(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０℃で液体状態であり、環状エーテル残基（該環状エーテル残基は、環状エーテル化合物から１個以上の水素原子を除いてなる基である）を有し、且つ、エチレン性不飽和二重結合を有しない化合物（Ａ）と、
式（４）で表される繰り返し単位及び式（５）で表される繰り返し単位を含む高分子化合物（Ｂ）と、
電磁波もしくは電子線の照射、または、加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）、あるいは、架橋剤（Ｄ）とを含有する組成物。
0006443148.tif 000026
（４）
［式中、
Ｒ１１は、水素原子またはメチル基を表す。
ａは、０〜５の整数を表す。
Ｒ１２は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、−ＣＯ−で表される基、または、−ＮＲ１２’−で表される基（Ｒ１２’は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す）を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ｐは、１〜５の整数を表す。
Ｒ１３は、フッ素原子、フッ素原子を置換基として有するアルキル基、フッ素原子を置換基として有するシクロアルキル基、または、フッ素原子を置換基として有するアリール基を表し、これらの基はフッ素原子以外の置換基を更に有していてもよい。Ｒ１３が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１４は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基はフッ素原子以外の置換基を有していてもよい。Ｒ１４が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
0006443148.tif 000027
（５）
［式中、
Ｒ１５は、水素原子またはメチル基を表す。
ｂは、０〜５の整数を表す。
Ｒ１６は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、−ＣＯ−で表される基、または、−ＮＲ１６’−で表される基（Ｒ１６’は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す）を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１６が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ｑは、１〜５の整数を表す。
Ｒ１７は、酸により酸素原子から脱離することが可能な１価の有機基を表す。Ｒ１７が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１８は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１８が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
【請求項２】
前記環状エーテル残基が、式（１）で表される基、式（２）で表される基および式（３）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基である、請求項１に記載の組成物。
0006443148.tif 000028
（１）
［式中、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
0006443148.tif 000029
（２）
［式中、
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
環Ｌは、３〜１２個の炭素原子で構成される脂肪族炭化水素環を表し、この脂肪族炭化水素環は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
0006443148.tif 000030
（３）
［式中、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
【請求項３】
前記化合物（Ａ）が、
前記式（１）で表される基および前記式（２）で表される基からなる群から選ばれる１種以上の基を有するエポキシ化合物、または、前記式（３）で表される基を有するオキセタン化合物である、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記化合物（Ａ）の存在下において、
式（４’）で表される化合物を含有する重合性モノマー組成物を重合させる工程を含む、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
0006443148.tif 000031
（４’）
［式中、
Ｒ１１、ａ、Ｒ１２、ｐ、Ｒ１３およびＲ１４は、前記と同じ意味を表す。］
【請求項５】
前記化合物（Ａ）および前記化合物（Ｃ）の存在下において、
式（４’）で表される化合物を含有する重合性モノマー組成物を、化合物（Ｃ）が酸を発生しない条件下において、重合させる工程を含む、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
0006443148.tif 000032
（４’）
［式中、
Ｒ１１、ａ、Ｒ１２、ｐ、Ｒ１３およびＲ１４は、前記と同じ意味を表す。］
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物を基材上に塗布することにより、膜を形成する工程と、
形成された膜に電磁波もしくは電子線を照射することにより、または、形成された膜を加熱することにより、膜中に含有される前記化合物（Ａ）を架橋させる工程とを含む、膜の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の製造方法により製造された膜。
【請求項８】
請求項７に記載の膜を絶縁層に有する、電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、組成物および該組成物を用いて製造される膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
環状エーテル化合物（エポキシ化合物、オキセタン化合物等に代表される化合物）を、架橋により硬化させた架橋体は、絶縁性、耐久性、密着性等に優れる。そのため、環状エーテル化合物は、絶縁材料、接着材料等の原料として様々な技術分野で使用されている。
例えば、特許文献１には、環状エーテル化合物（具体的には、環状エーテル構造を有するスチレン系繰り返し単位を含む高分子化合物）と、光カチオン重合開始剤と、有機溶媒とを含有する組成物を用いて、有機薄膜トランジスタの絶縁膜を形成することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１０２１１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記の組成物を用いて形成される絶縁膜は、その誘電性が必ずしも十分ではなかった。
【０００５】
そこで、本発明は、誘電性に優れる絶縁膜の形成に有用な組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、下記の組成物、該組成物の製造方法、該組成物を用いた膜の製造方法、該製造方法により製造された膜、並びに、該膜を絶縁層に有する電子デバイスを提供する。
【０００７】
［１］１０℃で液体状態であり、環状エーテル残基（該環状エーテル残基は、環状エーテル化合物から１個以上の水素原子を除いてなる基である）を有し、且つ、エチレン性不飽和二重結合を有しない化合物（Ａ）と、
式（４）で表される繰り返し単位を含む高分子化合物（Ｂ）と、
電磁波もしくは電子線の照射、または、加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）、あるいは、架橋剤（Ｄ）とを含有する組成物。
【化１】
0006443148.tif 000002
（４）
［式中、
Ｒ１１は、水素原子またはメチル基を表す。
ａは、０〜５の整数を表す。
Ｒ１２は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、−ＣＯ−で表される基、または、−ＮＲ１２’−で表される基（Ｒ１２’は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す）を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ｐは、１〜５の整数を表す。
Ｒ１３は、フッ素原子、フッ素原子を置換基として有するアルキル基、フッ素原子を置換基として有するシクロアルキル基、または、フッ素原子を置換基として有するアリール基を表し、これらの基はフッ素原子以外の置換基を更に有していてもよい。Ｒ１３が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１４は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基はフッ素原子以外の置換基を有していてもよい。Ｒ１４が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
［２］前記環状エーテル残基が、式（１）で表される基、式（２）で表される基および式（３）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基である、［１］に記載の組成物。
【化２】
0006443148.tif 000003
（１）
［式中、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
【化３】
0006443148.tif 000004
（２）
［式中、
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
環Ｌは、３〜１２個の炭素原子で構成される脂肪族炭化水素環を表し、この脂肪族炭化水素環は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
【化４】
0006443148.tif 000005
（３）
［式中、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
［３］前記化合物（Ａ）が、
前記式（１）で表される基および前記式（２）で表される基からなる群から選ばれる１種以上の基を有するエポキシ化合物、または、前記式（３）で表される基を有するオキセタン化合物である、［２］に記載の組成物。
［４］前記高分子化合物（Ｂ）が、式（５）で表される繰り返し単位を更に含む高分子化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の組成物。
【化５】
0006443148.tif 000006
（５）
［式中、
Ｒ１５は、水素原子またはメチル基を表す。
ｂは、０〜５の整数を表す。
Ｒ１６は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、−ＣＯ−で表される基、または、−ＮＲ１６’−で表される基（Ｒ１６’は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す）を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１６が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ｑは、１〜５の整数を表す。
