(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物：
【化１】
0006435871.tif 000020
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎは、（−ＳｉＲ１ｎＲ２３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ２が存在し；
Ｘ４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数であり；
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、一のＲａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ７２が存在し；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜１の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜１の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。］
および
（２）下記式（Ｅ１）および（Ｅ２）のいずれかで表される少なくとも１種の含フッ素化合物：
【化２】
0006435871.tif 000021
［式中：
Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＨ、−ＣＯＯＲ５、−ＣＯＮＨ２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）２、または−ＮＲ５２を表し；
Ｒ５は、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｘ３は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
εは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
ε’は、それぞれ独立して、１〜９の整数である。］
を含んでなる、真空蒸着用の表面処理剤。
【請求項２】
Ｒｆが、炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である、請求項１に記載の表面処理剤。
【請求項３】
パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物において、ＰＦＰＥが下記式（ａ）、（ｂ）または（ｃ）：
（ａ）：−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−
［式（ａ）中、ｂは１以上２００以下の整数である］；
（ｂ）：−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−
［式（ｂ）中、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上２００以下であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である］；
（ｃ）：−（ＯＣ２Ｆ４−Ｒ８）ｎ”−
［式（ｃ）中、Ｒ８は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であり；
ｎ”は、２〜１００の整数である。］
で表される基である、請求項１または２に記載の表面処理剤。
【請求項４】
パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物における、ＰＦＰＥにおいて：
ＯＣ４Ｆ８が、ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２であり、
ＯＣ３Ｆ６が、ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２であり、
ＯＣ２Ｆ４が、ＯＣＦ２ＣＦ２である、
請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項５】
Ｘ４、Ｘ５およびＸ７が、それぞれ独立して、２〜４価の有機基であり、α、βおよびγが、それぞれ独立して、１〜３であり、α’、β’およびγ’が１である、請求項１〜４のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項６】
Ｘ４、Ｘ５およびＸ７が２価の有機基であり、α、βおよびγが１であり、α’、β’およびγ’が１である、請求項１〜５のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項７】
Ｘ４、Ｘ５およびＸ７が、それぞれ独立して、−（Ｒ３１）ｐ”−（Ｘａ）ｑ”−
［式中：
Ｒ３１は、単結合、−（ＣＨ２）ｓ’−（式中、ｓ’は、１〜２０の整数である）またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
Ｘａは、−（Ｘｂ）ｌ’−（式中、ｌ’は、１〜１０の整数である）を表し；
Ｘｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（式中、ｍ’は１〜１００の整数である）、−ＣＯＮＲ３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、−ＮＲ３４−および−（ＣＨ２）ｎ’−（式中、ｎ’は１〜２０の整数である）からなる群から選択される基を表し；
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し； 
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し；
ｐ”は、０または１であり；
ｑ”は、０または１であり；
ここに、ｐ”およびｑ”の少なくとも一方は１であり、ｐ”およびｑ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
Ｒ３１およびＸａは、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。］
で表される基である、請求項１〜６のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項８】
Ｘ４、Ｘ５およびＸ７が、それぞれ独立して：
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）2Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２ −（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２ −（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２ −（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２ −（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
【化３】
0006435871.tif 000022
からなる群から選択される、請求項１〜７のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項９】
Ｘ４が、−Ｏ−ＣＦＲ１３−（ＣＦ２）ｅ−であり、
Ｒ１３が、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し、
ｅが、０または１である、
請求項１〜８のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１０】
Ｘ２が、−（ＣＨ２）ｓ−であり、
ｓが、０〜２の整数である、
請求項１〜９のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項１１】
式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、ｋが３であり、Ｒａ中、ｑが３である、請求項１〜１０のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項１２】
Ｘ４、Ｘ５およびＸ７が、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基である、請求項１〜１１のいずれかに記載のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物。
【請求項１３】
Ｘ４、Ｘ５およびＸ７が、それぞれ独立して：
【化４】
0006435871.tif 000023
［式中、各基において、Ｔのうち少なくとも１つは、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）においてＰＦＰＥに結合する以下の基： 
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
【化５】
0006435871.tif 000024
であり、
別のＴのうち少なくとも１つは、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）において炭素原子またはＳｉ原子に結合する−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基またはアルコキシ基であり、
Ｒ４１は水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基でありまたは炭素数１〜６のアルキル基であり、
Ｒ４２は水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基を表す。］
からなる群から選択される、請求項１〜１２のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１４】
Ａが、−ＯＨ、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）２、または−ＮＲ５２
である、請求項１〜１３のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１５】
（１）パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、（２）含フッ素化合物との質量比が、１：５０〜５０：１である、請求項１〜１４のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１６】
（１）パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、（２）含フッ素化合物との質量比が、１：１０〜１０：１である、請求項１〜１５のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１７】
（１）パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、（２）含フッ素化合物との質量比が、１：４〜４：１である、請求項１〜１６のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１８】
