(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
メダルが流下する通路を形成する筺体と、
前記通路の一部を撮影範囲とするラインセンサを有し、所定の撮影間隔ごとに当該撮影範囲の１次元画像を生成する撮像部と、
前記所定の撮影間隔ごとに撮影された複数の前記１次元画像のそれぞれから、前記通路内に投入された物体が写っている被写体領域を抽出して該被写体領域の幅を求め、前記複数の１次元画像にわたる該被写体領域の幅の時間変化の軌跡が、前記メダルが前記通路を流下する際の複数の前記１次元画像上での該メダルの幅の時間変化の軌跡と一致する場合にメダルが投入されたと判定し、一方、前記被写体領域の幅の時間変化の軌跡が前記メダルの幅の時間変化の軌跡と一致しない場合に不正行為が行われたと判定する制御回路と、
を有するメダル識別装置。
【請求項２】
前記ラインセンサは、該ラインセンサの長手方向が前記メダルの流下方向と直交しないように配置され、
前記制御回路は、前記複数の１次元画像のそれぞれから抽出された前記被写体領域の重心を求め、前記複数の１次元画像にわたる前記被写体領域の重心の時間変化の軌跡が前記メダルが前記通路を流下する際の複数の前記１次元画像上での該メダルが表される領域の重心の時間変化の軌跡と一致しなければ不正行為が行われたと判定する、請求項１に記載のメダル識別装置。
【請求項３】
メダルが前記撮影範囲を通り抜けるのに要する期間を前記所定の撮影間隔で区分した複数のステージごとに定められた、前記１次元画像上のメダルの幅が取り得る範囲である前記被写体領域の幅の許容範囲と前記１次元画像上のメダルが表される領域の重心が取り得る範囲である前記被写体領域の重心の許容範囲とを記憶する記憶部をさらに有し、
前記制御回路は、生成された時間順に並べた複数の前記１次元画像のそれぞれについての前記被写体領域の幅及び前記被写体領域の重心が、前記複数のステージのうちの対応するステージについての前記被写体領域の幅の許容範囲及び前記被写体領域の重心の許容範囲に含まれる場合に、前記被写体領域の幅の時間変化の軌跡が前記メダルの幅の時間変化の軌跡と一致すると判定する、請求項２に記載のメダル識別装置。
【請求項４】
メダルが流下する通路を形成する筺体と、前記通路の一部を撮影範囲とするラインセンサを有し、所定の撮影間隔で当該撮影範囲の１次元画像を生成する撮像部とを有するメダル識別装置における、メダル識別方法であって、
前記所定の撮影間隔ごとに撮影された複数の前記１次元画像のそれぞれから、前記通路内に投入された物体が写っている被写体領域を抽出して該被写体領域の幅を求めるステップと、
前記複数の１次元画像にわたる該被写体領域の幅の時間変化の軌跡が、前記メダルが前記通路を流下する際の複数の前記１次元画像上での該メダルの幅の時間変化の軌跡と一致するか否かを判定し、一致する場合にメダルが投入されたと判定し、一方、一致しない場合に不正行為が行われたと判定するステップと、
を含むメダル識別方法。
【請求項５】
前記ラインセンサは、該ラインセンサの長手方向が前記メダルの流下方向と直交しないように配置され、
前記複数の１次元画像のそれぞれから抽出された前記被写体領域の重心を求めるステップをさらに有し、
前記判定ステップは、前記複数の１次元画像にわたる前記被写体領域の重心の時間変化の軌跡が前記メダルが前記通路を流下する際の複数の１次元画像上での該メダルが表される領域の重心の時間変化の軌跡と一致しなければ不正行為が行われたと判定する、請求項４に記載のメダル識別方法。
【請求項６】
前記メダル識別装置は、メダルが前記撮影範囲を通り抜けるのに要する期間を前記所定の撮影間隔で区分した複数のステージごとに定められた、前記１次元画像上のメダルの幅が取り得る範囲である前記被写体領域の幅の許容範囲と前記１次元画像上のメダルが表される領域の重心が取り得る範囲である前記被写体領域の重心の許容範囲とを記憶する記憶部をさらに有し、
前記判定ステップは、生成された時間順に並べた複数の前記１次元画像のそれぞれについての前記被写体領域の幅及び前記被写体領域の重心が、前記複数のステージのうちの対応するステージについての前記被写体領域の幅の許容範囲及び前記被写体領域の重心の許容範囲に含まれる場合に、前記被写体領域の幅の時間変化の軌跡が前記メダルの幅の時間変化の軌跡と一致すると判定する、請求項５に記載のメダル識別方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メダルの投入を偽装する不正行為をメダルの投入として誤検出することを防止可能なメダル識別装置及びメダル識別方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、回胴遊技機などの遊技機には、有価価値を持つメダルが投入されると、そのメダルに応じて遊技者が遊技できる回数などを決定するために、投入されたメダルを識別するメダル識別装置が搭載されている。このようなメダル識別装置では、例えば、メダル識別装置内のメダルの通路に沿って、メダルが通過したことを検知するセンサが複数設けられる。各センサは、例えば、発光ダイオードなどの光源と、フォトダイオードなどの受光素子とを有し、その光源と受光素子とが、通路を挟んで対向し、光源からの光が受光素子に達するように設置される。そのため、メダルが光源と受光素子の間を通る瞬間だけ、メダルによって光源からの光が遮られ、その結果として受光素子により検知される受光量が低下することで、このセンサはメダルが通過したことを検知できる。さらに、メダル識別装置は、各センサがメダルが通過したことを検知した順番により、メダルの通過方向を検出できる。
【０００３】
しかし、近年、いわゆるクレマンと呼ばれる器具を用いて、メダルの投入を偽装する不正行為が問題となっている。この治具は、メダル識別装置のメダル投入口から挿入可能な板状の治具であり、先端に複数の発光ダイオードを有する。そして治具の手元側のスイッチを操作することにより、各発光ダイオードが、メダルが複数のセンサ間を通り抜ける時間と同程度の間隔で順番に明滅する。これにより、この治具は、メダル識別装置にメダルが投入されたと誤認識させる。このような不正行為を防止するために、センサの投光素子点灯時に、これと同期制御される受光部が受光しているか否かを判定する第１判定部と、センサの投光素子消灯時に受光部が受光していないか否かを判定する第２判定部とを備え、第１及び第２判定部により複数回の適正な受光／遮光であると判定された時、受光信号を出力する一方、第２判定部により投光素子消灯時に受光部が受光していると判定された時、次のタイミングで投光素子を点灯させないようにした投入メダル選別装置が提案されている（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２７０６２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１に開示された技術でも、投光素子の発光タイミングと同期して、不正行為用の治具の発光ダイオードを明滅させると、不正行為によるメダルの投入の偽装を完全に防止することができないおそれがあった。また、不正行為には、正規のメダルに紐を取り付け、その紐の一端を保持したままそのメダルをメダル投入口に投入し、メダル識別装置がメダルを識別した後に、紐を引いてメダルをメダル投入口から取り出す行為も知られている。しかし、特許文献１に開示された技術では、このような不正行為を防止することはできない。
