(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理部に処理液を供給するための処理液供給装置であって、
処理液供給部から供給される前記処理液が流通する第１の配管と、
前記第１の配管を流通する前記処理液をろ過する流通用フィルタと、
前記第１の配管とは別の配管であって、前記処理液供給部から供給される前記処理液が流通する第２の配管と、
前記第２の配管を流通する前記処理液をろ過する検出用フィルタとを含み、
前記第１および第２の配管には、前記処理液供給部から供給される処理液が同時に供給されるようになっており、
前記処理液供給装置は、
前記第２の配管内における前記検出用フィルタの圧力損失の変化を検出する圧力損失変化検出手段と、
前記圧力損失変化検出手段の検出結果に基づいて、前記流通用フィルタの劣化を判定する劣化判定手段とをさらに含み、
前記検出用フィルタの孔径は、前記流通用フィルタの孔径よりも小さい、処理液供給装置。
【請求項２】
前記検出用フィルタのろ過面積は、前記流通用フィルタのろ過面積よりも小さい、請求項１に記載の処理液供給装置。
【請求項３】
前記流通用フィルタおよび前記検出用フィルタは、その単位ろ過面積の当たりの処理液の流量が互いに等しくなるように設けられている、請求項１または２に記載の処理液供給装置。
【請求項４】
前記検出用フィルタの材質は、前記流通用フィルタの材質と同じである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項５】
前記検出用フィルタの圧力損失の変化と前記流通用フィルタの劣化との対応関係を表す対応データを記憶する記憶手段をさらに含み、
前記劣化判定手段は、前記対応データおよび前記圧力損失変化検出手段の検出結果に基づいて前記流通用フィルタの劣化を判定する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項６】
前記処理液供給部は、互いに異なる複数種の処理液を供給可能な複数の処理液供給部を含み、
前記記憶手段には、前記複数の処理液供給部毎に、当該検出用フィルタの圧力損失の変化と当該流通用フィルタの劣化との対応関係を表す対応データが記憶されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項７】
前記第１の配管の上流端は、前記処理液供給部に接続されており、
前記第２の配管は、前記第１の配管から分岐している、請求項１〜６のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項８】
前記処理液供給部は、処理液が溜められているタンクを含み、
前記第１の配管は、前記タンクに溜められている処理液を循環させるための循環配管を含み、
前記第２の配管は、前記循環配管から分岐して、前記タンクへと帰還する分岐配管を含む、請求項７に記載の処理液供給装置。
【請求項９】
前記流通用フィルタが、前記第１の配管に介装されており、
前記第２の配管は、前記流通用フィルタよりも上流側で前記第１の配管から分岐する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項１０】
前記第２の配管の上流端および下流端が、それぞれ、前記処理液供給部に接続されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項１１】
前記圧力損失変化検出手段は、前記第２の配管の前記検出用フィルタの下流側における、処理液の流量を検出する流量検出手段を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項１２】
前記圧力損失の変化は、前記流量検出手段により検出された流量変化に基づいて検出される、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項１３】
前記圧力損失変化検出手段は、前記第２の配管の前記検出用フィルタの上流側および下流側における当該第２の配管内の圧力差を検出する圧力差検出手段を含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の処理液供給装置。
【請求項１４】
処理液供給部から供給され第１の配管を流通する処理液をろ過する流通用フィルタの劣化を検出する方法であって、
前記処理液供給部から供給され前記第１の配管とは別の配管である第２の配管を流通する前記処理液をろ過し、前記流通用フィルタよりも孔径が小さい検出用フィルタの圧力損失の変化を検出する圧力損失変化検出ステップと、
検出された前記検出用フィルタの圧力損失の変化に基づいて、前記流通用フィルタの劣化を判定する劣化判定ステップとを含む、フィルタ劣化検出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、処理対象の基板を処理する基板処理部に処理液を供給する処理液供給装置、および処理液をろ過するフィルタの劣化を検出するフィルタ劣化検出方法に関する。処理対象になる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板等の基板が含まれる。
【背景技術】
【０００２】
下記特許文献１は、基板を洗浄する洗浄装置を開示している。洗浄装置は、洗浄液を洗浄槽に循環させる循環ラインを含む。循環ライン用の配管の途中には、薬液フィルタ等のフィルタと、圧力計とが設けられている。フィルタは、洗浄液をろ過する。圧力計は、配管内のフィルタの前後における圧力差を計測する。塵埃等の付着によってフィルタのろ過能力が劣化すると、配管内のフィルタの前後における圧力差が大きくなる。この圧力差がある値を超えるとフィルタの交換時期が来たと判断され、フィルタが新しいものに交換される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２４６３５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、基板に形成されるデバイスの微細化が進んでいる。そのことによって、微細で少量な塵埃等のパーティクルが、デバイスの不良の原因となっている。デバイスに不良を発生させないためには、処理液からパーティクルを確実に除去し、処理液の清浄度を厳しく管理する必要がある。これに伴い、パーティクルがフィルタを通過しないように、フィルタの劣化を精度良く検出する必要がある。
【０００５】
フィルタの劣化に伴う、当該フィルタを通過する処理液の圧力損失の変化は、比較的小さい。したがって、特許文献１のように、循環ライン用の配管内のフィルタ前後の圧力差を単に計測することにより当該フィルタの劣化を検出する手法では、劣化検出精度が不十分となり、処理液の清浄度を十分に管理できない虞がある。
一方、パーティクルカウンタ等の比較的高価な装置を用いて、フィルタによってろ過された後の処理液中のパーティクルの数量を厳密に測定することによって、フィルタの劣化を検出することも考えられるが、この方策では、コストが増大する虞がある。
【０００６】
そこで、この発明の目的の一つは、コストの増大を抑制しつつ、清浄な処理液を供給できる、処理液供給装置を提供することである。
この発明の他の目的は、コストの増大を抑制しつつ、フィルタの劣化を精度良く検出できるフィルタ劣化検出方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するための請求項１に記載の発明は、基板処理部（２）に処理液を供給するための処理液供給装置（３）であって、処理液供給部（１０，１０Ａ，１１，１１Ａ）から供給される前記処理液が流通する第１の配管（１５，１６）と、前記第１の配管を流通する前記処理液をろ過する流通用フィルタ（１９，２０）と、前記第１の配管とは別の配管であって、前記処理液供給部から供給される前記処理液が流通する第２の配管（１７，１８，８５）と、前記第２の配管を流通する前記処理液をろ過する検出用フィルタ（２１，２２）とを含み、前記第１および第２の配管には、前記処理液供給部から供給される処理液が同時に供給されるようになっており、前記処理液供給装置は、前記第２の配管内における前記検出用フィルタの圧力損失の変化を検出する圧力損失変化検出手段（２５，２６，６６，８１，８２）と、前記圧力損失変化検出手段の検出結果に基づいて、前記流通用フィルタの劣化を判定する劣化判定手段（６６）とを含み、前記検出用フィルタの孔径（ｄ１，ｄ２）は、前記流通用フィルタの孔径（Ｄ１、Ｄ２）よりも小さい、処理液供給装置である。
