(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ショットキーダイオードを製造する方法であって、
ａ）単結晶ダイヤモンドの半導体層(105) の表面を酸素で処理して、前記半導体層(105) の水素表面終端を酸素表面終端に置換する工程、及び
ｂ）前記半導体層(105) の表面に酸化インジウムスズの第１の導電層を物理蒸着によって形成する工程
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
ａ）の工程では、大気圧より低い圧力で酸素を含む筐体に前記半導体層(105) を置いて、前記半導体層(105) に紫外線を照射することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第１の導電層を、ｂ）の工程で酸化インジウムスズ対象のスパッタリングによって形成することを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
ｂ）の工程で、前記半導体層(105) 及び前記酸化インジウムスズ対象をアルゴンプラズマを含む筐体に置くことを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ｂ）の工程の後、100 〜300 ℃の範囲内の温度で酸化インジウムスズの前記第１の導電層の再結晶のアニールを行う工程を更に有することを特徴とする請求項３又は４に記載の方法。
【請求項６】
ｂ）の工程の後、前記第１の導電層の表面に少なくとも第２の導電層を成膜する工程を更に有し、
前記第１の導電層及び前記第２の導電層は共に前記ショットキーダイオードの電極(109) を形成することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
少なくとも１つの前記第２の導電層は金層を有していることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記半導体層(105) をＰ型ドープすることを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
同一の導電型であるが更に高濃度にドープされた単結晶ダイヤモンドの半導体層(103) 上に前記半導体層(105) をエピタキシーによって形成することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
更に高濃度にドープされた前記半導体層(103) とのオーミックコンタクトを構成する電極(107) を形成する工程を更に有することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
ｂ）の工程で形成された前記第１の導電層の厚さは20〜30nmの範囲内であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、単結晶ダイヤモンド基板の内部及び単結晶ダイヤモンド基板上における電子部品の形成に関する。本出願は、より具体的には単結晶ダイヤモンド半導体層と導電層との間にショットキーコンタクトを有するショットキーダイオードの形成を目的とする。
【背景技術】
【０００２】
ドープした単結晶ダイヤモンドを半導体材料として使用することによって電子部品、特にショットキーダイオードを形成する方法が文献に既に記載されている。ダイヤモンドは、特に高電力用途にとって特に魅力的な物理的特性及び電子的特性を確かに有している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第2012／091453号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、実際にはダイヤモンドショットキーダイオードの使用の主な制限として、今まで、公知の製造方法は産業的用途のために十分高く、安定して再現可能な電気的性能を有するダイオードを得ることができないという制限がある。
【０００５】
従って、実施形態の目的は、既知の方法の欠点の全て又は一部を克服する、ダイヤモンドショットキーダイオードを製造する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
従って、実施形態は、ショットキーダイオードを製造する方法であって、ａ）単結晶ダイヤモンドの半導体層の表面を酸素で処理して、前記半導体層の水素表面終端を酸素表面終端に置換する工程、及びｂ）前記半導体層の表面にジルコニウム又は酸化インジウムスズの第１の導電層を物理蒸着によって形成する工程を有することを特徴とする方法を提供する。
