(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
個別レーザのアレイと、ビーム圧縮システムと、を備え、前記レーザは、使用中に燃料ターゲットが供給され得る共通焦点に集束する放射源であって、
光学システムが、前記個別レーザのアレイからの放射を集光し、かつ、前記放射を前記共通焦点に集束させ、
前記光学システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第１ミラーと、前記第１ミラーからの放射を受けかつ前記放射を最終集束レンズに誘導する第２ミラーと、を含む望遠鏡光学システムであり、前記第１ミラーには、光軸上に位置付けられた開口部が形成され、
前記共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送する燃料搬送システムと、
前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射を集光するコレクタと、をさらに備え、
前記コレクタは、前記共通焦点と前記第１ミラーとの間に設けられるとともに開口部を有し、
前記燃料搬送システムは、前記第１ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、放射源。
【請求項２】
前記コレクタは、前記光軸上に位置付けられた開口部を有し、
ガス流ガイドが、前記コレクタの表面にガスを搬送するために前記第１ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、請求項１に記載の放射源。
【請求項３】
個別レーザのアレイと、
ビーム圧縮システムと、を備え、
前記レーザは、使用中に燃料ターゲットが供給され得る共通焦点に集束し、
前記個別レーザのアレイは、２以上のグループとして配置され、それによって各前記グループは個別に制御され得る、放射源。
【請求項４】
１つの前記グループのレーザは、別の前記グループのレーザと異なる時点で点火され得る、請求項３に記載の放射源。
【請求項５】
１つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る、請求項３又は４に記載の放射源。
【請求項６】
個別レーザ又はレーザのグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る、請求項３に記載の放射源。
【請求項７】
選択された１つ以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る、請求項３に記載の放射源。
【請求項８】
前記プレパルスを提供する１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束する、請求項７に記載の放射源。
【請求項９】
前記プレパルスを提供する前記１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作する、請求項７又は８に記載の放射源。
【請求項１０】
リソグラフィ装置と、請求項１〜９の何れか一項に記載の放射源と、の組合せ。
【請求項１１】
リソグラフィ装置で使用するための放射を生成する方法であって、
燃料ターゲットを点火位置に供給することと、
レーザ放射を用いて前記燃料ターゲットに点火してプラズマを生成することと、を含み、
前記レーザ放射は、ビーム圧縮システムを介して共通焦点に集束する個別レーザのアレイから放出され、
前記ビーム圧縮システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第１ミラーと、前記第１ミラーからの放射を受けかつ前記放射を最終集束レンズに誘導する第２ミラーと、を含む望遠鏡光学システムであり、前記第１ミラーには、光軸上に位置付けられた開口部が形成され、
前記共通焦点での点火のために燃料搬送システムで燃料ターゲットを搬送することと、
前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射をコレクタで集光することと、をさらに含み、
前記コレクタは、前記共通焦点と前記第１ミラーとの間に設けられるとともに開口部を有し、
前記燃料搬送システムは、前記第１ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[関連出願の相互参照]
[0001]  本出願は、２０１２年１０月２６日に出願された米国仮出願第６１／７１８，９０８号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
[0002]  本発明は、リソグラフィ装置、特にリソグラフィ装置で使用するための放射源に関する。
【背景技術】
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常、基板のターゲット部分上に付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。その場合、ＩＣの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、マスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いることができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、ダイの一部、又は１つ以上のダイを含む）に転写することができる。通常、パターンの転写は、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層上への結像によって行われる。一般には、単一の基板が、連続的にパターニングされる隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。
【０００４】
[0004]  リソグラフィは、ＩＣ並びに他のデバイス及び／又は構造の製造における重要な工程の１つとして広く認識されている。しかしながら、リソグラフィを使用して作られるフィーチャの寸法が小さくなるにつれ、リソグラフィは、小型のＩＣ又は他のデバイス及び／若しくは構造の製造を可能にするためのより重要な要因になってきている。
【０００５】
[0005]  パターンプリンティングの限界は、式（１）に示す解像度についてのレイリー基準によって、理論的に推測することができる：
【数１】
0006410723.tif 000002
ここで、λは、使用される放射の波長であり、ＮＡは、パターンを印刷するために使用される投影システムの開口数であり、ｋ１は、レイリー定数とも呼ばれているプロセス依存調整係数であり、ＣＤは、印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ（又はクリティカルディメンジョン）である。式（１）から、フィーチャの最小印刷可能サイズは、露光波長λを短くすること、開口数ＮＡを大きくすること、あるいはｋ１の値を小さくすること、の３つの方法によって縮小することができると言える。
【０００６】
[0006]  露光波長を短くするため、ひいては最小印刷可能サイズを縮小するために、極端紫外線（ＥＵＶ）放射源を使用することが提案されている。ＥＵＶ放射は、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲内、例えば、１３〜１４ｎｍの範囲内の波長を有する電磁放射である。また、１０ｎｍ未満、例えば、６．７ｎｍや６．８ｎｍなどの５〜１０ｎｍの範囲の波長を有するＥＵＶ放射を使用することができることがさらに提案されている。そのような放射は、極端紫外線又は軟Ｘ線と呼ばれる。考えられる放射源としては、例えば、レーザ生成プラズマ源、放電プラズマ源、又は電子蓄積リングによって提供されるシンクロトロン放射に基づく放射源が含まれる。
【０００７】
[0007]  ＥＵＶ放射は、プラズマを使用して生成することができる。ＥＵＶ放射を生成するための放射システムは、燃料を励起してプラズマを提供するレーザと、プラズマを収容するための放射源コレクタモジュールと、を備え得る。プラズマは、例えば、好適な燃料材料（例えば、スズ、ＥＵＶ放射源の燃料の最も見込みのある、したがって有望な選択肢であると現在考えられている）の粒子（すなわち、液滴）、又は、Ｘｅガス若しくはＬｉ蒸気といった好適なガス若しくは蒸気の流れなどの燃料にレーザビームを誘導することによって作り出すことができる。結果として生じるプラズマは、ＥＵＶ放射などの出力放射を放出し、この出力放射は放射コレクタによって集光される。放射コレクタは、鏡面仕上げの法線入射放射コレクタ（近法線入射放射コレクタとも呼ばれる）であってよく、放射を受けてビームへと集束させる。放射源コレクタモジュールは、プラズマを支持するための真空環境を提供するように配置された閉鎖構造又はチャンバを備え得る。そのような放射システムは、通常、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）源と呼ばれる。