【０００８】
括弧内の数字等は、後述の実施形態における対応構成要素等を表すが、特許請求の範囲を実施形態に限定する趣旨ではない。以下、この項において同じ。
「第２の配管内における検出用フィルタの圧力損失」とは、第２の配管を流通する処理液が第２フィルタを通過する際に失うエネルギー量をいう。この明細書において、「第２の配管内における検出用フィルタの圧力損失」を、単に「検出用フィルタの圧力損失」という場合がある。
【０００９】
この構成によれば、第１および第２の配管には、共通の処理液供給部から供給される処理液が同時に供給される。また、流通用フィルタは、第１の配管を流通する処理液をろ過し、検出用フィルタは、第２の配管を流通する処理液をろ過する。そのため、流通用フィルタおよび検出用フィルタには、共通の処理液供給部からの処理液が同時に流れる。これによって、流通用フィルタおよび検出用フィルタの劣化の度合い（劣化度）には、互いに関連性がある。そのため、検出用フィルタの圧力損失の変化の検出結果に基づいて、流通用フィルタの劣化を精度良く判定することができる。したがって、適切な時期に流通用フィルタを交換することが可能であり、これにより、基板処理部に供給される処理液を清浄な状態に保つことができる。
【００１０】
また、フィルタの劣化を精度良く検出するための装置を設ける必要がないので、コストの増大を抑えることができる。
これにより、コストの増大を抑制しつつ、清浄な処理液を供給することができる。
【００１１】
フィルタの孔径とは、フィルタの厚み方向から見たときのフィルタの孔の重心から当該孔の縁部までの距離の平均値を半径とする円の直径のことをいう。すなわち、フィルタの厚み方向から見て孔が円形状であるときは、孔径は、当該円の直径に相当する。また、フィルタの厚み方向から見て孔が正方形状であるときは、孔径は、当該正方形の一辺の長さとよりも長く、当該正方形の対角線の長さよりも短い。
【００１２】
この構成によれば、検出用フィルタの孔径は、流通用フィルタの孔径よりも小さい。そのため、検出用フィルタの孔径が小さくなるにしたがって、検出用フィルタの目詰まりが起きやすくなり、検出用フィルタの圧力損失の変化が大きくなる。
したがって、検出用フィルタの圧力損失の変化に基づいて、流通用フィルタの劣化を精度良く検出することができる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、前記検出用フィルタのろ過面積（ｒ１，ｒ２）は、前記流通用フィルタのろ過面積（Ｒ１，Ｒ２）よりも小さい、請求項１に記載の処理液供給装置である。
ろ過面積とは、フィルタにおいて、薬液をろ過することができる部分の表面積である。
この構成によれば、検出用フィルタは、流通用フィルタよりもろ過面積が小さい。ろ過面積が小さくなるに従って、検出用フィルタは安価になる。したがって、コストの増大を抑制しつつ、流通用フィルタの劣化を良好に検出できる。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、前記流通用フィルタおよび前記検出用フィルタは、その単位ろ過面積の当たりの処理液の流量（ｊ１，ｊ２，Ｊ１，Ｊ２）が互いに等しくなるように設けられている、請求項１または２に記載の処理液供給装置である。
ここで、単位ろ過面積とは、単位面積（たとえば１ｍ２）当たりのろ過面積である。
この構成によれば、検出用フィルタおよび流通用フィルタの単位ろ過面積当たりの処理液の流量が互いに等しいため、流通用フィルタおよび検出用フィルタの劣化度が互いに一致する。よって、検出用フィルタおよび流通用フィルタの交換時期を互いに等しくできる。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、前記検出用フィルタの材質は、前記流通用フィルタの材質と同じである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の処理液供給装置である。
この構成によれば、検出用フィルタの材質は、流通用フィルタの材質と同じであるため、検出用フィルタおよび流通用フィルタの吸着性能、すなわちパーティクルを捕捉する効率が互いに同程度である。そのため、検出用フィルタおよび流通用フィルタの劣化の進み具合が互いに等しい。したがって、検出用フィルタの圧力損失の変化の検出結果に基づいて、流通フィルタの劣化を、より一層精度良く判定できる。よって、検出用フィルタおよび流通用フィルタの交換時期を互いに等しくできる。
【００１６】
請求項５に記載の発明は、前記検出用フィルタの圧力損失の変化と前記流通用フィルタの劣化との対応関係を表す対応データ（７０，ＰＥ）を記憶する記憶手段（６５）をさらに含み、前記劣化判定手段は、前記対応データおよび前記圧力損失変化検出手段の検出結果に基づいて前記流通用フィルタの劣化を判定する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の処理液供給装置である。
【００１７】
この構成によれば、検出用フィルタの圧力損失の変化と流通用フィルタの劣化との対応関係を表す対応データが記憶手段に記憶されている。圧力損失検出手段の検出結果を当該対応データに随時照らし合わせることによって、流通用フィルタの劣化を確実に判定することができる。
請求項６に記載の発明は、前記処理液供給部は、互いに異なる複数種の処理液を供給可能な複数の処理液供給部（１０Ａ，１１Ａ）を含み、前記記憶手段には、前記複数の処理液供給部毎に、当該検出用フィルタの圧力損失の変化と当該流通用フィルタの劣化との対応関係を表す対応データ（７０Ａ，ＰＥ）が記憶されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の処理液供給装置である。
【００１８】
異なる複数種の処理液とは、液種が互いに異なる複数の処理液や、同じ液種の処理液であるが濃度が異なる複数の処理液、その双方を含む複数の処理液をいう。
この構成によれば、記憶手段には、前記の対応関係を表す対応データが処理液供給部毎に記憶されている。使用する処理液の対応データを用いることでフィルタの劣化を確実に判定することができる。
【００１９】
請求項７に記載の発明は、前記第１の配管の上流端（１６Ａ，３０Ａ）は、前記処理液供給部に接続されており、前記第２の配管は、前記第１の配管から分岐している、請求項１〜６のいずれか一項に記載の処理液供給装置である。
この構成によれば、第２の配管は、第１の配管から分岐しているため、処理液供給部からの処理液が第１および第２の配管に同時に供給される。したがって、共通の処理液供給部からの処理液を、流通用フィルタおよび検出用フィルタに同時に流すことができる。
【００２０】
請求項８に記載の発明のように、前記処理液供給部は、処理液が溜められているタンク（１０，１０Ａ）を含み、前記第１の配管は、前記タンクに溜められている処理液を循環させるための循環配管（１５）を含み、前記第２の配管は、前記循環配管から分岐して、前記タンクへと帰還する分岐配管（１７）を含んでいてもよい。
請求項９に記載の発明のように、前記流通用フィルタが、前記第１の配管に介装されており、前記第２の配管は、前記流通用フィルタよりも上流側で前記第１の配管から分岐していてもよい。
請求項１０に記載の発明は、前記第２の配管の上流端（８５Ａ）および下流端（８５Ｂ）が、それぞれ、前記処理液供給部に接続されている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の処理液供給装置である。
【００２１】
この構成によれば、第２の配管の上流端および下流端は、それぞれ、第１の配管に接続されておらず、処理液供給部に接続されている。そのため、第１の配管を流れる処理液の流量が、第２の配管に流れる処理液の流量に影響されにくいので、第１の配管の処理液の流量を管理しやすい。
請求項１１に記載の発明は、前記圧力損失変化検出手段は、前記第２の配管の前記検出用フィルタの下流側における、処理液の流量を検出する流量検出手段（２５，２６）を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の処理液供給装置である。
請求項１２に記載の発明のように、前記圧力損失の変化は、前記流量検出手段により検出された流量変化に基づいて検出されてもよい。
【００２２】