【０００７】
実施形態によれば、ａ）の工程では、大気圧より低い圧力で酸素を含む筐体に前記半導体層を置いて、前記半導体層に紫外線を照射する。
【０００８】
実施形態によれば、前記第１の導電層はジルコニウム層であり、ｂ）の工程で、電子ビームによるジルコニウムを含む対象の蒸発によって形成される。
【０００９】
実施形態によれば、ｂ）の工程で、前記半導体層及びジルコニウムを含む前記対象を大気圧より低い圧力で筐体に置く。
【００１０】
実施形態によれば、前記方法は、ｂ）の工程の後、300 〜500 ℃の範囲内の温度でジルコニウムの前記第１の導電層のアニールを行う工程を更に有する。
【００１１】
実施形態によれば、前記第１の導電層は酸化インジウムスズ層であり、ｂ）の工程で、酸化インジウムスズ対象のスパッタリングによって形成される。
【００１２】
実施形態によれば、ｂ）の工程で、前記半導体層及び前記酸化インジウムスズ対象をアルゴンプラズマを含む筐体に置く。
【００１３】
実施形態によれば、前記方法は、ｂ）の工程の後、100 〜300 ℃の範囲内の温度で酸化インジウムスズの前記第１の導電層の再結晶のアニールを行う工程を更に有する。
【００１４】
実施形態によれば、前記方法は、ｂ）の工程の後、前記第１の導電層の表面に少なくとも１つの第２の導電層を成膜する工程を更に有し、前記第１の導電層及び前記第２の導電層は共に前記ショットキーダイオードの電極を形成する。
【００１５】
実施形態によれば、前記第２の導電層は金層を有している。
【００１６】
実施形態によれば、前記第１の導電層はジルコニウムから形成されており、前記第２の導電層はジルコニウムの前記第１の導電層と前記金層との間に白金層を有している。
【００１７】
実施形態によれば、前記半導体層をＰ型ドープする。
【００１８】
実施形態によれば、同一の導電型であるが更に高濃度にドープされた単結晶ダイヤモンドの半導体層上に前記半導体層をエピタキシーによって形成する。
【００１９】
実施形態によれば、前記方法は、更に高濃度にドープされた前記半導体層とのオーミックコンタクトを構成する電極を形成する工程を更に有する。
【００２０】
実施形態によれば、ｂ）の工程で形成された前記第１の導電層の厚さは20〜30nmの範囲内である。
【００２１】
前述及び他の特徴及び利点を、添付図面を参照して本発明を限定するものではない具体的な実施形態について以下に詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１Ａ】単結晶ダイヤモンド半導体層と導電層との間にショットキーコンタクトを有するショットキーダイオードを製造する方法の実施形態の工程を概略的に示す断面図である。
【図１Ｂ】単結晶ダイヤモンド半導体層と導電層との間にショットキーコンタクトを有するショットキーダイオードを製造する方法の実施形態の工程を概略的に示す断面図である。
【図１Ｃ】単結晶ダイヤモンド半導体層と導電層との間にショットキーコンタクトを有するショットキーダイオードを製造する方法の実施形態の工程を概略的に示す断面図である。
【図１Ｄ】単結晶ダイヤモンド半導体層と導電層との間にショットキーコンタクトを有するショットキーダイオードを製造する方法の実施形態の工程を概略的に示す断面図である。
【図２】図1Dの構造を示す平面図である。
【図３】図1A〜1Dの方法によって形成されたショットキーダイオードの電気動作特性を示す図である。
【図４】図1A〜1Dの方法によって形成されたショットキーダイオードの電気動作特性を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
明瞭化のために、同一の要素は様々な図面において同一の参照番号で示されており、更に、集積回路の表示ではよくあるように、様々な図面は正しい縮尺で示されていない。
【００２４】
以下の説明では、「およそ」、「略」、「約」及び「程度」という用語は、特に示されていない場合「10％の範囲内」を意味する。
【００２５】
今まで、例えば100 ボルトより大きい高逆方向降伏電圧と例えば７ボルト未満で500 A/cm2 より大きい高オン状態の電流密度との両方を周囲温度で有するダイヤモンドショットキーダイオードを得るためにダイヤモンドの電子部品の分野で関係者によってなされた試みは全て失敗している。
【００２６】
