(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素化ニトリルゴムであって、一般式（Ｉ）の置換フェノール
【化１】
0006309634.tif 000060
（式中、
Ｘは、硫黄、二価の、直鎖状もしくは分岐状、非環状もしくは環状のヒドロカルビル基、または式（ＩＩ）の基
【化２】
0006309634.tif 000061
（式中、ｎ＝０〜９である）であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ直鎖状もしくは分岐状の、非置換もしくは置換されたＣ１〜Ｃ８アルキル基である）
の少なくとも１種を、前記水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．２５重量％の範囲の量で含み、９９．１％以上の水素化度を有する水素化ニトリルゴム。
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）の前記フェノールが、２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール）、および以下の式：
【化３】
0006309634.tif 000062
のｐ−クレゾールとジシクロペンタジエンとのブチル化反応生成物からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載の水素化ニトリルゴム。
【請求項３】
少なくともアクリロニトリルおよび１，３−ブタジエンから誘導される繰り返し単位を有することを特徴とする、請求項１または２に記載の水素化ニトリルゴム。
【請求項４】
前記一般式（Ｉ）の前記フェノールを、前記水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．１９重量％の範囲内の量で含むことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の水素化ニトリルゴム。
【請求項５】
前記一般式（Ｉ）の前記フェノールを、前記水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．１８重量％の範囲内の量で含むことを特徴とする、請求項４に記載の水素化ニトリルゴム。
【請求項６】
アクリロニトリルおよびブタジエンのみから誘導される繰り返し単位を有し、および一般式（Ｉ）の少なくとも１種のフェノールを、前記水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．１９重量％の範囲内の量で含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の水素化ニトリルゴム。
【請求項７】
溶液中でニトリルゴムを水素化することによって、請求項１〜６のいずれか一項に記載の水素化ニトリルゴムを製造するための方法であって、前記水素化が、一般式（Ｉ）
【化４】
0006309634.tif 000063
（式中、
Ｘは、硫黄、二価の、直鎖状もしくは分岐状、非環状もしくは環状のヒドロカルビル基、または式（ＩＩ）の基
【化５】
0006309634.tif 000064
（式中、ｎ＝０〜９である）であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ直鎖状もしくは分岐状の、非置換もしくは置換されたＣ１〜Ｃ８アルキル基である）
の少なくとも１種のフェノールの存在下で実施され、
前記一般式（Ｉ）のフェノールが、使用される前記水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．２５重量％の量で存在していることを特徴とする、方法。
【請求項８】
前記ニトリルゴムが、一般式（Ｉ）の少なくとも１種のフェノールを、使用されるニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．２５重量％の量で含むことを特徴とする、請求項７に記載の水素化ニトリルゴムを製造するための方法。
【請求項９】
前記一般式（Ｉ）のフェノールのみが、使用される前記ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．２５重量％の量で水素化混合物中に導入されることを特徴とする、請求項７に記載の水素化ニトリルゴムを製造するための方法。
【請求項１０】
トリフェニルホスフィンが、前記水素化の際に、使用される前記ニトリルゴムを基準にして、０〜１重量％の量で存在していることを特徴とする、請求項７〜９のいずれか一項に記載の水素化ニトリルゴムを製造するための方法。
【請求項１１】
前記水素化後に溶媒が除去され、かつ前記水素化ニトリルゴムが単離および脱水されることを特徴とする、請求項７〜１０のいずれか一項に記載の水素化ニトリルゴムを製造するための方法。
【請求項１２】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の少なくとも１種の水素化ニトリルゴム、および少なくとも１種の架橋剤と任意選択的に１種または複数の架橋促進剤とを含む少なくとも１種の架橋系を含む、加硫可能な混合物。
【請求項１３】
成形体の形態の加硫物を製造するための方法であって、請求項１２に記載の加硫可能な混合物が、１００℃〜２００℃の範囲の温度で加硫されることを特徴とする、方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法によって得ることが可能な加硫物。
【請求項１５】
伝動ベルト、ローラーカバー、シール、キャップ、ストッパー、ホース、床仕上材、シーリングマット、またはシート、形材もしくは膜の形態を有することを特徴とする、請求項１４に記載の加硫物。
【請求項１６】
Ｏ−リングシール、フラットシール、シャフトシーリングリング、ガスケットスリーブ、シーリングキャップ、ダスト保護キャップ、コネクターシール、断熱ホース（添加ＰＶＣ有りまたは無し）、オイルクーラーホース、空気吸込ホース、パワーステアリングホース、靴底もしくはその部分、またはポンプの膜の形態を有することを特徴とする、請求項１５に記載の加硫物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定のフェノール含有水素化ニトリルゴム、それらを製造するためのプロセス、それらをベースとする加硫可能な混合物、およびこの方法で得られる加硫物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ニトリルゴムは、少なくとも１種の不飽和ニトリルモノマー、少なくとも１種の共役ジエン、および任意選択的に１種または複数のさらなる共重合性モノマーのコポリマーおよびターポリマーである。ニトリルゴムを製造するためのプロセス（非特許文献１）、および適切な有機溶媒中でニトリルゴムを水素化するためのプロセス（非特許文献２）は公知である。
【０００３】
水素化ニトリルゴムは、略して「ＨＮＢＲ」とも呼ばれ、ニトリルゴム（これも略して「ＮＢＲ」と呼ばれる）を使用し、水素化によって得られるゴムを意味していると理解されたい。したがって、ＨＮＢＲにおいては、共重合されたジエン単位のＣ＝Ｃ二重結合は、完全にもしくは部分的に水素化されている。共重合されたジエン単位の水素化のレベルは、典型的には、５０〜１００％の範囲内である。しかしながら、当業者は、残存二重結合含量が約０．９％以下であれば「完全水素化タイプ」と呼んでいる。市場において商業的に入手可能なＨＮＢＲは、典型的には、１０〜１２０ムーニー単位の範囲のムーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１００℃）を有している。
【０００４】
ＨＮＢＲは、極めて良好な耐熱性、優れた耐オゾン性および耐薬品性、ならびに優れた耐油性を有する特殊ゴムである。上述のＨＮＢＲの物理的および化学的性質が、極めて良好な機械的性質、特に高い耐摩耗性と組み合わさっている。
【０００５】
この性能プロファイルが理由で、ＨＮＢＲは、広く各種の用途分野において各種の使用法が見出されてきた。ＨＮＢＲは、たとえば以下の分野において使用されている：自動車分野におけるシール、ホース、伝動ベルト、ケーブルシース、ローラーカバーおよび制震要素、さらには採油分野におけるステーター、ウェルシールおよびバルブシール、さらには航空産業、電気産業、機械工学および造船における各種の部品。
【０００６】
重要度が高いのは、水素化ニトリルゴムおよびそれをベースとする加硫物の物性を最適化することだけではない。最適化されたプロセス条件を用いて水素化ニトリルゴムを製造するためのプロセスもまた、長年の研究開発活動の課題である。
【０００７】
（特許文献１）には、（Ｈ）Ｒｈ（Ｌ）３または（Ｈ）Ｒｈ（Ｌ）４タイプのロジウム触媒を使用した、ニトリルゴムを水素化するためのプロセスが記載されている。Ｌは、ホスフィン含有またはアルシン含有の配位子である。その水素化は、配位子を追加することなく、比較的大量の触媒（２．５〜４０重量％）を用いて実施されている。クロロベンゼン溶液から水素化ニトリルゴムを単離するためには、その水素化溶液を冷却し、イソプロパノールを添加することによってゴムを凝集させる。このプロセスの結果として得られる水素化ニトリルゴムの加硫物の物性については、何らの記載もない。したがって、（特許文献１）からは、ニトリルゴムの水素化プロセスの最適化に関して何らの教示を得ることもできず、ＨＮＢＲをベースとする加硫物の弾性率および圧縮永久歪み値の最適化に関して何らの指針も存在しない。
【０００８】
（特許文献２）には、ペルオキシド架橋後に低い圧縮永久歪みを有する加硫物を与える水素化ニトリルゴムの製造が記載されている。その水素化においては、Ｃ３〜Ｃ６ケトンと、二級もしくは三級のＣ３〜Ｃ６アルコールとの溶媒混合物を用い、極めて異なる化学的構成要素のルテニウム触媒が使用されている。その溶媒混合物中の二級または三級アルコールの比率は、２〜６０重量％であると述べられている。水素化の際または水素化後に溶液を冷却している過程で、２相が形成される可能性があると記述されている。その結果、所望の水素化レベルが達成されないか、および／または水素化の間に水素化ニトリルゴムがゲル化する。（特許文献２）に記載されているプロセスは、水素化の過程で起きる相分離およびゲル化が、数多くのパラメーターに予測不能な状態で依存するために、広く応用することは不可能である。それらのパラメーターには、以下のものが含まれる：アクリロニトリル含量およびニトリルゴム供給原料のモル質量、溶媒混合物の組成、水素化におけるポリマー溶液の固形分含量、水素化レベル、ならびに水素化の際の温度。水素化後のポリマー溶液の冷却の過程、またはポリマー溶液を貯蔵している過程においても、望ましくない相分離と、対応するプラント機器および容器の汚染とが起こりうる。（特許文献２）は、ニトリルゴム供給原料の製造を介した弾性率レベルおよび圧縮永久歪みの改良に関して何らの教示も与えておらず、水素化プロセスに関してさらなる最適化の提案もしていない。
【０００９】
（特許文献３）には、少量の、好ましくは０．０８〜０．２重量％のトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）ハライド、２重量％以下のトリフェニルホスフィンを用い、選択された圧力（好ましくは３０〜３５０ｂａｒ）および温度範囲（１００℃〜１４５℃）でＮＢＲを水素化するためのプロセスが記載されている。表３にある実施例では、トリフェニルホスフィンの量を０重量％から５重量％に上げると、ペルオキシド加硫させた水素化ニトリルゴムの重要な物性において劣化がもたらされることが示されている。たとえば、１００％、２００％および３００％伸びにおける弾性率値、ならびに２３℃における硬度が低下している。２３℃で７０時間、１２５℃で７０時間、および１５０℃で７０時間エージングさせた後での破断時伸びおよび圧縮永久歪みの値が大きくなっている。（特許文献３）の教示によれば、トリフェニルホスフィンによる有害な影響を限定するためには、水素化において使用されるトリフェニルホスフィンの量が、０．６重量％未満に制限される。水素化において、トリフェニルホスフィンの存在量が０．６重量％未満であることの欠点は、水素化時間を変化させないために、高価なロジウム金属をより大量に使用する必要があり、または触媒の量を変化させなければ、極めてより長い水素化時間を受容しなければならないことである。（特許文献３）は、トリフェニルホスフィンの量を増やすことなく水素化時間を短縮することについて、さらには結果として得られる水素化ニトリルゴムの加硫物の弾性率および圧縮永久歪みのレベルに悪影響を及ぼさない水素化時間の短縮法について、何らの教示も与えていない。
【００１０】
（特許文献４）には、アルカリ土類金属塩をゼラチンと組み合わせて用いてラテックスの凝集を実施することによる、高い貯蔵安定性を有するニトリルゴムの製造が記載されている。それらのニトリルゴムは、そのニトリルゴム中に存在しているナトリウム、カリウム、マグネシウム、およびカルシウムイオンの含量に関連した、例外的なイオン指数を有している。（特許文献４）の概要部分において、凝集前にニトリルゴムラテックスに添加されるいくつかの老化安定剤が挙げられているが、量についての記載はない。それらの実施例から、２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）を使用し、その量は、ゴム固形分を規準にして０．１〜０．８重量％の範囲内で変動させたことが明らかである。ニトリルゴムの貯蔵安定性は、２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）の量に依存せず、最小量（０．１重量％）の２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）を使用したときでさえも、十分な貯蔵安定性が得られることが示されている。このことから、２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）の量は、ニトリルゴムの性質に（たとえあったとしても）ほんのわずかな影響のみを与えるという結論を導くことができる。このタイプのニトリルゴムを原料として、水素化によって得られる水素化ニトリルゴムの物性に及ぼす２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）の影響に関して、それ以上の何らの結論も得ることができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】米国特許第４，５０３，１９６号明細書
【特許文献２】独国特許出願公開第Ａ３９２１２６４号明細書
【特許文献３】欧州特許出願公開第Ａ０１３４０２３号明細書
【特許文献４】欧州特許出願公開第２２３８１７７Ａ号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
したがって、本発明が対象としている課題は、水素化後でも水素化ニトリルゴム中に残る可能性があるが、それ以後の加硫物の物性に悪影響を与えない活性向上添加物の存在下での、ニトリルゴムのための水素化プロセスを提供するという課題であった。本発明が対象としているさらなる課題は、極めて良好な加硫物の物性を有する水素化ニトリルゴムが得られるようにすることであった。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
驚くべきことには、この課題は、特定のフェノールの存在下でニトリルゴムの水素化を実施することによって解決された。それらは、水素化のための供給原料として使用されるニトリルゴム中に既に存在していてもよく、あるいは単に水素化の過程においてその反応系に添加してもよい。これらの特定のフェノールは、水素化に対する予想されなかった加速効果を示し、そのようにして製造された水素化ニトリルゴムをベースとする加硫物の物性に悪影響を与えることなく、水素化ニトリルゴム中に残存することができる。
【００１４】
したがって、本発明は、溶液中でニトリルゴムを水素化することによって、水素化ニトリルゴムを製造するためのプロセスにおいて、その水素化が、一般式（Ｉ）
【化１】
0006309634.tif 000002
（式中、
Ｘは、硫黄、二価の、直鎖状もしくは分岐状、非環状もしくは環状のヒドロカルビル基、好ましくは二価のＣ１〜Ｃ８アルキレン基、より好ましくはメチレン、エチレンもしくはｎ−プロピレン、または式（ＩＩ）
【化２】
0006309634.tif 000003
（式中、ｎ＝０〜９である）であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ直鎖状もしくは分岐状の、非置換もしくは置換されたＣ１〜Ｃ８アルキル基、好ましくは直鎖状もしくは分岐状の、非置換もしくは置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基である）
の少なくとも１種のフェノールの存在下で実施され、この一般式（Ｉ）のフェノールは、使用されるニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．２５重量％、好ましくは０．０５〜０．２重量％、より好ましくは０．０５〜０．１９重量％、最も好ましくは０．０５〜０．１８重量％の量で存在していることを特徴とする、プロセスを提供する。
【００１５】
本発明はさらに、水素化ニトリルゴムであって、一般式（Ｉ）
【化３】
0006309634.tif 000004
（式中、
Ｘは、硫黄、二価の、直鎖状もしくは分岐状、非環状もしくは環状のヒドロカルビル基、好ましくは二価のＣ１〜Ｃ８アルキレン基、より好ましくはメチレン、エチレンもしくはｎ−プロピレン、または式（ＩＩ）
【化４】
0006309634.tif 000005
（式中、ｎ＝０〜９である）であり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ直鎖状もしくは分岐状の、非置換もしくは置換されたＣ１〜Ｃ８アルキル基、好ましくは直鎖状もしくは分岐状の、非置換もしくは置換されたＣ１〜Ｃ６アルキル基である）
の少なくとも１種のフェノールを、水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．２５重量％、好ましくは０．０５〜０．２重量％、より好ましくは０．０５〜０．１９重量％、最も好ましくは０．０５〜０．１８重量％の範囲の量で含む、水素化ニトリルゴムも提供する。
【００１６】
本発明はさらに、これらの水素化ニトリルゴムの加硫可能な混合物、それらをベースとする加硫物を製造するためのプロセス、さらにはそれらから得ることが可能である特に成形体の形態の加硫物も提供する。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の水素化ニトリルゴム：
本発明の水素化ニトリルゴムには、一般式（Ｉ）の少なくとも１種のフェノールが、水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．２５重量％、好ましくは０．０５〜０．２重量％、より好ましくは０．０５〜０．１９重量％、最も好ましくは０．０５〜０．１８重量％の範囲の量で含まれる。
【００１８】
別の実施形態においては、本発明の水素化ニトリルゴムには、一般式（Ｉ）の少なくとも１種のフェノールが、水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．１９重量％、好ましくは０．０１〜０．１８重量％の範囲の量で含まれる。
【００１９】
本発明の水素化ニトリルゴムは、一般式（Ｉ）のフェノールとして、２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール）、およびｐ−クレゾールとジシクロペンタジエンとのブチル化された反応生成物からなる群から選択される化合物を含む。
【００２０】
式
【化５】
0006309634.tif 000006
の２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）は、たとえば、Ｌａｎｘｅｓｓ  Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ  ＧｍｂＨからＶｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＢＫＦの形態で市販されている。
【００２１】
式
【化６】
0006309634.tif 000007
の２，２−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール）は、たとえば、ＣｈｅｍｔｕｒａからＬｏｗｉｎｏｘ（登録商標）ＴＢＰ−６の形態で市販されている。
【００２２】
式
【化７】
0006309634.tif 000008
のｐ−クレゾールとジシクロペンタジエンとのブチル化された反応生成物は、たとえば、ＥｌｉｏｋｅｍからＷｉｎｇｓｔａｙ（登録商標）Ｌの形態で市販されている。
【００２３】
水素化ニトリルゴムの繰り返し単位：
本発明の水素化ニトリルゴムは、少なくとも１種のα，β−不飽和ニトリルモノマーおよび少なくとも１種の共役ジエンモノマーの繰り返し単位を有している。それらにはさらに、１種または複数のさらなる共重合性モノマーの繰り返し単位が含まれていてもよい。
【００２４】
本発明の水素化ニトリルゴムには、完全にもしくは部分的に水素化されたニトリルゴムが含まれる。水素化レベルは、典型的には５０〜１００％の範囲内、好ましくは７５〜１００％の範囲内、より好ましくは８０〜１００％の範囲内、さらにより好ましくは９０〜１００％、特には９４．５％超〜１００％の範囲内、特に好ましくは９５％〜１００％の範囲内である。当業者は、残留二重結合含量（略して「ＲＤＢ」と呼ばれる）が約０．９％以下である、すなわち、水素化のレベルが９９．１％以上である場合も「完全に水素化されたタイプ」と呼んでいる。
【００２５】
本発明の１つの実施形態においては、本発明の水素化ニトリルゴムは、９５〜１００％の範囲内、好ましくは９６％〜１００％の範囲内の水素化レベルを有し、より好ましくは９９．１％以上の水素化度で完全に水素化されたタイプを表し、および一般式（Ｉ）の少なくとも１種のフェノールを、水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．１９重量％の範囲内、好ましくは０．０１〜０．１８重量％の範囲内、最も好ましくは０．０５〜０．１８重量％の範囲内の量で含んでいる。
【００２６】
少なくとも１種の共役ジエンの繰り返し単位が、（Ｃ４〜Ｃ６）共役ジエンまたはそれらの混合物をベースとしているのが好ましい。特に好ましいのは、１，２−ブタジエン、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチルブタジエン、ピペリレン、およびそれらの混合物である。特に好ましいのは、１，３−ブタジエン、イソプレンおよびそれらの混合物である。さらにより好ましいのは、１，３−ブタジエンである。
【００２７】
本発明のニトリルゴムを製造するために使用されるα，β−不飽和ニトリルは、各種公知のα，β−不飽和ニトリルであってよく、（Ｃ３〜Ｃ５）−α，β−不飽和ニトリル、たとえば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリルまたはそれらの混合物が好ましい。特に好ましいのは、アクリロニトリルである。
【００２８】
１種または複数のさらなる共重合性モノマーを使用するのであれば、それらはたとえば以下のものであってよい：芳香族ビニルモノマー、好ましくはスチレン、α−メチルスチレンおよびビニルピリジン、フッ素化ビニルモノマー、好ましくはフルオロエチルビニルエーテル、フルオロプロピルビニルエーテル、ｏ−フルオロメチルスチレン、ペンタフルオロ安息香酸ビニル、ジフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレン、あるいはそうでなければ、共重合性の老化防止性モノマー、好ましくはＮ−（４−アニリノフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−アニリノフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（４−アニリノフェニル）シンナミド、Ｎ−（４−アニリノフェニル）クロトンアミド、Ｎ−フェニル−４−（３−ビニルベンジルオキシ）アニリン、およびＮ−フェニル−４−（４−ビニルベンジルオキシ）アニリン、ならびにさらに非共役ジエン、たとえば４−シアノシクロヘキセンおよび４−ビニルシクロヘキセン、またはそうでなければ、アルキン、たとえば１−ブチンまたは２−ブチン。
【００２９】
さらに、使用される共重合性ターモノマーは、ヒドロキシル基を含むモノマー、好ましくは（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルであってよい。それに対応して置換された（メタ）アクリルアミドを使用することもまた可能である。
【００３０】
好適なアクリル酸ヒドロキシアルキルモノマーの例としては以下のものが挙げられる：（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル、モノ（メタ）アクリル酸グリセリル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシオクチル、ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、イタコン酸ジ（エチレングリコール）、イタコン酸ジ（プロピレングリコール）、イタコン酸ビス（２−ヒドロキシプロピル）、イタコン酸ビス（２−ヒドロキシエチル）、フマル酸ビス（２−ヒドロキシエチル）、マレイン酸ビス（２−ヒドロキシエチル）、およびヒドロキシメチルビニルケトン。
