(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体又は液体状の除去溶剤を使用して、使用者の爪に接着又は塗布されたネイルを使用者の爪から浮かせるネイル除去補助装置であって、
使用者の指を挿入可能な挿入穴と、前記除去溶剤を収容する収容部と、前記収容部内の除去溶剤を気化する気化手段と、を有し、
前記挿入穴は、前記収容部の内外と連通するものであり、
前記ネイルを浮かせる際には、使用者の指を前記挿入穴に挿入し、前記収容部内で気化させた除去溶剤に前記ネイルを晒すことを特徴とするネイル除去補助装置。
【請求項２】
前記挿入穴の一部を閉塞する制限部材を有し、
前記制限部材は、前記挿入穴から気化した除去溶剤が前記収容部の外部へ放出されることを制限することを特徴とする請求項１に記載のネイル除去補助装置。
【請求項３】
前記気化手段は、加熱ヒータを有し、
前記加熱ヒータは、気体状又は液体状の熱媒体を経由して前記収容部を加熱することを特徴とする請求項１又は２に記載のネイル除去補助装置。
【請求項４】
前記挿入穴を複数有し、
前記複数の挿入穴は、同一面上に間隔を空けて並列していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のネイル除去補助装置。
【請求項５】
各挿入穴は、前記収容部の内部で連続していることを特徴とする請求項４に記載のネイル除去補助装置。
【請求項６】
外蓋と、内蓋を有し、
前記外蓋は、前記内蓋の外側を覆うものであって、かつ、前記内蓋に対して着脱可能であり、
前記外蓋は、前記挿入穴の一部を形成する第１挿入穴を備えており、
前記内蓋は、前記挿入穴の一部を形成する第２挿入穴と、前記第２挿入穴とは別に前記収容部の内外を連通する連通穴を有し、
前記外蓋を前記内蓋から取り外した状態において、前記連通穴は外部に露出しており、
前記外蓋を前記内蓋に取りつけた状態において、前記外蓋は、前記連通穴を閉塞することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のネイル除去補助装置。
【請求項７】
閉塞蓋を有し、
前記閉塞蓋は、前記外蓋の外側を覆うものであって、かつ、前記外蓋に対して着脱可能であり、
前記閉塞蓋は、前記外蓋に取り付けた状態において、前記挿入穴を閉塞していることを特徴とする請求項６に記載のネイル除去補助装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載のネイル除去補助装置を備え、
前記ネイル除去補助装置によって、前記スチーム状の除去溶剤を使用者の爪に塗布されたジェルポリッシュ又はＵＶジェルネイルに晒して、使用者の爪から浮かせることを特徴とするスチームジェルポリッシュ・ＵＶジェル除去装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジェルネイルやスカルプチュア、ネイルポリッシュ等のネイルを除去しやすくするネイル除去補助装置に関する。特に本発明は、スチーム状の除去溶剤にネイルを晒すネイル除去補助装置に関する。また、本発明は、当該ネイル除去補助装置を使用し、ジェルポリッシュやＵＶジェルネイルを除去する際に好適なスチームジェルポリッシュ・ＵＶジェル除去装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、一部の女性等は、ファッション感覚や爪の補強の目的で、ネイルサロン等にて、指の爪に模様や色が施されたジェルネイル等のネイルを施している。そして、通常、ネイルの模様や色に飽きてしまったときやネイルの表面が摩耗して模様等がかすれてしまった場合、爪が長くなった場合等に、再度、ネイルサロン等でネイルを爪から剥がしている。
【０００３】
このネイルを爪から剥がす施術方法としては、次のようなものがある。
例えば、あらかじめアセトンを含んだ除去溶剤を浸みこませた綿をネイル上に載せ、その状態でアルミホイルを指ごと巻きつけて姿勢を保持し、温めながら所定時間放置する。そして、その状態で所定時間が経過するとアルミホイル及び綿を指から取り外して、爪上に浮いてきたネイルを剥がすという施術方法がある。
【０００４】
しかしながら、この従来の施術方法では、アルミホイルを各指に巻きつける必要があり、手間がかかるという問題があった。
そこで、近年では、アルミホイルを指に巻かずにネイルを剥離できるネイル除去補助器が開発されている（例えば、特許文献１）。