この構成によれば、流量検出手段は、第２の配管の検出用フィルタの下流側において処理液の流量を検出している。ここで、検出用フィルタは、使用されることによって徐々に目詰まりを起こす。これにより、処理液が検出用フィルタを流れにくくなるので、検出用フィルタの圧力損失が徐々に大きくなると同時に処理液の流量が小さくなる。そのため、第２の配管に流入する処理液の流量を一定に保つことによって、検出用フィルタの上流側および下流側の流量の差から検出用フィルタの圧力損失の変化を検出することができる。
【００２３】
請求項１３に記載の発明のように、前記圧力損失変化検出手段は、前記第２の配管の前記検出用フィルタの上流側および下流側における当該第２の配管内の圧力差を検出する圧力差検出手段（８１，８２）を含んでいてもよい。
請求項１４に記載の発明は、処理液供給部（１０，１０Ａ，１１，１１Ａ）から供給され第１の配管（１５，１６）を流通する処理液をろ過する流通用フィルタ（１９，２０）の劣化を検出する方法であって、前記処理液供給部から供給され前記第１の配管とは別の配管である第２の配管（１７，１８，８５）を流通する前記処理液をろ過し、前記流通用フィルタよりも孔径が小さい検出用フィルタ（２１，２２）の圧力損失の変化を検出する圧力損失変化検出ステップ（Ｓ１）と、検出された前記検出用フィルタの圧力損失の変化に基づいて、前記フィルタの劣化を判定する劣化判定ステップ（Ｓ２）とを含む、フィルタ劣化検出方法である。
【００２４】
この方法によれば、劣化判定ステップにおいて、第１の配管とは別の配管である第２の配管を流通する処理液をろ過する検出用フィルタの圧力損失の変化に基づいて、流通用フィルタの劣化を精度良く判定することができる。
また、フィルタの劣化を精度良く検出するための高価な装置を設ける必要がないので、コストの増大を抑えることができる。したがって、コストの増大を抑制しつつ、フィルタの劣化を精度良く検出できる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施形態に係る処理液供給装置が組み込まれた基板処理システムの構成を模式的に示した図である。
【図２】図１においてＩＩで示した部分を拡大した図である。
【図３Ａ】第１流通用フィルタが処理液をろ過する原理を示した図である。
【図３Ｂ】第１流通用フィルタが処理液をろ過する原理を示した図である。
【図４】図１においてＩＶで示した部分を拡大した図である。
【図５】前記処理液供給装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図６】検出用フィルタの圧力損失の変化と流通用フィルタの劣化との対応関係を表したグラフである。
【図７】フィルタ劣化検出方法を説明するためのフローチャートである。
【図８】本発明の一実施形態の第１変形例を示した図である。
【図９】本発明の一実施形態の第２変形例を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る処理液供給装置３が組み込まれた基板処理システム１の構成を模式的に示した図である。
基板処理システム１は、処理液を用いて基板の一例としての半導体ウエハＷ（以下、単に「ウエハＷ」という。）を処理する基板処理部２と、基板処理部２に処理液を供給するための処理液供給装置３とを備えている。処理液としては、リンス液および薬液が用いられる。リンス液の一例としては、脱イオン水（ＤＩＷ：Deionized Water）等が挙げられ、薬液の一例としては、硫酸やフッ酸等が挙げられる。本実施形態では、処理液供給装置３は、薬液のみを基板処理部２に供給する。
【００２７】
基板処理部２および処理液供給装置３は、共通の装置の一部であってもよいし、互いに独立した装置、すなわち互いに独立して移動させることができる装置であってもよい。つまり、基板処理システム１は、基板処理部２および処理液供給装置３を含む基板処理装置を備えていてもよいし、基板処理部２を含む基板処理装置と、基板処理装置から離れた位置に配置された処理液供給装置３とを備えていてもよい。
【００２８】
処理液供給装置３は、ウエハＷを一枚ずつ処理する枚葉式の装置であってもよいし、複数枚のウエハＷを一括して処理するバッチ式の装置であってもよい。本実施形態では、基板処理部２が枚葉式の装置である例を示している。
基板処理部２は、箱形のチャンバ４と、チャンバ４内でウエハＷを水平に保持して回転させるスピンチャック５と、薬液をウエハＷに供給する薬液ノズル６と、リンス液をウエハＷに供給するリンス液ノズル７とを含む。
【００２９】
スピンチャック５として、ウエハＷを水平方向に挟んでウエハＷを水平に保持する挟持式のチャックが採用されている。スピンチャック５は、ウエハＷをほぼ水平に保持して鉛直軸線まわりに回転可能なスピンベース８と、スピンベース８を鉛直軸線まわりに回転させる回転駆動機構９と、スピンベース８の上面周縁部に配置された図示しない挟持部材とを含む。スピンチャック５は、挟持式のものに限らず、たとえば、ウエハＷの裏面を真空吸着することにより、ウエハＷを水平な姿勢で保持し、さらにその状態で鉛直な回転軸線まわりに回転することにより、スピンチャック５に保持されたウエハＷを回転させる真空吸着式のもの（バキュームチャック）が採用されてもよい。
【００３０】
薬液ノズル６およびリンス液ノズル７のそれぞれは、ウエハＷ上での薬液およびリンス液の着液位置が固定された固定ノズルであってもよいし、薬液およびリンス液の着液位置を、ウエハＷの回転中心を通る円弧軌跡に沿って移動させるスキャンノズルの形態を採用してもよい。
処理液供給装置３は、処理液供給部としての薬液タンク（タンク）１０を含む。薬液タンク１０には、薬液が溜められている。処理液供給装置３の外部には、処理液供給部としての薬液供給源１１が設けられている。薬液供給源１１は、図示しないタンクを有しており、当該タンクには、薬液タンク１０に補充される新しい薬液が溜められている。
【００３１】
薬液タンク１０および薬液供給源１１のそれぞれは、複数設けられていてもよい（図１の破線を参照）。この場合、複数の薬液供給源１１Ａのそれぞれは、互いに異なる種類の薬液を供給可能であり、各薬液タンク１０Ａには、対応する薬液供給源１１Ａから供給される薬液が溜められている。以下、薬液供給源１１および薬液タンク１０がそれぞれ１つずつ設けられている場合を例に挙げて説明する。
【００３２】
処理液供給装置３は、基板処理部２に薬液を供給するための供給ユニット１２と、供給ユニット１２の薬液タンク１０に薬液を補充するための補充ユニット１３と、供給ユニット１２および補充ユニット１３に備えられた装置やバルブの開閉を制御する制御部２７（後述する図５参照）とを含む。
供給ユニット１２は、第１の配管としての循環配管１５と、第２の配管としての第１分岐配管１７と、第１流通用フィルタ（フィルタ）１９と、第１検出用フィルタ（検出用フィルタ）２１と、流量検出手段としての第１流量計２５とを含む。
【００３３】
補充ユニット１３は、第１の配管としての補充配管１６と、第２の配管としての第２分岐配管１８と、第２流通用フィルタ（フィルタ）２０と、第２検出用フィルタ（検出用フィルタ）２２と、流量検出手段としての第２流量計２６とを含む。本実施形態の処理液供給装置３は、供給ユニット１２および補充ユニット１３の両方を含むが、供給ユニット１２のみを含む場合も有り得る。
【００３４】
以下では、循環配管１５、補充配管１６、第１分岐配管１７および第２分岐配管１８内を薬液が流通する方向を、それぞれ、薬液流通方向と呼ぶ。各薬液流通方向の上流側を単に上流側と呼び、各薬液流通方向の下流側を単に下流側と呼ぶ。
供給ユニット１２の循環配管１５は、薬液タンク１０に溜められている薬液を循環させるためのものである。循環配管１５は、基板処理部２に薬液を供給するための供給配管３０と、供給配管３０を流通する薬液を薬液タンク１０に帰還させるための帰還配管３１とを含む。
【００３５】
供給配管３０の上流側の端部（上流端）３０Ａは、薬液タンク１０に接続されている。上流端３０Ａは、循環配管１５の上流端でもある。供給配管３０の下流側の端部（下流端）は、薬液ノズル６に接続されている。供給配管３０には、薬液タンク１０から供給される薬液が流通している。供給配管３０には、供給配管用ポンプ３２、供給流量調整バルブ３３、供給バルブ３４、供給配管用圧力計３５、供給配管用流量計３６、第１流通用フィルタ１９および吐出バルブ３７が、上流側からこの順で介装されている。
【００３６】
