と、マニホルド圧力フィードバック（３２０）と、％移動量（３３０）測定と、部品（１１０）およびユニパイプ（１０３）の表皮形成チャンバ（１０２）の相対的な動きを駆動する速度（３４０）、例えばモータ（３０５）および押し込み機（１０８）組合せ体に関する速度（３４０）と、タンク圧力制御器に対するタンク圧力設定点（３５０）とを含む。流動性のセメントは、セメント源（図示されていない）から、例えばマニホルド（１１２）に、続いて、表皮形成チャンバの環状路部分（１０２）に供給される。図２Ｂは、制御器（３００）と、マニホルド圧力設定点（３１０）と、フィルタ処理されたマニホルド圧力のフィードバック（３２２）と、％移動量（３３０）測定と、部品（１１０）およびユニパイプ（１０３）の表皮形成チャンバ（１０２）の相対的な動きを駆動する速度（３４０）、例えばモータ（３０５）および押し込み機（１０８）組合せ体に関する速度（３４０）と、タンク圧力制御器に対するタンク圧力設定点（３５０）と、さらに、マニホルド圧力のフィードバック信号（３２３）、マニホルド圧力のフィードバック信号（３２４）、またはその両者の信号を受け取ることができる電子信号フィルタ（３２１）とを含む。
【００４５】
図３は、図２Ａおよび２Ｂに示す実施形態用の多重入力多重出力制御器のアーキテクチャ（３００）を示し、制御器の入力および出力を表している。例えば、入力は、目標または設定点マニホルド圧力（３１０）、単一点またはフィルタ処理されたマニホルド圧力測定（３２０）、および％移動量（３３０）測定であり、出力は、部品の速度（３４０）およびタンク圧力の設定点（３５０）である。
【００４６】
図４Ａおよび４Ｂは、軸方向表皮形成プロセスの制御アーキテクチャの別の実施形態の模式な断面図である。図４Ａは、制御器（３００）と、テールパイプ圧力設定点（４１０）と、マニホルド圧力フィードバック（３２０）と、％移動量（３３０）測定と、部品（１１０）およびユニパイプ（１０３）の表皮形成チャンバ（１０２）の相対的な動きを駆動する速度（３４０）、例えばモータ（３０５）および押し込み機（１０８）組合せ体に関する速度（３４０）と、タンク圧力制御器に対するタンク圧力設定点（３５０）と、テールパイプ圧力のフィードバック（４２０）を含む。流動性のセメントは、セメント源（図示されていない）から、例えばマニホルド（１１２）に、続いて、表皮形成チャンバの環状路部分（１０２）に供給される。図４Ｂは、制御器（３００）と、テールパイプ圧力設定点（４１０）と、マニホルド圧力のフィードバック（３２０）と、％移動量（３３０）測定と、部品（１１０）およびユニパイプ（１０３）の表皮形成チャンバ（１０２）の相対的な動きを駆動する速度（３４０）、例えばモータ（３０５）および押し込み機（１０８）組合せ体に関する速度（３４０）と、タンク圧力制御器に対するタンク圧力設定点（３５０）と、フィルタ処理されたテールパイプ圧力のフィードバック（４２２）と、テールパイプ圧力のフィードバック信号（４２３）、テールパイプ圧力のフィードバック信号（４２４）、またはその両者の信号を受け取ることができる電子信号フィルタ（４２１）とを含む。
【００４７】
図５は、図４Ａおよび４Ｂの実施形態用の多重入力多重出力制御器のアーキテクチャ（５００）を示し、制御器の入力および出力を表している。例えば、入力は、目標マニホルド圧力（５１０）、マニホルド圧力測定（５２０）、％移動量（５０）および単一点またはフィルタ処理された「テールパイプ」圧力測定（５３５）であり、出力は、速度（５４０）およびタンク圧力の設定点（５５０）である。
【００４８】
図６は、擬似フィードフォワード制御スキームの一部として用いられるモデルのサンプル的な検証結果のグラフであり、サイクルの終端におけるマニホルド圧力（６００）と、モデルの推定データ（６１０）とが示されている。
【００４９】