【０００６】
そこで、本発明は、メダルの投入を偽装する不正行為によりメダルが投入されたと誤認識することを防止可能なメダル識別装置及びメダル識別方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一つの形態として、メダル識別装置が提供される。このメダル識別装置は、メダルが流下する通路を形成する筺体と、その通路の一部を撮影範囲とするラインセンサを有し、所定の撮影間隔ごとにその撮影範囲の１次元画像を生成する撮像部と、所定の撮影間隔ごとに撮影された複数の１次元画像のそれぞれから、通路内に投入された物体が写っている被写体領域を抽出して被写体領域の幅を求め、複数の１次元画像にわたる被写体領域の幅の時間変化の軌跡が、メダルが通路を流下する際の複数の１次元画像上でのメダルの幅の時間変化の軌跡と一致する場合にメダルが投入されたと判定し、一方、被写体領域の幅の時間変化の軌跡がメダルの幅の時間変化の軌跡と一致しない場合に不正行為が行われたと判定する制御回路とを有する。
【０００８】
このメダル識別装置において、ラインセンサは、その長手方向がメダルの流下方向と直交しないように配置されることが好ましい。この場合において、制御回路は、複数の１次元画像のそれぞれから抽出された被写体領域の重心を求め、複数の１次元画像にわたる被写体領域の重心の時間変化の軌跡がメダルが通路を流下する際の複数の１次元画像上でのメダルの重心の時間変化の軌跡と一致しなければ不正行為が行われたと判定することが好ましい。
【０００９】
また、メダル識別装置は、メダルが撮影範囲を通り抜けるのに要する期間を所定の撮影間隔で区分した複数のステージごとに定められた、１次元画像上のメダルの幅が取り得る範囲である被写体領域の幅の許容範囲と１次元画像上のメダルの重心が取り得る範囲である被写体領域の重心の許容範囲とを記憶する記憶部をさらに有し、制御回路は、生成された時間順に並べた複数の１次元画像のそれぞれについての被写体領域の幅及び被写体領域の重心が、複数のステージのうちの対応するステージについての被写体領域の幅の許容範囲及び被写体領域の重心の許容範囲に含まれる場合に、被写体領域の幅の時間変化の軌跡がメダルの幅の時間変化の軌跡と一致すると判定することが好ましい。
【００１０】
さらに、本発明の他の形態として、メダルが流下する通路を形成する筺体と、その通路の一部を撮影範囲とするラインセンサを有し、所定の時間間隔でその撮影範囲の一次元画像を生成する撮像部とを有するメダル識別装置における、メダル識別方法が提供される。このメダル識別方法は、所定の撮影間隔ごとに撮影された複数の１次元画像のそれぞれから、通路内に投入された物体が写っている被写体領域を抽出してその被写体領域の幅を求めるステップと、複数の１次元画像にわたる被写体領域の幅の時間変化の軌跡が、メダルが通路を流下する際の複数の１次元画像上でのメダルの幅の時間変化の軌跡と一致するか否かを判定し、一致する場合にメダルが投入されたと判定し、一方、一致しない場合に不正行為が行われたと判定するステップとを含む。
【００１１】
なお、ラインセンサは、その長手方向がメダルの流下方向と直交しないように配置されることが好ましい。そしてこのメダル識別方法は、複数の１次元画像のそれぞれから抽出された被写体領域の重心を求めるステップをさらに有し、上記の判定ステップは、複数の１次元画像にわたる被写体領域の重心の時間変化の軌跡がメダルが通路を流下する際の複数の１次元画像上でのメダルの重心の時間変化の軌跡と一致しなければ不正行為が行われたと判定することが好ましい。
【００１２】
また、メダル識別装置は、メダルが撮影範囲を通り抜けるのに要する期間を所定の撮影間隔で区分した複数のステージごとに定められた、１次元画像上のメダルの幅が取り得る範囲である被写体領域の幅の許容範囲と１次元画像上のメダルの重心が取り得る範囲である被写体領域の重心の許容範囲とを記憶する記憶部をさらに有することが好ましい。この場合において、メダル識別方法における判定ステップは、生成された時間順に並べた複数の１次元画像のそれぞれについての被写体領域の幅及び被写体領域の重心が、複数のステージのうちの対応するステージについての被写体領域の幅の許容範囲及び被写体領域の重心の許容範囲に含まれる場合に、被写体領域の幅の時間変化の軌跡がメダルの幅の時間変化の軌跡と一致すると判定することが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係るメダル識別装置は、メダルの投入を偽装する不正行為によりメダルが投入されたと誤認識することを防止できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一つの実施形態によるメダル識別装置の概略上面図である。
【図２】メダル識別装置の概略背面図である。
【図３】撮像部のカバーを外したときのメダル識別装置の概略背面図である。
【図４】図１のＡＡ’で示された断面を矢印の方向から見た、メダル識別装置の概略断面図である。
【図５】図２のＢＢ’で示された断面を矢印の方向から見た、メダル識別装置の概略断面図である。
【図６】メダル識別装置の回路ブロック図である。
【図７】（ａ）〜（ｇ）は、それぞれ、メダルが撮像部の撮影範囲を通過する際の、被写体領域とその重心位置の遷移の一例を示す図である。
【図８】（ａ）は、図７（ａ）〜（ｇ）に対応する、被写体領域の幅の時間変化の一例を示す図であり、（ｂ）は、図７（ａ）〜（ｇ）に対応する、被写体領域の重心の時間変化の一例を示す図である。
【図９】（ａ）は、被写体領域の幅についての許容範囲の一例を示す図であり、（ｂ）は、被写体領域の重心についての許容範囲の一例を示す図である。
【図１０】メダル識別方法の動作フローチャートである。
【図１１】本発明の一つの実施形態に係るメダル識別装置を備えた回胴遊技機の概略斜視図である。
【図１２】前面パネルを開いた状態における、本発明の一つの実施形態に係るメダル識別装置を備えた回胴遊技機の概略斜視図である。
【図１３】回胴遊技機の回路ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図を参照しつつ、本発明の一つの実施形態によるメダル識別装置について説明する。このメダル識別装置は、メダル識別装置内の通路を流下するメダルを連続的に撮影する、メダルの流下方向に対して傾けて配置されたラインセンサを備えた撮像部を有する。そしてこのメダル識別装置は、その撮像部により生成された連続した複数の一次元画像のそれぞれに写った被写体の幅及び被写体の重心の時間変化の軌跡が、正規のメダルが通過したときにそのメダルが画像に写る幅及び重心の時間変化の軌跡と一致するか否かでメダルが投入されたか不正治具が投入されたかを判定するとともに、投入された正規のメダルに取り付けた紐を引いてメダルを取り出す不正行為によるメダルの計数を防止する。
なお、本実施形態では、メダルの外形形状は、略円形であるとする。
【００１６】
