(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化アルミニウムおよび酸素を含むドーパントを含むハードマスクであって、前記ハードマスクの応力は、前記ハードマスクが配置された構造の応力を補償するように調整され、ドープされた窒化アルミニウムのハードマスクは、多結晶であるハードマスク。
【請求項２】
前記ハードマスクが、更に、シリコン、フッ素、炭素、およびこれらの組合せからなる群から選択される１又は複数のドーパントを含む、請求項１に記載のハードマスク。
【請求項３】
前記酸素が最高２５原子パーセントの量で存在する、請求項１に記載のハードマスク。
【請求項４】
前記ハードマスクが、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクのハードマスクに対する［０００２］ピークより小さい［０００２］ピークを有する、請求項３に記載のハードマスク。
【請求項５】
前記ハードマスクが、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクの粒径より小さい粒径を有し、前記ドープされた窒化アルミニウムのハードマスクの［０００２］ピークが、前記ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクの［０００２］ピークの寸法の１／１０である、請求項４に記載のハードマスク。
【請求項６】
ハードマスクを作製する方法であって、
不活性ガス、窒素含有ガス、および酸素含有ガスを含有する雰囲気中でアルミニウムターゲットをスパッタリングして、酸素でドープされた多結晶の窒化アルミニウム材料を堆積させるステップであって、窒素含有ガスの量が酸素含有ガスの量の２倍より大きい、堆積させるステップと、
前記酸素でドープされた多結晶の窒化アルミニウム材料をパターニングして前記ハードマスクを形成するステップとを含む、方法。
【請求項７】
前記窒素含有ガスがＮ2を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記酸素含有ガスがＯ2を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
不活性ガスとＮ2の比が１：１〜１：２０であり、Ｎ2とＯ2の比が１００：１〜２０：１である、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
摂氏２５度〜摂氏５００度の温度でスパッタリングが行われ、１ミリトル〜１００ミリトルのチャンバ圧力で前記スパッタリングが行われる、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
前記スパッタリングが、ＤＣスパッタリングまたはパルスＤＣスパッタリングである、請求項６に記載の方法。
【請求項１２】
ハードマスクを作製する方法であって、
不活性ガス、窒素含有ガス、および酸素含有ガスを含有する雰囲気中で窒化アルミニウムターゲットをスパッタリングして、酸素でドープされた多結晶の窒化アルミニウム材料を形成するステップであって、窒素含有ガスの量が酸素含有ガスの量の２倍より大きい、形成するステップと、
前記酸素でドープされた多結晶の窒化アルミニウム材料をパターニングして前記ハードマスクを形成するステップとを含む、方法。
【請求項１３】
前記スパッタリングがＲＦスパッタリングである、請求項１２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、一般に、ドープされた窒化アルミニウムのハードマスク、およびドープされた窒化アルミニウムのハードマスクを作製する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの寸法が引き続き縮小するにつれて、そのような小さいデバイスを形成するために必要とされる精密さも増大している。半導体チップだけでなく、さらに電気相互接続を形成する個々の特徴の寸法を縮小することは、ますます困難になってきた。
半導体チップを製造するには、多数のプロセスが実行される。パターニングは、それらのプロセスの１つである。パターニングプロセスでは、パターニングすべき１つまたは複数の層の上に、ハードマスクなどのマスクが形成される。その後、このハードマスクを利用して、１つまたは複数の下層がエッチング剤に露出され、その結果、露出された材料（すなわち、ハードマスクまたはフォトマスクによって覆われていない材料）が除去され、ハードマスクのパターンが１つまたは複数の下層に転写される。