含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される１種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項１〜１７のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項１９】
含フッ素オイルが、式（３）：
Ｒ２１−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒ２２
・・・（３）
［式中：
Ｒ２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１であり、添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１〜１８のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２０】
含フッ素オイルが、式（３ａ）または（３ｂ）：
Ｒ２１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−Ｒ２２                ・・・（３ａ）
Ｒ２１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’−（ＯＣＦ２）ｄ’’−Ｒ２２      ・・・（３ｂ）
［式中：
Ｒ２１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ２２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し；
式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；
式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’は、それぞれ独立して１以上３００以下の整数であり；
添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’またはｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。］
で表される１種またはそれ以上の化合物である、請求項１〜１９のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２１】
さらに溶媒を含む、請求項１〜２０のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２２】
防汚性コーティング剤または防水コーティング剤として使用される、請求項１〜２１のいずれかに記載の表面処理剤。
【請求項２３】
請求項１〜２２のいずれかに記載の表面処理剤を含有するペレット。
【請求項２４】
基材と、該基材の表面に、請求項１〜２２のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
【請求項２５】
前記表面処理剤より形成された層は、基材に接する下層と、表面処理剤より形成された層の表面に位置する上層とを含み、下層の含フッ素化合物の含有割合より、上層の含フッ素化合物の含有割合のほうが高い、請求項２４に記載の物品。
【請求項２６】
基材がガラスまたはサファイアガラスである、請求項２４または２５に記載の物品。
【請求項２７】
ガラスが、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラスおよび石英ガラスから成る群から選択されるガラスである、請求項２６に記載の物品。
【請求項２８】
前記物品が光学部材である、請求項２４〜２７のいずれかに記載の物品。
【請求項２９】
前記物品がディスプレイである、請求項２４〜２８のいずれかに記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と、含フッ素化合物とを含んでなる表面処理剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
ある種の含フッ素化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた撥水性、撥油性、防汚性などを提供し得ることが知られている。含フッ素化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。
【０００３】
そのような含フッ素化合物として、パーフルオロポリエーテル基を分子主鎖に有し、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端または末端部に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が知られている（特許文献１〜２を参照のこと）。このパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤を基材に適用すると、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基が基材との間および化合物間で反応して、表面処理層を形成する
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３４８３７０号公報
【特許文献２】特開２０１２−７２２７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
表面処理層には、所望の機能を基材に対して長期にわたって提供するべく、高い耐久性が求められる。パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されており、とりわけこれらの用途において、摩擦耐久性の一層の向上が要求されている。
【０００６】
しかしながら、上記したような従来のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層では、次第に高まる摩擦耐久性向上の要求に応えるには、もはや必ずしも十分とは言えない。
【０００７】
本発明は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性を有し、かつ、高い摩擦耐久性を有する層を形成することのできるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、鋭意検討した結果、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含んで成る表面処理剤に、官能基を有する含フッ素化合物を加えることにより、より優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明の第１の要旨によれば、（１）下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物：
【化１】
0006435871.tif 000002
［式中：
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａおよびｂは、それぞれ独立して、０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎは、（−ＳｉＲ１ｎＲ２３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり；
ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ２が存在し；
Ｘ４は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
α’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
βは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
β’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
γは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
γ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表し；
Ｒａ’は、Ｒａと同意義であり；
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ただし、一のＲａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ７２が存在し；
Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３である。］
および
（２）下記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｇ１）および（Ｇ２）のいずれかで表される少なくとも１種の含フッ素化合物：
【化２】
0006435871.tif 000003
［式中：
Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＲ５、−ＣＯＳＨ、−ＣＯＮＨ２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）２、−ＮＲ５２、
【化３】
0006435871.tif 000004
を表し；
Ｒ５は、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
Ｘ１は、ＯまたはＳを表し；
Ｍ１およびＭ２は、それぞれ独立して、水素原子またはアルカリ金属を表し；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数であり；
Ｘ８は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
δは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
δ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ３は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
εは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
ε’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｘ９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
χは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
χ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７４ｐ’Ｒ７５ｑ’Ｒ７６ｒ’を表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ’を表し；
Ｒｄ’は、Ｒｄと同意義であり；
Ｒｄ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ７５は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｘ１０−Ｙ−Ａを表し；
Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ７６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、一のＲｄにおいて、ｐ’、ｑ’およびｒ’の和は３であり、式（Ｆ１）および（Ｆ２）において、少なくとも１つのＲ７５が存在し；
Ｒｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｘ１０−Ｙ−Ａを表し；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ただし、χを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり；
Ｘ６は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
θは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
θ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
Ｒ９１は、フッ素原子、−ＣＨＦ２または−ＣＦ３を表し；
Ｒｆ’は、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキレン基を表す。］
を含んでなる、表面処理剤が提供される。
【００１０】
本発明の第２の要旨によれば、基材と該基材との表面に、上記本発明の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と含フッ素化合物の混合物である、新規な表面処理剤が提供される。これらを用いることにより、撥水性、撥油性、防汚性、防水性を有し、かつ、優れた摩擦耐久性を有する表面処理層を形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の表面処理剤について説明する。
【００１３】
本発明の表面処理剤は、撥水性、撥油性、防汚性、防水性、摩擦耐久性を基材に対して付与することができ、特に限定されるものではないが、防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として好適に使用され得る。
【００１４】
本明細書において用いられる場合、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されるものでないが、炭化水素基から１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【００１５】
本発明は、（１）下記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表される少なくとも１種のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物：
【化４】
0006435871.tif 000005
および
（２）下記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｇ１）および（Ｇ２）のいずれかで表される少なくとも１種の含フッ素化合物：
【化５】
0006435871.tif 000006
を含んでなる表面処理剤を提供する（以下、「本発明の表面処理剤」ともいう）。
【００１６】
上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）中、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、パーフルオロ（ポリ）エーテル基に該当する。ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０または１以上の整数であって、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和が少なくとも１であれば特に限定されるものではない。好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数、例えば１以上２００以下の整数であり、より好ましくは、それぞれ独立して０以上１００以下の整数、例えば１以上１００以下の整数である。さらに好ましくは、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１０以上、好ましくは２０以上であり、２００以下、好ましくは１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【００１７】
一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）であり、好ましくは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ−（式中、ｂは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。
【００１８】
別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−（式中、ａおよびｂは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｃおよびｄは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であり、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−である。
【００１９】
さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ２Ｆ４−Ｒ８）ｎ”−で表される基である。式中、Ｒ１１は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｎ”は、２〜１００の整数、好ましくは２〜５０の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｎ”−または−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｎ”−である。これらの式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８は、それぞれ好ましくは、ＯＣＦ２ＣＦ２、ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２およびＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２である。
【００２０】
上記式（Ａ１）、（Ｂ１）および（Ｃ１）中、Ｒｆは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。
【００２１】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。
【００２２】
上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５パーフルオロアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基である。
【００２３】
該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【００２４】
上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。
【００２５】
上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【００２６】
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【００２７】
好ましくは、Ｒ２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【００２８】
上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ１１は各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子、フッ素原子である。
【００２９】
上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｒ１２は各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【００３０】
上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）中、ｎは、（−ＳｉＲ１ｎＲ２３−ｎ）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、ただし、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）および（Ｂ２）において、少なくとも１つのＲ２が存在する。換言すれば、式中すべてのｎが０になることはない。
【００３１】
上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。好ましい態様において、Ｘ２は、単結合または−（ＣＨ２）ｓ−（式中、ｓは、１または２である）である。
【００３２】
上記式（Ａ１）および（Ａ２）中、ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１〜６の整数である。
【００３３】
上記式（Ａ１）および（Ａ２）におけるＸ４、（Ｂ１）および（Ｂ２）におけるＸ５、（Ｃ１）および（Ｃ２）におけるＸ７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。また、上記式中、α、βおよびγは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり、α’、β’およびγ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数である。当該Ｘ４、Ｘ５およびＸ７は、式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの２〜１０価の有機基であってもよい。Ｘ４、Ｘ５およびＸ７の価数に応じて、式中のα、βおよびγならびにα’、β’およびγ’は変化し得る。例えば、式（Ａ１）、（Ｂ１）および（Ｃ１）においては、Ｘ４、Ｘ５およびＸ７の価数は、それぞれ、αとα’の和、βとβ’の和およびγとγ’の和と同じになる。例えば、Ｘ４が１０価の有機基である場合、αおよびα’の和は１０であり、例えばαが９かつα’が１、αが５かつα’が５、またはαが１かつα’が９となり得る。また、式（Ａ２）、（Ｂ２）および（Ｃ２）においては、α、βおよびγは、それぞれ、Ｘ４、Ｘ５およびＸ７の価数から１を引いた値である。例えば、Ｘ４が２価の有機基の場合、αは１であり、Ｘ４が１０価の有機基の場合αは９である。
【００３４】
好ましい態様において、Ｘ４、Ｘ５およびＸ７は２〜４価の有機基であり、α、βおよびγはそれぞれ１〜３であり、α’、β’およびγ’は１であり、より好ましくは、Ｘ４、Ｘ５およびＸ７は２価の有機基であり、α、βおよびγは１であり、α’、β’およびγ’は１である。
【００３５】
上記Ｘ４、Ｘ５およびＸ７の例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ３１）ｐ”−（Ｘａ）ｑ”−
［式中：
