(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
作業領域（３）において交流無線周波数電磁場を発生する装置であって、
−前記作業領域（３）に電磁場を放射するアプリケータ（２）と、
−所定の値及び所定の周波数を有する交流電圧（ＶＲＦ）及び交流電流（ＩＲＦ）を提供する発振器（４）と、
−十分なＤＣ電圧（ＶＣＣ）を前記発振器（４）へ供給する電力供給手段（５）と、
−前記発振器（４）により前記アプリケータ（２）へ提供される交流ＡＣ電圧（ＶＲＦ）及びＡＣ電流（ＩＲＦ）及び／又は周波数の電気パラメータを制御し、前記電力供給手段（５）に関連付けられる制御手段（６）と、を備え、
前記制御手段（６）は、電力ネットワーク（７）に接続される入力ポート（７）と、前記入力ポート（７）に接続され、前記電気パラメータをほぼ瞬間的に変化させ、かつ電磁場放射電力の瞬間的な制御を行う第１の電気制御回路（８）と、前記発振器（４）の動作を調整する第２の電気制御回路（１０）と、を含み、前記第１の電気制御回路（８）は、前記電力供給手段（５）に接続された出力ポート（９）を有し、
前記第１の電気制御回路（８）は、一定周波数及び一定ＲＭＳ値を有するメインネットワーク電圧（Ｎ）を、制御されたＲＭＳ値及び／又は制御された周波数を有するＡＣ電圧（ＶＩＮＶ）へ変換するように構成されるインバータ（１１）であり、前記発振器（４）は、グリッド端子（Ｇ）を有する三極管（１９）を含み、前記第２の電気制御回路（１０）は、所定の電圧部分（ＶＰＡＲ）を流すために前記アプリケータ（２）に接続される分圧器（２１）を含み、前記分圧器（２１）は、前記ＤＣ電圧を遮断するインダクタ（ＬＢ）であって、前記グリッド端子（Ｇ）に電気的に接続される端子（２４）を有するインダクタ（ＬＢ）を含み、前記第２の電気制御回路（１０）は、前記三極管（１９）のグリッド端子（Ｇ）に接続され、前記インバータ（１１）の出力（１４）における前記ＡＣ電圧（ＶＩＮＶ）の瞬時値に基づいてグリッド電圧（ＶＧ）を制御することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記分圧器（２１）は、前記三極管（１９）のアノード（Ａ）とグリッド（Ｇ）との間に挿入されるインダクタ（ＬＡＧ）を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記分圧器（２１）は、前記三極管（１９）のグリッド（Ｇ）とカソード（Ｋ）との間に接続されるインダクタ（ＬＧＫ）を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記第２の電気制御回路（１０）は、前記分圧器（２１）の後に、前記グリッド電圧（ＶＧ）の平均値に適合し、かつ前記三極管（１９）の連続的な発信を確実にするために、前記三極管（１９）の前記グリッド端子（Ｇ）へ接続されたＤＣ電圧加算回路（２２）を含み、
前記インダクタ（ＬＢ）は、前記ＤＣ電圧加算回路（２２）に接続されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記加算回路（２２）は、等価可変抵抗（Ｒ）及び／又は変動電圧による等価電圧発生器（Ｅ）を含むことを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記制御手段（６）は、前記インバータ（１１）の出力電圧（ＶＩＮＶ）を少なくとも制御するように構成されるプログラマブルセントラルコントロールユニット（２３）と、発生した電磁界によって放射される電力を変化させ、前記三極管（１９）の一定の発振を確実にする前記第２の電気制御回路（８）と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記電力供給手段（５）は、前記インバータ（１１）の出力（１４）に接続される高電圧変圧器（１６）と、前記変圧器の出力（１５）に接続され、かつ前記発振器（４）に接続される整流器（１８）と、を有する増幅器（１２）を備え、前記増幅器（１２）は、十分なＡＣ電圧（ＶＣＣ）を前記出力（１５）へ提供するように構成されることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】
