(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
結像される物体（７）を配置することができる物体視野（５）を照明光（１６）で照明するための投影リソグラフィのための照明光学ユニット（４；３２；４４）であって、
複数の視野ファセット（２０）を有する視野ファセットミラー（１９）を含み、
複数の瞳ファセット（２８）を有する瞳ファセットミラー（２５）を含み、
前記視野ファセット（２０）は、伝達光学ユニット（２１，２５，２９ａ；２１，２５；２１，２５，４５）によって前記物体視野（５）内に結像され、
前記視野ファセットミラー（１９）と前記瞳ファセットミラー（２５）の間の照明ビーム経路に配置された複数の偏向ファセット（２２）を有する偏向ファセットミラー（２１）を含み、
前記照明光学ユニットは、前記偏向ファセットミラー（２１）が前記瞳ファセット（２８）上に結像されないよう構成され、
前記偏向ファセットミラー（２１）は、前記照明光（１６）の部分ビームを案内するように位置合わせされた、前記視野ファセット（２０）のうちの１つにより、前記偏向ファセット（２２）のうちの１つにより、そして前記瞳ファセット（２８）のうちの１つによって各々が形成された照明チャネルに沿う前記照明ビーム経路の入射角（α）が、該瞳ファセット（２８）上の多層反射コーティングのブリュースター角から最大で２５°だけずれるように配置されることを特徴とする照明光学ユニット。
【請求項２】
前記偏向ファセット（２２）は、空間的に前記瞳ファセットミラー（２５）のまわりの少なくとも部分リングの形状に配置された偏向ミラー支持体（２６；３３）上に配置されることを特徴とする請求項１に記載の照明光学ユニット。
【請求項３】
前記偏向ファセット（２２）は、空間的に前記瞳ファセットミラー（２５）のまわりの少なくとも部分リングの形状に配置された偏向ミラー支持体（３３）上に配置され、該偏向ミラー支持体（３３）は、該瞳ファセットミラー（２５）の中心（３１）の周りの円周方向に２００°よりも大きく延びないことを特徴とする請求項２に記載の照明光学ユニット。
【請求項４】
前記偏向ファセットミラー（２１）の前記偏向ファセット（２２）の各々が、値１から３０％よりも大きくずれるアスペクト比を有する反射面（３６）を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
【請求項５】
前記瞳ファセットミラー（２５）は、区画的に円錐包形状を有する瞳ファセットミラー支持体（３７，４０）を有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
【請求項６】
前記瞳ファセットミラー支持体（３７，４０）は、二重円錐包区画の形状を有することを特徴とする請求項５に記載の照明光学ユニット。
【請求項７】
前記瞳ファセットミラー（２５）と前記物体視野（６）の間の前記照明ビーム経路内のビーム成形ミラー（２９ａ；４５）を特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の照明光学ユニットを含み、
露光されるウェーハ（１３）を配置することができる像視野（１１）内に物体視野（５）を結像するための投影光学ユニット（１０）を含む、
ことを特徴とする光学系。
【請求項９】
請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の照明光学ユニットを含み、
ＥＵＶ光源（３）を含む、
ことを特徴とする照明系。
【請求項１０】
請求項８に記載の光学系を含み、
ＥＵＶ光源（３）を含む、
ことを特徴とする投影露光装置。
【請求項１１】
結像される物体（７）を物体視野（５）に装着するための物体ホルダ（８）を含み、
物体変位方向（ｙ）に沿った前記物体ホルダ（８）の制御式変位のための物体変位ドライブ（９）を含み、
ウェーハ（１３）を像視野（１１）に装着するためのウェーハホルダ（１４）を含み、  前記物体変位方向（ｙ）に沿った前記ウェーハホルダ（１４）の制御式変位のためのウェーハ変位ドライブ（１５）を含む、
ことを特徴とする請求項１０に記載の投影露光装置。
【請求項１２】
照明光学ユニット（４；３２；４４）が、視野ファセット区画のファセット区画像が前記物体視野（５）の物体視野高さ（５x）全体にわたって前記物体変位方向（ｙ）に対して横断方向に延びる該物体視野（５）内のストリップ（５ａから５ｄ）を表すように具現化されることを特徴とする請求項１１に記載の投影露光装置。
【請求項１３】
構造化構成要素を生成する方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に付けられたウェーハ（１３）を与える段階と、
結像される構造を有するレチクル（７）を与える段階と、
請求項１０から請求項１２のいずれか１項に記載の投影露光装置（１）を与える段階と、
前記投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（７）の少なくとも一部を前記ウェーハ（１３）の前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ドイツ特許出願ＤＥ  １０  ２０１３  ２０４  ４２９．１の内容が引用によって組み込まれている。
【０００２】
本発明は、結像される物体を配置することができる物体視野を照明光で照明するための投影リソグラフィのための照明光学ユニットに関する。本発明は、更に、そのような照明光学ユニットを含む光学系及び照明系、そのような照明系を含む投影露光装置、そのような投影露光装置を用いて微細及び／又はナノ構造化構成要素を生成するための生成方法、並びにそれによって生成される構成要素に関する。
【背景技術】
【０００３】
冒頭で言及したタイプの照明光学ユニットは、ＷＯ  ２０１０／０４９０７６  Ａ２及びＷＯ  ２００９／０９５０５２  Ａ１から公知である。ＵＳ  ２０１１／０  ００１  ９４７  Ａ１及びＵＳ  ６  １９５  ２０１  Ｂ１の各々は、視野ファセットミラー及び瞳ファセットミラーを含む物体視野を照明するための投影リソグラフィのための照明光学ユニットを記載している。個々のミラーアレイを含む照明光学ユニットは、ＷＯ  ２００９／１００  ８５６  Ａ１から公知である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＤＥ  １０  ２０１３  ２０４  ４２９．１
【特許文献２】ＷＯ  ２０１０／０４９０７６  Ａ２
【特許文献３】ＷＯ  ２００９／０９５０５２  Ａ１
【特許文献４】ＵＳ  ２０１１／０  ００１  ９４７  Ａ１
【特許文献５】ＵＳ  ６  １９５  ２０１  Ｂ１
【特許文献６】ＷＯ  ２００９／１００  ８５６  Ａ１
【特許文献７】ＥＰ  １  ２２５  ４８１  Ａ
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が対処する問題は、結像される物体の照明を柔軟に構成し、かつそれを予め定められた値に対して容易に適応可能にする問題である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明により、この問題は、当初請求項１に指定する特徴を含む照明光学ユニットを用いて解決される。
［当初請求項１］
結像される物体（７）を配置することができる物体視野（５）を照明光（１６）で照明するための投影リソグラフィのための照明光学ユニット（４；３２；４４）であって、
複数の視野ファセット（２０）を有する視野ファセットミラー（１９）を含み、
複数の瞳ファセット（２８）を有する瞳ファセットミラー（２５）を含み、