Ｒ３１は、単結合、−（ＣＨ２）ｓ’−（式中、ｓ’は、１〜２０の整数である）またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し；
Ｘａは、−（Ｘｂ）ｌ’−（式中、ｌ’は、１〜１０の整数である）を表し；
Ｘｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（式中、ｍ’は１〜１００の整数である）、−ＣＯＮＲ３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、−ＮＲ３４−および−（ＣＨ２）ｎ’−（式中、ｎ’は１〜２０の整数である）からなる群から選択される基を表し；
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し； 
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基を表し；
ｐ”は、０または１であり；
ｑ”は、０または１であり；
ここに、ｐ”およびｑ”の少なくとも一方は１であり、ｐ”およびｑ”を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり；
Ｒ３１およびＸａは、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。］
である基が挙げられる。
【００３６】
好ましくは、上記Ｘ４、Ｘ５およびＸ７は、それぞれ独立して、−（Ｒ３１）ｐ”−Ｘａ’−Ｒ３２−である。Ｒ３２は、単結合、−（ＣＨ２）ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。上記Ｘａ’は、上記ＸａからＲ３２に対応する部分を除いた基である。ここに、Ｒ３２は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００３７】
好ましくは、上記Ｘ４、Ｘ５およびＸ７は、それぞれ独立して、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ３１−Ｘｃ−Ｒ３２−、または
−Ｘｄ−Ｒ３２−
［式中、Ｒ３１およびＲ３２は、上記と同意義である。］
であり得る。
【００３８】
より好ましくは、上記Ｘ４、Ｘ５およびＸ７は、それぞれ独立して、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
−Ｘｄ−、または
−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。
【００３９】
上記式中、Ｘｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−Ｎ（Ｒ３４）−、または
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、Ｒ３３、Ｒ３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘｃは、好ましくは−Ｏ−である。
【００４０】
上記式中、Ｘｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−Ｎ（Ｒ３４）−、または
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。
【００４１】
より好ましくは、上記Ｘ４、Ｘ５およびＸ７は、それぞれ独立して、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−、または
−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
【００４２】
さらにより好ましくは、上記Ｘ４、Ｘ５およびＸ７は、それぞれ独立して、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−、
−（ＣＨ２）ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、または
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２ −（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣvＨ２v）−
［式中、Ｒ３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。
【００４３】
上記式中、−（ＣvＨ２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−であり得る。
【００４４】
上記Ｘ４、Ｘ５およびＸ７は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００４５】
さらに具体的には、上記Ｘ４、Ｘ５およびＸ７の例として、特に限定されるものではないが、例えば、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）2Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２ −（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２ −（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２ −（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２ −（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
【化６】
0006435871.tif 000007
などが挙げられる。
【００４６】
また、別のＸ４、Ｘ５およびＸ７の例として、下記の基が挙げられる：
【化７】
0006435871.tif 000008
【化８】
0006435871.tif 000009
［式中、Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
【化９】
0006435871.tif 000010
（式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ２）ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］
【００４７】
さらに別の態様において、Ｘ４は、式：−（Ｒ１６）ｘ−（ＣＦＲ１７）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−で表される基である。式中、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ、ｙおよびｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【００４８】
上記式中、Ｒ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ２６−（式中、Ｒ２６は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１６は、酸素原子または２価の極性基である。
【００４９】
上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ２７）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ２７−（これらの式中、Ｒ２７は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
【００５０】
上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
【００５１】
この態様において、Ｘ１は、好ましくは、式：−（Ｏ）ｘ−（ＣＦ２）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−（式中、ｘ、ｙおよびｚは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。
【００５２】
上記式：−（Ｏ）ｘ−（ＣＦ２）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−で表される基としては、例えば、−（Ｏ）ｘ’−（ＣＨ２）ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ２）ｚ’’’−Ｏ−］ｚ’’’’、および−（Ｏ）ｘ’−（ＣＦ２）ｙ”−（ＣＨ２）ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ２）ｚ’’’−Ｏ−］ｚ’’’’（式中、ｘ’は０または１であり、ｙ”、ｚ”およびｚ’’’は、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｚ’’’’は、０または１である）で表される基が挙げられる。なお、これらの基は左端がＰＦＰＥ側に結合する。
【００５３】
別のＸ４の例として、−Ｏ−ＣＦＲ１３−（ＣＦ２）ｅ−が挙げられる。式中、Ｒ１３は、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表し、ｅは、０または１である。低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
【００５４】
さらに、別のＸ４、Ｘ５およびＸ７の例として、下記の基が挙げられる：
【化１０】
0006435871.tif 000011
［式中、
Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各Ｘ１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または
【化１１】
0006435871.tif 000012
［式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基（即ち、式（Ａ１）および（Ａ２）においては炭素原子、また、式（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）においてはＳｉ原子）に結合する−（ＣＨ２）ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基またはＣ１−６アルコキシ基である。］
【００５５】
この態様において、Ｘ４、Ｘ５およびＸ７は、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基であり得る。
【００５６】
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７１ｐＲ７２ｑＲ７３ｒを表す。
【００５７】
上記Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
【００５８】
上記Ｚは、好ましくは、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子とシロキサン結合を形成するものを含まない。
【００５９】