特許文献１に記載のネイル除去補助器は、樹脂製の上側片及び下側片と、上側片及び下側片を閉じ方向に付勢したバネを備えており、リムーバー液を浸みこませた綿をネイル上に載せた状態でこれら上側片と下側片で挟むことによって、綿をネイル上に載せた姿勢で保持するものである。特許文献１に記載のネイル除去補助器によれば、アルミホイルを各指に巻きつける必要がなくなり、手間が省けるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４５２１７８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載のネイル除去補助器を使用した場合でも、各爪を施術する際に、除去溶剤を綿にしみこませて、ネイルに精度良く接触させなければならない。そのため、ネイルに綿が正確に当たるように綿の位置を調整しなければならず、手間の改善という観点から、未だ改良の余地が残っている。
【０００７】
そこで、本発明は、従来に比べて、簡単でかつ手間をかけずにジェルネイル等のネイルの除去が容易となるネイル除去補助装置を提供することを課題とする。また、本発明は、ネイル除去補助装置を使用してジェルポリッシュ又はＵＶジェルネイルの除去を容易にするスチームジェルポリッシュ・ＵＶジェル除去装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記した課題を解決するための請求項１に記載の発明は、固体又は液体状の除去溶剤を使用して、使用者の爪に接着又は塗布されたネイルを使用者の爪から浮かせるネイル除去補助装置であって、使用者の指を挿入可能な挿入穴と、前記除去溶剤を収容する収容部と、前記収容部内の除去溶剤を気化する気化手段と、を有し、前記挿入穴は、前記収容部の内外と連通するものであり、前記ネイルを浮かせる際には、使用者の指を前記挿入穴に挿入し、前記収容部内で気化させた除去溶剤に前記ネイルを晒すことを特徴とするネイル除去補助装置である。
【０００９】
ここでいう「ネイル」とは、ジェルネイルやスカルプチュアなどの人工爪やネイルポリッシュなどの人工皮膜を含む概念である。つまり、「ネイル」には、例えば、ジェルポリッシュやＵＶジェルネイル、ＬＥＤジェルネイルなども含まれる。
ここでいう「固体状」とは、半固体状やゲル状を含む。
ここでいう「液体状」とは、ゾル状等の流動性を持つ流動体全般を含む。
【００１０】
本発明の構成によれば、使用者の爪上に形成されたネイルを浮かせる際に、使用者の指を挿入穴に挿入し、気体状の除去溶剤を含んだ雰囲気下にネイルを置くので、直接ネイルを浮かせることができる。すなわち、本発明の構成によれば、あらかじめ綿等に除去溶剤を浸みこませる必要がなく、指をアルミホイルで巻く必要もない。そのため、作業性がよく、容易にネイルを爪から浮かせることができる。
また、本発明の構成によれば、気化させた除去溶剤を使用するため、ネイルと爪の間に除去溶剤が浸みこみやすく、短時間でネイルを爪から浮かせることができる。
【００１１】
請求項２に記載の発明は、前記挿入穴の一部を閉塞する制限部材を有し、前記制限部材は、前記挿入穴から気化した除去溶剤が前記収容部の外部へ放出されることを制限することを特徴とする請求項１に記載のネイル除去補助装置である。
【００１２】
本発明の構成によれば、制限部材によって、挿入穴の一部が閉塞され、挿入穴から気化した除去溶剤が収容部の外部へ放出されることを制限されているので、使用者が気化した除去溶剤を吸引してしまうことを防止できる。すなわち、本発明の構成によれば、除去溶剤としてアセトン等の有機溶媒を使用した場合であっても、使用者が吸引しにくく、安全性が高い。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、前記気化手段は、加熱ヒータを有し、前記加熱ヒータは、気体状又は液体状の熱媒体を経由して前記収容部を加熱することを特徴とする請求項１又は２に記載のネイル除去補助装置である。
【００１４】
本発明の構成によれば、加熱ヒータは、自己で発生させた熱を気体状又は液体状の熱媒体を経由して収容部に伝熱する。すなわち、加熱ヒータが直接収容部を加熱せず、他の熱媒体を介して収容部を間接的に加熱しているので、収容部が過剰に高温にならず、使用者が火傷等しにくい。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、前記挿入穴を複数有し、前記複数の挿入穴は、同一面上に間隔を空けて並列していることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のネイル除去補助装置である。
【００１６】
本発明の構成によれば、複数の挿入穴を備えているので、一度に複数本の指を挿入穴に挿入して、同時に施術することができる。そのため、より短時間でより多くのネイルを浮かせることができる。
【００１７】
請求項５に記載の発明は、各挿入穴は、前記収容部の内部で連続していることを特徴とする請求項４に記載のネイル除去補助装置である。
【００１８】
