(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギーを車両に磁気誘導によって供給する構成であって、前記構成は、
−１次側導電体構成（２６）であって、交番電流が前記導体構成（２６）を流れている間、電磁界を生成するように適合されている前記１次側導電体構成（２６）と、
−前記電磁界の磁力線を整形するように適合されている磁化可能な材料を含む磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）と、を備え、
前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）は前記磁化可能な材料から作られている複数の素子（１）を含み、隣接の素子（１ａ、１ｂ；１ａ、１ｃ）は互いに距離を隔てて配置されているのであって、
前記構成は、磁化可能な材料から作られている前記複数の素子（１）を含み、かつ、連続した支持層（２３）を含む複合層として構成される前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）を備え、隣接の素子（１ａ、１ｂ；１ａ、１ｃ）は互いに距離を隔てて配置され、かつ、前記複数の素子（１）は前記連続した支持層（２３）に固定され、
前記連続した支持層（２３）は導電性材料から作られており、
かつ、
前記１次側導電体構成（２６）は、前記複数の素子（１）から距離を隔てたところに位置し、
前記隣接の素子（１ａ、１ｂ；１ａ、１ｃ）は、前記連続した支持層（２３）及び前記複数の素子（１）を含む前記複合層を、前記隣接の素子（１ａ、１ｂ；１ａ、１ｃ）の間のギャップ（２ａｂ；２ａｃ）に沿ってコイル状にまたは蛇行の形に折ることができるように、配置されている、ことを特徴とする構成。
【請求項２】
２つの隣接の素子（１）間の前記距離は、前記距離を挟んだ前記方向における前記隣接の素子（１）の前記延在よりも小さい、請求項１に記載の構成。
【請求項３】
磁化可能な材料から作られている前記素子（１）によって占められている方の前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）内の前記面積の、磁化可能な材料が存在しない前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）内の領域も含む方の前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）の前記総面積に対する前記比は、少なくとも７０％であり、且つ９７％を超えない、請求項１または２に記載の構成。
【請求項４】
前記素子（１）はタイルの前記形状である、請求項１〜３の何れか１項に記載の構成。
【請求項５】
前記素子（１）は、前記層の長手方向に、且つ／または前記層の横方向に、前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）の前記延在に亘って均等に分散されている、請求項１〜４の何れか１項に記載の構成。
【請求項６】
エネルギーを車両に磁気誘導によって供給する構成を生成する方法であり、
−交番電流が１次側導体構成（２６）を流れている間、電磁界を生成するように適合されている前記導電体構成（２６）が設けられ、
−前記電磁界の磁力線を整形するように適合されている磁化可能な材料を含む磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）が、前記導体構成（２６）の周囲に配置される方法であって、
前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）は前記磁化可能な材料から作られている複数の素子（１）を使用して配置され、隣接の素子（１）は互いに距離を隔てて配置されているのであって、
前記磁界整形層は、磁化可能な材料から作られている前記複数の素子（１）を含み、かつ、連続した支持層（２３）を含む複合層として構成され、隣接の素子（１ａ、１ｂ；１ａ、１ｃ）は互いに距離を隔てて配置され、かつ、前記複数の素子（１）は前記連続した支持層（２３）に固定され、
前記連続した支持層（２３）は導電性材料から作られており、
かつ、
前記１次側導電体構成（２６）は、前記複数の素子（１）から距離を隔てたところに位置し、
