(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、ブタジエン構造を有する化合物を少なくとも含む２種以上の正孔輸送材料と、下記一般式（１）で表される電子輸送材料と、下記式（２）を満たすポリカーボネート樹脂と、一般式（３）で表される化合物と、を含有する感光層と、
を有する電子写真感光体。
【化１】
0006402527.tif 000030
（一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、−Ｌ４１−Ｏ−Ｒ４２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ４１はアルキレン基を示し、Ｒ４２はアルキル基を示す。）
式（２）：０．４５≦（Ｍｖ／Ｍｗ）≦０．５５
（上記式（２）中、Ｍｖは粘度平均分子量を表し、Ｍｗは重量平均分子量を表す。）
【化２】
0006402527.tif 000031
（一般式（３）中、Ｒ３１及びＲ３２は、各々独立に、アルキル基、−Ｌ６１−Ｏ−Ｒ６２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ６１はアルキレン基を示し、Ｒ６２はアルキル基を示す。）
【請求項２】
前記ブタジエン構造を有する化合物は、１分子中にブタジエン構造を３つ有する化合物である、請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、導電性基体上に、電荷発生剤と正孔輸送剤とを含むバインダ樹脂を用いてなる感光層を備え、前記正孔輸送剤が、特定の構造である部位を有し、分子量が９００以上でかつポリマー構造を有しない分子であり、バインダ樹脂が特定の繰り返し単位を有する共重合ポリカーボネート樹脂である、電子写真感光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−１６５１４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、繰り返し画像形成した後においても点状の画像欠陥が発生しにくい電子写真感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、ブタジエン構造を有する化合物を少なくとも含む２種以上の正孔輸送材料と、下記一般式（１）で表される電子輸送材料と、下記式（２）を満たすポリカーボネート樹脂と、一般式（３）で表される化合物と、を含有する感光層と、
を有する電子写真感光体。
【０００６】
【化１】
0006402527.tif 000002
【０００７】
（一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、−Ｌ４１−Ｏ−Ｒ４２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ４１はアルキレン基を示し、Ｒ４２はアルキル基を示す。）
【０００８】
式（２）：０．４５≦（Ｍｖ／Ｍｗ）≦０．５５
（上記式（２）中、Ｍｖは粘度平均分子量を表し、Ｍｗは重量平均分子量を表す。）
【００１０】
【化２】
0006402527.tif 000003
【００１１】
（一般式（３）中、Ｒ３１及びＲ３２は、各々独立に、アルキル基、−Ｌ６１−Ｏ−Ｒ６２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ６１はアルキレン基を示し、Ｒ６２はアルキル基を示す。）
【００１２】
請求項２に係る発明は、
前記ブタジエン構造を有する化合物は、１分子中にブタジエン構造を３つ有する化合物である、請求項１に記載の電子写真感光体。
【００１３】
請求項３に係る発明は、
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【００１４】
請求項４に係る発明は、
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１に係る発明によれば、前記式（２）を満たさないポリカーボネートを用いた場合、又はブタジエン化合物を含まない正孔輸送材料を用いた場合に比べ、繰り返し画像形成した後においても点状の画像欠陥が発生しにくい電子写真感光体が提供される。
【００１６】
請求項１に係る発明によれば、前記一般式（３）で表される化合物を用いない場合に比べ、感光体の表面に皮脂等が付着したことに起因するひび割れが起こりにくい電子写真感光体が提供される。
【００１７】
請求項２に係る発明によれば、ブタジエン構造を含まない化合物のみを正孔輸送材料として用いた場合又は１分子中のブタジエン構造が２つ以下である化合物のみを正孔輸送材料として用いた場合に比べ、電気特性の低下が抑制された電子写真感光体が提供される。
【００１８】
請求項３又は請求項４に係る発明によれば、前記式（２）を満たさないポリカーボネート又はポリカーボネート以外の樹脂を用いた電子写真感光体を適用した場合に比べ、繰り返し画像形成した後においても点状の画像欠陥が発生しにくい電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図３】他の本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
【００２１】
［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体を備え、導電性基体上に単層型の感光層を有する正帯電有機感光体（以下、単に「感光体」又は「単層型感光体」と称することがある）である。
そして単層型の感光層は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種（以下「特定フタロシアニン顔料」と称する場合がある）の電荷発生材料と、ブタジエン構造を有する化合物（以下「ブタジエン化合物」と称する場合がある）を少なくとも含む２種以上の正孔輸送材料と、前記一般式（１）で表される電子輸送材料（以下「特定電子輸送材料」と称する場合がある）と、前記式（２）を満たすポリカーボネート樹脂（以下「特定ポリカーボネート樹脂」と称する場合がある）と、を含有する
なお、単層型の感光層とは、電荷発生能と共に、正孔輸送性及び電子輸送性を持つ感光層である。
【００２２】
本実施形態では、単層型の感光層が、電荷発生材料として特定フタロシアニン顔料、正孔輸送材料としてブタジエン化合物を含む２種以上の化合物、電子輸送材料として特定電子輸送材料、及び結着樹脂として特定ポリカーボネート樹脂を含有する。そのため、例えば結着樹脂として特定ポリカーボネート樹脂以外の樹脂を用いた場合や、ブタジエン化合物を含まない正孔輸送材料を用いた場合に比べ、繰り返し画像形成した後においても点状の画像欠陥が発生しにくい。その理由は定かではないが以下のように推測される。
【００２３】
特定電子輸送材料（一般式（１）で表される電子輸送材料）を用いた感光体は電気特性が良好である。特に、特定電子輸送材料と電荷発生材料である特定フタロシアニン顔料とを組み合わせて用いることで、電荷発生材料と電子輸送材料との間で電子の授受が起こりやすく、電気特性が良好な感光体が得られる。
【００２４】
しかしながら、特定電子輸送材料は他の電子輸送材料に比べて電気的負荷（電気的ストレス）の影響を受けやすい。そして、感光体の使用により感光層中の特定電子輸送材料が電気的負荷を受けると、特定電子輸送材料の移動、凝集、結晶化等により感光層中の応力均衡（バランス）が崩れてひび割れ（クラック）が生じ、ひび割れに起因する点状の画像欠陥が発生する場合がある。
【００２５】
一方、本実施形態では前記の通り、特定フタロシアニン顔料及び特定電子輸送材料に加え、ブタジエン化合物を含む２種以上の正孔輸送材料と、特定ポリカーボネート樹脂（式（２）を満たすポリカーボネート樹脂）と、を用いている。
ここで、（Ｍｖ／Ｍｗ）値は前記の通り、粘度から求めた分子量である粘度平均分子量を重量平均分子量で割った値である。すなわち、繰り返し単位の数が同じ樹脂を比較すると、（Ｍｖ／Ｍｗ）値が大きい樹脂は、小さい樹脂に比べて分子間相互作用が大きく、相対的に粘度が大きいものである。そのため（Ｍｖ／Ｍｗ）値が前記範囲である樹脂を用いると、前記範囲よりも小さい樹脂を用いた場合に比べて特定電子輸送材料の感光層内における移動、凝集、結晶化等が抑制される。
