(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
布材料と、
前記布材料中に染料組成物と、を含むラビング布であって、
前記染料組成物が、２−シアン−３−{６−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−４，４−ジヘキシル基−４Ｈ−ジチエノ[２，１−ｂ:３，４−ｂ’]シクロペンタジエン}アクリル酸、２−シアン−３−{Ｎ−ヘキシル基−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−ジチエノ[３，２−ｂ:２，３’−d]ピロール}アクリル酸及び２−シアン−３−{６−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−４，４−ジヘキシル基−４Ｈ−ジチエノ[２，１−ｂ:３，４−ｂ’]シロール}アクリル酸の中の少なくとも１種を含むことを特徴とするラビング布。
【請求項２】
前記染料組成物が、クロロフォルム及び／又はエタノールの溶剤に溶解されていることを特徴とする請求項１に記載のラビング布。
【請求項３】
前記ラビング布の前記布材料が綿布であることを特徴とする請求項１に記載のラビング布。
【請求項４】
外表面に、請求項１〜３のいずれか１項に記載のラビング布が設けられていることを特徴とするロール。
【請求項５】
前記ロールは液晶配向角を形成するロールであることを特徴とする請求項４に記載のロール。
【請求項６】
請求項５に記載のロールによって前記液晶配向角を形成する工程を含むことを特徴とする液晶配向角の形成方法。
【請求項７】
基板上に、ＰＩ液を均一に塗布してＰＩ層を形成する工程と、
光に照射される状態で、液晶のプレ配向方向に沿って、ＰＩ層上に前記ロールを摩擦ローリングして前記液晶配向角を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶配向角の形成方法。
【請求項８】
基板上に残留する静電を除去する工程をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載の液晶配向角の形成方法。
【請求項９】
イオン風によって基板上に残留する静電を除去することを特徴とする請求項８に記載の液晶配向角の形成方法。
【請求項１０】
光に照射される状態で、請求項１〜３のいずれか１項に記載のラビング布又は請求項４に記載のロールによってくずを除去する工程を含むことを特徴とするくず除去方法。
【請求項１１】
布材料と、
前記布材料中に、カルボキシル基およびシアノ基を含む染料組成物と、を含むラビング布。
【請求項１２】
前記染料組成物が、２−シアン−３−{６−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−４，４−ジヘキシル基−４Ｈ−ジチエノ[２，１−ｂ:３，４−ｂ’]シクロペンタジエン}アクリル酸、２−シアン−３−{Ｎ−ヘキシル基−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−ジチエノ[３，２−ｂ:２，３’−d]ピロール}アクリル酸及び２−シアン−３−{６−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−４，４−ジヘキシル基−４Ｈ−ジチエノ[２，１−ｂ:３，４−ｂ’]シロール}アクリル酸の中の少なくとも１種であることを特徴とする請求項１１に記載のラビング布。
【請求項１３】
前記染料組成物が、クロロフォルム及び／又はエタノールの溶剤に溶解されていることを特徴とする請求項１１又は１２に記載のラビング布。
【請求項１４】
前記ラビング布の前記布材料が綿布であることを特徴とする請求項１１又は１２に記載のラビング布。
【請求項１５】
外表面に、請求項１１〜１４のいずれか１項に記載のラビング布が設けられていることを特徴とするロール。
【請求項１６】
前記ロールは液晶配向角を形成するロールであることを特徴とする請求項１５に記載のロール。
【請求項１７】
請求項１６に記載のロールによって前記液晶配向角を形成する工程を含むことを特徴とする液晶配向角の形成方法。
【請求項１８】
基板上に、ＰＩ液を均一に塗布してＰＩ層を形成する工程と、
光に照射される状態で、液晶のプレ配向方向に沿って、ＰＩ層上に前記ロールを摩擦ローリングして前記液晶配向角を形成する工程と、を含むことを特徴とする請求項１７に記載の液晶配向角の形成方法。
【請求項１９】
基板上に残留する静電を除去する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１８に記載の液晶配向角の形成方法。
【請求項２０】
イオン風によって基板上に残留する静電を除去することを特徴とする請求項１９に記載の液晶配向角の形成方法。
【請求項２１】
