(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を、圧力が１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの処理空間に通すように搬送方向へ相対移動させながら、前記搬送方向と直交する処理幅方向の各位置から処理ガスを前記処理空間に吹き出して前記被処理物に接触させることによって前記被処理物を表面処理する表面処理装置における、前記処理空間から排気する排気ノズル装置であって、
前記搬送方向と直交する処理幅方向に延在する吸い込み口を有して前記処理幅方向に拡がる吸い込み室と、
前記吸い込み室における前記吸い込み口とは反対側に連なるとともに、前記処理幅方向に間隔を置いて配置された複数の分配路と、
前記複数の分配路を連ねるようにして延び、かつ排気手段に接続された排気路と、
を備え、前記各分配路に固定絞りであるオリフィスが設けられており、前記排気路の上流側から下流側へ向かって複数の分配路が１つずつ順次排気路と接続されていることを特徴とする表面処理用排気ノズル装置。
【請求項２】
前記複数の分配路ひいては前記オリフィスが、前記吸い込み室における前記処理幅方向の両端部間に均等に離散配置されていることを特徴とする請求項１に記載の表面処理用排気ノズル装置。
【請求項３】
前記各オリフィスにおける圧力降下量が、前記排気路における最も上流側の分配路との接続部と最も下流側の分配路との接続部との間の内圧差より大きいことを特徴とする請求項１又は２に記載の表面処理用排気ノズル装置。
【請求項４】
前記各オリフィスの流路断面積が、前記排気路の流路断面積の２００分の１〜５０分の１であることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の表面処理用排気ノズル装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物を処理ガスで表面処理する表面処理装置における排気ノズル装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１では、フィルム状の被処理物をロール電極に巻き付けて搬送するとともに、ロール電極と対向するガス供給口から処理ガスを吹き出して被処理物に接触させ、かつロール電極と対向する角筒電極とロール電極との間で放電を生成することによって、被処理物の表面をプラズマ処理している。さらに、排気ノズルがロール電極と対向するように設けられており、接触後の処理ガスが排気ノズルに吸い込まれて排気される。この排気ノズルにバッフルボードやラビリンスを設けることで、搬送方向と直交する処理幅方向の各位置における排気が均一になるようにしている。さらには、マスフローコントローラーを用いて排気を制御している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−１６２１３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
排気ノズルにバッフルボードやラビリンスを設けると排気構造が複雑になり、設備コストも高くなる。また、排気経路が複雑であるため過度な圧力損失が生じて排気自体に支障が出るおそれがある。さらに、マスフローコントローラーを用いると、設備コストが一層高くなってしまう。
排気を均一にするために、吸い込み室における処理幅方向に離れた複数の位置から分配管を分岐させ、これら分配管を１つの排気路で連ねるとともに、各分配管に流量調節バルブを設け、各バルブの開度を調節することが考えられる。しかし、複数のバルブを１つ１つ開度調節するのは煩雑であり、１つのバルブの開度を変更すると、他のバルブにおける排気流にも影響が出てしまう。また、バルブの分だけ設備コストが嵩む。