本発明の構成によれば、各挿入穴は、収容部の内部で連続しているので、同一の除去溶剤を使用して、各爪に設けられたネイルに対して施術することができ、コストを低減できる。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、外蓋と、内蓋を有し、前記外蓋は、前記内蓋の外側を覆うものであって、かつ、前記内蓋に対して着脱可能であり、前記外蓋は、前記挿入穴の一部を形成する第１挿入穴を備えており、前記内蓋は、前記挿入穴の一部を形成する第２挿入穴と、前記第２挿入穴とは別に前記収容部の内外を連通する連通穴を有し、前記外蓋を前記内蓋から取り外した状態において、前記連通穴は外部に露出しており、前記外蓋を前記内蓋に取りつけた状態において、前記外蓋は、前記連通穴を閉塞することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のネイル除去補助装置である。
【００２０】
本発明の構成によれば、使用開始時や収容部に除去溶剤がなくなったときに、外蓋を内蓋から取り外すことによって、収容部の内外に連通する連通穴が外部に露出するので、例えば、除去溶剤を連通穴から収容部への導入することが可能である。また、例えば、連通穴に指を引っかけて内蓋を収容部から取り外すことも可能である。
また、本発明の構成によれば、使用時において、外蓋を内蓋に取りつけることによって、外蓋が連通穴を閉塞するので、除去溶剤が連通穴からこぼれたり、漏れたりすることを防止できる。
【００２１】
上記した発明において、前記外蓋を前記内蓋に取りつけた状態において、前記制限部材は、前記内蓋と前記外蓋の間に介在していることが好ましい。
【００２２】
請求項７に記載の発明は、閉塞蓋を有し、前記閉塞蓋は、前記外蓋の外側を覆うものであって、かつ、前記外蓋に対して着脱可能であり、前記閉塞蓋は、前記外蓋に取り付けた状態において、前記挿入穴を閉塞していることを特徴とする請求項６に記載のネイル除去補助装置である。
【００２３】
本発明の構成によれば、不使用時に閉塞蓋を外蓋に取り付けることによって、挿入穴を閉塞するので、除去溶剤が外部に漏れることを防止できる。
【００２４】
請求項８に記載の発明は、請求項１〜７のいずれかに記載のネイル除去補助装置を備え、前記ネイル除去補助装置によって、前記スチーム状の除去溶剤を使用者の爪に塗布されたジェルポリッシュ又はＵＶジェルネイルに晒して、使用者の爪から浮かせることを特徴とするスチームジェルポリッシュ・ＵＶジェル除去装置である。
【００２５】
本発明の構成によれば、ジェルポリッシュ又はＵＶジェルネイルを容易に除去できる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明のネイル除去補助装置及びスチームジェルポリッシュ・ＵＶジェル除去装置によれば、簡単でかつ手間をかけずにネイルの除去が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の第１実施形態のネイル除去補助装置を正面側からみた斜視図である。
【図２】図１のネイル除去補助装置を背面側からみた斜視図である。
【図３】図２のネイル除去補助装置の分解斜視図である。
【図４】図３の筐体部の分解斜視図である。
【図５】図４の気化手段の分解斜視図である。
【図６】図３の蓋部の分解斜視図である。
【図７】図１のネイル除去補助装置の縦断面図である。
【図８】図１のネイル除去補助装置を導入可能状態に変更する際の状況を示した斜視図である。
【図９】図１のネイル除去補助装置の収容部に除去溶剤を導入する際の状態を表す断面図である。
【図１０】図１の挿入可能状態のネイル除去補助装置を示した斜視図である。
【図１１】図１０のネイル除去補助装置を用いてネイルを剥がす過程を表す説明図であり、（ａ）は挿入可能状態を表し、（ｂ）は指を入れた状態を表し、（ｃ）は指を抜く際の状態を表す。
【図１２】図１のネイル除去補助装置の説明図であり、図９とは別の方法によって除去溶剤を収容部に導入する際の状態を表す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の第１実施形態のネイル除去補助装置１について説明する。なお、特に断りのない限り、上下の位置関係は、通常の設置姿勢を基準とする。
【００２９】
本発明の本実施形態のネイル除去補助装置１は、ネイルサロン等で主に使用されるものである。ネイル除去補助装置１は、スチーム状の除去溶剤をジェルネイルやスカルプチュア、ネイルポリッシュ、ジェルポリッシュ等のネイルに晒して、被施術者の爪からネイルを除去するものである。つまり、ネイル除去補助装置１は、被施術者の爪に接着又は塗布されたネイルを被施術者の爪から剥がしやすくする装置である。本実施形態のネイル除去補助装置１は、ネイルの中でもジェルポリッシュ又はＵＶジェルネイルを被施術者の爪から除去する際に好適に使用されるスチームジェルポリッシュ・ＵＶジェル除去装置である。