Ｒ１７は、酸により酸素原子から脱離することが可能な１価の有機基を表す。Ｒ１７が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１８は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１８が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
［５］前記化合物（Ａ）の存在下において、
式（４’）で表される化合物を含有する重合性モノマー組成物を重合させる工程を含む、
［１］〜［４］のいずれかに記載の組成物の製造方法。
【化６】
0006443148.tif 000007
（４’）
［式中、
Ｒ１１、ａ、Ｒ１２、ｐ、Ｒ１３およびＲ１４は、前記と同じ意味を表す。］
［６］前記化合物（Ａ）および前記化合物（Ｃ）の存在下において、
式（４’）で表される化合物を含有する重合性モノマー組成物を、化合物（Ｃ）が酸を発生しない条件下において、重合させる工程を含む、
［１］〜［４］のいずれかに記載の組成物の製造方法。
【化７】
0006443148.tif 000008
（４’）
［式中、
Ｒ１１、ａ、Ｒ１２、ｐ、Ｒ１３およびＲ１４は、前記と同じ意味を表す。］
［７］［１］〜［４］のいずれかに記載の組成物を基材上に塗布することにより、膜を形成する工程と、
形成された膜に電磁波もしくは電子線を照射することにより、または、形成された膜を加熱することにより、膜中に含有される前記化合物（Ａ）を架橋させる工程とを含む、膜の製造方法。
［８］［７］に記載の製造方法により製造された膜。
［９］［８］に記載の膜を絶縁層に有する、電子デバイス。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、誘電性に優れる絶縁膜の形成に有用な組成物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜共通する用語の説明＞
以下、本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
【００１０】
「高分子化合物」とは、分子中に同じ構造単位を２個以上含む化合物を意味し、「繰り返し単位」とは、２個以上含まれる構造単位を意味する。高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量は、通常、１×１０３〜１×１０８である。
【００１１】
高分子化合物は、単独重合体、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体等の共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよい。
【００１２】
アルキル基は、直鎖アルキル基、分岐アルキル基のいずれであってもよい。直鎖アルキル基の炭素原子数は、通常１〜３０であり、分岐アルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０である。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０である。なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ヘキサデシル基等の直鎖アルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、３，７−ジメチルオクチル基、２−ヘキシルデシル基、２−オクチルドデシル基、２−デシルテトラデシル基等の分岐アルキル基が挙げられる。シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。
アルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられる。シクロアルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられる。置換基を有しているアルキル基としては、例えば、メトキシエチル基、ベンジル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロヘキシル基が挙げられる。
【００１３】
アルコキシ基は、直鎖アルコキシ基、分岐アルコキシ基のいずれであってもよい。直鎖アルコキシ基の炭素原子数は、通常１〜３０であり、分岐アルコキシ基の炭素原子数は、通常３〜３０である。なお、アルコキシ基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルコキシ基の炭素原子数は、通常３〜３０である。なお、シクロアルコキシ基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。
アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基等の直鎖アルコキシ基、イソプロピルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、２−ヘキシルデシルオキシ基、２−オクチルドデシルオキシ基、２−デシルテトラデシルオキシ基等の分岐アルコキシ基が挙げられる。シクロアルコキシ基としては、例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
アルコキシ基は置換基を有していてもよく、置換基としては、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられる。シクロアルコキシ基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられる。
【００１４】
アリール基は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた残りの原子団である。芳香族炭化水素の炭素原子数は、通常６〜６０であり、好ましくは６〜２０である。なお、芳香族炭化水素基の炭素数には、置換基の炭素数は含まれない。
芳香族炭化水素としては、ベンゼン、ベンゼンを含む炭化水素縮合環化合物、ベンゼンおよびベンゼンを含む炭化水素縮合環化合物からなる群から選ばれる２個以上が直接結合した化合物が含まれる。
アリール基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、１−ピレニル基、２−ピレニル基、４−ピレニル基、２−フルオレニル基、３−フルオレニル基、４−フルオレニル基、４−フェニルフェニル基が挙げられる。
アリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、１価の複素環基、ハロゲン原子が挙げられ、アルキル基またはシクロアルキル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００１５】
１価の複素環基とは、複素環式化合物から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた残りの原子団である。複素環式化合物の炭素原子数は通常２〜３０であり、好ましくは３〜２０である。なお、１価の複素環基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。１価の複素環基は、１価の芳香族複素環基であることが好ましい。
複素環式化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する元素が炭素原子だけでなく、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、窒素原子、リン原子、ホウ素原子、ヒ素原子等のヘテロ原子を環内に含むものをいう。
複素環式化合物としては、単環の複素環式化合物、複素環式化合物を含む縮合環化合物、単環の複素環式化合物および複素環式化合物を含む縮合環化合物からなる群から選ばれる２個以上が直接結合した化合物が含まれる。
１価の複素環基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられ、アルキル基またはシクロアルキル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
１価の複素環基としては、例えば、２−フリル基、３−フリル基、２−チエニル基、３−チエニル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、２−オキサゾリル基、２−チアゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ベンゾフリル基、２−ベンゾチエニル基、２−チエノチエニル基、４−（２，１，３−ベンゾチアジアゾリル）基が挙げられる。
【００１６】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００１７】
アルキレン基は、直鎖アルキレン基、分岐アルキレン基のいずれであってもよい。直鎖アルキレン基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、分岐アルキレン基の炭素原子数は、通常３〜２０である。なお、アルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキレン基の炭素原子数は、通常３〜２０である。なお、シクロアルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。
アルキレン基は置換基を有していてもよく、置換基としては、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、シアノ基、アルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、シクロアルキルカルボニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基、ハロゲン原子が挙げられる。シクロアルキレン基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、シアノ基、アルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、シクロアルキルカルボニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基、ハロゲン原子が挙げられる。
アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピルレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、イソプロピレン基、イソブチレン基、ジメチルプロピレン基が挙げられる。シクロアルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基が挙げられる。
【００１８】
アリーレン基は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子２個を除いた残りの原子団である。芳香族炭化水素の炭素原子数は、通常６〜２０である。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、１価の複素環基、ハロゲン原子が挙げられ、アルキル基またはシクロアルキル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
アリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アンスリレン基、ジメチルフェニレン基、トリメチルフェニレン基、フェニレンメチレン基、フェニレンジメチレン基、フェニレントリメチレン基、フェニレンテトラメチレン基、メチルナフチレン基、ジメチルナフチレン基、トリメチルナフチレン基、ビニルナフチレン基、エテニルナフチレン基、メチルアンスリレン基、エチルアンスリレン基が挙げられる。