なお、前記（Ｍｖ／Ｍｗ）値が上記範囲よりも大きいポリカーボネート樹脂は、製造及び入手が困難であると推測される。
【００２６】
さらに、特定ポリカーボネート樹脂とブタジエン化合物を含む２種以上の正孔輸送材料とを組み合わせて用いることで、樹脂と正孔輸送材料との相溶性によって正孔輸送材料自体の結晶化及び析出が抑制される。そのため、正孔輸送材料の結晶化や析出が起こりやすい材料が用いられた感光層に比べ、本実施形態における感光層では、特定電子輸送材料の移動、凝集、結晶化等も抑制される。また、特定ポリカーボネート樹脂と特定電子輸送材料との親和性が高いことによっても、特定電子輸送材料の凝集や局所的な結晶化が起こりにくくなる。
以上のように、本実施形態では、繰り返し画像形成しても電子輸送材料が感光層内において移動、凝集、結晶化等が起こりにくいため、感光層のひび割れが起こりにくく、それに起因する点状の画像欠陥が発生しにくいと推測される。以下、点状の画像欠陥を「黒点」と称する場合がある。
【００２７】
ここで、上記粘度平均分子量Ｍｖの測定方法としては、例えば、以下の一点測定法が用いられる。具体的には、例えば、まず樹脂１ｇをメチレンクロライド１００ｃｍ３に溶解し、２５℃の測定環境下においてウベローデ粘度計を用いて、その比粘度ηｓｐを測定する。次に、「ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕２ｃ」の関係式（ただしｃは濃度（ｇ／ｃｍ３）により極限粘度〔η〕（ｃｍ３／ｇ）を求める。そしてさらに、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている式「〔η〕＝１．２３×１０−４Ｍｖ０．８３」により粘度平均分子量Ｍｖを求める。
【００２８】
また、上記重量平均分子量Ｍｗは、例えば、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定して求める。ＧＰＣによる分子量測定は、具体的には、例えば、測定装置として東ソー製ＧＰＣ・ＨＬＣ−８１２０を用い、カラムとして東ソー製カラム・ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍ（１５ｃｍ）を使用し、溶媒としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いて行う。そしてこの測定結果から単分散ポリスチレン標準試料により作成した分子量校正曲線を使用して、重量平均分子量Ｍｗを算出する。
【００２９】
なお、（Ｍｖ／Ｍｗ）値は、上記の通り０．４５以上０．５５以下であり、０．４７以上０．５３以下が好ましく、０．４９以上０．５１以下がより好ましい。
【００３０】
本実施形態では、感光層がさらに前記一般式（３）で表される化合物（以下「特定添加剤」と称する場合がある）を含むことが望ましく、それにより、感光体の表面に皮脂等が付着したことに起因するひび割れが起こりにくい。その理由は定かではないが以下のように推測される。
【００３１】
特定電子輸送材料を感光層に含む感光体では、感光体の表面に皮脂等が付着することで、経時的に特定電子輸送材料が感光層の外周面に向かって移動し、感光層中の応力均衡（バランス）が崩れてひび割れが生じる場合がある。
一方、本実施形態において感光層がさらに特定添加剤を含むと、（Ｍｖ／Ｍｗ）値が大きい特定ポリカーボネート樹脂の自由体積を特定添加剤が埋めることにより、さらに特定電子輸送材料が感光層内を移動しにくくなる。そのため、感光体の表面に皮脂等が付着したことに起因するひび割れが起こりにくくなると推測される。
【００３２】
本実施形態では、ブタジエン化合物として、１分子中にブタジエン構造を３つ有する化合物（以下「トリブタジエン化合物」と称する場合がある）を用いることが望ましい。正孔輸送材料としてトリブタジエン化合物を用いることにより、ブタジエン構造を１つ又は２つ有する化合物を用いた場合に比べて、感光層の正孔輸送性が向上する。そのため、感光体の電気特性が良好になり（例えば感光体の残留電位が低減し）、長期にわたって良好な画像が形成される。
【００３３】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体１０の一部の断面を概略的に示している。
図１に示した電子写真感光体１０は、例えば、導電性基体３を備え、導電性基体３上に、下引層１及び単層型の感光層２がこの順で設けられて構成されている。
なお、下引層１は、必要に応じて設けられる層である。すなわち、単層型の感光層２は、導電性基体３上に直接設けられていてもよく、下引層１を介して設けられてもよい。
また、必要に応じてその他の層を設けてもよい。具体的には、例えば、必要に応じて、単層型の感光層２上に保護層を設けてもよい。
【００３４】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００３５】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３６】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００３７】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３８】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００３９】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００４０】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００４１】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００４２】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４３】
（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【００４４】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００４５】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００４６】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００４７】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００４８】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましい、アミノ基を有するシランカップリング剤が好ましい。
