(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性透明基材フィルムの一面に、ハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層とが、この順に各層が直接的に積層されており、
前記高屈折率層の屈折率が１．５０〜１．６５、膜厚が１３０〜１８０ｎｍであり、
前記低屈折率層の屈折率が１．３６〜１．４２、膜厚が７０〜１００ｎｍである、インサート成型用耐指紋性反射防止フィルム。
【請求項２】
前記低屈折率層に防汚剤が含有されている、請求項１に記載のインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層は、アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィンを含む組成物を硬化してなる、請求項１または請求項２のいずれか一項に記載のインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のうちいずれか一項に記載のインサート成型用耐指紋性反射防止フィルムを表面に備える、樹脂成型品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インサート成型に適したフィルムであって、反射防止性及び耐指紋性に優れるフィルムと、これを表面に備える樹脂成型品に関する。
【背景技術】
【０００２】
自動車部品や携帯電話等の意匠付けにおいて、表面保護や加飾のためのフィルムを予め金型内に設置しておき、熱融着法により、射出成形と同時に樹脂成型品の表面にフィルムを付与するインサート成型が用いられている。このようなフィルムとして、例えば特許文献１には、熱可塑性透明基材フィルム上にハードコート層を積層した、インサート成型用のハードコートフィルムが開示されている。このハードコートフィルムは、基材フィルムがゴム成分を含有するアクリル系樹脂からなり、ハードコート層が電離放射線硬化型樹脂からなる。これにより、十分な表面硬度を有し、深絞りの形状でのインサート成型においてもハードコート層にクラックや白化、皺が生じないとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−８１６２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし近年では、タッチパネルの普及により、この種のインサート成型用ハードコートフィルムにおいて、反射防止性と耐指紋性をも備えるニーズが高まっている。しかし、特許文献１のインサート成型用フィルムでは、これらの要求に対する性能が付与されていない。
【０００５】
そこで、本発明の目的とするところは、インサート成型用のフィルムであって、ハードコート層を備えながら反射防止性及び耐指紋性にも優れる、耐指紋性反射防止フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、熱可塑性透明基材フィルムの一面に、ハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層とが、この順に積層されているインサート成型用耐指紋性反射防止フィルムであって、前記高屈折率層の屈折率が１．５０〜１．６５、膜厚が１３０〜１８０ｎｍであり、前記低屈折率層の屈折率が１．３６〜１．４２、膜厚が７０〜１００ｎｍであることを特徴とする。
【０００７】
前記低屈折率層には、防汚剤が含有されていることも好ましい。
【０００８】
前記ハードコート層は、アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィンを含む組成物を硬化してなることも好ましい。
【０００９】
当該インサート成型用耐指紋性反射防止フィルムは、インサート成型時に、前記熱可塑性透明基材フィルムが熱融着することで、樹脂成型品表面へ一体化される。
【００１０】
なお、本発明において数値範囲を示す「○○〜××」とは、特に明示しない限り「○○以上××以下」を意味する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ハードコート層を備えるインサート成形用フィルムにおいて、当該ハードコート層上に、さらに高屈折率層と低屈折率層とをこの順で所定の屈折率及び膜厚の相対関係となるように積層している。これにより、指紋等の皮脂汚れが付着する前の視感度反射率２．０％以下および反射彩度６．０未満となり、十分な反射防止性を達成できる。同時に、指紋付着前後のΔＥが７．０以下となり、例え指紋が付着したとしてもこれが見え難く（目立たず）、耐指紋性も良好となる。
【００１２】
また、低屈折率層に防汚剤を含有させることにより、防汚性も付与することができる。これにより、そもそも指紋が付着しにくく、例え付着したとしても指紋を拭き取り易くすることができ、より優れた耐指紋性が得られる。
【００１３】
また、ハードコート層にアクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィンを含む場合には、成形性がより向上する。具体的には、より複雑な形状の金型に追従させることができ、より複雑な形状の樹脂成型品に対してインサート成型によってフィルムを的確に付与することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
《耐指紋性反射防止フィルム》
本実施形態の耐指紋性反射防止フィルムは、インサート成型に適したフィルムであって、熱可塑性透明基材フィルムの一面に、当該熱可塑性透明基材フィルム側からハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層とが、この順に積層されている。以下に、このインサート成型に適した耐指紋性反射防止フィルムの構成要素について順に説明する。
【００１５】
〔熱可塑性透明基材フィルム〕
熱可塑性透明基材フィルムは、ポリカーボネート樹脂、及び／又はポリメチルメタクリレート樹脂からなるフィルムを使用できる。特に、ポリカーボネート層及びポリメチルメタクリレート層の二層構造からなるフィルムが好ましい。この場合、ポリメチルメタクリレート層上にハードコート層を積層するのが望ましい。後述のハードコート層形成用組成物を、熱可塑性透明基材フィルム上へ良好にウェットコーティングすることができるからである。また、ハードコート層のバインダー成分としてアクリル樹脂（アクリル基を有するモノマーの硬化物）を含む場合には、ハードコート層とポリメチルメタクリレート層の屈折率が近くなるため、両者が直に積層されていれば、反射光の干渉ムラも生じ難くなる。加えて、メチルメタクリレート層とハードコート層の材質が類似するため、熱可塑性透明基材フィルムとハードコート層との密着性も向上する。一方、ポリカーボネート層はポリメチルメタクリレート層に比べガラス転移点（Ｔｇ）が高いため、ポリカーボネート層に加飾印刷することで、インサート成型時にインク流れが生じにくくなる。熱可塑性透明基材フィルムの膜厚や屈折率は、この種のインサート成型用フィルムにおける従来から公知の一般的な範囲であればよく、特に制限されない。具体的には、熱可塑性透明基材フィルムの膜厚は通常３０〜３００μｍ、好ましくは１２５〜２００μｍである。また、熱可塑性透明基材フィルムの屈折率は、通常１．４９〜１．５９である。
【００１６】
〔ハードコート層〕
ハードコート層は、ハードコート層形成用組成物を硬化させることにより形成される。当該ハードコート層は、所要の強度及び硬度を有しており、樹脂成形品の表面硬度を向上するために積層する層である。ハードコート層の乾燥硬化後の膜厚は、１〜２０μｍが好ましい。膜厚が１μｍより薄い場合は、十分な表面硬度が得られないため好ましくない。膜厚が２０μｍより厚い場合は、屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。なお、ハードコート層の屈折率は後述する材料を使用する限り特に限定されないが、そのような材料の屈折率としては１．４９〜１．５４程度である。
