(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に配置された第１電極;
前記第１電極上に配置された有機発光層;
前記有機発光層上に配置された第２電極；
前記第１電極の端部と重畳して画素を定義するバンク；
前記バンク上に配置された遮光層;および
前記遮光層の間で、かつ前記第２電極上に配置された、接着物質を含むレジン層を含み、
前記遮光層には、前記遮光層の一側と他側を貫通するレジン移動パターンが設けられ、
前記遮光層の一側に配置されたレジン層と他側に配置されたレジン層は、前記レジン移動パターンを通じて接続されている有機発光表示装置。
【請求項２】
前記レジン移動パターンは、少なくとも一度折れ曲がる形態で設けられた、請求項１に記載の有機発光表示装置。
【請求項３】
前記レジン移動パターンの一端と他端は、互いに向き合わない、請求項２に記載の有機発光表示装置。
【請求項４】
前記遮光層は、
前記画素の少なくとも二辺以上を囲むように設けられ、
前記レジン移動パターンは、隣接する画素の間に少なくとも一つ以上設けられる、請求項１に記載の有機発光表示装置。
【請求項５】
前記レジン移動パターンは、レジン層が一つにつながるように設けられた、請求項１に記載の有機発光表示装置。
【請求項６】
前記遮光層は、前記有機発光層と重畳しない、請求項１に記載の有機発光表示装置。
【請求項７】
表示領域と非表示領域を有する第１基板上の表示領域に第１電極を形成する工程;
前記第１電極の側面にバンクを形成する工程;
前記第１電極上に有機発光層を形成する工程;
前記有機発光層の上に第２電極を形成する工程;
前記バンクと重畳するように第２電極上にレジン移動パターンを含む遮光層を形成する工程;
前記遮光層の高さと同じになるように前記表示領域と非表示領域の境界部分に、フレーム形態でダムを形成する工程;
前記ダムの高さだけ前記第２電極上にレジン物質を充填する工程；および
接着物質が充填されたレジン層の上にカラーフィルタを有する第２基板を合着する工程を含む、有機発光表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記バンクと重畳するように第２電極上に遮光層を形成する工程は、
前記レジン移動パターンが少なくとも一回折れ曲がる形態を有するように、前記遮光層を形成する、請求項７に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記バンクと重畳するように第２電極上に遮光層を形成する工程は、
前記レジン移動パターンの一端と他端が互いに向き合わないように、前記遮光層を形成する、請求項７に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記遮光層は、前記有機発光層と重畳しない、請求項７に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光表示装置に関するもので、より詳細には、上部発光方式の有機発光表示装置及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機発光表示装置（OLED）は、自発光素子であり、消費電力が低く、応答速度が速く、高い発光効率、高い輝度および広視野角を有している。
【０００３】
有機発光表示装置（OLED）は、有機発光素子を通じて発光した光の透過方向によって上部発光方式（top emission type）と下部発光方式（bottom emission type）に分けられる。前記下部発光方式は、発光層と画像表示面の間に回路素子が位置するので、前記回路素子によって開口率が低下するという欠点がある一方で、前記上部発光方式は、発光層と画像表示面の間に回路素子が位置していないので、開口率が向上するという利点がある。
【０００４】
図１は、従来の有機発光表示装置の概略的な断面図である。
【０００５】
図１から分かるように、従来の有機発光表示装置は、第１基板１と第２基板８を合着させて構成されている。
【０００６】
このような、従来の有機発光表示装置は、第１基板１上に、アクティブ層、ゲート絶縁膜、ゲート電極、層間絶縁膜、ソース電極およびドレイン電極を含む薄膜トランジスタ（T）が配置され、前記薄膜トランジスタ（T）上に平坦化層２が配置される。
【０００７】
前記平坦化層２上にはバンク３が配置され、前記バンク３を基準に両側に発光層４が配置される。
【０００８】
前記発光層４上に全体的にレジン層５が配置される。
【０００９】
前記第２基板８は、全面にカラーフィルタ７が配置され、前記カラーフィルタ７上に遮光層６が配置される。
【００１０】
前記遮光層６は、発光層４の光が混合することを防止するために、バンク３上に整列させることが好ましい。しかし、従来の有機発光表示装置は、前記第１基板１と第２基板８を合着する工程時に、工程誤差によって遮光層６がバンク３上に正しく整列されないことが起こり得る。これにより、前記遮光層６は、発光層４と重畳されて前記発光層４の光を遮断することになる。したがって、従来の有機発光表示装置は、開口率と光の均一度が低下して、有機発光表示装置の画像品位が低下するという問題がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
したがって、本発明は、従来技術の限界及び欠点に起因する１つ以上の問題を実質的に解消する透明な表示装置を提供することを目的とする。
【００１２】
本発明は、前述した問題点を解決するために案出されたもので、有機発光表示装置の開口率の減少および画像品位が低下するという問題を防止する有機発光表示装置とその製造方法を提供することを技術的課題とする。
【００１３】
