(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウエハに形成されダイシングにより個片化された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価装置であって、前記半導体評価装置は、個片化された前記複数の半導体装置が前記ダイシングの際のダイシングテープで固定された状態で各前記半導体装置の特性を評価し、
各前記半導体装置の一面側に形成された第１の電極に対して接触可能に配置された第１のプローブと、
各前記半導体装置の前記一面側とは反対側のかつ前記ダイシングテープで固定された他面側に形成された第２の電極に対して前記第１のプローブに対応して接触可能に配置された第２のプローブと、
を備え、
前記第２のプローブは、前記評価時において、前記ダイシングテープに形成された開口部を介して前記第２の電極と接触し、
前記ダイシングテープの前記開口部の形成時に前記ダイシングテープに紫外線を照射する紫外線照射部をさらに備えることを特徴とする、半導体評価装置。
【請求項２】
半導体ウエハに形成されダイシングにより個片化された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価装置であって、前記半導体評価装置は、個片化された前記複数の半導体装置が前記ダイシングの際のダイシングテープで固定された状態で各前記半導体装置の特性を評価し、
各前記半導体装置の一面側に形成された第１の電極に対して接触可能に配置された第１のプローブと、
各前記半導体装置の前記一面側とは反対側のかつ前記ダイシングテープで固定された他面側に形成された第２の電極に対して前記第１のプローブに対応して接触可能に配置された第２のプローブと、
を備え、
前記第２のプローブは、前記評価時において、前記ダイシングテープに形成された開口部を介して前記第２の電極と接触し、
前記ダイシングテープの前記開口部の形成時に前記ダイシングテープに赤外線を照射する赤外線照射部をさらに備えることを特徴とする、半導体評価装置。
【請求項３】
半導体ウエハに形成されダイシングにより個片化された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価装置であって、前記半導体評価装置は、個片化された前記複数の半導体装置が前記ダイシングの際のダイシングテープで固定された状態で各前記半導体装置の特性を評価し、
各前記半導体装置の一面側に形成された第１の電極に対して接触可能に配置された第１のプローブと、
各前記半導体装置の前記一面側とは反対側のかつ前記ダイシングテープで固定された他面側に形成された第２の電極に対して前記第１のプローブに対応して接触可能に配置された第２のプローブと、
を備え、
前記第２のプローブは、前記評価時において、前記ダイシングテープに形成された開口部を介して前記第２の電極と接触し、
前記ダイシングテープの前記開口部の形成時に前記ダイシングテープにエッチング剤を塗布するエッチング剤塗布部をさらに備えることを特徴とする、半導体評価装置。
【請求項４】
半導体ウエハに形成されダイシングにより個片化された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価装置であって、前記半導体評価装置は、個片化された前記複数の半導体装置が前記ダイシングの際のダイシングテープで固定された状態で各前記半導体装置の特性を評価し、
各前記半導体装置の一面側に形成された第１の電極に対して接触可能に配置された第１のプローブと、
各前記半導体装置の前記一面側とは反対側のかつ前記ダイシングテープで固定された他面側に形成された第２の電極に対して前記第１のプローブに対応して接触可能に配置された第２のプローブと、
を備え、
前記第２のプローブは、前記評価時において、前記ダイシングテープに形成された開口部を介して前記第２の電極と接触し、
前記ダイシングテープの前記開口部の形成時に前記第２のプローブに振動を付与する振動発生部をさらに備えることを特徴とする、半導体評価装置。
【請求項５】
半導体ウエハに形成されダイシングにより個片化された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価装置であって、前記半導体評価装置は、個片化された前記複数の半導体装置が前記ダイシングの際のダイシングテープで固定された状態で各前記半導体装置の特性を評価し、
各前記半導体装置の一面側に形成された第１の電極に対して接触可能に配置された第１のプローブと、