本発明は、上記事情に鑑み、表面処理用排気ノズルにおいて、簡易かつ安価な構成によって排気を均一化することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明に係る表面処理用排気ノズル装置は、被処理物を、ほぼ大気圧の処理空間に通すように搬送方向へ相対移動させながら、前記搬送方向と直交する処理幅方向の各位置から処理ガスを前記処理空間に吹き出して前記被処理物に接触させることによって前記被処理物を表面処理する表面処理装置における、前記処理空間から排気する排気ノズル装置であって、
前記搬送方向と直交する処理幅方向に延在する吸い込み口を有して前記処理幅方向に拡がる吸い込み室と、
前記吸い込み室における前記吸い込み口とは反対側に連なるとともに、前記処理幅方向に間隔を置いて配置された複数の分配路と、
前記複数の分配路を連ねるようにして延び、かつ排気手段に接続された排気路と、
を備え、前記各分配路にオリフィスが設けられていることを特徴とする。
この排気ノズル装置によれば、排気手段の駆動によって、処理空間のガスを吸い込み口から吸い込み室に吸い込み、更にオリフィス（固定絞り）を含む複数の分配路、及び排気路を順次経て排気する。このとき、ガスが各オリフィスを通過することによって大きな圧力降下が生じる。このため、排気路全体の内圧が排気手段の設定吸引圧に近くなる。したがって、排気路の内圧のばらつきを小さくできる。これによって、簡易かつ安価な構成によって、吸い込み流量を処理幅方向にほぼ均一化できる。
【０００６】
前記複数の分配路ひいては前記オリフィスが、前記吸い込み室における前記処理幅方向の両端部間に均等に離散配置されていることが好ましい。
これによって、吸い込み流量を処理幅方向に確実に均一化することができる。
【０００７】
好ましくは、前記各オリフィスにおける圧力降下量が、前記排気路における最も上流側の分配路との接続部と最も下流側の分配路との接続部との間の内圧差より大きく、より好ましくは十分に大きい。
これによって、吸い込み流量を処理幅方向に一層確実に均一化することができる。
【０００８】
前記各オリフィスの流路断面積（又は直径）は、前記排気路の流路断面積（又は直径）及び前記排気路の長さに応じて設定することが好ましい。一般的な排気路の大きさを考慮すると、前記各オリフィスの流路断面積は、前記排気路の流路断面積の２００分の１〜５０分の１程度であることが好ましい。或いは、前記各オリフィスの直径は、前記排気路の直径の１５分の１〜８分の１程度であることが好ましい。
これによって、オリフィスにおいて所望の圧力降下量を得ることができ、吸い込み流量を処理幅方向に一層確実に均一化することができる。また、過度な圧力損失で排気に支障を来すのを防止できる。
【０００９】
本発明の表面処理は、大気圧近傍下で行なうことが好ましい。ここで、大気圧近傍とは、１．０１３×１０４〜５０．６６３×１０４Ｐａの範囲を言い、圧力調整の容易化や装置構成の簡便化を考慮すると、１．３３３×１０４〜１０．６６４×１０４Ｐａが好ましく、９．３３１×１０４〜１０．３９７×１０４Ｐａがより好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る表面処理用排気ノズル装置によれば、簡易かつ安価な構成によって排気を均一化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の第１実施形態に係る表面処理用排気ノズルを含む表面処理装置の概略構成を示し、図２のＩ−Ｉ線に沿う側面断面図である。
【図２】図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿う正面断面図である。
【図３】図３は、図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う平面断面図である。
【図４】図４は、図１の円部ＩＶを拡大して示す断面図である。
【図５】図５は、本発明の第２実施形態に係る表面処理用排気ノズルの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を図面にしたがって説明する。