【０００８】
[0008]  従来、ＬＰＰ源は、プラズマを生成するＣＯ２レーザを使用する。従来のＣＯ２レーザは、ＬＰＰ源において２５０Ｗの帯域内ＥＵＶ放射を生成するのに十分な最大４０ｋＷの出力パワーを有し得る。しかしながら、ＥＵＶリソグラフィ装置のスループットを増大させるために、およそ１ｋＷの帯域内ＥＵＶ放射を生成することが望ましい。このことは、従来のＣＯ２レーザ設計では実現不可能である。というのは、装置のサイズ及び費用のために、４０ｋＷを超えるまでスケールアップすることができないからである。
【発明の概要】
【０００９】
[0009]  本明細書内又はそれ以外で特定されるか否かにかかわらず、従来技術の少なくとも１つの問題を回避又は軽減すること、又は、既存の装置若しくは方法の代替物を提供することが望ましい。
【００１０】
[0010]  本発明の第１態様によると、個別レーザのアレイとビーム圧縮システムとを備える放射源を含むリソグラフィ装置であって、前記レーザは、使用中に燃料ターゲットが供給され得る共通焦点に集束するように構成される、リソグラフィ装置が提供される。好ましくは、レーザはファイバレーザである。
【００１１】
[0011]  本発明のいくつかの実施形態において、放射源は光軸を含み、複数の個別ファイバレーザは、光軸に平行な放射を放出するように配置される。ファイバレーザは、光軸について対称的に配置されることが好ましい。好ましくは、光学システムが、複数の個別レーザからの放射を集光し、かつ放射を共通焦点に集束させる。光学システムは、望遠鏡光学システムであることが好ましい。光学システムは、複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第１ミラーと、第１ミラーからの放射を受け、かつ放射を最終集束レンズに誘導する第２ミラーと、を備え得る。
【００１２】
[0012]  好ましくは、放射を後方散乱させ、かつオリフィスを有する遮断要素が第１ミラーと第２ミラーとの間に設けられ得る。
【００１３】
[0013]  本発明のいくつかの実施形態において、第１ミラーには、光軸上に位置付けられた開口部が形成される。そのような実施形態において、リソグラフィ装置は、共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送するための燃料搬送システムと、該燃料ターゲットの点火によって生成された放射を集光するためのコレクタと、をさらに備えてよく、コレクタは、共通焦点と第１ミラーとの間に設けられる。そのような実施形態において、コレクタは開口部を有してよく、燃料搬送システムは、第１ミラーの開口部及びコレクタの開口部を通って延在してよい。開口部は光軸上に設けられ得る。
【００１４】
[0014]  本発明のいくつかの実施形態において、コレクタは、光軸上に位置付けられた開口部を有し、ガス流ガイドは、ガスを前記コレクタの表面に搬送するために第１ミラーの開口部及びコレクタの開口部を通って延在する。
【００１５】
[0015]  他の実施形態において、複数の個別ファイバレーザは、レーザによって放出された放射が光軸に向かって誘導されるように、光軸の周囲に配置される。好ましくは、前記放射を共通焦点に集束させるために最終集束レンズが設けられる。このことには、ビームウエストを低減させるという利点がある。
【００１６】
[0016]  他の実施形態において、複数の個別ファイバレーザによって放出された放射は、複数のダイクロイックミラーによって単一の放射ビームに合成される。
【００１７】
[0017]  個別ファイバレーザは取付け板上に取り付けられる。
【００１８】
[0018]  各個別ファイバレーザにはコリメータが設けられ得る。
【００１９】
[0019]  本発明の好ましい実施形態において、複数の個別ファイバレーザは、２以上のグループとして配置され、それによって各グループは個別に制御され得る。そのような１つのグループのファイバレーザは、そのような別のグループのレーザと異なる時点で点火され得る。１つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る。個別レーザ又はレーザのグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る。
【００２０】
[0020]  本発明のいくつかの実施形態において、選択された１以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る。プレパルスを提供するそのような１以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束し得る。プレパルスを提供する１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作し得る。
【００２１】
[0021]  本発明の実施形態において、個別ファイバレーザは、１〜５μｍの波長で放射を放出する。好ましくは、各々の個別レーザは、１Ｗを超えるパワーで放出する。
【００２２】
[0022]  本発明のいくつかの実施形態において、前記ファイバレーザのうちの少なくともいくつかには、前記ファイバレーザの一区間を加熱することによって、又は、前記ファイバレーザに機械的応力をかけることによって、位相制御が設けられ得る。
【００２３】
[0023]  好ましくは、各々のファイバレーザにはコリメータが設けられる。そのような各コリメータは、各ファイバレーザの端部に位置付けられてよく、各コリメータ及びそのような各ファイバレーザ端部は液体に浸漬されてよい。
【００２４】
[0024]  本発明の別の態様によれば、リソグラフィ装置で使用するための放射を生成する方法であって、燃料ターゲットを点火位置に供給することと、レーザ放射を用いて前記燃料ターゲットに点火してプラズマを生成することと、を含み、レーザ放射は、ビーム圧縮システムによって共通焦点に集束するように構成された複数の個別レーザから放出される、方法が提供される。
【００２５】
[0025]  本発明の別の態様によれば、リソグラフィ装置用の放射源であって、光軸に実質的に平行な放射を放出するように配置された複数の個別ファイバレーザと、前記複数の個別ファイバレーザからの放射を集光し、かつ使用中に燃料ターゲットが供給され得る共通焦点に前記放射を集束させる光学システムとを備える、放射源が提供される。
【００２６】
[0026]  本発明の別の態様によれば、リソグラフィ装置用の放射源であって、光軸に向かって誘導された放射を放出するように配置された複数の個別ファイバレーザと、前記複数の個別ファイバレーザからの放射を集光し、かつ使用中に燃料ターゲットが供給され得る共通焦点に放射を集束させるレンズとを備える、放射源が提供される。
【００２７】
[0027]  本発明の別の態様によれば、リソグラフィ装置用の放射源であって、複数の個別レーザによって放出された放射が複数のダイクロイックミラーによって単一の放射ビームに合成されるように配置された複数の個別ファイバレーザを備える、放射源が提供される。
【００２８】
[0028]  本発明の１つ以上の態様は、当業者の必要に応じて、本明細書に記載の他のあらゆる１つ以上の態様と、及び／又は本明細書に記載の１つ以上の特徴と組み合わせることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
[0029]  本発明のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の概略図を参照して以下に説明する。これらの図面において同じ参照符号は対応する部分を示す。
【００３０】
【図１】[0030]  本発明の一実施形態に係るリソグラフィ装置を示す。
【図２】[0031]  ＬＰＰソースコレクタモジュールを含む図１のリソグラフィ装置をより詳細に示す。
【図３】[0032]  本発明の一実施形態に係る放射源を概略的に示す。
【図４】[0033]  本発明の別の実施形態に係る放射源を概略的に示す。
【図５】[0034]  本発明の別の実施形態に係る放射源を概略的に示す。
【図６】[0035]  本発明の別の実施形態に係る放射源を概略的に示す。
【図７】[0036]  本発明の別の実施形態に係る放射源を概略的に示す。
【図８ａ】[0037]  本発明の別の実施形態に係る放射源を概略的に示す。
【図８ｂ】[0037]  本発明の別の実施形態に係る放射源を概略的に示す。
【図９】[0038]  本発明の別の実施形態に係る放射源を概略的に示す。
【００３１】
[0039]  本発明の特徴及び利点は、これらの図面と併せて以下に記載される詳細な説明からより明らかになるであろう。図面において、同じ参照記号は、全体を通じて対応する要素を特定する。図面において、同じ参照番号は、基本的に、同一の、機能的に同様な、又は構造的に同様な要素を示す。ある要素が初めて登場する図面は、対応する参照番号における左端の数字によって示される。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