更に、公知の製造方法は、ダイヤモンドショットキーダイオードの工業規模での製造に該方法が不適当になるような他の問題を引き起こす。特に、公知の方法は再現性の問題を引き起こす。つまり、製造面における差による電気的性能の著しい差が同一の方法によって形成された異なるダイオード間で観察され得る。更に、公知の方法によって得られたダイオードには温度安定性の問題があり、つまり、温度が変化すると、電気的性能の著しい差が観察され得る。更に、ダイオードの温度が所与の温度、例えば250 ℃程度を超えると、ショットキー接合の回復不能な劣化が観察され得る。このような回復不能な劣化は特に、ダイオードが導通するときにダイオードの著しい加熱が生じる場合がある高電力用途で妨げとなる。
【００２７】
本発明者らによってなされた研究は、ショットキー接合の導電材料と半導体のダイヤモンドとの間の界面での表面準位が前述の問題の全て又は一部の原因である可能性があることを示している。
【００２８】
図1A〜1Dは、ダイヤモンドの半導体層と導電層との間にショットキーコンタクトを有するショットキーダイオードを製造する方法の実施形態の工程を概略的に示す断面図である。
【００２９】
図1Aは、高濃度ドープされたＰ型のダイヤモンドエピタキシャル層103 (P++) で被覆された単結晶ダイヤモンドの基板101 を備えた最初の構造を示す。ダイヤモンドエピタキシャル層103 自体は、低濃度ドープされたＰ型のダイヤモンドエピタキシャル層105 (P-)で被覆されている。基板101 は、例えば天然のカットダイヤモンドから形成されているか、又は高圧及び高温での成長、化学蒸着若しくはあらゆる他の公知の技術によって得られた合成ダイヤモンドから形成されている。基板101 の厚さは、例えば300 〜700 μm の範囲内であり、例えば500 μm 程度である。ダイヤモンドエピタキシャル層103 及びダイヤモンドエピタキシャル層105 は、例えばマイクロ波プラズマ化学蒸着、つまりMPCVD の工程によって得られる。ダイヤモンドエピタキシャル層103 及びダイヤモンドエピタキシャル層105 は、例えばホウ素ドープされている。例として、ダイヤモンドエピタキシャル層103 は、1019〜1021atoms/cm3の範囲、例えば５×1020atoms/cm3 程度の濃度のホウ素を含有しており、ダイヤモンドエピタキシャル層105 は、1014〜1016atoms/cm3の範囲、例えば1015atoms/cm3 程度の濃度のホウ素を含有している。例として、ダイヤモンドエピタキシャル層103 の厚さは、100 〜300 nmの範囲内であり、例えば200 nm程度であり、ダイヤモンドエピタキシャル層105 の厚さは、500 nm〜50μm の範囲内であり、例えば1,300 nm程度である。比較的高い降伏電圧を得るために、厚さが３〜15μm の範囲内の層105 が設けられてもよい。基板101 、ダイヤモンドエピタキシャル層103 及びダイヤモンドエピタキシャル層105 の平面図における表面積は、例えば数平方ミリメートル程度である。この例では、基板101 、ダイヤモンドエピタキシャル層103 及びダイヤモンドエピタキシャル層105 は、平面図で辺長がおよそ３mmの正方形の形状を有する。
【００３０】
図1Bは、P-層105 の一部をエッチングする工程を示す。この例では、P-層105 の周縁部分、例えば平面図で幅が１mm程度の周縁ストリップがエッチングにより除去されて、P++ 層103 の（図面の向きにおける）上面の一部がアクセス可能になる。エッチングは、例えば誘導結合プラズマ反応性イオンエッチング（ICP-RIE ）である。しかしながら、あらゆる他の公知の技術がP-層105 をエッチングするために使用されてもよい。この例では、エッチング工程が終了すると、P-層105 の残りの部分は、平面図でP++ 層103 の中心に位置する、辺長がおよそ２mmの正方形の形状を有する。
【００３１】
図1Cは、P-層105 で被覆されていないP++ 層103 の部分を被覆する電極107 を形成する工程を示す。この電極107 はP++ 層103 とのオーミックコンタクトを形成する。電極107 は、ショットキーダイオードのアノードを形成し、P++ 層103 を介してP-層105 の（図面の向きにおける）下面に電気的に接続されている（このタイプの構造を指して一般に擬似垂直ショットキーダイオードと言う）。
【００３２】