前記視野ファセット（２０）は、伝達光学ユニット（２１，２５，２９ａ；２１，２５；２１，２５，４５）によって前記物体視野（５）内に結像され、
前記視野ファセットミラー（１９）と前記瞳ファセットミラー（２５）の間の照明ビーム経路に配置された複数の偏向ファセット（２２）を有する偏向ファセットミラー（２１）を含む、
ことを特徴とする照明光学ユニット（４；３２；４４）。
【０００７】
本発明により、視野ファセットミラーと瞳ファセットミラーの間に配置された偏向ファセットミラーが、物体視野照明の設計において新しい自由度をもたらすことが認識された。一例として、視野ファセット及び／又は瞳ファセットにおいて特定のターゲット反射角を達成することができる。これらの反射角は、これらのファセットでの反射中のターゲットを定めた偏光効果の利用に向けて使用することができる。視野ファセットミラー及び／又は偏向ファセットミラーは、マルチミラーアレイ又はマイクロミラーアレイとして具現化することができ、特にマイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）として具現化することができる。これに代えて、視野ファセットミラー及び／又は偏向ファセットミラーは、それぞれ巨視的な視野ファセット又は偏向ファセットを有することができる。ファセットミラーのうちの１つがマイクロミラーアレイとして具現化される場合に、ファセットのうちの１つを各々マイクロな個々のミラー又はマイクロミラーの群によって形成することができる。そのようなマイクロミラー群を以下ではファセット個々のミラー群とも記す。各々視野ファセットミラーのマイクロな個々のミラーの群からの１つのそのような視野ファセット領域は、偏向ファセットのうちの１つを照明することができる。原理的に、偏向ファセットのうちの１つを各々マイクロな個々のミラー群によって形成することができる。偏向ファセットは、それぞれの視野ファセット領域の方向から、すなわち、視野ファセットミラーの特定の領域の方向からの照明光を瞳ファセットのうちの正確に１つのもの上に案内するように向けられる。この場合に、視野ファセット領域は、複数又は多数のマイクロな個々のミラーからなる視野ファセットである。偏向ファセットは、異なる傾斜位置の間で、例えば、２つの自由度によって傾斜可能なミラーとして具現化することができる。その結果、例えば、適切な場合はマイクロミラーアレイとして具現化される視野ファセットミラーの複数の視野ファセット、特に複数のマイクロな個々のミラー群を対応する照明光の誘導により、瞳ファセットのうちの正確に１つのものに割り当てることができる。瞳ファセットミラーの瞳ファセットは、その全部において、僅かな絶対傾斜角変化を用いて視野ファセット及び／又は偏向ファセットが到達するように配置することができる。瞳ファセットミラーの瞳ファセットは、六方最密充填配置で配置することができる直交配置、すなわち、行列で配置することができ、又は回転対称に配置することができる。瞳ファセットの配置は、例えば、歪曲効果を補正するために歪曲させることができる。偏向ファセットミラー及び／又は瞳ファセットミラーは、伝達光学ユニットの結像構成部分とすることができ、それぞれ、例えば、凹及び／又は凸の偏向ファセット及び／又は瞳ファセットを含むことができる。偏向ファセット及び／又は瞳ファセットは、楕円形又は双曲形の反射面を有することができる。これに代えて、偏向ファセット及び／又は瞳ファセットを純粋な偏向ミラーとして構成することができる。伝達光学ユニットは、瞳ファセットミラーの下流に配置することができる。視野ファセットミラーは、数百個の視野ファセットを有することができる。瞳ファセットミラーは、数千個の瞳ファセットを有することができる。偏向ファセットの個数は、瞳ファセットの個数に等しいとすることができる。視野ファセットの個数は、瞳ファセットの個数に等しいとすることができる。視野ファセット、及び適切な場合にこれらの視野ファセットを構成するマイクロな個々のミラーは、ビーム成形に向けて曲面又はこれに代えて平面の反射面を有することができる。偏向ファセットミラーの偏向ファセットは、ビーム成形に向けて曲面又はこれに代えて平面の反射面を有することができる。偏向ファセットの個数は、瞳ファセットの個数に少なくとも等しいとすることができる。視野ファセットミラーの視野ファセットの個数、又は視野ファセットを形成するマイクロな個々のミラーの個数は、偏向ファセットの個数よりもかなり大きいとすることができ、例えば、１０倍大きく、又は更にそれよりも大きいとすることができる。照明光学ユニットは、偏向ファセットミラーが瞳ファセット上に結像されないように構成することができる。照明光学ユニットは、視野ファセットが偏向ファセット上に結像されないように構成することができる。物体視野にわたる又は物体視野が内部に結像される像視野にわたる強度分布及び／又は照明角度分布の補正に向けて経路を逸らすことにより、視野ファセットミラー及び／又は偏向ファセットミラーの補正マイクロミラーを使用することができる。視野ファセット、偏向ファセット、及び／又は瞳ファセットの反射面は、物体視野内への結像の結像収差を最小にするために、非球面として構成することができる。この照明光学ユニットを用いて照明光の偏光制御をもたらすことができる。特に、物体構造において回折される照明光の回折角によって予め決定される回折平面が、それぞれの回折平面の法線から４５°よりも大きく、２５°よりも大きく、１５°よりも大きく、１０°よりも大きく、又は更に５°よりも大きくずれない照明光の偏光方向との角度を構成するような直線偏光照明光によって物体構造が結像される、投影リソグラフィのための照明幾何学形状及び撮像幾何学形状をもたらすことができる。結像を最適化するために、これらの幾何学形状を使用することができる。視野ファセットミラーの視野ファセットは、物体視野内への視野ファセットの結像中の結像効果を少なくとも部分的に補償するために、物体視野の形態からずれることができる。この目的のために、視野ファセットミラーは、個々の視野ファセット形態タイプが互いに異なる複数の視野ファセット形態タイプを有することができる。瞳ファセットミラーは、照明光の光源が結像される平面の領域に配置することができる。視野ファセット及び／又は瞳ファセット自体を複数の個々のミラーに再分割することができる。瞳ファセットミラーは、照明光学ユニット内で照明光を案内する最後の構成要素とすることができる。偏向ファセットミラー、瞳ファセットミラー、及び／又は視野ファセットミラーは、少なくとも１つのピボットドライブの周りにピボット可能なものとして具現化することができる。それによって物体照明に向けて偏光の向きの事前決定をもたらすことができる。これに代えて又はこれに加えて、物体視野内への視野ファセットの重ね合わせ結像��の結像の向きの事前決定をもたらすことができる。ピボット可能な偏向ファセットミラーに加えて視野ファセットミラーもピボット可能なものとして具現化される場合に、視野ファセットミラーの絶対ピボット角度は、関係する偏向ファセットミラーの絶対ピボット角度の２倍の大きさを有することができる。瞳ファセットミラーは、偏向ファセットミラーと共にピボット回転させることができる。視野ファセットが各々マイクロミラー群によって形成される視野ファセットミラーのマイクロミラー実施形態の場合に、視野ファセットミラーのピボット回転の代わりに、視野ファセットのそれぞれの向きの再設定を相応に向きが再設定される視野ファセットへのマイクロミラー群の再割り当てによって行うことができる。この場合に、視野ファセットミラーに対するピボットドライブを割愛することができる。
【０００８】