増幅器（１２）は、前記インバータ（１１）の前記出力（１４）に接続される入力（１３）と、前記発振器（４）に接続される出力（１５）と、を備えることを特徴とする請求項５に記載の装置。
【請求項９】
前記アプリケータ（２）は、前記作業領域（３）に電磁界を放射及び方向付ける少なくとも１対の電極（２６，２７）を備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記アプリケータ（２）は、前記電極（２６，２７）と電気的に直列に接続されるプレート（２９，３０）を有するキャパシタ（２８）を備えることを特徴とする請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記プレート（２９，３０）は、ほぼ平坦であり、互いに固定距離にあることを特徴とする請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
交流ＲＦ周波数電磁場を発生する装置（１）を制御する方法であって、
ａ）作業領域（３）に電磁界を放射するアプリケータ（２）を提供するステップと、
ｂ）所定の値及び所定の周波数を有する交流ＡＣ電圧（ＶＲＦ）及び電流（ＩＲＦ）を前記アプリケータ（２）に提供する発振器（４）を提供するステップと、
ｃ）十分なＤＣ電圧（ＶＣＣ）を前記発振器（４）へ供給するステップと、
ｄ）制御手段（６）を用いて前記アプリケータ（２）へ提供される電圧（ＶＲＦ）、電流（ＩＲＦ）及び／又は周波数の電気パラメータを制御するステップと、を備え、
−前記制御するステップｄ）は、電磁放射電力及び前記発振器（４）への制御された電力供給を瞬間的に変化させるために、前記電気パラメータを変化させることを含み、
−前記制御手段（６）は、インバータ（１１）を備え、前記発振器（４）は、三極管（１９を備え、前記インバータ（１１）は、ネットワーク電圧（Ｎ）を、可変ＲＭＳ値及び可変周波数を有するＡＣ電圧へ変換するように設計され、
前記制御手段（６）は、第１の電気制御回路（８）と、前記発振器（４）の制御を調整する第２の電気制御回路（１０）と、を含み、前記第２の電気制御回路（１０）は、所定の電圧部分（ＶＰＡＲ）を流すために前記アプリケータ（２）に接続される分圧器（２１）を含み、前記分圧器（２１）は、前記ＤＣ電圧を遮断するインダクタ（ＬＢ）であって、前記グリッド端子（Ｇ）に電気的に接続される端子（２４）を有するインダクタ（ＬＢ）を含み、
前記制御手段（６）は、前記インバータ（１１）により変換された前記ＡＣ電圧の瞬時値に基づいて制御されたグリッド電圧（ＶＧ）を供給し、前記インバータ（１１）により変換されたＡＣ電圧（ＶＩＮＶ）の変動により前記三極管（１９）の一定の発振を確実にするように構成される、方法。
【請求項１３】
ＲＦ帯域における交流電磁場により製品を処理するプラントであって、処理される製品が配置される作業領域（３）と、前記作業領域（３）に交流ＲＦ電磁場を発生する請求項１から１１の一つ以上に記載の装置（１）と、を備えることを特徴とするプラント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的に、無線周波数処理システムの技術分野に適用されるものであり、特に、交流無線周波数電磁場を発生する装置に関するものである。
【０００２】
本発明は、また、交流無線周波数電磁場を発生する装置を制御する方法、及びこのような装置を含む製品処理プラントに関するものである。
【背景技術】
【０００３】