【００１７】
＜ハードコート層形成用組成物＞
ハードコート層形成用組成物は、基本的にはこの種のインサート成形用フィルムにおいて従来から公知の組成物を特に制限無く使用することができ、典型的には、紫外線硬化型樹脂（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）とを含有してなる。
【００１８】
紫外線硬化型樹脂（Ｂ）としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート（オリゴマー）、エポキシ（メタ）アクリレート（オリゴマー）、ポリエステル（メタ）アクリレート（オリゴマー）、ポリエーテル（メタ）アクリレート（オリゴマー）、（メタ）アクリレート（オリゴマー）等からなる群から選ばれる１種又は２種以上を使用できる。
【００１９】
光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線（ＵＶ）によりハードコート層形成用組成物を硬化させて塗膜を形成する際の、重合開始剤として用いられる。光重合開始剤（Ｃ）としては、紫外線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。これら光重合開始剤（Ｃ）は、１種のみを使用しても良いし、２種以上を混用することもできる。
【００２０】
ハードコート層形成用組成物が、紫外線硬化型樹脂（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）とからなる基本的な組成である場合、紫外線硬化型樹脂（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）との合計１００質量部に対し、（Ｂ）成分は９０〜９９質量部、（Ｃ）成分は１〜１０質量部とすればよい。光重合開始剤（Ｃ）がこの範囲より少ないと重合が不充分となり、密着性を発揮できなくなる。一方、この範囲より多くても不必要に多くなるだけであり、好ましくない。
【００２１】
また、ハードコート層形成用組成物には、上記（Ｂ），（Ｃ）成分に加えて、アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィン（Ａ）も配合することが好ましい。これにより、熱可塑性透明基材フィルムとハードコート層との密着性を向上することができる。
【００２２】
アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィン（Ａ）は、ポリオレフィン由来の構造単位と、不飽和ジカルボン酸（無水物）由来の構造単位と、アクリル由来の構造単位とからなるものであり、ポリオレフィン成分と不飽和ジカルボン酸（無水物）成分とアクリル成分とから得ることができる。なお、以下に説明するこれら各成分（ポリオレフィン成分、不飽和ジカルボン酸（無水物）成分、アクリル成分）は、それぞれ１種のみであってもよいし２種以上であってよい。
【００２３】
前記アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィン（Ａ）を構成するポリオレフィン成分としては、例えば、炭素数４〜１２のα−オレフィンの１種以上と、プロピレンとを必須構成単位とする共重合体が好ましく挙げられる。ここで、炭素数４〜１２のα−オレフィンとしては、例えば、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、４−メチル−１−ペンテン等が挙げられ、中でも、１−ブテン、１−ペンテン、１−デセン、４−メチル−１−ペンテンが好ましく、１−ブテンが最も好ましい。これら炭素数４〜１２のα−オレフィンがポリオレフィン成分中に占める割合は、１５〜７０モル％であることが好ましい。ただし、炭素数４〜１２のα−オレフィンおよびプロピレン以外のオレフィンをも構成単位とする共重合体においては、例えばエチレンをも構成単位とする場合（例えば、プロピレン／１−ブテン／エチレン共重合体のような場合）には、ポリオレフィン成分中に占めるエチレンの割合は１モル％以下であるのが好ましく、０．５モル％以下であるのがより好ましく、０．１モル％以下であるのがさらに好ましい。
【００２４】
アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィン（Ａ）を構成するポリオレフィン成分は、高分子ポリオレフィンからの熱減成ポリオレフィン、すなわち高分子ポリオレフィンを高温で熱分解して得られる低分子ポリオレフィンであることが好ましい。高分子ポリオレフィンからの熱減成ポリオレフィンは、末端や分子内に比較的多くの二重結合が均一に存在するものであり、不飽和ジカルボン酸（無水物）のグラフト化が容易であるので、一般には上げることが難しいと考えられている後述の不飽和ジカルボン酸（無水物）付加率を、後述する比較的高い範囲にまで向上させることができる。熱減成ポリオレフィンを得る方法としては、例えば、数平均分子量１５０００〜１５００００の高分子ポリオレフィンを、有機過酸化物の存在下では１８０〜３００℃、有機過酸化物の非存在下では３００〜４５０℃で、０．５〜１時間加熱するようにすればよい。好ましくは有機過酸化物の非存在下で加熱する方法が好ましい。
【００２５】
アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィン（Ａ）を構成する不飽和ジカルボン酸（無水物）成分としては、例えば、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シクロヘプテンジカルボン酸、アコニット酸等の不飽和ジカルボン酸；無水マレイン酸、無水シトラコン酸、無水イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸無水物や、前記不飽和ジカルボン酸無水物と炭素数１〜５のアルキルアルコールとのエステル化物等が挙げられる。
【００２６】
アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィン（Ａ）を構成するアクリル成分としては、例えば４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートなどの水酸基含有（メタ）アクリレート等のような活性水素を有するアクリル成分や、例えば２−アクリロイルエチルイソシアネート等のようなイソシアナート基を含有するアクリル成分が挙げられ、さらには、メチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル等もアクリル成分として用いることができる。なお、本明細書では、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート及びメタクリレートを指す。
【００２７】
ポリオレフィン成分と、不飽和ジカルボン酸（無水物）成分と、アクリル成分とから、アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィン（Ａ）を得る方法は特に制限されないが、例えば、ポリオレフィン成分に不飽和ジカルボン酸（無水物）成分をグラフト付加したのち、アクリル成分を反応させる方法等により得ることができる。なお、上記方法における具体的な反応条件等については、通常の有機合成の手法に従い、適宜設定すればよい。例えば、アクリル成分を反応させる際に、（メタ）アクリル酸エステルをアクリル成分とする場合には、例えばジクミルパーオキサイド等の水素引き抜き能を有する有機過酸化物を用いればよい。
