(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記ラインパターンの製造方法であり、
２官能以上の多官能モノマー（Ａ）、感放射線性重合開始剤（Ｂ）、ならびにフッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物（Ｃ）を含有する樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程（ａ）と、ここで前記樹脂組成物の、Ｅ型粘度計により２５℃で測定した粘度が、３００〜１００００ｍＰａ・ｓであり、
前記ラインパターンの形状に対応する凹凸パターンを有し、前記凹凸パターン表面がフッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物により表面処理されている凹凸部材を前記塗膜に押圧し、前記塗膜に放射線を照射する工程（ｂ）と、
放射線照射後の前記塗膜から前記凹凸部材を分離して、互いに平行配置された複数の、高さが５０〜５００μｍである線状部材からなるラインパターンを得る工程（ｃ）と
を有し、
前記工程（ｂ）において、前記凹凸部材の塗膜側の環境を減圧し、前記凹凸部材の塗膜側とは反対側の環境を加圧した状態で前記押圧を行い、ここで前記凹凸部材の塗膜側とは反対側の加圧条件を０．１〜３０．０ＭＰａの範囲とし、前記凹凸部材の塗膜側の環境の減圧条件を１５０Ｐａ以下とする
ことを特徴とするラインパターンの製造方法。
【請求項２】
多官能モノマー（Ａ）が、多官能（メタ）アクリレートである請求項１のラインパターンの製造方法。
【請求項３】
前記化合物（Ｃ）の、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によるポリスチレン換算の重量平均分子量が、１０００〜１０００００である請求項１または２のラインパターンの製造方法。
【請求項４】
前記化合物（Ｃ）が、シリコーン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
【請求項５】
前記化合物（Ｃ）の含有量が、樹脂組成物１００質量％中、０．１〜２０．０質量％である請求項１〜４のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
【請求項６】
前記線状部材の、波長５００ｎｍにおける全光線透過率が、７０％以上である請求項１〜５のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
【請求項７】
前記線状部材の断面形状が矩形状である請求項１〜６のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項の方法によりラインパターンを形成する工程（１）と、
前記線状部材の側面に光反射面を形成する工程（２）と
を有することを特徴とする光制御部材の製造方法。
【請求項９】
前記線状部材間に透明部材を形成する工程（３）
をさらに有する請求項８の光制御部材の製造方法。
【請求項１０】
互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材を備える光学結像部材の製造方法であり、
前記光制御部材を、請求項８または９の方法により製造する
ことを特徴とする光学結像部材の製造方法。
【請求項１１】
第１の光制御部材および第２の光制御部材を備える光学結像部材の製造方法であり、ここで第１の光制御部材および第２の光制御部材は、それぞれ、互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有しており、
第１の光制御部材および第２の光制御部材の少なくとも一方を、請求項８または９の方法により製造し、続いて、
第１の光制御部材および第２の光制御部材を、各々が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合に交差した状態で配置する
ことを特徴とする光学結像部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光制御部材が有するラインパターンの製造方法に関し、より詳しくは、互いに平行配置された複数の平面状の光反射部（光反射面）を有する光制御部材が有するラインパターンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
物体表面から放射された光を用いて、前記物体の像を空中に形成する立体像表示装置が知られている（特許文献１参照）。立体像表示装置の一例は、互いに平行配置された複数の平面状の光反射部を一定間隔で内部に有する光制御部材を２つ備える。これらの光制御部材（第１および第２の光制御部材）は、それぞれの平面状の光反射部を直交させた状態で向かい合わせて配置されている。
【０００３】
第１の光制御部材の平面状の光反射部に物体からの光を入射させ、前記光反射部で反射した反射光を第２の光制御部材の平面状の光反射部で再度反射させる。ここで得られた反射光によって、前記物体の像を、この立体像表示装置の反対側に表示する。
【０００４】
上記立体像表示装置において、平面状の光反射部を一定間隔で複数有する光制御部材を用意する必要がある。前記光制御部材は、両面または片面に光反射部を有する透明基板を、接着剤を用いて積層し、得られた積層体を一定幅で切断することにより、得ることができる。しかしながら、前記方法はコストが高い。
【０００５】
上記問題に対して、凹凸部材を対象塗膜に押圧してパターンを形成するインプリント法により基板上に複数の凸部を形成し、前記凸部の側面に光反射部を形成する方法が提案されている（特許文献２参照）。
【０００６】
インプリント法としては、大別して熱インプリント法および光インプリント法が知られている。光インプリント法で用いられる光インプリント材料は、放射線照射により硬化する低分子量化合物を含有する。このため、凹凸部材と放射線照射後の塗膜（硬化パターン）とは分離しにくい。これらの分離性を向上する方法として、離型処理された凹凸部材を使用する方法が知られているが、光インプリント法においては分離性の向上が充分ではない。特に高いアスペクト比が要求されることのある、前記光制御部材が有する凸部を形成するためには、分離性のさらなる向上が必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第４８６５０８８号公報
【特許文献２】特開２０１５−０１４７７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンをインプリント法により製造する方法において、前記パターンが形成された塗膜と、前記ラインパターンの形状に対応する凹凸パターンを有する凹凸部材との分離性（離型性）に優れた方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討を行った。その結果、以下に記載の方法により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、例えば以下の［１］〜［１３］に関する。
【００１０】
