(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
インプラントの形態のオブジェクト（１８，３２，５６）を移植の直前に処理するためのプラズマシステム（１０，２８，５０）であって、
前記プラズマシステム（１０，２８，５０）は、前記オブジェクト（１８，３２，５６）を収容するための密封可能な容器（１４，３０，５２）と、前記容器（１４，３０，５２）内でプラズマ（２６，４８，６６）を発生するための電気的プラズマ源（１９，３５，６０）を備えたプラズマユニット（１２，３４，５８）とを含み、
前記容器（１４，３０，５２）は、前記プラズマユニット（１２，３４，５８）から独立した可搬型ユニットとして構成され、
前記プラズマ（２６，４８，６６）は、前記容器（１４，３０，５２）内で直接前記プラズマユニット（１２，３４，５８）の前記電気的プラズマ源（１９，３５，６０）によって発生可能であり、
前記容器（１４，３０，５２）は、実質的に誘電材料から形成された容器本体（１６，５４）を含み、
前記プラズマユニット（１２，３４，５８）は、ガス接続部およびポンプの何れも有していない、プラズマシステム（１０，２８，５０）において、
前記容器（１４，３０，５２）が、前記プラズマユニット（１２，３４，５８）に対して離間して配置されている場合に前記プラズマ（２６，４８，６６）が点弧可能であるように構成されており、
前記容器本体（１６，５４）は、少なくとも部分的にガラスからなり、破断アンプルの形態で構成されており、
前記電気的プラズマ源（３５）は、マグネトロン（３８）を有し、前記容器（３０）は、少なくとも部分的に前記マグネトロン（３８）の電磁ビームによって透過可能である、ことを特徴とするプラズマシステム（１０，２８，５０）。
【請求項２】
前記容器（１４，３０，５２）内のガス圧は、１バール未満である、請求項１記載のプラズマシステム。
【請求項３】
前記容器内のガス圧は、実質的に大気圧に相応し、前記容器の４０％を越える部分がヘリウムで充たされている、請求項１または２記載のプラズマシステム。
【請求項４】
前記電気的プラズマ源（１９）は、高周波発生器（２０）と、該高周波発生器（２０）に電気的に接続された電極（２２，２４）とを有し、前記電極（２２，２４）間に前記容器（１４）が少なくとも部分的に挿入可能である、請求項１から３いずれか１項記載のプラズマシステム。
【請求項５】
前記電気的プラズマ源（６０）は、誘導コイル（６４）を有し、前記誘導コイル（６４）内へ前記容器（５２）が少なくとも部分的に挿入可能である、請求項１から４いずれか１項記載のプラズマシステム。
【請求項６】
インプラントの形態のオブジェクト（１８，３２，５６）を移植の直前に処理するための方法であって、
ａ）前記オブジェクト（１８，３２，５６）を、容器本体（１６，５４）を備えた容器（１４，３０，５２）内に挿入するステップであって、前記容器本体（１６，５４）は少なくとも部分的にガラスからなり、かつ破断アンプルの形態で構成されているステップと、
ｂ）前記容器（１４，３０，５２）内のガス圧および／またはガス組成を設定調整するステップと、
ｃ）前記容器（１４，３０，５２）を密封するステップと、
ｄ）前記容器（１４，３０，５２）を、プラズマユニット（１２，３４，５８）へ移送するステップと、
ｅ）前記容器（１４，３０，５２）内で、前記プラズマユニット（１２，３４，５８）の電気的プラズマ源（１９，３５，６０）を用いてプラズマ（２６，４８，６６）を直接点弧するステップとを含み、
前記プラズマユニット（１２，３４，５８）は、ガス接続部およびポンプの何れも有しておらず、さらに前記容器（１４，３０，５２）は、前記プラズマユニット（１２，３４，５８）から離間されており、
前記電気的プラズマ源（３５）は、マグネトロン（３８）を有し、前記容器（３０）は、少なくとも部分的に前記マグネトロン（３８）の電磁ビームによって透過可能である、
ことを特徴とする方法。
【請求項７】