本発明のさらなる利点および特徴は、以下の説明に部分的に記載され、以下の記載を検討することにより当業者に明らかになるか、または本発明の実施例から学ぶことができる。本発明の目的および他の利点は、明細書および添付の図において特に指摘された構造によって実現および達成され得る。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上述した技術的課題を達成するための本発明は、基板上に配置された第１電極と前記第１電極上に配置された有機発光層と前記第１電極の端部と重畳し、画素を定義するバンクと、前記バンクの上に配置された遮光層及び前記遮光層の間に配置され、接着物質を含むレジン層を含み、前記遮光層には、前記遮光層の一側と他側を貫通するレジン移動パターンが設けられ、前記遮光層の一側に配置されたレジン層と他側に配置されたレジン層は、前記レジン移動パターンを通じて接続された有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【００１５】
前述の一般的な説明および以下の本発明の詳細な説明は、例示的および説明的なものであり、本発明の特許請求の範囲の記載に対してさらなる説明を提供することを意図していることを理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
本出願に添付された本出願の一部を構成する図は、本発明の実施形態を示して本発明のさらなる理解を提供して、明細書と共に本発明の原理を説明する役割を果たす。
【図１】従来の有機発光表示装置の概略的な断面図である。
【図２】本発明の一例による有機発光表示装置の概略的な平面図である。
【図３】図２の平面図で、表示パネルを拡大した図である。
【図４】本発明の一例による有機発光表示装置の断面図で、図３のＩ−Ｉ’線に沿った断面図である。
【図５】本発明の第１例による遮光層の平面図で、図３のA領域を拡大した図である。
【図６】本発明の第２例による遮光層の平面図で、図３のA領域を拡大した図である。
【図７】本発明の第３例による遮光層の平面図で、図３のA領域を拡大した図である。
【図８】本発明の第４例による遮光層の平面図で、図３のA領域を拡大した図である。
【図９ａ】〜本発明の一例による有機発光表示装置の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図９ｂ】本発明の一例による有機発光表示装置の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図９ｃ】本発明の一例による有機発光表示装置の製造方法を説明するための工程断面図である。
【図９ｄ】本発明の一例による有機発光表示装置の製造方法を説明するための工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本明細書で記述された用語の意味は、次のように理解されなければならない。
【００１８】
単数の表現は、文脈上明らかに別の方法で定義しない限り、複数の表現を含むものと理解されなければならず、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するためのもので、これらの用語によって権利範囲が限定されてはならない。「含む」または「有する」などの用語は、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、工程、動作、構成要素、部分品またはそれらを組み合わせたものの存在または付加の可能性を事前に排除しないものと理解されなければならない。「少なくとも一つ」の用語は、一つまたは複数の関連項目から提示可能なすべての組み合わせを含むものと理解されなければならない。例えば、「第１項目、第２項目及び第３項目の中から少なくとも一つ」の意味は、第１項目、第２項目または第３項目のそれぞれだけでなく、第１項目、第２項目及び第３項目の中の2以上から提示することができるすべての項目の組み合わせを意味する。「上に」という用語は、ある構成が他の構成のすぐ上面に形成される場合だけでなく、それらの構成の間に第３の構成が介在する場合まで含まれ得ることを意味する。
【００１９】
以下では、本発明に係る有機発光表示装置の好ましい例を、添付の図を参照して詳細に説明する。各図の構成要素に参照符号を付加する場合、同一の構成要素に対しては、たとえ他の図上に表示されていても、可能な限り同一の符号を有する。また、本発明を説明するにあたり、関連した公知の構成または機能に対する具体的な説明が本発明の要旨を曖昧にし得ると判断される場合には、その詳細な説明は省略することができる。
【００２０】
図２は、本発明の一例による有機発光表示装置の概略的な平面図である。
【００２１】
図２を参照すると、本発明の一例による有機発光表示装置は、表示パネル１０、ゲート駆動部２０、ソースドライブ集積回路（integrated circuit,以下「IC」と称する）３０、軟性フィルム４０、回路基板５０およびタイミング制御部６０を含む。
【００２２】
前記表示パネル１０は、第１基板１００と第２基板６５０を含む。このような第２基板６５０は、封止基板であり得る。ここで、第１基板１００は、第２基板６５０よりも大きく形成され得、それによって第１基板１００の一部は、第２基板６５０によって覆われないで露出し得る。
【００２３】
前記表示パネル１０の表示領域（AA）には、ゲートライン、データライン、ゲートラインとデータラインの交差領域に配置される画素（P）が形成される。前記表示領域（AA）の画素（P）は、画像を表示することができる。このような表示領域（AA）に対する詳細な説明は、図３で後述することにする。
【００２４】
前記ゲート駆動部２０は、タイミング制御部６０から入力するゲート制御信号に応じてゲートラインにゲート信号を供給する。
【００２５】
前記ソースドライブIC３０は、タイミング制御部６０からデジタルビデオデータとソース制御信号が入力する。このようなソースドライブIC３０は、ソース制御信号に応じて、デジタルビデオデータをアナログデータ電圧に変換してデータラインに供給する。ここで、ソースドライブIC３０が駆動チップで製作される場合、COF（chip on film）またはCOP（chip on plastic）方式で軟性フィルム４０に実装することができる。
【００２６】