【００４９】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５０】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５１】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００５２】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００５３】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００５４】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００５５】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００５６】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００５７】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００５８】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００５９】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００６０】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００６１】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００６２】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００６３】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００６４】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００６５】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００６６】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００６７】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６８】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００６９】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００７０】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００７１】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００７２】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００７３】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００７４】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００７５】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００７６】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００７７】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００７８】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【００７９】
（単層型の感光層）
単層型の感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料と、を含み、必要に応じて前記特定添加剤等のその他添加剤を含んでもよい。
【００８０】
−結着樹脂−
結着樹脂として、下記式（２）を満たすポリカーボネート樹脂を用いる。
式（２）：０．４５≦（Ｍｖ／Ｍｗ）≦０．５５
（上記式（２）中、Ｍｖは粘度平均分子量を表し、Ｍｗは重量平均分子量を表す。）
ただし、本実施形態の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて前記式（２）を満たすポリカーボネート樹脂以外の樹脂（すなわち、他のポリカーボネート樹脂や他の樹脂等）を結着樹脂成分として含有させてもよい。
【００８１】
（ポリカーボネート樹脂）
ポリカーボネート樹脂は、式（２）を満たすものであれば特に限定されない。式（２）における（Ｍｖ／Ｍｗ）値は、ポリカーボネート樹脂を構成する繰り返し単位の構造によって決まると考えられる。
式（２）を満たすポリカーボネート樹脂の具体例としては、例えば、下記一般式（４）で表される繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂が挙げられ、下記一般式（４）で表される繰り返し単位と、その他の繰り返し単位と、を有する共重合体であってもよい。
【００８２】
【化３】
0006402527.tif 000004
【００８３】
ここで上記一般式（４）中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。
【００８４】
その他の繰り返し単位としては、例えば、下記一般式（５）で表される繰り返し単位、下記一般式（６）で表される繰り返し単位等が挙げられる。
すなわちポリカーボネート樹脂は、上記一般式（４）で表される繰り返し単位と下記一般式（５）で表される繰り返し単位とを含む共重合体であってもよく、上記一般式（４）で表される繰り返し単位と下記一般式（６）で表される繰り返し単位とを含む共重合体であってもよい。
【００８５】
【化４】
0006402527.tif 000005
【００８６】
【化５】
0006402527.tif 000006
【００８７】
ここで上記一般式（５）中、Ｒ３及びＲ４は、各々独立に、水素原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。
また上記一般式（６）中、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に、水素原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。
【００８８】
ポリカーボネート樹脂が上記一般式（４）で表される繰り返し単位と上記一般式（５）で表される繰り返し単位とを含む共重合体である場合、ポリカーボネート樹脂中における上記一般式（４）で表される繰り返し単位の含有量としては、例えば５モル％以上９５モル％以下が挙げられ、５モル％以上５０モル％以下であってもよく、１５モル％以上２５モル％以下であってもよい。
【００８９】
また、ポリカーボネート樹脂が上記一般式（４）で表される繰り返し単位と上記一般式（６）で表される繰り返し単位とで構成された共重合体である場合、ポリカーボネート樹脂中における上記一般式（４）で表される繰り返し単位の含有量としては、例えば５モル％以上９０モル％以下が挙げられ、５モル％以上５０モル％以下であってもよく、１５モル％以上３０モル％以下であってもよい。
【００９０】
上記ポリカーボネート樹脂は、例えば、下記一般式（４’）で表される４，４′−ジヒドロキシビフェニル化合物等の材料を用い、ホスゲン等の炭酸エステル形成性化合物との重縮合又はビスアリールカーボネートとのエステル交換反応等の方法によって合成する。
具体的には、一般式（４）で表される繰り返し単位と上記一般式（５）で表される繰り返し単位とで構成されたポリカーボネート樹脂を合成する場合、例えば、下記一般式（４’）で表される４，４′−ジヒドロキシビフェニル化合物及び下記一般式（５’）で表されるビスフェノール化合物を材料として用い、ホスゲン等の炭酸エステル形成性化合物との重縮合又はビスアリールカーボネートとのエステル交換反応等の方法によってポリカーボネート樹脂を得る。
【００９１】
【化６】
0006402527.tif 000007
【００９２】
ここで上記一般式（４’）及び一般式（５’）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、それぞれ前記一般式（４）及び一般式（５）中におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４と同様である。
【００９３】
特定ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量としては、例えば、２００００以上１０００００以下が挙げられ、３００００以上８００００以下であってもよく、４００００以上７００００以下であってもよい。
【００９４】
特定ポリカーボネート樹脂は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。また、前記の通り本実施形態の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて特定ポリカーボネート樹脂以外の樹脂を結着樹脂成分として含有させてもよい。