前記隣接の素子（１ａ、１ｂ；１ａ、１ｃ）は、前記連続した支持層（２３）及び前記複数の素子（１）を含む前記複合層を、前記隣接の素子（１ａ、１ｂ；１ａ、１ｃ）の間のギャップ（２ａｂ；２ａｃ）に沿ってコイル状にまたは蛇行の形に折ることができるように、配置されている、ことを特徴とする、方法。
【請求項７】
磁化可能な材料から作られている前記素子（１）によって占められている方の前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）内の前記面積の、磁化可能な材料が存在しない前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）内の領域も含む方の前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）の前記総面積に対する前記比は、少なくとも７０％であり、且つ９７％を超えない、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
隣接の素子（１）は互いに距離を隔てて配置され、前記距離は前記距離を挟んだ前記方向における前記隣接の素子（１）の前記延在よりも小さい、請求項６または７に記載の方法。
【請求項９】
前記素子（１）は、前記層の長手方向に、且つ／または前記層の横方向に、前記磁界整形層（１ａ〜１ｄ；１ｅ〜１ｆ）の前記延在に亘って均等に分散されている、請求項６〜８の何れか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記連続した支持層（２３）及び前記素子（１）を含み、コイルの前記形状に巻かれるか、または断片状に重なり合って折られている前記複合層は、現場の対象領域の一部分に提供されて配置され、前記対象領域を占めるように巻き戻されるか、または広げられる、請求項６〜９の何れか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気誘導によりエネルギーを車両に供給する構成に関する。本構成は、１次側導電体構成または１次側導電体アセンブリであって、交番電流が該導体構成を流れている間、電磁界を生成するように適合されている１次側導電体構成または１次側導電体アセンブリ、及び電磁界の磁力線を整形するように適合されている磁化可能な材料を含む磁界整形層を備える。
【０００２】
更に、本発明は本構成の製造に対応する方法、及び本導電体構成によって生成される電磁界の磁力線を整形するように適合されている手段に関する。
【０００３】
磁気誘導によってエネルギーを車両に供給するシステムの動作中、１次側導電体構成によって生成される電磁界は、２次側（車両側）の受け取りデバイスによって受け取られ、その電磁界エネルギーは磁気誘導によって再び電気エネルギーに変換される。特に、本発明はそのようなシステムの１次側に関する。受け取りデバイスは、「ピックアップ」と呼ぶことができ、それは車両の一部であるが、１次側導電体構成は、典型的には地中に埋設されているか、そうでなれれば車両のトラックまたは車両が停車もしくは駐車することができる場所に機械的に接続されている。
【０００４】
用語「１次側」及び「２次側」は変圧器に使用される専門用語に準じて使用されている。事実、誘導により電気エネルギーを車両のトラックまたは車両の停車場から車両に伝送するシステムの電気部品は一種の変圧器を形成する。従来の変圧器に比較して、唯一の違いは車両、従って２次側が動くことが可能であるということである。
【背景技術】
【０００５】
特許文献１には、電気エネルギーを車両に伝送するシステム及び方法が記載されている。車両が移動している間、エネルギーを車両に伝送することができる。本発明は、そのようなシステムに関することもあるが、移動中の車両にエネルギーを伝送することに限定されない。それどころか、（バス停におけるバスのような）車両が一時的に停車している間、または車両が駐車している間、エネルギーを伝送することができる。
【０００６】
その車両は、従来の鉄道車両、モノレール車両、トローリーバス、及び他の手段でトラック上を動く車両のようなトラックに拘束される車両を含む任意の陸上車両であってもよい。他の陸上車両の例は、トラックに拘束されないバスを含む道路用自動車である。例えば、その車両は、電動の推進モータを有する車両であってもよい。その車両は、ハイブリッド推進システム、例えば、電気エネルギー、または電気化学的に貯蔵されたエネルギーもしくは燃料（例えば天然ガス、ガソリンまたは石油）のような他のエネルギーで動作することができるシステムを有する車両であってもよい。