各前記半導体装置の前記一面側とは反対側のかつ前記ダイシングテープで固定された他面側に形成された第２の電極に対して前記第１のプローブに対応して接触可能に配置された第２のプローブと、
を備え、
前記ダイシングテープは、導電性を有し、
前記半導体ウエハと前記ダイシングテープとは、前記半導体ウエハと前記ダイシングテープとの間において局所的に分散された粘着剤を介して接することを特徴とする、半導体評価装置。
【請求項６】
前記半導体ウエハは、前記評価時において、前記ダイシングテープで固定された前記他面側を上面とすることを特徴とする、請求項１から５のいずれか１項に記載の半導体評価装置。
【請求項７】
前記半導体ウエハは、前記評価時において、前記ダイシングテープで固定された前記他面側を下面とすることを特徴とする、請求項１から５のいずれか１項に記載の半導体評価装置。
【請求項８】
前記第２のプローブは、前記評価時において、前記ダイシングテープに形成された開口部を介して前記第２の電極と接触することを特徴とする、請求項５に記載の半導体評価装置。
【請求項９】
前記ダイシングテープの前記開口部の形成時に前記ダイシングテープに紫外線を照射する紫外線照射部をさらに備えることを特徴とする、請求項８に記載の半導体評価装置。
【請求項１０】
前記ダイシングテープの前記開口部の形成時に前記ダイシングテープに赤外線を照射する赤外線照射部をさらに備えることを特徴とする、請求項８に記載の半導体評価装置。
【請求項１１】
前記ダイシングテープの前記開口部の形成時に前記ダイシングテープにエッチング剤を塗布するエッチング剤塗布部をさらに備えることを特徴とする、請求項８に記載の半導体評価装置。
【請求項１２】
前記ダイシングテープの前記開口部の形成時に前記第２のプローブに振動を付与する振動発生部をさらに備えることを特徴とする、請求項８に記載の半導体評価装置。
【請求項１３】
前記ダイシングテープは、前記第２のプローブ側の面に凹凸部を有することを特徴とする、請求項１から５のいずれか１項に記載の半導体評価装置。
【請求項１４】
前記ダイシングテープは、導電性を有することを特徴とする、請求項１から４のいずれか１項に記載の半導体評価装置。
【請求項１５】
前記半導体ウエハと前記ダイシングテープとは、前記半導体ウエハと前記ダイシングテープとの間において局所的に分散された粘着剤を介して接することを特徴とする、請求項１４に記載の半導体評価装置。
【請求項１６】
前記第１のプローブおよび前記第２のプローブは、カンチレバー式であることを特徴とする、請求項１から１５のいずれか１項に記載の半導体評価装置。
【請求項１７】
前記第１のプローブおよび前記第２のプローブは、先端が針形状であることを特徴とする、請求項１から５のいずれか１項に記載の半導体評価装置。
【請求項１８】
半導体ウエハに形成されダイシングにより個片化された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価方法であって、
（ａ）個片化された前記複数の半導体装置が前記ダイシングの際のダイシングテープで固定された状態で前記複数の半導体装置を準備する工程と、
（ｂ）各前記半導体装置の一面側に形成された第１の電極に対して第１のプローブを接触させるとともに、各前記半導体装置の前記一面側とは反対側のかつ前記ダイシングテープで固定された他面側に形成された第２の電極に対して前記第１のプローブに対応する第２のプローブを接触させて前記評価を行う工程と、
を備え、
前記工程（ｂ）において、前記第２の電極に対して前記第２のプローブを接触させる際に、前記第２のプローブと前記ダイシングテープとを接触させ摩擦させて開口部を形成し、前記ダイシングテープに形成された前記開口部を介して前記第２の電極に対して前記第２のプローブを接触させて前記評価を行うことを特徴とする、半導体評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハに形成された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価装置および半導体評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置は、当該半導体装置の集合体である半導体ウエハに対して複数の工程を経て製造される。従来、種々の工程において、異物が持ち込まれることによって半導体装置に不具合が発生し、歩留まりが低くなるという問題がある。