特定ポリカーボネート樹脂以外の樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡタイプ又はビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。
特定ポリカーボネート樹脂以外の樹脂を含有させる場合の含有量としては、結着樹脂全体に対し、例えば２５質量％以下の範囲が挙げられる。
【００９５】
感光層の全固形分に対する結着樹脂の含有量は、例えば、３５質量％以上７５質量％以下、望ましくは５０質量％以上６０質量％以下である。
【００９６】
−電荷発生材料−
電荷発生材料としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種が適用される。
電荷発生材料としては、これら顔料を単独で用いてもよいが、必要に応じて併用してもよい。そして、電荷発生材料としては、感光体の高感度化、及び画像の点欠陥抑制の観点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
【００９７】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から望ましい。電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られ易くなる。
【００９８】
また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましい。一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
ここで、平均粒径が０．２０μｍより大きい場合、又は比表面積値が４５ｍ２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成される場合がある。そして、分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい場合があり、それにより画質欠陥を生じ易くなることがある。
【００９９】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、より望ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、黒点が発生しやすい。
【０１００】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラを抑制する観点から、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましい。
【０１０１】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜に回折ピークを有するＶ型であることが望ましい。
【０１０２】
一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、  電子写真感光体材料として優れた感度が得られる、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。
クロロガリウムフタロシアニン顔料の好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。
【０１０３】
感光層の全固形分に対する電荷発生材料の含有量は、１質量％以上５質量％以下がよく、望ましくは１．２質量％以上４．５質量％以下である。
【０１０４】
−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の化合物が挙げられる。
本実施形態では、前記の通り、正孔輸送材料として少なくとも２種以上の正孔輸送材料を用い、その２種以上の正孔輸送材料のうち少なくとも１種としてブタジエン化合物を用いる。
【０１０５】
上記ブタジエン化合物は、ブタジエン構造を有する化合物であれば特に限定されないが、例えば、下記一般式（７）で表される化合物、又は下記一般式（８）で表される化合物が挙げられる。
なお、正孔輸送材料としては、ブタジエン化合物を２種以上用いてもよいし、ブタジエン化合物とブタジエン化合物以外のその他の正孔輸送材料とを併用してもよい。この場合の、ブタジエン化合物とその他の正孔輸送材料の質量比としては、例えば１：５〜５：１の範囲が挙げられる。すなわち、ブタジエン化合物とその他の正孔輸送材料とを併用する場合、正孔輸送材料全体におけるブタジエン化合物の含有量としては、例えば１７質量％以上８３質量％以下の範囲が挙げられる。また正孔輸送材料全体におけるブタジエン化合物の含有量は、４０質量％以上８０質量％以下が好ましく、５０質量％以上７０質量％以下がより好ましい。正孔輸送材料全体におけるブタジエン化合物の含有量が上記範囲であることにより、上記範囲よりも少ない場合に比べて電気特性に優れるという利点があり、上記範囲よりも多い場合に比べて膜中において正孔輸送材料の結晶化及び析出が生じ難いという利点がある。
【０１０６】
【化７】
0006402527.tif 000008
【０１０７】
上記一般式（７）中、Ｒ７１、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６、及びＲ７７は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に、水素原子、低級アルキル基（すなわち炭素数１以上２０以下のアルキル基）、アルコキシ基（例えば炭素数１以上２０以下のアルコキシ基）、ハロゲン原子、又は置換若しくは無置換のアリ−ル基を示す。ｎは０又は１を示す。前記アリール基を置換する置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、アリール基が挙げられる。
【０１０８】
【化８】
0006402527.tif 000009
【０１０９】
上記一般式（８）中、Ｒ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５、及びＲ８６は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル基（すなわち炭素数１以上２０以下のアルキル基）、アルコキシ基（例えば炭素数１以上２０以下のアルコキシ基）、ハロゲン原子、又は置換若しくは無置換のアリ−ル基を示す。ｍ及びｎは０又は１を示す。前記アリール基を置換する置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、アリール基が挙げられる。
【０１１０】
一般式（７）中のＲ７１〜Ｒ７７及び一般式（８）中のＲ８１〜Ｒ８６が示す低級アルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
【０１１１】
一般式（７）中のＲ７１〜Ｒ７７及び一般式（８）中のＲ８１〜Ｒ８６が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１１２】
一般式（７）中のＲ７１〜Ｒ７７及び一般式（８）中のＲ８１〜Ｒ８６が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【０１１３】
一般式（７）中のＲ７１〜Ｒ７７及び一般式（８）中のＲ８１〜Ｒ８６が示す置換若しくは無置換のアリ−ル基としては、例えば、置換若しくは無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル基、置換若しくは無置換のビフェニル基等が挙げられる。
また置換若しくは無置換のフェニル基としては、例えば、未置換のフェニル基；ｐ−トリル基、２，４−ジメチルフェニル基等の低級アルキル基置換のフェニル基；ｐ−メトキシフェニル基等の低級アルコキシ基（例えば炭素数１以上３以下のアルコキシ基）置換のフェニル基；ｐ−クロロフェニル基等のハロゲン原子置換のフェニル基等が挙げられる。
【０１１４】