図１は、本発明の一つの実施形態によるメダル識別装置１の概略平面図であり、図２は、メダル識別装置１の概略背面図である。図３は、撮像部（後述）のカバーを外したときのメダル識別装置１の概略背面図である。図４は、図１のＡＡ’で示された断面を矢印の方向から見た、メダル識別装置１の概略断面図である。図５は、図２のＢＢ’で示された断面を矢印の方向から見た、メダル識別装置１の概略断面図である。また図６は、メダル識別装置１の回路ブロック図である。
メダル識別装置１は、筺体２と、光源３と、撮像部４と、制御基板５とを有する。光源３及び撮像部４は、筺体２内に収容されており、筺体２の外部に設けられた基板（図示せず）上に配置された制御基板５と信号線を介して接続されている。なお、制御基板５も、筐体２の内部に収容されていてもよい。さらに制御基板５は、メダル識別装置１が搭載される遊技機の主制御回路（図示せず）と信号線を介して接続され、その主制御回路へ、メダル投入を検知したことを表す信号または不正行為を検知したことを表す信号を出力する。
【００１７】
筺体２は、例えば、図１に示されたu軸の方向が、回胴遊技機の前面と略平行となり、かつ図２に示されたw軸の方向が、回胴遊技機の縦方向と略平行となるように、回胴遊技機に取り付けられる。そこで、以下では、便宜上、u方向を幅方向と呼び、w方向を高さ方向と呼ぶ。また、図１に示されたv軸の方向を奥行き方向と呼ぶ。
【００１８】
図１に示されるように、筺体２の上面には、メダル投入口２ａが形成されている。メダル投入口２ａは、筺体２の幅方向に沿って、メダルの直径に所定のオフセット（例えば、1mm〜2mm）を加えた長さを持ち、筺体２の奥行き方向に、メダルの厚さに所定のオフセット（例えば、0.5mm〜1mm）を加えた長さを持つ。
【００１９】
図３及び図４に示されるように、筺体２は、メダルが流下する通路６をその内部に形成するとともに、光源３及び撮像部４を収容する。そのために、筺体２は、例えば、樹脂を成型することにより所望の形状となるように形成された複数の部品を組み合わせることにより構成される。あるいは、筺体２は、鉄、アルミニウム、銅などの金属により形成されてもよく、あるいは、金属により形成された部品と樹脂により形成された部品とが組み合わされていてもよい。
【００２０】
筺体２内に形成された通路６は、筺体２の上端側では高さ方向に沿って形成され、途中で筺体２の幅方向に沿って湾曲した後、右下方へ向けて斜めに形成されている。そして通路６の上端はメダル投入口２ａと直結し、一方通路６の下端は、筺体２の右端に形成されたメダル排出口２ｂと直結されている。そのため、メダル投入口２ａから投入されたメダルは、矢印で示されるように、通路６に沿って筺体２内を流下した後、筺体２の右側のメダル排出口２ｂからメダル識別装置１の外に排出される。なお、この矢印で示される、メダルの流下方向を、以下では便宜上、順方向と呼び、逆にメダル排出口２ｂからメダル投入口２ａへ向かう方向を、逆方向と呼ぶ。
通路６は、メダルがスムーズに流下可能なように、筺体２の幅方向及び高さ方向に沿って、メダルの直径に所定のオフセット（例えば、1mm〜2mm）を加えた長さを持ち、筺体２の奥行き方向に沿って、メダルの厚さに所定のオフセット（例えば、0.5mm〜1mm）を加えた長さを持つ。
なお、通路６の側面には、メダルとの接触面積を減らすために、メダルの流下方向の沿って複数の溝が形成されていてもよい。
【００２１】
図４及び図５に示されるように、通路６の湾曲部の下方には、後述するように、撮像部４が通路６を通過するメダルＭを撮影できるように、通路６よりも筺体２の背面側に空隙が生じている。そこで、この空隙においてメダルＭが通路６から逸脱することを防止するために、通路６の湾曲部の下方において、通路６の上端と下端には、それぞれ、通路６よりも筺体２の背面側に、奥行き方向へのメダルの動きを規制するガイド部材７ａ、７ｂが配置されている。そしてガイド部材７ａの下端とガイド部材７ｂの上端間の間隔は、メダルの直径よりも小さく、かつ、撮像部４がメダルＭの大部分を撮影できるように、例えば、メダルＭの直径よりも僅かに小さく、例えば、メダルＭの直径から1mm〜2mmを引いた値となっている。
【００２２】
図５に示されるように、光源３は、通路６のガイド部材７ａと７ｂとの間に挟まれた区間に設定された、撮像部４の撮影範囲４ａを通過するメダルＭを照明するよう、その区間の近傍に、通路６よりも筺体２の正面側に配置される。さらに光源３は、撮影範囲４ａを一様に照明可能なように、例えば、通路６の下端に沿って配置された一つまたは複数の発光ダイオード、あるいは蛍光灯といった発光素子と、発光素子からの光を通路６側へ拡散させて出射させる、板状の拡散シートとを有する。拡散シートは、例えば、アクリルあるいはポリカーボネートといった、光源からの光の波長に対して透明な材料により形成される。そして発光素子からの光は、発光素子と対向する拡散シートの下側端面から拡散シート内に入射し、その入射した光は、拡散シートの背面側、すなわち、筺体２の正面側に形成された凹凸によって拡散されて、拡散シートの正面側、すなわち、通路６と対向する面から通路６へ向けて出射する。
光源３は、メダル識別装置１が動作している間、通路６を照明する。あるいは、光源３は、撮像部４が撮影するタイミングだけ発光するように、制御基板５によって制御されていてもよい。
【００２３】
なお、変形例によれば、拡散シートは、すりガラス状の半透明なシートであってもよい。この場合には、発光素子は、拡散シートの背面側に、すなわち、通路６に対向する拡散シートの面と反対側の面と対向するように配置されてもよい。また、光源３は、有機ＥＬ素子のように、面発光する発光素子、あるいは２次元アレイ状に配列された複数の発光素子を有してもよい。この場合には、発光素子が直接通路６を照明するように配置されてもよい。そして拡散シートは省略されてもよい。
【００２４】
撮像部４は、メダル識別装置１が動作している間、通路６の一部に設定された撮影範囲４ａを通過するメダルＭを所定の撮影周期で連続的に撮影し、そのメダルＭの一部の像が写った一次元画像を生成する。そのために、撮像部４は、通路６の湾曲部の下方において、通路６を挟んで光源３と対向するように、筺体２内の通路６の背面側に配置される。そして撮像部４は、例えば、CCDセンサまたはC-MOSセンサといった光電変換素子を一列に配置したラインセンサ４１と、ラインセンサ４１上に撮影範囲４ａに含まれる通路６の一部区間及びその区間を通過するメダルＭの像を結像する撮像光学系とを有する。なお、以下では、簡単化のために、撮像部４により生成される一次元画像を単に画像と呼ぶ。
【００２５】
撮像部４のラインセンサ４１は、通路６の側面に略平行な面内において、すなわち、メダル識別器１の背面と略平行な面内に沿って、ラインセンサ４１の長手方向がメダルＭの流下方向（図３における矢印Ｘの方向）と直交しないように、例えば、その長手方向が流下方向に対してなす角θが鋭角となるように傾けて配置される。ラインセンサ４１とメダルＭの流下方向とがなす角θは、例えば、メダルＭが、想定される流下速度で撮影範囲４ａを通過したときに、少なくとも３枚の画像においてメダルＭの一部が写るように設定されることが好ましい。本実施形態では、このなす角θは、メダルＭが撮影範囲４ａを通過している間に15枚の画像が取得されるように、ラインセンサ４１の下端がラインセンサ４１の上端よりも上流側に位置するようにラインセンサ４１は配置され、ラインセンサ４１とメダルＭの流下方向とがなす角θは、60°に設定される。なお、この角θは、撮像部４の撮影周期が短いほど大きく、すなわち、メダルＭの流下方向と直交する方向に近づけることができ、その結果として、ラインセンサ４１のサイズを短縮できる。逆に、この角θを小さくすることで、撮像部４の撮影周期を長くできるので、単位時間あたりの演算負荷を軽減できる。その結果として、メダル識別装置１の消費電力も低減できる。