【００２８】
ハードコート層形成用組成物に、紫外線硬化型樹脂（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）に加えて、アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィン（Ａ）も配合する場合、アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィン（Ａ）と紫外線硬化型樹脂（Ｂ）と光重合開始剤（Ｃ）との合計１００質量部に対し、（Ａ）成分は９〜４５質量部、（Ｂ）成分は４５〜９０質量部、（Ｃ）成分は１〜１０質量部とすればよい。（Ａ）成分がこの範囲より少ないと、これによる効果を的確に得られない。一方、この範囲より多いと、ベース材料となる（Ｂ）成分の相対割合が低くなるので、表面硬度が低下してしまう。
【００２９】
ハードコート層形成用組成物には、必要に応じて、表面調製剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、消泡剤等の従来公知の添加物を、本発明の効果を損なわない範囲で含有していても良い。
【００３０】
ハードコート層形成用組成物の調製に用いられる希釈溶剤は、ハードコート層形成用組成物の粘度を調整するために用いられ、非重合性のものであれば特に制限されない。係る希釈溶剤により、主にハードコート層形成用組成物を熱可塑性透明基材フィルム上に容易に塗布することができる。
【００３１】
希釈溶剤としては、例えばトルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、エチルセルソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジアセトンアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３−メトキシブタノール等が挙げられる。
【００３２】
上記ハードコート層形成用組成物を熱可塑性透明基材フィルム上に塗布した後、紫外線を照射して硬化させることにより、熱可塑性透明基材フィルム上に、ハードコート層を積層することができる。ハードコート層形成用組成物を熱可塑性透明基材フィルム上に塗布する方法としては、ロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、ハケ塗り法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、グラビアコート法、カーテンフローコート法、リバースコート法、キスコート法、コンマコート法等公知のいかなる方法も採用される。塗布に際しては、密着性を向上させるために、予め熱可塑性透明基材フィルム表面にコロナ放電処理等の前処理を施すことも好ましい。
【００３３】
紫外線の照射に用いられる紫外線源としては、例えば高圧水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、窒素レーザ、電子線加速装置、放射性元素等の線源が使用される。紫外線の照射量は、紫外線の波長３６５ｎｍでの積算光量として、５０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。照射量が５０ｍＪ／ｃｍ２未満のときには、ハードコート層形成用組成物の硬化が不十分となるため好ましくない。一方、５０００ｍＪ／ｃｍ２を超えるときには、紫外線硬化型樹脂（Ｂ）が着色する傾向を示すため好ましくない。
【００３４】
〔高屈折率層〕
次に、高屈折率層について説明する。高屈折率層は、後述の低屈折率層よりも屈折率の高い層であって、低屈折率層との有意な屈折率及び膜厚の相対関係により反射防止効果及び耐指紋性（指紋を見え難くする効果）を発現させる層であり、低屈折率層と共に反射防止層及び耐指紋層を構成する層である。高屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．６５である。高屈折率層の屈折率が１．５０未満の場合は、低屈折率層との屈折率差が小さ過ぎて高屈折率層と低屈折率層との界面での反射が弱くなり、反射防止性能及び耐指紋性が十分に発揮されない場合がある。また、高屈折率層の屈折率が１．６５を超える場合は、高屈折率層と低屈折率層との界面での反射が強くなり、反射光の着色が強くなる。また、高屈折率層の膜厚は、１３０〜１８０ｎｍである。高屈折率層の膜厚が１３０未満の場合や１８０ｎｍを超える場合は、低屈折率層との干渉バランスが崩れ、反射率、反射彩度Ｃ、及び皮脂汚れが付着した際の反射色差ΔＥの上昇を引き起こしてしまい、十分な反射防止性や耐指紋性が得られなくなる。
【００３５】
＜高屈折率層形成用組成物＞
高屈折率層は、高屈折率層形成用組成物からなる塗布液をハードコート層上に塗布した後、紫外線照射により硬化することで形成される。その塗布方法や硬化条件、及び粘度調整用の希釈溶媒は、ハードコート層と同様であればよい。高屈折率層形成用組成物を構成する材料としては、高屈折率層の屈折率の範囲において、金属酸化物微粒子及び紫外線硬化型樹脂を任意に用いることができる。
【００３６】
金属酸化物微粒子は、屈折率を積極的に高めるために配合されるものである。金属酸化物微粒子としては、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化珪素、ＩＴＯ等の微粒子が挙げられる。特に、導電性や帯電防止能の観点より、酸化錫、酸化アンチモン及びＩＴＯが好ましく、高屈折率の観点より、酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛及び酸化ジルコニウムが好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径は高屈折率層の厚みを大きく超えないことが好ましく、特に０．１５μｍ以下であることが好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒子径が高屈折率層の厚みを大きく超えると、光の散乱が生じる等、高屈折率層の光学性能が低下する傾向にある。紫外線硬化型樹脂としては、ハードコート層で使用する樹脂と同種のものを使用できる。
【００３７】
高屈折率層の屈折率は、ベース樹脂である紫外線硬化型樹脂と金属酸化物微粒子の配合割合を適宜調整することで設定できる。金属酸化物微粒子の含有量は、紫外線硬化型樹脂との合計１００質量部に対して、９０質量部以下に調整される。金属酸化物微粒子の含有量が９０質量部を超えると、塗膜における紫外線硬化型樹脂の相対量が少なくなり、塗膜がもろくなるため好ましくない。
【００３８】
更に、高屈折率層形成用組成物には、紫外線により高屈折率層形成用組成物を硬化させて塗膜を形成するために、光重合開始剤が含まれる。光重合開始剤としては、ハードコート層で使用する光重合開始剤と同種のものを使用できる。光重合開始剤は、高屈折率層形成用組成物中に１．０〜１０．０質量％含まれる。光重合開始剤の含有量が１．０質量％未満では、高屈折率層の硬化が不十分となる。一方、含有量が１０．０質量％を超えると、光重合開始剤が不必要に多くなり好ましくない。紫外線照射の条件は、ハードコート層と同じでよい。
【００３９】
高屈折率層形成用組成物中には、必要に応じて、表面調整剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、消泡剤等の従来公知の添加物を、本発明の効果を損なわない範囲で含有していても良い。
【００４０】
〔低屈折率層〕