例として、電極107 は、P++ 層103 の表面から以下の順に、厚さがおよそ30nmのチタン層、厚さがおよそ50nmの白金層及び厚さがおよそ40nmの金層を有する積層体を備えている。簡略化のために、積層体の夫々の層は図面に示されていない。チタン層、白金層及び金層は、例えば電子ビーム物理蒸着、つまりEBPVD によって複数の連続的な工程で成膜されてもよい。金属を連続的に成膜した後、450 ℃より高い温度、例えば750 ℃程度の温度でおよそ30分間アニールを行ってもよい。この例では、アニール中に、P++ 層103 と電極107 との間の界面に炭化チタンが形成されるため、電極107 とダイヤモンド層103 との間にオーミックコンタクトを形成することだけでなく、電極107 をダイヤモンド層103 に結合することも可能になる。しかしながら、他の材料、他の厚さ及び／又は他の製造方法を使用して電極107 を形成してもよい。例えば樹脂から形成されたマスク（図面には示されていない）を、電極107 を成膜する前に形成して、電極107 の、平面図における形状を画定してもよいことに注目すべきである。示された例では、例えば平面図で幅が数μm 程度の薄い空間が電極107 をP-層105 から分離するため、電極107 がP-層105 と直接接しない。
【００３３】
半導体層105 の（図面の向きにおける）上面に半導体層105 とのショットキーコンタクトを形成する導電層を成膜する前に、半導体層105 の上面を酸素で処理する工程を行う。例として、電極107 を形成した後に構造体を真空の筐体に置いて、その後、筐体に酸素を導入し、半導体層105 の上面に紫外線を照射する。このため、ダイヤモンド層105 の上面の水素終端が酸素終端で置換される。それ自体公知のこのようなダイヤモンドの酸素処理法は、例えばJournal of Applied Physics 105，126109，2009年に掲載されたT. Teraji 他の論文に記載されている。本明細書における真空の筐体は、圧力が大気圧より低く、例えば10-5ミリバール程度である筐体を意味することに留意すべきである。酸素が筐体内にあると、筐体内の圧力は例えば0.4 ミリバール程度である。例として、酸素及び紫外線への構造体の露出時間は１時間〜３時間の範囲内である。酸素処理工程は、例えば周囲温度で行われる。
【００３４】
より一般的に、ダイヤモンドの水素表面終端を酸素表面終端に置換することができるあらゆる他の方法が使用されてもよく、例えばプラズマ酸素処理法が使用されてもよい。
【００３５】
単結晶ダイヤモンドは、その表面終端が水素であれ酸素であれ一旦調整されると非常に安定しているという利点を有することに注目すべきである。従って、方法の様々な工程中におけるある筐体から別の筐体への基板の移送に特定の問題が生じない。
【００３６】
図1Dは、ドープしたダイヤモンド層（P-層） 105 の上面に導電性電極109 を形成して、ダイヤモンド層105 とのショットキーコンタクトを形成する工程を示す。図２は図1Dの構造の平面図である。
【００３７】
例えば樹脂から形成された、図面に示されていないマスクを、電極109 を成膜する前に形成して、電極109 の平面図における形状を画定してもよい。電極109 がダイヤモンド層105 上に成膜される領域のレベルにマスクを開口した後、ダイヤモンド層105 の表面に存在する可能性が高いあらゆる樹脂残留物を除去するために、成膜される領域を清浄化する工程を行うことが好ましい。例として、清浄化工程を、容量結合プラズマ反応性イオンエッチング（CCP-RIE ）によって行う。電極109 が成膜される領域を、例えばおよそ30秒間エッチングプラズマに曝す。しかしながら、あらゆる他の公知の清浄化法を、前述の清浄化法の代わりに、又は前述の清浄化法の補完として用いてもよい。
【００３８】
示された例では、電極109 、つまりショットキーダイオードのカソードは、平面図で略円形の４つの別個の隣り合うサブ電極を有しており、このため、実際、４つの共通アノードのショットキーダイオード（電極107 ）を有する構造体が形成されることになる。言うまでもなく、電極109 の他の構成（例えば、ダイヤモンド層105 の全面を被覆する単一の連続電極109 ）が想定される使用に応じて提供されてもよい。
【００３９】
第１の態様によれば、電極109 はダイヤモンド層105 の表面に成膜された薄いジルコニウム層を有しており、ジルコニウム層は、ダイヤモンド層105 とのショットキーコンタクト、つまり整流コンタクトを形成する。ジルコニウム層は、電子ビーム物理蒸着、つまりEBPVD によって形成される。このために、構造体をジルコニウム対象を含む真空の筐体に置き、対象に電子ビームを照射する。電子ビームは対象からジルコニウム原子を剥ぎ取り、つまり蒸発させる。このような処理は、対象の蒸発とも言われる。その後、蒸発したジルコニウム原子は固体の形態で沈殿するか又は取り入れられ、構造体の表面を薄いジルコニウム層で覆う。本明細書における真空チャンバは、圧力が大気圧より低く、好ましくは非酸化性雰囲気下で例えば10-6〜10-8ミリバールの範囲内、好ましくは10-7ミリバール程度である筐体を意味することに留意すべきである。成膜を例えば周囲温度で行う。ダイヤモンド層105 の上面でのジルコニウムの成膜速度は、例えば毎秒0.1 nm程度である。成膜されたジルコニウム層の厚さは、例えば10〜50nmの範囲内であり、好ましくは20〜30nmの範囲内である。