当初請求項２に記載の入射角は、直線偏光照明光線のターゲットを定めた設定を可能にする。それによって特に、照明光線の偏光方向が各々照明される物体上の照明光線の入射平面に対して垂直である物体視野のタンジェンシャル照明をもたらすことができる。特に、全ての照明チャネルが、当初請求項２に記載の入射角条件を満たすことができる。ブリュースター角（Ｂｒｅｗｓｔｅｒ  ａｎｇｌｅ）からの入射角の偏角は、最大で２０°、最大で１５°、最大で１０°、又は最大で５°とすることができる。瞳ファセット上の入射角のブリュースター角からのより小さい偏角も可能である。照明光は、視野ファセットと、各々偏向ファセットのうちの少なくとも１つによってそれぞれの照明チャネルに割り当てられた瞳ファセットとの間で照明チャネルに沿って偏向される。本出願の意味の範囲での視野ファセットは、物体視野内に一緒に結像される視野ファセットミラーのマイクロミラーの全体的にも理解しなければならない。視野ファセットのうちの１つと共に照明チャネルを形成する瞳ファセットは、瞳ファセットミラーの個々のミラー、特にマイクロな個々のミラーの全体として具現化することもできる。
［当初請求項２］
前記偏向ファセットミラー（２１）は、前記照明光（１６）の部分ビームを案内するように位置合わせされた前記視野ファセット（２０）のうちの１つにより、前記偏向ファセット（２２）のうちの１つにより、かつ前記瞳ファセット（２８）のうちの１つによって各々が形成された照明チャネルに沿う前記照明ビーム経路の入射角（α）が、該瞳ファセット（２８）上の多層反射コーティングのブリュースター角から最大で２５°だけずれるように配置されることを特徴とする当初請求項１に記載の照明光学ユニット。
【０００９】
当初請求項３に記載の偏向ファセットミラーの偏向ミラー支持体（ｄｅｆｌｅｃｔｉｏｎ  ｍｉｒｒｏｒ  ｃａｒｒｉｅｒ）は、瞳ファセットミラーを完全に取り囲む完全リングとして、又は外周領域内で瞳ファセットミラーを取り囲む部分リングとしても具現化することができる。
［当初請求項３］
前記偏向ファセット（２２）は、空間的に前記瞳ファセットミラー（２５）のまわりの少なくとも部分リングの形状に配置された偏向ミラー支持体（２６；３３）上に配置されることを特徴とする請求項１又は当初請求項２に記載の照明光学ユニット。
【００１０】
当初請求項４に記載の偏向ミラー支持体の半リング方式での配置は、偏向ミラー支持体に対して瞳ファセットミラーの反対側にある結像ビーム経路に対して構造空間を開放することができる。瞳ファセットミラーの周りの偏向ミラー支持体の別の部分リング配置では、偏向ミラー支持体は、瞳ファセットミラーの中心の周りの円周方向に１８０°よりも大きく延び、例えば、２１０°、２４０°、２７０°、又は３００°だけ延びることができる。
［当初請求項４］
前記偏向ファセット（２２）は、空間的に前記瞳ファセットミラー（２５）のまわりにある少なくとも部分リングの形状に配置された偏向ミラー支持体（３３）上に配置され、該偏向ミラー担体（３３）は、該瞳ファセットミラー（２５）の中心（３１）の周りの円周方向に２００°よりも大きく延びないことを特徴とする当初請求項３に記載の照明光学ユニット。
【００１１】
当初請求項５に記載のアスペクト比を有する偏向ファセットは、照明光の光線方向の偏向ファセットの投影、すなわち、偏向ファセットからの反射面境界が１という値の領域内にアスペクト比を有するように配置することができる。その結果、個々のミラーの充填密度を最適化することができる。これに代えて、照明光の光線方向の偏向ファセットのこの投影は、１よりも大きく、特に１よりも有意に大きいアスペクト比、例えば、２、３というアスペクト比、又は他にそれよりも更に大きいアスペクト比を有することができる。１という値から最大で３０％だけずれるアスペクト比を有する偏向ファセットの反射面も可能である。
［当初請求項５］
前記偏向ファセットミラー（２１）の前記偏向ファセット（２２）の各々が、値１から３０％よりも大きくずれるアスペクト比を有する反射面（３６）を有することを特徴とする当初請求項１から当初請求項４のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
【００１２】
当初請求項６に記載の瞳ファセットミラー支持体の実施形態は、瞳ファセットミラーの幾何学形状を必要とされる反射幾何学形状に適応させることを可能にする。瞳ファセットミラー支持体の円錐包区画（ｃｏｎｅ  ｅｎｖｅｌｏｐｅ  ｓｅｃｔｉｏｎ）が一区画を構成する元の円錐（錐、ｃｏｎｅ）の開き角は、９０°の領域内にあるとすることができる。円錐包区画の方位角は、偏向ファセットミラーの外周角に適応させることができ、１８０°の領域内にあるとすることができる。
［当初請求項６］
前記瞳ファセットミラー（２５）は、区画的に円錐包形状を有する瞳ファセットミラー支持体（３７，４０）を有することを特徴とする当初請求項１から当初請求項５のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
【００１３】
当初請求項７に記載の瞳ファセットミラー支持体の実施形態は、照明光学ユニットの瞳平面、すなわち、物体視野の照明角度分布を予め定める照明光強度分布を有する平面が、視野ファセットミラー支持体の形状を表す包区画（ｅｎｖｅｌｏｐｅ  ｓｅｃｔｉｏｎ）を有する二重円錐の頂点と交わるようなものとすることができる。瞳ファセットミラー支持体の二重円錐配置は、特に半円形偏向ファセットミラーとの関係において、偏向ファセットミラーの全ての外周角度から見て瞳ファセットミラーが傾斜した線を形成するようなものとすることができる。二重円錐の円錐軸は、偏向ミラー支持体の部分円配置の円の中心を通過することができる。瞳ファセット上で実質的に一定の入射角を有する瞳ファセットミラーの照明が可能になる。更に、それによって照明光に対する偏光子としての瞳ファセットミラーの構成が可能になる。
［当初請求項７］
前記瞳ファセットミラー支持体（３７，４０）は、二重円錐包区画の形状を有することを特徴とする当初請求項６に記載の照明光学ユニット。
【００１４】
当初請求項８に記載のビーム成形ミラー、すなわち、特に発散影響ミラーは、照明光学ユニットの射出瞳の位置に影響を及ぼすことを可能にする。ビーム成形ミラーは、平面からずれた反射面を有する。
［当初請求項８］
前記瞳ファセットミラー（２５）と前記物体視野（６）の間の前記照明ビーム経路内のビーム成形ミラー（２９ａ；４５）を特徴とする当初請求項１から当初請求項７のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
【００１５】
当初請求項９に記載の光学系、当初請求項１０の記載の照明系、当初請求項１１に記載の投影露光装置、当初請求項１４に記載の生成方法、及び当初請求項１５に記載の構成要素の利点は、照明光学ユニットを参照して上述したものに対応する。ＥＵＶ光源は、５ｎｍと３０ｎｍの間の波長領域のＥＵＶ照明光を生成することができる。
［当初請求項９］
当初請求項１から当初請求項８のいずれか１項に記載の照明光学ユニットを含み、
露光されるウェーハ（１３）を配置することができる像視野（１１）内に物体視野（５）を結像するための投影光学ユニット（１０）を含む、
ことを特徴とする光学系。
［当初請求項１０］
当初請求項１から当初請求項８のいずれか１項に記載の照明光学ユニットを含み、
ＥＵＶ光源（３）を含む、
ことを特徴とする照明系。
［当初請求項１１］
当初請求項９に記載の光学系を含み、
ＥＵＶ光源（３）を含む、
ことを特徴とする投影露光装置。
【００１６】