【００３０】
ネイル除去補助装置１は、図１，図３から読み取れるように、主構成要素として、筐体部２と、蓋部３と、収容部４を備えており、収容部４に除去溶剤を導入して施術するものである。
【００３１】
筐体部２は、図３のように、上方に向けて開口した箱状の部材であり、その内部に収容部４を収容して取り付け可能となっている。
筐体部２は、図４のように、主に、土台部５と、気化手段６と、中座部７から構成されている。
【００３２】
土台部５は、図１，図４から読み取れるように、ネイル除去補助装置１の土台となる部位であって、ネイル除去補助装置１の外郭を構成する部材である。土台部５は、図４のように、皿状であって、平面視円形状をしている。土台部５は、その底部から上方に向けて突出した固定部２３を複数備えている。
固定部２３は、公知の締結要素を用いて土台部５を中座部７に対して固定する部位である。
【００３３】
気化手段６は、収容部４内に収容された除去溶剤を気化させるものである。
気化手段６は、図５に示されるように、主に制御基板８と、気化用固定部９と、加熱ヒータ１０と、加熱皿１１と、温度検知手段１２と、オーリング１３から構成されている。
【００３４】
制御基板８は、加熱ヒータ１０等の出力を制御する基板であり、温度検知手段１２の検知温度に基づいて加熱ヒータ１０の出力をオンオフ制御可能となっている。
【００３５】
気化用固定部９は、加熱ヒータ１０と、加熱皿１１を保持し、その状態で中座部７に対して固定する部材である。
気化用固定部９は、図５のように、下方に向けて窪んだ皿状をしており、その内部に加熱皿１１の一部を挿着可能となっている。
【００３６】
気化用固定部９は、本体部２１と、中座用取付部２２を備えている。
本体部２１は、加熱皿１１を挿入して所定の姿勢で固定する部位である。本体部２１は、底面部３２と、底面部３２の縁端部から上方に向けて立設された立壁部３３を備えており、底面部３２の上方に底面部３２及び立壁部３３によって囲繞された固定空間３４を形成している。
底面部３２は、中央に開口部３５を備えており、その開口部を囲むようにヒータ支持部２０を備えている。
ヒータ支持部２０は、加熱ヒータ１０を支持し、加熱ヒータ１０と底面部３２との接触面積を減らす部位である。
ヒータ支持部２０は、具体的には、底面部３２の上面から上方に向けて突出した突条であり、開口部３５の周囲を円環状に囲んでいる。
【００３７】
中座用取付部２２は、本体部２１を中座部７に対して所定の姿勢となるように取り付ける部位である。
中座用取付部２２は、立壁部３３から外側に向けて突出した突出片であり、公知の締結要素によって、加熱皿１１の外側で中座部７と固定可能となっている。
【００３８】
加熱ヒータ１０は、公知の面ヒータであり、図５のように、面状に広がりを持った加熱部１５を備えている。
加熱ヒータ１０は、温度検知手段１２とともに制御基板８に接続されており、制御基板８によって、温度検知手段１２が検知する温度に基づいて出力を調整することが可能となっている。
【００３９】
加熱皿１１は、金属製の皿であり、伝熱性をもつ部材である。加熱皿１１の材質は、伝熱性を持つものであれば、特に限定されるものではない。本実施形態の加熱皿１１は、ステンレス鋼製となっている。
加熱皿１１は、図５のように、円形状の底面部１６と、底面部１６の周端部から上方に向けて立設された側面部１７を備えており、底面部１６の上方に底面部１６及び側面部１７によって囲繞された囲繞空間１８を形成している。また、この囲繞空間１８は、上方に向けて開放している。
【００４０】
温度検知手段１２は、加熱皿１１の温度を検知する部材であり、具体的には、公知の熱電対である。温度検知手段１２は、加熱皿１１の一部に接触させることによってその接触部分の温度を検知可能となっている。
【００４１】
オーリング１３は、公知のオーリングであり、加熱皿１１の側面部１７の上端部を中座部７の一部に密着させる部材である。
【００４２】
中座部７は、図１のように、土台部５とともに、ネイル除去補助装置１の外郭を構成する部位であり、土台部５の周縁部から上方に向けて立ち上がった部位である。
中座部７は、図１，図２，図７から読み取れるように、外郭形成部２５と、気化用取付部２６と、支持部２７と、スイッチ部２８と、電源接続部２９と、表示部３０を備えている。
【００４３】
外郭形成部２５は、図４のように、中座部７の外郭を形成する部位である。外郭形成部２５は、上方に向けて外径が縮径した円筒状であって、外形形状が略円錐台状をしている。すなわち、外郭形成部２５は、その内部に上下方向に貫通した空間３１を備えている。
気化用取付部２６は、図７のように、外郭形成部２５の内側面から中央側に向かって立ち上がった壁部である。気化用取付部２６は、公知の締結要素によって、気化手段６の中座用取付部２２を取り付け可能となっている。
【００４４】