【００１９】
＜組成物＞
本発明の組成物は、化合物（Ａ）と、高分子化合物（Ｂ）と、化合物（Ｃ）または架橋剤（Ｄ）とを含有する。
【００２０】
＜化合物（Ａ）＞
化合物（Ａ）は、１０℃で液体状態であり、環状エーテル残基（該環状エーテル残基は、環状エーテル化合物から１個以上の水素原子を除いてなる基である）を有し、且つ、エチレン性不飽和二重結合を有しない化合物である。
【００２１】
化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基は、開環反応の観点から、式（１）で表される基、式（２）で表される基および式（３）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基であることが好ましく、式（１）で表される基および式（２）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基であることがより好ましい。
【００２２】
【化８】
0006443148.tif 000009
（１）
【００２３】
【化９】
0006443148.tif 000010
（２）
【００２４】
【化１０】
0006443148.tif 000011
（３）
【００２５】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０で表されるアルキル基の炭素原子数は、１〜２０（分岐アルキル基の場合は３〜２０）であることが好ましく、１〜６（分岐アルキル基の場合は３〜６）であることがより好ましい。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキル基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルコキシ基がより好ましい。
【００２６】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましく、３〜６であることがより好ましい。なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルキル基またはアルコキシ基がより好ましい。
【００２７】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０で表されるアリール基の炭素原子数は、６〜３０であることが好ましく、６〜２０であることがより好ましい。なお、アリール基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリール基が有していてもよい置換基としては、アルキル基またはアルコキシ基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００２８】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。
【００２９】
環Ｌで表される、３〜１２個の炭素原子で構成される脂肪族炭化水素環の炭素原子数は、４〜１０個であることが好ましく、５〜８個であることがより好ましい。なお、脂肪族炭化水素環の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。脂肪族炭化水素環が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられ、アルキル基またはアルコキシ基が好ましい。
【００３０】
環Ｌで表される、３〜１２個の炭素原子で構成される脂肪族炭化水素環としては、例えば、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環、シクロウンデカン環、シクロドデカン環、デカヒドロナフタレン環が挙げられ、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環またはデカヒドロナフタレン環が好ましく、シクロヘキサン環またはデカヒドロナフタレン環がより好ましい。
【００３１】
化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基としては、例えば、グリシジル基、２−メチルグリシジル基、２，２−ジメチルグリシジル基、２，３−エポキシシクロプロパニル基、１，２−エポキシシクロブチル基、２，３−エポキシシクロブチル基、１，２−エポキシシクロペンチル基、２，３−エポキシシクロペンチル基、３，４−エポキシシクロペンチル基、１，２−エポキシシクロヘキシル基、２，３−エポキシシクロヘキシル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、２，３−エポキシシクロヘプチル基、２，３−エポキシシクロオクチル基、２，３−エポキシシクロノニル基、２，３−エポキシシクロデカニル基、２，３−エポキシシクロウンデカニル基、２，３−エポキシシクロドデカニル基、２，３−エポキシデカヒドロナフチル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基が挙げられる。
【００３２】
化合物（Ａ）は、エチレン性不飽和二重結合を有さない化合物である。これは、化合物（Ａ）と、後述する高分子化合物（Ｂ）の原料である重合性モノマー組成物とのラジカル重合を防止するためである。
【００３３】
化合物（Ａ）は、開環反応の観点から、式（１）で表される基および式（２）で表される基からなる群から選ばれる１種以上の基を有するエポキシ化合物、または、式（３）で表される基を有するオキセタン化合物であることが好ましい。
【００３４】
式（１）で表される基および式（２）で表される基からなる群から選ばれる１種以上の基を有するエポキシ化合物としては、例えば、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、含ケイ素エポキシ化合物が挙げられる。
【００３５】
式（３）で表される基を有するオキセタン化合物としては、例えば、芳香族オキセタン化合物、脂肪族オキセタン化合物、含ケイ素オキセタン化合物が挙げられる。
【００３６】
芳香族エポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、ジグリシジルオキシベンゼン、ベンジルグリシジルエーテルが挙げられる。
【００３７】
脂肪族エポキシ化合物としては、例えば、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、イソプロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２-ブチルグリシジルエーテル、ターシャリーブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、シクロペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、シクロヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、２-メチルフェニルグリシジルエーテル、３-メチルフェニルグリシジルエーテル、４-メチルフェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールメチルグリシジルエーテル、ジエチレングリコールメチルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールメチルグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールメチルグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテルが挙げられる。
【００３８】
脂環式エポキシ化合物としては、リモネンオキサイド、リモネンジオキサイド、３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル、３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが挙げられる。
【００３９】
含ケイ素エポキシ化合物としては、例えば、１，３−ビス（３−グリシドキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンが挙げられる。
【００４０】
芳香族オキセタン化合物としては、例えば、キシリレンビスオキセタン、ビスフェノールＡビスオキセタン、ビスフェノールＦビスオキセタン、ビスフェノールＳビスオキセタンが挙げられる。
【００４１】
脂肪族オキセタン化合物としては、例えば、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、２−エチルヘキシルオキセタン、３−エチル−３−｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタンが挙げられる。
【００４２】
含ケイ素オキセタン化合物としては、例えば、１，３−ビス（３−（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンが挙げられる。
【００４３】
化合物（Ａ）は、開環反応の観点から、式（１）で表される基および式（２）で表される基からなる群から選ばれる１種以上の基を有する脂肪族エポキシ化合物もしくは脂環式エポキシ化合物、または、式（３）で表される基を有する脂肪族オキセタン化合物であることがより好ましく、式（１）で表される基および式（２）で表される基からなる群から選ばれる１種以上の基を有する脂肪族エポキシ化合物もしくは脂環式エポキシ化合物であることが更に好ましい。
【００４４】
化合物（Ａ）は、本発明の組成物を用いて形成される絶縁膜の誘電性がより優れるため、式（６）で表される化合物であることが好ましい。
【００４５】
【化１１】
0006443148.tif 000012
（６）
［式中、
ｒおよびｔは、それぞれ独立に、１〜５の整数を表す。
Ｒ２１およびＲ２６は、それぞれ独立に、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ｓは、１〜１０の整数を表す。
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ２２およびＲ２３が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。］
【００４６】
ｒおよびｔは、１〜３の整数であることが好ましい。
【００４７】
Ｒ２１およびＲ２６で表されるアルキレン基の炭素原子数は、１〜６（分岐アルキレン基の場合は３〜６）であることが好ましい。なお、アルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキレン基が有していてもよい置換基としては、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリール基がより好ましく、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基が更に好ましい。
【００４８】
Ｒ２１およびＲ２６で表されるシクロアルキレン基の炭素原子数は、３〜６であることが好ましい。なお、シクロアルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリール基がより好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基が更に好ましい。
【００４９】
Ｒ２１およびＲ２６で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子が更に好ましい。
【００５０】