理想的なエッチングプロセスでは、露出された材料はエッチングされるが、ハードマスクはエッチングされない。言い換えれば、ハードマスクは、エッチング剤に対して理論上は不活性である。エッチング剤は、液体のエッチング剤または気体のエッチング剤の形態をとることができる。ハードマスクがエッチング剤に対して不活性である場合、ハードマスクの特徴は、１つまたは複数の下層に非常にうまく転写することができる。
しかし当然ながら、化学的に不活性のハードマスクを実際に製造することはできない。したがって、ハードマスクはある程度エッチングされることが予期される。ハードマスクがエッチングされると、パターン転写の精密さは損なわれる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
したがって、ハードマスクからのパターンを下層に転写するために利用されるエッチングプロセスに対して化学的により不活性のハードマスクが、当技術分野で必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、概して、ドープされた窒化アルミニウムのハードマスク、およびドープされた窒化アルミニウムのハードマスクを作製する方法に関する。窒化アルミニウムのハードマスクを形成するとき、酸素などの少量のドーパントを添加することによって、ハードマスクの湿式エッチング速度を著しく低減させることができる。さらに、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクと比較すると、ドーパントの存在のため、ハードマスクの粒径が低減される。粒径が低減されることで、ハードマスク内の特徴がより平滑になり、このハードマスクを利用すると、下層がより精密にエッチングされる。
一実施形態では、ハードマスクは、窒化アルミニウムおよびドーパントを含む。別の実施形態では、ハードマスクを作製する方法は、不活性ガス、窒素含有ガス、および酸素含有ガスを含有する雰囲気中でアルミニウムターゲットをスパッタリングして、酸素でドープされた窒化アルミニウム材料を形成するステップを含み、窒素含有ガスの量は、酸素含有ガスの量の２倍より大きい。この方法は、酸素でドープされた窒化アルミニウム材料をパターニングしてハードマスクを形成するステップをさらに含む。
別の実施形態では、ハードマスクを作製する方法は、不活性ガス、窒素含有ガス、および酸素含有ガスを含有する雰囲気中で窒化アルミニウムターゲットをスパッタリングして、酸素でドープされた窒化アルミニウム材料を形成するステップを含み、窒素含有ガスの量は、酸素含有ガスの量の２倍より大きい。この方法は、酸素でドープされた窒化アルミニウム材料をパターニングしてハードマスクを形成するステップをさらに含む。
本発明の上記の特徴を詳細に理解できるように、上記で簡単に要約した本発明のより詳細な説明は、実施形態を参照することによって得ることができる。これらの実施形態のいくつかを、添付の図面に示す。しかし、本発明は他の等しく有効な実施形態も許容しうるため、添付の図面は本発明の典型的な実施形態のみを示しており、したがって本発明の範囲を限定すると見なすべきではないことに留意されたい。
【図面の簡単な説明】
【０００５】
【図１】一実施形態による物理的気相堆積（ＰＶＤ）装置の概略横断面図である。
【図２】層の上に形成されたハードマスクの概略横断面図である。
【図３Ａ】ドープされていない窒化アルミニウム膜および酸素でドープされた窒化アルミニウム膜の粒子構造をそれぞれ示す図である。
【図３Ｂ】ドープされていない窒化アルミニウム膜および酸素でドープされた窒化アルミニウム膜の粒子構造をそれぞれ示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００６】
理解を容易にするために、可能な場合、複数の図に共通の同一の要素を指すのに同一の参照番号を使用した。一実施形態で開示する要素は、特定の記述がなくても、他の実施形態で有益に利用することができることが企図される。
本発明は、概して、ドープされた窒化アルミニウムのハードマスク、およびドープされた窒化アルミニウムのハードマスクを作製する方法に関する。窒化アルミニウムのハードマスクを形成するとき、酸素などの少量のドーパントを添加することによって、ハードマスクの湿式エッチング速度を著しく低減させることができる。さらに、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクと比較すると、ドーパントの存在のため、ハードマスクの粒径が低減される。粒径が低減されることで、ハードマスク内の特徴がより平滑になり、このハードマスクを利用すると、下層がより精密にエッチングされる。