半導体装置の製造工程における異物の除去については、例えば、ドライエッチング加工後の半導体ウエハに対してパージガスを吹き付けることによって異物を除去する技術が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、従来、半導体ウエハをダイシング等によって個片化した複数の半導体装置についても、各半導体装置に対する電気的特性の評価等の試験を行う試験工程において、異物の存在が問題となっている。例えば、電極パッドが形成された半導体装置の表面に異物が付着すると、短絡または放電が生じることがあり、半導体装置の不具合の原因となる。また、半導体装置の縦方向（面外方向）に電流を流す縦型構造の半導体装置では、表面側だけでなく裏面側にも電極を形成しているため、裏面側の電極に異物が付着すると半導体装置と外部電極との密着性が接触抵抗に影響し、ひいては半導体装置の電気的特性に影響を与えることになる。また、半導体装置と外部電極との接触部または接触部近傍においてクラック等の欠陥が生じ、半導体装置の一部を破損する。
【０００４】
個々の半導体装置では、個片化する際に半導体装置の側面から半導体ウエハ材料の小片または屑等が多く生じ、それらが異物となって半導体装置の側面または側面近傍に付着したまま、後の試験行う工程に持ち込まれることが知られている。半導体装置への異物の付着は、工程中に発生する帯電に起因することもある。また、製造工程におけるメタルの形成中または形成後に粒子状の異物がメタル表面またはメタル膜中に固定されたり、ダイシングにより発生した破片（異物）が金属電極膜に繋がった状態で次工程に持ち込まれたりすることが知られている。このような問題の対策として、粘着シートを用いてダイシングライン上から金属電極膜を除去する技術が開示されている（例えば、特許文献２参照）。また、個片化後の半導体装置をブラシに通すことによって、半導体装置に付着した異物を除去する技術が開示されている（例えば、特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１６５９４３号公報
【特許文献２】特開２００８−１４１１３５号公報
【特許文献３】特開２０１３−８９７３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１では、製造工程中にメタルを巻き込むことにより発生する異物、ダイシングにより発生した破片が金属電極膜に繋がった状態で次工程に持ち込まれる異物、または帯電によって半導体装置に強固に付着した異物を除去することが困難である。また、ガスの吹き付けによって半導体装置に付着した異物を除去する場合において、吹き付けによって散乱した異物が半導体装置に再付着するという問題があった。
【０００７】
また、特許文献２では、半導体ウエハごとに粘着シートを用いて金属電極膜を除去する必要があるため、製造工程が増加し、粘着シートを用いることによるコストがかかるという問題があった。
【０００８】
また、特許文献３では、個片化後の全ての半導体装置をブラシに通す必要があるため、製造工程が増加するという問題があった。
【０００９】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、異物に起因する半導体装置の不具合の発生を抑制し、半導体装置の評価の信頼性を向上させることが可能な半導体評価装置および半導体評価方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するために、本発明による半導体評価装置は、半導体ウエハに形成されダイシングにより個片化された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価装置であって、半導体評価装置は、個片化された複数の半導体装置がダイシングの際のダイシングテープで固定された状態で各半導体装置の特性を評価し、各半導体装置の一面側に形成された第１の電極に対して接触可能に配置された第１のプローブと、各半導体装置の一面側とは反対側のかつダイシングテープで固定された他面側に形成された第２の電極に対して第１のプローブに対応して接触可能に配置された第２のプローブとを備え、第２のプローブは、評価時において、ダイシングテープに形成された開口部を介して第２の電極と接触し、ダイシングテープの開口部の形成時にダイシングテープに紫外線を照射する紫外線照射部をさらに備える。
【００１１】