【０００７】
特許文献１には、電磁界を生成するための１次側の蛇行状の巻線の例が記載されている。導電性材料が交番電流を運んでいる動作中に電磁界を生成する導電性材料で作られている本発明の１次側導体アセンブリは、それと同一のまたは異なる構成を有していてもよい。いずれの場合でも、少なくとも１次側導体アセンブリのセクション及び／または部分は、１次側導体アセンブリが横方向の縁部を含むように長さ及び幅を有する。例えば、特許文献１に記載されているように、１次側導体アセンブリのセクションは、１次側導体アセンブリの両側に２つの横方向の縁部が存在するように、車両のトラックに沿って延在することができる。走行方向に延在する細長い導電体、幾つかの巻き数を有する導電体のコイル、及び異なる構造を有する導電体の構成などの他の構造が可能である。
【０００８】
前述の説明に記載されている１次側導体アセンブリの特徴は、２次側導体アセンブリにも適用することができ、２次側導体アセンブリが車両に搭載されているという点が異なる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】国際公開第２０１０／０００４９５（Ａ１）号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
いずれの場合においても、１次側導体アセンブリは、周囲に、１次側導体アセンブリによって生成される電磁界の放射を引き起こす。特に、電磁界または磁界の強度の該当する限界値は順守されなければならない。更に、２次側導体アセンブリも放射を引き起こす。
【００１１】
１次側導体アセンブリ及び２次側導体アセンブリは有効な方法で互いに結合されるべきである。
【００１２】
従って、本発明の目的は、エネルギーを磁気誘導によって車両に供給する構成を提供することであり、そのような構成を製造するための対応する方法を提供することであり、エネルギーを１次側から２次側へ有効な方法で伝送できるような適切な手段、及び少なくとも周囲の一部において磁界強度が減少するような適切な手段を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
周囲の一部、特に、１次側導体構成の下の領域を、１次側導体アセンブリによって生成される電磁界（群）から遮蔽するために、磁化可能な材料を使用するのが本発明の基本的な考え方である。そのために、磁化可能な材料を含む遮蔽アセンブリは導体アセンブリに組み合わされる。好ましくは、遮蔽アセンブリは、導電性材料を含むことができ、とりわけ、磁化可能でない導電性材料を含むこともできる。その一例はアルミニウムである。具体的には、導電性材料の導電率は、磁化可能な材料の導電率より少なくとも１０００（１千）倍、好ましくは１００００（１万）倍大きい。例えば、実際に、フェライトの導電率は１０−７から１Ａ／（Ｖｍ）の範囲の可能性があり、導電性材料（例えば、アルミニウムのような金属）の導電率は１０６から１０８Ａ／（Ｖｍ）の範囲の可能性がある。
【００１４】
具体的には、遮蔽アセンブリまたは遮蔽アセンブリの一部は、１次側導体アセンブリの下に、その導体アセンブリのレベルの下に延在することができる。その結果、（導体アセンブリから見た場合）磁化可能な材料の向こう側に位置する領域が導体アセンブリによって生成される電磁界から遮蔽される。
【００１５】
導電性材料も存在する場合、車両、具体的には、道路用自動車またはライトレール車両のようなトラックに拘束される車両に電気エネルギーを伝送するシステムは、磁界を生成し、それによってエネルギーを２次側に伝送する１次側導電体構成を備えることができ、１次側導電体構成の電流線または電流線群は第１の高さレベルに延在し、磁界を遮蔽する導電性遮蔽は第１の高さレベルの下に延在し、磁化可能な材料はその遮蔽の上の第２の高さレベルに延在する。この構成は、追加的にまたは代替的に、１次側導電体構成の横に使用することができる。すなわち、導電性材料は、導体構成の電流線または電流線群から見て、磁化可能な材料の向こう側に配置されている。この構成は、磁化可能な材料の素子群から成る磁化可能な材料の層を、磁化可能な材料で作られている連続した層に置き換えることで、変更することができる。