電極なしで構成され、プラズマユニット（１２，３４，５８）から独立し、少なくとも部分的にガラスからなり、かつ破断アンプルの形態で構成されている可搬型容器（１４，３０，５２）を、前記プラズマユニット（１２，３４，５８）内でのオブジェクト（１８，３２，５６）の、移植の直前におけるプラズマ処理のために使用する使用方法であって、前記プラズマユニット（１２，３４，５８）は、ガス接続部およびポンプの何れも有しておらず、
前記プラズマユニット（１２，３４，５８）の電気的プラズマ源（３５）は、マグネトロン（３８）を有し、前記容器（３０）は、少なくとも部分的に前記マグネトロン（３８）の電磁ビームによって透過可能である、ことを特徴とする使用方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の上位概念による、オブジェクト、特にインプラントを処理するためのプラズマシステムに関している。
【０００２】
オブジェクトをプラズマ内で処理することは公知である。さらにインプラント、特に歯科用インプラントを、その埋め込み直前にプラズマ内で処理することも公知である。そのようなプラズマ処理法は、例えば独国特許出願公開第１９５０２１３３号明細書から公知である。
【０００３】
プラズマにおいて多剤耐性細菌自体を殺すことは２０１３年１１月２２日付けの刊行物ＶＤＩ−ニュース４７号、Ｐｅｔｅｒ  Ｔｒｅｃｈｏｗによる記事に説明がある。その記事では、プラズマに基づくインプラントの表面官能化が、細胞に対して特に選択的な誘因性を起こさせ、ひいては永久的なインプラントの治癒を加速させることが可能であることが述べられている。それによれば、インプラントへのプラズマの適用は、このような細胞誘因性の抗菌特性に組み合わせることを可能にさせている。
【０００４】
さらにプラズマ内でのインプラントの洗浄は、口腔インプラント臨床研究に関する公知文献「Microscopical an microbiologic characterization of customized titanium abutments after different cleaning procedures,Clinical Oral Implants Research, 0, 2012／1−9,」の記事から公知である。
【０００５】
米国特許出願公開第２０１３／０２３０４２６号明細書からは、真空容器内でのインプラントの殺菌のためのプラズマシステムが開示されている。この真空容器は、プラズマ処理中に容器内で負圧を発生させるために、ポンプユニットに接続されている。そのようなプラズマ滅菌のための装置は、さらに国際公開第２０１０／０４４６６９号からも公知である。
【０００６】
インプラントのプラズマ処理は、最大限の効果を得るためにも移植の直前になされるべきである。但しこの目的のためには、これまでは複雑で高価なプラズマシステムを診療所や病院に設置する必要があった。これらのプラズマシステムは、通常は１つのポンプと複数のガスボンベに接続させる必要があり、これによってプラズマシステムの複雑さとコストが増大させられてきた。その上さらにこのようなプラズマシステムは、熟練した技術者に操作させなければならない。
【０００７】
それに対して独国特許発明第１０２００４０４９７８３号明細書、国際公開第０３／０５９４００号からは、プラズマシステムを、電気的プラズマ源を有するプラズマユニットと、該プラズマユニットから独立した可搬容器とに分割することが開示されている。
【０００８】
しかしながらこの公知の容器は、費用のかかる複数の電極を備えていなければならない。これらの電極は、オブジェクトのプラズマ処理のためにコンタクト形成させることが不可欠である。それにより容器の構成は、高価なものとなる。さらに容器のコンタクト形成は、熟練した技術者が行わなければならない。
【０００９】