[0040]  本明細書は、本発明の特徴を組み込んだ実施形態を開示する。開示される実施形態は本発明を例示するに過ぎない。本発明の範囲は、開示される実施形態に限定されない。本発明は、以下に添付の特許請求の範囲によって規定される。
【００３３】
[0041]  説明される実施形態、及び明細書中の「一実施形態」、「ある実施形態」、「例示的な実施形態」、「いくつかの実施形態」等への言及は、説明される実施形態が特定の特徴、構造、又は特性を含み得ることを示すが、必ずしもすべての実施形態がその特定の特徴、構造、又は特性を含んでいなくてもよい。また、かかる表現は、必ずしも同じ実施形態を指すものではない。また、特定の特徴、構造、又は特性がある実施形態に関連して説明される場合、かかる特徴、構造、又は特性を他の実施形態との関連においてもたらすことは、それが明示的に説明されているか否かにかかわらず、当業者の知識内のことであると理解される。
【００３４】
[0042]  図１は、本発明の一実施形態に係るソースコレクタモジュールＳＯを備えたリソグラフィ装置１００を概略的に示している。このリソグラフィ装置は、放射ビームＢ（例えば、ＥＵＶ放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク又はレチクル）ＭＡを支持するように構築され、かつパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１ポジショナＰＭに連結されたサポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴと、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構築され、かつ基板を正確に位置決めするように構成された第２ポジショナＰＷに連結された基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴと、パターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢに付けられたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）上に投影するように構成された投影システム（例えば、反射投影システム）ＰＳと、を備える。
【００３５】
[0043]  照明システムとしては、放射を誘導し、整形し、又は制御するために、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又はその他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらのあらゆる組合せなどのさまざまなタイプの光学コンポーネントを含むことができる。
【００３６】
[0044]  サポート構造ＭＴは、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、及び、パターニングデバイスが真空環境内で保持されているか否かなどの他の条件に応じた態様で、パターニングデバイスＭＡを保持する。サポート構造は、機械式、真空式、静電式又はその他のクランプ技術を使って、パターニングデバイスを保持することができる。サポート構造は、例えば、必要に応じて固定又は可動式にすることができるフレーム又はテーブルであってもよい。サポート構造は、パターニングデバイスを、例えば、投影システムに対して所望の位置に確実に置くことができる。
【００３７】
[0045]  「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分内にパターンを作り出すように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用できるあらゆるデバイスを指していると、広く解釈されるべきである。放射ビームに付与されたパターンは、集積回路などのターゲット部分内に作り出されるデバイス内の特定機能層に対応し得る。
【００３８】
[0046]  パターニングデバイスは、透過型であっても、反射型であってもよい。パターニングデバイスの例としては、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィでは公知であり、バイナリ、レベンソン型（alternating）位相シフト、及びハーフトーン型（attenuated）位相シフトなどのマスク型、並びに種々のハイブリッドマスク型を含む。プログラマブルミラーアレイの一例では、小型ミラーのマトリックス配列が用いられており、各小型ミラーは、入射する放射ビームを様々な方向に反射させるように、個別に傾斜させることができる。傾斜されたミラーは、ミラーマトリックスによって反射される放射ビームにパターンを付ける。
【００３９】
[0047]  投影システムは、照明システムと同様、使われている露光放射にとって、あるいは真空の使用といった他の要因にとって適切な、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又は他のタイプの光学コンポーネント、あるいはそれらのあらゆる組合せなどのさまざまなタイプの光学コンポーネントを含むことができる。ＥＵＶ放射では、ガスが放射を吸収し過ぎるおそれがあるため、真空を使用することが望ましい場合がある。したがって、真空壁及び真空ポンプを使って、ビームパス全体に真空環境を提供してもよい。
【００４０】
[0048]  本明細書に示されているとおり、リソグラフィ装置は、反射型のもの（例えば、反射型マスクを採用しているもの）である。
【００４１】
[0049]  リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）以上の基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスクテーブル）を有する型のものであってもよい。そのような「マルチステージ」マシンにおいては、追加のテーブルを並行して使うことができ、又は予備工程を１つ以上のテーブル上で実行しつつ、別の１つ以上のテーブルを露光用に使うこともできる。
【００４２】
[0050]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは、ソースコレクタモジュールＳＯから極端紫外線放射ビームを受ける。ＥＵＶ光を生成する方法としては、材料を、例えば、キセノン、リチウム、又はスズなどの少なくとも１つの元素を有し、ＥＵＶ範囲内の１つ以上の輝線を有するプラズマ状態へと変換することが含まれるが、必ずしもこれに限定されない。そのような方法のうちの１つであり、しばしばレーザ生成プラズマ（「ＬＰＰ」）と呼ばれる方法では、所望の輝線を放出する元素を有する材料の液滴、流れ又はクラスタなどの燃料を、レーザビームで照射することにより所望のプラズマを生成することができる。ソースコレクタモジュールＳＯは、燃料を励起するレーザビームを提供するために、燃料の流れを生成するための燃料流ジェネレータ及び／又はレーザ（どちらも図１に示していない）を備えるＥＵＶ放射システムの一部であり得る。結果として生じたプラズマは、ＥＵＶ放射などの出力放射を放出し、この出力放射は、ソースコレクタモジュール内に配置される放射コレクタを使って集光される。例えば、ＣＯ２レーザを使用して燃料励起のためのレーザビームを提供する場合、レーザ及び／又は燃料流ジェネレータ並びにコレクタモジュール（しばしばソースコレクタモジュールと呼ばれる）は、別個の構成要素とすることができる。
【００４３】
[0051]  そのような場合には、レーザは、リソグラフィ装置の一部を形成しているとはみなされず、また放射ビームは、レーザからソースコレクタモジュールへ、例えば、適切な誘導ミラー及び／又はビームエキスパンダを含むビームデリバリシステムを使って送られる。その他の場合においては、例えば、放射源が、ＤＰＰ源と呼ばれることが多い放電生成プラズマＥＵＶジェネレータである場合、放射源は、ソースコレクタモジュールの一体部分とすることもできる。
【００４４】
[0052]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角強度分布を調節するアジャスタを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面内の強度分布の少なくとも外側及び／又は内側半径範囲（通常、それぞれσ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調節することができる。さらに、イルミネータＩＬは、ファセットフィールド（facetted field）及び瞳ミラーデバイスなどのさまざまな他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータを使って放射ビームを調整すれば、放射ビームの断面に所望の均一性及び強度分布をもたせることができる。