［１］互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記ラインパターンの製造方法であり、２官能以上の多官能モノマー（Ａ）、感放射線性重合開始剤（Ｂ）、ならびにフッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物（Ｃ）を含有する樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程（ａ）と、前記ラインパターンの形状に対応する凹凸パターンを有する凹凸部材を前記塗膜に押圧し、前記塗膜に放射線を照射する工程（ｂ）と、放射線照射後の前記塗膜から前記凹凸部材を分離して、互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンを得る工程（ｃ）とを有することを特徴とするラインパターンの製造方法。
【００１１】
［２］多官能モノマー（Ａ）が、多官能（メタ）アクリレートである前記［１］のラインパターンの製造方法。
【００１２】
［３］前記化合物（Ｃ）の、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によるポリスチレン換算の重量平均分子量が、１０００〜１０００００である前記［１］または［２］のラインパターンの製造方法。
【００１３】
［４］前記化合物（Ｃ）が、シリコーン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤から選ばれる少なくとも１種である前記［１］〜［３］のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
【００１４】
［５］前記化合物（Ｃ）の含有量が、樹脂組成物１００質量％中、０．１〜２０．０質量％である前記［１］〜［４］のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
【００１５】
［６］前記凹凸パターンを有する凹凸部材を、０．１〜３０．０ＭＰａの範囲で、前記塗膜に押圧する前記［１］〜［５］のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
【００１６】
［７］前記線状部材の高さが、５０μｍ以上である前記［１］〜［６］のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
【００１７】
［８］前記線状部材の断面形状が矩形状である前記［１］〜［７］のいずれか１項のラインパターンの製造方法。
【００１８】
［９］前記［１］〜［８］のいずれか１項の方法によりラインパターンを形成する工程（１）と、前記線状部材の側面に光反射面を形成する工程（２）とを有することを特徴とする光制御部材の製造方法。
【００１９】
［１０］前記線状部材間に透明部材を形成する工程（３）をさらに有する前記［９］の光制御部材の製造方法。
【００２０】
［１１］互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材を備える光学結像部材の製造方法であり、前記光制御部材を、前記［９］または［１０］の方法により製造することを特徴とする光学結像部材の製造方法。
【００２１】
［１２］第１の光制御部材および第２の光制御部材を備える光学結像部材の製造方法であり、ここで第１の光制御部材および第２の光制御部材は、それぞれ、互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有しており、第１の光制御部材および第２の光制御部材の少なくとも一方を、前記［９］または［１０］の方法により製造し、続いて、第１の光制御部材および第２の光制御部材を、各々が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合に交差した状態で配置することを特徴とする光学結像部材の製造方法。
【００２２】
［１３］互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記線状部材を形成するために用いられる光インプリント用樹脂組成物であり、２官能以上の多官能モノマー（Ａ）と、感放射線性重合開始剤（Ｂ）と、フッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物（Ｃ）とを含有することを特徴とする光インプリント用樹脂組成物。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンをインプリント法により製造する方法において、前記パターンが形成された塗膜と、前記ラインパターンの形状に対応する凹凸パターンを有する凹凸部材との分離性（離型性）に優れた方法、およびこの用途に用いる樹脂組成物を提供することができ、したがって高いアスペクト比を有する線状部材を形成することができる。前記線状部材の側面に光反射面を形成することで、互いに平行配置された複数の平面状の光反射部（光反射面）を有する光制御部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１Ａは、透明基板と、前記透明基板上に形成されたラインパターンとを有する部材の斜視図であり、図１Ｂは、前記部材の上視図であり、図１Ｃは、前記上視図におけるＡＡ線断面図である。
【図２】図２は、光制御部材の一実施形態の断面図である。
【図３】図３Ａは、光学結像部材の斜視図であり、図３Ｂは、第１の光制御部材の透明部材を切断するＹＺ平面における前記光学結像部材の断面図であり、図３Ｃは、第２の光制御部材の透明部材を切断するＸＺ平面における前記光学結像部材の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明を実施するための形態について説明する。
〔ラインパターンの製造方法〕
本発明のラインパターンの製造方法は、
互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する光制御部材における前記ラインパターンの製造方法であり、好ましくは前記光制御部材を備える光学結像部材における前記ラインパターンの製造方法であり、
後述する本発明の樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程（ａ）と、前記ラインパターンの形状に対応する凹凸パターンを有する凹凸部材を前記塗膜に押圧し、前記塗膜に放射線を照射する工程（ｂ）と、放射線照射後の前記塗膜から前記凹凸部材を分離して、互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンを得る工程（ｃ）と
を有する。
【００２６】
前記線状部材は、各々の線状部材が互いに平行な側面を少なくとも１つ有する構成であればよく、その断面形状として例えば矩形状、三角形状が挙げられるが、光学特性の観点から、矩形状であることが好ましい。三角形状の場合、断面形状として例えば、基板面に対して垂直な辺を有する三角形状、基板面に対して垂直な辺を有しない三角形状が挙げられる。
【００２７】
以下、線状部材の構造、その断面および側面、ならびにラインパターンの構造について、図１を参照しながら説明する。図１Ａは、透明基板１０と、前記透明基板１０上に形成された、複数の線状部材２１からなるラインパターン２０とを有する部材１の斜視図であり、図１Ｂは、前記部材１の上視図であり、図１Ｃは、前記上視図におけるＡＡ線断面図である。
【００２８】