国際公開第２０１１／１１６９８４号からは、容器を備えたプラズマシステムが公知である。この容器は、プラズマを点火するための電極を有していない。しかしながら、プラズマの点火のために、この容器は、プラズマシステムの電極構造部と直接コンタクト形成させる必要がある。
【００１０】
米国特許第６５５８６２１号明細書では、インプラントをプラズマ処理の直後に容器内に密封して、プラズマ処理チャンバから取り出すことが開示されている。
【００１１】
さらに、国際公開第９７／４４５０３号からは、プラズマチャンバ内でプラズマ処理を用いて容器内側を滅菌することが公知である。
また米国特許出願公開第２０１３／０１１８４０６号明細書にはプラスチック製ボトルのプラズマ処理方法が開示されている。
さらに国際公開第２０１１／１１６９８４号からは、密封されたプラスチック容器における細菌数を低減させるための装置が公知である。
さらに国際公開第２０１４／１３２２１６号からは、手の殺菌処理のためのプラズマシステムが公知である。
【００１２】
それに対して本発明の課題は、オブジェクト、特にインプラントが簡単かつ低コストでプラズマ処理可能なプラズマシステムを提供することにある。
【００１３】
前記課題は、請求項１の特徴を有するプラズマシステムによって解決される。請求項２乃至８には、そのような本発明によるプラズマシステムの好ましい改善形態が示されている。
【００１５】
それによりこのプラズマシステムは、独立した可搬の密封容器を含む。この容器内には、オブジェクト、特にインプラントを収容することができる。そのためオブジェクトのメーカーは、このオブジェクトを容器内に密封して納品することができる。前述の「独立した可搬の（密封）容器」とは、ここではプラズマユニットと恒久的に接続されていない容器であることを理解されたい。特にこの容器は、ガス用ホースおよび／または電気的な線路を介して、プラズマユニットと恒久的に接続されていない。
【００１６】
オブジェクトの使用直前に、容器は、使用場所において、プラズマユニット近傍に直接持ち込むことができる。その後でプラズマユニットは、容器内でプラズマを発生させる。このプラズマは、容器内でオブジェクトを処理する。その後では容器を開くことができ、オブジェクトを当該容器から取り出して使用する（特にインプラントする）ことが可能である。このプラズマユニットは、それによって、プラズマを発生させるための電気的アセンブリのみ、すなわち電気的プラズマ源のみを有しているだけでよくなる。このプラズマユニットは、それによって特に簡素で低コストに構成することが可能となる。
【００１７】
電気的プラズマ源は、プラズマを容器内で直接発生させる。この「プラズマの直接発生」とは、ここでは、電気的プラズマ源の容器に対する「遠隔作用」と理解されたい。それによりこの容器は、電極なしで構成することが可能となる。これにより、容器の製造コストが大幅に削減され、プラズマ点弧用の電極を容器内で厳密に所定の間隔で形成しなければならないならばなおさらである。ここでのプラズマユニットは、容器がプラズマユニットに対して離間して配置されている場合に、プラズマが点弧可能となるように構成される。従ってこの容器は、容器内でプラズマを点弧させるために、ただプラズマユニット近傍へもたらすだけでよい。これにより、熟練者による容器のコンタクト形成が省かれる。
【００１８】
この容器は、特に好ましくは恒久的に気密に密封可能である。
【００１９】
この容器は、容器内での迅速でかつ容易な圧力設定調整を可能にするために、例えばカホンまたはスウェージロックによるクイックカップリング機能を備えていてもよい。
【００２０】
特に好ましくは、この容器は、オブジェクトが容器内で既にプラズマ処理されたかどうかを検査できるようにするために、不可逆的な温度表示器を備えていてもよい。この温度表示器は、この場合好ましくは３０℃乃至１００℃の温度範囲、より好ましくは４０℃乃至６０℃の温度範囲で使用するために構成されている。さらにそのような温度表示器によって、プラズマ処理に必要な持続時間に既に達したか否かを監視することが可能である。
【００２１】