【００４５】
[0053]  放射ビームＢは、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ上に保持されているパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ上に入射して、パターニングデバイスによってパターン形成される。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡから反射された後、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは、基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームの焦点をあわせる。第２ポジショナＰＷ及び位置センサＰＳ２（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、又は静電容量センサ）を使って、例えば、さまざまなターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置決めするように、基板テーブルＷＴを正確に動かすことができる。同様に、第１ポジショナＰＭ及び別の位置センサＰＳ１を使い、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを放射ビームＢの経路に対して正確に位置決めすることもできる。パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使って、位置合わせされてもよい。
【００４６】
[0054]  例示の装置は、以下に説明するモードのうち少なくとも１つのモードで使用できる。
１．ステップモードにおいては、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分Ｃ上に投影する（すなわち、単一静的露光）。その後、基板テーブルＷＴは、Ｘ及び／又はＹ方向に移動され、それによって別のターゲット部分Ｃを露光することができる。
２．スキャンモードにおいては、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴ及び基板テーブルＷＴを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する（すなわち、単一動的露光）。サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＳの（縮小）拡大率及び像反転特性によって決めることができる。
３．別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルＷＴを動かす、又はスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分Ｃ上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルＷＴの移動後ごとに、又はスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００４７】
[0055]  上述の使用モードの組合せ及び／又はバリエーション、あるいは完全に異なる使用モードもまた採用可能である。
【００４８】
[0056]  図２は、ソースコレクタモジュールＳＯ、照明システムＩＬ、及び投影システムＰＳを含むリソグラフィ装置１００をより詳細に示している。ソースコレクタモジュールＳＯは、ソースコレクタモジュールＳＯの閉鎖構造２２０内に真空環境を維持することができるように構築及び配置されている。
【００４９】
[0057]  レーザＬＡが、流体流ジェネレータ２００から供給されるキセノン（Ｘｅ）、スズ（Ｓｎ）、又はリチウム（Ｌｉ）などの燃料内に、レーザビーム２０５を介してレーザエネルギーを堆積させるように配置される。液体（すなわち、溶融）スズ（ほとんどの場合、液滴の形態をとる）、又は別の液状金属は、ＥＵＶ放射源の燃料として最も見込みのある、したがって有望な選択肢であると現在考えられている。燃料へのレーザエネルギーの堆積によって、数十電子ボルト（ｅＶ）の電子温度を有するプラズマ形成位置２１１において高電離プラズマ２１０が作り出される。イオンの脱励起及び再結合中に生成されたエネルギー放射は、プラズマ２１０から放出され、近法線入射放射コレクタＣＯ（より一般的に法線入射放射コレクタと呼ばれることもある）によって集光及び集束される。コレクタＣＯは、多層構造、例えば、特定の波長（例えば、特定のＥＵＶ波長の放射）を反射させる、より容易に反射させる、又は優先的に反射させるように調整された多層構造を有してよい。コレクタＣＯは、２つの自然楕円焦点を有する楕円構成を有してよい。後述のとおり、一方の焦点はプラズマ形成位置２１１に存在し、他方の焦点は中間焦点に存在することになる。
【００５０】
[0058]  レーザＬＡ及び／又は流体流ジェネレータ２００及び／又はコレクタＣＯはともに、放射源、特にＥＵＶ放射源を備えると考えられ得る。ＥＵＶ放射源は、レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）放射源と呼ばれることがある。閉鎖構造２２０内のコレクタＣＯは、コレクタモジュールを形成することができ、このコレクタモジュールは、（この例において）放射源の一部を形成する。
【００５１】
[0059]  第２レーザ（図示せず）を設けてよく、この第２レーザは、プレパルスを提供してレーザビーム２０５が燃料に入射する前に燃料を事前整形するように構成される。この手法を用いるＬＰＰ源は、デュアルレーザパルシング（ＤＬＰ）源と呼ばれることがある。
【００５２】
[0060]  図示していないが、燃料流ジェネレータが、燃料液滴などの流れを軌道に沿ってプラズマ形成位置２１１に向けて誘導するように構成されたノズルを備える、又は該ノズルに接続することになる。燃料は、１つ以上の流れ、１つ以上のジェットなどの他のあらゆる好適な形態をとってよく、固体、液体、又は気体の形態をとってよいことが理解されるであろう。燃料ターゲットという用語は、本明細書においてそのような選択肢を包含するように用いられる。
【００５３】
[0061]  放射コレクタＣＯによって反射された放射Ｂは、仮想放射源点ＩＦに集束する。仮想放射源点ＩＦは、通常、中間焦点と呼ばれ、ソースコレクタモジュールＳＯは、中間焦点ＩＦが閉鎖構造２２０の開口部２２１内又は該開口部２２１付近に位置付けられるように配置される。仮想放射源点ＩＦは、放射放出プラズマ２１０の像である。
【００５４】
[0062]  続いて、放射Ｂは照明システムＩＬを横断する。照明システムＩＬは、パターニングデバイスＭＡにおいて放射ビーム２１に所望の角度分布を提供し、かつパターニングデバイスＭＡにおいて放射強度に所望の均一性を提供するように配置されたファセットフィールドミラーデバイス２２及びファセット瞳ミラーデバイス２４を備え得る。サポート構造ＭＴに保持されたパターニングデバイスＭＡにおいて放射ビームが反射されると、パターン付きビーム２６が形成され、このパターン付きビーム２６は、反射要素２８、３０を介して、ウェーハに保持された基板Ｗ上に投影システムＰＳにより結像される。
【００５５】
[0063]  一般に、照明システムＩＬ及び投影システムＰＳ内には、図示されるよりも多い要素が存在し得る。さらに、図示されるよりも多いミラーが存在してもよく、例えば、図２に示されるよりも１〜６個多い追加の反射要素が投影システムＰＳ内に存在してもよい。
【００５６】
[0064]  上述のとおり、従来、レーザＬＡは、単一のＣＯ２レーザであるが、このことは帯域内ＥＵＶパワーの増加のために要求される将来の条件を満たすのに不十分であり得る。本発明の実施形態において、放射源は複数のファイバレーザを備える。ファイバレーザは、例えば、１〜５μｍの波長で放射するダイオード励起ファイバレーザであり得る。好適なダイオード励起ファイバレーザは、例えば、ガドリニウムに基づいたものであり得る。ファイバレーザごとの出力は、１０Ｗであってよく、場合によっては１００Ｗもの高さであってよい。任意に、本発明の実施形態において、１００ｋＷのオーダの総パワー出力を提供する１００〜１０００個の個別のファイバレーザであってよい。
【００５７】