【００２６】
また撮像部４は、例えば、256画素を有する。各画素の輝度値は、例えば、0〜255で表され、輝度値が大きいほど、輝度が高いことを表す。
【００２７】
所定の撮影周期は、上記のように、例えば、メダル識別装置１に投入されたメダルＭが撮影範囲４ａを通過している間に少なくとも３枚の画像が生成されるように設定される。本実施形態では、15枚の画像が生成されるように、例えば、60フレーム/秒〜120フレーム／秒に設定される。撮像部４は、撮影する度に、生成した画像を制御基板５へ出力する。
【００２８】
図６に示されるように、制御基板５は、制御回路５１と、メモリ５２とを有する。制御回路５１は、例えば、プロセッサとその周辺回路とを有する。そして制御回路５１は、撮像部４から受け取った画像を解析することにより、通路６を通過するメダルの外形形状及びメダルの移動方向を検出する。またメモリ５２は、例えば、不揮発性の読み出し専用の半導体メモリと、揮発性の読み書き可能な半導体メモリとを有する。そしてメモリ５２は、制御回路５１で実行されるメダル識別処理のプログラム、及び、メダル識別処理で用いられるパラメータ及びメダル識別処理の途中で算出される様々な中間計算値などを記憶する。またメモリ５２は、撮像部４から受け取った画像のうち、最新の複数枚の画像、またはそれら画像を２値化することにより得られる複数枚の２値化画像を記憶してもよい。
【００２９】
本実施形態では、光源３と撮像部４とが通路６を挟んで配置されている。そのため、メダルＭが撮像部４の撮影範囲４ａ内に位置すると、メダルＭが光源３から発した光を遮る。そのため、画像上では、メダルＭの像が写っている領域は暗くなり、その周囲は光源３からの光が撮像部４に届くので明るくなる。
【００３０】
そこで制御回路５１は、例えば、画像を受け取る度に、その画像を、予めメモリ５２に記憶された所定の閾値Thよりも低い輝度値を持つ画素の集合をメダルＭが写っている被写体領域とし、一方、その閾値Th以上の輝度値を持つ画素の集合をメダルＭが写っていない背景領域として２値化する。例えば、制御回路５１は、２値化された画像上で、被写体領域に含まれる画素の値を'0'とし、一方、背景領域に含まれる画素の値を'255'とする。
閾値Thは、例えば、通路６を通るメダルを撮影した画像を予め取得し、その画像における被写体領域及び背景領域を特定した上で、被写体領域の輝度値の分布と、背景領域の輝度値の分布を求め、それらの二つの分布を判別分析することで二つの分布が最も分離する値として決定される。あるいは、閾値Thは、輝度値の取り得る最大値の1/4〜1/2の何れかの値、例えば、127に設定されてもよい。
【００３１】
次に、制御回路５１は、順次得られる複数の画像を２値化したものの中から、メダルの一部が写っている可能性がある２値化画像、すなわち、被写体領域を含む２値化画像をメダル検出候補画像として抽出する。
【００３２】
図７（ａ）〜図７（ｇ）は、それぞれ、メダルＭが撮像部４の撮影範囲４ａを通過する際に、メダルが写る範囲とその重心位置の遷移の一例を示す図である。なお、メダルＭは順方向に沿って流下し、得られた画像は古い方から順に、図７（ａ）〜図７（ｇ）に示されるとする。なお、図７（ａ）〜図７（ｇ）では、順方向は、矢印Ｄで示されるように、左側から右側へ向かう方向である。
図７（ａ）〜図７（ｇ）のそれぞれにおいて、上側には、メダルＭと撮像部４の撮影範囲４ａとの位置関係が示されている。また、下側には、撮像部４により生成された画像を２値化した２値化画像７００が示されている。２値化画像７００上で、黒い領域が被写体領域７１０であり、一方、白い領域が背景領域７２０である。
【００３３】
図７（ａ）では、メダルＭは撮影範囲４ａと重なっていないので、２値化画像７００には被写体領域７１０は存在せず、２値化画像７００の全域が背景領域７２０となっている。その後、図７（ｂ）〜図７（ｄ）に示されるように、メダルＭは略円形状をしているために、メダルＭが流下するにつれて、メダルＭの直径を含む部分と撮影範囲４ａとが重なるまでは、２値化画像上に写る被写体領域７１０の幅Ｌは徐々に大きくなる。その後、図７（ｅ）〜図７（ｇ）に示されるように、メダルＭと撮影範囲４ａが重ならなくなるまで、２値化画像７００上での被写体領域７１０の幅Ｌは徐々に狭くなる。
また、本実施形態では、撮像部４のラインセンサ４１の下端側が上端側よりも上流側に位置するように撮像部４が配置されているので、メダルＭと撮影範囲４ａとが重なる範囲は、メダルＭが流下するにつれて撮影範囲４ａの下方から上方へ順に移動する。そのため、２値化画像７００上における被写体領域７１０の重心Ｃも、時間が経過するにつれて徐々に下から上へ向けて移動する。
【００３４】
図８（ａ）は、図７（ａ）〜（ｇ）に対応する、被写体領域の幅Ｌの時間変化の軌跡の一例を示す図であり、図８（ｂ）は、図７（ａ）〜（ｇ）に対応する、被写体領域の重心Ｃの時間変化の軌跡の一例を示す図である。図８（ａ）及び図８（ｂ）において、横軸は経過時間を表し、時刻t0〜t6は、それぞれ、図７（ａ）〜図７（ｇ）に示されたメダルＭの位置における画像の生成時刻に相当する。そして図８（ａ）において、縦軸は被写体領域の幅Ｌに相当する画素数を表し、各グラフ８０１〜８０５は、時刻t1〜t5における被写体領域の幅Ｌを表す。一方、図８（ｂ）において、縦軸は撮影範囲４ａの下端に対応する、画像の下端からの高さに相当する画素数を表し、実線で示された各グラフ８１１〜８１５は、時刻t1〜t5における被写体領域の重心Ｃまでの高さを表す。また、破線で示された各グラフ８２１〜８２５は、メダルＭが逆方向に移動していた場合の画像の下端からの重心Ｃまでの高さを表す。
【００３５】
図８（ａ）における矢印８００に示されるように、メダルＭが順方向に流下すると、連続する複数の画像において、被写体領域の幅Ｌは単調増加し、最大値に達した後、今度は単調減少する。そしてグラフ８０３に示された被写体領域の幅Ｌの最大値は、メダルＭの直径と等しいか、メダルＭの直径よりも僅かに小さな値となる。一方、もし、メダル以外の不正用治具などがメダル識別装置１に挿入されると、被写体領域の幅Ｌの時間変化の軌跡は、不正用治具が円形をしていない限り、矢印８００とは異なったものとなる。例えば、いわゆるクレマンと呼ばれる不正行為用の治具は、その治具の先端が撮像部４に達するところまで挿入されても、他端がメダル投入口から外へ出るほどの長さを持つ板状となっている。そのため、被写体領域の幅Ｌは、ある一定時刻以降、流下方向に直交する方向における、その不正用治具の幅に応じた一定値となる。またその板状の部材がアクリル板のような透明な部材で形成されていたとしても、画像上では、治具に設けられた光源及びその駆動回路基板及び配線に相当する部分が被写体領域となる。そのため、被写体領域の幅Ｌの時間変化の軌跡は、メダルが流下したときのその幅Ｌの時間変化の軌跡とは異なるものとなる。