上記一般式（７）中のＲ７１、Ｒ７２、Ｒ７３、Ｒ７４、Ｒ７５、Ｒ７６、及びＲ７７は、上記の中でも、水素原子、低級アルキル基、又はアルコキシ基が好ましく、水素原子、炭素数１以上３以下のアルキル基、又は炭素数１以上３以下のアルコキシ基が好ましい。また、上記一般式（７）中のｎは１が好ましい。
上記一般式（８）中のＲ８１、Ｒ８２、Ｒ８３、Ｒ８４、Ｒ８５、及びＲ８６は、上記の中でも、水素原子、低級アルキル基、又はアルコキシ基が好ましく、水素原子、炭素数１以上３以下のアルキル基、又は炭素数１以上３以下のアルコキシ基が好ましい。また、上記一般式（８）中のｍは１が好ましく、ｎは１が好ましい。
【０１１５】
上記一般式（７）で表される化合物の好ましい具体例である例示化合物７−１から７−３２と、上記一般式（８）で表される化合物の好ましい具体例である例示化合物８−１から８−６４と、における置換基等（すなわち、Ｒ７１〜Ｒ７７及びＲ８１〜Ｒ８６で示される置換基、並びにｍ及びｎで示される数）を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
なお、上記トリブタジエン化合物は、一般式（８）で表される化合物のうち、ｍ＝１かつｎ＝１である化合物である。
【０１１６】
【化９】
0006402527.tif 000010
【０１１７】
【化１０】
0006402527.tif 000011
【０１１８】
【化１１】
0006402527.tif 000012
【０１１９】
【化１２】
0006402527.tif 000013
【０１２０】
【化１３】
0006402527.tif 000014
【０１２１】
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・４−Ｍｅ：フェニル基の４−位に置換するメチル基
・３−Ｍｅ：フェニル基の３−位に置換するメチル基
・４−Ｃｌ：フェニル基の４−位に置換する塩素原子
・４−ＯＭｅ：フェニル基の４−位に置換するメトキシ基
・４−Ｆ：フェニル基の４−位に置換するフッ素原子
・４−Ｐｒ：フェニル基の４−位に置換するプロピル基
・４−ＯＰｈ：フェニル基の４−位に置換するフェノキシ基
【０１２２】
その他の正孔輸送材料としては、例えば、下記一般式（Ｂ−１）で示される化合物、下記一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び下記一般式（Ｂ−３）で示される化合物が挙げられる。
【０１２３】
【化１４】
0006402527.tif 000015
【０１２４】
一般式（Ｂ−１）中、ＲＢ１は、水素原子またはメチル基を示す。ｎ１１は１または２を示す。ＡｒＢ１およびＡｒＢ２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＢ３）＝Ｃ（ＲＢ４）（ＲＢ５）、または−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）を示し、ＲＢ３乃至ＲＢ７はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。
【０１２５】
【化１５】
0006402527.tif 000016
【０１２６】
一般式（Ｂ−２）中、ＲＢ８およびＲＢ８’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。ＲＢ９、ＲＢ９’、ＲＢ１０、およびＲＢ１０’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１１）＝Ｃ（ＲＢ１２）（ＲＢ１３）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）を示し、ＲＢ１１乃至ＲＢ１５は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１２、ｍ１３、ｎ１２およびｎ１３は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【０１２７】
【化１６】
0006402527.tif 000017
【０１２８】
一般式（Ｂ−３）中、ＲＢ１６およびＲＢ１６’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。ＲＢ１７、ＲＢ１７’、ＲＢ１８、およびＲＢ１８’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１９）＝Ｃ（ＲＢ２０）（ＲＢ２１）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ２２）（ＲＢ２３）を示し、ＲＢ１９乃至ＲＢ２３は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１４、ｍ１５、ｎ１４およびｎ１５は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【０１２９】
ここで、一般式（Ｂ−１）で示される化合物、一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び一般式（Ｂ−３）で示される化合物のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）」を有する一般式（Ｂ−１）で示される化合物及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）」を有する一般式（Ｂ−２）で示される化合物が望ましい。
【０１３０】
一般式（Ｂ−１）で示される化合物、一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び一般式（Ｂ−３）で示される化合物の具体例としては、例えば以下の化合物が挙げられる。
【０１３１】
【化１７】
0006402527.tif 000018
【０１３２】
正孔輸送材料を２種用いる場合、例えば、一般式（７）又は一般式（８）で表される化合物と一般式（Ｂ−１）〜一般式（Ｂ−３）のいずれかで示される化合物との組み合わせのほか、一般式（７）で表される化合物と一般式（８）で表される化合物との組み合わせ等が挙げられ、その中でも一般式（Ｂ−１）で示される化合物と一般式（８）で表される化合物との組み合わせが好ましく、例示化合物（ＨＴ−４）と例示化合物（８−１）との組み合わせが特に好ましい。
【０１３３】
感光層の全固形分に対する正孔輸送材料の含有量は、１０質量％以上４０質量％以下がよく、望ましくは２０質量％以上３５質量％以下である。なお、この正孔輸送材料の含有量は、複数種の正孔輸送材料を併用した場合、その正孔輸送材料全体の含有量である。
【０１３４】
−電子輸送材料−
電子輸送材料としては、少なくとも下記一般式（１）で表される電子輸送材料が用いられる。
【０１３５】
【化１８】
0006402527.tif 000019
【０１３６】
一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２．Ｒ１３．Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、−Ｌ４１−Ｏ−Ｒ４２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ４１はアルキレン基を示し、Ｒ４２はアルキル基を示す。
【０１３７】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【０１３８】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
【０１３９】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１４０】
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基等が挙げられる。
一般式（１）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
これらの中でも、フェニル基が望ましい。