プラズマユニットは、ガス接続部および／またはポンプの何れも有していない。さらにプラズマユニットは、媒体接続部なしで特に簡単な操作が可能である。
【００２２】
プラズマシステムは、プラズマユニットが、特にプラズマ処理中に、容器との接続を何も持たないように構成されている。換言すれば、容器とプラズマユニットとの間には電気的な線路も流体用の管路も存在しない。好ましくは、プラズマユニットと容器との間で固定的な機械的接合は何も存在しない。このプラズマユニットは、好ましくは密封されたプラズマチャンバを何も有してない。
【００２３】
プラズマユニットは、特に好ましくは、前記容器を収容するための凹部を備えたハウジングを有しており、このハウジングは、前記容器を部分的にのみ取り囲んでいる。
【００２４】
容器本体は、セラミックか若しくは耐性のあるプラスチックで形成され得る。特に好ましくは、容器本体は、完全に誘電体材料から形成される。
【００２５】
本発明の特に好ましい実施形態によれば、容器本体は、少なくとも部分的に、特に実質的に、好ましくは完全に、ガラスから形成される。このガラスは透明であり、そのため当該プラズマシステムの使用者は、容器内のプラズマの点弧を観察することができ、その上さらに特別なプラズマ耐性も備わる。
【００２６】
容器は、ガラス窓を備えた金属管で形成されていてもよい。
【００２７】
容器本体は、この場合好ましくは、アンプルの形態で構成される。そのようなアンプルは、インプラントの処理に特に良好に適している。なぜならアンプルは、診療所や病院では既に公知であり、広く使用されているからである。そのためアンプルの取り扱いは、診療所や病院のスタッフにとって既におなじみである。これらのアンプルは、少なくとも１つの熔封先端を含んでいてもよい。
【００２８】
容器は、容器本体を密封するための栓を有していてもよい。この場合容器本体と栓は、好ましくは容器本体を栓で気密に密封するためのそれぞれ１つの仕上げを有し得る。
【００２９】
本発明のさらに好ましい実施形態によれば、容器はオブジェクトの収容後に非破壊的な開封は不可能である。そのような容器は、一方では特に低コストで製造することができ、他方では気密性が特に高い利点を有している。さらにそのような容器では、当該容器がまだメーカーによる元の包装のままで存在しているのか、それとも既に開封若しくは細工が施されているかどうかが即座に識別可能である。その際容器本体は、一体的に構成されていてもよいし、オブジェクトを完全に包含していてもよい。
【００３０】
この場合容器の容器本体は、特に好ましくは、破断アンプルの形態で構成されている。この破断アンプルとは、開封するときに所定の箇所を破断する必要のあるガラス製アンプルと理解されたい。この破断アンプルは、特に環状の破断箇所を有している。この破断箇所は、例えば容器本体内に刻み込まれた傷であってよい。また前記破断箇所は、代替的若しくは付加的に焼付けられたエナメルリングの形態で形成されていてもよい。
【００３１】
容器本体は、容器本体の製造を簡単にし、プラズマユニット内への挿入を容易にさせるために、好ましくはその長手軸線に対して実質的に回転対称に構成されている。その際特に好ましくは、容器本体は、円筒状の区分を有している。
【００３２】
この容器本体は、好ましくは一体的に構成され、かつその中に収容されるオブジェクトを完全に取り囲むように構成されている。
【００３３】
容器本体内で低圧プラズマを点弧するために、容器本体内のガス圧は、１バール未満、特に０．１バール未満、より好ましくは、０．０１バール未満、特に好ましくは０．００１バール未満である。
【００３４】
本発明によるプラズマシステムは、容器内でオブジェクトの表面をエッチングするために使用することができる。この場合容器内には、好ましくはエッチングガス、例えば四フッ化炭素（ＣＦ４）、六フッ化エタン（Ｃ２Ｆ６）、八フッ化プロパン（Ｃ３Ｆ８）、八フッ化シクロブタン（Ｃ４Ｆ８）、六フッ化硫黄（ＳＦ６）および／または三フッ化窒素（ＮＦ３）が含まれ得る。この容器は好ましくは、容器内のオブジェクトのチタン表面エッチングのためにフッ素含有ガスを含有し得る。