【０００７】
図１は、一実施形態によるＰＶＤ装置１００の概略横断面図である。装置１００は、チャンバ本体１０２を含む。ガス源１０４からチャンバ本体１０２へ、ガスが供給される。チャンバ本体１０２内で基板１１４の反対側に、スパッタリングターゲット１０８が配置される。スパッタリングターゲット１０８は、バッキング板１０６に接合される。電源１１０からバッキング板１０６へ、バイアスが印加される。基板１１４は、基板支持体１１２上に配置される。基板支持体１１２には、電力供給１１６によってバイアスをかけることができる。基板支持体１１２は、電気的に浮動した状態とすることができ、または接地に直接結合することができることを理解されたい。電源１１０は、ＤＣ電源、パルスＤＣ電源、ＡＣ電源、またはＲＦ電源を備えることができる。バッキング板１０６は、導電性である。
上記で論じたように、本明細書に開示する実施形態は、ハードマスク、およびハードマスクを形成する方法に関する。図２は、層２０２の上に形成されたハードマスク２０４の概略横断面図である。ハードマスク２０４は、特徴２０６が形成されて層２０２の一部分２０８を露出させるようにパターニングされている。一実施形態では、層２０２は、タングステンを含むことができる。別の実施形態では、層２０２は、多結晶シリコンを含むことができる。ハードマスク２０４は、ドープされた窒化アルミニウムを含む。ドーパントは、酸素、シリコン、フッ素、炭素、およびこれらの組合せからなる群から選択された１つまたは複数のドーパントを含むことができる。ハードマスク２０４は、最高２５原子パーセントの量でドーパントを含むことができる。
【０００８】
ドーパントには、いくつかの利益がある。ドーパントが酸素であるとき、酸素は、ハードマスク２０４の応力を制御することができる。ドーパントとして作用する酸素がないとき、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクは、約４００ＭＰａの引っ張り応力を有するはずである。しかし、酸素は、非常に低い引っ張り応力またはさらに圧縮応力まで、この応力を著しく低減させることができる。一実施形態では、応力レベルはほぼ０であり、その結果、ハードマスク２０４内には実質上応力がなくなる。ハードマスク２０４の応力は、すべての下層の残留応力を補償する。したがって、ハードマスク２０４の応力は、ハードマスク２０４が配置された構造の応力を補償するように調整することができる。
【０００９】
さらに、酸素ドーパントは、その結果得られるハードマスク２０４の粒径を低減させる。具体的には、酸素でドープされた窒化アルミニウムのハードマスクの粒径は、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクと比較すると、より小さい粒径を有する。ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクは、ＸＲＤ分析によって測定されるとき、［０００２］ピークを有する。しかし、酸素でドープされた窒化アルミニウムのハードマスクは、やはり［０００２］ピークを有するが、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクの［０００２］ピークの高さの約１／１０の［０００２］ピークを有する。さらに、酸素でドープされた窒化アルミニウムのハードマスクの密度は、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクの密度より小さい。
【００１０】
酸素ドーパントの存在のため、その結果得られるハードマスクは、より小さい粒径を有し（ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクと比較）、特徴２０６がより平滑になり、したがって下層２０２をエッチングするパターニングプロセス中、下層２０２はより急な角度でまっすぐにエッチングされる。さらに、酸素でドープされた窒化アルミニウムのハードマスクは、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクと比較すると、はるかに遅いエッチング速度を有する。具体的には、酸素でドープされた窒化アルミニウムのハードマスクは、希釈したＨＦ溶液（１００：１）中で毎分約４オングストロームの湿式エッチング速度を有するが、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクは、毎分約１８オングストロームの湿式エッチング速度を有する。