上記Ｚは、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−（式中、ｓ’は、１〜６の整数であり、ｔ’は、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｕ’−（式中、ｕ’は、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００６０】
上記Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表す。
【００６１】
上記Ｒａ’はＲａと同意義である。
【００６２】
Ｒａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒａにおいて、Ｒ７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒａ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒａ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。
【００６３】
例えば、下記にＲａ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
【化１２】
0006435871.tif 000013
【００６４】
上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４およびＳｉ５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
【００６５】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
【化１３】
0006435871.tif 000014
【００６６】
一の態様において、Ｒａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
【００６７】
上記Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基は、上記Ｒ２と同様の記載のものが挙げられる。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【００６８】
上記Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００６９】
式中、ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、一のＲａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり、式（Ｃ１）および（Ｃ２）において、少なくとも１つのＲ７２が存在する。
【００７０】
好ましい態様において、Ｒａ中の末端のＲａ’（Ｒａ’が存在しない場合、Ｒａ）において、上記ｑは、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。ｑがこのような値を取ることにより、基材との接着力が向上し、耐久性が向上する。
【００７１】
上記式中、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【００７２】
上記Ｒｂは、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒｂは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【００７３】
上記式中、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００７４】
式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数である。ただし、γを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は、３である。
【００７５】
式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、当業者であれば当該分野で公知の技術を用いて適宜製造することができる。
【００７６】
例えば、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物は、国際公開第９７／０７１５５号に記載の方法により合成することができる。
【００７７】
例えば、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、特表２００８−５３４６９６号に記載の方法により合成することができる。
【００７８】
例えば、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、特開２０１４−２１８６３９号に記載の方法により合成することができる。
【００７９】
上記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｇ１）および（Ｇ２）において、ＰＦＰＥは、各出現においてそれぞれ独立して、−（ＯＣ４Ｆ８）ａ−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ−（ＯＣＦ２）ｄ−を表し、ここに、ａ、ｂ、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、０以上２００以下の整数であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄの和は、１以上であり、添字ａ、ｂ、ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表し；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜１０の整数である。これらは、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）について記載したものと同意義議である。
【００８０】
上記式中、Ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＣＯＯＲ５、−ＣＯＳＨ、−ＣＯＮＨ２、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）２、−ＮＲ５２、
【化１４】
0006435871.tif 000015
を表す。好ましくは、−ＳＨ、−Ｐ（Ｏ）（ＯＨ）２、−ＯＰ（Ｏ）（ＯＨ）２−ＮＲ５２、または
【化１５】
0006435871.tif 000016
である。
【００８１】
上記式中、Ｒ５は、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくは炭素数１〜３のアルキル基である。
上記Ｘ１は、それぞれ独立して、ＯまたはＳを表す。
Ｍ１およびＭ２は、それぞれ独立して、水素原子またはアルカリ金属を表す。アルカリ金属は、例えばＬｉ、ＮａまたはＫなどが好ましい。
【００８２】
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。好ましくは、Ｙは、単結合、または炭化水素基（好ましくは置換されていてもよいＣ１−６アルキル基）であり得る。
【００８３】
Ｘ３、Ｘ６、Ｘ８およびＸ９は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。これらは、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）におけるＸ４、Ｘ５およびＸ７と同意義であり、特にＸ８、Ｘ３およびＸ９は、それぞれ、Ｘ４、Ｘ５およびＸ７に対応する。
【００８４】
上記式中のδ、ε、χおよびθは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり、δ’、ε’、χ’およびθ’は、それぞれ独立して、１〜９の整数である。これらδ、ε、χ、θ、δ’、ε’、χ’およびθ’は、Ｘ３、Ｘ６、Ｘ８およびＸ９の価数に応じて決定される。例えば、式（Ｄ１）において、δおよびδ’の和は、Ｘ８の価数と同じである。例えば、Ｘ８が１０価の有機基である場合、δおよびδ’の和は１０であり、例えばδが９かつδ’が１、δが５かつδ’が５、またはδが１かつδ’が９となり得る。また、Ｘ８が２価の有機基である場合、δおよびδ’は１である。式（Ｄ２）において、δはＸ８の価数の値から１を引いた値である。ε、χ、θ、ε’、χ’、θ’についても同様である。
【００８５】
上記式（Ｆ１）および（Ｆ２）中、Ｒｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ７４ｐ’Ｒ７５ｑ’Ｒ７６ｒ’を表す。
【００８６】
上記Ｚは、各出現において、それぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。Ｚは、上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）におけるＺと同意義である。
【００８７】
Ｒ７４は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ’を表す。
【００８８】
Ｒｄ’は、Ｒｄと同意義である。
【００８９】
Ｒｄ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。なお、「Ｒｄ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒｄ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。
【００９０】
一の態様において、Ｒｄ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
【００９１】
Ｒ７５は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｘ１０−Ｙ−Ａを表す。
【００９２】
Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、酸素原子または２価の有機基を表す。
【００９３】
上記Ｘ１０は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基またはフェニレン基であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【００９４】
ＹおよびＡは上記と同意義である。
【００９５】
上記Ｒ７６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【００９６】
式中、ｐ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、一のＲｄにおいて、ｐ’、ｑ’およびｒ’の和は３であり、式（Ｆ１）および（Ｆ２）において、少なくとも１つのＲ７５が存在する。
【００９７】
上記式中、Ｒｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｘ１０−Ｙ−Ａを表す。Ｘ１０、ＹおよびＡは上記と同意義である。
【００９８】
上記式中、Ｒ９１は、フッ素原子、−ＣＨＦ２または−ＣＦ３を表し、好ましくはフッ素原子または−ＣＦ３である。
【００９９】