供給配管用ポンプ３２は、処理液供給装置３の起動時には常時駆動されており、薬液タンク１０内の薬液を常時汲み出して、その薬液を供給配管３０に常時送り込んでいる。供給流量調整バルブ３３の開き度合いは、供給配管３０内の流量を調整するために調整される。供給バルブ３４は、供給配管３０内へ薬液を供給したり、供給配管３０内への薬液の供給を止めたりするために開閉される。供給配管用圧力計３５は、供給配管３０内の圧力を検出するためのものである。供給配管用流量計３６は、供給配管３０を流通する薬液の流量を検出するためのものである。吐出バルブ３７は、薬液ノズル６への薬液の供給および供給停止を切り換える。第１流通用フィルタ１９は、供給配管３０内を流通する薬液をろ過するためのものである。
【００３７】
図２は、図１においてＩＩで示した部分を拡大した図である。
第１流通用フィルタ１９は、たとえば、一端が閉塞された筒状である。第１流通用フィルタ１９の全域には、第１流通用フィルタ１９の厚み方向に第１流通用フィルタ１９を貫通する複数の孔４０が形成されている。
本実施形態では、第１流通用フィルタ１９の孔４０は、第１流通用フィルタ１９の厚み方向から見て、正方形状である（図２において一点鎖線で囲んだ部分の拡大図を参照）。そのため、孔４０の孔径Ｄ１は、当該正方形の重心から当該正方形の縁部までの距離の平均値を半径とする円４０Ａの直径（０．１μｍ程度）に相当する。孔４０は、第１流通用フィルタ１９の厚み方向から見て、正角形状以外の多角形状や円形状や楕円形状であってもよい。
【００３８】
第１流通用フィルタ１９は、ろ過面積Ｒ１を有する。第１流通用フィルタ１９を流れる薬液の流量Ｑ１は、第１流通用フィルタ１９の単位ろ過面積当たりの薬液の流量Ｊ１と、ろ過面積Ｒ１との積に相当する。つまり、流量Ｑ１と、流量Ｊ１と、ろ過面積Ｒ１との間には、以下の式（１）が成り立つ。また、流量Ｊ１は、単位ろ過面積当たりの孔４０の個数に比例し、孔径Ｄ１の４乗にも比例する。
【００３９】
Ｑ１＝Ｊ１×Ｒ１・・・式（１）
第１流通用フィルタ１９は、第１流通用フィルタ１９を内部に保持する第１ハウジング４１に着脱可能に取り付けられている。第１ハウジング４１は、第１流通用フィルタ１９よりも上流側の供給配管３０の下流端が接続された流入部４１Ａと、第１流通用フィルタ１９よりも下流側の供給配管３０の上流端が接続された流出部４１Ｂとを備えている。
【００４０】
第１ハウジング４１の内部は、第１流通用フィルタ１９によって、ろ過すべき薬液が流通する第１流通用フィルタ１９の上流側空間Ａ１と、ろ過された薬液が流通する第１流通用フィルタ１９の下流側空間Ａ２とに仕切られている。
図３Ａおよび図３Ｂは、第１流通用フィルタ１９が薬液をろ過する原理を示した図である。図３Ａおよび図３Ｂでは、紙面の上側が第１流通用フィルタ１９の上流側空間Ａ１であり、紙面の下側が第１流通用フィルタ１９の下流側空間Ａ２である。図３Ｂでは、図３Ａよりも第１流通用フィルタ１９の劣化が進んだ状態を示している。
【００４１】
図３Ａを参照して、第１流通用フィルタ１９は、標準閉塞タイプのフィルタである。薬液は、第１流通用フィルタ１９によってろ過される際、上流側空間Ａ１から下流側空間Ａ２に向かって流れて第１流通用フィルタ１９の孔４０を通過する。上流側空間Ａ１に存在する薬液には、パーティクル４２が含まれている。薬液中のパーティクル４２は、孔４０を通過する際に孔４０を区画する第１流通用フィルタ１９の壁面１９Ａによって吸着され、これによって孔４０内に捕捉され、パーティクル４２が薬液中から除去される。
【００４２】
図３Ｂを参照して、第１流通用フィルタ１９を使用し続けることによって第１流通用フィルタ１９が捕捉したパーティクル４２の数が徐々に増えると、第１流通用フィルタ１９が徐々に目詰まりし、第１流通用フィルタ１９の吸着性能が徐々に低下する。このような第１流通用フィルタ１９の吸着性能の低下を、第１流通用フィルタ１９の劣化という。第１流通用フィルタ１９の劣化に伴う、第１流通用フィルタ１９の孔４０において薬液が通過できる部分は、孔４０に捕捉されたパーティクル４２の数が増えるに従って、徐々に狭くなる。すなわち、第１流通用フィルタ１９の劣化に従って、第１流通用フィルタ１９を薬液が流れにくくなるため、第１流通用フィルタ１９を通過する薬液の圧力損失（供給配管３０を流通する薬液が第１流通用フィルタ１９を通過する際に失うエネルギー量。以下、単に、「第１流通用フィルタ１９の圧力損失」という。）が大きくなる。そのため、第１流通用フィルタ１９を流れる薬液の流量Ｑ１が小さくなる。
【００４３】
そして、第１流通用フィルタ１９の孔径Ｄ１が小さいと、孔４０内に捕捉されたパーティクル４２が孔４０を占める割合が大きくなるため、第１流通用フィルタ１９の目詰まりが起きやすい。すなわち、第１流通用フィルタ１９の孔径Ｄ１が小さくなるのに従って、第１流通用フィルタ１９の圧力損失の変化が大きくなる。
図１を参照して、帰還配管３１は、供給配管３０において第１流通用フィルタ１９と吐出バルブ３７との間の部分から分岐している。帰還配管３１の上流側の端部（上流端）は、供給配管３０に接続されている。帰還配管３１の下流側の端部（下流端）は、薬液タンク１０に接続されている。帰還配管３１には、供給配管３０を介して薬液タンク１０から供給される薬液が流通する。帰還配管３１には、帰還バルブ４５が介装されている。帰還バルブ４５は、帰還配管３１内へ薬液を供給したり、帰還配管３１内への薬液の供給を止めたりするために開閉される。
【００４４】
供給ユニット１２の第１分岐配管１７は、循環配管１５の供給配管３０から分岐して、薬液タンク１０に帰還している。第１分岐配管１７の上流側の端部（上流端）は、供給配管３０において供給配管用圧力計３５と供給配管用流量計３６との間の部分３０Ｂに接続されている。第１分岐配管１７の下流側の端部（下流端）は、薬液タンク１０に接続されている。第１分岐配管１７には、循環配管１５を介して薬液タンク１０から供給される薬液が流通している。
【００４５】
第１分岐配管１７の管径は、供給配管３０の管径よりも小さい。そのため、第１分岐配管１７を流通する薬液の流量は、供給配管３０を流通する薬液の流量よりも小さい。第１分岐配管１７には、第１検出用フィルタ２１および第１流量計２５が、上流側から順に介装されている。第１検出用フィルタ２１は、第１分岐配管１７内を流通する薬液をろ過するためのものである。第１流量計２５が、第１検出用フィルタ２１よりも下流側において第１分岐配管１７を流通する薬液の流量を検出する。
【００４６】
図２を参照して、第１検出用フィルタ２１は、たとえば、一端が閉塞された筒状である。第１分岐配管１７の管径は、供給配管３０の管径よりも小さいので、第１検出用フィルタ２１を流れる薬液の流量ｑ１は、第１流通用フィルタ１９の流量Ｑ１よりも小さい。そのため、第１検出用フィルタ２１は、第１流通用フィルタ１９よりも小さい。第１検出用フィルタ２１のろ過面積ｒ１は、第１流通用フィルタ１９のろ過面積Ｒ１よりも小さい。そのため、第１検出用フィルタ２１は、第１流通用フィルタ１９よりも安価である。
【００４７】
第１検出用フィルタ２１の材質は、第１流通用フィルタ１９の材質と同じである。第１検出用フィルタ２１は、標準閉塞タイプのフィルタである。そのため、第１検出用フィルタ２１は、第１流通用フィルタ１９と同じ原理で薬液中のパーティクル４２を捕捉する（図３Ａおよび図３Ｂ参照）。第１検出用フィルタ２１および第１流通用フィルタ１９は、互いに吸着性能が等しい（図３Ａおよび図３Ｂ参照）。よって、第１検出用フィルタ２１および第１流通用フィルタ１９の劣化の進み具合は、互いに等しい。第１流通用フィルタ１９と同様に、薬液が第１検出用フィルタ２１を流れ続けることで、薬液が第１検出用フィルタ２１を流れにくくなり、第１検出用フィルタ２１を通過する薬液の圧力損失（第１分岐配管１７を流通する薬液が第１検出用フィルタ２１を通過する際に失うエネルギー量。以下、単に、「第１検出用フィルタ２１の圧力損失」という。）が徐々に大きくなると同時に薬液の流量ｑ１が小さくなる。また、第１検出用フィルタ２１の孔径ｄ１が小さくなるに従って、第１検出用フィルタ２１の目詰まりが起きやすくなり、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化が大きくなる。
【００４８】