図１〜図３は、本発明の第１実施形態に係る表面処理装置１を示したものである。表面処理装置１によって、被処理物９を表面処理する。表面処理の内容は、特に限定が無く、成膜、表面改質（親水化、撥水化等）、粗面化、エッチング、洗浄、その他の種々の処理内容が挙げられる。被処理物９は、例えばガラス基板にて構成されているが、これに限られず、樹脂フィルム等であってもよい。
【００１３】
図２に示すように、表面処理装置１は、コンベア２（搬送手段）と、ノズルヘッド１０とを備えている。コンベア２によって、被処理物９が水平な搬送方向（図１の紙面と直交する方向、図２の左右方向）に沿って搬送される。
なお、搬送手段は、コンベア２に限られず、ベルトコンベアでもよく、ロボットアームであってもよい。
【００１４】
図１及び図２に示すように、ノズルヘッド１０は、吹き出しノズル１１と、ノズルハウジング１２と、天板１３を有している。ノズルハウジング１２は、一対の側板１２ａ，１２ａと、底板１２ｂと、一対の端板１２ｅ，１２ｅとを有し、上記搬送方向と直交する処理幅方向に長く延びる容器状になっている。一対の側板１２ａ，１２ａが、搬送方向（図２において左右）の両側部に配置されている。一対の端板１２ｅ，１２ｅが、処理幅方向（図１において左右）の両側に配置されている。このノズルハウジング１２の上方に天板１３が配置されている。一対の端板１２ｅ，１２ｅが、側板１２ａよりも上へ突出して、天板１３の端部を支持している。
【００１５】
ノズルハウジング１２の内部には、吹き出しノズル１１が収容されている。吹き出しノズル１１は、処理幅方向に長く延びている。吹き出しノズル１１の上面は、側板１２ａの上端縁とほぼ同じ高さに位置している。図３に示すように、吹き出しノズル１１の上面には、吹き出し口１１ｅが形成されている。吹き出し口１１ｅは、上方へ向かって開口されるとともに、処理幅方向に延びるスリット状になっている。
【００１６】
図１及び図２に示すように、天板１３と吹き出しノズル１１との間に処理空間１９が画成されている。処理空間１９は、処理幅方向に延びる扁平な空間になっている。処理空間１９の搬送方向の両端部は、開口されて被処理物９の搬入出口を構成している。処理空間１９の処理幅方向の両端部は端板１２ｅによって閉じられている。処理空間１９の内圧は、ほぼ大気圧である。この処理空間１９に被処理物９が搬送方向に通される。処理空間１９における搬送方向の中央部に吹き出し口１１ｅが連なっている。
【００１７】
図２に示すように、吹き出しノズル１１に処理ガス供給部３が接続されている。詳細な図示は省略するが、処理ガス供給部３は、一対の電極、電源、及びガス供給源を含む。処理ガスが、ガス供給源から一対の電極どうし間のギャップに供給されるとともに、電源からの電圧供給によって一対の電極間に電界が印加され、電極間にプラズマ放電が生成される。これによって、処理ガスが活性化（プラズマ化、ラジカル化、イオン化等を含む）されることで、反応性を付与される。この処理ガスが、吹き出しノズル１１に導入される。吹き出しノズル１１の内部にはガス均一化部（図示省略）が設けられている。ガス均一化部は、処理幅方向に段階的にツリー状に分岐する拡散路や、処理幅方向に拡がる拡散室等を含み、処理ガスを処理幅方向へほぼ均一に拡散させる。この処理ガスが、吹き出し口１１ｅの処理幅方向の各位置から上方へ吹き出される。処理ガスの吹き出し流は、処理幅方向にほぼ均一になっている。
【００１８】
図１及び図２に示すように、更に、表面処理装置１は、排気ノズル装置２０を備えている。排気ノズル装置２０は、吸い込みチャンバー２１と、複数の分配管２２と、排気管２３を含む。吸い込みチャンバー２１は、ノズルヘッド１０の一部によって構成されている。言い換えると、ノズルヘッド１０が吸い込みチャンバー２１を兼ねている。ノズルハウジング１２と吹き出しノズル１１との間の空間が、吸い込み室２１ａとなっている。吸い込み室２１ａは、ノズルヘッド１０の処理幅方向の全長にわたって拡がっている。この吸い込み室２１ａ内をガスが概略下方へ流れる。すなわち、吸い込み室２１ａ内におけるガスの主な流れ方向は、処理幅方向及び搬送方向に対して交差している。