当初請求項９に記載の光学系の投影光学ユニットは、特に８倍の縮小を達成するように具現化することができる。それによって特に反射方式からなる物体上への照明光の入射角が制限される。当初請求項８に記載の照明系の伝達光学ユニット、特にビーム成形ミラーは、照明光学ユニットの射出瞳が、照明ビーム経路内で物体視野の５ｍよりも上流に（ｉｎ  ｔｈｅ  ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎ  ｂｅａｍ  ｐａｔｈ  ｍｏｒｅ  ｔｈａｎ  ５ｍ  ｕｐｓｔｒｅａｍ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｏｂｊｅｃｔ  ｆｉｅｌｄ）位置するように設計することができる。これに代えて、無限遠における照明光学ユニットの射出瞳の位置を達成することができ、すなわち、照明光学ユニットのテレセントリック性を達成するか、又は物体視野の下流の照明ビーム経路内、すなわち、下流の投影光学ユニットの投影ビーム経路内の射出瞳の位置を達成することができる。
【００１７】
投影露光装置の照明光学ユニットは、適切な場合は光源によって予め部分偏光状態にされている照明光が、特に、照明光学ユニットを用いて生成される直線偏光照明光線が、この事前偏光のうちで可能な最も多くの部分を含むように照明光学ユニット内で案内されるように、光源と整合させることができる。それによって投影露光装置の使用光効率が最適化される。
【００１８】
当初請求項１３に記載の照明光学ユニットは、照明設定の選択に向けて変形に富む可能性を有する投影露光装置をもたらす。選択される瞳領域の均一な充満をもたらすことができる。ファセット区画像は、物体視野内で重なることができる。しかし、この重ね合わせは必須ではない。ファセット区画像は、物体視野内で互いに接することができる。
［当初請求項１２］
結像される物体（７）を物体視野（５）に装着するための物体ホルダ（８）を含み、
物体変位方向（ｙ）に沿った前記物体ホルダ（８）の制御式変位のための物体変位ドライブ（９）を含み、
ウェーハ（１３）を像視野（１１）に装着するためのウェーハホルダ（１４）を含み、 前記物体変位方向（ｙ）に沿った前記ウェーハホルダ（１４）の制御式変位のためのウェーハ変位ドライブ（１５）を含む、
ことを特徴とする当初請求項１１に記載の投影露光装置。
［当初請求項１３］
照明光学ユニット（４；３２；４４）が、視野ファセット区画のファセット区画像が前記物体視野（５）の物体視野高さ（５x）全体にわたって前記物体変位方向（ｙ）に対して横断方向に延びる該物体視野（５）内のストリップ（５ａから５ｄ）を表すように具現化されることを特徴とする当初請求項１２に記載の投影露光装置。
［当初請求項１４］
構造化構成要素を生成する方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に付けられたウェーハ（１９）を与える段階と、
結像される構造を有するレチクル（７）を与える段階と、
当初請求項１１から当初請求項１３のいずれか１項に記載の投影露光装置（１）を与える段階と、
前記投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（７）の少なくとも一部を前記ウェーハ（１３）の前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
［当初請求項１５］
当初請求項１４に記載の方法によって生成された構成要素。
【００１９】
本発明の例示的実施形態を図面を参照して以下により詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】照明結像光のビーム経路が子午断面に再現された照明光学ユニットと投影光学ユニットとを含む投影リソグラフィのための投影露光装置を非常に概略的に示す図である。
【図２】投影露光装置の照明光学ユニットの一部としての瞳ファセットミラーと照明ビーム経路に瞳ファセットミラーの上流に配置された偏向ファセットミラーとの図１の視線方向ＩＩから見た略平面図である。
【図３】投影露光装置のための照明光学ユニットの更に別の実施形態を示し、光源の下流に配置された中間フォーカスと照明光学ユニットの物体視野又は照明視野との間の照明ビーム光路を示す図１と類似の概略図である。
【図４】図３の視線方向ＩＶから見た瞳ファセットミラーと上流の偏向ファセットミラーとを図２と類似の図に示す平面図である。
【図５】図４に記載の偏向ファセットミラーの偏向ファセットの反射面の平面図である。
【図６】図４及び図５に記載の実施形態の瞳ファセットミラーの図３の視線方向ＶＩから見た斜視図である。
【図７】図３、図４、及び図６に記載の瞳ファセットミラーを示す図４に対して拡大した図である。
【図８】投影露光装置の照明光学ユニットの更に別の実施形態を示す図１及び図３と類似の図である。
【図９】投影露光装置の走査方向に対して所定可能な四重極の向きを有する四重極照明をもたらすように具現化された瞳ファセットミラー及び偏向ファセットミラーのピボット可能な実施形態を図４と類似の図に示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、マイクロリソグラフィ投影露光装置１を子午断面に非常に概略的に示している。
【００２２】
投影露光装置１の照明系２は、放射線源又は光源３に加えて、物体平面６の物体視野５を露光するための照明光学ユニット４を有する。
【００２３】
位置関係の説明を簡易化するために、以下では図面内で直交ｘｙｚ座標系を使用する。図１では、ｘ軸はこの図と垂直にその中に入り込むように延びている。ｙ軸は、図１の右に向けて延びている。ｚ軸は、ｘｙ平面と垂直に図１の下方に延びている。ｚ軸は、物体平面６と垂直に延びている。
【００２４】
下記の図の中からの代表的な図には局所直交ｘｙｚ座標系を描示しており、これらの場合に、ｘ軸は、図１に記載のｘ軸と平行に延び、ｙ軸は、このｘ軸と共にそれぞれの光学要素の光学面又は反射面を張る。局所ｘｙｚ座標系のｙ軸は、図１に記載の広域直交ｘｙｚ座標系のｙ軸に対して傾斜している場合がある。
【００２５】
物体視野５は、１よりも大きく、例えば、１３／１、１０／１、又は３／１であるｘ／ｙアスペクト比を有する矩形又は弓形の方式で設計することができる。微細構造及び／又はナノ構造の半導体構成要素を生成するために投影露光装置１を用いて投影される構造を有する（ｂｅａｒｉｎｇ）物体視野５に配置された反射レチクル７が、照明光学ユニット４を用いて露光される。レチクル７は、物体変位ドライブ９を用いて駆動される方式でｙ方向に変位可能な物体ホルダ又はレチクルホルダ８によって支持される（ｃａｒｒｉｅｄ）。図１に極めて概略的に示す投影光学ユニット１０は、物体視野５を像平面１２の像視野１１に結像するように機能する。照明光学ユニット４と投影光学ユニット１０とは、投影露光装置１の光学構成要素の全体としての光学系を形成する。レチクル７上の構造は、像平面１２の像視野１１の領域に配置されたウェーハ１３の感光層上に結像される。ウェーハ１３は、投影露光中にウェーハ変位ドライブ１５を用いてレチクルホルダ８と同期して駆動される方式でｙ方向に変位したウェーハホルダ１４によって支持される。実際には、レチクル７及びウェーハ１３は、物体視野５及び像視野１１よりも有意に大きい。
【００２６】
投影露光装置１の作動中に、レチクル７とウェーハ１３とはｙ方向に同期して走査される。投影光学ユニット１０の結像スケールに基づいて、ウェーハ１３に対して反対の方向にレチクル７を走査することができる。
【００２７】
放射線源３は、５ｎｍと３０ｎｍの間の範囲の放出使用放射線を有するＥＵＶ放射線源である。ＥＵＶ放射線源は、プラズマ光源、例えば、ＧＤＰＰ（ガス放電生成プラズマ）光源又はＬＰＰ（レーザ生成プラズマ）光源とすることができる。他のＥＵＶ放射線源、例えば、シンクロトロン又は自由電子レーザ（ＦＥＬ）に基づくものも可能である。
【００２８】