前記第１基板１００の大きさは、第２基板６５０の大きさよりも大きいので、第１基板１００の一部は、第２基板６５０によって覆われないで露出することができる。第２基板６５０によって覆われないで露出した第１基板１００の一部には、データパッドのようなパッドが設けられる。
【００２７】
前記軟性フィルム４０には、パッドとソースドライブIC３０を接続する配線、パッドと回路基板５０の配線を接続する配線が形成され得る。このような軟性フィルム４０は、異方性導電フィルム（antisotropic conducting film）を用いて、パッド上に付着され、それにより、パッドと軟性フィルム４０の配線が接続し得る。
【００２８】
前記回路基板５０は、軟性フィルム４０に付着することができる。このような回路基板５０は、駆動チップに実装された多数の回路が実装され得る。例えば、回路基板５０には、タイミング制御部６０を実装することができる。ここで、回路基板５０は、プリント回路基板（printed circuit board）またはフレキシブルプリント回路基板（flexible printed circuit board）であり得る。
【００２９】
前記タイミング制御部６０は、外部のシステムボード（未図示）からデジタルビデオデータとタイミング信号の入力を受ける。ここで、タイミング制御部６０は、タイミング信号に基づいて、ゲート駆動部２０の動作タイミングを制御するためのゲート制御信号とソースドライブIC３０を制御するためのソース制御信号を発生する。このようなタイミング制御部６０は、ゲート制御信号をゲート駆動部２０に供給して、ソース制御信号をソースドライブIC３０に供給する。
【００３０】
図３は、本発明の一例による有機発光表示装置の平面図で、図２の平面図の表示パネル１０を拡大した図である。また、図４は、本発明の一例による有機発光表示装置の断面図で、図３のＩ−Ｉ’線に沿った断面図である。
【００３１】
図３を参照すると、本発明の一例による有機発光表示装置は、非表示領域（NA）と表示領域（AA）を含む。
【００３２】
前記非表示領域（NA）は、前記表示領域（AA）の外郭に設けられる。前記非表示領域（NA）には、前記表示領域（AA）に信号を印加するための各種パッドと駆動部が形成され、このような非表示領域（NA）の構成は、当業界に公知された多様な形態に変更することができる。
【００３３】
前記表示領域（AA）は、複数の画素（P）が横方向および縦方向に配列されている。
【００３４】
このような、本発明の一例による有機発光表示装置は、第１基板１００および第２基板６５０を含む。
【００３５】
前記第１基板１００は、一例として、下部基板として機能することができる。このような第１基板１００は、上部に薄膜トランジスタ（T）、パッシベーション層２００、平坦化層２５０、第１電極３００、３１０、バンク３５０、第１および第２有機発光層４００、４１０、第２電極４５０、遮光層５００、ダム５５０、第１及び第２レジン層６００、６１０を形成する。
【００３６】
前記薄膜トランジスタ（T）は、アクティブ層１１０、ゲート絶縁膜１２０、ゲート電極１３０、層間絶縁膜１４０、ソース電極１５０およびドレイン電極１６０を含む。
【００３７】
前記アクティブ層１１０は、ゲート電極１３０と重畳するように第１基板１００上に配置される。このようなアクティブ層１１０は、シリコン系半導体材料からなることもあり酸化物系半導体材料からなることもある。図示していませんが、第１基板１００と、アクティブ層１１０との間に遮光膜を追加で形成することができる。
【００３８】
前記ゲート絶縁膜１２０は、前記アクティブ層１１０上に配置される。このようなゲート絶縁膜１２０は、アクティブ層１１０とゲート電極１３０を絶縁させる。ここで、ゲート絶縁膜１２０は、無機絶縁物質、例えば、シリコン酸化膜（SiOX）、シリコン窒化膜（SiNX）、またはこれらの多重膜からなり得るが、必ずしもそれに限定されるものではない。
【００３９】
前記ゲート電極１３０は、前記ゲート絶縁膜１２０上に配置される。このようなゲート電極１３０は、ゲート絶縁膜１２０を間に置いて、アクティブ層１１０と重畳するようにに形成される。ここで、ゲート電極１３０は、モリブデン（Mo）、アルミニウム（Al）、クロム（Cr）、金（Au）、チタン（Ti）、ニッケル（Ni）、ネオジム（Nd）、銅（Cu）のいずれかまたはこれらの合金からなる単層または多重層であり得るが、必ずしもそれに限定されるものではない。
【００４０】
前記層間絶縁膜１４０は、前記ゲート電極１３０上に形成される。このような層間絶縁膜１４０は、ゲート絶縁膜１２０と同じ無機絶縁物質、例えば、シリコン酸化膜（SiOX）、シリコン窒化膜（SiNX）、またはこれらの多重膜で形成することができるが、必ずしもそれに限定されるものではない。
【００４１】
前記ソース電極１５０およびドレイン電極１６０は、前記層間絶縁膜１４０上で互いに対向するように配置される。前述したゲート絶縁膜１２０と層間絶縁膜１４０には、アクティブ層１１０の一端領域を露出させる第１コンタクトホール（CH1）及び前記アクティブ層１１０の他端領域を露出させる第２コンタクトホール（CH2）が設けられる。ここで、ソース電極１５０は、第１コンタクトホール（CH1）を通じて、前記アクティブ層１１０の他端領域と接続され、ドレイン電極１６０は、第２コンタクトホール（CH2）を通じてアクティブ層１１０の一端領域に接続される。
【００４２】
以上のような薄膜トランジスタ層（T）の構成は、図示された構造に限定されず、当業者に公知された構成で多様に変形可能である。例として、図には、ゲート電極１３０がアクティブ層１１０の上に形成されているトップゲート（Top Gate）構造を示したが、ゲート電極１３０がアクティブ層１１０の下に形成されるボトムゲート（Bottom Gate）構造からもなり得る。
【００４３】