【００１９】
図２に示すように、吸い込み室２１ａの上端部は、吹き出しノズル１１を挟んで搬送方向の両側（図２において左右）に分かれて配置され、上方へ開口されている。この吸い込み室２１ａの上端部が吸い込み口２１ｅを構成している。すなわち、吸い込み室２１ａは、一対の吸い込み口２１ｅ，２１ｅを有している。図３に示すように、各吸い込み口２１ｅは、ノズルハウジング１２の側板１２ａの上端縁と吹き出しノズル１１との間に形成されており、処理幅方向に延在するスリット状になっている。この吸い込み口２１ｅが処理空間１９の搬送方向の端部に連なっている。一対の吸い込み口２１ｅ，２１ｅどうしの間に、吹き出し口１１ｅが配置されている。
【００２０】
図１に示すように、ノズルヘッド１０ひいては吸い込みチャンバー２１の下方に複数の分配管２２が設けられている。これら分配管２２は、それぞれ上下に延びるとともに、互いに処理幅方向に間隔を置いて配置されている。好ましくは、分配管２２は、吸い込み室２１ａにおける処理幅方向の両端部間に均等に離散配置されている。図１においては、分配管２２の数は６つであるが、これに限られず、２つ〜５つであってもよく、７つ以上であってもよい。好ましくは、分配管２２の数は、ノズルヘッド１０の処理幅方向の長さなどに応じて設定される。各分配管２２の上端部が、ノズルヘッド１０の底板１２ｂに接続され、各分配管２２内の分配路２２ａが、吸い込み室２１ａの底部（吸い込み口２１ｅとは反対側）に連なっている。複数の分配管２２ひいては複数の分配路２２ａの長さ及び直径（流路断面積）は互いに等しい。分配管２２の材質としては、例えばポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等の安価な既存の樹脂管を用いることができる。なお、分配管２２は、樹脂管に限られず、金属管にて構成されていてもよい。
【００２１】
分配管２２の下方には排気管２３が配置されている。排気管２３は、吸い込みチャンバー２１と平行に処理幅方向へ延びている。排気管２３の延び方向（処理幅方向）の複数箇所において分配管２２の下端部が連結されている。これによって、排気管２３内の排気路２３ａが、複数の分配路２２ａを連ねるように延びている。排気管２３は、各分配管２２よりも太く、排気路２３ａの流路断面積は、各分配路２２ａの流路断面積よりも大きい。排気路２３ａの流路断面積は、複数の分配路２２ａ，２２ａ…の流路断面積の合計より大きいことが好ましい。例えば、同一の大きさの分配路２２ａが６つある場合、排気路２３３ａの流路断面積は、１つの分配路２２ａの流路断面積の６倍以上であることが好ましい。排気管２３の上流端（図１において右端）は閉塞されている。排気管２３の下流端（図１において左端）は、排気ブロア４（排気手段）に直接又は主排気管等を介して接続されている。排気管２３の材質としては、例えばポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等の安価な既存の樹脂管を用いることができる。
なお、排気手段は、排気ブロア４に限られず、排気ポンプ等であってもよい。排気手段には、排気ガス中の環境負荷成分を除去、捕捉、分解等するフィルタやスクラバ等の清浄部が付設されていてもよい。
【００２２】
図１に示すように、各分配路２２ａにはオリフィス２４ａが設けられている。