プラントは、様々な周波数を有する交流無線周波数電磁場の印加及び使用により様々なタイプの製品を扱う及び保管することが知られている。
【０００４】
特に、プラントは、マイクロ波又は無線周波数範囲で動作する電磁場を用いて動作し、皮革又はペイントされた製品のような相対的に湿った製品を乾燥するために用いられることが知られている。
【０００５】
電磁場は、更に、食品処理産業、例えば、牛乳又は卵を含む製品の殺菌でも使用され、任意の食品の管理及び／又は消毒処理のためにも使用される。
【０００６】
本発明の出願人は、交流無線周波数電磁場を使用する処理プラントを製造及び販売しており、このようなプラントは、処理される製品が通過するように設計される電磁場を発生するための一対の電極を有するアプリケータへ電圧を供給する電圧発生器を基本的に備える。
【０００７】
アプリケータは、電極に電気的に接続され、一対の対向するプレートを有するアプリケータを更に備える。プレート間の距離は、キャパシタの容量を変化させるように機械的に調整されてもよく、それにより、電極への供給電圧を変化させ、よって、電磁場放出電力を変化させる。
【０００８】
電力調整により、処理されるべき製品での電磁場により発生される加熱温度は変化してもよい。
【０００９】
この解決手段が非常に効果的かつ信頼性が高いことが示されているが、電磁場電力の調整について改善の余地がある。
【００１０】
電磁場電力を変化させるためのキャパシタのプレートの機械的な動きは、相対的に長い応答時間を有し、これは、瞬間的な動作温度の適合ができない。
【００１１】
最も近い従来技術を表す米国特許第２６４０９０８号は、請求項１のプレアンブルの特性を有する一対の三極管を備える発振器を開示する。
【発明の概要】
【００１２】
本発明は、高効率かつ相対的に費用効果が高い無線周波数電磁場を印加する装置を提供することにより、上記の欠点を取り除くことを目的とする。
【００１３】
ある目的は、通常の製品のＲＦ処理のためのプラントにおいて使用されたときに、製品処理温度の迅速かつ動的な調整を可能にするＲＦ電磁場を印加する装置を提供することである。
【００１４】
別の目的は、予期せぬ放電の発生を防ぐことにより、高い安全性を確保するＲＦ電磁場を印加する装置を提供することである。
【００１５】
更に別の目的は、それらの固有の特性に影響を与えずに、製品の効果的な処理を可能にするＲＦ電磁場を印加することによって、製品を処理するプラントを提供することである。
【００１６】
本発明の更に別の重要な目的は、プラントの１以上の電気制御パラメータの素早くかつ即時の調整を可能にする製品のＲＦ処理のためのプラントを制御する方法を提供することである。
【００１７】
これら及び他の目的は、以下によりよく説明されるように、請求項１に規定される交流電磁場を発生する装置によって実現される。
【００１８】
制御手段は、電力ネットワークに接続される入力と、入力ポートに接続され、このような電気パラメータをほぼ瞬間的に変化させ、かつ電磁場放射電力を瞬間的に制御する第１の電気制御回路と、このような発振器の動作を調整する第２の電気制御回路と、を含み、第１の電気制御回路は、このような電力供給手段に接続された出力を有する。
【００１９】
この特定の構成により、電磁場放射電力、及び、それ故に製品処理温度は、機械的な調整が、プラントを新たな動作構成に設定するために必要とならないように、遅延なく、実際に調整される。
【００２０】
別の態様では、本発明は、請求項１１に規定される交流電磁場を発生する装置を制御する方法に関する。
【００２１】
更に別の態様では、本発明は、請求項１２に規定される交流電磁場により製品を処理するプラントに関する。
【００２２】
本発明の有利な実施形態は、従属請求項に基づいて定義される。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