【００３１】
さらに、使用される共重合性ターモノマーは、エポキシ基を含むモノマー、好ましくは（メタ）アクリル酸グリシジルであってよい。
【００３２】
エポキシ基を含むモノマーの好ましい例は以下のものである：イタコン酸グリシジル、ｐ−スチレンカルボン酸グリシジル、アクリル酸２−エチルグリシジル、メタクリル酸２−エチルグリシジル、アクリル酸２−（ｎ−プロピル）グリシジル、メタクリル酸２−（ｎ−プロピル）グリシジル、アクリル酸２−（ｎ−ブチル）グリシジル、メタクリル酸２−（ｎ−ブチル）グリシジル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジルメチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸（３’，４’−エポキシヘプチル）−２−エチル、メタクリル酸（３’，４’−エポキシヘプチル）−２−エチル、アクリル酸６’，７’−エポキシヘプチル、メタクリル酸６’，７’−エポキシヘプチル、アリルグリシジルエーテル、アリル３，４−エポキシヘプチルエーテル、６，７−エポキシヘプチルアリルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、ビニル３，４−エポキシヘプチルエーテル、３，４−エポキシヘプチルビニルエーテル、６，７−エポキシヘプチルビニルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、および３−ビニルシクロヘキセンオキシド。
【００３３】
それらに代わるものとして、さらなる共重合性モノマーは、以下のものであってよい：カルボキシル基を含む共重合性ターモノマー、たとえばα，β−不飽和モノカルボン酸、それらのエステル、α，β−不飽和ジカルボン酸、それらのモノエステルもしくはジエステル、それらに対応する酸無水物、またはそれらのアミド。
【００３４】
使用されるα，β−不飽和モノカルボン酸は、好ましくは、アクリル酸およびメタクリル酸であってよい。
【００３５】
α，β−不飽和モノカルボン酸のエステル、好ましくはそれらのアルキルエステルおよびアルコキシアルキルエステルを使用することもまた可能である。α，β−不飽和モノカルボン酸のアルキルエステル、特にＣ１〜Ｃ１８アルキルエステルが好ましく、特に好ましいのは、アクリル酸もしくはメタクリル酸のアルキルエステル、特にＣ１〜Ｃ１８アルキルエステル、特にはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ｎ−ドデシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、およびメタクリル酸２−エチルヘキシルである。さらに、α，β−不飽和モノカルボン酸のアルコキシアルキルエステルが好ましく、アクリル酸もしくはメタクリル酸のアルコキシアルキルエステル、特にアクリル酸もしくはメタクリル酸のＣ２〜Ｃ１２−アルコキシアルキルエステルが特に好ましく、アクリル酸メトキシメチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、および（メタ）アクリル酸メトキシエチルがさらにより好ましい。アルキルエステルたとえば上に挙げたものと、アルコキシアルキルエステルたとえば上に挙げた形態のものとの混合物を使用することも可能である。シアノアルキル基中の炭素原子の数が２〜１２個のアクリル酸シアノアルキルおよびメタクリル酸シアノアルキル、好ましくはアクリル酸α−シアノエチル、アクリル酸β−シアノエチル、およびメタクリル酸シアノブチルもまた使用することもまた可能である。その中のヒドロキシアルキル基の炭素原子の数が１〜１２であるアクリル酸ヒドロキシアルキルおよびメタクリル酸ヒドロキシアルキルを使用することも可能であり、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、およびアクリル酸３−ヒドロキシプロピルが好ましく、さらには、フッ素置換されたベンジル基を含むアクリル酸エステルもしくはメタクリル酸エステル、好ましくはアクリル酸フルオロベンジルおよびメタクリル酸フルオロベンジルを使用することも可能である。フルオロアルキル基を含むアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル、好ましくはアクリル酸トリフルオロエチルおよびメタクリル酸テトラフルオロプロピルを使用することもまた可能である。アミノ基を含むα，β−不飽和カルボン酸エステル、たとえばアクリル酸ジメチルアミノメチルおよびアクリル酸ジエチルアミノエチルを使用することもまた可能である。
【００３６】
使用されるさらなるモノマーは、α，β−不飽和ジカルボン酸、好ましくはマレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、およびメサコン酸であってもよい。
【００３７】
α，β−不飽和ジカルボン酸無水物、好ましくは無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、および無水メサコン酸を使用することもさらに可能である。
【００３８】
さらに、α，β−不飽和ジカルボン酸のモノまたはジエステルを使用することも可能である。
【００３９】
これらのα，β−不飽和ジカルボン酸のモノエステルまたはジエステルは、たとえば、アルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ１０−アルキル、特にはエチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルまたはｎ−ヘキシル、アルコキシアルキル、好ましくはＣ２〜Ｃ１２−アルコキシアルキル、より好ましくはＣ３〜Ｃ８−アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ１２−ヒドロキシアルキル、より好ましくはＣ２〜Ｃ８−ヒドロキシアルキル、シクロアルキル、好ましくはＣ５〜Ｃ１２−シクロアルキル、より好ましくはＣ６〜Ｃ１２−シクロアルキル、アルキルシクロアルキル、好ましくはＣ６〜Ｃ１２−アルキルシクロアルキル、より好ましくはＣ７〜Ｃ１０−アルキルシクロアルキル、アリール、好ましくはＣ６〜Ｃ１４−アリール、のモノエステルまたはジエステルであってよく、ここでいずれのジエステルも、混合エステルであってもよい。
【００４０】
特に好ましいα，β−不飽和モノカルボン酸のアルキルエステルは、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、アクリル酸２−プロピルヘプチル、および（メタ）アクリル酸ラウリルである。特に、アクリル酸ｎ−ブチルが使用される。
【００４１】
特に好ましいα，β−不飽和モノカルボン酸のアルコキシアルキルエステルは、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、および（メタ）アクリル酸メトキシエチルである。特に、アクリル酸メトキシエチルが使用される。
【００４２】
使用されるその他のα，β−不飽和モノカルボン酸のエステルはさらに、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシメチル）アクリルアミド、およびウレタン（メタ）アクリレートである。
【００４３】
α，β−不飽和ジカルボン酸モノエステルの例には、以下のものが挙げられる：
・  マレイン酸モノアルキル、好ましくはマレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル、およびマレイン酸モノ−ｎ−ブチル；
・  マレイン酸モノシクロアルキル、好ましくはマレイン酸モノシクロペンチル、マレイン酸モノシクロヘキシル、およびマレイン酸モノシクロヘプチル；
・  マレイン酸モノアルキルシクロアルキル、好ましくはマレイン酸モノメチルシクロペンチル、およびマレイン酸モノエチルシクロヘキシル；
・  マレイン酸モノアリール、好ましくはマレイン酸モノフェニル；
・  マレイン酸モノベンジル類、好ましくはマレイン酸モノベンジル；
・  フマル酸モノアルキル、好ましくはフマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピル、およびフマル酸モノ−ｎ−ブチル；
・  フマル酸モノシクロアルキル、好ましくはフマル酸モノシクロペンチル、フマル酸モノシクロヘキシル、およびフマル酸モノシクロヘプチル；
・  フマル酸モノアルキルシクロアルキル、好ましくはフマル酸モノメチルシクロペンチル、およびフマル酸モノエチルシクロヘキシル；
・  フマル酸モノアリール、好ましくはフマル酸モノフェニル；
・  フマル酸モノベンジル類、好ましくはフマル酸モノベンジル；
・  シトラコン酸モノアルキル、好ましくはシトラコン酸モノメチル、シトラコン酸モノエチル、シトラコン酸モノプロピル、およびシトラコン酸モノ−ｎ−ブチル；
・  シトラコン酸モノシクロアルキル、好ましくはシトラコン酸モノシクロペンチル、シトラコン酸モノシクロヘキシル、およびシトラコン酸モノシクロヘプチル；
・  シトラコン酸モノアルキルシクロアルキル、好ましくはシトラコン酸モノメチルシクロペンチル、およびシトラコン酸モノエチルシクロヘキシル；
・  シトラコン酸モノアリール、好ましくはシトラコン酸モノフェニル；
・  シトラコン酸モノベンジル類、好ましくはシトラコン酸モノベンジル；
・  イタコン酸モノアルキル、好ましくはイタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノプロピル、およびイタコン酸モノ−ｎ−ブチル；
・  イタコン酸モノシクロアルキル、好ましくはイタコン酸モノシクロペンチル、イタコン酸モノシクロヘキシル、およびイタコン酸モノシクロヘプチル；
・  イタコン酸モノアルキルシクロアルキル、好ましくはイタコン酸モノメチルシクロペンチル、およびイタコン酸モノエチルシクロヘキシル；
・  イタコン酸モノアリール、好ましくはイタコン酸モノフェニル；
・  イタコン酸モノベンジル、好ましくはイタコン酸モノベンジル；
・  メサコン酸モノアルキル、好ましくはメサコン酸モノエチル。
【００４４】
使用されるα，β−不飽和ジカルボン酸ジエステルも、上述のモノエステル基に基づいた類似のジエステルであってよく、ここで、それらのエステル基が化学的に異なった基であってもよい。
【００４５】
有用なさらなる共重合性モノマーはさらに、１分子あたり少なくとも２個のオレフィン性二重結合を含むフリーラジカル重合性化合物が挙げられる。ポリ不飽和化合物の例は、ポリオールのアクリレート、メタクリレート、またはイタコネートであって、たとえば、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ブタンジオール１，４−ジアクリレート、プロパン−１，２−ジオールジアクリレート、ブタン−１，３−ジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）アクリレート、グリセリルのジ−およびトリ−アクリレート、ペンタエリスリチルのジ−、トリ−およびテトラ−アクリレートもしくは−メタクリレート、ジペンタエリスリチルのテトラ−、ペンタ−およびヘキサ−アクリレートもしくは−メタクリレートもしくは−イタコネート、ソルビチルテトラアクリレート、ソルビチルヘキサメタクリレート、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、ポリエチレングリコールの、または末端ヒドロキシル基を有するオリゴエステルまたはオリゴウレタンのジアクリレートまたはジメタクリレートなどである。使用されるポリ不飽和モノマーはさらに、アクリルアミド、たとえばメチレンビスアクリルアミド、ヘキサメチレン−１，６−ビスアクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビス（メタクリルアミドプロポキシ）エタン、またはアクリル酸２−アクリルアミドエチルであってもよい。ポリ不飽和ビニルおよびアリル化合物の例としては以下のものが挙げられる：ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、フタル酸ジアリル、メタクリル酸アリル、マレイン酸ジアリル、トリアリルイソシアヌレート、またはリン酸トリアリル。
【００４６】
本発明におけるプロセスにおいて使用するためのニトリルゴムまたは本発明の水素化ニトリルゴムにおける共役ジエンとα，β−不飽和ニトリルとの比率は、広い範囲で変化させることができる。共役ジエンの比率、すなわち総計は、全体のポリマーを規準にして、典型的には２０〜９５重量％の範囲、好ましくは４５〜９０重量％の範囲、より好ましくは５０〜８５重量％の範囲である。α，β−不飽和ニトリルの比率、すなわち総計は、全体のポリマーを規準にして、典型的には５〜８０重量％、好ましくは１０〜５５重量％、より好ましくは１５〜５０重量％の範囲である。本発明のニトリルゴムまたは本発明の全完全にもしくは部分的に水素化されたニトリルゴムにおける共役ジエンおよびα，β−不飽和ニトリルの繰り返し単位の比率は、それぞれの場合において、合計して１００重量％になる。
【００４７】
さらなるモノマーは、ポリマー全体を基準にして、０〜４０重量％、好ましくは０〜３０重量％、より好ましくは０〜２６重量％の量で存在させてもよい。この場合、共役ジエンの繰り返し単位および／またはα，β−不飽和ニトリルの繰り返し単位の対応する比率が、これらのさらなるモノマーの比率で置き換えられ、ここで、それぞれの場合において、全部のモノマーの繰り返し単位の比率が、合計して１００重量％になるようにしなければならない。
【００４８】
さらなるモノマーとして（メタ）アクリル酸のエステルを使用する場合には、典型的には１〜２５重量％の量で実施する。さらなるモノマーとしてα，β−不飽和モノカルボン酸もしくはジカルボン酸を使用するのであれば、典型的には、１０重量％未満の量で実施する。
【００４９】
好ましいのは、アクリロニトリルおよび１，３−ブタジエンの繰り返し単位を有する本発明のニトリルゴムである。さらに好ましいのは、アクリロニトリル、１，３−ブタジエン、および１種または複数のさらなる共重合性モノマーの繰り返し単位を有するニトリルゴムである。アクリロニトリルと、１，３−ブタジエンと、１種または複数のα，β−不飽和モノカルボン酸もしくはジカルボン酸、またはそれらのエステルまたはアミドの繰り返し単位、特にα，β−不飽和カルボン酸のアルキルエステルの繰り返し単位、極めて特に好ましくは（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチルまたは（メタ）アクリル酸ラウリルとの繰り返し単位を有するニトリルゴムが好ましい。
【００５０】
本発明の水素化ニトリルゴム中の窒素含量は、ＤＩＮ  ５３  ６２５に従い、Ｋｊｅｌｄａｈｌ法により測定する。極性のコモノマーが含まれているために、そのニトリルゴムは、典型的には、２０℃のメチルエチルケトン中に８５重量％以上の量で溶解することができる。
【００５１】
本発明の１つの実施形態においては、本発明の水素化ニトリルゴムが、もっぱらアクリロニトリルおよびブタジエンから誘導される繰り返し単位を有するコポリマーを表し、および一般式（Ｉ）の少なくとも１種のフェノールを、水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．１９重量％の範囲内、好ましくは０．０１〜０．１８重量％の範囲内、最も好ましくは０．０５〜０．１８重量％の範囲内の量で含んでいる。そのような水素化されたアクリロニトリル−ブタジエンコポリマーは、典型的には９０〜１００％、好ましくは９２〜１００％、より好ましくは９５〜１００％の水素化度を有している。
【００５２】
本発明の水素化ニトリルゴムは、１０〜１５０ムーニー単位（ＭＵ）、好ましくは２０〜１００ＭＵのムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃を有する。
【００５３】
本発明のニトリルゴム、または本発明の完全にもしくは部分的に水素化されたニトリルゴムのガラス転移温度は、７０℃〜＋１０℃の範囲内、好ましくは−６０℃〜０℃の範囲内である。
【００５４】
本発明の水素化ニトリルゴムを製造するためのプロセス：
本発明においては、その水素化ニトリルゴムは、一般式（Ｉ）の少なくとも１種のフェノールの存在下に、溶液中でニトリルゴムを水素化することによって調製され、ここで、一般式（Ｉ）のフェノールは、それぞれの場合、使用される水素化ニトリルゴムを基準にして、０．０１〜０．２５重量％、好ましくは０．０５〜０．２重量％、より好ましくは０．０５〜０．１９重量％、最も好ましくは０．０５〜０．１８重量％の量で存在する。
【００５５】
１つの実施形態においては、ここで、上述の一般式（Ｉ）の少なくとも１種のフェノールを既にある程度の量で含んでいるニトリルゴムが使用される。ニトリルゴムは、典型的には、乳化重合を介してニトリルゴムラテックスを形成させ、次いでそのニトリルゴムを凝集させることによって製造される。これは、当業者には十分周知である。ニトリルゴムのラテックスの凝集は、欧州特許出願公開第Ａ１３６９４３６号明細書の概要部分に記載されているプロセスによって実施するのが好ましい。一般式（Ｉ）の少なくとも１種のフェノールは、たとえば、典型的には、乳化重合後に形成されたニトリルゴムラテックスに凝集前に添加される。一般式（Ｉ）のフェノールを水性分散体として添加するのが有用であることが見出された。この水性分散体の濃度は、典型的には２．５０〜７０重量％、好ましくは５〜６０重量％の範囲内である。
【００５６】
別の実施形態においては、一般式（Ｉ）のフェノールのみを、水素化反応混合物中に別途に添加する。
【００５７】
水素化：
水素化は典型的には、典型的には貴金属のロジウム、ルテニウム、オスミウム、パラジウム、白金またはイリジウム、好ましくはロジウム、ルテニウム、およびオスミウムをベースとする少なくとも１種の水素化触媒の存在下に実施される。
【００５８】
一般式（Ａ）
Ｒｈ（Ｘ）ｎ（Ｌ）ｍ      （Ａ）
（式中、
Ｘは、同一であるか、または異なっており、および水素、ハロゲン、プソイドハロゲン、ＳｎＣｌ３、またはカルボキシレートであり、
ｎは、１、２または３、好ましくは１または３であり、
Ｌは、同一であるか、または異なっており、およびリン、ヒ素、またはアンチモンをベースとする単座もしくは二座の配位子を表し、
ｍは、Ｌが単座配位子を表す場合には２、３、または４、Ｌが二座座配位子を表す場合には１または１．５または２または３または４である）
のロジウム錯体触媒を使用することが可能である。
【００５９】
一般式（Ａ）において、Ｘは、同一であるか、または異なっており、および好ましくは水素または塩素である。
【００６０】
一般式（Ａ）におけるＬは、好ましくは、先に示した一般式（Ｉ−ａ）および（Ｉ−ｂ）に対応するホスフィンまたはジホスフィンであり、そこで与えられた、一般的、好ましい、および特に好ましい定義が含まれる。
【００６１】
一般式（Ａ）の特に好ましい触媒は、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（ＩＩＩ）クロリド、トリス（ジメチルスルホキシド）ロジウム（ＩＩＩ）クロリド、ヒドリドロジウムテトラキス（トリフェニルホスフィン）、ならびにトリフェニルホスフィンが、トリシクロヘキシルホスフィンによって全体的または部分的に置換された対応する化合物である。
【００６２】
ルテニウム錯体触媒を使用することもまた可能である。それらは、たとえば、独国特許出願公開第Ａ３９  ２１  ２６４号明細書および欧州特許出願公開第Ａ０  ２９８  ３８６号明細書に記載されている。それらは典型的には、一般式（Ｂ）
ＲｕＸｎ［（Ｌ１）ｍ（Ｌ２）５−ｚ］      （Ｂ）
（式中、
Ｘは、同一であるか、または異なっており、および水素、ハロゲン、ＳｎＣｌ３、ＣＯ、ＮＯ、またはＲ６−ＣＯＯであり、
Ｌ１は、同一であるか、または異なっており、および水素、ハロゲン、Ｒ６−ＣＯＯ、ＮＯ、ＣＯ、または下記の一般式（２）：
【化８】
0006309634.tif 000009
（式中、
Ｒ１〜Ｒ５は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ水素、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシルもしくはフェニルであるか、あるいはＲ１〜Ｒ５からの２つの隣接する基が架橋されて、インデニルまたはフルオレニル系が形成されている）
のシクロペンタジエニル配位子であり、
Ｌ２は、ホスフィン、ジホスフィン、またはアルシンであり、かつ
ｎは、０、１または２であり、
ｍは、０、１、２または３であり、
ｚは、０、１、２、３または４であり、および
Ｒ６は、１〜２０個の炭素原子を有し、分岐状もしくは非分岐状、架橋または非架橋、および／または部分的に芳香族であってもよい基であり、好ましくはＣ１〜Ｃ４アルキルである）
を有している。
【００６３】
一般式（２）のシクロペンタジエニル配位子タイプの、一般式（Ｂ）のＬ１配位子の例としては、以下のものが挙げられる：シクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、エチルテトラメチルシクロペンタジエニル、ペンタフェニルシクロペンタジエニル、ジメチルトリフェニルシクロペンタジエニル、インデニル、およびフルオレニル。インデニルおよびフルオレニルタイプのＬ１配位子中のベンゼン環は、以下のもので置換されていてもよい：Ｃ１〜Ｃ６−アルキル基、特にはメチル、エチル、およびイソプロピル、Ｃ１〜Ｃ４−アルコキシ基、特にはメトキシおよびエトキシ、アリール基、特にはフェニル、ならびにハロゲン、特にはフッ素および塩素。シクロペンタジエニルタイプの好ましいＬ１配位子は、それぞれ非置換の、シクロペンタジエニル、インデニル、およびフルオレニル基である。
【００６４】
（Ｒ６−ＣＯＯ）タイプの一般式（Ｂ）におけるＬ１配位子では、Ｒ６としては、たとえば以下のものが挙げられる：１〜２０、好ましくは１〜１２、特には１〜６個の炭素原子を有する、直鎖状もしくは分岐状の、飽和ヒドロカルビル基、５〜１２、好ましくは５〜７個の炭素原子を有する、環状飽和ヒドロカルビル基、さらには６〜１８、好ましくは６〜１０個の炭素原子を有する、芳香族ヒドロカルビル基、または好ましくは直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ６アルキル基およびＣ６〜Ｃ１８アリール基、好ましくはフェニルを有する、アリール−置換されたアルキル基。
【００６５】
先に説明した、一般式（Ｂ）の配位子Ｌ１における（Ｒ６−ＣＯＯ）のＲ６基は、任意選択的に以下のもので置換されていてもよい：ヒドロキシル、Ｃ１〜Ｃ６−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ６−カルブアルコキシ、フッ素、塩素、またはジ−Ｃ１〜Ｃ４−アルキルアミノ、Ｃ１〜Ｃ６−アルキルによってさらに置換されたシクロアルキル、アリール、およびアラルキル基；アルキル、シクロアルキルおよびアラルキル基にはケト基が含まれていてもよい。Ｒ６基の例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、シクロヘキシル、フェニル、ベンジル、およびトリフルオロメチルが挙げられる。好ましいＲ６基は、メチル、エチル、およびｔｅｒｔ−ブチルである。
【００６６】
一般式（Ｂ）のＬ２配位子は、好ましくは、先に示した一般式（１−ａ）および（１−ｂ）に従うホスフィンまたはジホスフィン（そこで与えられた、一般的、好ましい、および特に好ましい定義が含まれる）であるか、または一般式（３）のアルシンである。
【化９】
0006309634.tif 000010
【００６７】
一般式（３）の好ましい配位子Ｌ２は、トリフェニルアルシン、ジトリルフェニルアルシン、トリス（４−エトキシフェニル）アルシン、ジフェニルシクロヘキシルアルシン、ジブチルフェニルアルシン、およびジエチルフェニルアルシンである。
【００６８】
好ましい一般式（Ｂ）のルテニウム触媒は、以下の群から選択され、ここで「Ｃｐ」は、シクロペンタジエニル、すなわちＣ５Ｈ５−を表し、「Ｐｈ」は、フェニルを表し、「Ｃｙ」は、シクロヘキシルを表し、「ｄｐｐｅ」は、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンを表している：ＲｕＣｌ２（ＰＰｈ３）３；ＲｕＨＣｌ（ＰＰｈ３）３；ＲｕＨ２（ＰＰｈ３）３；ＲｕＨ２（ＰＰｈ３）４；ＲｕＨ４（ＰＰｈ３）３；ＲｕＨ（ＣＨ３ＣＯＯ）（ＰＰｈ３）３；ＲｕＨ（Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ）（ＰＰｈ３）３；ＲｕＨ（ＣＨ３ＣＯＯ）２（ＰＰｈ３）２；ＲｕＨ（ＮＯ）２（ＰＰｈ３）２；Ｒｕ（ＮＯ）２（ＰＰｈ３）２；ＲｕＣｌ（Ｃｐ）（ＰＰｈ３）２；ＲｕＨ（Ｃｐ）（ＰＰｈ３）２；Ｒｕ（ＳｎＣｌ３）（Ｃｐ）（ＰＰｈ３）２；ＲｕＣｌ（μ５−Ｃ９Ｈ７）（ＰＰｈ３）２；ＲｕＨ（μ５−Ｃ９Ｈ７）（ＰＰｈ３）２；Ｒｕ（ＳｎＣｌ３）（μ５−Ｃ９Ｈ７）（ＰＰｈ３）２；ＲｕＣｌ（μ５−Ｃ１３Ｈ９）（ＰＰｈ３）２；ＲｕＨ（μ５−Ｃ１３Ｈ９）（ＰＰｈ３）２；Ｒｕ（ＳｎＣｌ３）（μ５−Ｃ１３Ｈ９）（ＰＰｈ３）２；ＲｕＣｌ（μ５−Ｃ９Ｈ７）（ｄｐｐｅ）；ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）；ＲｕＨ（ＮＯ）（ＣＯ）（ＰＣｙ３）３；ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）２（ＰＰｈ３）２；ＲｕＣｌ２（ＣＯ）（ｄｐｐｅ）ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ＰＣｙ３）、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）（ｄｐｐｅ）２、ＲｕＨ（ＣＨ３ＣＯＯ）（ＰＰｈ３）３；ＲｕＨ（ＣＨ３ＣＯＯ）２（ＰＰｈ３）２；およびＲｕＨ（ＣＨ３ＣＯＯ）（ＰＰｈ３）３。