【００１６】
具体的には、低い導電率を有する磁化可能な材料、例えば、フェライトを使用することができる。その結果、遮蔽材料において誘導される電流の影響が低減される。より一般的に言えば、磁化可能な材料は、強磁性、常磁性、またはフェリ磁性であってもよい。磁化可能な材料は磁化率が少なくとも１０、好ましくは少なくとも５０であるのが好ましい。
【００１７】
磁化可能な材料を遮蔽材料として使用することは、磁界の磁束線がその材料の中に案内されるという利点がある。従って、その材料は磁力線（すなわち、磁束線）整形材料として特徴付けることができる。遮蔽材料が存在しない状況に比べて、磁束線の少なくとも一部は磁化可能な材料を通過することはできない。その代わりに、これらの磁束線は、磁化可能な材料の延在の方向に向きが変更される。
【００１８】
更に、磁化可能な材料は、磁界の磁束線を１次側導体アセンブリと２次側受け取りデバイスとの間の領域に集中させる、または束ねることができるという効果を有する。しかしながら、受け取りデバイスと１次側導体構成の相対的な位置は、車両が走行することもあるし、または様々な位置で停車することもあるので、変わり得る。磁束線の密度（すなわち、磁界強度）も、特に車両のトラックの水平な横方向から見た場合、変わるので、１次側から２次側への電力の伝送の効率の度合いも、受け取りデバイスと１次側導体アセンブリとが関連する位置によって変わる。しかしながら、この依存性の影響は低減されるのが好ましい。
【００１９】
従って、磁化可能な材料を含む磁界整形層の使用が提案される。具体的には、磁界整形層は、受け取りデバイスから見た場合（具体的には、上から見た場合）１次側導体構成の向こう側に配置されている。トラックまたは車両の停車場が水平方向に延在する場合、磁界整形層は１次側導体構成の下の構造物に統合されるのが好ましい。具体的には、この構造物は鉄道または自動車用道路の構造物であってもよい。あるいは、構造物は少なくとも１台の車両を駐車するための駐車場の構造物であってもよい。
【００２０】
受け取りデバイスと１次側導体アセンブリとの相対的な位置に対する電力伝送効率の依存性を低減するために、磁界整形層は、磁化可能な材料から作られている複数の素子を含み、隣接の素子は互いに距離を隔てて配置されていることが提案される。
【００２１】
具体的には、以下のものが提案される。
エネルギーを車両に磁気誘導で供給する構成であって、本構成は、
−１次側導電体構成であって、交番電流が該導体構成を流れている間、電磁界を生成するように適合されている１次側導電体構成と、
−電磁界の磁力線を整形するように適合されている磁化可能な材料を含む磁界整形層と、を備え、
磁界整形層は磁化可能な材料から作られている複数の素子を含み、隣接の素子は互いに距離を隔てて配置されている。
【００２２】
更に、エネルギーを車両に磁気誘導で供給する構成を生成する方法であって、
−交番電流が１次側導体構成を流れている間、電磁界を生成するように適合されている該導電体構成が設けられ、
−電磁界の磁力線を整形するように適合されている磁化可能な材料を含む磁界整形層が導体構成の周囲に配置され、ここで、
磁界整形層は磁化可能な材料から作られている複数の素子を使用して配置され、隣接の素子は互いに距離を隔てて配置されている、方法が提案される。
【００２３】
具体的には、素子はタイルの形状にすることができる。それ故に、タイルは平行な（具体的には、平面状の）上面及び下面を含む。従って、タイルの垂直断面はタイルの矩形の形状の外形を含むことができ、上面及び下面は外形の平行な上側及び下側直線部分を形成する。好ましくは、磁界整形層の全ての素子または少なくとも大部分の素子は同一形状を有することができる。更に、磁界整形層の素子は同一の面に配置されるのが好ましい。層が水平面に延在する場合、層のタイル形状の素子の上面は共通の水平面に配置され、下面に対しても同じことが適用される。一方、互いに距離を隔てて配置されている複数の素子を含む磁界整形層には、素子の配置に関してある程度の柔軟性があり、それが利点である。例えば、磁界整形層が配置されている基礎の面が厳密には滑らかでも平面でもなければ、磁界整形層の延在も平面ではないであろう。平面内の理想的な配置から素子がずれても、１次側導体構成の向こう側の場所での磁束密度はほんの少しだけしか変わらない、ということが磁界整形層の提案の構成の更なる利点である。