第１検出用フィルタ２１の全域には、第１検出用フィルタ２１の厚み方向に第１検出用フィルタ２１を貫通する複数の孔４６が形成されている。第１検出用フィルタ２１の孔４６は、第１検出用フィルタ２１の厚み方向から見て、正方形状である（図２において一点鎖線で囲んだ部分の拡大図を参照）。第１検出用フィルタ２１の孔径ｄ１は、第１流通用フィルタ１９の孔径Ｄ１よりも小さい。具体的には、孔径ｄ１は、０．０１〜０．０５μｍ程度である。孔４６は、第１検出用フィルタ２１の厚み方向から見て、正方形状以外の多角形状や円形状や楕円形状であってもよい。
【００４９】
第１検出用フィルタ２１では、第１流通用フィルタ１９と同様に、第１検出用フィルタ２１の単位ろ過面積当たりの薬液の流量ｊ１が、単位ろ過面積当たりの孔４６の個数に比例し、孔径ｄ１の４乗にも比例する。したがって、第１分岐配管１７内および循環配管１５内の圧力が等しい条件下では、単位ろ過面積当たりの孔４６の個数を調整することによって、流量ｊ１を第１流通用フィルタ１９の流量Ｊ１と等しくすることが可能である。
【００５０】
流量ｑ１、流量ｊ１およびろ過面積ｒ１の間には、第１流通用フィルタ１９の式（１）と同様の式が成立しており、流量ｑ１は、流量ｊ１およびろ過面積ｒ１に比例する。
第１検出用フィルタ２１は、第１検出用フィルタ２１を内部に保持する第２ハウジング４７に、着脱可能に取り付けられている。第２ハウジング４７は、第１検出用フィルタ２１よりも上流側の第１分岐配管１７の下流端が接続された流入部４７Ａと、第１検出用フィルタ２１よりも下流側の第１分岐配管１７の上流端が接続された流出部４７Ｂとを備えている。
【００５１】
第２ハウジング４７の内部は、第１検出用フィルタ２１によって、ろ過すべき薬液が流通する第１検出用フィルタ２１の上流側空間ａ１と、第１検出用フィルタ２１によってろ過された薬液が流通する第１検出用フィルタ２１の下流側空間ａ２とに仕切られている。薬液は、第１検出用フィルタ２１によってろ過される際、上流側空間ａ１から下流側空間ａ２に向かって流れて第１検出用フィルタ２１の孔４６を通過する。
【００５２】
図１を参照して、供給配管用ポンプ３２が駆動されている状態で、供給バルブ３４および吐出バルブ３７が開かれ、かつ帰還バルブ４５が閉じられている場合を想定する。この場合、薬液タンク１０から汲み出された薬液が、供給流量調整バルブ３３、供給バルブ３４、供給配管用圧力計３５、供給配管用流量計３６、第１流通用フィルタ１９および吐出バルブ３７を通って薬液ノズル６に供給される。また、薬液タンク１０から汲み出された薬液の一部は、第１分岐配管１７を流通して薬液タンク１０に戻される。具体的には、供給配管用圧力計３５と供給配管用流量計３６との間の部分３０Ｂから第１分岐配管１７に流入した薬液が、第１検出用フィルタ２１および第１流量計２５を通って薬液タンク１０に戻される。このとき、第１流通用フィルタ１９を流れる薬液の流量Ｑ１と、第１検出用フィルタ２１を流れる薬液の流量ｑ１との比率は、常に一定である。
【００５３】
この状態で、吐出バルブ３７が閉じられ、かつ帰還バルブ４５が開かれていると、この場合、薬液タンク１０から汲み出された薬液が、供給流量調整バルブ３３、供給バルブ３４、供給配管用圧力計３５、供給配管用流量計３６、第１流通用フィルタ１９および帰還バルブ４５を通って薬液タンク１０へ戻される。この場合でも、先程と同様に、薬液タンク１０から汲み出された薬液の一部は、第１分岐配管１７を流通して薬液タンク１０に戻される。また、第１流通用フィルタ１９を流れる薬液の流量Ｑ１と、第１検出用フィルタ２１を流れる薬液の流量ｑ１との比率は、常に一定である。
【００５４】
第１分岐配管１７は、循環配管１５から分岐しているため、薬液タンク１０からの薬液が第１分岐配管１７および循環配管１５に同時に供給される。したがって、共通の薬液タンク１０からの薬液が、第１流通用フィルタ１９および第１検出用フィルタ２１に同時に流通する。
薬液が第１分岐配管１７内を流通し続けることによって、第１検出用フィルタ２１が、徐々に目詰まりを起こすので、第１検出用フィルタ２１を流れる薬液の流量ｑ１が小さくなる。供給配管用圧力計３５が検出した圧力を基に、供給配管用圧力計３５の圧力が一定になるように、供給流量調整バルブ３３の開き度合いがフィードバック調整される。そのため、循環配管１５内および第１分岐配管１７内を流れる薬液の圧力が一定に保たれる。したがって、第１流量計２５は、流量ｑ１の変化を検出し続けることによって、第１検出用フィルタ２１の劣化に伴う、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化を検出することができる。
【００５５】
補充ユニット１３の補充配管１６は、薬液供給源１１からの薬液を薬液タンク１０に補充するためのものである。補充配管１６の上流側の端部（上流端）１６Ａは、薬液供給源１１に接続されている。補充配管１６の下流側の端部（下流端）は、薬液タンク１０に接続されている。補充配管１６には、薬液供給源１１から供給される薬液が流通している。補充配管１６には、補充流量調整バルブ５０、補充バルブ５１、補充配管用圧力計５２および第２流通用フィルタ２０が、上流側から順に介装されている。
【００５６】
補充流量調整バルブ５０の開き度合いは、補充配管１６内の流量を調整するために調整される。補充バルブ５１は、補充配管１６内へ薬液を供給したり、補充配管１６内への薬液の供給を止めたりするために開閉される。補充配管用圧力計５２は、補充配管１６内の圧力を検出する。第２流通用フィルタ２０は、補充配管１６内を流通する薬液をろ過するためのものである。
【００５７】
図４は、図１においてＩＶで示した部分を拡大した図である。
第２流通用フィルタ２０は、第１流通用フィルタ１９と同じ構成のフィルタである。第２流通用フィルタ２０の材質は、第１流通用フィルタ１９の材質と同じである。第２流通用フィルタ２０は、第１流通用フィルタ１９のろ過面積Ｒ１と等しいろ過面積Ｒ２を有する。第２流通用フィルタ２０の孔径Ｄ２は、第１流通用フィルタ１９の孔径Ｄ１と等しい（図２も参照）。第２流通用フィルタ２０は、第１流通用フィルタ１９と同様に標準閉塞タイプのフィルタであるため、第１流通用フィルタ１９と同じ原理で薬液中のパーティクル４２を捕捉する（図３Ａおよび図３Ｂ参照）。
【００５８】
第２流通用フィルタ２０を流れる薬液の流量Ｑ２と、第２流通用フィルタ２０の単位ろ過面積当たりの薬液の流量Ｊ２と、第２流通用フィルタ２０のろ過面積Ｒ２と間には、第１流通用フィルタ１９の式（１）と同様の式が成り立つ。つまり、流量Ｑ２は、流量Ｊ２およびろ過面積Ｒ２に比例する。
第２流通用フィルタ２０は、第２流通用フィルタ２０を内部に保持する第３ハウジング５４に取り付けられている。第２流通用フィルタ２０は、第３ハウジング５４に対して着脱可能である。第３ハウジング５４は、第２流通用フィルタ２０よりも上流側の補充配管１６の下流端が接続された流入部５４Ａと、第２流通用フィルタ２０よりも下流側の補充配管１６の上流端が接続された流出部５４Ｂとを備えている。
【００５９】
第３ハウジング５４の内部は、第２流通用フィルタ２０によって、ろ過すべき薬液が流通する第２流通用フィルタ２０の上流側空間Ｂ１と、第２流通用フィルタ２０によってろ過された薬液が流通する第２流通用フィルタ２０の下流側空間Ｂ２とに仕切られている。薬液は、第２流通用フィルタ２０によってろ過される際、上流側空間Ｂ１から下流側空間Ｂ２に向かって流れて第２流通用フィルタ２０の孔５３を通過する。
【００６０】
図１を参照して、第２分岐配管１８は、補充配管１６から分岐している。第２分岐配管１８の上流側の端部（上流端）は、補充配管１６において第２流通用フィルタ２０と補充配管用圧力計５２との間の部分１６Ｂに接続されている。第２分岐配管１８の下流側の端部（下流端）は、薬液タンク１０に接続されている。
第２分岐配管１８には、補充配管１６を介して薬液供給源１１から供給される薬液が流通している。第２分岐配管１８の管径は、補充配管１６の管径よりも小さいため、第２分岐配管１８を流通する薬液の流量は、補充配管１６を流通する薬液の流量よりも少ない。第２分岐配管１８内の圧力は、補充配管１６内の圧力と等しい。第２分岐配管１８には、第２検出用フィルタ２２と、第２検出用フィルタ２２よりも下流側において第２分岐配管１８を流通する薬液の流量を検出する第２流量計２６とが、上流側から順に介装されている。第２検出用フィルタ２２は、第２分岐配管１８内を流通する薬液をろ過するためのものである。
【００６１】