放射線源３から射出し、図１に一点鎖線の主光線に示すＥＵＶ放射線ビーム１６が、コレクター１７によってフォーカスされる。対応するコレクターが、例えば、ＥＰ  １  ２２５  ４８１  Ａから公知である。以下では、ＥＵＶ放射線ビーム１６を使用放射線、照明光、又は結像光とも記す。
【００２９】
コレクター１７の下流において、ＥＵＶ放射線ビーム１６は中間フォーカス１８を通って伝播し、その後に、視野ファセットミラー１９上に入射する。視野ファセットミラー１９の上流には、使用ＥＵＶ放射線ビーム１６を投影露光に使用することができない放射線源３による他の放出波長成分から分離するスペクトルフィルタを配置することができる。スペクトルフィルタは例示していない。
【００３０】
視野ファセットミラー１９は、物体平面６と光学的に共役な照明光学ユニット４の平面に配置される。視野ファセットミラー１９は複数の視野ファセット２０を含み、そのうちの一部のものだけを図１に略示している。視野ファセットミラー１９は、数百個の視野ファセット２０を有することができる。視野ファセットミラー１９の視野ファセット２０は、物体視野５のｘ／ｙアスペクト比にほぼ一致するｘ／ｙアスペクト比を有する。従って、視野ファセット２０は、１よりも大きいｘ／ｙアスペクト比を有する。視野ファセット２０の長いファセット辺はｘ方向に延びている。視野ファセット２０の短いファセット辺はｙ方向（走査方向）に延びている。
【００３１】
視野ファセットミラー１９は、マイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）として具現化することができる。この場合に、視野ファセットミラー１９は、アレイ内に行と列とで行列状の方式で配置された複数の視野ファセット個々のミラーを有し、図面にはこれらのミラーを詳細に示していない。そのような個々のミラー再分割に関する一例は、ＵＳ  ２０１１／０００１９４７  Ａ１に示されている。ファセット個々のミラーは、正方形反射面又は矩形反射面を有することができる、又は他に例えば、菱形又は平行四辺形の形態にある異なる境界を有する反射面を有することができる。ファセット個々のミラーの境界形態は、タイル分割の理論から公知のものに対応することができる。特に、ＵＳ  ２０１１／０００１９４７  Ａ１及びそこに示されている参考文献から公知のタイル分割を使用することができる。
【００３２】
ファセット個々のミラーは、平面又は曲面、例えば、凹の反射面を有することができる。ファセット個々のミラーは、各々アクチュエータに接続され、それぞれのファセット個々のミラーの反射平面内で互いに対して垂直な２つの軸の周りに傾斜可能であるように設計される。これらのアクチュエータは、例示していない方式で中央制御デバイス２４（図１を参照されたい）に信号接続され、ファセット個々のミラーの個々の傾斜に向けてこの中央制御デバイス２４によってアクチュエータを駆動することができる。
【００３３】
全体的に、視野ファセットミラー１９は約１００  ０００個のファセット個々のミラーを有する。ファセット個々のミラーのサイズに基づいて、視野ファセットミラー１９は、例えば、１０００個、５０００個、７０００個、又は他に数十万個、例えば、５００  ０００個のファセット個々のミラーを有することができる。これに代えて、ファセット個々のミラーの個数は、有意に少ないとすることができる。ファセット個々のミラーは群に組み合わされ、各々ファセット個々のミラー群のうちの１つが視野ファセット２０のうちの１つを形成する。そのような群組合せの一例は、同じくＵＳ  ２０１１／０００１９４７  Ａ１に示されている。ファセット個々のミラーは、ＥＵＶ使用光１６のそれぞれの入射角及び波長に対して最適化された高反射多層を有することができる。正方形形状に対する代替として、視野ファセット個々のミラーは、１という値から例えば５０％よりも大きくずれたアスペクト比を有する反射面を有することができる。値１からずれたアスペクト比を有するそのような視野ファセット個々のミラーは、照明光１６の光線方向の視野ファセット個々のミラーの投影が、１という値の領域内のアスペクト比を有するように配置することができる。
【００３４】
視野ファセット２０は、照明光１６の部分ビームを偏向ファセットミラー２１上に反射する。
【００３５】
次いで、偏向ファセットミラー２１の偏向ファセット２２が、照明光１６の部分ビームを瞳ファセットミラー２５上に反射する。
【００３６】
偏向ファセット２２は、瞳ファセットミラー２５の周りに完全リングとして配置された偏向ミラー支持体２６上に配置される。これを図２に例示している。図１では、偏向ミラー支持体２６を破線形式に示している。偏向ミラー支持体２６によって予め決定される、偏向ファセットミラー２１のミラー支持面（ｍｉｒｒｏｒ  ｃａｒｒｉｅｒ  ｓｕｒｆａｃｅ）は、偏向ミラー支持体２６のリング平面２７に対して傾斜し、リング形偏向ミラー支持体２６の周りで円錐区画として延びている。偏向ファセット２２は、偏向ミラー支持体２６上に配置され、これらの偏向ファセットの反射面は、好ましくは、偏向ミラー支持体２６のミラー支持面の局所的な向きと平行である。偏向ミラー支持体２６のミラー支持面の局所的な向きに対する偏向ファセット２２の反射面の傾斜した向きも可能である。偏向ファセット２２の反射面の向きをアクチュエータ２３を用いて２つの軸において傾斜させることができる。
【００３７】
瞳ファセットミラー２５は、投影レンズ１０の瞳平面に対して光学的に共役な領域に位置する。同時に、瞳ファセットミラー２５は、光源３又は中間フォーカス１８が結像される平面の領域に配置される。
【００３８】
瞳ファセットミラー２５は、多数の瞳ファセット２８を有し、これらの瞳ファセット２８を一例として図２に円として略示している。図２には、偏向ファセットミラー２１を通して瞳ファセットミラー２５上に入射する照明光１６のいくつかの部分ビームを矢印で例示している。この場合に、明瞭性を改善するために、偏向ファセットミラー２１をそれ自体、図１に記載の図から明らかなように、その裏側ではなく、その反射側が閲覧者に対面するように例示している。偏向ファセット２２の各々は、視野ファセット２０から反射された照明光１６を正確に１つの瞳ファセット２８を通して案内する。アクチュエータ２３を用いて偏向ファセット２２の向きの切り換えることにより、異なる視野ファセット２０の光を交互に１つの同じ瞳ファセット２８を通して案内することができる。
【００３９】
視野ファセットミラー１９の視野ファセット２０は、偏向ファセットミラー２１と瞳ファセットミラー２５とによって形成され、又は視野ファセットミラー１９と物体視野５との間、特に瞳ファセットミラー２５と物体視野５の間に更に別の構成要素が属するかのいずれかである伝達光学ユニットによって物体視野５に結像される。視野ファセット２０の各々が照明光１６によって完全に照明される場合に、各視野ファセット２０を物体視野５全域に結像することができる。視野ファセット２０自体は、複数の個々のミラーから構成することができる。瞳ファセット２８自体は、複数の個々のミラーから構成することができる。
【００４０】
視野ファセットミラー１９の視野ファセット２０、偏向ファセット２２、及び瞳ファセットミラー２５の瞳ファセット２８は、使用光１６の波長と整合された多層反射コーティングを有する。瞳ファセット２８は、丸形、六角形、又は矩形の方式で具現化することができ、それに関連付けられた対称性に則して配置することができる。
【００４１】
瞳ファセットミラー２５は、１００超から数千個の瞳ファセット２８、例えば、１０  ０００個の瞳ファセット２８を有する。視野ファセットミラー１９の視野ファセット２０の個数は、瞳ファセットミラー２５の瞳ファセット２８の個数に等しいか又はそれ未満のことができる。偏向ファセット２２の個数は、瞳ファセット２８の個数に対応し、特に正確に等しい。