本発明の更なる特徴及び利点は、添付の図面の助けにより非限定な実施例により説明される本発明の装置の、いくつかの好ましい、非限定な実施形態の詳細な説明からより明らかになるであろう。
【図１】図１は、本発明に係る電磁場を発生する装置の模式的なブロック図である。
【図２】図２は、図１のプラントで使用されるような一般的なダイオードの電流−電圧特性を示す。
【図３】図３は、図１の細部の様々な実施形態における簡略化された回路図を示す。
【図４】図４は、図１の細部の様々な実施形態における簡略化された回路図を示す。
【図５】図５は、図１の細部の様々な実施形態における簡略化された回路図を示す。
【図６】図６は、図１の細部の様々な実施形態における簡略化された回路図を示す。
【図７】図７は、図１の細部の様々な実施形態における簡略化された回路図を示す。
【図８】図８は、本発明に係る電磁場を発生する装置を制御する方法の模式的なブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図１は、所定の作業領域における交流無線周波数電磁場を発生する装置を示す。
【００２５】
概して、参照番号１で指定される装置は、ほぼ一定の周波数又はそれに替えて、所定の帯域内の周波数で交流電磁場を発生するように設計されてもよい。
【００２６】
電磁場を発生するために好ましい周波数は、５ＭＨｚから５００ＭＨｚである。特に、好適な周波数は、その中央値が６．７８−１３．５６−２７．１２−４０．６８−４３３．９２ＭＨｚである民間又は産業用の国際規格によって認められている周波数範囲内から選択されてもよい。
【００２７】
より好ましくは、動作周波数は、２０ＭＨｚから５０ＭＨｚの範囲であり、その最良の結果は、これらの低い値、例えば、約２７．１２ＭＨｚ又は４０．６８ＭＨｚで取得されることが実験的に見い出されている。
【００２８】
装置１は、製品のＲＦ処理のための任意のプラントで使用されてもよい。
【００２９】
本発明の装置を組み込んだ一般的なプラントは、図示されないが、例えば、消毒、殺菌及び／又は一般的な食品の処理のための食品処理産業、特に、両方共に出願人によるＥＰ２３７５９１０及びＥＰ１９１２５１２に説明及び図示されるような牛乳及び／又は卵ベースの製品、花、穀物等に応用されてもよい。
【００３０】
例えば、タンニングバス（ｔａｎｎｉｎｇ  ｂａｔｈｓ）又は他の業界特有の処理から来る皮革の初期相対水分量を減少させること等の皮なめし及び一般的な工業的な皮革の処理の分野で更に有望な用途が見い出されている。
【００３１】
出願人は、処理される皮革が通過するように設計されるほぼ均一な電磁場を発生する平坦な電極を有する交流ＲＦ電磁場を発生するための装置を使用する工業的な皮革乾燥プラントを提供する。
【００３２】
同様のプラントの更なる用途は、水性塗料による表面処理が施されるプロファイル等の高分子材料の処理及び乾燥であってもよい。
【００３３】
本発明のプラントは、交流ＲＦ電磁場発生装置の特定の構成のための従来のプラントとは本質的に異なっている。
【００３４】
装置１は、基本的に、作業領域３において電磁場を放射するアプリケータ２と、所定の値及び所定の周波数を有する交流電圧ＶＲＦ及び電流ＩＲＦを提供する発振器４と、十分な直流電圧Ｖｃｃを発振器４へ供給する電力供給手段５と、を備える。
【００３５】
作業領域３は、処理されるべき製品が通過されるように設計された領域であり、製品のタイプ及びプラントを通じてそれらを供給するための特定の手段に応じて設計される。
【００３６】
供給手段は、それ自体が示されずかつ知られていないが、ペースト状、半ペースト状、液状又は粒状の製品の場合には、１以上の導管又はパイプを備えていてもよく、緩い製品又は工業的な皮革、高分子プロファイル及び一般的な大きな製品の場合には、ベルトコンベア、ローラーコンベア又は同様の装置を備えていてもよい。
【００３７】