また、本発明による半導体評価方法は、半導体ウエハに形成されダイシングにより個片化された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価方法であって、（ａ）個片化された複数の半導体装置がダイシングの際のダイシングテープで固定された状態で複数の半導体装置を準備する工程と、（ｂ）各半導体装置の一面側に形成された第１の電極に対して第１のプローブを接触させるとともに、各半導体装置の一面側とは反対側のかつダイシングテープで固定された他面側に形成された第２の電極に対して第１のプローブに対応する第２のプローブを接触させて評価を行う工程とを備え、工程（ｂ）において、第２の電極に対して第２のプローブを接触させる際に、第２のプローブとダイシングテープとを接触させ摩擦させて開口部を形成し、ダイシングテープに形成された開口部を介して第２の電極に対して第２のプローブを接触させて評価を行う。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によると、半導体評価装置は、半導体ウエハに形成されダイシングにより個片化された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価装置であって、半導体評価装置は、個片化された複数の半導体装置がダイシングの際のダイシングテープで固定された状態で各半導体装置の特性を評価し、各半導体装置の一面側に形成された第１の電極に対して接触可能に配置された第１のプローブと、各半導体装置の一面側とは反対側のかつダイシングテープで固定された他面側に形成された第２の電極に対して第１のプローブに対応して接触可能に配置された第２のプローブとを備え、第２のプローブは、評価時において、ダイシングテープに形成された開口部を介して第２の電極と接触し、ダイシングテープの開口部の形成時にダイシングテープに紫外線を照射する紫外線照射部をさらに備えるため、異物に起因する半導体装置の不具合の発生を抑制し、半導体装置の評価の信頼性を向上させることが可能となる。
【００１３】
また、半導体評価方法は、半導体ウエハに形成されダイシングにより個片化された複数の半導体装置の特性を評価する半導体評価方法であって、（ａ）個片化された複数の半導体装置がダイシングの際のダイシングテープで固定された状態で複数の半導体装置を準備する工程と、（ｂ）各半導体装置の一面側に形成された第１の電極に対して第１のプローブを接触させるとともに、各半導体装置の一面側とは反対側のかつダイシングテープで固定された他面側に形成された第２の電極に対して第１のプローブに対応する第２のプローブを接触させて評価を行う工程とを備え、工程（ｂ）において、第２の電極に対して第２のプローブを接触させる際に、第２のプローブとダイシングテープとを接触させ摩擦させて開口部を形成し、ダイシングテープに形成された開口部を介して第２の電極に対して第２のプローブを接触させて評価を行うため、異物に起因する半導体装置の不具合の発生を抑制し、半導体装置の評価の信頼性を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態１による半導体評価装置の構成の一例を示す図である。
【図２】本発明の実施の形態１による支持部の一例を示す斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態１による評価時における裏面側の接触部分の一例を示す斜視図である。
【図４】本発明の実施の形態１による評価時における裏面側の接触部分の他の一例を示す斜視図である。
【図５】本発明の実施の形態１による評価時における裏面側の接触部分の他の一例を示す斜視図である。
【図６】変形例２による半導体評価装置の構成の一例を示す図である。
【図７】本発明の実施の形態１による評価時における裏面側の接触部分の他の一例を示す斜視図である。
【図８】本発明の実施の形態２による半導体評価装置の構成の一例を示す図である。
【図９】本発明の実施の形態２による評価時における裏面側の接触部分の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の実施の形態について、図面に基づいて以下に説明する。
【００１６】
＜実施の形態１＞
まず、本発明の実施の形態１による半導体評価装置について説明する。
【００１７】
図１は、本実施の形態１による半導体評価装置１の構成の一例を示す図である。また、図２は、半導体ウエハ２を支持する支持部２０の一例を示す斜視図である。
【００１８】
本実施の形態１では、縦方向（面外方向）に大きな電流を流す縦型構造の半導体装置である縦型半導体装置３を評価の対象としている。また、本実施の形態１では、複数の縦型半導体装置３を有する半導体ウエハ２において、各縦型半導体装置３を一括して評価してもよく、各縦型半導体装置３を個別に評価してもよい。
【００１９】