線状部材２１の断面とは、線状部材２１の延びる方向（図１ＡにおいてＸ軸方向）に対して垂直な断面（図１ＡにおいてＹＺ平面）である。線状部材２１の断面形状は、矩形状であることが好ましい。線状部材２１の側面とは、線状部材２１が互いに向き合う面であり、図１Ａでは長手方向の側面であり、図１ＡおよびＣにおいて符号２２で示す面である。複数の線状部材２１は、互いに長手方向が平行になるよう配置されている。ラインパターン２０は、複数の線状部材２１を有する。線状部材２１の数は特に限定されない。
【００２９】
本発明では、いわゆる光インプリント法を用いるため、フォトリソグラフィー法で必要とされる現像工程を行うことなく所望のラインパターンを形成でき、また、フォトリソグラフィー法よりも高いアスペクト比を有する線状部材からなるラインパターンを形成しやすい。なお、本明細書において「光インプリント法」と記載する場合、光照射を包含する放射線照射を用いたインプリント法の意味で用いる。
【００３０】
［工程（ａ）］
工程（ａ）では、本発明の樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する。
本発明の樹脂組成物は、２官能以上の多官能モノマー（Ａ）と、感放射線性重合開始剤（Ｂ）と、フッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物（Ｃ）とを含有する。
【００３１】
塗膜の膜厚は、例えば５０μｍ以上、好ましくは５０〜５００μｍである。
樹脂組成物の塗布方法としては、例えば、スリットコート法、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法が挙げられる。必要に応じて、例えばオーブンおよびホットプレート等の加熱機器を用いて、通常は１００〜１５０℃で６００〜１５００秒間で加熱し、前記樹脂組成物を乾燥してもよい。
【００３２】
基板としては、特に限定されないが、基板を除去せずに光制御部材の一部として用いる場合は透明基板が用いられる。透明基板としては、例えば、ガラス基板、石英基板、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルフィルム等の透明樹脂製基板が挙げられる。基板を除去する場合には、例えば、透明基板のほか、セラミックス製基板、アルミニウム製やＳＵＳ製等の金属製基板を用いることもできる。基板の厚さは、特に限定されず、例えば２００〜１５００μｍである。また、基板としては、凹凸部材との組み合わせに応じて、光透過性または非光透過性を選択することができる。
以下、本発明の樹脂組成物について説明する。
【００３３】
〈多官能モノマー（Ａ）〉
多官能モノマー（Ａ）は、放射線を用いることで重合可能な基を２個以上有する化合物である。放射線を用いることで重合可能な基としては、例えば、エチレン性不飽和基、Ｎ−アルコキシメチルアミノ基、オキシラニル基、オキセタニル基が挙げられる。多官能モノマー（Ａ）としては、エチレン性不飽和基を２個以上有する化合物が好ましく、（メタ）アクリロイル基を２個以上有する化合物（以下「多官能（メタ）アクリレート」ともいう）がより好ましく、（メタ）アクリロイル基を２〜６個有する多官能（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
【００３４】
多官能（メタ）アクリレートについて以下に説明する。
１分子内に２個の（メタ）アクリロイル基を有する芳香環非含有化合物としては、例えば、１，２−エタンジオールジ（メタ）アクリレート等のＣ２〜１８アルカンジオールジ（メタ）アクリレート；トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等のモノまたはポリシクロアルカンジメタノールジ（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリＣ２〜８アルキレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３５】
１分子内に３〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する芳香環非含有化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、トリス（（メタ）アクリロキシ）イソシアヌレート、ここでこれらの化合物はＡＯ変性またはカプロラクトン変性されていてもよく；トリ（メタ）アクリロイルオキシエチルホスフェートが挙げられる。本明細書において、ＡＯ変性とは、エチレンオキシド（ＥＯ）変性およびプロピレンオキシド（ＰＯ）変性等のアルキレンオキシド変性を意味する。
【００３６】
１分子内に２〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する芳香環含有化合物としては、例えば、芳香環がフッ素化されていてもよい、ＡＯ変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート；芳香環がフッ素化されていてもよい、ビスフェノールＡ型ジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦ型ジグリシジルエーテル等のビスフェノールジグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物；２，２−ビス−４−（２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロピルフェニル）プロパン；下記式（Ａ１）で表されるポリカーボネートジオールジ（メタ）アクリレート等のポリカーボネートポリオールポリ（メタ）アクリレート；９，９−ビス［４−（２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン等の下記式（Ａ２）で表される化合物などのフルオレン骨格含有ジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３７】
【化１】
0006324429.tif 000002
式（Ａ１）中、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に炭素数１〜２０の２価の炭化水素基であり、ｎは１〜１００の整数である。炭化水素基としては、例えば、アルカンジイル基等の炭素数１〜２０の２価の直鎖または分岐鎖の炭化水素基；シクロアルカンジイル基、ジアルキルシクロアルカンジイル基（ただし、−ＣＨ2−Ｃ6Ｈ10−ＣＨ2−のように２つの結合手は２つのアルキル基にそれぞれ結合するものとする）等の炭素数３〜２０の２価の脂環含有炭化水素基；アレーンジイル基等の炭素数６〜２０の２価の芳香族炭化水素基が挙げられる。
【００３８】
ポリカーボネートポリオールポリ（メタ）アクリレートの数平均分子量は、好ましくは５００〜１５，０００である。このような態様であると、樹脂組成物の硬化時の体積収縮が小さく、所望の線状部材を得ることができる。前記数平均分子量は、核磁気共鳴スペクトルから見積もられる重合度をもとに算出される値である。
【００３９】
【化２】
0006324429.tif 000003
式（Ａ２）中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基であり、Ａはそれぞれ独立に炭素数２〜４のアルカンジイル基であり、ａおよびｂは整数であり、かつａ＋ｂ＝０〜２４である。フルオレン環はフッ素等の置換基を有してもよい。
【００４０】