【００３５】
本発明によるプラズマ処理方法は、さらにオブジェクトの表面を活性化するために使用することができる。この目的のために容器は、アルゴン（Ａｒ）、酸素（Ｏ２）及び／又は空気を含む。それに対して代替的若しくは付加的に、容器内に水（Ｈ２Ｏ）が、特にガス状の形態で含有されていてもよい。
【００３６】
さらにこの容器は、とりわけアミン含有ガス、特にメチルアミン（ＣＨ５Ｎ）、ジメチルアミン（Ｃ２Ｈ７Ｎ）、トリメチルアミン（Ｃ３Ｈ９Ｎ）、アンモニア（ＮＨ３）、ベタイン（Ｃ５Ｈ１１ＮＯ２）および／またはブチルアミン（Ｃ４Ｈ１１Ｎ）を含有し得る。このアミン含有ガスは、インプラントの形態のオブジェクトの場合には特に好ましい。なぜなら、生物学的細胞は、アミン含有ガスによってプラズマ処理されたインプラント上で特に良好に成長することが示されるからである。
【００３７】
容器内が密封後に大気圧、すなわち周辺圧力で占められる場合には、容器の充填は大幅に簡素化される。大気圧にもかかわらず、プラズマの点弧を可能にするために、このケースの場合、容器の４０％を越える部分がヘリウム（Ｈｅ）で充たされ、特に容器の５０％越える部分がヘリウム（Ｈｅ）で充たされ、好ましくは容器の６０％を越える部分がヘリウム（Ｈｅ）で充たされ、特に好ましくは容器の７０％を越える部分がヘリウム（Ｈｅ）で充たされる。
【００３８】
さらに本発明によるプラズマ処理方法は、容器内でオブジェクトにコーティングを被着させるために使用されてもよい。この目的のために、容器は、プラズマ内で崩壊する化合物、例えばシラン化合物を含有していてもよい。
【００３９】
プラズマユニットの電気的なプラズマ源は、容器内で直接プラズマを発生するための高周波発生器と、この高周波発生器と電気的に接続される複数の電極とを有していてもよい。これらの電極の間に容器が少なくとも部分的に挿入可能である。ここでのこれらの電極は、容器を簡単な方法で電極間に挿入できるようにするために、好ましくは実質的に環状に構成されている。これらの電極は、特に好ましくは、容器を収容するように構成されたプラズマユニットのハウジングの凹部周辺に形成されてもよい。
【００４０】
容器内でプラズマを直接発生させるために、電気的プラズマ源はマグネトロンを有し、容器は、少なくとも部分的にマグネトロンのマイクロ波ビームによって透過可能である。マグネトロンの電磁ビームを容器に狙いを定めて配向できるようにするために、このマグネトロンは、電磁ビーム放射のためのアンテナと接続されていてもよい。このアンテナは、特に好ましくは、容器を収容するように構成されたプラズマユニットのハウジングの凹部周辺に形成されていてもよい。
【００４１】
容器内でのプラズマの直接発生は、さらに電気的プラズマ源が誘導コイルを有し、該誘導コイル内に前記容器が少なくとも部分的に挿入可能であることによって達成され得る。この誘導コイルは、特に好ましくは、容器を収容するように構成されたプラズマユニットのハウジングの凹部周辺に形成されていてもよい。
【００４２】
本発明はさらに、請求項９に記載のオブジェクト、特にインプラントを処理するための方法に関している。
【００４３】
上述したように、本発明によるこの方法は、診療所や医院において構造的に非常に簡素に構成されたプラズマユニットを、オブジェクトのユーザーのもとで、例えばインプラントのユーザーのもとで使用可能にさせる特別な利点をもたらす。このオブジェクト、特にインプラントは、容器の中でオブジェクトのメーカーからオブジェクトのユーザーへ供給することが可能である。インプラントの場合には、プラズマ処理は、処置の直前に行うことができ、すなわち最長でも処置の約１時間前に行うことが可能である。その後当該オブジェクト若しくはインプラントは、新規にコーティング、エッチングおよび／または活性化された表面で使用することができる。容器は、プラズマの点弧の際には距離をあけて配置され、つまりプラズマユニットに対して離間されている。そのためこの容器は、ただプラズマユニットのおおよそ近傍にもたらすだけでよく、その際の正確な位置付けは不要である。