また、不正用治具の幅がメダルＭの直径よりも小さければ、被写体領域の幅Ｌも、メダルＭの直径に相当する幅よりも小さくなる。
【００３６】
なお、メダルＭは中心点対称な形状をしているので、被写体領域の幅Ｌの時間変化の軌跡は、メダルＭの進行方向に依存しない。例えば、メダルＭに取り付けられた紐を不正行為者が引くなどして、メダルＭが逆方向に進む場合も、被写体領域の幅Ｌは、時間の経過に従って矢印８００のように変化するので、被写体領域の幅Ｌの時間経過だけを調べても、メダルＭの進行方向を判別することは困難である。
【００３７】
一方、図８（ｂ）における矢印８１０に示されるように、メダルＭが順方向に流下すると、ラインセンサ４１の傾きにより連続する複数の画像において、被写体領域の重心Ｃの高さは単調増加する。逆に、メダルＭが逆方向に進むと、矢印８２０に示されるように、被写体領域の重心Ｃの高さは単調減少する。
【００３８】
上記のように、被写体領域の幅Ｌの時間変化の軌跡及び被写体領域の重心Ｃの時間変化の軌跡は、通路６を流下する物体の形状及びその物体の進行方向に応じて異なるものとなる。そこで制御回路５１は、被写体領域の幅Ｌの時間変化の軌跡及び被写体領域の重心Ｃの時間変化の軌跡が、メダルが順方向に流下しているときに画像上でのメダルの幅Ｌの時間変化の軌跡及びメダルが写った領域の重心Ｃの時間変化の軌跡と一致するか否かを調べることにより、被写体領域を流下する物体がメダルか否か、及びメダルが順方向に流下しているか否かを判定する。
【００３９】
本実施形態では、制御回路５１は、物体が最初に写ってからその物体が写らなくなるまで時間順に並んだ複数の画像における被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃが、メダルが順方向に移動して撮影範囲４ａを通過する際の時間区間を撮影周期で複数に分割した各ステージごとのその幅Ｌ及び重心Ｃが取り得る許容範囲内に収まっていれば、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃの時間変化の軌跡は、画像上のメダルの幅及び重心の時間変化の軌跡と一致していると判定する。なお、各ステージの被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃの許容範囲は、例えば、予め実験により定められ、メモリ５２に記憶される。
【００４０】
図９（ａ）は、被写体領域の幅Ｌについての許容範囲の一例を示す図であり、図９（ｂ）は、被写体領域の重心Ｃについての許容範囲の一例を示す図である。図９（ａ）において、横軸はステージを表し、縦軸は、被写体領域の幅Ｌを表す。またブロック９０１〜９０９は、それぞれ、ステージＳ１〜Ｓ９における、被写体領域の幅Ｌの許容範囲を表す。この例では、ステージＳ１は物体が最初に検出された画像に対するステージを表し、ステージＳ９は物体が最後に検出された画像に対するステージを表す。なお、ステージの総数は、例えば、メダルが標準的な移動速度で流下する場合に、撮影範囲４ａにメダルの一部が最初に重なってから撮影範囲４ａを通り抜けるまでに撮影される画像の枚数に設定される。また各ステージにおける許容範囲９０１〜９０９は、それぞれ、撮影部４による撮影周期とメダルが撮影範囲４ａに達するタイミングとの関係が一定でないことによる、被写体領域の幅Ｌの変動範囲に設定される。
図９（ｂ）においても、横軸はステージを表す。なお、図９（ｂ）における各ステージＳ１〜Ｓ９は、それぞれ、図９（ａ）のステージＳ１〜Ｓ９に対応する。また図９（ｂ）の縦軸は、画像の下端からの高さを表す。そしてブロック９１２〜９１８は、ステージＳ２〜Ｓ８における、被写体領域の重心Ｃの位置の許容範囲を表す。この許容範囲も、撮像部４の撮影周期とメダルが撮影範囲４ａに達するタイミングとの関係が一定でないことによる重心Ｃの変動範囲に設定される。なお、ステージＳ１及びＳ９については、重心Ｃの変動幅が大きいので、重心Ｃが許容範囲内か否かは考慮されない。言い換えれば、画像上の全域が重心Ｃの位置の許容範囲とされる。また、複数のステージに対して同一の許容範囲が設定されてもよい。例えば、重心Ｃに関しては、画像の下端からの高さが時間経過とともに高くなるか、あるいは低くなるかだけが分かればよいので、ステージＳ２〜Ｓ４に対して同一の許容範囲が設定され、ステージＳ５〜Ｓ８に対して同一の許容範囲が設定されてもよい。この場合、実質的には、ステージは２段となる。
【００４１】
制御回路５１は、物体が写っている、時間的に連続した複数の画像において、被写体領域の幅ＬがステージＳ１〜Ｓ９の順に、許容範囲９０１〜９０９に含まれつつ遷移するか否かを判定する。さらに制御部５１は、物体が写っている、時間的に連続した複数の画像において、被写体領域の重心ＣがステージＳ２〜Ｓ８の順に、許容範囲９１２〜９１８に含まれつつ遷移するか否かを判定する。
なお、メダルの移動速度は、遊技者がメダルをメダル識別装置１に投入する際の遊技者の動作、あるいは連続的にメダルが投入されることによるメダル同士の衝突などによって変化する。その結果、メダルは、標準的な移動速度よりも遅いことがある。そのため、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃが同一のステージについての許容範囲内に含まれる画像が許容滞留回数以下で連続していても、それだけで制御回路５１は、不正な物体が投入されたと判定することはない。なお、許容滞留回数は、例えば、メダルが撮影範囲４ａを通過する際の想定される最低速度である場合に、一ステージ当たりに撮影される画像の枚数、例えば、2〜3に設定される。
【００４２】
図１０は、制御回路５１により実行されるメダル識別処理の動作フローチャートである。なお、以下の説明において、ステージの総数をＮとし、許容滞留回数をＭとする。また、ステージ１は、メダルが順方向に流下したときの、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃに対する最初の許容範囲を表すステージ（図９（ａ）及び図９（ｂ）におけるステージＳ１）であり、ステージＮは、メダルが順方向に流下したときの、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃに対する最後の許容範囲を表すステージ（図９（ａ）及び図９（ｂ）におけるステージＳ９）を表す。
【００４３】