多官能（メタ）アクリレート（ただしポリカーボネートポリオールポリ（メタ）アクリレートを除く）の分子量は、例えば２０００以下であり、好ましくは１５０〜２０００である。
【００４１】
多官能モノマー（Ａ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物において、多官能モノマー（Ａ）の含有量は、通常は３０質量％以上、好ましくは４０〜９９質量％、より好ましくは５０〜９９質量％である。このような態様とすることで、前記樹脂組成物の硬化性を良好にすることができる。
【００４２】
〈単官能モノマー（Ａａ）〉
本発明の樹脂組成物は、単官能モノマー（Ａａ）をさらに含有してもよい。
単官能モノマー（Ａａ）は、放射線を用いることで重合可能な基を１個有する化合物である。単官能モノマー（Ａａ）としては、エチレン性不飽和基を１個有する化合物が好ましく、（メタ）アクリロイル基を１個有する化合物（以下「単官能（メタ）アクリレート」ともいう）がより好ましい。
【００４３】
芳香環非含有の単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート等のＣ１〜１８アルキル（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート等の脂環含有（メタ）アクリレート；ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００４４】
芳香環含有の単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート；フェノール、ｏ−フェニルフェノール等のフェノール化合物のＡＯ変性アルコールの（メタ）アクリレート、具体的には、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシ化ｏ−フェニルフェノール（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００４５】
単官能（メタ）アクリレートの分子量は、例えば１０００以下、好ましくは１５０〜１０００である。
単官能モノマー（Ａａ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４６】
本発明の樹脂組成物において、単官能モノマー（Ａａ）の含有量は、多官能モノマー（Ａ）１００質量部に対して、通常は６０質量部以下、好ましくは５０質量部以下、より好ましくは４０質量部以下である。このような態様とすることで、樹脂組成物のハンドリング性を良好にすることができる。
【００４７】
〈感放射線性重合開始剤（Ｂ）〉
感放射線性重合開始剤（Ｂ）は、放射線の照射により、多官能モノマー（Ａ）の重合を開始しうる活性種を発生する化合物であり、好ましくは光重合開始剤である。放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線が挙げられる。
【００４８】
重合開始剤（Ｂ）としては、例えば、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤、チオキサントン系開始剤、アセトフェノン系開始剤、ビイミダゾール系開始剤、トリアジン系開始剤、Ｏ−アシルオキシム系開始剤、オニウム塩系開始剤、ベンゾイン系化開始剤、ベンゾフェノン系開始剤、α−ジケトン系開始剤、多核キノン系開始剤、ジアゾ系開始剤、イミドスルホナート系開始剤が挙げられる。これらの中でも、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤、チオキサントン系開始剤、およびＯ−アシルオキシム系開始剤から選ばれる少なくとも１種が好ましく、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤およびＯ−アシルオキシム系開始剤から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。
【００４９】
アシルフォスフィンオキサイド系開始剤としては、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイドが挙げられる。
【００５０】
Ｏ−アシルオキシム系開始剤としては、例えば、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）が挙げられる。Ｏ−アシルオキシム系化合物の市販品としては、例えば、アデカオプトマー  Ｎ−１９１９、アデカクルーズ  ＮＣＩ−８３１、ＮＣＩ−９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
【００５１】
重合開始剤（Ｂ）としては、フォトブリーチング性を有する光重合開始剤が好ましい。フォトブリーチング性とは、光により誘発される光感受性物質の光活性化能の消失であり、このような光重合開始剤においては、光照射に伴い分解が進み、光活性化に有効な波長域での吸収能が低下する。このような光重合開始剤は、光照射によって分解して活性種を発生させるとともに、有効波長の透過性が向上する。したがって、前記有効波長において光を内部まで透過させることができるため、厚膜であっても塗膜の硬化を良好に進行させることができる。
【００５２】
フォトブリーチング性を有する光重合開始剤としては、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド系開始剤；エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のＯ−アシルオキシム系開始剤が挙げられる。
【００５３】
重合開始剤（Ｂ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物において、重合開始剤（Ｂ）の含有量は、多官能モノマー（Ａ）および単官能モノマー（Ａａ）の合計１００質量部（前記（Ａａ）は０質量部でもよい）に対して、通常は０．１〜１０質量部、好ましくは０．１〜５質量部、より好ましくは０．１〜３質量部である。このような態様とすることで、硬化性に優れる塗膜となる。
【００５４】
〈化合物（Ｃ）〉
化合物（Ｃ）は、フッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物であり、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤が挙げられる。ただし、フッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物であっても、多官能モノマー（Ａ）、単官能モノマー（Ａａ）または重合開始剤（Ｂ）に該当する化合物は除く。なお、シリコーン構造およびフッ素原子を含む界面活性剤は、シリコーン系界面活性剤に分類する。
【００５５】
化合物（Ｃ）を用いることで、樹脂組成物の塗膜に凹凸部材を押圧した際に、凹部への樹脂組成物の流動性が向上し、また凹凸部材と放射線硬化後の塗膜との分離性が向上する。これにより、高いアスペクト比を有する線状部材を形成することができる。
【００５６】