図７は、部品の速度の関数としてのマニホルド圧力（ｐｓｉ）の実験結果のグラフであり、基準のまたは好ましい運転プロセスウィンドウ（７００）を例示する。種々の運転条件に対する部品の表皮品質の結果および傾向は次のように特定される。すなわち、急速流れ（７１０）、若干の急速流れ（７２０）、若干の不足（７３０）、不足（７４０）、および３０％を超える無表皮部分（７５０）である。この実験に基づいて、マニホルド圧力に関する好ましい運転プロセスウィンドウは３ｐｓｉ（２０．７ｋＰａ）〜８ｐｓｉ（５５．２ｋＰａ）であり、表皮速度は７ｍｍ／秒〜１３ｍｍ／秒であることが分かった。
【００５０】
図８Ａ〜８Ｃは、それぞれプロセスの例を示す。すなわち、多くの過渡状態と、きわめて不定な再現性のないプロセスとを有する、提案された最適制御方策を実施する前の場合（８Ａ）と、プロセス制御方策を実施した場合（８Ｂ）であり、首尾一貫性があり再現可能な容易に定常状態に達するプロセスを有する場合（８Ｂ）であって、押し込み速度（８００）と、マニホルド圧力（８１０）と、部品の場所または位置（８２０）と、押し込み力（８３０）との線が時間に対して示されている場合（８Ｂ）と、基準表皮速度の最適化を備えた場合（８Ｃ）であり、重要なパラメータについて平坦なパターンを有すると共に、より急速に定常状態に達するプロセスの場合（８Ｃ）であって、マニホルドの圧力（８４０）と、ミリメートル毎秒（ＭＭＰｓｅｃ）の単位の速度（８５０）と、部品の位置または場所（８６０）と、押し込み力（８７０）との線が時間に対して示されている場合（８Ｃ）とである。本開示は、割り出し押し込み操作における軸方向表皮形成の間の、均等で繰り返し可能な圧力および速度のパターンを得る方法を提供する。図８Ａ〜８Ｃにおける縦軸の名称および単位は、マニホルド圧力（ｐｓｉ）、部品速度（ミリメートル毎秒）および部品の位置（インチ）（左軸）と、押し込み力（ポンド）（右軸）とである。
【００５１】
再度図を参照すると、図１は、軸方向表皮形成装置およびプロセスの模式図である。基本的な操作として、表皮形成材料を、一定圧力に維持される圧力タンクからパイプを通して、円筒形の塗布管（ユニパイプとしても知られる）の中に供給することが含まれる。ユニパイプは、中心線または軸の回りに設けられる複数の孔または開口を有する。タンクからの表皮形成材料はマニホルドを通過する。マニホルドは少なくとも２つの機能を有する。すなわち、第１に、タンクからのセメントの流れをユニパイプの回りに均等に分布させる機能であり、第２に、ユニパイプに対する構造的な支持を提供する機能である。表皮形成材料がユニパイプ内に検出されると、押し込み機が、部品を、ユニパイプを通して押し込む。部品がユニパイプを通過するに連れて、表皮形成材料が部品上に塗布され、表皮形成された部品がユニパイプから出てくる。押し込み機は電気作動可能である。
【００５２】
図２Ａおよび２Ｂは、軸方向表皮形成プロセスの制御アーキテクチャの実施形態の模式図である。これらの実施形態における差異は、マニホルド圧力のフィードバックの決定である。図２Ａの実施形態においては、マニホルド出口の１つの位置（ユニパイプへの入口）における圧力を監視して、フィードバックとして使用する。この場合は、表皮形成材料の流れがユニパイプの回りに均等であることが想定されている。図２Ｂの実施形態においては、ユニパイプの両側の圧力が測定される。圧力の測定は、ユニパイプの回りの２つの位置のみには限定されず、ユニパイプの中への表皮形成材料の流れの均等性に関わる情報を提供すると見られるユニパイプ回りの複数の位置も含むことができる。マニホルド出口におけるこの圧力は、部品に表皮を塗布するのに十分な表皮形成材料がマニホルド内に存在しているか否かに関する情報も提供する。この圧力のフィードバック（単一点またはフィルタ処理された値のいずれか）は、多重入力多重出力（ｍｕｌｔｉ−ｉｎｐｕｔ  ｍｕｌｔｉ−ｏｕｔｐｕｔ：ＭＩＭＯ）制御器への入力として用いられるが、このＭＩＭＯ制御器は、目標マニホルド圧力の設定点、および、ユニパイプの内側において部品が移動した距離の百分率（％移動量）（ユニパイプを通して部品を押し込むモータから得られる）をも追加の入力として含む。提案されるＭＩＭＯ制御器の出力は、部品の速度における変化であり、これは、単一点またはフィルタ処理されたマニホルド圧力と目標マニホルド圧力との間の誤差を補償するために必要である。この制御器の別の出力はタンク圧力の設定点であり、これは、タンク圧力制御器に送られて、タンクを所要の圧力に維持するための空気圧を調整する。