図４を参照して、第２検出用フィルタ２２は、第１検出用フィルタ２１と同じ構成である。すなわち、第２検出用フィルタ２２の材質は、第１流通用フィルタ１９と同じ材質の第２流通用フィルタ２０の材質と同じである。第２検出用フィルタ２２のろ過面積ｒ２は、第２流通用フィルタ２０のろ過面積Ｒ２よりも小さい。そのため、第２検出用フィルタ２２は、第２流通用フィルタ２０よりも安価である。また、第２検出用フィルタ２２の孔径ｄ２は、第２流通用フィルタ２０の孔径Ｄ２よりも小さい。
【００６２】
第２検出用フィルタ２２は、第１流通用フィルタ１９と同様に標準閉塞タイプのフィルタであるため、第１流通用フィルタ１９と同じ原理で薬液中のパーティクル４２を捕捉する（図３Ａおよび図３Ｂも併せて参照）。第２検出用フィルタ２２および第２流通用フィルタ２０は、互いに吸着性能が等しい（図３Ａおよび図３Ｂ参照）。よって、第２検出用フィルタ２２および第２流通用フィルタ２０の劣化度は、互いに等しい。第１検出用フィルタ２１と同様に、薬液が第２検出用フィルタ２２を流れ続けることで、薬液が第２検出用フィルタ２２を流れにくくなり、第２検出用フィルタ２２を通過する薬液の圧力損失（第２分岐配管１８を流通する薬液が第２検出用フィルタ２２を通過する際に失うエネルギー量。以下、単に、「第２検出用フィルタ２２の圧力損失」という。）が徐々に大きくなると同時に薬液の流量ｑ２が小さくなる。また、第２検出用フィルタ２２の孔径ｄ２が小さくなるに従って、第２検出用フィルタ２２の目詰まりが起きやすくなり、第２検出用フィルタ２２の圧力損失の変化が大きくなる。
【００６３】
また、第２分岐配管１８内および補充配管１６内の圧力が等しい条件下では、第２検出用フィルタ２２の単位ろ過面積当たりの孔６０の個数を調整することによって、第２検出用フィルタ２２の単位ろ過面積当たり薬液の流量ｊ２と、第２流通用フィルタ２０の単位ろ過面積当たりの流量Ｊ２とを等しくすることが可能である。
第２検出用フィルタ２２を流れる薬液の流量ｑ２、流量ｊ２およびろ過面積ｒ２の間には、第１流通用フィルタ１９の式（１）と同様の式が成り立っており、流量ｑ２は、流量ｊ２およびろ過面積ｒ２に比例する。
【００６４】
第２検出用フィルタ２２は、第２検出用フィルタ２２を内部に保持する第４ハウジング６１に対して取り付けられている。第２検出用フィルタ２２は、第４ハウジング６１に対して着脱可能である。第４ハウジング６１は、第２検出用フィルタ２２よりも上流側の供給配管３０の下流端が接続された流入部６１Ａと、第２検出用フィルタ２２よりも下流側の供給配管３０の上流端が接続された流出部６１Ｂとを備えている。
【００６５】
第４ハウジング６１の内部は、第２検出用フィルタ２２によって、ろ過すべき薬液が流通する第２検出用フィルタ２２の上流側空間ｂ１と、第２検出用フィルタ２２によってろ過された薬液が流通する第２検出用フィルタ２２の下流側空間ｂ２とに仕切られている。薬液は、第２検出用フィルタ２２によってろ過される際、上流側空間ｂ１から下流側空間ｂ２に向かって流れて第２検出用フィルタ２２の孔６０を通過する。
【００６６】
図１を参照して、補充バルブ５１が開かれている状態では、薬液供給源１１からの薬液が、補充流量調整バルブ５０、補充バルブ５１、補充配管用圧力計５２および第２流通用フィルタ２０を通って薬液タンク１０に補充される。薬液供給源１１からの薬液の一部は、第２分岐配管１８を流通して薬液タンク１０に補充される。具体的には、補充配管用圧力計５２と第２流通用フィルタ２０との間の部分１６Ｂから第２分岐配管１８に流入した薬液が、第２検出用フィルタ２２および第２流量計２６を通って薬液タンク１０に補充される。また、第２流通用フィルタ２０の流量Ｑ２と第２検出用フィルタ２２の流量ｑ２との比率は、常に一定である。
【００６７】
第２分岐配管１８は、補充配管１６から分岐しているため、薬液供給源１１からの薬液が第２分岐配管１８および補充配管１６に同時に供給される。したがって、共通の薬液供給源１１からの薬液が、第２流通用フィルタ２０および第２検出用フィルタ２２に同時に流通する。
薬液が第２分岐配管１８内を流通し続けることによって、第２検出用フィルタ２２は、徐々に目詰まりを起こすため、第２検出用フィルタ２２を流れる薬液の流量ｑ２が小さくなる。補充配管用圧力計５２が検出する圧力に基づいて、補充配管１６内および第２分岐配管１８内の薬液の圧力が一定になるように、補充流量調整バルブ５０の開き度合いがフィードバック調整される。
【００６８】
そのため、補充配管１６内を流れる薬液の圧力が一定に保たれる。したがって、第２流量計２６は、第２検出用フィルタ２２を流れる薬液の流量ｑ２の変化を検出し続けることによって、第２検出用フィルタ２２の圧力損失の変化を検出することができる。
図５は、処理液供給装置３の電気的構成を示すブロック図である。図６は、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化と第１流通用フィルタ１９の劣化との対応関係を表したグラフである。
【００６９】
図５を参照して、制御部２７は、マイクロコンピュータ６４と、情報を表示することができるモニタ（図示しない）とを含む。
マイクロコンピュータ６４は、ＣＰＵ６６と、記憶手段としてのメモリ６５とを含む。制御部２７には、供給配管用圧力計３５、補充配管用圧力計５２、供給配管用流量計３６、第１流量計２５、第２流量計２６、供給流量調整バルブ３３、補充流量調整バルブ５０、供給配管用ポンプ３２、供給バルブ３４、吐出バルブ３７、帰還バルブ４５および補充バルブ５１が、それぞれ制御対象として接続されている。
【００７０】
制御部２７には、供給配管用圧力計３５および補充配管用圧力計５２の検出圧力が入力される。また、制御部２７には、供給配管用流量計３６、第１流量計２５および第２流量計２６の検出流量が入力される。
ＣＰＵ６６は、プログラムを実行することによって、第１流量計２５または第２流量計２６から検出した流量を基に、第１検出用フィルタ２１の圧力損失を算出する。すなわち、第１流量計２５およびＣＰＵ６６は、第１分岐配管１７における、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化を検出する圧力損失変化検出手段として機能する。また、第２流量計２６およびＣＰＵ６６は、第２分岐配管１８における第２検出用フィルタ２２の圧力損失の変化を検出する圧力損失変化手段として機能する。
【００７１】
制御部２７は、供給配管用ポンプ３２の駆動と、供給バルブ３４、吐出バルブ３７、帰還バルブ４５および補充バルブ５１の開閉動作とを制御する。
メモリ６５には、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化と第１流通用フィルタ１９の劣化度との対応関係を表す対応データ７０が事前に記憶されている。本実施形態では、前述したように、第２検出用フィルタ２２は、第１検出用フィルタ２１と同じ構成であり、第２流通用フィルタ２０は、第１流通用フィルタ１９と同じ構成である。そのため、対応データ７０は、第２検出用フィルタ２２の圧力損失の変化と第２流通用フィルタ２０の劣化度との対応関係を表す対応データでもある。
【００７２】
本実施形態とは異なり、薬液タンク１０および薬液供給源１１が複数設けられている場合、破線で示すように、メモリ６５には、薬液タンク１０Ａまたは薬液供給源１１Ａ毎、すなわち各薬液タンク１０Ａまたは薬液供給源１１Ａのタンクに溜められた薬液の種類毎の対応データ７０Ａが記憶されている（図１も参照）。
図６を参照して、対応データ７０は、第１流通用フィルタ１９および第１検出用フィルタ２１の使用期間Ｔを横軸とし、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化量Ｐおよび第１流通用フィルタ１９の劣化度Ｆを縦軸としたいわゆる２軸グラフである。
【００７３】
第１流通用フィルタ１９の劣化度Ｆは、第１流通用フィルタ１９の使用期間Ｔが増加するにつれて徐々に増大する。劣化度Ｆが所定の閾値ＦＥに達するとウエハＷ（図１参照）の製造プロセスにおける不良、すなわちプロセス不良が発生する。プロセス不良が発生するときの第１流通用フィルタ１９の使用期間には、符号「ＴＥ」を付す。
第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化量Ｐは、第１検出用フィルタ２１の使用期間Ｔが所定の期間Ｔ１に達するまでは、殆ど増加しない。使用期間Ｔが期間Ｔ１を超えると、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化量Ｐは、増加し始める。期間Ｔ１は、期間ＴＥよりも短く設定されている。
【００７４】