【０１４１】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上１０以下（好ましくは炭素数５以上１０以下）の直鎖状のアルキル基、炭素数３以上１０以下（好ましくは炭素数５以上１０以下）の分岐状のアルキル基が挙げられる。
炭素数１以上１０以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。
【０１４２】
一般式（１）中、Ｒ１８が示す−Ｌ４１−Ｏ−Ｒ４２で示される基は、Ｌ４１がアルキレン基を示し、Ｒ４２は、アルキル基を示す。
Ｌ４１が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ｒ４２が示すアルキル基としては、上記Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
【０１４３】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基等が挙げられる。
なお、一般式（１）中のＲ１８がアリール基である場合、前記アリール基がさらにアルキル基で置換されていることが、溶解性の観点で好ましい。前記アリール基に置換されるアルキル基としては、前記Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。また、さらにアルキル基で置換されたアリール基の具体例としては、上記メチルフェニル基及びジメチルフェニル基のほか、エチルフェニル基等が挙げられる。
【０１４４】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアラルキル基としては、−Ｒ１９−Ａｒで示される基が挙げられる。但し、Ｒ１９は、アルキレン基を示す、Ａｒは、アリール基を示す。
Ｒ１９が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基エチルフェニル基等が挙げられる。
【０１４５】
一般式（１）中、Ｒ１８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
【０１４６】
一般式（１）で表される電子輸送材料として、高感度化、及び画像の濃度低下を抑制する観点から、Ｒ１８が炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましく、特に、Ｒ１１〜Ｒ１７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、かつ、Ｒ１８が炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。
【０１４７】
以下、一般式（１）で表される電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。
【０１４８】
【化１９】
0006402527.tif 000020
【０１４９】
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ｐｈ：フェニル基
【０１５０】
上記一般式（１）で表される電子輸送材料以外にも、機能を損ねない範囲で、その他の電子輸送材料を併用してもよい。但し、その他の電子輸送材料（一般式（１）で表される電子輸送材料以外の電子輸送材料）は、電子輸送材料全体に対して１０質量％以下で併用することがよい。
【０１５１】
その他の電子輸送材料としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。これらのその他の電子輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いてもよいが、これらに限定されるものではない。
【０１５２】
感光層の全固形分に対する電子輸送材料の含有量は、５質量％以上３０質量％以下がよく、望ましくは１０質量％以上２０質量％以下である。
感光体の全固形分に対する電子輸送材料の含有量が前記範囲であることにより、前記範囲よりも少ない場合に比べて感光体の電気特性が良好となり、前記範囲よりも多い場合に比べて、かぶりや黒点（点状の画像欠陥）が生じにくくなる。
なお、この電子輸送材料の含有量は、２種以上の電子輸送材料を併用した場合、それらの電子輸送材料全体の含有量である。
【０１５３】
正孔輸送材料と電子輸送材料との比率は、質量比（正孔輸送材料／電子輸送材料）で、５０／５０〜９０／１０が望ましく、より望ましくは６０／４０〜８０／２０である。
なお、本比率は、他の電荷輸送材料を併用した場合、その合計での比率である。
【０１５４】
−特定添加剤−
前記の通り、単層型の感光層は、特定添加剤（下記一般式（３）で表される化合物）を含んでもよい。
【０１５５】
【化２０】
0006402527.tif 000021
【０１５６】
（一般式（３）中、Ｒ３１及びＲ３２は、各々独立に、アルキル基、−Ｌ６１−Ｏ−Ｒ６２、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ６１はアルキレン基を示し、Ｒ６２はアルキル基を示す。）
【０１５７】
一般式（３）中のＲ３１及びＲ３２の詳細は、いずれも上述した一般式（１）中のＲ１８と同様である。一般式（３）中のＲ３１及びＲ３２が示す−Ｌ６１−Ｏ−Ｒ６２の詳細についても、一般式（１）中のＲ１８が示す−Ｌ４１−Ｏ−Ｒ４２と同様である。Ｒ３１及びＲ３２は、互いに同じ基であってもよく、異なる基であってもよいが、合成しやすさの観点から同じ基であることが好ましい。
上記特定添加剤として一般式（３）で表される化合物を用いる場合、一般式（３）中のＲ３１及びＲ３２は、感光層に含まれる一般式（１）で表される電子輸送材料のＲ１８といずれも同じであってもよく、一方が異なってもよく、両方が異なっていてもよい。感光体表面におけるひび割れの発生を抑制する観点からは、一般式（３）中のＲ３１及びＲ３２の両方が、一般式（１）中のＲ１８と同じであることが好ましい。
【０１５８】
以下、一般式（３）で表される電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。
【０１５９】
【化２１】
0006402527.tif 000022
【０１６０】
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ｐｈ：フェニル基
【０１６１】
感光層の全固形分に対する一般式（３）で表される化合物（特定添加剤）の含有量は、０．５質量％以上１５質量％以下がよく、望ましくは１質量％以上１０質量％以下である。感光層の全固形分に対する特定添加剤の含有量が上記範囲であることにより、上記範囲よりも少ない場合に比べて感光体の表面に皮脂等が付着したことに起因するひび割れが起こりにくく、上記範囲よりも多い場合に比べて耐傷性が良好となる。
また、一般式（１）で表される電子輸送材料（特定電子輸送材料）１００質量部に対する一般式（３）で表される化合物（特定添加剤）の含有量は、例えば１質量部以上６０質量部以下が挙げられ、５質量部以上５０質量部以下が好ましい。上記特定電子輸送材料に対する特定添加剤の含有量が上記範囲であることにより、上記範囲よりも少ない場合に比べて感光体の表面に皮脂等が付着したことに起因するひび割れが起こりにくいという利点があり、上記範囲よりも多い場合に比べて耐傷性が良好という利点がある。
【０１６２】
−その他添加剤−
単層型の感光層には、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤を含んでいてもよい。また、単層型の感光層が表面層となる場合、フッ素樹脂粒子、シリコーンオイル等を含んでいてもよい。
【０１６３】
−単層型の感光層の形成−
単層型の感光層は、上記成分を溶剤に加えた感光層形成用塗布液を用いて形成される。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は単独又は２種以上混合して用いる。
【０１６４】
感光層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【０１６５】