次に、低屈折率層について説明する。低屈折率層は、高屈折率層よりも屈折率の低い層であって、高屈折率層との有意な屈折率及び膜厚の相対関係により反射防止効果及び耐指紋性（指紋を見え難くする効果）を発現させる層であり、高屈折率層と共に反射防止層及び耐指紋層を構成する層である。低屈折率層の屈折率は、１．３６〜１．４２の範囲である。該屈折率が１．３６未満の場合には十分に硬い層を形成することが困難であり、屈折率が１．４２を超える場合には、高屈折率層との屈折率差が小さ過ぎて高屈折率層と低屈折率層との界面での反射が弱くなり、反射防止性能及び耐指紋性が十分に発揮されない場合がある。
【００４１】
また、低屈折率層の膜厚は７０〜１００ｎｍである。低屈折率層の膜厚が７０ｎｍ未満の場合や１００ｎｍを超える場合は高屈折率層との干渉バランスが崩れ、反射率、反射彩度Ｃ、及び皮脂汚れが付着した際の反射色差ΔＥの上昇を引き起こしてしまい、十分な反射防止性や耐指紋性が得られなくなる。
【００４２】
＜低屈折率層形成用組成物＞
低屈折率層は、低屈折率層形成用組成物からなる塗布液を高屈折率層上に塗布した後、紫外線照射により硬化することで形成される。その塗布方法や硬化条件、及び粘度調整用の希釈溶媒は、ハードコート層や高屈折率層と同様であればよい。低屈折率層形成用組成物は、紫外線硬化型樹脂と中空シリカ微粒子と光重合開始剤とを含有する。
【００４３】
低屈折率層を形成する紫外線硬化型樹脂としては、多官能（メタ）アクリレートであれば、その種類は特に制限されない。この種のフィルムにおいて低屈折率層を形成する樹脂としては、一般的には多官能（メタ）アクリレートのほかにγ―アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の反応性珪素化合物等を出発原料とするものも用いられるが、生産性及び硬度を両立させる観点より、紫外線硬化性の多官能（メタ）アクリレートを主成分として含む組成物が好ましい。
【００４４】
多官能（メタ）アクリレートとしては特に制限されず、例えばジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ビス（３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ヘキサン等の多官能アルコールの（メタ）アクリル誘導体や、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート及びポリウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４５】
また、多官能（メタ）アクリレートは、含フッ素モノマーであってもよい。フッ素原子がフッ化メチレン基又はフッ化メチン基として分子中に導入された構造を有する含フッ素モノマーは、フッ素原子のほぼ全量がフッ化メチレン基又はフッ化メチン基として分子中に導入されたモノマーであり、多官能モノマーである限り、公知の全てのモノマーが使用可能である。すなわち、２個以上（多官能）のモノマーのいずれであってもよく、それらの混合物であってもよい。これらの含フッ素化合物は、硬化皮膜の強度及び硬度を高めることができ、硬化皮膜表面の耐擦傷性及び耐摩耗性を向上させることができる。含フッ素化合物の中では、架橋構造を形成でき、硬化皮膜の強度や硬度が高い点から、含フッ素多官能（メタ）アクリレートが好ましい。
【００４６】
中空シリカ微粒子は、シリカ（二酸化珪素、ＳｉＯ２）がほぼ球状に形成され、その外殻内に中空部を有する微粒子である。その平均粒子径は１０〜１００ｎｍ、外殻の厚みは１〜６０ｎｍ程度、中空部の空隙率は４０〜４５％であり、屈折率は１．２０〜１．２９という低い屈折率である。中空部に屈折率が１．０の空気を含んでいることから、多官能（メタ）アクリレートの硬化により形成される硬化皮膜について低屈折率化及び低反射率化を図ることができると共に、シリカ微粒子という無機微粒子により硬化皮膜の耐擦傷性及び耐摩耗性を向上させることもできる。中空部の空隙率が４０％未満の場合には、中空部の空気量が少なくなり、硬化皮膜の低屈折率化及び低反射率化を図ることができなくなる。その一方、中空部の空隙率が４５％を超える場合には、空隙率を大きくするために外殻を薄くする必要があり、その製造が困難になる。
【００４７】
また、中空シリカ微粒子は、必要に応じてシランカップリング剤によって変性することが好ましい。これにより、従来の一般的な（非変性の）シリカ微粒子又は中空シリカ微粒子にはない優れた効果、すなわち多官能（メタ）アクリレートとの相溶性に優れるという効果を発現することができる。このため、変性中空シリカ微粒子を多官能（メタ）アクリレートと混合した場合、変性中空シリカ微粒子の凝集を抑制することができ、白化がなく、透明性に優れた硬化皮膜を得ることができる。さらに硬化皮膜中では、シランカップリング剤の重合性二重結合と多官能（メタ）アクリレートの重合性二重結合とが共重合（化学結合）して強固な硬化皮膜となるため、硬化皮膜の耐擦傷性及び耐摩耗性を飛躍的に向上させることができる。
【００４８】
この場合、変性による効果を高めるため、中空シリカ微粒子は下記の化学式（１）で示される重合性二重結合を有するシランカップリング剤によって変性することがより好ましい。
Ｚ−Ｒ１−Ｓｉ（ＯＲ２）３  ・・・（１）
〔式中、Ｚは（メタ）アクリロイルオキシ基であり、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキレン基であり、Ｒ２は水素原子、メチル基又はエチル基である。〕
【００４９】
変性中空シリカ微粒子についてさらに説明すると、変性中空シリカ微粒子は、平均粒子径５〜１００ｎｍ、比表面積５０〜１０００ｍ２／ｇである中空シリカ微粒子の表面をシランカップリング剤によって表面処理することにより製造される。具体的には、中空シリカ微粒子表面のシラノール基とシランカップリング剤との加水分解反応により、中空シリカ微粒子表面にオルガノシリル基（モノオルガノシリル基、ジオルガノシリル基又はトリオルガノシリル基）が結合すると共に、その表面に多数の珪素原子に直接結合した有機基を有する。
【００５０】
低屈折率層の屈折率は、ベース樹脂である紫外線硬化型樹脂と中空シリカ微粒子の配合割合を適宜調整することで設定できる。具体的には、中空シリカ微粒子の含有量は、紫外線硬化型樹脂との合計１００質量部に対して、好ましくは３０〜８０質量部である。この含有量が３０質量部を下回る場合には、中空シリカ微粒子の含有量が少なく、得られる硬化皮膜の低屈折率化及び低反射率化を図ることができなくなる。一方、８０質量部を上回る場合には、過剰の中空シリカ微粒子が紫外線硬化型樹脂と反応できず、中空シリカ微粒子が残存し、かえって硬化皮膜表面の耐擦傷性及び耐摩耗性に欠ける。変性中空シリカ微粒子を使用する場合、当該変性中空シリカ微粒子のシランカップリング剤に含まれる（メタ）アクリロイルオキシ基と、多官能（メタ）アクリレートの重合性二重結合とが共重合して結合される結果、変性中空シリカ微粒子の機能と多官能（メタ）アクリレートの機能とが相乗的に、かつ持続して発現される。
【００５１】
光重合開始剤としては、ハードコート層や高屈折率層で使用する重合開始剤と同種のものを使用できる。光重合開始剤の含有量は、低屈折率層形成用組成物中に、０．１〜２０質量％であることが好ましい。光重合開始剤の含有量が０．１質量％未満の場合には低屈折率層用塗布液の重合硬化が不十分となり、２０質量％を超える場合には重合硬化後の硬化皮膜の屈折率が上昇するため好ましくない。紫外線照射の条件は、ハードコート層や高屈折率層と同じでよい。
【００５２】
（防汚剤）