Ｒ２１およびＲ２６は、アルキレン基またはシクロアルキレン基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましく、プロピレン基であることが更に好ましい。
【００５１】
ｓは、１〜５の整数であることが好ましく、１〜３の整数であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。
【００５２】
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５で表されるアルキル基の炭素原子数は、１〜２０（分岐アルキル基の場合は３〜２０）であることが好ましく、１〜６（分岐アルキル基の場合は３〜６）であることがより好ましい。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキル基が有していてもよい置換基としては、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリール基がより好ましく、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基が更に好ましい。
【００５３】
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましく、３〜６であることがより好ましい。なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリール基がより好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基が更に好ましい。
【００５４】
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５で表されるアリール基の炭素原子数は、６〜３０であることが好ましく、６〜２０であることがより好ましい。なお、アリール基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリール基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子が更に好ましい。
【００５５】
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は、アルキル基またはシクロアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが更に好ましい。
【００５６】
式（６）で表される化合物としては、例えば、下記式で表される化合物が挙げられる。
【００５７】
【化１２】
0006443148.tif 000013
【００５８】
【化１３】
0006443148.tif 000014
【００５９】
【化１４】
0006443148.tif 000015
【００６０】
化合物（Ａ）は、本発明の組成物に、１種単独で含有されていてもよく、２種以上が含有されていてもよい。
【００６１】
＜高分子化合物（Ｂ）＞
高分子化合物（Ｂ）は、式（４）で表される繰り返し単位を含む高分子化合物である。
【００６２】
【化１５】
0006443148.tif 000016
（４）
【００６３】
Ｒ１１は、水素原子であることが好ましい。
【００６４】
ａは、０〜３の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。
【００６５】
Ｒ１２で表されるアルキレン基の炭素原子数は、１〜６（分岐アルキレン基の場合は３〜６）であることが好ましい。なお、アルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００６６】
Ｒ１２で表されるシクロアルキレン基の炭素原子数は、３〜６であることが好ましい。なお、シクロアルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００６７】
Ｒ１２で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００６８】
Ｒ１２は、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基であることが好ましく、アルキレン基またはシクロアルキレン基であることがより好ましい。
【００６９】
ｐは、３〜５の整数であることが好ましく、５であることがより好ましい。
【００７０】
Ｒ１３で表されるフッ素原子を置換基として有するアルキル基の炭素原子数は、１〜２０（分岐アルキル基の場合は３〜２０）であることが好ましい。なお、フッ素原子を置換基として有するアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。フッ素原子を置換基として有するアルキル基が有していてもよいフッ素原子以外の置換基としては、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルコキシ基がより好ましい。
【００７１】
Ｒ１３で表されるフッ素原子を置換基として有するシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましい。なお、フッ素原子を置換基として有するシクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。フッ素原子を置換基として有するシクロアルキル基が有していてもよいフッ素原子以外の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルキル基またはアルコキシ基がより好ましい。
【００７２】
Ｒ１３で表されるフッ素原子を置換基として有するアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、フッ素原子を置換基として有するアリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。フッ素原子を置換基として有するアリーレン基が有していてもよいフッ素原子以外の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルキル基またはアルコキシ基がより好ましい。
【００７３】
Ｒ１３は、フッ素原子であることが好ましい。
【００７４】
Ｒ１４で表されるアルキル基の炭素原子数は、１〜２０（分岐アルキル基の場合は３〜２０）であることが好ましい。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキル基が有していてもよいフッ素原子以外の置換基としては、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルコキシ基がより好ましい。
【００７５】
Ｒ１４で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましい。なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基が有していてもよいフッ素原子以外の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルキル基またはアルコキシ基がより好ましい。
【００７６】
Ｒ１４で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよいフッ素原子以外の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルキル基またはアルコキシ基がより好ましい。
【００７７】
Ｒ１４は、水素原子、アルキル基またはアリール基であることが好ましく、水素原子またはアルキル基であることがより好ましい。
【００７８】
式（４）で表される繰り返し単位としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。
【００７９】
【化１６】
0006443148.tif 000017
【００８０】
高分子化合物（Ｂ）は、本発明の組成物の架橋性が優れるため、式（５）で表される繰り返し単位を更に含む高分子化合物であることが好ましい。
【００８１】
【化１７】
0006443148.tif 000018
（５）
【００８２】
Ｒ１５は、水素原子であることが好ましい。
【００８３】
ｂは、０〜３の整数であることが好ましく、０であることが更に好ましい。
【００８４】
Ｒ１６で表されるアルキレン基の炭素原子数は、１〜６（分岐アルキレン基の場合は３〜６）であることが好ましい。なお、アルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００８５】
Ｒ１６で表されるシクロアルキレン基の炭素原子数は、３〜６であることが好ましい。なお、シクロアルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００８６】
Ｒ１６で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００８７】
Ｒ１６は、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基であることが好ましく、アルキレン基またはシクロアルキレン基であることがより好ましい。
【００８８】
ｑは、１〜３の整数であることが好ましく、１であることがより好ましい。
【００８９】
Ｒ１７は、酸により酸素原子から脱離することが可能な１価の有機基を表す。
【００９０】
Ｒ１７は、通常、酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーが２００ｋＪ以下である１価の有機基であり、好ましくは、酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーが１５０ｋＪ以下である１価の有機基であり、より好ましくは、酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーが１００ｋＪ以下である１価の有機基であり、更に好ましくは、酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーが８０ｋＪ以下である１価の有機基である。Ｒ１７が酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーは、例えば、示差走査熱量測定法により測定することができる。
【００９１】
−ＯＲ１７で表される基に対して酸が作用した場合、Ｒ１７が酸素原子から脱離して、式（５）で表される繰り返し単位中にフェノール性水酸基が生成する。生成したフェノール性水酸基は、化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基と反応することで架橋体を形成することができるためである。
【００９２】
Ｒ１７で表される、酸により酸素原子から脱離することが可能な１価の有機基としては、例えば、ヒドロフラニル基、ヒドロピラニル基、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するアルキル基、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するシクロアルキル基、三級アルキル基、および、環状炭化水素構造を有する基が挙げられ、これらの基は置換基を有していてもよい。これらの基は、酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーが２００ｋＪ以下である１価の有機基である。
【００９３】
ヒドロフラニル基とは、ジヒドロフランまたはテトラヒドロフランの環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた基を意味し、ヒドロフラニル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸基が挙げられる。