詳しくは、図４に示すように、ノズルハウジング１２の底板１２ｂ上に複数のオリフィス板２４が処理幅方向に互いに離れて配置されている。オリフィス板２４は、円板形状になっているが、これに限られず、四角形の板状であってもよい。図１及び図３においては、オリフィス板２４の数は６つであるが、これに限られず、２つ〜５つであってもよく、７つ以上であってもよい。オリフィス板２４は、分配管２２と一対一に対応している。各オリフィス板２４が、対応する分配管２２の上端部に被さっている。図４に示すように、各オリフィス板２４の中心部に小孔状のオリフィス２４ａが形成されている。オリフィス２４ａは、オリフィス板２４を厚み方向（上下）に貫通している。オリフィス２４ａの形状は円形であるが、これに限られず楕円形や四角形等の円形以外の形状であってもよい。このオリフィス２４ａによって分配路２２ａの上流端が構成されている。オリフィス２４ａを介して、吸い込み室２１ａと、分配路２２ａにおけるオリフィス２４ａより下側（下流側）の部分ひいては排気路２３ａとが連通されている。図１及び図３に示すように、複数のオリフィス２４ａは、処理幅方向に互いに離れて配置され、好ましくは、吸い込み室２１ａにおける処理幅方向の両端部間に均等に離散配置されている。
【００２３】
複数のオリフィス２４ａの直径（流路断面積）及び路長（上下方向の寸法）は互いに等しい。
例えば、排気路２３ａの直径が１００ｍｍ〜２００ｍｍ程度、好ましくは１２５ｍｍ〜１５０ｍｍ程度の場合、各オリフィス２４ａの直径は、８ｍｍ〜１５ｍｍ程度が好ましく、１０ｍｍ程度がより好ましい。
好ましくは、排気路２３ａの長さは、被処理物９の処理幅方向の長さとほぼ等しい。排気路２３ａの長さ及び被処理物９の処理幅方向の長さが１０００ｍｍ〜３５００ｍｍ程度、好ましくは１５００ｍｍ程度の場合、各オリフィス２４ａの直径は、排気路２３ａの直径の１５分の１〜８分の１程度が好ましく、１５分の１〜１０分の１程度がより好ましい。また、各オリフィス２４ａの流路断面積は、排気路２３ａの流路断面積の２００分の１〜５０分の１程度が好ましい。オリフィス２４ａの直径ないしは流路断面積が小さ過ぎると、過度な圧力損失が生じてしまい、排気に支障を来すおそれがある。オリフィス２４ａの直径ないしは流路断面積が大きすぎると、所望の圧力降下量を得ることができない。
各オリフィス２４ａの路長（上下方向の寸法）は、例えば５ｍｍ〜２０ｍｍ程度が好ましく、１０ｍｍ程度がより好ましい。
【００２４】
上記の表面処理装置１によって被処理物９を表面処理する方法を、排気ノズル装置２０による排気工程を中心に説明する。
＜搬送工程＞
被処理物９を、コンベア２によって処理空間１９を横切るように搬送方向へ搬送する（搬送工程）。
【００２５】
＜処理ガス供給工程〜表面処理工程＞
併行して、上記処理ガス供給部３にてプラズマ化した処理ガスを吹き出しノズル１１に供給する（処理ガス供給工程）。吹き出しノズル１１では、処理ガスを処理幅方向に拡散させて均一化する。この処理ガスを、吹き出し口１１ｅの処理幅方向の全域から均一に処理空間１９へ吹き出す。この処理ガスが、処理空間１９内の被処理物９の下面に接触することで、被処理物９の下面が表面処理される（表面処理工程）。
【００２６】
＜排気工程＞
更に併行して、上記接触後の処理ガス等を含む処理空間１９のガスを排気ノズル装置２０によって排気する（排気工程）。
詳しくは、排気ブロア４の駆動によって、処理空間１９のガスを一対の吸い込み口２１ｅ，２１ｅの処理幅方向の全域からそれぞれ吸い込み室２１ａ内に吸い込む。更に、吸い込んだガスを吸い込み室２１ａからオリフィス２４ａ、分配路２２ａ、及び排気路２３ａを順次経て排気する。このとき、吸い込み室２１ａの内圧は、処理空間１９の内圧（すなわちほぼ大気圧）に対して大きく低下する。さらに、ガスが各オリフィス２４ａを通過することによって、一層大きな圧力降下が生じる。このため、各分配管２２の内圧が吸い込み室２１ａの内圧よりも大きく低下する。したがって、排気路２３ａ全体の内圧が排気ブロア４の設定吸引圧に十分に近くなる。
【００２７】
排気ブロア４の吸い込み圧（ゲージ圧）は、排気路２０ａに接続される前に簡易なバルブなどで調整され、例えば−５００Ｐａ〜−３０Ｐａ程度であり、好ましくは−１５０Ｐａ〜−５０Ｐａ程度である。そして、各オリフィス２４ａにおいて、例えば−１２０Ｐａ〜−１０Ｐａ程度、好ましくは−４０Ｐａ程度の圧力降下が生じることで、各オリフィス２４ａの二次圧ひいては排気路２３ａ全体の内圧が、排気ブロア４の調整された吸引圧（好ましくは−５０Ｐａ程度）に十分に近くなる。