[0065]  図３は、本発明の第１実施形態を示している。複数の個別ファイバレーザ１０５が取付け板１０６上の２次元アレイに取り付けられる。レーザ１０５は、１〜５μｍの波長でビーム質Ｍ２＜２を有し、かつその出力部において平行出力ビームを生成するコリメーティング光学系１０８を備えていることが好ましい。コリメーティング光学系１０８は、各ファイバレーザの端部に設けられたコリメータを備えてよく、該コリメータ及びファイバレーザの端部は、冷却する目的で、かつレーザパワーフラックス（laser power flux）が最も高いファイバレーザの端部においてレーザスパーク破壊を防止するために、液体中に浸漬されてよい。取付け板１０６は、各個別ファイバレーザ１０５が光軸Ｘ−Ｘに平行な放射を放出するように、該光軸に対して垂直に配置される。レーザ１０５は、該レーザ１０５が放出する放射が軸対称となるように、軸対称に取り付けられることが好ましい。レーザは、例えば、環状アレイに取り付けられてもよい。出力レーザ放射のかなりの割合（１０％程度）が直接反射して戻るので、取付け板１０６の一部として冷却手段を設けてよい。レーザ１０５の正確な方向付けを確実なものとするために、取付け板１０６には、レーザを（集合的に又は個別に）調整する手段が設けられてよい。
【００５８】
[0066]  図３の実施形態は、ビーム圧縮システムとして機能し、かつ個別ファイバレーザ１０５の出力の合成と、単一の位置（例えば、燃料液滴がＥＵＶ生成のために搬送される位置）への該出力の集束を行うことが可能な光学システムも含んでいる。図３の実施形態において、この光学システムは、光軸Ｘ−Ｘ上に位置付けられ、かつ光軸Ｘ−Ｘが通るアパーチャ部１０３ａを有する第１ミラー１０３を備える。第１ミラー１０３には、ファイバレーザ１０５に面する凹状反射面１０３ｂが形成される。第１ミラー１０３はレーザ１０５からの放射を受け、面１０３ｂは、光軸Ｘ−Ｘ上に配置され、かつ凸状反射面１０４ａを有する第２ミラー１０４に対して放射を反射させる。１０４ａから伝播する放射は、光軸に平行に、かつアパーチャ部１０３ａを介して、所望の位置１０２に放射を集束させるレンズ１０１まで誘導される。ミラー１０３及び１０４は、必要に応じて冷却され得る。図３の説明の便宜上、Ａは、光軸に対して最も外側のファイバレーザ１０５から放出された放射ビームを示し、Ｂは、最も内側のファイバレーザ１０５から放出された放射ビームを示す。上述した光学システムは、きわめて有益な、非常に小型の望遠鏡的特性を有するものである。
【００５９】
[0067]  図４は、光学ビーム圧縮システムが、ターゲット材料及びターゲット材料から形成されたプラズマによって後方散乱される放射を遮断するための中間焦点及びオリフィスを有する望遠鏡構成である、本発明の別の実施形態を示している。本実施形態において、第２ミラー１０４は取付け板１０６の中心に位置付けられることが好ましく、かつ第１ミラー１０３の反射面１０３ｂに対向する凹状反射面１０４ｂを有する。第１実施形態と同様に、第２ミラー１０４は、第１ミラー１０３からの放射を受け、該放射を、光軸に平行に、かつアパーチャ部１０３ａを介して、所望の位置１０２に放射を集束させるレンズ１０１まで再誘導する。本実施形態の違いは、第１ミラー１０３から第２ミラー１０４に反射した放射が、中心オリフィス１０７ａを有する遮断要素１０７が位置付けられる中間焦点を通過することである。遮断要素１０７は、レーザ１０５を損なうおそれがある、ターゲット材料及びターゲット材料から形成されたプラズマからの後方散乱放射を遮断する役割を果たす。
【００６０】
[0068]  図５は、本発明の別の実施形態を示している。図５の実施形態は、第２ミラー１０３を、取付け板１０６において（必ずではないが）中央に位置付けられることが好ましく、かつ本実施形態において取付け板の後方に位置付けられた所望の位置１０２に放射を集束させる結像レンズ１０１に置き換えることを除いて、図４の実施形態と同様である。図４の実施形態のように、レーザ１０５からの放射は、中心オリフィス１０７ａを有する遮断要素１０７が位置する中間焦点を介して、レンズ１０１まで放射を再誘導する第１ミラー１０３によって受けられる。遮断要素は、後方反射放射を遮断する役割を果たす。
【００６１】
[0069]  上述の実施形態では、複数のレーザ１０５からの放射は、光軸上に存在するのではなく、光軸を取り囲む。このことは、燃料液滴搬送システム及び／又はガス流搬送システムのために光軸が利用可能であり得ることを示している。このことは、図４の実施形態の第１及び第２ミラー１０３、１０４に加えて、第１ミラー１０３のアパーチャ部１０３ａ及びレンズ１０１の中央アパーチャ部を通る光軸に沿って延在している搬送導管１０８を追加的に示す図６に示されている。また、図６は、レンズ１０１の周りに位置付けられたコレクタＣＯを示している。搬送導管１０８は、例えば、焦点１０２へのターゲット、例えば燃料液滴を搬送するための導管であってよく、コレクタＣＯの表面上に堆積される汚染物質を防止するのに用いられる保護ガスを搬送する導管であってもよい。
【００６２】
[0070]  図７は、レーザ出力が光軸に平行に配置されるようにアレイにレーザ１０５を配置するのではなく、図７の実施形態では、レーザ１０５は、光軸上の位置１０２’に向かって誘導されるように配置される、本発明のさらなる実施形態を示している。位置１０２’は、所望の位置であってよいが、より好ましくは、レーザ１０５の出力ビームは、最終集束レンズ１０１の後方の所望の位置１０２に集束することが好ましい。最終集束レンズ１０１は、ビーム集中を高め、ビームウエストを圧縮する。レーザ１０５のセット内のパワー分布を調整することによって、焦点長さに影響を及ぼすのに十分なレンズ１０１の膨張を引き起こさないレンズ１０１上の熱負荷を実現することができる。例えば、光軸から最も遠いレーザ１０５は、レンズ１０１内の温度界を一様にするために、より高いパワーを保持し得る。各レーザ１０５にはコリメータ１０８が設けられ得る。
【００６３】
[0071]  ＬＰＰ源において、ターゲットの燃料液滴は、２つの別々のレーザパルスにさらされ得る。第１パルスは、ＥＵＶ生成プラズマをもたらす後続の主レーザパルスのための最適状態（例えば、パンケーキ形）に燃料液滴を調整するプレパルスである。ターゲット燃料液滴は動いており、かつプレパルスは主パルスの前に用いられるので、プレパルスを提供するファイバレーザは、主パルスを提供するファイバレーザと異なる位置に集束するはずである。図８（ａ）及び図８（ｂ）は、このことがどのように達成され得るかを示す、本発明の実施形態を示している。図８（ａ）は、プレパルス及び主パルスをそれぞれ提供するために２つのグループがどのように用いられ得るかを示している。図８（ａ）において、Ａは、発散ａを有し、かつ光軸からの距離ｖが設けられる第１グループのファイバレーザからの放射ビームを示しており、Ｂは、発散ｂを有し、かつ光軸からの距離ｕが設けられる第２グループのファイバレーザからの放射ビームを示している。図８（ａ）から分かるように、収束／発散ａを伴う第１グループのファイバは、第２グループのファイバレーザと（燃料液滴の軌跡を示す）線Ｄ−Ｃ上で異なる位置に集束されることになり、この第２グループは、主パルスと、収束ｂを有し、かつ光軸に平行であり得る放射とを提供するように設計される。図８（ｂ）は、レーザ１０５の環状アレイを保持している取付け板１０６の正面図である。レーザ１０５は、２つのグループに分割される。すなわち、ファイバレーザ１０５ａの第１グループは、発散ビームを生成し、かつターゲット整形のために用いられ、一方、ファイバレーザ１０５ｂの第２グループは、平行ビームを生成し、かつ主レーザパルスを提供するのに用いられる。プレパルスレーザ１０５ａは、主パルスレーザ１０５ｂより短いパルスを提供し得る。プレパルスレーザ１０５ａとして好適なファイバレーザは、＜７０ｐｓのパルス幅、レーザフラッシュエネルギー＜１ｍＪ（通常、０．１ｍＪ）、及び１００ｋＨｚより高い繰り返し周波数を有し得る。このことには、各個別のプレパルスが従来のプレパルスより少ないエネルギーを有することができ、したがって、ターゲットにかかる圧力がより少なく、かつ結果として生じるフラグメントがより大きくなるという利点がある。液滴の質量中心に従うために、プレパルスレーザ１０５ａはバーストモードで動作して、Ｎ個の個別のレーザから、整形イベントごとにＮ個（例えば、２〜１０個）のパルスを提供し得る。このように、結果として生じる液滴のミストは、より限定されたサイズ分布を有し、ひいてはターゲットのバーンオフ（burn-off）のリスクが低下する。プラズマが生成される点にプレパルスが到達する前に該プレパルスはターゲットの燃料液滴に提供されるので、レーザ１０５ａは、レーザ１０５ｂと異なるスポットに集束する。結果として生じる合成ビームが、最終レンズの屈折差に起因して、主パルスの位置と異なるプレパルスの位置に設けられたウエストを有するように、２つのタイプのレーザの波長は異なり得る。
【００６４】
[0072]  本発明の実施形態の利点は、総レーザパワーのスケールアップが可能になることである。このことは、すべてのレーザを同時に作動させることによって、又は交互に動作するグループにレーザを分割することによって達成することができる。後者の場合、良好な照明均一性を確実にするために、グループは対称的であることが好ましい。
【００６５】