前記パッシベーション層２００は、前記薄膜トランジスタ層（T）上に配置される。このようなパッシベーション層２００は、薄膜トランジスタ層（T）を保護する機能をする。ここで、パッシベーション層２００は、無機絶縁物質、例えば、シリコン酸化膜（SiOX）またはシリコン窒化膜（SiNX）からなり得るが、必ずしもそれに限定されるものではない。
【００４４】
前記平坦化層２５０は、前記パッシベーション層２００上に配置される。このような平坦化層２５０は、薄膜トランジスタ（T）が備えられている第１基板１００の上部を平坦にする機能を遂行する。ここで、平坦化層２５０は、アクリル樹脂（acryl resin）、エポキシ樹脂（epoxy resin）、フェノール樹脂（phenolic resin）、ポリアミド樹脂（polyamide resin）、ポリイミド樹脂（polyimide resin）などの有機絶縁物からなり得るが、必ずしもそれに限定されるものではない。
【００４５】
前記第１電極３００、３１０は、前記平坦化層２５０上に配置される。前述したパッシベーション層２００と平坦化層２５０には、ドレイン電極１６０を露出させる第３コンタクトホール（CH3）が設けられていて、第１電極３００は、前記第３コンタクトホール（CH3）を通じてドレイン電極１６０に接続される。つまり、第１電極３００、３１０は、薄膜トランジスタ（T）と電気的に接続される。ここで、第１電極３００、３１０は、それぞれの画素（P）ごとに分離して配置され、一例として、アノード（anode）電極として機能することができる。このような第１電極３００、３１０は、インジウムスズ酸化物（ITO）またはインジウム亜鉛酸化物（IZO）からなり得る。また、前記第１電極３００、３１０は、反射効率に優れた金属物質、例えば、モリブデン（Mo）、モリブデンとチタンの合金（MoTi）、アルミニウム（Al）、銀（Ag）、APC（Ag;Pb;Cu）などを含む、少なくとも二層以上の層で構成することができる。
【００４６】
前記バンク３５０は、前記第１電極３００、３１０上に配置される。ここで、バンク３５０は、第１電極３００、３１０の一部と重畳するようにに配置することにより、画素（P）の領域を定義する。すなわち、バンク３５０は、前記第１電極３００、３１０の上面を露出させながら前記第１電極３００の側面を覆うように配置される。このような、バンク３５０は、第１電極３００、３１０の上面を露出させるように配置されることにより、画像が表示される領域を確保することができる。このようなバンク３５０は、ポリイミド樹脂（polyimide resin）、アクリル樹脂（acryl resin）、ベンゾシクロブテン（BCB）などのような有機絶縁物からなり得るが、必ずしもそれに限定されるものではない。
【００４７】
前記有機発光層４００、４１０は、前記第１電極３００、３１０上に配置される。ここで、第１有機発光層４００および第２有機発光層４１０は、バンク３５０を基準に、それぞれ異なる画素（P）に分離して配置される。このような有機発光層４００、４１０は、正孔注入層（Hole Injecting Layer）、正孔輸送層（Hole Transporting Layer）、発光層（Emitting Layer）、電子輸送層（Electron Transporting Layer）、および電子注入層（Electron Injecting Layer）を含んでなることができ、有機発光層４００、４１０は、構造を、当業界に公知された多様な形態に変更することができる。
【００４８】
前記第２電極４５０は、前記有機発光層４００、４１０上に配置される。ここで、第２電極４５０は、一例として、第１電極３００、３１０がアノード電極として機能する場合、カソード（cathode）電極として機能することができる。このような前記第２電極４５０は、光が放出される面に形成されるため、透明な導電物質からなる。
【００４９】
前記遮光層５００は、バンク３５０上に配置される。ここで、遮光層５００は、バンク３５０よりも狭い幅で形成することができる。また、遮光層５００は、有機発光層４００、４１０と重畳しないで、バンク３５０のみと重畳するように配置されるので、本発明の一例による有機発光表示装置の開口率を減少させない。このような遮光層５００は、隣接する画素（P）との間に、光漏れを遮断することができる程度の高さで配置して、隣接する画素（P）間の光漏れ現象を防止する。すなわち、前記遮光層５００は、第１有機発光層４００で発光する光が側面に反射して、第２有機発光層４１０で発光する光と混合することを防止する。このような、遮光層５００は、一例として、光が透過しない金属材料または顔料を用いて、ブラックマトリックス（BM）で形成することができる。
【００５０】
前記ダム５５０は、表示領域（AA）の最外郭に配置した画素（P）を囲むように配置される。すなわち、前記ダム５５０は、非表示領域（NA）との境界部分に、フレーム形態で配置される。このような、ダム５５０は、表示領域（AA）に充填されるレジン物質が非表示領域（NA）に広がることを防止する。
【００５１】
前記レジン層６００、６１０は、第２電極４５０上に配置され、遮光層５００と、他の遮光層５００との間、または遮光層５００とダム５５０との間に配置される。ここで、レジン層６００、６１０は、遮光層５００を挟んで両側に第１レジン層６００および第２レジン層６１０を配置する。このようなレジン層６００、６１０は、第１基板１００と第２基板６５０との間に配置されて、光の損失を防止し、接着物質を含み前記第１基板１００と第２基板６５０の間の接着力を増加させる。ここで、第１基板１００と第２基板６５０の間にエアギャップ（air gap）が発生し得る。この場合、有機発光層４００、４１０から前記エアギャップに光が反射すると、光がレジン層６００、６１０の内部で拡散され、第２基板６５０まで反射されずに輝度やコントラストが低下するという問題が発生し得る。したがって、本発明の一例による有機発光表示装置は、第１基板１００と第２基板６５０の間に屈折率が高いレジン物質を充填することで、有機発光層４００、４１０から放出される光が第２基板６５０まで到達して輝度やコントラストが低下するという問題を防止することができる。
【００５２】