【００２８】
厳密には、排気路２３ａの内圧は、下流側（図１において左側）に向かうにしたがって漸減して排気ブロア４の設定吸引圧により近づく。しかし、上述したように、排気ブロア４に対する遠近に関わらず、各オリフィス２４ａにおいて、排気ブロア４の設定吸引圧に十分に近くなるほどの圧力降下が生じている。そのため、排気路２３ａの両端部間の内圧差を僅少にすることができる。詳しくは、排気路２３ａにおける最も上流側（図１において右端）の分配路２２との接続部２３ｃと、最も下流側（図１において左端）の分配路２２との接続部２３ｄとの間の内圧差ΔＰ２３を、各オリフィス２４ａにおける圧力降下量ΔＰ２４と比べて十分に小さい値にすることができる（ΔＰ２４＞＞ΔＰ２３）。
言い換えると、各オリフィス２４ａにおける圧力降下量ΔＰ２４が、排気路２３ａの上記内圧差ΔＰ２３よりも十分に大きくなる。好ましくは、各オリフィス２４ａにおける圧力降下量ΔＰ２４は、排気路２３ａの上記内圧差ΔＰ２３の１０倍〜１２０倍程度である。
【００２９】
例えば、排気路２３ａの内径１２５ｍｍ、長さ２ｍとし、かつオリフィス２４ａの内直径１０ｍｍ、厚み１０ｍｍとし、８つのオリフィス２４ａを等間隔で配置した場合において、排気ブロア４の設定吸引圧（ゲージ圧）を−５０Ｐａ程度、排気流量を２ｍ３／ｍｉｎとすると、オリフィス２４ａにおいてΔＰ２４＝４０Ｐａ程度の圧力降下が生じ、排気路２３ａの両端部間の内圧差ΔＰ２３は、概算でΔＰ２３＝１．７Ｐａとなる。したがって、排気路２３ａの両端部間の内圧差ΔＰ２３は、オリフィス２４ａでの圧力降下量ΔＰ２４と比べて無視し得る程度に小さい。
【００３０】
これによって、吸い込み室２１ａでの処理幅方向における圧力のばらつき（最大圧力−最小圧力）を、当該吸い込み室２１ａの平均圧力に対して十分に小さくできる。ひいては、吸い込み口２１ｅでの処理幅方向における圧力のばらつき（最大圧力−最小圧力）を、当該吸い込み口２１ｅの平均圧力に対して十分に小さくできる。ここで、ガスの流量差は、圧力差の１／２乗に比例する。また、圧力差は、配管径の５乗に反比例し、かつ配管長さに比例する。したがって、吸い込み口２１ｅでの処理幅方向における吸い込み流量のばらつき（最大流量−最小流量）を、当該吸い込み口２１ｅの平均吸い込み流量に対して一層小さくできる。よって、処理空間１９から吸い込み口２１ｅに吸い込まれるガス流量を処理幅方向にほぼ均一化できる。この結果、処理空間１９におけるガスの流れを均一化でき、被処理物９の表面処理度合を処理幅方向に均一化できる。好ましくは、吸い込み口２１ｅでの吸い込み流量の処理幅方向のばらつきを±１０％程度以下にすることができる。
【００３１】
ここで、上記吸い込み口２１ｅでの吸い込み流量の処理幅方向のばらつきは、下式（１）又は（２）にて算出される。
（Ｖｍａｘ−Ｖｍｉｎ）x100／Ｖｍａｘ       （１）
（Ｖｍａｘ−Ｖｍｉｎ）x100／Ｖｍｉｎ       （２）      単位はパーセント［％］
Ｖｍａｘは、吸い込み口２１ｅの処理幅方向において吸い込み流量が最大になる箇所の当該吸い込み流量である。
Ｖｍｉｎは、吸い込み口２１ｅの処理幅方向において吸い込み流量が最小になる箇所の当該吸い込み流量である。
【００３２】
以上のように、排気ノズル装置２０によれば、簡易な構造のオリフィス板２４によって排気流を十分に均一化することができる。ラビリンスや流量調節バルブやマスフローコントローラーを設ける必要はなく、設備コストを安価にできるとともに、省スペース化を図ることができる。さらに、ラビリンス等が不要であるため、排気経路の複雑化を防止できるだけでなく、圧力損失が過度に高くなるのを防止でき、ひいては排気に支障が出るおそれを回避できる。
また、複数の流量調節バルブを設置して、それらの開度を１つ１つ調節する必要もなく、互いに等大のオリフィス２４ａを有する複数のオリフィス板２４を設置すれば足りるため、装置２０の作製及び設定が容易である。