感光層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【０１６６】
単層型の感光層の膜厚は、望ましくは５μｍ以上６０μｍ以下、より望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、さらに望ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲に設定される。
【０１６７】
（その他の層）
前記の通り、必要に応じてその他の層を設けてもよい。その他の層としては、例えば、感光層上に最表面層として設けられる保護層が挙げられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善したりする目的で設けられる。そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１６８】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１６９】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【０１７０】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【０１７１】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１７２】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【０１７３】
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１７４】
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１７５】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１７６】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１７７】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１７８】
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１７９】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１８０】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１８１】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１８２】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１８３】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１８４】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１８５】
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１８６】
なお、図２には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１８７】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１８８】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１８９】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１９０】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１９１】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１９２】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１９３】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１９４】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１９５】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０１９６】
なお、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体７の周囲であって、転写装置４０よりも電子写真感光体７の回転方向下流側でクリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置８よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体７の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
【０１９７】
また、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体７に形成したトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の画像形成装置を採用してもよい。
【実施例】
【０１９８】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【０１９９】
＜実施例１＞
−下引層の形成−
酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２/ｇ）１００質量部をテトラヒドロフラン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＥ５０２：信越化学工業製）１.２質量部を添加し、２時間攪拌した。その後テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
【０２００】
得られたシランカップリング剤表面処理酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．７質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて４時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６５℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。
【０２０１】
このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤（ブロック化イソシアネート  スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学工業製）１５質量部をメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部とメチルエチルケトン３０質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間３０分の分散を行い、分散液を得た。
【０２０２】
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４０質量部を添加し、下引層用塗布液を得た。
【０２０３】
得られた塗布液を、浸漬塗布法にて、直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃において４０分間の乾燥硬化を行い、厚さ２１μｍの下引層を得た。
【０２０４】
−感光層の形成−
電荷発生物質として下記表１に示すヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料２質量部と、結着樹脂として下記表１に示す樹脂５５質量部と、溶媒としてのテトラヒドロフラン３００質量部と、からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて６時間分散し、分散液を得た。