【００５３】
図３は、制御器の入力および出力を模式的に示す。このＭＩＭＯ制御器を支配する方程式は次式（１）によって与えられる。
【００５４】
【数１】
0006421948.tif 000002
【００５５】
ここで、「ＵＦＢ（ｋ）」は時点「ｋ」における制御器の出力、Ｐｍａｎｉｆｏｌｄは、マニホルド出口で測定される、単一点マニホルド圧力またはフィルタ処理されたマニホルド圧力のいずれか、Ｐｔｈｒｅｓｈｏｌｄは、表皮形成プロセスを何時実際に開始するべきかの決定に用いられる限界値、ｅ（ｋ）は、測定されたマニホルド圧力とマニホルド圧力設定点との間の誤差、
0006421948.tif 000003
はタンク圧力の設定点、Ψ（．）は、１つ以上の考えられる入力または変数を有する関数であって、測定されたマニホルド圧力と目標マニホルド圧力との間の誤差を補償するのに必要な速度の変化を計算する関数であり、％移動量は、ユニパイプ内部において部品が移動した距離の百分率として定義される。例えば、ＰｍａｎｉｆｏｌｄまたはＰｔａｉｌｐｉｐｅがＰｔｈｒｅｓｈｏｌｄより大きければ、表皮形成プロセスを開始できる。同様に、ＰｍａｎｉｆｏｌｄまたはＰｔａｉｌｐｉｐｅがＰｔｈｒｅｓｈｏｌｄより小さければ、表皮形成プロセスを停止できる。
【００５６】
システムのオープンループの応答に基づいて、速度とマニホルド圧力との間の関係は、反対または逆の関係であることが観察された。これは、速度が増大すればマニホルド圧力は低下し、その逆も成り立つことを意味する。この関係を考慮して、測定された圧力と目標圧力との間の誤差が定義される。マニホルド出口において単一点圧力のみが測定される場合には、誤差ｅ（ｋ）は、
【００５７】
【数２】
0006421948.tif 000004
【００５８】
として定義される。
【００５９】
マニホルド出口の圧力が複数の位置において測定される場合には、誤差ｅ（ｋ）は、
【００６０】
【数３】
0006421948.tif 000005
【００６１】
として定義される。ここで、
0006421948.tif 000006
は目標マニホルド圧力であり、Φ（．）は、１つ以上の考えられる入力または変数を有するフィルタ関数であって、マニホルド出口におけるユニパイプ回りの異なる圧力測定に適用されるフィルタ関数である。最適のフィルタ関数を選択するには多くの選択肢がある。この関数の最も簡単な形式の１つは、
【００６２】
【数４】
0006421948.tif 000007
【００６３】
で定義される平均化フィルタ関数である。ここで、ｎは、マニホルド出口のユニパイプ回りに取られた圧力測定の合計個数であり、
0006421948.tif 000008
は、ユニパイプ回りのマニホルド出口の位置「ｉ」におけるマニホルド圧力である。Ψ（．）は、測定されたマニホルド圧力と目標マニホルド圧力との間の誤差を補償するのに必要な速度の変化を計算する。再度、最適の関数を選択するには多くの選択肢がある。この関数の最も簡単な形式は、
【００６４】
【数５】
0006421948.tif 000009
【００６５】
で与えられる。ここで、「ｋ」は離散的な時点、Ｔはサンプリング時間、ＫＰおよびＫＴは、システムのオープンループ応答を使用して決定される制御器のパラメータである。初期値ＵＦＢ（ｋ−１）は、部品がユニパイプを通して押し込まれる基準速度である。基準速度をどのように選択するかについての詳細を以下に述べる。
【００６６】
式（１）から注目できるように、制御器の作動は、式（１）の第３列によって規定される特定の条件に応じて異なる。％移動量ｔｈｒｅｓｈｏｌｄによって記述される％移動量についての限界値と、Ｐｔｈｒｅｓｈｏｌｄによって与えられるマニホルド圧力の限界値と、タンク圧力（ｙ）に関する制御器の出力とは、プロセスの基本事項の理解に基づいて決定され、以下に述べる擬似フィードフォワード制御器を用いて自動的に決定できる。これらの値は、流動性の表皮形成セメントの特性、例えば、粘度、含水量、粒子サイズ分布（ｐａｒｔｉｃｌｅ  ｓｉｚｅ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ：ＰＳＤ）などの考慮因子に応じて変化するであろう。