【００４２】
視野ファセット２０及び瞳ファセット２８は、各々より具体的な詳細に関しては例示していないファセットミラー支持体上に配置される。例示的実施形態において、ファセットミラー１９のファセットミラー支持体は平面方式で具現化される。これに代えて、ファセットミラー支持体は、曲面方式、例えば、球面曲面方式で具現化することができる。瞳ファセットミラー２５のファセットミラー支持体は、凹型で具現化される。図１に記載の実施形態の場合に、瞳ファセットミラー２５のファセットミラー支持体は、円錐包形状（ｃｏｎｅ  ｅｎｖｅｌｏｐｅ  ｓｈａｐｅ）を有する。瞳ファセットミラー２５の円錐頂点２９は、瞳ファセット２８の反射面から対向し、瞳ファセットミラー２５の中心３１に位置する。従って、瞳ファセットミラー支持体は、円錐包区画の形状を有する。図１に記載の実施形態において、この円錐の開き角は１２０°の領域内にある。円錐の方位角は３６０°である。
【００４３】
視野ファセット２０と偏向ファセット２２とを用いて、中間フォーカス１８は、各々光線のビーム１６で照明される瞳ファセット２８上に結像される。中間フォーカス１８の像は、照明される瞳ファセット２８の各々の上に向けられる。この結像は完全でなくてもよい。
【００４４】
視野ファセット２０のうちの１つ又は視野ファセットを形成する視野ファセット個々のミラーの群により、偏向ファセット２２のうちの１つにより、かつ瞳ファセット２８のうちの１つによって照明チャネルが形成される。視野ファセットミラー１９の個々のミラーのうちの何個がそれぞれの照明チャネルに寄与するかに基づいて、この中間フォーカス像は、照明光１６が視野ファセット個々のミラーのうちのそれぞれを通してそれぞれの瞳ファセット２８上に案内されることに起因してもたらされる複数の中間フォーカス像の重ね合わせ像として実現することができる。この場合に、中間フォーカス像は、正確にそれぞれの照明チャネルの瞳ファセット２８上に向けられる必要はない。特に中間フォーカス像が瞳ファセット２８上にほぼ完全に置かれるように、それぞれの瞳ファセット２８を中間フォーカス像の領域に置くだけで十分である。同様に、例えば、照明チャネルの照明光エネルギのうちの９５％が、それぞれの瞳ファセット２８上に入射し、すなわち、中間フォーカス像の僅かな部分が、瞳ファセット２８上に置かれることにならない場合でも十分とすることができる。
【００４５】
偏向ファセット２２と、瞳ファセット２８と、光線のビーム１６のビーム経路に瞳ファセットミラー２５の下流に配置されたビーム成形ミラー２９ａとを用いて、視野ファセット２０は、物体視野５上に互いに重ね合わされる方式で結像される。
【００４６】
レチクル７における照明光１６の主光線ＣＲと物体平面６に対する法線の間の主光線角度は、例えば、６°であり、３°と８°の間の範囲にあるとすることができる。物体視野５を照明する光線のビーム１６の合計開口角は、反射レチクル７がウェーハ上に均一に結像されるように、この主光線角度と整合される。レチクル７によって反射された光線のビーム１６（図１を参照されたい）は、レチクル７上に入射する光線のビーム１６の完成に外側に位置する。
【００４７】
視野ファセット２０、偏向ファセット２２、又は瞳ファセット２８のどれが結像伝達光学ユニットの構成部分であるかに基づいて、視野ファセット２０、偏向ファセット２２、及び／又は瞳ファセット２８は、結像効果を有し、すなわち、特に凹又は、凸の方式で設計され、又は純粋な偏向ミラー、平面ミラー、又は平面ファセットとして具現化されるかのいずれかである。視野ファセット２０、偏向ファセット２２、及び／又は瞳ファセット２８は、照明光学ユニット４の結像収差の補正のための補正非球面を有することができる。
【００４８】
偏向ファセットミラー２１は、各々それぞれの照明光部分光線を案内するように位置合わせした視野ファセット２０のうちの１つと、偏向ファセット２２のうちの１つと、瞳ファセット２８のうちの１つとによって形成される照明チャネルに沿った照明光１６の部分ビーム又は部分光線の照明ビーム光路の入射角αが、それぞれの瞳ファセット２８上の多層反射コーティングのブリュースター角から最大でも２０°、又は最大でも１５°、最大でも１０°、最大でも５°、又は最大でも３°だけしかずれないように配置される。従って、瞳ファセット２８は、照明光１６が、瞳ファセット２８での反射の後に、瞳ファセット２８上のそれぞれの照明光部分ビームの入射平面に対してｓ偏光状態にあるという効果を有する偏光要素として機能する。図１ではこのｓ偏光を照明光１６の部分光線上に点３０に示している。従って、図１の作図面内で進む照明光１６の光線は、瞳ファセット２８での反射の後に作図面に対して垂直な偏光状態にある。
【００４９】
瞳ファセットミラー２５に対する偏向ファセットミラー２１の配置の他の実施形態において、ブリュースター入射角に対する入射角αの偏角は、３．３°よりも大きいとすることができる。ブリュースター角からの入射角αの偏角は、最大でも２５°、最大でも２０°、最大でも１５°、最大でも１０°、最大でも５°とすることができ、又は上述の例示的実施形態において、更に小さいとすることができる。
【００５０】
視野ファセットミラー１９の視野ファセット２０の個数は、偏向ファセット２２の個数に最大でも等しい。図１に記載の実施形態の場合に、偏向ファセット２２の個数は、視野ファセット２０の個数よりもかなり大きく、特に１０倍大きく、又はそれよりも更に大きいとすることができる。
【００５１】
照明光学ユニット４の構成は、視野ファセット２０が偏向ファセット２２上に結像されず、偏向ファセット２２が瞳ファセット２８上に結像されず、更に視野ファセット２０が瞳ファセット２８上に結像されないようなものである。偏向ファセット２２の個数は、瞳ファセット２８の個数に正確に等しい。
【００５２】
視野ファセット２０及び瞳ファセット２８は、視野ファセット２０のうちの正確に１つと、偏向ファセット２２のうちの正確に１つと、瞳ファセット２８のうちの正確に１つのものであって、各々照明光１６の部分光線を案内するように位置合わせしたファセットによって各々が形成された照明チャネルが、各々偏向ファセット２２と瞳ファセット２８とが属するミラー対２２、２８に固定的に割り当てられるように配置される。視野ファセットミラー１９の視野ファセット個々のミラーは、当該視野ファセット個々のミラーの傾斜位置に依存して照明光１６が複数の偏向ファセット２２のうちの１つの上に誘導されるように、当該視野ファセット個々のミラーに関連付けられたアクチュエータを用いて、異なる傾斜位置の間で自由に切換可能である。上述したように、偏向ファセット２２は、それぞれの瞳ファセット２８に固定的に割り当てられる。従って、照明ビーム経路は、照明光学ユニット４内で視野ファセットミラー１９に至るまで、及び偏向ファセットミラー２１から先において固定的に予め決定される。照明の変化は、視野ファセット２０の傾斜、又は視野ファセットミラー１９の視野ファセット個々のミラーの傾斜だけを用いて引き起こされ、傾斜位置は、瞳ファセット２８のうちのどれが、適切な場合は区画的に照明光１６による入射を受けるかを選択するのに使用される。
【００５３】
照明光学ユニット４の１つの変形では、一方で偏向ファセットミラー２１、及び他方で瞳ファセットミラー２５は、瞳ファセットミラー２５の中心３１を通って瞳ファセットミラー２５と物体視野５の間の照明光１６の光軸に沿って延びる共通ピボット軸３１ａの周りにピボット可能である。偏向ファセットミラー２１及び瞳ファセットミラー２５は、ピボット軸３１ａの周りに、例えば、±４５°の範囲のピボット角度だけ回転可能である。このピボット回転は、共同制御される方式で、又は他に互い独立して起こすことができる。このピボット回転目的で、偏向ファセットミラー２１及び瞳ファセットミラー２５は、図１の３１ｂに極めて概略的に示す共通ピボットドライブ又は各々専用ピボットドライブのいずれかと作動可能に接続される。ピボットドライブ３１ｂは、ステッパモータとすることができる。