一方、本発明の一例による有機発光表示装置は、第１基板１００と第２基板６５０を合着して構成される。前記第１基板１００と第２基板６５０の合着工程時に、光の混色を防止するために遮光層５００とバンク３５０の間に間隔がないように付着される。このように遮光層５００とバンク３５０の間に間隔がないように、第１基板１００と第２基板６５０を付着する場合、従来の有機発光表示装置によるレジン層６００、６１０は、前記遮光層５００とバンク３５０に塞がれて移動できなくなる。ここで、工程上すべてのレジン層６００、６１０に同量のレジン物質を充填することができないので、従来の有機発光表示装置は、画素（P）ごとに異なる量のレジン物質が充填され得る。このように画素（P）ごとに不均一にレジン物質が充填される場合、一つの画素（P）には、レジン物質が充填されないでエアギャップが形成され得る。ここで、他の画素（P）には、レジン物質が多く充填され、第１基板１００と第２基板６５０の接着の均一性が低下し、それによって、光の均一性も減少して有機発光表示装置の画像品位が低下し得る。
【００５３】
しかし、本発明の一例による有機発光表示装置は、遮光層５００にレジン移動パターンを設けて、遮光層５００とバンク３５０の間に間隔がほぼないように、第１基板１００と第２基板６５０を付着しても、レジン移動パターンを通じてレジン物質の移動が可能である。このような前記レジン移動パターンは、遮光層５００の一側と他側を貫通するように設けられ、したがって、前記遮光層５００の一側に配置された第１レジン層６００と他側に配置された第２レジン層６１０は、レジン移動パターンを通じて接続される。また、遮光層５００は、画素（P）の少なくとも二辺以上を囲むように設けられ、レジン移動パターンは、隣接する画素（P）との間に少なくとも一つ以上設けられて、すべての画素（P）上に配置されるレジン層６００、６１０が一つにつながることができる。つまり、本発明の一例による有機発光表示装置に設けられたレジン層６００、６１０は、レジン移動パターンを通じて一つにつながることができる。したがって、第１基板１００上にすべての画素（P）を満たすことができるレジン物質の量を調節して充填し、第２基板６５０の重さで押しながら合着する場合、レジン物質がレジン移動パターンを通じて均一に広がることになる。これにより、すべての画素（P）に均一にレジン物質が充填されることにより、エアギャップが形成されず、レジン物質が一つの画素（P）に多く充填されて第１基板１００と第２基板６５０の接着均一度が落ちることを防止することができる。ここで、前記レジン移動パターンは、レジン物質が移動できるスペースが設けられるが、少なくとも一度は折れ曲がる形態で設けられ、隣接する画素（P）との間に光が通過しないように構成される。前記レジン移動パターンの少なくとも一度折れ曲がる形態によって、前記レジン移動パターンの一端と他端は、互いに向き合わなくなる。したがって、第１レジン層６００と第２レジン層６１０のレジン物質は、互いに移動が可能であるが、第１有機発光層４００と第２有機発光層４１０の間に光は遮光層５００によって互いに通過できない。これに対する詳細な説明は、図5〜図8で後述することにする。
【００５４】
このような本発明の一例による有機発光表示装置のレジン移動パターンは、レジン物質の移動は可能ですが、光が通過しないように遮光層５００が設けられることにより、遮光層５００の役割をしながらもレジン物質を画素（P）全体に均一に広めることができる。
【００５５】
前記第２基板６５０は、第１基板１００が下部基板として機能する場合、上部基板として機能することができる。このような第２基板６５０は、上部にカラーフィルタ７００、７１０が配置される。
【００５６】
前記カラーフィルタ７００、７１０は、それぞれの画素（P）領域に対応するように、第２基板６５０上に配置される。ここで、カラーフィルタ７００、７１０は、各画素（P）領域に対応する赤色、緑色、および青色のカラーフィルタでなすことができる。このようなカラーフィルタ７００、７１０は、互いに異なる色で構成された第１カラーフィルタ７００及び第２カラーフィルタ７１０を含む。前記第１カラーフィルター７００と第２カラーフィルタ７１０の間に遮光層５００が配置される。
【００５７】
このような本発明の一例による有機発光表示装置は、遮光層５００が、有機発光層４００、４１０と重畳しないため、開口率が減少しない。また、本発明の一例による有機発光表示装置は、遮光層５００にレジン移動パターンを設けることで、光漏れ現象を防止しながらも、レジン物質を画素（P）全体に均一に広めることができる。したがって、本発明の一例による有機発光表示装置は、不均一なレジン層によって、第１基板１００と第２基板６５０との接着均一性が落ちたり、画像品位が低下したりする問題を回避することができる。
【００５８】
図５は、本発明の第１例による遮光層の平面図で、図３のA領域を拡大した図である。
【００５９】
図５を参照すると、本発明の第１例による遮光層５００は、第１レジン層６００と第２レジン層６１０との間に配置される。このような遮光層５００は、レジン移動パターンを有し、前記レジン移動パターンは、少なくとも一度は折れ曲がる形態で設けられる。ここで、前記レジン移動パターンは、導入部５０１、５０２、遮光部５０３、およびレジン移動部５０４を含む。
【００６０】
前記導入部５０１、５０２は、レジン物質が移動できるように設けられたホールで、第１レジン層６００と連結された第１導入部５０１及び第２レジン層６１０と連結された第２導入部５０２を含む。ここで、導入部５０１、５０２は、遮光層５００の長さ方向を基準として、導入部の長さ（b）を有する。
【００６１】