【００４０】
電極109 は、ダイヤモンド層105 の反対側のジルコニウム層の表面を被覆する複数の他の導電材料を更に有してもよい。簡略化のために、電極109 の様々な層は図面で区別されていない。例として、ジルコニウム層は、ジルコニウムの酸化を防いで電極を厚くする機能を特に有する金層で被覆されてもよい。変形例として、例えば厚さが20〜40nmの範囲内の白金障壁層がジルコニウム層と金層との間に成膜されてもよく、白金障壁層は、ジルコニウムへの金の拡散を防ぐ機能を特に有しており、このため特に、ダイオードが、破損することなく例えば400 ℃程度又はそれ以上の高温に耐えることが可能になる。変形例として、電極109 は、白金層と金層との間に、例えば厚さが100 〜300 nmの範囲内のニッケル層を有してもよく、このニッケル層は、電極を厚くするために特に使用される。
【００４１】
ジルコニウム層を形成した後（電極109 の存在し得る上側の導電層を形成する前後）に、アニールを、例えば300 〜500 ℃の範囲内の温度で行って、ダイオードのショットキー接合を形成するジルコニウム／ダイヤモンドの界面の質を更に高めてもよい。
【００４２】
第２の態様によれば、電極109 は、本技術分野では一般にITO と称される酸化インジウムスズの薄い導電層を有しており、この導電層は、ダイヤモンド層105 の表面に成膜されており、ダイヤモンド層105 とのショットキーコンタクト、つまり整流コンタクトを形成する。ITO 層は、例えばアルゴン下でカソードスパッタリングによって形成される。このために、構造体をITO 対象を含むチャンバに置き、重原子、例えばアルゴンを含んで、好ましくは酸素を含んでいないプラズマを対象に照射する。プラズマは、ITO 対象から原子を剥ぎ取り、つまりスパッタリングする。その後、これらの原子は構造体の表面に堆積して、構造体の表面を薄いITO 層で被覆する。ITO の成膜を例えば周囲温度で行う。成膜されたITO 層の厚さは、例えば10〜50nmの範囲内であり、好ましくは20〜30nmの範囲内である。成膜後、ITO を再結晶させるためのアニールを、例えば100 〜300 ℃の範囲内の温度、好ましくは200 ℃程度の温度で行うことが好ましい。再結晶アニールの継続時間は、例えば15〜60分の範囲内であり、例えばおよそ30分である。再結晶アニールを、例えば調整されていない雰囲気（空気）で行う。
【００４３】
電極109 は、ダイヤモンド層105 の反対側のITO 層の表面を被覆する一又は複数の他の導電材料を更に有してもよい。簡略化のために、電極109 の様々な層は図面で区別されていない。例として、ITO 層は、厚さが10〜20nm又はそれ以上の保護用の金層で被覆されてもよい。
【００４４】
以下に更に詳細に記載される図３及び４に示されているように、図1A〜1Dの方法で形成されたショットキーダイオードの重要且つ有利な特徴は、ショットキーダイオードがジルコニウム／ダイヤモンドショットキー接合で形成されたものであれITO ／ダイヤモンドショットキー接合で形成されたものであれ、ショットキーダイオードが高い逆方向降伏電圧及び高オン状態の電流密度（つまり優れた順方向の導電性）の両方を有していることであり、これは、ダイヤモンドショットキーダイオードでは以前に決して観察されていない。
【００４５】
このような特徴は、導電層を形成する前にダイヤモンド層105 の表面終端を酸素で処理する工程の使用と、電子銃を用いたジルコニウムの蒸着又はカソードスパッタリングによるITO の成膜を行って導電層を形成する工程の使用とを組み合わせることにより得られた、ショットキー接合の導電層とダイヤモンド半導体層との間の界面の質により得ることが可能である。
【００４６】
図３は、図1A〜1Dの方法によって形成されたショットキーダイオードのアノード（電極107 ）及びカソード（電極109 ）間に印加される電圧（ボルト(V) ）に応じた、ショットキーダイオードの閾値電圧（順方向のターンオン電圧）付近におけるショットキーダイオードを流れる電流密度（A/cm2 ）の変化を示す図である。図３の点線で示された曲線301 は、ジルコニウム／ダイヤモンドダイオードに相当し、図３の実線で示された曲線303 は、ITO ／ダイヤモンドダイオードに相当する。
【００４７】