ヒドロフラニル基としては、例えば、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラニル基が挙げられる。
【００９４】
ヒドロピラニル基とは、ジヒドロピランまたはテトラヒドロピランの環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた基を意味し、ヒドロフラニル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸基が挙げられる。
ヒドロピラニル基としては、例えば、ジヒドロピラニル基、テトラヒドロピラニル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基が挙げられる。
【００９５】
アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するアルキル基の炭素原子数は、２〜２０（分岐アルキル基の場合は４〜２０）であることが好ましい。なお、該アルキル基の炭素原子数には、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基以外の置換基の炭素原子数は含まれない。該アルキル基が有していてもよいアルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基以外の置換基としては、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アリール基がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
アルコキシ基を置換基として有するアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、１−メトキシエチル基、１−メトキシプロピル基、１−エトキシエチル基、２−エトキシエチル基、１−エトキシプロピル基、ビス（２−クロロエトキシ）メチル基、１−メチル−１−メトキシエチル基、１−イソプロポキシエチル基が挙げられる。
【００９６】
アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するシクロアルキル基の炭素原子数は、４〜２０であることが好ましい。なお、該シクロアルキル基の炭素原子数には、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基以外の置換基の炭素原子数は含まれない。該シクロアルキル基が有していてもよいアルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基以外の置換基としては、アルキル基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基またはアリール基がより好ましく、アルキル基が更に好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００９７】
三級アルキル基としては、例えば、ターシャリーブチル基、２−メチル−２−ブチル基、２−メチル−２−プロピル基、２−メチル−２−ブチル基が挙げられる。
【００９８】
環状炭化水素構造を有する基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましい。
環状炭化水素構造を有する基としては、例えば、シクロプロピルメチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、２−メチルアダマンチル基が挙げられる。
【００９９】
Ｒ１７は、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するアルキル基、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するシクロアルキル基、三級アルキル基、または、環状炭化水素構造を有する基であることが好ましく、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するアルキル基、三級アルキル基、または、環状炭化水素構造を有する基であることがより好ましい。
【０１００】
Ｒ１８で表されるアルキル基の炭素原子数は、１〜２０（分岐アルキル基の場合は３〜２０）であることが好ましい。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキル基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【０１０１】
Ｒ１８で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましい。なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【０１０２】
Ｒ１８で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【０１０３】
Ｒ１８は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基であることが好ましく、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基であることがより好ましい。
【０１０４】
式（５）で表される繰り返し単位としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。
【０１０５】
【化１８】
0006443148.tif 000019
【０１０６】
高分子化合物（Ｂ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、３０００〜１００００００であることが好ましく、５０００〜５０００００であることがより好ましい。高分子化合物（Ｂ）は、直鎖状の高分子化合物であってもよく、分岐状の高分子化合物であってもよく、環状の高分子化合物であってもよい。
【０１０７】
高分子化合物（Ｂ）としては、例えば、ポリ（スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（４−（１−エトキシエトキシ）スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（４−（メトキシメトキシ）スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（４−（メトキシエトキシメトキシ）スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（４−（テトラヒドロピラニルオキシ）スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（４−（シクロプロピルメチルオキシ）スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（ペンタフルオロスチレン−ｃｏ−４−(１−エトキシエトキシ)スチレン−ｃｏ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド）、ポリ（４−（１−エトキシエトキシ）スチレン−ｃｏ−[２−〔Ｏ−（１’−メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ〕エチル−メタクリレート]−ｃｏ−アクリロニトリル−ｃｏ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド）、ポリ（ペンタフルオロスチレン−ｃｏ−４−(１−エトキシエトキシ)スチレン−ｃｏ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド−ｃｏ−ドデシルメタクリレート）が挙げられる。
【０１０８】
高分子化合物（Ｂ）は、本発明の組成物に、１種単独で含有されていてもよく、２種以上が含有されていてもよい。
【０１０９】
高分子化合物（Ｂ）は、本発明の組成物がより均一になるため、１０℃で液体状態である化合物（Ａ）に溶解する高分子化合物であることが好ましい。
【０１１０】
本発明の組成物に含有される高分子化合物（Ｂ）は、例えば、光ラジカル重合開始剤または熱ラジカル重合開始剤の存在下において、式（４’）で表される化合物と、必要に応じて他の重合性モノマー（例えば、式（５’）で表される化合物）とを含有する重合性モノマー組成物をラジカル重合させることにより、製造することができる。
【０１１１】
【化１９】
0006443148.tif 000020
（４’）
［式中、Ｒ１１、ａ、Ｒ１２、ｐ、Ｒ１３およびＲ１４は、前記と同じ意味を表す。］
【０１１２】
【化２０】
0006443148.tif 000021
（５’）
［式中、Ｒ１５、ｂ、Ｒ１６、ｑ、Ｒ１７およびＲ１８は、前記と同じ意味を表す。］
【０１１３】
式（４’）で表される化合物としては、例えば、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン、２−トリフルオロメチルスチレン、３−トリフルオロメチルスチレン、４−トリフルオロメチルスチレンが挙げられる。
【０１１４】
式（５’）で表される化合物としては、例えば、４−（メトキシメトキシ）スチレン、４−（メトキシエトキシメトキシ）スチレン、４−（１−エトキシエトキシ）スチレン、４−（テトラヒドロピラニルオキシ）スチレン、４−（シクロプロピルメチルオキシ）スチレン、および、４−（シクロヘキシルオキシ）スチレン、４-ターシャリーブトキシスチレン、４−（２−（２-メチルアダマンチル）オキシ）スチレンが挙げられる。
【０１１５】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、
アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、４−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェノン、メチル（ｏ−ベンゾイル）ベンゾエート、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオクチルエーテル、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ジアセチル等のカルボニル化合物、
メチルアントラキノン、クロロアントラキノン、クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のアントラキノン誘導体およびチオキサントン誘導体、並びに、
ジフェニルジスルフィド、ジチオカーバメート等の含硫黄化合物が挙げられる。
【０１１６】
熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリックアシッド）、１、１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロパン）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）２塩酸塩等のアゾ化合物、
メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド等のケトンパーオキシド化合物、
イソブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキシド、ｏ−メチルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド化合物、
２，４，４−トリメチルペンチル−２−ヒドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、ターシャリーブチルヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシド化合物、