【００６９】
好適な触媒は、さらに、一般式（Ｃ）
【化１０】
0006309634.tif 000011
（式中、
Ｍは、オスミウムまたはルテニウムであり、
Ｘ１およびＸ２は、同一であるか、または異なっており、および２個の配位子、好ましくはアニオン性配位子であり、
Ｌは、同一であるかまたは異なった配位子、好ましくは電荷を有さない電子供与体であり、
Ｒは、同一であるか、または異なっており、および水素、アルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ３０−アルキル、シクロアルキル、好ましくはＣ３〜Ｃ２０−シクロアルキル、アルケニル、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルケニル、アルキニル、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルキニル、アリール、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリール、カルボキシレート、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−カルボキシレート、アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルコキシ、アルケニルオキシ、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、アリールオキシ、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、アルコキシカルボニル、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、好ましくはＣ１〜Ｃ３０−アルキルアミノ、アルキルチオ、好ましくはＣ１〜Ｃ３０−アルキルチオ、アリールチオ、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリールチオ、アルキルスルホニル、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、またはアルキルスルフィニル、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニルであり、ここで、それらの基がすべて、それぞれ１個または複数のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールまたはヘテロアリール基によって置換されていてもよいか、あるいは別の方法として、２つのＲ基が、それらが結合されている共通の炭素原子を取り込んで、架橋されて、性質上脂肪族であっても芳香族であってもよく、任意選択的に置換されていたり１個または複数のヘテロ原子を含んでいたりしてもよい、環状基を形成している）
のものである。
【００７０】
一般式（Ｃ）の触媒の１つの実施形態においては、１個のＲ基が水素であり、他のＲ基が、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ１０−シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、Ｃ１〜Ｃ２０−カルボキシレート、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ３０−アルキルアミノ、Ｃ１〜Ｃ３０−アルキルチオ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールチオ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、またはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニルであり、ここで、それらの基はすべて、それぞれ１個または複数のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールまたはヘテロアリール基によって置換されていてもよい。
【００７１】
一般式（Ｃ）の触媒において、Ｘ１およびＸ２は、同一であるか、または異なっており、および２個の配位子、好ましくはアニオン性配位子である。
【００７２】
Ｘ１およびＸ２は、たとえば以下のものであってよい：水素、ハロゲン、プソイドハロゲン、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、Ｃ３〜Ｃ２０−アルキルジケトネート、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールジケトネート、Ｃ１〜Ｃ２０−カルボキシレート、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホネート、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールスルホネート、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルチオール、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールチオール、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニル、モノ−もしくはジ−アルキルアミド、モノ−もしくはジ−アルキルカルバメート、モノ−もしくはジ−アルキルチオカルバメート、モノ−もしくはジ−アルキルジチオカルバメート、またはモノ−もしくはジ−アルキルスルホンアミド基。
【００７３】
上述のＸ１およびＸ２基が、１種または複数のさらなる基、たとえばハロゲン、好ましくはフッ素、Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１０−アルコキシまたはＣ６〜Ｃ２４−アリールによって置換されていてもよく、それらの基がさらに、任意選択的に次いでハロゲン、好ましくはフッ素、Ｃ１〜Ｃ５−アルキル、Ｃ１〜Ｃ５−アルコキシおよびフェニルを含む群から選択される１種または複数の置換基によって置換されていてもよい。
【００７４】
さらなる実施形態においては、Ｘ１およびＸ２は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれハロゲン、特に、フッ素、塩素、臭素もしくはヨウ素、ベンゾエート、Ｃ１〜Ｃ５−カルボキシレート、Ｃ１〜Ｃ５−アルキル、フェノキシ、Ｃ１〜Ｃ５−アルコキシ、Ｃ１〜Ｃ５−アルキルチオール、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールチオール、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、またはＣ１〜Ｃ５−アルキルスルホネートである。
【００７５】
さらなる実施形態においては、Ｘ１およびＸ２が同一であって、それぞれハロゲン特に、塩素、ＣＦ３ＣＯＯ、ＣＨ３ＣＯＯ、ＣＦＨ２ＣＯＯ、（ＣＨ３）３ＣＯ、（ＣＦ３）２（ＣＨ３）ＣＯ、（ＣＦ３）（ＣＨ３）２ＣＯ、ＰｈＯ（フェノキシ）、ＭｅＯ（メトキシ）、ＥｔＯ（エトキシ）、トシレート（ｐ−ＣＨ３−Ｃ６Ｈ４−ＳＯ３）、メシレート（ＣＨ３ＳＯ３）、またはＣＦ３ＳＯ３（トリフルオロメタンスルホネート）である。
【００７６】
一般式（Ｃ）において、Ｌは、同一であるかまたは異なった配位子であり、好ましくは電荷を有さない電子供与体である。
【００７７】
２個のＬ配位子は、たとえば、それぞれ独立して、ホスフィン、スルホネート化ホスフィン、ホスフェート、ホスフィナイト、ホスホナイト、アルシン、スチビン、エーテル、アミン、アミド、スルホキシド、カルボキシル、ニトロシル、ピリジン、チオエーテル、イミダゾリン、またはイミダゾリジン配位子とすることができる。
【００７８】
それら２個のＬ配位子は、好ましくはそれぞれ独立して、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール−、Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル−もしくはＣ３〜Ｃ２０−シクロアルキルホスフィン配位子、スルホネート化Ｃ６〜Ｃ２４−アリール−もしくはスルホネート化Ｃ１〜Ｃ１０−アルキルホスフィン配位子、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール−もしくはＣ１〜Ｃ１０−アルキルホスフィナイト配位子、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール−もしくはＣ１〜Ｃ１０−アルキルホスホナイト配位子、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール−もしくはＣ１〜Ｃ１０−アルキルホスファイト配位子、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール−もしくはＣ１〜Ｃ１０−アルキルアルシン配位子、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール−もしくはＣ１〜Ｃ１０−アルキルアミン配位子、ピリジン配位子、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールもしくはＣ１〜Ｃ１０−アルキル−スルホキシド配位子、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールもしくはＣ１〜Ｃ１０−アルキルエーテル配位子もしくはＣ６〜Ｃ２４−アリール−もしくはＣ１〜Ｃ１０−アルキルアミド配位子であり、それらはすべてさらに、未置換であるか、または１個または複数のハロゲン、Ｃ１〜Ｃ５−アルキルもしくはＣ１〜Ｃ５−アルコキシ基によって置換されているフェニル基によって置換されていてもよい。
【００７９】
「ホスフィン」という用語には、たとえば、ＰＰｈ３、Ｐ（ｐ−Ｔｏｌ）３、Ｐ（ｏ−Ｔｏｌ）３、ＰＰｈ（ＣＨ３）２、Ｐ（ＣＦ３）３、Ｐ（ｐ−ＦＣ６Ｈ４）３、Ｐ（ｐ−ＣＦ３Ｃ６Ｈ４）３、Ｐ（Ｃ６Ｈ４−ＳＯ３Ｎａ）３、Ｐ（ＣＨ２Ｃ６Ｈ４−ＳＯ３Ｎａ）３、Ｐ（イソプロピル）３、Ｐ（ＣＨＣＨ３（ＣＨ２ＣＨ３））３、Ｐ（シクロペンチル）３、Ｐ（シクロヘキシル）３、Ｐ（ネオペンチル）３、およびＰ（ネオフェニル）３が含まれ、ここで「Ｐｈ」はフェニルを表し、「Ｔｏｌ」はトリルを表している。
【００８０】
「ホスフィナイト」という用語には、たとえば、トリフェニルホスフィナイト、トリシクロヘキシルホスフィナイト、トリイソプロピルホスフィナイト、およびメチルジフェニルホスフィナイトが含まれる。
【００８１】
「ホスファイト」という用語には、たとえば、トリフェニルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファイト、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスファイト、トリイソプロピルホスファイト、およびメチルジフェニルホスファイトが含まれる。
【００８２】
「スチビン」という用語には、たとえば、トリフェニルスチビン、トリシクロヘキシルスチビン、およびトリメチルスチビンが含まれる。
【００８３】
「スルホネート」という用語には、たとえば、トリフルオロメタンスルホネート、トシレート、およびメシレートが含まれる。
【００８４】
「スルホキシド」という用語には、たとえば、（ＣＨ３）２Ｓ（＝Ｏ）および（Ｃ６Ｈ５）２Ｓ＝Ｏが含まれる。
【００８５】
「チオエーテル」という用語には、たとえば、ＣＨ３ＳＣＨ３、Ｃ６Ｈ５ＳＣＨ３、ＣＨ３ＯＣＨ２ＣＨ２ＳＣＨ３、およびテトラヒドロチオフェンが含まれる。
【００８６】
「ピリジン」という用語は、本明細書に関連して、たとえば、国際公開第Ａ０３／０１１４５５号パンフレットにおいてＧｒｕｂｂｓによって規定されているすべてのピリジンベースの配位子についての包括用語（ｕｍｂｒｅｌｌａ  ｔｅｒｍ）として理解されるべきである。これらに含まれるのは、ピリジン、ならびに１置換基または多置換基を有する、以下の形態のピリジンである：ピコリン（α−、β−、およびγ−ピコリン）、ルチジン（２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−および３，５−ルチジン）、コリジン（２，４，６−トリメチルピリジン）、トリフルオロメチルピリジン、フェニルピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、クロロピリジン、ブロモピリジン、ニトロピリジン、キノリン、ピリミジン、ピロール、イミダゾール、およびフェニルイミダゾール。
【００８７】
式（Ｃ）のＬ配位子の一方または両方が、イミダゾリンおよび／またはイミダゾリジン基（以後においては、まとめて、「Ｉｍ」配位子と呼ぶ）である場合には、後者は、典型的には、一般式（４ａ）または（４ｂ）
【化１１】
0006309634.tif 000012
（式中、
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ水素、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ２０−シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、Ｃ１〜Ｃ２０−カルボキシレート、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、Ｃ６〜Ｃ２０−アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルチオ、Ｃ６〜Ｃ２０−アリールチオ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホネート、Ｃ６〜Ｃ２０−アリールスルホネート、またはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニルである）
の構造を有している。
【００８８】
任意選択的に、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１基の１個または複数が、それぞれ独立して、１個または複数の置換基、好ましくは直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０−アルコキシまたはＣ６〜Ｃ２４−アリールによって置換されていてもよく、ここで上述のそれらの置換基が、好ましくはハロゲン、特にフッ素、塩素または臭素、Ｃ１〜Ｃ５−アルキル、Ｃ１〜Ｃ５−アルコキシ、およびフェニルの群から選択される１個または複数の基によってさらに置換されていてもよい。
【００８９】
単に明確にするために、本出願に関連して、一般式（４ａ）および（４ｂ）に示されている構造は、この基についての文献で見かけることが多く、この基のカルベン的性質を強調している、構造（４ａ’）および（４ｂ’）と均等であることを付け加えておく。このことは、後に示す関連する好ましい構造（５ａ）〜（５ｆ）に対しても同様にあてはまる。それらの基はすべて、以下においては、まとめて「Ｉｍ」基と呼ぶことにする。
【化１２】
0006309634.tif 000013
【００９０】
一般式（Ｃ）の触媒の好ましい実施形態においては、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ独立して、水素、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、より好ましくはフェニル、直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ１０−アルキル、より好ましくはプロピルまたはブチルであるか、またはそれらが結合している炭素原子を取り込んで、シクロアルキルまたはアリール基を形成し、ここで上述の基は、任意選択的に直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１０−アルコキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールを含む群から選択される１個または複数のさらなる基、ならびにヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、およびハロゲンの官能基によって、さらに置換されていてもよい。
【００９１】
一般式（Ｃ）の触媒の好ましい実施形態においては、Ｒ１０およびＲ１１基は、さらに同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれ直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ１０−アルキル、より好ましくはメチル、イソプロピルまたはネオペンチル、Ｃ３〜Ｃ１０−シクロアルキル、好ましくはアダマンチル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、より好ましくはフェニル、Ｃ１〜Ｃ１０−アルキルスルホネート、より好ましくはメタンスルホネート、Ｃ６〜Ｃ１０−アリールスルホネート、より好ましくはｐ−トルエンスルホネートである。
【００９２】
任意選択的に、上述のＲ１０およびＲ１１で定義したような基が、直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ５−アルキル、特にメチル、Ｃ１〜Ｃ５−アルコキシ、アリールを含む群から選択される１個または複数のさらなる基、ならびにヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、およびハロゲン、特にフッ素、塩素、および臭素から選択される官能基によって置換されている。
【００９３】
さらに詳しくは、Ｒ１０およびＲ１１基は、同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれイソプロピル、ネオペンチル、アダマンチル、メシチル（２，４，６−トリメチルフェニル）、２，６−ジフルオロフェニル、２，４，６−トリフルオロフェニル、または２，６−ジイソプロピルフェニルである。
【００９４】
特に好ましいＩｍ基は、下記の（５ａ）〜（５ｆ）
【化１３】
0006309634.tif 000014
0006309634.tif 000015
の構造を有しており、ここでそれぞれ、Ｐｈはフェニル基であり、Ｂｕはブチル基であり、Ｍｅｓはそれぞれ２，４，６−トリメチルフェニル基、別の場合では、Ｍｅｓがすべての場合において、２，６−ジイソプロピルフェニルである。
【００９５】
式（Ｃ）の触媒の広く各種の異なった代表的化合物は、たとえば国際公開第Ａ９６／０４２８９号パンフレットおよび国際公開第Ａ９７／０６１８５号パンフレットから、基本的には公知である。
【００９６】
それらの好適なＩｍ基に代わるものとして、一般式（Ｃ）のＬ配位子の一方または両方が、この場合も好ましくは同一であるかまたは異なったトリアルキルホスフィン配位子であって、その中のアルキル基の少なくとも１個が、二級アルキル基またはシクロアルキル基、好ましくはイソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ネオペンチル、シクロペンチル、またはシクロヘキシルである。
【００９７】
さらに好ましくは、一般式（Ｃ）においては、１個または両方のＬ配位子が、その中で少なくとも１個のアルキル基が、二級アルキル基またはシクロアルキル基、好ましくはイソプロピル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ネオペンチル、シクロペンチル、またはシクロヘキシルである、トリアルキルホスフィン配位子である。
【００９８】
特に好ましいのは、一般式（Ｃ）によって包含され、構造（６）（Ｇｒｕｂｂｓ（Ｉ）触媒）および（７）（Ｇｒｕｂｂｓ（ＩＩ）触媒）
【化１４】
0006309634.tif 000016
（式中、Ｃｙはシクロヘキシルである）
を有する触媒である。
【００９９】
好適な触媒は、さらに好ましくは、一般式（Ｃ１）
【化１５】
0006309634.tif 000017
（式中、
Ｘ１、Ｘ２およびＬは、一般式（Ｃ）におけるのと同じ一般的定義、好ましい定義、および特に好ましい定義を有していてよく、
ｎは、０、１または２であり、
ｍは、０、１、２、３または４であり、および
Ｒ’は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニル基であり、それらはすべて、それぞれ１個または複数のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールまたはヘテロアリール基によって置換されていてもよい）
のものである。
【０１００】
使用することが可能な一般式（Ｃ１）によって包含される好ましい触媒の例は、下記の式（８ａ）および（８ｂ）
【化１６】
0006309634.tif 000018
であり、ここで、それぞれのＭｅｓは、２，４，６−トリメチルフェニルであり、Ｐｈはフェニルである。
【０１０１】
これらの触媒は、たとえば国際公開第Ａ２００４／１１２９５１号パンフレットからも公知である。触媒（８ａ）は、Ｎｏｌａｎ触媒とも呼ばれている。
【０１０２】
好適な触媒は、さらに好ましくは、一般式（Ｄ）
【化１７】
0006309634.tif 000019
（式中、
Ｍは、ルテニウムまたはオスミウムであり、
Ｘ１およびＸ２は、同一であっても異なっていてもよい配位子、好ましくはアニオン性配位子であり、
Ｙは、酸素（Ｏ）、硫黄（Ｓ）、Ｎ−Ｒ１基もしくはＰ−Ｒ１基（ここで、Ｒ１は以下に定義されるもの）であり、
Ｒ１は、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、またはアルキルスルフィニル基であり、それらはすべて、それぞれ任意選択的に１個または複数のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールまたはヘテロアリール基によって置換されていてもよく、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ水素または有機もしくは無機の基であり、
Ｒ６は、水素またはアルキル、アルケニル、アルキニルもしくはアリール基であり、および
Ｌは、式（Ｃ）について定義された配位子である）
のものである。
【０１０３】
一般式（Ｄ）の触媒は、原理的には公知であって、たとえば以下の文献に記載されている：Ｈｏｖｅｙｄａらの米国特許出願公開第２００２／０１０７１３８Ａ１号明細書、およびＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，２００３．４２，４５９２、ならびにＧｒｅｌａによる国際公開第Ａ２００４／０３５５９６号パンフレット、Ｅｕｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００３，９６３−９６６、およびＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，２００２，４１，４０３８、さらにはＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００４，６９，６８９４−９６、およびＣｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．，２００４，１０，７７７−７８４、さらには米国特許出願公開第２００７／０４３１８０号明細書。それらの触媒は市場で入手可能であるか、または引用文献に従って調製することができる。
【０１０４】
一般式（Ｄ）の触媒においては、Ｌは、典型的には、電子供与体機能を有する配位子であって、一般式（Ｃ）におけるＬと同じ一般的定義、好ましい定義、および特に好ましい定義を有していると考えてよい。さらに、一般式（Ｄ）におけるＬは、Ｐ（Ｒ７）３基であるのが好ましく、ここでＲ７は独立して、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキルまたはアリールであるか、そうでなければ、任意選択的に置換されたイミダゾリンまたはイミダゾリジン基（「Ｉｍ」）である。
【０１０５】
Ｃ１〜Ｃ６−アルキルは、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、およびｎ−ヘキシルである。
【０１０６】
Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキルには、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、およびシクロオクチルが含まれる。
【０１０７】
アリールには、６〜２４個の骨格炭素原子を有する芳香族基、好ましくは６〜１０個の骨格炭素原子を有する単環、二環もしくは三環式の炭素環芳香族基、特にはフェニル、ビフェニル、ナフチル、フェナントレニル、またはアントラセニルが含まれる。