装置１は、発振器４によりアプリケータ２へ提供される交流電圧ＶＲＦ及び電流ＩＲＦの電気パラメータを制御し、電力供給手段５と関連付けられた制御手段６を更に備える。
【００３８】
好適には、制御手段６は、アプリケータ２へ提供される電圧ＶＲＦ及び電流ＩＲＦの振幅及び／又は周波数に関する電気パラメータを制御するように設計されてもよい。
【００３９】
制御手段６は、電力ネットワークＮに接続された入力７と、入力７に接続され、このような電気パラメータのほぼ瞬間的な変動及び電磁場放射電力の瞬間的な制御のための第１の電気制御回路８と、を備える。
【００４０】
第１の電気制御回路８は、電力供給手段５に接続される出力９を更に有し、制御手段６は、発振器４の動作を調整する第２の電気制御回路１０を備える。
【００４１】
更に、第１の電気制御回路８は、電力供給手段５へ提供される電気信号の電気パラメータを制御してもよい。
【００４２】
このような電気パラメータの変動は、アプリケータ２へ提供される交流電圧ＶＲＦ及び電流ＩＲＦの瞬間的な変動を生じるであろう。
【００４３】
このような電圧変動は、特定の短い遅延又は全く遅延がない作業領域３において放射される電磁場のパワーの対応する変動を生じるであろう。
【００４４】
特定の、非限定実施形態では、第１の電気制御回路８は、一定周波数及び一定ｒｍｓ値を有するネットワークＮの標準的な電圧を、制御されたｒｍｓ値及び／又は制御された周波数を有するＡＣ電圧へ変換するインバータ１１を備えてもよい。
【００４５】
好適には、図１に最も良く示されるように、供給手段５は、電圧ＶＩＮＶを受け付けるためにインバータ１１の出力１４へ接続された入力１３と、発振器４に接続された出力１５と、を有する増幅回路１２を含んでもよい。
【００４６】
増幅回路１２は、発振器４へ十分な直流電圧ＶＣＣを提供するために、インバータ１１の出力における電圧ＶＩＮＶを増幅及び変化させてもよい。
【００４７】
増幅回路１２は、インバータ１１の出力１４に接続された入力１３を有する電圧ブースト変圧器１６と、発振器４に接続された出力１５を有し、変圧器の下流にある整流器１８と、を備えてもよい。
【００４８】
食品処理のために設計された、装置の特定の構成では、インバータ１１の出力１４における電圧ＶＩＮＶは、０Ｖから４００Ｖの範囲の値でのＡＣ電圧であってもよく、変圧器１６の出力電圧ＶＴＲは、９０００Ｖを超えないｒｍｓ値を有するＡＣ電圧であってもよい一方で、整流器１８に出力における直流電圧ＶＣＣは、約１２０００Ｖに制限される。
【００４９】
好ましくは、図１に最も良く示されるように、発振器４は、２つの電力端子、すなわち、アノードＡ及びカソードＫを有する少なくとも１つの三極管１９を備えてもよい。
【００５０】
三極管１９は、アノードＡとカソードＫとの間の信号の電気パラメータを変化させるように設計される制御信号を受け付けるように構成されるグリッド端子Ｇも備えていてもよい。
【００５１】
図２は、その瞬間的な動作点がほぼ直線のセグメントＴに沿うバイアス三極管の電圧−電流特性を示す。
【００５２】
特に、このようなセグメントに沿う動作点Ｐの制御変位は、アノードＡとカソードＫとの間のＡＣ電圧ＶＲＦの対応する所定の変動を生じ、これは、図２のグラフのｘ軸に表される。
【００５３】
動作点Ｐの変位は、三極管１９のグリッド端子Ｇにおける電圧ＶＧを変化させることにより制御されてもよく、これは、図２のグラフのｙ軸に表される。
【００５４】
図１に最も良く示されるように、発振器として動作する三極管のバイアスは、アノードＡとカソードＫとが、整流器の出力１５におけるＤＣ電圧ＶＣＣで供給されるものである。
【００５５】
この場合、三極管１９のアノードＡ及びカソードＫの出力における発振電圧ＶＲＦは、グリッド端子Ｇにおける電圧ＶＧの波形を制御することにより変化されてもよい。
【００５６】
所定の周波数における発振器としての三極管１９の使用は、グリッド端子Ｇへ印加される正の波形部分を有するほぼ周期的な電圧ＶＧを必要とする。