図２に示すように、半導体ウエハ２は、ダイシングライン２１に沿ってダイシングされ個片化された複数の縦型半導体装置３を有している。各縦型半導体装置３の表面側（一面側）には表面側電極部４（第１の電極）が形成され、裏面側（他面側）には裏面側電極部５（第２の電極、図３参照）が形成されている。なお、表面側電極部４および裏面側電極部５は、図２，３では縦型半導体装置３の表面または裏面の一部に形成されている場合を一例として示しているが、縦型半導体装置３の表面または裏面の全面に形成してもよい。
【００２０】
また、半導体ウエハ２の裏面側には、縦型半導体装置３をダイシングするときに用いたダイシングテープ１８が設けられている。ダイシングテープ１８は、例えば塩化ビフェニルからなるフィルムを基材としており、片面（半導体ウエハ２側の面）にアクリル系などの粘着剤（シート）が設けられた一般的なものである。すなわち、ダイシングにより個片化された各縦型半導体装置３は、ダイシングの際のダイシングテープで固定された状態である。
【００２１】
半導体ウエハ２は、裏面側にダイシングテープ１８を設けた状態でダイシングフレーム１９に保持されている。ダイシングフレーム１９は、半導体評価装置１の支持部２０によって保持されており、必要に応じて移動可能である。具体的には、後述の評価制御部１２が、支持部２０の動きを制御する。
【００２２】
このように、半導体ウエハ２は、半導体評価装置１による評価の前に、ダイシングテープ１８を介してダイシングフレーム１９に保持された状態で、ダイシングライン２１に沿って個々の縦型半導体装置３にダイシングされ個片化されている。
【００２３】
図１に示すように、表面側プローブ基体６は、表面側コンタクトプローブ８（第１のプローブ）および表面側接続部１０を有しており、表面側移動アーム１４によって任意の方向に移動可能である。表面側コンタクトプローブ８は、評価時において、縦型半導体装置３の表面側電極部４と接触可能なように設けられている。また、表面側コンタクトプローブ８は、表面側接続部１０および信号線１３を介して評価制御部１２に接続されている。表面側コンタクトプローブ８と表面側接続部１０とは、表面側プローブ基体６上に設けられた金属板を介して接続されている。
【００２４】
裏面側プローブ基体７は、裏面側コンタクトプローブ９（第２のプローブ）および裏面側接続部１１を有しており、裏面側移動アーム１５によって任意の方向に移動可能である。裏面側コンタクトプローブ９は、評価時において、ダイシングテープ１８に設けられた開口部２２（図３参照）を介して、縦型半導体装置３の裏面電極部５と接触可能なように設けられている。また、裏面側コンタクトプローブ９は、裏面側接続部１１および信号線１３を介して評価制御部１２に接続されている。裏面側コンタクトプローブ９と裏面側接続部１１とは、裏面側プローブ基体７の下面側に設けられた金属板を介して接続されている。
【００２５】
評価制御部１２は、各縦型半導体装置３の特性の評価を行う。評価時において、評価制御部１２は、表面側移動アーム１４および裏面側移動アーム１５を支持部２０側に移動させて、表面側コンタクトプローブ８が各縦型半導体装置３の表面側電極部４に接触し、表面側コンタクトプローブ８に対応する裏面側コンタクトプローブ９が各縦型半導体装置３の裏面側電極部５に接触するように制御する。このとき、支持部２０は動かずに固定された状態である。
【００２６】
紫外線照射部１７は、ダイシングテープ１８の開口部２２の形成時に、裏面側プローブ基体７に設けられた貫通孔１６を介してダイシングテープ１８に紫外線を照射する（図３参照）。
【００２７】
図１では、１つの表面側移動アーム１４で表面側プローブ基体６を支持し、１つの裏面側移動アーム１５で裏面側プローブ基体７を支持する構成について示しているが、これに限るものではない。例えば、複数の表面側移動アーム１４で表面側プローブ基体６を支持し、複数の裏面側移動アーム１５で裏面側プローブ基体７を支持する構成としてもよい。この場合、安定的に表面側プローブ基体６および裏面側プローブ基体７を支持することができる。
【００２８】
上記では、評価制御部１２は、評価時において、表面側移動アーム１４および裏面側移動アーム１５を支持部２０側に移動させる場合について説明したが、これに限るものではない。例えば、表面側移動アーム１４および裏面側移動アーム１５のうちのいずれかを固定した状態で、表面側移動アーム１４および裏面側移動アーム１５のうちのいずれかと、支持部２０とを移動させるようにしてもよい。すなわち、表面側コンタクトプローブ８が表面側電極部４に接触し、裏面側コンタクトプローブ９が裏面側電極部５に接触するのであれば、表面側移動アーム１４、裏面側移動アーム１５、および支持部２０のいずれが動いてもよい。
【００２９】