ジクミルパーオキシド、ターシャルーブチルクミルパーオキシド、ジターシャリーブチルパーオキシド、トリス（ターシャリーブチルパーオキシ）トリアジン等のジアルキルパーオキシド化合物、
１，１−ジターシャリーブチルパーオキシシクロヘキサン、２，２−ジ（ターシャリーブチルパーオキシ）ブタン等のパーオキシケタール化合物、
ターシャリーブチルパーオキシピバレート、ターシャリーブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ターシャリーブチルパーオキシイソブチレート、ジターシャリーブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ジターシャリーブチルパーオキシアゼレート、ターシャリーブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ターシャリーブチルパーオキシアセテート、ターシャリーブチルパーオキシベンゾエート、ジターシャリーブチルパーオキシトリメチルアジペート等のアルキルパーエステル化合物、
ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ターシャリーブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーオキシカーボネート化合物が挙げられる。
【０１１７】
高分子化合物（Ｂ）の製造に光ラジカル重合開始剤を使用する場合、上記の重合性モノマー組成物に照射する光の波長は、３６０ｎｍ以上であることが好ましく、３６０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【０１１８】
高分子化合物（Ｂ）の製造に熱ラジカル重合開始剤を使用する場合、上記の重合性モノマー組成物を加熱する温度は、４０℃以上１５０℃以下であることが好ましく、５０℃以上１２０℃以下であることがより好ましい。
【０１１９】
高分子化合物（Ｂ）の製造において、式（５’）で表される化合物以外の他の重合性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸およびその誘導体、アクリルアミドおよびその誘導体、メタアクリロニトリルおよびその誘導体、アクリロニトリルおよびその誘導体、有機カルボン酸のビニルエステルおよびその誘導体、有機カルボン酸のアリルエステルおよびその誘導体、フマル酸のジアルキルエステルおよびその誘導体、マレイン酸のジアルキルエステルおよびその誘導体、イタコン酸のジアルキルエステルおよびその誘導体、有機カルボン酸のＮ−ビニルアミド誘導体、末端不飽和炭化水素およびその誘導体、並びに、不飽和炭化水素基を含む有機ゲルマニウム誘導体が挙げられる。他の重合性モノマーは、本発明の組成物に要求される特性に応じて適宜選択することができる。
【０１２０】
（メタ）アクリル酸およびその誘導体としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸−ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸デシル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸−３−ヒドロキシプロピル、アクリル酸−２−ヒドロキシブチル、アクリル酸−２−ヒドロキシフェニルエチル、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチルアクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチルアクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチルアクリレート、２−〔Ｏ−[１’−メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ〕エチル−アクリレート、グリシジルアクリレート、３−アクリロイルオキシメチル−３−エチルオキセタン、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸−ｎ−プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸−ｎ−ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸−ｓｅｃ−ブチル、メタアクリル酸ヘキシル、メタアクリル酸オクチル、メタアクリル酸−２−エチルヘキシル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸イソボルニル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸ベンジル、メタア���リル酸−２−ヒドロキシエチル、メタアクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸−３−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸−２−ヒドロキシブチル、メタアクリル酸−２−ヒドロキシフェニルエチル、エチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパンジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルメタアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチルメタアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチルメタアクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチルメタアクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニルメタアクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチルメタアクリレート、２−〔Ｏ−[１’−メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ〕エチル−メタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−メタクリロイルオキシメチル−３−エチルオキセタンが挙げられる。
【０１２１】
アクリルアミドおよびその誘導体としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリンが挙げられる。
【０１２２】
メタアクリロニトリルおよびその誘導体としては、例えば、メタアクリロニトリルが挙げられる。
【０１２３】
アクリロニトリルおよびその誘導体としては、例えば、アクリロニトリルが挙げられる。
【０１２４】
有機カルボン酸のビニルエステルおよびその誘導体としては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル、アジピン酸ジビニルが挙げられる。
【０１２５】
有機カルボン酸のアリルエステルおよびその誘導体としては、例えば、酢酸アリル、安息香酸アリル、アジピン酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、フタル酸ジアリルが挙げられる。
【０１２６】
フマル酸のジアルキルエステルおよびその誘導体としては、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、フマル酸ジイソブチル、フマル酸ジ−ｎ−ブチル、フマル酸ジ−２−エチルヘキシル、フマル酸ジベンジルが挙げられる。
【０１２７】
マレイン酸のジアルキルエステルおよびその誘導体としては、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジイソプロピル、マレイン酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、マレイン酸ジイソブチル、マレイン酸ジ−ｎ−ブチル、マレイン酸ジ−２−エチルヘキシル、マレイン酸ジベンジル、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミドが挙げられる。
【０１２８】
イタコン酸のジアルキルエステルおよびその誘導体としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジイソプロピル、イタコン酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、イタコン酸ジイソブチル、イタコン酸ジ−ｎ−ブチル、イタコン酸ジ−２−エチルヘキシル、イタコン酸ジベンジルが挙げられる。
【０１２９】
有機カルボン酸のＮ−ビニルアミド誘導体としては、例えば、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルアセトアミドが挙げられる。
【０１３０】
末端不飽和炭化水素およびその誘導体としては、例えば、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、ビニルシクロヘキサン、塩化ビニル、アリルアルコールが挙げられる。
【０１３１】
不飽和炭化水素基を含む有機ゲルマニウム誘導体としては、例えば、アリルトリメチルゲルマニウム、アリルトリエチルゲルマニウム、アリルトリブチルゲルマニウム、トリメチルビニルゲルマニウム、トリエチルビニルゲルマニウムが挙げられる。
【０１３２】
＜化合物（Ｃ）＞
化合物（Ｃ）は、電磁波もしくは電子線の照射、または、加熱により分解して酸を発生する化合物である。
【０１３３】
電磁波としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線が挙げられ、好ましくは紫外線である。電磁波の波長は、好ましくは４５０ｎｍ以下であり、より好ましくは２００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下である。
【０１３４】
化合物（Ｃ）が加熱により分解して酸を発生する化合物である場合、酸を発生する温度は、通常２００℃以下であり、好ましくは６０℃以上２００℃以下であり、より好ましくは８０℃以上２００℃以下である。
【０１３５】
電磁波もしくは電子線の照射により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）としては、例えば、スルホン酸エステル化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）としては、例えば、スルホン酸エステル化合物、トリアジン化合物が挙げられる。
【０１３６】
スルホン酸エステル化合物としては、フッ素化アルキルスルホン酸エステル化合物またはトルエンスルホン酸エステル化合物が好ましい。
【０１３７】
フッ素化アルキルスルホン酸エステル化合物としては、例えば、Ｎ-ヒドロキシナフタルイミドトリフレート、Ｎ-ヒドロキシナフタルイミドパーフルオロブチルトリフレート、Ｎ-ヒドロキシフタルイミドトリフレート、Ｎ-ヒドロキシフタルイミドパーフルオロブチルトリフレートが挙げられる。
【０１３８】
トルエンスルホン酸エステル化合物としては、例えば、α−（ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル）ベンゾイン、α−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−ｏ−ニトロトルエン、α−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−ｐ−ニトロトルエンが挙げられる。