支持部２７は、収容部４及び蓋部３を支持する部位であり、上下方向において、収容部４及び蓋部３の一部と係合可能となっている。
具体的には、支持部２７は、図４に示されるように、外郭形成部２５の内側面から空間３１の中央側に向かって突出した立壁部であり、空間３１を中心として周方向に無端状に延びている。
【００４５】
ここで、筐体部２を構成する各部位の位置関係について説明する。
【００４６】
筐体部２は、図５，図７から読み取れるように、ヒータ支持部２０上に加熱ヒータ１０が載置されており、さらに加熱ヒータ１０の加熱部１５上に加熱皿１１が載置されている。加熱ヒータ１０の加熱部１５は、加熱皿１１の底面部１６と面接触しており、加熱皿１１の底面部１６を面状に加熱可能となっている。
また気化用固定部９は、加熱ヒータ１０の上方から固定空間３４内に加熱皿１１が挿入されている。加熱皿１１の一部には、温度検知手段１２が接触しており、加熱皿１１の温度が測定可能となっている。
支持部２７は、気化用取付部２６よりも上方に離間して位置しており、加熱皿１１の側面部１７は、その上端部が支持部２７によって覆われている。支持部２７と加熱皿１１の側面部１７の上端部の間には、オーリング１３が配されている。
【００４７】
表示部３０は、図１，図２から読み取れるように、中座部７の正面側に設けられており、スイッチ部２８及び電源接続部２９は、背面側に設けられている。スイッチ部２８は、電源接続部２９よりもやや上方に位置している。
【００４８】
蓋部３は、図６に示されるように、挿入蓋部５０と、閉塞蓋部５１（閉塞蓋）とから構成されている。
挿入蓋部５０は、図１０のように、被施術者の指の一部を挿入可能な挿入穴５２を複数備えている。本実施形態では、挿入蓋部５０は、５つの挿入穴５２を備えており、各挿入穴５２は、同一面状に間隔を空けて並列されている。具体的には、挿入穴５２は、対応する五指のそれぞれを挿入可能となっている。
【００４９】
挿入蓋部５０は、図６に示されるように、第１蓋部５５（外蓋）と、制限部材５６と、第２蓋部５７（内蓋）から構成されている。
第１蓋部５５は、中座部７に対して着脱可能に取り付けられる部材である。第１蓋部５５は、図６のように、上に凸の曲面を持った部位であり、天面壁部５８と、天面壁部５８の端部から下方に向けて立設した側面壁部５９と、天面壁部５８の中央から下方に向けて突出した第１係合部６４を備えている。
【００５０】
天面壁部５８は、第１蓋部５５の天面を構成し、緩やかに湾曲した部位である。天面壁部５８は、複数の第１挿入穴６０と、開閉誘導部６１を備えている。
第１挿入穴６０は、挿入穴５２の一部を形成する部位であり、上下方向に延びた貫通孔である。第１挿入穴６０の断面積は、指が入る大きさとなっており、直径が３ｃｍ〜４ｃｍ程度となっている。本実施形態では、第１挿入穴６０の断面積は、いずれも同じとなっている。そのため、右利き及び左利きのいずれの被施術者でも使用可能となっている。
【００５１】
開閉誘導部６１は、第１蓋部５５の第２蓋部５７に対する開閉方向を示す部位である。本実施形態では、第１蓋部５５を第２蓋部５７に対して取り付ける際の閉方向を示す矢印が記載されており、使用者（被施術者及び施術者を含む）に開閉方向を誘導可能となっている。
側面壁部５９は、天面壁部５８の周縁部から垂下した部位であり、中座側係合部６２を備えている。中座側係合部６２は、中座部７の一部と係合可能な部位である。
【００５２】
第１係合部６４は、第１蓋部５５、制限部材５６、及び第２蓋部５７を一体化させる部位であり、第２蓋部５７の一部と係合可能な部位である。第１係合部６４は、外形形状が円形状の棒状部位であり、その外周面が第２蓋部５７の係合部７８と係合可能となっている。
【００５３】
制限部材５６は、除去溶剤が収容部４の外部に放出されることを制限する部材である。  制限部材５６は、図６のように、シート状であって、除去溶剤に対して耐性をもっている。制限部材５６の材質としては、除去溶剤に対して耐性を持っていれば、特に限定されない。本実施形態の制限部材５６は、ブラックラバー製となっている。
制限部材５６は、平面視したときに円弧の一部を切り欠いた形状をしており、円弧部分７１と直線部分７２から構成されている。
【００５４】
制限部材５６は、図６のように、切り込み部６５と、第１貫通孔６６を備えている。
切り込み部６５は、平面視したときに挿入穴５２の中央側の所定の位置から内周縁側に向かって延びた少なくとも３つの切り込みによって形成されている。
具体的には、切り込み部６５は、「十」字状のスリットであり、所定の方向に延びた第１スリット６７，６７と、第１スリット６７と交差する第２スリット６８，６８から構成されている。
第１スリット６７，６７は、互いに離反するように同一直線上に並んでおり、第２スリット６８，６８も互いに離反するように同一直線上に並んでいる。すなわち、スリット６７，６７，６８，６８のそれぞれの基端部は一致しており、そこから異なる方向に延びている。