次に、表面側コンタクトプローブ８および裏面側コンタクトプローブ９について説明する。
【００３０】
表面側コンタクトプローブ８および裏面側コンタクトプローブ９は、カンチレバー式であり、縦型半導体装置３の表面側電極部４および裏面側電極部５と機械的かつ電気的に接触する先端部を有している。また、表面側コンタクトプローブ８および裏面側コンタクトプローブ９は、導電性を有し、例えば銅、タングステン、レニウムタングステンなどの金属材料から構成されるが、これに限るものではない。特に、先端部には、導電性または耐久性の向上等の観点から、他の部材、例えば金、パラジウム、タンタル、プラチナ等を被覆してもよい。
【００３１】
なお、表面側コンタクトプローブ８および裏面側コンタクトプローブ９は、大電流を印加することを想定して、各縦型半導体装置３の表面側電極部４に対して複数（ここでは２つ）の表面側コンタクトプローブ８が接触するように、各縦型半導体装置３の裏面側電極部５に対して複数（ここでは２つ）の裏面側コンタクトプローブ９が接触するように配置されている。
【００３２】
また、表面側接続部１０と裏面側接続部１１との距離は、表面側コンタクトプローブ８および裏面側コンタクトプローブ９の各々に加わる電流密度が略一致するように、表面側コンタクトプローブ８および裏面側コンタクトプローブ９のいずれを介しても略一致する位置に設けることが望ましい。具体的には、表面側接続部１０および裏面側接続部１１は、縦型半導体装置３、表面側コンタクトプローブ８、および裏面側コンタクトプローブ９を介して対向する位置に設けることが望ましい。
【００３３】
次に、裏面側コンタクトプローブ９と裏面側電極部５との接触について説明する。
【００３４】
図３は、評価時における裏面側コンタクトプローブ９と裏面側電極部５との接触部分の一例を示す斜視図である。
【００３５】
ダイシングテープ１８の開口部２２は、裏面側コンタクトプローブ９の鋭利な先端がダイシングテープ１８に接触して摩擦を生じさせることによって形成される。開口部２２の形成時において、裏面側コンタクトプローブ９とダイシングテープ１８とが接触する前、または接触する際に、当該接触箇所に対して紫外線照射部１７から紫外線を照射し、ダイシングテープ１８の粘着力を低下させた後に裏面側コンタクトプローブ９とダイシングテープ１８とを接触させる。そして、裏面側コンタクトプローブ９の先端部とダイシングテープ１８とを摩擦させることによって、ダイシングテープ１８に開口部２２を容易に形成することができる。
【００３６】
開口部２２の形成後、裏面側コンタクトプローブ９の先端部は、開口部２２を通って裏面側電極部５と直接接触する。
【００３７】
上記では、ダイシングテープ１８の開口部２２の形成時に紫外線を照射する場合について説明したが、これに限るものではない。以下、ダイシングテープ１８の開口部２２の形成時における他の例（変形例１〜３）について説明する。
【００３８】
図４は、評価時における裏面側コンタクトプローブ９と裏面側電極部５との接触部分の他の一例（変形例１）を示す斜視図である。
【００３９】
図４の例では、半導体評価装置１が、紫外線照射部１７に代わって赤外線照射部２３を備えることを特徴としている。
【００４０】
開口部２２の形成時において、裏面側コンタクトプローブ９とダイシングテープ１８とが接触する前、または接触する際に、当該接触箇所に対して赤外線照射部２３から赤外線を照射して昇温し、ダイシングテープ１８を軟化させた後に裏面側コンタクトプローブ９とダイシングテープ１８とを接触させる。そして、裏面側コンタクトプローブ９の先端部とダイシングテープ１８とを摩擦させることによって、ダイシングテープ１８に開口部２２を容易に形成することができる。
【００４１】
図５は、評価時における裏面側コンタクトプローブ９と裏面側電極部５との接触部分の他の一例（変形例２）を示す斜視図である。
【００４２】
図５の例では、半導体評価装置１が、紫外線照射部１７に代わってエッチング剤塗布部２４を備えることを特徴としている。
【００４３】
図６は、変形例２による半導体評価装置１の構成の一例を示す図である。図６に示すように、半導体ウエハ２は、ダイシングテープ１８が上面となるようにダイシングフレーム１９に設置されている。すなわち、図６に示す半導体ウエハ２は、図１に示す半導体ウエハ２を裏返した状態でダイシングフレーム１９に設置される。また、表面側プローブ基体６には、貫通孔２５が設けられている。エッチング剤塗布部２４は、ダイシングテープ１８の開口部２２の形成時に、表面側プローブ基体６に設けられた貫通孔２５を介してダイシングテープ１８にエッチング剤を塗布（滴下）する。
【００４４】