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、未変性または変性のシリコーンオイルが挙げられる。未変性シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン等のポリシロキサンが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン等のポリシロキサンの側鎖および／または末端を変性した変性シリコーンオイルが好ましく、例えば、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、カルビノール変性、（メタ）アクリル変性、ビニル変性、メルカプト変性もしくはフェノール変性された、またはこれらの２種以上で変性された反応性シリコーンオイル；ポリエーテル変性またはフッ素変性されたシリコーンオイル等の非反応性シリコーンオイルが挙げられる。
【００５７】
フッ素系界面活性剤としては、フルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基、フルオロシクロアルキル置換アルキル基から選ばれる少なくとも１種の基を有する化合物が好ましく、前記基はエーテル結合を有してもよい。前記基においてフッ素原子数は特に限定されず、パーフルオロアルキル基等であってもよい。フルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは１〜２０であり、直鎖であっても分岐構造であってもよい。フルオロシクロアルキル基の炭素数は、好ましくは３〜１０である。
【００５８】
フッ素系界面活性剤は、他の成分との結合形成または相溶性に寄与する置換基を有してもよい。置換基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、オキシラニル基、オキセタニル基、ヒドロキシル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基、アリール基が挙げられる。
【００５９】
フッ素系界面活性剤の具体例としては、フルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基およびフルオロシクロアルキル置換アルキル基から選ばれる少なくとも１種を有する（メタ）アクリレート由来の構造単位を有する重合体等のフッ素系重合体が挙げられる。前記（メタ）アクリレートとしては、例えば、パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００６０】
化合物（Ｃ）は低分子化合物であっても高分子化合物であってもよく、分子量に特に制限はないが、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは１０００〜１０００００、より好ましくは１０００〜５００００、さらに好ましくは５０００〜５００００、特に好ましくは８０００〜５００００である。
【００６１】
ＧＰＣ法の条件は、例えば以下のとおりである。
・装置    ：東ソー（株）製、商品名：ＨＬＣ−８０２０
・カラム  ：東ソー（株）製ガードカラムＨXL−Ｈ、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ７０００ＨXL、ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨXL ２本、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ２０００ＨXLを順次連結したもの
・溶媒    ：テトラヒドロフラン
・サンプル濃度：０．７質量％
・注入量  ：７０μＬ
・流速    ：１ｍＬ／ｍｉｎ
化合物（Ｃ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物において、化合物（Ｃ）の含有量は、樹脂組成物１００質量％中、通常は０．１〜２０．０質量％、好ましくは０．１〜１０．０質量％、より好ましくは０．１〜５．０質量％、さらに好ましくは０．５〜５．０質量％、特に好ましくは０．８〜５．０質量％である。このような態様とすることで、離型性に優れた硬化物を形成することができる。
【００６２】
〈添加剤〉
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、密着助剤等の種々の添加剤を含有することができる。密着助剤としては、例えば、特開２０１２−２５６０２３号公報、特開２０１３−２４２５１１号公報および特開２０１４−０８０５７８号公報等に記載の密着助剤が挙げられ、その他の添加剤としては、例えば、特開２００６−１５４４３４号公報、特開２００７−２９３３０６号公報、特開２０１０−１１７６１４号公報、特開２０１０−１８４９６１号公報および特開２０１３−２１６７３７号公報等に記載の化合物が挙げられる。
【００６３】
〈溶媒〉
本発明の樹脂組成物は、必要に応じて有機溶媒等の溶媒を含有してもよいが、樹脂組成物が有機溶媒を含むことによって凹凸部材へダメージを与えることや、放射線照射時または成形後の残溶媒の揮発によってパターンの寸法精度が悪化する可能性があることから、有機溶媒の含有量は１０質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましく、有機溶媒は用いないことがより好ましい。
【００６４】
有機溶媒としては、前記樹脂組成物を構成する上記成分を溶解又は分散し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。
【００６５】
有機溶媒としては、例えば、（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル、（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、（ポリ）アルキレングリコールジアルキルエーテル、（ポリ）アルキレングリコールジアセテート、（シクロ）アルキルアルコール溶媒、乳酸アルキルエステル溶媒、ギ酸アルキルエステル溶媒、脂肪酸アルキルエステル溶媒、アルコキシカルボン酸エステル溶媒、ケトン溶媒、アミド溶媒、ラクタム溶媒、環状エーテル溶媒、ケトアルコール溶媒が挙げられる。有機溶媒は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００６６】
〈樹脂組成物の製造〉
本発明の樹脂組成物は、樹脂組成物の加工に用いる公知の装置、例えば、二軸押出機、単軸押出機、連続ニーダー、ロール混練機、加圧ニーダー、バンバリーミキサーを必要に応じて用いて、各成分を例えば０〜７０℃で混合することにより製造することができる。また、不純物を除く目的で、適宜、濾過を行うこともできる。
【００６７】
本発明の樹脂組成物は、上述した成分を含有することから、光インプリント用樹脂組成物として好適であり、前記光制御部材における前記線状部材を形成するために用いられる光インプリント用樹脂組成物として特に好適である。
【００６８】
本発明の樹脂組成物の粘度は、通常は３００〜１００００ｍＰａ・ｓ、好ましくは５００〜８０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは５００〜６０００ｍＰａ・ｓである。粘度は、Ｅ型粘度計により２５℃の条件で測定する。なお、粘度測定での回転数は、粘度計のトルクが５０±５％の範囲になるように設定する。このような態様であると、生産性の点で好ましく、例えば粘度が前記下限値以上であれば、所望の高さの線状部材を形成できる点で好ましく、粘度が前記上限値以下であれば、取扱いやすい点で好ましい。
【００６９】
［工程（ｂ）］