【０１３９】
トリアジン化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−メチル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４’−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（３’，４’−ジメトキシフェニル）−１，３，５−トリアジンが挙げられる。
【０１４０】
ヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリルキュミルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。
【０１４１】
スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４，４’−ビス［ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、４−［４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）フェニルチオ］フェニル−ジ（４−メチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェートが挙げられる。
【０１４２】
化合物（Ｃ）は、ロードシル２０７４（ローディアジャパン株式会社製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、特開平９−１１８６６３号公報に記載の化合物、特開２００７−２６２４０１号公報に記載の化合物等のヨードニウム塩またはスルホニウム塩であってもよい。これらの化合物は、光カチオン重合開始剤として機能する。
【０１４３】
化合物（Ｃ）は、ＴＡ−１００（サンアプロ株式会社製、商品名）、ＴＡ−１２０（サンアプロ株式会社製、商品名）、ＴＡ−１６０（サンアプロ株式会社製、商品名）等のヨードニウム塩またはスルホニウム塩であってもよい。これらの化合物は、熱カチオン重合開始剤として機能する。
【０１４４】
化合物（Ｃ）は、スルホン酸エステル化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩またはスルホニウム塩であることが好ましく、ヨードニウム塩またはスルホニウム塩であることがより好ましい。
【０１４５】
化合物（Ｃ）は、本発明の組成物に、１種単独で含有されていてもよく、２種以上が含有されていてもよい。
【０１４６】
化合物（Ｃ）は、本発明の組成物がより均一になるため、１０℃で液体状態である化合物（Ａ）に溶解する化合物であることが好ましい。
【０１４７】
＜架橋剤（Ｄ）＞
架橋剤（Ｄ）は、化合物（Ａ）と反応することで、化合物（Ａ）との化学結合（化合物（Ａ）と架橋剤（Ｄ）との架橋）を形成する化合物である。なお、架橋剤（Ｄ）は、通常、電磁波もしくは電子線の照射、または、加熱により分解して酸を発生しない化合物である。
【０１４８】
架橋剤（Ｄ）としては、例えば、イミダゾール誘導体、フェノール誘導体、変性アミン化合物、メルカプタン化合物、３級アミン化合物、ケティミン化合物、酸無水物およびジシアンジアミド化合物が挙げられ、イミダゾール誘導体、フェノール誘導体、変性アミン化合物、ケティミン化合物、酸無水物またはジシアンジアミド化合物が好ましく、イミダゾール誘導体、フェノール誘導体、変性アミン化合物、酸無水物またはジシアンジアミド化合物がより好ましい。
【０１４９】
架橋剤（Ｄ）は、本発明の組成物に、１種単独で含有されていてもよく、２種以上が含有されていてもよい。
【０１５０】
架橋剤（Ｄ）は、本発明の組成物がより均一になるため、１０℃で液体状態である化合物（Ａ）に溶解する架橋剤であることが好ましい。
【０１５１】
＜組成比＞
本発明の組成物において、高分子化合物（Ｂ）の含有量は、化合物（Ａ）の含有量を１００重量部とした場合、１〜２００重量部であることが好ましく、５〜１５０重量部であることがより好ましい。
【０１５２】
本発明の組成物が化合物（Ｃ）を含有する場合、化合物（Ｃ）の含有量は、化合物（Ａ）の含有量を１００重量部とした場合、０．００１〜５重量部であることが好ましく、０．００５〜２重量部であることがより好ましい。
【０１５３】
本発明の組成物が架橋剤（Ｄ）を含有する場合、架橋剤（Ｄ）の含有量は、化合物（Ａ）の含有量を１００重量部とした場合、１〜３０重量部であることが好ましく、５〜２０重量部であることがより好ましい。
【０１５４】
＜組成物の製造方法＞
【０１５５】
本発明の組成物は、化合物（Ａ）と、予め製造しておいた高分子化合物（Ｂ）と、化合物（Ｃ）または架橋剤（Ｄ）とを混合することにより、製造することができる（以下、「本発明の組成物の製造方法１」ともいう）。
【０１５６】
本発明の組成物の製造方法１では、化合物（Ａ）と、予め製造しておいた高分子化合物（Ｂ）と、化合物（Ｃ）または架橋剤（Ｄ）と、有機溶媒（該有機溶媒は、化合物（Ａ）、高分子化合物（Ｂ）、および、化合物（Ｃ）もしくは架橋剤（Ｄ）を溶解させる）とを混合してもよいし、混合後に該有機溶媒を除去してもよい。
【０１５７】
また、本発明の組成物は、化合物（Ａ）および化合物（Ｃ）の存在下において、上記の重合性モノマー組成物を重合させることにより、製造することができる（以下、「本発明の組成物の製造方法２」ともいう）。
【０１５８】
本発明の組成物の製造方法２では、光ラジカル重合開始剤または熱ラジカル重合開始剤の存在下において、上記の重合性モノマー組成物のラジカル重合させることが好ましい。これは、上記の重合性モノマーのラジカル重合の際に、化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応を防止することができるためである。
【０１５９】
本発明の組成物は、化合物（Ａ）と、高分子化合物（Ｂ）と、化合物（Ｃ）とが均一に混合されるため、本発明の組成物の製造方法２で製造された組成物であることが好ましい。
【０１６０】
本発明の組成物の製造方法２において、
化合物（Ａ）および化合物（Ｃ）の存在下において、上記の重合性モノマー組成物を重合させる場合、上記の重合性モノマー組成物の重合は、化合物（Ｃ）が酸を発生しない条件下において行うことが好ましい。
【０１６１】
本発明の組成物の製造方法２において、
化合物（Ａ）、化合物（Ｃ）および光ラジカル重合開始剤の存在下において、上記の重合性モノマー組成物を重合させる場合、
加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）を用いることが好ましい。
【０１６２】
本発明の組成物の製造方法２において、
化合物（Ａ）、化合物（Ｃ）および熱ラジカル重合開始剤の存在下において、上記の重合性モノマー組成物を重合させる場合、
電磁波もしくは電子線の照射により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）を用いることが好ましい。
【０１６３】
本発明の組成物の製造方法２において、
化合物（Ａ）、化合物（Ｃ）および熱ラジカル重合開始剤の存在下において、上記の重合性モノマー組成物を重合させる場合、
加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）であって、熱ラジカル重合開始剤の分解温度では分解しない化合物（Ｃ）を用いてもよい。
【０１６４】
本発明の組成物の製造方法２に用いる化合物（Ｃ）としては、
ロードシル２０７４（ローディアジャパン株式会社製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、特開平９−１１８６６３号公報に記載の化合物、特開２００７−２６２４０１号公報に記載の化合物等の光カチオン重合開始剤、または、ＴＡ−１００（サンアプロ株式会社製、商品名）、ＴＡ−１２０（サンアプロ株式会社製、商品名）、ＴＡ−１６０（サンアプロ株式会社製、商品名）等の熱カチオン重合開始剤が好ましく、
ロードシル２０７４（ローディアジャパン株式会社製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、特開平９−１１８６６３号公報に記載の化合物、または、特開２００７−２６２４０１号公報に記載の化合物がより好ましく、
特開平９−１１８６６３号公報に記載の化合物、または、特開２００７−２６２４０１号公報に記載の化合物が更に好ましい。
【０１６５】
＜膜および膜の製造方法＞
本発明の組成物には、１０℃で液体状態である化合物（Ａ）が含有される。そのため、本発明の組成物を基材上に塗布することにより、膜を形成することができる。本発明の組成物を基材上に塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ダイコート法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法が挙げられる。
【０１６６】
本発明の組成物に架橋剤（Ｄ）が含有される場合、本発明の膜は、
本発明の組成物を基材上に塗布することにより、膜を形成する工程と、
形成された膜を加熱することにより、膜中に含有される化合物（Ａ）と架橋剤（Ｄ）とを架橋させる工程とを含む、膜の製造方法により製造された膜である。
【０１６７】
本発明の組成物に化合物（Ｃ）が含有される場合、本発明の膜は、
本発明の組成物を基材上に塗布することにより、膜を形成する工程と、
形成された膜に電磁波もしくは電子線を照射することにより、または、形成された膜を加熱することにより、膜中に含有される化合物（Ａ）を架橋させる工程を含む、膜の製造方法により製造された膜であってもよい。
ここで、形成された膜に電磁波もしくは電子線を照射する際の温度は、通常、２０℃以上３５℃以下の常温である。
【０１６８】
化合物（Ａ）を架橋させる工程において、形成された膜に電磁波または電子線を照射する場合、形成された膜に電磁波または電子線を照射した後、加熱することが好ましい。
【０１６９】
本発明の組成物に、式（５）で表される繰り返し単位を含む高分子化合物（Ｂ）と、化合物（Ｃ）とが含有される場合、
本発明の組成物を基材上に塗布することにより形成された膜に、電磁波もしくは電子線を照射し加熱することにより、または、形成された膜を加熱することにより、膜中に含有される化合物（Ａ）および高分子化合物（Ｂ）を架橋させることができる。
ここで、形成された膜に電磁波もしくは電子線を照射する際の温度は、通常、２０℃以上３５℃以下の常温である。
【０１７０】
これは、高分子化合物（Ｂ）に含まれる式（５）で表される繰り返し単位中の−ＯＲ１７で表される基に対して、化合物（Ｃ）が分解することで発生した酸が作用することにより、式（５）で表される繰り返し単位中にフェノール性水酸基が発生する。そして、このフェノール性水酸基が、化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基と反応することで（より詳細には、化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応が起こるため）、化合物（Ａ）および高分子化合物（Ｂ）の架橋体が形成するためである。
【０１７１】
本発明の膜の製造方法において、電磁波としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線が挙げられ、好ましくは紫外線である。電磁波の波長は、化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応の観点から、好ましくは４５０ｎｍ以下であり、より好ましくは２００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下である。
【０１７２】