【０２０５】
得られた分散液に、表１に示す正孔輸送材料１、表１に示す正孔輸送材料２、表１に示す電子輸送材料、及び表１に示す特定添加剤を、それぞれ表１に示す添加量で添加し、さらにシリコーンオイルＫＰ３４０（信越化学工業製）０．００１質量を添加し、一晩攪拌して感光層形成用塗布液を得た。
【０２０６】
得られた感光層形成用塗布液を、浸漬塗布法にて、上記アルミニウム基体上に形成された下引層上に塗布し、１３５℃で、１時間乾燥して、膜厚が２８μｍの単層型の感光層を形成した。
以上の工程を経て、電子写真感光体を作製した。
なお、実施例１において得られた電子写真感光体においては、感光層の全固形分に対する特定添加剤の含有量が５質量％であった。
【０２０７】
＜実施例２〜１５、比較例１〜４＞
表１及び表２に従って、下引層の有無、感光層形成用塗布液に用いる電荷発生材料の種類、結着樹脂の種類、正孔輸送材料１及び正孔輸送材料２の種類及び添加量、電子輸送材料の種類及び添加量、並びに特定添加剤の種類及び添加量を変更した以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
なお表１及び表２中の「量」は添加量（質量部）を表し、「−」は添加していないことを表す。
【０２０８】
【表１】
0006402527.tif 000023
【０２０９】
【表２】
0006402527.tif 000024
【０２１０】
なお、表１及び表２中の略称の詳細は以下の通りである。
−電荷発生材料−
・ＨＯＧａＰＣ：ヒドロキシガリウムフタロシアニン（Ｖ型）：Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝８２０ｎｍ、平均粒径＝０．１２μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝６０ｍ２／ｇ）
【０２１１】
・ＣｌＧａＰＣ：クロロガリウムフタロシアニン：Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４゜，１６．６゜，２５．５゜，２８．３゜の位置に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝７８０ｎｍ、平均粒径＝０．１５μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝５６ｍ２／ｇ）
【０２１２】
−結着樹脂−
・ポリカーボネート樹脂１：下記構造式（１１）で表される繰り返し単位２５及び下記構造式（１２）で表される繰り返し単位７５からなるポリカーボネート共重合体（粘度平均分子量：４５，０００、重量平均分子量：８９，０００、Ｍｖ／Ｍｗ：０．５１）
【０２１３】
【化２２】
0006402527.tif 000025
【０２１４】
・ポリカーボネート樹脂２：下記構造式（１３）で表される繰り返し単位１５及び下記構造式（１４）で表される繰り返し単位８５からなるポリカーボネート共重合体（粘度平均分子量：５８，０００、重量平均分子量：１２８，０００、Ｍｖ／Ｍｗ：０．４５）
【０２１５】
【化２３】
0006402527.tif 000026
【０２１６】
・ポリカーボネート樹脂３：下記構造式（１５）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネート重合体（粘度平均分子量：６０，０００、重量平均分子量：１４７，０００、Ｍｖ／Ｍｗ：０．４１）
【０２１７】
【化２４】
0006402527.tif 000027
【０２１８】
・ポリカーボネート樹脂４：下記構造式（１６）で表される繰り返し単位５０及び下記構造式（１７）で表される繰り返し単位５０からなるポリカーボネート共重合体（粘度平均分子量：７３，０００、重量平均分子量：１８９，０００、Ｍｖ／Ｍｗ：０．３８）
【０２１９】
【化２５】
0006402527.tif 000028
【０２２０】
−正孔輸送材料−
・８−１：  一般式（８）で表される化合物の例示化合物（８−１）
・ＨＴ−１：  一般式（Ｂ−２）で表される化合物の例示化合物（ＨＴ−１）
・７−１：  一般式（７）で表される化合物の例示化合物（７−１）
・ＨＴ−４：  一般式（Ｂ−１）で表される化合物の例示化合物（ＨＴ−４）
【０２２１】
−電子輸送材料−
・１−２：  一般式（１）で表される電子輸送材料の例示化合物（１−２）
・１−６：  一般式（１）で表される電子輸送材料の例示化合物（１−６）
・１−１４：  一般式（１）で表される電子輸送材料の例示化合物（１−１４）
【０２２２】
−特定添加剤−
・３−１：  一般式（３）で表される化合物の例示化合物（３−１）
・３−７：  一般式（３）で表される化合物の例示化合物（３−７）
【０２２３】
＜評価＞
得られた各電子写真感光体について、以下の評価を行った。その結果を表３に示す。
【０２２４】
−耐クラック性評価−
感光体の外周面に、オレイン酸１質量％ヘキサン溶液を０．５ｍｌ噴霧し、室温（２５℃）で２週間放置し、感光体表面のクラック（ひび割れ）を以下の基準で評価した。なお、用いた顕微鏡はデジタルマイクロスコープ（キーエンス社製、型番：ＶＨＸ−７００）であり、７００倍に拡大して観察した。
Ａ：顕微鏡で観察して問題なし（クラックが観察されない）
Ｂ：顕微鏡観察で微細なクラック発生するが実用上問題なし（目視でクラックが観察されない）
Ｃ：目視でクラックが確認される
【０２２５】
−初期画質評価−
初期画質評価（初期画質黒点）は、室温２８℃、湿度８５％の環境下で、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ５３４０Ｄを用い、５０％ハーフトーン画像を形成し、画像の黒点発生の有無を以下の基準で評価した。
Ａ：黒点発生なし（目視で黒点が確認されない）
Ｂ：目視でわずかに黒点が確認されるが、画質上問題なし
Ｃ：目視で確認される黒点が多く、実用上問題となる
【０２２６】
−画質維持性評価−
上記初期画質評価と同じ条件で１万枚の画像形成を行った後、上記初期画質評価と同様にして５０％ハーフトーン画像を形成し、画像の黒点発生の有無を以下の基準で評価した。
Ａ：黒点発生なし（目視で黒点が確認されない）
Ｂ：目視でわずかに黒点が確認されるが、画質上問題なし
Ｃ：目視で確認される黒点が多く、実用上問題となる
【０２２７】
−耐傷性評価−
上記初期画質評価と同じ条件で１万枚の画像形成を行った後、感光体の表面を顕微鏡（デジタルマイクロスコープ、キーエンス社製、型番：ＶＨＸ−７００）で５００倍に拡大して観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：感光体表面の傷は観察されないか、又は微小な傷がわずかに観察されるレベル
Ｂ：感光体表面に明らかな傷が発生しているものの、許容レベル
Ｃ：感光体表面に傷も多く、所々見た目で変色しており、問題となるレベル
【０２２８】
【表３】
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【０２２９】
上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、画質維持性が良好であり、繰り返し画像形成した後においても黒点（すなわち点状の画像欠陥）が発生しにくいことが分かる。
【符号の説明】
【０２３０】
１ 下引層、２ 感光層、３導電性基体、７ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１０ 電子写真感光体、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材、１３３ 繊維状部材、３００ プロセスカートリッジ
【図１】
0006402527.tif 000032
【図２】
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【図３】
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