【００２４】
本発明による磁界整形層の更なる利点は、１次側導体アセンブリ及び２次側受け取りデバイスを含むシステムの結果として生じるインダクタンスは、受け取りデバイスと１次側導体アセンブリとの相対的な位置に敏感ではないということである。これは受け取りデバイスが縦横に移動しても適用される。それ故に、受け取りデバイスが共振で動作するように適合されている場合、相対的な位置に対する変化があっても電力の伝送効率は顕著に低減しない。エネルギーを１次側から２次側へ伝送するように適合されている全体の構成は、受け取りデバイスが共振で動作するように１次側及び／または２次側の電気的特性を制御する制御を備えることもできる。しかしながら、少なくとも幾つかの用途では、本構成は相対的な位置の変化に対して敏感ではないので、そのような制御はもはや必要ではない。
【００２５】
具体的には、２つの隣接の素子間の距離は、その距離を挟んだ方向にある隣接の素子の延在よりも小さい。好ましくは、その距離は少なくとも５倍小さく、好ましくは１０倍小さい（すなわち、距離に倍数を乗じたものがその延在に等しい）。
【００２６】
具体的には、層の個々の素子の、層に垂直な方向の外形は任意の形状を有してもよい。外形は、隣接の素子の各々までの距離を同一の大きさとすることができるように形作られているのが好ましい。好ましい外形の形状は矩形または正方形である。しかしながら、例えば、正六角形の外形（例えば、ハニカム構造体のような素子の配列）、円形の外形、楕円形の外形、または三角形の外形を有する素子を使用することも可能であろう。
【００２７】
本構成の製造の観点から、すなわち、層の素子を現場で設置する作業の観点から、隣接する各素子対の間のギャップが他の隣接する素子対のギャップに位置合わせされて、それにより、長手方向に延在する少なくとも１つの連続した一直線のギャップが存在し、且つ／または、層の長手方向に垂直な横方向に延在するそれぞれの対の間に少なくとも１つの連続した一直線のギャップが存在するのが好ましい。従って、素子を、層に垂直な方向から見て、行及び列に配置できるように、素子の外形は、矩形または正方形であり、且つ層の素子はすべて同一の大きさを有するのが好ましい。この場合、一直線のギャップは行及び列の線をたどる。
【００２８】
層の一方の側から反対の側に延在する少なくとも１つの一直線の連続したギャップが存在し、且つ素子が柔軟な支持材上に固定されている場合、層は、柔軟な支持材上に素子を固定し、一直線の連続したギャップに沿って層を折ることにより予め製作できる。幾つかの一直線の連続したギャップが存在する場合、予め製作された本構成は何度も折ることができる。例えば、互いに平行に延在する複数の一直線の連続したギャップが存在する場合、予め製作された本構成はこれらの平行な一直線のギャップに沿って折ることができ、本構成を作動させることになっている現場へ予め製作された本構成を運送する時に、必要なスペースは大幅に低減される。例えば、予め製作された本構成をコイル状にまたは蛇行の形に折ることができる。
【００２９】
次に、導電体構成によって生成される電磁界の磁力線を整形する手段としての複合層を説明する。この複合層の連続した支持層は上述の柔軟な材料であってもよい。複合層は磁化可能な材料（好ましくはフェライト）から作られている複数の素子を含み、素子は互いに距離を隔てて配置され、且つ支持層に固定されている。また、素子はタイル、例えば、上述のタイル、の形状とすることができる。
【００３０】
好ましくは、素子は、層の長手方向に及び／または層の横方向に、磁界整形層の延在に亘って均等に分散されている。
【００３１】
好ましい実施形態によれば、連続した支持層（例えば、金属のシート）は導電性材料から作られている。例えば、導電性材料は、柔軟であり且つ少なくとも１つの一直線のギャップで折ることができるように、アルミニウムでもよく、アニールされたアルミニウムでもよい。
【００３２】
好ましくは、導電性材料から作られている連続した支持層は、磁化可能な材料から作られている素子よりも、１次側導体構成から離れて配置される。
【００３３】