本発明の膜の製造方法において、紫外線の照射は、例えば、露光装置、ＵＶランプを用いて行うことができる。
本発明の膜の製造方法において、電子線の照射は、例えば、超小型電子線照射管を用いて行うことができる。
【０１７３】
本発明の膜の製造方法において、形成された膜を加熱する際の温度は、通常６０℃以上２３０℃以下であり、化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応の観点から、好ましくは８０℃以上２００℃以下である。
本発明の膜の製造方法において、形成された膜を加熱する際の時間は、通常５分間以上１２０分間以下であり、化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応の観点から、好ましくは１０分間以上６０分間以下である。
【０１７４】
本発明の膜の製造方法において、形成された膜の加熱は、例えば、ヒーター、オーブンを用いて行うことができる。
【０１７５】
本発明の膜は、絶縁性、誘電性に優れるため、絶縁材料として好適に使用することができる。絶縁材料としては、例えば、電子デバイスの絶縁層として使用することができる。
【０１７６】
本発明の膜を絶縁層に有する電子デバイスとしては、例えば、有機薄膜トランジスタ、ＲＦＩＤタグ、液晶表示デバイス、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、電子ペーパー、センサーが挙げられ、有機薄膜トランジスタ、液晶表示デバイスまたは有機エレクトロルミネッセンスデバイスが好ましく、有機薄膜トランジスタがより好ましい。
【０１７７】
本発明の膜を絶縁層に有する有機薄膜トランジスタにおいて、該絶縁層は、ゲート絶縁層またはオーバーコート層であることが好ましく、ゲート絶縁膜であることがより好ましい。
【０１７８】
本発明の膜を絶縁層に有する有機薄膜トランジスタは、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス装置等に代表されるディスプレイのアクティブ素子として使用することができる。
【実施例】
【０１７９】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【０１８０】
実施例１
（組成物１の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を４．００ｇ、リモネンジオキサイド（巴工業社製、商品名：ＬＤＯ）を１６．００ｇ、４−（１−エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学社製、商品名：ＰＥＥＳ）を２．１７ｇ、ドデシルメタクリレート（東京化成社製）を０．５８ｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド（興人社製）を０．５８ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を５．２６ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．０９ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．２６ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．２０ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、７時間ラジカル重合させた。
【０１８１】
【化２１】
0006443148.tif 000022
ＭＢＺ−１０１
【０１８２】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（化合物（Ａ）に該当する）およびリモネンジオキサイド（化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物１（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物１を得た。組成物１中の高分子化合物１は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０１８３】
【化２２】
0006443148.tif 000023
高分子化合物１
【０１８４】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物１の重量平均分子量は、１８０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０１８５】
得られた組成物１を、クロム電極が形成されたガラス基板上にスピンコートした。その後、ホットプレート上で９０℃、１分間乾燥させることで、膜を形成した。形成された膜に、アライナー（キヤノン社製、商品名：ＰＬＡ−５２１）を用いて３６００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ光（波長３６５nm）を照射した。得られたガラス基板を、大気雰囲気下、ホットプレート上で１２０℃、６０分間加熱し、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンと、リモネンジオキサイドと、高分子化合物１とを架橋させることにより、絶縁層（膜厚：約１４μｍ、透明）を形成した。
【０１８６】
得られた絶縁層上に、メタルマスクを用いて蒸着によりアルミニウム電極を形成することで、ＭＩＭ（Metal Insulator Metal）素子を作製した。
【０１８７】
＜ＭＩＭ素子の電気特性の評価＞
作製したＭＩＭ素子の誘電率および耐電圧を、真空プロ−バ（Nagase Electronic Equipments Service Co., LTD社製、BCT２２MDC−５−HT−SCU）を用いて測定した。誘電率は３．７であり、耐電圧は１４０ｋＶ／ｃｍより大きかった。ここで、耐電圧は、電極間に電界をかけて、リーク電流が１X10-6A/cm2となる電解強度により評価した。
【０１８８】
実施例２
（組成物２の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を４．００ｇ、リモネンジオキサイド（巴工業社製、商品名：ＬＤＯ）を１６．００ｇ、４−（１−エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学社製、商品名：ＰＥＥＳ）を３．３７ｇ、ドデシルメタクリレート（東京化成社製）を０．８９ｇ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド（興人社製）を０．８９ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を８．１８ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．１３ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．４０ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．２０ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、７時間ラジカル重合させた。
【０１８９】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（化合物（Ａ）に該当する）およびリモネンジオキサイド（化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物２（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物２を得た。組成物２中の高分子化合物２は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０１９０】
【化２３】
0006443148.tif 000024
高分子化合物２
【０１９１】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物２の重量平均分子量は、２３０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０１９２】
得られた組成物２を、クロム電極が形成されたガラス基板上にスピンコートした。その後、ホットプレート上で９０℃、１分間乾燥させることで、膜を形成した。形成された膜に、アライナー（キヤノン社製、商品名：ＰＬＡ−５２１）を用いて３６００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ光（波長３６５nm）を照射した。得られたガラス基板を、大気雰囲気下、ホットプレート上で１２０℃、６０分間加熱し、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンと、リモネンジオキサイドと、高分子化合物２とを架橋させることにより、絶縁層（膜厚：約１４μｍ、透明）を形成した。
【０１９３】
得られた絶縁層上に、メタルマスクを用いて蒸着によりアルミニウム電極を形成することで、ＭＩＭ（Metal Insulator Metal）素子を作製した。
【０１９４】
＜ＭＩＭ素子の電気特性の評価＞
作製したＭＩＭ素子の誘電率および耐電圧を、真空プロ−バ（Nagase Electronic Equipments Service Co., LTD社製、BCT２２MDC−５−HT−SCU）を用いて測定した。誘電率は３．７であり、耐電圧は１４０ｋＶ／ｃｍより大きかった。ここで、耐電圧は、電極間に電界をかけて、リーク電流が１X10-6A/cm2となる電解強度により評価した。
【０１９５】
実施例３
（組成物３の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を４．００ｇ、リモネンジオキサイド（巴工業社製、商品名：ＬＤＯ）を１６．００ｇ、４−（１−エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学社製、商品名：ＰＥＥＳ）を３．３７ｇ、ドデシルメタクリレート（東京化成社製）を０．８９ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を９．５４ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．１４ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．４１ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．２０ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、７時間ラジカル重合させた。
【０１９６】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（化合物（Ａ）に該当する）およびリモネンジオキサイド（化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物５（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物３を得た。組成物３中の高分子化合物３は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０１９７】
【化２４】
0006443148.tif 000025
高分子化合物５
【０１９８】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物３の重量平均分子量は、１５２０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。