【００６７】
図４Ａおよび４Ｂは、軸方向表皮形成プロセスの制御方策の実施形態４Ａおよび４Ｂの模式図である。これらの実施形態においては、ユニパイプの底部における圧力（テールパイプ圧力としても知られる）を目標値に制御することができる。実施形態２Ａおよび２Ｂにおいて述べたように、テールパイプ圧力分布の測定に用いられるセンサーの個数は、ユニパイプ回りの表皮形成材料の流れの均等性によって変化する。実施形態４Ａおよび４Ｂ用の多重入力多重出力制御器を支配する方程式は、次式（６）によって与えられる。
【００６８】
【数６】
0006421948.tif 000010
【００６９】
ここで、ｅ’（ｋ）は、時点「ｋ」における測定されたテールパイプ圧力と目標テールパイプ圧力との間の誤差、ｅ（．）は、測定されたテールパイプ圧力と目標テールパイプ圧力との間の誤差を補償するのに必要な速度の変化を計算する関数である。この例においては、速度とテールパイプ圧力との間の関係は直接作用である。従って、この点を考慮して、単一点テールパイプ圧力のみが測定される場合には、誤差ｅ’（ｋ）は、
【００７０】
【数７】
0006421948.tif 000011
【００７１】
として定義される。
【００７２】
テールパイプの圧力が複数の位置において測定される場合には、誤差ｅ’（ｋ）は、
【００７３】
【数８】
0006421948.tif 000012
【００７４】
として定義される。ここで、
0006421948.tif 000013
は目標テールパイプ圧力であり、Φ（．）は、式（３）において定義されるのと同じ関数である。
【００７５】
関数ｅ（．）は、測定されたテールパイプ圧力と目標テールパイプ圧力との間の誤差を補償するのに必要な速度の変化を計算する。再度、好ましい関数を選択するには多くの選択肢があるが、この関数の最も簡単な形式は次式（９）で与えられる。
【００７６】
【数９】
0006421948.tif 000014
【００７７】
ここで、「ｋ」は離散的な時点、Ｔはサンプリング時間、Ｋ’ＰおよびＫ’Ｔはシステムのオープンループ応答を使用して決定される制御器のパラメータである。前記のように、ＵＦＢ（ｋ−１）の初期値は、部品がユニパイプを通して押し込まれる基準速度である。
【００７８】
また、フィードバック制御にテールパイプ圧力を用いる場合であっても、制御器の作動に対する条件はなおマニホルド圧力に基づいていることに留意されたい。これによって、表皮形成プロセスが開始される前に、マニホルド内に表皮形成材料が十分に存在することが保証される。
【００７９】
「擬似（ｐｓｅｕｄｏ）」という用語は制御スキームを記述するのに用いられるが、それは、リアルタイムにおいて、制御器の出力が、次の部品に対して用いられ、軸方向の表皮形成装置および方法が作用している現時点の部品（ユニパイプを通して現在押し込まれている部品）には影響を及ぼさないという理由からである。理想的なフィードフォワード制御スキームにおいては、制御作用は、現存の部品に対してリアルタイムにおいて用いられる。本開示は、「バッチ」タイプのプロセスまたは非連続プロセスに対する擬似フィードフォワード制御技術の使用の例証になると信じられる。
【００８０】
開示される制御器の基本的な前提は、この制御器が、ユニパイプを通して部品を押し込むことができる前に、マニホルド内の圧力が十分に形成されていることに依拠しているという点である。マニホルド圧力のこの形成は、測定されたマニホルド圧力を、圧力の限界値Ｐｔｈｒｅｓｈｏｌｄと比較することによって決定される。また、タンクの圧力がサイクルの全期間にわたって目標値に維持されると、表皮の品質が損なわれ、最終的な表皮形成製品に欠陥が見られることになる。従って、タンクの圧力は、部品に不足することなく表皮形成するのに丁度十分なだけの材料量が存在するように、管およびマニホルド内に既に存在する過剰な表皮形成材料に対処するために低減されなければならない。