制御回路５１は、撮像部４から画像を取得し、その画像を被写体領域と背景領域とに２値化する（ステップＳ１０１）。そして制御回路５１は、２値化画像から被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃを算出する（ステップＳ１０２）。なお、制御回路５１は、照明とメダルの位置関係、あるいは通路６内に付着したゴムなどの影響により、本来背景領域に含まれるべき画素が被写体領域に含まれることがある。このような場合、被写体領域に含まれる、連続した画素の集合が２値化画像上で複数検出されることがある。そこで制御回路５１は、例えば、２値化画像の上端から順に、被写体領域に含まれる連続した画素の集合を探す。そして制御回路５１は、それぞれの画素の集合について、最も上側の画素から最も下側の画素まで連続する画素の数Li(i=1,2,...)を求める。そして、制御回路５１は、各画素の集合についての連続する画素数Liのうち、最大となる数Lmaxを、被写体領域の幅Ｌとする。また、制御回路５１は、その最大値Lmaxに対応する画素の集合に含まれる上端の画素と下端の画素との中点を、被写体領域の重心Ｃとする。なお、制御回路５１は、各画素の集合を検出する前に、例えば、被写体領域に含まれる画素に対するモルフォロジーのオープニング演算などを行って、被写体領域に含まれる画素のうちの孤立したものを除去するように、２値化画像を補正してもよい。
【００４４】
制御回路５１は、被写体領域が最初に検出されたか否か判定する（ステップＳ１０３）。なお、被写体領域が最初に検出されたと判定する条件は、例えば、被写体領域の幅Ｌが上記の許容範囲の各ステージのうちの最初又は最後のステージの許容範囲内に含まれることとすることができる。
【００４５】
ステップＳ１０３において、被写体領域が最初に検出されたものであれば（ステップＳ１０３−Ｙｅｓ）、制御回路５１は、着目するステージを表すステージ番号ｎを'1'に設定する。また制御回路５１は、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃが同一のステージの許容範囲内と判定された画像の枚数を表す滞留カウントｍを'0'に設定する（ステップＳ１０４）。
【００４６】
一方、ステップＳ１０３にて、被写体領域が最初に検出されたものでなければ（ステップＳ１０３−Ｎｏ）、制御回路５１は、ステージ数ｎが'2'、かつ、滞留カウントｍが'0'か否か判定する（ステップＳ１０５）。ステージ数ｎが'2'であり、かつ、滞留カウントｍが'0'であれば（ステップＳ１０５−Ｙｅｓ）、制御回路５１は、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃが、ステージ２またはステージ(N-1)における許容範囲に含まれているか否か判定する（ステップＳ１０６）。
【００４７】
幅Ｌ及び重心Ｃのうちの何れか一方でも、ステージ２における許容範囲とステージ(N-1)における許容範囲の両方から外れていれば、制御回路５１は、通路６内にメダル以外の物が投入されたと判定する。そして制御回路５１は、不正行為を遊技機の主制御回路へ通知する（ステップＳ１１２）。
【００４８】
一方、幅Ｌ及び重心Ｃの両方が、ステージ２における許容範囲内に含まれていれば、制御回路５１は、被写体領域に写っている物体は順方向に進んでいると推定する。そして制御回路５１は、ステージ番号のオフセット値αを'0'とし、ステージの遷移方向を表す係数βを、順方向に対応する値である'1'に設定する（ステップＳ１０７）。
また、幅Ｌ及び重心Ｃの両方が、ステージ(N-1)における許容範囲内に含まれていれば、制御回路５１は、被写体領域に写っている物体は逆方向に進んでいると推定する。そして制御回路５１は、ステージ番号のオフセット値αを'(N+1)'とし、ステージの遷移方向を表す係数βを、逆方向に対応する値である'-1'に設定する（ステップＳ１０８）。
ステップＳ１０７またはＳ１０８の後、制御回路５１は、ステップＳ１０１以降の処理を繰り返す。
【００４９】
一方、ステップＳ１０４の後、あるいはステップＳ１０５にてステージ数ｎが'2'でないか、滞留カウントｍが'0'でない場合（ステップＳ１０５−Ｎｏ）、制御回路５１は、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃが、ステージ｛α+βn｝における許容範囲内か否か判定する（ステップＳ１０９）。すなわち、制御回路５１は、前回取得された画像と最新の画像との間での被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃの変化が、同一ステージに収まるほど小さいか否か判定する。被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃの両方がステージ｛α+βn｝における許容範囲内であれば（ステップＳ１０９−Ｙｅｓ）、制御回路５１は、滞留カウントｍを１インクリメントする（ステップＳ１１０）。そして制御回路５１は、滞留カウントｍが許容滞留回数Ｍよりも大きいか否か判定する（ステップＳ１１１）。滞留カウントｍが許容滞留回数Ｍ以下であれば（ステップＳ１１１−Ｎｏ）、制御回路５１は、ステップＳ１０１以降の処理を繰り返す。一方、滞留カウントｍが許容滞留回数Ｍよりも大きければ（ステップＳ１１１−Ｙｅｓ）、通路６内にメダル以外の物が投入されたと判定する。そして制御回路５１は、不正行為を遊技機の主制御回路へ通知する（ステップＳ１１２）。
【００５０】
一方、ステップＳ１０９にて、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃの何れか一方でもステージ｛α+βn｝における許容範囲から外れていれば（ステップＳ１０９−Ｎｏ）、制御回路５１は、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃが、次のステージ｛α+β(n+1)｝における許容範囲内か否か判定する（ステップＳ１１３）。そして被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃの何れか一方でもステージ｛α+β(n+1)｝における許容範囲から外れていれば（ステップＳ１１３−Ｎｏ）、通路６内にメダル以外の物が投入されたと判定する。そして制御回路５１は、不正行為を遊技機の主制御回路へ通知する（ステップＳ１１２）。
【００５１】
一方、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃの両方が、ステージ｛α+β(n+1)｝における許容範囲内であれば（ステップＳ１１３−Ｙｅｓ）、制御回路５１は、ステージ数ｎを１インクリメントし、かつ、滞留カウントｍを'0'にリセットする（ステップＳ１１４）。そして制御回路５１は、ステージ数ｎが、ステージの総数Ｎよりも大きいか否か判定する（ステップＳ１１５）。ステージ数ｎがステージの総数Ｎ以下である場合（ステップＳ１１５−Ｎｏ）、画像に写っている物体がメダルであれば、その物体は撮像部４の撮影範囲４ａをまだ通り抜けていないはずである。そこで制御回路５１は、ステップＳ１０１以降の処理を繰り返す。
【００５２】
一方、ステージ数ｎがステージの総数Ｎよりも大きければ（ステップＳ１１５−Ｙｅｓ）、物体が撮影範囲４ａを通り抜けている。そこで制御回路５１は、例えば、βの符号を参照して、物体の進行方向が順方向か否か判定する（ステップＳ１１６）。物体の進行方向が順方向であれば（ステップＳ１１６−Ｙｅｓ）、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃの時間変化の軌跡は、メダルが通路６を順方向に流下する場合の画像上のメダルの幅Ｌ及び重心Ｃの時間変化の軌跡と一致しているとみなせる。そこで制御回路５１は、正規のメダル投入を遊技機の主制御回路へ通知する（ステップＳ１１７）。一方、物体の進行方向が逆方向であれば（ステップＳ１１６−Ｎｏ）、被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃの時間変化は、メダルが通路６を逆方向に進んだ場合の被写体領域の幅Ｌ及び重心Ｃの時間変化と一致しているとみなせる。そこで制御回路５１は、メダルに紐などを取り付けて引き出す不正行為を遊技機の主制御回路へ通知する（ステップＳ１１８）。