[0073]  すべてのレーザが（配置することができる）わずかに異なる波長を特徴として備える場合、ビーム間の干渉は存在せず、結果として生じるビームウエストは、単に個別の重なるビームウエストの合計である。レーザが同一の波長及び位相を有する場合（これは、シーディングレーザを用い、かつ各ファイバの光路が区間加熱などによって制御される場合に可能である）、結果として生じるビームウエストは、干渉を受ける。
【００６６】
[0074]  図９は、複数のレーザからレーザビームを形成する別の方法を示している。半ＩＲファイバレーザの波長は、例えばファイバの組成を選択することによって容易に調整することができる。したがって、異なる波長を有する複数のビームは、ダイクロイックミラーを用いて合成することができる。図９を参照すると、２つのファイバレーザ３０５ａ、３０６ａ及び２つの関連するダイクロイックミラー３０７ａ、３０７ｂが示されている。最終レンズ（図９に示していない）の実現可能な色度を説明するために、各レーザ３０５ａ、３０６ａには、各個別レーザの出力部に取り付けられた補償レンズ３０５ｂ、３０６ｂが設けられ得る。
【００６７】
[0075]  上記のジオメトリが合成され得ることが理解されるであろう。例えば、ダイクロイックミラーを用いて、複数のファイバレーザによって生成されたレーザビームを合成して、図３〜図８の実施形態の光学系に対する入力として提供され得る単一の拡大ビームを形成することができる。
【００６８】
[0076]  本発明の実施形態によって、多数の重要な利点がもたらされる。例えば、所与のパワー（例えば、１００ｋＷ）の単一のＣＯ２レーザと比較して、本発明の実施形態によって、より安価で、小型で、かつ軽量の放射源が実現される。本発明の実施形態によって、使用されるファイバレーザの数に出力パワーが比例する直接パワースケーラビリティが可能になる。
【００６９】
[0077]  本発明の実施形態によって、一様なパワー及び照明均一性を伴う高安定性が実現される。同時に、本発明の実施形態によって、所望の場合に、パルス間パワーの微制御及び微調整の実現可能性がもたらされる。例えば、所与のバーストにおいて用いられるファイバレーザの数を選択することによって、パワーを制御することができる。バーストにおいて用いられる個別のレーザの数及び各個別のレーザのパワーを制御することによって、ビームウエストを制御すること、特に、より長いターゲットプラズマ保持などのための非古典的ビームウエストを提供し、バーンオフを延期することが可能であり得る。さらに、レーザの一区間を加熱することによって、又はレーザを機械的応力にさらすことによって、各ファイバレーザに対して位相制御を行うことでさらなる制御が実現され得る。
【００７０】
[0078]  各個別のファイバレーザのパワーは適度（およそ１００Ｗ）であり、従って、冷却及び保守要件が最低限となる。各ファイバレーザの適度なパワーは、光学系の劣化及び熱に起因する収差が実質的に存在しないことを意味する。さらに、レーザ源の分散性によって、光学システムにおける熱負荷の制御が可能になる。
【００７１】
[0079]  本明細書において、ＩＣ製造におけるリソグラフィ装置の使用について具体的な言及がなされているが、本明細書記載のリソグラフィ装置が、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用のガイダンスパターン及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド、ＬＥＤ、太陽電池等の製造といった他の用途を有し得ることが理解されるべきである。当業者にとっては当然のことであるが、そのような別の用途においては、本明細書で使用される「ウェーハ」又は「ダイ」という用語はすべて、それぞれより一般的な「基板」又は「ターゲット部分」という用語と同義であるとみなしてよい。本明細書に記載した基板は、露光の前後を問わず、例えば、トラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、かつ露光されたレジストを現像するツール）、メトロロジーツール、及び／又はインスペクションツールで処理されてもよい。適用可能な場合には、本明細書中の開示内容を上記のような基板プロセシングツール及びその他の基板プロセシングツールに適用してもよい。さらに基板は、例えば、多層ＩＣを作るために複数回処理されてもよいので、本明細書で使用される基板という用語は、すでに多重処理層を包含している基板を表すものとしてもよい。
【００７２】
[0080]  リソグラフィ装置を説明する際、「レンズ」という用語は、文脈によっては、屈折、反射、磁気、電磁気、及び静電型光学コンポーネントを含む様々な種類の光学コンポーネントのいずれか１つ又はこれらの組合せを指すことができる。
【００７３】
[0081]  以上、本発明の具体的な実施形態を説明してきたが、本発明は、上述以外の態様で実施できることが明らかである。上記の説明は、制限ではなく例示を意図したものである。特に、以下の条項に係る主題は、本開示の範囲内にあるとみなされる。
i.  個別レーザのアレイとビーム圧縮システムとを備える放射源を含むリソグラフィ装置であって、前記レーザは、使用中に燃料ターゲットが供給され得る共通焦点に集束するように構成される、リソグラフィ装置。
ii.  前記レーザはファイバレーザである、条項iに係る装置。
iii.  前記放射源は光軸を含み、前記複数の個別レーザは、前記光軸に平行な放射を放出するように配置される、条項i又はiiに係る装置。
iv.  前記レーザは、前記光軸について対称的に配置される、条項iiiに係る装置。
v.  光学システムが、前記個別レーザのアレイからの放射を集光し、かつ前記放射を前記共通焦点に集束させる、条項i乃至ivのいずれか１項に係る装置。
vi.  前記光学システムは、望遠鏡光学システムである、条項vに係る装置。
vii.  前記光学システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第１ミラーと、前記第１ミラーからの放射を受け、かつ前記放射を最終集束レンズに誘導する第２ミラーとを含む、条項viに係る装置。
viii.  オリフィスが、前記第１ミラーと前記第２ミラーとの間に設けられる、条項viiに係る装置。
ix.  前記第１ミラーには、光軸上に位置付けられた開口部が形成される、条項vii又はviiiに係る装置。
x.  前記共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送するための燃料搬送システムと、前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射を集光するためのコレクタと、をさらに備え、前記コレクタは、前記共通焦点と前記第１ミラーとの間に設けられる、条項ixに係る装置。
xi.  前記コレクタは開口部を有し、前記燃料搬送システムは、前記第１ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、条項xに係る装置。
xii.  前記開口部は、前記光軸上に設けられる、条項xiに係る装置。
xiii.  前記コレクタは前記光軸上に位置付けられた開口部を有し、ガス流ガイドが、ガスを前記コレクタの表面に搬送するために前記第１ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、条項xに係る装置。
xiv.  前記個別のレーザのアレイは、光軸について、前記レーザによって放出された放射が前記光軸に向かって誘導されるように配置される、条項i又はiiに係る装置。
xv.  前記ビーム圧縮システムは、前記放射を前記共通焦点に集束させるために設けられた最終集束レンズを備える、条項xivに係る装置。
xvi.  複数の個別レーザによって放出された放射は、複数のダイクロイックミラーによって単一の放射ビームに合成される、先行する条項のいずれかに係る装置。
xvii.  前記個別レーザは、取付け板に取り付けられる、先行する条項のいずれかに係る装置。
xviii.  各個別レーザにはコリメータが設けられる、先行する条項のいずれかに係る装置。
xix.  前記個別レーザのアレイは、２以上のグループとして配置され、それによって各前記グループは個別に制御され得る、先行する条項のいずれかに係る装置。
xx.  １つの前記グループのレーザは、別の前記グループのレーザと異なる時点で点火され得る、条項xixに係る装置。
xxi.  １つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る、条項xix又はxxに係る装置。
xxii.  個別レーザ又はレーザグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る、条項xixに係る装置。
xxiii.  選択された１つ以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る、条項xixに係る装置。
xxiv.  前記プレパルスを提供する１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束する、条項xxiiiに係る装置。