なお、低屈折率層には防汚性（指紋を付着し難くし、且つ拭き取り易くする効果）を付与して耐指紋性を向上させることもできる。防汚剤としては、公知のポリシロキサン系あるいはフッ素系の防汚剤を適宜添加することが好ましい。ポリシロキサン系化合物の好ましい例としては、例えばアクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ジメチルシロキサン、アクリル基を有するポリエステル変性ジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサン、などが挙げられる。
【００５３】
一方、防汚剤として用いられるフッ素系化合物は、低屈折率層との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あっても良い。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物は、フッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。
【００５４】
低屈折率層形成用組成物中には、必要に応じて、表面調整剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、紫外線安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、消泡剤等の従来公知の添加物を、本発明の効果を損なわない範囲で含有していても良い。
【００５５】
《耐指紋性反射防止フィルムを用いた樹脂成型品》
本実施形態の樹脂成形品は、インサート成型融着法にて、樹脂を成型すると同時に、その樹脂成形品の表面に耐指紋性反射防止フィルムを一体化して得られる。例えば、耐指紋性反射防止フィルムを射出成型金型内のキャビティに保持し、溶融した樹脂を金型内に注入することで、表面に耐指紋性反射防止フィルムが一体化された樹脂成形品を得ることができる。
【実施例】
【００５６】
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はそれら実施例の範囲に限定されるものではない。なお、各製造例で調製したハードコート層形成用組成物、高屈折率層形成用組成物及び低屈折率層形成用組成物を硬化して得られる各層の屈折率は、以下のように測定した。
【００５７】
［各層の屈折率］
（１）屈折率１．４９のアクリル樹脂板（「デラグラスＡ」、旭化成ケミカルズ（株）製）上に、ディップコーター（（株）杉山元医理器製）により、各層形成用組成物（塗液）をそれぞれ乾燥膜厚で光学膜厚が５５０ｎｍ程度になるように層の厚みを調整して塗布した。
（２）溶媒乾燥後、必要に応じて紫外線照射装置（岩崎電気（株）製）により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて、４００ｍＪの紫外線を照射して各塗液を硬化させた。
（３）アクリル樹脂板裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計（「Ｕ−Ｂｅｓｔ  Ｖ５６０」、日本分光（株）製）により、光の波長４００〜６５０ｎｍにおける５°、−５°正反射率を測定し、その反射率の極小値又は極大値を読み取った。
（４）反射率の極値より以下の式を用いて屈折率を計算した。
【数１】
0006369187.tif 000002
【００５８】
〔ハードコート層形成用組成物〕
ハードコート層形成用組成物として、次の原料を使用し、各原料を下記表１に記載した組成にて混合し、ハードコート層形成用組成物ＨＣ１を調製した。ハードコート層形成用組成物の各原料は、以下の通りである。
アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィン（ａ）：下記製造例１で合成した水酸基含有メタクリレート変性無水マレイン酸グラフト化ポリオレフィン
紫外線硬化型樹脂（ｂ）：
（ｂ−１）；ダイセル・サイテック（株）製「ＥＢＥＣＲＹＬ８４０２」
（ｂ−２）；日本化薬（株）製「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−２０」
（ｂ−３）；共栄社化学（株）製「ライトアクリレート１．９ＮＤ−Ａ」
光重合開始剤（ｃ）：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（Ｉ−１８４）」
【００５９】
〔製造例１：アクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィンの合成〕
高分子ポリオレフィン（プロピレンと１−ブテンとの共重合体：三井化学社製「タフマーＸＲ１１０Ｔ」）を攪拌機および温度計を備えた反応容器に入れ、３６０℃まで昇温して溶融させ、窒素気流下で８０分間加熱することにより、熱減成による低分子ポリオレフィンを得た。
【００６０】
次に、攪拌機、温度計および冷却管を備えた反応容器に、前記低分子ポリオレフィン１６０部を入れ、窒素気流下で１８０℃まで昇温して溶融させたのち、無水マレイン酸２５部と１−ドデセン２０部を加え、均一に混合した。次いで、あらかじめ調製したキシレン２０部にジクミルパーオキサイド１部を溶解させた溶液を１８０℃を維持しながら２時間かけて滴下し、滴下後さらに１８０℃で２時間攪拌し、無水マレイン酸のグラフト化反応を行なった。その後、減圧下でキシレンおよび１−ドデセンを留去して、無水マレイン酸グラフト化ポリオレフィンを得た。
【００６１】
次に、攪拌機、温度計および冷却管を備えた反応容器に、前記無水マレイン酸グラフト化ポリオレフィン４５０部を入れ、窒素気流下で１０５℃まで昇温し、該温度を維持するようにしながらトルエン３００部を攪拌下で徐々に滴下した。次いで、水酸基含有メタクリレート（ダイセル化学工業社製「プラクセルＦＭ４：CH2=C(CH3)COO(CH2)2O[CO(CH2)5O]nH」）１３５部を添加し、攪拌しながら同温度で３時間反応させたのち、冷却し、水酸基含有メタクリレート変性無水マレイン酸グラフト化ポリオレフィンの溶液を得た。得られた溶液の固形分濃度は６６．１％であった。
【００６２】
【表１】
0006369187.tif 000003
【００６３】
（高屈折率層形成用組成物Ｈ−１の調製）
アンチモン酸亜鉛微粒子分散液（日産化学工業（株）製、セルナックスＣＸ−６０３Ｍ−Ｆ２）を固形分換算で７０質量部、ウレタンアクリレート（分子量１４００、６０℃における粘度が２５００〜４５００Ｐａ・ｓ、日本合成化学工業（株）製、紫光ＵＶ７６００Ｂ）２５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）を５質量部、及びイソプロピルアルコール５００質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物（含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液）を得た。Ｈ−１の屈折率は１．５８であった。
【００６４】
（高屈折率層形成用組成物Ｈ−２の調製）
酸化チタン微粒子３７質量部、ウレタンアクリレート（分子量１４００、６０℃における粘度が２５００〜４５００Ｐａ・ｓ、日本合成化学工業（株）製、紫光ＵＶ７６００Ｂ）５８質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）を５質量部、及びイソプロピルアルコール５００質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物（含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液）を得た。Ｈ−２の屈折率は１．６５であった。
【００６５】
（高屈折率層形成用組成物Ｈ−３の調製）