【０１０８】
イミダゾリンまたはイミダゾリジン基（Ｉｍ）は、一般式（Ｃ）の触媒と同様の、一般的、好ましい、および特に好ましい構造を有している。
【０１０９】
一般式（Ｄ）として特に好適な触媒は、Ｒ１０およびＲ１１基は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ１０−アルキル、より好ましくはイソプロピルまたはネオペンチル、Ｃ３〜Ｃ１０−シクロアルキル、好ましくはアダマンチル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、より好ましくはフェニル、Ｃ１〜Ｃ１０−アルキルスルホネート、より好ましくはメタンスルホネート、Ｃ６〜Ｃ１０−アリールスルホネート、より好ましくはｐ−トルエンスルホネートであるものである。
【０１１０】
任意選択的に、上述のＲ１０およびＲ１１で定義したような基が、直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ５−アルキル、特にメチル、Ｃ１〜Ｃ５−アルコキシ、アリールを含む群から選択される１個または複数のさらなる基、ならびにヒドロキシル、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート、およびハロゲンの群から選択される官能基によって置換されている。
【０１１１】
さらに詳しくは、Ｒ１０およびＲ１１基は、同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれイソプロピル、ネオペンチル、アダマンチル、またはメシチルである。
【０１１２】
特に好ましいイミダゾリンまたはイミダゾリジン基（Ｉｍ）は、既に先に特定された構造（５ａ〜５ｆ）を有しており、ここでＭｅｓは、２，４，６−トリメチルフェニルである。
【０１１３】
一般式（Ｄ）の触媒においては、Ｘ１およびＸ２が、一般式（Ｃ）の触媒と同様の、一般的、好ましい、および特に好ましい定義を有している。
【０１１４】
一般式（Ｄ）においては、Ｒ１基が、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、またはアルキルスルフィニル基であり、それらはすべて、それぞれ１個または複数のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールまたはヘテロアリール基によって、任意選択的に置換されていてもよい。
【０１１５】
典型的にはＲ１基は、Ｃ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ２０−シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルアミノ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルチオ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールチオ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、またはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニル基であり、それらはすべて、それぞれ１個または複数のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールまたはヘテロアリール基によって置換されていてもよい。
【０１１６】
Ｒ１が、Ｃ３〜Ｃ２０−シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール基、または直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキル基であるのが好ましく、ここで後者は、任意選択的に１個もしくは複数の二重結合もしくは三重結合、またはそうでなければ１個もしくは複数のヘテロ原子、好ましくは酸素もしくは窒素によって中断されていてもよい。Ｒ１が、直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ１２−アルキル基であるのがより好ましい。
【０１１７】
Ｃ３〜Ｃ２０−シクロアルキル基には、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、およびシクロオクチルが含まれる。
【０１１８】
Ｃ１〜Ｃ１２−アルキル基は、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、またはｎ−ドデシルであってよい。Ｒ１がメチルまたはイソプロピルであるのがより好ましい。
【０１１９】
Ｃ６〜Ｃ２４−アリール基は、６〜２４個の骨格炭素原子を有する芳香族基である。６〜１０個の骨格炭素原子を有する好適な単環式、二環式または三環式炭素環芳香族基としては、たとえば、フェニル、ビフェニル、ナフチル、フェナントレニル、またはアントラセニルが挙げられる。
【０１２０】
一般式（Ｄ）において、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基は同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれ水素、または有機もしくは無機の基であってよい。
【０１２１】
好適な実施形態においては、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ水素、ハロゲン、ニトロ、ＣＦ３、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、またはアルキルスルフィニル基であり、それらはすべて、それぞれ任意選択的に１個または複数のアルキル、アルコキシ、ハロゲン、アリールまたはヘテロアリール基により置換されていてもよい。
【０１２２】
典型的には、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ水素、ハロゲン、好ましくは塩素もしくは臭素、ニトロ、ＣＦ３、Ｃ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ２０−シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルアミノ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルチオ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールチオ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、またはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニル基であり、それらのすべてがそれぞれ、任意選択的に１個または複数のＣ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、ハロゲン、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールまたはヘテロアリール基によって置換されていてもよい。
【０１２３】
特に実証された実施形態においては、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５が同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれニトロ、直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ５〜Ｃ２０−シクロアルキル、直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ２０−アルコキシ基またはＣ６〜Ｃ２４−アリール基、好ましくはフェニルもしくはナフチルである。それらのＣ１〜Ｃ３０−アルキル基およびＣ１〜Ｃ２０−アルコキシ基は、任意選択的に１個もしくは複数の二重結合もしくは三重結合、またはそうでなければ、１個もしくは複数のヘテロ原子、好ましくは酸素もしくは窒素によって中断されていてもよい。
【０１２４】
さらに、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４またはＲ５基の２種以上が、脂肪族または芳香族を介して架橋されていてもよい。たとえばそれらが式（Ｄ）のフェニル環中に結合されている炭素原子も含めて、Ｒ３およびＲ４が縮合フェニル環を形成して、全体としてナフチル構造となっていてもよい。
【０１２５】
一般式（Ｄ）においては、そのＲ６基は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、またはアリール基、好ましくは水素、Ｃ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニル、またはＣ６〜Ｃ２４−アリール基である。Ｒ６が水素であれば、より好ましい。
【０１２６】
他の好適な触媒は、一般式（Ｄ１）
【化１８】
0006309634.tif 000020
（式中、Ｍ、Ｌ、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５はそれぞれ、一般式（Ｄ）において与えられた一般的定義、好ましい定義、および特に好ましい定義と同じ定義を有していてよい）
の触媒である。
【０１２７】
一般式（Ｄ１）の触媒は基本的には、たとえば米国特許出願公開第２００２／０１０７１３８Ａ１号明細書（Ｈｏｖｅｙｄａら）からも公知であり、そこに規定された調製プロセスにより得ることができる。
【０１２８】
特に好適な触媒は、一般式（Ｄ１）のものであり、式中、
Ｍが、ルテニウムであり、
Ｘ１およびＸ２が、共にハロゲン、特に共に塩素であり、
Ｒ１が、直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ、一般式（Ｄ）において与えられた一般的な定義および好ましい定義を有しており、および
Ｌが、一般式（Ｄ）において与えられた一般的な定義および好ましい定義を有している。
【０１２９】
特に好適な触媒は、一般式（Ｄ１）のものであり、式中、
Ｍが、ルテニウムであり、
Ｘ１およびＸ２が、共に塩素であり、
Ｒ１が、イソプロピル基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５が、すべて水素であり、および
Ｌが、式（４ａ）または（４ｂ）の、任意選択的に置換されたイミダゾリジン基である。
【化１９】
0006309634.tif 000021
（式中、
Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ水素、直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ２０−シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、Ｃ１〜Ｃ２０−カルボキシレート、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルチオ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールチオ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホネート、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールスルホネート、またはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニルであり、ここで、上述の基は、それぞれ１個または複数の置換基、好ましくは直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ１０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ８−シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０−アルコキシまたはＣ６〜Ｃ２４−アリールによって置換されていてもよく、またそれらの上述の置換基もまた、１個または複数の基、好ましくはハロゲン特に塩素もしくは臭素、Ｃ１〜Ｃ５−アルキル、Ｃ１〜Ｃ５−アルコキシおよびフェニルの群から選択される基によって置換されていてもよい。）
【０１３０】
極めて特に好適な触媒は、一般構造式（Ｄ１）で包含され、式（９）
【化２０】
0006309634.tif 000022
を有しているものであり、ここで、それぞれのＭｅｓは、２，４，６−トリメチルフェニルである。
【０１３１】
この触媒（９）は、文献において、「Ｈｏｖｅｙｄａ触媒」と呼ばれることもある。
【０１３２】
さらに好適な触媒は、一般構造式（Ｄ１）で包含され、以下の式（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５）、（１６）および（１７）
【化２１】
0006309634.tif 000023
0006309634.tif 000024
の１つを有しているものであり、ここで、それぞれのＭｅｓは、２，４，６−トリメチルフェニルである。
【０１３３】
さらに好適な触媒は、一般式（Ｄ２）
【化２２】
0006309634.tif 000025
（式中、
Ｍ、Ｌ、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、およびＲ６は、それぞれ式（Ｄ）において与えられた一般的な定義および好ましい定義を有し、
Ｒ１２は、同一であるか、または異なっており、および式（Ｄ）においてＲ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基に与えられた一般的な定義および好ましい定義を有するが、ただし水素は除き、および
ｎは、０、１、２または３である）
の触媒である。
【０１３４】
一般式（Ｄ２）の触媒は原理的には、たとえば、国際公開第２００４／０３５５９６号パンフレット（Ｇｒｅｌａ）からも公知であり、そこに規定された調製プロセスにより得ることができる。
【０１３５】
特に好適な触媒は、一般式（Ｄ２）のものであり、式中、
Ｍが、ルテニウムであり、
Ｘ１およびＸ２が、共にハロゲン、特に共に塩素であり、
Ｒ１が、直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｒ１２が、一般式（Ｄ２）において定義されたものであり、
ｎが、０、１、２または３であり、
Ｒ６が、水素であり、および
Ｌが、一般式（Ｄ）において定義されたものである。
【０１３６】
特に好適な触媒は、一般式（Ｄ２）のものであり、式中、
Ｍが、ルテニウムであり、
Ｘ１およびＸ２が、共に塩素であり、
Ｒ１が、イソプロピル基であり、
ｎが、０であり、および
Ｌが、式（４ａ）または（４ｂ）の、任意選択的に置換されたイミダゾリジン基であり、ここで、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１は、同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれ一般式（Ｄ１）の特に好ましい触媒について定義されたものである。
【０１３７】
特に好適な触媒は、下記の構造（１８）（「Ｇｒｅｌａ触媒」）および（１９）
【化２３】
0006309634.tif 000026
のものであり、ここで、それぞれのＭｅｓは、２，４，６−トリメチルフェニルである。
【０１３８】
その他の好適な触媒は、一般式（Ｄ３）
【化２４】
0006309634.tif 000027
（式中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３およびＸ４はそれぞれ、右側に示されているメチレン基を介して、式（Ｄ３）のケイ素に結合された一般式（２０）
【化２５】
0006309634.tif 000028
（式中、
Ｍ、Ｌ、Ｘ１、Ｘ２、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、およびＲ６はそれぞれ、一般式（Ｄ）において与えられた一般的定義および好ましい定義と同じ定義を有していてよい）
の構造を有している）
のデンドリマー（ｄｅｎｄｒｉｔｉｃ）触媒である。
【０１３９】
その一般式（Ｄ３）の触媒は、米国特許出願公開第２００２／０１０７１３８Ａ１号明細書からも公知であり、その中で与えられた詳細に基づいて調製することができる。
【０１４０】
その他の好適な触媒は、一般式（Ｄ４）
【化２６】
0006309634.tif 000029
（式中、●の記号は担体を表している）
の触媒である。
【０１４１】
担体は、好ましくはポリ（スチレン−ジビニルベンゼン）コポリマー（ＰＳ−ＤＶＢ）である。
【０１４２】
式（Ｄ４）に従う触媒は、基本的には、Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．，２００４，１０，７７７−７８４から公知であり、その中に記載された調製法によって得ることができる。
【０１４３】
（Ｄ）、（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｄ３）および（Ｄ４）タイプの上述の触媒はすべて、そのままで水素化反応において使用することもでき、または固体の担体に適用して固定化させることもできる。適切な固体相または支持体は、まず、メタセシス反応混合物に対して不活性であり、次いで、触媒の活性を損なわないようなものである。触媒は、たとえば、金属、ガラス、ポリマー、セラミック、有機ポリマービーズもしくはそうでなければ無機ゾル−ゲル、カーボンブラック、シリカ、ケイ酸塩、炭酸カルシウム、および硫酸バリウムを使用して固定化することができる。
【０１４４】
他の好適な触媒は、一般式（Ｅ）
【化２７】
0006309634.tif 000030
（式中、
Ｍは、ルテニウムまたはオスミウムであり、
Ｘ１およびＸ２は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれアニオン性配位子であり、
Ｒ’’は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ有機基であり、
Ｉｍは、任意選択的に置換されたイミダゾリンまたはイミダゾリジン基であり、および
Ａｎは、アニオンである）
の触媒である。
【０１４５】
一般式（Ｅ）の触媒は原理的には公知である（たとえば、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，２００４，４３，６１６１−６１６５参照）。
【０１４６】
一般式（Ｅ）におけるＸ１およびＸ２が、式（Ｃ）および（Ｄ）におけるのと同じ一般的定義、好ましい定義、および特に好ましい定義を有していてよい。
【０１４７】
Ｉｍ基は、典型的には、一般式（４ａ）または（４ｂ）の構造を有しており、それは、式（Ｃ）および（Ｄ）のタイプの触媒について既に特定されており、そこで好ましいと特定された構造のいずれか、特に式（５ａ）〜（５ｆ）のものであってもよい。
【０１４８】
一般式（Ｅ）におけるＲ’’基は同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれ直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ５〜Ｃ３０−シクロアルキル、またはアリール基であり、ここで、そのＣ１〜Ｃ３０−アルキル基は、任意選択的に１個もしくは複数の二重結合もしくは三重結合またはそうでなければ１個または複数のヘテロ原子、好ましくは酸素もしくは窒素によって中断されていてもよい。
【０１４９】
アリールには、６〜２４個の骨格炭素原子を有する芳香族基が含まれる。６〜１０個の骨格炭素原子を有する好適な単環式、二環式または三環式炭素環芳香族基としては、たとえば、フェニル、ビフェニル、ナフチル、フェナントレニル、またはアントラセニルが挙げられる。
【０１５０】
一般式（Ｅ）におけるＲ’’基は、同一であるのが好ましく、それぞれフェニル、シクロヘキシル、シクロペンチル、イソプロピル、ｏ−トリル、ｏ−キシリルまたはメシチルである。
【０１５１】
他の好適な触媒は、一般式（Ｆ）
【化２８】
0006309634.tif 000031
（式中、
Ｍは、ルテニウムまたはオスミウムであり、
Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、Ｃ１〜Ｃ２０−カルボキシレート、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、またはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニルであり、
Ｘ３は、アニオン性配位子であり、
Ｌ２は、単環式か多環式かには関係なく、電荷を有さないπ結合された配位子であり、
Ｌ３は、ホスフィン、スルホネート化ホスフィン、フッ素化ホスフィン、３個までのアミノアルキル、アンモニオアルキル、アルコキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、ヒドロカルボニルアルキル、ヒドロキシアルキルもしくはケトアルキル基を有する官能化ホスフィン、ホスファイト、ホスフィナイト、ホスホナイト、ホスフィンアミン、アルシン、スチビン、エーテル、アミン、アミド、イミン、スルホキシド、チオエーテル、およびピリジンの群からの配位子であり、
Ｙ−は、非配位アニオンであり、および
ｎは、０、１、２、３、４または５である）
の触媒である。
【０１５２】
他の好適な触媒は、一般式（Ｇ）
【化２９】
0006309634.tif 000032
（式中、
Ｍ２は、モリブデンであり、
Ｒ１５およびＲ１６は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ水素、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、Ｃ１〜Ｃ２０−カルボキシレート、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルチオ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、またはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニルであり、
Ｒ１７およびＲ１８は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ置換またはハロゲン−置換のＣ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、Ｃ６〜Ｃ３０−アラルキル基、またはそれらのケイ素含有類似体である）
の触媒である。
【０１５３】
さらなる好適な触媒は、一般式（Ｈ）
【化３０】
0006309634.tif 000033
（式中、
Ｍは、ルテニウムまたはオスミウムであり、
Ｘ１およびＸ２は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ一般式（Ｃ）および（Ｄ）で与えられたＸ１およびＸ２のすべての定義と考えてよいアニオン性配位子であり、
Ｌは、一般式（Ｃ）および（Ｄ）で与えられたＬのすべての定義と考えてよい、同一または異なった配位子であり、
Ｒ１９およびＲ２０は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ水素または置換または非置換のアルキルである）
の触媒である。
【０１５４】
さらなる好適な触媒は、一般式（Ｋ）、（Ｎ）または（Ｑ）
【化３１】
0006309634.tif 000034
（式中、
Ｍは、オスミウムまたはルテニウムであり、
Ｘ１およびＸ２は、同一であるか、または異なっており、および２個の配位子、好ましくはアニオン性配位子であり、
Ｌは、配位子、好ましくは電荷を有さない電子供与体であり、
Ｚ１およびＺ２は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ電荷を有さない電子供与体であり、
Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立して、水素、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、カルボキシレート、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、またはアルキルスルフィニルであり、それらのそれぞれは、アルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリール、およびヘテロアリールから選択される１個または複数の基によって置換されている）
の触媒である。
【０１５５】
一般式（Ｋ）、（Ｎ）および（Ｑ）の触媒は基本的には、たとえば、国際公開第２００３／０１１４５５Ａ１号パンフレット、国際公開第２００３／０８７１６７Ａ２号パンフレット、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ，２００１，２０，５３１４、およびＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，２００２，４１，４０３８からも公知である。それらの触媒は、市場で入手することも可能であり、そうでなければ、上述の引用文献に規定された調製法によって合成することもできる。