光に照射される状態で、請求項１１〜１４のいずれか１項に記載のラビング布又は請求項１５に記載のロールによってくずを除去する工程を含むことを特徴とするくず除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ラビング布、ロール、液晶配向角の形成方法及びくず除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルの製造工程では、アレイ基板及びカラーフィルタ基板両方の上に、液晶をプレ配向する配向膜を形成する必要がある。一般に、配向膜を形成する過程において、まず、基板上にポリイミド（ＰＩ、Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）液を均一に塗布してＰＩ層を形成し、そして、ロールによってＰＩ層を摩擦することで、需要に応じてＰＩ層に配向角又は配向チャンネルを形成する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
このような摩擦工程では、たくさんのくず、例えば、ＰＩ層から脱落したくずが生じてしまう。これらのくずは大きさが異なる。従来の除去工程では、主に、アレイ基板及びカラーフィルタ基板の洗浄を強めている。このような工程は、技術的には成熟したが、以下のような不都合がある。
小さいくずに対して、現在の洗浄方式によっては、徹底的に洗浄することが難しく、作業効率が低い。
また、クリーニングが徹底的ではないと、表示パネルが組み立てられた後、表示が不良になる。
また、実現が煩瑣で、コストが高い。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、クリーニング効果が良好で、実現が簡単であり、コストが低いラビング布、ロール、液晶配向角の形成方法及びくず除去方法を提供する。
【０００５】
本発明の一方面は、水酸基とシアン基の中の少なくとも１種を有する染料を溶解した溶液で染色されたラビング布を提供する。
【０００６】
本発明の１つの実施例では、前記染料は、２−シアン−３−{６−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−４，４−ジヘキシル基−４Ｈ−ジチエノ[２，１−ｂ:３，４−ｂ’]シクロペンタジエン}アクリル酸、２−シアン−３−{Ｎ−ヘキシル基−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−ジチエノ[３，２−ｂ:２，３’−d]ピロール}アクリル酸及び２−シアン−３−{６−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−４，４−ジヘキシル基−４Ｈ−ジチエノ[２，１−ｂ:３，４−ｂ’]シロール}アクリル酸の中の１種又は複種である。
【０００７】
本発明の１つの実施例によれば、前記染料を溶解する溶剤は、クロロフォルム及び／又はエタノールである。
【０００８】
本発明の１つの実施例によれば、前記ラビング布の材質は綿布である。
【０００９】
本発明の他の方面は、外表面に前記ラビング布が設けられているロールを提供する。
【００１０】
本発明の１つの実施例によれば、前記ロールは液晶配向角を形成するロールである。
【００１１】
本発明の他の方面は、前記ロールによって前記液晶配向角を形成する工程を含む液晶配向角の形成方法を提供する。
【００１２】
本発明の１つの実施例によれば、前記方法は、基板上にポリイミド（ＰＩ）液を均一に塗布してＰＩ層を形成する工程と、光に照射される状態で、液晶のプレ配向方向に沿ってＰＩ層上に前記ロールを摩擦ローリングして、前記液晶配向角を形成する工程と、を含む。
【００１３】
本発明の１つの実施例によれば、前記方法は、基板上に残留する静電を除去する工程をさらに含む。
【００１４】
本発明のもう１つの実施例によれば、イオン風により基板上に残留する静電を除去する。
【００１５】
本発明の他の方面は、光に照射される状態で、前記ラビング布又は前記ロールによってくずを除去するくず除去方法を提供する。
【００１６】
以下、本発明をさらに明確に理解させるように、図面を組み合わせて本発明の実施例をさらに詳しく説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明実施例に係るロールの構造概略図１である。
【図２】本発明実施例に係るロールの構造概略図２である。
【図３】本発明実施例に係る液晶配向角の形成方法を示す概略図である。
【図４】本発明実施例に係る液晶配向角の形成方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施例の目的、技術案及び利点をさらに明確にするように、本発明実施例の図面を参照しながら、本発明の実施例の技術案を明確で完全に説明する。下記の実施例は、当然ながら、本発明の実施例の一部であり、全ての実施例ではない。本発明の例示的な実施例に基づき、当業者が創造性付けの労働をしない前提で得られる他の実施例はいずれも本発明の保護範囲に入る。