ウレタンアクリレート（分子量１４００、６０℃における粘度が２５００〜４５００Ｐａ・ｓ、日本合成化学工業（株）製、紫光ＵＶ７６００Ｂ）９５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）を５質量部、及びイソプロピルアルコール５００質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物（含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液）を得た。Ｈ−３の屈折率は１．５０であった。
【００６６】
（高屈折率層形成用組成物Ｈ−４の調製）
酸化チタン微粒子４０質量部、ウレタンアクリレート（分子量１４００、６０℃における粘度が２５００〜４５００Ｐａ・ｓ、日本合成化学工業（株）製、紫光ＵＶ７６００Ｂ）５５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）を５質量部、及びイソプロピルアルコール５００質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物（含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液）を得た。Ｈ−４の屈折率は１．６６であった。
【００６７】
（高屈折率層形成用組成物Ｈ−５の調製）
粒子径が６０ｎｍの中空シリカ微粒子１０質量部、ウレタンアクリレート（分子量１４００、６０℃における粘度が２５００〜４５００Ｐａ・ｓ、日本合成化学工業（株）製、紫光ＵＶ７６００Ｂ）８５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア１８４）を５質量部、及びイソプロピルアルコール５００質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物（含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液）を得た。Ｈ−５の屈折率は１．４９であった。
【００６８】
（低屈折率層用組成物Ｌ−１の調製）
粒子径が６０ｎｍの中空シリカ微粒子４０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、商品名「ＤＰＨＡ」）６０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７）５質量部、シリコン添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫＵＶ−３５７０）８質量部、シリコン添加剤（信越化学工業（株）製、ＴＩＣ２４５７）５質量部、アルミナ添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＮＡＮＯＢＹＫＵＶ-３６０１）０．５質量部、及びイソプロピルアルコール２０００質量部を混合し、低屈折率層用組成物（含シリカ硬化性塗布液）を得た。Ｌ−１の屈折率は１．３９であった。
【００６９】
（低屈折率層用組成物Ｌ−２の調製）
粒子径が６０ｎｍの中空シリカ微粒子３０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、商品名「ＤＰＨＡ」）７０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７）５質量部、シリコン添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫＵＶ−３５７０）８質量部、シリコン添加剤（信越化学工業（株）製、ＴＩＣ２４５７）５質量部、アルミナ添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＮＡＮＯＢＹＫＵＶ-３６０１）０．５質量部、及びイソプロピルアルコール２０００質量部を混合し、低屈折率層用組成物（含シリカ硬化性塗布液）を得た。Ｌ−２の屈折率は１．４２であった。
【００７０】
（低屈折率層用組成物Ｌ−３の調製）
粒子径が６０ｎｍの中空シリカ微粒子６０質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、商品名「ＤＰＨＡ」）４０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７）５質量部、シリコン添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫＵＶ−３５７０）８質量部、シリコン添加剤（信越化学工業（株）製、ＴＩＣ２４５７）５質量部、アルミナ添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＮＡＮＯＢＹＫＵＶ-３６０１）０．５質量部、及びイソプロピルアルコール２０００質量部を混合し、低屈折率層用組成物（含シリカ硬化性塗布液）を得た。Ｌ−３の屈折率は１．３６であった。
【００７１】
（低屈折率層用組成物Ｌ−４の調製）
粒子径が６０ｎｍの中空シリカ微粒子６５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、商品名「ＤＰＨＡ」）３５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７）５質量部、シリコン添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫＵＶ−３５７０）８質量部、シリコン添加剤（信越化学工業（株）製、ＴＩＣ２４５７）５質量部、アルミナ添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＮＡＮＯＢＹＫＵＶ-３６０１）０．５質量部、及びイソプロピルアルコール２０００質量部を混合し、低屈折率層用組成物（含シリカ硬化性塗布液）を得た。Ｌ−４の屈折率は１．４３であった。
【００７２】
（低屈折率層用組成物Ｌ−５の調製）
粒子径が６０ｎｍの中空シリカ微粒子２５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、商品名「ＤＰＨＡ」）７５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７）５質量部、シリコン添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫＵＶ−３５７０）８質量部、シリコン添加剤（信越化学工業（株）製、ＴＩＣ２４５７）５質量部、アルミナ添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＮＡＮＯＢＹＫＵＶ-３６０１）０．５質量部、を及びイソプロピルアルコール２０００質量部を混合し、低屈折率層用組成物（含シリカ硬化性塗布液）を得た。Ｌ−５の屈折率は１．３５であった。
【００７３】
（低屈折率層用組成物Ｌ−６の調製）
粒子径が６０ｎｍの中空シリカ微粒子５５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製、商品名「ＤＰＨＡ」）４５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製、イルガキュア９０７）５質量部、シリコン添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＢＹＫＵＶ−３５７０）８質量部、含フッ素アクリル化合物（信越化学工業（株）製、ＫＹ１２０３）１０質量部、アルミナ添加剤（ビックケミー・ジャパン（株）製、ＮＡＮＯＢＹＫＵＶ-３６０１）０．５質量部、及びイソプロピルアルコール２０００質量部を混合し、低屈折率層用組成物（含シリカ硬化性塗布液）を得た。Ｌ−６の屈折率は１．３９であった。
【００７４】
＜実施例１−１＞