Ｒｆ’は、炭素数１〜２０のパーフルオロアルキレン基を表す。Ｒｆ’は、好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数３〜６であることが好ましい。具体的なＲｆ’の例としては、−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−、−Ｃ（ＣＦ３）−、−（ＣＦ２）４ＣＦ２−、−（ＣＦ２）２ＣＦ（ＣＦ３）−、−ＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−（ＣＦ２）５ＣＦ２−、−（ＣＦ２）３ＣＦ（ＣＦ３）２、−（ＣＦ２）４ＣＦ（ＣＦ３）２、−Ｃ８Ｆ１７が挙げられ、中でも、直鎖の炭素数３〜６のパーフルオロアルキレン、例えば、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−等が好ましい。
【０１００】
上記式（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｇ１）および（Ｇ２）で表される化合物は、当業者であれば当該分野で公知の技術を用いて適宜製造することができる。
【０１０１】
例えば、式（Ｄ１）で表される化合物は、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端にヨウ素を導入した後、−ＣＨ２ＣＲ１２（Ｘ２−Ｙ−Ａ）−に対応するビニルモノマーを反応させること等により得ることができる。
【０１０２】
例えば、式（Ｅ１）で表される化合物は、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、−Ｙ−Ａ部分に対応する基、例えば末端にハロゲン化アルキルを有する化合物とWilliamson反応に付すこと等により得ることができる。
【０１０３】
例えば、式（Ｆ１）で表される化合物は、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体に、ヒドロシリル化等を利用して、−ＳｉＨａｌ３基（Ｈａｌはハロゲン）を導入し、次いで、−Ｙ−Ａ部分に対応するグリニャール試薬、例えばＨａｌ−Ｍｇ−Ｙ−Ａと反応させることにより得ることができる。
【０１０４】
例えば、式（Ｇ１）で表される化合物は、例えば、Ｒ９１−Ｒｆ’−部分に対応するフルオロアルキル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、−Ｙ−Ａ部分に対応する基、例えば末端にハロゲン化アルキルを有する化合物とWilliamson反応に付すこと等により得ることができる。
【０１０５】
また、これらの化合物は、Ｙ−Ａ部分が前駆体基である化合物を合成し、この前駆体基を、当該分野で公知の方法により、Ｙ−Ａ基に変換することにより、製造することができる。
【０１０６】
好ましい態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）および式（Ａ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ａ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。
【０１０７】
好ましい態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｂ１）および式（Ｂ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｂ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。
【０１０８】
好ましい態様において、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｃ１）および式（Ｃ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、式（Ｃ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。
【０１０９】
好ましい態様において、含フッ素化合物は、式（Ｄ１）および式（Ｄ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、含フッ素化合物は、式（Ｄ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。
【０１１０】
別の好ましい態様において、含フッ素化合物は、式（Ｅ１）および式（Ｅ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、含フッ素化合物は、式（Ｅ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。
【０１１１】
別の好ましい態様において、含フッ素化合物は、式（Ｆ１）および式（Ｆ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、含フッ素化合物は、式（Ｆ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。
【０１１２】
別の好ましい態様において、含フッ素化合物は、式（Ｇ１）および式（Ｇ２）のいずれかで表される１種またはそれ以上の化合物である。より好ましくは、含フッ素化合物は、式（Ｇ１）で表される１種またはそれ以上の化合物である。
【０１１３】
一の態様において、本発明の表面処理剤中、（１）式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）および（Ｃ２）のいずれかで表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（以下、「パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）」ともいう）と、（２）式（Ｄ１）、（Ｄ２）、（Ｅ１）、（Ｅ２）、（Ｆ１）、（Ｆ２）、（Ｇ１）および（Ｇ２）のいずれかで表される含フッ素化合物（以下、「含フッ素化合物（２）」ともいう）との質量比（それぞれ、２種以上の場合にはそれらの合計、以下も同様）は、好ましくは１：５０〜５０：１であり、より好ましくは１：１０〜１０：１であり、さらに好ましくは１：４〜４：１である。かかる範囲とすることで、表面処理剤の摩擦耐久性をより向上させることができる。
【０１１４】
本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば、パーフルオロヘキサン、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦＣ２Ｆ５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＦ３［式中、ｍおよびｎは、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍまたはｎを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍおよびｎの和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択される溶媒が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。
【０１１５】
さらに、本発明の表面処理剤は、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒などが挙げられる。
【０１１６】
上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（３）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ１−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒｆ２        ・・・（３）
式中、Ｒｆ１は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ２は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいＣ１−１６のアルキル基（好ましくは、Ｃ１−１６のパーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ１およびＲｆ２は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１−３のパーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【０１１７】
上記一般式（３）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（３ａ）および（３ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−Ｒｆ２                  ・・・（３ａ）
Ｒｆ１−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’−（ＯＣＦ２）ｄ’’−Ｒｆ２              ・・・（３ｂ）
これら式中、Ｒｆ１およびＲｆ２は上記の通りであり；式（３ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（３ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【０１１８】
上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の平均分子量を有していてよい。これにより、高い表面滑り性を得ることができる。
【０１１９】
上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）および含フッ素化合物（２）の合計１００質量部（それぞれ、２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは５〜３００質量部で含まれ得る。
【０１２０】
一般式（３ａ）で示される化合物および一般式（３ｂ）で示される化合物は、それぞれ単独で用いても、組み合わせて用いてもよい。一般式（３ａ）で示される化合物よりも、一般式（３ｂ）で示される化合物を用いるほうが、より高い表面滑り性が得られるので好ましい。これらを組み合わせて用いる場合、一般式（３ａ）で表される化合物と、一般式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、１：１〜１：３０が好ましく、１：１〜１：１０がより好ましい。かかる質量比によれば、表面滑り性と摩擦耐久性のバランスに優れた防汚性コーティング層を得ることができる。
【０１２１】
一の態様において、含フッ素オイルは、一般式（３ｂ）で表される１種またはそれ以上の化合物を含む。かかる態様において、表面処理剤中の上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）および含フッ素化合物（２）の合計と、式（３ｂ）で表される化合物との質量比は、４：１〜１：４であることが好ましい。
【０１２２】
好ましい態様において、真空蒸着法により防汚性コーティング層を形成する場合には、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）よりも、より好ましくは上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）および含フッ素化合物（２）の平均分子量よりも、含フッ素オイルの平均分子量を大きくしてもよい。このような平均分子量とすることにより、より優れた摩擦耐久性と表面滑り性を得ることができる。