【００４４】
使用されるプラズマシステムは、好ましくは上述した特徴の１つ以上を含み得る。
【００４５】
特に好ましくは、ガラス製の容器本体が使用される。
【００４６】
好ましくは、一体的に形成され、オブジェクトを特に完全に取り囲む容器本体が使用される。
【００４７】
本発明の特に好ましい実施形態によれば、オブジェクトを収容した後では、非破壊的開放が不可能である容器が使用される。
【００４８】
方法ステップｂ）において、好ましくはガス圧が１バール未満、特に０．１バール未満、より好ましくは、０．０１バール未満、特に好ましくは０．００１バール未満に設定調整される。
【００４９】
プラズマの点弧のために、高周波発生器と、該高周波発生器に電気的に接続された電極とを有し、さらに前記電極間に容器が少なくとも部分的に挿入される電気的プラズマ源がプラズマユニットに使用され得る。
【００５０】
さらにプラズマの点弧のために、マグネトロンを備え、容器が少なくとも部分的に前記マグネトロンのマイクロ波ビームによって透過される電気的プラズマ源が使用され得る。
【００５１】
本発明による方法は、特に好ましくは、インプラント、特に歯科用インプラントを埋め込み直前に活性化させるために使用される。それによりインプラントの接着は、表面エッチングを回避して、特にフッ酸（ＨＦ）の使用を回避して行うことができる。
【００５２】
好ましくは、複数のパラメータが本発明による方法の実施のために次のように選択される。すなわち。オブジェクトの表面エネルギーが少なくとも倍増するように選択される。チタン製のオブジェクトを用いた試みでは、４３ｍＮ／ｍの表面エネルギーが本発明による方法の実施のもとで１００ｍＮ／ｍを遙かに超えて高められることが示された。これにより、対象の表面の特に効果的な活性化が達成される。
【００５３】
本発明による方法は、特に好ましくは、インプラントの成長を改善するためのプラズマ処理の実行のために使用される。その際にはインプラントがプラズマ中で滅菌されることが重要なのではなく、活性化されることが重要である。従ってこのインプラントは、既にプラズマ処理の前に容器内で滅菌されて存在している。
【００５４】
最後に本発明は、請求項１０によれば、電極なしで構成され、プラズマユニットから独立し、少なくとも部分的にガラスからなっている可搬容器を、前記プラズマユニット内でのオブジェクト、特にインプラントのプラズマ処理のために使用する使用方法に関しており、このプラズマユニットは、ガス接続部および／またはポンプの何れも有していない。
【００５５】
使用される容器は、好ましくは、上述した特徴の１つ以上を有している。
【００５６】
この容器は、特に好ましくは診療所、特に歯科医院や病院で使用される。
【００５７】
容器の特に適切な使用は、インプラント、特に歯科用インプラントを、処置の直前に活性化させることにあり、それによってさらなる化学処理なしで、特に表面エッチング等を避けて使用することができる。
【００５８】
本発明のさらなる特徴および利点は、本発明の主要な細部を示した添付図面に基づく本発明のいくつかの実施形態の以下の詳細な説明並びに従属請求項の記載から明らかになるであろう。
【００５９】
図面中に示されている特徴は、本発明による特殊性を明瞭に可視化させるように示されている。これらの様々な特徴は、それぞれ個別にそれ自体で実現させることも、本発明の変化形態において任意に組み合わせて実現させることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】第１のプラズマシステムの概略図
【図２】第２のプラズマシステムの概略図
【図３】第３のプラズマシステムの概略図
【図４ａ】米国特許第６５５８６２１号に係るプラズマシステムを示した図