【００５５】
また、切り込み部６５は、別の観点から視ると、図６の拡大図のように、少なくとも３つの封止片７０から構成されている。各封止片７０は、中央側に向けて片持ち状に支持されており、各封止片７０の角部は、中央で近接している。また、封止片７０の一辺は、隣接する封止片７０の辺と面方向に対向して、近接している。
また、切り込み部６５は、複数形成されており、円弧部分７１に沿って周方向に並設されている。
【００５６】
第１貫通孔６６は、図６のように、制限部材５６を部材厚方向に貫通した貫通孔であり、第１蓋部５５の第１係合部６４を挿通可能な挿通孔である。
第１貫通孔６６の開口面積は、各挿入穴５２の開口面積よりも大きい。本実施形態の第１貫通孔６６の開口面積は、挿入穴５２の開口面積の１．２倍〜２倍となっている。
第１貫通孔６６は、制限部材５６の略中央に位置しており、各切り込み部６５によって囲まれている。
【００５７】
第２蓋部５７は、図６のように、制限部材５６の位置決め可能な位置決め部７５と、複数の第２挿入穴７６と、第２貫通孔７７を備えている。
位置決め部７５は、制限部材５６の端部を固定する部位であり、制限部材５６の面方向のずれを防止する部位である。
第２挿入穴７６は、第１挿入穴６０とともに挿入穴５２の一部を形成する部位であり、上下方向に延びた貫通孔である。
第２挿入穴７６の断面積は、第１挿入穴６０の断面積と同程度であり、指が入る大きさとなっている。本実施形態では、第２挿入穴７６の断面積は、第１挿入穴６０と同様、いずれも同じとなっている。そのため、右利き及び左利きのいずれの被施術者でも使用可能となっている。
【００５８】
第２貫通孔７７は、図６のように、第２蓋部５７の略中央に位置しており、その周囲に各第２挿入穴７６が並設されている。
第２貫通孔７７は、第２蓋部５７を部材厚方向に貫通した貫通孔であり、第１蓋部５５の第１係合部６４を挿着可能な孔である。
第２貫通孔７７の開口面積は、第１貫通孔６６の開口面積と同程度となっている。
第２貫通孔７７は、深さがあり、その内周面に第１係合部６４と係合可能な第２係合部７８を備えている。
【００５９】
閉塞蓋部５１は、挿入蓋部５０に対して着脱可能に取り付けられる部材であり、挿入蓋部５０に取り付けた際に各挿入穴５２を閉塞する部材である。閉塞蓋部５１は、平面視円形状の蓋体であり、天面形成部８０と、天面形成部８０の外周から立ちあがった側面形成部８１から形成されている。
天面形成部８０は、中央から側面形成部８１に向けて円弧状に湾曲している。天面形成部８０と側面形成部８１との境界部分は、面取りされており、緩やかに丸みを帯びている。
【００６０】
ここで、蓋部３の各部位の位置関係について説明する。
蓋部３は、図６のように、挿入蓋部５０の外側に閉塞蓋部５１が覆っている。具体的には、閉塞蓋部５１は、天面形成部８０が第１蓋部５５の大部分を覆っており、全ての挿入穴５２を閉塞している。すなわち、平面視したときに、各挿入穴５２は、閉塞蓋部５１の天面形成部８０によって隠されており、視認不能となっている。
制限部材５６は、第２蓋部５７の位置決め部７５に配されており、第１蓋部５５は、制限部材５６を覆うように外側に配されている。すなわち、制限部材５６は、第１蓋部５５と第２蓋部５７の間に配されており、第２蓋部５７と第１蓋部５５によって挟まれている。
【００６１】
第１蓋部５５の第１挿入穴６０は、図７から読み取れるように、第２蓋部５７の第２挿入穴７６と同一直線上に並んでおり、それぞれ連通孔たる挿入穴５２を形成している。制限部材５６は、第１挿入穴６０及び第２挿入穴７６の境界部分に配されており、第１挿入穴６０及び第２挿入穴７６のそれぞれの開口を遮っている。
制限部材５６の切り込み部６５は、平面視したときに、その大部分が第１挿入穴６０及び第２挿入穴７６の開口内に位置している。すなわち、制限部材５６の封止片７０は、第１蓋部５５と第２蓋部５７に挟まれることによって、第１挿入穴６０及び第２挿入穴７６の開口縁から中央側に向かって片持ち状に支持されている。
制限部材５６の第１貫通孔６６は、第２蓋部５７の第２貫通孔７７と同一直線上に並んでおり、それぞれ連通孔５３を形成している。そして、連通孔５３に第１蓋部５５の第１係合部６４が挿入されており、第１蓋部５５の第１係合部６４と第２蓋部５７の第２係合部７８が互いに係合している。
【００６２】
収容部４は、樹脂製であって、液体状又は固体状の除去溶剤を収容可能な部位であり、具体的には、深さのある皿状体である。本実施形態の収容部４は、ポリプロピレン製となっている。
収容部４は、図３のように底面部８５と、側面部８６によって囲繞された収容空間８９を備えている。
底面部８５は、収容部４の底面を構成する部位であり、円形状の部位である。