厚さ１８８μｍのポリカーボネート層とポリメチルメタクリレート層との２層構造からなるフィルム（ＰＣ／ＰＭＭＡ）：住友化学株式会社製「Ｃ００１」のＰＭＭＡ層上に、ハードコート層形成用組成物（ＨＣ−１）をロールコーターにて乾燥膜厚が７μｍとなるように塗布し、８０℃で２分間乾燥した。その後、窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯（日本電池（株）製）により紫外線を照射し（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２）、ハードコート層形成用組成物を硬化させてハードコート層を形成した。  
【００７５】
次いで、このハードコート層上に高屈折率層形成用組成物Ｈ−１を、乾燥時の厚さが１５０ｎｍとなるように塗布した後、窒素雰囲気下で紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、１２０Ｗ高圧水銀灯）を用いて３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、高屈折率層形成用組成物を硬化させて高屈折率層を形成した。
【００７６】
最後に、この高屈折率層上に上記低屈折率層用組成物Ｌ−１を乾燥時の厚さが９０ｎｍとなるように塗布した後、窒素雰囲気下で紫外線照射装置（アイグラフィックス社製、１２０Ｗ高圧水銀灯）を用いて３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、低屈折率層用組成物を硬化させて低屈折率層を形成し、インサート成型用耐指紋性反射防止フィルムを作製した。
【００７７】
続いて、得られた耐指紋性反射防止フィルムを、熱可塑性透明基材フィルムにおけるポリカーボネート層側が溶融樹脂と接するように射出成型金型内のキャビティに保持し、３６０℃程度の温度で溶融させたポリカーボネート樹脂（成形品本体用）を、２９４００ｋＰａの圧力にて金型内に注入し、放冷して、樹脂成型品を得た。すなわち、成型と同時に融着するインサート成型融着法にて耐指紋性反射防止フィルムの融着を行うことで、表面に耐指紋性反射防止フィルムを備える樹脂成型品を作製した。
【００７８】
＜実施例１−２＞
低屈折率層の膜厚を７０ｎｍにする以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００７９】
＜実施例１−３＞
低屈折率層の膜厚を８０ｎｍにする以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００８０】
＜実施例１−４＞
低屈折率層の膜厚を１００ｎｍにする以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００８１】
＜実施例１−５＞
高屈折率層の膜厚を１３０ｎｍにする以外は、実施例１−２と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００８２】
＜実施例１−６＞
高屈折率層の膜厚を１８０ｎｍにする以外は、実施例１−４と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００８３】
＜実施例１−７＞
低屈折率層用組成物Ｌ−２を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００８４】
＜実施例１−８＞
低屈折率層用組成物Ｌ−３を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００８５】
＜実施例１−９＞
高屈折率層用組成物Ｈ−２を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００８６】
＜実施例１−１０＞
高屈折率層用組成物Ｈ−３を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００８７】
＜実施例１−１１＞
熱可塑性透明基材フィルムにポリカーボネートフィルム（ＰＣ）：住友化学（株）製「Ｃ００８」を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００８８】
＜実施例１−１２＞
熱可塑性透明基材フィルムにポリメチルメタクリレートフィルム（ＰＭＭＡ）：住友化学株式会社製「Ｓ０１４Ｇ」を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００８９】
＜実施例２−１＞
低屈折率層用組成物Ｌ−６を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【００９０】
＜実施例３−１＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【００９１】
＜実施例３−２＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−２と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【００９２】
＜実施例３−３＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−３と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【００９３】
＜実施例３−４＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−４と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【００９４】
＜実施例３−５＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−５と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【００９５】
＜実施例３−６＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−６と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【００９６】
＜実施例３−７＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−７と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【００９７】
＜実施例３−８＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−８と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【００９８】
＜実施例３−９＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−９と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【００９９】
＜実施例３−１０＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−１０と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【０１００】
＜実施例３−１１＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−１１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【０１０１】
＜実施例３−１２＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例１−１２と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【０１０２】