【００５７】
特に、正のグリッド電圧ＶＧの持続期間は、アプリケータ２へ提供される電圧ＶＲＦの発振周期の所定の角度分数（ａｎｇｕｌａｒ  ｆｒａｃｔｉｏｎ）に等しくなってもよい。
【００５８】
この角度分数（ａｎｇｕｌａｒ  ｆｒａｃｔｉｏｎ）は、周角の３分の１に実質的に近づいていてもよく、約８０°から約１５０°の特定の範囲であってもよい。
【００５９】
更に、三極管１９は、それ自体が知られており、本明細書ではさらに詳細には説明しない電力供給回路を有する加熱フィラメントＦを備える。
【００６０】
第２の電気制御回路１０は、三極管１９のグリッド端子Ｇに接続され、インバータ１１の出力におけるＡＣ電圧ＶＩＮＶの瞬時値に基づいてグリッド電圧ＶＧを制御してもよい。
【００６１】
特に、図１に概略的に示されるように、第２の電気制御回路１０は、電圧ＶＲＦの所定部分ＶＰＡＲを流すために、アプリケータ２の入力に接続される分圧回路２１を備えていてもよい。
【００６２】
更に、第２の電気制御回路１０は、分圧回路２１の下流にあるＤＣ電圧加算回路２２を備えていてもよい。
【００６３】
加算回路２２は、三極管１９が連続的に発振を維持するように、グリッド電圧ＶＧの平均値に適合するために三極管１９のグリッド端子Ｇに接続されてもよい。
【００６４】
好適には、制御手段６は、インバータ１１の出力電圧ＶＩＮＶを少なくとも制御するように構成されるプログラマブルセントラルコントロールユニットＰＬＣ２３を備えていてもよく、第２の電気制御回路１０は、アプリケータ２により発生する電磁場により放射される電力を変化させ、三極管１９の一定の発振を確実にする。
【００６５】
特に、セントラルコントロールユニット２３は、アプリケータ２により提供される電圧ＶＲＦの瞬時値に基づいて加算回路２２のＤＣ電圧値を変化させることにより第２の電気制御回路１０を制御するようにプログラムされてもよい。
【００６６】
更に、セントラルコントロールユニット２３は、図示されないインターフェース手段を備えていてもよく、インターフェース手段は、第１の電気制御回路８及び第２の電気制御回路１０で提供される及び／又は検出される電気パラメータに関するデータを入力及び／又は表示するために使用される。
【００６７】
特に、セントラルコントロールユニット２３は、所望の電気パラメータの値に関するデータを入力するための図示されない英数字キーボードと、このようなパラメータの瞬時値に関するデータを表示するための、それ自体が知られているが図示されない、ディスプレイと、を備えてもよい。
【００６８】
分圧回路２１は、図３から図７に最も良く示されるように、アノードＡとグリッドＧとの間及びグリッドＧとカソードＫとの間にそれぞれ表される三極管１８の固有のキャパシタ対ＣＡＧ，ＣＧＫを備えていてもよい。
【００６９】
分圧回路２１は、図３に最も良く示されるように、三極管１９のアノードＡとグリッドＧとの間に挿入されるインダクタＬＡＧと、グリッド端子Ｇに電気的に接続される第１の端子２４を有し、ＤＣ成分を遮断するインダクタＬＢと、を備えていてもよい。
【００７０】
それに替えて、図４に示されるように、分圧回路２１は、三極管１９のグリッドＧとカソードＫとの間に接続されるインダクタＬＧＫの存在において図３とは異なっている。
【００７１】
この構成は、最大動作電圧が、図３で使用されるものよりも低いインダクタを使用するという利点を有する。
【００７２】
よって、三極管の動作時に、グリッドＧとカソードＫとの間の電圧は、アノードＡとグリッドＧとの間の電圧よりも非常に低くなる。
【００７３】
好適には、インダクタＬＡＫ又はＬＧＫの値は、アプリケータ２に提供される電圧ＶＲＦに応じて電圧ＶＰＡＲの値を調整するための較正時に変化してもよい。特に、電圧ＶＰＡＲは、アプリケータ２に表される電圧ＶＲＦの所定の固定部分であってもよい。
【００７４】