側面部８６は、収容部４の側面を構成する部位であり、底面部８５の周縁部から上方に向けて立設した部位である。
収容部４の収容空間８９は、図７のように底面部８５側から第１領域８７と、第２領域８８を備えている。
第１領域８７は、実際に除去溶剤を収容する部位であり、同一径で延びた領域である。
第２領域８８は、第１領域８７よりも拡径した領域であり、第１領域８７側から先端側に向けて、漸次断面積が大きくなっている。
【００６３】
除去溶剤は、液体状又は固体状のネイルを剥がすリムーバー溶剤である。
除去溶剤は、揮発性を持ち、ネイルを剥離できるものであれば、特に限定されない。除去溶剤としては、例えば、アセトン、酢酸エチル、及びイソプロパノールから選ばれる少なくとも１種を含有する有機溶媒などが採用できる。
【００６４】
続いて、第１実施形態のネイル除去補助装置１の使用方法に従って、各構成部位の位置関係について説明する。
【００６５】
まず、説明の都合上、不使用状態（閉塞蓋部５１を取り付けた状態）での各部位の位置関係について説明する。
【００６６】
閉塞蓋部５１は、挿入蓋部５０に着脱可能に取り付けられている。すなわち、閉塞蓋部５１は、挿入蓋部５０の各挿入穴５２を閉塞している。
収容部４の一部は、図７のように、加熱皿１１の側面部１７の先端部分で構成される開口を通過して囲繞空間１８内に進入している。
また、囲繞空間１８では、収容部４の外面、加熱皿１１の内面、オーリング１３、及び支持部２７によって密閉されて密閉空間９０が形成されている。
密閉空間９０内には、液体状又は気体状の熱媒体が収容されている。本実施形態の密閉空間９０内には、熱媒体たる空気が充填されている。
各挿入穴５２は、挿入蓋部５０を通過して収容部４の内部で連続している。すなわち、いずれの挿入穴５２も一つの収容部４に繋がっている。
収容部４は、支持部２７上に載置されており、収容部４の上端部の上に挿入蓋部５０が載置されている。また、挿入蓋部５０は、第１蓋部５５の中座側係合部６２が外郭形成部２５の一部と係合している。
また、スイッチ部２８、電源接続部２９、及び表示部３０は、いずれも制御基板８に接続されている。
【００６７】
次に、閉塞蓋部５１を周方向に回転させて挿入蓋部５０を取り外し、さらに図８の矢印のように第１蓋部５５を周方向に回転させて第１蓋部５５及び制限部材５６を取り外して、除去溶剤を収容部４に導入可能な導入可能状態とする。すなわち、この導入可能状態は、閉塞蓋部５１、第１蓋部５５、及び制限部材５６を取り外した状態である。
【００６８】
このとき、第２貫通孔７７は、外部に露出しており、収容部４の空間は、第２貫通孔７７及び各第２挿入穴７６を介して外部に開放されている。
【００６９】
そして、図９のように、第２貫通孔７７から除去溶剤を導入し、除去溶剤の容量を収容部４の第１領域８７の範囲内で溜める。
【００７０】
このとき、収容部４の容量によって適宜設計されるが、第１領域８７内に溜める除去溶剤は、第１領域８７の容量の１０パーセント以上８０パーセント以下であることが好ましい。除去溶剤の性質にも依存するが、１０パーセント未満になると、使用時に除去溶剤がなくなってしまい、空焚き状態となる可能性がある。８０パーセント超過になると、入りすぎて、使用時に指に直接接触する可能性がある。
【００７１】
続いて、第２蓋部５７の位置決め部７５に制限部材５６を設置し、第１蓋部５５を周方向に回転させて第２蓋部５７に対して取り付けて、図１０のように、被施術者が挿入穴５２から指を収容部４に挿入可能な使用可能状態とする。すなわち、使用可能状態は、閉塞蓋部５１が取り外された状態である。
【００７２】
このとき、各挿入穴５２はその開口が外部に露出しており、平面視すると、挿入穴５２は封止片７０によって閉塞されている。
【００７３】
そして、図１１（ａ），図１１（ｂ）から読み取れるように、被施術者の指を各挿入穴５２に挿入し、その状態でスイッチ部２８をオン状態とする。
【００７４】
このとき、加熱ヒータ１０は、通電により加熱されて、加熱皿１１に熱を加える。加熱皿１１に加わった熱は、加熱皿１１と収容部４との間の密閉空間９０内の空気を介して、収容部４に伝熱される。
加熱ヒータ１０は、温度検知手段１２の検知温度に伴って、出力が調整されており、加熱皿１１の温度が一定となるように制御されており、収容空間８９内が過剰な温度にならないように制御されている。そのため、収容部４に伝わった熱が徐々に除去溶剤に加わり、除去溶剤が徐々に昇温して気化し、スチーム状の除去溶剤が収容空間８９内に拡散する。
ここで、図１１（ｂ）のように、被施術者の指によって押圧された制限部材５６の封止片７０は、収容部４側に変形し、挿入穴５２の一部を開放しており、押圧されていない残りの封止片７０は、姿勢を維持しており、挿入穴５２の残部を閉塞している。そのため、収容空間８９は、制限部材５６及び被施術者の指によって閉塞され、気化した除去溶剤が収容空間８９内に充満し、ネイルがスチーム状の除去溶剤に晒されることとなる。