【０１５６】
一般式（Ｋ）、（Ｎ）および（Ｑ）の触媒において、Ｚ１およびＺ２は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ電荷を有さない電子供与体である。それらの配位子は典型的には、弱く配位結合されている。それらは典型的には、任意選択的に置換された複素環状基である。それらは、１〜４個、好ましくは１〜３個、より好ましくは１個または２個のヘテロ原子を有する５員または６員の単環式の基であるか、または２、３、４もしくは５個のそのような５員または６員の単環式の基からなる二環もしくは三環構造であってよく、ここで上述の基のそれぞれが、任意選択的に１個または複数のアルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ１０−アルキル、シクロアルキル、好ましくはＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル、アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ１０−アルコキシ、ハロゲン、好ましくは塩素または臭素、アリール、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリール、またはヘテロアリール、好ましくはＣ５〜Ｃ２３ヘテロアリール基によって置換されていてもよく、それらの置換基がさらに、好ましくはハロゲン、特に塩素または臭素、Ｃ１〜Ｃ５−アルキル、Ｃ１〜Ｃ５−アルコキシ、およびフェニルからなる群から選択される１個または複数の基によって再度置換されていてもよい。
【０１５７】
Ｚ１およびＺ２の例には、窒素含有複素環、たとえば、ピリジン、ピリダジン、ビピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピラゾリジン、ピロリジン、ピペラジン、インダゾール、キノリン、プリン、アクリジン、ビスイミダゾール、ピコリルイミン、イミダゾリジン、およびピロールが含まれる。
【０１５８】
Ｚ１およびＺ２が互いに架橋されて、環式構造を形成していてもよい。この場合、Ｚ１およびＺ２は単一の二座配位の配位子である。
【０１５９】
一般式（Ｋ）、（Ｎ）および（Ｑ）の触媒において、Ｌは、一般式（Ｃ）および（Ｄ）におけるＬと同じ一般的定義、好ましい定義、および特に好ましい定義を有すると考えてよい。
【０１６０】
一般式（Ｋ）、（Ｎ）および（Ｑ）の触媒において、Ｒ２１およびＲ２２は同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれアルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ３０−アルキル、より好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルキル、シクロアルキル、好ましくはＣ３〜Ｃ２０−シクロアルキル、より好ましくはＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル、アルケニル、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルケニル、より好ましくはＣ２〜Ｃ１６−アルケニル、アルキニル、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルキニル、より好ましくはＣ２〜Ｃ１６−アルキニル、アリール、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリール、カルボキシレート、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−カルボキシレート、アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルコキシ、アルケニルオキシ、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、アリールオキシ、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、アルコキシカルボニル、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、好ましくはＣ１〜Ｃ３０−アルキルアミノ、アルキルチオ、好ましくはＣ１〜Ｃ３０−アルキルチオ、アリールチオ、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリールチオ、アルキルスルホニル、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、またはアルキルスルフィニル、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニルであり、上述の置換基は、１個または複数のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールまたはヘテロアリール基によって置換されていてもよい。
【０１６１】
一般式（Ｋ）、（Ｎ）および（Ｑ）の触媒において、Ｘ１およびＸ２は同一であっても異なっていてもよく、および先に一般式（Ｃ）においてＸ１およびＸ２として与えられたのと同じ一般的定義、好ましい定義、および特に好ましい定義を有していてもよい。
【０１６２】
特に好適な触媒は、一般式（Ｋ）、（Ｎ）および（Ｑ）のものであり、式中、
Ｍが、ルテニウムであり、
Ｘ１およびＸ２が、共にハロゲン、特に塩素であり、
Ｒ１およびＲ２が、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ１〜４個、好ましくは１〜３個、より好ましくは１個または２個のヘテロ原子を有する５員または６員の単環式の基であるか、または２、３、４もしくは５個のそのような５員または６員の単環式の基からなる二環もしくは三環構造であってよく、ここで上述の基のそれぞれが、１個または複数の、アルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ１０−アルキル、シクロアルキル、好ましくはＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル、アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ１０−アルコキシ、ハロゲン、好ましくは塩素または臭素、アリール、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリール、またはヘテロアリール、好ましくはＣ５〜Ｃ２３ヘテロアリール基によって置換されていてもよく、
Ｒ２１およびＲ２２は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれＣ１〜Ｃ３０−アルキル、Ｃ３〜Ｃ２０−シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニル、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、Ｃ１〜Ｃ２０−カルボキシレート、Ｃ１〜Ｃ２０−アルコキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、Ｃ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ３０−アルキルアミノ、Ｃ１〜Ｃ３０−アルキルチオ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリールチオ、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニルであり、および
Ｌが、先に、特に式（５ａ）〜（５ｆ）に既に記載した一般式（４ａ）または（４ｂ）の構造を有している。
【０１６３】
極めて特に好適な触媒は、一般式（Ｋ）によって包含され、構造（２１）
【化３２】
0006309634.tif 000035
（式中、
Ｒ２３およびＲ２４は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれＨ、ハロゲン、直鎖状または分岐状のＣ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０−ヘテロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０−ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０−アルコキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール、好ましくはフェニル、ホルミル、ニトロ、窒素複素環、好ましくはピリジン、ピペリジンおよびピラジン、カルボキシル、アルキルカルボニル、ハロカルボニル、カルバモイル、チオカルバモイル、カルバミド、チオホルミル、アミノ、ジアルキルアミノ、トリアルキルシリル、ならびにトリアルコキシシリルである）
を有するものである。
【０１６４】
上述の、Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル、Ｃ１〜Ｃ２０−ヘテロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０−ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１０−アルコキシ、Ｃ６〜Ｃ２４−アリール基、好ましくはフェニル、ホルミル、ニトロ、窒素複素環、好ましくはピリジン、ピペリジンおよびピラジン、カルボキシル、アルキルカルボニル、ハロカルボニル、カルバモイル、チオカルバモイル、カルバミド、チオホルミル、アミノ、トリアルキルシリル、およびトリアルコキシシリルは、それぞれ１個または複数のハロゲン、好ましくはフッ素、塩素もしくは臭素、Ｃ１〜Ｃ５−アルキル、Ｃ１〜Ｃ５−アルコキシまたはフェニル基によってさらに置換されていてもよい。
【０１６５】
極めて特に好ましいのは、Ｒ２３およびＲ２４がそれぞれ水素である触媒（「Ｇｒｕｂｂｓ  ＩＩＩ触媒」）である。
【０１６６】
やはり極めて特に好ましいのは、構造（２２ａ）または（２２ｂ）
【化３３】
0006309634.tif 000036
の触媒であり、Ｒ２３およびＲ２４が、水素は除いて、式（２１）と同じ定義を有するものである。
【０１６７】
一般式（Ｋ）、（Ｎ）および（Ｑ）で包含される好適な触媒は、下記の構造式（２３）〜（３４）
【化３４】
0006309634.tif 000037
0006309634.tif 000038
を有しており、ここで、それぞれのＭｅｓは、２，４，６−トリメチルフェニルである。
【０１６８】
好適なのはさらに、一般構造要素（Ｒ１）
【化３５】
0006309634.tif 000039
（式中、
Ｒ２５〜Ｒ３２は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれ水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルデヒド、ケト、チオール、ＣＦ３、ニトロ、ニトロソ、シアノ、チオシアノ、イソシアナト、カルボジイミド、カルバメート、チオカルバメート、ジチオカルバメート、アミノ、アミド、イミノ、シリル、スルホネート（−ＳＯ３−）、−ＯＳＯ３−、−ＰＯ３−もしくはＯＰＯ３−であるか、またはそれぞれアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、カルボキシレート、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、ジアルキルアミノ、アルキルシリル、またはアルコキシシリルであり、ここで、これらの基はすべて、それぞれ、任意選択的に１個または複数のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールまたはヘテロアリール基によって置換されていてもよいか、または別の方法として、それぞれの場合において、Ｒ２５〜Ｒ３２の群からの２つの直接隣接している基が、それらが結合されている環の炭素原子も含めて、架橋されて、環状の基、好ましくは芳香族系を形成しているか、または別の方法として、Ｒ８が、任意選択的にルテニウム−もしくはオスミウム−カルベン錯体触媒の他の配位子と共に架橋されており、
ｍは、０または１であり、および
Ａは、酸素、硫黄、Ｃ（Ｒ３３Ｒ３４）、Ｎ−Ｒ３５、−Ｃ（Ｒ３６）＝Ｃ（Ｒ３７）−、−Ｃ（Ｒ３６）（Ｒ３８）−Ｃ（Ｒ３７）（Ｒ３９）−であり、ここで、Ｒ３３〜Ｒ３９が同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれＲ２５〜Ｒ３２基と同一の定義を有していてもよい）
を有する触媒（Ｒ）であり、ここで「＊」で区別した炭素原子は、１個または複数の二重結合を介して、触媒の基本骨格に結合されている。
【０１６９】
本発明の触媒は、一般式（Ｒ１）の構造要素を有しており、ここで、「＊」印で区別した炭素原子は、１個または複数の二重結合を介して触媒の基本骨格に結合されている。「＊」印で区別した炭素原子が、２個または複数の二重結合を介して触媒の基本骨格に結合されている場合には、それらの二重結合が集積されるかまたは共役していてもよい。
【０１７０】
このタイプの触媒（Ｒ）は、欧州特許出願公開第Ａ２  ０２７  ９２０号明細書に記載されている。一般式（Ｒ１）の構造要素を有する触媒（Ｒ）には、たとえば、以下の一般式（Ｒ２ａ）および（Ｒ２ｂ）
【化３６】
0006309634.tif 000040
（式中、
Ｍは、ルテニウムまたはオスミウムであり、
Ｘ１およびＸ２は、同一であるか、または異なっており、および２個の配位子、好ましくはアニオン性配位子であり、
Ｌ１およびＬ２は、同一であっても異なっていてもよい配位子、好ましくは電荷を有さない電子供与体であり、ここでＬ２が、それに代えて、Ｒ８基に架橋されていてもよく、
ｎは、０、１、２または３、好ましくは０、１または２であり、
ｎ’は、１または２、好ましくは１であり、および
Ｒ２５〜Ｒ３２、ｍ、およびＡは、それぞれ一般式（Ｒ１）におけると同じ定義を有する）
のそれらが含まれる。
【０１７１】
一般式（Ｒ２ａ）の触媒においては、一般式（Ｒ１）の構造要素が、１個の二重結合（ｎ＝０）または２、３もしくは４個の集積二重結合（ｎ＝１、２または３の場合）を介して、錯体触媒の中心金属に結合されている。一般式（Ｒ２ｂ）の本発明の触媒においては、一般式（Ｒ１）の構造要素が、共役二重結合を介して錯体触媒の金属に結合されている。いずれの場合においても、「＊」印で区別した炭素原子の上で錯体触媒の中心金属の方向に二重結合が存在している。
【０１７２】
したがって、一般式（Ｒ２ａ）および（Ｒ２ｂ）の触媒には、次の一般的構造要素（Ｒ３）〜（Ｒ９）
【化３７】
0006309634.tif 000041
が１個または複数の二重結合を介して「＊」印で区別した炭素原子を介して、一般式（Ｒ１０ａ）または（Ｒ１０ｂ）
【化３８】
0006309634.tif 000042
（式中、Ｘ１およびＸ２、Ｌ１およびＬ２、ｎ、ｎ’、およびＲ２５〜Ｒ３９はそれぞれ、一般式（Ｒ２ａ）および（Ｒ２ｂ）で定義されたものである）
の触媒基本骨格に結合されている触媒が含まれる。
【０１７３】
典型的には、これらのルテニウム−もしくはオスミウム−カルベン触媒は、五配位である。
【０１７４】
一般式（Ｒ１）の構造要素において、
Ｒ１５〜Ｒ３２が同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれ水素、ハロゲン、ヒドロキシル、アルデヒド、ケト、チオール、ＣＦ３、ニトロ、ニトロソ、シアノ、チオシアノ、イソシアナト、カルボジイミド、カルバメート、チオカルバメート、ジチオカルバメート、アミノ、アミド、イミノ、シリル、スルホネート（−ＳＯ３−）、−ＯＳＯ３−、−ＰＯ３−もしくはＯＰＯ３−であるか、またはアルキル、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルキル、特にはＣ１〜Ｃ６−アルキル、シクロアルキル、好ましくはＣ３〜Ｃ２０−シクロアルキル、特にはＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル、アルケニル、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルケニル、アルキニル、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルキニル、アリール、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリール、特にはフェニル、カルボキシレート、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−カルボキシレート、アルコキシ、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルコキシ、アルケニルオキシ、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルキニルオキシ、アリールオキシ、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリールオキシ、アルコキシカルボニル、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、好ましくはＣ１〜Ｃ３０−アルキルアミノ、アルキルチオ、好ましくはＣ１〜Ｃ３０−アルキルチオ、アリールチオ、好ましくはＣ６〜Ｃ２４−アリールチオ、アルキルスルホニル、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルキルスルフィニル、ジアルキルアミノ、好ましくはジ（Ｃ１〜Ｃ２０−アルキル）アミノ、アルキルシリル、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルキルシリル、もしくはアルコキシシリル、好ましくはＣ１〜Ｃ２０−アルコキシシリル基であり、ここでそれらの基は、任意選択的にそれぞれ１個または複数のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールまたはヘテロアリール基によって置換されているか、または別の方法で、Ｒ２５〜Ｒ３２の群からの各種の２つの直接隣接している基が、それらが結合されている環の炭素原子を取り込んで、架橋されて、環状の基、好ましくは芳香族系を形成しているか、または別の方法として、Ｒ８が、任意選択的にルテニウム−もしくはオスミウム−カルベン錯体触媒の他の配位子と共に架橋されており、
ｍは、０または１であり、および
Ａは、酸素、硫黄、Ｃ（Ｒ３３）（Ｒ３４）、Ｎ−Ｒ３５、−Ｃ（Ｒ３６）＝Ｃ（Ｒ３７）−、または−Ｃ（Ｒ３６）（Ｒ３８）−Ｃ（Ｒ３７）（Ｒ３９）−であり、ここで、Ｒ３３〜Ｒ３９が同一であっても異なっていてもよく、およびそれぞれＲ１〜Ｒ８基と同一の好ましい定義を有していてもよい。
【０１７５】
一般式（Ｒ１）の構造要素中のＣ１〜Ｃ６−アルキルは、たとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、およびｎ−ヘキシルである。
【０１７６】
一般式（Ｒ１）の構造要素中のＣ３〜Ｃ８−シクロアルキルは、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、およびシクロオクチルである。
【０１７７】
一般式（Ｒ１）の構造要素中のＣ６〜Ｃ２４−アリールには、６〜２４個の骨格炭素原子を有する芳香族基が含まれる。６〜１０個の骨格炭素原子を有する好適な単環式、二環式または三環式炭素環芳香族基としては、たとえば、フェニル、ビフェニル、ナフチル、フェナントレニル、またはアントラセニルが挙げられる。
【０１７８】
一般式（Ｒ１）の構造要素中のＸ１およびＸ２基は、一般式（Ｃ）の触媒において特定されたのと同じ一般的定義、好ましい定義、および特に好ましい定義を有している。
【０１７９】
一般式（Ｒ２ａ）および（Ｒ２ｂ）、ならびに同様の（Ｒ１０ａ）および（Ｒ１０ｂ）においては、そのＬ１およびＬ２基は、同一であっても異なっていてもよい配位子、好ましくは電荷を有さない電子供与体であり、一般式（Ｃ）の触媒において特定されたのと同じ一般的定義、好ましい定義、および特に好ましい定義を有していてよい。
【０１８０】
一般構造単位（Ｎ１）を有する一般式（Ｒ２ａ）または（Ｒ２ｂ）の触媒が好ましく、式中、
Ｍが、ルテニウムであり、
Ｘ１およびＸ２が、共にハロゲンであり、
一般式（Ｒ２ａ）においてｎが、０、１または２であるか、または
一般式（Ｒ２ｂ）においてｎ’が１であり、
Ｌ１およびＬ２が、同一であるか、または異なっており、および一般式（Ｒ２ａ）および（Ｒ２ｂ）において特定されたのと同じ一般的定義または好ましい定義を有しており、
Ｒ２５〜Ｒ３２が、同一であるか、または異なっており、および一般式（Ｒ２ａ）および（Ｒ２ｂ）において特定されたのと同じ一般的定義または好ましい定義を有しており、
ｍが、０または１のいずれかであり、
および、ｍ＝１の場合には、
Ａが、酸素、硫黄、Ｃ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）２、−Ｃ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）２−Ｃ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）２−、−Ｃ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）＝Ｃ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）−、または−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）である。
【０１８１】
一般構造単位（Ｒ１）を有する式（Ｒ２ａ）または（Ｒ２ｂ）の触媒が特に好ましく、式中、
Ｍが、ルテニウムであり、
Ｘ１およびＸ２が、共に塩素であり、
一般式（Ｒ２ａ）においてｎが、０、１もしくは２であるか、または
一般式（Ｒ２ｂ）においてｎ’が１であり、
Ｌ１が、式（５ａ）〜（５ｆ）のイミダゾリジン基であり、
Ｌ２が、スルホネート化ホスフィン、ホスフェート、ホスフィナイト、ホスホナイト、アルシン、スチビン、エーテル、アミン、アミド、スルホキシド、カルボキシル、ニトロシル、ピリジン基、式（５ａ）〜（５ｆ）のイミダゾリンまたはイミダゾリジン基、またはホスフィン配位子、特にＰＰｈ３、Ｐ（ｐ−Ｔｏｌ）３、Ｐ（ｏ−Ｔｏｌ）３、ＰＰｈ（ＣＨ３）２、Ｐ（ＣＦ３）３、Ｐ（ｐ−ＦＣ６Ｈ４）３、Ｐ（ｐ−ＣＦ３Ｃ６Ｈ４）３、Ｐ（Ｃ６Ｈ４−ＳＯ３Ｎａ）３、Ｐ（ＣＨ２Ｃ６Ｈ４−ＳＯ３Ｎａ）３、Ｐ（イソプロピル）３、Ｐ（ＣＨＣＨ３（ＣＨ２ＣＨ３））３、Ｐ（シクロペンチル）３、Ｐ（シクロヘキシル）３、Ｐ（ネオペンチル）３、およびＰ（ネオフェニル）３であり、
Ｒ２５〜Ｒ３２が、一般式（Ｒ２ａ）および（Ｒ２ｂ）において特定されたのと同じ、一般的定義または好ましい定義を有しており、
ｍが、０または１のいずれかであり、
および、ｍ＝１の場合には、
Ａが、酸素、硫黄、Ｃ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）２、−Ｃ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）２−Ｃ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）２−、−Ｃ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）＝Ｃ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）−、または−Ｎ（Ｃ１〜Ｃ１０−アルキル）である。
【０１８２】
Ｒ２５基が、式Ｒの触媒の他の配位子と架橋されている場合、たとえば一般式（Ｒ２ａ）および（Ｒ２ｂ）の触媒の場合においては、これは、以下の一般式（Ｒ１３ａ）および（Ｒ１３ｂ）
【化３９】
0006309634.tif 000043
（式中、
Ｙ１は、酸素、硫黄、Ｎ−Ｒ４１基、またはＰ−Ｒ４１であり（Ｒ４１は以下において定義されるもの）、
Ｒ４０およびＲ４１は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アルキルアミノ、アルキルチオ、アリールチオ、アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニル基であって、それらはすべて、それぞれ任意選択的に１個または複数のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アリールまたはヘテロアリール基によって置換されていてもよく、
ｐは、０または１であり、および
Ｙ２は、ｐ＝１のときは、−（ＣＨ２）ｒ−（ここでｒ＝１、２または３）、−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ（Ｈ）−Ｃ（＝Ｏ）−であるか、またはそうでなければ、総括的な構造単位「−Ｙ１（Ｒ４０）−（Ｙ２）ｐ−」が、（−Ｎ（Ｒ４０）＝ＣＨ−ＣＨ２−）、（−Ｎ（Ｒ４０，Ｒ４１）＝ＣＨ−ＣＨ２−）、であり、
ここで、Ｍ、Ｘ１、Ｘ２、Ｌ１、Ｒ２５〜Ｒ３２、Ａ、ｍ、およびｎが、一般式（Ｒ１０ａ）および（Ｒ１０ｂ）の場合におけるのと同じ定義を有している）