好適には、電圧ＶＰＡＲは、電圧ＶＲＦの値の１０％から２０％の範囲であり、電圧ＶＲＦの値の約１５％であることが好ましい。
【００７５】
加算回路２２は、分圧回路２１の下流に接続され、かつ、インダクタのＬＢの第２の端子２５及び三極管１９のカソードＫに電気的に接続されてもよい。
【００７６】
図３から７は、３つの異なるタイプの加算回路２２を概略的に示す。
【００７７】
特に、図３及び４の実施形態では、加算回路２２は、可変抵抗Ｒと電気的に等価であってもよい。
【００７８】
それに替えて、図５に示されるように、加算回路２２は、可変電圧（ｖａｒｉａｂｌｅ  ｔｅｎｓｉｏｎ）Ｅにより、ＤＣ電圧発生器と等価であってもよい。
【００７９】
好適には、セントラルコントロールユニット２３は、アプリケータ２に提供される電圧ＶＲＦの瞬時値に基づいて等価可変抵抗の抵抗値Ｒ又は等価な発生器の電圧Ｅの値を制御するようにプログラムされてもよい。
【００８０】
好適には、図６に示されるように、図４及び図５は、電圧発生器Ｅに直列に接続された可変抵抗Ｒとほぼ等価な加算回路２２を形成するように組み合わせられてもよい。
【００８１】
この場合、セントラルコントロールユニット２３は、等価抵抗の抵抗値及び発生器Ｒの起電力の両方を同時に制御するように設計されてもよい。
【００８２】
分圧回路２１及び加算回路２２は、アプリケータ２へ提供される電圧ＶＲＦのほぼ逆位相である電圧ＶＧをグリッド端子Ｇへ提供するように設計されてもよい。
【００８３】
図３から６に示される図では、三極管１９のグリッド端子Ｇの入力における電圧ＶＧは、可変振幅ＤＣ電圧を、ほぼ一定の振幅を有するＡＣ信号ＶＰＡＲへ加算することにより得られる。
【００８４】
図７に示されるように、第２の電気制御回路の更なる構成では、グリッド端子Ｇにおける電圧ＶＧは、加算回路２２により提供される可変ＤＣ電圧と、分圧回路２１により提供される可変ＡＣ電圧との合計により得られてもよい。
【００８５】
分圧回路２１により提供されるＡＣ電圧の振幅の変動は、アノードＡとグリッドＧ及びグリッドＧとカソードＫとの間の三極管のキャパシタＣＡＧ及びＣＧＫのキャパシタ値を適切に変化させることにより得られてもよい。
【００８６】
好適には、セントラルコントロールユニット２３は、キャパシタＣＡＧ及びＣＧＫのキャパシタ値と、等価可変抵抗Ｒの抵抗値とを同時に制御するように設計されてもよい。
【００８７】
更に、制御手段６は、三極管１９の下流にあり、アプリケータ２へ提供される電圧周波数ＶＲＦを変化させるように構成される、図示されない発振制御回路を備えていてもよい。
【００８８】
好適には、図１のブロック図に示されるように、アプリケータ２は、作業領域３に電磁場を放射及び方向付ける少なくとも１つの電極対２６，２７を備えていてもよい。
【００８９】
電極の形状、型及び数は、装置１が設計される特定のタイプのプラントに応じて選択されてもよく、特に、電極は、上述した出願人による特許文献において説明されるように構成されてもよい。
【００９０】
例えば、電極は、電極間のギャップへほぼ均一な電磁場を放射し、互いに所定の距離に配置される一対の対向電極で形成されてもよく、又は電極は、製品が電磁場を通過するように延びる製品供給導管を有するように構成される環状電極であってもよい。
【００９１】
好適には、アプリケータ２は、電極２６，２７の電気端子に直接に電気接続されるプレート２９，３０を有するキャパシタ２８を備えていてもよい。
【００９２】
更に、キャパシタ２８は、電極２６，２７がショートした場合に、電力供給手段５の出力において提供される電流の値を制限するように設計されてもよい。
【００９３】
これは、偶然又は装置１の故障によって生じ、キャパシタ２８の存在は、制限された負荷が、増幅回路１１の出力に提供されることを確実にし、それにより、三極管１９へ提供される電流を低減する。
【００９４】