工程（ｂ）では、前記ラインパターンの形状に対応する凹凸パターン、すなわち前記ラインパターンの相補的パターンを有する部材（以下「凹凸部材」ともいう）を前記塗膜に押圧し、その状態で、前記塗膜に放射線を照射する。具体的には、凹凸部材の凹部に充填された樹脂部に放射線を照射する。工程（ｂ）〜（ｃ）を経ることにより、前記凹凸パターンを前記塗膜に転写する。
【００７０】
凹凸部材としては、例えば、ラインパターンの形状に対応する、凸部および凹部をそれぞれ複数有する部材（モールド）を用いる。凹凸部材の凸部および凹部は、例えば矩形状、三角形状が挙げられるが、矩形状であることが好ましい。
【００７１】
前記凹凸部材は、例えば、鉄、銅、アルミニウム、チタン、ニッケル、シリコンまたはこれらの２種以上の合金（例：ステンレス鋼）等の金属材料によって構成することができ、また、樹脂、ガラス、石英、セラミック等の非金属材料によって構成することもできる。シリコン、石英等からなる凹凸部材をマスターモールドとして用いて得られた樹脂製レプリカモールドであってもよい。凹凸部材は、板状であってもロール状であってもよい。凹凸部材は、従来公知の方法により製造することができる。
【００７２】
本発明では、放射線照射により樹脂組成物を硬化させることから、凹凸部材および基板の少なくとも一方として、放射線透過性、特に光透過性の材質を選択する。例えば、放射線透過性の凹凸部材を前記塗膜に押圧し、凹凸部材の裏面から放射線を照射して前記樹脂組成物を硬化させる、あるいは、放射線透過性の基板上に前記塗膜を形成し、凹凸部材を押圧し、前記基板の裏面から放射線を照射して前記樹脂組成物を硬化させる。
【００７３】
凹凸部材は、塗膜と凹凸部材表面との分離性をさらに向上させるために、塗膜と接触する表面、すなわち凹凸パターン表面が、フッ素原子およびケイ素原子から選ばれる少なくとも１種を含む化合物（以下「離型性化合物」ともいう）により表面処理（離型処理）されていることが好ましい。凹凸部材の一実施態様は、塗膜と接触する表面が前記離型性化合物由来の離型膜となっている。離型性化合物由来の離型膜の膜厚は例えば１〜１００ｎｍであり、膜厚はＸ線光電子分光分析（ＸＰＳ）により測定することができる。離型性化合物としては、例えば、シリコーン、シラン化合物、フッ化ビニルエーテル及びその重合体、ポリフルオロポリエーテルが挙げられる。
【００７４】
表面処理は、例えば、凹凸パターン表面に離型性化合物を、ディップコート、スピンコート、スプレー、蒸着等の方法により接触させて行う。ここで、離型性化合物が相溶または溶解する、炭化水素溶剤、アルコール溶剤、エステル溶剤、フッ素系溶剤等の有機溶剤で前記化合物が希釈または溶解されたものを用いてもよい。例えば、凹凸パターン表面へ離型性化合物またはその溶液を塗布し、５０〜２００℃で１〜６０分間の熱処理を行う。前記接触処理に続いて、凹凸パターン表面を、さらにリンス処理してもよい。リンス処理には、例えば、パーフルオロヘキサン、ハイドロフルオロエーテル等のフッ素系溶剤、酢酸エチル等のエステル溶剤などの有機溶剤を用いることができる。
【００７５】
工程（ｂ）では、凹凸部材を、好ましくは０．１〜３０．０ＭＰａのプレス圧で、より好ましくは２．０〜１０．０ＭＰａのプレス圧で、前記塗膜に押圧する。押圧時間は、通常は１〜６００秒、好ましくは１〜３００秒、より好ましくは１〜１８０秒である。このような態様であると、生産効率の点で好ましい。
【００７６】
一実施態様では、凹凸部材の塗膜側の環境を減圧し、凹凸部材の塗膜側とは反対側の環境を加圧する装置を用いて上記押圧を行う。この場合、凹凸部材の塗膜側とは反対側の加圧条件を上記プレス圧とする。凹凸部材の塗膜側の環境の減圧条件は、例えば１５０Ｐａ以下、好ましくは１〜４０Ｐａである。このような装置を用いると、厚膜のパターンを精度良く形成することができる。
【００７７】
工程（ｂ）では、凹凸部材を前記塗膜に押圧した状態で、前記塗膜、特に凹凸部材の凹部に充填された樹脂部に放射線を照射し、硬化させる。放射線照射には、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線を用い、好ましくは、紫外線および／または可視光線を用い、より好ましくは、波長２００〜６００ｎｍの光（例：ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））を用いる。照射量は、樹脂組成物中の各成分の種類および含有量や、塗膜の厚さによって異なるが、ｉ線を含む光を照射する場合、照射量は、ｉ線換算で通常は０．３〜６Ｊ／ｃｍ2、好ましくは０．５〜４Ｊ／ｃｍ2である。
【００７８】
放射線の光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯等のランプ光源；アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、ＸｅＣｌエキシマーレーザー、窒素レーザー等のレーザー光源；ＬＥＤ光源が挙げられる。
【００７９】
放射線照射時の基板温度は、通常は室温であるが、硬化反応性を高めるために加熱をしながら照射を行ってもよい。また、放射線照射後に加熱して塗膜をさらに硬化させてもよい。これらの加熱温度および加熱時間は、例えば１００〜２５０℃で１〜６０分である。
【００８０】
［工程（ｃ）］
工程（ｃ）では、放射線照射後の前記塗膜（硬化パターン）から前記凹凸部材を分離して、互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンを得る。前記線状部材は、各々の線状部材が互いに平行な側面を少なくとも１つ有する構成であればよく、例えば矩形状、三角形状が挙げられるが、矩形状であることが好ましい。
【００８１】
本発明では、樹脂組成物の塗膜が特定の化合物（Ｃ）を含有しており、必要に応じて前記塗膜と接触する表面（凹凸表面）が離型処理された凹凸部材を用いることから、線状部材の変形が小さく、また剥離不良痕が少ない状態で、凹凸部材とラインパターンが形成された基板とを容易に分離することができる。
【００８２】
以上のようにして、複数の線状部材からなるラインパターンを得ることができる。
線状部材の高さは、例えば図１ＡにおいてＺ軸方向の線状部材の最大厚さであり、通常は５０μｍ以上、好ましくは５０〜５００μｍである。線状部材の高さが５０μｍ以上であると、充分な高さの光反射面を確保することができ、したがって光学特性の点で好ましい。
【００８３】
線状部材の断面形状が矩形状である場合、線状部材の高さに対してその底面から１０％の位置における線状部材の幅をＢｏｔｔｏｍ幅、線状部材の高さに対してその底面から９０％の位置における線状部材の幅をＴｏｐ幅と定義し、Ｔｏｐ幅とＢｏｔｔｏｍ幅の差（Ｔｏｐ−Ｂｏｔｔｏｍ）の絶対値を線状部材のΔ幅と定義する。線状部材のΔ幅は、Ｔｏｐ幅およびＢｏｔｔｏｍ幅の大きい方の値の好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下、特に好ましくは３％以下である。
【００８４】
線状部材の幅は、例えば図１ＡにおいてＹ軸方向における線状部材の最大厚さであり、通常は１０〜５００μｍ、好ましくは１５〜２５０μｍであり；線状部材の間隔（線状部材底面でのスペース幅）は、通常は５０〜４００μｍ、好ましくは５０〜３００μｍである。
【００８５】
線状部材のアスペクト比（高さ／幅）は、通常は０．５以上、好ましくは０．５〜１０、より好ましくは１〜５である。本発明では、上述した離型性に優れた光インプリント法を用いていることから、高いアスペクト比を有する線状部材を形成でき、したがって光学特性に優れた光制御部材を得ることができる。