またこのとき、被施術者の指の先端から除去溶剤の液面の距離は、５ｍｍ以上空いていることが好ましい。
【００７５】
時間が経過するにつれて、表示部３０の点灯状態が変わり、所定時間が経過すると、表示部３０が消灯する。表示部３０が消灯すると、図１１（ｃ）のように、被施術者の指を挿入穴５２から抜き、被施術者の爪上形成されたネイルを除去する。
このとき、使用者の指が挿入穴５２から抜けるにつれて、使用者の指から押圧力を受けていた封止片７０が復元し、挿入穴５２を閉塞する。
【００７６】
その後、必要に応じて、公知の剥離機具によって、施術者が被施術者の爪からネイルを剥離する。
【００７７】
また、必要に応じて、スイッチ部２８をオフ状態にし、閉塞蓋部５１を挿入蓋部５０に取り付ける。
【００７８】
第１実施形態のネイル除去補助装置１によれば、除去溶剤を気化し、収容部４内を気体状の除去溶剤で充満させ、そこに被施術者の指を挿入することによって、爪からネイルを浮かせる。そのため、除去溶剤を綿等の吸着部材に吸着させる必要も、アルミホイル等で指を覆う必要もない。すなわち、指を収容部４内に挿入するだけで、爪からネイルを浮かせることができるので簡潔で、煩わしい作業を行う必要がない。
【００７９】
第１実施形態のネイル除去補助装置１によれば、５つの挿入穴５２を備えて、各挿入穴５２が同一の収容部４に繋がっているので、五指をそれぞれの挿入穴に挿入することで、五指とも同時にネイルを浮かせることができる。そのため、ネイルを速やかに爪から除去することができる。
【００８０】
第１実施形態のネイル除去補助装置１によれば、第１蓋部５５と第２蓋部５７との間に制限部材５６が設けられ、施術中に制限部材５６の封止片７０が外部への気体状の除去溶剤の放出を制限しているので、使用者が除去溶剤を吸引しにくい。そのため、安全性が高い。
【００８１】
第１実施形態のネイル除去補助装置１によれば、加熱ヒータ１０は、収容部４を直接加熱せず、加熱皿１１及び加熱皿１１と収容部４間の空気を経由して、収容部４を加熱する。そのため、加熱ヒータ１０によって収容部４が急激に昇温することを防止でき、収容部４の温度変化を緩やかにすることができる。それ故に、収容部４が過度な高温になることを防止でき、不意に被施術者が指で収容部４を触ってしまっても、火傷等することを防止できる。
【００８２】
第１実施形態のネイル除去補助装置１によれば、第１蓋部５５に第１蓋部５５の開閉方向を示す開閉誘導部６１が設けられているので、第１蓋部５５の開閉を間違わずに行うことができる。
【００８３】
上記した実施形態では、連通孔５３から除去溶剤を導入したが、本発明はこれに限定されるものではなく、図１２のように、制限部材５６及び第２蓋部５７を筐体部２から取り外して、直接収容部４に除去溶剤を導入してもよい。
なお、制限部材５６及び第２蓋部５７を筐体部２から取り外すにあたって、連通孔５３に指を入れて筐体部２を取り外してもよい。こうすることによって簡単に取り外すことが可能である。
【００８４】
上記した実施形態では、加熱皿１１と収容部４との間に形成された空間内の空気を利用して収容部４を間接的に加熱したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、加熱皿１１と収容部４との間に形成された空間内に、別の不活性気体や液体溶媒等の気体状又は液体状の熱媒体を入れて、熱媒体を経由して収容部４を間接的に加熱してもよい。また、収容部４を加熱ヒータ１０で直接加熱してもよい。
【００８５】
上記した実施形態では、加熱ヒータ１０によって除去溶剤を加熱して気化させたが、本発明はこれに限定されるものではなく、除去溶剤を気化する方法は問わない。例えば、超音波によって除去溶剤を振動させて、気化させてもよい。
【００８６】
上記した実施形態では、通常、指は五指あることから、挿入穴５２の数を５つとしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、挿入穴５２の数は特に限定されない。４つ以下であってもよいし、６つ以上であってもよい。勿論１つであってもよい。
【符号の説明】
【００８７】
１  ネイル除去補助装置（スチームジェルポリッシュ・ＵＶジェル除去装置）
４  収容部
６  気化手段
１０  加熱ヒータ
５０  挿入蓋部
５１  閉塞蓋部（閉塞蓋）
５２  挿入穴
５５  第１蓋部（外蓋）
５６  制限部材
５７  第２蓋部（内蓋）
６０  第１挿入穴
７６  第２挿入穴
７７  第２貫通孔（連通孔）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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