タンク圧力が低減され、マニホルドおよび管内の表皮形成材料の幾分かが部品の表皮形成に使用されるので、マニホルド内の圧力は低下する。次のサイクルが開始される前には、マニホルド圧力が十分に高くならない限り、制御作用が実行されることはないので、サイクルの終端においては、マニホルド圧力が、Ｐｔｈｒｅｓｈｏｌｄによって与えられる設定限界値よりかなり下に低下することが保証されなければならない。従って、顕著なコスト節減のために表皮形成材料の好ましい利用を得るには、タンク圧力が低下する時間とマニホルド圧力の限界値との間のバランスを実現する必要がある。このため、考慮する必要がある少なくとも４個の変数がある。すなわち、サイクルの開始時点におけるタンク圧力と、タンク圧力が低減されるべき時間と、タンク圧力が低減される圧力値と、マニホルド圧力の限界値とである。
【００８１】
アルゴリズムの複雑さを低減するために、一変数、すなわちタンク圧力が低減されるべき圧力値を０に固定する。このため、問題は、表皮形成サイクルの終端においてマニホルド圧力が限界値よりかなり低くなるように、３つの変数、すなわち、サイクル開始時点におけるタンク圧力と、タンク圧力が低減される時間と、マニホルド圧力の限界値との間のバランスを取ることに単純化される。タンク圧力が低減される時間は、時間の長さから、％移動量として定義される、ユニパイプ内において部品が移動した距離に変換される。
【００８２】
この擬似フィードフォワード制御の設計の第１ステップは、重要変数間のモデルの開発である。最初に、サイクル開始時点におけるタンク圧力と、％移動量と、マニホルド圧力の限界値Ｐｔｈｒｅｓｈｏｌｄと、
0006421948.tif 000015
によって与えられる表皮形成サイクルの終端におけるマニホルド圧力との間のモデルが開発される。すなわち、
【００８３】
【数１０】
0006421948.tif 000016
【００８４】
である。ここで、Λ（．）はモデル関数である。この関数は、第１原理に基づくモデルまたはデータ駆動型モデルとすることができる。データ駆動型モデル（経験モデル）の一例が次式によって与えられる。
【００８５】
【数１１】
0006421948.tif 000017
【００８６】
ここで、
0006421948.tif 000018
はマニホルド圧力の設定点であり、Ｋ１、Ｋ２、Ｋ３およびＫ４は、最小二乗法を用いて得られ、それぞれ「０．０６１」、「０．０７１５」、「０．０２３９」および「−６．６９７」に等しい。しかし、サイクル開始時点におけるタンク圧力が５０ｐｓｉ（３４４．７ｋＰａ）の一定値に保持される場合は、モデルは、
【００８７】
【数１２】
0006421948.tif 000019
【００８８】
に単純化される。ここで、Ｋ１’、Ｋ２’およびＫ３’は、最小二乗法を用いて得られ、それぞれ「０．０７１５」、「０．０２３９」および「−３．６４７」に等しい。タンク圧力の設定点に応じて、モデルパラメータＫ１’、Ｋ２’およびＫ３’は修正されるべきである。
【００８９】
しかし、擬似フィードフォワード制御スキームに対しては、開発されたモデルはそのままの形では使用できない。この目的のためには、式（１３）で与えられるこのモデルの逆関数が望ましい。すなわち、
【００９０】
【数１３】
0006421948.tif 000020
【００９１】
上記のモデルは数値技法を用いて解かれ、出力値に対する制限は次のとおりである。
【００９２】
【数１４】
0006421948.tif 000021
【００９３】
【数１５】
0006421948.tif 000022
【００９４】
基準表皮速度の決定
基準表皮速度は、式（５）および（９）の項ＵＦＢ（ｋ−１）の初期条件である。これは、重要なプロセスパラメータの変動性に影響を及ぼす重要なパラメータである。基準表皮速度は、欠陥のない表皮形成部品の実現に関して最適でなければならない。表皮速度はバッチ圧力に大きく依存している。図７は、異なる表皮速度および異なるマニホルド圧力の最終的な表皮品質に対する影響の寸描を示す。図７に示す基準プロセスウィンドウは部品の寸法およびバッチ特性と共に変化する。
【００９５】