追加の導電性材料層は、追加の遮蔽効果を提供するという利点を有する（導電性材料の層が磁化可能な素子が固定されていない層である代替的な実施形態にも同じことが当てはまる）。導電性材料の向こう側の領域は、電磁界、特に１次側導体構成によって生成される電磁界から有効に遮蔽される。
【００３４】
具体的には、素子がタイルの形状であり、且つ隣接の素子の各対の間に距離またはギャップが存在する場合、その配置はモザイクと呼ぶことができる。タイルは、好ましくは、層の延在に亘って均等に（すなわち、一様に）分散される。
【００３５】
例えば、個々の素子は鋳造によって製造することができる。この場合、磁化可能な材料はフェライト材料であるのが好ましい。
【００３６】
具体的には、磁化可能な材料の素子は、追加の接続材料、好ましくはこれも（支持材の好ましい実施形態のように）柔軟である、を使用して、支持層、特に導電性材料から作られている支持層に固定されることができる。接続材料は、ポリマーまたは他のプラスチック材料などのような接着剤であってもよい。その結果、磁化可能な材料の素子は、支持材に対して距離を隔てて配置される。支持材として金属材料を使用する場合、遮蔽効果は向上し、腐食を排除できる。素子（例えば、フェライト素子）と（例えば、アルミニウムで作られている）金属支持層との間の距離は、好ましくは、数ミリメートルの範囲である。
【００３７】
具体的には、連続した支持層及び素子を含み、コイルの形状に巻かれるか、または断片状に重なり合って折られている複合層は、現場の対象領域の一部分に提供され配置されることができ、且つ対象領域を占めるように、巻き戻されるか、または広げられる。
【００３８】
特に複合層の場合、また本構成の他の実施形態においても、（上述のように）磁化可能な材料は導電性材料と組み合わせるのが好ましい。１次側導電体構成から見た場合、磁化可能な材料（簡潔に言えば、磁気層）の素子を含む層が存在し、隣接の素子は互いに距離を隔てて配置され、それにより、素子間にギャップが残るようにする。更に、再び１次側導電体構成から見た場合、導電性材料は磁気層の向こう側に位置し、導電性材料は少なくとも素子間のギャップの後ろ側に配置され、好ましくは、磁気層の後ろ側で連続した層を形成する。いずれの場合においても、導電性材料は、素子の配置の外形の外側の領域の後ろ側すなわち（マージンの後ろ側）に位置してもよく、例えば、連続した層は素子の配置の外形の向こう側に延在する。それにより、導電性材料は少なくともギャップを覆い、導電性材料は、ギャップまたはマージンの領域の一部のみが覆われるように、貫通孔を任意選択的に含む。
【００３９】
従って、１次側導電体構成から磁気層へ、磁気層に垂直な一直線な方向に延在する仮想的な放射線は、磁化可能な材料の素子の１つに当たるか、またはギャップを通過する（または、より一般的に言えば、磁化可能な材料が存在しない領域に当たる）。磁化可能な材料が存在しない領域に当たる仮想的な放射線は、その領域を通過し、導電性材料に当たる、または、任意選択的に、導電性材料の貫通孔を通過する。もちろん、実際には、これらの仮想的な放射線は、１次側導電体構成と磁気層との間の構成の如何なる他の材料をも貫通するであろうし、任意選択的に、ギャップ中の、及び／または磁気層と導電性材料との間の如何なる（磁化可能な材料でもなく導電性材料でもない）材料もまた貫通するであろう。その結果、磁化可能な材料の素子によって占められている磁気層内の面積（個別の素子の外形によって規定される面積の合計）は、１次側導電体構成から見た総磁気面積として計算することができる。更に、導電性材料によって占められている磁気層の背後の面積は、１次側導電体構成から見た総導電面積として計算することができる。導電性材料に貫通孔が無い場合、磁気層内のギャップの面積（プラス全てのマージンの面積、上記参照）は、総導電面積に等しい。
【００４０】
好ましい実施形態によれば、磁気層の総面積（すなわち、総磁気面積と磁化可能な材料が存在しない領域の面積との合計）に対する総磁気面積の比は、少なくとも７０％、好ましくは少なくとも８１％、最も好ましくは８４％である。更に、好ましい実施形態によれば、磁気層の総面積に対する総磁気面積の比は、９７％を超えず、好ましくは９４％を超えず、最も好ましくは８９％を超えない。
【００４１】