の構造を与える。
【０１８３】
一般式（Ｒ）の触媒の例としては、以下の構造（３５）〜（４５）
【化４０】
0006309634.tif 000044
0006309634.tif 000045
が挙げられる。
【０１８４】
一般式（Ｒ）の触媒の調製は、欧州特許出願公開第Ａ２  ０２７  ９２０号明細書からも公知である。
【０１８５】
さらに、一般式（Ｔ）
【化４１】
0006309634.tif 000046
（式中、
Ｘ１およびＸ２は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれアニオン性配位子であるか、あるいは炭素−炭素結合および／または炭素−ヘテロ原子結合を介して相互に結合されており、
Ｙは、Ｏ、Ｓ、ＮおよびＰから選択される、電荷を有さない２電子供与体であり、
Ｒは、Ｈ、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリール、カルボキシル（ＲＣＯ２−）、シアノ、ニトロ、アミド、アミノ、アミノスルホニル、Ｎ−ヘテロアリールスルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルチオ、アリールチオ、またはスルホンアミドであり、
Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、Ｈ、Ｂｒ、Ｉ、アルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、カルボキシル、アミド、アミノ、ヘテロアリール、アルキルチオ、アリールチオ、またはスルホンアミドであり、
Ｒ３は、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、チオカルボニル、またはアミノカルボニルであり、
ＥＷＧは、アミノスルホニル、アミドスルホニル、Ｎ−ヘテロアリールスルホニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アリールカルボニル、アルキルカルボニル、アリールオキシカルボニル、アミノカルボニル、アミド、スルホンアミド、塩素、フッ素、Ｈ、またはハロアルキルからなる群から選択される電子求引性基であり、および
Ｌは、炭素−炭素および／または炭素−ヘテロ原子結合を介してＸ１に結合されている、電子供与性配位子である）
に従う触媒も好適である。
【０１８６】
一般式（Ｔ）のこれらの触媒は、米国特許出願公開第２００７／００４３１８０号明細書からも公知である。
【０１８７】
好ましいのは、Ｘ１およびＸ２が、ハライド、カルボキシレート、およびアリールオキシドの形態である、イオン性配位子から選択されている、一般式（Ｔ）の触媒である。Ｘ１およびＸ２が共にハライド、特には共にクロリドであるのがより好ましい。一般式（Ｔ）において、Ｙが酸素であるのが好ましい。Ｒは、好ましくは、Ｈ、ハロゲン、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリール、カルボキシル、アミド、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アルキルチオ、アリールチオ、またはスルホンアミドである。さらに詳しくは、Ｒは、Ｈ、Ｃｌ、Ｆ、またはＣ１〜８アルコキシカルボニル基である。Ｒ１およびＲ２は、同一であるか、または異なっており、および好ましくはそれぞれＨ、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アルコキシカルボニル、アミド、アルキルチオ、アリールチオ、またはスルホンアミド基である。さらに詳しくは、Ｒ１がＨまたはアルコキシ基であり、およびＲ２が水素である。一般式（Ｔ）において、Ｒ３は、好ましくはアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルキルカルボニル、またはアリールカルボニル基である。より好ましくは、Ｒ３が、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、およびメトキシエチルである。一般式（Ｔ）において、ＥＷＧは、好ましくは、アミノスルホニル、アミドスルホニル、Ｎ−ヘテロアリールスルホニル、アリールスルホニル、アミノカルボニル、アリールスルホニル、アルキルカルボニル、アリールオキシカルボニル、ハロゲン、またはハロアルキル基である。より好ましくは、ＥＷＧが、Ｃ１〜１２Ｎ−アルキルアミノスルホニル、Ｃ２〜１２Ｎ−ヘテロアリールスルホニル、Ｃ１〜１２アミノカルボニル、Ｃ６〜１２アリールスルホニル、Ｃ１〜１２アルキルカルボニル、Ｃ６〜１２アリールカルボニル、Ｃ６〜１２アリールオキシカルボニル、Ｃｌ、Ｆ、またはトリフルオロメチル基である。一般式（Ｔ）において、Ｌは、ホスフィン、アミノ、アリールオキシド、カルボキシレート、および複素環式カルベン基（このものは、炭素−炭素および／または炭素−ヘテロ原子結合を介してＸ１に結合されていてもよい）から選択される電子供与性配位子である。
【０１８８】
特に好適な触媒は、その中のＬが、複素環式カルベン配位子または次の構造：
【化４２】
0006309634.tif 000047
（式中、
Ｒ４およびＲ５は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれＣ６〜１２アリールであり、および
Ｒ６およびＲ７は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれＨ、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリール、カルボキシル、シアノ、ニトロ、アミド、アミノ、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル、アルキルチオ、またはスルホンアミドであり、および
Ｒ８およびＲ９は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれＣ１〜８アルキルまたはＣ６〜１２アリールである）
を有するホスフィン（Ｐ（Ｒ８）２（Ｒ９）である、一般式（Ｔ）のものである。
【０１８９】
好適なのはさらに、一般式（Ｕ）
Ｍ１ａＭ２ｂＸｍ（Ｌ１）ｎ      （Ｕ）
（式中、
Ｍ１は、ロジウム（Ｒｈ）またはルテニウム（Ｒｕ）であり、
Ｍ２は、ルテニウム（Ｒｕ）またはランタニドであり、
ここで、Ｍ１がロジウム（Ｒｈ）である場合には、Ｍ２がルテニウム（Ｒｕ）またはランタニドであり、およびＭ１がルテニウム（Ｒｕ）である場合には、Ｍ２がランタニドであり、
Ｘは、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれＨ、Ｃｌ、またはＢｒであり、
Ｌ１は、オルガノホスフィン（ＰＲ１Ｒ２Ｒ３）、ジホスフィン（Ｒ１Ｒ２Ｐ（ＣＨ２）ｎＰＲ３Ｒ４）、オルガノアルシン（ＡｓＲ１Ｒ２Ｒ３）、またはその他の窒素、硫黄、酸素原子を含む有機化合物、またはそれらの混合物であり、ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれＣ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ６〜Ｃ１２シクロアルキル、アリール、Ｃ７〜Ｃ１２アラルキル、またはアリールオキシ基であり、
１≦ａ≦４、
１≦ｂ≦２、
３≦ｍ≦６、および
６≦ｎ≦１５である）
の二金属錯体である。
【０１９０】
一般式（Ｕ）のこれらの触媒は、原理的には、米国特許第Ａ６，０８４，０３３号明細書からも公知である。
【０１９１】
特に好適な触媒は、その中でＭ１がロジウムであり、およびＭ２がルテニウムである、一般式（Ｕ）のそれである。他の特に好適な触媒は、その中でＭ２がランタニド、特にはＣｅまたはＬａである、一般式（Ｕ）のものである。一般式（Ｕ）の特に好適な触媒においては、Ｘが、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれＨまたはＣｌである。一般式（Ｕ）の特に好適な触媒は、その中でＬ１が、以下のものから選択されているものである：トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリフェノキシホスフィン、トリ（ｐ−メトキシフェニル）ホスフィン、ジフェニルエチルホスフィン、１，４−ジ（ジフェニルホスファノ）ブタン、１，２−ジ（ジフェニルホスファノ）エタン、トリフェニルアルシン、ジブチルフェニルアルシン、ジフェニルエチルアルシン、トリフェニルアミン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェニルチオエーテル、ジプロピルチオエーテル、Ｎ，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、アセチルアセトン、ジフェニルケトン、およびそれらの混合物。
【０１９２】
使用することが可能なさらなる触媒が、以下の文献に記載されている：米国特許第Ａ３７  ００  ６３７号明細書、独国特許出願公開第Ａ２５  ３９  １３２号明細書、欧州特許出願公開第Ａ１３４  ０２３号明細書、独国特許出願公開第Ａ３５  ４１  ６８９号明細書、独国特許第３５４０９１８号明細書、欧州特許出願公開第Ａ０  ２９８  ３８６号明細書、独国特許出願公開第Ａ３５２９２５２号明細書、独国特許出願公開第Ａ３４３３  ３９２号明細書、米国特許第Ａ４，４６４，５１５号明細書、米国特許第４，５０３，１９６号明細書、および欧州特許出願公開第Ａ１  ７２０  ９２０号明細書。
【０１９３】
水素化触媒の量：
ニトリルゴムを水素化する場合、水素化触媒は、広い範囲の量で使用することができる。触媒は、水素化されるニトリルゴムを規準にして、典型的には０．００１〜１．０重量％、好ましくは０．０１〜０．５重量％、特には０．０５〜０．３重量％の量で使用される。
【０１９４】
その他の水素化条件：
水素化の実施は、たとえば米国特許第６，６８３，１３６Ａ号明細書に見られるように、当業者には十分に知られていることである。
【０１９５】
溶媒：
水素化は、典型的には、溶媒、好ましくは有機溶媒中で実施される。好適な有機溶媒としては、たとえば以下のものが挙げられる：アセトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、モノクロロベンゼン、およびジクロロベンゼン。モノクロロベンゼンが特に有用であることが見出され、その理由は、それが、各種のニトリル含量を有するニトリルゴムと、それに対応する製品の水素化ニトリルゴムとの両方に対する良好な溶媒であるからである。
【０１９６】
ニトリルゴムの濃度：
水素化のためには、ニトリルゴムは、典型的には、少なくとも１種の溶媒中に溶解される。水素化におけるニトリルゴムの濃度は、一般的には１〜３０重量％の範囲、好ましくは５〜２５重量％の範囲、より好ましくは７〜２０重量％の範囲である。
【０１９７】
水素化における圧力は、典型的には０．１ｂａｒ〜２５０ｂａｒ、好ましくは５ｂａｒ〜２００ｂａｒ、より好ましくは５０ｂａｒ〜１５０ｂａｒの範囲内である。その温度は、典型的には０℃〜１８０℃、好ましくは２０℃〜１６０℃、より好ましくは５０℃〜１５０℃の範囲内である。その反応時間は、一般的には２〜１０時間である。
【０１９８】
水素化の過程において、使用されたニトリルゴム中に存在していた二重結合は、少なくとも５０％、好ましくは７０〜１００％、より好ましくは８０〜１００％、さらにより好ましくは９０〜１００％、特には９４．５％超〜１００％、特に好ましくは９５〜１００％の程度にまで水素化される。０〜０．９％の範囲の残存二重結合含量（「ＲＤＢ」）を有する水素化ニトリルゴムを得ることもまた可能である。水素化は、水素吸収をオンラインで測定するか、またはラマン分光光度法（欧州特許出願公開第Ａ０  ８９７  ９３３号明細書）もしくはＩＲ分光光度法（米国特許第Ａ６，５２２，４０８号明細書）によりモニターする。水素化レベルをオフラインで測定するのに好適なＩＲ法についてはさらに、Ｄ．Ｂｒｕｅｃｋによる記述がある：Ｋａｕｔｓｃｈｕｋｅ＋Ｇｕｍｍｉ，Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅ，Ｖｏｌ．４２、（１９８９），Ｎｏ．２，ｐ．１０７−１１０（ｐａｒｔ  １）およびＫａｕｔｓｃｈｕｋｅ＋Ｇｕｍｍｉ，Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅ，Ｖｏｌ．４２、（１９８９），Ｎｏ．３，ｐ．１９４−１９７。
【０１９９】
所望の水素化レベルに達したら、反応器を減圧する。残存量の水素は、典型的には、窒素パージで除去する。
【０２００】
溶媒の除去と有機相からの水素化ニトリルゴムの単離を行う前に、水素化触媒を除去することもできるが、必須ではない。ロジウム回収のための好ましいプロセスは、たとえば、米国特許第Ａ４，９８５，５４０号明細書に記載されている。
【０２０１】
助触媒：
水素化は、助触媒としてのホスフィンまたはジホスフィンを添加して実施することも可能である。後者は、水素化されるニトリルゴムを規準にして、一般的には０．１〜１０重量％、好ましくは０．２５〜５重量％、より好ましくは０．５〜４重量％、さらにより好ましくは０．７５〜３．５重量％、特には１〜３重量％の量で使用される。
【０２０２】
好適なホスフィン助触媒は、一般式（１−ａ）
【化４３】
0006309634.tif 000048
（式中、
Ｒ’は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれアルキル、アルケニル、アルカジエニル、アルコキシ、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、シクロアルカジエニル、ハロゲン、またはトリメチルシリルである）
のものであり、および好適なジホスフィン助触媒は、一般式（１−ｂ）
【化４４】
0006309634.tif 000049
（式中、
Ｒ’は、同一であるか、または異なっており、および一般式（１−ａ）におけるのと同じ定義を有しており、
ｋは、０または１であり、および
Ｘは、直鎖状もしくは分岐状のアルカンジイル、アルケンジイル、またはアルキンジイル基である）
のものである。
【０２０３】
これら式（１−ａ）および（１−ｂ）両方におけるＲ’基は、非置換であっても、あるいは一置換もしくは多置換されていてもよい。
【０２０４】
そのような一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンは、当業者に公知の方法で調製することもでき、または市場で購入することもできる。
【０２０５】
一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンのＲ’基中のアルキル基は、典型的には直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキル基、好ましくはＣ１〜Ｃ２４−アルキル基、より好ましくはＣ１〜Ｃ１８−アルキル基を意味していると理解されたい。Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルとしては、たとえば以下のものが挙げられる：メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、ｎ−ヘキシル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ヘキサデシル、およびｎ−オクタデシル。
【０２０６】
一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンのＲ’基中のアルケニル基は、典型的にはＣ２〜Ｃ３０−アルケニル基、好ましくはＣ２〜Ｃ２０−アルケニル基を意味していると理解されたい。アルケニル基がビニル基またはアリル基であれば、より好ましい。
【０２０７】
一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンのＲ’基中のアルカジエニル基は、典型的にはＣ４〜Ｃ３０−アルカジエニル基、好ましくはＣ４〜Ｃ２０−アルカジエニル基を意味していると理解されたい。アルカジエニル基が、ブタジエニルまたはペンタジエニルであれば、より好ましい。
【０２０８】
一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンのＲ’基中のアルコキシ基は、典型的にはＣ１〜Ｃ２０−アルコキシ基、好ましくはＣ１〜Ｃ１０−アルコキシ基、より好ましくはメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペントキシ、およびｎ−ヘキソキシを意味していると理解されたい。
【０２０９】
一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンのＲ’基中のアリール基は、典型的にはＣ５〜Ｃ２４−アリール基、好ましくはＣ６〜Ｃ１４−アリール基、より好ましくはＣ６〜Ｃ１２−アリール基を意味していると理解されたい。Ｃ５〜Ｃ２４−アリールの例は、フェニル、ｏ−、ｐ−もしくはｍ−トリル、ナフチル、フェナントレニル、アントラセニル、およびフルオレニルである。
【０２１０】
一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンのＲ’’基中のヘテロアリール基は、アリール基について先に挙げたのと同じ定義を有するが、ただし、骨格炭素原子の１個または複数が、窒素、硫黄および酸素の群から選択されるヘテロ原子によって置換されている。そのようなヘテロアリール基の例としては、ピリジニル、オキサゾリル、ベンゾフラニル、ジベンゾフラニル、およびキノリニルが挙げられる。
【０２１１】
上述のアルキル、アルケニル、アルカジエニル、およびアルコキシ基はすべて、非置換であっても、あるいはたとえば以下のものによって一置換もしくは多置換されていてもよい：Ｃ５〜Ｃ２４−アリール基、好ましくはフェニル（アルキル基の場合においては、その結果、たとえばアリールアルキル、好ましくはフェニルアルキル基となる）、ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素もしくは臭素、ＣＮ、ＯＨ、ＮＨ２もしくはＮＲ’’２基（ここでＲ’’は、さらにＣ１〜Ｃ３０−アルキルまたはＣ５〜Ｃ２４−アリールである）。
【０２１２】
それらのアリール基およびヘテロアリール基はいずれも、非置換であるか、あるいはたとえば以下のものによって一置換もしくは多置換されている：直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキル（その結果、いわゆるアルキルアリール基となる）、ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素もしくは臭素、スルホネート（ＳＯ３Ｎａ）、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルコキシ、好ましくはメトキシもしくはエトキシ、ヒドロキシル、ＮＨ２もしくはＮ（Ｒ’’）２基（ここで、Ｒ’’はさらに、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキルまたはＣ５〜Ｃ２４−アリールである）、またはさらなるＣ５〜Ｃ２４−アリールもしくは−ヘテロアリール基（その結果、ビスアリール基、好ましくはビフェニルもしくはビナフチル、ヘテロアリールアリール基、アリールヘテロアリール基、またはビスヘテロアリール基となる）。これらのＣ５〜Ｃ２４−アリールもしくは−ヘテロアリール置換基もまた、非置換であるか、あるいはすべての上記の置換基によって一置換もしくは多置換されている。
【０２１３】
一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンのＲ’基中のシクロアルキル基は、典型的にはＣ３〜Ｃ２０−シクロアルキル基、好ましくはＣ３〜Ｃ８−シクロアルキル基、より好ましくはシクロペンチルおよびシクロヘキシルを意味していると理解されたい。
【０２１４】
一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンのＲ’基中のシクロアルケニル基は、同一であるかまたは異なっており、および環の骨格に１個のＣ＝Ｃ二重結合を有しており、典型的にはＣ５〜Ｃ８シクロアルケニル、好ましくはシクロペンテニルおよびシクロヘキセニルである。
【０２１５】
一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンのＲ’基中のシクロアルカジエニル基は、同一であるかまたは異なっており、および環の骨格に２個のＣ＝Ｃ二重結合を有しており、典型的にはＣ５〜Ｃ８シクロアルカジエニル、好ましくはシクロペンタジエニルおよびシクロヘキサジエニルである。
【０２１６】
上述のシクロアルキル、シクロアルケニル、およびシクロアルカジエニル基もまた、非置換であるか、あるいはたとえば以下のものによって一置換もしくは多置換されている：直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキル（その結果は、いわゆるアルキルアリール基である）、ハロゲン、好ましくはフッ素、塩素、もしくは臭素、スルホネート（ＳＯ３Ｎａ）、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルコキシ、好ましくはメトキシもしくはエトキシ、ヒドロキシル、ＮＨ２もしくはＮＲ’’２基（ここで、Ｒ’’はさらに、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ３０−アルキルもしくはＣ５〜Ｃ２４−アリールであるか、またはＣ５〜Ｃ２４−アリールもしくは−ヘテロアリール基によって置換されており、それらはさらに、非置換であるか、またはすべての上述の置換基によって一置換もしくは多置換されている）。
【０２１７】
一般式（１−ａ）および（１−ｂ）のホスフィンまたはジホスフィンのＲ’基中のハロゲン基は、同一であるか、または異なっており、およびそれぞれフッ素、塩素、または臭素である。
【０２１８】
一般式（１−ａ）の特に好ましいホスフィンは、以下のものである：トリアルキル−、トリシクロアルキル−、トリアリール−、トリアルクアリール−、トリアラルキル−、ジアリールモノアルキル−、ジアリールモノシクロアルキル−、ジアルキルモノアリール−、ジアルキルモノシクロアルキル−、またはジシクロアルキルモノアリールホスフィン（ここで、上述の基はさらに、非置換であるか、または上述の置換基によって一置換もしくは多置換されている）。
【０２１９】
特に好ましいホスフィンは、その中のＲ’基が同一であるか、または異なっており、およびそれぞれフェニル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロペンチル、シクロペンタジエニル、フェニルスルホネート、またはシクロヘキシルスルホネートである、一般式（１−ａ）のものである。
【０２２０】
使用される一般式（１−ａ）の最も好ましいホスフィンは、以下のものである：ＰＰｈ３、Ｐ（ｐ−Ｔｏｌ）３、Ｐ（ｏ−Ｔｏｌ）３、ＰＰｈ（ＣＨ３）２、Ｐ（ＣＦ３）３、Ｐ（ｐ−ＦＣ６Ｈ４）３、Ｐ（ｐ−ＣＦ３Ｃ６Ｈ４）３、Ｐ（Ｃ６Ｈ４−ＳＯ３Ｎａ）３、Ｐ（ＣＨ２Ｃ６Ｈ４−ＳＯ３Ｎａ）３、Ｐ（ｉｓｏ−Ｐｒ）３、Ｐ（ＣＨＣＨ３（ＣＨ２ＣＨ３））３、Ｐ（シクロペンチル）３、Ｐ（シクロヘキシル）３、Ｐ（ネオペンチル）３、Ｐ（Ｃ６Ｈ５ＣＨ２）（Ｃ６Ｈ５）２、Ｐ（ＮＣＣＨ２ＣＨ２）２（Ｃ６Ｈ５）、Ｐ［（ＣＨ３）３Ｃ］２Ｃｌ、Ｐ［（ＣＨ３）３Ｃ］２（ＣＨ３）、Ｐ（ｔｅｒｔ−Ｂｕ）２（ｂｉｐｈ）、Ｐ（Ｃ６Ｈ１１）２Ｃｌ、Ｐ（ＣＨ３）（ＯＣＨ２ＣＨ３）２、Ｐ（ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２）３、Ｐ（Ｃ４Ｈ３Ｏ）３、Ｐ（ＣＨ２ＯＨ）３、Ｐ（ｍ−ＣＨ３ＯＣ６Ｈ４）３、Ｐ（Ｃ６Ｆ５）３、Ｐ［（ＣＨ３）３Ｓｉ］３、Ｐ［（ＣＨ３Ｏ）３Ｃ６Ｈ２］３（ここで、Ｐｈはフェニルであり、Ｔｏｌはトリルであり、ｂｉｐｈはビフェニルであり、Ｂｕはブチルであり、およびＰｒはプロピルである）。トリフェニルホスフィンが特に好ましい。
【０２２１】
一般式（１−ｂ）のジホスフィンにおいて、ｋは０または１、好ましくは１である。
【０２２２】
一般式（１−ｂ）のＸは、以下のものである：直鎖状もしくは分岐状のアルカンジイル、アルケンジイル、またはアルキンジイル基、好ましくは直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ２０−アルカンジイル、Ｃ２〜Ｃ２０−アルケンジイル、またはＣ２〜Ｃ２０−アルキンジイル基、より好ましくは直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８−アルカンジイル、Ｃ２〜Ｃ６−アルケンジイル、またはＣ２〜Ｃ６−アルキンジイル基。
【０２２３】
Ｃ１〜Ｃ８−アルカンジイルは、１〜８個の炭素原子を有する、直鎖状もしくは分岐状のアルカンジイル基である。特に好ましいのは、１〜６個の炭素原子、特には２〜４個の炭素原子を有する、直鎖状もしくは分岐状のアルカンジイル基である。好ましいのは、メチレン、エチレン、プロピレン、プロパン−１，２−ジイル、プロパン−２，２−ジイル、ブタン−１，３−ジイル、ブタン−２，４−ジイル、ペンタン−２，４−ジイル、および２−メチルペンタン−２，４−ジイルである。
【０２２４】