【００３３】
次に、本発明の他の実施形態を説明する。以下の実施形態において既述の形態と重複する構成に関しては、図面に同一符号を付して説明を簡略化する。
図５は、本発明の第２実施形態を示したものである。第２実施形態では、排気ノズル装置２０Ｂが被処理物９の搬送路よりも上側に配置されている。排気ノズル装置２０Ｂは、処理幅方向に長い容器形状になっている。排気ノズル装置２０Ｂの底面にスリット状の吸い込み口２１ｅが形成されている。
【００３４】
排気ノズル装置２０Ｂの内部には、仕切り板２５が設けられている。仕切り板２５によって、排気ノズル装置２０Ｂの内部が、仕切り板２５より下側の吸い込み室２１ａと、仕切り板２５より上側の排気路２３ａとに仕切られている。排気路２３ａの処理幅方向の一端部に排気ブロア４が接続されている。
【００３５】
仕切り板２５に複数のオリフィス２４ａが形成されている。これらオリフィス２４ａは、処理幅方向に間隔を置いて、好ましくは等間隔置きに配置されている。各オリフィス２４ａを介して、吸い込み室２１ａと排気路２３ａとが連なっている。したがって、第２実施形態においては、オリフィス２４ａが分配路２２ａを兼ねている。或いは、分配路２２ａが、オリフィス２４ａだけで構成されている。
第２実施形態の排気ノズル装置２０Ｂによれば、複数の分配管２２及びオリフィス板２４等が不要であり、構造を一層簡易化できるとともに、設備コストを一層安価にできる。
【００３６】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の改変をなすことができる。
例えば、第１実施形態において、オリフィス２４ａが、分配路２２ａの中間部又は下端部に設けられていてもよい。
吸い込み室２１ａの形状や大きさなどによっては、複数の分配管２２ないしはオリフィス２４ａが、処理幅方向に沿って不均等に配置されていてもよい。
複数のオリフィス２４ａの直径（流路断面積）が互いに異なっていてもよい。
複数の分配管２２の長さが互いに異なっていてもよい。
排気管２３ひいては排気路２３ａの延び方向が処理幅方向に対して交差していてもよい。
吸い込み口２１ｅが、処理幅方向に並設（延在）された複数の穴部によって構成されていてもよい。
排気ブロア４が、排気管２３の端部ではなく、排気管２３の処理幅方向の中間部に接続されていてもよい。
被処理物９を位置固定させ、ノズルヘッド１０を被処理物９に対して搬送させてもよい。
実施形態の表面処理装置１は、処理空間１９の外部の一対の電極間において処理ガスをプラズマ化する、所謂リモート式のプラズマ処理装置であったが、一対の電極間を処理空間１９とし、処理空間１９内でプラズマを生成する、所謂ダイレクト式のプラズマ処理装置であってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
本発明は、例えばフラットパネルディスプレイ用のガラス基板の表面処理等に適用できる。
【符号の説明】
【００３８】
１      表面処理装置
２      コンベア（搬送手段）
３      処理ガス供給部
４      排気ブロア（排気手段）
９      被処理物
１０    ノズルヘッド
１１    吹き出しノズル
１１ｅ  吹き出し口   
１２    ノズルハウジング
１２ａ  側板
１２ｂ  底板
１２ｅ  端板
１３    天板
１９    処理空間
２０    排気ノズル装置
２１    吸い込みチャンバー
２１ａ  吸い込み室
２１ｅ  吸い込み口
２２    分配管
２２ａ  分配路
２３    排気管
２３ａ  排気路
２３ｃ  最上流側接続部
２３ｄ  最下流側接続部
２４    オリフィス板
２４ａ    オリフィス
２０Ｂ    排気ノズル装置
２５    仕切り板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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