第１流通用フィルタ１９の使用期間Ｔが、期間Ｔ１よりも長く期間ＴＥよりも短い期間Ｔ２に達したときを、第１流通用フィルタ１９の交換時期と設定しておく。期間Ｔ２に達した時の第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化量Ｐを閾値ＰＥとする。
本実施形態では、図６の２軸グラフ全体を対応データ７０としたが、閾値ＰＥのみを対応データ７０としてメモリ６５に記憶させておいてもよい。また、複数の薬液タンク１０Ａおよび薬液供給源１１Ａが設けられている場合、薬液の種類毎の閾値ＰＥを対応データ７０Ａとしてメモリ６５に記憶させておいてもよい。
【００７５】
ＣＰＵ６６は、プログラムを実行することによって、このような対応データ７０と、第１流量計２５および第２流量計２６の検出結果とに基づいて、第１流通用フィルタ１９の劣化および第２流通用フィルタ２０の劣化を判定する（図５参照）。つまり、ＣＰＵ６６は、劣化判定手段として機能する。
次に、ＣＰＵ６６が第１流通用フィルタ１９の劣化および第２流通用フィルタ２０の劣化を検出するフィルタ劣化検出方法について説明する。
【００７６】
図７は、フィルタ劣化検出方法を説明するためのフローチャートである。第１流通用フィルタ１９の劣化および第２流通用フィルタ２０の劣化のそれぞれは、同一のフィルタ劣化検出方法によって検出されるため、以下では、第１流通用フィルタ１９の劣化検出方法についてのみ説明し、第２流通用フィルタ２０の劣化検出方法については省略する。
図７を参照して、処理液供給装置３が起動している間、第１流量計２５は、第１検出用フィルタ２１の下流側の流量を検出する。そして、ＣＰＵ６６がプログラムを実行して、第１流量計２５が検出した流量から第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化を算出（検出）する（Ｓ１：圧力損失変化検出ステップ）。ＣＰＵ６６は、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化量Ｐが閾値ＰＥに達しているか否かによって、すなわち第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化に基づいて、第１流通用フィルタ１９の劣化を判定する（Ｓ２：劣化判定ステップ）。
【００７７】
第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化量Ｐが閾値ＰＥに達したと判断された場合（ステップＳ２でＹｅｓ）、第１流通用フィルタ１９の劣化の旨が制御部２７（図５参照）のモニタに警告表示される。第１流通用フィルタ１９が劣化したという情報は、メモリ６５（図５参照）にログとして記録されてもよい。この場合、第１流通用フィルタ１９の劣化の旨の警告は、制御部２７のモニタに表示されなくてもよい。
【００７８】
ステップＳ２において、ＣＰＵ６６が第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化量Ｐが閾値ＰＥに達していないと判定した場合（ステップＳ２でＮｏ）、図７の処理はリターンされる。
以上のフィルタ劣化検出方法によって、第１流通用フィルタ１９の劣化および第２流通用フィルタ２０の劣化が検出される。
【００７９】
以上により、この実施形態によれば、循環配管１５および第１分岐配管１７には、共通の薬液タンク１０から供給される薬液が同時に供給される。また、第１流通用フィルタ１９は、循環配管１５を流通する薬液をろ過し、第１検出用フィルタ２１は、第１分岐配管１７を流通する薬液をろ過する。第１流通用フィルタ１９および第１検出用フィルタ２１には、共通の薬液タンク１０からの薬液が同時に流れる。よって、第１流通用フィルタ１９および第１検出用フィルタ２１の劣化度には、互いに関連性がある。したがって、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化の検出結果に基づいて第１流通用フィルタ１９の劣化を精度良く判定することが可能である。よって、適切な時期に第１流通用フィルタ１９を交換することができるので、基板処理部２に供給される薬液を清浄な状態に保つことができる。
【００８０】
また、補充配管１６および第２分岐配管１８には、共通の薬液供給源１１から供給される薬液が同時に供給される。また、第２流通用フィルタ２０は、補充配管１６を流通する薬液をろ過し、第２検出用フィルタ２２は、第２分岐配管１８を流通する薬液をろ過する。第２流通用フィルタ２０および第２検出用フィルタ２２には、共通の薬液供給源１１からの薬液が同時に流れる。よって、第２流通用フィルタ２０および第２検出用フィルタ２２の劣化度には、互いに関連性がある。したがって、第２検出用フィルタ２２の圧力損失の変化の検出結果に基づいて第２流通用フィルタ２０の劣化を精度良く判定することが可能である。よって、適切な時期に第２流通用フィルタ２０を交換することができるので、基板処理部２に供給される薬液を清浄な状態に保つことができる。
【００８１】
また、第１流通用フィルタ１９および第２流通用フィルタ２０の劣化を精度良く検出するためにパーティクルカウンタ等の高価な装置を設ける必要がないので、コストの増大を抑えることができる。
これにより、コストの増大を抑制しつつ、清浄な薬液を供給することができる。
また、前述したように、第１検出用フィルタ２１および第２検出用フィルタ２２の孔径ｄ１，ｄ２は、第１流通用フィルタ１９および第２流通用フィルタ２０の孔径Ｄ１，Ｄ２よりも小さい。孔径ｄ１，ｄ２が小さくなるにしたがって、第１検出用フィルタ２１および第２検出用フィルタ２２の目詰まりが起きやすくなり、第１検出用フィルタ２１および第２検出用フィルタ２２の圧力損失の変化が大きくなる。したがって、第１検出用フィルタ２１および第２検出用フィルタ２２の圧力損失の変化から第１流通用フィルタ１９および第２流通用フィルタ２０の劣化を精度良く検出することができる。
【００８２】
また、第１検出用フィルタ２１を用いることで第１流通用フィルタ１９の劣化を精度良く検出できることから、第１流通用フィルタ１９の交換を定期的に行う必要がなく、第１流通用フィルタ１９の劣化度に応じて行うことができる。そのため、プロセス不良が発生する使用期間ＴＥよりも必要以上に短い期間しか使用していない第１流通用フィルタ１９を交換することを防止できる（図６参照）。また、清浄度が低い薬液が突発的に薬液供給源１１から供給されて第１流通用フィルタ１９の劣化が早まったとしても、プロセス不良が発生する前に確実に第１流通用フィルタ１９を交換することができる。同様の理由で、プロセス不良が発生する使用期間ＴＥよりも必要以上に短い期間しか使用していない第２流通用フィルタ２０を交換することを防止できる。また、清浄度が低い薬液が突発的に薬液供給源１１から供給されて第２流通用フィルタ２０の劣化が早まったとしても、プロセス不良が発生する前に確実に第２流通用フィルタ２０を交換することができる。
【００８３】
また、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化と第１流通用フィルタ１９の劣化との対応関係を表す対応データ７０をメモリ６５に事前に記憶させている。また、対応データ７０は、第２検出用フィルタ２２の圧力損失の変化と第２流通用フィルタ２０の劣化との対応関係を表すデータでもある。ＣＰＵ６６が、第１流量計２５および第２流量計２６の検出結果を対応データ７０に随時照らし合わせることによって、第１流通用フィルタ１９および第２流通用フィルタ２０の劣化を確実に判定することができる。
【００８４】
以上、この発明の一実施形態について説明したが、この発明は他の形態で実施することもできる。
図８は、本発明の一実施形態の第１変形例を示した図である。図８において、上記に説明した部材と同様の部材には、同一の参照符号を付し、その説明を省略する。このことは、図９においても同様である。
【００８５】
図８を参照して、第１変形例の処理液供給装置３は、流量調整バルブ７５、第１圧力計８１および第２圧力計８２をさらに含む。第１変形例の処理液供給装置３の第１分岐配管１７には、流量調整バルブ７５、第１圧力計８１、第１検出用フィルタ２１、第２圧力計８２および第１流量計２５が、上流側から順に介装されている。流量調整バルブ７５は、第１分岐配管１７内の圧力を調整するために開閉される。
【００８６】