ステップＳ１１２、Ｓ１１７またはＳ１１８の後、制御回路５１は、メダル識別処理を終了する。なお、変形例によれば、ステップＳ１１６にて物体の進行方向が逆方向であると判定された場合、ステップＳ１１８の処理を省略し、制御回路５１は、正規のメダル投入及び不正行為の何れも、主制御回路へ通知しないこととしてもよい。
【００５３】
以上に説明してきたように、このメダル識別装置は、メダル識別装置内の通路の一部を撮影した１次元の画像に写っている、メダル識別装置内に投入された物体が写った被写体領域の幅及び重心の時間的な変化の軌跡が、メダルが通路を流下した場合のその時間変化の軌跡と一致するか否かによって、メダルが投入されたか否かを判定する。この被写体領域の幅の時間変化の軌跡は、撮影範囲を通過する物体の形状に応じて異なるものとなる。そのため、このメダル識別装置は、外形形状がメダルの外形形状と異なる、複数の光源を取り付けた不正行為用の治具を誤ってメダルと識別することを防止できる。またこのメダル識別装置は、ラインセンサがメダルの流下方向に対して傾けて配置されていることから、被写体領域の重心の時間変化の軌跡によりメダルの進行方向も検出できるので、投入されたメダルに取り付けた紐を引いて投入されたメダルをメダル識別装置から取り出す不正行為も検知することができる。また上記のように、被写体領域の幅及び重心の時間変化の軌跡が画像上のメダルの幅及び重心の時間変化の軌跡と一致するか否かを、ステージごとの許容範囲を満たすか否かで判定するという簡単な処理で実行することにより、制御回路の演算負荷が軽減できる。
【００５４】
なお、本発明は、上記の実施形態に限定されない。例えば、制御回路は、被写体領域の幅Ｌの時間変化の軌跡を表す多次元の方程式、例えば、放物線を表す２次元の方程式の係数の組を、物体が写っている複数の画像のそれぞれの被写体領域の幅を用いて、最小二乗法に従って求めてもよい。そして制御回路は、その係数の組と、メダルが通路を流下するときの画像上のメダルの幅Ｌの標準的な時間変化の軌跡を表すその方程式の係数の組との差を求める。制御回路は、その差が予め定められた許容範囲内に含まれる場合には、被写体領域の幅の時間変化の軌跡が、画像上に写ったメダルについてのその軌跡と一致すると判定してもよい。すなわち、制御回路は、通路に投入された物体がメダルであると判定してもよい。
同様に、制御回路は、被写体領域の重心Ｃの時間変化の軌跡を表す一次元の方程式の係数の組を、物体が写っている複数の画像のそれぞれの被写体領域の重心を用いて、最小二乗法に従って求めてもよい。そして制御回路は、その係数の組と、メダルが通路を順方向に流下するときの被写体領域の重心Ｃの標準的な時間変化の軌跡を表すその方程式の係数の組との差を求める。制御回路は、その差が予め定められた許容範囲内に含まれる場合には、被写体領域の重心の時間変化の軌跡が、画像上に写ったメダルについてのその軌跡と一致すると判定してもよい。すなわち、制御回路は、メダルが順方向に通路を流下したと判定してもよい。
なお、画像上のメダルの幅Ｌ及び重心Ｃの標準的な時間変化の軌跡を表す方程式の係数の組は、例えば、予め実験などにより求められ、メモリに記憶される。
【００５５】
また他の変形例によれば、撮像部が有するラインセンサは、そのラインセンサの上端がそのラインセンサの下端よりも上流側に位置するように配置されてもよい。この場合には、メダルが通路を順方向に沿って流下する場合の被写体領域の重心の軌跡は、上記の実施形態とは逆に、通路の下端からの高さが単調減少する軌跡となる。一方、この場合も、メダルが通路を順方向に沿って流下する場合の被写体領域の幅の軌跡は、上記の実施形態と変わらない。
【００５６】
さらに他の変形例によれば、制御回路は、撮像部の撮影範囲内に通路に投入された物体が存在しないときに撮影され、予め制御基板のメモリに記憶された参照画像と、撮像部から受け取った画像とで対応画素間の差分演算を行って、その差分値絶対値が所定の閾値以上となる画素の集合を、被写体領域として抽出してもよい。なお、所定の閾値は、例えば、輝度値の取り得る最大値の1/4〜1/2とすることができる。
【００５７】
さらに他の変形例によれば、撮像部の撮影範囲よりもメダル投入口側に、メダルの通過を検知するセンサが設けられていてもよい。このセンサは、例えば、通路を挟んで対向するように配置された光源と受光素子とを有する光学センサとすることができる。この場合には、制御回路は、センサがメダルを検知した後に、撮像部により撮影された画像のみを用いて、メダルが写っているか否か判定してもよい。
【００５８】
さらに他の変形例によれば、光源と撮像部は、通路に対して同一の側に配置されてもよい。この場合には、光源からの光は、メダルまたは光源が配置された側とは通路の反対側の側壁で反射されて撮像部に達することになる。一般に、メダルは金属製であり、光の反射率が高いので、この変形例では、画像上ではメダルが写っている領域に含まれる画素の輝度値は、メダルが写っていない領域に含まれる画素の輝度値よりも高くなる。なお、メダルが写っている領域に含まれる画素の輝度値とメダルが写っていない領域に含まれる画素の輝度値との差が大きくなるように、通路の側壁には、光源が発する波長の光に対して吸収性を持つ塗料が塗布されることが好ましい。
また、制御回路は、画像を被写体領域と背景領域に２値化する際、２値化閾値よりも輝度が高い画素の値よりも、２値化閾値以下の輝度値を持つ画素の値を高くすることで、上記の実施形態と同様の処理を行って、画像にメダルが写っているか否か、及びメダルの移動方向の推定を行える。
【００５９】
さらに他の変形例によれば、メダルが逆方向に進めないようにメダル識別装置が構成されている場合には、撮像部が有するラインセンサは、メダル識別装置の背面に略平行な面に沿って、かつ、メダルの流下方向に対して直交するように配置されてもよい。この場合には、制御回路は、連続して物体が写った複数の画像にわたる、被写体領域の幅の時間変化がメダルが流下する際のメダルを撮影した複数の画像のそれぞれに写ったメダルの幅の時間変化と一致するか否かのみに基づいて、不正行為が行われたか否かを判定してもよい。なお、メダルが逆方向に進めないようにするために、例えば、撮影範囲の下流側の通路の下面に、その下面から突出するようにバネなどで付勢された直角三角形状のラッチ部材が設けられていてもよい。そしてこのラッチ部材の上流側の上端面はメダルの流下方向と鋭角をなし、かつ、下流側の面はメダルの流下方向と直交するように形成される。この場合、メダルが順方向に流下する場合は、ラッチ部材がメダルに押下されて下側へ沈むことによりメダルが通過可能となる。一方、メダルが逆方向に進む場合は、メダルがラッチ部材の下流側の面に当接してもラッチ部材に下向きの力が掛からないのでラッチ部材が沈まず、メダルの逆方向の移動が妨げられる。
【００６０】