磁気層の総面積に対する総磁気面積の上記の比は、エネルギーを１次側導体アセンブリから２次側受け取りデバイスへ伝送するシステムの結果として生じるインダクタンスの、受け取りデバイスと１次側導体アセンブリとの相対的位置に対する（上述の）感度が特に低いという利点を有する。具体的には、その比は１次側導体アセンブリの磁気層までの距離に依存する。好ましくは、この距離は２０ｃｍを超えない。この場合、その比は、少なくとも８１％であるように、好ましくは、少なくとも８４％であるように選ぶことができ、且つ９４％を超えないように、好ましくは、８９％を超えないように選ぶことができる。具体的には、これらの値の限度が満たされるならば、導電体のコイルのインダクタンス（下記参照）は、磁気層までのコイルの距離が３０ｃｍからプラスまたはマイナス１０ｃｍ変わるのであれば、プラスまたはマイナス５％より大きくは変わらない。
【００４２】
より一般的に言えば、磁化可能な材料から作られている素子によって占められている方の（上述の）磁界整形層内の面積の、磁化可能な材料が存在しない磁界整形層内の領域も含む方の磁界整形層の総面積に対する比は、これらの限度内が好ましい。上述の複合層に関して、磁化可能な材料から作られている複数の素子は、磁気層を形成するように配置されるのが好ましく、磁化可能な材料から作られている素子によって占められている方の磁気層内の面積の、磁化可能な材料が存在しない磁気層内の領域も含む方の磁気層の総面積に対する比は、これらの限度内が好ましい。
【００４３】
導電性材料によってその後ろ側が覆われている素子の間にギャップを残す磁化可能な材料との組み合わせは、導電体のコイルのインダクタンスに対する補償効果を有する、すなわち、コイルが導電性材料の近くに位置するほどインダクタンスがより小さくなり、コイルが磁化可能な材料の近くに位置するほどインダクタンスがより大きくなる。材料の組み合わせの補償効果が、受け取りデバイスと１次側導体アセンブリとの相対的な位置に対する感度の低減の理由である。
【００４４】
具体的には、本発明は車両用の（鉄道または道路のような）経路の構築に適用可能である。
【００４５】
本発明の例及び好ましい実施形態を添付の図面を参照して説明する。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】支持層上に行及び列に配置されている磁化可能な材料から作られている複数の素子を含む複合層の概略上面図である。
【図２】図１に示す構成に類似の概略上面図である。ここで、素子は構成の一方の側から反対側まで延在する矩形の素子である。
【図３】図１に示す、破線ＩＩＩで印される構成の領域の拡大図である。
【図４】車両が走行または停車することができるトラックまたは道路の表面、埋め込まれた１次側導体構成、及び図１に示す層に類似の複合層を含む構成の断面の概略図である。
【図５】図４の複合層である。ここで、複合層は素子間の３本の直線ギャップに沿ってわずかに折れ曲がっている。
【発明を実施するための形態】
【００４７】
図１に示されている構成は、磁化可能な材料から作られている合計６０個の素子を含み、幾つかの素子は１で示されている。素子１は、それぞれ５個の素子１の列及びそれぞれ１２個の素子の行で配置されている。列及び行ごとの上記の素子の数は単に一例であり、変えることができ、実際には所望の構成、特に層の所望の寸法に依存する。
【００４８】
隣接の素子１（図３も参照）の各対の間は、磁化可能な材料が存在しない対応するギャップ２が隣接の素子１の間に存在するように距離があいている。実際には、これらのギャップには材料が全く存在しなくてもよいし、または少なくとも部分的には他の（磁化可能ではない）材料が含まれていてもよい。
【００４９】
素子１の下に支持層３が存在する。更に、図３に示すように、支持層３の外形は、支持層３の外形の隣に位置する素子１ａ、１ｂ、１ｃの縁部まで距離２２を隔てて延在する。
【００５０】
２つの隣接の素子１の間の、例えば素子１ａと素子１ｃとの間のギャップは、参照番号２及び隣接の素子を表すために使われる文字によって表される（例えば、隣接の素子１ａ、１ｃの間のギャップは図３において２ａ、２ｃで表される）。ギャップは、一直線の連続したギャップを形成するように整列される。具体的には、隣接の素子１の全ての対の間のギャップは同じ幅を有する（すなわち、隣接の素子の間の距離は同じである）。
【００５１】