【０１２３】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ３−Ｆ（式中、Ｒｆ３はＣ５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ３−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、末端がＣ１−１６パーフルオロアルキル基である上記含フッ素化合物で表される化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
【０１２４】
含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０１２５】
本発明の表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）および含フッ素化合物（２）の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜３００質量部、好ましくは０〜２００質量部で含まれ得る。
【０１２６】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０１２７】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【０１２８】
表面処理剤中に含まれる触媒は、本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
【０１２９】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【０１３０】
本発明の表面処理剤は、１つの溶液（または懸濁液もしくは分散液）の形態であってもよく、あるいは、別個のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）の溶液と、含フッ素化合物（２）の溶液とを、使用直前に混合する形態であってもよい。
【０１３１】
本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【０１３２】
次に、本発明の物品について説明する。
【０１３３】
本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物および含フッ素化合物を含んでなる表面処理剤（以下、これらを代表して単に「本発明の表面処理剤」と言う）より形成された層（いわゆる、表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。
【０１３４】
まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属または金属酸化物（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、任意の適切な材料で構成され得る。
【０１３５】
好ましい態様において、基材は、ガラスまたはサファイアである。かかる基材がガラスの場合、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラスおよび石英ガラスから成る群から選択されるガラスが挙げられる。
【０１３６】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【０１３７】
基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【０１３８】
かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【０１３９】
またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【０１４０】
次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。
【０１４１】
本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【０１４２】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【０１４３】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、化学蒸着（ＣＶＤ）および類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【０１４４】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【０１４５】
湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：Ｃ５−１２のパーフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ−１，３−ジメチルシクロヘキサン）；ポリフルオロ芳香族炭化水素（例えば、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン）；ポリフルオロ脂肪族炭化水素（例えば、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ３（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＣ−６０００）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（例えば、日本ゼオン株式会社製のゼオローラ（登録商標）Ｈ）；ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）（例えば、１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタン（ＨＦＣ−３６５ｍｆｃ））；ハイドロクロロフルオロカーボン（例えば、ＨＣＦＣ−２２５（アサヒクリン（登録商標）ＡＫ２２５））；ヒドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）（例えば、パーフルオロプロピルメチルエーテル（Ｃ３Ｆ７ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７０００）、パーフルオロブチルメチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７１００）、パーフルオロブチルエチルエーテル（Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７２００）、パーフルオロヘキシルメチルエーテル（Ｃ２Ｆ５ＣＦ（ＯＣＨ３）Ｃ３Ｆ７）（例えば、住友スリーエム株式会社製のＮｏｖｅｃ（商標名）７３００）などのアルキルパーフルオロアルキルエーテル（パーフルオロアルキル基およびアルキル基は直鎖または分枝状であってよい）、あるいはＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２（例えば、旭硝子株式会社製のアサヒクリン（登録商標）ＡＥ−３０００））、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン（例えば、三井・デュポンフロロケミカル社製のバートレル（登録商標）サイオン）など。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。
【０１４６】
乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。
【０１４７】
膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。
【０１４８】
触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。
【０１４９】
本発明の表面処理組成物の使用方法を限定するものではないが、表面処理組成物の膜形成は、蒸着法によって行うことが好ましい。本発明の蒸着方法は、表面処理組成物を蒸着用材料に使用して、基材の表面に蒸着膜を形成することを含む。この蒸着方法は、通常、真空（即ち大気圧より低い圧力）にて実施される真空蒸着である。蒸着時の圧力は、例えば２×１０−３Ｐａ〜１×１０−５Ｐａ、好ましくは１×１０−３Ｐａ〜１×１０−４Ｐａであり、蒸着時の温度は、例えば２０℃〜１０００℃であり、かかる範囲以内で段階的にまたは徐々に昇温してもよいが、これに限定されない。
【０１５０】
本発明の表面処理剤により形成された層は、単層からなっても、２層以上の層からなってもよい。表面処理層が、単層からなる場合、層中に上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）および含フッ素化合物（２）が実質的に均一に存在してもよく、あるいは、基材側で一方の化合物（好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１））の濃度が高く、露出面側で他方の化合物（好ましくは含フッ素化合物（２））の濃度が高くなっていてもよい。表面処理層が、２層以上からなる場合、基材に接する下層と、表面処理層の表面に位置する上層（露出面を成す）とを含む。好ましくは、下層は一方の化合物を多く含み、上層は他方の化合物を多く含む。より好ましくは、下層はパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物（１）を多く含み、上層は含フッ素化合物（２）を多く含む。換言すれば、下層の含フッ素化合物（２）の含有割合より、上層の含フッ素化合物（２）の含有割合のほうが高くなる。なお、表面処理層中の含フッ素化合物の含有割合が下層と上層とで有意に異なっている限り、かかる下層および上層の境界は必ずしも明確でなくてもよく、または、下層および上層の間に１つ以上の中間層が存在していてもよい。
【０１５１】
好ましい態様において、上記表面処理剤より形成された層は、基材に接する下層と、表面処理剤より形成された層の表面に位置する上層とを含み、下層の含フッ素化合物（２）の含有割合より、上層の含フッ素化合物（２）の含有割合のほうが高い。
【０１５２】
次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。
【０１５３】
上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。
【０１５４】
前駆体膜に水分が供給されると、本発明の表面処理剤中のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。
【０１５５】
水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。
【０１５６】
次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。このときの時間は、特に限定されないが、例えば３０分〜５時間、好ましくは、１〜３時間であってもよい。
【０１５７】
上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。
【０１５８】