【００８６】
線状部材の高さ、幅およびスペース幅は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察において測定する。このようなラインパターンは、上述した高さ、幅およびスペース幅に対応する凹凸パターンを有する部材を用いて光インプリントを行うことにより、形成することができる。
【００８７】
上記線状部材と同様の厚さを有する、本発明の樹脂組成物から形成された平坦な硬化膜において、波長３８０〜７８０ｎｍにおける全光線透過率の平均値、特に波長５００ｎｍにおける全光線透過率は、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。本発明の樹脂組成物は、透明性に優れた硬化物（線状部材）を形成することができる。
【００８８】
本発明の樹脂組成物から形成された、厚さ約０．１μｍの平坦な硬化膜において、波長５８９ｎｍにおける屈折率は、好ましくは１．４０〜１．７５、より好ましくは１．４５〜１．７０、さらに好ましくは１．５０〜１．６５である。屈折率が前記範囲にあると、画質の点で好ましい。
これらは、より詳細には、実施例記載の条件で測定することができる。
【００８９】
〔光制御部材の製造方法〕
本発明の光制御部材の製造方法は、
上記〔ラインパターンの製造方法〕によりラインパターンを形成する工程（１）と、
前記ラインパターンを構成する線状部材の側面に光反射面を形成する工程（２）と、
必要に応じて、
前記線状部材間に透明部材を形成する工程（３）と
を有することを特徴とする。
【００９０】
［工程（１）］
工程（１）では、上述した方法により、ラインパターンを形成する。
【００９１】
［工程（２）］
工程（２）では、線状部材の側面に例えば金属を蒸着またはスパッタすることにより、線状部材の側面に光反射面を選択的に形成する。前記側面とは、各々の線状部材が有する、互いに平行な面であって、例えば光制御部材の平板面に垂直な面である。光反射面は、線状部材の断面形状が矩形状である場合、各々の線状部材の片側面に形成しても両側面に形成してもよいが、高輝度化の観点から両側面に形成することが好ましい。
【００９２】
前記金属としては、例えば、アルミニウム、クロム、ニッケル、チタンおよび銀から選択される少なくとも１種が挙げられる。
例えば、線状部材表面に金属を蒸着して金属膜を形成し、前記線状部材の側面に例えばフォトリソグラフィー法によりレジスト層を形成し、前記金属膜のエッチングを行い、前記レジスト層を除去する。これにより、線状部材の側面に光反射面を形成することができる。
【００９３】
あるいは、線状部材の上面およびスペース部の底面を光照射により剥離可能な樹脂で覆い（この場合、線状部材の側面は露出している）、線状部材の上面、側面およびスペース部の底面に金属を蒸着して金属膜を形成し、透明基板側から紫外線を照射して、線状部材の上面およびスペース部の底面に形成された前記樹脂を、その表面に形成された金属膜とともに除去する。これにより、線状部材の側面に光反射部を形成することができる。
【００９４】
［工程（３）］
工程（３）では、光硬化型および／または熱硬化型の透明樹脂組成物をラインパターンのスペース部に充填し、光照射および／または加熱して前記組成物を硬化させることにより、線状部材間（スペース部）に透明部材を形成する。
【００９５】
これにより、ラインパターンにおける線状部材とスペース部との屈折率差を小さくでき、また、線状部材の倒れを抑制でき、したがって光制御部材の光学性能および強度を高めることができる。線状部材および透明部材の表面に凹凸がある場合、前記表面を研削または研磨してもよい。これにより、光制御部材の光学性能を高めることができる。
【００９６】
透明部材は、波長３８０〜７８０ｎｍにおける全光線透過率の平均値、特に波長５００ｎｍにおける全光線透過率が、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【００９７】
透明部材と本発明の樹脂組成物から形成された線状部材との、波長５８９ｎｍにおける屈折率差は、絶対値で、好ましくは０．１以下、より好ましくは０．０５以下、さらに好ましくは０．０２以下である。屈折率差が前記範囲にあると、透明部材および線状部材をそれぞれ透過する光量が概ね等しくなり画質が向上する点で好ましい。例えば、透明部材を本発明の樹脂組成物を用いて形成してもよく、ここで当該樹脂組成物は化合物（Ｃ）を含有しなくともよい。
【００９８】
スペース部に透明部材を形成した後、基板を除去して、線状部材、光反射面および透明部材からなる光制御部材を得てもよい。続いて、前記光制御部材の基板に接触していた面を、研削または研磨してもよい。これにより、光制御部材の光学性能を高めることができる。
【００９９】
以上のようにして、光制御部材を得ることができる。光制御部材は、互いに平行配置された複数の線状部材からなるラインパターンと、前記線状部材の側面に形成された光反射面とを有する。このため光制御部材は、互いに平行配置された複数の平面状の光反射部（光反射面）を一定間隔で有する。光制御部材の一実施形態は、例えば平板状であり、その平板面に対して略垂直な複数の前記光反射面を一定間隔で有し、前記光反射面は互いに平行配置されている。
【０１００】
光制御部材の平面視における縦横のサイズは、投影する画像の大きさによって変化するが、例えば５０００ｍｍ2以上、好ましくは５０００〜７０００００ｍｍ2である。
図２に、光制御部材の一実施形態の断面図を示す。この光制御部材１００は、透明基板１０と、透明基板１０上に形成された、複数の矩形状の線状部材２１からなるラインパターン２０と、線状部材２１間に形成された透明部材２５とを有する。線状部材２１の両側面２２，２２には、光反射面３０，３０が形成されている。
【０１０１】
〔光学結像部材の製造方法〕
本発明の光学結像部材は、上記〔光制御部材の製造方法〕で製造された光制御部材を備えており、好ましくは、第１の光制御部材および第２の光制御部材を備えており、前記光制御部材の平板面が重なるように配置されている。前記第１および第２の光制御部材は、少なくとも一方が、上記〔光制御部材の製造方法〕で製造された光制御部材である。
【０１０２】
本発明の光学結像部材の製造方法は、上記光制御部材を、上記〔光制御部材の製造方法〕により製造する工程を有し、好ましくは、上記第１および第２の光制御部材の少なくとも一方を、上記〔光制御部材の製造方法〕により製造する工程と、上記第１および第２の光制御部材を、各々が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合に交差した状態で配置する工程とを有する。
【０１０３】
上記第１および第２の光制御部材の一方は従来公知の方法で製造または準備してもよいが、いずれも上記〔光制御部材の製造方法〕で製造することが、光学特性の観点から好ましい。
【０１０４】
ここで、第１の光制御部材および第２の光制御部材は、各々の光制御部材が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合（図３ＡにおいてＸＹ平面視した場合）に交差した状態で、すなわち各々の光制御部材が有する、線状部材の側面に形成された光反射面が交差した状態で、配置されている。
【０１０５】