【００１９】
本発明実施例に係るラビング布は、水酸基とシアン基の中の少なくとも１種を有する染料を溶解した溶液で染色される。
【００２０】
水酸基及びシアン基がいずれも強い電子求引性を有する基であるため、光に適当に照射されると、シアン基及びカルボキシル基の中の電子はπ共役系を介してエネルギー準位が安定しない状態になり、電子のエネルギー準位が遷移するようになり、放電現象が生じ、ラビング布は帯電するようになる。これにより、当該ラビング布は、電荷吸着現象によってくずを吸着することができる。本実施例に係るラビング布は、摩擦によってクリーニングすることができるだけでなく、電荷吸着によってクリーニングすることもできるため、クリーニング能力が強い利点を有する。
【００２１】
実施時において、シアン基を有する染料、或いは、カルボキシル基を有する染料、或いは、カルボキシル基及びシアン基両方を有する染料によって、本実施例に係るラビング布を製造することができる。本実施例は、以下のような例示的な染料を提供する。
【００２２】
前記染料は、２−シアン−３−{６−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−４，４−ジヘキシル基−４Ｈ−ジチエノ[２，１−ｂ:３，４−ｂ’]シクロペンタジエン}アクリル酸、２−シアン−３−{Ｎ−ヘキシル基−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−ジチエノ[３，２−ｂ:２，３’−d]ピロール}アクリル酸及び２−シアン−３−{６−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−４，４−ジヘキシル基−４Ｈ−ジチエノ[２，１−ｂ:３，４−ｂ’]シロール}アクリル酸の中の１種又は複種であってもよい。
【００２３】
上記３種類の染料又はそれらの混合物は、性能が安定で長続きであるため、耐用性が優れると共に、クリーニング、吸着効果がよいラビング布を製造することができる。
【００２４】
本実施例の改善として、前記染料を溶解する溶剤は、クロロフォルム及び／又はエタノールであってもよい。染料は有機物であり、相溶性により、有機物質を選んで染料を溶解する。クロロフォルム及びエタノールは、シアン基及び／又はカルボキシル基を有する染料に対する溶解度が大きいため、例えば、クロロフォルム及びエタノールを溶剤として用いてもよい。特に、染料が、２−シアン−３−{６−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−４，４−ジヘキシル基−４Ｈ−ジチエノ[２，１−ｂ:３，４−ｂ’]シクロペンタジエン}アクリル酸、２−シアン−３−{Ｎ−ヘキシル基−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−ジチエノ[３，２−ｂ:２，３’−d]ピロール}アクリル酸及び２−シアン−３−{６−{４−[Ｎ，Ｎ−ジ(４−ヘキシルオキシフェニル基)アミン基]フェニル基}−４，４−ジヘキシル基−４Ｈ−ジチエノ[２，１−ｂ:３，４−ｂ’]シロール}アクリル酸の中の１種又は複種である場合、クロロフォルム又はエタノールで溶解すると、溶液に溶解された染料の含量が大きいため、このように製造されたラビング布は、吸着能力がさらに強くなる。
【００２５】
例示した実施過程で、前記ラビング布の材質は、ナイロン、繊維等の生地であってもよい。本実施例では、例えば、綿布を用いる。綿布は、シアン基及び／又はカルボキシル基の官能基を有する染料に対する吸着力がさらに強いため、綿布からなる本実施例に係るラビング布は、さらに強い吸着能力を有する。
【００２６】
以上のように、本実施例に係るラビング布は、製造が簡単で、コストが低く、クリーニング効果がよいなどの利点を有する。
【００２７】
本発明の実施例に係るロールによれば、前記ロールの外表面に以上のようなラビング布が設けられている。図１に示すように、前記ロール１１の外表面に、カルボキシル基及び／又はシアン基を有する染料の溶液で染色されてなるラビング布１２が被覆されている。当該ロール１１が物品をクリーニングする場合、摩擦により物品の汚れを擦ることができるとともに、前記ラビング布１２の光照射による吸着能力で、くずを吸着することができ、特に、微小なくずに対して吸着効果がさらによい。
【００２８】
本実施例の改善として、図２に示すように、前記ロール２１は、液晶配向角を形成するロールである。液晶配向角を形成するためのロールは、その表面に液晶配向角を形成するパターン２６が設けられる。前記ラビング布２２を、パターン２６の表面に配置させるとともに、前記液晶配向角を形成するためのパターン２６に貼り合わせる。これにより、前記ロールは、液晶配向角を形成するとともに、光に照射されると、電荷吸着力を生じて、微小のくずを吸着する。ラビング布の染料によって電荷が生じ、当該電荷が小さいため、アレイ基板又はカラーフィルタ基板の内部の回路に影響することがない。また、この電荷は、大きさが安定であり、制御しやすい。