前記の遮光部５０３は、レジン移動パターンの少なくとも一回折れ曲がる部分の折れ部として、前記レジン移動パターンの一端と他端が互いに向き合わないように、第１導入部５０１と第２導入部５０２との間に設けられる。このような遮光部５０３は、光が通過しないように折れ曲がった形態で設けられ、第１レジン層６００と第２レジン層６１０の間の光漏れ現象を防止する。つまり、導入部５０１、５０２から入射される光は、遮光部５０３を透過したり、反射したりできずに、前記の遮光部５０３によって遮断される。したがって、第１レジン層６００から第１導入部５０１に入射する光は、遮光部５０３によって第２レジン層６１０に入射せず、第２レジン層６１０から第２導入部５０２に入射する光は、遮光部５０３によって第１レジン層６００に入射しない。このような遮光部５０３は、両側が導入部５０１、５０２の一端から一箇所に鋭く突出する。ここで、遮光部５０３は、導入部５０１、５０２の一側と遮光部５０３の末端が垂直に出会う地点から、前記遮光部５０３の末端まで、遮光層５００の長さ方向を基準に遮光部の長さ（c）を有する。このような、レジン移動パターンは、前記の遮光部の長さ（c）が導入部の長さ（b）よりも短くなるように形成される場合、光が漏れ出ることがあるので、遮光部の長さ（c）が導入部の長さ（b）よりも長いかまたは同じになるよう形成する。
【００６２】
前記のレジンの移動部５０４は、レジン物質が移動できるように設けられた通路である。ここで、レジン移動部５０４は、遮光部５０３と、導入部の長さ（b）だけ離隔して前記遮光部５０３と同じ形態で対称に設けることができるが、必ずしもそのようにしなければならないのではない。このようなレジン移動部５０４は、第１レジン層６００と第２レジン層６１０の間にレジン物質が移動できるように導入部５０１、５０２と接続される。つまり、第１レジン層６００にレジン物質が多い場合、前記第１レジン層６００から第１導入部５０１にレジン物質が入るようになって、レジン移動部５０４を通じて第２導入部５０２にレジン物質が移動することができる。また、第２レジン層６１０にレジン物質が多い場合、前記第２レジン層６１０から第２導入部５０２にレジン物質が入るようになって、レジン移動部５０４を通じて、第１導入部５０１にレジン物質が移動することができる。
【００６３】
このような、本発明の第１例による遮光層５００は、レジン移動パターンを設けることで、光漏れ現象を防止しながらも、レジン物質を画素（P）全体に均一に広めることができる。したがって、本発明の第１例による有機発光表示装置は、不均一なレジン層によって、第１基板１００と第２基板６５０との接着均一性が落ちたり、画像品位が低下する問題を回避することができる。
【００６４】
図６は、本発明の第２例による遮光層の平面図で、図３のA領域を拡大した図である。これは、図５に示した第１例による遮光層でレジン移動パターンの構造を変更して構成したものである。
【００６５】
図６を参照すると、本発明の第２例による遮光層５００は、第１レジン層６００と第２レジン層６１０との間に配置される。このような遮光層５００は、レジン移動パターンを有し、前記レジン移動パターンは、導入部５０１、５０２、遮光部５０３、５０４、およびレジン移動部５０５を含む。
【００６６】
前記導入部５０１、５０２は、レジン物質が移動できるように設けられたホールで、第１レジン層６００と接続した第１導入部５０１及び第２レジン層６１０と接続した第２導入部５０２を含む。ここで、第１導入部５０１は、遮光層５００の長さ方向を基準として、第１導入部の長さ（b）を有し、第２導入部５０２は、遮光層５００の長さ方向を基準として、第２導入部の長さ（b'）を有する。
【００６７】
前記遮光部５０３、５０４は、光が通過しないように設けられた屈折部であって、第１遮光部５０３及び第２遮光部５０４を含む。このような遮光部５０３、５０４は、第１レジン層６００と第２レジン層６１０の間の光漏れ現象を防止する。つまり、導入部５０１、５０２から入射する光は、遮光部５０３、５０４を透過したり、反射したりせずに、前記の遮光部５０３、５０４によって遮断される。したがって、第１レジン層６００から第１導入部５０１に入射する光は、第１遮光部５０３によって第２レジン層６１０に入射せず、第２レジン層６１０から第２導入部５０２に入射する光は、第２遮光部５０４によって第１レジン層６００に入射しない。また、第１遮光部５０３は、一側が第１導入部５０１の一端から二回折れ曲がった形態で設けられる。ここで、第１遮光部５０３は、第１導入部５０１の一側と遮光部５０３の末端が垂直に出会う地点から、前記の遮光部５０３の末端まで遮光層５００の長さ方向を基準に遮光部の長さ（c）を有する。また、第２遮光部５０４は、一側が第２導入部５０２の一端から二回折れ曲がった形態で設けられる。ここで、第２遮光部５０４は、第２導入部５０２の一側と遮光部５０３の末端が垂直に出会う地点から、前記遮光部５０４の末端まで遮光層５００の長さ方向を基準に遮光部の長さ（c'）を有する。このような、レジン移動パターンは、第１遮光部の長さ（c）が、第１導入部の長さ（b）よりも短くなるように形成される場合、光が漏れ出ることがあり得るので、第１遮光部の長さ（c）が、第１導入部の長さ（b）よりも長いが等しくなるように形成される。また、レジン移動パターンは、第２遮光部の長さ（c'）が第２導入部の長さ（b'）よりも短くなるように形成される場合、光が漏れ出ることがあり得るので、第２遮光部の長さ（c'）が第２導入部の長さ（b'）より長いか等しくなるように形成される。
【００６８】
前記レジン移動部５０５は、レジン物質が移動できるように設けられた通路である。ここで、レジン移動部５０５は、遮光部５０３、５０４と、導入部の長さ（b、b'）だけ離隔され、前記遮光部５０３、５０４と同じ形態で対称に設けることができるが、必ずしもそうでなければならないのではない。このようなレジン移動部５０５は、第１レジン層６００と第２レジン層６１０の間にレジン物質が移動できるように導入部５０１、５０２と接続されている。つまり、第１レジン層６００にレジン物質が多い場合、前記第１レジン層６００から第１導入部５０１にレジン物質が入るようになって、レジン移動部５０５を通じて第２導入部５０２にレジン物質が移動することができる。また、第２レジン層６１０にレジン物質が多い場合は、前記第２レジン層６１０から第２導入部５０２にレジン物質が入るようになって、レジン移動部５０５を通じて、第１導入部５０１にレジン物質が移動することができる。