【００５４】
更に、照明光学ユニット４の構成のこの変形では、視野ファセットミラー１９は、視野ファセットミラー支持体の中心を通って延びて、視野ファセットミラー１９の主反射平面に対して垂直なピボット軸３１ｃの周りにピボット可能である。ピボット軸３１ｃの周りの視野ファセットミラー１９のピボット機能は、±９０°の範囲にあるとすることができる。ピボット回転目的で、視野ファセットミラーは、図１に同じく非常に概略的に示すピボットドライブ３１ｄと作動可能に接続される。ピボットドライブ３１ｄもステッパモータとすることができる。
【００５５】
ピボットドライブ３１ｂ及び３１ｄは、中央制御デバイス２４に信号接続される。
【００５６】
ピボット回転中に、ピボットドライブ３１ｂ、３１ｄは、視野ファセットミラー１９が偏向ファセットミラー２１と瞳ファセットミラー２５との共同ピボット回転と比較して２倍のピボット角度絶対値だけピボット回転されるように駆動することができる。
【００５７】
例えば、物体視野５を照明するために正確に１つの直線偏光方向又は正確に２つの直線偏光方向を予め決定されることになり、この直線偏光方向の向きが、ピボット軸３１ａ及び３１ｃの周りのそれぞれのピボット角度に依存して予め決定される場合に、例えば、全体的にピボット可能なファセットミラー１９、２１、２５を有する照明光学ユニット４の実施形態が使用される。例えば、物体視野５の照明のために正確に１つの直線偏光方向が予め決定される場合に、又は、物体視野５を照明するために物体平面６内でお互いに対して垂直に正確に２つの直線偏光方向が予め決定される場合に、結果として視野ファセットミラー１９の視野ファセット２０を密充填することができる照明幾何学形状がもたらされる。
【００５８】
ピボット可能偏向ファセットミラー２１及びピボット可能瞳ファセットミラー２５を有する変形では、視野ファセットミラー１９が、マイクロミラーから構成される視野ファセット２０を有する場合に、視野ファセットミラー１９のピボット機能を割愛することができる。この場合に、視野ファセット２０の向きを偏向ファセットミラー２１及び瞳ファセットミラー２５のそれぞれのピボット位置に従ってこれらのミラーに適合されたマイクロミラーの群割り当てを用いて定めることができる。
【００５９】
照明光学ユニット４の代わりに使用することができる照明光学ユニットの更に別の実施形態３２を図３から図７を参照して以下に説明する。図１及び図２を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に解説することはしない。図３は、中間フォーカス１８と物体視野５の間の照明光１６のビーム経路を示している。
【００６０】
照明光学ユニット３２の場合に、偏向ファセットミラー２１は、空間的に瞳ファセットミラー２５のまわりの（ｓｐａｔｉａｌｌｙ  ａｒｏｕｎｄ  ｔｈｅ  ｐｕｐｉｌ  ｆａｃｅｔ  ｍｉｒｒｏｒ  ２５）半リングの形態にある部分リングの形状に配置された偏向ミラー支持体３３（図４も参照されたい）上に配置される。偏向ミラー支持体３３は、瞳ファセットミラー２５の中心３１の周りで約１８０°だけ延びている。この場合に、瞳ファセットミラー２５の中心３１は、瞳ファセットミラー支持体の外周プロファイルの中心を照明光学ユニット３２の瞳平面３４上に投影したものとして定められる。この瞳平面３４を図６の斜視図に例示しており、瞳平面３４は、図４の作図面と平行に図３の作図面と垂直に延びている。
【００６１】
偏向ファセットミラー２１の偏向ミラー支持体３３の半リング構成は、偏向ミラー支持体３３に対して瞳ファセットミラー２５の反対側にある投影光学ユニット１０の結像ビーム経路に向けて構造空間３５を開放する。構造空間３５を図４に破線で例示している。
【００６２】
図５は、偏向ファセット２２のうちの１つを拡大抜粋図に示している。偏向ファセット２２は、約√２という値を有するｘ／ｙを有する反射面３６を有する。従って、偏向ファセット２２のｘ／ｙアスペクト比は、１という値から３０％よりも大きくずれる。
【００６３】
偏向ファセット２２の反射面３６を図５に矩形として例示している。上述したように、反射面３６の異なる境界形状も可能である。
【００６４】
図３及び図４に記載の実施形態の瞳ファセットミラー２５の瞳ファセットミラー支持体は、二重円錐包区画の形状を有し、この支持体を図６の斜視図に例示している。
【００６５】
第１の円錐包区画３７は、瞳平面３４と物体平面６の間に位置する。第１の円錐包区画３７のミラー支持面は、同時に二重円錐の頂点を構成し、瞳平面３４に位置する頂点３８を有する凹半円錐を形成する。円錐包区画３７が一区画を形成する円錐の半開き角βは約４５°である。円錐包区画３７の方位角γは約１８０°である。この方位角γは、円錐包区画３７の末端縁部３９と末端縁部３９の間に位置する。これらの末端縁部３９は、円錐包区画３７の真っ直ぐな包線（ｅｎｖｅｌｏｐｅ  ｌｉｎｅｓ）に沿って延びている。
【００６６】
照明光学ユニット３２の瞳ファセットミラー２５の二重円錐区画形状は、上述の円錐包区画３７の円錐頂点３８と一致する円錐頂点３８を有する更に別の円錐包区画４０によって相補される。第２の円錐包区画４０の末端縁部４１は、第１の円錐包区画３７の末端縁部３９の円錐頂点３８を通る延長部を構成する。末端縁部３９及び４１は、瞳平面３４上への投影において見られるように、円錐包区画３７、４０の間の分離接合部４２の区切る（図７を参照されたい）。
【００６７】
第２の円錐包区画４０のミラー支持面は、凸曲面である。第２の円錐包区画４０の半開き角βは、第１の円錐包区画３７の開き角βに正確に等しい（図３を参照されたい）。円錐包区画４０も、約１８０°の方位角γをスイープする（ｓｗｅｅｐ）。
【００６８】
２つの円錐包区画３７、４０の二重円錐配置、及び関連の半円形偏向ファセットミラー２１の配置は、偏向ファセットミラー２１の全ての外周角から捉えた場合に、瞳ファセットミラー２５が、瞳平面３４に対して同じ角度δで傾斜した直線を形成するようなものである。言い換えれば、偏向ファセットミラー２１とレチクル７の間の光軸（図３のＣＲ）を通る、図３と類似の全ての作図面では、この偏向ファセットミラー２１と瞳ファセットミラー２５とにおける断面図形が直線である。
【００６９】
図２及び図４に示すように、偏向ファセット２２から瞳平面３４上への投影において、照明光１６が、瞳ファセット２８上に瞳ファセットミラー２５の中心３１に関して良い近似で半径方向に誘導される場合に、照明光１６の全ての部分ビームは、瞳ファセット２８において同じ入射角で偏向される。この場合に、瞳ファセットミラー２５の瞳ファセット２８が、相応に偏向される照明光１６に対する偏光子として機能するように、この入射角は、最大でも２０°、又は最大でも１５°、最大でも１０°、最大でも５°、又は最大でも３°の偏角しか伴わずに、約４３°のブリュースター入射角付近にある。光が瞳ファセットミラー２５上に誘導される際の起点になる偏向ファセットミラー２１の場所に基づいて、相応に直線偏光状態にある照明光部分ビームがもたらされる。照明光１６の全ての部分ビームをこれらの部分ビームが瞳ファセットミラー２５の中心３１に関して正確に半径方向に進む、すなわち、全てが、図２及び図４に記載の投影において中心３１を通って進むように偏向ファセット２２から瞳ファセット２８上に案内することができる。
【００７０】