さらに他の変形例によれば、撮影範囲の長さは、メダルの直径よりも短くてもよい。但しこの場合でも、被写体領域の幅の時間変動の軌跡及び重心の時間変動の軌跡を求められるように、撮影範囲の長さは、撮影範囲とメダルが重なっている間に３枚以上の画像が生成され、かつ、各画像上で被写体領域の幅及び重心の位置が変化する程度の長さ、例えば、メダルの直径の1/2以上であることが好ましい。
【００６１】
図１１は、本発明の実施形態または変形例によるメダル識別装置を備えた回胴遊技機１００の概略斜視図である。また図１２は、前面パネルを開いた状態における、回胴遊技機１００の概略斜視図である。そして図１３は、回胴遊技機１００の回路ブロック図である。図１１及び図１２に示すように、回胴遊技機１００は、遊技機本体である本体筺体１０１と、発光ドラム１０２ａ〜１０２ｃと、スタートレバー１０３と、ストップボタン１０４ａ〜１０４ｃと、前面パネル１０５とを有する。
また回胴遊技機１００は、本体筺体１０１内に、前面パネル１０５の背面側に取り付けられたメダル識別装置１０６と、各種の制御回路などが収容された制御ボックス１０７と、主制御回路１１０からの制御信号に応じてメダルを一時貯留し、かつメダルを排出するためのメダル貯留・排出機構１０８を有する。
そして図１３に示されるように、制御ボックス１０７内には、例えば、回胴遊技機１００全体を制御する主制御回路１１０と、遊技の演出に関連する各部を制御する演出用制御回路１１１と、回胴遊技機１００の各部に電力を供給する電源回路１１２などが収容されている。
【００６２】
前面パネル１０５の前面の中央上部には開口１０５ａが形成されており、その開口１０５ａを通じて、発光ドラム１０２ａ〜１０２ｃが視認可能になっている。また開口１０５ａの下側の枠１０５ｂの上面には、メダルを投入するための開口１０５ｃが形成されており、この開口１０５ｃとメダル識別装置１０６の上面に設けられたメダル投入口とが一致するように、メダル識別装置１０６が配置されている。なお、メダル識別装置１０６のメダル排出口は、メダル貯留・排出機構１０８と接続されており、メダル識別装置１０６から排出されたメダルは、メダル貯留・排出機構１０８に回収される。
【００６３】
前面パネル１０５の下部には、下パネルとして、複数の発光ダイオードを含む装飾装置が設けられていてもよい。さらに、装飾装置の下方において、前面パネル１０５には、メダルを排出するためのメダル排出口１０５ｄが形成されている。そしてメダル排出口１０５ｄの下方には、排出されたメダルが落下することを防止するためのメダル受け皿１０５ｅが取り付けられている。また前面パネル１０５の左上端近傍及び右上端近傍にはスピーカ（図示せず）が取り付けられてもよい。
【００６４】
発光ドラム１０２ａ〜１０２ｃは、演出用制御回路１１１からの制御信号に応じて、本体筺体１０１の前面に対して略平行かつ略水平な回転軸（図示せず）を回転中心として、それぞれ、別個に回転可能となっている。各発光ドラム１０２ａ〜１０２ｃの表面は、それぞれ、回転方向に沿って複数の略同一幅を持つ領域に区切られ、領域ごとに様々な図柄が描かれている。なお、発光ドラム１０２ａ〜１０２ｃの代わりに、液晶ディスプレイなどの表示装置が、その表示画面が開口１０５ａを介して視認可能なように設けられてもよい。この場合、表示装置は、演出用制御回路１１１からの制御信号に応じて、複数のドラムを模擬的に示した画像を表示画面に表示させる。
スタートレバー１０３は、前面パネル１０５の枠１０５ｂの前面に向かって左側に設けられている。また、枠１０５ｂの前面略中央には、ストップボタン１０４ａ〜１０４ｃが設けられている。ストップボタン１０４ａ〜１０４ｃは、それぞれ、発光ドラム１０２ａ〜１０２ｃに対応する。
【００６５】
メダル識別装置１０６は、上記の実施形態または変形例によるメダル識別装置である。そしてメダルが開口１０５ｃを通じてメダル識別装置１０６のメダル投入口に投入されると、メダル識別装置１０６は、投入されたメダルが正規のものか否か判定し、正規のメダルであれば、その旨を主制御回路１１０へ出力する。そして主制御回路１１０は、投入されたメダルに応じて、遊技の回数などを決定し、回胴遊技機１００が遊技を開始することを許可する。その後に、スタートレバー１０３が操作されると、スタートレバー１０３が操作されたことを示す信号が主制御回路１１０へ伝達される。そして主制御回路１１０は、演出用制御回路１１１に、発光ドラム１０２ａ〜１０２ｃの回転を開始させる。また演出用制御回路１１１は、発光ドラム１０２ａ〜１０２ｃの回転中、遊技者の興趣を高めるために、発光ドラム１０２ａ〜１０２ｃが停止しているときとは異なる効果音をスピーカを通じて出力させたり、装飾装置の発光ダイオードを明滅させたりしてもよい。
【００６６】
その後、ストップスイッチ１０４ａ〜１０４ｃの何れかが押下されると、主制御回路１１０は、その押下されたスイッチから押下されたことを示す信号を受信し、その押下されたスイッチに対応する発光ドラムの回転を演出用制御回路１１１を介して停止させる。あるいは、主制御回路１１０は、発光ドラム１０２ａ〜１０２ｃのうち、回転を開始してから所定期間が経過するまでに、対応するストップスイッチが押下されなかった発光ドラムを、その所定期間経過後に、演出用制御回路１１１を介して停止させる。
そして全ての発光ドラムが停止した時点で、同一の図柄が全ての発光ドラムにわたって一列に並んでいると、主制御回路１１０は、その図柄に応じた所定枚数のメダルをメダル排出口を通じて排出する。またこの場合、演出制御回路１１１は、ドラムの回転時及び同一の図柄が全ての発光ドラムにわたって一列に並ばなかったときとは異なる効果音をスピーカを介して出力し、装飾装置の発光ダイオードをその最大輝度で点灯させてもよい。
【００６７】
一方、メダル識別装置１０６は、投入されたメダルが、治具などにより偽装されたもの、あるいは、正規なメダルであっても逆方向へ移動するといった不正な動きをしたと判定した場合には、不正行為が行われた旨を主制御回路１１０へ通知する。そして主制御回路１１０は、例えば、回胴遊技機１００が設置されたホールの管理システムへ、回胴遊技機１００の識別番号とともに、不正行為が行われた旨を通知する。
【００６８】
このように、当業者は、本発明の範囲内で、実施される形態に合わせて様々な変更を行うことができる。
【符号の説明】
【００６９】
１    メダル識別装置
２    筺体
２ａ    メダル投入口
２ｂ    メダル排出口
３    光源
４    撮像部
４１    ラインセンサ
５    制御基板
５１    制御回路
５２    メモリ（記憶部）
６    通路
７ａ、７ｂ    ガイド部材
１００    回胴遊技機
１０１    本体筺体
１０２ａ〜１０２ｃ    回転ドラム
１０３    スタートレバー
１０４ａ〜１０４ｃ    ストップボタン
１０５    前面パネル
１０６    メダル識別装置
１０７    制御ボックス
１０８    メダル貯留・排出機構
１１０    主制御回路
１１１    演出用制御回路
１１２    電源回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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