開口部２２の形成時において、裏面側コンタクトプローブ９とダイシングテープ１８とが接触する前、または接触する際に、当該接触箇所に対してエッチング剤塗布部２４から液状のエッチング剤を塗布（滴下）し、ダイシングテープ１８の一部を除去または薄膜化した後に裏面側コンタクトプローブ９とダイシングテープ１８とを接触させる。そして、裏面側コンタクトプローブ９の先端部とダイシングテープ１８とを摩擦させることによって、ダイシングテープ１８に開口部２２を容易に形成することができる。
【００４５】
ダイシングテープ１８が上面となるように半導体ウエハ２を設置することによって、ダイシング時に発生した屑等の異物を落下させて容易に除去することができ、後工程への異物の持ち込みを抑制することができる。また、裏面側コンタクトプローブ９は、スプリング式であってもよい。
【００４６】
図７は、評価時における裏面側コンタクトプローブ９と裏面側電極部５との接触部分の他の一例（変形例３）を示す斜視図である。
【００４７】
図７の例では、半導体評価装置１が、紫外線照射部１７に代わって振動発生部２６を備えることを特徴としている。
【００４８】
開口部２２の形成時において、裏面側コンタクトプローブ９とダイシングテープ１８とが接触する際に、振動発生部２６が裏面側コンタクトプローブ９の先端部に振動を付与する。そして、裏面側コンタクトプローブ９の先端部とダイシングテープ１８とを摩擦させることによって、ダイシングテープ１８に開口部２２を容易に形成することができる。
【００４９】
振動発生部２６は、裏面側コンタクトプローブ９自体に設けてもよく、裏面側プローブ基体７に設けてもよい。また、振動発生部２６は、圧電振動子など小型のものが望ましいが、これに限るものではない。
【００５０】
なお、上記では、裏面側コンタクトプローブ９の先端をダイシングテープ１８に接触して摩擦を生じさせることによって開口部２２を形成する場合について説明したが、これに限るものではない。例えば、裏面側コンタクトプローブ９の鋭利な針形状の先端部を、ダイシングテープ１８に対して略垂直に接触させることによって開口部２２を形成するようにしてもよい。
【００５１】
次に、各半導体装置３の特性の評価時における半導体評価装置１の動作について説明する。なお、以下では、紫外線照射部１７を用いる場合を一例として説明するが、赤外線照射部２３（図４参照）、エッチング剤塗布部２４（図５）、または振動発生部２６（図７参照）を用いる場合であっても同様である。
【００５２】
まず、縦型半導体装置３の特性を評価する前において、表面側コンタクトプローブ８および裏面側コンタクトプローブ９の各々について、先端部の３次元空間上の位置を光学系モニターの焦点深度解析によって特定して、先端部の平行度を揃える。
【００５３】
次に、ダイシングにより個片化された複数の縦型半導体装置３を有する半導体ウエハ２を保持しているダイシングフレーム１９を、支持部２０に設置する。このとき、個片化された複数の縦型半導体装置３は、ダイシングの際のダイシングテープ１８で固定されている。また、半導体ウエハ２は、ダイシングテープ１８が下面となるようにダイシングフレーム１９に設置されている。
【００５４】
次に、評価制御部１２の制御によって、表面側移動アーム１４によって表面側プローブ基体６を支持部２０側に移動させるとともに、裏面側移動アーム１５によって裏面側プローブ基体７を支持部２０側に移動させる。そして、表面側コンタクトプローブ８を各縦型半導体装置３の表面側電極部４に接触させ、表面側コンタクトプローブ８に対応する裏面側コンタクトプローブ９を各縦型半導体装置３の裏面側電極部５に接触させる。このとき、裏面側コンタクトプローブ９とダイシングテープ１８とが接触する箇所に紫外線照射部１７から紫外線を照射して、ダイシングテープ１８の粘着力を弱めた後に、裏面側コンタクトプローブ９をダイシングテープ１８に接触させて開口部２２を形成する。
【００５５】
次に、評価制御部１２によって各縦型半導体装置３に対する所望の電気的特性に関する評価を行う。評価の終了後、表面側移動アーム１４によって表面側プローブ基体６を支持部２０から離れる側（すなわち元の位置）に移動させるとともに、裏面側移動アーム１５によって裏面側プローブ基体７を支持部２０から離れる側（すなわち元の位置）に移動させる。これにより、表面側コンタクトプローブ８が表面側電極部４から離間するとともに、裏面側コンタクトプローブ９が裏面側電極部５から離間する。
【００５６】