好適には、プレート２９，３０は、ほぼ平坦かつ互いに固定距離で対向していてもよい。
【００９５】
よって、キャパシタは、電極２６，２７がショートした場合に、三極管１９により発生する電流を制限するために十分な抵抗値を有するインピーダンスを規定するように構成される固定値キャパシタンスを有してもよい。
【００９６】
更に、キャパシタ２８のプレート間の距離の適切に調整は、アプリケータ２のインピーダンス値を、電力供給手段４のものに適合させることを可能にする。
【００９７】
別の態様では、本発明は、図８に示されるように、上述された交流ＲＦ電磁場を発生する装置１を制御する方法に関するものであり、これは、本質的に、作業領域３に電磁場を放射するアプリケータ２を提供するステップａ）と、所定の値及び所定の周波数を有する交流電圧ＶＲＦ及び交流電流ＩＲＦをアプリケータ２へ提供する発振器を提供するステップｂ）と、を備える。
【００９８】
更に、十分なＤＣ電圧ＶＣＣを発振器４へ供給するステップｃ）と、適切な制御手段６を通じてアプリケータ２へ提供される電圧、電流及び／又は周波数の電気パラメータを変化させることを含む制御ステップｄ）と、が提供される。
【００９９】
好適には、制御ステップｄ）は、発振器４への電磁放射電力及び制御された電力供給を瞬間的に変化させるために、電気パラメータを変化させることを含む。
【０１００】
更に、制御手段６は、インバータ１１を備え、発振器４は、三極管１９を備える。
【０１０１】
インバータ１１は、ネットワーク電圧Ｎを、可変ＲＭＳ値及び／又は可変周波数を有するＡＣ電圧へ変換するように設計される。
【０１０２】
また、三極管１９は、グリッド電圧ＶＧにより電力供給され、インバータ１１により変換されたＡＣ電圧ＶＩＮＶが変動すると、三極管１９の一定発振を確実にするように制御される。
【０１０３】
特に、制御ステップｄ）は、必然的にプラント応答遅延を含む任意の機械的な調整を必要とせずに、インバータ１１の出力１４における交流電圧及び／又は周波数を変化させることにより得られてもよい。
【０１０４】
制御ステップｄ）は、三極管１９のグリッドＧに印加される電圧ＶＧの波形を維持しながら、ほぼ一定に実行されてもよい。
【０１０５】
三極管１９のグリッドＧにおける電圧ＶＧの制御は、アノードＡとカソードＫとの間で、アプリケータ２へ供給されるように構成される電圧ＶＲＦを提供するように、三極管が発振を維持することを可能にする。
【０１０６】
よって、制御ステップｄ）は、後半部分が、発振周期の所定の角度分数（ａｎｇｕｌａｒ  ｆｒａｃｔｉｏｎ）と等しい持続期間を有するように、グリッド電圧ＶＧの正の部分を制御する。
【０１０７】
上記の開示は、本発明の装置が、意図された目的を満たし、特に、製品処理温度の遅延のない調整のために、電磁場放射電力の即時かつ動的な調整を可能にするという要求を満たすことを明確に示す。
【０１０８】
また、プラントが、電極間の負荷なしに動作する場合には、インバータの使用は、動作値よりも低い値に調整される電圧が、電気アークの形成を防ぐことを可能にする。
【０１０９】
本発明の装置、プラント及び方法は、添付の特許請求の範囲において開示される発明概念の範囲内での複数の変更又は改変を許容する。その全ての詳細は、他の技術的に同等の部分によって置き換えられてもよく、材料は、本発明の範囲から逸脱しない限り、異なる需要に応じて変更されてもよい。
【０１１０】
装置、プラント及び方法は、添付の図面の特定の参照番号により説明されているが、本開示及び特許請求の範囲において参照される番号は、本発明のよりよい理解のためのものであり、いかなる形でも特許請求の範囲の範囲を限定することを意図するものではない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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