【図４ｂ】図４ａによるプラズマシステムとの比較において本発明によるプラズマシステムを示した図
【図５ａ】米国特許第６５５８６２１号に従って実施された方法の圧力経過を時間軸に亘って示した線図
【図５ｂ】図５ａによる方法との比較において本発明による方法の概略的な圧力経過を時間軸に亘って示した線図
【００６１】
発明を実施するための形態
図１には、第１のプラズマシステム１０が示されている。この第１のプラズマシステム１０は、プラズマユニット１２と容器１４を有している。この容器１４は、電極のない、プラズマユニット１２から独立した可搬型ユニットとして構成されている。容器１４は、ガラス製の容器本体１６を含んでいる。この容器本体１６は、オブジェクト１８を含み、このオブジェクト１８は、歯科用インプラントの形態で存在している。
【００６２】
オブジェクト１８は、その製造後に容器１４内に挿入される。続いて容器１４内で負圧が形成され、この容器１４は気密に密封される。容器本体１６は、オブジェクトの収容後は、すなわち図１に示されている状態では、非破壊的な開封は不可能である。この目的のために、容器本体１６は、ガラスアンプルの形態で構成されている。それによりこの容器１４は、オブジェクト１８のメーカーからユーザー、例えば歯科医院に納品される。
【００６３】
ユーザーは、容器１４をプラズマユニット１２の近傍にもたらす。このプラズマユニット１２は、電気的プラズマ源１９を備え、この電気的プラズマ源１９は、当該実施形態では高周波発生器２０を有している。この高周波発生器２０は、電気的プラズマ源１９の電極２２，２４と電気的に接続されている。この電気的プラズマ源１９のスイッチオンにより、容器１４内では当該電極２２，２４の領域にプラズマ２６が点弧される。このプラズマ２６によってオブジェクト１８は、プラズマ処理される。この実施形態では、容器１４には不活性ガスと酸素が充填されており、これによってオブジェクト１８の表面から細菌が除去され、表面が活性化される。
【００６４】
プラズマ処理した後では、ユーザーは、容器本体１６を破断することができ、オブジェクト１８が取り出されて使用可能となる。
【００６５】
プラズマユニット１２は、構造的に特に簡素に構成されており、これにより、このプラズマユニット１２による製造コストは、排気可能な処理チャンバを備えている「通常の」プラズマユニットのコストをおよそ一桁下回る。さらにこのプラズマユニット１２は、媒体の、特にガスの供給および／または排出が不要である。そのため本発明に係るプラズマユニットは、扱いが特に簡単であり、専門の訓練を受けていない人員によっても十分利用可能である。
【００６６】
図２には、第２のプラズマシステム２８が示されている。オブジェクト１８を有する容器３０は、図１による容器１４若しくはオブジェクト１８と同様に構成されている。しかしながら図１によるプラズマユニット１２とは異なり、図２によるプラズマシステム２８は、プラズマユニット３４を有し、このプラズマユニット３４の電気的プラズマ源３５は、直流電圧発生器３６を含んでいる。この直流電圧発生器３６は、電気的プラズマ源３５のマグネトロン３８と電気的に接続されている。
【００６７】
マグネトロン３８には、電磁ビームを放射するためのアンテナ４０が備わっており、この電磁ビームは図２中では矢印４２，４４，４６によって示されている。この電磁波若しくは電磁ビームは、好ましくはマイクロ波領域にある。この場合電磁ビームは、容器３０内でプラズマ４８が点弧されるように選択される。容器３０は、プラズマユニット３４から独立した可搬型ユニットとして構成されている。
【００６８】
図３には、第３のプラズマシステム５０が示されている。この第３のプラズマシステムを５０は、無電極に構成された容器５２を有しており、この容器５２は、ガラス製の容器本体５４を含み、この容器本体５４内にオブジェクト５６が挿入されている。
【００６９】