xxv.  前記プレパルスを提供する前記１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作する、条項xxiii又はxxivに係る装置。
xxvi.  前記個別レーザは、１〜５μｍの波長で放射を放出する、先行する条項のいずれかに係る装置。
xxvii.  各前記個別レーザは、１Ｗを超えるパワーで放出する、先行する条項のいずれかに係る装置。
xxviii.  前記ファイバレーザの少なくともいくつかには、前記ファイバレーザの一区間を加熱することによって、又は前記ファイバレーザに機械的応力をかけることによって、位相制御が設けられ得る、先行する条項のいずれかに係る装置。
xxix.  各前記ファイバレーザにはコリメータが設けられる、先行する条項のいずれかに係る装置。
xxx.  前記コリメータは、各ファイバレーザの端部に位置付けられ、各前記コリメータ及び各前記ファイバレーザ端部は、液体に浸漬される、条項xxixに係る装置。
xxxi.  前記個別レーザは、光学システム内の制御された熱負荷を提供するように制御され得る、先行する条項のいずれかに係る装置。
xxxii.  リソグラフィ装置で使用するための放射を生成する方法であって、燃料ターゲットを点火位置に供給することと、レーザ放射を用いて前記燃料ターゲットに点火してプラズマを生成することと、を含み、前記レーザ放射は、ビーム圧縮システムによって共通焦点に集束するように構成された個別レーザのアレイから放出される、方法。
xxxiii.  前記レーザはファイバレーザである、条項xxxiiに係る方法。
xxxiv.  前記放射源は光軸を含み、前記複数の個別レーザは、前記光軸に平行な放射を放出するように配置される、条項xxxii又はxxxiiiに係る方法。
xxxv.  前記ファイバレーザを前記光軸について対称的に設けることを含む、条項xxxivに係る方法。
xxxvi.  前記複数の個別レーザからの放射を集光し、かつ前記放射を前記共通焦点に集束させるように構成された光学システムを設けることを含む、先行する条項のいずれかに係る方法。
xxxvii.  前記光学システムは、望遠鏡光学システムである、条項xxxviに係る方法。
xxxviii.  前記光学システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第１ミラーと、前記第１ミラーからの放射を受け、かつ前記放射を最終集束レンズに誘導する第２ミラーとを含む、条項xxxviiに係る方法。
xxxix.  前記第１ミラーと前記第２ミラーとの間に、後方散乱放射を遮断するように適合された遮断要素を設けることを含む、条項xxxviiiに係る方法。
xl.  前記第１ミラーに、前記光軸上に位置付けられた開口部を形成することを含む、条項xxxviii又はxxxixに係る方法。
xli.  前記共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送することと、前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射をコレクタによって集光することと、をさらに含む、条項xlに係る方法。
xlii.  前記第１ミラーの開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って燃料搬送システムを延在させることを含む、条項xliに係る方法。
xliii.  前記開口部を前記光軸上に設けることを含む、条項xliiに係る方法。
xliv.  前記第１ミラーの開口部及び前記コレクタの開口部を通って延在するガス流ガイドを介してガスを前記コレクタの表面に搬送することを含む、条項xliに係る方法。
xlv.  前記レーザによって放出された放射が前記光軸に向かって誘導されるように、前記複数の個別レーザを光軸について配置することを含む、条項xxxiiに係る方法。
xlvi.  最終集束レンズによって前記放射を前記共通焦点に集束させることを含む、条項xlvに係る方法。
xlvii.  複数のダイクロイックミラーを用いて、複数の個別レーザによって放出された放射を単一の放射ビームに合成することを含む、条項xxxiiに係る方法。
xlviii.  前記個別レーザを取付け板に取り付けることを含む、条項xxxii乃至xlviiのいずれか１項に係る方法。
xlix.  各個別レーザの出力はコリメートされる、条項xxxii乃至xlviiiのいずれか１項に係る方法。
l.  前記個別レーザのアレイを１つ以上のグループとして配置し、それによって各前記グループは個別に制御され得ることを含む、先行する条項のいずれかに係る方法。
li.  １つの前記グループのレーザは、別の前記グループのレーザと異なる時点で点火され得る、条項lに係る方法。
lii.  １つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る、条項l又はliに係る方法。
liii.  個別レーザ又はレーザグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る、条項lに係る方法。
liv.  選択された１つ以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る、条項lに係る方法。
lv.  前記プレパルスを提供する１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束する、条項livに係る方法。
lvi.  前記プレパルスを提供する前記１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作する、条項lvi又はlvに係る方法。
lvii.  前記個別レーザは、１〜５μｍの波長で放射を放出する、条項xxxii乃至lviのいずれか１項に係る方法。
lviii.  各前記個別レーザは、１Ｗを超えるパワーで放出する、条項xxxii乃至lviiのいずれか１項に係る方法。
lix.  前記ファイバレーザの少なくともいくつかには、前記ファイバレーザの一区間を加熱することによって、又は前記ファイバレーザに機械的応力をかけることによって、位相制御が設けられ得る、条項xxxii乃至lviiiのいずれか１項に係る方法。
lx.  各前記ファイバレーザにはコリメータが設けられる、条項xxxii乃至lixのいずれか１項に係る方法。
lxi.  各ファイバレーザの端部に前記コリメータを位置付けることと、各前記コリメータ及び各前記ファイバレーザ端部を液体に浸漬することとを、を含む、条項lxに係る方法。
lxii.  前記個別レーザを制御して光学システム内の制御された熱負荷を提供することをさらに含む、条項xxxii乃至lxiのいずれか１項に係る方法。
lxiii.  リソグラフィ装置であって、個別レーザのアレイとビーム圧縮システムとを備える放射源を備え、前記レーザは、燃料ターゲットが供給される共通焦点に集束するように構成される、リソグラフィ装置。
lxiv.  前記レーザはファイバレーザである、条項lxiiiの装置。
lxv.  前記放射源は光軸を含み、前記複数の個別レーザは、前記光軸に平行な放射を放出するように配置される、条項lxiiiの装置。
lxvi.  前記レーザは、前記光軸について対称的に配置される、条項lxvの装置。
lxvii.  光学システムが、前記個別レーザのアレイからの放射を集光し、かつ前記放射を前記共通焦点に集束させる、条項lxiiiの装置。
lxviii.  前記光学システムは、望遠鏡光学システムである、条項lxviiの装置。
lxix.  前記光学システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第１ミラーと、前記第１ミラーからの放射を受け、かつ前記放射を最終集束レンズに誘導する第２ミラーとを含む、条項lxviiiの装置。
lxx.  オリフィスが、前記第１ミラーと前記第２ミラーとの間に設けられる、条項lxixの装置。
lxxi.  前記第１ミラーには、光軸上に位置付けられた開口部が形成される、条項lxxの装置。
lxxii．  前記共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送するための燃料搬送システムと、前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射を集光するためのコレクタと、をさらに備え、前記コレクタは、前記共通焦点と前記第１ミラーとの間に設けられる、条項lxxiの装置。
lxxiii.  前記コレクタは開口部を有し、前記燃料搬送システムは、前記第１ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、条項lxxiiの装置。
lxxiv.  前記開口部は、前記光軸上に設けられる、条項lxxiiiの装置。