Ｃ２〜Ｃ６−アルケンジイルは、２〜６個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分岐状のアルケンジイル基である。好ましいのは、２〜４、より好ましくは２または３の炭素原子を有する、直鎖状もしくは分岐状のアルケンジイル基である。好ましい例としては以下のものが挙げられる：ビニレン、アリレン、プロペ−１−エン−１，２−ジイル、およびブテ−２−エン−１，４−ジイル。
【０２２５】
Ｃ２〜Ｃ６−アルキンジイルは、２〜６個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分岐状のアルキンジイル基である。好ましいのは、２〜４、より好ましくは２または３の炭素原子を有する、直鎖状もしくは分岐状のアルキンジイル基である。好ましい例としては以下のものが挙げられる：エチンジイル、およびプロピンジイル。
【０２２６】
一般式（１−ｂ）の特に好ましいジホスフィンは、以下のものである：Ｃｌ２ＰＣＨ２ＣＨ２ＰＣｌ２、（Ｃ６Ｈ１１）２ＰＣＨ２Ｐ（Ｃ６Ｈ１１）、（ＣＨ３）２ＰＣＨ２ＣＨ２Ｐ（ＣＨ３）２、（Ｃ６Ｈ５）２ＰＣＣＰ（Ｃ６Ｈ５）２、（Ｃ６Ｈ５）２ＰＣＨ＝ＣＨＰ（Ｃ６Ｈ５）２、（Ｃ６Ｆ５）２Ｐ（ＣＨ２）２Ｐ（Ｃ６Ｆ５）２、（Ｃ６Ｈ５）２Ｐ（ＣＨ２）２Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、（Ｃ６Ｈ５）２Ｐ（ＣＨ２）３Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、（Ｃ６Ｈ５）２Ｐ（ＣＨ２）４Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、（Ｃ６Ｈ５）２Ｐ（ＣＨ２）５Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、（Ｃ６Ｈ５）２ＰＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ（ＣＨ３）Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２、および（Ｃ６Ｈ５）２ＰＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｐ（Ｃ６Ｈ５）２。
【０２２７】
本発明においても同様に使用しうる具体的なジホスフィンは、Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．，２００８，１４，９４９１−９４９４でも公表されている。例として以下のものが挙げられる。
【化４５】
0006309634.tif 000050
【０２２８】
本発明におけるプロセスにおける水素化を、ホスフィンまたはジホスフィンを添加して実施する場合、それらは、水素化されるニトリルゴムを規準にして、典型的には０．１〜１０重量％、好ましくは０．２５〜５重量％、より好ましくは０．５〜４重量％、さらにより好ましくは０．７５〜３．５重量％、特には１〜３重量％の量で使用される。
【０２２９】
試行され、信頼される方法では、ホスフィンまたはジホスフィンは、水素化触媒の１当量を規準にして、０．１〜１０当量の範囲、好ましくは０．２〜５当量の範囲、より好ましくは０．３〜３当量の範囲の量で使用される。
【０２３０】
添加されるホスフィンまたはジホスフィンの、水素化触媒に対する重量比は、典型的には（１〜１００）：１、好ましくは（３〜３０）：１、特には（５〜１５）：１である。
【０２３１】
水素化の前に、ニトリルゴムの分子量を低下させる目的で、ニトリルゴムをメタセシス反応にかけておくこともまた可能である。ニトリルゴムのメタセシスは、当業者には十分に知られていることである。メタセシスを実施する場合には、それに続く水素化反応をインサイチューで、すなわち、前もってメタセシス分解を実施したのと同一の反応混合物中で、分子量を低下させたニトリルゴムを単離する必要もなく、実施することも可能である。その水素化触媒は、反応容器中に単に添加する。
【０２３２】
水素化後では、乾式仕上げ、好ましくはローラー乾燥プロセスもしくはスクリュープロセスによるか、または湿式仕上げ、好ましくは水蒸気蒸留によって、溶媒を除去する。
【０２３３】
乾式仕上げプロセスとしては、たとえば、独国特許第４０３２５９８号明細書に記載されているローラー乾燥プロセス、および国際公開第Ａ２０１１／０２３７６３号パンフレットおよび欧州特許出願公開第Ａ２３６８９１７号明細書に記載されているスクリュープロセスがある。
【０２３４】
水蒸気蒸留による湿式仕上げもまた、水素化において使用された溶媒を除去するには適している。水蒸気蒸留による溶媒除去の場合においては、その中で得られたゴムを、クラムの水性分散体から、篩、たとえば撹拌篩（ａｇｉｔａｔｅｄ  ｓｉｅｖｅ）または曲線篩（ｃｕｒｖｅｄ  ｓｉｅｖｅ）で除去し、次いで、機械的に脱水してから乾燥させる。水で湿ったゴムクラムを機械的に脱水するのに好適な装置としては、スクリューユニット、たとえばストレーナーもしくはエクスペラースクリューが挙げられる。それに続く加熱乾燥は、エクスパンダースクリュー中、または流動床乾燥機、ベルト乾燥機もしくはその他適切な乾燥機で実施することができる。１つの可能な水蒸気蒸留の例は、同一出願人による、依然として未公開の出願に記載されている。
【０２３５】
仕上げ操作においては、使用した一般式（ＩＩ）のフェノールの９０〜１００％が、そのゴム中に残っている。
【０２３６】
１つの具体的な実施形態においては、乾燥状態にある本発明の完全にもしくは部分的に水素化されたニトリルゴムには、１．０重量％未満の揮発性画分のみが含まれ、この場合、一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールは、水素化されたニトリルゴムを基準にして、０．１重量％〜０．２５重量％の範囲内の量で存在している。
【０２３７】
加硫可能な混合物：
本発明はさらに、少なくとも１種の本発明の水素化ニトリルゴムおよび少なくとも１種の架橋系を含む、加硫可能な混合物も提供する。これらの加硫可能な混合物は、好ましくは、１種または複数のさらなる典型的なゴム添加剤をさらに含んでいてもよい。
【０２３８】
これらの加硫可能な混合物は、少なくとも１種の本発明の水素化ニトリルゴム（ｉ）を、少なくとも１種の架橋系（ｉｉ）および任意選択的に１種または複数のさらなる添加剤と混合することによって製造する。
【０２３９】
その架橋系には、少なくとも１種の架橋剤と、任意選択的に１種または複数の架橋促進剤とが含まれる。
【０２４０】
典型的には、本発明の水素化ニトリルゴムを、全部の選択された添加剤と最初に混合し、少なくとも１種の架橋剤および任意選択的に架橋促進剤からなる架橋系は、最後に混ぜ込む。
【０２４１】
これらの加硫可能な混合物は、少なくとも１種の本発明の水素化ニトリルゴムと少なくとも１種の架橋剤とを混合することにより調製される。１種または複数の充填剤および／または１種もしくは複数のさらなる添加剤を使用する場合には、これらもまた混ぜ込む。
【０２４２】
有用な架橋剤としては、たとえば、以下のものが挙げられる：ペルオキシド系架橋剤たとえば、ビス（２，４−ジクロロベンジル）ペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ビス（４−クロロベンゾイル）ペルオキシド、１，１−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルペルベンゾエート、２，２−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）ブテン、４，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシノニルバレレート、ジクミルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルクミルペルオキシド、１，３−ビス（ｔ−ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、および２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）−３−ヘキシン。
【０２４３】
それらのペルオキシド系架橋剤と同様にして、架橋収率を向上させるのに役立つ可能性がある、さらなる添加物を使用するのも有利となりうる。それらの好適な例としては、以下のものが挙げられる：トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリアリルトリメリテート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、亜鉛ジアクリレート、亜鉛ジメタクリレート、１，２−ポリブタジエン、またはＮ，Ｎ’−ｍ−フェニレンジマレイミド。
【０２４４】
その架橋剤の全量は、未水素化であるかまたは完全にもしくは部分的に水素化されたニトリルゴムを基準にして、典型的には１〜２０ｐｈｒの範囲、好ましくは１．５〜１５ｐｈｒの範囲、より好ましくは２〜１０ｐｈｒの範囲である。
【０２４５】
使用される架橋剤はさらに、元素状の可用性もしくは不溶性の形態である硫黄か、または硫黄供与体であってもよい。
【０２４６】
有用な硫黄供与体としては、たとえば以下のものを挙げることができる：ジモルホリルジスルフィド（ＤＴＤＭ）、２−モルホリノジチオベンゾチアゾール（ＭＢＳＳ）、カプロラクタムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド（ＤＰＴＴ）、およびテトラメチルチウラムジスルフィド（ＴＭＴＤ）。
【０２４７】
本発明の、水素化されていないかまたは完全にもしくは部分的に水素化されたニトリルゴムの硫黄加硫における架橋収率の向上に役立つ可能性があるさらなる添加物を使用することもまた可能である。原理的には、その架橋は、硫黄または硫黄供与体を単独で用いて実施することも可能である。
【０２４８】
それとは逆に、本発明の、水素化されていないかまたは完全にもしくは部分的に水素化されたニトリルゴムの架橋を、上述の添加物を存在させるだけで、すなわち元素状の硫黄または硫黄供与体を添加せずに、実施することもまた可能である。
【０２４９】
架橋収率を向上させるのに役立つ可能性がある好適な添加物としては、たとえば以下のものが挙げられる：ジチオカルバミン酸塩、チウラム、チアゾール、スルフェンアミド、キサントゲン酸塩、グアニジン誘導体、カプロラクタム、およびチオ尿素誘導体。
【０２５０】
使用されるジチオカルバミン酸塩は、たとえば以下のものであってよい：ジメチルジチオカルバミン酸アンモニウム、ジエチルジチオカルバミン酸ナトリウム（ＳＤＥＣ）、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム（ＳＤＢＣ）、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛（ＺＤＭＣ）、ジエチルジチオカルバミン酸亜鉛（ＺＤＥＣ）、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛（ＺＤＢＣ）、エチルフェニルジチオカルバミン酸亜鉛（ＺＥＰＣ）、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛（ＺＢＥＣ）、ペンタメチレンジチオカルバミン酸亜鉛（Ｚ５ＭＣ）、ジエチルジチオカルバミン酸テルル、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル、ジメチルジチオカルバミン酸ニッケル、およびジイソノニルジチオカルバミン酸亜鉛。
【０２５１】
使用されるチウラムは、たとえば以下のものであってよい：テトラメチルチウラムジスルフィド（ＴＭＴＤ）、テトラメチルチウラムモノスルフィド（ＴＭＴＭ）、ジメチルジフェニルチウラムジスルフィド、テトラベンジルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、またはテトラエチルチウラムジスルフィド（ＴＥＴＤ）。
【０２５２】
使用されるチアゾールは、たとえば以下のものであってよい：２−メルカプトベンゾチアゾール（ＭＢＴ）、ジベンゾチアジルジスルフィド（ＭＢＴＳ）、亜鉛メルカプトベンゾチアゾール（ＺＭＢＴ）、および銅２−メルカプトベンゾチアゾール。
【０２５３】
使用されるスルフェンアミド誘導体は、たとえば以下のものであってよい：Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド（ＣＢＳ）、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド（ＴＢＢＳ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド（ＤＣＢＳ）、２−モルホリノチオベンゾチアゾール（ＭＢＳ）、Ｎ−オキシジエチレンチオカルバミル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルフェンアミド、またはオキシジエチレンチオカルバミル−Ｎ−オキシエチレンスルフェンアミド。
【０２５４】
使用されるキサントゲン酸塩は、たとえば以下のものであってよい：ジブチルキサントゲン酸ナトリウム、イソプロピルジブチルキサントゲン酸亜鉛、またはジブチルキサントゲン酸亜鉛。
【０２５５】
使用されるグアニジン誘導体は、たとえば以下のものであってよい：ジフェニルグアニジン（ＤＰＧ）、ジ−ｏ−トリルグアニジン（ＤＯＴＧ）、またはｏ−トリルビグアニジエン（ＯＴＢＧ）。
【０２５６】
使用されるジチオホスフェートは、たとえば以下のものであってよい：ジ（Ｃ２〜Ｃ１６）アルキルジチオリン酸亜鉛、ジ（Ｃ２〜Ｃ１６）アルキルジチオリン酸銅、およびジチオホスフォリルポリスルフィド。
【０２５７】
使用されるカプロラクタムは、たとえば、ジチオビスカプロラクタムであってよい。
【０２５８】
使用されるチオ尿素誘導体は、たとえば以下のものであってよい：Ｎ，Ｎ’−ジフェニルチオ尿素（ＤＰＴＵ）、ジエチルチオ尿素（ＤＥＴＵ）、およびエチレンチオ尿素（ＥＴＵ）。同様に添加物として好適なものとしては、たとえば以下のものが挙げられる：亜鉛ジアミノジイソシアネート、ヘキサメチレンテトラミン、１，３−ビス（シトラコンイミドメチル）ベンゼン、および環状ジスルファン。
【０２５９】
上述の添加物および架橋剤は、個別に使用しても、あるいは混合物として使用してもよい。ニトリルゴムを架橋させるためには、以下の物質を使用するのが好ましい：硫黄、２−メルカプトベンゾチアゾール、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラメチルチウラムモノスルフィド、ジベンジルジチオカルバミン酸亜鉛、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド、ジアルキルジチオリン酸亜鉛、ジモルホリルジスルフィド、ジエチルジチオカルバミン酸テルル、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、およびジチオビスカプロラクタム。
【０２６０】
架橋剤および上述の添加物はそれぞれ約０．０５〜１０ｐｈｒ、好ましくは０．１〜８ｐｈｒ、特には０．５〜５ｐｈｒの量で使用することができる（単一使用量、それぞれの場合において、活性物質基準）。
【０２６１】
硫黄架橋の場合においては、架橋剤と上述の添加物に加えて、たとえば以下に挙げるさらなる無機物質または有機物質を使用することも同様に可能である：酸化亜鉛、炭酸亜鉛、酸化鉛、酸化マグネシウム、飽和もしくは不飽和の有機脂肪酸およびそれらの亜鉛塩、ポリアルコール、アミノアルコールたとえば、トリエタノールアミン、およびアミン、たとえば、ジブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、シクロヘキシルエチルアミン、およびポリエーテルアミン。
【０２６２】
本発明の水素化ニトリルゴムが、カルボキシル基を含む１種または複数のターモノマーの繰り返し単位を含むものであるならば、架橋は、好ましくは架橋加硫促進剤の存在下、ポリアミン架橋剤を使用することにより、実施することも可能である。ポリアミン架橋剤には限定はないが、ただし、それは、（１）２個以上のアミノ基を含む化合物（任意選択的に塩の形態）、または（２）架橋反応の際にインサイチューで２個以上のアミノ基を含む化合物を形成する化学種のいずれかである。その中で少なくとも２個の水素原子がアミノ基で置換されているか、そうでなければヒドラジド構造（後者は、「−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨＮＨ２」の構造である）で置換されている、脂肪族または芳香族炭化水素化合物を使用するのが好ましい。
【０２６３】
そのようなポリアミン架橋剤（ｉｉ）は以下のものである：
・  脂肪族ポリアミン、好ましくはヘキサメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンカルバメート、テトラメチレンペンタアミン、ヘキサメチレンジアミン−シンナムアルデヒドアダクト、またはヘキサメチレンジアミンジベンゾエート；
・  芳香族ポリアミン、好ましくは２，２−ビス（４−（４−アミノフェノキシ）フェニル）プロパン、４，４’−メチレンジアニリン、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、または４，４’−メチレンビス（ｏ−クロロアニリン）；
・  少なくとも２つのヒドラジド構造を有する化合物、好ましくはイソフタル酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、またはセバシン酸ジヒドラジド。
【０２６４】
特に好ましいのは、ヘキサメチレンジアミン、およびヘキサメチレンジアミンカルバメートである。
【０２６５】
加硫可能な混合物中におけるポリアミン架橋剤の量は、１００重量部の水素化ニトリルゴムを基準にして、典型的には０．２〜２０重量部の範囲、好ましくは１〜１５重量部の範囲、より好ましくは１．５〜１０重量部の範囲である。
【０２６６】
ポリアミン架橋剤と組み合わせて使用される架橋加硫促進剤は、当業者には公知のいかなるものであってもよく、好ましくは塩基性の架橋加硫促進剤である。使用可能な例としては、以下のものが挙げられる：テトラメチルグアニジン、テトラエチルグアニジン、ジフェニルグアニジン、ジ−ｏ−トリルグアニジン（ＤＯＴＧ）、ｏ−トリルビグアニジン、およびジカテコールホウ酸のジ−ｏ−トリルグアニジン塩。さらに使用可能なのは、アルデヒドアミン架橋促進剤、たとえばｎ−ブチルアルデヒドアニリンである。使用される架橋促進剤はいずれも、少なくとも１種の二環もしくは多環のアミン性塩基であるのがより好ましい。それらは、当業者には公知である。次のものが特に好適である：１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデス−７−エン（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，５，７−トリアザビシクロ［４．４．０］デス−５−エン（ＴＢＤ）、７−メチル−１，５，７−トリアザビシクロ［４．４．０］デス−５−エン（ＭＴＢＤ）。
【０２６７】
この場合における架橋性加硫促進剤の量は、１００重量部の水素化ニトリルゴムを基準にして、典型的には０．５〜１０重量部、好ましくは１〜７．５重量部、特には２〜５重量部の範囲内である。
【０２６８】
本発明の水素化ニトリルゴムをベースとする加硫可能な混合物は、原理的には、スコーチ抑制剤が含まれていてもよく、それらは、硫黄を用いた加硫の場合とペルオキシドを用いた加硫の場合とでは異なる。
【０２６９】
硫黄を用いた加硫の場合には、次のものが使用される：シクロヘキシルチオフタルイミド（ＣＴＰ）、Ｎ，Ｎ’−ジニトロソペンタメチレンテトラミン（ＤＮＰＴ）、無水フタル酸（ＰＴＡ）、およびジフェニルニトロソアミン。好ましいのは、シクロヘキシルチオフタルイミド（ＣＴＰ）である。
【０２７０】
ペルオキシドを用いた加硫の場合には、国際公開第Ａ９７／０１５９７号パンフレットおよび米国特許第Ａ４，８５７，５７１号明細書に記載されている化合物を使用して、スコーチを抑制する。立体障害ｐ−ジアルキルアミノフェノール、特には、Ｅｔｈａｎｏｘ  ７０３（Ｓａｒｔｏｍｅｒ製）が好ましい。
【０２７１】
慣用されるさらなるゴム添加剤としては、たとえば以下のものが挙げられる：当業者には公知の典型的な物質、たとえば充填剤、充填剤活性化剤、オゾン劣化防止剤、老化安定剤、抗酸化剤、加工助剤、エキステンダーオイル、可塑剤、補強材、および離型剤。
【０２７２】
使用される充填剤は、たとえば以下のものであってよい：カーボンブラック、シリカ、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化カルシウム、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化鉄、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ケイ酸アルミニウム、珪藻土、タルク、カオリン、ベントナイト、カーボンナノチューブ、Ｔｅｆｌｏｎ（後者は粉体の形状にあるのが好ましい）、またはケイ酸塩。充填剤は、１００重量部の水素化ニトリルゴムを規準にして、典型的には５〜３５０重量部、好ましくは５〜３００重量部の範囲の量で使用される。
【０２７３】
有用な充填剤活性化剤としては、特に、たとえば以下のものが挙げられる：ビス（トリエトキシシリルプロピルテトラスルフィド）、ビス（トリエトキシシリルプロピルジスルフィド）、ビニルトリメチルオキシシラン、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−シクロヘキシル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、イソオクチルトリメトキシシラン、イソオクチルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、または（オクタデシル）メチルジメトキシシラン。さらなる充填剤活性化剤としては、たとえば、トリエタノールアミンおよび７４〜１００００ｇ／ｍｏｌの分子量を有するエチレングリコールなどの界面活性物質が挙げられる。充填剤活性化剤の量は典型的には、ニトリルゴム１００ｐｈｒを基準にして、０〜１０ｐｈｒである。
【０２７４】
有用な離型剤の例としては以下のものが挙げられる：飽和または部分不飽和の脂肪酸およびオレイン酸、ならびにそれらの誘導体（脂肪酸エステル、脂肪酸塩、脂肪族アルコール、脂肪酸アミド）（それらは、混合物成分として使用するのが好ましい）、およびさらには、金型表面に適用することが可能な製品、たとえば低分子量シリコーン化合物をベースとする製品、フルオロポリマーをベースとする製品、およびフェノール樹脂をベースとする製品。
【０２７５】
離型剤は、混合物の一成分として、ニトリルゴムの１００ｐｈｒを基準にして、約０〜１０ｐｈｒ、好ましくは０．５〜５ｐｈｒの量で使用される。
【０２７６】
その他の可能性としては、米国特許第Ａ−４，８２６，７２１号明細書の教示に従った、ガラス製の強化材（繊維）を用いた補強が挙げられ、またそれとは別に、脂肪族および芳香族ポリアミド（Ｎｙｌｏｎ（登録商標）、Ａｒａｍｉｄ（登録商標））、ポリエステル、および天然繊維製品から製造したコード、織布、繊維による補強も挙げられる。
【０２７７】
加硫可能な混合物の製造を目的とした成分の混合は、典型的には、インターナルミキサー中、またはローラー上で実施される。使用されるインターナルミキサーは、典型的には、「かみ合い方式（ｉｎｔｅｒｍｅｓｈｉｎｇ）」のローター形状と呼ばれているものを備えたものである。開始時点で、本発明のニトリルゴムをインターナルミキサーに仕込む。このものは、典型的にはベールの形態であり、この場合、最初に微粉砕される。適切な時間（これは、当業者が容易に決めることができる）の後、添加剤を添加し、典型的には最後に架橋系を添加する。その混合は温度制御下で実施するが、ただし、混合物が、１００〜１５０℃の範囲の温度に適切な時間滞留するようにする。適切な混合時間の後に、インターナルミキサーのガス抜きをし、シャフトをきれいにする。さらなる時間の後に、インターナルミキサーを空にして、加硫可能な混合物を得る。上述の時間はすべて、典型的には数分の範囲であり、当業者であれ製造する混合物に合わせて問題なく決めることができる。混合ユニットとしてローラーを使用するのであれば、同様の方法および順序で、計量仕込みを進行させることが可能である。
【０２７８】
本発明はさらに、本発明の水素化ニトリルゴムをベースとする加硫物を製造するためのプロセスも提供し、それが特徴としているのは、本発明の水素化ニトリルゴムを含む加硫可能な混合物を加硫にかけることである。加硫は、典型的には１００℃〜２００℃の範囲の温度、好ましくは１２０℃〜１９０℃、最も好ましくは１３０℃〜１８０℃の温度で実施する。
【０２７９】
成形プロセスの際に加硫を行わせるのが好ましい。
【０２８０】
この目的のためには、押出機、射出成形系、ローラーまたはカレンダーによって、加硫可能な混合物をさらに加工する。次いで、そのようにして得ることが可能な予備成形した物質を、典型的には、プレス、オートクレーブ、加熱空気系、または自動マット加硫系（ａｕｔｏｍａｔｉｃ  ｍａｔ  ｖｕｌｃａｎｉｚａｔｉｏｎ  ｓｙｓｔｅｍ）と呼ばれる系の中で完全に加硫させ、そこでの有用な温度は、１２０℃〜２００℃、好ましくは１４０℃〜１９０℃の範囲であることが見いだされた。その加硫時間は、典型的には１分〜２４時間、好ましくは２分〜１時間である。加硫物の形状およびサイズによっては、完全な加硫を得るために、さらなる加硫が必要になることもある。