【００２９】
本発明の実施例に係る液晶配向角の形成方法は、前記ロールによって液晶配向角を形成する工程を含む。
【００３０】
図３〜図４に示すように、本実施例のさらなる改善として、前記液晶配向角の形成方法は、
基板２４上にポリイミド（ＰＩ、Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）液を均一に塗布してＰＩ層２３を形成する工程Ｓ１と、
光に照射される状態で、液晶のプレ配向方向に沿って、ＰＩ層２３上に前記ロール２１を摩擦ローリングして、前記液晶配向角を形成する工程Ｓ２と、を含む。前記基板は、例えば、アレイ基板であってもよいし、カラーフィルタ基板であってもよい。図の中の符号２５が照射条件を満たす光源であり、前記ロール２１に本発明の実施例に係るラビング布２２が被覆され、ラビング布２２の下方に液晶配向角を形成するパターン２６が設けられ、前記ラビング布２２をパターン２６に貼り合わせる。
【００３１】
このように、前記液晶配向角を形成しながら、ラビング布の摩擦及び電荷吸着力によってくずを除去する。即ち、１つの工程で２つの作業をして、工程を低減し、簡単に実現できる。従来の洗浄方式に比べて、本発明の実施例は上述した利点だけでなく、クリーニングの効果がよい利点をさらに有し、特に、微小なくずに対するクリーニングに優れている。
【００３２】
前記ロールが、光に照射されると放電するため、基板上に一部の電荷が残留する可能性がある。上記電荷を除去するために、本実施例の更なる改善として、前記方法は静電を除去する工程Ｓ３をさらに含んでもよい。前記工程Ｓ３で静電を除去する方法は、例えば、イオン風静電除去法である。イオン風静電除去法は、イオン風の中和原理により静電を除去する。例えば、一般に、陰イオン風を吹く。
【００３３】
実施時に、本発明の実施例に係るラビング布が放出する電荷は、その量が制限されているため、アレイ基板又はカラーフィルタ基板上の回路に対する干渉や破壊がほとんどない。さらに、工程Ｓ３を追加することで、ほとんど破壊力がない静電がさらに除去され、製品の品質が確保される。
【００３４】
実施時、液晶配向角を形成する工程を全く変化せずに、くずのクリーニング工程のみに本発明に係るラビング布及びロールでクリーニングすればよい。従来のクリーニング方法に比べて、このような実施方式は、同じくクリーニング効果がよい利点を具備する。
【００３５】
本発明の実施例に係るくず除去方法によれば、光に照射される状態で、本発明に係るラビング布又は本発明に係るロールでくずを除去する。例えば、本実施例に係るくず除去方法は、従来の方法で液晶配向角を形成した後に行われるくずの除去に用いられる。
【００３６】
本発明の実施例に係るくず除去方法は、本発明に係るラビング布及び摩擦ロールでクリーニングし、クリーニング効果がよく、簡単で快速に実現でき、コストが低い等の多い利点を有する。
【００３７】
本発明の実施例に係るラビング布、ロール、液晶配向角の形成方法及びくず除去方法の有益な効果は以下のとおりである。
本発明実施例に係るラビング布、ロール、液晶配向角の形成方法及びくず除去方法では、カルボキシル基及び／又はシアン基染料を有する溶液でラビング布を染色する。前記シアン基及び前記カルボキシル基がいずれも強い電子求引性を有する基であり、光に照射されると、電子が遷移して静電が生じ、静電吸着現象によってくずを除去する目的が実現されるため、吸着効果が強くクリーニング効果がよい利点を有する。
また、本発明実施例に係るラビング布、ロール及び液晶配向角の形成方法では、液晶配向角の形成方法に用いられる場合、液晶配向角を形成するとともに、形成工程によるくずが同じ工程で除去され、後続の洗浄工程がなくてもよい。このように、従来技術に比べて、工程が少なくなり、生産効率が高く、生産コストが低い利点を有する。それとともに、本発明の実施例に係るくず除去方法は、液晶配向角を形成した後、従来の洗浄方法の代わりに、くずをクリーニングすることができ、クリーニングが簡単で快速になり、コストが低い上、効果がよくて効率が高い利点も有する。
【００３８】
以上の実施例は、本発明を説明するものに過ぎず、本発明を制限するものではない。本発明の精神及び範囲から逸脱しない限り、当業者は、様々な変化及び変形を行うことができる。従って、これらの変化や変形及び他の均等的なものも本発明の範囲に入る。本発明の保護範囲は特許請求の範囲によって決められる。
【符号の説明】
【００３９】
１１、２１  ロール
１２、２２  ラビング布
２３  ＰＩ層
２４  基板
２５  光源
２６  パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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