lxxv.  前記コレクタは前記光軸上に位置付けられた開口部を有し、ガス流ガイドが、ガスを前記コレクタの表面に搬送するために前記第１ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、条項lxxiiの装置。
lxxvi.  前記個別のレーザのアレイは、前記レーザによって放出された放射が前記光軸に向かって誘導されるように、光軸について配置される、条項lxiiiの装置。
lxxvii.  前記ビーム圧縮システムは、前記放射を前記共通焦点に集束させるために設けられた最終集束レンズを備える、条項lxxviの装置。
lxxviii.  複数の個別レーザによって放出された放射は、複数のダイクロイックミラーによって単一の放射ビームに合成される、条項lxiiiの装置。
lxxix.  前記個別レーザは、取付け板に取り付けられる、条項lxiiiの装置。
lxxx.  各個別レーザにはコリメータが設けられる、条項lxiiiの装置。
lxxxi.  前記個別レーザのアレイは、２以上のグループとして配置され、それによって各前記グループは個別に制御され得る、条項lxiiiの装置。
lxxxii.  １つの前記グループのレーザは、別の前記グループのレーザと異なる時点で点火され得る、条項lxxxiの装置。
lxxxiii.  １つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る、条項lxxxiiの装置。
lxxxiv.  個別レーザ又はレーザグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る、条項lxxxiの装置。
lxxxv.  選択された１つ以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る、条項lxxxiの装置。
lxxxvi.  前記プレパルスを提供する１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束する、条項lxxxvの装置。
lxxxvii.  前記プレパルスを提供する前記１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作する、条項lxxxviの装置。
lxxxviii.  前記個別レーザは、１〜５μｍの波長で放射を放出する、条項lxiiiの装置。
lxxxix.  各前記個別レーザは、１Ｗを超えるパワーで放出する、条項lxiiiの装置。
xc.  前記ファイバレーザの少なくともいくつかには、前記ファイバレーザの一区間を加熱することによって、又は前記ファイバレーザに機械的応力をかけることによって、位相制御が設けられ得る、条項lxiiiの装置。
xci.  各前記ファイバレーザにはコリメータが設けられる、条項lxiiiの装置。
xcii.  前記コリメータは、各ファイバレーザの端部に位置付けられ、各前記コリメータ及び各前記ファイバレーザ端部は、液体に浸漬される、条項xciの装置。
xciii.  前記個別レーザは、光学システム内の制御された熱負荷を提供するように制御され得る、条項lxiiiの装置。
xciv.  リソグラフィ装置で使用するための放射を生成する方法であって、
燃料ターゲットを点火位置に供給することと、
レーザ放射を用いて前記燃料ターゲットに点火してプラズマを生成することと、を含み、
前記レーザ放射は、ビーム圧縮システムによって共通焦点に集束するように構成された個別レーザのアレイから放出される、方法。
xcv.  前記レーザはファイバレーザである、条項xcivの方法。
xcvi.  前記放射源は光軸を含み、前記複数の個別レーザは、前記光軸に平行な放射を放出するように配置される、条項xcivの方法。
xcvii.  前記ファイバレーザを前記光軸について対称的に設けることをさらに含む、条項xcviの方法。
xcviii.  前記複数の個別レーザのアレイからの放射を集光し、かつ前記放射を前記共通焦点に集束させるように構成された光学システムを設けることをさらに含む、条項xcivの方法。
xcix.  前記光学システムは、望遠鏡光学システムである、条項xcviiiの方法。
c.前記光学システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第１ミラーと、前記第１ミラーからの放射を受け、かつ前記放射を最終集束レンズに誘導する第２ミラーとを含む、条項xcixの方法。
ci.  前記第１ミラーと前記第２ミラーとの間に、後方散乱放射を遮断するように適合された遮断要素を設けることをさらに含む、条項cの方法。
cii.  前記第１ミラーに、前記光軸上に位置付けられた開口部を形成することをさらに含む、条項cの方法。
ciii.  前記共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送することと、前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射をコレクタによって集光することと、をさらに含む、条項ciiの方法。
civ.  前記第１ミラーの開口部及び前記コレクタの開口部を通って燃料搬送システムを延在させることをさらに含む、条項ciiiの方法。
cv.  前記開口部を前記光軸上に設けることをさらに含む、条項civの方法。
cvi.  前記第１ミラーの開口部及び前記コレクタの開口部を通って延在するガス流ガイドを介してガスを前記コレクタの表面に搬送することをさらに含む、条項ciiiの方法。
cvii.  前記個別のレーザのアレイは、前記レーザによって放出された放射が前記光軸に向かって誘導されるように、前記複数の個別レーザを光軸について配置することをさらに含む、条項xcivの方法。
cviii.  最終集束レンズによって前記放射を前記共通焦点に集束させることをさらに含む、条項cviiの方法。
cix.  複数のダイクロイックミラーを用いて、複数の個別レーザによって放出された放射を単一の放射ビームに合成することをさらに含む、条項xcivの方法。
cx.  前記個別レーザを取付け板に取り付けることをさらに含む、条項xcivの方法。
cxi.  各個別レーザの出力はコリメートされる、条項xcivの方法。
cxii.  前記個別レーザのアレイを２以上のグループとして配置し、それによって各前記グループは個別に制御され得ることをさらに含む、条項xcivの方法。
cxiii.  １つの前記グループのレーザは、別の前記グループのレーザと異なる時点で点火され得る、条項cxiiの方法。
cxiv.  １つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る、条項cxiiiの方法。
cxv.  個別レーザ又はレーザグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る、条項cxiiの方法。
cxvi.  選択された１つ以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る、条項cxiiの方法。
cxvii.  前記プレパルスを提供する１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束する、条項cxviの方法。
cxviii.  前記プレパルスを提供する前記１つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作する、条項cxviiの方法。
cxix.  前記個別レーザは、１〜５μｍの波長で放射を放出する、条項xcivの方法。
cxx.  各前記個別レーザは、１Ｗを超えるパワーで放出する、条項xcivの方法。
cxxi.  前記ファイバレーザの少なくともいくつかには、前記ファイバレーザの一区間を加熱することによって、又は前記ファイバレーザに機械的応力をかけることによって、位相制御が設けられ得る、条項xcivの方法。
cxxii.  各前記ファイバレーザにはコリメータが設けられる、条項xcivの方法。
cxxiii.  各ファイバレーザの端部に前記コリメータを位置付けることと、各前記コリメータ及び各前記ファイバレーザ端部を液体に浸漬することと、をさらに含む、条項cxxiiの方法。
cxxiv.  前記個別レーザを制御して光学システム内の制御された熱負荷を提供することをさらに含む、条項xcivの方法。
【００７４】
[0082]  上記の説明は、制限ではなく例示を意図したものである。したがって、当業者には明らかなように、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本記載の発明に変更を加えてもよい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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【図９】
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