過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には５００℃以下、例えば３００℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。
【０１５９】
以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。
【０１６０】
上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い表面滑り性と高い摩擦耐久性の双方を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【０１６１】
本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材としては、例えば、下記の光学部材が挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ：例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの；眼鏡などのレンズ；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
【０１６２】
本発明によって得られる表面処理層を有する他の物品は、窯業製品、塗面、布製品、皮革製品、医療品およびプラスターなどを挙げることができる。
【０１６３】
また、本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【０１６４】
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜３０ｎｍ、好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【０１６５】
以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。
【実施例】
【０１６６】
本発明のパーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物、その製造方法、およびそれを含む表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する４種の繰り返し単位（ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）および（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の存在順序は任意である。また、化合物を表す式は平均組成を示す。
【０１６７】
実施例１
下記の平均組成を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）およびパーフルオロポリエーテル化合物（Ｄ）を、質量比２：１の割合で、濃度２０ｗｔ％（化合物（Ａ）および化合物（Ｄ）の合計）になるようにハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて表面処理剤を調製した。調製した表面処理剤を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０−３Ｐａとし、まず、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を化学強化ガラスの表面に蒸着させて、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、化合物（Ａ）と化合物（Ｄ）の混合物を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OCH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
（なお、平均組成としては、(CF2CF2CF2CF2O)の繰り返し単位が０．１７個および(CF2CF2CF2O)の繰り返し単位が０．１８個含まれていたが、微量のため省略した。）
・パーフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（Ｄ）
CF3O(CF2CF2O)19(CF2O)16CF2CH2OH
【０１６８】
実施例２
化合物（Ａ）に代えて、下記の平均組成を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０１６９】
実施例３
化合物（Ａ）に代えて、下記の平均組成を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）
0006435871.tif 000017
（式中、ｍは１〜６の整数である。）
【０１７０】
実施例４
化合物（Ｄ）に代えて、下記の平均組成を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｅ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（Ｅ）
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OH
【０１７１】
実施例５
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１７２】
実施例６
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｃ）を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１７３】
実施例７
化合物（Ｄ）に代えて、下記の平均組成を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｆ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物（Ｆ）
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)30CF2CF2CH2OH
【０１７４】
実施例８
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）を用いたこと以外は、実施例７と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１７５】
実施例９
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｃ）を用いたこと以外は、実施例７と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１７６】
比較例１
化合物（Ｄ）に代えて、下記の平均組成を有する化合物（Ｇ）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル化合物（Ｇ）
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)19CF３
（なお、平均組成としては、(CF2CF2CF2CF2O)および(CF2CF2CF2O)の繰り返し単位が微量含まれていたが、省略した。）
【０１７７】
比較例２
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１７８】
比較例３
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｃ）を用いたこと以外は、比較例１と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１７９】
比較例４
化合物（Ａ）を、濃度２０ｗｔ％（になるようにハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて表面処理剤を調製したこと以外は、実施例１と同様にして、表面処理層を形成した。上記で調製した表面処理剤を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、圧力３．０×１０−３Ｐａとし、まず、電子線蒸着方式により二酸化ケイ素を化学強化ガラスの表面に蒸着させて、続いて、化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、化合物（Ａ）を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。
【０１８０】
比較例５
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）を用いたこと以外は、比較例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１８１】
比較例６
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｃ）を用いたこと以外は、比較例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
【０１８２】
・摩擦耐久性評価
上記実施例および比較例にて基材表面に形成された表面処理層について、水の静的接触角を測定した。水の静的接触角は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水１μＬにて実施した。
【０１８３】
まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、水の静的接触角を測定した（摩擦回数  ゼロ回）。
【０１８４】
その後、摩擦耐久性評価として、スチールウール摩擦耐久性評価を実施した。具体的には、表面処理層を形成した基材を水平配置し、スチールウール（番手♯００００、寸法５ｍｍ×１０ｍｍ×１０ｍｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に１，０００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状態でスチールウールを１４０ｍｍ／秒の速度で往復させた。一定の往復回数毎に水の静的接触角（度）を測定した。接触角の測定値が１００度未満となった時点、または摩擦回数が２００００回を超えた時点で評価を中止した。結果を下記表１および表２に示す。
【０１８５】
【表１】
0006435871.tif 000018
【０１８６】
【表２】
0006435871.tif 000019
【０１８７】
上記の表１および表２から理解されるように、本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物にパーフルオロポリエーテル基含有アルコール化合物を混合した実施例１〜９は、官能基を含有しないパーフルオロポリエーテル化合物を混合した比較例１〜３または、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物のみの比較例４〜６に比べて摩擦耐久性が著しく向上することが確認された。本発明はいかなる理論にも拘束されないが、これは、アルコールなどの官能基が層を形成するパーフルオロポリエーテル鎖の酸素原子と、水素結合等の相互作用が働き、層への担持力が大きくなり、耐摩耗性が向上したと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０１８８】
本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。