したがって、一実施形態では、上記で論じたように、酸素などのドーパントを添加することによって完全に不活性のハードマスクは形成されないが、酸素などのドーパントを利用することによって、エッチング耐性がはるかに高いハードマスクが形成される。ハードマスクのエッチング耐性がより高いため、酸素でドープされた窒化アルミニウムのハードマスクは、エッチングプロセス中、その構造を維持し（ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクより良好に）、したがって下層２０２内の特徴がより明確に画定される。
【００１１】
酸素でドープされた窒化アルミニウムのハードマスクを形成する際、アルミニウムと酸素の接合がほとんどまたはまったく形成されないほど少量の酸素が利用される。ハードマスク２０４は、上に層２０２を含む基板１１４の反対側にアルミニウムターゲット１０８を提供することによって形成することができる。不活性ガス、窒素含有ガス、および酸素含有ガスはすべて、ガス源１０４からチャンバ本体１０２へ導入される。基板１１４が基板支持体１１２上で電気的に接地されているとき、電源１１０からバッキング板１０６へ電気バイアスが印加される。電源１１０は、スパッタリングターゲット１０８にＤＣ電気バイアスを印加して、チャンバ本体内にプラズマを生成し、ターゲット１０８からアルミニウム原子を放出する。アルミニウム原子は、窒素と反応して窒化アルミニウムを形成する。酸素は、アルミニウムと反応せず、したがって基板１１４上に形成された窒化アルミニウム層をドープする。一実施形態では、電源１１０がＲＦ電源を備えるとき、ターゲット１０８は窒化アルミニウムを含むことができる。一実施形態では、スパッタリングターゲットは、毒入りモードで動作することができ、それによってターゲットはアルミニウムを含むが、ターゲットの露出された表面上には窒化アルミニウム膜が形成される。したがって、スパッタリングプロセスの初めに、スパッタリングターゲットから窒化アルミニウムがスパッタリングされる。
【００１２】
一実施形態では、窒素含有ガスはＮ2を含み、酸素含有ガスはＯ2を含む。不活性ガスは、アルゴンを含むことができる。不活性ガスと窒素含有ガスの比は、約１：１〜約１：２０とすることができる。一実施形態では、不活性ガスと窒素含有ガスの比は、約１：５とすることができる。窒素含有ガスと酸素含有ガスの比は２：１より大きく、約１００：１〜約２０：１とすることができる。一実施形態では、窒素含有ガスと酸素含有ガスの比は、約５０：３とすることができる。
【００１３】
堆積された後、酸素でドープされたハードマスクは、最高約２５原子パーセントの酸素含有率を有することができる。一実施形態では、酸素含有率は、最高約１０原子パーセントとすることができる。チャンバ本体１０２は、約１ミリトル〜約１００ミリトルのチャンバ圧力および摂氏約２５度〜摂氏約５００度の基板支持体１１２の温度で維持することができる。電源１１０からスパッタリングターゲット１０８へ、約１ｋＷ〜約２０ｋＷの電力を供給することができる。その結果得られるドープされた窒化アルミニウムのハードマスクは、多結晶である。図３Ａおよび図３Ｂは、ドープされていない窒化アルミニウム膜および酸素でドープされた窒化アルミニウム膜に対する粒子構造をそれぞれ示す。図３Ｂに示すように、粒径は著しく低減される。
【００１４】
酸素などのドーパントを利用することによって、ドープされていない窒化アルミニウムのハードマスクと比較するとより遅いエッチング速度を有する窒化アルミニウムのハードマスクを製造することができる。さらに、ドープされた窒化アルミニウムのハードマスクは、より小さい粒径を有し、したがってパターニングされたときにはより平滑な表面を有する。したがって、ドープされた窒化アルミニウムのハードマスクは、化学的に不活性ではないが、パターニングプロセス中、より微細でより細密な特徴を下層内に形成することを可能にすることができる。
【００１５】
上記は本発明の実施形態を対象とするが、本発明の基本的な範囲から逸脱することなく、本発明の他のさらなる実施形態を考案することもでき、本発明の範囲は、特許請求の範囲によって決定される。
【図１】
0006272830.tif 000002
【図２】
0006272830.tif 000003
【図３Ａ】
0006272830.tif 000004
【図３Ｂ】
0006272830.tif 000005