第１の光制御部材および第２の光制御部材は、好ましくは、各々が有するラインパターンが向かい合うようにして、積層配置されている。第１の光制御部材および第２の光制御部材は、例えば、透明の接着剤を用いて積層される。
【０１０６】
第１の光制御部材のラインパターンと第２の光制御部材のラインパターンとの交差角度は、立体像表示装置において像を形成する位置により適宜設定されるが、これらのラインパターンが直交していることが好ましい。
【０１０７】
図３に、光学結像部材の一実施形態を示す。図３Ａは、第１の光制御部材１０１と第２の光制御部材１０２とが、各々が有するラインパターンが光制御部材の上方から視た場合に直交した状態で積層されている光学結像部材２００の斜視図であり、図３Ｂは第１の光制御部材１０１の透明部材２５を切断するＹＺ平面における断面図であり、図３Ｃは第２の光制御部材１０２の透明部材２５を切断するＸＺ平面における断面図である。
図３には、透明基板１０を有する光学結像部材を示したが、透明基板１０を有さない光学結像部材であってもよい。
【０１０８】
〔立体像表示装置〕
立体像表示装置は、上述の光学結像部材を有し、例えば、光放射部と光学結像部材とを有する。立体像表示装置は、液晶ディスプレイ等の光放射部から放射された光を空中に結合させ、静止画および動画等の像を鮮明に表示することができ、すなわち空中ディスプレイとして機能する。
【０１０９】
立体像表示装置では、光放射部からの光が、第１の光制御部材が有する平行配置された複数の光反射面に斜めに入射し、前記光反射部で反射した反射光が、第２の光制御部材が有する平行配置された複数の光反射面に入射することで、像を空中に表示することができる。
【０１１０】
立体像表示装置の一実施形態において、第１の光制御部材の光反射面および第２の光制御部材の光反射面は直交させて、それぞれの光制御部材の平板面を向かい合わせた状態で配置されている。したがって、光学結像部材に斜めに入射した光は、第１の光制御部材の光反射面で１回目の反射をし、その反射光が第２の光制御部材の光反射面で２回目の反射をする。２回目の反射光は、光学結像部材への入射光の入射角度と同一の角度で放射される。このため、光放射部から光学結像部材に入射した光のなかで、光反射面で連続して反射した反射光は、光学結像部材を基準として光放射部とは対称位置において収束し、空中に像が形成される。
【実施例】
【０１１１】
本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されない。
［凹凸部材］
凹凸部材として、ライン／スペース幅＝１００／１００μｍ、高さ＝１００μｍの矩形パターンが形成された４インチの石英製型を用いた。ここで、前記矩形パターンには、ＫＲ−５００（信越化学工業（株）製シリコーンアルコキシオリゴマー）を酢酸エチルで５０ｗｔ％に希釈した溶液を用いて離型処理を行い、リンス液（酢酸エチル）を用いてリンス処理を行った。離型処理は、具体的には、石英製型をＫＲ−５００溶液に浸漬し、引き揚げ、１５０℃で３０分間加熱して行った。
【０１１２】
［実施例１］
１，４−シクロヘキサンジメタノール：１，６−ヘキサンジオール＝１：３のモル比のポリオール化合物と炭酸ジメチルとを反応させて得られた数平均分子量９００のポリカーボネートジオールに、アクリル酸メチルを反応させて得られるポリカーボネートジオールジアクリレート（宇部興産（株）製ＵＭ−９０（１／３）ＤＡ）５０ｇ、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ−ＤＣＰ）５０ｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯ）１ｇ、およびシリコーン系界面活性剤（東レ・ダウコーニング製ＳＨ−２００）１ｇを５０℃で混合溶解し、５０℃に加温しながら０．５μｍのＰＴＦＥ製フィルターにて濾過して、樹脂組成物を得た。Ｅ型粘度計（東洋精機（株）製、商品名ＲＥ−２１５Ｈ）による２５℃、４ｒｐｍにおける粘度は１２００ｍＰａ・ｓであった。粘度計のトルクが５０±５％の範囲になる回転数として、４ｒｐｍを設定した。
【０１１３】
ＵＶオゾン処理を施したガラス基板に、上記樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、膜厚６０μｍの塗膜を得た。塗布面と凹凸部材のパターン面とが対向するようにそれぞれをインプリント装置（ＳＣＩＶＡＸ社製ＦＬＡＮ２００）内に挿入し、凹凸部材のパターン形成面側を圧力３０Ｐａ、他方の面を２ＭＰａの圧力とした状態で押圧し、モールド側から３Ｊ／ｃｍ2（ＵＶ−ＬＥＤ ３６５ｎｍ）の露光を行い、樹脂組成物を硬化させた。凹凸部材をガラス基板から剥離し、ガラス基板上に形成された、複数の線状部材からなるラインパターンを得た。
【０１１４】
得られたガラス基板およびラインパターン断面を、ＳＥＭで観察した。線状部材の高さに対してガラス基板面から１０％の位置における線状部材の幅をＢｏｔｔｏｍ幅、線状部材の高さに対してガラス基板面から９０％の位置における線状部材の幅をＴｏｐ幅と定義し、得られた線状部材のＢｏｔｔｏｍ幅およびＴｏｐ幅を走査型電子顕微鏡（（株）日立ハイテクノロジーズ製、形式「Ｓ−４２００」）で測定した。その結果、Ｂｏｔｔｏｍ幅＝９７μｍ、Ｔｏｐ幅＝９７μｍ、高さ＝９８μｍの線状部材からなるラインパターンが得られたことを確認した。
【０１１５】
全光線透過率および屈折率は、以下のようにして測定した。
パターンの無い平坦部の全光線透過率をカラーヘーズメーター（スガ試験機（株）製ＳＣ−３Ｈ）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して測定した。前記樹脂組成物の硬化物の全光線透過率は、９７％（波長５００ｎｍ）であった。
【０１１６】
前記樹脂組成物をスピンコーターによりシリコンウェハー上に、乾燥後の厚さが約０．１μｍとなるように塗布後、窒素下、高圧水銀ランプを用いて、３Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で紫外線を照射して硬化させた。得られた硬化膜について、エリプソメーターを用いて２５℃での波長５８９ｎｍにおける屈折率（ｎＤ２５）を測定した。前記樹脂組成物の屈折率は、１．５２（波長５８９ｎｍ）であった。
【０１１７】
［実施例２〜４、比較例１〜２］
表１に記載したとおりに組成を変更したこと以外は実施例１と同様にして樹脂組成物を調製し、インプリント成形を行った。なお、表１のフッ素系界面活性剤は溶剤量を除いた固形分値である。結果を表１に示す。なお、比較例１では、モールドが塗膜より剥がれず、パターン形状を観察することはできなかった。粘度測定において、粘度計のトルクが５０±５％の範囲になる回転数として、実施例２〜４および比較例１では１ｒｐｍを、比較例２では２０ｒｐｍを設定した。
【０１１８】
【表１】
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【符号の説明】
【０１１９】
１…部材
１０…透明基板
２０…ラインパターン
２１…線状部材
２２…線状部材の側面
２５…透明部材
３０…光反射面
１００…光制御部材
１０１…光制御部材
１０２…光制御部材
２００…光学結像部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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