【００６９】
このような、本発明の第２例による遮光層５００は、レジン移動パターンを設けることで、光漏れ現象を防止しながらも、レジン物質を画素（P）全体に均一に広めることができる。したがって、本発明の第２例による有機発光表示装置は、不均一なレジン層によって、第１基板１００と第２基板６５０との接着均一性が落ちたり、画像品位が低下したりする問題を回避することができる。
【００７０】
図７は、本発明の第３例による遮光層の断面図で、図３のA領域を拡大した図である。これは、図５に示した第１例による遮光層においてレジン移動パターンの構造を変更して構成したものである。
【００７１】
図７を参照すると、本発明の第３例による遮光層５００は、第１レジン層６００と第２レジン層６１０との間に配置される。このような遮光層５００は、レジン移動パターンを有し、前記レジン移動パターンは、導入部５０１、５０２、遮光部５０３、５０４、およびレジン移動部５０５を含む。
【００７２】
前記導入部５０１、５０２は、レジン物質が移動できるように設けられたホールで、第１レジン層６００と接続された第１導入部５０１及び第２レジン層６１０と接続された第２導入部５０２を含む。ここで、第１導入部５０１は、遮光層５００の長さ方向を基準として、第１導入部の長さ（b）を有し、第２導入部５０２は、遮光層５００の長さ方向を基準として、第２導入部の長さ（b'）を有する。
【００７３】
前記の遮光部５０３、５０４は、光が通過しないように設けられた折れ曲がり部で、第１遮光部５０３及び第２遮光部５０４を含む。このような遮光部５０３、５０４は、第１レジン層６００と第２レジン層６１０の間の光漏れ現象を防止する。つまり、導入部５０１、５０２から入射する光は、遮光部５０３、５０４を透過したり、反射したりせずに、前記の遮光部５０３、５０４によって遮断される。したがって、第１レジン層６００から第１導入部５０１に入射する光は、第１遮光部５０３によって第２レジン層６１０に入射せず、第２レジン層６１０から第２導入部５０２に入射する光は、第２遮光部５０４によって第１レジン層６００に入射しない。また、第１遮光部５０３は、第１導入部５０１と向かい合う形態で形成される。ここで、第１遮光部５０３は、導入部５０１の一側と遮光部５０３の末端が垂直に出会う地点から、前記の遮光部５０３の末端まで、遮光層５００の長さ方向を基準に遮光部の長さ（c）を有する。また、第２遮光部５０４は、第２導入部５０２と向かい合う形態で形成される。ここで、第２遮光部５０４は、導入部５０２の一側と遮光部５０４の末端が垂直に出会う地点から、前記の遮光部５０４の末端まで、遮光層５００の長さ方向を基準に遮光部の長さ（c'）を有する。このような、レジン移動パターンは、第１遮光部の長さ（c）が、第１導入部の長さ（b）よりも短くなるように形成されている場合、光が漏れ出ることがあり得るので、第１遮光部の長さ（c）が、第１導入部の長さ（b）よりも長いか等しくなるように形成される。また、レジン移動パターンは、第２遮光部の長さ（c'）が第２導入部の長さ（b'）よりも短くなるように形成される場合、光が漏れ出ることがあり得るので、第２遮光部の長さ（c'）が第２導入部の長さ（b'）より長いか等しくなるように形成される。
【００７４】
前記レジン移動部５０５は、レジン物質が移動できるように設けられた通路である。このようなレジン移動部５０５は、第１レジン層６００と第２レジン層６１０の間にレジン物質が移動できるように導入部５０１、５０２と接続される。つまり、第１レジン層６００にレジン物質が多い場合、前記第１レジン層６００から第１導入部５０１にレジン物質が入るようになって、レジン移動部５０５を通じて第２導入部５０２にレジン物質が移動することができる。また、第２レジン層６１０にレジン物質が多い場合、前記第２レジン層６１０から第２導入部５０２にレジン物質が入るようになって、レジン移動部５０５を通じて、第１導入部５０１にレジン物質が移動することができる。
【００７５】
このような、本発明の第３例による遮光層５００は、レジン移動パターンを設けることで、光漏れ現象を防止しながらも、レジン物質を画素（P）全体に均一に広めることができる。したがって、本発明の第３例による有機発光表示装置は、不均一なレジン層によって、第１基板１００と第２基板６５０との接着の均一性が落ちたり、画像品位が低下したりする問題を回避することができる。
【００７６】
図８は、本発明の第４例による遮光層の平面図で、図３のA領域を拡大した図である。これは、図７に図示された第３例による遮光層と構成は同じで、レジン移動部の構造を変更したものである。そのため、以下の説明では、レジン移動部に対してのみ説明することにして、同じ構成に対する重複説明は省略する。
【００７７】
前記レジン移動部は、レジン物質が移動できるように設けられた通路で、遮光層５００の一側と他側を貫通するように設けられる。このようなレジン移動部５０５は、第１レジン層６００と第２レジン層６１０の間でレジン物質が移動できるように導入部５０１、５０２と接続される。つまり、第１レジン層６００にレジン物質が多い場合、前記第１レジン層６００から第１導入部５０１にレジン物質が入るようになって、レジン移動部５０５を通じて第２導入部５０２にレジン物質が移動することができる。また、第２レジン層６１０にレジン物質が多い場合、前記第２レジン層６１０から第２導入部５０２にレジン物質が入るようになって、レジン移動部５０５を通じて、第１導入部５０１にレジン物質が移動することができる。このような本発明の第４例による遮光層５００は、第１〜第３例による遮光層５００とは異なって、レジン移動部によって分離される各々の遮光層５００の端が同じ形で互いに対称せず、全く別の形態で構成される。つまり、レジン移動部によって分離される遮光層５００の一側端部は、溝が設けられた形態で形成され、他側端は、前記溝に収まることができる突起の形態で形成される。
【００７８】