【０２８１】
したがって、本発明は、本発明の水素化ニトリルゴムをベースとする、そのようにして得ることが可能な加硫物も提供する。それらの加硫物は、伝動ベルト、ローラーカバー、シール、キャップ、ストッパー、ホース、床仕上材、シーリングマット、またはシート、形材もしくは膜の形状をとることができる。さらに詳しくは、それらの加硫物は、以下のものであってよい：Ｏ−リングシール、フラットシール、シャフトシーリングリング、ガスケットスリーブ、シーリングキャップ、ダスト保護キャップ、コネクターシール、断熱ホース（添加ＰＶＣの存在下または非存在下）、オイルクーラーホース、空気吸込ホース、パワーステアリングホース、靴底もしくはその部分（または部品）、またはポンプの膜。
【実施例】
【０２８２】
Ｉ．分析測定法
ニトリルゴム中または水素化ニトリルゴム中の２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（Ｖｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＫＢ）の定量的な測定は、内部標準（ナフタレン）を使用したガスクロマトグラフィーにより実施する。測定のためには、３〜５ｇのポリマー（測定精度、０．０１ｇ）を、密閉可能なＥｒｌｅｎｍｅｙｅｒフラスコ内で４０ｍＬのトルエン／ＴＨＦ混合物（容積比、１：１）中に撹拌しながら溶解させる。（５ｍＬのトルエンに溶解させた）２０．０ｍｇの内部標準としてのナフタレンを、その溶液に添加し、撹拌によって均質に分散させる。８０ｍＬのメタノールを添加することにより、ポリマーを沈殿させる。そのセラムをガスクロマトグラフィー（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ（Ｗａｌｄｂｒｏｎｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）、機器：６８９０）により分析し、機器の設定条件は次の通りである：
キャピラリーカラム：ＨＰ−５、長さ：３０ｍ；内径０．３２ｍｍ；膜厚：０．２５μｍ
注入量：１μＬ
注入温度：３２０℃
オーブン温度プログラム：１００℃、加熱速度：１０℃／分、３００℃まで
検出器温度：３００℃。
【０２８３】
これらの条件下では、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾールでは３．４分の保持時間、ナフタレンでは６．４４分の保持時間であることが見出された。
【０２８４】
同じ条件下での独立した測定において、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾールの含量を計算するための基準として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾールのナフタレンに対する相対的な応答比を測定する。
【０２８５】
ニトリルゴム中の２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（Ｖｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＢＫＦ）の定量的な測定は、内部標準（ｎ−ドコサン）を使用したガスクロマトグラフィーで実施する。測定のためには、３〜５ｇのポリマー（測定精度、０．０１ｇ）を、密閉可能なＥｒｌｅｎｍｅｙｅｒフラスコ内で４０ｍＬのトルエン／ＴＨＦ混合物（容積比、１：１）中に撹拌しながら溶解させる。（５ｍＬのトルエンに溶解させた）５０．０ｍｇの内部標準としてのｎ−ドコサンを、その溶液に添加し、撹拌によって均質に分散させる。８０ｍＬのメタノールを添加することにより、ポリマーを沈殿させる。そのセラムをガスクロマトグラフィー（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ（Ｗａｌｄｂｒｏｎｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）、機器：６８９０）により分析し、機器の設定条件は次の通りである：
キャピラリーカラム：ＨＰ−５、長さ：３０ｍ；内径０．３２ｍｍ；膜厚：０．２５μｍ
注入量：１μＬ
注入温度：３２０℃
オーブン温度プログラム：２４０℃、１０分、加熱速度：２０℃／分、３００℃まで
検出器温度：３００℃。
【０２８６】
これらの条件下では、２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）では５．９６分の保持時間、ｎ−ドコサンでは３．７０分の保持時間であることが見出された。
【０２８７】
同じ条件下での独立した測定において、２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）の含量を計算するための基準として、２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）のｎ−ドコサンに対する相対的な応答比を測定する。
【０２８８】
水素化ニトリルゴム中のトリフェニルホスフィン含量は、内部標準を用いたガスクロマトグラフィーによって測定した。その測定のためには、それぞれの場合において、２〜３ｇ±０．０１ｇの水素化ニトリルゴムを小型の試験管内に秤込み、２５ｍＬのアセトンを用いて溶解させ、既知量の内部標準（ドコサン、Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ製；ＣＡ：６２９−９７−０）を添加し、完全に混合してから、５０ｍＬのメタノールを添加することにより希釈して、沈殿させた。キャピラリーカラム（たとえば：ＨＰ−５、０．２５μｍ膜、３０ｍ×０．３２ｍｍＩＤ）を使用したガスクロマトグラフィーにより、その沈殿の上澄みを分離させた。
注入量：１μＬ
注入温度：３００℃
オーブン温度プログラム：１５０℃、１０分＞３００℃、５分
検出器温度：３００℃
検出には、フレームイオン化検出器（ＦＩＤ）を使用した。
【０２８９】
与えられた条件下では、トリフェニルホスフィンおよび内部標準は、以下の保持時間を有している。
トリフェニルホスフィン：８．４７分
ドコサン：８．６５分
【０２９０】
水素化ニトリルゴム中に存在しているトリフェニルホスフィン（ＴＰＰ）の量を定量的に測定するには、ＴＰＰ／ｎ−ドコサンのための応答関数を使用し、それは独立した測定で求めた。
【０２９１】
揮発性画分は、ＩＳＯ  ２４８、４ｔｈ  ｅｄｉｔｏｎ，ｖｅｒｓｉｏｎ  １５．０６．２００５に従って求めた。
【０２９２】
ＩＩ．ＮＢＲの製造
ＩＩ．１．乳化重合
下記の表１に示した配合に基づいて、ＮＢＲラテックスを製造した。すべての供給原料は、１００重量部のモノマー混合物を基準にした重量部で表されている。重合は、温度２０℃で７時間かけて実施し、７４％の重合転化率が得られた。
【０２９３】
【表１】
0006309634.tif 000051
【０２９４】
表１では、分子量を調節するために使用したｔ−ＤＤＭ６）に２つの数値を与えているが、その理由は、全量を一度に計量仕込みしなかったからである。第一の半量を重合開始前に反応器に仕込み、その後、第二の半量を、転化率が１５％になったところで計量仕込みした。
【０２９５】
ＮＢＲラテックスは、２ｍ３の撹拌オートクレーブでバッチ式で製造した。バッチあたり３５０ｋｇのモノマー混合物および全量で７００ｋｇの水を使用した。オートクレーブには、最初に、６００ｋｇの量の水中の乳化剤のＥｒｋａｎｔｏｌ（登録商標）ＢＸＧ（９．８ｋｇ）、Ｂａｙｋａｎｏｌ（登録商標）ＰＱ（２．９４ｋｇ）およびココヤシ脂肪酸のカリウム塩（１．９６ｋｇ）を１８０ｇの水酸化カリウムと共に仕込み、窒素気流を用いてパージした。窒素パージが終了した後、反応器に、脱安定化させたモノマー（１９６ｋｇのブタジエンおよび１５４ｋｇのアクリロニトリル）およびｔ−ＤＤＭ重合調節剤の一部（１．１６ｋｇ）を添加した。その後で、反応器を閉じた。残りの量の水（１００ｋｇ）を使用して、トリス（α−ヒドロキシエチル）アミン、ペルオキソ二硫酸カリウムの水溶液、および重合停止剤溶液を製造した。９５０ｇのペルオキソ二硫酸カリウム（表１によれば０．２７重量部に相当）および５３０ｇのトリス（α−ヒドロキシエチル）アミン（表１によれば０．１５重量部に相当）の水溶液を添加することによって、重合が２０℃で開始され、全重合時間の間、この温度を維持した。転化率を重量分析することにより、重合の進行をモニターした。重合転化率が１５％になったところで、さらなる１．１６ｋｇのｔ−ＤＤＭ重合調節剤（表１に記載の０．３３重量部に相当）を計量仕込みした。７４％の転化率に達したところで（７時間）、亜ジチオン酸ナトリウム／Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン（ＤＥＨＡ）および水酸化カリウムの水溶液を添加することによって、重合を停止させた。水蒸気蒸留によって、未転化モノマーおよびその他の揮発性成分を除去した。
【０２９６】
重合後では、そのラテックスは以下の物性を有していた（表２）。
【０２９７】
【表２】
0006309634.tif 000052
【０２９８】
ＩＩ．２．ＮＢＲラテックスの安定化および仕上げ（以後において、水素化に使用  −  表５参照）
凝集させる前に、それぞれのラテックス２５ｋｇを、４−メチル−２，６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（Ｖｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＫＢ、Ｌａｎｘｅｓｓ  Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ  ＧｍｂＨ製）、または２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（Ｖｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＢＫＦ、Ｌａｎｘｅｓｓ  Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ  ＧｍｂＨ製）と混合した。この目的のためには、Ｖｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＫＢまたはＶｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＢＫＦの水中５０％分散体を使用した。
【０２９９】
Ｖｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＫＢまたはＶｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＢＫＦの水性分散体は、以下の配合に基づき、Ｕｌｔｒａｔｕｒｒａｘを利用して９５〜９８℃で調製した。
３６０ｇ：脱イオン水（ＤＷ水）
４０ｇ：アルキルフェノールポリグリコールエーテル（ＮＰ（登録商標）１０乳化剤、Ｌａｎｘｅｓｓ  Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ  ＧｍｂＨ製）
４００ｇ：Ｖｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＫＢまたはＶｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＢＫＦ、Ｌａｎｘｅｓｓ  Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ  ＧｍｂＨ製
【０３００】
４−メチル−２，６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールまたは２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）の添加は、ラテックス中に存在している固形分を基準にして、重量％で表した。
【０３０１】
各種の実施例で使用した老化安定剤およびその量の概略を表３に示す。
【０３０２】
【表３】
0006309634.tif 000053
【０３０３】
表３に示した実施例のラテックスの凝集は、それぞれのラテックス２５ｋｇを対象に実施して、固形分を得た。この目的のためには、容量１００Ｌの撹拌可能な解放容器を使用した。この容器に、最初にラテックスを仕込み、撹拌しながら加熱して９０℃とし、２０％の塩化ナトリウム水溶液を撹拌しながら徐々に加えて凝集を起こさせた。ラテックスを凝集させるために使用した塩化ナトリウム溶液は、通常の水道水（脱イオン化なし、従ってカルシウムイオンを含む）を用いて作成した。凝集のためには、それぞれの場合において、固形分を基準にして２０重量％の塩化ナトリウムを使用した。
【０３０４】
クラムの洗浄のために、その凝集容器に入口と出口とを備えた。その容器の内側に２本のレールを取り付け、篩（メッシュサイズ２ｍｍ）によって、洗浄を実施する前に出口をふさぐことができるようにして、洗浄操作の際に凝集したゴムクラムが流れ出ないようにした。実施例においては、ラテックスの凝集で得られたラテックスの上澄みは、洗浄の開始まで、その凝集容器から取り出さなかった。換言すれば、そのラテックス上澄みは、希釈洗浄によって除去した。その洗浄は、通常の水道水（脱イオン化なし、従ってカルシウムイオンを含む）を用いて実施し、６０℃で、通水量は一定で、２００Ｌ／時間とした。
【０３０５】
洗浄が終了した後、篩を用いてゴムクラムを取り出し、ウェルディングスクリューで機械的脱水にかけて残存水分含量１０〜１５重量％とし、真空乾燥キャビネット中７０℃でバッチ式の加熱乾燥をさせて、残存水分含量を１．５重量％未満とした。
【０３０６】
乾燥後のニトリルゴム中に存在している老化安定剤の含量を、表４にまとめる。
【０３０７】
【表４】
0006309634.tif 000054
【０３０８】
ＩＩＩ．水素化ニトリルゴムの製造
ＩＩＩ．１．ニトリルゴムの水素化
その水素化は、以下の境界条件下で実施した。
ＮＢＲ濃度：１１．８重量％
水素圧：８０ｂａｒ
撹拌速度：６００ｍｉｎ−１
温度：１２０〜１３０℃
トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド（Ｅｖｏｎｉｋ  Ｄｅｇｕｓｓａ）：０．０８重量％
トリフェニルホスフィン（ＢＡＳＦ）：表５参照
２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）：表５参照
【０３０９】
それぞれの水素化においては、４０Ｌのオートクレーブ中で、セクションＩＩ．２の記載に従って製造したニトリルゴム４．０ｋｇを２９．５０ｋｇのクロロベンゼンに溶解させた。水素化の前に、ポリマー溶液を、撹拌しながら、連続的に窒素（２０ｂａｒ）を用いて１回、および水素（２０ｂａｒ）を用いて２回接触させてから、減圧した。その反応混合物を加熱して１２０℃とし、８０ｂａｒの水素と接触させた。次の工程において、ニトリルゴムに対して、トリフェニルホスフィン助触媒を、２５０ｇのクロロベンゼン中の溶液として反応器内に計量仕込みし、本発明実施例２＊および３＊においては、そのトリフェニルホスフィン含有溶液にＶｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＢＫＦがさらに含まれていた（表５）。（２５０ｇのクロロベンゼンに溶解させた）トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリドを添加することによって、水素化を開始させた。反応の減退を伴いながら、内部温度は徐々に上昇して１３０℃となった。水素化の過程は、Ｋａｕｔｓｃｈｕｋ＋Ｇｕｍｍｉ．Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅ，ｖｏｌ．４２（１９８９），ｎｏ．３，ｐ．１９４−１９７に記載の方法に従って、ＩＲ分光光度法により追跡した。水素化はそれぞれ、表５に記載の反応時間の後、残存二重結合含量が１％未満に達したところで、冷却により停止させた。次いで、そのバッチを減圧した。窒素を通過させることによって、残存している量の水素は除去した。
【０３１０】
【表５】
0006309634.tif 000055
【０３１１】
トリフェニルホスフィンを０．８ｐｈｒから３．０ｐｈｒへと増加させると、水素化速度が増大することが表５から明らかになった（非本発明実施例５〜８）。本発明実施例１＊および２＊と実施例５との比較、ならびに本発明実施例３＊および４＊と実施６との比較から、本発明により、２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（Ｖｕｌｋａｎｏｘ（登録商標）ＢＫＦ（Ｌａｎｘｅｓｓ  Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ  ＧｍｂＨ製）を添加すると、水素化において使用されたトリフェニルホスフィンの量（０．８または１．０重量％）とは無関係に、水素化速度がかなり加速されることが明らかになった。２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）が水素化バッチに、ニトリルゴムと同時に添加されるか（本発明実施例１＊および４＊）または別途に添加されるか（本発明実施例２＊および３＊）は、大きな問題ではない。
【０３１２】
ＩＩＩ．２．ＨＮＢＲのクロロベンゼン中溶液の仕上げ
上のＩＩＩ．１に記述した水素化からの実施例１〜８の水素化ニトリルゴムの、クロロベンゼン溶液からの単離は、事前にロジウムを除去することなく、水蒸気蒸留によって実施した。水蒸気蒸留のためには、撹拌可能な、ジャケット加熱つきの２０Ｌガラスフランジ容器を使用した。スチームは、底部のバルブからフィードした。さらに、そのストリッピング容器には、ＨＮＢＲのクロロベンゼン中溶液に、カルボキシル基を含む水溶性ポリマー（Ｏｒｏｔａｎ（登録商標）、Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ製）の２％水溶液、２％塩化カルシウム水溶液、および希水酸化ナトリウム溶液（０．５％）を連続的に計量添加するための器具が備わっていた。
【０３１３】
ストリッピング容器には最初に８．５Ｌの脱イオン水を仕込み、ジャケット加熱によって９８〜１００℃に加熱した。スチームの導入を開始してから、撹拌速度２０００ｒｐｍで、水素化ニトリルゴムの９５〜１００℃に加熱したクロロベンゼン溶液（０．５ｋｇのＨＮＢＲ／時間）と、Ｏｒｏｔａｎ（登録商標）および塩化カルシウムの水溶液とを、別々に計量添加した。Ｏｒｏｔａｎ（登録商標）および塩化カルシウムの計量添加速度は、いずれの場合においても、そのストリッピング容器内に存在している水素化ニトリルゴム量の１００重量部を基準にして、いずれの時点でも０．３重量部のＯｒｏｔａｎ（登録商標）および０．１５重量部の塩化カルシウムが存在しているように調節した。さらに、希水酸化ナトリウム溶液（０．５％）を添加することによって、そのストリッピングプロセス全体にわたって、その水相のｐＨを７．７〜８．３のｐＨ範囲内に維持した。クロロベンゼンおよび水蒸気からなる気相を、大気圧、９８〜１００℃で留出させ、凝縮させた。ストリッピング容器内に１．５ｋｇのＨＮＢＲが存在するようになったら、直ちにＨＮＢＲ溶液の計量添加を終了させた。その後、水蒸気蒸留をさらに０．５時間継続した。水蒸気蒸留が終了した後では、水素化ニトリルゴムは、水性分散体中に直径範囲３〜１０ｍｍのゴムクラムの形態で存在していた。フランジ容器を開けた後、篩網によりゴムクラムを抜き出した。残存している水は、ドリップ−乾燥およびスクイージング（ｓｑｅｅｚｉｎｇ）により機械的に除去した。残存水分は、１５〜２０重量％の間であった。
【０３１４】
次いで、その水で湿ったＨＮＢＲクラムの乾燥を、６Ｌの容積を有する流動床乾燥機（ＴＧ  ２００高速乾燥機、Ｋｕｒｔ  Ｒｅｔｓｃｈ（Ｈａａｎ／Ｄｕｅｓｓｅｌｄｏｒｆ）製）で実施した。それぞれの場合において、０．５ｋｇの水分を含む水素化ニトリルゴムを、１２０〜１３０℃、５分で乾燥させた。すべての実験において、加熱空気の流速は、１００ｍ３／時間で一定に維持した。２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾールおよび２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）の含量は、乾燥させた水素化ニトリルゴム中で測定した（表６）。
【０３１５】
【表６】
0006309634.tif 000056
【０３１６】
表６からは、本発明により製造された水素化ニトリルゴムには、０．５２〜０．７３重量％の量のトリフェニルホスフィンと、０．０６〜０．１８重量％の量のメチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）とが含まれていることが分かる（実施例１＊〜４＊）。本発明ではない水素化ニトリルゴム５〜８には、０．５３〜２．６重量％の量のトリフェニルホスフィンが含まれるが、メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）は含まれていない。
【０３１７】
加硫物の物性を測定するために、表６の水素化ニトリルゴムからゴム混合物を製造して加硫させ、加硫特性および物性を測定した。ゴム混合物を製造するためには、表７に列記の混合物を使用した。
【０３１８】
【表７】
0006309634.tif 000057
【０３１９】
表７に列記された成分を有するゴム混合物を、「かみ合い式ローター配列（ｉｎｔｅｒｍｅｓｈｉｎｇ  ｒｏｔｏｒ  ｇｅｏｍｅｔｒｙ）」を有するインターナルミキサー（ＧＫ１．５Ｅ、Ｗｅｒｎｅｒ＆Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒ製）（容量、１．５Ｌ）で製造した。その混合物を製造する際には、ローター速度（４０ｒｐｍ）およびラム圧力（８ｂａｒ）を一定に保った。第一の工程において、水素化ニトリルゴムをミキサーに加えた。３０秒後に、その他の混合物成分（ペルオキシドを除く）を、表７に記載した順に添加した。４分の混合時間の後、混合物を排出させた。加硫の直前にペルオキシドを、冷却したローラー上、５０℃未満の温度で混ぜ込んだ。
【０３２０】
ＩＶ．未加硫ゴム混合物の物性
未加硫ゴム混合物の加工特性を評価するために、ＡＳＴＭ  Ｄ１６４６に従ってムーニー粘度（ＭＬ１＋４／１００℃）を測定した。
【０３２１】
それらの混合物の加硫特性は、ＡＳＴＭ  Ｄ５２８９に従い、ムービングダイレオメーター（ＭＤＲ２０００、Ａｌｐｈａ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ製）を使用して、１８０℃で調べた。このようにして、特性加硫計値のＦａ、Ｆｍａｘ、Ｆｍａｘ．−Ｆａ、ｔ１０、ｔ５０、ｔ９０、およびｔ９５を測定した。
【０３２２】
ＤＩＮ  ５３  ５２９、Ｐａｒｔ  ３においては、下記の特性値は、下記の意味合いを有している。
Ｆｍｉｎ．：架橋等温線が最小のときの加硫計の値
Ｆｍａｘ．：加硫計の値の最大値
Ｆｍａｘ−Ｆａ：加硫計の読みにおける最大値と最小値との差
ｔ１０：最終転化率の１０％に到達した時間
ｔ５０：最終転化率の５０％に到達した時間
ｔ９０：最終転化率の９０％に到達した時間
ｔ９５：最終転化率の９５％に到達した時間
【０３２３】
未加硫ゴム混合物について求めた物性値を表８にまとめる。
【０３２４】
【表８】
0006309634.tif 000058
【０３２５】
表８からも明らかなように、本発明において製造されたゴムをベースとするゴム混合物（実施例１＊〜４＊）の加硫速度と、本発明ではない比較例４〜８をベースとするゴム混合物のそれとの間には、顕著な差はない。
【０３２６】
ゴム混合物をベースとして、プレス中、１２０ｂａｒの油圧で１８０℃／２６分かけて加硫させることによって試験片を作成し、（加熱処理することなく）冷却して室温とした。
【０３２７】
下記の標準に基づいて、加硫物の物性を測定した。
ＤＩＮ  ５３５０５：２３℃および７０℃でのショアーＡ硬度（「ショアーＡ／２３℃」および「ショアーＡ／７０℃」）
ＤＩＮ  ５３５１２：レジリエンス（２３℃、７０℃）（「Ｒ２３」および「Ｒ７０」）
ＤＩＮ  ５３５０４：１０％、２５％、５０％、１００％、２００％および３００％伸びにおける応力値（σ１０、σ２５、σ５０、σ１００、σ２００およびσ３００）、引張強度、および破断時伸び
ＤＩＮ  ５３５１６：摩耗
ＤＩＮ  ５３５１７：圧縮永久歪み（ＣＳ）；円筒状の試験片１（高さ：６．３；直径：１３ｍｍ）で測定
７０時間／２３℃で保存後：ＣＳ（７０時間／０２３℃）
７０時間／１５０℃で保存後：ＣＳ（７０時間／１５０℃）
【０３２８】
ゴム混合物の加硫物の物性を表９にまとめる。
【０３２９】
【表９】
0006309634.tif 000059
【０３３０】
表９から、本発明により製造された水素化ニトリルゴムをベースとする加硫物（実施例１＊、２＊、３＊、および４＊）は、本発明によらずに製造されたゴム５、６、７、および８をベースとする加硫物よりも、より高い弾性率レベルおよびより低い圧縮永久歪み（７０時間／２３℃保存後および７０時間／１５０℃保存後の両方とも）を有していることが分かる。特に好ましいレベルの弾性率および圧縮永久歪みは、水素化ニトリルゴム１＊および４＊をベースとした加硫物に見出されるが、これらのＮＢＲ供給原料には、老化安定剤として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが含まれている（および２，２−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールは含まれていない）。