図８は、欠陥のない表皮形成部品を得るのに適したプロセスパラメータの変動性の低減に関する例示的チャートである。図８Ａは、すべての重要なプロセス変数が高いレベルの変動性を有する場合の表皮形成サイクルであって、きわめて不定な繰り返し性のないプロセスをもたらす表皮形成サイクルの一例を示す。図８Ｂは、好ましいプロセス制御方策を実施した場合に観察される変化を示しており、この場合は、プロセス変数の変動性が大幅に低減され、それによって、より首尾一貫しかつより繰り返し性のあるプロセスがもたらされている。開示されたこの制御スキームは、また、プロセスが全体的に定常な運転態勢に達することは決してない初期状況の場合とは反対に、プロセスが１個の表皮形成サイクルの範囲内で定常状態に達することを可能にする。図８Ｃは、基準速度が変化した場合に観察される変化を示す。これは、重要なプロセスパラメータについて平坦なパターンをもたらすと共に、プロセスがより急速に定常状態に達することをも支援する。１個の表皮形成サイクルの範囲内における重要なプロセスパラメータの変動性が低ければ、最終的な表皮形成製品に見られる欠陥が結果的に減少することが観察された。
【実施例】
【００９６】
以下の実施例は、以上述べた本開示を用いる方法をより完全に記述し、かつ、本開示の種々の態様を実施するのに考えられる最良のモードをさらに敷衍するのに役立つ。これらの実施例は、本開示の範囲を限定するものではなく、例示目的用として提示されるものであることが理解される。使用実施例は、さらに、本開示の方法をいかにして遂行するかを記述する。
【００９７】
実施例１
割り出し押し込みプロセス用のプロセス制御ステップ
１．先行の運転ランおよび流動性セメントバッチの粘度に基づいて選択されたプロセスの運転設定点、すなわち、タンク圧力設定点、基準表皮形成速度、Ｐｔｈｒｅｓｈｏｌｄおよび％移動量ｔｈｒｅｓｈｏｌｄを入力するステップ；
２．表皮形成装置上に部品を載せるステップ；
３．マニホルド内の圧力形成を待機するステップ；
４．マニホルド圧力が限界圧力値より大きくなる（すなわち、Ｐｍａｎｉｆｏｌｄ＞Ｐｔｈｒｅｓｈｏｌｄ）と表皮形成プロセスを開始する（すなわち、表皮形成機を通して部品を動かすかあるいは表皮形成機を部品の上部に動かす）ステップ。部品速度およびタンク圧力パターンは前記の式（１）または（６）に与えられる；
５．百分率移動量が百分率移動量の限界値より大きくなる（すなわち、％移動量＞％移動量ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ）と、タンク圧力設定点を「ｙ  ｐｓｉ」（式（１）または（６）に与えられる）に変更するステップ。例えば、タンク圧力設定点が開始用として５０ｐｓｉ（３４４．７ｋＰａ）であったとすれば、さらに、％移動量の条件が満たされていれば、タンク圧力設定点を０ｐｓｉに変更できる；
６．表皮形成サイクルの終端においてマニホルド圧力（すなわち、
0006421948.tif 000023
）に注目するステップ。この値はＰｔｈｒｅｓｈｏｌｄ未満であるべきである。そうでなければ、新しいＰｔｈｒｅｓｈｏｌｄおよび％移動量ｔｈｒｅｓｈｏｌｄについて解くために、式（１３）〜（１５）を用いる；および、
７．新しいＰｔｈｒｅｓｈｏｌｄおよび％移動量ｔｈｒｅｓｈｏｌｄをシステムに入力して、表皮形成サイクルを再度開始するステップ。
【００９８】
本開示を、種々の特定の実施形態および技術を参照して説明した。しかし、本開示の範囲内に留まったまま、多くの変形および修正が可能であることが理解されるべきである。
【図１Ａ−１Ｂ】
0006421948.tif 000024
【図２Ａ】
0006421948.tif 000025
【図２Ｂ】
0006421948.tif 000026
【図３】
0006421948.tif 000027
【図４Ａ】
0006421948.tif 000028
【図４Ｂ】
0006421948.tif 000029
【図５】
0006421948.tif 000030
【図６】
0006421948.tif 000031
【図７】
0006421948.tif 000032
【図８】
0006421948.tif 000033