このような、本発明の第４例による遮光層５００は、レジン移動パターンを設けることで、光漏れ現象を防止しながらも、レジン物質を画素（P）全体に均一に広めることができる。したがって、本発明の第４例による有機発光表示装置は、不均一なレジン層によって、第１基板１００と第２基板６５０との接着の均一性が落ちたり、画像品位が低下したりする問題を回避することができる。
【００７９】
図９ａ〜図９ｄは、本発明の一例による有機発光表示装置の製造方法を説明するための工程断面図であって、これは、前述した図３による有機発光表示装置の製造方法に関するものである。したがって、同一の構成に対しては、同一の符号を付与し、それぞれの構成の材料および構造などにおいて反復する部分に対する重複説明は省略する。
【００８０】
まず、図９ａに示したように、第１基板１００上に薄膜トランジスタ（T）を形成し、前記薄膜トランジスタ（T）上にパッシベーション層２００を形成して、前記パッシベーション層２００上に平坦化層２５０を形成する。
【００８１】
前記薄膜トランジスタ（T）を形成する工程は、第１基板１００上にアクティブ層１１０を形成して、前記アクティブ層１１０上にゲート絶縁膜１２０を形成して、前記ゲート絶縁膜１２０上にゲート電極１３０を形成して、前記ゲート電極１３０上に層間絶縁膜１４０を形成して、前記層間絶縁膜１４０および前記ゲート絶縁膜１２０に第１及び第２コンタクトホール（CH1、CH2）を形成して、前記層間絶縁膜１４０上にソース及びドレイン電極１５０、１６０が、第１および第２コンタクトホール（CH1、CH2）を通じてアクティブ層１１０と接続されるように形成する工程を含む。
【００８２】
前記薄膜トランジスタ（T）の形成工程は、当業界に公知された様々な方法を用いることができる。
【００８３】
前記パッシベーション層２００と平坦化層２５０を形成した後は、薄膜トランジスタ（T）のドレイン電極１６０が露出するようにパッシベーション層２００と平坦化層２５０に第３コンタクトホール（CH3）を形成する工程を実施し、前記第３コンタクトホール（CH3）を通じて前記ドレイン電極１６０と電気的に接続されるように、第１電極３００、３１０を形成する。
【００８４】
前記第１電極３００、３１０を形成した後は、表示領域（AA）の境界に位置する第１電極３００の側面を除いて、残りの第１電極３００、３１０の側面にバンク３５０を形成する。次に、第１電極３００、３１０上に有機発光層４００、４１０を形成して、前記有機発光層４００、４１０上に第２電極４５０を形成する。
【００８５】
次に、図９ｂに示したように、バンク３５０上に遮光層５００を形成する。遮光層５００は、図５〜図８で説明したように、レジン移動部を含むように形成される。レジン移動部を含む遮光層５００は、マスクを用いたフォトリソグラフィ工程で形成することができる。
【００８６】
次に、図９ｃに示したように、表示領域（AA）の境界に位置する第１電極３００の側面にダム５５０を形成する。ここで、前記ダム５５０の高さは、前記遮光層５００の高さと同じになるように形成する。次に、遮光層５００と、他の遮光層５００との間、または、ダム５５０と遮光層５００との間をすべて満たすことができる程度のレジン物質を調節して、第２電極４５０上に充填する。遮光層５００のレジン移動部によりレジン物質が表示領域全体で均一になるようにすることができる。
【００８７】
次に、図９ｄに示したように、第２ガラス６５０上にカラーフィルタ７００、７１０が形成された第２基板６５０を第１基板１００上に合着する。
【００８８】
このように、本発明の一例による有機発光表示装置の製造方法は、第１基板１００のバンク３５０上に遮光層５００をすぐに形成することにより、第１基板１００と第２基板６５０の合着工程時に、前記遮光層５００が画像が表示領域と重畳するように配置されて有機発光表示装置の開口率が減少するという問題を回避することができる。
【００８９】
以上で説明したように、本発明の一例による有機発光表示装置のレジン移動パターンは、レジン物質の移動は可能でありながら、光が通過しないように遮光層に設けることによって遮光層の役割をなしながらレジン物質を画素全体に均一に広めることができる。
【００９０】
本発明の一例による有機発光表示装置の製造方法は、第１基板のバンク上に遮光層を形成することにより、第１基板と第２基板の合着工程時に、前記遮光層が画像表示領域と重畳するように配置されて有機発光表示装置の開口率が減少する問題を回避することができる。
【００９１】
本発明で得られる効果は、以上で言及した効果に制限されず、言及していないまた別の効果は、以下の記載から、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されるだろう。
【００９２】
以上、添付した図を参照して、本発明の実施例をより詳細に説明したが、本発明は、必ずしもこれらの実施例に限定されるものではなく、本発明の技術思想を逸脱しない範囲内で多様に変形実施することができる。したがって、本発明の開示された実施例は、本発明の技術思想を限定するためのものではなく説明するためのものであり、これらの実施例により、本発明の技術思想の範囲が限定されるものではない。したがって、以上で記述した実施例は、すべての面で例示的なものであり限定的ではないと理解されなければならない。本発明の保護範囲は、特許請求の範囲によって解釈されなければならず、それと同等の範囲内にあるすべての技術思想は、本発明の権利範囲に含まれるものと解釈されなければならない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９ａ】
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【図９ｂ】
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【図９ｃ】
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【図９ｄ】
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