図４は、図1A〜1Dの方法によって形成されたショットキーダイオードのアノード及びカソード間に印加される電圧（ボルト(V) ）に応じた、ショットキーダイオードの逆方向降伏電圧付近におけるショットキーダイオードを流れる電流密度（A/cm2 ）の変化を示す図である。図４の点線で示された曲線401 は、ジルコニウム／ダイヤモンドダイオードに相当し、図４の実線で示された曲線403 は、ITO ／ダイヤモンドダイオードに相当する。
【００４８】
ジルコニウム／ダイヤモンドダイオードに関して、本発明者らは、導通モードにおける７Ｖ未満での1,000 A/cm2 程度の電流密度（曲線301 ）と、1,000 Ｖより大きい逆方向降伏電圧（曲線401 ）とを周囲温度（27℃程度）で測定した。行われた測定によって降伏電圧の正確な値を決定することができなかったが、降伏電圧が1,000 Ｖより大きいことが示されたことに注目すべきである。
【００４９】
ITO ／ダイヤモンドダイオードに関して、本発明者らは、導通モードにおける７Ｖ未満での640 A/cm2 程度の電流密度（曲線303 ）と、200 Ｖ程度の逆方向降伏電圧（曲線403 ）とを周囲温度で測定した。
【００５０】
更に本発明者らは、遮断モードでは、ダイオードの漏れ電流が極度に低く、ITO ／ダイヤモンドダイオードに関して電圧が降伏電圧に近くなるまで典型的には10-9A/cm2 より低く（曲線303 及び曲線403 ）、ジルコニウム／ダイヤモンドダイオードに関して電圧が少なくとも1,000 Ｖに達するまで10-9A/cm2 より低い（曲線301 及び曲線401 ）ことを観察した。
【００５１】
本発明者らは、電極109 がジルコニウム層を被覆する白金層及び白金層を被覆する金層を更に有するジルコニウム／ダイヤモンドダイオードに関して、ダイヤモンド層105 とジルコニウム層との間の障壁高さ（電子ボルト(eV)）が、
ジルコニウム層を成膜した後にアニールが行われない場合、１mAの電流及び12.74 A/cm2 の電流密度に関しておよそ2.35Ｖの閾値電圧として解釈される1.97eV程度であり、
ジルコニウム層を成膜した後に350 ℃程度の温度でのアニールが行われる場合、１mAの電流及び12.74 A/cm2の電流密度に関しておよそ1.95Ｖの閾値電圧として解釈される1.4 eV程度であり、
ジルコニウム層を成膜した後に450 ℃程度の温度でのアニールが行われる場合、１mAの電流及び12.74 A/cm2の電流密度に関しておよそ1.1 Ｖの閾値電圧として解釈される１eV程度である
ことを更に決定した。
【００５２】
従って、ジルコニウム層を成膜した後にアニールを行うことによって、ショットキー接合の障壁高さを下げることが可能になり、ひいてはオン状態の損失を低下させることが可能になる。更に、このようなアニールによってダイオードの熱的安定性を改善することができる。
【００５３】
図1A〜1Dの方法の別の利点は、得られたショットキーダイオードの電気的特性がダイオード毎に完全に再現可能であるということである。
【００５４】
図1A〜1Dの方法の別の利点は、温度安定性能を有して、破損することなく典型的に400 ℃程度又はそれ以上の高温に耐えるショットキーダイオードを得ることができることである。
【００５５】
上記の記載を考慮すると、図1A〜1Dの方法は、工業規模での使用に関してダイヤモンドショットキーダイオードの形成に適合する。
【００５６】
具体的な実施形態が記載されている。様々な変更及び調整が当業者に想起される。特に、提供されている方法は擬似垂直構造を有するショットキーダイオードの実施形態に関して記載されているが、記載された実施形態はこの特定の場合に限定されない。提供された方法を使用して、他の構造、例えばアノード電極107 が電極109 とは反対のダイヤモンド層105 側に配置される実際に垂直な構造を有するショットキーダイオードを形成することは当業者の技能の範囲内である。
【００５７】
更に、提供されている方法はショットキー接合の半導体ダイヤモンド層がＰ型である場合に関して記載されているが、ショットキー接合の半導体ダイヤモンド層がＮ型であるダイヤモンドショットキーダイオードの形成に、提供されている方法を適合させることは当業者の技能の範囲内である。
【００５８】
本特許出願は、参照によって本明細書に組み込まれる仏国特許出願第13／53647 号明細書の優先権を主張している。
【図１Ａ】
0006312810.tif 000002
【図１Ｂ】
0006312810.tif 000003
【図１Ｃ】
0006312810.tif 000004
【図１Ｄ】
0006312810.tif 000005
【図２】
0006312810.tif 000006
【図３】
0006312810.tif 000007
【図４】
0006312810.tif 000008