例えば、図１に示す実施形態の場合、素子１の（図１の水平方向の）長さ及び（図１の垂直方向の）幅は、等しくすることもでき、１０ｃｍであってもよい。この場合、対応するギャップ２を挟んだ任意の２つの隣接の素子１の間の距離は、例えば、０．７５から１．２５ｃｍまでの範囲でもよく、好ましくは、０．９から１．１ｃｍまでの範囲でもよく、１ｃｍであってもよい。
【００５２】
図５に関連して説明するように、支持層は連続した一直線のギャップに沿って折ることができる。これは図２に示す変更した構成でも可能であるが、この種の複合層は好ましくない。図２に示す構成の素子１１は、図１に示す構成に比べて横方向（図２において垂直方向）に、より広い。個別の素子１１は横方向の一方の側から横方向の反対の側まで延在する。素子１１の下の支持層は１３で表される。
【００５３】
例えば、図２に示す実施形態の場合、素子１１の（図１の水平方向の）長さは、等しくすることもでき、１０ｃｍであってもよい。この場合、対応するギャップを挟んだ任意の２つの隣接の素子１１の間の距離は、例えば、０．８５から１．３５ｃｍまでの範囲でもよく、好ましくは、１．０から１．２ｃｍまでの範囲でもよく、１．１ｃｍであってもよい。
【００５４】
図１及び図２に示されている距離以外について、上から見て、支持層３、１３の外形から素子１、１１の縁部までの間の距離が無くてもよい。
【００５５】
図４に示す断面図は異なる方法で解釈できる。ある場合では、図４の水平方向は長手方向に延在し、そのため、図４の画像面に垂直な方向が横方向である。この場合、素子１ｅ、１ｆ、１ｇ、１ｈの数は、長手方向に互いに前後して配置される磁化可能な材料から作られている連続的な素子群の総数ではないのが好ましい。
【００５６】
図４の他の解釈によれば、図の水平方向は横方向であり、そのため、磁界整形層の長手方向が図４の画像面に垂直に延在する。この場合、連続的に互いに隣接して配置されている４つの素子１ｅ、１ｆ、１ｇ、１ｈの数は、素子の総数であってもよい（しかし、実際には、横方向に、より多くの連続的な素子があってもよいし、またはより少なくてもよい）。いずれの場合においても、素子１は支持層２３によって支持される。具体的には、素子１は、支持層２３の上面に、例えば接着剤を使用して固定することができる。接着剤は示されていないが、接着剤の存在により、素子１は、垂直方向にある距離（例えば、数ｍｍ）隔てて、すなわち、支持層の上面の上方に、配置される。
【００５７】
素子１の上面の上方から、ある距離隔てたところには、車両（図示されていない）の受け取りデバイスによって受け取られることになる電磁界を−運転時に−生成する１次側導体構成２６が位置する。図４の例では、１次側導体構成２６は、地中に埋設されているか、または車両のトラックに統合されており、トラックの表面は２５で示されている。
【００５８】
幾つかの磁束線Ｆの経路が図４に示されている。しかしながら、素子１の領域における磁束線Ｆの一部分のみが示されている。磁束線Ｆは、素子１の磁化可能な材料が磁化可能な材料の延在を辿るように磁束線Ｆの方向を変えるので、素子１の上方から素子１の延在に沿って湾曲している。図示の磁束線Ｆは単に例である。他の磁束線は他の位置から、例えば、素子１の上面から素子１の材料に入ることもできる。
【００５９】
図１〜図４の例示による磁界整形層の水平方向の延在は好ましいが、１次側導体構成に関連して磁界整形層を使用する唯一の方法ではない。例えば、磁界整形層または追加の磁界整形層は、水平面に対して傾斜していてもよいし、且つ／または１次側導体構成の横方向に配置されてもよい。また、支持層及び支持層に固定されている素子を含む同一の複合層が１次側導体構成の下方に及び横側に（横方向に）延在することも可能である。
【００６０】
図５は、例えば、図４の複合層２３、１ｅ〜１ｈが、隣接の素子１の間のギャップに沿って折ることができることを示す。図５に示す状態で、複合層は３つのギャップ２ｅｆ、２ｆｇ、２ｇｈの各々に沿って折られている。図５に示す折り曲げ角度は２０度であるが、支持層２３の柔軟性に応じて、且つ隣接の素子１の間の各ギャップの幅に応じて、折り曲げ角度をより大きくすることができる。例えば、図５に示す構成は、コイルを形成するように、または互いに積層される層セクションを形成するように折ることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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