上記において、裏面側コンタクトプローブ９の先端部で開口部２２を形成する際に、裏面側コンタクトプローブ９とダイシングテープ１８との間で摩擦が生じれば、そこを基点として開口部２２を形成することができる。しかし、摩擦が弱い場合は、裏面側コンタクトプローブ９の先端部がダイシングテープ１８の表面を滑ってしまい、開口部２２を形成することができない。従って、開口部２２の基点を容易に実現するために、ダイシングテープ１８の表面（裏面側コンタクトプローブ９と接触する側の面）を凹凸状にすることが望ましい。凹凸状の表面は、ダイシングテープ１８に対して予め噴霧状にエッチング液を塗布し、部分的にエッチングを行うことによって容易に得ることができる。
【００５７】
以上のことから、本実施の形態１によれば、個片化された複数の縦型半導体装置３がダイシングの際のダイシングテープ１８で固定された状態で所望の電気的特性の評価を行うことによって、縦型半導体装置３に付随または付着した、縦型半導体装置３の非構成部であるゴミ、屑、破片等の異物を、以後の評価に持ち込むことを回避することができる。従って、異物に起因する縦型半導体装置３の不具合の発生を抑制し、縦型半導体装置３の評価の信頼性を向上させることが可能となる。
【００５８】
また、全ての半導体ウエハ２および各縦型半導体装置３に対して新たな材料等を付加する処理が不要であるため、低コスト化に寄与することが可能となる。
【００５９】
また、個片化後の縦型半導体装置３に対して評価を行うため、各縦型半導体装置３を同時に評価しても、各縦型半導体装置３間で相互に評価時の電流が回り込むなどの測定精度を低下させるような現象が抑制され、評価の信頼性を向上させることが可能となる。また、半導体ウエハ２の厚さが薄い場合（例えば、１００μｍ以下の薄厚ウエハ）であっても、表面側コンタクトプローブ８および裏面側コンタクトプローブ９の接触荷重のアンバランス等による破損を回避することが可能となる。
【００６０】
＜実施の形態２＞
図８は、本発明の実施の形態２による半導体評価装置１の構成の一例を示す図である。また、図９は、評価時における裏面側の接触部分の一例を示す断面図である。なお、図９において、表面側コンタクトプローブ８の図示は省略している。
【００６１】
本実施の形態２では、ダイシングテープ２７が導電性を有することを特徴としている。その他の構成および動作は、実施の形態１と同様であるため、ここでは説明を省略する。
【００６２】
ダイシングテープ２７は導電性を有しているため、実施の形態１のような開口部２２を形成することなく、裏面側コンタクトプローブ９と裏面側電極部５との電気的な導通を図ることが可能となる。
【００６３】
また、ダイシングテープ２７と半導体ウエハ２との間の粘着剤が抵抗層となるが、接着剤の厚さが数μｍと薄いため大きな問題とはならない。しかし、導電性を向上させるためには、粘着剤を局所的に分散して付与することが望ましい。例えば、図９に示すように、裏面側コンタクトプローブ９と裏面側電極部５とが電気的に接触する箇所近傍のみに粘着剤２８を付与しないようにすれば、ダイシングテープ２７が異方性を有する場合と同様の効果が得られる。図９に示すような局所的に粘着剤２８を付与する方法としては、半導体ウエハ２またはダイシングテープ２７の全面にレジストを塗布した後に、エッチングによって一部を除去する方法が簡便である。
【００６４】
以上のことから、本実施の形態２によれば、ダイシングテープ２７が導電性を有しているため、ダイシングテープ２７に開口部を形成することなく、裏面側コンタクトプローブ９と裏面側電極部５との電気的な導通を図ることが可能となる。従って、評価時における工程の簡略化、および低コスト化を実現することが可能となる。
【００６５】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【符号の説明】
【００６６】
１  半導体評価装置、２  半導体ウエハ、３  縦型半導体装置、４  表面側電極部、５  裏面側電極部、６  表面側プローブ基体、７  裏面側プローブ基体、８  表面側コンタクトプローブ、９  裏面側コンタクトプローブ、１０  表面側接続部、１１  裏面側接続部、１２  評価制御部、１３  信号線、１４  表面側移動アーム、１５  裏面側移動アーム、１６  貫通孔、１７  紫外線照射部、１８  ダイシングテープ、１９  ダイシングフレーム、２０  支持部、２１  ダイシングライン、２２  開口部、２３  赤外線照射部、２４  エッチング剤塗布部、２５  貫通孔、２６  振動発生部、２７  ダイシングテープ、２８  粘着剤。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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