得られる偏光方向は、図４に偏光矢印４３に示すように、瞳平面３４上への投影において偏向ファセットミラー２１の半円形状に対してタンジェンシャル方向に延びている。全ての直線偏光方向をこのようにして生成することができるので、図４に瞳ファセットミラー２５上の対応する偏光矢印４３に示すように、タンジェンシャル偏光を有する照明瞳を生成することができる。
【００７１】
図３に記載の照明光学ユニット３２の実施形態において、瞳ファセットミラー２５は、物体視野５の上流の照明光学ユニット３２の最後の照明光誘導構成要素を構成する。
【００７２】
図３から図７に記載の実施形態の変形では、偏向ファセットミラー２１及び瞳ファセットミラー２５、並びに適切な場合は視野ファセットミラー１９も、図１及び図２に関して上述したように、ここでもまたピボットドライブ（図４に略示すピボットドライブ３１ｂを参照されたい）を用いてピボット軸（図４のピボット軸３１ａを参照されたい）の周りにピボット可能である。
【００７３】
照明光学ユニット４及び３２それぞれの代わりに使用することができる照明光学ユニット１の更に別の実施形態４４を図８を参照して以下に説明する。図１から図７を参照して上述したものに対応する構成要素及び機能は同じ参照番号を伴い、これらに対して再度詳細に解説することはしない。
【００７４】
照明光学ユニット４４は、偏向ファセットミラー２１と、図３から図６に記載の実施形態を参照して上述したものと同種の二重円錐形瞳ファセットミラー２５とを有する。照明光学ユニット３２とは対照的に、照明光学ユニット４４の二重円錐瞳ファセットミラー２５は、照明光１６を物体視野又は照明視野５に直接導かず、照明光学ユニット３２の瞳ファセットミラー２５の偏向方向とほぼ反対の方向に、ビーム成形ミラー４５に向けて案内する。ビーム成形ミラー４５は、照明光学ユニット４４の射出瞳が、照明ビーム経路内で物体視野５の５ｍよりも上流に（ｉｎ  ｔｈｅ  ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎ  ｂｅａｍ  ｐａｔｈ  ｍｏｒｅ  ｔｈａｎ  ５ｍ  ｕｐｓｔｒｅａｍ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｏｂｊｅｃｔ  ｆｉｅｌｄ  ５）位置するという効果を有する。これに代えて、無限遠における照明光学ユニット４４の射出瞳の位置、すなわち、照明光学ユニットのテレセントリック性を達成するか、又は物体視野５の下流の照明ビーム経路内、すなわち、下流の投影光学ユニットの結像ビーム経路内の射出瞳の位置を達成することができる。
【００７５】
複数又は他に多数の偏向ファセット２２を視野ファセット２０の各々に割り当てることができる。このようにして、相応にグループ分けされた視野ファセットミラー１９のマイクロミラーを用いて、物体視野５に結像される視野ファセット２０のうちの１つから到着する照明光部分ビームを複数の瞳ファセット２８の間で分散させることができる。従って、視野ファセット区画のファセット区画像は、物体視野５の全物体視野高さにわたって、すなわち、全ｘ広がりにわたって物体変位方向ｙに対して横（直角）に延びる物体視野５内のストリップを表している。従って、瞳ファセット２８のうちの異なる瞳ファセットを通して、視野ファセット２０のうちの１つの像を物体視野５内に、例えば、ｙ方向に線オフセットを有する線毎に構成することができる。すなわち、視野ファセット２０のマイクロミラーの対応する傾斜角割り当てを用いて、全物体視野５にわたってｘ方向に延びる物体視野５のストリップ区画を照明に介入する瞳ファセット２８の位置に従って異なる照明方向から照明することができる。これを例えば矩形の物体視野５の平面図を示す、図１の挿入図に例示している。この図は、概略的に破線で互いから分離した合計で４つのそのような物体視野ストリップ５ａから５ｄを示している。これらの物体視野ストリップ５ａから５ｄは、視野ファセット２０のファセット区画の像である。この挿入図では、物体視野高さ、すなわち、物体視野５のｘ方向の全広がりを５xと表記している。この場合に、物体視野５を通してｙ方向に沿って走査されるレチクル点は、異なる照明方向からの照明光を走査積分方式で捉える。
【００７６】
図８に記載の実施形態の変形では、偏向ファセットミラー２１、瞳ファセットミラー２５、及び適切な場合は視野ファセットミラー１９は、偏光の向きを予め定めるために及び／又は物体視野５上への視野ファセット２０の結像の向きを予め定めるためにピボット可能にすることができる。この目的のために、ファセットミラー２１、２５、及び適切な場合は１９は、図８には詳細に例示していないピボットドライブと相互作用を行うことができる。
【００７７】
図９は、物体視野５の四重極照明を生成するための偏向ファセットミラー２１及び瞳ファセットミラー２５の実施形態を図２及び図４と類似の図に示している。四重極照明中に、各物体視野点は、照明瞳の四分円内にそれぞれ配置された４つの照明極によって照明される。照明光１６の直線偏光４３は、四分円の各々において、それぞれの四分円の中心から照明瞳の中心までの接続線に対して垂直な偏光方向を有する。
【００７８】
図９では、四重極照明に向けて瞳ファセットミラー２５が照明される４つの四分円を数学上慣例的な方向にＩ、ＩＩ、ＩＩＩ、及びＩＶで順次付番している。瞳ファセットミラー２５の四分円Ｉ及びＩＩＩ内には、ｘｙ角二等分線と平行な直線偏光方向４３が存在する。他の２つの四分円ＩＩ及びＩＶ内の直線偏光４３は、このｘｙ角二等分線に対して正確に垂直に延びている。
【００７９】
図９の偏向ファセットミラー２１上にハッチング形式で示す偏向ファセット領域４６内にある偏向ファセットミラー２１の偏向ファセット２２は、瞳ファセットミラー２５の対応する照明に寄与する。
【００８０】
図２に関して上述したように、２つのファセットミラー２１、２５は、ピボット軸３１ａの周りにピボット可能であるように構成することができる。その結果、四重極照明の偏光方向及び四重極照明の極の向きを予め定められた値に適応させることができる。偏向ファセットミラー２１が瞳ファセットミラー２５と共に実行するピボット回転移動を図９に双方向矢印４７に示している。偏向ファセットミラー２１及び瞳ファセットミラー２５に対して、共通ピボットドライブ３１ｂによる±４５°の範囲のピボット軸３１ａの周りのピボット回転を予め定めることができる。その後に、関係する視野ファセットミラー１９の視野ファセット２０の向きを視野ファセットミラー１９全体のピボット回転により、又は視野ファセット２０のマイクロミラー構成の場合に、適合ターゲットの視野ファセットへのマイクロミラー群の割り当ての変更によってのいずれかで定めることができる。
【００８１】
投影露光中に、レチクル７と、ＥＵＶ放射線ビーム１６に対して感光性を有するコーティングを有するウェーハ１３とが与えられる。露光の前に、照明設定、すなわち、例えば、二重極設定又は環状設定、又は他に異なる設定、例えば、従来照明設定又は多重極照明設定が設定される。その後に、投影露光装置１を用いてレチクル７の少なくとも１つの区画がウェーハ１３上に投影される。最後に、ウェーハ１３上でＥＵＶ放射線ビーム１６に露光された感光層が現像される。このようにして、微細又はナノ構造化構成要素、例えば、半導体構成要素、例えば、メモリチップが生成される。
【符号の説明】
【００８２】
１  投影露光装置
４  照明光学ユニット
１０  投影光学ユニット
１９  視野ファセットミラー
３１ｂ、３１ｄ  ピボットドライブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４−５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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