第１圧力計８１は、第１検出用フィルタ２１の上流側における第１分岐配管１７内の圧力を検出し、第２圧力計８２は、第１検出用フィルタ２１の下流側における第１分岐配管１７内の圧力を検出する。すなわち、第１圧力計８１および第２圧力計８２は、第１検出用フィルタ２１の上流側および下流側における第１分岐配管１７内の圧力差を検出する圧力差検出手段を構成している。
【００８７】
図５において破線で囲まれた部分に示すように、流量調整バルブ７５の開閉動作は、制御部２７によって制御される。第１圧力計８１および第２圧力計８２が検出する圧力は、制御部２７に入力される。
図８を参照して、薬液が循環配管１５内および第１分岐配管１７内を流通することによって、第１流通用フィルタ１９および第１検出用フィルタ２１は、徐々に目詰まりを起こす。第１検出用フィルタ２１が目詰まりを起こすことで、循環配管１５の供給配管３０の部分３０Ｂから第１分岐配管１７に流入しようとする薬液の流量が小さくなる。制御部２７は、第１流量計２５が検出する流量が一定になるように流量調整バルブ７５の開き度合いを調整することで第１検出用フィルタ２１を流れる薬液の流量ｑ１を一定にすることができる。この状態で、第２圧力計８２が検出する圧力と、第１圧力計８１が検出する圧力との差（圧力差）によって、第１検出用フィルタ２１の圧力損失を検出することができる。したがって、第１圧力計８１と第２圧力計８２とによって第１検出用フィルタ２１の圧力損失を検出し続けることで、第１検出用フィルタ２１の劣化に伴う、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化を算出（検出）することができる。すなわち、第１圧力計８１および第２圧力計８２は、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化を検出する圧力損失変化検出手段でもある。
【００８８】
第１変形例では、本実施形態と同様の方法（図６および図７参照）によって、第１圧力計８１および第２圧力計８２の検出結果に基づいて、第１流通用フィルタ１９の劣化が判定される。第２流通用フィルタ２０の劣化は、本実施形態と同じ方法（図６および図７参照）によって判定される。
第１変形例によれば、前述の実施形態と同じ効果を奏する。
【００８９】
また、第１変形例では、第１分岐配管１７にのみ流量調整バルブ７５、第１圧力計８１および第２圧力計８２が介装されていたが、第２分岐配管１８にもこれらに相当する部材が介装されていてもよい。
次に、本実施形態の第２変形例について説明する。
図９は、本発明の一実施形態の第２変形例を示した図である。
【００９０】
図９を参照して、第２変形例の処理液供給装置３は、第１分岐配管１７の代わりに、第２の配管としての独立配管８５を含む。
独立配管８５の上流側の端部（上流端）８５Ａおよび下流側の端部（下流端）８５Ｂは、それぞれ、薬液タンク１０に接続されている。独立配管８５には、独立配管用ポンプ８６、圧力調整バルブ８７、第１圧力計８１、第１検出用フィルタ２１および第１流量計２５が、上流側からこの順で介装されている。
【００９１】
図５において破線で囲まれた部分に示すように、独立配管用ポンプ８６および圧力調整バルブ８７は、制御部２７に接続されている。独立配管用ポンプ８６の駆動と圧力調整バルブ８７の開き度合いとは、制御部２７によって制御される。
独立配管用ポンプ８６は、供給配管用ポンプ３２と同時に駆動され、同時に停止される。そのため、循環配管１５を薬液が流通するときは、独立配管８５にも薬液が流通している。つまり、循環配管１５および独立配管８５には、薬液タンク１０から供給される薬液が同時に供給されている。
【００９２】
独立配管用ポンプ８６を駆動させている状態で、圧力調整バルブ８７の開き度合いを調整することによって、第１検出用フィルタ２１の上流側における独立配管８５内の圧力、すなわち第１圧力計８１が検出する圧力を一定に保つことができる。そのため、第１流量計２５は、第１検出用フィルタ２１を流れる薬液の流量ｑ１の変化を検出することができる。したがって、第１流量計２５で流量ｑ１の変化を検出し続けることによって、第１検出用フィルタ２１の劣化に伴う、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化を検出することができる。
【００９３】
前述したように、ＣＰＵ６６は、プログラムを実行することで、第１流量計２５から検出した流量を基に、第１検出用フィルタ２１の圧力損失を算出する。すなわち、第１流量計２５およびＣＰＵ６６は、独立配管８５における、第１検出用フィルタ２１の圧力損失の変化を検出する圧力損失変化検出手段として機能する。
第２変形例では、本実施形態と同様の方法（図６および図７参照）によって、第１流通用フィルタ１９および第２流通用フィルタ２０の劣化が判定される。
【００９４】
第２変形例によれば、前述の実施形態と同じ効果を奏する。それらの効果に加えて次の効果も奏する。
すなわち、独立配管８５の上流端８５Ａおよび下流端８５Ｂは、それぞれ、循環配管１５に接続されておらず、薬液タンク１０に接続されている。そのため、循環配管１５を流れる薬液の流量が、独立配管８５に流れる薬液の流量に影響されにくいので、循環配管１５の薬液の流量を管理しやすい。
【００９５】
また、第２変形例の処理液供給装置３は、第１分岐配管１７の代わりに独立配管８５を含むとしたが、第２分岐配管１８の代わりに独立配管８５に相当する配管を含んでいてもよい。
また、たとえば、第１流通用フィルタ１９、第２流通用フィルタ２０、第１検出用フィルタ２１および第２検出用フィルタ２２が、標準閉塞タイプ以外のフィルタである場合や、互いに異なる材質である場合も有り得る。この場合であっても、第１流量計２５および第２流量計２６の検出結果等に基づいて、ＣＰＵ６６が第１流通用フィルタ１９および第２流通用フィルタ２０の劣化を検出できればよい。
【００９６】
また、前述の実施形態では、処理対象となる基板としてウエハＷを取り上げたが、ウエハＷに限らず、たとえば、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板等の他の種類の基板が処理対象とされてもよい。
【００９７】
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【符号の説明】
【００９８】
２      基板処理部
３      処理液供給装置
１０    薬液タンク（処理液供給部、タンク）
１０Ａ  薬液タンク（処理液供給部、タンク）
１１    薬液供給源（処理液供給部）
１１Ａ  薬液供給源（処理液供給部）
１５    循環配管（第１の配管）
１６    補充配管（第１の配管）
１６Ａ  上流端
１７    第１分岐配管（第２の配管、分岐配管）
１８    第２分岐配管（第２の配管）
１９    第１流通用フィルタ（流通用フィルタ）
２０    第２流通用フィルタ（流通用フィルタ）
２１    第１検出用フィルタ（検出用フィルタ）
２２    第２検出用フィルタ（検出用フィルタ）
２５    第１流量計（流量検出手段、圧力損失変化検出手段）
２６    第２流量計（流量検出手段、圧力損失変化検出手段）
３０Ａ  上流端
６５    メモリ（記憶手段）
６６    ＣＰＵ（劣化判定手段、圧力損失変化検出手段）
７０    対応データ
７０Ａ  対応データ
８１    第１圧力計（圧力差検出手段、圧力損失変化検出手段）
８２    第２圧力計（圧力差検出手段、圧力損失変化検出手段）
８５    独立配管（第２の配管）
８５Ａ  上流端
８５Ｂ  下流端
ｄ１    孔径
ｄ２    孔径
Ｄ１    孔径
Ｄ２    孔径
ｊ１    流量
ｊ２    流量
Ｊ１    流量
Ｊ２    流量
ＰＥ    閾値（対応データ）
ｒ１    ろ過面積
ｒ２    ろ過面積
Ｒ１    ろ過面積
Ｒ２    ろ過面積
Ｓ１    圧力損失変化検出ステップ
Ｓ２    劣化判定ステップ
【図１】
0006376457.tif 000002
【図２】
0006376457.tif 000003
【図３Ａ】
0006376457.tif 000004
【図３Ｂ】
0006376457.tif 000005
【図４】
0006376457.tif 000006
【図５】
0006376457.tif 000007
【図６】
0006376457.tif 000008
【図７】
0006376457.tif 000009
【図８】
0006376457.tif 000010
【図９】
0006376457.tif 000011