＜実施例３−１３＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−３を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【０１０３】
＜実施例３−１４＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−４を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【０１０４】
＜実施例２−２＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、実施例２−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
【０１０５】
＜比較例１−１＞
低屈折率層の膜厚を６０ｎｍにする以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【０１０６】
＜比較例１−２＞
低屈折率層の膜厚を１１０ｎｍにする以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【０１０７】
＜比較例１−３＞
高屈折率層の膜厚を１２０ｎｍにする以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【０１０８】
＜比較例１−４＞
高屈折率層の膜厚を１９０ｎｍにする以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【０１０９】
＜比較例１−５＞
低屈折率層用組成物Ｌ−４を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【０１１０】
＜比較例１−６＞
低屈折率層用組成物Ｌ−５を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【０１１１】
＜比較例１−７＞
高屈折率層用組成物Ｈ−４を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【０１１２】
＜比較例１−８＞
高屈折率層用組成物Ｈ−５を使用する以外は、実施例１−１と同様の方法インサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。  
【０１１３】
＜比較例１−９＞
透明基材フィルムにＰＥＴを使用する以外は、実施例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【０１１４】
＜比較例１−１０＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、比較例１−１と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【０１１５】
＜比較例１−１１＞
ハードコート層形成用組成物ＨＣ−２を使用する以外は、比較例１−４と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
【０１１６】
作製した各インサート成型用耐指紋性反射防止フィルムについて、各種物性を下記の方法にて評価を行った。その結果を、各実施例及び比較例の構成と共に、表２〜４に示す。なお、表２〜４において「Ｌ層」は低屈折率層を、「Ｌ組成物」は低屈折率層形成用組成物の種類を、「Ｈ層」は高屈折率層を、「Ｈ組成物」は高屈折率層形成用組成物の種類を、「ＨＣ層」はハードコート層を、「ＨＣ組成物」はハードコート層形成用組成物の種類を、それぞれ意味する。
【０１１７】
［視感度反射率］
測定面の裏面反射を除くため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計（大塚電子（株）製、商品名：ＦＥ３０００）により、光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。得られる３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ  Ｚ８７０１で想定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の三刺激値Ｙを視感度反射率（％）とした。
【０１１８】
［反射彩度Ｃ］
視感度反射率で測定した光の波長３８０〜７８０ｎｍの分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳＺ８７２９に規定される色空間ＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*表色系を計算し、求めたa*、b*値からＣab*＝｛（ａ*）２＋（ｂ*）２｝１／２を計算した。
【０１１９】
［反射色差ΔＥ］
視感度反射率で測定した光の波長３８０〜７８０ｎｍの分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳＺ８７２９に規定される色空間ＣＩＥ１９７６Ｌ*ａ*ｂ*表色系を計算し、ＪＩＳ Ｚ８７３０に規定されるΔＥ*a* b*＝｛（ΔL*）２＋（Δａ*）２＋（Δｂ*）２｝１／２を計算した。
【０１２０】
[反射防止性]
視感度反射率が２．０％以下の場合を○、２．０％より高い場合を×とした。
【０１２１】
［指紋の見え具合］
インサート成型用耐指紋性反射防止フィルムに指紋を付着させ、成分付着前後の外観変化を評価した。比較対象としてガラス板（日本板硝子（株）製ＦＬ２．０）を使用し、ガラス板に指紋が付着した場合よりも、指紋が見え難いものを○、さらに見え難いものを◎、同程度のものを×とした。
【０１２２】
［指紋拭き取り性］
試験片に指紋の見え具合試験と同様の指紋を付着させ、ネル布(白ネル・金塊グレード)を使用して５００ｇｆ／ｃｍ２荷重で３０往復摩擦して指紋を拭き取った。その後、指紋が見えなかったものを○、指紋が見えたものを×とした。  
【０１２３】
［成型性］
得られた各樹脂成型品について、ＪＩＳ  Ｄ０２０２−１９９８に準拠して碁盤目剥離テープ試験を行った。判定は１００マスのうち、剥離が全く生じていない（０マス）ものを◎、剥離が殆ど生じていない（１〜５マス）ものを○、剥離が生じた（６マス以上）ものを×とした。
【０１２４】
【表２】
0006369187.tif 000004
【０１２５】
【表３】
0006369187.tif 000005
【０１２６】
【表４】
0006369187.tif 000006
【０１２７】
実施例１−１〜１−１２では、十分な反射防止機能が得られ、かつ、指紋が見え難く、指紋の拭き取り性が良好であり、成型性も良好であった。また、ハードコート層にアクリル変性不飽和ジカルボン酸（無水物）グラフト化ポリオレフィンを含む実施例３−１〜３−１４では、密着性が向上していることで成形性に優れていた。さらに、実施例２−１〜２−２では、防汚剤の効果により実施例１や実施例３シリーズのインサート成型用耐指紋性反射防止フィルムよりも指紋の見え難さ、指紋の拭き取り性が優れていた。
【０１２８】
これに対し、比較例１−１および１−５、１−１０では指紋が見え難く、指紋の拭き取り性が良かったものの、反射率が高くなってしまった。また比較例１−２、１−３、１−７では彩度が高くなってしまったため指紋が着色して目立ってしまう結果となった。また、比較例１−４、１−６、１−８、１−１１ではΔＥが高くなってしまったため指紋拭き取り性試験後にも指紋が見える結果となった。比較例１−９では透明基材にＰＥＴを使用しているため成型性が不十分であった。