第３プラズマシステム５０は、容器５２に対してさらに付加的にプラズマユニット５８を含んでいる。この容器５２は、プラズマユニット５８から独立した可搬型ユニットとして構成されている。このプラズマユニット５８は、電気的なプラズマ源６０を有し、この電気的プラズマ源６０は、高周波発生器６２を含んでいる。この高周波発生器６２は、プラズマ６６の点弧のために誘導コイル６４と電気的に接続されている。
【００７０】
図４ａには、米国特許第６５５８６２１号に係るプラズマシステムが示されている。この図４ａでは、インプラントメーカー側が点線の左側に分割され、インプラント顧客側は点線の右側に分割されている。この図４ａからわかることは、インプラントメーカー側ではインプラントが、開放された容器内でプラズマ処理されることである。このプラズマ処理が終わった後で、容器が密封され、顧客側に運ばれ、移植前にそこで開封される。
【００７１】
それに対して図４ｂには、本発明に係るプラズマシステムが示されている。ここでも破線の左側はインプラントメーカー側であり、破線の右側は、インプラント顧客側を表している。図４ｂからわかることは、インプラントはメーカー側で容器内に挿入され、この容器が適切な雰囲気を含んで密封されることである。本来のプラズマ処理は、その後の顧客側で行われ、顧客はプラズマ処理後に容器を開封し、インプラントが移植される。それにより、従来技術とは対照的に、インプラントのプラズマ処理は直接顧客側で、すなわち診療所若しくは医院において、顧客側に操作が複雑なプラズマシステムの準備を強いることなく行うことが可能である。
【００７２】
図５ａは、米国特許第６５５８６２１号に係る方法の圧力経過（Ｙ軸）を、時間軸（Ｘ軸）に亘って示した線図である。この従来技術によれば、まずプラズマチャンバが排気（Ａ）され、その後でガスの安定化（Ｂ）がなされ、プラズマの点弧（Ｃ）と、プラズマチャンバの換気（Ｄ）、梱包／移送／保管（Ｅ）、埋め込み（Ｆ）が行われる。この図５ａからわかることは、プラズマシステムが顧客の直ぐそばで構築されていないときには、プラズマ処理と埋め込みとの間に長い期間が存在し得ることである。
【００７３】
それとは対照的に、図５ｂは本発明による方法の圧力経過を時間軸に亘って示した線図である。ここでは容器内においてまず最初に排気（Ａ）がなされ、ガスの安定化（Ｂ）がそれに続く。その後で、インプラントが梱包／移送／保管（Ｅ）される。プラズマ処理（Ｃ）は、顧客側のプラズマユニット内で直接行われる。このプラズマユニットは、電気的な接続部しか有していないので、顧客にとって非常に簡単に操作できる。通常は、プラズマユニットは、オンオフスイッチしか有していない。プラズマ処理の直後に、換気（Ｄ）が容器の開封によって行われ、さらに埋め込み（Ｆ）が行われる。
【００７４】
したがって、本発明によれば、時間的に移植直前のプラズマ処理と、構造的に最も簡素に構成されたプラズマシステムとが実現され得る。
【００７５】
要約すれば、本発明は、少なくとも２つの別個の部材、詳細には処理すべきオブジェクトのための容器並びに該容器内でプラズマを点弧するための電気的プラズマ源を備えたプラズマユニットからなっている。このプラズマユニットは、他の媒体のためのさらなるモジュールは何も持ってなく、そのため、このプラズマユニットは、構造的に非常に簡素に構成され、操作も容易である。特に好ましくは、この容器は、ガラス製の容器本体を備えている。この容器本体は、好ましくは一体的に形成され、オブジェクトを完全に包含する。プラズマは、プラズマユニットから離間されて電気的プラズマ源の高周波発生器、誘導コイルおよび／またはマグネトロンによって点弧可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図５ａ】
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【図５ｂ】
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